【手続補正書】
【提出日】平成27年11月6日(2015.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粒子放出試料（１１）から放出された荷電粒子に関する少なくとも一つのパラメーターを決定するための方法であって、
前記荷電粒子の粒子ビームを形成し、実質的に一直線の光学軸（１５）を有するレンズシステム（１３）によって前記粒子放出試料（１１）と測定領域（３）の入口（８）との間で粒子を輸送するステップと、
前記粒子ビームが前記測定領域に入射する前に、前記レンズシステムの前記光学軸と直交する少なくとも第１座標方向（ｘ、ｙ）において前記粒子ビームを偏向させるステップと、
前記測定領域における前記荷電粒子の位置を検出するステップと、を備え、前記位置は、少なくとも一つの前記パラメーターの指標となり、
前記粒子ビームが前記測定領域に入射する前に、少なくとも同じ前記第１座標方向（ｘ、ｙ）において少なくとも二回、前記粒子ビームを偏向させるステップをさらに備えることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記粒子ビームの一回目の偏向は、第１の偏向器（３３Ａ／３３Ｃ、３３Ｂ／３３Ｄ）によって実現され、前記粒子ビームの少なくとも二回目の偏向は、少なくとも第２の偏向器（３３Ａ’／３３Ｃ’、３３Ｂ’／３３Ｄ’）によって実現され、前記第２の偏向器は、前記第１の偏向器の下流に前記レンズシステム（１３）の前記光学軸（１５）に沿って前記第１の偏向器から離間して配置される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記粒子ビームは、前記粒子ビームが前記測定領域（３）に入射する前に、前記第１座標方向（ｘ）及び前記レンズシステム（１３）の前記光学軸（１５）と直交する第２座標方向（ｙ）においても少なくとも二回偏向される、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記粒子ビームの偏向はすべてレンズシステム（１３）内で起こり、少なくとも一つのレンズ（Ｌ１）が前記粒子ビームの前記一回目の偏向の前に前記粒子に作用し、少なくとも一つのレンズ（Ｌ３）が前記粒子ビームの最後の偏向の後に前記粒子に作用する、請求項１〜３の何れか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記粒子ビームの少なくとも一つの偏向は、偏向器パッケージ（２９）によって実現され、前記偏向器パッケージ（２９）は本質的に四極対称な形態で配置される四つの電極（３３Ａ〜３３Ｄ）を備え、前記四つの電極（３３Ａ〜３３Ｄ）は二つの電極対（３３Ａ／３３Ｃ、３３Ｂ／３３Ｄ）を形成し、前記二つの電極対（３３Ａ／３３Ｃ、３３Ｂ／３３Ｄ）はそれぞれの座標方向（ｘ、ｙ）における偏向器の役割を果たし、
前記偏向器パッケージ（２９）の前記二つの電極対の一方（３３Ａ／３３Ｃ）の間に第１の偏向器電圧（Ｖｘ）を印加するステップと、
前記偏向器パッケージ（２９）の前記二つの電極対の他方（３３Ｂ／３３Ｄ）の間に第２の偏向器電圧（Ｖｙ）を印加するステップと、
前記偏向器パッケージ（２９）の前記電極（３３Ａ〜３３Ｄ）に四極対称の電圧（±Ｖｑ）を印加し、前記偏向器電圧（Ｖｘ、Ｖｙ）に重畳させるステップと、をさらに備える、請求項１〜４の何れか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記粒子ビームを形成する前記粒子の角度分布（３９）の所定の部分（Ａ、Ｂ）が前記測定領域（３）の前記入口（８）を通過するように、前記粒子ビームの前記偏向を制御するステップをさらに備える、請求項１〜５の何れか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記粒子の前記角度分布の前記所定の部分（Ａ、Ｂ）が、前記測定領域（３）の前記入口（８）を前記レンズシステム（１３）の前記光学軸（１５）と実質的に平行な方向に通過するように、前記粒子ビームの前記偏向を制御するステップをさらに備える、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記少なくとも一つのパラメーターは、
前記荷電粒子のエネルギー、
前記荷電粒子の開始方向、
前記荷電粒子の開始位置、及び
前記荷電粒子のスピン、
のうち少なくとも一つに関する、請求項１〜７の何れか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記荷電粒子の前記位置を検出する前記ステップは、二つの次元での位置の検出を含み、前記二つの次元での位置の一方は前記粒子のエネルギーの指標となり、前記二つの次元での位置の他方は前記粒子の開始方向及び開始位置の指標となる、請求項１〜８の何れか一項に記載の方法。
【請求項１０】
粒子放出試料（１１）から放出された荷電粒子に関する少なくとも一つのパラメーターを決定するための分析装置であって、
測定領域（３）であって、前記粒子が前記測定領域に入射することを可能にする入口（８）を有する測定領域（３）と、
前記荷電粒子の粒子ビームを形成し、前記粒子放出試料と前記測定領域の前記入口との間で前記粒子を輸送するためのレンズシステム（１３）であって、実質的に一直線の光学軸（１５）を有するレンズシステム（１３）と、
前記粒子ビームが前記測定領域に入射する前に、前記レンズシステムの前記光学軸と直交する少なくとも第１座標方向（ｘ、ｙ）において前記粒子ビームを偏向させるための第１の偏向器（３３Ａ／３３Ｃ、３３Ｂ／３３Ｄ）を備える偏向装置（３１）と、
前記測定領域における前記荷電粒子の位置を検出するための検出装置（９）と、を備え、前記位置は前記少なくとも一つのパラメーターの指標となり、
前記偏向装置（３１）は、前記粒子ビームが前記測定領域（３）に入射する前に、少なくとも同じ前記第１座標方向（ｘ、ｙ）において少なくとも二回前記粒子ビームを偏向させるように操作可能な少なくとも第２の偏向器（３３Ａ’／３３Ｃ’、３３Ｂ’／３３Ｄ’）をさらに備えることを特徴とする分析装置。
【請求項１１】
前記第２の偏向器（３３Ａ’／３３Ｃ’、３３Ｂ’／３３Ｄ’）は、前記第１の偏向器（３３Ａ／３３Ｃ、３３Ｂ／３３Ｄ）の下流に、前記レンズシステム（１３）の前記光学軸（１５）に沿って前記第１の偏向器から離間して配置される、請求項１０に記載の分析装置。
【請求項１２】
前記偏向装置（３１）は、前記粒子ビームが前記測定領域（３）に入射する前に、前記第１座標方向（ｘ）及びレンズシステム（１３）の光学軸（１５）と直交する第２座標方向（ｙ）においても少なくとも二回前記粒子ビームを偏向させるように操作可能である、請求項１０又は１１に記載の分析装置。
【請求項１３】
前記偏向装置（３１）は、本質的に四極対称な形態で配置される四つの電極（３３Ａ〜３３Ｄ）を備える少なくとも一つの偏向器パッケージ（２９）を備え、前記偏向器パッケージ（２９）の前記四つの電極（３３Ａ〜３３Ｄ）は二つの電極対（３３Ａ／３３Ｃ、３３Ｂ／３３Ｄ）を形成し、前記二つの電極対（３３Ａ／３３Ｃ、３３Ｂ／３３Ｄ）は前記第１座標方向（ｘ）及び前記第２座標方向（ｙ）のそれぞれの座標方向における偏向器の役割を果たす、請求項１２に記載の分析装置。
【請求項１４】
前記電極（３３Ａ〜３３Ｄ）のそれぞれに個別の電圧を印加するように構成された制御ユニット（３５）をさらに備える、請求項１３に記載の分析装置。
【請求項１５】
前記レンズシステムの少なくとも一つのレンズ要素（Ｌ１）が前記偏向装置のすべての偏向器（３３Ａ／３３Ｃ、３３Ｂ／３３Ｄ、３３Ａ’／３３Ｃ’、３３Ｂ’／３３Ｄ’）の上流に位置し、前記レンズシステムの他の少なくとも一つのレンズ要素（Ｌ３）が前記偏向装置のすべての偏向器の下流に位置するように、前記偏向装置（３１）と前記レンズシステム（１３）とが配置される、請求項１０〜１４の何れか一項に記載の分析装置。
【請求項１６】
前記偏向装置（３１）のすべての偏向器（３３Ａ／３３Ｃ、３３Ｂ／３３Ｄ、３３Ａ’／３３Ｃ’、３３Ｂ’／３３Ｄ’）は、レンズ装置（１３）の同じレンズ要素（Ｌ２）内に配置される、請求項１０〜１５の何れか一項に記載の分析装置。
【請求項１７】
前記偏向装置（３１）は、前記レンズシステム（１３）の一体部品を形成する、請求項１０〜１６の何れか一項に記載の分析装置。
【請求項１８】
前記粒子ビームを形成する前記粒子の角度分布（３９）の所定の部分（Ａ、Ｂ）が、前記測定領域（３）の前記入口（８）を通過するように、前記偏向装置（３１）が前記粒子ビームを偏向させるように操作可能な制御ユニット（３５）をさらに備える、請求項１０〜１７の何れか一項に記載の分析装置。
【請求項１９】
前記制御ユニット（３５）は、前記粒子の前記角度分布（３９）の前記所定の部分（Ａ、Ｂ）が、前記測定領域（３）の前記入口（８）を前記レンズシステム（１３）の前記光学軸（１５）と実質的に平行な方向に通過するように、前記偏向装置（３１）が前記粒子ビームを偏向させるように操作可能である、請求項１８に記載の分析装置。
【請求項２０】
前記検出装置（９）は、二つの次元での前記荷電粒子の位置を決定するように構成され、前記二つの次元での位置の一方は前記粒子のエネルギーの指標となり、前記二つの次元での位置の他方は前記粒子の開始方向及び開始位置の指標となる、請求項１０〜１９の何れか一項に記載の分析装置。
【請求項２１】
粒子放出試料（１１）を分析するための粒子分光計であって、請求項１０〜２０の何れか一項に記載の分析装置を備えることを特徴とする粒子分光計。
【請求項２２】
前記粒子分光計は、半球状偏向器型の光電子分光計（３０）である、請求項２１に記載の粒子分光計。