(57)【要約】      （修正有）【課題】表示パネルにタッチパネルを装着するに当たり、工程を簡略化し、薄型化及び軽量化する事でコストを削減する。【解決手段】本発明によるタッチセンサーを有する有機発光表示装置は、複数のダム１０６間の空間が外側平坦化層１５８によって満たされ、複数のダム間の空間でルーティングライン１６０が短絡することを防止することができ、発光素子１２０を封止する封止部１４０の上部にタッチ電極１５２が配置されることによって付加の接着工程が不要。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクティブ領域及び非アクティブ領域を有する基板と；
前記基板上に配置される発光素子と；
前記発光素子上に配置され、複数の無機封止層と前記無機封止層の間に配置される少なくとも１層の有機封止層とを含む封止部と；
前記封止部上に配置される複数のタッチセンサーと；
前記アクティブ領域と前記非アクティブ領域の間に配置される少なくとも一つのダムと；
前記非アクティブ領域に配置される少なくとも一つの第１平坦化層とを備え、
前記第１平坦化層の側面と前記封止部の側面は向き合い、
前記第１平坦化層の側面と前記封止部の側面の間には無機層が配置される、表示装置。
【請求項２】
前記第１平坦化層の上面は前記ダムを覆うように配置された前記無機封止層の上面と同一平面上に配置されるか、前記ダムの上面と同一平面上に配置されるか、または前記無機封止層の上面及び前記ダムの上面の間に配置される、請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記第１平坦化層は前記有機封止層と前記ダムの間の空間を満たして平坦化する、請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記第１平坦化層の上面は、前記ダムを覆うように配置された前記無機封止層の上面と同一平面上に配置されるか、前記ダムの上面又は前記有機封止層の上面と同一平面上に配置されるか、または前記ダムの上面及び前記有機封止層の上面の間に配置される、請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
前記複数のタッチセンサーのそれぞれと接続され、複数の前記ダムと交差する複数のルーティングラインをさらに備える、請求項１〜４のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項６】
前記ルーティングラインは前記有機封止層の側面及び前記第１平坦化層の上面を覆うように配置される、請求項５に記載の表示装置。
【請求項７】
前記ルーティングラインは前記有機封止層の側面を覆うように配置された第１平坦化層上に配置される、請求項５に記載の表示装置。
【請求項８】
前記発光素子の下部に配置される複数の絶縁膜の少なくとも一つ又は前記第１平坦化層上に配置され、前記ルーティングラインから伸びるタッチパッドをさらに備える、請求項５に記載の表示装置。
【請求項９】
前記タッチパッドは、
前記発光素子の下部に配置される複数の絶縁膜の少なくとも一つ上に配置されるタッチパッド下部電極と；
前記ルーティングラインから伸びて前記タッチパッド下部電極と接続されるタッチパッド上部電極とを備える、請求項８に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記発光素子の下部に配置される複数の絶縁膜の少なくとも一つ上に配置される表示パッドをさらに備え、
前記表示パッドは、
前記発光素子の下部に配置される複数の絶縁膜の少なくとも一つ上に配置される表示パッド下部電極と；
前記表示パッド下部電極と接続され、前記タッチパッド上部電極と同一素材から形成され、前記タッチパッド上部電極と同一平面上に配置される表示パッド上部電極とを備える、請求項９に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記タッチパッドは、
前記第１平坦化層上に配置され、前記ルーティングラインから伸びるタッチパッド下部電極と；
前記タッチパッド下部電極と接続されるタッチパッド上部電極とを備える、請求項８に記載の表示装置。
【請求項１２】
前記発光素子の下部に配置される複数の絶縁膜の少なくとも一つ上に配置される表示パッドをさらに備え、
前記表示パッドは、
前記発光素子の下部に配置される複数の絶縁膜の少なくとも一つ上に配置される表示パッド下部電極と；
前記第１平坦化層を貫くコンタクトホールを通じて露出された表示パッド下部電極と接続される表示パッド上部電極とを備える、請求項１１に記載の表示装置。
【請求項１３】
前記発光素子の下部に配置される複数の絶縁膜の少なくとも一つ上に配置される表示パッドをさらに備え、
前記表示パッドは、
前記発光素子の下部に配置される複数の絶縁膜の少なくとも一つ上に配置される表示パッド下部電極と；
前記表示パッド下部電極の側面及び上面を覆うように配置された表示パッド上部電極とを備える、請求項１１に記載の表示装置。
【請求項１４】
前記発光素子と接続された薄膜トランジスタと；
前記薄膜トランジスタを覆うように配置された第２平坦化層とをさらに備え、
前記ルーティングラインは前記非アクティブ領域内の第１平坦化層上に配置される、表示装置。
【請求項１５】
前記ルーティングラインは前記第２平坦化層の上面より高く配置される、請求項１４に記載の表示装置。
【請求項１６】
前記封止部と前記タッチセンサーの間に配置されるカラーフィルターをさらに備える、請求項１に記載の表示装置。
【請求項１７】
前記タッチセンサーの上部又は下部に配置されるカラーフィルターをさらに備える、請求項１に記載の表示装置。
【請求項１８】
前記タッチセンサーは前記封止部上に互いに交差するように配置されるタッチセンシングライン及びタッチ駆動ラインを備え、
前記タッチ駆動ラインは、
前記封止部上に第１方向に配列される第１タッチ電極と；
前記第１タッチ電極を互いに連結する第１ブリッジとを備え、
前記タッチセンシングラインは、
前記第１方向と交差する第２方向に配列される第２タッチ電極と；
前記第２タッチ電極を互いに連結する第２ブリッジとを備える、請求項１に記載の表示装置。
【請求項１９】
前記第１及び第２ブリッジの少なくとも一つは少なくとも一つのスリットを備える、請求項１８に記載の表示装置。
【請求項２０】
前記第１及び第２タッチ電極と前記第１及び第２ブリッジの少なくとも一つはメッシュ状になる、請求項１８に記載の表示装置。
【請求項２１】
前記タッチセンサーは電気的に独立した自己静電容量を有する複数のタッチ電極からなる、請求項１に記載の表示装置。
【請求項２２】
前記アクティブ領域内で封止ユニットと前記複数のタッチセンサーの間に配置されるタッチバッファー膜をさらに備え、
前記ルーティングラインは前記タッチバッファー膜上に配置される、請求項５に記載の表示装置。
【請求項２３】
前記非アクティブ領域内で前記基板と前記ルーティングラインの間の保護膜上に配置されるタッチバッファー膜をさらに備える、請求項８に記載の表示装置。
【請求項２４】
前記有機封止層は前記複数のダムの間に配置され、
前記第１平坦化層は前記複数のダムの間に配置される有機封止層上に配置される、請求項１に記載の表示装置。
【請求項２５】
前記表示パッド及び前記タッチパッドが配置される非アクティブ領域は前記発光素子が配置されるアクティブ領域の背面にベンディングされる、請求項１０に記載の表示装置。
【請求項２６】
前記タッチパッド下部電極は前記発光素子と接続される薄膜トランジスタのソース及びドレイン電極と同一の素材からなる、請求項１０に記載の表示装置。
【請求項２７】
複数の前記ダムの少なくとも一つは前記第1平坦化層の側面と前記封止ユニットの側面の間に配置される、請求項１に記載の表示装置。
【請求項２８】
前記無機層は前記複数の無機封止層の少なくとも一つである、請求項１に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示装置に関するもので、特に工程の簡素化及びコストの節減が可能な表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
タッチスクリーンは表示装置などの画面に現れた指示内容を人の手又は物体で選択して使用者の命令を入力することができるようにした入力装置である。すなわち、タッチスクリーンは人の手又は物体に直接接触した接触位置を電気的信号に変換し、接触位置で選択された指示内容を入力信号として受け取る。このようなタッチスクリーンはキーボードやマウスのように表示装置に連結されて動作する付加の入力装置を取り替えることができるので、その利用範囲が徐々に広がっている趨勢である。
【０００３】
このようなタッチスクリーンは一般的に液晶表示パネル又は有機電界発光表示パネルのような表示パネルの前面に接着剤を介して付着される場合が多い。この場合、タッチスクリーンが別に製作されて表示パネルの前面に付着されるので、付着工程の追加によって工程が複雑になり、コストが上昇する問題点がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は前記問題点を解決するためのもので、本発明の目的は工程の簡素化及びコストの節減が可能な表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
前記目的を達成するために、本発明によるタッチセンサーを有する有機発光表示装置は、封止部上に配置される複数のタッチセンサーのそれぞれと接続される複数のルーティングラインのそれぞれが互いに異なる平面上に互いに重畳するように配置され、複数のルーティングコンタクトホールを介して電気的に接続されるので、ルーティングライン間の接続不良を改善することができ、封止部の上部にタッチセンサーが配置されることによって付加の接着工程が不要になるので、工程が簡素化し、コストを節減することができる。
【発明の効果】
【０００６】
本発明による表示装置は、複数のタッチセンサーのそれぞれと接続される複数のルーティングラインのそれぞれが互いに異なる平面上に互いに重畳するように配置され、複数のルーティングコンタクトホールを介して電気的に接続される。これにより、本発明はルーティングライン間の接続不良を改善することができる。また、本発明では、タッチ電極のそれぞれに含まれる透明な透明導電層とメッシュ状の不透明導電層が同一マスク工程で形成されるので、マスク工程数の低減によって工程を簡素化するとともにコストを低減することができる。これだけでなく、従来の有機発光表示装置は接着剤を介してタッチスクリーンが有機発光表示装置に付着されるが、本発明による有機発光表示装置は封止部上にタッチ電極が配置されることによって付加の接着工程が不要になるので、工程が簡素化し、コストを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本発明の第1実施例によるタッチセンサーを有する有機発光表示装置を示す斜視図である。
【図２】図１に示したタッチセンサーを有する有機発光表示装置を示す平面図である。
【図３】図２で、線Ｉ−Ｉ’及びＩＩ−ＩＩ’に沿って切断した、タッチセンサーを有する有機発光表示装置の断面図である。
【図４】図３に示した外側平坦化層を備えていない比較例の製造方法を説明するための断面図である。
【図５】図３に示した外側平坦化層を備える実施例の製造方法を説明するための断面図である。
【図６】本発明の第２実施例によるタッチセンサーを有する有機発光表示装置を示す断面図である。
【図７】図６に示した表示パッドの他の実施例を示す断面図である。
【図８】図６に示したタッチセンサーを有する有機発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図９】本発明の第３実施例によるタッチセンサーを有する有機発光表示装置を示す断面図である。
【図１０】図３に示した第１及び第２タッチ電極と第２ブリッジの他の実施例を示す平面図及び断面図である。
【図１１】本発明の第４実施例によるタッチセンサー及びタッチバッファー膜を有する有機発光表示装置を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、添付図面に基づいて本発明による実施例を詳細に説明する。
【０００９】
図１は本発明によるタッチセンサーを有する有機発光表示装置を示す斜視図である。
【００１０】
図１に示したタッチセンサーを有する有機発光表示装置は、タッチ期間中に図２に示したタッチ電極１５２ｅ、１５４ｅを介して使用者のタッチによる相互静電容量（ｍｕｔｕａｌ  ｃａｐａｃｉｔａｎｃｅ）（Ｃｍ；タッチセンサー）の変化量を感知してタッチ有無及びタッチ位置をセンシングする。そして、図１に示したタッチセンサーを有する有機発光表示装置は発光素子１２０を含む単位画素を介して映像を表示する。単位画素は赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）サブ画素ＰＸＬで構成されるか、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）及び白色（Ｗ）サブ画素ＰＸＬで構成される。
【００１１】
このために、図１に示した有機発光表示装置は、基板１１１上にマトリックス状に配列された複数のサブ画素ＰＸＬと、複数のサブ画素ＰＸＬ上に配置された封止部１４０と、封止部１４０上に配置された相互静電容量Ｃｍとを備えている。
【００１２】
複数のサブ画素ＰＸＬのそれぞれは、画素駆動回路と、画素駆動回路と接続される発光素子１２０とを備える。
【００１３】
画素駆動回路は、スイッチングトランジスタＴ１、駆動トランジスタＴ２及びストレージキャパシタＣｓｔを備える。一方、本発明では画素駆動回路が２個のトランジスタＴと１個のキャパシタＣを備える構造を例として説明したが、これに限定されるものではない。すなわち、３個以上のトランジスタＴと１個以上のキャパシタＣを備える３Ｔ１Ｃ構造又は３Ｔ２Ｃ構造の画素駆動回路を用いることもできる。
【００１４】
スイッチングトランジスタＴ１は、スキャンラインＳＬにスキャンパルスが供給されれば、ターンオンされ、データラインＤＬに供給されたデータ信号をストレージキャパシタＣｓｔ及び駆動トランジスタＴ２のゲート電極に供給する。
【００１５】
駆動トランジスタＴ２はその駆動トランジスタＴ２のゲート電極に供給されるデータ信号に応答して高電圧ＶＤＤ供給ラインから発光素子１２０に供給される電流（Ｉ）を制御することによって発光素子１２０の発光量を調節することになる。そして、スイッチングトランジスタＴ１がターンオフされても、ストレージキャパシタＣｓｔに充電された電圧によって駆動トランジスタＴ２は次のフレームのデータ信号が供給されるまで一定した電流を供給して発光素子１２０が発光を維持するようにする。
【００１６】
このような駆動トランジスタＴ２、１３０は、図３に示したように、バッファー層１１２上に配置される半導体層１３４と、ゲート絶縁膜１０２を挟んで半導体層１３４と重畳するゲート電極１３２と、層間絶縁膜１１４上に形成され、半導体層１３４と接触するソース及びドレイン電極１３６、１３８とを備える。ここで、半導体層１３４は非晶質半導体物質、多結晶半導体物質及び酸化物半導体物質の少なくとも１種から形成される。
【００１７】
発光素子１２０は、アノード電極１２２と、アノード電極１２２上に形成される発光スタック１２４と、発光スタック１２４上に形成されたカソード電極１２６とを備える。
【００１８】
アノード電極１２２は保護膜１１６及び画素平坦化層１１８を貫く画素コンタクトホールを通じて露出された駆動トランジスタＴ２、１３０のドレイン電極１３８と電気的に接続される。
【００１９】
少なくとも一つの発光スタック１２４はバンク１２８によって設けられた発光領域のアノード電極１２２上に形成される。少なくとも一つの発光スタック１２４は、アノード電極１２２上に正孔関連層、有機発光層、電子関連層の順に又は逆順に積層されて形成される。その外にも、発光スタック１２４は生成層を挟んで対向する第１及び第２発光スタックを備えることもできる。この場合、第１及び第２発光スタックのいずれか一つの有機発光層は青色光を生成し、第１及び第２発光スタックの残り一つの有機発光層は黄色−緑色光を生成することによって第１及び第２発光スタックを介して白色光が生成される。この発光スタック１２４で生成された白色光は発光スタック１２４の上部又は下部に位置するカラーフィルターに入射してカラー映像を具現することができる。その外にも、付加のカラーフィルターなしに各発光スタック１２４で各サブ画素に相応するカラー光を生成してカラー映像を具現することもできる。すなわち、赤色（Ｒ）サブ画素の発光スタック１２４は赤色光を、緑色（Ｇ）サブ画素の発光スタック１２４は緑色光を、青色（Ｂ）サブ画素の発光スタック１２４は青色光を生成することもできる。
【００２０】
カソード電極１２６は発光スタック１２４を挟んでアノード電極１２２と対向するように形成され、低電圧ＶＳＳ供給ラインと接続される。
【００２１】
封止部１４０は外部の水分又は酸素に弱い発光素子１２０に外部の水分又は酸素が浸透することを遮断する。このために、封止部１４０は、複数の無機封止層１４２、１４６と、複数の無機封止層１４２、１４６の間に配置される有機封止層１４４とを備え、無機封止層１４６が最上層に配置される。この時、封止部１４０は、少なくとも２層の無機封止層１４２、１４６と少なくとも１層の有機封止層１４４とを備える。本発明では第１及び第２無機封止層１４２、１４６の間に有機封止層１４４が配置される封止部１４０の構造を例として説明する。
【００２２】
第１無機封止層１４２は発光素子１２０に最も近付くようにカソード電極１２６が形成された基板１１１上に形成される。このような第１無機封止層１４２は、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）、酸化窒化シリコン（ＳｉＯＮ）又は酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）のような低温蒸着の可能な無機絶縁素材から形成される。これにより、第１無機封止層１４２が低温雰囲気で蒸着されるので、第１無機封止層１４２の蒸着工程時に高温雰囲気に弱い発光スタック１２４が損傷することを防止することができる。
【００２３】
有機封止層１４４は有機発光表示装置の撓みによる各層間の応力を緩和させる緩衝の役目をし、平坦化性能を強化する。この有機封止層１４４は、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド、ポリエチレン又はシリコンオキシカーボン（ＳｉＯＣ）のような有機絶縁素材から形成される。
【００２４】
このような有機封止層１４４がインクジェット方式で形成される場合、液状の有機封止層１４４が基板１１１の縁部に拡散することを防止するためにダム１０６が配置される。ダム１０６は有機封止層１４４より基板１１１の縁部に近く配置される。このようなダム１０６によって、基板１１１の最外側に配置されるタッチパッド１７０及び表示パッド１８０が配置されるパッド領域に有機封止層１４４が拡散することを防止することができる。このために、ダム１０６は、図２に示したように、発光素子１２０が配置されるアクティブ領域をすべて取り囲むように形成されるか、アクティブ領域とパッド領域の間にのみ形成されることもできる。タッチパッド１７０及び表示パッド１８０が配置されるパッド領域が基板１１１の一側に配置される場合、ダム１０６は基板１１１の一側にのみ配置される。そして、タッチパッド１７０及び表示パッド１８０が配置されるパッド領域が基板１１１の両側に配置される場合、ダム１０６は基板１１１の両側に配置される。この時、所定間隔で離隔した複数のダム１０６は互いに平行に配置されることができる。一方、本発明は、図２及び図３に示したように、ダム１０６がアクティブ領域を取り囲む閉鎖型第１ダム１０６ａと、第１ダム１０６ａとパッド領域の間に配置される第２ダム１０６ｂとからなる構造を例として説明したが、これに限定されるものではない。
【００２５】
このような第１及び第２ダム１０６ａ、１０６ｂのそれぞれは単層又は多層の構造に形成される。例えば、第１及び第２ダム１０６ａ、１０６ｂのそれぞれはバンク１２８及びスペーサ（図示せず）の少なくとも一つと同一素材で同時に形成されるので、マスク工程の追加及びコスト上昇を防止することができる。
【００２６】
第２無機封止層１４６は有機封止層１４４が形成された基板１１１上に有機封止層１４４及び第１無機封止層１４２のそれぞれの上面及び側面を覆うように形成される。これにより、第２無機封止層１４６は外部の水分又は酸素が第１無機封止層１４２及び有機封止層１４４に浸透することを最小化するか遮断する。このような第２無機封止層１４６は窒化シリコン（ＳｉＮｘ）、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）、酸化窒化シリコン（ＳｉＯＮ）又は酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）のような無機絶縁素材から形成される。
【００２７】
このような封止部１４０上にはタッチ絶縁膜１５６を挟んでタッチセンシングライン１５４及びタッチ駆動ライン１５２が交差するように配置されることにより、タッチセンシングライン１５４とタッチ駆動ライン１５２の交差部には相互静電容量（ｍｕｔｕａｌ  ｃａｐａｃｉｔａｎｃｅ）Ｃｍが形成される。これにより、相互静電容量Ｃｍはタッチ駆動ライン１５２に供給されるタッチ駆動パルスによって電荷を充電し、充電された電荷をタッチセンシングライン１５４に放電することによってタッチセンサーの役目をするようになる。
【００２８】
タッチ駆動ライン１５２は、複数の第１タッチ電極１５２ｅと、複数の第１タッチ電極１５２ｅの間を電気的に連結する第１ブリッジ１５２ｂとを備える。
【００２９】
複数の第１タッチ電極１５２ｅはタッチ絶縁膜１５６上に第１方向であるＸ方向に一定の間隔で離隔される。このような複数の第１タッチ電極１５２ｅのそれぞれは第１ブリッジ１５２ｂを介して隣接した第１タッチ電極１５２ｅと電気的に連結される。
【００３０】
第１ブリッジ１５２ｂは第２無機封止層１４６上に形成され、タッチ絶縁膜１５６を貫くタッチコンタクトホール１５０を通じて露出されて第１タッチ電極１５２ｅと電気的に接続される。この第１ブリッジ１５２ｂはバンク１２８と重畳するように配置されるので、第１ブリッジ１５２ｂによって開口率が減少することを防止できる。
【００３１】
タッチセンシングライン１５４は、複数の第２タッチ電極１５４ｅと、複数の第２タッチ電極１５４ｅの間を電気的に連結する第２ブリッジ１５４ｂとを備える。
【００３２】
複数の第２タッチ電極１５４ｅはタッチ絶縁膜１５６上に第２方向であるＹ方向に一定の間隔で離隔される。このような複数の第２タッチ電極１５４ｅのそれぞれは第２ブリッジ１５４ｂを介して隣接した第２タッチ電極１５４ｅと電気的に連結される。
【００３３】
第２ブリッジ１５４ｂは第２タッチ電極１５４ｅと同一平面であるタッチ絶縁膜１５６上に配置され、付加のコンタクトホールなしに第２タッチ電極１５４ｅと電気的に接続される。この第２ブリッジ１５４ｂは、第１ブリッジ１５２ｂと同様に、バンク１２８と重畳するように配置されるので、第１ブリッジ１５４ｂによって開口率が減少することを防止できる。
【００３４】
このような本発明のタッチ駆動ライン１５２及びタッチセンシングライン１５４のそれぞれはルーティングライン１６０及びタッチパッド１７０を介してタッチ駆動部（図示せず）と連結される。
【００３５】
タッチパッド１７０はタッチ駆動部が実装された信号伝送フィルム（図示せず）と接続される。このタッチパッド１７０は基板１１１と封止部１４０の間に配置されるバッファー層１１２、層間絶縁膜１１４及び保護膜１１６の少なくとも一つの絶縁膜上に配置されてその絶縁膜と接触する。例えば、タッチパッド１７０は層間絶縁膜１１４上に配置されて層間絶縁膜１１４と接触する構造を例として説明する。このようなタッチパッド１７０はタッチパッド下部電極１７２とタッチパッド上部電極１７４とからなる。
【００３６】
タッチパッド下部電極１７２は駆動トランジスタＴ２、１３０のゲート電極１３２及びソース及びドレイン電極１３６、１３８の少なくとも一つと同一素材で形成され、同一平面上に単層又は多層の構造に形成される。例えば、タッチパッド下部電極１７２はソース及びドレイン電極１３６、１３８と同一素材から層間絶縁膜１１４上に形成されるので、タッチパッド下部電極１７２の下面は層間絶縁膜１１４と接触することになる。
【００３７】
タッチパッド上部電極１７４は保護膜１１６及びタッチ絶縁膜１５６を貫くタッチパッドコンタクトホール１７６を通じて露出されたタッチパッド下部電極１７２と電気的に接続される。このようなタッチパッド上部電極１７４はルーティングライン１６０と同一素材からルーティングライン１６０と同一マスク工程で形成される。このタッチパッド上部電極１７４はルーティングライン１６０から延設されるので、付加のコンタクトホールなしにルーティングライン１６０と電気的に接続される。
【００３８】
一方、タッチパッド１７０が配置された非アクティブ（ベゼル）領域には表示パッド１８０も一緒に配置される。例えば、図２に示したように、表示パッド１８０はタッチパッド１７０の間に配置されるか、タッチパッド１７０は表示パッド１８０の間に配置されることもできる。その外にも、タッチパッド１７０は表示パネルの一側に配置され、表示パッド１８０は表示パネルの他側に配置されることもできる。一方、タッチパッド１７０及び表示パッド１８０の配置は図２の構造に限定されず、表示装置の設計事項によって多様に変更可能である。
【００３９】
表示パッド１８０はタッチパッド１７０と違う積層構造に形成されるか、図３に示したように、タッチパッド１７０と同一の積層構造に形成される。
【００４０】
図３に示した表示パッド１８０は表示パッド下部電極１８２と表示パッド上部電極１８４とからなる。
【００４１】
表示パッド下部電極１８２は発光素子１２０が形成されたアクティブ領域内のスキャンラインＳＬ、データラインＤＬ、低電位電源ＶＳＳライン及び高電位電源ＶＤＤラインの少なくとも一つの信号ラインと接続されるように形成される。この表示パッド下部電極１８２は駆動トランジスタＴ２、１３０のゲート電極１３２及びソース及びドレイン電極１３６、１３８の少なくとも一つと同一素材から形成され、同一平面上に単層又は多層の構造に形成される。例えば、表示パッド下部電極１８２は、タッチパッド下部電極１７２と同様に、ソース及びドレイン電極１３６、１３８と同一素材から層間絶縁膜１１４上に形成される。
【００４２】
表示パッド上部電極１８４は保護膜１１６及びタッチ絶縁膜１５６を貫く表示パッドコンタクトホール１８６を通じて露出された表示パッド下部電極１８２と電気的に接続される。このような表示パッド上部電極１８４はルーティングライン１６０と同一素材から、ルーティングライン１６０と同一マスク工程で形成される。
【００４３】
ルーティングライン１６０はタッチ駆動部で生成されたタッチ駆動パルスをタッチパッド１７０を介してタッチ駆動ライン１５２に伝送し、タッチセンシングライン１５４からのタッチ信号をタッチパッド１７０を介してタッチ駆動部に伝送する。これにより、ルーティングライン１６０は第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅのそれぞれとタッチパッド１７０の間に形成されて、第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅのそれぞれとタッチパッド１７０を電気的に連結する。ここで、ルーティングライン１６０は、図２に示したように、第１タッチ電極１５２ｅからアクティブ領域の左側及び右側の少なくとも一側に伸びてタッチパッド１７０と接続され、ルーティングライン１６０は第２タッチ電極１５４ｅからアクティブ領域の上側及び下側の少なくとも一側に伸びてタッチパッド１７０と接続される。このようなルーティングライン１６０の配置は表示装置の設計事項によって多様に変更可能である。
【００４４】
ルーティングライン１６０はダム１０６の上部に第１及び第２ダム１０６ａ、１０６ｂと交差するように配置される。第１及び第２ダム１０６ａ、１０６ｂの間には、第１及び第２ダム１０６ａ、１０６ｂの間の空間を満たすように、発光素子１２０と重畳しない基板１１１の外側領域に外側平坦化層１５８が配置される。この場合、ルーティングライン１６０は有機封止層１４４の側面及び外側平坦化層１５８の上面を覆うように配置される。外側平坦化層１５８の上面を覆うように配置されるルーティングライン１６０は画素平坦化層１１８の上面より高く配置される。このような外側平坦化層１５８は、アクリル系、エポキシ系又はシロキサン（Ｓｉｌｏｘａｎ）系の高平坦化の機能を有する有機絶縁素材から形成される。
【００４５】
高平坦化機能を有する有機絶縁素材から形成される外側平坦化層１５８はダム１０６ａ、１０６ｂの間にダム１０６ａ、１０６ｂとほとんど同一の厚さで形成される。この場合、外側平坦化層１５８の上面はダム１０６ａ、１０６ｂを覆うように配置された第２無機封止層１４６の上面と同一平面上に配置されるか、ダム１０６ａ、１０６ｂの上面と同一平面上に配置されるか、無機封止層１４６の上面及びダム１０６ａ、１０６ｂの上面の間に配置される。これにより、ダム１０６ａ、１０６ｂの高さによって生じる段差は外側平坦化層１５８によって平坦化するので、外側平坦化層１５８とダム１０６ａ、１０６ｂの上部に配置されるルーティングライン１６０は実質的に段差なしに平坦に形成される。その結果、ダム１６０を横切るルーティングライン１６０の断線又は短絡を防止することができる。
【００４６】
これに対し、外側平坦化層１５８を備えていない比較例のルーティングラインの製造方法を図４ａ〜図４ｃに基づいて説明し、外側平坦化層１５８を備える実施例のルーティングラインの製造方法を図５ａ〜図５ｃに基づいて説明する。
【００４７】
比較例の場合、図４ａに示したように、複数のダム１６０ａ、１６０ｂを覆うようにタッチ絶縁膜１５６上に導電層１７８ａが全面蒸着された後、導電層１７８ａ上にフォトレジスト１８８ａがコートされる。この時、フォトレジスト１８８ａは液状の有機絶縁素材であるので、ダム１０６ａ、１０６ｂの上部領域に形成されたフォトレジスト１８８ａの厚さよりダム１６０ａ、１６０ｂの間の領域に形成されたフォトレジスト１８８ａの厚さが大きくコートされる。この時、ダム１６０ａ、１６０ｂの上部領域に形成されたフォトレジスト１８８ａの厚さによって露光量を決定し、ダム１６０ａ、１６０ｂ間の領域で厚く形成されたフォトレジスト１８８ａは正常に露光されないため、図４ｂに示したように、現象工程後にフォトレジスト残膜１８８ｃとして残る。このような残膜１８８ｃを有するフォトレジストパターン１８８ｂを用いて導電層１７８ａを食刻すれば、図４ｃに示したように、フォトレジスト残膜１８８ｃと対応する領域に導電層１７８ａが残って隣接したルーティングライン１６０が短絡する。
【００４８】
一方、ダム１０６ａ、１０６ｂ間に外側平坦化層１５８を備える実施例の場合、図５ａに示したように、外側平坦化層１５８が形成された基板１１１上に導電層１７８ａが全面蒸着された後、導電層１７８ａ上にフォトレジスト１８８ａがコートされる。この時、ダム１６０ａ、１６０ｂ間に外側平坦化層１５８が配置された実施例の場合、ダム１０６ａ、１０６ｂの上部領域に形成されたフォトレジスト１８８ａの厚さとダム１６０ａ、１６０ｂ間の領域に形成されたフォトレジスト１８８ａの厚さは同一に形成される。このようなフォトレジスト１８８ａを露光及び現像することにより、図５ｂに示したように、ダム１０６ａ、１０６ｂの上部領域とダム１６０ａ、１６０ｂ間の領域に同じ厚さを有するフォトレジストパターン１８８ｂが形成される。このフォトレジストパターン１８８ｂをマスクとして用いた食刻工程によって導電層１７８ａがパターニングされることにより、図５ｃに示したように、所望の設計値の線幅を有するルーティングライン１６０が形成される。これにより、本発明の実施例では、隣接したルーティングライン１６０間の短絡現象を防止することができる。
【００４９】
このように、本発明の第１実施例によるタッチセンサーを有する有機発光表示装置は、ダム１０６ａ、１０６ｂ間の空間を満たす外側平坦化層１５８を備える。これにより、ダム１０６ａ、１０６ｂ間の空間にルーティングライン形成用フォトレジスト残膜が発生することを遮断することができ、よってダム１０６ａ、１０６ｂ間の空間でルーティングライン１６０が短絡する不良を防止することができる。また、従来の有機発光表示装置は接着剤を介してタッチスクリーンが有機発光表示装置に付着されるが、本発明による有機発光表示装置は封止部１４０上にタッチ電極１５２ｅ、１５４ｅが配置されることにより、付加の接着工程が不要になって工程が簡素化し、コストを低減することができる。
【００５０】
図６は本発明の第２実施例によるタッチセンサーを有する有機発光表示装置を示す断面図である。
【００５１】
図６に示した有機発光表示装置は、図３に示した有機発光表示装置に比べ、外側平坦化層１５８がダム１０６ａ、１０６ｂ間の空間だけではなく、有機封止層１４４と第１ダム１０６ａの間の空間をも満たすように形成されることを除き、同一の構成要素を備える。したがって、同一の構成要素についての詳細な説明は省略する。
【００５２】
図６に示したように、外側平坦化層１５８はダム１０６ａ、１０６ｂ間の空間だけではなく、有機封止層１４４に最も近付く第１ダム１０６ａと有機封止層１４４の間の空間をも満たすように形成される。この時、外側平坦化層１５８の上面はダム１０６ａ、１０６ｂを覆うように配置された第２無機封止層１４６の上面と同一平面上に配置されるか、ダム１０６ａ、１０６ｂの上面又は有機封止層１４４の上面と同一平面上に配置されるか、ダム１０６ａ、１０６ｂの上面及び有機封止層１４４の上面の間に配置される。この場合、ダム１０６ａ、１０６ｂ間の空間と、第１ダム１０６ａと有機封止層１４４の間の空間とに、ルーティングライン形成用フォトレジスト残膜が発生することを遮断することができる。したがって、ダム１０６ａ、１０６ｂ間の空間と、第１ダム１０６ａと有機封止層１４４の間の空間でルーティングライン１６０が短絡する不良を防止することができる。
【００５３】
ルーティングライン１６０は第１及び第２ダム１０６ａ、１０６ｂを覆うように配置された外側平坦化層１５８を横切るように配置される。このルーティングライン１６０は有機封止層１４４の上部でタッチ絶縁膜１５６を貫くルーティングコンタクトホール１６２を通じて露出されて第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅのそれぞれと接続される。
【００５４】
タッチパッド１７０は外側平坦化層１５８上でルーティングライン１６０と接続される。このようなタッチパッド１７０はタッチパッド下部電極１７２とタッチパッド上部電極１７４とを備える。
【００５５】
タッチパッド下部電極１７２はルーティングライン１６０と同一素材から、ルーティングライン１６０と同一マスク工程で形成される。このタッチパッド下部電極１７２は外側平坦化層１５８上でルーティングライン１６０から延設されるので、付加のコンタクトホールなしにルーティングライン１６０と電気的に接続される。
【００５６】
タッチパッド上部電極１７４はタッチ絶縁膜１５６を貫くタッチパッドコンタクトホール１７６を通じて露出されたタッチパッド下部電極１７２と電気的に接続される。このようなタッチパッド上部電極１７４は第２ブリッジ１５４ｂと同一素材から第２ブリッジ１５４ｂと同一マスク工程で形成される。
【００５７】
このようなタッチパッド１７０が配置された非アクティブ（ベゼル）領域には表示パッド１８０も一緒に配置される。表示パッド１８０は表示パッド下部電極１８２と表示パッド上部電極１８４とからなる。
【００５８】
表示パッド下部電極１８２は発光素子１２０が形成されたアクティブ領域内のスキャンラインＳＬ、データラインＤＬ、低電位電源ＶＳＳライン及び高電位電源ＶＤＤラインの少なくとも一信号ラインと接続されるように形成される。この表示パッド下部電極１８２は駆動トランジスタＴ２、１３０のゲート電極１３２及びソース及びドレイン電極１３６、１３８の少なくとも一つと同一素材から形成され、同一平面上に単層又は多層の構造に形成される。例えば、表示パッド下部電極１８２はソース及びドレイン電極１３６、１３８と同一素材から形成され、層間絶縁膜１１４上に配置される。
【００５９】
表示パッド上部電極１８４は保護膜１１６、外側平坦化層１５８及びタッチ絶縁膜１５６を貫く表示パッドコンタクトホール１８６を通じて露出された表示パッド下部電極１８２と電気的に接続される。このような表示パッド上部電極１８４は第２ブリッジ１５４ｂと同一素材から第２ブリッジ１５４ｂと同一マスク工程で形成される。
【００６０】
その他にも、表示パッド上部電極１８４は、図７に示したように、表示パッドコンタクトホール１８６なしに表示パッド下部電極１８２と直接接続されることもできる。この場合、表示パッド上部電極１８４は表示パッド下部電極１８２の側面と上面を覆うように配置される。このような表示パッド上部電極１８４はアノード電極１２２、カソード電極１２６及び第２ブリッジ１５４ｂのいずれか一つと同一素材から、同一マスク工程で形成される。
【００６１】
図８ａ〜図８ｄは本発明によるタッチセンサーを有する有機発光表示装置の製造方法を説明するための図である。これについて、図６に示した有機発光表示装置を例として説明する。
【００６２】
図８ａを参照すると、スイッチングトランジスタ、駆動トランジスタＴ２、１３０、発光素子１２０、ダム１０６及び封止部１４０が形成された基板１１１上に外側平坦化層１５８が形成される。
【００６３】
具体的に、スイッチングトランジスタ、駆動トランジスタＴ２、１３０、発光素子１２０、ダム１０６及び封止部１４０が形成された基板１１１上に有機絶縁物質が全面コートされる。この時、有機絶縁物質は有機封止層１４４が形成された領域よりは有機封止層１４４が形成されていない領域に厚くコートされる。その後、有機封止層１４４上の第２無機封止層１４６が露出されるまで有機絶縁物質が全面乾式食刻されることによって外側平坦化層１５８が形成される。外側平坦化層１５８は、図６に示したように、発光素子１２０が形成されたアクティブ領域を除いた残りの非アクティブ領域に配置される。
【００６４】
一方、図３に示した外側平坦化層１５８はダム１０６ａ、１０６ｂ間の領域にのみ有機絶縁物質が残るように有機絶縁物質がフォトリソグラフィー工程及び食刻工程でパターニングされることによって形成される。そして、図７に示した外側平坦化層１５８は、発光素子１２０が配置されたアクティブ領域と表示パッド下部電極１８２が露出されるように、有機絶縁物質がフォトリソグラフィー工程及び食刻工程でパターニングされることによって形成される。
【００６５】
このように、図３及び図７に示した外側平坦化層１５８はフォトマスクを用いたフォトリソグラフィー工程及び食刻工程によって形成される反面、図６に示した外側平坦化層１５８はフォトリソグラフィー工程なしに食刻工程によって形成される。これにより、図３及び図７に示した表示装置に比べ、図６に示した表示装置は工程数を減らすことができ、製造コストを一層節減することができる。
【００６６】
図８ｂを参照すると、外側平坦化層１５８が形成された基板１１１上に第１ブリッジ１５２ｂ、タッチパッド下部電極１７２及びルーティングライン１６０が形成される。
【００６７】
具体的に、外側平坦化層１５８が形成された基板１１１上に第１導電層が蒸着された後、フォトマスクを用いたフォトリソグラフィー工程及び食刻工程で第１導電層がパターニングされる。これにより、外側平坦化層１５８が形成された基板１１１上に第１ブリッジ１５２ｂ、タッチパッド下部電極１７２及びルーティングライン１６０が形成される。ここで、第１導電層はＡｌ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｔａ、ＭｏＴｉのような金属から単層又は多層の構造に形成される。
【００６８】
図８ｃを参照すると、第１ブリッジ１５２ｂ、タッチパッド下部電極１７２及びルーティングライン１６０が形成された基板１１１上にタッチコンタクトホール１５０、ルーティングコンタクトホール１６２、タッチパッドコンタクトホール１７６及び表示パッドコンタクトホール１８６を有するタッチ絶縁膜１５６が形成される。
【００６９】
具体的に、第１ブリッジ１５２ｂ、タッチパッド下部電極１７２及びルーティングライン１６０が形成された基板１１１上に無機絶縁物質又は有機絶縁物質が前面塗布されることによってタッチ絶縁膜１５６が形成される。ここで、タッチ絶縁膜１５６としては、ＳｉＮｘ、ＳｉＯＮ、又はＳｉＯ２のような無機絶縁物質又はフォトアクリル、パリレン、又はシロキサン系の有機絶縁物質が用いられる。その後、フォトマスクを用いたフォトリソグラフィー工程で形成されたフォトレジストパターンをマスクとして用いてタッチ絶縁膜１５６を食刻した後、表示パッド下部電極１８２の上部に配置された外側平坦化層１５８及び保護膜１１６を順次食刻する。これにより、タッチコンタクトホール１５０、ルーティングコンタクトホール１６２、タッチパッドコンタクトホール１７６及び表示パッドコンタクトホール１８６が形成される。ここで、タッチコンタクトホール１５０、ルーティングコンタクトホール162、タッチパッドコンタクトホール１７６はタッチ絶縁膜１５６を貫くように形成され、表示パッドコンタクトホール１８６はタッチ絶縁膜１５６、外側平坦化層１５８及び保護膜１１６を貫くように形成される。
【００７０】
図８ｄを参照すると、タッチコンタクトホール１５０、ルーティングコンタクトホール１６２、タッチパッドコンタクトホール１７６及び表示パッドコンタクトホール１８６を有するタッチ絶縁膜１５６が形成された基板１１１上に第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅ、第２ブリッジ１５４ｂ、タッチパッド上部電極１７４及び表示パッド上部電極１８４が形成される。
【００７１】
具体的に、タッチコンタクトホール１５０、ルーティングコンタクトホール１６２、タッチパッドコンタクトホール１７６及び表示パッドコンタクトホール１８６が形成された基板１１１上に第２導電層が蒸着される。ここで、第２導電層としては、ＩＧＺＯ、ＩＺＯ、ＩＴＯ又はＺｎＯが用いられる。その後、フォトリソグラフィー工程及び食刻工程で第２導電層がパターニングされることによって第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅ、第２ブリッジ１５４ｂ、タッチパッド上部電極１７４及び表示パッド上部電極１８４が形成される。
【００７２】
図９は本発明の第３実施例によるタッチセンサーを有する有機発光表示装置を示す断面図である。
【００７３】
図９に示した有機発光表示装置は、図３、図６及び図７に示した有機発光表示装置に比べ、封止部１４０及びタッチ電極１５２ｅ、１５４ｅの間に配置されるカラーフィルター１９２をさらに備えることを除き、同一の構成要素を備える。したがって、同一の構成要素についての詳細な説明は省略する。
【００７４】
カラーフィルター１９２はタッチセンシングライン１５４及びタッチ駆動ライン１５２のそれぞれと発光素子１２０との間に形成される。このカラーフィルター１９２によって、タッチセンシングライン１５４及びタッチ駆動ライン１５２のそれぞれと発光素子１２０の間の離隔距離が大きくなる。これにより、タッチセンシングライン１５４及びタッチ駆動ライン１５２のそれぞれと発光素子１２０の間に形成される寄生キャパシタの容量値を最小化することができるので、タッチセンシングライン１５４及びタッチ駆動ライン１５２のそれぞれと発光素子１２０の間のカップリング（ｃｏｕｐｌｉｎｇ）による相互影響を防止することができる。また、カラーフィルター１９２は、タッチセンシングライン１５４及びタッチ駆動ライン１５２の製造工程時に用いられる薬液（現像液又は食刻液など）又は外部からの水分などが発光スタック１２４に浸透することを遮断することができる。したがって、カラーフィルター１９２は薬液又は水分に弱い発光スタック１２４の損傷を防止することができる。一方、図９に示したように、カラーフィルター１９２の上部にタッチ電極１５２ｅ、１５４ｅが配置されるものを例として説明したが、その外にもカラーフィルター１９２はタッチ電極１５２ｅ、１５４ｅ上に配置されることもできる。この場合、タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅはカラーフィルター１９２と封止部１４０の間に配置される。
【００７５】
このようなカラーフィルター１９２の間にはブラックマトリックス１９４が配置される。ブラックマトリックス１９４は各サブ画素領域を区分するとともに隣接したサブ画素領域間の光干渉及び漏光を防止する役目をする。このようなブラックマトリックス１９４は高抵抗のブラック絶縁素材から形成されるか、又は赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）カラーフィルター１９２の少なくとも２色のカラーフィルターが積層して形成される。また、カラーフィルター１９２及びブラックマトリックス１９４が形成された基板１１１上にタッチ平坦化層１９６が形成される。このタッチ平坦化層１９６によってカラーフィルター１９２及びブラックマトリックス１９４が形成された基板１１１が平坦化される。
【００７６】
一方、本発明は、図９に示したように、表示パッド１８０及びタッチパッド１７０を露出させるタッチ保護膜１９８をさらに備えることもできる。このタッチ保護膜１９８はタッチ電極１５２ｅ、１５４ｅ、ブリッジ１５２ｂ、１５４ｂ及びルーティングライン１６０を覆うように形成されることで、これらが外部の衝撃又は水分などによって損傷することを防止する。このようなタッチ保護膜１９８はエポキシ又はアクリル素材の有機絶縁素材又は円偏光板で形成される。
【００７７】
また、本発明は、第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅと第１及び第２ブリッジ１５２ｂ、１５４ｂが、図２に示したように、透明導電膜からプレート状に形成されるものを例として説明したが、それ以外にも図１０に示したようにメッシュ状に形成されることもできる。すなわち、第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅと第１ブリッジ１５２ｂは、ＩＴＯ又はＩＺＯのような透明導電膜１５１ａとその透明導電膜１５１ａの上部又は下部に配置されるメッシュ状の不透明導電層１５１ｂとからなることができる。もしくは、第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅと第１ブリッジ１５２ｂがメッシュ状の不透明導電層１５１ｂのみでなることができる。この時、不透明導電層１５１ｂは透明導電膜１５１ａより伝導性の良いＴｉ、Ａｌ、Ｍｏ、ＭｏＴｉ、Ｃｕ及びＴａの少なくとも１種から少なくとも一層の構造に形成される。例えば、第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅと第１ブリッジ１５２ｂは、Ｔｉ／Ａｌ／Ｔｉ、ＭｏＴｉ／Ｃｕ／ＭｏＴｉ又はＴｉ／Ａｌ／Ｍｏのように積層した３層の構造に形成される。
【００７８】
これにより、透明導電膜１５１ａより伝導性の良い不透明導電層１５１ｂを含む第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅと第１ブリッジ１５２ｂの自らの抵抗とキャパシタンスの減少によってＲＣ時定数が減少してタッチ感度を向上させることができる。また、メッシュ状の第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅと第１ブリッジ１５２ｂの線幅が非常に小さいので、第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅと第１ブリッジ１５２ｂによって開口率及び透過率が低下することを防止することができる。
【００７９】
また、タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅとは違う平面上に不透明導電膜からなる第２ブリッジ１５４ｂは、図１０に示したように、複数のスリット１５３を備える。複数のスリット１５３を備える第２ブリッジ１５４ｂはスリット１５３を備えていないブリッジに比べて面積を減らすことができる。これにより、第２ブリッジ１５４ｂによる外部光反射を減らすことができ、視認性が低下することを防止することができる。このようなスリット１５３を備える第２ブリッジ１５４ｂはバンク１２８と重畳することにより、不透明導電膜からなる第２ブリッジ１５４ｂによって開口率が低下することを防止することができる。
【００８０】
それだけでなく、本発明はタッチ絶縁膜１５６を挟んで交差するタッチセンシングライン１５４及びタッチ駆動ライン１５２を含む相互容量型のタッチセンサーを例として説明したが、その他にも自己（Ｓｅｌｆ）静電容量型のタッチセンサーにも適用することもできる。この自己静電容量型の複数のタッチ電極のそれぞれは電気的に独立した自己静電容量を有するので、使用者のタッチによる静電容量変化を感知する自己容量方式のタッチセンサーとして用いられる。すなわち、自己静電容量型の複数のタッチ電極と接続されたルーティングライン１６０は複数のダム１０６間の空間を満たして平坦化する外側平坦化層１５８上に配置される。したがって、ルーティングライン１６０の短絡を防止することができ、信頼性を改善することができる。
【００８１】
一方、本発明は、図１１に示したように、第２無機封止層１４６とタッチセンサーの間に配置されるタッチバッファー膜１４８をさらに備えることもできる。タッチバッファー膜１４８はアクティブ領域の第２無機封止層１４６上に配置され、非アクティブ領域の第２無機封止層１４６又は外側平坦化層１５８上に配置される。
【００８２】
タッチ絶縁膜１５６の下部に配置されるタッチバッファー膜１４８はタッチパッド１７０が配置されるパッド領域に伸びることができる。タッチバッファー膜１４８はタッチパッド１７０及び表示パッド１８０が配置されるパッド領域内の保護膜１１６上に配置される。タッチバッファー膜１４８はタッチパッド１７０及び表示パッド１８０が配置されるパッド領域内で、保護膜１１６とタッチ絶縁膜１５６の間に配置される。
【００８３】
タッチバッファー膜１４８は外側平坦化層１５８に沿って配置される。タッチバッファー膜１４８が第２無機封止層１４６上に配置される場合、ルーティングライン１６０は外側平坦化層１５８上で外側平坦化層１５８に沿って配置される。タッチバッファー膜１４８が外側平坦化層１５８上に配置される場合、ルーティングライン１６０はタッチバッファー膜１４８上でタッチバッファー膜１４８に沿って配置される。
【００８４】
このようなタッチバッファー膜１４８は無機絶縁又は有機絶縁素材から形成される。ここで、無機絶縁素材は、シリコン酸化物（Ｓｉｌｉｃｏｎ  Ｏｘｉｄｅ）、シリコン窒化物（Ｓｉｌｉｃｏｎ  Ｎｉｔｒｉｄｅ）又は／及びシリコン酸化窒化物（Ｓｉｌｉｃｏｎ  Ｏｘｙｎｉｔｒｉｄｅ）を含み、有機絶縁素材は、アクリル（ａｃｒｙｌ）、フォトアクリル（ｐｈｏｔｏａｃｒｙｌ）、パリレン（Ｐａｒｙｌｅｎｅ）又はシロキサンを基にする有機絶縁物質（Ｓｉｌｏｘａｎｅ−ｂａｓｅｄ  ｏｒｇａｎｉｃ  ｉｎｓｕｌａｔｉｎｇ  ｍａｔｅｒｉａｌ）を含む。タッチバッファー膜１４８は、ＣＶＤ、ＡＬＤ又はスパッタリングのような多様な蒸着方法で蒸着される。
【００８５】
また、図１１に示したタッチバッファー膜１４８は図６に示した本発明の第２実施例による有機発光表示装置にも適用可能である。
【００８６】
また、本発明の有機封止層１４４は外側平坦化層１５８と同一の素材から形成されることができる。本発明の有機封止層１４４は、多数のダム１０６のうちパッド領域と最も隣接した最外側ダム１０６を除いたダム１０６の間に拡散することもできる。ここで、外側平坦化層はダムの間に拡散した有機封止層１４４を覆うように配置される。一方、有機封止層１４４の外にも、有機物質から形成される有機絶縁膜がダム１０６の間に配置されることもできる。
【００８７】
それだけでなく、本発明の非アクティブ領域はアクティブ領域の背面にベンディングされるベンディング領域として用いられることもできる。この場合、タッチパッド１７０及び表示パッド１８０が配置される非アクティブ領域は、アクティブ領域の背面にベンディングされることにより、有機発光表示装置の全画面でアクティブ領域が占める面積が最大化し、非アクティブ領域に相当するベゼル領域が占める面積が最小化する。一方、ベンディング領域はタッチパッド１７０及び表示パッド１８０が配置される表示装置の上側領域だけでなく、ルーティングライン１６０が配置される左側及び右側領域と下側領域にも形成されることができる。
【００８８】
以上の説明は本発明を例示的に説明したものに過ぎず、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者によって本発明の技術的思想から逸脱しない範疇内で多様な変形が可能であろう。したがって、本発明の明細書に開示した実施例は本発明を限定するものではない。本発明の範囲は添付の特許請求範囲によって解釈されなければならなく、それと均等な範囲内にある全ての技術も本発明の範囲に含まれるものと解釈しなければならないであろう。
【符号の説明】
【００８９】
１０６    ダム
１４０    封止部
１４２、１４４    無機封止層
１４６    有機封止層
１５２    タッチ駆動ライン
１５４    タッチセンシングライン
１５８    外側平坦化層
１６０    ルーティングライン
１９２    カラーフィルター
１９４    ブラックマトリックス
１９６    タッチ平坦化層
【図１】
2018205718.tif 000003
【図２】
2018205718.tif 000004
【図３】
2018205718.tif 000005
【図４ａ】
2018205718.tif 000006
【図４ｂ】
2018205718.tif 000007
【図４ｃ】
2018205718.tif 000008
【図５ａ】
2018205718.tif 000009
【図５ｂ】
2018205718.tif 000010
【図５ｃ】
2018205718.tif 000011
【図６】
2018205718.tif 000012
【図７】
2018205718.tif 000013
【図８ａ】
2018205718.tif 000014
【図８ｂ】
2018205718.tif 000015
【図８ｃ】
2018205718.tif 000016
【図８ｄ】
2018205718.tif 000017
【図９】
2018205718.tif 000018
【図１０】
2018205718.tif 000019
【図１１】
2018205718.tif 000020