【手続補正書】
【提出日】平成27年3月27日(2015.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ストリームから揮発性化合物を除去する方法であって、
前記ストリームと、Ｎ官能基化イミダゾールを含む溶媒システムを接触させることを含み、
ここで、前記Ｎ官能基化イミダゾールは、中性条件下で非イオン性であり、前記溶媒システムの約20質量%〜約80質量%を構成し、
前記揮発性化合物が、二酸化炭素、一酸化炭素、二酸化硫黄、硫化水素、チオール、酸化窒素、二酸化窒素、硫化カルボニル、二硫化炭素又はこれらの混合物を含む、
前記方法。
【請求項２】
前記Ｎ官能基化イミダゾールが、前記溶媒システムの約30質量%〜約70質量%を構成する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記Ｎ官能基化イミダゾールが、以下の構造：
【化１】
2014511759.tif 000001
を有し、ここで、
Ｒ1は、置換もしくは非置換Ｃ1-20アルキル、置換もしくは非置換Ｃ2-20アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ2-20アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ1-20ヘテロアルキル、置換もしくは非置換Ｃ2-20ヘテロアルケニル、置換もしくは非置換Ｃ2-20ヘテロアルキニル、置換もしくは非置換シクロアルキル、置換もしくは非置換ヘテロシクロアルキル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換チオ、置換もしくは非置換アミノ、置換もしくは非置換アルコキシル、置換もしくは非置換アリールオキシル、シリル、シロキシル、シアノまたはニトロであり、および
Ｒ2、Ｒ3、およびＲ4は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシル、置換もしくは非置換Ｃ1-20アルキル、置換もしくは非置換Ｃ2-20アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ2-20アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ1-20ヘテロアルキル、置換もしくは非置換Ｃ2-20ヘテロアルケニル、置換もしくは非置換Ｃ2-20ヘテロアルキニル、置換もしくは非置換シクロアルキル、置換もしくは非置換ヘテロシクロアルキル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換チオ、置換もしくは非置換アルコキシル、置換もしくは非置換アリールオキシル、置換もしくは非置換アミノ、シアノまたはニトロから選択される、
請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記溶媒システムが、以下の構造を有するアミンを更に含む、請求項１に記載の方法：
【化２】
2014511759.tif 000002
ここで、
Ｒ1、Ｒ2、およびＲ3は、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ1-20アルキル、置換もしくは非置換Ｃ2-20アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ2-20アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ1-20ヘテロアルキル、置換もしくは非置換Ｃ2-20ヘテロアルケニル、置換もしくは非置換Ｃ2-20ヘテロアルキニル、置換もしくは非置換シクロアルキル、置換もしくは非置換ヘテロシクロアルキル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換チオ、置換もしくは非置換アミノ、置換もしくは非置換アルコキシル、置換もしくは非置換アリールオキシル、シリル、シロキシル、シアノまたはニトロからなる群から選択される。
【請求項５】
前記アミンが、モノエタノールアミン、Ｎ−メチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、またはＮ−メチルジエタノールアミンである、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記アミンが、２−アミノ−２−メチルプロパノールである、請求項４に記載の方法。
【請求項７】
前記アミンが、ジイソプロパノールアミンである、請求項４に記載の方法。
【請求項８】
前記アミンが、置換または非置換ピペラジンである、請求項４に記載の方法。
【請求項９】
前記Ｎ官能基化イミダゾールおよび前記アミンが、９：１〜１：９の質量比で前記溶媒システム中に存在する、請求項４に記載の方法。
【請求項１０】
前記ストリームが、天然ガスストリームまたは排煙ストリームである、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
加熱すること、真空を適用すること、又はこれらの組合せにより前記溶媒システムを再生させることをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記溶媒システムが、水を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
ストリームから揮発性化合物を捕捉するための溶媒システムであって、約20質量%〜約80質量%のＮ官能基化イミダゾールと、アミンとを含み、前記Ｎ官能基化イミダゾールは、中性条件下で非イオン性である、前記溶媒システム。
【請求項１４】
前記Ｎ官能基化イミダゾールが、前記溶媒システムの約30質量%〜約70質量%を構成する、請求項１３に記載の溶媒システム。
【請求項１５】
前記Ｎ官能基化イミダゾールが、以下の構造：
【化３】
2014511759.tif 000003
を有し、ここで、
Ｒ1は、置換もしくは非置換Ｃ1-20アルキル、置換もしくは非置換Ｃ2-20アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ2-20アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ1-20ヘテロアルキル、置換もしくは非置換Ｃ2-20ヘテロアルケニル、置換もしくは非置換Ｃ2-20ヘテロアルキニル、置換もしくは非置換シクロアルキル、置換もしくは非置換ヘテロシクロアルキル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換チオ、置換もしくは非置換アミノ、置換もしくは非置換アルコキシル、置換もしくは非置換アリールオキシル、シリル、シロキシル、シアノまたはニトロであり、および
Ｒ2、Ｒ3、およびＲ4は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシル、置換もしくは非置換Ｃ1-20アルキル、置換もしくは非置換Ｃ2-20アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ2-20アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ1-20ヘテロアルキル、置換もしくは非置換Ｃ2-20ヘテロアルケニル、置換もしくは非置換Ｃ2-20ヘテロアルキニル、置換もしくは非置換シクロアルキル、置換もしくは非置換ヘテロシクロアルキル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換チオ、置換もしくは非置換アルコキシル、置換もしくは非置換アリールオキシル、置換もしくは非置換アミノ、シアノまたはニトロから選択される、
請求項１３に記載の溶媒システム。
【請求項１６】
前記アミンが以下の構造を有する、請求項１３に記載の溶媒システム：
【化４】
2014511759.tif 000004
ここで、
Ｒ1、Ｒ2、およびＲ3は、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ1-20アルキル、置換もしくは非置換Ｃ2-20アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ2-20アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ1-20ヘテロアルキル、置換もしくは非置換Ｃ2-20ヘテロアルケニル、置換もしくは非置換Ｃ2-20ヘテロアルキニル、置換もしくは非置換シクロアルキル、置換もしくは非置換ヘテロシクロアルキル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換チオ、置換もしくは非置換アミノ、置換もしくは非置換アルコキシル、置換もしくは非置換アリールオキシル、シリル、シロキシル、シアノまたはニトロからなる群から選択される。
【請求項１７】
前記アミンが、モノエタノールアミン、Ｎ−メチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、またはＮ−メチルジエタノールアミンである、請求項１３に記載の溶媒システム。
【請求項１８】
前記アミンが、２−アミノ−２−メチルプロパノールである、請求項１３に記載の溶媒システム。
【請求項１９】
前記アミンが、ジイソプロパノールアミンである、請求項１３に記載の溶媒システム。
【請求項２０】
前記アミンが、置換または非置換ピペラジンである、請求項１３に記載の溶媒システム。
【請求項２１】
前記Ｎ官能基化イミダゾールおよび前記アミンが、９：１〜１：９の質量比で前記溶媒システム中に存在する、請求項１３に記載の溶媒システム。
【請求項２２】
水を更に含む、請求項１３に記載の溶媒システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５２】
添付のクレームにある化合物および方法は、クレームのいくつかの態様を説明することを意図している本明細書に記載される具体的な化合物および方法により範囲が限定されず、機能的に同等な任意の化合物および方法は、本開示の範囲内となる。本明細書に記述および提示される化合物および方法に加え、様々な改変が、添付のクレームの範囲内に含まれることが意図される。さらに、これらの化合物および方法のある代表的な化合物、方法および態様のみが具体的に開示されているが、たとえ具体的に列挙されていなくとも、他の化合物および方法および当該化合物および方法の様々な特性の組み合わせが、添付のクレームの範囲内に含まれることが意図される。ゆえに、工程、元素、成分または構成要素の組み合わせが本明細書に明示的に言及されうる。しかしながら他のすべての工程、元素、成分および構成要素の組み合わせが、たとえ明示的に述べられていなくとも、含まれる。
本発明のまた別の態様は、以下のとおりであってもよい。
〔１〕ストリームから二酸化炭素を減少させる方法であって、
前記ストリームと、Ｎ官能基化イミダゾールおよびアミンを含有するシステムを接触させることを含み、
ここで、前記Ｎ官能基化イミダゾールは、中性条件下で非イオン性である、方法。
〔２〕前記Ｎ官能基化イミダゾールが、Ｎ−アルキルイミダゾール、Ｎ−アルケニルイミダゾール、Ｎ−アルキニルイミダゾール、Ｎ−アリールイミダゾールまたはそれらの混合物である、前記〔１〕に記載の方法。
〔３〕前記Ｎ官能基化イミダゾールが、以下の構造：
2014511759.tif 000005
を有し、ここで、
Ｒ1は、置換もしくは非置換Ｃ1-20アルキル、置換もしくは非置換Ｃ2-20アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ2-20アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ1-20ヘテロアルキル、置換もしくは非置換Ｃ2-20ヘテロアルケニル、置換もしくは非置換Ｃ2-20ヘテロアルキニル、置換もしくは非置換シクロアルキル、置換もしくは非置換ヘテロシクロアルキル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換チオ、置換もしくは非置換アミノ、置換もしくは非置換アルコキシル、置換もしくは非置換アリールオキシル、シリル、シロキシル、シアノまたはニトロであり、および
Ｒ2、Ｒ3、およびＲ4は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシル、置換もしくは非置換Ｃ1-20アルキル、置換もしくは非置換Ｃ2-20アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ2-20アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ1-20ヘテロアルキル、置換もしくは非置換Ｃ2-20ヘテロアルケニル、置換もしくは非置換Ｃ2-20ヘテロアルキニル、置換もしくは非置換シクロアルキル、置換もしくは非置換ヘテロシクロアルキル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換チオ、置換もしくは非置換アルコキシル、置換もしくは非置換アリールオキシル、置換もしくは非置換アミノ、シアノまたはニトロから選択される、
前記〔１〕または〔２〕に記載の方法。
〔４〕前記アミンが、１級アミン、２級アミン、３級アミン、環状アミン、またはそれらの混合物からなる群から選択される、
前記〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の方法。
〔５〕前記アミンが、以下の構造：
2014511759.tif 000006
を有し、ここで、
Ｒ1、Ｒ2、およびＲ3は、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ1-20アルキル、置換もしくは非置換Ｃ2-20アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ2-20アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ1-20ヘテロアルキル、置換もしくは非置換Ｃ2-20ヘテロアルケニル、置換もしくは非置換Ｃ2-20ヘテロアルキニル、置換もしくは非置換シクロアルキル、置換もしくは非置換ヘテロシクロアルキル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換チオ、置換もしくは非置換アミノ、置換もしくは非置換アルコキシル、置換もしくは非置換アリールオキシル、シリル、シロキシル、シアノまたはニトロからなる群から選択される、
前記〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載の方法。
〔６〕前記１級アミンが、モノエタノールアミン、ジグリコールアミン、２−アミノ−２−メチルプロパノール、またはそれらの混合物からなる群から選択される、前記〔４〕に記載の方法。
〔７〕前記２級アミンが、ジエタノールアミン、ジイソプロパノールアミン、またはそれらの混合物からなる群から選択される、前記〔４〕に記載の方法。
〔８〕前記３級アミンが、Ｎ−メチルジエタノールアミンである、前記〔４〕に記載の方法。
〔９〕前記環状アミンが、置換または非置換ピペラジンである、前記〔４〕に記載の方法。
〔１０〕前記アミンが、モノアミン、ジアミンまたはポリアミンである、前記〔１〕〜〔９〕のいずれかに記載の方法。
〔１１〕前記Ｎ官能基化イミダゾールが、前記システムの少なくとも１０重量％を構成する、前記〔１〕〜〔１０〕のいずれかに記載の方法。
〔１２〕前記Ｎ官能基化イミダゾールが、前記システムの少なくとも２５重量％を構成する、前記〔１〕〜〔１１〕のいずれかに記載の方法。
〔１３〕前記Ｎ官能基化イミダゾールが、前記システムの少なくとも５０重量％を構成する、前記〔１〕〜〔１２〕のいずれかに記載の方法。
〔１４〕前記アミンが、前記システムの少なくとも１０重量％を構成する、前記〔１〕〜〔１３〕のいずれかに記載の方法。
〔１５〕前記アミンが、前記システムの少なくとも２５重量％を構成する、前記〔１〕〜〔１４〕のいずれかに記載の方法。
〔１６〕前記アミンが、前記システムの少なくとも５０重量％を構成する、前記〔１〕〜〔１５〕のいずれかに記載の方法。
〔１７〕前記Ｎ官能基化イミダゾールおよびアミンが、９：１〜１：９の比率で存在する、前記〔１〕〜〔１６〕のいずれかに記載の方法。
〔１８〕前記Ｎ官能基化イミダゾールおよびアミンが、２：１の比率で存在する、前記〔１〕〜〔１７〕のいずれかに記載の方法。
〔１９〕前記システムは、実質的に揮発性化合物が無い、前記〔１〕〜〔１８〕のいずれかに記載の方法。
〔２０〕前記Ｎ官能基化イミダゾールの粘度が、２４℃で、１０ｃＰ未満である、前記〔１〕〜〔１９〕のいずれかに記載の方法。
〔２１〕前記Ｎ官能基化イミダゾールの粘度が、２４℃で、８ｃＰ未満である、前記〔１〕〜〔１９〕のいずれかに記載の方法。
〔２２〕前記Ｎ官能基化イミダゾールの粘度が、２４℃で、５ｃＰ未満である、前記〔１〕〜〔１９〕のいずれかに記載の方法。
〔２３〕ストリームから二酸化炭素、二酸化硫黄、または硫化水素を減少させる方法であって、  前記ストリームと、Ｎ官能基化イミダゾールを含有するシステムを接触させることを含み、
ここで、前記Ｎ官能基化イミダゾールは、中性条件下で非イオン性である、方法。
〔２４〕前記Ｎ官能基化イミダゾールが、Ｎ−アルキルイミダゾール、Ｎ−アルケニルイミダゾール、Ｎ−アルキニルイミダゾール、Ｎ−アリールイミダゾール、またはそれらの混合物である、前記〔２３〕に記載の方法。
〔２５〕前記Ｎ官能基化イミダゾールが、以下の構造：
2014511759.tif 000007
を有し、ここで、
Ｒ1は、置換もしくは非置換Ｃ1-20アルキル、置換もしくは非置換Ｃ2-20アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ2-20アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ1-20ヘテロアルキル、置換もしくは非置換Ｃ2-20ヘテロアルケニル、置換もしくは非置換Ｃ2-20ヘテロアルキニル、置換もしくは非置換シクロアルキル、置換もしくは非置換ヘテロシクロアルキル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換チオ、置換もしくは非置換アミノ、置換もしくは非置換アルコキシル、置換もしくは非置換アリールオキシル、シリル、シロキシル、シアノまたはニトロであり、および
Ｒ2、Ｒ3、およびＲ4は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシル、置換もしくは非置換Ｃ1-20アルキル、置換もしくは非置換Ｃ2-20アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ2-20アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ1-20ヘテロアルキル、置換もしくは非置換Ｃ2-20ヘテロアルケニル、置換もしくは非置換Ｃ2-20ヘテロアルキニル、置換もしくは非置換シクロアルキル、置換もしくは非置換ヘテロシクロアルキル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換チオ、置換もしくは非置換アルコキシル、置換もしくは非置換アリールオキシル、置換もしくは非置換アミノ、シアノまたはニトロから選択される、
前記〔２３〕または〔２４〕に記載の方法。
〔２６〕前記システムが、さらにアミンを含有する、前記〔２３〕〜〔２５〕のいずれかに記載の方法。
〔２７〕前記アミンが、１級アミン、２級アミン、３級アミン、環状アミン、またはそれらの組み合わせからなる群から選択される、前記〔２６〕に記載の方法。
〔２８〕前記アミンが、以下の構造：
2014511759.tif 000008
を有し、ここで、
Ｒ1、Ｒ2、およびＲ3は、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ1-20アルキル、置換もしくは非置換Ｃ2-20アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ2-20アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ1-20ヘテロアルキル、置換もしくは非置換Ｃ2-20ヘテロアルケニル、置換もしくは非置換Ｃ2-20ヘテロアルキニル、置換もしくは非置換シクロアルキル、置換もしくは非置換ヘテロシクロアルキル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換チオ、置換もしくは非置換アミノ、置換もしくは非置換アルコキシル、置換もしくは非置換アリールオキシル、シリル、シロキシル、シアノまたはニトロからなる群から選択される、
前記〔２６〕または前記〔２７〕に記載の方法。
〔２９〕前記１級アミンが、モノエタノールアミン、ジグリコールアミン、２−アミノ−２−メチルプロパノール、またはそれらの混合物からなる群から選択される、前記〔２７〕に記載の方法。
〔３０〕前記２級アミンが、ジエタノールアミン、ジイソプロパノールアミン、またはそれらの混合物からなる群から選択される、前記〔２７〕に記載の方法。
〔３１〕前記３級アミンが、Ｎ−メチルジエタノールアミンである、前記〔２７〕に記載の方法。
〔３２〕前記環状アミンが、置換または非置換ピペラジンである、前記〔２７〕に記載の方法。
〔３３〕前記アミンが、モノアミン、ジアミン、またはポリアミンである、前記〔２６〕〜〔３２〕のいずれかに記載の方法。
〔３４〕前記Ｎ官能基化イミダゾールが、前記システムの少なくとも１０重量％を構成する、前記〔２３〕〜〔３３〕のいずれかに記載の方法。
〔３５〕前記Ｎ官能基化イミダゾールが、前記システムの少なくとも２５重量％を構成する、前記〔２３〕〜〔３４〕のいずれかに記載の方法。
〔３６〕前記Ｎ官能基化イミダゾールが、前記システムの少なくとも５０重量％を構成する、前記〔２３〕〜〔３５〕のいずれかに記載の方法。
〔３７〕前記アミンが、前記システムの少なくとも１０重量％を構成する、前記〔２３〕〜〔３６〕のいずれかに記載の方法。
〔３８〕前記アミンが、前記システムの少なくとも２５重量％を構成する、前記〔２３〕〜〔３７〕のいずれかに記載の方法。
〔３９〕前記アミンが、前記システムの少なくとも５０重量％を構成する、前記〔２３〕〜〔３８〕のいずれかに記載の方法。
〔４０〕前記Ｎ官能基化イミダゾールおよび前記アミンが、９：１〜１：９の比率で存在する、前記〔２３〕〜〔３９〕のいずれかに記載の方法。
〔４１〕前記Ｎ官能基化イミダゾールおよび前記アミンが、２：１の比率で存在する、前記〔２３〕〜〔３９〕のいずれかに記載の方法。
〔４２〕前記システムは、実質的に揮発性化合物が無い、前記〔２３〕〜〔４１〕のいずれかに記載の方法。
〔４３〕前記Ｎ官能基化イミダゾールの粘度が、２４℃で、１０ｃＰ未満である、前記〔２３〕〜〔４２〕のいずれかに記載の方法。
〔４４〕前記Ｎ官能基化イミダゾールの粘度が、２４℃で、８ｃＰ未満である、前記〔２３〕〜〔４２〕のいずれかに記載の方法。
〔４５〕前記Ｎ官能基化イミダゾールの粘度が、２４℃で、５ｃＰ未満である、前記〔２３〕〜〔４２〕のいずれかに記載の方法。
〔４６〕前記ストリームが、ガスストリームまたは液体ストリームである、前記〔１〕〜「エラー」参照元が見つかりません、のいずれかに記載の方法。
〔４７〕前記ガスストリームが、天然ガスストリームまたは排煙ストリームである、前記〔４６〕に記載の方法。
〔４８〕天然ガス供給ストリームをスイートニングするための方法であって、
精製天然ガス供給ストリームおよびガス濃厚システムを形成するために、前記天然ガス供給ストリームと、Ｎ官能基化イミダゾールを含有するシステムを接触させることであって、ここで、前記Ｎ官能基化イミダゾールは、中性条件下で非イオン性である、接触させることと、および、
前記ガス濃厚システムから前記精製天然ガス供給ストリームを分離することを含む、方法。
〔４９〕前記システムが、アミンをさらに含有する、前記〔４８〕に記載の方法。
〔５０〕前記天然ガス供給ストリームと、Ｎ官能基化イミダゾールを含有する第二のシステムを接触させることであって、ここで、前記Ｎ官能基化イミダゾールは中性条件下で非イオン性である、接触させることをさらに含む、前記〔４８〕または〔４９〕に記載の方法。
〔５１〕前記第二のシステムが、アミンをさらに含有する、前記〔５０〕に記載の方法。
〔５２〕前記システムを再生させることをさらに含む、前記〔４８〕〜〔５１〕のいずれかに記載の方法。
〔５３〕前記システムが、前記ガス濃厚システムを加熱することにより再生される、前記〔５２〕に記載の方法。
〔５４〕前記システムが、前記ガス濃厚システムを加圧することにより再生される、前記〔５２〕に記載の方法。
〔５５〕揮発性化合物を減少させるためのシステムであって、
Ｎ官能基化イミダゾールであって、中性条件下で非イオン性である、Ｎ官能基化イミダゾール、および
二酸化炭素、硫化水素、二酸化硫黄、酸化窒素、二酸化窒素、硫化カルボニル、二硫化炭素、またはそれらの混合物からなる群から選択される揮発性化合物、
を含有するシステム。
〔５６〕アミンをさらに含有する、前記〔５５〕に記載のシステム。