Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年1月14日(2015.1.14)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ
【化１】
2013503119.tif 000001
のグリシン−Ｎ，Ｎ−ジアセチックアシッド誘導体を実質的に含む結晶性固体を製造するための方法であって、
上記式中、Ｒが、置換基として追加的に５個以下のヒドロキシル基、ホルミル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、フェノキシ基、又はＣ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル基を有していても良く、及び５個以下の非隣接の酸素原子で中断されても良いＣ１〜Ｃ３０アルキル、又はＣ２〜Ｃ３０アルケニル、
式
−（ＣＨ２）ｋ−Ｏ−（Ａ１Ｏ）ｍ−（Ａ２Ｏ）ｎ−Ｙ
（但し、上記式中、Ａ１及びＡ２が、相互に独立して、２〜４個の炭素原子を有する１，２−アルキレン基、Ｙが水素、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、フェニル、又はＣ１〜Ｃ４アルコキシカルボニルを意味し、及びｋが、１、２又は３の数であり、及びｍ及びｎが、それぞれ０〜５０の数で、ｍ＋ｎの合計が、少なくとも４である）
のアルコキシレート部分(moiety)、アルキル中に１〜２０個の炭素原子を有するフェニルアルキル基、窒素、酸素、及び硫黄から成る群から選ばれる３個以下のヘテロ原子を有する、５員、又は６員の、不飽和の、又は飽和した、追加的にベンゾ融合されていても良い複素環であり、
ここで、Ｒの定義中の全てのフェニル基及び複素環が、追加的に置換基として、３つ以下のＣ１〜Ｃ４アルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基、又はＣ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル基を有することができ、又はＲが、
式
【化２】
2013503119.tif 000002
（但し、
Ａが、Ｃ１〜Ｃ１２アルキレンブリッジ、又は化学結合であり、
各Ｍが、互いに独立して、水素、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム、又は置換されたアンモニウムを対応する化学量論的量で表す）
の基であり、及び
式Ｉの少なくとも１種の結晶性化合物が供給され、及び式Ｉの少なくとも１種の化合物でスプレー造粒が行われることを特徴とする方法。
【請求項２】
生成物の一部が造粒機から除去され、粉化され、及び新しい種として製造機に導入されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
式Ｉの化合物の水溶液がスプレー造粒のために使用されることを特徴とする請求項１又は２の何れかに記載の方法。
【請求項４】
Ｒが、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ2〜Ｃ20アルケニル、又は式
【化３】
2013503119.tif 000003
の基であるグリシン−Ｎ，Ｎ−ジアセチックアシッド誘導体Ｉから、吸湿性が十分に低い結晶性固体を製造するための、請求項１〜３の何れか１項に記載の方法。
【請求項５】
α−アラニン−Ｎ，Ｎ−ジアセチック酸（ＭＧＤＡ）又はそのアルカリ金属−、アンモニム−、又は置換されたアミン塩から、吸湿性が十分に低い結晶性固体を製造するための、請求項１〜４の何れか１項に記載の方法。
【請求項６】
生成物が熱−後処理されることを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
本発明の方法では、好ましくは、開始時においてのみ結晶性生成物を導入する必要があり、この後、スプレー造粒（このようなスプレー造粒で、例えば、結晶性生成物が導入されない場合には、アモルファス顆粒のみが更に製造されることになる）、及び次の焼戻し（熱処理）が行われ、これにより比較的高い結晶性部分を有する、持続的な（永続する）生成物（従って、実質的に吸湿性が低い生成物）が得られる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
「結晶性」という記載は、少なくとも６０質量％の結晶性部分を示す。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年11月28日(2014.11.28)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
本発明による混合物は、専ら式Iのエステルの混合物から成るか、又はこの他に少なくとも１つのポリマー及び／又は少なくとも１つの可塑剤（式Iのジエステルではない）を有することができる。該可塑剤は、例えば、クエン酸トリアルキルエステル、アシル化されたクエン酸トリアルキルエステル、グリセリンエステル、グリコールジベンゾエート、アルキルベンゾエート、ジアルキルアジペート、トリアルキルトリメリテート、ジアルキルテレフタレート、ジアルキルフタレート又は１，２−、１，３−又は１，４−シクロヘキサンジカルボン酸のジアルキルエステルから選択することができ、その際、アルキル基は、４〜１３個、有利には５、６、７、８、９、１０、１１個又は１３個の炭素原子を有する。可塑剤は、ジアンヒドロヘキシトールエステル、有利にはカルボン酸、例えばｎ−酪酸又はイソ酪酸、バレリアン酸又は２−エチルヘキサン酸又はイソノナン酸のイソソルビドジエステルであることもできる。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２５】
式Iのジエステルと可塑剤（式Iのジエステルではない）を有する有利な混合物中、可塑剤、特にアルキルベンゾエート、ジアルキルアジペート、グリセリンエステル、クエン酸トリアルキルエステル、アシル化されたクエン酸トリアルキルエステル、トリアルキルトリメリテート、グリコールジベンゾエート、ジアルキルテレフタレート、ジアルキルフタレート、イソソルビドのジアルカノイルエステル及び／又は１，２−、１，３−又は１，４−シクロヘキサンジカルボン酸のジアルキルエステル：式Iの１つのジエステル／複数のジエステルのモル比は、有利には１：１５〜１５：１、有利には１〜６：６〜１である。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ
【化１】
2013503125.tif 000001
のフラン−２，５−ジカルボン酸の異性体ノニルエステルの混合物であって、
異性体Ｃ９−基の構造において区別される少なくとも２個の異なるエステルを有し、混合物中に存在するいずれのＣ９−基も９０ｍｏｌ％より多い割合を有さない、前記フラン−２，５−ジカルボン酸の異性体ノニルエステルの混合物。
【請求項２】
請求項１に記載の式Iのフラン−２，５−ジカルボン酸の異性体ノニルエステルの混合物を製造する方法において、
ａ）フラン−２，５−ジカルボン酸を水の遊離下に異性体Ｃ９−アルコールの混合物と接触させ、
ｂ）その際、異性体Ｃ９−アルコールの混合物の５０％モル過剰までが使用され、
ｃ）ａ）による反応は、ブレンステッド酸及び／又はルイス酸の群から選択される触媒の使用下に行われることを特徴とする、
式Iのフラン−２，５−ジカルボン酸の異性体ノニルエステルの混合物を製造する方法。
【請求項３】
請求項１に記載の式Iのフラン−２，５−ジカルボン酸の異性体ノニルエステルの混合物を製造する方法において、
ａ）フラン−２，５−ジカルボン酸を相応のフラン−２，５−ジカルボン酸塩化物に変換し、これを
ｂ）分離及び精製した後に、引き続き、塩化水素の遊離下に、異性体Ｃ９−アルコールの混合物と接触させることを特徴とする、
式Iのフラン−２，５−ジカルボン酸の異性体ノニルエステルの混合物を製造する方法。
【請求項４】
請求項１に記載の式Iのフラン−２，５−ジカルボン酸の異性体ノニルエステルの混合物を製造する方法において、
ａ）フラン−２，５−ジカルボン酸ジメチルエステルをメタノールの遊離下に異性体Ｃ９−アルコールの混合物と接触させ、
ｂ）その際、ａ）による反応は、ブレンステッド酸及び／又はルイス酸の群から選択される触媒の使用下に行われることを特徴とする、
式Iのフラン−２，５−ジカルボン酸の異性体ノニルエステルの混合物を製造する方法。
【請求項５】
請求項１に記載の式Iのフラン−２，５−ジカルボン酸の異性体ノニルエステルの混合物ならびにアルキルベンゾエート、ジアルキルアジペート、グリセリンエステル、クエン酸トリアルキルエステル、アシル化されたクエン酸トリアルキルエステル、トリアルキルトリメリテート、グリコールジベンゾエート、ジアルキルテレフタレート、ジアルキルフタレート、イソソルビドのジアルカノイルエステル及び／又は１，２−、１，３−もしくは１，４−シクロヘキサンジカルボン酸のジアルキルエステルの群から選択される可塑剤を有する組成物。
【請求項６】
式Iのフラン−２，５−ジカルボン酸の異性体ノニルエステル：可塑剤の比は、１：１５〜１５：１の範囲内である、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
ポリ塩化ビニル、ポリビニルブチラール、ポリ乳酸、ポリヒドロキシブチラール及び／又はポリアルキルメタクリレートから選択されるポリマーをさらに含有する、請求項６に記載の組成物。
【請求項８】
請求項１に記載の式Iのフラン−２，５−ジカルボン酸の異性体ノニルエステルの混合物と、ポリ塩化ビニル、ポリビニルブチラール、ポリ乳酸、ポリヒドロキシブチラール及び／又はポリアルキルメタクリレートから選択されるポリマーを有する組成物。
【請求項９】
ポリマー：式Iのフラン−２，５−ジカルボン酸の異性体ノニルエステルの比は、３０：１〜１：２．５の範囲内である、請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
請求項１に記載の式Iのフラン−２，５−ジカルボン酸の異性体ノニルエステルの可塑剤としての使用。
【請求項１１】
染料、インク、接着剤若しくは接着剤成分、塗料、プラスチゾル、又はシーリング・コンパウンドを製造する際の、プラスチック又はプラスチック成分における、請求項５から９までのいずれか１項に記載の組成物の可塑剤としての使用。
【請求項１２】
染料、インク、接着剤若しくは接着剤成分、塗料、プラスチゾル、又はシーリング・コンパウンドを製造する際の、請求項５から９までのいずれか１項に記載の組成物の溶剤としての使用。
【請求項１３】
請求項５から９までのいずれか１項に記載の組成物の潤滑油成分としての使用。
【請求項１４】
金属加工の際の、請求項５から９までのいずれか１項に記載の組成物の助剤としての使用。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月19日(2015.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
異物を撥ねることが可能である表面を有する物品であって、
化学官能化層を備える粗面を備え、前記粗面は１以上の粗度係数を有する、基質と、
安定化液体被覆層を提供するように、前記化学官能化された粗面に湿潤され、かつ付着される、潤滑液であって、前記液体は、前記化学官能化された粗面より上側に液体上面を形成するように十分な厚さで前記粗面を覆う、潤滑液と、
を備え、
前記化学官能化層を備える前記粗面および前記潤滑液は、前記潤滑液が前記基質上で実質的に固定化されて撥水面を形成するように、相互に対する親和性を有する、物品。
【請求項２】
前記潤滑液に対する前記粗面の親和性は、撥ねられる前記異物に対する前記粗面の親和性を上回る、請求項１に記載の物品。
【請求項３】
前記異物は、流体又は固体である、請求項１又は２に記載の物品。
【請求項４】
前記粗面は、ナノメートルからマイクロメートルの規模の少なくとも１つの寸法を有する、隆起特徴を備える、請求項１から３のいずれか一項に記載の物品。
【請求項５】
前記基質は、規則的及びランダムな細孔の３次元的に相互接続されたネットワークの多孔質材料を含む、請求項１から４のいずれか一項に記載の物品。
【請求項６】
化学官能化層は、フッ素化物を含む、請求項１から５のいずれか一項に記載の物品。
【請求項７】
前記潤滑液は、ペルフルオロ炭化水素であり、ペルフルオロアルキル基が線形または分岐であり、いくつかまたは全ての線形および分岐基が部分的にのみフッ素化可能である、請求項１から６のいずれか一項に記載の物品。
【請求項８】
前記潤滑液は、有機シリコーン化合物又は疎水性油である、請求項１に記載の物品。
【請求項９】
前記物品は、以下の条件を満たし、
γＢＸｃｏｓθＢＸ−γＡＸｃｏｓθＡＸ＞０            （ｅ１）
γＡＸは、周辺媒質Ｘとの前記異物の界面エネルギーであり、
γＢＸは、前記周辺媒質Ｘとの前記潤滑液の界面エネルギーであり、
θＡＸは、前記周辺媒質Ｘ下に浸漬される平坦な固体表面上の前記異物の平衡接触角であり、
θＢＸは、前記周辺媒質Ｘ下に浸漬される平坦な固体表面上の前記潤滑液の液体の平衡接触角である、請求項１から８のいずれか一項に記載の物品。
【請求項１０】
前記物品が、媒質Ｘに暴露されるときに、前記物品は、以下の２つの条件を満たし、Ｘは、空気／ガス／水／非混合性流体であり、
Ｒ（γＢＸｃｏｓθＢＸ−γＡＸｃｏｓθＡＸ）−γＡＢ＞０            （ｅ２）
Ｒ（γＢＸｃｏｓθＢＸ−γＡＸｃｏｓθＡＸ）＋γＡＸ−γＢＸ＞０      （ｅ３）
γＡＸは、周辺媒質Ｘとの前記異物の界面エネルギーであり、
γＢＸは、前記周辺媒質Ｘとの前記潤滑液の界面エネルギーであり、
γＡＢは、前記異物および前記潤滑液界面の界面エネルギーであり、
θＡＸは、前記周辺媒質Ｘ下に浸漬される平坦な固体表面上の前記異物の平衡接触角であり、
θＢＸは、前記周辺媒質Ｘ下に浸漬される平坦な固体表面上の前記潤滑液の平衡接触角であり、
Ｒは、前記粗面の粗度係数である、請求項１から９のいずれか一項に記載の物品。
【請求項１１】
前記官能化された粗面の臨界表面エネルギーは、前記潤滑液の表面エネルギーの表面エネルギーよりも少なくとも１．２５倍低い、請求項１から１０のいずれか一項に記載の物品。
【請求項１２】
前記粗面の粗度が粗度係数Ｒを有し、Ｒが１．５よりも大きく、Ｒ≧１／ｃｏｓθＢＸであり、θＢＸは、前記周辺媒質Ｘ下に浸漬される平坦な基質上の前記潤滑液の平衡接触角であり、溶媒Ｘが水／空気／他の非混合性流体媒質である、請求項１から１１のいずれか一項に記載の物品。
【請求項１３】
前記潤滑液の任意の損失を補充するように、ある量の潤滑液を備える貯留部をさらに備える、請求項１から１２のいずれか一項に記載の物品。
【請求項１４】
流路、光学構成要素、看板もしくは商業用図形、建築材料、冷蔵システムの要素、熱交換器、風車、太陽電池、航空電子工学デバイス、船舶、屋根材料、水中デバイス、織物、レンズ、ゴーグル、タッチスクリーン、窓、流体輸送デバイス、又は、コンテナの表面に前記粗面が提供されている、請求項１から１３のいずれか一項に記載の物品。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月11日(2015.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
口腔内画像処理のための方法であって、前記方法は、コンピュータシステム上で少なくとも部分的に実行され、
１つ以上の歯のデジタル画像を得るステップと、
前記１つ以上の歯の第１の境界および第２の境界を検出するステップと、
前記第１の境界および第２の境界のそれぞれにおいて、前記境界の片側の歯領域の平均グレースケール値と、前記境界の反対側のバックグラウンド領域の平均グレースケール値との境界比を計算し、計算された前記境界比をメモリに記憶するステップと、
前記第１の境界の近傍の前記歯領域の前記平均グレースケール値と、前記第２の境界の近傍の前記歯領域の前記平均グレースケール値との第３の比を計算し、前記第３の比を前記メモリに記憶するステップと、
少なくとも計算された前記境界比および前記第３の比を含むベクトルを形成し、記憶するステップと、
記憶された前記ベクトルに従って、歯の表面を平滑面または咬合面のいずれかに分類するステップと、
前記歯の表面の分類に従って、前記デジタル画像を処理するステップと、
処理結果を報告するステップと、
を含む、方法。
【請求項２】
前記平均グレースケール値は、前記第１の境界と第２の境界との間の距離の３分の１以内である前記画像の部分からのものである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
齲蝕検出のための方法であって、前記方法は、ディスプレイを有するコンピュータシステム上で少なくとも部分的に実行され、
１つ以上の歯のデジタル画像を得るステップと、
前記１つ以上の歯の第１の境界および第２の境界を検出するステップと、
前記第１の境界および第２の境界のそれぞれにおいて、前記境界の片側の歯領域の平均グレースケール値と、前記境界の反対側のバックグラウンド領域の平均グレースケール値との境界比を計算し、計算された前記境界比をメモリに記憶するステップと、
前記第１の境界の近傍の前記歯領域の前記平均グレースケール値と、前記第２の境界の近傍の前記歯領域の前記平均グレースケール値との第３の比を計算し、前記第３の比を前記メモリに記憶するステップと、
少なくとも計算された前記境界比および前記第３の比を含むベクトルを形成し、記憶するステップと、
記憶された前記ベクトルに従って、歯の表面を平滑面または咬合面のいずれかに分類するステップと、
前記歯の表面の分類に従って、齲蝕を検出するために前記デジタル画像を処理するステップと、
処理結果をディスプレイ上で報告するステップと、
を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月18日(2015.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
歯科用複合材であって、
圧縮性材料と、
前記圧縮性材料の少なくとも一部分の上に配置されたコンフォーマルコーティングと、を含む、歯科用複合材。
【請求項２】
請求項１に記載の歯科用複合材を含む歯科用アセンブリであって、
歯に取り付けるための外表面を有する歯科用物品と、
前記外表面と接触している、請求項１に記載の歯科用複合材と、を含む、歯科用アセンブリ。
【請求項３】
前記圧縮性材料がポリマー成分を含む、請求項１又は２に記載の複合材又はアセンブリ。
【請求項４】
歯科用複合材を作製する方法であって、
圧縮性材料の少なくとも一部分に、前記圧縮性材料の濡れ特性を高めるのに十分な量でコンフォーマルコーティングを適用することと、
前記無機コーティングと接触するように硬化性組成物を配置することと、を含む、方法。
【請求項５】
前記圧縮性材料がポリマー成分を含み、コンフォーマルコーティングを適用することがポリマー成分の一部分にコンフォーマルコーティングを適用することを含む、請求項４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月26日(2015.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学エレメントのための撮像システムにおいて、前記撮像システムが、
少なくとも１つのコリメート入射光ビームで標的光学エレメントを照明するための手段と、
前記照明された光学エレメントの少なくとも１つの表面から予め規定された角度において戻る少なくとも２つの光ビームを少なくとも１つの検出器上に方向づけるための手段であって、前記少なくとも１つの検出器が、前記少なくとも２つの戻り光ビームの相対光特性を測定し、前記少なくとも２つの戻り光ビームの前記測定された特性を使用して、前記光学エレメントの少なくとも１つのパラメータを計算するように適合される、方向づけるための手段と
を備え、前記方向づけるための手段は、少なくとも１つのテレセントリック光学システムを備える、撮像システム。
【請求項２】
前記標的光学エレメントを照明するための前記手段が、少なくとも１つの光源と、前記標的光学エレメント上の少なくとも１つの入射光ビームの入射方向を改変するための光学手段とを備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記光源から射出された少なくとも１つの光ビームを分割するための手段をさらに備え、前記得られた分割ビームのうちの少なくとも２つが、前記標的光学エレメントの光軸に対して異なる入射角を有する、請求項１および２のいずれかに記載のシステム。
【請求項４】
少なくとも１つの入射光ビームの方向を改変するための前記光学手段が、ビーム整形レンズ、光学パワーをもつミラー、折畳みミラー、ビームスプリッター、またはプリズムのうちの少なくとも１つを備える、請求項２に記載のシステム。
【請求項５】
前記戻り光ビームの方向を改変するための光学手段をさらに備え、前記光学手段は、ビーム整形レンズ、光学パワーをもつミラー、折畳みミラー、ビームスプリッター、またはプリズムのうちの少なくとも１つを備える、請求項１〜４のいずれかに記載のシステム。
【請求項６】
前記検出器の連続的な測定間に、前記標的光学エレメント上の少なくとも１つの入射光ビームの少なくとも１つの特性を変更するための手段をさらに備える、請求項１〜４のいずれかに記載のシステム。
【請求項７】
前記光学手段が、少なくとも１つの入射光ビームの方向を制御するようにさらに適合される、請求項５に記載のシステム。
【請求項８】
前記検出器が、ＣＣＤ、ＣＭＯＳセンサ、人間の眼、写真プレート、チャネルプレートアレイ、アバランシェフォトダイオード、シンチレーション検出器、または光電子増倍管である、請求項１〜７のいずれかに記載のシステム。
【請求項９】
前記戻り光のいずれかまたはすべてを合焦させるために、前記少なくとも１つの検出器の位置を変更するための手段をさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
前記照明光および／または前記戻り光の前記測定された特性が、空間的および時間的な強度分布、位置、空間的および時間的な線形偏光および円形偏光、偏光度、位相、波長、時間的および空間的なコヒーレンス、スペックル構造、散乱係数、ならびにｇ異方性ファクタのうちの少なくとも１つを備える、請求項１〜９のいずれかに記載のシステム。
【請求項１１】
第２の検出器をさらに備え、前記標的光学エレメントの光軸に対して異なる平面上に前記第１の検出器および前記第２の検出器が置かれ、または、前記標的光学エレメントの光軸の平面上に前記第１の検出器および前記第２の検出器が置かれる、請求項１に記載のシステム。
【請求項１２】
照明するための前記手段が、前記光学エレメント上での射影のための２つのビームを発生させるように適合された十字線光源を備える、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
光学エレメントを撮像する方法において、前記方法が、
少なくとも１つのコリメート入射光ビームで標的光学エレメントを照明するステップと、
少なくとも１つのテレセントリック光学システムを使用して、前記照明された光学エレメントの少なくとも１つの表面から予め規定された角度において戻る少なくとも２つの光ビームを少なくとも１つの検出器上に方向づけるステップと、
前記少なくとも２つの戻り光ビームの相対光特性を測定するステップと、
前記少なくとも２つを戻り光ビームの前記測定された特性を使用して、前記光学エレメントの少なくとも１つのパラメータを計算するステップと
を備える、方法。
【請求項１４】
連続的な測定間に、前記標的光学エレメント上の少なくとも１つの入射光ビームの少なくとも１つの特性を変更するステップをさらに備える、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
コンピュータプログラムコード手段を備えるコンピュータプログラムであって、前記コンピュータプログラムコード手段が、コンピュータ上で前記プログラムが実行されたときに、請求項１３および１４のいずれかに記載の方法のすべてのステップを実行するように適合される、コンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月1日(2015.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
医療システムであって、
被験体から磁気共鳴データを取得する磁気共鳴画像化システムと、
前記被験体に挿入されるシャフトを有する介入デバイスと、
前記シャフトに取り付けられる円環状の第１磁気共鳴基準マーカであって、前記シャフトが該第１磁気共鳴基準マーカの中心点を通過する第１磁気共鳴基準マーカと、
前記医療システムを制御するためのプロセッサと、
前記プロセッサにより実行するマシン実行可能な命令を記憶するメモリと、
を有し、
前記命令の実行が前記プロセッサに前記磁気共鳴データを取得させ、前記命令の実行が更に前記プロセッサに前記磁気共鳴データを磁気共鳴画像に再生させ、前記命令の実行が更に前記プロセッサに前記磁気共鳴画像内の目標ボリュームの選択情報を受信させ、
前記命令の実行が更に前記プロセッサに繰り返し、
−  前記磁気共鳴画像化システムを使用して前記第１磁気共鳴基準マーカから、該第１磁気共鳴基準マーカの位置を示す磁気共鳴位置データを取得させ、
−  少なくとも前記位置データ及び前記目標ボリュームの位置を用いて決定される、目標ボリュームに対する前記シャフトの位置を示すビュー画像を表示装置上にレンダリングさせる、
医療システム。
【請求項２】
前記命令の実行が更に前記プロセッサに繰り返し、
−  前記磁気共鳴データを再取得させ、
−  前記再取得された磁気共鳴データを用いて、前記ビュー画像が有する前記磁気共鳴画像を再生させる、
請求項１に記載の医療システム。
【請求項３】
前記第１磁気共鳴基準マーカが円環状磁気共鳴信号ボリュームを囲む磁気共鳴受信コイルを有するか、又は前記第１磁気共鳴基準マーカが共振コイル及びコンデンサを有する請求項１又は２に記載の医療システム。
【請求項４】
前記医療システムが更に第２磁気共鳴基準マーカを有し、前記第２磁気共鳴基準マーカは該第２磁気共鳴基準マーカの中心点を介して前記シャフトを案内し、前記位置データが更に前記第２磁気共鳴基準マーカの位置を示す請求項１、２又は３に記載の医療システム。
【請求項５】
前記第２磁気共鳴基準マーカが第２の円環状磁気共鳴信号ボリュームをオプションとして囲む磁気共鳴受信コイルを有するか、又は前記第２磁気共鳴基準マーカが第２共振コイル及び第２コンデンサを有する請求項１又は２に記載の医療システム。
【請求項６】
前記命令の実行が更に前記プロセッサに、
−  前記磁気共鳴位置データを用いて前記第１磁気共鳴基準マーカの中心点及び前記第２磁気共鳴基準マーカの中心点を位置特定させ、
−  少なくとも位置特定されたこれら中心点を用いて前記シャフトの位置又は向きを計算させると共に、前記位置データが該シャフトの位置又は向きを有するようにさせる、
請求項４又は５に記載の医療システム。
【請求項７】
前記命令の実行が更に前記プロセッサに、
−  前記磁気共鳴位置データを用いて前記第１磁気共鳴基準マーカの向きを決定させ、
−  前記第１磁気共鳴基準マーカの位置特定された中心点及び向きを少なくとも用いて前記シャフトの位置を計算させる、
請求項１ないし６の何れか一項に記載の医療システム。
【請求項８】
前記ビュー画像が二次元であり、前記命令の実行が更に前記プロセッサに前記磁気共鳴データにおける前記シャフトの侵入点の選択情報を受信させ、該シャフトの侵入点は前記シャフトが前記被験体に侵入する位置を示し、前記ビュー画像が少なくとも前記シャフトの侵入点を用いて決定される請求項１ないし７の何れか一項に記載の医療システム。
【請求項９】
医療システムのプロセッサにより実行するマシン実行可能な命令を有するコンピュータプログラムであって、前記医療システムは被験体から磁気共鳴データを取得する磁気共鳴画像化システムを有し、前記医療システムは更に前記被験体に挿入されるシャフトを有する介入デバイスを有し、前記医療システムは更に前記シャフトに取り付けられる円環状の磁気共鳴基準マーカであって前記シャフトが該磁気共鳴基準マーカの中心点を通過する磁気共鳴基準マーカを有し、前記命令の実行が前記プロセッサに前記磁気共鳴データを取得させ、前記命令の実行が更に前記プロセッサに前記磁気共鳴データを磁気共鳴画像に再生させ、前記命令の実行が更に前記プロセッサに前記被験体内の目標ボリュームの選択情報を受信させ、前記命令の実行が更に前記プロセッサに繰り返し、
−  前記磁気共鳴画像化システムを使用して前記磁気共鳴基準マーカから、該磁気共鳴基準マーカの位置を示す磁気共鳴位置データを取得させ、
−  少なくとも前記位置データ及び前記目標ボリュームの位置を用いて決定される、目標ボリュームに対する前記シャフトの位置を示すビュー画像を表示装置上にレンダリングさせる、
コンピュータプログラム。
【請求項１０】
シャフトに取り付けられる磁気共鳴基準マーカであって、該磁気共鳴基準マーカは円環状であり、前記シャフトが該磁気共鳴基準マーカの中心点を貫通する磁気共鳴基準マーカ。
【請求項１１】
前記磁気共鳴基準マーカが前記シャフトを案内するための中央支持体を有し、該中央支持体が該磁気共鳴基準マーカから取り外され得る請求項１０に記載の磁気共鳴基準マーカ。
【請求項１２】
前記磁気共鳴基準マーカが前記シャフトの末端に取り付けられたハブを通り抜けることができる請求項１１に記載の磁気共鳴基準マーカ。
【請求項１３】
前記磁気共鳴基準マーカが接着剤により被験体に取り付けるための被験体面を有している請求項１０ないし１２の何れか一項に記載の磁気共鳴基準マーカ。
【請求項１４】
前記被験体面が無菌性である請求項１３に記載の磁気共鳴基準マーカ。
【請求項１５】
前記磁気共鳴基準マーカが円環を有し、前記円環が該円環を介して前記シャフトを通過させるスロットを有している請求項１０ないし１４の何れか一項に記載の磁気共鳴基準マーカ。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月9日(2015.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４９】
本開示の範囲及び趣旨から外れることなく、本発明の予測可能な修正及び変更が当業者には自明であろう。本発明は、説明を目的として本出願に記載される各実施形態に限定されるべきものではない。本発明の実施態様の一部を以下の項目[１]‐[１１]に記載する。
[１]
第１主表面、及び概して反対側の第２主表面を有する基材と、前記第１主表面上の第１層とを含む物品であって、前記第１層は第１ランダムナノ構造化表面を有し、前記第１層は０．５マイクロメートルまでの平均厚さを有する、物品。
[２]
前記第１層がマトリックス及びナノスケール分散相を含む、項目１に記載の物品。
[３]
前記マトリックスが高分子マトリックスである、項目２に記載の物品。
[４]
前記第１層が０．１５マイクロメートルまでの平均厚さを有する、項目１〜３のいずれか一項に記載の物品。
[５]
前記第１ランダムナノ構造化表面が異方性である、項目１〜４のいずれか一項に記載の物品。
[６]
前記第１ランダムナノ構造化異方性表面が、１％未満の反射率（％）を有する、項目５に記載の物品。
[７]
前記基材の前記第１主表面と前記第１層の間に配置された機能層を更に含み、前記機能層が、透明な導電層又はガスバリア層のうちの少なくとも１つである、項目１〜６のいずれか一項に記載の物品。
[８]
前記第１ランダムナノ構造化表面上に配置された機能層を更に含み、前記機能層が、透明な導電層又はガスバリア層のうちの少なくとも１つである、項目１〜６のいずれか一項に記載の物品。
[９]
前記基材の前記第２主表面上に第２層を更に含み、前記第２層がランダムナノ構造化表面を有し、前記第２層が０．５マイクロメートルまでの平均厚さを有する、項目１〜８のいずれか一項に記載の物品。
[１０]
前記基材の前記第２主表面と前記第２層の間に配置された機能層を更に含み、前記機能層が透明な導電層又はガスバリア層のうちの少なくとも１つである、項目９に記載の物品。
[１１]
前記第２ランダムナノ構造化表面上に配置された機能層を更に含み、前記機能層が透明な導電層又はガスバリア層のうちの少なくとも１つである、項目９に記載の物品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１主表面、及び概して反対側の第２主表面を有する基材と、前記第１主表面上の第１層とを含む物品であって、前記第１層は第１ランダム異方性ナノ構造化表面を有し、前記第１ランダム異方性ナノ構造化表面は、幅に対する高さの比率が２以上であるナノ形体を有し、前記ナノ形体は、前記第１主表面に垂直であり、前記第１層は０．５マイクロメートルまでの平均厚さを有する、物品。
【請求項２】
前記第１層がマトリックス及びナノスケール分散相を含む、請求項１に記載の物品。
【請求項３】
前記マトリックスが高分子マトリックスである、請求項２に記載の物品。
【請求項４】
前記ナノ形体の幅に対する高さの比率が５以上である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の物品。
【請求項５】
前記基材の前記第１主表面と前記第１層の間に配置された機能層を更に含み、前記機能層が、透明な導電層又はガスバリア層のうちの少なくとも１つである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の物品。
【請求項６】
前記第１ランダム異方性ナノ構造化表面上に配置された機能層を更に含み、前記機能層が、透明な導電層又はガスバリア層のうちの少なくとも１つである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の物品。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月5日(2015.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
吐出可能な内容物を格納するための少なくとも１つの空洞を有する本体と、
前記空洞を充填するための開口部を画定する前記本体の上縁部と、
前記本体の前記上縁部に沿って延びるフランジと、
前記フランジに固定され、前記空洞内に吐出可能な内容物を密封するカバーと、
前記本体の壁の中間部分の屈曲部であって、前記屈曲部の両側に所定のレベルを超える力が付与されると、それに沿って前記本体が破断する屈曲部と、
前記本体の幅を減少させ、前記屈曲部の両側に力が付与された時にその減少された幅に沿って応力が集中するようになっている、前記本体の前記中間部分の先細り形状と、
前記屈曲部における前記フランジの拡張部分と、
連続していて且つ全体にわたって概して一定の厚さである前記本体の前記中間部分と、
前記中間部分の反対側にある前記本体の幅拡張部分と、を含む容器。
【請求項２】
前記屈曲部が丸い形状を含む、請求項１に記載の容器。
【請求項３】
前記屈曲部が概して少なくとも約７０度の角度を画定している、請求項１に記載の容器。
【請求項４】
前記屈曲部が概して約７０度から約９０度までの範囲の角度を画定している、請求項１に記載の容器。
【請求項５】
前記本体が前記屈曲部から離間した窪みを含み、前記屈曲部の反対側に力が付与された時に前記本体への応力を減少させるようになっている、請求項１から４のいずれかに記載の容器。
【請求項６】
前記フランジが前記本体の前記上縁部から外側へ延びている、請求項１から５のいずれかに記載の容器。
【請求項７】
前記フランジが全体にわたって概して一定の厚さを有している、請求項１から６のいずれかに記載の容器。
【請求項８】
前記本体の前記上縁部が、前記フランジの前記拡張部分に対応する一対の内側に延びる部分を含む、請求項１から７のいずれかに記載の容器。
【請求項９】
前記先細り形状が角張った部分を含み、前記中間部分における幅が減少されている、請求項１から８のいずれかに記載の容器。
【請求項１０】
前記先細り形状が前記本体の下面の丸い部分を含む、請求項１から９のいずれかに記載の容器。
【請求項１１】
前記先細り形状が、前記丸い部分の減少された幅よりも狭い幅を有する乳頭状部を含み、該乳頭状部に沿って応力を集中させるようになっている、請求項１０に記載の容器。
【請求項１２】
前記本体がスチレンを含む、請求項１から１１のいずれかに記載の容器。
【請求項１３】
前記本体が、ローインパクトポリスチレン、ミディアムインパクトポリスチレン、二軸延伸ポリスチレンからなる群から選択される材料を含む、請求項１から１２のいずれかに記載の容器。
【請求項１４】
前記本体が該本体の全体にわたって概して一定の厚さを有している、請求項１から１３のいずれかに記載の容器。
【請求項１５】
前記フランジの前記拡張部分が、前記容器の中立軸を前記フランジに向かって推移させ、前記屈曲部の両側に力が付与された時に前記屈曲部に沿って応力を増大させるように構成されている、請求項１から１４のいずれかに記載の容器。
【請求項１６】
前記壁と前記フランジの間の接続手段に隣接する前記壁の外側部分の窪みであって、前記屈曲部から離間していて、前記屈曲部の反対側に力が付与された時に前記本体への応力を減少させる窪みをさらに含む、請求項１に記載の容器。
【請求項１７】
前記フランジが、前記壁の前記窪みに隣接する第２の拡張部分を含む、請求項１６に記載の容器。
【請求項１８】
前記第２の拡張部分が、前記壁の前記中間部分の前記屈曲部における前記拡張部分よりも小さい、請求項１７に記載の容器。
【請求項１９】
前記窪みが、前記フランジに概して垂直な前記壁に沿って延びている、請求項１６に記載の容器。
【請求項２０】
前記フランジの前記拡張部分が、前記容器の中立軸を前記フランジに向かって推移させ、前記屈曲部の両側に力が付与された時に前記屈曲部に沿って応力を増大させるように構成されている、請求項１６に記載の容器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
カバー１２は柔軟な材料で製造される。カバー１２は、空洞が永久的接着剤シール、熱溶接または超音波ボンディングによって充填された後に本体４に固定されてもよい。カバーの材料は、屈曲部３４が破断した後に取手部分２６と遠位部分２８の間のヒンジとしての役割を果たし得るように選択される。そのため、カバー１２は、本体４が破断した時に破断またはその他の破損をしないように選択される。カバー１２は、本体４と同じ材料でも、異なる材料でもよい。たとえば、カバー１２は、ポリプロピレン等の単層のポリマシート、あるいはたとえばポリマ、紙またはアルミ箔の層の組合せを含む積層材料から製造してもよい。カバー１２には、容器２の中に格納される製品または内容物を特定するための印刷を施すことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月30日(2015.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の非平行支持脚を含む下部フレームであって、
各支持脚は、上部、下部前方部、下部後端を含み、
各支持脚は、前記上部の間の距離が前記下部前方部の間の距離より小さくなり、前記下部前方部の間の距離が前記下部後端の間の距離よりも小さくなるように、垂直方向及び前後方向に、中央位置に向かって傾いている下部フレームと、
一対の支持アームを含む上部フレームと、
上部ロッド及び下部ロッドを含む連結システムであって、前記上部ロッド及び前記下部ロッドは前記一対の支持アームと前記一対の支持脚のそれぞれに回動可能に連結されている連結システムと、
第１端及び第２端を備えるリニアアクチュエータであって、前記第１端は前記下部フレーム上の連結箇所に連結され、前記第２端は前記連結システム上の連結箇所に連結され、前記連結システム上の前記連結箇所は、前記上部ロッド又は下部ロッド上に位置づけられたクロスバーを含むリニアアクチュエータとを備える調節可能な座席。
【請求項２】
前記回動可能な連結により、前記上部フレームが前記下部フレームに対して、広い位置範囲内で垂直方向に調節される請求項１に記載の調節可能な座席。
【請求項３】
前記下部後端の間の距離が、前記調節可能な座席に十分な支持を与えるように構成されている請求項１又は２に記載の調節可能な座席。
【請求項４】
床変形による影響を制限するように、前記下部前方部の間の距離が前記下部後端の間の距離よりも小さい請求項１〜３のいずれか一項に記載の調節可能な座席。
【請求項５】
さらに前記下部フレームに連結された軌道部を備え、
前記リニアアクチュエータは、前記軌道部に沿って移動して、前記上部フレームを前記下部フレームに対して広い位置範囲内で垂直方向に調節するよう構成されている請求項１〜４のいずれか一項に記載の調節可能な座席。
【請求項６】
前記リニアアクチュエータが前記軌道部の上端部に最も近く位置づけられているとともに前記上部ロッド及び前記下部ロッドが前方向において上向きの角度を付けられているときに前記上部フレームは高位置にあり、前記リニアアクチュエータが前記軌道部の下端部に最も近く位置づけられているとともに前記上部ロッド及び前記下部ロッドが前方向において下向きの角度を付けられているときに前記上部フレームは低位置にある請求項５に記載の調節可能な座席。
【請求項７】
前記支持脚は前方クロスバー及び後方クロスバーに摺動可能に連結されている請求項１〜６のいずれか一項に記載の調節可能な座席。
【請求項８】
前記上部フレームに回動可能に連結されたシートパンと、前記上部フレームに回動可能に連結された背もたれとを更に備える請求項１〜７のいずれか一項に記載の調整可能な座席。
【請求項９】
（ａ）一対の支持アームを備える上部フレームであって、各支持アームは上部及び後端を含む上部フレームと、
（ｂ）一対の非平行支持脚を含む下部フレームであって、各支持脚は、上部、下部前方部、下部後端を含み、各支持脚は、前記上部の間の距離が前記下部前方部の間の距離より小さくなり、前記下部前方部の間の距離が前記下部後端の間の距離よりも小さくなるように、垂直方向及び前後方向に、中央位置に向かって傾いている下部フレームと、
（ｃ）一対の延在部とクロスビームとを備える上部ロッドであって、各延在部は各支持アームの前記上部に回動可能に連結されており、前記クロスビームは各支持脚の前記上部に回動可能に連結されている上部ロッドと、
（ｄ）一対の延在部とクロスビームとを備える下部ロッドであって、各延在部は各支持アームの前記後端に回動可能に連結されており、前記クロスビームは各支持脚の前記後端に回動可能に連結されている下部ロッドとを備える調整可能な座席。
【請求項１０】
前記回動可能な連結により、前記上部フレームが前記下部フレームに対して、広い位置範囲内で垂直方向に調節される請求項９に記載の調節可能な座席。
【請求項１１】
前記下部後端の間の距離が、前記調節可能な座席に十分な支持を与えるように構成されている請求項９又は１０に記載の調節可能な座席。
【請求項１２】
さらに、前記上部フレームに連結されたリニアアクチュエータと、前記下部フレームに連結された軌道部とを備え、
前記リニアアクチュエータは、前記軌道部に沿って移動して、前記上部フレームを前記下部フレームに対して広い位置範囲内で垂直方向に調節するよう構成されている請求項９〜１１のいずれか一項に記載の調節可能な座席。
【請求項１３】
前記リニアアクチュエータが前記軌道部の上端部に最も近く位置づけられているとともに前記上部ロッド及び前記下部ロッドが前方向において上向きの角度を付けられているときに前記上部フレームは高位置にあり、前記リニアアクチュエータが前記軌道部の下端部に最も近く位置づけられているとともに前記上部ロッド及び前記下部ロッドが前方向において下向きの角度を付けられているときに前記上部フレームは低位置にある請求項１２に記載の調節可能な座席。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月23日(2015.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
吸着性組成物を調製するための方法であって、
銀ナノ粒子を有機鋳型ナノ金属オキシ水酸化物上に含浸させることを含み、
前記吸着性組成物は、持続的かつ連続的な銀イオン放出によって、水中の微生物を死滅させることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月8日(2015.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
使用者の下頸部／肩部の領域から前記使用者の頭頂部の近位まで延在する高さと、半分に折り曲げられた場合に前記使用者の頭の後方から前記使用者の顔の前まで又は前記顔の前を越えて延在する長さと、を有する枕であって、
前記枕は、上面と、下面と、左端部と、右端部と、上端部と、下端部とを有する本体部を備え、
前記上面は、
第１及び第２の隆起した端部であって、上面の上端部及び下端部と、前記第１及び前記第２の隆起した端部の間にある凹面と、に近接した前記第１及び前記第２の隆起した端部と、
前記下端部から前記第１及び前記第２の隆起した端部のいずれか一方を通って延在し、前記凹面に通じる第１の切欠きと、を有し、
前記切欠きは、使用者の首を支えるように構成され、前記凹面は前記使用者の頭を支えるように構成される枕。
【請求項２】
請求項１記載の枕であって、
前記上面は、前記第１の切欠きから間隔を空けて配置された第２の切欠きであって、前記上端部及び前記下端部のいずれか一方から前記隆起した端部の他方を通って延在し、前記凹面に通じる第２の切欠きを備え、
前記切欠きは、使用者の首を支えるように構成され、前記第１及び前記第２の切欠きは整列されている枕。
【請求項３】
請求項１記載の枕であって、
前記第１及び前記第２の切欠きは、前記枕の第１の軸に沿って整列されている枕。
【請求項４】
請求項１記載の枕であって、前記本体部内に配置された少なくとも１つのフレキシブルなアーマチャを更に備え、
前記少なくとも１つのフレキシブルなアーマチャは、所望の形態に折り曲げられるように手動で操作可能であり、追加の力なしで前記所望の形態を維持する枕。
【請求項５】
請求項４記載の枕であって、
前記少なくとも１つのフレキシブルなアーマチャは、鋼管である枕。
【請求項６】
請求項１記載の枕であって、
前記本体部内に配置され、互いに実質的に平行な、離れて配置された第１及び第２のフレキシブルなアーマチャを更に備え、
前記第１及び前記第２のフレキシブルなアーマチャは、手動で所望の形態に折り曲げられ、追加の力なしで前記所望の形態を維持するように構成される枕。
【請求項７】
請求項６記載の枕であって、
前記第１及び前記第２のフレキシブルなアーマチャは、相互にかみ合うコイルを有する鋼管を備える枕。
【請求項８】
請求項１記載の枕であって、
少なくとも１つの通気管を更に備え、前記少なくとも１つの通気管は、左端部、右端部、上端部、又は、下端部から前記本体部内へと延在して、前記本体部へ空気を循環させ及び熱を除去し、前記使用者の首、顔、及び頭に対して解剖学的な輪郭圧縮性を提供し、前記枕を折曲及び屈曲するときの前記アーマチャへの抵抗を低減する枕。
【請求項９】
請求項８記載の枕であって、前記少なくとも１つの通気管は、前記本体部を通って前記枕の前記上端部から前記下端部へと延在する枕。
【請求項１０】
使用者の肩から前記使用者の頭頂部の近位まで延在する高さと、半分に折り曲げられた場合に前記使用者の頭の後方から前記使用者の顔の前の近位まで延在する長さと、を有する枕であって、
前記枕は、
上面と、下面と、左端部と、右端部と、上端部と、下端部とを有する本体部と、
前記本体部内に配置され、離れて配置された第１及び第２のフレキシブルなアーマチャと、を備え、
前記第１及び前記第２のフレキシブルなアーマチャは、手動で所望の形態に折り曲げられ、追加の力なしで前記所望の形態を維持するように構成される枕。
【請求項１１】
請求項１０記載の枕であって、前記第１及び前記第２のフレキシブルなアーマチャは、フレキシブルなスチールのロッド又はチューブ、及び、フレキシブルなプラスチック状のロッド又はチューブの少なくとも一方である枕。
【請求項１２】
請求項１０記載の枕であって、
前記上面は、
第１及び第２の隆起した端部であって、上面の上端部及び下端部と、前記第１及び前記第２の隆起した端部の間にある凹面と、に近接した前記第１及び前記第２の隆起した端部と、
前記下端部から前記第１及び前記第２の隆起した端部のいずれか一方を通って延在し、前記凹面に通じる第１の切欠きと、を有し、
前記第１の切欠きは使用者の首を支えるように構成され、前記凹面は前記使用者の頭を支えるように構成される枕。
【請求項１３】
請求項１０記載の枕であって、
前記上面は、前記第１の切欠きから間隔を空けて配置された第２の切欠きであって、前記上端部及び前記下端部のいずれか一方から前記隆起した端部の他方を通って延在し、前記凹面に通じる第２の切欠きを備え、
前記第２の切欠きは使用者の首を支えるように構成され、前記第１の切欠き及び前記第２の切欠きは整列されている枕。
【請求項１４】
請求項１０記載の枕であって、
前記第１及び前記第２の切欠きは、前記枕の第１の軸に沿って整列されている枕。
【請求項１５】
請求項１０記載の枕であって、少なくとも１つの通気管を更に備え、前記少なくとも１つの通気管は、左端部、右端部、上端部、又は、下端部から前記本体部内へと延在して、前記本体部へ空気を循環させ及び熱を除去する枕。
【請求項１６】
請求項１５記載の枕であって、前記少なくとも１つの通気管は、前記本体部を通って前記枕の前記上端部から前記下端部へと延在する枕。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年1月9日(2015.1.9)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３２】
概ね、圧力領域は、圧力領域がユーザーの膣壁に対して圧力を提供できるように、抵抗性であり得る。圧力領域は、ヒトの膣では典型的な高圧及び高応力下において、例えば膣壁を通じて、尿道に５ｐｓｉ超の最大圧力、例えば１０ｐｓｉ超の、１５ｐｓｉ超の、２０ｐｓｉ超の、又は２５ｐｓｉ超の最大圧力を提供することによって抵抗をもたらす。更に、圧力領域は、約１．０ｍｍ超の、例えば、約１．１ｍｍ超の、約１．２ｍｍ超の、約１．３ｍｍ超の、約１．４ｍｍ、例えば、約１．５ｍｍ超のなど、約１．６ｍｍ超の、約１．７ｍｍ超の、約１．８ｍｍ超の、又は約１．９ｍｍ超の最大尿道閉鎖を提供してもよい。更に、又は別の方法としては、長手方向軸線に垂直な方向における最大直径の領域において、力が圧力領域の一方の面から、圧力領域の他方の面まで適用されるとき、０．５ｐｓｉで測定された場合、圧力領域は約１ｍｍ未満圧縮し得る。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３４】
他方では、可撓性領域は、圧力領域よりも可撓性であり、かつ圧力領域よりも小さい抵抗を提供する。可撓性領域の追加は、ペッサリー装置が横方向においてと同様に、長手方向軸線においても曲がるのを可能にする。例えば、力が頂部から底面まで長手方向軸線に沿って適用されるとき、０．５ｐｓｉで測定された場合、ペッサリー装置は約１ｃｍ超圧縮し得る。更に、又は別の方法として、可撓性領域は、ペッサリー装置が左右に曲がるのを容易にする曲げ領域を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月23日(2015.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明による方法の主な利点は、異なる反応に触媒作用を及ぼす二種の触媒を含有する単一のウォッシュコートでフィルターを被覆することができるという点である。それ故、多機能触媒フィルターの製造は、容易化され、かつ、経費節約されたセットアップの観点から非常に改善される。したがって、第一及び第二の触媒の密な混合により、第一の触媒が、第二の反応のためのいくぶんかの活性を示し、そして第二の触媒が第一の反応のためのいくぶんかの活性を示すときに有利な方法が提供される。この相乗作用により、煤の燃焼活性及びＳＣＲ活性が、それら触媒の一方だけを含む溶液と比較して増大される。この方法の利点の例は、フィルターの煤の堆積量が低い時に立証される。なぜなら、その際に、最適化されたＳＣＲ触媒のＳＣＲＮＯｘ除去が、煤の燃焼触媒のＳＣＲ活性によって補われるからである。それ故、適した触媒は、反応が要求されるフィルター中で利用可能であり、それはセグメント化ウォッシュコートフィルターと比較した改善である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
第二の触媒の懸濁物を、硝酸セリウム溶液及びメタタングステン酸アンモニウム溶液を混合し、その後、該混合溶液を酸化アルミニウム粒子に含浸させ、そして該粒子を５５０℃で４時間、空気中で熱処理することにより調製する。それにより、１０％酸化セリウム及び１０％酸化タングステンを有するアルミナ粒子が得られる。この酸化アルミニウム上の酸化タングステン＋酸化セリウムの１００ｇを、２００ｍｌの脱塩水中に分散させる。分散剤Ｚｅｐｈｒｙｍ  ＰＤ−７０００及び消泡剤を添加する。懸濁物はボールミルで粉砕される。粒度は、ウォールフローフィルターの壁中の細孔の平均細孔径よりも小さくなければならない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
触媒化微粒子フィルターを製造する方法であって、
ａ）煤の燃焼除去において活性な第一の触媒と、窒素酸化物の選択接触還元において活性な第二の触媒とを組み合わせて含む、単一のウォッシュコート懸濁物から得られる単一の触媒ウォッシュコートを提供する工程；
ｂ）微粒子フィルター本体を、該フィルター本体の分散側及び透過側に、かつ、該フィルター本体の隔壁内に該触媒ウォッシュコートで被覆する工程；及び
ｃ）該被覆されたフィルター本体を乾燥及び熱処理して、触媒化微粒子フィルターを得る工程であって、その際、前記ウォッシュコートの懸濁物中の該第一又は第二の触媒が、フィルター壁の平均細孔径に等しいか又はそれより大きく、前記第二の触媒が、少なくとも一種の、ゼオライト、シリカリン酸アルミニウム、イオン交換ゼオライト、鉄及び／又は銅で促進されたシリカリン酸アルミニウム、一種又は多種の卑金属酸化物、及び酸化チタン支持体、アルミナ支持体、酸化ジルコニウム支持体又はシリカ支持体上の酸化セリウムタングステンのうちの少なくとも一つの触媒支持体を含み、そして、前記第一の触媒が、一種又は多種の希土類金属を含み、その際、前記ウォッシュコート懸濁物中の触媒のうちの一つの粒度が、前記フィルター壁の平均細孔径に等しいか又はそれより大きい、上記の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年7月3日(2015.7.3)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３６】
図８は、再構成可能ベクトルプロセッサが使用可能なシステムをブロック図で示している。システム８００はマイクロプロセッサ８０２を有し、これはメモリ（図示せず）に格納されている命令を実行することが可能である。前記プロセッサ８０２は、他のプロセッサまたはマイクロプロセッサの使用が可能であるが、例えばＡＲＭ（商標）プロセッサであってもよい。前記システムはさらに、前記再構成可能ベクトルプロセッサの命令を受信し、実行するシーケンサー８０４を含む。前記シーケンサー８０４は、適切なシーケンス／順序で命令が実行されるように、適切な制御信号を様々なアレイ・プロセッシング・ユニット（ａｒｒａｙ  ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  ｕｎｉｔｓ：ＡＰＵ）８０６、８０８、８１０、８１２に提供する。前記ＡＰＵ  ８０６、８０８、８１０、８１２の各々は、機能において、再構成可能ベクトルプロセッサ２００、４００、６００、７００に関して上述したプロセッシングユニットと類似している。各ＡＰＵは、アレイ・プロセッシング・ユニット（ａｒｒａｙ  ｃｏｎｔｒｏｌ  ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ：ＡＣＰ）８１４のプロセッサと、命令を解読し、適切な制御信号を演算ユニット（ｃｏｍｐｕｔａｔｉｏｎａｌ  ｕｎｉｔｓ：ＣＵｓ）８１６に提供する制御ユニットとを有する。前記ＡＰＵ８０６、８０８、８１０、８１２が有するＣＵｓ８１６の各グループは、上述したベクトルユニットのように動作する。各ＡＰＵは、３２ＣＵｓを有するとして図示されており、３２サイズを有するベクトルユニットを提供する。ＣＵｓの各グループは、組み合わされて、ＡＣＰに提供された単一の制御ユニットにより制御可能であり、そして、異なるサイズ、例えば３２、６４、９６、および１２８のベクトルの処理を提供可能である。