【事件の表示】
　特許第３２４６６２１号「半導体装置の製造装置」の請求項１ないし５に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３２４６６２１号の請求項１ないし５に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続きの経緯
　 本件特許第３２４６６２１号の請求項１〜５に係るは、平成５年４月６日に特許出願され、平成１３年１１月２日にその特許の設定登録がなされ、その後、異議申立人吉成迪夫から特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１４年１２月２日に訂正請求がなされたものである。
１．１　異議申立ての概要
　異議申立人吉成迪夫は、甲第１号証（米国特許第５１９５９２２号）、甲第２号証（特開平５−６８８３２号公報）、甲第３号証（特開昭６２−２００２５７号公報）、甲第４号証（特開平４−３０６４５０号公報）及び参考文献１（「ウルトラクリーンテクノロジー」Ｖｏｌ．４，Ｎｏ．５／６）を提出し、以下の主張をしている。
　請求項１及び４に係る発明は、異議申立書記載の理由により、上記甲第１〜３号証記載の発明に基いて当業者が容易に発明できたものである。
　請求項２に係る発明は、異議申立書記載の理由により、上記甲第１及び２号証記載の発明に基いて当業者が容易に発明できたものである。
　請求項３に係る発明は、異議申立書記載の理由により、上記甲第１、２及び４号証記載の発明に基いて当業者が容易に発明できたものである。
　請求項５に係る発明は、異議申立書記載の理由により、上記甲第１〜４号証記載の発明に基いて当業者が容易に発明できたものである。
  よって、本件請求項１〜５に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものである。
１．２　異議申立人吉成迪夫が提出した甲第１号証〜甲第４号証及び参考文献１の記載内容
１．２．１　甲第１号証の記載内容
　甲第１号証の第４コラム第１７行〜第２２行には、「モジュラーチャンバー１４は、互いに異なる装置２８にとって必要となる様々な環境を形成すると同時に、機械や工作物を空気によって搬送されてくる汚染物質から保護するために、様々な処理、その他の機械や装置２８を密閉している（図２）。」と記載されている。
　第１コラム第２４行〜第３２行には、「各ウェハには、感光性のフォトレジストコーティングが塗布され、ウェハステッパーがフオトレジストコーティングを露光するために使用される。コーティングの露光により、各ウェハ上にいくつかの集積チップの像を含む多数のプリントが作成される。露光に続いて、フォトレジストコーティングは現像され、パターン化したプリントをシリコンウェハ上に固めるために焼き付けられる。」と記載されている。
　第４コラム第３９行〜第４６行においては、「図２に示されている矢印は、システム１０中を再循環する流体の流れを例示している。図２に呼応したシステム１０の実施形態において、ＨＶＡＣ装置１８によって加圧されコンディショニングされた空気やその他の流体は、ＣＶＦフィルター構造２２を通って、供給管２６へ流れる。供給調整弁４６が開いている場合、流体は供給管２６を通ってプレナム５０へ流れ、その後微粒子フィルター５８を備えた筺体５４へ流れる。」と記載されている。
　第６コラム第１６行〜第３６行には、「フレーム１２２と構造２２は、プローブが様々なフィルター１３０を通り抜ける空気やその他の流体をサンプリングできるポート１３４を備えている。
　また、図４には、ＨＶＡＣ装置１８から構造２２へ入るコンディショニングされた空気やその他の流体のための上部ポート１３８が図示されている。下部ポートは、流体を構造２２から供給管２６へと流出させる。
　システム１０の少なくとも１つの実施形態において、構造２２は、間隔をあげられた４枚のフィルター１３０、つまり、１枚の厚さ１インチのファイバーグラスＡＳＨＲＡＥフィルター（１３０ａ）と、２枚の厚さ１インチの活性炭フィルター（１３０ｂ及び１３０ｃ）と、１枚の厚さ２インチのファイバーグラスＡＳＨＵＲＡＥフィルター（１３０ｄ）とを含んでおり、それらは構造２２内の上から下に配置されている。これらのフィルター１３０は、特定の微粒子を捕らえながら、そうしなければフィルター５８（典型的なファイバグラスＵＬＰＡや同様のフィルター、またはカリフォルニア州サンクレメントのＹＳｑｕａｒｅ Ｌｔｄ．が提供するウルトラフィルター）を通り抜けるかもしれない有機成分やその他の化学物質を吸収する。さらに、最下段に位置するＡＳＨＲＡＥフィルターは、捕らえ、それによっていかなる炭微粒子も構造２２から流出しないようにするのに使用されることもできる。」と記載されている。
　甲第１号証には、その第６コラム第１６行〜第３６行に、フィルタ５８（ＨＥＰＡフィルター）とは異なる活性炭フィルター１３０ｂ、１３０ｃを含むフィルター１３０を有する構造２２を、ＨＶＡＣ装置１８からフィルタ５８へと通じる空気取込経路に設ける旨記載されている。
１．２．２　甲第２号証の記載内容
　甲第２号証の【０００２】段落には、「空気中に含まれる臭気性物質や有害物質等の除去を目的として、活性炭を用いた各種フィルタが提案されている。そのようなフィルタの一つとしてアルカリ吸着剤或いは酸吸着剤を含有させた活性炭含有フィルタがある。これらのフィルタは物理的に活性炭に吸着されにくい硫化水素、アルデヒド、メルカプタン等の酸性物質或いはアンモニア、アミン等のアルカリ性物質の吸着に優れた効果を有している」と記載されている。
　甲第２号証の【０００５】段落には、「本発明者等は空気浄化用フィルタとして先にハニカム状のフィルタを提案した（特公昭５９−５１４２３）。該フィルタは吸着容量の容積効率が高く、しかも圧力損失が低いという優れた特徴を有している。」と記載されている。
１．２．３　甲第３号証の記載内容
　甲第３号証の第２頁左下欄第３行〜第７行には、「この発明は、プロトン導電体雰囲気センサを用いた雰囲気の検出装置において、塩基性ガス吸収剤を有効成分とするフィルターを設けてアンモニア等の塩基性ガスを除去し、…ことを特徴とする」と記載されている。
　甲第３号証の第２頁左下欄第１０行〜右下欄第１３行には、「塩基性ガス吸収剤はアンモニア等のガスを除去し得るもので有れば良く、吸着剤を用いることもでき、また酸塩基反応を利用して酸性物質を用いることもできる。…吸収剤として好ましいものの１つは活性炭である。しかし活性炭のアンモニア吸着活性は高くはないので、種々の改質を施すのが良い。例えば活性炭を液相中等で部分的に酸化すると、表面に生ずる水酸基やアセチル基、アルデヒド基等のために活性炭の極性が増し、アンモニア等の吸着活性を飛躍的に高めることができる。…また活性炭に硫酸銅・ＣｕＳＯ４・５Ｈ２Ｏや、硫酸コバルト・ＣＯＳＯ４・ｎＨ２Ｏ等の酸性物質を添加しても良い。これらの場合は活性炭の吸着作用と（スルホン酸や）硫酸銅等の酸性物質との相乗作用により、塩基性ガスへの吸着活性は著しく向上する。」と記載されている。
　甲第３号証の第２頁右上欄第４行〜第１７行には、プロトン導電体と塩基性ガスとの接触反応について記載されている。
１．２．４　甲第４号証の記載内容
　甲第４号証の図１には、ファンフィルタユニット１８を備えるクリーンルームが示され、図２にはファンフィルタユニット１８の内部構成が示されている。図１には、クリーンルームの内室１４の天井に、複数のファンフィルタユニット１８が設けられことが示されている。
　また、甲第４号証の第２欄第３２行〜第３４行において、「ファンフィルタユニット１８の送気ファン２２の上流側又は下流側にケミカルフィルタを取り付けて、このケミカルフィルタで酸性ガスを除去する方法がある」と記載されている。　甲第４号証の第４欄第９行〜第１７行において、「酸や有機薬品等が含有したエア、即ち酸性ガスはファンフィルタユニット１８から吹き出される空調エアと共に床下チャンバ３２、循環チャンバ１６を通過してファンフィルタユニット１８の吸気口４０から吸引され、ケミカルフィルタ５２を通過する。この時、前記酸性ガスは前記ケミカルフィルタ５２の多数の貫通孔５４、５４…を通過する際にケミカルフィルタ５２中の活性炭に除去される。」と記載されている。
１．２．５　参考文献１の記載内容
　参考文献１の第４４頁右欄下から８行目〜第４５頁左欄第１０行目には、化学増幅型レジストにおいて、露光によって生成したプロトンがレジスト成分と反応する前に、環境中にある塩基性物質と反応することに起因して、レジスト膜の露光後ＰＥＢ処理までの経時的な感度劣化が生じる旨記載されている。　　　　
２．１　訂正事項
訂正事項ａ
　特許明細書請求項１「清浄室と、清浄室内に設けられ、ウエハ表面に感光性有機膜の前躯体を形成する膜形成装置、前記膜形成装置で形成された前記感光性有機膜に紫外線領域の波長光を照射する露光装置、前記露光装置で露光された前記感光性有機膜を現像する現像装置、前記現像装置で現像された前記感光性有機膜をべーキングするべーク装置から構成されるパターン形成手段と、前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するHEPAフィルタと、前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、から成る半導体装置の製造装置に於いて、前記空気取込経路及び/又は前記空調手段に、酸性硫酸塩を活性炭に添着させたアルカリ性ガス物質除去フィルタを設けたことを特徴とする半導体装置の製造装置。」を、「清浄室と、清浄室内に設けられ、ウエハ表面に化学増幅形の感光性樹脂膜の前躯体を形成する膜形成装置、前記膜形成装置で形成された前記感光性樹脂膜に紫外線領域の波長光を照射する露光装置、前記露光装置で露光された前記感光性樹脂膜を現像する現像装置、前記現像装置で現像された前記感光性樹脂膜をべーキングするべーク装置から構成されるパターン形成手段と、前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するHEPAフィルタと、前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、から成る半導体装置の製造装置に於いて、前記空気取込経路及び/又は前記空調手段に、酸性硫酸塩を活性炭に添着させたアルカリ性ガス物質除去フィルタを設け、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されていることを特徴とする半導体装置の製造装置。」と訂正する。
訂正事項ｂ
　特許明細書請求項２「清浄室と、清浄室内に設けられ、ウエハ表面に感光性有機膜の前躯体を形成する膜形成装置、前記膜形成装置で形成された前記感光性有機膜に紫外線領域の波長光を照射する露光装置、前記露光装置で露光された前記感光性有機膜を現像する現像装置、前記現像装置で現像された前記感光性有機膜をべーキングするべーク装置から構成されるパターン形成手段と、前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するHEPAフィルタと、前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、から成る半導体装置の製造装置に於いて、前記空気取込経路及び/又は前記空調手段に、ハニカム状の活性炭ブロックにアルカリ性ガスを吸収する化学物質を添着させたアルカリ性ガス物質除去フィルタを設けたことを特徴とする半導体装置の製造装置。」を、「清浄室と、清浄室内に設けられ、ウエハ表面に化学増幅形の感光性樹脂膜の前躯体を形成する膜形成装置、前記膜形成装置で形成された前記感光性樹脂膜に紫外線領域の波長光を照射する露光装置、前記露光装置で露光された前記感光性樹脂膜を現像する現像装置、前記現像装置で現像された前記感光性樹脂膜をべーキングするべーク装置から構成されるパターン形成手段と、前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するHEPAフィルタと、前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、から成る半導体装置の製造装置に於いて、前記空気取込経路及び/又は前記空調手段に、ハニカム状の活性炭ブロックに酸性硫酸塩を添着させたアルカリ性ガス物質除去フィルタを設け、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されていることを特徴とする半導体装置の製造装置。」と訂正する。
訂正事項ｃ
　特許明細書請求項３「清浄室と、清浄室内に設けられ、ウエハ表面に感光性有機膜の前躯体を形成する膜形成装置、前記膜形成装置で形成された前記感光性有機膜に紫外線領域の波長光を照射する露光装置、前記露光装置で露光された前記感光性有機膜を現像する現像装置、前記現像装置で現像された前記感光性有機膜をべーキングするべーク装置から構成されるパターン形成手段と、前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するHEPAフィルタと、前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、から成る半導体装置の製造装置に於いて、前記空気取込経路であって、前記清浄室の天井に敷設した複数のファンフィルタユニットの空気取入口にアルカリ性ガス物質除去フィルタを設けたことを特徴とする半導体装置の製造装置。」を、「清浄室と、清浄室内に設けられ、ウエハ表面に化学増幅形の感光性樹脂膜の前躯体を形成する膜形成装置、前記膜形成装置で形成された前記感光性樹脂膜に紫外線領域の波長光を照射する露光装置、前記露光装置で露光された前記感光性樹脂膜を現像する現像装置、前記現像装置で現像された前記感光性樹脂膜をべーキングするべーク装置から構成されるパターン形成手段と、前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するHEPAフィルタと、前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、から成る半導体装置の製造装置に於いて、前記空気取込経路であって、前記清浄室の天井に敷設した複数のファンフィルタユニットの空気取入口に、酸性硫酸塩を活性炭に添着させたアルカリ性ガス物質除去フィルタを設け、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されていることを特徴とする半導体装置の製造装置。」と訂正する。
訂正事項ｄ
　特許明細書請求項４「清浄室と、清浄室内に設けられ、ウエハ表面に感光性有機膜の前躯体を形成する膜形成装置、前記膜形成装置で形成された前記感光性有機膜に紫外線領域の波長光を照射する露光装置、前記露光装置で露光された前記感光性有機膜を現像する現像装置、前記現像装置で現像された前記感光性有機膜をべーキングするべーク装置から構成されるパターン形成手段と、前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するHEPAフィルタと、前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、から成る半導体装置の製造装置に於いて、前記空気取込経路及び/又は前記空調手段に、ハニカム状の活性炭ブロックにアルカリ性ガスを吸収する酸性硫酸塩を添着させたアルカリ性ガス物質除去フィルタを設けたことを特徴とする半導体装置の製造装置。」を、「清浄室と、清浄室内に設けられ、ウエハ表面に化学増幅形の感光性樹脂膜の前躯体を形成する膜形成装置、前記膜形成装置で形成された前記感光性樹脂膜に紫外線領域の波長光を照射する露光装置、前記露光装置で露光された前記感光性樹脂膜を現像する現像装置、前記現像装置で現像された前記感光性樹脂膜をべーキングするべーク装置から構成されるパターン形成手段と、前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するHEPAフィルタと、前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、から成る半導体装置の製造装置に於いて、前記空気取込経路及び/又は前記空調手段に、ハニカム状の活性炭ブロックにアルカリ性ガスを吸収する酸性硫酸塩を添着させたアルカリ性ガス物質除去フィルタを設け、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されていることを特徴とする半導体装置の製造装置。」と訂正する。
訂正事項ｅ
　特許明細書請求項５「清浄室と、清浄室内に設けられ、ウエハ表面に感光性有機膜の前躯体を形成する膜形成装置、前記膜形成装置で形成された前記感光性有機膜に紫外線領域の波長光を照射する露光装置、前記露光装置で露光された前記感光性有機膜を現像する現像装置、前記現像装置で現像された前記感光性有機膜をべーキングするべーク装置から構成されるパターン形成手段と、前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するHEPAフィルタと、前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、から成る半導体装置の製造装置に於いて、前記空気取込経路であって、前記清浄室の天井に敷設した複数のファンフィルタユニットの空気取入口にアルカリ性ガス物質除去フィルタを設けると共に、該アルカリ性ガス物質除去フィルタはハニカム状の活性炭ブロックに酸性硫酸塩を添着させたものであることを特徴とする半導体装置の製造装置。」を、「清浄室と、清浄室内に設けられ、ウエハ表面に化学増幅形の感光性樹脂膜の前躯体を形成する膜形成装置、前記膜形成装置で形成された前記感光性樹脂膜に紫外線領域の波長光を照射する露光装置、前記露光装置で露光された前記感光性樹脂膜を現像する現像装置、前記現像装置で現像された前記感光性樹脂膜をべーキングするべーク装置から構成されるパターン形成手段と、前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するHEPAフィルタと、前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、から成る半導体装置の製造装置に於いて、前記空気取込経路であって、前記清浄室の天井に敷設した複数のファンフィルタユニットの空気取入口にアルカリ性ガス物質除去フィルタを設けると共に、該アルカリ性ガス物質除去フィルタはハニカム状の活性炭ブロックに酸性硫酸塩を添着させたものであると共に、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されていることを特徴とする半導体装置の製造装置。」と訂正する。
訂正事項ｆ１
　特許明細書【0007】段落の「本発明は、前記目的を達成する為に、…特徴とする。」を、「本発明は、前記目的を達成する為に、清浄室と、清浄室内に設けられ、ウエハ表面に化学増幅形の感光性樹脂膜の前駆を形成する膜形成装置、前記膜形成装置で形成された前記感光性樹脂膜に紫外線領域の波長光を照射する露光装置、前記露光装置で露光された前記感光性樹脂膜を現像する現像装置、前記現像装置で現像された前記感光性樹脂膜をべーキングするべーク装置から構成されるパターン形成手段と、前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するHEPAフィルタと、前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、から成る半導体装置の製造装置に於いて、前記空気取込経路及び/又は前記空調手段に、酸性硫酸塩を活性炭に添着させたアルカリ性ガス物質除去フィルタを設け、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されていることを特徴とする。」と訂正する。
訂正事項ｆ２
　特許明細書【0008】段落の「本発明によれば、…できる。」を、「本発明によれば、ウエハ表面に形成する感光性樹脂の前躯体として、化学増幅形の感光性樹脂を用いたパターン形成を行う半導体装置の製造装置に於いて、清浄室に空気を取り込む空気取込経路及び/又は前記空気取込経路を介して清浄室に空調空気を供給する空調手段に、酸性硫酸塩を活性炭に添着させたアルカリ性ガス物質除去フィルタを設けた。
　そして、前記空気取込経路に設けられたHEPAフィルタでの空気浄化に加え、このアルカリ性ガス物質除去フィルタを通してクリーンルーム内に空気を供給するようにしたので、清浄室内に取り込まれる空気中のアルカリ性ガス物質濃度を低減させることができる。」と訂正する。
訂正事項ｆ３
　特許明細書【0025】段落の「以上説明したように、…できる。」を、「以上説明したように、本発明に係る半導体装置の製造装置によれば、ウエハ表面に形成する感光性樹脂の前躯体として、化学増幅形の感光性樹脂を用いたパターン形成を行う半導体装置の製造装置に於いて、活性炭に化学物質、例えば酸性硫酸塩を添着させて成るアルカリ性ガス物質除去フィルタを通してクリーンルームの清浄室に空気を供給するようにしたので、クリーンルームの清浄室に供給する空気中のアルカリ性ガス物質濃度を効率よく長期間に渡って低減させることができる。」と訂正する。
２．２．訂正後の請求項１〜５
請求項１　　　
「清浄室と、
　清浄室内に設けられ、ウエハ表面に化学増幅形の感光性樹脂膜の前躯体を形成する膜形成装置、前記膜形成装置で形成された前記感光性樹脂膜に紫外線領域の波長光を照射する露光装置、前記露光装置で露光された前記感光性樹脂膜を現像する現像装置、前記現像装置で現像された前記感光性樹脂膜をべ−キングするべ一ク装置から構成されるパターン形成手段と、
　前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するＨＥＰＡフィルタと、
　前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、
　から成る半導体装置の製造装置に於いて、
　前記空気取込経路及び／又は前記空調手段に、酸性硫酸塩を活性炭に添着させたアルカリ性ガス物質除去フィルタを設け、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されていることを特徴とする半導体装置の製造装置。」
請求項２
「清浄室と、
　清浄室内に設けられ、ウエハ表面に化学増幅形の感光性樹脂膜の前躯体を形成する膜形成装置、前記膜形成装置で形成された前記感光性樹脂膜に紫外線領域の波長光を照射する露光装置、前記露光装置で露光された前記感光性樹脂膜を現像する現像装置、前記現像装置で現像された前記感光性樹脂膜をべ一キングするべ一ク装置から構成されるパターン形成手段と、
　前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するＨＥＰＡフィルタと、
　前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、
　から成る半導体装置の製造装置に於いて、
　前記空気取込経路及び／又は前記空調手段に、ハニカム状の活性炭ブロックに酸性硫酸塩を添着させたアルカリ性ガス物質除去フィルタを設け、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されていることを特徴とする半導体装置の製造装置。」
請求項３
「清浄室と、
　清浄室内に設けられ、ウエハ表面に化学増幅形の感光性樹脂膜の前躯体を形成する膜形成装置、前記膜形成装置で形成された前記感光性樹脂膜に紫外線領域の波長光を照射する露光装置、前記露光装置で露光された前記感光性樹脂膜を現像する現像装置、前記現像装置で現像された前記感光性樹脂膜をべ−キングするべ一ク装置から構成されるパターン形成手段と、
　前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するＨＥＰＡフィルタと、
　前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、
　から成る半導体装置の製造装置に於いて、
　前記空気取込経路であって、前記清浄室の天井に敷設した複数のファンフィルタユニットの空気取入口に、酸性硫酸塩を活性炭に添着させたアルカリ性ガス物質除去フィルタを設け、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されていることを特徴とする半導体装置の製造装置。」
請求項４　
「清浄室と、
　清浄室内に設けられ、ウエハ表面に化学増幅形の感光性樹脂膜の前躯体を形成する膜形成装置、前記膜形成装置で形成された前記感光性樹脂膜に紫外線領域の波長光を照射する露光装置、前記露光装置で露光された前記感光性樹脂膜を現像する現像装置、前記現像装置で現像された前記感光性樹脂膜をべ一キングするべ一ク装置から構成されるパターン形成手段と、
　前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するＨＥＰＡフィルタと、
　前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、
から成る半導体装置の製造装置に於いて、
　前記空気取込経路及び／又は前記空調手段に、ハニカム状の活性炭ブロックにアルカリ性ガスを吸収する酸性硫酸塩を添着させたアルカリ性ガス物質除去フィルタを設け、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されていることを特徴とする半導体装置の製造装置。」
請求項５
「清浄室と、
　清浄室内に設けられ、ウエハ表面に化学増幅形の感光性樹脂膜の前躯体を形成する膜形成装置、前記膜形成装置で形成された前記感光性樹脂膜に紫外線領域の波長光を照射する露光装置、前記露光装置で露光された前記感光性樹脂膜を現像する現像装置、前記現像装置で現像された前記感光性樹脂膜をべ一キングするべ一ク装置から構成されるパターン形成手段と、
　前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するＨＥＰＡフィルタと、
　前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、
　から成る半導体装置の製造装置に於いて、
　前記空気取込経路であって、前記清浄室の天井に敷設した複数のファンフィルタユニットの空気取入口にアルカリ性ガス物質除去フィルタを設けると共に、該アルカリ性ガス物質除去フィルタはハニカム状の活性炭ブロックに酸性硫酸塩を添着させたものであると共に、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されていることを特徴とする半導体装置の製造装置。」
３．　訂正の適否
３．１　目的該当性等について
３．１．１　訂正事項ａ
　上記訂正事項ａについては、特許明細書の請求項１における「感光性有機膜」及び「アルカリ性ガス物質除去フィルタを設たこと」を、それぞれ、下位概念である、「化学増幅形の感光性樹脂膜」及び「アルカリ性ガス物質除去フィルタを設け、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されていること」と訂正するものであるから、特許請求の範囲の減縮にあたる。
　また、当該「化学増幅形の感光性樹脂膜」という事項については、特許明細書の【０００４】〜【０００６】段落から導き出せる事項であり、また、「化学増幅形の感光性樹脂膜」及び「アルカリ性ガス物質除去フィルタを設け、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されていること」という事項については、特許明細書の【０００９】及び【００１１】段落から導き出せる事項であるから、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．２　訂正事項ｂ
　上記訂正事項ｂについては、特許明細書の請求項２における「感光性有機膜」及び「活性炭ブロックにアルカリ性ガスを吸着する化学物質を添着させたアルカリ性ガス物質除去フィルタを設たこと」を、それぞれ、下位概念である、「化学増幅形の感光性樹脂膜」及び「酸性硫酸塩を添着させたアルカリ性ガス物質除去フィルタを設け、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されていること」と訂正するものであるから、特許請求の範囲の減縮にあたる。
　また、当該「化学増幅形の感光性樹脂膜」という事項については、特許明細書の【０００４】〜【０００６】段落から導き出せる事項であり、また、「化学増幅形の感光性樹脂膜」及び「アルカリ性ガス物質除去フィルタを設け、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されていること」という事項については、特許明細書の【０００９】及び【００１１】段落から導き出せる事項であるから、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．３　訂正事項ｃ
　上記訂正事項ｃについては、特許明細書の請求項３における「感光性有機膜」及び「アルカリ性ガス物質除去フィルタを設たこと」を、それぞれ、下位概念である、「化学増幅形の感光性樹脂膜」及び「酸性硫酸塩を添着させたアルカリ性ガス物質除去フィルタを設け、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されていること」と訂正するものであるから、特許請求の範囲の減縮にあたる。
　また、当該「化学増幅形の感光性樹脂膜」という事項については、特許明細書の【０００４】〜【０００６】段落から導き出せる事項であり、また、「化学増幅形の感光性樹脂膜」及び「アルカリ性ガス物質除去フィルタを設け、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されていること」という事項については、特許明細書の【０００９】及び【００１１】段落から導き出せる事項であるから、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．４　訂正事項ｄ
　上記訂正事項ｄについては、特許明細書の請求項４における「感光性有機膜」及び「アルカリ性ガス物質除去フィルタを設たこと」を、それぞれ、下位概念である、「化学増幅形の感光性樹脂膜」及び「アルカリ性ガス物質除去フィルタを設け、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されていること」と訂正するものであるから、特許請求の範囲の減縮にあたる。
　また、当該「化学増幅形の感光性樹脂膜」という事項については、特許明細書の【０００４】〜【０００６】段落から導き出せる事項であり、また、「化学増幅形の感光性樹脂膜」及び「アルカリ性ガス物質除去フィルタを設け、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されていること」という事項については、特許明細書の【０００９】及び【００１１】段落から導き出せる事項であるから、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．５　訂正事項ｅ
　上記訂正事項ｅについては、特許明細書の請求項５における「感光性有機膜」及び「アルカリ性ガス物質除去フィルタを設たこと」を、それぞれ、下位概念である、「化学増幅形の感光性樹脂膜」及び「該アルカリ性ガス物質除去フィルタはハニカム状の活性炭ブロックに酸性硫酸塩を添着させたものであると共に、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されていること」と訂正するものであるから、特許請求の範囲の減縮にあたる。
　また、当該「化学増幅形の感光性樹脂膜」という事項については、特許明細書の【０００４】〜【０００６】段落から導き出せる事項であり、また、「化学増幅形の感光性樹脂膜」及び「アルカリ性ガス物質除去フィルタを設け、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されていること」という事項については、特許明細書の【０００９】及び【００１１】段落から導き出せる事項であるから、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．６　訂正事項ｆ１〜ｆ３
　上記訂正事項ｆ１〜ｆ３については，前記訂正事項ａ〜ｅの訂正に伴い、請求項の記載と発明の詳細な説明の記載を整合させるものであるから、明りょうでない記載の釈明にあたり、また、訂正事項ｆ１〜ｆ３は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．２　訂正の適否の判断
　上記訂正事項ａ〜ｆ３は、上記３．１．１〜３．１．６のとおりであるから、平成６年法律第１１６号附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、改正前の特許法第１２６条第１項ただし書及び同条第２項の規定に適合する。
　従って、当該請求を認める。
４．特許異議申立てについての判断
４．１　本件請求項１〜５に係る発明
　上記２．２に記載のとおり。
４．２　異議申立ての理由の概要
　上記１．１に記載のとおり。
４．２．１　本件請求項１に係る発明と甲第１号証〜甲第３号証との対比、判断
　異議申立人吉成迪夫が提出した甲第１号証は、本件請求項１の従来技術である化学増幅形以前のフォトレジストにおける半導体製造装置の環境制御システムを開示したにすぎず、本件請求項１の前提条件である化学増幅形の感光性樹脂を用いたパターン形成を行う半導体装置の製造装置が開示されていない。
　甲第２号証は、ビルや工場、家庭用等の空調器に用いられる空気浄化用フィル夕において、アルカリ性物質を吸着しやすいアルカリ性ガス物質除去フィルタが開示されているが、これは本件請求項１の特徴であるアルカリ性ガス物質除去フィル夕が酸性硫酸塩を活性炭に添着させたものであることを開示したものではない。
　甲第３号証には、硫酸銅等のような塩基性吸収剤を有効成分とするフィルタを設けてアンモニア等の塩基性ガスを除去することが開示されているが、当該フィルタを設ける対象は甲第３号証及び図1を参照すると、プロトン導電体湿度センサの劣化防止に関するものであり、これに対し、本件請求項１の対象とする半導体製造装置におけるパターン形成手段において発生するプロトンに関するものであって、両者はプロトンの存在形態、作用においてまったく異なる。
　即ち、本件請求項１の対象とする半導体製造装置におけるパターン形成手段におけるプロトンは、露光により与えられたエネルギーにより酸発生剤に作用して発生して存在するものであり、その作用は、プロトンの触媒作用による科学増殖作用である。
　これに対して、甲第３号証のプロトンは、導電体湿度センサにおける導電体としてプロトンが存在しており、湿度センサとして作用するものである。
　このように、両者はプロトンの存在形態、作用においてまったく異なるから、甲第３号証記載の技術を本件請求項１の対象とする半導体製造装置におけるパターン形成手段に適用することには動機付けがなく、かつ、当業者の通常の創作能力の範囲内のこととはいえない。
　参考文献１には、化学増幅型レジストにおいて、露光によって生成したプロトンがレジスト成分と反応する前に、環境中にある塩基性物質と反応することに起因して、レジスト膜の露光後ＰＥＢ処理までの経時的な感度劣化が生じる旨記載されているが、プロトンをどのように処理するか何ら示唆されていない。
　従って、甲第２号証及び参考文献１を参照しても、甲第１号証に甲第３号証を適用する合理性はない。
　そうすると、本件請求項１に係る発明は、「化学増幅形の感光性樹脂膜の前躯体を形成する膜形成装置、前記膜形成装置で形成された前記感光性樹脂膜に紫外線領域の波長光を照射する露光装置、前記露光装置で露光された前記感光性樹脂膜を現像する現像装置、前記現像装置で現像された前記感光性樹脂膜をべ−キングするべ一ク装置から構成されるパターン形成手段」及び「前記空気取込経路及び／又は前記空調手段に、酸性硫酸塩を活性炭に添着させたアルカリ性ガス物質除去フィルタを設け、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタ」からなる構成（以下、「本件請求項１に係る発明の特徴的構成」という。）を有するのに対し、甲第１号証〜甲第３号証に記載された発明は、いずれも、本件請求項１に係る発明の特徴的構成について記載又は当該記載を示唆をするものではなく、又、本件請求項１に係る発明は、上記本件請求項１に係る発明の特徴的構成を有することにより、「【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る半導体装置の製造装置によれば、活性炭に化学物質、例えば酸性硫酸塩を添着させて成るアルカリ性ガス物質除去フィルタを通してクリーンルームの清浄室に空気を供給するようにしたので、クリーンルームの清浄室に供給する空気中のアルカリ性ガス物質濃度を効率よく長期間に渡って低減させることができる。」（特許明細書【００２５】段落）という甲第１号証〜甲第３号証いずれにもない効果を有するから、甲第１号証〜甲第３号証に記載された発明に基づいて容易に発明できたものとはいえない。
４．２．２　本件請求項２に係る発明と甲第１号証及び甲第２号証との対比、判断
　本件請求項２に係る発明は、「化学増幅形の感光性樹脂膜の前躯体を形成する膜形成装置、前記膜形成装置で形成された前記感光性樹脂膜に紫外線領域の波長光を照射する露光装置、前記露光装置で露光された前記感光性樹脂膜を現像する現像装置、前記現像装置で現像された前記感光性樹脂膜をべ一キングするべ一ク装置から構成されるパターン形成手段」及び「前記空気取込経路及び／又は前記空調手段に、ハニカム状の活性炭ブロックに酸性硫酸塩を添着させたアルカリ性ガス物質除去フィルタ」からなる構成（以下、「本件請求項２に係る発明の特徴的構成」という。）を有するのに対し、甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明は、いずれも、本件請求項２に係る発明の特徴的構成について記載又は当該記載を示唆をするものではなく、又、本件請求項２に係る発明は、上記本件請求項２に係る発明の特徴的構成を有することにより、「【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る半導体装置の製造装置によれば、活性炭に化学物質、例えば酸性硫酸塩を添着させて成るアルカリ性ガス物質除去フィルタを通してクリーンルームの清浄室に空気を供給するようにしたので、クリーンルームの清浄室に供給する空気中のアルカリ性ガス物質濃度を効率よく長期間に渡って低減させることができる。」（特許明細書【００２５】段落）という甲第１号証及び甲第２号証いずれにもない効果を有するから、甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明に基づいて容易に発明できたものとはいえない。
４．２．３　本件請求項３に係る発明と甲第１号証、甲第２号証及び甲第４号証との対比、判断
　本件請求項３に係る発明は、「化学増幅形の感光性樹脂膜の前躯体を形成する膜形成装置、前記膜形成装置で形成された前記感光性樹脂膜に紫外線領域の波長光を照射する露光装置、前記露光装置で露光された前記感光性樹脂膜を現像する現像装置、前記現像装置で現像された前記感光性樹脂膜をべ−キングするべ一ク装置から構成されるパターン形成手段」及び「前記空気取込経路であって、前記清浄室の天井に敷設した複数のファンフィルタユニットの空気取入口に、酸性硫酸塩を活性炭に添着させたアルカリ性ガス物質除去フィルタ」からなる構成（以下、「本件請求項３に係る発明の特徴的構成」という。）を有するのに対し、甲第１号証、甲第２号証及び甲第４号証に記載された発明は、いずれも、本件請求項３に係る発明の特徴的構成について記載又は当該記載を示唆をするものではなく、又、本件請求項３に係る発明は、上記本件請求項３に係る発明の特徴的構成を有することにより、「【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る半導体装置の製造装置によれば、活性炭に化学物質、例えば酸性硫酸塩を添着させて成るアルカリ性ガス物質除去フィルタを通してクリーンルームの清浄室に空気を供給するようにしたので、クリーンルームの清浄室に供給する空気中のアルカリ性ガス物質濃度を効率よく長期間に渡って低減させることができる。」（特許明細書【００２５】段落）という甲第１号証、甲第２号証及び第４号証いずれにもない効果を有するから、甲第１号証、甲第２号証及び甲第４号証に記載された発明に基づいて容易に発明できたものとはいえない。
４．２．４　本件請求項４に係る発明と甲第１号証〜甲第３号証との対比、判断
　本件請求項４に係る発明は、「化学増幅形の感光性樹脂膜の前躯体を形成する膜形成装置、前記膜形成装置で形成された前記感光性樹脂膜に紫外線領域の波長光を照射する露光装置、前記露光装置で露光された前記感光性樹脂膜を現像する現像装置、前記現像装置で現像された前記感光性樹脂膜をべ一キングするべ一ク装置から構成されるパターン形成手段」及び「前記空気取込経路及び／又は前記空調手段に、ハニカム状の活性炭ブロックにアルカリ性ガスを吸収する酸性硫酸塩を添着させたアルカリ性ガス物質除去フィルタ」からなる構成（以下、「本件請求項４に係る発明の特徴的構成」という。）を有するのに対し、甲第１号証〜甲第３号証に記載された発明は、いずれも、本件請求項４に係る発明の特徴的構成について記載又は当該記載を示唆をするものではなく、又、本件請求項４に係る発明は、上記本件請求項４に係る発明の特徴的構成を有することにより、「【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る半導体装置の製造装置によれば、活性炭に化学物質、例えば酸性硫酸塩を添着させて成るアルカリ性ガス物質除去フィルタを通してクリーンルームの清浄室に空気を供給するようにしたので、クリーンルームの清浄室に供給する空気中のアルカリ性ガス物質濃度を効率よく長期間に渡って低減させることができる。」（特許明細書【００２５】段落）という甲第１号証〜甲第３号証いずれにもない効果を有するから、甲第１号証〜甲第３号証に記載された発明に基づいて容易に発明できたものとはいえない。
４．２．５　本件請求項５に係る発明と甲第１号証〜甲第４号証との対比、判断
　本件請求項５に係る発明は、「化学増幅形の感光性樹脂膜の前躯体を形成する膜形成装置、前記膜形成装置で形成された前記感光性樹脂膜に紫外線領域の波長光を照射する露光装置、前記露光装置で露光された前記感光性樹脂膜を現像する現像装置、前記現像装置で現像された前記感光性樹脂膜をべ一キングするべ一ク装置から構成されるパターン形成手段」及び「前記空気取込経路であって、前記清浄室の天井に敷設した複数のファンフィルタユニットの空気取入口にアルカリ性ガス物質除去フィルタを設けると共に、該アルカリ性ガス物質除去フィルタはハニカム状の活性炭ブロックに酸性硫酸塩を添着させたもの」からなる構成（以下、「本件請求項５に係る発明の特徴的構成」という。）を有するのに対し、甲第１号証〜甲第４号証に記載された発明は、いずれも、本件請求項４に係る発明の特徴的構成について記載又は当該記載を示唆をするものではなく、又、本件請求項５に係る発明は、上記本件請求項５に係る発明の特徴的構成を有することにより、「【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る半導体装置の製造装置によれば、活性炭に化学物質、例えば酸性硫酸塩を添着させて成るアルカリ性ガス物質除去フィルタを通してクリーンルームの清浄室に空気を供給するようにしたので、クリーンルームの清浄室に供給する空気中のアルカリ性ガス物質濃度を効率よく長期間に渡って低減させることができる。」（特許明細書【００２５】段落）という甲第１号証〜甲第４号証いずれにもない効果を有するから、甲第１号証〜甲第４号証に記載された発明に基づいて容易に発明できたものとはいえない。
５．むすび
 したがって、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件請求項１〜５に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１〜５に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　従って、本件請求項１〜５に係る発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。
　よって、特許法の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、上記のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１５年１月１５日（２００３．１．１５）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　▲１▼訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１に係る記載
　「【請求項１】
　清浄室と、
　清浄室内に設けられ、ウエハ表面に感光性有機膜の前躯体を形成する膜形成装置、前記膜形成装置で形成された前記感光性有機膜に紫外線領域の波長光を照射する露光装置、前記露光装置で露光された前記感光性有機膜を現像する現像装置、前記現像装置で現像された前記感光性有機膜をベーキングするベーク装置から構成されるパターン形成手段と、
　前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するＨＥＰＡフィルタと、
　前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、から成る半導体装置の製造装置に於いて、
　前記空気取込経路及び／又は前記空調手段に、酸性硫酸塩を活性炭に添着させたアルカリ性ガス物質除去フィルタを設けたことを特徴とする半導体装置の製造装置。」を、
　『【請求項１】
　清浄室と、
　清浄室内に設けられ、ウエハ表面に
化学増幅形の感光性樹脂
樹脂
樹脂
樹脂
　前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するＨＥＰＡフィルタと、
　前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、
　から成る半導体装置の製造装置に於いて、
　前記空気取込経路及び／又は前記空調手段に、酸性硫酸塩を活性炭に添着させたアルカリ性ガス物質除去フィルタを設け
、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されている
　特許請求の範囲の請求項２に係る記載
　「【請求項２】
　清浄室と、
　清浄室内に設けられ、ウエハ表面に感光性有機膜の前躯体を形成する膜形成装置、前記膜形成装置で形成された前記感光性有機膜に紫外線領域の波長光を照射する露光装置、前記露光装置で露光された前記感光性有機膜を現像する現像装置、前記現像装置で現像された前記感光性有機膜をベーキングするベーク装置から構成されるパターン形成手段と、
　前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するＨＥＰＡフィルタと、
　前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、から成る半導体装置の製造装置に於いて、
　前記空気取込経路及び／又は前記空調手段に、ハニカム状の活性炭ブロックにアルカリ性ガスを吸収する化学物質を添着させたアルカリ性ガス物質除去フィルタを設けたことを特徴とする半導体装置の製造装置。」を、
　『【請求項２】
　清浄室と、
　清浄室内に設けられ、ウエハ表面に
化学増幅形の感光性樹脂
樹脂
樹脂
樹脂
　前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するＨＥＰＡフィルタと、
　前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、
　から成る半導体装置の製造装置に於いて、
　前記空気取込経路及び／又は前記空調手段に、ハニカム状の活性炭ブロックに
酸性硫酸塩を添着させた
、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されている
　特許請求の範囲の請求項３に係る記載
「【請求項３】
　清浄室と、
　清浄室内に設けられ、ウエハ表面に感光性有機膜の前躯体を形成する膜形成装置、前記膜形成装置で形成された前記感光性有機膜に紫外線領域の波長光を照射する露光装置、前記露光装置で露光された前記感光性有機膜を現像する現像装置、前記現像装置で現像された前記感光性有機膜をベーキングするベーク装置から構成されるパターン形成手段と、
　前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するＨＥＰＡフィルタと、
　前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、から成る半導体装置の製造装置に於いて、
　前記空気取込経路であって、前記清浄室の天井に敷設した複数のファンフィルタユニットの空気取入口にアルカリ性ガス物質除去フィルタを設けたことを特徴とする半導体装置の製造装置。」を、
『【請求項３】
　清浄室と、
　清浄室内に設けられ、ウエハ表面に
化学増幅形の感光性樹脂
樹脂
樹脂
樹脂
　前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するＨＥＰＡフィルタと、
　前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、
　から成る半導体装置の製造装置に於いて、
　前記空気取込経路であって、前記清浄室の天井に敷設した複数のファンフィルタユニットの空気取入口に
、酸性硫酸塩を活性炭に添着させた
、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されている
　特許請求の範囲の請求項４に係る記載
「【請求項４】
　清浄室と、
　清浄室内に設けられ、ウエハ表面に感光性有機膜の前躯体を形成する膜形成装置、前記膜形成装置で形成された前記感光性有機膜に紫外線領域の波長光を照射する露光装置、前記露光装置で露光された前記感光性有機膜を現像する現像装置、前記現像装置で現像された前記感光性有機膜をベーキングするベーク装置から構成されるパターン形成手段と、
　前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するＨＥＰＡフィルタと、
　前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、から成る半導体装置の製造装置に於いて、
　前記空気取込経路及び／又は前記空調手段に、ハニカム状の活性炭ブロックにアルカリ性ガスを吸収する酸性硫酸塩を添着させたアルカリ性ガス物質除去フィルタを設けたことを特徴とする半導体装置の製造装置。」を、
『【請求項４】
　清浄室と、
　清浄室内に設けられ、ウエハ表面に
化学増幅形の感光性樹脂
樹脂
樹脂
樹脂
　前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するＨＥＰＡフィルタと、
　前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、
　から成る半導体装置の製造装置に於いて、
　前記空気取込経路及び／又は前記空調手段に、ハニカム状の活性炭ブロックにアルカリ性ガスを吸収する酸性硫酸塩を添着させたアルカリ性ガス物質除去フィルタを設け
、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されている
　特許請求の範囲の請求項５に係る記載
「【請求項５】
　清浄室と、
　清浄室内に設けられ、ウエハ表面に感光性有機膜の前躯体を形成する膜形成装置、前記膜形成装置で形成された前記感光性有機膜に紫外線領域の波長光を照射する露光装置、前記露光装置で露光された前記感光性有機膜を現像する現像装置、前記現像装置で現像された前記感光性有機膜をベーキングするベーク装置から構成されるパターン形成手段と、
　前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するＨＥＰＡフィルタと、
　前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、から成る半導体装置の製造装置に於いて、
　前記空気取込経路であって、前記清浄室の天井に敷設した複数のファンフィルタユニットの空気取入口にアルカリ性ガス物質除去フィルタを設けると共に、該アルカリ性ガス物質除去フィルタはハニカム状の活性炭ブロックに酸性硫酸塩を添着させたものであることを特徴とする半導体装置の製造装置。」を、
『【請求項５】
　清浄室と、
　清浄室内に設けられ、ウエハ表面に
化学増幅形の感光性樹脂
樹脂
樹脂
樹脂
　前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するＨＥＰＡフィルタと、
　前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、
　から成る半導体装置の製造装置に於いて、
　前記空気取込経路であって、前記清浄室の天井に敷設した複数のファンフィルタユニットの空気取入口にアルカリ性ガス物質除去フィルタを設けると共に、該アルカリ性ガス物質除去フィルタはハニカム状の活性炭ブロックに酸性硫酸塩を添着させたものである
と共に、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されている
　▲２▼訂正事項ｂ
　明細書段落【０００７】の「本発明は、前記目的を達成する為に、…特徴とする。」を、
　『本発明は、前記目的を達成する為に、清浄室と、清浄室内に設けられ、ウエハ表面に
化学増幅形の感光性樹脂
樹脂
樹脂
樹脂
、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されている
　また、明細書段落【０００８】の「本発明によれば、…できる。」を、
　『本発明によれば、
ウエハ表面に形成する感光性樹脂の前躯体として、化学増幅形の感光性樹脂を用いたパターン形成を行う半導体装置の製造装置に於いて、
　また、明細書段落【００２５】の「以上説明したように、…できる。」を、
　『以上説明したように、本発明に係る半導体装置の製造装置によれば、
ウエハ表面に形成する感光性樹脂の前躯体として、化学増幅形の感光性樹脂を用いたパターン形成を行う半導体装置の製造装置に於いて、
（５４）【発明の名称】
半導体装置の製造装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　清浄室と、
　清浄室内に設けられ、ウエハ表面に
化学増幅形の感光性樹脂
樹脂
樹脂
樹脂
　前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するＨＥＰＡフィルタと、
　前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、
　から成る半導体装置の製造装置に於いて、
　前記空気取込経路及び／又は前記空調手段に、酸性硫酸塩を活性炭に添着させたアルカリ性ガス物質除去フィルタを設け
、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されている
　【請求項２】
　清浄室と、
　清浄室内に設けられ、ウエハ表面に
化学増幅形の感光性樹脂
樹脂
樹脂
樹脂
　前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するＨＥＰＡフィルタと、
　前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、
　から成る半導体装置の製造装置に於いて、
　前記空気取込経路及び／又は前記空調手段に、ハニカム状の活性炭ブロックに
酸性硫酸塩を添着させた
、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されている
　【請求項３】
　清浄室と、
　清浄室内に設けられ、ウエハ表面に
化学増幅形の感光性樹脂
樹脂
樹脂
樹脂
　前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するＨＥＰＡフィルタと、
　前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、
　から成る半導体装置の製造装置に於いて、
　前記空気取込経路であって、前記清浄室の天井に敷設した複数のファンフィルタユニットの空気取入口に
、酸性硫酸塩を活性炭に添着させた
、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されている
　【請求項４】
　清浄室と、
　清浄室内に設けられ、ウエハ表面に
化学増幅形の感光性樹脂
樹脂
樹脂
樹脂
　前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するＨＥＰＡフィルタと、
　前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、
　から成る半導体装置の製造装置に於いて、
　前記空気取込経路及び／又は前記空調手段に、ハニカム状の活性炭ブロックにアルカリ性ガスを吸収する酸性硫酸塩を添着させたアルカリ性ガス物質除去フィルタを設け
、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されている
　【請求項５】
　清浄室と、
　清浄室内に設けられ、ウエハ表面に
化学増幅形の感光性樹脂
樹脂
樹脂
樹脂
　前記清浄室に空気を取り込む空気取込経路に設けられ、前記清浄室に取り込まれる空気を浄化するＨＥＰＡフィルタと、
　前記空気取込経路を介して前記清浄室に空調空気を供給する空調手段と、
　から成る半導体装置の製造装置に於いて、
　前記空気取込経路であって、前記清浄室の天井に敷設した複数のファンフィルタユニットの空気取入口にアルカリ性ガス物質除去フィルタを設けると共に、該アルカリ性ガス物質除去フィルタはハニカム状の活性炭ブロックに酸性硫酸塩を添着させたものである
と共に、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されている
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は、半導体装置の製造装置に係り、特にアルカリ性ガス物質による汚染に敏感なパターン形成を行うリソグラフィー工程で製造される半導体装置の製造装置に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　半導体装置の製造工程のうち、パターン形成を行うリソグラフィー工程は、ウエハ表面に感光性樹脂膜の前躯体を形成した後、ウエハを縮小光学系の露光装置にセットし、前記感光性樹脂膜に回路パターン等のフォトマスクを重ねて紫外線領域の波長光を照射して露光し、前記感光性樹脂膜上に前記回路パターン等を焼付ける。次いで現像液を吹き付けて露光部もしくは未露光部を溶解し、最後にベーキング処理する。そして、この工程は、環境からの汚染に極めて敏感な為、通常、高精度に塵埃を除去したクリーンルーム内で行われる。
　【０００３】
　図７に、パターン形成を行う従来の製造装置を示すように、製造装置は、主として清浄室１Ａ及び空気循環系空間１Ｂから形成されるクリーンルーム１と、クリーンルーム１に温湿度を調整した清浄空気を供給する空調器２と、前記清浄室１Ａ内に工程順に配設された感光性樹脂膜の前躯体を形成する膜形成装置３、露光装置４、現像・ベーク装置５と、から構成されている。そして、パターン形成中、空調器２で温湿度が調整され、除塵された空気及び空気循環系空間１Ｂの天井裏空間１Ｃに循環された空気は、清浄室１Ａの天井裏に設置された複数のファンフィルタユニット（以下ＦＦＵという）６、６…から取り込まれ、ＨＥＰＡフィルタ７、７…で更に高精度に除塵されて清浄室１Ａ内に供給される。このように、パターン形成中、清浄室１Ａ内を一定の温度、湿度、清浄度に保つことにより、ウエハの品質を維持するようになっている。
　【０００４】
　ところで、最近、半導体集積回路の微細化に伴って、パターン形成を行うリソグラフィー工程は、更に高解像、高感度が要求され、この要求に対しては感光性樹脂の前躯体として化学増幅形の感光性樹脂を用いることが有効とされている。化学増幅形の感光性樹脂の一例としては、次の様なものが上げられる。例えば、ノボラック樹脂、フェノール樹脂等のベース樹脂にオニウム塩系あるいはハロゲン系の酸発生剤及びメラミンやシラノール化合物の架橋剤を加えた三成分からなっている。そして、この化学増幅形の感光性樹脂を露光する為、感光性樹脂に紫外線を照射すると、露光により与えられたエネルギーは感光性樹脂の成分である酸発生剤に作用してプロトンを発生させる。このプロトンは露光後のベーク工程においてベース樹脂と架橋剤の反応触媒として作用し、架橋反応を促進させる。この結果、僅かなエネルギーにより大きな架橋反応を起こさせることができるので、より高解像、高感度を得ることができる。このように、化学増幅形の感光性樹脂を用いたリソグラフィー工程においては、プロトンの触媒作用による化学増幅作用が重要な役割を行う。
　【０００５】
　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら、前記プロトンは環境中に極微量のアルカリ性ガス物質（例えば、アンモニア、アミン類）が存在すると、失活してしまいパターン形成に不都合な影響を及ぼすという問題がある。そして、アルカリ性ガス物質の除去には活性炭が有効であるとの報告もあるが、従来の製造装置に活性炭フィルタを設けてもクリーンルーム内のアルカリ性ガス物質濃度を化学増幅作用に影響のない低濃度で長期間維持することはできない。即ち、活性炭は飽和吸着量が小さいので、アルカリ性ガス物質の吸着が直ぐに飽和状態になってしまう。この為、前記製造装置に単に活性炭フィルタを設けるだけでは、アルカリ性ガス物質を除去できる効率や寿命の点で不充分であり、工業的に利用できない。
　【０００６】
　本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、化学増幅作用に影響のない濃度までアルカリ性ガス物質を低減した清浄空気を、パターン形成を行う清浄室に長期間に渡って供給することのできる半導体装置の製造装置を提供することを目的とする。
　【０００７】
　【課題を解決する為の手段】
　本発明は、前記目的を達成する為に、清浄室と、清浄室内に設けられ、ウエハ表面に
化学増幅形の感光性樹脂
樹脂
樹脂
樹脂
、前記アルカリ性ガス物質除去フィルタは、酸性硫酸塩を添着させた活性炭の両面を金網を有するケーシングで挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てると共に前記活性炭と金網との間に防塵シートを挟み込んで構成されている
　【０００８】
　【作用】
　本発明によれば、
ウエハ表面に形成する感光性樹脂の前躯体として、化学増幅形の感光性樹脂を用いたパターン形成を行う半導体装置の製造装置に於いて、
　【０００９】
　また、活性炭に、アルカリ性ガス物質を吸収する化学物質、例えば酸性硫酸塩を添着させたことにより、アルカリ性ガス物質を除去する除去性能を向上させることができると共に、除去性能が低下するまでの寿命を延ばすことができる。
　これにより、清浄室内のアルカリ性ガス物質濃度を長期間にわたって安定的に低減させることができるので、化学増幅作用を伴うパターン形成の安定性及び信頼性を向上させることができる。
　【００１０】
　【実施例】
　以下添付図面に従って本発明に係る半導体装置の製造装置の好ましい実施例について詳説する。
　図１は本発明の半導体装置の製造装置の第１実施例を示す構成図である。製造装置は、主としてクリーンルーム１０と、クリーンルーム１０に温湿度を調整した清浄空気を供給する空調器１２と、前記クリーンルーム１０の清浄室１０Ａ内に工程順に配設された感光性樹脂膜の前躯体を形成する膜形成装置１４、露光装置１６、現像・ベーク装置１８と、から構成されている。また、クリーンルーム１０は、二重構造で形成され、前記各装置１４、１６、１８を収納する前記清浄室１０Ａと、清浄室１０Ａ周囲に一定空間を有する空気循環系空間１０Ｂから構成されている。更に、空気循環系空間１０Ｂは天井裏空間１０Ｃ、床下空間１０Ｄ、天井裏空間１０Ｃと床下空間１０Ｄを連通するリターンエリア１０Ｅとから成っている。また、前記清浄室１０Ａの天井部全体に、高性能な塵埃除去機能を有するＨＥＰＡフィルタ２０、２０…が複数敷きつめられている。また、清浄室１０Ａの天井裏には、前記各ＨＥＰＡフィルタ２０に夫々連通するファン２２Ａ付きフィルタユニット（以下ＦＦＵという）２２、２２…が設けられている。そして、夫々のＦＦＵ２２、２２…の空気取込口にはアルカリ性ガス物質除去フィルタ２４、２４…が設けられている。また、前記清浄室１０Ａの床面は格子状になり、清浄室１０Ａ内の空気を床下空間１０Ｄに排出する排気口１０Ｆを形成している。
　【００１１】
　また、空調器１２は、その給気側が給気ダクト２６を介してＦＦＵ２２に夫々繋がり、その還気側が還気ダクト３０を介して床下空間１０Ｄに繋がっている。また、空調器１２は前記還気側から湿度調整部１２Ａ、給気ファン１２Ｂ、温度調整部１２Ｃ、除塵フィルタ１２Ｄから成っている。
　本発明の半導体装置の製造装置は、図１に示すように、ＦＦＵ２２の空気取込口にアルカリ性ガス物質除去フィルタ２４が設けられている点で図７に示した従来の製造装置と相違している。そして、アルカリ性ガス物質除去フィルタ２４の構造は図２に示すようになっている。即ち、主材は、ハニカム状に形成された多数の直方体状の活性炭ブロック３２Ａ、３２Ａ…に化学物質として、酸性硫酸塩を添着させたものを平面的に敷きつめて一枚の活性炭基板３２を形成し、この活性炭基板３２の両面を保護シート３４、３４で挟み、更に保護シート３４の両面から微細メッシュの金網３６Ａを有するケーシング３６、３６で挟み込んでサンドイッチ構造に組み立てられている。尚、必要に応じて保護シート３４とケーシング３６との間に防塵シート３８を挟み込むようにしてもよい。
　【００１２】
　次に、上記の如く構成された半導体装置の製造装置の作用について説明する。
　クリーンルーム１０の清浄室１０Ａでは、膜形成装置１４によりウエハ表面に感光性樹脂膜の前躯体を形成し、露光装置１６により前記感光性樹脂膜を露光して回路パターンを焼付け、次いで現像・ベーク装置１８により露光された感光性樹脂膜に現像液を吹き付けて露光部もしくは未露光部を溶解し、最後にベーキングする各処理が行われる。そして、前記処理の行われる清浄室１０Ａには、次のように清浄空気４０が供給される。即ち、空調器１２の湿度調整部１２Ａ、温度調整部１２Ｃで温湿度が調整され、除塵フィルタ１２Ｄで除塵された空気は、給気ファン１２Ｂにより、給気ダクト２６を介して各ＦＦＵ２２、２２…に給気され、ＦＦＵ２２の空気取込口から取り込まれる。また、リターンエリア１０Ｅを通り天井裏空間１０Ｃに循環された空気４２もＦＦＵ２２の空気取込口から取り込まれる。そして、ＦＦＵ２２に取り込まれた空気は、ＦＦＵ２２の空気取込口に設けられたアルカリ性ガス物質除去フィルタ２４により、アルカリ性ガス物質が除去される。アルカリ性ガス物質が除去された空気は、次に、ＨＥＰＡフィルタを通り塵埃等が高精度に除塵されて清浄室１０Ａ内に供給される。清浄室１２Ａ内に供給された空気は、清浄室１０Ａ内を浄化した後、清浄室１０Ａの床面に形成された排出口１０から床下空間１０Ｄに排出される。床下空間１０Ｄに排出された大部分の空気は、空調器１２に戻り、外気３１と混合されてから温度、湿度、除塵処理が施され再びＦＦＵ２２に至る循環を行う。一方、床下空間１０Ｄの一部の空気は、リターンエリア１０Ｅを通って天井裏空間１０Ｃに至る循環を行う。
　【００１３】
　このように、本発明の半導体装置の製造装置は、活性炭に酸性硫酸塩を添着させたアルカリ性ガス物質除去フィルタ２４をＦＦＵ２２の空気取込口に設け、天井部に設けたＨＥＰＡフィルタ２０での空気浄化に加えて、アルカリ性ガス物質除去フィルタ２４でアルカリ性ガス物質を除去した清浄空気を清浄室１０Ａに供給するようにした。
　【００１４】
　また、活性炭に、アルカリ性ガス物質を効率的吸収する酸性硫酸塩を添着させたことにより、アルカリ性ガス物質を除去する除去性能を向上させることができると共に、除去性能が低下するまでの寿命を延ばすことができるようにした。
　これにより、クリーンルーム１０の清浄室１０Ａに供給される空気中のアルカリ性ガス物質濃度を効率よく長期間に渡って低減させることができる。例えば、空気中のアルカリ性ガス物質濃度を平均１０ｐｐｂとすると、化学増幅形の感光性樹脂を形成して高解像、高感度のパターン形成を安定して行う為には、除去率９０％以上に相当する１ｐｐｂ以下の基準の空気を清浄室１０Ａに供給する必要がある。そして、活性炭に酸性硫酸塩を添着させた場合は、２年以上たっても前記基準をクリアしたのに対し、無添着の活性炭は、約３カ月で前記基準をオーバーした。また、空気中のアルカリ性ガス物質は数ｐｐｂ〜数十ｐｐｂの範囲で変化するが、活性炭に酸性硫酸塩を添着させた場合は、前記変化にも係わらず２年以上にわたって１ｐｐｂ以下を維持することができた。
　【００１５】
　これにより、本発明の製造装置を用い、本発明の製造方法で製造すれば、清浄室１０Ａ内のアルカリ性ガス物質濃度を長期間にわたって安定的に低減させることができるので、化学増幅作用を伴うパターン形成の安定性及び信頼性を向上させることができる。従って、化学増幅形の感光性樹脂を用いた高解像、高感度のパターン形成を安定的に精度よく行うことができるので、半導体集積回路の微細化が可能となり高い集積度の半導体装置を製造することができる。
　【００１６】
　また、アルカリ性ガス物質除去フィルタ２４は、ハニカム状の活性炭に酸性硫酸塩を添着させて形成し、通気抵抗が極めて小さくなるようにしたので、ＦＦＵ２２のファン２２Ａへの負担を増加させることがない。
　次に、図３に従って、本発明の半導体製造装置の第２実施例について説明する。尚、第１実施例と同じ部材については同符号を付して説明する。
　【００１７】
　図３に示すように、第１実施例との違いは、第１実施例ではアルカリ性ガス物質除去フィルタ２４をＦＦＵ２２の空気取込口に設けたのに対し、第２実施例では、清浄室１０Ａの天井部でＦＦＵ２２とＨＥＰＡフィルタ２０との間に設けたことである。
　第２実施例の場合も、第１実施例と同様のアルカリ性ガス物質除去性能を得ることができる。また、第２実施例では天井部に設けたので、第１実施例のＦＦＵ２２の空気取込口に設ける場合に比べ、一般的に設置面積を大きく確保することができる。これにより、一定の通気量に対して圧損を小さくできる長所がある。
　【００１８】
　次に、図４及び図５に従って、本発明の第３実施例を説明する。
　図４に示すように、第３実施例は、感光性樹脂膜の前躯体を形成する膜形成装置１４、露光装置１６、現像・ベーク装置１８を、夫々の精密空調クリーンチャンバ４４、４４、４４に収納し、各精密空調クリーンチャンバ４４に空気浄化装置を設けたことである。即ち、図５に示すように、露光装置１６を精密空調クリーンチャンバ４４に収納した例で説明すると、精密空調クリーンチャンバ４４は、前記クリーンルーム１０と略同様に清浄室４４Ａ、天井空間４４Ｂ、床下空間４４Ｃ、リターンエリア４４Ｄから構成されている。そして、清浄室４４Ａの天井部にＨＥＰＡフィルタ２０及びアルカリ性ガス物質除去フィルタ２４を設けると共に、リターンエリア４４Ｄに精密空調機４６が設けた。そして、送風機４８により所定風量の空気を天井空間４４Ｂに供給して天井空間４４Ｂを圧力室とし、清浄室４４Ａ内にアルカリ性ガス物質を低減させた清浄空気を吹き出すようにしている。
　【００１９】
　第３実施例の場合は、第１実施例に比べて浄化すべき空間が限定され、局所浄化を行うことができるので、動力費用が少ないという長所を有することができる。また、膜形成装置１４、露光装置１６、現像・ベーク装置１８ごとのアルカリ性ガス物質除去基準及び塵埃の清浄度基準に対応させることができる。
　次に、図６に従って、本発明の第４実施例を説明する。尚、第１実施例と同じ部材については同符号を付して説明する。
　【００２０】
　第１実施例との違いは、空調器１２にアルカリ性ガス物質除去フィルタ２４を配設し、且つ、空調器１２とクリーンルーム１０とを循環させる空気の湿度を調整したことである。即ち、清浄室１０Ａの床下空間１０Ｆから還気ダクト３０を介して空調器１２に戻った空気は、外気３１と混合された後、第１の湿度調整部１２Ａで湿度を４０〜６０％に調整され、アルカリ性ガス物質除去フィルタ２４でアルカリ性ガス物質が低減される。更に、給気ファン１２Ｂを介して第２の湿度調整部１２Ｅに送気され湿度を２０〜４０％に調整された後、温度調整部１２Ｃ、除塵フィルタ１２Ｄを通り、給気ダクト２６を介してＦＦＵ２２の空気取込口に給気される。
　【００２１】
　第４実施例のように、空調器１２にアルカリ性ガス物質除去フィルタ２４を設け、空調器１２とクリーンルーム１０とを循環させる空気の湿度を調整することにより、ＦＦＵ２２の空気取込口にアルカリ性ガス物質除去フィルタを設けた第１実施例の除去性能に比べ、更に良好な性能を得ることができる。
　尚、第１実施例のようにＦＦＵ２２の空気取込口にアルカリ性ガス物質除去フィルタ２４を設けた場合、あるいは第２実施例のように、清浄室の天井部にアルカリ性ガス物質除去フィルタ２４を設けた場合は、空調器１２から供給する空気湿度を３０〜４０％になるように調整すると、第４実施例の場合と同様に空気湿度を調整することによるアルカリ性ガス物質除去性能の向上を図ることができる。また、第３実施例のように、膜形成装置１４、露光装置１６、現像・ベーク装置１８を夫々精密空調クリーンチャンバ４４、４４、４４に収納した場合も、精密空調装置から給気する空気の湿度を３０〜４０％になるように調整することにより同様の効果を得ることができる。
　【００２２】
　【００２３】
　【００２４】
　【００２５】
　【発明の効果】
　以上説明したように、本発明に係る半導体装置の製造装置によれば、
ウエハ表面に形成する感光性樹脂の前躯体として、化学増幅形の感光性樹脂を用いたパターン形成を行う半導体装置の製造装置に於いて、
　【００２６】
　これにより、清浄室内のアルカリ性ガス物質濃度を長期間にわたって安定的に低減させることができるので、化学増幅作用を伴うパターン形成の安定性及び信頼性を向上させることができる。
　従って、本発明の製造装置を用いれば、化学増幅形の感光性樹脂を用いた高解像、高感度のパターン形成を行うことができるので、半導体集積回路の微細化が可能となり高い集積度の半導体装置を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明に係る半導体装置の製造装置の第１実施例を示す構成図
　【図２】
　本発明のアルカリ性ガス物質除去フィルタの構造を示す斜視図
　【図３】
　本発明に係る半導体装置の製造装置の第２実施例を示す構成図
　【図４】
　本発明に係る半導体装置の製造装置の第３実施例を示す要部説明図
　【図５】
　本発明に係る半導体装置の製造装置の第３実施例を示す構成図
　【図６】
　本発明に係る半導体装置の製造装置の第４実施例を示す構成図
　【図７】
　従来の半導体装置の製造装置示す構成図
　【符号の説明】
　１０…クリーンルーム
　１０Ａ…清浄室
　１２…空調器
　１４…膜形成装置
　１６…露出装置
　１８…現像・ベーク装置
　２０…ＨＥＰＡフィルタ
　２２…ファンフィルタユニット
　２４…アルカリ性ガス物質除去フィルタ