【事件の表示】
　特許第３２１１５５６号「キセノン照射装置とそれを用いた物体表面改質装置」の請求項１ないし３に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３２１１５５６号の請求項１、２に係る特許を取り消す。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件特許第３２１１５５６号に係る手続の経緯の概要は、以下のとおりである。
　平成６年４月１５日　　　　　特許出願
　平成１３年７月１９日　　　　特許権の設定の登録
　平成１３年９月２５日　　　　特許掲載公報の発行
　平成１４年３月２０日　　　　岩崎電気株式会社から特許異議の申立て
　平成１４年６月２４日付　　　取消理由の通知
　平成１４年９月３日　　　　　意見書及び訂正請求書の提出
　
２．訂正の適否について
２−１．訂正事項
訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１に「紫外エキシマ光」（２箇所）とあるのを、「波長１７２ｎｍの紫外エキシマ光」と訂正する。
訂正事項ｂ
　特許請求の範囲の請求項１に「配置してなることを特徴とする」とあるのを、「配置しており、前記匡体の前方の凸出寸法が、窓部材から２ｍｍ以内であることを特徴とする」と訂正する。
訂正事項ｃ
　特許請求の範囲の請求項３を削除する。
訂正事項ｄ
　段落【０００８】に「紫外エキシマ光」（２箇所）とあるのを、「波長１７２ｎｍの紫外エキシマ光」と訂正する。
訂正事項ｅ
　段落【０００８】に「配置することによって達成できる。」とあるのを、「配置して、匡体の前方の凸出寸法が、窓部材から２ｍｍ以内にすることによって達成できる。」と訂正する。
訂正事項ｆ
　段落【０００９】に「反射特性を具えているかするかし、匡体の前方の凸出寸法が、窓部材から２ｍｍ以内にすることによって本発明の目的はより一層達成できる。」とあるのを、「反射特性を具えることで本発明の目的はより一層達成できる。」と訂正する。
　
２−２．新規事項の有無、訂正の目的の適否及び拡張・変更の存否
(１)訂正事項ａは、訂正前の請求項１に記載された「紫外エキシマ光」の前に「波長１７２ｎｍの」を挿入することにより、放電ランプが波長１７２ｎｍの紫外エキシマ光を放射するものであることに限定するとともに、窓部材も波長１７２ｎｍの紫外エキシマ光を放射するものであることを限定するものであるから、願書に添付した明細書に記載された事項の範囲内の訂正であって、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正に該当し、また、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
(２)訂正事項ｂは、訂正前の請求項３に記載されていた「前記匡体の前方の凸出寸法が、窓部材から２ｍｍ以内である」という構成を請求項１に加えるものであるから、願書に添付した明細書に記載された事項の範囲内の訂正であって、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正に該当し、また、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
(３)訂正事項ｃは、上記訂正事項ｂの訂正に伴い、請求項３を削除するものであるから、願書に添付した明細書に記載された事項の範囲内の訂正であって、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正に該当し、また、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
(４)訂正事項ｄないしｆは、いずれも、上記訂正事項ａないしｃの訂正に伴って生じた、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載との間の不整合部分の整合を図るものであるから、願書に添付した明細書又は図面に記載された事項の範囲内の訂正であって、明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正に該当し、また、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
　
２−３．むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正請求は、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律１１６号）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書き及び第２項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．本件発明
　前項に記載したとおり、本件訂正請求は認められるから、本件特許に係る発明は、平成１４年９月３日付訂正請求書に添付した全文訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１及び２に記載された以下のとおりのものと認める（以下、「本件発明１」及び「本件発明２」という。）。
「【請求項１】少なくとも一部が波長１７２ｎｍの紫外エキシマ光を取り出す窓部材から構成された概略円筒状の放電容器に、誘電体バリア放電によってエキシマを形成するキセノン、もしくはキセノンを主成分とする放電用ガスを充した誘電体バリア放電ランプを、少なくとも一部が偏平な波長１７２ｎｍの紫外エキシマ光を取り出す窓部材で前方をおおった匡体内に、ヘリウム、ネオン、クリプトン、アルゴン、キセノン、水素、窒素から選択された少なくとも一種のガスとともに配置しており、
　前記匡体の前方の凸出寸法が、窓部材から２ｍｍ以内であることを特徴とするキセノン照射装置。
　　【請求項２】匡体の内面が反射鏡を兼ねているか、もしくは、匡体内に反射鏡を配置しているか、もしくは、放電容器の一部が反射特性を具えているかすることを特徴とする請求項１に記載のキセノン照射装置。」
　
４．取消理由の概要
　平成１４年６月２４日付けで通知した取消理由の概要は、以下のとおりである。
　本件の訂正前の請求項１ないし３に係る発明は、下記の刊行物１ないし３に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができないものである。
　よって、本件の請求項１ないし３に係る特許は、拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してなされたものである。
　　　　　　　　　　　　　記
刊行物１：特開昭６４−２５８６６号公報（申立人が提出した甲第１号証）
刊行物２：特開平５−１７４７９３号公報
刊行物３：特開平３−２０１３５８号公報（申立人が提出した甲第２号証）
　
５．当審における判断
５−１．各刊行物に記載された発明
刊行物１：特開昭６４−２５８６６号公報
(1a)「【請求項１】箱体状の装置本体の内部に、紫外線発生ランプを装置すると共に同紫外線ランプの対応する面に紫外線透過率のよい板体を設け、同装置本体の内部を紫外線透過率のよい雰囲気に構成し、且つ板体の下面にオゾン処理空間を設けて構成したことを特徴とする表面処理装置。」
(1b)「【請求項２】装置本体の内部に窒素ガスあるいは不活性ガスを供給し、装置本体内部の紫外線透過率をよくしたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の表面処理装置。」
に関し、
(1c)従来技術とその問題点として、「紫外線による処理装置としては、従来の例えば第４図に示すように、箱体状の装置本体１の内部に、例えば複数の反射体２を５ｃｍ程度の間隔で配設すると共に同各反射体２の内部に紫外線発生ランプ、例えば低圧水銀ランプ３を装着し、さらに紫外線発生ランプ３の下面に表面を処理する試料４を例えばコンベアー５の上面に載置し、紫外線発生ランプ３より生成されるオゾンと紫外線１８５ｎｍ、２５４ｎｍとで試料の表面の油脂、有機溶剤、異物、塵埃、微粉等を分解又は除去している。同装置によりオゾンと紫外線による処理能力を高めるには、紫外線発生ランプ３と試料４の距離は可能な限り小さいことが望ましい。しかし紫外線発生ランプ３と試料４面の距離が小さいと、試料面の中央付近と両端付近の照度に差が生じて処理効果が不均一となり、さらに紫外線の照度の低いところで処理効果を満たすように設計しないと処理効果が不十分となる欠点がある。また試料面の均一な処理効果を得るには、紫外線発生ランプと試料の距離を大きくし且つ大きいワット数の紫外線発生ランプを用いなければならない欠点がある。」（第１頁右下欄第１０行〜第２頁左上欄第１１行）
(1d)発明の目的として、「本発明は上記の諸点に鑑み発明したものであって、光源と試料までの距離を小さくし、さらに紫外線とオゾンによる処理効果を増大することのできる表面処理装置を提供することを目的とする。」（第２頁左上欄第１３〜１６行）
(1e)問題点を解決するための手段として、「以下本発明を第１図乃至第３図について説明する。図において、１１は箱体状の装置本体、１２は装置本体１１の内部上面に例えば５ｃｍ程度の間隔で支持してなる反射体、１３は各反射体１２の内部に位置して装着してなる紫外線発生ランプであって、例えば２５ワットの低圧水銀ランプ、１４は紫外線発生ランプ１３と対応する開口面を覆ってなる紫外線透過率のよい板体であって、例えば合成石英ガラス板を用いて構成してある。合成石英ガラス板の紫外線１８５ｎｍの透過率は７５％程度であり、２５４ｎｍの透過率は９０％程度である。１５は装置本体１１の一部に設けてなる真空排気口であって、窒素ガスあるいは不活性ガス供給口を兼ねてある。同装置本体１１内を真空にするか、窒素ガスあるいは不活性ガスで満し、紫外線の透過率のよい雰囲気に構成する。」（第２頁左上欄下から第３行〜右上欄第１３行）
(1f)紫外線の照度と照度距離の関係について、「次に上記した表面処理装置における試料面の紫外線１８５ｎｍ，２５４ｎｍの照度と照射距離との関係を第２図について説明する。同図に示すようにオゾン濃度が２００ＰＰＭで、試料面に対する照射距離が０のとき、試料面の紫外線照度を相対値で１．０とすると、紫外線２５４ｎｍは試料面に対する照射距離が２．５ｃｍのとき、約０．５となり、５．０ｃｍのとき０．１８となる。また紫外線１８５ｎｍは試料面に対する照射距離が４．０ｃｍのとき、約０．５となり、６ｃｍのとき０．３３となる。このように試料面における紫外線照度は照射距離により大きく影響し、処理効果を増大するには、試料面の距離と紫外線発生ランプ１３の距離を出来る限り小さく構成することが必要である。」（第２頁左下欄第４〜１７行）
(1g)発明の効果について、「本発明は上記したように、装置本体の内部に、紫外線発生ランプを装着すると共に紫外線発生ランプの対応する面に紫外線透過率のよい板体を設け、同装置本体の内部を紫外線透過率のよい雰囲気に構成し、且つ板体の下面にオゾン処理空間を設けて構成したので、紫外線発生ランプより発生する紫外線１８５ｎｍと２５４ｎｍの装置本体内部での透過率はよく、紫外線１８５ｎｍ，２５４ｎｍとオゾン処理空間のオゾンにより、プラスチック、ガラス、金属、セラミック等の試料の表面の油脂、有機溶剤、異物、塵埃、微粉等を効果的に分解除去することができる。また平板の下面にオゾン処理空間が設けてあるので、同オゾン処理空間内において、平板を透過した紫外線によりオゾンが酸化分解され、試料の表面を効果的に殺菌し、無駄なオゾンの酸化分解を防ぐことができる。また装置本体の下面に板体があるので従来の装置に較べ、紫外線発生ランプの指向性は少なく、装置本体の内部に複数の紫外線発生ランプを装着し構成しても板体の下面で試料を均一処理することができる利点がある。」（第３頁左上欄第２行〜右上欄第３行）
と記載され、第１図には、表面処理装置の断面図が図示されている。
　
刊行物２：特開平５−１７４７９３号公報
(2a)「【請求項１】放電条件下でビームを発射する充填ガスの充填された放電室と、放電の給電のための交流電源とを有する、例えば紫外線用の高出力ビーム発生器を有する照射装置であって、前記交流電源は第１および第２の電極に接続されており、前記放電室の壁部は第１および第２の誘電体により形成され、該放電室とは反対側の該誘電体の表面には格子状または網状の金属第１電極と第２電極が設けられている高出力ビーム発生器を有する照射装置において、ビーム発生器は冷却剤浴（１０）に、前記第１の誘電体（１）と少なくとも前記第１電極とが冷却剤により回りを洗われるように浸漬されており、少なくとも前記冷却剤浴の壁部（１３）と冷却剤自体が生成されたビームに対して透過性であることを特徴とする、高出力ビーム発生器を有する照射装置。」
(2b)「【請求項２】冷却剤浴（１０）の壁部（７、８、９）にＵＶビームを良好に反射する層が設けられているか、またはアルミニウム製またはアルミニウム合金製の壁部（７、８、９）の場合、壁部が鏡面研磨されている請求項１記載の照射装置。」
(2c)「【請求項３】外部誘電管（１）の外面にはＵＶ反射性の層（６）が設けられている請求項１記載の照射装置。」
(2d)「【請求項４】冷却剤浴（１０）に別個の反射器（１４）が組み込まれており、該別個の反射器は、前記ビーム発生器により生成されたＵＶビームの大部分がビーム発生器を再度通過する必要なしに冷却剤浴（１０）を去るように構成されている請求項１または２記載の照射装置。」
(2e)「【請求項５】冷却剤浴（１０）は、ビーム発生器の給電用電流源の電気構成素子および電子構成素子の冷却にも使用される請求項１から４までのいずれか１記載の照射装置。」
(2f)「【００１９】外部電極５として目の粗い金属メッシュを用いるか、または外部電極は管長手方向に延在する個々の金属ワイヤまたは金属条材からなる。外部電極は外部管１のほぼ上側半周囲にわたって延在する。条材状の電極構成の場合、個々の条材は軸上に分布された複数の個所で相互に接続される。外部電極５も、外部誘電管１も、生成されたＵＶビームに対して透過性である。管１の下側周囲には反射器６が設けられている。これは例えば蒸着したアルミニウム層により実現することができる。この反射器は外部電極５と同じ電位にある。」
(2g)「【００２１】発生したビームを窓１３を通して外部空間へ案内するための別の有利な手段は、壁部７、８、９のの内側を鏡面仕上げすることである。これはアルミニウム壁部の場合、表面の研磨により行うことができる。有利な実施例では、容器壁部を最適に鏡面化するために浴の底部部分に別個の反射器１４を設ける。この反射器は多数の割目１５を有しており、容器壁部と同じ電位にある。割目は流入部１１から流出部１２への十分な冷却剤流を可能にする。反射器１４は、この反射器によりビーム発生器から下方に照射されたＵＶビームの大部分が反射され、その際ビームがもう一度誘電体１と２を通過する必要のないように構成されている。反射器１４の断面は、２つのパラボラ型部分から統合するも考えられる。」
(2h)「【００２３】充填ガスは例えば、水銀、希ガス、希ガス金属蒸気混合気、希ガスハロゲン混合気であり、場合により付加的に別の希ガス、有利にはＡｒ、Ｈｅ、Ｎｅが緩衝ガスとして使用される。」
(2i)「【００２４】ビームの所望のスペクトル組成に応じて、物質／物質混合気が以下の表に従い使用される。
                    　・・・（中略）・・・
     　　クセノン　　　　　　１６５〜１９ｎｍ
　　　　　　　　　　　　（当審注：１９０ｎｍの誤記と認められる。）
                    　・・・（中略）・・・
　その他、次の一連の充填ガスが考えられる。」
(2j)「【００２７】生成される無声放電（サイレントディスチャージ）では、
電子エネルギ分布を誘電体１と２の厚さおよびその特性、放電室中の圧力および／または温度により最適に調整することができる。」
と記載され、第１図及び第３図には、ビーム照射装置の模式図が図示されている。
　
刊行物３：特開平３−２０１３５８号公報　
(3a)「高出力ビーム放射装置であって、該高出力ビーム放射装置は放電条件の下にビームを送出する充てんガスで満たされた放電室（５）を備え、該放電室の壁は第１の管状誘電体（１）と第２の誘電体（３）とにより形成されており、該第１の管状誘電体は放電室（５）とは反対側の誘電体表面に第１の電極（２，７）を備え、さらに第２の誘電体は第２の電極（４）を備え、さらに前記高出力ビーム放射装置は、該第１のおよび第２の電極へ接続されている、放電に対する給電用の交流電流源（６）を備えている、高出力ビーム放射装置において、第１の管状誘電体（１）の内部に誘電体材料から成るロッド（３）が設けられており、該ロッドの内部に導電体（４）が挿入されているまたは埋め込まれており、該導電体が第２の電極を構成することを特徴とする高出力ビーム放射装置。」（特許請求の範囲の請求項１）に関し、
(3b)発明の解決すべき問題点として、「従来技術を基にして本発明の課題は、例えば高い効率により特徴づけられ、経済的に製造が可能で著しく大型の面形式ビーム放射装置の構成を可能とし、かつ内部電極のシャドウ効果が最小に低減されるような、たとえば紫外線ビームまたは真空紫外線ビームを発生するための高出力のビーム放射装置を提供することである。」（第３頁左上欄第１３〜１９行）
(3c)問題点を解決するための手段として、「この課題は冒頭に述べた形式の高出力ビーム放射装置において、本発明により次のようにして解決されている。即ち冒頭に述べた上位概念の高出力ビーム放射装置において、第１の電極が外側の管状誘電体の外周面に被着されており、第１の管状誘電体の内部に誘電体材料から成るロッドが偏心的に設けられており、該ロッドの内部に導電体が挿入されているまたは埋め込まれており、該導電体が第２の電極を構成することにより、解決されている。」（第３頁右上欄第１〜９行）
(3d)「外側の誘電体管の周全体にわたり外側電極を取り付けるのではなく、裏側の部分的な蒸着層またはコーティング層で十分であり、この場合この層は電極としてかつ同時に反射器として用いられる。良好に蒸着されかつ高い紫外線反射作用も有する材料として、適切な保護層（アルマイト化されたＭｇＦ２層）の設けられた高い紫外線反射作用を有するアルミニウムが用いられる。」（第３頁左下欄第６〜１４行）
(3e)「表面のＵＶ処理およびＵＶカラーおよびＵＶラッカの硬化の場合、所定の場合は、空気中で作業させないと有利である。空気の除去の下でのＵＶ操作が適切と考えられる２つの理由がある。第１の理由は、ビームの波長が短かい（波長＜１９０ｎｍ）ため空気により吸収されて弱められてしまうからである。このビームは酸素の分解を即ち不所望なオゾン発生を生ぜさせる。第２の理由は、ＵＶビームの所期の光化学作用が酸素の存在により妨げられる（酸素による阻害）からである。このことはラッカおよびカラーの例えば光による分子結合（ＵＶ重合、ＵＶ脱水）の場合に、現われる。これらの反応過程はそれ自体は知られており、例えば刊行物“U.V.and E.B.Curing Formulation for Printing Ink,Coatings and Paints”,1988,SITA−Technology,203 Gardiner House,Broomhill Road,LondonSW18,89−91頁に示されている。この場合に本発明による構成においては、UVを透過させるガスを例えばちっ素またはアルゴンを処理室の中へ案内するための手段が設けられている。第１電極が、例えば請求項５に示されているように、溝の設けられた金属ブロックから構成されている時は、この種のガス案内を多額の技術的費用なしに、例えば不活性ガスの供給される、放電室へ連通するチャンネルにより、実施される。このチャンネル通って案内される不活性ガスはさらにビームの冷却のために用いられる。そのため、多くの場合は別個の冷却チャンネルを設けなくてすむようになる。」（第３頁右下欄下から第５行〜第４頁右上欄第５行）と記載され、
(3f)処理室の中へ不活性ガスを案内するための手段を有する放射装置について、第９、１０図とともに、「第９図に示されている放射装置は基本的には第５図の放射装置に相応しており、さらに付加的に金属ブロック８の長手方向に延在するチャンネル１１を有する。これらのチャンネルは処理室１２と、金属ブロック８における複数個の孔またはスリット１３を介して連通されている。さらにこの連通は、石英管１の回避されない製造誤差により定められる、外側石英管１と金属ブロック８における溝９との間の著しくせまい隙間を介して行なわれる。チャンネル１１は、図示されていない不活性ガス源へ例えばちっ素源またはアルゴン源へ接続されている。チャンネル１１から、加圧された不活性ガスが前述の様に処理室１２の中へ達する。この処理室、金属ブロック８における脚１４によりおよび照射されるべき基板１５により区画される。処理室は短時間で不活性ガスにより満たされる。この場合、基板１５と脚１４の端部との間の隙間１６の大きさに応じて多少の量の漏洩ガスが流出するが、しかしこれは不活性ガス源により補給される。このようにして冒頭に述べた、放電室５の中で発生されるＵＶビームと空気の酸素との間の相互作用が確実に回避される。第１０図に処理室１２への不活性ガス案内の別の構成が示されている。この場合この放射装置は実質的に第６図のそれに相応する。しかし付加的に、隣り合う石英管の間に、金属ブロック８の長手方向へ延在するチャンネル１１が設けられている。このチャンネルは孔またはスリット１３を介して処理室１２と直接結合されている。その他の点では構成および作用は第９図のそれに相応する。本発明の範囲を逸脱することなく、第７図および第８図に示された円筒形放射装置に、不活性ガスを処理室（ここでは管8aの内部）へ案内する手段を設けることができることは明らかである。」（第６頁左上欄第６行〜左下欄第２行）
と記載されている。
　
５−２．本件発明１について
(１)刊行物１記載発明との対比
　刊行物１には、摘記事項(1e)及び装置の断面図である第１図の記載から明らかなように、「箱体状の装置本体１１と、装置本体１１の内部上面に支持してなる反射体１２と、反射体１２の内部に位置して装着してなる紫外線発生ランプ（例えば２５ワットの低圧水銀ランプ）１３、紫外線発生ランプ１３と対応する開口面を覆ってなる紫外線透過率のよい板体（例えば１８５ｎｍの透過率が７５％程度であり、２５４ｎｍの透過率が９０％程度である合成石英ガラス板）１４とを有する表面処理装置において、この装置本体１１の一部には、窒素ガスあるいは不活性ガス供給口を兼ねた真空排気口１５を設けて、装置本体１１内を真空にするか、窒素ガスあるいは不活性ガスで満し、紫外線の透過率のよい雰囲気に構成した表面処理装置」の発明（以下、「刊行物１記載発明」という）が記載されている。
　そこで、本件発明１と刊行物１記載発明とを対比すると、刊行物１記載の表面処理装置は、摘記事項(1c)から明らかなように、試料面に紫外線を照射することにより、試料の表面の油脂、有機溶剤、異物、塵埃、微粉等を分解又は除去するものであるから、「紫外線照射装置」の一種である。
　また、刊行物１に記載された「紫外線透過率のよい板体１４」は、本件発明１における「扁平な紫外光を取り出す窓部材」に対応するものである。
　さらに、刊行物１の「装置本体の内部に、紫外線発生ランプを装着すると共に紫外線発生ランプの対応する面に紫外線透過率のよい板体を設け、同装置本体の内部を紫外線透過率のよい雰囲気に構成し、且つ板体の下面にオゾン処理空間を設けて構成したので、紫外線発生ランプより発生する紫外線１８５ｎｍと２５４ｎｍの装置本体内部での透過率はよく、」（摘記事項(1g)参照）という記載から明らかなように、刊行物１記載発明において、装置本体内に満たされる「窒素ガスあるいは不活性ガス」は、紫外線発生ランプより発生する紫外線の透過率をよくするためのものであって、本件発明１における「ヘリウム、ネオン、クリプトン、アルゴン、キセノン、水素、窒素から選択された少なくとも一種のガス」に相当する。
　よって、両者は、
「ランプを、少なくとも一部が偏平な紫外光を取り出す窓部材で前方をおおった匡体内に、ヘリウム、ネオン、クリプトン、アルゴン、キセノン、水素、窒素から選択された少なくとも一種のガスとともに配置した照射装置。」である点で一致し、以下の点で相違している。
　
相違点ａ：
　本件発明１は、ランプとして「少なくとも一部が波長１７２ｎｍの紫外エキシマ光を取り出す窓部材から構成さた概略円筒状の放電容器に、誘電体バリア放電によってエキシマを形成するキセノン、もしくはキセノンを主成分とする放電用ガスを充した誘電体バリア放電ランプ」を用いたキセノン照射装置であるのに対し、刊行物１記載発明は、ランプとして、「波長１８５ｎｍと２５４ｎｍの紫外線を発生する低圧水銀ランプ」を用いた紫外線照射装置である点。
相違点ｂ：
　前記「偏平な紫外光を取り出す窓部材」について、本件発明１では、「波長１７２ｎｍの紫外エキシマ光を取り出す」と特定しているのに対し、刊行物１記載発明では、「１８５ｎｍの透過率が７５％程度であり、２５４ｎｍの透過率が９０％程度である合成石英ガラス板」であり、波長１７２ｎｍの透過率については記載がない点。
相違点ｃ：
　本件発明１では、「前記匡体の前方の凸出寸法が、窓部材から２ｍｍ以内である」としているのに対し、刊行物１記載発明では、匡体の前方の凸出寸法については記載がない点。
　以下、これらの相違点について検討する。
　
(２)相異点ａについての判断
　本件明細書の従来技術の項にも記載されているように、キセノンガスを封入した波長１７２ｎｍの紫外エキシマ光を放出する誘電体バリヤ放電ランプが、プラスチックスの表面改質、ＵＶ／Ｏ３洗浄に有効であること、特に、プラスチックスの表面改質に用いることにより、所要時間が低圧水銀灯の１／１０以下になることは、本件出願前にすでに知られているところである。
　そして、該「誘電体バリヤ放電ランプ」の構造が、「少なくとも一部が紫外エキシマ光を取り出す窓部材から構成さた概略円筒状の放電容器に、誘電体バリア放電によってエキシマを形成する放電用ガスを充した」ものであることは、刊行物２及び３に記載されているように、本件出願前にすでによく知られているところである。（なおこの点については、「光技術コンタクト」Ｖｏｌ．３２、Ｎｏ．２、（社）日本オプトメカトロニクス協会、Ｉ９９４年（平成６年）２月２０日発行、第３０頁乃至第３７頁“誘電体バリア放電を利用したエキシマランプ”（以下、「参考文献１」という。）にも記載されいるので、必要ならば参照されたい。）
　特に、摘記事項(3e)から明らかなように、刊行物３には、「少なくとも一部が紫外エキシマ光を取り出す窓部材から構成さた概略円筒状の放電容器に、誘電体バリア放電によってエキシマを形成する放電用ガスを充した誘電体バリア放電ランプ」においては、ビームの波長が短かい（波長＜１９０ｎｍ）ため空気により吸収されて弱められてしまうので、ＵＶを透過させるガス、例えばちっ素またはアルゴンを処理室の中へ案内するための手段を設けることが記載されている。
　してみれば、当業者であれば、刊行物１記載発明における「波長１８５ｎｍと２５４ｎｍの紫外線を発生する低圧水銀ランプ」に代えて、「少なくとも一部が波長１７２ｎｍの紫外エキシマ光を取り出す窓部材から構成さた概略円筒状の放電容器に、誘電体バリア放電によってエキシマを形成するキセノン、もしくはキセノンを主成分とする放電用ガスを充した誘電体バリア放電ランプ」を用いることは、当業者が容易になし得ることである。
　本件明細書【００１２】には、「上記問題はもちろん従来のアーク放電ランプにはないキセノンガスもしくはそれを主成分とした誘電体バリア放電ランプ固有の問題である。たとえば、波長１８５ｎｍと波長２５４ｎｍの紫外光を用いてＵＶ／Ｏ３洗浄する低圧紫外線ランプにおいて面照射をする場合でも、複数の直管型ランプ、またはＵ字管、およびミラーの組み合わせで達成出来る。空気中の酸素に波長１８５ｎｍは吸収されるが、１／２〜１／３に減少する距離が６０ｍｍ以上あり、１／１０まで減衰するには１５０ｍｍ以上である。処理時、上記距離より試料表面にランプを容易に近づけられるので、ランプと試料を同一の酸素を含む空間で処理出来き、平面状ランプに構成する必要はない。もちろん、波長１７２ｎｍより短波長を放射するランプであればキセノンガスを主成分とした誘電体バリア放電ランプと同じ問題を生じるが、現在、ＵＶ／Ｏ３洗浄に使用出来る波長１７２ｎｍより短波長の紫外光を放射する高出力ランプが存在せず、まさにキセノンガスもしくはそれを主成分とした誘電体バリア放電ランプ固有の問題である。」（段落【００１２】）と、本件発明が誘電体バリア放電ランプ固有の問題を解決するものである旨の記載があるが、例えば、特開平１−２２８５９０号公報（以下、「参考文献２」という）の第３図及びその関連の記載にもあるように、紫外光の酸素に対する吸収係数が大きいのは、波長が１２０〜１８０ｎｍ付近であることは、本件出願前にすでに周知の技術事項であるうえ、刊行物３にも、「ビームの波長が短かい（波長＜190ｎｍ）ため空気により吸収されて弱められてしまう」ことが記載されているから、当業者であれば、「キセノンガスもしくはそれを主成分とした誘電体バリア放電ランプ」については、少なくとも従来の低圧水銀ランプと同等或いはそれ以上に紫外線による吸収という問題が生じるであろうことは当業者であれば容易に予想しうることにすぎない。（なお、後の「(４)相異点ｃについて」の項において記載するように、前記参考文献１の第３５頁左欄下から第２１〜９行にも、１７２ｎｍでの酸素の吸収係数は１８５ｎｍでの１桁以上高いことが記載されているので参照されたい。）
　よって、刊行物１記載発明における「波長１８５ｎｍと２５４ｎｍの紫外線を発生する低圧水銀ランプ」に代えて、「少なくとも一部が波長１７２ｎｍの紫外エキシマ光を取り出す窓部材から構成さた概略円筒状の放電容器に、誘電体バリア放電によってエキシマを形成するキセノン、もしくはキセノンを主成分とする放電用ガスを充した誘電体バリア放電ランプ」を用いたことによる効果については、当業者が、本件出願前の周知ないしは公知の技術事項に基づいて容易に予期しうるものである。
　
(３)相違点ｂについての判断
　 前項(２)に記載したとおり、刊行物１記載発明における低圧紫外線ランプに代えて、「波長１７２ｎｍの紫外エキシマ光を放射する誘電体バリア放電ランプ」を用いることが容易である以上、該ランプを収容する匡体に設けられた窓部材も、刊行物１記載発明における「１８５ｎｍの透過率が７５％程度であり、２５４ｎｍの透過率が９０％程度である合成石英ガラス板」に代えて、「波長１７２ｎｍの紫外エキシマ光を取り出す窓部材」を用いることは当然のことである。
　しかも、刊行物２、３に記載するように、「波長１７２ｎｍの紫外エキシマ光を取り出す部材」自体も、誘電体バリア放電ランプの放電容器に用いられる部材としてすでに周知であり、さらに、刊行物２には、該誘電体バリア放電ランプを冷却剤とともに匡体内に配置してなる照射装置において、匡体の一面を偏平な紫外エキシマ光を取り出す窓部材でおおうことが記載されている。（なお、同様の記載は前記参考文献１にもあり、すなわち、第３１頁右欄下から第７行〜第３２頁左欄第１行には「放電ランプの形状としては、２枚の円板状の誘電体を平行に配置することによって円板状の放電空間を形成した円板形、あるいは同軸中空円筒状（図２参照）が主に使用されている。また、光透過性の電極としては、専ら、金属の網が使用されている。誘電体としては、石英ガラス、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウムなどが使用されている。」と記載され、第３６頁右欄第１０〜１２行には「１７２ｎｍランプを真空チャンバーに入れ、反応チャンバーとはＭｇＦ２窓で分離している。」と記載されているので、必要であれば参照されたい。）
　よって、相異点ｂは当業者であれば、格別な創意を要することなく適宜なしうる設計的事項にすぎない。
　
(４)相違点ｃについての判断
　本件明細書には、「試料照射の際、３ｍｍ以内、最も望ましくは１ｍｍ以内で照射させるため、水平、搬送機構で試料が運ばれるためには、照射装置のエキシマ光取り出し窓部材より、匡体の窓枠の凸出が２ｍｍ以内、望ましくはまったく突出していないほうがよい。この場合は被処理物を加熱しながら洗浄、改質することも出来る。」と記載されており、該記載からみて、本件発明１において「前記匡体の前方の凸出寸法が、窓部材から２ｍｍ以内である」としている技術的意義は、試料照射の際、２ｍｍ以内で照射させることができる、という点にあるものと認められる。
　しかしながら、一般に匡体に窓部材を取付ける際に、凸出の少ない窓枠を使用すること自体は周知慣用手段であるから、刊行物１記載発明において、窓部材の具体的な取付けについて規定されていなくとも、匡体の前方にできる限り凸出がないようにする程度のことは容易になし得ることと認められる。
　本件発明１では、凸出の程度を「２ｍｍ以下」と規定しているので、その点について検討する。
　前項(１)においても記載したとおり、波長の短い紫外線が、酸素中で吸収されてその照度が弱められてしまうことは、本件出願前にすでに周知の技術事項である。
　すなわち、刊行物３には、「少なくとも一部が紫外エキシマ光を取り出す窓部材から構成さた概略円筒状の放電容器に、誘電体バリア放電によってエキシマを形成する放電用ガスを充した誘電体バリア放電ランプ」においては、ビームの波長が短かい（波長＜１９０ｎｍ）ため空気により吸収されて弱められてしまうことが記載されている。（摘記事項(3e)参照）
　また、上記参考文献１の第３５頁左欄下から第２１〜９行には、「１７２ｎｍでの酸素の吸収係数は１８５ｎｍでの１桁以上高く、空気中で強度が１／ｅになるのはわずか３ｍｍである。この間でオゾン、原子状酸素を生成するので、いままで光源から数十ｍｍの距離で吸収され、オゾン、原子状酸素を生成していた、低圧水銀ランプに比較し、管壁数ミリの距離では、本ランプのそれら生成濃度は１０倍以上であると考えられる。この効果と１７２ｎｍ光が１８５ｎｍ光より光子のエネルギーが大きいため、有機物の切断力が高いことと相まって、従来の低圧水銀ランプより、洗浄効果が高いと予想される。」と記載されている。
　さらに、上記参考文献２の第３図及びその関連の記載には、紫外光の酸素に対する吸収係数が大きいのは、波長が１２０〜１８０ｎｍ付近であることが記載されている。
　してみれば、刊行物１記載発明における「波長１８５ｎｍと２５４ｎｍの紫外線を発生する低圧水銀ランプ」に代えて、「波長１７２ｎｍの紫外エキシマ光を放射する誘電体バリア放電ランプ」を用いた場合には、刊行物１記載発明の場合よりも酸素による紫外線の吸収が大きいために、試料面までの照射距離がより大きく影響するであろうことは当業者であれば当然に予想しうることにすぎないから、本件発明１は、どの程度近づけなければならないかを単に確認したにすぎず、「２ｍｍ以内」という数値を見出すことに格別の技術的困難性があるとは認められない。
　
(５)特許権者の主張について
　刊行物１には、「同図に示すようにオゾン濃度が２００ＰＰＭで、試料面に対する照射距離が０のとき、試料面の紫外線照度を相対値で１．０とすると、紫外線２５４ｎｍは試料面に対する照射距離が２．５ｃｍのとき、約０．５となり、５．０ｃｍのとき０．１８となる。また紫外線１８５ｎｍは試料面に対する照射距離が４．０ｃｍのとき、約０．５となり、６ｃｍのとき０．３３となる。このように試料面における紫外線照度は照射距離により大きく影響し、処理効果を増大するには、試料面の距離と紫外線発生ランプ13の距離を出来る限り小さく構成することが必要である。」（摘記事項(1f)参照）と記載されており、特許権者は意見書において、刊行物１の上記記載を根拠に、以下のように述べている。
“上記のように刊行物１には凸出寸法に関する記載が何等存在しないばかりか、上記のように低圧水銀ランプを光源とするＵＶ／Ｏ３処理では、ｍｍレベルの照射距離では処理に支障をきたさないため、当該凸出寸法を規定する必要すら本来存在しておりません。因みに、刊行物１の上記部分は、波長１８５ｎｍの紫外線よりも長波長である波長２５４ｎｍの方が、照射距離に対する紫外線照度の減衰が大きいことが開示されております。つまり刊行物１の記載から考ええると、本件発明が対象とする波長１７２ｎｍは、より短波長の紫外線（真空紫外光）であるため、紫外線照度の減衰は低くなり、これは本件発明の内容とは正反対の事項になってしまいます。このことは、刊行物１が紫外線照射によって酸素からオゾンを生成して、このオゾンにより処理をする内容であるのに対し、本件発明は波長１７２ｎｍの光により酸素からオゾンと活性酸素を作り、このオゾンと活性酸素によって処理をする点で両者は相違するからと考えられます。”
　しかしながら、上記参考文献２の第３図及びその関連の記載から明らかなように、オゾン中における（即ちオゾンに対する）紫外光の吸収係数が大きいのは、波長１８５ｎｍの紫外線よりも長波長である波長２５４ｎｍの方であって、刊行物１の上記記載のとおりであるが、前項(４)においても記載したとおり、酸素中における（即ち酸素に対する）紫外光の吸収係数が大きいのは、波長が１２０〜１８０ｎｍ付近であるから、特許権者の上記主張は、オゾン中での紫外光の吸収と酸素中での紫外光の吸収とを混同した主張であって、採用することはできない。
　　　
(６)まとめ
　以上のとおり、本件発明１は、上記刊行物１ないし３に記載された発明及び上記周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
５−３．本件発明２について
　本件発明２は、「匡体の内面が反射鏡を兼ねているか、もしくは、匡体内に反射鏡を配置しているか、もしくは、放電容器の一部が反射特性を具えている」というものであるが、刊行物１には、匡体内に反射体１２を配置することが記載されている。（摘記事項(1e)参照）
　また、刊行物２には、少なくとも一部が紫外エキシマ光を取り出す窓部材から構成さた概略円筒状の放電容器に、誘電体バリア放電によってエキシマを形成する放電用ガスを充した誘電体バリア放電ランプを匡体内に配置した照射装置において、「匡体の内面が反射鏡を兼ねている」こと（請求項２参照）、「放電容器の一部が反射特性を具えている」こと（請求項３参照）、あるいは「匡体内に反射鏡を配置する」こと（請求項４参照）が記載されている。
　よって、「５−２．本件発明１について」に記載したと同様の理由により、本件発明２は、刊行物１ないし３に記載された発明及び上記周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
５−４．まとめ
　以上のとおり、本件発明１及び本件発明２は、その出願前日本国内において頒布された刊行物１ないし３に記載された発明及び当該技術分野における周知技術にに基づいて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
　
６．結び
　したがって、本件の請求項１及び２についての特許は、拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認められる。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第１項及び第２項の規定により、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１５年２月２６日（２００３．２．２６）
【訂正の要旨】
　ａ．特許第３２１１５５６号発明の明細書中の特許請求の範囲の請求項１−３において、もとの請求項１を削除し、もとの請求項３を繰り上げ「請求項１」と訂正する。なお、請求項２は訂正を伴わないが、もとの請求項１を従属する形から新しい請求項１を従属することとなった。
　ｂ．誘電体バリア放電ランプは波長１７２ｎｍの真空紫外光を放射するものであって、照射装置の窓部材も波長１７２ｎｍの真空紫外光を放射するものであることを限定した。
　ｃ．請求書に添付された訂正明細書の明細書３頁１５−１６行、および３頁１８−１９頁を上記特許請求の範囲の訂正と整合性をとるために同様の趣旨で訂正する。
（５４）【発明の名称】
キセノン照射装置とそれを用いた物体表面改質装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　少なくとも一部が
波長１７２ｎｍの
波長１７２ｎｍの
しており、
　前記匡体の前方の凸出寸法が、窓部材から２ｍｍ以内であることを特徴とするキセノン照射装置。
　【請求項２】　匡体の内面が反射鏡を兼ねているか、もしくは、匡体内に反射鏡を配置しているか、もしくは、放電容器の一部が反射特性を具えているかすることを特徴とする請求項１に記載のキセノン照射装置。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】本発明は、光化学反応用の紫外線光源として使用される誘電体バリア放電ランプの改良と、その改良されたランプを使う物体表面改質装置もしくは改質方法に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】本発明に関連した技術としては例えば、日本国公開特許公報平２ー７３５３号があり、そこには、放電容器にエキシマ分子を形成する放電ガスを充填し、誘電体バリア放電（別名オゾナイザー放電あるいは無声放電。電気学会発行改訂新版（放電ハンドブック）平成１年６月再販７刷発行第２６３ページ参照）によってエキシマ分子を形成せしめ、該エキシマ分子から放射される光を取り出す放射器、すなわち誘電体バリア放電ランプについて記載されている。他方、近年、被処理物をいためないでその表面の有機物除去、不要レジストの除去、ドライ精密洗浄、金属表面の酸化層形成などをおこなう方法として紫外光とオゾンの協働作用を利用したＵＶ／Ｏ３処理が開発され、実用化にいたった。ＵＶ／Ｏ３処理については例えば単行本「オゾン利用の新技術」（三ゆう書房発行、昭和６１年１１月２０日）の第９章（第３０１頁から第３１３頁、（以下文献１という））に原理、装置、洗浄効果、用途などが詳細に解説されているが、使用されている光源は低圧水銀灯（放射波長２５４ｎｍ、１８５ｎｍ）であった。また、五十嵐らは第５４回応用物理学会学術講演会講演要旨集２７ａ−ＨＥー２でキセノンガスを封入した波長１７２ｎｍに中心放射波長を持つ誘電体バリア放電ランプを使用することによって、プラスチックスの表面改質の所要時間が低圧水銀灯の１／１０以下になると報告している。このように誘電体バリア放電ランプは表面改質、ＵＶ／Ｏ３洗浄に有効ということがわかっている。
　【０００３】ところで、該ランプをＵＶ／Ｏ３処理に使用する場合、大気を含む酸素雰囲気中で使用する必要がある。ＵＶ／Ｏ３洗浄は、真空紫外光を試料表面に照射し、汚れである有機物の結合を断ち切り、酸素に吸収され、オゾンさらに活性酸素を作り、その強力な酸化力で有機物を酸化させ、ＣＯ２、ＮＯ２にして蒸発させるから酸素雰囲気が必要である。プラスチックスなどの表面改質も同様に短波長の紫外光を試料表面に照射し、有機物の結合を断ち切る必要があり、かつ酸素に照射し、オゾンさらに活性酸素（例えばＯ（１Ｄ））を作り、有機物を酸化させ、表面に親水基（ＯＨ基、ＣＯＯＨ基、ＣＯ基など）を導入させる必要があるからである。波長１７２ｎｍに中心放射波長を持つ誘電体バリア放電ランプで上記目的に応用するにはこのエキシマ光取り出し窓部材と試料表面の間を大気中の場合、３ｍｍ以内にする必要がある。なぜならば、酸素の吸収係数が１５ｃｍ−１と大きく、３ｍｍで強度が１／２ー１／３、になるので、３ｍｍ、出来れば窓部材と試料表面の間を１ｍｍ以内にすると効果が著しい。
　【０００４】誘電体バリア放電ランプの形状が、円筒状では、ランプを試料に近づけても試料に到達する真空紫外光は試料に最も近いごく一部に限られる。ランプが平面型であれば試料をランプにちかづけて照射すると一度に大きな面積が照射出来て有利である。
　【０００５】平面型の誘電体バリア放電ランプはＢ．Ｅｌｉａｓｓｏｎらの円盤型がＡｐｐｌｉｅｄ　ＰｈｙｓｉｃｓＢ，Ｖｏｌ４６，２９９−３０３頁（１９８８）に記載されている。グラウンド電極を兼ねたステンレスの容器と、円板状の合成石英からなるエキシマ光取り出し窓部材からなっている。しかしながらこのランプの問題点は２つある。第１点は、端部で電界の集中が起き易く、安定な放電が難しいという点である。第２点は、該ランプの電圧は数ｋｖ−数１０ｋｖの高電圧を要する。電圧を低く押さえるためには、誘電体の厚さを出来るだけ薄くしたいが、平面構造の場合、薄くすると、ランプの内、外の圧力差による応力が大きくなり、誘電体の強度が不足し、破壊が起こり、大きな形状のランプの製作が難しい点である。
　【０００６】日本国公開特許公報平４ー２６４３４９号では放電ガスを充満し、封止されたＵＶ透過窓を有する直方体容器の中に円筒誘電体の内面に電極が設けられた構造物を複数本配置して、電極間で誘電体バリア放電を発生させ、外部に照射する照射装置が記載されている。照射窓の厚みは厚く出来るが、容器内を封止する必要があり、高電圧部の導入も必要があり、装置が複雑となる。他方、２重円筒型などの円筒型のランプは、製作方法が比較的容易で、長さも比較的容易に変えられるが、大気中で照射すると試料に近づけても、実質上線光源となり、上記用途には使用出来ない。
　【０００７】
　【発明が解決しようとする課題】本発明は放射の中心波長が１７２ｎｍ付近の真空紫外光の照度が大きく、照度分布がよく、照射面積の大きい平面照射装置を提供すること、さらに該照射装置を使用した物体表面処理方法を提供する事である。
　【０００８】
　【問題を解決するための手段】上記本発明の目的は、少なくとも一部が
波長１７２ｎｍの
波長１７２ｎｍの
して、匡体の前方の凸出寸法が、窓部材から２ｍｍ以内にすることによって達成できる。
　【０００９】さらに、匡体の内面が反射鏡を兼ねているか、もしくは、匡体内に反射鏡を配置しているか、もしくは、放電容器の一部が反射特性
を具えることで本発明の目的はより一層達成できる。
　【００１０】
　【００１１】
　【作用】ＵＶ／Ｏ３洗浄、表面改質は短波超の紫外光を酸素雰囲気中で試料表面に照射することが有効である。しかしながら波長１７２ｎｍの光では酸素に吸収され、１／２−１／３に減衰するのが約３ｍｍの距離で、円筒状ランプから試料表面に照射しても、ほとんどの光は届かない。円筒状ランプであるとランプを試料に３ｍｍ以内にちかづけても、ランプから放射したごく一部の線状の光しか試料に到達出来ず、線状の光源と等価になってしまう。波長１７２ｎｍの紫外光を大気中で、シリコンウエハ、液晶表示用のガラスの表面改質、洗浄をおこなうためには、ランプから放射した光を効率よく試料に到達させることが出来る平面照射装置が必要である。平面照射装置はある程度の面積を１度に照射出来き、洗浄のスピードが向上出来る。しかしながら平面型ランプを製作しようとすると、電圧を低く設定設計するため、誘電体の厚さを出来るだけ薄くしたいが、平面構造の場合、薄くすると、排気時、容器が大きければ大きいほど、誘電体の強度が不足し、大きな形状のランプを製作出来ない点などの困難さがある。
　【００１２】上記問題はもちろん従来のアーク放電ランプにはないキセノンガスもしくはそれを主成分とした誘電体バリア放電ランプ固有の問題である。たとえば、波長１８５ｎｍと波長２５４ｎｍの紫外光を用いてＵＶ／Ｏ３洗浄する低圧紫外線ランプにおいて面照射をする場合でも、複数の直管型ランプ、またはＵ字管、およびミラーの組み合わせで達成出来る。空気中の酸素に波長１８５ｎｍは吸収されるが、１／２ー１／３に減少する距離が６０ｍｍ以上あり、１／１０まで減衰するには１５０ｍｍ以上である。処理時、上記距離より試料表面にランプを容易に近づけられるので、ランプと試料を同一の酸素を含む空間で処理出来き、平面状ランプに構成する必要はない。もちろん、波長１７２ｎｍより短波長を放射するランプであればキセノンガスを主成分とした誘電体バリア放電ランプと同じ問題を生じるが、現在、ＵＶ／Ｏ３洗浄に使用出来る波長１７２ｎｍより短波長の紫外光を放射する高出力ランプが存在せず、まさにキセノンガスもしくはそれを主成分とした誘電体バリア放電ランプ固有の問題である。
　【００１３】われわれは、製作が容易で、照射面積が大きく、照度の高い平面照射装置を検討した。鋭意検討の結果以下の装置を発明した。ランプは製作の困難な平面状ランプは使用せず、比較的製作の容易な円筒型ランプを使用する。波長１７２ｎｍの紫外光も、窒素、ヘリウム、アルゴン、ネオン、クリプトン、キセノンガスでは、吸収がなく、紫外光はある立体角をもって放射するためランプからの距離に応じて、減少してゆく。この性質と反射ミラーの反射率と形状、ランプ本数、間隔、エキシマ光取り出し窓部材までの距離を考慮して設計すると、照射装置のエキシマ光取り出し窓部材表面で、均一な面光源が作られることがわかった。さらに照射装置のエキシマ光取り出し窓部材の外側を酸素を含む雰囲気にし、照射装置窓部材面に試料を近接させ配置（３ｍｍ以内、１ｍｍ以下が望ましい）することにより、試料表面での均一な照度分布の面照射が達成出来る。ＵＶ／Ｏ３洗浄、プラスチックスの表面改質には、照度分布の均一度が＋−１０％程度が必要である。上記方法で上記均一度のある面積が得られる。その場合、少なくとも、上記領域の面積はランプの外径×発光長以上であることが望ましい。上記領域でスピードの高い、表面改質、洗浄などが出来る。
　【００１４】低圧水銀灯の場合でも、試料、ランプ間にガラスを配置することもあるが、これはランプからのほこりなどを防ぐためなどで今回の発明とは根本的に異なる。今回の目的は酸素の吸収係数が非常に高い波長のランプで試料に大面積で照射するという問題であり、従来のアーク放電ランプではこのような問題は存在せずまさにキセノンガスもしくはそれを主成分とした誘電体バリア放電ランプだけの問題である。日本国公開特許公報平５ー１７４７９３号では誘電体バリア放電ランプを容器に入れ、雰囲気を水などの冷却体を流し、ランプを冷却し、照射窓から光を取り出す方法を提案しているが、今回は雰囲気ガスは冷却が目的ではない点、キセノンおよびその混合ガスを放電ガスに使用したランプ（真空紫外短波長中心放射波長約１７２ｎｍ）と限定されている点、面照射装置を製作することが目的という点など、まったく異なる発明である。試料照射の際、３ｍｍ以内、最も望ましくは１ｍｍ以内で照射させるため、水平、搬送機構で試料が運ばれるためには、照射装置のエキシマ光取り出し窓部材より、匡体の窓枠の凸出が２ｍｍ以内、望ましくはまったく突出していないほうがよい。この場合は被処理物を加熱しながら洗浄、改質することも出来る。または被処理物の面積が照射装置のエキシマ光取り出し窓部材の面積より小さく、その窓まで水平に試料が搬送され、垂直に上げられ、その窓より３ｍｍ以内で照射する照射方法は洗浄、表面改質に著しい、効果をもたらした。
　【００１５】
　【実施例】本発明の第１の実施例である誘電体バリア放電ランプを内蔵したキセノン照射装置を図１に示した。図２にはそのランプの概略図を示した。図２において、放電容器１は全長約１５０ｍｍの合成石英製で、外径約１４ｍｍの肉厚１ｍｍの内側管２、内径約２４ｍｍ肉厚１ｍｍの外側管３を同軸に配置して中空円筒状の放電空間７を形成した構造である。外側管３は誘電体バリア放電の誘電体バリアと光取り出し窓部材を兼用しており、光がよく通過できるメッシュ電極４が設けられている。内側管２の外面には光の反射板と誘電体バリア放電の電極を兼ねたアルミニウム薄膜電極５が設けられている。放電容器の放電空間７に放電ガスとして２５０トールのキセノンガスを封入した。また、ゲッター室８にはゲッター６が設けられている。ランプ１の内側空所９には、必要に応じて冷却流体例えば冷却窒素ガスが流せるようになっている。ここで電源１０によって、該誘電体バリア放電ランプを入力２０ワットで点灯した。その結果、波長１７２ｎｍに最大放射値を有する紫外光が効率よく放射された。
　【００１６】図１において、上記した該誘電体バリヤ放電ランプ３１は、合成石英製平面照射窓すなわちエキシマ光取り出し窓部材３４を有する匡体３２の中に取り付けられている。３５は、合成石英製平面照射窓３４の押さえ用フランジもしくは窓枠である。フランジもしくは窓枠の厚さｔが、窓の外面よりも匡体が凸出している凸出寸法となる。３３は、ランプ３１を取り囲むように配置された紫外光反射ミラーである。３６は昇圧トランスである。３７が、匡体内の空気を置換するための窒素ガスの入口、３８がその出口である。匡体内を窒素置換すること、ランプ、ミラーを組合わせることによって、照射窓３２の表面において、平均８ｍＷ／ｃｍ２の照射強度で照度分布＋−１０％の領域が約４０×８０ｍｍの広さの面照射装置が得られた。
　【００１７】本発明の第２の実施例である誘電体バリア放電ランプを内蔵したキセノン照射装置を図３に示した。全長３３０ｍｍの誘電体バリヤ放電ランプ３１と反射ミラー３３の組みが、３００ｍｍ×３００ｍｍの面積を有する合成石英製平面照射窓３４を有する匡体３２の中に４組み、取り付けられている。ランプ１の内側空所９は水冷を施されている。匡体内は窒素で置換されている。ランプ、ミラーを組合わせることによって、照射窓３４の表面において、平均３０ｍＷ／ｃｍ２の強度で照度分布＋−１０％の領域面積が約２５０ｍｍ×２５０ｍｍの広さの面照射装置が得られた。
　【００１８】本発明の第３の実施例である誘電体バリア放電ランプを内蔵したキセノン照射装置を図４に示した。ランプ３１、ミラー３３などは第２の実施例と同じで、エキシマ光取り出し窓部材３４および窓枠３５はやや異なっている。すなわち、照射装置の外側において、窓部材３４と窓枠が同一平面を形成するようにテーパ処理を施して組み立てられている。この場合、凸出寸法は零である。フランジもしくは窓枠は、匡体と一体物として設計するか別体物として設計するかはどちらでも良い。平面状試料４０は照射窓３４との隙間１ｍｍで搬送ローラー４１により搬送され、その表面が照射されている。照射装置と試料とを近づけることが出来るので、表面改質、ＵＶ／Ｏ３洗浄で非常に効果の大きい照射システムが提供出来た。
　【００１９】本発明の第４の実施例である誘電体バリア放電ランプを内蔵したキセノン照射装置を図５に示した。照射装置は第２の実施例と同じである。窓枠３５は２ｍｍ以上窓の外面より突出しているが、平面状試料４０は照射装置下面まで処理台４３とともに水平に移動後、その位置で上下搬送用治具４２により、窓の外面まで３ｍｍ以内に搬送される。これにより水平搬送時の高さ精度がそれほど必要なくなり照射時は照射装置に近づけられるので、表面改質、ＵＶ／Ｏ３洗浄で非常に効果の大きい照射システムが提供出来た。
　【００２０】本発明の第５の実施例は石英ガラス板のＵＶ／Ｏ３洗浄である。ガラス板の寸法は２５０ｍｍ×２５０ｍｍ×１ｍｍである。照射装置は第３の実施例の装置を使用した。ガラス板は搬送治具で照射装置の下面に搬送され、窓の外面との距離１ｍｍで照射された。ガラス板の表面はあらかじめ、イソプロピルアルコール（以下ＩＰＡ）中で５分間超音波洗浄し、水にたいする接触角が２５度である試料を用いた。照射時間１２秒で接触角は、石英ガラス板の全域で３度以下になることを確認した。なお同じ試料を４５０Ｗの低圧水銀灯（波長２５４ｎｍの強度７０ｍＷ／ｃｍ２、波長１８５ｎｍの強度が１４ｍＷ／ｃｍ２）で距離５ｃｍで照射した時、約１８０秒で３度まで変化し、本発明が非常にすぐれていることが理解される。
　【００２１】本発明の第６の実施例はシリコンウエハのＵＶ／Ｏ３洗浄である。照射装置と処理台と駆動システムは第４の実施例と同じである。シリコンウエハは、処理台４３に真空チャックで固定され、上下搬送治具４２で窓の外面との距離１ｍｍまで近づける。照射前の水の接触角２０度のウエハが、照射１５秒でその全域が５度以下となった。
　【００２２】本発明の第７の実施例はポリエチルテレフタレートの表面改質である。試料の寸法は２５０×２５０ｍｍ×０．３ｍｍである。処理システムは第３の実施例と同じである。照射前は水に対する接触角が８０度の試料が、照射時間２秒でその全域が接触角４０まで変化した。ＥＳＣＡで表面を観察すると、ＯがＯ／Ｃで０．３５から０．６５に変化した。表面にＣＯＯＨ、ＯＨ基などの親水基が導入され、表面が改質されたことが理解できる。
　【００２３】
　【発明の効果】本発明は以上の実施例の説明からも理解出来るように、キセノンもしくはそれを主成分とする放電ガスを有する誘電体バリア放電ランプを利用する照射装置において、従来では実現が困難であった大型面照射装置を比較的容易に提供出来、効果的な洗浄、表面改質処理技術を提供出来る。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明の実施例の説明図であって、（イ）は装置を、ランプの長手方向を横から描いており、（ロ）はランプの長手方向から描いている。
　【図２】
　本発明に使用する２重円筒型誘電体バリア放電ランプの一例の説明図である。
　【図３】
　本発明の他の実施例の説明図である。
　【図４】
　本発明の他の実施例の説明図である。
　【図５】
　本発明の他の実施例の説明図である。
　【符号の説明】
　１　　　　放電容器
　２　　　　内側管
　３　　　　外側管
　４　　　　メッシュ電極
　６　　　　ゲッター
　７　　　　放電空間
　８　　　　ゲッター室
　３１　　　誘電体バリア放電ランプ
　３２　　　匡体
　３３　　　ミラー
　３４　　　窓部材
　３５　　　窓枠もしくはフランジ
　３７　　　窒素ガス入口
　３８　　　窒素ガス出口
　４０　　　試料
　４１　　　搬送用ローラー
　４２　　　上下搬送用治具