【事件の表示】
　特許第３３１７５０６号「マイクロレンズおよびその製造方法」の請求項１ないし４に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３３１７５０６号の請求項１ないし４に係る特許を取り消す。
【理　由】
（１）手続の経緯
　特許第３３１７５０６号の請求項１〜４に係る発明は、平成３年４月２６日（優先権主張平成２年１０月３０日）に特許出願され、平成１４年６月１４日にその特許の設定登録がなされ、その後、特許異議申立人金高寿裕により特許異議の申立がなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１５年１２月１６日に訂正請求がなされ、その後、特許異議申立人に対して審尋がなされ、平成１６年４月１２日に回答書が提出されたものである。
　
（２）訂正の適否についての判断
　（ア）訂正の内容
訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１〜４を、次のように訂正する。
「【請求項１】　
　基材上に熱で硬化するポリグリシジルメタクリレートまたはポリエピチオプロピルメタクリレートからなるポジ型遠紫外線感光性樹脂をマイクロレンズ形成材料とし、該樹脂のパターンを形成し、熱処理によって溶融し、架橋を行うことによって該樹脂を硬化させて成ることを特徴とするマイクロレンズ。
　
【請求項２】 
　基材が固体撮像素子または透光性材料であることを特徴とする請求項１に記載のマイクロレンズ。
　
【請求項３】　
　基板上に熱で硬化するポリグリシジルメタクリレートまたはポリエピチオプロピルメタクリレートからなるポジ型遠紫外線感光性樹脂をマイクロレンズ形成材料とし、該樹脂のパターンを形成し、熱処理によって溶融し、架橋を行うことによって該樹脂を硬化させることを特徴とするマイクロレンズの製造方法。
　
【請求項４】 
　熱処理によって溶融し、架橋を行うことによりレンズの形態を形成した後に硬化温度で保持することを特徴とする請求項３記載のマイクロレンズの製造方法。」
　
訂正事項ｂ
　明細書の段落【００２３】の記載を、削除する。
　
　（イ）訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　訂正事項ａに係る訂正は、特許請求の範囲の減縮に該当し、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではないし、新規事項の追加にも該当しない。
　
　訂正事項ｂに係る訂正は、明瞭でない記載の釈明に該当し、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではないし、新規事項の追加にも該当しない。
　
　（ウ）むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）（以下「平成６年改正法」という。）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年改正法による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書及び第２項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
（３）特許異議の申立について
　（ア）申立の理由の概要
　特許異議申立人金高寿裕は、証拠として甲第１号証（刊行物１；特開昭６２−２５４４７４号公報）、甲第２号証（刊行物２；特開昭６０−５３０７３号公報）、甲第３号証（刊行物３；特開昭６３−２９７５４号公報）、甲第４号証（刊行物４；特公平２−１６９０９号公報）を提出し、本件請求項１〜４に係る発明の特許は、甲第１号証、甲第２号証、甲第３号証、および／または甲第４号証記載の発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるので、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものである。したがって、本件請求項１〜４に係る発明の特許を取り消すべき旨主張している。
　
　（イ）本件請求項１〜４に係る発明
　本件請求項１〜４に係る発明は、上記訂正に係る訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１〜４に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
「【請求項１】　
　基材上に熱で硬化するポリグリシジルメタクリレートまたはポリエピチオプロピルメタクリレートからなるポジ型遠紫外線感光性樹脂をマイクロレンズ形成材料とし、該樹脂のパターンを形成し、熱処理によって溶融し、架橋を行うことによって該樹脂を硬化させて成ることを特徴とするマイクロレンズ。
　
【請求項２】 
　基材が固体撮像素子または透光性材料であることを特徴とする請求項１に記載のマイクロレンズ。
　
【請求項３】　
　基板上に熱で硬化するポリグリシジルメタクリレートまたはポリエピチオプロピルメタクリレートからなるポジ型遠紫外線感光性樹脂をマイクロレンズ形成材料とし、該樹脂のパターンを形成し、熱処理によって溶融し、架橋を行うことによって該樹脂を硬化させることを特徴とするマイクロレンズの製造方法。
　
【請求項４】 
　熱処理によって溶融し、架橋を行うことによりレンズの形態を形成した後に硬化温度で保持することを特徴とする請求項３記載のマイクロレンズの製造方法。」
　
　（ウ）引用刊行物記載の発明
　平成１５年１０月６日付取消理由において引用した刊行物３（特開昭６３−２９７５４号公報）には、次のような記載がある。
「ポジ形フォトレジスト組成物の有用な群は、光感受性のペンダントキノンジアジド基をもつ繰返し単位含有ポリマーと、キノンジアジドが活性化輻射線への露光によって分解されなかった領域においてポリマーを不溶化する傾向のある溶解阻害モノマーとを含む。そのモノマーの機能の１つは、熱的にケテンに変換して架橋を起こし、これによって熱抵抗性を提供することであり、これは周知である。その例は米国特許４，３６５，０１９号明細書に記載されており、そのモノマーは例えば１，２ーナフトキノンジアジドスルホン酸（ＮＤＳ）でエステル化された１，３，５ートリヒドロキシベンゼンからなる。特に有用なポリマーの例にはいわゆるノボラック樹脂が含まれ、これも周知である。」（第２頁左上欄第１４行〜同頁右上欄第９行）
　
　同刊行物４（特公平２−１６９０９号公報）には、次のような記載がある。
「感光性キノンジアジド縮合生成物を含有するポジ作用レジストはいずれも本発明の増感剤と共に用いられる。たとえば、・・・エステル化剤と縮合したフェノールーホルムアルデヒド樹脂、クレゾールーホルムアルデヒド樹脂・・・が有用である。・・・
　上記の主としてポリマーであるエステルのほかに、他の化合物たとえばモノマーまたはバインダーがレジスト組成物に含有されていてもよい。このようなモノマーの有用な例には、「増感系」（１９６５年、３４３〜３５２頁、Ｋｏｓａｒ）に記載されたキノンジアジドスルホン酸エステル、特にジヒドロキシベンゼンおよびトリヒドロキシベンゼンから製造されたもの、たとえば１，３，５トリヒドロキシベンゼンでエステル化された１，２ーナフトキノンジアジドスルホン酸（米国特許第３１３００４７号明細書に記載）；ならびにトリヒドロキシベンゾフェノンのキノンジアジドスルホン酸エステルが含まれる。
　バインダーの有用な例にはビニル付加ポリマーたとえばアクリル酸またはメタクリル酸と共重合させたアクリレートまたはメタクリレート、ならびに他のビニル付加ポリマーたとえば前記米国特許第４１４１７３３号明細書に記載されたものが含まれる。」（第３頁左欄行番号４０〜同頁右欄行番号３６）
　
　同刊行物１（特開昭６２−２５４４７４号公報）には、次のような記載がある。
（い）　「それらの半円筒状レンズはフェノール・ノボラック系に型模様を与え（すなわちポジ型レジスト）次に残留樹脂をそのガラス転移温度をこえる温度へ加熱することによって形成される。個々の樹脂領域は横方向に流れ、凸表面が形成される。」（第２頁左上欄第５〜１０行）
　
（ろ）　「図４と図５はそれぞれ切断線２−２と３−３に沿って見た半導体配列１００を示しているが、しかし、図２および３の物質を提供する慣用的微小凸レンズ表面が、ピクセルセンサーへ入射光をより効率的に透過させるための本発明に従う構造体によって置換えられている。半導体配列１００の表面１０６上の透明層１２２は個々のレンズ１２４を支持しかつ横方向の間隔をあけるように作用している。」（第３頁右上欄第１６行〜同頁左下欄第４行）
　
（は）　「過去においては、微小凸レンズ表面・・・がポジ型ホトレジストを使用してつくられてきた。（例えば、フェノール・ノボラック樹脂）。ホトレジストは向い合う平行のピクセル境界に沿って画像露光され、現像されて露光されていないレジスト領域を残留させてきた。その後、その領域を形成するポリマーのガラス転移温度より高い温度へ加熱することにより、それらの領域がその縁に沿って地滑べりをおこすことになり、半円筒状レンズ近似をもたらす。」（第３頁右下欄第７〜１７行）
　
（に）　「レンズ要素は・・・フェノール・ノボラック樹脂のような慣用的ポジ型ホトレジスト物質であることができ、そして好ましくはそれで形成される。・・・個別のレンズ要素を形成する際に有用である既知のポジ型ホトレジストの典型的なものは・・・米国特許４，３６５，０１９において開示されており、それらの教示は文献としてここに組入れられている。」（第５頁左下欄第１１行〜同頁右下欄第３行）
　
（ほ）　「写真平版マスクを使用して、レンズを必要とするピクセルの上に重なる領域において化学線へ選択的にウエハに露光させた。紫外線輻射線はキャノン社のオプティカル・プロダクツ部門から入手できる「パラレル・ライト・アライナー」ＰＬＡー５０′ＦＡ型を使って供給した。・・・
　レンズを形成するには、１００センチストークスの粘度をもつ米国特許４，３６５，０１９において記載されている種類のポジ型ホトレジスト組成物の３ｍｌをウエハーへ施用した。このレンズ形成物質を均一に分配するために、ウエハーを１．１Ｋｒｐｍにおいて４分間回転させた。ウエハーを次に９５℃において８分間窒素環境の中で焼付けた。
　整合させた写真平版マスクを使って、ウエハー塗膜をピクセル境界に沿った領域において上記規定の光源からの化学線へ選択的に露光した。塗膜の露光部分は、界面活性剤をも含む脱イオン水の中のテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの１．５重量％溶液中で９０秒間浸漬することによって除去した。ウエハーを０．２Ｋｒｐｍにおいて３０秒間、脱イオン水を継続的に施用しながら回転することによってすすいだ。最後に、ウエハーを３Ｋｒｐｍにおいて６０秒間回転乾燥した。
　残留するポジ型ホトレジスト領域を、上記規定の光源を再び使って、４０秒間均一にここで露光した。この長時間露光はそれらの領域のホトブリーチ（ｐｈｏｔｏｂｌｅａｃｈ）をおこし、それらの光学的濃度を減少させた。周辺条件下での９０秒間の暗室貯蔵後において、そのホトレジスト領域は、ウエハーを１６０℃で３６分間窒素雰囲気中で焼付けることによってピロー型レンズへ変換された」（第８頁左上欄第９行〜同頁左下欄第５行）
　
　そして、第４及び５図には、透明層（１２２）上にレンズ（１２４）が形成されており、第２及び３図には、半導体性基板（１０２）の上に微小凸レンズ表面（１１０）が形成されている。
　なお、透明層（１２２）は基材、半導体性基板（１０２）は基板である。
　
　前記記載事項（い）及び（は）は、ポジ型ホトレジストであるノボラック系樹脂が熱処理によって溶融することを示している。
　前記記載事項（ほ）には、レンズを形成するには、米国特許４，３６５，０１９において記載されている種類のポジ型ホトレジスト組成物をウエハーへ施用し、紫外線露光を用いて、パターンを形成し、残留するポジ型ホトレジスト領域は、ウエハーを１６０℃で３６分間窒素雰囲気中で焼付けることによってピロー型レンズへ変換されることが記載されている。
　
　さらに、ノボラック系樹脂が紫外線感光性樹脂であることは周知である。
　
　前記レンズを形成するには、米国特許４，３６５，０１９において記載されている種類のポジ型ホトレジスト組成物をウエハーへ施用して、パターンを形成し、残留するポジ型ホトレジスト領域は、ウエハーを１６０℃で３６分間窒素雰囲気中で焼付けることによってピロー型レンズへ変換される等の刊行物１の記載と、米国特許４，３６５，０１９のパテントファミリーである刊行物４（特公平２−１６９０９号公報）の前記記載、そして、刊行物３（特開昭６３−２９７５４号公報）中の米国特許４，３６５，０１９に関する前記記載（なお、刊行物３に記載された『熱抵抗性』は、「硬化」を意味するものである）を勘案すると刊行物１には
「基材上に熱で硬化するノボラック系樹脂からなるポジ型紫外線感光性樹脂をピロー型レンズ形成材料とし、該樹脂のパターンを形成し、熱処理によって溶融し、架橋を行うことによって該樹脂を硬化させて成ることを特徴とするピロー型レンズ。」、
「基材が透明層であることを特徴とするピロー型レンズ。」、
「基板上に熱で硬化するノボラック系樹脂からなるポジ型紫外線感光性樹脂をピロー型レンズ形成材料とし、該樹脂のパターンを形成し、熱処理によって溶融し、架橋を行うことによって該樹脂を硬化させることを特徴とするピロー型レンズの製造方法。」及び、
「熱処理によって溶融し、架橋を行うことによりレンズの形態を形成することを特徴とピロー型レンズの製造方法。」が記載されている。
　
　同刊行物２（特開昭６０−５３０７３号公報）には、次のような記載がある。
「ポリグリシジルメタクリレート（以下ＰＧＭＡと称する）」（第５頁左下欄第１〜２行）
「ＰＧＭＡ層に架橋剤を加えて加熱架橋させるとこの熱流動性も低下してくる。すなわち、架橋剤を加えることで微小レンズの素材に適するようになる。」（第５頁右下欄第４〜７行）
　
　前記記載からみて、刊行物２には、ポリグリシジルメタクリレートを加熱架橋させると、熱流動性も低下してきて、微小レンズの素材に適するようになることが、記載されている。
　
　（エ）対比・判断
（請求項１に係る発明について）
　刊行物１記載の発明の「ピロー型レンズ」は、本件請求項１に係る発明の「マイクロレンズ」に相当するものであるので、両者は「基材上に熱で硬化するポジ型感光性樹脂をマイクロレンズ形成材料とし、該樹脂のパターンを形成し、熱処理によって溶融し、架橋を行うことによって該樹脂を硬化させて成ることを特徴とするマイクロレンズ。」という点で一致し、次の点で相違する。
　
　相違点（Ａ）：
　ポジ型感光性樹脂が、本件請求項１に係る発明は、ポリグリシジルメタクリレートまたはポリエピチオプロピルメタクリレートからなるポジ型遠紫外線感光性樹脂であるのに対して、刊行物１記載の発明は、ノボラック系樹脂からなるポジ型紫外線感光性樹脂である点。
　
　相違点（Ａ）について：
　ポリグリシジルメタクリレートがポジ型遠紫外線感光性樹脂であることは周知（例えば、特開昭５９−１２１０４５号公報、特開平２−９９９５３号公報）であり、刊行物２には、ポリグリシジルメタクリレートを加熱架橋させると、熱流動性も低下してきて、微小レンズの素材に適することが記載されている。さらに、本件明細書の段落【００２６】には、『もちろん、これらの重合体のみならずアクリル酸、メタクリル酸あるいはこれらの単量体が数個ないし数十個結合したオリゴマーとその共重合体、あるいは混合体あるポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、アルキッド樹脂アクリレート、スピラン樹脂アクリレート、シリコーン樹脂アクリレート等を使用することができる。』という記載があるように、ポリグリシジルメタクリレートは採用しうる樹脂のうちの１つであり、ポリグリシジルメタクリレートを採用したことによる効果も格別なものとはいえないので、刊行物１記載のマイクロレンズにおいてポジ型感光性樹脂として、ノボラック系樹脂からなるポジ型紫外線感光性樹脂に換えて、ポリグリシジルメタクリレートからなるポジ型遠紫外線感光性樹脂を採用することは、当業者が容易に想到しえたものである。そして、「ポリグリシジルメタクリレートまたはポリエピチオプロピルメタクリレート」は択一的な記載であるので、相違点（Ａ）における本件請求項１に係る発明のような構成にすることに格別の困難性は認められない。
　
（請求項２に係る発明について）
　刊行物１記載の発明の「透明層」、及び「ピロー型レンズ」は、本件請求項２に係る発明の「透光性材料」、及び「マイクロレンズ」にそれぞれ相当するものであるので、両者は「基材が固体撮像素子または透光性材料であることを特徴とするマイクロレンズ。」という点で一致し、前記「相違点（Ａ）」で相違する。
　
　相違点（Ａ）について：
　前記「相違点（Ａ）について」と同様の理由で、本件請求項２に係る発明のような構成にすることに格別の困難性は認められない。
　
（請求項３に係る発明について）
　刊行物１記載の発明の「ピロー型レンズ」は、本件請求項３に係る発明の「マイクロレンズ」に相当するものであるので、両者は「基板上に熱で硬化するポジ型感光性樹脂をマイクロレンズ形成材料とし、該樹脂のパターンを形成し、熱処理によって溶融し、架橋を行うことによって該樹脂を硬化させることを特徴とするマイクロレンズの製造方法。」という点で一致し、次の点で相違する。
　
　相違点（Ａ）’：
　ポジ型感光性樹脂が、本件請求項３に係る発明は、ポリグリシジルメタクリレートまたはポリエピチオプロピルメタクリレートからなるポジ型遠紫外線感光性樹脂であるのに対して、刊行物１記載の発明は、ノボラック系樹脂からなるポジ型紫外線感光性樹脂である点。
　
　相違点（Ａ）’について：
　前記「相違点（Ａ）について」と同様の理由で、相違点（Ａ）’における本件請求項３に係る発明のような構成にすることに格別の困難性は認められない。
　
（請求項４に係る発明について）
　刊行物１記載の発明の「ピロー型レンズ」は、本件請求項４に係る発明の「マイクロレンズ」に相当するものであるので、両者は「熱処理によって溶融し、架橋を行うことによりレンズの形態を形成することを特徴とするマイクロレンズの製造方法。」という点で一致し、前記「相違点（Ａ）’」以外に、次の点で相違する。
　
　相違点（Ｂ）：
　熱処理によって溶融し、架橋を行うことによりレンズの形態を形成した後に、本件請求項４に係る発明は、硬化温度で保持するのに対して、刊行物１記載の発明は、そのことの記載がない点。
　
　相違点（Ｂ）について：
　一般に、硬化温度に達した後、一定時間その温度に保持することは常套手段であるから、架橋を行うことによりレンズの形態を形成した後に、硬化温度に保持することは、刊行物１の記載から容易に想到しうることである。
　
　（オ）むすび
　以上のとおり、本件請求項１〜４に係る発明は、上記刊行物１〜４記載の発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件請求項１〜４に係る発明の特許は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本件請求項１〜４に係る発明の特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認める。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１７年４月１３日（２００５．４．１３）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
マイクロレンズおよびその製造方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　基材上に熱で硬化するポリグリシジルメタクリレートまたはポリエピチオプロピルメタクリレートからなるポジ型遠紫外線感光性樹脂をマイクロレンズ形成材料とし、該樹脂のパターンを形成し、熱処理によって溶融し、架橋を行うことによって該樹脂を硬化させて成ることを特徴とするマイクロレンズ。
　【請求項２】基材が固体撮像素子または透光性材料であることを特徴とする請求項１に記載のマイクロレンズ。
　【請求項３】基板上に熱で硬化するポリグリシジルメタクリレートまたはポリエピチオプロピルメタクリレートからなるポジ型遠紫外線感光性樹脂をマイクロレンズ形成材料とし、該樹脂のパターンを形成し、熱処理によって溶融し、架橋を行うことによって該樹脂を硬化させることを特徴とするマイクロレンズの製造方法。
　【請求項４】熱処理によって溶融し、架橋を行うことによりレンズの形態を形成した後に硬化温度で保持することを特徴とする請求項３記載のマイクロレンズの製造方法。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は、固体撮像素子または、表示素子に設けるマイクロレンズに関するものである。
　【０００２】
　【従来の技術】
　固体撮像カメラもしくはイメージセンサーとして用いられる電荷結合型固体撮像素子についてははこれまでに受光部、電極部や転送方式等について種々の提案がなされてきたが、最近では一層の小型化、高画素化の要求と同時に、高感度化、低雑音化が要求されているため、これに関する回路面あるいは撮像デバイス構造面についての様々な提案がなされている。特に、デバイス構造面については受光面の開口率を増加させる試みが最も多く提案されている。何故なら、固体撮像素子自体の改善では固有ノイズの低減には限界があるため、入射光を増加させて入力信号強度を増加させる手法以外の有効な方法がさしあたって見当たらないからである。
　【０００３】
　固体撮像素子上にマイクロレンズを直接形成する方法は、構造が簡単であるにもかかわらず、開口率を増加させる効果的な方法の一つとして推奨されている。その原理的な構造を図４により説明すると、同図には、半導体基板４１に設けた受光部４４、４４・・上に、この受光部４４、４４・・に対し適当な間隔を形成するための透明膜４２を具備する固体撮像素子４０が示され、受光部４４、４４・・に対応する位置の透明膜４２上にはマイクロレンズ４３、４３・・が設けられ、外部入射光４５をマイクロレンズ４３が有する光学的屈折作用により受光部４４、４４・・に集光させるとともに、図示しない転送部や配線部が位置する非受光部への入射光をも受光部４４、４４・・に入射せしめ、これにより開口率を実質的に増加させるようにしている。
　【０００４】
　このマイクロレンズの製造方法は加熱溶融法（例えば、特開昭５９−１４７５８６号公報参照）及び製版塗布法（例えば、特公昭６２−５１５０４号公報参照）の２通りに大別される。
　【０００５】
　加熱溶融法を図５（Ａ）ないし（Ｄ）により説明すると、同図（Ａ）には受光部５６、５６・・を備えた半導体基板５２上に設けた透明膜５１を有する固体撮像素子５０が示され、この透明膜５１上に熱可塑性の透明なポジ型感光性樹脂被膜５３を塗布し（図５
（Ｂ））、この被膜５３が受光部５６、５６・・上の対応位置に位置するように露光、現像した後（図５
（Ｃ））、現像によって残った被膜５４を加熱、溶融し、流動化させて凸レンズ５５、５５・・を形成する（図５（Ｄ））。
　【０００６】
　次に、製版塗布法を図６（Ａ）ないし
（Ｄ）により説明すると、受光部６６、６６・・を備えたする半導体基板６２上に透明膜６１を設けてなる固体撮像素子６０が示され（図６（Ａ））、透明膜６１上に透明な感光性樹脂被膜６３を形成し（図６（Ｂ））、受光部６６、６６・・上の対応位置に凸状の感光性樹脂被膜の残留膜６４、６４・・が位置するように露光、現像し（図６（Ｃ））、この残留膜６４、６４・・に透明な樹脂被膜６５を塗布し、これを加熱熔融し、流動化させて凸レンズ６７、６７・・を形成する（図６（Ｄ））。
　【０００７】
　また、固体撮像素子に限らず液晶表示素子、ブラウン管、投影型スクリーンなどの表示素子においても、その表示画面上にマイクロレンズを設け、視野角の拡大、コントラストの向上で目的とした提案が行われ、これらを利用した製品が上市されている。
　【０００８】
　表示素子は、固体撮像素子と異なり画面が比較的大きく、このため画素も大きくなるので、マイクロレンズ用金型を作り、大量複製したり、印刷法によりパターン形成し、加熱溶融法や製版塗布法を応用することが可能である。
　【０００９】
　以上の様に広範な使用に供せられるマイクロレンズを製造するにあたり加熱溶融法と製版塗布法によるマイクロレンズではそれぞれ以下の様な問題を有する。製版塗布法では、製版によりパターン形成し、液体樹脂を塗布し、硬化させるので、その性質上、図３
（Ａ）の様にレンズの裾の方は凹型３２になり凸レンズとして機能しないため、凸レンズ３１としての有効面積が小さくなる傾向がある。加熱溶融法では図３
（Ｂ）の様に有効部３４が大きくとれ、無効な部分３３は比較的狭く集光効率が良い。
　【００１０】
　【発明が解決しようとする課題】
　一方、加熱溶融法によるマイクロレンズでは、レンズとしての形状が良く、レンズ有効面積を大きく使うことができ、集光性の点で有効である反面、パターンを加熱溶融させるため、材料が硬化されておらず、後工程（例えばパッケージング等の実装時）の加熱による再溶融により、レンズ形状が不良になったり、溶剤による洗浄等に耐えない等、物性面で難点があった。
　【００１１】
　【課題を解決するための手段】
　本発明はかかる課題を解決するために検討の結果、完成に至ったもので、基材上に熱、化成処理の少なくとも１種によって架橋する樹脂をパターン形成し、熱溶融した後、熱、化成処理の少なくとも１種により架橋性樹脂を硬化させたマイクロレンズおよびその製造方法である。
　【００１２】
　図面を参照しつつ本発明を説明すると、図１は、本発明のマイクロレンズの製造過程を示す図であるが、基板１１上に透明樹脂を用いて中間層１２を形成する。中間層はマイクロレンズの形成する基材となるとともに、マイクロレンズの焦点をセンサー上に効率的に位置させるためマイクロレンズの焦点距離を保持する機能と、平滑な表面を形成することによりレンズとセンサー間距離を一定化させる機能を有するが、熱によって３次元架橋等をさせて硬化させている。
　【００１３】
　【００１４】
　また、熱あるいは各種の薬剤や触媒を用いて化学的な処理を行う化成処理によって架橋等の反応を起こさせることができる。
　【００１５】
　次いでレンズ材料１３をパターン形成する（図１（Ｃ））。パターン形成はマイクロレンズの原料の樹脂にレリーフ像を形成するためにおこなわれるが、これには、マイクロレンズの原料の樹脂に感光性樹脂を用いて光を所定のフォトマスクを介して照射して露光した後に現像することによって直接にレリーフ像を得るフォトリソグラフィー法やマイクロレンズの原料の樹脂とは別にフォトレジストを塗布して光を所定のフォトマスクを介して照射して露光した後に現像することによりフォトレジストにレリーフ像を形成した後にマイクロレンズの原料の樹脂をエッチングによってレリーフ像を形成したり、あるいは印刷法によってマイクロレンズの原料樹脂のレリーフ像を直接に形成することが行われる。
　【００１６】
　通常、微細なパターン形成を行う場合はフォトリソグラフィー法で行うが、この場合には、ポジ型遠紫外光感光性樹脂を用いる。粗なパターンであれば、印刷法等種々のパターン形成法が可能である。
　【００１７】
　なお、ネガ型感光性樹脂は、光等の活性エネルギー線を樹脂を残すべき部分に照射してパターンを露光するため、露光によって樹脂が硬化する結果、樹脂の特性が変化し十分な溶融ができないものになるからである。
　【００１８】
　更にパターン形成された基板を加熱しパターンを加熱溶融させ凸レンズ１５を形成したのちに、加熱または活性エネルギー線１４を照射し（図１（Ｄ））、凸レンズ１５を硬化し、本発明のマイクロレンズ１６を得る。
　【００１９】
　この様な工程を可能とするマイクロレンズ材料は、熱溶融性と同時に３次元架橋等の硬化するための架橋基あるいは２重結合、３重結合等が存在しなければならない。更に微細なパターンを形成するためにはフォトリングラフィーを手法を利用する場合には、マイクロレンズ材料自体を感光性の材料とすることにより、フォトレジストを別途用いる必要がない。このような条件を満たす材料として、下記に化学構造式（１）で示すポリグリシジルメタクリレート、および化学構造式（２）で示すポリエピチオプロピルメタクリレートがある。
　【００２０】
　【化１】
　【００２１】
　この材料は、ポジ型遠紫外線感光性樹脂であるが、同時に反応基を有しており、熱あるいは化成処理により容易に開環し架橋する。熱による架橋反応は、２００℃の温度で１時間以上加熱すると、エポキシ基が開環し反応が起こる。特にこの場合には加熱による樹脂の溶融と架橋反応を同時に進行させることが可能である。
　【００２２】
　また、化成処理はジアミン類の存在下で進行させることができる。
　【００２３】
　【００２４】
　【００２５】
　【００２６】
　もちろん、これらの重合体のみならずアクリル酸、メタクリル酸あるいはこれらの単量体が数個ないし数十個結合したオリゴマーとその共重合体、あるいは混合体あるポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、アルキッド樹脂アクリレート、スピラン樹脂アクリレート、シリコーン樹脂アクリレート等を使用することができる。
　【００２７】
　なお、マイクロレンズを半導体等の基板面に設けた透明な中間層を基材として形成する場合について説明したが、基板面に中間層を設けることなく、基板面を基材として同様のマイクロレンズが得られることは言うまでもない。
　【００２８】
　【作用】
　本発明よれば、マイクロレンズが３次元架橋等により硬化されているために、マイクロレンズのパッケージング等の実装等の後工程での加熱によって再溶融するために、レンズ形状が不良になったり、溶剤による洗浄等に耐えない等の物性面で特性を向上させることができる。
　【００２９】
　【００３０】
　【００３１】
　【実施例】
　以下に本発明の実施例を示し、本発明を更に詳細に説明する。
参考例１
ポリビニルアルコール中にヨウ素を分散させた偏向板上に油変性アルキッド樹脂にメタクリロイル基を導入したアクリル酸とグリシジルメタクリレートの共重合体を主成分とする透明インキを用いて所望のパターンを有するシルクスクリーン版で、膜厚約１０μｍのストライプ状のレリーフ画像を印刷した。
　【００３２】
　次いで、１２０℃のオーブン中で３時間加熱溶融し、冷却した後５０℃１０％ヒドラジン水溶液に３０分浸漬し、該共重合体を硬化させた。
　【００３３】
　Ｘ−Ｙ表示から成る透明電極基板に液晶が挟持された液晶セルにおいて、光源の反対側に上記マイクロレンズ付偏光版をマイクロレンズの軸方向と液晶セ（３）特許第３３１７５０６号
ルのＸ方向が平行になる様に貼り合わせ、一方、光源側には、マイクロレンズ無しの偏向板を前記偏光板の偏光面に対して平行に貼り合わせることによりマイクロレンズ付液晶表示素子を形成した。得られたマイクロレンズ付液晶表示素子をメタノールに浸漬し、表面を洗浄したが、マイクロレンズに変化はなかった。
　【００３４】
　この様にして形成したマイクロレンズ付液晶表示素子を点灯させたところ、マイクロレンズを設けなかった場合には視野角が１４０度であったものが、１６０度に広がった。
　【００３５】
　【００３６】
　【００３７】
実施例１
　５インチシリコン基板に面付けされた受光部、転送部、その周辺回路を有するインタライン型ＣＣＤ（開口率２０％）上に感光性アクリル樹脂を７μｍの膜厚になる様に塗布し、９０℃のホットプレート上に１０分間放置することでプリベークし、所望のパターンを介して紫外線露光した後、現像してボンディングパッドやスクライブライン上のアクリル樹脂を除いた。更に１５０℃のホットプレート上に１０分間放置し、中間層を形成した。
　【００３８】
　次いでポリグリシジルメタクリレート（ＰＧＭＡ）を２μｍの膜厚になる様に塗布し、１２０℃のホットプレート上に１０分間放置した後、所望のパターンを介して、正確に目合わせを行ないキセノン封入水銀灯を用いて遠紫外線露光し、現像することで受光部に対し正確に配置されたＰＧＭＡのパターン形成を行なった。更に、２００℃のホットプレート上で２０分間放置し、加熱溶融と実質的に同時に架橋反応させた後に、トリクロロエタンとイソプロピルアルコールを用いて洗浄を行ったが変化は認められず、モールディングして実装した際の最高加熱温度が１７０℃であったにもかかわらず、マイクロレンズの形状変化が認められなかった。更にこれを用いて撮影したところ感度が２倍になり、良好な画像が得られた。
　【００３９】
実施例２
　ポリビニルアルコール中にヨウ素を分散させた偏向板上に油変性アルキッド樹脂にメタクリロイル基を導入したアクリル酸とグリシジルメタクリレートの共重合体を主成分とする透明インキを用いて所望のパターンを有するシルクスクリーン版で、膜厚約１０μｍのストライプ状のレリーフ画像を印刷した。
　【００４０】
　次いで、１７０℃のオーブン中で３時間加熱溶融すると実質的に同時に該共重合体を硬化させた。
　【００４１】
　Ｘ−Ｙ表示から成る透明電極基板に液晶が挟持された液晶セルにおいて、光源の反対側に上記マイクロレンズ付偏光版をマイクロレンズの軸方向と液晶セルのＸ方向が平行になる様に貼り合わせ、一方、光源側には、マイクロレンズ無しの偏向板を前記偏光板の偏光面に対して平行に貼り合わせることによりマイクロレンズ付液晶表示素子を形成した。得られたマイクロレンズ付液晶表示素子をメタノールに浸漬し、表面を洗浄したが、マイクロレンズに変化はなかった。
　【００４２】
　この様にして形成したマイクロレンズ付液晶表示素子を点灯させたところ、マイクロレンズを設けなかった場合には視野角が１４０度であったものが、１６０度に広がった。
　【００４３】
実施例３
５インチシリコン基板に面付けされた受光部、転送部、その周辺回路を有するインタライン型ＣＣＤ（開口率２０％）上に感光性アクリル樹脂を７μｍの膜厚になる様に塗布し、９０℃のホットプレート上に１０分間放置することでプリベークし、所望のパターンを介して紫外線露光した後、現像してボンディングパッドやスクライブライン上のアクリル樹脂を除いた。更に１５０℃のホットプレート上に１０分間放置し、中間層を形成した。
　【００４４】
　次いで、ポリグリシジルメタクリレート（ＰＧＭＡ）を２μｍの膜厚になるように塗布し、１２０℃のホットプレート上に１０分間放置した後、所望のパターンを介して、正確に目合わせを行いキセノン封入水銀灯を用いて遠紫外線露光し、現像することで受光部に対して正確に配置されたＰＧＭＡのパターン形成を行った。更に、２００℃のホットプレート上で６０分間放置し、加熱溶融と実質的に同時に熱架橋反応をさせた。
この後、トリクロロエタンとイソプロピルアルコールを用いて洗浄を行ったが変化は認められず、モールディングして実装した際の最高加熱温度が１７０℃であったにもかかわらず、マイクロレンズの形状変化が認められなかった。更にこれを用いて撮影したところ感度が２倍になり、良好な画像が得られた。
　【００４５】
　【発明の効果】
　本発明によれば、形成されたマイクロレンズが３次元架橋されているので、再溶融防止でき、更に耐薬品性が向上することにより、マイクロレンズ製造後の工程の各条件のマージン量の増大、長期信頼性の向上に効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明のマイクロレンズの製造工程を示す図である。
　【図２】
　製版塗布及び加熱溶融法により形成されたマイクロレンズの断面図を示す図である。
　【図３】
　マイクロレンズの集光原理を示す図である。
　【図４】
　加熱溶融法による従来のマイクロレンズを製造工程順に示す図である。
　【図５】
　製版塗布法による従来のマイクロレンズを製造工程順に示す図である。
　【符号の説明】
　１１…基板、１２…中間層、１３…レンズ材料、１４…活性エネルギー線、１５…凸レンズ、１６…マイクロレンズ、３１…凸レンズ、３２…凹型、３３…無効な部（４）特許第３３１７５０６号
分、３４…有効部、４０…固体撮像素子、４１…半導体基板、４２…透明膜、４３…マイクロレンズ、４４…受光部、４５…光、５０…固体撮像素子、５１…透明膜、５２…半導体基板、５３…被膜、５４…残った被膜、５５…凸レンズ、５６…受光部、６０…固体撮像素子、６１…透明膜、６２…半導体基板、６３…感光性樹脂被膜、６４…残留膜、６５…透明な樹脂被膜、６６…受光部、６７…凸レンズ