【事件の表示】
　特許第３３８７２０４号「偏光板、偏光板の製造方法および液晶表示装置」の請求項１ないし２３に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３３８７２０４号の請求項１ないし２１に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
  特許第３３８７２０４号の請求項１乃至２３に係る発明についての出願は、平成６年４月１５日（優先権主張　平成５年４月１５日、平成５年４月２３日、平成５年４月２７日、平成５年５月２４日、平成５年６月１１日）に特許出願され、平成１５年１月１０日にその発明について特許権の設定登録がなされ、その後、その特許について、異議申立人・中山省二及び異議申立人・宍戸孝雄より特許異議の申立てがなされ、取消しの理由が通知され、その指定期間内である平成１６年５月１７日に訂正請求がなされたものである。
　
２．訂正の適否についての判断
（１）訂正の内容
ア．訂正事項１
　特許請求の範囲の請求項１について、「この偏光層の両表面に形成された支持層」とあるのを、「この偏光層の両表面に形成されたセルロース系の膜からなる支持層」と訂正する。
　同請求項１について、「この偏光基板を構成する一方の支持層の表面に形成されたアンダーコート層」とあるのを、「この偏光基板を構成する一方の支持層の表面にアクリル系樹脂又はシロキサン系樹脂を用いて形成されたアンダーコート層」と訂正する。
イ．訂正事項２
　特許請求の範囲の請求項８を削除する。
ウ．訂正事項３
　特許請求の範囲の請求項１１を削除する。
エ．訂正事項４
　特許請求の範囲の請求項１０（訂正請求書には「請求項９」と記載されるが、これは「請求項１０」の誤記）について、
「請求項１において、
　前記式（１）中、
　Ｒ１はフッ素を含む、炭素数１〜２０のアルキル基，置換アルキル基，アルコキシ基および置換アルコキシ基から選択される少なくとも一種、
　Ｒ２は水素または炭素数１〜４のアルキル基，置換アルキル基，アルコキシ基および置換アルコキシ基から選択される少なくとも一種、
　Ｘはハロゲン基，水酸基，アルコキシ基およびこれらの基の一部が置換された基から選択される少なくとも一種の反応性基であることを特徴とする偏光板。」
とあるのを、
「偏光層およびこの偏光層の両表面に形成された支持層を有する偏光基板と、この偏光基板を構成する一方の支持層の表面に形成されたアンダーコート層と、このアンダーコート層側の最も外側に位置し、含フッ素シラン化合物を用いて形成された汚染防止層と、を含み、
　前記アンダーコート層は、ＪＩＳ　Ｂ　０６０１に基づく中心線平均粗さが１００〜５００ｎｍであり、
　前記含フッ素シラン化合物は、下記式（１）で示される、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリクロロシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリブロモシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリヒドロキシシラン、パーフルオロヘプタデシルトリメトキシシラン、パーフルオロオクタデシルジメチルクロロシラン、パーフルオロヘキサデシルメチルジクロロシランおよび３，３，３−トリフルオロプロピルトリクロロシランから選択される少なくとも一種であり、
　当該含フッ素シラン化合物を用いて形成された前記汚染防止層は、水の接触角が７０度以上となる撥水性を有していることを特徴とする偏光板。
式（１）
　　　（Ｒ1）a（Ｒ2）b−Ｓｉ−（Ｘ）c
　前記式（１）中、　
　Ｒ１はフッ素を含む、炭素数１〜２０のアルキル基，置換アルキル基，アルコキシ基および置換アルコキシ基から選択される少なくとも一種、
　Ｒ２は水素または炭素数１〜４のアルキル基，置換アルキル基，アルコキシ基および置換アルコキシ基から選択される少なくとも一種、
　Ｘはハロゲン基，水酸基，アルコキシ基およびこれらの基の一部が置換された基から選択される少なくとも一種の反応性基、
　ａは１〜３の整数、
　ｂは０または１〜２の整数、
　ｃは１〜３の整数を示す。」
と訂正する。
オ．訂正事項５
　特許請求の範囲の請求項１３について、「この偏光層の両表面に形成されたセルロース系の膜からなる支持層」と訂正する。
　同請求項１３について、「ＪＩＳ　Ｂ　０６０１に基づく中心線平均粗さが１００〜５００ｎｍであるアンダーコート層を形成する工程」とあるのを、「アクリル系樹脂又はシロキサン系樹脂を用いてＪＩＳ　Ｂ　０６０１に基づく中心線平均粗さが１００〜５００ｎｍであるアンダーコート層を形成する工程」と訂正する。
カ．訂正事項６
　特許請求の範囲の請求項１５について、「この偏光層の両表面に形成された支持層」とあるのを、「この偏光層の両表面に形成されたセルロース系の膜からなる支持層」と訂正する。
　同請求項１５について、「アンダーコート層を形成する工程」とあるのを、「アクリル系樹脂又はシロキサン系樹脂を用いてアンダーコート層を形成する工程」と訂正する。
キ．訂正事項７
　特許請求の範囲の請求項１８について、「この偏光層の両表面に形成された支持層」とあるのを、「この偏光層の両表面に形成されたセルロース系の膜からなる支持層」と訂正する。
　同請求項１８について、「ＪＩＳ　Ｂ　０６０１に基づく中心線平均粗さが１００〜５００ｎｍであるアンダーコート層を形成する工程」とあるのを、「アクリル系樹脂又はシロキサン系樹脂を用いてＪＩＳ　Ｂ　０６０１に基づく中心線平均粗さが１００〜５００ｎｍであるアンダーコート層を形成する工程」と訂正する。
ク．訂正事項８
　特許請求の範囲の請求項８及び１１の削除に伴い、請求項の番号を繰り上げ、かつ、引用する請求項の番号が整合するように当該番号を訂正する。
　
（２）訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　訂正事項１は、第１に、偏光基板を構成する支持層について「セルロース系の膜からなる」ことを限定しようとするものであり、特許明細書の段落００４４に記載されている。
　訂正事項１は、第２に、アンダーコート層について、「アクリル系樹脂又はシロキサン系樹脂を用いて」いることを限定しようとするものであり、特許明細書の段落００２６に記載され、かつ、特許明細書の特許請求の範囲の請求項８で特定されている内容である。
　この訂正事項１は、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　訂正事項２は特許請求の範囲の請求項８を削除するものであり、また、訂正事項３は特許請求の範囲の請求項１１を削除するものであり、これらの訂正は特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　訂正事項４は、第１に、特許明細書の特許請求の範囲の請求項１，１０及び１１の内容を合わせ、第２に、「汚染防止層は、水の接触角が７０度以上となる撥水性を有している」ことを限定したものである。この第２の事項は、特許明細書の段落００１１に記載されている。この訂正事項４は、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　訂正事項５，６，７は、訂正事項１と同様の内容であり、これらの訂正は特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　訂正事項８は、特許明細書の特許請求の範囲の請求項８，１１の削除に伴い、請求項の番号の整合をとったものである。この訂正は特許請求の範囲の減縮、及び明りょうでない記載の釈明を目的とするものに該当する。
　また、上記訂正事項１乃至８はいずれも、新規事項の追加に該当せず、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
　
（３）むすび
　したがって、上記訂正は、特許法第１２０条の４第３項で準用する平成６年法律第１１６条による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書き、第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．特許異議の申立てについての判断
（１）本件発明
　上記２．で示したように上記訂正が認められるから、本件の請求項１乃至２１に係る発明（以下、それぞれ、「本件発明１乃至２１」という。）は、上記訂正に係る訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１乃至２１に記載された事項に特定されるとおりのものである。（上記２．（１）訂正の内容参照。）
　
（２）異議申立人提出の証拠に記載された発明／平成１６年３月５日付けの取消理由で引用された刊行物に記載された発明
　刊行物１；実願昭５７−１４０７５１号（実開昭５９−４３９１０号）のマイクロフィルム（異議申立人・中山省二が引用した甲第１号証の１、異議申立人・宍戸孝雄が引用した甲第３号証）
　刊行物２；実願平１−１１０２８号（実開平２−１０２５０２号）のマイクロフィルム（異議申立人・中山省二が引用した甲第１号証の２）
　刊行物３；特開昭６４−１５２７号公報（同甲第１号証の３）
　刊行物４；特開昭６３−２９８２０１号公報（異議申立人・中山省二が引用した甲第２号証、異議申立人・宍戸孝雄が引用した甲第４号証）
　刊行物５；特開平２−１９７８０１号公報（異議申立人・中山省二が引用した甲第３号証、異議申立人・宍戸孝雄が引用した甲第６号証）
　刊行物６；特開昭６３−２７６５４０号公報（異議申立人・中山省二が引用した甲第４号証、異議申立人・宍戸孝雄が引用した甲第７号証）
　刊行物７；特開昭６１−１７１７８号公報（異議申立人・中山省二が引用した甲第５号証、異議申立人・宍戸孝雄が引用した甲第８号証）
　刊行物８；特開昭５９−１１６６０１号公報（異議申立人・宍戸孝雄が引用した甲第１号証）
　刊行物９；特開平３−２６６８０１号公報（同甲第２号証）
　刊行物１０；特開昭６１−２４１１４３号公報（同甲第５号証）
　刊行物１１；特開昭６１−２０９１５２号公報（同甲第９号証）
　刊行物１２；特開平４−７２０５５号公報（同甲第１１号証）
　
（３）対比・判断
［本件発明１について］
　本件発明１と上記刊行物１乃至１２に記載の発明とを比較検討する。
　本件発明１は、偏光層の両表面に形成されたセルロース系の膜からなる支持層と、式（１）で示される含フッ素シラン化合物を用いて形成された汚染防止層との間に、「アクリル系樹脂又はシロキサン系樹脂を用いて形成されたＪＩＳ　Ｂ　０６０１に基づく中心線平均粗さが１００〜５００ｎｍであるアンダーコート層」を設けることにより、前記支持層とアンダーコート層との間及びアンダーコートと前記汚染防止層との間に高い密着力を確保することができる効果を奏するものである。
　これに対して、刊行物１乃至１２のいずれにも、偏光層の両表面に形成されたセルロース系の膜からなる支持層と、前記式（１）で示される含フッ素シラン化合物を用いて形成された汚染防止層との間に、アンダーコート層を設けること、更には「アクリル系樹脂又はシロキサン系樹脂を用いて形成されたアンダーコート層」を設けることを示す記載、ないしはそれらのことを示唆する記載は何等ない。
　したがって、本件発明１は、刊行物１乃至１２に記載の各発明を組み合わせて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
　
［本件発明２について］
　本件発明２と刊行物１乃至１２に記載の発明とを比較検討する。
  刊行物１乃至１２のいずれにも、偏光層の両表面に形成された支持層と、本件発明２で規定する式（１）で示される含フッ素シラン化合物を用いて形成された汚染防止層との間に、アンダーコート層を設けること、更に、「Ｘがアミノ基およびこの基の一部が置換された基から選択される少なくとも一種の加水分解可能な反応性基」である本件発明２で規定する前記式（１）で示される含フッ素シラン化合物を用いることを示す記載、ないしはそれらのことを示唆する記載は何等ない。
　特に、刊行物５において、硬化性有機けい素化合物が請求項５の単位式である場合の「ＮＨ基」は窒素で二重結合するイミノ基であるから、本件発明２で規定する「Ｘがアミノ基」に該当しないことは明白である。
　したがって、本件発明２は、刊行物１乃至１２に記載の各発明を組み合わせて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
　
［本件発明３乃至８について］
　本件発明３乃至８はいずれも、本件発明１または２を引用する発明であるから、［本件発明１について］、［本件発明２について］の項で述べた理由と同様の理由により、刊行物１乃至１２に記載の各発明を組み合わせて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
　
［本件発明９について］
  刊行物１乃至１２のいずれにも、偏光層の両表面に形成された支持層と、含フッ素シラン化合物を用いて形成された汚染防止層との間に、ＪＩＳ　Ｂ　０６０１に基づく中心線平均粗さが１００〜５００ｎｍであるアンダーコート層を設けること、更に、前記含フッ素シラン化合物が、「１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリクロロシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリブロモシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリヒドロキシシラン、パーフルオロヘプタデシルトリメトキシシラン、パーフルオロオクタデシルジメチルクロロシラン、パーフルオロヘキサデシルメチルジクロロシランおよび３，３，３−トリフルオロプロピルトリクロロシランから選択される少なくとも一種」であることを示す記載、ないしはそれらのことを示唆する記載は何等ない。
　特に、刊行物３或いは１０には、含フッ素シラン化合物として上記の各化合物を使用する旨の記載は何等ない。
　したがって、本件発明９は、刊行物１乃至１２に記載の各発明を組み合わせて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
　
［本件発明１０について］
　本件発明１０は、本件発明１、２または９を引用する発明であるから、［本件発明１について］、［本件発明２について］、［本件発明９について］の項で述べた理由と同様の理由により、刊行物１乃至１２に記載の各発明を組み合わせて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
　
［本件発明１１について］
　本件発明１１は、アンダーコート層の表面に反射防止層を形成する工程を含む以外は本件発明１と同じような特徴を有する発明であるから、［本件発明１について］の項で述べた理由と同様の理由により、刊行物１乃至１２に記載の各発明を組み合わせて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
　
［本件発明１２について］
　本件発明１２は、アンダーコート層の表面に反射防止層を形成する工程を含む以外は本件発明２と同じような特徴を有する発明であるから、［本件発明２について］の項で述べた理由と同様の理由により、刊行物１乃至１２に記載の各発明を組み合わせて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
　
［本件発明１３について］
　本件発明１３は、アンダーコート層の表面に反射防止層を形成する工程を含む以外は本件発明１と同じような特徴を有する発明であるから、［本件発明１について］の項で述べた理由と同様の理由により、刊行物１乃至１２に記載の各発明を組み合わせて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
　
［本件発明１４，１５について］
　本件発明１４，１５は、本件発明１１乃至１３を引用する発明であるから、［本件発明１１について］、［本件発明１２について］、［本件発明１３について］の項で述べた理由と同様の理由により、刊行物１乃至１２に記載の各発明を組み合わせて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
　
［本件発明１６について］
　本件発明１６は、アンダーコート層の表面に反射防止層を形成する工程を含む以外は本件発明１と同じような特徴を有する発明であるから、［本件発明１について］の項で述べた理由と同様の理由により、刊行物１乃至１２に記載の各発明を組み合わせて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
　
［本件発明１７について］
　本件発明１７は、本件発明１６を引用する発明であるから、［本件発明１６について］の項で述べた理由と同様の理由により、刊行物１乃至１２に記載の各発明を組み合わせて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
　
［本件発明１８，１９について］
　本件発明１８，１９は、本件発明１１乃至１７を引用する発明であるから、［本件発明１１について］乃至［本件発明１７について］の項で述べた理由と同様の理由により、刊行物１乃至１２に記載の各発明を組み合わせて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
　
［本件発明２０について］
　本件発明２０は、本件発明１９を引用する発明であるから、［本件発明１８，１９について］の項で述べた理由と同様の理由により、刊行物１乃至１２に記載の各発明を組み合わせて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
　
［本件発明２１について］
　本件発明２１は、本件発明１乃至１０を引用する発明であるから、［本件発明１について］、［本件発明２について］、［本件発明３乃至８について］、［本件発明９について］、［本件発明１０について］の項で述べた理由と同様の理由により、刊行物１乃至１２に記載の各発明を組み合わせて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
　
（４）むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由、その証拠及び平成１６年３月５日付けの取消理由、その証拠によっては、本件発明１乃至２１についての特許を取り消すことができない。
　また、他に本件発明１乃至２１についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１６年１０月１日（２００４．１０．１）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
偏光板、偏光板の製造方法および液晶表示装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　偏光層およびこの偏光層の両表面に形成された
セルロース系の膜からなる
　この偏光基板を構成する一方の支持層の表面に
アクリル系樹脂又はシロキサン系樹脂を用いて
　このアンダーコート層側の最も外側に位置し、含フッ素シラン化合物を用いて形成された汚染防止層と、を含み、
　前記アンダーコート層は、ＪＩＳ　Ｂ　０６０１に基づく中心線平均粗さが１００〜５００ｎｍであり、
　前記含フッ素シラン化合物は、下記式（１）で示される含フッ素シラン化合物、この化合物単位を有するオリゴマーおよびポリマーの少なくとも一種からなることを特徴とする偏光板。
式（１）
　　（Ｒ１）ａ（Ｒ２）ｂ−Ｓｉ−（Ｘ）ｃ
　式（１）中、
　Ｒ１はフッ素を含む有機基、
　Ｒ２は水素または有機基、
　Ｘはハロゲン基，水酸基，アミノ基，アルコキシ基およびこれらの基の一部が置換された基から選択される少なくとも一種の加水分解可能な反応性基、
　ａは１〜３の整数、
　ｂは０または１〜２の整数、
　ｃは１〜３の整数を示す。
　【請求項２】　偏光層およびこの偏光層の両表面に形成された支持層を有する偏光基板と、
　この偏光基板を構成する一方の支持層の表面に形成されたアンダーコート層と、
　このアンダーコート層側の最も外側に位置し、含フッ素シラン化合物を用いて形成された汚染防止層と、を含み、
　前記含フッ素シラン化合物は、下記式（１）で示される含フッ素シラン化合物、この化合物単位を有するオリゴマーおよびポリマーの少なくとも一種からなることを特徴とする偏光板。
式（１）
　　（Ｒ１）ａ（Ｒ２）ｂ−Ｓｉ−（Ｘ）ｃ
　式（１）中、
　Ｒ１はフッ素を含む有機基、
　Ｒ２は水素または有機基、
　Ｘはアミノ基およびこの基の一部が置換された基から選択される少なくとも一種の加水分解可能な反応性基、
　ａは１〜３の整数、
　ｂは０または１〜２の整数、
　ｃは１〜３の整数を示す。
　【請求項３】　請求項１または２において、
　前記アンダーコート層は、ＪＩＳ　Ｚ　８７４１に基づく鏡面光沢度が１０〜４０であり、かつＪＩＳ　Ｋ　６９００に基づく曇度が５〜３０％であることを特徴とする偏光板。
　【請求項４】　請求項１〜３のいずれかにおいて、
　前記アンダーコート層と前記汚染防止層との間に反射防止層が形成されたことを特徴とする偏光板。
　【請求項５】　請求項１〜４のいずれかにおいて、
　前記偏光板は、さらに、前記支持層と前記アンダーコート層との間に樹脂フィルムを有することを特徴とする偏光板。
　【請求項６】　請求項１〜５のいずれかにおいて、
　前記アンダーコート層には、平均粒子径が０．５〜５μｍの硬質粒子が分散されていることを特徴とする偏光板。
　【請求項７】　請求項６において、
　前記アンダーコート層に分散される硬質粒子は、シリカ、チタニア、アルミナおよびジルコニアから選択される少なくとも一種であることを特徴とする偏光板。
　【請求項８】　請求項２において、
　前記式（１）で示される前記含フッ素シラン化合物は、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリアミノシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルジメチルアミノシラン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロブチル）ジアミノシラン、ビス（パーフルオロノニル）ジアミノシラン、パーフルオロヘキサデシルトリアミノシラン、パーフルオロヘプタデシルトリアミノシラン、パーフルオロオクタデシルトリアミノシランおよびビス（パーフルオロノニル）ブチルアミノシランから選択される少なくとも一種であることを特徴とする偏光板。
　【請求項９】　
偏光層およびこの偏光層の両表面に形成された支持層を有する偏光基板と、
　この偏光基板を構成する一方の支持層の表面に形成されたアンダーコート層と、
　このアンダーコート層側の最も外側に位置し、含フッ素シラン化合物を用いて形成された汚染防止層と、を含み、
　前記アンダーコート層は、ＪＩＳ　Ｂ　０６０１に基づく中心線平均粗さが１００〜５００ｎｍであり、
　前記含フッ素シラン化合物は、下記式（１）で示される、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリクロロシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリブロモシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリヒドロキシシラン、パーフルオロヘプタデシルトリメトキシシラン、パーフルオロオクタデシルジメチルクロロシラン、パーフルオロヘキサデシルメチルジクロロシランおよび３，３，３−トリフルオロプロピルトリクロロシランから選択される少なくとも一種であり、
　当該含フッ素シラン化合物を用いて形成された前記汚染防止層は、水の接触角が７０度以上となる撥水性を有していることを特徴とする偏光板。
式（１）
　　（Ｒ１）ａ（Ｒ２）ｂ−Ｓｉ−（Ｘ）ｃ
　前記式（１）中、
　Ｒ１はフッ素を含む、炭素数１〜２０のアルキル基，置換アルキル基，アルコキシ基および置換アルコキシ基から選択される少なくとも一種、
　Ｒ２は水素または炭素数１〜４のアルキル基，置換アルキル基，アルコキシ基および置換アルコキシ基から選択される少なくとも一種、
Ｘはハロゲン基，水酸基，アルコキシ基およびこれらの基の一部が置換された基から選択される少なくとも一種の反応性基、
　ａは１〜３の整数、
　ｂは０または１〜２の整数、
　ｃは１〜３の整数を示す。
　【請求項１０】　請求項１〜
９
　前記汚染防止層は、屈折率ｎおよび層の厚みｄが次の関係を有することを特徴とする偏光板。
　　ｎｄ＜０．１μｍ
　　１．２５＜ｎ＜１．４５
　【請求項１１】　偏光層およびこの偏光層の両表面に形成された
セルロース系の膜からなる
アクリル系樹脂又はシロキサン系樹脂を用いて
　このアンダーコート層の表面に反射防止層を形成する工程と、
　この反射防止層の表面に含フッ素シラン化合物を用いて汚染防止層を形成する工程と、を含み、
　前記汚染防止層は、下記式（１）で示される含フッ素シラン化合物を含む塗布液を前記反射防止層の表面に塗布して硬化させ、さらに未反応の含フッ素シラン化合物を溶媒洗浄によって除去することにより形成されることを特徴とする偏光板の製造方法。
　式（１）
　　（Ｒ１）ａ（Ｒ２）ｂ−Ｓｉ−（Ｘ）ｃ
　式（１）中、
　Ｒ１はフッ素を含む有機基、
　Ｒ２は水素または有機基、
　Ｘはハロゲン基，水酸基，アミノ基，アルコキシ基およびこれらの基の一部が置換された基から選択される少なくとも一種の加水分解可能な反応性基、
　ａは１〜３の整数、
　ｂは０または１〜２の整数、
　ｃは１〜３の整数を示す。
　【請求項１２】　偏光層およびこの偏光層の両表面に形成された支持層を有する偏光基板の一方の支持層の表面にアンダーコート層を形成する工程と、
　このアンダーコート層の表面に反射防止層を形成する工程と、
　この反射防止層の表面に含フッ素シラン化合物を用いて汚染防止層を形成する工程と、を含み、
　前記汚染防止層は、下記式（１）で示される含フッ素シラン化合物を含む塗布液を前記反射防止層の表面に塗布して硬化させ、さらに未反応の含フッ素シラン化合物を溶媒洗浄によって除去することにより形成されることを特徴とする偏光板の製造方法。
式（１）
　　（Ｒ１）ａ（Ｒ２）ｂ−Ｓｉ−（Ｘ）ｃ
　式（１）中、
　Ｒ１はフッ素を含む有機基、
　Ｒ２は水素または有機基、
　Ｘはアミノ基およびこの基の一部が置換された基から選択される少なくとも一種の加水分解可能な反応性基、
　ａは１〜３の整数、
　ｂは０または１〜２の整数、
　ｃは１〜３の整数を示す。
　【請求項１３】　偏光層およびこの偏光層の両表面に形成された
セルロース系の膜からなる
アクリル系樹脂又はシロキサン系樹脂を用いて
　このアンダーコート層の表面に反射防止層を形成する工程と、
　この反射防止層の表面に含フッ素シラン化合物を用いて汚染防止層を形成する工程と、を含み、
　前記アンダーコート層を形成する工程は、樹脂溶液を含む塗布液を前記偏光基板の表面に塗布して乾燥させ、この塗膜の表面に微細な凹凸を形成した後に前記塗膜を硬化させる工程からなることを特徴とする偏光板の製造方法。
　【請求項１４】　請求項
１１
１２
　前記アンダーコート層を形成する工程は、樹脂溶液に平均粒子径が０．５〜５μｍの硬質粒子を分散させた塗布液を調整し、この塗布液を前記偏光基板の表面に塗布して硬化させ、前記硬質粒子が１〜５０重量％の割合で含有される塗膜を形成する工程からなることを特徴とする偏光板の製造方法。
　【請求項１５】　請求項
１３
　前記汚染防止層は、下記式（１）で示される含フッ素シラン化合物を含む塗布液を前記反射防止層の表面に塗布して硬化させ、さらに未反応の含フッ素シラン化合物を溶媒洗浄によって除去することにより形成されることを特徴とする偏光板の製造方法。
式（１）
　　（Ｒ１）ａ（Ｒ２）ｂ−Ｓｉ−（Ｘ）ｃ
　式（１）中、
　Ｒ１はフッ素を含む有機基、
　Ｒ２は水素または有機基、
　Ｘはハロゲン基，水酸基，アミノ基，アルコキシ基およびこれらの基の一部が置換された基から選択される少なくとも一種の加水分解可能な反応性基、
　ａは１〜３の整数、
　ｂは０または１〜２の整数、
　ｃは１〜３の整数を示す。
　【請求項１６】　偏光層およびこの偏光層の両表面に形成された
セルロース系の膜からなる
アクリル系樹脂又はシロキサン系樹脂を用いて
　このアンダーコート層の表面に反射防止層を形成する工程と、
　この反射防止層の表面に含フッ素シラン化合物を用いて汚染防止層を形成する工程と、を含み、
　前記汚染防止層は、下記式（１）で示される含フッ素シラン化合物を物理的気相成長法によって堆積させることにより形成されることを特徴とする偏光板の製造方法。
式（１）
　　（Ｒ１）ａ（Ｒ２）ｂ−Ｓｉ−（Ｘ）ｃ
　式（１）中、
　Ｒ１はフッ素を含む有機基、
　Ｒ２は水素または有機基、
　Ｘはハロゲン基，水酸基，アミノ基，アルコキシ基およびこれらの基の一部が置換された基から選択される少なくとも一種の加水分解可能な反応性基、
　ａは１〜３の整数、
　ｂは０または１〜２の整数、
　ｃは１〜３の整数を示す。
　【請求項１７】　請求項
１６
　前記汚染防止層は、前記式（１）で示される含フッ素シラン化合物を含浸させたセラミックスを蒸発源として用い、真空槽内において前記セラミックスを加熱し、該化合物を蒸発させて堆積させることによって形成されることを特徴とする偏光板の製造方法。
　【請求項１８】　請求項
１１〜１７
　前記反射防止層は、物理的気相成長法によって形成されることを特徴とする偏光板の製造方法。
　【請求項１９】　請求項
１１〜１７
　前記反射防止層は、シロキサン系樹脂又はアクリル系樹脂を含む塗膜を形成後、これを硬化させることによって形成されることを特徴とする偏光板の製造方法。
　【請求項２０】　請求項
１９
　前記反射防止層には、平均粒子径が０．０５〜０．１μｍの硬質粒子が分散されていることを特徴とする偏光板の製造方法。
　【請求項２１】　請求項１〜
１０
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は、特に液晶表示装置に好適に用いられる偏光板およびその製造方法に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　液晶表示装置においては、その表面反射を減らすことで、特に屋外での視認性を向上させることが行われている。このような表面反射を減らすための方法としては、例えば、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等により偏光板の表面に無機質コート膜からなる反射防止膜を形成する方法、あるいはこのような反射防止膜を表面に形成したアクリル樹脂フィルムを偏光板に接着剤によって貼り付ける方法等がある。
　【０００３】
　しかし、従来の反射防止膜付き偏光板においては、指紋等の汚れが付き易く、また一旦着いた汚れが取れにくいこと、偏光板の表面に水滴が付着し易く、水滴が付着した状態で放置すると、短時間でしみ状の痕跡となるいわゆるヤケが発生すること、さらには偏光板の表面に水滴が着いたまま高温の状態で放置すると、反射防止膜にクラックが生じたり反射防止膜が剥離すること、等の問題があった。
　【０００４】
　このような問題を回避する技術として、特開平３−２６６８０１号公報に、反射防止膜上にフッ素樹脂の薄膜を設ける方法が開示されている。しかし、このフッ素樹脂の薄膜は、ポリテトラフルオロエチレンやポリビニルフルオライドなどを抵抗加熱式の真空蒸着法によって堆積させて形成され、密着力，強度，表面硬度等の点で不十分であって、実用化に適しないものである。また、この技術を用いて膜強度が確保できる程度の厚みの薄膜を形成した場合には、この膜が偏光板の光学特性に影響を与え、反射率の増加，光干渉による色付き，膜厚の不均一に起因する視認性の低下等の新たな問題を生じる。
　【０００５】
　【発明が解決しようとする課題】
　本発明は、このような従来技術の課題を解決するためのものであって、その目的とするところは、表面反射が少なく優れた視認性を確保しながら、撥水性，汚染防止性に優れた偏光板およびその製造方法を提供することにある。
　【０００６】
　【課題を解決するための手段および作用】
　本発明の偏光板は、偏光層およびこの偏光層の両表面に形成された支持層を有する偏光基板と、
　この偏光基板を構成する一方の支持層の表面に形成されたアンダーコート層と、
　このアンダーコート層側の最も外側に位置し、含フッ素シラン化合物からなる汚染防止層と、
　を含むことを特徴としている。
　【０００７】
　この偏光板においては、通常、前記アンダーコート層と前記汚染防止層との間に反射防止層が形成される。
　【０００８】
　この偏光板においては、その最表面に含フッ素シラン化合物からなる汚染防止層を形成することにより、偏光板表面の撥水性および撥油性を向上させることができ、汚染防止性に優れた偏光板を構成することができる。
　【０００９】
　汚染防止層の下位に位置する反射防止層は、通常、例えばＳｉＯ２膜等の無機質膜から構成され、その表面には極性の大きな−ＯＨ基が露出しており、この活性な基は汚れや水滴が付着しやすい原因となっている。したがって、極性の極めて小さな含フッ素シラン化合物を前記反射防止層の表面に反応あるいは吸着させることで、偏光板表面を化学的に安定した状態に改質することができる。
　【００１０】
　この含フッ素シラン化合物からなる汚染防止層は、原理的には単分子層によって構成されれば十分であり、この程度の薄膜では偏光板の光学特性や表面硬度に問題となるような影響を与えることはない。また、前記反射防止層と汚染防止層とは、反応性置換基を介して化学的に結合しているため、両者の密着力は強固であり、汚染防止層が剥がれるようなことはない。また、含フッ素シラン化合物は耐薬品性、耐熱性、耐擦傷性および耐候性等の化学的，物理的特性において優れている。
　【００１１】
　前記汚染防止層は、純水の表面に対する接触角が７０度以上、より好ましくは１００度以上あることが望ましい。汚染防止層がこの範囲の接触角を有することにより、優れた撥水性を有し、良好な汚染防止性を発揮することができる。
　【００１２】
　本発明においては、前記アンダーコート層は、ＪＩＳ　Ｚ　８７４１に基づく鏡面光沢度が１０〜４０、好ましくは２０〜３５であり、かつＪＩＳ　Ｋ　６９００に基づく曇度（ヘイズ）が５〜３０％、好ましくは１０〜２５％であることが望ましい。
　【００１３】
　この偏光板においては、前記アンダーコート層の鏡面光沢度および曇度を前記範囲に特定することにより、偏光板表面の写り込みやギラツキを低減して優れた視認性を確保しながら、偏光板表面の汚れの拭き取り件を高めることができる。以下、この点について詳細に説明する。
　【００１４】
　本発明において、鏡面光沢度（以下「光沢度」という）とは、ＪＩＳ　Ｚ　８７４１の方法３（６０度鏡面光沢）に基づく光沢の度合いをいう。光沢度が１０未満では、アンダーコート層の表面の凹凸の分布が高密度となり、偏光板の表面に付着した汚れを除去しにくくなる。一方、光沢度が４０より大きい場合には、外光の正反射が強いため、偏光板の表面にいわゆるギラツキが顕著に現れ、視認性が低下する。
　【００１５】
　本発明において、曇度とは、ＪＩＳ　Ｋ　６９００−１１３によるものをいう。具体的には、透明体に入射した光線が拡散する度合いをいい、拡散透過光量と全透過光量との比を百分率で示したものである。本発明において、曇度が５未満では、偏光板の表面が鏡面状態となっていわゆる写り込みの現象が顕著になり、視認性が低下する。一方、曇度が３０より大きいと、偏光板の表面が曇ガラスのような状態となって解像度が低下し、そのため視認性が低下するだけでなく、平行透過率の低下により暗くなる。
　【００１６】
　また、本発明の偏光板においては、前記アンダーコート層は、ＪＩＳ　Ｂ　０６０１に基づく中心線平均粗さ（Ｒａ）が１００〜５００ｎｍ、より好ましくは１５０〜３００ｎｍであることが望ましい。この中心線平均、粗さが，上記範囲にあることにより、表面の写り込みやギラツキが低減でき、しかも汚れの拭き取り性を高めることができる。
　【００１７】
　前記汚染防止層を構成するフッ素シラン化合物は、下記式（１）で示される含フッ素シラン化合物、この化合物単位を有するオリゴマーおよびポリマーの少なくとも一種からなる。
式（１）
　　（Ｒ１）ａ（Ｒ２）ｂ−Ｓｉ−（Ｘ）ｃ
　式（１）中、
　Ｒ１はフッ素を含む有機基、
　Ｒ２は水素または有機基、
　Ｘはハロゲン基，水酸基，アミノ基，アルコキシ基およびこれらの基の一部が置換された基から選択される少なくとも一種の加水分解可能な反応性基、
　ａは１〜３の整数、
　ｂは０または１〜２の整数、
　ｃは１〜３の整数を示す。
　【００１８】
　前記式（１）で示される含フッ素シラン化合物としては、反応性基Ｘはアミノ基または置換アミノ基であることが好ましい。
　【００１９】
　このようなアミノシラン化合物としては、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリアミノシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルジメチルアミノシラン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロブチル）ジアミノシラン、ビス（パーフルオロノニル）ジアミノシラン、パーフルオロヘキサデシルトリアミノシラン、パーフルオロヘプタデシルトリアミノシラン、パーフルオロオクタデシルトリアミノシランおよびビス（パーフルオロノニル）ブチルアミノシランなどを挙げることができる。これらのアミノシラン化合物は一種単独で、あるいは二種以上組み合わせて用いることができる。
　【００２０】
　また、前記式（１）の含フッ素シラン化合物において、Ｒ１はフッ素を含む、炭素数１〜２０のアルキル基，置換アルキル基，アルコキシ基または置換アルコキシ基、Ｒ２は水素または炭素数１〜４のアルキル基，置換アルキル基，アルコキシ基または置換アルコキシ基、Ｘはハロゲン基，水酸基、アルコキシ基およびこれらの基の一部が置換された基から選択される少なくとも一種の反応性基であることが望ましい。
　【００２１】
　このような含フッ素シラン化合物としては、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリクロロシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリブロモシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリヒドロキシシラン、パーフルオロヘプタデシルトリメトキシシラン、パーフルオロオクタデシルジメチルクロロシラン、パーフルオロヘキサデシルメチルジクロロシランおよび３，３，３−トリフルオロプロピルトリクロロシランなどをあげることができる。これらの含フッ素シラン化合物は、一種単独であるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。
　【００２２】
　含フッ素シラン化合物のうち、アミノシランは、他のシラン化合物に比較して、室温〜８０℃の温度で反応するため、反応の制御や取り扱いが簡単で、かつ反応液の管理も容易であるという利点がある。
　【００２３】
　前記式（１）で示される含フッ素シラン化合物は、反応の前後において化合物相互が結合してオリゴマーあるいはポリマー化することもあり得るが、冷暗所で保存することによって、その反応を本発明の目的を阻害しない程度に管理することができる。
　【００２４】
　前記アンダーコート層には、平均粒子径０．１〜５μｍ、より好ましくは０．５〜２μｍの硬質粒子が、該アンダーコート層に対して例えば１〜５０重量％の割合で分散されていることが望ましい。硬質粒子の平均粒子径が０．１μｍ未満であると、防眩効果の点で劣る。一方、硬質粒子の平均粒子径が５μｍを越えると、ギラツキが発生し、視認性の点で劣る。また、硬質粒子の割合が１重量％未満であると、防眩効果の点で劣る。一方、硬質粒子の割合が５０重量％を超えると、解像度および汚れ拭き取り性の点で劣る。硬質粒子の割合は特に限定されるものではなく、前記アンダーコート層の特性を満足できるように適宜調整される。
　【００２５】
　前記硬質粒子としては、通常の防眩処理に用いられるれシリカが代表的であるが、その他にもチタニア、アルミナ、ジルコニア等を用いることができる。
　【００２６】
　前記アンダーコート層としては、アクリル系樹脂、シロキサン系樹脂等の樹脂をあげることができる。前記アクリル系樹脂としては、特に限定されないが、ウレタンアクリレート、エステルアクリレート、エポキシアクリレート、エーテルアクリレートなどの重合体等を例示することができる。前記シロキサン系樹脂としては、アルコキシシラン等を用いることができ、例えばメチル基、エチル基等のアルキル基、その他のγ−クロロプロピル基、ビニル基、３，３，３−トリフロロプロピル基、γ−グリシドキシプロピル基、γ−メタクリルオキシプロピル基などの有機基を含むものを例示することができる。
　【００２７】
　本発明の偏光板においては、前記汚染防止層は、屈折率ｎおよび層の厚みｄが次の関係を有することが望ましい。
　【００２８】
　　ｎｄ＜０．１μｍ
　　１．２５＜ｎ＜１．４５
　前記汚染防止層を構成する含フッ素シラン化合物層は、通常屈折率が１．２５〜１．４５と低く、したがって表面反射を防止する効果をも有する。この場合、汚染防止層はＡ型の干渉色（基材の屈折率より膜の屈折率が小さい場合）を与え、色相はｎｄの関数となる。そして、汚染防止層の厚みｄが大きくなるにつれ、白色から黄，赤，紫，青，緑と干渉色が変化していく。
　【００２９】
　前記偏光基板および反射防止層の条件を考慮してスペクトル色の三刺激値を理論式から計算すると、ｎｄが０．１μｍ以上になると、色座標（ｘ，ｙ）のｘ値が０．４５を超え、汚染防止層の色付きが認識されるようになる。また、ｎｄが０．１μｍ以上で、かつ汚染防止層の厚みに不均一があると、シャボン玉の着色のように斑な模様を呈することがある。以上のことを考慮すると、前記汚染防止層は、その厚みｄが０．１μｍより小さいことが望ましい。
　【００３０】
　本発明の偏光板の製造方法は、
　偏光層およびこの偏光層の両表面に形成された支持層を有する偏光基板の一方の支持層の表面にアンダーコート層を形成する工程と、
　このアンダーコート層の表面に反射防止層を形成する工程と、
　この反射防止層の表面に含フッ素シラン化合物からなる汚染防止層を形成する工程と、
　を含むことを特徴としている。
　【００３１】
　前記アンダーコート層を形成する工程は、樹脂溶液に平均粒子径が０．１〜５μｍの硬質粒子を分散させた塗布液を調整し、この塗布液を前記偏光基板の表面に塗布して硬化させ、前記硬質粒子が１〜５０重量％の割合で含有される塗膜を形成する工程からなることが望ましい。この工程で用いられる樹脂溶液の樹脂としては、前述したアクリル系樹脂，シロキサン系樹脂等を用いることができる。
　【００３２】
　このように、アンダーコート層に硬質粒子を分散させることにより、アンダーコート層に防眩性を付与することができる。
　【００３３】
　この工程において、塗布液を前記偏光基板の表面に塗布する方法としては、一般的に用いられているディップ法、スピンナー法、スプレー法等を用いることができ、特に量産性の点でロールコート法を好ましく用いることができる。塗膜を硬化させる際には、必要に応じて、加熱や、紫外線あるいは電子線などの光照射により樹脂の架橋反応を促進させる。
　【００３４】
　また、前記アンダーコート層に防眩性を付与する他の方法としては、エッチング処理された型板にハードコート処理によって硬質粒子を含まないアンダーコート層を形成し、これをキャスト重合によって偏光基板に転写する方法、あるいは必要に応じて硬質粒子を含む塗布液をスプレー法液滴調整によって偏光基板にアンダーコート層を形成する方法、微細な凹凸を有するロールを硬質粒子を含まないコート層表面に圧接して回転させてコート層表面に凹凸を転写させる方法を用いることができる。
　【００３５】
　前記汚染防止層は、前記式（１）で示される含フッ素シラン化合物を含む塗布液を前記反射防止層の表面に塗布して硬化させ、さらに未反応の含フッ素シラン化合物を溶媒洗浄によって除去することにより形成できる。前記塗布液は、含フッ素シラン化合物を濃度０．０１〜１０重量％で溶剤に溶解させて調整することができる。このとき用いられる溶剤としては、パーフルオロヘキサン、パーフルオロヘプタン、パーフルオロオクタン、パーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン、パーフルオロジメチルデカヒドロナフタレン等をあげることができる。
　【００３６】
　前記汚染防止層は、前記式（１）で示される含フッ素シラン化合物を物理的気相成長法によって堆積させることにより形成できる。この工程において、物理的気相成長法としては、一般的に用いられる真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等を用いることができ、特に真空蒸着法を好ましく用いることができる。
　【００３７】
　汚染防止層を物理的気相成長法によって形成する場合には、前記反射防止層を汚染防止層の形成手段と同様の堆積法を採用することにより、反射防止層および汚染防止層を連続的に形成することができる。
　【００３８】
　さらに、前記汚染防止層を真空蒸着法によって形成する場合には、前記式（１）で示される含フッ素シラン化合物を含浸させたセラミックスを蒸発源として用い、真空槽内において前記セラミックスを加熱し、該化合物を蒸発させて堆積させることが望ましい。
　【００３９】
　また、前記汚染防止層の形成に先立って、前記反射防止層に、洗浄，脱気，薬品処理，プラズマ処理等の前処理を施すこともできる。
　【００４０】
　前記反射防止層は、超低屈折率の単層構造、あるいは低屈折率層と高屈折率層との組み合わせによる多層構造とすることにより、有効な減反射効果を得ることができる。前記超低屈折率層を構成する物質としては、ＭｇＦ２，ＣａＦ２、ＬｉＦ等をあげることができ、前記多層構造の屈折率層を構成する材料としては、ＳｉＯ２，ＺｒＯ２，ＴｉＯ２，Ｙ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＣｅＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＳｉＯ、ＣｅＦ３等をあげることができる。
　【００４１】
　また、反射防止層を構成する物質としては、前記フッ化物あるいは酸化物の代わりに、特定の樹脂あるいは非晶質体等を用いることができる。例えば、超低屈折率層は、アクリル系樹脂にフッ素を含む置換基を導入した樹脂、あるいは多孔質のシリカ系非晶質体をゾルゲル法を用いて形成することにより得られる。また、低屈折率層と高屈折率層は、シロキサン系樹脂またはアクリル系樹脂に適当な置換基を導入したり、あるいは分散させる酸化物粒子の種類や混合比を調整することで、屈折率１．４５〜１．６５の範囲において比較的容易に形成することができる。さらに高屈折率の膜が必要な場合には、例えばチタニア系非晶質体等をゾルゲル法によって形成することができる。
　【００４２】
　後者の樹脂あるいは非晶質体を用いて反射防止層を形成する場合には、塗布液の溶媒としてアルコール系溶媒あるいはフッ素系溶媒等を用いることができる。このようなアルコール系溶媒としては２−エトキシエタノール、２−メトキシエタノールイソプロピルアルコール等を、フッ素溶媒としてはパーフルオロヘプタン等をあげることができる。
　【００４３】
　【実施例】
　（実施例１）
　図１は、本実施例に係る偏光板の構成を模式的に示す断面図である。この偏光板１００は、偏光基板１０上にアンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層４０が順次積層された構造となっている。
　【００４４】
　前記偏光基板１０は、ヨウ素，染料等の二色性を与える偏光素子がポリビニルアルコール等の偏光基体によって固定された偏光層１２と、この偏光層１２の両側に接着剤によって貼り合わされた第１の支持層１４および第２の支持層１６とから構成されている。支持層１４，１６としては、通常トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等に代表されるセルロース系の膜が用いられ、これらの支持層１４，１６によって偏光層１２が化学的，物理的に保護されている。前記偏光基体１０は、通常２０〜２００μｍの厚さを有し、前記支持層１４，１６は、通常２０〜２００μｍの厚さを有する。
　【００４５】
　前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは３μｍ）のアクリル系樹脂にシリカ（ＳｉＯ２）が分散され、防眩性（アンチグレア性）が付与されている。前記シリカは、平均粒子径が０．１〜５μｍ（サンプルでは２μｍ）であり、その添加量はアクリル系樹脂に対し１〜５０重量％（サンプルでは２５重量％）である。
　【００４６】
　本実施例のアンダーコート層２０の膜特性の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、光沢度（Ｇａ６０度）は２６、中心線平均粗さ（Ｒａ）は２２０ｎｍ、および曇度は２０％であった。
　【００４７】
　前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１μｍ（サンプルでは０．３μｍ）であり、５層構造を成している。この膜構成は、アンダーコート層２０側から、ＳｉＯ２層がλ／４、ＺｒＯ２層とＳｉＯ２層がλ／４、ＺｒＯ２層がλ／４、最上層であるＳｉＯ２層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）である。
　【００４８】
　この反射防止層３０は、可視領域における反射率の平均値が０．５％以下である。
　【００４９】
　前記汚染防止層４０は、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリクロロシランからなる厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルにおいては１００オングストローム以下）の層から構成されている。この層は少なくとも単分子層ないしは数分子層である。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以上であり、優れた撥水性を示した。また、前記汚染防止層４０は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがってｎｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さいことが確認された。
　【００５０】
　次に、本実施例の偏光板１００の製造方法について述べる。
　【００５１】
　まず、偏光基板１０の表面に、シリカ粒子が分散されたアクリル樹脂塗布液（ウレタンアクリレートオリゴマーをメタクリル酸モノマーで希釈し、シリカ粒子と光開始剤としてベンゾインエーテルを添加したもの）をロールコート法によって塗布し、その後紫外線を照射してアクリル樹脂を硬化させ、アンダーコート層２０を形成した。
　【００５２】
　ついで、この偏光基板を真空槽内にセットし、真空蒸着法により、基板温度５０℃で、ＳｉＯ２層をλ／４、ＺｒＯ２層とＳｉＯ２層との積層をλ／４、ＺｒＯ２層をλ／４、ＳｉＯ２層をλ／４（λ＝５２０ｎｍ）の膜厚で順次形成し、反射防止層３０を形成した。得られた偏光板をメタノールで洗浄し、十分に乾燥させた。
　【００５３】
　ついで、アミン系パーフルオロ溶媒である「フロリナートＦＣ−４０」（住友スリーエム社製）に含フッ素シラン化合物として１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリクロロシランを５重量％溶解させた溶液に上述した偏光板を２０℃において１分間浸漬させた。ついで、１０ｃｍ／秒の速度で偏光板を引き上げた後、相対湿度５０％、温度５０℃の雰囲気で１０分間放置した。その後、「フロリナートＦＣ−４０」によって偏光板の洗浄を行い未反応の含フッ素シラン化合物を除去した。
　【００５４】
　前記含フッ素シラン化合物は、偏光基板１０の支持層を構成するＴＡＣと反応しないため、第２の支持層１６上に付着した未反応の含フッ素シラン化合物をフッ素系溶剤によって除去することができる。したがって、第２の支持層１６上に接着が困難なシラン化合物層が残存していない。
　【００５５】
　また、このようにして得られた偏光板は汚染防止層４０の形成によって外観ならびに反射防止特性において特に変化は見られなかった。
　【００５６】
　次に、偏光板およびこれを用いた液晶表示装置の特性試験の結果について述べる。
　【００５７】
　（１）偏光板の特性
　特性試験のサンプルとしては、本実施例の偏光板１００のうち膜厚等の各条件が（　）内に示されたものを用いた。
ａ．密着性
　汚染防止層４０の密着性を碁盤目試験によって判定した。碁盤目試験は偏光板の表面にナイフで切れ目を入れた１ｍｍ角の微少領域１００箇所について、粘着テープ剥離をした後、反射顕微鏡観察ならびに純水とエタノールを滴下して濡れ性を評価した。
　【００５８】
　碁盤目試験の結果、本実施例の偏光板はまったく表面層の剥がれがなく、汚染防止層４０の密着が良好であることが確認された。
ｂ．耐擦傷性
　この特性は、＃００００のスチールウールを汚染防止層４０の表面に置き、１Ｋｇ／ｃｍ２の荷重をかけてスチールウールを１０往復させたときの傷の発生を目視によって確認した。
　【００５９】
　その結果、本実施例の偏光板においては傷がほとんど認められず、優れた耐擦傷性を有することが確認された。
ｃ．耐薬品性
　薬品としては、アルコール，酸，アルカリおよび洗剤を選択した。
　【００６０】
　耐アルコール性に関しては、メチルアルコールを偏光板表面に滴下し、３０分間放置した後の変化を目視によって観察した。耐酸性については、５重量％の塩酸水溶液を偏光板表面に滴下した後、３０分間放置し、その変化を目視によって観察した。耐アルカリ性については、５重量％の水酸化ナトリウム水溶液を偏光板表面に滴下し、３０分間放置した後目視によって観察した。耐洗剤性については、５重量％の中性洗剤水溶液を滴下し、２４時間放置した後の状態を目視によって観察した。
　【００６１】
　本実施例の偏光板については、各薬品の滴下試験において変形、変色、シミ残りなどの異常は認められず、耐薬品性に優れていることが確認された。
ｄ．汚染防止性
　この試験においては、偏光板の表面を指で触れ、指紋の付き易さ、ならびに付着した指紋の拭き取り性を調べた。
　【００６２】
　その結果、本実施例の偏光板においては、指紋が付きにくく、また、付いた指紋も布等によって容易に拭き取ることができることを確認した。さらに、偏光板を中性洗剤や市販のメガネクリーナー等でクリーニングすることにより、初期の状態に容易に回復させることができた。
　【００６３】
　（２）液晶表示装置の特性
　以下の特性試験において用いられたサンプルは、上記特性試験に用いられたサンプルと同様の偏光板をＭＩＭ（メタル−インシュレータ−メタル）素子を用いたアクティブマトリクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて構成されたものである。サンプルは、カラーフィルタを形成したガラス基板と、ＭＩＭ素子を形成したガラス基板とでＴＮ（ツイストネマチック）液晶を挟持し、カラーフィルタ側に本実施例の偏光板を、素子基板側に通常の偏光板を貼り付けて構成されたものである。
ａ．高温高湿試験
　液晶表示パネルのサンプルを温度５０℃，相対湿度９０％の雰囲気に１，０００時間放置し、外観および特性等の変化を調べた。
　【００６４】
　この試験の結果、サンプルの偏光板において、剥がれ，クラック等が発生せず、ヤケの発生も認められなかった。
ｂ．熱衝撃試験
　−２０℃（３０分）、２５℃（５分）および６０℃（３０分）のヒートサイクルを１０回繰り返し、外観および特性等の変化を調べた。
　【００６５】
　この試験の結果、サンプルの液晶表示パネルにおいては、電気的特性、光学的特性などの点で特に異常は認められなかった。
ｃ．日光暴露試験
　サンプルを屋外に２０，０００時間にわたって放置した後、外観および特性等の変化について調べた。
　【００６６】
　この試験の結果、本実施例のサンプルにおいては、電気的特性、光学的特性などの点で特に異常は認められなかった。
ｄ．視認性
　上記サンプルの液晶パネルの背面にさらにバックライトユニットを配し、バックライト方式の液晶表示装置を製造した。この液晶表示装置について外部からの影像入力をＭＩＭ素子を用いて駆動したところ、表面反射の少ない、視認性に優れた表示を行うことができた。
　【００６７】
　（実施例２）
　図２は、本実施例に係る偏光板の構成を模式的に示す断面図である。
　【００６８】
　この偏光板２００は、偏光基板１０上に接着層５２を介して樹脂フィルム５０、アンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層４０が順次積層された構造となっている。本実施例が、前記実施例１と異なるのは、アンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層４０があらかじめ樹脂フィルム５０上に形成され、この積層体が偏光基板１０に接着された点にある。
　【００６９】
　なお、偏光基板１０の構成は、前記実施例１の偏光基板と同様の構成を有するため、その詳細な説明を省略する。
　【００７０】
　前記樹脂フィルム５０は、厚さ０．０３〜１ｍｍ（後述する試験のサンプルでは０．２ｍｍ）のアクリル樹脂から構成されている。アクリル樹脂としては、ポリメチルメタクリレート、およびその他のアクリル酸エステル共重合体などの変成品が好適に用いられる。
　【００７１】
　前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは５μｍ）のシロキサン系樹脂にシリカが分散され、防眩性が付与されている。前記シリカは、平均粒子径が０．１〜５μｍ（サンプルでは４μｍ）である。
　【００７２】
　本実施例のアンダーコート層２０の膜特性の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で５Ｈであり、光沢度（Ｇａ６０度）は４８、中心線平均粗さ（Ｒａ）は９８０ｎｍ、および曇度は１５％であった。
　【００７３】
　前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１μｍ（サンプルでは０．３μｍ）であり、３層構造を成している。この膜構成は、アンダーコート層２０側から、ＳｉＯ２層がλ／４、ＴｉＯ２層がλ／２、最上層であるＳｉＯ２層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）である。
　【００７４】
　前記汚染防止層４０は、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロブチル）ジアミノシランからなる厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルにおいては３００オングストローム）の層から構成されている。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以上であり、優れた撥水性を示した。また、前記汚染防止層４０は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがってｎｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さいことが確認された。
　【００７５】
　次に、本実施例の偏光板２００の製造方法について述べる。
　【００７６】
　まず、前記樹脂フィルム５０の表面に、シリカ粒子が分散されたシロキサン樹脂塗布液（γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランを２−エトキシエタノールで希釈し、塩酸で加水分解した後、シリカ粒子とシリコーン系界面活性剤と過塩素酸マグネシウムを添加したもの）をディップ法によって塗布し、その後７０℃に加熱してシロキサン樹脂を熱硬化させ、アンダーコート層２０を形成した。
　【００７７】
　ついで、この樹脂フィルムを真空槽内にセットし、真空蒸着法により、基板温度５０℃で、ＳｉＯ２層をλ／４、ＴｉＯ２層をλ／２、ＳｉＯ２層をλ／４（λ＝５２０ｎｍ）の膜厚で順次形成し、反射防止層３０を形成した。得られた偏光板をメタノールで洗浄し、十分に乾燥させた。
　【００７８】
　ついで、前記真空槽内の真空を保持したまま、アルゴンとビス（１Ｈ，ｌＨ−パーフルオロブチル）ジアミノシランを９：１の割合で混合した気体を真空度が１〜０．０００１Ｔｏｒｒ（サンプルでは０．０１Ｔｏｒｒ）になるように真空槽内に導入し、測えば１３．５６ＭＨｚの高周波磁場で雰囲気をプラズマ化し、前記含フッ素シラン化合物を反射防止層３０上に堆積させ、汚染防止層４０を形成した。
　【００７９】
　汚染防止層の形成によって偏光板の外観ならびに反射防止特性において特に変化は見られなかった。
　【００８０】
　以上のようにして得られた樹脂フィルムの積層体を、アクリル系接着剤を介して偏光基板１０に貼り付けることにより本実施例の偏光板が形成される。前記アクリル系接着剤以外にも、エポキシ系接着剤、ウレタン系接着剤等も用いることができる。
　【００８１】
　この偏光板２００について、前記実施例１と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およびｄ．汚染防止性の各特性において、実施例１と同様に良好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板２００をＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子を用いたアクティブマトリクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。この液晶表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験およびｄ．視認性の各特性試験を行ったところ、視認性においてギラツキ感があったものの、他の特性は実施例１と同様に良好な結果が得られた。
　【００８２】
　（実施例３）
　本実施例の偏光板は、その基本的構造が前記実施例１と同様であるため、図１を参照しながら説明する。
　【００８３】
　この偏光板３００は、偏光基板１０上にアンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層４０が順次積層された構造となっている。偏光基板１０は前記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるので、その詳細な説明を省略する。
　【００８４】
　前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５〜２０μｍ（後述する試験のサンプルにおいては７μｍ）のアクリル系樹脂にシリカが分散され、防眩性が付与されている。前記シリカは、平均粒子径が０．１〜５μｍ（サンプルでは４μｍ）である。
　【００８５】
　本実施例のアンダーコート層２０の膜特性の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、光沢度（Ｇａ６０度）は７６、中心線平均粗さ（Ｒａ）は２３０ｎｍ、および曇度は４％であった。
　【００８６】
　前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１μｍ（サンプルでは０．１μｍ）であり、単層構造を成している。この膜構成は、ＭｇＦ２層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）である。
　【００８７】
　前記汚染防止層４０は、２−（パーフルオロオクチル）−エチルトリアミノシランからなる厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルにおいては１００オングストローム以下）の層から構成されている。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以上であり、優れた撥水性を示した。また、前記汚染防止層４０は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがってｎｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さいことが確認された。
　【００８８】
　次に、本実施例の偏光板３００の製造方法について述べる。
　【００８９】
　まず、偏光基板１０の表面に、実施例１と何様のシリカ粒子が分散されたアクリル樹脂塗布液をバーコート法によって塗布し、その後紫外線を照射してアクリル樹脂を硬化させ、アンダーコート層２０を形成した。
　【００９０】
　ついで、この偏光基板を真空槽内にセットし、真空蒸着法により、基板温度５０℃で、ＭｇＦ２層をλ／４（λ＝５２０ｎｍ）の膜厚で形成し、反射防止層３０を形成した。得られた偏光板をアルカリ洗浄後純水ですすぎ、十分に乾燥させた。
　【００９１】
　ついで、「フロリナートＦＣ−４０」に含フッ素シラン化合物として２−（パーフルオロオクチル）−エチルトリアミノシランを１重量％溶解させた溶液に上述した偏光板を２０℃において５分間浸漬させた。ついで、１０ｃｍ／秒の速度で偏光板を引き上げた後、相対湿度５０％、温度５０℃の雰囲気で１０分間放置した。その後、「フロリナートＦＣ−４０」によって偏光板の洗浄を行い未反応の含フッ素シラン化合物を除去し、汚染防止層４０を形成した。この汚染防止層４０の形成によって偏光板の外観ならびに反射防止特性において、特に変化は見られなかった。
　【００９２】
　この偏光板３００について、前記実施例１と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およびｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板を単純マトリクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。この液晶表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験およびｄ．視認性の特性試験を行ったところ、視認性においては、若干の写り込みとギラツキ感があったものの、他の特性は実施例１と同様に良好な結果が得られた。なお、視認性の試験においては、前記液晶表示パネルの背面に反射板を配設したサンプルを用いた。
　【００９３】
　（実施例４）
　本実施例に係る偏光板は、前記実施例１の偏光板１００と基本的な構造が同一なため、図１を参照しながら説明する。
　【００９４】
　この偏光板４００は、偏光基板１０上にアンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層４０が順次積層された構造となっている。偏光基板１０は前記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるので、その詳細な説明を省略する。
　【００９５】
　前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは１５μｍ）のアクリル系樹脂から構成されている。
　【００９６】
　このアンダーコート層２０は、前記実施例１と異なり、防眩性を高めるためのシリカが分散されていない。その代わり、後に詳述するように、その表面には転写法により微細な凹凸が形成されて、防眩性が付与されている。
　【００９７】
　本実施例のアンダーコート層２０の膜特性の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、光沢度（Ｇａ６０度）は９０、中心線平均粗さ（Ｒａ）は１００ｎｍ、および曇度は３％であった。
　【００９８】
　前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１μｍ（サンプルでは０．３μｍ）であり、５層構造を成している。この膜構成は、アンダーコート層２０側から、ＳｉＯ２層がλ／４、ＺｒＯ２層とＳｉＯ２層の積層がλ／４、ＺｒＯ２層がλ／４、最上層であるＳｉＯ２層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）である。
　【００９９】
　前記汚染防止層４０は、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトキシシランからなる厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルにおいては１００オングストローム以下）の層から構成されている。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以上であり、優れた撥水性を示した。また、前記汚染防止層４０は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがってｎｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さいことが確認された。
　【０１００】
　次に、本実施例の偏光板４００の製造方法について述べる。
　【０１０１】
　まず、偏光基板１０の表面に、実施例１と同様のアクリル樹脂塗布液（シリカを含まない）をロールコート法によって塗布し、乾燥後その表面に微細な凹凸を有するロールを押し付けながら回転させることにより、塗膜の表面に微細な凹凸を転写した。その後、紫外線を照射してアクリル樹脂を硬化させ、アンダーコート層２０を形成した。
　【０１０２】
　ついで、この偏光基板を真空槽内にセットし、例えば電子ビーム加熱による真空蒸着法により、真空槽の基板温度５０℃で、ＳｉＯ２層をλ／４、ＺｒＯ２層とＳｉＯ２層との積層をλ／４、ＺｒＯ２層をλ／４、ＳｉＯ２層をλ／４（λ＝５２０ｎｍ）の膜厚で順次形成し、反射防止層３０を形成した。得られた偏光板をメタノールで洗浄し、十分に乾燥させた。
　【０１０３】
　ついで、上記の工程で得られた偏光板を１〜０．００１Ｔｏｒｒの酸素分圧下、外部入力５０〜５００ＷでＲＦ放電させ、発生したプラズマに曝した後スピンナーにセットした。そして、フッ素系溶剤「フロリナートＦＣ−７０」（住友スリーエム社製）に含フッ素シラン化合物として１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトキシシランを３重量％溶解させた溶液を上述した偏光板に滴下してスピンナーを約３，０００ｒｐｍの回転速度で回転させ、溶液を塗布した。その後、偏光板を相対湿度５０％、温度５０℃の雰囲気で１０分間放置し、さらに、「フロリナートＦＣ−７０」によって偏光板の洗浄を行い未反応の含フッ素シラン化合物を除去し、汚染防止層４０を形成した。この汚染防止層４０の形成によって、偏光板の外観ならびに反射防止特性において、特に変化は見られなかった。
　【０１０４】
　この偏光板４００について、前記実施例１と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およびｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板４００をＭＩＭ素子を用いたアクティブマトリクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。この液晶表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験およびｄ．視認性の特性試験を行ったところ、視認性において写り込みがあったものの、他の特性は実施例１と同様に良好な結果が得られた。
　【０１０５】
　（実施例５）
　本実施例および後述する実施例６〜８においては、汚染防止層４０を蒸着法により形成し、その際に含フッ素シラン化合物をセラミック製タブレットに含浸させた点に特徴を有する。
　【０１０６】
　本実施例の偏光板は、その基本的構造が前記実施例１と同様であるため、図１を参照しながら説明する。
　【０１０７】
　偏光板５００は、偏光基板１０上にアンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層４０が順次積層された構造となっている。偏光基板１０は前記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるので、その詳細な説明を省略する。
　【０１０８】
　前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５〜２０μｍ（後述する試験のサンプルにおいては３μｍ）のアクリル系樹脂にシリカが分散され、防眩性が付与されている。前記シリカは、平均粒子径が０．１〜５μｍ（サンプルでは１μｍ）である。
　【０１０９】
　本実施例のアンダーコート層２０の膜特性の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、光沢度（Ｇａ６０度）は３５、中心線平均粗さ（Ｒａ）は１８０ｎｍ、および曇度は１３％であった。
　【０１１０】
　前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１μｍ（サンプルでは０．３μｍ）であり、５層構造を成している。この膜構成は、アンダーコート層２０側から、ＳｉＯ２層がλ／４、ＺｒＯ２層とＳｉＯ２層の積層がλ／４、ＺｒＯ２層がλ／４、最上層であるＳｉＯ２層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）である。
　【０１１１】
　前記汚染防止層４０は、パーフルオロヘキサデシルトリアミノシランからなる厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルにおいては２００オングストローム）の層から構成されている。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以上であり、優れた撥水性を示した。また、前記汚染防止層４０は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがってｎｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さいことが確認された。
　【０１１２】
　次に、本実施例の偏光板５００の製造方法について述べる。
　【０１１３】
　まず、偏光基板１０の表面に、実施例１で用いたと同様のシリカ粒子が分散されたアクリル樹脂塗布液をロールコート法によって塗布し、その後紫外線を照射してアクリル樹脂を硬化させ、アンダーコート層２０を形成した。
　【０１１４】
　ついで、この偏光基板を真空槽内にセットし、電子ビーム加熱による真空蒸着法により、基板温度５０℃で、前記反射防止層３０および汚染防止層４０を形成した。
　【０１１５】
　以下に、蒸着装置および蒸着方法について具体的に述べる。
　【０１１６】
　図３は、本実施例に用いた蒸着装置の一例を模式的に示した断面図である。
　【０１１７】
　この蒸着装置は、排気口１を有する真空槽２内の一端側に、円盤状のタブレット設置台４が設けられている。このタブレット設置台４は、軸４ａを介して図示しない回転手段に接続されており、所定の回転速度で間欠的に回転駆動される。このタブレット設置台４上には蒸着すべき材料（蒸着源）からなるタブレットあるいは蒸着源を含むタブレットが該設置台４の周に沿って配置されている。
　【０１１８】
　本実施例においては、反射防止層３０を構成するための二酸化ケイ素のタブレット６、酸化ジルコニウムのタブレット７、および汚染防止層４０を形成するための含フッ素シラン化合物を含むタブレット８が載置されている。
　【０１１９】
　汚染防止層４０を形成するためのタブレット８は、例えば次のようにして形成される。すなわち、ＳｉＯ２７０重量％およびＡｌ２Ｏ３３０重量％を混合し、これを焼結して多孔質のタブレットを形成する。このタブレットを密閉容器に入れてロータリーポンプによって１０−３Ｔｏｒｒの状態まで排気する。なお、このとき、タブレットは１００℃に加熱されている。次いで、タブレットを冷却した後、前記密閉容器にパーフルオロヘキサデシルトリアミノシランを導入して密閉容器を大気圧に戻し、タブレットにこの含フッ素シラン化合物を含浸させる。
　【０１２０】
　タブレット設置台４の上方には、少なくとも前記タブレット６〜８の前方を覆う状態で、遮蔽部材５が設置されている。そして、この遮蔽部材５の一部には開閉制御されるシャッタ部５ａが設けられている。このシャッタ部５ａの開放時間を制御することによって堆積層の膜厚を規定することができる。また、前記タブレット設置台４の近傍には、単一のタブレット（ソース）に電子ビームを照射するための電子ビーム銃３が設置されている。
　【０１２１】
　一方、真空槽２内の他方側には、アンダーコート層２０が積層された偏光基板１０が配置される。このとき、アンダーコート層２０が蒸着源であるタブレット側に向くように配置される。
　【０１２２】
　この蒸着装置においては、まず、図示しない排気手段を用いて排気口１より真空槽２内の空気を吸引して、圧力１０−５Ｔｏｒｒ以下まで排気した状態で、前記タブレット６および７に交互に電子ビームを照射し、反射防止層３０を形成する。この反射防止層３０の膜構成は、アンダーコート層２０側からＳｉＯ２層がλ／４で、ＺｒＯ２層とＳｉＯ２層の積層がλ／４、ＺｒＯ２層がλ／４、最上層のＳｉＯ２層がλ／４の膜厚で堆積される。
　【０１２３】
　次いで、真空状態を保持したまま、タブレット８に電子ビームを照射してタブレットを構成するセラミックスが蒸発しない程度に加熱し、含フッ素シラン化合物だけを所定時間（２０秒間程度）蒸発させ、汚染防止層４０を形成した。
　【０１２４】
　このようにして形成された偏光板５００は、反射防止層３０および汚染防止層４０を形成することによって、偏光板の外観，反射防止特性に特に変化は見られなかった。
　【０１２５】
　この製造方法によれば、反射防止層３０および汚染防止層４０を同一真空槽内で連続的に形成することができる。
　【０１２６】
　この偏光板５００について、前記実施例１と同様に特性試験を行なった。その結果、偏光板の特性として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およびｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板をＭＩＭ素子を用いたアクティブマトリクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。この液晶表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験およびｄ．視認性の特性試験を行ったところ、実施倒１と同様に良好な結果が得られた。
　【０１２７】
　（実施例６）
　本実施例の偏光板は、その基本的な構造が前記実施例２と同様であるため、図２を参照しながら説明する。
　【０１２８】
　この偏光板６００は、偏光基板１０上に接着層５２を介して樹脂フィルム５０、アンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層４０が順次積層された構造となっている。なお、偏光基板１０の構成は、前記実施例１の偏光基板と同様の構成を有するため、その詳細な説明を省略する。
　【０１２９】
　前記樹脂フィルム５０は、厚さ０．０３〜１ｍｍ（後述する試験のサンプルでは０．２ｍｍ）のアクリル樹脂から構成されている。
　【０１３０】
　前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは５μｍ）のアクリル系樹脂層からなる。このアンダーコート層２０は、防眩性を高めるためのシリカが分散されていない。その代わり、後述するエアスプレー法によって防眩性が付与される。
　【０１３１】
　本実施例のアンダーコート層２０の膜特性の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で５Ｈであり、光沢度（Ｇａ６０度）は４８、中心線平均粗さ（Ｒａ）は１００ｎｍ、および曇度は１０％であった。
　【０１３２】
　前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１μｍ（サンプルでは０．３μｍ）であり、３層構造を成している。この膜構成は、アンダーコート層２０側から、ＳｉＯ２層がλ／４、ＴｉＯ２層がλ／２、最上層であるＳｉＯ２層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）である。
　【０１３３】
　前記汚染防止層４０は、３，３，３−トリフルオロプロピルトリクロロシランからなる厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルにおいては１００オングストローム以下）の層から構成されている。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以上であり、優れた撥水性を示した。また、前記汚染防止層４０は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがってｎｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さいことが確認された。
　【０１３４】
　次に、本実施例の偏光板６００の製造方法について述べる。
　【０１３５】
　まず、前記樹脂フィルム５０の表面に、エアスプレー法を用いてアクリル樹脂塗布液を、液滴の平均粒子径が５〜１００μｍになるように吐出量と空気使用量を調整し、さらに樹脂フィルムの移動速度を適度に調整しながら塗布し、アンダーコート層２０を形成した。
　【０１３６】
　ついで、この樹脂フィルムを真空槽内にセットし、例えば電子ビーム加熱による真空蒸着法により、基板温度５０℃で、ＳｉＯ２層をλ／４、ＴｉＯ２層をλ／２、ＳｉＯ２層をλ／４（λ＝５２０ｎｍ）の膜厚で順次形成し、反射防止層３０を形成した。
　【０１３７】
　次いで、この樹脂フィルムを真空槽内にセットし、例えば抵抗加熱による真空蒸着法により汚染防止層４０を形成した。真空蒸着装置にセットされるタブレットは、実施例５と同様にして調整され、例えば多孔質アルミナのタブレットに３，３，３−トリフルオロプロピルトリクロロシランが含有されたものである。
　【０１３８】
　真空蒸着を行う際には、真空槽内を１０−６Ｔｏｒｒまで排気し、被蒸着基板を酸素プラズマに曝した後に、前記タブレットを電気抵抗で約２００℃に加熱し、含フッ素シラン化合物（３，３，３−トリフルオロプロピルトリクロロシラン）を含むタブレットを３０秒間蒸発させ、汚染防止層４０を形成した。汚染防止層４０の形成によって偏光板の外観ならびに反射防止特性において特に変化は見られなかった。
　【０１３９】
　以上のようにして得られた樹脂フィルムの積層体を、実施例２と同様にアクリル系接着剤を介して偏光基板１０に貼り付けることにより本実施例の偏光板が形成される。
　【０１４０】
　この偏光板６００について、前記実施例１と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およびｄ．汚染防止性の各特性において、汚れの拭き取り性が若干悪かったものの、実施例１と同様に良好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板６００をＴＦＴ素子を用いたアクティブマトリクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。この液晶表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験およびｄ．視認性の各特性試験を行ったところ、若干のギラツキ感はあったものの、他の特性は実施例１と同様に良好な結果が得られた。
　【０１４１】
　（実施例７）
　本実施例の偏光板は、その基本的構造が前記実施例１と同様であるため、図１を参照しながら説明する。
　【０１４２】
　この偏光板７００は、偏光基板１０上にアンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層４０が順次積層された構造となっている。偏光基板１０は前記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるので、その詳細な説明を省略する。
　【０１４３】
　前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５〜２０μｍ（後述する試験のサンプルにおいては３μｍ）のアクリル系樹脂にシリカが分散され、防眩性が付与されている。前記シリカは、平均粒子径が０．１〜５μｍ（サンプルでは２μｍ）である。
　【０１４４】
　本実施例のアンダーコート層２０の膜特性の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、光沢度（Ｇａ６０度）は２６、中心線平均粗さ（Ｒａ）は２２０ｎｍ、および曇度は２０％であった。
　【０１４５】
　前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１μｍ（サンプルでは０．１μｍ）であり、単層構造を成している。この膜構成は、ＭｇＦ２層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）である。
　【０１４６】
　前記汚染防止層４０は、ビス（パーフルオロノニル）ブチルアミノシランからなる厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルにおいては４００オングストローム）の層から構成されている。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以上であり、優れた撥水性を示した。また、前記汚染防止層４０は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがってｎｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さいことが確認された。
　【０１４７】
　次に、本実施例の偏光板７００の製造方法について述べる。
　【０１４８】
　まず、偏光基板１０の表面に、実施例１で用いたと同様のシリカ粒子が分散されたアクリル樹脂塗布液をロールコート法によって塗布し、その後紫外線を照射してアクリル樹脂を硬化させ、アンダーコート層２０を形成した。
　【０１４９】
　ついで、この偏光基板を真空槽内にセットし、例えば電子ビーム加熱による真空蒸着法により、基板温度５０℃で、ＭｇＦ２層をλ／４（λ＝５２０ｎｍ）の膜厚で形成し、反射防止層３０を形成した。
　【０１５０】
　一方、実施例５と同様な方法で、多孔質窒化ケイ素のタブレットにビス（パーフルオロノニル）ブチルアミノシランを含浸させた。このタブレットをランプ加熱が可能な真空槽内にセットし、さらに、真空槽内を１０−６Ｔｏｒｒまで排気した。次いで、偏光基板を酸素プラズマに曝した後、ランプの輻射熱で前記タブレットを約３０秒間加熱させ、汚染防止層４０を形成した。
　【０１５１】
　この偏光板７００について、前記実施例１と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およびｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板を単純マトリクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。この液晶表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験およびｄ．視認性の特性試験を行ったところ、実施例１と同様に良好な結果が得られた。なお、視認性の試験においては、前記液晶表示パネルの背面に反射板を配設したサンプルを用いた。
　【０１５２】
　（実施例８）
　本実施例に係る偏光板は、前記実施例１の偏光板１００と基本的な構造が同一なため、図１を参照しながら説明する。
　【０１５３】
　この偏光板８００は、偏光基板１０上にアンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層４０が順次積層された構造となっている。偏光基板１０は前記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるので、その詳細な説明を省略する。
　【０１５４】
　前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは４μｍ）のアクリル系樹脂から構成されている。
　【０１５５】
　このアンダーコート層２０は、前記実施例１と異なり、防眩性を高めるためのシリカが分散されていない。その代わり、その表面には転写法により微細な凹凸が形成されて、防眩性が付与されている。
　【０１５６】
　本実施例のアンダーコート層２０の膜特性の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、光沢度（Ｇａ６０度）は９０、中心線平均粗さ（Ｒａ）は１００ｎｍ、および曇度は３％であった。
　【０１５７】
　前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１μｍ（サンプルでは０．３μｍ）であり、５層構造を成している。この膜構成は、アンダーコート層２０側から、ＳｉＯ２層がλ／４、ＺｒＯ２層とＳｉＯ２層の積層がλ／４、ＺｒＯ２層がλ／４、最上層であるＳｉＯ２層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）である。
　【０１５８】
　前記汚染防止層４０は、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリブロモシランからなる厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルにおいては３００オングストローム）の層から構成されている。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以上であり、優れた撥水性を示した。また、前記汚染防止層４０は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがってｎｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さいことが確認された。
　【０１５９】
　次に、本実施例の偏光板８００の製造方法について述べる。
　【０１６０】
　まず、偏光基板１０の表面に、実施例４で用いたと同様のアクリル樹脂塗布液を用い、実施例４と同様の転写法によってアンダーコート層２０の表面に微細な凹凸を形成した。
　【０１６１】
　次いで、実施例５と同様の蒸着装置を用いて反射防止層３０および汚染防止層４０を連続的に形成した。また、含フッ素シラン化合物は、実施例５と同様に多孔質アルミナのタブレットに１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ，−パーフルオロオクチルトリブロモシランを含浸させたものを用いた。真空蒸着においては、まず、アンダーコート層２０が積層された偏光基板１０を真空槽内にセットし、基板温度５０℃で、ＳｉＯ２層をλ／４、ＺｒＯ２層とＳｉＯ２層との積層をλ／４、ＺｒＯ２層をλ／４、ＳｉＯ２層をλ／４（λ＝５２０ｎｍ）の膜厚で順次形成し、反射防止層３０を形成した。
　【０１６２】
　次いで、真空状態を保持したまま、含フッ素シラン化合物を含有させたタブレットを電子ビームで照射して含フッ素シラン化合物のみを所定時間（例えば２０秒間）蒸発させ、汚染防止層４０を形成した。この汚染防止層４０の形成によって、偏光板の外観ならびに反射防止特性において、特に変化は見られなかった。
　【０１６３】
　この偏光板８００について、前記実施例１と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およびｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良好な結果が得られた。さらに、本実施例の偏光板８００をＭＩＭ素子を用いたアクティブマトリクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。この液晶表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験およびｄ．視認性の特性試験を行ったところ、視認性において写り込みがあったものの、他の特性は実施例１と同様に良好な結果が得られた。
　【０１６４】
　（実施例９）
　本実施例と後述する実施例１０〜１２においては、前記実施例３と同様に、含フッ素シラン化合物としてアミン系化合物を用い、かつ汚染防止層４０をディップ法によって形成している点に特徴を有している。本実施例の偏光板は、その基本的構造が前記実施例１と同様であるため、図１を参照しながら説明する。
　【０１６５】
　この偏光板９００は、偏光基板１０上にアンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層４０が順次積層された構造となっている。なお、前記偏光基板１０の構成は、前記実施例１の偏光基板と同様の構成を有するため、その詳細な説明を省略する。
　【０１６６】
　前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５〜２０μｍ（後述する試験のサンプルにおいては３μｍ）のアクリル系樹脂にシリカが分散され、防眩性が付与されている。前記シリカは、平均粒子径が０．１〜５μｍ（サンプルでは２μｍ）である。
　【０１６７】
　本実施例のアンダーコート層２０の膜特性の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、光沢度（Ｇａ６０度）は１８、中心線平均粗さ（Ｒａ）は３１０ｎｍ、および曇度は３２％であった。
　【０１６８】
　前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１μｍ（サンプルでは０．３μｍ）であり、５層構造を成している。この膜構成は、アンダーコート層２０側から、ＳｉＯ２層がλ／４、ＺｒＯ２層とＳｉＯ２層の積層がλ／４、ＺｒＯ２層がλ／４、最上層であるＳｉＯ２層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）である。
　【０１６９】
　前記汚染防止層４０は、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリアミノシランからなる厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルにおいては１００オングストローム以下）の層から構成されている。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以上であり、優れた撥水性を示した。また、撥油性も有していた。前記汚染防止層４０は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがってｎｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さいことが確認された。
　【０１７０】
　次に、本実施例の偏光板９００の製造方法について述べる。
　【０１７１】
　まず、偏光基板１０の表面に、実施例１で用いたと同様のシリカ粒子が分散されたアクリル樹脂塗布液をロールコート法によって塗布し、その後紫外線を照射してアクリル樹脂を硬化させ、アンダーコート層２０を形成した。
　【０１７２】
　ついで、この偏光基板を真空槽内にセットし、例えば電子ビーム加熱による真空蒸着法により、基板温度５０℃で、ＳｉＯ２層をλ／４、ＺｒＯ２層とＳｉＯ２層との積層をλ／４、ＺｒＯ２層をλ／４、ＳｉＯ２層をλ／４（λ＝５２０ｎｍ）の膜厚で順次形成し、反射防止層３０を形成した。得られた偏光板をメタノールで洗浄し、十分に乾燥させた。
　【０１７３】
　ついで、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタンに含フッ素シラン化合物として１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリアミノシランを１重量％溶解させた溶液に上述した偏光板を２０℃において１分間浸漬させた。ついで、１０ｃｍ／秒の速度で偏光板を引き上げた後、相対湿度５０％、温度６０℃の雰囲気で１０分間放置した。この状態では、偏光板の両面に１０μｍ程度のかなり厚い塗布層が形成され、塗布面は若干不均一であり、かつ外観上は白濁していた。
　【０１７４】
　その後、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタンに偏光板を１分間浸漬することによって偏光板の洗浄を行い、未反応の含フッ素シラン化合物を除去し、汚染防止層４０を形成した。
　【０１７５】
　前記含フッ素シラン化合物は、偏光基板１０の支持層を構成するＴＡＣと反応しないため、第２の支持層１６上に付着した未反応の含フッ素シラン化合物をフッ素系溶剤によって除去することができる。したがって、第２の支持層１６上に接着が困難なシラン化合物層が残存していない。また、このようにして得られた偏光板は、汚染防止層の形成によって外観ならびに反射防止特性において特に変化は見られなかった。
　【０１７６】
　この偏光板９００について、前記実施例１と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およびｄ．汚染防止性の各特性において、汚れの拭き取り性が悪かったものの、実施例１と同様に良好な結果が得られた。なお、付着した汚れはクリーナーを用いれば除去することができた。さらに、本施例の偏光板９００をＭＩＭ素子を用いたアクティブマトリクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。この液晶表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験およびｄ．視認性の特性試験を行ったところ、実施例１と同様に良好な結果が得られた。
　【０１７７】
　（実施例１０）
　本実施例の偏光板は、その基本的構造が前記実施例１と同様であるため、図１を参照しながら説明する。
　【０１７８】
　この偏光板１０００は、偏光基板１０上にアンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層４０が順次積層された構造となっている。偏光基板１０は前記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるので、その詳細な説明を省略する。
　【０１７９】
　前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは３μｍ）のアクリル系樹脂から形成されている。このアンダーコート層２０には、防眩性を高めるためのシリカが分散されていない。
　【０１８０】
　本実施例のアンダーコート層２０の膜特性の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、光沢度（Ｇａ６０度）は９０、中心線平均粗さ（Ｒａ）は５０ｎｍ、および曇度は０．５％であった。
　【０１８１】
　前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１μｍ（サンプルでは０．１μｍ）であり、単層構造を成している。この膜構成は、ＭｇＦ２層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）である。
　【０１８２】
　前記汚染防止層４０は、ビス−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロノニル）−ブチル−アミノシランからなる厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルにおいては１００オングストローム以下）の層から構成されている。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以上であり、優れた撥水性を示した。また、撥油性も有していた。前記汚染防止層４０は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがってｎｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さいことが確認された。
　【０１８３】
　次に、本実施例の偏光板１０００の製造方法について述べる。
　【０１８４】
　まず、偏光基板１０の表面に、実施例４で用いたと同様なシリカ粒子が分散されていないアクリル樹脂塗布液をロールコート法によって塗布し、その後紫外線を照射してアクリル樹脂を硬化させ、アンダーコート層２０を形成した。
　【０１８５】
　ついで、この偏光基板を真空槽内にセットし、例えば電子ビーム加熱による真空蒸着法により、基板温度５０℃で、ＭｇＦ２層をλ／４（λ＝５２０ｎｍ）の膜厚で形成し、反射防止層３０を形成した。得られた偏光板をアルカリ洗浄後純水ですすぎ、十分に乾燥させた。
　【０１８６】
　ついで、「フロリナートＦＣ−４０」に含フッ素シラン化合物としてビス−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロノニル）−ブチルアミノシランを５重量％溶解させた溶液に上述した偏光板を２０℃において５分間浸漬させた。ついで、１０ｃｍ／秒の速度で偏光板を引き上げた後、相対湿度５０％、温度５０℃の雰囲気で１時間放置した。この状態では、偏光板の両面に１０μｍ程度のかなり厚い塗布層が形成され、塗布面は若干不均一であり、かつ外観上は白濁していた。
　【０１８７】
　その後、「フロリナートＦＣ−４０」に偏光板を１分間浸漬することによって偏光板の洗浄を行い、未反応の含フッ素シラン化合物を除去し、汚染防止層４０を形成した。
　【０１８８】
　前記含フッ素シラン化合物は、偏光板１０の支持層を構成するＴＡＣと反応しないため、第２の支持層１６上に付着した未反応の含フッ素シラン化合物をフッ素系溶剤によって除去することができる。したがって、第２の支持層１６上に接着が困難なシラン化合物層が残存していない。この汚染防止層４０の形成によって偏光板の外観ならびに反射防止特性において、特に変化は見られなかった。
　【０１８９】
　この偏光板１０００について、前記実施例１と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およびｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板１０００を単純マトリクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。この液晶表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験およびｄ．視認性の特性試験を行ったところ、視認性の点では写り込みが顕著であるものの、他の特性は実施例１と同様に良好な結果が得られた。なお、視認性の試験においては、前記液晶表示パネルの背面に反射板を配設したサンプルを用いた。
　【０１９０】
　（実施例１１）
　本実施例の偏光板は、その基本的構造が前記第１実施例と同様であるため、図１を参照しながら説明する。
　【０１９１】
　この偏光板１１００は、偏光基板１０上にアンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層４０が順次積層された構造となっている。偏光基板１０は前記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるので、その詳細な説明を省略する。
　【０１９２】
　前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは５μｍ）のアクリル系樹脂から構成されている。
　【０１９３】
　このアンダーコート層２０は、前記実施例１と異なり、防眩性を高めるためのシリカが分散されていない。その代わり、その表面には転写法により微細な凹凸が形成されて、防眩性が付与されている。
　【０１９４】
　本実施例のアンダーコート層２０の膜特性の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、光沢度（Ｇａ６０度）は３７、中心線平均粗さ（Ｒａ）は１０００ｎｍ、および曇度は３５％であった。
　【０１９５】
　前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１μｍ（サンプルでは０．３μｍ）であり、３層構造を成している。この膜構成は、アンダーコート層２０側から、ＳｉＯ２層がλ／４、ＴｉＯ２層がλ／２、最上層であるＳｉＯ２層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）である。
　【０１９６】
　前記汚染防止層４０は、ビス（ＩＨ，ＩＨ−パーフルオロブチル）ジアミノシランからなる厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルにおいては１００オングストローム以下）の層から構成されている。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以上であり、優れた撥水性を示した。また、前記汚染防止層４０は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがってｎｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さいことが確認された。
　【０１９７】
　次に、本実施例の偏光板１１００の製造方法について述べる。
　【０１９８】
　まず、偏光基板１０の表面に、実施例４で用いたと同様のアクリル樹脂塗布液をロールコート法によって塗布し、次いで、実施例４で述べたと同様の転写法によって、乾燥させた塗膜の表面に微細な凹凸を形成した。その後紫外線を照射してアクリル樹脂を硬化させ、アンダーコート層２０を形成した。
　【０１９９】
　ついで、この偏光基板を真空槽内にセットし、例えば電子ビーム加熱による真空蒸着法により、真空槽の基板温度５０℃で、ＳｉＯ２層をλ／２、ＴｉＯ２層をλ／２、ＳｉＯ２層をλ／４（λ＝５２０ｎｍ）の膜厚で順次形成し、反射防止層３０を形成した。得られた偏光板をメタノールで洗浄し、十分に乾燥させた。
　【０２００】
　ついで、上記の工程で得られた偏光板を「フロリナートＦＣ−４０」に含フッ素シラン化合物としてビス（ＩＨ，ＩＨ−パーフルオロブチル）ジアミノシランを３重量％溶解させた溶液に、２０℃において２分間浸漬させた。その後、５ｃｍ／秒の速度で偏光板を引き上げた後、常温の大気中で一日間放置した。さらに、「フロリナートＦＣ−４０」に得られた偏光板を１分間浸漬し、さらに「フロリナートＦＣ−４０」の蒸気浴において引上げ洗浄を行うことによって偏光板の洗浄を行い未反応の含フッ素シラン化合物を除去し、汚染防止層４０を形成した。
　【０２０１】
　前記含フッ素シラン化合物は、偏光基板１０の支持層を構成するＴＡＣと反応しないため、第２の支持層１６上に付着した未反応の含フッ素シラン化合物をフッ素系溶剤によって除去することができる。したがって、第２の支持層１６上に接着が困難なシラン化合物層が残存していない。この汚染防止層の形成によって、偏光板の外観ならびに反射防止特性において、特に変化は見られなかった。
　【０２０２】
　この偏光板１１００について、前記実施例１と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およびｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板１１００をＴＦＴ素子を用いたアクティブマトリクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。この液晶表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験およびｄ．視認性の特性試験を行ったところ、視認性にいて解像度が若干低下したものの、他の特性は実施例１と同様に良好な結果が得られた。
　【０２０３】
　（実施例１２）
　この偏光板１２００は、偏光基板１０上にアンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層４０が順次積層された構造となっている。なお、前記偏光基板１０の構成は、前記実施例１の偏光基板と同様の構成を有するため、その詳細な説明を省略する。
　【０２０４】
　前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは１μｍ）のシロキサン系樹脂にシリカが分散され、防眩性が付与されている。前記シリカは、平均粒子径が０．１〜５μｍ（サンプルでは０．３μｍ）である。
　【０２０５】
　本実施例のアンダーコート層２０の膜特性の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で５Ｈであり、光沢度（Ｇａ６０度）は３５、中心線平均粗さ（Ｒａ）は８０ｎｍ、および曇度は７％であった。
　【０２０６】
　前記反射防止層３０は、膜厚０．０８〜１μｍ（サンプルでは０．３μｍ）であり、５層構造を成している。この膜構成は、アンダーコート層２０側から、ＳｉＯ２層がλ／４、ＺｒＯ２層とＳｉＯ２層の積層がλ／４、ＺｒＯ２層がλ／４、最上層であるＳｉＯ２層がλ／４（ここでλ＝５２０ｎｍ）である。
　【０２０７】
　前記汚染防止層４０は、２−（パーフルオロノニル）−エチルブチルージアミノシランからなる厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルにおいては１００オングストローム以下）の層から構成されている。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以上であり、優れた撥水性を示した。また、撥油性も有していた。前記汚染防止層４０は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがってｎｄが０．１μｍより小さいことが確認された。
　【０２０８】
　次に、本実施例の偏光板１２００の製造方法について述べる。
　【０２０９】
　まず、偏光基板１０の表面に、実施例２で用いたと同様のシリカ粒子が分散されたシロキサン系樹脂塗布液をロールコート法によって塗布し、その後８０℃に加熱してシロキサン系樹脂を硬化させ、アンダーコート層２０を形成した。
　【０２１０】
　ついで、この偏光基板を真空槽内にセットし、例えば電子ビーム加熱による真空蒸着法により、基板温度５０℃で、ＳｉＯ２層をλ／４、ＺｒＯ２層とＳｉＯ２層との積層をλ／４、ＺｒＯ２層をλ／４、ＳｉＯ２層をλ／４（λ＝５２０ｎｍ）の膜厚で順次形成し、反射防止層３０を形成した。得られた偏光板をメタノールで洗浄し、十分に乾燥させた。
　【０２１１】
　ついで、「フロリナートＦＣ−４０」に含フッ素シラン化合物として２−（パーフルオロノニル）−エチルブチルージアミノシランを１０重量％溶解させた溶液に上述した偏光板を２０℃において５分間浸漬させた。ついで、３ｃｍ／秒の速度で偏光板を引き上げた後、相対湿度５０％、温度４０℃の雰囲気で１時間放置した。この状態では、偏光板の両面に１μｍ程度のかなり厚い塗布層が形成され、塗布面は若干不均一であり、かつ外観上は白濁していた。
　【０２１２】
　その後、「フロリナートＦＣ−４０」に偏光板を１分間浸漬することによって偏光板の洗浄を行い未反応の含フッ素シラン化合物を除去した。
　【０２１３】
　前記含フッ素シラン化合物は、偏光基板１０の支持層を構成するＴＡＣと反応しないため、第２の支持層１６上に付着した未反応の含フッ素シラン化合物をフッ素系溶剤によって除去することができる。したがって、第２の支持層１６上に接着が困難なシラン化合物層が残存していない。また、このようにして得られた偏光板は、汚染防止層の形成によって外観ならびに反射防止特性において特に変化は見られなかった。
　【０２１４】
　この偏光板１２００について、前記実施例１と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およびｄ．汚染防止性の各特性において、汚れの拭き取り性が悪かったものの、その他の特性は実施例１と同様に良好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板１２００をＭＩＭ素子を用いたアクティブマトリクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。この液晶表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験およびｄ．視認性の特性試験を行ったところ、実施例１と同様に良好な結果が得られた。
　【０２１５】
　（実施例１３）
　本実施例および後述する実施例１４〜１６においては、反射防止層３０が前記実施例のように蒸着法ではなく、ディップコーティングなどの塗布法によって形成されている点に特徴を有している。
　【０２１６】
　本実施例の偏光板は、その基本的構造が前記実施例１と同様であるため、図１を参照しながら説明する。
　【０２１７】
　この偏光板１３００は、偏光基板１０上にアンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層４０が順次積層された構造となっている。偏光基板１０は前記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるので、その詳細な説明を省略する。前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは３μｍ）のアクリル系樹脂にシリカが分散され、防眩性が付与されている。前記シリカは、平均粒子径が０．１〜５μｍ（サンプルでは
１．２
　【０２１８】
　本実施例のアンダーコート層２０の膜特性の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、光沢度（Ｇａ６０度）は２５、中心線平均粗さ（Ｒａ）は２５０ｎｍ、および曇度は１５％であった。
　【０２１９】
　前記反射防止層３０は、約８５０オングストロームのシロキサン系樹脂からなる高屈折率層と、膜厚約９５０オングストロームのアクリル系樹脂からなる低屈折率層から形成されている。前記高屈折率層は、シロキサン系樹脂に平均粒子径が約５０オングストロームのチタニア粒子と平均粒子径が約８０オングストロームのシリカ粒子が分散されている。
　【０２２０】
　前記高屈折率層は、その屈折率がこの実施例では、１．６４であった。また、前記低屈折率層は、その屈折率がこの実施例では１．４２であった。この反射防止層３０は、空気中の反射率が５５０ｎｍで０．５％であり、高い反射防止効果が確認された。
　【０２２１】
　前記汚染防止層４０は、２−（パーフルオロオクチル）−エチルトリアミノシランからなる厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルにおいては２００オングストローム）の層から構成されている。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以上であり、優れた撥水性を示し、さらに一般の有機溶剤に濡れず、優れた撥油性も示した。また、前記汚染防止層４０は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがってｎｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さいことが確認された。
　【０２２２】
　次に、本実施例の偏光板１３００の製造方法について述べる。
　【０２２３】
　まず、偏光基板１０の表面に、シリカ粒子が分散されたアクリル樹脂塗布液をロールコート法によって塗布し、その後紫外線を照射してアクリル樹脂を硬化させ、アンダーコート層２０を形成した。
　【０２２４】
　ついで、メチルセロソロブに５０重量％のγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを溶解し触媒量（塗布液の０．０１重量％程度）の塩酸を加え、室温で撹拌して溶液を調整した。この溶液にさらに前記チタニア粒子とシリカ粒子とを混合し、さらに過塩素酸マグネシウムを触媒量（塗布液に対して０．０５重量％程度）添加し、十分に撹拌し、塗布液を調整した。この塗布液は均質なゾルであり、長期間にわたって良好な保存安定性を有し、沈澱等が生じなかった。この塗布液に偏光板を浸漬し、ディップコーティングにより塗膜を形成し、さらに４０〜１００℃（サンプルでは６０℃）に加熱して高屈折率層を形成した。
　【０２２５】
　次いで、５重量％のパーフルオロアルキルアクリレートのオリゴマーをフッ素系溶媒（トリフルオロメチルベンゼン）に溶解させ、塗布液を調整した。この塗布液を用いてディップコーティングにより偏光板上に塗布層を形成し、３０〜１００℃（サンプルでは５０℃）で５〜１８０分間（サンプルでは３０分間）加熱した後、紫外線を例えば１ジュールの強さで照射し、アクリル系樹脂の低屈折率層を形成した。
　【０２２６】
　このようにして形成された２層構造の反射防止層３０は、非常に緻密かつ均質で、クラック等が発生していないことが確認された。また、この実施例においては、塗布層の膜厚を５０オングストローム程度の範囲で十分に制御できることがわかった。
　【０２２７】
　次いで、実施例５と同様にして、多孔質アルミナのタブレットに２−（パーフルオロオクチル）−エチルトリアミノシランを含浸させた。このタブレットを蒸発源として真空蒸着により汚染防止層４０を形成した。真空蒸着においては、例えば真空槽内を１０−６Ｔｏｒｒまで排気し、前記偏光板を酸素プラズマに曝した後、タブレットを電気抵抗で加熱し、前記フッ素シラン化合物のみを所定時間（サンプルでは３０秒間）蒸発させ、反射防止層３０上に含フッ素シラン化合物層を堆積させた。この汚染防止層４０の形成によって偏光板の外観ならびに反射防止特性において、特に変化は見られなかった。
　【０２２８】
　この偏光板１３００について、前記実施例１と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およびｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板１３００をＭＩＭ素子によるアクティブマトリクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。この液晶表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験およびｄ．視認性の特性試験を行ったところ、実施例１と同様に良好な結果が得られた。
　【０２２９】
　（実施例１４）
　本実施例の偏光板は、前記実施例２の偏光板２００と基本的な構造が同様であるため、図２を参照しながら説明する。
　【０２３０】
　この偏光板１４００は、偏光基板１０上に接着層５２を介して樹脂フィルム５０、アンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層４０が順次積層された構造となっている。なお、偏光基板１０の構成は、前記実施例１の偏光基板と同様の構成を有するため、その詳細な説明を省略する。
　【０２３１】
　前記樹脂フィルム５０は、厚さ０．０３〜１ｍｍ（後述する試験のサンプルでは０．２ｍｍ）のアクリル樹脂から構成されている。
　【０２３２】
　前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは５μｍ）のシロキサン系樹脂にシリカが分散され、防眩性が付与されている。前記シリカは、平均粒子径が０．１〜５μｍ（サンプルでは４μｍ）である。
　【０２３３】
　本実施例のアンダーコート層２０の膜特性の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で５Ｈであり、光沢度（Ｇａ６０度）は４８、中心線平均粗さ（Ｒａ）は９８０ｎｍ、および曇度は１５％であった。
　【０２３４】
　前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１μｍ（サンプルでは０．１μｍ）であり、多孔質のシリカ系非晶質体の超低屈折率層からなる。この反射防止層３０は、その屈折率が１．２５〜１．４５（サンプルでは１．３２）である。また、反射防止層３０の空気中の反射率は可視波長領域全体にわたって０．５％程度であり、高い反射防止効果があることが確認された。
　【０２３５】
　前記汚染防止層４０は、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリクロロシランからなる厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルにおいては１００オングストローム以下）の層から構成されている。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以上であり、優れた撥水性を示した。また、前記汚染防止層４０は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがってｎｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さいことが確認された。
　【０２３６】
　次に、本実施例の偏光板１４００の製造方法について述べる。
　【０２３７】
　まず、前記樹脂フィルム５０の表面に、実施例６で用いたと同様のシリカ粒子が分散されたシロキサン系樹脂塗布液をディップ法によって塗布し、その後７０℃に加熱してシロキサン系樹脂を熱硬化させ、アンダーコート層２０を形成した。
　【０２３８】
　次いで、エチルセロソロブとエタノールとの混合溶媒（両者の組成比１：１）にテトラエトキシシランを溶解し、さらに純水および触媒量の塩酸を加え、室温で撹拌して加水分解を行った。この溶液に、平均粒子径５０〜１０００オングストローム（サンプルでは２００オングストローム）のシリカ微粒子の分散液を混合し、十分に撹拌して塗布液を調整した。この塗布液は均質なゾルであり、長期間にわたって良好な保存安定性を有し、沈澱などが見られなかった。
　【０２３９】
　この塗布液を前記アンダーコート層２０の表面にロールコーティングによって塗布し、さらに５０〜１００℃（サンプルでは８０℃）に加熱した後、紫外線を例えば１０ジュールの強度で照射して、反射防止層３０を形成した。この反射防止層３０は、非常に緻密かつ均質で、クラック等が発生していないことが確認された。また、この実施例においては、塗布層の膜厚を１００オングストローム程度の範囲で十分に制御できることがわかった。
　【０２４０】
　ついで、「フロリナートＦＣ−４０」に含フッ素シラン化合物として１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリクロロシランを５重量％溶解させた溶液に上述した偏光板を２０℃において１分間浸漬させた。ついで、１０ｃｍ／秒の速度で偏光板を引き上げた後、相対湿度５０％、温度５０℃の雰囲気で１０分間放置した。その後、「フロリナ−トＦＣ−４０」によって偏光板の洗浄を行い、未反応の含フッ素シラン化合物を除去した。
　【０２４１】
　汚染防止層４０の形成によって偏光板の外観ならびに反射防止特性において特に変化は見られなかった。
　【０２４２】
　以上のようにして得られた樹脂フィルムの積層体を、実施例２と同様のアクリル系接着剤を介して偏光基板１０に貼り付けることにより本実施例の偏光板が形成される。
　【０２４３】
　この偏光板１４００について、前記実施例１と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およびｄ．汚染防止性の各特性において、実施例１と同様に良好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板１４００をＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子を用いたアクティブマトリクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。この液晶表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験およびｄ．視認性の各特性試験を行ったところ、視認性においてギラツキ感があったものの、実施例１と同様に良好な結果が得られた。
　【０２４４】
　（実施例１５）
　本実施例の偏光板は、その基本的構造が前記実施例１と同様であるため、図１を参照しながら説明する。
　【０２４５】
　この偏光板１５００は、偏光基板１０上にアンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層４０が順次積層された構造となっている。偏光基板１０は前記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるので、その詳細な説明を省略する。
　【０２４６】
　前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは３μｍ）のアクリル系樹脂にシリカが分散され、防眩性が付与されている。前記シリカは、平均粒子径が０．１〜５μｍ（サンプルでは１μｍ）であり、その添加量はアクリル系樹脂に対し１〜５０重量％（サンプルでは２０重量％）である。
　【０２４７】
　本実施例のアンダーコート層２０の膜特性の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、光沢度（Ｇａ６０度）は３５、中心線平均粗さ（Ｒａ）は１８０ｎｍ、および曇度は１３％であった。
　【０２４８】
　前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１μｍ（サンプルでは０．０９５μｍ）であり、アクリル系樹脂の超低屈折率層から構成されている。この反射防止層３０は、その屈折率が１．２５〜１．４５（サンプルでは１．３８）である。前記アクリル系樹脂としては、アクリル酸エステルのエステル残基にフルオロアルキル基を導入したモノマーの重合体、またはフルオロ基を有する２種以上のモノマーの重合体等を好適に用いることができる。
　【０２４９】
　前記汚染防止層４０は、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロブチル）ジアミノシランからなる厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルにおいては２００オングストローム）の層から構成されている。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以上であり、優れた撥水性を示した。また、前記汚染防止層４０は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがってｎｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さいことが確認された。
　【０２５０】
　次に、本実施例の偏光板１５００の製造方法の一例について述べる。
　【０２５１】
　まず、偏光基板１０の表面に、実施例１と同様なシリカ粒子が分散されたアクリル樹脂塗布液をロールコート法によって塗布し、その後紫外線を照射してアクリル樹脂を硬化させ、アンダーコート層２０を形成した。
　【０２５２】
　次いで、フッ素系溶媒（ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）にフルオロアルキルアクリレートを３重量％の濃度で溶解させ、塗布液を調整した。この塗布液をディップコーティングにより前記偏光板の表面に塗布し、３０〜１００℃（サンプルでは５０℃）で５〜１８０分間（サンプルでは３０分間）加熱した後、電子線を例えば１００ＫＶの加速電圧で照射し、アクリル系樹脂からなる反射防止層３０を形成した。この反射防止層３０は、非常に緻密かつ均質で、クラック等が発生していないことが確認された。また、この方法により膜厚は５０オングストローム程度の範囲で十分に制御できることが確認された。
　【０２５３】
　ついで、アルゴンとビス（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロブチル）ジアミノシランを９：１の割合で混合した気体を真空度が１〜０．０００１Ｔｏｒｒ（サンプルでは０．０１Ｔｏｒｒ）になるように真空槽内に導入し、例えば１３．５６ＭＨｚの高周波磁場で雰囲気をプラズマ化し、前記含フッ素シラン化合物を反射防止層３０上に堆積させ、汚染防止層４０を形成した。この汚染防止層４０の形成によって偏光板の外観ならびに反射防止特性において、特に変化は見られなかった。
　【０２５４】
　この偏光板１５００について、前記実施例１と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およびｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板１５００を単純マトリクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。この液晶表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験およびｄ．視認性の特性試験を行ったところ、実施例１と同様に良好な結果が得られた。なお、視認性の試験においては、前記液晶表示パネルの背面に反射板を配設したサンプルを用いた。
　【０２５５】
　（実施例１６）
　本実施例に係る偏光板は、前記実施例１の偏光板１００と基本的な構造が同一なため、図１を参照しながら説明する。
　【０２５６】
　この偏光板１６００は、偏光基板１０上にアンダーコート層２０、反射防止層３０および汚染防止層４０が順次積層された構造となっている。偏光基板１０は前記実施例１の偏光基板と実質的に同一であるので、その詳細な説明を省略する。
　【０２５７】
　前記アンダーコート層２０は、厚さ０．５〜２０μｍ（後述する試験のサンプルでは１０μｍ）のアクリル系樹脂から構成されている。
　【０２５８】
　このアンダーコート層２０は、前記実施例１と異なり、防眩性を高めるためのシリカが分散されていない。その代わり、その表面には転写法により微細な凹凸が形成されて、防眩性が付与されている。
　【０２５９】
　本実施例のアンダーコート層２０の膜特性の一例をあげると、表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈであり、光沢度（Ｇａ６０度）は９０、中心線平均粗さ（Ｒａ）は１００ｎｍ、および曇度は３％であった。
　【０２６０】
　前記反射防止層３０は、膜厚０．０５〜１μｍ（サンプルでは０．２１μｍ）であり、チタニア系非晶質体の高屈折率層とシロキサン系樹脂の低屈折率層とから構成されている。前記高屈折率層は、屈折率が１．５〜２．０（サンプルでは１．７５）であり、前記低屈折率層はその屈折率が１．３〜１．５（サンプルでは１．４８）である。また、前記高屈折率層には、平均粒子径が５０〜１０００オングストローム（サンプルでは５０オングストローム）のチタニア粒子が分散されている。前記低屈折率層には、平均粒子径５０〜１０００オングストローム（サンプルでは８０オングストローム）のシリカ粒子が分散されている。
　【０２６１】
　この反射防止層３０は、非常に緻密かつ均質で、クラック等が発生していないことが確認された。また、反射防止層３０の空気中における反射率は、５５０ｎｍで０．５％であり、高い反射防止効果が確認された。
　【０２６２】
　前記汚染防止層４０は、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトキシシランからなる厚さ２０〜８００オングストローム（サンプルにおいては１００オングストローム以下）の層から構成されている。この汚染防止層４０は、水の接触角が１００度以上であり、優れた撥水性を示した。また、前記汚染防止層４０は屈折率ｎが１．２５〜１．４５であり、したがってｎｄ（ｄ：汚染防止層４０の厚さ）が０．１μｍより小さいことが確認された。
　【０２６３】
　次に、本実施例の偏光板１６００の製造方法について述べる。
　【０２６４】
　まず、偏光基板１０の表面に、実施例４で用いたと同様のアクリル樹脂塗布液を用い、実施例４と同様な転写法によってアンダーコート層２０の表面に微細な凹凸を形成した。
　【０２６５】
　ついで、エチルセロソロブとエタノールとの混合溶媒（セロソロブ：エタノール＝４：１）にテトラブトキシチタンを濃度２０重量％で溶解し、触媒量（塗布液に対し０．３重量％程度）の酢酸を加え、室温で撹拌した。この溶液に前記チタニア粒子を分散させ、十分に撹拌して塗布液を調整した。この塗布液は均質なゾルであり、長期間良好な保存安定性が得られ、沈澱は見られなかった。この塗布液をスピンコーティングにより偏光板上に塗布し、５０〜１００℃（サンプルでは６０℃）に加熱してチタニア系非晶質体の高屈折率層を形成した。
　【０２６６】
　次いで、メチルセロソロブにγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを濃度２０重量％で溶解し、触媒量（塗布液に対し０．０１重量％程度）の塩酸を加え、室温で撹拌した。この溶液に前記シリカ粒子を分散させて混合し、さらに、過塩素酸マグネシウムを触媒量（塗布液に対し０．０５重量％程度）添加し、十分に撹拌して塗布液を調整した。この塗布液は均質なゾルであり、長期間にわたって良好な保存安定性を有し、沈澱も見られなかった。この塗布液をディップコーティングにより偏光板に塗布し、５０〜１００℃（サンプルでは６０℃）で加熱して、シロキサン系樹脂の低屈折率層を形成した。このようにして２層構造の反射防止層３０が形成された。
　【０２６７】
　ついで、上記の工程で得られた偏光板を酸素プラズマに曝した後スピンナーにセットした。そして、「フロリナートＦＣ−７０」に含フッ素シラン化合物として１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトキシシランを３重量％溶解させた溶液を上述した偏光板に滴下してスピンナーを約３，０００ｒｐｍの回転速度で回転させ、溶液を塗布した。その後、偏光板を相対湿度５０％、温度５０℃の雰囲気で１時間放置し、さらに、「フロリナートＦＣ−７０」によって偏光板の洗浄を行い、未反応の含フッ素シラン化合物を除去し、汚染防止層４０を形成した。この汚染防止層４０の形成によって、偏光板の外観ならびに反射防止特性において、特に変化は見られなかった。
　【０２６８】
　この偏光板１６００について、前記実施例１と同様に特性試験を行った。その結果、偏光板の特性として、ａ．密着性，ｂ．耐擦傷性，ｃ．耐薬品性およびｄ．汚染防止性の各特性において実施例１と同様に良好な結果が得られた。さらに、本施例の偏光板１６００をＭＩＭ素子を用いたアクティブマトリクス駆動の液晶パネル前面に貼り付けて液晶表示パネルを作成した。この液晶表示パネルについて、実施例１と同様に、ａ．高温高湿試験，ｂ．熱衝撃試験，ｃ．日光暴露試験およびｄ．視認性の特性試験を行ったところ、実施例１と同様に良好な結果が得られた。
　【０２６９】
　【発明の効果】
　本発明によれば、特定のシラン化合物からなる汚染防止層を有することにより、優れた視認性を確保しながら、撥水性，汚染防止性に優れた偏光板、およびこの偏光板を効率よく製造することができる製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明の実施例１（実施例３，４，５，７〜１３，１５，１６）の偏光板を模式的に示す断面図である。
　【図２】
　本発明の実施例２（実施例６，１４）の偏光板を模式的に示す断面図である。
　【図３】
　本発明の偏光板を形成するのに用いられる真空蒸着装置の一例を示す模式図である。
　【符号の説明】
　１０　偏光基板
　１２　偏光層
　１４　第１の支持層
　１６　第２の支持層
　２０　アンダーコート層
　３０　反射防止層
　４０　汚染防止層
　５０　樹脂フィルム
　５２　接着層
　１００〜１６００　偏光板