【事件の表示】
　特願２００８−　１１９６２「常温溶融塩浴を用いた電気Ａｌ又はＡｌ合金めっき浴及びそれを用いるめっき方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２１年　８月　６日出願公開、特開２００９−１７３９７７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
［１］手続の経緯
　本願は、平成２０年１月２２日の出願であって、平成２４年９月１０日付けで拒絶理由通知がなされ、同年１１月１６日付けで意見書及び手続補正書が提出され、平成２５年４月１１日付けで拒絶査定がなされ、同年７月２２日に拒絶査定不服の審判が請求されたものである。
　
［２］本願発明
　本願の請求項１−４に係る発明は、平成２４年１１月１６日付け手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１−４に記載された事項により特定されたとおりのものと認められるところ、その請求項１に係る発明は、以下のとおりのものである。
　
「【請求項１】
　（Ａ）アルミニウムハロゲン化物、（Ｂ）Ｎ−アルキルピリジニウムハライド類、Ｎ−アルキルイミダゾリウムハライド類、Ｎ，Ｎ’−アルキルイミダゾリウムハライド類、Ｎ−アルキルピラゾリウムハライド類、Ｎ，Ｎ’−アルキルピラゾリウムハライド類、Ｎ−アルキルピロリジニウムハライド類及びＮ，Ｎ’− アルキルピロリジニウムハライド類からなる群から選ばれる１種又は２種以上の化合物、（Ｃ）沸点１６０℃以上の（大気圧下で測定した場合）の高沸点芳香族炭化水素溶媒を含む電気Ａｌ−Ｚｒ合金めっき浴であって、さらに５０容量％を超えない範囲で（Ｃ）高沸点芳香族炭化水素溶媒を含有し、（Ｄ）スチレン系ポリマー及び脂肪族ジエン系ポリマーからなる群より選ばれる１種又は２種以上の有機重合体を０．１〜５０ｇ／ｌ含有し、（Ｆ）Ｚｒの塩を５〜２０ｇ／ｌ含有し、（Ａ）アルミニウムハロゲン化物と（Ｂ）化合物とのモル比が１：１〜３：１であり、引火点が６１℃以上である、電気Ａｌ−Ｚｒ合金めっき浴。」（以下、「本願発明１」という。）
　
［３］引用刊行物の記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用された、本出願前に頒布された特開平２−１３３５９６号公報（以下、「引用刊行物１」という。）、特開平５−５１７８５号公報（以下、「引用刊行物２」という。）、「Electrodeposition of Al-Zr Alloy from  Lewis Acidic Aluminum Chloride-1-Ethyl-3-methyllimidazolium Chloride Melt 」（Journal of Electrochemical Society ，151(7)C447-C454(2004)) （以下、「引用刊行物３」という。）には、それぞれ、以下の事項が記載されている。
　
（１）引用刊行物１
（１ａ）「２．特許請求の範囲
（１）ハロゲン化アルミニウム（ＡｌＸ３、但しＸはＦ、Ｃｌ、Ｉ、Ｂｒ）５０〜８０モル％とブチルピリジニウムクロリド（Ｃ５Ｈ５Ｎ−Ｃ４Ｈ９Ｃｌ）２０〜５０モル％からなる溶融塩浴に（ジ）エチルベンゼン、クメン、メシチレン、（ジ、トリ）クロロベンゼンの１種または２種以上をハロゲン化アルミニウム１モル当たり０．２〜３モル添加したことを特徴とするつき回り性に優れた電気アルミニウムめっき浴。」（第１頁左下欄第５−１３行）
  
（１ｂ）「３．発明の詳細な説明
（産業上の利用分野）
　本発明は、つき回り性（均一電着性）を改善したハロゲン化アルミニウム−ブチルピリジニウムクロリド−有機溶剤からなる電気アルミニウムめっき浴およびその浴によるめっき方法に関する。
（従来技術）
　本発明者らは、先に低温で安全な電気アルミニウムめっき浴として、ハロゲン化アルミニウム（ＡｌＸ３、但しＸはＦ、Ｃｌ、Ｉ、Ｂｒ）５０〜８０モル％とブチルピリジニウムクロリド（Ｃ５Ｈ５Ｎ−Ｃ４Ｈ９Ｃｌ）２０〜５０モル％からなる溶融塩浴に有機溶剤を添加しためっき浴を提案した（特開昭６２−７０５９３号）。
（発明が解決しようとする問題点）
　このめっき浴では、有機溶剤として、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素を使用していたが、このような溶剤を使用した場合、電流密度を平均電流密度では０．１A／ｄｍ２以上にしないと、均一にめっきできず、平均電流密度を０．１A／ｄｍ２  未満ではつき回り性が劣るものであった。……
（問題点を解決するための手段）
　本発明は、ハロゲン化アルミニウムとブチルピリジニウムクロリドとの組成が前記比率の溶融塩浴に添加する有機溶剤に（ジ）エチルベンゼン、クメン、メシチレン、（ジ、トリ）クロロベンゼンを用い、これらの１種または２種以上をハロゲン化アルミニウム１モル当たり０．２〜３モル添加することによりつき回り性を向上させた。そして、この浴で浴温０〜１５０℃、平均電流密度０．０２〜５０Ａ／ｄｍ２の直流またはパルス電流でめっきできるようにした。」（第１頁右下欄第３行−第２頁左上欄第１６行）
　
（１ｃ）「（実施例）
　冷延鋼板（０．１ｍｍ厚）にアルカリ電解脱脂、水洗、酸洗、水洗の順で前処理を施した後、大気中で乾燥して、これを陰極、アルミニウム板（純度９９．９９ｗｔ％）を陽極にし、塩化アルミニウム７０モル％とブチルピリジニウムクロリド３０モル％に本発明の有機溶剤を添加しためっき浴にて電気めっきした。第１〜５表にこの結果を示す。」（第２頁左下欄第４−１１行）と記載され、第１表には、有機溶剤として、ｍ−ジエチルベンゼンを加え、浴温０℃あるいは１５０℃にて電気めっきを行い、いずれもめっき状態は均一であること（ＮＯ１３−１８）が示されている。
　
（２）引用刊行物２
（２ａ）「【請求項１】  （Ａ）アルミニウムハロゲン化物と、
（Ｂ）モノアルキルピリジニウムハロゲン化物、ジアルキルピリジニウムハロゲン化物、１−アルキルイミダゾリウムハロゲン化物及び１，３−ジアルキルイミダゾリウムハロゲン化物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物とを１：１〜３：１のモル比で混合溶融してなるめっき浴において、下記（Ｃ）及び（Ｄ）からなる群から選ばれる１種または２種以上の有機重合体を０．１〜５０ｇ／ｌ含有することを特徴とする電気アルミニウムめっき浴。
（Ｃ）下記一般式（Ｉ）で表わされる重合体
【化１】
　　　
（式中、Ｒ１ 〜Ｒ３ はそれぞれ水素又は炭素数１〜５のアルキル基、Ｒ４ 及びＲ５はそれぞれ水素又は炭素数１〜２のアルキル基、Ａは他の共重合性ビニルモノマー又は一般式〔II〕で表わされるモノマー
【化２】
　　
であり、ｎが２以上、ｍが０以上の整数であり、ｎ＋ｍの合計は一般式（Ｉ）の重合体の重量平均分子量が80,000になるまでの任意の数である。）
（Ｄ）下記一般式（III)で表わされる重合体
【化３】
　　
（式中ｌは５以上であって、一般式（III)の重合体の重量平均分子量が80,000になるまでの任意の数である。）
　……」（【特許請求の範囲】）
　
（２ｂ）「【発明が解決しようとする課題】本発明は、空気や水と接触した場合にも爆発の危険がなく、
かつ高電流密度部分においてもデンドライド析出が発生しない平滑で均一なめっき皮膜を得ることができる
　
（２ｃ）「……。
本発明のアルミニウムハロゲン化物は、ＡｌＸ
３
で表され、Ｘは
塩素が好ましい
本発明で用いられるモノアルキルピリジニウムハロゲン化物及びジアルキルピリジニウムハロゲン化物は、それぞれ式（IV) 及び（Ｖ）で表わされるものが好ましい。
【化７】
　
（式中、Ｒ６は炭素数１〜１２、好ましくは１〜５のアルキル基、Ｒ７は、炭素数１〜６、好ましくは１〜３のアルキル基、Ｘはハロゲンである。）
さらに本発明に用いられる１−アルキルイミダゾリニウムハロゲン化物及び１，３−ジアルキルイミダゾリニウムハロゲン化物は、それぞれ式（VI) 及び（VII)で表わされるものが好ましい。
【化８】
　
（式中、Ｒ８は炭素数１〜１２、好ましくは１〜５のアルキル基、Ｒ２は、炭素数１〜６、好ましくは１〜３のアルキル基、Ｘはハロゲンである。）
式（IV) 〜（VII)の化合物として、具体的には
ブチルピリジニウムクロリド
があげられる
　
本発明の良好なめっき皮膜を得るための溶融塩浴は、（Ａ）成分と（Ｂ）成分とを１：１〜３：１、好ましくは２：１のモル比で使用して溶融塩を形成する
　本発明では、
上記溶融塩に上記特定の重合体（Ｃ）及び／又は（Ｄ）を添加することを特徴とする。ここで成分（Ｃ）又は（Ｄ）のデンドライド析出を防止し、平滑効果を示す化合物は、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｍ−メチルスチレンなどのスチレン系ホモポリマー、これら同士のコポリマー、あるいは、スチレン系モノマーと他の重合性のビニール系モノマーとのコポリマーがあげられる。
　
（３）引用刊行物３
「Electrodeposition of Al-Zr Alloys from Lewis Acidic Aluminum Chloride-1-Ethyl-3-methylimidazolium Chloride Melt 」（ルイス酸性アルミニウム塩化物−１−エチル−３−メチルイミダゾリウム塩化物溶融物からのＡｌ−Ｚｒ合金の電着」と題し、以下の事項が記載されている。
（３ａ）「The electrochemistry of  Zr(ＩＶ)and Zr(ＩＩ)and the electrodeposition of  Al-Zr alloys were examined in the Lewis acidic 66.7-33.3 mol% aluminum chloride-1-ethyl-3-methylimidazolium chloride molten salt at 353 K. The electrochemical reduction of Zr(ＩＶ) to Zr(ＩＩ) is complicated by the precipitation of ZrCl3; however, solutions of Zr(ＩＩ) can be prepared by reducing Zr(ＩＶ) with Al wire.  Al-Zr alloys can be electrodeposited from plating baths containing either Zr(ＩＶ) or Zr(ＩＩ), but for a given concentration and current density, baths containing Zr(ＩＶ) lead to Al-Zr alloys with the higher Zr content. ……. The chloride pitting potentials of alloys with more than 8 atom % Zr were approximately +0.3 V relative to pure Al .」（第１頁　概要の項）
（当審による翻訳；　以下、同様。
「Ｚｒ(ＩＶ)とＺｒ(ＩＩ)の電気化学とＡｌ−Ｚｒ合金の電着について、３５３Ｋのルイス酸性６６．７−３３．３モル％アルミニウム塩化物−１−エチル−３メチルイミダゾリウム塩化物溶融塩中で試験が行われた。
　Ｚｒ(ＩＶ)からＺｒ(ＩＩ)への電気化学的還元はＺｒＣｌ３の沈殿により複雑であるが、Ｚｒ(ＩＩ)の溶液はＡｌワイヤとともにＺｒ(ＩＶ)の還元により作成される。Ａｌ−Ｚｒ合金は、Ｚｒ(ＩＶ)あるいはＺｒ(ＩＩ)を含むめっき浴から電着され、供給された濃度や電流密度で、Ｚｒ(ＩＶ) を含む浴は、より高いＺｒ含有量のＡｌ−Ｚｒ合金をもたらす。……。合金の塩化物孔食電位は、８原子％以上のＺｒ含有量では、純Ａｌに比べ大体＋０．３Ｖである。」）
　
（３ｂ）「Experimental
　Procedures used for the synthesis of EtMeImCl, purification of AlCl3 by sublimation, and preparation and purification of the AlCl3-EtMeImCl molten salt were identical to those described in a previous article. 26 Anhydrous ZrCl4(Aldrich,99.9+%)was used as received. The preparation of the molten salt and all electrochemical experiments were carried out in a nitrogen gas-filled glove box (VAC Atomospheres Nexus system)C with O2 and H2O concentrations ＜5 ppm.
　　……
　The electrodeposition of Al-Zr alloys was performed with an EGG PARC model 173 potentiostat/galvanostat equipped with a model 179 digital coulometer plug-in module. Alloy samples approximately 10 μm thick were deposited on a length of 1.25 mm diam copper wire(99.9% purity) from solutions of  Zr(ＩＶ) or Zr(ＩＩ) in the  AlCl3-EtMeImCl molten salt.」（第２頁左欄第１−３９行）
（「　実験
ＥｔＭｅＩｍＣｌ の合成、昇華によるＡｌＣｌ３の純化、ＡｌＣｌ３−ＥｔＭｅＩｍＣｌの準備及び純化の手順は、先の２６において記載されたものと同じである。無水ＺｒＣｌ４（アルドリッチ、９９．９＋％）が使用された。溶融塩の準備及び全ての電気化学的実験は、窒素ガス充填したグローブボックス（ブイエ−シー　アトモスフィアー　ネクサス　システム）C内で酸素及び水の濃度が５ｐｐｍ未満で実行された。
 ……
  Ａｌ−Ｚｒ合金の電着は、モデル１７９　ディジタル　クーロメーター
プラグインモジュールを装備した、イージーアンドジー　ピーエーアールシー　モデル１７３　ポテンショスタット／ガルバノスタットで行った。大体１０ミクロン厚さの合金試料が、ＡｌＣｌ３−ＥｔＭｅＩｍＣｌ溶融塩中のＺｒ(ＩＶ)あるいはＺｒ(ＩＩ)溶液から直径１．２５ミリの銅ワイヤー（９９．９％純度）上に堆積した。」）
　
（３ｃ）Figure６.（図６）には、「Relationship between the applied current density and Zr content of Al-Zr deposits prepared in the 66.7-33.3 mol % AlCl3-EtMeImCl melt:(●)19.5mmol L-1 Zr(ＩＶ）,（○）19.5 mmol L-1 Zr(ＩＩ）, （▲）4.85 mmol L-1 Zr(ＩＶ),and（△）4.85 mmol L-1 Zr（ＩＩ). The electrode rotation rate was 2000 rpm.」（「６６．７−３３．３モル％のＡｌＣｌ３−ＥｔＭｅＩｍＣｌ溶融中で形成されたＡｌ−Ｚｒ堆積物中の供給電流密度とＺｒ含有量の関係；(●)１９．５ミリモル／リットル　Ｚｒ（ＩＶ）、（○）１９．５ミリモル／リットル　Ｚｒ（ＩＩ）、（▲）４．８５ミリモル／リットル　Ｚｒ（ＩＶ）、そして（△）４．８５ミリモル／リットル　Ｚｒ（ＩＩ）．電極回転割合は２０００回転／分であった。」）と題し、例えば、(●)１９．５ミリモル／リットル　Ｚｒ（ＩＶ）の場合、電流密度４０（ｍＡｃｍ−２）以下の範囲で１７原子％程度のＺｒ含量であることが示されている。
　
（３ｄ）Figure12.（図１２）には、「Pitting potentials as a function of composition for the Al-Zr alloys described in Fig.11. Alloys electrodeposited from solutions containing (●) Zr（ＩＩ）and （○）Zr（ＩＶ）.」（「図１１に示したＡｌ−Ｚｒ合金での組成の関数としての孔食電位。合金は (●) Zr（ＩＩ）と（○）Zr（ＩＶ）を含む溶液から電着した。」）と題し、Ｚｒ含有量が、８原子％以上では、純Ａｌに比べて孔食電位が＋０．３（Ｖ）であることが示されている。
　
［４］引用刊行物１記載の発明
　上記記載事項（１ａ）によれば、ハロゲン化アルミニウムとブチルピリジニウムクロリドとのモル比は１：１〜４：１であることは明らかである。
　よって、上記記載事項（１ａ）−（１ｃ）によれば、引用刊行物１には、
 「ハロゲン化アルミニウムとブチルピリジニウムクロリドとｍ−ジエチルベンゼンを含み、ｍ−ジエチルベンゼンをハロゲン化アルミニウム１モル当たり０．２〜３モル添加し、ハロゲン化アルミニウムとブチルピリジニウムクロリドとのモル比が１：１〜４：１である電気アルミニウムめっき浴。」（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　
［５］対比・判断
　本願発明１と引用発明とを対比すると、引用発明における「ハロゲン化アルミニウム」、「ブチルピリジニウムクロリド」は、本願発明１の「アルミニウムハロゲン化物」、「Ｎ−アルキルピリジニウムハライド類の化合物」に相当する。
　また、引用発明の「ｍ−ジエチルベンゼン」は、沸点が１８１〜１８２℃であり、本願発明１の「沸点１６０℃以上の（大気圧下で測定した場合）の高沸点芳香族炭化水素溶媒」に相当する。
　そして、本願発明１の「電気Ａｌ−Ｚｒ合金めっき浴」と引用発明の「電気アルミニウムめっき浴」は、ともに「電気アルミニウム系めっき浴」である点で共通する。
　
　よって、両者は、
「（Ａ）アルミニウムハロゲン化物、（Ｂ）Ｎ−アルキルピリジニウムハライド類の化合物、（Ｃ）沸点１６０℃以上の（大気圧下で測定した場合）の高沸点芳香族炭化水素溶媒を含有し、（Ａ）アルミニウムハロゲン化物と（Ｂ）化合物とのモル比が１：１〜３：１である電気アルミニウム系めっき浴。」である点で一致し、以下の点で相違する。
　
 ・（相違点１）
　本願発明１では、「（Ｄ）スチレン系ポリマー及び脂肪族ジエン系ポリマーからなる群より選ばれる１種又は２種以上の有機重合体を０．１〜５０ｇ／ｌ含有」するのに対し、引用発明では、その記載がない点。
　
・（相違点２）
　本願発明１では、「（Ｆ）Ｚｒの塩を５〜２０ｇ／ｌ含有」する「電気Ａｌ−Ｚｒ合金めっき浴」であるのに対し、引用発明では、Ｚｒの塩を含有しない電気アルミニウムめっき浴である点。
　
・（相違点３）　
  本願発明１では、高沸点芳香族炭化水素溶媒を「５０容量％を超えない範囲」含有し、めっき浴の「引火点が６１℃以上である」のに対し、引用発明では、その記載がない点。
　
  上記各相違点について検討する。
・（相違点１）について
　引用刊行物２には、アルミニウムハロゲン化物とモノアルキルピリジニウムハロゲン化物を１：１〜３：１のモル比で混合溶融してなる電気アルミニウムめっき浴において、例えば、スチレン系ポリマーを添加することにより、デンドライド析出がない平滑で均一なめっき皮膜を得ることが記載されている。
　とすれば、引用発明自体、均一にめっきすることを目的とするめっき浴であり（上記記載事項（１ｂ）、（１ｃ））、さらにめっきの均一性を高めるべく、該めっき浴に引用刊行物２に記載のスチレン系ポリマーを添加することは、当業者が容易に想到することである。
　
・（相違点２）について
　引用刊行物３には、電気Ａｌめっき浴中にＺｒ塩（ＺｒＣｌ４）を加えることにより、Ｚｒを１７原子％まで含有するＡｌ−Ｚｒ合金めっき膜を形成すること（上記記載事項（３ａ）−（３ｃ））、そして、該合金めっき膜中のＺｒ含有量が８原子％以上になると、純Ａｌめっき膜に対し約＋０．３Ｖまで合金めっき膜の孔食電位が増加すること（上記記載事項（３ａ）、（３ｄ））が記載されている。これは、電気Ａｌ系めっきにおいて、Ｚｒを８原子％以上含有するＡｌ−Ｚｒ合金めっき膜とした場合、純Ａｌめっき膜に比べ、耐孔食性が向上することを意味するものである。
　そして、引用発明に係る電気アルミニウムめっき膜においても、耐孔食性が求められることは明らかであり、そのめっき浴に引用刊行物３に記載されるようなＺｒ塩（ＺｒＣｌ４）を加え、Ａｌ−Ｚｒ合金めっき膜の形成浴とすることに格別の困難性は認められず、その含有量を「５〜２０ｇ／ｌ」とすることは、所望とする耐孔食性に応じ適宜決定すべき設計的事項にすぎない。
　
　この点につき、審判請求人は、「ＺｒＣｌ４の追加による皮膜のＳＳＴ耐食性の向上については、引用文献１〜４には、何ら記載も示唆もなく、いかに当業者であっても容易に想到できるものではない。」（審判請求書第４頁第１９−２２行）と主張するが、引用刊行物１の実施例に記載されるような、鋼板表面に電気アルミニウムめっきを施した電気アルミニウムめっき鋼板において、アルミニウムめっき膜に孔食が発生し、それが素地鋼板に達すると、ある時点で素地鋼板の腐食が開始し、赤錆が発生することは技術常識であり（例えば、下記参考文献参照）、上記のとおり、Ａｌめっき浴にＺｒ塩（ＺｒＣｌ４）を含有させ、Ａｌ−Ｚｒ合金めっき膜とすることにより耐孔食性を向上させれば、その結果、めっき鋼板の耐赤錆性すなわちＳＳＴ耐食性が向上することは明らかであるから、上記主張は採用しえない。
　
・参考文献：特開平５−１７８６５号公報
「【００９】
【作用】Ａｌめっき鋼板の耐食性……を改善するには、めっき層で孔食が発生するのを抑制して、めっき層中にピンホールが発生するのを抑制する……ことが必須条件である。
…すなわち、Ａｌめっき層の腐食は、孔食であるが、この孔食が素地鋼板に達すると、素地鋼板とめっき層との間に局部電池が形成されて、その間にガルバニック電流が流れ、めっき層が電位的に卑になって優先的に溶解することにより生じるものである。……。
そして、めっき層の溶解が素地鋼板に対するＡｌの犠牲防食作用の及ばない範囲にまで拡大した時点で素地鋼板の腐食が開始され、赤錆が発生するのである。」
　
・（相違点３）について
　引用発明は、メッキ浴に添加する有機溶剤として、ベンゼンの代わりに、ｍ−ジエチルベンゼンを用いることにより、つき回り性（均一電着性）を改善するものである（上記記載事項（１ｂ）、（１ｃ））。
　一方、ｍ−ジエチルベンゼンは、ベンゼンよりも引火点が高い（ベンゼン：−１１．１０℃、ｍ−ジエチルベンゼン：５０℃）ことから、ｍ−ジエチルベンゼンを添加すれば、ベンゼンを添加するよりもメッキ浴の引火点が上がることは自明である。
　とすれば、安全性のためには、めっき浴の引火点は高い方が望ましいことは明らかであり、つき回り性（均一電着性）との関係において、許容しうる引火点を「６１℃以上」に定めるとともに、ｍ−ジエチルベンゼン（沸点１８１〜１８２℃）の添加量を「５０容量％を超えない範囲」とすることは、当業者が適宜なしえる設計的事項である。
　
　そして、本願発明１が、引用刊行物１−３からは予想しえない格別の効果を奏するものとは認められない。
　よって、本願発明１は、引用発明及び引用刊行物２、３に記載された事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
［６］むすび
　以上のとおり、本願発明１は、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない。
　したがって、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。