【手続補正書】
【提出日】平成27年9月2日(2015.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式：
Ｍ１ａＭ２ｂＭ３ｃＤ１ｄＤ２ｅＤ３ｆＴ１ｇＴ２ｈＴ３ｉＱｊ      （Ｉ）
を持つ化学線で硬化可能もしくは熱で硬化可能なポリオルガノシロキサンイオノマーを含む組成物であって、
式中、
Ｍ１＝Ｒ１Ｒ２Ｒ３ＳｉＯ１／２
Ｍ２＝Ｒ４Ｒ５Ｒ６ＳｉＯ１／２
Ｍ３＝Ｒ７Ｒ８Ｒ９ＳｉＯ１／２
Ｄ１＝Ｒ１０Ｒ１１ＳｉＯ２／２
Ｄ２＝Ｒ１２Ｒ１３ＳｉＯ２／２
Ｄ３＝Ｒ１４Ｒ１５ＳｉＯ２／２
Ｔ１＝Ｒ１６ＳｉＯ３／２
Ｔ２＝Ｒ１７ＳｉＯ３／２
Ｔ３＝Ｒ１８ＳｉＯ３／２
Ｑ＝ＳｉＯ４／２
であり、
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１１、Ｒ１３、Ｒ１５は、１から６０個の炭素原子を持つ、脂肪族、芳香族もしくはフルオロの、一価の炭化水素であり、ここで有用な炭化水素基の例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチルおよびｔｅｒｔ−ペンチル、ｎ−ヘキシル基のようなヘキシル、ｎ−ヘプチル基のようなヘプチル、ｎ−オクチルおよびイソオクチル基のようなオクチル、２，２，４−トリメチルペンチル基、ｎ−ノニル基のようなノニル、ｎ−デシル基のようなデシル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシクロヘプチルラジカル、およびメチルシクロヘキシルラジカルのようなシクロアルキルラジカルを含み、アリール基の例は、フェニル、ナフチル、ｏ−、ｍ−、およびｐ−トリル、キシリル、エチルフェニルおよびベンジルを含み
式中、Ｒ３、Ｒ１０、Ｒ１６は、独立して、−ＣＨ２ＣＨ（Ｒ’）（ＣｎＨ２ｎ）−Ｏ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｏ−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｐ−（Ｃ４Ｈ８Ｏ）ｑ−Ｒ’から選択され、式中、下付文字ｎは０もしくは正であり、０から６の範囲の値を持ち、下付文字ｏ、ｐ、およびｑは０もしくは正であり、独立して、０から１００の範囲の値から選択され、ｏ＋ｐ＋ｑは１より大きいか１と等しいという制限があり、
Ｒ’は、水素、または１から６０個の炭素原子を持つ脂肪族の、芳香族のもしくはフルオロの、炭化水素であるか、または、Ｒ’は、グリコリド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２Ｏ−}、ラクチド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ−}、ブチロラクチド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−}およびカプロラクチド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−}のラジカルまたはＲ１によって定義される炭化水素ラジカルからなる群より独立して選択され、
ここで、（ｉ）：
Ｒ４、Ｒ１２、Ｒ１７は、式（ＩＩ）
Ａ−ＩＸ−ＭｎＹ＋      （ＩＩ）
を持つ一価のラジカル含有イオン対であり、かつ実質的にフリーラジカル重合可能な部分を含まず、
式中
Ａは二価の炭化水素もしくはヒドロカルボノキシ基から選択される少なくとも一つのスペーサー原子を持つスペーサー基であり、Ｉは、スルホナート−ＳＯ３−、サルファート−ＯＳＯ３−、カルボキシラート−ＣＯＯ−、ホスホナート−ＰＯ３２−、およびホスファート−ＯＰＯ３２−基のようなイオン性基であり、より具体的にはスルホナート−ＳＯ３−であり、Ｍは、水素またはアルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属、遷移金属、金属、金属錯体、第四級アンモニウムおよび第四級ホスホニウム基、炭化水素カチオン、アルキルカチオン、有機カチオン、およびカチオン性ポリマーから独立して選択されるカチオンであるか、
または（ｉｉ）：
Ｒ４、Ｒ１２、Ｒ１７は、式（ＩＩＩ）
−Ｒ’−ＮＲ’’２＋−Ｒ’’’−Ｉ      （ＩＩＩ）
を持つ両性イオンであってよく
式中、
Ｒ’は１から約６０個の、具体的には１から約２０個の炭素原子の、そしてより具体的には１から約８個の、炭素原子を含む二価の炭化水素ラジカルであり、
Ｒ’’は、１から６０個の、具体的には１から約２０個の炭素原子の、そしてより具体的には１から約８個の、炭素原子を含む一価の炭化水素ラジカルであり、
Ｒ’’’は、２から約２０個の炭素原子の、具体的には２から約８個の炭素原子の、そしてより具体的には２から約４個の炭素原子を含む二価の炭化水素ラジカルであり、
そしてＩは、スルホナート−ＳＯ３−、サルファート−ＯＳＯ３−、カルボキシラート−ＣＯＯ−、ホスホナート−ＰＯ３２−、およびホスファート−ＯＰＯ３２−基から選択されるイオン性基であり、
である、（ｉ）または（ｉｉ）のいずれか一方であり、
そして、Ｒ７、Ｒ１４、Ｒ１８は、不飽和の一価のラジカルもしくはエポキシ基含有ラジカルから独立して選択され、かつ実質的にイオン性部分を含まず、
そしてここで、下付文字ｎおよびｙは１〜６より選択され、ｘはｎかけるｙの積であり、そして下付文字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉ、ｊは０もしくは正数であり、以下の「ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉ＋ｊの合計が２より大きいかもしくは２と等しく、かつ６０００より小さいかもしくは６０００と等しい」、「ｂ＋ｅ＋ｈが０より大きい」ならびに「ｃ＋ｆ＋ｉが０より大きい」という条件に従う、
組成物。
【請求項２】
式（ＩＩ）中のＡの二価の炭化水素基が、−（ＣＨ２）ｌＣ６Ｈ４（ＣＨ２）ｋ−、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）（ＣＨ２）ｋＣ６Ｈ４−、−ＣＨ２ＣＨ（Ｒ１）（ＣＨ２）ｌＣ６Ｈ３Ｒ１９−および−ＣＨ２ＣＨ（Ｒ１）（ＣＨ２）ｌＣ６Ｈ２Ｒ１Ｒ１９−からなる群より選択されるアリーレン基であり、式中、Ｒ１は定義されるとおりであり、Ｒ１９は具体的には約１から約２０個の、そしてより具体的には約１から約８個の炭素原子、硫黄原子、窒素原子、酸素原子の一価のラジカルもしくはそれらの組み合わせのラジカルであり、ここでｌは０から２０の、具体的には１から約１０の値を持ち、ｋは０から２０の、具体的には０から約１０の値を持つ、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
式（ＩＩ）中のＡの二価の炭化水素基が、式−（ＣＨＲ２０）ｍ−のアルキレン基であり、式中ｍは１から２０の、具体的には１から約１０の値を持ち、Ｒ２０は水素もしくはＲ１である、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
式（ＩＩ）中のＡの二価のヒドロカルボノキシ基が、（ＣＨＲ２０）ｍ−（ＯＣＨＲ２０ＣＨ２）ｐ−（ＣＨ２）ｌ−から選択され、ｌは０から２０の、具体的には１から約１０の値を持ち、ｍは０から５０の値を持ち、ｐは１から５０の値を持つ、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
式（ＩＩ）中のＭが独立して、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｇａ、Ａｌ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｒｕ、Ｓｎ、Ｃｅ、Ｃｏ、Ｌａ、Ｅｕ、ＧｄおよびＲｈから選択されるカチオンであってよい、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
式（ＩＩ）中のＭが、クロルヘキシジン、ビグアニド、第四級アンモニウム化合物、第四級ホスホニウム化合物、キトサンおよびその誘導体、ならびに、ニシン、ペジオシン、ゴメシン、プレウリシジンならびにその誘導体およびその組替体のような抗菌ペプチドのようなカチオンであってよい、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
Ｒ７、Ｒ１４、Ｒ１８が、以下の一般式：
【化５】
2015510527.tif 000001
【化６】
2015510527.tif 000002
【化７】
2015510527.tif 000003
【化８】
2015510527.tif 000004
からなる群より独立して選択される硬化性官能基であり、
式中、Ｒ２１からＲ２８は、独立して、水素、１から６０個の炭素原子を持つ、脂肪族／芳香族の、一価の炭化水素から選択され、
式中、Ｘは、１から６０個の炭素原子と、０から２０個の酸素、窒素および硫黄のようなヘテロ原子とからなる二価の炭化水素架橋である、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
Ｒ７、Ｒ１４、Ｒ１８が、以下の一般式：
【化９】
2015510527.tif 000005
【化１０】
2015510527.tif 000006
の基を持つ一価のラジカルより独立して選択される硬化性官能基である、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
さらに熱開始剤もしくは光開始剤を含む、請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
開始剤が、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトイン、ブチロイン、トルオイン、ベンジル、ベンゾフェノン、パラメトキシベンゾフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、アルファ−アルファ−ジメトキシ−アルファ−フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシラート、エチルフェニルグリオキシラート、４，４’−ビス−（ジメチルアミノベンゾフェノン）、プロピオフェノン、アセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、エチルフェニルピロキシラート、フェナントラキノン、および２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス−２，４−ジメチルバレロニトリル、ベンゾイルペルオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド、７−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、アクリロホスフィンオキシド光開始剤ならびにそれらの組み合わせから選択される０．００１〜５０重量部の光開始剤を含む、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
ベンゾインメチルエーテルもしくはベンゾフェノン／ジメチルエタノールアミンから選択される光増感剤を  任意選択で含む、請求項８に記載の組成物。
【請求項１２】
メタクリラート、ブチルアクリラート、プロピルアクリラート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、メタクリル酸、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、２−ヒドロキシ−エチル−メタクリラート（ＨＥＭＡ）およびメタクリル酸、３−［トリス（トリメチルシロキシ）シリル］プロピルメタクリラート、アクリラート官能性カーボシラン分子およびメタクリラート官能性カーボシラン分子、ヘキサ官能性ウレタンアクリラート、ジペンタエリトリトールペンタアクリラート、エトキシ化ペンタエリトリトールテトラアクリラート、ジ−トリメチロールプロパンテトラアクリラート、ペンタエリトリトールトリアクリラート、トリメチロールプロパントリアクリラート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリラート、ブタンジオールジアクリラート、トリプロピレングリコールジアクリラート、トリメチロールプロパントリメタクリラート、オリゴ官能性ウレタンアクリラート、テトラアクリラートモノマー、ポリエステルアクリラートオリゴマー、ならびにそれらのイソマーおよびそれらの混合物からなる群より選択されるアクリラート誘導体を０〜９９重量パーセントで含む、請求項８に記載の組成物。
【請求項１３】
スチレンモノマーおよびオリゴマー、ビニルモノマーおよびオリゴマー、ならびにそれらの組み合わせより選択される不飽和オレフィン反応性成分を０〜９９重量パーセントで含む、請求項８に記載の組成物。
【請求項１４】
シリコーンイオノマーと不飽和オレフィン反応性成分との間の反応を促進する開示剤をさらに含む請求項１３に記載の組成物。
【請求項１５】
開始剤が、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトイン、ブチロイン、トルオイン、ベンジル、ベンゾフェノン、パラメトキシベンゾフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、アルファ−アルファ−ジメトキシ−アルファ−フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシラート、エチルフェニルグリオキシラート、４，４’−ビス−（ジメチルアミノベンゾフェノン）、プロピオフェノン、アセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、エチルフェニルピロキシラート、フェナントラキノン、および２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、テトラメチルチウラムモノスルフィドおよびテトラメチルチウラムジスルフィドのような硫黄化合物；アゾビスイソブチロニトリルおよびアゾビス−２，４−ジメチルバレロニトリルのようなアゾ化合物；ベンゾイルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、メチルエチルケトンペルオキシド、アセトンペルオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシドのような有機ペルオキシド化合物；７−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントンおよび２，４−ジイソプロピルチオキサントンのようなチオキサントン光開始剤；ならびにアクリロホスフィンオキシド光開始剤、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）、ＶＡＺＯ（ＤｕＰｏｎｔ）、Ｄａｒｃｕｒｅらのような非限定的な例の独自のフリーラジカル開始剤組成物によって例示される、請求項１４に記載の組成物。
【請求項１６】
０〜９９重量部のチオール含有誘導体を含む、請求項８に記載の組成物。
【請求項１７】
Ｒ７、Ｒ１４、Ｒ１８が、以下の一般式：
【化１１】
2015510527.tif 000007
【化１２】
2015510527.tif 000008
からなる群より独立して選択される硬化性官能基である、請求項７に記載の組成物。
【請求項１８】
０．００１〜５０重量部のカチオン性光開始剤をさらに含む請求項１７に記載の組成物。
【請求項１９】
カチオン性光開始剤が、それぞれ式Ｒ２９２Ｉ＋Ｙ−、Ｒ２９３Ｓ＋Ｙ−、Ｒ２９３Ｓｅ＋Ｙ−、Ｒ２９４Ｐ＋Ｙ−およびＲ２９４Ｎ＋Ｙ−〔式中Ｒ２９はアリール基を表し、Ｙ−はＳｂＦ６−、ＡｓＦ６−、ＰＦ６−、ＢＦ４−、ＨＳＯ４−およびＣｌＯ４−から選択されるアニオンを表す〕によって表されるジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩、トリアリールセレノニウム塩、テトラアリールホスホニウム塩およびアリールジアゾニウム塩からなる群より選択される、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
フッ素化アルコール、ポリオール、アクリラート、エポキシもしくはビニルエーテルを０〜９９重量部でさらに含む、請求項１８に記載の組成物。
【請求項２１】
１から約１０個の炭素原子を持つフッ素化脂肪族アルコールを含む、請求項２０に記載の組成物。
【請求項２２】
請求項１に記載のオルガノシロキサン組成物を含むフリーラジカル重合化組成物。
【請求項２３】
前記組成物がエマルションである、請求項２２に記載の組成物。
【請求項２４】
モノマー、プレポリマー、架橋剤、開始剤、界面活性剤、共界面活性剤、レオロジー変性剤、溶媒、共溶媒、ならびに請求項１に記載のオルガノシロキサン組成物と不混和である少なくとも一つの相を含む、請求項２３に記載の組成物。
【請求項２５】
不混和な相が水相である、請求項２４に記載の組成物。
【請求項２６】
エマルションがマイクロエマルションである、請求項２３に記載の組成物。
【請求項２７】
エマルションがミニエマルションである、請求項２３に記載の組成物。
【請求項２８】
エマルションが三元エマルションである、請求項２３に記載の組成物。
【請求項２９】
請求項１のオルガノシロキサン組成物を含む、溶液重合またはバルク重合された組成物。
【請求項３０】
モノマー、プレポリマー、架橋剤、開始剤、界面活性剤、共界面活性剤、レオロジー変性剤、溶媒および共溶媒を含む請求項２９に記載の組成物。
【請求項３１】
請求項２２に記載の組成物より調製される感圧接着剤。
【請求項３２】
請求項２９に記載の組成物より調製される感圧接着剤。
【請求項３３】
請求項２２に記載の組成物より調製される半透明の水吸収性フィルム。
【請求項３４】
請求項２９に記載の組成物より調製される半透明の水吸収性フィルム。
【請求項３５】
請求項２２に記載の組成物より調製されるヒドロゲル。
【請求項３６】
請求項２９に記載の組成物より調製されるヒドロゲル。
【請求項３７】
請求項３５に記載のヒドロゲルより調製されるコンタクトレンズ。
【請求項３８】
請求項３６に記載のヒドロゲルより調製されるコンタクトレンズ。
【請求項３９】
請求項２２に記載の組成物より調製されるコーティング組成物。
【請求項４０】
請求項２９に記載の組成物より調製されるコーティング組成物。
【請求項４１】
請求項１に記載のオルガノシロキサン組成物を含むシリコーンラバー組成物。
【請求項４２】
充填剤、ＵＶ吸収剤、ＵＶ安定剤、硬化促進剤、顔料、染料、抗菌剤、殺生物剤、界面活性剤、導電性充填剤、非補強充填剤、可塑剤、粘着付与剤、離型剤、接着促進剤、相溶化剤、医薬品賦形剤、界面活性剤、帯電防止剤、溶媒、平坦化剤およびチキソトロープ剤からなる群より選択される一つもしくはそれ以上の成分をさらに含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項４３】
用途が、エラストマー、ＲＴＶ、ゲル、ヘルスケア用途、パーソナルケア用途、家庭用用途、アパレル、スポーツウェア、ペイント、コーティング、油とガス、接着剤、感圧接着剤、水性コーティングおよび水性接着剤、シーラント、燃料電池、電気および電子用途、農業、繊維製品、膜、射出成形および圧縮成形可能なゴムおよびプラスチック、ならびにさまざまなシリコーン系ゴム、航空宇宙、建築、家庭用用品の製造、機械および装置製造ならびに消費財から選択される、請求項１に記載のオルガノシロキサン組成物を含む、用途。
【請求項４４】
金属、金属イオン、生物活性分、抗ニキビ剤、抗老化剤、虫歯予防剤、抗真菌剤、抗菌剤、抗酸化剤、抗がん剤、抗ウイルス剤、抗炎症剤、抗凝固剤、止血剤、剥離剤、ホルモン、酵素、医薬化合物、殺生物剤、外用鎮痛剤、抗鬱剤、オーラルケア剤、オーラルケア薬剤、目薬、酸化剤、還元剤、皮膚保護剤、エッセンシャルオイル、防虫剤、ＵＶ吸収剤、日焼け防止剤、顔料、水和剤、ビタミンおよびそれらの組み合わせからなる群より選択される一つもしくはそれ以上の追加の成分を含む、請求項４３に記載のヘルスケア用途。
【請求項４５】
創傷被覆材、瘢痕削減被覆材、ドラッグデリバリー装置、医療用チューブ、臨床用表面、ペースメーカーリード、感圧接着剤、創傷治癒パッチ、創傷被覆パッチ、瘢痕削減パッチ、創傷管理装置、創傷治癒ゲル、創傷被覆接着剤、経皮パッチ、イオン浸透装置、組織工学のための足場、抗菌デバイス、眼科機器、バイオインサート、外科装置、医療装置、医療用保存装置、プラグ、人工装具および生体インプラント、再建デバイスおよび医療用接着剤の一つもしくはそれ以上と組み合わせる、請求項４４に記載のヘルスケア用途。
【請求項４６】
パーソナルケア成分が、脱臭剤、制汗剤、制汗／脱臭剤、スティックおよびロールオン製品、スキンローション、保湿剤、トナー、クレンジング製品、スタイリングジェル、ヘアダイ、ヘアカラー製品、縮毛矯正剤、マニキュア液、マニキュア除去剤、日焼け止め、抗老化製品、口紅、ファンデーション、おしろい、アイライナー、アイシャドウ、ほお紅、メーキャップ、マスカラ、保湿用剤、ファンデーション、ボディー用剤、ハンド用剤、スキンケア剤、フェース用剤、ネック用剤、香り用剤、光散乱（ソフトフォーカス）剤、夜用スキンケア剤、昼用スキンケア剤、日焼け用剤、ハンド液、パーソナルケアのための不織用途、ベビーローション顔用クレンジング製品、ヘアキューティクルコート、パーソナルケアリンスオフ製品、ゲル、泡風呂、スクラブ洗顔料、制御放出型パーソナルケア製品、ヘアコンディショニングミスト、スキンケア保湿ミスト、皮膚拭取り剤、毛穴拭取り剤、毛穴洗浄剤、傷減少剤、皮膚剥脱剤、皮膚落屑促進剤、スキンタオル、衣服、脱毛剤、パーソナルケア潤滑剤、ネイルカラーリング用剤、皮膚に適用するための医薬組成物の局所投与用のドラッグデリバリーシステム、ならびにそれらの組み合わせの一つもしくはそれ以上を含む、請求項４３に記載のパーソナルケア用途。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
熱もしくは化学線によって硬化可能なポリオルガノシロキサンイオノマーを含む組成物が提供される。ポリオルガノシロキサンイオノマーは、好ましくは、ポリマー鎖の一部としてビニル、アクリル、およびエポキシ基のような不飽和の反応基からなる群より選択される一つもしくはそれ以上の反応基を含み、そして以下の一般式（Ｉ）：
Ｍ１ａＭ２ｂＭ３ｃＤ１ｄＤ２ｅＤ３ｆＴ１ｇＴ２ｈＴ３ｉＱｊ      （Ｉ）
によって示され、式中、
Ｍ１＝Ｒ１Ｒ２Ｒ３ＳｉＯ１／２
Ｍ２＝Ｒ４Ｒ５Ｒ６ＳｉＯ１／２
Ｍ３＝Ｒ７Ｒ８Ｒ９ＳｉＯ１／２
Ｄ１＝Ｒ１０Ｒ１１ＳｉＯ２／２
Ｄ２＝Ｒ１２Ｒ１３ＳｉＯ２／２
Ｄ３＝Ｒ１４Ｒ１５ＳｉＯ２／２
Ｔ１＝Ｒ１６ＳｉＯ３／２
Ｔ２＝Ｒ１７ＳｉＯ３／２
Ｔ３＝Ｒ１８ＳｉＯ３／２
Ｑ＝ＳｉＯ４／２
であり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１１、Ｒ１３、Ｒ１５は、１から６０個の炭素原子を持つ、脂肪族、芳香族もしくはフルオロの、一価の炭化水素であり、
Ｒ３、Ｒ１０、Ｒ１６は、独立して、グリコリド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２Ｏ−}、ラクチド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ−}、ブチロラクチド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−}およびカプロラクチド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−}の、ラジカルまたはＲ１によって定義される炭化水素ラジカルからなる群より選択でき、
Ｒ４、Ｒ１２、Ｒ１７は、式（ＩＩ）を持つ一価のラジカル含有イオン対、もしくは式（ＩＩＩ）を持つ両性イオンであり、ここで式（ＩＩ）は、
Ａ−Ｉｘ−Ｍｎｙ＋      （ＩＩ）
であり、式中
Ａは二価の炭化水素もしくはヒドロカルボノキシ基から選択される少なくとも一つのスペーサー原子を持つスペーサー基であり、Ｉは、スルホナート−ＳＯ３−、サルファート−ＯＳＯ３−、カルボキシラート−ＣＯＯ−、ホスホナート−ＰＯ３２−、およびホスファート−ＯＰＯ３２−基から選択されるイオン性基であり、Ｍは、水素またはアルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属、希土類金属、金属、金属錯体、第四級アンモニウムおよび第四級ホスホニウム基、炭化水素カチオン、アルキルカチオン、有機カチオン、およびカチオン性ポリマーから独立して選択されるカチオンである。両性イオンは式（ＩＩＩ）：
Ｒ’−ＮＲ’’２＋−Ｒ’’’−Ｉ−      （ＩＩＩ）
を持ち、式中
Ｒ’は１から約６０個の炭素原子の二価の炭化水素ラジカルであり、
Ｒ’’は、１から約６０個の炭素原子の一価の炭化水素ラジカルであり、
Ｒ’’’は、２から約２０個の炭素原子の、具体的には２から約８個の炭素原子の、そしてより具体的には２から約４個の炭素原子を含む二価の炭化水素ラジカルであり、
そしてＩは、スルホナート−ＳＯ３−、サルファート−ＯＳＯ３−、カルボキシラート−ＣＯＯ−、ホスホナート−ＰＯ３２−、およびホスファート−ＯＰＯ３２−基から選択されるイオン性基であり、
そしてここで、Ｒ７、Ｒ１４、Ｒ１８は、不飽和の一価のラジカルもしくはエポキシ基含有ラジカルから独立して選択され、
そしてここで、下付文字ｎおよびｙは１〜６より選択され、ｘはｎかけるｙの積であり、そして下付文字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉ、ｊは０もしくは正数であり、以下の「ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉ＋ｊの合計が２より大きいかもしくは２と等しく、かつ６０００より小さいかもしくは６０００と等しい」、「ｂ＋ｅ＋ｈが０より大きい」ならびに「ｃ＋ｆ＋ｉが０より大きい」という条件に従う。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
本発明において、以下の式：
Ｍ１ａＭ２ｂＭ３ｃＤ１ｄＤ２ｅＤ３ｆＴ１ｇＴ２ｈＴ３ｉＱｊ      （Ｉ）
を持つイオン性シリコーンの化学線で硬化可能な組成物が提供され、
式中、
Ｍ１＝Ｒ１Ｒ２Ｒ３ＳｉＯ１／２
Ｍ２＝Ｒ４Ｒ５Ｒ６ＳｉＯ１／２
Ｍ３＝Ｒ７Ｒ８Ｒ９ＳｉＯ１／２
Ｄ１＝Ｒ１０Ｒ１１ＳｉＯ２／２
Ｄ２＝Ｒ１２Ｒ１３ＳｉＯ２／２
Ｄ３＝Ｒ１４Ｒ１５ＳｉＯ２／２
Ｔ１＝Ｒ１６ＳｉＯ３／２
Ｔ２＝Ｒ１７ＳｉＯ３／２
Ｔ３＝Ｒ１８ＳｉＯ３／２
Ｑ＝ＳｉＯ４／２
であり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１１、Ｒ１３、Ｒ１５は、１から６０個の炭素原子を持つ、脂肪族、芳香族もしくはフルオロの、一価の炭化水素である。有用な炭化水素基の例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチルおよびｔｅｒｔ−ペンチル、ｎ−ヘキシル基のようなヘキシル、ｎ−ヘプチル基のようなヘプチル、ｎ−オクチルおよびイソオクチル基のようなオクチル、２，２，４−トリメチルペンチル基、ｎ−ノニル基のようなノニル、ｎ−デシル基のようなデシル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシクロヘプチルラジカル、およびメチルシクロヘキシルラジカルのようなシクロアルキルラジカルを含む。アリール基の例は、フェニル、ナフチル、ｏ−、ｍ−、およびｐ−トリル、キシリル、エチルフェニルおよびベンジルを含む。
式中、Ｒ３、Ｒ１０、Ｒ１６は、独立して、−ＣＨ２ＣＨ（Ｒ’）（ＣｎＨ２ｎ）−Ｏ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｏ−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｐ−（Ｃ４Ｈ８Ｏ）ｑ−Ｒ’から選択され、式中、下付文字ｎは０もしくは正であり、０から６の範囲の値を持ち、下付文字ｏ、ｐ、およびｑは０もしくは正であり、独立して、０から１００の範囲の値から選択され、ｏ＋ｐ＋ｑは１より大きいか１と等しいという制限がある。
Ｒ’は、水素、または１から６０個の炭素原子を持つ脂肪族の、芳香族のもしくはフルオロの、炭化水素であるか、または、Ｒ’は、グリコリド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２Ｏ−}、ラクチド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ−}、ブチロラクチド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−}およびカプロラクチド{−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−}の、ラジカルまたはＲ１によって定義される炭化水素ラジカルからなる群より独立して選択される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
Ｒ４、Ｒ１２、Ｒ１７は、式（ＩＩ）
Ａ−Ｉｘ−Ｍｎｙ＋      （ＩＩ）
を持つ一価のラジカル含有イオン対であってよく
式中
Ａは二価の炭化水素もしくはヒドロカルボノキシ基から選択される少なくとも一つのスペーサー原子を持つスペーサー基であり、Ｉは、スルホナート−ＳＯ３−、サルファート−ＯＳＯ３−、カルボキシラート−ＣＯＯ−、ホスホナート−ＰＯ３２−、およびホスファート−ＯＰＯ３２−基から選択されるイオン性基であり、より具体的にはスルホナート−ＳＯ３−であり、Ｍは、水素またはアルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属、遷移金属、金属、金属錯体、第四級アンモニウムおよび第四級ホスホニウム基、炭化水素カチオン、アルキルカチオン、有機カチオン、およびカチオン性ポリマーから独立して選択されるカチオンである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
代替的に
Ｒ４、Ｒ１２、Ｒ１７は、式（ＩＩＩ）
−Ｒ’−ＮＲ’’２＋−Ｒ’’’−Ｉ      （ＩＩＩ）
を持つ両性イオンであってよく
式中、
Ｒ’は１から約６０個の炭素原子、具体的には１から約２０個の炭素原子、そしてより具体的には１から約８個の炭素原子を含む二価の炭化水素ラジカルであり、
Ｒ’’は、１から６０個の炭素原子、具体的には１から約２０個の炭素原子、そしてより具体的には１から約８個の炭素原子を含む一価の炭化水素ラジカルであり、
Ｒ’’’は、２から約２０個の炭素原子、具体的には２から約８個の炭素原子、そしてより具体的には２から約４個の炭素原子を含む二価の炭化水素ラジカルであり、
そしてＩは、スルホナート−ＳＯ３−、サルファート−ＯＳＯ３−、カルボキシラート−ＣＯＯ−、ホスホナート−ＰＯ３２−、およびホスファート−ＯＰＯ３２−基から選択されるイオン性基であり、
そしてここで、下付文字ｎおよびｙは１〜６より選択され、ｘはｎかけるｙの積であり、そして下付文字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉ、ｊは０もしくは正数であり、以下の「ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉ＋ｊの合計が２より大きいかもしくは２と等しく、かつ６０００より小さいかもしくは６０００と等しい、具体的にはａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉ＋ｊの合計が２より大きいかもしくは２と等しく、かつ４０００より小さいかもしくは４０００と等しい、具体的にはａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉ＋ｊの合計が２より大きいかもしくは２と等しく、かつ２０００より小さいかもしくは２０００と等しい」、「ｂ＋ｅ＋ｈが０より大きい」ならびに「ｃ＋ｆ＋ｉが０より大きい」という条件に従う。