【事件の表示】
　特許第３３３２０１０号「低燐溶銑の製造方法」の請求項７ないし１１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３３３２０１０号の請求項１０、１１、１２、１５に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件特許第３３３２０１０号は、平成１１年６月１８日（優先権主張　平成１０年６月１８日）の特許出願に係るものであって、平成１４年７月２６日に特許権の設定の登録がされたものであり、その後、新日本製鐵株式会社および株式会社神戸製鋼所より特許異議の申立てがなされた。
　そこで、当審より特許取消理由が通知され、その指定期間内である平成１５年１１月１０日に訂正請求がなされ、当審より特許異議申立人に対して審尋がなされ、新日本製鐵株式会社より回答書が提出されたものである。
　
２．訂正請求について
２−１．訂正の内容
　特許権者が求めている訂正の内容は、次のとおりである。
（１）訂正事項ａ
　本件特許の願書に添付した明細書(以下、本件明細書という。)の特許請求の範囲の請求項７〜１１に、
「【請求項７】　溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、脱燐処理容器から排出される排ガス中のＣＯとＣＯ２の濃度が下記(2)式を満足するような操業条件で脱燐処理を行うことを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　０．１０≦［ＣＯ２］／（［ＣＯ２］＋［ＣＯ］）≦０．３５　…(2)
　　　但し　［ＣＯ２］：排ガス中のＣＯ２濃度［ｗｔ％］
　　　　　　［ＣＯ］　：排ガス中のＣＯ濃度［ｗｔ％］
【請求項８】　溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、上吹きランスから溶銑に気体酸素を上吹きするとともに、該上吹きされた気体酸素の運動エネルギーにより形成される溶銑浴面の凹み深さＬ（ｍ）と溶銑の浴深さＬｏ（ｍ）の比Ｌ／Ｌｏと上吹きランスからの送酸速度Ｆ（Ｎｍ３／ｍｉｎ／Ｔ）が下記(3)式及び(4)式を満足するような条件で脱燐処理を行うことを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　０．０２≦Ｌ／Ｌｏ≦０．１０　　… (3)
　０．２５≦Ｆ≦１．５０　　　　　… (4)
【請求項９】　Ｓｉ濃度が０．１０ｗｔ％以下の溶銑を脱燐処理することを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６、７または８に記載の低燐溶銑の製造方法。
【請求項１０】　Ｓｉ濃度が０．１０ｗｔ％を超える溶銑を０．１０ｗｔ％以下のＳｉ濃度まで脱珪処理した後、脱燐処理することを特徴とする請求項９に記載の低燐溶銑の製造方法。
【請求項１１】　Ｆ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９または１０に記載の低燐溶銑の製造方法。」とあるを、
「【請求項７】Ｓｉ濃度が０．１０ｗｔ％以下の溶銑を脱燐処理することを特徴とする請求項１、２、３、４、５または６に記載の低燐溶銑の製造方法。
【請求項８】Ｓｉ濃度が０．１０ｗｔ％を超える溶銑を０．１０ｗｔ％以下のＳｉ濃度まで脱珪処理した後、脱燐処理することを特徴とする請求項７に記載の低燐溶銑の製造方法。
【請求項９】Ｆ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６、７または８に記載の低燐溶銑の製造方法。
【請求項１０】溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、上吹きランスから送酸を行い、脱燐処理容器から排出される排ガスのガス組成分析に基づき、前記上吹きランスからの送酸速度とランス高さを制御することにより、脱燐処理容器から排出される排ガス中のＣＯとＣＯ２の濃度が下記（２）式を満足するよう調整された操業条件で脱燐処理を行うことを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　０．１０≦［ＣＯ２］／（［ＣＯ２］＋［ＣＯ］）≦０．３５　…（２）
　　但し［ＣＯ２］：排ガス中のＣＯ２濃度［ｗｔ％］
　　　　［ＣＯ］：排ガス中のＣＯ濃度［ｗｔ％］
【請求項１１】溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、Ｆ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いて脱燐処理を行うとともに、脱燐処理容器から排出される排ガス中のＣＯとＣＯ２の濃度が下記（２）式を満足するような操業条件で脱燐処理を行うことを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　０．ｌ０≦［ＣＯ２］／（［ＣＯ２］＋［ＣＯ］）≦０．３５　…（２）
　　但し［ＣＯ２］：排ガス中のＣＯ２濃度［ｗｔ％］
　　　　［ＣＯ］：排ガス中のＣＯ濃度［ｗｔ％］
【請求項１２】溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、媒溶剤の供給量を５〜１３ｋｇ／Ｔとして脱燐処理を行い、該脱燐処理においては、上吹きランスから溶銑に気体酸素を上吹きするとともに、該上吹きされた気体酸素の運動エネルギーにより形成される溶銑浴面の凹み深さＬ（ｍ）と溶銑の浴深さＬｏ（ｍ）の比Ｌ／Ｌｏと上吹きランスからの送酸速度Ｆ（Ｎｍ３／ｍｉｎ／Ｔ）が下記（３）式及び（４）式を満足するような条件で脱燐処理を行うことを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　０．０２≦Ｌ／Ｌｏ≦０．１０　…（３）
　０．２５≦Ｆ≦１．５０　　　　…（４）
【請求項１３】溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、Ｓｉ濃度が０．１０ｗｔ％以下の溶銑を脱燐処理し、該脱燐処理においては、上吹きランスから溶銑に気体酸素を上吹きするとともに、該上吹きされた気体酸素の運動エネルギーにより形成される溶銑浴面の凹み深さＬ（ｍ）と溶銑の浴深さＬｏ（ｍ）の比Ｌ／Ｌｏと上吹きランスからの送酸速度Ｆ（Ｎｍ３／ｍｉｎ／Ｔ）が下記（３）式及び（４）式を満足するような条件で脱燐処理を行うことを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　０．０２≦Ｌ／Ｌｏ≦０．１０　…（３）
　０．２５≦Ｆ≦１．５０　　　　…（４）
【請求項１４】溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、Ｓｉ濃度が０．１０ｗｔ％を超える溶銑を０．１０ｗｔ％以下のＳｉ濃度まで脱珪処理した後、脱燐処理し、該脱燐処理においては、上吹きランスから溶銑に気体酸素を上吹きするとともに、該上吹きされた気体酸素の運動エネルギーにより形成される溶銑浴面の凹み深さＬ（ｍ）と溶銑の浴深さＬｏ（ｍ）の比Ｌ／Ｌｏと上吹きランスからの送酸速度Ｆ（Ｎｍ３／ｍｉｎ／Ｔ）が下記（３）式及び（４）式を満足するような条件で脱燐処理を行うことを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　０．０２≦Ｌ／Ｌｏ≦０．１０　…（３）
　０．２５≦Ｆ≦１．５０　　　　…（４）
　【請求項１５】溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、Ｆ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いて脱燐処理を行い、該脱燐処理においては、上吹きランスから溶銑に気体酸素を上吹きするとともに、該上吹きされた気体酸素の運動エネルギーにより形成される溶銑浴面の凹み深さＬ（ｍ）と溶銃の浴深さＬｏ（ｍ）の比Ｌ／Ｌｏと上吹きランスからの送酸速度Ｆ（Ｎｍ３／ｍｉｎ／Ｔ）が下記（３）式及び（４）式を満足するような条件で脱憐処理を行うことを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　０．０２≦Ｌ／Ｌｏ≦０．１０　…（３）
　０．２５≦Ｆ≦１．５０　　　　…（４）」に訂正する。
　
（２）訂正事項ｂ
　本件明細書中、段落【００１５】に、
「[6]溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、固体酸素源及び／又は媒溶剤を２００℃以上、１０００℃未満の温度に予熱した後、溶銑に添加することを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
[7]溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、脱燐処理容器から排出される排ガス中のＣＯとＣＯ２の濃度が下記(2)式を満足するような操業条件で脱燐処理を行うことを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　０．１０≦［ＣＯ２］／（［ＣＯ２］＋［ＣＯ］）≦０．３５　　… (2)
　但し　［ＣＯ２］：排ガス中のＣＯ２濃度［ｗｔ％］
　　　　［ＣＯ］ ：排ガス中のＣＯ濃度［ｗｔ％］」とあるを、
「[6]溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、固体酸素源及び／又は媒溶剤を２００℃以上、１０００℃未満の温度に予熱した後、溶銑に添加することを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　[7]上記[1]〜[6]のいずれかの製造方法において、Ｓｉ濃度が０．１０重量％以下の溶銑を脱燐処理することを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　[8]上記［7］の製造方法において、Ｓｉ濃度が０．１０重量％を超える溶銑を０．１０重量％以下のＳｉ濃度まで脱珪処理した後、脱燐処理するこ　とを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　[9]上記[1]〜[8]のいずれかの製造方法において、Ｆ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いることを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　[10]溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、上吹きランスから送酸を行い、脱燐処理容器から排出される排ガスのガス組成分析に基づき、前記上吹きランスからの送酸速度とランス高さを制御することにより、脱燐処理容器から排出される排ガス中のＣＯとＣＯ２の濃度が下記（２）式を満足するよう調整された操業条件で脱燐処理を行うことを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　０．１０ ≦［ＣＯ２］／（［ＣＯ２］＋［ＣＯ］）≦ ０．３５　…（２）
　　但し［ＣＯ２］：排ガス中のＣＯ２濃度［ｗｔ％］
　　　　［ＣＯ］：排ガス中のＣＯ濃度［ｗｔ％］
　[11]溶銑予備処理として行われる脱憐処理において、Ｆ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いて脱燐処理を行うとともに、脱燐処理容器から排出される排ガス中のＣＯとＣＯ２の濃度が下記（２）式を満足するような操業条件で脱燐処理を行うことを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　０．１０ ≦［ＣＯ２］／（［ＣＯ２］＋［ＣＯ］）≦ ０．３５　…（２）
　　但し［ＣＯ２］：排ガス中のＣＯ２濃度［ｗｔ％］
　　　　［ＣＯ］：排ガス中のＣＯ濃度［ｗｔ％］」に訂正する。
　
（３）訂正事項ｃ
　本件明細書中、段落【００１６】に、「[8]溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、上吹きランスから」とあるを、
「[12]溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、媒溶剤の供給量を５〜１３ｋｇ／Ｔとして脱燐処理を行い、該脱燐処理においては、上吹きランスから」と訂正する。
　
（４）訂正事項ｄ
　本件明細書中、段落【００１７】に、
「[9] 上記[1]〜[8]のいずれかの製造方法において、Ｓｉ濃度が０．１０重量％以下の溶銑を脱燐処理することを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
[10] 上記[9]の製造方法において、Ｓｉ濃度が０．１０重量％を超える溶銑を０．１０重量％以下のＳｉ濃度まで脱珪処理した後、脱燐処理することを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
[11] 上記[1]〜[10]のいずれかの製造方法において、Ｆ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いることを特徴とする低燐溶銑の製造方法。」とあるを、
「[13]溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、Ｓｉ濃度が０．１０ｗｔ％以下の溶銑を脱燐処理し、該脱燐処理においては、上吹きランスから溶銑に気体酸素を上吹きするとともに、該上吹きされた気体酸素の運　動エネルギーにより形成される溶銑浴面の凹み深さＬ（ｍ）と溶銑の浴深さＬｏ（ｍ）の比Ｌ／Ｌｏと上吹きランスからの送酸速度Ｆ（Ｎｍ３／ｍｉｎ／Ｔ）が下記（３）式及び（４）式を満足するような条件で脱燐処理を行うことを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　　　０．０２≦Ｌ／Ｌｏ≦０．１０　…（３）
　　　０．２５≦Ｆ≦１．５０　…（４）
　[14]溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、Ｓｉ濃度が０．１０ｗｔ％を超える溶銑を０．１０ｗｔ％以下のＳｉ濃度まで脱珪処理した後、脱燐処理し、該脱燐処理においては、上吹きランスから溶銑に気体酸素を上吹きするとともに、該上吹きされた気体酸素の運動エネルギーにより形成される溶銑浴面の凹み深さＬ（ｍ）と溶銑の浴深さＬｏ（ｍ）の比Ｌ／Ｌｏと上吹きランスからの送酸速度Ｆ（Ｎｍ３／ｍｉｎ／Ｔ）が下記（３）式及び（４）式を満足するような条件で脱燐処理を行うことを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　　　０．０２≦Ｌ／Ｌｏ≦０．１０　…（３）
　　　０．２５≦Ｆ≦１．５０　…（４）
　[15]溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、Ｆ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いて脱燐処理を行い、該脱燐処理においては、上吹きランスから溶銑に気体酸素を上吹きするとともに、該上吹きされた気体酸素の運動エネルギーにより形成される溶銑浴面の凹み深さＬ（ｍ）と溶銑の浴深さＬｏ（ｍ）の比Ｌ／Ｌｏと上吹きランスからの送酸速度Ｆ（Ｎｍ３／ｍｉ ｎ／Ｔ）が下記（３）式及び（４）式を満足するような条件で脱燐処理を行うことを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　　　０．０２≦Ｌ／Ｌｏ≦０．１０　…（３）
　　　０．２５≦Ｆ≦１．５０　…（４）」に訂正する。
　
（５）訂正事項ｅ
　明細書の段落【０１００】の表５の記載中、「本発明例４」を削除するとともに、「本発明例５，６，７」の実施例番号を順に繰り上げ、「本発明例４，５，６」と訂正する。
　
２−２．訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
２−２−１．訂正事項ａについて
２−２−１−１．訂正前後の請求項の対応関係
（１−１）　訂正前の請求項７、８をそれぞれ「訂正後の請求項１０、１２」とする。
（１−２）　訂正前の請求項９は、請求項１〜８を引用するものであるが、これを、イ．「請求項１〜６を引用する請求項９」と、ロ．「請求項８を引用する請求項９」の２つに分け、イ．を「訂正後の請求項７」とし、ロ．を「訂正後の請求項１３」とした。なお、訂正前の「請求項７を引用する請求項９」は実質的に削除された。
（１−３）　訂正前の請求項１０は、訂正前の請求項９（この請求項は請求項１〜８を引用している）を引用するものであるが、これを、イ．「請求項１〜６を引用する請求項９を更に引用する請求項１０」と、ロ．「請求項８を引用する請求項９を更に引用する請求項１０」に分け、イ．を「訂正後の請求項８」とし、ロ．を「訂正後の請求項１４」とした。なお、訂正前の「請求項７を引用する請求項９を更に引用する請求項１０」は実質的に削除された。
（１−４）　訂正前の請求項１１は、訂正前の請求項１〜１０を引用するものであるが、これを、イ．「請求項１〜６、訂正前の請求項１〜６を引用する請求項９、訂正前の請求項１〜６を引用する請求項９を引用する請求項１０、を各々更に引用する請求項１１」と、ロ．「請求項７を引用する請求項１１」と、ハ．「請求項８を引用する請求項１１」に分け、イ．を「訂正後の請求項９」とし、ロ．を「訂正後の請求項１１」とし、ハ．を「訂正後の請求項１５」とした。なお、「訂正前の請求項７を引用する請求項９を引用する請求項１１」、「請求項７を引用する請求項９を引用する請求項１０を引用する請求項１１１、「請求項８を引用する請求項９を引用する請求項１１」、「請求項８を引用する請求項９を引用する請求項１０を引用する請求項１１」は実質的に削除された。
（１−５）　以上をまとめると、訂正前後の請求項の対応関係は次のとおりである。
　訂正前請求項７　→　訂正後請求項１０
　訂正前請求項８　→　訂正後請求項１２
　訂正前請求項９　→　訂正後請求項７，１３
　訂正前請求項１０→　訂正後請求項８，１４
　訂正前請求項１１→　訂正後請求項９，１１，１５
　
２−２−１−２．訂正の内容の検討
（２−１）上記のように、訂正後の請求項７は「訂正前の請求項１〜６を引用する請求項９」に、同じく請求項８は「訂正前の請求項１〜６を引用する請求項９を更に引用する請求項１０」に、同じく請求項９は「訂正前の請求項１〜６、請求項１〜６を引用する請求項９、請求項１〜６を引用する請求項９を引用する請求項１０、を各々更に引用する請求項１１」にするものであり、訂正前の引用関係を整理して新たな請求項として表現しただけであり、記載内容に変更はない。
（２−２）　訂正後の請求項１０は「訂正前の請求項７」において、排ガス中のＣＯ、ＣＯ２の濃度の制御手段及び方法である「上吹きランスから送酸を行い、脱燐処理容器から排出される排ガスのガス組成分析に基づき、前記上吹きランスからの送酸速度とランス高さを制御することにより、」を限定し、さらに「排ガス中のＣＯとＣＯ２の濃度が下記（２）式を満足するような操業条件で脱燐処理を行う」を「排ガス中のＣＯとＣＯ２の濃度が下記（２）式を満足するよう調整された操業条件で脱燐処理を行う」と限定するものである。
　これらの限定は、本件明細書の段落【００５１】の「脱燐処理容器から排出される排ガスの［ＣＯ２］／（［ＣＯ２］＋［ＣＯ］）は、例えば、溶銑に対する送酸を上吹きランスから行う場合には、送酸速度とランス高さを制御することで容易に調整することができる。また、この発明の脱燐処理を実施する場合、脱燐処理容器から排出される排ガスのガス組成分析を行い、このガス組成分析値に基づき上記の制御を行えば、排ガスの［ＣＯ２］／（［ＣＯ２］＋［ＣＯ］）をオンラインで容易にコントロールすることができる。」という記載を根拠とするものである。
（２−３）　訂正後の請求項１１は「訂正前の請求項７を引用する請求項１１」に該当し、これを独立請求項として記載したもので、記載内容に変更はない。
（２−４）　訂正後の請求項１２は「訂正前の請求項８」に該当するもので、媒溶剤の供給量について「媒溶剤の供給量を５〜１３ｋｇ／Ｔとして脱燐処理を行い、」を限定したものである。
　この限定は、本件明細書の段落【００７０】に記載された「媒溶剤の供給量は溶銑中のＳｉ、Ｓ、Ｐ濃度に応じ決められるが、スラグ発生量の低減化の観点から２０ｋｇ／Ｔ以下の供給量とすることが望ましい。」という記載、及び、訂正前の請求項８に係る発明の実施例が記載された、本件明細書の表５の「本発明例３」の［媒溶剤投入速度０．５ｋｇ／ｍｉｎ／Ｔ］×［媒溶剤投入時間１０分］から算出される媒溶剤供給量：５ｋｇ／Ｔ、同じく表７の「本発明例９，１０」の媒溶剤供給量：１３ｋｇ／Ｔを根拠とするものである。 
（２−５） 訂正後の請求項１３は「訂正前の請求項８を引用する請求項９」に、同じく訂正後の請求項１４は「訂正前の請求項８を引用する請求項９を引用する請求項１０」に、各々該当し、これらを独立請求項として記載したもので、内容の変更はない。
（２−６）　訂正後の請求項１５は「訂正前の請求項８を引用する請求項１１」に該当し、これを独立請求項として記載したもので、記載内容に変更はない。
　
２−２−１−３．訂正事項ａについてのまとめ
　以上のとおりであるから、訂正事項ａは、特許請求の範囲の滅縮を目的とするものである。また、願書に添付した明細書及び図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
　
２−２−２．訂正事項ｂ〜ｅについて、
　訂正事項ｂ〜ｅは、上記訂正事項ａにより特許請求の範囲を訂正したことに伴い、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載との整合性を図るものであり、この訂正は、明りようでない記載の釈明を目的とするものである。
　そして、上記訂正事項ｂ〜ｅは、願書に添付した明細書及び図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
　
２−３．訂正の適否についての結論
　以上のとおりであるから、上記訂正請求は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項で準用する第１２６条第２項乃至３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．特許異議の申立てについての判断
３−１．異議申立て及び取消理由の概要
　特許異議申立人・新日本製鐵株式会社の特許異議申立書に記載された具体的な申立理由は、その第３頁第１１行〜第７頁第１９行の記載を参照すると、訂正前の「請求項８」及び「請求項８を引用する請求項１１」に係る発明は、甲第１、２号証（取消理由の刊行物１，２に相当。）に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、それらの発明に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである、というものである。
　また、特許異議申立人・株式会社神戸製鋼所の特許異議申立書に記載された具体的な申立理由は、その第５頁第２３行〜第１４頁第３行の記載を参照すると、訂正前の「請求項７」に係る発明は、甲第１、２号証（取消理由の刊行物３、４に相当。）に記載された発明であり、また、訂正前の「請求項７」、「請求項７を引用する請求項９」、「請求項７を引用する請求項９を引用する請求項１０」、「請求項７を引用する請求項１１」、「請求項７を引用する請求項９を引用する請求項１１」、「請求項７を引用する請求項９を引用する請求項１０を引用する請求項１１」に係る発明は、甲第１〜５号証（取消理由の刊行物３〜７に相当。）に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、それらの発明に係る特許は、特許法第２９条第１項第３号あるいは同第２９条第２項の規定に違反してされたものである、というものである。
　
３−２．異議の申立をされた請求項について
　上記３−１で述べたように、異議の申立をされ、取消理由通知の対象となった訂正前の請求項は、以下のものである。
　イ．請求項７
　ロ．請求項７を引用する請求項９
　ハ．請求項７を引用する請求項９を引用する請求項１０
　ニ．請求項７を引用する請求項１１
　ホ．請求項７を引用する請求項９を引用する請求項１１
　ヘ．請求項７を引用する請求項９を引用する請求項１０を引用する請求項１１
　ト．請求項８
　チ．請求項８を引用する請求項１１
　そして、ロ．の請求項７を引用する請求項９は訂正により削除されているから、訂正前の上記イ〜チの請求項と対応する訂正後の請求項は、請求項１０（イと対応）、請求項１１（ニと対応）、請求項１２（トと対応）、請求項１５（チと対応）のみであるから、審理の対象となる訂正後の請求項は、請求項１０，１１，１２，１５である。
　
３−３．審理すべき本件発明について
　審理すべき本件特許の請求項１０，１１，１２，及び、１５に係る発明は、前記訂正請求書に添付された訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１０，１１，１２，及び、１５に記載された次の事項により特定されるとおりのものである。
　【請求項１０】溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、上吹きランスから送酸を行い、脱燐処理容器から排出される排ガスのガス組成分析に基づき、前記上吹きランスからの送酸速度とランス高さを制御することにより、脱燐処理容器から排出される排ガス中のＣＯとＣＯ２の濃度が下記（２）式を満足するよう調整された操業条件で脱燐処理を行うことを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　０．１０≦［ＣＯ２］／（［ＣＯ２］＋［ＣＯ］）≦０．３５　…（２）
　　但し［ＣＯ２］：排ガス中のＣＯ２濃度［ｗｔ％］
　　　　［ＣＯ］：排ガス中のＣＯ濃度［ｗｔ％］
　【請求項１１】溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、Ｆ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いて脱燐処理を行うとともに、脱燐処理容器から排出される排ガス中のＣＯとＣＯ２の濃度が下記（２）式を満足するような操業条件で脱燐処理を行うことを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　０．ｌ０≦［ＣＯ２］／（［ＣＯ２］＋［ＣＯ］）≦０．３５　…（２）
　　但し［ＣＯ２］：排ガス中のＣＯ２濃度［ｗｔ％］
　　　　［ＣＯ］：排ガス中のＣＯ濃度［ｗｔ％］
　【請求項１２】溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、媒溶剤の供給量を５〜１３ｋｇ／Ｔとして脱燐処理を行い、該脱燐処理においては、上吹きランスから溶銑に気体酸素を上吹きするとともに、該上吹きされた気体酸素の運動エネルギーにより形成される溶銑浴面の凹み深さＬ（ｍ）と溶銑の浴深さＬｏ（ｍ）の比Ｌ／Ｌｏと上吹きランスからの送酸速度Ｆ（Ｎｍ３／ｍｉｎ／Ｔ）が下記（３）式及び（４）式を満足するような条件で脱燐処理を行うことを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　０．０２≦Ｌ／Ｌｏ≦０．１０　…（３）
　０．２５≦Ｆ≦１．５０　　　　…（４）
　【請求項１５】溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、Ｆ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いて脱燐処理を行い、該脱燐処理においては、上吹きランスから溶銑に気体酸素を上吹きするとともに、該上吹きされた気体酸素の運動エネルギーにより形成される溶銑浴面の凹み深さＬ（ｍ）と溶銃の浴深さＬｏ（ｍ）の比Ｌ／Ｌｏと上吹きランスからの送酸速度Ｆ（Ｎｍ３／ｍｉｎ／Ｔ）が下記（３）式及び（４）式を満足するような条件で脱憐処理を行うことを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　０．０２≦Ｌ／Ｌｏ≦０．１０　…（３）
　０．２５≦Ｆ≦１．５０　　　　…（４）」
　
３−４．刊行物１〜７について
　ここで、特許異議申立人・新日本製鐵株式会社の提出した甲第１、２号証をそれぞれ刊行物１、２とし、特許異議申立人・株式会社神戸製鋼所の提出した甲第１〜５号証をそれぞれ刊行物３〜７とする。そして、各刊行物には以下の事項が記載されている。
　
（１）刊行物１：特開平８−７３９１５号公報
　溶銑の脱燐脱硫精錬方法に関し、【特許請求の範囲】の【請求項１】には「上吹きランスから酸素を供給し、かつ鋼浴をガス撹拌せしめる精錬装置において、上吹きランスから吐出したガスの運動エネルギーによる溶銑面の凹み深さＬ（ｍｍ）と浴深Ｌｏ（ｍｍ）の比Ｌ／Ｌｏを、０．３以上０．７以下、酸素供給速度Ｆ（Ｎｍ３／（ｍｉｎ・ｔｏｎ））を０．３以上０．９以下」とすることが記載され、また、段落【００１３】には、「図１は、Ｌ／Ｌｏと脱燐率、脱硫率の関係を示したものであるが、Ｌ／Ｌｏが０．３よりも小さい場合には、（Ｔ．Ｆｅ）が高くなるため脱硫率が悪化し、０．７よりも大きい場合には（Ｔ．Ｆｅ）が低くなるため脱燐率が悪化している。…また、Ｌ／Ｌｏが適正範囲であっても、酸素供給速度が０．３（Ｎｍ３／（ｍｉｎ・ｔｏｎ））よりも小さい場合には、酸素供給が不足して（Ｔ．Ｆｅ）が低くなるため脱燐率が低下し、…」と記載されている。
　
（２）刊行物２：特開平９−１４３５２９号公報
　溶銑の脱りん方法に関し、【特許請求の範囲】の【請求項１】には「溶銑にＣａＯ源及び酸素源を添加して溶銑の脱りん処理を行うに際し、…ＣａＦ２、ＣａＣｌ２等の滓化剤を添加すること無く微紛ＣａＯ源をスラグ中のＣａＯとＳｉＯ２比が１．７〜２．１モル比となるように添加することを特徴とする溶銑の脱りん方法」が記載され、また、段落【００２４】に「この様に、強撹拌として粒径の小さなＣａＯ源を用いることによりＣａＦ２などの滓化剤を利用することなく極めて速やかに生石灰の滓化反応が生じるので脱珪反応と脱りん反応を短時間のうちに進行させることが可能となり、しかもこの場合りん濃度が低下した後の復りん反応は極めて緩慢にしか進まない。これは固体化合物としてりんが安定に固定されているためである。」と記載されている。
　
（３）刊行物３：「鉄と鋼」Ｖｏｌ．７０，Ｎｏ．４（１９８４年３月）第１２８頁
　溶銑予備処理時の排ガス特性に関して、「１　緒言」の欄第１〜４行には、「近年、溶銑予備処理は、精練機能の合理化と高級鋼製造を目的として、開発から実用化段階へと移行しつつある。当所でも、ＣａＯ系フラックスによる混銑車脱ＰＳ処理プロセスの実用化を本年末に計画している。」と記載されている。
　また、「２　実験方法」の欄第１〜５行には、「溶銑脱Ｐ方法として、３５０ｔｏｎの混銑車内にＣａＯ系フラックス（ＣａＯ：ＣａＦ２：ＦｅＯ＝４３：１４：４３）をインジェクションすると同時に、気体酸素を上吹きする方式を採用し、処理中の生ガスおよびダストは混銑車炉口より真空吸引法で採取した。」と記載されており、採取された排ガスの生ガス換算組成が、ＣＯ：７５、ＣＯ２：１８、Ｈ２：５、Ｎ２：２（Ｖｏｌ％）であることがTable　１に示されている。
　
（４）刊行物４：特開昭５７−９２１２１号公報
　転炉内鋼浴の燐濃度推定方法に関し、特許請求の範囲には、「転炉に吹き込んだ酸素量と、転炉内から排出されるガスの分析結果とに基き鋼浴成分の酸化に．用いられる有効酸素量を求める一方、サブランスにより任意の時点の鋼浴温度および鋼浴中の炭素量を求め、この炭素量と前記有効酸素量とを用いてスラグ中の酸化鉄量を算出し、この酸化鉄量と前記鋼浴温度と転炉への装入材料に関連するデータとに基づき鋼浴中の燐濃度を算出することを特徴とする転炉内鋼浴の燐濃度推定方法。」が記載され、その際の転炉内から排出されるガスについて、
「（２）高炭素キルド鋼の転炉吹錬の場合において質量分析計を用いて排ガス組成を測定した。…
サブランス測定時点までの平均排ガス組成
％ＣＯ：６３．２　％ＣＯ２：１２．８　％Ｎ２：１６．４　％Ｏ２：０．５」（２頁右下欄第１〜１１行）と記載されている。
　
（５）刊行物５：特許第２６３４８０９号公報
　溶銑予備処理法に関し、【特許請求の範囲】の【請求項１】には、「高炉鋳床の溶銑樋において、溶銑上に設置された又は溶銑中に浸漬して設置された１個又は複数個のランスノズルを通じてキャリアガスにて脱Ｓｉ剤を、処理後のスラグ塩基度が０．５以上１．０以下となるように配合し、１個のランスノズル当たり５〜２５ｋｇ／Ｔｏｎで溶銑中に吹き込み、処理後の［Ｓｉ］が０．１％以下となるように脱Ｓｉ処理し、生成スラグを鋳床樋にて自然排滓する第一工程と、トピードカー又は溶銑鍋に受銑後脱Ｐ剤を、浸漬されたランスノズルからキャリアガスにて吹込み、脱Ｐする第二工程からなる溶銑予備処理法。」が記載されている。
　
（６）刊行物６：特開平１−１３６９１７号公報
　溶銑予備処理法に関し、特許請求の範囲（１）には、「高炉鋳床の溶銑樋において、溶銑上に設置された又は溶銑中に浸漬して設置された１個又は複数個のランスノズルを通じてＯ２含有気体で且つ以下の式で定義される気酸率が１０〜６０％のキャリアガスにて脱Ｓｉ剤を処理後のスラグ塩基度が０．５以上となるよう１個のランスノズル当たり５〜２５ｋｇ／Ｔｏｎで溶銑中に吹き込み、処理後の［Ｓｉ］が０．１％以下となるように脱Ｓｉ処理し、生成スラグと共に溶銑を傾注樋を経てトピードカー又は溶銑鍋に受入後、排滓する第一工程と浸漬されたランスノズルから脱Ｐ剤をキャリアガスにて吹込み脱Ｐする第二工程からなることを特徴とする溶銑予備処理法。
　　気酸率（％）＝キャリアガスＯ２（ｋｇ／ｔ）／脱Ｓｉ剤中Ｏ２分（ｋｇ／ｔ）＋キャリアガスＯ２（ｋｇ／ｔ）　×１００」が記載されている。
　
（７）刊行物７：特開平８−３１９５０６号公報
　溶銑の脱燐方法に関し、【特許請求の範囲】の【請求項１】には、「高炉を用いて溶銑を製造し、その溶銑を反応炉に装入した後に脱燐剤を投入して溶銑の脱燐処理を行い、その後この溶銑を転炉に装入しさらに吹錬を行う脱燐方法において、反応炉において得られるスラグや、転炉での吹錬後に得られるスラグを高炉に再装入して溶銑を製造し、高炉から出銑される溶銑中のＳｉ濃度を０．１５重量％以下、Ｐ濃度を０．２６重量％以下に成分を調整した後に、この溶銑を反応炉に装入してその溶銑中に燐分配比ＬＰが１１０以上である脱燐剤を投入し、酸素を吹き付けて吹錬することを特徴とする溶銑の脱燐方法。」が記載され、また、実施例の【表１】には、処理前の溶銑中のＳｉ濃度が０．１０％および０．０５％のものが示されている。
　さらに、「例えば、ＣａＦ２等のハロゲン化合物は高炉の炉況を悪化させるので、スラグを貯蔵する通常時には、ＣａＦ２を使用しない溶銑処理を実施した。」（段落【００２８】）と記載されている。
　
３−５．当審の判断
３−５−１．請求項１０に係る発明（以下、本件請求項１０発明という。）について
（１−１）本件請求項１０発明について
　本件請求項１０発明は、溶銑の予備処理として行われる脱燐処理において、脱燐反応効率の向上には脱燐処理により発生した排ガスを二次燃焼させることが有効であり、排ガスの二次燃焼率を或る適正範囲に制御することにより、脱燐効率が飛躍的に向上するという知見に基づいてなされたもので（本件明細書段落【００１０】）、具体的には、特許請求の範囲の請求項１０に記載されているように、上吹きランスから送酸を行う溶銑脱燐処理において、脱燐処理容器から排出される排ガスのガス組成分析を行い、このガス組成分析に基づき上吹きランスからの送酸速度とランス高さを制御し、この制御によって脱燐処理容器から排出される排ガス中のＣＯ濃度［ｗｔ％］とＣＯ２濃度［ｗｔ％］を下記（２）式の特定の条件、
　０．１０≦［ＣＯ２］／（［ＣＯ２］＋［ＣＯ］）≦０．３５　…（２）式
を満足するよう調整しつつ脱燐処理を行うことを特徴とするものである。
　
（１−２）刊行物３に記載の発明との対比
　本件請求項１０発明と刊行物３記載の発明を対比すると、刊行物３には、本件請求項１０発明と同様、溶銑予備処理について記載され、刊行物３のTable.１に示された排ガスの組成を重量比率に換算して［ＣＯ２］／（［ＣＯ２］＋［ＣＯ］）の値を計算すると０．２７３となり、この値は本件請求項１０発明の上記（２）式を満足している。
　しかしながら、刊行物３は、その「１　緒言」に記載されているように、「脱ＰＳ処理において上吹き気体酸素を併用する方式では、発生する大量のＣＯガスの処理が問題となる」という問題認識の下に、溶銑予備処理時の排ガス特性を調査し、その排ガス処理の方策として、「４　結語」に記載のような排ガス処理設備の設計などを考察した技術文献である。そして、そのために或る操業時の排ガス、ダストを採取してそれらの組成等を分析するとともに、排ガス発生速度を算出したものであり、その際のガス組成分析の結果として、前記排ガス組成が単に示されているにすぎず、このような刊行物３には、本件請求項１０発明の、脱燐処理容器内での排ガスの二次燃焼率を積極的に制御し、この二次燃焼率の制御によって、二次燃焼による発熱→スラグ着熱を通じてＣａＯの溶解促進を図るという点（本件明細書段落【００５０】）は示されていない。
　この点について、異議申立人は、刊行物３には、炉内二次燃焼が抑制されれば、ＣＯ濃度の高い排ガス、即ち、ＣＯ２濃度が低い排ガスとなると記載されているから、脱燐原理からして脱燐反応を促進させるためには二次燃焼効率を高めるのが有効であることを考えれば、排ガス中のＣＯ２濃度を或る程度以上にすることは当業者が容易に理解できるはずであると主張するが、本件請求項１０発明が特徴とする、「脱燐処理容器から排出される排ガスのガス組成分析を行い、このガス組成分析に基づき上吹きランスからの送酸速度とランス高さを制御し、この制御によって排ガスの二次燃焼率を特定の条件（ＣＯ、ＣＯ２濃度に関する（２）式の条件）に制御する」（同段落【００５１】）という、排ガス組成分析、制御手法、及び、排ガス組成条件維持という一連の技術的構成は、刊行物３には何ら示されていないし、これを示唆するところもない。
　
（１−３）刊行物４記載の発明との対比
　本件請求項１０発明と刊行物４記載の発明を対比すると、刊行物４に記載の技術は、溶銑予備処理が一般化する以前の技術である「転炉吹錬法」に関するものであり、本件発明が対象とする「溶銑予備処理として行われる脱燐処理」とは異なる技術である。
　また、この刊行物４に記載された方法自体も、転炉に吹き込んだ酸素量、排ガス組成、鋼浴温度、鋼浴中の炭素量などのデータに基づいて、鋼浴中の燐濃度を推定するものであり、先に述べたような特徴を有する本件請求項１０発明とは異なる。
　また、排ガス組成についても、同刊行物の発明である「鋼浴中燐濃度の推定方法」を説明するために、実際に測定された排ガス組成の一例が示されているにすぎず、このような単なる排ガス組成から本件請求項１０発明の特徴が示唆されないことは、刊行物３と同様である。
　したがって、刊行物４には、本件請求項１０発明の上記技術的構成が示唆されていないことは明らかである。
　
（１−４）刊行物５、６、７に記載の発明との対比
　刊行物５、６、７には、上記摘記したように、脱Ｓｉした後脱Ｐする溶銑予備処理において、溶鉄中のＳｉ濃度を所定の値以下に調整してから脱燐処理することが示されているが、上記本件発明の排ガスの組成分析、排ガスの組成制御手法、及び、排ガス組成を特定範囲に調整しつつ脱燐処理という構成の結合を何ら示唆するような記載はない。
　また、刊行物７には、ＣａＦ２等のハロゲン化合物は高炉の炉況悪化させるので、スラグを貯蔵する通常時には、ＣａＦ２を使用しない溶銑処理を実施したことは記されているが、同様に上記本件請求項１０発明の構成を何ら示唆するものではない。
　
（１−５）まとめ
　したがって、本件請求項１０発明は、刊行物３，４に記載された発明ではないし、また、刊行物３、４或いは３〜７に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものでもないから、その発明に係る特許は、特許法第２９条第１項第３号あるいは同条第２項の規定に違反してされたものであるとはいえない。
　
３−５−２．請求項１１に係る発明（以下、本件請求項１１発明という。）について
（２−１）本件請求項１１発明について
　本件請求項１１発明は、溶銑の予備処理として行われる脱燐処理に関し、Ｆ源を含まないＣａＯ系媒溶剤を用いた場合でも脱燐反応効率を向上させるためには脱燐処理により発生した排ガスを二次燃焼させることが有効であり、排ガスの二次燃焼率を或る適正範囲に制御することにより、ＣａＦ２などのＦ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いる操業条件下においても高い脱燐反応効率が得られるという知見に基づくもので（本件明細書段落【００１０】）、具体的には、本件特許請求の範囲の請求項１１に記載されているように、溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、Ｆ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いて脱燐処理を行うとともに、脱燐処理容器から排出される排ガス中のＣＯ濃度［ｗｔ％］とＣＯ２濃度［ｗｔ％］を下記（２）式の特定の条件、
　０．１０≦［ＣＯ２］／（［ＣＯ２］＋［ＣＯ］）≦０．３５　…（２）式
を満足するような操業条件で脱燐処理を行うことを特徴とするものである。
　そして、このような本件請求項１１発明の構成によれば、ＣａＦ２などのＦ源を含まない操業条件下において、排ガスを特定の条件で二次燃焼させることより発生した熱がスラグに着熱するため、ＣａＯの溶解が効果的に促進され、この結果、高い脱燐反応効率で脱燐処理を行うことができるものである（同段落【００４９】、【００５０】）。
　
（２−２）刊行物３に記載の発明との対比
　本件請求項１１発明と刊行物３に記載の発明を対比すると、刊行物３には、溶銑予備処理について記載され、Table.１には、本件請求項１１発明の上記（２）式を満足している排ガスの組成も記載されている。
　しかしながら、刊行物３は、或る操業時の排ガス、ダストを採取してそれらの組成等を分析するとともに、排ガス発生速度を算出したものであり、その際のガス組成分析の結果が単に示されているにすぎない。
　また、本件請求項１１発明では、Ｆ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いて脱燐処理を行うのに対して、刊行物３に記載の方法で行われている操業では、ＣａＦ２を含有するＣａＯ系フラックス（ＣａＦ２：１４％）が用いられている。
　したがって、この刊行物３の記載からは、ＣａＦ２などのＦ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を用い、排ガスの二次燃焼率を特定の範囲とした操業条件で脱燐処理を行うことにより、二次燃焼による発熱→スラグ着熱を通じてＣａＯの溶解促進を図る（本件明細書段落【００４９】、【００５０】）、という本件請求項１１発明の技術手法は示唆されない。
　そして、本件請求項１１発明が規定するような排ガスの二次燃焼率の下で脱燐処理を行えば、ＣａＦ２などの環境に有害なＦ源を添加しなくても、二次燃焼による発熱→スラグ着熱を通じてＣａＯの溶解促進を図ることができ、その結果、炉体溶損の度合いを低減しながら脱燐反応効率を飛躍的に高めることができるという本件請求項１１発明の作用効果は、本件明細書の実施例３に関する【表３】をみれば明らかである。
　してみれば、従来においては環境保護の観点から問題があるものの、ＣａＯの滓化を促進させるためにＣａＦ２などのＦ源を添加することが広く行われ、脱燐処理ではＦ源の添加が半ば常識化していたことを考慮すると、本件請求項１１発明の、脱燐処理容器から排出される排ガスの二次燃焼率を或る適正範囲になるような操業条件で脱燐処理する構成と、その際に、媒溶剤にＦ源を使用しないという構成を組み合わせた場合に、脱燐反応を効率よく行うことができるという点は新規にして有用なものということができる。  
　
（２−３）刊行物４に記載の発明との対比
　本件請求項１１発明と刊行物４に記載の発明を対比すると、刊行物４記載の技術は、溶銑予備処理が一般化する以前の技術である「転炉吹錬法」に関するものであり、本件発明が対象とする「溶銑予備処理として行われる脱燐処理」とは異なる技術である。
　また、この刊行物４に記載された方法自体も、転炉に吹き込んだ酸素量、排ガス組成、鋼浴温度、鋼浴中の炭素量などのデータに基づいて、鋼浴中の燐濃度を推定するものであり、媒溶剤に関する記載はないから、Ｆ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いて脱燐処理を行う本件請求項１１発明とは異なる。
　また、排ガス組成についても、同刊行物の発明である「鋼浴中燐濃度の推定方法」を説明するために、実際に測定された排ガス組成の一例が示されているにすぎず、このような単なる排ガス組成から本件請求項１１発明の特徴が示唆されないことは、刊行物３と同様である。
　したがって、刊行物４には本件請求項１１発明の技術的構成が示唆されていないことは明らかであり、本件請求項１１発明の構成の結合及び作用効果については上記のとおりである。
　
（２−４）刊行物７に記載の発明との対比
　刊行物７に記載の発明は、上記３−５−１．の（１−４）でも述べたように、反応炉で行われる脱燐処理で得られるスラグや、その後に転炉で行われる脱炭処理で得られるスラグを高炉に再装入し、高炉から出銑される溶銑中のＳｉ濃度、Ｐ濃度を所定の成分に調整した後、溶銑を所定の燐分配比となるように反応炉で脱燐処理するというものであり、使用する媒溶剤について、一部の実施例において、「例えば、ＣａＦ２等のハロゲン化合物は高炉の炉況悪化させるので、スラグを貯蔵する通常時には、ＣａＦ２を使用しない溶銑処理を実施した。」との記載があるだけであり、この記載から本件請求項１１発明の技術思想であるＦ源無添加で特定操業条件の脱燐処理を行うことや、Ｆ源無添加の下でも効率よく脱燐処理を行うことに関する技術手法は何ら示唆されない。
　
（２−５）まとめ
　先に述べたように、刊行物３、４においてＦ源無添加で操業を行うという動機付けが生じ得ないことは明らかであり、また、刊行物７には単にＦ源を添加しない操業例が示されているだけであり、刊行物５、６には、脱Ｓｉした後脱Ｐする溶銑予備処理において、溶鉄中のＳｉ濃度を所定の値以下に調整してから脱燐処理することが示されるのみであるから、刊行物３〜７の記載を併せ考慮しても、Ｆ源を添加してない媒溶剤を用い特定排ガス組成での操業条件で脱燐処理を行うことにより、Ｆ源無添加の下で効率よく脱燐処理を行うことができるという本件発明の技術手法は示唆もされていない。
　したがって、各刊行物に記載の事項を総合的に勘案してみても、本件請求項１１発明は、刊行物３〜７に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものではなく、その発明に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであるとはいえない。
３−５−３．請求項１２に係る発明（以下、本件請求項１２発明という。）について
（３−１）本件請求項１２発明について
　本件請求項１２発明は、溶銑の予備処理として行われる脱燐処理に関し、脱燐反応効率の向上には上吹きランスからの送酸条件を適正化することが有効であり、上吹きランスからの送酸により形成される溶銑浴面の凹み深さと上吹きランスからの送酸速度を或る特定の範囲に制御し、スラグ中のＦｅＯ濃度を適正化することにより、脱燐反応効率が飛躍的に向上するという知見に基づくもので（本件明細書段落【００１１】）、具体的には、特許請求の範囲の請求項１２に記載されているように、溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、媒溶剤の供給量を５〜１３ｋｇ／Ｔとして脱燐処理を行い、かつこの脱燐処理において、上吹きランスから溶銑に気体酸素を上吹きするとともに、上吹きされた気体酸素の運動エネルギーにより形成される溶銑浴面の凹み深さＬ（ｍ）と溶銑の浴深さＬｏ（ｍ）の比Ｌ／Ｌｏと上吹きランスからの送酸速度Ｆ（Ｎｍ３／ｍｉｎ／Ｔ）が下記の特定の条件、
　０．０２≦Ｌ／Ｌｏ≦０．１０
　０．２５≦Ｆ≦１．５０
を満足するような条件で脱燐処理を行うことを特徴とするものである。
　
（３−２）刊行物１に記載の発明との対比
　本件請求項１２発明と刊行物１に記載の発明を対比すると、刊行物１には、本件請求項１２発明と同じく、上吹きランスから吐出したガスの運動エネルギーによる溶銑面の凹み深さＬ（ｍｍ）と溶銑の浴深Ｌｏ（ｍｍ）の比Ｌ／Ｌｏと、ランスからの送酸速度Ｆ（Ｎｍ３／ｍｉｎ／ｔｏｎ）を用い、これらの値を適正範囲に規定し、溶銑を精錬する技術が記載されている。
　両者の送酸速度Ｆは、ほぼ重複しているが、Ｌ／Ｌｏ比は、本件請求項１２発明の方が刊行物１よりも小さい値、即ち、ソフトブローである。
　このＬ／Ｌｏ比の値に関し、異議申立人は、刊行物１の段落【００１３】の記載及び図１から、脱燐率の点からすれば、この比は０．７以下であればよいことは明らかであり、図１のグラフをみると、この比が小さいほど脱燐率はよくなるから、本件請求項１２発明のようにＬ／Ｌｏ比の値を定めることは容易であると主張する。
　しかしながら、刊行物１に記載の発明は、このＬ／Ｌｏ比と送酸速度Ｆの規定だけではなく、さらに、撹拌エネルギー密度Ｅを１．５〜４ｋＷ／ｔｏｎとし、スラグ関係では、生石灰使用量Ｃ（ｋｇ／ｔｏｎ）と酸素使用量Ｏ（Ｎｍ３／ｔｏｎ）との比Ｃ／Ｏを１．５〜３．５、蛍石使用量ＣＦ（ｋｇ／ｔｏｎ）と生石灰使用量Ｃ（ｋｇ／ｔｏｎ）との比ＣＦ／Ｃを０．０５〜０．３と規定した溶銑の脱燐脱硫精錬方法であり、Ｌ／Ｌｏ比を含めたこれらの値は脱燐と脱硫を同時に行うために定めたものであって、本件請求項１２発明のように、上吹ランスからの送酸条件（Ｌ／Ｌｏ比とＦ値）を適正化することにより脱炭を抑制しつつ脱燐を効率的に行う（同段落【００６５】、図３、図４、図５）ために規定したものではない。
　また、図１或いは回答書の参考資料３からは、脱燐率を高めるにはＬ／Ｌｏ比を低くすればよい、所謂、ソフトブローにするという定性的な事項は理解できるが、本件発明のように、Ｌ／Ｌｏ＞０．１０、Ｌ／Ｌｏ＜０．０２の領域では脱燐効率が劣るのに対して、Ｌ／Ｌｏ：０．０２〜０．１０においては特段に高い脱燐効率が得られるという知見は一切なく、刊行物１の「表１」の実施例では、Ｌ／Ｌｏが最も小さいものでもＬ／Ｌｏ：０．２５（比較例１２）が示されているにすぎない。
  そして、本件請求項１２発明の、送酸速度Ｆの規定と共にＬ／Ｌｏ：０．０２〜０．１０を満たす場合においては特段に高い脱燐効率が得られるという効果は、実施例の結果を示す本件明細書の表５，表７、表８をみれば明らかである。
　したがって、本件請求項１２発明の溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、Ｌ／Ｌｏ比とＦ値の各上下限値を定めた点は有意にして有用である。
　さらにまた、本件請求項１２発明では、媒溶剤の供給量（原単位）を５〜１３ｋｇ／Ｔと低く規定しており、これによりスラグ発生量も低く抑え、このような少スラグ量の下で溶銑が過剰に撹拌されないようにするソフトブロー（Ｌ／Ｌｏ＝０．０２〜０．１０）の酸素上吹きを行うことにより、溶銑浴面に適度な濃度のＦｅＯを生成させ、かつこのＦｅＯが生成した浴面でのＦｅＯとＣａＯとの反応を促進させる（同段落【００１１】）のであるから、本件請求項１２発明の送酸条件と低スラグ量の構成の結合にも技術的意味がある。
　これに対し、刊行物１の実施例（実施例１、２）に記載されている生石灰原単位は１５〜２０ｋｇ／Ｔ（段落【００１７】の４行、段落【００２０】の４行〜５行、段落【００２１】の３行〜４行）であり、刊行物１に記載の発明はこのような媒溶剤供給量（原単位）を前提としていることは明らかであるから、このような媒溶剤の原単位では本件請求項１２発明と比べて相対的に多スラグ量での操業となる。
　そして、刊行物１記載の発明は、このような多スラグ量の下で溶銑を積極的に撹拌するハードブロー（Ｌ／Ｌｏ＝０．３〜０．７）の酸素上吹きを行うものであり、「図１」もそのような多スラグ量下での結果を示しているものであり、上記したように、刊行物１の技術では、ハードブローと多スラグ量操業の組み合わせは一体不可分である。
　このように、刊行物１には本件請求項１２発明の技術手法が示唆されていないことは明らかであり、少スラグ量下での脱燐操業の公知例（参考資料１，２）があることを加味しても、ハードブローと多スラグ量の脱燐・脱硫操業である刊行物１から、ソフトブローと少スラグ量を組み合わせた脱燐操業である本件請求項１２発明は容易に想起されるものではない。
　
（３−３）まとめ
　したがって、本件請求項１２発明は、刊行物１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものではなく、その発明に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであるとはいえない。
　
３−５−４．請求項１５に係る発明（以下、本件請求項１５発明という。）について
（４−１）本件請求項１５発明について
　本件請求項１５発明は、溶銑の予備処理として行われる脱燐処理に関し、本件請求項１２発明と同様に、上吹きランスからの送酸条件を適正化してスラグ中のＦｅＯ濃度を適正化することにより、ＣａＦ２などのＦ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いる操業条件下において、脱燐反応効率が飛躍的に向上するという知見に基づくもので（本件明細書段落【００１１】）、具体的には、特許請求の範囲の請求項１５に記載されているように、溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、Ｆ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いて脱燐処理を行い、かつこの脱燐処理において、上吹きランスから溶銑に気体酸素を上吹きするとともに、上吹きされた気体酸素の運動エネルギーにより形成される溶銑浴面の凹み深さＬ（ｍ）と溶銑の浴深さＬｏ（ｍ）の比Ｌ／Ｌｏと上吹きランスからの送酸速度Ｆ（Ｎｍ３／ｍｉｎ／Ｔ）が特定の条件、すなわち、
　０．０２≦Ｌ／Ｌｏ≦０．１０
　０．２５≦Ｆ≦１．５０
を満足するような条件で脱燐処理を行うことを特徴とするものである。
　
（４−２）刊行物１、２に記載の発明との対比
　本件請求項１５発明と刊行物１及び刊行物２に記載の発明を対比する。
　まず、本件請求項１５発明と刊行物１に記載の発明を対比すると、本件請求項１５発明の送酸条件は本件請求項１２発明と同じであるから、比Ｌ／Ｌｏや送酸速度Ｆについて、前記したように両者に相違がある。しかも、本件請求項１５発明では、Ｆ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いて脱燐処理するのであるが、刊行物１に記載の技術はＣａＦ２添加を必須とするものである。
　そうすると、この刊行物１の記載からＦ源無添加で特定送酸条件の脱燐処理を行う技術手法や、Ｆ源無添加の下で脱燐反応効率を飛躍的に高めることができる効果は、当業者でも予測できるものではない。
　次に、刊行物２について検討すると、刊行物２には、Ｆ源を含まない媒溶剤を用いて脱燐精錬することが記載されているが、この刊行物２に記載されている技術は、溶銑に付与する撹拌力Ｅを１．２〜１０ｋｗ／ｔとして強撹拌を行うとともに、ＣａＦ２、ＣａＣｌ２等の滓化剤を添加することなく、微粉ＣａＯをスラグ中のＣａＯ／ＳｉＯ２が所定のモル比となるよう添加する溶銑脱燐方法であり、このような刊行物２の溶銑脱燐方法は、上記のような送酸条件を規定する本件請求項１５発明とは別異のものであるから、刊行物２の記載から、本件請求項１５発明の技術手法であるＦ源無添加で特定送酸条件の脱燐を行うことは当業者といえども容易に想到できるものではない。
　また、刊行物２には、Ｆ源を添加しない点では共通するが、本件請求項１５発明とは異なる溶銑脱燐方法が示されているだけであるから、刊行物１及び２の記載を組み合せたとしても、Ｆ源無添加で特定送酸条件の脱燐処理を行う技術手法を想到することは当業者といえども困難であり、また、Ｆ源無添加の下で脱燐反応効率を飛躍的に高めることができる効果は当業者でも予測することはできない。   
　
（４−３）まとめ
　したがって、本件請求項１５発明は、刊行物１、２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものではなく、その発明に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであるとはいえない。
　　
４．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申し立ての理由によっては、本件訂正後の請求項１０，１１，１２，及び、１５に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件上記請求項に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１６年１２月２０日（２００４．１２．２０）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
低燐溶銑の製造方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、溶銑にＣａＯ源である媒溶剤を添加する前に気体酸素を供給することでスラグ中の酸化鉄濃度を高めておき、しかる後、ＣａＯ源である媒溶剤を添加することを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　【請求項２】　さらに、固体酸素源を、溶銑に媒溶剤を添加する前に供給することを特徴とする請求項１に記載の低燐溶銑の製造方法。
　【請求項３】　媒溶剤を複数回に分けて添加することを特徴とする請求項１または２に記載の低燐溶銑の製造方法。
　【請求項４】　溶銑にＣａＯ源である媒溶剤を添加する前に下記（１）式を満足する量の気体酸素または気体酸素と固体酸素源を供給することを特徴とする請求項１、２または３に記載の低燐溶銑の製造方法。
　　０．０１０≦Ｂ／Ａ≦０．５０　　…（１）
　但し　Ａ：脱燐処理に要する媒溶剤中の全ＣａＯ量［ｋｇ／Ｔ］
　　　　Ｂ：気体換算の酸素供給量［Ｎｍ３／Ｔ］
　【請求項５】　媒溶剤添加前の気体酸素または気体酸素と固体酸素源の供給時における排ガスのガス分析値から溶銑の脱炭量を求め、該脱炭量と気体酸素または気体酸素と固体酸素源の供給量に基づいてスラグ中の酸化鉄濃度を算出し、この酸化鉄濃度値に基づいて気体酸素または気体酸素と固体酸素源の供給条件を制御することを特徴とする請求項１、２、３または４に記載の低燐溶銑の製造方法。
　【請求項６】　溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、固体酸素源及び／又は媒溶剤を２００℃以上、１０００℃未満の温度に予熱した後、溶銑に添加することを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　
【請求項７】　Ｓｉ濃度が０．１０ｗｔ％以下の溶銑を脱燐処理することを特徴とする請求項１、２、３、４、５または６に記載の低燐溶銑の製造方法。
　
【請求項８】　Ｓｉ濃度が０．１０ｗｔ％を超える溶銑を０．１０ｗｔ％以下のＳｉ濃度まで脱珪処理した後、脱燐処理することを特徴とする請求項７に記載の低燐溶銑の製造方法。
　
【請求項９】　Ｆ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６、７または８に記載の低燐溶銑の製造方法。
　
【請求項１０】
上吹きランスから送酸を行い、脱燐処理容器から排出される排ガスのガス組成分析に基づき、前記上吹きランスからの送酸速度とランス高さを制御することにより、
よう調整された
　　０．１０≦［ＣＯ２］／（［ＣＯ２］＋［ＣＯ］）≦０．３５　　…（２）
　但し　［ＣＯ２］：排ガス中のＣＯ２濃度［ｗｔ％］
　　　　［ＣＯ］　：排ガス中のＣＯ濃度［ｗｔ％］
　
【請求項１１】　溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、Ｆ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いて脱燐処理を行うとともに、脱燐処理容器から排出される排ガス中のＣＯとＣＯ２の濃度が下記（２）式を満足するような操業条件で脱燐処理を行うことを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　　
０．１０≦［ＣＯ２］／（［ＣＯ２］＋［ＣＯ］）≦０．３５　　…（２）
　
但し　［ＣＯ２］：排ガス中のＣＯ２濃度［ｗｔ％］
　　　　
［ＣＯ］　：排ガス中のＣＯ濃度［ｗｔ％］
　
【請求項１２】
媒溶剤の供給量を５〜１３ｋｇ／Ｔとして脱燐処理を行い、該脱燐処理においては、
　　０．０２≦Ｌ／Ｌｏ≦０．１０　　…（３）
　　０．２５≦Ｆ≦１．５０　　　　　…（４）
　
【請求項１３】　溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、Ｓｉ濃度が０．１０ｗｔ％以下の溶銑を脱燐処理し、該脱燐処理においては、上吹きランスから溶銑に気体酸素を上吹きするとともに、該上吹きされた気体酸素の運動エネルギーにより形成される溶銑浴面の凹み深さＬ（ｍ）と溶銑の浴深さＬｏ（ｍ）の比Ｌ／Ｌｏと上吹きランスからの送酸速度Ｆ（Ｎｍ３／ｍｉｎ／Ｔ）が下記（３）式及び（４）式を満足するような条件で脱燐処理を行うことを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　　
０．０２≦Ｌ／Ｌｏ≦０．１０　　…（３）
　　
０．２５≦Ｆ≦１．５０　　　　　…（４）
　
【請求項１４】　溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、Ｓｉ濃度が０．１０ｗｔ％を超える溶銑を０．１０ｗｔ％以下のＳｉ濃度まで脱珪処理した後、脱燐処理し、該脱燐処理においては、上吹きランスから溶銑に気体酸素を上吹きするとともに、該上吹きされた気体酸素の運動エネルギーにより形成される溶銑浴面の凹み深さＬ（ｍ）と溶銑の浴深さＬｏ（ｍ）の比Ｌ／Ｌｏと上吹きランスからの送酸速度Ｆ（Ｎｍ３／ｍｉｎ／Ｔ）が下記（３）式及び（４）式を満足するような条件で脱燐処理を行うことを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　　
０．０２≦Ｌ／Ｌｏ≦０．１０　　…（３）
　　
０．２５≦Ｆ≦１．５０　　　　　…（４）
　
【請求項１５】　溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、Ｆ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いて脱燐処理を行い、該脱燐処理においては、上吹きランスから溶銑に気体酸素を上吹きするとともに、該上吹きされた気体酸素の運動エネルギーにより形成される溶銑浴面の凹み深さＬ（ｍ）と溶銑の浴深さＬｏ（ｍ）の比Ｌ／Ｌｏと上吹きランスからの送酸速度Ｆ（Ｎｍ３／ｍｉｎ／Ｔ）が下記（３）式及び（４）式を満足するような条件で脱燐処理を行うことを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　　
０．０２≦Ｌ／Ｌｏ≦０．１０　　…（３）
　　
０．２５≦Ｆ≦１．５０　　　　　…（４）
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明は、溶銑の予備処理として行われる脱燐処理に関するもので、より詳細には、Ｆ源を含まないＣａＯ系媒溶剤を用いた場合でも効率的な脱燐を行うことができる低燐溶銑の製造方法に関するものである。
　【０００２】
　【従来の技術】
　従来、溶銑段階で予備脱燐を行い、溶銑中のＰをある程度除去してから転炉脱炭吹錬を行う溶銑予備処理法が発展してきた。この予備脱燐処理はトーピード、溶銑鍋、転炉などの設備で実施され、ＣａＯ系媒溶剤と気体酸素や固体酸素源などの酸素源を添加して行われる。この脱燐処理の際に溶銑からスラグ側にＰを効率的に移行させるためには、スラグ組成やスラグ量などの制御が重要な因子となる。特に、媒溶剤にＣａＦ２を添加することにより、１）スラグの融体性が向上する、２）ＳｉＯ２のネットワークを分断してＣａイオンが増加する、３）ＦｅＯの活量が増加する、などの作用が得られることが従来から指摘されており、実操業でも脱燐の反応性を高めるためにＣａＦ２が広く使用されている。
　【０００３】
　例えば、特公平６−１７４９６号公報では、添加するＣａＯと酸素Ｏの重量比ＣａＯ／Ｏ以外に、［ＣａＦ２＋Ａｌ２Ｏ３］／ＣａＯ及びＡｌ２Ｏ３／ＣａＦ２の各重量比を規定し、ＣａＦ２添加により脱燐効率を向上させる技術が開示されている。
　ところが、最近では環境保護の観点からスラグ中Ｆの溶出量の規制基準が強化される傾向にあり、このため脱燐スラグ中のＦ濃度を極限まで低下させる必要が生じている。
　【０００４】
　このためＣａＦ２などのＦ源を使用しない脱燐処理技術の開発が強く望まれているが、現状ではスラグを低塩基度化してスラグ量を極端に多くした操業を行うとか、多重処理を実施するなどの方法しか有効な対策がないのが実情である。しかし、前者のように脱燐スラグ量が極端に増大することは、環境保護の面から強く望まれているスラグ量削減というニーズに逆行するものであり、また、後者のように多重処理を実施することは溶鋼の製造コストの上昇を招く問題があり、したがって、これらは抜本的な対策にはなり得ない。
　【０００５】
　【発明が解決しようとする課題】
　したがって本発明の目的は、このような従来技術の課題を解決し、ＣａＦ２などのＦ源を含まない媒溶剤を用いた場合でも溶銑脱燐を効率的に行うことができる低燐溶銑の製造方法を提供することにある。
　【０００６】
　【課題を解決するための手段】
　本発明者らは、ＣａＦ２（蛍石等）などのＦ源を使用することなく効率的に脱燐処理を行うことができる溶銑予備処理法を見い出すべく、転炉型容器を用いて種々の実験と検討を行った。先に述べたようにＣａＦ２はスラグの溶融性を確保するために重要な働きをしており、本発明者らの実験においても、ＣａＦ２を添加しない場合には添加された媒溶剤（ＣａＯ源）は見掛け上滓化したようには見えず、脱燐反応効率も低下した。しかし、種々の実験の結果、以下のような事実が判明した。
　【０００７】
（１）ＣａＯ源と酸素源の投入条件を種々変えて行った実験の結果から、初期のスラグを溶融させることができれば脱燐反応効率が飛躍的に増加すること、また、このような初期のスラグの溶融は、初期ＣａＯ源の添加前に溶銑に酸素源を供給して酸化鉄（ＦｅＯ）を積極的に生成させることにより達成できることが判った。すなわち、従来ではＣａＯ源の滓化をなるべく早めるためには早期にＣａＯ源を添加して送酸を行うことが必要であると考えられてきたが、このような従来の常識に反し、初期ＣａＯ源を添加するのに先立ち、まず溶銑に酸素源のみを供給することによりＦｅＯを生成させてスラグ中の酸化鉄濃度を高めておき、しかる後ＣａＯ源を添加（好ましくは、分割添加）することにより、ＣａＦ２などのＦ源を含まないＣａＯ−ＦｅＯ系スラグでも十分に溶融する領域が生じ、脱燐反応効率が飛躍的に向上することが判った。
　【０００９】
（２）固体酸素源と媒溶剤の投入条件を種々変えて行った実験の結果から、所定の温度以上に予熱された固体酸素源や媒溶剤を溶銑に添加することによりＣａＯの溶解が効果的に促進され、ＣａＦ２などのＦ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いた場合でも脱燐反応効率が飛躍的に向上することが判った。また、固体酸素源は媒溶剤に較べて融点が低いため、ＣａＯの溶解をより効果的に促進するには固体酸素源を予熱した方が有利であることも判った。
　【００１０】
（３）脱燐処理により生じる排ガスが脱燐反応効率に及ぼす影響を調査するために行った実験の結果から、脱燐反応効率の向上には脱燐処理により発生した排ガスを二次燃焼させることが有効であり、排ガスの二次燃焼率を或る適正範囲に制御することにより、ＣａＦ２などのＦ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いた場合でも脱燐反応効率が飛躍的に向上することが判った。これは、排ガスが二次燃焼することより発生した熱がスラグに着熱し、ＣａＯの溶解を効果的に促進することによるものである。
　【００１１】
（４）気体酸素の供給条件を種々変えて行った実験の結果から、脱燐反応効率の向上には上吹きランスからの送酸条件を適正化することが有効であり、上吹きランスからの送酸により形成される溶銑浴面の凹み深さと上吹きランスからの送酸速度を或る特定の範囲に制御し、スラグ中のＦｅＯ濃度を適正化することにより、ＣａＦ２などのＦ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いた場合でも脱燐反応効率が飛躍的に向上することが判った。
　【００１２】
　本発明はこのような知見に基づきなされたもので、その特徴とする構成は以下の通りである。
［１］溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、溶銑にＣａＯ源である媒溶剤を添加する前に気体酸素を供給することでスラグ中の酸化鉄濃度を高めておき、しかる後、ＣａＯ源である媒溶剤を添加することを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
［２］上記［１］の製造方法において、さらに、固体酸素源を、溶銑に媒溶剤を添加する前に供給することを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　【００１３】
［３］上記［１］または［２］の製造方法において、媒溶剤を複数回に分けて添加することを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
［４］上記［１］〜［３］のいずれかの製造方法において、溶銑にＣａＯ源である媒溶剤を添加する前に下記（１）式を満足する量の気体酸素または気体酸素と固体酸素源を供給することを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　　０．０１０≦Ｂ／Ａ≦０．５０　…（１）
　但し　Ａ：脱燐処理に要する媒溶剤中の全ＣａＯ量［ｋｇ／Ｔ］
　　　　Ｂ：気体換算の酸素供給量［Ｎｍ３／Ｔ］
　【００１４】
［５］上記［１］〜［４］のいずれかの製造方法において、媒溶剤添加前の気体酸素または気体酸素と固体酸素源の供給時における排ガスのガス分析値から溶銑の脱炭量を求め、該脱炭量と気体酸素または気体酸素と固体酸素源の供給量に基づいてスラグ中の酸化鉄濃度を算出し、この酸化鉄濃度値に基づいて気体酸素または気体酸素と固体酸素源の供給条件を制御することを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　【００１５】
［６］溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、固体酸素源及び／又は媒溶剤を２００℃以上、１０００℃未満の温度に予熱した後、溶銑に添加することを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
［７］上記［１］〜［６］のいずれかの製造方法において、Ｓｉ濃度が０．１０重量％以下の溶銑を脱燐処理することを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
［８］上記［７］の製造方法において、Ｓｉ濃度が０．１０重量％を超える溶銑を０．１０重量％以下のＳｉ濃度まで脱珪処理した後、脱燐処理することを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
［９］上記［１］〜［８］のいずれかの製造方法において、Ｆ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いることを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
［１０］
上吹きランスから送酸を行い、脱燐処理容器から排出される排ガスのガス組成分析に基づき、前記上吹きランスからの送酸速度とランス高さを制御することにより、
よう調整された
　　０．１０≦［ＣＯ２］／（［ＣＯ２］＋［ＣＯ］）≦０．３５　　…（２）
　但し　［ＣＯ２］：排ガス中のＣＯ２濃度［ｗｔ％］
　　　　［ＣＯ］　：排ガス中のＣＯ濃度［ｗｔ％］
［１１］溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、Ｆ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いて脱燐処理を行うとともに、脱燐処理容器から排出される排ガス中のＣＯとＣＯ２の濃度が下記（２）式を満足するような操業条件で脱燐処理を行うことを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　　
０．１０≦［ＣＯ２］／（［ＣＯ２］＋［ＣＯ］）≦０．３５　　…（２）
　
但し　［ＣＯ２］：排ガス中のＣＯ２濃度［ｗｔ％］
　　　　
［ＣＯ］　：排ガス中のＣＯ濃度［ｗｔ％］
　【００１６】
［１２］
媒溶剤の供給量を５〜１３ｋｇ／Ｔとして脱燐処理を行い、該脱燐処理においては、
　　０．０２≦Ｌ／Ｌｏ≦０．１０　　…（３）
　　０．２５≦Ｆ≦１．５０　　　　　…（４）
　【００１７】
［１３］溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、Ｓｉ濃度が０．１０ｗｔ％以下の溶銑を脱燐処理し、該脱燐処理においては、上吹きランスから溶銑に気体酸素を上吹きするとともに、該上吹きされた気体酸素の運動エネルギーにより形成される溶銑浴面の凹み深さＬ（ｍ）と溶銑の浴深さＬｏ（ｍ）の比Ｌ／Ｌｏと上吹きランスからの送酸速度Ｆ（Ｎｍ３／ｍｉｎ／Ｔ）が下記（３）式及び（４）式を満足するような条件で脱燐処理を行うことを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　　
０．０２≦Ｌ／Ｌｏ≦０．１０　　…（３）
　　
０．２５≦Ｆ≦１．５０　　　　　…（４）
［１４］溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、Ｓｉ濃度が０．１０ｗｔ％を超える溶銑を０．１０ｗｔ％以下のＳｉ濃度まで脱珪処理した後、脱燐処理し、該脱燐処理においては、上吹きランスから溶銑に気体酸素を上吹きするとともに、該上吹きされた気体酸素の運動エネルギーにより形成される溶銑浴面の凹み深さＬ（ｍ）と溶銑の浴深さＬｏ（ｍ）の比Ｌ／Ｌｏと上吹きランスからの送酸速度Ｆ（Ｎｍ３／ｍｉｎ／Ｔ）が下記（３）式及び（４）式を満足するような条件で脱燐処理を行うことを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　　
０．０２≦Ｌ／Ｌｏ≦０．１０　　…（３）
　　
０．２５≦Ｆ≦１．５０　　　　　…（４）
［１５］溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、Ｆ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いて脱燐処理を行い、該脱燐処理においては、上吹きランスから溶銑に気体酸素を上吹きするとともに、該上吹きされた気体酸素の運動エネルギーにより形成される溶銑浴面の凹み深さＬ（ｍ）と溶銑の浴深さＬｏ（ｍ）の比Ｌ／Ｌｏと上吹きランスからの送酸速度Ｆ（Ｎｍ３／ｍｉｎ／Ｔ）が下記（３）式及び（４）式を満足するような条件で脱燐処理を行うことを特徴とする低燐溶銑の製造方法。
　　
０．０２≦Ｌ／Ｌｏ≦０．１０　　…（３）
　　
０．２５≦Ｆ≦１．５０　　　　　…（４）
　【００１８】
　【発明の実施の形態】
　まず、本願の第１の発明について説明する。
　この発明の低燐溶銑の製造方法（脱燐方法）では、溶銑にＣａＯ源である媒溶剤を添加する前に酸素源を供給することでスラグ中の酸化鉄（ＦｅＯ）濃度を高めておき、しかる後ＣａＯ源である媒溶剤を添加するものであり、これによりＣａＦ２などのＦ源を添加しなくても脱燐反応効率を飛躍的に高めることが可能になる。これは、媒溶剤添加前の溶銑への酸素源の添加によってＦｅＯを十分に生成させ、酸化鉄濃度が高い初期スラグを溶融させておき、このような高酸化鉄濃度の初期スラグ中にＣａＯ源を直接投入することにより、高濃度に生成しているＦｅＯ中に高融点のＣａＯが取り込まれる形で滓化が進行するため、ＣａＯ＋ＦｅＯの反応による滓化が飛躍的に促進されるためであると考えられる。
　【００１９】
　これに対して、従来技術のように早い時期にＣａＯ源を投入して酸素源の供給を行った場合には、上述した本発明の作用とは逆に、酸素源の供給により生成したＦｅＯが未滓化のＣａＯ中に取り込まれる形で滓化が進行するため、ＣａＯ＋ＦｅＯの反応による滓化が迅速に進行しないものと考えられる。
　【００２０】
　この発明において媒溶剤の添加前に溶銑に供給される酸素源としては、ＦｅＯを生成させるものであれば気体酸素、固体酸素源の何れでもよいが、スラグ−メタル界面の温度を上昇させることができるという点で気体酸素の方がより好ましい。また、気体酸素と固体酸素源を併用してもよい。
　使用する気体酸素は純酸素ガス、酸素含有ガスのいずれでもよく、また、固体酸素源としては酸化鉄やミルスケールなどを用いることができる。
　なお、この発明の脱燐処理は、ＣａＯ源である媒溶剤の添加前に溶銑に酸素源の供給を行うことを特徴とするものであるが、当然のことながら媒溶剤を添加した以降も酸素源（気体酸素及び／又は固体酸素源）の供給が行われる。
　【００２１】
　この発明に係る低燐溶銑の製造方法では、媒溶剤の添加前の酸素源の供給により初期ＦｅＯの生成量を確保しておくことが重要であるが、一方において酸素源の供給により溶銑の脱炭も進行し、また、過剰な量の酸素源を供給すると媒溶剤添加後の酸素源の供給において酸素量が不足する事態を招くため、媒溶剤添加前の酸素供給量を適正化することが必要である。すなわち、ＣａＯ源である媒溶剤を添加する前に供給する酸素量は、必要且つ十分なＦｅＯ生成量を確保するという観点から、下記（１）式を満足することが好ましい。
　　０．０１０≦Ｂ／Ａ≦０．５０　…（１）
　但し　Ａ：脱燐処理に要する媒溶剤中の全ＣａＯ量［ｋｇ／Ｔ］（Ｔ：溶銑ｔｏｎ、以下同様）
　　　　Ｂ：気体換算の酸素供給量［Ｎｍ３／Ｔ］
　【００２２】
　ここで、Ｂ／Ａ＜０．０１０では媒溶剤添加前のＦｅＯ生成量を十分に確保することができず、一方、Ｂ／Ａ＞０．５０では、媒溶剤添加後の酸素源の供給における酸素量が不足し、所望の脱燐率が確保できなくなるおそれがあり、また、溶銑の脱炭量も多くなるため好ましくない。また、このような観点から特に好ましいＢ／Ａの範囲は０．０５〜０．２０である。
　上記のように酸素源を供給して所定の濃度のＦｅＯを生成させた後、ＣａＯ源である媒溶剤を添加するが、媒溶剤添加時にその滓化に必要な量のＦｅＯを生成させておくため、媒溶剤の添加は複数回に分けて行うことが好ましい。また、同様の理由から、媒溶剤を少量ずつ連続的又は間欠的に添加してもよい。
　【００２３】
　また、この発明を実施する際に媒溶剤添加前の酸素源の供給量を適切に制御する方法として、以下のような方法を採ることができる。
　すなわち、媒溶剤添加前の酸素源の供給時に、脱燐容器から排出される排ガスのガス分析（排ガス中のＣ濃度分析）をオンラインで実施することにより溶銑の脱炭量を求めることができ、この脱炭量と酸素源の供給量に基づき、さらには溶銑の脱珪推定量、排ガス分析から求められる二次燃焼量などを必要に応じて勘案することにより、脱燐容器内に蓄積された酸素量を求めることができ、さらにこれからスラグ中のＦｅＯ量が算出できる。したがって、排ガスのガス分析値から溶銑の脱炭量を求め、この脱炭量と酸素源の供給量に基づいてスラグ中の酸化鉄濃度を算出し、この酸化鉄濃度の算出値に基づいて酸素源の供給条件（例えば、送酸量、送酸速度など）を制御すれば、媒溶剤添加前の酸素源供給による酸化鉄濃度の制御を容易に行うことができる。
　【００２４】
　さらに、この発明の効果は脱燐処理前の溶銑のＳｉ濃度によって差があり、脱燐処理前のＳｉ濃度が０．１０ｗｔ％以下の溶銑に対して本発明法を実施した場合に特に顕著な脱燐反応効率が得られることが判った。
　一般に、脱燐処理前の溶銑のＳｉ濃度が高いと生成するＳｉＯ２が多くなり、この結果、スラグ量が増加するだけでなく、塩基度調整のためのＣａＯ量も多くなる。したがって、このような観点からは脱燐処理前の溶銑のＳｉ濃度は低い方が好ましいが、一方において、脱燐処理前の溶銑のＳｉ濃度が低いとスラグ中のＳｉＯ２濃度が低下するためＣａＯの溶融性がさらに悪化し、脱燐反応効率が低下してしまう。
　【００２５】
　ところが、本発明者らが種々のＳｉ濃度を有する溶銑について本発明法を実施したところ、上記のような予想に反して、脱燐処理前Ｓｉ濃度が０．１０ｗｔ％以下の溶銑に対して本発明法を実施した場合に、特に顕著な脱燐反応効率が得られることが判った。
　この理由は次のように考えられる。まず、第一の理由としては、溶銑中のＳｉ濃度が低いと、媒溶剤添加前に供給された酸素源のうち、溶銑中のＳｉと反応してＳｉＯ２の生成に消費される割合が少ないため、それだけＦｅＯの生成量が多くなり、このためにＣａＯの滓化がより効果的に促進されることが考えられる。
　【００２６】
　また、第二のより大きな理由として、以下の点が挙げられる。すなわち、脱燐反応ではＰは３ＣａＯ・Ｐ２Ｏ５または４ＣａＯ・Ｐ２Ｏ５の形でスラグ中に固定される。したがって、スラグ中のＳｉＯ２は脱燐には直接必要がないスラグ成分であり、また、このＳｉＯ２の一部は滓化したＣａＯの一部と反応し、このＳｉＯ２と反応したＣａＯは脱燐反応には寄与しないことになる。したがって、溶銑のＳｉ濃度が低くＳｉＯ２生成量が少ないと、ＳｉＯ２と反応して脱燐反応に寄与しなくなるＣａＯ量が減少し、脱燐反応に寄与できるＣａＯ量が相対的に増加することになるが、特に本発明法の場合にはＣａＯの滓化能が極めて高いため、溶銑の低Ｓｉ濃度に起因した上記スラグ組成（脱燐反応に寄与できるＣａＯ量の増加）の影響が顕著に現われ、この結果、脱燐反応効率が向上するものと考えられ、また、このような効果が脱燐処理前の溶銑中Ｓｉ濃度：０．１０ｗｔ％以下の低Ｓｉ濃度領域において顕在化するものと考えられる。これに対して従来法では、溶銑のＳｉ濃度が低くＳｉＯ２生成量が少ないことにより脱燐反応に寄与できるＣａＯ量が相対的に増加しても、元来ＣａＯの滓化能が低いため、上述したような溶銑の低Ｓｉ濃度化による効果が現われないものと考えられる。
　【００２７】
　このように本発明の低燐溶銑の製造方法はＳｉ濃度が０．１０ｗｔ％以下の溶銑に対して実施した場合に特に効果が大きく、したがって、出銑された溶銑のＳｉ濃度が０．１０ｗｔ％を超える場合には、高炉鋳床や溶銑鍋などで脱珪処理（通常、固体酸素源や気体酸素などの酸素を溶銑に添加して行う）を実施し、脱燐処理前の溶銑のＳｉ濃度を０．１０ｗｔ％以下とした上で脱燐処理を行うことが好ましい。
　【００２８】
　この発明の脱燐処理が実施される容器としては、フリーボードが十分に確保できるという点から転炉型容器が最も好ましいが、これ以外にも溶銑鍋、トーピードなどの任意の容器を用いることができる。
　また、酸素源の供給方法（媒溶剤添加前及び添加後の供給方法）に特別な制約はなく、気体酸素の場合にはランスによる上吹きや溶銑中へのインジェクション、或いは底吹きなどの任意の方法で送酸を行うことができ、また、固体酸素源の場合にはインジェクションや上置き装入などの任意の方法で溶銑中への供給を行うことができる。なお、気体酸素を供給する場合、脱燐処理を転炉型容器や溶銑鍋などを用いて実施する場合にはランスによる上吹きが、また、トーピードを用いて実施する場合にはランスによる溶銑中へのインジェクションが一般的である。
　【００２９】
　また、脱燐効率をさらに向上させるためには溶銑をガス撹拌させることが好ましい。このガス撹拌は、例えばインジェクションランスや底吹きノズルなどを通じて窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガスを溶銑中に吹き込むことにより行われる。このような撹拌ガスの供給量としては、十分な浴撹拌性を得るために０．０３Ｎｍ３／ｍｉｎ／Ｔ以上とし、また、浴の撹拌が強すぎると生成したＦｅＯを溶銑中のＣが還元する速度が大きくなり過ぎるためのため０．３Ｎｍ３／ｍｉｎ／Ｔ以下とすることが好ましい。
　【００３０】
　この発明の脱燐処理は、ＣａＦ２などのＦ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を使用するだけで高い脱燐反応効率が得られることが最大の特徴であるが、ＣａＦ２などのＦ源の添加を排除するものでなく、例えば、ＣａＯ源の滓化をより促進するために、許容される限度でＣａＦ２などのＦ源を添加することを妨げない。
　なお、この発明の脱燐処理においてＣａＦ２などのＦ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤のみを使用する場合、媒溶剤がＦ源を含まないとはＦ源を実質的に含まないことを意味し、したがって、媒溶剤中に例えば不可避的不純物などとして少量のＦ源が含まれることは妨げない。
　【００４０】
　次に、本願の第２の発明について説明する。
　この発明に係る低燐溶銑の製造方法では、固体酸素源及び／又は媒溶剤を２００℃以上、１０００℃未満の温度に予熱した後、溶銑に添加するものであり、これによりＣａＦ２などのＦ源を含む媒溶剤を添加しなくても脱燐反応効率を飛躍的に高めることが可能になる。これは適正な温度に予熱された固体酸素源や媒溶剤を溶銑に添加することにより、ＣａＯの溶解が効果的に促進されるためである。
　【００４１】
　固体酸素源及び／又は媒溶剤の予熱温度が２００℃未満では、ＣａＯの溶解を十分に促進できないため脱燐反応効率を効果的に高めることはできない。一方、固体酸素源及び／又は媒溶剤の予熱温度が１０００℃以上になると固体酸素源や媒溶剤の加熱・保持部の維持や補修などのためのコストが増大するため好ましくない。
　本発明では溶銑に添加すべき固体酸素源、媒溶剤のいずれか一方又はその両方を予熱することができるが、固体酸素源は媒溶剤に較べて融点が低いため予熱によるＣａＯの溶解がより効果的に促進され、このため少なくとも固体酸素源を予熱することが好ましい。
　【００４２】
　この発明の脱燐処理で使用する固体酸素源の種類に特別な制限はないが、通常、固体酸素源としては酸化鉄やミルスケールなどが用いられる。また溶銑に供給する酸素源として気体酸素（純酸素ガス又は酸素含有ガス）を併用してもよい。
　また、媒溶剤としてはＣａＯ源が添加され、後述するようにＣａＦ２などのＦ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いることができる。
　【００４３】
　さらに、この発明の効果は脱燐処理前の溶銑のＳｉ濃度によって差があり、脱燐処理前のＳｉ濃度が０．１０ｗｔ％以下の溶銑に対して本発明法を実施した場合に特に顕著な脱燐反応効率が得られることが判った。
　一般に、脱燐処理前の溶銑のＳｉ濃度が高いと生成するＳｉＯ２が多くなり、この結果、スラグ量が増加するだけでなく、塩基度調整のためのＣａＯ量も多くなる。したがって、このような観点からは脱燐処理前の溶銑のＳｉ濃度は低い方が好ましいが、一方において、脱燐処理前の溶銑のＳｉ濃度が低いとスラグ中のＳｉＯ２濃度が低下するためＣａＯの溶融性がさらに悪化し、脱燐反応効率が低下してしまう。
　【００４４】
　ところが、本発明者らが種々のＳｉ濃度を有する溶銑について本発明法を実施したところ、上記のような予想に反して、脱燐処理前Ｓｉ濃度が０．１０ｗｔ％以下の溶銑に対して本発明法を実施した場合に、特に顕著な脱燐反応効率が得られることが判った。この理由としては、脱燐処理前のＳｉ濃度が０．１０ｗｔ％以下の場合には生成するスラグ量が少ないため、予熱された固体酸素源及び／又は媒溶剤からスラグへの着熱が単位スラグ重量当たりで増加するためであると考えられる。
　また、予熱した固体酸素源及び／又は媒溶剤を溶銑中に添加するとＳｉＯ２のフォーミングが促進されてスロッピングが大きくなり、安定操業性を阻害する要因になりやすいが、脱燐処理前のＳｉ濃度が０．１０ｗｔ％以下の場合には問題となるようなスロッピングは発生せず、安定操業性が損なわれることはない。
　【００４５】
　このように本発明の低燐溶銑の製造方法はＳｉ濃度が０．１０ｗｔ％以下の溶銑に対して実施した場合に特に効果が大きく、したがって、出銑された溶銑のＳｉ濃度が０．１０ｗｔ％を超える場合には、高炉鋳床や溶銑鍋などで脱珪処理（通常、固体酸素源や気体酸素などの酸素を溶銑に添加して行う）を実施し、脱燐処理前の溶銑のＳｉ濃度を０．１０ｗｔ％以下とした上で脱燐処理を行うことが好ましい。
　【００４６】
　この発明の脱燐処理が実施される容器としては、フリーボードが十分に確保できるという点から転炉型容器が最も好ましいが、これ以外にも溶銑鍋、トーピード等の任意の容器を用いることができる。
　また、酸素源の供給方法に特別な制約はなく、気体酸素の場合にはランスによる上吹きや溶銑中へのインジェクション、或いは底吹きなどの任意の方法で送酸を行うことができ、また、固体酸素源の場合にはインジェクションや上置き装入などの任意の方法で溶銑中への供給を行うことができる。なお、気体酸素を供給する場合、脱燐処理を転炉型容器や溶銑鍋等を用いて実施する場合にはランスによる上吹きが、また、トーピードを用いて実施する場合にはランスによる溶銑中へのインジェクションが一般的である。
　【００４７】
　また、脱燐反応効率をさらに向上させるためには溶銑をガス撹拌することが好ましい。このガス撹拌は、例えばインジェクションランスや底吹きノズルなどを通じて窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガスを溶銑中に吹き込むことにより行われる。このような撹拌ガスの供給量としては、十分な浴撹拌性を得るために０．０２Ｎｍ３／ｍｉｎ／Ｔ以上とし、また、浴の撹拌が強すぎると生成したＦｅＯを溶銑中のＣが還元する速度が大きくなり過ぎるためのため０．３Ｎｍ３／ｍｉｎ／Ｔ以下とすることが好ましい。
　【００４８】
　この発明の脱燐処理は、ＣａＦ２などのＦ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を使用するだけで高い脱燐反応効率が得られることが最大の特徴であるが、ＣａＦ２などのＦ源の添加を排除するものでなく、例えば、ＣａＯ源の滓化をより促進するために、許容される限度でＣａＦ２などのＦ源を添加することを妨げない。
　なお、この発明の脱燐処理においてＣａＦ２などのＦ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤のみを使用する場合、媒溶剤がＦ源を含まないとはＦ源を実質的に含まないことを意味し、したがって、媒溶剤中に例えば不可避的不純物などとして少量のＦ源が含まれることは妨げない。
　【００４９】
　次に、本願の第３の発明について説明する。
　この発明に係る低燐溶銑の製造方法では、脱燐処理容器から排出される排ガス中のＣＯとＣＯ２の濃度が下記（２）式を満足するような操業条件で脱燐処理を行うものであり、これによりＣａＦ２などのＦ源を添加しなくても脱燐反応効率を飛躍的に高めることが可能になる。
　　０．１０≦［ＣＯ２］／（［ＣＯ２］＋［ＣＯ］）≦０．３５　　…（２）
　但し　［ＣＯ２］：排ガス中のＣＯ２濃度［ｗｔ％］
　　　　［ＣＯ］　：排ガス中のＣＯ濃度［ｗｔ％］
　【００５０】
　これは、排ガスが二次燃焼することより発生した熱がスラグに着熱し、ＣａＯの溶解が効果的に促進されるためである。
　脱燐処理容器から排出される排ガスの［ＣＯ２］／（［ＣＯ２］＋［ＣＯ］）が０．１０未満では二次燃焼率が低くすぎ、スラグへの着熱が不十分であるため、ＣａＯの溶解が十分に促進されない。このため脱燐反応効率はあまり向上しない。一方、［ＣＯ２］／（［ＣＯ２］＋［ＣＯ］）が０．３５を超えると、二次燃焼により生じる過剰な熱によって脱燐処理容器の耐火物の溶損を早めてしまうため好ましくない。
　【００５１】
　脱燐処理容器から排出される排ガスの［ＣＯ２］／（［ＣＯ２］＋［ＣＯ］）は、例えば、溶銑に対する送酸を上吹きランスから行う場合には、送酸速度とランス高さを制御することで容易に調整することができる。
　また、この発明の脱燐処理を実施する場合、脱燐処理容器から排出される排ガスのガス組成分析を行い、このガス組成分析値に基づき上記の制御を行えば、排ガスの［ＣＯ２］／（［ＣＯ２］＋［ＣＯ］）をオンラインで容易にコントロールすることができる。
　【００５２】
　さらに、この発明の効果は脱燐処理前の溶銑のＳｉ濃度によって差があり、脱燐処理前のＳｉ濃度が０．１０ｗｔ％以下の溶銑に対して本発明法を実施した場合に特に顕著な脱燐反応効率が得られることが判った。
　一般に、脱燐処理前の溶銑のＳｉ濃度が高いと生成するＳｉＯ２が多くなり、この結果、スラグ量が増加するだけでなく、塩基度調整のためのＣａＯ量も多くなる。したがって、このような観点からは脱燐処理前の溶銑のＳｉ濃度は低い方が好ましいが、一方において、脱燐処理前の溶銑のＳｉ濃度が低いとスラグ中のＳｉＯ２濃度が低下するためＣａＯの溶融性がさらに悪化し、脱燐反応効率が低下してしまう。
　【００５３】
　ところが、本発明者らが種々のＳｉ濃度を有する溶銑について本発明法を実施したところ、上記のような予想に反して、脱燐処理前Ｓｉ濃度が０．１０ｗｔ％以下の溶銑に対して本発明法を実施した場合に、特に顕著な脱燐反応効率が得られることが判った。この理由としては、脱燐処理前のＳｉ濃度が０．１０ｗｔ％以下の場合には生成するスラグ量が少ないため、二次燃焼によるスラグへの着熱が単位スラグ重量当たりで増加するためであると考えられる。
　【００５４】
　このように本発明の低燐溶銑の製造方法はＳｉ濃度が０．１０ｗｔ％以下の溶銑に対して実施した場合に特に効果が大きく、したがって、出銑された溶銑のＳｉ濃度が０．１０ｗｔ％を超える場合には、高炉鋳床や溶銑鍋などで脱珪処理（通常、固体酸素源や気体酸素などの酸素を溶銑に添加して行う）を実施し、脱燐処理前の溶銑のＳｉ濃度を０．１０ｗｔ％以下とした上で脱燐処理を行うことが好ましい。
　【００５５】
　この発明の脱燐処理において供給される酸素源は気体酸素、固体酸素源のいずれでもよく、また両者を併用してもよい。使用する気体酸素は純酸素ガス、酸素含有ガスのいずれでもよく、また、固体酸素源としては酸化鉄やミルスケールなどを用いることができる。
　この発明の脱燐処理が実施される容器としては、フリーボードが十分に確保できるという点から転炉型容器が最も好ましいが、これ以外にも溶銑鍋、トーピード等の任意の容器を用いることができる。
　【００５６】
　また、酸素源の供給方法に特別な制約はなく、気体酸素の場合にはランスによる上吹きや溶銑中へのインジェクション、或いは底吹きなどの任意の方法で送酸を行うことができ、また、固体酸素源の場合にはインジェクションや上置き装入などの任意の方法で溶銑中への供給を行うことができる。なお、気体酸素を供給する場合、脱燐処理を転炉型容器や溶銑鍋等を用いて実施する場合にはランスによる上吹きが、また、トーピードを用いて実施する場合にはランスによる溶銑中へのインジェクションが一般的である。
　【００５７】
　また、脱燐反応効率をさらに向上させるためには溶銑をガス撹拌することが好ましい。このガス撹拌は、例えばインジェクションランスや底吹きノズルなどを通じて窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガスを溶銑中に吹き込むことにより行われる。このような撹拌ガスの供給量としては、十分な浴撹拌性を得るために０．０２Ｎｍ３／ｍｉｎ／Ｔ以上とし、また、浴の撹拌が強すぎると生成したＦｅＯを溶銑中のＣが還元する速度が大きくなり過ぎるためのため０．３Ｎｍ３／ｍｉｎ／Ｔ以下とすることが好ましい。
　【００５８】
　この発明の脱燐処理は、ＣａＦ２などのＦ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を使用するだけで高い脱燐反応効率が得られることが最大の特徴であるが、ＣａＦ２などのＦ源の添加を排除するものでなく、例えば、ＣａＯ源の滓化をより促進するために、許容される限度でＣａＦ２などのＦ源を添加することを妨げない。
　なお、この発明の脱燐処理においてＣａＦ２などのＦ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤のみを使用する場合、媒溶剤がＦ源を含まないとはＦ源を実質的に含まないことを意味し、したがって、媒溶剤中に例えば不可避的不純物などとして少量のＦ源が含まれることは妨げない。
　【００５９】
　次に、本願の第４の発明について説明する。
　この発明の低燐溶銑の製造方法では、上吹きランスから溶銑に気体酸素を上吹きするとともに、該上吹きされた気体酸素の運動エネルギーにより形成される溶銑浴面の凹み深さＬ（ｍ）と溶銑の浴深さＬｏ（ｍ）の比Ｌ／Ｌｏと上吹きランスからの送酸速度Ｆ（Ｎｍ３／ｍｉｎ／Ｔ）が下記（３）式及び（４）式を満足するような条件で脱燐処理を行うものであり、これによりＣａＦ２などのＦ源を含む媒溶剤を添加しなくても脱燐反応効率を飛躍的に高めることが可能になる。
　　０．０２≦Ｌ／Ｌｏ≦０．１０　　…（３）
　　０．２５≦Ｆ≦１．５０　　　　　…（４）
　これは、上吹きランスからの送酸により形成される溶銑浴面の凹み深さと上吹きランスからの送酸速度を上記の範囲に制御することにより、スラグ中のＦｅＯ濃度を適正化できるためである。
　【００６０】
　溶銑成分がＣ：４．０〜４．７ｗｔ％、Ｓｉ：ｔｒ〜０．２０ｗｔ％、Ｓ：ｔｒ〜０．０３０ｗｔ％、Ｐ：０．１０〜０．１５ｗｔ％、溶銑温度が１２７０〜１３３０℃の溶銑に対して図６に示すような取鍋型精錬容器、図７に示すような転炉型精錬容器をそれぞれ用いて脱燐処理を実施した。この脱燐処理では、撹拌ガスとして窒素を０．０２〜０．３Ｎｍ３／ｍｉｎ／Ｔの範囲内で溶銑中に吹き込むとともに、生石灰または生石灰を主体とする媒溶剤を添加した。図６に示す取鍋による脱燐処理では、インジェクションランスを用いて撹拌ガスとともに媒溶剤を溶銑中に吹き込み、上吹きランスから送酸を行った。また、図７に示す転炉型精錬容器による脱燐処理では、撹拌ガスを底吹きするとともに、上吹きランスから送酸を行い、媒溶剤は炉上ホッパーから上置き装入した。
　【００６１】
　この試験では、上吹きランスから種々の条件で送酸を行い、溶銑をガス撹拌しながら溶銑中のＰ濃度、Ｃ濃度の推移と媒溶剤により形成されるスラグの組成などを調査し、整理を試みた。また、その際に、上吹ランスから吹付けた酸素ガスが溶銑浴面に衝突する際のエネルギーを考慮するために、下記（５）式及び（６）式から求められる溶銑面の凹み深さＬ（ｍ）と溶銑の浴深さＬｏ（ｍ）の比Ｌ／Ｌｏを指標とした。なお、溶銑の浴深さＬｏとは精錬容器の底部から溶銑浴面までの距離である。
　【数１】
　　Ｌ＝Ｌｈ×ｅｘｐ｛−０．７８×ｈ×１０００／Ｌｈ／ｃｏｓθ）　…（５）
　　Ｌｈ＝６３×｛（Ｆ×６０×Ｗ）／（ｎ×ｄ）｝２／３　　　　　　…（６）
　但し　ｈ：ランスと溶銑浴面間の距離（ｍ）
　　　　θ：ランスのノズル角度（ｄｅｇ）
　　　　ｎ：ランスのノズル個数
　　　　ｄ：ランスのノズル径（ｍｍ）
　　　　Ｗ：処理溶銑量（ｔｏｎ）
　　　　Ｆ：ランスからの送酸速度（Ｎｍ３／ｍｉｎ／ｔｏｎ）
　【００６２】
　種々の操業条件におけるＬ／Ｌｏを求め、上吹きランスからの送酸速度Ｆ及びＬ／Ｌｏと操業指標との関係について整理した。操業指標としては、取鍋型精錬容器の場合は送酸１２分実施後、転炉型精錬容器の場合は送酸１０分実施後の溶銑中Ｐ濃度［Ｐ］、脱燐処理によるの脱炭量ΔＣを用いた。
　送酸速度ＦとＬ／Ｌｏとの関係において、脱燐処理後の溶銑中Ｐ濃度［Ｐ］が０．０２０ｗｔ％以下と０．０２０ｗｔ％超えで整理したものを図３に示す。これによれば、Ｌ／Ｌｏ＞０．１０、Ｌ／Ｌｏ＜０．０２及び送酸速度Ｆ＜０．２５の場合には、溶銑中Ｐ濃度［Ｐ］が０．０２０ｗｔ％を超えており、効率的な脱燐が行われていないことが判る。
　【００６３】
　ここで、Ｌ／Ｌｏ＞０．１０の場合には浴面の撹乱が大きく、酸素と浴面で生成されたＦｅＯが火点近傍に存在する媒溶剤中のＣａＯと反応溶融しにくいため、溶銑中の燐との反応効率が低下し、脱炭反応が優先的に発生しやすいため、脱燐が進行しにくい。
　一方、Ｌ／Ｌｏ＜０．０２の場合には、浴面に到達する酸素量が少ないため十分な量のＦｅＯを生成させることができず、媒溶剤中のＣａＯとＦｅＯの反応溶融が進行しにくくなってしまうため、脱燐反応が遅延することになる。
　さらに、送酸速度Ｆ＜０．２５の場合は、浴面へ供給される酸素が少ないためＦｅＯの生成が遅延し、媒溶剤中のＣａＯとＦｅＯの反応溶融が進行しにくくなり、脱燐反応が遅延することになる。
　【００６４】
　次に、送酸速度ＦとＬ／Ｌｏの関係において、脱炭量ΔＣが１．２ｗｔ％未満と１．２ｗｔ％以上で整理したものを図４に示す。なお、脱炭量ΔＣが１．２ｗｔ％未満であれば、前工程又は次工程以降での加炭を行うことなく安定的に操業できることが、経験的に判っている。
　図４によれば、送酸速度Ｆ＞１．５０の場合にはΔＣが１．２ｗｔ％以上となり、脱炭量が過大となるため操業上望ましくないことが判る。これは、浴面に供給される酸素が潤沢でＦｅＯの生成も十分であるが、脱燐の進行とともに脱炭も進行してしまうため、脱炭量が過大となるからである。
　【００６５】
　これら図３及び図４の結果から、上吹ランスからの送酸条件を適正化することにより脱炭を抑制しつつ脱燐を効率的に行うことができ、その適正条件はＬ／Ｌｏ、Ｆが上記（３）式及び（４）式で規定する範囲であることが判った。この適正範囲を図５に示す。
　【００６６】
　さらに、この発明の効果は脱燐処理前の溶銑のＳｉ濃度によって差があり、脱燐処理前のＳｉ濃度が０．１０ｗｔ％以下の溶銑に対して本発明法を実施した場合に特に顕著な脱燐反応効率が得られることが判った。
　一般に、脱燐処理前の溶銑のＳｉ濃度が高いと生成するＳｉＯ２が多くなり、この結果、スラグ量が増加するだけでなく、塩基度調整のためのＣａＯ量も多くなる。したがって、このような観点からは脱燐処理前の溶銑のＳｉ濃度は低い方が好ましいが、一方において、脱燐処理前の溶銑のＳｉ濃度が低いとスラグ中のＳｉＯ２濃度が低下するためＣａＯの溶融性がさらに悪化し、脱燐反応効率が低下してしまう。
　【００６７】
　ところが、本発明者らが種々のＳｉ濃度を有する溶銑について本発明法を実施したところ、上記のような予想に反して、脱燐処理前Ｓｉ濃度が０．１０ｗｔ％以下の溶銑に対して本発明法を実施した場合に、特に顕著な脱燐反応効率が得られることが判った。この理由としては、以下の点が考えられる。すなわち、脱燐反応ではＰは３ＣａＯ・Ｐ２Ｏ５または４ＣａＯ・Ｐ２Ｏ５の形でスラグ中に固定される。したがって、スラグ中のＳｉＯ２は脱燐には直接必要がないスラグ成分であり、また、このＳｉＯ２の一部は滓化したＣａＯの一部と反応し、このＳｉＯ２と反応したＣａＯは脱燐反応には寄与しないことになる。したがって、溶銑のＳｉ濃度が低くＳｉＯ２生成量が少ないと、ＳｉＯ２と反応して脱燐反応に寄与しなくなるＣａＯ量が減少し、脱燐反応に寄与できるＣａＯ量が相対的に増加することになるが、特に本発明法の場合にはスラグ中のＦｅＯ濃度の適正化によりＣａＯの滓化能が極めて高くなるため、溶銑の低Ｓｉ濃度に起因した上記スラグ組成（脱燐反応に寄与できるＣａＯ量の増加）の影響が顕著に現われ、この結果、脱燐反応効率が向上するものと考えられ、また、このような効果が脱燐処理前の溶銑中Ｓｉ濃度：０．１０ｗｔ％以下の低Ｓｉ濃度領域において顕在化するものと考えられる。これに対して従来法では、溶銑のＳｉ濃度が低くＳｉＯ２生成量が少ないことにより脱燐反応に寄与できるＣａＯ量が相対的に増加しても、ＣａＯの滓化能自体が低いため、上述したような溶銑の低Ｓｉ濃度化による効果が現われないものと考えられる。
　【００６８】
　このように本発明の低燐溶銑の製造方法はＳｉ濃度が０．１０ｗｔ％以下の溶銑に対して実施した場合に特に効果が大きく、したがって、出銑された溶銑のＳｉ濃度が０．１０ｗｔ％を超える場合には、高炉鋳床や溶銑鍋などで脱珪処理（通常、固体酸素源や気体酸素などの酸素を溶銑に添加して行う）を実施し、脱燐処理前の溶銑のＳｉ濃度を０．１０ｗｔ％以下とした上で脱燐処理を行うことが好ましい。
　【００６９】
　この発明の脱燐処理において使用する気体酸素は、純酸素ガス、酸素含有ガスのいずれでもよい。
　この発明の脱燐処理が実施される容器としては、フリーボードが十分に確保できるという点から転炉型容器が最も好ましいが、これ以外にも溶銑鍋などの取鍋型容器、トーピードなどの任意の容器を用いることができる。但し、これらの容器は上吹きランスを装備していることが必要である。上吹きランスの孔径や孔数などに制約はなく、この発明の条件範囲内の送酸条件が得られるよう、孔径や孔数などが選定される。
　【００７０】
　この発明の脱燐処理では、溶銑への酸素の供給は上吹きランスからの送酸が必須となるが、このような送酸とともに固体酸素源の添加を行ってもよい。通常、固体酸素源としては酸化鉄やミルスケールが用いられる。この固体酸素源の溶銑への供給は、上部ホッパーなどからの上置き装入、インジェクションランスを通じた吹き込みなどの任意の方法で行うことができる。
　また、媒溶剤の溶銑への供給も、上部ホッパーなどからの上置き装入（一括投入又は分割投入）、インジェクションランスを通じた吹き込みなどの任意の方法で行うことができる。媒溶剤の供給量は溶銑中のＳｉ、Ｓ、Ｐ濃度に応じ決められるが、スラグ発生量の低減化の観点から２０ｋｇ／Ｔ以下の供給量とすることが望ましい。
　【００７１】
　また、脱燐反応効率をさらに向上させるためには溶銑をガス撹拌することが好ましい。このガス撹拌は、例えばインジェクションランスや底吹きノズルなどを通じて窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガスを溶銑中に吹き込むことにより行われる。このような撹拌ガスの供給量としては、十分な浴撹拌性を得るために０．０２Ｎｍ３／ｍｉｎ／Ｔ以上とし、また、浴の撹拌が強すぎると生成したＦｅＯを溶銑中のＣが還元する速度が大きくなり過ぎるためのため０．３Ｎｍ３／ｍｉｎ／Ｔ以下とすることが好ましい。
　【００７２】
　この発明の脱燐処理は、ＣａＦ２などのＦ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を使用するだけで高い脱燐反応効率が得られることが最大の特徴であるが、ＣａＦ２などのＦ源の添加を排除するものでなく、例えば、ＣａＯ源の滓化をより促進するために、許容される限度でＣａＦ２などのＦ源を添加することを妨げない。
　なお、この発明の脱燐処理においてＣａＦ２などのＦ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤のみを使用する場合、媒溶剤がＦ源を含まないとはＦ源を実質的に含まないことを意味し、したがって、媒溶剤中に例えば不可避的不純物などとして少量のＦ源が含まれることは妨げない。
　【００７３】
　【実施例】
［実施例１−（１）］
　高炉から出銑された溶銑を高炉鋳床と溶銑鍋において脱珪処理し、次いで機械撹拌を用いた溶銑鍋内で脱硫処理した後、３００ｔｏｎ転炉内で脱燐処理を行った。
　この実施例では、脱燐処理前後での溶銑温度を１２８０〜１３２０℃とし、脱燐用の媒溶剤としてはＣａＦ２を含まないＣａＯ主体の焼石灰のみを用いた。ＣａＯの原単位は８〜１２ｋｇ／Ｔとした。
　【００７４】
　また、気体酸素の供給は上吹きランスで行うとともに、鉄鉱石を主体とした固体酸素源の添加も行い、全酸素原単位を気体Ｏ２換算で８〜１０Ｎｍ３／Ｔとした。送酸速度は１５０００〜２５０００Ｎｍ３／ｈｒ、ランス高さは１．５〜２．５ｍとし、所定の気体酸素量を供給するため、吹錬時間（全吹錬時間）は９〜１１分とした。
　本実施例では、Ｐ濃度が０．１ｗｔ％でほぼ一定で、Ｓｉ濃度が種々異なる溶銑について、本発明例及び比較例の脱燐処理を実施した。
　【００７５】
　本発明例では、媒溶剤の添加に先立ち溶銑に対する気体酸素の供給を行った後、媒溶剤を約３０秒おきに２〜６回に分けで分割添加した。また、媒溶剤添加前の吹錬時間は１５秒〜４分間とし、脱燐処理に要する媒溶剤中の全ＣａＯ量Ａ［ｋｇ／Ｔ］と気体換算の酸素供給量Ｂ［Ｎｍ３／Ｔ］の比Ｂ／Ａが０．０１０〜０．５０の範囲内になるようにした。
　一方、比較例では、本発明例のような媒溶剤添加前の送酸を行うことなく、初期媒溶剤の添加と同時に送酸を開始した。
　【００７６】
　図１に脱燐処理後の溶銑中のＰ濃度を脱燐処理前の溶銑中のＳｉ濃度との関係を示す。これによれば、本発明例では脱燐処理前の溶銑中のＳｉ濃度に拘りなく、比較例に較べて極めて高い脱燐反応効率が得られ、目標とする０．０２０ｗｔ％以下のＰ濃度が達成されている。また、脱燐処理前の溶銑中のＳｉ濃度が０．１５ｗｔ％以下において［Ｐ］≦０．０１５ｗｔ％以下が達成され、とりわけ脱燐処理前の溶銑中のＳｉ濃度が０．１０ｗｔ％以下において低Ｐ規格の［Ｐ］≦０．０１０ｗｔ％が安定して達成されている。
　また、本発明例のなかでもＢ／Ａ≦０．２０（但し、Ｂ／Ａ≧０．０５）の場合により高い脱燐反応効率が得られている。
　【００７７】
［実施例１−（２）］
　実施例１と同様に、高炉から出銑された溶銑を高炉鋳床と溶銑鍋において脱珪処理し、次いで機械撹拌を用いた溶銑鍋内で脱硫処理した後、３００ｔｏｎ転炉内で脱燐処理を行った。脱燐処理前後での溶銑温度を１２８０〜１３２０℃とし、脱燐用の媒溶剤としてはＣａＦ２を含まないＣａＯ主体の焼石灰のみを用いた。
　【００７８】
　この実施例では、媒溶剤の添加に先立ち酸素源として気体酸素または気体酸素と固体酸素源（ミルスケール）を溶銑に対して供給した。このうち気体酸素の供給は上吹きランスにより行い、吹錬時間は１５秒〜４分間とした。また、固体酸素源であるミルスケールの供給は連続上置き投入により行った。
　媒溶剤の添加は、約３０秒おきに２〜６回に分けて分割添加する方法または媒溶剤全量を一括添加する方法で行った。媒溶剤添加後は、上吹きランスにより気体酸素の供給を行うとともに、鉄鉱石を主体とした固体酸素源の添加も行い、媒溶剤添加前に供給する酸素源を含めた全酸素原単位を気体Ｏ２換算で８〜１０Ｎｍ３／Ｔとした。
　【００７９】
　上吹きランスを用いた送酸では、送酸速度は１５０００〜２５０００Ｎｍ３／ｈｒ、ランス高さは１．５〜２．５ｍとし、所定の気体酸素量を供給するための吹錬時間（全吹錬時間）は９〜１１分とした。
　本実施例では、Ｐ濃度が０．１ｗｔ％でほぼ一定で、Ｓｉ濃度が種々異なる溶銑について、脱燐処理に要する媒溶剤中の全ＣａＯ量Ａ［ｋｇ／Ｔ］と媒溶剤添加前に供給された酸素源の気体換算の酸素供給量Ｂ［Ｎｍ３／Ｔ］との比Ｂ／Ａを種々変えて脱燐処理を実施した。
　【００８０】
　本実施例における脱燐処理前後の溶銑成分と比Ｂ／Ａを表１及び表２に示す。これによれば比Ｂ／Ａを０．０１０〜０．５０の範囲にすることにより高い脱燐反応効率が得られることが判る。また、比Ｂ／Ａ：０．０１０〜０．５０のなかでもＢ／Ａが０．０５〜０．２０の範囲において特に良好な脱燐反応効率が得られている。
　【００８１】
　【表１】
　【００８２】
　【表２】
　【００８７】
［実施例２］
　高炉から出銑された溶銑を高炉鋳床と溶銑鍋において脱珪処理し、次いで機械撹拌を用いた溶銑鍋内で脱硫処理した後、３００ｔｏｎ転炉内で脱燐処理を行った。脱燐処理前後での溶銑温度は１２５０〜１３３０℃とし、脱燐用媒溶剤はＣａＦ２を含まないＣａＯ主体の焼石灰のみを用い、ＣａＯの原単位は９〜１１ｋｇ／Ｔとした。また、酸素源としては上吹きランスを通じた気体酸素の供給と鉄鉱石を主とした固体酸素源の供給を併用し、全酸素原単位は８〜１０Ｎｍ３／Ｔとした。また、固体酸素源の添加量は気体酸素換算で１〜４Ｎｍ３／Ｔとした。気体酸素の供給条件としては、送酸速度を１５０００〜２５０００Ｎｍ３／ｈｒ、ランス高さを１．５〜２．５ｍ、所定の酸素量を供給するための吹錬時間を８〜１０分とした。
　【００８８】
　固体酸素源を溶銑に供給するに当り、加熱炉において固体酸素源を種々の温度に予熱し（一部の比較例では予熱無し）、これを直ちにインジェクションランスを通じて窒素をキャリアガスとして溶銑中にインジェクションした。
　各実施例とも脱燐処理前の溶銑中Ｐ濃度は０．１０ｗｔ％前後でほぼ一定とし、脱燐処理後の目標Ｐ濃度は０．０１５ｗｔ％以下とした。また、高炉鋳床及び溶銑鍋の脱珪処理を制御して、脱燐処理前の溶銑中Ｓｉ濃度を調整した。
　【００８９】
　本発明例と比較例の脱燐処理後のＰ濃度を図２に示すが、２００℃以上の温度に予熱した固体酸素源を溶銑中に供給した本発明例では、溶銑のＳｉ濃度に拘りなく目標Ｐ濃度である［Ｐ］≦０．０１５ｗｔ％が達成されており、特に溶銑中Ｓｉ濃度が０．１０ｗｔ％以下の場合に低Ｐ規格である［Ｐ］≦０．０１０ｗｔ％が安定して達成されている。
　これに対して予熱していなか或いは予熱していても予熱温度が２００℃未満の固体酸素源を溶銑中に供給した比較例では、目標Ｐ濃度である［Ｐ］≦０．０１５ｗｔ％は達成されていない。
　【００９０】
［実施例３］
　高炉から出銑された溶銑を高炉鋳床及び溶銑鍋内で脱珪処理し、次いで機械撹拌を用いて溶銑鍋内で脱硫処理した後、３００ｔｏｎ転炉内で脱燐処理を行った。脱燐処理前後での溶銑温度は１２８０〜１３２０℃とし、脱燐用媒溶剤はＣａＦ２を含まないＣａＯ主体の焼石灰のみを用い、ＣａＯの原単位は９〜１１ｋｇ／Ｔとした。
　【００９１】
　媒溶剤はインジェクションランスを通じて窒素をキャリアガスとして溶銑中にインジェクションした。また、酸素源としては上吹きランスを通じた気体酸素の供給と鉄鉱石を主とした固体酸素源の供給を併用し、全酸素原単位は８〜１０Ｎｍ３／Ｔとした。また、固体酸素源の添加量は気体酸素換算で１〜４Ｎｍ３／Ｔとした。気体酸素の送酸条件としては、送酸速度を１５０００〜２５０００Ｎｍ３／ｈｒ、ランス高さを１．５〜２．５ｍ、所定の酸素量を供給するための吹錬時間は９〜１１分とした。
　各実施例とも脱燐処理前の溶銑中Ｐ濃度は０．１０ｗｔ％前後でほぼ一定とし、脱燐処理後の目標Ｐ濃度は０．０１５ｗｔ％以下とした。また、高炉鋳床及び溶銑鍋の脱珪処理を制御して、脱燐処理前の溶銑中Ｓｉ濃度を調整した。
　【００９２】
　脱燐処理容器である転炉から排出される排ガス中の［ＣＯ２］／（［ＣＯ２］＋［ＣＯ］）は、送酸条件とランス高さを調整して排ガスの二次燃焼率を変えるにことにより制御した。このため転炉から排出される排ガスのガス組成分析を随時行い、このガス分析値に基づき［ＣＯ２］／（［ＣＯ２］＋［ＣＯ］）の制御を行った。また、炉体の溶損については、出鋼時に炉内を目視で観察することにより評価した。
　【００９３】
　各実施例の脱燐処理前後の溶銑中Ｐ濃度とＳｉ濃度及び炉体溶損の度合いを、排ガス中の［ＣＯ２］／（［ＣＯ２］＋［ＣＯ］）とともに表３に示す。
　表３によれば、排ガス中の［ＣＯ２］／（［ＣＯ２］＋［ＣＯ］）が０．１０〜０．３５に制御された本発明例では溶銑のＳｉ濃度に拘りなく目標Ｐ濃度である［Ｐ］≦０．０１５ｗｔ％が達成されており、特に溶銑中Ｓｉ濃度が０．１ｗｔ％以下の場合に低Ｐ規格である［Ｐ］≦０．０１ｗｔ％が安定して達成されている。
　【００９４】
　これに対して排ガス中の［ＣＯ２］／（［ＣＯ２］＋［ＣＯ］）が０．１０未満である比較例では、溶銑中Ｓｉ濃度が０．１０ｗｔ％以下であっても目標Ｐ濃度である［Ｐ］≦０．０１５ｗｔ％は達成されていない。また、［ＣＯ２］／［ＣＯ２］＋［ＣＯ］）が０．３５を超えた比較例では、過剰な二次燃焼によって炉体に溶損を生じている。
　【００９５】
　【表３】
　【００９６】
［実施例４−（１）］
　図６に示すような取鍋型精錬容器（１５０ｔｏｎ）を用いて溶銑の脱燐処理を行った。媒溶剤としては焼石灰を使用し、これを窒素をキャリアガスとしてインジェクションランスから溶銑中に吹き込んだ。溶銑の成分、温度、送酸時間は可能な限り一定とし、媒溶剤投入量は脱燐処理前の溶銑中Ｓｉ濃度に応じて装入基準を設定するように留意した。主要な脱燐条件を表４に示す。
　【００９７】
　各実施例とも脱燐処理後の溶銑の目標Ｐ濃度は０．０２０ｗｔ％以下とし、また、脱炭量ΔＣは１．２０ｗｔ％未満とした。なお、脱燐処理後の溶銑中Ｐ濃度と脱燐処理による脱炭量ΔＣは送酸開始前及び終了時の溶銑、スラグの成分分析値より求めた。
　各実施例における脱燐処理後の溶銑中Ｐ濃度（終点［Ｐ］濃度）と脱燐処理による脱炭量ΔＣを、溶銑温度、送酸速度Ｆ、Ｌ／Ｌｏなどとともに表５に示す。
　【００９８】
　表５によれば、０．０２≦Ｌ／Ｌｏ≦０．１０で且つ０．２５≦Ｆ≦１．５０を満足する本発明例では、目標Ｐ濃度である［Ｐ］≦０．０２０ｗｔ％及びΔＣ＜１．２０ｗｔ％が達成されている。
　これに対してＬ／Ｌｏ、Ｆが上記の本発明条件を満足していない比較例では、少なくとも［Ｐ］≦０．０２０ｗｔ％、ΔＣ＜１．２０ｗｔ％のいずれかが達成されていない。
　【００９９】
　【表４】
　【０１００】
　
【表５】
　【０１０１】
［実施例４−（２）］
　図７に示すような転炉型精錬容器（３５０ｔｏｎ）を用いて溶銑の脱燐処理を行った。媒溶剤としては焼石灰を使用し、これを上部ホッパーからの一括投入又は分割投入で溶銑に供給した。溶銑の成分、温度、送酸時間は可能な限り一定とし、媒溶剤投入量は脱燐処理前の溶銑中Ｓｉ濃度に応じて装入基準を設定するように留意した。主要な脱燐条件を表６に示す。
　【０１０２】
　各実施例とも脱燐処理後の溶銑の目標Ｐ濃度は０．０２０ｗｔ％以下とし、また、脱炭量ΔＣは１．２０ｗｔ％未満とした。なお、脱燐処理後の溶銑中Ｐ濃度と脱燐処理による脱炭量ΔＣは送酸開始前及び終了時の溶銑、スラグの成分分析値より求めた。
　各実施例における脱燐処理後の溶銑中Ｐ濃度（終点［Ｐ］濃度）と脱燐処理による脱炭量ΔＣを、溶銑温度、送酸速度Ｆ、Ｌ／Ｌｏなどとともに表７及び表８に示す。
　【０１０３】
　表７及び表８によれば、０．０２≦Ｌ／Ｌｏ≦０．１０で且つ０．２５≦Ｆ≦１．５０を満足する本発明例では、目標Ｐ濃度である［Ｐ］≦０．０２０ｗｔ％及びΔＣ＜１．２ｗｔ％が達成されている。
　これに対してＬ／Ｌｏ、Ｆが上記の本発明条件を満足していない比較例では、少なくとも［Ｐ］≦０．０２０ｗｔ％、ΔＣ＜１．２０ｗｔ％のいずれかが達成されていない。
　【０１０４】
　【表６】
　【０１０５】
　【表７】
　【０１０６】
　【表８】
　【０１０７】
　【発明の効果】
　以上述べたように本発明法によれば、ＣａＦ２などのＦ源を含む媒溶剤を用いることなく極めて優れた脱燐効率で溶銑の脱燐処理を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　実施例１−（１）において、脱燐処理後の溶銑中Ｐ濃度を脱燐処理前の溶銑中のＳｉ濃度との関係で示すグラフ
　【図２】
　実施例２において、脱燐処理で使用した固体酸素源の予熱温度と脱燐処理後の溶銑中Ｐ濃度との関係を示すグラフ
　【図３】
　取鍋型精錬容器と転炉型精錬容器をそれぞれ用いて行った脱燐処理において、Ｌ／Ｌｏと送酸速度Ｆとの関係を脱燐処理後の溶銑中Ｐ濃度で整理して示したグラフ
　【図４】
　取鍋型精錬容器と転炉型精錬容器をそれぞれ用いて行った脱燐処理において、Ｌ／Ｌｏと送酸速度Ｆとの関係を脱燐処理による脱炭量ΔＣで整理して示したグラフ
　【図５】
　Ｌ／Ｌｏと送酸速度Ｆの適正範囲を示すグラフ
　【図６】
　取鍋型精錬容器を用いた本発明の実施状況の一例を示す説明図
　【図７】
　転炉型精錬容器を用いた本発明の実施状況の一例を示す説明図