【事件の表示】
　特願２００７−５２７０５４号「バッファ層を含む有機発光素子およびその製作方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１８年　２月２３日国際公開、ＷＯ２００６／０１９２７０、平成２０年　４月　３日国内公表、特表２００８−５１０３１２号〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１７年８月１８日(パリ条約による優先権主張　２００４年８月１９日　韓国）を国際出願日とする出願であって、平成２１年１２月２８日付けで拒絶理由が通知され、平成２２年７月５日付けで意見書が提出されるとともに同日付けで手続補正がなされ、同年１２月１６日付けで拒絶理由（最後）が通知され、平成２３年６月２０日付けで意見書が提出されたが、平成２４年３月３０日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年８月２日に拒絶査定不服審判の請求がなされ、同時に手続補正がなされたものである。
　　その後、平成２５年１月１７日付けで、審判請求人に前置報告書の内容を示し意見を求めるための審尋を行ったところ、同年７月１８日付けで回答書が提出されたものである。
　
２．平成２４年８月２日付けの手続補正についての補正の却下の決定
　
［補正の却下の決定の結論］
　平成２４年８月２日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
［理由］
（１）補正後の本願発明
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１５は、
「有機発光素子の製造方法であって、
　基板上に、第１電極と、２層以上からなる有機物層と、及び第２電極とを順次積層して形成するステップを含んでなるものであり、
　前記第１電極が陰極であり、
　前記第２電極が陽極であり、
　前記有機発光素子が基板上に陰極を先ず形成した後、この陰極上に２層以上の有機物層及び陽極を順次形成し、
　前記有機物層のうち１層を発光層で形成し、
　前記有機物層のうち第２電極に接する有機物層を下記化学式１で表される化合物を用いて形成することを含んでなり、
　前記第２電極が、スパッタリング、レーザを用いた物理的蒸着方法（ＰＶＤ）、及びイオンビームを用いた蒸着方法からなる群から選択されてなる薄膜形成技術によって形成されなるものである、製造方法。
　　【化５】
　
　[上記化学式１において、
　Ｒ１〜Ｒ６は各々、水素、ハロゲン原子、ニトリル（−ＣＮ）、ニトロ（−ＮＯ２）、スルホニル（−ＳＯ２Ｒ）、スルホキシド（−ＳＯＲ）、スルホンアミド（−ＳＯ２ＮＲ）、スルホネート（−ＳＯ３Ｒ）、トリフルオロメチル（−ＣＦ３）、エステル（−ＣＯＯＲ）、アミド（−ＣＯＮＨＲ又はＣＯＮＲＲ’）、置換又は非置換された直鎖又は分枝鎖のＣ１−Ｃ１２アルコキシ、置換又は非置換された直鎖又は分枝鎖Ｃ１−Ｃ１２のアルキル、置換又は非置換された芳香族又は非芳香族の複素環、置換又は非置換されたアリール、置換又は非置換されたモノ−又はジ−アリールアミン、及び置換又は非置換されたアラルキルアミンで構成された群から選択されてなり、
　前記Ｒ及びＲ’は各々、置換又は非置換されたＣ１−Ｃ６０のアルキル、置換又は非置換されたアリール及び置換又は非置換の５−７元の複素環からなる群から選択されてなる。]」
と補正された。
　
　本件補正は、平成２２年７月５日付け手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１６に記載した発明を特定するために必要な事項である「第２電極」について「前記第２電極が、スパッタリング、レーザを用いた物理的蒸着方法（ＰＶＤ）、及びイオンビームを用いた蒸着方法からなる群から選択されてなる薄膜形成技術によって形成されなるものである」と限定するものであり、この補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２（以下単に「特許法第１７条の２」という。）第４項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とする補正に該当する。
　そこで、本件補正後の請求項１５に係る発明（以下「本願補正発明」という。）が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反しないか）について検討する。
　
（２）引用例
　原査定の拒絶理由に引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００４−２２７９４３号公報（以下「引用例」という。）には、以下の技術事項が記載されている。（後述する引用発明の認定に関連する箇所に下線を付した。）
　
記載事項ア．
「【請求項５】
基板上に陰極を積層する工程と、有機発光層を積層する工程と、３０〜１０００ｎｍの厚さを有する正孔注入層を積層する工程と、上部透明陽極を積層する工程とを少なくとも含むことを特徴とする
有機ＥＬ発光素子の製造方法。
　
記載事項イ．
「【００５６】
【実施例】
（実施例１）
ガラス基板上に、
ＣｒＢを堆積させて、陰極３を形成した。
次に、
ＭｇＡｇ（Ｍｇ：Ａｇ＝９：１）の電子注入層１５を蒸着した。
【００５７】
その後真空を破ることなく基板を有機層蒸着用チャンバーに移動させた。そして、圧力１×１０−５Ｐａ以下において、
電子注入層１５の上に、有機発光層１３として
アルミニウムトリス（８−キノリノラート）（Ａｌｑ）を
蒸着させた。次に、正孔注入層１１として
α−ＮＰＤを
蒸着させ
【００５８】
次に、
スパッタ法によって
ＩＺＯを堆積させ上部透明陽極１を形成して、有機ＥＬ発光素子を得た。
　
　記載事項ア、イの記載内容からして、引用例には、
「有機ＥＬ発光素子の製造方法であって、ガラス基板上にＣｒＢを堆積させて陰極を形成し、次にＭｇＡｇの電子注入層を蒸着し、電子注入層の上に有機発光層としてアルミニウムトリス（８−キノリノラート）（Ａｌｑ）を蒸着し、次に、正孔注入層としてα−ＮＰＤを蒸着し、次にスパッタ法によってＩＺＯを堆積させて上部透明陽極を形成する、有機ＥＬ発光素子の製造方法。」
の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
　
（３）対比
　本願補正発明と引用発明を対比する。
（ａ）引用発明の「有機ＥＬ発光素子」、「ガラス基板」、「陰極」、「有機発光層」及び「正孔注入層」、「上部透明陽極」、「有機発光層」、「スパッタ法」は、本願補正発明の「有機発光素子」、「基板」、「第１電極」、「２層以上からなる有機物層」、「第２電極」、「発光層」、「スパッタリング」にそれぞれ相当する。
　
（ｂ）引用発明は、「ガラス基板上にＣｒＢを堆積させて陰極を形成し、次にＭｇＡｇの電子注入層を蒸着し、電子注入層の上に有機発光層としてアルミニウムトリス（８−キノリノラート）（Ａｌｑ）を蒸着し、次に、正孔注入層としてα−ＮＰＤを蒸着し、次にスパッタ法によってＩＺＯを堆積させて上部透明陽極を形成する」のであるから、本願補正発明の「基板上に、第１電極と、２層以上からなる有機物層と、及び第２電極とを順次積層して形成するステップを含んでなるものであり、前記第１電極が陰極であり、前記第２電極が陽極であり、前記有機発光素子が基板上に陰極を先ず形成した後、この陰極上に２層以上の有機物層及び陽極を順次形成し、前記有機物層のうち１層を発光層で形成」「することを含んでな」ること、及び「前記第２電極が、スパッタリング、レーザを用いた物理的蒸着方法（ＰＶＤ）、及びイオンビームを用いた蒸着方法からなる群から選択されてなる薄膜形成技術によって形成されなるものである」ことに相当する発明特定事項を備えていることは明らかである。
　
　上記（ａ）〜（ｂ）に記載したことからして、本願補正発明と引用発明は、
「有機発光素子の製造方法であって、
　基板上に、第１電極と、２層以上からなる有機物層と、及び第２電極とを順次積層して形成するステップを含んでなるものであり、
　前記第１電極が陰極であり、
　前記第２電極が陽極であり、
　前記有機発光素子が基板上に陰極を先ず形成した後、この陰極上に２層以上の有機物層及び陽極を順次形成し、
　前記有機物層のうち１層を発光層で形成することを含んでなり、
　前記第２電極が、スパッタリング、レーザを用いた物理的蒸着方法（ＰＶＤ）、及びイオンビームを用いた蒸着方法からなる群から選択されてなる薄膜形成技術によって形成されなるものである、製造方法。」
である点で一致し、次の点で相違する。
　
相違点
　本願補正発明は、有機物層のうち第２電極に接する有機物層を化学式１で表される化合物を用いて形成するのに対し、引用発明は、上部透明陽極に接する層である正孔注入層をα−ＮＰＤを用いて形成する点。
　
（４）当審の判断
　上記相違点について検討する。
　化学式１で表される化合物を正孔注入層として用いることは特表２００３−５１９４３２号公報、国際公開第２００４／０５４３２６号にも記載されているように周知技術であり、引用発明の正孔注入層に代えて該周知の化合物からなる正孔注入層を採用して上記相違点に係る本願補正発明の発明特定事項を得るようにすることは当業者であれば容易になし得ることである。
　
　また、本願補正発明の効果は、引用発明及び周知技術から予測し得る範囲内のものであり、格別のものとは認め難い。
　
　なお、請求人は、平成２５年７月１８日付けの回答書において、「引用文献３〜５は、式Iで表される化合物の使用、取り分け、『バッファ層』として使用することについては開示も示唆もなされておりません。そして、引用文献１及び２にあっては、『逆構造』を有する有機発光素子における有機層の調整工程において、その損傷を有効に防止する方法及びその防止による技術的効果について、開示も示唆もなされておりません。」（「３．」、「（２）」参照）と主張している。
　しかし、本願補正発明では、「化学式１で表される化合物を用いて形成される有機物層」を「バッファ層」として使用するとの限定や、「化学式１で表される化合物を用いて形成される有機物層」の厚さに関して、例えば本願の発明の詳細な説明の【００４２】でバッファ層としての役割をすることができるとされている２０ｎｍ〜２５０ｎｍの範囲内であるとの限定はされていないから、本願補正発明の「化学式１で表される化合物を用いて形成される有機物層」には、バッファ層の役割をしないものが含まれていることは明らかである。
　したがって、請求人の上記主張は採用することができない。
　
　よって、本願補正発明は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　
（５）むすび
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであるから、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
３．本願発明について
　本件補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１６に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成２２年７月５日付け手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１６に記載された以下のとおりのものである。
　
「有機発光素子の製造方法であって、
　基板上に、第１電極と、２層以上からなる有機物層と、及び第２電極とを順次積層して形成するステップを含んでなるものであり、
　前記第１電極が陰極であり、
　前記第２電極が陽極であり、
　前記有機発光素子が基板上に陰極を先ず形成した後、この陰極上に２層以上の有機物層及び陽極を順次形成し、
　前記有機物層のうち１層を発光層で形成し、
　前記有機物層のうち第２電極に接する有機物層を下記化学式１で表される化合物を用いて形成することを含んでなる、製造方法。
　　【化５】
　
　[上記化学式１において、
　Ｒ１〜Ｒ６は各々、水素、ハロゲン原子、ニトリル（−ＣＮ）、ニトロ（−ＮＯ２）、スルホニル（−ＳＯ２Ｒ）、スルホキシド（−ＳＯＲ）、スルホンアミド（−ＳＯ２ＮＲ）、スルホネート（−ＳＯ３Ｒ）、トリフルオロメチル（−ＣＦ３）、エステル（−ＣＯＯＲ）、アミド（−ＣＯＮＨＲ又はＣＯＮＲＲ’）、置換又は非置換された直鎖又は分枝鎖のＣ１−Ｃ１２アルコキシ、置換又は非置換された直鎖又は分枝鎖Ｃ１−Ｃ１２のアルキル、置換又は非置換された芳香族又は非芳香族の複素環、置換又は非置換されたアリール、置換又は非置換されたモノ−又はジ−アリールアミン、及び置換又は非置換されたアラルキルアミンで構成された群から選択されてなり、
　前記Ｒ及びＲ’は各々、置換又は非置換されたＣ１−Ｃ６０のアルキル、置換又は非置換されたアリール及び置換又は非置換の５−７元の複素環からなる群から選択されてなる。]」
　
４．引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例の記載事項は、上記「２．」「（２）」に記載したとおりである。
　
５．対比・判断
　本願発明は、上記「２．」で検討した本願補正発明の「第２電極」についての限定事項である「前記第２電極が、スパッタリング、レーザを用いた物理的蒸着方法（ＰＶＤ）、及びイオンビームを用いた蒸着方法からなる群から選択されてなる薄膜形成技術によって形成されなるものである」を省いたものである。
　そうすると、本願発明の構成要件を全て含み、さらに他の構成要件を付加したものに相当する本願補正発明が、上記「２．」「（４）」に記載したとおり、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
６．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。