Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月3日(2015.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
袋（２、２'）を形成する方法であって、
袋の壁が、伸張されたポリオレフィン材料とコーティングからなる織物を含み、
接合すべき材料（２、２’、３、３’）の少なくとも一部が熱空気流（１８）によって加熱されることにより、少なくとも１つの温度誘導される接合プロセスがもたらされ、
前記熱空気流（１８）は、まず空気が１つ又は複数の加熱装置（１６、２１）を通過して案内されて、その後、接合すべき材料（２、２’、３、３’）上へ案内されることによって発生し、
前記熱空気（１８）は、圧延間隙（１２）の進入側へ案内され、且つ接合すべき材料の表面のコーティングが溶融されて、圧延間隙内で合体され、
空気流（１８）が脈動するように、少なくとも１つの加熱装置（１６、２１）を通過して案内されることを特徴とする袋を形成する方法。
【請求項２】
前記空気流（１８）は、２つの脈の間で中断される請求項１記載の方法。
【請求項３】
脈動する空気流（１８）を発生させるために、少なくとも１つの弁（２３、２８）が操作される請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
弁（２３、２８）によって、外気圧よりも高い圧力を有する圧力リザーバ（２７）の開放が制御される請求項１乃至３の何れか１項に記載の方法。
【請求項５】
圧力リザーバ（２７）は、複数回の接合プロセスの間チャージされる請求項１乃至４の何れか１項に記載の方法。
【請求項６】
袋（２、２'）の底へ供給される空気は、複数の通路（３６）を通して案内される請求項１乃至５の何れか１項に記載の方法。
【請求項７】
接合すべき材料（２、２’、３、３’）の少なくとも一部は、脈動する空気流（１８）によって且つ力の作用を受けて接合される前に予熱される請求項１乃至６の何れか１項に
記載の方法。
【請求項８】
伸張されたポリオレフィン材料とコーティングからなる織物を含む袋材料から袋（２、２'）を形成する装置であって、
前記装置は、袋材料（２、２’、３、３’）を温度誘導で接合するための少なくとも１つのステーション（１）を有し、このステーション（１）は、圧延間隙（１２）と、方向付けされた空気流（１８）を押し出すのに適した、空気流（１８）を発生させる手段（１３）と、を備え、
前記装置は、更に、空気流（１８）に対して、空気流（１８）が加熱されるように配置されている１つ又は複数の加熱装置（１６、２１）を有し、
熱空気流が、空気流を発生させる手段（１３）によって圧延間隙（１２）の進入側へ案内可能であり、かつ
熱空気流によって袋材料の表面のコーティングが溶融可能であり、かつ圧延間隙（１２）内で合体可能であり、
空気流（ｘ）の方向において少なくとも１つの加熱装置（１６、２１）の前段に少なくとも１つの弁（２３、２８）が配置されていることを特徴とする袋材料から袋を形成する装置。
【請求項９】
空気流（１８）の方向（ｘ）において、弁（２３、２８）の前段に少なくとも１つの圧力リザーバ（２７）が配置されている請求項８記載の装置。
【請求項１０】
少なくとも１つの圧力リザーバ（２７）は、加熱可能である請求項８又は９に記載の装置。
【請求項１１】
少なくとも１つの圧力リザーバ（２７）は、圧縮空気を貯蔵するのに適している請求項９又は１０に記載の装置。
【請求項１２】
流れ方向（ｘ）において、少なくとも１つの弁（２３、２８）の後段に、流れパスに沿って空気流（１８）を案内するための少なくとも２つの通路（３６）が配置されている請求項８乃至１１の何れか１項に記載の装置。
【請求項１３】
少なくとも２つの通路（３６）の少なくとも１つは、加熱可能である請求項８乃至１２の何れか１項に記載の装置。
【請求項１４】
２つの通路（３６）の少なくとも１つは、流れ方向（ｘ）に拡幅している請求項８乃至１３の何れか１項に記載の装置。
【請求項１５】
冷却装置（３２、３９）が少なくとも１つの弁（２３、２８）と作用接続されている請求項８乃至１４の何れか１項に記載の装置。
【請求項１６】
伸張されたポリオレフィン材料とコーティングからなる織物を含む袋材料（２、２’、３、３’）を温度誘導で接合するためのステーション（１）であって、
前記ステーションが、圧延間隙（１２）と、方向付けされた空気流（１８）を押し出すのに適した、空気流（１８）を発生させる手段（１３）と、を有し、
更に、空気流（１８）に対して、空気流（１８）が加熱されるように配置されている、１つ又は複数の加熱装置（１６、２１）を有し、
熱空気流が、空気流を発生させる手段（１３）によって圧延間隙（１２）の進入側へ案内可能であり、かつ
熱空気流によって、袋材料の表面のコーティングが溶融可能であり、かつ圧延間隙（１２）内で合体可能であり、
少なくとも１つの弁（２３、２８）が、空気流（１８）の方向（ｘ）において少なくとも１つの加熱装置（１６、２１）の前段に配置されていることを特徴とする袋材料を温度誘導で接合するためのステーション。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月6日(2015.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
化学機械研磨パッドコンディショナーであって、前記化学機械研磨パッドコンディショナーは、
基板であって、該基板と一体の複数の突出部を有する前面を含む基板、を含み、
前記複数の突出部は、前記前面にほぼ垂直な正面方向に延在し、かつ該複数の突出部の各々が遠位端を含み、
前記複数の突出部は：
位置合せ面の変動の範囲内である前記遠位端を有する前記複数の突出部のサブセットであって、前記位置合せ面が、前記前面にほぼ平行であり、前記複数の突出部の前記サブセットの前記突出部が、互いに対して一定かつ所定の関係で前記位置合せ面に配置される複数の突出部のサブセットと；
前記複数の突出部の前記サブセットの少なくとも前記遠位端を被覆する多結晶ダイヤモンドのコーティングと
を含み、
前記基板が多孔質材料を含み、それによりネアネットシェイプから加工又は形成された場合、前記多孔質材料は前記基板に粒子を結合することなく粗さ特性及び特徴部高さの分布を提供し、
前記コーティングは前記粗さ特性に適合している化学機械研磨パッドコンディショナー。
【請求項２】
前記基板が、２０μｍを超える細孔寸法を含む、請求項１に記載の化学機械研磨パッドコンディショナー。
【請求項３】
前記遠位端のそれぞれが、前記複数の突出部の前記サブセットのそれぞれの突出部のメサ上に配置され、前記メサが、前記正面方向と反対の方向に、前記それぞれの突出部の前記遠位端から所定の距離以内であるものとして画定される、請求項１または２に記載の化学機械研磨パッドコンディショナー。
【請求項４】
前記遠位端からの前記所定の距離が、０．３μｍ〜２０μｍである、請求項３に記載の化学機械研磨パッドコンディショナー。
【請求項５】
前記突出部の前記遠位端上の多結晶ダイヤモンドの前記コーティングが、前記メサにわたる二乗平均平方根粗さを有し、前記遠位端からの前記所定の距離が、前記二乗平均平方根粗さの３〜５倍である、請求項３または４に記載の化学機械研磨パッドコンディショナー。
【請求項６】
前記メサにわたる前記多結晶ダイヤモンドの前記二乗平均平方根粗さが、０．５μｍ〜１０μｍである、請求項５に記載の化学機械研磨パッドコンディショナー。
【請求項７】
前記メサが、前記それぞれの突出部の突出高さの一定の割合として画定される、請求項３〜６のいずれか一項に記載の化学機械研磨パッドコンディショナー。
【請求項８】
前記一定の割合が、５％〜５０％の範囲内である、請求項７に記載の化学機械研磨パッドコンディショナー。
【請求項９】
前記変動が、５μｍ〜５０μｍの範囲である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の化学機械研磨パッドコンディショナー。
【請求項１０】
前記変動が、１０μｍ〜２５μｍの範囲である、請求項９に記載の化学機械研磨パッドコンディショナー。
【請求項１１】
前記基板が、炭化ケイ素を含む、請求項９に記載の化学機械研磨パッドコンディショナー。
【請求項１２】
前記基板は少なくとも１０％の気孔率を有する、請求項９に記載の化学機械研磨パッドコンディショナー。
【請求項１３】
前記メサは角を丸められた角隅部を含む、請求項３に記載の化学機械研磨パッドコンディショナー。
【請求項１４】
パッドコンディショナーであって：前記パッドコンディショナーは、
基板であって、該基板と一体の複数の突出部を有する前面を含む基板、を含み、
前記複数の突出部のそれぞれが、前記前面に垂直なそれぞれの位置合せ軸の周りで正面方向に延在し、前記複数の突出部のそれぞれが、前記それぞれの突出部のメサ上に配置される遠位端を含み、前記メサが、前記正面方向と反対の方向に前記それぞれの突出部の前記遠位端から所定の距離以内であるものとして画定され、前記それぞれの位置合せ軸のそれぞれが、前記基板の前記前面における所定の位置を画定し、前記複数の突出部のそれぞれが、前記メサの基部において、重心を画定する断面を画定し、
前記複数の突出部の少なくとも一部について、前記断面のそれぞれの前記重心が、前記それぞれの位置合せ軸からオフセットされており、
前記基板が多孔質材料を含み、それによりネアネットシェイプから加工又は形成された場合、前記多孔質材料は前記基板に粒子を結合することなく粗さ特性及び特徴部高さの分布を提供するパッドコンディショナー。
【請求項１５】
前記メサは角を丸められた角隅部を含む、請求項１４に記載のパッドコンディショナー。
【請求項１６】
前記断面のそれぞれが、それぞれの主要寸法を画定し、前記複数の突出部の一部について、前記断面の前記重心が、前記主要寸法の少なくとも５％の距離だけ、前記それぞれの位置合せ軸からオフセットされている、請求項１４に記載のパッドコンディショナー。
【請求項１７】
前記メサが、前記それぞれの突出部の突出高さの一定の割合として画定され、前記一定の割合が、前記突出高さの５％〜１０％の範囲である、請求項１４に記載のパッドコンディショナー。
【請求項１８】
第１のパターンを画定する第１のサブセットの突出部と；
第２のパターンを画定する第２のサブセットの突出部と
をさらに含み、
前記第２のサブセットの突出部からの前記突出部の少なくとも一部が、前記第１のサブセットの突出部からの前記突出部の少なくとも一部の中で分散される、請求項１４に記載のパッドコンディショナー。
【請求項１９】
請求項１４乃至１８のいずれか一項に記載のパッドコンディショナーは、前記複数の突出部の前記遠位端を少なくとも被覆する多結晶ダイヤモンドのコーティングを含み、前記コーティングは前記粗さ特性に適合しているパッドコンディショナー。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月26日(2014.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機材料から多孔質の造粒粒子（１３）を製造する方法であって、以下の方法ステップ、即ち、
（ａ）供給材料を熱分解又は加水分解によって材料粒子に変換する反応区域に、供給材料流を供給するステップ、
（ｂ）前記材料粒子を、スート層（５）を形成しながら、堆積面（１ａ）上に析出させるステップ、
（ｃ）前記スート層（５）を多孔質スートプレート（５ａ）となるように熱的に硬化させるステップ、
（ｄ）前記スートプレート（５ａ）を多孔質の造粒粒子（１３）と成るように細分化するステップ、
を有していることを特徴とする、無機材料から多孔質の造粒粒子（１３）を製造する方法。
【請求項２】
１０〜５００μｍの範囲の厚さを有したスートプレート（５ａ）を形成する、請求項１記載の方法。
【請求項３】
２０〜１００μｍの範囲の厚さを有したスートプレート（５ａ）を形成する、請求項１記載の方法。
【請求項４】
５０μｍよりも小さい厚さを有したスートプレート（５ａ）を形成する、請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記造粒粒子（１３）は、球面状ではないモルフォロジを有している、請求項１から４までのいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
前記造粒粒子（１３）は小板状又は棒片状に、少なくとも５の構造比をもって形成されている、請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記造粒粒子（１３）は小板状又は棒片状に、少なくとも１０の構造比をもって形成されている、請求項５記載の方法。
【請求項８】
前記造粒粒子（１３）は側方に、連続した孔を備えた破砕面（２２）を有している、請求項６記載の方法。
【請求項９】
前記造粒粒子（１３）は、１０〜５００μｍの範囲の平均厚さを有している、請求項１から８までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
前記造粒粒子（１３）は、２０〜１００μｍの範囲の平均厚さを有している、請求項１から８までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１１】
前記造粒粒子（１３）は、５０μｍよりも小さい平均厚さを有している、請求項１から８までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１２】
前記堆積面（１ａ）が、回転軸線（２）を中心として回転するドラム（１）の円筒周面として形成されている、請求項１から１１までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１３】
前記スート層（５）は、前記ドラム（１）が前記回転軸線（２）を中心として１回転する前に形成される、請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
前記スート層（５）の形成を、前記回転軸線（２）に沿って往復して動く、複数の析出バーナ（４）から成る装置（３）によって行う、請求項１２又は１３記載の方法。
【請求項１５】
前記スート層（５）の形成を定置の直線的なバーナによって行い、該直線的なバーナの長手方向軸線は前記ドラム（１）に沿って延びている、請求項１２又は１３記載の方法。
【請求項１６】
前記方法ステップ（ｃ）による前記スート層（５）の熱的な高密化のステップは、少なくとも１つの付加的なバーナによる加熱を含む、請求項１から１５までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１７】
前記堆積面（１ａ）は、内部から熱処理される中空体（１）上に形成されている、請求項１から１６までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１８】
前記スートプレート（５ａ）が、材料の最大の比密度に関して、１０〜４０％の範囲の相対密度を有している、請求項１から１７までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１９】
前記スートプレート（５ａ）が、材料の最大の比密度に関して、２５％よりも小さい相対密度を有している、請求項１から１７までのいずれか１項記載の方法。
【請求項２０】
前記方法ステップ（ｄ）により細分化するために前記スートプレート（５ａ）を前記堆積面（１ａ）から離間して、この際に前記スートプレート（５ａ）の下面からガス流（７）を吹き付ける、請求項１から１９までのいずれか１項記載の方法。
【請求項２１】
前記方法ステップ（ｄ）による前記スートプレート（５ａ）の細分化を、前記堆積面（１ａ）から少なくとも部分的に空間的に分離されている区域で行う、請求項１から２０までのいずれか１項記載の方法。
【請求項２２】
前記スートプレート（５ａ）の細分化を破砕により行う、請求項１から２１までのいずれか１項記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月27日(2015.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結晶成長装置であって、該装置は、
ソース材料（２０）を格納するように構成されたソースチェンバ（３０）と、
成長チェンバ（５０）と、
該ソースチェンバ（３０）から該成長チェンバ（５０）への蒸気輸送のための経路（４０）と、
該成長チェンバ内に設けられ、種結晶（６０）を支持するように構成された支持体（７０）と、
該成長チェンバ（５０）と該支持体（７０）との間に画定されるギャップ（１９０）、
とをそなえ、
該支持体（７０）の熱膨張率は該成長チェンバの熱膨張率よりも大きく、
また、該支持体及び該成長チェンバの材料及び寸法を選択して、該支持体と該成長チェンバとの間の該ギャップ（１９０）を動作温度に対して決定し、その動作温度で流量制限機能を与える、装置。
【請求項２】
前記支持体（７０）が前記成長チェンバ（５０）に対して移動可能であり、結晶が成長する際に前記支持体の上面、従って結晶の上面を移動させることが可能である請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記支持体（７０）が、エロンゲートシャフト（１７６）に連結又は取り付けられる請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記エロンゲートシャフト（１７６）が、前記支持体（７０）又は前記成長チェンバ（５０）の熱膨張率と同じ又は同等の熱膨張率を有する請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記成長チェンバ（５０）及び前記支持体（７０）がそれぞれ、略円形の断面を有する請求項１〜４のいずれかに記載の装置。
【請求項６】
前記成長チェンバ（５０）が石英又は熱分解窒化ホウ素から形成される請求項１〜５のいずれかに記載の装置。
【請求項７】
前記支持体（７０）が、サファイア、アルミナ、炭化珪素、タングステン、タンタル又はモリブデンから形成される請求項１〜６のいずれかに記載の装置。
【請求項８】
前記成長チェンバ（５０）が石英から形成され、前記支持体（７０）がサファイアから形成される請求項１〜７のいずれかに記載の装置。
【請求項９】
前記成長チェンバ（５０）が293Ｋで約51.500mmの内径を有し、前記支持体が293Ｋで約51.110mmの外径を有する請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記成長チェンバ（５０）が293Ｋで約101.400mmの内径を有し、前記支持体が293Ｋで100.728mmの外径を有する請求項８に記載の装置。
【請求項１１】
結晶成長装置を準備する方法であって、該方法は、
ある熱膨張率を有する成長チェンバ（５０）を準備するステップと、
種結晶（６０）を支持するように構成された支持体（７０）を準備し、該支持体は該成長チェンバの熱膨張率よりも大きい熱膨張率を有するステップと、
該成長チェンバ内に該支持体を位置させ、該支持体と該成長チェンバの壁との間のギャップ（１９０）を画定するステップと、
該成長チェンバ（５０）及び該支持体（７０）を動作温度に加熱し、該支持体が、該成長チェンバに対して膨張し、該ギャップを減少させるステップと、
該支持体及び該成長チェンバの材料及び寸法を選択して、該支持体と該成長チェンバとの間の該ギャップ（１９０）を動作温度に対して決定し、その動作温度で流量制限機能を与えるステップ、
とをそなえる方法。
【請求項１２】
前記支持体上で結晶を成長させるステップをさらにそなえる請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記支持体上で結晶が成長した時点で、前記成長チェンバ及び前記支持体を冷却し、前記支持体（７０）が前記成長チェンバ（５０）に対して収縮して、前記ギャップ（１９０）を増加させるステップをさらにそなえる請求項１１又は１２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月12日(2014.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配列番号３に示されるアミノ酸配列またはその誘導体から本質的になる、単離された、または合成された抗腫瘍ペプチド。
【請求項２】
配列番号３に示されるアミノ酸配列の誘導体が、配列番号８、９および１４〜３３からなる群から選択されるアミノ酸配列である、請求項１に記載の抗腫瘍ペプチド。
【請求項３】
請求項１または２に記載の１種以上の抗腫瘍ペプチド（単数または複数）と、医薬上許容される担体または希釈液とを含む、医薬組成物。
【請求項４】
被験体において腫瘍または癌成長を阻害するための医薬組成物の製造のための、請求項１または２に記載のペプチドの使用。
【請求項５】
腫瘍細胞の遊走および浸潤を阻害するための医薬組成物の製造のための、請求項１または２に記載のペプチドの使用。
【請求項６】
被験体において腫瘍または癌を治療するための医薬組成物の製造のための、請求項１または２に記載のペプチドの使用。
【請求項７】
癌が、黒色腫、結腸癌、肺癌、腎臓癌、乳癌、脳癌、頭頸部癌、胃および腸癌、前立腺癌、肝臓癌および膠芽腫からなる群から選択されるものである、請求項４〜６のいずれか１項に記載のペプチドの使用。
【請求項８】
被験体において腫瘍または癌成長を阻害するための、請求項１若しくは２に記載のペプチド、または請求項３に記載の医薬組成物。
【請求項９】
被験体において腫瘍または癌を治療するための、請求項１若しくは２に記載のペプチド、または請求項３に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
腫瘍細胞の遊走および浸潤を阻害するための、請求項１若しくは２に記載のペプチド、または請求項３に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
癌が、黒色腫、結腸癌、肺癌、腎臓癌、乳癌、脳癌、頭頸部癌、胃および腸癌、前立腺癌、肝臓癌および膠芽腫からなる群から選択されるものである、請求項８〜１０のいずれか１項に記載のペプチドまたは医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月3日(2015.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コーティングガラス物品であって、
緑色、青色または青緑色であり、光源Ｃによって測定されたＣＩＥＬＡＢ色座標範囲がａ＊＝−１０．５〜−４およびｂ＊＝−６．５〜＋４内に収まるティンテッドガラスの基板と、
色抑制コーティングの上に被覆された、厚さが３５０ｎｍ未満であるドープ酸化スズコーティングであって、前記色抑制コーティングは、前記ティンテッドガラスの基板上において２０ｎｍ〜３０ｎｍの厚さで被覆された非ドープ酸化スズコーティングと、前記非ドープ酸化スズコーティング上において２０ｎｍ〜３０ｎｍの厚さで被覆されたシリカコーティングとを含む、ドープ酸化スズコーティングと、
前記ドープ酸化スズコーティング上に被覆された、厚さが３０ｎｍ〜９０ｎｍであるシリカオーバーコートと、
を含み、
前記コーティングガラス物品は、光源Ａ（１０度観測）によって測定された可視光線透過率＞７０％と、太陽熱利得係数≦０．５５と、半球放射率＜０．４とを示す、
コーティングガラス物品。
【請求項２】
前記ティンテッドガラスは、光源Ｃによって測定された前記ＣＩＥＬＡＢ色座標範囲がａ＊＝−８．８〜−５．５およびｂ＊＝−３〜＋２内に収まる、請求項１に記載のコーティングガラス物品。
【請求項３】
前記シリカオーバーコートの厚さは３０ｎｍ〜５０ｎｍである、請求項１に記載のコーティングガラス物品。
【請求項４】
光源Ａ（１０度観測）によって測定された前記コーティングガラス物品の膜側反射率は＜７％である、請求項３に記載のコーティングガラス物品。
【請求項５】
多層コーティングスタックを基板上に被覆してコーティングガラス物品を形成する方法であって、
溶融金属槽上に支持された移動している加熱したガラスの基板をガラス製造プロセスにおいて実質的に大気圧において提供することであって、前記ガラスは、緑色、青色または青緑色であり、光源Ｃによって測定された前記ＣＩＥＬＡＢ色座標範囲はａ＊＝−１０．５〜−４であり、ｂ＊＝−６．５〜＋４であるティンテッドガラスである、ことと、
前記加熱したガラスの基板上にスズ化合物およびドーパントを含むドープ酸化スズコーティングを被覆することであって、前記ドープ酸化スズコーティングは、３５０ｎｍ未満の厚さで被覆される、ことと、
シリコン化合物を含むシリカオーバーコートを前記ドープ酸化スズコーティング上に被覆することであって、前記シリカオーバーコートは、３０ｎｍ〜９０ｎｍの間の厚さで被覆され、前記コーティングティンテッド基板は、光源Ａ（１０度観測）によって測定された可視光線透過率＞７０％と、太陽熱利得係数≦０．５５と、半球放射率＜０．４とを示す、ことと、
を含む、方法。
【請求項６】
スズ化合物およびシリカ化合物のうち１つ以上を含む色抑制コーティングが、前記ドープ酸化スズコーティングの被覆の前に、前記ティンテッドガラスの基板上に被覆される、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記ティンテッドガラスは、光源Ｃによって測定された前記ＣＩＥＬＡＢ色座標範囲がａ＊＝−８．８〜−５．５およびｂ＊＝−３〜＋２である、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
前記色抑制コーティングは、前記ティンテッドガラスの基板上において２０ｎｍ〜３０ｎｍの厚さで被覆された非ドープ酸化スズコーティングと、前記非ドープ酸化スズコーティング上に２０ｎｍ〜３０ｎｍの厚さで被覆されたシリカコーティングとを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記シリカオーバーコートは、３０ｎｍ〜５０ｎｍの間の厚さで被覆される、請求項５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月25日(2015.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検出された特性信号から情報を抽出するデバイスであって、
被検者によって放射又は反射された電磁放射線から導出可能な画像フレームのシーケンスを含むデータストリームを受け取るインターフェースと、
前記データストリームから生理学的情報を抽出する抽出器手段と、
を含み、
前記データストリームは、所望の被検者動作を示す前記生理学的情報を含む連続的又は離散的特性信号を含み、前記生理学的情報は、少なくとも１つの少なくとも部分的に周期的な生体信号を表し、
前記抽出器手段は、次元削減を介して前記データストリームから複数の特性指標要素を導出し、前記複数の特性指標要素は、外乱低減された要素に関連付けられた方向性動作成分を含み、前記外乱低減された要素は、基準動作方向に実質的に揃えられた決定された向きを有し、前記複数の特性指標要素は、前記生理学的情報を含む派生信号フォームを示す、デバイス。
【請求項２】
前記派生信号フォームは、残存妨害信号成分を更に示し、前記デバイスは更に、前記少なくとも１つの少なくとも部分的に周期的な生体信号を示す前記派生信号フォームの所望の被検者動作成分を強調することによって、かつ、残存妨害信号成分を抑制することによって、前記派生信号フォームを変換する変換器手段を含む、請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
前記派生信号フォームの時間変動、又は、前記少なくとも１つの少なくとも部分的に周期的な生体信号に対応する前記所望の被検者動作成分を決定する解析手段を更に含む、請求項１又は２に記載のデバイス。
【請求項４】
前記データストリームは、各単一の特性指標要素は、対応する画像フレームから導出される、請求項１に記載のデバイス。
【請求項５】
前記データストリームからの前記生理学的情報の前記抽出は、前記所望の被検者動作を高度に示す関心部を決定することによって捕捉されたデータストリームシーケンスを処理することを更に含む、請求項１に記載のデバイス。
【請求項６】
可視光、赤外光、及び紫外線からなる群から選択される少なくとも１つの特定の波長範囲内の電磁放射線を検出し、前記インターフェースに接続可能であるセンサ手段を更に含む、請求項１に記載のデバイス。
【請求項７】
前記次元削減は、前記データストリームに含まれる前記画像フレームの各サブエンティティに関連付けられたデータストリーム特性を、前記外乱低減された要素に集積及び投影することを含み、これにより、対応する前記特性指標要素が得られる、請求項１に記載のデバイス。
【請求項８】
前記抽出器手段は更に、前記基準動作方向を考慮して前記外乱低減された要素の前記向きを決定する、請求項１に記載のデバイス。
【請求項９】
前記派生信号フォームの前記変換は、前記派生信号フォーム、又は、前記派生信号フォームに埋め込まれた前記所望の被検者動作成分を処理することを更に含み、前記処理は、動き補償、フィルタリング、ウィンドウイング、クリッピング、エッジ強調、及びエッジぼかしからなる群から選択される、請求項２に記載のデバイス。
【請求項１０】
前記抽出器手段又は前記変換器手段は更に、少なくとも１つの対応する特性指標要素に積分変換を適用し、これにより、スペクトル情報を得る、請求項７に記載のデバイス。
【請求項１１】
前記抽出器手段又は前記変換器手段は、マグニチュードレンジのシーケンスが得られるように、対応する特性指標要素にフーリエ変換を適用する、請求項１０に記載のデバイス。
【請求項１２】
前記抽出器手段は更に、所望の前記生体信号を示さない被検者動作に関する、又は、前記被検者と前記センサ手段との間の全体的な相対動作に関する妨害動作を補償する、請求項６に記載のデバイス。
【請求項１３】
前記派生信号フォームの前記時間変動、又は、所望の前記生体信号を示す前記所望の被検者動作成分の前記決定は、少なくとも、特性指標要素と先行若しくは後続の特性指標要素との間の相対オフセットを考慮して決定される、請求項３に記載のデバイス。
【請求項１４】
検出された特性信号から情報を抽出する方法であって、
被検者によって放射又は反射された電磁放射線から導出可能な画像フレームのシーケンスを含むデータストリームを受け取るステップと、
次元削減を介して前記データストリームから複数の特性指標要素を導出することによって前記データストリームから生理学的情報を抽出するステップと、
を含み、
前記データストリームは、所望の被検者動作を示す前記生理学的情報を含む連続的又は離散的特性信号を含み、前記生理学的情報は、少なくとも１つの少なくとも部分的に周期的な生体信号を表し、
前記複数の特性指標要素は、外乱低減された要素に関連付けられた方向性動作成分を含み、前記外乱低減された要素は、基準動作方向に実質的に揃えられた決定された向きを有し、前記複数の特性指標要素は、前記生理学的情報を含む派生信号フォームを示す、方法。
【請求項１５】
コンピュータプログラムがコンピュータ上で実行されると請求項１４に記載される方法のステップを前記コンピュータに実行させる、プログラムコード手段を含む、コンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月16日(2015.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
改善されたスプレードライ流動触媒を製造するための方法であり、５０％を超える、ひとつの閾値を超える粒子を除去する結果、炭化水素変換プロセスにおける前記除去が改善されたアクセス性又は拡散性を有する区分を与える結果となり、前記閾値が７０ミクロンであり、前記閾値を超える前記触媒区分が、その平均粒子サイズが少なくとも１０ミクロンまでに低減されるように処理される、プロセス。
【請求項２】
請求項１に記載のプロセスであり、前記閾値を超える触媒区分が、その平均粒子サイズが少なくとも１０ミクロンまで低減されるように処理され、かつ前記処理された触媒が、他の触媒又は触媒区分と再配合される、方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のプロセスであり、前記粒子サイズ低減が、粉砕装置操作によりなされて、粉砕生成物を生成する、プロセス。
【請求項４】
請求項２又は３に記載のプロセスであり、前記粉砕された生成物の全て又は部分が、最小値より小さい微粒子を除去するために再分級され、好ましくは、ここで、前記最小値ミクロンを下回る前記粉砕生成物の前記微粒子を、１０ミクロンより小さく再粉砕し、続いて他の触媒成分と組み合わせて、平均粒子サイズが前記最小値よりも大きいスプレードライ生成物を生成する、プロセス。
【請求項５】
５０％を超える、４１ミクロン、好ましくは３１ミクロン以下である最小閾値を下回る粒子および７０ミクロン、好ましくは８９ミクロン以上である最大閾値を超える粒子を除去することをさらに含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項６】
請求項５に記載のプロセスであり、前記閾値を超える全ての粒子が、請求項２乃至４のいずれか一項に定められるように処理され、好ましくは、ここで、前記粒子サイズ低減プロセスで生成された微粒子が、空気分級又はスクリーニング、又は類似のプロセスで除去される、プロセス。
【請求項７】
請求項６に記載のプロセスであり、前記微粒子の全部又は部分が再粉砕されて、有用な生成物中に再スプレードライされることができる、プロセス。
【請求項８】
前記触媒が、物理的スクリーニングプロセスの使用で分離される、請求項１に記載のプロセス。
【請求項９】
前記触媒が、最初に空気分級で分離され、次いでさらに物理的スクリーニングプロセスにより１又は複数の区分に分離される、請求項８に記載のプロセス。
【請求項１０】
請求項１に記載のプロセスであり、改善された「インシチュ」炭化水素変換触媒を得るために、「インシチュ」炭化水素処理触媒を製造するために使用されるスプレードライ触媒前駆体に適用される、プロセス。
【請求項１１】
５０％を超える、最小閾値を下回る粒子と、５０％を超える、最大閾値を超える粒子を除去した成分の混合物をスプレードライすることで生成される改善された触媒組成物であり、より経済的に価値の低い微粒子を、前記処方物の流動特性を改善するために添加する、改善された触媒組成物。
【請求項１２】
請求項１１に記載の改善された触媒組成物であり、前記組成物が、以下：
（ｉ）前記最小閾値が２０と５０ミクロンの間であり、前記最大閾値が７０と１１０ミクロンの間であるもの、
（ｉｉ）前記最小閾値が４０ミクロンであり、前記最大閾値が９０ミクロンであるもの、
（ｉｉｉ）前記最小閾値が好ましくは３０ミクロンであり、前記最大閾値が好ましくは９０ミクロンであるもの、
（ｉｖ）前記最小閾値が好ましくは３０ミクロンであり、前記最大閾値が好ましくは１００ミクロンであるもの、
から選択される、改善された触媒組成物。
【請求項１３】
請求項１１又は１２に記載の改善された触媒組成物であり、前記スプレードライされた中間物に適用され、次に改善されたインシチュ触媒を製造するために使用される、触媒組成物。
【請求項１４】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の改善された触媒組成物を用いるプロセスであって、ここで、前記プロセスが、
（ｉ）炭化水素変換プロセス、
（ｉｉ）改善された流動触媒クラッキングプロセス、
（ｉｉｉ）改善されたディープ触媒クラッキングプロセス、
（ｉｖ）  改善されたバイオマス変換プロセス、
（ｖ）改善されたナフサクラッキングプロセス、
から選択される、プロセス。
【請求項１５】
改善されたクラッキング触媒を製造するための方法であり、５０％を超える、ひとつの閾値を超える粒子を除去する結果、炭化水素変換プロセスにおける前記除去が改善されたアクセス性又は拡散性を有する区分を与える結果となり、前記閾値が７０ミクロンであり、前記閾値を超える前記触媒区分が、その平均粒子サイズが少なくとも１０ミクロンまでに低減されるように処理される、プロセス。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月16日(2015.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自動車のアクセサリー駆動システムに使用するためのプーリ組立体であって、
回転軸線を有し、ねじ付き外表面と、アクセサリーの入力軸を、それと係合するように受容するための内孔を含む軸係合ハブと、
前記軸係合ハブを受容するための内孔を有し、結合用内表面と、ベルト係合用外表面を含むプーリ部材と、
前記軸係合ハブのねじ付き外表面と係合するねじ付き内表面と、該内表面と対向する総体的に切頭円錐形の外表面を有するナットと、
前記ナットをそれと共に回転するように内部に座置させる環状ブッシュと、
前記環状ブッシュの外周面の周りに配置されており、前記プーリ部材の結合用内表面と摩擦接触する結合用外表面を有する１つ又は複数のブレーキシューと、
から成り、前記ナットは、前記環状ブッシュに対して相対的に軸方向に並進移動することができ、前記環状ブッシュは、前記ナットの軸方向の第１方向の並進移動に応答して半径方向外方に拡張することができることを特徴とするプーリ組立体。
【請求項２】
前記環状ブッシュは、キー溝を有し、前記ナットは、該キー溝内に受容される耳片を含む請求項１に記載のプーリ組立体。
【請求項３】
前記環状ブッシュは、総体的に切頭円錐形のリングを形成する複数のパネルを含み、該各パネルは、２つの隣接するパネルからそれらとの間にスリットを画定するように分離している請求項１に記載のプーリ組立体。
【請求項４】
前記各パネルの内表面には、グリースを受容するためのポケットが切り下げられている請求項３に記載のプーリ組立体。
【請求項５】
前記各パネルは、ガラス繊維入りナイロンを含む請求項３に記載のプーリ組立体。
【請求項６】
前記環状ブッシュは、外表面に複数のスペーサを有しており、２つの隣り合うスペーサと、前記パネルの、該２つの隣り合うスペーサの間の部分とで、１つのブレーキシューを受容するためのスタンドを形成する請求項３に記載のプーリ組立体。
【請求項７】
前記ナットが前記軸係合ハブの前記ねじ付き外表面の周りに第１方向に回転すると、該軸係合ハブを前記プーリ部材にそれと共に回転するように結合させ、該ナットが第１方向とは反対の第２方向に回転すると、該ナットと軸係合ハブが該プーリ部材とは独立して回転するように、前記ブレーキシューの結合用外表面を該プーリ部材の前記結合用内表面から脱係合させる請求項１に記載のプーリ組立体。
【請求項８】
前記ナットの前記切頭円錐形外表面は、前記軸係合ハブの回転軸線に対してほぼ５°ないし４５°の鋭角を有する請求項１に記載のプーリ組立体。
【請求項９】
前記ブレーキシューの前記結合用内表面は、ブレーキ部材から成る請求項１に記載のプーリ組立体。
【請求項１０】
前記軸係合ハブにそれと共に回転するように結合されたカバーを含む請求項１に記載のプーリ組立体。
【請求項１１】
前記プーリ部材の内孔の環状の内表面と前記カバーの一部分との間に配設された環状シールを含み、該環状シールの内表面と該カバーの該一部分との間にシールを設定する請求項１０に記載のプーリ組立体。
【請求項１２】
前記カバーは、前記環状シールを防護するように該環状シールを覆って張り出すほぼプレート形状の環状リングを含む請求項１１に記載のプーリ組立体。
【請求項１３】
第１端を前記カバーに係合させ、第２端を前記ナットに係合させたねじりばねであって、該ナットを前記軸係合ハブのねじ付き外表面の周りに前記第１方向に回転させるべく付勢するねじりばねを含む請求項１０に記載のプーリ組立体。
【請求項１４】
前記軸係合ハブが前記プーリ部材に対して相対的に回転するのを可能にするように該軸係合ハブに結合された内レースと、該プーリ部材に結合された外レースを有するベアリング組立体を含む請求項１に記載のプーリ組立体。
【請求項１５】
前記各ブレーキシューの前記結合用外表面は、長手断面でみて、前記ブレーキシューの内表面に非平行であり、前記プーリ部材の前記結合用内表面に対して平行である請求項１に記載のプーリ組立体。
【請求項１６】
自動車のアクセサリー駆動システムに使用するためのプーリ組立体を製造する方法であって、
回転軸線を有し、ねじ付き外表面と、アクセサリーの入力軸を、それと係合するように受容するための内孔を含む軸係合ハブを準備する工程と、
前記軸係合ハブを受容するための内孔を有し、結合用内表面と、ベルト係合用外表面を含むプーリ部材を準備する工程と、
前記軸係合ハブのねじ付き外表面と係合するねじ付き内表面と、該内表面と対向する総体的に切頭円錐形の外表面を有するナットを準備する工程と、
前記ナットをそれと共に回転するように内部に座置させる環状ブッシュを準備する工程と、
前記環状ブッシュの外周面の周りに配置されており、前記プーリ部材の結合用内表面と摩擦接触する結合用外表面を有する１つ又は複数のブレーキシューを準備する工程と、
該プーリ組立体が前記ハブを前記プーリ部材に係合させたり、該プーリ部材から脱係合させるべく作動ことができるように、前記ハブのねじ付き外表面のねじ山ピッチを選択し、該ブレーキシューの結合用外表面を形成するための摩擦材を選択し、前記ナットの前記切頭円錐形外表面の傾斜角を選択する工程と、
から成ることを特徴とするプーリ組立体製造方法。
【請求項１７】
前記ハブと前記プーリ部材との相対回転を可能にするように該ハブを該プーリ部材から脱係合させるのに要するトルクを最小限にするために、前記ねじ山ピッチ、前記摩擦材及び前記傾斜角を選択する工程を含む請求項１６に記載のプーリ組立体製造方法。
【請求項１８】
前記ブレーキシューの前記結合用外表面と前記プーリ部材の前記結合用内表面との間の摩擦係数を選択する工程を含む請求項１６に記載のプーリ組立体製造方法。
【請求項１９】
前記環状ブッシュを、総体的に切頭円錐形のリングを形成する複数のパネルによって形成し、該各パネルを、２つの隣接するパネルからそれらとの間にスリットを画定するように分離させて配置する請求項１６に記載のプーリ組立体製造方法。
【請求項２０】
前記各パネルの前記内表面にグリースを保持することができるポケットを切り込み、該ポケット内にグリースを挿入するために該各パネルの前記内表面にグリースを塗布する工程を含む請求項１９に記載のプーリ組立体製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月23日(2015.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
留具挿通孔を有する部品を、留具受承孔を有するベースプレートに連結する１／４回転留具において、
前記ベースプレートに連結可能な挿入位置と、前記部品を前記ベースプレートに解放可能に固定する係止位置との間で回転可能な本体と、
前記部品の前記留具挿通孔および前記ベースプレートの前記留具受承孔を通過するように構成される取付部であって、前記係止位置にて前記ベースプレートの前記後面に当接する少なくとも１つの当接面を含む取付部と、
該留具を前記挿入位置と前記係止位置との間で移動させる頭部とを具備し、
前記部品は機械可読な標記を含んでおり、
該留具は、前記係止位置にあるときを除いて、前記標記の少なくとも一部分を不明瞭にするように構成されている１／４回転留具。
【請求項２】
ベースプレートへ連結する１／４回転留具およびハンガーブラケットであって、該ハンガーブラケットは留具挿通孔を有し、前記ベースプレートは留具受承孔を有し、該１／４回転留具および該ハンガーブラケットは、
前記ベースプレートに連結可能な挿入位置と、該ハンガーブラケットを前記ベースプレートに解放可能に固定する係止位置との間で回転可能な留具本体と、
該留具を前記挿入位置と前記係止位置との間で移動させる頭部と、
該ハンガーブラケットの前記留具挿通孔および前記ベースプレートの前記留具受承孔を通過する寸法にて形成され、前記係止位置にて前記ベースプレートの前記後面に当接する少なくとも１つの当接面を含む取付部とを具備し、
前記取付部は２つの互いに反対方向へ延びる短尺バー部を含んでおり、該短尺バー部の各々は半径方向の外向きフィンガー含み、該フィンガーの各々は、前記ハンガーブラケットを受け止めて解放可能に支持する座部を有している１／４回転留具およびハンガーブラケット。
【請求項３】
留具収納用受承孔を有するベースプレートを伴う１／４回転留具およびハンガーブラケットの組立体において、
留具挿通孔を有するハンガーブラケットと、
前記ハンガーブラケットに連結可能で、かつ、前記ベースプレートに連結可能な挿入位置と、前記ハンガーブラケットを前記ベースプレートに解放可能に固定する係止位置との間で回転可能な留具本体と、
前記留具を前記挿入位置と前記係止位置との間で移動させる頭部と、
前記ハンガーブラケットの前記留具挿通孔および前記ベースプレートの前記留具受承孔を通過する寸法にて形成され、前記係止位置にて前記ベースプレートの前記後面に当接する少なくとも１つの当接面を含む取付部とを具備し、
前記取付部は２つの互いに反対方向へ延びる短尺バー部を含み、該２つのバーの各々は半径方向の外向きフィンガーを含み、該フィンガーの各々は、前記ハンガーブラケットを受承しこれを解放可能に支持する座部を有しており、
前記ハンガーブラケットの前記留具挿通孔は、互いに反対方向へ延びる短尺スロットを含み、該互いに反対方向へ延びる短尺スロットの各々は、前記取付部に向かって延びる外向き舌部を含み、
頭部は、側方向外方にかつ前記取付部に向かって延びる変形可能な弾性アームであって、前記ハンガーブラケットの前記前面に係合して、前記少なくとも１つの当接面を前記ベースプレートの前記後面に対して当接関係にするように、かつ前記舌部を前記ベースプレートの前記留具収納受承孔内に付勢する端部を有する、弾性アームを含む、組立体。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月20日(2015.3.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遠隔物体（３０５）を画像化する複数視野ハイパースペクトルイメージング装置（３００、６００）において、
前記遠隔物体の第１部分（３０９）から第１画像（３０７、６５０）を受け取る、第１前方レンズ（３０８、６０８）、
前記遠隔物体の第２部分（３１３）から第２画像（３１１、６５２）を受け取る、第２前方レンズ（３１０、６１０）、
第１折返しミラー（３１２、６１６）、
第２折返しミラー（３１４、６１８）、
第１開口（３１８、６２６）と第２開口（３２０、６２８）とを備えているスリット（３１６、６２４）であって、このとき前記第１前方レンズから前記第１画像を受ける前記第１折返しミラーであって、トリムされた第１画像（３３４、６５８）を出力する前記第１開口へと前記第１画像を導く前記第１折返しミラーに、前記第１前方レンズが関連したものであり、かつ前記第２前方レンズから前記第２画像を受ける前記第２折返しミラーであって、トリムされた第２画像（３３６、６６０）を出力する前記第２開口へと前記第２画像を導く前記第２折返しミラーに、前記第２前方レンズが関連したものである、スリット、
前記トリムされた第１画像を前記第１開口から受けて、回折された第１画像（３３８、６６６）を出力し、かつ、前記トリムされた第２画像を前記第２開口から受けて、回折された第２画像（３４０、６６８）を出力するように設置された、分光計（３０２、６０２）、および、
前記回折された第１画像と前記回折された第２画像とを前記分光計から最終焦点面（３４１、６７４）で受けて、その後、該回折された第１画像および回折された第２画像の、２次元画像を出力するように設置された、２次元検出器（３２２、６３４）、
を備えていることを特徴とする複数視野ハイパースペクトルイメージング装置。
【請求項２】
前記スリットの前記第１開口が、前記第２開口から、前記最終焦点面での回折界を超える分だけ離れていることを特徴とする請求項１記載の複数視野ハイパースペクトルイメージング装置。
【請求項３】
前記分光計がオフナー分光計であり、該オフナー分光計が、前記第１開口および第２開口から前記トリムされた第１画像およびトリムされた第２画像を受ける、第１ミラー（３２６、６３８）、前記第１ミラーから反射された前記トリムされた第１画像およびトリムされた第２画像を受けて、前記回折された第１画像および回折された第２画像を出力する、回折格子（３２８、６４０）、前記回折格子から前記回折された第１画像および回折された第２画像を受けて、該回折された第１画像および回折された第２画像を前記２次元検出器へと反射する、第２ミラー（３３０、６４２）、を備えていることを特徴とする請求項１記載の複数視野ハイパースペクトルイメージング装置。
【請求項４】
前記２次元検出器が、前記回折された第１画像と前記回折された第２画像との重複を防ぐためのフィルタを備えていることを特徴とする請求項１記載の複数視野ハイパースペクトルイメージング装置。
【請求項５】
前記第１前方レンズおよび前記第２前方レンズが、同じ倍率を有していることを特徴とする請求項１記載の複数視野ハイパースペクトルイメージング装置。
【請求項６】
前記第１前方レンズが広視野を有しかつ前記第２前方レンズが狭視野を有するように、前記第１前方レンズおよび前記第２前方レンズが異なる倍率を有していることを特徴とする請求項１記載の複数視野ハイパースペクトルイメージング装置。
【請求項７】
前記第２前方レンズに関連するステアリングミラー（３４４）をさらに備え、ここで広視野を有する前記第１前方レンズが、時間領域において、狭視野を有する前記第２前方レンズに先行するものであり、これにより、特定のスペクトルシグネチャを広視野で捜して、かつ該特定のスペクトルシグネチャが発見されたときに、前記ステアリングミラーを制御して前記狭視野を前記特定のスペクトルシグネチャ上に集中するように位置付けることが可能になることを特徴とする請求項６記載の複数視野ハイパースペクトルイメージング装置。
【請求項８】
前記第１前方レンズまたは前記第２前方レンズからのいずれかの１視野のみを一度にアクティブにするように制御されるシャッター（３４６）を、さらに備えていることを特徴とする請求項１記載の複数視野ハイパースペクトルイメージング装置。
【請求項９】
少なくともさらに１つの前方レンズ（６１２、６１４）、少なくともさらに１つの折返しミラー（６２０、６２２）、少なくともさらに１つの開口（６３０、６３２）を備えた前記スリット、をさらに含み、かつ前記２次元検出器が、前記２次元画像を、少なくともさらに１つの回折された画像とともに出力することを特徴とする請求項１記載の複数視野ハイパースペクトルイメージング装置。
【請求項１０】
遠隔物体（３０５）を画像化するために複数視野ハイパースペクトルイメージング装置（３００、６００）を使用する方法において、
複数視野ハイパースペクトルイメージング装置であって、
前記遠隔物体の第１部分（３０９）から第１画像（３０７、６５０）を受け取る、第１前方レンズ（３０８、６０８）、
前記遠隔物体の第２部分（３１３）から第２画像（３１１、６５２）を受け取る、第２前方レンズ（３１０、６１０）、
第１折返しミラー（３１２、６１６）、
第２折返しミラー（３１４、６１８）、
第１開口（３１８、６２６）と第２開口（３２０、６２８）とを備えているスリット（３１６、６２４）であって、このとき前記第１前方レンズから前記第１画像を受ける前記第１折返しミラーであって、トリムされた第１画像（３３４、６５８）を出力する前記第１開口へと、前記第１画像を導く前記第１折返しミラーに、前記第１前方レンズが関連したものであり、かつ前記第２前方レンズから前記第２画像を受ける前記第２折返しミラーであって、トリムされた第２画像（３３６、６６０）を出力する前記第２開口へと、前記第２画像を導く前記第２折返しミラーに、前記第２前方レンズが関連したものである、スリット、
前記トリムされた第１画像を前記第１開口から受けて、回折された第１画像（３３８、６６６）を出力し、かつ、前記トリムされた第２画像を前記第２開口から受けて、回折された第２画像（３４０、６６８）を出力するように設置された、分光計（３０２、６０２）、および、
前記回折された第１画像と前記回折された第２画像とを前記分光計から最終焦点面（３４１、６７４）で受けて、その後、該回折された第１画像および回折された第２画像の、２次元画像を出力するように設置された、２次元検出器（３２２、６３４）、
を備えた複数視野ハイパースペクトルイメージング装置を提供するステップステップ、および、
前記第１前方レンズと前記第２前方レンズとを制御して、前記回折された第１画像および前記回折された第２画像の、前記２次元画像を得るステップ、
を含むことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月5日(2015.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）多層体であって、
ｉ）半反射層と、
ｉｉ）視覚的に変化することにより、化学剤の存在に応答する検出層と、
ｉｉｉ）反射層と、を含む多層体と、
ｂ）前記反射層の表面に固定した接着性マスキング層と、を含む化学センサーであって、前記接着性マスキング層は、０℃以上のＴｇを有し、ａ）高Ｔｇモノマー単位と、ｂ）アルキル（メタ）アクリロイルモノマー単位と、からなる（メタ）アクリロイル接着性コポリマーを含む、化学センサー。
【請求項２】
前記接着性マスキング層が（メタ）アクリロイル接着性コポリマー層とフィルム層とを含む、請求項１に記載の化学センサー。
【請求項３】
前記（メタ）アクリロイル接着性コポリマーが、
ａ）５〜９５重量部の前記高Ｔｇモノマー単位と、
ｂ）９５〜５５重量部の前記アルキル（メタ）アクリロイルモノマー単位と、
ｃ）０〜４０重量部の酸官能性モノマー単位と、
ｄ）０〜１５重量部の極性モノマーと、
ｅ）０〜５重量部の他のビニルモノマーと、
ｆ）０〜５重量部の多官能性（メタ）アクリレートと、を含み、
前記モノマーの合計が１００重量部であり、
任意で可塑剤を含む、請求項１に記載のセンサー。
【請求項４】
前記（メタ）アクリロイル接着性コポリマーが、
ａ）１０℃のＴｇを有する少なくとも８８重量％の前記高Ｔｇモノマー単位、
ｂ）２０℃のＴｇを有する少なくとも８０重量％の前記高Ｔｇモノマー単位、
ｃ）３０℃のＴｇを有する少なくとも７３重量％の前記高Ｔｇモノマー単位、
ｄ）４０℃のＴｇを有する少なくとも６８重量％の前記高Ｔｇモノマー単位、
ｅ）５０℃のＴｇを有する少なくとも６４重量％の前記高Ｔｇモノマー単位、
ｆ）６０℃のＴｇを有する少なくとも６０重量％の前記高Ｔｇモノマー単位、
ｇ）７０℃のＴｇを有する少なくとも５７重量％の前記高Ｔｇモノマー単位、
ｈ）８０℃のＴｇを有する少なくとも５４重量％の前記高Ｔｇモノマー単位、
ｉ）９０℃のＴｇを有する少なくとも５２重量％の前記高Ｔｇモノマー単位、又は、
ｊ）１００℃のＴｇを有する少なくとも５０重量％の前記高Ｔｇモノマー単位、を含む、請求項１に記載のセンサー。
【請求項５】
前記検出層が、固有ミクロ孔質を有するポリマー（ＰＩＭ）を含む、請求項１に記載のセンサー。
【請求項６】
前記接着性コポリマーが多官能性（メタ）アクリレート架橋剤を更に含む、請求項１に記載のセンサー。
【請求項７】
有機物質の蒸気を検出する、請求項１に記載のセンサー。
【請求項８】
ハウジングと、該ハウジング内に配置された濾材と、前記ハウジングの側壁を通じて視認可能な、請求項１に記載のセンサーと、を含む、フィルターカートリッジ。
【請求項９】
当該フィルターカートリッジの残存耐用期間を示す１つ以上のマークを含む、請求項８に記載のフィルターカートリッジ。
【請求項１０】
マスク本体と、請求項８に記載の１つ以上のフィルターカートリッジと、を含むレスピレーター。