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　特願２００７−２１６８３９「磁気ディスク用ガラス基板の製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２１年　３月１２日出願公開、特開２００９−　５０９２０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯・本件発明 
　本件出願の手続の経緯は以下のとおりである。
　平成１９年　８月２３日　　：出願
　平成２４年　４月１９日付け：拒絶理由の通知
　平成２４年　５月２５日　　：意見書、手続補正書の提出
　平成２４年　８月２０日付け：拒絶理由の通知
　平成２４年　９月　４日　　：意見書、手続補正書の提出
　平成２４年　９月２１日付け：補正の却下の決定、拒絶査定
　平成２４年１２月２６日　　：審判請求書、手続補正書の提出
　平成２５年　４月２６日付け：審尋
　平成２５年　７月　３日　　：回答書の提出
　平成２５年　８月２１日付け：拒絶理由の通知（当審）
　平成２５年１０月１７日　　：意見書、手続補正書の提出
　
　そして、本件出願の請求項１ないし３に係る発明は、平成２５年１０月１７日に提出された手続補正によって補正された特許請求の範囲の請求項１ないし３に記載された事項により特定されるものと認められるところ、その請求項１に係る発明（以下「本件発明」という。）は、以下のとおりのものである。
「カルボン酸基、カルボン酸基の塩、スルホン酸基及びスルホン酸基の塩の少なくとも１つが主鎖に結合している重量平均分子量が５３００以上の水溶性ポリマーと、一次粒子の平均粒径が３〜６０ｎｍのコロイダルシリカまたはヒュームドシリカとを含有するｐＨ１〜６の研磨液、及びショアＡ硬度が２０以上の発泡ウレタン樹脂を有する研磨パッドを用いて円形ガラス板の主表面を０．３〜１．５μｍ仕上げ研磨する工程を有し、
　水溶性ポリマーが下記一般式で表されるカルボン酸系ポリマー及びスルホン酸系ポリマーから選ばれる一種以上の水溶性ポリマーのみからなる、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
　カルボン酸系ポリマー：
　　【化１】
　スルホン酸系ポリマー：
　　【化２】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
２　当審での拒絶理由
　一方、当審において平成２５年８月２１日付けで通知した拒絶の理由のうち理由２の概要は、以下のとおりである。
「本件出願の請求項１−３に係る発明は、その出願前日本国内又は外国において頒布された下記の刊行物１−６に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法２９条２項の規定により特許を受けることができない。
　刊行物１：特開２００６−１９３６９５号公報
　　　　２：特開２００１−６４６３１号公報
　　　　３：特開平１１−２９３２３１号公報
　　　　４：特開２０００−８７０１０号公報
　　　　５：特開２００１−６４６３２号公報
　　　　６：特開２００２−１６７５７５号公報」
　
３　刊行物
　刊行物１には、次の事項が記載されている。
（１）　段落【０００８】−【０００９】
「【０００８】
　以下、本発明の一実施形態を説明する。
　磁気ディスクのような情報記録媒体には、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ソーダアルミノシリケートガラス、アルミノボロシリケートガラス、ボロシリケートガラス、石英ガラス、結晶化ガラスなどのガラス製の基板が使用されることがある。これらのガラス基板は通常、表面を鏡面に仕上げるべく、化学機械研磨（ＣＭＰ）プロセスに供される。ガラス基板の化学機械研磨は多くの場合、複数の研磨工程に分けて行なわれる。本実施形態に係る研磨用組成物は、ガラス基板を研磨する用途に用いられ、好ましくはガラス基板の表面を仕上げ研磨する用途、すなわちガラス基板の化学機械研磨において実施される複数の研磨工程のうちの最終の研磨工程で用いられる。
【０００９】
　本実施形態に係る研磨用組成物は、研磨材と分散剤と研磨促進剤と水から実質的になる。
　前記研磨材は二酸化ケイ素粒子（シリカ粒子）を含有する。シリカ粒子は、本実施形態に係る研磨用組成物の研磨対象物であるガラス基板を機械的に研磨する役割を担う。シリカ粒子は、好ましくはコロイダルシリカ又はフュームドシリカであり、より好ましくはコロイダルシリカである。コロイダルシリカ又はフュームドシリカを用いた場合には、他のシリカ粒子を用いた場合に比べて、研磨用組成物を用いて研磨された後のガラス基板の表面粗さがより減少し、その中でもコロイダルシリカを用いた場合には研磨後のガラス基板の表面粗さが大きく減少する。」
（２）　段落【００１１】
「【００１１】
　研磨用組成物中のコロイダルシリカの、ＢＥＴ法により測定される比表面積から求められる平均粒子径ＤＳＡが５ｎｍよりも小さい場合には、研磨用組成物を用いてガラス基板を研磨したときの研磨能率がやや低下する虞がある。従って、コロイダルシリカの平均粒子径ＤＳＡが小さすぎることによる研磨能率の低下を防止するためには、コロイダルシリカの平均粒子径ＤＳＡは、好ましくは５ｎｍ以上である。一方、コロイダルシリカの平均粒子径ＤＳＡが３００ｎｍよりも大きい場合、さらに言えば２００ｎｍよりも大きい場合、もっと言えば１２０ｎｍよりも大きい場合には、研磨後のガラス基板の表面粗さがやや増大したり研磨後のガラス基板の表面に観察されるスクラッチがやや増加したりする虞がある。従って、コロイダルシリカの平均粒子径ＤＳＡが大きすぎることによる研磨後のガラス基板の表面特性の低下を防止するためには、コロイダルシリカの平均粒子径ＤＳＡは、好ましくは３００ｎｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下、最も好ましくは１２０ｎｍ以下である。」
（３）　段落【００１５】
「【００１５】
　前記分散剤は、ポリスチレンスルホン酸、ポリカルボン酸ポリマー（例えばポリアクリル酸、ポリマレイン酸、ポリイタコン酸など）及びそれらの塩（例えばアルカリ金属塩、アンモニウム塩、アミン塩など）、並びにポリ酢酸ビニルよりなる群から選ばれる少なくとも一つの重合体化合物を含有する。重合体化合物は、研磨用組成物中のシリカ粒子の表面に作用してシリカ粒子が帯びる負電荷を増加させる作用を有する。重合体化合物は、好ましくはポリスチレンスルホン酸、ポリアクリル酸又はそれらの塩であり、より好ましくはポリスチレンスルホン酸塩又はポリアクリル酸塩であり、最も好ましくはポリスチレンスルホン酸ナトリウム又はポリアクリル酸ナトリウムである。ポリスチレンスルホン酸、ポリアクリル酸又はそれらの塩を用いた場合には、他の重合体化合物を用いた場合に比べて、研磨後のガラス基板の表面特性（表面粗さ及び表面欠陥）及び研磨用組成物の洗浄性がより向上する。中でもポリスチレンスルホン酸塩又はポリアクリル酸塩を用いた場合、特にポリスチレンスルホン酸ナトリウム又はポリアクリル酸ナトリウムを用いた場合には、重合体化合物の溶解性が良好なこともあって研磨後のガラス基板の表面特性及び研磨用組成物の洗浄性が大きく向上する。」
（４）　段落【００３３】
「【００３３】
　実施例１〜５５及び比較例１〜１５に係る各研磨用組成物を用いて表４に示す研磨条件でガラス基板を研磨したとき、研磨前後のガラス基板の重量の差、すなわち研磨によるガラス基板の重量減少量から下記式に基づいて研磨能率を求めた。そして研磨能率に基づいて、優（◎）、良（○）、可（△）、不良（×）の四段階で各研磨用組成物を評価した。具体的には、研磨速度が０．１２μｍ／分以上の場合には優、０．０８μｍ／分以上０．１２μｍ／分未満の場合には良、０．０５μｍ／分以上０．０８μｍ／分未満の場合には可、０．０５μｍ／分未満の場合には不良と評価した。この評価の結果を表１〜３の“研磨能率”欄に示す。」
（５）　段落【００４１】及び【００４２】から
　【００４１】には、「表１〜３の“研磨材”欄において、“コロイダルシリカ”は、平均粒子径ＤＳＡと平均粒子径ＤＮ４がいずれも８０ｎｍのコロイダルシリカを表す。」と記載されている。
　【００４２】には、「表１〜３の“重合体化合物”欄において、（中略）“ポリアクリル酸Ｎａ”は、分子量１万〜３万のポリアクリル酸ナトリウムを表す。」と記載されている。
（６）　【表１】の記載
　実施例２５の欄に、研磨材［質量百分率］として「コロイダルシリカ　２０％」、重合体化合物［質量百分率］として「ポリアクリル酸Ｎａ　０．０５％」、研磨促進剤［質量百分率］として「硫酸水素アンモニウム　１％」、表面粗さ、研磨能率、表面欠陥、洗浄性及び総合評価としてそれぞれ「◎」が記載されている。
（７）　【表４】の記載
　「研磨対象物：　酸化セリウムを含有する研磨スラリーを用いて表面粗さＲａが０．８ｎｍになるように予備研磨された後の強化ガラス製の直径２．５インチ（約６３．５ｍｍ）ガラス基板」、「研磨パッド：　カネボウ株式会社製のスウェードタイプの研磨パッド“Ｂｅｌａｔｒｉｘ　Ｎ００５８”」及び「研磨時間：　２０分」と記載されている。
（８）　研磨量について
　【表１】の実施例２５の方法は、摘記事項（６）で示したとおり研磨能率が「◎」であるところ、摘記事項（４）の記載からみて研磨速度が「０．１２μｍ／分以上」である。そして、摘記事項（７）から「研磨時間：　２０分」であることが理解できるから、当該実施例２５の方法での研磨量は「２．４μｍ以上」であると認められる。
　
（９）　刊行物１発明
　そこで、刊行物１の上記摘記事項及び認定事項を、技術常識を踏まえ本件発明に照らして整理すると、刊行物１には下記の発明（以下「刊行物１発明」という。）が記載されていると認められる。
「分子量が１万〜３万のポリアクリル酸ナトリウムの重合体と、平均粒子径が８０ｎｍのコロイダルシリカと、硫酸水素アンモニウムとを含有する研磨液、及びカネボウ株式会社製のスウェードタイプの研磨パッド“Ｂｅｌａｔｒｉｘ　Ｎ００５８”を用いて直径２．５インチ（約６３．５ｍｍ）ガラス基板の主表面を２．４μｍ以上仕上げ研磨する工程を有する、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。」
　
４　対比
　本件発明と刊行物１発明とを対比する。
　刊行物１発明の研磨液に含有される「分子量が１万〜３万のポリアクリル酸ナトリウムの重合体」は、カルボン酸基の塩が主鎖に結合している重量平均分子量が５３００以上の水溶性ポリマーであり、当該水溶性ポリマーが本件発明の「カルボン酸系ポリマー：　【化１】（１）式」で表されるカルボン酸系ポリマーのみからなる点も本件発明と共通するものであるから、本件発明の研磨液に含有される「カルボン酸基、カルボン酸基の塩、スルホン酸基及びスルホン酸基の塩の少なくとも１つが主鎖に結合している重量平均分子量が５３００以上の水溶性ポリマー」で「水溶性ポリマーが【化１】（１）式で表されるカルボン酸系ポリマー及びスルホン酸系ポリマーから選ばれる一種以上の水溶性ポリマーのみからなる」ものに相当する。
　また、刊行物１発明の「硫酸水素アンモニウムとを含有する研磨液」は、硫酸水素アンモニウム水溶液が強酸性を示すものであるから酸性の研磨液となるため、本件発明の「ｐＨ１〜６の研磨液」に相当する。
　さらに、刊行物１発明の「カネボウ株式会社製のスウェードタイプの研磨パッド“Ｂｅｌａｔｒｉｘ　Ｎ００５８”」は、当該研磨パッドが発泡ウレタン樹脂を用いた仕上げ用の研磨パッドであり、ショアＡ硬度が２０以上となるものであることも、精密研磨加工の業界では公知の事項であるから、本件発明の「ショアＡ硬度が２０以上の発泡ウレタン樹脂を有する研磨パッド」に相当する。
　そして、刊行物１発明の「コロイダルシリカ」は、本件発明の「コロイダルシリカまたはヒュームドシリカ」に相当し、同様に「直径２．５インチ（約６３．５ｍｍ）ガラス基板」は「円形ガラス板」に相当するものである。
　そうすると、両者は下記の点で一致する。
＜一致点＞
「カルボン酸基の塩が主鎖に結合している重量平均分子量が５３００以上の水溶性ポリマーと、コロイダルシリカとを含有するｐＨ１〜６の研磨液、及びショアＡ硬度が２０以上の発泡ウレタン樹脂を有する研磨パッドを用いて円形ガラス板の主表面を仕上げ研磨する工程を有し、
　水溶性ポリマーが下記一般式で表されるカルボン酸系ポリマーのみからなる、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
　カルボン酸系ポリマー：
　　【化１】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　一方、両者は下記の点で相違する。
＜相違点１＞
　コロイダルシリカの一次粒子の平均粒径について、本件発明では「３〜６０ｎｍであるのに対し、刊行物１発明では「８０ｎｍ」である点。
＜相違点２＞
　円形ガラス板の主表面を仕上げ研磨する量が、本件発明では「０．３〜１．５μｍ」であるのに対し、刊行物１発明では「２．４μｍ以上」である点。
　
５　当審の判断
　上記相違点について検討する。
　＜相違点１＞については、刊行物１発明ではコロイダルシリカの一次粒子の平均粒径を８０ｎｍにしているが、刊行物１の上記摘記事項（２）では、コロイダルシリカの平均粒子径ＤＳＡを５ｎｍ以上にすることも示されている。また、磁気ディスク用ガラス基板の研磨に際し、ロールオフの低減を考慮して研磨を行う場合に、コロイダルシリカの一次粒子の平均粒径について、研磨効率を担保した上で表面加工精度を向上させる下限値として５ｎｍ〜１０ｎｍに設定することは、例えば、刊行物６（段落【００１２】、【００１４】、【００３７】、【００４２】の記載等を参照。）、特開２００７−７０５４８号公報（段落【０００２】、【０００８】−【０００９】、【００３９】等の記載を参照。）にも示されているように、従来周知の技術である。そうすると、刊行物１発明のコロイダルシリカの一次粒子の平均粒径について、上記従来周知の技術を勘案することで８０ｎｍより小さい６０ｎｍ以下として、＜相違点１＞に係る本件発明のように構成することは、当業者であれば容易に想到し得たものというべきである。
　＜相違点２＞については、仕上げ研磨における研磨量の設定は、研磨精度と研磨効率とのバランスを考慮して当業者が必要に応じて定める設計的事項であって、研磨液の供給量、研磨時間、研磨圧力等を変化させることにより、適宜調整することが可能なものである。そして、本件発明において、円形ガラス板の主表面を仕上げ研磨する量を「０．３〜１．５μｍ」とした数値範囲の臨界的意義も明確でないことから、当該数値範囲は単なる数値の限定にしか過ぎないものであり、刊行物１発明において、研磨時間等を適宜調整することにより、当該数値範囲内の研磨量とすることは、当業者であれば容易に想到し得たものである。
　また、本件発明によってもたらされる効果も、刊行物１発明及び従来周知の技術から当業者であれば予測できる程度のものであって、格別なものではない。
　
６　むすび
　したがって、本件発明は、刊行物１発明及び従来周知の技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、当審で通知した上記拒絶の理由によって拒絶をすべきものである。
　よって、本件出願のその余の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本件出願は拒絶されるべきであるから、結論のとおり審決する。