【手続補正書】
【提出日】平成27年1月9日(2015.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式(I)の化合物:
【化１】
2014501790.tif 000001
であって、式(I)の化合物の多形形態C、形態B、形態D、形態E、形態F、形態G、形態H、形態I、もしくは形態J、又はそれらの塩、溶媒和物、もしくは水和物;或いはそれらのうちの2つ以上の混合物である、前記式(I)の化合物。
【請求項２】
式(I)の化合物の多形形態C、又はその塩、溶媒和物、もしくは水和物である、請求項1記載の化合物。
【請求項３】
前記多形が、以下の特徴的なX線粉末回折(XRPD)ピーク:2θ＝10.4°(±0.2°)、13.3°(±0.2°)、及び24.3°(±0.2°)を有し、好ましくは、2θ＝6.6°(±0.2°)及び12.5°(±0.2°)から選択される少なくとも1つの特徴的なXRPDピークをさらに含むか；又は
前記多形が、以下の特徴的なXRPDピーク:2θ＝6.6°(±0.2°)、10.4°(±0.2°)、12.5°(±0.2°)、13.3°(±0.2°)、及び24.3°(±0.2°)を、2θ＝8.8°(±0.2°)、9.9°(±0.2°)、13.4°(±0.2°)、15.5°(±0.2°)、16.9°(±0.2°)、19.8°(±0.2°)、21.3°(±0.2°)、23.6°(±0.2°)、25.3°(±0.2°)、及び27.9°(±0.2°)から選択される少なくとも1つのXRPDピークとの組合せで有するか；又は
前記多形が、図3に示されるそのXRPDパターンの実質的に全てのピークを有する；
請求項2記載の化合物。
【請求項４】
前記多形が、約203℃における吸熱ピークを有するか；又は
前記多形が、約206℃又は約208℃における吸熱ピークを有するか；又は
前記多形が、約203℃〜約208℃の範囲の吸熱ピーク、及び約251℃〜約254℃の範囲の発熱ピークから選択される少なくとも1つのピーク、及び約281℃〜約283℃の範囲の吸熱ピークを有するか；又は
前記多形が、約208℃における吸熱ピーク、約254℃における発熱ピーク、及び約283℃における吸熱ピークを有する；
請求項2記載の化合物。
【請求項５】
式(I)の化合物:
【化２】
2014501790.tif 000002
であって、該化合物が：
（Ａ）2以上の式(I)の化合物の混合物であって、該式(I)の化合物が:
i)多形形態C、又はその塩、溶媒和物、もしくは水和物;及び
ii)式(I)の化合物の形態A、形態B、形態D、形態E、形態F、形態G、形態H、形態I、形態J、もしくは非晶質形態から選択される少なくとも1つの非形態C多形、又はその塩、溶媒和物、もしくは水和物
から選択される、前記2以上の式(I)の化合物の混合物であり、
任意に、該混合物が、少なくとも50重量％の多形形態C、又はその塩、溶媒和物、もしくは水和物であるか；又は
（Ｂ）2以上の式(I)の化合物の混合物であって、該式(I)の化合物が:
i)多形形態A、又はその塩、溶媒和物、もしくは水和物;及び
ii)式(I)の化合物の形態B、形態C、形態D、形態E、形態F、形態G、形態H、形態I、形態J、もしくは非晶質形態から選択される少なくとも1つの非形態A多形、又はその塩、溶媒和物、もしくは水和物
から選択される、前記2以上の式(I)の化合物の混合物である；
前記化合物。
【請求項６】
式(I)の化合物の多形形態B、又はその塩、溶媒和物、もしくは水和物であり、任意に：
前記多形が、以下の特徴的なXRPDピーク:2θ＝7.9°(±0.2°)、13.4°(±0.2°)、及び23.4°(±0.2°)を有し、好ましくは、2θ＝14.0°(±0.2°)及び15.0°(±0.2°)から選択される少なくとも1つの特徴的なXRPDピークをさらに含むか；又は
前記多形が、以下の特徴的なXRPDピーク:2θ＝7.9°(±0.2°)、13.4°(±0.2°)、14.0°(±0.2°)、15.0°(±0.2°)、及び23.4°(±0.2°)を、2θ＝9.5°(±0.2°)、12.7°(±0.2°)、13.6°(±0.2°)、14.2°(±0.2°)、15.7°(±0.2°)、19.0°(±0.2°)、22.3°(±0.2°)、24.2°(±0.2°)、24.8°(±0.2°)、及び26.9°(±0.2°)から選択される少なくとも1つのXRPDピークとの組合せで有するか；又は
前記多形が、図2に示されるそのXRPDパターンの実質的に全てのピークを有する；
請求項1記載の化合物。
【請求項７】
式(I)の化合物の多形形態D、又はその塩、溶媒和物、もしくは水和物であり、任意に：
前記多形が、以下の特徴的なXRPDピーク:2θ＝11.4°(±0.2°)、17.4°(±0.2°)及び22.9°(±0.2°)を有し、好ましくは、2θ＝9.2°(±0.2°)及び18.3°(±0.2°)から選択される少なくとも1つの特徴的なXRPDピークをさらに含むか；又は
前記多形が、以下の特徴的なXRPDピーク:2θ＝9.2°(±0.2°)、11.4°(±0.2°)、17.4°(±0.2°)、18.3°(±0.2°)、及び22.9°(±0.2°)を、2θ＝9.8°(±0.2°)、12.2°(±0.2°)、15.8°(±0.2°)、16.2°(±0.2°)、16.8°(±0.2°)、18.9°(±0.2°)、19.9°(±0.2°)、20.0°(±0.2°)、24.9°(±0.2°)、及び29.3°(±0.2°)から選択される少なくとも1つのXRPDピークとの組合せで有するか；又は
前記多形が、図4に示されるそのXRPDパターンの実質的に全てのピークを有する；
請求項1記載の化合物。
【請求項８】
式(I)の化合物の多形形態E、又はその塩、溶媒和物、もしくは水和物であり、任意に：
前記多形が、以下の特徴的なXRPDピーク:2θ＝6.7°(±0.2°)、9.3°(±0.2°)、及び24.4°(±0.2°)を有し、好ましくは、2θ＝12.7°(±0.2°)及び13.9°(±0.2°)から選択される少なくとも1つの特徴的なXRPDピークをさらに含むか；又は
前記多形が、以下の特徴的なXRPDピーク:2θ＝6.7°(±0.2°)、9.3°(±0.2°)、12.7°(±0.2°)、13.9°(±0.2°)、及び24.4°(±0.2°)を、2θ＝12.4°(±0.2°)、13.3°(±0.2°)、14.3°(±0.2°)、15.5°(±0.2°)、17.4°(±0.2°)、18.5°(±0.2°)、22.0°(±0.2°)、23.9°(±0.2°)、24.1°(±0.2°)、及び26.4°(±0.2°)から選択される少なくとも1つのXRPDピークとの組合せで有するか；又は
前記多形が、図5に示されるそのXRPDパターンの実質的に全てのピークを有する；
請求項1記載の化合物。
【請求項９】
式(I)の化合物の多形形態F、又はその塩、溶媒和物、もしくは水和物であり、任意に：
前記多形が、以下の特徴的なXRPDピーク:2θ＝9.6°(±0.2°)、17.3°(±0.2°)、及び24.6°(±0.2°)を有し、好ましくは、2θ＝14.0°(±0.2°)及び19.2°(±0.2°)から選択される少なくとも1つの特徴的なXRPDピークをさらに含むか；又は
前記多形が、以下の特徴的なXRPDピーク:2θ＝9.6°(±0.2°)、14.0°(±0.2°)、17.3°(±0.2°)、19.2°(±0.2°)、及び24.6°(±0.2°)を、2θ＝12.4°(±0.2°)、16.1°(±0.2°)、16.6°(±0.2°)、17.1°(±0.2°)、20.8°(±0.2°)、21.5°(±0.2°)、22.0°(±0.2°)、24.3°(±0.2°)、25.2°(±0.2°)、及び25.4°(±0.2°)から選択される少なくとも1つのXRPDピークとの組合せで有するか；又は
前記多形が、図6に示されるそのXRPDパターンの実質的に全てのピークを有する；
請求項1記載の化合物。
【請求項１０】
式(I)の化合物の多形形態G、又はその塩、溶媒和物、もしくは水和物であり、任意に：
前記多形が、以下の特徴的なXRPDピーク:2θ＝6.7°(±0.2°)、9.5°(±0.2°)、及び19.0°(±0.2°)を有し、好ましくは、2θ＝10.6°(±0.2°)及び19.6°(±0.2°)から選択される少なくとも1つの特徴的なXRPDピークをさらに含むか；又は
前記多形が、以下の特徴的なXRPDピーク:2θ＝6.7°(±0.2°)、9.5°(±0.2°)、10.6°(±0.2°)、19.0°(±0.2°)、及び19.6°(±0.2°)を、2θ＝13.4°(±0.2°)、15.0°(±0.2°)、15.8°(±0.2°)、17.8°(±0.2°)、20.7°(±0.2°)、21.2°(±0.2°)、22.8°(±0.2°)、23.8°(±0.2°)、24.3°(±0.2°)、及び25.6°(±0.2°)から選択される少なくとも1つのXRPDピークとの組合せで有するか；又は
前記多形が、図7に示されるそのXRPDパターンの実質的に全てのピークを有する；
請求項1記載の化合物。
【請求項１１】
式(I)の化合物の多形形態H、又はその塩、溶媒和物、もしくは水和物であり、任意に：
前記多形が、以下の特徴的なXRPDピーク:2θ＝8.9°(±0.2°)、9.2°(±0.2°)、及び14.1°(±0.2°)を有し、好ましくは、2θ＝17.3°(±0.2°)及び18.53°(±0.2°)から選択される少なくとも1つの特徴的なXRPDピークをさらに含むか；又は
前記多形が、以下の特徴的なXRPDピーク:2θ＝8.9°(±0.2°)、9.2°(±0.2°)、14.1°(±0.2°)、17.3°(±0.2°)、及び18.5°(±0.2°)を、2θ＝7.1°(±0.2°)、10.6°(±0.2°)、11.3°(±0.2°)、11.6°(±0.2°)、16.2°(±0.2°)、18.3°(±0.2°)、18.8°(±0.2°)、20.3°(±0.2°)、21.7°(±0.2°)、及び24.7°(±0.2°)から選択される少なくとも1つのXRPDピークとの組合せで有するか；又は
前記多形が、図8に示されるそのXRPDパターンの実質的に全てのピークを有する；
請求項1記載の化合物。
【請求項１２】
式(I)の化合物の多形形態I、又はその塩、溶媒和物、もしくは水和物であり、任意に：
前記多形が、以下の特徴的なXRPDピーク:2θ＝9.7°(±0.2°)、19.3°(±0.2°)、及び24.5°(±0.2°)を有し、好ましくは、2θ＝11.4°(±0.2°)及び14.2°(±0.2°)から選択される少なくとも1つの特徴的なXRPDピークをさらに含むか；又は
前記多形が、以下の特徴的なXRPDピーク:2θ＝9.7°(±0.2°)、11.4°(±0.2°)、14.2°(±0.2°)、19.3°(±0.2°)、及び24.5°(±0.2°)を、2θ＝9.2°(±0.2°)、14.7°(±0.2°)、15.5°(±0.2°)、16.7°(±0.2°)、17.3°(±0.2°)、18.4°(±0.2°)、21.4°(±0.2°)、22.9°(±0.2°)、29.1°(±0.2°)、及び34.1°(±0.2°)から選択される少なくとも1つのXRPDピークとの組合せで有するか；又は
前記多形が、図9に示されるそのXRPDパターンの実質的に全てのピークを有する；
請求項1記載の化合物。
【請求項１３】
式(I)の化合物の多形形態J、又はその塩、溶媒和物、もしくは水和物であり、任意に：
前記多形が、以下の特徴的なXRPDピーク:2θ＝9.1°(±0.2°)、17.3°(±0.2°)、及び18.3°(±0.2°)を有し、好ましくは、2θ＝16.4°(±0.2°)及び17.9°(±0.2°)から選択される少なくとも1つの特徴的なXRPDピークをさらに含むか；又は
前記多形が、以下の特徴的なXRPDピーク:2θ＝9.1°(±0.2°)、16.4°(±0.2°)、17.3°(±0.2°)、17.9°(±0.2°)、及び18.3°(±0.2°)を、2θ＝9.4°(±0.2°)、10.1°(±0.2°)、10.7°(±0.2°)、14.0°(±0.2°)、14.3°(±0.2°)、15.5°(±0.2°)、16.9°(±0.2°)、19.9°(±0.2°)、24.0°(±0.2°)、及び24.7°(±0.2°)から選択される少なくとも1つのXRPDピークとの組合せで有するか；又は
前記多形が、図10に示されるそのXRPDパターンの実質的に全てのピークを有する；
請求項1記載の化合物。
【請求項１４】
式(I)の化合物:
【化３】
2014501790.tif 000003
の多形形態Cを調製する方法であって:
（Ａ）該方法が：
(i)式(I)の化合物の少なくとも1つの非形態C多形、又はその塩、溶媒和物、もしくは水和物を含む組成物を、非無水条件に、非形態C多形(複数可)の総量の少なくとも約50％を式(I)の化合物の形態Cに変換するのに十分な期間、曝露させること;及び
(ii)該多形形態Cを回収すること
を含むか；又は
（Ｂ）該方法が：
i)式(Ia)の化合物:
【化４】
2014501790.tif 000004
(式中、
PG2は、メチルスルホニル、置換メチルスルホニル、ベンゼンスルホニル、置換ベンゼンスルホニル、ベンジルオキシカルボニル、置換ベンジルオキシカルボニル、2,2,2,-トリクロロエトキシカルボニル、2-トリメチルシリルエトキシカルボニル、t-ブトキシカルボニル、1-アダマンチルオキシカルボニル、2-アダマンチルオキシカルボニル、アルキル、置換アルキル、t-ブチルジメチルシリル、トリイソプロピルシリル、アリル、ベンジル、置換ベンジル、ヒドロキシメチル、メトキシメチル、ジエトキシメチル、(2-クロロエトキシ)メチル、t-ブトキシメチル、t-ブチルジメチルシロキシメチル、ピバロイルオキシメチル、ベンジルオキシメチル、ジメチルアミノメチル、2-テトラヒドロピラニル、置換アルコキシメチル、及び置換アリールオキシメチルから選択される保護基であり、かつ
置換基は、アルキル、ヘテロアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、アリールアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、アルコキシ、シクロアルコキシ、ヘテロシクリルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アミド、アミノ、アシル、アシルオキシ、アルコキシカルボニル、エステル、エーテル、チオ、スルフィニル、スルホニル、スルホンアミド、ハロ、シアノ、ヒドロキシル、ニトロ、ホスフェート、尿素、カルバメート、及びカルボネートから選択される);
を、該保護基PG2を除去するための1以上の試薬と組み合わせて、該式(I)の化合物を形成させること（任意に、前記保護基PG2を除去するための1以上の試薬は、HCl、HBr、TFA、Na2CO3、及びK2CO3、NaOH、KOH、メチルリチウム、エチルリチウム、プロピルリチウム、n-ブチルリチウム、n-ペンチルリチウム、n-ヘキシルリチウム、硝酸セリウムアンモニウム、シクロヘキサジエン/Pdブラック、H2/Pd炭素、TBAF、並びにBF3・Et2Oから選択される）；及び
ii)該式(I)の化合物の多形形態Cを回収すること;
を含み、
ここで、工程i)及びii)のうちの少なくとも1つが非無水条件で行なわれるか；又は
（Ｃ）該方法が：
(i)多形形態Cの第1のスラリーをジクロロメタン中で調製すること;
(ii)該第1のスラリー中の固体を濾過により回収すること;
(iii)工程ii)で回収された固体の第2のスラリーを水中又は水含有溶媒中で調製すること;及び
(iv)該第2のスラリー中の固体を濾過により回収して、多形形態Cを得ること
を含むか；又は
（Ｄ）該方法が、形態Aを水又は水含有溶媒系の中に入れることを含み；
ここで、多形形態Cが、以下の特徴的なXRPDピーク:2θ＝10.4°(±0.2°)、13.3°(±0.2°)、及び24.3°(±0.2°)を有する、
前記方法。
【請求項１５】
前記非無水条件が液体水を含み、好ましくは、前記非無水条件が、水混和性溶媒及び液体水溶媒系を含み、任意に、前記液体水が、前記溶媒系の約1容積％、約5容積％、約10容積％、約15容積％、約20容積％、約25容積％、約30容積％、約35容積％、約40容積％、約45容積％、約50容積％、約55容積％、約60容積％、約65容積％、約70容積％、約75容積％、約80容積％、約85容積％、約90容積％、約95容積％、及び約100容積％から選択される量で存在し、好ましくは、前記液体水が、前記溶媒系の約85容積％〜約95容積％の量で存在するか；又は
前記1以上の非形態C多形が、形態A、形態B、形態D、形態E、形態F、形態G、形態H、形態I、形態J、非晶質形態、及びそれらの混合物、好ましくは、少なくとも約50重量％の多形形態Aからなる群から選択されるか、又は、前記1以上の非形態C多形が、非晶質形態を含む、
請求項14（Ａ）記載の方法。
【請求項１６】
（Ａ）工程(i)が、非無水条件で行われるか；又は
（Ｂ）工程(ii)が、形態Cの沈殿を引き起こすための冷却工程の有無を問わず、貧溶媒の添加を含み、好ましくは、該貧溶媒は水を含むか；又は
（Ｃ）前記保護基PG2を除去するための1以上の試薬が、酸、カルボネート塩基、ヒドロキシド塩基、リチウム塩基、酸化剤、水素化条件、TBAF、及びBF3・Et2Oから選択され、好ましくは、該保護基PG2を除去するための1以上の試薬が、HCl、HBr、TFA、Na2CO3、K2CO3、NaOH、KOH、メチルリチウム、エチルリチウム、プロピルリチウム、n-ブチルリチウム、n-ペンチルリチウム、n-ヘキシルリチウム、硝酸セリウムアンモニウム、シクロヘキサジエン/Pdブラック、H2/Pd炭素、TBAF、及びBF3・Et2Oから選択され、好ましくは、該保護基PG2を除去するための試薬が、酸であり、PG2が2-テトラヒドロピラニルであり、該酸が、好ましくは、HCl、HBr、TFA、過塩素酸、硫酸、硝酸、又はリン酸であり、好ましくは、HClであるか；又は
（Ｄ）PG2が2-テトラヒドロピラニルであり、かつ前記方法が：
(i)式(Ia)の化合物を、EtOH及び水の溶媒中でHClと合わせて、式(I)の化合物を形成すること；
(ii)工程(i)の後、NH4OHを添加することにより該反応混合物のpHを約8〜約9に調整すること；及び
(iii)多形形態Cを回収すること；
を含む；
請求項14（Ｂ）記載の方法。
【請求項１７】
前記保護基PG2を除去するための試薬が酸であり、かつPG2が2-テトラヒドロピラニルであり：
（Ａ）前記方法が、工程(i)の後、好ましくは、ヒドロキシド塩基を添加することにより、前記反応混合物のpHを約8〜約9に調整することをさらに含み、該ヒドロキシド塩基が、好ましくは、NH4OHであるか；又は
（Ｂ）前記保護基PG2の除去がアルコール溶媒中で行われ、該アルコール溶媒が、好ましくは、MeOH、EtOH、PrOH、又はiPrOHである；
請求項16（Ｃ）記載の方法。
【請求項１８】
（Ａ）前記溶媒系が、水及びイソプロパノールを含むか；又は
（Ｂ）約18〜24時間、スラリーを形成するために、形態Aが、水又は水含有溶媒系の中に入れられるか；又は
（Ｃ）約1時間未満〜約24時間、スラリーを形成するために、形態Aが、水又は水含有溶媒系の中に入れられるか；又は
（Ｄ）形態Aが、1以上の非形態A多形を無水溶媒中で再スラリー化することにより調製され、該無水溶媒が、好ましくは、クロロホルム、ジクロロメタン、イソプロピルアルコール、エタノール、又はそれらの混合物から選択され、好ましくは、ジクロロメタンである；
請求項14（Ｄ）記載の方法。
【請求項１９】
前記1以上の非形態A多形が、形態Cである、請求項18（Ｄ）記載の方法。
【請求項２０】
式(Ia)の化合物が、次式の化合物9：
【化５】
2014501790.tif 000005
を、MeOH、EtOH、PrOH、及びiPrOHから選択されるアルコール溶媒中、Et3Nの存在下において、次式の保護されたクロロプリン化合物：
【化６】
2014501790.tif 000006
と組み合わせることによって調製される、請求項14（Ｂ）記載の方法。
【請求項２１】
（Ａ）PG2が2-テトラヒドロピラニルであるか；又は
（Ｂ）化合物9が、メタノール、イソプロピルアルコール、アニソール、及びTHFから選択される溶媒、又は、それらの混合物中、トリフルオロ酢酸、及びメタンスルホン酸から選択される酸の存在下において、次式の化合物8：
【化７】
2014501790.tif 000007
を変換することにより調製され、好ましくは、該酸がトリフルオロ酢酸である；
請求項20記載の方法。
【請求項２２】
化合物8が、次式の化合物7：
【化８】
2014501790.tif 000008
を、n-ヘキシルリチウムと組み合わせること、及び
次式の化合物2：
【化９】
2014501790.tif 000009
を添加することによって調製され、
化合物2が、予めイソプロピルグリニャールと組み合わせられており、好ましくは、化合物2を添加した後に形成される該組み合わせが、アニソール及びイソ酪酸の溶液に添加される、請求項21記載の方法。
【請求項２３】
（Ａ）前記式(I)の化合物が、多形形態Bであり、かつ前記方法が、非形態B多形からの熱変換を含み、多形形態Bを提供し；任意に
（Ｂ）前記式(I)の化合物が、多形形態Dであり、かつ前記方法が:
テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、ジオキサン、及びジメチルホルムアミドから選択される単一溶媒系からの高速冷却結晶化；
テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、及びジオキサンから選択される単一溶媒系からの低速冷却結晶化；
メチルエチルケトン中で形態C及び／又は形態Eをスラリー化すること；
メチルエチルケトン中で形態A、形態B及び形態Cの混合物をスラリー化すること；
メチルエチルケトン中で形態B及び形態Dの混合物をスラリー化すること；
一次溶媒としてのテトラヒドロフラン、ジオキサン、又はDMFと、貧溶媒としてのMTBEとを用いる二成分溶媒系からの高速冷却結晶化；
一次溶媒としてのテトラヒドロフラン、イソプロパノール、又はDMFと、貧溶媒としてのトルエンとを用いる二成分溶媒系からの高速冷却結晶化；
一次溶媒としてのテトラヒドロフランと貧溶媒としてのジクロロメタンとを用いる二成分溶媒系からの高速冷却結晶化；
一次溶媒としてのメチルエチルケトン又はDMFと、貧溶媒としてのMTBEとを用いる二成分溶媒系からの低速冷却結晶化；
一次溶媒としてのテトラヒドロフラン又はDMEと、貧溶媒としてのジクロロメタンとを用いる二成分溶媒系からの低速冷却結晶化；
一次溶媒としてのイソプロパノール、NNP、又はDMEと、貧溶媒としてのトルエンとを用いる二成分溶媒系からの低速冷却結晶化；又は
多溶媒系からの結晶化；
を含み；任意に
（Ｃ）前記式(I)の化合物が多形形態Eであり、かつ前記方法が：
メタノールを用いる単一溶媒系からの形態Aの低速冷却結晶化；
一次溶媒としてのメタノールと、貧溶媒としての水とを用いる二成分溶媒系からの高速又は低速冷却結晶化；又は
多溶媒系からの結晶化；
を含み；任意に
（Ｄ）前記式(I)の化合物が多形形態Fであり、かつ前記方法が：
一次溶媒としてのNMPと貧溶媒としてのMBTEとを用いる二成分溶媒系からの高速冷却結晶化；
一次溶媒としてのNMPと貧溶媒としてのMBTEとを用いる二成分溶媒系からの低速冷却結晶化；又は
多溶媒系からの結晶化；
を含み；任意に
（Ｅ）前記式(I)の化合物が多形形態Gであり、かつ前記方法が：
一次溶媒としてのエタノール、イソプロピルアルコール、又はメタノールと、貧溶媒としてのMTBEとを用いる二成分溶媒系からの高速冷却結晶化；又は
多溶媒系からの結晶化；
を含み；任意に
（Ｆ）前記式(I)の化合物が多形形態Hであり、かつ前記方法が：
一次溶媒としてのジオキサンと貧溶媒としてのMTBEとを用いる二成分溶媒系からの低速冷却結晶化；又は
多溶媒系からの結晶化；
を含み；任意に
（Ｇ）前記式(I)の化合物が多形形態Iであり、かつ前記方法が：
一次溶媒としてのアセトン、MEK、又はジオキサンと、貧溶媒としてのトルエンとを用いる二成分溶媒系からの低速冷却結晶化；又は
多溶媒系からの結晶化；
を含み；任意に
（Ｈ）前記式(I)の化合物が多形形態Jであり、かつ前記方法が：
一次溶媒としてのDMFと貧溶媒としてのトルエンとを用いる二成分溶媒系からの低速冷却結晶化；又は
多溶媒系からの結晶化；
を含む；
請求項1記載の化合物を調製する方法。
【請求項２４】
請求項1〜23のいずれか１項記載の化合物、混合物、又は多形、及び１以上の医薬として許容し得る賦形剤を含む、医薬組成物。
【請求項２５】
対象におけるPI3K媒介性障害の治療のための薬剤の製造における、請求項1〜24のいずれか１項記載の化合物、混合物、多形、又は医薬組成物の使用。