【事件の表示】
　特許第３１３３０３９号「光導波路用感光性組成物およびその製造方法および高分子光導波路パターン形成方法」の請求項１ないし６に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３１３３０３９号の請求項１ないし６に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続きの経緯
　特許第３１３３０３９号の発明についての出願は、平成１１年１０月５日に出願され（国内優先権主張 平成１０年１０月５日）、平成１２年１１月２４日にその設定登録がなされ、その後、天野 景昭より特許異議の申立がなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１３年１２月１８日に訂正請求書が提出されたものである。
　
２．訂正の適否について
2．1　訂正の内容
　平成１３年１２月１８日付けの訂正請求書による訂正事項は、下記のとおりである。
ａ．特許請求の範囲の請求項１を、
「【請求項１】　分子中に少なくともエポキシ構造あるいはトリアルコキシシラン構造を有する架橋剤と有機オリゴマーと重合開始剤とを含む光導波路用感光性組成物において、
　前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、
　前記有機オリゴマーが一般式（１）で表わされるシリコーンオリゴマーであることを特徴とする光導波路用感光性組成物。
　　【化１】
　
　
　
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数であり、ｘおよびｙはそれぞれ各ユニットの存在割合を示す値でともに０より大きく、Ｒ1は、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）」と訂正する。
　
ｂ．特許請求の範囲の請求項２を、
「【請求項２】　分子中に少なくともエポキシ構造あるいはトリアルコキシシラン構造を有する架橋剤と有機オリゴマーと重合開始剤とを含む光導波路用感光性組成物において、
　前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、
　前記有機オリゴマーが一般式（２）で表わされるシリコーンオリゴマーであることを特徴とする光導波路用感光性組成物。
　　【化２】
　
　
　
（式中、Ｘ1およびＸ2はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、Ｚは下記式（Ｉ）または（ＩＩ）
　　【化３】
　
　
　
で示されるエポキシ基であり、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｙはｘよりも小さく０であってもよい）」と訂正する。
　
ｃ．特許請求の範囲の請求項３を、
「【請求項３】　分子中に少なくともエポキシ構造あるいはトリアルコキシシラン構造を有する架橋剤と有機オリゴマーと重合開始剤とを含む光導波路用感光性組成物において、
　前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、
　前記有機オリゴマーが一般式（３）で表わされるシリコーンオリゴマーであることを特徴とする光導波路用感光性組成物。
　　【化４】
　
　
　
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）」と訂正する。
　
ｄ．特許請求の範囲の請求項４を、
「【請求項４】　分子中に少なくともエポキシ構造あるいはトリアルコキシシラン構造を有する架橋剤と有機オリゴマーと重合開始剤とを含む光導波路用感光性組成物において、
　前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、
　前記有機オリゴマーが一般式（４）で表わされるシリコーンオリゴマーであることを特徴とする光導波路用感光性組成物。
　　【化５】
　
　
　
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）」と訂正する。
　
ｅ．特許請求の範囲の請求項５を、
「【請求項５】　基板上に分子中に少なくともエポキシ構造あるいはトリアルコキシシラン構造を有する架橋剤と有機オリゴマーと光重合開始剤とを含む感光性物質を層状に形成し、該層にマスクを通してＵＶ光を照射するか、あるいはパターン形状部分にのみ直接ＵＶ光を照射してパターン形状の潜像を形成し、その後未照射部を溶媒にて除去することにより光が通るコア部分のリッジパターンを形成する高分子光導波路パターン形成方法であって、
　前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、
　前記有機オリゴマーが、一般式（１）、（２）、（３）、および（４）からなる群から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする高分子光導波路パターン形成方法。
　　【化６】
　
　
　
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数であり、ｘおよびｙはそれぞれ各ユニットの存在割合を示す値でともに０より大きく、Ｒ1は、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）
　　【化７】
　
　
　
（式中、Ｘ1およびＸ2はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、Ｚは下記式（Ｉ）または（ＩＩ）
　　【化８】
　
　
　
で示されるエポキシ基であり、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｙはｘよりも小さく０であってもよい）
　　【化９】
　
　
　
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）
　　【化１０】
　
　
　
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）」と訂正する。
　
ｆ．特許請求の範囲の請求項６を、
「【請求項６】　基板上にクラッド部分形成用樹脂層およびコア部分形成用の感光性物質の層をこの順に形成し、該コア部分形成用の感光性物質の層にマスクを通してＵＶ光を照射するか、あるいはコア部分となるべきパターン部分にのみ直接ＵＶ光を照射してコア部分パターンの潜像を形成し、その後未照射部を溶媒にて除去することにより光が通るコア部分を形成し、次いで該コア部分を埋め込むように前記クラッド部分形成用樹脂層と同一の樹脂からなる層を形成する、高分子光導波路パターン形成方法であって、
　前記感光性物質が、分子中に少なくともエポキシ構造あるいはトリアルコキシシラン構造を有する架橋剤と有機オリゴマーと光重合開始剤を含み、
　前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、
　前記有機オリゴマーが、一般式（１）、（２）、（３）および（４）からなる群から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする高分子光導波路パターン形成方法。
　　【化１１】
　
　
　
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数であり、ｘおよびｙはそれぞれ各ユニットの存在割合を示す値でともに０より大きく、Ｒ1は、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）
　　【化１２】
　
　
　
（式中、Ｘ1およびＸ2はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、Ｚは下記式（Ｉ）または（ＩＩ）
　　【化１３】
　
　
　
で示されるエポキシ基であり、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｙはｘよりも小さく０であってもよい）
　　【化１４】
　
　
　
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）
　　【化１５】
　
　
　
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）」と訂正する。
　
ｇ．特許請求の範囲の請求項８を、
「【請求項８】　高分子光導波路パターン形成方法であって、一般式（１）、（２）、（３）および（４）からなる群から選ばれる少なくとも１つである有機オリゴマーと重合開始剤と分子中に少なくともエポキシ構造あるいはアルコキシシラン構造を有する架橋剤と固体触媒とを含む高分子光導波路用感光性組成物を光導波路を形成すべき部分に塗布・乾燥することにより高分子光導波路用感光性組成物膜を得る工程と、前記工程で得られた高分子光導波路用感光性組成物膜に対してマスク越しに光照射する工程と、前記光照射する工程に続けて、前記高分子光導波路用感光性組成物膜をウエットエッチングすることにより、直接コアリッジパターンを形成する工程を含むことを特徴とする高分子光導波路パターン形成方法。
　　【化２１】
　
　
　
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数であり、ｘおよびｙはそれぞれ各ユニットの存在割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ1は、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）
　　【化２２】
　
　
　
（式中、Ｘ1およびＸ2はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、Ｚは下記式（Ｉ）または（ＩＩ）
　　【化２３】
　
　
　
で示されるエポキシ基であり、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｙはｘよりも小さく０であってもよい）
　　【化２４】
　
　
　
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）
　　【化２５】
　
　
　
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）」と訂正する。
　
ｈ．明細書段落【００１７】の記載を、
「【課題を解決するための手段】
　本発明の第１の態様は、分子中に少なくともエポキシ構造あるいはトリアルコキシシラン構造を有する架橋剤と有機オリゴマーと重合開始剤とを含む光導波路用感光性組成物において、前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、前記有機オリゴマーが一般式（１）で表わされるシリコーンオリゴマーであることを特徴とする。」と訂正する。
　
ｉ．明細書段落【００１９】の記載を、
「（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数であり、ｘおよびｙはそれぞれ各ユニットの存在割合を示す値でともに０より大きく、Ｒ1は、メチル基、エチ
ル基またはイソプロピル基を表す）
　本発明の第２の態様は、分子中に少なくともエポキシ構造あるいはトリアルコキシシラン構造を有する架橋剤と有機オリゴマーと重合開始剤とを含む光導波路用感光性組成物において、前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、前記有機オリゴマーが一般式（２）で表わされるシリコーンオリゴマーであることを特徴とする。」と訂正する。
　
ｊ．明細書段落【００２３】の記載を、
「で示されるエポキシ基であり、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｙはｘよりも小さく０であってもよい）
　本発明の第３の態様は、分子中に少なくともエポキシ構造あるいはトリアルコキシシラン構造を有する架橋剤と有機オリゴマーと重合開始剤とを含む光導波路用感光性組成物において、前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、前記有機オリゴマーが一般式（３）で表わされるシリコーンオリゴマーであることを特徴とする。」と訂正する。
　
ｋ．明細書段落【００２５】の記載を、
「（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）
　本発明の第４の態様は、分子中に少なくともエポキシ構造あるいはトリアルコキシシラン構造を有する架橋剤と有機オリゴマーと重合開始剤とを含む光導波路用感光性組成物において、前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、前記有機オリゴマーが一般式（４）で表わされるシリコーンオリゴマーであることを特徴とする。」と訂正する。
　
ｌ．明細書段落【００３２】の記載を、
「本発明の第５の態様は、基板上に分子中に少なくともエポキシ構造あるいはトリアルコキシシラン構造を有する架橋剤と有機オリゴマーと光重合開始剤とを含む感光性物質を層状に形成し、該層にマスクを通してＵＶ光を照射するか、あるいはパターン形状部分にのみ直接ＵＶ光を照射してパターン形状の潜像を形成し、その後未照射部を溶媒にて除去することにより光が通るコア部分のリッジパターンを形成する高分子光導波路パターン形成方法であって、前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、前記有機オリゴマーが、前記一般式（１）、（２）、（３）および（４）からなる群から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする。」と訂正する。
　
ｍ．明細書段落【００３４】の記載を、
「本発明の第６の態様は、基板上にクラッド部分形成用樹脂層およびコア部分形成用の感光性物質の層をこの順に形成し、該コア部分形成用の感光性物質の層にマスクを通してＵＶ光を照射するか、あるいはコア部分となるべきパターン部分にのみ直接ＵＶ光を照射してコア部分パターンの潜像を形成し、その後未照射部を溶媒にて除去することにより光が通るコア部分を形成し、次いで該コア部分を埋め込むように前記クラッド部分形成用樹脂層と同一の樹脂からなる層を形成する、高分子光導波路パターン形成方法であって、前記感光性物質が、分子中に少なくともエポキシ構造あるいはトリアルコキシシラン構造を有する架橋剤と有機オリゴマーと光重合開始剤とを含み、前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、前記有機オリゴマーが、前記一般式（１）、（２）、（３）および（４）からなる群から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする。」と訂正する。
　
2．2　訂正の目的の適否、新規事項の有無、特許請求の範囲の拡張・変更の存否
　
（１）上記訂正事項ａ
　上記訂正は、請求項１に記載された「アルコキシシラン構造」を「トリアルコキシシラン構造」に、同「分子中に少なくともエポキシ構造あるいはアルコキシシラン構造を有する架橋剤」を「両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度」であるものに、同一般式（１）のｘおよびｙについて「ｘおよびｙはそれぞれ各ユニットの存在割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、」を「ｘおよびｙはそれぞれ各ユニットの存在割合を示す値でともに０より大きく」に、それぞれ限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的としたものに該当し、これらは、特許明細書の段落【００５３】、段落【００５０】〜段落【００５２】、段落【００５８】、段落【００７４】に記載されている事項であるから、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内においてするものであって何れも新規事項の追加に該当せず、実質上特許請求の範囲を拡張・変更するものでもない。
　　　　　　　　　　　　
（２）上記訂正事項ｂ〜ｆ
　上記訂正は、請求項２〜６に記載された「アルコキシシラン構造」を「トリアルコキシシラン構造」に、同「分子中に少なくともエポキシ構造あるいはアルコキシシラン構造を有する架橋剤」を「両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度」であるものに、それぞれ限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的としたものに該当し、これらは、特許明細書の段落【００５３】、段落【００５０】〜段落【００５２】、段落【００５８】に記載されている事項であるから、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内においてするものであって何れも新規事項の追加に該当せず、実質上特許請求の範囲を拡張・変更するものでもない。
　
（３）上記訂正事項ｇ
　上記訂正は、請求項８において一般式（１）の前に、化学式を指し示す一連の番号が抜け落ちたのを訂正するものであって、明りょうでない記載の釈明を目的とするものであり、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内においてするものであって新規事項の追加に該当せず、実質上特許請求の範囲を拡張・変更するものでもない。
　
（４）上記訂正事項ｈ〜ｍ
　上記訂正は、上記ａ〜ｆの訂正に伴い、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載との整合を図るための訂正であるから、明りょうでない記載の釈明を目的とするものであり、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内においてするものであって何れも新規事項の追加に該当せず、実質上特許請求の範囲を拡張・変更するものでもない。
　
2．3　結論
　したがって、上記訂正は、特許法第１２０条の４第第２項及び同条第３項において準用する特許法第１２６条第２項から第４項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．特許異議の申立てについて
3．1　特許異議申立人 天野 景昭は、証拠として甲第１号証（特開２０００−１０９６９５号公報およびその優先権主張の基礎となった特願平１０−２２０５１３号の願書に最初に添付した明細書）、甲第２号証（特開平６−１４８８９５号公報）、甲第３号証（特開平４−３６６９５８号公報）、甲第４号証（特開平８−３２７８４２号公報）、甲第５号証（特開平１０−１４８７２９号公報）を提出し、以下のように主張している。
　
（１）本件の訂正前の請求項１に係る発明は、本件特許出願の日前の他の特許出願であって、その出願後に出願公開がされた特願平１１−２２０７５０号の願書に最初に添付した明細書（以下、「先願明細書」という。甲第１号証参照。）に記載された発明と同一であるから、特許法第２９条の２の規定に違反して特許されたものである。
　
（２）本件の訂正前の請求項１に係る発明は、甲第２号証及び甲第３号証の記載から、又は、甲第３号証及び甲第４号証の記載から、当業者が容易に発明することができたものであり、
　また、本件の訂正前の請求項２〜６に係る発明は、甲第３号証及び甲第５号証の記載から当業者が容易に発明することができたものであるから、
　夫々、特許法第２９条第２項の規定に違反して特許されたものである。
　
（３）本件特許明細書は、その記載が不備であるから、本件出願は、特許法第３６条第４項の規定に違反して特許されたものである。
　
3．3　本件発明
　本件の訂正後の請求項１〜６に係る発明は、訂正された特許明細書の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１〜６に記載された事項により特定されるとおりのものである（前掲2．1のａ〜ｆ参照。以下、「本件発明１」〜「本件発明６」という。）。
　
3．4　先願明細書並びに甲各号証に記載の発明
3．4．1　先願明細書（特開２０００−１０９６９５号公報およびその優先権主張の基礎となった特願平１０−２２０５１３号の願書に最初に添付した明細書参照）
　先願明細書には、下記（Ａ）〜（Ｃ）成分を含有する光硬化性樹脂組成物について記載され、（Ａ）は一般式（１）で表される加水分解性シラン化合物、その加水分解物およびその縮合物であり、（Ｂ）は一般式（２）で表される加水分解性シリル基含有ビニル系重合体であり、及び（Ｃ）は光酸発生剤であること（甲第１号証の請求項１〜２参照）が、上記光硬化性樹脂組成物は光導波路材料等の用途に好適であること（甲第１号証の【０００２】参照）が、夫々記載されている。
　                                            　　
3．4．2　甲第２号証（特開平６−１４８８９５号公報）
　甲第２号証には、アルカリ可溶性シロキサンポリマー、光によって反応促進剤を発生する化合物、および溶剤、を主成分とする感光性樹脂組成物について記載され、該アルカリ可溶性シロキサンポリマーはアルコキシシランに水および触媒を加えて加水分解縮合させた反応溶液から、水および触媒を除去して得られるものであること（甲第２号証の請求項１参照）が、該アルコキシシランは、一般式（１）で表されるものであること（甲第２号証の請求項３参照）が、上記感光性樹脂組成物は導波路形成用材料等に用いることができること（甲第２号証の【００２８】参照）が、夫々記載されている。
　
3．4．3　甲第３号証（特開平４−３６６９５８号公報）
　甲第３号証には、ポリ（シロキサン）と、架橋剤と、放射線放射により酸を発生する酸発生剤とを含む放射線感応性樹脂組成物について記載され、前記ポリ（シロキサン）は一般式（１）で表されるポリ（シルセスキオキサン）であること（甲第３号証の請求項１、２参照）が、夫々記載されている。
　
3．4．4　甲第４号証（特開平８−３２７８４２号公報）
　甲第４号証には、コアと、コアを囲み該コアよりも低屈折率のクラッドとを少なくとも有する光導波路であって、前記コアが式（II）または（III）のポリシロキサン、あるいはこれらの共重合体であるポリシロキサン、およびこれらの混合物、からなるポリマであること（甲第４号証の請求項１、５参照）が、夫々記載されている。
　
3．4．5　甲第５号証（特開平１０−１４８７２９号公報）
　甲第５号証には、光導波路のコア部を形成する材料として、反応性オリゴマーと光重合開始剤とからなる液状の感光性物質が用いられ、該反応性オリゴマーは、一般式（２）〜（４）で表される化合物であること（甲第５号証の請求項１、７〜９参照）が、　
　
　高分子光導波路を形成すべき部分に液だめプールを予め形成する工程と、該液だめプールに液状の感光性物質を注入する工程と、該感光性物質に対してマスクを通して光照射してパターン潜像を形成し、その後未照射部を溶媒にて除去することにより高分子光導波路コア部のリッジパターンを形成すること（甲第５号証の請求項１参照）が、
　
　エポキシ樹脂が基板上に形成されたプラットフォームを用意し、このプラットフォームの液だめに、液状のエポキシオリゴマーと光重合開始剤とを含む溶液を注入し、その後、マスクを介して紫外線を照射してリッジパターンを作製し、さらに、このリッジパターンにエポキシ樹脂を塗布して硬化することにより高分子光導波路パターンを形成すること（【００４１】〜【００４４】参照）が、夫々記載されている。
　
3．5　対比・判断
3．5．1　特許法第２９条の２の違反について
　本件発明１と先願明細書記載の発明（以下、「先願発明」という。）とを対比すると、先願発明の「（Ｂ）一般式（２）で表される構造単位からなる、加水分解性シリル基含有ビニル系重合体」、「（Ａ）一般式（１）で表される加水分解性シラン化合物、その加水分解物およびその縮合物」及び「（Ｃ）光酸発生剤」は、本件発明１の「架橋剤」、「有機オリゴマー」及び「重合開始剤」に夫々相当すると認められ、両者は、「架橋剤と有機オリゴマーと重合開始剤とを含む光導波路用感光性組成物」の点で一致するけれども、本件発明１の「一般式（１）で表される有機オリゴマー」は、上記訂正（前掲2．1参照）の結果、先願発明の「（Ａ）一般式（１）で表される加水分解性シラン化合物、その加水分解物およびその縮合物」には含まれないことが明らかとなったから（本件発明１の有機オリゴマーは、一般式（１）中、ｘとｙは何れも０より大きいものである。）、本件発明１は、先願発明と同一とは認められない。
　
3．5．2　特許法第２９条第２項の違反について
　本件発明１と甲第２〜４号証記載の発明とを対比すると、両者は、シリコーンオリゴマーを含む感光性組成物に係る発明の点で共通するが、甲第２〜４号証には、本件発明１の構成である「感光性組成物が架橋剤を含むものであり、該架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度である」点について記載されておらず、示唆されていない。
　一方、本件発明１は上記構成により「簡易かつ高速な導波路形成が可能であり、透明性、耐熱性、光学等方性、加工性の全てに優れる。」という特許明細書記載（【００９９】）の効果を奏すると認められるから、本件発明１が甲第２〜４号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることができない。
　
　また、本件発明２〜６と甲第３、５号証記載の発明とを対比すると、両者は、シリコーンオリゴマーを含む感光性組成物に係る発明の点で共通するが、甲第３、５号証には、本件発明２〜６の構成である「感光性組成物が架橋剤を含むものであり、該架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度である」点について記載されておらず、示唆されていない。
　一方、本件発明２〜６は上記構成により「簡易かつ高速な導波路形成が可能であり、透明性、耐熱性、光学等方性、加工性の全てに優れ、また、簡易で量産性に優れ、かつ光部品との接続が容易に行うことが可能な高分子光導波路パターンを形成することができる。」という特許明細書記載（【００９９】〜【０１００】）の効果を奏すると認められるから、本件発明２〜６が甲第３、５号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることができない。　
　
3．5．3　特許法第３６条の違反について
　特許異議申立人の特許法第３６条違反の理由は、下記（１）、（２）の点についてのものである。
　
（１）本件特許明細書によれば、架橋剤の添加量は、「通常たかだか１〜２％、最大数％」である旨記載（本件特許明細書【００５８】）されているのにも拘わらず、本件の請求項１〜６では、架橋剤の添加量について何も規定されていない。したがって、架橋剤の添加量が数％を超えた場合に、本件発明の効果（低導波損失性）が奏されるのか不明であるから、本件特許明細書は当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載されていない。　
　
（２）本件の請求項１〜６には、使用される架橋剤について、「分子中に少なくともエポキシ構造あるいはアルコキシシラン構造を有する架橋剤」と規定されているにも拘わらず、発明の詳細な説明中では、エポキシ構造を有さず、アルコキシシラン構造のみを有する架橋剤を用いた実験例については全く記載されていない。したがって、上記の架橋剤については本件発明の効果が奏されるのか不明であるから、本件特許明細書は当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載されていない。
　
（３）そこで検討すると、本件特許明細書は、上記訂正（前掲2．1参照）の結果、【請求項１】〜【請求項６】及び【発明の詳細な説明】の各欄において、
　
ａ．架橋剤の添加量を、「最大２％程度」、と限定し、
　
ｂ．架橋剤の構造を、「両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え」てなるもの、と限定した。
　
　したがって、当該訂正後の明細書からみて、上記（１）及び（２）に係る記載不備は、もはや存在しない。
　
4．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件の訂正後の請求項１〜６に係る発明の特許を取り消すことができない。
　また、他に本件の訂正後の請求項１〜６に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１５年２月１８日（２００３．２．１８）
【訂正の要旨】
訂正事項
ａ．特許請求の範囲の請求項１を「分子中に少なくともエポキシ構造あるいは
トリ
　
前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、
　
前記
　【化１】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数であり、ｘおよびｙはそれぞれ各ユニットの存在割合を
示す値でともに０より大きく
ｂ．特許請求の範囲の請求項２を「分子中に少なくともエポキシ構造あるいは
トリ
　
前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、
　
前記
　【化２】
（式中、Ｘ１およびＸ２はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、Ｚは下記式（Ｉ）または（ＩＩ）
　【化３】
で示されるエポキシ基であり、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｙはｘよりも小さく０であってもよい）」と訂正する。
ｃ．特許請求の範囲の請求項３を「分子中に少なくともエポキシ構造あるいは
トリ
　
前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、
　
前記
　【化４】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）」と訂正する。
ｄ．特許請求の範囲の請求項４を「分子中に少なくともエポキシ構造あるいは
トリ
　
前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、
　
前記
　【化５】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）」と訂正する。
ｅ．特許請求の範囲の請求項５を「基板上に分子中に少なくともエポキシ構造あるいは
トリ
　
前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記感光物に占める割合は最大２％程度であり、
　前記有機オリゴマーが、一般式（１）、（２）、（３）、および（４）からなる群から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする高分子光導波路パターン形成方法。
　【化６】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数であり、ｘおよびｙはそれぞれ各ユニットの存在割合を
示す値でともに０より大きく
　【化７】
（式中、Ｘ１およびＸ２はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、Ｚは下記式（Ｉ）または（ＩＩ）
　【化８】
で示されるエポキシ基であり、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｙはｘよりも小さく０であってもよい）
　【化９】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）
　【化１０】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）」と訂正する。
ｆ．特許請求の範囲の請求項６を「基板上にクラッド部分形成用樹脂層およびコア部分形成用の感光性物質の層をこの順に形成し、該コア部分形成用の感光性物質の層にマスクを通してＵＶ光を照射するか、あるいはコア部分となるべきパターン部分にのみ直接ＵＶ光を照射してコア部分パターンの潜像を形成し、その後未照射部を溶媒にて除去することにより光が通るコア部分を形成し、次いで該コア部分を埋め込むように前記クラッド部分形成用樹脂層と同一の樹脂からなる層を形成する、高分子光導波路パターン形成方法であって、
　前記感光性物質が、分子中に少なくともエポキシ構造あるいは
トリ
　
前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記感光物に占める割合は最大２％程度であり、
　前記有機オリゴマーが、一般式（１）、（２）、（３）および（４）からなる群から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする高分子光導波路パターン形成方法。
　【化１１】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数であり、ｘおよびｙはそれぞれ各ユニットの存在割合を
示す値でともに０より大きく
　【化１２】
（式中、Ｘ１およびＸ２はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、Ｚは下記式（Ｉ）または（ＩＩ）
　【化１３】
で示されるエポキシ基であり、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｙはｘよりも小さく０であってもよい）
　【化１４】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）
　【化１５】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）」と訂正する。
ｇ．特許請求の範囲の請求項８を「高分子光導波路パターン形成方法であって、一般式（１）、（２）、（３）および（４）からなる群から選ばれる少なくとも１つである有機オリゴマーと重合開始剤と分子中に少なくともエポキシ構造あるいはアルコキシシラン構造を有する架橋剤と固体触媒とを含む高分子光導波路用感光性組成物を光導波路を形成すべき部分に塗布・乾燥することにより高分子光導波路用感光性組成物膜を得る工程と、前記工程で得られた高分子光導波路用感光性組成物膜に対してマスク越しに光照射する工程と、前記光照射する工程に続けて、前記高分子光導波路用感光性組成物膜をウエットエッチングすることにより、直接コアリッジパターンを形成する工程を含むことを特徴とする高分子光導波路パターン形成方法。
　
【化２１】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数であり、ｘおよびｙはそれぞれ各ユニットの存在割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ１は、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）
　
【化２２】
（式中、Ｘ１およびＸ２はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、Ｚは下記式（Ｉ）または（ＩＩ）
　
【化２３】
で示されるエポキシ基であり、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｙはｘよりも小さく０であってもよい）
　
【化２４】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）
　
【化２５】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）」と訂正する。
ｈ．特許明細書の段落【００１７】を「【課題を解決するための手段】
　本発明の第１の態様は、分子中に少なくともエポキシ構造あるいは
トリ
前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、前記
ｉ．特許明細書の段落【００１９】を「（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数であり、ｘおよびｙはそれぞれ各ユニットの存在割合を
示す値でともに０より大きく
　本発明の第２の態様は、分子中に少なくともエポキシ構造あるいは
トリ
前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、前記
ｊ．特許明細書の段落【００２３】を「で示されるエポキシ基であり、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｙはｘよりも小さく０であってもよい）
　本発明の第３の態様は、分子中に少なくともエポキシ構造あるいは
トリ
前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、前記
ｋ．特許明細書の段落【００２５】を「（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）
　本発明の第４の態様は、分子中に少なくともエポキシ構造あるいは
トリ
前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、前記
ｌ．特許明細書の段落【００３２】を「本発明の第５の態様は、基板上に分子中に少なくともエポキシ構造あるいは
トリ
前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前期トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、
ｍ．特許明細書の段落【００３４】を「本発明の第６の態様は、基板上にクラッド部分形成用樹脂層およびコア部分形成用の感光性物質の層をこの順に形成し、該コア部分形成用の感光性物質の層にマスクを通してＵＶ光を照射するか、あるいはコア部分となるべきパターン部分にのみ直接ＵＶ光を照射してコア部分パターンの潜像を形成し、その後未照射部を溶媒にて除去することにより光が通るコア部分を形成し、次いで該コア部分を埋め込むように前記クラッド部分形成用樹脂層と同一の樹脂からなる層を形成する、高分子光導波路パターン形成方法であって、前記感光性物質が、分子中に少なくともエポキシ構造あるいは
トリ
前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、
（５４）【発明の名称】
光導波回路用感光性組成物およびその製造方法および高分子光導波路パターン形成方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　分子中に少なくともエポキシ構造あるいは
トリ
　
前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、
　
前記
　【化１】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数であり、ｘおよびｙはそれぞれ各ユニットの存在割合を
示す値でともに０より大きく
　【請求項２】　分子中に少なくともエポキシ構造あるいは
トリ
　
前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、
　
前記
　【化２】
（式中、Ｘ１およびＸ２はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、Ｚは下記式（Ｉ）または（ＩＩ）
　【化３】
で示されるエポキシ基であり、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｙはｘよりも小さく０であってもよい）
　【請求項３】　分子中に少なくともエポキシ構造あるいは
トリ
　
前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、
　
前記
　【化４】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）
　【請求項４】　分子中に少なくともエポキシ構造あるいは
トリ
　
前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、
　
前記
　【化５】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）
　【請求項５】　基板上に分子中に少なくともエポキシ構造あるいは
トリ
　
前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記感光物に占める割合は最大２％程度であり、
　前記有機オリゴマーが、一般式（１）、（２）、（３）、および（４）からなる群から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする高分子光導波路パターン形成方法。
　【化６】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数であり、ｘおよびｙはそれぞれ各ユニットの存在割合を
示す値でともに０より大きく
　【化７】
（式中、Ｘ１およびＸ２はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、Ｚは下記式（Ｉ）または（ＩＩ）
　【化８】
で示されるエポキシ基であり、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｙはｘよりも小さく０であってもよい）
　【化９】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）
　【化１０】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）
　【請求項６】　基板上にクラッド部分形成用樹脂層およびコア部分形成用の感光性物質の層をこの順に形成し、該コア部分形成用の感光性物質の層にマスクを通してＵＶ光を照射するか、あるいはコア部分となるべきパターン部分にのみ直接ＵＶ光を照射してコア部分パターンの潜像を形成し、その後未照射部を溶媒にて除去することにより光が通るコア部分を形成し、次いで該コア部分を埋め込むように前記クラッド部分形成用樹脂層と同一の樹脂からなる層を形成する、高分子光導波路パターン形成方法であって、
　前記感光性物質が、分子中に少なくともエポキシ構造あるいは
トリ
　
前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記感光物に占める割合は最大２％程度であり、
　前記有機オリゴマーが、一般式（１）、（２）、（３）および（４）からなる群から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする高分子光導波路パターン形成方法。
　【化１１】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数であり、ｘおよびｙはそれぞれ各ユニットの存在割合を
示す値でともに０より大きく
　【化１２】
（式中、Ｘ１およびＸ２はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、Ｚは下記式（Ｉ）または（ＩＩ）
　【化１３】
で示されるエポキシ基であり、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｙはｘよりも小さく０であってもよい）
　【化１４】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）
　【化１５】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）
　【請求項７】　一般式（１）、（２）、（３）および（４）からなる群から選ばれる少なくとも１つである有機オリゴマーと重合開始剤と架橋剤を含む高分子光導波路用感光性組成物の製造方法であって、有機オリゴマーと分子中に少なくともエポキシ構造あるいはアルコキシシラン構造を有する架橋剤とを固体触媒の存在下に加熱する工程、固体触媒を濾別し濾液を濃縮しさらに重合開始剤を加える工程を含むことを特徴とする高分子光導波路用感光性組成物の製造方法。
　【化１６】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数であり、ｘおよびｙはそれぞれ各ユニットの存在割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ１は、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）
　【化１７】
（式中、Ｘ１およびＸ２はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、Ｚは下記式（Ｉ）または（ＩＩ）
　【化１８】
で示されるエポキシ基であり、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｙはｘよりも小さく０であってもよい）
　【化１９】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）
　【化２０】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）
　【請求項８】　高分子光導波路パターン形成方法であって、一般式（１）、（２）、（３）および（４）からなる群から選ばれる少なくとも１つである有機オリゴマーと重合開始剤と分子中に少なくともエポキシ構造あるいはアルコキシシラン構造を有する架橋剤と固体触媒とを含む高分子光導波路用感光性組成物を光導波路を形成すべき部分に塗布・乾燥することにより高分子光導波路用感光性組成物膜を得る工程と、前記工程で得られた高分子光導波路用感光性組成物膜に対してマスク越しに光照射する工程と、前記光照射する工程に続けて、前記高分子光導波路用感光性組成物膜をウエットエッチングすることにより、直接コアリッジパターンを形成する工程を含むことを特徴とする高分子光導波路パターン形成方法。
　
【化２１】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数であり、ｘおよびｙはそれぞれ各ユニットの存在割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ１は、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）
　
【化２２】
（式中、Ｘ１およびＸ２はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、Ｚは下記式（Ｉ）または（ＩＩ）
　
【化２３】
で示されるエポキシ基であり、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｙはｘよりも小さく０であってもよい）
　
【化２４】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）
　
【化２５】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明は、高分子光導波路用感光性組成物およびその製造方法ならびにそれを用いた高分子光導波路パターン形成方法に関するものである。本発明は、一般光学や微小光学分野で、かつ、光通信または光情報処理の分野で用いられる種々の光導波路、光集積回路、光配線板等に利用できる。
　【０００２】
　【従来の技術】
　市場要求とナショナルイニシアチブに後押しされて、大容量光ファイバーネットワークの構築とＦＴＴＸの整備が加速されている。すなわち、アレイ光導波路格子（ＡＷＧ）をキーデバイスとするＷＤＭ−ＭＵＸ／ＤＥＭＵＸが実用レベルに達し、大容量で拡張性の高いネットワークが現実のものになってきた。今後は、伝送路、ＭＵＸ／ＤＥＭＵＸに続き、大規模ノード、ローカル網、各種ＬＡＮシステムの光化に対する市場要求が予想される。
　【０００３】
　高分子材料は無機ガラスと同様に光学的に等方な低導波損失アモルファス媒体であり、受動光回路への応用が期待されている。さらに、高分子材料は、ガラスよりも一桁大きな熱光学（ＴＯ）定数等を利用してＴＯスイッチ等の導波路材料としても利用され始めている。具体的な導波路材料としては、アクリル高分子、アクリル樹脂、ポリイミド、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネートなどを挙げることができる。光導波路材料に求められる特性は多岐に渡り、なかでも、透明性、耐熱性、光学等方性、加工性は、特に重要な特性とされている。
　【０００４】
　透明性に関しては、高分子材料のほとんどは可視域で極めて透明である一方、通信波長域とされる近赤外領域では、炭素−水素（ハイドロカーボン骨格など）あるいは酸素−水素（水酸基など）の振動吸収の倍音が透明性を減少させる要因となっている。したがって、基本骨格のフルオロカーボン化やシロキサン骨格の導入などが試みられている。
　【０００５】
　耐熱性に関しては、剛直な骨格のポリイミドや堅牢なシロキサン骨格、熱や光による架橋構造などが採用されている。
　【０００６】
　光学等方性に関しては、芳香環など光学異方性のある成分が配向しないことが望ましい。ただし、前項の耐熱性向上のための剛直または堅牢な骨格は分子の配向を促進させるため、通常、耐熱性と光学等方性とは相反する傾向にある。
　【０００７】
　加工性は、光導波路の場合は、主にコア・クラッド構造の形成性を指す。高分子量の高分子材料を溶液からスピンコートする場合はインターミキシングが起こりやすく、導波路加工性に問題が多い。一方、低分子量のオリゴマーを成膜した後、それを光や熱で架橋するタイプは、架橋後の成膜したポリマーは溶媒に不溶化するので、インターミキシングを防ぐことができ、その結果、加工性に優れるものが多いという傾向がある。
　【０００８】
　高分子材料は、スピンコート法やディップ法等により容易に薄膜を形成することができ、大面積の光導波路を作製するのに適している。また、かかる方法によれば、成膜に際して高温での熱処理工程を含まないので、高温での熱処理が困難な半導体基板やプラスチック基板等の基板上に光導波路を作製できるという利点がある。更に、高分子材料の柔軟性や強靱性を活かしたフレキシブルな光導波路の作製も可能である。このような理由から、光通信の分野で用いられる光集積回路、光情報処理の分野で用いられる光配線板等の光導波路部品等を、高分子光学材料を用いて大量・安価に製造することが期待されている。
　【０００９】
　高分子光学材料は耐熱性又は耐湿性といった耐環境性の点で問題があるとされてきたが、近年、ベンゼン環などの芳香族基を含有させたり、あるいは無機高分子を用いることにより耐熱性を向上させた材料が、例えば、特開平３−４３４２３号に開示されている。高分子材料は上述のように薄膜形成や熱処理工程などに特徴をもっており、耐熱性や耐湿性といった問題点も改善されつつある。
　【００１０】
　高分子光導波路の作成方法としては、高分子材料中にモノマーを含ませておき、光照射により一部分モノマーと反応させて照射部分と非照射部分との間に屈折率差を作るフォトロッキングあるいは選択光重合法（黒川ら、アプライドオプティックス第１７巻第６４６頁、１９７８年）、リソグラフィやエッチングなど半導体加工に用いる方法を適用したもの（今村ら、エレクトロニクスレター、第２７巻第１３４２頁、１９９１年）、簡易性が高く、量産性にも優れている感光性高分子あるいはレジストを用いた方法（トレウェスら、ＳＰＩＥ第１１７７巻第３７９頁、１９８９年）がある。また、エポキシオリゴマー等に光重合開始剤を添加し、光照射によりコア部を形成し、未硬化部を除去する導波路作製法が、特開平１０−２５３８４５号に開示されている。
　【００１１】
　【発明が解決しようとする課題】
　上記で説明したように、光導波路用の高分子材料への要求項目は多く、中には、耐熱性と光学等方性のように、分子構造上相反する要求もあり、全ての条件を同時に満たす材料は極めて少ないという解決すべき課題がある。しかし、皆無ではなく、例えば、熱硬化シリコーン樹脂のように、ラダー状シロキサン骨格による透明性と耐熱性の両立、ランダム熱架橋による光学等方性の確保、オリゴマーを成膜し熱架橋して溶媒不溶化することによるコア・クラッド構造形成の容易さを同時に満たす例もある。
　【００１２】
　このように、光導波路材料として傑出した特性を有するシリコーン樹脂ではあるが、加工性においては、コアリッジを作製する際に、ガラスや半導体などの無機材料と同様に、ドライエッチングプロセスにより、複数の工程で長時間の加工を要するという、まだ不十分な部分を有している。したがって、光導波路用シリコーン樹脂に関しては、一部の高分子系、すなわち、光硬化性樹脂で既に実現されているように、光架橋し未反応部分を溶媒で洗い流す簡便な方法で直接コアリッジを作製できることが望まれる。
　【００１３】
　通常、シリコーンオリゴマーに光硬化性を付与する方法としては、光カチオン重合性を有するエポキシ基やビニルエーテル基、あるいはラジカル重合性のアクリル基を、シリコーンオリゴマー自体に共有結合で組み込む方法が用いられる。しかしながら、これらの方法では、シロキサン結合よりも架橋による側鎖間の結合が支配的となり、耐熱性等に問題が生じるばかりでなく、エポキシの場合は水酸基が、ビニルエーテルやアクリルの場合は炭化水素の比率が増えることによる導波損失増大が避けられない。
　【００１４】
　本発明は、光導波路用高分子材料に関する、このような現状に鑑みてなされた光導波路用感光性組成物および高分子光導波路パターン形成方法の発明である。その目的は、上記課題を解決し、高分子材料に対して、新たに光感光性を付与し、簡易かつ高速な導波路形成を可能とし、透明性、耐熱性、光学等方性、加工性の全てに優れる光導波路材料を提供することにある。
　【００１５】
　光導波路材料の耐熱性を向上させるためにベンゼン環などの芳香族基を含有させると、ベンゼン環などの芳香族基が配向して光学的異方性を発現するため複屈折が大きくなる。したがって、かかる材料を用いて作製された光導波路等は偏波依存性を有しており、入射光の強度が一定であったとしても偏波面の変動によりその出力特性が変動してしまう。特に、シングルモード系の光導波路として実際に用いる場合には問題となる。偏波依存性を解消するには偏光子等と組み合わせて用いることが必要であるが、光デバイスの構成がかなり複雑になるという欠点があり、実用上好ましくない。
　【００１６】
　本発明の高分子光導波路パターン形成方法は、このような現状に鑑みてなされたものである。その目的は、簡易なパターン形成能を有し、耐熱性及び耐湿性に優れ、複屈折が小さく、加工性に優れた有機オリゴマーを用いることにより、簡易で量産性に優れ、かつ光部品との接続が容易に行われる高分子光導波路パターンの形成方法を提供することにある。
　【００１７】
　【課題を解決するための手段】
　本発明の第１の態様は、分子中に少なくともエポキシ構造あるいは
トリ
前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前期光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、前記
　【００１８】
　【化３６】
　【００１９】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数であり、ｘおよびｙはそれぞれ各ユニットの存在割合を
示す値でともに０より大きく
　本発明の第２の態様は、分子中に少なくともエポキシ構造あるいは
トリ
前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、前記
　【００２０】
　【化３７】
　【００２１】
（式中、Ｘ１およびＸ２はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、Ｚは下記式（Ｉ）または（ＩＩ）
　【００２２】
　【化３８】
　【００２３】
で示されるエポキシ基であり、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｙはｘよりも小さく０であってもよい）
　本発明の第３の態様は、分子中に少なくともエポキシ構造あるいは
トリ
前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、前記
　【００２４】
　【化３９】
　【００２５】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）
　本発明の第４の態様は、分子中に少なくともエポキシ構造あるいは
トリ
前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、前記
　【００２６】
　【化４０】
　【００２７】
（式中、Ｘは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｘおよびｙはそれぞれ各単位の割合を示し、ｘおよびｙはともに０であることはなく、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す）
　【００２８】
　【００２９】
　【００３０】
　【００３１】
　【００３２】
　本発明の第５の態様は、基板上に分子中に少なくともエポキシ構造あるいは
トリ
前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前記光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、
　【００３３】
　【００３４】
　本発明の第６の態様は、基板上にクラッド部分形成用樹脂層およびコア部分形成用の感光性物質の層をこの順に形成し、該コア部分形成用の感光性物質の層にマスクを通してＵＶ光を照射するか、あるいはコア部分となるべきパターン部分にのみ直接ＵＶ光を照射してコア部分パターンの潜像を形成し、その後未照射部を溶媒にて除去することにより光が通るコア部分を形成し、次いで該コア部分を埋め込むように前記クラッド部分形成用樹脂層と同一の樹脂からなる層を形成する、高分子光導波路パターン形成方法であって、前記感光性物質が、分子中に少なくともエポキシ構造あるいは
トリ
前記架橋剤は両端に前記エポキシ構造または前記トリアルコキシシラン構造を備え、光硬化した前期光導波路用感光組成物の可塑性を高める化合物で、前記光導波路用感光組成物に占める割合は最大２％程度であり、
　【００３５】
　【００３６】
　本発明の第７の態様は、前記一般式（１）、（２）、（３）および（４）からなる群から選ばれる少なくとも１つである有機オリゴマーと重合開始剤と架橋剤を含む高分子光導波路用感光性組成物の製造方法であって、有機オリゴマーと分子中に少なくともエポキシ構造あるいはアルコキシシラン構造を有する架橋剤とを固体触媒の存在下に加熱する工程、固体触媒を濾別し濾液を濃縮しさらに重合開始剤を加える工程を含むことを特徴とする。
　【００３７】
　【００３８】
　本発明の第８の態様は、高分子光導波路パターン形成方法において、前記一般式（１）、（２）、（３）および（４）からなる群から選ばれる少なくとも１つである有機オリゴマーと重合開始剤と分子中に少なくともエポキシ構造あるいはアルコキシシラン構造を有する架橋剤と固体触媒とを含む高分子光導波路用感光性組成物を光導波路を形成すべき部分に塗布・乾燥することにより高分子光導波路用感光性組成物膜を得る工程と、前記工程で得られた高分子光導波路用感光性組成物膜に対してマスク越しに光照射する工程と、前記光照射する工程に続けて、前記高分子光導波路用感光性組成物膜をウエットエッチングすることにより、直接コアリッジパターンを形成する工程を含むことを特徴とする。
　【００３９】
　【００４０】
　本発明者らは、これらの有機オリゴマー材料が、簡易なパタン形成能を有し、耐熱性及び耐湿性に優れ、複屈折が小さく、光部品との接続が容易な高分子光導波路パターンを形成できることを見い出し、本発明を完成させるに至った。
　【００４１】
　すなわち、本発明は、光照射により膜を硬化し適当な溶媒で現像する事により急峻で滑らかな壁面を持つ導波路リッジパターンを形成することができる。また従来の高分子材料では厚膜での導波路加工が非常に難しかったが、本発明によれば厚膜でも容易に導波路を加工することができる。さらに本発明によれば、液状オリゴマーの光硬化体の複屈折が１×１０−３以下にまで低減され、偏波依存性を許容値以下に低減することが可能となる。また、高分子光学材料の分子量を調整することにより、薄膜の形成工程に対応した適当な粘性を得ることができる。
　【００４２】
　【発明の実施の形態】
　本発明は、上記の課題を解決するために、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂本来の透明性、耐熱性、光学等方性を損なうことなく、直接コアリッジ作製が可能なそのような樹脂に光硬化性を付与するものである。
　【００４３】
　本発明においては、基板上にまたはクラッド層上に感光性物質を層状に形成する。この感光性物質は、有機オリゴマーおよび光開始重合剤を含むが、さらに架橋剤を含むことができる。
　【００４４】
　本発明に用いられる有機オリゴマーは、エポキシ系オリゴマー、シリコーン系オリゴマーまたはアクリル系オリゴマーである。具体的には、上記式（１）〜（６）のいずれかで表される化合物であり、これらは混合されていてもよい。
　【００４５】
　本発明に用いられる感光性物質が有機オリゴマーであることの利点は、
１）硬化前の高分子材料の状態を非常に均一にすることができるので、紫外領域または可視域の光透過特性に優れ、硬化して形成された膜が厚くても十分な解像度を有すること、
２）硬化前の高分子材料の状態がオリゴマーであるため、基板等に凹凸部分があっても平坦化が可能であり、また、くまなく浸透するので様々な形状に対応した膜形成が可能であること、
３）オリゴマーがランダムに連結され硬化するため、硬化後の材料は複屈折性が小さくなること、
にある。
　【００４６】
　本発明に用いられるエポキシ系オリゴマー材料の高分子化は、エポキシ系オリゴマー中に含まれるエポキシ基あるいはアルコキシ基と、水酸基との間がＵＶ光照射により結合し、架橋することによって行われる。架橋反応を効率よく十分に起こさせるためには光重合開始剤を添加することが望ましい。感光性物質が架橋剤を含む場合には、架橋剤およびエポキシ系オリゴマー材料中のエポキシ基あるいはアルコキシ基と、水酸基との間がＵＶ光照射により結合し、架橋することによって高分子化してもよい。
　【００４７】
　シリコーンオリゴマーは、本来、光カチオン重合開始剤、いわゆる、酸発生剤が存在するだけで、架橋が進行する性質を備えている。したがって、シリコーンオリゴマーと光カチオン重合開始剤のみの組み合わせでも、特定の条件のもとでは、光架橋を進行させることが原理的には可能である。
　【００４８】
　しかしながら、本発明者らが、鋭意検討したところ、シリコーンオリゴマーと光カチオン重合開始剤のみの組み合わせでは、実際に十分な架橋が得られることは極めて稀であった。また、オリゴマーの分子量が高いほど、架橋が進む傾向は得られたが、再現性に乏しく、また、効果が不十分であった。さらに、置換基の配合が芳香族系に富む場合は、材料の分子量を上げること自体が困難であるという事情も重なり、汎用的な手法とはならなかった。
　【００４９】
　次に、本発明者らは、シリコーンオリゴマーに光カチオン重合開始剤を含有させて基板上に膜化した後、これを加熱処理して分子量を上げ、その後、光照射して硬化させるという方法を試みた。シリコーンオリゴマーの種類や加熱条件によっては、稀に十分な架橋が得られる場合もあったが、大半は架橋が不十分である上、前述と同様に再現性の面で不安が残るものであった。
　【００５０】
　ここに至って、本発明者らは、シリコーンオリゴマーと光カチオン重合開始剤の他に第３の成分として、特に重合開始補助剤としての働きの顕著な架橋剤を添加して、所望の光硬化性を実現できることを見い出した。感光性組成物に架橋剤（シランカップリング剤）を添加することは、例えば、感光性組成物が硬化した際の接着性を高める目的で採用されることがある。これは、光硬化した組成物の中に架橋剤が含まれることにより、硬化物と硬化物に接する物質との間のシロキサンを生じさせて、両者の間に密着を実現させるものであり、本発明における重合開始補助剤としての役割とは本質的に異なる。本発明においては、光導波路用感光性組成物の主成分がシリコーンオリゴマーであることに着目し、酸発生剤存在下での光照射により該シリコーンオリゴマーに選択的に反応し、光重合の初期段階での分子量増大を効果的に進行させる目的で添加するものである。さらに、本発明における重合開始補助剤の添加は、該組成物全体の可塑性を高め、光照射下における重合反応の進行を起こりやすくする効果がある。
　【００５１】
この方法は、前述した分子量調整法やプリベーク法にくらべ、シリコーンオリゴマーの構造に左右されることなく、十分な架橋が得られ、再現性も高く、シリコーンオリゴマーの光架橋に広く応用できることを見い出した。重合開始補助剤として特に顕著な働きを示す架橋剤としては、一般式（７）で表わされる化合物群を挙げることができる。さらに詳しくは、構造式（８）で表わされるγ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、１，２−ビス（トリエトキシシリル）エタン、１，４−ビス（トリエトキシシリル）ベンゼン、１，６−ビス（トリエトキシシリル）エタンヘキサン、構造式（９）、（１０）、（１１）、（１２）で表わされる２官能性エポキシ化合物等を挙げることができる。
　【００５２】
　　Ａ−Ｒ−Ａ′　　　　（７）
上式で、ＡおよびＡ′は、独立して、下記の３種の構造のいずれかにより選択される。
　【００５３】
　【化４３】
　【００５４】
この他にも、シリコーンオリゴマーに対する重合開始補助剤として効果のある架橋剤としては、光カチオン重合開始剤からのプロトン供給により開環あるいは脱水縮合するもので、前記以外の２官能性以上の脂環エポキシ、（３−グリシドキシプロピル）トリメトキシシラン、（３−グリシドキシプロピル）メチルジエトキシシラン、ジフェニルシランジオールなどのエポキシ化合物、シランカップリング剤、シラノール化合物、アルコキシ化合物などが代表的なものである。その他シランカップリング剤の例としては、アミノプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−ビス〔β−（アミノエチル）〕−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、オクタデシルジメチル〔３−（トリメトキシシリル）プロピル〕アンモニウムクロリド、γ−クロロブロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ベンジルトリメチルシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアヌルプロピルトリエトキシシラン、ｎ−オクチルトリエトキシシランなどを挙げることができる。
　【００５５】
　【００５６】
　【００５７】
　本発明に用いられる光重合開始剤としては、通常光重合開始剤として用いられているものであれば特に制限はなく、スルホニウム塩、オスミウム塩、アンチモニウム塩等の光カチオン重合開始剤が代表的なものとしてあげられる。具体的には、Ｎ−ベンジル−４−ベンゾイルピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、Ｎ−（３−メチル−２−ブテニル）−２−シアノ−ピリジニウムヘキサフルオロホスフェート、ｐ−クロロベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（エチルアセトアセタト）アルミニウムが好ましい。
　【００５８】
　架橋剤の添加量は，通常たかだか１〜２％，最大数％であり，本発明の光導波路用感光性組成物を用いて製造される光導波路は，架橋剤由来の近赤外吸収効果を実質上免れることができ，シリコーン樹脂本来の通信波長帯での低導波損失性を，そのまま保持している。
　【００５９】
　通常は，シリコーンオリゴマに光硬化性を付与する方法として光重合性を有するエポキシ基やビニルエーテル基あるいはアクリル基を，シリコーンオリゴマ自体に共有結合で組み込む方法が用いられる。しかし、この場合に使用される架橋剤の量は，本発明の５０倍程度以上に換算され，強靭なシロキサン結合よりも架橋側鎖間の結合が支配的となって耐熱性等に問題が生じるばかりでなく，エポキシの場合は水酸基が，ビニルエーテルやアクリルの場合は炭化水素の分率が増えることによる導波損失増大を避けることができない。すなわち，シリコーン樹脂本来の耐熱性や通信波長帯での低導波損失性を損なうことなく，光によって直接コアリッジパターンを形成することは，本発明の光導波路用感光性組成物を用いて初めて可能となる。
　【００６０】
　本発明に従って、有機オリゴマー材料を用いて光導波路を作製する方法を図１（ａ）から（ｄ）を用いて説明する。図１（ａ）から（ｄ）は本発明により光導波路を形成する工程を示す概略断面図である。
　【００６１】
　本発明においては、有機オリゴマーを基板あるいはクラッド上に塗布し、位置合わせしてマスクを通してあるいは直接ＵＶ光照射し、照射していない部分を溶媒で溶解除去することにより導波路リッジパターンを形成する。
　【００６２】
　具体的には、図１（ａ）に示すように、基板１上に下部クラッド部分形成用樹脂の層２を形成し、その上にコア部分形成用の感光性物質の層３を形成する。次いで、図１（ｂ）に示すように、コア部分形状のパターンを有するマスク４を感光性物質の層３の上に被せ、マスク４を通してＵＶ光５を照射する。これにより、感光性物質の層３はコア部分６のみ硬化する。その後、感光性物質の層３のうち、ＵＶ光の未照射部分を溶媒で溶解除去すると、図１（ｃ）に示すようなコア部分６のリッジパターンが形成される。このコア部分６が埋め込まれるように、クラッド部分形成用樹脂の層２と同一の感光性樹脂を塗布して、図１（ｄ）に示すようなクラッド部分７を形成する。こうして作製された光導波路は、耐溶剤性に優れ、また用いた材料の複屈折が小さいために偏波依存性が小さく、かつ低導波損失で、耐熱性、耐湿性に優れている。
　【００６３】
　【実施例】
　本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はこれら実施例により限定されるものではなく、本発明の思想およびその範囲内において種々の変形例や他の実施形態例が可能であることは当業者ならば容易に理解できよう。
　【００６４】
実施例１
　フェニルトリクロロシラン（２１１．５ｇ）とメチルトリクロロシラン（３６．３ｇ）を脱水処理したテトラヒドロフラン１リットルに溶解し、ここに３当量の水（６７．５ｇ）を液温が上昇しないようにゆっくりと滴下した。続いて、反応液を攪拌しながら、ここに３１５ｇの炭酸水素ナトリウムを加えた。炭酸ガスの発生が終了した後、更に１時間攪拌を続けた。次いで反応液を濾過し、ロータリーエバポレータで濾液のテトラヒドロフランを留去したところ、無色透明で粘稠な液体を得た。更に、この液体を真空乾燥することによりオリゴマーＡを得た。得られたオリゴマーＡの分子量をＧＰＣで測定したところ、Ｍｗ＝３３００、Ｍｎ＝１５００であった。
　【００６５】
　次いで、５０ｇのオリゴマーＡ、２５ｇのＵＶ樹脂、光重合開始剤として２重量％のＮ−ベンジル−４−ベンゾイルピリジニウムヘキサフルオロアンチモネートおよび溶媒として２５ｇのメチルイソブチルケトンからなる感光性物質Ａを調製した。
　【００６６】
　感光性物質Ａをコア、紫外線硬化型樹脂（ＵＶ樹脂）をクラッドとして用いる光導波路を図１（ａ）〜（ｄ）に示すようにして作製した。まず、シリコン基板上にＵＶ樹脂をスピンコート法により塗布して層を形成した。この際、膜厚が１５μｍとなるようにスピンコータの回転数を調整した。形成した層に７０００ｍＪ／ｃｍ２のＵＶ光を照射し、その後９０℃で３０分間加熱して下部クラッド層２を形成した。次いで、この上に感光性物質Ａをスピンコート法により塗布し、コア部分形成層を形成した。ただし、スピンコータの回転数は、膜厚が８μｍとなるように調整した。この際、下部クラッド層とコア部分形成層との間でインターミキシングは全く見られなかった。形成されたコア部分形成層を１２０℃で１０分間加熱し、溶媒を除去した。コア幅が８μｍとなるようなコア部分パターンを有するマスク４をコア部分形成層の上におき、マスクを通して７０００ｍＪ／ｃｍ２のＵＶ光を照射した。その後、１２０℃で２分間加熱することによりコア部分６をパターニングした。次いで、メチルイソブチルケトンとイソプロピルアルコールを１：１で混合した混合溶媒を用いて現像し、ＵＶ光未照射部分を除去した。これを、１２０℃で３０分間加熱し、コアリッジを形成した。この上に、下部クラッドを形成したのと同一のＵＶ樹脂を塗布し、下部クラッドを形成した場合と同様に光硬化して、コア部分６がクラッド部分７内に埋め込まれた構造の、図１に示すような埋め込み型チャネル光導波路を作製した。ただし、上部クラッドの厚さはコアの上面から８μｍとなるようにした。
　【００６７】
　得られた光導波路をダイシングソーによって５ｃｍの長さに切り出し、導波損失を測定したところ、波長１．３μｍで１．０ｄＢ／ｃｍ、波長０．６３３μｍで１．２ｄＢ／ｃｍ以下であった。また、この光導波路の導波損失は７５℃／９０％ＲＨの条件下で１箇月以上変動しなかった。
　【００６８】
実施例２
　実施例１において製造したオリゴマーＡが５０ｇ、架橋剤である（３−グリシドキシプロピル）トリメトキシシランが１ｇ、光重合開始剤としてＮ−ベンジル−４−ベンゾイルピリジニウムヘキサフルオロアンチモネートが２重量％および溶媒としてメチルイソブチルケトンが２５ｇからなる感光性物質Ｂを調製した。
　【００６９】
　実施例１においてコア部分形成用の感光性物質として感光性物質Ａの代わりに上記感光性物質Ｂを用いた以外は実施例１と同様にして、図１（ｄ）に示すようなコア／クラッド構造からなる埋め込み型チャネル光導波路を作製した。ただし、上部クラッドの厚さはコアの上面から８μｍとなるようにした。また、下部クラッド層とコア部分形成層との間でインターミキシングは全く見られなかった。
　【００７０】
　実施例１と同様に、得られた光導波路をダイシングソーによって５ｃｍの長さに切り出し、導波損失を測定したところ、波長１．３μｍで０．５ｄＢ／ｃｍ、波長１．５５μｍで０．８ｄＢ／ｃｍ以下であった。また、この光導波路の損失は７５℃／９０％ＲＨの条件下で１箇月以上変動しなかった。
　【００７１】
実施例３
　実施例１におけるオリゴマーＡの製造において、フェニルトリクロロシランの代わりに重水素化フェニルトリクロロシランを用いた以外は実施例１と同様にしてオリゴマーＢを製造し、さらに実施例２においてオリゴマーＡの代わりにオリゴマーＢを用いた以外は実施例２と同様にして感光性物質Ｃを作製した。次いで実施例２と同一の工程によりコア径８μｍ×８μｍの埋め込み型チャネル光導波路を作製した。
　【００７２】
　得られた光導波路を実施例２と同様にダイシングソーによって５ｃｍの長さに切り出し、導波損失を測定した。その結果は、波長１．３μｍで０．１ｄＢ／ｃｍ、波長１．５５μｍで０．５ｄＢ／ｃｍ以下であった。また、この光導波路の損失は７５℃／９０％ＲＨの条件下で１箇月以上変動しなかった。
　【００７３】
＜実施例４−１１＞
実施例３と全く同様の要領で、コアのシリコーンオリゴマーの側鎖の組成比、架橋剤、開始剤の異なる８種類の光導波路を作製した。それぞれの光導波路の導波損失を測定し、実施例１〜３の結果と比較して表１に示した。
　【００７４】
　【表１】
　【００７５】
参考例１
　下記構造式（１５）（但し、ｚ＝０〜２）を有する液状のエポキシオリゴマー１００重量％と光重合開始剤として２重量％のスルホニウム塩とから感光性物質Ｄを調製した。
　【００７６】
　【化４４】
　【００７７】
　厚さ１００μｍのエポキシ樹脂を基板上に形成した。ただし、このエポキシ樹脂の屈折率は波長１．５５μｍで１．５２であった。次にスピンコート法により感光性物質Ｄをエポキシ樹脂層上に塗布して感光性物質の層を形成した。その後、コア部分形状の導波路パターンを有するマスク越しにＵＶ光を照射した。ただし、ＵＶ光の照射量は２０００ｍＪ／ｃｍ２であった。次いで、イソプロパノール溶液で現像したところ感光性物質の層のうちＵＶ光未照射部が溶解し、液状エポキシオリゴマーが硬化したＵＶ光照射部のみが残って　コア部分形状のリッジパターンが形成された。硬化後のコア部分の屈折率は波長１．５５μｍで１．５２５であった。その後、このリッジパターンに光硬化時の屈折率が波長１．５５μｍで１．５２になるように調整されたエポキシ樹脂を塗布して硬化し、コアがクラッドに埋め込まれた図１に示すような光導波路を作製した。すなわち、屈折率１．５２のエポキシ樹脂からなるクラッドと、屈折率１．５２５のＵＶ硬化エポキシ樹脂からなるコアを有するシングルモードチャンネル導波路を（コア径８μｍ×８μｍ、Δｎ＝０．３％）作製することができた。
　【００７８】
　得られた光導波路をダイシングソーによって５ｃｍの長さに切り出し、導波損失を測定したところ、波長１．３μｍで１．５ｄＢ以下、波長１．５５μｍで３．０ｄＢ以下であった。また、導波損失の偏波依存性は波長１．３μｍでも波長１．５５μｍでも０．１ｄＢ以下であった。更に、この得られた光導波路の損失は７５℃／９０％ＲＨの条件下で１箇月以上変動しなかった。
　【００７９】
実施例１３
　参考例１において、感光性物質Ｄの代わりに、下記構造式（１６）で表される液状シリコーンエポキシオリゴマー（望ましくは、分子量１０００〜１００００）１００重量％と光重合開始剤として２重量％のＮ−ベンジル−４−ベンゾイルピリジニウムヘキサフルオロアンチモネートとから調整した感光性物質Ｅを用いた以外は同様にして、シングルモード用のチャンネル導波路（コア径８μｍ×８μｍ、Δｎ＝０．３％）を作製した。
　【００８０】
　【化４５】
　【００８１】
　得られた光導波路をダイシングソーによって５ｃｍの長さに切り出し、導波損失を測定したところ、１．３μｍで１．０ｄＢ以下、波長１．５５μｍで１．５ｄＢ以下であった。また、導波損失の偏波依存性は波長１．３μｍでも波長１．５５μｍでも０．１ｄＢ以下であった。更に、この光導波路の損失は７５℃／９０％ＲＨの条件下で１箇月以上変動しなかった。
　【００８２】
実施例１４
　参考例１において、感光性物質Ｄの代わりに、下記構造式（１７）で表される液状シリコーンオリゴマー１００重量％と光重合開始剤として２重量％のＮ−ベンジル−４−ベンゾイルピリジニウムヘキサフルオロアンチモネートとから調整した感光性物質Ｆを用いた以外は同様にして、シングルモード用のチャンネル導波路（コア径８μｍ×８μｍ、Δｎ＝０．３％）を作製した。
　【００８３】
　【化４６】
　【００８４】
　得られた光導波路をダイシングソーによって５ｃｍの長さに切り出し、導波損失を測定したところ、１．３μｍで１．５ｄＢ以下、波長１．５５μｍで３．０ｄＢ以下であった。また、導波損失の偏波依存性は波長１．３μｍでも波長１．５５μｍでも０．１ｄＢ以下であった。更に、この光導波路の導波損失は７５℃／９０％ＲＨの条件下で１箇月以上変動しなかった。
　【００８５】
　次に、実施例１において、感光性物質Ａの代わりに上述の感光性物質Ｆを用いた以外は同様にして、マルチモード用光導波路（深さ４０μｍ、幅４０μｍ、Δｎ＝１％）を作製した。この光導波路をダイシングソーによって５ｃｍの長さに切り出し、導波損失を測定したところ、波長０．８５μｍで１．０ｄＢ以下、１．３μｍで０．５ｄＢ以下、波長１．５５μｍで１．０ｄＢ以下であった。また、導波損失の偏波依存性は０．１ｄＢ以下であった。更に、この光導波路の導波損失は７５℃／９０％ＲＨの条件下で１箇月以上変動しなかった。
　【００８６】
実施例１５−２３
実施例１４と全く同様の要領で、コアのシリコーンオリゴマーの側鎖の組成比、架橋剤、開始剤の異なる９種類の光導波路を作製した。それぞれの光導波路の導波損失を測定し、表２に示した。
　【００８７】
　【表２】
　【００８８】
実施例２４
　参考例１において、感光性物質Ｄの代わりに、下記構造式（１８）で表される液状シリコーンビニルエーテルオリゴマー１００重量％と光重合開始剤として２重量％の２，６−ジ（４′−アジドベンザル）−４−メチルシクロヘキサノンとから調整した感光性物質Ｇを用いた以外は同様にして、シングルモード用のチャンネル導波路（コア径８μｍ×８μｍ、Δｎ＝０．３％）を作製した。
　【００８９】
　【化４７】
　【００９０】
　得られた光導波路をダイシングソーによって５ｃｍの長さに切り出し、導波損失を測定したところ、１．３μｍで１．５ｄＢ以下、波長１．５５μｍで３．０ｄＢ以下であった。また、導波損失の偏波依存性は０．１ｄＢ以下であった。更に、この光導波路の導波損失は７５℃、９０％ＲＨの条件下で１箇月以上変動しなかった。
　【００９１】
参考例２
　参考例１において、感光性物質Ｄの代わりに下記構造式（１９）を有する液状のアクリルオリゴマー１００重量％と光重合開始剤として２重量％のジフェニルトリケトンベンゾインとからを調整した感光性物質Ｈを用いた以外は参考例１と同様にしてシングルモード用光導波路（コア径８μｍ×８μｍ、Δｎ＝０．３％）を作製した。
　【００９２】
　【化４８】
　【００９３】
　得られた光導波路をダイシングソーによって５ｃｍの長さに切り出し、導波損失を測定したところ、波長１．３μｍで０．５ｄＢ以下、波長１．５５μｍで５．０ｄＢ以下であった。また、導波損失の偏波依存性は波長１．３μｍでも波長１．５５μｍでも０．１ｄＢ以下であった。更に、この光導波路の導波損失は７５℃／９０％ＲＨの条件下で１箇月以上変動しなかった。
　【００９４】
実施例２６
　フェニルトリエトキシシラン２４０ｇ、メチルトリエトキシシラン２０ｇ、水１０ｇ、イソプロピルアルコール１００ｇ、塩酸０．１ｇを混合し、４時間加熱環流したのち、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下で溶媒類を除くことにより、無色透明のオリゴマーＣ１１２ｇを得た。このうち５０ｇと、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン１ｇ、水７ｇ、イソプロピルアルコール２０ｇ、イオン交換樹脂（アルドリッチ社製アンバーライトＩＲＡ９００）２ｇを反応容器に入れ、８０℃で１２時間加熱撹拌したのち、濾過によりイオン交換樹脂を除去し、さらにロータリーエバポレーターを用いて減圧下でイソプロピルアルコールを除くことにより無色透明の油状物Ｄ４４ｇを得た。
　【００９５】
　次に，フェニルトリエトキシシラン２５３ｇ、メチルトリエトキシシラン６ｇとした以外は上記と同じ手順で、無色透明のオリゴマーＥ１１０ｇが得られ、これをもとに、無色透明の油状物Ｆ４０ｇが得られた。
　【００９６】
　これらの油状物ＤとＦを用いて、従来のフォトリソグラフィー技術により以下の手順で光導波路を製造した。まず、油状物Ｄに光カチオン開始剤を混合して光導波路用感光性組成物Ｇとし、これをスピンコート法によりシリコンウエハー上に塗布した。この際、フィルム厚が約１５μｍとなるようにスピンコーターの回転数を調整した。形成した膜にＵＶ光を１０分照射して光硬化させ、１５０℃で十分に硬化させて下部クラッド層とした。次いで、油状物Ｆに光カチオン開始剤を混合して光導波路用感光性組成物Ｈとし、上記の下部クラッド層上に塗布し、８μｍ幅の直線状マスクを通してＵＶ光を１０分照射したのち、未硬化部分を溶媒で洗い流し、さらに１５０℃で十分に硬化させて、幅８μｍ、高さ８μｍの矩形のコアを形成した。この上に下部クラッド形成と同様の手順で上部クラッドを形成し、埋め込み型の光導波路とした。１．５５μｍ帯で伝搬損失を測定したところ０．５ｄＢ／ｃｍ以下であることが確認できた。
　【００９７】
実施例２７−３０
オリゴマーＥのかわりに表３に示すオリゴマーを用い、各々イオン交換樹脂で実施例２６と同様な処理をし、光重合開始剤を添加した感光性物質を調製した。さらに、実施例１においてコア部分形成用の感光性物質として感光性物質Ａの代りに上記の処理を施した感光性物質を用いた以外は実施例１と同様にして、図１（ｄ）に示すようなコア／クラッド構造からなる埋め込み型チャネル光導波路を作製した。ただし、上部クラッドの厚さは、８μｍとなるようにした。下部クラッド層とコア部分形成層との間でインターミキシングはみられなかった。表３に導波損失の測定結果を示す。
　【００９８】
　【表３】
　【００９９】
　【発明の効果】
　以上説明したように、本発明に基づく光感光性が付与された光導波路材料によれば、簡易かつ高速な導波路形成が可能であり、透明性、耐熱性、光学等方性、加工性の全てに優れる。
　【０１００】
　また、簡易なパターン形成能を有し、耐熱性及び耐湿性に優れ、複屈折が小さく、加工性に優れた有機オリゴマーを用いることにより、簡易で量産性に優れ、かつ光部品との接続が容易に行うことが可能な高分子光導波路パターンを形成することができる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明により高分子光導波路を作製する工程を示すものであって、（ａ）〜（ｄ）は、各工程を示す断面図である。
　【符号の説明】
　１　基板
　２　下部クラッド部分形成用樹脂の層
　３　コア部分形成用の感光性物質の層
　４　導波路リッジパターンを有するマスク
　５　ＵＶ光
　６　光硬化したリッジパターン（コア部分）
　７　クラッド部分