(57)【要約】【課題】省スペース化を図ることのできる物品処理装置を提供すること。【解決手段】本発明の物品処理装置は、循環経路を有し、給排領域４１で受け取った複数の容器１００を予め定められた３個毎に区分されるグループの単位として搬送するとともに、成膜処理を終えた容器１００を給排領域４１まで搬送するリニア搬送部４０と、グループを構成する３個に対応する成膜チャンバ６４〜６６をそれぞれが有し、かつ成膜を施す３台の第一成膜ユニット６１〜第三成膜ユニット６３を有する処理部６０と、処理前の容器１００を循環経路から処理部６０に供給し、成膜処理を終えた容器１００を処理部６０から循環経路に排出する第二移載部５０と、を備える。リニア搬送部４０は、容器１００を、その間隔を変更しながら循環経路を搬送する。【選択図】図１
2018127352.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
循環経路を有し、給排領域で受け取った複数の処理対象物を予め定められたｎ個の単位のグループとして前記循環経路を搬送するとともに、所定の第一処理を終えた前記処理対象物を前記給排領域まで搬送する搬送部と、
前記循環経路に沿って設けられ、前記グループを構成する前記ｎ個に対応する数の前記処理対象物に対して、それぞれが前記第一処理を施す複数の処理ユニットを有する第一処理部と、
処理前の前記処理対象物を前記循環経路から前記第一処理部に供給し、前記所定の処理を終えた前記処理対象物を前記第一処理部から前記循環経路に排出する移載部と、を備え、
前記搬送部は、
前記処理対象物を、その間隔を変更しながら前記循環経路を搬送する、
ことを特徴とする物品処理装置。
【請求項２】
前記搬送部は、
前記給排領域で受け取った、前記グループに属する前記処理対象物を、その間隔を広げて前記移載部に向けて搬送し、
前記移載部から受け取った、前記第一処理を終えた前記グループに属する前記処理対象物を、その間隔を狭くして前記給排領域まで搬送する、
請求項１に記載の物品処理装置。
【請求項３】
前記移載部は、
複数の前記処理ユニットのそれぞれに対応する複数の移載機を備え、
複数の前記移載機のそれぞれは、
前記搬送部と前記第一処理部との間に設けられ、前記搬送部を搬送される前記処理対象物を、対応する前記処理ユニットに移載する、
請求項１に記載の物品処理装置。
【請求項４】
前記搬送部は、
前記循環経路に沿ってそれぞれが独立して走行し、前記処理対象物を支持する複数の移動子と、
それぞれの前記移動子に設けられる永久磁石と、
前記循環経路に沿って設けられる電磁コイルと、を備えるリニア搬送装置として機能する、
請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の物品処理装置。
【請求項５】
前記第一処理部は、
前記処理対象物の搬送方向の下流側から順に設けられる第一処理ユニットと、前記第一処理ユニットに隣接する第二処理ユニットと、前記第二処理ユニットに隣接する第三処理ユニットと、を備え、
前記移載部は、
前記第一処理ユニットに対応する第一移載機と、前記第二処理ユニットに対応する第二移載機と、前記第三処理ユニットに対応する第三移載機と、を備え、
前記搬送部は、
前記給排領域で受け取ったｍ（ただし、ｍ＞ｎ）個の前記処理対象物を、ｎ個毎に分配して、前記第一移載機、第二移載機及び前記第三移載機のうちの二台に搬送する、
請求項１〜請求項４のいずれか一項に記載の物品処理装置。
【請求項６】
前記第一処理部は、
前記第一処理ユニットと前記第二処理ユニットの間、及び、前記第二処理ユニットと前記第三処理ユニットの間に、少なくとも、ｎ個分の前記処理対象物に相当する間隔が設けられ、
前記搬送部は、
前記第一処理ユニットと前記第二処理ユニットの間の前記間隔に対応する第一バッファ領域と、前記第二処理ユニットと前記第三処理ユニットの間の前記間隔に対応する第二バッファ領域と、を備える、
請求項５に記載の物品処理装置。
【請求項７】
前記搬送部は、
前記第一処理ユニットで前記第一処理が施される前の前記処理対象物を、前記第二バッファ領域で所定時間だけ待機させた後に、前記第一移載機まで搬送し、
前記第三処理ユニットで前記第一処理が施された前記処理対象物を、前記第一バッファ領域で前記所定時間だけ待機させた後に、前記第一処理ユニットに対応する領域を通過させ前記給排領域に搬送する、
請求項６に記載の物品処理装置。
【請求項８】
前記搬送部は、
前記第一処理ユニットに対応する前記循環経路の部分を迂回して、前記処理対象物を前記給排領域に向けて搬送する第一バイパス径路と、
前記第三処理ユニットに対応する前記循環経路の部分を迂回して、前記処理対象物を前記第一処理ユニットに向けて搬送する第二バイパス径路と、を備える、
請求項５に記載の物品処理装置。
【請求項９】
前記搬送部は、
前記第一処理ユニットで前記第一処理が施される前の前記処理対象物を、前記第二バイパス経路を通過させた後に、前記第一移載機まで搬送し、
前記第三処理ユニットで前記第一処理が施された前記処理対象物を、前記第一バイパス経路を通過させた後に、前記第一処理ユニットに対応する領域を通過させて前記給排領域に搬送する、
請求項８に記載の物品処理装置。
【請求項１０】
前記循環経路は、
前記給排領域から前記第一処理部を通過するまでの往路と、
前記第一処理部を通過してから前記給排領域までの復路と、を備え、
前記復路は、前記第一処理部で前記第一処理が施された前記処理対象物に、前記第一処理とは異なる第二処理を施す第二処理部を備える、
請求項１〜請求項９のいずれか一項に記載の物品処理装置。
【請求項１１】
前記処理対象物は、飲料を収容する樹脂製の容器であり、
前記第一処理部は、前記容器の内面にバリア膜を成膜し、
前記搬送部は、前記容器を倒立の状態で搬送し、
前記移載部は、
前記バリア膜の成膜がなされる前記容器を倒立から反転して正立の状態として、前記搬送部から前記第一処理部に移載し、
前記第一処理部で前記バリア膜の成膜がなされた前記容器を正立から反転して倒立の状態として、前記第一処理部から前記搬送部に移載し、
前記第二処理部は、前記バリア膜が成膜され、倒立の状態で搬送される前記容器の内面に圧縮エアを吹き付ける、
請求項１０に記載の物品処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、複数の容器の内面にバリア膜を成膜する処理部に当該容器を搬送してから処理した後に容器を処理部から排出し、さらに搬送する物品の処理装置及び処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラスチック容器等の容器、例えばペットボトルは、外部からの酸素の透過、内部（例えば炭酸飲料水）からの二酸化炭素の透過を防止するためにその内面にバリア膜、例えばＤＬＣ（Diamond Like Carbon）のような炭素を主成分とするバリア膜やＳｉを主成分の一つとするシリカ膜などをコーティングすることが行われている。
【０００３】
バッチ式の成膜装置により容器にバリア膜を成膜する際に、成膜装置への容器の搬入及び排出を行う物品処理装置が、特許文献１及び特許文献２に開示されている。特許文献１及び特許文献２に開示される処理装置は、連続的に搬送される容器から、割り出される容器の個数をｎ個とするが、成膜処理を行う処理部は２ｎ個分だけ用意する。２ｎ個の処理部を第一処理部と第二処理部に分けて、ｎ個の容器を第一処理部と第二処理部で交互に処理する。そして、処理により生じる待機の時間を利用して処理がなされていない処理部に対して容器の供給及び排出を行う。そうすることで、単位時間当たりに処理する個数を維持しながら、供給及び排出を行う給排部はｎ個分の構成で足りるので、この給排部を含む搬送装置の設置スペースを小さくできるという特徴を有している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第５４８９９０５号公報
【特許文献２】特許第５５７４８６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、特許文献１及び特許文献２の特徴部分を享受しながら、さらなる省スペース化を図ることのできる物品処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の物品処理装置は、循環経路を有し、給排領域で受け取った複数の処理対象物を予め定められたｎ個の単位のグループとして循環経路を搬送するとともに、所定の第一処理を終えた処理対象物を給排領域まで搬送する搬送部と、循環経路に沿って設けられ、グループを構成するｎ個に対応する数の処理対象物に対して、それぞれが第一処理を施す複数の処理ユニットを有する第一処理部と、処理前の処理対象物を循環経路から第一処理部に供給し、所定の処理を終えた処理対象物を第一処理部から循環経路に排出する移載部と、を備え、搬送部が、処理対象物を、その間隔を変更しながら循環経路を搬送する、ことを特徴とする。
【０００７】
本発明の物品処理装置は、搬送部が間隔を変更しながら処理対象物を搬送できるので、狭い間隔で足りる領域では処理対象物の間隔を狭くし、広い間隔が必要に領域では処理対象物の間隔を広くする。つまり、処理対象物の間隔を広くする必要がない領域では、間隔を狭くできるので、間隔が一定となるコンベア搬送に比べて、循環経路からなる搬送経路を短くできる。したがって、本発明によれば物品処理装置の省スペース化を図ることができる。
【０００８】
本発明における搬送部は、給排領域で受け取った、グループに属する処理対象物を、その間隔を広げて移載部に向けて搬送し、移載部から受け取った、第一処理を終えたグループに属する処理対象物を、その間隔を狭くして給排領域まで搬送する、ことができる。
処理部における処理対象物の間隔が広い場合に、あらかじめ間隔を広くしておくことで、移載部に間隔を広狭する機構を設けるのを省くことができる。
【０００９】
本発明において、移載部は、複数の処理ユニットのそれぞれに対応する複数の移載機を備え、複数の移載機のそれぞれは、搬送部と第一処理部との間に設けられ、搬送部を搬送される処理対象物を、対応する処理ユニットに移載する、ことができる。
処理ユニットのそれぞれに対応する移載機を備えることにより、移載機が移動する必要がないので、一連の処理全体に要する時間を短縮できる。
【００１０】
本発明において、搬送部は、循環経路に沿ってそれぞれが独立して走行し、処理対象物を支持する複数の移動子と、それぞれの移動子に設けられたる永久磁石と、循環経路に沿って設けられる電磁コイルと、を備えるリニア搬送装置として機能する、ことが好ましい。
リニア搬送装置を用いることにより、処理対象物の間隔の変更を高精度で行うことができる。
【００１１】
本発明において、第一処理部は、処理対象物の搬送方向の下流側に設けられる第一処理ユニットと、第一処理ユニットに隣接する第二処理ユニットと、第二処理ユニットに隣接する第三処理ユニットと、を備え、移載部は、第一処理ユニットに対応する第一移載機と、第二処理ユニットに対応する第二移載機と、第三処理ユニットに対応する第三移載機と、を備えることができる。この場合の搬送部は、給排領域で受け取ったｍ（ただし、ｍ＞ｎ）個の処理対象物を、ｎ個毎に分配して、第一移載機、第二移載機及び第三移載機のうちの二台に搬送する、ことができる。
このように、第一処理ユニット〜第三処理ユニットと３台の処理ユニットを設けるとともに、ｍ個の処理対象物をｎ個毎に分配することにより、高い処理能力の物品処理装置を実現できる。
【００１２】
本発明における搬送部において、第一処理部は、第一処理ユニットと第二処理ユニットの間、及び、第二処理ユニットと第三処理ユニットの間に、少なくとも、ｎ個分の処理対象物に相当する間隔が設けられ、搬送部は、第一処理ユニットと第二処理ユニットの間の間隔に対応する第一バッファ領域と、第二処理ユニットと第三処理ユニットの間の間隔に対応する第二バッファ領域と、を備える、ことができる。
このように、第一バッファ領域と第二バッファ領域を設けることにより、第一処理ユニット６１〜第三処理ユニットと３台の処理ユニットを用いて、処理対象物の連続的な処理を実現できる。
具体的には、搬送部は、第一処理ユニットで第一処理が施される前の処理対象物を、第二バッファ領域で所定時間だけ待機させた後に、第一移載機まで搬送し、第三処理ユニットで第一処理が施された処理対象物を、第一バッファ領域で所定時間だけ待機させた後に、第一処理ユニットに対応する領域を通過させて給排領域に搬送すればよい。
【００１３】
本発明における搬送部において、第一処理ユニットに対応する循環経路の部分を迂回して、処理対象物を給排領域に向けて搬送する第一バイパス径路と、第三処理ユニットに対応する循環経路の部分を迂回して、処理対象物を第一処理ユニットに向けて搬送する第二バイパス径路と、を備えることができる。
このように、第一バイパス径路と第二バイパス径路を設けることによっても、第一処理ユニット〜第三処理ユニットと３台の処理ユニットを用いて、処理対象物の連続的な処理を実現できる。
具体的には、搬送部は、第一処理ユニットで第一処理が施される前の処理対象物を、第二バイパス経路を通過させた後に、第一移載機まで搬送し、第三処理ユニットで第一処理が施された処理対象物を、第一バイパス経路を通過させた後に、第一処理ユニットに対応する領域を通過させて給排領域に搬送すればよい。
【００１４】
本発明における搬送部において、循環経路は、給排領域から第一処理部を通過するまでの往路と、第一処理部を通過してから給排領域までの復路と、を備え、復路は、第一処理部で第一処理が施された処理対象物に、第一処理とは異なる第二処理を施す第二処理部を備える、ことができる。
そうすることにより、循環経路を搬送される過程で、処理対象物に異なる二種類の処理を順番に行うことができる、省スペースな物品処理装置を実現できる。
【００１５】
この第二処理部を備える場合において、処理対象物は、飲料を収容する樹脂製の容器であり、第一処理部は、容器の内面にバリア膜を成膜し、搬送部は、容器を倒立の状態で搬送し、移載部は、バリア膜の成膜がなされる容器を倒立から反転して正立の状態として、搬送部から第一処理部に移載し、第一処理部でバリア膜の成膜がなされた容器を正立から反転して倒立の状態として、第一処理部から搬送部に移載し、第二処理部は、バリア膜が成膜され、倒立の状態で搬送される容器の内面に圧縮エアを吹き付ける、ことができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の物品処理装置によれば、搬送部が間隔を変更しながら処理対象物を搬送できるので、処理対象物の間隔を広くする必要がない領域では、間隔を狭くできるので、間隔が一定となるコンベア搬送に比べて、循環経路からなる搬送経路を短くできる。したがって、本発明によれば物品処理装置の省スペース化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の第一実施形態に係るバリア膜形成装置の概略構成を示す平面図である。
【図２】図１のバリア膜形成装置の動作を示す図である。
【図３】図２に続く、バリア膜形成装置の動作を示す図である。
【図４】図３に続く、バリア膜形成装置の動作を示す図である。
【図５】図４に続く、バリア膜形成装置の動作を示す図である。
【図６】図５に続く、バリア膜形成装置の動作を示す図である。
【図７】図６に続く、バリア膜形成装置の動作を示す図である。
【図８】図７に続く、バリア膜形成装置の動作を示す図である。
【図９】第一実施形態にかかるバリア膜形成装置における第一成膜ユニット、第二成膜ユニット及び第三成膜ユニットの動作を時系列的に対比して示す図である。
【図１０】本発明の第２実施形態に係るバリア膜形成装置の概略構成を示す平面図である。
【図１１】図１０のバリア膜形成装置の動作を示す図である。
【図１２】図１１に続く、バリア膜形成装置の動作を示す図である。
【図１３】図１２に続く、バリア膜形成装置の動作を示す図である。
【図１４】図１３に続く、バリア膜形成装置の動作を示す図である。
【図１５】第２実施形態にかかるバリア膜形成装置における第一成膜ユニット、第二成膜ユニット及び第三成膜ユニットの動作を時系列的に対比して示す図である。
【図１６】本発明の第三実施形態に係るバリア膜形成装置の動作を示す図である。
【図１７】図１６のバリア膜形成装置の動作を示す図である。
【図１８】図１７に続く、バリア膜形成装置の動作を示す図である。
【図１９】図１８に続く、バリア膜形成装置の動作を示す図である。
【図２０】図１９に続く、バリア膜形成装置の動作を示す図である。
【図２１】本実施形態における第二移送部の一例を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、添付図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。
〔第一実施形態〕
本実施形態は、図１に示すバリア膜形成装置１が、以下のように動作することで、処理対象物としての容器１００の内面にＤＬＣ（Diamond Like Carbon）膜を成膜することを例として説明する。容器１００は、例えば飲料が充填される樹脂製のボトルが該当する。
コンベア装置からなる給排コンベア２０を搬送されてきた容器１００は、一度の供給又は排出の対象となる個数２ｎ（ｍ）、例えば６個の単位でリニア搬送部４０に受け渡される。なお、ここでは容器１００が給排コンベア２０を一列で搬送される例を示しているが、本実施形態は、複数列、例えば二列で搬送される容器１００を対象にすることもできる。
リニア搬送部４０に移送された容器１００は、リニア搬送部４０を搬送方向Ｆに搬送される過程で成膜が一緒になされる個数であるｎ個ごとに区分されて、処理部６０に供給される。
処理部６０に供給された容器１００は、その内面にＤＬＣ膜が形成される。処理部６０は、それぞれが独立して成膜することができる第一成膜ユニット６１、第二成膜ユニット６２及び第三成膜ユニット６３を備えている。
ＤＬＣ膜が形成された容器１００は、リニア搬送部４０に受け渡され、リニア搬送部４０を搬送される過程で、エアクリーナ７０において内部に圧縮エアが吹き付けられることで、内部の異物を取り除く除塵処理が行われる。
内部の除塵が済んだ容器１００は、リニア搬送部４０の給排領域４１まで搬送されてから、給排コンベア２０に排出される。
バリア膜形成装置１は、以上の動作を司る制御部８０を備えている。
バリア膜形成装置１において、容器１００が搬送される向きを基準にして上流及び下流が定義されるものとする。また、リニア搬送部４０において、給排領域４１において容器１００を受け取ってから処理部６０を通過するまでを往路と定義し、処理部６０を通過してから給排領域４１までを復路と定義する。
【００１９】
［給排コンベア２０］
給排コンベア２０は、その上流側に設けられる容器１００の供給元から容器１００を受け取り、給排領域２１まで容器１００を連続的に搬送する。また、給排コンベア２０は、処理部６０におけるＤＬＣ膜の成膜処理及びエアクリーナ７０における除塵処理が施された容器１００を給排領域２１で受け取り、下流に向けて搬送する。それぞれの容器１００は、相前後する容器１００と隙間がないように接しながら、給排コンベア２０により搬送される。本実施形態は、容器１００は正立した状態で給排コンベア２０を搬送される。なお、正立とは、容器１００の飲み口が上を向いている状態をいい、倒立とは、正立と逆に飲み口が下を向いている状態をいう。
なお、ここでは容器１００のリニア搬送部４０への供給及びリニア搬送部４０からの排出の両者を給排領域２１で行うことにしているが、供給領域及び排出領域を個別に設けてもよく、この場合も両者を合わせて給排領域２１を構成する。後述する給排領域４１も同様である。
【００２０】
［第一移載部３０］
バリア膜形成装置１は、給排コンベア２０からリニア搬送部４０へ容器１００を移載するとともに、リニア搬送部４０から給排コンベア２０へ容器１００を移載する第一移載部３０を備えている。
第一移載部３０は、図１に示すように、容器１００を把持する２ｎ（ｍ）個（６個）のグリッパ３１を備えている。第一移載部３０は、グリッパ３１を、容器１００が給排コンベア２０又はリニア搬送部４０により搬送される方向に対して直交する方向に進退移動させる機構を備えている。また、第一移載部３０は、グリッパ３１で把持された容器１００の上下を反転させながら、給排コンベア２０からリニア搬送部４０への移載及びその逆の移載を行う。そのために、第一移載部３０は、グリッパ３１を水平方向Ｈに平行な回転軸Ｃ１を中心にして回転する。また、第一移載部３０は、容器１００の左右を反転させながら、給排コンベア２０からリニア搬送部４０への移載及びその逆の移載を行う。そのために、第一移載部３０は、グリッパ３１を水平方向Ｈに平行な他の回転軸Ｃ３を中心にして回転する。本実施形態の場合、容器１００は給排コンベア２０を正立姿勢で搬送されるので、第一移載部３０でリニア搬送部４０に移載される容器１００は倒立へと上下が反転される。また、容器１００は給排コンベア２０を搬送されてきた順番とは逆の順番になって、リニア搬送部４０に移載される。
【００２１】
第一移載部３０は、給排コンベア２０で搬送される容器１００の間隔を変えることなく、つまり隙間なく接触した密な状態を維持しながら、給排コンベア２０からリニア搬送部４０に容器１０を移載する。リニア搬送部４０から給排コンベア２０に容器１００を移載する際にも、容器１００は密な状態が維持される。
【００２２】
［リニア搬送部４０］
リニア搬送部４０は、給排領域４１において第一移載部３０から移載された処理前の容器１００を処理部６０まで搬送し、また、ＤＬＣ膜の成膜処理を終えて、処理部６０から排出された容器１００を給排領域４１まで搬送する。
リニア搬送部４０は、図１に示すように、無端状の循環経路をなすガイドレール４３と、このガイドレール４３に沿って移動される複数の移動子４５と、それぞれの移動子４５に取り付けられ、容器１００を把持するグリッパ（図示を省略）と、移動子４５をガイドレール４３に沿って移動させるリニアモータ４７とを備えている。なお、移動子４５は一部のみが図１に示されている。
ガイドレール４３は、トラック形状に形成されており、互いに対向する直線部４３Ａ，４３Ｂと、直線部４３Ａと直線部４３Ｂの両端部を繋ぐ湾曲部４３Ｃ，４３Ｄを備えている。ガイドレール４３は、直線部４３Ａが給排コンベア２０の側に設けられ、直線部４３Ｂが処理部６０の側に設けられる。給排領域４１は、直線部４３Ａの側に設けられる。
【００２３】
リニアモータ４７は、それぞれの移動子４５に固定される永久磁石４８と、ガイドレール４３の長手方向に沿って等ピッチで配置された多数の電磁コイル４９と、を備える、いわゆるムービングマグネット方式のリニアモータを構成する。
【００２４】
リニアモータ４７は、それぞれの電磁コイル４９への電流の供給と停止が、制御部８０の指示により、それぞれの移動子４５の移動と停止を独立して制御できる。したがって、リニア搬送部４０は、隣接する移動子４５の間隔を変えることで、搬送される容器１００の間隔を変えることができる。具体的には、第一移載部３０から移載された時点では、容器１００は隣接する容器１００と接触しているが、処理部６０の第一成膜ユニット６１、第二成膜ユニット６２及び第三成膜ユニット６３のそれぞれに受け渡される時点では、隣接する容器１００の間隔が拡げられる。このように容器１００の間隔を拡げるのは、密に状態よりも広い成膜チャンバ６４〜６６の間隔に合わせるためである。
【００２５】
［第二移載部５０］
バリア膜形成装置１は、リニア搬送部４０から処理部６０の第一成膜ユニット６１、第二成膜ユニット６２及び第三成膜ユニット６３へ容器１００を移載するとともに、バリア膜形成装置１に示すように、第一成膜ユニット６１、第二成膜ユニット６２及び第三成膜ユニット６３からリニア搬送部４０へ容器１００を移載する第二移載部５０を備える。第二移載部５０は、第一成膜ユニット６１、第二成膜ユニット６２及び第三成膜ユニット６３のそれぞれに対応して、第一移載機５１、第二移載機５２及び第三移載機５３を備えている。
【００２６】
第一移載機５１、第二移載機５２及び第三移載機５３のそれぞれは、図１に示すように、容器１００を把持するｎ個（３個）のグリッパ５４，５５を備えている。グリッパ５４とグリッパ５５は、一方がリニア搬送部４０に対向している時に、他方が処理部６０に対向するように、支持アーム５７の両端に対をなすように配置される。第二移載部５０は、グリッパ５４，５５を、容器１００がリニア搬送部４０又は処理部６０に対して進退移動させる機構を備えている。また、第二移載部５０は、図２１に示すように、グリッパ５４，５５のそれぞれで把持された容器１００の上下を反転させながら、リニア搬送部４０から処理部６０への移載及びその逆の移載を同時に行うことができる。この移載は、水平方向Ｈに平行な回転軸Ｃ２を中心にしてグリッパ５４とグリッパ５５を支持する支持アーム５７を回転させることにより行うことができる。
本実施形態の場合、容器１００はリニア搬送部４０を倒立して搬送されるので、第二移載部５０で処理部６０に向けて移載される容器１００は正立へと上下が反転され、第二移載部５０で処理部６０からリニア搬送部４０に向けて移載される容器１００は倒立へと上下が反転される。
【００２７】
容器１００の間隔の変更は、リニア搬送部４０にて行われるので、第二移載部５０は、リニア搬送部４０で搬送される容器１００の間隔を変えることなく、つまり所定の間隔を維持しながら、リニア搬送部４０から処理部６０に容器１００を移載する。処理部６０からリニア搬送部４０に容器１００を移載する際にも、容器１００の間隔は維持される。
【００２８】
［処理部６０］
処理部６０は、第二移載部５０から供給された容器１００の内面にＤＬＣ膜を成膜する。処理部６０は、本発明の第一処理部に相当する。
処理部６０は、図１に示すように、第一成膜ユニット６１、第二成膜ユニット６２及び第三成膜ユニット６３を備えている。
第一成膜ユニット６１〜第三成膜ユニット６３は、基本的には同じ構成を有しており、それぞれが処理要素としての３つの成膜チャンバ６４，６５，６６を備えている。容器１００は、これら成膜チャンバ６４〜６６の中に正立姿勢で収容された状態でＤＬＣ膜が形成される。
第一成膜ユニット６１〜第三成膜ユニット６３は、リニア搬送部４０の直線部４３Ｂによる容器１００の搬送方向Ｆに平行に直列に並んで配置されている。容器１００は、ｎ個（３個）毎に、第一成膜ユニット６１〜第三成膜ユニット６３に順番に供給され、ＤＬＣ膜が形成される。
【００２９】
直列に配置される第一成膜ユニット６１〜第三成膜ユニット６３は、第一成膜ユニット６１と第二成膜ユニット６２の間、及び、第二成膜ユニット６２と第三成膜ユニット６３の間が、間隔Ｌ１だけ隙間が空けられている。間隔Ｌ１は、容器１００の直径をＤとすると、Ｌ１≧３Ｄの関係を有している。つまり、間隔Ｌ１は、少なくとも容器１００の３個分以上の寸法を有している。この間隔Ｌ１を設けることにより、リニア搬送部４０の直線部４３Ｂに間隔Ｌ１に対応する第一バッファ領域４３Ｅと第二バッファ領域４３Ｆを生み出す。
【００３０】
処理部６０は、容器１００が成膜チャンバ６４〜６６に収容された時に容器１００を取り囲む外部電極、外部電極に収容される容器１００に排気管側から挿入され、接地側に接続される内部電極、内部電極に媒質ガスを供給するためのガス供給手段、外部電極に接続される高周波電源等を備えているが、これらの構成は周知であるため、ここでの説明は省略する。なお、ＤＬＣ膜の成膜は、概略、以下の手順で行われる。
（１）成膜チャンバ６４〜６６内に容器１００を供給する。
（２）チャンバ内を真空引きする。
（３）容器１００内部に膜の原料となる例えばアセチレンガスを供給する。
（４）高周波のＲＦ（Radio Frequency：13.56MHz）電力にてアセチレンガスをプラズマ化して、容器１００内面に１０〜３０ｎｍの薄膜（ＤＬＣ膜）を蒸着する。
（５）成膜チャンバ６４〜６６を大気開放した後、容器１００を取り出す。
【００３１】
［エアクリーナ７０］
エアクリーナ７０は、ＤＬＣ膜が形成された容器１００の内面に圧縮エアを吹き付けることで、付着している異物、主に炭素化合物の粒子を除去する。エアクリーナ７０は、本発明の第二処理部に相当する。
本実施形態のエアクリーナ７０は、図１に示すように、ＤＬＣ膜の成膜を終えた容器１００が搬送されるリニア搬送部４０の直線部４３Ａにおける復路に設けられている。リニア搬送部４０を容器１００が倒立状態で搬送されるのを利用して、直線部４３Ａにエアクリーナ７０を設け、成膜を終えた容器１００がリニア搬送部４０の給排領域４１に搬送されるまでの間で、エア吹き付けによる除塵を行う。
エアクリーナ７０は、異物除去の完全性を期すために、除塵を第一除塵ステージ７１と第二除塵ステージ７２の２段階で行う。それぞれの除塵の仕方は任意であって、同内容の除塵を繰り返してもよいし、異なる内容の除塵を行ってもよい。もちろん、本実施形態は、除塵を一段階とすることを許容する。
【００３２】
［バリア膜形成装置１の処理手順］
以下、給排コンベア２０から供給される容器１００にＤＬＣ膜を形成し、その後にエアクリーナ７０による除塵処理を経るまでの処理手順を図２〜図８を参照して説明する。この処理手順は、制御部８０からの指示により実行される。なお、図２〜図８において、一部の要素及び符号の記載を省略しているので、必要に応じて図１を参照願いたい。
【００３３】
図２（ａ）及び図２（ｂ）に示すように、給排コンベア２０により給排領域２１まで搬送された第一群Ｇ１の容器１００（Ｎｏ．１〜６）は、第一移載部３０によってリニア搬送部４０に移送される。この移送により、給排コンベア２０において正立姿勢であった容器１００は倒立姿勢に上下が反転される。本実施形態において、容器１００は６個（２ｎ個＝ｍ個）の単位で給排コンベア２０からリニア搬送部４０に移送される。なお、容器１００を示す円の中の数字は、連続的に搬送される容器１００の先頭からの順番を示している。
【００３４】
リニア搬送部４０に移送された第一群Ｇ１の容器１００は、図３（ａ）に示すように、リニア搬送部４０により、先頭から３個（ｎ個）の容器１００（Ｎｏ．１〜３）が第二バッファ領域４３Ｆまで搬送される。このとき、先頭の３個の容器１００（Ｎｏ．１〜３）は隙間なく密着しているが、後続の３個の容器１００（Ｎｏ．４〜６）は相互に間隔が空けられている。この後続の３個（ｎ個）の容器１００（Ｎｏ．４〜６）は、第三移載機５３に正対し、第三成膜ユニット６３への移送に備えて待機している。
後続の第二群Ｇ２の容器１００（Ｎｏ.７〜１２）は給排コンベア２０の給排領域２１まで搬送されている。
第三移載機５３に正対している容器１００（Ｎｏ.４〜６）は、図３（ｂ）に示すように、第三移載機５３のグリッパ５４に把持される一方、後続の容器１００（Ｎｏ.７〜１２）は、容器１００（Ｎｏ.４〜６）の直後まで搬送されている。容器１００（Ｎｏ.４〜６）は、倒立姿勢をなしている。また、容器１００（Ｎｏ.１〜３）は第二バッファ領域４３Ｆで待機している。第二バッファ領域４３Ｆで待機する容器１００（Ｎｏ.１〜３）は、第一成膜ユニット６１で成膜処理がなされる。
【００３５】
グリッパ５４に把持された容器１００（Ｎｏ.４〜６）は、第三移載機５３の支持アーム５７を１８０度だけ回転させるとともに、グリッパ５４を第三成膜ユニット６３に向けて前進させることにより、図４（ａ）に示すように、第三成膜ユニット６３の開放されている成膜チャンバ６６に装填される。第三成膜ユニット６３は、成膜チャンバ６６を密閉した後に、図４（ｂ）に示すように真空引きからＤＬＣ膜の成膜処理を開始する。第一移載機５１、第二移載機５２による第一成膜ユニット６１、第二成膜ユニット６２への装填から成膜開始までの手順も同様である。なお、以降の図面において、第一成膜ユニット６１〜第三成膜ユニット６３に付記される「真空引き」などの表記は、当該成膜ユニットの成膜状態を示している。
【００３６】
図４（ａ）に示すように、容器１００（Ｎｏ.１〜３）は、容器１００（Ｎｏ.４〜６）の成膜チャンバ６６への装填と同期して、第一移載機５１に正対する位置まで搬送されると、図４（ｂ）に示すように、容器１００（Ｎｏ.１〜３）は、第一移載機５１により姿勢を反転された後に、第一成膜ユニット６１の成膜チャンバ６４に装填される。第一成膜ユニット６１は、成膜チャンバ６４を密閉した後に、上述した手順でＤＬＣ膜の成膜処理を開始する。
このとき、第二群Ｇ２の先頭から３個の容器１００（Ｎｏ.７〜９）は、図４（ｂ）に示すように、第二成膜ユニット６２に対応する第二移載機５２に正対する位置まで搬送されている。
【００３７】
次に、図５（ａ）に示すように、容器１００（Ｎｏ.７〜９）は第二成膜ユニット６２の成膜チャンバ６５に装填される。この時、第二群Ｇ２の残りの３個の容器１００（Ｎｏ.１０〜１２）は第二バッファ領域４３Ｆで待機し、さらに後続の第三群Ｇ３の中の先頭の３個の容器１００（Ｎｏ.１３〜１５）は、第三移載機５３に正対する位置まで搬送されている。
【００３８】
最も先にＤＬＣの成膜処理を開始した容器１００（Ｎｏ.４〜６）は、所定の放電時間が経過すると、第三成膜ユニット６３の成膜チャンバ６６が大気開放された後に、図５（ｂ）に示すように、第三移載機５３のグリッパ５４で把持される。これと同期して、待機していた容器１００（Ｎｏ.１３〜１５）は、第三移載機５３のグリッパ５５で把持される。
【００３９】
次いで、第三移載機５３は支持アーム５７を１８０度だけ回転させる。そうすると、成膜処理を終えた容器１００（Ｎｏ.４〜６）は給排コンベア２０に移載され、後続の容器１００（Ｎｏ.１３〜１５）は第三成膜ユニット６３に移載される。グリッパ５４及びグリッパ５５を前進させることにより、図６（ａ）に示すように、容器１００（Ｎｏ.４〜６）はリニア搬送部４０に受け渡されるのに同期して、後続の容器１００（Ｎｏ.１３〜１５）は第三成膜ユニット６３の成膜チャンバ６６に装填され、その後、成膜処理が開始される。
第二群Ｇ２に属する容器１００（Ｎｏ.１０〜１２）は、第一成膜ユニット６１に対応する第一移載機５１に正対する位置まで搬送されている。
【００４０】
次に、２番目に成膜処理を開始した容器１００（Ｎｏ.１〜３）は、所定の放電時間が経過すると、第一成膜ユニット６１の成膜チャンバ６４が大気開放された後に、図６（ｂ）に示すように、第一移載機５１のグリッパ５４で把持される。これと同期して、待機していた容器１００（Ｎｏ.１０〜１２）は、第一移載機５１のグリッパ５５で把持される。
このとき、図６（ｂ）に示すように、すでに成膜処理を終えた容器１００（Ｎｏ.４〜６）は第一バッファ領域４３Ｅまで搬送されてからそこで待機する。この３個の容器１００は、間隔が狭い密な状態とされている。また、第三群Ｇ３に属する容器１００の残りの３個の容器１００（Ｎｏ.１６〜１８）は、第二成膜ユニット６２に対応する第二移載機５２に正対する位置まで搬送されている。
【００４１】
つぎに、図７（ａ）に示すように、第一移載機５１を動作させることにより、容器１００（Ｎｏ.１〜３）はリニア搬送部４０に受け渡され、容器１００（Ｎｏ.１０〜１２）は第一成膜ユニット６１の成膜チャンバ６４に装填されてから、成膜処理が開始される。
容器１００（Ｎｏ.１〜３）と容器１００（Ｎｏ.４〜６）は、給排コンベア２０からリニア搬送部４０に移載された時点の順番に並んでいる。また、この時点で、第二成膜ユニット６２における容器１００（Ｎｏ.７〜９）の成膜処理は終えており、成膜チャンバ６５はすでに大気開放されている。
【００４２】
その後、図７（ｂ）に示すように、先頭の３個の容器１００（Ｎｏ.１〜３）は、リニア搬送部４０の搬送経路上に設けられたエアクリーナ７０の第一除塵ステージ７１まで搬送される。容器１００（Ｎｏ.１〜３）は倒立姿勢をなしており、下を向いている飲み口から圧縮エアを吹き付けることにより、内部の除塵が行われる。
このとき第二群Ｇ２の容器１００（Ｎｏ.７〜９）は、リニア搬送部４０の直線部４３Ｂに受け渡されている。第三群Ｇ３の容器１００（Ｎｏ.１６〜１８）は、第二成膜ユニット６２において成膜処理が行われている。また、第三群Ｇ３の容器１００（Ｎｏ.１３〜１５）は、第三成膜ユニット６３における成膜処理を終え、第三移載機５３のグリッパ５５に把持されている。第三移載機５３のグリッパ５４には、次の処理対象である容器１００（Ｎｏ.２２〜２４）が把持されている。
【００４３】
その後、図８（ａ）に示すように、容器１００（Ｎｏ.１〜３）の除塵を継続しつつ、後続の容器１００（Ｎｏ.４〜９）をエアクリーナ７０の手前まで搬送する。
容器１００（Ｎｏ.１〜３）についての除塵処理を終えると、図８（ｂ）に示すように、容器１００（Ｎｏ.１〜３）はエアクリーナ７０から退去するとともに、後続の６個の容器１００（Ｎｏ.４〜９）がエアクリーナ７０に移送され、除塵処理がなされる。
【００４４】
バリア膜形成装置１は、以上の手順を繰り返すことにより、容器１００にＤＬＣ膜を形成し、圧縮エアを吹き付けによる容器１００の除塵を連続的に行う。図９は、以上説明した第一成膜ユニット６１、第二成膜ユニット６２及び第三成膜ユニット６３における成膜処理の変遷を、時系列に示している。
図９に示すように、バリア膜形成装置１は、上流側に設けられる第三成膜ユニット６３、下流側に設けられる第一成膜ユニット６１及び中間の第二成膜ユニット６２の順に、容器１００が装填され、成膜処理が行われる。このように、上流側に設けられる第三成膜ユニット６３に容器１００の装填及び成膜処理を先行させるのは、前述したように、後続する容器１００を下流側の第一成膜ユニット６１、第二成膜ユニット６２へ搬送する妨げになるのを防ぐためである。
【００４５】
図９には、容器１００が待機する第一バッファ領域４３Ｅ又は第二バッファ領域４３Ｆが付記されている。図９に示すように、第三成膜ユニット６３で成膜処理される容器１００は、成膜処理がなされた後の第一バッファ領域４３Ｅで所定時間だけ待機し、第一成膜ユニット６１で成膜処理される容器１００は、第一成膜ユニット６１に搬送される途中の第二バッファ領域４３Ｆで所定時間だけ待機する。
例えば、図６（ｂ）〜図７（ａ）において、容器１００（Ｎｏ.４〜６）は第一バッファ領域４３Ｅで待機する。そうすることにより、リニア搬送部４０に受け渡される容器１００（Ｎｏ.１〜３）との干渉を避けるとともに、第二移載機５２に正対する位置に搬送される容器１００（Ｎｏ.１６〜１８）との干渉を避ける。
また、例えば、図８（ａ），（ｂ）において、容器１００（Ｎｏ.２８〜３０）は、第二バッファ領域４３Ｆで待機する。そうすることにより、第二移載機５２に正対する容器１００（Ｎｏ.２５〜２７）との干渉を避けるとともに、第三移載機５３に正対する位置に搬送される容器１００（Ｎｏ.３１〜３３）との干渉を避ける。
以上のように、バリア膜形成装置１は、第一成膜ユニット６１〜第三成膜ユニット６３への容器１００の分配の順番を特定するとともに、第一バッファ領域４３Ｅ、第二バッファ領域４３Ｆを設けることにより、ｎ個のグループ毎に連続的にＤＬＣの成膜処理を行うことができる。
【００４６】
［バリア膜形成装置１の効果］
以下、バリア膜形成装置１の奏する効果を説明する。
＜生産能力向上＞
図９に示すように、バリア膜形成装置１は、三つの第一成膜ユニット６１〜第三成膜ユニット６３を備えており、例えば、第一成膜ユニット６１で第一群Ｇ１の容器１００（Ｎｏ.１〜３）に成膜処理している後半に、第二成膜ユニット６２において第二群Ｇ２の容器１００（Ｎｏ．７〜９）の成膜を開始することができる。また、第二成膜ユニット６２で第二群Ｇ２の容器１００（Ｎｏ.７〜９）に成膜処理している後半に、第三成膜ユニット６３において第三群Ｇ３の容器１００（Ｎｏ．１３〜１５）の成膜を開始することができる。
このように、バリア膜形成装置１によれば、先行して容器１００に成膜処理を行う成膜ユニットと、続いて容器１００に成膜処理を行う成膜ユニットと、が時間的に重複して成膜処理を行うことができる。したがって、先行して成膜処理する成膜ユニットと、続いて容器１００に成膜処理する成膜ユニットの成膜処理の時間が重複しない例えば特許文献１及び特許文献２に比べて、同じ時間で容器１００に成膜処理できる個数を多く、つまり生産能力を高くできる。しかも、特許文献１及び特許文献２では二台の成膜ユニットに容器１００を分配しているのに対して、バリア膜形成装置１は、３台の成膜ユニットに容器１００を分配するので、生産能力をより高くできる。
バリア膜形成装置１が３台の第一成膜ユニット６１〜第三成膜ユニット６３による容器１００の連続的な成膜処理を実現するのは、前述したように、第一バッファ領域４３Ｅと第二バッファ領域４３Ｆを設けたからである。
【００４７】
バリア膜形成装置１において高い生産能力が得られる他の理由は、第一成膜ユニット６１〜第三成膜ユニット６３のそれぞれに対応する第一移載機５１〜第三移載機５３を備えていることにある。
つまり、共通する一台の移載機を第一成膜ユニット６１〜第三成膜ユニット６３の間を移動させることもできるが、３台の成膜ユニットの間を移動させるには相当の時間を要するのに対して、第一成膜ユニット６１〜第三成膜ユニット６３のそれぞれに対応する第一移載機５１〜第三移載機５３を備えていれば、移動に要する時間を省くことができる。
【００４８】
また、バリア膜形成装置１は、リニア搬送部４０が、給排コンベア２０から６個（２ｎ個＝ｍ個）の容器１００を受け取り、３個（ｎ個）ずつのグループに分配する。そうすることにより、リニア搬送部４０が３個（ｎ個）の単位で容器１００を受け取ってその単位で搬送するのに比べて、生産能力を高くできる。
【００４９】
＜省スペース化＞
次に、バリア膜形成装置１は、リニア搬送部４０を採用することにより、以下説明するように省スペース化がなされる。
まず、リニア搬送部４０を採用することにより、容器１００の間隔を変更しながら容器１００を搬送できるので、狭い間隔でリニア搬送部４０に受け渡された容器１００を、第一成膜ユニット６１〜第三成膜ユニット６３に向けて往路を搬送する際には、成膜チャンバ６４〜６５の間隔に合わせて、広い間隔に広げながら搬送できる。また、第一成膜ユニット６１〜第三成膜ユニット６３で成膜がなされた容器１００は、復路において間隔を狭くして給排領域４１に向けて搬送できる。さらに、第一バッファ領域４３Ｅ及び第二バッファ領域４３Ｆにおいは、容器１００の間隔を狭くする。
このように、容器１００の間隔を広くする必要がない領域では、容器１００の間隔を狭くできるので、容器１００の間隔が一定となるコンベア搬送に比べて、搬送経路４２の総延長を短くできる。
【００５０】
また、リニア搬送部４０を用いるバリア膜形成装置１は、エアクリーナ７０を、搬送経路４２の復路上に設ける。そして、バリア膜形成装置１は、リニア搬送部４０が容器１００を倒立の状態で搬送するので、搬送経路４２に設けられるエアクリーナ７０により容器１００の内部の除塵処理を実現できる。また、搬送経路４２から外れた領域にエアクリーナ７０を設けるのに比べて、バリア膜形成装置１の占有スペースを小さくできる。
さらに、バリア膜形成装置１は、リニア搬送部４０は、成膜処理がなされる容器１００が搬入される領域と、成膜処理がなされた容器１００が排出される領域と、を共通の給排領域４１にできる。したがって、搬入される領域と排出される領域とを個別に設けるのに比べて、リニア搬送部４０の占有スペースを小さくできる。
【００５１】
また、バリア膜形成装置１は、第二移載部５０が、水平方向Ｈと平行な回転軸Ｃ２を中心にして回転することで、容器１００をリニア搬送部４０から処理部６０に移載する。そうすることで、生産能力が高い場合、容器１００の径が大きい場合でも、回転半径を小さく維持できるため、バリア膜形成装置１の設置スペースを小さくし、また、回転時に容器１００がグリッパ５４，５５から外れたり、傾いたりするのを抑制できる。仮に、図１に示す第一移載機５１を鉛直方向と平行な回転軸を中心にして回転させるものとし、生産能力を高くするために把持する容器１００の個数を例えば５個とすれば、図１の３個の場合に比べて回転半径は増えた２個の分だけ大きくなる。これに対して、本実施形態のように、回転軸Ｃ２が水平方向Ｈと平行であれば、把持する容器１００の個数が増えても、回転半径を大きくする必要がない。
【００５２】
また、第二移載部５０に容器１００の上下を反転する機能を持たせるので、エアクリーナ７０のために独立した容器１００の反転装置を設けるのではなく、リニア搬送部４０の復路にエアクリーナ７０を設ける。したがって、リニア搬送部４０とは独立した位置にエアクリーナ７０を設けるのに比べて、バリア膜形成装置１の設置スペースを小さくできる。
【００５３】
その他に、バリア膜形成装置１は、３台の第一成膜ユニット６１〜第三成膜ユニット６３を設けることにより、高周波電源の出力先を３系統に切り替えることができる。したがって、高価な高周波電源を３台の第一成膜ユニット６１〜第三成膜ユニット６３にあてがうので、出力先が２系統に切り替えるのに比べて効率的な高周波電源の利用を実現できる。
また、第二移載部５０は、成膜完了後の容器１００を速やかに倒立状態に反転するので、以後のリニア搬送部４０の復路における搬送も含めて、容器１００の内部の異物が自由落下により排出されやすくするとともに、異物が容器１００の内部に混入するのを抑制できる。
【００５４】
〔第２実施形態〕
次に、図１０〜図１５を参照して、本発明の第２実施形態に係るバリア膜形成装置２を説明する。
バリア膜形成装置２は、リニア搬送部１４０の構成が異なることを除けば、第一実施形態のバリア膜形成装置１と基本的な構成が一致する。そこで、以下では、バリア膜形成装置２の構成を、バリア膜形成装置１との相違点を中心に説明する。なお、図１０のバリア膜形成装置２において、バリア膜形成装置１と同様の構成部分については、図１と同じ符号を用いている。
【００５５】
［リニア搬送部１４０］
図１０に示すように、バリア膜形成装置２のリニア搬送部１４０は、直線部４３Ａ，４３Ｂ及び湾曲部４３Ｃ，４３Ｄに加えて、第一バイパス径路４４Ａと第二バイパス径路４４Ｂを備えている。
【００５６】
第一バイパス径路４４Ａは、直線部４３Ｂから分岐してまた直線部４３Ｂに繋がることで、直線部４３Ｂからなる正規の径路と並行に迂回する。また、第二バイパス径路４４Ｂは、湾曲部４３Ｃから分岐して直線部４３Ｂに繋がることで、湾曲部４３Ｃから直線部４３Ｂに繋がる正規の径路を迂回する。第一バイパス径路４４Ａは、第一成膜ユニット６１に対応する循環経路の部分を迂回し、第二バイパス径路４４Ｂは、第三成膜ユニット６３に対応する循環経路の部分を迂回する。
第一バイパス径路４４Ａ及び第二バイパス径路４４Ｂは、第一実施形態の第一バッファ領域４３Ｅ及び第二バッファ領域４３Ｆと同様に、第一成膜ユニット６１〜第三成膜ユニット６３と３台の成膜ユニットを用いて、処理対象物の連続的な処理を実現する機能を果たす。
【００５７】
［処理部１６０］
処理部１６０は、図１０に示すように、構成要素はバリア膜形成装置１の処理部６０と同じであるが、第一成膜ユニット６１と第二成膜ユニット６２の間隔及び第二成膜ユニット６２と第三成膜ユニット６３の間隔が処理部６０に比べて狭い。この第一成膜ユニット６１〜第三成膜ユニット６３の間隔を狭くできるのは、第一バイパス径路４４Ａ及び第二バイパス径路４４Ｂに第一バッファ領域４３Ｅ及び第二バッファ領域４３Ｆの機能を持たせたことに基づいている。
【００５８】
［バリア膜形成装置２の処理手順］
以下、バリア膜形成装置２における容器１００の処理手順を、図１１〜図１４を参照して説明する。以下では、容器１００（Ｎｏ.１〜３）が既に第一成膜ユニット６１の成膜チャンバ６４に装填されている段階から、バリア膜形成装置１と対比して特徴的な手順を抜粋して説明する。なお、図１１〜図１４において、一部の要素及び符号の記載を省略しているので、必要に応じて図１を参照願いたい。また、図１５に第一成膜ユニット６１、第二成膜ユニット６２及び第三成膜ユニット６３における成膜処理の変遷を時系列に示すので、適宜参照願いたい。
【００５９】
図１１（ａ）に示すように、容器１００（Ｎｏ.１〜３）が第一成膜ユニット６１の成膜チャンバ６４に装填されている段階では、容器１００（Ｎｏ.４〜６）はリニア搬送部４０の直線部４３Ａと湾曲部４３Ｃの境界にいる。容器１００（Ｎｏ.１〜３）は、リニア搬送部４０の第一バイパス径路４４Ａを経由することなく、正規の経路を通って第一移載機５１に正対する位置まで搬送される。以下、他の容器１００についても、言及しない限り、第一バイパス径路４４Ａ及び第二バイパス径路４４Ｂを経由することなく、正規の経路を搬送されるものとする。
図１１（ｂ）に示すように、後続の容器１００（Ｎｏ.４〜６）が、第二成膜ユニット６２の成膜チャンバ６５に装填され、次いで、図１２（ａ）に示すように、後続の容器１００（Ｎｏ.７〜９）が、第三成膜ユニット６３の成膜チャンバ６６に装填される。図１２（ａ）が示すように、バリア膜形成装置２においては、搬送される順番で第一成膜ユニット６１、第二成膜ユニット６２及び第三成膜ユニット６３に３個（ｎ個）の容器１００が装填され、成膜処理がなされる。
【００６０】
第一成膜ユニット６１における容器１００（Ｎｏ.１〜３）の成膜処理が終えた段階で、後続の容器１００（Ｎｏ.１０〜１２）は第一移載機５１に正対する位置まで搬送されており、その後、図１２（ｂ）に示すように、成膜処理を終えた容器１００（Ｎｏ.１〜３）はリニア搬送部４０に受け渡されるとともに、容器１００（Ｎｏ.１０〜１２）は第一成膜ユニット６１の成膜チャンバ６４に装填され、その後、成膜処理がなされる。
【００６１】
次に、図１３（ａ）に示すように、成膜処理を終えた容器１００（Ｎｏ.４〜６）はリニア搬送部４０に受け渡されるとともに、容器１００（Ｎｏ.１３〜１５）は第二成膜ユニット６２の成膜チャンバ６５に装填され、その後、成膜処理がなされる。
【００６２】
次に、図１３（ｂ）に示すように、成膜処理を終えた容器１００（Ｎｏ.７〜９）はリニア搬送部４０に受け渡されるとともに、容器１００（Ｎｏ.１６〜１８）は第三成膜ユニット６３の成膜チャンバ６６に装填され、その後、成膜処理がなされる。
この時点で、次に第一成膜ユニット６１で成膜処理される容器１００（Ｎｏ.１９〜２１）は第一移載機５１に正対する位置に搬送されているが、この搬送は図１４（ａ）に白抜き矢印で示すように、第一バイパス径路４４Ｂを経由している。つまり、第三移載機５３に正対する位置には成膜処理を終えた容器１００（Ｎｏ.７〜９）が待機しており、これとの干渉を避けるために、容器１００（Ｎｏ.１９〜２１）は第二バイパス径路４４Ｂを経由する。この段階で、成膜処理を終えた容器１００（Ｎｏ.１〜６）はエアクリーナ７０に搬送されて、除塵がなされる。
一方で、成膜処理を終えた容器１００（Ｎｏ.７〜９）にとって、第一移載機５１の正対する位置の容器１００（Ｎｏ.１９〜２１）が障害となるので、図１４（ｂ）に示すように、容器１００（Ｎｏ.７〜９）は第一バイパス径路４４Ａを通って、第一移載機５１よりも直線部４３Ｂの下流に搬送される。
以上のように、第一バイパス径路４４Ａ及び第二バイパス径路４４Ｂは、リニア搬送部４０において、自身よりも下流側に存在する他の容器１００が障害となって、正規の経路を搬送できない場合に、他の容器１００を追い越すために設けられる。その結果、第一成膜ユニット６１〜第三成膜ユニット６３と３台の成膜ユニットを用いて、処理対象物の連続的な処理を実現できる。
【００６３】
［バリア膜形成装置２の効果］
バリア膜形成装置２は、バリア膜形成装置１と同様の効果を奏するのに加えて、以下の効果を奏する。
バリア膜形成装置２は、第一バッファ領域４３Ｅ及び第二バッファ領域４３Ｆを設けるのに替えて第一バイパス径路４４Ａ及び第二バイパス径路４４Ｂを設けるので、二つのバッファ領域の分だけ、循環経路の総延長を短くできる。したがって、バリア膜形成装置２は、バリア膜形成装置１よりも省スペース化を図ることができる。
また、バリア膜形成装置２は、第一バッファ領域４３Ｅ及び第二バッファ領域４３Ｆにおいて容器１００を待機させる制御が不要である。加えて、図１５に示すように、バリア膜形成装置２は、給排コンベア２０で搬送される容器１００をその順番に第一成膜ユニット６１と第二成膜ユニット６２に分配できるので、第二移送部５０及び処理部６０の制御が容易である。
【００６４】
〔第三実施形態〕
次に、図１６〜図２０を参照して、本発明の第三実施形態に係るバリア膜形成装置３を説明する。
バリア膜形成装置３は、処理部６０が第一成膜ユニット６１と第二成膜ユニット６２の二台の成膜ユニットからなるところが第一実施形態のバリア膜形成装置１と相違する。また、バリア膜形成装置３は、第二移載部５０が一台の第一移載機５１だけを備えており、この第一移載機５１が第一成膜ユニット６１と第二成膜ユニット６２の間を往復移動するところがバリア膜形成装置１と相違する。第一移載機５１は、４個の容器１００を一つのグループとして第一成膜ユニット６１と第二成膜ユニット６２に分配する。
以上の通りであり、バリア膜形成装置３は、構成要素の数がバリア膜形成装置１に比べて少ないところを除けば、バリア膜形成装置１と基本的な構成が一致する。そこで、以下では、バリア膜形成装置３の処理手順を説明する。なお、バリア膜形成装置３において、バリア膜形成装置１と同様の構成部分については、図１と同じ符号を用いる。また、以下では、バリア膜形成装置１と対比して特徴的な手順を抜粋して説明する。
【００６５】
［バリア膜形成装置３の処理手順］
容器１００（Ｎｏ.１〜４）は、図１６（ａ）に示すようにリニア搬送部４０の給排領域４１に受け渡された後に、図１６（ｂ）に示すように、リニア搬送部４０により第一移載機５１に正対する位置まで搬送される。第一移載機５１は、第一成膜ユニット６１に対応する位置にて、容器１００(Ｎｏ.１〜４)が搬送されてくるのを待機している。容器１００(Ｎｏ．１〜４)は、給排領域４１から当該正対位置まで搬送されるか過程で間隔が拡げられる。容器１００(Ｎｏ.１〜４)は、第一移載機５１が動作することにより、図１６（ｃ）に示すように第一成膜ユニット６１の成膜チャンバ６４に装填され、成膜処理される。
【００６６】
後続の容器１００(Ｎｏ.５〜８)についても、図１７（ａ）〜（ｃ）に示すように、リニア搬送部４０の給排領域４１に受け渡された後に、リニア搬送部４０により、第一移載機５１に正対する位置まで搬送される。第一移載機５１は、第一成膜ユニット６１に対応する位置から第二成膜ユニット６２に対応する位置に移動し、容器１００(Ｎｏ.５〜８)が搬送されてくるのを待機している。容器１００(Ｎｏ．５〜８)は、給排領域４１から当該正対位置まで搬送されるか過程で間隔が拡げられる。容器１００(Ｎｏ.５〜４)は、第一移載機５１が動作することにより、第二成膜ユニット６２の成膜チャンバ６５に装填され、成膜処理される。先行して容器１００(Ｎｏ.１〜４)に成膜処理をしている第一成膜ユニット６１と第二成膜ユニット６２で時間的に重複して成膜処理がなされる。
【００６７】
図１８（ａ）に示すように、第一成膜ユニット６１における容器１００(Ｎｏ.１〜４)の成膜が終了するのに同期して、第一移載機５１は第一成膜ユニット６１に対応する位置まで移動するとともに、後続の容器１００(Ｎｏ.９〜１２)が第一移載機５１に正対する位置まで搬送される。第一移載機５１を動作させることにより、図１８（ｂ）に示すように、成膜処理を終えた容器１００（Ｎｏ.１〜４）はリニア搬送部４０に排出されるとともに、容器１００（Ｎｏ.９〜１２）は第一成膜ユニット６１の成膜チャンバ６４に装填され、その後、成膜処理がなされる。リニア搬送部４０に排出された容器１００(Ｎｏ.１〜４)は、図１８（ｃ）に示すように、リニア搬送部４０をエアクリーナ７０に向けて搬送されるとともに、さらに後続の容器１００（Ｎｏ．１３〜１６）はリニア搬送部４０に搬入される。
【００６８】
手順が進み、図１９（ａ）に示すように、第二成膜ユニット６２において、容器１００(Ｎｏ.５〜８)がリニア搬送部４０に排出され、容器１００（Ｎｏ．１３〜１６）が第二成膜ユニット６２の成膜チャンバ６５に装填される。その後、図１９（ｂ）に示すように、リニア搬送部４０に排出された容器１００(Ｎｏ.５〜８)はエアクリーナ７０に搬送され、さらに後続の容器１００(Ｎｏ.１７〜２０)が第一成膜ユニット６１に対応する位置まで移動している第一移載機５１に正対する位置まで搬送される。
【００６９】
さらに手順が進み、図２０（ａ）に示すように、第一成膜ユニット６１において成膜されていた容器１００（Ｎｏ．９〜１２）がリニア搬送部４０に排出されるとともに、容器１００(Ｎｏ.１７〜２０)が第一成膜ユニット６１の成膜チャンバ６４に装填される。その後、図２０（ｂ）に示すように、最先で成膜処理がなされた容器１００(Ｎｏ.１〜４)は、給排領域４１まで搬送されてから図示を省略する給排コンベア２０に排出される。
【００７０】
［バリア膜形成装置３の効果］
バリア膜形成装置３は、生産能力が小さい物品処理装置の省スペース化を図ることができる。
また、バリア膜形成装置３は、一台の第一移載機５１を移動させることで、第一成膜ユニット６１及び第二成膜ユニット６２とリニア搬送部４０との間で容器１００を移載するが、移動する距離が第一成膜ユニット６１と第二成膜ユニット６２との間だけである。したがって、３台の第一成膜ユニット６１〜第三成膜ユニット６３の間で移動するのに比べて、第一移載機５１が移動に要する時間は短い。
【００７１】
以上、本発明の実施形態としてバリア膜形成装置１〜３を説明した。しかし、本発明の主旨を逸脱しない限り、上記実施形態で挙げた構成を取捨選択し、あるいは他の構成に適宜変更したりすることが可能である。
例えば、第１実施形態及び第２実施形態は、リニア搬送部４０は、容器１００を６個の単位で受け取り、これを３個のグループに分配して第二移載部５０に受け渡すが、この個数はあくまで一例である。例えば、８個を４個のグループにする、１０個を５個のグループにする、など、他の個数にしてもよい。また、第３実施形態における４個についても、他の個数を採用することができる。
【００７２】
また、第１実施形態及び第２実施形態は、給排領域（２１，４１）で受け取った２ｎ個（６個）の容器１００をｎ個（３個）毎に分配して第二移載部５０に受け渡すが、本発明はこれに限定されない。例えば、給排領域（２１，４１）６個の容器１００を、４個毎に分配して第二移載部５０に受け渡すことができる。また、給排領域（２１，４１）で交互に受け取った５個の容器１００と４個の容器１００を、３個毎に分配して第二移載部５０に受け渡すことができる。さらに、給排領域（２１，４１）で受け取った４個の容器１００を、３個毎に分配して第二移載部５０に受け渡すことができる。つまり、本発明は、給排領域（２１，４１）と第三処理ユニット（６３）の間に、ｍ−ｎ個分以上を受け入れるバッファ領域（４３Ｅ，４３Ｆ）を備えていれば、給排領域（２１，４１）で受け取ったｍ（ただし、ｍ＞ｎ）個の処理対象物を、ｎ個毎に分配して、第二移載部５０に搬送することができる。
【００７３】
また、第１実施形態〜第３実施形態ではリニアモータを用いたが、容器１００の間隔を調整できる限り、本発明はその具体的な手段を問わない。例えば、それぞれが電動モータにより自律走行する複数の移動子４５を用いることができる。ただし、リニアモータを用いたリニア搬送装置は、移動子４５の位置を精度よく制御できるなど、本発明にとって好ましい手段である。
【００７４】
また、以上説明した実施形態は、処理対象物を容器１００とし、第一処理をＤＬＣの成膜、第二処理を容器内部の除塵としたが、本発明はこれに限定されず、ｎ個の単位で任意の処理を連続的に行う装置に広く適用できる。
【符号の説明】
【００７５】
１，２，３  バリア膜形成装置
２０    給排コンベア
２１，４１    給排領域
３０    第一移載部
３１    グリッパ
４０，１４０  リニア搬送部
４３    ガイドレール
４３Ａ，４３Ｂ  直線部
４３Ｃ，４３Ｄ  湾曲部
４３Ｅ  第一バッファ領域
４３Ｆ  第二バッファ領域
４４Ａ  第一バイパス径路
４４Ｂ  第二バイパス径路
４５    移動子
４７    リニアモータ
４８    永久磁石
４９    電磁コイル
５０    第二移載部
５１    第一移載機
５２    第二移載機
５３    第三移載機
５４，５５  グリッパ
５７    支持アーム
６０，１６０  処理部
６１    第一成膜ユニット
６２    第二成膜ユニット
６３    第三成膜ユニット
６４，６５，６６  成膜チャンバ
７０    エアクリーナ
７１    第一除塵ステージ
７２    第二除塵ステージ
８０    制御部
１００  容器
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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