【事件の表示】
　特許第３２４１０５８号「回転式塗布装置及び回転式塗布方法」の請求項１〜５に係る発明についての特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３２４１０５８号の請求項１〜５に係る発明についての特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第３２４１０５８号の請求項１〜５に係る発明についての出願は、平成３年３月２８日に特許出願され、平成１３年１０月１９日にそれらの発明について特許権の設定登録がなされ、平成１４年６月２１日に異議申立人安井哲也より、請求項１〜５に係る発明についての特許に対して、特許異議の申立てがなされ、平成１４年８月３０日付けで取消しの理由が通知され（平成１４年９月１０日発送）、その指定期間内である平成１４年１１月１１日に訂正請求がなされたものである。
　
２．訂正の適否
（１）訂正の内容
　特許権者が求めている訂正の内容は、以下のとおりである。
〈訂正事項ａ〉
　本件の設定登録時の願書に添付した明細書又は図面（以下、「本件特許明細書」という。）の特許請求の範囲の請求項１に記載される、
「基板を水平支持した状態で回転させる、基板の外形形状より大きな回転台と、この回転台上に支持された基板の上面と所定の間隔をもって平行に配備され、かつ回転台と一体に回転される上部回転板とを備えた回転式塗布装置において、前記上部回転板に開口を設け、前記回転台に基板を載せない状態で前記上部回転板が回転台と一体に回転されているときに、前記上部回転板と前記回転台との間に形成される塗布処理空間内へ洗浄液を供給する洗浄ノズルを前記開口に
備えた
「基板を水平支持した状態で回転させる、基板の外形形状より大きな回転台と、この回転台上に支持された基板の上面と所定の間隔をもって平行に配備され、かつ回転台と一体に回転される上部回転板とを備えた回転式塗布装置において、前記上部回転板に開口を設け、前記回転台に基板を載せない状態で前記上部回転板が回転台と一体に回転されているときに、前記上部回転板と前記回転台との間に形成される塗布処理空間内へ洗浄液を供給する洗浄ノズルを前記開口に
備えるとともに、基板への回転塗布処理時には前記洗浄ノズルが上昇され、前記開口が閉じられる
〈訂正事項ｂ〉
  本件特許明細書の特許請求の範囲の請求項２に記載される、
「基板を水平支持した状態で回転させる、基板の外形形状より大きな回転台と、この回転台上に支持された基板の上面と所定の間隔をもって平行に配備され、かつ回転台と一体に回転される上部回転板とを備えた回転式塗布装置において、前記上部回転板に開口を設け、前記開口に、前記上部回転板と前記回転台との間に形成される塗布処理空間内へ洗浄液を供給する洗浄ノズルを備え、前記洗浄ノズルは、前記回転台に基板を載せない状態で回転している前記回転台と前記上部回転板との間の塗布処理空間内に対して静止状態で洗浄液を
供給
「基板を水平支持した状態で回転させる、基板の外形形状より大きな回転台と、この回転台上に支持された基板の上面と所定の間隔をもって平行に配備され、かつ回転台と一体に回転される上部回転板とを備えた回転式塗布装置において、前記上部回転板に開口を設け、前記開口に、前記上部回転板と前記回転台との間に形成される塗布処理空間内へ洗浄液を供給する洗浄ノズルを備え、前記洗浄ノズルは、前記回転台に基板を載せない状態で回転している前記回転台と前記上部回転板との間の塗布処理空間内に対して静止状態で洗浄液を
供給して上部回転板の下面に吹付け供給
〈訂正事項ｃ〉
　本件特許明細書の特許請求の範囲の請求項３に記載される、
「基板の外形形状より大きな回転台と上部回転板との間に形成される塗布処理空間内に基板を配置して前記回転台と上部回転板と基板とを一体に回転させることにより基板の上面の塗布液を拡散塗布する回転式塗布方法において、前記塗布処理空間内に基板を配置して前記回転台と上部回転板と基板とを一体に回転させることにより基板の上面の塗布液を拡散塗布する工程と、前記回転台に基板を載せない状態で前記上部回転板が回転台と一体に回転されているときに、前記塗布処理空間内に洗浄液を
供給
「基板の外形形状より大きな回転台と上部回転板との間に形成される塗布処理空間内に基板を配置して前記回転台と上部回転板と基板とを一体に回転させることにより基板の上面の塗布液を拡散塗布する回転式塗布方法において、前記塗布処理空間内に基板を配置して前記回転台と上部回転板と基板とを一体に回転させることにより基板の上面の塗布液を拡散塗布する工程と、前記回転台に基板を載せない状態で前記上部回転板が回転台と一体に回転されているときに、前記塗布処理空間内に洗浄液を
供給して上部回転板の下面に吹付け供給
〈訂正事項ｄ〉
　本件特許明細書の段落【０００８】の「洗浄ノズルを前記開口に
備えた
備えるとともに、基板への回転塗布処理時には前記洗浄ノズルが上昇され、前記開口が閉じられる
〈訂正事項ｅ〉
　本件特許明細書の段落【０００９】の「洗浄液を
供給
供給して上部回転板の下面に吹付け供給
〈訂正事項ｆ〉　
　本件特許明細書の段落【００１０】の「洗浄液を
供給
供給して上部回転板の下面に吹付け供給
　
（２）訂正の目的の適否、新規事項の有無、及び、拡張・変更の存否
　訂正事項ａは、本件特許明細書の段落【００２９】の「基板１への回転塗布処理時には、図４に示すように、洗浄ノズル２３は圧縮コイルスプリング２４によって上限まで上昇されて、吹出し口２７はハウジング２１内に格納されている。」との記載、及び、【図４】の記載に基づいて、洗浄ノズルと開口との関連を「基板への回転塗布処理時には前記洗浄ノズルが上昇され、前記開口が閉じられるもの」に限定するものであり、また、訂正事項ｂは、特許明細書の段落【００３０】の「ノズル下端の吹出し口２７が上部回転板３の下方まで突出し、上部回転板３の下面へ洗浄液を吹付け供給可能となる。」との記載に基づき、洗浄ノズルを、「洗浄液を・・・上部回転板の下面に吹付け供給」するものに限定するものであるから、訂正事項ａ、ｂは、いずれも特許請求の範囲の減縮を目的とする明細書の訂正に該当するものであって、新規事項の追加に該当せず、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　また、訂正事項ｃは、洗浄液の供給を、「上部回転板の下面に吹付け供給」するものに限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とする明細書の訂正に該当する。当該訂正事項ｃに関連して、本件特許明細書には、その段落【００３０】に「ノズル下端の吹出し口２７が上部回転板３の下方まで突出し、上部回転板３の下面へ洗浄液を吹付け供給可能となる。」と記載され、「洗浄液を上部回転板の下面に吹付け供給」することを、“上部回転板の開口に備えた洗浄ノズル”によって行う場合しか記載されていないものの、本件特許明細書の作用、実施例等の記載内容、及び、「洗浄液を上部回転板の下面に吹付け供給」する、上記の場合以外の態様が周知・慣用でもないことからみて、訂正事項ｃは新規事項の追加に該当するものではないと認められる。そして、訂正事項ｃは、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　さらに、訂正事項ｄ〜ｆは、上記訂正事項ａ〜ｃとの整合を図るものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とする明細書の訂正に該当するものであって、新規事項の追加に該当せず、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　
（３）むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書及び第２項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．特許異議の申立てについて
（１）特許異議の申立ての理由の概要
　特許異議申立人は、請求項１〜５に係る発明は、特開平１−１３５５６５号公報（甲第１号証）及び特開平２−２６８４１５号公報（甲第２号証）記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、したがって、請求項１〜５に係る発明についての特許は、取り消されるべき旨主張している。
　
（２）本件発明
　上記２．で示したように上記訂正が認められるから、本件の請求項１〜５に係る発明（以下、「本件発明１〜５」という。）は、平成１４年１１月１１日付け訂正請求書に添付した訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１〜５に記載された次のとおりのものである。
「【請求項１】基板を水平支持した状態で回転させる、基板の外形形状より大きな回転台と、
　この回転台上に支持された基板の上面と所定の間隔をもって平行に配備され、かつ回転台と一体に回転される上部回転板とを備えた回転式塗布装置において、
　前記上部回転板に開口を設け、前記回転台に基板を載せない状態で前記上部回転板が回転台と一体に回転されているときに、前記上部回転板と前記回転台との間に形成される塗布処理空間内へ洗浄液を供給する洗浄ノズルを前記開口に備えるとともに、基板への回転塗布処理時には前記洗浄ノズルが上昇され、前記開口が閉じられることを特徴とする回転式塗布装置。
【請求項２】基板を水平支持した状態で回転させる、基板の外形形状より大きな回転台と、
　この回転台上に支持された基板の上面と所定の間隔をもって平行に配備され、かつ回転台と一体に回転される上部回転板とを備えた回転式塗布装置において、
　前記上部回転板に開口を設け、前記開口に、前記上部回転板と前記回転台との間に形成される塗布処理空間内へ洗浄液を供給する洗浄ノズルを備え、
　前記洗浄ノズルは、前記回転台に基板を載せない状態で回転している前記回転台と前記上部回転板との間の塗布処理空間内に対して静止状態で洗浄液を供給して上部回転板の下面に吹付け供給可能に設けられたことを特徴とする回転式塗布装置。
【請求項３】基板の外形形状より大きな回転台と上部回転板との間に形成される塗布処理空間内に基板を配置して前記回転台と上部回転板と基板とを一体に回転させることにより基板の上面の塗布液を拡散塗布する回転式塗布方法において、
　前記塗布処理空間内に基板を配置して前記回転台と上部回転板と基板とを一体に回転させることにより基板の上面の塗布液を拡散塗布する工程と、
　前記回転台に基板を載せない状態で前記上部回転板が回転台と一体に回転されているときに、前記塗布処理空間内に洗浄液を供給して上部回転板の下面に吹付け供給する工程と
　を備えたことを特徴とする回転式塗布方法。
【請求項４】請求項３に記載の回転式塗布方法において、
　前記洗浄する工程は、前記上部回転板に形成した開口から前記塗布処理空間内に洗浄液を供給することを特徴とする回転式塗布方法。
【請求項５】請求項４に記載の回転式塗布方法において、
　前記洗浄する工程は、前記上部回転板に形成した開口を介して静止状態の洗浄ノズルから、回転中の前記回転台と前記上部回転板との間の前記塗布処理空間内に洗浄液を供給することを特徴とする回転式塗布方法。」
 　
（３）甲第１、２号証記載の発明
　甲第１号証には、
（イ）「基板を載置して回転するスピンドルに対し、これと同期し且つスピンドル上の基板を包むようにして回転する容器を容器本体と蓋体の分離構造に構成し」（第２頁左上欄１７行〜同頁右上欄１行）、
（ロ）「スピンドルのチヤツクヘツド２に基板３を吸着させ、次に蓋体４’を元に戻して容器本体４と係合させると共にモーター１４の駆動で容器本体４を蓋体４’と一体に回動させる。これによに（「これにより」の誤記と認められる。）基板３上の塗布液は遠心力作用で塗布膜形成の行われるものとなる」（第２頁右下欄６行〜１２行）、
（ハ）「蓋体４’の中心内部にはノズル管８の先端が嵌入される孔１５が穿設されている。」（第３頁左上欄１６行〜１８行）
と記載されている。
　上記の摘記事項（イ）〜（ハ）及び第４図の記載からみて、甲第１号証には、
『基板３を水平支持した状態で回転させる、基板３の外形形状より大きな容器本体４及びスピンドルのチャックヘッド２と、
　このチャックヘッド２上に支持された基板３の上面と所定の間隔をもって平行に配備され、かつ容器本体４及びチャックヘッド２と一体に回転される蓋体４’とを備えた回転式塗布装置において、
　前記蓋体４’にノズル管８の先端が嵌入される孔１５を設け、前記蓋体４’と前記容器本体４及びチャックヘッド２との間に塗布処理空間を形成した、回転式塗布装置』の発明（以下、「甲第１号証記載の発明Ａ」という。）、及び、
『基板３の外形形状より大きな容器本体４及びチャックヘッド２と、
ノズル管８の先端が嵌入される孔１５を設けた蓋体４’との間に形成される塗布処理空間内に基板３を配置して、前記容器本体４及びチャックヘッド２と蓋体４’と基板３とを一体に回転させることにより、基板３の上面の塗布液を拡散塗布する回転式塗布方法において、
　前記塗布処理空間内に基板３を配置して、前記容器本体４及びチャックヘッド２と蓋体４’と基板３とを一体に回転させることにより、基板３の上面の塗布液を拡散塗布する工程を備えた、回転式塗布方法』の発明（以下、「甲第１号証記載の発明Ｂ」という。）が記載されているものと認められる。
                       　
　また、甲第２号証には、
（ニ）「本発明のレジスト塗布カップ自動洗浄方法は、インラインにて構成される設備中のスピン方式レジスト塗布装置において、スピンチャック６に保持された基板にレジストを塗布し該基板を後工程へ搬出した後、毎回、洗浄液を回転するスピンチャック６上に供給し、スピンチャック６の回転に基づく遠心力によりスピンチャック６を包囲する塗布カップ１の内周面に飛散させて、塗布カップ１の内周面に付着したレジストの残滓１２を自動的に洗浄することを特徴とするものである。」（第２頁左上欄４行〜１４行）、
（ホ）「３は密閉カップ支持部で、エアーシリンダ等によって上下駆動ができるようになっており、密閉カップ２と洗浄ノズル４が取付けられている。」（第２頁右上欄１３行〜１６行）、
（ヘ）「本発明のレジスト塗布カップ自動洗浄方法のプロセスを第２図のフローチャートに基づいて説明する。
・・・
丸３（注：丸３は丸数字３を意味する。以下、同様。）レジスト滴下・・・
丸５スピンチャック回転開始　スピンチャック６が回転し、所定の膜厚にレジストが塗布される。このとき、塗布カップ１の周面にレジストの残滓１２が付着する。
・・・
丸９基板搬出・・・
丸１０密閉カップ下降　再び密閉カップ支持部３が下方へ駆動され、密閉カップ２が下降し、密閉カップ1の上部を密閉する。
丸１１スピンチャック回転開始・・・
丸１２洗浄液吐出開始　洗浄液が、洗浄ノズル４よりスピンチャック６上に吐出され、遠心力により塗布カップ１の内側周面に飛ばされる。・・・
丸１３洗浄液吐出終了　洗浄液により、塗布カップ１の内側周面に付着したレジストの残滓１２を洗い落し、下方のドレインへと流下し、洗浄液の吐出を終了する。」（第２頁左下欄８行〜第３頁左上欄１８行）
と記載されている。
　上記の摘記事項（ニ）〜（ヘ）及び第１、２図の記載からみて、甲第２号証には、
『スピン方式レジスト塗布装置において、スピンチャック６に基板を載せない状態でスピンチャック６が回転されているときに、塗布カップ１の内周面に静止状態で洗浄液を供給する洗浄ノズル４を備えること』及び、
『スピン方式レジスト塗布方法において、塗布処理空間内に基板を配置してスピンチャック６と基板とを一体に回転させることにより基板の上面のレジストを拡散塗布する工程と、前記スピンチャック６に基板を載せない状態でスピンチャック６が回転されているときに、静止状態の洗浄ノズル４から前記塗布カップ１の内周面に洗浄液を供給する工程とを備えること』が記載されているものと認められる。
                       　
（４）本件発明１について
　本件発明１と甲第１号証の発明Ａとを対比すると、後者の「容器本体４及びスピンドルのチャックヘッド２」は、その機能からみて、前者の「回転台」に相当し、同様にして、後者の「蓋体４’」は前者の「上部回転板」に、後者の「ノズル管８の先端が嵌入される孔１５」は前者の「開口」に、それぞれ相当するから、両者の一致点、相違点は以下のとおりである。
〈一致点〉基板を水平支持した状態で回転させる、基板の外形形状より大きな回転台と、この回転台上に支持された基板の上面と所定の間隔をもって平行に配備され、かつ回転台と一体に回転される上部回転板とを備えた回転式塗布装置において、上部回転板に開口を設け、前記上部回転板と前記回転台との間に塗布処理空間を形成した、回転式塗布装置。
〈相違点〉前者は、回転台に基板を載せない状態で上部回転板が回転台と一体に回転されているときに、塗布処理空間内へ洗浄液を供給する洗浄ノズルを開口に備えるとともに、基板への回転塗布処理時には前記洗浄ノズルが上昇され、前記開口が閉じられるのに対して、後者は、洗浄ノズルについて明らかではない点。
　そこで、上記相違点につき検討するに、機能からみて、甲第２号証記載の「スピン方式レジスト塗布装置」は本件発明１の「回転式塗布装置」に、甲第２号証記載の「スピンチャック６」は本件発明１の「回転台」にそれぞれ相当するから、甲第２号証には、「回転式塗布装置において、回転台に基板を載せない状態で回転台が回転されているときに、塗布処理空間内へ洗浄液を供給する洗浄ノズルを備える」との発明が記載されていると認められるが、上記相違点の係る構成のうち、『基板への回転塗布処理時には前記洗浄ノズルが上昇され、前記開口が閉じられる』との事項については、甲第２号証にも記載されていない。
　そして、本件発明１は、上記の事項をも必須の構成要件とすることにより、「上部回転板などを取り外さないので、上部回転板の下面などを簡単迅速に洗浄することができ、もって、均一な膜厚で、かつ汚染のない塗布処理を効率的に行うことができる。」（本件特許明細書の段落【００３５】参照）という優れた作用効果を奏している。
　したがって、本件発明１は、甲第１、２号証記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである、とすることはできない。
                       　
（５）本件発明２について
　本件発明２と甲第１号証記載の発明Ａとを対比すると、両者の一致点、相違点は以下のとおりである。 
〈一致点〉基板を水平支持した状態で回転させる、基板の外形形状より大きな回転台と、この回転台上に支持された基板の上面と所定の間隔をもって平行に配備され、かつ回転台と一体に回転される上部回転板とを備えた回転式塗布装置において、前記上部回転板に開口を設け、前記上部回転板と前記回転台との間に塗布処理空間を形成した、回転式塗布装置。
〈相違点〉前者は、開口に、塗布処理空間内へ洗浄液を供給する洗浄ノズルを備え、前記洗浄ノズルは、前記回転台に基板を載せない状態で回転している前記回転台と前記上部回転板との間の塗布処理空間内に対して静止状態で洗浄液を供給して上部回転板の下面に吹付け供給可能に設けられているのに対して、後者は、洗浄ノズルについて明らかではない点。
　そこで、上記相違点につき検討するに、甲第２号証には、相違点に係る構成のうち、「回転塗布装置において、塗布処理空間内へ洗浄液を供給する洗浄ノズルを備え、前記洗浄ノズルは、前記回転台に基板を載せない状態で塗布処理空間内に対して静止状態で洗浄液を供給すること」は記載されているものの、『洗浄ノズルは、回転している上部回転板の下面に吹付け供給可能に設けられている』との事項については記載されていない。
　そして、本件発明２は、甲第１、２号証に記載のない上記の事項をも必須の構成要件とすることにより、「上部回転板の下面などを簡単迅速に洗浄することができ、もって、均一な膜厚で、かつ汚染のない塗布処理を効率的に行うことができる。」（本件特許明細書の段落【００３６】参照）という優れた作用効果を奏している。
　したがって、本件発明２は、甲第１、２号証記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである、とすることはできない。
                       　
（６）本件発明３について
　本件発明３と甲第１号証記載の発明Ｂとを対比すると、両者の一致点、相違点は以下のとおりである。
〈一致点〉基板の外形形状より大きな回転台と上部回転板との間に形成される塗布処理空間内に基板を配置して、前記回転台と上部回転板と基板とを一体に回転させることにより基板の上面の塗布液を拡散塗布する回転式塗布方法において、前記塗布処理空間内に基板を配置して前記回転台と上部回転板と基板とを一体に回転させることにより基板の上面の塗布液を拡散塗布する工程を備えた、回転式塗布方法。
〈相違点〉前者は、前記回転台に基板を載せない状態で前記上部回転板が回転台と一体に回転されているときに、前記塗布処理空間内に洗浄液を供給して上部回転板の下面に吹付け供給する工程を備えているのに対して、後者は、洗浄工程について明らかではない点。
　そこで、上記相違点について検討するに、甲第２号証には、相違点に係る構成のうち、「回転式塗布方法において、塗布液を拡散塗布する工程に加えて、回転台に基板を載せない状態で回転台が回転されているときに、塗布カップ１の内周面に洗浄液を供給する工程を備えること」は記載されているものの、『上部回転板が回転台と一体に回転されているときに、洗浄液を上部回転板の下面に吹付け供給する』との事項については記載されていない。
　そして、本件発明３は、甲第１、２号証に記載のない上記の事項をも必須の構成要件とすることにより、「上部回転板の下面などを簡単迅速に洗浄することができ、もって、均一な膜厚で、かつ汚染のない塗布処理を効率的に行うことができる。」（本件特許明細書の段落【００３７】参照）という優れた作用効果を奏している。
　したがって、本件発明３は、甲第１、２号証記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである、とすることはできない。
                       　
（７）本件発明４について
　本件発明４は、本件発明３の構成に、「洗浄する工程は、前記上部回転板に形成した開口から前記塗布処理空間内に洗浄液を供給すること」との事項を付加したものである。
　したがって、本件発明４は、本件発明３と同様の理由から、甲第１、２号証記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである、とすることはできない。
                       　
（８）本件発明５について
　本件発明５は、本件発明３の構成に、「洗浄する工程は、前記上部回転板に形成した開口から前記塗布処理空間内に洗浄液を供給すること」、及び、「洗浄する工程は、前記上部回転板に形成した開口を介して静止状態の洗浄ノズルから、回転中の前記回転台と前記上部回転板との間の前記塗布処理空間内に洗浄液を供給すること」との事項を付加したものである。
　したがって、本件発明５は、本件発明３と同様の理由から、甲第１、２号証記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである、とすることはできない。
      　
４．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由、証拠によっては、本件発明１〜５についての特許は、拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものとは認めることができない。
　また、他に、本件発明１〜５についての特許が拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めるべき理由を発見しない。
　したがって、本件発明１〜５についての特許を取り消すことはできない。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年１１月２５日（２００２．１１．２５）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
〈訂正事項ａ〉
　設定登録時の願書に添付した明細書又は図面（以下、「本件特許明細書」という。）の特許請求の範囲の請求項１に記載される、
「基板を水平支持した状態で回転させる、基板の外形形状より大きな回転台と、この回転台上に支持された基板の上面と所定の間隔をもって平行に配備され、かつ回転台と一体に回転される上部回転板とを備えた回転式塗布装置において、前記上部回転板に開口を設け、前記回転台に基板を載せない状態で前記上部回転板が回転台と一体に回転されているときに、前記上部回転板と前記回転台との間に形成される塗布処理空間内へ洗浄液を供給する洗浄ノズルを前記開口に
備えた
「基板を水平支持した状態で回転させる、基板の外形形状より大きな回転台と、この回転台上に支持された基板の上面と所定の間隔をもって平行に配備され、かつ回転台と一体に回転される上部回転板とを備えた回転式塗布装置において、前記上部回転板に開口を設け、前記回転台に基板を載せない状態で前記上部回転板が回転台と一体に回転されているときに、前記上部回転板と前記回転台との間に形成される塗布処理空間内へ洗浄液を供給する洗浄ノズルを前記開口に
備えるとともに、基板への回転塗布処理時には前記洗浄ノズルが上昇され、前記開口が閉じられる
〈訂正事項ｂ〉
　本件特許明細書の特許請求の範囲の請求項２に記載される、
「基板を水平支持した状態で回転させる、基板の外形形状より大きな回転台と、この回転台上に支持された基板の上面と所定の間隔をもって平行に配備され、かつ回転台と一体に回転される上部回転板とを備えた回転式塗布装置において、前記上部回転板に開口を設け、前記開口に、前記上部回転板と前記回転台との間に形成される塗布処理空間内へ洗浄液を供給する洗浄ノズルを備え、前記洗浄ノズルは、前記回転台に基板を載せない状態で回転している前記回転台と前記上部回転板との間の塗布処理空間内に対して静止状態で洗浄液を
供給
「基板を水平支持した状態で回転させる、基板の外形形状より大きな回転台と、この回転台上に支持された基板の上面と所定の間隔をもって平行に配備され、かつ回転台と一体に回転される上部回転板とを備えた回転式塗布装置において、前記上部回転板に開口を設け、前記開口に、前記上部回転板と前記回転台との間に形成される塗布処理空間内へ洗浄液を供給する洗浄ノズルを備え、前記洗浄ノズルは、前記回転台に基板を載せない状態で回転している前記回転台と前記上部回転板との間の塗布処理空間内に対して静止状態で洗浄液を
供給して上部回転板の下面に吹付け供給
〈訂正事項ｃ〉
　本件特許明細書の特許請求の範囲の請求項３に記載される、
「基板の外形形状より大きな回転台と上部回転板との間に形成される塗布処理空間内に基板を配置して前記回転台と上部回転板と基板とを一体に回転させることにより基板の上面の塗布液を拡散塗布する回転式塗布方法において、前記塗布処理空間内に基板を配置して前記回転台と上部回転板と基板とを一体に回転させることにより基板の上面の塗布液を拡散塗布する工程と、前記回転台に基板を載せない状態で前記上部回転板が回転台と一体に回転されているときに、前記塗布処理空間内に洗浄液を
供給
「基板の外形形状より大きな回転台と上部回転板との間に形成される塗布処理空間内に基板を配置して前記回転台と上部回転板と基板とを一体に回転させることにより基板の上面の塗布液を拡散塗布する回転式塗布方法において、前記塗布処理空間内に基板を配置して前記回転台と上部回転板と基板とを一体に回転させることにより基板の上面の塗布液を拡散塗布する工程と、前記回転台に基板を載せない状態で前記上部回転板が回転台と一体に回転されているときに、前記塗布処理空間内に洗浄液を
供給して上部回転板の下面に吹付け供給
〈訂正事項ｄ〉
　本件特許明細書の段落【０００８】の「洗浄ノズルを前記開口に
備えた
備えるとともに、基板への回転塗布終了時には前記洗浄ノズルが上昇され、前記開口が閉じられる
〈訂正事項ｅ〉
　本件特許明細書の段落【０００９】の「洗浄液を
供給
供給して上部回転板の下面に吹付け供給
〈訂正事項ｆ〉
　本件特許明細書の段落【００１０】の「洗浄液を
供給
供給して上部回転板の下面に吹付け供給
（５４）【発明の名称】
回転式塗布装置及び回転式塗布方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　基板を水平支持した状態で回転させる、基板の外形形状より大きな回転台と、
　この回転台上に支持された基板の上面と所定の間隔をもって平行に配備され、かつ回転台と一体に回転される上部回転板とを備えた回転式塗布装置において、
　前記上部回転板に開口を設け、前記回転台に基板を載せない状態で前記上部回転板が回転台と一体に回転されているときに、前記上部回転板と前記回転台との間に形成される塗布処理空間内へ洗浄液を供給する洗浄ノズルを前記開口に備え
るとともに、基板への回転塗付処理時には前記洗浄ノズルが上昇され、前記開口が閉じられる
　【請求項２】　基板を水平支持した状態で回転させる、基板の外形形状より大きな回転台と、
　この回転台上に支持された基板の上面と所定の間隔をもって平行に配備され、かつ回転台と一体に回転される上部回転板とを備えた回転式塗布装置において、前記上部回転板に開口を設け、前記開口に、前記上部回転板と前記回転台との間に形成される塗布処理空間内へ洗浄液を供給する洗浄ノズルを備え、
　前記洗浄ノズルは、前記回転台に基板を載せない状態で回転している前記回転台と前記上部回転板との間の塗布処理空間内に対して静止状態で洗浄液を供給
して上部回転板の下面に吹付け供給
　【請求項３】　基板の外形形状より大きな回転台と上部回転板との間に形成される塗布処理空間内に基板を配置して前記回転台と上部回転板と基板とを一体に回転させることにより基板の上面の塗布液を拡散塗布する回転式塗布方法において、
　前記塗布処理空間内に基板を配置して前記回転台と上部回転板と基板とを一体に回転させることにより基板の上面の塗布液を拡散塗布する工程と、
　前記回転台に基板を載せない状態で前記上部回転板が回転台と一体に回転されているときに、前記塗布処理空間内に洗浄液を供給
して上部回転板の下面に吹付け供給
　を備えたことを特徴とする回転式塗布方法。
　【請求項４】　請求項３に記載の回転式塗布方法において、
　前記洗浄する工程は、前記上部回転板に形成した開口から前記塗布処理空間内に洗浄液を供給することを特徴とする回転式塗布方法。
　【請求項５】　請求項４に記載の回転式塗布方法において、
　前記洗浄する工程は、前記上部回転板に形成した開口を介して静止状態の洗浄ノズルから、回転中の前記回転台と前記上部回転板との間の前記塗布処理空間内に洗浄液を供給することを特徴とする回転式塗布方法。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は、液晶表示パネル用のガラス基板、半導体ウエハ、半導体製造装置用のマスク基板などの基板の表面にフォトレジスト液などの塗布液を薄膜状に塗布する際に用いる回転式塗布装置及び回転式塗布方法に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　回転式塗布装置は、基板を回転することによって、基板上へ供給した塗布液を遠心力で基板上に拡散流動して、塗布するものであるが、角形基板では、基板角部で他より膜厚が厚くなる傾向がある。
　それは、角形基板は、角部が風切りして回転するため、角部では他より風を強く受け、塗布液の溶剤成分の蒸発が促進され、塗布液の粘度が上がり、遠心力による拡散流動が弱まるからである。また、丸形であっても、大きくなるほど半径方向の内と外での回転の周速度の差が著しくなるため、大形基板においては、周縁部での膜厚増加の傾向が無視できなくなる。
　【０００３】
　このような角形基板や大形基板における問題に対処した回転式塗布装置として、特開平２−２１９２１３号公報で開示されているように、基板を保持するためのチャックと該チャックを回転させるための回転手段とを少なくとも備え、該基板を該チャックが保持して水平面内で回転させることにより、該基板上に滴下したレジストを該基板の上面に塗布する装置において、該チャックが保持する該基板の上方に近接し且つ該基板と平行に該基板より大なる径を有する回転板が配設され、該回転板が該基板と共に回転するようにしたものが知られている。
　【０００４】
　この従来構成は、基板の上方の空気層を基板と上部回転板とで挟んで持ち回ることで、上記風切り現象を抑制し、もって、均一な膜厚の塗布を行えるようにしたものである。
　【０００５】
　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら、上記従来例によると、次のような新たな問題が生じる。
　つまり、従来例によれば、基板上の空気層を基板と共に持ち回すためには、上部回転板を可及的に基板に近づけて配備する必要があり、このために、回転処理中に基板上方に飛散した塗布液のミストが上部回転板の下面に付着して固化し、繰返し回転塗布を行っているうちに、上部回転板の下面が付着固化した塗布液によって凹凸面となり、この凹凸によって基板上方の空気層に乱れが発生して、均一な膜厚形成に悪影響を及ぼすことが判明した。また、上部回転板の下面に付着して固化しないうちに次の回転塗布が行われた際に、付着した塗布液が飛散して基板表面を汚染することもあった。
　【０００６】
　そこで、実際の処理においては、上記不具合が生じないうちに、適当時間ごとに上部回転板を取り外して洗浄する必要があり、取り外し、洗浄、および再組付けのために手数を要するのみならず、その間の処理中断のために、全体としての処理能率の低下をきたすものであった。
　【０００７】
　本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、上部回転板の洗浄を、上部回転板の取り外しの必要なく短時間で簡単容易に行うことで、この種の装置の特徴を充分に発揮させた回転塗布を能率よく行うことができる回転式塗布装置及び回転式塗布方法を提供することを目的とする。
　【０００８】
　【課題を解決するための手段】
　上記目的を達成するために、本発明は次のような構成を採る。
　すなわち、請求項１に記載の発明は、基板を水平支持した状態で回転させる、基板の外形形状より大きな回転台と、
　この回転台上に支持された基板の上面と所定の間隔をもって平行に配備され、かつ回転台と一体に回転される上部回転板とを備えた回転式塗布装置において、前記上部回転板に開口を設け、前記回転台に基板を載せない状態で前記上部回転板が回転台と一体に回転されているときに、前記上部回転板と前記回転台との間に形成される塗布処理空間内へ洗浄液を供給する洗浄ノズルを前記開口に備え
るとともに、基板への回転塗付処理時には前記洗浄ノズルが上昇され、前記開口が閉じられる
　【０００９】
　請求項２に記載の発明は、基板を水平支持した状態で回転させる、基板の外形形状より大きな回転台と、
　この回転台上に支持された基板の上面と所定の間隔をもって平行に配備され、かつ回転台と一体に回転される上部回転板とを備えた回転式塗布装置において、前記上部回転板に開口を設け、前記開口に、前記上部回転板と前記回転台との間に形成される塗布処理空間内へ洗浄液を供給する洗浄ノズルを備え、
　前記洗浄ノズルは、前記回転台に基板を載せない状態で回転している前記回転台と前記上部回転板との間の塗布処理空間内に対して静止状態で洗浄液を供給
して上部回転板の下面に吹付け供給
　【００１０】
　請求項３に記載の発明は、基板の外形形状より大きな回転台と上部回転板との間に形成される塗布処理空間内に基板を配置して前記回転台と上部回転板と基板とを一体に回転させることにより基板の上面の塗布液を拡散塗布する回転式塗布方法において、前記塗布処理空間内に基板を配置して前記回転台と上部回転板と基板とを一体に回転させることにより基板の上面の塗布液を拡散塗布する工程と、前記回転台に基板を載せない状態で前記上部回転板が回転台と一体に回転されているときに、前記塗布処理空間内に洗浄液を供給
して上部回転板の下面に吹付け供給
　【００１１】
　請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の回転式塗布方法において、前記洗浄する工程は、前記上部回転板に形成した開口から前記塗布処理空間内に洗浄液を供給するものである。
　【００１２】
　請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の回転式塗布方法において、前記洗浄する工程は、前記上部回転板に形成した開口を介して静止状態の洗浄ノズルから、回転中の前記回転台と前記上部回転板との間の前記塗布処理空間内に洗浄液を供給するものである。
　【００１３】
　【作用】
　本発明の作用は次のとおりである。
　すなわち、請求項１に記載の発明によれば、適宜回数の回転塗布が行われると、洗浄ノズルから洗浄液を供給しながら上部回転板を回転台と共に回転駆動することにより、洗浄ノズルから供給された洗浄液は塗布処理空間内に拡がって、塗布処理空間の内面である上部回転板の下面などに付着した塗布液を洗浄し、その後の回転塗布処理を均一に、かつ汚染のない状態で行うことを可能にする。
　【００１４】
　請求項２に記載の発明によれば、適宜回数の回転塗布が行われると、静止状態の洗浄ノズルから洗浄液を供給しながら上部回転板を回転台と共に回転駆動することにより、静止状態の洗浄ノズルから供給された洗浄液は塗布処理空間内に拡がって、塗布処理空間の内面である上部回転板の下面などに付着した塗布液を洗浄し、その後の回転塗布処理を均一に、かつ汚染のない状態で行うことを可能にする。
　【００１５】
　請求項３に記載の発明によれば、塗布液を拡散塗布する工程では、上部回転板と回転台と基板とを一体に回転駆動することにより、基板の上面に塗布液を塗布する。このとき、基板に塗布されなかった余剰な塗布液は、塗布処理空間の内面である上部回転板の下面などに付着する。洗浄する工程では、上部回転板と回転台とを一体に回転駆動した状態の塗布処理空間内に洗浄液を供給することで、その洗浄液が塗布処理空間内に拡がる。この塗布処理空間内に拡がった洗浄液が、上部回転板の下面などに付着した塗布液を洗浄し、その後の回転塗布処理を均一に、かつ汚染のない状態で行うことを可能にする。
　【００１６】
　請求項４に記載の発明によれば、洗浄する工程では、上部回転板と回転台とが一体に回転駆動された状態の塗布処理空間内に、上部回転板に形成された開口から洗浄液を供給する。塗布処理空間内に供給された洗浄液は塗布処理空間内を拡がる。この塗布処理空間内に拡がった洗浄液が、上部回転板の下面などに付着した塗布液を洗浄し、その後の回転塗布処理を均一に、かつ汚染のない状態で行うことを可能にする。
　【００１７】
　請求項５に記載の発明によれば、洗浄する工程では、上部回転板と回転台とが一体に回転駆動された状態の塗布処理空間内に、上部回転板に形成された開口を介して静止状態の洗浄液ノズルから洗浄液を供給する。塗布処理空間内に供給された洗浄液は塗布処理空間内を拡がる。この塗布処理空間内に拡がった洗浄液が、上部回転板の下面などに付着した塗布液を洗浄し、その後の回転塗布処理を均一に、かつ汚染のない状態で行うことを可能にする。
　【００１８】
　【実施例】
　以下、図面を参照し本発明に係る回転式塗布装置の一実施例を説明する。
　図１は本実施例に係る回転式塗布装置の全体の概略構成を示す縦断面図である。
　この回転式塗布装置は、角形の基板１を搭載して縦軸心Ｐ周りに水平回転する回転台２と、その上方において回転台２と平行に設置されて回転台２と一体に回転する上部回転板３と、この上部回転板３を支持する上部支持板４と、これら回転部材の下方及び周辺部を外囲するように固定配置された廃液回収ケース５と、縦向き回転軸としての出力軸６を立設したモータ７とを備えている。
　【００１９】
　回転台２は、基板１の外形形状より充分大きい外形円板として構成されていて、その上面に立設した多数の基板支持ピン８群上に基板１が水平に搭載支持されるようになっている。また、図２に示すように、回転台２上には基板１の四隅に係合する一対づつの係合ピン９が４組設けられていて、これらピン９によって基板１が回転台２と一体に水平回転される。
　【００２０】
　また、図３に示すように、回転台２の外周上面には、回転台２と同外径のスペーサリング１０およびリングプレート１１が同心円線上の場所に複数箇所で連結されるとともに、このリングプレート１１に前記上部支持板４がノブボルト１２を介して着脱自在に装着され、上部支持板４を取り外すことで、リングプレート１１の中央開口から基板１を出し入れすることができるようになっている。
　【００２１】
　前記スペーサリング１０は、断面形状が台形状に構成されたものであり、連結ボルト１３に外嵌した上下の座金１４の厚さに相当する廃液流出用の間隔１５が上下に形成されている。
　前記上部回転板３は基板１の外形形状より大径の円板に構成されて、前記上部支持板４の下面にカラー１６を介してボルト連結されている。
　前記廃液回収ケース５の底部は絞り込まれ、その下端に廃液排出口１７が形成されるとともに、周方向の複数箇所には塗布液から蒸発した溶剤ガスや塗布液ミストを排出する排気口１８が形成されている。
　【００２２】
　この回転式塗布装置は基本的には以上のように構成されたものであり、塗布処理に際しては、先ず上部支持板４を取り外して基板１を回転台２の基板支持ピン８群上に所定の姿勢で搭載セットする。
　【００２３】
　次に、図示しない塗布液供給ノズルを基板１の中央上方に移動させ、所定量の塗布液を滴下供給する。その後、上部支持板４をリングプレート１１上に装着固定した上でモータ７を起動して回転台２、上部支持板４、上部回転板３および基板１を一体に水平回転させる。この回転によって基板１上の塗布液は遠心力によって外方に拡散流動して基板１上面に薄く塗布される。この場合、回転台２と上部回転板３との間に形成された偏平な塗布処理空間Ｓの空気層も一体に回転し、基板１上に気流が発生しない状態で塗布液の拡散流動が行われる。　
　【００２４】
　基板１上を流動して外周に到達した余剰塗布液は基板１の周縁から流出し、塗布処理空間Ｓの外周全域から飛散してゆく。そして、飛散した塗布液はスペーサリング１０の上下に形成されている間隙１５を通って廃液回収ケース５内に流出して回収される。
　【００２５】
　また、本実施例の回転式塗布装置には、前記上部回転板３の下面に付着した塗布液を洗浄する機構が備えられており、以下、その構成を図４および図５を参照して説明する。
　【００２６】
　前記上部回転板３の中央には開口２０が形成され、この開口２０に臨んでノズル保持用のハウジング２１が立設固定されている。このハウジング２１は筒状に構成され、その中心にスライドベアリング２２を介して洗浄ノズル２３が上下方向にスライド可能で、かつ、圧縮コイルスプリング２４によって上方に付勢された状態に組み込まれている。
　【００２７】
　この洗浄ノズル２３の下端にはフランジ状の大径部２３ａが形成され、この大径部２３ａがハウジング２１の下端に形成した凹部２５に嵌入当接して、洗浄ノズル２３の上昇限度が規制されている。そして、この上昇限度状態で前記大径部２３ａの下面が上部回転板３の下面とほぼ面一となるように設定されている。また、洗浄ノズル２３の中心には、洗浄液供給路２６が穿設されるとともに、この洗浄液供給路２６の下端に連通した吹出し口２７が前記大径部２３ａの直上位置の外周面に、やや外上がりの傾斜角をもって形成されている。
　【００２８】
　また、ハウジング２１の上端部にはベアリング２８を介して相対回転可能にシリンダブラケット２９が装備されるとともに、このブラケット２９の上面にピストンロッド３０ａを下向きにしたエアーシリンダ３０が取付けられている。そして、このピストンロッド３０ａの先端に、図外の洗浄液圧送機構に配管接続された継手３１が連結されている。この継手３１は、前記洗浄液供給路２６の上端に対向する流路３２を備えており、ピストンロッド３０ａの伸出によって流路３２が洗浄供給路２６に連通接続されるようになっている。
　【００２９】
　次に、この洗浄機構の動作について説明する。
　基板１への回転塗布処理時には、図４に示すように、洗浄ノズル２３は圧縮コイルスプリング２４によって上限まで上昇されて、吹出し口２７はハウジング２１内に格納されている。この状態では洗浄ノズル２３の下部大径部２３ａがハウジング２１下端の凹部２５に嵌入当接するので、ハウジング２１が上部回転板３と共に回転することによって、大径部２３ａでの当接摩擦で洗浄ノズル２３も上部回転板３と一体に回転する。尚、大径部２３ａのフランジ状部分の上面と、凹部２５の下面双方が噛み合うように凹凸を形成しておいて当接摩擦するよりも確実に洗浄ノズル２３が回転するようにしてもよい。
　【００３０】
　所定回数の回転塗布処理が行われると、次のように上部回転板３の下面の洗浄を行う。この場合は、図５に示すように、エアーシリンダ３０のピストンロッド３０ａを伸出させ、継手３１を洗浄ノズル２３の上端に押し当てたまま、洗浄ノズル２３の上部大径部２３ｂがシリンダブラケット２９内の下降制限用の段部３３に当接するまで圧縮コイルスプリング２４に抗して下降させる。これによって、継手３１の流路３２が洗浄液供給路２６に連通されるとともに、ノズル下端の吹出し口２７が上部回転板３の下方まで突出し、上部回転板３の下面へ洗浄液を吹付け供給可能となる。
　【００３１】
　この場合、洗浄ノズル２３の大径部２３ａがハウジング２１の凹部２５から離れるとともに、洗浄ノズル２３の上部大径部２３ｂが固定側部材であるシリンダブラケット２９の段部３３に当接することで、上部回転板３を回転させても洗浄ノズル２３を固定しておくことができる。つまり、上部回転板３を回転させながら、静止状態の洗浄ノズル２３の吹出し口２７から洗浄液を上部回転板３の下面に吹付け供給して下面の洗浄を行うのである。
　【００３２】
　尚、回転塗布処理をする際に洗浄ノズル２３が上昇したとき、膜厚を均一にする上で、ノズル下面が上部回転板３の下面と面一にあるのが望ましいが、２ｍｍ以下であれば前記下面から多少突出しても実用上は支障ない。
　【００３３】
　また、回転塗布処理中は、洗浄ノズル２３が上部回転板３と一体に回転することが望ましいが、洗浄ノズル２３の下面面積が小さいので、洗浄ノズル２３を固定しても基板１上の空気層を乱すことはほとんどない。
　【００３４】
　さらに、回転塗布処理中、基板１と上部回転板３との空間が負圧になるので、洗浄ノズル２３とハウジング２１との間から外気が基板１の上方に流入することがないように、ノズル周辺の気密を保っておくことが望ましい。
　【００３５】
　【発明の効果】
　以上の説明から明らかなように、請求項１に記載の発明によれば、上部回転板などを取り外さないので、上部回転板の下面などを簡単迅速に洗浄することができ、もって、均一な膜厚で、かつ汚染のない塗布処理を効率的に行うことができる。
　【００３６】
　請求項２に記載に発明によれば、上部回転板を取り外すことなく、回転状態の回転台と上部回転板との間の塗布処理空間内に対して、静止状態の洗浄ノズルから洗浄液を供給するので、上部回転板の下面などを簡単迅速に洗浄することができ、もって、均一な膜厚で、かつ汚染のない塗布処理を効率的に行うことができる。
　【００３７】
　請求項３に記載に発明によれば、基板に塗布液を塗布した後に、上部回転板を取り外すことなく、塗布液が付着した塗布処理空間内に洗浄液を供給するので、上部回転板の下面などを簡単迅速に洗浄することができ、もって、均一な膜厚で、かつ汚染のない塗布処理を効率的に行うことができる。
　【００３８】
　請求項４に記載に発明によれば、上部回転板を取り外すことなく、上部回転板の開口から供給された洗浄液によって、塗布処理空間内を洗浄するので、上部回転板の下面などを簡単迅速に洗浄することができ、もって、均一な膜厚で、かつ汚染のない塗布処理を効率的に行うことができる。
　【００３９】
　請求項５に記載に発明によれば、上部回転板を取り外すことなく、回転状態の回転台と上部回転板との間の塗布処理空間内に対して、上部回転板の開口を介して静止状態の洗浄ノズルから洗浄液を供給するので、上部回転板の下面などを簡単迅速に洗浄することができ、もって、均一な膜厚で、かつ汚染のない塗布処理を効率的に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明に係る回転式塗布装置の一実施例の全体を示す縦断面図である。
　【図２】
　回転台上への基板搭載状態を示す平面図である。
　【図３】
　回転台周辺部の拡大縦断面図である。
　【図４】
　回転塗布時における上部回転板の洗浄機構の縦断面図である。
　【図５】
　上部回転板の洗浄時における洗浄機構の縦断面図である。
　【符号の説明】
　　１…基板　　　　　　　　　　　２…回転台
　　３…上部回転板　　　　　　　２０…開口
　２３…洗浄ノズル　　　　　　　２７…吹出し口