【手続補正書】
【提出日】平成27年3月25日(2015.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
本明細書は最良の形態を含む実施例を開示するために例示を使用し、また当業者があらゆる装置又はシステムを製作しかつ使用しまたあらゆる組込み方法を実行することを含めて、実施形態を実施することを可能にする。本開示の特許性を有する範囲は特許請求の範囲によって定義され、当業者が想到する他の例示を含み得る。そのような他の例示は、それらが特許請求の範囲の文言と異ならない構造要素を有する場合、又はそれらが特許請求の範囲の文言と僅かな差違を有する同等な構造要素を含む場合に、特許請求の範囲内にあることが意図される。
また、本発明は以下に記載する態様を含む。
（態様１）
少なくとも対象物の一部分の周りに液滴を放出する方法（３００）であって、
前記対象物の近傍に複数の雲状液滴を含む雲（３０２、４０２）を放出することであって、少なくとも前記複数の雲状液滴の一部は汚染除去剤から形成される、雲を放出することと、
前記雲（４０２）内に複数のストリーム液滴を含むストリーム（３０６、５０２）を放出することであって、少なくとも前記複数のストリーム液滴の一部が静電荷を有する、ストリームを放出することと、
前記対象物の一部分上に少なくとも前記複数の雲状液滴の一部を堆積させ、前記一部分の汚染除去を促進することと、
を備える方法。
（態様２）
ストリーム（３０６、５０２）を放出することは、前記ストリームを放出する前に前記複数の雲状液滴が空気中に浮遊している間、所定の時間待機することをさらに備える態様１に記載の方法（３００）。
（態様３）
ストリーム（３０６、５０２）を放出することは、少なくとも前記複数のストリーム液滴の１つが前記複数の雲状液滴に影響を与えるように前記ストリーム（５０２）を指向させることをさらに備える態様１又は２に記載の方法（３００）。
（態様４）
ストリーム（３０６、５０２）を放出することは、ストリーム（５０２）を放出することであって、少なくとも前記複数のストリーム液滴の一部が汚染除去剤を含む、ストリームを放出することをさらに備える態様１から３のいずれか一項に記載の方法（３００）。
（態様５）
電界（３０４）を生成することであって、前記ストリーム（５０２）が前記電界を介して放出される、電界を生成することをさらに備える態様１から４のいずれか一項に記載の方法（３００）。
（態様６）
雲（３０２、４０２）を放出することは、雲（４０２）を放出することであって、前記複数の雲状液滴が約０．１ミクロンから約０．５ミクロンの間の平均粒子サイズを有する、雲を放出することをさらに備える態様１から５のいずれか一項に記載の方法（３００）。
（態様７）
ストリーム（３０６、５０２）を放出することは、ストリーム（５０２）を放出することであって、前記複数の雲状液滴が約６．０ミクロンから２０．０ミクロンの間の平均粒子サイズを有する、ストリームを放出するステップをさらに備える態様１から５のいずれか一項に記載の方法（３００）。
（態様８）
少なくとも対象物の一部分の周りに液滴を放出する使用のためのシステム（２００）であって、
複数の雲状液滴から形成された雲（４０２）を放出するように構成されたミスト装置（２０２）であって、少なくとも前記複数の雲状液滴の一部は汚染除去剤を含む、ミスト装置と、
複数のストリーム液滴を含むストリーム（５０２）を前記雲（４０２）内に放出するように構成された噴霧装置（２０８）であって、少なくとも前記複数のストリーム液滴の一部が静電荷を有し、少なくとも前記複数の雲状液滴の一部が前記対象物の一部分上に堆積され、前記一部分の汚染除去を促進する、噴霧装置と、
を備えるシステム。
（態様９）
前記噴霧装置（２０８）は、前記ストリーム（５０２）を放出する前に前記複数の雲状液滴が空気中に浮遊している間、所定の時間待機するように構成される態様８に記載のシステム（２００）。
（態様１０）
前記噴霧装置（２０８）は、少なくとも前記複数のストリーム液滴の１つが複数の前記雲状液滴に影響を与えるように前記ストリーム（５０２）を指向するように構成される態様８又は９に記載のシステム（２００）。
（態様１１）
電界を生成するように構成された帯電装置（２１４）であって、前記ストリーム（５０２）が前記電界を介して放出される、帯電装置をさらに備える態様８から１０のいずれか一項に記載のシステム（２００）。
（態様１２）
ハウジング（２１６）であって、前記ミスト装置（２０２）及び前記噴霧装置（２０８）を前記ハウジング（２１６）内に配置可能である、ハウジングをさらに備える態様８から１１のいずれか一項に記載のシステム（２００）。
（態様１３）
リザーバ（２０４、２１０）であって、前記ミスト装置（２０２）及び前記噴霧装置（２０８）が前記リザーバ（２０４、２１０）で共に流体連通する、リザーバをさらに備える態様８から１２のいずれか一項に記載のシステム（２００）。
（態様１４）
ミスト構成及び噴霧構成との間で選択的に調整可能なノズルをさらに備える態様８から１３のいずれか一項に記載のシステム（２００）。
（態様１５）
前記複数の雲状液滴が約０．１ミクロンから約０．５ミクロンの間の平均粒子サイズを有する態様８に記載のシステム（２００）。
（態様１６）
前記複数の雲状液滴が約６．０ミクロンから２０．０ミクロンの間の平均粒子サイズを有する態様８に記載のシステム（２００）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも対象物の一部分の周りに液滴を放出する方法（３００）であって、
前記対象物の近傍に複数の雲状液滴を含む雲（４０２）を放出する（３０２）ことであって、少なくとも前記複数の雲状液滴の一部は汚染除去剤から形成される、雲を放出することと、
前記複数の雲状液滴が空気中に浮遊している間、所定の時間待機した後で、前記雲（４０２）内に複数のストリーム液滴を含むストリーム（５０２）を放出する（３０６）ことであって、少なくとも前記複数のストリーム液滴の一部が静電荷を有する、ストリームを放出することと、
前記対象物の一部分上に少なくとも前記複数の雲状液滴の一部を堆積させ、前記一部分の汚染除去を促進することと、
を備える方法。
【請求項２】
ストリーム（５０２）を放出する（３０６）ことは、少なくとも前記複数のストリーム液滴の１つが前記複数の雲状液滴に影響を与えるように前記ストリーム（５０２）を指向させることをさらに備える請求項１に記載の方法（３００）。
【請求項３】
ストリーム（５０２）を放出する（３０６）ことは、ストリーム（５０２）を放出することであって、少なくとも前記複数のストリーム液滴の一部が汚染除去剤を含む、ストリームを放出することをさらに備える請求項１又は２のいずれか一項に記載の方法（３００）。
【請求項４】
雲（４０２）を放出する（３０２）ことは、雲（４０２）を放出することであって、前記複数の雲状液滴が約０．１ミクロンから約０．５ミクロンの間の平均粒子サイズを有する、雲を放出することをさらに備える請求項１から３のいずれか一項に記載の方法（３００）。
【請求項５】
少なくとも対象物の一部分の周りに液滴を放出する使用のためのシステム（２００）であって、
複数の雲状液滴から形成された雲（４０２）を放出するように構成されたミスト装置（２０２）であって、少なくとも前記複数の雲状液滴の一部は汚染除去剤を含む、ミスト装置と、
複数のストリーム液滴を含むストリーム（５０２）を前記雲（４０２）内に放出する前に、前記複数の雲状液滴が空気中に浮遊している間、所定の時間待機するように構成された噴霧装置（２０８）であって、少なくとも前記複数のストリーム液滴の一部が静電荷を有し、少なくとも前記複数の雲状液滴の一部が前記対象物の一部分上に堆積され、前記一部分の汚染除去を促進する、噴霧装置と、
を備えるシステム。
【請求項６】
電界を生成するように構成された帯電装置（２１４）であって、前記ストリーム（５０２）が前記電界を介して放出される、帯電装置をさらに備える請求項５に記載のシステム（２００）。
【請求項７】
ハウジング（２１６）であって、前記ミスト装置（２０２）及び前記噴霧装置（２０８）を前記ハウジング（２１６）内に配置可能である、ハウジングをさらに備える請求項５又は６に記載のシステム（２００）。
【請求項８】
リザーバ（２０４、２１０）であって、前記ミスト装置（２０２）及び前記噴霧装置（２０８）が前記リザーバ（２０４、２１０）で共に流体連通する、リザーバをさらに備える請求項５から７のいずれか一項に記載のシステム（２００）。
【請求項９】
前記複数の雲状液滴が約０．１ミクロンから約０．５ミクロンの間の平均粒子サイズを有する請求項５から８のいずれか一項に記載のシステム（２００）。