Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月3日(2015.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線硬化可能で水中に分散されたポリウレタンでコーティングされた基材であって、該分散されたポリウレタンが、
ａ）少なくとも１種の脂肪族ジイソシアナート又はポリイソシアナート、
ｂ）イソシアナート基に対して反応性の少なくとも１個の基と、少なくとも１個のラジカル重合可能なＣ＝Ｃ−二重結合とを有する、少なくとも１種の化合物、
ｃ）任意に、５００ｇ／モル未満のモル質量を有し、ヒドロキシル基、メルカプト基、第一級及び／又は第二級のアミノ基の中から選択されている、イソシアナート基に対して反応性の少なくとも２個の基を有する、少なくとも１種の化合物、
ｄ）イソシアナート基に対して反応性の少なくとも１個の基と、少なくとも１個の酸基とを有する、少なくとも１種の化合物、
ｅ）化合物ｄ）の酸基を中和又は部分中和するための、少なくとも１種の塩基性化合物、
ｆ）任意に、ｂ）、ｄ）及びｅ）とは異なり、イソシアナート基に対して反応性の１個のみの基を有する、少なくとも１種の化合物、
ｇ）任意に、ａ）とは異なる、少なくとも１種のジイソシアナート又はポリイソシアナート、
ｈ）任意に、反応性希釈剤、光開始剤及び通常の塗料添加剤の中から選択されている、更なる添加剤、
ｉ）水並びに
ｋ）任意に、少なくとも１種のジアミン及び／又はポリアミン
から構成され、
その際に、動的光散乱によりMalvern(登録商標) Zetasizer 1000を用いて２５℃で測定される、その水性分散液中の粒子の平均直径（ｚ平均値）が、３０ｎｍ、好ましくは２５ｎｍを越えず、かつ
化合物ａ）及びｇ）からの全体で使用されるＮＣＯ基に対する、成分ｇ）のＮＣＯ基の割合が、２０モル％以下であり、
該基材が、コーティングされたオーク、トウヒ、マツ、ブナ、カエデ、クリ、プラタナス、ハリエンジュ、トネリコ、カバ、カサマツ、ニレ、クルミ又はマコレである、
放射線硬化可能で水中に分散されたポリウレタンでコーティングされた基材。
【請求項２】
該分散されたポリウレタンの二重結合密度が少なくとも１．５モル／ｋｇである、請求項１記載の基材。
【請求項３】
該分散されたポリウレタン中で、成分ａ）が、１，６−ヘキサメチレンジイソシアナートをベースとするアロファナート基含有オリゴマーであり、その場合に１，６−ヘキサメチレンジイソシアナートが化合物ｂ）の少なくとも一部と反応してアロファナート基含有オリゴマーとなる、請求項１又は２記載の基材。
【請求項４】
該分散されたポリウレタン中で、成分ｂ）が、２−ヒドロキシエチルアクリラート、２−ヒドロキシエチルメタクリラート、２−ヒドロキシプロピルアクリラート、２−ヒドロキシプロピル−メタクリラート、３−ヒドロキシブチルアクリラート、３−ヒドロキシブチルメタクリラート、４−ヒドロキシブチルアクリラート、４−ヒドロキシブチルメタクリラート、６−ヒドロキシヘキシルアクリラート、６−ヒドロキシヘキシルメタクリラート、３−ヒドロキシ−２−エチルヘキシルアクリラート、３−ヒドロキシ−２−エチルヘキシルメタクリラート、トリメチロールプロパンモノアクリラート又はトリメチロールプロパンジアクリラート、ペンタエリトリトールジアクリラート又はペンタエリトリトールトリアクリラート及びそれらの混合物の中から選択されている、請求項１から３までのいずれか１項記載の基材。
【請求項５】
該分散されたポリウレタン中で、成分ｃ）が脂肪族又は環式脂肪族である、請求項１から４までのいずれか１項記載の基材。
【請求項６】
該分散されたポリウレタン中で、成分ｄ）が、ジメチロールプロピオン酸及びジメチロール酪酸からなる群から選択されている、請求項１から５までのいずれか１項記載の基材。
【請求項７】
請求項１から６までのいずれか１項記載の放射線硬化可能で水中に分散されたポリウレタンを基材上へ塗付し、引き続き乾燥及び放射線硬化させ、その際に、該基材が、コーティングされたオーク、トウヒ、マツ、ブナ、カエデ、クリ、プラタナス、ハリエンジュ、トネリコ、カバ、カサマツ、ニレ、クルミ又はマコレであることを特徴とする、基材をコーティングする方法。
【請求項８】
オーク、トウヒ、マツ、ブナ、カエデ、クリ、プラタナス、ハリエンジュ、トネリコ、カバ、カサマツ、ニレ、クルミ、マコレ又はコルクをコーティングするための、コーティング材料として又はコーティング材料における、請求項１から６までのいずれか１項記載の放射線硬化可能で水中に分散されたポリウレタンの使用。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月15日(2015.4.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属基体（１０２）と；
前記金属基体の上および外側に設けられたシールめっき層（１０４）と；
前記シールめっき層の上および外側に設けられたニッケルめっき層（１０６）と；
前記ニッケルめっき層の上および外側に設けられた金めっき層（１０８）と；
を含み、前記シールめっき層が非ニッケル系金属である導電体（１００）。
【請求項２】
前記シールめっき層（１０４）がスズ系である請求項１の導電体（１００）。
【請求項３】
前記シールめっき層（１０４）が、ニッケルめっき層（１０６）よりも低い気孔率を有する請求項１の導電体（１００）。
【請求項４】
前記シールめっき層（１０４）が、前記ニッケルめっき層（１０６）および前記金属基体（１０２）と金属間化合物の界面（１１２、１１４）を作る、請求項１の導電体（１００）。
【請求項５】
前記シールめっき層（１０４）が、ピンホールを含まない請求項１の導電体（１００）。
【請求項６】
前記シールめっき層（１０４）が、前記ニッケルめっき層（１０６）よりも貴である、請求項１の導電体（１００）。
【請求項７】
実質的に全てまたは全ての前記シールめっき層の金属が、前記シールめっき層と前記金属基体との間および前記シールめっき層と前記ニッケルめっき層との間の金属間化合物の界面（１１２、１１４）に転換されるように、前記シールめっき層（１０４）が、前記金属基体（１０２）、前記ニッケルめっき層（１０６）および前記シールめっき層の金属化合物に基づいて選択される厚さを有する、請求項１の導電体（１００）。
【請求項８】
前記シールめっき層（１０４）が、前記ニッケルめっき層（１０６）と前記金めっき層（１０８）とを合わせた厚さの２５％より小さい厚さを有する、請求項１の導電体（１００）。
【請求項９】
前記シールめっき層（１０４）が、前記ニッケルめっき層（１０６）と前記金めっき層（１０８）とを合わせた厚さの１０％より小さい厚さを有する、請求項１の導電体（１００）。
【請求項１０】
前記導電体が、プリント基板または別の相手側の接触部の少なくとも１つと係合するように構成された接触部を含み、前記接触部が前記金属基体（１０２）と、前記シールめっき層（１０４）と、前記ニッケルめっき層（１０６）と、前記金めっき層（１０８）とを含む、請求項１の導電体（１００）。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年9月9日(2015.9.9)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
本発明は、センサ使用可能なジオシンセティック（ＳＥＧ）材料に関し、ジオシンテープ及びジオシンセティック構造を構成するために用いる。該構造には例えば、ジオグリッド、ジオメンブレン、ジオテキスタイル、ジオネット、ジオシンセティック粘土ライナー、ジオフォーム及びジオコンポジットが挙げられ、これらは、強化及び格納応用に使用される。これらのジオシンセティック構造は広い範囲の応用を持ち、現在では多くの都市、ジオテクニカル、輸送、ジオ環境、水力学及び個人開発応用、例えば道路、飛行場、鉄道、堤防、土止構造、貯水場、運河、ダム、腐食制御、沈殿制御、埋め立てライナー、埋め立てカバー、鉱山、漁業及び農業などの分野である。ジオシンテープは薄いテープ（又はフィルムストリップ）でありセンサ使用可能なジオシンセティック材料から製造される。どのような構造物にも付すことができ、該構造物に与えられる機械的歪を測定する。より具体的に、前記ジオシンテープは、ジオシンセティック構造の機械的歪を測定するために使用される。前記センサ使用可能なジオシンセティック材料はセンサ可能性が埋め込まれており、前記ジオシンセティック構造のあらゆる位置でのジオシンセティック構造に与えられている機械的歪を測定することができる。前記ジオシンセティック構造の機械的歪が変化すると、前記センサ使用可能なジオシンセティック材料の導電性が影響を受ける。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月22日(2015.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材（１、１ａ、１ｂ）上にバリヤー層を製造するための方法であって、
０．３〜１０容量％の細孔容積を有する無機酸化物層を有する基材（１、１ａ、１ｂ）を提供し；
無機酸化物層を有する前記基材をグロー放電プラズマ中で処理し、これに関し、前記プラズマは、少なくとも２つの電極（２、３）により、前記２つの電極の間に形成される処理空間（５）において発生させ、前記処理空間には、窒素化合物を含むガスも提供される；そして、
前記処理空間での基材の処理を、１５０℃未満の温度で行う、
ことを含む方法。
【請求項２】
基材の処理を、１〜３％の窒素原子濃度を含む上層を有するバリヤーが形成されるまで行う、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
窒素化合物を含むガスが、Ｎ２（窒素）および／またはＮＨ３（アンモニア）および／またはＮＯを含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
窒素化合物を含むガスが、０．１〜１０気圧の圧力を有する、請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
前記処理空間での基材（１、１ａ、１ｂ）の処理が、１０分未満の時間にわたり行われる、請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
基材（１、１ａ、１ｂ）が、フレキシブル基材である、請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
電極（２、３）がロール電極であり、フレキシブル層を、ある線速度で処理空間（５）に通して移動させる、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
提供される基材（１、１ａ、１）の無機酸化物層が酸化ケイ素層である、請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
上層が、５〜１５ｎｍの厚さである、請求項１〜８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
バリヤー層を有する基材（１、１ａ、１ｂ）であって、該バリヤー層は、０．３〜１０容量％の細孔容積を有する無機酸化物層を含み、該無機酸化物層はさらに、１〜３％の窒素原子濃度を含む上層を有する、基材。
【請求項１１】
提供される基材の無機酸化物層が酸化ケイ素層である、請求項１０に記載の基材（１、１ａ、１ｂ）。
【請求項１２】
基材（１、１ａ、１ｂ）が、フレキシブル基材である、請求項１０または１１に記載の基材（１、１ａ、１ｂ）。
【請求項１３】
上層が、５〜１５ｎｍの厚さである、請求項１０〜１２のいずれかに記載の基材（１、１ａ、１ｂ）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
【表２】
2014519558.tif 000001
本発明は以下の態様を含む。
［１］  基材（１、１ａ、１ｂ）上にバリヤー層を製造するための方法、これに関し、該方法は、以下を含む：
−０．３〜１０容量％の細孔容積を有する無機酸化物層を有する基材（１、１ａ、１ｂ）を提供し；
−無機酸化物層を有する前記基材をグロー放電プラズマ中で処理し、これに関し、前記プラズマは、少なくとも２つの電極（２、３）により、前記２つの電極の間に形成される処理空間（５）において発生させ、前記処理空間には、窒素化合物を含むガスも提供される；そして、
−前記処理空間での基材の処理を、１５０℃未満、例えば１００℃未満の温度で行う。
［２］  基材の処理を、１〜３％の窒素原子濃度を含む上層を有するバリヤーが形成されるまで行う、［１］に記載の方法。
［３］  窒素化合物を含むガスが、Ｎ２（窒素）および／またはＮＨ３（アンモニア）および／またはＮＯを含む、［１］または［２］に記載の方法。
［４］  窒素化合物を含むガスが、０．１〜１０気圧、例えば０．５〜５気圧、例えば０．６〜２気圧、または約１気圧の圧力を有する、［１］〜［３］のいずれかに記載の方法。
［５］  前記処理空間での基材（１、１ａ、１ｂ）の処理が、１０分未満、例えば５分未満、例えば２分未満の時間、例えば６０秒の時間にわたり行われる、［１］〜［４］のいずれかに記載の方法。
［６］  基材（１、１ａ、１ｂ）が、フレキシブル基材、とりわけフレキシブルポリマー基材である、［１］〜［５］のいずれかに記載の方法。
［７］  電極（２、３）がロール電極であり、フレキシブル層を、ある線速度で処理空間（５）に通して移動させる、［６］に記載の方法。
［８］  提供される基材（１、１ａ、１）の無機酸化物層が酸化ケイ素層である、［１］〜［７］のいずれかに記載の方法。
［９］  上層が、５〜１５ｎｍ、例えば７〜１２ｎｍの厚さである、［１］〜［８］のいずれかに記載の方法。
［１０］  基材（１、１ａ、１ｂ）上にバリヤー層を製造するための機器、これに関し、該機器は、以下を含む：
−少なくとも２つの電極（２、３）、これは、前記２つの電極の間に形成される処理空間（５）においてグロー放電プラズマを発生させるために配置されている；
−ガス供給機器（８）、これは、窒素化合物を含むガスを処理空間（５）に提供するために配置されている；
−これに関し、処理空間はさらに、無機酸化物層を有する少なくとも１つの基材を保持および処理するために配置されており、該機器は、該基材を前記処理空間において１５０℃未満、例えば１００℃未満の温度で処理するために配置されている。
［１１］  ［２］〜［９］の特徴のいずれかと組み合わせての請求項１０に記載の機器。  
［１２］  バリヤー層を有する基材（１、１ａ、１ｂ）、これに関し、該バリヤー層は、０．３〜１０容量％の細孔容積を有する無機酸化物層を含み、該無機酸化物層はさらに、１〜３％の窒素原子濃度を含む上層を有する。
［１３］  提供される基材の無機酸化物層が酸化ケイ素層である、［１２］に記載の基材（１、１ａ、１ｂ）。
［１４］  基材（１、１ａ、１ｂ）が、フレキシブル基材、とりわけフレキシブルポリマー基材である、［１２］または［１３］に記載の基材（１、１ａ、１ｂ）。
［１５］  上層が、５〜１５ｎｍ、例えば７〜１２ｎｍの厚さである、［１２］〜［１４］のいずれかに記載の基材（１、１ａ、１ｂ）。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月12日(2015.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
４７〜５０アミノ酸を有し、その分子構造内に配列番号：１の２〜４８の残基と少なくとも９０％の同一性を有する相同性領域を含むポリペプチドであって、ポリペプチドの残基２４が配列番号：１の残基２５に相当し、ポリペプチドの残基２４がバリンではない、ポリペプチド。
【請求項２】
ポリペプチドの残基２４がロイシンである、請求項１に記載のポリペプチド。
【請求項３】
ポリペプチドがそのＣ−末端でアミド化されている、請求項１に記載のポリペプチド。
【請求項４】
残基１がアセチル化されている、請求項１に記載のポリペプチド。
【請求項５】
ポリペプチドが配列番号：７または配列番号：８の一つから選択される、請求項１に記載のポリペプチド。
【請求項６】
さらに残基１の前の位置にメチオニンを含む、請求項１に記載のポリペプチド。
【請求項７】
２５〜２６アミノ酸を有し、その分子構造内に配列番号：１の２〜２６の残基と少なくとも９０％の同一性を有する相同性領域を含むポリペプチドであって、ポリペプチドの残基１０が配列番号：１の残基１１に相当し、ポリペプチドの残基１０がアラニンを除くいずれかのアミノ酸であり、ポリペプチドの残基２１がバリンを除くいずれかのアミノ酸である、ポリペプチド。
【請求項８】
残基１０がロイシン、アスパラギン酸、メチオニン、グルタミン酸およびイソロイシンの一つから選択される、請求項７に記載のポリペプチド。
【請求項９】
残基２１がロイシン、アスパラギン酸、メチオニン、グルタミン酸およびイソロイシンの一つから選択される、請求項７に記載のポリペプチド。
【請求項１０】
残基１がアセチル化されている、請求項７に記載のポリペプチド。
【請求項１１】
ポリペプチドが配列番号：１１、配列番号：１２、配列番号：１３、配列番号：１４、配列番号：１５または配列番号：１６の一つから選択される、請求項７に記載のポリペプチド。
【請求項１２】
さらに残基１の前の位置にメチオニンを含む、請求項７に記載のポリペプチド。
【請求項１３】
３７〜４５アミノ酸を有し、その分子構造内に配列番号：１の１２〜２４の残基と１００％の同一性を有し、配列番号：１の２６〜４８の残基と１００％の同一性を有する相同性領域を含むポリペプチドであって、ポリペプチドの残基１４が配列番号：１の残基２５に相当し、かつバリンではないか、またはポリペプチドの残基２１が配列番号：１の残基２５に相当し、かつバリンではない、のいずれかである、ポリペプチド。
【請求項１４】
ポリペプチドがそのＣ−末端でアミド化されている、請求項１３に記載のポリペプチド。
【請求項１５】
さらに残基１の前の位置にメチオニンを含む、請求項１３に記載のポリペプチド。
【請求項１６】
４７〜５０アミノ酸を有し、その分子構造内に配列番号：１の２〜４８の残基と１００％の同一性を有する相同性領域を含むポリペプチドであって、ポリペプチドがそのＣ−末端でアミド化されている、ポリペプチド。
【請求項１７】
残基１がアセチル化されている、請求項１６に記載のポリペプチド。
【請求項１８】
さらに残基１の前の位置にメチオニンを含む、請求項１６に記載のポリペプチド。
【請求項１９】
請求項１に記載のポリペプチドを含む、炎症の処置または予防のための医薬組成物。
【請求項２０】
請求項７に記載のポリペプチドを含む、炎症の処置または予防のための医薬組成物。
【請求項２１】
請求項１３に記載のポリペプチドを含む、炎症の処置または予防のための医薬組成物。
【請求項２２】
請求項１６に記載のポリペプチドを含む、炎症の処置または予防のための医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月17日(2015.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軟骨破壊および/または骨侵食の治療で使用するための抗NKG2A抗体、またはその抗原結合断片を含む医薬製剤。
【請求項２】
前記抗NKG2A抗体が軟骨破壊細胞の選択的排除を刺激し、および/または骨侵食細胞の形成を低下させる、請求項1に記載の治療で使用するための抗NKG2A抗体、またはその抗原結合断片を含む医薬製剤。
【請求項３】
前記軟骨破壊細胞が線維芽細胞様滑膜細胞(FLS)である、請求項1または2に記載の治療で使用するための抗NKG2A抗体、またはその抗原結合断片を含む医薬製剤。
【請求項４】
前記骨侵食細胞が破骨細胞である、請求項1から3のいずれか一項に記載の治療で使用するための抗NKG2A抗体、またはその抗原結合断片を含む医薬製剤。
【請求項５】
軟骨破壊および/または骨侵食が疾患または障害によって引き起こされることを特徴とする、請求項1から4のいずれか一項に記載の治療で使用するための抗NKG2A抗体、またはその抗原結合断片を含む医薬製剤。
【請求項６】
前記疾患または障害が骨関節炎である、請求項5に記載の治療で使用するための抗NKG2A抗体、またはその抗原結合断片を含む医薬製剤。
【請求項７】
前記疾患または障害が骨粗鬆症である、請求項5に記載の治療で使用するための抗NKG2A抗体、またはその抗原結合断片を含む医薬製剤。
【請求項８】
前記疾患または障害が乾癬性関節炎である、請求項5に記載の治療で使用するための抗NKG2A抗体、またはその抗原結合断片を含む医薬製剤。
【請求項９】
前記疾患または障害がリウマチ性関節炎である、請求項5に記載の治療で使用するための抗NKG2A抗体、またはその抗原結合断片を含む医薬製剤。
【請求項１０】
前記抗体がヒト化またはヒト抗体である、請求項1から9のいずれか一項に記載の治療で使用するための抗NKG2A抗体、またはその抗原結合断片を含む医薬製剤。
【請求項１１】
前記抗体がhumZ270またはhumZ199である、請求項10に記載の治療で使用するための抗NKG2A抗体、またはその抗原結合断片を含む医薬製剤。
【請求項１２】
前記抗体の重鎖が、
配列番号2のアミノ酸残基31から35(SYWMN)のCRD1配列であって、これらのアミノ酸残基の1または2個が異なるアミノ酸残基によって置換されていてもよいCRD1配列、および/または
配列番号2のアミノ酸50〜35(RIDPYDSETH)のCRD2配列であって、これらのアミノ酸残基の1、2または3個が異なるアミノ酸残基によって置換されていてもよいCRD2配列、および/または
配列番号2のアミノ酸95〜102(Kabat番号付け方式に従う) に対応するCRD3配列であって、これらのアミノ酸残基の1、2または3個が異なるアミノ酸によって置換されていてもよいCRD3配列を含み、前記抗体の軽鎖が、
配列番号3のアミノ酸残基24〜34(RASENIYSYLA)のCRD1配列であって、これらのアミノ酸残基の1、2または3個が異なるアミノ酸によって置換されていてもよいCRD1配列、および/または
配列番号3のアミノ酸残基50〜56(NAKTLAE)のCRD2配列であって、これらのアミノ酸残基の1または2個が異なるアミノ酸によって置換されていてもよいCRD2配列、および/または
配列番号3のアミノ酸残基89〜97(QHHYGTPRT)のCRD3配列であって、これらのアミノ酸残基の1、2または3個が異なるアミノ酸によって置換されていてもよいCRD3配列
を含む、請求項1から11のいずれか一項に記載の治療で使用するための抗NKG2A抗体、またはその抗原結合断片を含む医薬製剤。
【請求項１３】
前記抗体の重鎖が、
配列番号4のアミノ酸残基31から35(SYAMS)のCRD1配列であって、これらのアミノ酸残基の1または2個が異なるアミノ酸残基によって置換されていてもよいCRD1配列、および/または
配列番号4のアミノ酸50〜65(EISSGGSYTYYADSVK)のCRD2配列であって、これらのアミノ酸残基の1、2、3または4個が異なるアミノ酸残基によって置換されていてもよいCRD2配列、および/または
配列番号4のアミノ酸99〜108(HGDYPRFFDV)のCRD3配列であって、これらのアミノ酸残基の1、2または3個が異なるアミノ酸によって置換されていてもよいCRD3配列を含み、前記抗体の軽鎖が、
配列番号5のアミノ酸残基24〜34(SASSSVSSYIY)のCRD1配列であって、これらのアミノ酸残基の1、2または3個が異なるアミノ酸によって置換されていてもよいCRD1配列、および/または
配列番号5のアミノ酸残基50〜56(LTSNLAS)のCRD2配列であって、これらのアミノ酸残基の1または2個が異なるアミノ酸によって置換されていてもよいCRD2配列、および/または
配列番号5のアミノ酸残基89〜97(QQWSGNPYT)のCRD3配列であって、これらのアミノ酸残基の1、2または3個が異なるアミノ酸によって置換されていてもよいCRD3配列
を含む、請求項1から11のいずれか一項に記載の治療で使用するための抗NKG2A抗体、またはその抗原結合断片を含む医薬製剤。
【請求項１４】
請求項12で規定されている抗体および/または請求項13で規定されている抗体と競合する、請求項1から11のいずれか一項に記載の治療で使用するための、抗NKG2A抗体、またはその抗原結合断片を含む医薬製剤。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月16日(2015.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１種以上のジエンエラストマー、１種以上の補強用充填剤および加硫系をベースとし、前記加硫系が、下記の式(I)を有する化合物から選ばれる１種以上のチアゾール化合物を含むことを特徴とするタイヤ製造用のゴム組成物：
【化１】
2014519529.tif 000001
[式中、R1およびR2は、個々に、水素原子；或いは、線状、枝分れまたは環状のアルキル基、アラルキル基、アルキルアリール基およびアリール基から選ばれ、必要に応じて１個以上のヘテロ原子によって遮断されているC1〜C25炭化水素基を示し、R1およびR2は一緒になって非芳香族環を形成し得るが、R1およびR2は一緒になって芳香族環は形成し得ず；
Aは、下記から選ばれる：
・水素原子；
・基：
【化２】
2014519529.tif 000002
(式中、R3、R4およびR5は、個々に、必要に応じて１個以上のヘテロ原子によって遮断されているC1〜C18炭化水素基を示し；
yは、1以上の整数である)；
・基：
【化３】
2014519529.tif 000003
(式中、R6は、必要に応じて１個以上のヘテロ原子によって遮断されているC1〜C18炭化水素基である)；
・基：
【化４】
2014519529.tif 000004
(式中、R7は、必要に応じて１個以上のヘテロ原子によって遮断されているC1〜C18炭化水素基である)；
・基：
【化５】
2014519529.tif 000005
(式中、Yは、必要に応じて１個以上のヘテロ原子によって遮断または置換されているC1〜C18炭化水素鎖であり；
R8は、必要に応じて１個以上のヘテロ原子によって遮断されているC1〜C18炭化水素基である)；
・基：
【化６】
2014519529.tif 000006
(式中、Xは、必要に応じて１個以上のヘテロ原子によって遮断または置換されているC1〜C18炭化水素鎖であり；
R9およびR10は、個々に、必要に応じて１個以上のヘテロ原子によって遮断されているC1〜C18炭化水素基を示す)；および、
・基：
【化７】
2014519529.tif 000007
(式中、R11は、水素原子、または必要に応じて１個以上のヘテロ原子によって遮断されているC1〜C18炭化水素基である)]。
【請求項２】
R1およびR2が、個々に、水素原子またはメチル基を示す、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
Aが、下記の基から選ばれる、請求項１又は２記載の組成物：
・基：
【化８】
2014519529.tif 000008
・基：
【化９】
2014519529.tif 000009
および、
・基：
【化１０】
2014519529.tif 000010
(式中、yおよびR3〜R7は、請求項１において定義したとおりである)。
【請求項４】
R3〜R11基が、個々に、線状、枝分れまたは環状のアルキル基、アリール基、アラルキル基およびアルキルアリール基から選ばれる、請求項１〜３のいずれか１項記載の組成物。
【請求項５】
XおよびY基が、個々に、線状、枝分れまたは環状アルキレン基、アリーレン基およびアルキルアリーレン基から選ばれる、請求項１〜４のいずれか１項記載の組成物。
【請求項６】
前記１種以上のチアゾール化合物が、0.1〜7phrを示す(phr：ジエンエラストマー100質量部当りの質量部)、請求項１〜５のいずれか１項記載の組成物。
【請求項７】
下記の式(I’)を有するチアゾール：
【化１１】
2014519529.tif 000011
[式中、R1aおよびR2aは、個々に、水素原子；或いは、線状、枝分れまたは環状のアルキル基、アラルキル基、アルキルアリール基およびアリール基から選ばれ、必要に応じて１個以上のヘテロ原子によって遮断されているC1〜C25炭化水素基を示し、R1aおよびR2aは一緒になって非芳香族環を形成し得るが、R1aおよびR2aは一緒になって芳香族環は形成し得ず；
Aaは、下記の基から選ばれる：
・基：
【化１２】
2014519529.tif 000012
(式中、R3a、R4aおよびR5aは、個々に、必要に応じて１個以上のヘテロ原子によって遮断されているC1〜C18炭化水素基を示し；
yaは、1以上の整数である；
但し、R1aおよびR2aが、同時に、それぞれ、メチルおよび水素原子を示さないこと或いはアリールおよび水素原子を示さないことを条件とする)；
・基：
【化１３】
2014519529.tif 000013
(式中、R6aは、必要に応じて１個以上のハロゲン、１個以上の線状または枝分かれのアルキル基、線状または枝分れのアルコキシ基、ヒドロキシルまたはニトロによって置換されている線状、枝分れまたは環状のアルキル基或いはアラルキル基から選ばれる、必要に応じて１個以上のヘテロ原子によって遮断されているC1〜C18炭化水素基である；
但し、R1aおよびR2aが、個々に、水素原子またはアルキル基を示すことを条件とする)；
・基
【化１４】
2014519529.tif 000014
(式中、R7aは、必要に応じて１個以上のヘテロ原子によって遮断されているC1〜C18炭化水素基である；
但し、R1aおよびR2aが、各々、メチルを示すことを条件とする)；
・基：
【化１５】
2014519529.tif 000015
(式中、Xaは、必要に応じて１個以上のヘテロ原子によって遮断または置換されているが、もう１個のホスホネート基を担持し得ないC1〜C18炭化水素鎖であり；
R9aおよびR10aは、個々に、必要に応じて１個以上のヘテロ原子によって遮断されているC1〜C18炭化水素基を示す；
但し、R1aおよびR2aが、個々に、水素原子またはアルキル基を示すことを条件とする)；および、
・基；
【化１６】
2014519529.tif 000016
(式中、R11aは、水素原子またはC1〜C18炭化水素基である；
但し、R1aおよびR2aが、個々に、C1〜C18アルキル基を示すことを条件とする)]。
【請求項８】
R1aおよびR2aが、個々に、水素原子またはメチル基を示す、請求項７記載のチアゾール。
【請求項９】
R3a〜R7aおよびR9a〜R11a基が、個々に、線状、枝分れまたは環状のアルキル基、アリール基、アラルキル基およびアルキルアリール基から選ばれる、請求項７又は８のいずれか１項記載のチアゾール。
【請求項１０】
Xa基が、線状、枝分れまたは環状のアルキレン基、アリーレン基およびアルキルアリーレン基から選ばれる、請求項７〜９のいずれか１項記載のチアゾール。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月12日(2015.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒトＰＳＧＬ−１に免疫特異的に結合するモノクローナル抗体であって、
（ｉ）配列番号３のアミノ酸配列を含む可変軽（「ＶＬ」）鎖領域；
（ｉｉ）配列番号４のアミノ酸配列を含む可変重（「ＶＨ」）鎖領域を含む重鎖；および
（ｉｉｉ）ＥＵインデックスの番号付けによる重鎖のアミノ酸２２８において、セリンからプロリンへの置換を含む、ヒトＩｇＧ４定常領域；
を含む、前記モノクローナル抗体。
【請求項２】
ヒトＰＳＧＬ−１に免疫特異的に結合するモノクローナル抗体であって、
（ｉ）配列番号１のアミノ酸配列を含む軽鎖；および
（ｉｉ）配列番号２のアミノ酸配列を含む重鎖；
を含む、前記モノクローナル抗体。
【請求項３】
ヒトＰＳＧＬ−１に免疫特異的に結合するモノクローナル抗体であって、
（ｉ）配列番号２からなる重鎖；および
（ｉｉ）配列番号１からなる軽鎖；
を含む、前記モノクローナル抗体。
【請求項４】
ヒトＰＳＧＬ−１に免疫特異的に結合し、かつ
（ｉ）配列番号８、９、および１０を含むＶＨ鎖領域；および
（ｉｉ）ＥＵインデックスの番号付けによる重鎖のアミノ酸２２８において、セリンからプロリンへのアミノ酸置換を含む、ヒトＩｇＧ４重鎖定常領域；
を含む重鎖を含む、モノクローナル抗体。
【請求項５】
モノクローナル抗体が、配列番号５、６、および７を含むＶＬ鎖領域を含む軽鎖をさらに含む、請求項４に記載のモノクローナル抗体。
【請求項６】
抗体が精製されている、請求項１〜５のいずれか一項に記載のモノクローナル抗体。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載のモノクローナル抗体および薬学的に許容し得る担体を含む、医薬組成物。
【請求項８】
モノクローナル抗体が精製されている、請求項７に記載の医薬組成物。
【請求項９】
配列番号２を含む、抗体重鎖。
【請求項１０】
請求項１〜６のいずれか一項に記載のモノクローナル抗体を含む第１容器を含む、キット。
【請求項１１】
請求項１〜６のいずれか一項に記載のモノクローナル抗体を含む、注入装置。
【請求項１２】
注入装置が注射器である、請求項１１に記載の注入装置。
【請求項１３】
治療有効量の請求項１〜６のいずれか一項に記載のモノクローナル抗体または請求項７もしくは８に記載の医薬組成物を含む、炎症性障害を処置するための医薬組成物。
【請求項１４】
炎症性障害が自己免疫疾患である、請求項１３に記載の医薬組成物。
【請求項１５】
炎症性障害が、乾癬、尋常性乾癬、慢性尋常性乾癬、滴状乾癬、逆位乾癬、膿疱性乾癬、乾癬性紅皮症、乾癬性関節炎、関節リウマチ、クローン病、強直性脊椎炎、または糖尿病である、請求項１３または１４に記載の医薬組成物。
【請求項１６】
治療有効量の請求項１〜６のいずれか一項に記載のモノクローナル抗体または請求項７もしくは８に記載の医薬組成物を含む、移植片対宿主病および移植拒絶反応を処置するための医薬組成物。
【請求項１７】
移植が、骨髄移植、肝移植、腎移植、または、任意の器官または組織の移植を含む、請求項１６に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月22日(2015.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
その誘電率が、１０００Ｈｚで３.４より高く、またその電荷移動度が、純粋状態で１０−７ｃｍ２Ｖ−１ｓ−１より高い半導体ポリマーであって、置換されたトリアリールアミンの反復単位を含む、半導体ポリマー。
【請求項２】
請求項１記載の半導体ポリマーにおいて、トリアリールアミンの反復単位を有し、これらトリアリールアミンの反復単位は、ペンダント芳香環の２，４及び／又は６番の位置で直接的に置換された１つ又はそれ以上のシアン基によって置換されたものとする、半導体ポリマー。
【請求項３】
請求項１記載の半導体ポリマーにおいて、トリアリールアミンの反復単位を有し、これらトリアリールアミンの反復単位は、連結基によって前記トリアリールアミンの芳香族基に取付けられた１つ又はそれ以上のシアン基によって間接的に置換されたものとする、半導体ポリマー。
【請求項４】
請求項１記載の半導体ポリマーにおいて、トリアリールアミンの反復単位を有し、これらトリアリールアミンの反復単位は、芳香環の２，４及び／又は６番の位置で１つ又はそれ以上のアルコキシ基によって直接的に置換されるものとした、半導体ポリマー。
【請求項５】
請求項１記載の半導体ポリマーにおいて、前記トリアリールアミンの反復単位が、
【化１】
2014519537.tif 000001
【化２】
2014519537.tif 000002
および、
【化３】
2014519537.tif 000003
の少なくとも１つを含む、半導体ポリマー。
【請求項６】
請求項１記載の半導体ポリマーにおいて、第１および／または第２のモノマー単位を含む以下の化学式（Ｉ）で表される、半導体ポリマー。
【化４】
2014519537.tif 000004
化学式（Ｉ）
ここで、Ｒｘは、独立して、水素、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン、ニトロ基又はＲｙであって、各Ｒｙは、独立して、シアン基（ＣＮ）、又は少なくとも１つのＣＮ基を有する有機基であり、ただし、トリアリールアミンのポリマーにおける少なくとも１つの反復単位がＲｙ基を含み、
添え字の合計（ｊ＋ｋ＋ｌ）が少なくとも１であり、
Ｒｚは、独立して、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アルキルスルホニル基、ハロゲン原子、シアン基、ニトロ基、アミノ基、カルボキシル基から選択される１つ以上の置換基により任意に置換されたアルキル基であり、
Ａは、独立して、水素、ハロゲン又は任意の適当なエンドキャッピング基とし、
ｊ及びｌは各生起において独立して０〜４であり、
ｋは各生起において独立して０〜５であり、
ａは、第１モノマー単位の数であり、そして、
ｂは、第２モノマー単位の数であり、０であってもよい。
【請求項７】
請求項１記載の半導体ポリマーにおいて、第１および／または第２のモノマー単位を含む以下の化学式（Ｉ）で表される、半導体ポリマー。
【化５】
2014519537.tif 000005
化学式（Ｉ）
ここで、Ｒｘは、独立して、水素、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン、ニトロ基又はＲｙであって、各Ｒｙは、独立して、シアン基（ＣＮ）、又は少なくとも１つのＣＮ基を有する有機基であり、ここで、前記ポリマーは、芳香環の何れかにシアン及び／又はアルコキシ置換を有し、
添え字の合計（ｊ＋ｋ＋ｌ）が少なくとも１であり、
Ｒｚは、独立して、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アルキルスルホニル基、ハロゲン原子、シアン基、ニトロ基、アミノ基、カルボキシル基から選択される１つ以上の置換基により任意に置換されたアルキル基であり、
Ａは、独立して、水素、ハロゲン又は任意の適当なエンドキャッピング基とし、
ｊ及びｌは各生起において独立して０〜４であり、
ｋは各生起において独立して０〜５であり、
ａは、第１モノマー単位の数であり、そして、
ｂは、第２モノマー単位の数であり、０であってもよい。
【請求項８】
請求項１記載の半導体ポリマーにおいて、第１および／または第２のモノマー単位を含む以下の化学式（Ｉ）で表される、半導体ポリマー。
【化６】
2014519537.tif 000006
化学式（Ｉ）
ここで、Ｒｘは、独立して、水素、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン、ニトロ基又はＲｙであって、各Ｒｙは、独立して、シアン基（ＣＮ）、又は少なくとも１つのＣＮ基を有する有機基であり、ただし、少なくとも１つのＲｘが、ペンダント芳香環のメトキシ基であり、
添え字の合計（ｊ＋ｋ＋ｌ）が少なくとも１であり、
Ｒｚは、独立して、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アルキルスルホニル基、ハロゲン原子、シアン基、ニトロ基、アミノ基、カルボキシル基から選択される１つ以上の置換基により任意に置換されたアルキル基であり、
Ａは、独立して、水素、ハロゲン又は任意の適当なエンドキャッピング基とし、
ｊ及びｌは各生起において独立して０〜４であり、
ｋは各生起において独立して０〜５であり、
ａは、第１モノマー単位の数であり、そして、
ｂは、第２モノマー単位の数であり、０であってもよい、半導体ポリマー。
【請求項９】
請求項８記載の半導体ポリマーにおいて、ｋが１超である、半導体ポリマー。
【請求項１０】
請求項８又は９記載の半導体ポリマーにおいて、前記メトキシ基は、ペンダント芳香環の２番及び４番位置で置換されたものとする、半導体ポリマー。
【請求項１１】
請求項１〜７のうちいずれか一項記載の半導体ポリマーにおいて、以下の式で表される共重合体である、半導体ポリマー。
【化７】
2014519537.tif 000007
ここで、ａは、第１モノマー単位の数であり、そして、ｂは、第２モノマー単位の数である。
【請求項１２】
請求項１〜７のうちいずれか一項記載の半導体ポリマーにおいて、以下の式で表されるホモポリマーである、半導体ポリマー。
【化８】
2014519537.tif 000008
ここで、ａは、モノマー単位の数である。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月3日(2015.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下を含む、安定化された水性組換えフューリン（ｒフューリン）組成物：
（ａ）８，０００Ｕ／ｍＬ〜５００，０００Ｕ／ｍＬのｒフューリン；
（ｂ）１００ｍＭ〜３００ｍＭの薬学的に許容される塩；
（ｃ）０．５ｍＭ〜２ｍＭのカルシウム；
（ｄ）２％〜２０％の糖または糖アルコール；
（ｅ）１０〜２００ｐｐｍの非イオン性界面活性剤；および
（ｆ）１０〜２００ｍＭの緩衝剤；および
（ｇ）５．５〜７．５のｐＨ。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月23日(2015.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ．前記粒子が１０００ｎｍ以下の平均粒径および１００ｍｇ／リットル以下の水への溶解性を有する少なくとも一つの銅の無機塩を、少なくとも４５重量％含む粒子を含み、
ｂ．前記粒子の表面が少なくとも一つの機能化剤により改質され、
ｃ．前記粒子は、当該粒子または該粒子が組み込まれるマトリクスが微生物の環境と接触し、イオンを放出させることによって抗菌作用を有する、
抗菌作用のある組成物。
【請求項２】
ヨウ化銅、臭化銅、塩化銅および酸化銅からなる群より選択される銅の無機塩を少なくとも一つを含んでいる請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
ａ．混合金属ハロゲン化物の固溶体の粒子であって、式（Ｃｕ−Ａｇ）Ｘで表され、前記Ｘが、臭化物、塩化物、ヨウ化物およびそれらの混合物からなる群より選択されるものであり、
ｂ．前記粒子の表面が少なくとも一つの機能化剤により改質され、
ｃ．前記粒子は、当該粒子または該粒子が組み込まれるマトリクスが微生物の環境と接触し、イオンを放出することによって抗菌作用を有する、
抗菌作用のある組成物。
【請求項４】
前記機能化剤が、アミノ酸、酸、チオール、炭水化物、ペプチド、モノマー、共重合体、親水性ポリマー、疎水性ポリマー、両親媒性高分子、ポリペプチド、界面活性剤およびリガンド特異的な結合剤からなる群より選択されるものである請求項１または３に記載の組成物。
【請求項５】
前記機能化剤が、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール、共重合体、前記重合体を形成する少なくとも一つのモノマーを備える共重合体および混合物からなる群より選択されるものである請求項１または３に記載の組成物。
【請求項６】
ａ．ハロゲン化銅、ハロゲン化銀およびそれらの混合物からなる群より選択される金属ハロゲン化物と、
ｂ．前記金属ハロゲン化物を支える多孔質担体粒子であって、当該粒子の平均粒子径が２ｎｍを超え、前記金属ハロゲン化物を前記孔内に堆積させる多孔質担体粒子と
を含み、
ｃ．前記粒子は、当該粒子または該粒子が組み込まれるマトリクスに微生物の環境と接触し、イオンを放出することによって抗菌作用を有する、
抗菌作用のある組成物。
【請求項７】
ａ．ハロゲン化銅、ハロゲン化銀およびそれらの混合物からなる群より選択される金属ハロゲン化物と、
ｂ．ゼオライトではなく、前記金属ハロゲン化物を支える多孔質担体粒子であって、当該粒子の平均粒子径が２ｎｍを超え、前記金属ハロゲン化物を前記孔内に堆積させる多孔質担体粒子と
を含み、
ｃ．前記粒子が、当該粒子または該粒子が組み込まれるマトリクスが微生物の環境と接触し、イオンを放出することによって抗菌作用を有する、
抗菌作用のある組成物。
【請求項８】
少なくとも一つの付加的な抗菌成分をさらに備える請求項１、３、６または７のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項９】
請求項１、３、６または７のいずれか一項に記載の組成物を備える製造製品。
【請求項１０】
請求項１、３、６または７のいずれか一項に記載の組成物を備える液体または固体。
【請求項１１】
前記液体がコーティング製剤である請求項１０に記載の組成物。
【請求項１２】
前記固体がコーティングである請求項１０に記載の組成物。
【請求項１３】
少なくとも４５重量％のハロゲン化銅を備える粒子を含む抗菌性ポリマー製品であって、前記粒子の粒径が１０００ｎｍ以下であり、前記はハロゲン化銅が１００ｍｇ／リットル以下の水への溶解性を有し、前記製品中の前記ハロゲン化銅のうちの銅の濃度が１重量％未満である、抗菌性ポリマー製品。
【請求項１４】
前記製品がコーティングである請求項１３に記載のポリマー製品。
【請求項１５】
前記ハロゲン化銅がヨウ化銅である請求項１３に記載のポリマー製品。
【請求項１６】
粒径が約１０００ｎｍ未満のヨウ化銅の粒子を含む抗菌性ポリマー製品であって、前記製品中の前記粒子の濃度が約１重量％未満である、抗菌性ポリマー製品。
【請求項１７】
ハロゲン化銅の粒子を含む抗菌性ポリマー製品であって、前記ハロゲン化銅の水への溶解性が１００ｍｇ／リットル以下であり、
前記製品が、高濃度の前記ハロゲン化銅を用いてポリマーマスターバッチを準備し、前記マスターバッチの一部を組み込んで最終製品のうちの前記ハロゲン化銅の濃度を減少させることによって形成される、抗菌性ポリマー製品。
【請求項１８】
粒径が約１０００ｎｍ未満のハロゲン化銅の粒子を含む液体の抗菌性の製品であって、前記ハロゲン化銅の水への溶解性が約１００ｍｇ／リットル未満であり、前記製品中の前記ハロゲン化銅のうちの銅濃度が約１重量％未満である、抗菌性のポリマー製品。
【請求項１９】
前記ハロゲン化銅がヨウ化銅である請求項１８に記載の液体の抗菌性の製品。
【請求項２０】
粒径が約１０００ｎｍ未満のハロゲン化銅の粒子を含む抗菌性のクリームであって、前記製品中の前記ハロゲン化銅のうちの銅濃度が約５重量％未満である、抗菌性のクリーム。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年12月2日(2014.12.2)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ソーダライムガラスシートであって、その表面上に与えられた被覆を有し、その被覆が、ガラスから順に、ガラスフリット、顔料、及び有機メジウムから作られたエナメルからなる第一層と、樹脂及び熱処理で焼結するエナメルのフリットから本質的になる第二層とを含み、有機メジウムが架橋可能な要素を含有し、エナメルのフリットが２０重量％〜６０重量％の量で第二層に存在し、第二層が第一層と直接接触している、ガラスシート。
【請求項２】
第一層がガラスシートと直接接触している、請求項１に記載のガラスシート。
【請求項３】
第一層のエナメルが、赤外線下で硬化されているように適応された有機メジウムを含む、請求項１又は２に記載のガラスシート。
【請求項４】
第二層の樹脂がＵＶ硬化性樹脂及びＩＲ硬化性樹脂からなる群から選択される、請求項１〜３のいずれかに記載のガラスシート。
【請求項５】
第二層の樹脂がＵＶ材料、ポリエステル樹脂、アルキド、アクリル、アクリルアミド、アクリル−スチレン、ビニル−アクリル、ウレタン、ポリウレタン、ポリエステル、ウレタンアルキド、アミノ樹脂、ポリアミド、エポキシ、エポキシエステル、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、ＰＶＣ、ＰＶＢ、及び水系樹脂からなる群の少なくとも一つの材料を含む、請求項１〜４のいずれかに記載のガラスシート。
【請求項６】
第一層の厚さは５〜１２０μｍの範囲である、請求項１〜５のいずれかに記載のガラスシート。
【請求項７】
第二層の厚さは５〜５０μｍの範囲である、請求項１〜６のいずれかに記載のガラスシート。
【請求項８】
第一層が、ガラスシートの実質的に全表面にわたって拡がり、かつその実質的に全表面にわたって第二層によって覆われている、請求項１〜７のいずれかに記載のガラスシート。
【請求項９】
微量の接着促進剤がガラスシートの表面に存在する、請求項１〜８のいずれかに記載のガラスシート。
【請求項１０】
ガラスシートが熱処理可能である、請求項１〜９のいずれかに記載のガラスシート。
【請求項１１】
熱処理可能なラッカー仕上げのガラスシートの製造方法であって、以下の工程を以下の順序で含む方法：
−  ガラスシートを準備する；
−  ガラスシートの表面上にガラスフリット、顔料、及び有機メジウムから作られたエナメルからなる第一層を付与する、ただし、有機メジウムは架橋可能な要素を含有する；
−  エナメルが乾燥されてガラスに粘着するがまだ溶融又は焼結されないようにＵＶ又はＩＲ線を使用して第一層を硬化する；
−  樹脂及び熱処理で焼結するエナメルのフリットから本質的になる第二層を付与する；及び
−  ＵＶ又はＩＲ線を使用して第二層を硬化する。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２６】
無機充填剤の添加は、第二層に存在する有機材料の量の減少を可能にし、それによって層の有機部分を熱処理時に優しく燃焼することを可能にし、第二層と第一層の間、第一層とガラスの間の脱離の危険を減少又は回避する。好ましくは、これらの無機充填剤はエナメルの充填剤であり、従って熱処理でそれらの充填剤は焼結し、焼結されたエナメルの第一層の上に焼結されたエナメルの第二層を形成する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
また、本発明の第二層のための樹脂を含む材料としての最終熱処理の温度で溶融しない無機充填剤を含むＩＲ硬化性ペイントの使用は欠点を持ちうることを発見した：被覆されたガラスシートに接着しない粉末が熱処理後に表れるかもしれない。それは水で、おそらく高圧下の水で容易に洗浄されることができるが、もちろんこれは熱処理された被覆ガラスシートを得るための方法に工程を追加し、それは時間を消費し、新しい機械類に投資を必要としうる。我々は、本発明の第二層におけるエナメルの充填剤の使用が熱処理後に被覆されたガラスシート上に接着しない粉末の出現を減少又は回避することができることを発見した。それらの充填剤は第一層の熱処理時に溶融するからである。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月3日(2015.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
虚血関連の病的状態を発症した患者の治療用医薬を製造するための、式（Ｉ）または式（II）の化合物（式中Ｒ１は、イソプロピルおよびＣ４〜Ｃ１２アルキルから選択される）の使用。
【化１】
2014527958.tif 000001
式（Ｉ）：     
【化２】
2014527958.tif 000002
式（II）：       
【請求項２】
Ｒ１が、ｎ−へプチルである、請求項１に記載の化合物の使用。
【請求項３】
前記虚血関連の病的状態が、急性腎不全である、請求項１または２に記載の化合物の使用。
【請求項４】
前記虚血関連の病的状態が、腎臓、心臓および脳の梗塞から選択される、請求項１または２に記載の化合物の使用。
【請求項５】
前記虚血関連の病的状態が、出血性卒中発作である、請求項１または２に記載の化合物の使用。
【請求項６】
前記虚血関連の病的状態が、心筋炎、尿細管炎、および／または血管炎から選択される、請求項１または２に記載の化合物の使用。
【請求項７】
前記化合物が、非経口投与される、請求項１〜６のいずれか１項に記載の化合物の使用。
【請求項８】
前記化合物が、持続注入により投与される、請求項７に記載の化合物の使用。
【請求項９】
前記治療用医薬が、
（ａ）有効量の前記化合物と、
（ｂ）生理学的に許容し得る水性溶媒と、
を含み、
前記化合物が、分子またはコロイドとして分散された状態で存在する、請求項１〜８のいずれか１項に記載の化合物の使用。