【事件の表示】
　平成　９年特許願第１８０８９４号「投影露光方法」拒絶査定に対する審判事件［平成１０年６月１９日出願公開、特開平１０−１６１３２４］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
【1】出願の経緯等
　本件は、昭和60年2月1日に出願された特願昭60-016510号の一部を、平成9年7月7日に、特許法第44条第1項に基づき、特願平9-180894号として新たな出願としたものであり、その特許請求の範囲の記載は、平成11年12月24日付け手続補正書にて補正された以下のとおりのものである。
　「感光性防蝕剤を塗布した基板上にマスクまたはレテイクルのパターンを転写する投影露光方法において、上記マスクまたはレテイクル上の2点と該2点を結ぶ直線上にない他の点からなる、少くとも3点のマスクまたはレテイクル側ターゲットパターンと、上記基板上の2点と該2点を結ぶ直線上にない他の点からなる、少くとも3点の基板側ターゲットパターンを用いて、上記基板側ターゲットパターンと上記マスクまたはレテイクル側ターゲットパターンとを合わせ、かつ上記基板側ターゲットパターンの位置を検出して、上記基板のX,Y両方向の伸縮歪およびXYの直交度歪を検出することを特徴とする投影露光方法。」
　
【2】拒絶の理由の内容
　 当審が平成11年10月21日付けで通知した拒絶理由通知書の拒絶の理由の内容は、以下のとおりである。
「[刊行物]
引用例1:特開昭59-54225号公報
引用例2:特開昭58-108745号公報
引用例3:特開昭61-177724号公報
[本件発明]
　平成10年9月10日手続補正書にて補正された特許請求の範囲の請求項1には、以下の事項が記載されている。
「感光性防蝕剤を塗布した基板上にマスクまたはレテイクルのパターンを転写する投影露光方法において、上記マスクまたはレテイクル上の中心を含まない2点と該2点を結ぶ直線上に無く、かつ中心でない他の点からなる、少くとも3点のマスクまたはレテイクル側ターゲットパターンと、上記基板上の中心を含まない点と該2点を結ぶ直線上に無く、かつ中心でない他の点からなる、少くとも3点の基板側ターゲットパターンを用いて、上記基板と上記マスクまたはレテイクルとを整合させ、かつ上記基板側ターゲットパターンの位置を検出して、上記基X,Y両方向の伸縮歪およびXYの直交度歪を検出することを特徴とする投影露光方法」
　本件は、特願昭60-16510号の一部を、特許法第44条第1項に基づいて、平成9年7月7日に新たな出願としたものであるが、特許請求の範囲の前記記載事項中「上記マスクまたはレテイクル上の中心を含まない2点と該2点を結ぶ直線上に無く、かつ中心でない他の点からなる、少くとも3点のマスクまたはレテイクル側ターゲットパターンと、上記基板上の中心を含まない点と該2点を結ぶ直線上に無く、かつ中心でない他の点からなる、少くとも3点の基板側ターゲットパターン」を用いる投影露光方法は、分割の基礎となる特願昭60-16510号の願書に最初に添付した明細書又は図面に記載されていない事項であるから、本件の出願は特許法第44条第1項で規定する適法な分割とは認められず、出願日は遡及しない。
　なお、前記分割の基礎となる出願に添付された第2図は、ターゲットマークが3点示されているが、「マスクまたはレテイクル上の中心を含まない2点と該2点を結ぶ直線上に無く、かつ中心でない他の点からなる、少くとも3点のマスクまたはレテイクル側ターゲットパターンと、上記基板上の中心を含まない点と該2点を結ぶ直線上に無く、かつ中心でない他の点からなる、少くとも3点の基板側ターゲットパターン」を用いるという技術思想を開示しているものとは認められない。
[理由1]
　上記引用例1には、被露光物(基板に相当)上のチップの位置から、チップの配列のうねり、伸び縮みの相違、配列直交度のエラーを測定することによってチップの配列状態を求め、次段の原画のパターンが前段のパターンに正しい位置で転写されるようにXYステージを移動させて転写を行う技術に関し、特に第6,7図及びその説明には5個のチップの位置を測定することによって、うねり、ピッチ誤差を求め、中心を含まない4つのチップの位置を測定することによって直行度誤差(直交度誤差の誤記)を求める技術が開示されている。
　本件の特許請求の範囲に記載された事項から把握される発明は、チップのかわりにターゲットパターンを用いた点及び、マスク(レチクル)にもターゲットパターンを用いた点で相違する。
　しかし、位置決めに際し、マークを使用することは引用例2に示すように周知でありチップのかわりにマークを使用することは単なる設計上の事項である。また、マスク(レチクル)にもマークを使用することも引用例2に示すように周知であり、後述する如く、本件のマスクと基板とに付したマークの関連に何ら技術的意義が認められず、これもまた、無意味の限定と認めざるを得ない。
　なお、4個または5個のチップを使用した引用例1の記載に基づいて、3個のマークで直交度を測定するように変更することは容易であり、3以上と規定した点には格別困難性は認められない。
　従って、本件の請求項1の記載により特定される発明は、引用例1,2に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明できたものであるから特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない。
[理由2]
　上記引用例3には、「感光性防蝕剤を塗布した基板上にマスクまたはレテイクルのパターンを転写する投影露光方法において、上記マスクまたはレテイクル上の2点と該2点を結ぶ直線上にない他の点からなる、少くとも3点のマスクまたはレテイクル側ターゲットパターンと、上記基板上の2点と該2点を結ぶ直線上にない他の点からなる、少くとも3点の基板側ターゲットパターンを用いて、上記基板と上記マスクまたはレテイクルとを整合させ、かつ上記基板側ターゲットパターンの位置を検出して、上記基X,Y両方向の伸縮歪およびXYの直交度歪を検出することを特徴とする投影露光方法」が記載されている。
　そして、ターゲットマークの位置を中心を通らない点に配置することは当業者が容易に設計変更できた事項である。
　従って、本件の請求項1の記載により特定される発明は、引用例3に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明できたものであるから特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない。
[理由3]
　発明の詳細な説明には、マスク及び基板上のターゲットマークを用いて、特許請求の範囲に記載された「上記基板と上記マスクまたはレテイクルとを整合」を実現する手順が、当業者が容易に実施できる程度に開示されていない。発明の詳細な説明には基板上のターゲットマークのみによって、基板自体の直交度歪を測定する手順のみが説明されている。マスク上のターゲットマークの技術的意義は不明であり、引用例2に示された周知の使用目的以上の意義は認められない。
　また、発明の詳細な説明には、本件の発明の課題が「X方向とY方向の直交度の狂いを補正する」ことである旨記載されているにもかかわらず、X方向とY方向の直交度の狂いを補正する具体的実施例が示されていない。
　従って、本件は、特許法第36条第4項並びに同条第6項第1号及び同第2号に規定する要件を満たしていない。」
　
【3】当審の判断
《3-1》分割の要件についての判断
　平成11年2月10日付け手続補正により、特許請求の範囲の「上記マスクまたはレテイクル上の中心を含まない2点と該2点を結ぶ直線上に無く、かつ中心でない他の点からなる、少くとも3点のマスクまたはレテイクル側ターゲットパターンと、上記基板上の中心を含まない点と該2点を結ぶ直線上に無く、かつ中心でない他の点からなる、少くとも3点の基板側ターゲットパターン」を「上記マスクまたはレテイクル上の2点と該2点を結ぶ直線上にない他の点からなる、少くとも3点のマスクまたはレテイクル側ターゲットパターンと、上記基板上の2点と該2点を結ぶ直線上にない他の点からなる、少くとも3点の基板側ターゲットパターン」と補正したため、本件は適法に分割された出願と認められる。よって、分割の基礎となる出願の公開特許公報に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できたものであるとする拒絶理由通知書における[理由2]は解消された。
　
《3-2》明細書の記載の要件についての判断(拒絶理由通知書における[理由3])
　本件の特許請求の範囲に記載された、投影露光方法は、「マスクまたはレテイクル上の2点と該2点を結ぶ直線上にない他の点からなる、少くとも3点のマスクまたはレテイクル側ターゲットパターンと、上記基板上の2点と該2点を結ぶ直線上にない他の点からなる、少くとも3点の基板側ターゲットパターンを用いて、上記基板側ターゲットパターンと上記マスクまたはレテイクル側ターゲットパターンとを合わせ」る段階を発明の構成に欠くことのできない事項とするものである。
　なお、上記段階は拒絶理由通知書における[理由3]で指摘した補正前の特許請求の範囲の記載の「上記基板と上記マスクまたはレテイクルとを整合させ」る段階に対応するものである。
　そして、本件の明細書の発明の詳細な説明において、発明の構成に欠くことができない事項である上記段階に関して、
「【0006】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面により説明する。図2は本発明の一実施例を示すもので、基板10上には3点のターゲットパターン11、12、13が設けられており、これにマスクまたはレテイクル上のターゲットパターン14、15、16を合わせる。ターゲットパターン11、12、13は同一直線上になく配置され、ターゲットパターン11、12間の距離Aを検出することにより、X方向の伸縮歪を検出でき、またターゲットパターン11、12を結ぶ直線とターゲットパターン13との距離Bを求めることによりY方向の伸縮歪を測定できる。更にターゲットパターン13について検出されたX座標と、ターゲット11、12の測定から算出される設定上のターゲットパターン13のX座標との差より、X、Y方向の直交度を検出できる。
【0007】図3は本発明の他の実施例を示すもので、基板20上には5個のターゲットパターン21、22、23、24、25が設けられ、これにマスクまたはレテイクル上のターゲットパターン26、27、28、29、30を合せるようになっている。X方向のウエーハの伸縮は、ターゲットパターン21、25間、22、25間の距離により求められ、またY方向の伸縮はターゲットパターン23、25間、24、25間の距離を検出することにより測定できる。更に、ターゲットパターン21、25を基準とし、∠21、25、23,∠21、25、22,∠21、25、24を求めることにより、それぞれの方向の角度歪を検出することができる。このようにして求められた歪データに応じ、露光時に、基板またはマスクかレテイクルの移動距離を修正することにより、前記歪を補正することができる。」と記載され、
　2つの実施例について、「基板10上には3点のターゲットパターン11、12、13が設けられており、これにマスクまたはレテイクル上のターゲットパターン14、15、16を合わせる。」、「基板20上には5個のターゲットパターン21、22、23、24、25が設けられ、これにマスクまたはレテイクル上のターゲットパターン26、27、28、29、30を合せるようになっている。」と記載があるだけである。
　ところで、本件の発明は、明細書の【発明が解決しようとする課題】に「前述した従来の投影露光方法では、基板上で左右方向をX、上下方向をYとした場合にX、Y方向それぞれに2点のターゲット位置を検出し、X方向、Y方向、回転およびXまたはY方向の基板パターンの伸縮歪を検出するためには、X方向とY方向の伸縮歪が等しくないと、基板全面での補正が正しく行なわれず、またX方向とY方向の直角度の狂いを補正することが不可能であるという欠点を有していた。」と記載されているように、基板のX方向とY方向の伸縮歪が等しくない場合を前提にしているのであるから、単にマスクまたはレテイクル上の少なくとも3点のターゲットパターンをX方向とY方向の伸縮歪が等しくない基板上の少なくとも3点のターゲットパターンに投影した場合には、「マスクまたはレテイクル上の2点と該2点を結ぶ直線上にない他の点からなる、少くとも3点のマスクまたはレテイクル側ターゲットパターンと、上記基板上の2点と該2点を結ぶ直線上にない他の点からなる、少くとも3点の基板側ターゲットパターンを用いて、上記基板側ターゲットパターンと上記マスクまたはレテイクル側ターゲットパターンとを合わせ」ることはできない。なぜなら、基板上の少なくとも3点のターゲットマーク間のX方向とY方向の間隔の変化の率が相互に異なるからである。
　なお、この点についての記載不備を指摘した平成11年10月21日付け拒絶理由通知書に対する、平成11年12月24日付け意見書において、この点については具体的に説明されず、かつ、同日付け手続補正書によっても説明が補充されていない。
　すなわち、基板上の少なくとも3点のターゲットマーク間のX方向とY方向の間隔の変化の率が異なる場合に、「マスクまたはレテイクル上の2点と該2点を結ぶ直線上にない他の点からなる、少くとも3点のマスクまたはレテイクル側ターゲットパターンと、上記基板上の2点と該2点を結ぶ直線上にない他の点からなる、少くとも3点の基板側ターゲットパターンを用いて、上記基板側ターゲットパターンと上記マスクまたはレテイクル側ターゲットパターンとを合わせ」るためには、本件の明細書に記載されていない何らかの手段を講じなければ実現することはできないのであり、そのための手段は当業者といえども容易には実現することができないものであるにもかかわらず、請求人は何らの釈明もしていない。
　以上のとおりであるから、本件の願書に添付された明細書の発明の詳細な説明及び図面の記載は、その発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易にその実施をすることができる程度に、その発明の構成を記載したものと認めることはできない。
　
【4】むすび
　以上のとおり、本件の出願は特許法(平成2年法律第30号による改正前の法律)第36条第3項に規定する要件を依然として満たしていないので、前記拒絶理由通知書における[理由1]を検討するまでもなく、拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。