【手続補正書】
【提出日】平成26年12月19日(2014.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射ビームをパターニングし、該放射ビームを基板上に投影するリソグラフィ装置であって、
各々が少なくとも１つの望ましくない範囲の放射波長における前記放射ビームの放射の強度を減少させる、少なくとも２つのスペクトル純度フィルタを備え、
前記少なくとも２つのスペクトル純度フィルタには、互いに異なる放射フィルタリング構造が設けられ、
前記スペクトル純度フィルタのうちの少なくとも１つは格子スペクトル純度フィルタであり、該格子スペクトル純度フィルタは、
（ａ）交互層の多層スタックであって、該多層スタックに対して第１方向に第１波長の放射を反射する、交互層の多層スタックと、
（ｂ）前記多層スタックの頂面における複数の凹所であって、前記多層スタックに対して前記第１方向とは異なる第２方向に第２波長の放射が反射するように配置された格子を形成する複数の凹所と、を備える、リソグラフィ装置。
【請求項２】
前記格子スペクトル純度フィルタは前記放射ビームにおける赤外線の強度を減少させ、及び、任意選択的に、前記格子スペクトル純度フィルタは、放射ビームパス内で、前記放射ビームを提供する放射源に対して前記少なくとも２つのスペクトル純度フィルタのうちの他方より近くに配置される、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記放射ビームを提供する放射システムを備え、
前記格子スペクトル純度フィルタは、前記放射システムにおけるコレクタの少なくとも一部の反射面上に形成される、請求項１又は２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記スペクトル純度フィルタのうちの２番目は、第２格子スペクトル純度フィルタであり、及び、
任意選択的に、前記第２格子スペクトル純度フィルタは、
第１複数の凹所より小さい第２複数の凹所を備え、前記第２複数の凹所は、前記第１複数の凹所のうちの凹所と凹所との間の前記多層スタックの頂面および前記第１複数の凹所のうちの前記凹所の下面に形成され、前記第２複数の凹所は、前記多層スタックに対して前記第１方向とは異なる第３方向に第３波長の放射が反射させられるように配置された少なくとも１つの第２格子を形成する、又は、
交互層の第２多層スタックであって、前記多層スタックに対して前記第１方向に前記第１波長の放射を反射する、交互層の第２多層スタックと、前記第２多層スタックの頂面における第２複数の凹所であって、前記第１方向とは異なる第３方向に第３波長の放射が反射させられるように配置された格子を形成する第２複数の凹所と、を備え、前記第１多層スタックおよび前記第２多層スタックは、前記放射ビームパス内でそれぞれの反射面上に形成される、請求項１〜３のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記スペクトル純度フィルタのうちの少なくとも１つは、膜スペクトル純度フィルタであり、
前記膜スペクトル純度フィルタは、薄層材料を含み、前記放射ビームが前記薄層材料を通過するように配置され、さらに、前記薄層材料が少なくとも１つの望ましくない範囲の放射波長における放射を少なくとも１つの望ましい範囲の放射波長における放射より少なく透過するように選択され、
任意選択的に、前記膜スペクトル純度フィルタは、前記放射ビームが前記膜スペクトル純度フィルタを一度のみ通過するような前記放射ビームパスにおける位置に配置される、請求項１〜４のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記放射ビームを調節する照明システムを備え、
前記放射ビームは、前記照明システム内に入るために中間焦点に合焦され、
前記膜スペクトル純度フィルタは、前記中間焦点の前の最終要素または前記中間焦点の後の第１要素として前記放射ビームパスに配置され、
任意選択的に、前記膜スペクトル純度フィルタは、前記膜の表面が前記放射ビームの光軸に対して約１〜３０°、好ましくは約１５°の角度をなすように配置される、請求項５に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記放射ビームを調節する照明システムを備え、
前記照明システムは、かすめ入射リフレクタを備え、
前記膜スペクトル純度フィルタは、前記かすめ入射リフレクタの前の最終要素または前記かすめ入射リフレクタの後の第１要素として前記放射ビームパスに配置され、及び、
任意選択的に、前記膜スペクトル純度フィルタは、前記膜の表面が前記放射ビームの光軸に対して約２０〜６０°の角度をなすように配置される、請求項５に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記スペクトル純度フィルタのうちの少なくとも１つは、グリッドスペクトル純度フィルタであり、
前記グリッドスペクトル純度フィルタは、少なくとも１つのアパーチャを有する基板を備え、前記少なくとも１つのアパーチャは、前記基板を貫通し、前記少なくとも１つのアパーチャは、所望の放射波長の放射ビームの少なくとも一部が前記アパーチャを透過しかつ少なくとも１つの望ましくない範囲の放射波長における放射が反射するように選択された幅を有し、及び、
任意選択的に、前記放射ビームを調節する照明システムを備え、
前記放射ビームは、前記照明システム内へと入るために中間焦点に合焦され、
前記グリッドスペクトル純度フィルタは、前記中間焦点の前の最終要素または前記中間焦点の後の第１要素として前記放射ビームパスに配置される、請求項１〜７のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
前記スペクトル純度フィルタのうちの少なくとも１つは、前記放射ビームパスにおける少なくとも１つのリフレクタ上に形成された反射防止コーティングであり、前記反射防止コーティングは、望ましい放射波長の少なくとも１つの範囲に対するよりも、望ましくない放射波長の少なくとも１つの範囲に対してより低い反射率を有するように選択され、及び、
任意選択的に、前記放射ビームパスにおける少なくとも２つのリフレクタには前記反射防止コーティングが設けられる、請求項１〜８のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
放射ビームをパターニングすることと、該放射ビームを基板上に投影することと、を含むデバイス製造方法であって、
少なくとも１つの望ましくない範囲の放射波長における前記放射ビームの放射の強度を減少させるために少なくとも２つのスペクトル純度フィルタを用いることを含み、
前記少なくとも２つのスペクトル純度フィルタには、互いに異なる放射フィルタリング構造が設けられ、
前記スペクトル純度フィルタのうちの少なくとも１つは格子スペクトル純度フィルタであり、該格子スペクトル純度フィルタは、
（ａ）交互層の多層スタックであって、該多層スタックに対して第１方向に第１波長の放射を反射する、交互層の多層スタックと、
（ｂ）前記多層スタックの頂面における複数の凹所であって、前記多層スタックに対して前記第１方向とは異なる第２方向に第２波長の放射が反射するように配置された格子を形成する複数の凹所と、を備える、デバイス製造方法。
【請求項１１】
交互層の多層スタックであって、該多層スタックに対して第１方向に第１波長の放射を反射する、交互層の多層スタックと、
前記多層スタックの頂面における第１複数の凹所であって、前記多層スタックに対して前記第１方向とは異なる第２方向に第２波長の放射が反射するように配置された第１格子を形成する第１複数の凹所と、
前記第１複数の凹所より小さい第２複数の凹所であって、前記第１複数の凹所のうちの凹所と凹所と間の前記多層スタックの頂面および前記第１複数の凹所のうちの前記凹所の下面に形成され、また、前記多層スタックに対して前記第１方向とは異なる第３方向に第３方向の放射が反射するように配置された少なくとも１つの第２格子を形成する、第２複数の凹所と、を備える、スペクトル純度フィルタ。
【請求項１２】
前記第１複数の凹所は、約１．５μｍ〜３μｍの間、望ましくは約２．６５μｍの深さを有する、請求項１１に記載のスペクトル純度フィルタ。
【請求項１３】
前記第２複数の凹所は、約２５ｎｍ〜７５ｎｍの間、望ましくは約５０ｎｍの深さを有する、請求項１１又は１２に記載のスペクトル純度フィルタ。
【請求項１４】
前記第２複数の凹所は、実質的に長方形および実質的に三角形のうちのいずれかである
断面を有する、請求項１１〜１３のいずれか１項に記載のスペクトル純度フィルタ。
【請求項１５】
前記第２方向および前記第３方向は実質的に同じである、請求項１１〜１４のい
ずれか１項に記載のスペクトル純度フィルタ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
[0007]  スペクトル純度フィルタは、露光に使用される放射ビームから非ＥＵＶ放射をフィルタリングするために開発された。
欧州特許第１７１７６０９号明細書は、それぞれのスペクトル純度増大層が各々設けられ得る複数層ミラーを有するリソグラフィ装置を開示している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
[0009]  本発明の一実施形態によると、特許請求の範囲で特定されるリソグラフィ装置が提供される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
[0010]  本発明の一実施形態によると、特許請求の範囲で特定されるデバイス製造方法が提供される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
[0011]  本発明の一実施形態によると、特許請求の範囲で特定されるスペクトル純度フィルタが提供される。