【事件の表示】
　特許第２６７７５５８号に関する訂正審判事件について、次のとおり審決する。
【結　論】
　特許第２６７７５５８号に係る明細書及び図面を本件審判請求書に添付された訂正明細書及び図面のとおり訂正することを認める。
【理　由】
１．本件訂正審判に係る特許第２６７７５５８号は、昭和６２年３月１１日に出願されたものであって、平成９年７月２５日にその特許権の設定登録がなされ、平成１１年５月６日に訂正請求がされ、平成１１年８月１８日付けの異議決定により当該訂正請求が認められたものである。
　
２．本件訂正審判は、特許第２６７７５５８号の明細書を、添付した訂正明細書のとおり訂正することを求めるものであるが、この訂正は、平成１１年５月１６日付け訂正請求書に添付された訂正明細書（以下、「特許明細書」という。）を、以下のａ〜ｆのとおり訂正するものである。
ａ．特許請求の範囲について
　特許請求の範囲第１項について、「該基板上のマスクパターン像の像倍率に関する情報を発生させる」を追加する。
ｂ．特許請求の範囲について
　特許請求の範囲第５〜１０項を削除する。
ｃ．発明の詳細な説明について
　特許明細書第３頁５−７行の「アライメント方法に関するものである。また本発明は本発明方法を実施するのに使用する装置に関するものである。」を「アライメント方法に関するものである。」と訂正する。
ｄ．発明の詳細な説明について
　特許明細書第６頁３−４行目の「基板に対して整列させるアライメント方法及び装置を提供することにある。」を、「基板に対して整列させるアライメント方法を提供することにある。」と訂正する。
ｅ．発明の詳細な説明について
　特許明細書第８頁１１行目、１２行目及び２９行目、第９頁１６行目、第１０頁３行目及び１５行目、第１２頁３行目並びに第２２頁１１行目及び１４行目の「本発明装置」を、それぞれ、「本発明に関する装置」と訂正する。
ｆ．発明の名称について
　「マスク基板と互いに整列させるアライメント方法及び装置」を「マスクと基板とを互いに整列させるアライメント方法」と訂正する。
　
４．上記訂正請求によって訂正された明細書の特許請求の範囲第１〜４項に記載された発明（以下、「訂正発明」という。）の要旨は、その特許請求の範囲第１項に記載された次のとおりのものである。
「１．マスク及び基板に存在するアライメントマークを使用し、第１基板マークを第１マスクマークに対して直接に整列させ、第２基板マークを第１マスクマークに対して直接に整列させ、この際基板上にマスクパターン像を形成するレンズ系によってアライメントを行うことにより、マスクに形成したパターンと該マスクパターンの像を形成させるべき基板とを互いに整列させるに当り、
　前記レンズ系を使用して、さらに、少なくとも１個の基板マークを第２マスクマークに対して直接に整列させるとともに、該基板上のマスクパターン像の像倍率に関する情報を発生させることを特徴とするマスクと基板とを互いに整列させるアライメント方法。」
　
５．上記訂正請求の適否について判断する。
（１）上記訂正のうち、
　ａの訂正事項についてみると、この訂正は、マスクと基板とを互いに整列させる際に、さらに基板上のマスクパターンの像倍率に関する情報を発生させることを限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮に相当する。
　ｂの訂正事項についてみると、この訂正は、特許請求の範囲を削除するものであるから、特許請求の範囲の減縮に相当する。
　ｃ〜ｆの訂正事項についてみると、この訂正事項は、特許請求の範囲の訂正に伴い、前記ｂの訂正に伴い、発明の名称及び発明の詳細な説明の記載をこれに整合させたものであるから、明りょうでない記載の釈明に相当する。
　そして、特許明細書第１４頁１３−２８行目には、「この装置はアライメント系ＡＳ１及びＡＳ２と極めて密接に協働する。アライメント系ＡＳ１がマークＰ１とＭ２とが正しく整列されていることを確かめた時点で、干渉計系を備える装置はこの装置によって形成される座標系における基板マークＰ１の位置を決める。そこで基板上のマスクマークＭ２の像の位置が分かり、従って基板上のマスクパターンＣの局部的像のＸ方向およびＹ方向の位置が分かる。次いで、基板マークＰ１をビームｂ´の通路に持って来てから、アライメント系ＡＳ２を使用してこのマークをマスクマークＭ１に対して整列させる（第４図の位置II）。次いで、この移動測定装置によって形成される座標系内で基板を移動させる方位角および距離を移動測定装置によって決めて、マークＰ１をマークＭ１と整合させる。これにより、・・・マスクＭＡにおけるマークＭ１とＭ２との間の距離が基板面に結像する倍率も分る。この結果、マスクパターンＣが基板に結像する倍率が分る。この情報を使用して、例えばマスクＭＡと投影レンズ系ＰＬとの間の距離を変更することにより、投影レンズ系ＰＬの結像倍率を補正することができる。」と記載されており、この記載は、基板マークＰ１をマスクマークＭ２に対して整列させ、基板マークＰ１をマスクマークＭ１に対して整列させることにより、マスクパターンが基板上に結像する倍率が求まり、この情報を使用することを意味するから、ａの訂正事項で限定された点は、特許明細書に記載された事項の範囲内のものであると認められる。
　また、特許明細書第５頁２９行目−第６頁４行目には、「本発明の目的は、マスクパターンと基板との相互の方位角を、露光装置のフレームを介することなく光学的手段によって直接測定し、投影レンズ系がマスクパターン像を基板上に形成する際の倍率を光学的に測定することにより、マスクパターンを基板に対して整列させるアライメント方法および装置を提供することにある。」と記載されていることから、マスクパターンを基板上に形成する際の倍率を光学的に測定することを目的とすることが記載されており、訂正発明の目的は、特許明細書に記載された発明の目的の範囲内のものと認められるから、訂正事項ａは、特許請求の範囲を実質的に変更するものでもない。
　訂正事項ｂ〜ｆは、請求項の削除及びそれに伴い発明の詳細な説明等の記載を整合させたものであるから、当然に、特許明細書に記載された事項の範囲内のものであり、特許請求の範囲を実質的に変更するものでもない。
　したがって、上記ａ〜ｆの訂正事項は、いずれも、特許明細書又は願書に添付された図面に記載された事項の範囲内のものである。かつ、これらの訂正によって、発明の目的が変更されるものでもないから、前記訂正事項は、いずれも、実質上特許請求の範囲を拡張するものでもなく、また、変更するものでもない。
　
（２）次に、独立特許要件について判断する。
　本件特許に対して、平成１０年５月１８日に申し立てられた特許異議申立て（平成１０年異議第７２４３２号）に引用された刊行物には、以下の事項が記載されている。
米国特許第４０５２６０３号明細書（１９７７年１０月４日発行、以下、「刊行物１」という。）には、「投影焼付システムは、マスク４５と基板２１との間に位置するレンズ６３と、平行光光源６５とを備える。光源６５は、水銀アークランプ６６と、２個のステージコンデンサシステム６７とを備える。マスク４５は、マスク４５のマスクパターン７０に沿って位置する一対の整合用離隔標識６８、６９を担持する。前側および後側整合指状部７１、７３は、前側および後側整合用標識６８、６９とそれぞれ一列になってマスク４５の露光パターン視野の外側に搭載してある。このような配置であれば、ウェーハ２１の表面のマスクパターン７０の投影に干渉することなく、ウェーハ２１上のレジスト層の露光の最中も指状部７１、７３を残留させておくことができる。整合指状部は、照明光をランプ６６から二股分岐繊維束７５を介して得られる。適当なシャッタ６４、９９、１０１を設け、前側整合光学系と後側整合光学系とを交互照射し、マスクパターン７０を介したウェーハの露光を可能ならしめる。ＴＶカメラ７７を設け、各整合チャネルの整合指状部によって提供される画像を観察する。この画像は、制御施設７９に居るオペレーターにＣＲＴモニタ８１上で提示される。オペレーター制御施設７９には、モニタ８１と制御パネル８２とが含まれる。このパネルには照明が付いていて、整合を実施しようとするときにはオペレーターにシステムと信号との状態を指示する。制御としては、オペレーターがシステムに信号を送って整合の実施が完了していることを知らせるか、別の整合を提供するように要求するか、そのどちらかが準備してある。ジョイスティック８３はパネル８２上に搭載され、所望の方向と所望の移動量とを制御システム８５に入力することによってＸ−ＹテーブルにＸ、Ｙ運動を生じさせるが、この制御システムでステッピングモーター２３、２４、２５、２６を起動してウェーハパターンないし焦点板４３がマスク整合用標識６８と６９との双方またはいずれか一方と整合されることになっている。ジョイスティック８３は手操作では径方向にも可動であり、所望方向と移動速度とを指示可能な電圧を誘起する。アナログ情報はディジタル情報に変換され、制御システム８５に伝達され、この制御システムには、たとえばＩＢＭモデル１８２６アダプタ７２とモデル１８００コンピュータ７４とを備えている。ついで制御システム８５は、ステッピングモーター２３、２４、２５、２６でテーブル１１が必要とする距離、速度、方向に移動させる。オペレーターは整合が完了したときに制御ボタンを押圧して指示を与える。干渉計３９と４１とは、計数器１１８と連携しているが、計数器１１８はテーブルのＸとＹとの直交方向の移動距離を記録しており、このことは後で第３図と関連させて説明することになっている。電気信号が、制御システム８５とさまざまな、モーター類、計数器類、シャッタ類とそれに制御施設７９との間で在来の手段で、システムの下位組立体を接続する矢印に沿って交互に伝達されることは、第１図に模式的に描出したとおりである。第２図には、整合光学系をいっそう詳細に例示してある。水銀ランプ６６は光線を二股分岐ファイバ束７５を介し前側および後側整合チャネルに対して供給する。フォトレジスト層の早過ぎる露光は適切な強度フィルタ８７によって避けられる。指状部７１と７３とはそれぞれ照明チャネル７２と７４とを備え、この照明チャネルにはシャッタ９９と１０１、第２ステージコンデンサ１０２と１０３、ビーム調節反射鏡１０４、１０５、１０６、１０７、ビームスプリッタ１０８と１０９とが備わっている。各チャネルの整合用照明光は、マスク４５上の整合用標識６８と６９とレンズ６３とを通過する。この照明光はウェーハ表面２１（ないし焦点板４３）で反射され、レンズ６３と整合用標的６８と６９とを逆通過する。この焦点板ないしウェーハ整合用標的は標識６８と６９との平面に結像される。この画像はビームスプリッタ１０８と１０９とによって整合光学系１１１と１１２とに送られる。整合用標識の画像は交互にテレビカメラ７７にリレー反射組立体１１３を用いて提示される。画像のどちらか一方がカメラ７７にシャッタ９９と１０１との位置に依存して提示され、それで一方のチャンネルだけを一時に観察することができる。（第５欄２行目−第６欄７行目参照）」、「後側整合チャネル７２上のシャッタ９９は、開放されるとマスク整合用標識６９を表示し、制御施設７９に在るモニタ８１上に焦点板４３またはウェーハ整合用標識のどちらかを表示する。ついでシステムは、オペレーターに整合を実施するよう合図する。オペレーターは整合用標的の画像を観察してジョイスティック８３を適当な方向に動かすと、コンピュータを介してＸ−Ｙテーブル駆動装置が起動され、整合用標的の交点を第４ａ図と第４ｂ図とに図示してあるとおり、ギリシャ十字のそれぞれの直線の内部に等間隔になるまで動かす。テーブル１１の移動距離は、干渉計３９と４１とによって精密に計測され、計数器１１８のＸ、Ｙ位置計数器に記録される。ついでオペレーターは制御ボタンを押圧して整合が完了してテーブル１１のＸ、Ｙ座標が、干渉計計数器によって確認されたとおり、システム制御装置８５中に格納されたことを指示する。シャッタ９９は閉じられ、それからＸ−Ｙテーブル１１は、テーブルまたはウェーハ整合用標的が前側整合チャネル７４と一致するように動かすため、Ｘ、Ｙ方向に所定距離だけ割出しされ、前側整合チャネルシャッタ１０１は開放されて整合用標的の重畳画像をオペレーターに向かって制御施設７９に在るモニタ８１上に提示する。ついでオペレーターは整合を実行すると合図し、ジョイスティック８３を動かすことによってそれを実行する。整合が完了すると、オペレーターは整合完了ボタンを押圧して、干渉計３９と４１とによって確認されたとおりにＸ、Ｙ計数器上の計数値をシステム制御装置８５に記録して格納する。それからさらに別の整合が特殊の整合方法によって要求されているとおりに実行されてから、マスクマニピュレータ５５が起動され、マスク４５をマスク保持器の旋回点５４の周囲に補正角だけ旋回させ、マスクをＸ−Ｙテーブルのシステム角が０になるまで移行するか、またはマスクをウェーハパターン角が０になるまで移行するかそのどちらかにするのは、この後で説明するとおりである。（第７欄３６行目−第８欄５行目参照）」及び「相前後するマスクの水準、つまりＢ水準のマスクとそれに続く水準のマスクパターンをウエーハ上に露光するため、マスク体システム角度ばかりでなく、ウェーハ体システム角度も調節することが必要であって、なぜなら、ウェーハは以前の露光時に在ったと同じくテーブル上の同じ位置には角度的に位置決めされていないか、さもなければウェーハは異なる機械上で位置決めされて露光されているためその直交する方向への移動の際にやや異なる誤差を惹起しているからである。マスクとウェーハサイトのパターンとの並進位置も、マスクパターンの中心が各露光サイトと一致するように決定されなければならない。第７ａ図ステップ１の流れ図で示したとおり、ウェーハ２１はテーブル１１上に位置決めされ、その表面に形成された一連の装置のサイトパターンを有する。それぞれのサイトには一対の整合用標識２ａ、２ｂが含まれ、それらはＡ水準のマスク露光の間にウェーハ上に形成してあり、それぞれの後続の整合を実施する際に用いて、つぎのマスクパターンの正確なパターンでの遮蔽を達成することができる。図示の実施例では、標識は、十字形をしたマスク標識６８と６９とを有するギリシャ十字形である。整合は第４図で図示したとおり、マスク標識の十字形をギリシャ十字形の内側に芯出しすることによって達成される。マスク整合用標的の場合同様、ウェーハ整合用標識は、任意の適当な形状であって宜しく、しかもサイトについては何処にあっても宜しい。整合感度を得るため、間隔を最大にすることが望ましい。図示の実施例では計算を簡略化するため、標識は装置パターンの中心のいずれの側からも等距離に置かれる。Ａ水準の場合と同様、テーブル１１は先ずシステム制御装置８５に制御されて基準位置に動かされ、ついで所定距離だけ基準ウェーハ標識２Ａを後側整合チャネルの視野に移行させる。ついで整合を第７ａ図ステップ１に図示したように行う。マスクとサイトパターンとのテーブルのＸ、Ｙ直交軸に対する角度は説明のため誇張してある。ついでサイト１の基準ウェーハ標識２ａは、前側マスク標識６８との整合へと前側整合チャネルを用いて動かされ、マスク対システム角度θｙ　（ステップ２と４）を得る。整合の精度はマスク整合用標識間の算定距離ｄ´ｍと既知の距離ｄｍとを比較することによって点検され、必要に応じて距離が選定許容差内で一致するまで整合が反復されるのは第７ａ図のステップ３に図示してあるとおりである。ついでウェーハ対システム角度θｙ　が、第７ａ図と第７ｂ図とのステップ５と７とで示したとおり、サイト１の前側ウェーハ標識を前側マスク標識と整合させるため動かすことによって算定され、ここに、
　Ｗｓθｙ＝Ｔａｎ−１（Ｘ３−Ｘ２）／（Ｙ３−Ｙ２）
である。整合の精度は、ウェーハサイトの整合用
標識間の既知距離を、公式：
　ｄ´ｗ＝√（Ｘ３−Ｘ２）２＋（Ｙ３＋Ｙ２）２によって算定された距離で点検することによって確認されるのは、ステップ６に図示したとおりである。整合は必要に応じてｄ´ｗが選定許容差内でｄｗに等しくなるまで反復される。ついでマスク対ウェーハ角度は、マスク対ウェーハ角度が任意の選定許容差内で０に等しくなるようにマニピュレータによって旋回されたマスクを用い、マスク対システムθｙとウェーハ対システムθｙとの差に基づいて０に等しくすることができるかもしれない。このことは、この点、たとえば高度なヨーイングのＸ−Ｙテーブルを用いる場合の高精度のためとか、さもなければ露光検査サイトのためとかに、各サイトを整合させる場合に行われる。（第１０欄２０行目−第１１欄２１行目参照）」と記載され、第１図にアライメントシステムの概要が、第２図にアライメント光学系の概要が、及び、第７ａ図及び第７ｂ図にアライメントのフローチャートがそれぞれ示されていることから、刊行物１には、「マスク４５に担持された前側整合標識６８及び後側整合標識６９並びにウェーハ表面の一対の整合用標識２ａ及び２ｂを用い、ウェーハの整合用標識２ａと後側マスク標識６８とが整合され（第７Ａ図、ＳＴＥＰ１参照）、ウェーハ整合用標識２ａと前側マスク標識６９とが整合され（第７Ａ図、ＳＴＥＰ２参照）、マスク対システム角度θｙ　を得（第７Ａ図、ＳＴＥＰ３〜４参照）、ついでウェーハ整合用標識２ｂと前側マスク標識６９とが整合されて（第７Ａ図、ＳＴＥＰ５参照）、ウェーハ対システム角度ＷＳθｙを得る（第７Ａ図、ＳＴＥＰ６〜７参照）アライメント方法」の発明が記載されていると認める。
特開昭５５−４１７３９号公報（以下、「刊行物２」という。）には、縮小投影式マスクアライメント装置に関し、「次にマスク１とウエハ３との位置整合、即ちウエハ３の絶対座標（基準座標）に対する位置整合について説明する。ところで２個所に形成されたアライメントパターン７ａ，３５ａ、及び７ｂ，３５ｂに対応させて検出器４５ａ及び４５ｂが設けられている。検出器４５ａ及び４５ｂは各々、マスクアライメントパターン７ａ及び７ｂを照射する光を導くオプティカルファイバ４８ａ及び４８ｂ、コンデンサレンズ４７ａ及び４７ｂ、ミラー１０ａ及び１０ｂ、露光光と同じ波長の光を照射する水構成されるマスクアライメントパターン照明によりマスクアライメントパターン７ａ及び７ｂの窓のエッヂが検出器４５ａの受光素子２４及び検出器４５ｂの受光素子２５により明るく検出され、第８図（ｂ）に示す検出信号が得られ基準位置からのＭ１，Ｍ２の位置が精度よく求まる。またウエハアライメントパターン３５ａ及び３５ｂの各々の照明には、オプティカルファイバ３６ａ及び３６ｂ，ハーフミラー１２ａ及び１２ｂ、対物レンズ１８ａ及び１８ｂ、並びにミラー１１ａ及び１１ｂを用い、縮小投影レンズ２の入射瞳Ａに向けて照明する。ウエハアライメントパターン３５ａ及び３５ｂで反射した光は逆の光路を通り、リレーレンズ３７ａ及び３７ｂ、ミラー３８ａ及び３８ｂ、を経てスリット２３ａ及び２３ｂに達する。対物レンズ１８ａ及び１８ｂの各々の焦点はマスクアライメントパターン７ａ及び７ｂに合致しており、両パターン７ａ，３５ａ及び７ｂ，３５ｂの重ね合わせ像は、スリット２３ａ及び２３ｂ面上の位置に結像する。なおオプティカルファイバ３６ａ及び３６ｂ，４８ａ及び４８ｂから導かれる照明光は、露光用光と同じ波長域の光であり、縮小投影レンズ２の色収差による焦点ぼけを避けている。そこでまず制御装置（図示せず）からの指令でＸテーブル２８ａを座標原点（光軸３４の位置）から右方向へＮ×Ｐ（Ｎはチップ個数、Ｐはチップ間距離）なる距離（最初にウエハに集積回路をステップアンドリピートして焼付ける条件と同じ）レーザ測長器を用いて、高精度に移動させて停止させる。すると縮小投影レンズ２の最下位置、即ち光軸３４上には、チップ８ｘ１が位置することになり、このチップ８ｘ１の線状ウエハアライメントパターン３５ａとマスクアライメントパターン７ａ及び線状ウエハアライメントパターン３５ｂとマスクアライメントパターン７ｂとの像が第７図に示すように重畳された形となる。しかしウエハアライメントパターン３５ａ及び３５ｂ共にチップの中心（光軸３４）を中心として放射状に線状パターンが向くように形成されているので、第３図に示すごとく縮小投影レンズ２を通過した光が射出瞳Ｂより角度θをもって照射されたとしても、この線状パターンの各々の相対する両段差の部分で反射する反射光は対称的で、相対的に光量に差が生じることはなく、第８図（ｂ）に示す如く対称的な信号波形を得ることができる。そしてアライメントパターン７ａと３５ａの結像を検出器４５ａによってスリット２３ａを走査して受光素子２４によって検出すると、ｘ軸方向のマスク１とチップ８ｘ１との相対変位量Δｘ１が高精度に求まり、上記アライメントパターン７ａと３５ａに対して光軸３４を中心にして９０度位置をずらして設置されたアライメントパターン７ｂと３５ｂの結像を検出器４５ｂによってスリット２３ｂを走査して受光素子２５によって検出するとｙ軸方向のマスク１とチップ８ｘ１との相対的変位量Δｘ２が高精度に求まる。」（第４頁右上欄１１行目−第５頁左上欄１６行目）と記載されている。
　特開昭５７−１４２６１２号公報（以下、「刊行物３」という。）には、縮小投影型露光装置のアライメント光学系に関し、「このような構成によってウエハー（７）のパターン面（７ａ）上に設けられたアライメントマーク（Ａ）とレテイクル（３）のパターン面（３ａ）上に設けられた基準マーク（Ｂ）とにライトガイド（２０）からの光束が供給され、両者の像がＩＴＶ撮像管（２１）を通して観察される。第１図中にはアライメントマーク（Ａ）と基準マーク（Ｂ）とを通る主光線（１１）の様子を実線で記入した。主光線（１１）は第１対物レンズ（１５）を射出した後光軸に平行となり、ビームスプリッター（１７）で反射された後、撮像管（２１ａ）の中心に達する。一方、ビームスプリッター（１７）を通過する主光線（１１）は絞り（１８）の中心を通り、コンデンサーレンズ（１９）で屈折されて光軸（１３）に平行になりライトガイド（２０）のほぼ中心に達する。すなわちこの主光線（１１）がライトガイド（２０）から供給される照明光の主光線に相当する。第１対物レンズ（１５）と第２対物レンズ（１６）との間は平行系に構成されているから、この間の間隔が変化してもレテイクルパターン面（３ａ）と絞り（１８）及びＩＴＶ撮影面（２１ａ）との共役関係は変わらない。従って、チップサイズの変更に伴い、アライメント用マークの位置が変わっても、第１対物レンズ（１５）及び反射鏡（１４）を一体にして、その新しいアライメントマーク位置に移動することにより、絶えずモニターＴＶ上で焦点の合った像を見ることが出来、しかも絞り（１８）が視野絞りとして機能することにより照明領域が限定されているため、スクライブライン以外の領域を照明する恐れは全くない。今、アライメントマークの位置が一定の所にある場合を考えると、ライトガイド（２０）の端面（２０ａ）の大きさと位置は、第１と第２の対物レンズ（１５），（１６）及びコンデンサーレンズ（１９）による主投影対物レンズの瞳（６）の像の大きさと位置に合わせればよい。本発明においては、主投影対物レンズの瞳（６）は明らかに第１及び第２対物レンズの光軸（１３）からも外れた位置にあるため、この瞳との共役点も光軸外にあるため、光源としてのライトガイドの端面（２０ａ）を光軸外に位置させることが望ましい。こうすると、主投影対物レンズの瞳（６）を開口絞りとするケーラー照明が形成され、しかもインコヒーレントな照明となるので、均一の明るさの、高い解像を示す像が、モニターＴＶ上で観察される。」（第３頁左下欄１行目−第４頁左上欄９行目）と記載されている。
　特開昭５６−１１０２３４号公報（以下、「刊行物４」という。）には、集積回路の製作において、フォトマスクをウエハーに投影レンズを用いて焼付ける投影焼付け装置に関し、「１は超高圧水銀灯の如き感光性焼付け用光源である。この光源１は焼付けの際マスクを照明する。２はコンデンサーレンズである。３，３´はマスクのアライメントマーク部を照明し、観察する非感光性照明源、観察系を含む観察光学系である。４はマスクである。このマスクは第４図に示す如く領域Ａに回路パターン領域Ｂ１，Ｂ２にアライメントマークＭが形成されている。領域Ａはコンデンサーレンズからの感光光によって照明され、アライメントマーク部分は照明光学系３によって非感光によってアライメント時に照明される。５は共通結像レンズ６と共にアライメントマーク投影光学系を形成するレンズ素子若しくは補正光学素子である。この素子はマスク４の回路パターン領域Ａの投影光路外に配置される必要がある。従ってマスク、ウエハーの直前でマークＭ部分に対向して設けられることが望ましい。６は投影レンズである。このレンズは感光光に対して十分に収差補正がなされている。例えば超高圧水銀灯の輝線スペクトルである波長４３６ｎｍ又は４０５ｎｍあるいはその両方の波長の光に対して収差が良好に補正されている。従って、マスクの回路パターンはウエハー７上にほぼ無収差の状態で結像される。一方この投影レンズ６だけマークＭをウエハー７上に投影した場合、非感光性の光の波長に対応してピントずれや倍率ずれを生じる。従って光学素子５はこの倍率ずれ、ピントずれを補正する。この補正光学素子５は単レンズ、貼合せレンズ、場合によっては単なる平行平面板等で構成されている。そして、この補正光学素子５及び投影レンズ６は不図示の鏡筒によって一体の関係を有している。８はウエハー７の載置台であり、ｘ，ｙ，θに調整可能である。本実施例は上述の如く構成されているため、まず非感光光によってマークＭ部分を照明する。尚、投影レンズ６，補正レンズ５はマスクに対して固定である。この照明によってマークＭはアライメント光学系５，６によってウエハー７上に投影される。ウエハー７上のアライメントマークとこのマークＭの像を観察系３を通してウエハー載置台８ｘ，ｙ，θ移動させアライメントを行なう。アライメント終了後、光源１を点灯して焼付け光学系６によって回路パターンを投影焼付けを行なう。（第３頁右上欄５行目−右下欄７行目）と記載されている。
　特開昭５２−１５４３６９号公報（以下、「刊行物５」という。）には、マスクパターンの像を基板上に繰返し直接形成する際に基板上及びマスク中のグレーテイング（又は格子と称する）を位置決め基準素子として使用してマスク中に形成したマスクパターンを基板に対して位置決めする方法に関し、「マスクに設けられたマスク回折格子とウエハに設けられたマスク回折格子とを使って、マスク回折格子とウエハ回折格子との相対的関係を投影光学系を介して検出し、２つの格子の相対位置を調整する」ものが記載されている。
　前記訂正発明と前記刊行物１〜５に記載されたものとを対比すると、前記甲各号証には、いずれにも、訂正発明の必須の構成である「基板上のマスクパターン像の像倍率に関する情報を発生させる」構成が記載されておらず、かつ該構成が示唆されているとすることもできない。
　すなわち、刊行物１に記載された発明は、訂正発明と同様、第１基板マーク（ウエハマーク）を第１マスクマーク（マスクマーク６８）に対し直接的に整列させ、さらに第１基板マークを第２マスクマーク（マスクマーク６９）に対して直接に整列させるものであるが、刊行物１に記載された発明は、このとき得られた情報を整合の精度を点検するために使用するものであって、これを基板上のマスクパターン像の像倍率を求めるために使用することについて、何ら示唆するものではない。
　また、刊行物２〜５にも、基板上のマスクパターンの像倍率を求める手段については、何ら記載されてておらず、かつ、示唆もされていない。
　したがって、訂正発明は、前記刊行物１〜５に記載されたものに基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　
（３）以上のとおりであるから、上記訂正請求は、平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項〜第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
　よって、結論のとおり決定する。