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【手続補正書】
【提出日】平成27年2月12日(2015.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に超疎水性および／または疎油性被覆物を塗布するための被覆組成物であって、
ポリエステルウレタン、ポリアクリルウレタン、および／またはポリカーボネートウレタンのうちの１つ以上を含むポリウレタン分散液または懸濁液と、
１つ以上のシロキサン、および／または１つ以上のアルキル、ハロアルキル、フルオロアルキル、もしくはパーフルオロアルキル含有部分を含む約５〜約３０重量％の第２の粒子と、を含み、
前記組成物は、任意で約２６重量％までの第３の粒子を含み、
前記被覆組成物は任意で０．３ポンド／ガロン（１３６ｇ／３．７Ｌ）未満の揮発性適用有機化合物、及び被覆組成物１００ｇ当たり０．１〜１０、１０〜２０、２０〜３０、３０〜４０、４０〜５０、または５０〜６０ｇの１つ以上の相溶性ＶＯＣ非適用溶剤を含み、
前記組成物を表面に塗布することにより得られる前記超疎水性被覆物が、被覆厚範囲２５〜３００ミクロン、１０００ｇ負荷時の１５０〜１４００回のテーバー摩耗回転後、および／またはＣＳ１０ホイールを使用した、２５０ｇ負荷時の１００〜２５００回のテーバー摩耗回転後に、平面を３度傾斜させたときに前記摩耗回転させた前記被覆物の領域に塗布した水滴の５０％超が前記表面に残ることができないことによって判断される、その超疎水性を保持する、被覆組成物。
【請求項２】
前記組成物が第１の粒子を含まず、前記組成物を平面に塗布することにより得られる前記超疎水性被覆物が、厚さ範囲２５〜７５ミクロン、１０００ｇ負荷時の１５０〜８００回のテーバー摩耗回転後、および／またはＣＳ１０ホイールを使用した平面上に、厚さ範囲２５〜７５ミクロン、２５０ｇ負荷時の２００〜１４００回のテーバー摩耗回転後に、平面を３度の角度に傾斜させたときに前記摩耗回転させた前記被覆物の領域に塗布した水滴の５０％超が前記表面に残ることができないことによって判断される、その超疎水性を保持する、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記組成物がさらに第１の粒子を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記第１粒子がメタロイドの酸化物、金属酸化物、１つ以上の熱可塑性プラスチック、１つ以上の熱硬化性プラスチック、１つ以上の金属、１つ以上のガラス、および／または１つ以上の中空スフィアから選択される、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
前記組成物を平面に塗布することより得られる前記超疎水性被覆物が、ＣＳ１０ホイールを使用して、厚さ範囲４０〜８５ミクロン、２５０ｇ負荷時の１００〜６００回のテーバー摩耗回転後に、前記平面を３度の角度に傾斜させたときに前記摩耗回転させた被覆物の領域に塗布した水滴の５０％超が前記表面に残ることができないことによって判断される、その超疎水性を保持する、請求項３に記載の被覆組成物。
【請求項６】
前記ポリウレタン懸濁液または分散液が第３の粒子を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
前記組成物がポリアクリルウレタンおよびポリカーボネートウレタンの混合物を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
前記１つ以上のアルキル、ハロアルキル、フルオロアルキル、またはパーフルオロアルキル含有部分が１つ以上のアルキルシランおよび／またはフルオロアルキルシラン基である、請求項１〜７のいずれかに記載の組成物。
【請求項９】
前記アルキルシランおよび／またはフルオロアルキルシランが、シリカまたは金属酸化物粒子と、式Ｉの化合物、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）シラン（ＳＩＴ８１７３．０）、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリクロロシラン（ＳＩＴ８１７４．０）、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン（ＳＩＴ８１７５．０）、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリメトキシシラン（ＳＩＴ８１７６．０）、（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）ジメチル（ジメチルアミノ）シラン（ＳＩＨ５８４０．５）、（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリス（ジメチルアミノ）シラン（ＳＩＨ５８４１．７）、ｎ−オクタデシルトリメトキシシラン（ＳＩＯ６６４５．０）、ｎ−オクチルトリエトキシシラン（ＳＩＯ６７１５．０）、および３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシルジメチル（ジメチルアミノ）シラン（ＳＩＮ６５９７．４）からなる群から選択される１つ以上のシランとの反応から得られる、請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
前記被覆物が超疎水性および疎油性の両方である、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
乾燥および硬化させたときに、約２０ミクロン未満の算術平均粗さ（Ｒａ）の表面を生じる、請求項１に記載の組成物。
【請求項１２】
前記ポリウレタン分散液または懸濁液が、乾燥および硬化させたときに（ａ）１００％伸長時に１３００ｐｓｉ以上の弾性率、および／または（ｂ）１５０％以上の破断伸び率を有する被覆物を生じる、少なくとも１つのポリエステルウレタン、ポリアクリルウレタン、および／またはポリカーボネートウレタン組成物を含む、請求項１〜７のいずれかに記載の組成物。
【請求項１３】
被覆組成物１００ｇ当たり２０〜３０、３０〜４０、４０〜５０、または５０〜６０ｇの１つ以上の相溶性溶剤をさらに含み、前記１つ以上の相溶性溶剤がＶＯＣ非適用溶剤であり、前記被覆組成物が０．３ポンド／ガロン（１３６ｇ／３．７Ｌ）未満の揮発性適用有機化合物を含む、請求項１〜７のいずれかに記載の組成物。
【請求項１４】
前記１つ以上のＶＯＣ非適用溶剤が水を含む、請求項１〜１３のいずれかに記載の組成物。
【請求項１５】
請求項１〜７のいずれかに記載の組成物の前記塗布により形成される、超疎水性および／または疎油性被覆物。
【請求項１６】
平坦な可撓性表面に形成された前記被覆物が、疎水性または疎油性を失うことなく、１／４インチのシリンダーに対して直角の約１００回より多い折り曲げに耐えることができる、請求項１５に記載の被覆物。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月3日(2015.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３４】
シートのＬＴ平均値を少なくとも５つの測定から算出した。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３５】
平均値算出は、各々の材料について１０枚のシートを用いて行った。個々のシート測定の平均値から、該材料の平均値並びに標準偏差を計算した。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月16日(2015.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
顆粒の形態のホットメルト感圧接着剤(PSA)であって、該顆粒はホットメルト感圧接着剤で作られたコア、該コアを包囲し感圧接着性ではない組成物で作られた外側層を含み、ここで、該外側層は、
・スチレンブロックコポリマー5〜35重量%、
・少なくとも1つの油20〜65重量%、及び
・添加剤0〜15重量%
を含有するホットメルト感圧接着剤。
【請求項２】
前記組成物は5〜30重量%のポリオレフィンコポリマーを更に含む、請求項１に記載のホットメルト感圧接着剤。
【請求項３】
前記油は炭化水素油、パラフィン油、ナフテン油あるいは医療用ホワイト油から選択される、請求項１または２に記載のホットメルト感圧接着剤。
【請求項４】
前記外側層中の油の量は、前記コア中のホットメルト感圧接着剤の油および可塑剤割合より大きい、請求項３に記載のホットメルト感圧接着剤。
【請求項５】
前記外側層は顆粒状粒子5〜20重量%を含む、請求項１〜４のいずれかに記載のホットメルト感圧接着剤。
【請求項６】
前記外側層の混合物は80〜135℃の軟化点を有する、請求項１〜５のいずれかに記載のホットメルト感圧接着剤。
【請求項７】
前記顆粒は易流動性である、請求項１〜６のいずれかに記載のホットメルト感圧接着剤。
【請求項８】
外皮組成物は、
・スチレンブロックコポリマー5〜30重量%、
・ポリオレフィンコポリマー5〜30重量%、
・少なくとも1つの油20〜65重量%、及び
・ワックス0〜20重量%
・添加剤0〜15重量%
から作られている、請求項１〜７のいずれかに記載のホットメルト感圧接着剤。
【請求項９】
顆粒状粒子は20g未満、特に10g未満の重量を有する、請求項１〜８のいずれかに記載のホットメルト感圧接着剤。
【請求項１０】
顆粒状粒子は感圧接着性でない外側層によって完全に包囲され、および外皮は2つの実質的に閉じた分離性シームを含む、請求項１〜９のいずれかに記載のホットメルト感圧接着剤。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれかに記載の顆粒を製造するための方法であって、コアの組成物と外皮の組成物を共押し出しによってストランドとして溶融状に押し出し、引き続き顆粒の包囲ストランドを分離することによって製造する方法。
【請求項１２】
分離に際して、外側層の閉鎖シームを溶融、封止または溶接によって閉じる、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
ピンチングまたはカッティングによってストランドの分離を行なう、請求項１１または１２に記載の方法。
【請求項１４】
請求項１〜１０のいずれかに記載のホットメルト接着剤の、接着剤顆粒の圧縮空気運搬または真空運搬のための使用。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月30日(2015.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つ以上の光源と、１つの光源に電力供給するために一次電力を一次電源から受ける一次入力電力接続部と、１つの光源に電力供給するために二次電力を二次電源から受ける二次入力電力接続部とを有してなる照明装置を制御する方法であって、
電力障害時に前記二次電源からの電力が１つの光源への電源に用いられるように、前記２つの入力電力接続部で受電した電力を使って前記１つ以上の光源への電力送電を制御する工程と、
前記一次入力電力接続部への接続時の外部インピーダンスを、測定パルスを前記一次入力電力接続部に印加して前記外部インピーダンスのインピーダンス測定値を得ることにより、感知する工程と、
前記一次入力電力接続部に接続された手動スイッチが開状態か閉状態にあるかを、前記外部インピーダンスの測定値を用いて決定する工程と、を有し、
前記制御する工程は、前記電力送電を前記決定する工程の結果に応じて制御し、
前記感知する工程は、前記測定パルスを前記一次入力電力接続部に印加して、前記測定パルスを前記一次入力電力接続部に印加した結果として得られる前記一次入力電力接続部上の減衰する過渡信号を測定する、ことを特徴とする照明装置の制御方法。
【請求項２】
前記減衰する過渡信号の測定は、前記一次入力電力接続部上の減衰する過渡信号が第１のレベルから第２のレベルに下がるのに要する時間、または、前記一次入力電力接続部上の減衰する過渡信号が測定パルスの立ち上がりエッジまたは立ち下がりエッジに関する閾値のレベルに下がるのに要する時間を測定する、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記決定に基づいて、（ｉ）使用時には前記照明装置に接続されるスイッチをユーザが開にすることにより、前記一次電源が前記一次入力電力接続部から外されていることと、（ｉｉ）一次電源故障とを識別する工程と、一次電源故障を受けて、前記二次電源から電力を前記照明装置に供給して非常時照明機能を提供する工程とを具備する、ことを特徴とする請求項１の方法。
【請求項４】
前記一次入力電力接続部に印加される測定パルス間の持続時間と時間間隔との少なくとも一方を変更する工程を含む、請求項１乃至３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
前記一次入力電力接続部に印加される測定パルス間の時間間隔を、前記二次電源の充電状態に応じて、またはランダムまたは擬似ランダムに、変更する工程を含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
複数の前記測定パルスについて前記外部インピーダンスの測定値を決定する工程と、２つ以上の測定値を結合して平均測定値を決定する、請求項１乃至５のいずれかに記載の方法
【請求項７】
照明の制御装置であって、
一次電源に接続された一次入力電力接続部と、
二次電源から二次電力を受電する二次入力電力接続部と、
１つまたは複数の照明装置への電力供給を制御する電子回路と、
を具備し、
前記電子回路は、前記一次入力電力接続部に接続されて使用されているときの外部インピーダンスを感知するように構成された感知回路を有し、前記感知回路は、測定パルスを前記一次入力電力接続部に印加して前記外部インピーダンスのインピーダンス測定値を取得するように構成され、
前記電子回路は、使用時に前記一次入力電力接続部に接続された手動スイッチが開状態か閉状態にあるかを、前記外部インピーダンスの測定値を用いて決定し、前記１つ以上の光源への電力供給を前記決定に応じて制御するように構成され、
前記感知回路は、前記測定パルスを前記一次入力電力接続部に印加して、前記測定パルスを前記一次入力電力接続部に印加した結果として得られる前記一次入力電力接続部上の減衰する過渡信号を測定するように構成される、ことを特徴とする照明制御装置。
【請求項８】
前記感知回路は、前記一次入力電力接続部上の減衰する過渡信号が第１のレベルから第２のレベルに下がるのに要する時間を測定するように構成される、ことを特徴とする請求項７に記載の照明制御装置。
【請求項９】
前記感知回路は、前記インピーダンス測定値を閾値と比較し、この比較結果に基づいて、使用時に前記一次入力電力接続部に結合された前記手動スイッチが開状態か閉状態かを決定する、ことを特徴とする請求項７または８に記載の照明制御装置。
【請求項１０】
前記電子回路は、前記決定に基づいて、（ｉ）使用時にこの制御装置に結合されるスイッチをユーザが開にすることにより、前記一次電源が前記一次入力電力接続部から外されたことと、（ｉｉ）一次電源故障と、を識別するように構成され、また、  一次電源故障と識別した場合には、前記二次電源からの電力の、前記１つ以上の光源への電力供給を制御して非常時照明機能を提供するように構成される、ことを特徴とする請求項７乃至９のいずれか１項に記載の照明制御装置。
【請求項１１】
前記電子回路は、前記一次入力電力接続部に印加される測定パルス間の持続時間と時間間隔との少なくとも一方を変更するように構成される、請求項７乃至１０のいずれか１項に記載の照明制御装置。
【請求項１２】
前記電子回路は、前記一次入力電力接続部に印加される測定パルス間の時間間隔を、前記二次電源の充電状態に応じて、若しくはランダムまたは擬似ランダムに、変更するように構成されることを特徴とする、請求項１１の照明制御装置。
【請求項１３】
前記電子回路は、複数の前記測定パルスについて前記外部インピーダンスの測定値を決定し、２つ以上の測定値を結合して平均測定値を決定するように構成される、請求項７乃至１２のいずれか１に記載の照明制御装置。
【請求項１４】
前記一次入力電力接続部に結合されたコンデンサを有し、前記感知回路は、測定パルスの前記一次入力電力接続部への印加から起こる前記コンデンサ上の電荷をモニタするように構成される、ことを特徴とする請求項７乃至１３のいずれか１つに記載の照明制御装置。
【請求項１５】
前記感知回路は、前記測定パルスの印加中に前記コンデンサ上に電荷が堆積する様子をモニタし、前記モニタされた電荷蓄積から、前記一次入力電力接続部に結合された他の照明装置の数を推定するように動作可能である、ことを特徴とする請求項１４に記載の照明制御装置。
【請求項１６】
さらに、前記電子回路を前記一次入力電力接続部から絶縁隔離するように構成された隔離部を具備する、ことを特徴とする請求項７乃至１５のいずれか１つに記載の照明制御装置。
【請求項１７】
１つ以上の光源と、
前記１つ以上の光源に対する電力の印加を制御するための、請求項７乃至１６のいずれか１に記載の照明制御装置、とを具備することを特徴とする照明装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月18日(2015.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の角度範囲内に光を発するよう構成される第１の光源と、前記第１の角度範囲とは異なる第２の角度範囲内に光を発するよう構成される第２の光源とを有する光出力装置によって発せられる光ビームの角度分布を制御するための方法であって、
調光器から、電源のデューティサイクルを示す調光設定を受信するステップと、
前記調光設定が第１の所定範囲内にある場合に、前記第１の角度範囲内に光を発するよう構成される前記第１の光源を制御するステップと、
前記調光設定が第２の所定範囲内にある場合に、前記第２の角度範囲内に光を発するよう構成される前記第２の光源を制御するステップと、
を有する、方法。
【請求項２】
前記第１の角度範囲内での発光から前記第２の角度範囲内での発光への連続的な遷移を可能とするために、前記第１の光源及び前記第２の光源から発せられる光の強度は、前記第１及び第２の所定範囲内でそれぞれ変更可能である、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記第１及び第２の角度範囲は、前記光出力装置の光軸に関して、第１の極角範囲及び第２の極角範囲にそれぞれ対応している、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記第１及び第２の角度範囲は、前記光出力装置の方位軸に関して、第１の方位角範囲及び第２の方位角範囲にそれぞれ対応している、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
第１の角度範囲内に光を発するよう構成される第１の光源と、第２の角度範囲内に光を発するよう構成される第２の光源とを有する光出力装置によって発せられる光ビームの角度分布を制御するための制御ユニットであって、
調光器から、電源のデューティサイクルを示す調光設定を受信するための入力部と、
前記調光設定が第１の所定範囲内にある場合に、前記第１の角度範囲内に光を発するよう構成される前記第１の光源を制御し、前記調光設定が第２の所定範囲内にある場合に、前記第２の角度範囲内に光を発するよう構成される前記第２の光源を制御する処理回路と、
を有する、制御ユニット。
【請求項６】
第１の角度範囲内に光を発するよう構成される第１の光源と、
第２の角度範囲内に光を発するよう構成される第２の光源と、
請求項５記載の制御ユニットであって、前記光出力装置によって発せられる光ビームの角度分布を制御するための制御ユニットと、
を有する、光出力装置。
【請求項７】
前記第１及び第２の角度範囲は、前記光出力装置の光軸に関して、第１の極角範囲及び第２の極角範囲にそれぞれ対応している、請求項６に記載の光出力装置。
【請求項８】
前記第１の光源及び前記第２の光源のうちの少なくとも一方は、前記第１の光源及び／又は前記第２の光源からの光を前記第１及び／又は第２の角度範囲へリダイレクトする光学素子を有する、請求項６又は７記載の光出力装置。
【請求項９】
前記第１の光源及び／又は前記第２の光源は、少なくとも１つのＬＥＤを有する、請求項６乃至８のいずれか１項に記載の光出力装置。
【請求項１０】
前記制御ユニットは、前記第１の光源又は前記第２の光源に給電するためのＡＣ電源に電気的に接続可能な電源入力部を有する、請求項６乃至９のいずれか１項に記載の光出力装置。
【請求項１１】
前記調光設定は、前記第１の光源及び前記第２の光源への前記ＡＣ電源からの電力供給を調整するために用いられる、請求項１０記載の光出力装置。
【請求項１２】
請求項６乃至１１のいずれか１項に記載の光出力装置と、
前記光出力装置からの前記光角度分布のユーザ制御を可能にするための調光器と、
を有する照明システム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月17日(2015.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
研磨を制御する方法であって、
基板を研磨することと、
基板を研磨中にインシトゥモニタシステムでモニタすることと、
前記インシトゥモニタシステムからの測定から値のシーケンスを生成することであって、ここで、雑音を排除すると前記値のシーケンスは研磨時間にわたって実質的に線形に変化する、生成することと、
研磨時間にわたって単調である非線形関数を前記値のシーケンスにフィットさせることと、
前記非線形関数が目標値に達する予測時間を決定することと、
前記予測時間に基づいて研磨終点または研磨速度調整の少なくとも一方を決定することと
を含む、方法。
【請求項２】
前記非線形関数が２次以上の多項式関数を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記非線形関数を前記値のシーケンスにフィットさせることが、Ｓａｖｉｔｚｋｙ−Ｇｏｌａｙ法を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記インシトゥモニタシステムが分光モニタシステムを含み、前記基板からの光のスペクトルのシーケンスを研磨中に前記分光モニタシステムで測定することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記スペクトルのシーケンスからの測定スペクトルごとに、複数の参照スペクトルを有するライブラリから最も良く一致する参照スペクトルを見いだすこと
をさらに含み、
前記値のシーケンスを生成することが、最も良く一致する参照スペクトルごとに、前記最も良く一致する参照スペクトルに関連する値を決定することを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記スペクトルのシーケンスからの測定スペクトルごとに、前記測定スペクトルのピークまたは谷の位置または幅を見いだして、位置または幅の値のシーケンスを生成すること
をさらに含み、
前記値のシーケンスが、前記位置または幅の値のシーケンスから生成される、請求項４に記載の方法。
【請求項７】
前記非線形関数が目標値に一致するか目標値を超えるときに、前記研磨を停止させることをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記基板を研磨することが、ポリシリコンおよび／または誘電材料を含む層を研磨することを含み、前記基板をモニタすることが、前記層をモニタすることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記層が、実質的に純粋なポリシリコンからなる、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記層が、誘電体材料からなる、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
機械可読ストレージメディアで具現された、研磨を制御するためのコンピュータプログラム製品であって、プロセッサに、
インシトゥモニタシステムからの基板の測定から値のシーケンスを前記基板の研磨中に生成させ、ここで、雑音を排除すると前記値のシーケンスは研磨時間にわたって実質的に線形に変化し、
研磨時間にわたって単調である非線形関数を前記値のシーケンスにフィットさせ、
前記非線形関数が目標値に達する予測時間を決定させ、および
前記予測時間に基づいて研磨終点または研磨速度調整の少なくとも一方を決定させる
ための命令を含む、コンピュータプログラム製品。
【請求項１２】
前記非線形関数が２次以上の多項式関数を含む、請求項１１に記載のコンピュータプログラム製品。
【請求項１３】
前記非線形関数を前記値のシーケンスにフィットさせる命令が、Ｓａｖｉｔｚｋｙ−Ｇｏｌａｙ法を実行させる命令を含む、請求項１１に記載のコンピュータプログラム製品。
【請求項１４】
分光モニタシステムから、前記基板からの光のスペクトルのシーケンスを受け取らせる命令を含む、請求項１１に記載のコンピュータプログラム製品。
【請求項１５】
前記値のシーケンスを生成させる命令が、前記スペクトルのシーケンスからの測定スペクトルごとに、
ｉ）複数の参照スペクトルを有するライブラリから最も良く一致する参照スペクトルを見いだして、前記最も良く一致する参照スペクトルに関連する値を決定させるか、または
ｉｉ）前記測定スペクトルのピークまたは谷の位置または幅を見いださせる
命令を含む、請求項１４に記載のコンピュータプログラム製品。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月15日(2015.4.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２つの電極を有する密封された内部放電空間を画定する放電容器を含む放電ランプであって、前記内部放電空間は、希ガスと金属ハロゲン化組成物との充填材を含み、前記充填材は、水銀を実質的に含まず、
前記放電容器は、前記電極が埋め込まれている外部溝を含み、前記外部溝間の溝距離がＲＡで配置され、
前記放電容器は、内径ＩＤを持ち、
前記放電ランプの動作時、前記電極間にアーク放電が形成され、前記金属ハロゲン化組成物は、前記放電ランプの動作後に前記金属ハロゲン化組成物が前記放電容器の内壁に膜を形成するように、少なくとも部分的に気化され、前記膜は、ｍｍ２を単位として表面積Ａｓを持ち、
前記金属ハロゲン化組成物は、Ｑ＝ＲＡｘＩＤ／Ａｓとして計算されるマッチング商が２以上の値を有するような量で前記内部放電空間内に提供されている、放電ランプ。
【請求項２】
２５Ｗの電力での動作時、少なくとも１８００ｌｍの光束をもたらすように配置される、請求項１に記載される放電ランプ。
【請求項３】
前記マッチング商は、２．５以上の値を有する、請求項１又は２に記載の放電ランプ。
【請求項４】
前記マッチング商は、３以上の値を有する、請求項１又は２に記載の放電ランプ。
【請求項５】
前記内部放電空間は、前記電極間の中心部において円筒部を含む、請求項１乃至４の何れか一項に記載の放電ランプ。
【請求項６】
前記円筒部は、３〜５ｍｍの長さを有する、請求項５に記載の放電ランプ。
【請求項７】
前記内部放電空間は、１５〜２１ｍｍ３のボリュームを有する、請求項１乃至６の何れか一項に記載の放電ランプ。
【請求項８】
前記内部放電空間は、１７〜２０ｍｍ３のボリュームを有する、請求項１乃至６の何れか一項に記載の放電ランプ。
【請求項９】
前記放電容器は、２．０〜２．４ｍｍの内径ＩＤを有する、請求項１乃至８の何れか一項に記載の放電ランプ。
【請求項１０】
前記放電容器は、２．１〜２．３ｍｍの内径ＩＤを有する、請求項１乃至８の何れか一項に記載の放電ランプ。
【請求項１１】
前記金属ハロゲン化組成物は、少なくとも、ナトリウム及びスカンジウムのハロゲン化物を含み、ナトリウム及びスカンジウムのハロゲン化物の質量比は、０．８〜１．３である、請求項１乃至１０の何れか一項に記載の放電ランプ。
【請求項１２】
前記金属ハロゲン化組成物は、少なくとも、ナトリウム及びスカンジウムのハロゲン化物を含み、ナトリウム及びスカンジウムのハロゲン化物の質量比は、０．９〜１．２である、請求項１乃至１０の何れか一項に記載の放電ランプ。
【請求項１３】
前記金属ハロゲン化物は、少なくとも１０重量％のツリウムハロゲン化物を含む、請求項１乃至１２の何れか一項に記載の放電ランプ。
【請求項１４】
前記金属ハロゲン化組成物は、０．０５〜０．７重量％のインジウムハロゲン化物を含む、請求項１乃至１３の何れか一項に記載の放電ランプ。
【請求項１５】
前記金属ハロゲン化組成物は、少なくとも、ナトリウム、スカンジウム、ツリウム、及びインジウムのハロゲン化物を含む、請求項１乃至１４の何れか一項に記載の放電ランプ。
【請求項１６】
前記内部放電空間内の前記希ガスは、１０〜１８バールのコールド圧力で提供されるキセノンである、請求項１乃至１５の何れか一項に記載の放電ランプ。
【請求項１７】
前記内部放電空間内の前記希ガスは、１２〜１６バールのコールド圧力で提供されるキセノンである、請求項１乃至１５の何れか一項に記載の放電ランプ。
【請求項１８】
前記放電容器の周りに提供される外部囲いを更に含み、前記外部囲いは、密封され、１バール未満の圧力のガスで充填される、請求項１乃至１７の何れか一項に記載の放電ランプ。
【請求項１９】
前記外部囲いは、前記放電容器から距離ｄ２で配置され、熱伝導係数λ／ｄ２が２３．３〜７５Ｗ／（ｍ２Ｋ）であるように充填ガスで充填され、ここでλは８００℃で測定された充填ガスの熱伝導率であり、ｄ２は前記外部囲いと前記放電容器との間の距離である、請求項１８に記載の放電ランプ。
【請求項２０】
少なくとも、請求項１乃至１９の何れか一項に記載の放電ランプを含み、
前記放電ランプは、電源に接続される、照明システム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月21日(2015.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気的コンタクト及び機械的マウントのためのベース要素と、
少なくとも１つのＬＥＤ素子を有するＬＥＤ配置であって、長手方向軸に沿って、前記ベース要素とは離れて配置された前記ＬＥＤ配置と、
前記ＬＥＤ配置の隣に配置された上位の熱散逸構造であって、熱伝導材料で作られた少なくとも１つの熱散逸素子を有するとともに、少なくとも第１の端部と、前記第１の端部とは前記長手方向軸に対して少なくとも略垂直な横軸に沿って離れて設けられた第２の端部とを含むように成型された前記上位の熱散逸構造と、を有し、
前記上位の熱散逸構造は、互いに離れた少なくとも２つの熱散逸素子を有し、
前記ＬＥＤ配置は、前記２つの熱散逸素子の間に設けられ、
前記少なくとも２つの熱散逸素子は、互いに角度をなすように配置された少なくとも２つの平面状ヒートフィンを有する、照明装置。
【請求項２】
前記上位の熱散逸構造は、幅が、前記第１の端部と前記第２の端部との間に延在している長さよりも小さく、細長い形状を持つことで、前記ＬＥＤ配置から発せられる光の妨げが最小化される、請求項１記載の照明装置。
【請求項３】
前記上位の熱散逸構造は、前記長手方向軸に対して垂直な断面方向において、前記端部の各々において前記ＬＥＤ配置の中心からのシェーディング角が６０°以下で形成されるとともに、前記ＬＥＤ配置からの光が前記シェーディング角の外側へ自由に発せられるほど十分小さい、前記横軸からの拡がりを持つ、請求項１又は２に記載の照明装置。
【請求項４】
前記ＬＥＤ配置は、少なくとも２つのＬＥＤ素子を有し、前記ＬＥＤ素子は、前記横軸に対して少なくとも平行な方向において、互いに離れて設けられる、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の照明装置。
【請求項５】
前記ＬＥＤ配置は、少なくとも２つのＬＥＤ素子を有し、
前記ＬＥＤ素子は、前記横軸から実質的に対向する方向へ光を発するように配置される、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の照明装置。
【請求項６】
前記上位の熱散逸構造は、前記長手方向軸の方向において、前記ＬＥＤ配置を越えて延在している、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の照明装置。
【請求項７】
前記上位の熱散逸構造は、前記第１の端部と前記第２の端部との間に少なくとも部分的に延在している平面状の素子を有する、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の照明装置。
【請求項８】
前記上位の熱散逸構造は、前記ＬＥＤ配置から発せられる光の少なくとも一部が反射表面において反射されるように配置された少なくとも１つの反射表面を持つ、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の照明装置。
【請求項９】
前記反射表面は、熱放射係数を改善するための透明な被覆を具備する研磨されたアルミニウム表面として供給される、請求項８記載の照明装置。
【請求項１０】
前記上位の熱散逸構造は、部分的に反射性を有するとともに、部分的に透光性を有する少なくとも１つの素子を有することで、前記ＬＥＤ配置から発せられる光の少なくとも一部が、前記素子において部分的に反射されるとともに、前記素子を部分的に通過する、請求項１乃至９のいずれか１項に記載の照明装置。
【請求項１１】
前記上位の熱散逸構造は、前記第１の端部及び前記第２の端部において、アーチ型の縁を有する、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の照明装置。
【請求項１２】
前記ベース要素は、少なくとも１つの電気的コンタクトを有し、駆動回路が、前記ベース要素内に配置され、前記駆動回路は、電力を供給するために前記ＬＥＤ素子に電気的に接続される、請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の照明装置。
【請求項１３】
前記長手方向軸に対して少なくとも略垂直に配置された、熱伝導材料で作られた複数の平面熱散逸素子を有する、前記ベース要素と前記ＬＥＤ配置との間に配置された下位の熱散逸構造を更に有し、
前記下位の熱散逸構造は、前記長手方向軸に沿った第１の長手方向位置において、前記長手方向軸に対して垂直な断面方向に第１の拡がりを持つとともに、第２の長手方向位置において、断面方向に第２の拡がりを持つように形成され、
前記第１の長手方向位置は、前記第２の長手方向位置より前記ＬＥＤ配置の近くに配置され、前記ＬＥＤ配置から発せられる光の妨げを最小化するために、前記第１の拡がりは、前記第２の拡がりよりも小さい、請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の照明装置。
【請求項１４】
請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の照明装置と、
凹状の内部反射器表面及びマウント開口を具備する反射器体と、を有し、
前記照明装置は、前記ＬＥＤ素子が前記反射器体内に配置されるとともに、前記ＬＥＤ配置から発せられる光が前記内部反射器表面によって反射されるように、前記マウント開口内にマウントされる、照明配置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月6日(2015.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のモバイル・オペレーティングシステム上で動作するようコンパイルされたモバイルアプリケーションを開発及びカスタマイズするためのシステムであって、
物理メモリー内に格納されたコンピューター読み取り可能媒体を有するコンピューター装置を有し、該コンピューター読み取り可能媒体は、該コンピューター装置に、
モバイルアプリケーションの開発及びカスタマイズにおいてユーザを補助するよう適合されたモバイルアプリケーション開発プラットフォームへのアクセスをユーザに許可するステップと、
前記ユーザに表示される複数のカスタマイズ可能な構成部分に関連する情報を送信するステップであって、該複数のカスタマイズ可能な構成部分は、前記ユーザによりカスタマイズされるモバイルアプリケーションの機能、デザイン及びコンテンツに関連するステップと、
前記表示された複数のカスタマイズ可能な構成部分に関連する複数のユーザ選択を受信するステップと、
前記複数のカスタマイズ可能な構成部分に関連する前記複数のユーザ選択に少なくとも部分的に基づいて、前記モバイルアプリケーションにアプリケーションデータを関連付けるステップであって、該アプリケーションデータは、前記モバイルアプリケーションに対するユーザ定義の機能、デザイン及びコンテンツを表すステップと、
前記アプリケーションデータを保存するステップと、
少なくとも１つのモバイル・オペレーティングシステムに関連する構築ツールを用いて、前記アプリケーションデータに基づき、前記モバイルアプリケーションに対するコンパイルされたデータを生成するステップと、
前記モバイルアプリケーションに対する識別子を有する構成ファイルを生成するステップであって、前記構成ファイルは、前記少なくとも１つのモバイル・オペレーティングシステムを実行するモバイル機器への送信、及び該モバイル機器での実行に対し適合されるステップと、
を実行させるよう構成され、
前記モバイルアプリケーションが、前記モバイル機器上にインストールされ、又は前記モバイル機器により実行されることに応答して、前記識別子は、前記モバイル機器が前記コンパイルされたアプリケーションデータの少なくとも一部分を読み出すことを可能にする、システム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月17日(2015.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
赤外光源と、
前記光源によって放出された赤外光を受光し、受光した前記赤外光の少なくとも一部が導波路内で内部全反射を起こすように構成された導波路と、
前記導波路に対して配置されたフラストレイティング層と、
前記導波路および前記フラストレイティング層を介して知覚できる画像を表示するように構成され、複数のフォトセンサを含むセンサ・イン・ピクセル・ディスプレイであって、前記複数のフォトセンサは、接触点のところで前記導波路から外れる前記赤外光の少なくとも一部を感知するように構成され、前記画像の各ピクセルに対応するフォトセンサを有する、センサ・イン・ピクセル・ディスプレイと
を備え、
前記複数のフォトセンサの各々は光検出器を含み、該光検出器は、可視光をフィルタ処理するように構成された第１の層と、前記第１の層を透過した赤外光を感知するように構成された第２の層とを含み、赤外光を感知する際に前記光検出器によって生成された電気は、前記第１の層および前記第２の層の各々を通って流れる、タッチセンシティブディスプレイデバイス。
【請求項２】
請求項１に記載のタッチセンシティブディスプレイデバイスであって、前記複数のフォトセンサの各々は、赤外光に対する感度が、可視光に対する感度よりも高い、タッチセンシティブディスプレイデバイス。
【請求項３】
請求項１に記載のタッチセンシティブディスプレイデバイスであって、前記複数のフォトセンサの各々は、赤外光に対して感度があり、可視光に対して感度がない、タッチセンシティブディスプレイデバイス。
【請求項４】
請求項１に記載のタッチセンシティブディスプレイデバイスであって、前記複数のフォトセンサの各々が、
可視光を吸収し赤外光を透過するように構成された第１の層と、
前記第１の層を透過した赤外光を感知するように構成された第２の層と
を含む、タッチセンシティブディスプレイデバイス。
【請求項５】
請求項１に記載のタッチセンシティブディスプレイデバイスであって、前記複数のフォトセンサの各々において、
前記第１の層は、４００ナノメートルと７００ナノメートルの間の波長を有する光を吸収し、７００ナノメートルよりも長い波長を有する光を透過するように構成され、
前記第２の層は、前記第１の層を透過する７００ナノメートルと８８０ナノメートルとの間の波長を有する光を感知するように構成された、タッチセンシティブディスプレイデバイス。
【請求項６】
請求項１に記載のタッチセンシティブディスプレイデバイスであって、前記複数のフォトセンサの各々が、水素化シリコンゲルマニウム合金（ａ−ＳｉＧｅ：Ｈ）を含む、タッチセンシティブディスプレイデバイス。
【請求項７】
請求項１に記載のタッチセンシティブディスプレイデバイスであって、前記複数のフォトセンサの各々は、微結晶質シリコンを含む、タッチセンシティブディスプレイデバイス。
【請求項８】
請求項１に記載のタッチセンシティブディスプレイデバイスであって、前記複数のフォトセンサの各々において、
前記第１の層は、１．７ｅＶから１．８ｅＶの実効バンドギャップを有する、タッチセンシティブディスプレイデバイス。
【請求項９】
請求項１に記載のタッチセンシティブディスプレイデバイスであって、前記複数のフォトセンサの各々において、
前記第１の層は、約０．２マイクロメートルから０．５マイクロメートルの厚さを有し、高濃度にドープされたｐ型アモルファスシリコンを含み、
前記第２の層は、水素化シリコンゲルマニウム合金（ａ−ＳｉＧｅ：Ｈ）および微結晶質シリコンのうちの少なくとも一方を含む、タッチセンシティブディスプレイデバイス。
【請求項１０】
請求項１に記載のタッチセンシティブディスプレイデバイスであって、前記複数のフォトセンサの各々において、
前記第１の層は、約０．２マイクロメートルから０．５マイクロメートルの厚さを有し、高濃度にドープされたｎ型アモルファスシリコンを含み、
前記第２の層は、水素化シリコンゲルマニウム合金（ａ−ＳｉＧｅ：Ｈ）および微結晶質シリコンのうちの少なくとも一方を含む、タッチセンシティブディスプレイデバイス。
【請求項１１】
請求項１に記載のタッチセンシティブディスプレイデバイスであって、前記複数のフォトセンサの各々において、
前記第１の層は、三元合金を含み、
前記第２の層は、水素化シリコンゲルマニウム合金（ａ−ＳｉＧｅ：Ｈ）および微結晶質シリコンのうちの少なくとも一方を含む、タッチセンシティブディスプレイデバイス。
【請求項１２】
請求項１１に記載のタッチセンシティブディスプレイデバイスであって、前記三元合金は、ある比率のゲルマニウムおよび窒素を含むもの（ａ−ＳｉＧｅＮ）である、タッチセンシティブディスプレイデバイス。
【請求項１３】
請求項１１に記載のタッチセンシティブディスプレイデバイスであって、前記三元合金は、ある比率のゲルマニウムおよび酸素を含むもの（ａ−ＳｉＧｅＯ）である、タッチセンシティブディスプレイデバイス。
【請求項１４】
請求項１１に記載のタッチセンシティブディスプレイデバイスであって、前記三元合金は、ある比率のゲルマニウムおよび炭素を含むもの（ａ−ＳｉＧｅＣ：Ｈ）である、タッチセンシティブディスプレイデバイス。
【請求項１５】
請求項１１に記載のタッチセンシティブディスプレイデバイスであって、前記三元合金は、ａ−ＳｉＧｅＮ：Ｈ層を含む、タッチセンシティブディスプレイデバイス。
【請求項１６】
請求項１に記載のタッチセンシティブディスプレイデバイスであって、前記フラストレイティング層は、前記センサ・イン・ピクセル・ディスプレイと接触する、タッチセンシティブディスプレイデバイス。
【請求項１７】
請求項１に記載のタッチセンシティブディスプレイデバイスであって、タッチ入力を受け、該タッチ入力に基づいて前記導波路および前記フラストレイティング層を接触させるように設置されたクラッド層をさらに備えたタッチセンシティブディスプレイデバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月25日(2015.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像データのビューを表示することによって、ユーザが少なくとも３空間次元を有する画像データをナビゲートすることを可能にする画像処理システムであって、
画像データのビューを表示するディスプレイ、及び基準方向に対する画像装置の方向を測定して、画像装置の装置回転を表す回転データを提供する方向センサ、を有する該画像装置と、
画像データの回転中心を決定する手段と、
現在ビューを決定するために、（ｉ）前記方向センサから前記回転データを受け取り、（ｉｉ）前記装置回転に関連してビュー回転を決定し、（ｉｉｉ）基準ビューに対し、前記ビュー回転に依存して前記回転中心を中心に回った現在ビューを決定することによって、前記装置回転に関連して画像データのビューを決定する画像プロセッサとを有し、
前記回転中心を決定する手段は、前記画像データ内の関心領域を検出する関心領域検出器を有し、前記関心領域に依存して前記回転中心を決定する、画像処理システム。
【請求項２】
前記回転中心を決定する手段は、前記回転中心として、前記関心領域を決定する、請求項１に記載の画像処理システム。
【請求項３】
前記画像処理システムは更に、ユーザから選択データを受け取るユーザ入力部を有し、前記回転中心を決定する手段は、前記回転中心が決定される態様に前記ユーザが影響を与えることを可能にするよう、前記選択データに依存して前記回転中心を決定する、請求項１に記載の画像処理システム。
【請求項４】
前記ユーザ入力部は、ユーザからナビゲーションデータを受け取り、前記画像プロセッサは、前記ナビゲーションデータに依存して画像データのビューを決定する、請求項３に記載の画像処理システム。
【請求項５】
前記ナビゲーションデータは、パン及び／又はズームナビゲーションコマンドを含む、請求項４に記載の画像処理システム。
【請求項６】
前記画像データは、ボリュメトリック画像データを含み、前記画像プロセッサは、現在ビューを生成するために、マルチプラナーリフォーマット、ボリュームレンダリング及び表面レンダリングのグループの中の少なくとも１つを使用することによって、現在ビューを決定する、請求項１に記載の画像処理システム。
【請求項７】
前記画像データは、３次元グラフィックデータを含み、前記画像プロセッサは、現在ビューを生成するために、グラフィクスレンダリングを使用することによって、現在ビューを決定する、請求項１に記載の画像処理システム。
【請求項８】
現在ビューを決定することが、
（ｉ）ビュー回転及び回転中心に依存して４ｘ４変換行列を決定し、
（ｉｉ）４ｘ４変換行列を使用して現在ビューを生成する、
ことを含む、請求項１に記載の画像処理システム。
【請求項９】
前記画像プロセッサは、直接マッピング、ゲイン、オフセット、閾値及び非線形関数のグループの中の少なくとも１つを前記装置回転に適用して、前記装置回転を得ることによって、前記装置回転に関連して前記ビュー回転を決定する、請求項１に記載の画像処理システム。
【請求項１０】
前記画像処理システムは、ユーザから、基準方向及び／又は基準ビューをリセットするためのリセットコマンドを受け取る、請求項１に記載の画像処理システム。
【請求項１１】
前記画像処理システムは、前記装置回転に関連して画像データのビューを決定することを中断するための休止コマンドをユーザから受け取る、請求項１に記載の画像処理システム。
【請求項１２】
請求項１に記載の画像処理システムを有するハンドヘルド装置。
【請求項１３】
請求項１に記載の画像処理システムを有するワークステーション又はイメージング装置。
【請求項１４】
画像装置のディスプレイに画像データのビューを表示することによって、ユーザが少なくとも３空間次元を有する画像データをナビゲートすることを可能にする方法であって、
基準方向に対する画像装置の方向を測定して、画像装置の装置回転を表す回転データを提供するステップと、
画像データ内の回転中心を決定するステップと、
現在ビューを決定するために、（ｉ）方向センサから前記回転データを受け取り、（ｉｉ）前記装置回転に関連してビュー回転を決定し、（ｉｉｉ）基準ビューに対し、前記ビュー回転に依存して前記回転中心を中心に回った現在ビューを決定することによって、前記装置回転に関連して画像データのビューを決定するステップとを有し、
前記画像データ内の回転中心を決定するステップが、前記画像データ内の関心領域を検出するステップと、前記関心領域に依存して前記回転中心を決定するステップとを含む、方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の方法をプロセッサシステムに実施させるための命令を含むコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月17日(2015.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
研磨を制御する方法であって、
基準スペクトルのライブラリを生成することであって、
少なくとも１つの基準スペクトルを記憶することと、
基板表面の前の光路中の構成要素の変動によってもたらされるスペクトルに対するひずみを表す、複数の異なる透過率曲線を記憶することと、
前記複数の異なる透過率曲線のうちの少なくとも２つの透過率曲線に対して、前記基準スペクトルおよび前記透過率曲線から修正された基準スペクトルを計算して、複数の修正された基準スペクトルを生成することとを含む、生成することと、
基板を研磨することと、
前記基板からの光のスペクトルのシーケンスを研磨中に測定することと、
前記スペクトルのシーケンスの測定スペクトルごとに、前記複数の修正された基準スペクトルから最も良く一致する基準スペクトルを見いだして、最も良く一致する基準スペクトルのシーケンスを生成することと、
前記最も良く一致する基準スペクトルのシーケンスに基づいて研磨終点または研磨速度調整の少なくとも一方を決定することと、
を含む方法。
【請求項２】
前記異なる透過率曲線が１つまたは複数のウインドウの透過率の変動を表す、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記異なる透過率曲線が研磨パッドのウインドウの異なる経時期間におけるスペクトルに対するひずみを表すか、または前記異なる透過率曲線が異なるウインドウを表す、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記異なる透過率曲線が光源からのバルブの異なる経時期間におけるスペクトルに対するひずみを表す、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記修正された基準スペクトルを計算することが前記基準スペクトルを前記透過率曲線で乗算することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記透過率曲線が波長の関数として０と１の間の比として記憶される、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
基準スペクトルのライブラリを生成する方法であって、
少なくとも１つの基準スペクトルを記憶することと、
基板表面の前の光路中の構成要素の変動によってもたらされるスペクトルに対するひずみを表す、複数の異なる透過率曲線を生成および記憶することであって、前記複数の異なる透過率曲線を生成することが、インシトゥ光学モニタシステムを使用してテスト基板からの基本スペクトルを測定することと、異なる時間に前記インシトゥ光学モニタシステムを使用して、同一のテスト基板または同一材料の別のテスト基板からの１つまたは複数の追加のスペクトルを測定することと、前記基本スペクトルおよび前記１つまたは複数の追加のスペクトルから前記透過率曲線を計算することとを含む、生成および記憶することと、
前記複数の異なる透過率曲線からの少なくとも２つの透過率曲線ごとに、前記基準スペクトルおよび前記透過率曲線から修正された基準スペクトルを計算し、複数の修正された基準スペクトルを生成することと、
を含む、方法。
【請求項８】
前記透過率曲線を計算することが、前記追加のスペクトルが分子にあり、前記基本スペクトルが分母にある除算演算を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記基本スペクトルとして前記ウインドウの同一経時期間における第１の暗スペクトルを測定することと、前記追加のスペクトルとして前記ウインドウの同一経時期間における第２の暗スペクトルを測定することとをさらに含み、前記透過率曲線を計算することが、
2014512693.tif 000001
を計算することを含み、式中、Ａは前記追加のスペクトル、ＤＡは前記第２の暗スペクトル、Ｂは前記基本スペクトル、およびＤＢは前記第１の暗スペクトルである、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
機械可読ストレージメディアで具現された、研磨を制御するためのコンピュータプログラム製品であって、
プロセッサに、基準スペクトルのライブラリを生成させるための命令であって、
少なくとも１つの基準スペクトルを記憶させ、
基板表面の前の光路中の構成要素の変動によってもたらされるスペクトルに対するひずみを表す、複数の異なる透過率曲線を記憶させ、および
前記複数の異なる透過率曲線のうちの少なくとも２つの透過率曲線に対して、前記基準スペクトルおよび前記透過率曲線から修正された基準スペクトルを計算して、複数の修正された基準スペクトルを生成させる命令を含む、生成させるための命令と、
プロセッサに、前記基板の研磨中に基板からの光のスペクトルのシーケンスの測定値を受け取らせるための命令と、
プロセッサに、前記スペクトルのシーケンスの測定スペクトルごとに、前記複数の修正された基準スペクトルから最も良く一致する基準スペクトルを見いだして、最も良く一致する基準スペクトルのシーケンスを生成させるための命令と、
プロセッサに、前記最も良く一致する基準スペクトルのシーケンスに基づいて研磨終点または研磨速度調整の少なくとも一方を決定させるための命令と、
を含む、コンピュータプログラム製品。
【請求項１１】
前記異なる透過率曲線が１つまたは複数のウインドウの透過率の変動を表す、請求項１０に記載のコンピュータプログラム製品。
【請求項１２】
前記異なる透過率曲線が研磨パッドのウインドウの異なる経時期間におけるスペクトルに対するひずみを表すか、または前記異なる透過率曲線が異なるウインドウを表す、請求項１１に記載のコンピュータプログラム製品。
【請求項１３】
前記異なる透過率曲線が光源からのバルブの異なる経時期間におけるスペクトルに対するひずみを表す、請求項１０に記載のコンピュータプログラム製品。
【請求項１４】
機械可読ストレージメディアで具現された、基準スペクトルのライブラリを生成するためのコンピュータプログラム製品であって、
プロセッサに、少なくとも１つの基準スペクトルを記憶させる命令と、
プロセッサに、基板表面の前の光路中の構成要素の変動によってもたらされるスペクトルに対するひずみを表す、複数の異なる透過率曲線を生成および記憶させる命令であって、前記複数の異なる透過率曲線を生成する命令が、インシトゥ光学モニタシステムを使用してテスト基板からの基本スペクトルの測定値を受け取らせ、異なる時間に前記インシトゥ光学モニタシステムを使用して、同一のテスト基板または同一材料の別のテスト基板からの１つまたは複数の追加のスペクトルの測定値を受け取らせ、および前記基本スペクトルおよび前記１つまたは複数の追加のスペクトルから前記透過率曲線を計算させる命令を含む、生成および記憶させる命令と、
プロセッサに、前記複数の異なる透過率曲線からの少なくとも２つの透過率曲線ごとに、前記基準スペクトルおよび前記透過率曲線から修正された基準スペクトルを計算し、複数の修正された基準スペクトルを生成させる命令と
を含む、コンピュータプログラム製品。
【請求項１５】
前記透過率曲線を計算させる命令が、前記追加のスペクトルが分子にあり、前記基本スペクトルが分母にある除算演算を実行させる命令を含む、請求項１４に記載のコンピュータプログラム製品。