Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月5日(2014.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
広告提供者端末から第１広告が提供されれば、情報提供サーバが前記第１広告の特性および複数の個人店舗に設置された複数のディスプレイ部のそれぞれの媒体分析情報に基づいて前記複数のディスプレイ部のうち前記第１広告をディスプレイするのに適したディスプレイ部を検索するステップ（ａ）と、
前記広告提供者端末により、前記検索されたディスプレイ部のうち少なくとも１つのディスプレイ部が選択されると、前記情報提供サーバが前記選択された少なくとも１つのディスプレイ部に前記第１広告を送信するステップ（ｂ）と、
前記選択された少なくとも１つのディスプレイ部において前記第１広告がディスプレイされるようにするステップ（ｃ）と、
前記情報提供サーバにおいて、前記第１広告の広告料を計算し、前記計算された広告料のうち少なくとも一部を前記選択された少なくとも１つのディスプレイ部が設置された個人店舗を提供した個人の収益として決定するステップ（ｄ）とを含む個人店舗を利用した収益創出方法。
【請求項２】
前記ステップ（ａ）では、前記広告提供者端末からディスプレイ日付と時間帯に関する情報がさらに提供され、
前記ステップ（ｂ）では、前記情報提供サーバが前記ディスプレイ日付と時間帯に前記選択された少なくとも１つのディスプレイ部に前記第１広告を送信する請求項１記載の個人店舗を利用した収益創出方法。
【請求項３】
前記ステップ（ａ）では、前記広告提供者端末により前記広告料の支払い類型が定額制および従量制のうちいずれ一つを指定され、
前記ステップ（ｄ）では、前記広告料の支払い類型が従量制に指定されると、前記情報提供サーバが前記媒体分析情報、前記ディスプレイの日付と時間帯をさらに考慮して、前記広告料を計算する請求項２記載の個人店舗を利用した収益創出方法。
【請求項４】
前記情報提供サーバは、前記複数のディスプレイ部それぞれの前記媒体分析情報に基づいて前記複数のディスプレイ部のそれぞれに対して媒体分析評価点数を与え、前記第１広告の特性および前記広告料のうち少なくとも１つと前記媒体分析評価点数との間に相互関係を作成し、データベースに格納して、
前記ステップ（ａ）では、前記情報提供サーバが前記データベースに格納された前記の相互関係に基づいて前記第１広告をディスプレイするのに適したディスプレイ部を検索する請求項３記載の個人店舗を利用した収益創出方法。
【請求項５】
前記ステップ（ａ）では、前記情報提供サーバが、前記複数の個人店舗を提供した個人のそれぞれの端末から前記媒体分析情報を提供される請求項１記載の個人店舗を利用した収益創出方法。
【請求項６】
前記複数の個人店舗に設置された撮像素子のそれぞれから撮影された画像が前記情報提供サーバに送信され、前記情報提供サーバが前記撮影された画像に基づいて前記媒体分析情報を取得し、更新する請求項１記載の個人店舗を利用した収益創出方法。
【請求項７】
携帯端末から第２広告が提供され、複数のディスプレイ部のうちさらに少なくとも１つのディスプレイ部が指定され、前記第２広告の前記広告料が支払われると、前記情報提供サーバが、前記携帯端末から提供された第２広告を前記さらに指定された少なくとも１つのディスプレイ部に送信して、前記さらに指定された少なくとも１つのディスプレイ部で追加の露出窓を通して前記第２広告がディスプレイされるようにするステップ（ｅ）をさらに含む請求項１記載の個人店舗を利用した収益創出方法。
【請求項８】
前記第１広告がイベント応募を含み、携帯端末を通して前記イベント応募に対する参加が発生し、前記第１広告をディスプレイするディスプレイ部のうち特定ディスプレイ部の識別記号が入力される場合に、
前記ステップ（ｄ）では、前記情報提供サーバが、前記特定ディスプレイ部の識別記号が入力された回数に基づいて前記特定ディスプレイ部を提供した個人に追加の収益を提供する請求項１記載の個人店舗を利用した収益創出方法。
【請求項９】
前記ディスプレイ部は、タッチ機能をさらに含み、前記ディスプレイ部の画面がタッチされることによって、前記第１広告が反応する請求項１記載の個人店舗を利用した収益創出方法。
【請求項１０】
前記第１広告は動画、画像、コンテンツ、およびユーザインターフェイスウィンドウのうち少なくとも１つを含む請求項１記載の個人店舗を利用した収益創出方法。
【請求項１１】
前記ユーザインターフェイスウィンドウは、前記情報提供サーバが情報検索プログラム、予約プログラム、購入プログラムおよびゲームプログラムのうち少なくとも１つのプログラムを格納し、前記プログラムのいずれ一つを実行することによって前記第１広告として提供される請求項１０記載の個人店舗を利用した収益創出方法。
【請求項１２】
広告提供者端末から第１広告が提供されると、前記第１広告の特性と複数の個人店舗に設置された複数のディスプレイ部のそれぞれの媒体分析情報に基づいて前記複数のディスプレイ部のうち前記第１広告をディスプレイするのに適したディスプレイ部を検索するアプリケーション部と、
前記広告提供者端末により、前記検索されたディスプレイ部のうち少なくとも１つのディスプレイ部が選択されると、前記選択された少なくとも１つのディスプレイ部に前記第１広告を送信し、前記選択された少なくとも１つのディスプレイ部で前記第１広告がディスプレイされるようにするホスト部とを含み、
前記アプリケーション部は第１広告の広告料を計算して、前記計算された広告料のうち少なくとも一部を前記選択された少なくとも１つのディスプレイ部が設置された個人店舗を提供した個人の収益として決定する個人店舗を利用した収益創出システム。
【請求項１３】
前記アプリケーション部は前記広告の特性および前記広告料と前記媒体分析評価点数との相互関係を作成するクローラを含む請求項１２記載の個人店舗を利用した収益創出システム。
【請求項１４】
前記媒体分析情報および前記媒体分析評価点数を格納する媒体分析および評価情報格納部と、
前記第１広告を格納する格納部と、
前記広告料および前記個人の収益を格納する広告料内訳格納部とを含むデータベースとをさらに含む請求項１２記載の個人店舗を利用した収益創出システム。
【請求項１５】
請求項１ないし１１のいずれか一項に記載の個人店舗を利用した収益創出方法を実行するためのコンピュータプログラムを記録するコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月6日(2015.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
クロス・ウィンドウ・アニメーション方法であって、
異なるウィンドウの一部を覆うアニメーション・エリアを決定するステップと、
前記アニメーション・エリアを覆うサイズに決められたオーバーレイ・ウィンドウを作るステップと、
前記異なるウィンドウの一部の上に前記オーバーレイ・ウィンドウを表示するステップと、
前記オーバーレイ・ウィンドウを使用してアニメーションを実行するステップであって、
第１の異なるウィンドウからレイヤーを前記オーバーレイ・ウィンドウ内へ動かすステップと、
前記レイヤーが前記第１の異なるウィンドウから第２の異なるウィンドウへ跨ぐように見えるように、前記オーバーレイ・ウィンドウ内で前記レイヤーを動かすステップと、
前記レイヤーを前記オーバーレイ・ウィンドウから前記第２の異なるウィンドウ内へ動かすステップと、
を更に含む、ステップと、
前記アニメーションが完了したときに、前記オーバーレイ・ウィンドウを除去するステップと、
を含む、方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法において、前記アニメーションが、前記異なるウィンドウに跨がって視覚エレメントを動かすウィンドウ間アニメーションと、前記異なるウィンドウの内少なくとも１つのサイズを変更すること、および前記異なるウィンドウの内少なくとも１つを動かすことの内少なくとも１つを含むウィンドウ移行アニメーションと、の内少なくとも１つを含む、方法。
【請求項３】
請求項１記載の方法であって、更に、前記異なるウィンドウのレイヤーのペアレントを前記オーバーレイ・ウィンドウに変更するステップを含む、方法。
【請求項４】
請求項１記載の方法であって、更に、前記アニメーションによる影響を受ける前記異なるウィンドウを登録し、前記アニメーションの間前記登録されたウィンドウからのコンテンツが前記オーバーレイ・ウィンドウにレンダリングされるようにするステップを含む、方法。
【請求項５】
請求項２記載の方法であって、更に、前記ウィンドウ移行アニメーションにおいて影響を受ける前記異なるウィンドウについての情報を指定するヒントを受けるステップを含み、前記ヒントが、初期ウィンドウ位置、初期ウィンドウ・サイズ、最終ウィンドウ位置、最終ウィンドウ・サイズ、初期ウィンドウ可視性、最終ウィンドウ可視性、およびオーバーレイ・ウィンドウにおけるクリッピング領域を含む、方法。
【請求項６】
請求項１記載の方法であって、更に、前記アニメーションが完了したと決定すること、およびアニメーションが所定の時間期間を超えたときを決定することの内少なくとも１つまで、ユーザー・インターフェース・スレッドを遮断するステップを含む、方法。
【請求項７】
クロス・ウィンドウ・アニメーションのために動作可能な計算デバイスであって、
プロセッサーと、
命令を含むメモリー・ストレージと、
を含み、前記命令が前記プロセッサーにより実行されると、
第１のウィンドウの一部と第２のウィンドウの一部を覆うアニメーション・エリアを決定し、
前記アニメーション・エリアを覆うサイズに決められたオーバーレイ・ウィンドウを作り、前記オーバーレイ・ウィンドウが前記アニメーション・エリアの上に表示される不透明な背景を含み、
前記第１と第２のウィンドウの前記一部の上に前記オーバーレイ・ウィンドウを表示し、
前記オーバーレイ・ウィンドウを使用してアニメーションを実行する、
ことを提供するよう動作可能であり、前記アニメーションを実行することが更に、
コンテンツを前記オーバーレイ・ウィンドウへ直接ドローするために前記第１と第２のウィンドウに指示し、これにより前記第１のウィンドウの前記一部と前記第２のウィンドウの前記一部とを前記アニメーション内に含め、
前記第１のウィンドウ内の視覚エレメントを前記第１のウィンドウから前記オーバーレイ・ウィンドウ内へ動かし、
前記視覚エレメントが前記第１のウィンドウから前記第２のウィンドウへ跨ぐように見えるように、前記視覚エレメントを前記オーバーレイ・ウィンドウ内で表示し、
前記視覚エレメントを前記オーバーレイ・ウィンドウから前記第２のウィンドウ内へ動かす、
ことを含む、計算デバイス。
【請求項８】
クロス・ウィンドウ・アニメーション・システムであって、
ディスプレイと、
マルチテナント・サービスのテナントに結合されたネットワーク接続と、
プロセッサーおよびコンピューター読み取り可能媒体と、
前記コンピューター読み取り可能媒体に格納され前記プロセッサーにおいて実行する動作環境と、
前記動作環境の制御下で動作し、アクションを実行するように動作するプロセスであって、前記アクションが、
異なるウィンドウの一部を覆うアニメーション・エリアを決定するアクションと、
前記アニメーション・エリアを覆うサイズに決められたオーバーレイ・ウィンドウを作るアクションと、
前記異なるウィンドウの一部の上に前記オーバーレイ・ウィンドウを表示するアクションと、
前記オーバーレイ・ウィンドウを使用してアニメーションを実行するアクションであって、前記アニメーションが、異なるウィンドウに跨がって視覚エレメントを動かすウィンドウ間アニメーションと、異なるウィンドウの内少なくとも１つのサイズを変更すること、および前記異なるウィンドウの内少なくとも１つを動かすことの内少なくとも１つを含むウィンドウ移行アニメーションと、の内少なくとも１つを含み、前記アニメーションが更に、
第１の異なるウィンドウからレイヤーを前記オーバーレイ・ウィンドウ内へ動かし、
前記レイヤーが前記第１の異なるウィンドウから第２の異なるウィンドウへ跨ぐように見えるように、前記オーバーレイ・ウィンドウ内で前記レイヤーを表示し、
前記レイヤーを前記オーバーレイ・ウィンドウから前記第２の異なるウィンドウ内へ動かす、
ことを含む、アクションと、
を含む、プロセスと、
を含む、システム。  
【請求項９】
請求項８記載のシステムであって、更に、前記アニメーションを実行する前に、前記異なるウィンドウのレイヤーのペアレントをオーバーレイ・ウィンドウに変更し、前記アニメーションが完了した後に、前記レイヤーのペアレントを再度前記オーバーレイ・ウィンドウから前記異なるウィンドウに変更するアクションを含む、システム。
【請求項１０】
請求項８記載のシステムであって、更に、前記アニメーションが完了したと決定すること、およびアニメーションが所定の時間期間を超えたときを決定することの内少なくとも１つまで、ユーザー・インターフェース・スレッドを遮断するアクションを含む、システム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月19日(2015.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線装置のスペクトル仮想モジュールが、仮想周波数バンドにおいて送信のために前記無線装置の無線プロトコルモジュールにより生成された送信シンボルから導出される複数の周波数成分を、１つ以上の指定された物理周波数バンドに関連するサブキャリアにマッピングするステップと、
前記スペクトル仮想モジュールが、マッピングされた前記複数の周波数成分から導出される時間領域サンプルを含む送信信号を出力するステップと
を有する方法。
【請求項２】
前記スペクトル仮想モジュールが、前記複数の周波数成分を導出するために、前記送信シンボルについてＭポイントの高速フーリエ変換を実行するステップと、
前記スペクトル仮想モジュールが、前記送信信号の前記時間領域サンプルを導出するために、マッピングされた前記複数の周波数成分についてＮポイントの逆高速フーリエ変換を実行するステップと
を有する請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記仮想周波数バンドが仮想帯域幅を有し、前記１つ以上の指定された物理周波数バンドが物理ベースバンドの一部分であり、当該方法は、前記仮想帯域幅と前記物理ベースバンドが占める範囲との関数である比率をＭに乗じた値以上であるようにＮを選択するステップを有する、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記仮想周波数バンドの仮想サブキャリアの数以上であるようにＭを選択するステップを有する請求項２に記載の方法。
【請求項５】
プロセッサと、
物理ベースバンドで無線により送信及び受信を行うように形成された無線フロントエンドと、
前記プロセッサにより実行可能であり、仮想送信バンドにおける送信のための送信シンボルを生成するように形成されたプロトコルモジュールと、
前記プロセッサにより実行可能な分離及び再構築モジュールであって、Ｍ個の送信周波数領域成分を生成するために、前記送信シンボルについてＭポイントの高速フーリエ変換を実行し、前記Ｍ個の送信周波数領域成分を、送信のために指定された前記物理ベースバンドのうちの１つ以上の部分に関連する送信サブキャリアにマッピングし、前記物理ベースバンドにおける送信信号の時間領域サンプルを生成するために、マッピングされた前記Ｍ個の送信周波数領域成分についてＮポイントの逆高速フーリエ変換を実行するように形成された分離及び再構築モジュールと
を有する無線装置。
【請求項６】
送信のために指定された前記物理ベースバンドのうちの１つ以上の部分が、合計送信帯域幅を含み、前記分離及び再構築モジュールは、前記仮想送信バンドの仮想帯域幅と前記物理ベースバンドが占める範囲との関数である比率をＭに乗じた値以上であるようにＮを選択するように形成されている、請求項５に記載の無線装置。
【請求項７】
送信のために指定された物理周波数バンドのうちの１つ以上の部分の合計物理帯域幅と前記仮想送信バンドの仮想帯域幅との比率により少なくとも部分的に決定される因子により、送信のために指定された前記物理ベースバンドのうちの１つ以上の部分をスケーリングする帯域幅スケーリングモジュールであって、前記分離及び再構築モジュールは、前記物理周波数バンドのうちの１つ以上の部分のスケーリングされた部分に基づいて、前記Ｍ個の送信周波数領域成分を、前記送信サブキャリアにマッピングするように形成されている、帯域幅スケーリングモジュールと、
前記送信信号の送信帯域幅を前記因子により削減するように形成された帯域幅調整モジュールと
を有する請求項５に記載の無線装置。
【請求項８】
前記帯域幅調整モジュールが、
前記送信信号に対する時間領域サンプルに、ゼロに設定されたサンプルを加えることにより、前記送信帯域幅を削減し、
前記ゼロに設定されたサンプルをローパスフィルタにより処理し、及び
前記送信信号をデシメートする
ように形成されている、請求項７に記載の無線装置。
【請求項９】
ゼロに設定されたサンプルを前記送信信号に加え、前記送信信号をローパスフィルタに通し、前記送信信号の送信帯域幅の最小公倍数と前記無線フロントエンドのサンプリングレートとの比率の関数である因子により、前記送信信号をデシメートするように形成されたサンプリングレート調整モジュールを有する請求項５に記載の無線装置。
【請求項１０】
前記分離及び再構築モジュールが、Ｎ個の受信周波数成分を生成するために、受信信号についてＮポイントの高速フーリエ変換を実行し、受信のために指定された物理周波数バンドの１つ以上の部分の指定された部分に対応する前記Ｎ個の受信周波数成分のうちＭ個を逆マッピングし、仮想受信バンドにおける受信信号の時間領域サンプルを生成するために、Ｍ個の受信周波数成分についてＭポイントの逆高速フーリエ変換を実行するように形成されている、請求項５に記載の無線装置。
【請求項１１】
請求項１〜４のうち何れか１項に記載の方法を無線装置のコンピュータに実行させるコンピュータプログラム。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年10月13日(2015.10.13)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８９】
ｎ＝ビンインデックス
k = log2TrafoDimension-2
log2TrafoDimension =ｘ寸法における最後の位置のｌｏｇ２（幅）
log2TrafoDimension =ｙ寸法における最後の位置のｌｏｇ２（高さ）
場合によっては、（１）〜（３）に定義された関数は、メモリに記憶され、コンテキスト割当てを参照するために利用され得る一連のテーブルを構築するために、コード化機器によって使用される場合がある。場合によっては、表は、本明細書に記載された式と規則とに基づいて予め決定され、ビデオエンコーダ２０とビデオデコーダ３０の両方に記憶される場合がある。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月28日(2015.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体装置の製造方法であって、
複数の置換金属ゲートを含むトランジスタを、ソース及びドレインを有する第１のゲートと、前記第１のゲートから分離された少なくとも１つの第２のゲートと共に半導体基板上に設けるステップであって、前記トランジスタは、前記第１のゲートの周囲の第１の絶縁材料からなるゲートスペーサと、前記ゲートスペーサ間の第２の絶縁材料からなる第１の絶縁層とを含み、前記第２の絶縁材料のうち少なくとも一部が、前記第１のゲートのソース及びドレイン上に設けられる、ステップと、
前記第１のゲート及び前記第２のゲート上に整合された１つ以上の絶縁マンドレルを形成するステップであって、前記絶縁マンドレルは前記第１の絶縁材料を含む、ステップと、
前記絶縁マンドレルの周囲にマンドレルスペーサを形成するステップであって、前記マンドレルスペーサは前記第１の絶縁材料を含む、ステップと、
前記第２の絶縁材料からなる第２の絶縁層を前記トランジスタ上に形成するステップと、
前記絶縁マンドレル間の前記トランジスタの部分から前記第２の絶縁材料を除去することにより、前記第１のゲートの前記ソース及びドレインまでの１つ以上の第１のトレンチを形成するステップと、
前記第２のゲートの上方の前記第１の絶縁材料及び前記第２の絶縁材料の部分を除去することにより、前記第２のゲートまでの第２のトレンチを形成するステップと、
導電性材料を前記第１のトレンチ及び前記第２のトレンチに充填して、前記第１のゲートの前記ソース及びドレインに対する第１のコンタクトと、前記第２のゲートに対する第２のコンタクトとを形成するステップと、
を含む、半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記第１のトレンチ及び前記第２のトレンチに対して導電性材料を単一のプロセスで充填するステップをさらに含む、請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
各マンドレルは、少なくとも下側のゲートと同じ幅を有し、各マンドレルは、少なくとも下側のゲートと同じ幅である、請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記マンドレルスペーサは、下部においてより幅広であり、且つ、上部においてより幅狭な傾斜状の外形を有する、請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記マンドレルスペーサのうち少なくとも一部は、前記第１のトレンチ内で露出する、請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項６】
前記絶縁マンドレルの縁部は、前記ゲートの縁部を超えて延在する、請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項７】
前記マンドレルスペーサの縁部は、前記ゲートスペーサの縁部を超えて延在する、請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項８】
第２の絶縁材料を選択的に除去し、且つ、第１の絶縁材料を除去しないプロセスにおいて、前記第２の絶縁材料を除去することによって、前記第１のゲートの前記ソース及びドレインまでの前記第１のトレンチを形成するステップをさらに含む、請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項９】
前記絶縁マンドレルを形成する前に、前記第２の絶縁材料からなる肉薄層を前記トランジスタ上に形成するステップをさらに含む、請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
前記第１のコンタクトは、前記マンドレルスペーサの傾斜によって決定される傾斜を含む、請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１１】
前記第１のトレンチ及び前記第２のトレンチに導電性材料を充填した後に、前記トランジスタを平坦化するステップをさらに含む、請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１２】
前記第１のトレンチ及び前記第２のトレンチを形成するステップは、前記第１のトレンチ及び前記第２のトレンチを規定する、ＣＡＤ（コンピュータ支援設計）設計されたレジストパターンを用いて実行される、請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１３】
前記トランジスタ上に第３の絶縁層を形成するステップと、
前記第３の絶縁層の一部を除去することにより、前記第３の絶縁層を通じて前記第１のコンタクト及び前記第２のコンタクトまでの第３のトレンチを形成するステップと、
前記第３の絶縁層を通じて形成された前記第３のトレンチ内に導電性材料を堆積させることにより、前記第１のコンタクト及び前記第２のコンタクトに対してローカル相互接続を形成するステップと、
をさらに含む、請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１４】
第１の絶縁材料を選択的に除去し、且つ、第２の絶縁材料を除去しないプロセスにおいて、前記第２のトレンチが前記第２のゲートに対して整合するように、前記第２のゲートの上方の前記第１の絶縁材料の部分を除去するステップをさらに含む、請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１５】
複数の命令を記憶するコンピュータ可読記憶媒体であって、前記複数の命令が実行されると、半導体プロセスにおいて用いることが可能な１つ以上のレジストパターンが生成され、
前記半導体プロセスは、
複数の置換金属ゲートを含むトランジスタを、ソース及びドレインを有する第１のゲートと、前記第１のゲートから分離された少なくとも１つの第２のゲートと共に半導体基板上に設けることであって、前記トランジスタは、各第１のゲートの周囲の第１の絶縁材料からなるゲートスペーサと、前記ゲートスペーサ間の第２の絶縁材料からなる第１の絶縁層とを含み、前記第２の絶縁材料のうち少なくとも一部は、前記第１のゲートのソース及びドレイン上に設けられることと、
前記第１のゲート及び前記第２のゲート上に整合された１つ以上の絶縁マンドレルを形成することであって、前記絶縁マンドレルは、前記第１の絶縁材料を含むことと、
前記絶縁マンドレルの周囲にマンドレルスペーサを形成することであって、前記マンドレルスペーサは前記第１の絶縁材料を含むことと、
前記トランジスタ上に前記第２の絶縁材料からなる第２の絶縁層を形成することと、
前記絶縁マンドレル間の前記トランジスタの部分から前記第２の絶縁材料を除去することにより、前記第１のゲートの前記ソース及びドレインに対して１つ以上の第１のトレンチを形成することと、
前記第２のゲートの上方の前記第１の絶縁材料及び前記第２の絶縁材料の部分を除去することにより、前記第２のゲートに対する第２のトレンチを形成することと、
前記第１のトレンチ及び前記第２のトレンチに導電性材料を充填して、前記第１のゲートの前記ソース及びドレインに対する第１のコンタクトと、前記第２のゲートに対する第２のコンタクトを形成することと、を含む、
コンピュータ可読記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月6日(2015.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィ装置であって、
基板を保持する基板テーブルと、
パターン付き放射ビームを、開口を通って前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、
ガスを前記開口に送出し、前記開口からの前記ガスの流れを前記投影システムと前記基板テーブルとの間の空間に供給する導管と、
前記投影システムと前記基板テーブルとの間の前記空間に配置された温度制御デバイスであって、前記ガスが前記開口を通過した後に前記空間の前記ガスの温度を制御する温度制御デバイスと、を備える、リソグラフィ装置。
【請求項２】
前記温度制御デバイスは、加熱手段及び冷却手段の両方を含む温度制御手段を備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記加熱手段及び前記冷却手段は、前記空間に配置されたサポート部材上に取り付けられる、請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記サポート部材は、前記基板テーブルに対向する前記投影システムの表面上に取り付けられる、請求項３に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記加熱手段は少なくとも１つの抵抗加熱素子を備える、請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記少なくとも１つの抵抗加熱素子は、独立して制御可能な複数のセグメントを備える、請求項５に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記加熱手段は、独立して制御可能な複数の加熱素子を備える、請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記冷却手段は少なくとも１つの冷却素子を備える、請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
前記少なくとも１つの冷却素子は、遠隔源で冷却された冷却流体を搬送するヒートパイプを備える、請求項８に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
前記温度制御手段は、前記加熱手段を制御することによって冷却量を制御する、請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１１】
前記リソグラフィ装置によって前記基板上に投影されたパターンのオーバーレイを測定するメトロロジ装置をさらに備え、前記メトロロジ装置からの出力は、前記温度制御デバイスの動作を制御する制御システムへの制御入力として用いられる、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１２】
前記基板の赤外線反射率を測定する測定装置をさらに備え、測定された前記基板の反射率は、前記温度制御デバイスの動作を制御する制御システムへの制御入力として用いられる、請求項１乃至１１のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１３】
デバイス製造方法であって、
パターン付き放射ビームを、投影システムの開口を通って基板上に投影することと、
導管を介してガスを前記投影システムの前記開口に送出することと、
前記投影システムと前記基板との間の空間で前記ガスの温度が制御されるように、前記ガスが前記出口を通過した後に前記ガスの温度を制御することと、を含む、デバイス製造方法。
【請求項１４】
前記温度制御は、冷却手段を用いる過冷却と、加熱手段を用いる加熱と、によって得られる冷却を含む、請求項１３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月27日(2014.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スキマー装置を備える質量分光計の真空インターフェースを準備し、または動作させる方法であって、前記スキマー装置は、スキマー開口部と、前記スキマー装置の内部表面とを有し、前記方法は、吸着性材料またはゲッタ材料を前記内部表面上に配置するステップを含む方法。
【請求項２】
前記内部表面が、従前のあるいは現在のプラズマ流からの物質を堆積し得る堆積領域を備え、前記材料が、前記内部表面の少なくとも前記堆積領域の、少なくとも一部分に配置される請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記配置ステップが、前記スキマー装置の最初の使用の前に行われる請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記配置ステップが、前記スキマー装置の少なくとも最初の使用の後に行われる請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記配置ステップが、従前に配置された材料をリフレッシュするために断続的に行われる請求項３または４に記載の方法。
【請求項６】
前記材料が、薄膜として設けられる請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記薄膜が、単層または単層に近い厚さである請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記材料が、スパッタリングまたは、前記材料の昇華によって前記内部表面上に配置される請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記材料が、前記材料のフィラメント、ロッドまたはペレットの１つ以上に局部加熱を行うことによって前記スキマー装置内に配置される請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記材料が、前記材料を機械的に導入することによって膨張プラズマ中に配置される請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
前記材料が、チタンである請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
前記材料が、金属、好ましくはチタン、ガラス、蒸発性ゲッタ、非蒸発性ゲッタ、セラミックス材料、沸石、ゲッタ材料と併用した沸石、ゲッタ被覆スポンジ、アルミニウムスポンジの１つ以上および、炭素または活性炭を備える請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
前記スキマー開口部を通して膨張プラズマをスキミングするステップと、前記スキマー装置に隣接する前記スキミングされたプラズマの一部分を、前記吸着性材料またはゲッタ材料で収集することによって、前記一部分を前記スキミングされたプラズマの残部から前記スキマー装置内で分離するステップとをさらに含む請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法ステップを含むプラズマ質量分光法を行う方法。
【請求項１５】
質量分光計の真空インターフェースのためのスキマー装置であって、内部表面と、前記スキマー装置を通してプラズマをスキミングするためのスキマー開口部で、かつスキミングされたプラズマが前記スキマー開口部の下流に流すためのスキマー開口部と、前記スキマー装置の前記内部表面上に配置された吸着性材料またはゲッタ材料とを備えるスキマー装置。
【請求項１６】
前記内部表面が、従前のあるいは現在のプラズマ流からの物質を堆積し得る堆積領域を備え、前記材料が、前記内部表面の少なくとも前記堆積領域の少なくとも一部分に配置される請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記吸着性材料またはゲッタ材料が、未使用のスキマー装置の前記内部表面上に配置される請求項１５または１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記吸着性材料またはゲッタ材料が、使用されたスキマー装置の前記内部表面上に配置される請求項１５〜１７のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１９】
従前に配置された材料をリフレッシュするために断続的に吸着性材料またはゲッタ材料を前記内部表面に配置するための手段をさらに備える請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
前記材料が、薄膜である請求項１５〜１９のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２１】
前記薄膜が、単層または単層に近い厚さである請求項２０に記載の装置。
【請求項２２】
前記材料が、チタンである請求項１５〜２１のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２３】
前記材料が、金属、好ましくはチタン、ガラス、蒸発性ゲッタ、非蒸発性ゲッタ、セラミックス材料、沸石、ゲッタ材料と併用した沸石、ゲッタ被膜スポンジ、アルミニウムスポンジの１つ以上および、炭素または活性炭を備える請求項１５〜２１のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２４】
請求項１５〜２３のいずれか１項に記載の前記スキマー装置を備えるプラズマ質量分光計。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月8日(2015.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体酸化物形燃料電池（ＳＯＦＣ）用平面状相互接続部であって、
燃料入口上昇部開口と、
燃料出口上昇部開口と、
前記相互接続部の空気側の複数の第１の流路と、
前記相互接続部の燃料側の複数の第２の流路と、
前記相互接続部の空気側を覆う導電性金属酸化物層と、
前記燃料入口上昇部開口および前記燃料出口上昇部開口に隣接する領域中の前記導電性金属酸化物層上の障壁層と、
を備える平面状相互接続部。
【請求項２】
請求項１記載の平面状相互接続部において、
前記導電性金属酸化物層がＭｎまたはＣｏを含み、前記障壁層が前記導電性金属酸化物層からＳＯＦＣ積層体中の隣接ＳＯＦＣへのＭｎまたはＣｏ拡散を防止するように構成される平面状相互接続部。
【請求項３】
請求項２記載の平面状相互接続部において、
前記障壁層が、クレイ、セラミック、アルカリ土類ケイ酸塩またはガラスセラミックのうちの少なくとも１種類を含む平面状相互接続部。
【請求項４】
請求項３記載の平面状相互接続部において、
前記障壁層が、Ａｌ2 Ｏ3 、ＺｒＯ2 、ＺｒＳｉＯ4 、ケイ酸（Ｃａ、Ｂａ、Ｍｇ）、長石またはそれらの組み合わせを含む平面状相互接続部。
【請求項５】
請求項１記載の平面状相互接続部において、
前記障壁層が、前記燃料入口上昇部開口および前記燃料出口上昇部開口周囲の環として形成される平面状相互接続部。
【請求項６】
請求項５記載の平面状相互接続部において、
前記障壁層が、複数の第１の流路の上に位置しない平面状相互接続部。
【請求項７】
請求項１記載の平面状相互接続部において、
前記導電性金属酸化物層が、ランタンストロンチウムマンガナイト（ＬＳＭ）、ランタンストロンチウムコバルタイト、ランタンストロンチウムマンガナイト−コバルタイトまたはＭｎx Ｃｏ3-x Ｏ4 スピネル（ｘは１と２の間である）から選択されたペロブスカイト層またはスピネル層を含む平面状相互接続部。
【請求項８】
固体酸化物形燃料電池（ＳＯＦＣ）積層体であって、
複数の、請求項１に記載された相互接続部と、
複数のＳＯＦＣと、
各相互接続部と各隣接ＳＯＦＣのカソード電極の間に位置するシリカ系ガラスまたはガラスセラミック封止部と、
を備えるＳＯＦＣ積層体。
【請求項９】
固体酸化物形燃料電池（ＳＯＦＣ）積層体を製造する方法であって、
複数のＳＯＦＣを用意するステップと、
相互接続部の空気側に導電性金属酸化物層を各々含む複数の導電性相互接続部を用意するステップと、
複数の導電性相互接続部の各々と前記積層体中の隣接ＳＯＦＣの間に封止部を設けるステップと、を含み、
障壁層が、前記導電性金属酸化物層と前記隣接ＳＯＦＣの間に位置し、前記導電性金属酸化物層から前記隣接ＳＯＦＣへのＭｎまたはＣｏ拡散を防止するように構成される方法。
【請求項１０】
請求項９記載の方法において、
前記障壁層が、前記導電性金属酸化物層上に堆積する方法。
【請求項１１】
請求項９記載の方法において、
前記導電性金属酸化物層がＭｎまたはＣｏを含み、前記障壁層が前記導電性金属酸化物層から前記ＳＯＦＣ積層体中の隣接ＳＯＦＣへのＭｎまたはＣｏ拡散を防止するように構成される方法。
【請求項１２】
請求項１１記載の方法において、
前記障壁層が、クレイ、セラミック、アルカリ土類ケイ酸塩またはガラスセラミックのうちの少なくとも１種類を含む方法。
【請求項１３】
請求項１２記載の方法において、
前記障壁層が、Ａｌ2 Ｏ3 、ＺｒＯ2 、ＺｒＳｉＯ4 、ケイ酸（Ｃａ、Ｂａ、Ｍｇ）、長石またはそれらの組み合わせを含む方法。
【請求項１４】
請求項１０記載の方法において、
前記障壁層を９００℃を超える温度で焼結させるステップをさらに含む方法。
【請求項１５】
請求項９記載の方法において、
前記導電性金属酸化物層が、ランタンストロンチウムマンガナイト（ＬＳＭ）、ランタンストロンチウムコバルタイト、ランタンストロンチウムマンガナイト−コバルタイトまたはＭｎx Ｃｏ3-x Ｏ4 スピネル（ｘは１と２の間である）から選択されたペロブスカイト層またはスピネル層を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月15日(2015.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遮蔽体を備えたプラグコネクタ（２ａ、２ｂ）であって、該プラグコネクタ（２ａ、２ｂ）は信号接点（２１、２２）を有しており、該信号接点（２１、２２）は差動対の接点パターンで配置されて、該信号接点（２１、２２）を取り囲む遮蔽エレメント（２３）と共に１つの接点グループを形成する、遮蔽体を備えたプラグコネクタ（２ａ、２ｂ）において、
前記各信号接点（２１、２２）は１つの信号接点エレメント（２１１、２２１）と１つのブレードエレメント（２１２、２２２）とを有し、
前記各遮蔽接点（２３）は１つの遮蔽エレメント（２３２）と少なくとも１つの遮蔽接点エレメント（２３１、２４１ａ、２４１ｂ）とを有し、
前記１つの接点グループは行（Ｒ1…Ｒ6）と列（Ｓ1…Ｓ14）に配置されており、
１つの行（Ｒ1…Ｒ6）内のすべての遮蔽接点エレメント（１３２）は１本の共有直線（Ｇ１）上に配置され、
各差動対の１つの前記信号接点エレメント（２１１、２２１）は、それぞれ前記行（Ｒ1…Ｒ6）内の遮蔽接点エレメント（２３１、２４１ａ、２４１ｂ）の前記共有直線（Ｇ１）と共に４５°の角度をなす直線（Ｇ３）上に配置され、
各行（Ｒ1…Ｒ6）と各列（Ｓ1…Ｓ14）において１つの差動対の両信号接点エレメント（２１１、２２１）の中心（Ｍ１）と、隣接する差動対の信号接点エレメント（２１１、２２１）の中心（Ｍ２）との間隔（ａｌ）は、隣接する２つの遮蔽接点（２３１、２４１ａ、２４１ｂ）の間隔（ａ２）に実質的に等しいことを特徴とする遮蔽体を備えたプラグコネクタ（２ａ、２ｂ）。
【請求項２】
１つの列（Ｓ1…Ｓ14）の内部のすべての遮蔽接点エレメント（２３１、２４１ａ、２４１ｂ）は１本の共有直線（Ｇ２）上にあり、
各差動対の前記信号接点エレメント（１１２、１２２）はそれぞれ前記列（Ｓ1…Ｓ14）の内部の遮蔽接点エレメント（２３１、２４１ａ、２４１ｂ）の前記共有直線（Ｇ２）と共に４５°の角度をなす直線（Ｇ３）上にあることを特徴とする請求項１に記載のプラグコネクタ（２ａ、２ｂ）。
【請求項３】
１つの列（Ｓ1…Ｓ14）の内部のすべてのブレードエレメント（１１１、１２１）は１本の共有直線（Ｇ４）上にあることを特徴とする請求項１または２に記載のプラグコネクタ（２ａ、２ｂ）。
【請求項４】
各列（Ｓ1…Ｓ14）において１つの遮蔽エレメント（２４２）はＣ字形に形成されており、
該列（Ｓ1…Ｓ14）の他のすべての遮蔽エレメント（２３２）はＬ字形に形成されていることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載のプラグコネクタ（２ａ、２ｂ）。
【請求項５】
Ｌ字形遮蔽エレメント（２３２）を備えた前記各遮蔽接点（２３）は１つの遮蔽接点エレメント（２３１）を有し、Ｃ字形遮蔽エレメント（２４２）を備えた各遮蔽接点は２つの遮蔽接点エレメント（２４１ａ、２４２ｂ）を有することを特徴とする請求項４に記載のプラグコネクタ（２ａ、２ｂ）。
【請求項６】
前記各信号エレメント（２１、２２）の前記信号接点エレメント（２１１、２２１）と前記ブレードエレメント（２１２、２２２）とは互いに平行に配置されて、接続エレメント（２１３、２２３）で互いに接続されていることを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載のプラグコネクタ（２ａ、２ｂ）。
【請求項７】
各差動対の前記両信号接点エレメント（２１１、２２１）の間隔（ａ３）は、前記両ブレードエレメント（２１２、２２２）の間隔（ａ４）に実質的に等しいことを特徴とする請求項１〜６の何れか１項に記載のプラグコネクタ（２ａ、２ｂ）。
【請求項８】
請求項１〜７の何れか１項に記載のプラグコネクタ（２ａ、２ｂ）を２つ含む配置構成において、第１のプラグコネクタ（２ａ）の信号接点エレメント（２１１、２２１）と遮蔽接点エレメント（２３１、２４１ａ、２４１ｂ）とはプリント基板（３）の一方の側に配置され、第２のプラグコネクタ（２ｂ）の信号接点エレメント（２１１、２２１）と遮蔽接点エレメント（２３１、２４１ａ、２４１ｂ）とはプリント基板（３）の他方の側に配置されており、前記第１のプラグコネクタ（２ａ）の信号接点エレメント（２１１、２２１）は第２のプラグコネクタ（２ｂ）の信号接点エレメント（２１１、２２１）と接続されていて、前記第１のプラグコネクタ（２ａ）は前記第２のプラグコネクタ（２ｂ）に対して９０°の角度で回動していることを特徴とする配置構成。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月6日(2015.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
燃料電池スタックと、空気流プレナムチャンバと、ファンとを含む燃料電池スタック組立体であって、
前記空気流プレナムチャンバは、前記燃料電池スタックの流路に空気を供給するため、またはそこから空気を受け取るために、前記燃料電池スタックの一面に配置され、前記空気流プレナムチャンバの壁の少なくとも一部がプリント回路基板により構成され、前記プリント回路基板が少なくとも１つの開口を有しており、
前記ファンは、前記開口に隣接して前記基板に取り付けられ、前記空気流プレナムチャンバの中または外へと前記開口を通って空気を強制的に送ることができる、
燃料電池スタック組立体。
【請求項２】
請求項１に記載された燃料電池スタック組立体であって、前記空気流プレナムチャンバの内壁を成す前記プリント回路基板の一面は、ポッティングコンパウンドまたは他の液密なコーティングで被覆されている、燃料電池スタック組立体。
【請求項３】
請求項１に記載された燃料電池スタック組立体であって、前記燃料電池スタックに結合され前記空気流プレナムチャンバの側壁を成すフレームをさらに含み、前記プリント回路基板は前記フレームに取り付けられ液密なシールを成す、燃料電池スタック組立体。
【請求項４】
請求項１に記載された燃料電池スタック組立体であって、前記プリント回路基板には、少なくとも１つの温度検知装置が取り付けられている、燃料電池スタック組立体。
【請求項５】
請求項１に記載された燃料電池スタック組立体であって、前記プリント回路基板には、少なくとも１つのファン制御回路が組み込まれている、燃料電池スタック組立体。
【請求項６】
請求項１に記載された燃料電池スタック組立体であって、前記空気流プレナムチャンバが配置された前記燃料電池スタックの面は、開放流路端を有する面である、燃料電池スタック組立体。
【請求項７】
請求項３に記載された燃料電池スタック組立体であって、前記プリント回路基板は、複数の開口と、各々対応する開口に隣接して取り付けられ、前記対応する開口を通って空気を強制的に送ることができる対応する複数のファンとを有し、前記ファンと開口とが、前記空気流プレナムチャンバ内にほぼ均一な圧力分布をもたらすように前記プリント回路基板に分散させられている、燃料電池スタック組立体。
【請求項８】
請求項１に記載された燃料電池スタック組立体であって、前記プリント回路基板には、少なくとも１つの電力制御回路が組み込まれ、前記空気流プレナムチャンバの内壁を成す前記プリント回路基板の一面にヒートシンクが配置されている、燃料電池スタック組立体。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月27日(2014.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
前記大電流開閉器はＡＣ開閉器であり、前記コンタクトブリッジおよび前記前進装置からなる系の最小固有振動数が前記押しつける力の方向におけるＡＣ周波数よりも高いことを特徴とする請求項１〜９のうちの一項に記載の大電流開閉器（１）。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月15日(2015.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電源への接続のための一次側と回路装置への接続のための二次側とを有する自励発振電源を用いて少なくとも１つの低出力照明ユニットを動作させる前記回路装置であって、少なくとも、
前記自励発振電源の前記二次側において前記自励発振電源から動作電圧を受け取る入力部と、
１つ以上の低出力照明ユニットとの接続のための出力部と、
前記入力部に接続され、動作中に、少なくとも１つのトリガパルスを前記自励発振電源の前記二次側に投入するパルス発生器と、
少なくとも前記パルス発生器に接続され、前記動作電圧に依存して前記パルス発生器を制御するパルス制御器と、
を含む、回路装置。
【請求項２】
前記パルス発生器は、少なくとも１つのスイッチ可能なエネルギー蓄積デバイスを含み、前記パルス発生器は更に、前記少なくとも１つのトリガパルスを前記自励発振電源の前記二次側に投入するように、前記少なくとも１つのスイッチ可能なエネルギー蓄積デバイスを前記入力部に接続させる、請求項１に記載の回路装置。
【請求項３】
スイッチングデバイスを更に含み、前記スイッチングデバイスは、前記パルス制御器によって制御可能であり、前記１つ以上の低出力照明ユニットと前記自励発振電源との間の接続を制御する、請求項１に記載の回路装置。
【請求項４】
前記入力部及び前記パルス制御器に接続され、前記動作電圧のエンベロープ成分を決定するエンベロープ検出器を更に含み、前記パルス制御器は、前記エンベロープ成分の各周期において、少なくとも１つのトリガパルスが前記自励発振電源に投入されるように、前記パルス発生器を制御する、請求項１乃至３の何れか一項に記載の回路装置。
【請求項５】
前記パルス制御器は、前記エンベロープ成分の各周期において、所定の位相角で前記少なくとも１つのトリガパルスが投入されるように、前記パルス発生器を制御する、請求項４に記載の回路装置。
【請求項６】
前記パルス発生器は、前記エンベロープ成分の各周期において、複数のトリガパルスが前記自励発振電源に投入されるように制御される、請求項４又は５に記載の回路装置。
【請求項７】
前記パルス発生器は、少なくとも、順極性を有する第１のトリガパルスと、逆極性を有する第２のトリガパルスとを投入する、請求項１乃至６の何れか一項に記載の回路装置。
【請求項８】
前記パルス制御器は、前記少なくとも１つの低出力照明ユニットの負荷情報に依存して、前記パルス発生器を制御する、請求項１乃至７の何れか一項に記載の回路装置。
【請求項９】
前記出力部は、ドライバユニットを含む、請求項１乃至８の何れか一項に記載の回路装置。
【請求項１０】
前記入力部に接続され、前記パルス発生器と並列に装置される整流器回路を更に含む、請求項１乃至９の何れか一項に記載の回路装置。
【請求項１１】
前記少なくとも１つの低出力照明ユニットは、ＬＥＤユニットである、請求項１乃至１０の何れか一項に記載の回路装置。
【請求項１２】
請求項１乃至１１の何れか一項に記載の回路装置と、前記回路装置の前記出力部に接続される少なくとも１つのＬＥＤユニットとを含む、ＬＥＤランプ。
【請求項１３】
電源と、請求項１２に記載の１つ以上のＬＥＤランプとを含む、照明システム。
【請求項１４】
少なくとも、
‐電源への接続のための一次側と回路装置への接続のための二次側とを有する自励発振電源から動作電圧を受け取る入力部と、
‐１つ以上の低出力照明ユニットとの接続のための出力部と、
‐前記入力部に接続されるパルス発生器と、
‐少なくとも前記パルス発生器に接続され、前記動作電圧に依存して前記パルス発生器を制御するパルス制御器と、
を含む前記回路装置を用いて、少なくとも１つの低出力照明ユニットを動作させる方法であって、
動作中に、少なくとも１つのトリガパルスを前記自励発振電源の前記二次側に投入する、方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年5月1日(2015.5.1)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
本発明によれば、本発明の方法で用いられる誘発カクテルは、
ａ）  植物細胞の少なくとも１種類の細胞分化因子、例えば、ベンジルアミノプリン（ＢＡＰ）、アブシシン酸、カイネチン、チジアズロン、６−γ−γ−ジメチルアリルアミノプリン、ゼアチンまたはイソペンテニルアデニンなどから選択されるサイトカイニン、またはジベレリン、
ｂ）  少なくとも１種類のストレッシング剤（ｓｔｒｅｓｓｉｎｇ  ａｇｅｎｔ）、例えば非生物的誘発剤、および
ｃ）  少なくとも１種類のテルペン合成経路、例えばトリプトリド合成経路の前駆体、例えばゲラニオール、ファルネソールおよびそれらのピロリン酸形態、酢酸ナトリウム、ピルビン酸またはメバロン酸
を含んでなる。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５１】
本発明の一態様によれば、前記カクテルは、
１）  少なくとも１種類の植物細胞の細胞分化因子、例えばサイトカイニンまたはジベレリン、例えばベンジルアミノプリン（ＢＡＰ）、
２）  化学的または「無生物」起源などの少なくとも１種類のストレッシング剤（ｓｔｒｅｓｓｉｎｇ  ａｇｅｎｔ）または「誘発剤」、例えば５−クロロサリチル酸（５−クロロＳＡ）、サリチル酸、アセチルサリチル酸（ＡＳＡ）および／またはジャスモン酸メチル（ＭｅＪＡ）、
３）  テルペン合成の少なくとも１種類の前駆体、例えば、ファルネソール、ゲラニオール、酢酸ナトリウム、ピルビン酸またはメバロン酸
を含んでなる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トリプテリジウム（Ｔｒｉｐｔｅｒｙｇｉｕｍ）種の細胞培養物から培地中でトリプトリドを生産する方法であって、
（ｉ）  バイオマス成長条件下にて栄養培地におけるカルスから誘導されるトリプテリジウム種の脱分化細胞のバイオマスの生産期、
（ｉｉ）  オーキシンを実質的に含まない除去培地において段階（ｉ）で得られた細胞培養物のホルモン除去期、
（ｉｉｉ）  除去培地で段階（ｉｉ）の細胞に、
ａ）  サイトカイニンおよびジベレリンから選択される植物細胞の少なくとも１種類の細胞分化因子、
ｂ）  ５−クロロサリチル酸、アセチルサリチル酸、サリチル酸、およびジャスモン酸メチルからなる群から選択される少なくとも１種類のストレッシング剤、および
ｃ）  ファルネソール、ゲラニオール、酢酸ナトリウム、ピルビン酸およびメバロン酸からなる群から選択される少なくとも１種類のテルペン合成経路の前駆体、
を含んでなる誘発カクテルの添加による誘発期、ならびに
（ｉｖ）  段階（ｉｉｉ）の終了時における培地からのトリプトリド冨化抽出物の調製
段階を含んでなる、方法。
【請求項２】
植物細胞の細胞分化因子が、サイトカイニンから選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ストレッシング剤が、５−クロロサリチル酸、アセチルサリチル酸またはサリチル酸、およびジャスモン酸メチルからなる、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
除去培地が、オーキシンを含まない、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
除去培地が、２，４−ジクロロフェノキシ酢酸（２，４−Ｄ）またはナフタレン酢酸（ＮＡＡ）を含まない、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
ホルモン除去段階（ｉｉ）が、５〜１５日間継続する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
ホルモン除去段階（ｉｉ）が、７日間継続する、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
誘発期（ｉｉｉ）が、１５〜３５日間継続する、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
誘発期（ｉｉｉ）が、２０〜２５日間継続する、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
バイオマス産生期（ｉ）が２７〜２８℃にて１０〜３０日間撹拌しながら進行する、請求項１〜９のいずれか一項に記載のトリプトリド産生の方法。
【請求項１１】
誘発カクテルが、ベンジルアミノプリン、５−クロロサリチル酸、アセチルサリチル酸またはサリチル酸、ジャスモン酸メチル、ファルネソールおよびゲラニオールを含む、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のトリプトリド産生の方法。
【請求項１２】
段階（ｉｉｉ）の後の培養物上清のトリプトリド濃度が培地１Ｌ当たり５０ｍｇを上回る、請求項１〜１１のいずれか一項に記載のトリプトリド産生の方法。
【請求項１３】
段階（ｉｖ）が液／液抽出である、請求項１〜１２のいずれか一項に記載のトリプトリド産生の方法。
【請求項１４】
トリプテリジウム種の細胞培養のための誘発カクテルの使用であって、誘発カクテルが
ａ）  サイトカイニンおよびジベレリンから選択される植物細胞の少なくとも１種類の細胞分化因子、
ｂ）  ５−クロロサリチル酸、アセチルサリチル酸、サリチル酸、およびジャスモン酸メチルからなる群から選択される少なくとも１種類のストレッシング剤、および
ｃ）  ファルネソール、ゲラニオール、酢酸ナトリウム、ピルビン酸およびメバロン酸からなる少なくとも１種類のテルペン合成経路の前駆体
を含んでなる、使用。
【請求項１５】
誘発カクテルが、ベンジルアミノプリン（ＢＡＰ）０．７〜３ｍｇ／ｌ、５−クロロサリチル酸（５−クロロＳＡ）３〜５ｍｇ／ｌ、アセチルサリチル酸（ＡＳＡ）３３〜４５ｍｇ／ｌ、ジャスモン酸メチル（ＭｅＪＡ）２２．４〜２４ｍｇ／ｌ、ゲラニオール２０〜３０ｍｇ／ｌおよびファルネソール（Ｆ−ＯＨ）１９〜３０ｍｇ／ｌを含んでなり、ｍｇ／ｌは、培地１Ｌ当たりのｍｇを表す、請求項１４に記載の使用。
【請求項１６】
活性成分としてのトリプトリドまたはトリプトリド冨化抽出物と、１種類以上の皮膚美容上および／または皮膚科学上許容可能な賦形剤とを含んでなる、掻痒症の治療に使用するための皮膚美容または皮膚科学組成物。
【請求項１７】
トリプトリド冨化抽出物が、トリプテリジウム種の脱分化細胞のイン・ビトロ培養物の培地から抽出することによって得られる、請求項１６に記載の皮膚美容または皮膚科学用組成物。
【請求項１８】
トリプトリド冨化抽出物が、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法によって得られる、請求項１７に記載の皮膚美容または皮膚科学用組成物。
【請求項１９】
トリプトリド冨化抽出物の皮膚美容上の使用（但し、ヒトに対する医療行為を除く）。