【事件の表示】
　特願２００４−５４２５４０「電気化学素子内に含まれる点欠陥を除去する方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　４月２２日国際公開、ＷＯ２００４／０３４１３８、平成１８年　１月１９日国内公表、特表２００６−５０２５４５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１５年１０月１日（優先権主張２００２年１０月９日、仏国）を国際出願日とする出願であって、平成２１年１１月６日付けで手続補正がなされた後、平成２２年９月３日付けの拒絶理由（最後）に対し、平成２３年３月３日付けで手続補正がなされたものの、同年９月２９日付けで平成２３年３月３日付けの手続補正についての補正の却下の決定がなされるとともに拒絶査定がなされた。
　本件は、前記拒絶査定を不服として、平成２４年２月６日に請求された拒絶査定不服審判であって、請求と同時に手続補正がなされ、その後、当審において前置報告書の内容について審判請求人の意見を事前に求めるために同年１０月２２日付けで審尋がなされ、これに対して平成２５年４月２３日付けで回答書が提出されたものである。
　そして、当審の同年６月２０日及び７月４日の電話による質問に対し、同年７月３日及び７月９日にＦＡＸにより回答が送付された。
　
第２　平成２４年２月６日付けの手続補正についての補正の却下の決定
　［補正の却下の決定の結論］
　平成２４年２月６日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
　［理由］
１　補正の内容
　本件補正のうち特許請求の範囲の請求項１の補正は、補正前（平成２１年１１月６日付けで補正、以下同様。）の
「【請求項１】
　少なくとも第１の基板から及び少なくとも第２の基板から形成される積層内に存在する欠陥をレーザー放射の光線を用いて除去する方法において、前記積層は、前記第１及び第２の基板の間に少なくとも１つのエレクトロクロミック「スマート」活性領域を内蔵し、
　前記活性領域内に存在する少なくとも１つの欠陥を探し出す段階と、
　前記第１の基板および前記第２の基板の少なくとも一方を通して、前記レーザー光線を用いて前記欠陥を囲むことで構成される、前記欠陥を除去する段階であって、前記欠陥の除去は、前記欠陥を含む前記活性領域に対して前記欠陥の周辺領域を電気的に分離することで構成される、段階と、を有し、
　前記レーザー光線の波長は、前記光線が、一方では前記活性領域を形成する層によって吸収され、他方では前記第１の基板または前記第２の基板を通して伝播されるように、適応されることを特徴とする方法。」を
「【請求項１】
　少なくとも第１の基板から及び少なくとも第２の基板から形成される積層内に存在する欠陥をレーザー放射の光線を用いて除去する方法において、前記積層は、前記第１及び第２の基板の間に少なくとも１つのエレクトロクロミック「スマート」活性領域を内蔵し、
　前記活性領域内に存在する少なくとも１つの欠陥を探し出す段階と、
　前記第１の基板および前記第２の基板の少なくとも一方を通して、前記レーザー光線を用いて前記欠陥の周りに円を描くことで構成される、前記欠陥を除去する段階であって、前記欠陥の除去は、前記欠陥を含む前記活性領域に対して前記欠陥の周辺領域を電気的に分離することで構成される、段階と、を有し、
　前記レーザー光線の波長は、前記光線が、一方では前記活性領域を形成する層によって吸収され、他方では前記第１の基板または前記第２の基板を通して伝播されるように、適応されることを特徴とする方法。」と補正するものである。
　
２　補正の目的についての検討
　上記本件補正は、明らかに特許請求の範囲を限定して減縮するものであるから、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法（以下単に「平成１８年改正前特許法」という。）第１７条の２第４項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とする補正を含むものである。
　そこで、本件補正後の請求項１に係る発明（以下「本件補正発明」という。）が平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか、すなわち、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否かについて、以下検討する。
　
３　本件補正発明
　本件補正発明は、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に記載された上記のとおりのものである。
　
４　引用刊行物
（１）引用刊行物１
　これに対して、本願の優先日前である２００１年４月２７日に頒布された「特開２００１−１１８６８４号公報 」（以下「引用例１」という。）には、次の事項が記載されている。（下線は当審で付した。）
ａ　発明の詳細な説明の記載
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機エレクトロルミネセンス
（有機ＥＬ）を発光素子
「【００２２】
【発明の実施の形態】図１は、本発明実施形態における発光ディスプレイの概略層構造断面を示す図である。図１に示すように、本発明の発光ディスプレイは、ガラス透明基板１０１上に第１の電極となるＩＴＯ等の複数の透明電極１０２、有機層１０３、透明電極１０２に交差する複数の第２の電極となる金属電極１０４を順に蒸着積層して形成される。有機層１０３を挟持して互いに対向し対をなす透明電極１０２及び金属電極１０４により有機ＥＬ素子を使用した光ディスプレイとしての発光部が形成され、透明電極１０２及び金属電極１０４の各々が互いに対向して交差する交差領域の発光部を１単位として１画素が形成される。
【００２３】ここでは、図４と同様な傷１０、パーティクル２０、その他
有機層欠陥３０が含まれる欠陥画素
欠陥部分Ａの有機層１０３または透明電極１０２の一部または全体も同時に削除される
【００２４】なお、金属電極１０４には、アルミニュウム、マグネシウム、インジウム、銅または各々の合金等の仕事関数が小さな、例えばＡｌ−Ｌｉ合金を用いる。また、透明電極１０２には、ＩＴＯ等の仕事関数の大きな導電性材料または金等を用いることができる。ここで、金を電極材料として用いた場合、電極は半透明の状態となる。
【００２５】図２は、図１に示す単純マトリクス駆動型の発光ディスプレイの製造工程を示す図である。図２（ａ）において、まず、透明基板１０１上にＩＴＯ等の電極材料を蒸着し、フォトリソグラフィ法に基づくパターンニングに従い複数本の透明電極層１０２を形成する。
【００２６】次に、図２（ｂ）において、
透明電極１０２が形成された透明基板１０１上に、
有機層１０３から成る発光部を形成
金属電極層１０４を形成
【００２７】このように形成された単純マトリクス駆動型の発光ディスプレイは、各透明電極１０２及び金属電極１０４を走査駆動する駆動源により、適宜、各画素に対応する透明電極１０２及び金属電極１０４間に電圧が印加され、各画素の発光部１０３に電荷が送り込まれ発光する。そこで、発光ディスプレイの全発光画素を同時に発光させるように駆動源を印加し、この状態で発光不良画素や発光しない画素等の
欠陥画素を確認する
欠陥画素に対する修復を行う
【００２８】修復は、図２（ｄ）に示すように、
欠陥画素が本来有する発光領域に対応する単位画素の領域の一部にレーザ光を照射する
【００２９】このことにより、欠陥部分が１画素より十分に小さい場合、欠陥画素中、金属電極１０４の当該欠陥部分のみ削除し、欠陥画素の欠陥部分を除く残余の金属電極１０４によって有機層１０３を介し対向している透明電極１０２間に電流を流し、その画素を発光させることができる。なお、上記の例ではレーザ光を金属電極１０４側から照射しているが、透明基板１０１側からレーザ光を照射して金属電極１０４の欠陥部分を削除することもできる。ただし、透明基板１０１のレーザに対する透過率が低い場合は、金属電極１０４側から照射する方が好ましい。
【００３０】このように、金属電極１０４の欠陥部分の削除が済むと、図２（ｅ）に示すように、透明基板１０１上の全面に対して保護膜１０５を積層することで単純マトリクス駆動型の発光ディスプレイが形成される。
【００３１】上記の実施形態では保護膜１０５を形成しているが、例えば図３に示したように、透明電極１０２、
有機層１０３および金属電極層１０４を覆うように、封止カバー１０６を取り付け
金属電極１０４の欠陥部分の削除
封止カバー１０６側のどちらからでもレーザを照射する
　
ｂ　図面の記載
「【図３】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
ｃ　引用例１記載の発明
　上記ａ及びｂの記載事項によると、引用例１には、以下の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
「有機ＥＬ発光素子の修復を行う方法において、透明電極１０２が形成された透明基板１０１上に有機層１０３から成る発光部及び金属電極層１０４が形成され、有機層１０３および金属電極層１０４を覆うように、封止カバー１０６が取り付けられ、
有機層欠陥３０が含まれる欠陥画素を確認し、
欠陥画素が本来有する発光領域に対応する単位画素の領域の一部に、封止カバー１０６側からレーザ光を照射して、金属電極１０４の欠陥部分を削除し、欠陥部分Ａの有機層１０３または透明電極１０２も同時に削除されることにより修復を行う方法。」
　
（２）引用刊行物２
　また、原査定の拒絶の理由で引用された、本願の優先日前である平成１０年８月７日に頒布された「特開平１０−２０６９０２号公報 」（以下「引用例２」という。）には、次の事項が記載されている。
ａ　発明の詳細な説明の記載
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、イオンと電子を可逆的に且つ同時に注入することができる電気的に活性な層を少なくとも一つ含む電気化学装置、特にエレクトロクロミック装置の分野に関する。これらの電気化学装置は、例えば、光及び／又はエネルギーの透過あるいは光の反射を電流により調節することができる窓ガラスを製造するのに使用される。それらはまた、電池（バッテリー）といったようなエネルギー貯蔵エレメント、あるいはガスセンサーを製造するのに使用してもよい。」
「【００７８】図１は、電解質がポリマーを含有しているエレクトロクロミック窓ガラス（例Ａ）に対応している。図２は、「全固体」エレクトロクロミック窓ガラス（例Ｂ）に対応している。
【００７９】〔例Ａ〕例Ａは、プロトンの移動により動作する窓ガラスである図１に示した窓ガラスに対応している。それは、厚さが４ｍｍのシリカ−ソーダ−石灰ガラス製の第一のガラス基材１と、これに引き続く次のもの、すなわち、厚さ３００ｎｍの、Ｆ：ＳｎＯ2 の第一の電子伝導性層２、厚さ１８５ｎｍの、水和酸化ニッケルＮｉＯx Ｈy 製陽極エレクトロクロミック材料の第一の層３（それは厚さ５５ｎｍの水和酸化イリジウムの層と取り替えることができる）、厚さが７０ｎｍの例１ｂによる水和酸化タンタルの第一の層４ａ、厚さ１００μｍのポリオキシエチレンとリン酸との固溶体ＰＯＥ−Ｈ3 ＰＯ4 、あるいはポリエチレンイミンとリン酸との固溶体ＰＥＩ−Ｈ3 ＰＯ4 の第二の層４ｂに分割される電解質４、厚さ３５０ｎｍの、酸化タングステンを基にした陰極エレクトロクロミック材料の第二の層５、厚さ３００ｎｍの、Ｆ：ＳｎＯ2 の第二の層６、そして次に第一のものと同一の第二のガラス基材７、からなる。
【００８０】二つの電子伝導性層２、６の正反対の端部に配置されて電圧源１０に電気的に接続されたストリップの形態の電流導線１１、１２も示されている。
【００８１】従って、本発明によるこの例は、この種の窓ガラスにおいて標準的に用いられるポリマーを基にした二層電解質からなり、そしてそれは、プロトンがポリマーを通って移動するのを妨げないよう十分伝導性の水和した酸化タンタルの層で「被覆」され、且つ、固有の酸性がそれにとって有害であろう陽極エレクトロクロミック材料の対電極がポリマーと直接接触するのを防いでいる。」
　
ｂ　図面の記載
「【図１】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
（３）引用刊行物３
　また、原査定の拒絶の理由で引用された、本願の優先日前である昭和６２年１２月１４日に頒布された「特開昭６２−２８７５９６号公報 」（以下「引用例３」という。）には、次の事項が記載されている。
ａ　発明の詳細な説明の記載
「［産業上の利用分野］
　本発明はエレクトロルミネッセンスパネルの製造方法に関するものである。」（第２頁左上欄第２〜４行）
「［実施例］
　以下、図面を参照して本発明に係る一実施例を詳細に説明する。
　第１図（Ａ）は第３図（Ａ）に示した不良部位５を含む部位をレーザで１０の如く焼断除去してショート状態を解除した例であり、このレーザでショート状態を解除した状態の上面図を第１図（Ｂ）に示す。なお、焼断深さは、少なくとも上部電極４のショート部を焼断できる深さとすればよい。
　この不良部位の発見はパネルを製造し、続く検査工程で行なわれる。例えば、両電極間に低電位の電圧を印加し、正常な電位差が得らえるか否かを調べ、正常な電位差が得られない場合には当該電極間にショート箇所があるものと判別する。そして両電極間の対峙する箇所を顕微鏡観察により発見する。
　また、以上の説明は不良部位５自身を焼断、除去する例について行なったが、本発明はこれに限るものではなく、例えば第２図（Ａ）の断面図及び第２図（Ｂ）の上面図に示す様に、レーザで不良部位５を囲む様に焼断し、ショート部分を正常部分より分離させてもよい。ここで５は不良部位、１１はレーザによる焼断部位を示す。」（第２頁右下欄第５行〜第３頁左上欄第１２行）
　
ｂ　図面の記載
「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
（４）引用刊行物４
　また、原査定の拒絶の理由で引用された、本願の優先日前である平成１４年７月９日に頒布された「特表２００２−５２０６５３号公報 」（以下「引用例４」という。）には、次の事項が記載されている。
ａ　発明の詳細な説明の記載
「【００６１】
  図１は、面積が１０００cm2 で厚さが３mmの透明なシリカ−ソーダ−ライムガラス基材１及びこのガラス基材１の上の以下の積層体２でできた「全固体」エレクトロクロミック系を示している。ここでは積層体２は、
    スズでドープした酸化インジウムＩＴＯの第１の導電層３（厚さ１５０nm）、
    酸化イリジウム水和物Ｈx ＩｒＯy で作られたアノードエレクトロクロミック材料の第１のエレクトロクロミック材料の層４（厚さ３７nm）、
    酸化タングステンＷＯ3 層（厚さ２００nm）と酸化タンタル層６（厚さ２００nm）で作られた２つの電解質厚、
    酸化タングステン水和物Ｈx ＷＯ3 で作られたカソードエレクトロクロミック材料の第２のエレクトロクロミック材料の層７（厚さ３８０nm）、
    ＩＴＯの第２の導電層８（厚さ２８０nm）、
である。
【００６２】
  導電層３は、他の導電層８とは異なる堆積条件を使用して堆積させ、それによって第１のものが第２のものよりもかなり密で堅く、また第２のものが比較的「多孔性」であるようにした。このことは、第１の層が本発明の処理によって影響を受けないことを保証する。
【００６３】
  １つの態様は上述の例の厚さをわずかに変更することからなる。ここでは、１００nmのＷＯ3 層５、１００nmの酸化タンタル層６、２８０nmのＨx ＷＯ3 層７、及び最後に２７０nmのＩＴＯ層８を使用する。
【００６４】
  本発明の処理の効果を統計学的に評価することを可能にするために、この方法で１２個の同等な試料を作った。ここでは、適当なレーザービームを使用して第１のものを除く全ての層に溝の形成／切断を行った。
【００６５】
  この切断を行うために使用することができる（またあるいは、除去を行わずに制御された分解を行うことができる）レーザーのタイプは、特にパルスエキシマーレーザータイプのもの（波長が２４８nmのＫｒＦ、波長が３０８nmのＴｅＣｌ、波長が１９３nmのＡｒＦ、波長が３５１nmのＸｅＦ、又は波長が１５７nmのＦ2 を使用）、又はＤＣダイオードレーザー（波長は５３２、５１０、５７８、又は８０８nm）、又は波長が１μｍの「ＹＡＧ」（イットリウムアルミニウムガーネットＹ2 Ａｌ5 Ｏ12結晶）レーザー、又は波長が９．３μｍ及び１０．６μｍのＣＯ2 レーザーである。レーザーの選択は、特に積層体の吸収スペクトルに依存している。これを適当に制御するために（特に、問題となる層の実際の除去又は単なる分解の選択を行うために）、様々なパラメータを調節及び考慮する必要がある。ここでこの様々なパラメータには特に、基材上での流束量（J/cm2 ）、レーザーの振動数（Hz）、レーザー照射装置を基材に対して動かす速度（mm/s）、層の一箇所が受けるパルスの数、及び切断の幅（mm）がある。
【００６６】
  この場合にはＫｒＦエキシマーレーザーを使用した。ここでこのレーザービームのエネルギー密度は０．１２J/cm2 である。このレーザービームは、積層体上を動く部品に取り付け、それによって約１００μｍの幅の溝９を積層体２の縁から約２mmの距離でこの積層体２の区域に沿って作った。従って、実質的に方形の溝を作った。ここで、積層体の区域という用語は、既知の様式で接続要素に比較的簡単に適合させるためにわずかに大きい大きさを持つ第１のもの以外の、全ての機能層の大きさを意味することを意図している。」
　
ｂ　図面の記載
「【図１】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
５　本件補正発明と引用発明との対比
　本件補正発明と引用発明とを対比する。
（１）引用発明の「透明基板１０１」、「封止カバー１０６」は、それぞれ本件補正発明の「第１の基板」、「第２の基板」に相当する。
　また、引用発明は、「欠陥画素が本来有する発光領域に対応する単位画素の領域の一部に、封止カバー１０６側からレーザ光を照射して、金属電極１０４の欠陥部分を削除し、欠陥部分Ａの有機層１０３または透明電極１０２も同時に削除されることにより修復を行う」構成を有するものであるから、本件補正発明の「積層内に存在する欠陥をレーザー放射の光線を用いて除去する」構成を有するものである。
　そうすると、引用発明の「有機ＥＬ発光素子の修復を行う方法において、透明電極１０２が形成された透明基板１０１上に有機層１０３から成る発光部及び金属電極層１０４が形成され、有機層１０３および金属電極層１０４を覆うように、封止カバー１０６が取り付けられ」た構成と、本件補正発明の「少なくとも第１の基板から及び少なくとも第２の基板から形成される積層内に存在する欠陥をレーザー放射の光線を用いて除去する方法において、前記積層は、前記第１及び第２の基板の間に少なくとも１つのエレクトロクロミック「スマート」活性領域を内蔵」する構成とは、「少なくとも第１の基板から及び少なくとも第２の基板から形成される積層内に存在する欠陥をレーザー放射の光線を用いて除去する方法において、前記積層は、少なくとも１つの領域を内蔵」する構成で一致する。
　
（２）引用発明の「有機層欠陥３０」は、有機層のある「領域」に存在するものであるといえるから、引用発明の「有機層欠陥３０が含まれる欠陥画素を確認」する構成と、本件補正発明の「前記活性領域内に存在する少なくとも１つの欠陥を探し出す段階」とは、「領域内に存在する少なくとも１つの欠陥を探し出す段階」で一致する。
　
（３）引用発明の「欠陥画素が本来有する発光領域に対応する単位画素の領域の一部に、封止カバー１０６側からレーザ光を照射して、金属電極１０４の欠陥部分を削除し、欠陥部分Ａの有機層１０３または透明電極１０２も同時に削除されることにより修復を行う」構成と、本件補正発明の「第１の基板および前記第２の基板の少なくとも一方を通して、前記レーザー光線を用いて前記欠陥の周りに円を描くことで構成される、前記欠陥を除去する段階であって、前記欠陥の除去は、前記欠陥を含む前記活性領域に対して前記欠陥の周辺領域を電気的に分離することで構成される、段階」とは、「第１の基板および前記第２の基板の少なくとも一方を通して、前記レーザー光線を用いて、前記欠陥を除去する段階」で一致する。
　
　上記の対比から、本件補正発明と引用発明は、
「少なくとも第１の基板から及び少なくとも第２の基板から形成される積層内に存在する欠陥をレーザー放射の光線を用いて除去する方法において、前記積層は、前記第１及び第２の基板の間に少なくとも１つの領域を内蔵し、
　前記領域内に存在する少なくとも１つの欠陥を探し出す段階と、
　前記第１の基板および前記第２の基板の少なくとも一方を通して、前記レーザー光線を用いて、前記欠陥を除去する段階と、を有する方法。」
で一致し、以下ａ、ｂの点で相違する。
（相違点）
ａ　少なくとも１つの欠陥が存在し、レーザ光線を用いて欠陥を除去する領域が、本件補正発明は、第１及び第２の基板の間に内蔵されるエレクトロクロミック「スマート」活性領域であるのに対し、引用発明は、封止カバー１０６が取り付けられた、透明基板１０１上の有機層１０３であり、さらに、レーザー光線を用いて欠陥を除去する段階において、本件補正発明が、欠陥の周りに円を描き、欠陥の周辺領域を電気的に分離するのに対し、引用発明は、そのような特定がない点。
ｂ　本件補正発明が、レーザー光線の波長は、前記光線が、一方では活性領域を形成する層によって吸収され、他方では前記第１の基板または前記第２の基板を通して伝播されるように、適応されるのに対し、引用発明は、そのような特定がない点。
　
６　当審の判断
　以下、上記相違点ａ、ｂについて検討する。
（１）相違点ａについて
　引用例２には、第一のガラス基材１及び第二のガラス基材７（それぞれ本件補正発明の「第１の基板」及び「第２の基板」に相当。）の間にエレクトロクロミック層を有するエレクトロクロミック窓ガラスが記載（引用例２では、【００７８】〜【００７９】、図１参照。）されている。
　また、引用例３には、エレクトロルミネッセンスパネルにおいて、レーザで不良部位５を囲むように焼断し、ショート部分を正常部分より分離させることが記載（引用例３では、第３頁左上欄第６〜１２行、第２図参照。）されている。
　ここで、当審における電話での質問に対する、平成２５年７月９日の請求人からの回答によれば、本件補正発明の「エレクトロクロミック「スマート」活性領域」は、「可変な光学的及び／又はエネルギー的特性を有する」積層窓ガラス型の「電気的に制御可能な」エレクトロクロミック「領域」」（同日付けのＦＡＸによる回答の「５．結論」）を意味し、引用例２記載の、第一のガラス基材１及び第二のガラス基材７の間にエレクトロクロミック層を有するエレクトロクロミック窓ガラスは「積層」されたものといえるから、引用例２記載の、エレクトロクロミック窓ガラスに用いる第一のガラス基材１及び第二のガラス基材７の間のエレクトロクロミック層は、本件補正発明の「エレクトロクロミック「スマート」活性領域」に相当するといえる。
　そして、エレクトロクロミック素子において、レーザ光をエレクトロクロミック層の欠陥部分に照射して当該欠陥部分を除去することは周知技術（特開平７−２８０９９号公報の【００２９】〜【００３２】、図１，図６、引用例４の【００６１】〜【００６６】、図１参照。）であるから、引用発明において、少なくとも１つの欠陥が存在し、レーザ光線を用いて欠陥を除去する領域を、第１及び第２の基板の間に内蔵されるエレクトロクロミック「スマート」活性領域とし、さらに上記除去の際に、引用例３記載の事項を採用して、欠陥の周りに円を描き欠陥の周辺領域を電気的に分離して、上記相違点ａに係る本件補正発明の発明特定事項を得ることは、当業者が容易になしえたことである。
　
（２）相違点ｂについて
　有機ＥＬ素子におけるレーザ光線による欠陥除去の技術において、レーザ光線の照射を基板を通して行う場合、欠陥領域においてレーザ光線が吸収されないと欠陥を除去できないのは技術常識であり、そのためにはレーザ光線が基板を通して伝搬しなければならないのは当然である。
　また、有機エレクトロクロミック素子において、レーザを使用して積層体における問題となる層の除去、分解を行うために、積層体の吸収スペクトルを考慮してレーザを選択することが、引用例４（【００６４】〜【００６６】）に記載されている。
　したがって、引用発明において、上記「（１）相違点ａについて」で述べたように、「少なくとも１つの欠陥が存在し、レーザ光線を用いて欠陥を除去する領域を、第１及び第２の基板の間に内蔵されるエレクトロクロミック「スマート」活性領域」とし、さらにその際に、レーザ光線の波長を、光線が有機層によって吸収され、透明基板を通して伝播されるようにして、上記相違点ｂに係る本件補正発明の発明特定事項を得ることは、当業者が容易になしえたことである。
　
　相違点ａ、ｂについては上記のとおりであり、本件補正発明によってもたらされる効果は、引用発明、引用例２〜４記載の事項及び周知技術から当業者が当然に予測できる範囲内のものと認められる。
　よって、本件補正発明は、引用発明、引用例２〜４記載の事項及び周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　
７　本件補正についての補正の却下の決定のむすび
　以上のとおり、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであるから、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について
１　本願発明
　平成２４年２月６日付けの手続補正は上記の通り却下されたので、本願の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成２１年１１月６日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載されたとおりのものである。（上記「第２」［理由］「１」参照。）
　
２　引用刊行物
　本願の優先日前に頒布された引用例１乃至４、その記載事項、ならびに引用発明は、上記「第２」［理由］「４」に記載したとおりである。
　
３　対比及び当審の判断
　本願発明は、本件補正発明の構成要素の「レーザー光線を用いて」、「欠陥を除去する」構成に関し、本件補正発明の「欠陥の周りに円を描く」構成を「欠陥を囲む」構成としたものである。
　ここで、本願発明の発明特定事項を全て含み、上記構成要素を限定した本件補正発明が、上記「第２」［理由］「５」及び「６」に記載した通り、引用発明、引用例２〜４記載の事項及び周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も同様の理由により、引用発明、引用例２〜４記載の事項及び周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明、引用例２〜４記載の事項及び周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項に係る発明について言及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。