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　平成　３年特許願第　４８８６６号「赤外線ガス分析計用帯域透過多層膜干渉フィルタ」拒絶査定に対する審判事件［平成　４年　９月２２日出願公開、特開平　４−２６７２０２］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．本願は、平成３年２月２１日の出願であつて、その請求項１に係る発明は、願書に添付した明細書及び図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１に特定された次のとおりのものである。
　「【請求項１】基板にＧｅからなる高屈折率物質層とＳｉＯからなる低屈折率物質層とを交互に積層して前記高屈折率物質層で終わるよう構成され、更に、最終層である前記高屈折率物質層を、ＳｉＯからなる保護層で被覆してある、赤外線ガス分析計に使用される帯域透過多層膜干渉フィルタであって、前記最終層とその一つ前の層の光学膜厚を基本単位膜厚からずらせるように構成するとともに、前記最終層とその一つ前の層以外の前記高屈折率物質層および低屈折率物質層の光学膜厚を同一の前記基本単位膜厚に設定していることを特徴とする赤外線ガス分析計用帯域透過多層膜干渉フィルタ。」
　なお、「ＳｉＯからなるからなる保護層」は、「ＳｉＯからなる保護層」の誤記と認められるから、上記のように認定した。
２. これに対して、当審において平成１２年３月２９日付けで通知した拒絶の理由に引用した特開昭６０−８８９０２号公報（以下、第１引用例という。）には、「本発明は色分離フィルタに関し、さらに詳しくはフルカラー液晶表示装置、撮像管方式カラーカメラ、固体カラーカメラ、カラーファッシミリなどに用いられる多層干渉薄膜からなる所定波長の光を透過する色分離フィルタに関する。」（第２頁左上欄第５〜９行）、「基板１（２の誤記であると認められる。）上に（１.１〜１.３）λ/４の光学膜厚を有する高屈折率誘電体第１層Ｈ１が積層されており、その上に（１.０〜１.２）λ/４好ましくは（１.０５〜１.２）λ/４の光学膜厚を有する低屈折率誘電体第１層Ｌ１が積層されている。そしてこの低屈折率誘電体第１層Ｌ１上に、λ/４の光学膜厚を有する高屈折率誘電体第２層Ｈ２およびλ/４の光学膜厚を有する低屈折率誘電体第２層Ｌ２が積層され、さらにこの低屈折率誘電体第２層Ｌ２上に同様にλ/４の光学膜厚を有する高屈折率誘電体第３層Ｈ３およびλ/４の光学膜厚を有する低屈折率誘電体第３層Ｌ３が積層されている。このようにして、同様にλ/４の光学膜厚を有する高屈折率誘電体層Ｈ４、５、６と低屈折率誘電体層Ｌ４、５、６とが順次交互に積層されている。そして低屈折率誘電体第６層Ｌ６上に、λ/４の光学膜厚を有する高屈折率誘電体第７層Ｈ７および（１.０〜１.２）λ/４好ましくは（１.０５〜１.２）λ/４の光学膜厚を有する低屈折率誘電体第７層Ｌ７がこの順序で積層されている。さらに、この低屈折率誘電体第７層Ｌ７上に（１.１〜１.３）λ/４の光学膜厚を有する高屈折率誘電体第８層Ｈ８および（１.０〜２.０）λ/４好ましくは（１.０５〜２.０）λ/４の光学膜厚を有する低屈折率誘電体第８層Ｌ８がこの順序で積層されている。」（第３頁右上欄第１７行〜左下欄第１９行）、及び「高屈折率誘電体層を形成する高屈折率物質としては、ＴｉＯ２（屈折率ｎ＝２.２）、Ｓｂ２Ｏ３（ｎ＝２.０４）、ＣｏＯ２（ｎ＝２.４２）、ＺｒＯ２（ｎ＝２.１０）、ＺｎＳ（ｎ＝２.３５）などが挙げられる。また低屈折率誘電体層を形成する低屈折率物質としては、ＢｉＯ２（ｎ＝１.４６）、ＣａＦ２ｎ＝１.２３）、ＭｇＦ２（ｎ＝１.３８）などが挙げられる。」（第３頁右下欄第７〜１３行）との記載があり、結局、基板２にＴｉＯ２等からなる高屈折率誘電体層とＢｉＯ２等からなる低屈折率誘電体層とを交互に積層して前記高屈折率誘電体層で終わるよう構成され、更に、高屈折率誘電体第８層Ｈ８である前記高屈折率誘電体層を、ＢｉＯ２等からなる低屈折率誘電体第８層Ｌ８で被覆してある、帯域透過多層膜干渉フィルタであって、前記高屈折率誘電体第８層Ｈ８と低屈折率誘電体第７層Ｌ７の光学膜厚を基本単位膜厚からずらせるように構成するとともに、前記高屈折率誘電体第８層Ｈ８と低屈折率誘電体第７層Ｌ７以外の前記高屈折率誘電体層および低屈折率誘電体層の一部の光学膜厚を同一の前記基本単位膜厚に設定していることを特徴とする帯域透過多層膜干渉フィルタが記載されている。
　同じく引用した特開平１−１０８５０３号公報（以下、第２引用例という。）には、「この種の帯域透過光学フィルターとしては、・・・、前記高屈折率材料層としてゲルマニウム（Ｇｅ）を、そして、前記低屈折率材料層として一酸化珪素（ＳｉＯ）を用いることによって、極めて優れた分光特性を有する（ただし、透過中心波長が５μｍ以下の場合）と共に、基板と多層膜との結合性も良く、しかも、比較的簡素でかつ再現性良く安定に製作できるものが開発されている。」（第１頁右欄第３〜１４行）、「例えば非分散型赤外線分析計などに用いる場合には非常に好適であるが、」（第１頁右欄第１８〜２０行）、及び「高性能を発揮し得る煙道分析計（ＮＯ、Ｈ２Ｏなどの計測）等のガス分析計を構成する場合に極めて好適に利用することができる。」（第４頁左下欄第８〜１０行）との記載がある。
３.そこで、本願請求項１に係る発明と第１引用例記載のものとを対比すると、本願請求項１に係る発明の「基板」、「高屈折率物質層」、「低屈折率物質層」、「最終層」、「保護層」、「その一つ前の層」は、第１引用例記載のものの「基板２」、「高屈折率誘電体層」、「低屈折率誘電体層」、「高屈折率誘電体第８層Ｈ８」、「低屈折率誘電体第８層Ｌ８」、「低屈折率誘電体第７層Ｌ７」に相当するから、両者は、基板に高屈折率物質層と低屈折率物質層とを交互に積層して前記高屈折率物質層で終わるよう構成され、更に、最終層である前記高屈折率物質層を、保護層で被覆してある、帯域透過多層膜干渉フィルタであって、前記最終層とその一つ前の層の光学膜厚を基本単位膜厚からずらせるように構成するとともに、前記最終層とその一つ前の層以外の前記高屈折率物質層および低屈折率物質層の一部の光学膜厚を同一の前記基本単位膜厚に設定していることを特徴とする帯域透過多層膜干渉フィルタ、で一致し、
Ａ高屈折率物質層と低屈折率物質層とが、本件請求項１に係る発明は、ＧｅとＳｉＯとであるのに対して、第１引用例記載のものは、ＴｉＯ２等とＢｉＯ２等とである点、
Ｂ本件請求項１に係る発明は、赤外線ガス分析計に使用されるのに対して、第１引用例記載のものは、そのような記載が無い点、
Ｃ本件請求項１に係る発明は、前記最終層とその一つ前の層以外の前記高屈折率物質層および低屈折率物質層の全ての光学膜厚を同一の前記基本単位膜厚に設定しているのに対して、第１引用例記載のものは、前記最終層とその一つ前の層、高屈折率誘電体第１層Ｈ１及び低屈折率誘電体第１層Ｌ１以外の前記高屈折率物質層および低屈折率物質層の光学膜厚を同一の前記基本単位膜厚に設定している点で相違する。
４.先ず、相違点Ａについて検討すると、第２引用例に記載されている。そして、第１引用例及び第２引用例ともに、多層干渉膜フィルタに関するから、第１引用例記載の高屈折率物質層と低屈折率物質層との組み合わせを、第２引用例記載のものに換えることは、当業者にとって容易であると認められる。
　次に、相違点Ｂについて検討すると、一般に、多層干渉膜フィルタを赤外線ガス分析計に用いることは、従来周知（例えば、第２引用例第１頁第１８〜１９行には、「例えば非分散型赤外線分析計などに用いる場合」との記載があり、特開昭６０−２２５８０３号公報の名称には、「ガス分析計用多層膜干渉フィルタ」、請求項１第１〜２行には、「波長が８μｍ付近でカットオンするフィルタ」との記載があり、実願昭５８−８６８９１号＜実開昭５９−１９２１０２号＞のマイクロフイルム第１頁第１２行には、「赤外線輻射式ガス分析計等」との記載があり、特開昭６０−１９８５０４号公報第１頁右欄第７〜８行には、「赤外線域を透過帯域にもつ多層膜干渉フィルタ」との記載がある。）の技術手段に過ぎない。
　最後に、相違点Ｃについて検討すると、第１引用例記載の高屈折率誘電体第１層Ｈ１及び低屈折率誘電体第１層Ｌ１の光学膜厚を同一の前記基本単位膜厚に設定するか否かは、当業者が適宜決定できる設計的な事項に過ぎない。
５．したがつて、本願請求項１に係る発明は、第１引用例、第２引用例及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものと認められるので、本願請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よつて、結論のとおり審決する。