【事件の表示】
　平成　７年特許願第２３６０５７号「素子製造方法及び露光装置」拒絶査定に対する審判事件［平成８年３月２２日出願公開、特開平８−７８３２４］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
【1】手続の経緯・本願発明
　本願は、昭和59年11月28日に出願された特願昭59-252277号の一部を、平成7年8月22日に、特許法第44条第1項の規定に基づいて新たな出願としたものであり、その特許請求の範囲第1項に記載された発明の要旨は、平成10年11月2日付けで受理された手続補正書にて補正された特許請求の範囲第1項に記載された以下のとおりのものと認められる。
　 「エキシマレーザーからのレーザー光で回路パターンを照明して投影レンズ系により該回路パターンをウエハに投影する素子製造方法において前記投影レンズ系を貼り合わせを利用することなく石英レンズと蛍石のレンズから成る複数のレンズで構成し、前記エキシマレーザーを非常に狭い波長幅のエキシマレーザーとしたことを特徴とする素子製造方法。」(以下、「本願発明1」という。)
　
【2】引用例
　これに対して、前審の拒絶理由において引用された、引用例1〜5には、以下の事項が記載されている。
　《2-1》引用例1: MICROCIRCUIT ENGINEERING 82, INTERNATIONAL CONFERENCE ON MICROLITHOGRAPHY, October 5-8, 1982, PP.73-78
　引用例1には、以下の記載事項からみて、「エキシマレーザーからのレーザー光で回路パターンを照明して、投影レンズ系により前記回路パターンをウエハに投影する素子の製造装置と製造方法に関して、投影レンズ系のレンズとして溶融石英、蛍石、サファイア、MgF2等が依然として透過性を示し、高解像度、高視野、低歪曲のレンズ系を作成するための異なる屈折率の材料を使用できるマイクロリソグラフィーの方法」(以下、「引用発明」という。)が開示されている。
[1-1]第73頁右欄第1〜7行
　「マイクロリソグラフィーにおいて遠紫外線光源を使うことは、投影焼き付けにおける解像と焦点深度との両立性を改善する。その他、短時間の露光に適合させるべく紫外閾において十分なエネルギーを獲得するため、エキシマレーザーのような特別の光源が提案されている。」
[1-2]第74頁左欄下から第9行〜右欄第25行
　「エキシマレーザーは、その活性成分に応じて異なった波長を照射可能である。Table I は利用できる異なった放射線をまとめたものである。
・・・(中略)・・・
　今のところ、KrFとKrClの場合において、狭いスペクトル帯域幅を持つ放射が200〜250nmの範囲で得られ、KrFに関してその放射は強力である。KrFで満たされたエキシマレーザーは以下の特性を示す。
-248.4nmの波長:遠紫外線範囲にあり、そこではいくつかの材料、例えば溶融石英、蛍石、サファイア、MgF2等が依然として透過性を示す。こうして、レンズ製造業者は高解像度、高視野、低歪曲のレンズ系を作成するための異なる屈折率の材料を持つことができる。
-スペクトル帯域幅は3.2Å。これは、非常に高い解像度のレンズ系における色収差と波長濾波の問題を避けるのに十分狭い。しかしながら、この帯域幅は古典的なレーザー(10-2Å)に対しては非常に大きい。」
[1-3]第75頁左欄第5行〜19行」
　「Fig.4に示されたイメージ投影装置は、ウエハステッパー上で使われる古典的なものと大きく異なることはない。しかしながら、材料が露光波長に対して透過性とされ、露光量制御系が遠紫外線放射に感応することが必要である。我々の応用において、レチクルは溶融石英上であり、そのレンズは10Xの顕微鏡対物(ZEISS ultrafluar)である。その開口数は0.2であり、250nmでの透過は約60%であり、このレンズは市販品であり、使用した波長に対して補正されておらず回折限界から遠く歪みと収差を示す。しかし、最初の実験としては許容されるものである。
　
《2-2》引用例2:特開昭47-35017号公報
　引用例2はマスク原板上のIC用パターンを超高解像力のレンズを通してウエハ上に投影してこれを焼き付けるいわゆる投影焼き付け法に用いられる投影複写レンズに関するものであり、以下の記載事項から、引用例2には前記投影複写レンズとして、張り合わせレンズを使用することなく複数のレンズで構成したものが示されている。
[2-1]第3欄第9行〜13行
「本発明等倍レンズの構成は、レンズの第1面より物体側の定位置に絞りを配置し、互いに空気間隔で隔てられた7群7枚の構成レンズ系Aを、上記絞りを中心として完全対称型としたレンズ系Bより成る。」
[2-2]実施例1〜4、第1〜2図
　
《2-3》引用例3:米国特許第3573456号明細書
　引用例3には、以下の事項が示されている。
[3-1]第5欄第65行〜第6欄第26行、Fig.1,2
「アプローチ3
　このアプローチは、大きな開口と1mm当たり600本を越える分解能とを有し、50Åのバンドパスを持つ単一周波数っで働く対物レンズの製造に向けられた。そのレンズのために選択された狭いバンドパスフィルターを表す参考例がFig.2に示されている。
・・・(中略)・・・
　基本的に、この系は選択された母材からの溶融石英で作られた複数素子の対物レンズ7であり、蛍石で作られた幾何学素子8による1個の修正用の非球面、又は球面の素子をもつ。屈折率1.432を示すその修正用素子は、特に選択された母材の中で屈折率1.478を提供する他の素子群と組み合わされる。この非球面板は像のエッジの歪みと対物レンズの球面素子群における以上に対する補正のために用いられる。
　より詳細にFig.1を参照すると、光源1は通常の電源と通常のトリガー手段9とを有する高輝度のキセノン水銀ランプである。バンドパスフィルター2は誘電体層と反射防止層とをもつ石英から成る。ランプは光軸3に沿って高輝度のビームを透過するように使用される。石英のコンデンサレンズ4は、石英板上に設けられた高分解能の写真乳剤5へ投影すべき像を光ビームが通るように光軸上に設けられる。
　こうして投影されたビームは石英の対物レンズ7を通過し、さらに補正されていない石英のレンズを補正するための特別に研磨された非球面の蛍石板を通過する。高分解能で高エネルギーのビームは、フォトレジスト材料の層11を上方に有するシリコンウエハ10に進み、縮小された、又は縮尺された小さな像を転写する。」
[3-2] 第6欄第31行〜第42行「Fig.2を参照すると、各種素子の波長特性を説明する図が示されている。フォトレジスト材料の感度が、Åで表される波長に対して曲線Pで表されている。ランプの放射曲線が波形Lで表され、その波形LはピークL1、L2、L3、L4を有する。通過を1つの周波数に限定することが望まれるので、もっとも大きなピークLを透過するように狭いバンドパスフィルターが選ばれる。そのバンドパスフィルターの曲線はピークFで表され、中心バンドパス周波数は3550Åの近辺にある。曲線Tは石英透過特性を示す。」
　
《2-4》引用例4: IEEE JOURNAL OF QUANTUM ELECTRONICS, Vol.QE-15, No.5, May 1979, PP.332-334
　引用例4の第334頁左欄第2行〜23行及びFig.4には、ミラーM1,M2の間に回折格子を配置してエキシマレーザー光の波長幅を0.005nmに狭める技術とミラーM1を回転させることにより、波長をチューニングする技術が開示されている。
　
《2-5》引用例5: IEEE JOURNAL OF QUANTUM ELECTRONICS, Vol.QE-16, No.2, February 1980, PP.235-241
　引用例5は、KrFレーザーに関するもので、第236頁のFig.2及び第237頁左欄第17行〜29行には、共振空洞内の3つのエタロンと、高次の横モードを制限する開口を用いることによって0.1cm-1の狭帯域で動作させたことが記載されている。
　
【3】対比・判断
《3-1》一致点
　本願発明と引用発明とを比較する。引用発明における「マイクロリソグラフィー」は回路パターンをウエハに投影して、リソグラフィー法により、半導体素子を製造する技術を意味するから、引用発明における「マイクロリソグラフィーの方法」は本願発明における「素子製造方法」に相当する。また、引用発明は、「レンズ系を作成するための異なる屈折率の材料を使用できる」から、投影レンズ系は複数の異なる材料から成るレンズで構成されている。
　してみると、両者は、「エキシマレーザーからのレーザー光で回路パターンを照明して投影レンズ系により該回路パターンをウエハに投影する素子製造方法において前記投影レンズ系を複数のレンズで構成したことを特徴とする素子製造方法。」の点で一致する。
　
《3-2》相違点
　相違点1:
　本願発明においては、投影レンズ系が「貼り合わせレンズを利用することなく石英レンズと蛍石のレンズから成る」のに対して、引用発明は投影レンズ系として「溶融石英、蛍石、サファイア、MgF2等が依然として透過性を示し、高解像度、高視野、低歪曲のレンズ系を作成するための異なる屈折率の材料を使用できる」としている点で両者は相違する。
　
　相違点2:
　本願発明においては、エキシマレーザーが非常に狭い波長幅のエキシマレーザーであるのに対して、引用発明ではエキシマレーザーにそのような限定を付していない点で両者は相違する。
　
《3-3》判断
　まず相違点1について検討する。引用発明が記載された引用例1には「溶融石英、蛍石、サファイア、MgF2等が依然として透過性を示し、高解像度、高視野、低歪曲のレンズ系を作成するための異なる屈折率の材料を使用できる」ことが示されており、これは、エキシマレーザー光の波長帯域において、溶融石英(本願発明の石英に相当する)のレンズと、蛍石のレンズが使用できることを意味している。また、この記載は、投影レンズとして複数の異なる材料から成るレンズを使用することが好ましいことを示唆している。
　さらに、引用例3の記載事項[3-1]には、溶融石英(本願発明の石英に相当する)のレンズ7と、蛍石の非球面又は球面をもつ素子8を組み合わせた、ウエハ露光のための投影レンズ系が示され、引用例2には、投影複写レンズ(引用発明と本願発明の投影レンズ系に相当する)を貼り合わせレンズを利用することなく構成したものが示されている。
　従って、引用発明の投影レンズ系を構成する複数の異なる材料から成るレンズを「貼り合わせレンズを利用することなく石英レンズと蛍石のレンズから成る」ものとすることは、当業者が格別の困難なく想到できた事項である。
　
　次に相違点2を検討する。引用発明と同じ技術分野に属する引用例3の記載事項[3-2]には、対物レンズ7を通過する光の帯域幅が狭いことが好ましいことが示唆されている。そして、引用例4,5において、エキシマレーザーの発振帯域幅を狭くするための具体的手段が記載され、エキシマレーザーの発振帯域幅を狭くすることが周知であったことを示唆している。よって、引用発明のエキシマレーザーを非常に狭い波長幅のエキシマレーザーとすることは当業者が容易に想到できたものである。
　
　そして、本願発明の構成によってもたらされる効果は、引用例1,2の記載から当業者が予測できる範囲のものである。なお、請求人は、審判請求書において投影レンズ系の温度変化による焦点距離等の変化量を小さくできる効果及び接着剤を使用しないことによる効果を新たに主張しているが、これらの効果は、願書に添付された明細書に記載された事項に基づくものではなく、また願書に添付された明細書に記載された事項から自明の知見でもない。このため、上記効果は本審決の判断の基礎とすることができない。
　
【4】むすび
　以上のとおり、本願の特許請求の範囲第1項に記載された発明は引用例1〜5に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できたものであるから、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない。
　よって、本願は特許請求の範囲第3項に記載された発明について検討するまでもなく拒絶すべきものであるから結論のとおり審決する。