【手続補正書】
【提出日】平成27年9月11日(2015.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィ装置のサポートテーブル上に静電気力によってパターニングデバイス又は基板を保持するために使用するチャックであって、前記パターニングデバイスは、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成するためのものであり、前記基板は前記パターン付き放射ビームを受けるためのものであり、前記チャックは、
誘電部材と、
前記誘電部材内に形成された温度調節流体チャネルと、
駆動電極であって、前記パターニングデバイス又は基板を前記駆動電極に向かって静電的に引き寄せるために、前記誘電部材にわたって前記駆動電極と前記パターニングデバイス又は基板との間に電位差を加えるための駆動電極と、
前記温度調節流体チャネル内の温度調節流体内の電解を減少させる又は防止するために、前記駆動電極に加えられる電圧による前記温度調節流体にわたる電場の発生を減少させる又は防止するための第１シールド電極と、を備える、チャック。
【請求項２】
前記第１シールド電極は、前記駆動電極を含む前記誘電部材の領域を、前記温度調節流体チャネルを含む前記誘電部材の領域から離す、請求項１に記載のチャック。
【請求項３】
前記第１シールド電極は前記温度調節流体チャネルを囲む、及び／又は、前記第1シールド電極は前記温度調節流体チャネルの内側ライニングを形成する、請求項１又は２に記載のチャック。
【請求項４】
前記駆動電極が駆動されていないときに前記駆動電極からのあらゆる放散パワーの欠如を補償する、前記誘電部材に電流を提供するための第１補償電極をさらに備え、
前記第１補償電極は前記駆動電極と前記第１シールド電極との間に設けられ、
前記第１補償電極は、前記駆動電極に加えられる前記電圧がゼロの場合、前記駆動電極と前記第１シールド電極との間の領域に放散パワーを引き起こす電圧を前記第１補償電極に加えることができるように位置決めされて形作られ、前記放散パワーは、前記パターニングデバイス又は基板を保持するために前記電圧が前記駆動電極に加えられるときの放散パワーと実質的に同じである、請求項１〜３のいずれか１項に記載のチャック。
【請求項５】
前記第１補償電極は、前記駆動電極及び前記第１シールド電極から等距離である、請求項４に記載のチャック。
【請求項６】
チャッククランプ電極であって、前記チャックを前記サポートテーブルに静電的に引き寄せるために前記チャッククランプ電極と前記サポートテーブルとの間に電位差を加えるためのチャッククランプ電極をさらに備える、請求項１〜５のいずれか１項に記載のチャック。
【請求項７】
前記チャッククランプ電極に加えられる電圧による前記温度調節流体チャネル内の温度調節流体にわたる電場の発生を減少又は防止する第２シールド電極をさらに備える、請求項６に記載のチャック。
【請求項８】
前記第２シールド電極は、前記第２シールド電極の少なくとも一部が前記チャッククランプ電極と前記温度調節流体チャネル内の温度調節流体との間にあるように構成される、請求項７に記載のチャック。
【請求項９】
前記第２シールド電極は、前記チャッククランプ電極を含む前記誘電部材の領域を、前記温度調節流体チャネルを含む前記誘電部材の領域から離す、請求項７又は８に記載のチャック。
【請求項１０】
前記チャネルの長さに沿って変動する局部加熱を、前記チャネルを画定する前記チャックの領域に加えるチャネルヒータをさらに備える、請求項１〜９のいずれか１項に記載のチャック。
【請求項１１】
リソグラフィ装置であって、
放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを保持する、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のチャックと、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、を備える、リソグラフィ装置。
【請求項１２】
基板を保持する請求項１〜１０のうちのいずれか１項に記載のチャックと、
放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するサポートと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、を備える、リソグラフィ装置。
【請求項１３】
静電気力によってリソグラフィ装置のサポートテーブル上にパターニングデバイス又は基板を保持するチャックを使用する方法であって、前記パターニングデバイスは、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成するためのものであり、前記基板は前記パターン付き放射ビームを受けるためのものであり、前記チャックは、
誘電部材と、
前記チャック内に形成された温度調節流体チャネルと、
駆動電極と、
シールド電極と、を備え、前記方法は、
前記パターニングデバイス又は基板を前記駆動電極に向かって静電的に引き寄せるために、前記誘電部材にわたって前記駆動電極と前記パターニングデバイス又は基板との間に電位差を加えることと、
前記温度調節流体チャネル内の温度調節流体内の電解を減少させる又は防止するために、前記駆動電極に加えられる電圧による前記温度調節流体にわたる電場の発生を減少させる又は防止するためにシールド電極を使用することと、を含む、方法。
【請求項１４】
前記シールド電極を接地接続することをさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記駆動電極にゼロの電圧が加えられているか又は接地接続されている期間中に電流を前記誘電部材に提供するために補償電極を使用することであって、前記電流は、前記パターニングデバイス又は基板を表面に向かって静電的に引き寄せるために電圧が前記駆動電極に加えられる期間中に存在する前記電流と実質的に同じ量の熱を放散する、ことをさらに含む、請求項１３又は１４に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
[0009]  動作中にチャック内に形成される電流はチャックの抵抗加熱へと繋がり得ることも分かった。そのような加熱をチャネル内の流体によって補償することができるが、例えば、パターニングデバイス又は基板を取り外すためにチャックの電源が切られている場合、放散パワーの急激な変化を補償することは困難となり得る。
米国特許出願公開第２００９／２０７３９２号明細書はリソグラフィ装置を開示しており、このリソグラフィ装置は、パターニング構造ホルダに保持されたパターニング構造から、基板ホルダに保持された基板上へと、パターンを転写するように構成されている。装置は、物体を保持するように構成された第１物体ホルダと、第１物体ホルダへの物体の移動前及び／又は移動中の物体の温度を調節するように構成された物体温度調節装置と、を含む。物体温度調節装置は、流体ダクトシステムと電気温度調節装置とを有する第２物体ホルダを含む。
国際公開第９２／２００９３号は静電チャックアセンブリを開示しており、この静電チャックアセンブリは、上部の多層セラミック絶縁層と、多層セラミック基板上に配置された導電性の静電パターンを有する静電パターン層と、多層セラミック支持層と、その中に機械加工された背面の冷却チャネルを有するヒートシンクベースと、を含む。ヒートシンクベースは、多層セラミック支持層の底部にろう付けされている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
[0010]  上記の１つ以上の課題の少なくとも一部に取り組むことが望ましい。例えば、チャネル及び／又は流体と接触している外部装置が時間とともに劣化しない構成を提供することが望ましい。例えば、パターニングデバイス又は基板を取り外す又は取り付けるときのチャックの温度変化を回避することが望ましい。
本発明の範囲は添付の特許請求の範囲に規定されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】