(57)【要約】【課題】歩留りを向上することができる表示装置及び表示パネルを提供する。【解決手段】本実施形態によれば、表示領域と、表示領域を囲む非表示領域と、非表示領域に位置する第１遮光層を備える表示パネルと、平面部と曲面部とを有し、平面部及び曲面部において表示パネルと接着されたカバー部材と、を備え、第１遮光層は、平面部と重なる開口を有している、表示装置が提供される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域と、前記表示領域を囲む非表示領域と、前記非表示領域に位置する第１遮光層を備える表示パネルと、
平面部と曲面部とを有し、前記平面部及び前記曲面部において前記表示パネルと接着されたカバー部材と、
を備え、
前記第１遮光層は、前記平面部と重なる開口を有している、表示装置。
【請求項２】
前記表示パネルは、第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に位置する液晶層と、前記液晶層を囲むシールと、をさらに備え、
前記第１遮光層は、前記第２基板に設けられ、前記シールと重なり、
前記第２基板は、前記カバー部材と前記第１基板との間に位置している、請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記第１基板は、前記開口と重なる第１金属層を備えている、請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記第１金属層は、複数の配線である、請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
前記配線の幅は、前記配線の間隔以上である、請求項４に記載の表示装置。
【請求項６】
前記第１基板は、前記開口及び前記第１金属層と重なる第２金属層を備えている、請求項３乃至５のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項７】
前記第１金属層は、単一部材からなり、
前記第２金属層は、複数の部材からなる、請求項６に記載の表示装置。
【請求項８】
前記カバー部材は、前記表示パネルと対向する側に位置する第２遮光層をさらに備え、
前記開口は、前記第２遮光層と重なっている、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項９】
前記平面部と前記曲面部とは、第１方向に沿って並び、
前記曲面部の母線は、前記第１方向と交差する第２方向に沿って延出している、請求項８に記載の表示装置。
【請求項１０】
平面部と、
曲面部と、
前記平面部及び曲面部に位置する表示領域と、
前記表示領域を囲む非表示領域と、
前記非表示領域に位置する第１遮光層と、
を備え、
前記第１遮光層は、前記平面部に位置する第１開口を有している、表示パネル。
【請求項１１】
複数の端子が形成された実装部と、
前記表示領域から前記端子まで延出した配線と、
フローティング電位の第１金属層と、
をさらに備え、
前記第１遮光層は、前記平面部に位置し前記第１開口より前記実装部から離間した第２開口を有し、
前記表示領域は、前記第１開口と前記第２開口との間に位置し、
前記配線は、前記第１開口と重なり、
前記第１金属層は、前記第２開口と重なっている、請求項１０に記載の表示パネル。
【請求項１２】
前記平面部と前記曲面部とは、第１方向に沿って並び、
前記第１開口と前記第２開口とは、前記第１方向と交差する第２方向に沿って並んでいる、請求項１１に記載の表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本実施形態は、表示装置及び表示パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話やＰＤＡ（ｐｅｒｓｏｎａｌ  ｄｉｇｉｔａｌ  ａｓｓｉｓｔａｎｔ）等に用いられる表示装置では、性能面や、デザイン性等の観点から、狭額縁化が要求されている。狭額縁化の一例として、近年では、可撓性を有する表示パネルを用い、曲面状の端部を有する表示装置が開発されている。
【０００３】
このような表示装置においては、表示パネルとカバー部材とを貼り合わせる際に、位置合わせ用のマークが必要となる。しかしながら、表示装置の狭額縁化や高精細化に伴い、マークの配置が困難となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−１８２１７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本実施形態の目的は、歩留りを向上することができる表示装置及び表示パネルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
一実施形態によれば、  
表示領域と、前記表示領域を囲む非表示領域と、前記非表示領域に位置する第１遮光層を備える表示パネルと、平面部と曲面部とを有し、前記平面部及び前記曲面部において前記表示パネルと接着されたカバー部材と、を備え、前記第１遮光層は、前記平面部と重なる開口を有している、表示装置が提供される。
【０００７】
一実施形態によれば、  
平面部と、曲面部と、前記平面部及び曲面部に位置する表示領域と、前記表示領域を囲む非表示領域と、前記非表示領域に位置する第１遮光層と、を備え、前記第１遮光層は、前記平面部に位置する第１開口を有している、表示パネルが提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】図１は、本実施形態に係る表示装置ＤＳＰの構成例を示す斜視図である。
【図２】図２は、表示装置ＤＳＰの製造方法の一例を示す図である。
【図３】図３は、図１に示す表示パネルＰＮＬの構成例を示す平面図である。
【図４】図４は、図３に示す表示領域ＤＡの構成例を示す断面図である。
【図５】図５は、図４に示す画素電極ＰＥに接続されるスイッチング素子ＳＷの構成例を示す断面図である。
【図６】図６は、図３に示す開口ＯＰ２の近傍の構成例を示す平面図である。
【図７】図７は、図６に示すＡ−Ｂ線に沿った断面図である。
【図８】図８は、図３に示す開口ＯＰ４の近傍の構成例を示す平面図である。
【図９】図９は、開口ＯＰ４の他の構成例を示す平面図である。
【図１０】図１０は、図９に示すＣ−Ｄ線に沿った断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。
【００１０】
図１は、本実施形態に係る表示装置ＤＳＰの構成例を示す斜視図である。本実施形態において、表示装置ＤＳＰは、一例として、液晶層を有する液晶表示装置である。しかしながら、表示装置ＤＳＰは、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子を有する有機ＥＬ表示装置、あるいは電気泳動型素子等を有する電子ペーパー型表示装置等、他の表示装置であってもよい。
【００１１】
図１は、第１方向Ｘと、第１方向Ｘに垂直な第２方向Ｙと、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙに垂直な第３方向Ｚによって規定される三次元空間を示している。なお、第１方向Ｘと第２方向Ｙとは、９０度以外の角度で交差していてもよい。本実施形態において、第３方向Ｚを上と定義し、第３方向Ｚと反対側の方向を下と定義する。また、第３方向Ｙに沿って見ることを平面視と称する。
【００１２】
表示装置ＤＳＰは、表示パネルＰＮＬとカバー部材ＣＧとを備えている。表示パネルＰＮＬとカバー部材ＣＧとは、第３方向Ｚに対向し、透明な接着剤によって貼り合わされている。図示した例では、表示パネルＰＮＬの端部とカバー部材ＣＧの端部とはほぼ揃っている。一例では、表示装置ＤＳＰは、略矩形状であり、第１方向Ｘに沿って延出した端部ＥＸ１及びＥＸ２と、第２方向Ｙに沿って延出した端部ＥＹ１及びＥＹ２とを有している。
【００１３】
本実施形態において、表示装置ＤＳＰは、端部ＥＹ１及びＥＹ２の近傍において湾曲している。具体的には、カバー部材ＣＧは、曲面状の曲面部Ｃ１ａ及びＣ１ｂと、平面状の平面部Ｆ１とを有している。曲面部Ｃ１ａ及びＣ１ｂは、端部ＥＹ１及びＥＹ２に沿って設けられている。曲面部Ｃ１ａ及びＣ１ｂは、第２方向Ｙに沿った軸を中心として、表示パネルＰＮＬ側へ湾曲している。換言すると、曲面部Ｃ１ａ及びＣ１ｂの母線は、第２方向Ｙと平行である。平面部Ｆ１は、曲面部Ｃ１ａと曲面部Ｃ１ｂとの間に位置している。すなわち、平面部Ｆ１と曲面部Ｃ１ａ及びＣ１ｂとは、第１方向Ｘに沿って並んでいる。平面部Ｆ１は、一例では、Ｘ−Ｙ平面と平行であり、矩形状である。図示した例では、平面部Ｆ１と曲面部Ｃ１ａ及びＣ１ｂとは、端部ＥＸ１から端部ＥＸ２に亘って位置している。
【００１４】
表示パネルＰＮＬは、可撓性を有している。表示パネルＰＮＬは、カバー部材ＣＧに沿って配置され、カバー部材ＣＧと同様の形状に保たれている。具体的には、表示パネルＰＮＬは、曲面部Ｃ１ａ及びＣ１ｂに沿って湾曲された曲面部Ｃ２ａ及びＣ２ｂと、平面部Ｆ１と対向する平面部Ｆ２と、を有している。
【００１５】
表示パネルＰＮＬは、表示領域ＤＡと、非表示領域ＮＤＡを有している。表示領域ＤＡは、画像を表示する領域である。非表示領域ＮＤＡは、表示領域ＤＡを囲む額縁状の領域である。図示した例では、表示領域ＤＡは、平面部Ｆ２に位置するとともに、一部が曲面部Ｃ２ａ及びＣ２ｂにも位置している。
【００１６】
表示パネルＰＮＬは、図において右下がりの斜線で示すように、非表示領域ＮＤＡに位置する遮光層ＢＭを備えている。本実施形態において、遮光層ＢＭは、平面部Ｆ１と重なる開口ＯＰ１、ＯＰ２、ＯＰ３、及びＯＰ４を有している。開口ＯＰ１と開口ＯＰ２、及び開口ＯＰ３と開口ＯＰ４は、それぞれ第１方向Ｘに沿って並んでいる。開口ＯＰ１及びＯＰ２は、端部ＥＸ１側に位置し、開口ＯＰ３及びＯＰ４は、端部ＥＸ２側に位置している。また、開口ＯＰ１及びＯＰ３は、平面視で平面部Ｆ１と曲面部Ｃ１ａとの境界Ｂ１の近傍に位置している。開口ＯＰ２及びＯＰ４は、平面視で平面部Ｆ１と曲面部Ｃ１ｂとの境界Ｂ２の近傍に位置している。なお、図示した例では、開口ＯＰ１、ＯＰ２、ＯＰ３、及びＯＰ４は、矩形状であるが、円形状、十字状等の他の形状であってもよい。
【００１７】
一例では、カバー部材ＣＧは、図において右上がりの斜線で示したように、遮光層ＬＳを備えている。なお、図中で斜線がクロスする領域は、遮光層ＢＭ及びＬＳが重なる領域に相当する。遮光層ＬＳは、端部ＥＸ１及びＥＸ２に沿って設けられ、曲面部Ｃ１ａ、平面部Ｆ１、及び曲面部Ｃ１ｂに亘って位置している。開口ＯＰ１、ＯＰ２、ＯＰ３、及びＯＰ４は、そのすべてが遮光層ＬＳと重なっている。これにより、表示パネルＰＮＬ側からカバー部材ＣＧ側へ向かって開口ＯＰ１、ＯＰ２、ＯＰ３、及びＯＰ４を通り抜ける光を遮光することができる。
【００１８】
なお、図示した例では、遮光層ＢＭは、４つの開口ＯＰ１、ＯＰ２、ＯＰ３、及びＯＰ４を有しているが、遮光層ＢＭは、少なくとも２つの開口を有していればよい。
【００１９】
次に、図２を参照して、表示装置ＤＳＰの製造方法について説明する。
【００２０】
まず、図２（ａ）に示すように、表示パネルＰＮＬが支持体５０に固定される。支持体５０は、Ｘ−Ｙ平面と平行な平面部Ｆ３と、平面部Ｆ３の両端に位置する曲面部Ｃ３ａ及びＣ３ｂとを有している。曲面部Ｃ３ａ及びＣ３ｂは、下側に向ってそれぞれ湾曲している。ここで、曲面部Ｃ３ａ及びＣ３ｂの曲率は、後述するカバー部材ＣＧの曲面部Ｃ１ａ及びＣ１ｂの曲率とほぼ等しい。
【００２１】
表示パネルＰＮＬは、曲面部Ｃ３ａ、平面部Ｆ３、及びＣ３ｂに亘って位置し、支持体５０側の全面が支持体５０と接するように固定される。すなわち、表示パネルＰＮＬは、支持体５０の形状に倣った形状で固定される。これにより、表示パネルＰＮＬに、平面部Ｆ３と対向する平面部Ｆ２と、曲面部Ｃ３ａ及びＣ３ｂと対向する曲面部Ｃ２ａ及びＣ２ｂとが形成される。このとき、表示パネルＰＮＬは、開口ＯＰ１及びＯＰ２が平面部Ｆ２に位置するように配置される。図示した例では、表示パネルＰＮＬのうち、曲面部Ｃ３ａに接する面積と曲面部Ｃ３ｂに接する面積とは、ほぼ等しい。
【００２２】
次に、図２（ｂ）に示すように、表示パネルＰＮＬとカバー部材ＣＧとの位置合わせ（アライメント）が行われる。まず、例えばカメラ６０を用いて開口ＯＰ１及びＯＰ２を検出することで、表示パネルＰＮＬの位置が検出される。ここで、開口ＯＰ１及びＯＰ２は、一例では、反射光によって検出される。例えば、開口ＯＰ１及びＯＰ２内には、後述するように金属材料からなる配線が位置している。カメラ６０は、このような配線によって反射された光を検出することで、開口ＯＰ１及びＯＰ２を検出する。
【００２３】
続いて、検出結果に基づいて、支持体５０又はカバー部材ＣＧが所定位置まで移動される。ここで、所定位置とは、表示パネルＰＮＬとカバー部材ＣＧとが対向し、表示パネルＰＮＬとカバー部材ＣＧとの貼り合わせが可能になる位置に相当する。続いて、表示パネルＰＮＬに接着剤が塗布された後、支持体５０がカバー部材ＣＧへ向かって近接される。このとき、表示パネルＰＮＬは、曲面部Ｃ１ａ及びＣ１ｂと同様の形状の曲面部Ｃ２ａ及びＣ２ｂを有しているため、表示パネルＰＮＬの一部とカバー部材ＣＧの一部とが干渉することなく、表示パネルＰＮＬとカバー部材ＣＧとを近接することができる。
【００２４】
次に、図２（ｃ）に示すように、表示パネルＰＮＬが、カバー部材ＣＧと接触するまで近接され、接着される。図示した例では、表示パネルＰＮＬのカバー部材ＣＧと対向する側の全面に接着剤４０が設けられている。その後、支持体５０が表示パネルＰＮＬから離間され、図１に示す表示装置ＤＳＰが形成される。
【００２５】
なお、上記の例では、表示パネルＰＮＬとカバー部材ＣＧとの位置合わせの際に、開口ＯＰ１及びＯＰ２が用いられたが、開口ＯＰ１及びＯＰ２は、表示パネルＰＮＬを支持体５０に固定する際の位置合わせに用いることもできる。
【００２６】
次に、図３乃至図１０を参照して、表示装置ＤＳＰの各構成について説明する。
【００２７】
図３は、図１に示す表示パネルＰＮＬの構成例を示す平面図である。図３は、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙによって規定されるＸ−Ｙ平面に平行な面を示している。図示した例では、曲面部Ｃ２ａ、平面部Ｆ２、及び曲面部Ｃ２ｂは、この順で第１方向Ｘに沿って並んでいる。開口ＯＰ１、ＯＰ２、ＯＰ３、及びＯＰ４は、いずれも平面部Ｆ２に位置している。
【００２８】
表示パネルＰＮＬは、一例では、照明装置からの光を選択的に透過させることで画像を表示する透過型である。なお、表示パネルＰＮＬは、外光あるいは照明装置からの光を選択的に反射させることで画像を表示させる反射型であってもよいし、透過型及び反射型の双方の表示機能を備えた半透過型であってもよい。
【００２９】
表示パネルＰＮＬは、第１基板ＳＵＢ１と、第２基板ＳＵＢ２とを備えている。第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２とは、第３方向Ｚに対向している。第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２とは、図において右上がりの斜線で示すように、非表示領域ＮＤＡに設けられたシールＳＥによって接着されている。第１基板ＳＵＢ１は、第２基板ＳＵＢ２より第２方向Ｙに沿って延出した実装部ＭＴを備えている。実装部ＭＴは、端部ＥＸ１に沿って設けられ、表示パネルＰＮＬを外部装置等と電気的に接続するための端子ＴＥを含んでいる。図示した例では、端子ＴＥは、実装部ＭＴのうち、平面部Ｆ２に位置している。第２基板ＳＵＢ２は、図において右下がりの斜線で示すように、遮光層ＢＭを備えている。遮光層ＢＭは、ほぼシールＳＥと重なる領域に設けられている。なお、図中で斜線がクロスする領域は、シールＳＥ及び遮光層ＢＭが重なる領域に相当する。
【００３０】
表示パネルＰＮＬは、表示領域ＤＡにおいて、複数の走査線Ｇ、複数の信号線Ｓなどを備えている。また、表示パネルＰＮＬは、表示領域ＤＡにおいて、走査線Ｇ及び信号線Ｓと電気的に接続された複数の画素ＰＸを備えている。ここで、画素ＰＸとは、画素信号に応じて個別に制御することができる最小単位に相当し、後述するように、画素電極、共通電極、液晶層、及びスイッチング素子などを備えている。図示した例では、画素ＰＸは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙに沿ってマトリクス状に配置されている。
【００３１】
一例では、表示領域ＤＡに配置された走査線Ｇ、信号線Ｓなどは、配線ＷＬとして表示領域ＤＡから実装部ＭＴまで引き出され、端子ＴＥと電気的に接続されている。図示した例では、開口ＯＰ１及びＯＰ２は、開口ＯＰ３及びＯＰ４よりも実装部ＭＴに近接し、これらの複数の配線ＷＬと重なっている。一方、開口ＯＰ３及びＯＰ４は、表示領域ＤＡを間に挟み開口ＯＰ１及びＯＰ２と反対側に位置し、配線ＷＬと重なっていない。図示した例では、開口ＯＰ１と開口ＯＰ３、及び開口ＯＰ２と開口ＯＰ４は、第２方向Ｙに沿って並んでいる。図示した例では、開口ＯＰ１及びＯＰ２と重なる配線ＷＬは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙと交差する方向に延出している。
【００３２】
図４は、図３に示す表示領域ＤＡの構成例を示す断面図である。ここでは、表示装置ＤＳＰを第３方向Ｚに沿って切断した断面図を示す。図示した表示パネルＰＮＬは、主として基板主面にほぼ平行な横電界を利用する表示モードに対応した構成を有している。なお、ここでの基板主面とは、Ｘ−Ｙ平面と平行な面である。
【００３３】
第１基板ＳＵＢ１は、基体１０、信号線Ｓ、共通電極ＣＥ、金属層ＭＬ、画素電極ＰＥ、第１絶縁層１１、第２絶縁層１２、第３絶縁層１３、第１配向膜ＡＬ１などを備えている。基体１０は、例えばポリイミド等の有機材料によって形成されている。基体１０は、第２基板ＳＵＢ２と対向する第１面１０Ａと、第１面１０Ａと反対側の第２面１０Ｂとを有している。なお、ここでは、スイッチング素子や走査線、これらの間に介在する各種絶縁層等の図示を省略している。
【００３４】
第１絶縁層１１は、基体１０の上、すなわち第１面１０Ａ側に位置している。図示しない走査線やスイッチング素子の半導体層は、基体１０と第１絶縁層１１の間に位置している。信号線Ｓは、第１絶縁層１１の上に位置している。第２絶縁層１２は、信号線Ｓ、及び、第１絶縁層１１の上に位置している。共通電極ＣＥは、第２絶縁層１２の上に位置している。金属層ＭＬは、信号線Ｓの直上において共通電極ＣＥに接触している。図示した例では、金属層ＭＬは、共通電極ＣＥの上に位置しているが、共通電極ＣＥと第２絶縁層１２との間に位置していてもよい。第３絶縁層１３は、共通電極ＣＥ、及び、金属層ＭＬの上に位置している。画素電極ＰＥは、第３絶縁層１３の上に位置している。画素電極ＰＥは、第３絶縁層１３を介して共通電極ＣＥと対向している。また、画素電極ＰＥは、共通電極ＣＥと対向する位置にスリットＳＴを有している。第１配向膜ＡＬ１は、画素電極ＰＥ及び第３絶縁層１３を覆っている。
【００３５】
走査線、信号線Ｓ、及び、金属層ＭＬは、モリブデン、タングステン、チタン、アルミニウムなどの金属材料によって形成され、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。共通電極ＣＥ及び画素電極ＰＥは、ＩＴＯやＩＺＯなどの透明な導電材料によって形成されている。第１絶縁層１１及び第３絶縁層１３は無機絶縁層であり、第２絶縁層１２は有機絶縁層である。
【００３６】
なお、第１基板ＳＵＢ１の構成は、図示した例に限らず、画素電極ＰＥが第２絶縁層１２と第３絶縁層１３との間に位置し、共通電極ＣＥが第３絶縁層１３と第１配向膜ＡＬ１との間に位置していてもよい。このような場合、画素電極ＰＥはスリットを有していない平板状に形成され、共通電極ＣＥは画素電極ＰＥと対向するスリットを有する。また、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの双方が櫛歯状に形成され、互いに噛み合うように配置されていてもよい。
【００３７】
第２基板ＳＵＢ２は、基体２０、遮光層ＢＭ、カラーフィルタＣＦ、オーバーコート層ＯＣ、第２配向膜ＡＬ２などを備えている。基体２０は、例えばポリイミド等の有機材料によって形成されている。基体２０は、第１基板ＳＵＢ１と対向する第１面２０Ａと、第１面２０Ａと反対側の第２面２０Ｂとを有している。
【００３８】
遮光層ＢＭ及びカラーフィルタＣＦは、基体２０の第１面２０Ａ側に位置している。遮光層ＢＭは、各画素ＰＸを区画する。図示した例では、遮光層ＢＭは、信号線Ｓの直上に位置している。カラーフィルタＣＦは、画素電極ＰＥと対向し、その一部が遮光層ＢＭに重なっている。カラーフィルタＣＦは、赤色カラーフィルタ、緑色カラーフィルタ、青色カラーフィルタなどを含む。オーバーコート層ＯＣは、カラーフィルタＣＦを覆っている。第２配向膜ＡＬ２は、オーバーコート層ＯＣを覆っている。
【００３９】
なお、カラーフィルタＣＦは、第１基板ＳＵＢ１に配置されてもよい。カラーフィルタＣＦは、４色以上のカラーフィルタを含んでいてもよい。白色を表示する画素には、白色のカラーフィルタが配置されてもよいし、無着色の樹脂材料が配置されてもよいし、カラーフィルタを配置せずにオーバーコート層ＯＣを配置してもよい。また、遮光層ＢＭは、オーバーコート層ＯＣ上に形成してもよい。
【００４０】
第１偏光板ＰＬ１を含む第１光学素子ＯＤ１は、第２面１０Ｂ側、すなわち基体１０と照明装置ＢＬとの間に位置している。第２偏光板ＰＬ２を含む第２光学素子ＯＤ２は、第２面２０Ｂ側に位置している。第１光学素子ＯＤ１及び第２光学素子ＯＤ２は、必要に応じて位相差板を含んでいてもよい。
【００４１】
なお、表示パネルＰＮＬは、基板主面に対して垂直な縦電界や、基板主面に対して斜め方向の電界、或いは、それらを組み合わせて利用する表示モードに対応した構成を有していてもよい。縦電界や斜め電界を利用する表示モードでは、例えば、基板ＳＵＢ１に画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥのいずれか一方が備えられ、基板ＳＵＢ２に画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥのいずれか他方が備えられた構成が適用可能である。
【００４２】
図５は、図４に示す画素電極ＰＥに接続されるスイッチング素子ＳＷの構成例を示す断面図である。図５は、第１基板ＳＵＢ１のみを示している。
【００４３】
第１基板ＳＵＢ１は、基体１０と第２絶縁層１２との間に、スイッチング素子ＳＷと、絶縁層１１１、１１２、１１３、及び１１４とを備えている。絶縁層１１１、１１２、１１３、及び１１４は、図３に示す第１絶縁層１１に相当する。一例では、スイッチング素子ＳＷは、シングルゲート型の薄膜トランジスタであるが、ダブルゲート型の薄膜トランジスタであってもよい。
【００４４】
スイッチング素子ＳＷは、半導体層ＳＣ、ゲート電極ＧＥ、ソース電極ＳＥ、及びドレイン電極ＤＥを備えている。図示した例では、ゲート電極ＧＥの直下に、遮光層ＳＭが設けられている。遮光層ＳＭは、照明装置ＢＬから半導体層ＳＣに向かう光を遮光する。遮光層ＳＭは、例えばチタンなどの金属材料によって形成されている。なお、遮光層ＳＭは、省略されてもよい。
【００４５】
絶縁層１１１は、基体１０と接している。遮光層ＳＭは、絶縁層１１１の上に位置し、絶縁層１１２によって覆われている。半導体層ＳＣは、絶縁層１１２の上に位置し、絶縁層１１３によって覆われている。ゲート電極ＧＥは、絶縁層１１３の上に位置し、絶縁層１１４によって覆われている。図示した例では、ゲート電極ＧＥは、遮光層ＳＭの直上に位置している。ゲート電極ＧＥは、図２に示す走査線Ｇと電気的に接続されている。ソース電極ＳＥ及びドレイン電極ＤＥは、絶縁層１１４の上に位置し、第２絶縁層１２によって覆われている。ソース電極ＳＥ及びドレイン電極ＤＥは、絶縁層１１４及び１１３に設けられたコンタクトホールＣＨ１及びＣＨ２において、半導体層ＳＣとそれぞれ接している。ソース電極ＳＥは、図２及び図３に示す信号線Ｓと電気的に接続されている。ドレイン電極ＤＥは、第２絶縁層１２及び第３絶縁層１３に設けられたコンタクトホールＣＨ３において、画素電極ＰＥと接している。これにより、スイッチング素子ＳＷと画素電極ＰＥとが電気的に接続される。
【００４６】
図６は、図３に示す開口ＯＰ２近傍の構成例を示す平面図である。
【００４７】
一例では、開口ＯＰ２は、正方形状である。開口ＯＰ２の４つの辺は、いずれも第１方向Ｘ及び第２方向Ｙから傾いている。図示した例では、開口ＯＰ２の頂点Ｖ１と頂点Ｖ３とは、第２方向Ｙに沿って並び、頂点Ｖ２と頂点Ｖ４とは、第１方向Ｘに沿って並んでいる。一例では、頂点Ｖ１と頂点Ｖ３との距離Ｌ１、及び頂点Ｖ２と頂点Ｖ４との距離Ｌ２は、約０．２ｍｍである。
【００４８】
開口ＯＰ２は、第１金属層としての複数の配線ＷＬと重なっている。配線ＷＬは、一例では、非表示領域ＮＤＡまで引き出された信号線Ｓである。なお、配線ＷＬは、非表示領域ＮＤＡまで引き出された走査線Ｇであってもよい。配線ＷＬは、ほぼ一定の幅Ｗ１を有する帯状に形成され、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙと交差する方向に沿って延出している。図示した例では、配線ＷＬは、開口ＯＰ２の各辺とも交差している。図示した例では、隣り合う２本の配線ＷＬの間隔Ｄ１は、幅Ｗ１とほぼ等しい。ここで、幅Ｗ１及び間隔Ｄ１は、配線ＷＬの延出方向と直交する方向に沿った長さに相当する。
【００４９】
本実施形態において、幅Ｗ１は、間隔Ｄ１以上であることが望ましい。幅Ｗ１を間隔Ｄ１以上にすることで、開口ＯＰ２において、配線ＷＬによって反射される光の割合を増加することができる。したがって、例えば図２（ｂ）に示す表示パネルＰＮＬの位置合わせの際に、開口ＯＰ２の視認性が向上する。なお、図示は省略するが、開口ＯＰ１の構成は、開口ＯＰ１と重なる配線ＷＬの延出方向を除き、開口ＯＰ２の構成と同様である。
【００５０】
図７は、図６に示すＡ−Ｂ線に沿った断面図である。
【００５１】
第１基板ＳＵＢ１は、基体１０、第１絶縁層１１、第２絶縁層１２、第１配向膜ＡＬ１、及び配線ＷＬを備えている。配線ＷＬは、一例では、基体１０と第２絶縁層１２との間に位置している。図示した例では、配線ＷＬは、第１絶縁層１１の上に位置している。このような配線ＷＬは、例えば図４に示す信号線Ｓと同時に形成することができる。図示した例では、第２面１０Ｂに、第１光学素子ＯＤ１が接着されている。
【００５２】
第２基板ＳＵＢ２は、基体２０、遮光層ＢＭ、オーバーコート層ＯＣ、及び第２配向膜ＡＬ２を備えている。図示した例では、オーバーコート層ＯＣは、開口ＯＰ２内にも位置し、基体２０と接している。第２基板ＳＵＢ２は、第１基板ＳＵＢ１とカバー部材ＣＧとの間に位置している。図示した例では、第２面２０Ｂに、第２光学素子ＯＤ２が接着されている。第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２とは、シールＳＥによって接着されている。
【００５３】
カバー部材ＣＧは、基体３０と、遮光層ＬＳとを備えている。基体３０は、ガラス又は樹脂等の透明な絶縁材料によって形成されている。基体３０は、第２基板ＳＵＢ２と対向する内面３０Ａを有している。遮光層ＬＳは、例えば黒色の樹脂であり、基体３０の内面３０Ａに設けられている。カバー部材ＣＧは、接着剤４０によって、第２基板ＳＵＢ２と接着されている。図示した例では、接着剤４０は、遮光層ＬＳと第２光学素子ＯＤ２とに接している。
【００５４】
なお、配線ＷＬは、図５に示すゲート電極ＧＥ又は遮光層ＳＭと同時に形成されてもよく、図４に示す金属層ＭＬと同時に形成されてもよい。配線ＷＬがゲート電極ＧＥ又は遮光層ＬＳと同時に形成される場合、配線ＷＬは、基体１０と第２絶縁層１２との間に位置する。一方、配線ＷＬが金属層ＭＬと同時に形成される場合、配線ＷＬは、第２絶縁層１２とシールＳＥとの間に位置する。
【００５５】
図８は、図３に示す開口ＯＰ４近傍の構成例を示す平面図である。なお、図示は省略するが、開口ＯＰ３の構成は、開口ＯＰ４と同様である。
【００５６】
開口ＯＰ４は、金属層Ｍ１と重なっている。金属層Ｍ１は、四角形状であり、一例では、正方形状である。図示した例では、金属層Ｍ１は、第１方向Ｘに沿って延出した辺Ｓ１及びＳ２と、第２方向Ｙに沿って延出したＳ３及びＳ４とを有している。一例では、辺Ｓ１の長さＬＭ１は、距離Ｌ１及びＬ２より大きい。開口ＯＰ４は、そのすべてが金属層Ｍ１と重なっている。しかしながら、金属層Ｍ１と開口ＯＰ４とは少なくとも部分的に重なっていればよく、長さＬＭ１は、距離Ｌ１及びＬ２と同等以下でもよい。このような金属層Ｍ１は、第１基板ＳＵＢ１に設けられ、上述の信号線Ｓ、走査線Ｇ、遮光層ＳＭ、及び金属層ＭＬのいずれかと同時に形成することができる。一例では、金属層Ｍ１は、電気的にフローティング状態である。しかしながら、金属層Ｍ１は、例えばいずれかの配線ＷＬと電気的に接続されていてもよい。
【００５７】
図示した例では、頂点Ｖ３側（すなわち表示領域ＤＡ側）に、第１方向Ｘに沿って延出した複数の配線ＷＬが配置されている。配線ＷＬは、金属層Ｍ１及び開口ＯＰ４と重なっていない。辺Ｓ２は、頂点Ｖ３と配線ＷＬとの間に位置している。なお、開口ＯＰ４は、これらの配線ＷＬと重なっていてもよい。
【００５８】
なお、上記の説明では、反射光によって開口ＯＰ４を検出する場合を例としているが、例えば支持体５０が光透過性を有している場合、又は開口ＯＰ４と支持体５０とが重なっていない場合などは、開口ＯＰ４は、透過光によって検出されてもよい。開口ＯＰ４を透過する透過光によって開口ＯＰ４を視認する場合は、金属層Ｍ１は、省略される。
【００５９】
本実施形態によれば、表示パネルＰＮＬの平面部Ｆ２に位置合わせ用のマークとして開口ＯＰ１乃至ＯＰ４が形成されている。したがって、曲面部Ｃ１ａ及びＣ１ｂを有するカバー部材ＣＧと、曲面部Ｃ２ａ及びＣ２ｂ有する表示パネルＰＮＬとを貼り合わせる場合であっても、平面部Ｆ２に位置する開口ＯＰ１乃至ＯＰ４を検出することで、表示パネルＰＮＬとカバー部材ＣＧとの位置合わせが可能になる。さらに、開口ＯＰ１乃至ＯＰ４は、第２基板ＳＵＢ２に設けられた遮光層ＢＭに形成されている。したがって、第１基板ＳＵＢ１における配線ＷＬ等の配置に依存することなく、開口ＯＰ１乃至ＯＰ４の配置及び形状を任意に変更することができる。
【００６０】
開口ＯＰ１及びＯＰ２は、金属材料からなる複数の配線ＷＬと重なっている。したがって、カバー部材ＣＧ側から表示パネルＰＮＬを視認する際に、開口ＯＰ１及びＯＰ２において、配線ＷＬによって光が反射されることで、開口ＯＰ１及びＯＰ２の視認性が向上する。このような構成は、新たな反射層を追加することなく、既存の配線ＷＬを反射層として利用しているため、表示装置ＤＳＰの狭額縁化に好適である。また、開口ＯＰ３及びＯＰ４は、配線ＷＬと重なっていないが、図８に示すように、開口ＯＰ３及びＯＰ４とそれぞれ重なる金属層Ｍ１を設けることで、開口ＯＰ３及びＯＰ４の視認性を向上することができる。
【００６１】
したがって、本実施形態によれば、第１基板ＳＵＢ１のレイアウトを変更することなく、位置合わせ用の開口ＯＰ１、ＯＰ２、ＯＰ３及びＯＰ４の視認性を向上し、位置合わせの精度を向上することができ、結果として表示装置ＤＳＰの歩留りを向上することができる。
【００６２】
図９は、開口ＯＰ４の他の構成例を示す平面図である。図９に示す構成例は、開口ＯＰ４と重なる複数の金属層Ｍ２がさらに設けられている点で、図８に示す構成例と相違している。図示した例では、金属層Ｍ１は、単一部材からなり、金属層Ｍ２は、複数の部材からなる。
【００６３】
金属層Ｍ２は、一定の幅Ｗ２を有する帯状に形成されている。金属層Ｍ２は、開口ＯＰ４の辺Ｓ５と平行な方向に延出し、辺Ｓ５と直交する辺Ｓ６と平行な方向に沿って並んでいる。図示した例では、金属層Ｍ２の延出方向に沿った長さＬＭ２は、辺Ｓ５の長さＬＳ５とほぼ等しい。また、図示した例では、隣り合う金属層Ｍ２の間隔Ｄ２は、幅Ｗ２と等しいが、異なっていてもよい。なお、幅Ｗ２及び間隔Ｄ２は、金属層Ｍ２の延出方向と直交する方向、すなわち辺Ｓ６と平行な方向に沿った長さに相当する。一例では、金属層Ｍ２は、金属層Ｍ１と電気的に絶縁されているが、電気的に接続されていてもよい。
【００６４】
図１０は、図９に示すＣ−Ｄ線に沿った断面図である。
【００６５】
第１基板ＳＵＢ１は、基体１０、絶縁層１１１、１１２、１１３、及び１１４、第２絶縁層１２、第１配向膜ＡＬ１、金属層Ｍ１及びＭ２を備えている。一例では、金属層Ｍ１は、絶縁層１１３と絶縁層１１４との間に形成されている。このような金属層Ｍ１は、例えば図５に示すゲート電極ＧＥと同時に形成することができる。金属層Ｍ２は、絶縁層１１４の上に形成され、第２絶縁層１２によって覆われている。図示した例では、第２絶縁層１２は、金属層Ｍ２に接するとともに、絶縁層１１４とも接している。このような金属層Ｍ２は、図５に示すソース電極ＳＥと同時に形成することができる。
【００６６】
なお、図示した例では、第１金属層Ｍ１と第２金属層Ｍ２とは、電気的に絶縁されているが、絶縁層１１４が除去され、第１金属層Ｍ１と第２金属層Ｍ２とが電気的に接続されてもよい。また、絶縁層１１１、１１２、及び１１３は、省略されてもよい。その他の構成は、図７と同様であるため、説明を省略する。
【００６７】
なお、金属層Ｍ１は、例えば図５に示すソース電極ＳＥと同時に形成することもできる。この場合、金属層Ｍ２は、例えば金属層ＭＬと同時に形成することができる。
【００６８】
本構成例においても、図８に示す構成例と同様の効果を得ることができる。さらに、単一部材からなる金属層Ｍ１の上に、複数の部材からなる金属層Ｍ２が配置されているため、開口ＯＰ４の視認性がさらに向上する。
【００６９】
本実施形態において、第１遮光層は、遮光層ＢＭに相当し、第１金属層は、配線ＷＬ又は金属層Ｍ１に相当し、第２金属層は、金属層Ｍ２に相当し、第２遮光層は、遮光層ＬＳに相当する。また、第１開口は、開口ＯＰ２に相当し、第２開口は、開口ＯＰ４に相当する。
【００７０】
以上、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００７１】
１０，２０…基体、１１…第１絶縁層、１２…第２絶縁層、１３…第３絶縁層、１１１，１１２，１１３，１１４…絶縁層、ＰＮＬ…表示パネル、ＬＣ…液晶層、ＳＥ…シール、ＢＭ…遮光層、ＯＰ１，ＯＰ２，ＯＰ３，ＯＰ４…開口、ＣＧ…カバー部材、ＬＳ…遮光層、ＷＬ…配線、Ｍ１，Ｍ２…金属層、Ｆ１，Ｆ２…平面部、Ｃ１ａ，Ｃ１ｂ，Ｃ２ａ，Ｃ２ｂ…曲面部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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