(57)【要約】【課題】質量除去によるバランス修正において、応力集中を低減する構造を有する真空ポンプ、真空ポンプに備わる回転部、およびアンバランス修正方法を実現する。【解決手段】本実施形態では、回転円筒体の下端部（排気口側）の少なくとも一部を軸方向に切削することでアンバランス修正部（除去部）を形成する。好ましくは、除去部は、回転円筒体の下端部において、回転円筒体の軸方向幅を可能な限り浅く削り、かつ、回転円筒体の周方向幅を当該回転円筒体の厚み（径方向の幅）以上になるように回転円筒体を削ることで形成される。さらに、除去部に形成される角は大きく（たとえば、Ｒ３以上で）形成する。この構成により、回転円筒体に、当該回転円筒体の軸方向の除去幅（深さ）が浅く、且つ周方向の除去幅が広い形状を有する除去部を形成するので、真空ポンプにおけるバランス修正後の応力集中を低減・緩和することができる。【選択図】図２
2018127950.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
吸気口と排気口が形成された外装体に内包され、回転自在に支持された回転部を備え、
前記回転部を高速回転させることにより、前記吸気口側から吸気した気体を前記排気口側へ移送する真空ポンプであって、
前記回転部の軸方向の端部である円筒体端部の少なくとも一部に、前記回転部のアンバランスを修正するアンバランス修正部が形成されることを特徴とする真空ポンプ。
【請求項２】
前記アンバランス修正部は、前記軸方向に深さを有する溝形状であることを特徴とする請求項１に記載の真空ポンプ。
【請求項３】
前記アンバランス修正部は、前記回転部における開口側の前記円筒体端部に形成されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の真空ポンプ。
【請求項４】
前記アンバランス修正部は、当該アンバランス修正部の周方向の幅が、前記円筒体端部の径方向の厚み以上の寸法であることを特徴とする請求項３に記載の真空ポンプ。
【請求項５】
前記アンバランス修正部は、当該アンバランス修正部の径方向の寸法が、前記円筒体端部の径方向の厚み以上の寸法であることを特徴とする請求項３に記載の真空ポンプ。
【請求項６】
前記アンバランス修正部は、当該アンバランス修正部の前記軸方向の底面または前記アンバランス修正部の径方向に形成される角部がＲ３以上であることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の真空ポンプ。
【請求項７】
前記真空ポンプは、
前記回転部の少なくとも一部の外周面に放射状に配設された回転翼と、
前記回転翼と隙間を介して軸方向において対向する固定翼と、
を備え、
前記回転翼と前記固定翼の相互作用によって前記吸気口側から吸気した気体を前記排気口側へ移送するターボ分子ポンプを有することを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の真空ポンプ。
【請求項８】
前記真空ポンプは、
前記回転部と隙間を介して径方向において対向し、かつ同心で配置された固定円筒部と、
を備え、
前記回転部または前記固定円筒部は、少なくとも一方の前記径方向における対向面の少なくとも一部に、谷部と山部を有するスパイラル状溝が配設され、
前記回転部と前記固定円筒部との相互作用によって前記吸気口側から吸気した気体を前記排気口側へ移送するホルベック型ねじ溝ポンプ部を有することを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の真空ポンプ。
【請求項９】
前記真空ポンプは、
前記回転部の少なくとも一部の外周面に放射状に配設された回転円板状部と、
前記回転円板状部と隙間を介して軸方向において対向し、かつ同心で配置された固定円板状部と、
を備え、
前記回転円板状部または前記固定円板状部は、少なくとも一方の前記軸方向における対向面の少なくとも一部に、谷部と山部を有するスパイラル状溝が配設され、
前記回転円板状部と前記固定円板状部との相互作用によって前記吸気口側から吸気した気体を前記排気口側へ移送するシグバーン型ねじ溝ポンプ部を有することを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の真空ポンプ。
【請求項１０】
前記請求項１から請求項９の少なくともいずれか１項に記載の真空ポンプに備わる回転部。
【請求項１１】
請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の真空ポンプにおいて、
前記回転部の軸方向の端部である円筒体端部の少なくとも一部に、前記回転部のアンバランスを修正するためにアンバランス修正部を形成することを特徴とする真空ポンプのアンバランス修正方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空ポンプ、真空ポンプに備わる回転部、およびアンバランス修正方法に関し、より詳しくは、真空ポンプに備わる回転部のバランスを修正する構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、吸気口および排気口を有するケーシングの内部でロータ部（シャフトやロータ）および回転翼や回転円筒体も含む回転部を高速回転させて排気処理を行うターボ分子ポンプなどの真空ポンプが広く普及していた。これらの真空ポンプでは、磁気軸受などでロータ部ならびに回転部を高速回転させると、真空ポンプを構成する各部品あるいは組み立てた後の部品同士の微小な不均衡によって、振動や騒音が生じていた。また、この僅かな不均衡により、真空ポンプそのものの運転に支障をきたす虞があった。
そこで、この不均衡を修正するために、真空ポンプの回転部に対して、高速回転時のバランス取り・バランス修正を施していた。
このようなバランス修正の方法としては、一般的に、回転部に質量を付加する質量付加によるバランス修正と、回転部の質量を除去する質量除去によるバランス修正などが知られている。
【０００３】
図６および図７は、従来技術を説明するための図である。
図６は、従来の質量付加によるバランス修正を説明するための図である。
図７は、従来の質量除去によるバランス修正を説明するための図である。
まず、従来の質量付加によるバランス修正では、図６に示したように、回転円筒体１０００の内周面に設けられた溝内に配設されたエポキシ樹脂１１００や、ロータ部に設けられたボルト（あるいは、ねじや座金）１２００といった質量を付加する質量付加手段などが採用されていた。
一方、従来の質量除去によるバランス修正では、図７に示したように、回転円筒体２０００の側面（すなわち、外周面である円筒体外周面２００１や内周面である円筒体内周面２００２）の一部を削り取って（切削して）バランス修正を行っていた。
また、他の方法として、シャフト７０におけるシャフト下部７１やシャフト下端部７２（アーマチャーディスク）の一部をドリルやリュータで削り取ってバランス修正を行っていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第３９７４７７２号
【特許文献２】特許第３８１９２６７号
【特許文献３】特開２００３−１４８３７８号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、特に腐食性ガスを流すプロセスで真空ポンプが使用される場合には、真空ポンプの回転部に腐食防止被膜を行った上で、耐腐食性のある樹脂系材料による質量付加手段（すなわち、エポキシ樹脂１１００）を付加してバランス修正を行っていた。
しかし、上述した従来の質量付加によるバランス修正の構成では、真空ポンプの運転中に、質量付加手段（エポキシ樹脂１１００やボルト１２００など）が脱落してしまう虞があった。
また、プロセスにおいて腐食性ガスを流す・流さないに関わらず、プロセス時もしくはクリーニング時に使われたオゾンやプラズマ状態のガスによって質量付加手段（エポキシ樹脂１１００）が消失してしまう虞もあった。
一方、上述した従来の質量除去によるバランス修正の構成では、切削加工用の工具としてドリルといった先端が細い工具で回転部を削る（除去する）と、当該除去部分に応力集中が発生しやすいという問題があった。
【０００６】
そこで、本発明では、質量除去によるバランス修正において、応力集中を低減する構造を有する真空ポンプ、真空ポンプに備わる回転部、およびアンバランス修正方法を実現することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１記載の発明では、吸気口と排気口が形成された外装体に内包され、回転自在に支持された回転部を備え、前記回転部を高速回転させることにより、前記吸気口側から吸気した気体を前記排気口側へ移送する真空ポンプであって、前記回転部の軸方向の端部である円筒体端部の少なくとも一部に、前記回転部のアンバランスを修正するアンバランス修正部が形成されることを特徴とする真空ポンプを提供する。
請求項２記載の発明では、前記アンバランス修正部は、前記軸方向に深さを有する溝形状であることを特徴とする請求項１に記載の真空ポンプを提供する。
請求項３記載の発明では、前記アンバランス修正部は、前記回転部における開口側の前記円筒体端部に形成されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の真空ポンプを提供する。
請求項４記載の発明では、前記アンバランス修正部は、当該アンバランス修正部の周方向の幅が、前記円筒体端部の径方向の厚み以上の寸法であることを特徴とする請求項３に記載の真空ポンプを提供する。
請求項５記載の発明では、前記アンバランス修正部は、当該アンバランス修正部の径方向の寸法が、前記円筒体端部の径方向の厚み以上の寸法であることを特徴とする請求項３に記載の真空ポンプを提供する。
請求項６記載の発明では、前記アンバランス修正部は、当該アンバランス修正部の前記軸方向の底面または前記アンバランス修正部の径方向に形成される角部がＲ３以上であることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の真空ポンプを提供する。
請求項７記載の発明では、前記真空ポンプは、前記回転部の少なくとも一部の外周面に放射状に配設された回転翼と、前記回転翼と隙間を介して軸方向において対向する固定翼と、を備え、前記回転翼と前記固定翼の相互作用によって前記吸気口側から吸気した気体を前記排気口側へ移送するターボ分子ポンプを有することを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の真空ポンプを提供する。
請求項８記載の発明では、前記真空ポンプは、前記回転部と隙間を介して径方向において対向し、かつ同心で配置された固定円筒部と、を備え、前記回転部または前記固定円筒部は、少なくとも一方の前記径方向における対向面の少なくとも一部に、谷部と山部を有するスパイラル状溝が配設され、前記回転部と前記固定円筒部との相互作用によって前記吸気口側から吸気した気体を前記排気口側へ移送するホルベック型ねじ溝ポンプ部を有することを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の真空ポンプを提供する。
請求項９記載の発明では、前記真空ポンプは、前記回転部の少なくとも一部の外周面に放射状に配設された回転円板状部と、前記回転円板状部と隙間を介して軸方向において対向し、かつ同心で配置された固定円板状部と、を備え、前記回転円板状部または前記固定円板状部は、少なくとも一方の前記軸方向における対向面の少なくとも一部に、谷部と山部を有するスパイラル状溝が配設され、前記回転円板状部と前記固定円板状部との相互作用によって前記吸気口側から吸気した気体を前記排気口側へ移送するシグバーン型ねじ溝ポンプ部を有することを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の真空ポンプを提供する。
請求項１０記載の発明では、前記請求項１から請求項９の少なくともいずれか１項に記載の真空ポンプに備わる回転部を提供する。
請求項１１記載の発明では、請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の真空ポンプにおいて、前記回転部の軸方向の端部である円筒体端部の少なくとも一部に、前記回転部のアンバランスを修正するためにアンバランス修正部を形成することを特徴とする真空ポンプのアンバランス修正方法を提供する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、真空ポンプにおける回転円筒体の軸方向端部（好ましくは、排気口側の下端部）の一部を、回転円筒体の軸方向の厚みが薄くなるように切削することで、バランス修正後の応力集中を低減させることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の実施形態に係る真空ポンプの概略構成例を示した図である。
【図２】本発明の実施形態に係る回転円筒体を説明するための図である。
【図３】本発明の実施形態および変形例に係る回転円筒体の除去部を説明するための図である。
【図４】本発明の実施形態に係る真空ポンプの他の概略構成例を示した図である。
【図５】本発明の実施形態に係る真空ポンプの他の概略構成例を示した図である。
【図６】従来技術に係る質量付加によるバランス修正を説明するための図である。
【図７】従来技術に係る質量除去によるバランス修正を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
（ｉ）実施形態の概要
本実施形態では、回転円筒体の軸方向下端部（排気口側）の少なくとも一部を軸方向に切削することで、回転円筒体にアンバランス修正部を形成する。以後、このアンバランス修正部を除去部と称して説明する。
好ましくは、除去部は、回転円筒体の下端部において、回転円筒体の軸方向幅を可能な限り浅く削り、且つ、回転円筒体の周方向幅が当該回転円筒体の厚み（径方向の幅）以上になるように回転円筒体を削ることで形成される。
さらに、除去部に形成される角は大きく（たとえば、Ｒ３以上で）形成する。なお、Ｒとは、角の丸みの半径のことである。
【００１１】
この構成により、本実施形態では、回転円筒体に、当該回転円筒体の軸方向の除去幅（深さ）が浅く且つ周方向の除去幅が広い形状を有する除去部が形成されるので、真空ポンプにおけるバランス修正後の応力集中を低減・緩和することができる。
【００１２】
（ｉｉ）実施形態の詳細
以下、本発明の好適な実施の形態について、図１から図５を参照して詳細に説明する。
（真空ポンプ１の構成）
図１は、本発明の実施形態に係る真空ポンプ１の概略構成例を示した図であり、真空ポンプ１の軸線方向の断面を示した図である。
まず、本実施形態に係る真空ポンプ１について説明する。
本実施形態の真空ポンプ１は、ターボ分子ポンプ部とねじ溝ポンプ部を備えた、いわゆる複合型タイプの分子ポンプである。
真空ポンプ１の外装体を形成するケーシング２は、略円筒状の形状をしており、ケーシング２の下部（排気口６側）に設けられたベース３と共に真空ポンプ１の筐体を構成している。そして、この真空ポンプ１の筐体の内部には真空ポンプ１に排気機能を発揮させる構造物である気体移送機構が収納されている。
この気体移送機構は、大きく分けて、回転自在に支持された回転部と、真空ポンプ１の筐体に対して固定された固定部と、から構成されている。
【００１３】
ケーシング２の端部には、真空ポンプ１へ気体を導入するための吸気口４が形成されている。また、ケーシング２の吸気口４側の端面には、外周側へ張り出したフランジ部５が形成されている。
ベース３には、真空ポンプ１内の気体を排気するための排気口６が形成されている。
また、ベース３には、制御装置が真空ポンプ１から受ける熱の影響を低減するための、チューブ（管）状の部材からなる冷却管（水冷管）が埋設されている。これにより、ベース３は温度コントロールがなされる。この冷却管は、内部に熱媒体である冷却材を流し、この冷却材に熱を吸収させるようにすることで、当該冷却管周辺を冷却するための部材である。
このように、冷却管に冷却材を流すことによってベース３が強制的に冷却されることで、真空ポンプ１から制御装置へ伝導する熱を低減している。
なお、この冷却管の材料については、熱抵抗の低い部材つまり熱伝導率の高い部材、たとえば、銅やステンレス鋼などが利用される。また、冷却管に流す冷却材、つまり物体を冷却するための材料は、液体であっても気体であってもよい。液体の冷却材としては、たとえば、水、塩化カルシウム水溶液やエチレングリコール水溶液などを用いることができる。一方、気体の冷却材としては、たとえば、アンモニア、メタン、エタン、ハロゲン、ヘリウムや炭酸ガス、空気などを用いることができる。
【００１４】
回転部は、回転軸であるシャフト７、このシャフト７に配設されたロータ８、ロータ８に設けられた回転翼９（吸気口４側）および回転円筒体１００（排気口６側）などから構成されている。なお、シャフト７およびロータ８によってロータ部が構成されている。
回転翼９は、シャフト７の軸線に垂直な平面から所定の角度だけ傾斜してシャフト７から放射状に伸びたブレードからなる。
また、回転円筒体１００は、回転翼９の下に位置し、ロータ８の回転軸線と同心の円筒形状をした円筒部材からなる。
本実施形態では、図１に二点鎖線で示した回転円筒体１００の下端部（Ａ）の少なくとも一部に、後述する除去部を形成する。
【００１５】
シャフト７の軸線方向中程には、シャフト７を高速回転させるためのモータ部１１が設けられている。
さらに、シャフト７のモータ部１１に対して吸気口４側、および排気口６側には、シャフト７をラジアル方向（径方向）に非接触で支持するための径方向磁気軸受装置１２、１３が、また、シャフト７の下端には、シャフト７を軸線方向（アキシャル方向）に非接触で支持するための軸方向磁気軸受装置１４が各々設けられている。
【００１６】
真空ポンプ１の筐体（ケーシング２）の内周側には、固定部（固定円筒部）が形成されている。この固定部は、吸気口４側（ターボ分子ポンプ部）に設けられた固定翼１５と、ケーシング２の内周面に設けられたねじ溝スペーサ１６（ねじ溝ポンプ部）などから構成されている。
固定翼１５は、真空ポンプ１の筐体の内周面からシャフト７に向かって、シャフト７の軸線に垂直な平面から所定の角度だけ傾斜して伸びているブレードから構成されている。
各段の固定翼１５は、円筒形状をしたスペーサ１７により互いに隔てられている。
真空ポンプ１では、固定翼１５が軸線方向に、回転翼９と互い違いに複数段形成されている。
【００１７】
ねじ溝スペーサ１６には、回転円筒体１００との対向面にらせん溝が形成されている。ねじ溝スペーサ１６は、所定のクリアランス（間隙）を隔てて回転円筒体１００の外周面に対面するように構成されている。ねじ溝スペーサ１６に形成されたらせん溝の方向は、らせん溝内をロータ８の回転方向にガスが輸送された場合に、排気口６に向かう方向である。なお、らせん溝は、回転部側と固定部側の対向面の少なくとも一方に設けられていればよい。
また、らせん溝の深さは、排気口６に近づくにつれて浅くなるようになっており、それ故、らせん溝を輸送されるガスは排気口６に近づくにつれて圧縮されるように構成されている。
このように構成された真空ポンプ１により、真空ポンプ１に配設される真空室（不図示）内の真空排気処理が行われる。真空室は、たとえば、表面分析装置や微細加工装置のチャンバ等として用いられる真空装置である。
【００１８】
（回転円筒体の構成）
次に、上述したような構成を有する真空ポンプ１に配設される回転円筒体１００の構成について説明する。
図２は、本発明の実施形態に係る回転円筒体１００を説明するための図である。
本実施形態の回転円筒体１００は、当該回転円筒体１００の開口側の下面（換言すると、真空ポンプ１に配設された場合の軸方向排気口６側の全面）である円筒体下端部１０１において、少なくとも一部に除去部を有する。
【００１９】
本実施形態の除去部について、図３を用いて具体的に説明する。
図３（ａ）および（ｂ）は、本実施形態に係る回転円筒体１００の除去部１０２を説明するための図である。
なお、図３（ａ）には、回転円筒体１００を真空ポンプ１の排気口６側から見た場合の円筒体下端部１０１の一部であって、除去部１０２が形成された部分が示されている。
また、図３（ｂ）には、真空ポンプ１のケーシング２側（あるいは、シャフト７側）から見た場合の回転円筒体１００の一部であって、除去部１０２が形成された部分が示されている。
図３（ａ）および（ｂ）に示したように、本実施形態の回転円筒体１００は、円筒体下端部１０１の少なくとも一部に、当該円筒体下端部１０１を切削して形成される除去部１０２を有する。
本実施形態では、除去部１０２の軸方向除去幅Ｗ１は可能な限り短くする。つまり、除去部１０２は、回転円筒体１００の軸方向に浅い凹状を有するように形成される。なお、「軸方向除去幅（Ｗ１）」は、換言すると、「回転円筒体１００の軸方向に円筒体下端部１０１を切削する長さ・深さ」である。
この除去部１０２が有する回転円筒体１００の軸方向の浅さは、切削用の工具として従来使用していたドリルに代えて、エンドミルまたはリュータで切削する構成にすることで実現することができる。
さらに、除去部１０２が有する（形作る）回転円筒体１００の径方向の加工線は、平行になることが好ましい。
【００２０】
これに加えて、除去部１０２の周方向除去幅Ｗ２が、円筒体下端部１０１の厚み（径方向の幅Ｗ３）以上になるように、円筒体下端部１０１を削って除去部１０２形成する（すなわち、Ｗ２≧Ｗ３）。なお、「周方向除去幅（Ｗ２）」は、換言すると、「回転円筒体１００の円周方向（弧に沿う方向）に円筒体下端部１０１を切削する長さ」である。
例えば、円筒体下端部１０１の厚み（Ｗ３）が１０ｍｍである場合は、除去部１０２の周方向除去幅Ｗ２は１０ｍｍ以上になるように調整して切削量を調整することが好ましい。
また、本実施形態の除去部１０２は、円形を有する円筒体下端部１０１の少なくとも一部に、円弧状に形成される。
【００２１】
これに加えて、除去部１０２の径方向除去長さＬが、円筒体下端部１０１の厚み（径方向の幅Ｗ３）と同等になるように、円筒体下端部１０１を削って除去部１０２形成する（すなわち、Ｌ＝Ｗ３）。なお、「径方向除去長さ（Ｌ）」は、換言すると、「回転円筒体１００の径方向に円筒体下端部１０１を切削する長さ」である。
また、図示しないが、回転円筒体１００の厚みが、開口側の円筒体端部へ行くに従って小さくなる（テーパ状）構造であっても、除去部１０２の底部の径方向除去長さＬは、少なくとも円筒体端部の径方向寸法よりも大きくすることが望ましい（すなわち、Ｌ≧Ｗ３）。
【００２２】
そして、本実施形態では、除去部１０２は、切削用の工具としてドリルではなくエンドミルまたはリュータを用いて円筒体下端部１０１を削って形成する。これは、例えば、細く尖った形状を先端（切削を行う部分）に有するドリルを用いて円筒体下端部１０１の切削を行うと、除去部１０２が狭く且つ深い形状で形成されてしまう虞があり、除去部１０２が狭く且つ深い形状を有すると、応力集中が起こる可能性が高くなってしまうためである。
【００２３】
さらに、図３（ｂ）に示したように、除去部１０２は切削後に滑らかな角度を有する角Ｒが形成されるように切削する。この角Ｒは、除去量と除去幅とを考慮した上で、例えばＲ３以上程度に大きく形成することが好ましい。
【００２４】
上述したように、本実施形態の回転円筒体１００は、円筒体下端部１０１の少なくとも一部に、回転円筒体１００の軸方向の厚みが薄くなるように切削された除去部１０２を有する。この構成により、本実施形態では、質量除去によるバランス修正後の応力集中を低減・緩和させることができる。
また、除去部１０２は、切削用の工具としてエンドミルまたはリュータを用いる。この構成により、当該除去部１０２の除去される部分の範囲を浅く且つ広くとることができるため、質量除去によるバランス修正後の応力集中を、より効率よく低減・緩和させることができる。
さらに、除去部１０２は、真空ポンプ１の中心（シャフト７など）から離れた部分に配設される回転円筒体１００の円筒体下端部１０１に設けられる。このように、半径が大きな部分に形成されるので、バランス修正をより効果的に行うことができる。
【００２５】
次に、本実施形態の除去部１０２の変形例について説明する。
上述した実施形態では、円筒体下端部１０１の円弧の一部を径方向に全て切削して除去部１０２を形成する構成にしたが、この構成に限られることはない。
図３（ｃ）は、本実施形態の変形例に係る回転円筒体２００が有する除去部２０２を説明するための図である。
なお、図３（ｃ）は、上述した図３（ａ）と同様に、回転円筒体２００を真空ポンプ１の排気口６側から見た場合の円筒体下端部２０１の一部であって、除去部２０２が形成された部分が示されている。
本実施形態の回転円筒体２００は、円筒体下端部２０１の少なくとも一部に、当該円筒体下端部２０１を切削して形成される除去部２０２を有する。
ここで、図３（ｃ）に示したように、本変形例の除去部２０２は、円筒体下端部２０１の円弧の一部を全て切削するのではなく、円筒体下端部２０１の内側（内径側）に肉部２０３を残す構成とする。すなわち、円筒体下端部２０１は、内径側は滑らかに連続するが、外径側は一部が除去部２０２により切り取られて凹部が形成される構成となる。
なお、円筒体下端部２０１の内側に肉部２０３を残す構成にすることで除去部２０２に形成される肉部２０３側の角（図３（ｂ）の角Ｒに相当）についても、全てＲ３以上が望ましい。
【００２６】
上述した構成は、ターボ分子ポンプ部とシグバーンポンプ部により構成される複合型タイプの真空ポンプにも適用することができる。
図４は、本実施形態の真空ポンプ１の他の構成例を示した図である。
なお、真空ポンプ１と同様の構成については同じ符号を付して説明を省略する。
図４に示したように、ターボ分子ポンプ部とシグバーンポンプ部により構成される複合型タイプの真空ポンプ２０であっても、上述した実施形態を適用することができる。
この構成例の場合、真空ポンプ２０は、吸気口４側のターボ分子ポンプ部の下方に、シグバーン型の構成を有するシグバーンポンプ部を有する。
本実施形態に係るシグバーンポンプ部では、固定円板２１の表面に、らせん溝（スパイラル状溝または渦巻状溝ともいう）流路が刻設されている。
固定円板２１は、シャフト７の軸線に対して垂直に放射状に伸びた円板形状をし、スパイラル状溝が刻設された円板部材である。そして、固定円板２１は、ケーシング２の内周側において回転円板２２（ブレードではない）と互い違いに、軸線方向に単段または複数段配設されている。
この構成例では、最下段に配設される回転円板２２（シグバーンポンプ部）よりも下方の円筒部分が、回転円筒体１００に該当し、二点鎖線Ｂで示した部分に除去部（１０２、２０２）が形成される。
なお、本実施形態では、らせん溝は固定円板２１に形成される構成にしたが、これに限られることはない。らせん溝は、対向する固定円板２１か回転円板２２の対向面のどちらか一方に形成されればよく、例えば、回転円板２２の表面（固定円板２１との対向面）に形成される構成であってもよい。
【００２７】
さらに、上述した構成は、全翼型タイプの真空ポンプにも適用することができる。
図５は、本実施形態の真空ポンプ１の他の構成例を示した図である。
なお、真空ポンプ１と同等の構成については同じ符号を付して説明を省略する。
図５に示したように、全翼型タイプの真空ポンプ３０であっても、上述した実施形態を適用することができる。
なお、この構成例では、最下段に配設される回転翼９よりも下方の円筒部分が回転円筒体１００に該当し、二点鎖線Ｃで示した部分に除去部（１０２、２０２）が形成される。
【００２８】
以上説明した全ての本実施形態（真空ポンプ１、真空ポンプ２０、真空ポンプ３０）では、切削加工時の容易さを鑑み、除去部１０２は、回転円筒体１００の軸方向下方の面（排気口６側の下端部）である円筒体下端部１０１に形成される構成にしたが、これに限られる必要はない。
たとえば、回転円筒体１００の軸方向上方の面（吸気口４側の上端部）に形成する構成にしてもよい。より詳しくは、ロータ８において、最上段（吸気口４側）の回転翼９が配設される位置のさらに上方の円筒部分を回転円筒体１００とし、当該回転円筒体１００の上端（吸気口４側に面している面）の少なくとも一部に除去部１０２を形成する構成である。
あるいは、回転円筒体１００の軸方向の上端（上面）と下端（下面）の両方を切削加工し、二面でもってバランス修正を行う構成にしてもよい。
なお、この構成は、上述した変形例である回転円筒体２００に形成する除去部２０２であっても適用可能である。
【００２９】
また、全ての本実施形態では、図３（ａ）に示したように、除去部１０２が有する（形作る）回転円筒体１００の径方向の加工線が平行になる構成にしたが、これに限られる必要はない。
たとえば、当該除去部１０２の径方向加工線は、図３（ｄ）に示したように、回転円筒体（回転円筒体３００）の径方向仮想線（中心から引く半径を表す線）と平行になる構成にしてもよい。
なお、この構成は、上述した変形例である回転円筒体２００に形成する除去部２０２であっても適用可能である。
【００３０】
また、全ての本実施形態および変形例は、回転円筒体１００および除去部１０２に対して腐食防止被膜（ニッケル合金メッキなど）を行う場合も行わない場合もどちらにも適用可能である。
【００３１】
なお、本発明の実施形態および各変形例は、必要に応じて組み合わせる構成にしてもよい。
【００３２】
また、本発明は、本発明の精神を逸脱しない限り種々の改変をなすことができ、そして、本発明が当該改変されたものにも及ぶことは当然である。
【符号の説明】
【００３３】
１  真空ポンプ（ターボ分子ポンプ部とねじ溝ポンプ部の複合型）
２  ケーシング
３  ベース
４  吸気口
５  フランジ部
６  排気口
７  シャフト
７０  シャフト（従来技術）
７１  シャフト下部（従来技術）
７２  シャフト下端部（従来技術）
８  ロータ
９  回転翼
１１  モータ部
１２、１３  径方向磁気軸受装置
１４  軸方向磁気軸受装置
１５  固定翼
１６  ねじ溝スペーサ
１７  スペーサ
２０  真空ポンプ（ターボ分子ポンプ部とシグバーンポンプ部の複合型）
２１  固定円板
２２  回転円板
３０  真空ポンプ（全翼型）
１００  回転円筒体
１０１  円筒体下端部
１０２  除去部
２００  回転円筒体（変形例）
２０１  円筒体下端部（変形例）
２０２  除去部（変形例）
２０３  肉部
３００  回転円筒体（変形例）
１０００  回転円筒体（従来技術）
１１００  エポキシ樹脂（質量付加手段）
１２００  ボルト（質量付加手段）
２０００  回転円筒体（従来技術）
２００１  円筒体外周面
２００２  円筒体内周面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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