【事件の表示】
　特許第３２７５５０１号「ポジ型レジスト組成物」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第３２７５５０１号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
１　本件発明
　本件特許第３２７５５０１号の請求項１に係る発明（平成５年１１月３０日出願、平成１４年２月８日設定登録）は、特許明細書の記載からみてその特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものと認める。
「【請求項１】アルカリ可溶性フェノール樹脂と感光剤を含有するポジ型レジする組成物において、該感光剤として下記一般式［I］で示されるフェノール化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
【化１】
（式中，Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ３からＲ６は、炭素数１〜４のアルキル基である。）」
　以下、上記請求項１に記載の発明を、「本件発明」という。
　　　
２　特許異議申立ての理由の概要
　異議申立人・鈴木三男は、甲第１号証（特開平３−２２８０５７号公報）、甲第２号証（特開平５−２１６２２０号公報）、甲第３号証（大津隆行、木下雅悦著「高分子合成の実験法」１９７２年３月１日、（株）化学同人、３４５頁）、甲第４号証（特開昭６２−１０６４６号公報）を提出し、本件請求項１に係る発明は、甲第１〜４号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、本件特許は取り消されるべきものである旨主張している。
　　　
３　甲各号証の記載事項
　甲第１号証には、「アルカリ可溶性樹脂、ポリヒドロキシ化合物と１，２−ナフトキノンジアジド−５−（及び／又は−４−）スルホニルクロリドとの反応で得られる感光物、を含有するポジ型フォトレジスト組成物」に係る発明が記載され（特許請求の範囲）、該発明の感光物について「電子的効果を導入し、更に有機溶媒／水の混合溶媒中での反応を行わせることにより、・・・得られる感光性化合物は、下記一般式［II］及び［III］で表される基をそれぞれ１分子中に少なくとも１個有するポリヒドロキシ化合物と・・・反応させることにより得られる。このような感光物の好ましい例としては、［VII］及び［VIII］が挙げられる。・・・（構造式は省略）・・・」（４頁右上欄１１行〜５頁左上欄最下行）、「立体的効果を導入し、更に有機溶媒／水の混合溶媒中での反応を行わせることにより、・・・得られる感光物は、下記一般式［IV］、［V］もしくは［VI］で表される基を１分子中に少なくとも１個有するポリヒドロキシ化合物と・・・・反応させることにより得られる。このような感光物の好ましい例としては、［IX］〜［XVIII］が挙げられる。・・・（構造式は省略）・・・」（５頁右上欄１行〜７頁右上欄最下行）とある。「実施例」の項には、「（７）感光物ｇの合成　・・・（構造式は省略）」（１５頁左上欄〜右上欄）、「（１０）感光物ｊの合成　・・・（構造式は省略）」（１５頁右下欄〜１６頁左上欄）と記載されている。
　甲第２号証には、感光性化合物に係る発明が記載され、「実施例−１　この実施例では、下記オリゴマーを用いて本発明に係る感光性化合物を得、これをフォトレジストとして使用して、そのレジストパターン形成性を調べた。
【化２】
ｎは０〜１０程度とした。上記化合物をバラスト材料として用い、感光基としてナフトキノンジアジド系の感光基を導入して、感光性化合物とした」（段落【0014】〜【0016】）と記載されている。
　なお、【化２】の一般式（ｎ＝０〜１０）のオリゴマーを以下「特定オリゴマーａ」という。
　甲第３号証には、「４核体の合成」の項に、４個のベンゼン環が−ＣＨ２−で連結された４核のフェノール化合物の合成法が記載されている。
　甲第４号証には、「アルカリ可溶性フェノール樹脂をベースレジンとし、光分解性化合物として、一般式　
・・・（構造式は省略）・・・
で表わされるフェノール化合物ｏ−キノンジアジドスルホニルクロライドとの縮合物を含有せしめたことを特徴とするポジ型レジスト組成物。」（特許請求の範囲）が記載されている。
　　　
４　異議申立ての理由についての判断
　甲第１号証には、アルカリ可溶性ノボラック樹脂、ポリヒドロキシ化合物（例、４核体のフェノール化合物）と１，２−ナフトキノンジアジド−５−（及び／又は−４−）スルホニルクロリドとの反応で得られる感光物（エステル）を含有するポジ型フォトレジスト組成物が記載されており、本件発明と甲第１号証に記載の発明とは、アルカリ可溶性フェノール樹脂と４核体のフェノール化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルを含有するポジ型レジスト組成物である点では共通する。
　しかし、甲第１号証には、キノンジアジドスルホン酸エステルの母核となる４核体のフェノール化合物として、本件の特許請求の範囲（請求項１）に記載の一般式［I］で示されるフェノール化合物（以下「フェノール化合物［I］」という。）は記載されていない。
　本件発明の「フェノール化合物［I］」は、その構造式から明らかなように、ＯＨ基に関しては各環がそれを１個ずつ有し、かつ両端の環ではその結合位置がメチレン基に対しオルト位であるという特徴を有するものである。
　甲第１号証に例示のフェノール４核体の化合物（１１頁、１５頁参照）は、いずれも、メチレン基を介してＯＨ基を１個有する環を直列に連結した構造において両端の環でのＯＨ基の結合位置をメチレン基に対しオルト位としたものではないので、環が有するＯＨ基の数とその位置だけに着目しても、それらは本件発明の「フェノール化合物［I］」とは異なる。また、４核体のフェノール化合物とナフトキノンジアジドスルホニルクロリドとの反応物を［XII］等の一般式で示した記載もあるが（例えば５〜７頁参照）、ここでは化合物を広く定義しただけであり、その母核となるポリヒドロキシ化合物の構造部分において基の数、位置を「フェノール化合物［I］」のように特定したものが記載されているとは認められない。
　甲第１号証には、フェノール４核体の例示があるだけであり、上記「フェノール化合物［I］」における化学構造の特徴についての教示はないので、該甲号証から「フェノール化合物［I］」が容易に想到し得たとすることはできない。
　甲第２号証には、「特定オリゴマーａ」にナフトキノンジアジド系の感光基を導入して得た感光性化合物（バラスト材料）をフォトレジストとして用いることが記載されているが、「特定オリゴマーａ」の構造式においてｎが４に限定されるオリゴマーにナフトキノンジアジド系の感光基を導入し、得られる感光性化合物を「アルカリ可溶性フェノール樹脂」と組み合わせて用いることは記載がなく、示唆もない。
　また、甲第２号証には、「特定オリゴマーａ」の式でｎが４に限定されるオリゴマーのキノンジアジドスルホン酸エステルが、甲第１号証に示されるフェノール４核体のキノンジアジドスルホン酸エステルとフォトレジストの材料として同様に有用であることを示唆する記載はないので、甲第１号証に記載の発明に、甲第２号証の記載を勘案することにより、本件発明が容易になし得たとすることもできない。
　甲第３号証は、４核体の合成法を示すだけであり、フォトレジストに関する記載は全くない。
　甲第４号証には、アルカリ可溶性フェノール樹脂と、３個のベンゼン環がメチレン基により直列に結合し、各環はＯＨ基と低級アルキル基を１個ずつ有するフェノール化合物（１頁左下欄、請求項１に記載の一般式の化合物）とキノンジアジドスルホニルクロライドとの縮合物（エステル）を含有するポジ型レジスト組成物が記載されているが、エステルとして、フェノール４核体の化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルを用いることは記載されていない。また、甲第４号証に記載の発明は、特定のフェノール３核体の化合物の使用を必須とするものであるから、該化合物を上記した「フェノール化合物［I］」に置き換えることが示唆されているとはいえない。
　更に、本件発明は、甲第１〜４号証に記載の発明を組み合わせることによって容易になし得たものであるとすることもできない。
　そして、本件発明においては、上記「フェノール化合物［I］」とアルカリ可溶性フェノール樹脂を併用することにより、感度、残膜率、解像度、耐熱性に優れ、特に１μｍ以下の微細加工に適するポジ型レジスト組成物が得られるという効果が奏されるものである。
　したがって、本件発明は、甲第１〜４号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとは認められない。
　　　
５　むすび
　以上のとおりであるので、異議申立の理由及び証拠によっては、本件の請求項１に係る発明の特許を取り消すことができない
　また、他に本件の請求項１に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１５年２月４日（２００３．２．４）