【事件の表示】
　特許第３３２７８１７号「機械化学的ポリッシング装置用のポリッシングパッドへの透明窓の形成」に対する異議事件（異議２００３−７０７８１号）についてした平成１６年５月６日付けの異議決定に対し、知的財産高等裁判所において決定取消しの判決（平成１７年（行ケ）第１００２３号、平成１７年５月３０日判決言い渡し）があったので、更に審理の結果、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第３３２７８１７号の請求項１乃至２５に係る発明の特許を維持する。
【理　由】
第１　手続の経緯
　平成　９年　８月１８日　特許出願（特願平９−２２１７３７号）
　　　　　　　　　　　　（パリ条約による優先権主張１９９６年８月１６
　　　　　　　　　　　　　日、米国）
　　同１４年　７月１２日　特許権の設定の登録
　　同１５年　３月２４日　特許異議の申立て（異議２００３−７０７８１
　　　　　　　　　　　　　号）
　　同１５年　７月　３日　取消理由の通知
　　同１６年　１月　８日　異議意見書及び訂正請求書の提出
　　同１６年　５月　６日　特許異議の決定（訂正認容、一部取消し）
　　同１６年　９月２３日　訴えの提起（平成１７年（行ケ）第１００２３
　　　　　　　　　　　　　号）
　　同１６年１１月　１日　訂正審判の請求（訂正２００４−３９２５２号
　　　　　　　　　　　　　）
　　同１６年１２月　７日　訂正拒絶理由の通知
　　同１７年　２月２８日　意見書の提出
　　同１７年　３月３１日　審決（訂正認容）
　　同１７年　４月１２日　審決確定
　　同１７年　５月３０日　判決言い渡し（異議の決定の取消し）
　
第２　本件発明
　訂正審判の審決が確定したことから、特許第３３２７８１７号の請求項１乃至２５に係る発明（以下、「本件発明１乃至２５」という。）は、訂正後における特許請求の範囲の請求項１乃至２５に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
「【請求項１】機械化学的ポリッシング装置用のポリッシングパッドであって、  
　ポリッシング面を有するパッド部と、  
　前記ポリッシング面に形成され前記パッド部を貫通した開口であって、前記ポリッシング面に隣接し第１の寸法を持つ第１セクションおよび前記ポリッシング面から遠く前記第１の寸法とは異なる第２の寸法を持つ第２セクションを有する前記開口と、  
　前記開口の前記第１セクション内に位置決めされた第１部分と、前記開口の前記第２セクション内に位置決めされた第２部分とを有する実質的に透明なプラグと、  
　前記プラグを前記開口内の前記パッド部に固定する手段とを備えるポリッシングパッド。  
【請求項２】前記プラグがポリウレタン材料で造られている、請求項１に記載のポリッシングパッド。  
【請求項３】前記固定手段が接着材料を有する、請求項１に記載のポリッシングパッド。
【請求項４】前記接着材料がゴム弾性ポリウレタン材で造られている、請求項３に記載のポリッシングパッド。  
【請求項５】前記プラグの前記第１部分が前記開口の前記第１セクションと実質的に同一寸法であり、前記プラグの前記第２部分が前記開口の前記第２セクションと実質的に同一寸法である、請求項１に記載のポリッシングパッド。  
【請求項６】前記プラグの前記第１部分が、前記ポリッシング面と同じ高さである上面を有する、請求項５に記載のポリッシングパッド。  
【請求項７】前記プラグの前記第２部分の厚さが前記開口の前記第２セクションの深さより小さい、請求項６に記載のポリッシングパッド。  
【請求項８】前記第１の寸法が前記第２の寸法より大きい、請求項６に記載のポリッシングパッド。  
【請求項９】前記プラグがリムを有する、請求項１に記載のポリッシングパッド。  
【請求項１０】前記固定手段が、前記リム上に配置された接着材料を有する、請求項１に記載のポリッシングパッド。  
【請求項１１】機械化学的ポリッシング装置用のポリッシングパッドであって、  
　ポリッシング面を有する第１層と、  
　前記第１層に隣接する第２層と、  
　前記第１層および前記第２層を貫通する開口であって、第１の断面積を持つ前記第１層内の第１開口、および、より小さい第２の断面積を持つ前記第２層の第２開口とを有する前記開口と、  
　前記開口に配置され、前記第１層の前記第１開口内に位置決めされた第１部分と、前記第２層の前記第２開口内に位置決めされた第２部分とを有する実質的に透明なプラグと、
　前記プラグを前記開口内の前記第１層と前記第２層に固定する接着材料と、  
を備えるポリッシングパッド。  
【請求項１２】前記第１層が第１デュロメータ測定値を持ち、前記第２層が第２の、より小さいデュロメータ測定値を持つ、請求項１１に記載のポリッシングパッド。  
【請求項１３】ポリッシング面を持つポリッシングパッドを形成する方法であって、  
　開口が、前記ポリッシング面に隣接し第１の寸法を持つ第１セクション、および、前記ポリッシング面から遠く前記第１の寸法とは異なる第２の寸法を持つ第２セクションを有するように、ポリッシングパッドに前記開口を形成するステップと、  
　実質的に透明なプラグを、前記プラグが前記開口の前記第１セクション内に位置決めされた第１部分と前記開口の前記第２セクション内に位置決めされた第２部分とを有する状態で、前記開口に配置するステップと、  
　前記プラグを前記開口内の前記ポリッシングパッドに固定する固定ステップと、  
を備えるポリッシングパッド形成方法。  
【請求項１４】前記固定ステップが、前記プラグを接着材料で前記開口に固定するステップを有する、請求項１３に記載のポリッシングパッド形成方法。  
【請求項１５】前記開口を形成するステップが、前記ポリッシングパッドから材料を除去する除去ステップを有する、請求項１３に記載のポリッシングパッド形成方法。  
【請求項１６】前記除去ステップが、前記ポリッシングパッドの第１層から前記第１セクションを除去するステップと、前記ポリッシングパッドの第２層から前記第２セクションを除去するステップとを有する、請求項１５に記載のポリッシングパッド形成方法。  
【請求項１７】機械化学的ボリッシング装置用のポリッシングパッドであって、  
　ポリッシング面を有する物体と、  
　該物体に形成された開口であって、該開口は前記ポリッシング面に隣接し第１の寸法を有する第１部分及び、前記ポリッシング面から遠く前記第１の寸法とは異なる第２の寸法を有する第２部分とを有する、該開口と、  
　該開口の前記第１部分に対応する同一の形状を有しており且つ前記第１部分内において該開ロ内の前記物体に固定された実質的に透明なプラグと、  
を備えるポリッシングパッド。  
【請求項１８】前記物体が、該ポリッシング面を有する第１層と、該第１層に隣接する第２層とを有する請求項１７に記載のポリッシングパッド。  
【請求項１９】該開口が、該第１層および該第２層を貫通する請求項１８に記載のポリッシングパッド。  
【請求項２０】該開口の該第１部分が該ポリッシング面に隣接し、該開口の該第１部分の寸法が該開口の該第２部分よりも大きい請求項１９に記載のポリッシングパッド。  
【請求項２１】該プラグの上面が、該ポリッシング面と実質的に同じ高さにある請求項１７に記載のポリッシングパッド。  
【請求項２２】機械化学的ポリッシング装置用のポリッシングパッドであって、  
　ポリッシング面を有する被覆層及び前記被覆層の下側に位置している裏打ち層を包含する物体と、  
　前記ポリッシング面に隣接し、第１の寸法を持ち、前記被覆層に形成された第１セクションと、前記ポリッシング面から遠く、前記第１の寸法とは異なる第２の寸法を持ち、前記裏打ち層に形成された第２セクションとを有する開口と、  
　前記開口の前記第１セクション内の前記物体に固定され、前記開口の前記第１セクションの前記第１寸法及び前記被覆層の厚さと夫々実質的に同じ寸法を有する実質的に透明なプラグと、  
を備えるポリッシングパッド。  
【請求項２３】機械化学的ポリッシング装置用のポリッシングパッドであって、  
　ポリッシング面を有する物体と、  
　前記ポリッシング面に隣接し、第１の寸法を持つ第１セクションと、前記ポリッシング面から遠く、前記第１の寸法とは異なる第２の寸法を持つ第２セクションとを有する開口と、  
　前記開口の前記第１セクション内に位置決めされた第１部分と前記第２セクション内に位置決めされた第２部分とを有しており、前記物体に固定され、前記ボリッシング面と実質的に同じ高さである上面を有すると共に前記第２部分の厚さが前記開口の前記第２セクションの深さより小さい実質的に透明なプラグと、  
を備えるポリッシングパッド。  
【請求項２４】該上面が、該ポリッシング面のプラグと直に隣接する部分と実質的に共面である請求項２３に記載のボリッシングパッド。  
【請求項２５】機械化学的ポリッシング装置用のポリッシングパッドであって、  
　透過性を低下させる添加物を含むポリウレタンで形成されたポリッシング面を有する物体と、  
　前記ポリッシング面に隣接し、第１の寸法を持つ第１セクションと、前記ポリッシング面から遠く、前記第１の寸法とは異なる第２の寸法を持つ第２セクションとを有する開口と、  
　前記開口の前記第１セクションに対応する同一の形状を有しており、前記第１セクション内に固定され、透過性を低下させる添加物を含まないポリウレタンで形成された、実質的に透明なプラグと、  
を備えるポリッシングパッド。」
　
第３　特許異議申立ての理由及び先の決定の理由の概要
１　特許異議申立ての理由
　特許異議申立人の主張は、概略以下のとおりである。
(1)特許法第２９条違反
　本件出願の発明は、甲第１乃至３号証に記載された発明であるか、若しくは甲第１乃至３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件出願の特許は、特許法第２９条の規定に違反してされたものであり取り消されるべきものである、というものである。
(2)特許法第１７条の２第３項違反
　本件出願の特許は、特許法第１７条の２第３項に規定する要件を満たしていない補正をした特許出願に対してされたものであり取り消されるべきものである、というものである。
(3)特許法第３６条違反
　本件出願の特許は、特許法第３６条に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであり取り消されるべきものである、というものである。
　
［証拠方法］
　甲第１号証：特開平７−２３５５２０号公報
　甲第２号証：特開平７−２８５０５０号公報
　甲第３号証：特開平７−５２０３２号公報
　
２　先の決定の理由
　本件出願の特許は、特許法第１７条の２第３項に規定する要件を満たしていない補正をした特許出願に対してされたものであり取り消されるべきものである、というものである。
　
第４　特許法第２９条違反について　
１　甲号証記載の事項
　甲各号証には、以下の事項が記載されている。
(1)甲第１号証
ア　第５欄第５−８行 
「【０００１】 
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハの機械化学研磨過程における平坦化終了点（planarization endpoint）を判定する方法及び装置に関する。」 
イ　第８欄第１９，２０行 
「【００１６】研磨盤６２はプラテン６４と研磨パッド６６を含む。」 
ウ　第９欄第７行−第１０欄第３行 
「【００１９】これに関して、ビュー・ウィンドウ７２は研磨盤６２内に取り付けられ、・・・。ウィンドウの回り及びその下側へのスラリの漏れを防ぎ、構成要素の汚染を回避するためにＯリング・ガスケット等の適当なシールを使用してもよい（後述）。ビュー・ウィンドウ７２は、クォーツ、溶融シリカ、サファイア（酸化アルミニウム）、ダイヤモンド等の透明な物質からなり、・・・。 
【００２０】研磨パッド６６には、ビュー・ウィンドウ７２の位置に対応した位置にビューイング・アパーチャ７３が設けられる。アパーチャの特徴は、図３に示すように、テーパー付き側壁にあり、アパーチャの上表面の直径はパッドとウィンドウの界面に近接したアパーチャの下表面より大きくなっている。・・・ 
【００２１】反射測定手段７４は光源７６を含み、好適な実施例では、光源７６は入射光ビーム７７を所定の入射角で、入射光ビーム・パスに沿ってビュー・ウィンドウ７２の下側に送り、ビュー・ウィンドウ７２を通過させる。入射光ビーム検出器７８は、光源７６から送られる入射光の量を検出し、光源７６から送られた入射光の量を表わす第１光信号を与える。反射光ビーム検出器８０は、ビュー・ウィンドウ７２を通して反射した光８１の量を、例えば検出領域内にあるビュー・ウィンドウ７２上の半導体ウエハ５２の表面５８から反射した時に検出する。」 
エ　図３ 
　研磨過程をその場でリアルタイムにモニタする装置の（一部断面）概略図。 
　
(2)甲第２号証
ア　第２欄第１５−１９行 
「【０００１】 
【産業上の利用分野】 
　本発明は半導体集積回路の製造工程の一つである配線工程におけるウェハの研磨加工法、特に被加工対象となるウェハ表面の薄膜の厚みを検出してフィードバック制御しながら加工する方法に関する。」 
イ　第４欄第１５−２９行 
「【００１１】 
【実施例】以下、図５を用いて本発明の実施例を詳細に説明する。研磨パッド１１が貼付けられている回転定盤１２の一部に開口を設け、そこに光学的に反射面までの位置を検出する、いわゆる焦点位置センサＳ２と、絶縁膜４の被加工表面４’の位置を検出する検出器Ｓ１を設ける。研磨パッド１１の開口部２１に、絶縁膜４の光学的屈折率とほぼ同一の屈折率をもつ液体、例えば純水を満たしておくと、検出器Ｓ２の照射ビーム２２は絶縁膜４の底面まで到達し、アルミ配線膜３または絶縁膜２の表面で反射する。この状態で上記照射ビーム２２と絶縁膜４との間に相対運動を与える、例えば回転定盤１２を回転させながら位置センサＳ２の信号出力を観察すれば、例えば図６中の信号Ｓ２’のようにアルミ配線パターン部の微細形状断面を知ることができる。」 
ウ　図５ 
　研磨加工法の第一の実施例を示す図。 
　
(3)甲第３号証
ア　第１欄第４９行−第２欄第２行 
「【０００１】 
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハ、特にＳＯＩ(Silicon-on-Insulator)ウエハ等の膜付きウエハの研磨方法及び装置に関する。」 
イ　第３欄第３８−４３行 
「【００１３】 
【作用】本発明方法において、定盤及び研磨布の回転中心と周縁との間に設けた窓からウエハの研磨面の光の反射状態を見て研磨状態を判定すれば、研磨を中断せずに研磨状態の終点を知ることが出来るので、研磨処理の時間を短くでき、装置も簡単で済む。」 
ウ　第４欄第７−１３行 
「【００１５】本発明の装置において、・・・透明窓材の表面とウエハの研磨面との間の間隔が小さい方が観察あるいは評価に都合がよい。」 
エ　第５欄第１９−２６行 
「【００２３】定盤１の溝２を有する面には、定盤１と同形の厚さ０.７ｍｍのローデルニッタ社製、商品名suba−500ウレタン含浸ポリエステル不織布からなる研磨布５が張り付けられ、溝２に相当する部分は溝２と同形に切り抜かれて、研磨布窓６が形成されている。透明窓材４は定盤１の表面より約０.５ｍｍ突出するが、研磨布５の弾性を考慮しても研磨布５の表面より十分低くなっている。」 
オ　第７欄第７−１０行 
「【００３４】 
【発明の効果】本発明によれば、研磨途中でウエハを定盤から離すことなく研磨中の膜の厚さを知ることができるので、研磨の高精度な制御が効率よくできる。」 
カ　図１ 
　ウエハ研磨装置の一部断面側面図。 
　
２　対比・判断
　本件発明１，１１，１３，１７，２２，２３及び２５と甲第１乃至３号証に記載された発明とを対比すると、甲第１乃至３号証には、プラグを「ポリッシング面を有するパッド部」、「ポリッシング面を有する第１層と、該第１層に隣接する第２層」、「ポリッシングパッド」、「ポリッシング面を有する物体」、又は「ポリッシング面に隣接し、第１の寸法を持つ第１セクション」に固定することについて記載がなく、示唆もされていない。  
　したがって、本件発明１，１１，１３，１７，２２，２３及び２５のいずれの発明についても、甲第１乃至３号証のいずれかに記載された発明であるとすることはできず、また、甲第１乃至３号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。 
　さらに、本件発明２乃至１０は本件発明１に従属し、本件発明１２は本件発明１１に従属し、本件発明１４乃至１６は本件発明１３に従属し、本件発明１８乃至２１は本件発明１７に従属し、本件発明２４は本件発明２３に従属しているので、本件発明２乃至１０，１２，１４乃至１６，１８乃至２１，２４のいずれの発明についても、甲第１乃至３号証のいずれかに記載された発明であるとすることはできず、また、甲第１乃至３号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　
第５　特許法第１７条の２第３項違反について
　本件発明１７における「該物体に形成された開口であって、該開口は」「第１の寸法を有する第１部分及び」「異なる第２の寸法を有する第２部分」「を有する、該開口と、該開口」「に固定された実質的に透明なプラグ」は、平成１２年２月１７日付け手続補正書により補正がなされた発明特定事項であり、本件発明２２における「前記ポリッシング面に隣接し、第１の寸法を持」つ「第１セクションと、前記ポリッシング面から遠く、」「第１の寸法とは異なる第２の寸法を持」つ「第２セクションとを有する開口と、前記開口の前記第１セクション内」「に固定され、前記開口の前記第１セクション」と「実質的に同じ寸法を有する実質的に透明なプラグ」、本件発明２３における「前記ポリッシング面に隣接し、第１の寸法を持つ第１セクションと、前記ポリッシング面から遠く、」「第１の寸法とは異なる第２の寸法を持つ第２セクションとを有する開口と、前記開口の前記第１セクション内」「に固定され、前記ポリッシング面と実質的に同じ高さである上面を有する」「実質的に透明なプラグ」及び本件発明２５における「前記ポリッシング面に隣接し、第１の寸法を持つ第１セクションと、前記ポリッシング面から遠く、」「第１の寸法とは異なる第２の寸法を持つ第２セクションとを有する開口と、前記開口の」「前記第１セクション内に固定され、透過性を低下させる添加物を含まないポリウレタンで形成された、実質的に透明なプラグ」は、平成１４年４月２２日付け手続補正書により補正がなされた発明特定事項であるので、これらの補正が本件の出願当初の明細書又は図面（以下、「本件当初明細書等」という。）に記載した事項の範囲内においてされたものかについて、以下検討する。  
　本件当初明細書等の発明の詳細な説明には、「図３の（Ｂ）は、プラテン１６とパッド１８の別の実施形態を示している。・・・プラテン１６の孔３０の上に位置する部分で、パッド１８の裏打ち層２０（存在する場合）が除去されている。これによって、ウェーハ１４と、プラテン１６の底との間にはパッド１８のポリウレタン被覆層２２だけが残る。被覆層２２で使用されるポリウレタン材は、レーザー干渉計３２からのレーザービーム３４を実質的に透過させることが分かっている。従って、プラテン孔３０上に位置する被覆層２２の部分がレーザービーム３４の窓として働く。・・・パッドの被覆層で使用されるポリウレタン材料はレーザービームを実質的に透過できるが、ナイロン微小球体等の或る種の添加物を含み、この添加物がその透過性を妨げる。この問題は、図３の（Ｃ）に記載された本発明の実施形態で解消される。この実施形態では、プラテン孔３０上に位置する領域の代表的なパッド材料が、中実のポリウレタンプラグ４２と置き換わっている。このプラグ４２は、レーザービーム用の窓として働くが、ナイロン微小球体を含まないポリウレタン材料でできている。従って、プラグ４２を通るレーザービーム３４の減衰は最小になる。」（段落【００１３】，【００１４】及び【図３】（Ｂ），（Ｃ）参照）と記載されており、図３（Ｃ）に関する実施例が、被覆層２２と裏打ち層２０からなるパッド１８であって、該パッド１８には被覆層２２と裏打ち層２０に亘って開口が設けられており、該被覆層２２に設けられた開口に対しプラグ４２を固定したものであることは明らかであるところ、当該パッド１８の被覆層２２および裏打ち層２０に開口を設け、該被覆層にプラグ４２を固定したことの技術的意義を考慮すれば、レーザービーム３４の窓として働くプラグ４２を固定する被覆層２２の開口とレーザービーム３４の通過路としての裏打ち層２０の開口とが同じ断面寸法である必然性がないことは、当業者にとって自明というべき事項である。 
　一方、本件当初明細書等の発明の詳細な説明には、「図３の（Ｄ）によれば、別の実施形態では、２段型プラグ６００が、プラテン孔３０の上のポリッシングパッド１８中に位置決めされている。・・・２段型プラグ６００は、上側プラグ部６０２と下側プラグ部６０４とを含む。上側プラグ部６０２は被覆層２２の孔、つまり開口６３０に嵌合し、下側プラグ部６０４は裏打ち層２０の孔、つまり開口６３２に嵌合する。」（段落【００１６】及び【図３】（Ｄ）参照）、「図３の（Ｅ）と（Ｆ）によれば、ポリッシングパッド１８を以下のように組み立ててもよい。中実のポリウレタンピースから２段型プラグ６００を機械加工するか成形加工する。ポリッシングパッド１８に開口６１２を切削加工する。或は、ポリッシングパッド１８を開口６１２と一体に成形してもよい。開口６１２は２つのセクションを含む。開口の第１セクションを被覆層２２の孔６３０とし、開口の第２セクションを裏打ち層２０の孔６３２としてもよい。開口６１２は２段型プラグ６００の形状に合わせる。プラグの形は、異なる断面積を持つ隣接する長方形の平板でもよい。・・・図３の（Ｄ）〜（Ｆ）には、上側プラグ部６０２の断面積が下側プラグ部６０４の断面積よりも小さく図示されているが、必ずしもその必要はない。」（段落【００１８】及び【図３】（Ｄ）−（Ｆ）参照）と記載されており、当該記載は、図３（Ｄ）−（Ｆ）に関する２段型プラグを用いた実施例として、上側プラグ部６０２の断面積が下側プラグ部６０４の断面積よりも小さい２段型プラグを、該プラグの形状に合わせた開口、即ち被覆層の断面積が裏打ち層の断面積よりも小さい開口に嵌合するもの以外に、上側プラグ部の断面積を下側プラグ部の断面積よりも大きくした２段型プラグを、該プラグの形状に合わせた開口、即ち被覆層の断面積が裏打ち層の断面積よりも大きい開口に嵌合するものをも示唆するものである。 
　そうすると、上記各手続補正書により補正がなされた発明特定事項は、上記二つの実施例が記載された本件当初明細書等に接した当業者が、本件当初明細書等に記載されているのと同然であると理解し得ないとまではいえないものであって、上記補正が本件当初明細書等に記載した事項の範囲内においてされたものでないとすることはできない。
　
　したがって、本件出願の特許は、特許法第１７条の２第３項に規定する要件を満たしていない補正をした特許出願に対してされたものであるとすることはできない。
　
第６　特許法第３６条違反について
　本件請求項１乃至２５の記載が不明りょうであるとする申立人の主張には理由がないので、本件出願の特許は、特許法第３６条に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるとすることはできない。
　
第７　むずび  
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由、先の決定の理由、及びそれらの証拠によっては本件請求項１乃至２５に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１乃至２５に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。 
【異議決定日】
平成１６年５月６日（２００４．５．６）