Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月22日(2015.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コア層と、
前記コア層を実質的に囲むマントル層と、
前記マントル層を実質的に囲むカバー層と、
を含むゴルフボールであって、
前記コア層が、約１，０００ｐｓｉ〜約２５，０００ｐｓｉの第１の低い曲げ弾性率を有する第１の高度に中和された酸ポリマーと、約１，０００ｐｓｉ〜約４０，０００ｐｓｉの第２の低い曲げ弾性率を有する第２の高度に中和された酸ポリマーとを含むブレンドを含み、
前記第１の高度に中和された酸ポリマーと前記第２の高度に中和された酸ポリマーとの重量比が、約１０：９０〜約９０：１０であり、さらには、
前記コア層が１３０ｋｇ重の力を受けたときの変形量から１０ｋｇ重の力を受けたときの変形量を差し引いた圧縮変形値は、約３ｍｍ〜約５．５ｍｍであることを特徴とする、ゴルフボール。
【請求項２】
前記コア層の比重が、約０．８５〜約１．１である、請求項１に記載のゴルフボール。
【請求項３】
前記コア層のＣＯＲが、約０．７８５〜約０．９０である、請求項１に記載のゴルフボール。
【請求項４】
前記コア層のＣＯＲが、前記ゴルフボールのＣＯＲよりも約０．０１大きい、請求項３に記載のゴルフボール。
【請求項５】
前記内側コア層が、約１９ｍｍ〜約３４ｍｍの直径を有する、請求項１に記載のゴルフボール。
【請求項６】
前記コア層が、前記コア層を半分に切断することによって得られる断面における任意の１点で４０〜６０のショアＤ断面硬度を有し、前記断面における任意の２点間のショアＤ断面硬度差が±６ショアＤ単位以内である、請求項１に記載のゴルフボール。
【請求項７】
前記マントル層が、ポリブタジエンゴムを含む、請求項１に記載のゴルフボール。
【請求項８】
前記マントル層の比重が、約１．０５〜約１．４５である、請求項７に記載のゴルフボール。
【請求項９】
前記マントル層と前記カバー層との間に中間層または内側カバー層をさらに含む、請求項１に記載のゴルフボール。
【請求項１０】
該ゴルフボールの複数の層が、コア層からカバー層まで増加する比重勾配を有する、請求項１または請求項９に記載のゴルフボール。
【請求項１１】
前記コア層のＣＯＲが、約０．７８５〜約０．９０である、請求項１０に記載のゴルフボール。
【請求項１２】
該ゴルフボールが１３０ｋｇ重の力を受けたときの変形量から１０ｋｇ重の力を受けたときの変形量を差し引いた圧縮変形値は、約２．２ｍｍ〜約４ｍｍである、請求項１または請求項１０に記載のゴルフボール。
【請求項１３】
複数の層を有するゴルフボールをカスタマイズする方法であって、
（ａ）ゴルファーによって選択されたゴルフボールの性質または特性を特定する工程と、
（ｂ）前記選択された性質または特性と、前記ゴルフボールの１つの層の性質および特性とを関連付ける工程と、
（ｃ）それぞれが約４５，０００ｐｓｉ未満の曲げ弾性率を有する少なくとも２種の高度に中和された酸ポリマーを混合して、ブレンドを形成する工程と、
（ｄ）前記ブレンドを用いて前記ゴルフボールの１つの層を形成して、カスタマイズされたゴルフボールを形成する工程と、
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月10日(2015.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
医用画像内に関心領域を確立する医用画像を処理するシステムであって、
関連する複数のセグメンテーション結果を取得するために、複数の異なるセグメンテーション方法を前記関心領域に適用するセグメンテーション手段と、
前記関連する複数のセグメンテーション結果を含む前記医用画像の複数の表示をユーザに同時表示する視覚化手段と、
前記複数の異なるセグメンテーション方法のうちの関連する１つの方法を選択されたセグメンテーション方法として確立するために、前記関連する複数のセグメンテーション結果のうちの１つの結果の選択を示す選択コマンドを、ユーザから受け取るユーザ入力部と、
を含み、
前記ユーザ入力部は、前記複数の表示の共同操作を示す表示コマンドをユーザから受け取り、前記共同操作は、前記医用画像に関する前記複数の表示をパンすること、ズームすること、及び回転させることの少なくとも１つを含み、
前記視覚化手段は、前記表示コマンドに基づいて前記複数の表示の前記共同操作を実行する、
システム。
【請求項２】
前記視覚化手段は、前記関連する複数のセグメンテーション結果をユーザに、グリッド及びカルーセルの一方で、表示する、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記セグメンテーション手段は、関連する追加の複数のセグメンテーション結果を取得するために、前記選択されたセグメンテーション方法に依存して、追加の複数の異なるセグメンテーション方法を前記関心領域に適用し、
前記視覚化手段は、前記関連する追加の複数のセグメンテーション結果をユーザに同時表示し、
ユーザ入力部は、前記追加の複数の異なるセグメンテーション方法のうちの関連する１つの方法を、追加の選択されたセグメンテーション方法として確立するために、前記関連する追加の複数のセグメンテーション結果のうちの１つの結果の追加の選択を示す追加の選択コマンドを、ユーザから受け取る、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記選択されたセグメンテーション方法は、セグメンテーションパラメータ値によって設定されるセグメンテーションアルゴリズムであり、前記追加の複数の異なるセグメンテーション方法は、複数の異なるセグメンテーションパラメータ値によって設定されている前記セグメンテーションアルゴリズムによって構成される、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記セグメンテーション手段は、前記複数の異なるセグメンテーション方法のうちの前に選択されたセグメンテーション方法を、前の追加の選択されたセグメンテーション方法によって置換することによって、前記複数の異なるセグメンテーション方法をユーザの選択嗜好に適応させる、請求項３に記載のシステム。
【請求項６】
前記セグメンテーション手段は、関連するプレビューセグメンテーション結果を取得するために、前記複数のセグメンテーション方法のうちの１つの方法を前記関心領域に適用し、
前記視覚化手段は、前記関連する複数のセグメンテーション結果を同時表示する前に、前記関連するプレビューセグメンテーション結果をユーザに表示する、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記視覚化手段は、前記関連する複数のセグメンテーション結果のうちの所定の位置に前記関連するプレビューセグメンテーション結果を表示する、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
前記セグメンテーション手段は、ユーザの選択履歴に依存して、前記複数のセグメンテーション方法のうちの１つの方法を、プレビューセグメンテーション方法として確立する、請求項６に記載のシステム。
【請求項９】
前記医用画像は、３次元（３Ｄ）医用画像であり、前記関連する複数のセグメンテーション結果は、複数の３Ｄセグメンテーション結果であり、前記表示コマンドは、前記複数の表示の直交構成を取得するために前記複数の表示を回転させることを示す、請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
ユーザ入力部は、前記関連する複数のセグメンテーション結果を表示する際に、前記複数の異なるセグメンテーション方法の技術情報を表示するように前記視覚化手段に命令する表示コマンドを、ユーザから受け取る、請求項１に記載のシステム。
【請求項１１】
請求項１に記載のシステムを含むワークステーション。
【請求項１２】
請求項１に記載のシステムを含む撮像装置。
【請求項１３】
医用画像を処理する方法であって、
前記医用画像内に関心領域を確立するステップと、
関連する複数のセグメンテーション結果を取得するために、複数の異なるセグメンテーション方法を前記関心領域に適用するステップと、
前記関連する複数のセグメンテーション結果を含む前記医用画像の複数の表示をユーザに同時表示するステップと、
前記複数の異なるセグメンテーション方法のうちの関連する１つの方法を選択されたセグメンテーション方法として確立するために、前記関連する複数のセグメンテーション結果のうちの１つの結果の選択を示す選択コマンドを、ユーザから受け取るステップと、
前記医用画像に関する前記複数の表示をパンすること、ズームすること、及び回転させることの少なくとも１つを含む、前記複数の表示の共同操作を示す表示コマンドをユーザから受け取ると、前記表示コマンドに基づいて前記複数の表示の前記共同操作を実行する、
方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の方法をプロセッサシステムに実行させる命令を含むコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月25日(2015.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
人間の顔の一部に調節する密閉具、鼻栓、耳栓、滅菌包帯、医療用コットン、吸収パッド、カテーテル、バルーン、医療用チューブ、人工インプラント、矯正装置、歯列矯正装置、医療用及び外科用ワイプ、褥瘡防止装置、経皮的パッチ、非帯電極性薬物及び正又は負に帯電した薬物用の送達装置、抗瘢痕ギブス、ボディコンタクトバンド、ヘアケア製品及び医学的診断又は治療のための生体適合性装置よりなる群から選択され、飽和に達するのに十分な時間室温で脱塩水に浸漬した後、５重量％よりも多く、５００重量％までの水を吸収している、
（ａ）１つ以上の疎水性有機モノマからの繰り返しユニットと、
（ｂ）１つ以上の親水性側鎖基で修飾された１つ以上のモノマ（ａ）からの繰り返しユニットと、配位子と
を有するゴム状又はエラストマポリマ材料を有する、医療用又はヘルスケア装置。
【請求項２】
前記ゴム状又はエラストマポリマ材料が、人間の皮膚又は粘膜と接触するためのものである、請求項１記載の医療用装置。
【請求項３】
飽和に達するのに十分な時間室温で脱塩水に浸漬した後、５重量％よりも多く、最大で５００重量％の水を吸収している、
（ａ）１つ以上の疎水性有機モノマからの繰り返しユニットと、
（ｂ）１つ以上の親水性側鎖基で修飾された１つ以上のモノマ（ａ）からの繰り返しユニットと、配位子と
を有するゴム状又はエラストマポリマ材料を有する成分を有する非医療用装置。
【請求項４】
外的及びインイヤ式のヘッドセット、イヤクリップ、眼鏡の鼻及び／又は耳の部分、ハンドル、靴の布地及び非布地部分、金属又はプラスチックで作られたビルの構成要素、船の部品、印刷用スタンプ、衣類の繊維、化粧品組成物、印刷用インク、トナー組成物、塗料又は被覆組成物、界面活性剤組成物、消泡剤、圧延油製剤、ウェハ接着剤、帯電防止剤、リソグラフィ板用の現像液、人工海綿、曇り止め剤、不織布製品、ボディコンタクトベルト及びバンド、シート、高反射性製品、摺動輸送システム、摺動封止リング並びにシリコーンリングにおけるオイルバリアよりなる群から選択された、請求項３記載の非医療用装置。
【請求項５】
前記ゴム状又はエラストマポリマ材料がシートの形態である、請求項１ないし４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項６】
前記ゴム状又はエラストマポリマ材料が発泡体の形態である、請求項１ないし４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項７】
前記発泡体の密度が６０から３００ｋｇ／ｍ３までである、請求項６記載の装置。
【請求項８】
前記ゴム状又はエラストマポリマ材料が、基体に接着するのに適した被覆物の形態である、請求項１ないし４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項９】
前記ゴム状又はエラストマポリマ材料が繊維の形態である、請求項１ないし４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１０】
前記疎水性有機モノマ（ａ）が、ジアルキルシロキサン及びジアリールシロキサンよりなる群から選択され、前記繰り返しユニット（ａ）及び前記繰り返しユニット（ｂ）の合計数が５以上１０００未満である、請求項１ないし９のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１１】
前記親水性側鎖基が、イオン側鎖基であるか、又はポリエチレングリコール等の親水性ポリマから得られる、請求項１ないし１０のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１２】
前記親水性側鎖基が、陽イオンと会合するＣ３-Ｃ２８アルキルスルホン酸基である、請求項１ないし１１のいずれか一項に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月20日(2015.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被験者の体温を非接触、非侵襲的に決定するための測定システムであり、
被験者と係合するように構成される係合体、
前記被験者の体温に関連する測定値を搬送する１つ又は複数の出力信号を生成する、前記係合体により担持される１つ又は複数のセンサー、
前記係合体及び／又は前記被験者と熱エネルギーを交換するように構成される熱交換器、並びに
コンピュータープログラムモジュールを実施するように構成される１つ又は複数の処理器
を有する測定システムにおいて、
前記コンピュータープログラムモジュールは、
前記熱交換器を制御して、前記被験者と前記係合体との間の係合点又はその近くの前記係合体の構造温度を調節するように構成される制御モジュール、並びに
前記１つ又は複数の出力信号により示される前記構造温度の調節に対する前記被験者の熱応答に基づいて前記被験者の抹消体温を決めるように構成されるパラメタ決定モジュール
を有する、測定システム。
【請求項２】
前記係合体は、前記被験者をその上で支持するように構成される、請求項１に記載の測定システム。
【請求項３】
前記係合体は、前記被験者により着用されるように構成される、請求項１に記載の測定システム。
【請求項４】
前記熱交換器は、冷却部を有する、請求項１に記載の測定システム。
【請求項５】
前記熱交換器は、加熱部を有する、請求項１に記載の測定システム。
【請求項６】
前記制御モジュールは、前記熱交換器を制御して、前記調節が係合点又はその近くの前記被験者の灌流を前記熱応答に基づいて評価するのに適した既定の熱的条件に対応するような前記構造温度を調節するように構成される、請求項１に記載の測定システム。
【請求項７】
前記制御モジュールは、前記熱交換器を制御して、前記調節が係合点又はその近くの前記被験者の体温調節応答を査定するのに適した既定の熱的条件に対応するような前記構造温度を調節するように構成される、請求項１に記載の測定システム。
【請求項８】
格子状に配された複数のセンサーを有する、請求項１に記載の測定システムにおいて、
前記パラメタ決定モジュールは、前記複数のセンサーの少なくとも１つのセンサーが抹消体温を、及び前記複数のセンサーの少なくとも１つのセンサーが中核体温を決定するように構成される、測定システム。
【請求項９】
被験者の体温を非接触、非侵襲的に決定するための方法において、
被験者を係合体と係合するステップ、
前記被験者の体温に関連する測定値を搬送する１つ又は複数の出力信号を生成するステップ、
前記被験者と前記係合体との間の係合点又はその近くの前記係合体の構造温度を調節するステップ、
前記１つ又は複数の出力信号により示される前記構造温度の調節に対する前記被験者の熱応答に基づいて、前記被験者の抹消体温を決定するステップ
を有する方法。
【請求項１０】
前記係合体は、前記被験者をその上で支持するように構成される、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記係合体は、前記被験者により着用されるように構成される、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記構造温度を調節するステップは、前記被験者と前記被験者支持構造との間の係合点又はその近くの前記構造温度を冷却するステップを有する、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
前記構造温度を調節するステップは、前記被験者と前記被験者支持構造との間の係合点又はその近くの前記構造温度を加熱するステップを有する、請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
被験者の体温を非接触、非侵襲的に決定するために構成されるシステムにおいて、
被験者を係合する手段、
前記被験者の体温に関連する測定値を搬送する１つ又は複数の出力信号を生成する手段、
前記被験者との係合点又はその近くの前記被験者を係合する手段の構造温度を調節する手段、及び
前記１つ又は複数の出力信号により示される前記構造温度の調節に対する前記被験者の熱応答に基づいて抹消体温を決定する手段
を有するシステム。
【請求項１５】
前記被験者を係合する手段は、前記被験者をその上で支持するように構成される、請求項１４に記載のシステム。
【請求項１６】
前記被験者を係合する手段は、前記被験者により着用されるように構成される、請求項１４に記載のシステム。
【請求項１７】
前記構造温度を調節する手段は、前記被験者と前記被験者を係合する手段との間の係合点又はその近くの前記構造温度を冷却するための手段を有する、請求項１４に記載のシステム。
【請求項１８】
前記構造温度を調節する手段は、前記被験者と前記被験者を係合する手段との間の係合店又はその近くの前記構造温度を加熱するための手段を有する、請求項１４に記載のシステム。
【請求項１９】
被験者の体温を非接触、非侵襲的に決定するための測定デバイスであり、
被験者と係合するように構成される係合体、
前記被験者の体温に関連する測定値を搬送する１つ又は複数の出力信号を生成する、前記係合体により担持される１つ又は複数のセンサー、
前記係合体及び／又は前記被験者と熱エネルギーを交換するように構成される熱交換器、並びに
制御部
を有する測定デバイスにおいて、
前記制御部が、前記熱交換器を制御して、前記被験者と前記係合体との間の係合点又はその近くの前記係合体の構造温度を調節し、及び前記１つ又は複数の出力信号により示される前記構造温度の調節に対する前記被験者の熱応答に基づいて前記被験者の抹消体温を決めるように構成される、測定システム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月30日(2015.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中空円筒として形作られる巻型と、
非導電領域によって分離される、前記巻型上に円周方向に広がる少なくとも二つの熱伝導シートと、
前記熱伝導シートに熱的に接続される熱伝導管状部と、
前記熱伝導シートの周囲に配置され結合される熱伝導電気絶縁材料の少なくとも一つの層と、
熱効率のよい単一構造を形成する、前記電気絶縁材料の周囲に配置され結合され、一緒に結合される超電導ワイヤの巻線とを有する、超電導磁石アセンブリ。
【請求項２】
摩擦を最小限にし、前記熱伝導シートが前記巻型に対して動くことを可能にするように前記巻型と前記熱伝導シートの間に配置される、少なくともポリテトラフルオロエチレンの層及び金属化ポリエステルの層のような絶縁材料の層をさらに含む、請求項１に記載の磁石アセンブリ。
【請求項３】
前記熱伝導シートの隣接端の間に配置される非導電材料スペーサをさらに含む、請求項１乃至２のいずれか一項に記載の磁石アセンブリ。
【請求項４】
前記電気絶縁材料が可撓性であり、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の磁石アセンブリ。
【請求項５】
前記電気絶縁材料がガラス繊維を含む、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の磁石アセンブリ。
【請求項６】
前記電気絶縁材料が熱伝導エポキシ封止材で飽和される、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の磁石アセンブリ。
【請求項７】
前記電気絶縁材料が織物材料の複数の層を含み、前記織物材料、前記超電導ワイヤが熱伝導エポキシ封止材によって単一構造に結合され、当該単一構造が前記巻型によって支持され、結合されない、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の磁石アセンブリ。
【請求項８】
前記熱伝導シートの一方とそれに熱的に接続した前記熱伝導管状部が前記巻型の底部近傍から前記巻型の片側の周囲に円周方向に前記巻型の頂部近傍へ広がり、前記熱伝導シートの他方とそれに熱的に接続した前記熱伝導管状部が前記巻型の底部近傍から前記巻型の反対側の周囲に円周方向に前記巻型の頂部近傍へ広がる、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の磁石アセンブリ。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一項に記載の少なくとも一つの磁石アセンブリと、
前記磁石アセンブリ周辺の前記熱伝導管を通って流れる際に前記超電導ワイヤをその超電導温度未満に冷却するヘリウム蒸気と、
前記ヘリウム蒸気を冷却する前記熱伝導管状部に接続される冷却装置熱交換器とを有する、磁気共鳴磁石システム。
【請求項１０】
請求項９に記載の磁気共鳴磁石システムと、
前記磁気共鳴磁石システムのボア内に位置するグラジエントコイルと、
前記グラジエントコイルに接続されるグラジエントアンプと、
前記グラジエントコイル内部に位置する高周波コイルと、
前記高周波コイルに接続されるトランスミッタと、
磁気共鳴信号を受信するレシーバと、
前記グラジエントアンプと前記トランスミッタに接続されるコントローラと、
前記レシーバと前記コントローラに接続されるプロセッサであって、前記受信した磁気共鳴信号を画像及び／又は分光情報へ処理するプロセッサとを有する、磁気共鳴イメージング若しくは分光システム。
【請求項１１】
円筒巻型を形成するステップと、
熱伝導管を熱伝導シートに熱的に接続するステップと、
前記接続された熱伝導管状部とともに前記熱伝導シートを前記巻型の周囲に円周方向に位置付けるステップと、
電気絶縁熱伝導材料の少なくとも一つの層を前記熱伝導シートへ結合するステップと、
超電導ワイヤを前記電気絶縁材料に巻き付け、前記超電導ワイヤを一緒に及び前記電気絶縁材料へ結合するステップとを有する、磁気共鳴磁石の製造方法。
【請求項１２】
摩擦を最小限にし、前記熱伝導シートが前記巻型に対して動くことを可能にする金属化ポリエステルによって挟まれるポリテトラフルオロエチレンのような絶縁材料の層を前記巻型の上に適用するステップをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記電気絶縁材料を熱効率のよいエポキシ封止材で含侵するステップ、及び
各層が巻かれる際に前記熱伝導エポキシ封止材で前記超電導ワイヤ周辺の介在空間を充填するステップによって、
前記熱伝導シート、前記電気絶縁材料、及び前記超電導ワイヤを単一構造へ結合するステップをさらに含む、請求項１１及び１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記熱伝導シートを位置付けるステップが、
前記巻型の底部近傍から前記巻型の片側の周囲に円周方向に前記巻型の頂部近傍へ広がるように前記熱伝導シートの一方とそれに熱的に接続される前記熱伝導管状部を位置付けるステップと、
前記巻型の底部近傍から前記巻型の反対側の周囲に円周方向に前記巻型の頂部近傍へ広がるように前記熱伝導シートの他方とそれに熱的に接続される前記熱伝導管状部を位置付けるステップとを含む、請求項１１乃至１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記熱伝導管を前記冷却装置熱交換器と接続し、ヘリウム蒸気が前記熱伝導管と前記冷却装置熱交換器の間を循環することを可能にするステップをさらに含む、請求項１１乃至１４のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月26日(2015.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
陰圧閉鎖療法、ＮＰＷＴに使用される創傷被覆材（４３）および／または障壁ディスク（１１、２１、３１）の位置を安定させるためのスタビライザにおいて、
前記創傷被覆材（１０１）または前記障壁ディスク（１１、２１、３１）の表面から突き出るように配置されることを特徴とするスタビライザ。
【請求項２】
請求項１に記載のスタビライザにおいて、
前記創傷被覆材（１０１）または前記障壁ディスク（１１、２１、３１）に対して実質的に垂直に突き出るように配置されることを特徴とするスタビライザ。
【請求項３】
請求項１または２に記載のスタビライザにおいて、
前記創傷被覆材（１０１）または前記障壁ディスク（１１、２１、３１）の表面から突き出るように配置されたリッジ（１’）を備えることを特徴とするスタビライザ。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れか１項に記載のスタビライザにおいて、
前記創傷被覆材（１０１）または前記障壁ディスク（１１、２１、３１）の表面から突き出るように配置された隆起部（１’’）を備えることを特徴とするスタビライザ。
【請求項５】
請求項１乃至４の何れか１項に記載のスタビライザにおいて、
前記創傷被覆材（１０１）または前記障壁ディスク（１１、２１、３１）の表面から突き出て、前記創傷被覆材（１０１）または前記障壁ディスク（１１、２１、３１）が使用される創傷部の開口の中に入るように配置されることを特徴とするスタビライザ。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れか１項に記載のスタビライザにおいて、
前記スタビライザ（１）の少なくとも１つの表面（１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ）から、前記スタビライザ（１）の少なくとも１つの別の表面（１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ）まで延びた通路（２、３、４ａ、４ｂ、５、６）を備えていることを特徴とするスタビライザ。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れか１項に記載のスタビライザにおいて、
前記スタビライザを前記創傷被覆材（１０１）または前記障壁ディスク（１１、２１、３１）に取り付けるように配置された取り付け装置をさらに備えることを特徴とするスタビライザ。
【請求項８】
請求項７に記載のスタビライザにおいて、
前記取り付け装置が、装置上のスナップであることを特徴とするスタビライザ。
【請求項９】
創傷の治療に使用される障壁ディスクまたは創傷被覆材において、
請求項１乃至８の何れか１項に記載のスタビライザ（１）を備えることを特徴とする障壁ディスクまたは創傷被覆材。
【請求項１０】
請求項９に記載の障壁ディスクまたは創傷被覆材において、
前記障壁ディスク（１１、２１、３１）または前記創傷被覆材（１０１）が、陰圧閉鎖療法に使用されるように配置されていることを特徴とする障壁ディスクまたは創傷被覆材。
【請求項１１】
請求項９または１０に記載の障壁ディスクにおいて、
前記スタビライザ（１）が、溶接によって前記障壁ディスク（１１、２１、３１）に取り付けられていることを特徴とする障壁ディスクまたは創傷被覆材。
【請求項１２】
請求項９または１０に記載の障壁ディスクにおいて、
前記スタビライザ（１）が、前記障壁ディスク（１１、２１、３１）の一体部分であることを特徴とする障壁ディスクまたは創傷被覆材。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月30日(2015.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ユーザの皮膚コンダクタンスを測定するための、ユーザにより着用可能な着用可能装置であって、
前記ユーザの皮膚に接触するための少なくとも２つの皮膚コンダクタンス電極と、
前記皮膚コンダクタンス電極を取り囲み材料表面を形成する弾性材料部分と、
を有し、前記弾性材料部分の弾性材料は、気体及び液体の物質に対して非透過性である、着用可能装置。
【請求項２】
前記弾性材料部分は、前記皮膚コンダクタンス電極がユーザの皮膚に接触したとき、前記皮膚コンダクタンス電極の近傍において、エアポケットが封止されるように構成された、請求項１に記載の着用可能装置。
【請求項３】
前記弾性材料は、高分子又はゴムである、請求項１に記載の着用可能装置。
【請求項４】
前記弾性材料は、特定の混合比のポリウレタン樹脂混合物である、請求項１に記載の着用可能装置。
【請求項５】
前記ポリウレタン樹脂混合物は、約１００：４０の比のポリエーテルポリオール及び４，４'−ジフェニルメタンジイソシアネートからつくられた、請求項４に記載の着用可能装置。
【請求項６】
前記皮膚コンダクタンス電極は、前記材料表面から突出している、請求項１に記載の着用可能装置。
【請求項７】
前記皮膚コンダクタンス電極は、前記材料表面から５０乃至１０００マイクロメートルだけ突出し、とりわけ１００乃至７００マイクロメートルだけ突出している、請求項６に記載の着用可能装置。
【請求項８】
非弾性材料からつくられた筺体部分を更に有する、請求項１に記載の着用可能装置。
【請求項９】
前記弾性材料部分の弾性材料は、特定の混合比のポリウレタン樹脂混合物であり、前記筺体部分は、異なる混合比の同一のポリウレタン樹脂混合物からつくられた、請求項８に記載の着用可能装置。
【請求項１０】
前記皮膚コンダクタンス電極間においてユーザの皮膚コンダクタンスを測定するように構成された、皮膚コンダクタンス測定ユニットを更に有する、請求項１に記載の着用可能装置。
【請求項１１】
前記皮膚コンダクタンス測定ユニットは、少なくとも部分的に前記筺体部分に配置された、請求項１０に記載の着用可能装置。
【請求項１２】
前記弾性材料は、ユーザの手首の形状に追従するのに十分な弾性を持つ、請求項１２に記載の着用可能装置。
【請求項１３】
ユーザの皮膚コンダクタンスを測定するための、ユーザにより着用可能な着用可能装置を製造する方法であって、
前記ユーザの皮膚に接触するための少なくとも２つの皮膚コンダクタンス電極を備えるステップと、
前記皮膚コンダクタンス電極を取り囲み材料表面を形成する弾性材料部分を形成するステップと、
を有し、
前記弾性材料部分の弾性材料は、気体及び液体の物質に対して非透過性である、方法。
【請求項１４】
非弾性材料からつくられた筺体部分を形成するステップを更に有する、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記弾性材料部分は、射出成型により形成される、請求項１３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月26日(2015.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
テクスチャ加工膨張バルーンであって、
非柔軟性または半柔軟性のバルーン本体を備え、該バルーン本体は、近位端と、遠位端と、非膨張状態のバルーン本体内の少なくとも１つの陥凹とを備え、
前記バルーン本体が、使用前に前記少なくとも１つの陥凹内に配置された少なくとも１つの治療剤を含む外面を有する、連続的なポリマー管を備える、
ことを特徴とするテクスチャ加工膨張バルーン。
【請求項２】
前記バルーン本体の前記連続的なポリマー管の前記外面が、その上に配置された少なくとも１つの有機ポリマーを更に含む、
請求項１に記載のテクスチャ加工膨張バルーン。
【請求項３】
前記有機ポリマーが、親水性有機ポリマーである、
請求項２に記載のテクスチャ加工膨張バルーン。
【請求項４】
前記有機ポリマーが、生分解性有機ポリマーである、
請求項２に記載のテクスチャ加工膨張バルーン。
【請求項５】
前記生分解性有機ポリマーが、ポリエーテル、ポリエステル、ポリ（オルト）エステル、ポリケタール、ポリアミノ酸、ヒドロゲル、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、
請求項４に記載のテクスチャ加工膨張バルーン。
【請求項６】
前記生分解性有機ポリマーが、ヒアルロン酸、ヒアルロン誘導体、デキストラン、デキストラン誘導体、キチン、キトサン、アルブミン、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、
請求項４に記載のテクスチャ加工膨張バルーン。
【請求項７】
前記少なくとも１つの治療剤が、前記少なくとも１つの陥凹内に位置し、前記少なくとも１つの有機ポリマーが、前記少なくとも１つの治療剤上に配置される、
請求項２に記載のテクスチャ加工膨張バルーン。
【請求項８】
前記少なくとも１つの治療剤が、前記少なくとも１つの有機ポリマーと混合されて、前記少なくとも１つの陥凹内に配置される混合物を形成する、
請求項２に記載のテクスチャ加工膨張バルーン。
【請求項９】
前記少なくとも１つの治療剤が、少なくとも１つの賦形剤と混合されて、前記少なくとも１つの陥凹内に配置される混合物を形成する、
請求項１に記載のテクスチャ加工膨張バルーン。
【請求項１０】
前記賦形剤が、ポリエチレングリコールの脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール―ポリエステルブロックコポリマー、グリセリンの脂肪酸モノエステルもしくはジエステル、トリメチロールエタンもしくはトリメチロールプロパンもしくはペンタエリスリトールの脂肪酸モノエステル、ジエステル、もしくはポリエステル、糖、水溶性ポリオール、シクロデキストリン、クラスレート、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、
請求項９に記載のテクスチャ加工膨張バルーン。
【請求項１１】
前記少なくとも１つの治療剤が、前記少なくとも１つの陥凹内にのみ配置される、
請求項１に記載のテクスチャ加工膨張バルーン。
【請求項１２】
前記バルーン本体が、近位端と、遠位端と、非膨張状態の前記バルーン本体内の複数の陥凹とを備える、
請求項１に記載のテクスチャ加工膨張バルーン。
【請求項１３】
前記複数の陥凹が、前記バルーン本体の前記連続的な管の前記外面上に対称的に分散される、
請求項１２に記載のテクスチャ加工膨張バルーン。
【請求項１４】
前記少なくとも１つの陥凹が、逆ピラミッド、逆角錐ピラミッド、窪み、溝、およびそれらの組み合わせを含む、
請求項１に記載のテクスチャ加工膨張バルーン。
【請求項１５】
前記バルーン本体が、近位端と、遠位端と、非膨張状態の前記バルーン本体内の１つの連続的な陥凹とを備える、
請求項１に記載のテクスチャ加工膨張バルーン。
【請求項１６】
前記バルーン本体の前記連続的なポリマー管が、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリエーテルブロックアミド、ポリアミドを含むポリブレンド、ポリエチレンテレフタレートを含むポリブレンド、ポリブチレンテレフタレートを含むポリブレンド、ポリアミド層を備える多層構造物、ポリエチレンテレフタレート層を備える多層構造物、またはポリブチレンテレフタレート層を備える多層構造物を含む、
請求項１に記載のテクスチャ加工膨張バルーン。
【請求項１７】
前記治療剤が、血管新生阻害薬、抗再狭窄薬、抗凝固薬、抗エンドセリン薬、抗分裂促進因子、抗酸化薬、抗血小板薬、抗生物質、抗炎症薬、抗増殖薬、ｍＴｏｒ阻害薬、抗悪性腫瘍薬、アンチセンスオリゴヌクレオチド、抗血栓性薬、遺伝子治療剤、カルシウムチャネル遮断薬、血餅溶解酵素、増殖因子、増殖因子阻害薬、一酸化窒素放出薬、血管拡張薬、ウイルス媒介遺伝子導入薬、微小管発達に作用する化合物、細胞周期阻害薬、平滑筋増殖阻害薬、内皮細胞増殖因子、コレステロール逆転送作動薬、コレステロール逆転送拮抗薬、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、
請求項１に記載のテクスチャ加工膨張バルーン。
【請求項１８】
前記治療剤が、アブシキシマブ、アンギオペプチン、コルヒチン、エプチフィバチド、ヘパリン、ヒルジン、ロバスタチン、メトトレキサート、ストレプトキナーゼ、パクリタキセル、ラパマイシン、エベロリムス、デフォロリムス、チクロピジン、組織プラスミノーゲン活性化因子、トラピジル、ウロキナーゼ、および増殖因子ＶＥＧＦ、ＴＧＦ―ベータ、ＩＧＦ、ＰＤＧＦ、ＦＧＦ、ならびにそれらの組み合わせからなる群から選択される、
請求項１７に記載のテクスチャ加工膨張バルーン。
【請求項１９】
テクスチャ加工膨張バルーンを作製する方法であって、
ポリマー材料を含む管状パリソンを提供するステップと、
前記バルーン表面の所望のテクスチャに対応する１つまたは複数の突出部を内面上に有する、鋳型を提供するステップと、
前記管状パリソンを拡張させ、前記鋳型内に拡張されたパリソン形成し、１つまたは複数の陥凹を備えるバルーン本体を形成するステップと、
１つまたは複数の治療剤を前記１つまたは複数の陥凹内に適用するステップとを備えている、
ことを特徴とする方法。
【請求項２０】
前記バルーンが、非柔軟性または半柔軟性バルーンである、
請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
拡張されたパリソンを形成するように前記管状パリソンを拡張させることが、前記ポリマー材料のＴｇを超える温度および高膨張圧力で、前記管状パリソンを軸方向に伸長させ、かつ半径方向に拡張させることを含む、
請求項１９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月27日(2015.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマーを含む拡張されたチューブから形成されるスキャフォールドを用意するステップであって、前記スキャフォールドが相互に接続される網目状の閉鎖セルを有する、ステップと、
前記スキャフォールドをバルーンカテーテルにクリンプするステップであって、前記スキャフォールドがクリンプ前直径と最終クリンプ直径とを有し、前記クリンプ前直径と前記最終クリンプ直径との比率が少なくとも３：１であり、
前記スキャフォールドの直径を前記クリンプ前直径から前記クリンプ前直径の約３０％よりも小さい中間クリンプ直径へと減少させるサブステップと、
前記スキャフォールドを前記中間クリンプ直径まで縮小させた後に、前記直径を前記最終クリンプ直径に至るまで縮小させて、前記バルーンカテーテルを加圧するサブステップと、
前記スキャフォールドが前記中間クリンプ直径に達した後で且つ前記スキャフォールドが前記最終クリンプ直径に達する前においてのみバルーン加圧を開始するサブステップと、
を含むステップと、
を含むクリンプ方法。
【請求項２】
前記スキャフォールドを第１の中間直径まで縮小させて、前記スキャフォールドをクリンプ機構から除去し、前記スキャフォールドを前記クリンプ機構に戻した後、前記直径を前記クリンプ前直径の約３０％である第２の中間直径まで減少させるステップを更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記スキャフォールドの直径が前記中間クリンプ直径から前記最終クリンプ直径まで減少されている間にバルーン圧力が加えられる、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記クリンプ前直径と前記最終クリンプ直径との比率が少なくとも４：１である、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記スキャフォールドが、該スキャフォールドの隣り合うリング同士を接続する４個以下のリンク要素を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記リンク要素が前記スキャフォールドの縦方向軸線と平行に延びる、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
バルーン圧力が約５０ｐｓｉである、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記スキャフォールドがＰＬＬＡを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記ポリマーが、ＴＧ−ｌｏｗの下限を有するガラス転移温度範囲によって特徴付けられ、ＴＧ−ｌｏｗよりも約５度〜１５度低い温度でクリンピングが行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
クリンプ前直径（ＳＤｐｃ）が不等式１．１×（ＳＤｉ）×（１．２）−１≦ＳＤｐｃ≦１．７×（ＳＤｉ）×（１．２）−１を満たし、ＳＤｉが前記バルーンカテーテルにおける公称膨張直径である、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月11日(2015.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＬＥＤモジュールの基板上に配置されるハウジングと、
前記ＬＥＤモジュールにわたって分散された複数の固定装置であって、各固定装置が、前記ハウジング及び前記基板の両方を貫通して延びる前記ＬＥＤモジュールの対応する開口内に配置されている、当該複数の固定装置と、
を有し、
前記固定装置は、
主部と、
前記固定装置の底部を取付面に固定するための第１固定手段と、
前記固定装置を前記ハウジングに固定するための第２固定手段と、
前記主部から実質的に直交方向に延びる垂直部とを有し、
前記垂直部から少なくとも１つの弾性部が延び、前記ＬＥＤモジュールが取付面に対して固定されるような押圧力が前記少なくとも１つの弾性部により前記ＬＥＤモジュールに付与されるように、前記少なくとも１つの弾性部が、取付位置において前記ハウジングの上面に配設された突出部に少なくとも部分的に当接する、組立構造体。
【請求項２】
前記第１固定手段が前記主部に対し対称に配置される、請求項１に記載の組立構造体。
【請求項３】
前記ハウジングがレンズ板である、請求項１又は２に記載の組立構造体。
【請求項４】
前記ハウジングが、前記基板の対応する開口内に受け入れられる摩擦リブ付き位置決めピンにより、前記基板に取り付けられている、請求項１ないし３の何れか一項に記載の組立構造体。
【請求項５】
前記第２固定手段がスナップ接続部である、請求項１ないし４の何れか一項に記載の組立構造体。
【請求項６】
前記第２固定手段が各固定装置上に配設された２つのスナップ接続部であり、該スナップ接続部は前記ハウジングの対応する開口内に受け入れられる、請求項５に記載の組立構造体。
【請求項７】
前記固定装置が金属板クリップである、請求項１ないし６の何れか一項に記載の組立構造体。
【請求項８】
前記第１固定手段が開口及びネジを有する、請求項１ないし７の何れか一項に記載の組立構造体。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月12日(2014.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射源であって、
プラズマ形成位置に向かう軌跡に沿って燃料液滴の流れを誘導するノズルと、
使用中、放射生成プラズマを生成するよう前記プラズマ形成位置における前記燃料液滴に誘導されるレーザ放射を出力するレーザと、
前記プラズマ形成位置を通過する前記燃料液滴を捕集するキャッチと、を備え、
前記キャッチは、
流体を含む容器と、
前記流体を駆動して前記流体の移動をもたらすドライバと、を備え、
前記キャッチは、使用中、前記燃料液滴が前記移動する流体の傾斜した表面に入射するように構成される、放射源。
【請求項２】
前記キャッチは、傾斜した表面をさらに備え、
前記ドライバは、前記流体を前記表面に沿うか、前記表面を超えるか、または前記表面を通過するよう駆動させ、
前記キャッチは、使用中、前記燃料液滴が、前記傾斜した表面に沿うか、前記傾斜した表面を超えるか、または前記傾斜した表面を通過するよう駆動された前記流体上に入射するように構成される、請求項１に記載の放射源。
【請求項３】
前記傾斜した表面に沿うか、前記傾斜した表面を超えるか、または前記傾斜した表面を通過するよう駆動された前記流体は、前記液滴の軌跡に対して傾斜している、請求項２に記載の放射源。
【請求項４】
前記表面は、前記液滴の前記軌跡に対して傾斜し、
前記ドライバは、前記表面に流体膜を形成するように、前記流体が前記傾斜した表面に沿って下るように駆動するのを少なくとも補助し、
前記キャッチは、使用中、前記燃料液滴が前記流体膜に入射するように構成される、請求項３に記載の放射源。
【請求項５】
前記ドライバは、前記流体を前記傾斜した表面を超えるように駆動して流体波を形成し、
前記キャッチは、使用中、前記燃料液滴が前記流体波に入射するように構成される、請求項３に記載の放射源。
【請求項６】
前記ドライバは、ポンプを備える、請求項１〜５のいずれかに記載の放射源。
【請求項７】
前記容器は、実質的に管状であり、前記液滴を受ける開口部を有する、請求項１に記載の放射源。
【請求項８】
前記ドライバは、前記管状容器を回転する、請求項７に記載の放射源。
【請求項９】
前記回転機構は、前記流体が確実に前記管状容器の内側傾斜表面上に留まり、かつ／または、前記内側傾斜表面を通り越すことができる程度の速さで前記管を回転させ、
前記キャッチは、使用中、前記燃料液滴が前記管状容器の前記内側傾斜表面上に留まり、かつ／または、前記内側傾斜表面を通り越す前記流体に入射するように構成される、請求項８に記載の放射源。
【請求項１０】
前記ノズルは、実質的に水平または実質的に垂直な軌跡、あるいは水平成分を有する軌跡、あるいは垂直成分を有する軌跡に沿って前記燃料液滴の流れを誘導する、請求項１〜９のいずれかに記載の放射源。
【請求項１１】
前記流体は、前記燃料液滴を形成する材料と同じ材料であるか、若しくは同じ材料を含み、または前記流体は、前記燃料のキャリアである、請求項１〜１０のいずれかに記載の放射源。
【請求項１２】
前記キャッチは、ヒータを備え、またはヒータに熱的に接続可能であり、
前記ヒータは、前記流体および／または前記捕集された液滴が流体状を維持するように前記流体および／または前記捕集された液滴を熱する、請求項１〜１１のいずれかに記載の放射源。
【請求項１３】
前記キャッチは、前記捕集された液滴が前記ノズルの中を往復するように誘導されることができるように、前記ノズルに流体接続される、請求項１〜１２のいずれかに記載の放射システム。
【請求項１４】
リソグラフィ装置であって、
放射ビームを提供する照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与するパターニングデバイスと、
基板を保持する基板ホルダと、
前記基板のターゲット部分上に前記パターン付与された放射ビームを投影する投影システムと、を備え、
請求項１〜１３のいずれかに記載の放射源をさらに備えるか、または、該放射源に接続される、リソグラフィ装置。
【請求項１５】
放射源において使用される燃料液滴を捕集する方法であって、
前記放射源は、
プラズマ形成位置に向かう軌跡に沿って燃料液滴の流れを誘導するノズルと、
使用中、放射生成プラズマを生成するよう前記プラズマ形成位置における前記燃料液滴に誘導されるレーザ放射を出力するレーザと、を備え、
前記方法は、
流体を駆動して該流体の移動をもたらことと、
前記移動する流体の傾斜した表面に向かって前記燃料液滴を誘導することと、を含む、方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】放射源、放射システム、リソグラフィ装置、および燃料液滴を捕集する方法
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月13日(2015.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スライスのタイプであるスライスタイプを識別するステップと、
ＣＡＢＡＣ（Ｃｏｎｔｅｘｔ  Ａｄａｐｔｉｖｅ  Ｂｉｎａｒｙ  Ａｒｉｔｈｍｅｔｉｃ  Ｃｏｄｉｎｇ）コンテキストを初期化するための初期化方法を決定するためのフラグを受信するステップと、
前記スライスタイプと前記フラグとによって特定される初期化方法を用いて、前記ＣＡＢＡＣコンテキストを初期化するステップとを少なくとも含み、
前記スライスタイプが第１のスライスタイプであり、前記フラグの値が第１の値の場合、前記初期化するステップは、第１の初期化方法を用いて、該第１のスライスタイプに対応するＣＡＢＡＣコンテキストを初期化し、
前記スライスタイプが第１のスライスタイプであり、前記フラグの値が第２の値の場合、前記初期化するステップは、第２の初期化方法を用いて、前記第１のスライスタイプに対応するＣＡＢＡＣコンテキストを初期化することを特徴とする初期化方法。
【請求項２】
スライスのタイプであるスライスタイプを識別するステップと、
ＣＡＢＡＣ（Ｃｏｎｔｅｘｔ  Ａｄａｐｔｉｖｅ  Ｂｉｎａｒｙ  Ａｒｉｔｈｍｅｔｉｃ  Ｃｏｄｉｎｇ）コンテキストを初期化するための初期化方法を決定するためのフラグを受信するステップと、
前記スライスタイプと前記フラグとによって特定される初期化方法を用いて、前記ＣＡＢＡＣコンテキストを初期化するステップと、
前記ＣＡＢＡＣコンテキストを用いて動画像を復号するステップとを少なくとも含み、
前記スライスタイプが第１のスライスタイプであり、前記フラグの値が第１の値の場合、前記初期化するステップは、第１の初期化方法を用いて、該第１のスライスタイプに対応するＣＡＢＡＣコンテキストを初期化し、
前記スライスタイプが第１のスライスタイプであり、前記フラグの値が第２の値の場合、前記初期化するステップは、第２の初期化方法を用いて、前記第１のスライスタイプに対応するＣＡＢＡＣコンテキストを初期化することを特徴とする復号方法。
【請求項３】
スライスのタイプであるスライスタイプを識別し、
ＣＡＢＡＣ（Ｃｏｎｔｅｘｔ  Ａｄａｐｔｉｖｅ  Ｂｉｎａｒｙ  Ａｒｉｔｈｍｅｔｉｃ  Ｃｏｄｉｎｇ）コンテキストを初期化するための初期化方法を決定するためのフラグを受信し、
前記スライスタイプと前記フラグとによって特定される初期化方法を用いて、前記ＣＡＢＡＣコンテキストを初期化し、
前記ＣＡＢＡＣコンテキストを用いて動画像を復号し、
前記スライスタイプが第１のスライスタイプであり、前記フラグの値が第１の値の場合、第１の初期化方法を用いて、該第１のスライスタイプに対応するＣＡＢＡＣコンテキストを初期化し、
前記スライスタイプが第１のスライスタイプであり、前記フラグの値が第２の値の場合、第２の初期化方法を用いて、前記第１のスライスタイプに対応するＣＡＢＡＣコンテキストを初期化することを特徴とする復号装置。
【請求項４】
スライスのタイプであるスライスタイプを識別するステップと、
ＣＡＢＡＣ（Ｃｏｎｔｅｘｔ  Ａｄａｐｔｉｖｅ  Ｂｉｎａｒｙ  Ａｒｉｔｈｍｅｔｉｃ  Ｃｏｄｉｎｇ）コンテキストを初期化するための初期化方法を決定するためのフラグを受信するステップと、
前記スライスタイプと前記フラグとによって特定される初期化方法を用いて、前記ＣＡＢＡＣコンテキストを初期化するステップと、
前記ＣＡＢＡＣコンテキストを用いて動画像を復号するステップとをコンピュータに実行させ、
前記スライスタイプが第１のスライスタイプであり、前記フラグの値が第１の値の場合、前記初期化するステップは、第１の初期化方法を用いて、該第１のスライスタイプに対応するＣＡＢＡＣコンテキストを初期化し、
前記スライスタイプが第１のスライスタイプであり、前記フラグの値が第２の値の場合、前記初期化するステップは、第２の初期化方法を用いて、前記第１のスライスタイプに対応するＣＡＢＡＣコンテキストを初期化することを特徴とする初期化プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】初期化方法、復号方法、復号装置および初期化プログラム
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月21日(2015.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のＩＣを含む基板をダイシングする方法であって、
基板上にＩＣを被覆し保護するマスクを形成する工程であって、マスクはＩＣの上面と接触する水溶性材料の層を含む工程と、
レーザスクライビングプロセスによってマスク及び基板の一部をパターニングして、ギャップを有するパターニングされたマスクを提供し、ＩＣ間の基板の領域を露出させる工程であって、各々のギャップは基板内にある幅を有する工程と、
ギャップを貫通してプラズマエッチングして、これによって基板内にトレンチを形成し、ＩＣを個片化する工程であって、各々のトレンチは前記幅を有する工程を含む方法。
【請求項２】
レーザスクライビングプロセスによってマスクをパターニングする工程が、フェムト秒レーザでギャップを形成する工程を含み、水溶性材料が、水溶性ポリマーを含み、半導体基板をエッチングする工程が、水溶性材料を１００℃未満に維持しながら、ディープトレンチエッチングプロセスでトレンチをエッチングする工程を含む請求項１記載の方法。
【請求項３】
フェムト秒レーザスクライビングプロセスによってマスクをパターニングする工程が、５３０ナノメートル以下の波長と５００フェムト秒以下のレーザパルス幅を有するレーザを用いる工程を含む請求項２記載の方法。
【請求項４】
マスクを形成する工程が、ＩＣ間のストリートの上で２０μｍ以下、ＩＣの上部バンプ上に少なくとも１０μｍの厚さに水溶性材料層を形成する工程を含む請求項１記載の方法。
【請求項５】
マスクを形成する工程が、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（アクリルアミド）、又はポリ（エチレンオキシド）のうちの少なくとも１つをＩＣの上面に接触して塗布する工程を含む請求項１記載の方法。
【請求項６】
マスクを形成する工程が、ポリ（ビニルアルコール）をＩＣの上面に接触して塗布する工程を含む請求項５記載の方法。
【請求項７】
塗布する工程が、
ＩＣの上面の上に水溶性ポリマーの水溶液をスピンコーティングする工程と、
水溶液を乾燥させる工程を含む請求項１記載の方法。
【請求項８】
裏面研削プロセスによって基板を薄くする工程を含み、スピンコーティングは裏面研削の後に実行される請求項７記載の方法。
【請求項９】
塗布する工程が、ＩＣの上面の上に水溶性材料のドライフィルムを真空ラミネートする工程を含む請求項１記載の方法。
【請求項１０】
裏面研削プロセスで基板を薄くする工程を含み、真空ラミネートは裏面研削の後に実行される請求項１記載の方法。
【請求項１１】
基板をプラズマエッチングした後の水溶性マスクを水溶液で除去する工程を含む請求項１記載の方法。
【請求項１２】
除去する工程は、水溶性マスクを水の加圧されたジェットで洗い流す工程を含む請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
複数のＩＣを含む半導体基板をダイシングする方法であって、
シリコン基板の上に水溶性マスクを形成する工程であって、水溶性マスクは、シリコン基板上に配置されたＩＣを覆い保護し、ＩＣは、二酸化ケイ素の層、低ｋ材料の層、及び銅の層を含む薄膜スタックを含む工程と、
水溶性マスク、低ｋ材料の層、銅の層、及びシリコン基板の一部をフェムト秒レーザでパターニングし、これによって内部にギャップを生成し、ＩＣ間のシリコン基板の領域を露出させる工程であって、各々のギャップはシリコン基板内にある幅を有する工程と、
ギャップを貫通してシリコン基板をプラズマエッチングし、これによってシリコン基板内にトレンチを形成し、ＩＣを個片化する工程であって、各々のトレンチは、シリコン基板内に前記幅を有する工程を含む方法。
【請求項１４】
二酸化ケイ素の層、低ｋ材料の層、及び銅の層をフェムト秒レーザでパターニングする工程は、低ｋ材料の層、及び銅の層をアブレーション加工する前に、二酸化ケイ素の層をアブレーション加工する工程を含み、シリコン基板をエッチングする工程は、水溶性材料層を１００℃未満の温度に維持しながら、ＳＦ６と、Ｃ４Ｆ８及びＣ４Ｆ６のうちの少なくとも１つとのプラズマに基板を曝露する工程を含む請求項１３記載の方法。