【手続補正書】
【提出日】平成27年4月17日(2015.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象物のある領域の画像を構築するための画像データを提供する方法（２００）であって、
少なくとも一つの検出器（４０）によって、所定のプローブ位置における入射放射または開口を使用して、対象物（３０）によって散乱される放射の少なくとも一部を検出する工程と、
前記プローブ位置と関連する誤差を減少させるためにオフセットベクトル（２０３）を決定する工程と、
前記プローブ位置に適用された前記オフセットベクトルを有するプローブ関数（２０１）に基づいて波面を推定する工程（２１０）と、
前記検出された放射に応じて画像データを提供する工程と、
を備える、
方法。
【請求項２】
前記プローブ位置に関連する現在の最善の誤差メトリックが改善される（２４３）とき、前記プローブ位置に関連する現在の最善のオフセットベクトルを更新する工程（２４２）を備える、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記現在の最善のオフセットベクトルを更新する工程（２４２）は、
前記推定された出射波と前記検出器によって検出された前記放射に対応する出射波との差に基づいて、前記オフセットベクトルに対する誤差メトリックを決定する工程（２４０）と、
前記オフセットベクトルに対する前記誤差メトリックと前記プローブ位置に対する現在の最善のオフセットベクトルに関連する前記現在の最善の誤差メトリックとを比較する工程（２４１）と、
を備える、
請求項２に記載の方法。
【請求項４】
複数のプローブ位置のそれぞれに対するオフセットベクトルを決定する工程を備える、
請求項１、２または３に記載の方法。
【請求項５】
前記オフセットベクトルは、少なくとも部分的にランダムに決定される、
請求項１から４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
複数のオフセットベクトルを決定する工程と、
それぞれが、前記プローブ位置に適用された前記オフセットベクトルのうち個別の一つを有する複数の波面を、プローブ関数に基づいて推定する工程と、
最も低い関連した誤差を有する前記複数のオフセットベクトルのうち、一つを選択する工程と、
を備える、
請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
前記複数のオフセットベクトルは、その方法の各反復時に決定される、
請求項６に記載の方法。
【請求項８】
複数のプローブ位置に関連する一以上の誤差を補正する一以上の全体的補正因子を決定する工程を備える、
請求項１から７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
全体的補正因子は、スケーリング、変動、および回転のうちの一以上を補正する、
請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記オフセットベクトル、または、各オフセットベクトルは、試行錯誤で決定される、
請求項１から９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
前記方法は、繰り返し実行され、前記オフセットベクトルは、前記方法の複数の反復の間に決定される、
請求項１から１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
前記オフセットベクトルは、前記方法の第１の反復時に、前記プローブ位置に適用される、または、前記オフセットベクトルは、前記方法の第２以降の反復時に、前記プローブ位置に初めて適用される、
請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記現在の最善のオフセットベクトルは、一つ以上の所定の基準に従って、関連する現在の最善の誤差メトリックを有するオフセットベクトルである、
請求項２に記載の方法。
【請求項１４】
前記一つ以上の所定の基準は、最も低い現在の最善の誤差メトリックを含む、
請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記オフセットベクトルは、前記方法の反復が増加するにつれて、前記ベクトルの大きさが減少するように、スケーリング因子に従って、少なくとも部分的に決定される、
請求項１１から１４のいずれかに記載の方法。
【請求項１６】
前記オフセットベクトルは、現在の最善の補正ベクトルに基づいて決定される、
請求項２に記載の方法。
【請求項１７】
前記オフセットベクトルＶは、下記の式に従って決定され、
2014517268.tif 000001
ここで、ＣＢＣは、前記プローブ位置に対する前記現在の最善のオフセットベクトルあり、randomxおよびrandomyはランダムに決定される座標である、
請求項２に記載の方法。
【請求項１８】
前記誤差メトリックＥは、下記の式に従って決定され、
2014517268.tif 000002
ここで、ψ’ｊは、Ｊ番目のプローブ位置に対して決定された出射波であり、Ｔは、前記出射波を前記検出器の平面に変換する変換であり、Ｉｊは、前記検出器の前記平面において測定された強度である、
請求項３に記載の方法。
【請求項１９】
対象物のある領域の画像を構築するための画像データを提供する装置であって、
所定のプローブ位置での前記入射放射または開口を使用して、対象物によって散乱される放射の強度を示すデータを格納するデータ格納手段（７３０）と、
前記プローブ位置に関連する誤差を減少させるためのオフセットベクトルを決定し、前記プローブ位置に適用された前記オフセットベクトルを有するプローブ関数に基づいて波面を推定し、前記検出された放射に応じて画像データを提供するように構成されている処理手段（７４０）と
を備える、
装置。
【請求項２０】
前記処理手段（７４０）は、前記プローブ位置に関連する現在の最善の誤差メトリックが改善されるとき、前記プローブ位置に関連する現在の最善のオフセットベクトルを更新するように構成されている、
請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】
前記処理手段は、
前記推定された出射波と、前記格納手段に保持された放射の強度を示す前記データに対応する出射波との差に基づいて、前記オフセットベクトルに対する誤差メトリックを決定し、前記オフセットベクトルに対する前記誤差メトリックと、前記プローブ位置に対する現在の最善のオフセットベクトルに関連する前記現在の最善の誤差メトリックとを比較するよう構成されている、
請求項２０に記載の装置。
【請求項２２】
前記処理手段が、複数のプローブ位置のそれぞれに対するオフセットベクトルを決定するように構成されている、
請求項１９、２０または２１に記載の装置。
【請求項２３】
複数のオフセットベクトルを決定する手段と、
それぞれが、前記プローブ位置に適用された前記オフセットベクトルのうち個別の一つを有する複数の波面を、プローブ関数に基づいて推定する手段と、
最も低い関連した誤差を有する前記複数のオフセットベクトルのうち、一つを選択する手段と、
を備える、
請求項１９から２２のいずれかに記載の装置。
【請求項２４】
複数のプローブ位置に関連する一以上の誤差を補正する一つ以上の全体的補正因子を決定する手段を備える、
請求項１９から２３のいずれかに記載の装置。
【請求項２５】
全体的補正因子は、スケーリング、変動、および回転のうちの一以上を補正する、
請求項２４に記載の装置。
【請求項２６】
前記オフセットベクトルは、少なくとも部分的にランダムに決定される、
請求項１９から２５のいずれかに記載の装置。
【請求項２７】
前記各手段による各処理は、繰り返し実行され、前記オフセットベクトルは、前記各処理の複数の反復のそれぞれの間に決定される、
請求項１９から２６のいずれかに記載の装置。
【請求項２８】
前記オフセットベクトルは、前記各処理の第１の反復時に、前記プローブ位置に適用される、または、前記オフセットベクトルは、前記各処理の第２以降の反復時に、前記プローブ位置に初めて適用される、
請求項２７に記載の装置。
【請求項２９】
前記現在の最善のオフセットベクトルは、一以上の所定の基準に従って、関連する現在の最善の誤差メトリックを有するオフセットベクトルである、
請求項２０に記載の装置。
【請求項３０】
前記一以上の所定の基準は、最も低い現在の最善の誤差メトリックを含む、
請求項２９に記載の装置。
【請求項３１】
前記オフセットベクトルは、前記各処理の反復が増加するにつれて、前記ベクトルの大きさが減少するように、スケーリング因子に従って、少なくとも部分的に決定される、
請求項１９から３０のいずれかに記載の装置。
【請求項３２】
コンピュータプログラムであって、コンピュータによって実行されたとき、請求項１から１８のいずれかに記載の前記方法を実行するよう構成されている、
コンピュータプログラム。
【請求項３３】
記録媒体に格納される、
請求項３２に記載のコンピュータプログラム。