【事件の表示】
　平成　２年特許願第２８７８２９号「光磁気記録方法」拒絶査定に対する審判事件［平成　４年　６月　５日出願公開、特開平　４−１６２２３１］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
《１》　手続の経緯・本願発明　
　　本願は、平成２年１０月２５日の出願であって、その請求項１に係る発明は、平成１２年３月２７日付けの手続補正書によって補正された明細書及び図面の記載からみて、本願の特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりである（以下、「本願発明」という。）。　
　
「【請求項１】　
　表面に膜厚０．０１〜５０μｍの耐摩耗性保護膜を有する光磁気記録媒体に対し、　
　少なくとも光磁気記録媒体に対する進入側端部が曲面形状となされ、光磁気記録媒体側の最大突起よりも後退した位置に磁界発生手段が設けられてなる磁気ヘッドを摺動させ、　
　１．２〜１．４ｍ／秒の線速度で　
　磁界変調記録を行うことを特徴とする光磁気記録方法。」　
　
　
《２》　原査定の拒絶の理由に引用された刊行物　
１．特開平　１−２２７２４１号公報（以下、引用例１という。）　
２．特開昭６４−　３５７１４号公報（以下、引用例２という。）　
３．特開平　２−　４０１４９号公報　
　
　
《３》　引用例に記載された事項　
引用例１：特開平１−２２７２４１号公報　
（１）
「（１）透明基板上に誘電体層、磁性層、保護層の薄膜層を順次形成した光磁気記録媒体において、上記薄膜層上に接着層を介して非磁性金属の薄板を接着したことを特徴とする光磁気記録媒体。　
　（２）特許請求の範囲第（１）項記載の光磁気記録媒体において、上記非磁性金属はベリリウム鋼、ステンレス又はアルミニウムからなることを特徴とする光磁気記録媒体。　
　（３）特許請求の範囲第（１）項記載の光磁気記録媒体において、上記非磁性金属の薄板の厚さを１０μｍ〜２００μｍ以内にしたことを特徴とする光磁気記録媒体。」（特許請求の範囲）　
（２）　
「〔発明が解決しようとする問題点〕　
　上記のように、従来の光磁気記録媒体Ａでは保護層４の厚さおよび強度が十分でないため磁石１０と保護層４とが接触すると、光磁気記録媒体Ａの保護層４、しいては磁性層３に著しい損傷を与える。そのため保護層４と磁石１０との距離は光磁気記録媒体Ａの面振れ±０．１ｍｍ程度を上まわる必要があるため最低でも０．２ｍｍ程度離す必要があった。」（第１頁右欄第１４行〜第２頁左上欄第２行）
（３）
「〔問題点を解決するための手段〕　
  この発明に係る光磁気記録装置は、光磁気記録媒体と磁気ヘッドとを接触摺動することを特徴とし、これを可能たらしめるために、従来の光磁気記録媒体の保護層上に、接着剤を介し、その反対側には塗布，含浸等の手段により潤滑層を形成した非磁性金属の薄板を接着した光磁気記録媒体、あるいは、従来の光磁気記録媒体の保護層上に接着剤を介し、非磁性材の薄板を接着し、その後に非磁性金属の薄板の表面に潤滑層を形成した光磁気記録媒体を作成した。また外部磁界印加用の磁気ヘッドの磁界発生面に曲面加工を施した。　
　〔作用〕　
　この発明においては、光磁気記録媒体と磁気ヘッドとが接触摺動することを可能としたため、従来の光磁気記録媒体と磁界印加磁石との間に距離を有する光磁気記録装置と比べて、より大きい外部磁界を安定して磁性層に印加することが可能となる。」（第２頁右上欄第１０行〜左下欄第８行）　
（４）　
「８は本発明の光磁気記録装置に用いる磁気ヘッドでこの磁気ヘッド８（詳しい内部構造については説明を省略する）は、例えば光磁気記録媒体Ｂと対向する部分をセラミックス非磁性フェライト，ガラス等で形成し、この対向する部分いいかえれば、磁界発生面を例えば半球状に鏡面加工し、その反対面に、第２図で示すように支持バネ９を取り付け、適当な圧力で上記の光磁気記録媒体Ｂ上に接触摺動させる。この時、前記非磁性金属の薄板６の厚さを５０μｍとすると、従来の光磁気記録装置では、磁性層３と磁気ヘッド８との距離が２００μｍであるため、第４図に示すように、磁性層上の磁界強度は１１９／７８倍、すなわち約１．５倍となる。また、光磁気記録媒体Ｂと磁気ヘッド８は常に接触しているため、磁性層３と磁気ヘッド８との距離は光磁気記録媒体Ｂの面振れに関係なく常に一定であり、印加磁界は安定して供給できる。」（第２右下欄第３行〜第２０行）　
（５）　
「また、本発明の磁気ヘッド８を接触摺動させても、光磁気記録媒体Ｂには何ら損傷を与えないことも各種の実験結果確認されている。」（第３頁左上欄第５行〜第７行）　
（６）　
「また上記実施例の説明では、磁気ヘッド８の磁界発生面いいかえれば光磁気記録媒体Ｂとの摺接面を半球面に鏡面加工したが、光磁気記録媒体Ｂとの接触によって光磁気記録媒体Ｂの表面に損傷を与えない形状であれば、例えば、放物面，双曲面，あるいはテーパー加工を施したもの等、何れの形状でもよい。」（第３頁右上欄第２行〜第８行）　
（７）　
　第４図（磁性層と磁気ヘッドとの距離と磁界強度との関係を示すグラフ）には、磁性層と磁気ヘッドとの距離（μｍ）０〜７００と、磁性層の磁界強度（Ｏｅ）０〜１５０について、磁性層と磁気ヘッドとの距離が小さい値では、磁性層の磁界強度は高い数値示す関係が記載されている。
　
　
引用例２：特開昭６４−　３５７１４号公報　
（１）　
「（１）媒体面にレーザ光を照射する光ヘッドと記録媒体を挟んで対向し、情報信号に応じて変調された磁界を発生する磁界変調用の磁気ヘッドであって、磁心コアの磁極面と前記記録媒体との間に一定の間隙を形成するための非磁性の自己潤滑性材料から成る摺動層をヘッド前面を覆うように設けたことを特徴とする磁気ヘッド。　
　（２）前記摺動層は、前記磁極面を媒体面に臨ませる開口が形成されていることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項に記載の磁気ヘッド。」（特許請求の範囲）　
（２）　
「　　作　用　
　ヘッド全面に、磁極面と記録媒体の間に一定の間隙を形成するための摺動層が設けられているので、摺動層を記録媒体に摺接させることにより記録媒体に対して磁極面が常時一定の距離を保って移動させられる。これによって、記録に必要な十分に強い変調磁界が変動なく媒体に与えられる。」（第２頁左下欄第１３行〜第１９行）　
（３）　
「第３図は、本発明の他の実施例を示す。この他の実施例では、摺動層１４の磁心コア１１との対応部に開口１５を形成し、この開口１５に磁心コア先端を挿入し、その磁極面１１ａを開口１５を通して記録媒体３の面に臨ませるようにしたものである。開口１５が形成されたことにより、磁極面１１ａが表面１４ａから微少な距離ｄだけ深く凹状に後退させた構成となり、媒体面とのギャップの距離ｄの設定を容易にすることができる。そして、磁極面１１ａの前面に摺動層１４がないため、ギャップの距離ｄをより一層小さく設定することができる。これによって、磁極面１１ａから出される磁束を必要な磁界強度でより効果的に記録媒体３に印加させることができる。その結果、より一層高感度の記録が可能となる。」（第３頁左下欄第７行〜右下欄第１行）　
（４）　
　第３図には、開口１１ａに対して、表面１４ａと反対側に、磁極面１１ａを凹ませてコイル１２と磁心コア１１が示されている。　
　
　
《４》　引用例１の発明　
　上記《３》引用例１の（１）〜（７）から、　
　光磁気記録媒体に対して、磁気ヘッドを接触摺動させ、安定して外部磁界を磁性層に印加することを可能にした光磁気記録装置おいて、光磁気記録媒体の表面には、磁気ヘッドの接触摺動による損傷を防止するために、「非磁性金属の薄板」が形成されており、　
　磁気ヘッドは、内部構造について省略されてるが、光磁気記録媒体の磁性層に磁界を印加する磁界発生手段を備えた磁界印加用の磁気ヘッドであり、その表面形状は、光磁気記録媒体の表面に損傷を与えないように、半球状に、光磁気記録媒体の進入側端部のみならず全方向に曲面加工されていることから、　
　引用例１の特開平１−２２７２４１号公報には、　
「表面に膜厚１０〜２００μｍ以下の非磁性金属の薄板を有する光磁気記録媒体に対し、　
　光磁気記録媒体に対する進入側端部が曲面形状となされ、光記録媒体と対向する部分をセラミックス系磁性フェライト，ガラス等で形成され、磁界発生手段が設けられてなる磁界印加用の磁気ヘッドを摺動させ、　
　磁界変調記録を行うことを特徴とする光磁気記録方法。」の発明（以下、引用例１の発明という。）が記載されていると認められる。　
　
　
《５》　対　比　
　本願発明と引用例１の発明を対比すると、　
　引用例１の発明の「非磁性金属の薄板」は、光磁気記録媒体側の光磁気記録媒体と磁気ヘッドが接触摺動する面に設けられ、光磁気記録媒体の損傷を防止する機能を備えている点で、薄板も膜も薄く形成された層の形状で共通しており、引用例１の発明の「非磁性金属の薄板」は本願発明の「耐摩耗性保護膜」に相当する。なお、審判請求理由補充書において、本願の「耐摩耗性保護膜」は塗布形成された硬化膜であり「硬化膜を塗布形成しているため、膜厚を薄くすることができ、その形成も容易である。」と主張しているが、耐摩耗性保護膜が塗布形成されたとの記載は、特許請求の範囲には記載されている事項ではなく、「耐摩耗性保護膜」が塗布形成された膜とする主張は採用できない。　
　結局、引用例１の発明と本願発明は、　
「表面に厚みのある耐摩耗性保護膜を有する光磁気記録媒体に対し、　
　少なくとも光磁気記録媒体に対する進入側端部が曲面形状となされ、光磁気記録媒体側に磁界発生手段が設けられてなる磁気ヘッドを摺動させ、　
　磁界変調記録を行うことを特徴とする光磁気記録方法。」で一致し、　
　　以下の点で、相違する。　
（１）耐摩耗性保護膜の厚みが、本願発明では０．０１〜５０μｍであるのに対して、引用例１の発明では、１０〜２００μｍである点。
（２）磁界発生手段の位置を、本願発明では、最大突起よりも後退した位置とするのに対して、引用例１の発明では、磁気発生手段の位置は不明である。　
（３）本願発明が１．２〜１．４ｍ／秒の線速度と規定しているのに対して、引用例１の発明では線速度を規定していない点。　
　
　
《６》　当審の判断
　　相違点について検討する。　
相違点（１）について　
　上記《３》引用例１の（５）（７）には、磁性層と磁気ヘッドとの距離が小さい程、磁性層の磁界強度は高い数値であることが記載されており、磁気ヘッドが光磁気記録媒体に摺動する光磁気記録方法において、磁気ヘッドの構造を複雑にすることなく磁界強度を高くする手段として、両者の接触部の厚みを薄くすることことにより、光磁気記録媒体と磁気ヘッドとの距離を小さくすることは技術常識であり、光磁気記録媒体側の保護膜の厚みを薄くすることは容易であり、例えば、記録時のスペーシングロス等を考慮し１０００Å（１μｍ）の保護膜も知られており（特開昭６１−２９４３８号公報参照）、引用例１の発明において、保護膜の耐久性と磁界の強さの兼ね合いから、本願発明と共通する１０〜５０μｍの範囲を越えて、さらに０．０１〜５０μｍの範囲とすることは容易であり、格別の発明力を要するとは認められない。　
　
相違点（２）について　
　本願発明の「磁界発生手段」は、詳細な説明の「【００３６】・・・・・・コイル等の磁界発生手段・・・・」や「【００３７】・・・・磁界発生手段であるコイル(22)が・・・・・」「【００５０】・・・・・磁界発生手段であるコイルボビン(34)は、・・・・・・」「【００６１】・・・・・磁気ヘッドの磁界発生手段であるコイルは、・・・・・・」の記載から、コイル等を指示していると認められる。そして、引用例２には、コイルと磁心を磁気ヘッドの最大突起よりも後退して配置された磁気ヘッドが記載されており、磁気ヘッドが光磁気記録媒体に摺動する引用例１の磁気ヘッドにおいて、磁界発生手段の損傷を防止し、かつ、媒体面と磁気ヘッド距離の維持のために、引用例２に記載された構成を採用し、最大突起よりも後退位置に磁気発生手段を設けることは、容易に推考できることと認められる。　
　
相違点（３）について　
　一般に、磁気ヘッドが光磁気記録媒体に摺動する光磁気記録装置においては、磁気ヘッドと光磁気記録媒体の双方の損傷を考慮すると、低線速度が望ましいことは明らかであり、線速度が１．２〜１．４ｍ／秒のものも格別新規ではなく（特開平２−１９３３４３号公報参照）、さらに、従来技術において、磁界変調型のものでは線速度が低いのが普通（実願昭６１−９９３８５号（実開昭６３−６５２７号公報）のマイクロフィルム参照）であることを考慮すれば、引用例１の発明において、線速度を１．２〜１．４ｍ／秒とすることは、容易に想到できることと認められる。　
　
　
《７》　む　す　び　
　したがって、本願発明は、引用例１の発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるので、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 
　よって、結論のとおり審決する。