【手続補正書】
【提出日】平成27年2月17日(2015.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
−  ポリヒドロキシル基を含む、少なくとも１つの成分（Ａ）、
−  ポリイソシアネート基を含む、少なくとも１つの成分（Ｂ）、
−  少なくとも１つのＺｎ（ＩＩ）ビスカルボキシレートと一般式（Ｉ）
【化１】
2014510174.tif 000001
〔式中、
Ｒ1は、非環式または環式の飽和炭化水素基もしくは不飽和炭化水素基、芳香族炭化水素基または基Ｒv−アリールを表わし、その際にＲvは、アルキレン基を表わし、およびアリールは、芳香族基を表わし、およびその際に前記の全ての基は、ヘテロ原子を含んでいてよく、
Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、互いに独立して、水素、非環式または環式の飽和炭化水素基もしくは不飽和炭化水素基、芳香族炭化水素基または基Ｒv−アリールを表わし、その際にＲvは、アルキレン基を表わし、およびアリールは、芳香族基を表わし、およびその際に前記の全ての基は、ヘテロ原子を含んでいてよい〕の１つ以上のイミダゾールとの反応によって製造可能な、少なくとも１つの亜鉛−イミダゾール−カルボキシレート錯体（Ｄ）（但し、亜鉛（ＩＩ）ビス（２−エチルヘキサノエート）と１−メチルイミダゾールとを１対２．２以下のモル比で反応させることによって得ることができる亜鉛−（１−メチルイミダゾール）−ビス（２−エチルヘキサノエート）錯体（Ｄ）を除く）、および
−  カルボキシル基がπ電子系と共役している、少なくとも１つのモノマーの芳香族カルボン酸（Ｓ）を含有する被覆剤組成物。
【請求項２】
ポリ（メタ）アクリレートポリオールおよび／またはポリエステル樹脂がポリヒドロキシル基を含む少なくとも１つの成分（Ａ）として含まれていることを特徴とする、請求項１記載の被覆剤組成物。
【請求項３】
前記被覆剤組成物がポリイソシアネート基を含む成分（Ｂ）として１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートまたは４，４’−メチレンジシクロヘキシルジイソシアネート、これらのビウレット二量体および／またはこれらのイソシアヌレート三量体および／またはこれらの非対称な三量体を含むことを特徴とする、請求項１または２記載の被覆剤組成物。
【請求項４】
少なくとも１つのモノマーの芳香族カルボン酸（Ｓ）として、安息香酸、ｔ−ブチル安息香酸、３，４−ジヒドロキシ安息香酸、サリチル酸および／またはアセチルサリチル酸が含まれていることを特徴とする、請求項１から３までのいずれか１項に記載の被覆剤組成物。
【請求項５】
前記被覆剤組成物が少なくとも１つの亜鉛−イミダゾール−カルボキシレート錯体（Ｄ）を、この亜鉛−イミダゾール−カルボキシレート錯体（Ｄ）の金属含量が、それぞれ被覆剤の結合剤含量に対して、３５〜２０００ｐｐｍであり、および／または被覆剤が少なくとも１つのモノマーの芳香族カルボン酸（Ｓ）を０．２〜１５．０質量％含有するような量で含有し、その際に質量％の記載は、他方でそれぞれ被覆剤の結合剤含量に対するものであることを特徴とする、請求項１から４までのいずれか１項に記載の被覆剤組成物。
【請求項６】
前記被覆剤組成物がさらに成分（Ａ）とは異なる、ヒドロキシル基を含む、１つ以上の化合物（Ｃ）を含み、および／またはヒドロキシル基を含む化合物（Ａ）のヒドロキシル基および任意に（Ｃ）のヒドロキシル基対成分（Ｂ）のイソシアネート基のモル当量比が１：０．９〜１：１．５であることを特徴とする、請求項１から５までのいずれか１項に記載の被覆剤組成物。
【請求項７】
前記被覆剤組成物が非水性の被覆剤であり、および／または前記被覆剤組成物が顔料を含むことを特徴とする、請求項１から６までのいずれか１項に記載の被覆剤組成物。
【請求項８】
ポリイソシアネート基を含む少なくとも１つの成分およびポリヒドロキシル基を含む少なくとも１つの成分を含有する被覆剤組成物におけるウレタン反応を触媒するための触媒系としての、少なくとも１つの亜鉛−イミダゾール−カルボキシレート錯体（Ｄ）およびカルボキシル基がπ電子系と共役している、少なくとも１つのモノマーの芳香族カルボン酸（Ｓ）の使用であって、前記亜鉛−イミダゾール−カルボキシレート錯体（Ｄ）が少なくとも１つのＺｎ（ＩＩ）ビスカルボキシレートと一般式（Ｉ）
【化２】
2014510174.tif 000002
〔式中、
Ｒ1は、非環式または環式の飽和炭化水素基もしくは不飽和炭化水素基、芳香族炭化水素基または基Ｒv−アリールを表わし、その際にＲvは、アルキレン基を表わし、およびアリールは、芳香族基を表わし、およびその際に前記の全ての基は、ヘテロ原子を含んでいてよく、
Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、互いに独立して、水素、非環式または環式の飽和炭化水素基もしくは不飽和炭化水素基、芳香族炭化水素基または基Ｒv−アリールを表わし、その際にＲvは、アルキレン基を表わし、およびアリールは、芳香族基を表わし、およびその際に前記の全ての基は、ヘテロ原子を含んでいてよい〕の１つ以上のイミダゾールとの反応によって製造可能である（但し、亜鉛（ＩＩ）ビス（２−エチルヘキサノエート）と１−メチルイミダゾールとを１対２．２以下のモル比で反応させることによって得ることができる亜鉛−（１−メチルイミダゾール）−ビス（２−エチルヘキサノエート）錯体（Ｄ）を除く）、前記使用。
【請求項９】
前記被覆剤組成物がポリヒドロキシル基を含む、少なくとも１つの成分（Ａ）およびポリイソシアネート基を含む、少なくとも１つの成分（Ｂ）を含有し、および／または触媒反応が２０〜６０℃で実施されることを特徴とする、請求項８記載の触媒系の使用。
【請求項１０】
被覆法であって、特に自動車分野において、および／または輸送用車両分野において、有利に自動車補修用塗装のために、請求項１から７までのいずれか１項に記載の被覆剤組成物から層を製造し、または請求項８または９記載の触媒系を使用して層を製造することを特徴とする、被覆法。
【請求項１１】
多工程の被覆法であって、任意に予め被覆された基体上に顔料が配合された下塗り塗料層を施し、その後に請求項１から７までのいずれか１項に記載の被覆剤組成物からなる層を施すかまたは請求項８または９記載の触媒系を使用して層を施すか、或いは任意に予め被覆された基体上に請求項１から７までのいずれか１項に記載の被覆剤からなる、顔料が配合されたかまたは顔料が配合されていない層を施すかまたは請求項８または９記載の触媒系を使用して、顔料が配合されたかまたは顔料が配合されていない層を施すことを特徴とする、前記の多工程の被覆法。
【請求項１２】
顔料が配合された下塗り塗料層の施与後に、施与された下塗り塗料層を最初に室温ないし８０℃の温度で乾燥させ、請求項１から７までのいずれか１項に記載の被覆剤の塗布した後または請求項８または９記載の触媒系を使用して層を塗布した後に、２０〜８０℃、殊に２０〜６０℃の温度で硬化させることを特徴とする、請求項１１記載の多工程の被覆法。
【請求項１３】
自動車補修用塗装のための、および／または自動車用増設部品の被覆および／またはプラスチック基体の被覆および／または輸送用車両の被覆のための、クリヤーラッカーまたは顔料が配合された塗料としての、請求項１から７までのいずれか１項に記載の被覆剤組成物の使用。
【請求項１４】
自動車補修用塗装のための、および／またはプラスチック基体および／または輸送用車両の被覆のための、請求項１１または１２記載の方法の使用。
【請求項１５】
請求項１から７までのいずれか１項に記載の被覆剤組成物からなる少なくとも１つの層または請求項８または９記載の触媒系を使用して製造された、少なくとも１つの層を含み、かつ特に自動車分野において使用される被覆。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
ポリイソシアネート基を含む、少なくとも１つの成分（Ｂ）として、自体公知の、置換されたかまたは置換されていない、芳香族、脂肪族、脂環式および／またはヘテロ環式のポリイソシアネートが適している。好ましいポリイソシアネートの例は、次のとおりである：２，４−トルエンジイソシアネート、２，６−トルエンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−２，４’−ジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、ビフェニルジイソシアネート、３，３’−ジメチル−４，４’−ジフェニレンジイソシアネート、テトラメチレン−１，４−ジイソシアネート、ヘキサメチレン−１，６−ジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサン−１，６−ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、エチレンジイソシアネート、１，１２−ドデカンジイソシアネート、シクロブタン−１，３−ジイソシアネート、シクロヘキサン−１，３−ジイソシアネート、シクロヘキサン−１，４−ジイソシアネート、メチルシクロヘキシルジイソシアネート、ヘキサヒドロトルエン−２，４−ジイソシアネート、ヘキサヒドロトルエン−２，６−ジイソシアネート、ヘキサヒドロフェニレン−１，３−ジイソシアネート、ヘキサヒドロフェニレン−１，４−ジイソシアネート、ペルヒドロジフェニルメタン−２，４’−ジイソシアネート、４，４’−メチレンジシクロヘキシルジイソシアネート（例えば、Ｂａｙｅｒ  ＡＧ社のＤｅｓｍｏｄｕｒ（登録商標）Ｗ）、テトラメチルキシリルジイソシアネート（例えば、Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｙａｎａｍｉｄ社のＴＭＸＤＩ）および前記ポリイソシアネートの混合物。また、好ましいポリイソシアネートは、前記ジイソシアネートのビウレット二量体およびイソシアヌレート三量体である。特に好ましいポリイソシアネート（Ｂ）は、ヘキサメチレン−１，６−ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートおよび４，４’−メチレンジシクロヘキシルジイソシアネート、これらのビウレット二量体および／またはこれらのイソシアヌレート三量体および／またはこれらの非対称な三量体、例えば市場でＤｅｓｍｏｄｕｒ（登録商標）ＸＰ２４１０の名称で入手可能な非対称なＨＤＩ三量体である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
一般式（Ｉ）
【化３】
2014510174.tif 000003
のイミダゾールには、上記の一般的な規定の条件付きで、特に
Ｒ1は、２０個までの炭素原子を有する飽和または不飽和の直鎖状または分枝鎖状炭化水素基、１０個までの炭素原子を有する５員もしくは６員の芳香族炭化水素基または基Ｒv−アリールを表わし、その際にＲvは、１〜６個の炭素原子を有するアルキレン基を表わし、およびアリールは、１０個までの炭素原子を有する５員もしくは６員の芳香環を表わし、およびその際に前記の全ての基は、任意にヘテロ原子、例えば酸素、硫黄もしくは窒素を含んでいてよく、
Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、互いに独立して、水素、２０個までの炭素原子を有する飽和または不飽和の直鎖状または分枝鎖状炭化水素基、１０個までの炭素原子を有する５員もしくは６員の芳香族炭化水素基または基Ｒv−アリールを表わし、その際にＲvは、１〜６個の炭素原子を有するアルキレン基を表わし、およびアリールは、１０個までの炭素原子を有する５員もしくは６員の芳香環を表わし、およびその際に前記の全ての基は、任意にヘテロ原子、例えば酸素、硫黄もしくは窒素を含んでいてよいことが当てはまる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
特に有利に、Ｒ1は、１２個までの炭素原子、殊に有利に６個までの炭素原子を有する飽和の直鎖状または分枝鎖状アルキル基、６個までの炭素原子、殊に有利に３〜６個までの炭素原子を有する５員もしくは６員の芳香族炭化水素基または基Ｒv−アリールを表わし、その際にＲvは、有利に１または２個の炭素原子を有するアルキレン基を表わし、およびアリールは、３〜６個の炭素原子を有する５員もしくは６員の芳香環を表わし、およびその際に前記の全ての基は、任意にヘテロ原子、例えば酸素、硫黄もしくは窒素を含んでいてよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
基Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、互いに独立して、有利に水素、１２個までの炭素原子、殊に有利に６個までの炭素原子を有する飽和の直鎖状または分枝鎖状アルキル基、１０個までの炭素原子、殊に有利に３〜６個の炭素原子を有する５員もしくは６員の芳香族炭化水素基または基Ｒv−アリールを表わし、その際にＲvは、有利に１または２個の炭素原子を有するアルキレン基を表わし、およびアリールは、３〜６個の炭素原子を有する５員もしくは６員の芳香環を表わし、およびその際に前記の全ての基は、任意にヘテロ原子、例えば酸素、硫黄もしくは窒素を含んでいてよい。殊に有利には、基Ｒ3およびＲ4は、水素を表わす。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９８】
【表１】
2014510174.tif 000004
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
【表２】
2014510174.tif 000005
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０１】
第２表は、印刷試験後に達成された不粘着性に対して達成された値を示す。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０２】
【表３】
2014510174.tif 000006