【事件の表示】
　特願２００４−５６５４５９「処理状態モニタリングと終了点検出とのための、傾斜から閾値へ変換する方法および装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　７月２２日国際公開、ＷＯ２００４／０６１６９３、平成１８年　３月２３日国内公表、特表２００６−５１０２２８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１．手続の経緯
　本願は、２００３年１２月１１日（パリ条約による優先権主張外国庁受理２００２年１２月１３日、アメリカ合衆国）を国際出願日とする出願であって、平成１７年１０月１３日に手続補正書が提出され、平成２２年１１月２９日付けの拒絶理由通知に対して、平成２３年６月７日に意見書及び誤訳訂正書が提出され、同年８月１８日付けの最後の拒絶理由通知に対して、平成２４年２月２１日に意見書及び手続補正書が提出されたが、同年３月２１日付けで同年２月２１日に提出された手続補正書でなされた手続補正は却下されるとともに拒絶査定がなされ、これに対して、同年７月２５日に拒絶査定を不服とする審判請求がなされるとともに手続補正書が提出され、同年１０月１８日付けの審尋に対して、平成２５年１月２３日に回答書が提出されたものである。
　
　
第２．補正却下の決定
　
［補正却下の決定の結論］
　平成２４年７月２５日に提出された手続補正書でした手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
１．本件補正の内容
　　ア　本件補正は、特許請求の範囲を補正するものであるが、平成２４年２月２１日に提出された手続補正書によりなされた特許請求の範囲を補正する手続補正は、同年３月２１日付けで却下されている。
　したがって、本件補正は、平成２３年６月７日に提出された誤訳訂正書により補正された特許請求の範囲の記載、
「　【請求項１】
　傾斜ベース検出タスクを閾値ベース検出タスクに変換する方法であって、
　モニターされている処理の値に従って一組の点の傾斜ベース近似方程式を規定することと、
　前記傾斜ベース近似方程式によって、該モニターされている処理の現在点における期待値を予測することと、
　該モニターされている処理の該現在点における測定値と該対応する期待値との差を計算することと、
　該差をモニターすることにより、該測定値と該期待値との間の閾偏差量を検出することと、
　該閾偏差量の該検出に基づいて該モニターされている処理の終点を識別することと
　を包含する、方法。
　　【請求項２】
　前記近似方程式は多項方程式である、請求項１に記載の方法。
　　【請求項３】
　前記モニターされている処理は、化学機械的平坦化処理と、エッチング、堆積または表面改質処理とからなるグループから選択された半導体処理である、請求項１に記載の方法。
　　【請求項４】
　前記測定値は、モニターされている処理と関連する性質を検出するように構成されたセンサから生成される、請求項１に記載の方法。
　　【請求項５】
　前記測定値と前記対応する期待値との前記差をトレースすることと、
　ノイズ区域を規定することであって、該ノイズ区域は境界を提供し、前記閾偏差量は該境界の外側に収まる、ことと
　をさらに包含する、請求項１に記載の方法。
　　【請求項６】
　前記閾偏差量の前記検出に基づいて前記モニターされている処理の終点を識別する前記方法作業は、１つ以上の連続点を識別することを包含し、少なくとも２つの連続点のそれぞれと関連する該閾偏差量がノイズ区域の外側にある、請求項１に記載の方法。
　　【請求項７】
　前記近似方程式は、前記モニターされている処理と関連するセンサから生成される過去データの区間から前記期待値を導く、請求項１に記載の方法。
　　【請求項８】
　前記終点を識別することに応答して、前記モニターされている処理の終了をトリガすることをさらに包含する、請求項１に記載の方法。
　　【請求項９】
　傾斜変化遷移の遷移点をリアルタイムの閾値決定により検出することが可能である半導体処理システムであって、
　処理されている半導体ウェーハと関連する定義済みパラメータが得られるまで該半導体ウェーハを処理するように構成された処理モジュールであって、処理作業と関連する処理パラメータをモニターするように構成されたセンサを含む処理モジュールと、
　該センサと通信する検出器であって、該検出器は測定値を予測値と比較するように構成されており、該測定値は傾斜変化から遷移点を示しており、該予測値は以前に測定された値から導かれており、該検出器はさらに該測定値と該対応する予測値との差をトラックすることにより該遷移点における変化を強化し、閾偏差量が規定されることを可能にし、該閾偏差量は該処理作業と関連する該遷移点を示す、検出器と
　を備える、システム。
　　【請求項１０】
　前記検出器は、少なくとも２つの連続的な時間点に対する前記測定値と前記予測値との差が前記閾偏差量を超えるとき、前記処理システムと関連する遷移を開始するように構成される、請求項９に記載のシステム。
　　【請求項１１】
　前記処理モジュールは、化学機械的平坦化モジュールとエッチングモジュールとからなるグループから選択される、請求項９に記載のシステム。
　　【請求項１２】
　前記センサは、前記処理パラメータの変化を感知し、該処理パラメータは構成変化および状態変化のうち１つとして変動し、該構成変化および該状態変化は前記半導体ウェーハのうち１つと該処理モジュールの構成要素と関連する、請求項９に記載のシステム。
　　【請求項１３】
　前記センサは、渦電流センサ、赤外線センサ、振動センサおよび反射スペクトルを検出するように構成されたセンサからなるグループから選択される、請求項９に記載のシステム。
　　【請求項１４】
　前記検出器は、干渉からのバックグラウンドノイズを実質的に除去するように構成されたオフセットを前記閾値決定と結びつけるように構成される、請求項９に記載のシステム。
　　【請求項１５】
　前記閾偏差量は、前記測定値のトレースと関連する傾斜遷移に対応する時点において生じる、請求項９に記載のシステム。
　　【請求項１６】
　傾斜ベース検出タスクを閾値ベース検出タスクに変換するプログラム命令を有するコンピュータ読取可能媒体であって、
　モニターされている処理の値に対応する一組の点についての傾斜ベース近似方程式を規定するプログラム命令と、
　前記傾斜ベース近似方程式によって、該モニターされている処理の現在点における期待値を予測するプログラム命令と、
　該モニターされている処理の該現在点における測定値と該対応する期待値との差を計算するプログラム命令と、
　該差をモニターすることにより該測定値と該期待値との間の閾偏差量を検出するプログラム命令と、
　該閾偏差量の該検出に基づいて該モニターされている処理の終点を識別するプログラム命令と
　を備える、コンピュータ読取可能媒体。
　　【請求項１７】
　前記近似方程式は多項方程式である、請求項１６に記載のコンピュータ読取可能媒体。
　　【請求項１８】
　前記測定値と前記対応する期待値との前記差をトレースするプログラム命令と、
　ノイズ区域を規定するプログラム命令であって、該ノイズ区域は境界を提供しており、前記閾偏差量は該境界の外側に収まる、プログラム命令と
　をさらに備える、請求項１６に記載のコンピュータ読取可能媒体。
　　【請求項１９】
　傾斜ベース変化の遷移点を閾値検出により検出する方法であって、
　遷移点と関連するパラメータをモニターすることと、
　傾斜ベース近似によって、前記モニターされたパラメータの過去の値から前記パラメータの予測値を計算することであって、前記予測値は、前記モニターされているパラメータの現在値に対応する、ことと、
　閾値を決定することと、
　連続的な時点について、前記現在値と前記予測値との間の差をトラックすることと、
　前記差が前記閾値を超えた時に前記遷移点を識別することと
　を包含する、方法。
　　【請求項２０】
　前記閾値はオフセットの外側にあり、前記オフセットは、バックグラウンドノイズによる前記遷移点の識別の妨害をほぼ排除するよう構成される、請求項１９に記載の方法。
　　【請求項２１】
　前記差が前記閾値を超えた時に前記遷移点を識別する前記方法作業は、前記差が前記閾値を超えた時に少なくとも２つの点を識別することを包含する、請求項１９に記載の方法。
　　【請求項２２】
　前記現在値と前記対応する予測値との間の前記差をトレースすることと、
　ノイズ区域を規定することであって、該ノイズ区域は境界を提供し、前記閾値は該境界の外側に収まる、ことと
　をさらに包含する、請求項１９に記載の方法。
　　【請求項２３】
　前記パラメータは、処理されている物体と関連する構成変化または状態変化を検出するよう構成されたセンサによってモニターされることが可能である、請求項１９に記載の方法。」
を、
　
「　【請求項１】
　処理の終点を識別する方法であって、
　モニターされている処理の値に従って一組の点の近似方程式を規定することと、
　前記近似方程式によって、該モニターされている処理の現在点における期待値を予測することと、
　前記処理の値に関して、境界を提供するノイズ区域を規定することと、
　該モニターされている処理の該現在点における測定値と該対応する期待値との差を計算することと、
　該測定値と該対応する期待値との差をモニターすることにより、前記境界の外側にある偏差量を検出することと、
　該偏差量の該検出に基づいて該モニターされている処理の終点を識別することと
　を包含する、方法。
　　【請求項２】
　前記近似方程式は多項方程式である、請求項１に記載の方法。
　　【請求項３】
　前記モニターされている処理は、化学機械的平坦化処理と、エッチング、堆積または表面改質処理とからなるグループから選択された半導体処理である、請求項１に記載の方法。
　　【請求項４】
　前記測定値は、モニターされている処理と関連する性質を検出するように構成されたセンサから生成される、請求項１に記載の方法。
　　【請求項５】
　前記偏差量の前記検出に基づいて前記モニターされている処理の終点を識別する前記方法作業は、１つ以上の連続点を識別することを包含し、少なくとも２つの連続点のそれぞれと関連する該偏差量がノイズ区域の外側にある、請求項１に記載の方法。
　　【請求項６】
　前記近似方程式は、前記モニターされている処理と関連するセンサから生成される過去データの区間から前記期待値を導く、請求項１に記載の方法。
　　【請求項７】
　前記終点を識別することに応答して、前記モニターされている処理の終了をトリガすることをさらに包含する、請求項１に記載の方法。
　　【請求項８】
　リアルタイムに処理の終点を検出することが可能である半導体処理システムであって、　処理されている半導体ウェーハと関連する定義済みパラメータが得られるまで該半導体ウェーハを処理するように構成された処理モジュールであって、処理作業と関連する処理パラメータをモニターするように構成されたセンサを含む処理モジュールと、
　該センサと通信する検出器であって、該検出器は測定値を予測値と比較するように構成されており、該予測値は以前に測定された値から導かれており、該検出器はさらに該測定値と該対応する予測値との差をトラックすることにより、ノイズ区域によって規定される境界の外側にある偏差量の検知に基づいて、処理に関連づけられた終点を特定する、検出器と
　を備える、システム。
　　【請求項９】
　前記検出器は、少なくとも２つの連続的な時間点に対する前記測定値と前記予測値との差が前記偏差量を超えるとき、前記モニターされている処理を終了するように構成される、請求項８に記載のシステム。
　　【請求項１０】
　前記処理モジュールは、化学機械的平坦化モジュールとエッチングモジュールとからなるグループから選択される、請求項８に記載のシステム。
　　【請求項１１】
　前記センサは、前記処理パラメータの変化を感知し、該処理パラメータは構成変化および状態変化のうち１つとして変動し、該構成変化および該状態変化は前記半導体ウェーハのうち１つと該処理モジュールの構成要素と関連する、請求項８に記載のシステム。
　　【請求項１２】
　前記センサは、渦電流センサ、赤外線センサ、振動センサおよび反射スペクトルを検出するように構成されたセンサからなるグループから選択される、請求項８に記載のシステム。
　　【請求項１３】
　前記検出器は、干渉からのバックグラウンドノイズを実質的に除去するように構成されたオフセットを前記境界の決定と結びつけるように構成される、請求項８に記載のシステム。
　　【請求項１４】
　処理の終点を識別するプログラム命令を有するコンピュータ読取可能媒体であって、
　モニターされている処理の値に対応する一組の点についての近似方程式を規定するプログラム命令と、
　前記近似方程式によって、該モニターされている処理の現在点における期待値を予測するプログラム命令と、
　前記処理の値に関して、境界を提供するノイズ区域を規定するプログラム命令と、
　該モニターされている処理の該現在点における測定値と該対応する期待値との差を計算するプログラム命令と、
　該測定値と該対応する期待値との差をモニターすることにより前記境界の外側にある偏差量を検出するプログラム命令と、
　該偏差量の該検出に基づいて該モニターされている処理の終点を識別するプログラム命令と
　を備える、コンピュータ読取可能媒体。
　　【請求項１５】
　前記近似方程式は多項方程式である、請求項１４に記載のコンピュータ読取可能媒体。
　　【請求項１６】
　処理の終点を検出する方法であって、
　遷移点と関連するパラメータをモニターすることと、
　近似方程式によって、前記モニターされたパラメータの過去の値から前記パラメータの予測値を計算することであって、前記予測値は、前記モニターされているパラメータの現在値に対応する、ことと、
　前記パラメータの値に関して、境界を提供するノイズ区域を規定することと、
　連続的な時点について、前記現在値と前記予測値との間の差をトラックすることと、
　前記差が、前記ノイズ区域の前記境界を超えた時に前記遷移点を識別することと
　を包含する、方法。
　　【請求項１７】
　前記閾値はオフセットの外側にあり、前記オフセットは、バックグラウンドノイズによる前記遷移点の識別の妨害をほぼ排除するよう構成される、請求項１６に記載の方法。 
　　【請求項１８】
　前記差が前記閾値を超えた時に前記遷移点を識別する前記方法作業は、前記差が前記閾値を超えた時に少なくとも２つの点を識別することを包含する、請求項１６に記載の方法。
　　【請求項１９】
　前記パラメータは、処理されている物体と関連する構成変化または状態変化を検出するよう構成されたセンサによってモニターされることが可能である、請求項１６に記載の方法。」
と補正するものである。
　
　　イ　本件補正の内容を整理すると、以下のとおりとなる。
〈補正事項１〉
　本件補正前の請求項５、１５、１８及び２２を削除する。
　本件補正前の請求項５の削除に伴い、本件補正前の請求項１を引用する本件補正前の請求項６〜８を、それぞれ、本件補正後の請求項１を引用する本件補正後の請求項５〜７に繰り上げ、また、本件補正前の請求項９を本件補正後の請求項８に繰り上げるとともに、本件補正前の請求項９を引用する本件補正前の請求項１０〜１４を、それぞれ、本件補正後の請求項８を引用する本件補正後の請求項９〜１３に繰り上げる。
　本件補正前の請求項５、１５の削除に伴い、本件補正前の請求項１６を本件補正後の請求項１４に繰り上げるとともに、本件補正前の請求項１６を引用する本件補正前の請求項１７を、本件補正後の請求項１４を引用する本件補正後の請求項１５に繰り上げる。
　本件補正前の請求項５、１５及び１８の削除に伴い、本件補正前の請求項１９を本件補正後の請求項１６に繰り上げるとともに、本件補正前の請求項１９を引用する本件補正前の請求項２０〜２１を、それぞれ、本件補正後の請求項１６を引用する本件補正後の請求項１７〜１８に繰り上げる。
　そして、本件補正前の請求項５、１５、１８及び２２の削除に伴い、本件補正前の請求項１９を引用する本件補正前の請求項２３を、本件補正後の請求項１６を引用する本件補正後の請求項１９に繰り上げる。
　
〈補正事項２〉
　本件補正前の請求項１における「傾斜ベース検出タスクを閾値ベース検出タスクに変換する方法」との記載を、本件補正後の請求項１においては「処理の終点を識別する方法」と補正する。
　
〈補正事項３〉
　本件補正前の請求項１における「傾斜ベース近似方程式」との記載を、本件補正後の請求項１においては「近似方程式」と補正する。
　
〈補正事項４〉
　本件補正後の請求項１に、「前記処理の値に関して、境界を提供するノイズ区域を規定することと、」との記載を追加する。
　
〈補正事項５〉
　本件補正前の請求項１における「該差をモニターすることにより、該測定値と該期待値との間の閾偏差量を検出することと」及び「該閾偏差量」との記載を、本件補正後の請求項１においては「該測定値と該対応する期待値との差をモニターすることにより、前記境界の外側にある偏差量を検出することと」及び「該偏差量」と補正する。
　
〈補正事項６〉
　本件補正前の請求項６における「閾偏差量」との記載を、本件補正後の請求項６においては「偏差量」と補正する。
　
〈補正事項７〉
　本件補正前の請求項９における「傾斜変化遷移の遷移点をリアルタイムの閾値決定により検出することが可能である半導体処理システム」との記載を、本件補正後の請求項８においては「リアルタイムに処理の終点を検出することが可能である半導体処理システム」と補正する。
　
〈補正事項８〉
　本件補正前の請求項９における「該測定値は傾斜変化から遷移点を示しており、」との記載を削除する。
　
〈補正事項９〉
　本件補正前の請求項９における「該遷移点における変化を強化し、閾偏差量が規定されることを可能にし、該閾偏差量は該処理作業と関連する該遷移点を示す」との記載を、本件補正後の請求項８においては「、ノイズ区域によって規定される境界の外側にある偏差量の検知に基づいて、処理に関連づけられた終点を特定する」と補正する。
　
〈補正事項１０〉
　本件補正前の請求項１０における「前記閾偏差量を超えるとき、前記処理システムと関連する遷移を開始する」との記載を、本件補正後の請求項９においては「前記偏差量を超えるとき、前記モニターされている処理を終了する」と補正する。
　
〈補正事項１１〉
　本件補正前の請求項１４における「オフセットを前記閾値決定と結びつける」との記載を、本件補正後の請求項１３においては「オフセットを前記境界の決定と結びつける」と補正する。
　
〈補正事項１２〉
　本件補正前の請求項１６における「傾斜ベース検出タスクを閾値ベース検出タスクに変換するプログラム命令」との記載を、本件補正後の請求項１４においては「処理の終点を識別するプログラム命令」と補正する。
　
〈補正事項１３〉
　本件補正前の請求項１６において２箇所存在する「傾斜ベース近似方程式」との記載を、本件補正後の請求項１４においては「近似方程式」と補正する。
　
〈補正事項１４〉
　本件補正後の請求項１４に、「前記処理の値に関して、境界を提供するノイズ区域を規定するプログラム命令と、」との記載を追加する。
　
〈補正事項１５〉
　本件補正前の請求項１６における「該差をモニターすることにより、該測定値と該期待値との間の閾偏差量を検出するプログラム命令と」及び「該閾偏差量」との記載を、本件補正後の請求項１４においては「該測定値と該対応する期待値との差をモニターすることにより前記境界の外側にある偏差量を検出するプログラム命令と」及び「該偏差量」と補正する。
　
〈補正事項１６〉
　本件補正前の請求項１９における「傾斜ベース変化の遷移点を閾値検出により検出する方法」との記載を、本件補正後の請求項１６においては「処理の終点を検出する方法」と補正する。
　
〈補正事項１７〉
　本件補正前の請求項１９における「傾斜ベース近似」との記載を、本件補正後の請求項１６においては「近似方程式」と補正する。
　
〈補正事項１８〉
　本件補正前の請求項１９における「閾値を決定すること」との記載を、本件補正後の請求項１６においては「前記パラメータの値に関して、境界を提供するノイズ区域を規定すること」と補正する。
　
〈補正事項１９〉
　本件補正前の請求項１９における「前記差が前記閾値を超えた時に」との記載を、本件補正後の請求項１６においては「前記差が、前記ノイズ区域の前記境界を超えた時に」と補正する。
　
２．補正目的の適否及び新規事項の有無
　　ア　補正事項１は、請求項を削除する補正、及び、この請求項の削除に伴い必然的に生じる形式的な補正である。
　したがって、補正事項１は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項（以下「特許法第１７条の２第４項」という。）第１号に掲げる「請求項の削除」を目的とするものに該当する。
　そして、補正事項１が、本願の願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてなされたことは明らかであるから、補正事項１は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第３項（以下「特許法第１７条の２第３項」という。）の規定に適合する。
　
　　イ　補正事項２は、平成２３年８月１８日付けの最後の拒絶理由通知の「理由３」において「請求項１，１６の「傾斜ベース検出タスクを閾値ベース検出タスクに変換する」という記載」は「発明の詳細な説明に開示されたいずれの内容を表すものであるのかが理解できない」と指摘されたこと、本件補正前の請求項１に係る発明が「該モニターされている処理の終点を識別すること」を「包含する、方法」の発明であったことから、本件補正後の請求項１に係る発明が「処理の終点を識別する方法」の発明であることを明確にしたものと認められる。
　したがって、補正事項２は、特許法第１７条の２第４項第４号に掲げる「明りょうでない記載の釈明」を目的とするものに該当する。
　そして、補正事項２が、本願の願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてなされたことは明らかであるから、補正事項２は、特許法第１７条の２第３項の規定に適合する。
　
　　ウ　補正事項３は、平成２３年８月１８日付けの最後の拒絶理由通知の「理由３」において「請求項１，１６の「傾斜ベース近似方程式」という記載」は「発明の詳細な説明に開示されたいずれの内容を表すものであるのかが理解できない」と指摘されたことを受けて、本願の願書に最初に添付した明細書のたとえば段落【００１８】の「ここでは、選択した区間のデータフロー点の近似方程式を用いて、本発明の一実施形態の最近のデータ読取りを予測する。」との記載に基づいて「近似方程式」と補正したものと認められる。
　したがって、補正事項３は、特許法第１７条の２第４項第４号に掲げる「明りょうでない記載の釈明」に該当する。
　そして、補正事項３が、本願の願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてなされたことは明らかであるから、補正事項３は、特許法第１７条の２第３項の規定に適合する。
　
　　エ　補正事項４は、補正後の請求項１に、削除した請求項５における「ノイズ区域を規定することであって、該ノイズ区域は境界を提供」するとの事項を加入して「境界を提供するノイズ区域を規定する」ことを限定するとともに、「モニターされている処理の値」に関して当該「ノイズ区域を規定する」ことを限定するものと認められる。
　したがって、補正事項４は、特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものに該当する。
　そして、補正事項４は、本願の願書に最初に添付された明細書の段落【００１９】の「実信号と予測信号との差にオフセットが当てはめられることによりノイズ区域を規定することができ、ここで、ノイズ区域の外側にある点は遷移点に妥当な点であると考えられる。本質的に、ノイズ区域は実際値と予測値との差の周りの境界を規定する。」との記載、同段落【００２５】における「従って、ノイズ区域はノイズレベルを考慮に入れるように構成され」との記載、すなわち、「実際値と予測値との差の周りの境界を規定」する「ノイズ区域」は、モニターされている処理の前記「実際値」の「ノイズレベル」を考慮に入れて「規定」するという開示内容に基づいていると認められる。
　したがって、補正事項４は、本願の願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において、新たな技術的事項を導入しないものであるから、本願の願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてなされたと認められる。よって、補正事項４は、特許法第１７条の２第３項の規定に適合する。
　
　　オ　補正事項５は、平成２３年８月１８日付けの最後の拒絶理由通知の「理由３」において「「閾偏差量」という用語の定義が不明である」と指摘されたことを受けて、請求項の記載を明確にしたものと認められる。
　したがって、補正事項５は、特許法第１７条の２第４項第４号に掲げる「明りょうでない記載の釈明」を目的とするものに該当する。
　そして、補正事項５は、本願の願書に最初に添付された明細書の段落【００１９】における、「本発明の一実施形態に従って、様々な時間点における実信号と対応する予測信号との差を計算することによって生成された偏差信号に関する例示的なグラフである。ここで、線１１２は長期にわたる予測信号と実信号との差を表す。領域１１４はノイズ区域（ｃｏｒｒｉｄｏｒ  ｏｆ  ｎｏｉｓｅ）を現す。つまり、実信号と予測信号との差にオフセットが当てはめられることによりノイズ区域を規定することができ、ここで、ノイズ区域の外側にある点は遷移点に妥当な点であると考えられる。」との記載、すなわち、「様々な時間点における実信号と対応する予測信号との差」である「偏差信号」を観測して、当該「偏差信号」が「ノイズ区域の外側にある点」を「妥当」な「遷移点」と判定するという開示内容に基づいていると認められる。
　したがって、補正事項５は、本願の願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において、新たな技術的事項を導入しないものであるから、本願の願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてなされたと認められる。よって、補正事項５は、特許法第１７条の２第３項の規定に適合する。
　
　　カ　補正事項６は、前記オと同じ理由により、特許法第１７条の２第４項第４号に掲げる「明りょうでない記載の釈明」を目的とするものに該当する。
　そして、補正事項６が、本願の願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてなされたことは明らかであるから、補正事項６は、特許法第１７条の２第３項の規定に適合する。
　
　　キ　本願の願書に最初に添付した明細書の、段落【０００３】に「ウェーハ特徴を制御するリアルタイム計測は現在必要不可欠な存在であり、その結果、特定の処理作業の終了点または遷移点が決定され得る。」と、段落【００２８】に「遷移点が達成されるとすぐに、他の所定の作業が開始し得、または現在の作業の終了点が生じ得ることを理解されたい。」と記載されるように、本願の願書に最初に添付した明細書において、「終了点」と「遷移点」とは、実質的に同じ意味で用いられている。
　補正事項７は、平成２３年８月１８日付けの最後の拒絶理由通知の「理由３」において「請求項９の「傾斜変化遷移の遷移点をリアルタイムの閾値決定により検出する」という記載」は「発明の詳細な説明に開示されたいずれの内容を表すものであるのかが理解できない」と指摘されたことを受けて、上記の点を考慮して、請求項の記載を明確にしたものと認められる。
　したがって、補正事項７は、特許法第１７条の２第４項第４号に掲げる「明りょうでない記載の釈明」を目的とするものに該当する。
　そして、補正事項７が、本願の願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてなされたことは明らかであるから、補正事項７は、特許法第１７条の２第３項の規定に適合する。
　
　　ク　補正事項８及び９は、平成２３年８月１８日付けの最後の拒絶理由通知の「理由３」において、「請求項９の「該測定値は傾斜変化から遷移点を示しており」という記載」は「発明の詳細な説明に開示されたいずれの内容を表すものであるのかが理解できない」と、また、「請求項１，９，１６に記載された「閾偏差量」という用語の定義が不明である」と、それぞれ、指摘されたことを受けて、請求項の記載を明確にしたものと認められる。
　したがって、補正事項８及び９は、特許法第１７条の２第４項第４号に掲げる「明りょうでない記載の釈明」を目的とするものに該当する。
　そして、補正事項４及び５で指摘した理由と同じ理由により、補正事項８及び９は、本願の願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてなされたことは明らかであるから、補正事項８及び９は、特許法第１７条の２第３項の規定に適合する。
　
　　ケ　補正事項１０において、「閾偏差量」を「偏差量」に補正することは、前記オのとおり、「明りょうでない記載の釈明」を目的とすると認められる。
　また、本願の願書に最初に添付された明細書には、「終了点」ないしは「遷移点」を検出することは記載されているものの、「遷移を開始する」ことは記載されていない。してみれば、本件補正前の「前記処理システムと関連する遷移を開始する」との記載は誤記であると認められる。
　したがって、補正事項１０は、特許法第１７条の２第４項第４号に掲げる「明りょうでない記載の釈明」、及び、特許法第１７条の２第４項第３号に掲げる「誤記の訂正」を目的とするものに該当する。
　そして、前記オで指摘したように、本願の願書に最初に添付された明細書には、「様々な時間点における実信号と対応する予測信号との差」である「偏差信号」を観測して、当該「偏差信号」が「ノイズ区域の外側にある点」を「妥当」な「遷移点」と判定することが、開示されている。
　したがって、補正事項１０は、本願の願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてなされたことは明らかであるから、補正事項１０は、特許法第１７条の２第３項の規定に適合する。
　
　　コ　「オフセットを前記閾値決定と結びつける」との記載を「オフセットを前記境界の決定と結びつける」と補正する補正事項１１は、補正事項７で「傾斜変化遷移の遷移点をリアルタイムの閾値決定により検出する」との記載を「リアルタイムに処理の終点を検出する」と補正し、補正事項９で「該遷移点における変化を強化し、閾偏差量が規定されることを可能にし、該閾偏差量は該処理作業と関連する該遷移点を示す」との記載を「ノイズ区域によって規定される境界の外側にある偏差量の検知に基づいて、処理に関連づけられた終点を特定する」と補正したことで、本件補正後の請求項８から「閾値決定」との語句を削除した一方で、同項に「ノイズ区域によって規定される境界」との概念を導入したことに伴い、本件補正後の請求項１３の記載を、引用する本件補正後の請求項８の記載に整合させたものと認められる。
　したがって、補正事項１１は、補正事項７及び補正事項９と同じく、特許法第１７条の２第４項第４号に掲げる「明りょうでない記載の釈明」を目的とするものに該当する。
　そして、補正事項１１は、本願の願書に最初に添付された明細書の、段落【００１９】の「つまり、実信号と予測信号との差にオフセットが当てはめられることによりノイズ区域を規定することができ、ここで、ノイズ区域の外側にある点は遷移点に妥当な点であると考えられる。本質的に、ノイズ区域は実際値と予測値との差の周りの境界を規定する。」及び段落【００３５】の「遷移点は、事前に定義した数のモニターされた差の連続点がノイズ区域の外側で検出されるときに生じる。また、オフセットが、オフセット境界の外側で検出された点（すなわち、実際値と予測値との差の値）が遷移点を示すレベルを定義するのに提供され得る。」との記載に基づくものと認められる。
　したがって、補正事項１１は、本願の願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において、新たな技術的事項を導入しないものであるから、本願の願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてなされたと認められる。よって、補正事項１１は、特許法第１７条の２第３項の規定に適合する。
　
　　サ　補正事項２について指摘した理由と同じ理由により、補正事項１２及び１６は、特許法第１７条の２第４項第４号に掲げる「明りょうでない記載の釈明」を目的とするものに該当する。
　そして、補正事項２について指摘した理由と同じ理由により、補正事項１２及び１６は、特許法第１７条の２第３項の規定に適合する。
　
　　シ　補正事項３について指摘した理由と同じ理由により、補正事項１３及び１７は、特許法第１７条の２第４項第４号に掲げる「明りょうでない記載の釈明」を目的とするものに該当する。
　そして、補正事項３について指摘した理由と同じ理由により、補正事項１３及び１７は、特許法第１７条の２第３項の規定に適合する。
　
　　ス　補正事項４について指摘した理由と同じ理由により、補正事項１４、１８及び１９は、特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものに該当する。
　そして、補正事項４について指摘した理由と同じ理由により、補正事項１４、１８及び１９は、特許法第１７条の２第３項の規定に適合する。
　
　　セ　補正事項５について指摘した理由と同じ理由により、補正事項１５は、特許法第１７条の２第４項第４号に掲げる「明りょうでない記載の釈明」を目的とするものに該当する。
　そして、補正事項５について指摘した理由と同じ理由により、補正事項１５は、特許法第１７条の２第３項の規定に適合する。
　
　　ソ　以上から、本件補正は、特許法第１７条の２第３項及び第４項に規定する要件を満たす。
　
３．独立特許要件
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第４項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とする補正を含んでいる。
　そこで、本件補正後の特許請求の範囲に記載されている事項により特定される発明が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものかどうかを、その請求項１に係る発明について検討する。
　
（１）補正発明
　本件補正後の請求項１〜１９に係る発明は、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１〜１９に記載されている事項により特定されるとおりのものであり、そのうちの請求項１に係る発明（以下「補正発明」という。）は、再掲すると、次のとおりである。
　
「処理の終点を識別する方法であって、
　モニターされている処理の値に従って一組の点の近似方程式を規定することと、
　前記近似方程式によって、該モニターされている処理の現在点における期待値を予測することと、
　前記処理の値に関して、境界を提供するノイズ区域を規定することと、
　該モニターされている処理の該現在点における測定値と該対応する期待値との差を計算することと、
　該測定値と該対応する期待値との差をモニターすることにより、前記境界の外側にある偏差量を検出することと、
　該偏差量の該検出に基づいて該モニターされている処理の終点を識別することと
　を包含する、方法。」
　
（２）各引用例の記載事項と引用発明
（２−１）引用例１の記載事項
　原査定の根拠となった平成２３年８月１８日付けの最後の拒絶理由通知に引用され、本願の優先権主張の日前に外国において頒布された刊行物である、国際公開第９９／０４０６１７号（以下「引用例１」という。）には、「半導体プラズマ処理における終点検出方法」（発明の名称の訳）に関して、ＦＩＧ．１〜ＦＩＧ．８とともに、次の記載がある（下線は、参考のため、当審において付したもの。以下、他の刊行物について同じ。）。
　
　　ア　発明の属する技術分野
ａ．「
本発明は、被処理体に対して半導体プラズマ処理を施す際に処理の終点を検出する方法に関し、特にドライエッチングにおける終点検出方法に関する
　
　　イ　背景技術
ｂ．「特開平５−１０２０８６には、本発明の発明者によりなされたドライエッチングにおける終点検出方法の先行技術が開示される。…（中略）…より具体的には、先ず、予め定められた指定期間内において、活性種及び反応生成物の発光強度の経時的変化を表す両特性曲線の平均的な傾きを一致させるための変換係数を求める。そして、指定期間後、この変換係数を使用して補正しながら活性種及び反応生成物の発光強度の比を検出し、この比に基づいてドライエッチング処理の終点を決定する。
　上述の如く、特開平５−１０２０８６に開示の方法においては、…（中略）…直線的でない２つの特性曲線を指定期間後に同公報の図２に示すように理想的に重ね合せることは難しい。また、指定期間の幅により特性曲線の平均的な傾きは大きく異なることとなるため、終点判定の信頼性は指定期間の幅に大きく依存する。
　更に、上述の方法は、電源出力のわずかな変動、マスフローコントローラの影響、処理圧力の変動、プラズマに起因する被処理体温度の上昇等による、活性種及び反応生成物の発光強度にゆらぎについても互いにキャンセルして補正することを意図している。しかし、活性種及び反応生成物をとわず、異なる２つの物質に対する発光強度のゆらぎ成分は異なっているため、同方法では、このような異なるゆらぎ成分を十分に補正することができない。」（明細書の第１頁第２３行〜第３頁第２行）
　
　　ウ　発明を実施するための最良の形態
ｃ．「次に、判定部６７において行なう終点検出方法について詳述する。
　先ず、オペレータは、プラズマ処理即ちエッチング処理の開始に先立ち、経験的知識、シミュレーション或いは実験データに基づいて、エッチング処理の理想的な終点に至る前の指定期間、例えば、エッチング処理の開始（即ち高周波電源１２のオン）から６０秒から１５０秒の間の期間を決め、これを判定部６７に入力設定する。より具体的には、事前に同一エッチング条件で大まかなエッチングレートを測定するか、過去のデータに基づきエッチングレートを算出する。そして、実際に処理されるウエハの膜厚データより、大よその必要なエッチング時間を算出し、この時間の１０％〜３０％の時点を指定期間の開始時点とし、５０％〜９０％の時点を同指定期間の終了時点とする。
　また、オペレータは、観察の対象としている２つのガスの発光強度の経時的変化を表す特性曲線を夫々近似する第１及び第２近似式Ｆａ（ｘ）、Ｆｂ（ｘ）を求めるための第１及び第２基準式を決め、これを判定部６７に入力設定する。例えば、本実施の形態では、観察の対象としている２つのガスがＣＦ系ラジカル及び一酸化炭素であるため、第１及び第２基準式として下記の指数関数、即ち、
　　　ｙ＝ｙ０＋Ｇ・ｅ（−（ｘ−ｘ０）／Ｔ）　
を共通して使用することができる。ここで、ｙは発光強度、ｙ０はｙのオフセット、
ｘは処理時間
　このような設定に基づき、判定部６７において、エッチング処理中、次のような演算処理を行ない、エッチング処理の終点を決定する。
　先ず、指定期間（６０秒から１５０秒）内における、２つの分光系で得られたプラズマ中のＣＦ系ラジカル及び一酸化炭素の発光強度Ｉａ、Ｉｂの経時的変化を表す特性曲線を夫々近似する第１及び第２近似式Ｆａ（ｘ）、Ｆｂ（ｘ）を求める。第１及び第２近似式は、例えば、上述の基準式に基づいて、公知の最小２乗法により夫々の特性曲線を近似することにより導くことができる。
　また、指定期間（６０秒から１５０秒）内における、第１及び第２近似式Ｆａ（ｘ）、Ｆｂ（ｘ）の値に対するＣＦ系ラジカル及び一酸化炭素の発光強度Ｉａ、Ｉｂの夫々の偏差を表す第１及び第２偏差Ｄａ、Ｄｂの比（Ｄａ／Ｄｂ）を補正係数αとして求める。第１及び第２偏差Ｄａ、Ｄｂとしては、例えば、標準偏差、或いは偏差の最大値と最小値との差を使用することができる。
　なお、第１及び第２近似式Ｆａ（ｘ）、Ｆｂ（ｘ）を求めるための指定期間、即ち観察の対象としている２つのガスの発光強度の経時的変化を表す特性曲線を夫々近似する指定期間は別々に設定することができる。また、第１及び第２偏差Ｄａ、Ｄｂを求めるための指定期間、即ち第１及び第２近似式Ｆａ（ｘ）、Ｆｂ（ｘ）の値に対する、観察の対象としている２つのガスの発光強度Ｉａ、Ｉｂの夫々の偏差を得る指定期間も別々に設定することができる。更に、第１及び第２近似式Ｆａ（ｘ）、Ｆｂ（ｘ）を求めるための指定期間と、第１及び第２偏差Ｄａ、Ｄｂを求めるための指定期間も、別々に設定することもできる。
　次に、指定期間後（１５０秒以降）において、プラズマ中のＣＦ系ラジカル及び一酸化炭素の発光強度Ｉａ、Ｉｂと第１及び第２近似式Ｆａ（ｘ）、Ｆｂ（ｘ）の値との夫々の比を表す第１及び第２中間式、例えばＩａ／Ｆａ（ｘ）、Ｉｂ／Ｆｂ（ｘ）を求める。更に、第１及び第２偏差Ｄａ、Ｄｂ相互間の相違が小さくなるように補正係数αにより重みつけ補正した状態の、第１及び第２中間式Ｉａ／Ｆａ（ｘ）、Ｉｂ／Ｆｂ（ｘ）の値の比を表す判定式、例えば、
　[Ia/Fa(x)]/{α[Ib/Fb(x)-1]+1}　　…{1}
を求める。
　そして、この判定式に基づいてエッチング処理の終点を決定し、判定部６７からエッチング処理を終了ための終了信号を出力する。即ち、判定部６７からの終了信号により、ドライエッチング装置１を制御し、処理ガスの供給や高周波電力の付与等を停止してエッチング処理を終了する。エッチング処理の終点は、例えば、判定式により表される曲線の平均的な傾きが大きく変わった時点を基準として決定することができる。代わりに、エッチング処理の終点は、判定式の計算値の絶対値がしきい値以上となった時点を基準として決定することができる。いずれの場合も、これらの時点から、経験上把握されているオーバーエッチングのための所定時間が経過した時点をエッチング処理の終点とすることができる。
　また、指定期間後（１５０秒以降）において求める第１及び第２中間式は、プラズマ中のＣＦ系ラジカル及び一酸化炭素の発光強度Ｉａ、Ｉｂと第１及び第２近似式Ｆａ（ｘ）、Ｆｂ（ｘ）の値との夫々の差を表す式、例えばＩａ−Ｆａ（ｘ）、Ｉｂ−Ｆｂ（ｘ）とすることができる。この場合、更に、第１及び第２偏差Ｄａ、Ｄｂ相互間の相違が小さくなるように補正係数αにより重みつけ補正した状態の、第１及び第２中間式Ｉａ−Ｆａ（ｘ）、Ｉｂ−Ｆｂ（ｘ）の値の比を表す判定式、例えば、
　[Ia-Fa(x)+M]/{α[Ib-Fb(x)]+M}　　…{2}
を求める。ここでＭは任意の定数、例えば１である。そして、この判定式に基づいてエッチング処理の終点を決定し、エッチング処理を終了するようにドライエッチング装置１を制御する。」（明細書の第１２頁第１０行〜第１６頁第２行）
　
　　エ　実施例
ｄ．「図３は判定部６７における演算により得られた中間式、判定式等により表される曲線を示す。図３において、＃Ｉａ／Ｆａ（ｘ）、＃Ｉｂ／Ｆｂ（ｘ）は、第１及び第２中間式Ｉａ／Ｆａ（ｘ）、Ｉｂ／Ｆｂ（ｘ）の曲線を示す。＃［Ｉａ／Ｆａ（ｘ）］／｛α［Ｉｂ／Ｆｂ（ｘ）−１］＋１｝及び＃［Ｉａ／Ｆａ（ｘ）］／［Ｉｂ／Ｆｂ（ｘ）］は、前述の判定式｛１｝及び、その比較例の式、
　[Ia/Fa(x)]/[Ib/Fb(x)]　　　　　　　　　　…{3}
の曲線を表す。なお、補正係数αとしては、標準偏差に基づく２．４８を使用している。
　図３図示の如く、比較例の式｛３｝の曲線に比べて、判定式｛１｝の曲線においては、曲線のゆらぎがかなり小さくなり、しかも、ニッチング処理の終点に近い２００秒付近で、平均的な傾きのより大きな変化が得られた。これらの相違は、式｛１｝、｛３｝を比較すれば、補正係数αによる重みつけ補正によってもたらされたことが分かる。即ち、本発明に係る重みつけ補正を経た判定式によれば、エッチング処理の終点をより容易且つ正確に検出できることが判明した。
　……（中略）……
　次に、
観察態様の特性曲線のゆらぎが少ない場合、或いは終点検出に高精度が要求されない場合等に好適
これらの場合、上述の第１及び第２偏差Ｄａ、Ｄｂを用いずに終点検出を行うことや、１種類のガス等の１観察対象のみを使用して終点検出を行う
　
ｅ．「次に、
１種類のガス等の１観察対象のみを使用して終点検出を行う場合
　本実施の形態においては、先ず、先の実施の形態と同様に、
プラズマ処理即ちエッチング処理の開始に先立ち、エッチング処理の理想的な終点に至る前の指定期間を決め、これを制御部に入力設定する
　このような設定に基づき、制御部は、エッチング処理中、次のような演算処理を行ない、エッチング処理の終点を決定する。
　先ず、
指定期間内における、プラズマ中の観察対象ガスの発光強度Ｉａの経時的変化を表す特性曲線を近似する近似式Ｆａ（ｘ）を基準式に基づいて求める
　次に、
指定期間後において、プラズマ中の観察対象ガスの発光強度Ｉａと近似式Ｆａ（ｘ）の値との
差を表す判定式を求める
Ｉａ−Ｆａ（ｘ）、若しくはＦａ（ｘ）−Ｉａ
　そして、
この判定式に基づいてエッチング処理の終点を決定
　図７は本実施の形態における観察対象ガスの発光強度の経時的変化及びその近似曲線のモデルを示す。図７において、＃Ｉａは、エッチング処理の全期間に亘る観察対象ガスの発光強度Ｉａの経時的変化を表す特性曲線である。また、＃Ｆａ（ｘ）は、指定期間内における発光強度の特性曲線を近似する近似式Ｆａ（ｘ）に従って算出した近似曲線である。
　図８は本実施の形態の判定式により表される曲線＃Ｉａ／Ｆａ（ｘ）を示す。図８図示の如く、判定式の曲線＃Ｉａ／Ｆａ（ｘ）は、発光強度Ｉａの曲線に比べ、エッチング処理の終点付近における変化が大きくなる。従って、この判定式によれば、エッチング処理の終点をより容易に検出することができる。
　なお、図５乃至図８を参照して説明した２つの実施の形態において、エッチング処理の終点は、例えば、判定式により表される曲線の平均的な傾きが大きく変わった時点を基準として決定することができる。代わりに、
エッチング処理の終点は、判定式の計算値の絶対値がしきい値以上となった時点を基準として決定する
　
（２−２）引用発明
　前項のａ〜ｄの記載を勘案すれば、同ｅに記載されるように、引用例１には、次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
　
「被処理体に対して半導体プラズマ処理を施す際に処理の終点を検出する方法であって、
　前記プラズマ処理の理想的な終点に至る前の指定期間を設定する段階と、
　前記指定期間内における、プラズマ中の観察対象ガスの発光強度Ｉａの経時的変化を表す特性曲線を近似し、処理時間ｘの関数である近似式Ｆａ（ｘ）を求める段階と、
　指定期間後において、プラズマ中の観察対象ガスの発光強度Ｉａと近似式Ｆａ（ｘ）の値との差Ｉａ−Ｆａ（ｘ）、若しくは、Ｆａ（ｘ）−Ｉａを表す判定式を求める段階と、
　前記判定式に基づいて、前記判定式の計算値の絶対値がしきい値以上となった時点を基準として、前記プラズマ処理の終点を決定する段階と、
を包含することを特徴とする半導体プラズマ処理における終点検出方法。」
　
（２−３）引用例２の記載事項
　原査定の根拠となった平成２３年８月１８日付けの最後の拒絶理由通知に引用され、本願の優先権主張の日前に日本国内において頒布された刊行物である、特開昭５６−１１４３２９号公報（以下「引用例２」という。）には、「ドライエッチング反応の終了時点検出方法」（発明の名称）に関して、第１図〜第３図とともに、次の記載がある。
　
ａ．「本発明は、半導体装置製造のためのいわゆるドライエッチング（ dry etching ）工程において、エッチング反応の終了時点を、自動的に、かつ、簡易に検出する方法に関する。」（第１頁の下左欄第１４〜１７行）
　
ｂ．「反応管中のプラズマから照射されるプラズマ光には、エッチング反応継続時間中のみ特徴的に発生又は減少するプラズマ光がありうる。そして、このプラズマ光の波長は、エッチングに関与するイオン又はラジカルの種類、被エッチング物の種類等によって決定される。」（第２頁上左欄第４〜９行）
　
ｃ．「第１図に示す特徴的な
プラズマ発光量／反応時間曲線
曲線には、現実には、ノイズの影響により小振幅の高調波が重畳されており、その絶対値の小さい区間ではその傾向の判定が必ずしも容易ではない
予め定められた時間間隔をもってプラズマ発光量をサンプリングし、連続する２点以上のサンプル値の差が予め定めた一定値以内に達した時点をもって反応終了時点と判断する
　
ｄ．「ノイズによる小振幅の高調波は反応の全期間に発生するので、サンプリング回路は発光量が急激に変化した後の期間のみ動作させることにする。すなわち…（中略）…反応開始後２分〜３分の期間が経過するまでは、サンプリング回路は動作させない。
　エッチング反応が開始されると、波長７０４ｎｍの光の光量は急激に減少し、約３０秒後に定常状態に達する。そして、約４〜５分後にエッチング反応が終了するとこの波長の光の光量は急増する。したがって、サンプリング回路はこの時から動作を開始させる。
サンプリング周期は上記の通り１〜１０秒であるが、通常５分程度で連続する３点における電圧差が１ｍＶ　以下となって、反応の終了を検出しうる
　
（３）対比
（３−１）補正発明と引用発明との対比
　補正発明と引用発明とを対比する。
　
　　ア　引用発明は、「前記指定期間内における、プラズマ中の観察対象ガスの発光強度Ｉａの経時的変化を表す特性曲線を近似し、処理時間ｘの関数である近似式Ｆａ（ｘ）を求める段階」を「包含」している。
　そして、引用発明の「前記指定期間内における、プラズマ中の観察対象ガスの発光強度Ｉａの経時的変化」を「近似」する「処理時間ｘの関数である近似式Ｆａ（ｘ）」は、「前記指定期間内」における複数の「処理時間ｘ」における「観察対象ガスの発光強度Ｉａ」を「近似」しているから、補正発明の「一組の点の近似方程式」に相当する。
　したがって、引用発明の「前記指定期間内における、プラズマ中の観察対象ガスの発光強度Ｉａの経時的変化を表す特性曲線を近似し、処理時間ｘの関数である近似式Ｆａ（ｘ）を、基準式に基づいて公知の最小２乗法により求める段階」と、補正発明の「モニターされている処理の値に従って一組の点の近似方程式を規定すること」とは、「一組の点の近似方程式を規定すること」である点で共通する。
　
　　イ　引用発明は、前記「近似式Ｆａ（ｘ）」を「求める段階」の後で、「指定期間後において、プラズマ中の観察対象ガスの発光強度Ｉａと近似式Ｆａ（ｘ）の値との差Ｉａ−Ｆａ（ｘ）、若しくは、Ｆａ（ｘ）−Ｉａを表す判定式を求める段階」を実施する。したがって、前記「近似式Ｆａ（ｘ）」を「求める段階」と、前記「判定式を求める段階」の間で、「近似式Ｆａ（ｘ）の値」を求めることは明らかである。
　引用発明において、この「近似式Ｆａ（ｘ）の値」は、「処理時間ｘ」における「観察対象ガスの発光強度Ｉａ」を「近似」する、前記「観察対象ガスの発光強度Ｉａ」の期待値であると認められる。この「処理時間ｘ」は、「観察」している現時点における「時間」であることは自明であるから、補正発明の「モニターされている処理の現在点」の相当する。
　したがって、引用発明の前記「近似式Ｆａ（ｘ）の値」を求めることは、補正発明の「前記近似方程式によって、該モニターされている処理の現在点における期待値を予測すること」に相当する。
　
　　ウ　引用発明は、「前記判定式に基づいて、前記判定式の計算値の絶対値がしきい値以上となった時点を基準として、前記プラズマ処理の終点を決定する段階」を「包含」にている。してみれば、前記「前記プラズマ処理の終点を決定する段階」に先立つ何らかのタイミングで「しきい値」を設定することは明らかである。
　引用発明において、この「しきい値」は、「プラズマ処理」に関する「プラズマ中の観察対象ガスの発光強度Ｉａ」と前記「近似式Ｆａ（ｘ）の値」の「差Ｉａ−Ｆａ（ｘ）、若しくは、Ｆａ（ｘ）−Ｉａ」が、「前記プラズマ処理の終点を決定する」境界の中にあるか外にあるかを定める「値」であると解される。
　したがって、引用発明の前記「しきい値」を設定することと、補正発明の「前記処理の値に関して、境界を提供するノイズ区域を規定すること」とは、「前記処理の値に関して、境界を提供する」値を「規定すること」である点で共通する。
　
　　エ　引用発明の「指定期間後において、プラズマ中の観察対象ガスの発光強度Ｉａと近似式Ｆａ（ｘ）の値との差Ｉａ−Ｆａ（ｘ）、若しくは、Ｆａ（ｘ）−Ｉａを表す判定式を求める段階」において、処理時間「ｘ」は、補正発明の「モニターされている処理の現在点」に相当することは、前記イで指摘したとおりである。そして、前記「観察対象ガスの発光強度Ｉａ」は、「観察」している現時点における「観察対象ガスの発光強度Ｉａ」であることは自明である。
　したがって、引用発明の「指定期間後において、プラズマ中の観察対象ガスの発光強度Ｉａと近似式Ｆａ（ｘ）の値との差Ｉａ−Ｆａ（ｘ）、若しくは、Ｆａ（ｘ）−Ｉａを表す判定式を求める段階」は、補正発明の「該モニターされている処理の該現在点における測定値と該対応する期待値との差を計算すること」に相当する。
　
　　オ　引用発明の「前記判定式に基づいて、前記判定式の計算値の絶対値がしきい値以上となった時点を基準として、前記プラズマ処理の終点を決定する段階」において、「前記プラズマ処理の終点を決定する」ことに先立って、「前記判定式の計算値の絶対値がしきい値以上とな」るかどうかを判定することは、明らかである。
　ここで、本願明細書（平成２３年６月７日に提出された誤訳訂正書により全文補正された明細書のことである。以下、同じ。）には、段落【０００７】に「次に、モニターされている処理の現在の点における測定値と対応する期待値との間の差が計算される。それから、逐次点の差がモニターされることにより測定値と期待値との間の偏差量を検出する。次に、モニターされている処理の遷移点が偏差量の検出に基づいて識別される。」と記載されている。
　したがって、引用発明の「プラズマ中の観察対象ガスの発光強度Ｉａと近似式Ｆａ（ｘ）の値との差」を表す「前記判定式の計算値」は、補正発明の「該測定値と該対応する期待値との差」に相当するとともに、「偏差量」に相当する。
　そして、引用発明において、「前記判定式の計算値の絶対値がしきい値以上とな」るかどうかを判定することは、「前記判定式の計算値」が「しきい値」以上の大きさを有するかどうかを判定することである。
　したがって、引用発明の「前記判定式の計算値の絶対値がしきい値以上とな」るかどうかを判定することは、補正発明の「該測定値と該対応する期待値との差をモニターすることにより、前記境界の外側にある偏差量を検出すること」に相当する。
　
　　カ　引用発明の「前記判定式に基づいて、前記判定式の計算値の絶対値がしきい値以上となった時点を基準として、前記プラズマ処理の終点を決定する段階」は、補正発明の「該偏差量の該検出に基づいて該モニターされている処理の終点を識別すること」に相当する。
　
　　キ　そして、引用発明の「被処理体に対して半導体プラズマ処理を施す際に処理の終点を検出する方法」ないし「半導体プラズマ処理における終点検出方法」は、補正発明の「処理の終点を識別する方法」に相当する。
　
（３−２）一致点及び相違点
　そうすると、補正発明と引用発明の一致点と相違点は、次のとおりとなる。
　
《一致点》
「処理の終点を識別する方法であって、
　一組の点の近似方程式を規定することと、
　前記近似方程式によって、該モニターされている処理の現在点における期待値を予測することと、
　前記処理の値に関して、境界を提供する値を規定することと、
　該モニターされている処理の該現在点における測定値と該対応する期待値との差を計算することと、
　該測定値と該対応する期待値との差をモニターすることにより、前記境界の外側にある偏差量を検出することと、
　該偏差量の該検出に基づいて該モニターされている処理の終点を識別することと
　を包含する、方法。」
　
《相違点１》
　補正発明は、一組の点の近似方程式を「モニターされている処理の値に従って」規定するのに対して、引用発明は「前記指定期間内における、プラズマ中の観察対象ガスの発光強度Ｉａの経時的変化を表す特性曲線を近似し、処理時間ｘの関数である近似式Ｆａ（ｘ）」を「半導体プラズマ処理」の値に従って求めるかどうか不明である点。
　
《相違点２》
　補正発明は、境界を提供する値として「ノイズ区域」を規定するのに対して、引用発明の「しきい値」は境界を提供する値であるものの、ノイズを考慮しているかどうか不明である点。
　
（４）判断
（４−１）相違点１について
　　ア　「１種類のガス等の１観察対象のみを使用して終点検出を行う場合（明細書の第２１頁第２２〜２３行）」において、引用発明の「プラズマ中の観察対象ガスの発光強度Ｉａの経時的変化を表す特性曲線を近似し、処理時間ｘの関数である近似式Ｆａ（ｘ）」をどのように「求める」のか、引用例１には、第２．３．（２）（２−１）エのｅで摘記したように、具体的な記載はない。
　しかし、引用例１には、「プラズマ中のＣＦ系ラジカル及び一酸化炭素」という２「種類のガス」を「観察対象」として「使用して終点検出を行う場合」の「終点検出方法」に関する実施の形態についてであるが、第２．３．（２）（２−１）のｃで摘記したように、「プラズマ中のＣＦ系ラジカル及び一酸化炭素の発光強度Ｉａ、Ｉｂの経時的変化を表す特性曲線を夫々近似する第１及び第２近似式Ｆａ（ｘ）、Ｆｂ（ｘ）」は「上述の基準式に基づいて、公知の最小２乗法により夫々の特性曲線を近似することにより導く（明細書の第１３頁第１８〜２３行）」と記載されている。
　
　　イ　ここで、「公知の最小２乗法」とは、測定で得られた数値の組を適当なモデルから想定される特定の関数を用いて近似するときに、想定する関数が測定値に対してよい近似となるように、前記測定で得られた値と前記想定する関数の値との差である残差の二乗和を最小とするように前記想定する関数の係数を決定する方法をいうことは、技術常識である。
　
　　ウ　したがって、引用発明において、「プラズマ中の観察対象ガスの発光強度Ｉａの経時的変化を表す特性曲線を近似し、処理時間ｘの関数である近似式Ｆａ（ｘ）」を前記「公知の最小２乗法」により導くことにより、前記測定で得られた数値の組として、前記「プラズマ中の観察対象ガスの発光強度Ｉａ」等の「半導体プラズマ処理」の測定値の組に従って求めること、すなわち、相違点１に係る構成とすることは、当業者であれば当然になしたものと認められる。
　
（４−２）相違点２について
　　ア　引用例２には、「プラズマ発光量／反応時間曲線」には「現実には、ノイズの影響により小振幅の高調波が重畳されており、その絶対値の小さい区間ではその傾向の判定が必ずしも容易ではない」ことから、「予め定められた時間間隔をもってプラズマ発光量をサンプリングし、連続する２点以上のサンプル値の差が予め定めた一定値以内に達した時点をもって反応終了時点と判断する」ことが記載されている。
　してみれば、前記「予め定めた一定値」とは、「連続する２点以上のサンプル値の差」から「反応終了時点」を「判断」するに際して、「ノイズの影響」による「小振幅」の差を前記「反応終了時点」を示す「差」であると「判断」することがないように定めた値であることは、明らかである。
　そして、前記「予め定めた一定値」は、少なくとも、前記「ノイズの影響」による「高調波」の「小振幅」の値以上の値であると認められる。
　
　　イ　また、平成２４年３月２１日付けの補正の却下の決定において例示された周知例１には、以下で摘記するように、「プラズマ処理の終点検出方法」として、「プラズマ処理」に検出した「発光強度Ｉ」とその「平均値ｍ」との「差」と、「エッチング処理時のエッチング用ガスのガス量あるいは電気的ノイズ等による発光強度Ｉのバラツキを統計的に把握」した結果である前記「発光強度Ｉ」の「分散値σ２（より具体的には標準変差σ）」とを比較し、この結果に基づいて「エッチングの終点」を「判定する」こと、これにより、「エッチング用ガスの流入量等のエッチング処理条件の僅かな変動や電気的ノイズによって発光強度Ｉの波形が図３に示すように変動して不安定な状態であっても、光検出器２２から送信される電気信号によりエッチング処理時の発光強度Ｉの上下変動とエッチング終了時の上下変動とを峻別することができる」ことが記載されている。
　同様に、前記補正の却下の決定において例示された周知例２には、以下で摘記するように、「エッチング進行中」の「ノイズ」による「反応生成ガス」の「発光出力」電圧の低下を、誤って、「除去すべき層のエッチングが終了」し「発光スペクトルが減衰」することによる前記「発光出力」電圧の低下であると「判定」しないように設定した「終点設定値Ｂ」が、「一定の値に固定されているため、発光スペクトルのピーク値が変動した場合に、ノイズ幅が変動して終点検出エラーを起こすおそれがあった」ことから、「エッチング処理中」の「反応生成ガス」の「発光出力」を検出し、「この検出された発光スペクトル検出出力」に「ピーク値が検出されると」、「このピーク値に基づ」いて「ノイズ幅Ａ以上でかつ最大電圧Ｃ（図３）以下の最適な終点判別値」を設定すること、そして、「発光スペクトル検出出力が終点設定値に達するとエッチングの終点に達したものと判定」すること、が記載されている。
　
　　ウ　前記ア及びイから、「プラズマ中の観察対象ガスの発光強度」を観察して「半導体プラズマ処理における終点検出」を行う「終点検出」の技術分野において、
ａ．一つの「観察対象ガス」の前記「発光強度」の検出出力にノイズが重畳されると、前記ノイズによる前記検出出力の変動を、前記「プラズマ処理」の終了に伴う前記検出出力の正常な変化であると誤って認識する惧れがあることは、本願の優先権主張の日において、既に技術常識であったと認められ、
ｂ．そのため、前記「プラズマ処理」の「終点検出」のためのしきい値を、前記一つの「観察対象ガス」の「発光強度」の検出出力に重畳されるノイズの大きさに基づいて設定すること、すなわち、前記「発光強度」の値がノイズが存在しうる領域の境界の外にあると判定されたときに、「終点」に達したと「検出」することは、本願の優先権主張の日において、既に周知技術であったと認められる。
　
　　エ　ここで、引用例１における、「本発明の実施の形態に係る実験において得られた発光強度の経時的変化及びその近似曲線を示すグラフ（「図面の簡単な説明」における記載）」である図２を見ると、発光強度＃Ｉａ、＃Ｉｂの曲線には、いずれも、相当程度のゆらぎ（すなわち、ノイズ）が重畳されている。
　したがって、前記技術常識を考慮すれば、引用例１に記載のように、この発光強度の経時的変化に基づいて「終点検出」を行うと、前記ゆらぎ（すなわち、ノイズ）による前記発光強度の検出出力の変動を、「終点」に達したことに伴う前記検出出力の正常な変化であると誤って認識する惧れが十分にあることは、当業者には自明であると認められる。
　
　　オ　ところで、引用発明は、第２．３．（２）（２−１）のｅで摘記したように、「１種類のガス等の１観察対象のみを使用して終点検出を行う場合（引用例１の明細書の第２１頁第２２〜２３行）」の「半導体プラズマ処理における終点検出方法」である。
　したがって、引用発明は、同ｄで摘記したように、「上述の第１及び第２偏差Ｄａ、Ｄｂを用いずに終点検出を行うことや、１種類のガス等の１観察対象のみを使用して終点検出を行うこと」ができる「観察態様の特性曲線のゆらぎが少ない場合、或いは終点検出に高精度が要求されない場合等に好適な（引用例１の明細書の第１９頁第３〜８行）」発明であると認められる。
　しかしながら、たとえ「終点検出に高精度が要求されない」としても、引用発明が「被処理体に対して半導体プラズマ処理を施す際に処理の終点を検出する方法」である以上は、この「終点」の「検出」にある程度の信頼性が要求されることは自明である。
　したがって、前記エのように、ゆらぎ（すなわち、ノイズ）が重畳されている１種類の「観察対象ガスの発光強度Ｉａ」の曲線を「終点検出」の対象とするのであるから、引用発明において、多種類の「観察対象ガスの発光強度」の曲線を「観察」して「高精度」の「終点検出」をしないまでも、前記１種類の「観察対象ガスの発光強度Ｉａ」に重畳されたゆらぎ（すなわち、ノイズ）による誤判定を防止しようとすることは、当業者であれば当然に想起したものと認められる。
　
　　カ　したがって、引用発明において、「しきい値」を、前記周知技術のように、「プラズマ中の観察対象ガスの発光強度Ｉａ」の検出出力に重畳されるゆらぎの大きさに基づいて設定することで、前記ゆらぎが存在しうる領域の境界の外に、「プラズマ中の観察対象ガスの発光強度Ｉａと近似式Ｆａ（ｘ）の値との差Ｉａ−Ｆａ（ｘ）、若しくは、Ｆａ（ｘ）−Ｉａを表す判定式」の値があると判定されたときに、「前記プラズマ処理の終点を決定する」ことにより、相違点２に係る構成とすることは、当業者が容易に想到し得たものと認められる。
　
　　キ　周知例１：特開平０６−３１８５７２号公報
　平成２４年３月２１日付けの補正の却下の決定において例示され、本願の優先権主張の日前に日本国内において頒布された刊行物である、特開平０６−３１８５７２号公報には、「プラズマ処理の終点検出方法およびその装置」（発明の名称）に関して、図１〜図１３とともに、次の記載がある。
ａ．「【００１５】次に、本発明の終点検出装置を用いて終点を検出する方法について説明する。まず、エッチング初期の所定時間Ｔ１内におけるプラズマＰの発光強度Ｉの平均値ｍおよび分散値σ２を平均値・分散値演算器３２において求めて
エッチング処理時のエッチング用ガスのガス量あるいは電気的ノイズ等による発光強度Ｉのバラツキを統計的に把握する
発光強度Ｉと平均値ｍとの差を演算器３３において求めた後、この差の値の絶対値と分散値σ
２
とを比較器３４によって比較し、この絶対値が基準値を超えた時点をエッチングの終点として判定器３５によって判定する
　
ｂ．「【００１８】
終点検出装置３０では、図４に示すように、データ信号を受信すると、その内部で以下の処理を行う
Ｓ
５
 で初期所定時間Ｔ
１
 を経過したと判断すれば、その時点で平均値ｍおよび分散値σ
２
 の信号を平均値・分散値演算器３２から演算器３３および比較器３４にそれぞれ送信する
逐次受信する入力データと平均値ｍとの差を求め
既に記憶した分散値σ
２
 （より具体的には標準変差σ）とこの差の値とを逐次比較し
判定器３５では、逐次受信する比較結果に基づいて差の絶対値が基準値を超えているか否かを逐次判断し
絶対値が基準値を超えていると判断すればエッチングの終点に達したものとして制御信号を制御装置４０に送信してエッチング処理を終了する
【００１９】以上説明したように本実施例によれば、エッチングの初期所定時間Ｔ1 内には、平均値・分散値演算器３２が検出要素抽出器３１から逐次受信して蓄積した発光強度Ｉのデータ信号に基づいて発光強度データの平均値ｍおよび分散値σ２ を求め、また、初期所定時間Ｔ1 経過後には演算器３３、比較器３４および判定器３５が検出要素抽出器３１および平均値・分散値演算器３２からそれぞれ受信したデータ信号、すなわち発光強度Ｉ、平均値および分散値σ２ に基づいてエッチングの終点を判定するようにしたため、例えば
エッチング用ガスの流入量等のエッチング処理条件の僅かな変動や電気的ノイズによって発光強度Ｉの波形が図３に示すように変動して不安定な状態であっても、光検出器２２から送信される電気信号によりエッチング処理時の発光強度Ｉの上下変動とエッチング終了時の上下変動とを峻別することができる
　
　　ク　周知例２：特開平０８−１４８４７５号公報
　平成２４年３月２１日付けの補正の却下の決定において例示され、本願の優先権主張の日前に日本国内において頒布された刊行物である、特開平０８−１４８４７５号公報には、「エッチング処理装置」（発明の名称）に関して、図１〜図７とともに、次の記載がある。
ａ．「【０００３】図３は、このような終点検出装置の発光スペクトル検出出力を示すグラフであり、横軸は時間ｔ、縦軸は出力電圧（Ｖ）を表している。処理すべき層のエッチングが開始されると（時間ｔ＝ｔ0）、その反応生成ガスの特定波長の発光スペクトル検出出力が立ち上がってピーク値Ｐに達しノイズによる振動を繰り返しながらエッチングが進行する。このとき各ノイズの波ごとにノイズ幅Ａに対応した出力電圧の低下が検出される。
除去すべき層のエッチングが終了すると発光スペクトルが減衰し、出力電圧の減衰量が予め定めた終点設定値Ｂに達した時点（ｔ＝ｔ1 ）でエッチングが終点に達したと判定する
【０００４】このような終点検出装置の出力電圧グラフにおいて、
エッチング進行中にノイズによる出力電圧の低下を誤ってエッチング終点と判定しないために終点設定値Ｂはノイズ幅Ａよりも大きくなければなら
【０００５】この発光スペクトルの出力電圧グラフにおいて、ノイズの変動幅Ａはピーク値Ｐが高いほど大きくなる。従って、
終点設定値もピーク値に応じてノイズ変動幅Ａ以上になるように変化させなければならない
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の従来のエッチング終点検出装置においては、
エッチングの終点を判定するための終点設定値が一定の値に固定されているため、発光スペクトルのピーク値が変動した場合に、ノイズ幅が変動して終点検出エラーを起こすおそれがあった
　
ｂ．「【００１７】次に上記構成のエッチング処理装置の動作について図２のフローチャートを参照して説明する。…（中略）…
【００１８】この状態でベルジャー１内にセットされたウエハ５に対しマイクロ波および高周波を印加し、
反応ガスをプラズマ化してエッチング処理が行われる（ステップＳ２）。このときエッチング処理中の化学反応によりＳｉＦやＳｉＣｌ
４
等の反応生成ガスが発生しそれぞれ固有の波長（例えばＳｉＦの場合２７０ｎｍ）を有する光を発する
スペクトル検出器８でモニターすべき特定の波長の光が取り出されその発光出力が検出される
【００１９】この検出された
発光スペクトル検出出力
ピーク値が検出されると、このピーク値に基づきノイズ幅Ａ以上でかつ最大電圧Ｃ（図３）以下の最適な終点判別値が終点設定回路１１により設定される
【００２０】このようにして新たに入力された終点設定値に基づいて、予め作成されたエッチング処理のシーケンスプログラムに従ってエッチング処理が行われ（ステップＳ７）、
発光スペクトル検出出力が終点設定値に達するとエッチングの終点に達したものと判定される
　
ｃ．「【００２１】図６および図７は終点設定値の例を示すグラフである。図６はピーク値が１０Ｖ程度と高い場合の例であり、
このピーク値に応じてノイズ変動幅Ａも大きくなるため、発光スペクトル検出出力低下量に対応する終点判定設定値Ｂは５〜６Ｖ程度に設定される
【００２２】本発明では、このようにエッチング処理ごとにピーク値が変化した場合に、ピーク値に応じて最適な終点判定値を自動的に設定することができる。」
　
（４−３）回答書の主張について
　　ア　審判請求人は、平成２５年１月２３日に提出した回答書において、
（ii）「引用文献１の技術においては……エッチング処理の終点を決定するための判定式は、「CF系ラジカルの発光強度に関する差異」と、「一酸化炭素の発光強度に関する差異」との比です。
（iii）「引用文献１の技術においては、ノイズを含みうるのは、判定式{2}の中で、CF系ラジカルの発光強度Ｉａと、一酸化炭素の発光強度Ｉｂです。……比に基づく判定式の値は、ノイズに起因して大幅に変動し得ます。」
（iv）「本願請求項１に係る発明においては、引き算による偏差量に基づく処理の終点の識別を行っています（本願請求項１の第６，７行目参照）。そして、処理の終点の識別において、二つの測定値の比を採用していません。……このため、本願請求項１に係る発明においては、その予測に基づいてノイズ区域を規定し（本願請求項１の第５行目参照）、ノイズ区域の境界の外側に偏差量ある場合に、処理の終点を識別することができます（同、第８〜１０行目参照）。」
（v）「二つのガスの発光強度をモニタしている引用文献１の技術においては、判定式に二つのガスの発光強度を含まなければなりません。そして、引用文献１においては、二つのガスの発光強度（のずれ）の比を判定基準とする思想しか開示されていません。」
（vi）「引用文献１においては、処理の終点の識別においてノイズによる影響を排除するという課題（本願明細書の段落０００４）について、まったく認識されていません。
　このため、引用文献１の技術を改変して本願請求項１にかかる発明となすことについては、まったく動機付けがありません。」
（vii）「二つのガスの発光強度をモニタしている引用文献１の技術においては、判定式に二つのガスの発光強度を含むために、二つのガスの発光強度の差をとる態様においても、比をとる態様においても、ノイズに関する情報の量はその差または比の処理の結果、減殺されることになります。すなわち、それぞれ独立にノイズを含む二つの測定量を扱う引用文献１の技術においては、終点の判定という一つの判定にそれら二つの測定量を生かしつつ、ノイズによる影響を排除することは困難です。」
と主張している。
　
　　イ　しかしながら、原査定の根拠となった平成２３年８月１８日付けの最後の拒絶理由通知において、引用例１については、「第１２頁第１０行〜第１６頁第２行」とともに「第２１頁第２２行〜第２３頁第１８行」の記載を引用している。
　そして、引用例１の前記「第２１頁第２２行〜第２３頁第１８行」には、「１種類のガス等の１観察対象のみを使用して終点検出を行う場合（第２１頁第２２〜２３行）」の「半導体プラズマ処理における終点検出方法」が開示されており、「前記プラズマ処理」の終点を決定するための判定式として「Ｉａ−Ｆａ（ｘ）、若しくはＦａ（ｘ）−Ｉａ（第２２頁第１８〜１９行）」を採用することが記載されている。
　したがって、前記「（ii）」〜「（v）」及び「（vii）」で主張した事項は引用例１に記載されており、そのことは、既に前記最後の拒絶理由通知で指摘されているから、前記各主張は当を得ていない。
　
　　ウ　前記「（vi）」の主張については、第２．３．（４）（４−２）で検討したとおりである。
　
（４−４）判断のまとめ
　したがって、相違点は、周知技術を勘案すれば、引用発明から当業者が容易に想到し得た範囲に含まれる程度のものである。
　したがって、補正発明は、引用発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
（５）独立特許要件の検討のまとめ
　以上のとおり、補正発明は、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものであるから、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反する。
　
４．小括
　以上のとおりであるから、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
　
第３．本願発明について
１．本願発明
　以上のとおり、本件補正（平成２４年７月２５日に提出された手続補正書による手続補正）は却下されたので、本願の請求項１〜２３に係る発明は、平成２３年６月７日に提出された誤訳訂正書によって補正された明細書、特許請求の範囲又は図面の記載からみて、その請求項１〜２３に記載されたとおりのものであり、そのうち、請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、再掲すると、次のとおりである。
　
「傾斜ベース検出タスクを閾値ベース検出タスクに変換する方法であって、
　モニターされている処理の値に従って一組の点の傾斜ベース近似方程式を規定することと、
　前記傾斜ベース近似方程式によって、該モニターされている処理の現在点における期待値を予測することと、
　該モニターされている処理の該現在点における測定値と該対応する期待値との差を計算することと、
　該差をモニターすることにより、該測定値と該期待値との間の閾偏差量を検出することと、
　該閾偏差量の該検出に基づいて該モニターされている処理の終点を識別することと
　を包含する、方法。」
　
２．引用例１の記載と引用発明
　引用例１の記載については、第２．３．（２）（２−１）で摘記したとおりであり、引用発明については、第２．３．（２）（２−２）において認定したとおりである。
　
３．対比
（１）本願発明と引用発明との対比
　本願発明と引用発明とを対比する。
　
　　ア　平成２３年８月１８日付けの最後の拒絶理由通知の「理由３」において、本願発明の「傾斜ベース近似方程式」という記載は「発明の詳細な説明に開示されたいずれの内容を表すものであるのかが理解できない」と指摘されている。
　そこで、本願明細書の記載を参酌すると、「傾斜ベース近似方程式」という記載は存在せず、「近似方程式」という記載が存在するだけであるから、前記「傾斜ベース近似方程式」という記載は「近似方程式」の誤記であると認められる。
　したがって、本願発明の「モニターされている処理の値に従って一組の点の傾斜ベース近似方程式を規定すること」という発明特定事項は、実質的には、『モニターされている処理の値に従って一組の点の近似方程式を規定すること』を意味していることは明らかである。
　してみれば、第２．３．（３）（３−１）のアにおいて記載したとおりの理由により、引用発明の「前記指定期間内における、プラズマ中の観察対象ガスの発光強度Ｉａの経時的変化を表す特性曲線を近似し、処理時間ｘの関数である近似式Ｆａ（ｘ）を求める段階」と、本願発明の「モニターされている処理の値に従って一組の点の傾斜ベース近似方程式を規定すること」とは、「一組の点の傾斜ベース近似方程式を規定すること」である点で共通する。
　
　　イ　上記アで記載した理由により、本願発明の「前記傾斜ベース近似方程式によって、該モニターされている処理の現在点における期待値を予測すること」という発明特定事項は、実質的には、『前記近似方程式によって、該モニターされている処理の現在点における期待値を予測すること』を意味していることは明らかである。
　してみれば、第２．３．（３）（３−１）のイにおいて記載したとおりの理由により、引用発明の「近似式Ｆａ（ｘ）の値」を求めることは、本願発明の「前記傾斜ベース近似方程式によって、該モニターされている処理の現在点における期待値を予測すること」に相当する。
　
　　ウ　第２．３．（３）（３−１）のエにおいて記載したとおりの理由により、引用発明の「指定期間後において、プラズマ中の観察対象ガスの発光強度Ｉａと近似式Ｆａ（ｘ）の値との差Ｉａ−Ｆａ（ｘ）、若しくは、Ｆａ（ｘ）−Ｉａを表す判定式を求める段階」は、本願発明の「該モニターされている処理の該現在点における測定値と該対応する期待値との差を計算すること」に相当する。
　
　　エ　本願発明の「該差をモニターすることにより、該測定値と該期待値との間の閾偏差量を検出する」という発明特定事項において、「該差」とは「該モニターされている処理の該現在点における測定値と該対応する期待値との差」を指していることは明らかである。
　
　一方、平成２３年８月１８日付けの最後の拒絶理由通知の「理由３」において「「閾偏差量」という用語の定義が不明である」と指摘されている。
　そこで、本願明細書の記載を参酌すると、段落【０００９】に「この検出器はさらに、測定値と対応する予測値との差をトラックすることにより、遷移点における変化を強化（ｅｎｈａｎｃｅ）し、閾偏差量が決定されることを可能にするように構成される。閾偏差量は処理作業に関連する遷移点を示す。」、段落【００３３】に「ここでもやはり検出器１６２は、遷移点を示す閾偏差量を検出するために計測値と予測値との差をトラックする。」と記載されている。さらに、段落【０００３】には、「ウェーハ特徴を制御するリアルタイム計測は現在必要不可欠な存在であり、その結果、特定の処理作業の終了点または遷移点が決定され得る。」と記載されている。
　したがって、本願発明における「該測定値と該期待値との間の閾偏差量」とは、本願明細書の上記記載を参酌すれば、「該測定値と該期待値との間」の「偏差」に基づいて得られる、「処理」の「終了点または遷移点」を示す「量」を意味すると認められる。
　一方、引用発明において、「前記判定式の計算値の絶対値がしきい値以上となった時点を基準として、前記プラズマ処理の終点を決定する」に当たり、前記「前記判定式の計算値の絶対値がしきい値以上となった時点」を求めていると認められるところ、「プラズマ中の観察対象ガスの発光強度Ｉａと近似式Ｆａ（ｘ）の値との差Ｉａ−Ｆａ（ｘ）、若しくは、Ｆａ（ｘ）−Ｉａを表す判定式」の「計算値」に基づいて得られる、当該「計算値の絶対値がしきい値以上となった時点」は、「前記プラズマ処理の終点」を示す量である。
　
　してみれば、引用発明において、「プラズマ中の観察対象ガスの発光強度Ｉａと近似式Ｆａ（ｘ）の値との差Ｉａ−Ｆａ（ｘ）、若しくは、Ｆａ（ｘ）−Ｉａを表す判定式」の「計算値の絶対値がしきい値以上となった時点」を求めることは、本願発明の「該差をモニターすることにより、該測定値と該期待値との間の閾偏差量を検出すること」に相当する。
　
　　オ　引用発明の「前記判定式に基づいて、前記判定式の計算値の絶対値がしきい値以上となった時点を基準として、前記プラズマ処理の終点を決定する段階」は、本願発明の「該閾偏差量の該検出に基づいて該モニターされている処理の終点を識別すること」に相当する。
　
　　カ　平成２３年８月１８日付けの最後の拒絶理由通知の「理由３」において、本願発明の「傾斜ベース検出タスクを閾値ベース検出タスクに変換する」という記載は「発明の詳細な説明に開示されたいずれの内容を表すものであるのかが理解できない」と指摘されている。
　そこで、本願明細書の記載を参酌すると、段落【０００７】に、「傾斜ベース検出タスクを閾値ベース検出タスクに変換する方法が提供される。この方法は、モニターされている処理（ｐｒｏｃｅｓｓ）の値に対応する一組の点の近似方程式を定義することから開始する。その後、モニターされている処理の現在の点における期待値が予測される。次に、モニターされている処理の現在の点における測定値と対応する期待値との間の差が計算される。それから、逐次点の差がモニターされることにより測定値と期待値との間の偏差量を検出する。次に、モニターされている処理の遷移点が偏差量の検出に基づいて識別される。」と記載されている。
　すなわち、本願発明の「傾斜ベース検出タスクを閾値ベース検出タスクに変換する方法」とは、「モニターされている処理の値に対応する一組の点の近似方程式を定義」した「後」に、「モニターされている処理の現在の点における期待値」を「予測」し、次に、「モニターされている処理の現在の点における測定値と対応する期待値との間の差」を「計算」し、それから、「逐次点の差がモニターされることにより測定値と期待値との間の偏差量を検出」し、次に、「モニターされている処理の遷移点」を「偏差量の検出に基づいて識別」するという「方法」であると認められる。
　
　これに対して、引用発明は、前記ア〜オで検討したとおり、前記「モニターされている処理の値に対応する一組の点の近似方程式を定義」すること、前記「モニターされている処理の現在の点における期待値」を「予測」すること、次に前記「モニターされている処理の現在の点における測定値と対応する期待値との間の差」を「計算」すること、それから前記「逐次点の差がモニターされることにより測定値と期待値との間の偏差量を検出」すること、次に前記「モニターされている処理の遷移点」を「偏差量の検出に基づいて識別」することに、それぞれ、相当する構成を備えている。
　
　したがって、引用発明の「被処理体に対して半導体プラズマ処理を施す際に処理の終点を検出する方法」ないし「半導体プラズマ処理における終点検出方法」は、本願発明の「傾斜ベース検出タスクを閾値ベース検出タスクに変換する方法」に相当する。
　
（２）一致点及び相違点
　そうすると、本願発明と引用発明の一致点と相違点は、次のとおりとなる。
　
《一致点》
「傾斜ベース検出タスクを閾値ベース検出タスクに変換する方法であって、
　一組の点の傾斜ベース近似方程式を規定することと、
　前記傾斜ベース近似方程式によって、該モニターされている処理の現在点における期待値を予測することと、
　該モニターされている処理の該現在点における測定値と該対応する期待値との差を計算することと、
　該差をモニターすることにより、該測定値と該期待値との間の閾偏差量を検出することと、
　該閾偏差量の該検出に基づいて該モニターされている処理の終点を識別することと
　を包含する、方法。」
　
《相違点》
　本願発明は、一組の点の傾斜ベース近似方程式を「モニターされている処理の値に従って」規定するのに対して、引用発明は「前記指定期間内における、プラズマ中の観察対象ガスの発光強度Ｉａの経時的変化を表す特性曲線を近似し、処理時間ｘの関数である近似式Ｆａ（ｘ）」を「半導体プラズマ処理」の値に従って求めるかどうか不明である点。
　
４．判断
　　ア　第２．３．（４）（４−１）において検討したとおりの理由により、引用発明において、「プラズマ中の観察対象ガスの発光強度Ｉａの経時的変化を表す特性曲線を近似し、処理時間ｘの関数である近似式Ｆａ（ｘ）」を「公知の最小２乗法」により導くことにより、前記「公知の最小２乗法」で用いる測定で得られた数値の組として、前記「プラズマ中の観察対象ガスの発光強度Ｉａ」等の「半導体プラズマ処理」の測定値の組に従って求めること、すなわち、相違点に係る構成とすることは、当業者であれば当然になしたものと認められる。
　
　　イ　以上のとおりであるから、相違点は、引用発明から当業者が容易に想到し得た範囲に含まれる程度のものである。
　そして、本願発明の効果も、引用発明から当業者が予期し得たものである。
　したがって、本願発明は、引用発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものと認められる。
　
　
第４．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用例１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない。
　したがって、他の請求項について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである
　
　よって、結論のとおり審決する。