【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年8月31日(2015.8.31)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気化学的活性金属相と、絶縁相と、導電性相と、を含み、
前記電気化学的活性金属相がシリコンを含む、複合粒子であって、
シェラーの式で決定される前記複合粒子の最大結晶粒径は、５０ｎｍ未満であり、
前記相は、前記複合粒子全体に実質的に均一に分散している、複合粒子。
【請求項２】
前記絶縁相は、ホウ酸塩、リン酸塩、炭酸塩、酸化物、ハロゲン化物、及びこれらの組み合わせから選択される、請求項１に記載の複合粒子。
【請求項３】
前記導電性相が、金属単体、合金、炭化物、アルミナイド、シリサイド、ホウ化物、窒化物、及びこれらの組み合わせから選択される、請求項１に記載の複合粒子。
【請求項４】
複合粒子を形成する方法であって、
前駆体材料を提供する工程と、
前記前駆体材料を機械的にミリングして前記複合粒子を形成する工程と、を含み、前記複合粒子は電気化学的活性金属相、絶縁相、及び導電性相を含み、
シェラーの式で決定される前記複合粒子の最大結晶粒径は、５０ｎｍ未満であり、
前記相は、前記複合粒子全体に実質的に均一に分散している、方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００２】
近年、陰極内に合金の電気化学的活性材料含む、高エネルギーリチウムイオンセルが作られている。かかる材料は典型的に、黒鉛単体よりも高い重力及び体積エネルギー密度を有する。合金アノード材料は典型的にＳｉ又はＳｎ系であり、電気化学的活性構成成分及び電気化学的不活性構成成分を含む。電気化学的不活性構成成分は、粒子の体積膨張を制限する。例えば、Ｓｉは完全にリチオ化されたとき（２１９４ｍＡｈ／ｃｃ容量）、２８０％膨張することができ、一方でＳｉ／電気化学的不活性な４０／６０の２つの構成成分合金は、約１１２％の体積膨張（１５７３Ａｈ／Ｌ容量）を有する。この効果は単純な希釈である。総容量は電気化学的不活性構成成分の添加と共に線形に減少する。合金アノード材料の望ましくない特性は、それらが低電圧において電気化学的還元に触媒作用を及ぼし得るということである。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
一態様では、電気化学的活性金属相と、絶縁相と、導電性相と、を含む、複合粒子が提供され、電気化学的活性金属相は、複合粒子の体積の５０体積パーセント未満を占有し、絶縁相は、複合粒子の体積の５０体積パーセント未満を占有する。いくつかの実施形態では、絶縁相は複合粒子の体積の少なくとも１０体積パーセントを占有する場合がある。複合粒子は、平均最長寸法において、約５０ナノメートル未満の結晶粒を含む相を有することができる。相は、粒子全体に実質的に均一に分散され得る。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１６】
提供される複合粒子はまた、電気化学的活性ではない絶縁層を含む。絶縁層はセラミック材料であってもよい。セラミックは無機の、典型的に非金属の固体であり、これは熱の反応、及び後に続く構成成分材料の冷却によって調製することができる。セラミック材料は結晶性又は部分的に結晶構造を有することができ、又は非晶質（例えばガラス）であってもよい。絶縁層は、ホウ酸塩、リン酸塩、炭酸塩、酸化物、硫酸塩、シリケート、ハロゲン化物、及びこれらの組み合わせを含むことができる。提供される複合粒子に有用な絶縁層は、Ｌｉ、Ｎａ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｋ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｂ、及びこれらの組み合わせの酸化物を含む。いくつかの実施形態では、提供された複合材料は、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＡｌ２Ｏ３、ＬｉＡｌＯ２、Ｌｉ２ＣＯ３、ＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、ＬｉＦ、及びこれらの組み合わせから選択される絶縁相を含む。絶縁相は、主にそれが結晶性である場合、化学量論的であってもよく、又は化学量論的でなくてもよい。「化学量論的」とは、相の構成成分の原子比率が整数比によって表すことができるということを意味する。典型的にこれらの構成成分は固形物であり、結晶性ドメイン又は結晶粒子を含有する。「非化学量論的」とは、相の構成成分の原子比率が整数比によって表すことができないということを意味する。典型的に、非化学量論的相は、部分的に結晶性、又は部分的に非晶質のいずれかである。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
提供される複合粒子の導電性相は、伝導体、半金属、又は半導体であってもよく、かつ金属単体、合金、炭化物、アルミナイド、シリサイド、ホウ化物、窒化物、又はこれらの組み合わせからなり得る。代表的な伝導性相は、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、及びそれらの合金を含む。いくつかの例示の複合粒子において、シリコンは活性金属、導電性相の一部、又は絶縁相の一部であってもよい。各複合体におけるその機能は、リチオ化及び脱リチオ化時にリチウムとのその反応性、電子の伝導体としての機能、又は絶縁相へのその組み込みによって決定する。例示の炭化物伝導相はＴｉＣ及びＳｉＣを含む。例示のシリサイド伝導相は、ＦｅＳｉ、ＦｅＳｉ２、ＣｒＳｉ２、ＮｉＳｉ２、ＣｏＳｉ２、ＴｉＳｉ２、Ｃｕ３Ｓｉ、ＺｒＳｉ２、及びそれらの三元化合物、及び高次の金属間化合物を含む。他の例示の導電性相は、ＴｉＢ２、ＴｉＮ、ＦｅＡｌ３、及びＴｉＡｌ３を含む。導電性相は、導電性相と同様な方式で化学量論的であってもよく、又は非化学量論的であってもよい。導電性相は結晶であってもよく、又は結晶性粒子、部分的に結晶性、又は非晶質を有してもよい。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２３】
正極と、上記の複合粒子を含む提供される負極とを含むリチウムイオン電気化学セルもまた提供される。代表的な正極材料には、リチウム遷移金属酸化物層間化合物、例えばＬｉＣｏＯ２、ＬｉＣｏ０．２Ｎｉ０．８Ｏ２、ＬｉＭｎ２Ｏ４、ＬｉＦｅＰＯ４、ＬｉＮｉＯ２、又は任意の比率におけるマンガン、ニッケル、及びコバルトのリチウム混合金属酸化物が挙げられる。これらの材料のブレンドもまた、正極に使用され得る。他の代表的なカソード材料は、米国特許第６，６８０，１４５号（Ｏｂｒｏｖａｃ  ｅｔ  ａｌ．）に開示され、リチウム含有結晶粒と組み合わされた遷移金属結晶粒を含む。好適な遷移金属結晶粒としては、例えば鉄、コバルト、クロム、ニッケル、バナジウム、マンガン、銅、亜鉛、ジルコニウム、モリブデン、ニオビウム、又はこれらの組み合わせが挙げられ、約５０ナノメートル以下の粒径を有する。好適なリチウム含有結晶粒は、酸化リチウム、硫化リチウム、ハロゲン化リチウム（例えば、塩化物類、臭化物類、ヨウ化物類、又はフッ化物類）、又はこれらの組み合わせから選択されることができる。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３４】
Ｘ線回折（ＸＲＤ）による特性評価
Ｘ線回折が使用され、以下の例示の複合体の結晶構造及び結晶粒径を同定した。銅ターゲットＸ線管及び回折ビームモノクロメータを装着したＳｉｅｍｅｎｓ  Ｄ５００回折計を使用して、回折測定をした。利用した放射Ｘ線は、Ｃｕ  Ｋα１（λ＝１．５４０５１オングストローム）及びＣｕ  Ｋα２（λ＝１．５４４３３オングストローム）であった。使用した発散及び散乱線除去スリットは共に０．５度であったが、検出スリットは０．２ｍｍに設定した。Ｘ線管の出力は、４５ｋＶ、４０ｍＡとした。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３５】
（実施例１）
Ｓｉ金属塊３５．２３２ｇ、Ｆｅ金属塊７．９５２ｇ、及びＴｉ金属スポンジ６．８１６ｇを、アルゴン雰囲気下でＡＲＣ溶鉱炉内で一緒に溶融することによってＳｉ８８．１Ｆｅ１０Ｔｉ１０のインゴットを調製した。得られるインゴットを手で破壊して、微粉に粉砕した。１．８９８ｇのＳｉ８８．１Ｆｅ１０Ｔｉ１０インゴットパウダー、０．０６５ｇのグラファイト（ＳＦＧ  ４４）、及び０．５３７ｇのＬｉ２ＣＯ３が、８００９  Ｒｏｕｎｄ−Ｅｎｄｅｄ  Ｈａｒｄｅｎｅｄ  Ｓｔｅｅｌ  Ｖｉａｌ（Ｓｐｅｘ  ＣｅｒｔｉＰｒｅｐ，Ｍｅｔｕｃｈｅｎ，ＮＪ）に、１１０ｇの３／１６”（０．４７６ｃｍ）タングステンカーバイドボールと共に充填され、不活性雰囲気化で密閉され、８０００Ｄ  Ｄｕａｌ  Ｍｉｘｅｒ／Ｍｉｌｌ（Ｓｐｅｘ  ＣｅｒｔｉＰｒｅｐ，Ｍｅｔｕｃｈｅｎ，ＮＪ）内で２時間ミリングされた。得られる複合体のＸＲＤパターンが図１に示されている。元素シリコンに対応するピークはＸＲＤパターンに存在している。シェラーの式によると、シリコン相の結晶粒径は１４５Å以下である。ＸＲＤパターンにおける他のピークは、遷移金属シリサイド相からのものであると考えられる。非晶質ＳｉＣ及びＬｉ２ＣＯ３相もまた存在すると考えられるが、これらの相からのピークは広すぎて確定できない。したがって、これらのサンプルは、シリコン、金属シリサイド、非晶質炭化ケイ素、及び非晶質炭酸リチウムであると考えられる。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３９】
（実施例２）
実施例２に記載された２．１８０ｇのＳｉ８８．１Ｆｅ１０Ｔｉ１０インゴット粉末が、０．０７５ｇのＳＦＧ  ４４炭素及び０．７４５ｇのＬｉＡｌＯ２粉末と共に、実施例１と同じ手順を使用してボールミリングされた。得られる複合粒子ＸＲＤパターンを図１０に示す。元素シリコンに対応するピークは、図４に示されるようにＸＲＤパターンに存在している。シェラーの式によると、シリコン相の結晶粒径は１４５Å以下である。ＸＲＤパターンにおける他のピークは、遷移金属シリサイド相からのものであると考えられる。非晶質ＬｉＡｌＯ２及びＳｉＣ相もまた存在すると考えられるが、これらの相からのピークは広すぎて確定できない。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４５】
サンプルは８００９  Ｒｏｕｎｄ−Ｅｎｄｅｄ  Ｈａｒｄｅｎｅｄ  Ｓｔｅｅｌ  Ｖｉａｌ（Ｓｐｅｘ  ＣｅｒｔｉＰｒｅｐ，Ｍｅｔｕｃｈｅｎ，ＮＪ）内で、１４０ｇの０．１９ｃｍのＷＣ媒体を備えて、不活性雰囲気下で密閉され、８０００Ｄ  Ｄｕａｌ  Ｍｉｘｅｒ／Ｍｉｌｌ（Ｓｐｅｘ  ＣｅｒｔｉＰｒｅｐ，Ｍｅｔｕｃｈｅｎ，ＮＪ）内で２時間ミリングされた。得られる複合体のＸＲＤパターンが測定された。表２に、サイクルにかけられた複合体の組成物及び体積％を列挙する。表３に、表２の複合体からのＸＲＤで観察された相、並びにシェラーの式で決定された最大結晶粒径を列挙する。