【事件の表示】
　特許第３２５０５９１号「過酸化水素水溶液の濃縮精製方法」の請求項１ないし３に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第３２５０５９１号の請求項１ないし３に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第３２５０５９１号の請求項１ないし３に係る発明についての出願は、平成６年９月７日（優先権主張　平成５年９月１３日　日本）に特許出願されたものであり、平成１３年１１月１６日にその特許権の設定登録がなされ、その後、特許異議申立人中野まゆみより特許異議の申立てがなされたものである。
　
２．特許異議申立てについて
（１）本件発明
　特許第３２５０５９１号の請求項１ないし３に係る発明（以下、「本件発明１」ないし「本件発明３」という。）は、明細書の特許請求の範囲の請求項１ないし３に記載された次のとおりのものである。
「【請求項１】 過酸化水素含有水溶液を蒸発器で蒸発させ発生した蒸気及び随伴液を気液分離器で分離し、蒸気を精留塔に供給し濃縮する減圧濃縮方法において、原料過酸化水素含有水溶液を予め多孔性合成吸着樹脂に空間速度１〜５０ｈｒ−１で接触せしめて有機不純物を有機炭素として５０ｐｐｍ以下迄低減した後、蒸発器に供給することを特徴とする濃縮精製方法。
【請求項２】 多孔性合成吸着樹脂が、スチレンとジビニルベンゼンを共重合して得られる網状高分子の樹脂であることを特徴とする請求項１記載の濃縮精製方法。
【請求項３】 多孔性合成吸着樹脂が、ハロゲン化スチレン−ジビニルベンゼンの共重合体樹脂であることを特徴とする請求項１記載の濃縮精製方法。」
（２）申立ての理由の概要
　特許異議申立人中野まゆみは、下記の甲第１号証ないし甲第４号証を提出し、本件発明１ないし３は、甲第１号証ないし甲第４号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、本件発明１ないし３の特許は、取り消されるべきものである旨、主張している。
　甲第１号証：特公昭４５−３４９２６号公報
　甲第２号証：特開昭６３−１５６００４号公報
　甲第３号証：特公昭４６−２６０９５号公報
　甲第４号証：特開平４−３２５４０６号公報
（３）甲第１号証ないし甲第４号証に記載された事項
（３）−１．甲第１号証には、過酸化水素水の蒸留方法に関し、図面と共に下記の記載がある。
ア．「本発明は炭素質不純物を含んだ水溶液中に存在する過酸化水素の濃縮、並びにこれら不純物から純粋な濃縮過酸化水素を分離する安全で経済的な方法に関する。」（第１頁第１欄３４〜３７頁）
イ．「原料過酸化水素水溶液中の炭素質不純物準位は約３５０ｐｐｍ程の高さでよいが若しも残存物が連続的に取除かれないならば純化加熱器中で濃度は急速に約１００００ｐｐｍ以上に上昇する。その濃度に達すると濃縮過酸化水素溶液は極めて危険になる。」（第２頁第４欄３０〜３５行）
ウ．「アンスラキノン工程によってできた過酸化水素１０は約１５乃至３５％の過酸化水素及び約３５０ｐｐｍの炭素質不純物を含み、・・・連続的に純化加熱器１２の中央に供給される。過酸化水素水は純化加熱器１２内で約５０乃至１００ｍｍ．Ｈｇの圧力で加熱され蒸発され、そして加熱器に供給される溶液の体積の約２乃至１０％量の残存物が連続的に加熱器の底から取去られる。純化加熱器１２中で生じる蒸気は、連続的に線１８を通って第一段精溜器２０の両端の中間部に運ばれ、・・・。純化加熱器１２からの蒸気は第一段精溜塔２０の中央に導入され好ましくは約３０乃至８０ｍｍ．Ｈｇの圧力で運転される。」（第３頁第５欄２０〜３８行）
エ．「アンスラキノン方法により生成された炭素質不純物を含む過酸化水素水溶液から高い過酸化水素濃度を有し、且つ斯る炭素質不純物の有害量を含まない過酸化水素水溶液を生成する方法に於いて、上記の水溶液を加熱して水と過酸化水素の大部分を蒸発し、供給原料より一層不純物に富み、約７０％以下の過酸化水素を含む残存物を供給物容積の２乃至１０容量％の量にて、沸騰混合物から連続的に取出して炭素質不純物水準を沸騰混合物中に約１００００ｐｐｍ以下に維持し、蒸気を水蒸気と約５０乃至８０％の濃度をもつ過酸化水素水とに分離し、・・・ことを特徴とする方法。」（第５頁　特許請求の範囲）
オ．第５頁の図面には、この工程に有用な蒸留と脱取系が示されている。
（３）−２．甲第２号証には、過酸化水素水溶液中の有機不純物を除去する方法に関し、下記の記載がある。
ア．「有機不純物を含む過酸化水素水溶液を湿潤時の真比重が１．１〜１．３のハロゲン含有多孔性樹脂と接触させることを特徴とする過酸化水素水溶液中の有機不純物を除去する方法。」（特許請求の範囲第１項）
イ．「ハロゲン含有多孔性樹脂がスチレン−ジビニルベンゼン共重合体、スチレン−トリビニルベンゼン共重合体、又はビニルトルエン−ジビニルベンゼン共重合体をクロル化又はブロム化したものである特許請求の範囲第１項記載の方法。」（特許請求の範囲第８項）
（３）−３．甲第３号証には、過酸化水素中の有機不純物除去方法に関し、下記の記載がある。
ア．「現在過酸化水素の製造法は、自動酸化法が大勢を占めつつあり、・・・。しかしながら製造工程において、数種類の有機化合物を利用するため、これらがそのままの形、又は分離した形で微量混入してくることは避けられず、しかも蒸溜した製品にも極く微量の有機化合物が含まれるので特有の臭気を有しており、用途によってはこれをきらう所もある。これらの不純物の除去については、各種の方法が提出されている。」（第１頁第１欄１７〜２８行）
イ．「実施例１
　・・・粒を５０ｍｌ充填塔に詰め、ここに粗製過酸化水素を１０００ｍｌ室温において、空間速度２０で通過させ次の結果を得た。」（第２頁第３欄１９行〜同頁第４欄３行）
ウ．「有機不純物を含む過酸化水素を４０℃以下において、スチレンを重合し、ジビニルベンゼンで架橋させて得た網目状分子構造をもつ樹脂のうち、イオン交換基をもたないもので処理することにより、過酸化水素中の有機不純物を除去する方法。」（特許請求の範囲）
（３）−４．甲第４号証には、半導体技術で使用するための僅少量だけが溶解した無機および／または有機汚染物質を含有する過酸化水素を後処理する方法に関し、下記の記載がある。
ア．「半導体技術で使用するための僅少量だけが溶解した無機および／または有機汚染物質を含有する過酸化水素を後処理する方法において、蒸留により前精製された過酸化水素に、キレート化剤の僅少量を添加し、イオン交換しない重合体の吸着剤と接触させることを特徴とする、過酸化水素の後処理法。」（特許請求の範囲　請求項１）
イ．「重合体の吸着剤として、スチロール−およびジビニルベンゼンを基礎とする共重合体を使用する、請求項１記載の方法。」（特許請求の範囲　請求項５）
ウ．「本発明による方法は、殊に、既に極めて低い炭素（有機汚染物質）の含量を、過酸化水素中で極めて効果的に、更に低下させることに成功するばかりか、その上また、予期しない驚異的な方法で、金属陽イオンの含量、殊にナトリウム、マグネシウム、アルミニウム、カルシウム、鉄、亜鉛およびカリウムのような重要な元素の含量を、より一層低下させることができる」（第５頁第７欄１３〜２０行）
エ．第６頁の表１には、過酸化水素出発溶液（３回の蒸留による溜出物）のＮａ含量が３．２ｐｐｂであり、この発明による精製後の過酸化水素のＮａ含量が２．２ｐｐｂであることが記載されている。
（４）対比、判断
（４）−１．本件発明１について
　上記（３）−１で摘記した甲第１号証の記載事項からみて、甲第１号証には下記の発明が記載されている。
「炭素質不純物を含む過酸化水素水溶液を純化加熱器１２内で減圧下で加熱して水と過酸化水素の大部分を蒸発させ、該純化加熱器１２中で生じた蒸気を第一段精溜塔２０に供給し、該蒸気を減圧下で水蒸気と約５０乃至８０％の濃度をもつ過酸化水素水とに分離する、高い過酸化水素濃度を有し、且つ炭素質不純物の有害量を含まない過酸化水素水溶液を生成する方法。」
　本件発明１（前者）と上記甲第１号証に記載された発明（後者）とを対比すると、後者における「純化加熱器１２」は前者における「蒸発器」に相当し、同様に、「第一段精溜塔２０」は「精留塔」に相当する。また、後者における「高い過酸化水素濃度を有し、且つ炭素質不純物の有害量を含まない過酸化水素水溶液を生成する」ことは、結局「濃縮精製」と同義であるから、両者は、
「過酸化水素含有水溶液を蒸発器で蒸発させ発生した蒸気を精留塔に供給し濃縮する減圧濃縮精製方法。」
で一致し、下記の２点で相違する。
（ｉ）前者は、蒸発器で発生した蒸気及び随伴液を気液分離器で分離し、蒸気を精留塔に供給するものであるのに対し、後者は、蒸発器で発生した蒸気を精留塔に供給するものである点。
（ii）前者は、原料過酸化水素含有水溶液を予め多孔性合成吸着樹脂に空間速度１〜５０ｈｒ−１で接触せしめて有機不純物を有機炭素として５０ｐｐｍ以下迄低減した後、蒸発器に供給するものであるのに対し、後者はかかる特定がない点。
　そこでまず、相違点（ii）について検討する。
　まず、本件明細書に記載の如く、本件発明１は、アントラキノンの自動酸化により製造される粗過酸化水素水溶液の減圧濃縮精製方法において、気液分離器での気液分離の不完全に起因する濃縮過酸化水素水溶液の汚染を防止し、粗過酸化水素水溶液に含まれる有機物不純物や無機不純物を効果的に除去し、高純度に精製された濃縮過酸化水素水溶液を供給するするために、原料過酸化水素含有水溶液を予め多孔性合成吸着樹脂に空間速度１〜５０ｈｒ−１で接触せしめて有機不純物を有機炭素として５０ｐｐｍ以下迄低減した後、蒸発器に供給することを構成要件としたものである。
　これに対して、甲第１号証には、記載事項エからみて、沸騰混合物中の炭素質不純物を所定値以下に維持して加熱蒸発を行う旨の記載がある。しかし、記載事項イから明らかなとおり、その目的は純化加熱器１２中における残存物中の炭素不純物濃度が高くなることにより生じる危険を避け安全に加熱蒸発を行うことにあり、本件発明１の如く粗過酸化水素水溶液に含まれる有機物不純物や無機不純物を効果的に除去し、高純度に精製された濃縮過酸化水素水溶液を供給するすることではない。しかも、記載事項イ〜エからみて、上記所定値以下に維持する手段は、純化加熱器１２から残存物の所定量を連続的に取去ることであり、相違点（ii）にも挙げたとおり、原料過酸化水素含有水溶液を予め多孔性合成吸着樹脂に接触せしめて有機不純物を低減した後、蒸発器に供給することではない。
　甲第２号証には、記載事項アからみて、有機不純物を含む過酸化水素水溶液をハロゲン含有多孔質樹脂と接触させることにより過酸化水素水溶液中の有機不純物を除去することが記載されている。しかし、上記の樹脂と接触させて有機不純物を除去した過酸化水素水溶液を、粗過酸化水素水溶液の濃縮精製における蒸発器に供給することは記載も示唆もされていない。
　また、甲第３号証には、記載事項イ及びウからみて、有機不純物を含む過酸化水素を、スチレンを重合し、ジビニルベンゼンで架橋させて得た網目状分子構造をもつ樹脂のうち、イオン交換基をもたないものに、空間速度２０で接触させることにより、過酸化水素中の有機不純物を除去することが記載されている。しかし、記載事項アによれば、上記の樹脂と接触させる有機不純物を含む過酸化水素水溶液は、蒸溜した製品であると認められ、甲第３号証には、上記の樹脂と接触させて有機不純物を除去した過酸化水素水溶液を、粗過酸化水素水溶液の濃縮精製における蒸発器に供給することは記載も示唆もされていない。
　さらに、甲第４号証には、記載事項アからみて、僅少量だけが溶解した無機および／または有機汚染物質を含有する過酸化水素を後処理する方法において、蒸留により前精製された過酸化水素にキレート化剤の僅少量を添加し、イオン交換しない重合体の吸着剤と接触させることが記載されている。しかし、この記載事項から明らかなとおり、キレート化剤及び吸着剤で処理される過酸化水素は蒸留により前精製されたものであり、記載事項ウ及びエで示される、Ｎａ含量を低下させることができるという効果も、蒸留により前精製された過酸化水素をキレート化剤及び吸着剤で処理したことにより奏されるものである。
　してみると、甲第２号証ないし甲第４号証のいずれにも、原料過酸化水素含有水溶液を予め多孔性合成吸着樹脂に空間速度１〜５０ｈｒ−１で接触せしめて有機不純物を有機炭素として５０ｐｐｍ以下迄低減した後、蒸発器に供給するという、相違点（ii）にかかる本件発明１の構成は記載されておらず、かかる構成を示唆する記載もない。
　そして、本件発明１は、過酸化水素水溶液を蒸発器で蒸発させ発生した蒸気及び随伴液を気液分離器で分離し、蒸気を精留塔に供給し濃縮する減圧濃縮精製方法において、上記相違点（ii）にかかる本件発明１の構成を採用したことにより、粗過酸化水素水溶液に含まれる有機物不純物やナトリウムに代表される無機不純物を効果的に除去し、高純度に精製された濃縮過酸化水素水溶液を供給することができるという本件明細書に記載された顕著な効果を奏するものである。
　したがって、相違点（ｉ）について検討するまでもなく、本件発明１は、甲第１号証ないし甲第４号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとは云えない。
（４）−２．本件発明２及び３について
　本件発明２及び３は、いずれも請求項１を引用したものであるから、少なくとも上記（４）−１で述べた点において甲第１号証に記載された発明と相違する。
　そして、相違点についての判断は上記（４）−１で述べたとおりであるから、本件発明１と同様、本件発明２及び３も、甲第１号証ないし甲第４号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるとは云えない。
（５）むすび
　以上のとおりであるから、特許異議の申立ての理由及び証拠方法によっては本件発明１ないし３についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明１ないし３についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　したがって、本件発明１ないし３についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年１１月２５日（２００２．１１．２５）