【事件の表示】
　特願２００９−５４９９０８「弾性表面波装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２１年　７月２３日国際公開、ＷＯ２００９／０９０７１３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、２００８年１２月２２日（優先権主張２００８年１月１７日、２００８年８月１２日、日本国）を国際出願日とする出願であって、平成２４年５月１４日付けの拒絶理由の通知に対し、平成２４年７月１９日付けで手続補正がなされたが、平成２４年９月１１日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成２４年１２月１３日に審判請求がなされたものである。 
　
　
２．本願発明
　本願の請求項に係る発明は、平成２４年７月１９日付けの手続補正書の特許請求の範囲の請求項１〜３に記載された事項により特定されるものであるところ、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という）は、次のとおりのものである。
　
「【請求項１】
　ＬｉＮｂＯ３基板からなり、上面に複数本の溝が形成されている圧電基板と、
　前記圧電基板の上面の複数本の溝に充填された金属材料からなる複数本の電極指を有するＩＤＴとを備え、
　前記金属材料がＣｕまたはＣｕを主体とする合金からなり、弾性表面波の波長をλとした場合、前記ＩＤＴの電極膜厚と、前記ＬｉＮｂＯ３基板のオイラー角（０°±１０°，θ，０°±１０°）のθが下記の表１に示す組合せの１種であることを特徴とする、弾性表面波装置。
　
　　【表１】　
　」
　
　
３．引用文献
　原査定の拒絶の理由で引用された本願の優先権主張の日前に頒布された刊行物である国際公開第２００６／０１１４１７号（以下、「引用文献１」という）には、図面とともに、次の事項が記載されている（なお、下線は当審が付した。）。
　
ア．「【００６１】
　本実施例では、より具体的には、ＬｉＴａＯ３基板１として、３６°回転Ｙ板Ｘ伝搬、オイラー角で（０°，１２６°，０°）のＬｉＴａＯ３基板が用いられている。もっとも、オイラー角については、後述するように種々変更することができる。なお、オイラー角（φ，θ，ψ）のθ＝回転カット角＋９０°の関係や、（φ，θ，ψ）＝（６０°＋φ，−θ，ψ）＝（６０°−φ，−θ，１８０°−ψ）＝（φ，１８０°＋θ，１８０°−ψ）＝（φ，θ，１８０°＋ψ）の関係がある。
  【００６２】
　次に、ＬｉＴａＯ３基板１の上面１ａ上に、全面にフォトレジスト層２を形成する。フォトレジスト層２としては、後で行われる反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）に耐えられる適宜のフォトレジスト材料を用いることができる。本実施例では、クリアラントジャパン社製、ポジレジスト、品番：ＡＺ−１５００を用いた。また、本実施例では、上記フォトレジスト層２の厚みを２μｍとした。
  【００６３】
　次に、フォトレジスト層を感光し、洗浄することにより、図１（ｂ）に示すように、フォトレジスト層２をパターニングし、フォトレジストパターン２Ａを形成した。このフォトレジストパターン２Ａでは、後でＩＤＴ電極が形成される部分においてフォトレジスト層が除去されている。
  【００６４】
　しかる後、反応性イオンエッチングを行い、図１（ｃ）に示すように、
ＬｉＴａＯ
３
基板１の上面１ａに所望の深さの複数本の溝１ｂを形成した。
  【００６５】
　次に、蒸着またはスパッタリングにより、Ａｌ膜を成膜した。その結果、図１（ｄ）に示すように、
溝１ｂ内に、Ａｌ膜すなわち、電極膜３が充填された。
  【００６６】
　しかる後、ＬｉＴａＯ３基板をアセトン等の剥離溶液に浸漬し、上記フォトレジストパターン２Ａ及びフォトレジストパターン２Ａ上のＡｌ膜を除去した。このようにして、図１（ｅ）に示すように、
電極膜３が溝１ｂに充填されており、上面がほぼ面一であるＬｉＴａＯ
３
基板１を得た。
  【００６７】
　しかる後、図１（ｆ）に示すように、上面にＳｉＯ２膜４を成膜した。ＳｉＯ２膜の表面は、平坦化されている。これは、下地となるＬｉＴａＯ３基板１の上面１ａと電極膜３の上面とがほぼ面一であり、ほぼ平坦化されているため、通常の成膜方法でＳｉＯ２膜を成膜すると、ＳｉＯ２膜の表面が確実に平坦化され得るからである。。
  【００６８】
　なお、ＳｉＯ２膜の成膜方法は、特に限定されず、印刷法、蒸着またはスパッタリングなどの適宜の方法により行われ得る。
  【００６９】
　なお、図１（ａ）〜（ｆ）では、電極部分のみを代表して説明することにより、本実施例の弾性表面波装置の製造方法を説明したが、より具体的には、このようにして、図２に平面図で示す１ポート型の弾性表面波共振子１１を得た。
  【００７０】
　なお、１ポート型弾性表面波共振子１１は、ＩＤＴ電極を構成している電極膜３の弾性表面波伝搬方向両側に反射器１２，１３を備えている。反射器１２，１３も、ＩＤＴ電極である電極膜３と同じ工程により形成される。
上述した図１（ａ）〜（ｆ）を用いて説明した本実施例の弾性表面波装置の製造方法、及び図２に平面図で示す１ポート型の弾性表面波共振子１１では、ＬｉＴａＯ
３
基板を用いたが、ＬｉＮｂＯ
３
基板を用いた場合でも同様に構成され得る。
  【００７１】
　（実験例１）
　比較のために、特許文献１に記載の製造方法に従って得られたことを除いては、上記実施例と同様にして形成された複数種の弾性表面波共振子を以下の要領で作製した。なお、実験例１ではＬｉＴａＯ３基板を用いた。
  【００７２】
　すなわち、上記実施例及び比較例の弾性表面波共振子として、電極膜厚を種々異ならせ、それぞれ複数種の弾性表面波共振子を得た。なお、ＳｉＯ２膜の規格化膜厚Ｈ／λは０．２５とした。なお、本明細書において電極またはＳｉＯ２膜の規格化膜厚は、膜厚をＨ、ＩＤＴの波長をλとしたときに、Ｈ／λで表わされる値である。上記のようにして作製された弾性表面波共振子の電気機械結合係数を測定した。結果を図３に示す。
  【００７３】
　図３の実線は実施例の結果を、破線は比較例の結果を示す。
  【００７４】
　図３から明らかなように、上記実施例によれば、比較例の弾性表面波共振子に比べて、同等以上の電気機械結合係数の得られることがわかる。特に、
電極の規格化膜厚Ｈ／λが０．０６〜０．１２の範囲においては、比較例の弾性表面波共振子よりも電気機械結合係数が０．０３程度高められることがわかる。
  【００７５】
　（実験例２）
　次に、上記実施例の弾性表面波共振子、比較例１の弾性表面波共振子に加えて、ＳｉＯ２膜の表面が平坦ではない従来の弾性表面波共振子を比較例２の弾性表面波共振子として作製した。各弾性表面波共振子において、ＬｉＴａＯ３基板のオイラー角及びＳｉＯ２膜の規格化膜厚は図３に示した結果を得た場合と同様とした。
  【００７６】
　実験例２においても、電極の規格化膜厚Ｈ／λを種々異ならせ、それぞれ複数種の弾性表面波共振子を作製し、反射係数を求めた。結果を図４に示す。
  【００７７】
　図４から明らかなように、比較例１の弾性表面波共振子では、電極規格化膜厚を増加させた場合であっても、反射係数が高くならないことがわかる。これに対して、
実施例の弾性表面波共振子では、電極規格化膜厚が増大するにつれて、反射係数が十分に大きくなっていくことがわかる。
  【００７８】
　従って、図３及び図４の結果から、
上記実施例によれば、電気機械結合係数が十分大きく、かつ電極膜厚を増大させることにより、十分な大きさの反射係数を得られることがわかる。
　
イ．「【０１２２】
　次に、
圧電基板としてＬｉＮｂＯ
３
基板を用いた弾性表面波装置
  【０１２３】
　図２６はＬＩＮｂＯ３基板のオイラー角を（０°，１７０°，０°）とし、Ａｌの規格化膜厚を０．０２、０．０６、０．１、０．１６としたときの、ＳｉＯ２膜の規格化膜厚の変化に対するＴＣＦの変化を示したものである。図２６から明らかなようにＳｉＯ２膜の規格化膜厚が０．２〜０．４の範囲にあるときは、ＴＣＦを±３０ｐｐｍ／℃の範囲にすることができるＡｌ電極の規格化膜厚が存在することがわかる。即ち、ＳｉＯ２膜の規格化膜厚が小さいときはＡｌの規格化膜厚を小さくすれば良く、ＳｉＯ２膜の規格化膜厚が大きいときはＡｌの規格化膜厚を大きくすれば良い。またＳｉＯ２膜の規格化膜厚を０．２５〜０．３の範囲とすれば、Ａｌの規格化膜厚が０．０２〜０．１６の全ての範囲でＴＣＦを±３０ｐｐｍ／℃の範囲にすることができる。他のオイラー角においても、ＳｉＯ２膜の規格化膜厚を上記の範囲とすることにより良好なＴＣＦを示す。
  【０１２４】
　
図２７はＬｉＮｂＯ
３
基板のオイラー角を（０°，１０５°，０°）としたときのＳｉＯ
２
膜の種々の規格化膜厚において、Ａｌの規格化膜厚を変化させたときの電気機械結合係数Ｋ
２
の変化を、上記比較例と本実施例を併記して示した図である。 
　【０１２５】
　同様に図２８は、図２７と同じ条件での反射係数の変化を示す図である。
以降同様に、図２９及び図３０はオイラー角を（０°，１３１°，０°）、図３１及び図３２はオイラー角を（０°，１５４°，０°）、図３３及び図３４はオイラー角を（０°，１７０°，０°）としたことを除いては、図２７及び図２（の場合と同じ条件で、それぞれ、電気機械結合係数Ｋ２の変化及び反射係数の変化を示す図である。
  【０１２６】
　
図２７、図２９、図３１、図３３によれば、Ａｌの規格化膜厚が０．０４以上の領域では本実施例の電気機械結合係数Ｋ
２
はいずれも比較例に比較して大きくなっていることがわかる。また図２８、図３０、図３２、図３４によれば、反射係数は比較例に比較してほぼ同等の値を示していることがわかる。特にＡｌの規格化膜厚が大きい領域では、比較例に比較して電気機械結合係数Ｋ
２
は十分大きく、また反射係数も大きくなるため好ましい。
  【０１２７】
　
オイラー角が（０°，８５°〜１２０°，０°）の範囲にあるときも図２７及び図２８に示した結果とほぼ同様の結果となり、（０°，９０°〜１１０°，０°）の範囲にあるときはより好ましい結果が得られた。また、オイラー角が（０°，１２５°〜１４１°，０°）の範囲にあるときも図２９及び図３０に示した結果とほぼ同様の結果となり、（０°，１２５°〜１３６°，０°）の範囲にあるときはより好ましい結果が得られた。オイラー角が（０°，１４５°〜１６４°，０°）の範囲にあるときも図３１及び図３２に示した結果とほぼ同様の結果となり、（０°，１４９°〜１５９°，０°）の範囲にあるときはより好ましい結果が得られた。オイラー角が（０°，１６０°〜１８０°，０°）の範囲にあるときも図３３及び図３４に示した結果とほぼ同様の結果となり、（０°，１６５°〜１７５°，０°）の範囲にあるときはより好ましい結果が得られた。
  【０１２８】
　なお、本願発明者らは、ＬｉＮｂＯ３基板を用いた実施形態の上記弾性表面波装置において、ＬｉＴａＯ３基板を用いた前述した実施形態の弾性表面波装置の場合と同様に、図１（ｅ）に示されている溝６１ｂの内角Ｘを種々変化させた結果、内角が４５°〜９０°の範囲にある場合、電気機械結合係数が十分な大きさとなり、特に、５０°〜８０°の範囲に設定した場合には、さらに、電気機械結合係数のばらつきを非常に小さくし得ることを確かめた。すなわち、ＬｉＴａＯ３基板を用いた場合と同様に、ＬｉＮｂＯ３基板を用いた場合においても、上記溝の内角を上記特定の範囲とすることにより、同様に電気機械結合係数の改善、さらに電気機械結合係数のばらつきを小さくし得ることを確かめた。
  【０１２９】
　また、
本願発明者らはＬｉＮｂＯ
３
に対してＡｌ電極以外の金属においても検討を行った、その結果を図３５及び図３６に示す。図３５は、上記実施形態の弾性表面波装置において、ＩＤＴ電極をＡｕで形成し、その上のＳｉＯ
２
の規格化膜厚が０．３で、ＬｉＮｂＯ
３
基板のオイラー角を変化させたときと、Ａｕ電極規格化膜厚を変化させたときの電気機械結合係数Ｋ
２
の変化を示す図である。また、図３６は、上記実施形態の弾性表面波装置において、ＩＤＴ電極をＡｕで形成し、その上のＳｉＯ
２
の規格化膜厚が０．３で、ＬｉＮｂＯ
３
基板のオイラー角を変化させたときと、Ａｕ電極規格化膜厚を変化させたときの反射係数の変化を示す図である。いずれのオイラー角においてもＡｌと同等もしくはそれ以上の電気機械結合係数Ｋ
２
が得られているのに加え、反射係数はＡｌの場合よりも大きな反射係数を得ることが出来る。図は省略するが、Ｃｕ，Ｎｉ，Ｍｏ，Ａｇ，Ｔａ，Ｗ等の金属においてもＡｕに近い電気機械結合係数Ｋ
２
と反射係数が得られ、温度特性に優れ、電気機械結合係数Ｋ
２
が大きく、反射係数が大きい弾性表面波素子を得ることが出来る。
　
　上記ア、イの記載を総合すれば、引用文献１には、以下の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　
「　ＬｉＮｂＯ３基板１の上面１ａに所望の深さの複数本の溝１ｂを形成し、
　溝１ｂ内に、Ｃｕ膜すなわち、電極膜３が充填されて、上面をほぼ面一とした
弾性表面波装置。」
　 
　さらに、上記ア、イの記載や図面を総合すれば、引用文献１には、上記した引用発明のほか、以下の事項が記載されている。
　
（ア）　オイラー角が（０°，１０５°，０°）、（０°，１３１°，０°）、（０°，１５４°，０°）、又は、（０°，１７０°，０°）であるＬｉＮｂＯ３基板の上面に複数本の溝を形成し、溝に上面が面一となるＡｌ膜を充填した電極を形成した弾性表面波装置では、
　電極の規格化膜厚が０．０４以上の領域ではいずれも基板の上面に電極を形成したものよりも電気機械結合係数Ｋ２が大きく、また反射係数も大きくなるため好ましいこと。
　
（イ）　オイラー角が（０°，１０５°，０°）であるＬｉＮｂＯ３基板の上面に複数本の溝を形成し、溝に上面が面一となるＡｕ膜を充填した電極を形成した弾性表面波装置では、
　電極規格化膜厚Ｈ／λが０．０４となる付近で電気機械結合係数Ｋ２はピークとなり、電極規格化膜厚Ｈ／λが０．０４から離れるほど電気機械結合係数Ｋ２は低下すること。
　
　
４．対比
　引用発明では、「ＬｉＮｂＯ３基板１の上面１ａに所望の深さの複数本の溝１ｂ」が形成されており、ＬｉＮｂＯ３基板は圧電性を有する基板であるといえるから、引用発明は本願発明と同様に、「ＬｉＮｂＯ３基板からなり、上面に複数本の溝が形成されている圧電基板」を備えているといえる。
　引用発明は、「ＬｉＮｂＯ３基板１の上面１ａに所望の深さの複数本の溝１ｂを形成し、溝１ｂ内に、Ｃｕ膜すなわち、電極膜３が充填されて、上面をほぼ面一とした弾性表面波装置」であり、弾性表面波装置の電極はＩＤＴであるといえるから、引用発明は、本願発明と同様に、「前記圧電基板の上面の複数本の溝に充填された金属材料からなる複数本の電極指を有するＩＤＴとを備え」ており、「前記金属材料がＣｕまたはＣｕを主体とする合金からな」っているといえる。
　
　したがって、本件補正発明と引用発明１を対比すると、次の点で一致・相違する。
　
＜一致点＞
　ＬｉＮｂＯ３基板からなり、上面に複数本の溝が形成されている圧電基板と、
　前記圧電基板の上面の複数本の溝に充填された金属材料からなる複数本の電極指を有するＩＤＴとを備え、
　前記金属材料がＣｕまたはＣｕを主体とする合金からなる弾性表面波装置。
　
＜相違点＞
　本願発明は、「弾性表面波の波長をλとした場合、前記ＩＤＴの電極膜厚と、前記ＬｉＮｂＯ３基板のオイラー角（０°±１０°，θ，０°±１０°）のθが下記の表１に示す組合せの１種である　
　　【表１】
　」
のに対して、電極の膜厚及びＬｉＮｂＯ３基板のオイラー角の数値が特定されていない点で相違する。
　
　
５．当審の判断
（１）相違点について
　以下の事情を勘案すると、引用発明の電極膜厚及びＬｉＮｂＯ３基板のオイラー角（０°±１０°，θ，０°±１０°）のθを下記の表１に示す組合せの１種とすることは、当業者が容易になし得ることができたものというべきである。 
　　【表１】
　
ａ．　上記「３．引用文献」で（ア）に指摘したように、引用文献１には、「オイラー角が（０°，１０５°，０°）、（０°，１３１°，０°）、（０°，１５４°，０°）、又は、（０°，１７０°，０°）であるＬｉＮｂＯ３基板の上面に複数本の溝を形成し、溝に上面が面一となるＡｌ膜を充填した電極を形成した弾性表面波装置では、Ａｌの規格化膜厚が０．０４以上の領域ではいずれも基板の上面に電極を形成したものよりも電気機械結合係数Ｋ２が大きく、また反射係数も大きくなるため好ましいこと。」が開示され、この記載からみて、引用文献１では、電極の規格化膜厚と電極のオイラー角θを変更させて電気機械結合係数Ｋ２の最適な範囲を求めることが行われたことが示唆されているといえる。 
　また、オイラー角（φ，θ，ψ）におけるオイラー角θのみではなく、オイラー角φやオイラー角ψによっても、電気機械結合係数Ｋ２が変化することは当業者にとって周知な事項であるとともに、電気機械結合係数Ｋ２は大きい方が好ましいことも周知な事項である。 
　してみると、電極膜の金属材料として、Ｃｕを用いた構成において、所望の電気機械結合係数Ｋ２の値が得られるように、電気機械結合係数Ｋ２が依存する基板のオイラー角（φ，θ，ψ）や電極規格化膜厚Ｈ／λなどの数値範囲を最適化又は好適化することは、当業者の通常の創作能力の発揮に過ぎないといえること。 
　
ｂ．　本願明細書では、電極膜厚及びＬｉＮｂＯ３基板のオイラー角（０°±１０°，θ，０°±１０°）のθを表１に示す組合せとすることで、電気機械結合係数が０．２以上となるとしているが、明細書中に開示されたデータは何れもオイラー角が（０°，θ，０°）の場合のみであり、オイラー角（φ，θ，ψ）におけるφが１０°又は−１０°の場合や、ψが１０°又は−１０°の場合、表１に示された電極の規格化膜厚やオイラー角θの組合せで、電気機械結合係数が如何なる値となるかについての開示はない。
　このため、電極の規格化膜厚やオイラー角（φ，θ，ψ）の数値範囲を規定する電気機械結合係数Ｋ２の値に、格別な技術的意義は認められない。
　仮に、オイラー角φ及びオイラー角ψが０°±１０°でも、表１に示す電極の規格化膜厚やオイラー角θの範囲で電気機械結合係数Ｋ２が０．２以上となるとしても、所望の電気機械結合係数Ｋ２として用いられる値の１つに０．２という値があることは、特開平１０−２０９８０１号公報の段落【００２３】の「ＺｎＯ薄膜の規格化された膜厚Ｈ／λを選択することにより、０．２以上の大きな電気機械結合係数ｋｓの得られることがわかる」なる記載にみられるように周知な事項であって、電極の規格化膜厚やオイラー角（φ，θ，ψ）の数値範囲を規定する電気機械結合係数Ｋ２の値として、０．２という数値は格別な数値であるとは認められないこと。
　
ｃ．　上記「３．引用文献」で（ア）、（イ）で指摘したように、引用文献１では、ＬｉＮｂＯ３基板におけるオイラー角（０°，１０５°，０°）が記載されている。
　該記載に見られるように、弾性表面波装置の圧電基板に用いられるＬｉＮｂＯ３基板のオイラー角として、θ＝１０５°は常套的に用いられる角度であり、このθ＝１０５°の付近で、実験的にオイラー角θの最適化又は好適化することに格別な困難性は認められないこと。
　
ｄ．　上記「３．引用文献」で（ア）、（イ）で指摘したように、引用文献１では、ＬｉＮｂＯ３基板におけるオイラー角（０°，１０５°，０°）が記載されている。
　該記載に見られるように、弾性表面波装置の圧電基板に用いられるＬｉＮｂＯ３基板のオイラー角として、φ=０°やψ＝０°は常套的に用いられる角度であり、このφ=０°、ψ＝０°の付近で、実験的にオイラー角φ、ψの最適化又は好適化することに格別な困難性は認められないこと。
　
ｅ．　上記「３．引用文献」で（ア）で指摘したように、引用文献１では、電極膜の規格化膜厚が０．０４以上であることが記載されている。
　該記載に見られるように、電極膜の規格化膜厚０．０４は常套的に用いられる膜厚であり、この値の付近で、実験的に電極の規格化膜厚の最適化又は好適化することに格別な困難性は認められないこと。
　
ｆ．　本願明細書又は図面の記載からみて、請求項１の表１に示された数値範囲の範囲内と範囲外とで電気機械結合係数Ｋ２などの特性における大きな相違はない、すなわち、限定された数値範囲は臨界的意義を有しているとはいえないこと。
　
ｇ．　以上のことは、引用発明において上記相違点に係る本願発明の構成を採用することは当業者が適宜に設計できる事項であることを意味しており、当業者であれば容易になし得た事項であるというべきである。
　
　
（２）本願発明の効果について
　本願発明の構成によってもたらされる効果は、引用発明、引用文献１の記載事項、及び、周知な事項から当業者が予測し得た程度のものであり、本願発明の進歩性を根拠付けるに足りるものとはいえない。 
　
　
（３）まとめ 
　よって、本願発明は、引用発明、引用文献１の記載事項、及び、周知な事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。 
　
　
６．むすび　　
　以上のとおり、本願発明は、引用発明、引用文献１の記載事項、及び、周知な事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 
　したがって、本願は、他の請求項について検討するまでもなく、拒絶されるべきものである。
  
　よって、結論のとおり審決する。