【手続補正書】
【提出日】平成27年7月7日(2015.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロ波ベースの組織修正システムにおけるアプリケータとの使用のための組織界面モジュールであって、前記組織界面モジュールは、
前記組織界面モジュールの近位側におけるアプリケータチャンバであって、前記アプリケータチャンバは、前記アプリケータを受け取るように適合されている開口部を備えている、アプリケータチャンバと、
前記アプリケータチャンバ内に位置付けられている取付け機構であって、前記取付け機構は、前記組織界面モジュールを前記アプリケータに取り付けるように適合されている、取付け機構と、
前記アプリケータチャンバの近位側に位置付けられている近位密閉部材であって、前記近位密閉部材は、前記組織界面モジュールが前記アプリケータに取り付けられている場合、前記組織界面モジュールと前記アプリケータとの間に第１のシールを提供するように適合されている、近位密閉部材と、
前記アプリケータチャンバの近位側に位置付けられている真空界面と、
前記組織界面モジュールの遠位側における組織取込み開口部を含む組織取込みチャンバと、
前記アプリケータチャンバと前記組織取込みチャンバとの間の中心開口部と、
前記中心開口部を囲む中間密閉部材であって、前記中間密閉部材は、前記組織界面モジュールと前記アプリケータとの間に第２のシールを提供し、前記中心開口部を通る流体流動を防止するように適合されている、中間密閉部材と、
前記組織界面モジュール内の空気流路であって、前記空気流路は、前記アプリケータチャンバおよび前記組織取込みチャンバを接続し、前記空気流路は、前記中間密閉部材および前記中心開口部を迂回する、空気流路と、
前記空気流路内に配置されているフィルタであって、前記フィルタは、空気に対して浸透性であり、流体に対して実質的に不浸透性である、フィルタと
を備えている、組織界面モジュール。
【請求項２】
前記真空界面は、前記アプリケータの遠位端上に位置付けられている真空入口を受け取るように適合されている、請求項１に記載の組織界面モジュール。
【請求項３】
前記近位密閉部材は、前記真空界面の少なくとも一部を形成する、請求項１に記載の組織界面モジュール。
【請求項４】
前記第２のシールは、前記組織界面モジュールと、前記アプリケータの遠位端に位置付けられている冷却プレートとの間のシールを備えている、請求項１に記載の組織界面モジュール。
【請求項５】
前記組織取込み開口部に位置付けられている遠位密閉部材をさらに含む、請求項１に記載の組織界面モジュール。
【請求項６】
マイクロ波ベースの組織修正システムにおけるアプリケータとの使用のための組織界面モジュールであって、前記組織界面モジュールは、
前記組織界面モジュールの近位側におけるアプリケータチャンバであって、前記アプリケータチャンバは、アプリケータを受け取るように適合されている開口部を備えている、アプリケータチャンバと、
前記アプリケータチャンバ内に位置付けられている少なくとも１つの取付けプレートであって、前記少なくとも１つの取付けプレートは、前記アプリケータの遠位端上に位置付けられている磁気回路の要素と係合するように位置付けられている、取付けプレートと、
前記アプリケータチャンバの近位側に位置付けられている近位密閉部材であって、前記近位密閉部材は、前記組織界面モジュールが前記アプリケータに取り付けられている場合、前記組織界面モジュールと前記アプリケータとの間に第１のシールを提供するように適合されている、近位密閉部材と、
前記アプリケータチャンバの近位側に位置付けられている真空界面であって、前記真空界面は、真空源に接続するように適合されている、真空界面と、
前記組織界面モジュールの遠位側における組織取込み開口部を含む組織取込みチャンバと、
前記アプリケータチャンバと前記組織取込みチャンバとの間の中心開口部と、
前記中心開口部の少なくとも一部を囲む中間密閉部材であって、前記中間密閉部材は、前記組織界面モジュールと前記アプリケータとの間の第２のシールを提供し、前記中心開口部を通る流体流動を防止するように適合されている、中間密閉部材と、
前記組織界面モジュール内の空気流路であって、前記空気流路は、前記アプリケータチャンバおよび前記組織取込みチャンバを接続し、前記空気流路は、前記中間密閉部材および前記中心開口部を迂回する、空気流路と、
前記空気流路内に配置されているフィルタであって、前記フィルタは、空気に対して浸透性であり、流体に対して実質的に不浸透性である、フィルタと
を備えている、組織界面モジュール。
【請求項７】
前記取付けプレートは、前記アプリケータ内の磁気要素と磁気回路を形成するように適合されている磁気要素を備えている、請求項６に記載の組織界面モジュール。
【請求項８】
前記取付けプレートは、強磁性プレートを備えている、請求項７に記載の組織界面モジュール。
【請求項９】
前記アプリケータ上の対応するアプリケータ係合表面と係合するように適合されている組織界面モジュール係合表面をさらに備え、前記組織界面モジュール係合表面は、前記中間密閉部材を含む平面に対して、約２２．５度の角度で配置されている、請求項６に記載の組織界面モジュール。
【請求項１０】
前記取付けプレートは、強磁性プレートを備え、前記組織界面モジュール係合表面は、前記強磁性プレートの表面を備えている、請求項９に記載の組織界面モジュール。
【請求項１１】
前記アプリケータ上の対応するアプリケータ係合表面と係合するように適合されている組織界面モジュール係合表面をさらに備え、前記組織界面モジュール係合表面は、前記中間密閉部材を含む平面に対して、約１７．５度〜約２７．５度の角度で配置されている、請求項６に記載の組織界面モジュール。
【請求項１２】
マイクロ波ベースの組織修正システムにおけるアプリケータとの使用のための組織界面モジュールであって、前記組織界面モジュールは、
前記組織界面モジュールの近位側におけるアプリケータチャンバであって、前記アプリケータチャンバは、アプリケータを受け取るように適合されている開口部を備えている、アプリケータチャンバと、
前記アプリケータチャンバ内に位置付けられている取付け機構であって、前記取付け機構は、前記組織界面モジュールを前記アプリケータに取り付けるように適合されている、取付け機構と、
前記アプリケータチャンバの近位側に位置付けられている近位密閉部材であって、前記近位密閉部材は、前記組織界面モジュールが前記アプリケータに取り付けられている場合、前記組織界面モジュールと前記アプリケータとの間に第１のシールを提供するように適合されている、近位密閉部材と、
前記アプリケータチャンバの近位側に位置付けられている真空界面と、
前記組織界面モジュールの遠位側の組織取込みチャンバであって、前記組織取込みチャンバは、
前記組織界面モジュールの遠位側における組織取込み開口部と、
前記アプリケータチャンバと前記組織取込みチャンバとの間の中心開口部と
を備えている、組織取込みチャンバと、
前記中心開口部の少なくとも一部を囲む中間密閉部材であって、前記中間密閉部材は、前記組織界面モジュールと前記アプリケータとの間の第２のシールを提供し、前記中心開口部を通る流体流動を防止するように適合されている、中間密閉部材と、
前記組織界面モジュール内の真空経路であって、前記真空経路は、
前記中間密閉部材の第１の側の第１の開口部と、
前記中間密閉部材の第２の側の第２の開口部と、
前記第１と第２の開口部との間に配置されているフィルタであって、前記フィルタは、空気に対して浸透性であり、流体に対して実質的に不浸透性である、フィルタと
を備えている、真空経路と
を備え、
前記真空経路は、前記中心開口部を通る流体流動が防止される場合、前記フィルタを通り、前記中間密閉部材の第１の側から前記中間密閉部材の第２の側に延在する、組織界面モジュール。
【請求項１３】
前記組織界面モジュールが前記アプリケータに取り付けられた状態で、前記真空流路は、前記組織取込みチャンバの遠位端から開始し、前記真空界面で終了する、請求項１２に記載の組織界面モジュール。
【請求項１４】
組織界面モジュールであって、前記組織界面モジュールは、
アプリケータチャンバであって、前記アプリケータチャンバは、前記組織界面モジュールの近位側に位置付けられている、アプリケータチャンバと、
組織取込みチャンバであって、前記組織取込みチャンバは、前記組織界面モジュールの遠位側に位置付けられている、組織取込みチャンバと、
中心開口部と、
前記中心開口部の少なくとも一部を囲む中間密閉部材であって、前記中間密閉部材は、前記組織界面モジュールと前記アプリケータとの間にシールを提供し、前記中心開口部を通る流体流動を防止するように適合されている、中間密閉部材と、
真空経路であって、前記真空経路は、前記中間密閉部材の近位側から、前記中間密閉部材の遠位側に延在し、前記真空経路は、フィルタおよび真空トラップを備えている、真空経路と
を備え、
前記真空経路は、前記中心開口部を通る流体流動が防止される場合、前記アプリケータチャンバが前記アプリケータ真空ポートに取り付けられると、前記組織取込みチャンバから、前記真空トラップを通り、前記フィルタを通る、前記アプリケータチャンバ内への空気の流動を促進するように適合されている、組織界面モジュール。
【請求項１５】
患者を治療するためのシステムであって、前記システムは、
組織界面の組織取込みチャンバを備えている組織界面モジュールであって、前記組織界面モジュールの前記組織取込みチャンバの遠位開口部は、組織表面に対して設置されるように構成されている、組織界面モジュールと、
アプリケータであって、前記アプリケータの遠位端は、前記組織界面モジュールのアプリケータチャンバ内に位置付けられるように構成されている、アプリケータと、
前記組織界面モジュールの前記アプリケータチャンバと組織取込みチャンバとの間の中心開口部を前記アプリケータの遠位端に対して密閉する手段と、
真空を前記アプリケータチャンバに印加する手段と、
前記組織取込みチャンバ内に真空を生成することによって、前記患者の組織の一部を前記組織取込みチャンバ内に引き込む手段であって、前記真空は、真空経路を通して、前記組織取込みチャンバから、前記アプリケータ内の真空源に空気を吸い込むことによって生成され、前記真空経路は、前記アプリケータチャンバと、前記アプリケータチャンバと前記組織取込みチャンバとの間のフィルタとを備えている、手段と
を含み、
マイクロ波エネルギーは、前記組織取込みチャンバ内に位置付けられている組織に印加されるように構成されている、システム。
【請求項１６】
前記取込チャンバ内に位置付けられている組織を冷却する手段をさらに含む、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１７】
真空界面において、前記アプリケータチャンバを前記アプリケータに対して密閉する手段をさらに含む、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１８】
前記組織界面モジュールを前記アプリケータに磁気的に取り付ける手段をさらに含む、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１９】
磁気的に取り付ける前記手段は、前記アプリケータの要素と前記組織界面モジュールとの間に磁気回路を形成する手段を含む、請求項１８に記載のシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
別の実施形態は、ケーブルアセンブリを通してアプリケータをマイクロ波発生器コンソールに接続するように適合されている多機能コネクタであって、冷却流体コネクタ、冷却流体戻りコネクタ、マイクロ波コネクタ、電子コネクタ、および真空コネクタを備えているコネクタを備えている。
本願明細書は、例えば、以下の項目も提供する。
（項目１）
マイクロ波ベースの組織修正システムにおけるアプリケータとの使用のための組織界面モジュールであって、前記組織界面モジュールは、
前記組織界面モジュールの近位側におけるアプリケータチャンバであって、前記アプリケータチャンバは、前記アプリケータを受け取るように適合されている開口部を備えている、アプリケータチャンバと、
前記アプリケータチャンバ内に位置付けられている取付け機構であって、前記取付け機構は、前記組織界面モジュールを前記アプリケータに取り付けるように適合されている、取付け機構と、
前記アプリケータチャンバの近位側に位置付けられている近位密閉部材であって、前記近位密閉部材は、前記組織界面モジュールが前記アプリケータに取り付けられている場合、前記組織界面モジュールと前記アプリケータとの間に第１のシールを提供するように適合されている、近位密閉部材と、
前記アプリケータチャンバの近位側に位置付けられている真空界面と、
前記組織界面モジュールの遠位側における組織取込み開口部を含む組織取込みチャンバと、
前記アプリケータチャンバと前記組織取込みチャンバとの間の中心開口部と、
前記中心開口部を囲む中間密閉部材であって、前記中間密閉部材は、前記組織界面モジュールと前記アプリケータとの間に第２のシールを提供し、前記中心開口部を通る流体流動を防止するように適合されている、中間密閉部材と、
前記組織界面モジュール内の空気流路であって、前記空気流路は、前記アプリケータチャンバおよび前記組織取込みチャンバを接続し、前記空気流路は、前記中間密閉部材および前記中心開口部を迂回する、空気流路と、
前記空気流路内に配置されているフィルタであって、前記フィルタは、空気に対して浸透性であり、流体に対して実質的に不浸透性である、フィルタと
を備えている、組織界面モジュール。
（項目２）
前記真空界面は、前記アプリケータの遠位端上に位置付けられている真空入口を受け取るように適合されている、項目１に記載の組織界面モジュール。
（項目３）
前記近位密閉部材は、前記真空界面の少なくとも一部を形成する、項目１に記載の組織界面モジュール。
（項目４）
前記第２のシールは、前記組織界面モジュールと、前記アプリケータの遠位端に位置付けられている冷却プレートとの間のシールを備えている、項目１に記載の組織界面モジュール。
（項目５）
前記組織取込み開口部に位置付けられている遠位密閉部材をさらに含む、項目１に記載の組織界面モジュール。
（項目６）
マイクロ波ベースの組織修正システムにおけるアプリケータとの使用のための組織界面モジュールであって、前記組織界面モジュールは、
前記組織界面モジュールの近位側におけるアプリケータチャンバであって、前記アプリケータチャンバは、アプリケータを受け取るように適合されている開口部を備えている、アプリケータチャンバと、
前記アプリケータチャンバ内に位置付けられている少なくとも１つの取付けプレートであって、前記少なくとも１つの取付けプレートは、前記アプリケータの遠位端上に位置付けられている磁気回路の要素と係合するように位置付けられている、取付けプレートと、
前記アプリケータチャンバの近位側に位置付けられている近位密閉部材であって、前記近位密閉部材は、前記組織界面モジュールが前記アプリケータに取り付けられている場合、前記組織界面モジュールと前記アプリケータとの間に第１のシールを提供するように適合されている、近位密閉部材と、
前記アプリケータチャンバの近位側に位置付けられている真空界面であって、前記真空界面は、真空源に接続するように適合されている、真空界面と、
前記組織界面モジュールの遠位側における組織取込み開口部を含む組織取込みチャンバと、
前記アプリケータチャンバと前記組織取込みチャンバとの間の中心開口部と、
前記中心開口部の少なくとも一部を囲む中間密閉部材であって、前記中間密閉部材は、前記組織界面モジュールと前記アプリケータとの間の第２のシールを提供し、前記中心開口部を通る流体流動を防止するように適合されている、中間密閉部材と、
前記組織界面モジュール内の空気流路であって、前記空気流路は、前記アプリケータチャンバおよび前記組織取込みチャンバを接続し、前記空気流路は、前記中間密閉部材および前記中心開口部を迂回する、空気流路と、
前記空気流路内に配置されているフィルタであって、前記フィルタは、空気に対して浸透性であり、流体に対して実質的に不浸透性である、フィルタと
を備えている、組織界面モジュール。
（項目７）
前記取付けプレートは、前記アプリケータ内の磁気要素と磁気回路を形成するように適合されている磁気要素を備えている、項目６に記載の組織界面モジュール。
（項目８）
前記取付けプレートは、強磁性プレートを備えている、項目７に記載の組織界面モジュール。
（項目９）
前記アプリケータ上の対応するアプリケータ係合表面と係合するように適合されている組織界面モジュール係合表面をさらに備え、前記組織界面モジュール係合表面は、前記中間密閉部材を含む平面に対して、約２２．５度の角度で配置されている、項目６に記載の組織界面モジュール。
（項目１０）
前記取付けプレートは、強磁性プレートを備え、前記組織界面モジュール係合表面は、前記強磁性プレートの表面を備えている、項目９に記載の組織界面モジュール。
（項目１１）
前記アプリケータ上の対応するアプリケータ係合表面と係合するように適合されている組織界面モジュール係合表面をさらに備え、前記組織界面モジュール係合表面は、前記中間密閉部材を含む平面に対して、約１７．５度〜約２７．５度の角度で配置されている、項目６に記載の組織界面モジュール。
（項目１２）
マイクロ波ベースの組織修正システムにおけるアプリケータとの使用のための組織界面モジュールであって、前記組織界面モジュールは、
前記組織界面モジュールの近位側におけるアプリケータチャンバであって、前記アプリケータチャンバは、アプリケータを受け取るように適合されている開口部を備えている、アプリケータチャンバと、
前記アプリケータチャンバ内に位置付けられている取付け機構であって、前記取付け機構は、前記組織界面モジュールを前記アプリケータに取り付けるように適合されている、取付け機構と、
前記アプリケータチャンバの近位側に位置付けられている近位密閉部材であって、前記近位密閉部材は、前記組織界面モジュールが前記アプリケータに取り付けられている場合、前記組織界面モジュールと前記アプリケータとの間に第１のシールを提供するように適合されている、近位密閉部材と、
前記アプリケータチャンバの近位側に位置付けられている真空界面と、
前記組織界面モジュールの遠位側の組織取込みチャンバであって、前記組織取込みチャンバは、
前記組織界面モジュールの遠位側における組織取込み開口部と、
前記アプリケータチャンバと前記組織取込みチャンバとの間の中心開口部と
を備えている、組織取込みチャンバと、
前記中心開口部の少なくとも一部を囲む中間密閉部材であって、前記中間密閉部材は、前記組織界面モジュールと前記アプリケータとの間の第２のシールを提供し、前記中心開口部を通る流体流動を防止するように適合されている、中間密閉部材と、
前記組織界面モジュール内の真空経路であって、前記真空経路は、
前記中間密閉部材の第１の側の第１の開口部と、
前記中間密閉部材の第２の側の第２の開口部と、
前記第１と第２の開口部との間に配置されているフィルタであって、空気に対して浸透性であり、流体に対して実質的に不浸透性である、フィルタと
を備えている、真空経路と
を備え、
前記真空経路は、前記中心開口部を通る流体流動が防止される場合、前記フィルタを通り、前記中間密閉部材の第１の側から前記中間密閉部材の第２の側に延在する、
組織界面モジュール。
（項目１３）
前記組織界面モジュールが前記アプリケータに取り付けられた状態で、前記真空流路は、前記組織取込みチャンバの遠位端から開始し、前記真空界面で終了する、項目１２に記載の組織界面モジュール。
（項目１４）
組織界面モジュールであって、前記組織界面モジュールは、
アプリケータチャンバであって、前記アプリケータチャンバは、前記組織界面モジュールの近位側に位置付けられている、アプリケータチャンバと、
組織取込みチャンバであって、前記組織取込みチャンバは、前記組織界面モジュールの遠位側に位置付けられている、組織取込みチャンバと、
中心開口部と、
前記中心開口部の少なくとも一部を囲む中間密閉部材であって、前記中間密閉部材は、前記組織界面モジュールと前記アプリケータとの間にシールを提供し、前記中心開口部を通る流体流動を防止するように適合されている、中間密閉部材と、
真空経路であって、前記中間密閉部材の近位側から、前記中間密閉部材の遠位側に延在し、フィルタおよび真空トラップを備えている、真空経路と
を備え、
前記真空経路は、前記中心開口部を通る流体流動が防止される場合、前記アプリケータチャンバが前記アプリケータ真空ポートに取り付けられると、前記組織取込みチャンバから、前記真空トラップを通り、前記フィルタを通る、前記アプリケータチャンバ内への空気の流動を促進するように適合されている、組織界面モジュール。
（項目１５）
患者を治療する方法であって、
アプリケータの遠位端を組織界面モジュールのアプリケータチャンバ内に位置付けることと、
前記組織界面モジュールの前記アプリケータチャンバと組織取込みチャンバとの間の中心開口部を前記アプリケータの遠位端に対して密閉することと、
真空を前記アプリケータチャンバに印加することと、
前記組織界面モジュールの組織取込みチャンバの遠位開口部を組織表面に対して設置することと、
前記組織取込みチャンバ内に真空を生成することによって、前記患者の組織の一部を前記組織取込みチャンバ内に引き込むことであって、前記真空は、真空経路を通して、前記組織取込みチャンバから、前記アプリケータ内の真空源に空気を吸い込むことによって生成され、前記真空経路は、前記アプリケータチャンバと、前記アプリケータチャンバと前記組織取込みチャンバとの間のフィルタとを備えている、ことと、
マイクロ波エネルギーを前記組織取込みチャンバ内に位置付けられている組織に印加することと
を含む、方法。
（項目１６）
前記取込チャンバ内に位置付けられている組織を冷却することをさらに含む、項目１５に記載の方法。
（項目１７）
真空界面において、前記アプリケータチャンバを前記アプリケータに対して密閉することをさらに含む、項目１５に記載の方法。
（項目１８）
前記組織界面モジュールを前記アプリケータに磁気的に取り付けることをさらに含む、項目１５に記載の方法。
（項目１９）
磁気的に取り付ける前記ステップは、前記アプリケータの要素と前記組織界面モジュールとの間に磁気回路を形成することを含む、項目１８に記載の方法。