(57)【要約】【課題】スキャン方向における液滴の着弾位置の許容誤差を緩和できる、塗布装置の提供。【解決手段】ノズルが第１方向に複数並んで設けられるヘッドを複数含む吐出ユニットと、基板を保持する基板保持部と、前記第１方向に交差する第２方向に前記吐出ユニットと前記基板保持部とを相対的に移動させる移動機構とを有し、前記吐出ユニットはバンクの開口部に向けて発光材料の液滴を前記ノズルから吐出し、前記バンクは、前記開口部として、前記第２方向に所定の順序で並ぶ第１開口部、第２開口部および第３開口部を含み、前記第１開口部は、前記第２開口部および前記第３開口部よりも、前記第２方向の寸法が小さく、互いに隣り合う前記第２開口部と前記第３開口部とを前記第２方向に隔てる隔壁部の厚さが、前記第１開口部を前記第２方向に挟む２つの隔壁部のそれぞれの厚さよりも小さい、塗布装置。【選択図】図１０
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズルが第１方向に複数並んで設けられるヘッドを複数含む吐出ユニットと、基板を保持する基板保持部と、前記第１方向に交差する第２方向に前記吐出ユニットと前記基板保持部とを相対的に移動させる移動機構とを有し、
前記吐出ユニットは、前記基板保持部に保持された前記基板に予め形成されたバンクの開口部に向けて、発光材料の液滴を前記ノズルから吐出し、
前記バンクは、前記開口部として、互いに異なる色に発光する発光材料の液滴が注入される第１開口部、第２開口部および第３開口部を含み、
前記第１開口部、前記第２開口部、および前記第３開口部は、前記第２方向に所定の順序で並んでおり、
前記第１開口部は、前記第２開口部および前記第３開口部よりも、前記第２方向の寸法が小さく、
互いに隣り合う前記第２開口部と前記第３開口部とを前記第２方向に隔てる隔壁部の厚さが、前記第１開口部を前記第２方向に挟む２つの隔壁部のそれぞれの厚さよりも小さい、塗布装置。
【請求項２】
前記第２開口部は、前記第３開口部よりも、前記第２方向の寸法が小さい、請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記第２開口部と、前記第３開口部とは、前記第２方向の寸法が同じである、請求項１に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記第１開口部、前記第２開口部、および前記第３開口部は、それぞれ、前記第１方向に間隔をおいて隣り合い且つ同じ色に発光する複数の発光領域にまたがる、請求項１〜３のいずれか１項に記載の塗布装置。
【請求項５】
ノズルが第１方向に複数並んで設けられるヘッドを複数含む吐出ユニットと、基板を保持する基板保持部とを、前記第１方向に交差する第２方向に、相対的に移動し、
前記基板保持部に保持された前記基板に予め形成されたバンクの開口部に向けて、発光材料の液滴を前記ノズルから液滴を吐出する工程を有し、
前記バンクは、前記開口部として、互いに異なる色に発光する発光材料の液滴が注入される第１開口部、第２開口部および第３開口部を含み、
前記第１開口部、前記第２開口部、および前記第３開口部は、前記第２方向に所定の順序で並んでおり、
前記第１開口部は、前記第２開口部および前記第３開口部よりも、前記第２方向の寸法が小さく、
互いに隣り合う前記第２開口部と前記第３開口部とを前記第２方向に隔てる隔壁部の厚さが、前記第１開口部を前記第２方向に挟む２つの隔壁部のそれぞれの厚さよりも小さい、塗布方法。
【請求項６】
前記第２開口部は、前記第３開口部よりも、前記第２方向の寸法が小さい、請求項５に記載の塗布方法。
【請求項７】
前記第２開口部と、前記第３開口部とは、前記第２方向の寸法が同じである、請求項５に記載の塗布方法。
【請求項８】
前記第１開口部、前記第２開口部、および前記第３開口部は、それぞれ、前記第１方向に間隔をおいて隣り合い且つ同じ色に発光する複数の発光領域にまたがる、請求項５〜７のいずれか１項に記載の塗布方法。
【請求項９】
基板と、前記基板上に設けられる画素電極と、前記画素電極を基準として前記基板とは反対側に設けられる対向電極と、前記画素電極と前記対向電極との間に設けられる発光層と、前記発光層が形成される開口部を含むバンクとを有し、
前記バンクは、前記開口部として、前記発光層の発光材料が互いに異なる第１開口部、第２開口部および第３開口部を含み、
前記第１開口部、前記第２開口部、および前記第３開口部は、所定方向に所定の順序で並んでおり、
前記第１開口部は、前記第２開口部および前記第３開口部よりも、前記所定方向の寸法が小さく、
互いに隣り合う前記第２開口部と前記第３開口部とを前記所定方向に隔てる隔壁部の厚さが、前記第１開口部を前記所定方向に挟む２つの隔壁部のそれぞれの厚さよりも小さい、有機ＥＬディスプレイ。
【請求項１０】
前記第２開口部は、前記第３開口部よりも、前記所定方向の寸法が小さい、請求項９に記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項１１】
前記第２開口部と、前記第３開口部とは、前記所定方向の寸法が同じである、請求項９に記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項１２】
前記第１開口部、前記第２開口部、および前記第３開口部は、それぞれ、前記所定方向に交差する方向に間隔をおいて隣り合い且つ同じ色に発光する複数の発光領域にまたがる、請求項９〜１１のいずれか１項に記載の有機ＥＬディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布装置、塗布方法、および有機ＥＬディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、有機ＥＬ（Electroluminescence）の発光を利用した発光ダイオードである有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ：Organic Light Emitting Diode）が知られている。有機発光ダイオードを用いた有機ＥＬディスプレイは、薄型軽量かつ低消費電力であるうえ、応答速度や視野角、コントラスト比の面で優れているといった利点を有している。このため、次世代のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）として近年注目されている。
【０００３】
有機発光ダイオードは、基板上に形成される陽極と、陽極を基準として基板とは反対側に設けられる陰極と、陽極と陰極の間に設けられる有機層とを有する。有機層は、例えば陽極側から陰極側に向けて、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、および電子注入層をこの順で有する。発光層などの形成には、インクジェット方式の塗布装置が用いられる。この塗布装置は、発光材料を含む塗布液の液滴を基板上に塗布する。その塗布層を乾燥、焼成することで、発光層が形成される（例えば特許文献１参照）。
【０００４】
発光層として、例えば赤色に発光する赤色発光材料を含む赤色発光層、緑色に発光する緑色発光材料を含む緑色発光層、および青色に発光する青色発光材料を含む青色発光層が形成される。これらの発光層の形成に用いる塗布液は、予め形成されたバンクの開口部に塗布される。バンクは、例えばフォトレジストを用いて形成され、フォトリソグラフィ処理によって所定のパターンにパターニングされる。バンクは、赤色発光層用の塗布液、緑色発光層用の塗布液、および青色発光層用の塗布液を隔てることで、これらの塗布液の混合を防止する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１６−７７９６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
図１は、従来例による塗布装置が描く描画パターンを示す平面図である。図１において、発光材料が同じ領域には同じハッチングを施す。また、図１において、Ｘ方向およびＹ方向は互いに直交する水平方向であって、Ｚ方向はＸ方向およびＹ方向に直交する鉛直方向である。Ｙ方向は、同じ塗布液の液滴を吐出する複数のノズルが並ぶライン方向である。一方、Ｘ方向は、Ｙ方向に直交するスキャン方向である。尚、ライン方向とスキャン方向とは、交差していればよく、直交していなくてもよい。
【０００７】
有機ＥＬディスプレイは、画素毎に、例えば、赤色に発光する赤色発光領域２Ｒ、緑色に発光する緑色発光領域２Ｇ、および青色に発光する青色発光領域２Ｂを有する。隣り合う発光領域はバンク５によって隔てられており、バンク５は全ての発光領域を１つずつ取り囲んでいる。
【０００８】
赤色発光領域２Ｒ、緑色発光領域２Ｇ、および青色発光領域２Ｂは、この順でＸ方向に間隔をおいて並ぶことを繰り返すことで、発光領域群３を形成している。その発光領域群３はＸ方向に交差するＹ方向に間隔をおいて並んでいる。そのため、Ｙ方向に、同じ色に発光する発光領域が間隔をおいて繰り返し並んでいる。
【０００９】
塗布装置は、Ｙ方向に並ぶ複数のノズルに対する基板のＸ方向の位置を変えながら、ノズルからバンク５の開口部に向けて液滴を吐出する。
【００１０】
近年、有機ＥＬディスプレイの画素密度を高めるため、サブピクセルである発光領域の面積の縮小が求められている。そのため、発光領域のＸ方向の寸法が、ノズルから吐出される液滴の直径に近づいてきている。
【００１１】
従来、液滴のＸ方向の着弾位置の許容誤差が狭く、液滴のＸ方向の着弾位置が目標位置から少しずれると、バンク５の開口部から塗布液がはみ出し、異なる種類の塗布液が混合することがあった。
【００１２】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、スキャン方向における液滴の着弾位置の許容誤差を緩和できる、塗布装置の提供を主な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題を解決するため、本発明の一態様によれば、
ノズルが第１方向に複数並んで設けられるヘッドを複数含む吐出ユニットと、基板を保持する基板保持部と、前記第１方向に交差する第２方向に前記吐出ユニットと前記基板保持部とを相対的に移動させる移動機構とを有し、
前記吐出ユニットは、前記基板保持部に保持された前記基板に予め形成されたバンクの開口部に向けて、発光材料の液滴を前記ノズルから吐出し、
前記バンクは、前記開口部として、互いに異なる色に発光する発光材料の液滴が注入される第１開口部、第２開口部および第３開口部を含み、
前記第１開口部、前記第２開口部、および前記第３開口部は、前記第２方向に所定の順序で並んでおり、
前記第１開口部は、前記第２開口部および前記第３開口部よりも、前記第２方向の寸法が小さく、
互いに隣り合う前記第２開口部と前記第３開口部とを前記第２方向に隔てる隔壁部の厚さが、前記第１開口部を前記第２方向に挟む２つの隔壁部のそれぞれの厚さよりも小さい、塗布装置が提供される。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の一態様によれば、スキャン方向における液滴の着弾位置の許容誤差を緩和できる、塗布装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】従来例による塗布装置が描く描画パターンを示す平面図である。
【図２】一実施形態による有機ＥＬディスプレイを示す平面図である。
【図３】一実施形態による有機ＥＬディスプレイの要部を示す断面図である。
【図４】一実施形態による有機発光ダイオードの製造方法を示すフローチャートである。
【図５】一実施形態による塗布層が形成された基板を示す断面図である。
【図６】図５の塗布層を減圧乾燥した基板を示す断面図である。
【図７】一実施形態による基板処理システムを示す平面図である。
【図８】一実施形態による塗布装置を示す平面図である。
【図９】一実施形態による塗布装置を示す側面図である。
【図１０】一実施形態による塗布装置が描く描画パターンを示す平面図である。
【図１１】第１変形例による描画パターンを示す平面図である。
【図１２】第２変形例による描画パターンを示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。各図面において、同一の又は対応する構成には、同一の又は対応する符号を付して説明を省略する。
【００１７】
＜有機ＥＬディスプレイ＞
図２は、一実施形態による有機ＥＬディスプレイを示す平面図である。図２において、一の単位回路１１の回路を拡大して示す。
【００１８】
有機ＥＬディスプレイは、基板１０と、基板１０上に配列される複数の単位回路１１と、基板１０上に設けられる走査線駆動回路１４と、基板１０上に設けられるデータ線駆動回路１５とを有する。走査線駆動回路１４に接続される複数の走査線１６と、データ線駆動回路１５に接続される複数のデータ線１７とで囲まれる領域に、単位回路１１が設けられる。単位回路１１は、ＴＦＴ層１２と、有機発光ダイオード１３とを含む。
【００１９】
ＴＦＴ層１２は、複数のＴＦＴ（Thin Film Transistor）を有する。一のＴＦＴはスイッチング素子としての機能を有し、他の一のＴＦＴは有機発光ダイオード１３に流す電流量を制御する電流制御用素子としての機能を有する。ＴＦＴ層１２は、走査線駆動回路１４およびデータ線駆動回路１５によって作動され、有機発光ダイオード１３に電流を供給する。ＴＦＴ層１２は単位回路１１毎に設けられており、複数の単位回路１１は独立に制御される。尚、ＴＦＴ層１２は、一般的な構成であればよく、図２に示す構成には限定されない。
【００２０】
尚、有機ＥＬディスプレイの駆動方式は、本実施形態ではアクティブマトリックス方式であるが、パッシブマトリックス方式であってもよい。
【００２１】
図３は、一実施形態による有機ＥＬディスプレイの要部を示す断面図である。基板１０としては、ガラス基板や樹脂基板などの透明基板が用いられる。基板１０上には、ＴＦＴ層１２が形成されている。ＴＦＴ層１２上には、ＴＦＴ層１２によって形成される段差を平坦化する平坦化層１８が形成されている。
【００２２】
平坦化層１８は、絶縁性を有している。平坦化層１８を貫通するコンタクトホールには、コンタクトプラグ１９が形成されている。コンタクトプラグ１９は、平坦化層１８の平坦面に形成される画素電極としての陽極２１と、ＴＦＴ層１２とを電気的に接続する。コンタクトプラグ１９は、陽極２１と同じ材料で、同時に形成されてよい。
【００２３】
有機発光ダイオード１３は、平坦化層１８の平坦面上に形成される。有機発光ダイオード１３は、画素電極としての陽極２１と、画素電極を基準として基板１０とは反対側に設けられる対向電極としての陰極２２と、陽極２１と陰極２２との間に形成される有機層２３とを有する。ＴＦＴ層１２を作動させることで、陽極２１と陰極２２との間に電圧が印加され、有機層２３が発光する。
【００２４】
陽極２１は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などによって形成され、有機層２３からの光を透過する。陽極２１を透過した光は、基板１０を透過し、外部に取り出される。陽極２１は、単位回路１１毎に設けられる。
【００２５】
陰極２２は、例えばアルミニウムなどによって形成され、有機層２３からの光を有機層２３に向けて反射する。陰極２２で反射した光は、有機層２３や陽極２１、基板１０を透過し、外部に取り出される。陰極２２は、複数の単位回路１１に共通のものである。
【００２６】
有機層２３は、例えば、陽極２１側から陰極２２側に向けて、正孔注入層２４、正孔輸送層２５、発光層２６、電子輸送層２７および電子注入層２８をこの順で有する。陽極２１と陰極２２との間に電圧がかかると、陽極２１から正孔注入層２４に正孔が注入されると共に、陰極２２から電子注入層２８に電子が注入される。正孔注入層２４に注入された正孔は、正孔輸送層２５によって発光層２６へ輸送される。また、電子注入層２８に注入された電子は、電子輸送層２７によって発光層２６へ輸送される。そうして、発光層２６内で正孔と電子が再結合して、発光層２６の発光材料が励起され、発光層２６が発光する。
【００２７】
発光層２６として、例えば図１０に示すように、赤色発光層２６Ｒ、緑色発光層２６Ｇ、および青色発光層２６Ｂが形成される。赤色発光層２６Ｒは赤色に発光する赤色発光材料で形成され、緑色発光層２６Ｇは緑色に発光する緑色発光材料で形成され、青色発光層２６Ｂは青色に発光する青色発光材料で形成される。赤色発光層２６Ｒ、緑色発光層２６Ｇ、および青色発光層２６Ｂは、バンク３０の開口部３１に形成される。
【００２８】
バンク３０は、赤色発光層２６Ｒ用の塗布液、緑色発光層２６Ｇ用の塗布液、および青色発光層２６Ｂ用の塗布液を隔てることで、これらの塗布液の混合を防止する。バンク３０は、絶縁性を有しており、平坦化層１８を貫通するコンタクトホールを埋める。
【００２９】
＜有機発光ダイオードの製造方法＞
図４は、一実施形態による有機発光ダイオードの製造方法を示すフローチャートである。
【００３０】
先ず、ステップＳ１０１では、画素電極としての陽極２１の形成を行う。陽極２１の形成には、例えば蒸着法が用いられる。陽極２１は、平坦化層１８の平坦面に、単位回路１１毎に形成される。陽極２１と共に、コンタクトプラグ１９が形成されてよい。
【００３１】
続くステップＳ１０２では、バンク３０の形成を行う。バンク３０は、例えばフォトレジストを用いて形成され、フォトリソグラフィ処理によって所定のパターンにパターニングされる。バンク３０の開口部３１において、陽極２１が露出する。
【００３２】
続くステップＳ１０３では、正孔注入層２４の形成を行う。正孔注入層２４の形成には、インクジェット法などが用いられる。インクジェット法によって正孔注入層２４用の塗布液を陽極２１上に塗布することで、図５に示すように塗布層Ｌが形成される。その塗布層Ｌを乾燥、焼成することで、図６に示すように正孔注入層２４が形成される。
【００３３】
続くステップＳ１０４では、正孔輸送層２５の形成を行う。正孔輸送層２５の形成には、正孔注入層２４の形成と同様に、インクジェット法などが用いられる。インクジェット法によって正孔輸送層２５用の塗布液を正孔注入層２４上に塗布することで、塗布層が形成される。その塗布層を乾燥、焼成することで、正孔輸送層２５が形成される。
【００３４】
続くステップＳ１０５では、発光層２６の形成を行う。発光層２６の形成には、正孔注入層２４や正孔輸送層２５の形成と同様に、インクジェット法などが用いられる。インクジェット法によって発光層２６用の塗布液を正孔輸送層２５上に塗布することで、塗布層が形成される。その塗布層を乾燥、焼成することで、発光層２６が形成される。
【００３５】
発光層２６として、例えば赤色発光層２６Ｒ、緑色発光層２６Ｇ、および青色発光層２６Ｂが形成される。赤色発光層２６Ｒ、緑色発光層２６Ｇ、および青色発光層２６Ｂは、バンク３０の開口部３１に形成される。バンク３０は、赤色発光層２６Ｒ用の塗布液、緑色発光層２６Ｇ用の塗布液、および青色発光層２６Ｂ用の塗布液を隔てることで、これらの塗布液の混合を防止する。
【００３６】
続くステップＳ１０６では、電子輸送層２７の形成を行う。電子輸送層２７の形成には、例えば蒸着法などが用いられる。電子輸送層２７は、複数の単位回路１１に共通のものでよいので、バンク３０の開口部３１内の発光層２６上だけではなく、バンク３０上にも形成されてよい。
【００３７】
続くステップＳ１０７では、電子注入層２８の形成を行う。電子注入層２８の形成には、例えば蒸着法などが用いられる。電子注入層２８は、電子輸送層２７上に形成される。電子注入層２８は、複数の単位回路１１に共通のものでよい。
【００３８】
続くステップＳ１０８では、陰極２２の形成を行う。陰極２２の形成には、例えば蒸着法などが用いられる。陰極２２は、電子注入層２８上に形成される。陰極２２は、複数の単位回路１１に共通のものでよい。
【００３９】
尚、有機ＥＬディスプレイの駆動方式が、アクティブマトリックス方式ではなく、パッシブマトリックス方式である場合、陰極２２は、所定のパターンにパターニングされる。
【００４０】
以上の工程により、有機発光ダイオード１３が製造される。有機層２３のうち、正孔注入層２４、正孔輸送層２５および発光層２６の形成に、基板処理システム１００が用いられる。
【００４１】
＜基板処理システム＞
図７は、一実施形態による基板処理システムを示す平面図である。基板処理システム１００は、図４のステップＳ１０３〜Ｓ１０５に相当する各処理を行い、陽極２１上に正孔注入層２４、正孔輸送層２５および発光層２６を形成する。基板処理システム１００は、搬入ステーション１１０と、処理ステーション１２０と、搬出ステーション１３０と、制御装置１４０とを有する。
【００４２】
搬入ステーション１１０は、複数の基板１０を収容するカセットＣを外部から搬入させ、カセットＣから複数の基板１０を順次取り出す。各基板１０には、予めＴＦＴ層１２や平坦化層１８、陽極２１、バンク３０などが形成されている。
【００４３】
搬入ステーション１１０は、カセットＣを載置するカセット載置台１１１と、カセット載置台１１１と処理ステーション１２０との間に設けられる搬送路１１２と、搬送路１１２に設けられる基板搬送体１１３とを備える。基板搬送体１１３は、カセット載置台１１１に載置されたカセットＣと処理ステーション１２０との間で基板１０を搬送する。
【００４４】
処理ステーション１２０は、陽極２１上に、正孔注入層２４、正孔輸送層２５および発光層２６を形成する。処理ステーション１２０は、正孔注入層２４を形成する正孔注入層形成ブロック１２１と、正孔輸送層２５を形成する正孔輸送層形成ブロック１２２と、発光層２６を形成する発光層形成ブロック１２３を備える。
【００４５】
正孔注入層形成ブロック１２１は、正孔注入層２４用の塗布液を陽極２１上に塗布して塗布層を形成し、その塗布層を乾燥、焼成することで、正孔注入層２４を形成する。正孔注入層２４用の塗布液は、有機材料および溶剤を含む。その有機材料は、ポリマー、モノマーのいずれでもよい。モノマーの場合、焼成によって重合され、ポリマーとされてもよい。
【００４６】
正孔注入層形成ブロック１２１は、塗布装置１２１ａと、バッファ装置１２１ｂと、減圧乾燥装置１２１ｃと、熱処理装置１２１ｄと、温度調節装置１２１ｅとを備える。塗布装置１２１ａは、正孔注入層２４用の塗布液の液滴を、バンク３０の開口部３１に向けて吐出する。バッファ装置１２１ｂは、処理待ちの基板１０を一時的に収容する。減圧乾燥装置１２１ｃは、塗布装置１２１ａで塗布された塗布層を減圧乾燥し、塗布層に含まれる溶剤を除去する。熱処理装置１２１ｄは、減圧乾燥装置１２１ｃで乾燥された塗布層を加熱処理する。温度調節装置１２１ｅは、熱処理装置１２１ｄで加熱処理された基板１０の温度を、所定の温度、例えば常温に調節する。
【００４７】
塗布装置１２１ａ、バッファ装置１２１ｂ、熱処理装置１２１ｄ、および温度調節装置１２１ｅは、内部が大気雰囲気に維持される。減圧乾燥装置１２１ｃは、内部の雰囲気を、大気雰囲気と減圧雰囲気とに切り替える。
【００４８】
尚、正孔注入層形成ブロック１２１において、塗布装置１２１ａ、バッファ装置１２１ｂ、減圧乾燥装置１２１ｃ、熱処理装置１２１ｄおよび温度調節装置１２１ｅの、配置や個数、内部の雰囲気は、任意に選択可能である。
【００４９】
また、正孔注入層形成ブロック１２１は、基板搬送装置ＣＲ１〜ＣＲ３と、受渡装置ＴＲ１〜ＴＲ３とを備える。基板搬送装置ＣＲ１〜ＣＲ３は、それぞれ隣接する各装置へ基板１０を搬送する。例えば、基板搬送装置ＣＲ１は、隣接する塗布装置１２１ａおよびバッファ装置１２１ｂへ基板１０を搬送する。基板搬送装置ＣＲ２は、隣接する減圧乾燥装置１２１ｃへ基板１０を搬送する。基板搬送装置ＣＲ３は、隣接する熱処理装置１２１ｄおよび温度調節装置１２１ｅへ基板１０を搬送する。受渡装置ＴＲ１〜ＴＲ３は、それぞれ順に、搬入ステーション１１０と基板搬送装置ＣＲ１の間、基板搬送装置ＣＲ１と基板搬送装置ＣＲ２の間、基板搬送装置ＣＲ２と基板搬送装置ＣＲ３の間に設けられ、これらの間で基板１０を中継する。基板搬送装置ＣＲ１〜ＣＲ３や受渡装置ＴＲ１〜ＴＲ３は、内部が大気雰囲気に維持される。
【００５０】
正孔注入層形成ブロック１２１の基板搬送装置ＣＲ３と、正孔輸送層形成ブロック１２２の基板搬送装置ＣＲ４との間には、これらの間で基板１０を中継する受渡装置ＴＲ４が設けられる。受渡装置ＴＲ４は、内部が大気雰囲気に維持される。
【００５１】
正孔輸送層形成ブロック１２２は、正孔輸送層２５用の塗布液を正孔注入層２４上に塗布して塗布層を形成し、その塗布層を乾燥、焼成することで、正孔輸送層２５を形成する。正孔輸送層２５用の塗布液は、有機材料および溶剤を含む。その有機材料は、ポリマー、モノマーのいずれでもよい。モノマーの場合、焼成によって重合され、ポリマーとされてもよい。
【００５２】
正孔輸送層形成ブロック１２２は、塗布装置１２２ａと、バッファ装置１２２ｂと、減圧乾燥装置１２２ｃと、熱処理装置１２２ｄと、温度調節装置１２２ｅとを備える。塗布装置１２２ａは、正孔輸送層２５用の塗布液の液滴を、バンク３０の開口部３１に向けて吐出する。バッファ装置１２２ｂは、処理待ちの基板１０を一時的に収容する。減圧乾燥装置１２２ｃは、塗布装置１２２ａで塗布された塗布層を減圧乾燥し、塗布層に含まれる溶剤を除去する。熱処理装置１２２ｄは、減圧乾燥装置１２２ｃで乾燥された塗布層を加熱処理する。温度調節装置１２２ｅは、熱処理装置１２２ｄで加熱処理された基板１０の温度を、所定の温度、例えば常温に調節する。
【００５３】
塗布装置１２２ａおよびバッファ装置１２２ｂは、内部が大気雰囲気に維持される。一方、熱処理装置１２２ｄおよび温度調節装置１２２ｅは、正孔輸送層２５の有機材料の劣化を抑制するため、内部が低酸素かつ低露点の雰囲気に維持される。減圧乾燥装置１２２ｃは、内部の雰囲気を、低酸素かつ低露点の雰囲気と、減圧雰囲気とに切り替える。
【００５４】
ここで、低酸素の雰囲気とは、大気よりも酸素濃度が低い雰囲気、例えば酸素濃度が１０ｐｐｍ以下の雰囲気をいう。また、低露点の雰囲気とは、大気よりも露点温度が低い雰囲気、例えば露点温度が−１０℃以下の雰囲気をいう。低酸素かつ低露点の雰囲気は、例えば窒素ガス等の不活性ガスで形成される。
【００５５】
尚、正孔輸送層形成ブロック１２２において、塗布装置１２２ａ、バッファ装置１２２ｂ、減圧乾燥装置１２２ｃ、熱処理装置１２２ｄおよび温度調節装置１２２ｅの、配置や個数、内部の雰囲気は、任意に選択可能である。
【００５６】
また、正孔輸送層形成ブロック１２２は、基板搬送装置ＣＲ４〜ＣＲ６と、受渡装置ＴＲ５〜ＴＲ６とを備える。基板搬送装置ＣＲ４〜ＣＲ６は、それぞれ隣接する各装置へ基板１０を搬送する。受渡装置ＴＲ５〜ＴＲ６は、それぞれ順に、基板搬送装置ＣＲ４と基板搬送装置ＣＲ５の間、基板搬送装置ＣＲ５と基板搬送装置ＣＲ６の間に設けられ、これらの間で基板１０を中継する。
【００５７】
基板搬送装置ＣＲ４の内部は、大気雰囲気に維持される。一方、基板搬送装置ＣＲ５〜ＣＲ６の内部は、低酸素かつ低露点の雰囲気に維持される。基板搬送装置ＣＲ５に隣接される減圧乾燥装置１２２ｃの内部が、低酸素かつ低露点の雰囲気と、減圧雰囲気とに切り替えられるためである。また、基板搬送装置ＣＲ６に隣設される熱処理装置１２２ｄや温度調節装置１２２ｅの内部が、低酸素かつ低露点の雰囲気に維持されるためである。
【００５８】
受渡装置ＴＲ５は、その内部の雰囲気を、大気雰囲気と、低酸素かつ低露点の雰囲気との間で切り替えるロードロック装置として構成される。受渡装置ＴＲ５の下流側に減圧乾燥装置１２２ｃが隣設されるためである。一方、受渡装置ＴＲ６の内部は、低酸素かつ低露点の雰囲気に維持される。
【００５９】
正孔輸送層形成ブロック１２２の基板搬送装置ＣＲ６と、発光層形成ブロック１２３の基板搬送装置ＣＲ７との間には、これらの間で基板１０を中継する受渡装置ＴＲ７が設けられる。基板搬送装置ＣＲ６の内部は低酸素かつ低露点の雰囲気に維持され、基板搬送装置ＣＲ７の内部は大気雰囲気に維持される。そのため、受渡装置ＴＲ７は、その内部の雰囲気を、低酸素かつ低露点の雰囲気と、大気雰囲気との間で切り替えるロードロック装置として構成される。
【００６０】
発光層形成ブロック１２３は、発光層２６用の塗布液を正孔輸送層２５上に塗布して塗布層を形成し、形成した塗布層を乾燥、焼成することで、発光層２６を形成する。発光層２６用の塗布液は、有機材料および溶剤を含む。その有機材料は、ポリマー、モノマーのいずれでもよい。モノマーの場合、焼成によって重合され、ポリマーとされてもよい。
【００６１】
発光層形成ブロック１２３は、塗布装置１２３ａと、バッファ装置１２３ｂと、減圧乾燥装置１２３ｃと、熱処理装置１２３ｄと、温度調節装置１２３ｅとを備える。塗布装置１２３ａは、発光層２６用の塗布液の液滴を、バンク３０の開口部３１に向けて吐出する。バッファ装置１２３ｂは、処理待ちの基板１０を一時的に収容する。減圧乾燥装置１２３ｃは、塗布装置１２３ａで塗布された塗布層を減圧乾燥し、塗布層に含まれる溶剤を除去する。熱処理装置１２３ｄは、減圧乾燥装置１２３ｃで乾燥された塗布層を加熱処理する。温度調節装置１２３ｅは、熱処理装置１２３ｄで加熱処理された基板１０の温度を、所定の温度、例えば常温に調節する。
【００６２】
塗布装置１２３ａおよびバッファ装置１２３ｂは、内部が大気雰囲気に維持される。一方、熱処理装置１２３ｄおよび温度調節装置１２３ｅは、発光層２６の有機材料の劣化を抑制するため、内部が低酸素かつ低露点の雰囲気に維持される。減圧乾燥装置１２３ｃは、内部の雰囲気を、低酸素かつ低露点の雰囲気と、減圧雰囲気とに切り替える。
【００６３】
尚、発光層形成ブロック１２３において、塗布装置１２３ａ、バッファ装置１２３ｂ、減圧乾燥装置１２３ｃ、熱処理装置１２３ｄおよび温度調節装置１２３ｅの、配置や個数、内部の雰囲気は、任意に選択可能である。
【００６４】
また、発光層形成ブロック１２３は、基板搬送装置ＣＲ７〜ＣＲ９と、受渡装置ＴＲ８〜ＴＲ９とを備える。基板搬送装置ＣＲ７〜ＣＲ９は、それぞれ隣接する各装置へ基板１０を搬送する。受渡装置ＴＲ８〜ＴＲ９は、それぞれ順に、基板搬送装置ＣＲ７と基板搬送装置ＣＲ８の間、基板搬送装置ＣＲ８と基板搬送装置ＣＲ９の間に設けられ、これらの間で基板１０を中継する。
【００６５】
基板搬送装置ＣＲ７の内部は、大気雰囲気に維持される。一方、基板搬送装置ＣＲ８〜ＣＲ９の内部は、低酸素かつ低露点の雰囲気に維持される。基板搬送装置ＣＲ８に隣接される減圧乾燥装置１２３ｃの内部が、低酸素かつ低露点の雰囲気と、減圧雰囲気とに切り替えられるためである。また、基板搬送装置ＣＲ９に隣設される熱処理装置１２３ｄや温度調節装置１２３ｅの内部が、低酸素かつ低露点の雰囲気に維持されるためである。
【００６６】
受渡装置ＴＲ８は、その内部の雰囲気を、大気雰囲気と、低酸素かつ低露点の雰囲気との間で切り替えるロードロック装置として構成される。受渡装置ＴＲ８の下流側に減圧乾燥装置１２３ｃが隣設されるためである。受渡装置ＴＲ９の内部は、低酸素かつ低露点の雰囲気に維持される。
【００６７】
発光層形成ブロック１２３の基板搬送装置ＣＲ９と、搬出ステーション１３０との間には、これらの間で基板１０を中継する受渡装置ＴＲ１０が設けられる。基板搬送装置ＣＲ９の内部は低酸素かつ低露点の雰囲気に維持され、搬出ステーション１３０の内部は大気雰囲気に維持される。そのため、受渡装置ＴＲ７は、その内部の雰囲気を、低酸素かつ低露点の雰囲気と、大気雰囲気との間で切り替えるロードロック装置として構成される。
【００６８】
搬出ステーション１３０は、複数の基板１０を順次カセットＣに収納し、カセットＣを外部に搬出させる。搬出ステーション１３０は、カセットＣを載置するカセット載置台１３１と、カセット載置台１３１と処理ステーション１２０との間に設けられる搬送路１３２と、搬送路１３２に設けられる基板搬送体１３３とを備える。基板搬送体１３３は、処理ステーション１２０と、カセット載置台１３１に載置されたカセットＣとの間で基板１０を搬送する。
【００６９】
制御装置１４０は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）１４１と、メモリなどの記憶媒体１４２とを含むコンピュータで構成され、記憶媒体１４２に記憶されたプログラム（レシピとも呼ばれる）をＣＰＵ１４１に実行させることにより各種処理を実現させる。
【００７０】
制御装置１４０のプログラムは、情報記憶媒体に記憶され、情報記憶媒体からインストールされる。情報記憶媒体としては、例えば、ハードディスク（ＨＤ）、フレキシブルディスク（ＦＤ）、コンパクトディスク（ＣＤ）、マグネットオプティカルデスク（ＭＯ）、メモリーカードなどが挙げられる。尚、プログラムは、インターネットを介してサーバからダウンロードされ、インストールされてもよい。
【００７１】
次に、上記構成の基板処理システム１００を用いた基板処理方法について説明する。複数の基板１０を収容したカセットＣがカセット載置台１１１上に載置されると、基板搬送体１１３が、カセット載置台１１１上のカセットＣから基板１０を順次取り出し、正孔注入層形成ブロック１２１に搬送する。
【００７２】
正孔注入層形成ブロック１２１は、正孔注入層２４用の塗布液を陽極２１上に塗布して塗布層を形成し、形成した塗布層を乾燥、焼成することで、正孔注入層２４を形成する。正孔注入層２４が形成された基板１０は、受渡装置ＴＲ４によって、正孔注入層形成ブロック１２１から正孔輸送層形成ブロック１２２に受け渡される。
【００７３】
正孔輸送層形成ブロック１２２は、正孔輸送層２５用の塗布液を正孔注入層２４上に塗布して塗布層を形成し、形成した塗布層を乾燥、焼成することで、正孔輸送層２５を形成する。正孔輸送層２５が形成された基板１０は、受渡装置ＴＲ７によって、正孔輸送層形成ブロック１２２から発光層形成ブロック１２３に受け渡される。
【００７４】
発光層形成ブロック１２３は、発光層２６用の塗布液を正孔輸送層２５上に塗布して塗布層を形成し、形成した塗布層を乾燥、焼成することで、発光層２６を形成する。発光層２６が形成された基板１０は、受渡装置ＴＲ１０によって、発光層形成ブロック１２３から搬出ステーション１３０に受け渡される。
【００７５】
搬出ステーション１３０の基板搬送体１３３は、受渡装置ＴＲ１０から受取った基板１０を、カセット載置台１３１上の所定のカセットＣに収める。これにより、基板処理システム１００における一連の基板１０の処理が終了する。
【００７６】
基板１０は、カセットＣに収められた状態で、搬出ステーション１３０から外部に搬出される。外部に搬出された基板１０には、電子輸送層２７や電子注入層２８、陰極２２などが形成される。
【００７７】
＜塗布装置および塗布方法＞
次に、発光層形成ブロック１２３の塗布装置１２３ａについて、図８〜図９を参照して説明する。図８は、一実施形態による塗布装置を示す平面図である。図９は、一実施形態による塗布装置を示す側面図である。以下の図面において、Ｘ方向およびＹ方向は互いに直交する水平方向であって、Ｚ方向はＸ方向およびＹ方向に直交する鉛直方向である。Ｙ方向は、同じ塗布液の液滴を吐出する複数のノズルが並ぶライン方向であって、特許請求の範囲に記載の第１方向に対応する。一方、Ｘ方向は、Ｙ方向に直交するスキャン方向であって、特許請求の範囲に記載の第２方向に対応する。尚、ライン方向とスキャン方向とは、交差していればよく、直交していなくてもよい。
【００７８】
塗布装置１２３ａは、例えば、基板１０を保持するＸＹθステージ１５０と、基板１０に向けて液滴を吐出する液滴吐出ユニット１６０と、液滴吐出ユニット１６０の機能を維持するメンテナンスユニット１７０とを有する。ＸＹθステージ１５０と、メンテナンスユニット１７０とは、Ｙ方向に並んで設けられる。ＸＹθステージ１５０の上方と、メンテナンスユニット１７０の上方との間に、Ｙ軸ガイド１８０が架け渡されている。Ｙ軸ガイド１８０に沿って、液滴吐出ユニット１６０がＹ方向に移動自在とされる。液滴吐出ユニット１６０をＹ方向に移動させる駆動部としては、リニアモータなどが用いられる。
【００７９】
ＸＹθステージ１５０は、基板１０を保持するチャック１５１と、チャック１５１を移動させるチャック駆動部１５２とを有する。チャック１５１は、基板１０の液滴を塗布する塗布面を上に向けて、基板１０を保持する。チャック１５１としては、例えば真空チャックが用いられるが、静電チャックなどが用いられてもよい。チャック１５１が特許請求の範囲に記載の基板保持部に対応する。チャック駆動部１５２は、チャック１５１をＸ方向に移動させるＸ方向駆動部１５３、チャック１５１をＹ方向に移動させるＹ方向駆動部１５４、チャック１５１をＺ軸の周りに回転させる回転駆動部１５５などを有する。チャック駆動部１５２が特許請求の範囲に記載の移動機構に対応する。
【００８０】
液滴吐出ユニット１６０は、ＸＹθステージ１５０の上方で基板１０に向けて液滴を吐出する位置と、メンテナンスユニット１７０による機能維持のための処理を受け付ける位置との間で、移動自在とされる。液滴吐出ユニット１６０は、Ｙ方向に複数（例えば図８では１０個）並んでいる。複数の液滴吐出ユニット１６０は、独立にＹ方向に移動されてもよいし、一体にＹ方向に移動されてもよい。
【００８１】
各液滴吐出ユニット１６０は、キャリッジ１６１と、キャリッジ１６１の下面に設けられる複数のヘッド１６２とを有する。各ヘッド１６２には、Ｙ方向に並ぶ複数のノズル１６３で構成されるノズル列が少なくとも１列設けられる。同じヘッド１６２に設けられる複数のノズル１６３は、同じ塗布液の液滴を吐出する。赤色発光層２６Ｒ用の塗布液の液滴を吐出するノズル１６３と、緑色発光層２６Ｇ用の塗布液の液滴を吐出するノズル１６３と、青色発光層２６Ｂ用の塗布液の液滴を吐出するノズル１６３とは、別々のヘッド１６２に設けられる。
【００８２】
メンテナンスユニット１７０は、液滴吐出ユニット１６０の機能を維持する処理を行い、液滴吐出ユニット１６０の吐出不良を解消する。メンテナンスユニット１７０は、ノズルの吐出口の周囲を払拭するワイピングユニット１７１と、ノズルの吐出口から液滴を吸引する吸引ユニット１７２とを有する。吸引ユニット１７２は、休止状態のノズルの吐出口を塞ぎ、乾燥による目詰まりを抑制する役割をも果たす。
【００８３】
次に、上記構成の塗布装置１２３ａを用いた塗布方法について説明する。塗布装置１２３ａの下記の動作は、制御装置１４０によって制御される。制御装置１４０は、図７では塗布装置１２３ａとは別に設けられるが、塗布装置１２３ａの一部として設けられてもよい。
【００８４】
先ず、塗布装置１２３ａの外部から内部に搬入された基板１０がチャック１５１に載置されると、チャック１５１が基板１０を保持する。続いて、基板１０のアライメントマークを撮像した画像に基づき、チャック駆動部１５２によるチャック１５１の位置補正が行われる。その後、チャック駆動部１５２が、チャック１５１をＸ方向に移動させ、液滴吐出ユニット１６０の下を通過させる。その間、液滴吐出ユニット１６０が基板１０に向けて液滴を吐出する。その後、チャック駆動部１５２は、チャック１５１のＹ方向の位置を変更したうえで、チャック１５１を再びＸ方向に移動し、液滴吐出ユニット１６０の下を通過させる。その間、液滴吐出ユニット１６０が基板１０に向けて液滴を吐出する。これを繰り返すことで、塗布装置１２３ａは、基板１０上に所定のパターンを描画する。描画が終了した基板１０は、チャック１５１から取り外され、塗布装置１２３ａの内部から外部に搬出される。続いて、次の基板１０が塗布装置１２３ａの外部から内部に搬入され、塗布装置１２３ａが基板１０上に所定のパターンを描画する。尚、メンテナンスユニット１７０によって液滴吐出ユニット１６０の機能を維持する処理は、基板１０の入れ換えの合間などに、適宜行われる。
【００８５】
尚、上記構成の塗布装置１２３ａは、基板１０上に所定のパターンを描画するため、基板１０を保持するチャック１５１を移動させるが、基板１０に向けて液滴を吐出する液滴吐出ユニット１６０を移動させてもよいし、チャック１５１と液滴吐出ユニット１６０の両方を移動させてもよい。塗布装置１２３ａは、チャック１５１と液滴吐出ユニット１６０を相対的に移動させることができればよい。
【００８６】
＜塗布装置が描く描画パターン＞
次に、塗布装置１２３ａが描く描画パターンについて、図１０を参照して説明する。図１０は、一実施形態による塗布装置が描く描画パターンを示す平面図である。図１０において、発光材料が同じ領域には同じハッチングを施す。また、図１０において、比較のため、図１の従来例による描画パターンを二点鎖線で示す。
【００８７】
有機ＥＬディスプレイは、発光層２６として、例えば、赤色発光層２６Ｒと、緑色発光層２６Ｇと、青色発光層２６Ｂとを有する。赤色発光層２６Ｒは赤色に発光する赤色発光材料で形成され、緑色発光層２６Ｇは緑色に発光する緑色発光材料で形成され、青色発光層２６Ｂは青色に発光する青色発光材料で形成される。
【００８８】
赤色発光層２６Ｒは、陽極２１から供給される正孔と、陰極２２から供給される電子とが再結合する領域において、赤色に発光する。赤色に発光する領域を、赤色発光領域２６１Ｒと呼ぶ。赤色発光領域２６１Ｒは、平面視において、画素電極としての陽極２１と略重なる。
【００８９】
同様に、緑色発光層２６Ｇは、陽極２１から供給される正孔と、陰極２２から供給される電子とが再結合する領域において、緑色に発光する。緑色に発光する領域を、緑色発光領域２６１Ｇと呼ぶ。緑色発光領域２６１Ｇは、平面視において、画素電極としての陽極２１と略重なる。
【００９０】
また、青色発光層２６Ｂは、陽極２１から供給される正孔と、陰極２２から供給される電子とが再結合する領域において、青色に発光する。青色に発光する領域を、青色発光領域２６１Ｂと呼ぶ。青色発光領域２６１Ｂは、平面視において、画素電極としての陽極２１と略重なる。
【００９１】
有機ＥＬディスプレイは、画素毎に、例えば、赤色発光領域２６１Ｒ、緑色発光領域２６１Ｇ、および青色発光領域２６１Ｂを有する。これらの発光領域は、陽極２１ごとに独立に発光する。その発光量は、陽極２１と陰極２２との間の電圧によって調整される。
【００９２】
赤色発光領域２６１Ｒ、緑色発光領域２６１Ｇ、および青色発光領域２６１Ｂは、所定の順序でＸ方向に間隔をおいて並ぶことで、発光領域群２６２を形成している。その発光領域群２６２は、Ｘ方向に交差するＹ方向に間隔をおいて並んでいる。従って、Ｙ方向に、同じ色に発光する複数の発光領域が間隔をおいて並んでいる。
【００９３】
Ｙ方向に間隔をおいて並び且つ同じ色に発光する複数の発光領域に向けて、同時に、同じ塗布液の液滴を吐出することができるように、液滴吐出ユニット１６０の各ヘッド１６２には、ノズル１６３がＹ方向に複数並んで設けられる。同じヘッド１６２に設けられる複数のノズル１６３は、同じ塗布液の液滴を吐出する。
【００９４】
塗布装置１２３ａは、液滴吐出ユニット１６０とチャック１５１とをＸ方向に相対的に移動させ、チャック１５１に保持された基板１０に予め形成されたバンク３０の開口部３１に向けてノズル１６３から液滴を塗布する。塗布装置１２３ａは、液滴吐出ユニット１６０とチャック１５１とを移動させるため、チャック１５１を移動させるが、液滴吐出ユニット１６０を移動させてもよいし、両者を移動させてもよい。
【００９５】
バンク３０は、開口部３１として、赤色用開口部３１Ｒ、緑色用開口部３１Ｇ、および青色用開口部３１Ｂを有する。赤色用開口部３１Ｒに赤色発光層２６Ｒが形成され、緑色用開口部３１Ｇに緑色発光層２６Ｇが形成され、青色用開口部３１Ｂに青色発光層２６Ｂが形成される。赤色用開口部３１Ｒ、緑色用開口部３１Ｇ、および青色用開口部３１Ｂは、所定の順序でＸ方向に間隔をおいて並んでいる。
【００９６】
ところで、赤色用開口部３１Ｒと、緑色用開口部３１Ｇと、青色用開口部３１Ｂとの面積比は、それぞれの発光材料の、発光特性や発光寿命などに応じて適宜設定される。例えば、発光効率が良く、単位面積当たりの発光輝度が高いものほど、小さい面積を有する。
【００９７】
図１０では、赤色用開口部３１Ｒの面積が最も小さく、緑色用開口部３１Ｇの面積が２番目に小さく、青色用開口部３１Ｂの面積が最も大きい。これらの発光領域は、Ｙ方向の寸法ＹＲ、ＹＧ、ＹＢが同じであるが、Ｘ方向の寸法ＸＲ、ＸＧ、ＸＢが異なる。
【００９８】
ここで、ＹＲは赤色用開口部３１ＲのＹ方向の寸法を、ＹＧは緑色用開口部３１ＧのＹ方向の寸法を、ＹＢは青色用開口部３１ＢのＹ方向の寸法を表す。ＹＲ、ＹＧ、ＹＢは、同じである。
【００９９】
また、ＸＲは赤色用開口部３１ＲのＸ方向の寸法を、ＸＧは緑色用開口部３１ＧのＸ方向の寸法を、ＹＢは青色用開口部３１ＢのＸ方向の寸法を表す。ＸＲはＸＧおよびＸＢよりも小さく、ＸＧはＸＢよりも小さい。
【０１００】
緑色用開口部３１Ｇや青色用開口部３１Ｂは、赤色用開口部３１Ｒに比べ、Ｘ方向に大きいので、Ｘ方向に液滴吐出ユニット１６０とチャック１５１とを相対的に移動させながら、その内部に液滴を着弾させることが容易である。
【０１０１】
そこで、本実施形態では、図１０に実線で示すように、緑色用開口部３１Ｇと青色用開口部３１ＢとをＸ方向に隔てる隔壁部の厚さＴＧＢを狭め、赤色用開口部３１ＲをＸ方向に挟む２つの隔壁部のそれぞれの厚さＴＲＧ、ＴＲＢよりもＴＧＢを小さくしてある。図１０に二点鎖線で示すようにＴＲＧやＴＲＢと、ＴＧＢとが同じ場合に比べ、ＴＧＢが小さくなる分、赤色用開口部３１ＲのＸ方向の寸法ＸＲを大きくすることができる。よって、Ｘ方向に液滴吐出ユニット１６０とチャック１５１とを相対的に移動させながら、赤色用開口部３１Ｒに液滴を着弾させることが容易である。従って、従来に比べて、Ｘ方向における、液滴の着弾位置の許容誤差を緩和できる。
【０１０２】
＜第１変形例による描画パターン＞
上記実施形態では、緑色用開口部３１Ｇは、青色用開口部３１Ｂよりも、Ｘ方向の寸法が小さい。これに対し、本変形例では、緑色用開口部３１Ｇと、青色用開口部３１Ｂとは、Ｘ方向の寸法が同じである。以下、相違点について主に説明する。
【０１０３】
図１１は、第１変形例による描画パターンを示す平面図である。図１１において、発光材料が同じ領域には同じハッチングを施す。また、図１１において、比較のため、図１の従来例による描画パターンを二点鎖線で示す。図１１に示すように、ＸＲはＸＧおよびＸＢよりも小さく、ＸＧとＸＢとが同じである。
【０１０４】
上記実施形態と同様に、緑色用開口部３１Ｇや青色用開口部３１Ｂは、赤色用開口部３１Ｒに比べ、Ｘ方向に大きいので、Ｘ方向に液滴吐出ユニット１６０とチャック１５１とを相対的に移動させながら、その内部に液滴を着弾させることが容易である。
【０１０５】
そこで、本変形例においても、図１１に実線で示すように、緑色用開口部３１Ｇと青色用開口部３１ＢとをＸ方向に隔てる隔壁部の厚さＴＧＢを狭め、赤色用開口部３１ＲをＸ方向に挟む２つの隔壁部のそれぞれの厚さＴＲＧ、ＴＲＢよりもＴＧＢを小さくしてある。図１１に二点鎖線で示すようにＴＲＧやＴＲＢと、ＴＧＢとが同じ場合に比べ、ＴＧＢが小さくなる分、赤色用開口部３１ＲのＸ方向の寸法ＸＲを大きくすることができる。よって、Ｘ方向に液滴吐出ユニット１６０とチャック１５１とを相対的に移動させながら、赤色用開口部３１Ｒに液滴を着弾させることが容易である。従来に比べて、Ｘ方向における、液滴の着弾位置の許容誤差を緩和できる。
【０１０６】
＜第２変形例による描画パターン＞
上記実施形態および上記第１変形例では、各開口部３１は、１つの発光領域にとどまる。これに対し、本変形例では、各開口部３１は、Ｙ方向に間隔をおいて隣り合い且つ同じ色に発光する複数の発光領域にまたがる。以下、図１２を参照して、相違点について主に説明する。図１２は、第２変形例による描画パターンを示す平面図である。図１２において、発光材料が同じ領域には同じハッチングを施す。また、図１２において、比較のため、図１の従来例による描画パターンを二点鎖線で示す。
【０１０７】
一の赤色用開口部３１Ｒは、Ｙ方向に間隔をおいて隣り合う複数の赤色発光領域２６１Ｒにまたがっており、Ｙ方向片端の赤色発光領域２６１Ｒから、もう一方のＹ方向片端の赤色発光領域２６１Ｒまで、またがっている。従来に比べて、一の赤色用開口部３１Ｒに向けて液滴を吐出するノズル１６３の数が多いので、各ノズル１６３の吐出量の誤差が分散し、吐出量の総量が毎回同じになりやすい。また、一の赤色用開口部３１Ｒに向けて液滴を吐出するノズル１６３の選択肢が増え、吐出量の制御性が良いノズル１６３が選択的に使用できる。これらによって、複数の赤色発光層２６Ｒの厚さを均一化できる。
【０１０８】
同様に、一の緑色用開口部３１Ｇは、Ｙ方向に間隔をおいて隣り合う複数の緑色発光領域２６１Ｇにまたがっており、Ｙ方向片端の緑色発光領域２６１Ｇから、もう一方のＹ方向片端の緑色発光領域２６１Ｇまで、またがっている。従来に比べて、一の緑色用開口部３１Ｇに向けて液滴を吐出するノズル１６３の数が多いので、各ノズル１６３の吐出量の誤差が分散し、吐出量の総量が毎回同じになりやすい。また、一の緑色用開口部３１Ｇに向けて液滴を吐出するノズル１６３の選択肢が増え、吐出量の制御性が良いノズル１６３が選択的に使用できる。これらによって、複数の緑色発光層２６Ｇの厚さを均一化できる。
【０１０９】
一の青色用開口部３１Ｂは、Ｙ方向に間隔をおいて隣り合う複数の青色発光領域２６１Ｂにまたがっており、Ｙ方向片端の青色発光領域２６１Ｂから、もう一方のＹ方向片端の青色発光領域２６１Ｂまで、またがっている。従来に比べて、一の青色用開口部３１Ｂに向けて液滴を吐出するノズル１６３の数が多いので、各ノズル１６３の吐出量の誤差が分散し、吐出量の総量が毎回同じになりやすい。また、一の青色用開口部３１Ｂに向けて液滴を吐出するノズル１６３の選択肢が増え、吐出量の制御性が良いノズル１６３が選択的に使用できる。これらによって、複数の青色発光層２６Ｂの厚さを均一化できる。
【０１１０】
赤色用開口部３１Ｒ、緑色用開口部３１Ｇ、青色用開口部３１Ｂは、この順でＸ方向に間隔をおいて並ぶことを繰り返し、ストライプ状のパターンを形成する。このように、各開口部３１がＹ方向に長い場合、Ｘ方向の位置制御性が特に要求される。
【０１１１】
そこで、本変形例においても、図１２に実線で示すように、緑色用開口部３１Ｇと青色用開口部３１ＢとをＸ方向に隔てる隔壁部の厚さＴＧＢを狭め、赤色用開口部３１ＲをＸ方向に挟む２つの隔壁部のそれぞれの厚さＴＲＧ、ＴＲＢよりもＴＧＢを小さくしてある。図１２に二点鎖線で示すようにＴＲＧやＴＲＢと、ＴＧＢとが同じ場合に比べ、ＴＧＢが小さくなる分、赤色用開口部３１ＲのＸ方向の寸法ＸＲを大きくすることができる。よって、Ｘ方向に液滴吐出ユニット１６０とチャック１５１とを相対的に移動させながら、赤色用開口部３１Ｒに液滴を着弾させることが容易である。従来に比べて、Ｘ方向における、液滴の着弾位置の許容誤差を緩和できる。
【０１１２】
尚、開口部３１は、Ｙ方向に間隔をおいて隣り合う複数の発光領域にまたがっていればよく、Ｙ方向片端の発光領域から、もう一方のＹ方向片端の発光領域までまたがっていなくてもよい。一の開口部３１がまたがる発光領域の数は、特に限定されない。
【０１１３】
上記実施形態や上記第１変形例、上記第２変形例では、赤色用開口部３１Ｒが特許請求の範囲に記載の第１開口部に、緑色用開口部３１Ｇが特許請求の範囲に記載の第２開口部に、青色用開口部３１Ｂが特許請求の範囲に記載の第３開口部にそれぞれ対応する。
【０１１４】
尚、上述の如く、赤色用開口部３１Ｒと、緑色用開口部３１Ｇと、青色用開口部３１Ｂとの面積比は、それぞれの発光材料の、発光特性や発光寿命などに応じて適宜設定される。そのため、これらの開口部３１のＸ方向の寸法ＸＲ、ＸＧ、ＸＢの大小関係は、いずれか１つが残りの２つよりも小さい限り、特に限定されない。
【０１１５】
但し、各発光領域について、Ｘ方向の寸法ＸＲ、ＸＧ、ＸＢは、Ｙ方向の寸法ＹＲ、ＹＧ、ＹＢよりも小さくてよい。つまり、ＸＲがＹＲよりも小さく、ＸＧがＹＧよりも小さく、ＸＢがＹＢよりも小さくてよい。この場合、Ｘ方向の寸法がＹ方向の寸法よりも小さいので、Ｘ方向の着弾位置の許容誤差を緩和する意義が大きい。
【０１１６】
赤色用開口部３１Ｒ、緑色用開口部３１Ｇ、および青色用開口部３１ＢがＸ方向に間隔をおいて並ぶ順番は、図１０〜図１２の順番には限定されない。例えば、赤色用開口部３１Ｒ、青色用開口部３１Ｂ、および緑色用開口部３１Ｇがこの順でＸ方向に間隔をおいて並んでもよい。
【０１１７】
発光色の組合せは、赤色、緑色、青色の３原色に、限定されない。例えば、これらの３原色に加えて、赤色と緑色の中間色である黄色、および/または、緑色と青色の中間色であるシアン色が用いられてもよい。発光色の組合せの数が大きいほど、表示できる色座標の範囲が広がる。
【０１１８】
以上、塗布装置などの実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態などに限定されず、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形、改良が可能である。
【０１１９】
例えば、有機ＥＬディスプレイは、上記実施形態では発光層２６からの光を基板１０側から取り出すボトムエミッション方式であるが、発光層２６からの光を基板１０とは反対側から取り出すトップエミッション方式でもよい。
【０１２０】
トップエミッション方式の場合、基板１０は、透明基板ではなくてもよく、不透明基板であってもよい。発光層２６からの光は、基板１０とは反対側から取り出されるためである。
【０１２１】
トップエミッション方式の場合、透明電極である陽極２１が対向電極として用いられ、陰極２２が単位回路１１毎に設けられる画素電極として用いられる。この場合、陽極２１と陰極２２の配置が逆になるので、陰極２２上に、電子注入層２８、電子輸送層２７、発光層２６、正孔輸送層２５および正孔注入層２４が、この順で形成される。
【０１２２】
有機層２３は、上記実施形態では、陽極２１側から陰極２２側に向けて、正孔注入層２４、正孔輸送層２５、発光層２６、電子輸送層２７、電子注入層２８をこの順で有するが、少なくとも発光層２６を有していればよい。有機層２３は、図３に示す構成には限定されない。
【符号の説明】
【０１２３】
１０  基板
１３  有機発光ダイオード
２１  陽極
２２  陰極
２３  有機層
２６  発光層
２６Ｒ  赤色発光層
２６Ｇ  緑色発光層
２６Ｂ  青色発光層
２６１Ｒ  赤色発光領域
２６１Ｇ  緑色発光領域
２６１Ｂ  青色発光領域
２６２  発光領域群
３０  バンク
３１  開口部
３１Ｒ  赤色用開口部
３１Ｇ  緑色用開口部
３１Ｂ  青色用開口部
１００  基板処理システム
１２３ａ  塗布装置
１５１  チャック
１５２  チャック駆動部
１６０  液滴吐出ユニット
１６１  キャリッジ
１６２  ヘッド
１６３  ノズル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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