【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年11月27日(2014.11.27)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物理及び／又は化学量のエバネセントセンシング用積分光学導波路型干渉計であって、第１導波路コア層であって、前記第１導波路コア層よりも低い屈折率の第１下部クラッド層及び第１上部クラッド層より形成される２つの第１クラッド層の間に挟入される第１導波路コア層、
第２導波路コア層であって、前記第２導波路コア層よりも低い屈折率の第２下部クラッド層及び第２上部クラッド層より形成される２つの第２クラッド層の間に挟入される第２導波路コア層、
第１及び第２接合において、それぞれに前記第１及び第２導波路コア層を光結合させるためのスプリッタ及び結合器、
が備わっている導波路層構造を支持する基板を具備し、
少なくとも前記第１上部クラッド層の１つ又は前記第２上部クラッド層の１つが含まれるポリマークラッド材の調節部であって、前記ポリマークラッド材は、前記第１及び前記第２接合の間の窓の中に設けられ、前記窓は、少なくとも前記第１上部クラッド層の１つ又は前記第２上部クラッド層の１つにより元々設けられた領域を局所的に取り除くことによって形成された領域を備えており、前記ポリマークラッド材は前記第１または第２下部クラッド材よりも高い屈折率を有し、前記ポリマークラッド材は、温度によって可変する１．４６〜２．５の屈折率を有し、前記第１及び第２導波路コア層を通じて伝搬する様に放射位相を変化させる調節部と、
前記ポリマークラッド材の前記温度を上昇及び低下させるための手段とを備えたことを特徴とする積分光学導波路型干渉計。
【請求項２】
前記調節部において、前記干渉計は、次の式（１）〜（３）（数１〜数３で表される式）を満たす請求項１に記載の積分光学導波路型干渉計。
【数１】
2012517023.tif 000001
【数２】
2012517023.tif 000002
【数３】
2012517023.tif 000003
ｎｃは第１及び／又は第２上部（ポリマー）クラッド層の屈折率であり、ｎｓは第１及び／又は第２下部クラッド層の屈折率であり、ｎｆは第１及び／又は第２コア層の屈折率であり、ｈは第１及び／又は第２コア層の厚さであり、λは光学波長であり、そしてＶは、ｒ＞１．１のときに０．１〜４の間で変化する。
【請求項３】
前記ポリマークラッド材は、少なくとも十分に、ポリメタクリル酸ペンタブロモフェニル、ポリアクリル酸ペンタブロモフェニル、ポリメタクリル酸ペンタブロモベンジル、ポリアクリル酸ペンタブロモベンジル、ポリメタクリル酸２，４，６−トリブロモフェニル、ポリビニルフェニルスルフィド、ポリ１−ナフチルメタクリルアミド、ポリ２−ビニルチオフェン、ポリ２，６−ジクロロスチレン、ポリＮ−ビニルフタルアミド、ポリ２−クロロスチレン及びポリメタクリル酸ペンタクロロフェニルで構成されるグループから選択される材料から成る請求項１又は２に記載の積分光学導波路型干渉計。
【請求項４】
前記ポリマークラッド材は、少なくとも十分に、芳香族ベンゼン環をベースとしたポリマー及び縮合芳香環をベースとしたポリマー、ＳＵ−８のようなエポキシモノマー又は芳香族ポリイミドで構成されるグループから選択される材料から成る請求項１又は２に記載の積分光学導波路型干渉計。
【請求項５】
高屈折率の粒子が、その屈折率を増加させるために、前記ポリマークラッド材の材料に付加される請求項３又は４に記載の積分光学導波路型干渉計。
【請求項６】
前記ポリマークラッド材の温度を上昇及び低下させるための前記手段が、前記ポリマークラッド材の面に隣接して、ヒータ及び／又はクーラを具備する請求項１乃至５のいずれか１項に記載の積分光学導波路型干渉計。
【請求項７】
前記第１導波路コア層及び／又は前記第２導波路コア層の導波路では、導波路に隣接する前記コア層の厚みを（局所的に取り除くことにより）薄くすることによって形成されるリッジ形状を持った導波路コア層の輪郭が形成される、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の積分光学導波路型干渉計。
【請求項８】
前記第１導波路コア層及び／又は前記第２導波路コア層の屈折率が、１．５〜２．５の範囲で選択される請求項１乃至７のいずれか１項に記載の積分光学導波路型干渉計。
【請求項９】
前記第１導波路コア層及び／又は前記第２導波路コア層は、少なくとも十分に、窒化ケイ素、二酸化チタン、酸化タンタル、二酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化イットリウム及び五酸化ニオブで構成されるグループから選択される材料から成る請求項１乃至８のいずれか１項に記載の積分光学導波路型干渉計。
【請求項１０】
前記第１下部クラッド層及び／又は前記第２下部クラッド層は、少なくとも十分に、熱成長若しくは化学蒸着（ＣＶＤ）シリカ、シリカ含有多成分ガラス、フッ化物ガラス、ケイ素含有有機ポリマー或いはシリカ含有有機−無機ハイブリッドポリマー或いはフッ素含有ポリマー或いはフッ素含有有機−無機ハイブリッドポリマーで構成されるグループから選択される材料から成る請求項１乃至９のいずれか１項に記載の積分光学導波路型干渉計。
【請求項１１】
偏光金属ストリップが、前記ポリマークラッド材の温度を上昇及び低下させるための手段として用いられる請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の積分光学導波路型干渉計。
【請求項１２】
発泡体が、前記ポリマークラッド材の温度上昇及び低下させるための手段に適用される請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の積分光学導波路型干渉計。
【請求項１３】
カバープレートが、前記ポリマークラッド材の温度上昇及び低下させるための手段に適用され、且つ空気ギャップが、前記カバープレート並びに前記ポリマークラッド材の温度上昇及び低下させるための手段との間で保持される請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の積分光学導波路型干渉計。
【請求項１４】
装置が、前記ポリマークラッド材の温度上昇及び低下させるための手段の電気的変調信号のために備え付けられている請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の積分光学導波路型干渉計。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の積分光学導波路型干渉計における、前記ポリマークラッド材の温度上昇及び低下させるためのヒータエレメントの信号を電気的に変調するための方法であって、該ヒータは、セロダイン信号処理のために前記干渉計の正弦波センサ応答を産出するような電圧が供給され、適用された電圧及び熱光学変調との間の非直線関係を補うことを特徴とする方法。
【請求項１６】
２つの分離型ヒータが備え付けられ、及び前記ヒータエレメントは、セロダイン信号処理のために前記干渉計の正弦波センサ応答を産出するような電力が代わりに供給される請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
ルックアップテーブル及び電気スキームが使用され、前記電気スキームの助けにより、正及び負電圧が、単入力信号から前記２つの分離型ヒータへと送られ、並びに前記ルックアップテーブルが、セロダイン信号処理において前記干渉計の正弦波センサ応答を得るために最適化され、適用された電圧及び熱光学変調との間の非直線関係を補う請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
計深棒としての請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の積分光学導波路型干渉計の使用。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１０】
ポリマー上部クラッド及び下部クラッドにおいて同一の屈折率を有する対称な導波路において、基本モードにおけるカットオフ条件は、Ｖ＝０である。第１オーダーモードは、Ｖ＝π（導波路が単一モードでとどまらなくてはならないことに留意。）から出発する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
ポリマー（上部）クラッドの屈折率ｎｃと下部クラッドの屈折率ｎｆとの間の大きな屈折率の差を有する高度な非対称導波路において、基本モードにおけるカットオフは、Ｖ＝π／２において現れる。第１オーダーモードは、Ｖ＝３π／２から出発する。その条件は、次の２）に示すようなことである。
２）ポリマー（上部）クラッドの屈折率ｎｃと下部クラッドの屈折率ｎｆとの間における屈折率の差は、大きい（高い非対称性）。これは、ポリマークラッドにおいて独占的に存在するための領域拡大を誘導する。この状態における質の基準は、ポリマークラッド（Ｐｃ）を伴ったコア及び下部クラッド（Ｐｓ）を伴ったコアの限界における屈折力の比である。ＴＥモードにおけるこの比Ｐｃ／Ｐｓは、次式（下記数５）で示される。
【数５】
2012517023.tif 000004