【事件の表示】
　特願２００９−１３９９２０「スズ又はスズ合金電気メッキ浴液における酸化によるスズ損失の制限」拒絶査定不服審判事件〔平成２１年１０月２２日出願公開、特開２００９−２４２９４８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
【１】手続の経緯
　本願は、平成１５（２００３）年３月４日（パリ条約による優先権主張　平成１４（２００２）年３月５日、米国）に出願した特願２００３−５７５１９号の一部を平成２１年６月１１日に新たな特許出願としたものであって、平成２４年４月２７日付けで拒絶理由が通知され、これに対し、同年７月２７日付けで意見書及び手続補正書が提出され、同年８月１３日付けで拒絶査定（謄本送達同年８月１５日）がなされ、これに対し、同年１２月１４日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同日付けで手続補正がなされたものである。
　その後、平成２５年３月４日付けで審判請求人に前置報告書の内容を示し意見を求めるための審尋を行ったところ、同年６月３日に回答がなされたものである。
　
【２】平成２４年１２月１４日付けの手続補正についての補正の却下の決定
［補正の却下の決定の結論］
　平成２４年１２月１４日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
［１］補正後の本願発明
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１は、以下のように補正された。
「フルオロホウ酸、有機スルホン酸又はこれらの組み合わせからなる群から選択される酸、任意にこれらの塩を含む基礎液；
　二価スズイオン；
　
エトキシル化及びプロポキシル化界面活性剤からなる群から選択される１以上の界面活性剤；
式：
　【化１】
　
（式中、Ｙはアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、遷移金属イオン及びアンモニウムイオンからなる群から選択され、ａは０である）
　で表される酸化防止剤化合物
　を含み、
かつトリアルキルベンジルアンモニウム塩類を含まず、
　スズ及びスズ合金の電気メッキに使用し、かつスズイオンを二価の状態に維持するための溶液。」
　
［２］補正の適否
　上記補正は、本願の請求項１に係る発明の「溶液」について、「エトキシル化及びプロポキシル化界面活性剤からなる群から選択される１以上の界面活性剤」を加えるものであり、特許請求の範囲を限定的に減縮するものとはいえない。また、当該補正事項は、「請求項の削除」、「誤記の訂正」または「明りょうでない記載の釈明」のいずれの目的にも該当するものではない。
　してみると、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法（以下、「平成１８年改正前特許法」という。）第１７条の２第４項の各号に掲げるいずれの事項を目的とするものにも該当せず、同法第１７条の２第４項の規定に違反するものである。
　
　また、仮に、上記補正が、「特許請求の範囲の限定的減縮」に該当するという解釈が成り立ち得るとした場合としても、以下のとおり、いわゆる「独立特許要件」を満たさないものであって、不適法な補正である。
　そこで、本件補正後の前記請求項１に係る発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）否かについて、検討したものを以下に述べる。
　
（１）引用刊行物の記載
　
　原査定の拒絶の理由に引用され、本願優先日前に頒布された、特開平９−９５７９４号公報（以下、「刊行物」という。）には、以下の事項が記載されている。
　
（ア）
「本発明はスズメッキ浴、及びスズ−鉛合金メッキ浴に関し、電着皮膜の展延性、接合強度、硬度などの皮膜物性を有効に改質できるものを提供する。」（段落【０００１】）
　
（イ）
「そこで、本発明は、有機スルホン酸系の基本ハンダ又はスズメッキ浴において、メッキ皮膜の展延性やハンダ接合強度などの皮膜物性を改質して、半導体チップなどの実装の信頼性を高めることを技術的課題とする。」（段落【０００６】）
　
（ウ）
「本発明者らは、このカチオン系界面活性剤の具体例の中で述べられているトリアルキルベンジルアンモニウム塩類に着目して鋭意研究を重ねた結果、当該塩類のうちでも特定の化合物を添加すると、ハンダ接合強度などに影響を及ぼすこと、さらには、この特定のアンモニウム塩類に加えて、所定の芳香族スルホン酸類を補助的に添加すると、メッキ皮膜の展延性や硬度への影響をさらに促進できることを見い出し、本発明を完成した。」（段落【０００８】）
　
（エ）
「前記芳香族スルホン酸類は、皮膜物性改質の観点から上記トリアルキルベンジルアンモニウム塩類に補助添加されるが、具体的には、上述のように、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、或は、これらのナトリウム塩、カリウム塩などの誘導体をいう。当該芳香族スルホン酸類のベンゼン環、ナフタレン環には、ｔ−ブチル、イソプロピル、ヒドロキシルなどの各種の置換基が１個、乃至複数個結合したものが好ましいが、無置換のものでも差し支えない。
　上記芳香族スルホン酸類の具体例を挙げると、下記の通りである。
（１）モノ−ｔ−ブチルナフタレンスルホン酸、又はその塩
（２）ジ−アミルナフタレンスルホン酸、又はその塩
（３）トリ−イソプロピルナフタレンスルホン酸、又はその塩
（４）２，７−ジヒドロキシナフタレンスルホン酸、又はその塩
（５）１，２−ジヒドロキシナフタレンスルホン酸、又はその塩
（６）１，８−ジヒドロキシナフタレンスルホン酸、又はその塩
（７）１，２−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸、又はその塩
（８）１，３−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸、又はその塩
（９）１，４−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸、又はその塩
　上記芳香族スルホン酸類は単用又は併用でき、その添加量は、メッキ浴全体に対して、一般に０．０１〜２０ｇ／ｌ、好ましくは０．５〜３ｇ／ｌである。」（段落【００２０】〜【００２２】）
　
（オ）
「一方、本発明１のメッキ浴は、前述したように、スズ供給源、又はスズと鉛の供給源と、有機スルホン酸と、特定のトリアルキルベンジルアンモニウム塩類とを含有することを必須要件とし、本発明２では、さらに特定の芳香族スルホン酸類を加えることを必須要件とするが、これらのメッキ浴には、浴の分散性を高めるとともに、密着性が良くて平滑なメッキ皮膜を得るために、種々の界面活性剤を添加することができる。特に、ノニオン系界面活性剤の添加は、メッキ外観を向上させるとともに、低電流密度においてつき回り性を改善する点で効果がある。上記界面活性剤の添加量は、一般に０．０１〜５０ｇ／ｌ、好ましくは０．０３〜２０ｇ／ｌである。
　上記ノニオン系界面活性剤としては、下記のものが好ましい。
（１）ポリアルキレングリコール(アルキレンとしては、エチレン、プロピレンなど)。
（２）Ｃ１〜２０アルコール類、Ｃ０〜２５アルキルフェノール類、Ｃ０〜２５アルキル−α(又はβ)−ナフトール類、スチレン化フェノール類(フェノール核の水素はＣ１〜４アルキル又はフェニル基で置換可能)、ビスフェノール類、アルキルアミン類(脂肪族アミンやアルキレンジアミンなど)、Ｃ３〜２２脂肪酸アミド、Ｃ１〜２５アルコキシル化りん酸、Ｃ８〜２２高級脂肪酸でエステル化したソルビタンエステルなどのポリオキシアルキレン付加物。」（段落【００２７】〜【００２８】）
　
（カ）
「上記酸化防止剤は、基本的にスズの２価から４価への酸化を防止するために使用され、具体的には、ハイドロキノン、レゾルシン、カテコール、フロログルシン、ピロガロール、α又はβ−ナフトール、フェノールスルホン酸、クレゾールスルホン酸などである。
　上記酸化防止剤の添加量は、一般に０．０５〜１０ｇ／ｌ、好ましくは０．２〜３ｇ／ｌである。」（段落【００３３】〜【００３４】）
　
（キ）
「以下の実施例１〜１２において、Ａ群は有機スルホン酸の基本浴にトリアルキルベンジルアンモニウム塩類を単独添加した例、Ｂ群は当該アンモニウム塩類に芳香族スルホン酸類を併用添加した例、比較例１〜１２のうち、例１〜５及び例１１はこの両者を省略したもの、比較例６〜１０及び１２は当該アンモニウム塩類を省略し、芳香族スルホン酸類を添加したものである。」（段落【００４１】）
　
（ク）
「《比較例７》下記の組成でスズ−鉛合金メッキ浴を建浴した。
２−プロパノールスルホン酸第一スズ(Ｓｎ２＋として)    ４５．５ｇ／ｌ
２−プロパノールスルホン酸鉛(Ｐｂ２＋として)           ４．５ｇ／ｌ
遊離メタンスルホン酸                               １２０ｇ／ｌ
１，２−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸                ０．５ｇ／ｌ
オクタデシルアルコールポリエトキシレート(ＥＯ３０)        １０ｇ／ｌ
ノニルアミンポリエトキシレート(ＥＯ３０)
                    −ポリプロポキシレート(ＰＯ６)      ３ｇ／ｌ
カテコール                                          ２ｇ／ｌ」
（段落【００６２】）
　
（ケ）
「《比較例８》下記の組成でスズ−鉛合金メッキ浴を建浴した。
メタンスルホン酸第一スズ(Ｓｎ２＋として)             ４５．５ｇ／ｌ
２−プロパノールスルホン酸鉛(Ｐｂ２＋として)            ４．５ｇ／ｌ
遊離２−プロパノールスルホン酸                     １４０ｇ／ｌ
１，３−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム          １ｇ／ｌ
ベンジルフェノールポリエトキシレート(ＥＯ３０)            １０ｇ／ｌ
デシルアミンポリエトキシレート(ＥＯ３０)
                    −ポリプロポキシレート(ＰＯ４)      ２ｇ／ｌ
ハイドロキノン                                       ２ｇ／ｌ」
（段落【００６５】）
　
（コ）
「《比較例９》下記の組成でスズ−鉛合金メッキ浴を建浴した。
２−プロパノールスルホン酸第一スズ(Ｓｎ２＋として)      ４６.０ｇ／ｌ
メタンスルホン酸鉛(Ｐｂ２＋として)                        ４.０ｇ／ｌ
遊離２−プロパノールスルホン酸                         １２０ｇ／ｌ
１，４−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸カリウム              ２ｇ／ｌ
ナフトールポリエトキシレート(ＥＯ３０)                   １０ｇ／ｌ
ドデシルアミンポリエトキシレート(ＥＯ２０)
                     −ポリプロポキシレート(ＰＯ３)      ２ｇ／ｌ
カテコール                                               ２ｇ／ｌ」
（段落【００６８】）
　
（サ）
「《電気メッキ例》５mm×２０mm×０．２mmの４２合金製の試験片にアルカリ浸漬脱脂、及び陰極電解脱脂を施し、１０％塩酸で室温、３０秒の条件にて酸洗浄し、化学研磨した後、再び塩酸で酸洗浄して(条件は前記洗浄と同じ)前処理を終えた。当該前処理を施した試験片を上記Ａ群・Ｂ群実施例、並びに比較例１〜１２の各メッキ浴に浸漬し、浴温２５℃、陰極電流密度１５Ａ／ｄｍ２の条件で、スターラーで強力に撹拌しながら試験片にスズ、又はスズ−鉛合金の電気メッキを施した。そして、電着皮膜が下記の膜厚条件を満たすようにしてメッキ操作を終了し、各試験片を５％リン酸ナトリウムに６０℃、３０秒の条件で浸漬した後、純水で湯洗し、乾燥して、後述の各種試験用の試料を各々作成した。」（段落【００７８】）
　
（シ）
　上記記載事項（ア）及び（カ）によれば、刊行物に記載された溶液は、スズ、又はスズ−鉛合金の電気メッキに使用するものであり、酸化防止剤として「カテコール」が添加されていることから、刊行物に記載された溶液はスズイオンを二価の状態に維持するための溶液であることは明らかである。
　
（ス）
　上記記載事項（エ）によれば、「１，２−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸」は、「１，３−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸」、「１，４−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸」と同列に記載されており、また、上記記載事項（ケ）及び（コ）によれば、「１，３−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸」、「１，４−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸」が、《比較例７》の「１，２−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸」と同様に用いられていることが理解できる。
　してみると、上記刊行物には、「１，２−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸」、「１，３−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸」、「１，４−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸」を含む「ジヒドロキシベンゼンスルホン酸」を添加することが開示されており、上記記載事項（エ）及び（ク）によれば、当該「ジヒドロキシベンゼンスルホン酸」の添加量は０．５ｇ／ｌであることが開示されている。
　
　上記記載事項（ク）における《比較例７》としての記載、上記記載事項（キ）における《比較例７》からのトリアルキルベンジルアンモニウム塩類の明示的な除去及び上記その他の記載事項（ア）〜（カ）、（ケ）〜（ス）の記載並びに当業者の技術常識を参酌すれば、上記刊行物には、以下の発明が記載されていると認められる。
　
「遊離メタンスルホン酸、２−プロパノールスルホン酸第一スズ及び２−プロパノールスルホン酸鉛；
　オクタデシルアルコールポリエトキシレート(ＥＯ３０)、ノニルアミンポリエトキシレート(ＥＯ３０)−ポリプロポキシレート(ＰＯ６)；及び
　ジヒドロキシベンゼンスルホン酸
　を含み、かつトリアルキルベンジルアンモニウム塩類を含まず、該ジヒドロキシベンゼンスルホン酸が０．５ｇ／ｌで存在し、
　酸化防止剤としてカテコールを含む、
　スズ−鉛合金の電気メッキに使用し、かつスズイオンを二価の状態に維持するための溶液。」（以下、「引用発明」という。）
　
［２］対比
　本願補正発明と引用発明とを対比すると、その機能及び作用からみて、引用発明の「遊離メタンスルホン酸」は有機スルホン酸であり、「２−プロパノールスルホン酸第一スズ」及び「２−プロパノールスルホン酸鉛」は、有機スルホン酸塩であることから、引用発明の「遊離メタンスルホン酸、２−プロパノールスルホン酸第一スズ及び２−プロパノールスルホン酸鉛」は、本願補正発明の「フルオロホウ酸、有機スルホン酸又はこれらの組み合わせからなる群から選択される酸、任意にこれらの塩を含む基礎液」に相当する。
　また、引用発明の「２−プロパノールスルホン酸第一スズ」は、上記記載事項（ク）によれば、「Ｓｎ２＋」を供給するものであることが理解され、本願補正発明の「二価スズイオン」を供給するものに相当する。
　さらに、引用発明の「オクタデシルアルコールポリエトキシレート(ＥＯ３０)、ノニルアミンポリエトキシレート(ＥＯ３０)−ポリプロポキシレート(ＰＯ６)」は、エトキシル化及びプロポキシル化界面活性剤であることは明らかであり、本願補正発明の「エトキシル化及びプロポキシル化界面活性剤からなる群から選択される１以上の界面活性剤」に相当する。
　また、本願明細書の【００１１】及び【００１２】を参照すると、
式：
　【化１】
　
（式中、Ｙはアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、遷移金属イオン及びアンモニウムイオンからなる群から選択され、ａは０である）
で表されるものは、「１，４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸」であり、引用発明における「ジヒドロキシベンゼンスルホン酸」は、これに相当するものである。
　そして、引用発明の「ジヒドロキシベンゼンスルホン酸」の添加量は０．５ｇ／ｌであり、本願補正発明の添加量（０．１ｇ／Ｌから１ｇ／Ｌ）に相当するものである。
　さらに、引用発明の「スズ−鉛合金」は、本願補正発明の「スズ合金」に相当するものである。
　
　そうすると、両者は、
「フルオロホウ酸、有機スルホン酸又はこれらの組み合わせからなる群から選択される酸、任意にこれらの塩を含む基礎液；
　二価スズイオン；
　エトキシル化及びプロポキシル化界面活性剤からなる群から選択される１以上の界面活性剤；及び
式：
　【化１】
　
（式中、Ｙはアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、遷移金属イオン及びアンモニウムイオンからなる群から選択され、ａは０である）
　で表される化合物
　を含み、かつトリアルキルベンジルアンモニウム塩類を含まず、該化合物が０．１ｇ／Ｌから１ｇ／Ｌの量で存在する、
　スズ合金の電気メッキに使用し、かつスズイオンを二価の状態に維持するための溶液。」
の点で一致し、次の点で相違している。
　
〈相違点〉
　「【化１】で表される化合物」について、本願補正発明が「酸化防止剤化合物」であるのに対し、引用発明では当該化合物が酸化防止剤の作用を奏するか否かが不明であるとともに、酸化防止剤としてカテコールを用いる点。
　
［３］判断
　上記相違点について検討する。
　同じ用途に用いる同一成分の２つの溶液において、前記の２つの溶液中に、同じ化合物が同じ量存在すれば、同じ作用を奏することは自明であるところ、引用発明と本願補正発明とは、前記のとおり、同じ用途に用いる同一成分の溶液であり、【化１】で表される同じ化合物が同じ量存在するのであるから、引用発明における「【化１】で表される化合物」は、必然的に本願補正発明の「【化１】で表される同じ化合物」と同じ作用である酸化防止の作用を有するといえる。
　また、スズ及びスズ合金の電気メッキに使用するための溶液における酸化防止剤として、ヒドロキシベンゼンスルホン酸は従来周知（必要であれば、特開平１１−１５２５９４号公報（請求項１の（１）式に示す化合物）、特開平１１−１５２５９５号公報（請求項１の（１）式に示す化合物）等参照）であり、本願の明細書の段落【０００８】〜【００１４】の記載からみても、スズ及びスズ合金の電気メッキに使用するための溶液において、【化１】で表される化合物が含まれれば、その物性として、必然的に酸化防止の作用を有するといえ、引用発明における「【化１】で表される化合物」も酸化防止剤であるといえる。
　なお、引用発明では酸化防止剤としてカテコールを用いているが、ほかに酸化防止剤として機能するものの存在を妨げる理由は格別に見当たらない。
　
　してみると、引用発明の「【化１】で表される化合物」は、酸化防止剤であるといえ、本願補正発明における「【化１】で表される酸化防止剤化合物」に相当するものである。
　
　よって、本願補正発明と引用発明の両者に相違点はなく、本願補正発明の構成は、全て引用刊行物に示されているものである。
　
　したがって、本願補正発明は、引用発明との間に格別の相違は認められず、上記刊行物に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
［４］むすび
　以上のとおり、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項又は同条第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合しないので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　よって、上記［補正の却下の決定の結論］のとおり、決定する。
　
　なお、審判請求人は、回答書において、主張が認められない場合には分割出願を希望する旨言及しているが、分割出願の機会を与える特別な事情を見出すことはできない。
　
【３】本願発明について
［１］本願発明
　平成２４年１２月１４日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成２４年７月２７日付けの手続補正書によって補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。
　
（本願発明）
「フルオロホウ酸、有機スルホン酸又はこれらの組み合わせからなる群から選択される酸、任意にこれらの塩を含む基礎液；
　二価スズイオン；及び
式：
　【化１】
　
（式中、Ｙはアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、遷移金属イオン及びアンモニウムイオンからなる群から選択され、ａは０である）
　で表される酸化防止剤化合物
　を含み、該酸化防止剤化合物が０．１ｇ／Ｌから１ｇ／Ｌの量で存在する、
　スズ及びスズ合金の電気メッキに使用し、かつスズイオンを二価の状態に維持するための溶液。」
　
［２］引用刊行物の記載
　原査定の拒絶の理由に引用された上記刊行物の記載事項は、前記【２】［２］（１）に記載したとおりである。
　
［３］対比・判断
　本願発明は、前記【２】で検討した本願補正発明の「溶液」について、「エトキシル化及びプロポキシル化界面活性剤からなる群から選択される１以上の界面活性剤」を削除し、「かつトリアルキルベンジルアンモニウム塩類を含まず」という限定をなくすものである。
　そうすると、本願発明の発明特定事項を全て含み、さらに構成要件を付加・限定したものに相当する本願補正発明が、前記【２】［２］（３）に記載したとおり、上記刊行物に記載された発明であるから、当該構成要件の付加・限定をなくした本願発明も、同様の理由により、引用発明との間に格別の相違は認められず、上記刊行物に記載された発明である。
　
［４］むすび
　以上のとおり、本願発明は、上記刊行物に記載された発明であり、特許法第２９条第１項第３号に規定する発明に該当し、特許を受けることができないから、本願の他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。