【事件の表示】
平成　６年特許願第　９１７８３号「液晶配向処理装置」拒絶査定に対する審判事件［　平成　７年１１月１０日出願公開、特開平　７−２９４９２８                        ］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
1.手続の経緯・本願発明
　本願は、平成６年４月２８日の出願であって、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成９年１１月４日、平成１０年１０月２２日付けの手続補正書によって補正された明細書及び図面の記載からみて、本願の特許請求の範囲の請求項１に記載されたとおりの次のものと認める。
「(a)上面に有機薄膜が形成された基板を支持し得るステージと、
　(b)ステージ上の基板の上面に平行でこれとの距離が変動可能に保持されたラビングローラと、
　(c)配向処理のために回転するラビングローラを基板に離接させ得るローラ駆動装置と、
　(d)配向処理位置の基板に軟Ｘ線を照射し得る第1の軟Ｘ線発生装置と、
　(e)配向処理位置から所定距離離れた基板取り出し位置に基板を移動させ得るステージ搬送装置と、
　(f)基板取り出し位置の基板をステージから取り外すための基板突き上げ部材と、
　(g)基板取り出し位置の基板に軟Ｘ線を照射し得る第2の軟Ｘ線発生装置、
とを具備することを特徴とする液晶配向処理装置。」
２．引用刊行物記載の発明
　ａ．これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された、本願の出願日前である、平成５年１２月７日に頒布された「特開平５−３２３３２２号公報」（以下「引用刊行物１」という。）には、次の事項が記載されている。
「【従来の技術】近年、平面型ディスプレイとして液晶表示素子が様々な分野で広範囲に使用されている。液晶表示素子は薄型・軽量、低消費電力、カラー化も容易などの理由により電卓、ウオッチなどから商品化されはじめ、最近ではワープロやパソコン用のディスプレイとして対角10インチ程度の大型のものまで商品化され、ブラウン管のテレビに代わる本命と目されている。
【０００３】これらの液晶表示素子は、通常ガラス基板の上に電極パターンを形成した後ポリイミド等の配向膜を形成し、この配向膜をラビングというバフ布が巻き付けられた回転ローラーで擦る工程を行い液晶の配向制御を行っている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このようなラビング処理を行うと、通常の場合配向膜と布の摩擦により静電気が発生する。電極パターンが粗い場合にはこのような静電気が発生しても特に問題はないが、最近のドットマトリックスのようにＩＴＯの電極パターンが非常に微細になってきたり、ＴＦＴやＭＩＭのような能動素子に用いられる細線の電極パターンの場合には、この静電気が放電して電極パターンやＴＦＴ、ＭＩＭ等の能動素子を静電破壊し大問題となっている。」（第２頁第１欄第２４行乃至第４５行）
「本発明は前述の課題を解決すべくなされたものであり、所定の電極パターンが形成された電極付きの基板をステージ上に配置してその表面をラビングすることにより配向制御を行うラビング装置において、ラビング後に基板上の電極パターンの一端あるいはその電極パターンに接続された専用のパッドをアースに接続された導体に接触させながら、基板をステージより引き離す機構を設けたことを特徴とするラビング装置、特に、その基板をラビングする手段と基板との接触部近傍に、ラビングにより発生した電荷を除去するイオナイザーを設けたラビング装置を提供するものである。
【０００７】また、少なくとも一方の電極付きの基板を上記のラビング装置でラビングすることにより配向制御し、２枚の電極付きの基板を組み合わせて、両基板間に液晶層を挟持してなることを特徴とする液晶表示素子を提供するものである。
【０００８】以下図面により詳細な説明を行う。図１は本発明によるラビング装置の概念図を示したものである。図において、1は基板を置くステージ、 2はラビング布を巻き付けたローラー、 3はラビング中の静電気を除去するイオナイザー、 4は電極付きの基板、 5はラビング後の基板をステージから引き上げるための取りはずし手段としてのピン、 6は基板を引き上げる時に電極の一端に接触するアースに接続された導体である探針、 7は放電の時間を制御する抵抗である。
【０００９】単純マトリックス用の電極付きの基板あるいはＴＦＴ、ＭＩＭ等能動素子を配置した能動素子基板を、ステージ 1上に配置し、ステージあるいは回転したラビング用のローラーを移動させてラビングを行う。このラビング中に発生した静電気は、必要ならば 3のイオナイザーでできる限り除去することが好ましい。ラビング後、基板を 5の基板引き上げ用のピンで、片方から引き上げる。この引き上げ前に、 6の放電用の探針を基板上の電極の一端あるいはその電極パターンに接続された専用のパッドに接触させることが本発明のキーポイントである。」（第２頁第２欄第６行乃至第４２行）
　この記載によると、引用刊行物１には
「基板を置くステージ、 ラビング布を巻き付けたローラー、 ラビング中の静電気を除去するイオナイザー、電極パターンを形成した後ポリイミド等の配向膜を形成した基板、 ラビング後の基板をステージから引き上げるための取りはずし手段としてのピン、 基板を引き上げる時に電極の一端に接触するアースに接続された導体である探針を有し、回転したローラを移動し基板の表面をラビングすることにより液晶の配向制御を行うラビング装置。 」（以下「引用刊行物１記載の発明」という。）が記載されているものと認められる。
　ｂ．原査定の拒絶の理由に引用された、本願の出願日前である、平成６年３月３日に頒布された「国際公開第９４／０５１３８号パンフレット（１９９４）」（以下「引用刊行物２」という。）には、次の事項が記載されている。
　「本発明の第1の要旨は、加圧、大気圧又は減圧下にある空気に軟Ｘ線領域の電磁波を照射することにより、該空気中に正イオン並びに負イオン及び/又は電子を生成するようにしたことを特徴とする正負の電荷を発生するＸ線を用いた気体イオン発生装置に存在する(請求項1)。」（第５頁第１６行乃至第１９行）
「本発明の第8の要旨は、軟Ｘ線領域の電磁波を帯電物体の周辺の雰囲気空気に照射することにより、該雰囲気空気をイオン化させて正イオンと、負イオン及び/又は電子とを生成し、この生成された正イオンにより負電荷を、負イオン及び/又は電子により正電荷を中和することを特徴とする帯電物体の中和方法に存在する(請求項18)。」（第６頁第１４行乃至第１８行）
「本発明に係る気体イオン発生装置は、例えば、帯電物体の中和を目的とする場合に好適に適用される。また、中和以外の目的とする場合にも適用される。中和を目的とする場合は、例えば、クリーンルーム、ウエハ・液晶基体等、搬送装置、ウエット処理装置、イオン注入装置、プラズマ装置、イオンエッチング装置、電子ビーム装置、フィルム製造装置その他の帯電物体を取り扱う装置等に好適に適用できる。一方、各種目的をもって、例えば、建物、乗物(例えば、自動車、飛行機、電車等)等の居住室、あるいは植物栽培室等にも適用される。」（第７頁第２３行乃至第３０行）
　これらの記載によると、引用刊行物２には「軟Ｘ線領域の電磁波を帯電物体の周辺の雰囲気空気に照射することにより、該雰囲気空気をイオン化させて正イオンと、負イオン及び/又は電子とを生成し、この生成された正イオンにより負電荷を、負イオン及び/又は電子により正電荷を中和する目的で、クリーンルーム、ウエハ・液晶基体等、搬送装置、ウエット処理装置、イオン注入装置、プラズマ装置、イオンエッチング装置、電子ビーム装置、フィルム製造装置その他の帯電物体を取り扱う装置等に適用される、加圧、大気圧又は減圧下にある空気に軟Ｘ線領域の電磁波を照射することにより、該空気中に正イオン並びに負イオン及び/又は電子を生成するようにした正負の電荷を発生するＸ線を用いた気体イオン発生装置」（以下「引用刊行物２記載の発明」という。）が記載されているものと認められる。
３．対比
　本願発明と引用刊行物１記載の発明を対比すると、引用刊行物１記載の発明の「電極パターンを形成した後ポリイミド等の配向膜を形成した基板」、「ラビング布を巻き付けたローラー」、「ラビング後の基板をステージから引き上げるための取りはずし手段としてのピン」、「回転したローラを移動し基板の表面をラビングすることにより液晶の配向制御を行うラビング装置」はそれぞれ本願発明の「上面に有機薄膜が形成された基板」、「ステージ上の基板の上面に平行でこれとの距離が変動可能に保持されたラビングローラ」、「基板取り出し位置の基板をステージから取り外すための基板突き上げ部材」、「液晶配向処理装置」に相当し、引用刊行物１記載の発明における、「ラビング中の静電気を除去するイオナイザー」及び「電極の一端に接触するアースに接続された導体である探針」と、本願発明における「基板に軟Ｘ線を照射し得る第1の軟Ｘ線発生装置」及び「基板に軟Ｘ線を照射し得る第2の軟Ｘ線発生装置」とは、基板の静電気を除去する手段である点で共通するので、両者は、
「液晶配向処理装置」において「上面に有機薄膜が形成された基板を支持し得るステージと、ステージ上の基板の上面に平行でこれとの距離が変動可能に保持されたラビングローラと、配向処理のために回転するラビングローラを基板に離接させ得るローラ駆動装置と、配向処理位置の基板の静電気を除去する手段と、基板取り出し位置の基板をステージから取り外すための基板突き上げ部材と、基板取り出し位置の基板の静電気を除去する手段とを具備する」点において一致するが、
i．本願発明は、「配向処理位置から所定距離離れた基板取り出し位置に基板を移動させ得るステージ搬送装置」を有するものであるのに対して、引用刊行物１記載の発明は、配向処理位置から所定距離離れた基板取り出し位置に基板を移動させる手段について記載されていない点及び
ii．基板の静電気を除去する手段が、本願発明では、「配向処理位置の基板に軟Ｘ線を照射し得る第1の軟Ｘ線発生装置と、基板取り出し位置の基板に軟Ｘ線を照射し得る第2の軟Ｘ線発生装置」であるのに対して、引用刊行物１記載の発明では、配向処理位置に、「ラビング中の静電気を除去するイオナイザー」、基板取り出し位置に、「基板を引き上げる時に電極の一端に接触するアースに接続された導体である探針」を有するものである点で両者は相違する。
４．当審の判断
　上記相違点について検討する。
　相違点i．について
　「配向処理位置から所定距離離れた基板取り出し位置に基板を移動させ得る」手段としてステージ搬送装置は周知慣用であるので（例えば、特開平３−１７７８１８号公報参照）、引用刊行物１記載の発明を「配向処理位置から所定距離離れた基板取り出し位置に基板を移動させ得るステージ搬送装置」を有するものとすることに格別の困難性はない。
　相違点ii.について
　基板の静電気を除去する手段として、本願発明のごとき軟Ｘ線発生装置を使用することは引用刊行物２に記載されているように公知であり、引用刊行物１記載の発明の静電気を除去する手段として引用刊行物２記載の発明を採用して、引用刊行物１記載の発明を「配向処理位置の基板に軟Ｘ線を照射し得る第1の軟Ｘ線発生装置と、基板取り出し位置の基板に軟Ｘ線を照射し得る第2の軟Ｘ線発生装置」を有するものとすることに格別の困難性はない。
　また、配向処理位置及び基板取り出し位置に、基板の静電気を除去する手段として軟Ｘ線発生装置を使用することにより、格別の効果を奏するものとも認められない。
５．むすび
　したがって、本願発明は、引用刊行物１及び２記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるので、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることが出来ない。
　よって、結論のとおり審決する。