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　平成　２年特許願第２６６８７６号「電離放射線感応ネガ型レジスト」拒絶査定に対する審判事件［平成　４年　５月１５日出願公開、特開平　４−１４２５４１］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本件発明
　本願は、平成２年１０月４日の出願であって、その請求項１〜６に係る発明（以下、「本件発明１〜６」という。）は、特許請求の範囲の請求項１〜６に記載された次のとおりのものである。
「【請求項１】　電離放射線感応ネガ型レジストにおいて、アニオンまたはカチオンを生じる部位を有する架橋剤と、その対イオンであるイオン性ポリマーとからポリイオンコンプレックスを形成し高分子化して不溶化することを特徴とする電離放射線感応ネガ型レジスト。
【請求項２】　架橋剤がアニオンまたはカチオンを生じる部位を有する少なくとも二量体以上のオリゴマーであることを特徴とする請求項１記載の電離放射線感応ネガ型レジスト。
【請求項３】　架橋剤がアニオンまたはカチオンを生じる部位を有するポリマーであることを特徴とする請求項１記載の電離放射線感応ネガ型レジスト。
【請求項４】　架橋剤がアニオンまたはカチオンを生じる部位を有するポリマーであり、対イオンが少なくとも２量体以上のイオン性のオリゴマーであることを特徴とする請求項１記載の電離放射線感応ネガ型レジスト。
【請求項５】　架橋剤がアニオンを生じるナフトキノンジアジド誘導体であり、カチオン性ポリマーがポリ−４−ビニル−Ｎ−メチルピリジニウムアイオダイドであることを特徴とする請求項１記載の電離放射線感応ネガ型レジスト。
【請求項６】　架橋剤がカチオンを生じるトリフェニルメタノールであり、アニオン性ポリマーがポリビニルスルホン酸カリウムであることを特徴とする請求項１記載の電離放射線感応ネガ型レジスト。」
　なお、平成１２年１０月１０日付けの手続補正書は、補正却下された。
　
２．引用刊行物に記載された発明
  これに対して、当審の拒絶の理由に引用された、本願の出願日前に頒布された特開昭５７−１５０８４４号公報（以下、「刊行物１」という。）、特開昭６０−１３５９３５号公報（以下、「刊行物２」という。）には、以下の事項が記載されている。
２−１．刊行物１〔特開昭５７−１５０８４４号公報〕
「オルトキノンジアジド化合物及びカチオン性高分子電解質を含有することを特徴とする感光性組成物。」（特許請求の範囲）
「本発明はオフセット版、凸版グラビア版などの印刷版、金属加工、プリント配線基板及びその他のグラフィックアーツエレメントの製造に使用するに適した光硬化型の感光性組成物に関する。」（１頁左下欄）
「本発明において使用されるオルトキノンジアジド化合物は、少なくともひとつのオルトキノンジアジド基を有する化合物で、活性光線照射によりカルボキシ基を生成するものであり、極めて種々の構造の化合物を用いることができる。…特に種々の脂肪族あるいは芳香族ヒドロキシまたはアミノ化合物とオルトキノンジアジドのスルホン酸エステルまたはスルホン酸アミドが好適である。」（２頁左上欄〜右上欄）
「ヒドロキシ化合物あるいはアミノ化合物とオルトキノンジアジドのスルホン酸エステルあるいはスルホン酸アミドの代表的な具体例をあげれば、
１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸−エチルエステル
１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸−イソブチルエステル
１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸−フェニルエステル
　…
等がある。」（３頁左上欄〜左下欄）
「本発明において使用されるカチオン性高分子電解質は基本骨格にアンモニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩を有するもので極めて種々の構造の化合物を用いることができる。…
　４級化アンモニウム塩型のポリマーとしては、ポリ（２−メタクリロキシエチルトリアルキルアンモニウム）、ポリ（３−メタクリロキシ−２−ヒドロキシプロピルアルキルアンモニウム）、ポリ〔（メタ）アクリルアミドアルキルアンモニウム〕、…、ポリ（４−ビニルピリジニウム）、ポリ（２−メチル−５−ビニルピリジニウム）、…、ポリスルホニウム化合物としては、…、ポリホスホニウム化合物としては、…等である。」（３頁左下欄〜右下欄）
「支持体上に直接あるいは下塗層を介して間接的に塗布された感光性組成物は従来の常法に従って使用される。即ち、…露光し、次いで、水性現像液で現像することにより原画に対してネガのレリーフ像が得られる。露光に好適な光源としては、カーボンアーク灯、水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、ストロボなどがあげられる。」（５頁左下欄〜右下欄）
「実施例２
　厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートの片面に…塗布乾燥後の膜厚が１．０μｍになるように下塗層を被覆した。
　…
　次いで、この下塗層の上に、下記の感光液組成で塗布乾燥後の膜厚が３．０μｍになるように被覆した。
　ポリ（１−メチル−２−ビニルピリジニウム
　ブロマイド−コ−２−ビニルピリジン）(50:50) 　　１０重量部
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．７重量部
　水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５０重量部
　メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５０重量部
　上記感光性フィルムを、実施例１と同様に露光、現像したところ、フォトレジスト層から露出した部分の下塗り層も同時に除去され、極めて鮮明な黒色マスク画像が得られた。」（７頁左上欄〜右上欄）
２−２．刊行物２〔特開昭６０−１３５９３５号公報〕
「化学線感応性重合体組成物」（発明の名称）
「次に上記支持体上で塗膜となった本発明の組成物に所望のパターン状に化学線を照射する。化学線としてはＸ線、電子線、紫外線、可視光線などが例として挙げられるが、…」（７頁右下欄）
　
３．対比・判断
３−１．本件発明１について
　本件発明１と刊行物１に記載された発明とを対比する。
　本件発明１では、「アニオンを生じる部位を有する架橋剤」として、例えば、オルソジアゾナフトキノン誘導体を使用している。これに対して、刊行物１に記載された発明においても、同じくオルトキノンジアジド化合物を使用している。そして、刊行物１のオルトキノンジアジド化合物は、活性光線照射によりカルボキシ基を生成するものであり、さらには、カチオン性高分子電解質と相俟って、露光、現像によりネガのレリーフ像を得るものであるから、架橋剤の作用をも有するものと認められる。よって、刊行物１の「オルトキノンジアジド化合物」は、本件発明１の「アニオンを生じる部位を有する架橋剤」に相当する。
　また、本件発明１では、その対イオンであるカチオン性ポリマーとして、例えば、ポリ−４−ビニルピリジニウム塩を使用している。これに対して、刊行物１に記載された発明においても、カチオン性高分子電解質として、ポリ（４−ビニルピリジニウム）、ポリ（２−メチル−５−ビニルピリジニウム）等が例示されている。すなわち、刊行物１の「カチオン性高分子電解質」は、本件発明１の「その対イオンである対イオン性ポリマー」に相当する。
　したがって、本件発明１と刊行物１に記載された発明とは、「アニオンを生じる部位を有する架橋剤と、その対イオンである対イオン性ポリマーとからなり、不溶化するネガ型レジスト」である点で一致し、
（１）本件発明１のレジストが、電離放射線感応であるのに対して、刊行物１には、後者のレジストが電離放射線感応であることの記載がない点、
（２）不溶化の作用が、本件発明１では「ポリイオンコンプレックスを形成し高分子化して不溶化する」のに対して、刊行物１には不溶化の作用が明確に記載されていない点
で、相違する。
　上記相違点（１）、（２）について検討する。
　（１）については、上記刊行物２に示されるように、化学線感応性重合体組成物に所望のパターン状に化学線を照射して所望のパターンを得る際に、化学線として、紫外線、可視光線などと同様、Ｘ線、電子線などの電離放射線を使用することは良く知られている。また、刊行物１のネガ型レジストを電離放射線感応型として使用し得ない特別の事情もない。よって、刊行物１のレジストを、電離放射線感応型として使用することを試みることに格別の困難性はない。
　（２）については、刊行物１には不溶化の作用についての言及はないが、刊行物１のものは、本件発明１と同様、アニオンを生じる部位を有する架橋剤とその対イオンであるカチオン性ポリマーとにより不溶化させているのであるから、本件発明１と同様な不溶化作用を有するものと認められる。よって、本件発明１と刊行物１のものとで相違点（２）に実質的な差異はない。
　したがって、本件発明１は、刊行物１，２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
３−２．本件発明２，５について
　刊行物１には、オルトキノンジアジド化合物として、二量体のものを用いることも記載されている（例えば、実施例２等）。また、刊行物１には、本件発明５と同様のカチオン性ポリマーを使用することが記載されている。
　したがって、本件発明２，５は、本件発明１についての判断と同様な理由により、刊行物１，２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４．特許法第３６条要件違反について
　本願は、当審の拒絶の理由で指摘したように、明細書及び図面の記載が下記の点で不備のため、特許法第３６条第３，４項に規定する要件を満たしていない。
（１）特許請求の範囲の各請求項に記載の「電離放射線感応ネガ型レジスト」については、発明の詳細な説明には、電子線放射感応型のもののみが示されているだけであり、電子線放射感応型以外のものが本件発明の目的のために使用し得るか否か不明である。
　また、第１，２図には「ｈν」と光子のエネルギーを意味する記載があるだけであり、この点においても、各請求項に記載の「電離放射線感応ネガ型レジスト」との関係が不明である。
（２）カチオンを生じる部位を有する架橋剤とアニオン性のポリマーとがポリイオンコンプレックスを形成する場合（請求項１，２，３，４，６）については、実施例の記載はなく、実際に架橋化反応によりレジスト形成が可能であることが開示されていない。
（３）請求項３、４に対応する記載は発明の詳細な説明中には見あたらない。
　
５．むすび
　したがって、本件発明１，２，５は、刊行物１，２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。また、本願は、明細書及び図面の記載が不備のため、特許法第３６条第３，４項に規定する要件を満たしていない。
　よって、結論のとおり審決する。