【事件の表示】
　平成　３年特許願第１３５３０２号「処理装置」において、平成９年３月１９日付けでした手続補正に対してされた補正の却下の決定に対する審判事件について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件補正却下に係る出願（以下、「本願」という。）は、平成３年５月１３日の出願であって、同９年３月１９日付けで明細書の手続補正（以下、「本件補正」という。）がなされたところ、原審において、同１１年２月２６付けでこの手続補正について却下の決定をしたものである。
２．本件手続補正の内容
　本件補正は願書に添付された明細書の特許請求の範囲を次のとおり補正するものである。
「　【請求項１】　処理液によって被処理体を処理する処理室と、上記処理室に対して上記被処理体を搬入・搬出する搬送手段とを具備する処理装置において、
　上記搬送手段を、互いに回転自在に連結される複数のアーム体を具備する多関節搬送アームにて形成し、
　上記アーム体を、隣接するアーム体を連結する中空状の連結軸と、この連結軸の中空部と連通する空間を残して連結軸を包囲するカバーとで構成し、
　上記連結軸の中空部に加圧付与手段を接続して、上記アーム体のカバー内空間部を加圧状態に維持することを特徴とする処理装置。
　　【請求項２】　請求項１記載の処理装置において、
　上記搬送手段を、処理室と隣接する位置に配置される被処理体搬送室内に配設し、
　上記処理体搬送室の上部に空気供給口を設けると共に、この空気供給口に濾過部材を介して空気供給手段を接続し、
　上記被処理体搬送室の底部に排気・排液口を設けると共に、この排気・排液口に吸引手段を接続し、
　上記被処理体搬送室中に、上部から下部に向って流れる清浄空気流と直交する方向に整流手段を配設してなることを特徴とする処理装置。
　　【請求項３】　請求項２記載の処理装置において、
　上記被処理体搬送室内に、上記搬送手段の被処理体の保持部に向って洗浄液及び乾燥気体を供給する洗浄・乾燥手段を配設してなることを特徴とする処理装置。」
３．原決定の理由
　上記補正の却下の決定の理由は、次のとおりである。
「補正後の請求項１〜３には「処理液によって〜処理装置。」、「請求項１記載の〜装置。」、及び「請求項２記載の〜処理装置。」と記載されているが、願書に最初に添付した明細書又は図面には、被処理体を洗浄する洗浄装置に関する記載があるだけで、処理装置に関して記載されておらず、かつ、同明細書又は図面の記載からみて自明のこととも認められない。
　したがって、この補正は、明細書の要旨を変更するものと認められ、特許法第５３条第１項の規定により、上記結論の通り決定する。」
４．当審の判断
　そこで原審の決定の当否につき検討する。
　願書に最初に添付した明細書及び図面によると、同明細書及び図面には、一貫して、被処理体を洗浄する洗浄装置に関する記載がなされており、被処理体について洗浄以外の処理をする処理装置については何も記載されていないことが認められる。即ち、願書に最初に添付した明細書及び図面には、本件出願に係る発明は、処理液によって半導体ウエハ等の被処理体を洗浄する洗浄処理室と、この洗浄処理室と隣接する位置に配置される被処理体搬送室と、この被処理体搬送室内に配設されて洗浄処理室に対して被処理体を搬入・搬出する搬送手段とを具備する洗浄装置に関するものであること、従来の洗浄装置は、半導体ウエハに対して、例えばアンモニア処理槽、水洗処理槽、フッ酸処理槽等の各処理槽を配置する複数の洗浄処理室を配置し、被処理体である半導体ウエハを搬送手段にて載置保持して各処理室内外に搬入・搬出しており、この場合、搬送手段として、複数のアーム体を互いに回転自在に連結した多関節搬送アームが使用され、この搬送アームは処理室と隣接する室内に配設され、室に設けられた半導体ウエハの搬入・搬出用の開口部より半導体ウエハを搬入・搬出していたこと、しかし、この洗浄装置においては、搬送アームが雰囲気の異なる洗浄処理室に対して半導体ウエハを搬入・搬出するため、搬送アームに前処理で扱った薬液が付着し、この薬液が搬送アームの駆動部側に進入することがあり、その結果、搬送アームの駆動部側が腐食するという問題があり、また、搬送アームに薬液やその他の不純物が付着すると、搬送アームを配設する室内の雰囲気が乱れて、搬送体ウエハが汚染されると共に、搬送体ウエハの製品歩留まりが低下するという問題もあったこと、本件出願に係る発明は、上記事情に鑑みなされたもので、搬送アームの駆動部の腐食を防止すると共に、搬送アームを配設する室内を清浄化された同一の雰囲気に維持するようにした洗浄装置を提供することを目的とするものであること、この目的を達成するために、請求項１及び請求項２に記載されたとおりの洗浄装置を構成したこと、その結果、請求項１に係る発明によれば、搬送装置に付着する薬液の搬送アーム駆動部内への進入を防止して搬送アームの腐食を防止すると共に、洗浄効率の向上を図ることができ、また、装置の寿命の増大及び信頼性の向上が図れるという効果を奏すること、及び、請求項２に係る発明によれば、搬送アームに付着した薬液やその他の不純物によって被処理体搬送室内の雰囲気が乱されることなく、洗浄化された雰囲気を維持することができ、上記請求項１に係る発明の奏する効果に加えて、被処理体の歩留りの低下を防止することができるという効果を奏する旨の記載がなされており、その他に、被処理体について洗浄以外の処理を行う処理装置については何も記載がなされていない。
　以上の記載からすれば、願書に最初に添付した明細書又は図面には、洗浄装置に特有の課題を解決するための手段が記載されているのみであって、このような課題が処理装置一般に存在し、洗浄装置は、一般の処理装置の一例として記載されたものであると認定する余地はない。
　そして、願書に最初に添付した明細書及び図面の記載からみると、上記洗浄装置は、それ自体洗浄装置として完結したものであって、洗浄処理よりも広い概念を含む一般的な処理までも行う処理装置として把握すべき余地はなく、更に、この洗浄装置について、洗浄以外の処理までも行うことが当業者にとって自明な事項であると解することもできない。
　このように、願書に最初に添付した明細書及び図面は、被処理体を洗浄する洗浄装置に関する記載に終始しており、同明細書及び図面に、洗浄以外の処理を行う処理装置についての記載はなく、また、願書に最初に添付した明細書及び図面の記載からみて、被処理体について洗浄以外の処理を行うことが、被処理体を洗浄する洗浄処理において自明な事項であるとも認められないので、補正後の請求項１ないし請求項３に係る発明は、何れも、願書に最初に添付した明細書及び図面に記載されたものではなく、かつ、同明細書及び図面の記載からみて自明なものであるということもできない。
　請求人は、
（１）半導体ウエハをアンモニアやフッ酸等の薬液によって処理することや、純水等のリンス液によって処理することは自明であり、したがって、「処理液によって被処理体を洗浄する洗浄処理室」なる記載を「処理液によって被処理体を処理する処理室」に補正することは自明のことであり、上記「洗浄」を「処理」に補正することは文言上相違するだけで、整合性をもたせるための補正であって自明のことである、また、
（２）請求項１に係る発明の本質部分である点については、補正しておらず、したがって、補正後の請求項１ないし請求項３の「処理液によって〜処理装置。」、「請求項１記載の〜処理装置。」、及び「請求項２記載の〜処理装置。」という記載は、願書に最初に添付した明細書及び図面に記載されている技術内内容から見て、記載されてあったと認めることができる程度に自明な事項である、
旨主張する。
　しかし、アンモニアやフッ酸等の薬液による処理や純水等のリンス液による処理は、すべて、半導体ウエハの洗浄処理の一つであって、処理という文言が、洗浄だけを意味するものではないから、洗浄に関する処理を処理という文言に改めることは、洗浄以外の処理までを含む広い概念を意味することになるのは明らかであり、また、特許請求の範囲に記載された発明に本質部分とそれ以外の部分があるのか否かはさておき、補正後の請求項１ないし請求項３に係る発明については、洗浄以外の処理までを含めた処理装置とされたものであって、願書に最初に添付した明細書及び図面に記載された事項の範囲を逸脱するものであるから、上記の自明な事項の範囲内の補正であるという請求人の主張は採用することができないものである。
　そうしてみると、願書に最初に添付した明細書及び図面には、洗浄以外の処理及びこの処理を行う処理装置については記載がないばかりでなく、この明細書及び図面の記載からみて、洗浄以外の処理及びこの処理を行う処理装置を自明なものとして認識することができないものであるから、本件補正は、明細書の要旨を変更するものである。
４．むすび
　したがって、本件補正について、特許法第５３条第１項の規定により却下をすべきものとした原審の決定は妥当である。
　よって、結論のとおり審決する。