【事件の表示】
　特許第３２２６２２０号「カラーフィルターおよびその製造方法」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３２２６２２０号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
（１）手続の経緯
　特許第３２２６２２０号の請求項１に係る発明は、平成３年２月８日に特許出願され、平成１３年８月３１日にその特許の設定登録がなされ、その後異議申立人大湯佳子により特許異議の申立がなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１４年９月１１日に訂正請求がなされたものである。
　
（２）訂正の適否についての判断
　（ア）訂正の内容
　訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１を、次のように訂正する。
「【請求項1】
カラーフィルターにおいて、透明基板上に導電性材料で形成され、開口部が一定の間隔をもって同一方向に順次設けられたブラックマトリックス、および該同一方向における順次設けられた開口部および該開口部間におけるブラックマトリックス上に連続して形成された赤色着色層、及び該赤色着色層に隣接して同様に形成された緑色着色層および青色着色層からなるストライプ状の画素を有し、各画素およびブラックマトリックス上に連続した透明電極を有すると共に、透明電極とブラックマトリックスとの間には、各画素毎にストライプ状の電気的接続部が形成されており、電気的接続部がストライプ状の画素ピッチに対して１４％以下の幅で、かつ透明電極の４００ｎｍ〜７００ｎｍにおける光の平均透過率が９２％以上であることを特徴とするカラーフィルター。」
　
　（イ）訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　訂正事項ａに係る訂正は、特許請求の範囲の減縮に該当し、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではないし、新規事項の追加にも該当しない。
　
　（ウ）むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）（以下「平成６年改正法」という。）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年改正法による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書及び第２項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
（３）特許異議の申立について
　（ア）申立の理由の概要
　申立人大湯佳子は、証拠として甲第１号証（特開平１ー１６７８２３号公報）、甲第２号証（特開平２ー４４３１４号公報）、甲第３号証（特開昭５９−１４９６０４号公報）、甲第４号証（特開昭６１−２９０６０５号公報）、甲第５号証（特開平２ー１４６５０２号公報）を提出し、本件請求項１に係る発明の特許は、甲第１〜５号証記載の発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものであり、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであるので、本件請求項１に係る発明の特許を取り消すべき旨主張している。
　
　（イ）本件請求項１に係る発明
　上記「（２）訂正の適否についての判断」で示したように上記訂正が認められるから、本件請求項１に係る発明は、上記訂正請求に係る訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
「【請求項１】
カラーフィルターにおいて、透明基板上に導電性材料で形成され、開口部が一定の間隔をもって同一方向に順次設けられたブラックマトリックス、および該同一方向における順次設けられた開口部および該開口部間におけるブラックマトリックス上に連続して形成された赤色着色層、及び該赤色着色層に隣接して同様に形成された緑色着色層および青色着色層からなるストライプ状の画素を有し、各画素およびブラックマトリックス上に連続した透明電極を有すると共に、透明電極とブラックマトリックスとの間には、各画素毎にストライプ状の電気的接続部が形成されており、電気的接続部がストライプ状の画素ピッチに対して１４％以下の幅で、かつ透明電極の４００ｎｍ〜７００ｎｍにおける光の平均透過率が９２％以上であることを特徴とするカラーフィルター。」（以下、「本件発明」という。）
　
　（ウ）引用刊行物
　当審が平成１４年７月５日付で通知した取消理由で引用した刊行物１〔甲第１号証（特開平１ー１６７８２３号公報）〕には、
「これらの図において、１は液晶を封止する２枚のガラス基板のうちの一方のガラス基板、２はガラス１の内面（液晶封止側）に区画して設けられた赤、緑、青のカラーフィル夕、３はカラーフィル夕２の区画部に設けられカラーフィル夕２とガラス基板１に狭設された金属遮光膜、４はカラーフィル夕２の上に形成された保護膜、５は保護膜４の上に形成されたカラーフィル夕２の区画部において金属遮光膜３と電気的に接続された透明電極膜（ＩＴＯ）である。」（第２頁左下欄第５〜１４行）が記載されている。
　
　同刊行物２〔甲第２号証（特開平２ー４４３１４号公報）〕には、
「透明なガラス板である透明基板１０は、上下２面が互いに平行で、各面１０ａ，１０ｂが平らである。上面１０ａが液晶に臨む側であり、その面１０ａに、まず、透過光を遮断可能な遮光層２０が設けられている。この遮光層２０は、黒色染料を含有したポリイミド樹脂、あるいはクロム等の金属材料によって形成することができる。遮光層２０は、各色画素を形成するためにエッチングされるが」（第２頁左下欄第８〜１６行）
　
「エッチングによる抜き部分２２の大きさは、たとえば、１５０μｍ×１５０μｍのように、各色画素の大きさ、たとえば、１７０μｍ×１７０μｍよりも一回り小さくする。そしてこのとき、各抜き部分２２の間に、たとえば、５０μｍ幅の充分なスペースを取る。」（第２頁右下欄第１〜６行）
　
「各色画素３０は、各抜き部分２２を完全に被うように形成するが、遮光層２０との重なりはなるべく小さくする方が良い。というのは、隣り合う色画素３０間に、平らな遮光層２０のスペースを充分に取りたいからである。色画素３０と遮光層２０との重なりを左右共に１０μｍとすると、色画素３０間の境界領域をなす遮光層２０上のスペースは、幅３０μｍほどである。」（第２頁右下欄第１１〜１９行）
　
「遮光層２０および各色画素３０を形成した透明基板１０の上に、さらに、透明保護膜４０が全体を被うように形成される。」（第２頁右下欄第２０行〜第３頁左上欄第２行）
　
「こうした透明保護膜４０の上に、透明電極ライン５０が載る。各透明電極ライン５０は、ＩＴＯ等の透明電極材料をスパッタリング等で成膜し、ついで、それをフォトリソグラフィ法でエッチングする常法によって形成する。」（第３頁左上欄第１２〜１６行）
　
「透明保護膜４０についても、透明電極ライン５０の形成工程によって、カラーフィル夕を損傷することがない場合、たとえば、各色画素３０を充分に硬化したような場合には、きわめて薄く形成することもできるし、あるいは省略することもできる。」（第３頁左下欄第４〜９行）が記載されている。
　
　同刊行物３〔甲第３号証（特開昭５９−１４９６０４号公報）〕には、
「ターゲット電極２０に、Ｉｎ２Ｏ３９１ｍｏｌ％、ＳｎＯ２９ｍｏｌ％の焼結体ターゲット２１を貼り付け、ターゲットとガラス基板の間隔は５０ｍｍとした。」（第４頁左上欄第１７〜２０行）
　
「可視域分光透過率は８５〜９８％、０．５μｍ以上の膜面粒状異物は・・・であった。」（第４頁左下欄第４〜６行）
　
「本発明による金属酸化物薄膜は、以上に説明した撮像管ターゲット用として有用であるのみならず、当然のことながら液晶表示素子、電子写真、太陽電池等の種々光電変換素子などにも適用できることは云うまでもない。」（第５頁左下欄第１〜５行）が記載されている。
　
　同刊行物４〔甲第４号証（特開昭６１−２９０６０５号公報）〕には、
「Ｉｎ２Ｏ３焼結体をターゲットとしてプレナーマグネトロン方式スパッタリングで膜形成を行った。」（第２頁左下欄第１４〜１６行）
　
「測定の結果、まず可視光の透過率については波長４００〜８００μｍで総てが９０％以上の透過率を示した。」（第２頁右下欄第１３〜１５行）
　
「従って、液晶用電極や太陽電池の電極での電圧降下や電力消費を抑えることができ、電気エネルギーの移送が効率的に行える。」（第３頁右上欄第１４〜１６行）が記載されている。
　
　同刊行物５〔甲第５号証（特開平２ー１４６５０２号公報）〕には、
「透明電極４を低抵抗化するための一手法として透明電極４の膜厚を厚くする方法がある。第４図にＩＴＯ透明電極４の膜厚とシート抵抗の関係を示した。」（第２頁左上欄第１２〜１５行）が記載されている。
　
　（エ）対比・判断
　本件発明と上記刊行物１〜５に記載の発明とを対比すると、刊行物１〜５に記載の発明は、本件発明を特定する事項である「同一方向における順次設けられた開口部および該開口部間におけるブラックマトリックス上に連続して形成された赤色着色層、及び該赤色着色層に隣接して同様に形成された緑色着色層および青色着色層からなるストライプ状の画素を有」する点を備えておらず、この点により本件発明は、平成１４年９月１１日付特許異議意見書第４頁第３〜５行記載の「各画素の平坦性に優れるものとでき、カラー液晶表示装置とした場合の表示性に優れ、また、透明電極を薄膜とした場合でも、導電安定性に優れる」という効果を奏するものであり、本件発明が上記刊行物１〜５のいずれかに記載された発明であるとも、刊行物１〜５に記載の発明から容易に推考することができたものともいえない。
　
　（オ）むすび
　以上のとおりであるから、特許異議の申立の理由及び証拠によっては、本件請求項１に係る発明についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１に係る発明についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　したがって、本件請求項１に係る発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年９月３０日（２００２．９．３０）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１を、次のように訂正する。
「【請求項１】
カラーフィルターにおいて、透明基板上に導電性材料で形成され、開口部が一定の間隔をもって同一方向に順次設けられたブラックマトリックス、および該同一方向における順次設けられた開口部および該開口部間におけるブラックマトリックス上に連続して形成された赤色着色層、及び該赤色着色層に隣接して同様に形成された緑色着色層および青色着色層からなるストライプ状の画素を有し、各画素およびブラックマトリックス上に連続した透明電極を有すると共に、透明電極とブラックマトリックスとの間には、各画素毎にストライプ状の電気的接続部が形成されており、電気的接続部がストライプ状の画素ピッチに対して１４％以下の幅で、かつ透明電極の４００ｎｍ〜７００ｎｍにおける光の平均透過率が９２％以上であることを特徴とするカラーフィルター。」
（５４）【発明の名称】
カラーフィルターおよびその製造方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　カラーフィルターにおいて、透明基板上に導電性材料で形成され、開口部が一定の間隔をもって同一方向に順次設けられたブラックマトリックス、および該同一方向における順次設けられた開口部および該開口部間におけるブラックマトリックス上に連続して形成された赤色着色層、及び該赤色着色層に隣接して同様に形成された緑色着色層および青色着色層からなるストライプ状の画素を有し、各画素およびブラックマトリックス上に連続した透明電極を有すると共に、透明電極とブラックマトリックスとの間には、各画素毎にストライプ状の電気的接続部が形成されており、電気的接続部がストライプ状の画素ピッチに対して１４％以下の幅で、かつ透明電極の４００ｎｍ〜７００ｎｍにおける光の平均透過率が９２％以上であることを特徴とするカラーフィルター。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は、カラー液晶表示装置等に使用されるカラーフィルターに関し、とくに透明電極膜に特徴を有するカラーフィルターに関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　液晶表示装置は、透明電極を設けたガラス等の透明な基板を１ないし１０μｍ程度のギャップを設けてその間に液晶物質を封入し、配向させ、電極間に電圧を印加または比印加することによって形成される透明部分と不透明部分によって画像を表示している。カラー液晶表示装置はいずれかの透明電極基板上に光の三原色に対応する赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の三色のカラーフィルターを設けており、液晶のシャッター作用によって３原色を加色して所望の色を表示している。
　【０００３】
　カラー液晶表示装置用のカラーフィルターは、一般に透明基板、ブラックマトリックス、着色層、保護膜、透明導電膜等により構成されており、ＲＧＢの三原色の位置に対向する電極あるいは薄膜トランジスタを形成した透明基板とを１μｍないし１０μｍの間隔を保持し液晶物質を封入して液晶表示装置を形成している。
　【０００４】
　【発明が解決しようとする課題】
　カラーフィルターは図６に１部の断面図を示すようにガラス４１などの透明基板上に光を遮光し隣接する着色層を区画するブラックマトリックス４２を形成した後に、顔料分散法、染色法、電着法、印刷法等によってＲ、Ｇ、Ｂの三原色を所定の形状とした着色層４３を形成し、着色層上には着色層を保護する目的で保護膜４４を形成し、更に保護膜の上には、液晶を駆動するための透明電極４５が形成されている。一般的なパーソナルコンピュータ用の対角が１０インチの表示装置の場合には、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素について６４０×４００個ないしは６４０×４８０個という膨大な数の微細なの画素から構成されている。
　【０００５】
　カラー液晶表示装置には、液晶の駆動方法によって単純マトリックス方式とアクティブマトリックス方式があるが、最近ではパーソナルコンピュータなどの表示装置用には画質に優れ、それぞれの画素を確実に制御することが可能であり、また動作速度も速いアクティブマトリックス方式の採用が進められている。
　【０００６】
　アクティブマトリックス方式の液晶表示装置では各画素毎に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）素子をガラス基板上に形成し、各素子のスイッチング作用によって各画素の液晶のシャッター作用を制御している。これらの素子の対極には一様な透明電極が形成されている。
　【０００７】
　透明電極には、一般に酸化錫、酸化インジウムおよびＩＴＯと称するこれらの複合酸化物が使用されている。透明電極の成膜方法には、蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等の各種の方法があるが、カラーフィルターの透明電極の基体となる保護膜は合成樹脂で形成されているので保護膜の耐熱性の面から比較的低温での成膜が可能な方法が求められている。このためにカラーフィルター用の透明電極の製造にはスパッタリングが広く用いられている。また、透明電極の電気抵抗が高いと液晶の駆動には高い電圧が必要となったり、所望の画素以外の部分の液晶を駆動することが起こったり、あるいは必要な画素を正確に駆動することが困難となったり、応答速度が遅くなるなど好ましくない現象が起きるので電気抵抗の低いＩＴＯ膜が求められている。
　【０００８】
　スパッタリングによって析出するＩＴＯ膜は基板の温度によって析出物の結晶形態が異なり、とくに析出面の温度を３００℃ないし３５０℃の温度とすれば析出するＩＴＯ膜の結晶性が改善されて比抵抗が小となるので、低抵抗膜を得るために基板面をこのような温度とすることが行われている。
　【０００９】
　ところが、ガラス基板のような耐熱性の基材の面に直接にＩＴＯ膜を成膜する場合には３５０℃程度の温度はなんら問題とならないが、カラーフィルターの保護膜上にＩＴＯ膜を形成する場合には、基板の温度の上昇には制約がある。すなわち、保護膜および着色層の材料が有機物であるので耐熱性の大きな有機物を使用した場合であっても２００℃程度の温度が限界であって、３００℃以上に加熱することは不可能である。
　【００１０】
　そこで、液晶駆動用の電気抵抗の低いＩＴＯ膜を得るためには、低温度で形成した比抵抗が高い膜の膜厚を厚くすることによって実質的な電気抵抗を小さくすることも考慮されるが、膜厚を厚くすると光の透過特性にも変化を生じたり、応力の増大によって外観が変化することが起こり、さらには製造費用の増大やスループットの低下等が起こるので、カラーフィルターには好ましくない。
　【００１１】
　【課題を解決するための手段】
　本発明者らは上記した問題点を解決する手段を検討した結果、カラーフィルターの各色の画素を区画するとともに、液晶の駆動用のＴＦＴ等のトランジスタあるいは電極を遮光するためにガラス基板上に形成されているブラックマトリックスを導電体として利用することによりＩＴＯ膜の実質的な電気抵抗を減少させるものである。
　【００１２】
　カラーフィルターに形成されるブラックマトリックスは、クロム、ニッケル、アルミニウム、タングステン等の金属薄膜あるいはカーボンブラックなどの遮光材料を混合した合成樹脂で形成されており、導電性を有しているので、所定の箇所においてＩＴＯ膜と電気的な接続を形成することによって、ＩＴＯ膜の電気抵抗を減少させることを見いだしたものである。
　【００１３】
　本発明のカラーフィルターの製造は、ガラス基板上にブラックマトリックスおよび着色層を形成した後に接続部を設けた保護膜を形成することによって行う。接続部の形成はエッチングなどの各種の方法によって形成することが可能であるが、フォトマスクを使用して露光するのみで微細なパータンを形成することができる光硬化性の透明な樹脂を使用するとレジストを使用することなく所定の接続部を形成することが可能となるので好ましい。このような目的で使用することができる光硬化性の樹脂としては、光感光性を有しており樹脂の硬度が大きいものであれば、多くのものを用いることが可能であるが、光重合性アクリレートオリゴマーに一つの分子内に複数の官能基を有する多官能光重合性アクリレートモノマーを添加した感光性アクリル樹脂を用いることにより、樹脂の橋かけ度を高めて剛直で硬度が大きい膜質とすることができ保護膜上に透明電極を形成してもクラックやしわが発生しない。
　【００１４】
　上記の光重合性アクリレートオリゴマーとしては、分子量１０００〜２０００程度のものが好ましく、ポリエステルアクリレートまたは、フェノールノボラックエポキシアクリレート、ｏ−クレゾールノボラックエポキシアクリレート等のエポキシアクリレートあるいは、ポリウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、オリゴマアクリレート、アルキドアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート等をあげることができ、多官能光重合性アクリレートモノマーとしては、１，４ブタンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。
　【００１５】
　さらに、上記のような光重合性アクリレートオリゴマーに多官能光重合性アクリレートモノマーを添加した光重合性の樹脂に比べて光重合性アクリレートオリゴマーとエポキシ樹脂との混合物に一つの分子内に複数の官能基を有する多官能光重合性アクリレートモノマーを添加した感光性アクリル樹脂を用いることにより、樹脂の橋かけ度を高めて剛直で硬度が大きい膜質とすることができ保護膜上に厚い透明電極を形成してもクラックやしわが発生しないだけでなく着色層の隣接するＲ、Ｇ、Ｂ間に形成される凹部およびＲ、Ｇ、Ｂの部分に高さの違いが生じていても、保護膜の表面の凹凸がきわめて少ない平坦性の良好な保護膜が得られる。
　【００１６】
　このような目的で使用可能な光重合性アクリレートオリゴマーとしては、分子量１０００〜２０００程度のものが好ましく、ポリエステルアクリレートまたは、フェノールノボラックエポキシアクリレート、ｏ−クレゾールノボラックエポキシアクリレート等のエポキシアクリレートあるいは、ポリウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、オリゴマアクリレート、アルキドアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート等をあげることができる。
　【００１７】
　エポキシ樹脂としては以下に〔化１〕および〔化２〕で構造式を示すフェノールノボラック型のエポキシ樹脂あるいはクレゾールノボラック型のエポキシ樹脂をあげることができる。
　【００１８】
　【化１】
　【００１９】
　また、多官能光重合性アクリレートモノマーとしては、１，４ブタンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。
　【００２０】
　保護膜の形成方法は透明基板上に設けた着色層上に、光重合性アクリレートオリゴマー、フェノールノボラック型のエポキシ樹脂、多官能光重合性アクリレートモノマーに重合開始剤、エポキシ硬化剤を添加した感光性樹脂をスピンナー法、ロール法、スプレイ法、スクリーン印刷法などの任意の塗布方法によって塗布した後に所定の電気的接続部のパターンが描かれたマスクを載置して紫外線を照射して必要な箇所を硬化し、紫外線が照射されなかった部分の未硬化の感光性樹脂を溶剤で溶解除去することによって所定の領域のみに橋かけ度を高めた剛直で硬度が大きい膜質とした樹脂の保護膜を形成することができる。
　【００２１】
　次いで、接続部を形成した保護膜上にＩＴＯ膜をスパッタリングによって成膜すると接続部にはブラックマトリックスが露出しているので、ＩＴＯ膜はブラックマトリックス上にも堆積し、保護膜上に成膜されるＩＴＯ膜と一体に形成され、その結果ＩＴＯ膜のみの場合に比べて実質的にＩＴＯ膜の電気抵抗を下げることが可能となる。
　【００２２】
　【作用】
　カラーフィルターの各色の画素を区画するとともに、液晶の駆動用のＴＦＴ等のトランジスタあるいは電極を遮光するためにガラス基板上に形成されているブラックマトリックスを導電体として利用することによりＩＴＯ膜の実質的な電気抵抗を減少させるものであり、着色層上に形成する保護膜上にブラックマトリックスが露出した部分を設けてＩＴＯ膜を通常の方法で成膜することによってブラックマトリックスとＩＴＯ膜との導電接続を実現したことによってＩＴＯ膜の電気抵抗を低下させることができる。以下に本発明の実施例を示し、更に詳細に説明する。
　【００２３】
　【実施例】
　本発明のカラーフィルターを図面を参照して説明する。図１は、本発明のカラーフィルターの平面図であり、図２は図１をＡ−Ａ線で切断部分平面図である。カラーフィルター１はガラス基板２上に金属クロムなどからなるブラックマトリックス３が形成されており、ブラックマトリックスを境界にしてＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３原色からなる着色層４が形成されており、着色層上には着色層を保護する透明な合成樹脂からなる保護膜５が形成されている。保護膜上にはＩＴＯ膜６が設けられているが、ブラックマトリックス上には保護膜が形成されていない接続部７があり、保護膜上にＩＴＯ膜を成膜すると保護膜が設けられていない接続部にＩＴＯ膜が成膜され、その結果ブラックマトリックスとＩＴＯ膜との電気的接続が形成される。また、接続部の形状は円、長方形等の任意の形状とすることができる。接続部を設ける箇所はＩＴＯ膜の電気抵抗の分布を均一化するためにカラーフィルターに平均的に分布していることが必要であり、各画素毎に設けることが好ましい。接続部の形成箇所の１例を図３を参照して示すと、ブラックマトリックス２１の一部に各画素２２毎に接続部２３を形成している。
　【００２４】
　また、本発明のカラーフィルターを製造する方法を図４を参照して示すと、ブラックマトリックス３１および着色層３２を形成したガラス基板３３（Ａ）上に、保護膜３４の材料を塗布（Ｂ）し、接続部３５を露光しないようなフォトマスク３６を設けて紫外線３７を照射して露光（Ｃ）した後に、現像によって未露光部分３８を除去する（Ｄ）。そして透明導電性膜３９を成膜して接続部において透明導電性膜とブラックマトリックスとの間の導電性接続を形成する。以上のように保護膜として光硬化性の透明な樹脂を使用するとレジストを使用することなくフォトマスクを使用して露光するのみで微細なパータンを形成することができるので好ましい。このような目的で使用することができる光硬化性の樹脂としては、樹脂の硬度が大きいものであれば、多くのものを用いることが可能であり、光重合性アクリレートオリゴマーに多官能光重合性アクタリレートモノマーを添加した感光性樹脂は、硬化後の特性に優れているので好ましい。
　【００２５】
　光重合性アクリレートオリゴマーとしては、ポリエステルアクリレートまたは、フェノールノボラックエポキシアクリレート、ｏ−クレゾールノボラックエポキシアクリレート等のエポキシアクリレートあるいは、ポリウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、オリゴマアクリレート、アルキドアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート等をあげることができ、多官能光重合性アクリレートモノマーとしてはモノマーとしては、１，４ブタンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等があげられる。
　【００２６】
　また、光重合性アクリレートモノマーあるいはオリゴマーにカルボキシル基等の酸性基をもたせるとアルカリ水溶液によって現像することが可能となるので、有機溶剤による現像に比べて取り扱い、廃液処理が容易であり、経済性および安全性の面で好ましい。
　【００２７】
　さらに光重合性樹脂中に開始剤としてベンゾフェノンあるいは、イルガキュアー１８４、イルガキュアー９０７、イルガキャアー６５１（いずれもチバガイギー社商品名）、ダロキュアー（メルク社商品名）などを固形分比１〜３％程度添加してもよい。
　【００２８】
　とくに好適な光重合性アクリレートオリゴマーと多官能性光重合性モノマーの配合比（重量％）は
　配合例１
　　フェノールノボラックエポキシアクリレート…６０％
　　トリメチロールプロパントリアクリレート　…１７％
　　ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート…２０％
　　イルガキュアー１８４　　　　　　　　　　…３％
　配合例２
　　Ｏ−クレゾールノボラックエポキシアクリレート…６０％
　　ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート　　…３８％
　　イルガキュアー１８４　　　　　　　　　　　　…２％
　配合例３
　　ポリウレタンアクリレート　　　　　　　　　…５０％
　　ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート　…４８％
　　イルガキュアー６５１　　　　　　　　　　　…２％
　配合例４
　　メラミンアクリレート　　　　　　　　　　　…７０％
　　トリメチロールプロパントリアクリレート　　…２７％
　　イルガキュアー１８４　　　　　　　　　　　…２％
　等をあげることができる。
　【００２９】
　さらに、光重合性アクリレートオリゴマーと多官能性光重合性モノマーにエポキシ樹脂を含有する組成物の配合比（重量％）は、
　配合比５
　　フェノールノボラックエポキシアクリレート　　…４０％
　　フェノールノボラック型エポキシ樹脂　　　　　…１８％
　　トリメチロールプロパントリアクリレート　　　…１７％
　　ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート　　…２０％
　　イルガキュアー１８４　　　　　　　　　　　　…３％
　　ＵＶＥ１０１４（ＧＥ社製）　　　　　　　　　…２％
　配合比６
　　Ｏ−クレゾールノボラックエポキシアクリレート…３８％
　　クレゾールノボラック型エポキシ樹脂　　　　　…１８％
　　ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート　　…３８％
　　イルガキュアー１８４　　　　　　　　　　　　…２％
　　ＵＶＥ１０１４（ＧＥ社製）　　　　　　　　　…２％
　配合比７
　　ポリウレタンアクリレート　　　　　　　　　…３５％
　　フェノールノボラック型エポキシ樹脂　　　　…１３％
　　ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート　…４８％
　　ＵＶＥ１０１４（ＧＥ社製）　　　　　　　　…２％
　　イルガキュアー６５１　　　　　　　　　　　…２％
　配合比８
　　メラミンアクリレート　　　　　　　　　　　…４９％
　　フェノールノボラック型エポキシ樹脂　　　　…２０％
　　トリメチロールプロパントリアクリレート　　…２７％
　　ＵＶＥ１０１４（ＧＥ社製）　　　　　　　　…２％
　　イルガキュアー１８４　　　　　　　　　　　…２％
　等をあげることができる。
　【００３０】
　実施例１
　赤色、緑色及び青色の顔料を、それぞれ下記に示したような組成割合（重量％）で感光性樹脂に分散させて、赤色、緑色及び青色の着色感光性樹脂を作製する。
　【００３１】
　（１）赤色感光性樹脂
　　ピラゾロンレッド（赤色顔料）　　　　　　　　　　　　　　　　　…１０
　　ポリビニルアルコール／５％スチルバゾリウムキノリウム（感光性樹脂）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　…　５
　　水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　…８５
　（２）緑色感光性樹脂
　　リオノールグリーン　２Ｙ−３０１（緑色顔料）　　　　　　　　　…　９
　　ポリビニルアルコール／５％スチルバゾリウムキノリウム（感光性樹脂）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　…　５
　　水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　…８６
　（３）青色感光性樹脂
　　ファストドゲンブルー（青色顔料）　　　　　　　　　　　　　　　…　３
　　ポリビニルアルコール／５％スチルバゾリウムキノリウム（感光性樹脂）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　…　５
　　水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　…９２
　基板には、厚さ１．１ｍｍのガラス基板（旭硝子（株）製ＡＬ材）を充分に洗浄して用い、ガラス基板に、金属クロムをスパッタリングにより厚さ１２０ｎｍとなるように成膜した。この実施例で製造したストライプ状の画素を有するカラーフィルターの各部の位置関係の詳細図である図５に示すように、フォトエッチングにより開口寸法が縦２８０μｍ×横７５μｍ、ピッチが縦３３０μｍ×横１１０μｍのブラックトリックスパターンを形成した。
　【００３２】
　その上に、赤色感光性樹脂を１．２μｍの膜厚になるように塗布し、その後温度７０℃で３０分間オーブン中で乾燥させ、水銀ランプを用いて露光し、水によるスプレー現像を１分間行い、赤色画素を形成すべき領域に赤色のレリーフ画像を形成し、さらに１５０℃で３０分間、加熱硬化させた。
　【００３３】
　同様の工程を繰り返して、緑色画素を形成すべき領域に緑色のレリーフ画素を形成し、青色画素を形成すべき領域に青色のレリーフ画素を形成して着色層を形成した。以上により、隣接画素ピッチ１１０μｍ、線巾８５μｍのストライプ状着色画素を形成した。
　【００３４】
　続いて光硬化性アクリレートオリゴマーとして、ｏ−クレゾールノボラックエポキシアクリレート（分子量１５００〜２０００）を５０重量部、多官能重合性モノマーとして、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製ＤＰＨＡ）を５０重量部混合し、さらに重合開始剤としてイルガキュアー（チバガイギー社（株）製）２重量部を混合した配合物を、エチルセルソルブアセテート２００重量部中に溶解させ、その溶液１０ｇを用いてスピンコーターで前記着色層上に２．０μｍの厚さに塗布した。
　【００３５】
　接続部パターンが設けられたフォトマスクを配置したプロキシミティーアライナーによって、２．０ＫＷの超高圧水銀ランプによって紫外線を１０秒間照射した。　続いて温度２５℃の１，１，２，２−テトラクロロエタンからなる現像液中に１分間浸漬して、塗布膜の未硬化部分のみを除去した。以上により、着色画素を完全に覆うピッチ１１０μｍ、線巾９５μｍのストライプ状保護膜パターンおよびピッチ１１０μｍ、線巾１５μｍのストライプ状接続部パターンを得た。
　【００３６】
　次に、得られた保護膜を形成した基板を直流マグネトロンスパッタリング装置のロード室から基板の加熱室に入れ、基板の温度を２００℃に加熱し、１０−６ｔｏｒｒまで減圧した後にアルゴンの圧力を５．０×１０−３ｔｏｒｒ、酸素の圧力を４．０×１０−５ｔｏｒｒの分圧となるように製膜室に反応ガスを導入した。
　【００３７】
　スパッタリング装置のＩＴＯのターゲットと陽極の間には直流電圧０．４ｋＶ、電流３．５Ａを印加して、ターゲットと基板との距離を９０ｍｍとし、１分間スパッタリングをして、厚さ２０ｎｍの透明電極を形成した。
　【００３８】
　得られた透明電極の面積抵抗は９Ω／□であり、４００ｎｍないし７００ｎｍの光の平均透過率は９２％であった。
　【００３９】
　比較例１保護膜を紫外線で硬化する際に、接続部を形成するフォトマスクを設けずに硬化を行ったことを除いては実施例１と同様の方法によってカラーフィルターを製造した。
　【００４０】
　次に、得られた保護膜を形成した基板を直流マグネトロンスパッタリング装置のロード室から基板の加熱室に入れ、基板の温度を２００℃に加熱し、１０−６ｔｏｒｒまで減圧した後にアルゴンの圧力を５．０×１０−３ｔｏｒｒ、酸素の圧力を４．０×１０−５ｔｏｒｒの分圧となるように製膜室に反応ガスを導入した。
　【００４１】
　スパッタリング装置のＩＴＯのターゲットと陽極の間には直流電圧０．４ｋＶ、電流３．５Ａを印加して、ターゲットと基板との距離を９０ｍｍとし、１０分間スパッタリングをして、厚さ２００ｎｍの透明電極を形成した。
　【００４２】
　得られた透明電極の面積抵抗は２３Ω／□であり、４００ｎｍないし７００ｎｍの光の平均透過率は８５％であった。
　【００４３】
　比較例２保護膜を紫外線で硬化する際に、接続部を形成するフォトマスクを設けずに硬化を行ったことを除いては実施例１と同様の方法によってカラーフィルターを製造した。
　【００４４】
　次に、実施例１の透明電極の成膜条件と同様の条件で、実施例１と同じ厚さの２０ｎｍのＩＴＯ膜を形成したところ、得られた透明電極の面積抵抗は２５０Ω／□であった。
　【００４５】
　【発明の効果】
　カラーフィルターの各色の画素を区画するとともに、液晶の駆動用のＴＦＴ等のトランジスタあるいは電極を遮光するためにガラス基板上に形成されているブラックマトリックスを導電体として利用し、ブラックマトリックスとＩＴＯ膜との間に電気的接続を形成しＩＴＯ膜の実質的な電気抵抗を減少させるものであり、膜厚の薄いＩＴＯ膜を形成した場合であって十分な導電性を得ることができるので、ＩＴＯ膜の増大によって生じる透過率の低下あるいはＩＴＯ膜の膜厚の増大にともなって生じる形態の変化等の問題を解消することができ、特性の優れたカラーフィルターを得ることができる。また、ＩＴＯ膜厚を薄くすることができるため、成膜工程のスループット向上およびターゲット材料費の低減といった製造上の利点を有する。
【図面の簡単な説明】
　【図１】　本発明のカラーフィルターの一部の平面図を示す図。
　【図２】　本発明のカラーフィルターの一部の断面図を示す図。
　【図３】　本発明のカラーフィルターの接続部の配置を示す図。
　【図４】　本発明のカラーフィルターの製造過程を示す図。
　【図５】　実施例のカラーフィルターの各部の位置関係を示す詳細図。
　【図６】　カラーフィルターの断面図を示す図
　【符号の説明】
　１…カラーフィルター、２…ガラス基板、３…ブラックマトリックス、４…着色層、５…保護膜、６…ＩＴＯ膜、７…接続部、３１…ブラックマトリックス、３２…着色層、３３…ガラス基板、３４…保護膜、３５…接続部、３６…フォトマスク、３７…未露光部、３８…透明導電性膜、４１…ガラス、４２…着色層、４３…保護膜、４４…透明電極