【事件の表示】
　特許第３１４５３５９号「真空処理装置及び基板の真空処理方法」の請求項１、２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３１４５３５９号の請求項１、２に係る特許を維持する。
【理　由】
第１　手続の経緯
　特許第３１４５３５９号の請求項１、２に係る発明についての出願は、平成２年８月２９日に出願された特願平２−２２５３２１号をもとの特許出願として、その一部を平成８年１２月１６日に分割して新たな特許出願（特願平８−３３５３２９号）とし、この新たな特許出願の一部を平成９年１２月１日に分割して新たな特許出願（特願平９−３２９８７３号）とし、さらに、この新たな特許出願の一部を平成１１年１月６日に分割して新たな特許出願としたものであって、平成１３年１月５日にその特許権の設定登録がなされ、その後、特許異議申立人尾島浩敬より特許異議の申立てがなされ、取消しの理由が通知され、その指定期間内である平成１４年２月１８日に訂正請求がなされたものである。
　
第２　訂正の適否についての判断
１　訂正の内容
　特許権者が求めている訂正の内容は、以下のとおりである。
（１）訂正事項Ａ
　特許請求の範囲の請求項１の第１２〜１４行に、「前記未処理基板を前記いずれかのカセット台のカセットから前記ロードロック室へ前記隔離弁を介して一枚毎に搬送し、」とあるのを、「前記未処理基板を前記いずれかのカセット台のカセット内のいずれの場所からも前記ロードロック室へ前記隔離弁を介して一枚毎に搬送し、」と訂正する。
（２）訂正事項Ｂ
　特許請求の範囲の請求項２の第１５〜１７行に、「前記未処理基板を前記いずれかのカセット台のカセットから前記隔離弁を介して前記ロードロック室へ一枚毎に搬送するステップと、」とあるのを、「前記未処理基板を前記いずれかのカセット台のカセット内のいずれの場所からも前記隔離弁を介して前記ロードロック室へ一枚毎に搬送するステップと、」と訂正する。
（３）訂正事項Ｃ
　明細書の項目【０００８】の第１２〜１３行に、「前記未処理基板を前記いずれかのカセット台のカセットから前記ロードロック室へ前記隔離弁を介して一枚毎に搬送し、」とあるのを、「前記未処理基板を前記いずれかのカセット台のカセット内のいずれの場所からも前記ロードロック室へ前記隔離弁を介して一枚毎に搬送し、」と訂正する。
（４）訂正事項Ｄ
　明細書の項目【０００９】の第１３〜１５行に、「前記未処理基板を前記いずれかのカセット台のカセットから前記隔離弁を介して前記ロードロック室へ一枚毎に搬送するステップと、」とあるのを、「前記未処理基板を前記いずれかのカセット台のカセット内のいずれの場所からも前記隔離弁を介して前記ロードロック室へ一枚毎に搬送するステップと、」と訂正する。
　
２　訂正の目的、新規事項の有無及び特許請求の範囲の拡張・変更の存否
（１）訂正事項Ａについて
　訂正事項Ａは、訂正前の請求項１に係る発明において、処理基板を取り出す場所が、単に「カセットから」とされていたものを、「カセット内のいずれの場所からも」と、より限定するものであるから、当該訂正は、特許請求の範囲の減縮を目的とした明細書の訂正に該当する。そして、当該訂正は、訂正前の明細書の項目【００１６】の記載に基づくものであるから、新規事項の追加に該当せず、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものでもない。
（２）訂正事項Ｂについて
　訂正事項Ｂは、訂正前の請求項２に係る発明において、処理基板を取り出す場所が、単に「カセットから」とされていたものを、「カセット内のいずれの場所からも」と、より限定するものであるから、当該訂正は、特許請求の範囲の減縮を目的とした明細書の訂正に該当する。そして、当該訂正は、訂正前の明細書の項目【００１６】の記載に基づくものであるから、新規事項の追加に該当せず、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものでもない。
（３）訂正事項Ｃ、Ｄについて
　訂正事項Ｃ、Ｄは、請求項１、２を訂正したことに伴い、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載の整合をとるためのものであるから、明りようでない記載の釈明を目的とした明細書の訂正に該当する。そして、当該訂正は、訂正前の明細書の項目【００１６】の記載に基づくものであるから、新規事項の追加に該当せず、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものでもない。
　
３　むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び第３項において準用する同法第１２６条第２、３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
第３　特許異議の申立てについて　
１　申立の理由の概要
　特許異議申立人は、特許第３１４５３５９号の訂正前の請求項１、２に係る発明は、本件出願の出願前に日本国内で頒布された刊行物である甲第１号証（特開昭６２−２０７８６６号公報）、甲第２号証（特開昭６３−１５３２７０号公報）、甲第３号証（特開昭６３−１３３５２１号公報）、甲第４号証（特開平２−１７８９４６号公報）、及び甲第５号証（特開昭６２−２１６３１５号公報）に記載された発明乃至技術的事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定に違反して特許をされたものであり、その特許は、同法第１１３条第２号に該当するので、取り消されるべきものである旨主張している。
　
２　本件発明１、２
　本件の訂正後の請求項１、２に係る発明（以下「本件発明１、２」という。）は、訂正明細書及び願書に添付された図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１、２に記載された以下のとおりのものと認める。
「【請求項１】
　基板を収納する複数のカセットと、大気雰囲気で動作する大気搬送装置と、基板を一枚毎処理する複数の真空処理室と、未処理基板を前記真空処理室へ搬入するためのロードロック室と、処理済基板を前記真空処理室から搬出するためのアンロードロック室とを備え、基板を一枚毎に処理する真空処理装置において、
　前記大気搬送装置の前面の所定位置にある実質的に水平な同一平面上に、それぞれカセットが載置される複数のカセット台が固定配置され、
　前記ロードロック室及びアンロードロック室の大気側及び真空側にそれぞれ設けられ、該ロードロック室及びアンロードロック室を大気雰囲気もしくは真空雰囲気に切り替えるために前記未処理基板もしくは前記処理済基板を一枚搬入出する毎に開閉される隔離弁を備え、
　前記大気搬送装置は、前記ロードロック室及びアンロードロック室に共通する前面に位置し、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びθ軸を有するロボットを有しており、前記未処理基板を前記いずれかのカセット台のカセット内のいずれの場所からも前記ロードロック室へ前記隔離弁を介して一枚毎に搬送し、前記処理済基板を前記アンロードロック室から前記隔離弁を介して元のカセットの元の位置に一枚毎回収するように構成されていることを特徴とする真空処理装置。
【請求項２】
　基板を収納する複数のカセットと、大気雰囲気で動作する大気搬送装置と、基板を一枚毎処理する複数の真空処理室と、未処理基板を前記真空処理室へ搬入するためのロードロック室と、処理済基板を前記真空処理室から搬出するためのアンロードロック室とを備えた真空処理装置により、基板を一枚毎に処理する基板の真空処理方法において、
　前記大気搬送装置は、前記ロードロック室及びアンロードロック室に共通する前面に位置し、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びθ軸を有するロボットを有しており、
　前記ロードロック室及びアンロードロック室は、大気側及び真空側にそれぞれ設けられ、該ロードロック室及びアンロードロック室を大気雰囲気もしくは真空雰囲気に切り替えるために前記未処理基板もしくは前記処理済基板を搬入出する毎に開閉される隔離弁を有しており、
　前記大気搬送装置の前面の所定位置にある実質的に水平な同一平面上に固定配置されそれぞれカセットが載置される複数のカセット台のいずれかに、前記未処理基板を収納した前記カセットを載置するステップと、
　前記大気搬送装置により、前記未処理基板を前記いずれかのカセット台のカセット内のいずれの場所からも前記隔離弁を介して前記ロードロック室へ一枚毎に搬送するステップと、
　前記真空処理室で処理された前記処理済基板を前記アンロードロック室から前記隔離弁を介して元のカセットの元の位置に一枚毎回収するステップとを含む、ことを特徴とする真空処理方法。」
　
３　甲第１〜５号証記載の発明乃至技術的事項
（１）甲第１号証
　甲第１号証には、以下のとおり記載されている。
ア　第２頁左下欄第１４〜１９行
「バッファ室１０の五角形の各辺壁には、開口１１を有する押付座１２が設けられている。バッファ室１０の五角形の各辺の外側には、各開口１１によりバッファ室１０内と運通して前処理室２０と４室の処理室３０〜６０が配設されている。」
イ　第２頁右下欄第３行〜第３頁左上欄第３行
「バッファ室１０内には、回転ドラム７０が、ベアリング等の回転支承手段７１により回転可能に設けられている。…（略）…回転ドラム７０には、各開口１１と対応した位置で試料保持手段８０が、この場合５個配設されている。…（略）…プッシャ１１０は、真空封止支承手段１１１により半径方向に往復動可能であり、該往復動により外側端を試料保持手段８０の裏面に当接可能となっている。」
ウ　第３頁右上欄第５行〜左下欄第２行
「第１図、第２図で、前処理室２０には、試料を前処理室２０に搬入するベルト搬送装置等の試料搬送手段２１と、加熱ステーション２２と、エッチステーション２３と、試料を試料搬送手段２１のプッシャ２１１と加熱ステーション２２のプッシャ２２１との間で搬送する回転アーム搬送装置等の試料搬送手段２４と、試料を加熱ステーションのプッシャ２２１とエッチステーションのプッシャ２３１との間で搬送する回転アーム搬送装置等の試料搬送手段２５と、試料を搬出するベルト搬送装置等の試料搬送手段２６と、エッチステーション２３のプッシャ２３１と試料搬送手段２６のプッシャ２６１との間で試料を搬送する回転アーム搬送装置等の試料搬送手段２７と、試料の被処理面姿勢を水平上向姿勢と垂直姿勢との間で変換すると共に試料を試料搬送手段２６のプッシャ２６１と試料保持手段８０との間で搬送するリンク機構を用いた搬送装置等の試料搬送手段２８とが設けられている。」
エ　第３頁左下欄第１７行〜第４頁左上欄第６行
「第１図，第２図で、処理室２０には、試料搬送手段２１に対応した位置でゲートバルブ等の真空間遮断手段１５０を介してロード室１６０が設けられている。ロード室１６０内には、ロード室１６０内で試料を搬送し真空間遮断手段１５０を介して試料搬送手段２１に試料を渡すベルト搬送装置等の試料搬送手段１６１が設けられている。ロード室１６０には、試料搬送手段１６１と対応した位置でゲートバルブ等の大気真空間遮断手段１７０が設けられている。大気真空間遮新手段１７０の大気側には、カセットローダ１８０から試料を受け取り搬送し大気真空間遮断手段１７０を介して試料を試料搬送手段１６１に渡すベルト搬送装置等の試料搬送手段１９０が設けられている。一方、処理室２０には、試料搬送手段２６に対応した位置でゲートバルブ等の真空間遮断手段１５１を介してアンロード室１６２が設けられている。アンロード室１６２内には、アンロード室６２内で試料を搬送し真空間遮断手段１５１を介して試料搬送手段２６から試料を受け取るベルト搬送装置等の試料搬送手段１６３が設けられている。アンロード室１６２には、試料搬送手段１６３と対応した位置でゲートバルブ等の大気真空間遮断手段１７１が設けられている。大気真空間遮断手段１７１の大気側には、カセットアンローダ１８１に試料を渡し大気真空間遮断手段１７１を介して試料を試料搬送手段１６３から受け取り搬送するベルト搬送装置等の試料搬送手段１９１が設けられている。なお、図示省略したが、ロード室１６０，アンロード室１６２には、真空排気手段と真空から大気圧へのリ一ク手段とがそれぞれ設けられている。」
オ　第４頁右上欄第１９行〜右下欄第２行
「なお、ロード室１６０内，アンロード室１６２内はリーク手段により大気圧になされ大気真空間遮断手段１７０，１７１は開けられる。その後、未処理の試料を収納したカセット（図示省略）をカセットローダ１８０上にセットし、空のカセット（図示省略）をカセットアンローダ１８１上にセットすることで運転が開始される。試料搬送手段１９０を作動させることで未処理の試料はカセットから取り出され大気真空間遮断手段１７０に向って搬送される。その後、試料搬送手段１６１を作動させることで、試料搬送手没１９０により搬送されてきた試料は、開けられている大気真空間遮断手段１７０を介して試料搬送手段１６１に渡されてロード室１６０内に搬入される。その後、大気真空間開閉手段１７０は閉められ、ロード室１６０内は真空排気される。その後、真空間遮断手段１５０が開けられ、ロード室１６０内は前処理室２０内と連通させられる。この状態で、試料搬送手段１６１を作動させ、試料搬送手段２１を作動させることで、試料は開けられている真空間遮断手段１５０を介して試料搬送手段１６１から試料搬送手段２１に渡されて前処理室２０内に搬入される。その後、真空間遮断手段１５０は閉められロード室１６０内には、上記操作により新たな試料が搬入される。」
カ　第５頁右下欄第２０行〜第６頁左上欄第１１行
「その後、真空間遮断手段１５１を開け試料搬送手段２６，１６３を作動させることで、処理済みの試料は、前処理室２０内からアンロード室１６２内に搬入される。その後、真空間遮断手段１５１を閉めアンロード室１６２内は大気圧に戻される。その後、大気真空間遮断手段１７１を開け試料搬送手段１６３，１９１を作動させることで、処理済みの試料は、アンロード室１６２外に搬出されて空のカセットに回収される。このような操作を繰り返し実施することで、処理済みの試料は、バッファ室１０から取り出され前処理室２０内，アンロード室１６２内を通って空のカセットに１個毎回収される。」
　
（２）甲第２号証
　甲第２号証には、以下のとおり記載されている。
ア　第３頁左上欄第１３行〜右上欄第１５行
「第１図は本装置（１）の全体を示すが、左右には一対のＣＶＤ反応室（２ａ）（２ｂ）が設けられ、これらの間にバッファー室（３）が設けられている。バッファー室（３）と両反応室（２ａ）（２ｂ）との間の隔壁にはゲートバルブ（４ａ）（４ｂ）が設けられ、これらを介してウェハーの受け渡しが行われるようになっている。バッファー室（３）の前方には本発明に係わるウェハー交換室（５）が設けられ、ゲートバルブ（６）を介してこれら室（３）（５）間でウェハーの受け渡しが行われるようになっている。
　バッファー室（３）内にはウェハー転送機構（７）が設けられ、これは搬送用フォーク（８）を備え、矢印ａで示すように中心軸（９）の回りに回動自在であり、かつ矢印ｂで示すように伸縮自在となっている。ウェハー交換室（５）の両側壁部にもゲートバルブ（１０）（１１）が設けられ、この一方側には未処理ウェハー搬入用ベルト（１２）が設けられ、ウエハーストック・カセット（１３）から所定のタイミングで一枚宛、自動的に取り出してベルト（１２）によりウェハー交換室（５）内に搬入するようになっている。また他方には処理済ウェハー搬出用ベルト（１４）が設けられ、処理済ウェハーストック・カセット（１５）へと搬入するようになっている。」
イ　第５頁右下欄第１行〜第６頁右上欄第７行
　「この状態においてフォーク（８）はバッファ室（３）から伸びてきて処理済のウェハー（４７）’を載置させて第１０図Ａに示すように上段支持部Ｕと下段支持部Ｄとの間に至る。
　ここで基板支持体（２４）は第１０図Ｂで示す位置へと上昇する。この上昇途上において処理済のウェハー（４７）’は下段支持部Ｄ上に載置されて、ここで停止し、尚、基板支持体（２４）は上昇し第１０図Ｂの位置で停止するのであるが、ここではフォーク（８）は処理済のウェハー（４７）’から離れて図示の位置（溝（５２ａ）（５２ｂ）内）にある。この位置においてフォーク（８）は矢印で示す如くバッファー室（３）へと後退する。
　第１０図Ｃに示すように基板支持体（２４）は下降し再び第１０図Ａの高さと同じ位置を取る。ついで、フォーク（８）が第１０図Ｃで矢印で示すようにバッファ室（３）からウェハー交換室（５）内に伸びてきて図示の位置を取る。基板支持体（２４）は下方へと移動し第１０図Ｄの位置を取る。これによりフォーク（８）により未処理のウェハー（４７）が担持される。ついで、フォーク（８）はバッファ室（３）へと退却する。
　第１０図Ｅに示すように基板支持体（２４）は更に下方へと移動する。この位置でゲートバルブが閉じられウェハー交換室（５）は大気圧にもどされる。そしてゲートバルブ（１０）（１１）が開けられる。
　第１０図Ｅの位置に基板支持体（２４）が停止するとベルトコンベヤ（５７ａ）（５７ｂ）上に処理済のウェハー（４７）’が図示する如く載せられる。ここでゲートバルブ（１０）（１１）が開かれているので処理済のウェハー（４７）’は開口（１１ａ）を通りベルトコンベヤ（１４）により移送されて、処理済のウェハーカセット（１５）内に導入される。基板支持体（２４）は更に下方へと移動し第１０図Ｆの位置をとる。この位置ではベルトコンベヤ（１２）（５６ａ）（５６ｂ）は基板支持体（２４）の上段支持部Ｕより上方に位置するのであるが、この位置で未処理のウエハーストックカセット（１３）から取出されたウェハー（４７）はベルトコンベヤ（１２）により移送されて開口（１４ａ）を通ってウェハー交換室（５）に導かれる。ついで基板支持体（２４）は上方へと移動し再び第１０図Ａの位置を取る。即ちベルトコンベヤ（５６ａ）（５６ｂ）（５７ａ）（５７ｂ）は基板支持体（２４）の下方に位置する。未処理のウェハー（４７）は上段Ｕ上に載置される。ここでゲートバルブ（１０）（１１）が閉じられ交換室（５）内は真空状態に排気される。ついで冒頭に述べた如くゲートバルブ（６）が開けられフォーク（８）がバッファ室（３）よりウェハー交換室（５）内に処理済のウェハー（４７）’を載せて第１０図Ａに示す位置に至る。以下、上述の操作を繰返す。」
　
（３）甲第３号証
ア　甲第３号証の第４頁左下欄第１９行〜右下欄第１３行には、以下のとおり記載されている。
「第１図において１は未処理，処理済ウェーハ１１を全部で通常２５枚収納するウェーハ収納カセットである。このカセット１を１個又は複数個配置し作用することができる。２はカセット１からウェーハ１１を１枚ずつ取り出してロードロック室４に搬入し、またはその逆の動作を行うウェーハ搬送機構である。このウェーハ搬送機構２は、例えば第２図示のようにケース２５内の支承部に上下動自在で回転自在に軸２６ａを支持した第１アーム２６と、この第１アーム２６上に前後動自在に設けられ、先端肉薄部上面に真空吸着部（孔）２７ａを有する第２アーム２７と、第１アーム２６の回転機構及び上下動機構（いずれも図示せず）と、第２アーム２７の前後動機溝及び真空吸着部の排気装置（いずれも図示せず）とよりなる。」
イ　同第６頁左下欄第２〜８行、第７頁左上欄第２〜１２行、第８頁右上欄第２〜８行には、以下の事項が記載されていると認める。
　真空処理装置において、１つの搬送装置により、ロック室と複数のカセットの１つとの間で被処理基板を搬送したり、ロック室と前記１つのカセットとの間で処理済基板を搬送し該カセットの元の位置に収納すること。
　
（４）甲第４号証
　甲第４号証には、以下のとおり記載されている。
ア　第２頁右上欄第１２行〜２０行
「第３図に示されるように、本体１の中央部付近には、被処理体たとえば半導体ウエハ３を保持する保持機構たとえば吸着保持するとともに、単独動作が可能で上下に配置された２つの吸着アーム５ａ、５ｂを有し、これらの吸着アーム５ａ、５ｂをＸ（縦）方向、Ｙ（横方向、Ｚ（垂直）方向、θ（回転）それぞれ独立に移動可能に構成された搬送機構（ウエハ搬送ロボット）７が配置されている。」
イ　第３頁右上欄第１３行〜２０行
「上記処理装置２１ユニットの左側の位置には、処理前の半導体ウエハ３を収納する収納容器、たとえば２５枚収容可能なウエハキャリア（カセット）２３と処理後の半導体ウエハ３をウエアキャリア２５と、半導体ウエハ３の吸着保持する吸着アーム２７を有するローダ装置２９と、昇降自在な載置ピン３１とからなる搬入搬出機構（カセットステーション）３３が配置されている。」
　
（５）甲第５号証
　甲第５号証の第５頁左上欄第６〜１２行、右上欄第１４行〜左下欄第３行には、以下の事項が記載されていると認める。
　半導体処理装置において、処理済基板を元のカセットの元の位置に収納するようにしたり、処理済みの試料を別の空のカセットに回収するようにしたりすることは適宜なし得ること。
　
４　対比及び当審の判断
（１）本件発明１について
　本件発明１は、「大気搬送装置の前面の所定位置にある実質的に水平な同一平面上に、それぞれカセットが載置される複数のカセット台が固定配置され」（以下「構成Ａ」という。）、「大気搬送装置は、ロードロック室及びアンロードロック室に共通する前面に位置し、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びθ軸を有するロボットを有しており、未処理基板をいずれかのカセット台のカセット内のいずれの場所からもロードロック室へ隔離弁を介して一枚毎に搬送し、処理済基板をアンロードロック室から隔離弁を介して元のカセットの元の位置に一枚毎回収するように構成されている」（以下「構成Ｂ」という。）を、その発明の構成に欠くことができない事項とするものである。
　一方、甲第１号証記載の「連続スパッタ装置」は真空処理装置の一種であり、その扱う試料は半導体基板であることは明らかであり、また、甲第１号証記載の「未処理の試料」、「処理済みの試料」、「４室の処理室３０〜６０」、「カセットローダ１８０及びカセットアンローダ１８１」、「ロード室１６０」、「アンロード室１６２」、「カセットローダ１８０及びカセットアンローダ１８１」が扱う「カセット」、「試料搬送手段１９０及び１９１」、「真空間遮断手段１５０、１５１、大気真空間遮断手段１７０、１７１」は、それぞれ、本件発明１の「未処理基板」、「処理済基板」、「複数の真空処理室」、「カセット台」、「ロードロック室」、「アンロードロック室」、「カセット」、「搬送装置」、「隔離弁」に相当することから、甲第１号証記載の発明は、
「基板を収納する複数のカセットと、大気雰囲気で動作する大気搬送装置と、基板を処理する複数の真空処理室と、未処理基板を前記真空処理室へ搬入するためのロードロック室と、処理済基板を前記真空処理室から搬出するためのアンロードロック室とを備えた基板を処理する真空処理装置において、
　前記大気搬送装置の前面の所定位置に、それぞれカセットが載置される前記複数のカセット台が配置され、前記ロードロック室及びアンロードロック室の大気側及び真空側にそれぞれ設けられ、該ロードロック室及びアンロードロック室を大気雰囲気もしくは真空雰囲気に切り替えるために前記未処理基板もしくは前記処理済基板を一枚搬入出する毎に開閉される隔離弁を備え、前記大気搬送装置は、前記未処理基板を前記いずれかのカセット台のカセットから前記ロードロック室へ前記隔離弁を解して一枚毎に搬送し、前記処理済基板を前記アンロードロック室から前記隔離弁を介して一枚毎回収するように構成されている真空処理装置。」である点で、本件発明１と一致するものの、上記構成Ａ、Ｂを有するものではない。
　そして、甲第２号証には、被処理基板もしくは処理基板を一枚毎処理し、搬送することについて記載されているものの、上記構成Ａ、Ｂは記載も示唆もされていない。
　また、甲第３、４号証には、搬送装置によりロード室と複数のカセットの１つとの間で被処理基板を搬送したり、ロード室と前記１つのカセットの間で処理済基板を搬送しカセットの元の位置に戻すことが記載されているとしても、複数のカセットを実質的に水平な同一平面上に固定配置すること、及びカセット内のいずれの場所からも基板を取り出すようにすること、即ち、上記構成Ａ、Ｂは記載も示唆もされていない。
　さらに、甲第５号証には、半導体処理装置において、処理済み基板を元のカセット内の元の位置の収納することが記載若しくは示唆されているとしても、その意味は、カセットの上または下から順番に取り出した基板をその順番でカセットに戻すことによって、カセットの元の位置に戻すことであり、カセットのいずれの場所からも基板を取り出し、該基板をその元の位置に戻すことを意味するものではないので、上記構成Ｂが記載若しくは示唆されているとはいえない。また、甲第５号証記載のものは、図面の記載からみて、基板の搬送を、ベルト式の搬送系で行っており、カセットが搬送系に対して上下動するものと考えられるので、上記構成Ａが記載若しくは示唆されているともいえない。
　結局、甲第１〜５号証何れにも、上記構成Ａ、Ｂについて記載も示唆もされていない。
　
　なお、特許異議申立人は、上記構成Ａに関し、甲第１号証に記載された装置において、複数のカセットに相当するカセットローダー１８０、カセットアンローダー１８１のロード室１６０、１６２、搬送装置１９０、１９１との配置関係から、複数のカセットを、設計上、実質的に同一の平面上に配置するのが自然である旨主張しているが、甲第１号証に記載された装置は、ベルト搬送装置により基板を搬送するものであるから、カセットがベルト搬送装置に対して上下動しているとみるべきであり、複数のカセットが実質的に同一の平面上に固定配置されている、又は固定配置するのが自然であるとはいえず、この主張は採用できない。
　
　そして、本件発明１は、上記構成Ａ、Ｂを有することにより、「カセット台の上下機構が不要であり、構成が簡潔になる。」、「基板の管理が容易である。」という、甲第１〜５号証記載のものにない格別の効果を奏するものである。
　したがって、本件発明１は、甲第１〜５号証記載の発明乃至技術的事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　
（２）本件発明２について
　本件発明２は、請求項２の記載からみて、本件発明１の作動を方法として捉えたものということができ、且つ、本件発明１の構成を全て有していることから、本件発明１が、甲第１〜５号証記載の発明乃至技術的事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることができない以上、本件発明２も、甲第１〜５号証記載の発明乃至技術的事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　
５　むすび
　以上のとおりであるから、特許異議の申立ての理由及び証拠によっては、本件発明１、２の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明１、２の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年１１月２０日（２００２．１１．２０）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　特許第３１４５３５９号の明細書中の特許請求の範囲、発明の詳細な説明を以下のとおり訂正する。
（１）訂正事項Ａ
　特許請求の範囲の請求項１の第１２〜１４行に、「前記未処理基板を前記いずれかのカセット台のカセットから前記ロードロック室へ前記隔離弁を介して一枚毎に搬送し、」とあるのを、「前記未処理基板を前記いずれかのカセット台のカセット内のいずれの場所からも前記ロードロック室へ前記隔離弁を介して一枚毎に搬送し、」と訂正する。
（２）訂正事項Ｂ
　特許請求の範囲の請求項２の第１５〜１７行に、「前記未処理基板を前記いずれかのカセット台のカセットから前記隔離弁を介して前記ロードロック室へ一枚毎に搬送するステップと、」とあるのを、「前記未処理基板を前記いずれかのカセット台のカセット内のいずれの場所からも前記隔離弁を介して前記ロードロック室へ一枚毎に搬送するステップと、」と訂正する。
（３）訂正事項Ｃ
　明細書の項目【０００８】の第１２〜１３行に、「前記未処理基板を前記いずれかのカセット台のカセットから前記ロードロック室へ前記隔離弁を介して一枚毎に搬送し、」とあるのを、「前記未処理基板を前記いずれかのカセット台のカセット内のいずれの場所からも前記ロードロック室へ前記隔離弁を介して一枚毎に搬送し、」と訂正する。
（４）訂正事項Ｄ
　明細書の項目【０００９】の第１３〜１５行に、「前記未処理基板を前記いずれかのカセット台のカセットから前記隔離弁を介して前記ロードロック室へ一枚毎に搬送するステップと、」とあるのを、「前記未処理基板を前記いずれかのカセット台のカセット内のいずれの場所からも前記隔離弁を介して前記ロードロック室へ一枚毎に搬送するステップと、」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
真空処理装置及び基板の真空処理方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　基板を収納する複数のカセットと、大気雰囲気で動作する大気搬送装置と、基板を一枚毎処理する複数の真空処理室と、未処理基板を前記真空処理室へ搬入するためのロードロック室と、処理済基板を前記真空処理室から搬出するためのアンロードロック室とを備え、基板を一枚毎に処理する真空処理装置において、
　前記大気搬送装置の前面の所定位置にある実質的に水平な同一平面上に、それぞれカセットが載置される複数のカセット台が固定配置され、
　前記ロードロック室及びアンロードロック室の大気側及び真空側にそれぞれ設けられ、該ロードロック室及びアンロードロック室を大気雰囲気もしくは真空雰囲気に切り替えるために前記未処理基板もしくは前記処理済基板を一枚搬入出する毎に開閉される隔離弁を備え、
　前記大気搬送装置は、前記ロードロック室及びアンロードロック室に共通する前面に位置し、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びθ軸を有するロボットを有しており、前記未処理基板を前記いずれかのカセット台のカセット
内のいずれの場所からも
　【請求項２】
　基板を収納する複数のカセットと、大気雰囲気で動作する大気搬送装置と、基板を一枚毎処理する複数の真空処理室と、未処理基板を前記真空処理室へ搬入するためのロードロック室と、処理済基板を前記真空処理室から搬出するためのアンロードロック室とを備えた真空処理装置により、基板を一枚毎に処理する基板の真空処理方法において、
　前記大気搬送装置は、前記ロードロック室及びアンロードロック室に共通する前面に位置し、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びθ軸を有するロボットを有しており、
　前記ロードロック室及びアンロードロック室は、大気側及び真空側にそれぞれ設けられ、該ロードロック室及びアンロードロック室を大気雰囲気もしくは真空雰囲気に切り替えるために前記未処理基板もしくは前記処理済基板を搬入出する毎に開閉される隔離弁を有しており、
　前記大気搬送装置の前面の所定位置にある実質的に水平な同一平面上に固定配置されそれぞれカセットが載置される複数のカセット台のいずれかに、前記未処理基板を収納した前記カセットを載置するステップと、
　前記大気搬送装置により、前記未処理基板を前記いずれかのカセット台のカセット
内のいずれの場所からも
　前記真空処理室で処理された前記処理済基板を前記アンロードロック室から前記隔離弁を介して元のカセットの元の位置に一枚毎回収するステップとを含む、ことを特徴とする真空処理方法。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明は、真空処理装置及び基板の真空処理方法に係り、特に複数の真空処理室を有する真空処理及びそれを用いた基板の真空処理方法に関するものである。
　【０００２】
　【従来の技術】
　ドライエッチング装置、ＣＶＤ装置あるいはスパッタリング装置などの真空処理装置においては、定められた複数枚の被処理基板を一つの単位（一般にロットとよばれる）として基板カセットに収納して装置に投入し、処理済みの基板も同一の単位毎に基板カセットに収容して回収することにより、生産の効率化を図るのが一般的な真空処理装置用搬送システム及びそ運転方法である。
　【０００３】
　しかしながら、上記のような真空処理装置、特にドライエッチング装置、ＣＶＤ装置など活性ガスによる反応を利用する装置においては、処理を行うに従って反応生成物が処理容器内に付着、堆積するために、真空性能の劣化、ゴミの増加、光学モニタ信号のレベル低下などの問題が生じることがしばしばあり、これを避けるために定期的に処理容器内をクリーニングする作業が行われている。クリーニング作業には、有機溶剤等によって付着物を拭き取る、所謂ウェットクリーニングと、付着物を分解する活性ガスやプラズマを利用するドライクリーニングとがあるが、作業性や効率面からはドライクリーニングが優れており、こうした機能は生産ラインの自動化が進むにつれて不可欠なものとなりつつある。
　【０００４】
　このような機能を備えた真空処理装置用搬送システムの一例として、実開昭６３−１２７１２５号公報に開示された装置などがあげられる。
　【０００５】
　また、特開昭６２−４４５７１号公報に開示された装置においては、１つの真空処理室と、ロードロック室及びアンロードロック室、およびこれらのロック室に対応する独立した２つの真空ロック室が上下に重ねて配置され、ロードロック室及びアンロードロック室に対応する供給側および回収側のカセットが設けられている。また、特開昭６３−１５３２７０号公報に開示された装置においては、２つの真空処理室と、１つのロック室、供給側および回収側のカセットおよび各カセットに対応してそれぞれ設けられた基板搬送用のベルトコンベヤーを備えている。さらに、特開平２−５２４４９号公報に開示された装置においては、１つの真空処理室と、２つの予備真空室と、供給側および回収側のカセットおよび各カセットに対応してそれぞれ設けられたベルトコンベヤーを備えている。また、実開昭５８−９５６３６号公報に開示された装置においては、供給側および回収側の各カセットに対応してそれぞれ設けられた基板搬送用のベルトコンベヤーを備えている。
　【０００６】
　【発明が解決しようとする課題】
　これらの装置においては、通常、高さ方向に複数の基板を収納した大気雰囲気のカセットとロック室等の間で、上下動しない大気搬送装置により各基板を搬送するために、カセットの上下機構が必要で構成が複雑であったり、ロック室の構成が複雑になったり、カセットが供給側と回収側に分かれていて基板の管理が複雑になる等の問題があった。
　【０００７】
　本発明の目的は、上記の問題点を解決し、構成が簡潔で、生産ラインへの自動化の対応が可能であり、かつ、基板の管理が容易な真空処理装置および真空処理方法を提供することにある。
　【０００８】
　【課題を解決するための手段】
　本発明の特徴は、基板を収納する複数のカセットと、大気雰囲気で動作する大気搬送装置と、基板を一枚毎処理する複数の真空処理室と、未処理基板を前記真空処理室へ搬入するためのロードロック室と、処理済基板を前記真空処理室から搬出するためのアンロードロック室とを備え、基板を一枚毎に処理する真空処理装置において、前記大気搬送装置の前面の所定位置にある実質的に水平な同一平面上に、それぞれカセットが載置される複数のカセット台が固定配置され、前記ロードロック室及びアンロードロック室の大気側及び真空側にそれぞれ設けられ、該ロードロック室及びアンロードロック室を大気雰囲気もしくは真空雰囲気に切り替えるために前記未処理基板もしくは前記処理済基板を一枚搬入出する毎に開閉される隔離弁を備え、前記大気搬送装置は、前記ロードロック室及びアンロードロック室に共通する前面に位置し、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びθ軸を有するロボットを有しており、前記未処理基板を前記いずれかのカセット台のカセット
内のいずれの場所からも
　【０００９】
　本発明の他の特徴は、基板を収納する複数のカセットと、大気雰囲気で動作する大気搬送装置と、基板を一枚毎処理する複数の真空処理室と、未処理基板を前記真空処理室へ搬入するためのロードロック室と、処理済基板を前記真空処理室から搬出するためのアンロードロック室とを備えた真空処理装置により、基板を一枚毎に処理する基板の真空処理方法において、前記大気搬送装置は、前記ロードロック室及びアンロードロック室に共通する前面に位置し、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びθ軸を有するロボットを有しており、前記ロードロック室及びアンロードロック室は、大気側及び真空側にそれぞれ設けられ、該ロードロック室及びアンロードロック室を大気雰囲気もしくは真空雰囲気に切り替えるために前記未処理基板もしくは前記処理済基板を搬入出する毎に開閉される隔離弁を有しており、前記大気搬送装置の前面の所定位置にある実質的に水平な同一平面上に固定配置されそれぞれカセットが載置される複数のカセット台のいずれかに、前記未処理基板を収納した前記カセットを載置するステップと、前記大気搬送装置により、前記未処理基板を前記いずれかのカセット台のカセット
内のいずれの場所からも
　【００１０】
　本発明によれば、未処理の基板を収納したカセットがカセット台に載置される。この時カセット台は水平であるため、カセットの供給動作を単純化することが可能であり、生産ラインの自動化への対応が容易である。
　【００１１】
　【発明の実施の形態】
　以下、本発明の一実施例を図１により説明する。
　【００１２】
　図１は、本発明による真空処理装置の、半導体ウェーハに対するドライエッチング処理を行う装置への応用を示す図である。
　【００１３】
　装置は、未処理のウェーハを収納した状態で、装置に処理対象を供給し、かつ処理済みのウェーハを再度元の位置に収納して回収するための、複数（通常２５枚）のウェーハを収納できる複数のカセット１ａ、１ｂおよび１ｃ、該カセット１ａ、１ｂ、１ｃを載置し、装置への導入／払出しの位置を決定するための、位置及び姿勢を変えることがなく、水平又は水平に近い平面の上に常に一定位置に固定されたカセット台２ａ、２ｂ、２ｃ、図示しない真空排気装置及びガス導入装置を装備し、ウェーハを真空雰囲気に導入するためのロードロック室（基板受入室）５、同じくウェーハを大気中に取りだすためのアンロードロック室（基板取出室）６、ウェーハにエッチング処理を施すためのエッチング１１（１１ａ，１１ｂ，１１ｃ）、それらをそれぞれ気密に分離可能な隔離弁１２、及びロードロック室（基板受入室）５／アンロードロック室（基板取出室）６とカセット１ａ、１ｂ、１ｃとの間に配置され、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びθ軸を有するロボットを備えた、ロードロック室（基板受入室）５／アンロードロック室（基板取出室）６とカセット１ａ、１ｂ、１ｃとの間でウェーハを授受するための第１搬送装置１３から構成されている。
　【００１４】
　装置の動作としては、まず、未処理のウェーハを収納したカセット１ａ、１ｂがストッカ（図示省略）から装置へとロボット又はオペレータにより供給され、カセット台２ａ、２ｂに載置される。この時カセット台２ａ、２ｂは水平な同一平面上にあるため、カセットの供給動作を単純化することが可能であり、生産ラインの自動化への対応が容易である。一方、カセット台２ｃには、ダミーウェーハを収納したカセット１ｃが載置される。
　【００１５】
　装置は、カセットに付与された生産情報を自ら認識するか、上位の制御装置から送られる情報に基づくか、あるいはオペレータの入力する命令によるか、いずれかの方法によりウェーハに処理を行うことができる。
　【００１６】
　カセット１ａに収納された未処理のウェーハ（基板）２０を第１搬送装置１３により抜き取り、第１搬送装置１３に対してカセット１ａとは反対側に配置されたロードロック室（基板受入室）５へ隔離弁１２ａを通して搬入する。このときウェーハ（基板）２０は、カセット１ａ内のいずれの場所に収納されたものでも良い。ウェーハ（基板）２０は、隔離弁１２ａからロードロック室（基板受入室）５に入った後、隔離弁１２ｂからアンロードロック室（基板取出室）６を出るまで、装置外部の雰囲気とは完全に遮断された状態にあるので、隔離弁１２ａ、１２ｂを境にして仕切りを設け、カセット台２ａ、２ｂとそこに載置されたカセット１ａ、１ｂ及び第１搬送装置１３のみを清浄度の高いクリーンルーム側に置き、残りの部分は清浄度の低いメインテナンスルーム側に置くことができる。ロードロック室（基板受入室）５は、隔離弁１２ａを閉じた後、排気装置（図示省略）によって所定の圧力まで真空排気され、次いで隔離弁１２ｂが開放されてウェーハ（基板）２０は、搬送室１６に設けられた真空搬送装置（図示略）により各エッチング室１１（１１ａ，１１ｂ，１１ｃ）へ搬送され、各試料台８（８ａ，８ｂ，８ｃ）上に載置される。
　【００１７】
　尚、各エッチング室１１ａ，１１ｂ，１１ｃには、搬送室１６との間にそれらをそれぞれ気密に分離する隔離弁１２ａ’１２ｂ’１２ｃ’（図示省略）が設置されている。
　【００１８】
　各エッチング室１１（１１ａ，１１ｂ，１１ｃに搬入されたウェーハ（基板）２０は、所定の条件によりエッチング処理を施される。この間に、ロードロック室（基板受入室）５は隔離弁１２ａ、１２ｂを閉じた状態で、ガス導入装置４により大気圧に復帰され、開放された隔離弁１２ａから１枚目のウェーハと同様に２枚目のウェーハが第１搬送装置１３によって搬入され、再び排気装置によって所定の圧力まで真空排気される。１枚目のウェーハ（基板）２０のエッチング処理が終了すると、隔離弁１２ｃが開かれて処理済みのウェーハ（基板）２０がアンロードロック室（基板取出室）６に搬出され、続いて隔離弁１２ｃが閉じられ、隔離弁１２ｂが開かれて２枚目のウェーハがロードロック室（基板受入室）５から搬入され、隔離弁１２ｂを閉じた後エッチング処理が開始される。
　【００１９】
　アンロードロック室（基板取出室）６に搬出された処理済みウェーハ（基板）２０は、アンロードロック室（基板取出室）６を大気圧に復帰した後、隔離弁１２ｄを通して第１搬送装置１３によって大気中に取りだされ、当初収納されていたカセット１ａ内の元の位置へ戻される。
　【００２０】
　以上の動作を繰り返して、カセット１ａに収納されていた未処理ウェーハの処理が完了し、元の位置に再収納し終わるとカセット１ａは回収可能となり、別の未処理のウェーハを収納したカセットと交換されるが、装置はその間カセット１ｂ内の未処理ウェーハの処理を続けており、カセット１ｂの全てのウェーハの処理が完了する前に別の未処理のウェーハを収納したカセットが供給されれば、装置は常に連続的に稼働可能である。この時カセット１ａ、カセット１ｂは水平な同一平面上にあるため、カセット１ａの回収作業及び別の未処理のウェーハを収納したカセットの供給作業を、搬送装置１３によるカセット１ｂへのアクセスに影響を与えることなく行うことができる。
　【００２１】
　エッチング室１１は、処理を重ねるにつれて反応生成物が内壁面に付着、堆積してくるためにプラズマクリーニングによって付着物を除去し、元の状態に復旧してやる必要があるが、プラズマクリーニングの実施に当っては、カセット１ｃに収納されたダミーウェーハ３０を第１搬送装置１３によって抜取り、以降は前記被処理ウェーハ（基板）２０の場合と全く同様にして処理を行った後、ダミーウェーハ３０をカセット１ｃ内の元の位置に戻すことができ、ダミーウェーハ３０は常にカセット１ｃ内にストックされていることになる。
　【００２２】
　尚、カセット１ｃのダミーウェーハ３０が全てプラズマクリーニングで使用された場合や、数回の使用により使用不良となった場合、ダミーウェーハ３０はカセット１ｃごと全て交換される。
　【００２３】
　従って、プラズマクリーニングを特別な処理シーケンスとして扱う必要は無く、通常のエッチング処理の中に組み込んで一連の作業として行うことができ、クリーニングを実施する周期も任意に設定することが可能である。装置のハードウェア上からもプラズマクリーニングの為の専用の機構は必要が無く、複数のカセット台の一つ（本例の場合２ｃ）にダミーウェーハ３０を収納したカセット（本例の場合１ｃ）を設置するだけで良く、プラズマクリーニングの必要が無い用途の場合には、ダミーウェーハ３０を収納したカセットの代わりに、被処理ウェーハ２０を収納したカセットを設置することにより、より効率良く生産を行うことができることは説明するまでもない。
　【００２４】
　また、一旦プラズマクリーニングに使用されたダミーウェーハは、再び大気中の元のカセットに戻るようになされているので、真空室内では使用済みのダミーウェーハとこれから正規の処理を受けようとする未処理のウェーハとが混在することがなく、製品の汚染の心配も無い。
　【００２５】
　【発明の効果】
　本発明によれば、水平な同一平面上のカセットと、ロボット付大気搬送装置および隔離弁の採用により、カセット台の上下機構が不要であり、構成が簡潔になる。また、生産ラインへの自動化の対応が可能である。さらに、元のカセットの元の位置に戻すので、基板の管理が容易である。
【図面の簡単な説明】
　【図１】本発明の一実施例のドライエッチング装置の平面図である。
　【符号の説明】
　１…基板カセット、２…カセット台、５…ロードロック室（基板受入室）、６…アンロードロック室（基板取出室）、８…試料台、１１…エッチング室、１２…隔離弁、１３…第１搬送装置、１６…搬送室、２０…ウェーハ（基板）、３０…ダミーウェーハ。