【手続補正書】
【提出日】平成27年9月2日(2015.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）：
Ｍ１ａＭ２ｂＭ３ｃＤ１ｄＤ２ｅＤ３ｆＴ１ｇＴ２ｈＴ３ｉＱｊ      （Ｉ）
のイオン性シリコーンを含む硬化性組成物であって、
式中、
Ｍ１＝Ｒ１Ｒ２Ｒ３ＳｉＯ１／２
Ｍ２＝Ｒ４Ｒ５Ｒ６ＳｉＯ１／２
Ｍ３＝Ｒ７Ｒ８Ｒ９ＳｉＯ１／２
Ｄ１＝Ｒ１０Ｒ１１ＳｉＯ２／２
Ｄ２＝Ｒ１２Ｒ１３ＳｉＯ２／２
Ｄ３＝Ｒ１４Ｒ１５ＳｉＯ２／２
Ｔ１＝Ｒ１６ＳｉＯ３／２
Ｔ２＝Ｒ１７ＳｉＯ３／２
Ｔ３＝Ｒ１８ＳｉＯ３／２
Ｑ＝ＳｉＯ４／２
であり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１１、Ｒ１３、Ｒ１５は、１から６０個の炭素原子を持つ、脂肪族、芳香族もしくはフルオロの、一価の炭化水素であり、
Ｒ３、Ｒ１０、Ｒ１６は、独立して、グリコリド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２Ｏ−}、ラクチド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ−}、ブチロラクチド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−}およびカプロラクチド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−}の、ラジカルまたはＲ１によって定義される炭化水素ラジカルから選択でき、
Ｒ３、Ｒ１０、Ｒ１６は、独立して、−ＣＨ２ＣＨ（Ｒ’）（ＣｎＨ２ｎ）−Ｏ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｏ−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｐ−（Ｃ４Ｈ８Ｏ）ｑ−Ｒ’から選択され、式中、下付文字ｎは０もしくは正であり、０から６の範囲の値を持ち、下付文字ｏ、ｐ、およびｑは０もしくは正であり、独立して、０から１００の範囲の値から選択され、ｏ＋ｐ＋ｑは１より大きいか１と等しいという制限がり、
Ｒ’は、水素、または１から６０個の炭素原子を持つ脂肪族の、芳香族のもしくはフルオロの、炭化水素であるか、または、Ｒ’は、グリコリド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２Ｏ−}、ラクチド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ−}、ブチロラクチド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−}およびカプロラクチド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−}の、ラジカルまたはＲ１によって定義される炭化水素ラジカルからなる群より独立して選択でき、
Ｒ４、Ｒ１２、Ｒ１７は、式（ＩＩ）を持つ一価のラジカル含有イオン対、もしくは式（ＩＩＩ）を持つ両性イオンであり、ここで式（ＩＩ）は、
−Ａ−Ｉｘ−Ｍｎｙ＋      （ＩＩ）
であり、式中
Ａは二価の炭化水素もしくはヒドロカルボノキシ基から選択される少なくとも一つのスペーサー原子を持つスペーサー基であり、Ｉは、スルホナート−ＳＯ３−、サルファート−ＯＳＯ３−、カルボキシラート−ＣＯＯ−、ホスホナート−ＰＯ３２−、およびホスファート−ＯＰＯ３２−基から選択されるイオン性基であり、Ｍは、水素またはアルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属、金属錯体、第四級アンモニウムおよび第四級ホスホニウム基、カチオン炭化水素、有機カチオン、アルキルカチオン、およびカチオン性バイポリマーから独立して選択されるカチオンであり、両性イオンは式（ＩＩＩ）：
−Ｒ’−ＮＲ’’２＋−Ｒ’’’−Ｉ      （ＩＩＩ）
を持ち、式中
Ｒ’は１から約６０個の炭素原子を含む二価の炭化水素ラジカルであり、
Ｒ’’は、１から約６０個の炭素原子を含む一価の炭化水素ラジカルであり、
Ｒ’’’は、２から約２０個の炭素原子の、具体的には２から約８個の炭素原子の、そしてより具体的には２から約４個の炭素原子を含む二価の炭化水素ラジカルであり、
そしてＩは、スルホナート−ＳＯ３−、サルファート−ＯＳＯ３−、カルボキシラート−ＣＯＯ−、ホスホナート−ＰＯ３２−、およびホスファート−ＯＰＯ３２−基から選択されるイオン性基であり、
そしてここで、Ｒ７、Ｒ１４、Ｒ１８は、水素、または不飽和の一価のラジカルもしくはエポキシ基含有ラジカルから独立して選択され、
そしてここで、下付文字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉ、ｊは０もしくは正数であり、以下の「ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉ＋ｊの合計が２より大きいかもしくは２と等しく、かつ６０００より小さいかもしくは６０００と等しい」、「ｂ＋ｅ＋ｈが０より大きい」ならびに「ｃ＋ｆ＋ｉが０より大きい」という条件に従う、
組成物。
【請求項２】
Ｒ４、Ｒ１２、Ｒ１７が、式（ＩＩ）を持つ一価のラジカル含有イオン対であり、式（ＩＩ）中のＡの二価の基が、−（ＣＨ２）ｌＣ６Ｈ４（ＣＨ２）ｋ−、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）（ＣＨ２）ｋＣ６Ｈ４−および−ＣＨ２ＣＨ（Ｒ１）（ＣＨ２）ｌＣ６Ｈ３Ｒ１９からなる群より選択されるアリーレン基であり、式中、Ｒ１が定義されるとおりであり、Ｒ１９が約１から約２０個の炭素原子、硫黄原子、窒素原子、酸素原子の一価のラジカルもしくはそれらの組み合わせのラジカルであり、ここでｌが０から２０の値を持ち、ｋが０から２０の値を持つ、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
Ｒ４、Ｒ１２、Ｒ１７が、式（ＩＩ）を持つ一価のラジカル含有イオン対であり、式（ＩＩ）中のＡの二価の基が、式−（ＣＨＲ２０）ｍ−のアルキレン基であり、式中ｍが１から２０の値を持ち、Ｒ２０が水素もしくはＲ１である、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
Ｒ４、Ｒ１２、Ｒ１７が、式（ＩＩ）を持つ一価のラジカル含有イオン対であり、式（ＩＩ）中のＡの二価の基が、（ＣＨＲ２０）ｍ−（Ｏ−ＣＨ（Ｒ２０）（ＣＨ２）ｐ−Ｏ−（ＣＨ２）ｌ−から選択されるヒドロカルボノキシ基であり、ｌが０から２０の値を持ち、ｍが０から５０の値を持ち、ｐが１から５０の値を持つ、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
Ｒ４、Ｒ１２、Ｒ１７が、式（ＩＩ）を持つ一価のラジカル含有イオン対であり、Ｍが独立して、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｇａ、Ａｌ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｒｕ、Ｓｎ、Ｒｈ、Ｃｏ、Ｃｅ、Ｅｕ、Ｇｄ、およびＬａから選択されるカチオンであり、そしてＲ７、Ｒ１４、Ｒ１８が、水素、または以下の一般式：
【化４】
2015511969.tif 000001
【化５】
2015511969.tif 000002
【化６】
2015511969.tif 000003
の基を持つ一価のラジカルから独立して選択され、
式中、Ｒ２１からＲ２５が、独立して、水素、１から６０個の炭素原子を持つ、脂肪族／芳香族の、一価の炭化水素から選択され、
式中、Ｘが、１から６０個の炭素原子と、０から２０個の酸素、窒素および硫黄のようなヘテロ原子とからなる二価の炭化水素架橋である、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１１、Ｒ１３、Ｒ１５が、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチルおよびイソオクチル、２，２，４−トリメチルペンチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、メチルシクロヘキシル、フェニル、ナフチル、ｏ−、ｍ−、およびｐ−トリル、キシリル、エチルフェニルおよびベンジルからなる群より選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
Ｒ３、Ｒ１０、Ｒ１６が、独立して、ＣＨ２ＣＨ（Ｒ’）（ＣｎＨ２ｎ）−Ｏ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｏ−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｐ−（Ｃ４Ｈ８Ｏ）ｑ−Ｒ’から選択され、式中、下付文字ｎは０もしくは正であり、０から６の範囲の値を持ち、下付文字ｏ、ｐ、およびｑは０もしくは正であり、独立して、０から１００の範囲の値から選択され、ｏ＋ｐ＋ｑは１より大きいか１と等しいという制限があり、
ここでＲ’が、水素、または１から６０個の炭素原子を持つ脂肪族の、芳香族のもしくはフルオロの、炭化水素であるか、または、Ｒ’が、グリコリド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２Ｏ−}、ラクチド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ−}、ブチロラクチド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−}およびカプロラクチド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−}の、ラジカルまたはＲ１によって定義される炭化水素ラジカルからなる群より独立して選択できる、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
組成物の総重量に基づいて０から９９重量部の、シリカ、ヒュームドシリカ、ナノシリカ、官能化シリコーン樹脂もしくは非官能化シリコーン樹脂、天然および合成繊維、ポリサッカライド、コーク、グラファイトおよびカーボンブラック、グラフェン、粘土、窒化ボロン、表面処理ありおよび表面処理なしの微細粉金属および酸化金属から選択される強化充填剤もしくは非強化充填剤をさらに含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項９】
平均組成式：
Ｒ２６ｎＲ２７ｏ（ＯＨ）ｐＳｉＯ（４−ｎ−ｏ−ｐ）／２
を持ち、
式中、Ｒ２６が、シリコーンへと直接結合するＣ２−２０アルケニルであり、
Ｒ２７が、不置換もしくは置換の、アルケニル以外の一価のヒドロカルビル、アルコキシ、シクロアルキル、エポキシ、シクロエポキシおよびアリールから選択される基であり、
ｎ、ｏ、ｐが正の数であり、ｎ＋ｏ＋ｐ＝１から２であり、ｎが０より大きいかまたは０と等しく、ｐが０より大きいかまたは０と等しい、
ポリオルガノシロキサンをさらに含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１０】
Ｒ２６がビニル、アリル、ブテニル、ヘキセニルもしくはデセニルである、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
Ｒ２７がメチル、エチル、プロピル、シクロヘキシル、フェニル、トリル、ナフチル、３−クロロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、２−（ノナフルオロブチル）エチル、エチルベンジル、１−フェニルエチル、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、エポキシおよびシクロエポキシから選択される基である、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１２】
平均組成式：
ＨｑＲ２８ｒＳｉＯ（４−ｑ−ｒ）／２
を持ち、
式中、
Ｒ２８が、１から６０個の炭素原子のアルキルラジカルから選択される、不置換もしくは置換の、一価のヒドロカルビル（アルケニルを除く）より選択される基であり、ｑが０より大きく、ｒが０より大きいかまたは０と等しく、ｑ＋ｒが３より大きいかまたは３と等しい、オルガノハイドロジェンオリゴシロキサンもしくはオルガノハイドロジェンポリシロキサンをさらに含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１３】
Ｒ２８がメチル、エチル、プロピル、ブチルペンチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、オクチル、フェニル、メチルフェニル、シクロヘキシルおよびハロアルキルラジカルからなる群より選択される、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１４】
さらに触媒を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１５】
触媒が白金クロリド、クロロ白金酸、ビス（アセチルアセトナト）白金、（η５−シクロペンタジエニル）トリアルキル白金錯体、Ｐｔトリアゼニド錯体、Ｐｔ（ＰＰｈ３）２Ｃｌ２、鉄錯体、白金錯体およびロジウム錯体から選択される遷移金属系錯体である、請求項１４に記載の触媒。
【請求項１６】
ＵＶ安定剤、鎖伸長剤、硬化促進剤、硬化開始剤、硬化阻害剤、顔料、染料、抗菌剤、抗真菌剤、薬剤、殺生物剤、界面活性剤、導電性充填剤、微粉化した表面処理／非処理酸化金属、ナノ充填剤、粘土、可塑剤、粘着付与剤、離型剤、接着促進剤、相溶化剤、医薬品賦形剤、界面活性剤、相溶化剤、放射線不透過性物質、帯電防止剤から選択される一つもしくはそれ以上の成分をさらに含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１７】
請求項１に記載の硬化性イオン性シリコーンを含む、透明から半透明のシリコーンゴム組成物。
【請求項１８】
白金触媒によって熱硬化される請求項１７に記載のシリコーンゴム組成物。
【請求項１９】
白金触媒によってＵＶ硬化される請求項１７に記載のシリコーンゴム組成物。
【請求項２０】
ペルオキシドにより開始されて熱硬化される請求項１７に記載のシリコーンゴム組成物。
【請求項２１】
抗菌剤として、任意選択で銀、銅、亜鉛、クロルヘキシジン、ベンザルコニウムクロリド、ビグアニド、ポリ第四級アンモニウム化合物、第四級ホスホニウム化合物、キトサンおよびその誘導体、ならびに、ニシン、ペジオシン、ゴメシン、プレウリシジンのようなものであるがそれらに限定されない抗菌ペプチドならびにその誘導体を含む、請求項１７に記載のシリコーンゴム組成物。
【請求項２２】
請求項１に記載の硬化性イオン性シリコーンを含む、透明から半透明のシリコーンゲル組成物。
【請求項２３】
白金触媒によって熱硬化される請求項２２に記載のシリコーンゲル組成物。
【請求項２４】
白金触媒によってＵＶ硬化される請求項２２に記載のシリコーンゲル組成物。
【請求項２５】
接着剤として用いられる請求項２２に記載のシリコーンゲル組成物。
【請求項２６】
抗菌剤として、任意選択で銀、銅、亜鉛、クロルヘキシジン、ベンザルコニウムクロリド、ビグアニド、ポリ第四級アンモニウム化合物、ポリ第四級ホスホニウム化合物、キトサンおよびその誘導体、ならびに、ニシン、ペジオシン、ゴメシン、プレウリシジンのようなものであるがそれらに限定されない抗菌ペプチドならびにその誘導体およびその組替体を含む、請求項２２に記載のシリコーンゴム組成物。
【請求項２７】
請求項１に記載の硬化性イオン性シリコーン組成物を含む用途であって、用途が、ヘルスケア、パーソナルケア、自動車、コーティング、家庭用品、ペイント、洗濯用石鹸、繊維製品、電気／電子用途、航空宇宙、膜、接着剤、燃料電子、建築、アパレル、スポーツ用品、家電製品の製造、機械および装置の構築、および消費財より選択される、用途。
【請求項２８】
金属、金属イオン、生物活性分、抗ニキビ剤、抗老化剤、虫歯予防剤、抗真菌剤、抗菌剤、抗酸化剤、抗がん剤、抗ウイルス剤、抗炎症剤、抗凝固剤、止血剤、剥離剤、ホルモン、酵素、医薬化合物、殺生物剤、外用鎮痛剤、オーラルケア剤、オーラルケア薬剤、酸化剤、還元剤、皮膚保護剤、エッセンシャルオイル、防虫剤、ＵＶ吸収剤、ソーラーフィルター、顔料、水和剤、ビタミンならびにそれらの組み合わせからなる群より選択される一つもしくはそれ以上の追加の剤を含む、請求項２７に記載のヘルスケア用途。
【請求項２９】
金属、金属イオン、生物活性分、抗ニキビ剤、抗老化剤、虫歯予防剤、抗真菌剤、抗菌剤、抗酸化剤、抗がん剤、抗ウイルス剤、抗炎症剤、抗凝固剤、止血剤、剥離剤、ホルモン、酵素、医薬化合物、殺生物剤、外用鎮痛剤、オーラルケア剤、オーラルケア薬剤、酸化剤、還元剤、皮膚保護剤、エッセンシャルオイル、防虫剤、ＵＶ吸収剤、ソーラーフィルター、顔料、水和剤、ビタミンならびにそれらの組み合わせからなる群より選択される一つもしくはそれ以上の追加の剤を含む、請求項２８に記載のヘルスケア用途。
【請求項３０】
創傷被覆、瘢痕削減被覆、ドラッグデリバリー装置、医療用チューブ、臨床用表面、ペースメーカーリード、感圧接着剤、創傷治癒パッチ、創傷管理装置、医療用接着剤、カテーテル、シャント、バルブ、ステント、経皮イオン浸透パッチ、組織工学のための足場、抗菌デバイス、眼科機器、バイオインサート、外科装置、プラグ、医療装置、医療用保存装置、育児製品、補助呼吸装置、眼科機器、人工装具、再建デバイスおよび生体インプラントにおいてさらに用いられる、請求項２９に記載のヘルスケア用途。
【請求項３１】
脱臭剤、制汗剤、制汗／脱臭剤、スティックおよびロールオン製品、スキンローション、保湿剤、トナー、クレンジング製品、スタイリングジェル、ヘアダイ、ヘアカラー製品、縮毛矯正剤、マニキュア液、マニキュア除去剤、日焼け止め、抗老化製品、口紅、ファンデーション、おしろい、アイライナー、アイシャドウ、ほお紅、メーキャップ、マスカラ、保湿用剤、ファンデーション、ボディー用剤、ハンド用剤、スキンケア剤、フェース用剤、ネック用剤、香り用剤、光散乱（ソフトフォーカス）剤、夜用スキンケア剤、昼用スキンケア剤、日焼け用剤、ハンド液、パーソナルケアのための不織用途、ベビーローション顔用クレンジング製品、ヘアキューティクルコート、パーソナルケアリンスオフ製品、ゲル、泡風呂、スクラブ洗顔料、制御放出型パーソナルケア製品、ヘアコンディショニングミスト、スキンケア保湿ミスト、皮膚拭取り剤、毛穴拭取り剤、毛穴洗浄剤、傷減少剤、皮膚剥脱剤、皮膚落屑促進剤、スキンタオル、衣服、脱毛剤、パーソナルケア潤滑剤、ネイルカラーリング用剤、皮膚に適用するための医薬組成物の局所投与用のドラッグデリバリーシステム、ならびにそれらの組み合わせの一つもしくはそれ以上を含む、請求項２７に記載のパーソナルケア用途。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
イオン性シリコーンを含む硬化性組成物が本明細書でもたらされる。イオン性シリコーンは以下の式（Ｉ）：
Ｍ１ａＭ２ｂＭ３ｃＤ１ｄＤ２ｅＤ３ｆＴ１ｇＴ２ｈＴ３ｉＱｊ      （Ｉ）
を持ち、式中、
Ｍ１＝Ｒ１Ｒ２Ｒ３ＳｉＯ１／２
Ｍ２＝Ｒ４Ｒ５Ｒ６ＳｉＯ１／２
Ｍ３＝Ｒ７Ｒ８Ｒ９ＳｉＯ１／２
Ｄ１＝Ｒ１０Ｒ１１ＳｉＯ２／２
Ｄ２＝Ｒ１２Ｒ１３ＳｉＯ２／２
Ｄ３＝Ｒ１４Ｒ１５ＳｉＯ２／２
Ｔ１＝Ｒ１６ＳｉＯ３／２
Ｔ２＝Ｒ１７ＳｉＯ３／２
Ｔ３＝Ｒ１８ＳｉＯ３／２
Ｑ＝ＳｉＯ４／２
であり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１１、Ｒ１３、Ｒ１５は、１から６０個の炭素原子を持つ、脂肪族、芳香族もしくはフルオロの、一価の炭化水素であり、
Ｒ３、Ｒ１０、Ｒ１６は、独立して、グリコリド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２Ｏ−}、ラクチド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ−}、ブチロラクチド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−}およびカプロラクチド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−}の、ラジカルまたはＲ１によって定義される炭化水素ラジカルから選択でき、
Ｒ４、Ｒ１２、Ｒ１７は、式（ＩＩ）を持つ一価のラジカル含有イオン対、もしくは式（ＩＩＩ）を持つ両性イオンであり、ここで式（ＩＩ）は、
Ａ−Ｉｘ−Ｍｎｙ＋      （ＩＩ）
であり、式中
Ａは二価の炭化水素もしくはヒドロカルボノキシ基から選択される少なくとも一つのスペーサー原子を持つスペーサー基であり、Ｉは、スルホナート−ＳＯ３−、サルファート−ＯＳＯ３−、カルボキシラート−ＣＯＯ−、ホスホナート−ＰＯ３２−、およびホスファート−ＯＰＯ３２−基から選択されるイオン性基であり、Ｍは、水素またはアルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属、遷移金属、金属、金属錯体、第四級アンモニウムおよび第四級ホスホニウム基、炭化水素カチオン、アルキルカチオン、有機カチオン、およびカチオン性ポリマーから独立して選択されるカチオンである。両性イオンは式（ＩＩＩ）：
Ｒ’−ＮＲ’’２＋−Ｒ’’’−Ｉ−      （ＩＩＩ）
を持ち、式中
Ｒ’は１から約６０個の炭素原子の二価の炭化水素ラジカルであり、
Ｒ’’は、１から約６０個の炭素原子の一価の炭化水素ラジカルであり、
Ｒ’’’は、２から約２０個の炭素原子の、具体的には２から約８個の炭素原子の、そしてより具体的には２から約４個の炭素原子を含む二価の炭化水素ラジカルであり、
そしてＩは、スルホナート−ＳＯ３−、サルファート−ＯＳＯ３−、カルボキシラート−ＣＯＯ−、ホスホナート−ＰＯ３２−、およびホスファート−ＯＰＯ３２−基から選択されるイオン性基であり、
そしてここで、Ｒ７、Ｒ１４、Ｒ１８は、水素、または不飽和の一価のラジカルもしくはエポキシ基含有ラジカルから独立して選択され、
そしてここで、下付文字ｎおよびｙは１〜６より選択され、ｘはｎかけるｙの積であり、そして下付文字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉ、ｊは０もしくは正数であり、以下の「ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉ＋ｊの合計が２より大きいかもしくは２と等しく、かつ６０００より小さいかもしくは６０００と等しい」、「ｂ＋ｅ＋ｈが０より大きい」ならびに「ｃ＋ｆ＋ｉが０より大きい」という条件に従う。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本発明において、以下の成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）および（Ｆ）を含む付加硬化性イオン性シリコーン組成物が提供される。
成分（Ａ）：
成分（Ａ）は以下の式（Ｉ）
Ｍ１ａＭ２ｂＭ３ｃＤ１ｄＤ２ｅＤ３ｆＴ１ｇＴ２ｈＴ３ｉＱｊ      （Ｉ）
を持つイオン性シリコーンを含み、
式中、
Ｍ１＝Ｒ１Ｒ２Ｒ３ＳｉＯ１／２
Ｍ２＝Ｒ４Ｒ５Ｒ６ＳｉＯ１／２
Ｍ３＝Ｒ７Ｒ８Ｒ９ＳｉＯ１／２
Ｄ１＝Ｒ１０Ｒ１１ＳｉＯ２／２
Ｄ２＝Ｒ１２Ｒ１３ＳｉＯ２／２
Ｄ３＝Ｒ１４Ｒ１５ＳｉＯ２／２
Ｔ１＝Ｒ１６ＳｉＯ３／２
Ｔ２＝Ｒ１７ＳｉＯ３／２
Ｔ３＝Ｒ１８ＳｉＯ３／２
Ｑ＝ＳｉＯ４／２
であり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１１、Ｒ１３、Ｒ１５は、１から６０個の炭素原子を持つ、脂肪族、芳香族もしくはフルオロの、一価の炭化水素である。有用な炭化水素基の例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチルおよびｔｅｒｔ−ペンチル、ｎ−ヘキシル基のようなヘキシル、ｎ−ヘプチル基のようなヘプチル、ｎ−オクチルおよびイソオクチル基のようなオクチル、２，２，４−トリメチルペンチル基、ｎ−ノニル基のようなノニル、ｎ−デシル基のようなデシル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシクロヘプチルラジカル、およびメチルシクロヘキシルラジカルのようなシクロアルキルラジカルを含む。アリール基の例は、フェニル、ナフチル、ｏ−、ｍ−、およびｐ−トリル、キシリル、エチルフェニルおよびベンジルを含む。
式中、Ｒ３、Ｒ１０、Ｒ１６は、独立して、−ＣＨ２ＣＨ（Ｒ’）（ＣｎＨ２ｎ）−Ｏ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｏ−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｐ−（Ｃ４Ｈ８Ｏ）ｑ−Ｒ’から選択され、式中、下付文字ｎは０もしくは正であり、０から６の範囲の値を持ち、下付文字ｏ、ｐ、およびｑは０もしくは正であり、独立して、０から１００の範囲の値から選択され、ｏ＋ｐ＋ｑは１より大きいか１と等しいという制限がある。
Ｒ’は、水素、または１から６０個の炭素原子を持つ脂肪族の、芳香族のもしくはフルオロの、炭化水素であるか、または、Ｒ’は、グリコリド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２Ｏ−}、ラクチド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ−}、ブチロラクチド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−}およびカプロラクチド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−}の、ラジカルまたはＲ１によって定義される炭化水素ラジカルからなる群より独立して選択される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
Ｒ４、Ｒ１２、およびＲ１７は、式（ＩＩ）
Ａ−Ｉｘ−Ｍｎｙ＋      （ＩＩ）
を持つ一価のラジカル含有イオン対であってよく
式中
Ａは二価の炭化水素もしくはヒドロカルボノキシ基から選択される少なくとも一つのスペーサー原子を持つスペーサー基であり、Ｉは、スルホナート−ＳＯ３−、サルファート−ＯＳＯ３−、カルボキシラート−ＣＯＯ−、ホスホナート−ＰＯ３２−、およびホスファート−ＯＰＯ３２−基のようなイオン性基であり、より具体的にはスルホナート−ＳＯ３−であり、Ｍは、水素またはアルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属、遷移金属、金属錯体、第四級アンモニウムおよび第四級ホスホニウム基、炭化水素カチオン、アルキルカチオン、有機カチオン、およびカチオン性ポリマーから独立して選択されるカチオンである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
代替的に
Ｒ４、Ｒ１２、およびＲ１７は、式（ＩＩＩ）
−Ｒ’−ＮＲ’’２＋−Ｒ’’’−Ｉ      （ＩＩＩ）
を持つ両性イオンであってよく
式中、
Ｒ’は１から約６０個の炭素原子、具体的には１から約２０個の炭素原子、そしてより具体的には１から約８個の炭素原子を含む二価の炭化水素ラジカルであり、
Ｒ’’は、１から６０個の炭素原子、具体的には１から約２０個の炭素原子、そしてより具体的には１から約８個の炭素原子を含む一価の炭化水素ラジカルであり、
Ｒ’’’は、２から約２０個の炭素原子、具体的には２から約８個の炭素原子、そしてより具体的には２から約４個の炭素原子を含む二価の炭化水素ラジカルであり、
そしてＩは、スルホナート−ＳＯ３−、サルファート−ＯＳＯ３−、カルボキシラート−ＣＯＯ−、ホスホナート−ＰＯ３２−、およびホスファート−ＯＰＯ３２−基のようなイオン性基であり、
ここで、Ｒ７、Ｒ１８は、水素または不飽和の一価のラジカルもしくはエポキシ基含有ラジカルから独立して選択され、
ここでＲ１４は、水素、不飽和の一価のラジカルもしくはエポキシ基含有ラジカルから独立して選択されるか、またはイオン性基が上述の式（ＩＩＩ）によって表される両性イオンでないときは水素であり、
そしてここで、下付文字ｎおよびｙは１〜６より選択され、ｘはｎかけるｙの積であり、そして下付文字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉ、ｊは０もしくは正数であり、以下の「ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉ＋ｊの合計が２より大きいかもしくは２と等しく、かつ６０００より小さいかもしくは６０００と等しい、具体的にはａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉ＋ｊの合計が２より大きいかもしくは２と等しく、かつ４０００より小さいかもしくは４０００と等しい、より具体的にはａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉ＋ｊの合計が２より大きいかもしくは２と等しく、かつ２０００より小さいかもしくは２０００と等しい」、「ｂ＋ｅ＋ｈが０より大きい」ならびに「ｃ＋ｆ＋ｉが０より大きい」という条件に従う。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
本明細書の一つの他の実施態様において、式（ＩＩ）中のＡの二価の炭化水素基は、−（ＣＨ２）ｌＣ６Ｈ４（ＣＨ２）ｋ−、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）（ＣＨ２）ｋＣ６Ｈ４−、−ＣＨ２ＣＨ（Ｒ１）（ＣＨ２）ｌＣ６Ｈ３Ｒ１９−および−ＣＨ２ＣＨ（Ｒ１）（ＣＨ２）ｌＣ６Ｈ２Ｒ１Ｒ１９からなる群より選択されるアリーレン基であり、式中、Ｒ１は定義されるとおりであり、Ｒ１９は具体的には約１から約２０個の、そしてより具体的には約１から約８個の炭素原子、硫黄原子、窒素原子、酸素原子の一価のラジカルもしくはそれらの組み合わせのラジカルであり、ここでｌは０から２０の、具体的には１から約１０の値を持ち、ｋは０から２０の、具体的には０から約１０の値を持つ。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
成分（Ｃ）：
成分（Ｃ）は、平均組成式：
Ｒ２６ｎＲ２７ｏ（ＯＨ）ｐＳｉＯ（４−ｎ−ｏ−ｐ）／２
を持つポリオルガノシロキサンを含み、
式中、Ｒ２６は、シリコーンへと直接結合するＣ２−２０アルケニルであり、ビニル、アリル、ブテニル、ヘキセニルおよびデセニルによって例示され、
Ｒ２７は、不置換もしくは置換の、一価のヒドロカルビル（アルケニルを除く）、エポキシ、シクロエポキシ、アルコキシ、シクロアルキルおよびアリールから選択される基である。
不置換もしくは置換の、一価のヒドロカルビル（アルケニルを除く）は、メチル、エチル、プロピルおよびシクロヘキシルのようなアルキル、フェニル、トリルおよびナフチルのようなアリール、３−クロロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピルおよび２−（ノナフルオロブチル）エチルのようなハロアルキル、エチルベンジルおよび１−フェニルエチルのようなアラルキルによって例示される。アルコキシは、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシおよびｉ−プロポキシによって例示され、エトキシが好ましい。
ｎ、ｏ、ｐは正の数であり、ｎ＋ｏ＋ｐ＝１から２であり、ｎは０より大きいかまたは０と等しく、ｐは０より大きいかまたは０と等しい。
そして、それは少なくとも一つの、ケイ素と直接結合する、アルケニル、ヒドロキシル、エポキシ、シクロエポキシを含む。