【事件の表示】
　平成　４年特許願第２１６９９１号「ポジ型感放射線性樹脂組成物」拒絶査定に対する審判事件〔平成　６年　３月１１日出願公開、特開平　６−　６７４１８、請求項の数（１）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
１．手続きの経緯・本願発明　
　本願は、平成４年８月１４日の出願であって、平成１２年６月１４日付けで拒絶の理由が通知され、平成１２年８月２１日付けで手続きの補正がなされ、平成１２年１１月１３日付けで拒絶の査定がなされたものであり、その請求項１に係る発明は、特許請求の範囲の請求項１に記載された次の事項により特定されるとおりのものである。　
「【請求項１】　（１）アルカリ可溶性ノボラック樹脂　および（２）下記式（１）　
　
【一般式（１）及び置換基の定義は省略】
　
で表わされる繰返し単位を有し、ＧＰＣによる標準ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）が４,０００以下であり、Ｍｗ対数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）が２.５以下であり、そして１核体と２核体成分の全溶出成分に対する面積比が１５％未満であるフェノール樹脂とキノンジアジドスルホン酸との縮合物に相当する、水酸基に対するキノンジアジドスルホニル基の平均縮合率が７５％以下であるキノンジアジド化合物、を含有することを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。」（以下、「本願発明」という。）　
２．原査定の理由　
　原査定の拒絶の理由は、次の刊行物１ないし３及び特許出願１ないし３を引用し、　
　【理由１】本願発明は、その出願前日本国内で頒布された刊行物１ないし３に記載された発明であるから特許法第２９条第１項第３号の規定により特許を受けることができない、　
　【理由２】本願発明は、その出願前日本国内で頒布された刊行物１ないし３に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない、　
　【理由３】本願発明は、その出願の日前の特許出願であって、その出願後に出願公開がされた特許出願１ないし３の願書に最初に添付された明細書又は図面に記載された発明と同一であり、しかも、この出願の発明者がその出願前の特許出願に係る上記の発明をした者と同一ではなく、またこの出願の時において、その出願人が上記特許出願の出願人と同一でもないので、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができない、というものである。　
　
　刊行物１：特開昭６３−１２７２３８号公報　
　刊行物２：特開昭６１−２０５９３３号公報　
　刊行物３：特表平３−５０２０１０号公報　
　特許出願１：特願平３−９５２０２号（特開平４−２３０７５５号公報）　特許出願２：特願平３−２１５５８７号（特開平５−３４９１６号公報）　特許出願３：特願平５−１６７０号（特開平５−２７３７５１号公報）　
　
３．当審の判断　
　3.1　刊行物及び特許出願の記載　
　刊行物１には、露光可視画性に優れたポジ型感光性平版印刷版及びポジ型フォトレジストに適する感光性組成物に関し、「フェノール類とカルボニル基含有化合物との重縮合樹脂のo−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化物を含有する感光性組成物において該エステル化物の吸収スペクトルの波長470nmと波長400nmにおける吸光度比；Ａｂ470nm／Ａｂ400nmが0.10以下であることを特徴とする感光性組成物。」（特許請求の範囲）　
　「前記縮合樹脂の具体的な例としては、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂、m-クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂・・・・・・・・・・・・・・・ピロガロール・ホルムアルデヒド樹脂である。・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・前記重縮合樹脂の分子量（ポリスチレン標準）は、重量平均分子量Ｍｗが5.0×102〜7.0×103で、数平均分子量Ｍｎが4.0×102〜3.5×103の範囲が好ましく、更に好ましくは、Ｍｗが7.0×102〜2.5×103で、Ｍｎが9.0×102〜2.0×103の範囲である。」（第２頁左下欄第１１行〜右下欄第１５行）　
　「本発明のo−ナフトキノンジアジド化合物は、前記フェノール類とアルデヒド又はケトンとの縮合樹脂を・・・・・・・・エステル化させて得られる。・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・前記エステル化合物において、フェノール類のＯＨ基に対するｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸クロライドの縮合率（ＯＨ基１個に対する反応率％）は１５〜８０％が好ましく、より好ましくは２０〜５０％更に好ましくは２０〜４５％である。」（第３頁左上欄第１行〜右上欄第２行）　
　「本発明の感光性組成物には、被膜強度、耐処理薬品性及びアルカリ溶解性を高めるため、アルカリ可溶性樹脂をバインダーとして含有することができる。」（第３頁右上欄第１９行〜左下欄第２行）と記載されている。　
　また、実施例１には、数平均分子量Ｍｎ＝1110、重量平均分子量Ｍｗ＝1600のピロガロールアセトン樹脂をナフトキノン-（１，２）−ジアジド−（２）−５−スルホン酸クロライドとを縮合反応させ、ピロガロールアセトン樹脂のｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルを得た、該エステル中のピロガロールの水酸基のエステル化率が３０モル％であった旨記載されている。　
　刊行物２には、ｏ−キノンジアジド化合物及びノボラック樹脂を含有する感光性組成物に関し、「本発明に用いられるｏ−キノンジアジド化合物は、・・・・・・・・・・・・特に種々のヒドロキシ化合物又はアミノ化合物とｏ−ナフトキノンジアジドスルフォン酸とのエステル又はアミドが好適である。好ましいヒドロキシ化合物としては、フェノール類とカルボニル基含有化合物との縮合樹脂、特に酸性触媒存在下での縮合により得られる樹脂が挙げられる。・・・・・・・特にフェノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、ピロガロール・アセトン樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂が好ましい。」（第４頁左下欄第９行〜右下欄第１０行）　
　「ｏ−キノンジアジド化合物は好ましくは、数平均分子量が4.0×102〜2.0×103、重量平均分子量が5.0×102〜4.0×103のポリヒドロキシフェノールとケトン又はアルデヒドとの重縮合樹脂のｏ−キノンジアジドスルホン酸エステルである。更に好ましくは数平均分子量5.0×102〜1.5×103、重量平均分子量が7.0×102〜4.0×103のピロガロールとアセトンとの重縮合樹脂のｏ−キノンジアジドスルホン酸ステルである。」（第５頁左上欄第１６行〜左下欄第２行）と記載されている。　
　刊行物３には、　
　(a)感光性ノボラック樹脂及び(b)非感光性ノボラック樹脂を混合状態で含んで成るポジ・ホトレジスト組成物であって、該成分(a)が2-ジアゾ-1,2-ナフトキノンスルホニルハライドと約500〜1500の平均分子量を持つノボラック樹脂との反応生成物なら成るポジ・ホトレジスト組成物が記載されている。（特許請求の範囲）　
　特許出願１には、　
　(1)アルカリ可溶性樹脂,(2)キノンジアジド系感光性化合物及び、(3)溶剤を含有するフォトレジスト組成物において、キノンジアジド系感光性化合物がノボラック樹脂のキノンジアジドスルホン酸エステルを主体とするものであり、該ノボラック樹脂の重量平均分子量が４００〜２０００であり、キノンジアジド系感光性化合物のエステル化率が３５〜９０％である半導体製造用フォトレジスト組成物が記載されている。（請求項１参照）　
　特許出願２には、　
　(1)アルカリ可溶性樹脂,(2)キノンジアジド系感光性化合物及び、(3)溶剤を含有するフォトレジスト組成物において、キノンジアジド系感光性化合物がノボラック樹脂のキノンジアジドスルホン酸エステルを主体とするものであり、該ノボラック樹脂の重量平均分子量が６００〜２２００であり、キノンジアジド系感光性化合物のエステル化率が４０〜７０％である半導体製造用フォトレジスト組成物が記載されている。（請求項１参照）　
　特許出願３には　
 ４-および／または５-置換ジアゾ樹脂およびポリマー樹脂を含有する感光層が、更に分子量１０８以上のヒンダードフェノールまたはポリフェノールを含むことを特徴とする反転工程ではネガ型層として作用するポジ型感光層（請求項１）に関し、 該ジアゾ樹脂がホルムアルデヒドで縮合したフェノールまたはクレゾール樹脂とスルホニルクロライド-ｏ-キノンジアジドとの反応により得られたものであり、数平均分子量Ｍｎ９００〜２０００を有し、多分散率（Ｄ＝Ｍｗ／Ｍｎ）１.２〜４であること（請求項５，７参照）が記載されている。　
　また、その実施例１には、ｐ-クレゾールとホルムアルデヒドとの反応混合物中の未反応ｐ-クレゾール及び低分子量オリゴマーを除去した平均分子量６００のノボラック樹脂をキノンジアジドと反応させ感光性ノボラック樹脂を得たことが記載されている。　
　3.2　対比判断　
  【理由１】について、　
　本件発明の感放射線性樹脂組成物は、高感度および高解像度を有し、耐熱性、現像性、残膜率、パターン形状などに優れ、特に十分な寸法忠実度並びにフォーカス許容性に優れたポジ型レジストとして好適に使用できる効果を奏するものである。　
　一方、刊行物１には、フェノール樹脂の０−ナフトキノンジアシドスルホン酸エステル化物を含有する感光性組成物に関し、該フェノール樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は５００〜２５００、数平均分子量（Ｍｎ）が９００〜２０００であり、該エステル化物の縮合率が２０〜４５％であることが記載され、実施例１にはＭｗが１６００、Ｍｎが１１１０、Ｍｗ／Ｍｎが１．４５の該フェノール樹脂の０−ナフトキノンジアシドスルホン酸エステル化物であってエステル化率（縮合率）が３０モル％の感光性組成物が記載されている。　
　しかしながら、刊行物１には、本願発明の構成要件である「１核体と２核体成分の全溶出成分に対する面積比が１５％未満であるフェノール樹脂」についての記載は見あたらない。　
　そして、本件出願人が提出した平成１２年８月２１日付けの意見書によると、刊行物１に記載された唯一の実施例である実施例１を追試して得られたピロガロール・アセトン樹脂は、「１核体と２核体成分の全溶出成分に対する面積比が１９％」であることが示されていることからみて、刊行物１には本願発明の構成要件である「１核体と２核体成分の全溶出成分に対する面積比が１５％未満であるフェノール樹脂」が実質的に記載されてるものとすることはできない。　
　しかも、刊行物１の実施例１にしたがって製造した感光性組成物は、寸法忠実度及びフォーカス許容性において本願発明より劣るものであることが該意見書に示されているところであるから、本願発明の該構成要件は実質的な意義があるものと認められ、本願発明が刊行物１に記載の発明であるとすることはできない。　
　刊行物２には、フェノール樹脂の０−ナフトキノンジアシドスルホン酸エステル化物を含有する感光性組成物に関し、該フェノール樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は５００〜４０００、数平均分子量（Ｍｎ）が４００〜２０００とが記載されているが、本願発明の構成要件であるフェノール樹脂が「Ｍｗ／Ｍｎの値が２．５以下であること」及び「１核体と２核体成分の全溶出成分に対する面積比が１５％未満であること」について記載又は示唆するものはない。　
　そして、そして本願発明はこれらの構成要件を採用することにより上述の効果を奏するものであるから本願発明が刊行物２に記載の発明であるとすることはできない。　
　刊行物３には、フェノール樹脂の０−ナフトキノンジアシドスルホン酸エステル化物を含有する感光性組成物に関し、該フェノール樹脂の平均分子量が５００〜１５００であることが記載され、その実施例１には、生成したフェノール樹脂中の低分子量オリゴマーを除去した旨記載されているが、本願発明の構成要件であるフェノール樹脂が「Ｍｗ／Ｍｎの値が２．５以下であること」及び「１核体と２核体成分の全溶出成分に対する面積比が１５％未満であること」について記載又は示唆するものではない。　
　そして、本願発明はこれらの構成要件を採用することにより上述の効果を奏するものであるから本願発明が刊行物３に記載の発明であるとすることはできない。　
　したがって、本願発明が刊行物１ないし３に記載されているものとすることはできない。　
　【理由２】について　
　刊行物１〜３については前項【理由１】で検討したように、本願発明の構成要件であるフェノール樹脂が「Ｍｗ／Ｍｎの値が２．５以下であること」又は「１核体と２核体成分の全溶出成分に対する面積比が１５％未満であること」が記載又は示唆されていない点で相違し、そして、本願発明はこれらの相違点に基づいて明細書に記載の上記効果を奏するものであるから、本願発明が刊行物１ないし３に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。　
　【理由３】について　
　特許出願１ないし３のフォトレジスト組成物又はネガポジ型感光層に係る発明には、本願発明の構成要件である、フェノール樹脂が「１核体と２核体成分の全溶出成分に対する面積比が１５％未満である」ことについて記載又は示唆されてはいない。　
　そして、該構成要件は【理由１】で検討したように技術的な意義があるものであるから、本願発明が特許出願１ないし３に記載の発明と同一であるとすることはできない。　
４．まとめ　
　以上のとおりであるから、原査定の理由及び証拠によっては本件請求項１に係る発明を拒絶することはできない。　
　又、他に本件請求項１に係る発明を拒絶すべき理由を発見しない。　
　よって、結論のとおり審決する。