【手続補正書】
【提出日】平成27年7月7日(2015.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【発明の名称】投影リソグラフィのための照明光学ユニット
【技術分野】
【０００１】
ドイツ特許出願ＤＥ  １０  ２０１１  ０７８  ９２８．６の内容が引用によって組み込まれている。
【０００２】
本発明は、投影リソグラフィのための照明光学ユニットに関する。更に、本発明は、このタイプの照明光学ユニットと投影光学ユニットとを含む光学系、及びこのタイプの光学系とＥＵＶ光源とを含む投影露光装置に関する。
【背景技術】
【０００３】
冒頭に示したタイプの照明光学ユニットは、ＵＳ  ７，４１４，７８１、ＵＳ  ２００８／０１９２２２５  Ａ１、及びＤＥ  １０  ２００８  ０２１  ８３３  Ｂ４から公知である。更に別の投影露光装置及び構成要素は、ＵＳ  ２００７／０１３２９７７  Ａ１、ＵＳ  ５，４５２，０５４  Ａ、及びＵＳ  ５，５０４，６２７  Ａから公知である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】ＵＳ  ７，４１４，７８１
【特許文献２】ＵＳ  ２００８／０１９２２２５  Ａ１
【特許文献３】ＤＥ  １０  ２００８  ０２１  ８３３  Ｂ４
【特許文献４】ＵＳ  ２００７／０１３２９７７  Ａ１
【特許文献５】ＵＳ  ５，４５２，０５４  Ａ
【特許文献６】ＵＳ  ５，５０４，６２７  Ａ
【特許文献７】ＤＥ  １０  ２００９  ０２９  １０３  Ａ１
【特許文献８】ＷＯ  ２００６／１１１  ３１９  Ａ２
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、異なる照明幾何学形状、特に回転対称照明を有する異なる照明幾何学形状の柔軟な事前定義が可能であるような冒頭に示したタイプの照明光学ユニットを開発することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明により、上述の目的は、請求項１に記載の特徴を含む照明光学ユニットによって達成される。
【０００７】
本発明による照明光学ユニットは、２つのミラーデバイスの互いに対する相対位置に基づいて、照明光ビームの幾何学形状、特に断面の可変事前定義、従って、可変照明幾何学形状を可能にする。特に、２つのミラー要素の互いに対する変位により、可変的に事前定義可能なリング半径を有するリングビーム、すなわち、リング形断面を有する照明光ビームを設定することができる。本発明による照明光学ユニットの機能は、例えば、ＤＥ  １０  ２００９  ０２９  １０３  Ａ１から公知であるズームアキシコンのものに対応することができる。
【０００８】
請求項２に記載の円錐ミラー基本体を含む偏光ミラーデバイスは、特に可変直径を有するリングビームを設定するのに有利である。ミラー基本体は、反射円錐側面を有することができる。ミラー基本体は、円錐の軸上長手断面においても湾曲方式で具現化される反射側面を有することができ、従って、更に別のビーム成形を可能にする。湾曲は、凸型又は凹型、又は凸／凹混在方式で具現化することができる。ミラー基本体は、中実方式で具現化することができ、それによって偏光ミラーデバイスの反射面からミラー基本体内への熱放散が改善され、従って、外部能動冷却を不要とすることができる。
【０００９】
請求項３に記載の能動冷却デバイスは、特に、照明光の残留吸収に起因してミラー基本体が加熱される場合に有効な冷却を可能にする。冷却デバイスの冷却媒体としては、液体又は気体、例えば、窒素を使用することができる。円錐方式で構成されないミラー基本体では、能動冷却デバイスを使用することができる。
【００１０】
請求項４及び請求項５に記載の冷却剤ラインの案内は、回転対称ミラー基本体との併用に特に適することが見出されている。
【００１１】
本発明は、第２のミラーデバイスのリング形外側ミラー基本体は、照明光リングビームを案内することを可能にする。リング形外側ミラー基本体は、円錐状に延びる内側リングミラー面を有することができる。リング形外側ミラー基本体は、互いに対して駆動方式で変位可能にすることができる複数のリングミラー面に再分割することができる。リングミラー面は、領域分割することができる。
【００１２】
請求項６に記載のミラーファセットを含む偏光ミラーデバイスの実施形態は、照明される物体をその後に異なる方向から照明することができる照明光部分ビームに入射照明光を分割することを可能にする。
【００１３】
請求項７に記載のファセットアクチュエータによる駆動傾斜機能は、可変照明を生成するのに更に別の自由度を確実にする。ファセットの傾斜機能の結果として、半径に関して事前定義可能なリングビームに加えて、方位角方向に再配分を生成することができ、その結果、例えば、多重極照明を提供することができる。傾斜可能ミラーファセットは、２つの傾斜位置の間で切換可能なものとして具現化することができる。
【００１４】
請求項８及び請求項９それぞれに記載の傾斜軸線方向は、照明幾何学形状の事前定義のためにミラーファセットでの反射中の偏光特性を使用することも可能にする。請求項８及び請求項９それぞれに指定する平行方向の代わりに、それぞれ指定された基準平面に対する小さい角度も許容可能である。
【００１５】
照明光部分ビームを案内する上で、本発明は、第２のミラーデバイスを同じく用いことができる。同じくミラーファセットを有する偏光ミラーデバイスとの連携で、偏光ミラーデバイスのミラーファセットから部分ビームが適切な場合に偏光される過程においてそれぞれ反射され、次に、第２のミラーデバイスのミラーファセットのうちの１つから反射される照明光案内を提供することができる。
【００１６】
請求項１０に記載の互い対して変位可能なリング支持フレームは、ここでもまた照明幾何学形状の事前定義の変動性を高める。
【００１７】
冒頭に示した目的は、更に請求項１１に指定する特徴を含む照明光学ユニットを用いて達成される。
【００１８】
請求項１１に記載の照明光学ユニットは、駆動方式で互い対して変位可能な２つのミラーデバイスを必ずしも有する必要はない。この偏光ミラーデバイスは、特に、入射照明光を複数の部分ビームに変換するために使用することができる。請求項１１に記載の偏光ミラーデバイスは、請求項１に記載の照明光学ユニットの第１の偏光ミラーデバイスを構成することができる。請求項１１に記載の偏光ミラーデバイスは、上述の請求項における展開形態を含むことができる。ミラーファセットを含む偏光ミラーデバイス及び／又はミラーファセットを含む第２のミラーデバイスは、ＵＳ  ７，４１４，７８１に記載の照明光学ユニットの視野ファセットミラー及び／又は瞳ファセットミラーの代わりに使用することができる。ミラーファセットは、２つの傾斜位置の間で切換可能なものとして具現化することができる。
【００１９】
以下に説明するように、照明設定を生成するために、上記に解説した照明光学ユニットの異なる変形を使用することができる。この場合に、照明光学ユニットの照明設定は、照明光学ユニットを用いて照明光学ユニットの瞳平面に設定される照明光強度分布を構成する。この設定された照明光強度分布に基づいて、物体視野の視野点に対する対応する照明角度分布がもたらされる。そのような照明設定の例は、ＤＥ  １０  ２００８  ０２１  ８３３  Ｂ４に示されている。
【００２０】
照明設定が、上記に解説した照明光学ユニットの変形のうちの１つを用いて生成される場合には、駆動デバイスを用いて互いに対して変位可能な２つのミラーデバイスの相対的な位置決めは、照明光学ユニットの瞳平面に輪帯照明設定、すなわち、リング形照明光強度分布がもたらされるように行うことができる。２つのミラーデバイスの互いに対する相対的な位置決めに基づいて、照明光学ユニットの瞳平面内のリング形照明光強度分布の半径を調節可能に事前定義することができる。それによって物体視野の視野点に対するそれぞれの最小及び最大の照明角度の対応する調節可能な事前定義がもたらされる。
【００２１】
代替的又は追加的に、２つのミラーデバイスは、タンジェンシャル偏光照明設定がもたらされるように互いに対して位置決めすることができる。タンジェンシャル偏光照明設定の場合には、照明光は、照明角度に関係なく常に物体視野上の照明光の入射平面と垂直に偏光される。同時にタンジェンシャル偏光のものであり、かつリング状形のものである照明設定の場合には、照明光学ユニットの瞳平面内の照明光強度分布は、各場合に照明光強度分布のリングの中心に対してタンジェンシャル方向に延びる直線偏光を伴ってリング形状方式で具現化される。
【００２２】
代替的又は追加的に、２つのミラーデバイスは、多重極設定、すなわち、少なくとも２つの極方向からの物体視野点の照明を有する照明設定がもたらされるように互いに対して位置決めすることができる。多重極照明設定の例は、二重極設定又は四重極設定である。そのような多重極照明設定は、特に、ミラーファセットの少なくとも一部が、割り当てられたファセットアクチュエータを用いて少なくとも１つの傾斜軸線の回りに傾斜可能である照明光学ユニットの実施形態を用いて生成することができる。第２のミラーデバイスが、少なくとも１つの傾斜軸線の回りに傾斜可能な複数のミラーファセットが上に装着された少なくとも１つのリング支持フレームの形態にあるリング形外側ミラー基本体を有する第２のミラーデバイスからなる照明光学ユニットは、そのような多重極設定を生成するための一変形を構成する。
【００２３】
２つのミラーデバイスの相対的な位置決めは、照明設定の生成中に多重極設定の極が均一な直線偏光を有するようなものとすることができる。従って、この場合に、多重極設定の極のうちの１つの範囲には、照明光の１つの同じ方向の直線偏光しか存在しない。
【００２４】
請求項１２に記載の光学系の利点は、本発明による照明光学ユニットに関して上述したものに対応する。この光学系は、ＥＵＶ光源が同様に更に属する照明系の一部とすることができる。ＥＵＶ光源は、使用波長として５ｎｍと３０ｎｍの間の範囲の波長を使用することができる。照明光学ユニットの反射ミラー面は、多層コーティングとして具現化することができる反射コーティングを担持することができる。
【００２５】
請求項１３に記載の投影露光装置の利点は、照明系を参照して上述したものに対応する。投影露光装置は、パターン付き構成要素、より具体的には半導体構成要素、例えば、微細構造チップ又はナノ構造チップを製造するために使用することができる。最初にレチクル及びウェーハが与えられ、次に、レチクル上の構造が、投影露光装置を用いてウェーハの感光層上に投影され、最後に感光層を現像することによって微細構造又はナノ構造がウェーハ上に生成される。本方法によって微細構造化構成要素又はナノ構造化構成要素を生成することができる。
【００２６】
本発明の例示的な実施形態を図面を参照して下記でより詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】ＥＵＶマイクロリソグラフィのための投影露光装置の概略図である。
【図２】第１の偏光ミラーデバイスと第２のミラーデバイスとを含む投影リソグラフィのための照明光学ユニットのミラーアセンブリの略軸上断面図である。
【図３】円錐支持フレーム上に装着された複数のミラーファセットを含む図２に記載のミラーアセンブリのための第１の偏光ミラーデバイスの更に別の実施形態の図である。
【図４】それぞれ照明光部分ビームの反射を通じて互いに割り当てられた２つの第１の偏光ミラーデバイス及び第２のミラーデバイスのミラーファセットだけを示す図３に記載の第１の偏光ミラーデバイス及びリング形外側ミラー基本体とその上に装着された複数のミラーファセットとを含む第２のミラーデバイスを含むミラーアセンブリの回転対称軸に沿った概略図である。
【図５】偏光ミラーデバイスのミラーファセットが図４と比較して異なる傾斜位置に傾斜されており、それによってこの場合に照明光部分ビームを案内する上でこのミラーファセットが照明チャンネルを通じて第２のミラーデバイスのミラーファセットのうちの別のものに割り当てられるミラーアセンブリの図４と類似の図である。
【図６】第２のミラーデバイスが互いに対して変位可能な複数のリング支持フレームを有する投影リソグラフィのための照明光学ユニットのミラーアセンブリの更に別の実施形態の図２と類似の図である。
【図７】第２のミラーデバイスのリング支持フレームの異なる相対位置にある図６に記載のミラーアセンブリの図である。
【図８】能動冷却デバイスを含む図２に記載のミラーアセンブリの図である。
【図９】能動冷却デバイスの更に別の実施形態を含む図２に記載のミラーアセンブリの図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
マイクロリソグラフィのための投影露光装置１は、照明光又は照明放射線３のための光源２を有する。光源２は、例えば、５ｎｍと３０ｎｍの間、特に５ｎｍと１０ｎｍの間の波長範囲の光を生成するＥＵＶ光源である。光源２は、特に、１３．５ｎｍの波長を有する光源又は６．９ｎｍの波長を有する光源とすることができる。他のＥＵＶ波長も可能である。一般的に、投影露光装置１内でもたらされる照明光３には、任意の波長、例えば、可視波長、又はマイクロリソグラフィに対して使用することができ、適切なレーザ光源及び／又はＬＥＤ光源に対して利用可能な他の波長（例えば、３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ、１２９ｎｍ、１０９ｎｍ）であっても可能である。照明光３のビーム経路を極めて概略的に図１に例示している。
【００２９】
照明光学ユニット６は、照明光３を光源２から物体平面５の物体視野４に向けて案内するように機能する。物体視野４は、投影光学ユニット又は結像光学ユニット７を用いて、像平面９の像視野８に事前定義された縮小スケールで結像される。図２及びそれ以降に示す例示的な実施形態のうちの１つを照明光学ユニット６に対して使用することができる。図１に記載の投影光学ユニット７は、４倍だけ縮小を行う。
【００３０】
他の縮小スケール、例えば、５×、６×、又は８×、又は８×よりも大きい又は４×よりも小さい縮小スケール、例えば、２×又は１×も可能である。ＥＵＶ波長を有する照明光３では４×の結像スケールが適し、その理由は、特にこの結像スケールは、マイクロリソグラフィにおける従来のスケールであり、レチクルとも呼ばれ、結像される物体を担持する相応のサイズの反射マスク１０との併用で高いスループットを可能にするからである。更に、４×の結像スケールの場合には、反射マスク１０上で必要とされる構造のサイズは、反射マスク１０に対する製造及び認定の経費を制限内に保つほど十分に大きい。図２及びそれ以降に記載の実施形態にある投影光学ユニット７の場合には、像平面９は、物体平面５と平行に配置される。この場合に、物体視野４と一致する反射マスク１０からの抜粋部が結像される。レチクル１０は、レチクルホルダ（例示していない）によって担持することができる。
【００３１】
投影光学ユニット７による結像は、基板ホルダ１２によって担持されるウェーハの形態にある基板１１の面上に行われる。図１は、レチクル１０と投影光学ユニット７の間にこの投影光学ユニット内に入射する照明光３の光線ビーム１３を略示し、投影光学ユニット７と基板１１の間に投影光学ユニット７から射出する照明光３の光線ビーム１４を略示している。投影光学ユニット７によって結像される照明光３を結像光とも呼ぶ。
【００３２】
投影露光装置１の説明及び投影光学ユニット７の可変実施形態の説明を容易にするために、図内に例示する構成要素のそれぞれの位置関係を明らかにする広域直交ｘｙｚ座標系を図面内に示している。図１では、ｘ方向は、作図面と垂直にそれに向けて延びている。ｙ方向は右に向けて延び、ｚ方向は下方に延びている。
【００３３】
投影露光装置１は、スキャナ型のものである。レチクル１０と基板１１の両方が、投影露光装置１の作動中にｙ方向に走査される。レチクル１０及び基板１１のｙ方向の段階的な変位が基板１１の個々の露光の合間に行われるステッパ型の投影露光装置１も可能である。
【００３４】
下記では、照明光学ユニット６の一部であるミラーアセンブリの異なる変形を図２及びそれ以降を参照して説明する。下記では、これらの構成要素の説明を容易にするために、図内に例示する構成要素のそれぞれの位置関係を明らかにする局所直交ｘｙｚ座標系を示している。これらの局所座標系のｘ軸、ｙ軸、及びｚ軸は一致する。
【００３５】
図２は、ｚ方向に沿って入射する照明光３の反射及び偏光のための第１の偏光ミラーデバイス１６を含むミラーアセンブリ１５を示している。入射照明光３は、図２に偏光矢印ＵＰによって略示すように非偏光のものである。
【００３６】
偏光ミラーデバイス１６は、円錐ミラー基本体１７と反射円錐側面１８とを有する。ミラー基本体１７は、中実方式で具現化される。ミラー基本体１７の回転対称軸１９は、ミラー基本体１７の円錐頂点を通ってｚ軸に沿って延びている。
【００３７】
偏光ミラーデバイス１６は、図２の２０の位置に略示すように、駆動デバイス２１に機械的に接続され、すなわち、駆動デバイス２１と作動的に接続される。偏光ミラーデバイス１６は、駆動デバイス２１を用いてｚ軸に沿って、すなわち、回転対称軸１９に沿って変位させることができる。
【００３８】
照明光３のビーム経路内の第１の偏光ミラーデバイス１６の下流には、ミラーアセンブリの第２のミラーデバイス２２が配置される。第２のミラーデバイス２２は、第１の偏光ミラーデバイス１６によって反射されて回転対称軸１９に対してタンジェンシャル方向に偏光された照明光３を反射する。第２のミラーデバイス２２は、円錐状に延びるリングミラー内面２４を有するリング形外側ミラー基本体２３を有する。
【００３９】
第１の偏光ミラーデバイス１６は、９０°の円錐角（α）を有し、すなわち、照明光３をｚ軸に対して半径方向に反射する。第２のミラーデバイス２２のリングミラー内面２４での反射の後に、照明光３は、回転対称軸１９と平行に距離Ａの位置でリングビームの形態で進む。リングビーム２５はリング厚Ｓを有する。
【００４０】
リングビーム２５内では、照明光３は、図２に矢印ＴＰで略示すように、回転対称軸１９に対してタンジェンシャル偏光された状態で存在する。
【００４１】
図２の２６の位置に略示すように、第２のミラーデバイス２２は、更に別の駆動デバイス２７と作動的に接続される。第２の駆動デバイス２７を用いて、第２のミラーデバイス２２を回転対称軸１９と平行に変位させることができる。
【００４２】
駆動デバイス２１及び２７それぞれを用いて、２つのミラーデバイス１６、２２を少なくとも２つの相対位置の間で変位させることができ、それに対応して、第２のミラーデバイス２２での反射の後に照明光３の少なくとも２つのビーム幾何学形状がもたらされる。一例として、偏光ミラーデバイス１６が、第１の駆動デバイス２１を用いて図２に記載の相対位置から進んで負のｚ方向に変位した場合には、リングビーム２５と回転対称軸１９の間の距離は減少し、それに対してリングビーム２５の厚みＳは一定に留まる。
【００４３】
ミラーアセンブリ１５の回転対称軸１９を光学軸とも呼ぶ。例えば、ＷＯ  ２００６／１１１  ３１９  Ａ２から公知のように、照明光学ユニット６内のミラーアセンブリ１５の下流には、瞳ファセットミラーを配置することができる。ミラーアセンブリ１５を使用すると、半径に関して異なっている異なる輪帯照明をこの瞳ファセットミラーに印加することができる。それに対応して、２つのミラーデバイス１６、２２の互いに対する相対位置に依存して反射マスク１０の照明の照明角度の異なる最小制限角度及び最大制限角度を有する対応する輪帯照明設定がもたらされる。
【００４４】
下記では、投影リソグラフィのための照明光学ユニットの一部の実施形態としてのミラーアセンブリ及び偏光ミラーデバイスの更に別の実施形態を図３及び図４を参照して説明する。図１及び図２を参照して上記に既に解説したものに対応する構成要素は同じ参照番号を伴い、再度詳細に解説することはしない。
【００４５】
図３は、図２に記載のミラーアセンブリ１５内で偏光ミラーデバイス１６の代わりに使用することができる偏光ミラーデバイス２８の更に別の実施形態を示している。代替的に、照明光学ユニットの実施形態（例示していない）では、偏光ミラーデバイス２８は、図２に記載の第２のミラーデバイス２２のような下流ミラーデバイスなしに使用することができる。偏光ミラーデバイス２８は、回転対称軸１９の回りに回転対称であるように実施された円錐基本形状を有する円錐支持フレームの形態にある内側ミラー基本体２９を有する。円錐支持フレーム２９上には複数のミラーファセット３０が装着され、図３には、これらのうちの５つのミラーファセット３０を示している。ミラーファセット３０は、それぞれ割り当てられたファセットアクチュエータ３１を用いて少なくとも１つの傾斜軸線の回りに傾斜可能である。
【００４６】
図示のミラーファセット３０は、円錐支持フレーム２９上で対称軸１９の回りのリングに沿って配置される。図３に点によって略示すように、円錐支持フレーム２９上には、互いにそれぞれ隣接する対称軸１９の回りの更に別のリング上で互いの近くにある更に別のミラーファセット３０が存在する。例示していないこれらのミラーファセット３０も、図３に略示すように、割り当てられたファセットアクチュエータ３１を用いて少なくとも１つの傾斜軸線の回りに傾斜可能である。ミラーアクチュエータ３０の傾斜軸線Ｋ1は、それぞれが円錐支持フレーム２９の回転対称軸１９を含む平面に存在し、円錐支持フレーム２９の基本形状の円錐側面３２と平行に延びている。図３には、そのような傾斜軸線をミラーファセット３０1に対してＫ1の位置に破線で例示している。代替的又は追加的に、ミラーファセット３０は、円錐支持フレーム２９の回転対称軸１９に対してタンジェンシャル方向にかつ円錐支持フレーム２９の円錐底面３３と平行に延びる更に別の傾斜軸線Ｋ2の回りに傾斜可能にすることができる。図３には、そのような傾斜軸線Ｋ2をミラーファセット３０２に対して例示している。
【００４７】
上述して記載した傾斜軸線Ｋ1、Ｋ2の方向に対して小さい角度で延びる傾斜軸線Ｋ1、Ｋ2の異なる方向も可能である。
【００４８】
図示の子午断面内で直線的に延びる円錐側面１８の代わりに、円錐側面は、図２の１８’の位置に破線に示すように、湾曲方向を有することができる。
【００４９】
図４及び図５を参照して、偏光ミラーデバイス２８に加えて、図２に記載の実施形態の第２のミラーデバイス２２の代わりに使用することができる第２のミラーデバイス３５も有するミラーアセンブリ３４内の偏光ミラーデバイス２８のミラーファセット３０の可変偏光設定の説明を提供する。第２のミラーデバイス３５は、リング支持フレームの形態にあるリング形外側ミラー基本体３６と、リング支持フレーム３６上に装着された複数のミラーファセット３７とを有し、図４は、これらのミラーファセット３７のうちの２つ、すなわち、ミラーファセット３７1及び３７2を示している。図４は、照明光部分ビーム３８に対する照明チャンネルを通じて第２のミラーデバイス３５のミラーファセット３７1、３７2にそれぞれ割り当てられた偏光ミラーデバイス２８のミラーファセット３０のうちの２つ、すなわち、ミラーファセット３０1及び３０2も例示している。
【００５０】
図４は、ミラーアセンブリ３４を回転対称軸１９に沿った概略図で例示している。照明光３は、閲覧者側から図４の作図面と垂直に偏光ミラーデバイス２８上に入射する。２つの部分ビーム３８は、偏光ミラーデバイス２８のミラーファセット３０1、３０2により、各場合に対称軸１９に対して半径方向に反射され、それによって図４に偏光矢印ＴＰに示すように、対称軸１９に対するタンジェンシャル偏光がもたらされる。２つのミラーデバイス３５のミラーファセット３７1、３７2での反射の後に、このタンジェンシャル偏光は、図２に記載のミラーアセンブリ１５に関する以上の説明と同様に保持される。
【００５１】
連続的なリングビーム２５の代わりに、図４に記載のミラーアセンブリ３４の離散ファセット配置は、離散部分ビームからなるリングビームを生成する。
【００５２】
図５は、ミラーアセンブリ３４のミラーファセット３０、３７の更に別の傾斜構成を示している。この場合に、偏光ミラーデバイス２８のミラーファセット３０1は、部分ビーム３８を対称軸１９とミラーファセット３０1の反射面の中点の両方を含む子午平面ＭＥに対して垂直なタンジェンシャル方向に偏向させるように傾斜されている。部分ビーム３８は、今度はミラーファセット３０1から、リング支持フレーム３６上で図４にオフセット矢印Ｖに示すように時計方向に約９０°だけオフセットされた位置に配置されたミラーファセット３７1’に反射される。ミラーファセット３０1による平面ＭＥに対して垂直な部分ビーム３８の偏向に起因して、図５に記載の傾斜構成における部分ビーム３８は、図５に偏光矢印ＲＰに示すように、今度は回転対称軸１９に対して半径方向偏光される。
【００５３】
図４に記載の傾斜構成と比較した場合の図５に記載のミラーファセット３０、３７の傾斜構成における部分ビーム３８のこの方位角再配分の結果として、リングビームの代わりに、例えば、多重極照明を生成するための照明光ビームを生成することも可能である。この場合に、それぞれの極と対称軸１９又は光学軸との間の距離を変位ドライブ２７を用いてミラーファセット３０、３７の傾斜とは独立して発生させることができる。
【００５４】
従って、ミラーアセンブリ３４の偏光ミラーデバイス２８のミラーファセット３０のそれぞれの傾斜構成を事前定義することにより、ミラーアセンブリ３４によって反射される全ての部分ビーム３８の偏光配分の幾何学形状だけでなく、偏光配分にも影響を及ぼすことができる。偏光ミラーデバイス２８のミラーファセット３０の偏向角に基づいて、タンジェンシャル偏光と半径方向偏光の間の偏光混合形態が可能であることは明らかである。これらの混合形態は、図３に記載の傾斜軸線Ｋ1、Ｋ2を通じて事前定義することができる。
【００５５】
図６は、照明光学ユニット６内でミラーアセンブリ１５又は３４の代わりに使用することができるミラーアセンブリの更に別の変形３９を示している。
【００５６】
図２に記載のミラーアセンブリとは対照的に、ミラーアセンブリ３９は、内側の区域から図６の回転対称軸１９に対する半径の増大に伴って外向きに連続して番号が振られた複数のリング支持フレーム４１、４２、４３、４４を含む第２のミラーデバイス４０を有する。図６の最内側リング支持フレーム４１上に示すように、リング支持フレーム４１から４４は、これらと作動的に接続した駆動デバイス４５を用いて、偏光ミラーデバイス１６の回転対称軸１９と一致するリング回転対称軸に沿って互いに対して軸線方向に変位可能である。
【００５７】
リング支持フレーム４１から４４は、図２に記載の第２のミラーデバイス２２のリングミラー面２４のようにリング形状方式で外周方向に連続して延びるリングミラー内面４６を有することができ、それによってミラーアセンブリ３９によって生成されるリングビームは、異なる個々のリングの重ね合わせとしてもたらされ、図６には、これらの個々のリングのうちの３つの個々のリング２５1、２５2、及び２５3を示している。この場合に、個々のリング２５1から２５3は、それぞれ、回転対称軸１９に対する個々の距離Ａと個々のリング厚Ｓとを形成する。代替的に、リング支持フレーム４１から４４の内側に装着されたミラーファセット３７のような離散ミラーファセットを用いて第２のミラーデバイス４０を具現化することができる。
【００５８】
図７は、リング支持フレーム４１から４４の互いに対する異なる相対位置を有するミラーアセンブリ３９を示している。図６に記載のリング支持フレーム構成と比較すると、図７に記載の構成では、最内側リング支持フレーム４１は、今度は内側から２番目のリング支持フレーム４２の代わりに最内側リング支持フレーム４１が照明光に対する反射効果を有するような程度まで、駆動デバイス４５によって正のｚ方向に変位している。それに応じて、図６に記載の構成と比較して図７に記載の構成では、リングビーム２５の部分リング２５3は、光学軸１９からの小さい距離を有する。それに応じて、図６に記載の構成と比較して図７に記載の構成では、リングビーム２５の厚みＳは増大する。
【００５９】
図８は、能動冷却デバイス４７を含むミラーアセンブリ１５を示している。能動冷却デバイス４７は、回転対称軸１９に対して半径方向成分を有する２つのスポークラインの形態にある冷却剤ライン４８を含む。冷却剤ライン４８は、偏光ミラーデバイス１６のミラー基本体１７の内部に冷却剤、例えば、水、いずれかの他の冷却液、又は冷却ガスを供給する冷却剤給送ライン４９の中に至る。冷却剤は、図８に示す冷却剤ライン４８のスポークラインの一方を通じて供給することができ、スポークラインのうちの他方を通じて内側ミラー基本体１７から排出することができる。
【００６０】
図９は、内側ミラー基本体１７の回転対称軸１９に沿って延びてミラー基本体１７の内部に冷却剤を供給する軸線方向ライン５１を有し、図８に記載の冷却デバイス４７の代わりに使用することができる能動冷却デバイスの更に別の実施形態５０を示している。
【００６１】
微細構造化構成要素又はナノ構造化構成要素を生成するために、投影露光装置１は以下の通りに使用される。最初に、反射マスク１０又はレチクルと基板又はウェーハ１１とが与えられる。次に、投影露光装置を用いて、レチクル１０上の構造がウェーハ１１の感光層上に投影される。その後に、感光層を現像することにより、ウェーハ１１上に微細構造又はナノ構造が生成され、こうして微細構造化構成要素が生成される。
また、以下の実施形態が、考えられる。
（実施形態１）
投影リソグラフィのための照明光学ユニット（６）であって、
照明光（３）の反射及び偏光のための第１の偏光ミラーデバイス（１６；２８）を含み、
前記照明光（３）のビーム経路の前記偏光ミラーデバイス（１６；２８）の下流に配置された照明光ビーム（２５）の反射のための少なくとも１つの第２のミラーデバイス（２２；３５；４０）を含み、
前記２つのミラーデバイス（１６；２８；２２；３５；４０）のうちの少なくとも一方と作動的に接続された少なくとも１つの駆動デバイス（２１；２７；４５）を含み、
前記２つのミラーデバイス（１６；２８；２２；３５；４０）は、前記駆動デバイス（２１；２７；４５）を用いて、
前記第２のミラーデバイス（２２；３５；４０）での反射の後に前記照明光ビーム（２５）の第１のビーム幾何学形状をもたらす第１の相対位置、及び
前記第２のミラーデバイス（２２；３５；４０）での反射の後に前記第１のビーム幾何学形状とは異なる前記照明光ビーム（２５）の第２のビーム幾何学形状をもたらす第２の相対位置、
の間で互いに対して変位可能である、
ことを特徴とする照明光学ユニット。
（実施形態２）
前記偏光ミラーデバイス（１６；２８）は、円錐ミラー基本体（１７；２９）を有することを特徴とする（実施形態１）に記載の照明光学ユニット。
（実施形態３）
前記ミラー基本体（１７；２９）のための能動冷却デバイス（４７；５０）を特徴とする（実施形態２）に記載の照明光学ユニット。
（実施形態４）
前記ミラー基本体（１７）の回転対称軸（１９）に対して半径方向成分を有する少なくとも１つのスポークラインを有する冷却剤ライン（４８）を特徴とする（実施形態３）に記載の照明光学ユニット。
（実施形態５）
前記ミラー基本体（６）の回転対称軸（１９）に沿って延びる少なくとも１つの軸線方向ラインを通る冷却剤給送ライン（４９；５１）を特徴とする（実施形態３）又は（実施形態４）に記載の照明光学ユニット。
（実施形態６）
前記第２のミラーデバイス（２２；３５；４０）は、少なくとも１つのリング形外側ミラー基本体（２３；３６；４１から４４）を有することを特徴とする（実施形態１）から（実施形態５）のいずれか１項に記載の照明光学ユニット。
（実施形態７）
前記偏光ミラーデバイス（２８）は、
円錐基本形状を有する円錐支持フレームの形態にある内側ミラー基本体（２９）と、
前記円錐支持フレーム（２９）上に装着された複数のミラーファセット（３０）と、
を有する、
ことを特徴とする（実施形態２）から（実施形態６）のいずれか１項に記載の照明光学ユニット。
（実施形態８）
前記ミラーファセット（３０）の少なくとも一部が、割り当てられたファセットアクチュエータ（３１）を用いて少なくとも１つの傾斜軸線（Ｋl，Ｋ2）の回りに傾斜可能であることを特徴とする（実施形態７）に記載の照明光学ユニット。
（実施形態９）
前記傾斜軸線（Ｋ1）は、前記円錐支持フレーム（２９）の前記回転対称軸（１９）を含む平面に存在し、かつ該円錐支持フレーム（２９）の前記基本形状の円錐側面（３２）と平行に延びることを特徴とする（実施形態８）に記載の照明光学ユニット。
（実施形態１０）
前記傾斜軸線（Ｋ2）は、前記円錐支持フレーム（２９）の前記回転対称軸（１９）に対してタンジェンシャル方向に、かつ該円錐支持フレーム（２９）の前記基本形状の円錐底面（３３）と平行に延びることを特徴とする（実施形態８）又は（実施形態９）に記載の照明光学ユニット。
（実施形態１１）
前記第２のミラーデバイス（３５）は、
少なくとも１つのリング支持フレームの形態にある前記リング形外側ミラー基本体（３６）と、
前記リング支持フレーム（３６）上に装着された複数のミラーファセット（３７）と、
を有する、
ことを特徴とする（実施形態６）から（実施形態１０）のいずれか１項に記載の照明光学ユニット。
（実施形態１２）
前記外側ミラー基本体（３６）は、前記駆動デバイス（４５）を用いて軸線方向にリング回転対称軸（１９）に沿って互いに対して変位可能である少なくとも２つのリング支持フレーム（４１，４４）を有することを特徴とする（実施形態１１）に記載の照明光学ユニット。
（実施形態１３）
投影リソグラフィのための照明光学ユニット（６）であって、
円錐基本形状を有する支持フレーム（２９）と、
前記支持フレーム（２９）上に装着された複数のミラーファセット（３０）と、
を有する照明光（３）の反射及び偏光のための偏光ミラーデバイス（２８）、
を含むことを特徴とする照明光学ユニット。
（実施形態１４）
物体視野（４）を照明するための（実施形態１）から（実施形態１３）のいずれか１項に記載の照明光学ユニットと、
前記物体視野（４）を像視野（８）に結像するための投影光学ユニット（７）と、
を含むことを特徴とする光学系。
（実施形態１５）
（実施形態１４）に記載の光学系とＥＵＶ光源（２）とを含む照明系を含み、
物体視野（４）に配置することができる物体（１０）を装着するための物体ホルダを同じく含み、かつ
像視野（８）に配置することができる基板（１１）を装着するための基板ホルダ（１２）を含む、
ことを特徴とする投影露光装置。
【符号の説明】
【００６２】
３  照明光
１５  ミラーアセンブリ
１７  円錐ミラー基本体
２５  リングビーム
ＵＰ  偏光矢印（非偏光）