【手続補正書】
【提出日】平成27年9月16日(2015.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板を処理する熱処理装置であって、
基板支持体と、
光路に沿ってレーザ放射を発射するレーザ放射源と、
前記光路に沿って配置された照明光学部品であり、
互いから間隔を置いて配置された第１の円柱レンズおよび第２の円柱レンズを少なくとも有する一組の遅軸レンズ、ならびに
互いから間隔を置いて配置された第１の円柱レンズおよび第２の円柱レンズを少なくとも有し、前記一組の遅軸レンズの前記第１の円柱レンズと前記第２の円柱レンズの間に配置された一組の速軸レンズ
を備える前記照明光学部品と、
前記光路に沿って前記照明光学部品と前記基板支持体の間に配置された、第１のレンズアレイと第２のレンズアレイとを備えるホモジナイザであり、前記第２のレンズアレイのレンズが前記第１のレンズアレイのレンズよりも相対的に大きいレンズピッチを有し、前記第１のレンズアレイのレンズ軸および前記第２のレンズアレイのレンズ軸が前記レーザ放射源の速軸に平行に配向されている、前記ホモジナイザと
を備える熱処理装置。
【請求項２】
前記光路に沿って前記ホモジナイザと前記基板支持体の間に配置された複数の集光レンズをさらに備え、前記複数の集光レンズが、少なくとも５つの球面レンズを有する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記第１のレンズアレイおよび前記第２のレンズアレイがそれぞれ複数の曲面を有する、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記第１のレンズアレイおよび前記第２のレンズアレイが円柱レンズである、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記レーザ放射源は、３×９アレイとしてまとめられた２７個のダイオードバーを有する、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記一組の遅軸レンズの前記第１の円柱レンズが、前記レーザ放射源の方を向いた凸形のレンズ面を有し、前記一組の遅軸レンズの前記第２の円柱レンズが、前記基板の表面の方を向いた凸形のレンズ面を有する、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記一組の速軸レンズの前記第１の円柱レンズが、前記レーザ放射源の方を向いた凹形のレンズ面を有し、前記一組の速軸レンズの前記第２の円柱レンズが、前記基板の表面の方を向いた凸形のレンズ面を有する、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
円柱レンズの第１のレンズアレイが約０．１５の開口数ＮＡを有する、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
半導体基板を処理する熱処理装置であって、
基板支持体と、
第１の波長のレーザ放射を発射するレーザダイオードバーのアレイであり、前記レーザダイオードバーの前記アレイが、遅軸に沿って延びる複数の平行な列として配置されており、前記レーザダイオードバーの前記列が、速軸に沿ったスタックとして配置されており、前記遅軸および前記速軸が、前記レーザダイオードバーの前記アレイと前記基板支持体の間の光路と直交する前記レーザダイオードバーの前記アレイと、
前記光路に沿って前記レーザダイオードバーの前記アレイと前記基板支持体の間に配置された照明光学部品であり、
偏光ビームスプリッタ、
互いから間隔を置いて配置された第１の円柱レンズおよび第２の円柱レンズを少なくとも有する一組の遅軸レンズ、
互いから間隔を置いて配置された第１の円柱レンズおよび第２の円柱レンズを少なくとも有し、前記一組の遅軸レンズの前記第１の円柱レンズと前記第２の円柱レンズの間に配置された一組の速軸レンズ、
前記一組の速軸レンズの下流に配置され、加熱された前記基板から反射された第２および第３の波長のレーザ放射の方向を高温計へ変えるように構成されたダイクロイックミラー、ならびに
前記ダイクロイックミラーの下流に配置され、レーザ放射の直線偏光を円偏光に変換する波長板
を備える前記照明光学部品と、
レーザ放射を前記遅軸に沿って均質にするため、前記光路に沿って前記照明光学部品と前記基板支持体の間に配置されたホモジナイザであり、
第１のレンズアレイ、ならびに
第２のレンズアレイ
を備え、前記第２のレンズアレイのレンズが前記第１のレンズアレイのレンズよりも相対的に大きいレンズピッチを有する、前記ホモジナイザと、
前記基板の表面にライン像を焦束させるため、前記光路に沿って前記ホモジナイザと前記基板支持体の間に配置された集光レンズセットであり、少なくとも５つの球面レンズを有する前記集光レンズセットと
を備える熱処理装置。
【請求項１０】
前記レーザダイオードバーの前記アレイは、３×９アレイとしてまとめられた２７個のダイオードバーを有する、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記一組の遅軸レンズの前記第１の円柱レンズが、前記レーザダイオードバーの前記アレイの方を向いた凸形のレンズ面を有し、前記一組の遅軸レンズの前記第２の円柱レンズが、前記基板の表面の方を向いた凸形のレンズ面を有する、請求項９に記載の装置。
【請求項１２】
前記一組の速軸レンズの前記第１の円柱レンズが、前記レーザダイオードバーの前記アレイの方を向いた凹形のレンズ面を有し、前記一組の速軸レンズの前記第２の円柱レンズが、前記基板の表面の方を向いた凸形のレンズ面を有する、請求項９に記載の装置。
【請求項１３】
前記第１のレンズアレイの軸および前記第２のレンズアレイの軸が、前記レーザ放射源の速軸に平行な軸に沿って配向されている、請求項９に記載の装置。
【請求項１４】
前記第１の波長が約８０８ｎｍであり、前記第２の波長が約９４０ｎｍであり、前記第３の波長が約１５５０ｎｍである、請求項９に記載の装置。
【請求項１５】
前記ホモジナイザが、
円柱レンズの前記第１のレンズアレイと円柱レンズの前記第２のレンズアレイの間に置かれた弱い円柱レンズ
をさらに備える、請求項９に記載の装置。
【請求項１６】
半導体基板を処理する熱処理装置であって、
基板支持体と、
遅軸に沿って延びる複数の平行な列として配置されたレーザダイオードバーのアレイであり、前記レーザダイオードバーの前記列が、速軸に沿ったスタックとして配置されており、前記遅軸が、前記速軸に対して概ね垂直である前記レーザダイオードバーの前記アレイと、
前記レーザダイオードバーの前記アレイと前記基板支持体の間に配置された照明光学部品であり、
互いから間隔を置いて配置された第１の円柱レンズおよび第２の円柱レンズを少なくとも有し、前記遅軸におけるレーザビーム放射を平行にする一組の遅軸レンズ、ならびに
互いから間隔を置いて配置された第１の円柱レンズおよび第２の円柱レンズを少なくとも有し、前記一組の遅軸レンズの前記第１の円柱レンズと前記第２の円柱レンズの間に配置され、前記速軸におけるレーザビーム放射を平行にする一組の速軸レンズ
を備える前記照明光学部品と、
前記照明光学部品によって平行になったレーザ放射を前記遅軸に沿って均質にするため、前記照明光学部品と前記基板支持体の間に配置されたホモジナイザであり、
円柱レンズの第１のレンズアレイ、ならびに
円柱レンズの前記第１のレンズアレイと平行に間隔を置いて配置された円柱レンズの第２のレンズアレイ
を備え、円柱レンズの前記第２のレンズアレイのレンズが円柱レンズの前記第１のレンズアレイよりも相対的に大きいレンズピッチを有し、前記第１のレンズアレイの軸および前記第２のレンズアレイの軸が、前記レーザ放射源の速軸に平行に配向されている、前記ホモジナイザと、
前記基板の表面にライン像を焦束させるため、前記基板支持体と交差する光路に沿って前記ホモジナイザと前記基板支持体の間に配置された集光レンズセットであり、少なくとも５つの球面レンズを有する前記集光レンズセットと
を備える熱処理装置。
【請求項１７】
前記一組の遅軸レンズの前記第１の円柱レンズが、前記レーザダイオードバーの前記アレイの方を向いた凸形のレンズ面を有し、前記一組の遅軸レンズの前記第２の円柱レンズが、前記基板の表面の方を向いた凸形のレンズ面を有する、請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記一組の速軸レンズの前記第１の円柱レンズが、前記レーザダイオードバーの前記アレイの方を向いた凹形のレンズ面を有し、前記一組の速軸レンズの前記第２の円柱レンズが、前記基板の表面の方を向いた凸形のレンズ面を有する、請求項１６に記載の装置。
【請求項１９】
前記一組の遅軸および速軸レンズが、明細書の表１（Ｌ２−Ｌ５）に示された光学規定を有する、請求項１６に記載の装置。
【請求項２０】
円柱レンズの前記第１のレンズアレイおよび円柱レンズの前記第２のレンズアレイが、明細書の表２に示された光学規定を有する、請求項１６に記載の装置。
【請求項２１】
前記集光レンズセットが、明細書の表３（Ｌ１−Ｌ５）および表４に示された光学規定を有する、請求項１６に記載の装置。