【事件の表示】
　特願２００８−２３６５７３「有機電界発光素子、有機ＥＬ表示装置、有機ＥＬ照明および有機薄膜パターニング用基板」拒絶査定不服審判事件〔平成２２年　４月　２日出願公開、特開２０１０−　７３３４０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯
　本願は、平成２０年９月１６日の出願であって、平成２４年５月１８日付け及び同年１１月３０日付けで手続補正がなされ、平成２５年６月１１日付けで平成２４年１１月３０日付けの手続補正書でした補正が却下されると同時に拒絶査定がなされ、これに対して、平成２５年９月１２日に拒絶査定不服審判が請求されたものである。
　
２　本願発明
　本願の請求項１ないし６に係る発明は、平成２４年５月１８日付けで補正された特許請求の範囲の請求項１ないし６に記載された事項によって特定されるものであるところ、その請求項１に係る発明は、平成２４年５月１８日付けで補正された明細書、特許請求の範囲及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載されたとおりの次のものと認める。
　
「基板上にバンクおよび該バンクによって区画された領域を有し、該バンクによって区画された領域内に有機薄膜を有する有機電界発光素子であって、
　該基板上に、直接または他の層を介して形成された少なくとも１層の有機層を有し、
　該バンクおよび該バンクによって区画された領域は該有機層上にあり、
　該バンクは最下層に下引き層を有し、該下引き層と該下引き層上のレジスト層からなる積層体であり、
　該下引き層は親水性化合物を含有する層であり、該親水性化合物は有機化合物であり、該レジスト層は撥インク性成分を含有する層であることを特徴とする有機電界発光素子。」（以下「本願発明」という。）
　
３　刊行物の記載事項
（１）原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である特開２００７−２４２２７２号公報（以下「引用例１」という。）には、次の事項が図とともに記載されている（下線は審決で付した。以下同じ。）。
　
　ア　「【特許請求の範囲】
【請求項１】
　電極層、バッファー層、および発光層を含んでなる積層体が、各画素毎にパターニングされてなるエレクトロルミネッセント素子を製造する方法であって、
　基材上に、パターニングされた第一電極を形成する工程、
　前記第１電極を覆うように、前記基材上に、バッファー層を形成する工程、
　前記バッファー層上に、各画素に対応するようにパターニングされた隔壁を形成する工程、および
　前記隔壁で囲まれた画素毎に、インクジェット方式により発光層を形成する工程、を含んでなることを特徴とする、方法。
【請求項２】
　バッファー層が親液性材料から形成されてなる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
　前記親液性材料が、熱または電離放射線により硬化し得るものである、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
　前記バッファー層が、前記隔壁を形成するための塗工液、またはパターニングの際に用いる現像液に、不溶である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
　前記親液性材料が、分子内に、水酸基、スルホン酸基、またはカルボン酸基を有する、水またはアルコールに溶解または分散可能な材料と、シランカップリング剤とを含んでなる、請求項２〜４のいずれか一項に記載の方法。
　
　・・・略・・・
　
【請求項７】
　前記親液性材料が、前記シランカップリング剤を１〜２０重量％含んでなる、請求項５または６に記載の方法。
【請求項８】
　分子内に、水酸基、スルホン酸基、またはカルボン酸基を有する、水またはアルコールに溶解または分散可能な前記材料が、ポリ−３，４−アルキレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルホン酸との塩またはそれらの誘導体である、請求項５〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
　前記隔壁の形成を、フォトリソグラフィーによる塗布法によって行う、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
　前記隔壁が、撥液性材料から形成されてなる、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
　前記発光層を形成するためのインク組成物と前記隔壁との静的接触角が、４０°以上である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
　請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法によって得られるエレクトロルミネッセント素子であって、
　
基材と、
　
その基材上に設けられた画素毎にパターニングされてなる第一電極と、
　
その第１電極を覆うように、前記基材上に設けられたバッファー層と、
　
そのバッファー層上に設けられた画素毎にパターニングされてなる隔壁と、
　
その隔壁で囲まれた各画素部分のバッファー層上に設けられた発光層と、
を少なくとも含んでなる
エレクトロルミネッセント素子
【請求項１３】
　
前記バッファー層が親液性材料から形成され
【請求項１４】
　前記親液性材料が、熱または電離放射線により硬化し得るものである、請求項１３に記載のエレクトロルミネッセント素子。
【請求項１５】
　前記バッファー層が、前記隔壁を形成するための塗工液、またはパターニングの際に用いる現像液に、不溶である、請求項１２〜１４のいずれか一項に記載のエレクトロルミネッセント素子。
【請求項１６】
　前記親液性材料が、分子内に、水酸基、スルホン酸基、またはカルボン酸基を有する、水またはアルコールに溶解または分散可能な材料と、シランカップリング剤とを含んでなる、請求項１３〜１５のいずれか一項に記載のエレクトロルミネッセント素子。
　
　・・・略・・・
　
【請求項１８】
　前記親液性材料が、前記シランカップリング剤を１〜２０重量％含んでなる、請求項１６または１７に記載のエレクトロルミネッセント素子。
【請求項１９】
　分子内に、水酸基、スルホン酸基、またはカルボン酸基を有する、水またはアルコールに溶解または分散可能な前記材料が、ポリ−３，４−アルキレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルホン酸との塩またはそれらの誘導体である、請求項１６〜１８のいずれか一項に記載のエレクトロルミネッセント素子。
【請求項２０】
　
前記隔壁が、撥液性材料から形成され
【請求項２１】
　前記発光層を形成するためのインク組成物と前記隔壁との静的接触角が、４０°以上である、請求項１２〜２０のいずれか一項に記載のエレクトロルミネッセント素子。」
　
　イ　「【発明の分野】
【０００１】
　本発明は、エレクトロルミネッセント（以下、ＥＬと略す場合がある）素子の製造方法に関し、より詳細には、プラズマ処理を利用しなくとも、インクジェット法により簡易かつ安価に多層構造のＥＬ素子が得られる製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
　ＥＬ素子は、対向する電極から注入された正孔および電子が発光層内で結合し、そのエネルギーで発光層中の蛍光物質を励起し、蛍光物質に応じた色の発光を行うものであり、自発光の面状表示素子として注目されている。
【０００３】
　その中でも、有機物質を発光材料として用いた有機薄膜ＥＬディスプレイは、印加電圧が１０Ｖ弱であっても高輝度な発光が実現するなど発光効率が高く、単純な素子構造で発光が可能で、特定のパターンを発光表示させる広告その他低価格の簡易表示ディスプレイへの応用が期待されている。
【０００４】
　このような有機ＥＬ素子は、一般的に、有機ＥＬ層を介して第一電極層と第二電極層とが積層された基本構造を有し、通常、第一電極層や有機ＥＬ層にパターニングを施すことにより、異なる発光色を有する素子を形成する。
【０００５】
　有機ＥＬ素子のパターニング方法としては、発光材料をシャドーマスクを介して真空蒸着する方法、有機溶剤に溶解させた発光材料をフォトリソグラフィーやインクジェットを用いて所定部位に塗布したり、スクリーン印刷により塗布する方法、および紫外線照射により特定部分の発光素子を破壊する方法等がある。これらの中でも、インクジェット法は、材料の利用効率が高く、製造コストの点で有利であるため、実用化に向けて種々の検討がなされている。
【０００６】
　インクジェット法をフルカラー有機ＥＬ素子の製造に適用した一例として、例えば、図２に示すように、
パターニングされた第一電極
が設けられた基板
上に、各素子毎を隔てる隔壁
を設け
インクのぬれ広がりを抑制するために、該隔壁の表面に撥液処理
を施とともに、第一電極表面には親液処理
を施す
正孔注入材料
や発光材料
等を含有するインク組成物をインクジェット装置により塗布して、該材料を固化させることにより
ＥＬ素子
【０００７】
　
隔壁表面を撥液性にする方法、および電極表面を親液性にする方法として、
酸素プラズマやフッ素プラズマ等を利用して撥液または親液処理を行う方法
【０００８】
　しかしながら、隔壁および電極表面の
撥液・親液処理にプラズマ処理を適用した場合、表面処理が均一にできなかったり処理が不十分であることもあった。また、プラズマ処理によると、製造工程が複雑となるため、量産化の観点から問題があった
【０００９】
　このような問題に対して、例えば、特開２００３−３３２０８０号公報（特許文献２）には、
撥液性材料を隔壁材料として予め用いることによりプラズマ処理を不要とする方法も提案されている
【００１０】
　しかしながら、
撥液性の隔壁形成材料を用いても、各画素内の表面（電極表面部分）をプラズマ処理により親液性を付与する際に、隔壁表面も親液処理されてしまうという問題があった
　
　ウ　「発明が解決しようとする課題】
【００１１】
　本発明者らは、今般、
不溶化できるバッファー層形成材料を用いて、該バッファー層形成材料を第一電極上に設けた後に撥液性の隔壁を設けることにより、プラズマ処理を利用しなくとも、簡易かつ安価に多層構造の有機ＥＬ素子を製造できる、との知見を得た
【００１２】
　したがって、本発明の目的は、
プラズマ処理を利用しなくとも、簡易かつ安価に多層構造の有機ＥＬ素子を製造できる方法を提供すること
【００１３】
　また、本発明の他の目的は、上記の方法で得られた有機ＥＬ素子を提供することにある。」
　
　エ　「【００１８】
　ＥＬ素子の製造方法
　本発明によるＥＬ素子の製造方法は、基本的には以下の四つの工程からなるものであるが、後述するようにＥＬ素子を構成する他の機能層を形成するための工程を含んでいてもよいことは言うまでもない。
【００１９】
　（１）第一工程
　図１（ａ）は、本発明のＥＬ素子の製造方法の第一工程を示すものである。まず、基材１上に第一電極２を形成する。
【００２０】
　基板は、ＥＬ素子の支持体になるものであり、例えばフレキシブルな材質であっても、硬質な材質であってもよい。本発明で使用するＥＬ素子の基板としては、従来のＥＬ素子に使用されているガラスやプラスチックシートなどの基板であれば用いることができ、特に限定されない。ボトムエミッション型のＥＬ素子とする場合は、基材として透明材料を用いる必要がある。透明材料としては、光透過性や熱的安定性等の観点から、ガラス基板、透明樹脂基板等を用いることができる。透明樹脂としては、フィルム状に成形が可能であれば特に限定されるものではないが、透明性が高く、耐溶媒性、耐熱性の比較的高い高分子材料が好ましい。具体的には、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリフッ化ビニル（ＰＦＶ）、ポリアクリレート（ＰＡ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、非晶質ポリオレフィン、またはフッ素系樹脂等が挙げられる。基材の厚みは通常約０．１〜２．０ｍｍである。
【００２１】
　この基材上に第一電極を形成する。この際、ＥＬ素子の各画素を形成するように、第一電極をパターニングする。電極の形成方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等が挙げられ、いずれの方法によって形成してもよい。また、電極のパターニング方法としては、フォトリソグラフィー法が好適に使用できるが、かかる方法に限定されるものではなく、通常使用されるパターニング方法を用いてもよい。
【００２２】
　第一電極としては、陽極または陰極のいずれであってもよい。電極は、導電性材料から形成され、抵抗ができるだけ小さいものが好ましく、一般的には金属材料が用いられるが、有機化合物または無機化合物であってもよい。また、複数の材料を混合して形成してもよい。
【００２３】
　陽極は、正孔が注入しやすいように仕事関数の大きい導電性材料から形成することが好ましい。好ましい陽極材料としては、例えば、酸化インジウムや金などが挙げられる。
【００２４】
　陰極は、電子が注入しやすいように仕事関数の小さい導電性材料から形成することが好ましい。好ましい陰極材料としては、例えば、マグネシウム合金(Mg−Agなど)、アルミニウム合金(Al−Li、Al−Ca、Al−Mgなど)、金属カルシウムおよび仕事関数の小さな金属が挙げられる。これらの電極層の厚みは、それぞれ通常約２０〜１０００Åである。
【００２５】
　また、ＥＬ層で発光した光の取り出し方向の電極には透明性が要求され、第一電極側を光の取り出し方向とする場合は、透明または半透明な材料で形成する必要がある。このような透明電極としては、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）、酸化錫、酸化亜鉛等が挙げられる。ＩＴＯ電極はその透明性を向上させ、あるいは抵抗率を低下させる目的で、スパッタ、エレクトロンビーム蒸着、イオンプレーティング等の方法により、基材上に形成できる。
【００２６】
　（２）第二工程
　図１（ｂ）は、本発明のＥＬ素子の製造方法の第二工程を示すものである。上記のようにして第一電極２を形成した後、第１電極２を覆うように、基材１上にバッファー層３を形成する。ここで、本明細書中、「
バッファー層
発光層に電荷の注入が容易に行われるように、陽極と発光層との間に、または陰極と発光層との間に設けられ、有機物、特に有機導電体などを含む層
【００２７】
　バッファー層の厚みは、通常約１００〜２０００Åである。
【００２８】
　バッファー層は、その導電性が高い場合、素子のダイオード特性を保ち、クロストークを防ぐために、パターニングされていることが望ましい。なお、バッファー層の抵抗が高い場合などはパターニングされていなくてもよい場合がある。また、ＥＬ素子によってはバッファー層を設けなくてもよい場合があるが、本発明による方法においては、このバッファー層を必須の構成とするものである。
【００２９】
　バッファー層を形成する材料としては、具体的には、ポリアルキルチオフェン誘導体、ポリアニリン誘導体、トリフェニルアミンなどの正孔輸送性物質の重合体、無機化合物のゾルゲル膜、トリフルオロメタンなどの有機物の重合膜、ルイス酸を含む有機化合物膜などが挙げられる。
【００３０】
　バッファー層を形成する方法としては通常の発光層などの形成と同様にインクジェット法によって形成してもよく、また、蒸着法、電着法、材料の溶融液、溶液または混合液を使用するスピンコーティング法、キャスティング法、ディッピング法、バーコート法、ブレードコーティング法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スプレーコート法等によって形成してもよい。
【００３１】
　本発明においては、このバッファー層は親液性材料から形成されることが好ましい。ここで、「
親液性
とは、
発光層形成材料の塗布液、溶剤等に対して親和性があることをいい
【００３２】
　このように、バッファー層自体が親液性材料から形成されることにより、従来のようにプラズマ処理によってバッファー層の表面を親液化する必要がなくなる。
【００３３】
　このような親液性材料としては、熱または放射線エネルギーにより硬化する材料を少なくとも含むことが好ましく、硬化する材料として具体的には、ゾルゲル反応液、光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂を挙げることができる。なお、ゾルゲル反応液とは、硬化後にゲル化する反応液をいう。
【００３４】
　上記のように硬化し得る材料を用いて形成されたバッファー層３は、後述する隔壁４を形成するための塗工液または、隔壁をパターニングする際に用いる現像液に不溶であることが好ましい。ここで、「不溶」とは、実質的にバッファー層が、塗工液や現像液に溶解、混和しない程度に硬化されている状態をいい、硬化後のバッファー層をこれら塗工液や現像液に１分間接触させた場合に、溶解度が、２５℃、１気圧で０．００１（ｇ／ｇ溶媒）以下であることを指標にできる。
【００３５】
　本発明においては、隔壁を形成する際に、既に形成したバッファー層が溶解してしまうことがなく、またバッファー層自体が親液性であるため、プラズマ処理を行わなくとも発光層を高精度にパターニングし得るという利点を有する。そのため、画素間隔の小さい高精細かつ高精度のフルカラーＥＬ素子を作製した場合であっても、発光効率が低下することがない。」
　
　オ　「【００４２】
　（３）第三工程
　図１（ｃ）は、本発明のＥＬ素子の製造方法の第三工程を示すものである。バッファー層３を形成した後、その上に、各画素に対応するようにパターニングされた隔壁４を形成する。隔壁は、インクジェットにより発光層形成用のインク組成物を吐出した際、当該インク組成物を画素内に留まらせる機能を有するとともに、素子の非発光部分を覆い発光に不要な部分での短絡を防ぐという機能も有するものである。
【００４３】
　
隔壁は、例えば、紫外線硬化性樹脂等からなる塗工液を、バッファー層上に塗布し、所望の画素を形成できるようにマスキングを行い、フォトリソグラフィー法を用いて所望パターンに形成する
フォトレジスト層
【００４４】
　本発明においてインクジェットにより発光層をパターニングする際、インク組成物を隔壁で囲まれた画素内に保持させることが必要であるため、隔壁の膜厚（高さ）は１μｍ以上、例えば、１．５〜１０μｍ程度になるように形成することが好ましい。また、発光層を形成する際にインク組成物が決壊しないようにするためには、膜厚は２〜５μｍであることがより好ましい。
【００４５】
　また、本発明においては、インク組成物の決壊を抑制するために、隔壁は、撥液性材料から形成されることが好ましい。ここで、「
撥液性
とは、隔壁が、後記する発光層形成材料の塗布液、溶剤等に対して親和性がないことをいい
【００４６】
　このように
撥液性材料とするには、隔壁形成材料にフッ素系樹脂を含有させ
【００４７】
　（４）第四工程
　図１（ｄ）は、本発明のＥＬ素子の製造方法の第四工程を示すものである。隔壁４をバッファー層３上に形成した後、その隔壁で囲まれた画素毎に、インクジェット法により発光層５を形成することにより、所望パターンの発光層を形成することができる。
【００４８】
　ここで、インクジェット法とは、発光層形成材料を溶剤に溶解または分散させたインク組成物を、インクジェットプリント装置の記録ヘッドから吐出して、一画素毎に発光層を形成する方法である。このインクジェット法によれば、微細なパターニングを簡便にかつ短時間に行うことができる。
【００４９】
　
発光層は、主として蛍光またはりん光を発光する有機物
と、これを補助するドーパントとから構成される
【００５０】
　色素系材料としては、例えば、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体化合物、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、ピロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマーなどが挙げられる。
【００５１】
　金属錯体系材料としては、例えば、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾリル亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体など、中心金属に、Ａｌ、Ｚｎ、ＢｅなどまたはＴｂ、Ｅｕ、Ｄｙなどの希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造などを有する金属錯体などを挙げることができる。
【００５２】
　高分子系材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、上記色素体や金属錯体系発光材料を高分子化したものなどが挙げられる。
【００５３】
　上記発光性材料のうち、青色に発光する材料としては、ジスチリルアリーレン誘導体、オキサジアゾール誘導体、およびそれらの重合体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体やポリフルオレン誘導体などが好ましい。
【００５４】
　また、緑色に発光する材料としては、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体、およびそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが好ましい。
【００５５】
　また、赤色に発光する材料としては、クマリン誘導体、チオフェン環化合物、およびそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることが出来る。なかでも高分子材料のポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが好ましい。
【００５６】
　また、本発明においては、発光層中に発光効率の向上や発光波長を変化させるなどの目的で、ドーパントを添加することができる。このようなドーパントとしては、例えば、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾロン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾンなどを挙げることができる。
【００５７】
　以上の如き
有機発光層の厚み
通常約２０〜２０００Åである
【００５８】
　上記の発光材料およびドーパント材料を溶解または分散させる溶剤としては、特に限定されるものではなく、ベンゼン、トルエン、キシレンの各異性体およびそれらの混合物、メシチレン、テトラリン、ｐ−シメン、クメン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、ブチルベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンの各異性体およびそれらの混合物等をはじめとする芳香族系溶媒、アニソール、フェネトール、ブチルフェニルエーテル、テトラヒドロフラン、２−ブタノン、１，４−ジオキサン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジフェニルエーテル、ジベンジルエーテル、ジグライム等をはじめとするエーテル系溶媒、ジクロロメタン、１，１−ジクロロエタン、１，２−ジクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１−クロロナフタレン等のクロル系溶媒、シクロヘキサノン等を好適に使用でき、またこれら２種以上の混合溶媒であっても良い。
【００５９】
　また、インクジェット法により発光層を形成する場合、発光層形成用のインク組成物は、吐出安定性等の観点からインクの表面張力、粘度等を適宜調製されてよいが、本発明においては、当該インク組成物と隔壁との静的接触角が４０°以上となることが好ましい。インク組成物を吐出した際、この程度の撥液性を有する隔壁にしておくことで、隔壁の外へインクが濡れ広がるのを抑制することができる。」
　
　カ　上記アないしオからみて、引用例１には、
「従来、パターニングされた第一電極が設けられた基板上に、各素子毎を隔てる隔壁を設け、インクのぬれ広がりを抑制するために、該隔壁の表面に撥液処理を施すとともに、第一電極表面には親液処理を施し、正孔注入材料や発光材料等を含有するインク組成物をインクジェット装置により塗布して、該材料を固化させた有機エレクトロルミネッセンス素子において、隔壁表面を撥液性にする方法、および電極表面を親液性にする方法として、酸素プラズマやフッ素プラズマ等を利用して撥液または親液処理を行う方法を適用した場合、表面処理が均一にできなかったり処理が不十分であり、また、プラズマ処理によると、製造工程が複雑となるため、量産化の観点から問題があったため、撥液性材料を隔壁材料として予め用いることによりプラズマ処理を不要とする方法も提案されているが、撥液性の隔壁形成材料を用いても、各画素内の表面（電極表面部分）をプラズマ処理により親液性を付与する際に、隔壁表面も親液処理されてしまうという問題があったため、
　基材と、その基材上に設けられた画素毎にパターニングされてなる第１電極と、その第１電極を覆うように、前記基材上に設けられたバッファー層と、そのバッファー層上に設けられた画素毎にパターニングされてなる隔壁と、その隔壁で囲まれた各画素部分のバッファー層上に設けられた発光層と、を少なくとも含むことにより、プラズマ処理を利用しなくとも、簡易かつ安価に製造できるようにした有機エレクトロルミネッセント素子であって、
　バッファー層は、発光層形成材料の塗布液、溶剤等に対して親和性がある親液性材料から形成され、発光層に電荷の注入が容易に行われるように、陽極と発光層との間に、または陰極と発光層との間に設けられ、有機物、特に有機導電体などを含む層であり、
　隔壁は、隔壁形成材料にフッ素系樹脂を含有させた、発光層形成材料の塗布液、溶剤等に対して親和性がない撥液性材料から形成され、例えば、紫外線硬化性樹脂等からなる塗工液を、バッファー層上に塗布し、所望の画素を形成できるようにマスキングを行い、フォトリソグラフィー法を用いて所望パターンに形成したフォトレジスト層であり、
　発光層は、主として蛍光またはりん光を発光する有機物と、これを補助するドーパントとから構成され、厚みが通常約２０〜２０００Åである、
　有機エレクトロルミネッセント素子。」の発明（以下「引用発明１」という。）が記載されているものと認められる。
　
（２）原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である特開２００２−１３９６１４号公報（以下「引用例２」という。）には、次の事項が図とともに記載されている。
　
　ア　「【特許請求の範囲】
【請求項１】　支持基板上に複数の画素と、隣接する画素間に位置する隔壁とを少なくとも有する光学素子の製造方法であって、ベースフィルム上に、撥インク性を有する樹脂組成物からなる第１層と、親インク性を有する樹脂組成物からなる第２層と、を積層してなる転写フィルムを、上記支持基板に、上記第２層を支持基板側に向けて密着させる工程と、上記転写フィルムをパターン露光する工程と、上記転写フィルムのベースフィルムを第１層の未露光部と共に剥離する工程と、上記第１層をマスクとして第２層をパターニングし、隔壁を形成する工程と、インクジェット方式により隔壁に囲まれた領域にインクを付与して画素を形成する工程とを少なくとも有することを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項２】　上記第１層が、シリコン系化合物或いはフッ素系化合物の少なくとも一方を含有する請求項１に記載の光学素子の製造方法。
【請求項３】　上記第１層が、光照射によりベースフィルムとの接着性が低下する感光性樹脂組成物からなる請求項１または２に記載の光学素子の製造方法。
【請求項４】　上記第２層が遮光剤を含有する請求項１〜３のいずれかに記載の光学素子の製造方法。
【請求項５】　上記インクが少なくとも硬化成分、水、有機溶剤を含有する請求項１〜４のいずれかに記載の光学素子の製造方法。
【請求項６】　上記支持基板が透明基板であり、上記インクが着色剤を含有し、上記画素が着色部であるカラーフィルタを製造する請求項１〜５のいずれかに記載の光学素子の製造方法。
【請求項７】　上記インクが蛍光性材料を含有し、画素が発光層であり、該発光層を挟んで上下に電極を有するエレクトロルミネッセンス素子を製造する請求項１〜５のいずれかに記載の光学素子の製造方法。
【請求項８】　支持基板上に複数の画素と、隣接する画素間に位置する隔壁とを少なくとも有する光学素子を、支持基板上に隔壁を形成した後、インクジェット方式により隔壁で囲まれた領域にインクを付与して画素を形成する製造方法において、上記隔壁の形成工程に用いる転写フィルムであって、ベースフィルム上に、撥インク性を有し、剥離現像可能な樹脂組成物からなる第１層と、親インク性を有する樹脂組成物からなる第２層と、を積層してなることを特徴とする転写フィルム。
【請求項９】　上記第１層が、シリコン系化合物或いはフッ素系化合物の少なくとも一方を含有する請求項８に記載の転写フィルム。
【請求項１０】　上記第１層が、光照射によりベースフィルムとの接着性が低下する感光性樹脂組成物からなる請求項８または９に記載の転写フィルム。
【請求項１１】　上記第２層が遮光剤を含有する請求項８〜１０のいずれかに記載の転写フィルム。
【請求項１２】　
支持基板上に複数の画素と、隣接する画素間に位置する隔壁とを少なくとも有し
【請求項１３】　上記隔壁が遮光層である請求項１２に記載の光学素子。
【請求項１４】　上記支持基板が透明基板であり、上記画素が着色剤を含有するインクで形成された着色部であり、複数色の着色部を備えたカラーフィルタである請求項１２または１３に記載の光学素子。
【請求項１５】　上記着色部上に保護層を有する請求項１４に記載の光学素子。
【請求項１６】　表面に透明導電膜を有する請求項１４または１５に記載の光学素子。
【請求項１７】　
上記画素が蛍光性材料からなる発光層であり、該発光層を挟んで上下に電極を有するエレクトロルミネッセンス素子
【請求項１８】　一対の基板間に液晶を挟持してなり、一方の基板が請求項１４〜１６のいずれかに記載の光学素子を用いて構成されたことを特徴とする液晶素子。」
　
　イ　「【００１１】
【発明が解決しようとする課題】上記したように、インクジェット方式は製造プロセスの簡略化及びコスト削減を図ることができることから、カラーフィルタやＥＬ素子といった光学素子の製造へ応用されている。しかしながら、このような光学素子の製造において、インクジェット方式特有の問題として、「混色」及び「白抜け」と言った問題がある。以下、カラーフィルタを製造する場合を例に挙げて説明する。
【００１２】「混色」は、隣接する異なる色の画素（着色部）間においてインクが混ざり合うことにより発生する障害である。ブラックマトリクスを隔壁として、該ブラックマトリクスの開口部にインクを付与して着色部を形成するカラーフィルタの製造方法においては、ブラックマトリクスの開口部の容積に対して、数倍〜数十倍の体積を有するインクを付与する必要がある。インク中に含まれる着色剤や硬化成分等の固形分濃度が高い場合、即ち付与するインクの体積が比較的少ない場合においては、ブラックマトリクスが十分に隔壁として機能し、該ブラックマトリクスの開口部内にインクを保持することができるため、付与されたインクがブラックマトリクスを乗り越えて、隣接する異なる色の着色部にまで到達することはない。しかしながら、インク中の固形分濃度が低い場合、即ち多量のインクを付与する必要がある場合には、隔壁となるブラックマトリクスを超えてインクが溢れてしまうため、隣接する着色部間で混色が発生してしまう。特に、インクジェットヘッドのノズルより安定して吐出可能なインクの粘度には限界があり、インク中に含有される固形分の濃度にも限界があるため、混色を回避するための技術が必要である。
【００１３】そこで、着色部と隔壁との間におけるインクの濡れ性の差を利用して混色を防止する方法が提案されている。例えば、特開昭５９−７５２０５号においては、インクが目的領域外へ広がることを防止するため、濡れ性の悪い物質で拡散防止パターンを形成する方法が提案されているが、具体的な技術は開示されていない。一方、特開平４−１２３００５号においては、具体的な手法として、撥水、撥油作用の大きなシリコーンゴム層をパターニングして混色防止用の仕切壁とする方法が提案されている。さらに、特開平５−２４１０１１号や特開平５−２４１０１２号においても同様に、遮光層となるブラックマトリクス上にシリコーンゴム層を形成し、混色防止用の隔壁として用いる手法が開示されている。
【００１４】これらの方法によれば、隔壁の高さをはるかに超える量のインクを付与した場合においても、隔壁の表面層が撥インク性を示すためにインクがはじかれ、隔壁を超えて隣接する着色部にまで及ぶことがなく、有効に混色を防止することができる。
【００１５】図３にその概念図を示す。図中、３１は透明基板、３３は
隔壁を兼ねたブラックマトリクス
【００１６】また、フッ素化合物を用いて撥インク性を得る方法も提案されている。例えば、特開２０００−３５５１１号において、遮光部上にポジ型のレジストパターンを形成し、さらに該パターン上に撥インク化処理剤を塗布する方法が開示されており、撥インク化処理剤としては、フッ素化合物を用いることが開示されている。しかしながら、この方法の場合、遮光部上に設けられたポジ型レジストパターンを着色部形成後に除去する必要があるが、レジストパターンを除去する際に画素の溶解、剥離、膨潤といった問題を生じる場合がある。
【００１７】さらに、上述した手法はいずれも塗布−露光−現像のフォトリソグラフィ工程を複数回実施する必要があることから、プロセスの複雑化、コストアップ、ひいては歩留まり低下を招くという問題がある。
【００１８】一方、「白抜け」は、主に付与されたインクが隔壁によって囲まれた領域内に十分且つ均一に拡散することができないことに起因して発生する障害であり、色ムラやコントラストの低下といった表示不良の原因となる。
【００１９】図４に、白抜けの概念図を示す。図中、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ｂ断面図であり、図３と同じ部材には同じ符号を付した。また、３８は白抜け部分である。
【００２０】近年、ＴＦＴ型液晶素子用のカラーフィルタにおいては、ＴＦＴを外光から保護する目的で、或いは、開口率を大きくして明るい表示を得る目的で、ブラックマトリクス３３の開口部形状が複雑になっており、複数のコーナー部を有するものが一般的に使用されているため、図４（ａ）に示すように、該コーナー部に対してインク３６が十分に拡散しないという問題が発生する。また、
ブラックマトリクス
を形成する際には、一般的にレジストを用いたフォトリソグラフィ工程が使用されており、レジストに含まれる種々の成分により透明基板
の表面に汚染物が付着して、インク
の拡散の妨げとなる場合がある
透明基板
の表面に比べて、ブラックマトリクス
の側面の撥インク性が極端に高い場合、
ブラックマトリクス３３の側面でインク３６がはじかれてしまうため、インク
とブラックマトリクス
が接する部分で色が薄くなるという問題
【００２１】このような混色や白抜けの問題を解決する手法として、特開平９−２０３８０３号においては、ブラックマトリクス（凸部）に囲まれた領域（凹部）が、水に対して２０°以下の接触角となるよう親インク化処理された基板を用いることが提案されている。親インク性を付与する方法としては、水溶性のレベリング剤や水溶性の界面活性剤が例示されている。さらに、上述した混色に対する問題を同時に解決するために、凸部の表面を予め撥インク化処理剤で処理して撥インク性を付与する手法が開示されており、撥インク化処理剤としてフッ素含有シランカップリング剤を用い、フッ素系の溶剤でコートする方法が例示されている。また、この際、凸部の表面層のみを選択的に撥インク化し、凸部の側面を撥インク化しないための手法として、凸部以外の部分をレジストで覆って、凸部の上面のみを撥インク化処理する、透明基板上にレジスト層を形成し、全面を撥インク化処理した後、フォトリソ工程によりレジスト層をパターニングして凸部を形成する、等の方法が例示されている。
【００２２】また、特開平９−２３０１２９号においては、同様に、凹部を親インク化処理する方法として、エネルギー線を照射する方法が開示されている。この場合にも、凸部の表面層のみを撥インク化処理する方法として、ガラス基板上に凸部形成用の感光性材料を塗布し、全面を撥インク化処理剤にて処理した後、フォトリソグラフィ工程により感光性材料をパターニングする手法が例示されている。その後、エネルギー線の照射により凸部と凹部を同時に、もしくはどちらかを選択的に親インク化処理するものである。
【００２３】しかしながら、これらの方法はいずれも凸部の表面を撥インク化処理した後に凹部を親インク化処理するものであることから、親インク化処理を行う際に撥インク化処理された凸部の表面の撥インク性を低下させてしまうという問題がある。そのため、透明基板表面及びブラックマトリクスの側面においては十分な親インク性を、ブラックマトリクスの上面においては十分な撥インク性をそれぞれ得ることは困難である。さらには、複数回のフォトリグラフィ工程を行うため、プロセスが複雑となり、歩留りが低下してしまうという問題がある。
【００２４】上記問題は、インクジェット方式によりＥＬ素子を製造する場合にも同様に生じる。即ち、ＥＬ素子において、
例えばＲ、Ｇ、Ｂの各色を発光する有機ＥＬ材料をインクとして用い、隔壁で囲まれた領域に該インクを付与して画素（発光層）を形成する際に、
隔壁で囲まれた領域内に十分にインクが拡散しなかった場合には、発光層と隔壁との境界部分で十分な発光輝度が得られない
発光層と隔壁の境界部でのインクの反発による発光輝度ムラの発生
「白抜け」
【００２５】本発明の課題は、カラーフィルタやＥＬ素子といった光学素子を、インクジェット方式を利用して簡易なプロセスで安価に製造するに際して、上記問題を解決し、信頼性の高い光学素子を歩留まり良く提供することにある。具体的には、
隔壁で囲まれた領域内にインクを付与する際に、
該領域内でインクを十分に拡散させて白抜けのない画素を形成する
　
　ウ　「【００３３】
【発明の実施の形態】本発明の光学素子の製造方法は、予め撥インク性と親インク性とを有する異なる２種類の層が形成された転写フィルムを用い、親インク性を有する層が支持基板と接するよう密着させ、剥離現像により撥インク性の層をパターニングした後、該撥インク性のパターンをマスクとして親インク性の層をパターニングすることで、
上層部が撥インク性を有し、下層部が親インク性を有する隔壁を形成した後に、該隔壁で囲まれた領域にインクジェット方式によりインクを付与して画素を形成する
インクを付与する際に、
隔壁側面は下層が親インク性であるためすみやかにインクが隔壁内に濡れ広がって白抜けが防止
　
　エ　「【００４０】また、図７に、本発明の光学素子の他の実施形態である、有機ＥＬ素子の一例の断面模式図を示す。図中、
７１は支持基板である駆動基板、７２は親インク性を有する第２層７２ａと撥インク性を有する第１層７２ｂからなる隔壁、７３は画素である発光層、７４は透明電極、７６は金属層である
　
　オ　「【００７０】〔第２層〕
第２層
は、親インク性を有する樹脂組成物にて形成され、具体的には、水酸基、アルコキシ基、カルボキシル基等の極性置換基を含有する基材樹脂、水に対する溶解性の高い極性溶剤等を選択して調製され、
インク
に対する接触角が３０°以下のものを用いることが好ましい。具体的には、アクリル酸、メタクリル酸等のアルキルアクリレート、メチルアクリレート、メチルメタクリレート等のアルキルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート等の環状のアクリレートまたはメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート等のヒドロキシアルキルアクリレートまたはメタクリレート、Ｎ−アルキロールアクリルアミド等のモノマーを単独或いは複数共重合したものを用いることができる
　
　カ　上記アないしオからみて、引用例２には、
「支持基板上に複数の画素と、隣接する画素間に位置する隔壁とを少なくとも有し、上記画素が蛍光性材料からなる発光層であり、該発光層を挟んで上下に電極を有するエレクトロルミネッセンス素子において、
　従来、隔壁を兼ねたブラックマトリクスを形成する際には、一般的にレジストを用いたフォトリソグラフィ工程が使用されており、レジストに含まれる種々の成分により透明基板の表面に汚染物が付着して、インクの拡散の妨げとなる場合があり、透明基板の表面に比べて、ブラックマトリクスの側面の撥インク性が極端に高い場合、ブラックマトリクスの側面でインクがはじかれてしまうため、インクとブラックマトリクスが接する部分で色が薄くなるという問題や、例えばＲ、Ｇ、Ｂの各色を発光する有機ＥＬ材料をインクとして用い、隔壁で囲まれた領域に該インクを付与して画素（発光層）を形成する際に、隔壁で囲まれた領域内に十分にインクが拡散しなかった場合には、発光層と隔壁との境界部分で十分な発光輝度が得られない、すなわち、発光層と隔壁の境界部でのインクの反発による発光輝度ムラの発生である「白抜け」という問題が生じていたため、これらの問題を解決するために、隔壁で囲まれた領域内にインクを付与する際に、該領域内でインクを十分に拡散させて白抜けのない画素を形成することを目的として、
　上層部が撥インク性を有し、下層部が親インク性を有する隔壁を形成した後に、該隔壁で囲まれた領域にインクジェット方式によりインクを付与して画素を形成したことにより、インクを付与する際に、隔壁側面の下層が親インク性であるためすみやかにインクが隔壁内に濡れ広がって白抜けを防止するようにした、エレクトロルミネッセンス素子であって、
　例えば、支持基板である駆動基板７１、親インク性を有する第２層７２ａと撥インク性を有する第１層７２ｂからなる隔壁７２、画素である発光層７３、透明電極７４、金属層７６からなり、第２層は、親インク性を有する樹脂組成物にて形成され、具体的には、水酸基、アルコキシ基、カルボキシル基等の極性置換基を含有する基材樹脂、水に対する溶解性の高い極性溶剤等を選択して調製され、インクに対する接触角が３０°以下のものを用いることが好ましく、具体的には、アクリル酸、メタクリル酸等のアルキルアクリレート、メチルアクリレート、メチルメタクリレート等のアルキルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート等の環状のアクリレートまたはメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート等のヒドロキシアルキルアクリレートまたはメタクリレート、Ｎ−アルキロールアクリルアミド等のモノマーを単独或いは複数共重合したものを用いる、エレクトロルミネッセンス素子。」の発明（以下「引用発明２」という。）が記載されているものと認められる。
　
４　対比
　本願発明と引用発明１とを対比する。
（１）引用発明１の「基材」、「隔壁」、「画素部分」及び「有機エレクトロルミネッセント素子」は、それぞれ、本願発明の「基板」、「バンク」、「領域」及び「有機電界発光素子」に相当する。
　
（２）引用発明１の「バッファー層」は、親液性材料から形成され、発光層に電荷の注入が容易に行われるように、陽極と発光層との間に、または陰極と発光層との間に設けられ、有機物、特に有機導電体などを含む層であるから、本願発明の「有機層」に相当する。
　
（３）引用発明１の「発光層」は、主として蛍光またはりん光を発光する有機物と、これを補助するドーパントとから構成され、厚みが通常約２０〜２０００Åであるから、本願発明の「有機薄膜」に相当する。
　
（４）引用発明１の「有機電界発光素子（有機エレクトロルミネッセント素子）」は、「基板（基材）」上に設けられた「有機層（バッファー層）」と、その「有機層」上に設けられた画素毎にパターニングされてなる「バンク（隔壁）」と、その「バンク」で囲まれた各「領域（画素部分）」の「有機層」上に設けられた「有機薄膜（発光層）」とを含むから、本願発明の「有機電界発光素子」と「基板上にバンクおよび該バンクによって区画された領域を有し、該バンクによって区画された領域内に有機薄膜を有する」点、「該基板上に、直接または他の層を介して形成された少なくとも１層の有機層を有」する点、及び、「バンクおよび該バンクによって区画された領域は有機層上にある」点で一致する。
　
（５）上記（１）ないし（４）から、本願発明と引用発明１とは、
「基板上にバンクおよび該バンクによって区画された領域を有し、該バンクによって区画された領域内に有機薄膜を有する有機電界発光素子であって、
　該基板上に、直接または他の層を介して形成された少なくとも１層の有機層を有し、
　該バンクおよび該バンクによって区画された領域は該有機層上にある、
　有機電界発光素子。」である点で一致し、次の点で相違する。
　
　相違点：
　前記「バンク」が、
　本願発明では、最下層に下引き層を有し、該下引き層と該下引き層上のレジスト層からなる積層体であり、該下引き層は親水性化合物を含有する層であり、該親水性化合物は有機化合物であり、該レジスト層は撥インク性成分を含有する層であるのに対して、
　引用発明１では、隔壁形成材料にフッ素系樹脂を含有させた撥液性材料から形成されたフォトレジスト層のみからなる点。
　
　
５　判断
（１）上記相違点について検討する。
　ア　引用発明１は、バンクが隔壁形成材料にフッ素系樹脂を含有させた撥液性材料から形成されたフォトレジスト層のみからなるものであるから、引用発明２の従来の課題のように、レジストに含まれる種々の成分により透明基板の表面に汚染物が付着して、インクの拡散の妨げとなる場合があり、透明基板の表面に比べて、隔壁の側面の撥インク性が極端に高い場合、隔壁の側面でインクがはじかれてしまうため、インクと隔壁が接する部分で色が薄くなることや、例えばＲ、Ｇ、Ｂの各色を発光する有機ＥＬ材料をインクとして用い、隔壁で囲まれた領域に該インクを付与して画素（発光層）を形成する際に、隔壁で囲まれた領域内に十分にインクが拡散しなかった場合には、発光層と隔壁との境界部分で十分な発光輝度が得られない、すなわち、発光層と隔壁の境界部でのインクの反発による発光輝度ムラの発生である「白抜け」が生じ得ることは、当業者が引用発明１において当然考慮すべき自明な課題である。
　
　イ　引用発明２は、支持基板上に複数の画素と、隣接する画素間に位置する隔壁とを少なくとも有し、上記画素が蛍光性材料からなる発光層であり、該発光層を挟んで上下に電極を有するエレクトロルミネッセンス素子において、上層部が撥インク性を有し、下層部が親インク性を有する隔壁を形成した後に、該隔壁で囲まれた領域にインクジェット方式によりインクを付与して画素を形成したことにより、インクを付与する際に、隔壁側面の下層が親インク性であるためすみやかにインクが隔壁内に濡れ広がって白抜けを防止するようにしたものであり、前記下層が親インク性を有する樹脂組成物にて形成され、具体的には、
水酸基
カルボキシル基
水に対する溶解性の高い極性溶剤
アクリル酸、メタクリル酸等のアルキルアクリレート
ヒドロキシアルキルアクリレート
Ｎ−アルキロールアクリルアミド
　
　ウ　本願明細書には、「親水性化合物含有組成物」に関して、以下の記載がある。
　「【００２８】
＜親水性化合物含有組成物＞
　下引き層の形成に好適に用いられる親水性化合物含有組成物は、親水性化合物を含有し、通常、さらに溶剤を含有する。
　【００２９】
　本発明において、親水性化合物とは、水に溶解または膨潤する化合物である。具体的には、分子内に、カルボキシ基、水酸基、スルホン酸（塩）基、ホスホン酸（塩）基、アミノ基、アミド基、４級アンモニウム塩基などの官能基を有する化合物であることが好ましい。特に、親水性化合物は、有機化合物であることが好ましい。
　親水性化合物は、上記条件を満たし、膜を形成し得るものであれば特に限定されないが、膜形成やその後のバンク形成用レジスト層を形成するための感光性組成物に対する耐性を確保するためには、この親水性化合物は親水性樹脂であることが好ましい。ここで、親水性樹脂とは、上記官能基を有する樹脂であり、通常は、上記官能基を含有する単位（モノマーやポリマー）を重合や縮合して得られる樹脂をいう。また、通常ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）で測定した重量平均分子量（Ｍｗ）が１０００〜２，０００，０００程度の高分子材料をいう。
　【００３０】
　親水性化合物として用い得る親水性樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリサッカライド、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール、ゼラチン、膠、カゼイン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチル澱粉、サクローズオクタアセテート、アルギン酸アンモニウム、アルギン酸ナトリウム、ポリビニルアミン、ポリアリルアミン、ポリスチレンスルホン酸、ポリアクリル酸、水溶性ポリアミド、無水マレイン酸共重合体、アラビアゴム、水溶性大豆多糖類、ホワイトデキストリン、プルラン、カードラン、キトサン、アルギン酸、酵素分解エーテル化デキストリン等の他、親水性モノマーを用いて（共）重合された（共）重合体などが挙げられる。
　【００３１】
　親水性モノマーとしては、
（メタ）アクリル酸
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート
Ｎ−モノメチロール（メタ）アクリルアミド
Ｎ−ジメチロール（メタ）アクリルアミド
カルボキシ基
水酸基
親水性基を有するモノマー
　【００３２】
　また、親水性樹脂以外の親水性化合物としては、上記親水性モノマーとして例示したものが挙げられ、これらが親水性化合物含有組成物中にモノマーのまま含有されることも好ましい。」
　
　エ　上記イ及びウからみて、引用発明２の「親インク性」として例示されている成分は、本願明細書で「親水性化合物」として例示されている成分と重複するものであるから、引用発明２の「親インク性」と本願発明の「親水性」は同義であるということができる。
　
　オ　引用発明１は、上記アで検討したように、発光層と隔壁の境界部でのインクの反発による発光輝度ムラの発生である「白抜け」が生じ得るという自明の課題があり、引用発明２においては、「白抜け」を防止したいとの課題のもと、上記イで摘記した構成を採用しているものである。
　したがって、引用発明１における当該課題を解決するために、引用発明１のバンクに引用発明２の構成を採用すること、いいかえれば、引用発明１のバンクを、最下層に下引き層を有し、該下引き層と該下引き層上のレジスト層からなる積層体となし、該下引き層は親水性化合物を含有する層であり、該親水性化合物は有機化合物であり、該レジスト層は撥インク性成分を含有する層となすこと、すなわち、上記相違点に係る本願発明の構成となすことは、上記イ〜エからみて、当業者が引用発明２に基づいて容易になし得た程度のことである。
　
（２）本願発明の奏する効果は、引用発明１の奏する効果及び引用発明２の奏する効果から当業者が予測することができた程度のことである。
　
（３）したがって、本願発明は、当業者が引用例１に記載された発明及び引用例２に記載された発明に基づいて容易に発明をすることができたものである。
　
６　むすび
　本願発明は、以上のとおり、当業者が引用例１に記載された発明及び引用例２に記載された発明に基づいて容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。