【事件の表示】
　特許第３３８４６６６号「基板処理装置」の請求項１ないし８に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３３８４６６６号の請求項１ないし８に係る特許を取り消す。
【理　由】
【１】手続の経緯
　特許第３３８４６６６号に係る発明についての出願は、平成７年１２月４日に出願され、平成１４年１２月２７日にその発明について特許権の設定登録がなされ、その後、その特許について、異議申立人山本　聡子、同じく、林　千珠子により特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１７年１月１８日に訂正請求がなされたものである。
　
【２】訂正の適否についての判断
ア．訂正の内容
　特許権者が求めている訂正の内容は、以下のとおりである。
（ａ）特許請求の範囲の請求項１乃至３の各
「処理装置本体内で搬送中の基板に対して処理液を供給することによって順次基板処理を行う基板処理装置において、
　上記処理装置本体内で基板を傾斜姿勢で搬送する搬送手段と、」を
「処理装置本体内で搬送中の基板に対して処理液を供給することによって順次基板処理を行う基板処理装置
であって、　基板搬送方向に直交する水平方向に対して傾斜する複数のローラにより基板を傾斜姿勢に維持し、上記処理装置本体内で処理液が供給された状態にある当該傾斜姿勢の基板を連続的に
（ｂ）訂正事項（ａ）の訂正に伴い、明細書段落【０００９】、【００１０】、及び【００１１】の各
「処理装置本体内で搬送中の基板に対して処理液を供給することによって順次基板処理を行う基板処理装置において、上記処理装置本体内で基板を傾斜姿勢で搬送する搬送手段と、」を
「処理装置本体内で搬送中の基板に対して処理液を供給することによって順次基板処理を行う基板処理装置
であって、　基板搬送方向に直交する水平方向に対して傾斜する複数のローラにより基板を傾斜姿勢に維持し、上記処理装置本体内で処理液が供給された状態にある当該傾斜姿勢の基板を連続的に
イ．訂正の目的の適否、新規事項の有無、及び拡張・変更の存否
　上記訂正事項（ａ）は、「搬送手段」の態様に関し、「
基板搬送方向に直交する水平方向に対して傾斜する複数のローラにより基板を傾斜姿勢に維持し、上記処理装置本体内で処理液が供給された状態にある当該傾斜姿勢の基板を連続的に
　上記訂正事項（ｂ）は、前記特許請求の範囲の限定的減縮に伴い、明細書の記載の整合性を図るものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とするものである。
　そして、上記訂正は願書に添付した明細書または図面に記載された事項の範囲を越えるものとは認められないから、新規事項の追加に該当せず、また特許請求の範囲を実質的に拡張または変更するものではない。
ウ．むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項で準用する第１２６条第２〜４項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
【３】特許異議の申立てについて
ア．本件発明
　本件にかかる特許異議の申立てがなされた請求項は請求項１ないし８であるところ、その発明は以下の記載事項により特定されるとおりのものである。
　
「【請求項１】　処理装置本体内で搬送中の基板に対して処理液を供給することによって順次基板処理を行う基板処理装置であって、　基板搬送方向に直交する水平方向に対して傾斜する複数のローラにより基板を傾斜姿勢に維持し、上記処理装置本体内で処理液が供給された状態にある当該傾斜姿勢の基板を連続的に搬送する搬送手段と、この搬送手段の上流側に設けられ、かつ、水平姿勢で受け入れた基板を上記傾斜に等しい傾斜姿勢に変更して上記搬送手段に導入する入口側移載手段と、上記搬送手段の下流側に設けられ、かつ、傾斜姿勢の基板を水平姿勢に戻す出口側移載手段とを備え、
　上記入口側移載手段は、基板を搬送するための複数のローラを支持するローラ支持部材と、このローラ支持部材を水平姿勢と傾斜姿勢との間で基板の搬送方向と直交する方向に傾斜させる傾動手段とを備え、
　上記出口側移載手段は、基板を搬送するための複数のローラを支持するローラ支持部材と、このローラ支持部材を水平姿勢と傾斜姿勢との間で基板の搬送方向と直交する方向に傾斜させる傾動手段とを備えていることを特徴とする基板処理装置。
　　【請求項２】　処理装置本体内で搬送中の基板に対して処理液を供給することによって順次基板処理を行う基板処理装置であって、　基板搬送方向に直交する水平方向に対して傾斜する複数のローラにより基板を傾斜姿勢に維持し、上記処理装置本体内で処理液が供給された状態にある当該傾斜姿勢の基板を連続的に搬送する搬送手段と、この搬送手段の上流側に設けられ、かつ、水平姿勢で受け入れた基板を上記傾斜に等しい傾斜姿勢に変更して上記搬送手段に導入する入口側移載手段と、上記搬送手段の下流側に設けられ、かつ、傾斜姿勢の基板を水平姿勢に戻す出口側移載手段とを備え、
　上記入口側移載手段は、基板を搬送するための複数のローラを支持するローラ支持部材と、このローラ支持部材を水平姿勢と傾斜姿勢との間で基板の搬送方向と直交する方向に傾斜させる傾動手段とを備えていることを特徴とする基板処理装置。
　　【請求項３】　処理装置本体内で搬送中の基板に対して処理液を供給することによって順次基板処理を行う基板処理装置であって、　基板搬送方向に直交する水平方向に対して傾斜する複数のローラにより基板を傾斜姿勢に維持し、上記処理装置本体内で処理液が供給された状態にある当該傾斜姿勢の基板を連続的に搬送する搬送手段と、この搬送手段の上流側に設けられ、かつ、水平姿勢で受け入れた基板を上記傾斜に等しい傾斜姿勢に変更して上記搬送手段に導入する入口側移載手段と、上記搬送手段の下流側に設けられ、かつ、傾斜姿勢の基板を水平姿勢に戻す出口側移載手段とを備え、
　上記出口側移載手段は、基板を搬送するための複数のローラを支持するローラ支持部材と、このローラ支持部材を水平姿勢と傾斜姿勢との間で基板の搬送方向と直交する方向に傾斜させる傾動手段とを備えていることを特徴とする基板処理装置。
　　【請求項４】　上記入口側移載手段において、ローラ支持部材は前後方向に延びる軸回りに回動可能であり、上記傾動手段は上記ローラ支持部材を上記軸回りに回動させるものであることを特徴とする請求項１または２記載の基板処理装置。
　　【請求項５】　上記入口側移載手段において、上記傾動手段は、上記ローラ支持部材を上記軸回りに回動自在に支持するシリンダを備えることを特徴とする請求項４記載の基板処理装置。
　　【請求項６】　上記出口側移載手段において、上記ローラ支持部材は前後方向に延びる軸回りに回動可能であり、上記傾動手段は上記ローラ支持部材を上記軸回りに回動させるものであることを特徴とする請求項１または３記載の基板処理装置。
　　【請求項７】　上記出口側移載手段において、上記傾動手段は、上記ローラ支持部材を上記軸回りに回動自在に支持するシリンダを備えることを特徴とする請求項６記載の基板処理装置。
　　【請求項８】　上記搬送手段は、基板の搬送方向に並設され、同方向に直交する支持軸を有する複数のローラを備えたローラコンベアであることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の基板処理装置。」（以下、順に「本件発明１」〜「本件発明８」という。）
　
イ．申立ての理由の概要
　申立人山本　聡子は、証拠として甲第１号証（実願平４−１８６２３号（実開平５−７９９７６号）のＣＤ−ＲＯＭ）、甲第２号証（特開平１−２９２８９２号公報）を提出し、特許明細書の請求項１、２、３，８に係る発明は、本件特許出願前に日本国内で頒布された甲第１号証に記載された発明と同一であるから、それらの発明の特許は特許法第２９条第１項第３号に違反してなされたものであり、また、請求項１乃至８に係る発明は、甲第１号証及び甲第２号証に基づいて、当業者が容易に発明できたものであるから、それらの発明の特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであり、取り消されるべきものである旨主張している。
　また、申立人林　千珠子は、証拠として甲第１号証（山本　聡子の提出した甲第１号証と同じ）、甲第２号証（同じく山本　聡子の提出した甲第２号証と同じ）を提出し、特許明細書の請求項１乃至８に係る発明は、甲第１号証及び甲第２号証に基づいて、当業者が容易に発明できたものであるから、それらの発明の特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであり、取り消されるべきものである旨主張している。
ウ．当審取消理由の概要
　これに対して平成１６年１１月１０日付けで当審が通知した取消理由は以下の通りである。
・提示した刊行物
刊行物１：実願平４−１８６２３号（実開平５−７９９７６号）のＣＤ−ＲＯＭ（異議申立人山本　聡子及び林　千珠子両名が提出した甲第１号証）
刊行物２：特開平１−２９２８９２号公報
（異議申立人山本　聡子及び林　千珠子の両名が提出した甲第２号証）
・対象とした請求項の番号
　１〜８
・取消の理由
１．上記請求項のうち、１，２，３，８に係る発明は、甲第１号証に記載された発明と同一である（特許法第２９条第１項第３号違反）。
２．上記請求項１〜８に係る発明は、上記刊行物１，２に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明できたものと認められる（特許法第２９条第２項違反）。
　
エ．引用刊行物に記載の発明
　当審が通知した取消理由で引用した刊行物１（異議申立人山本　聡子及び林　千珠子両名が提出した甲第１号証）には、以下の事項が記載されている。
（ａ）「【請求項１】　基板を搬送するための搬送部と、前記搬送部上の基板を洗浄するための洗浄部とを備えた基板洗浄装置において、
　前記搬送部に、駆動手段に接続された回転軸と、前記回転軸に取付けられ、基板を側縁部下面および側面から支持し、基板を搬送する支持ローラ、および基板の下面の一部を保持し基板を搬送する保持ローラとが設けられ、
　支持ローラに対して保持ローラを上部方向となるように回転軸が設けられたことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】　回転軸に、角度調節手段を設けたことを特徴とする請求項１記載の基板洗浄装置。」（段落【実用新案登録請求の範囲】）
（ｂ）「【作用】
　以上のような構成を有する基板洗浄装置の作用は次の通りとなる。
　即ち、請求項１記載の考案では、回転軸を傾斜させ、傾斜下方の支持ローラにより基板を支持させることにより、位置ずれを起こすこと無く、多様な幅の基板に対応して搬送することができる。したがって、基板の種類に関係無く搬送することができ、装置を停止させること無く洗浄できる。
　請求項２記載の考案では、回転軸に角度調節手段が設けられたことにより、基板や洗浄液の種類に適宜対応することができる。」（段落【００１１】〜【００１２】）
（ｃ）「すなわち、本実施例の基板洗浄装置では、図１に示すように、搬送部１の回転軸３に、直径の大きい大ローラ６ａと小さい小ローラ６ｂを組合わせて断面が略Ｔ字形に形成された支持用ローラ６と、前記支持用ローラの小ローラ６ｂと同一直径の保持ローラ７とが一定の間隔で取付けられている。搬送部１は、この様な回転軸が、搬送開始部、第１傾斜部、洗浄部、第２傾斜部、終了部のユニットにより構成されている。
　搬送部１のそれぞれのユニットの回転軸３は、支持ローラ６を支点として保持ローラ７側が上方となるように傾斜して配設されている。各ユニットは、搬送開始部が水平方向に対して傾斜角度が０°に、第１傾斜部が傾斜角度０°から１５°まで緩やかな傾斜状態に、直接洗浄に要する搬送範囲および水切りを行う範囲の洗浄部が、１５°の一定の傾斜角度に、第２傾斜部が傾斜角度１５°から０°まで緩やかな傾斜状態に、終了部が傾斜角度０°に設定されている。
　なお、第１および第２傾斜部では、各回転軸３の傾斜角度が、搬送路の基板５を円滑に搬送することができる様に調整されている。
　この様な構成を有する本実施例の基板洗浄装置では、基板５は搬送部１の開始部上に載置され、支持ローラ６および保持ローラ７の回転により一定方向に搬送される。第１傾斜部から洗浄部および第２傾斜部では、支持ローラ６を支点として回転軸３に傾斜が設けられているため、基板５の側縁は傾斜の下方となる支持ローラの大ローラ６ａ側面に確実に当接することになる。また、基板５の下面は、小ローラ６ｂおよび保持ローラ７に保持される。この状態で傾斜角度が１５°まで搬送された基板は、傾斜角度が１５°に維持された洗浄部の洗浄範囲で洗浄水が吹き付けられる。さらに、この洗浄水の吹き付け終了後は、同じく傾斜角度１５°に維持された水切り範囲で、基板上に付着する洗浄水の水滴が傾斜に沿って流下して、水切りが行われる。この後、第２傾斜部の回転軸３の角度とともに基板の傾斜角度が徐々に０°に戻される。」（段落【００１５】〜【００１８】）
（ｄ）「すなわち、搬送部上の基板の位置決めが支持ローラのみによって行われているため、基板の幅の種類に関係無く、多種の基板に対応することができ、しかも連続して洗浄することができる。したがって、本実施例では、製造効率および製品生産率を大幅に向上することができる。」（段落【００２０】）
（ｅ）「なお、本考案は上述した実施例に限定されるものではなく、具体的な各部材の形状および取付け位置等は適宜変更可能である。
　例えば、回転軸３を傾斜された状態で設けることに限定されず、回転軸に角度の調整手段を設けることにより、回転軸の角度を変更自在とすることができる。これは、例えば、図２に示すように、回転軸３の保持部８に角度調整装置９を設けることや、また、駆動手段Ｍに角度調整の手段を設けること等により行われる。これにより、基板を水平状態で洗浄部まで搬送し、洗浄範囲および水切り範囲で、その都度傾斜させることや、洗浄範囲および水切り範囲で、傾斜と水平の状態を数回繰り返して行う等も可能となる。さらに、洗浄のためのユニットや水切りのためのユニットを設け、これらのユニットに一定数量の基板が搬送されると角度調整装置９等の角度の調整手段により傾斜させ、洗浄や水切りを行うこともできる。したがって、角度の調整手段を設けることにより、基板の種類や洗浄液等の条件に適宜適応することができ、基板に合わせた最適な洗浄状態とすることができる。」（段落【００２１】〜【００２２】）
　以上の記載から、刊行物１には
「基板を搬送しつつ洗浄する装置であって、
　搬送開始部、第１傾斜部、洗浄部、第２傾斜部、終了部のユニットにより構成される搬送部１を有し、
　搬送開始部は、水平方向に対して傾斜角度が０°に設定され、
　第１傾斜部は、水平方向に対して傾斜角度が０°から１５°まで緩やかな傾斜状態に設定され、
　洗浄部は、支持ローラ６を支点として保持ローラ７側が上方となるように傾斜した複数のローラにより傾斜角度１５°に維持されて、洗浄部で洗浄水が吹き付けられた状態にある基板を連続的に搬送するものであり、
　第２傾斜部は、水平方向に対して傾斜角度が１５°から０°までの緩やかに傾斜が戻る状態に設定され、
　終了部は、傾斜角度０°に設定されるものである
基板を搬送しつつ洗浄する装置。」（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　　
オ．対比・判断
＜本件発明１について＞
　本件発明１と引用発明とを対比すると、その機能からみて、引用発明の「基板を搬送しつつ洗浄する装置」は、本件発明１の「処理装置本体内で搬送中の基板に対して処理液を供給することによって順次基板処理を行う基板処理装置」に相当し、以下、同様に、
「第１傾斜部」が「水平方向に対して傾斜角度が０°から１５°まで緩やかな傾斜状態に設定され」ていることは
「入口側移載手段」が「水平姿勢で受け入れた基板を」「傾斜姿勢に変更して（上記）搬送手段に導入する」ことに、
「水平方向」は
「基板搬送方向に直交する水平方向」に、
「支持ローラ６を支点として保持ローラ７側が上方となるように傾斜した複数のローラにより傾斜角度１５°に維持され」は
「傾斜する複数のローラにより基板を傾斜姿勢に維持し」に、
「洗浄部で洗浄水が吹き付けられた状態にある基板を連続的に搬送する」は
「処理装置本体内で処理液が供給された状態にある当該傾斜姿勢の基板を連続的に搬送する」に、
「第２傾斜部」が「水平方向に対して傾斜角度が１５°から０°までの緩やかに傾斜が戻る状態に設定され」ていることは、
「出口側移載手段」が「傾斜姿勢の基板を水平姿勢に戻す」ことに相当する。また、引用発明の「搬送開始部、第１傾斜部、洗浄部、第２傾斜部、終了部のユニットにより構成される搬送部１を有」する構造は、この順番に基板が搬送される態様を示すものであることが明らかである結果、「第１傾斜部」は「洗浄部」の上流側に、また、「第２傾斜部」は「洗浄部」の下流側に位置すると言えるので、各々本件発明１で言う「搬送手段の上流側に設けられ」た「入口側移載手段」及び「搬送手段の下流側に設けられ」た「出口側移載手段」を形成すると言える。更に、引用発明の「第１傾斜部」の「１５°まで」と、「洗浄部」の「傾斜角度１５°に維持され」を併せ見ると、本件発明１の「入口側移載手段」で規定する「上記傾斜（「搬送手段」で維持された傾斜角度を指す）に等しい傾斜姿勢」を満足するものと言える。
　以上まとめると、本件発明１と引用発明とは、
（一致点）「処理装置本体内で搬送中の基板に対して処理液を供給することによって順次基板処理を行う基板処理装置であって、
　基板搬送方向に直交する水平方向に対して傾斜する複数のローラにより基板を傾斜姿勢に維持し、上記処理装置本体内で処理液が供給された状態にある当該傾斜姿勢の基板を連続的に搬送する搬送手段と、この搬送手段の上流側に設けられ、かつ、水平姿勢で受け入れた基板を上記傾斜に等しい傾斜姿勢に変更して上記搬送手段に導入する入口側移載手段と、上記搬送手段の下流側に設けられ、かつ、傾斜姿勢の基板を水平姿勢に戻す出口側移載手段とを備えた基板処理装置。」の点で一致し、以下の点で相違しているものと認められる。
（相違点）「入口側移載手段」及び「出口側移載手段」に関し、本件発明１では「基板を搬送するための複数のローラを支持するローラ支持部材と、このローラ支持部材を水平姿勢と傾斜姿勢との間で基板の搬送方向と直交する方向に傾斜させる傾動手段」を備えるものとしているのに対して、引用発明では「入口側移載手段」及び「出口側移載手段」に対応する「第１傾斜部」及び「第２傾斜部」での傾斜はなされているものの、ローラ支持部材を傾動させる傾動手段を備えていない点。
　
　そこで、上記相違点について検討する。
　
　確かに引用発明の基板を搬送しつつ洗浄する装置は、搬送部１の各部の傾斜状態を規定するのみであって、傾斜状態を作るに当たってどのような手段を用いるかについて具体的に定めたものではない。
　しかしながら刊行物１には、上記エ．の摘記事項（ｅ）に「例えば、図２に示すように、回転軸３の保持部８に角度調整装置９を設けることや、また、駆動手段Ｍに角度調整の手段を設けること等により行われる。」といった改変への示唆が記載されており、引用発明に対してかかる示唆に従って、傾斜が付いている第１傾斜部、第２傾斜部等のローラの回転軸の保持部に角度調整装置を設けた場合、適用後の装置の「保持部」及び「角度調整装置」は、各々本件発明１の「ローラ支持部材」及び「傾動手段」に相当するものとなる。
　よって本件発明１は、引用発明及び刊行物１に記載された示唆に基づいて容易になし得たものと言える。
　
＜本件発明２、３について＞
　本件発明２、３は各々、「ローラ支持部材」及び「傾動手段」を備えるべき箇所を、「入口側移載手段」、「出口側移載手段」としたものであるが、「入口側移載手段」にも「出口側移載手段」にも「ローラ支持部材」及び「傾動手段」を備えるべきとした本件発明１が特許性を有さない以上、同様の理由により本件発明２，３のいずれも特許性を有しない。
　
＜本件発明４乃至８について＞
　本件発明４乃至８は、「ローラ支持部材」が可動式であること、または「傾動手段」が「シリンダ」であること、「搬送手段」が「ローラコンベア」であることで示される具体的態様を規定するものであるが、傾動手段によりローラを傾斜させる関係上、ローラ支持部材が可動式であることが当然かつ必須（要すれば刊行物２の「回動台１４」を参照））と言うことができ、また、傾動手段の具体的構成としてシリンダを用いる態様については、刊行物２の「エアシリンダ１６」に記載されているとおり当業者に周知の態様と言え、更に搬送手段の態様としてローラコンベア式としたものもまた当業者に周知の態様と言える。
　以上のことから本件発明４乃至８は、いずれも引用発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明できたものと言え、特許性を有さない。
　
【４】むすび
　以上のとおりであるから、本件発明１乃至８は、引用発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明できたものと認められ、特許法第２９条第２項の規定に違反して特許されたものであるから、同法第１１３条第１項第２号の規定により取り消されるべきものである。
　
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１７年３月３日（２００５．３．３）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
基板処理装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】処理装置本体内で搬送中の基板に対して処理液を供給することによって順次基板処理を行う基板処理装置
であって、
　
基板搬送方向に直交する水平方向に対して傾斜する複数のローラにより基板を傾斜姿勢に維持し、上記処理装置本体内で処理液が供給された状態にある当該傾斜姿勢の基板を連続的に
　上記入口側移載手段は、基板を搬送するための複数のローラを支持するローラ支持部材と、このローラ支持部材を水平姿勢と傾斜姿勢との間で基板の搬送方向と直交する方向に傾斜させる傾動手段とを備え、
　上記出口側移載手段は、基板を搬送するための複数のローラを支持するローラ支持部材と、このローラ支持部材を水平姿勢と傾斜姿勢との間で基板の搬送方向と直交する方向に傾斜させる傾動手段とを備えていることを特徴とする基板処理装置。
　【請求項２】処理装置本体内で搬送中の基板に対して処理液を供給することによって順次基板処理を行う基板処理装置
であって、
　
基板搬送方向に直交する水平方向に対して傾斜する複数のローラにより基板を傾斜姿勢に維持し、上記処理装置本体内で処理液が供給された状態にある当該傾斜姿勢の基板を連続的に
　【請求項３】処理装置本体内で搬送中の基板に対して処理液を供給することによって順次基板処理を行う基板処理装置
であって、
　
基板搬送方向に直交する水平方向に対して傾斜する複数のローラにより基板を傾斜姿勢に維持し、上記処理装置本体内で処理液が供給された状態にある当該傾斜姿勢の基板を連続的に
　【請求項４】上記入口側移載手段において、ローラ支持部材は前後方向に延びる軸回りに回動可能であり、上記傾動手段は上記ローラ支持部材を上記軸回りに回動させるものであることを特徴とする請求項１または２記載の基板処理装置。
　【請求項５】上記入口側移載手段において、上記傾動手段は、上記ローラ支持部材を上記軸回りに回動自在に支持するシリンダを備えることを特徴とする請求項４記載の基板処理装置。
　【請求項６】上記出口側移載手段において、上記ローラ支持部材は前後方向に延びる軸回りに回動可能であり、上記傾動手段は上記ローラ支持部材を上記軸回りに回動させるものであることを特徴とする請求項１または３記載の基板処理装置。
　【請求項７】上記出口側移載手段において、上記傾動手段は、上記ローラ支持部材を上記軸回りに回動自在に支持するシリンダを備えることを特徴とする請求項６記載の基板処理装置。
　【請求項８】上記搬送手段は、基板の搬送方向に並設され、同方向に直交する支持軸を有する複数のローラを備えたローラコンベアであることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明は、フォトレジスト塗布液、感光性ポリイミド樹脂、カラーフィルター用の染色剤などの薄膜が表面に形成された液晶用のガラス基板、フォトマスク用のガラス基板等を対象とし、これら基板の主面に所定の処理液を供給することによって処理する基板処理装置に関するものである。
　【０００２】
　【従来の技術】
　従来、前工程で所定の処理が施された基板に洗浄液による洗浄処理を施してから後工程に搬送するようにした基板処理装置が知られている。このような基板処理装置は、薬洗部、水洗部および乾燥部が直列に配設された処理装置本体と、この処理装置本体の薬洗部、水洗部および乾燥部を貫通するように設けられた基板の搬送手段とから形成されているのが一般的である。通常、搬送手段は基板を水平姿勢で搬送するようになっており、基板はこの搬送手段によって処理装置本体内を薬洗部、水洗部および乾燥部の順に搬送されつつ処理される。
　【０００３】
　そして、処理装置本体内に導入された基板に対し、まず、薬洗部において所定の薬液を表裏面に供給する薬洗処理が施され、ついで液切り処理が施されたのち水洗部において水洗処理が施され、最後に乾燥部において気体の噴射等による乾燥処理が行われるようになっている。
　【０００４】
　【発明が解決しようとする課題】
　ところで、近年、基板のサイズが大型化する傾向にあり、これに対応するため基板処理装置を大型化しなけらばならず、これに伴う設置面積の増加や設備コストの増大が問題になっている。
　【０００５】
　また、基板が大型化すると、例えば基板を薬洗部から水洗部に向けて搬送するときに、基板上で薬液と洗浄水とが混合するのを回避するため、基板上の薬液をエアーナイフ等で液切りしながら基板を水洗部に向けて送り込むようにすることが通常行われるが、上記液切り処理に時間がかかったり、基板表面上の薬液が新しいものと置換されるのに長時間を要する。そのために薬洗部や水洗部自体を大きくする必要があり、ますます基板処理装置が大型化するという問題点が発生する。
　【０００６】
　そこで、上記液切り処理時間を短縮するために、基板の搬送速度を増大させ、しかもエアーナイフからの気体の吐出量を増やしたり、また薬液の置換時間短縮のため、処理液の流量を増加させることが考えられるが、このようにすると気体や薬液の使用量の増加や、ポンプの能力アップのためにコストアップになるという問題点が生じる。
　【０００７】
　さらに、水洗部においては、通常、最後に純水による仕上げの洗浄処理が施されるが、基板が大きくなると基板上で上流側の通常の洗浄水と下流側の純水とが混ざり合うことがあり、基板を確実に清浄化し得ないという問題点が生じる。これを防止するため、通常の洗浄水による洗浄域と純水による洗浄域とを大きく離間させる必要があるが、このようにすると設置面積の増大や設備規模が大きくなるという新たな問題点が発生する。
　【０００８】
　本発明は、上記のような問題点を解決するためになされたものであり、基板の大型化によっても、設備規模の増大を抑制することができ、しかも、基板に確実な洗浄処理を施し得る基板処理装置を提供することを目的としている。
　【０００９】
　【課題を解決するための手段】
　請求項１記載の発明は、処理装置本体内で搬送中の基板に対して処理液を供給することによって順次基板処理を行う基板処理装置
であって、
　
基板搬送方向に直交する水平方向に対して傾斜する複数のローラにより基板を傾斜姿勢に維持し、上記処理装置本体内で処理液が供給された状態にある当該傾斜姿勢の基板を連続的に
　上記入口側移載手段は、基板を搬送するための複数のローラを支持するローラ支持部材と、このローラ支持部材を水平姿勢と傾斜姿勢との間で基板の搬送方向と直交する方向に傾斜させる傾動手段とを備え、
　上記出口側移載手段は、基板を搬送するための複数のローラを支持するローラ支持部材と、このローラ支持部材を水平姿勢と傾斜姿勢との間で基板の搬送方向と直交する方向に傾斜させる傾動手段とを備えているものである。
　【００１０】
　請求項２記載の発明は、処理装置本体内で搬送中の基板に対して処理液を供給することによって順次基板処理を行う基板処理装置
であって、
　
基板搬送方向に直交する水平方向に対して傾斜する複数のローラにより基板を傾斜姿勢に維持し、上記処理装置本体内で処理液が供給された状態にある当該傾斜姿勢の基板を連続的に
　【００１１】
　請求項３記載の発明は、処理装置本体内で搬送中の基板に対して処理液を供給することによって順次基板処理を行う基板処理装置
であって、
　
基板搬送方向に直交する水平方向に対して傾斜する複数のローラにより基板を傾斜姿勢に維持し、上記処理装置本体内で処理液が供給された状態にある当該傾斜姿勢の基板を連続的に
　【００１２】
　これらの発明によれば、前工程から送り込まれた基板は、入口側移載手段によって傾斜姿勢に変更され、処理装置本体内の搬送手段に引き渡され、搬送手段によって処理装置本体内を傾斜姿勢で搬送されつつ処理液の供給を受けて処理される。そして、処理装置本体内の下流端で出口側移載手段によって元の水平姿勢に戻され、後工程に向けて導出される。
　【００１３】
　このように、処理装置本体の上流側および下流側にそれぞれ移載手段を設けることにより、傾斜した処理装置本体内の搬送手段に対する基板の引き渡し操作、および搬送手段からの基板の受け取り操作が円滑に行い得るようになる。従って、本発明の基板処理装置を適用することにより、入口側および出口側の移載手段が設けられていない基板処理装置を適用する場合に比較し、全ての基板搬送経路を基板の搬送方向に直交する面内で傾斜させる必要はなくなるため、既存の設備仕様を大幅に変更することなく本基板処理装置を適用することが可能になり、設備コストの低減に寄与する。
　【００１４】
　そして、処理装置本体内では、搬送手段が基板の搬送方向に直交する方向で水平面に対して傾斜され、これによって基板に供給された処理液の置換や液切れが良好に行われるため、水平に基板を搬送する搬送手段が採用されている場合に比較して、洗浄時間が短くて済み、また液切りのための空間や、液切り手段を設ける必要がなくなり、基板の大型化に伴う基板処理装置の大型化を確実に抑制し得るようになる。
　【００１５】
　請求項４記載の発明は、請求項１または２記載の入口側移載手段において、上記ローラ支持部材が前後方向に延びる軸回りに回動可能であり、上記傾動手段が上記ローラ支持部材を上記軸回りに回動させるものである。
　【００１６】
　請求項５記載の発明は、請求項４記載の傾動手段がローラ支持部材を上記軸回りに回動自在に支持するシリンダを備えるものである。
　【００１７】
　請求項６記載の発明は、請求項１または３記載の出口側移載手段において、上記ローラ支持部材が前後方向に延びる軸回りに回動可能であり、上記傾動手段が上記ローラ支持部材を上記軸回りに回動させるものである。
　【００１８】
　請求項７記載の発明は、請求項６記載の傾動手段がローラ支持部材を上記軸回りに回動自在に支持するシリンダを備えるものである。
　【００１９】
　請求項８記載の発明は、請求項１乃至７のいずれかに記載の発明において、上記搬送手段は、基板の搬送方向に並設され、同方向に直交する支持軸を有する複数のローラを備えたローラコンベアであることを特徴とするものである。
　【００２０】
　この発明によれば、ローラコンベアの複数のローラ上に基板を載置した状態で各ローラを回転駆動させることにより基板は搬送される。そして、各ローラ間には隙間が形成されているため、この隙間を通して基板の裏面にも処理液を供給することができ、基板の表裏面に処理液を供給する点で有効である。
　【００２１】
　また、傾斜しているローラの下方の短縁部に基板滑り止めの鍔部を設けることにより、ローラ上の基板はこの鍔部で支持された状態になるため、基板の幅方向の寸法に変動があっても、上記鍔部による支持によって対応することが可能になり、基板サイズが変更される毎にローラの仕様変更を行う必要がなくなる。
　【００２２】
　【発明の実施の形態】
　図１は、本発明に係る基板処理装置の一実施実施形態を示す説明図である。この図に示すように、基板処理装置１は、前工程からの基板Ｂを受け入れる基板導入部２、内部に基板Ｂの処理空間を有する処理装置本体３、および処理後の基板Ｂを後工程に受け渡す基板導出部４が直列に配設されて形成されている。そして基板処理装置１は、基板導入部２、処理装置本体３および基板導出部４の順に基板Ｂを搬送しつつ基板Ｂに所定の処理を施すものである。
　【００２３】
　本実施形態においては、搬送手段５はローラコンベアが適用されている。このローラコンベアは、基板Ｂの搬送方向（図１の左方から右方に向かう方向）に直交する方向に支持軸を配した複数のローラ５１が等ピッチで搬送方向に並設されて形成されている。そして、駆動している搬送手段５上に基板Ｂを載置することにより、図略の駆動手段の駆動による各ローラ５１の同一方向の同期回転に伴って基板Ｂは搬送方向（図１の右方）に向けて搬送されるようになっている。
　【００２４】
　基板Ｂは、前工程からコンベアあるいはロボット等の上流側引継ぎ手段２０を介して基板導入部２に移され、ついで搬送手段５の駆動によって基板導入部２から処理装置本体３に導入され、ここで搬送手段５によって搬送されつつ基板Ｂに所定の処理が施された後、基板導出部４に移送され、その後、基板導出部４の下流端でコンベアあるいはロボット等からなる下流側引継ぎ手段４０を介して次工程に向けて導出されるようになっている。
　【００２５】
　処理装置本体３内においては、上記各ローラ５１はその軸心が基板Ｂの搬送方向に対して直交する面内であって、水平方向に対して傾斜して設けられている（図２、図３）。処理装置本体３内の各ローラ５１の傾斜角度は全て同一角度に設定され、これらローラ５１の上部に基板Ｂが通過する基板通過経路５ａが形成されている。これによって基板Ｂは処理装置本体３内において傾斜姿勢で基板通過経路５ａを搬送されつつ所定の処理が施されるようになっている。
　【００２６】
　図２および図３は、基板導入部２の一実施形態を示す一部切欠き斜視図であり、図２は基板移載部２２が水平姿勢に設定されている状態、図３は基板移載部２２が傾斜姿勢に設定されている状態をそれぞれ示している。
　【００２７】
　これらの図に示すように、基板導入部２は、上流側引継ぎ手段２０（図１）からの基板Ｂを一旦受け取る基板受入れ部２１と、この基板受入れ部２１の直下流側に設けられた基板移載部（入口側移載手段）２２とを備えて形成されている。上記基板受入れ部２１は、フロアＦ上に据え付けられた架台２１ａ上に組み付けられて形成されている。この基板受入れ部２１は、基板Ｂの搬送方向に延びる幅方向（基板Ｂの搬送方向に直交する方向）一対のローラ支持板２１ｂ、これら一対のローラ支持板２１ｂ間でローラ支持軸５１ａ回りに回転自在に軸支された水平方向に延びる複数本のローラ５１、および各ローラ５１を一斉に同一方向に回転駆動する第１駆動モータ２１ｃからなっている。
　【００２８】
　上記基板受入れ部２１においては、ローラ５１として円筒状ローラ５２が適用されている。この円筒状ローラ５２は、中央部の円筒状を呈したローラ本体５２ａと、このローラ本体５２ａの両側部に形成された鍔部５２ｂとからなり、各鍔部５２ｂ間に基板Ｂを挟持させることによってローラ本体５２ａ上での基板Ｂの横ずれを防止している。
　【００２９】
　従って、基板Ｂが上流側引継ぎ手段２０（図１）から基板受入れ部２１上に受け渡された状態で第１駆動モータ２１ｃを駆動することにより、各円筒状ローラ５２が一斉に同一方向に回転し、これによってローラ本体５２ａ上の基板Ｂが基板移載部２２に向けて送り出されることになる。
　【００３０】
　上記基板移載部２２は、断面視でＵ字形状のローラ支持部材２３、このローラ支持部材２３に支持された複数本の上記同様の円筒状ローラ５２、上記ローラ支持部材２３の幅方向の一側部に固定された駆動手段支持枠２４、この駆動手段支持枠２４に支持されたローラ駆動機構２５、およびフロアＦとローラ支持部材２３との間に挾設された移載部傾動手段２６を備えて形成されている。
　【００３１】
　上記ローラ支持部材２３は、その幅方向の一方の側部（図２においては右方）にローラ支持板２３ａが形成されているとともに、他側部に駆動手段支持枠２４を取り付けるための接合板２３ｂが形成され、この接合板２３ｂに駆動手段支持枠２４が固定されている。
　【００３２】
　上記駆動手段支持枠２４は、接合板２３ｂに密着固定されたローラ支持板２４ａ、このローラ支持板２４ａの前後方向両側部に外方に向かって突設された一対の突出板２４ｂ、および各突出板２４ｂとローラ支持板２４ａの下端縁部に固定された棚板２４ｃによって形成されている。ローラ駆動機構２５はこれらローラ支持板２４ａ、突出板２４ｂおよび棚板２４ｃに囲繞された状態で設けられている。
　【００３３】
　そして、上記両ローラ支持板２３ａ，２４ａ間にローラ支持軸５１ａが架橋され、これによってローラ支持板２３ａ，２４ａ間で円筒状ローラ５２がローラ支持軸５１ａ回りに回転自在に軸支された状態になり、かつ、ローラ駆動機構２５によって同一方向に一斉に回転するようになっている。
　【００３４】
　上記ローラ駆動機構２５は、駆動手段支持枠２４の棚板２４ｃ上に据え付けられ、かつ、駆動軸に駆動プーリー２５ｂの設けられた第２駆動モータ２５ａ、各ローラ支持軸５１ａの左側端部に設けられた複数の上部プーリー２５ｃ、上部プーリー２５ｃに対応してローラ支持板２４ａの下部で軸支された下部プーリー２５ｄ、およびこれら駆動プーリー２５ｂと上部プーリー２５ｃと下部プーリー２５ｄとに張設されたタイミングベルト２５ｅを備えている。
　【００３５】
　従って、第２駆動モータ２５ａを駆動することにより、この駆動回転は駆動プーリー２５ｂおよびタイミングベルト２５ｅを介して各上部プーリー２５ｃおよび下部プーリー２５ｄに伝達され、これによってローラ支持軸５１ａを介して円筒状ローラ５２が回転し、基板Ｂを搬送方向に移動させるようになっている。
　【００３６】
　なお、下部プーリー２５ｄは、タイミングベルト２５ｅを蛇行させるためのものであり、この蛇行によって各上部プーリー２５ｃとタイミングベルト２５ｅとの接触距離が長くなり、タイミングベルト２５ｅの上部プーリー２５ｃに対するスリップが防止され、第２駆動モータ２５ａの駆動回転が各上部プーリー２５ｃに確実に伝達され、全ての円筒状ローラ５２が常に同一回転速度で安定して回転する。
　【００３７】
　上記移載部傾動手段２６は、フロアＦ上に固定された第１ブラケット２６ａ、下端部がこの第１ブラケット２６ａの第１支持軸２６ｂ回りに回動自在に軸支されたシリンダ２６ｃ、このシリンダ２６ｃから上方に突出したピストンロッド２６ｄ、ローラ支持板２３ａの底縁部に設けられた第２支持軸２６ｇを有する第２ブラケット２６ｆを備えている。上記ピストンロッド２６ｄの上端部は、第２支持軸２６ｇ回りに回動可能に軸支され、これによってローラ支持部材２３の幅方向の右側部がフロアＦ上でシリンダ２６ｃおよびピストンロッド２６ｄに支持された状態になっている。
　【００３８】
　一方、上記各突出板２４ｂには前後方向に延びる水平軸２７が突設され、これらの水平軸２７は、基板受入れ部２１および薬洗部３１の適所に設けられた軸受２８に軸心回りに回動可能に軸支され、これによってローラ支持部材２３の左側部が駆動手段支持枠２４を介して軸受２８に支持された状態になっている。
　【００３９】
　従って、図２に示す状態において、シリンダ２６ｃの駆動によってピストンロッド２６ｄを所定の突出量だけ突出させることにより、ローラ支持部材２３は水平軸２７回りに反時計方向に回動し、図３に示すように、基板移載部２２が所定角度だけ基板Ｂの搬送方向に直交する方向に傾いた傾斜姿勢になる。そして、本実施形態においては、ローラ支持部材２３の水平面に対する傾斜角度は３〜７°に設定されている。
　【００４０】
　一方、処理装置本体３（図２および図３においては処理装置本体３の内の薬洗部３１のみが示されている）内のローラ５１についても、搬送方向に直交した方向の傾斜角度は上記ローラ支持部材２３と同様の傾斜角度に設定されている。そして、図３に示すように、ローラ支持部材２３が傾斜姿勢になった状態では、ローラ支持部材２３の複数の円筒状ローラ５２の上部に形成される基板通過経路５ａと、処理装置本体３内の複数のローラ５１上に形成される基板通過経路５ａとが同一平面上に位置し、これによって基板導入部２から処理装置本体３への基板通過口３１ａ′を介した基板Ｂの引き渡しが行い得るようになっている。
　【００４１】
　なお、図２および図３に示すように、処理装置本体３内のローラ５１は、ローラ支持軸５１ａの中央部に中央ローラ５３ａが設けられ、同両側部に一対の鍔部５３ｂが設けられ、さらにこれら一対の鍔部５３ｂの内側に互いに対向するように一対の基板支持ローラ５３ｃが設けられた、いわゆる部分支持型ローラ５３が採用されている。
　【００４２】
　かかる部分支持型ローラ５３を適用することにより、ローラ５１による基板Ｂ裏面の接触域を少なくし、基板Ｂの裏面への洗浄水や気体の供給を良好に行い得るようにするとともに、洗浄過程や乾燥過程でのローラ５１との接触による基板Ｂの裏面の汚染を最小限に抑えることが可能になる。
　【００４３】
　上記処理装置本体３は、本実施形態においては、薬洗部３１、水洗部３２、および乾燥部３７が直列に配設されて形成されている。図４は、薬洗部３１の一実施形態を示す説明図である。この図に示すように、薬洗部３１は、搬送手段５によって搬送されつつある基板Ｂの表裏に所定の薬液を供給して基板Ｂを洗浄（薬洗）するためのものであり、内部に搬送手段５が敷設された薬洗槽３１ａ、この薬洗槽３１ａ内に搬送手段５を挟んで上下に配設された複数の薬液供給ノズル３１ｂ、薬液を貯留する薬液槽３１ｃ、および、この薬液槽３１ｃ内の薬液を薬液供給管路３１０を通して薬液供給ノズル３１ｂに供給する薬液ポンプ３１ｄを備えている。
　【００４４】
　上記薬洗槽３１ａは、上流側および下流側の壁部に基板Ｂを通過させる基板通過口３１ａ′を有しており、基板導入部２からの基板Ｂは上流側の基板通過口３１ａ′を通って薬洗槽３１ａ内に導入されるとともに、薬洗部３１での薬洗処理が完了した基板Ｂは下流側の基板通過口３１ａ′から水洗部３２に向けて導出されるようになっている。
　【００４５】
　上記薬液供給ノズル３１ｂは、基板通過経路５ａを挟むように上下に設けられ、これら上下の薬液供給ノズル３１ｂからの薬液吐出によって基板Ｂの表裏面に薬液が供給されるようになっている。また、上記薬液ポンプ３１ｄの下流側の薬液供給管路３１０にはフィルター３１ｅが介設され、薬液供給ノズル３１ｂに供給される薬液が濾過処理により清浄化されるようにしている。そして、薬洗槽３１ａ内で薬液供給ノズル３１ｂから吐出され、基板Ｂの薬洗に使用された後の薬液は、戻り管路３１１を通って薬液槽３１ｃに返されるようにしており、これによって薬液は循環使用されるようになっている。
　【００４６】
　また、処理装置本体３内の基板通過経路５ａの上下には、基板通過経路５ａに直交した軸心や基板通過経路５ａを平行に横断した軸心回りに回転する複数個のブラシ３１ｆが設けられ、基板通過経路５ａを搬送されつつある基板Ｂの表裏面はこれらのブラシでブラッシング処理されるようになっている。ブラシ３１ｆとしては、円盤の底面に植毛されたディスクブラシや円筒体の外周面に植毛されたロータリーブラシ等が用いられている。そして毛先を基板Ｂの表裏面に当接させた状態でのこれらブラシ３１ｆの軸心回りの回転によって、基板Ｂは表裏面が薬液付与状態でブラッシング処理され、清浄化されるようになっている。
　【００４７】
　そして特にブラシ３１ｆの直上流側および直下流側には、上方でローラ５１に対向した押えローラ５１′が設けられ、押えローラ５１′とローラ５１とで基板Ｂを上下から挟持することにより、ブラシ３１ｆによるブラッシング操作によっても基板Ｂの浮き上がりや基板通過経路５ａからの逸脱が阻止されるようにしている。
　【００４８】
　従って、搬送手段５の駆動で基板通過経路５ａを搬送されつつある傾斜姿勢の基板Ｂは、薬液ポンプ３１ｄの駆動によって薬液槽３１ｃから汲み上げられた薬液が薬液供給ノズル３１ｂから供給され、この薬液の存在下で上記ブラシ３１ｆによるブラッシング処理が施され、第１段階の洗浄処理が行われることになる。そして、基板Ｂに供給された薬液、すなわち基板Ｂを洗浄することによって汚染物を含有しつつある薬液は、基板Ｂの傾斜面に沿って流下し、引き続いて基板Ｂにフィルター３１ｅを介して供給される新たな清浄な薬液と速やかに置換される。これにより、短い洗浄時間で高い洗浄作用が得られる。しかも、基板Ｂの傾斜面に沿って速やかにするので、基板Ｂによる薬液の持ち出し量も低減され、薬液の消費量も低減され、また、良好な液切りが行われることになる。
　【００４９】
　図５は、水洗部３２および乾燥部３７の一実施形態を示す説明図である。この図を基に、まず水洗部３２について説明する。水洗部３２は、搬送手段５によって搬送されつつある薬洗後の基板Ｂに洗浄水を供給して洗浄（水洗）するためのものであり、内部に搬送手段５が敷設された水洗槽３２ａを備えている。この水洗槽３２ａの内部は、仕切壁３２ａ″によって上流側から低圧水供給部３３、高圧水供給部３４、超音波洗浄水供給部３５、および純水供給部３６に区分されている。
　【００５０】
　上記水洗槽３２ａの上流側および下流側の壁面ならびに各仕切壁３２ａ″には基板通過口３２ａ′が開口されている。そして、薬洗部３１から導出された基板Ｂは、上流端の基板通過口３２ａ′から水洗槽３２ａ内に導入され、ついで各仕切壁３２ａ″の基板通過口３２ａ′を通って低圧水供給部３３、高圧水供給部３４、超音波洗浄水供給部３５、および純水供給部３６に順次導入され、所定の水洗処理が施されたのち下流端の基板通過口３２ａ′から乾燥部３７に向けて導出されるようになっている。
　【００５１】
　上記低圧水供給部３３は、基板通過経路５ａを挟むように上下に配設された低圧水供給ノズル３３ａを有し、高圧水供給部３４は同様に配設された高圧水供給ノズル３４ａを有している。また、超音波洗浄水供給部３５には、基板通過経路５ａを通過する基板Ｂの表面に吐出口を向けた超音波水供給ノズル３５ａが設けられ、純水供給部３６には基板通過経路５ａを挟むように上下に配設された純水供給ノズル３６ａが設けられている。
　【００５２】
　上記低圧水供給ノズル３３ａのうち基板通過経路５ａの上方に設けられているものは、基板Ｂの搬送方向に直交した方向でかつ水平方向に延びる細長いスリット状の液吐出口を備えた、いわゆる液ナイフが用いられているとともに、同基板通過経路５ａの下方に設けられているものは、円形あるいは楕円形等の散液孔を備えた通常のコーンタイプあるいは扇状タイプ等のノズルが採用されている。
　【００５３】
　一方、水洗部３２の近傍には第１水槽３２ｂおよび第２水槽３２ｃが配置され、第１水槽３２ｂと低圧水供給ノズル３３ａとの間に低圧水ポンプ３３ｂおよびフィルター３３ｃの介設された第１管路３２１が設けられている。そして、第１水槽３２ｂ内の洗浄水は、低圧水ポンプ３３ｂの駆動によって第１管路３２１を通して汲み上げられ、フィルター３３ｃによって清浄化されたのち低圧水供給ノズル３３ａから基板Ｂの表裏面に供給され、これによって基板Ｂに対する第２段階の洗浄処理が施されるようになっている。
　【００５４】
　そして、低圧水供給ノズル３３ａから吐出された洗浄水は、戻り管路３２２を通って第１水槽３２ｂに返送されるようになっている。なお、戻り管路３２２の途中には切換弁３２３が設けられ、この切換弁３２３の切り換え操作で低圧水供給部３３から流下した洗浄水を系外に排出し得るようにしている。
　【００５５】
　また、第１水槽３２ｂと高圧水供給ノズル３４ａとの間には高圧水ポンプ３４ｂおよびフィルター３４ｃの介設された第２管路３２４が設けられている。そして、第１水槽３２ｂ内の洗浄水は、高圧水ポンプ３４ｂの駆動によって第２管路３２４を通して汲み上げられ、フィルター３４ｃによって清浄化されたのち高圧水供給ノズル３４ａから基板Ｂの表裏面に向けて高圧で噴射され、基板Ｂに対する第３段階の洗浄処理が行われるようになっている。そして高圧水供給ノズル３４ａから噴射され、基板Ｂを水洗した後の洗浄水は、戻り管路３２５を通って第１水槽３２ｂに戻される。
　【００５６】
　上記第２水槽３２ｃと超音波水供給ノズル３５ａとの間には第３管路３２６が設けられている。この第３管路３２６には汲上げポンプ３５ｂおよびフィルター３５ｃが介設され、汲上げポンプ３５ｂの駆動によって第２水槽３２ｃ内の洗浄水がフィルター３５ｃで濾過されたのち超音波水供給ノズル３５ａに供給されるようになっている。
　【００５７】
　超音波水供給ノズル３５ａは、洗浄水に超音波振動を付与する機能を備えたノズルであり、内部に図略の超音波発振器を有している。超音波水供給ノズル３５ａに供給された洗浄水はこの超音波発振器によって略４０ｋＨｚの振動が付与された状態で吐出口から吐出され、この洗浄水の超音波振動によって基板Ｂに対する第４段階の洗浄処理が施されることになる。そして、超音波水供給ノズル３５ａから基板Ｂに供給された洗浄水は基板Ｂの表面を洗浄した後、戻り管路３２７を通って第２水槽３２ｃに返送されるようにしている。
　【００５８】
　上記純水供給部３６は、基板Ｂに最終段階（第４段階）の洗浄処理を施す部分であり、純水を用いて洗浄される。具体的には、純水供給ノズル３６ａに純水源３６ｂからの純水が純水管路３２８を介して供給されるようになっており、基板通過経路５ａを通過中の基板Ｂの表裏面に純水を供給することによって仕上げの洗浄処理を行うようにしている。
　【００５９】
　この純水供給部３６においては、基板通過経路５ａの上方に液ナイフタイプの純水供給ノズル３６ａが設けられ、これからの純水の吐出によって基板Ｂの表面が洗浄されるとともに、基板通過経路５ａの下方には通常のコーンタイプ等の純水供給ノズル３６ａが設けられ、これによって基板Ｂの裏面が洗浄されるようになっている。そして、純水供給ノズル３６ａから吐出された純水は、基板Ｂの表裏面を洗浄した後、戻り管路３２９を通って第２水槽３２ｃに戻すようにしている。
　【００６０】
　このような一連の低圧水供給部３３、高圧水供給部３４、超音波洗浄水供給部３５および純水供給部３６からなる水洗部３２においては、基板Ｂはその搬送方向に直交する面内で傾斜したローラ５１によって傾斜姿勢で搬送されるようになっており、これによって各供給部３３，３４，３５，３６で基板Ｂに供給された洗浄用の水は速やかに基板Ｂの傾斜面を流下するため、下流側の乾燥部３７には最小限度の洗浄水しか持ち込まれないようになっている。
　【００６１】
　上記乾燥部３７（図５）は、水洗部３２の純水供給部３６から導出された基板Ｂを乾燥するためのものであり、乾燥槽３７ａと、この乾燥槽３７ａ内の基板通過経路５ａを挟むように設けられた上下一対のエアーナイフ３７ｂとを備えている。上記乾燥槽３７ａの上流壁および下流壁には基板通過口３７ａ′が開口され、これらの基板通過口３７ａ′を介して乾燥槽３７ａに対する基板Ｂの搬入および搬出が行われる。上記乾燥槽３７ａは、基板Ｂの搬送方向に直交するように設けられたスリット状の気体吐出口を有しており、この気体吐出口からの帯状の気流を基板Ｂの表裏面に吹き付けることにより基板Ｂを乾燥するようにしている。
　【００６２】
　そして、各エアーナイフ３７ｂは気体管路３３０を介して気体源３７ｃに接続され、気体源３７ｃからの高圧気体がエアーナイフ３７ｂに供給されるようになっている。なお、本実施形態においては、気体源３７ｃとして高圧窒素ボンベが適用されている。また、乾燥槽３７ａと第２水槽３２ｃとの間には開閉バルブ３３２の設けられた戻り管路３３１が接続され、開閉バルブ３３２を開通することによって乾燥槽３７ａの底部に溜った純水を第２水槽３２ｃに導入し得るようにしている。
　【００６３】
　また、乾燥部３７においても薬洗槽３１ａにおけると同様にローラ５１は基板Ｂの搬送方向に直交する面内で水平方向に対して傾斜され、これによって基板Ｂに付着している洗浄水の液切りが良好に行われるようになっている。
　【００６４】
　図６および図７は、基板導出部４の一実施形態を示す一部切欠き斜視図であり、図６は基板移載部４２が傾斜姿勢に設定されている状態、図７は基板移載部４２が水平姿勢に設定されている状態をそれぞれ示している。基板導出部４は、左右対象状態で上記基板導入部２と同様の構造のものが採用されている。
　【００６５】
　図６および図７に示すように、基板導出部４は、乾燥部３７からの基板Ｂを受け取る基板移載部（出口側移載手段）４２と、この基板移載部４２が受け取った基板Ｂを下流側引継ぎ手段４０（図１）に引き渡す基板引渡し部４１とを備えて形成されている。上記基板引渡し部４１は、フロアＦ上に据え付けられた架台４１ａ上に組み付けられて形成されている。
　【００６６】
　上記基板引渡し部４１は、基板Ｂの搬送方向に延びる幅方向（基板Ｂの搬送方向に直交する方向）一対のローラ支持板４１ｂ、これら一対のローラ支持板４１ｂ間でローラ支持軸５１ａ回りに回転自在に軸支された水平方向に延びる複数本のローラ５１、および各ローラ５１を一斉に同一方向に回転駆動する第３駆動モータ４１ｃからなっている。基板引渡し部４１においては、ローラ５１として基板受入れ部２１のものと同様のローラ本体５２ａおよび鍔部５２ｂからなる円筒状ローラ５２が適用されている。
　【００６７】
　そして、図７に示すように、基板Ｂを基板移載部４２から基板引渡し部４１上に受け渡すに際し、第３駆動モータ４１ｃを駆動することにより、各円筒状ローラ５２が一斉に同一方向に回転し、これによってローラ本体５２ａ上の基板Ｂが下流側引継ぎ手段４０（図１）に向けて送出されるようになっている。
　【００６８】
　上記基板移載部４２は、乾燥部３７と基板引渡し部４１とに挾持されて形成されている。この基板移載部４２は、断面視でＵ字形状のローラ支持部材４３、このローラ支持部材４３に支持された複数本の上記同様の円筒状ローラ５２、上記ローラ支持部材４３の幅方向の一側部に固定された駆動手段支持枠４４、この駆動手段支持枠４４に支持されたローラ駆動機構４５（図７）、およびフロアＦとローラ支持部材４３との間に挾設された移載部傾動手段４６を備えて形成されている。
　【００６９】
　上記ローラ支持部材４３は、その幅方向の一方の側部（図４においては右方）にローラ支持板４３ａが形成されているとともに、他側部に駆動手段支持枠４４を取り付けるための接合板４３ｂが形成され、この接合板４３ｂに駆動手段支持枠４４が固定されている。
　【００７０】
　上記駆動手段支持枠４４は、接合板４３ｂに密着固定されたローラ支持板４４ａ、このローラ支持板４４ａの前後方向両側部に外方に向かって突設された一対の突出板４４ｂ、および各突出板４４ｂとローラ支持板４４ａの下端縁部に固定された棚板４４ｃによって形成されている。ローラ駆動機構４５はこれらローラ支持板４４ａ、突出板４４ｂおよび棚板４４ｃに囲繞された状態で設けられている。
　【００７１】
　そして、上記両ローラ支持板４３ａ，４４ａ間にローラ支持軸５１ａが架橋され、これによってローラ支持板４３ａ，４４ａ間で円筒状ローラ５２がローラ支持軸５１ａ回りに回転自在に軸支された状態になり、かつ、ローラ駆動機構４５によって同一方向に一斉に回転するようになっている。
　【００７２】
　上記ローラ駆動機構４５は、図７に示すように、駆動手段支持枠４４の棚板４４ｃ上に据え付けられ、かつ、駆動軸に駆動プーリー４５ｂの設けられた第４駆動モータ４５ａ、各ローラ支持軸５１ａの左側端部に設けられた複数の上部プーリー４５ｃ、この上部プーリー４５ｃに対応してローラ支持板４４ａの下部で軸支された下部プーリー４５ｄ、およびこれら駆動プーリー４５ｂと上部プーリー４５ｃと下部プーリー４５ｄとに張設されたタイミングベルト４５ｅを備えている。
　【００７３】
　従って、第４駆動モータ４５ａを駆動することにより、この駆動回転は駆動プーリー４５ｂおよびタイミングベルト４５ｅを介して各上部プーリー４５ｃおよび下部プーリー４５ｄに伝達され、これによってローラ支持軸５１ａを介して円筒状ローラ５２が回転し、基板Ｂを搬送方向に移動させるようになっている。
　【００７４】
　上記移載部傾動手段４６は、フロアＦ上に固定された第３ブラケット４６ａ、下端部がこの第３ブラケット４６ａの第３支持軸４６ｂ回りに回動自在に軸支されたシリンダ４６ｃ、このシリンダ４６ｃから上方に突出したピストンロッド４６ｄ、ローラ支持板４３ａの底縁部に設けられた第４支持軸４６ｇを有する第４ブラケット４６ｆを備えている。上記ピストンロッド４６ｄの上端部は、第４支持軸４６ｇ回りに回動可能に軸支され、これによってローラ支持部材４３の幅方向の右側部がフロアＦ上でシリンダ４６ｃおよびピストンロッド４６ｄに支持された状態になっている。
　【００７５】
　一方、上記各突出板４４ｂには前後方向に延びる水平軸４７が突設され、これらの水平軸４７は、基板引渡し部４１および乾燥部３７の適所に設けられた軸受４８に軸心回りに回動可能に軸支され、これによってローラ支持部材４３の左側部が駆動手段支持枠４４を介して軸受４８に支持された状態になっている。
　【００７６】
　従って、図６に示す状態において、シリンダ４６ｃの駆動によってピストンロッド４６ｄを所定の突出量だけ突出させることにより、傾斜姿勢のローラ支持部材４３は水平軸４７回りに反時計方向に回動し、図７に示すように、基板移載部４２が水平姿勢になる。
　【００７７】
　以下本発明の作用について説明する。基板Ｂは、図１に示すように、上流側引継ぎ手段２０から基板導入部２に順次引き渡され、搬送手段５の駆動によって処理装置本体３内に導入され、ここで所定の処理が順次施された後、基板導出部４を介して下流側引継ぎ手段４０に引き渡される。
　【００７８】
　そして、上流側引継ぎ手段２０からの基板Ｂは、図２に示すように、基板導入部２においてまず基板受入れ部２１の円筒状ローラ５２上に載置され、第１駆動モータ２１ｃの駆動による円筒状ローラ５２の回転によって水平姿勢の基板移載部２２に搬送される。なお、このとき第２駆動モータ２５ａは駆動されており、基板受入れ部２１から送られてきた基板Ｂを円筒状ローラ５２の回転によって受け入れる。
　【００７９】
　そして、基板Ｂが完全に基板移載部２２に移された時点で、第２駆動モータ２５ａの駆動は停止され、これに代って移載部傾動手段２６が駆動されることによるシリンダ２６ｃからのピストンロッド２６ｄの突出によってローラ支持部材２３は水平軸２７回りに傾動し、図３に示すように、基板移載部２２は傾斜姿勢になる。
　【００８０】
　そして、この状態では基板移載部２２のローラ５１上の基板通過経路５ａは、下流側の処理装置本体３の基板通過経路５ａと面一になっている。この時点で第２駆動モータ２５ａが再駆動され、これによって基板移載部２２上の基板Ｂは基板通過口３１ａ′を通って薬洗槽３１ａ内に導入され、処理装置本体３内の常時回転駆動しているローラ５１によって処理装置本体３内を搬送され、薬洗部３１、水洗部３２、低圧水供給部３３、高圧水供給部３４、超音波洗浄水供給部３５、純水供給部３６、および乾燥部３７において基板Ｂに上記の所定の処理が順次施される。
　【００８１】
　基板Ｂを送り出した後の基板移載部２２は、シリンダ２６ｃの逆駆動によって元の水平姿勢に戻され、つぎの基板受入れ部２１からの基板Ｂを受入れ、再度水平姿勢から傾斜姿勢に傾動して処理装置本体３に送り込むという操作を順次繰り返すため、処理装置本体３内には、所定の間隔で基板Ｂが順次導入されることになる。
　【００８２】
　そして、処理装置本体３内では、各ローラ５１の上部に形成された基板通過経路５ａは、幅方向に傾斜が形成されているため、基板Ｂは傾斜姿勢を維持しつつ処理装置本体３内を搬送されることになり、その結果、基板Ｂの表裏面に供給された薬液や洗浄水が基板Ｂの傾斜面に沿って流下することによって基板Ｂの液切れが極めて良好になり、極めて高い洗浄作用が得られ、洗浄時間が短くて済むとともに、薬液の持ち出し量、消費量も低減され、また、薬洗槽３１ａと水洗槽３２ａとの間、水洗槽３２ａと乾燥槽３７ａとの間における基板Ｂの表裏面上での異種処理液の混合が確実に防止される。
　【００８３】
　ついで、乾燥部３７での乾燥処理が完了した基板通過経路５ａ上の基板Ｂは、図６に示すように、基板通過口３７ａ′を通って基板導出部４に向けて導出され、傾斜姿勢になっている基板移載部４２の円筒状ローラ５２上に向けて搬送される。その後、基板Ｂが乾燥槽３７ａから完全に導出された状態で第４駆動モータ４５ａの駆動が停止され、代って移載部傾動手段４６の駆動によるピストンロッド４６ｄの下降によって基板移載部４２のローラ支持部材４３は、図７に示すように水平姿勢になる。
　【００８４】
　この状態で基板Ｂは再度第４駆動モータ４５ａの駆動により、第３駆動モータ４１ｃの駆動で回転している基板引渡し部４１の円筒状ローラ５２上に移され、引き続き下流側引継ぎ手段４０に移される。上記の基板導出部４の動作は、基板Ｂが乾燥槽３７ａから導出される毎に繰り返される。
　【００８５】
　以上詳述した通り、本発明は、基板Ｂを処理装置本体３内で傾斜姿勢で搬送するようにしているため、処理装置本体３内を水平姿勢で搬送するものに比べ、各槽間での基板Ｂの表裏面における異種処理液の混合を防止するための液切り空間を余分に設けたり、液切りのための設備を別途設置する必要はなく、その分設備コストを安価にすることが可能になる。さらに、薬洗部３１や水洗部３２での薬液や洗浄水が速やかで、洗浄作用が極めて高く、洗浄に要する時間、すなわち、これらの部分を通過する時間が短くて済み、搬送速度が一定なら、これら薬洗部３１や水洗部３２を小型化することができる。そして、これらが相俟って、全体として処理装置本体３の長さ寸法を短くすることができるため、設置スペースの縮小化に寄与することができるようになる。さらに各槽間における基板Ｂの液切りのために従来用いられていた噴射用の気体が不要になるため、運転コストの低減にも寄与し得る。
　【００８６】
　また、ローラ５１が傾斜しているため、ローラ５１上の基板Ｂはローラ５１の下位の鍔部５３ｂによってのみ滑り落ちるのが阻止された状態で支持されているため、基板Ｂは幅寸法に拘らずローラ５１に支持され得るようになる。そして、上記下位の鍔部５３ｂを搬送される基板Ｂの基準位置に設定することにより、基板Ｂをそのサイズに拘らずローラ５１によって搬送しつつ処理することが可能になり、装置の汎用性を向上させる上で有効である。
　【００８７】
　しかも、処理装置本体３の上流側には基板導入部２が設けられ、これによって水平姿勢で搬送されてきた基板Ｂが処理装置本体３内の傾斜姿勢に変更されるとともに、同下流側には基板導出部４が設けられ、これによって処理装置本体３内での傾斜姿勢が水平姿勢に戻されるから、処理装置本体３内での基板Ｂの処理を傾斜姿勢で行うために、処理装置本体３の上流側および下流側の搬送手段の全てについて基板Ｂを傾斜姿勢で搬送し得るように改造する必要がなくなり、装置全体の設備コストを低減させる上で極めて有効である。
　【００８８】
　本発明は、以上の実施形態にのみ限定されるものではなく、以下の内容をも含むものである。
　【００８９】
　（１）上記の実施形態においては、搬送手段５としてローラコンベアが用いられているが、本発明は、搬送手段５がローラコンベアであることに限定されるものではなく、搬送手段５としてベルトコンベアあるいはワイヤコンベアを適用してもよい。また、基板導入部２や基板導出部４においても処理装置本体３で用いるものと同様の部分支持型ローラ５３を用いてもよい。
　【００９０】
　（２）上記の実施形態においては、処理装置本体３内には搬送手段５を挾むように上下に各種のノズルが設けられているが、搬送手段５の上方にのみノズルを設けるようにしてもよい。
　【００９１】
　（３）上記の実施形態においては、処理装置本体３の水洗部３２の下流側に乾燥部３７が配置されているが、本発明は乾燥部３７を水洗部３２の下流側に配することに限定されるものではない。例えば、乾燥装置として、基板Ｂを円盤上に固定して垂直軸心回りに高速回転させることにより遠心力で液を吹き飛ばして乾燥させる、いわゆるスピンナーが適用される場合には、水洗部３２の下流側に基板導出部４を配設し、この基板導出部４の下流側にスピンナーを配置するようなレイアウトが好適である。
　【００９２】
　【発明の効果】
　本発明は、処理装置本体内で搬送中の基板に対して処理液を供給することによって順次基板処理を行う基板処理装置において、上記処理装置本体内で基板を傾斜姿勢で搬送する搬送手段と、この搬送手段の上流側に設けられ、かつ、水平姿勢で受け入れた基板を上記傾斜に等しい傾斜姿勢に変更して上記搬送手段に導入する入口側移載手段と、上記搬送手段の下流側に設けられ、かつ、傾斜姿勢の基板を水平姿勢に戻す出口側移載手段とを備えてなるものであるため、前工程から送り込まれた基板は、入口側移載手段によって傾斜姿勢に変更され、処理装置本体内の搬送手段に引き渡され、搬送手段によって処理装置本体内を傾斜姿勢で搬送されつつ処理液の供給を受けて処理される。そして、処理装置本体内の下流端で出口側移載手段によって元の水平姿勢に戻され、後工程に向けて導出される。
　【００９３】
　このように、処理装置本体の上流側および下流側にそれぞれ移載手段を設けることにより、傾斜した処理装置本体内の搬送手段に対する基板の引き渡し操作、および搬送手段からの基板の受け取り操作が円滑に行い得るようになる。従って、本発明の基板処理装置を適用することにより、入口側および出口側の移載手段が設けられていない基板処理装置を適用する場合に比較し、全ての基板搬送経路を基板の搬送方向に直交する面内で傾斜させる必要はなくなるため、既存の設備仕様を大幅に変更することなく本基板処理装置を適用することが可能になり、設備コストの低減を図る上で有効である。
　【００９４】
　そして、処理装置本体内では、搬送手段が基板の搬送方向に直交する方向で水平面に対して傾斜され、これによって基板に供給された処理液の置換や液切れが良好に行われる。そのため、水平に基板を搬送する搬送手段が採用されている場合に比較して、液切りのための空間や、液切り手段を設ける必要がなくなり、洗浄作用の高さにより洗浄時間が短く、洗浄のための空間が小さくて済むことと相俟って基板の大型化に伴う基板処理装置の大型化を確実に抑制することができ、設備コストの低減上好都合である。
　【００９５】
　さらに、上記請求項８記載の発明によれば、搬送手段として基板の搬送方向に並設され、同方向に直交する支持軸を有する複数のローラを備えたローラコンベアが適用されているため、ローラコンベアの複数のローラ上に基板を載置した状態で各ローラを回転駆動させることにより基板は搬送される。そして、各ローラ間には隙間が形成されているため、この隙間を通して基板の裏面にも処理液を供給することができ、基板の表裏面に処理液を供給する点で有効である。
　【００９６】
　また、傾斜しているローラの下方の短縁部に基板滑り止めの鍔部を設けることにより、ローラ上の基板はこの鍔部で支持された状態になるため、基板の幅方向の寸法に変動があっても、上記鍔部による支持によって対応することが可能になり、基板サイズが変更される毎にローラの仕様変更を行う必要がなくなり、設備コストの低減を図る上で有効である。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明に係る基板処理装置の一実施実施形態を示す説明図である。
　【図２】
　基板導入部の一実施形態を示す一部切欠き斜視図であり、基板移載部が水平姿勢に設定された状態を示している。
　【図３】
　基板導入部の一実施形態を示す一部切欠き斜視図であり、基板移載部が傾斜姿勢に設定された状態を示している。
　【図４】
　薬洗部の一実施形態を示す説明図である。
　【図５】
　水洗部および乾燥部の一実施形態を示す説明図である。
　【図６】
　基板導出部の一実施形態を示す一部切欠き斜視図であり、基板移載部が傾斜姿勢に設定された状態を示している。
　【図７】
　基板導出部の一実施形態を示す一部切欠き斜視図であり、基板移載部が水平姿勢になった状態を示している。
　【符号の説明】
　１　基板処理装置　２　基板導入部
　２１　基板受入れ部　２１ｂ　ローラ支持板
　２２　基板移載部（入口側移載手段）
　２３　ローラ支持部材　２４　駆動手段支持枠
　２５　ローラ駆動機構　２６　移載部傾動手段
　３　処理装置本体　３１　薬洗部
　３１ａ　薬洗槽　３１ｂ　薬液供給ノズル
　３１ｃ　薬液槽　３２　水洗部
　３２ａ　水洗槽　３２ｂ　第１水槽
　３２ｃ　第２水槽　３３　低圧水供給部
　３３ａ　低圧水供給ノズル　３４　高圧水供給部
　３４ａ　高圧水供給ノズル　３５　超音波洗浄水供給部
　３５ａ　超音波水供給ノズル　３６　純水供給部
　３６ａ　純水供給ノズル　３７　乾燥部
　３７ａ　乾燥槽　３７ｂ　エアーナイフ
　４　基板導出部　４１　基板引渡し部
　４１ｂ　ローラ支持板　４２　基板移載部（出口側移載手段）
　４３　ローラ支持部材　４４　駆動手段支持枠
　４５　ローラ駆動機構　４６　移載部傾動手段
　５　搬送手段　５１　ローラ
　５２　円筒状ローラ　５２ａ　ローラ本体
　５２ｂ　鍔部　５３　部分支持型ローラ
　５３ａ　中央ローラ　５３ｂ　鍔部
　５３ｃ　基板支持ローラ　Ｂ　基板