【事件の表示】
　特許第３２４８８９８号「硬質皮膜被覆工具」の請求項１、２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第３２４８８９８号の請求項１ないし２に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯・本件発明
　本件特許第３２４８８９８号の請求項１ないし２に係る発明についての出願は、平成１２年３月１７日に特許出願（優先権主張平成１１年３月１９日）され、平成１３年１１月９日にその発明について特許権の設定登録がなされ、その後、住友電気工業株式会社より特許異議の申立てがなされ、取消理由を通知したところ特許異議意見書が提出されたものである。
　そして、本件特許の請求項１ないし２に係る発明（以下、「本件発明１ないし２」という。）は、特許明細書および図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１ないし２に記載された事項により特定される次のとおりのものと認める。
「　【請求項１】　高速度鋼、超硬合金、サーメット、セラミックスの何れかを母材とし、硬質皮膜のａ層は金属成分のみの原子％で、Ｓｉが１０％以上６０％以下、Ｂ、Ａｌ、Ｖ、Ｃｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗの１種または２種以上で１０％未満、残りＴｉから構成される窒化物、炭窒化物、酸窒化物、酸炭窒化物のいずれかであり、ＮａＣｌ型結晶構造を有し、かつ格子定数が０．４１７ｎｍ以上０．４２３ｎｍ以下からなり、硬質皮膜のｂ層は金属成分のみの原子％が、Ａｌ：４０％越え７５％以下、Ｂ、Ｓｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗの１種または２種以上で１０％未満、残Ｔｉで構成される窒化物、炭窒化物、酸窒化物、酸炭窒化物のいずれかで、ＮａＣｌ型結晶構造からなり、該ａ層、ｂ層がそれぞれ一層以上交互に被覆され、かつ、ｂ層が母材表面直上にあることを特徴とする硬質皮膜被覆工具。
　　【請求項２】　請求項１記載の硬質皮膜被覆工具において、該硬質皮膜は物理蒸着法により被覆されたことを特徴とする硬質皮膜被覆工具。」
２．特許異議申立ての理由の概要
　特許異議申立人住友電気工業株式会社は、本件特許は、特許法第３６条第４項および第６項第２号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してなされたものであり、また、甲第１号証として特許第２７９３７７３号公報を、甲第２号証として特開平８−１１８１０６号公報を、甲第３号証として特許第２６９９０３１号公報を、甲第４号証として瀬戸山　誠、外６名，“ＴｉＮ/ＡｌＮ超格子膜の開発と切削工具への応用”，住友電気，１９９５年３月，第１４６号，ｐ．９２−９６を、甲第５号証として特公平５−６７７０５号公報を提出し、本件発明１ないし２は、甲第１号証ないし甲第５号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明１ないし２に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであり、特許を取り消すべきものと主張している。
３．特許法第３６条第４項ないし第６項第２号違反についての判断
　特許異議申立人は、（１）本件特許明細書の特許請求の範囲の請求項１には、ａ層およびｂ層における第３成分の含有量の下限値が記載されていない。よって特許法第３６条第６項第２号に違反する。（２）ａ層／ｂ層の界面近傍では、ａ層の格子歪が発生するが、その厚さが増加するとともに格子歪は緩和される。つまりａ層の厚さが請求項に規定されるべきである。しかも格子定数はＸ線回折で測定されているが、通常Ｘ線の透過厚さは約１０μｍであり、ａ層がこれよりも薄い場合、通常ａ層／ｂ層の積層体の格子定数を測定することになる。かかる観点から本件特許はａ層の厚さが規定されていないのでａ層の格子定数が不明確であり、よってその規定を含む本件発明１は不明確である。また、ａ層の格子定数の測定方法は当業者が容易に実施できる程度に記載されていない。よって特許法第３６条第４項に違反する。
旨主張している。
（１）については、本件特許明細書の【発明の詳細な説明】には、ａ層およびｂ層における第３成分について、「【０００７】ａ層に含ませるＢ、Ａｌ、Ｖ、Ｃｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗは、ＴｉＳｉ系化合物等の皮膜中において固溶強化元素として働き、皮膜の高硬度化に有効である。そのため、必要に応じＢ、Ａｌ、Ｖ、Ｃｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗの１種または２種以上を微量添加することが望ましい。しかしながら皮膜の金属成分のみの原子％で１０％以上添加すると、前述したＳｉ含有による耐酸化性向上効果が得られなくなる。よって、Ｂ、Ａｌ、Ｖ、Ｃｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗは、１種または２種以上で１０％未満とする。・・・段落【０００８】・・・Ｂ、Ｓｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗは、ＴｉＡｌ系化合物等の皮膜中において固溶強化元素として働き、皮膜の高硬度化に有効である。そのため、必要に応じＢ、Ｓｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗの１種または２種以上を微量添加することが望ましい。しかしながら皮膜の金属成分のみの原子％で１０％以上添加すると、母材と皮膜の密着性が低下する。そのため、密着性、耐摩耗性、耐酸化性をバランス良く得るためには、Ｂ、Ｓｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗは１種または２種以上で１０％未満とする。」（本件特許公報第４欄第３８行〜第５欄第４０行）と記載されていて、第３成分は固溶強化元素として必要に応じて微量添加するものであり、しかも、本件発明例として【表１】に第３成分を含まないものでも、比較例ならびに従来例と比べて工具寿命が著しく向上したことが示されているので、本件発明１がａ層およびｂ層において第３成分が０％のものも包含することは明かであるａ層およびｂ層について、第３成分の下限値が記載されていないことが発明を不明確にしているとはいえない。。
（２）については、特許権者は特許異議意見書において、Ｘ線回折装置を用いた測定結果を図１を添付して説明しており、本件特許明細書の【発明の詳細な説明】には、「更にａ層は、その格子定数を０．４１７ｎｍ以上０．４２３ｎｍ以下にすることで高硬度化が達成でき、著しく耐摩耗性に優れた皮膜が得られる。発明者等の研究によれば、請求項記載の成分範囲においては、単一のａ層の格子定数は０．４２４〜０．４２６ｎｍであり、単一のｂ層の格子定数は０．４１５〜０．４１７ｎｍと単一のｂ層の方が極端に小さい。しかしながら、ａ層およびｂ層をそれぞれ一層以上交互に被覆し、その際の基体に印加するバイアス電圧を適当な値に制御することで、ａ層は、その下地に位置するｂ層と結晶格子レベルで整合する。その結果、ａ層の結晶格子は単一で存在する場合よりも縮小することとなり、ａ層には格子歪みが発生し、その硬さが向上する。ａ層およびｂ層を被覆する際、基体に印加するバイアス電圧は、アーク放電方式イオンプレーティングや、スパッタリングといった物理蒸着法の違いや、同様の手法であっても成膜装置の基本的な仕様によって絶対値は異なるものの、ａ層とｂ層の界面における結晶格子の整合性を確保するには、両層を近似のバイアス電圧で成膜することにより達成できる。」（本件特許明細書第４欄第４８行〜第５欄第１７行）、また、「【０００９】上述のように本発明においては、母材との密着性、皮膜自体の耐摩耗性および耐酸化性をバランス良く有すＮａＣｌ型結晶構造のｂ層を母材表面直上に被覆し、その上に著しく耐酸化性、耐摩耗性に優れるａ層をｂ層と同じＮａＣｌ型結晶構造の状態で被覆することが極めて重要であり、その結果、乾式の高速切削に対応する切削工具を得ることが可能となる。」（同第５欄第４１〜４７行）と記載されており、前記特許異議意見書の記載を参照すると、ａ層、ｂ層共に同じＮａＣｌ型結晶構造を有する皮膜を積層しているので、界面近傍に格子歪みは発生するものの、その歪みは無視できる程度のものであって、ａ層の厚さがＸ線回折測定におけるＸ線の透過厚さより薄いとしても請求項１の「格子常数を０．４１７ｎｍ〜０．４２３ｎｍ以下」は、ａ層のみの格子定数の測定値であって、ａ層の厚みを特定しなければならないというものではない。
　したがって、異議申立人の前記（２）の主張は採用することができない。
４．特許法第２９条違反についての判断
（１）甲各号証の記載内容
ア．甲第１号証：
ａ．「【請求項１】　基材表面に形成される皮膜であって、
　　　　　　　　　（Ａｌｘ　Ｔｉ１−ｘ−ｙ Ｓｉｙ　）（Ｎｚ Ｃ１−ｚ ）
　　　　　　　　　　　　但し、０．０５≦ｘ≦０．７５ 
　　　　　　　　　　　　　　　０．０１≦ｙ≦０．１ 
　　　　　　　　　　　　　　　０．６≦ｚ≦１
で示される化学組成からなることを特徴とする耐摩耗性に優れた硬質皮膜。」（特許請求の範囲請求項１）
ｂ．「【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明はこうした事情に着目してなされたものであって、ＴｉＮ皮膜の有する母材密着性を損なうことなく、（Ａｌ，Ｔｉ）（Ｃ，Ｎ）より耐酸化性に優れしかも高硬度を有して優れた耐摩耗性を発揮する硬質皮膜を提供することを目的とするものである。」（第３欄第２７〜３３行）
ｃ．「【００１０】本発明の硬質皮膜を構成する金属元素の組成は、（Ａｌｘ　Ｔｉ１−ｘ−ｙ Ｓｉｙ　）においてｘ，ｙが夫々０．０５≦ｘ≦０．７５，０．０１≦ｙ≦０．１という条件式を満足することが必要である。ｘの値が０．０５未満であるか、またはｙの値が０．０１未満では十分な耐酸化性の向上効果を得ることができない。またｘの値が０．７５を超えるか、またはｙの値が０．１を超えると皮膜の結晶構造が立方晶から六方晶へ変化してしまい、皮膜硬さが低下して十分な耐摩耗性が得られない。」（第４欄第２３〜３１行）
ｄ．「【００１２】基材に被覆する場合の硬質皮膜の厚さとしては、０．１μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましい。０．１μｍ未満であると耐摩耗性が十分発揮できず、一方２０μｍを超えると衝撃力によって硬質皮膜にクラックが入ることがあり、望ましくない。なお、切削工具に適用する場合、工具基材本来の切れ刃の特性を生かし且つ優れた耐摩耗性を得るには、硬質皮膜の厚さを好ましくは１μｍ以上、更に好ましくは２μｍ以上、また上限について１２μｍ以下、更に好ましくは、８μｍ以下が望まれる。また本発明は硬質皮膜を形成する基材の材質を限定するものではないが、基材表面に密着性よく被覆し、優れた耐摩耗性を発揮させるためには超硬合金や高速度工具鋼、ダイス鋼、サーメット、セラミック等の硬質物質が適している。」（第４欄第４６行〜第５欄第９行）
ｅ．「【００１３】尚本発明に係る硬質皮膜を基材表面に形成する方法としては、イオンプレーティング法やスパッタリング法等に代表されるＰＶＤ法が挙げられるが、例えばアーク放電式イオンプレーティング法を採用する場合には以下に例示する方法を用いればよい。即ち、アーク放電により蒸発源であるカソードからイオン化させたＡｌ，ＴｉおよびＳｉの金属成分を、Ｎ２　雰囲気および／またはＣＨ４　雰囲気中でイオンプレーティングすることによって得ることができ、目的とする皮膜組成と同一金属組成のターゲットを使用すれば、安定した組成の皮膜が得られ易い。また基板にバイアス電位を印加すると、皮膜の密着性を一段と高めることができるので好ましい。尚、本発明はイオンプレーティング時のガス圧も特に限定するものではないが、１×１０−３〜５×１０−２Ｔｏｒｒ程度が好ましく、この範囲内であれば耐摩耗性の一段と優れた高結晶性の緻密な硬質皮膜が得られ易い。」（第５欄第１０〜２５行）
イ．甲第２号証：
ａ．「【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、切削速度が２５０ｍ／ｍｉｎを越える高速連続切削に対して優れた切削性能を示す硬質層被覆切削工具に関するものである。」（第１欄第１５〜１８行）
ｂ．「【請求項１】　ＷＣ基超硬合金基体表面に、（Ｔｉ１−ｘ　Ｓｉｘ ）（Ｃ１−ｙ　Ｎｙ　）ｚ　［ただし、0.01≦ｘ≦0.45、0.01≦ｙ≦1.0 、0.5 ≦ｚ≦1.34］からなる組成のＴｉとＳｉの複合炭窒化物単一硬質層あるいは複合窒化物単一硬質層を被覆してなることを特徴とする硬質層被覆切削工具。」（【特許請求の範囲】の請求項１）
ｃ．「【０００７】この発明の硬質層被覆切削工具における単一硬質層を形成するには、アーク放電式イオンプレーティング法、マグネトロンスパッタリング法などにより成形することができる。アーク放電式イオンプレーティング法により単一硬質層を形成するには、まず真空装置内のＴｉとＳｉの混合物のターゲット上にアーク放電を発生させ、ＴｉとＳｉを蒸発イオン化させる。」（第２欄第１７〜２３行）
ウ．甲第３号証：
ａ．「【請求項１】高速度鋼、超硬合金、サーメット、セラミックのいずれかを母材質とし、次の（ａ）（ｂ）（ｃ）かつ（ｄ）の条件を満足させたことを特徴とする金属材料の加工用の複層コーティング工具。
（ａ）表面被覆膜が金属成分の原子パーセントでＴｉを１００％、又はＴｉを６０％以上含みＴｉ以外の膜構成金属がＺｒ，Ｈｆ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｂ，Ａｌ，Ｓｉの１種又は２種以上の成分であり、６００℃以下の温度にて炭素、窒素、酸素のうちのいずれか１種または２種以上の化合物の反応ガス成分中で物理蒸着法により母材表面に複層コーティングする。
（ｂ）コーティング膜の最上層の膜の成分がＴｉｘ　Ｎｙ　（但し、０．２＜ｙ／ｘ＜０．７）、またはＴｉ以外の成分ＭがＺｒ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｂであり、Ｔｉｕ　Ｍｖ　Ｎｗ　（但し、０．４＜ｗ／（ｕ＋ｖ）＜０．８）であり、かつ最上層の膜の厚みが表面から０．２〜２．０μｍの範囲である。
（ｃ）前記コーティング膜のうち、切削に関与する部分はマイクロヴィッカース硬さ（５０ｇ）の測定結果がＨｖ１３００〜３３００であり、膜厚が２．５〜８μｍの範囲にあり、かつＲａ５μｍ以下の面粗さである。
（ｄ）前記コーティング膜に通常のロックウエル（Ｃスケール）硬度計を用いて押圧した場合に生ずる圧痕を１００倍の倍率で観察した結果、圧痕の周囲１ｍｍ以上外側の範囲で膜の剥離が認められない。」（【特許請求の範囲】の【請求項１】）
ｂ．被覆膜が、窒化物、炭窒化物、酸窒化物、酸炭窒化物のいずれかであること。（第４頁の表１Ａ及び第５頁表１Ｂ参照。）
エ．甲第４号証：
ａ．「３−２　結晶構造評価
（１）薄膜Ｘ線回折
　ＴｉＮ/ＡｌＮ超格子膜の薄膜Ｘ線法による代表的な回折パターンを図２に示す。・・・
　立方晶系に属するＮａＣｌ型の結晶構造をもつＴｉＮと六方晶系に属するWurtzite型の結晶構造を持つＡｌＮを単純に多層構造にした場合，そのＸ線回折パターンは，この２つのパターンを重ね合わせになることが予想される。・・・
　一方，λ＝２．５ｎｍの試料の回折パターンは，この予想とは異なり単一のＮａＣｌ型の回折パターンを示している。その回折ピークの位置はＮａＣｌ型ＴｉＮとＡｌＮの高圧相であるＮａＣｌ型ＡｌＮの中間に位置している。したがって，λ＝２．５ｎｍの超格子膜は，ＮａＣｌ型の結晶構造を持ち，その格子定数はＴｉＮ（ａ＝０．４２４ｎｍ）と高圧相ＮａＣｌ型ＡｌＮ（ａ＝０．４１２、・・・）の中間の格子定数を持つと考えられる。」（第９３頁右欄第１０行〜第９４頁左欄第５行）
ｂ．「ＴｉＮ，ＡｌＮ層は数層以上にわたって格子が連続しており，格子定数はＴｉＮとＮａＣｌ型ＡｌＮの中間の大きさをとっていることから，半導体歪み超格子のような歪み整合をしていると考えられる。
　硬度異常現象の発現するメカニズムについては、金属系超格子において格子の歪みによる各層材料の弾性係数の変化の説明が試みられている。」（第９５頁左欄第２０〜２６行）
ｃ．ＴｉＮ/ＡｌＮ超格子は、約２．５ｎｍの積層周期で高い硬度が得られること。（第９４頁図３　膜硬度の積層周期依存性参照。）
オ．甲第５号証：
ａ．「１　基材表面に耐摩耗性皮膜を形成するに当たり、
　　　　（Ａｌｘ　Ｔｉ１−ｘ　）（Ｎｙ　Ｃ１−ｙ　）
　但し
　０．５６≦ｘ≦０．７５
　０．６≦ｙ≦１
で示される化学組成からなり、膜厚が０．８〜１０μｍの耐摩耗性皮膜を、蒸発源としてカソードを用いるアーク放電方式によって形成することを特徴とする耐摩耗性皮膜形成方法。」（特許請求の範囲）
ｂ．「上記皮膜組成からなる本発明の固溶体は、これを窒化物系で代表して説明すると、ＡｌＮ−ＴｉＮを端組成とする固溶体であり、種々の成分範囲について調べた結果、第１図Ａ及びＢに示すような結晶構造を有することが明らかとなった。第１図ＡにおいてＰはＮａＣｌ型（Ｂｌ構造）領域、ＱはＺｎＳ型（ウルツアイト型）領域である。即ち本発明の成分範囲は、第１図Ａ，Ｂから明らかなように、Ｂｌ構造を有する組成範囲内で、ＡｌＮにＴｉＮが２５〜４４モル％固溶した固溶体である。」（第４欄第３８行〜第５欄第３行）
（２）対比・判断
ア．本件発明１について
　甲第１号証には、本件発明１の共通した材質の母材の表面に本件発明１のｂ層と成分の組成が重複する耐摩耗性に優れた硬質皮膜を被覆することが、甲第２号証には、本件発明１の共通した材質の母材の表面に本件発明１のａ層と成分の組成が重複する単一の硬質層皮膜を被覆したことが、甲第５号証には、本件発明１の共通した材質の母材の表面にＴｉＡｌＮ皮膜を被覆した本件特許明細書に従来のものとして示されたものが記載されている。また、甲第３号証には、本件発明１の共通した材質の母材に複数の耐摩耗性被膜を被覆すことが記載されているもののａ層、ｂ層の成分の組成が本件発明１とは異なっており、さらに、甲第４号証には、Ｘ線回折による結晶構造評価について記載されているものの、上記３．（２）で示したように、ＴｉＮ／ＡｌＮ超格子膜である、立方晶系に属するＮａＣｌ型の結晶構造を持つＴｉＮと六方晶系に属するWurtzite型の結晶構造をもつＡｌＮを単純に多層構造に多層構造にしたものであって、本件発明１のＴｉＳ系化合物のＮａＣｌ型の結晶構造を持つａ層とＴｉＡｌ系化合物のＮａＣｌ型の結晶構造を持つｂ層とを多層構造にしたものとは異なっている。
　このように、甲各号証に記載のものは、いずれも本件発明１を特定する事項である「硬質皮膜のａ層は金属成分のみの原子％で、Ｓｉが１０％以上６０％以下、Ｂ、Ａｌ、Ｖ、Ｃｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗの１種または２種以上で１０％未満、残りＴｉから構成される窒化物、炭窒化物、酸窒化物、酸炭窒化物のいずれかであり、ＮａＣｌ型結晶構造を有し、かつ格子定数が０．４１７ｎｍ以上０．４２３ｎｍ以下からなり、硬質皮膜のｂ層は金属成分のみの原子％が、Ａｌ：４０％越え７５％以下、Ｂ、Ｓｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗの１種または２種以上で１０％未満、残Ｔｉで構成される窒化物、炭窒化物、酸窒化物、酸炭窒化物のいずれかで、ＮａＣｌ型結晶構造からなり、該ａ層、ｂ層がそれぞれ一層以上交互に被覆され、かつ、ｂ層が母材表面直上にあること」を備えていない。そして、甲第１号証及び甲第２号証には、それぞれ工具の皮膜がいずれも単層で使用されているのみであって、他の特定の皮膜と組合わせることについては何らの記載もない。また、甲第３号証に記載されているように異なる組成の皮膜を複数被覆することが公知であったとしても、工具の硬質皮膜は無数にあり、その中から甲第１号証及び甲第２号証に記載された皮膜を選択し、組合わせて使用することが容易であるとすることはできず、まして、ａ層がＮａＣｌ型結晶構造を有し、かつ格子定数を０．４１７ｎｍ以下とすることを示唆する記載もない。
　そして、本件発明１は、当該事項により「ａ層の結晶格子は単一で存在する場合よりも縮小することとなり、ａ層には格子歪みが発生し、その硬さが向上し、また、従来の被覆工具に比べ優れた耐酸化性、耐摩耗性を有すことから、乾式高速切削加工において格段に長い工具寿命が得られ、切削加工における生産性の向上に極めて有効である。」という特許明細書に記載された顕著な効果を奏するものである。
　以上のとおり、本件発明１は、特許異議申立人が主張しているように甲第１号証ないし甲第５号証に記載されたものが本件出願前に日本国内において公知なものであるとしても、甲第１号証ないし甲第５号証に記載されたものから容易に発明をすることができたものとすることはできない。
イ．本件発明２について
　本件発明２は、本件発明１を更に限定したものであるから、上記本件発明１についての判断と同様の理由により、上記甲各号証に記載された発明から当業者が容易に発明をすることができたもではない。
５．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては本件の請求項１ないし２に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件の請求項１ないし２に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１５年２月２６日（２００３．２．２６）