【手続補正書】
【提出日】平成27年4月1日(2015.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉ）ＢＥＡ骨格構造を有する１以上のゼオライト系材料を供する工程、ここにおいて、該ＢＥＡ骨格構造はＹＯ２およびＸ２Ｏ３を含み、ここにおいて、Ｙは四価元素であって、Ｘは三価元素であり；
（ｉｉ）工程（ｉ）で供された該１以上のゼオライト系材料を、該ＢＥＡ骨格構造からＸの少なくとも一部を除去するための手法に付す工程；
を含み：
工程（ｉ）で供された該１以上のゼオライト系材料のＹ：Ｘのモル比は、各々、１から５０の範囲に含まれ、ここにおいて、工程（ｉ）で供された該１以上のゼオライト系材料は有機テンプレートを含まない合成プロセスから得ることができることを特徴とする、ＢＥＡ骨格構造を有するゼオライト系材料の調製方法。
【請求項２】
工程（ｉ）で供された該１以上のゼオライト系材料のＹ：Ｘのモル比が１．５から３５の範囲に含まれる請求項１記載の方法。
【請求項３】
ＹがＳｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｇｅ、およびその２以上の組合せよりなる群から選択される請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
ＸがＡｌ、Ｂ、Ｉｎ、Ｇａ、およびその２以上の組合せよりなる群から選択される請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
工程（ｉ）で供された１以上のゼオライト系材料が有機テンプレートを含まない合成方法から得られた請求項１から４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
工程（ｉ）で供された１以上のゼオライト系材料がか焼されない請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
工程（ｉ）で供された１以上のゼオライト系材料のＤＩＮ  ６６１３５に従って決定されたＢＥＴ表面積が２００から７００ｍ２／ｇの範囲である請求項１から６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
該１以上のゼオライト系材料がゼオライトベータを含む請求項１から７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
工程（ｉ）で供された１以上のゼオライト系材料が１以上のアルカリ金属Ｍを含む請求項１から８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
Ｍ：Ｘのモル比が０．０１から２０の範囲である請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
工程（ｉｉ）における手法に先立って、工程（ｉ）で供された１以上のゼオライト系材料に含有されたアルカリ金属原子Ｍの少なくとも一部がＨ＋および／またはＮＨ４＋で交換される請求項９または１０に記載の方法。
【請求項１２】
該イオン交換プロセスが、０から７の範囲のｐＨで行われる請求項９から１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
ＢＥＡ骨格構造からＸの少なくとも一部を除去するための工程（ｉｉ）における該手法が１以上の蒸気処理工程（Ｓ）を含む請求項１から１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
該１以上の蒸気処理工程（Ｓ）が、２００から１，０００℃の温度で行われる請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
該１以上の蒸気処理工程（Ｓ）が、０．１から４８時間の持続時間の間に行われる請求項１３または１４に記載の方法。
【請求項１６】
該１以上の蒸気処理工程（Ｓ）が、５から７５容量％の蒸気濃度を用いて行われる請求項１３から１５のいずれかに記載の方法。
【請求項１７】
工程（ｉｉ）における該手法が、さらに、１以上の蒸気処理工程（Ｓ）から得られた１以上のゼオライト系材料を１以上の酸処理工程（Ａ）に付すことを含む請求項１３から１６のいずれかに記載の方法。
【請求項１８】
該１以上の酸処理工程（Ａ）が、１以上のゼオライト系材料を、４以下のｐＨを有する酸性溶液と接触させることを含む請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
該１以上の酸処理工程（Ａ）が、１以上のゼオライト系材料を、５０から１００℃の温度にて酸性溶液と接触させることを含む請求項１７または１８に記載の方法。
【請求項２０】
該１以上の酸処理工程（Ａ）が、１以上のゼオライト系材料を、０．２５から５時間の間、酸性溶液と接触させることを含む請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
ＢＥＡ骨格構造からＸの少なくとも一部を除去するための工程（ｉｉ）における該手法が、１以上のか焼工程（Ｃ）を含む請求項１から２０のいずれかに記載の方法。
【請求項２２】
該１以上のか焼工程（Ｃ）が、４５０から８００℃の温度で行われる請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
該１以上のか焼工程（Ｃ）が、０．５から１０時間の範囲の時間に行われる請求項２１または２２に記載の方法。
【請求項２４】
工程（ｉｉ）が１回以上反復される請求項１から２３のいずれかに記載の方法。
【請求項２５】
工程（ｉｉ）の該反復が、請求項２３に記載された該１以上のか焼工程（Ｃ）のうちの１以上の反復を含む請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
反復工程（ｉｉ）に先立って、該１以上のゼオライト系材料に各々が存在する非骨格イオンの少なくとも一部が１以上のカチオンおよび／またはカチオン性元素で交換される請求項２４または２５に記載の方法。
【請求項２７】
該非骨格イオンがＸを含む請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
請求項１から２７のいずれかに従って得ることができる、および／または得られたＢＥＡ骨格構造を有するゼオライト系材料。
【請求項２９】
請求項１から２７のいずれかに従って所望により得ることができ、および／または得られたＢＥＡ骨格構造を有するゼオライト系材料であって、
該ＢＥＡ骨格構造がＹＯ２およびＸ２Ｏ３を含み、ここにおいてＹが四価元素であって、Ｘが三価元素であり、
該ゼオライト系材料の１Ｈ  ＭＡＳ  ＮＭＲが：
０．４０から１．００ｐｐｍの範囲の第一のピーク（Ｐ１）；
１．４０から２．００ｐｐｍの範囲の第二のピーク（Ｐ２）；および
２．３０から２．９０ｐｐｍの範囲の第三のピーク（Ｐ３）
を含み、
ここにおいて、該ゼオライト系材料の１Ｈ  ＭＡＳ  ＮＭＲにおける第一、第二および第三のピークの積分は、１：（０．５〜１．２）：（０．３０〜２．５）の積分値の比Ｐ１：Ｐ２：Ｐ３を与えるゼオライト系材料。
【請求項３０】
該ゼオライト系材料の１Ｈ  ＭＡＳ  ＮＭＲが、第一、第二、および／または第三のピークの積分値の１００％以上の積分値を有する、３．８５から３．９５ｐｐｍの範囲のピークを含まない請求項２８または２９に記載のゼオライト系材料。
【請求項３１】
ＹがＳｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｇｅ、およびその２以上の組合せよりなる群から選択される請求項２８から３０のいずれかに記載のゼオライト系材料。
【請求項３２】
ＸがＡｌ、Ｂ、Ｉｎ、Ｇａ、およびその２以上の組合せよりなる群から選択される請求項２８から３１のいずれかに記載のゼオライト系材料。
【請求項３３】
該ゼオライト系材料のＹ：Ｘのモル比が、２から６０の範囲に含まれる請求項２８から３２のいずれかに記載されたゼオライト系材料。
【請求項３４】
該ゼオライト系材料がゼオライトベータを含む請求項２８から３３のいずれかに記載のゼオライト系材料。
【請求項３５】
該ゼオライト系材料が少なくとも以下の反射：
【表１】
2014511819.tif 000001
を含むＸ線回折パターンを有し、ここにおいて、１００％はＸ線粉末回折パターンにおける最大ピークの強度に関する請求項２８から３４のいずれかに記載のゼオライト系材料。
【請求項３６】
該Ｘ線回折パターンが以下の反射：
【表２】
2014511819.tif 000002
を含む請求項３５に記載のゼオライト系材料。
【請求項３７】
（ａ）ＢＥＡ骨格構造を有する１以上のゼオライト系材料を含む触媒を供し、
（ｂ）１以上のアシル化された有機化合物を得るための１以上のリアクター中にて、１以上のアシル化剤の存在下で、触媒を１以上のアシル化可能な有機化合物と接触させる
ことを含む、有機化合物をアシル化する方法であって、
該１以上のゼオライト系材料は、請求項２８から３６のいずれかに記載のＢＥＡ骨格構造を有するゼオライト系材料であることを特徴とする方法。
【請求項３８】
該１以上のアシル化可能な有機化合物が１以上のアシル化可能な芳香族化合物を含む請求項３７記載の方法。
【請求項３９】
該１以上のアシル化剤が式Ｒ１−ＣＯ−Ｘの１以上の化合物を含み、ここにおいて、
−ＣＯ−はカルボニル部位を表し；
Ｒ１は所望により置換されていてもよい直鎖状または分岐鎖状の飽和または不飽和のＣ１からＣ８であり；および
Ｘはハロゲン、ヒドロキシル、および−Ｏ−ＣＯ−Ｒ２よりなる群から選択され、ここにおいて、Ｒ２はＲ１と同一の意味を有し、ここにおいて、Ｒ２はＲ１と同一または異なってよい請求項３７または３８に記載の方法。
【請求項４０】
触媒としての、請求項２８から３６のいずれかに記載されたＢＥＡ骨格構造を有するゼオライト系材料の使用。
【請求項４１】
有機化合物の該変換がアシル化反応である請求項４０記載の使用。