【事件の表示】
　平成　１年特許願第　　８２５３号「固体撮像素子の製造方法」拒絶査定に対する審判事件［平成　２年　７月２３日出願公開、特開平　２−１８７７０１］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１.本願は、平成１年１月１７日に特許出願されたものであって、その請求項１に係る発明は、願書に添付した明細書及び図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１に特定された次のとおりのものである。
　「（１）表面に形成したところの染料により着色されるネガ型レジスト膜を露光及び現像によりパターニングすることによりカラーフィルタを形成する固体撮像素子の製造方法において、上記ネガ型レジストに対する露光後に、該レジストの露光部分の重合が進行し、非露光部分の重合が進行しない温度である６０〜１００°Ｃで熱処理を施し、その後現像を行うことを特徴とする固体撮像素子の製造方法。」
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用した特開昭６３−１８３４４０号公報（以下、第１引用例という。）には、「この固体撮像素子のカラーフィルターは、例えばＣＣＤ上に次のような工程によって形成される。すなわち、ＣＣＤの表面を透明な塗膜により平坦化した後、ポリビニルアルコール、グリュー、ゼラチンなどに感放射線性物質を加えて感放射線性を付与した染色基質を当該表面上に均一に塗布し、放射線を照射して第１色目の色相部分を構成すべき部分のみを硬化させ、未硬化部分を溶解除去して現像し、この第１色目の色相部分を構成すべき部分を所定の分光特性を有する染料で染色する。次いでこの色相部分を透明な防染保護膜によって被覆する。さらにこの防染保護膜上に前記染色基質を塗布し、第２色目の色相部分についても同様の工程によって露光、現像、染色を行ない、さらに防染保護膜を形成する。第３色目の色相部分についても同様の工程によって染色し、最後に防染保護膜と同様の材料からなる表面保護膜を形成する。」（第１頁右欄下から１行〜第２頁左上欄第１６行）との記載がある。
  同じく引用した特開昭５７−１４２６３７号公報（以下、第２引用例という。）には、「被処理試料表面にネガ型レジスト膜を形成し、これに電子ビームを照射して所望のパターンを描画する場合、ネガ型レジスト膜の残膜率は露光後の時間経過につれて増大する。そのため所定の残膜率を得るためには、電子ビーム露光終了後非酸化性雰囲気中或いは真空中において試料を長時間保管しなければならなかった。上記事情により電子ビーム露光によりパターンを描画するには長時間を要し、また装置の使用効率が低下するという問題があった。本発明の目的は後重合効果を促進して短時間で所望の残膜率に到達し得るネガ型レジスト膜の処理方法を提供することにある。」（第１頁左欄末行〜右欄第１２行）、「このように温度を上げれば後重合効果が促進され、キュアリング時間を短縮できる。」（第２頁左欄第８〜１０行）、及び「加熱室４には所定の温度、例えば５０°Ｃに加熱した窒素Ｎ２ガスのような高温の非酸化性ガスを流す等の加熱手段を設けておく。これにより試料６表面のネガ型レジスト膜は加熱されるので、上述のように後重合効果が促進され短時間で所望の残膜率に到達する。なお加熱温度は５０〔°Ｃ〕に限定されるものでなく、種々選択して良い。」（第２頁右欄第５〜１２行）との記載があり、  同じく引用した特開昭５５−１１３０４８号公報（以下、第３引用例という。）には、「電子線感応ネガ型レジスト膜に電子線を該電子線の照射部周辺が架橋反応を起こさない程度に照射した後、該レジスト（高分子）のセグメントのミクロブラウン運動が凍結されている温度即ちガラス転移温度（Ｔｇ）の近辺で加熱処理を施すことによって、電子線の照射領域以外の架橋反応が急激に進行することなく、つまり、電子線未照射部の現像液による溶解性を阻害することなく、電子線照射部の架橋度合が高められ、現像処理に際して現像後の膜厚が改善され、ひいてはｒ値が高まり、高解像度でかぶりのない高精度のレジスト像を形成し得る方法を見出した。」（第２頁左上欄第１６行〜右上欄第８行）との記載があり、表（第２頁右下欄）には、加熱処理温度６０、８０、１００°Ｃの実施例が開示され、 同じく引用した特開昭６３−８１９２３号公報（以下、第４引用例という。）には、「温度条件：８５±２°Ｃで一定。
処理時間：約１０分。
この第２ベーク工程において、所定の条件で加熱処理されることにより、感光性ポリイミド樹脂膜は露光工程において感光された部分につき熱架橋反応を進められ、現像液に対する不溶性を一層高められるとともに、ウエハとの接着性を高められる。このとき、感光性ポリイミド樹脂膜が加熱により溶融されないように注意することが肝要である。」（第６頁左上欄第１１〜２０行）及び「露光処理後に加熱処理を行う第２ベーク工程を設けることにより、感光性ポリイミド樹脂の熱架橋反応を促進させることができるため、現像液に対する当該箇所の感応を高めることができる。」（第７頁左下欄第１８行〜右下欄第１行）との記載があり、同じく引用した特開昭５６−４０８２３号公報（以下、第５引用例という。）には、「グリシジルメタクリレートを１％以上含有する重合体とＯ−キノンジアゾ化合物とからなる感光性組成物の皮膜を形成し、紫外線を照射後７０〜１３０°Ｃで熱処理し、後に現像することを特徴とするネガ型フォトレジストパターンの形成方法。」（特許請求の範囲）との記載があり、同じく引用した特開昭５８−９０６３６号公報（以下、第６引用例という。）には、「光重合性組成物を用いた感光性材料は、露光後の加熱によって増感されることが知られている。・・・加熱による感度アップの利点は、露光時間の短縮により、作業効率をアップすると共に省エネルギー化をもたらす点であり、」（第１頁右欄第２〜８行）、「本発明の目的は、光重合性組成物を用いた感光性材料の画像形成方法に於いて、露光工程と現像工程の中間に加熱工程を設け、露光時間を短縮した方法を提供することである。」（第２頁左上欄第４〜７行）、「加熱温度は、５０°Ｃ〜２５０°Ｃの範囲が有効であり、好ましい範囲は７０〜１８０°Ｃ、より好ましくは８５°Ｃ〜１５０°Ｃの範囲である。」（第２頁左下欄第４〜７行）との記載があり、図面第１図からは、加熱温度が上がると感度がなだらかに上昇することが窺える。
　そこで、本願請求項１に係る発明と第１引用例記載のものとを対比すると、本願請求項１に係る発明の「レジスト膜」は、第１引用例記載のものの「染色基質」に相当するから、両者は、表面に形成したところの染料により着色されるネガ型レジスト膜を露光及び現像によりパターニングすることによりカラーフィルタを形成する固体撮像素子の製造方法で一致し、
Ａ本願請求項１に係る発明は、上記ネガ型レジストに対する露光後に、該レジストの露光部分の重合が進行し、非露光部分の重合が進行しない温度である６０〜１００°Ｃで熱処理を施し、その後現像を行うのに対して、第１引用例記載のものは、そのような熱処理を行わない点で相違する。
　そこで、この相違点Ａについて検討すると、レジスト膜について、レジスト露光後に熱処理をするもの、さらには、その温度を６０〜１００°Ｃとすることは従来周知の技術手段（上記第２〜６引用例を参照。）に過ぎないから、これを第１引用例記載の発明のレジストに換えて適用して、本願請求項１に係る発明を推考することは、当業者が容易に為し得たというべきものであり、また、当該適用によって、格別顕著な作用効果が生ずるものでもない。
５.したがって、本願請求項１ に係る発明は、第 １引用例及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものと認められるので、本願請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。