【手続補正書】
【提出日】平成26年11月7日(2014.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
３次元メッシュモデルを位置復号するための方法であって、
空でない子セルＣl,kのシンボル確率を予測するステップであって、Ｃl,kは、レイヤｌにおけるｋ番目のセルを示し、前記シンボル確率は、フィッティングされた平面Ｐの精度に基づいて推定される、ステップと、
前記空でない子セルの前記予測された確率に応答して、前記空でない子セルを復号するステップと、
前記空でない子セルが２つ以上の頂点を有する場合、前記空でない子セルを細分するステップと、
レイヤｌに未処理の空でない子セルがそれ以上あるかどうか判定するステップと、
レイヤｌに未処理の空でない子セルがそれ以上ない場合、空でない子セルの最も下のレイヤに達したかどうか判定するステップと、
空でない子セルの前記最も下のレイヤに達した場合、前記３次元メッシュモデルを再生するステップと、
を含む、前記方法。
【請求項２】
前記シンボル確率は、レイヤｌにおいて「１」を１つ有する前記空でない子セルについて推定される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
接続可能性情報が使用可能な場合、現在の空でない子セルに接続されたセルの中心座標が使用されて、前記フィッティングされた平面Ｐが生成される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
現在の空でない子セルの中心座標および現在の空でない子セルに接続されたセルの中心座標によって形成される凸包の表面積に応答して、前記空でない子セルＣl,kのシンボル確率を予測するステップをさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
サブセルの中心座標と前記フィッティングされた平面Ｐとの距離に応答して前記空でない子セルＣl,kのシンボル確率を予測するステップと、
前記フィッティングされた平面Ｐのフィッティング誤差を検査するステップと、
前記推定されたシンボル確率を調整するステップと、
をさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記フィッティング誤差が閾値より小さい場合、前記予測されたシンボル確率は調整されない、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記フィッティング誤差が閾値より大きい場合、前記予測されたシンボル確率は一様分布に近くなるように設定される、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
前記フィッティング誤差は、関数用のパラメータとして空でない子セル構成のシンボル確率を計算し、前記パラメータが増大するにつれて、空でない子セルの前記推定されたシンボル確率が一様分布に近づくようにするために使用される、請求項５に記載の方法。
【請求項９】
接続可能性情報が使用可能でない場合、隣接する空でないセルの中心座標が使用されて、前記フィッティングされた平面Ｐが生成される、請求項２に記載の方法。
【請求項１０】
サブセルの中心座標と前記フィッティングされた平面Ｐとの距離に応答して前記空でない子セルＣl,kのシンボル確率を予測するステップと、
前記フィッティングされた平面Ｐのフィッティング誤差を検査するステップと、
前記推定されたシンボル確率を調整するステップと、
をさらに含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記フィッティング誤差が閾値より小さい場合、前記予測されたシンボル確率は調整されない、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記フィッティング誤差が閾値より大きい場合、前記予測されたシンボル確率は一様分布に近くなるように設定される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記フィッティング誤差は、関数用のパラメータとして空でない子セル構成のシンボル確率を計算し、前記パラメータが増大するにつれて、空でない子セルの前記推定されたシンボル確率が一様分布に近づくようにするために使用される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記シンボル確率は、レイヤｌにおいて複数の「１」を有する前記空でない子セルについて推定される、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
重みが各頂点に割り当てられ、前記重みは、前記重みが大きすぎる場合再スケールされ、前記推定された確率は、対応する重みによって正規化される、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
３次元メッシュモデルを位置復号するための装置であって、
符号化された信号を受信するよう構成された受信機と、
前記符号化された信号から３次元メッシュモデルを復号するよう構成された復号器であって、前記復号器は、
空でない子セルＣl,kのシンボル確率であって、Ｃl,kは、レイヤｌにおけるｋ番目のセルを示し、フィッティングされた平面Ｐの精度に基づいて推定される、前記シンボル確率を予測し、
前記空でない子セルの前記予測された確率に応答して、前記空でない子セルを復号し、
前記空でない子セルが２つ以上の頂点を有する場合、前記空でない子セルを細分し、
レイヤｌに未処理の空でない子セルがそれ以上あるかどうか判定し、
レイヤｌに未処理の空でない子セルがそれ以上ない場合、空でない子セルの最も下のレイヤに達したかどうか判定する
よう構成される、前記復号器と、
空でない子セルの前記最も下のレイヤに達した場合、前記３次元メッシュモデルを生成するよう構成されたプロセッサと、
を備える、前記装置。
【請求項１７】
前記シンボル確率は、レイヤｌにおいて「１」を１つ有する前記空でない子セルについて推定され、接続可能性情報が使用可能な場合、現在の空でない子セルに接続されたセルの中心座標が使用されて、前記フィッティングされた平面Ｐを生成し、さらに前記復号器は、
サブセルの中心座標と前記フィッティングされた平面Ｐとの距離に応答して前記空でない子セルＣl,kのシンボル確率を予測し、
前記フィッティングされた平面Ｐのフィッティング誤差を検査し、
前記推定されたシンボル確率を調整する
よう構成される、前記復号器、請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記シンボル確率は、レイヤｌにおいて「１」を１つ有する前記空でない子セルについて推定され、接続可能性情報が使用可能でない場合、隣接する空でないセルの中心座標が使用されて、前記フィッティングされた平面Ｐを生成し、前記復号器は、
サブセルの中心座標と前記フィッティングされた平面Ｐとの距離に応答して前記空でない子セルＣl,kのシンボル確率を予測し、
前記フィッティングされた平面Ｐのフィッティング誤差を検査する動作と、
前記推定されたシンボル確率を調整する
よう構成される、請求項１６に記載の装置。
【請求項１９】
前記シンボル確率は、レイヤｌにおいて複数の「１」を有する前記空でない子セルについて推定され、重みが各頂点に割り当てられ、前記重みは、前記重みが大きすぎる場合再スケールされ、前記推定された確率は、対応する重みによって正規化される、請求項１６に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
さらに、添付の図に示されている構成体のシステム構成要素および方法ステップの一部がソフトウェアで実現されることが好ましいので、システム構成要素（またはプロセスステップ）間の実際の接続は、本発明がプログラムされる方法に応じて様々なものになり得ることを理解されたい。本明細書における教示を考えると、当業者なら、本発明のこれらの、また同様の実装または構成を企図することが可能である。
（付記１）
３次元メッシュモデルを位置復号するための方法であって、
空でない子セルＣl,kのシンボル確率を予測するステップであって、Ｃl,kは、レイヤｌにおけるｋ番目のセルを示し、前記シンボル確率は、フィッティングされた平面Ｐの精度に基づいて推定される、ステップと、
前記受信された前記空でない子セルの予測された確率に応答して、前記空でない子セルを復号するステップと、
前記空でない子セルが２つ以上の頂点を有する場合、前記空でない子セルを細分するステップと、
レイヤｌに未処理の空でない子セルがそれ以上あるかどうか判定するステップと、
レイヤｌに未処理の空でない子セルがそれ以上ない場合、空でない子セルの最も下のレイヤに達したかどうか判定するステップと、
空でない子セルの前記最も下のレイヤに達した場合、前記３次元メッシュモデルを再生するステップと、
を含む、前記方法。
（付記２）
前記シンボル確率は、レイヤｌにおいて「１」を１つ有する前記空でない子セルについて推定される、付記１に記載の方法。
（付記３）
接続可能性情報が使用可能な場合、前記フィッティングされた平面Ｐに対して、現在の空でない子セルに接続されたセルの中心座標が使用される、付記２に記載の方法。
（付記４）
現在の空でない子セルの中心座標および現在の空でない子セルに接続されたセルの中心座標によって形成される凸包の表面積に応答して、前記空でない子セルＣl,kのシンボル確率を予測するステップをさらに含む、付記３に記載の方法。
（付記５）
サブセルの中心座標と前記フィッティングされた平面Ｐとの距離に応答して前記空でない子セルＣl,kのシンボル確率を予測するステップと、
前記フィッティングされた平面Ｐのフィッティング誤差を検査するステップと、
前記推定されたシンボル確率を調整するステップと、
をさらに含む、付記３に記載の方法。
（付記６）
前記フィッティング誤差が閾値より小さい場合、前記予測されたシンボル確率は調整されない、付記５に記載の方法。
（付記７）
前記フィッティング誤差が閾値より大きい場合、前記予測されたシンボル確率は一様分布に近くなるように設定される、付記５に記載の方法。
（付記８）
前記フィッティング誤差は、関数用のパラメータとして空でない子セル構成のシンボル確率を計算し、前記パラメータが増大するにつれて、空でない子セルの前記推定されたシンボル確率が一様分布に近づくようにするために使用される、付記５に記載の方法。
（付記９）
接続可能性情報が使用可能でない場合、前記フィッティングされた平面Ｐに対して、隣接する空でないセルの中心座標が使用される、付記２に記載の方法。
（付記１０）
サブセルの中心座標と前記フィッティングされた平面Ｐとの距離に応答して前記空でない子セルＣl,kのシンボル確率を予測するステップと、
前記フィッティングされた平面Ｐのフィッティング誤差を検査するステップと、
前記推定されたシンボル確率を調整するステップと、
をさらに含む、付記９に記載の方法。
（付記１１）
前記フィッティング誤差が閾値より小さい場合、前記予測されたシンボル確率は調整されない、付記１０に記載の方法。
（付記１２）
前記フィッティング誤差が閾値より大きい場合、前記予測されたシンボル確率は一様分布に近くなるように設定される、付記１０に記載の方法。
（付記１３）
前記フィッティング誤差は、関数用のパラメータとして空でない子セル構成のシンボル確率を計算し、前記パラメータが増大するにつれて、空でない子セルの前記推定されたシンボル確率が一様分布に近づくようにするために使用される、付記１０に記載の方法。
（付記１４）
前記シンボル確率は、レイヤｌにおいて複数の「１」を有する前記空でない子セルについて推定される、付記１に記載の方法。
（付記１５）
重みが各頂点に割り当てられ、前記重みは、前記重みが大きすぎる場合再スケールされ、前記推定された確率は、対応する重みによって正規化される、付記１４に記載の方法。
（付記１６）
３次元メッシュモデルを位置復号するための復号器であって、
符号化された信号を受信し、３次元メッシュモデルを生成する復号器を備え、前記復号器は、
空でない子セルＣl,kのシンボル確率を予測する動作であって、Ｃl,kは、レイヤｌにおけるｋ番目のセルを示し、前記シンボル確率は、フィッティングされた平面Ｐの精度に基づいて推定される、動作と、
前記受信された前記空でない子セルの予測された確率に応答して、前記空でない子セルを復号する動作と、
前記空でない子セルが２つ以上の頂点を有する場合、前記空でない子セルを細分する動作と、
レイヤｌに未処理の空でない子セルがそれ以上あるかどうか判定する動作と、
レイヤｌに未処理の空でない子セルがそれ以上ない場合、空でない子セルの最も下のレイヤに達したかどうか判定する動作と、
空でない子セルの前記最も下のレイヤに達した場合、前記３次元メッシュモデルを再生する動作と、
を実施するように適合される、前記復号器。
（付記１７）
前記シンボル確率は、レイヤｌにおいて「１」を１つ有する前記空でない子セルについて推定され、接続可能性情報が使用可能な場合、前記フィッティングされた平面Ｐに対して、現在の空でない子セルに接続されたセルの中心座標が使用され、さらに前記復号器は、
サブセルの中心座標と前記フィッティングされた平面Ｐとの距離に応答して前記空でない子セルＣl,kのシンボル確率を予測する動作と、
前記フィッティングされた平面Ｐのフィッティング誤差を検査する動作と、
前記推定されたシンボル確率を調整する動作と、
を実施する、付記１６に記載の復号器。
（付記１８）
前記シンボル確率は、レイヤｌにおいて「１」を１つ有する前記空でない子セルについて推定され、接続可能性情報が使用可能でない場合、前記フィッティングされた平面Ｐに対して、隣接する空でないセルの中心座標が使用され、前記復号器は、
サブセルの中心座標と前記フィッティングされた平面Ｐとの距離に応答して前記空でない子セルＣl,kのシンボル確率を予測する動作と、
前記フィッティングされた平面Ｐのフィッティング誤差を検査する動作と、
前記推定されたシンボル確率を調整する動作と、
を実施する、付記１６に記載の復号器。
（付記１９）
前記シンボル確率は、レイヤｌにおいて複数の「１」を有する前記空でない子セルについて推定され、重みが各頂点に割り当てられ、前記重みは、前記重みが大きすぎる場合再スケールされ、前記推定された確率は、対応する重みによって正規化される、付記１６に記載の復号器。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
2014532945.tif 000001