【事件の表示】
　特願２００７−３１７６６６「デュアル基板ステージ型ダブル露光リソグラフィシステムおよび基板を露光するための方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２０年　４月１７日出願公開、特開２００８−　９１９４４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１６年５月２７日（パリ条約による優先権主張２００３年５月２９日、米国）の出願である特願２００４−１５７６３７号の一部を平成１９年１２月７日に新たな特許出願としたものであって、平成２３年３月２２日付けで拒絶理由が通知され、同年６月１７日付けで意見書が提出されるとともに、同日付けで手続補正書が提出され、その後、平成２４年２月１３日付けで拒絶査定がなされた。本件は、これに対して、同年６月１２日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同時に手続補正がなされたものである。
　その後、平成２４年１１月２６日付けで、審判請求人に前置報告の内容を示し意見を求めるための審尋を行ったところ、平成２５年２月２６日付けで回答書が提出された。さらに、当審において、平成２５年３月２８日付けで拒絶理由が通知され、同年６月２６日付けで意見書が提出されるとともに、同日付けで手続補正書が提出された。
　
　
第２　本願発明について
１．本願発明
　本願の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という」）は、平成２５年６月２６日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。
　
「２つのレチクルを用いて複数のウェハを露光するためのデュアルウェハステージ型ダブ
ル露光システムにおいて、
　基板を処理システム内および処理システム外へ搬送する第１の手段、
　デュアルウェハステージの各々における個々の基板を露光システム内および露光システム外へ搬送する第２の手段、
　レチクルを露光システム内および露光システム外へ搬送する第３の手段、および
　前記第１、前記第２、および前記第３の搬送手段を制御する手段であって、
　　前記第３の搬送手段による第１のレチクルの露光システムへの搬送、
　　前記第１および前記第２の搬送手段による第１および第２のウェハの搬送、処理、および前記第１のレチクルを用いた露光、
　　前記第１のレチクルを用いた前記第１および第２のウェハの露光の後における、前記第３の搬送手段による前記第１のレチクルの第２のレチクルとの交換、ここで前記第２のレチクルは前記第１のレチクルとは異なる、
　　前記第１のレチクルを前記第２のレチクルと交換した後における、前記第２の搬送手段による前記第１および前記第２のウェハの搬送および前記第２のレチクルを用いた露光、
　　前記第２のレチクルを用いた前記第１のウェハの露光の後における、前記第１の搬送手段による前記第１のウェハと第３のウェハとの交換、および、前記第２のレチクルを用いた前記第２のウェハの露光の後における、前記第１の搬送手段による前記第２のウェハと第４のウェハとの交換、
　　前記第２のレチクルを用いた前記第１および第２のウェハの露光の後における、前記第２の搬送手段による前記第３および前記第４のウェハの搬送、処理、および前記第２のレチクルを用いた露光、
　　第２のレチクルの第１のレチクルとの交換、
　　前記第２の搬送手段を用いた前記第３および前記第４のウェハの搬送、処理、および露光、
　　前記第１の搬送手段を用いた前記第３および前記第４のウェハの第５および第６のウェハとの交換、
　　前記第２の搬送手段を用いた前記第５および前記第６のウェハの搬送、処理、および露光、
　　前記第１のレチクルの前記第２のレチクルとの交換、および
　　前記第２の搬送手段を用いた前記第５および前記第６のウェハの搬送、処理、および露光
　を制御する制御信号を出力する制御手段
を備える、ことを特徴とするデュアルウェハステージ型ダブル露光システム。」
　
２．引用刊行物
（１）当審で通知した拒絶の理由に引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物である、国際公開第０３／０１７３４４号（以下「引用文献１」という。）には、以下の事項が記載されている。（下線は当審が付した。）
　
（ａ）「また、
最近では、スループットを向上するとの観点から、２つのウエハステージを用い、一方のウエハステージ側で露光動作が行われている間に、他方のウエハステージ側でウエハ交換及びウエハアライメントを行う、ダブルウエハステージ方式の露光装置も開発されている。
　本発明は、かかる事情の下になされたもので、その第１の目的は、マスク交換に要する時間を短縮することが可能なマスク交換方法を提供することにある。
　また、本発明の第２の目的は、特にスループットの向上を図ることが可能な露光装置を提供することにある。」（明細書第３頁第２５行〜同第４頁第１６行）
　
（ｂ）「発明を実施するための最良の形態
《第１の実施形態》
　以下、本発明の第１の実施形態を図１〜図７Ｃに基づいて説明する。
　図１には、第１の実施形態に係る露光装置１０が、一部破断して示されている。この露光装置１０は、クリーン度がクラス１００〜１０００程度のクリーンルーム内に設置されている。この露光装置１０は、内部空間が高度に防塵されるとともに、高精度な温度制御がなされたエンバイロンメンタル・チャンバ１２（以下、「本体チャンバ１２」と略述する）、該本体チャンバ１２内に設置された露光装置本体３０、該露光装置本体３０近傍に設けられたレチクル搬送系３２等を備えている。本体チャンバ１２の内部は、化学的清浄度もある一定レベルに保たれている。
　本体チャンバ１２の−Ｙ側（図１における左側）の端部には、他の部分と比べて低い低段差部が形成されている。この低段差部に、マスクコンテナの搬出入ポート２２が配置されている。この搬出入ポート２２を介して後述する天井搬送系によってマスクとしてのレチクルがレチクルキャリア２８内に収納された状態で本体チャンバ１２に対して搬入されあるいは搬出される。搬出入ポート２２のほぼ真上に位置するクリーンルームの天井部には、レチクルをレチクルキャリア内に収納した状態で搬送するＯＨＶ（Over Head Vehicle）あるいはＯＨＴ（Over Head Transfer）と呼ばれる天井搬送系（以下、「ＯＨＶ」と呼ぶ）２６の軌道であるガイドレールＨｒがＸ軸方向に沿って延設（敷設）されている。
　ここで、レチクルキャリア２８としては、一例としてレチクルを複数枚上下方向に所定間隔を隔てて収納可能なボトムオープンタイプの密閉型のコンテナであるＳＭＩＦ（Standard Mechanical Interface）ポッドが用いられている。
　前記露光装置本体３０は、本体チャンバ１２外部に設けられた不図示の光源からのパルス紫外光によりレチクルＲを照明する照明ユニットＩＬＵ、レチクルＲを保持するマスクステージとしてのレチクルステージＲＳＴ、レチクルＲから射出される照明光（パルス紫外光）を感光物体としてのウエハＷ１，Ｗ２上に投射する投影光学系ＰＬ、及び
ウエハＷ１、Ｗ２をそれぞれ保持するウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２等を備えている。
　
（ｃ）「
前記ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２は、
ウエハステージ駆動系６６（図１では図示せず、図５参照）によってＸＹ面内で自在に駆動されるようになっている。
　
（ｄ）「ロボット８８と露光装置本体３０との間には、
マスク搬送系としてのレチクル搬送系３２が配設されている。
　このレチクル搬送系３２は、図１に示されるように複数の支持部材２３と、該支持部材２３により水平に支持された平面視（上から見て）略Ｌ字状（図２参照）の搬送系支持板２１とから構成される搬送系支持架台７５上に設けられている。この搬送系支持架台７５を構成する搬送系支持板２１のレチクルベース定盤６０と対向する側壁部分には、図２に示されるように、搬送系支持板２１とレチクルベース定盤６０とのＸ軸方向の相対位置を計測するＸ軸計測センサＳｘと、Ｙ軸方向の相対位置を計測するＹ軸計測センサＳｙ１及びＳｙ２とが設けられている。これらのうち、Ｙ軸計測センサＳｙ１及びＳｙ２の両計測値を用いることにより、Ｚ軸回りの回転方向の相対位置も計測することが可能となっている。これら各計測センサの計測値は、主制御装置５０により常時モニタされている。」（明細書第１９頁第５行〜同第１８行）
　
（ｅ）「次いで、
主制御装置５０は、例えばアライメント系ＡＬＧ１を用いてウエハＷ１のアライメントマークとウエハステージＷＳＴ１の基準マークとをそれぞれ検出した後、ウエハステージＷＳＴ１をアライメント位置から露光位置まで移動し、
　
（ｆ）「このようにして、ウエハＷ１の露光のための準備動作が終了すると、主制御装置５０では、アライメント結果に基づいてステップ・アンド・スキャン方式でレチクルＲのパターンをウエハＷ１上の各ショット領域に転写する。
　上記のウエハＷ１に対する露光動作が行われているのと並行して、主制御装置５０では、他方のウエハステージＷＳＴ２上でウエハ交換及びアライメント系ＡＬＧ２を用いたファインアライメントを実行し、ウエハステージＷＳＴ２を待機させる。
　そして、ウエハステージＷＳＴ１上のウエハＷ１に対するパターン転写が終了すると、
主制御装置５０では、ウエハステージＷＳＴ１をウエハ交換位置に移動する
　
（ｇ）「《第２の実施形態》
　次に、本発明の第２の実施形態に係る露光装置について、図８に基づいて説明する。ここで、前述した第１の実施形態と同一若しくは同等の構成部分については同一の符号を用いるとともに、その説明を簡略化し若しくは省略するものとする。本第２の実施形態の露光装置は、前述した第１の実施形態の露光装置１０におけるレチクルステージＲＳＴに代えて、同時に２枚のレチクルを載置可能なダブルレチクルホルダ方式のレチクルステージが採用されるとともに、これに伴って、レチクル交換の際の動作の一部、及び露光動作の一部が前述した第１の実施形態と異なるのみで、その他は前述した第１の実施形態と同様となっている。そこで、以下においては、かかる相違点を中心として説明する。」（明細書第４０頁第１６行〜同第２５行））
　
（ｈ）「また、露光工程全体について説明すると、本第２の実施形態においても、前述した第１の実施形態と同様に、レチクル交換後、各種露光条件の設定、レチクルアライメント並びにアライメント系ＡＬＧ１（及びＡＬＧ２）のベースライン計測等が所定の手順で行われ、その後、例えばアライメント系ＡＬＧ１を用いてウエハＷ１のファインアライメントが行われる。このようなウエハＷ１の露光のための準備動作の後、アライメント結果に基づいてステップ・アンド・スキャン方式でレチクルＲ１のパターンがウエハＷ１上の各ショット領域に転写される。
　これに引き続き、レチクルステージＲＳＴ’が移動され、レチクルＲ２のパターンがウエハＷ１の既にレチクルＲ１のパターンが転写されている各ショット領域に重ねて転写される。すなわち、このようにしてウエハＷ１上の各ショット領域に対して二重露光が行われる。
　上記のウエハＷ１に対する二重露光動作が行われているのと並行して、他方のウエハステージＷＳＴ２上でウエハ交換及びアライメント系ＡＬＧ２を用いたファインアライメントが行われ、ウエハステージＷＳＴ２が待機状態となる。
　そして、ウエハステージＷＳＴ１上のウエハＷ１に対するレチクルＲ２のパターン転写が終了すると、ウエハステージＷＳＴ１がウエハ交換位置に移動されるとともに、ウエハステージＷＳＴ２が投影光学系ＰＬの下方に移動されウエハステージＷＳＴ２上のウエハに対して前述と同様の二重露光（但し、この場合、レチクルＲ２、Ｒ１の順にパターンが転写される）が行われる。勿論、この露光中に、ウエハステージＷＳＴ１上では、ウエハ交換、ウエハアライメントが行われる。
　以上説明した本第２の実施形態の露光装置によると、前述した第１の実施形態と同等の効果を得ることができる他、２枚のレチクルを用いて二重露光が行われることから、解像度とＤＯＦ（焦点深度）の向上効果が得られ、より高精度な露光が実現されるという効果がある。
　なお、上記第２の実施形態ではレチクルステージＲＳＴをダブルホルダ方式とすることで干渉計の切り換えを不要としたが、上記第１及び第２の実施形態のいずれでも、例えば走査露光時と、レチクルステージＲＳＴの基準マークの検出時とは干渉計にて位置計測を行い、レチクルの交換時は干渉計とは別のセンサ（例えばリニアエンコーダなど）を用いてレチクルステージＲＳＴを移動しても良い。なお、ウエハステージがダブルステージ方式であるときは、露光に先立ってレチクルアライメント系によってレチクルＲのマーク（又はレチクルステージの基準マーク）とウエハステージの基準マークとが検出されるので、別のセンサの使用時にレチクル干渉計による計測が一時的に不能となってもその復帰時に特別な動作を行う必要がなくスループットを低下させることがない。
　また、上記第１の実施形態の露光装置で二重露光を行っても良く、
この場合にはロット内の全てのウエハに１枚目のレチクルを用いて露光を行った後でレチクル交換を行い、次に２枚目のレチクルを用いて同一のロット内の全てのウエハに対して二重露光を行うシーケンスを採用すると良い。このとき、２枚のレチクルを用いて同一のウエハを二重露光するが、１回目の露光と２回目の露光とでウエハを同一のウエハステージに載置することが好ましい。また、そのロットに続けて次のロットのウエハを二重露光するときは、レチクルステージに載置されている２枚目のレチクルを用いて最初に露光を行い、その後でレチクル交換を行って１枚目のレチクルを用いて二重露光を行うシーケンスとすると良い。
　なお、上記各実施形態でレチクルステージＲＳＴをダブルステージ方式としたとき、露光位置を挟んで走査方向（Ｙ軸方向）に関して両側にそれぞれレチクルの交換位置を設定し、一方のステージを用いた露光動作と並行して他方のステージでレチクル交換などを行うようにしても良い。
　また、上記各実施形態のウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２を、例えばＸ軸及びＹ軸方向に可動なステージ本体に対してウエハテーブルを少なくともＸ軸及びＹ軸方向に微動可能とする粗微動ステージとしても良いし、同様にレチクルステージＲＳＴを、走査方向（Ｙ軸方向）のみに長いストロークで駆動される粗動ステージに対して微動ステージを少なくともＸ軸及びＹ軸方向と回転方向（θｚ方向）とに相対移動する粗微動ステージとしても良い。
　さらに、上記各実施形態の露光装置はウエハステージＷＳＴ１をアライメント系ＡＬＧ１と投影光学系ＰＬとの間で移動し、ウエハステージＷＳＴ２をアライメント系ＡＬＧ２と投影光学系ＰＬとの間で移動するスライド方式のツインステージを採用するものとしたが、例えば国際公開ＷＯ９８／４０７９１（及び対応する米国特許第６，２６２，７９６号）に開示されているように、アライメント系を１つのみとし、２つのウエハステージを交互にアライメント系と投影光学系との間で移動するスイッチング方式のツインステージを採用しても良い。」（明細書第４２頁第９行〜第４４頁第２０行）
　
　
（ｉ）「
　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 」
　
（ｊ）「
　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 」
　
　上記記載事項から、「主制御装置５０」はウエハステージ駆動系６６及びレチクル搬送系３２を含む露光装置全体を制御するものであること、また、「アライメント位置」（上記記載事項（ｅ））と「ウエハ交換位置」（上記記載事項（ｆ））とは同じ位置を示すことは、当業者には明らかである。 
　また、露光装置において、露光装置内外でウエハを搬送する手段を備えることは技術常識であり、引用発明もウエハ交換位置内外でウエハを搬送する手段を備えることは、当業者には明らかである。 
 　 
　してみると、上記記載事項を含む引用文献１の全記載及び技術常識を総合すると、引用文献１には、以下の発明（以下「引用発明」という。）が記載されている。
　「ウエハＷ１、Ｗ２をそれぞれ保持するウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２を備えたダブルウエハステージ方式の露光装置において、
　ウエハ交換位置でもあるアライメント位置内外でウエハを搬送する手段、
　ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２を、ウエハ交換位置でもあるアライメント位置と露光位置との間で駆動するウエハステージ駆動系６６、
　マスク搬送系としてのレチクル搬送系３２、
　ウエハ交換位置でもあるアライメント位置内外でウエハを搬送する手段、ウエハステージ駆動系６６及びレチクル搬送系３２を制御する主制御装置５０であって、
　ロット内の全てのウエハに１枚目のレチクルを用いて露光を行った後でレチクル交換を行い、次に２枚目のレチクルを用いて同一のロット内の全てのウエハに対して二重露光を行い、また、そのロットに続けて次のロットのウエハを二重露光するときは、レチクルステージに載置されている２枚目のレチクルを用いて最初に露光を行い、その後でレチクル交換を行って１枚目のレチクルを用いて二重露光を行うシーケンスを実行させる主制御装置５０
　を備えるダブルウエハステージ方式の露光装置。」
　
（２）当審で通知した拒絶の理由に引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物である、国際公開第９９／５４９２２号（以下「引用文献２」という。）には、以下の事項が記載されている。
　
（ａ）「二重露光においては、１枚目のウェハＷに対して第１回目の露光を第１レチクルＲ１で、第２回目の露光を第２レチクルＲ２で行う場合、２枚目のウェハＷに対する第１及び第２レチクルＲ１、Ｒ２の使用順序は次の２つの場合が考えられる。
　（α）　第１回目の露光は第２レチクルＲ２を入れ替えることなく引き続き第２レチクルＲ２により行い、第２回目の露光は第１レチクルＲ１に交換される。
　（β）　１枚目のウェハＷ同様、第１回目の露光は第１レチクルＲ１に交換して行い、第２回目の露光は第２レチクルＲ２により行う。
　しかも、二重露光を実現するに当り、レチクルＲ１、Ｒ２の交換方法にはさらに次の２通りが考えられる。
　（γ）　複数枚のウェハＷを順に第１レチクルＲ１により露光し、第２レチクルＲ２に交換後、第２レチクルＲ２により露光済みの複数枚のウェハＷを一通り露光する方法。
　（δ）　ウェハＷ毎に第１レチクルＲ１及び第２レチクルＲ２の交換を行い、各ウェハＷに対して逐次二重露光を完了してから次のウェハＷの二重露光に移行する方法。
　（β）及び（δ）は（α）及び（γ）にそれぞれ比較してレチクルＲ１、Ｒ２の交換回数が多くなるため、レチクル交換とそれに伴うアライメントに要する時間が増大する。
　二重露光を必要とするような非常に微細な線幅を形成する光リソグラフィ工程では、露光光ＥＬの光源としてＫｒＦ、ＡｒＦ、Ｆ2等のエキシマレーザ光が用いられることが多い。これらのエキシマレーザ光の波長に対して、良好な解像特性を示す化学増幅型フォトレジストは、露光後直ちに現像しないとレジスト中の酸と空気中のアルカリ性物質とが反応し、現像後のレジスト断面形状が悪化するという問題を有している。
　このような場合、レチクル交換方法（γ）については、露光から現像までの時間間隔が長くなるため、二重露光に適切でない。すなわち、（δ）の方法に従ってレチクルＲ１、Ｒ２の交換を行うことが二重露光にとっては好ましい。しかしながら、方法（δ）はレチクルの交換回数が多いので、必然的に露光装置のスループットが低下する。」（明細書第２７頁第４行〜同第２８頁第６行）
　
（ｂ）「７）実施形態においては、ウェハＷに第１パターンを転写した後にレチクルを交換し、第１パターンの潜像に対して第２パターンを重ね合わせて転写する。次に、ウェハＷの交換を行って次のウェハＷに第２パターンを転写した後に、レチクルを交換し第２パターンの潜像に対して第１パターンを重ね合わせて転写する。この代わりに、例えば１つのロットの全てのウェハＷに対して第１パターンを転写した後にレチクルを交換し、ロット内の最後のウェハＷから順番に第２パターンを第１パターンの潜像に対して重ね合わせて転写するようにしてもよい。このとき、第１パターンが転写されたウェハＷは一度ウェハカセットに戻され、ここで露光処理のサイクルタイムが調整される。この方法では、レチクルＲ１、Ｒ２の交換回数が激減し、１ロット当たりの露光処理時間を大幅に短縮でき、スループットを向上させることが可能となる。なお、ロット内最後のウェハから第１パターンの転写を開始しなくてもよく、最初のウェハからでも、あるいは２番目以降の任意のウェハから開始してもよい。
　なお、１ロットのウェハＷを複数のグループに分け、１グループの全てのウェハＷに対して第１パターンを転写した後にレチクルの交換を行う。そして、第１パターンが転写されたウェハＷに対して第２パターンを重ね合わせて転写するようにしてもよい。また、次のグループのウェハＷに対しては、最初に第２パターンを転写し、しかる後にレチクルの交換を行って第１パターンを重ね合わせて転写する。」（明細書第４６頁第１６行〜同第４７頁第７行）
　
３．対比
（１）本願発明と引用発明との対比
（ａ）引用発明の「ウエハＷ１、Ｗ２をそれぞれ保持するウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２を備えたダブルウエハステージ方式の露光装置」は、「１枚目のレチクル」と「２枚目のレチクル」とを用いて「二重露光」を行うものであり、また、１ロットが複数のウエハからなることは明らかであるから、引用発明の「ウエハＷ１、Ｗ２をそれぞれ保持するウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２を備えたダブルウエハステージ方式の露光装置」は本願発明の「２つのレチクルを用いて複数のウェハを露光するためのデュアルウェハステージ型ダブル露光システム」に相当する。
　
（ｂ）引用発明の「ウエハ交換位置でもあるアライメント位置内外でウエハを搬送する手段」は、本願発明の「基板を処理システム内および処理システム外へ搬送する第１の手段」に相当する。
　
（ｃ）引用発明の「ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２を、ウエハ交換位置でもあるアライメント位置と露光位置との間で駆動するウエハステージ駆動系６６」は、本願発明の「デュアルウェハステージの各々における個々の基板を露光システム内および露光システム外へ搬送する第２の手段」に相当する。
　
（ｄ）引用発明の「マスク搬送系としてのレチクル搬送系３２」は、本願発明の「レチクルを露光システム内および露光システム外へ搬送する第３の手段」に相当する。
　
（ｅ）引用発明の「ウエハ交換位置でもあるアライメント位置内外でウエハを搬送する手段、ウエハステージ駆動系６６及びレチクル搬送系３２を制御する主制御装置５０」は、本願発明の「前記第１、前記第２、および前記第３の搬送手段を制御する手段」に相当する。
　
（ｆ）引用発明の
「ロット内の全てのウエハに１枚目のレチクルを用いて露光を行った後でレチクル交換を行い、次に２枚目のレチクルを用いて同一のロット内の全てのウエハに対して二重露光を行い、また、そのロットに続けて次のロットのウエハを二重露光するときは、レチクルステージに載置されている２枚目のレチクルを用いて最初に露光を行い、その後でレチクル交換を行って１枚目のレチクルを用いて二重露光を行うシーケンスを実行させる主制御装置５０」と、
　本願発明の
「前記第３の搬送手段による第１のレチクルの露光システムへの搬送、
　　前記第１および前記第２の搬送手段による第１および第２のウェハの搬送、処理、および前記第１のレチクルを用いた露光、
　　前記第１のレチクルを用いた前記第１および第２のウェハの露光の後における、前記第３の搬送手段による前記第１のレチクルの第２のレチクルとの交換、」
「　前記第１のレチクルを前記第２のレチクルと交換した後における、前記第２の搬送手段による前記第１および前記第２のウェハの搬送および前記第２のレチクルを用いた露光、
　　前記第２のレチクルを用いた前記第１のウェハの露光の後における、前記第１の搬送手段による前記第１のウェハと第３のウェハとの交換、および、前記第２のレチクルを用いた前記第２のウェハの露光の後における、前記第１の搬送手段による前記第２のウェハと第４のウェハとの交換、
　　前記第２のレチクルを用いた前記第１および第２のウェハの露光の後における、前記第２の搬送手段による前記第３および前記第４のウェハの搬送、処理、および前記第２のレチクルを用いた露光、
　　第２のレチクルの第１のレチクルとの交換、
　　前記第２の搬送手段を用いた前記第３および前記第４のウェハの搬送、処理、および露光、
　　前記第１の搬送手段を用いた前記第３および前記第４のウェハの第５および第６のウェハとの交換、
　　前記第２の搬送手段を用いた前記第５および前記第６のウェハの搬送、処理、および露光、
　　前記第１のレチクルの前記第２のレチクルとの交換、および
　　前記第２の搬送手段を用いた前記第５および前記第６のウェハの搬送、処理、および露光
　を制御する制御信号を出力する制御手段」とは、
「２枚のレチクルを用いて二重露光を行うシーケンスを実行させる制御手段」である点で一致する。
　
（２）一致点
　してみると、両者は、
「２つのレチクルを用いて複数のウェハを露光するためのデュアルウェハステージ型ダブル露光システムにおいて、
　基板を処理システム内および処理システム外へ搬送する第１の手段
 　デュアルウェハステージの各々における個々の基板を露光システム内および露光システム外へ搬送する第２の手段、
　レチクルを露光システム内および露光システム外へ搬送する第３の手段、および
　前記第１、前記第２、および前記第３の搬送手段を制御する手段であって、
　２枚のレチクルを用いて二重露光を行うシーケンスを実行させる制御手段
を備える、デュアルウェハステージ型ダブル露光システム。」で一致し、次の各点で相違する。
　
（３）相違点
（イ）「２枚のレチクルを用いて二重露光を行うシーケンスを実行させる制御手段」の「２枚のレチクルを用いて二重露光を行うシーケンス」について、
　本願発明では
「前記第３の搬送手段による第１のレチクルの露光システムへの搬送、
　　前記第１および前記第２の搬送手段による第１および第２のウェハの搬送、処理、および前記第１のレチクルを用いた露光、
　　前記第１のレチクルを用いた前記第１および第２のウェハの露光の後における、前記第３の搬送手段による前記第１のレチクルの第２のレチクルとの交換、」
「　前記第１のレチクルを前記第２のレチクルと交換した後における、前記第２の搬送手段による前記第１および前記第２のウェハの搬送および前記第２のレチクルを用いた露光、
　　前記第２のレチクルを用いた前記第１のウェハの露光の後における、前記第１の搬送手段による前記第１のウェハと第３のウェハとの交換、および、前記第２のレチクルを用いた前記第２のウェハの露光の後における、前記第１の搬送手段による前記第２のウェハと第４のウェハとの交換、
　　前記第２のレチクルを用いた前記第１および第２のウェハの露光の後における、前記第２の搬送手段による前記第３および前記第４のウェハの搬送、処理、および前記第２のレチクルを用いた露光、
　　第２のレチクルの第１のレチクルとの交換、
　　前記第２の搬送手段を用いた前記第３および前記第４のウェハの搬送、処理、および露光、
　　前記第１の搬送手段を用いた前記第３および前記第４のウェハの第５および第６のウェハとの交換、
　　前記第２の搬送手段を用いた前記第５および前記第６のウェハの搬送、処理、および露光、
　　前記第１のレチクルの前記第２のレチクルとの交換、および
　　前記第２の搬送手段を用いた前記第５および前記第６のウェハの搬送、処理、および露光」というシーケンスであるのに対して、
　引用発明では、
「ロット内の全てのウエハに１枚目のレチクルを用いて露光を行った後でレチクル交換を行い、次に２枚目のレチクルを用いて同一のロット内の全てのウエハに対して二重露光を行い、また、そのロットに続けて次のロットのウエハを二重露光するときは、レチクルステージに載置されている２枚目のレチクルを用いて最初に露光を行い、その後でレチクル交換を行って１枚目のレチクルを用いて二重露光を行うシーケンス」
　である点。 
　
　（ロ）２枚のレチクルについて、本願発明では「前記第２のレチクルは前記第１のレチクルとは異なる」のに対して、引用発明では、「１枚目のレチクル」と「２枚目のレチクル」とが異なるか否かが明らかでない点。
　
４．判断
（１）相違点（イ）について
　２枚のレチクルを用いて二重露光を行うシーケンスとして、引用文献２（上記「第２」「２．」「（２）」の記載事項（ｂ）参照）には、
　ウェハＷに第１パターンを転写した後にレチクルを交換し、第１パターンの潜像に対して第２パターンを重ね合わせて転写し、次に、ウェハＷの交換を行って次のウェハＷに第２パターンを転写した後に、レチクルを交換し第２パターンの潜像に対して第１パターンを重ね合わせて転写するシーケンス（以下「シーケンス１」という。）と、
　１つのロットの全てのウエハＷに対して第１パターンを転写した後にレチクルを交換し、ロット内の最後のウェハＷから順番に第２パターンを第１パターンの潜像に対して重ね合わせて転写するシーケンス（引用発明のシーケンスに相当する。以下「シーケンス２」という。）と、
　１ロットのウエハを複数のグループに分けて、１グループの全てのウェハＷに対して第１パターンを転写した後にレチクルの交換を行い、第１パターンが転写されたウェハＷに対して第２パターンを重ね合わせて転写し、また、次のグループのウェハＷに対しては、最初に第２パターンを転写し、しかる後にレチクルの交換を行って第１パターンを重ね合わせて転写するというシーケンス（以下「シーケンス３」という。）と
　が並列して記載されている。
　そして、引用文献２の「レチクル交換方法（γ）については、露光から現像までの時間間隔が長くなるため、二重露光に適切でない。すなわち、（δ）の方法に従ってレチクルＲ１、Ｒ２の交換を行うことが二重露光にとっては好ましい。しかしながら、方法（δ）はレチクルの交換回数が多いので、必然的に露光装置のスループットが低下する。」との記載（上記「第２」「２．」「（２）」の記載事項（ａ））において、「レチクル交換方法（γ）」、「（δ）の方法」はそれぞれシーケンス２、シーケンス１であり、この記載からは、シーケンス２では、スループットは高いが露光から現像までの時間間隔が長くなり、逆に、シーケンス１では、スループットは低いが露光から現像までの時間間隔が短くなるというトレードオフの関係が示唆されており、さらに、このトレードオフの関係において、シーケンス３がシーケンス２とシーケンス１の間に位置することは当業者には明らかである。
　すると、このトレードオフの関係を考慮して、シーケンス２に相当する引用発明のシーケンスに換えて、シーケンス３を採用する、すなわち、
　引用発明の「ロット内の全てのウエハに１枚目のレチクルを用いて露光を行った後でレチクル交換を行い、次に２枚目のレチクルを用いて同一のロット内の全てのウエハに対して二重露光を行い、また、そのロットに続けて次のロットのウエハを二重露光するときは、レチクルステージに載置されている２枚目のレチクルを用いて最初に露光を行い、その後でレチクル交換を行って１枚目のレチクルを用いて二重露光を行うシーケンス」に換えて、
　１ロットのウエハを複数のグループに分けて、１グループの全てのウェハＷに対して第１パターンを転写した後にレチクルの交換を行い、第１パターンが転写されたウェハＷに対して第２パターンを重ね合わせて転写し、また、次のグループのウェハＷに対しては、最初に第２パターンを転写し、しかる後にレチクルの交換を行って第１パターンを重ね合わせて転写するというシーケンスを採用することは、当業者が容易に想到し得ることである。
　この採用の際に、１グループのウエハの枚数を決定する必要があるが、当業者であれば設定可能な１グループのウエハの枚数として種々の枚数を試みることは普通であり、また、１グループのウエハの枚数の大小が、上記トレードオフの関係と同様のトレードオフの関係にあることは当業者には明らかであるから、このトレードオフの関係を考慮して、１グループのウエハの枚数を２枚とすることは、当業者が適宜選択し得ることである。
　そして、この１グループのウエハの枚数を２枚として採用したシーケンス３は、引用発明がダブルウエハステージ方式の露光装置であることを考慮すれば、第１のグループの第１、２のウエハを第１のレチクルで露光し、第１のレチクルを第２のレチクルに交換し、第１のグループの第１、２のウエハを第２のレチクルで露光し、その後、第１グループの第１、２のウエハを第２グループの第３、４のウエハと交換し、第２のグループの第３、４のウエハを第２のレチクルで露光し、第２のレチクルを第１のレチクルに交換し、第２のグループの第３、４のウエハを第１のレチクルで露光し、その後、第２グループの第３、４のウエハを第３グループの第５、６のウエハと交換し、第３のグループの第５、６のウエハを第１のレチクルで露光するというシーケンスとなり、このシーケンスは本願発明のシーケンスと同一である。
　
（２）相違点（ロ）について
　２枚のレチクルを用いて二重露光を行う際の２枚のレチクルを異なるものとすることは、引用文献２（明細書第４頁第２行〜同第１８行の方式（Ａ）及び（Ｂ）を参照）等に示されるように周知であるから、引用発明において、「１枚目のレチクル」と「２枚目のレチクル」を異なるものとすることは、当業者が適宜なし得ることである。
　
（３）効果について
　特開２００１−２３７１６７号公報（特に、段落【０００６】参照）に記載されるような「１回目の露光を行った後に、次に実施する２回目の露光をできる限り速やかに行わなければならない。さもなければ、レジストが劣化して正確な回路パターンの転写が保障されなくなるためである。」という周知の課題を参酌すれば、上記１グループのウエハの枚数を２枚としたシーケンス３が、１回目の露光と２回目の露光の時間間隔を短くできるという効果を奏し得ることは、当業者が予測し得るものである。
　すると、本願発明が奏し得る効果は、引用発明、引用文献２に記載された事項及び周知技術から当業者が予測し得る範囲のものであって格別なものではない。
　
（４）結論
　したがって、本願発明は、引用発明、引用文献２に記載された事項及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
　
第３　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明、引用文献２に記載された事項及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、本願の他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。