【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年11月12日(2014.11.12)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【発明の詳細な説明】
【発明の名称】リソグラフィック結像システムの倍率制御
【関連出願の相互参照】
【０００１】
本出願は、合衆国法典第３５巻第１１９条（ｅ）項に基づき、米国仮出願第６１／２６３１７８号（出願日：２００９年１１月２０日）の優先権を主張するものである。
【技術分野】
【０００２】
本発明はフラットパネル・ディスプレイを含む半導体素子や集積回路の製造を目的として、基体にパターンをリソグラフ投影することに関し、より詳細には投影パターンの倍率管理に関するものである。
【背景技術】
【０００３】
マイクロリソグラフィック投影システムは、感光層を選択的に露光するために、超小型回路や超小型素子の製造の多くの段階において、パターンを基体に投影するものである。所望の回路又は素子を製造するために、しばしばこのようなパターンを繋ぎ合せて広い領域を露光したり下部のパターンとの整合を取ったりする必要がある。周囲温度や圧力の変化等の動作条件の変化を補償することにより、継続的に行われる露光においてパターンを適切に関連付けるため、投影パターンの画像の倍率を細かく制御する必要がある。隣接パターンを繋ぎ合せる必要があるステップ式リソグラフィにおいては、一般に、投影システムの画像面において２つの直交する方向の倍率制御が必要である。一般に、走査方向の露光時間を調整する走査リソグラフィにおいては、走査方向に直交する一方向のみの倍率制御が必要である。
【０００４】
一般に、倍率制御は、（ａ）オブジェクト共役（例えば、レチクル）を相対平行移動させ物体側距離と像側距離との比を変えるか（ｂ）対物レンズの視野レンズを相対平行移動させて対応する焦点距離の比を変えることによって行われる。何れの方法においても、構成要素がシフトすることによって倍率が変化するよう、投影システムが物体空間において非テレセントリックでなければならない。しかし、小さな焦点移動によって投影画像の倍率が影響を受けないようにするためには、同じ投影システムが像空間においてテレセントリックでなければならない。部分コヒーレンス条件下において、照明と投影システムとが組み合わされた場合、像空間においてテレセントリシティを維持するために必要な物体空間における光線の角度分布がより複雑になる。その結果、倍率の変化の他に、物体空間における構成要素のシフトによって像空間に投影される画像が歪んだり、波面収差が生じたりする。歪を抑制して倍率の修正を行うためには構成要素のシフトに対向するものを組み合わせる必要がある。物体空間がテレセントリックな投影システムは、レンズ部品間の空気圧やビーム周波数によって異なる特別な表面形状を有する補正光学系を用いて倍率と歪を組み合わせて調整している。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００５】
特に両側テレセントリック・リソグラフィック投影システムに適している本発明は、一次元又は二次元の倍率調整（例えば、アナモフィック倍率調整や半径方向に対称な倍率調整）をするための１つ以上の変形板の形態を成す補正光学部品の採用を特徴とするものである。変形板によって、物体空間又は像空間の有効焦点距離を変化させることにより、投影システムの倍率に影響を与える弱い倍率が付与される。変形板によって付与される倍率を調整するため、変形板の湾曲曲率がアクチュエータによって調整される。
【０００６】
所定の曲率変更範囲全体にわたり、変形板の全体の荷重方向が一定に維持されることにより、変形板が曲率変更範囲全体にわたり連続的に調整可能であることが好ましい。例えば、変形板を初期予荷重し、次に、好ましい動作範囲において、初期予荷重に対し荷重を増減することにより、変形板の弛緩状態への遷移を防止できる。予荷重による変形板の湾曲状態及びそれに伴う投影システムの倍率に与える影響を含めて投影システムが設計されることが好ましい。
【０００７】
投影システムの内部又は周囲の温度又は圧力を測定することにより、投影システムの動作に付随した倍率の変化を間接的に監視することができると共に、投影パターンの寸法を測定することにより直接的に監視することもできる。コントローラによりアクチュエータを制御して変形板の曲率を変更することにより、監視した倍率の変化を補償することができる。
【０００８】
倍率調整可能なリソグラフィック投影システムとしての本発明の１つの形態は、テレセントリックな物体空間又は像空間を有するテレセントリック結像システム及びテレセントリックな物体空間又は像空間に配置され、テレセントリック結像システムに対し、曲率の関数として、限度された倍率を付与する変形板を備えている。結像システムの倍率を調整するため、アクチュエータが、変形板の曲率を一定の曲率変更範囲にわたり調整する。
【０００９】
アクチュエータは、初期湾曲状態に対し、変形板の曲率を増減することが好ましい。また、変形板は曲率変更範囲全体にわたり全体の荷重方向が一定に維持されることが好ましい。変形板が初期湾曲状態に予荷重されるようアクチュエータを構成することができる。テレセントリック結像システムを初期湾曲状態の変形板によって与えられる一定の倍率を含む公称状態に設計することができる。
【００１０】
変形板は、それが取り付けられる結像システムの光軸と一致する光軸を有していることが好ましい。アナモフィック倍率調整を行うためには、変形板と結像システムの共通光軸に対し垂直な方向に延びる１つの軸を中心に変形板が湾曲することが好ましい。従って、弱い円筒状の倍率を付与するよう変形板を構成することができる。
【００１１】
変形板は、結像システムの倍率調整のために一定の曲率変更範囲にわたり変形可能な複数の変形板の第１の変形板とすることができる。各々の変形板は、曲率変更範囲全体にわたり変形板の全体の荷重方向が一定に維持されることが好ましい。アクチュエータは複数の変形板を少なくとも２つの異なる方向に湾曲させる複数のアクチュエータの１つ又は複数の変形板をまとめて同一又は異なる方向に変形させるアクチュエータであってよい。例えば、１つの変形板を第１の横軸を中心に湾曲させ、別の変形板を第２の横軸を中心に湾曲させることができる。倍率を大きくするために、変形板の第１及び第２の横軸を平行配向することができる。半径方向に対称な倍率調整をするために、変形板の第１及び第２の横軸を直交配向することにより各々の板によって等しい倍率が付与されるようにすることができる。アナモフィック倍率調整を行うため、変形板によって異なる倍率が付与されるようにする、即ち、非直交軸となるよう変形板を配向することができる。
【００１２】
本発明の別の態様は、リソグラフィック投影システムの倍率補正要素に関するものである。変形板を初期湾曲状態に予荷重することができる。アクチュエータが、公称曲率に対し、変形板の曲率を一定の曲率範囲にわたり相対的に増減できる。変形板は、所定の曲率変更範囲全体にわたり全体の荷重方向が一定に維持される。
【００１３】
変形板がアクチュエータによって初期湾曲状態に予荷重されることが好ましい。公称曲率半径が１０メートルを超える好ましい変形板が、前面及び後面を有し、初期湾曲状態において、前面及び後面の何れか一方が圧縮状態、他方が伸張状態となるよう横軸を中心に湾曲する。また、所定の曲率変更範囲全体にわたり、１つの表面が圧縮状態を維持し他の表面が伸張状態を維持する。  
変形板の初期湾曲状態が公称円形弓形からずれている場合、板の光学的厚さを変更してずれを補償することにより結像システムの歪みを防止することができる。変形板は投影システムを通して光を透過する光学領域及び変形板に湾曲荷重を与えるアクチュエータに噛合する取付け領域を有している。アクチュエータは変形板の取付け領域に噛合し、変形板に湾曲荷重を付与する。例えば、アクチュエータは、取付け領域に噛合する回転素子によって変形板に湾曲モーメントを付与することができる。
【００１４】
別の方法として、変形板を背板に密封しその間に封止空洞を設け、アクチュエータによって封止空洞内の圧力を調整することにより、所定の曲率変更範囲にわたり、変形板を変形させることができる。変形板が重力によって変形するよう配向することもできる。アクチュエータはスパンが異なる変形板を調整可能に支持することにより、所定の曲率変更範囲にわたり、変形板を変形させることができる。少なくとも一部は変形板の支持体の配置に依存するが、通常は変形板の露出面に加えられる力によって、アナモフィックな変形及び半径方向に対称な変形のいずれも達成することができる。例えば、平行な支持体を用いて円筒状の倍率調整が可能であり、半径方向に対称な支持体を用いて球状の倍率調整を行うことができる。
【００１５】
本発明の更に別の態様は、リソグラフィック投影システムの倍率を調整する方法に関するものである。リソグラフィック投影システムのテレセントリックな物体空間又は像空間に変形板が取り付けられる。投影システムの倍率変化が監視され、投影システムの監視された倍率変化を補償するため、変形板の曲率が一定の曲率変更範囲にわたり調整される。
【００１６】
変形板を予荷重して初期曲率を与えることにより、投影システムに限度された倍率を付与することが好ましい。１つ以上の実施の形態において、本発明は（ａ）２つの直交する方向に独立した倍率制御が可能であり（ｂ）結像システムの収差に与える影響が極めて小さく（ｃ）比較的簡単な機構で動作可能であり（ｄ）各種リソグラフィック・ツールの光学結像システムに完全に適合し（ｅ）１つのリソグラフィック・ツールにおける多数の光学システムに完全に適合することができる。
【００１７】
投影システムは、予荷重状態の変形板によって付与される限定された倍率を含めて設計されることが好ましい。変形板は、所定の曲率変更範囲全体にわたり全体の荷重方向が一定に維持されることが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】倍率調整のための変形板をテレセントリックな物体空間に配置したリソグラフィック投影システムを示す図。
【図２】予荷重状態の変形板及び変形板に予荷重を付与又は湾曲させる装置を示す側面図。
【図３】予荷重状態及び全体として円筒形を成して更に湾曲させた状態を示す変形板の斜視図。
【図４】それぞれ直交する方向に湾曲するよう構成された２つの重複した変形板の斜視図。
【図５】２つの独立した制御可能な圧力室間に変形板を取り付けて球状に変形させる封止可能なレンズ筒の断面斜視図。
【図６】円筒形又は球形のような望ましい形状を歪める湾曲力を補償するための非球面及び変厚を有する変形板の断面図。
【図７】取付け面内に球形の変形を容易にするスロットを備えた変形板の平面図。
【図８】共通のアクチュエータによって、同時に所望の形状に変形する一対の変形板の側面図。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明の利益を享受する投影システムの例として、マイクロリソグラフィック投影システム（ツール）１０について説明する。本システムは光源１２、照明器１４、及びレチクル１８を基体２０に投影する投影レンズ１６を備えている。照明器１４及び投影レンズ１６の共通光軸２４に対し垂直な２つの直交する方向に平行移動可能な水平Ｘ−Ｙ軸ステージ２２によって投影レンズ１６に対し基体２０が相対移動することにより、基体２０の領域が継続的に露光される。垂直Ｚ軸ステージ２６によって、投影レンズ１６が光軸２４に沿って基体２０に対し相対移動することにより、レチクル１８が基体２０上に適切に結像される。
【００２０】
光源１２は感光性基体２０の現像に適した光ビーム２８の形態を成す光を出射する。特定のスペクトル線を対象とした高圧水銀アークランプのようなランプ光源や特に遠紫外線スペクトル内で動作するエキシマ・レーザーのようなレーザー光源を含め、多種多様な既知の装置を光源１２として使用できる。
【００２１】
照明器１４は光ビーム２８の成形及び空間的配分を行い、投影レンズの瞳及び基体２０に一致する像面における角度的及び空間的照射プロファイルの設定を目的とするものである。図１には示してないが、一般的なマイクロリソグラフィ用の照明器は、ビーム２８の収集及び成形用のプロファイラ、光を均一な照射野にするユニフォーマイザ（例えば、万華鏡又はハエの目アレイ）、及びユニフォーマイザからの像を照明器１４の像面が投影レンズ１６の物体平面と一致するレチクル１８に中継するリレーレンズを備えている。
【００２２】
部分的コヒーレント結像を行うために、照明器１４の出口の開口数より大きい入口開口数を有していることが好ましい投影レンズ１６はレチクル１８の像を基体２０に投影するものである。即ち、一般に照明器１４の瞳（図示せず）と共役な投影レンズ１６の瞳（図示せず）が、照明器の瞳の像で満たされレチクル１８の照射物からの角度的に発散した光を収集できる大きさを有し、レチクル１８の高解像度の像が基体２０上に結ばれることが好ましい。レチクル１８の投影像は必要に応じて拡大又は縮小することができる。投影レンズ１６は、反射又は回折素子、屈折素子、又は反射屈折光学系のようなこれ等の素子の組合せを有することができる。
【００２３】
「マスク」とも呼ばれるレチクル１８は、基体２０に投影するための、投影レンズ１６の視野に収まるサイズ又は収まらないサイズにすることもできる１つ以上のパターンを含んでいる。投影レンズに対し大きいパターンを有するレチクルを相対平行移動させることにより、レチクルのパターンのそれぞれの部分を連続的に露光できる。  
一般に、感光性基体２０は光の照射に反応するフォトレジストで処理された半導体ウェハやガラス・パネルのような平坦な形態を成している。基体２０全体を一度に撮像できない場合が多く、その場合には基部３０上の水平Ｘ−Ｙ軸平行移動ステージ２２が基体２０を所定の位置範囲にわたり平行移動することにより、基体２０の所望の作業領域に集合的に光が照射される。投影レンズ１６は光軸２４に沿った基体２０からの像距離を調整可能とするため、基部３０の上部の垂直Ｚ軸平行移動ステージ２６に支持されている。コントローラ３２は投影システム１０の露光処理の調整を行うと共に、投影レンズ１６、レチクル１８、及び基体２０間の相対運動を調整する。
【００２４】
変形板４０は投影レンズ１６のテレセントリック物体空間３６内のレチクル１８の近傍に配置されている。変形板４０が初期変形状態に予荷重されることにより、投影レンズ１６の倍率が制限される。そのため、関連する他の部品を含め、投影レンズ１６は変形板の初期変形（予荷重）状態による倍率の制限を補償し、投影レンズ１６本来の所望倍率を保持するよう設計されている。変形板４０は、テレセントリック物体空間３６内に示してあるが、基体２０近傍のテレセントリック像空間３８に配置することもできる。この選択は主としてスペース及びアクセスを考慮して行われる。何れの位置においても、変形板によって像空間及び物体空間の両方がテレセントリックであるリソグラフィ・システムの倍率を制御できる。
【００２５】
図２は１つの横軸６０を中心に湾曲した初期変形（予荷重）状態の変形板４０を示す図である。変形板４０の一端４２において一対の支点支持体５４、５６を介して動作するアクチュエータ５０及び他端４４のアンカー５２によって予荷重される。変形により、変形板４０の前面４６が圧縮され背面４８が伸張される。  
予荷重前の変形板４０は、前面４６及び背面４８が平坦且つ平行である、薄く平坦な平行板であることが好ましい。変形板４０は非晶質又は結晶質の光学ガラスから成り、不要な波面収差及び均一性の逸脱を生じることなく光を透過することが好ましい。また、変形板４０は所望の湾曲が得られるよう、端部４２と４４との間の長さに対し十分薄いことが好ましい。例えば、全長９０ミリメートルの板は、その厚さが５ミリメートル以下であることが好ましい。
【００２６】
予荷重状態において、変形板４０は誘発波面収差が無視できる程度に僅かに湾曲を成していることが好ましい。変形板は公称曲率が０．１メートル未満の初期湾曲状態に予荷重されることが好ましい。しかし、変形板４０は、部分的な予荷重解除及び更なる加圧による一連の湾曲に対応できるよう予荷重状態において十分湾曲し、対応する低倍率から高倍率までの一連の倍率調整が可能である。従って、変形板４０は荷重状態と無荷重状態との間の遷移に伴う不安定性を避けるため、無荷重状態からの又は無荷重状態への調整は行われない。
【００２７】
図３は初期湾曲（予荷重）状態（ファントムで示す）から、４０Ａで示すように、アクチュエータ５０及び支点支持体５４、５６によって各端部４２と４４との間に生じたモーメント６２、６４によって更に湾曲した状態の変形板４０を示す図である。横軸６０を中心に湾曲させることにより、基体２０の像フィールドの１つの直交する方向において倍率にアナモフィックな変化が生じる。端部４２、４４を線形変位又は角変位させることによってモーメント６２、６４が生じる。
【００２８】
以下に示す表は、それぞれ長さが略９０ミリメートル（ｍｍ）であるが、厚さの異なる変形板の感度を示している。「μｍ」はマイクロメートル、「ｍｍ」はミリメートル、「ｍ」はメートル、「ｐｐｍ」はパーツ・パー・ミリオン、「ｄｅｇ」は度をそれぞれ意味している。「撓み」の測定方法を図２に示す。
【表１】
2013511843.tif 000001
【００２９】
表に示すように、湾曲範囲及び感度は湾曲板の厚さに略直線的に変化する。それぞれが溶融石英から成り、共通の目標倍率を有する厚さ２．５ミリメートル（ｍｍ）の板と厚さ５ミリメートル（ｍｍ）の板とを比較した、より直接的な比較例を以下の表に示す。
【表２】
2013511843.tif 000002
【００３０】
同じ範囲の倍率調整をする場合、厚さが大きい板の湾曲を小さくすることができる。しかし、厚さが大きい板、特に５．０ｍｍを大幅に上回る板を湾曲させるのは困難であり別の意図しない効果が生じる可能性がある。
【００３１】
傾斜した板がテレセントリック光線をどのように偏移させるか検討することによって板の円筒形歪曲を伴う比較的純粋な倍率変化を導き出すことができる。偏移は板の傾斜、厚さ、及び屈折率の関数である。テレセントリック光線というのは結像レンズの開口絞りの中心を通る光線であって、テレセントリック像又は物体空間において平行である。局部的に見れば、円筒形に湾曲した板はそれぞれが光軸からの距離の正弦関数で大きくなる傾斜を有する複数の板であると見なすことができ、湾曲が小さい場合には光線の偏移と光軸からの距離との関係が極めて直線的である。この線形性は（a）偏移が光軸からの距離に比例すること及び（ｂ）偏移によって湾曲方向の歪みではなく画像の倍率のみが変化することを意味している。
【００３２】
例として、テレセントリック光線の端部において最大入射角が１度になるよう、板を円筒形に湾曲させた場合、歪み（即ち、直線偏移からのずれ）は倍率の略１：１５，０００である。テレセントリック光線の端部において最大入射角が２度の場合、歪み対倍率の比が４倍の１：３，７５０になる。このように、湾曲板、特に曲率が小さい場合、テレセントリック光線において、歪み効果に対し倍率効果が明らかに支配的となる。
【００３３】
図４は２つの直交する方向における倍率補正を行うよう配置された一対の変形板７０、９０を示す図である。矢印で示すアクチュエータ８０、８２が変形板７０の対向端部７２、７４の支点７６、７８に作用することにより対抗モーメントが生じ、その結果変形板７０が横軸８４を中心に湾曲する。同様に、矢印で示すアクチュエータ１００、１０２が変形板９０の対向端部９２、９４の支点９６、９８に作用することにより対抗モーメントが生じ、その結果変形板９０が横軸８４に直交する方向に延びる横軸９４を中心に湾曲する。軸８４、９４は、変形板７０、９０の光軸１０４及び板７０、９０が取り付けられている結像システムの光軸２４に垂直な方向に延びていることが好ましい。変形板７０、９０を組み合わせることにより、板７０、９０の各々によって調整された相対倍率を相対的に調整するか又は軸８４、９４の相対角度位置を調整することにより、一連の範囲におけるアナモフィックな倍率調整を行うことができる。直交する軸８４、９４を中心とする２つの板７０、９０の倍率調整を等しくすることにより、基体２０において、均一な倍率調整（即ち、半径方向に対称な倍率調整）を行うことができる。倍率補正が行われる２つの直交軸８４、９４のうちの１つが、基体２０上を投影レンズ１６がステップ移動又は走査する方向と一致していることが好ましい。
【００３４】
図５は圧力制御環境内に変形板１２０を取り付けるための封止レンズ筒１１０の断面図である。変形板１２０は前記板取付けシステムの支点と同等の機能を有する環状台座部１１２の上に載置され、変形板が載置されると封止レンズ筒１１０が２つの独立した制御可能な圧力室１１４、１１６に分割される。２つの圧力室１１４と１１６との圧力差を調整するため、窒素のような不活性ガスがそれぞれの開口部１２６、１２８を通してポンプ注入される。上部室１１４の高圧によって変形板１２０が環状台座１１２に押厚されることにより、変形板１２０が対称的に変形し基体２０全体にわたり均一な倍率調整が行われる。変形板１２０が倍率調整の目的範囲全体を通して所定の方向に変形状態を維持できるよう投影レンズ１６の公称動作条件下においても圧力差が維持されることが好ましい。
【００３５】
不要な波面収差及び歪みを抑制しつつ倍率を補正あるいは調整するため、投影レンズ１６のテレセントリック物体空間３６又はテレセントリック像空間３８の倍率を調整するための前記実施の形態における変形板４０、７０、９０が円筒形に湾曲し、変形板１２０が球形に変形することが好ましい。湾曲力の調整、中心から縁部にかけて変形板の厚さを変える補償、及び望ましい湾曲性を得るための光学区域外におけるその他の調整によって、望ましい円筒形又は球形からの予測又は測定可能なずれをできるだけ小さくすることができる。また、板の曲率中心が投影レンズ１６の光軸２４に沿った中心から移動しないよう変形板４０、７０、９０を水平方向に変位させることができる。
【００３６】
図６は説明のために誇張して描いた半径方向の厚さが変化している変形板１３０を示す図である。変形板１３０の前面１３２は平坦であるが、後面１３４が非球面を成している。変形板の光軸１３６に対し対称であるが、厚さの変化は分配されなかった湾曲力を補償することによって変形板１３０を円筒形又は球形に変形させることを目的とするものである。具体的には、厚さの変化は、意図した予荷重状態において、変形板１３０をより円筒形又は球形に近づけることを意図したものである。変形板１３０の後面１３４のみが非球面形状を成しているが、前面１３２及び後面１３４の何れか一方又は両方が非球面形状を成し、予荷重状態において、より円筒形又は球形に近づけることができる。
【００３７】
図７は、光学境界線１４８で示す光学領域１４６の外側の取付け領域１４４にスロット１４２が形成された変形板１４０を示す図である。変形板１４０の意図した光学性能が妨害されないよう、変形板を変形させる湾曲荷重が光学領域１４６の外側の取付け領域１４４に加えられる。取付け領域１４４は投影レンズ１６の光学システムの一部ではないため、スロット１４２やアクチュエータ（図示せず）からの力に係合又は力を伝達する構造体を含む改造を加えることができる。
【００３８】
変形板は投影レンズ内のテレセントリック空間を有効に利用して、他の光学的考慮事項とは無関係に倍率を調整できるのみならず、テレセントリック物体空間において、両側テレセントリック投影レンズの倍率を調整することができる。変形板がなければ、倍率調整のために調整する必要があるレチクル及びレンズ素子を含む投影レンズ内の他の部品を固定できる。更に、対称な部品を用いて、像空間と物体空間とが等しくテレセントリックである、両側テレセントリック投影レンズを設計することにより、波面誤差の発生源を少なくすることができる。勿論、実用的な光学設計品はいずれも理論的なテレセントリシティから一定のずれがあることは明らかであり、そのためにテレセントリシティの許容範囲を設定し、意図した倍率調整範囲内における不要な歪みを設計範囲内に収めることが好ましい。
【００３９】
図８は薄い板によって大きな倍率調整を行うために同時に変形する複合変形板１５０、１６０の共同動作を示す図である。それぞれの支点１５２、１５４、及び１６２、１６４によって個別に支持されているが、板１５０、１６０はアクチュエータ１６６及び１６８によって同時に変形される。変形板を追加積層することにより、１方向又は直交２方向の倍率を更に大きく変更することができる。板１５０、１６０を球形に変形させるため、各々の支点対１５２、１５４、及び１６２、１６４は、板１５０、１６０を支持するための環状台座とし、アクチュエータ１６６、１６８を板１５０、１６０の縁部と係合する共通の環状圧縮リングの部分とすることができる。
【００４０】
これまでの実施の形態における各種のアクチュエータ５０、５２、８０、８２、１００、１０２、１１４、１１６、１６６及び１６８をコントローラ３２に接続し、リソグラフィック投影システム１０の動作に関連した連続的、断続的、又は自動的な倍率補正を行うことができる。自動倍率調整を行うための制御システムはよく知られている。例えば、投影システム１０又は基体２０の動作状態を監視するためのセンサー（図示せず）を配置して倍率調整を必要とする投影システム１０又は基体２０の反応を予知する情報をコントローラに供給するか、撮像した測定基準体の寸法を計測する等、別の手段を用いて投影システム１６の倍率をより直接的に監視することにより、アクチュエータを制御するための情報をコントローラに供給することができる。多くのリソグラフィック・システムにおいては連続閉ループ倍率調整が好ましい。
【００４１】
レチクル１８の像を基体２０に投影するよう構成されたリソグラフィック投影システムについて説明したが、本発明は投影パターンを空間光変調器で形成するリソグラフィック投影システムにもそのまま適用できる。変形板は基体に投影するパターンを生成する物体空間のマイクロレンズ・アレイ出射端近傍を含む物体又は像共役点近傍に配置することができる。
【００４２】
テレセントリック・リソグラフィック投影システムのテレセントリック像空間及び物体空間は、物体及び像共役点からの距離に応じて徐々に瞳空間に遷移する。結像システムの収差を回避するため、変形板は何れか一方の像共役点のできるだけ近くに配置されることが好ましいが、主として像又は物体空間の別の位置であって、像フィールド又は物体フィールドの点の瞬時瞳（即ち、視野の点から延びる光錐の口径）が開放口より十分小さくなる位置、好ましくは１／４以下になる位置に変形板を配置することによっても本発明の効果を得ることができる。
【符号の説明】
【００４３】
１０        マイクロリソグラフィック投影システム
１２        光源
１４        照明器
１６        投影レンズ
１８        レチクル
２０        基体
２２        水平Ｘ−Ｙ軸ステージ
２４        共通光軸
２６        垂直Ｚ軸ステージ
２８        光ビーム
３０        基部
３２        コントローラ
３６        テレセントリック物体空間
３８        テレセントリック像空間
４０        変形板
５０        アクチュエータ
５２        アンカー
５４、５６  支点支持体
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
倍率調整可能なリソグラフィック投影システムであって、
テレセントリックな物体空間又は像空間を有するテレセントリック結像システムと、
前記テレセントリックな物体空間又は像空間に配置され、前記テレセントリック結像システムに対し、曲率の関数として、限度された倍率を付与する変形板と、
前記結像システムの倍率を調整するため、前記変形板の曲率を一定の曲率変更範囲にわたり調整するアクチュエータであって、前記変形板を初期湾曲状態に予荷重し、かつ、前記変形板の全体の荷重方向を、前記曲率変更範囲全体にわたり一定に維持するアクチュエータと、
を備え、
前記テレセントリック結像システムが、前記初期湾曲状態の変形板によって与えられる一定の倍率を含む公称状態に設計されていることを特徴とする投影システム。
【請求項２】
アナモフィック倍率調整を行うため、前記アクチュエータが、前記テレセントリック結像システムの光軸に対し略垂直な方向に延びる横軸を中心に前記変形板の曲率を調整することを特徴とする請求項１記載の投影システム。
【請求項３】
（ａ）前記変形板が、前記結像システムの倍率調整のために一定の曲率変更範囲にわたり変形可能な複数の変形板の第１の変形板であり、
（ｂ）前記複数の変形板の前記第１の変形板が、前記テレセントリック結像システムの光軸に対し略垂直な方向に延びる第１の横軸を中心に調整可能であり、
（ｃ）前記複数の変形板の第２の変形板が、前記テレセントリック結像システムの前記光軸に対し略垂直な方向に延びる第２の横軸を中心に調整可能である、
ことを特徴とする請求項１記載の投影システム。
【請求項４】
累積アナモフィック倍率調整を行うため、前記第１及び第２の横軸が平行に延びていることを特徴とする請求項３記載の投影システム。
【請求項５】
半径方向に対称な倍率調整を行うため、前記第１及び第２の横軸が直交する方向に延びていることを特徴とする請求項３記載の投影システム。
【請求項６】
前記アクチュエータが、前記複数の変形板を少なくとも２つの異なる方向に湾曲させ、該少なくとも２つの方向に異なる倍率を付与する複数のアクチュエータの１つであることを特徴とする請求項３記載の投影システム。
【請求項７】
リソグラフィック投影システムの倍率を調整する方法であって、
前記リソグラフィック投影システムのテレセントリックな物体空間又は像空間に変形板を取り付けるステップと、
前記変形板に初期曲率を与え、前記リソグラフィック投影システムに限度された倍率を付与するため、前記変形板を予荷重するステップと、
前記予荷重状態の変形板によって付与される前記限度された倍率を含めて前記リソグラフィック投影システムを設計するステップと、
前記リソグラフィック投影システムの倍率変化を監視するステップと、
前記リソグラフィック投影システムの前記監視された倍率変化を補償するため、前記変形板の全体の荷重方向を一定に維持しながら、前記変形板の曲率を一定の曲率変更範囲にわたり調整するステップと、
を有して成ることを特徴とする方法。
【請求項８】
リソグラフィック投影システムの倍率補正要素であって、
曲率の関数として、限度された倍率を付与する変形板と、
前記変形板の曲率を一定の曲率変更範囲にわたり調整するアクチュエータであって、前記変形板を初期湾曲状態に予荷重し、かつ、前記変形板の全体の荷重方向を、前記曲率変更範囲全体にわたり一定に維持するアクチュエータと、
を備えていることを特徴とする倍率補正要素。
【請求項９】
前記変形板が、前面及び後面を有し、前記初期湾曲状態において、前記前面及び前記後面の一方が圧縮状態、他方が伸張状態となるよう、１つの軸を中心に湾曲し、
前記曲率変更範囲全体にわたり、前記前面及び前記後面の前記一方が圧縮状態を維持し、前記他方が伸張状態を維持することを特徴とする請求項８記載の倍率補正要素。
【請求項１０】
前記変形板の前記初期湾曲状態が公称円形弓形からずれており、前記リソグラフィック投影システムの歪みを防止するため前記公称円形弓形からのずれを補償するように、前記変形板の光学的厚さが変化させられていることを特徴とする請求項８または９記載の倍率補正要素。
【請求項１１】
前記変形板が、前面及び後面を有し、該前面及び該後面の少なくとも一方の前記初期湾曲状態における形状を、より円筒形または球形に近づけるため、該前面及び該後面の前記少なくとも一方が非球面形状とされていることを特徴とする請求項８または９記載の倍率補正要素。