【手続補正書】
【提出日】平成27年7月30日(2015.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コバルト含有の炭化水素合成触媒を調製する方法であって、該方法は、
・コバルト化合物を担持する触媒担体を含んでなる初期触媒前駆体を、前記コバルト化合物を分解するために、および／または前記コバルト化合物を酸素と反応させるために、非還元性条件の下で該触媒担体前駆体を熱処理することにより焼成し、それによって焼成された初期触媒前駆体を得ることと、
・前記焼成された初期触媒前駆体がコバルト化合物を担持するように、前記焼成された初期触媒前駆体の上および／または中にコバルト化合物を導入し、それによって後期触媒前駆体を得るようにすることと、
・最初に前記後期触媒前駆体を、前記担持されたコバルトの酸化またはコバルト化合物の分解を生じる酸化条件下での熱処理に曝すことなく、直ちに還元条件に曝して前記後期触媒前駆体を活性化させ、それによってコバルト含有の炭化水素合成触媒を得ることを含んでなる方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、前記触媒担体の上および／または中に前記コバルト化合物を導入することによって前記初期触媒前駆体を調製することを含む方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の方法であって、前記初期触媒前駆体の焼成が、９５℃を越えるが４００℃以下である温度の酸化条件下で行われる方法。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか１項に記載の方法であって、前記焼成された初期触媒前駆体の上および／または中に導入されるコバルト化合物が、前記初期触媒前駆体のコバルト化合物と同じである方法。
【請求項５】
請求項４に記載の方法であって、前記コバルト化合物がＣｏ（ＮＯ３）２・６Ｈ２Ｏである方法。
【請求項６】
請求項１〜５の何れか１項に記載の方法であって、前記焼成された初期触媒前駆体の上および／または中へのコバルト化合物の導入がスラリー相含浸による方法。
【請求項７】
請求項６に記載の方法であって、前記スラリー相含浸が、８５ｋＰａ（ａ）より低い大気圧未満の圧力、および２５℃を越えるが９５℃を越えない温度で行われる方法。
【請求項８】
請求項６または７に記載の方法であって、前記スラリー相含浸に続いて、２５℃を越える乾燥温度および８５ｋＰａ（ａ）より低い大気圧未満の圧力で、前記焼成され且つ含浸された初期触媒前駆体の部分的乾燥が行われる方法。
【請求項９】
請求項１〜８の何れか１項に記載の方法であって、前記後期触媒前駆体を還元条件に曝すことには、前記後期触媒前駆体を還元性ガスに接触させ、それによって前記後期触媒前駆体を活性化させることが含まれる方法。
【請求項１０】
請求項１〜５の何れか１項に記載の方法であって、前記焼成された初期触媒前駆体の上および／または中への前記コバルト化合物の導入が、前記コバルト化合物、該コバルト化合物のための液体キャリア、および前記焼成された初期触媒前駆体の混合物を形成することを含んでなる含浸と、その結果として得られた焼成および含浸された初期触媒前駆体を２５℃超の温度で乾燥させて後期触媒前駆体を得ることによるものである方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の方法であって、前記後期触媒前駆体を還元条件に曝すことが、前記後期触媒前駆体を還元性ガスに接触させ、それによって前記後期触媒前駆体を活性化させることを含んでおり、前記後期触媒前駆体は、前記還元性ガスとの接触が開始されるときに概ね前記乾燥温度にある方法。
【請求項１２】
請求項９または１１に記載の方法であって、前記還元性ガスが水素、または水素含有ガスである方法。
【請求項１３】
請求項９、１１または１２に記載の方法であって、前記後期触媒前駆体を前記還元性ガスに接触させることが、前記還元性ガスを前記後期触媒前駆体の粒子床を通して流すことにより行われる方法。
【請求項１４】
炭化水素を製造する方法であって：請求項１〜１３の何れか１項の方法に従ってコバルト含有の炭化水素合成触媒を調製することと；水素を１００℃を越える温度および少なくとも１０バールの圧力でコバルト含有の炭化水素合成触媒の存在下に一酸化炭素と接触させ、それにより、フィッシャー・トロプシュ合成プロセスにおいて炭化水素を製造することを含んでなる方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０９】
相対的な活性およびメタン選択性が表１に纏められている。この相対的なＦＴＳ活性は、参照触媒（非開示）の特性との比較で表されている。
表５：例１〜４について実験室用固定床リアクタ中でＦＴＳ
試験を行った際の、オンラインで１４０時間後の
相対的活性およびメタン選択性
【表５】
2014527908.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１０】
表５から分かるように、実験室用固定床リアクタ中で試験したときの例３および４（両者とも本発明）の例１に対する利点は、増大した活性（約３０％）および減少したメタン選択性である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１７】
表６：例１および例６について実験室用固定床リアクタ中でＦＴＳ
試験を行った際の、オンラインで１４０時間後の
相対的活性およびメタン選択性
【表６】
2014527908.tif 000002
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１８】
表６から分かるように、１０％水素還元ガスを用いる例６（本発明）の例１に対する利点は、増大した活性（約２５％）および減少したメタン選択性である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２２】
表７：例１〜４についてマイクロＣＳＴＲリアクタ中でＦＴＳ
試験を行った際の、オンラインで２００時間後の
相対的活性およびメタン選択性
【表７】
2014527908.tif 000003
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２３】
表７から分かるように、スラリーＣＳＴＲで試験したときの、例４（本発明）の例１に対する利点は、ここでも再度、増大した活性（約３０％）および減少したメタン選択性である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４０】
含浸および真空乾燥の後、初期または後記の触媒前駆体は、通常は、空気中での焼成工程または水素中での直接還元工程の開始前に室温（約２５℃）まで冷却される。しかし、空気中での焼成工程または水素中での直接還元工程は、乾燥工程が終了（例えば９０℃で）した後に、最初に室温まで冷却することなく直接開始することができる。
以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
［１］  コバルト含有の炭化水素合成触媒を調製する方法であって、該方法は、
・コバルト化合物を担持する触媒担体を含んでなる初期触媒前駆体を、前記コバルト化合物を分解するために、および／または前記コバルト化合物を酸素と反応させるために、非還元性条件の下で該触媒担体前駆体を熱処理することにより焼成し、それによって焼成された初期触媒前駆体を得ることと、
・前記焼成された初期触媒前駆体がコバルト化合物を担持するように、前記焼成された初期触媒前駆体の上および／または中にコバルト化合物を導入し、それによって後期触媒前駆体を得るようにすることと、
・後期触媒前駆体を直ちに還元条件に曝して前記後期触媒前駆体を活性化させ、それによってコバルト含有の炭化水素合成触媒を得ることを含んでなる方法。
［２］  上記［１］に記載の方法であって、前記触媒担体の上および／または中に前記コバルト化合物を導入することによって前記初期触媒前駆体を調製することを含む方法。
［３］  上記［１］または［２］に記載の方法であって、前記初期触媒前駆体の焼成が、９５℃を越えるが４００℃以下である温度の酸化条件下で行われる方法。
［４］  上記［１］〜［３］の何れか１項に記載の方法であって、前記焼成された初期触媒前駆体の上および／または中に導入されるコバルト化合物が、前記初期触媒前駆体のコバルト化合物と同じである方法。
［５］  上記［４］に記載の方法であって、前記コバルト化合物がＣｏ（ＮＯ３）２・６Ｈ２Ｏである方法。
［６］  上記［１］〜［５］の何れか１項に記載の方法であって、前記焼成された初期触媒前駆体の上および／または中へのコバルト化合物の導入がスラリー相含浸による方法。
［７］  上記［６］に記載の方法であって、前記スラリー相含浸が、８５ｋＰａ（ａ）より低い大気圧未満の圧力、および２５℃を越えるが９５℃を越えない温度で行われる方法。
［８］  上記［６］または［７］に記載の方法であって、前記スラリー相含浸に続いて、２５℃を越える乾燥温度および８５ｋＰａ（ａ）より低い大気圧未満の圧力で、前記焼成され且つ含浸された初期触媒前駆体の部分的乾燥が行われる方法。
［９］  上記［１］〜［８］の何れか１項に記載の方法であって、前記後期触媒前駆体を還元条件に曝すことには、前記後期触媒前駆体を還元性ガスに接触させ、それによって前記後期触媒前駆体を活性化させることが含まれる方法。
［１０］  上記［１］〜［５］の何れか１項に記載の方法であって、前記焼成された初期触媒前駆体の上および／または中への前記コバルト化合物の導入が、前記コバルト化合物、該コバルト化合物のための液体キャリア、および前記焼成された初期触媒前駆体の混合物を形成することを含んでなる含浸と、その結果として得られた焼成および含浸された初期触媒前駆体を２５℃越の温度で乾燥させて後期触媒前駆体を得ることを組み合わせたことによるものである方法。
［１１］  上記［１０］に記載の方法であって、前記後期触媒前駆体を還元条件に曝すことが、前記後期触媒前駆体を還元性ガスに接触させ、それによって前記後期触媒前駆体を活性化させることを含んでおり、前記後期触媒前駆体は、前記還元性ガスとの接触が開始されるときに概ね前記乾燥温度にある方法。
［１２］  上記［９］または［１１］に記載の方法であって、前記還元性ガスが水素、または水素含有ガスである方法。
［１３］  上記［９］、［１１］または［１２］に記載の方法であって、前記後期触媒前駆体を前記還元性ガスに接触させることが、前記還元性ガスを前記後期触媒前駆体の粒子床を通して流すことにより行われる方法。
［１４］  上記［１］〜［１３］の何れか１項に記載の方法に従って調製された、コバルト含有の炭化水素合成触媒。
［１５］  炭化水素を製造する方法であって：上記［１］〜［１４］の何れか１項の方法に従ってコバルト含有の炭化水素合成触媒を調製することと；水素を、１００℃を越える温度および少なくとも１０バールの圧力において、コバルト含有の炭化水素合成触媒の存在下で一酸化炭素と接触させ、それによって炭化水素、および任意にフィッシャー・トロプシュ合成プロセスにおける炭化水素の酸化物を製造することを含んでなる方法。
［１６］  上記［１５］に従う炭化水素を製造する方法により製造された製品。