【事件の表示】
　特許第３４０１３５６号「有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルとその製造方法」の請求項１ないし３、７ないし１１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３４０１３５６号の請求項１ないし１３に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　 特許第３４０１３５６号の請求項１乃至１５に係る発明についての出願は、平成７年２月２１日に特許出願され、平成１５年２月２１日にその発明について特許権の設定登録がされ、その後、その特許について、異議申立人五島香里により特許異議の申立てがなされ、取消しの理由が通知され、その指定期間内である平成１７年１月１７日に訂正請求がなされたものである。
　
２．訂正の適否についての判断
（１）訂正の内容
　特許権者が求めている訂正の内容は以下のａ〜ｉのとおりである。　
　なお、以下において、訂正前の請求項を旧請求項、訂正後の請求項を新請求項と表記する。
　
ア．訂正事項ａ
　旧請求項１について、「マトリクス状に配置された複数の発光部からなる画像表示配列を有している有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルであって、前記発光部に対応する複数の第１表示電極が表面上に形成された基板と、前記第１表示電極の各々を囲み前記基板上に突出する電気絶縁性の隔壁と、前記隔壁内の前記第１表示電極の各々上に形成された少くとも１層の有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜と、前記有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜の複数の上に共通に形成された第２表示電極とからなり、前記隔壁の高さは、前記隔壁内の前記第１表示電極を露出せしめる複数の開口を有する成膜用マスクを前記隔壁の上面に載置した場合、前記成膜用マスクで既に成膜された前記有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜を傷つけない高さに制限された高さであることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。」を
「マトリクス状に配置された複数の発光部からなる画像表示配列を有している有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルであって、前記発光部に対応する複数の第１表示電極が表面上に形成された基板と、前記第１表示電極の各々を囲み前記基板上に突出する電気絶縁性の隔壁と、前記隔壁内の前記第１表示電極の各々上に形成された少くとも１層の有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜と、前記有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜の複数の上に共通に形成された第２表示電極とからなり、前記隔壁の高さは、前記隔壁内の前記第１表示電極を露出せしめる複数の開口を有する成膜用マスクを前記隔壁の上面に載置した場合、前記成膜用マスクで既に成膜された前記有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜を傷つけない高さに制限された高さであること、並びに
　前記基板の略同一平面上に形成されかつ、互いに直交する位置に離間して配列された共通走査信号ライン及び共通データ信号ラインと、前記走査信号ライン、前記データ信号ライン及び前記第１表示電極に接続された非線形素子をさらに有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。」と訂正して新請求項１とする。
　
イ．訂正事項ｂ
　旧請求項４を削除する。
　
ウ．訂正事項ｃ
  旧請求項４の削除に伴い、旧請求項５の「請求項４記載」、 旧請求項６の「請求項４又は５記載」、旧請求項７の「請求項１〜６のいずれかに記載」、旧請求項８の「１〜６のいずれかに記載」をそれぞれ、「１〜３のいずれかに記載」、「１〜４のいずれかに記載」「１〜５のいずれかに記載」、「１〜５のいずれかに記載」に訂正するとともに、新請求項４、５、６，７に繰り上げる。
　
エ．訂正事項ｄ
　旧請求項９について、「マトリクス状に配置された複数の発光部からなる画像表示配列を有している有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造方法であって、基板上に、前記発光部に対応する複数の第１表示電極を形成するパターン工程と、前記第１表示電極の各々を囲み前記基板上に突出する電気絶縁性の隔壁を形成する工程と、前記隔壁内の前記第１表示電極を露出せしめる複数の開口を有する成膜用マスクを、前記隔壁の上面に載置し、有機エレクトロルミネッセンス媒体を前記開口を介して前記隔壁内の前記第１表示電極の各々上に堆積させ、少くとも１層の有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜を形成する発光層形成工程と、前記有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜の複数の上に第２表示電極を共通に形成する工程とを含み、前記隔壁の高さを、前記成膜用マスクを前記隔壁の上面に載置したとき前記成膜用マスクで既に成膜された前記有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜を傷つけない高さに制限することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造方法。」を、
「マトリクス状に配置された複数の発光部からなる画像表示配列を有している有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造方法であって、基板上に、前記発光部に対応する複数の第１表示電極を形成するパターン工程と、前記第１表示電極の各々を囲み前記基板上に突出する電気絶縁性の隔壁を形成する工程と、前記隔壁内の前記第１表示電極を露出せしめる複数の開口を有する成膜用マスクを、前記隔壁の上面に載置し、有機エレクトロルミネッセンス媒体を前記開口を介して前記隔壁内の前記第１表示電極の各々上に堆積させ、少くとも１層の有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜を形成する発光層形成工程と、前記有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜の複数の上に第２表示電極を共通に形成する工程とを含み、前記隔壁の高さを、前記成膜用マスクを前記隔壁の上面に載置したとき前記成膜用マスクで既に成膜された前記有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜を傷つけない高さに制限すること、並びに
　前記パターン工程は、互いに直交する位置に離間して配列された共通走査信号ライン及び共通データ信号ラインと、前記走査信号ライン及びデータ信号ラインに接続された非線形素子と、前記非線形素子に接続された前記発光部に対応する複数の島状の第１表示電極とを形成する工程を含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造方法。」と訂正するとともに、旧請求項４の削除に伴い新請求項８に繰り上げる。
　
オ．訂正事項ｅ
　旧請求項１２を削除する。
　
カ．訂正事項ｆ
　旧請求項１０の「請求項９記載」、 旧請求項１１の「請求項９又は１０記載」、旧請求項１３の「請求項１２記載」、旧請求項１４の「請求項１２又は１３記載」、 旧請求項１５の「９〜１４のいずれかに記載」をそれぞれ、「請求項８記載」、「請求項８又は９記載」、「請求項８〜１０のいずれかに記載」、「請求項８〜１１のいずれかに記載」、「請求項８〜１２のいずれかに記載」に訂正するとともに、旧請求項４、旧請求１２の削除に伴い新請求項９、１０、１１、１２、１３に繰り上げる。
　
（２）訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
訂正事項ａ
　この訂正事項は、「前記基板の略同一平面上に形成されかつ、互いに直交する位置に離間して配列された共通走査信号ライン及び共通データ信号ラインと、前記走査信号ライン、前記データ信号ライン及び前記第１表示電極に接続された非線形素子をさらに有する」という、旧請求項１を引用する旧請求項４における限定事項をそのまま、旧請求項１に記載の事項に付加するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであり、願書に最初に添付した明細書または図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張しまたは変更するものではない。
　
訂正事項ｂ
　この訂正事項は、旧請求項４を削除するものであり、特許請求の範囲の減縮に相当する。
　
訂正事項ｃ
　この訂正事項は、旧請求項４を削除したのに伴い、旧請求項５、６、７、８の記載形式（請求項の引用）を訂正するとともに、請求項番号を繰り上げるものであり、特許請求の範囲の減縮、及び明瞭でない記載の釈明に相当する。　
　
訂正事項ｄ
　この訂正事項は、「前記パターン工程は、互いに直交する位置に離間して配列された共通走査信号ライン及び共通データ信号ラインと、前記走査信号ライン及びデータ信号ラインに接続された非線形素子と、前記非線形素子に接続された前記発光部に対応する複数の島状の第１表示電極とを形成する工程を含む」という、旧請求項９を引用する旧請求項１２における限定事項をそのまま、旧請求項９に記載の事項に付加するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであり、願書に最初に添付した明細書股は図面のに記載した事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張しまたは変更するものではない。
　また、請求項番号を繰り上げは、明瞭でない記載の釈明に相当する。　
　
訂正事項ｅ
　この訂正事項は、旧請求項１２を削除するものであり、特許請求の範囲の減縮に相当する。
　
訂正事項ｆ
　この訂正事項は、旧請求項４及び請求項１２の削除に伴い、旧請求項１０、１１、１３、１４、１５の記載形式（請求項の引用）を訂正するとともに、請求項番号を繰り上げるものであり、本訂正は、特許請求の範囲の減縮、及び明瞭でない記載の釈明に相当する。　
　
（３）独立特許要件について
　旧請求項４、５、６、１２、１３、１４、１５については、異議申立てがなされていないが、前記訂正請求により、旧請求項４，１２は削除され（訂正事項ｂ、ｅ）、また、旧請求項５、６、１３、１４、１５はそれぞれ、新請求項４、５、１１、１２、１３に訂正されるとともに、実質上特許請求の範囲の減縮を目的とした訂正がなされている（訂正事項ｃ、ｆ）。
　そこで、新請求項４、５、１１、１２、１３に係る発明（以下「本件発明４」「本件発明５」「本件発明１１〜１３」という。）について独立特許要件を検討する。
　
　まず、本件発明４，５は上記２．（２）で述べたとおり、旧請求項１を引用する旧請求項４における限定事項をそのまま、旧請求項１に記載の事項に付加するものであって、異議申立てのなされていない旧請求項４の内容をすべて含むものとなった新請求項１の内容をすべて含むものである。
　そして、旧請求項４の内容をすべて含むものとなった新請求項１の内容をすべて含む発明は、３．（４）において後記するように独立して特許を受けることができるものである。
　
　また、本件発明１１〜１３は上記２．（２）で述べたとおり、旧請求項９を引用する旧請求項１２における限定事項をそのまま、旧請求項９に記載の事項に付加するものであって、異議申立てのなされていない旧請求項１２の内容をすべて含むものとなった新請求項８、その内容をすべて含むものである。
　そして、旧請求項１２の内容をすべて含むものとなった新請求項８の内容をすべて含む発明は、３．（４）において後記するように独立して特許を受けることができるものである。
　
　そして、他に本件特許を取り消す理由を発見しないから、本件発明４，５、１１、１２、１３が独立特許要件がないとすることはできない。
　
（４）むすび
　したがって、上記訂正は、特許法第１２０条の４第３項で準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法１２６条第第１項ただし書、第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．特許異議の申立てについての判断
（１）申立ての理由の概要
　特許異議申立て人五島香里は、旧請求項１、２、３、７、８、９、１０及び１１に係る発明は、甲第１号証（特開平３−２５０５８３号公報）及び甲第２号証（特開平６−３２５８６９号公報）をもとに当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により、特許をうけることができないものであるから、特許を取り消すべきと主張している。
　
（２）新請求項１、２、３、６、７、８、９、１０に係る発明
　上記２．で示したように訂正がみとめられるから、旧請求項１、２、３、７、８、９、１０及び１１に係る発明に対応する訂正後の発明は、それぞれ新請求項１、２、３、６、７、８、９及び１０に係る発明（以下、「本件発明１〜３」、「本件発明６〜１０」という。）である。
　
（３）刊行物等
　特許異議申立人が提示した刊行物には、それぞれ、以下のような発明が記載されている。
　甲第１号証：特開平３−２５０５８３号公報
（ａ−１）「基板に設けられた下部電極、発光層を含む有機多層部及び対向電極からなる素子を発光素子部分として含むエレクトロルミネッセンス素子において、下部電極と対向電極との間に、パターン加工された層間絶縁膜を存在させた非発光素子部分を保有し、且つ該層間絶縁膜の開口部には発光層を含む有機多層部と対向電極が設けられているとともに、実質的に正孔または電子の注入ができるように有機多層部と対向電極が接合され配置されていることを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子。」（請求項１）
　
（ａ−２）「基板に設けられた下部電極上に層間絶縁膜をパターン加工にて膜付けした後、形成された層間絶縁膜の開口部に発光層を含む有機多層部および対向電極を形成する工程を行うことを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子の製造方法。」（請求項２）
　
　甲第２号証：特開平６−３２５８６９号公報
（ｂ−１）「基板上に、陽極及び陰極により挟持された有機発光層から成る有機電界発光素子及び該有機電界発光素子を駆動するアクティブ・マトリクス回路を設けた有機電界発光パネルであって、前記アクティブ・マトリクス回路が、スイッチング信号に応じてオンし、発光信号に応じて蓄積用コンデンサを充放電する第１の薄膜トランジスタと、前記蓄積用コンデンサからの放電電圧に応じてオン、オフし、前記有機電界発光素子の発光、非発光を制御する第２の薄膜トランジスタとから成ることを特徴とする有機電界発光パネル。」（【請求項１】）　
　
（４）対比・判断
　まず、本件発明１は上記２．（２）で述べたとおり、旧請求項１を引用する旧請求項４における限定事項をそのまま、旧請求項１に記載の事項に付加したものであるから、異議申立てのなされていない旧請求項４の内容をすべて含むものとなった。
　また、他の新請求項２、３、６、７にかかる本件発明２、３、６、７も新請求項１を引用しており、異議申立てのなされていない旧請求項４の内容をすべて含むものとなった。
　そして、特許異議申立て人が提示した甲第１号証及び項第２号証に記載された発明には、本件発明１−３、６、７が備えている、マトリクス状に配置された複数の発光部からなる画像表示配列を有し、基板の略同一平面上に形成されかつ、互いに直交する位置に離間して配列された共通走査信号ライン及び共通データ信号ラインと、前記走査信号ライン、前記データ信号ライン及び前記第１表示電極に接続された非線形素子をさらに有する有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルにおいて、第１表示電極の各々を囲み前記基板上に突出する電気絶縁性の隔壁を隔壁内の前記第１表示電極を露出せしめる複数の開口を有する成膜用マスクを前記隔壁の上面に載置した場合、前記成膜用マスクで既に成膜された前記有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜を傷つけない高さに形成することについて開示がなく、それを示唆する記載もない。
　
　さらには、本件発明８は上記２．（２）で述べたとおり、旧請求項９を引用する旧請求項１２における限定事項をそのまま、旧請求項９に記載の事項に付加するものであるから、異議申立てのされていない旧請求項１２の内容をすべて含むものとなった。
　また、他の新請求項９、１０にかかる発明も新請求項８を引用し、異議申立てのなされていない旧請求項１２の内容をすべて含むものとなった。
　そして、特許異議申立て人が提示した甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明には、本件発明８、９、１０が備えている、マトリクス状に配置された複数の発光部からなる画像表示配列を有する有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造方法において、前記発光部に対応する複数の第１表示電極を形成するパターン工程は、互いに直交する位置に離間して配列された共通走査信号ライン及び共通データ信号ラインと、前記走査信号ライン及びデータ信号ラインに接続された非線形素子と、前記非線形素子に接続された前記発光部に対応する複数の島状の第１表示電極とを形成する工程を含むこと及び、第１表示電極の各々を囲み前記基板上に突出する電気絶縁性の隔壁を、前記成膜用マスクを前記隔壁の上面に載置したとき前記成膜用マスクで既に成膜された前記有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜を傷つけない高さで形成する工程を含むことについて開示がなく、それを示唆する記載もない。
　
　以上のとおりであるから、訂正された本件発明１−３、５−１０は、甲第１号証及び甲第２号証記載の発明から、当業者が容易に発明をすることができたとはいえない。
　
４．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由に及び証拠によっては、本件新請求項１、２、３、６、７、８、９及び１０に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　また、他に本件特許を取り消す理由を発見しない。　
　よって、結論のとおり決定する。　
【異議決定日】
平成１７年３月１４日（２００５．３．１４）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルとその製造方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項
１
マトリクス状に配置された複数の発光部からなる画像表示配列を有している有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルであって、前記発光部に対応する複数の第１表示電極が表面上に形成された基板と、前記第１表示電極の各々を囲み前記基板上に突出する電気絶縁性の隔壁と、前記隔壁内の前記第１表示電極の各々上に形成された少なくとも１層の有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜と、前記有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜の複数の上に共通に形成された第２表示電極とからなり、前記隔壁の高さは、前記隔壁内の前記第１表示電極を露出せしめる複数の開口を有する成膜用マスクを前記隔壁の上面に載置した場合、前記成膜用マスク既に成膜された前記有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜を傷つけない高さに制限された高さであること、並びに
　前記基板の略同一平面上に形成されかつ、互いに直交する位置に離間して配列された共通走査信号ライン及び共通データ信号ラインと、前記走査信号ライン、前記データ信号ライン及び前記第１表示電極に接続された非線形素子をさらに有することを特徴とする
有
　【請求項２】前記隔壁の高さは０．５μｍ以上１０μｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
　【請求項３】前記隔壁の断面は略台形形状であることを特徴とする請求項１又は２記載の有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
　【請求項
４
１〜３のいずれかに
　【請求項
５
１〜４のいずれかに
　【請求項
６
５
　【請求項
７
５
　【請求項
８
マトリクス状に配置された複数の発光部からなる画像表示配列を有している有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造方法であって、基板上に、前記発光部に対応する複数の第１表示電極を形成するパターン工程と、前記第１表示電極の各々を囲み前記基板上に突出する電気絶縁性の隔壁を形成する工程と、前記隔壁内の前記第１表示電極を露出せしめる複数の開口を有する成膜用マスクを、前記隔壁の上面に載置し、有機エレクトロルミネッセンス媒体を前記開口を介して前記隔壁内の前記第１表示電極の各々上に堆積させ、少なくとも１層の有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜を形成する発光層形成工程と、前記有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜の複数の上に第２表示電極を共通に形成する工程とを含み、前記隔壁の高さを、前記成膜用マスクを前記隔壁の上面に載置したとき前記成膜用マスクで既に成膜された前記有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜を傷つけない高さに制限すること、並びに
　前記パターン工程は、互いに直交する位置に離間して配列された共通走査信号ライン及び共通データ信号ラインと、前記走査信号ライン及びデータ信号ラインに接続された非線形素子と、前記非線形素子に接続された前記発光部に対応する複数の島状の第１表示電極とを形成する工程を含むことを特徴とする
有
　【請求項
９
８
　【請求項
１０
８又９
　【請求項
１１
８〜１０のいずれかに
　【請求項
１２
８〜１１のいずれかに
　【請求項
１３
８〜１２
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】本発明は、電流の注入によって発光する有機化合物材料のエレクトロルミネッセンス（以下、ＥＬという）を利用して、かかる有機ＥＬ材料の薄膜からなる発光層を備えた有機ＥＬ素子の複数をマトリクス状に配置した有機ＥＬディスプレイパネルに関し、特に有機ＥＬ素子を用いたフルカラーディスプレイに関する。
　【０００２】
　【従来の技術】現在、有機ＥＬ材料を用いたフルカラーディスプレイとしては、特開平第５−２７５１７２号特開平第５−２５８８５９号及び特開平第５−２５８８６０号の公報に開示されているものがある。このフルカラーディスプレイは、交差している行と列において配置された複数の発光画素からなる画像表示配列を有している発光装置である。
　【０００３】この発光装置においては、各々の画素が共通の電気絶縁性の光透過性基板上に配置されている。各行内の画素は、基板上に伸長して配置された共通の光透過性第１電極を含有し且つ該電極によって接合されている。隣接行内の第１電極は、基板上で横方向に間隔をあけて配置されている。有機ＥＬ媒体は、第１電極及び基板によって形成された支持面の上に配置されている。各列の画素は、有機ＥＬ媒体上に配置された共通に伸長した第２電極を含有し且つ該電極によって接続されている。隣接列内の第２電極は、有機ＥＬ媒体上で横方向に間隔をあけて配置されている。該有機ＥＬ媒体の厚さを上回る高さの壁が、隣接列内の画素の共通の境界に沿って予め配置されている。この発光装置においては有機ＥＬ媒体を挟んで交差している第１及び第２電極のラインを用いた単純マトリクス型を採用している。
　【０００４】また、この従来の発光装置において、第１電極ライン及び有機ＥＬ媒体の薄膜を、予め基板に設けられている境界の高い壁により所定気体流れを遮って、選択的に斜め真空蒸着して形成する製造方法が採用されている。
　【０００５】
　【発明が解決しようとする課題】この従来技術は基板に垂直な高い壁を設けてその高い壁を蒸着マスクとして使用するというものだが、特にパターンが微細になった場合、断面のアスペクト比（底辺／高さ）の非常に大きな高い壁をレジスト等で形成するのは困難であり、また、その形成後の第１及び第２電極ライン及び有機ＥＬ媒体膜の信頼性に不安定要素が大きい。また、斜め真空蒸着の精度、工程の複雑さ等の問題点がある。
　【０００６】本発明の目的は、かかる問題点を解消するべく簡素な工程で製造できる有機ＥＬディスプレイパネル及びその製造方法を提供することにある。
　【０００７】
　【課題を解決するための手段】本発明は、マトリクス状に配置された複数の発光部からなる画像表示配列を有している有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルであって、前記発光部に対応する複数の第１表示電極が表面上に形成された基板と、前記第１表示電極の各々を囲み前記基板上に突出する電気絶縁性の隔壁と、前記隔壁内の前記第１表示電極の各々上に形成された少くとも１層の有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜と、前記有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜の複数の上に共通、またはマスクによってストライプ状に形成された第２表示電極とからなることを特徴とする。
　【０００８】上記有機ＥＬディスプレイパネルにおいて、前記基板の略同一平面上に形成されかつ、互いに直交する位置に離間して配列された共通走査信号ライン及び共通データ信号ラインと、前記走査信号ライン、前記データ信号ライン及び前記第１表示電極に接続された非線形素子をさらに有することが好ましい。上記有機ＥＬディスプレイパネルにおいて、前記非線形素子は互いに接続された薄膜トランジスタ及びコンデンサからなることが好ましい。
　【０００９】
　【００１０】本発明は、マトリクス状に配置された複数の発光部からなる画像表示配列を有している有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造方法であって、基板上に、前記発光部に対応する複数の第１表示電極を形成するパターン工程と、前記第１表示電極の各々を囲み前記基板上に突出する電気絶縁性の隔壁を形成する工程と、前記隔壁内の前記第１表示電極を露出せしめる複数の開口を有するマスクを、前記隔壁の上面に載置し、有機エレクトロルミネッセンス媒体を前記開口を介して前記隔壁内の前記第１表示電極の各々上に堆積させ、少くとも１層の有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜を形成する発光層形成工程と、前記有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜の複数の上に第２表示電極を共通、またはマスクによってストライプ状に形成する工程とを含むことを特徴とする。
　【００１１】また、上記有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法において、１つの前記開口が１つの前記第１表示電極上からその隣接する前記第１表示電極上へ配置されるように前記マスクを順次移動せしめて前記発光層形成工程を順次繰り返し、より効率良く製造することも可能である。このように、有機ＥＬ膜の発光層を隔壁により保護するので、マスクが発光層に損傷を与えることが少なくなり、隔壁及びマスクによりＲＧＢ有機層の分離が確実に行なえ、精度良くＲＧＢの媒体の塗り分けができる。
　【００１２】
　【実施例】以下に、本発明による実施例を図面を参照しつつ説明する。図１に示すように、実施例の有機ＥＬディスプレイパネルはマトリクス状に配置されかつ各々が赤Ｒ、緑Ｇ及び青Ｂの発光部からなる発光画素１の複数からなる画像表示配列を有している。
　【００１３】図２に示すように、この有機ＥＬディスプレイパネルの基板２上には、互いに直交する位置に電気的に離間して配列された共通走査信号ライン３及び共通データ信号ライン４が設けられ、さらに走査信号ライン及びデータ信号ラインに接続された非線形素子５と、非線形素子に接続された発光部Ｒ、Ｇ及びＢに対応する複数の島状の第１表示電極６とが表面の略同一平面上に形成されている。
　【００１４】さらに基板２上には、図２及び図３に示すように、第１表示電極６の各々を囲み基板上に突出する電気絶縁性の隔壁７が形成されている。隔壁７内凹部の第１表示電極６の各々上には、少くとも１層の有機ＥＬ媒体たとえば、有機正孔輸送層、有機発光層及び有機電子輸送層の３層構造の媒体または有機正孔輸送層及び有機発光層２層構造の媒体などの薄膜が形成されている。
　【００１５】有機ＥＬ媒体８の薄膜の複数の上に共通に形成された第２表示電極９が形成されている。第２表示電極９の上には保護膜１０または保護基板が設けられることが好ましい。さらに、具体的な実施例のアクティブマトリクス形有機ＥＬディスプレイパネルでは、図４に示すように、ガラスなどの透明な基板２の上にインジウム錫酸化物（以下、ＩＴＯという）の複数の島状の第１表示電極６と、この第１表示電極に接続された非線形素子５、たとえば互いに接続された薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）Ｔ１，Ｔ２及びコンデンサＣとがフォトリソグラフィ真空蒸着技術などにより形成され、さらに、同様にデータ信号ラインの共通ドレインライン４と走査信号ラインの共通ゲートライン３が略一基板平面上に直交する位置に配列されている。そして、図５に示すように、第１のＴＦＴ（Ｔ１）のソース電極にはコンデンサＣと第２のＴＦＴ（Ｔ２）のゲートが接続され、ソース電極はコンデンサＣとともにアースラインＥに接続されている。また、Ｔ２のドレインラインは第１表示電極６に接続されている。このような発光部組合せユニットが各画素ごとに全画素数の数だけ集積され、マトリクス状に配置された複数の発光画素からなる画像表示配列の有機ＥＬディスプレイパネルの基板が形成されている。
　【００１６】なお、上記実施例では、非線形素子は互いに接続された薄膜トランジスタ及びコンデンサからなる３端子タイプで構成しているが、薄膜トランジスタはｐ−Ｓｉ、ａ−Ｓｉ、ＣｄＳｅ、Ｔｅが採用され得、また代わりにＭＯＳ−ＦＥＴを用いた回路としても良い。さらに、３端子タイプではなく、２端子タイプのＭＩＭなどを用いて構成することもできる。
　【００１７】このアクティブマトリクス回路基板２上に、フォトリソグラフィなどにより図６及び図７に示すように、Ｓｉ３Ｎ４などの保護膜７ａを、非線形素子５並びにデータ信号ラインの共通ドレインライン４及び走査信号ラインの共通ゲートライン３上に選択的に蒸着して形成し、その上に、所定高さまでレジストまたは感光性ポリイミド等を選択的に形成し隔壁７を形成する。また、図８に示すように、保護膜を形成せずに、非線形素子５並びにデータ信号ラインの共通ドレインライン４及び走査信号ラインの共通ゲートライン３上にレジストを選択的に形成し隔壁７を形成することもできる。
　【００１８】
　【００１９】次に、図５を用いて、アクティブマトリクス駆動方法について簡単に説明する。ドレインライン群Ｘｉ，Ｘｉ＋１，Ｘｉ＋２，…とゲートライン群Ｙｊ，Ｙｊ＋１，Ｙｊ＋２，…の選択交点にパルス電圧が印加されると、Ｔ１はオン状態になり、コンデンサを充電する。この充電電圧はゲートへ印加されるパルス幅で決まる。充電電圧が十分大きい場合は、Ｔ２のゲート電圧が大きくオン状態になるので、ＥＬ層８を介して上部の透明電極に印加設定されている電圧がＥＬ層８に印加される。そして、コンデンサの放電が進み、ゲート電圧は徐々に減少してゆく。このためコンデンサの充電電圧でＴ２の導通時間が決定される。発光部の明るさは、この導通時間にも関係している。ドレインラインへのＲＧＢ信号に応じてＸ電極群とＹ電極群を順次走査して、交点画素を選択発光させる。
　【００２０】次に、有機ＥＬディスプレイパネル製造工程を説明する。まず、ゲートライン、ゲート絶縁膜、チャネル層、コンタクト層、第１表示電極の透明電極（ＩＴＯ陽極）、ソース、ドレインライン、信号線等、所定のＴＦＴアレイをガラス基板上に形成する。図９は、得られたＴＦＴ等所定の機能素子を備えている基板２の上に、レジストあるいは感光性ポリイミド等で、個々の画素を囲む絶縁性の隔壁７をフォトリソグラフィ等で形成した後の状態の斜視図である。例えば隔壁７の凸部の幅は、いずれも０．０２ｍｍ程度、隔壁凹部の底面積は、０．３ｍｍ×０．１ｍｍ程度であり、この寸法であれば６４０×４８０画素の１０インチフルカラーディスプレイが実現できる。また後の工程で複数回成膜する有機ＥＬ媒体を分離する隔壁は、成膜用マスクが隔壁に突き合わされた際にマスクで既に成膜された有機ＥＬ媒体８を傷つけない程度の高さ（０．５μｍ以上）であればよい。また隔壁が高すぎても壊れやすくなるので１０μｍ以下程度、できれば１〜２μｍ程度が望ましい。更に、その後の工程で成膜する第２表示電極の陰極が隔壁によって断線しない程度に、隔壁の断面が略台形の形状になることが望ましい。なお、マトリクス状隔壁は、ガラスペーストの光吸収性物質を塗布するスクリーン印刷法により、基板上に形成することもできる。隔壁は、目視側から見て長方形底面の壁となるように形成しているが、正方形、円形などその形状は如何なるものでも良い。
　【００２１】図１０に示すように、この成膜用マスク３０を千鳥格子状に配列した開口３１を有するものとして、これを図の矢印に示すように隔壁付き基板２上にて順次移動して、Ｒ媒体、Ｇ媒体及びＢ媒体の最低３回のマスク蒸着を行う。図１１（ａ）〜（ｄ）で、この隔壁付き基板を用いて有機ＥＬディスプレイパネルを作製する発光層形成工程及び第２表示電極形成工程を順を追って説明する。図ではＲＧＢ３色のみの１画素のみの説明であるが、実際は２次元に複数個の画素を同時に形成するのはもちろんである。
　【００２２】図１１（ａ）の工程では、隔壁７が形成された基板２の凹部の各１つに成膜用マスク３０の各１つの穴部３１を位置合わせした後、隔壁上にマスクを載置して、１番目（例えば赤色）の有機ＥＬ媒体８ａを例えば蒸着などの方法を用いて０．１〜０．２μｍ程度の厚さに成膜する。尚、成膜用マスク３０の開口３１の各々は、図に示すように隔壁凹部の底面の第１表示電極を全て覆う有機ＥＬ媒体層を形成できるような大きさを有している。
　【００２３】図１１（ｂ）の工程では、例えば成膜用マスクを左に隔壁１個分ずらして位置合わせをした後、隔壁上にマスクを載置して２番目（例えば緑色）の有機ＥＬ媒体８ｂを所定膜厚に成膜する。図１１（ｃ）の工程で残った１個の凹部に成膜用マスクを位置合わせをした後、隔壁上にマスクを載置して３番目（例えば青色）の有機ＥＬ媒体８ｃを所定膜厚に成膜する。
　【００２４】このように、１つの開口が１つの第１表示電極上からその隣接する第１表示電極上へ配置されるようにマスクを順次移動せしめる発光層形成工程を順次繰り返すことが好ましい。また、隔壁７があるので、成膜用マスクの位置合わせ、移動、載置して蒸着する際に、マスクによる有機ＥＬ媒体層を傷つけることがない。図１１（ｄ）の第２表示電極形成工程では、成膜用マスクを取り除き、Ａｌ、Ａｕ等の低抵抗金属を、成膜された３種類の有機ＥＬ媒体の上に全体が電気的に導通するように蒸着、あるいはスパッタ等の手段を用いて陰極として例えば０．１〜１０μｍ程度被着させる。この金属膜の膜厚は支障のない限り厚く被着させても構わない。
　【００２５】このように隔壁とマスクとを突き合わせて有機ＥＬ媒体を成膜することで、有機ＥＬ媒体を劣化させる事なく、また隔壁があるため隣接した画素に成膜された有機ＥＬ媒体が回り込まずに微細な領域に塗り分けることが可能となり、高精彩なフルカラーディスプレイが実現できる。この時、基板のＩＴＯやＴＦＴと陰極がショートしないよう、また隣接した凹部にまで成膜しないように、有機ＥＬ媒体成膜用マスクの穴部を最適な大きさにするのはもちろんである。ただし有機ＥＬ媒体が隔壁凸部に成膜されるのは問題ない。
　【００２６】図１０に示す成膜用マスク３０の代わりに、図１２（ａ）に示す千鳥格子状に配列した開口３１を有するマスクを用いて、これを図の矢印に示すように隔壁付き基板２上にて順次移動して、ＲＧＢの有機ＥＬ媒体を蒸着することもできる。この場合、図１２（ｂ）に示すように、もともと輝度がとれないＢ媒体領域を１画素あたり広く取れ、マスク剛性も更に上がるが、蒸着回数が最低４回に増える。
　【００２７】他の実施例の有機ＥＬディスプレイパネルとして、有機ＥＬ媒体を挟んで交差する第１及び第２表示電極のラインを用いた単純マトリクス型のパネルがある。図１３に示すかかる単純マトリクス型有機ＥＬディスプレイパネルの基板２上には、互いに直交する位置に電気的に離間して配列された第１表示電極ライン５１が設けられている。さらに基板２上には、発光部Ｒ、Ｇ及びＢに対応する複数の島状の第１表示電極部分６１をなすように、各々を囲み基板から突出する電気絶縁性の隔壁７が形成されている。隔壁７内凹部の第１表示電極６１の各々上には、少くとも１層の有機ＥＬ媒体たとえば、有機正孔輸送層、有機発光層及び有機電子輸送層の３層構造の媒体または有機正孔輸送層及び有機発光層２層構造の媒体などの薄膜が形成されている。有機ＥＬ媒体８の薄膜の複数の上に、第１表示電極ライン５１と交差した第２表示電極ライン７１が形成されている。第２表示電極ライン５１の上には、保護膜または保護基板が設けられることが好ましい。
　【００２８】図１４に、単純マトリクス型有機ＥＬディスプレイパネルの製造手順を簡単に示す。まずガラス基板２上に、ストライプ状に複数の平行第１表示電極ライン５１をＩＴＯなどで成膜する（図１４（ａ））。次に、図１４（ｂ）に示すように、第１表示電極ラインが設けられている基板２の上に、レジストあるいは感光性ポリイミド等で、個々の島状の第１表示電極部分６１を囲む絶縁性の隔壁７をフォトリソグラフィ等で形成する。
　【００２９】次に、上記図１１（ａ）〜（ｃ）で示した工程と同様に、この隔壁付き基板２の凹部の各１つに、ＲＧＢ有機ＥＬ媒体の発光層を、蒸着マスクを順次移動せしめて形成する。図１４（ｃ）に示すように、隔壁７及び発光層上に、第１表示電極ライン５１と交差した複数のストライプ状平行第２表示電極ライン７１を低抵抗金属で蒸着マスクを用いて蒸着形成する。
　【００３０】
　【発明の効果】以上の如く本発明によれば、以下の効果が得られる。
（１）有機ＥＬ膜を成膜後はパターニング等有機ＥＬ媒体に損傷を与える工程を行う必要がない。
（２）陰極はベタ付けで成膜でき効率が良い。
　【００３１】（３）従来の有機ＥＬディスプレイパネル製造方法より工程が少なく、ＲＧＢ有機層の分離が確実に行なえ、精度良くＲＧＢの媒体の塗り分けができる。
（４）隔壁により、有機ＥＬ媒体層へ傷付けを防止でき有機機能層の保護が達成できる。
（５）金属マスクを千鳥格子状にする事により、マスクの剛性が増し、移動及び位置合わせのマスクの撓みによる有機ＥＬ媒体層及び隔壁へ傷付けをさらに防止する。
【図面の簡単な説明】
　【図１】本発明による有機ＥＬディスプレイパネルの部分拡大平面図。
　【図２】本発明による有機ＥＬディスプレイパネルの概略部分拡大平面図。
　【図３】図２の線ＡＡの断面図。
　【図４】本発明による実施例の有機ＥＬディスプレイパネルの基板の概略部分拡大平面図。
　【図５】本発明による実施例の有機ＥＬディスプレイパネルの基上に形成された非線形素子を示す回路図。
　【図６】本発明による実施例の有機ＥＬディスプレイパネルの隔壁付き基板の概略部分拡大平面図。
　【図７】図６の線ＡＡにおける断面図。
　【図８】本発明による他の実施例の有機ＥＬディスプレイパネルの隔壁付き基板の概略部分拡大断面図。
　【図９】本発明による実施例の有機ＥＬディスプレイパネルの隔壁付き基板の概略斜視図。
　【図１０】本発明の有機ＥＬディスプレイパネル製造方法に用いる成膜用マスクの概略部分拡大平面図。
　【図１１】本発明の有機ＥＬディスプレイパネル製造方法における有機ＥＬディスプレイパネルの隔壁付き基板の概略部分拡大平面図。
　【図１２】本発明の有機ＥＬディスプレイパネル製造方法に用いる他の成膜用マスクの概略部分拡大平面図。
　【図１３】本発明による他の実施例の有機ＥＬディスプレイパネルの概略部分拡大断面図。
　【図１４】本発明による他の実施例の有機ＥＬディスプレイパネルの隔壁付き基板の概略斜視図。
　【主要部分の符号の説明】
　１　発光画素
　２　基板
　３　走査信号ライン
　４　データ信号ライン
　５　非線形素子
　６　第１表示電極
　７　隔壁
　８　有機ＥＬ媒体
　９　第２表示電極
　１０　保護膜
　３０　成膜用マスク
　３１　開口
　５１　第１表示電極ライン
　６１　第１表示電極部分
　７１　第２表示電極ライン