【事件の表示】
　特許第３１５４２０２号「半導体装置の製造方法及び位置合わせ用装置」の請求項１ないし４に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３１５４２０２号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続きの経緯
　本件特許第３１５４２０２号は、平成４年１１月３０日に特許出願され、平成１３年２月２日にその特許の設定登録がなされ、その後、異議申立人キャノン株式会社及び桑田勉から特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１４年２月１９日に訂正請求（後日取り下げ）がなされ、再度の取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１４年９月１７日に訂正請求がなされたものである。
１．１　異議申立ての概要
　異議申立人キャノン株式会社は、甲第１号証（特開平４−３１３７２５号公報）及び甲第２号証（特開平４−１３３３４９号公報）を提出して以下の主張をしている。
　本件請求項１及び３に係る発明は、上記甲第１号証記載の発明と同一であるから、本件請求項１及び３に係る特許は、特許法第２９条第１項第３号に該当する発明に対してなされたものであり、本件請求項１及び３に係る特許を取り消すべきである。
　本件請求項１及び３に係る発明は、上記甲第１号証記載の発明に基いて当業者が容易に発明できたものであるから、本件請求項１及び３に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであり、本件請求項１及び３に係る特許を取り消すべきである。
　本件請求項２及び４に係る発明は、上記甲第１又は２号証記載の発明に基いて当業者が容易に発明できたものであるから、本件請求項２及び４に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであり、本件請求項２及び４に係る特許を取り消すべきである。
　また、異議申立人桑田勉は、甲第１号証（特開平４−３１３７２５号公報）、甲第２号証（特開平４−１３３３４９号公報）、甲第３号証（日立電子エンジニアリング技報Ｎｏ．２　第１８頁〜第２３頁）、甲第４号証（光学技術ハンドブック増補版３５１，３５２頁）、甲第５号証（特開昭６４−８６５１８号公報）及び甲第６号証（特開昭６０−８０２２３号公報）を提出して以下の主張をしている。
　本件請求項１及び３に係る発明は、上記甲第１号証記載の発明と同一であるから、本件請求項１及び３に係る特許は、特許法第２９条第１項第３号に該当する発明に対してなされたものであり、本件請求項１及び３に係る特許を取り消すべきである。
　本件請求項１〜４に係る発明は、上記甲第１、２及び３号証記載の発明に基いて当業者が容易に発明できたものであるから、本件請求項１〜４に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであり、本件請求項１〜４に係る特許を取り消すべきである。
１．２　異議申立人キャノン株式会社が提出した甲第１号証の記載内容
　甲第１号証の第２頁左欄第２〜１０行に、「【請求項１】　液晶パネル上部に、染料が混入されたレジスト層であるカラーフィルターが積層されるカラー液晶パネルの製造装置であって、前記カラーフィルター形成時における位置決めが、その下部に形成されたレジスト層もしくは液晶パネルに設けられたアライメントマークに観察用の光を照射し、その反射光を観察することにより行われるものであり、前記観察用の光として、各レジスト層に混入される染料に吸収されない赤外光が用いられることを特徴とするカラー液晶パネルの製造装置。」と記載されている。
　甲第１号証の【０００４】〜【０００７】段落に、「【０００４】　ここで、レジスト中に混入されるＲ，Ｇ，Ｂの各染料は、特定波長域の光のみ透過させ、この他の光は吸収する特性をそれぞれ持っている。
【０００５】　図３（ａ），（ｂ），（ｃ）は．Ｒ，Ｇ，Ｂ各染料のそれぞれの分光透過率を示す図である。Ｒの染料は６００ｎｍ以上の波長域の光を透過し、Ｇの染料は５００ｎｍ〜６００ｎｍおよび７００ｎｍ以上の光を透過する。また、Ｂの染料は４００ｎｍ〜５００ｎｍおよび７００ｎｍ以上の光を透過する。
【０００６】　レジストの分光露光感度は、図４に示されるように４００ｎｍ近傍にピークを有し、５００ｎｍ以上については感度を有しないものであるため、カラー液晶パネルの製造装置での観察光としては、図５に示されるようなレジストを感光させることがない５００ｎｍ以上の光が用いられていた。
【０００７】　また、観察を行う光学系の長波長側は、可視光域である７００ｎｍとされ、収差補正や光学コーティングは７００ｎｍ以下の波長に関して最適化されるものであった。」と記載されている。
　甲第１号証には、【０００９】段落に、「【０００９】…レジスト層６０３に混入される染料がＲもしくはＧである場合には、上方から照射される観察光はレジスト層６０３を透過し、パターン６０２と同一平面に形成されたアライメントマーク（不図示）は観察光によって照明されるため、レジスト層６０３をパターン６０２に対して位置合わせすることができる。しかしながら、レジスト層６０３に混入される染料がＢである場合には、上方から照射される観察光はレジスト層６０３を透過することができず、レジスト層６０３をパターン６０２に対して位置合わせすることができない。このため、Ｂの染料が混入されたレジスト層の位置合わせについては観察光として露光光が用いられていた。」と記載されている。
　甲第１号証の【００１４】段落には、「【作用】観察光として、各レジスト層に混入される染料に吸収されない赤外光が用いられているので、観察光はいずれの染料が混入されたレジスト層についても透過する。このため、いずれのレジスト層についても、その下部に形成されたアライメントマークに対して位置決めすることができる。」と記載されている。
１．３　異議申立人キャノン株式会社が提出した甲第２号証の記載内容
　甲第２号証の請求の範囲には、「多数の受光部と複数のアライメントマークが施された固体撮像素子の基板に対して、前記受光部に夫々対応するカラー層を形成させるに当たり、カラーレジスト層を染色し且つパターンマスクを用いて露光する際の位置合わせにおいて、光学系の検出手段により前記アライメントマークを検索する際に、前記カラーレジスト層の染色と同系統の発光色を観察照明の照明光として用いることを特徴とする固体撮像素子におけるパターンマスクの位置合わせ方法。」と記載されている。
　甲第２号証の第３頁左上欄９行〜３頁右上欄５行には、「即ち、カラーレジスト層４を赤色に染色した場合に、検出手段７からの落射照明の照明光を赤色にすると、第３図（Ａ）で示したように、赤色の照明光のスペクトルは曲線（ニ）で示したようになり、これを第３図（Ｂ）図について見ると、同系色の赤色に染色したカラーレジスト層４のスペクトルの曲線（ロ）と略近似した曲線になる。従って、両者におけるスペクトルが略一致することからして、第３図（Ｃ）に示したように、落射照明の照明光がほとんど減衰することなく反射し、反射光のスペクトルの曲線（ホ）の範囲でアライメントマーク３を視認でき、検索及び位置合わせ作業が正確且つ容易に行えるのである。尚、カラーレジスト層の染色が他の色、例えばグリーンであれば、照明光をグリーンにし、ブルーであればブルーにすることにより前記同様にアライメントマークの視認性が向上するのである。」と記載されている。
　第３頁【発明の効果】の欄に、「カラーレジスト層の染色と同系統の発光色を用いることで、着色したカラーレジスト層を通してアライメントマークを見た場合に、略同一のスペクトルとなるので、透過及び反射光の減衰がなくなり、アライメントマークの視認性が向上し、それによって正確な位置合わせが容易に行える」と記載されている。
１．４　異議申立人桑田勉が提出した甲第１号証の記載内容
　異議申立人キャノン株式会社が提出した甲第１号証と同じ。
１．５　異議申立人桑田勉が提出した甲第２号証の記載内容
　異議申立人キャノン株式会社が提出した甲第２号証と同じ。
１．６　異議申立人桑田勉が提出した甲第３号証の記載内容
　甲第３号証の第１８頁右欄第１１行〜第１３行には、「カラーフィルタ基板はＴＦＴ基板の各画素に対向する位置に赤、緑、青の各色のパターンとＩＴＯ膜で形成されている。」と記載されている。
　第１９頁左欄第６行〜第８行には、「ＴＦＴ基板やカラーフィルタ基板は、現在図２に示すごとくフオトリソグラフィ技術を使用して、ガラス基板上に微細なパターンを形成する方式が一般的である。」と記載されている。
　第１９頁左欄下から第３行〜右欄第３行には、「本装置は、下記機能を有する全自動プロキシミティー括露光装置である。装置の外観を図３図に示す。…（２）マスクとガラス基板の面上にあるパターンのアライメントを、全自動で高速・高精度に行う。」と記載されており、また第１９頁右欄第９行〜第２０頁左欄第１２行には、「本装置の構成を図４に示す。
　本装置は、…アライメント系として検出光学系、アライメント機構部…より構成されている。…
　本装置の基本仕様を表１に示す。」と記載されており、また第２０頁の表１には、アライメント光学系は、検出方式：ＣＣＤリニアイメージセンサによるパターン認識、パターン観察：ＴＶモニタによる観察、照明光源：１５０ＷＸｅランプである旨記載されており、第２０頁右欄第１１行〜第２０行には、「アライメント系の構成を図６に示す。アライメント系は高精度なＸ・Ｙ・θテーブル、アライメントパターンを検出する光学系、及びマスクのホルダ部より構成される。
　アライメントの方法は、まずマスクとガラス基板のそれぞれの２箇所に設けられたアライメントパターンからの反射光を、同時に重ねて取り込み、ハーフミラーで２方向に分解した後、シリンドリカルレンズで圧縮し、ＣＣＤリニアイメージセンサで検出する。次に検出波形を演算処理してずれ量を演算し、Ｘ・Ｙ・θテーブルを駆動する。このプロセスを繰り返して精度を上げる。」と記載されている。
１．７　異議申立人桑田勉が提出した甲第４号証の記載内容
　甲第４号証の第３５１頁下から第８行〜第６行には、「ｂ．キセノンランプ
封入圧力の高いキセノンガス中の放電を利用したランプで、その分光分布曲線には連続スペクトルが多量に含まれ、かつ紫外部から可視部にわたって自然昼光の分布に比較的よく近似していることが重要な特徴である（図４．５２）」と記載されている。　
１．８　異議申立人桑田勉が提出した甲第５号証の記載内容
　甲第５号証の第１頁左欄第５行〜第１６行には、「１．縮小投影式露出装置において、Ａｒレーザで発振する３又は４波長のレーザ光と上記波長と異なるＨｅ−Ｎｅレーザで発振する１又は２波長のレーザ光を、縮小投影レンズを介して試料上の合せマークを照明する照明手段と、該照明手段により照明された試料上の合せマークからの反射光を縮小投影レンズを介して集光し、上記少なくとも４つの波長を分光して結像する結像光学系と、該結像光学系により結像された試料上の合せマークの像を検出すべく撮像する撮像手段とを備えたことを特徴とする縮小投影式位置検出装置。」と記載されている。
１．９　異議申立人桑田勉が提出した甲第６号証の記載内容
　甲第６号証の第２頁右下欄第１５行〜第３頁左上欄第１２行には、「パターン検出器１９は、レチクル１８に結像した検出パターン１３の像を光学系により導きスリット２１上に再結像させ、この像をスリットにてスキャンし、スリットの位置に応じた光強度をホトマルチプライヤ２３にて光電変換する機能を持っている。スリット２１の位置計測はリニアエンコーダ２２により行なわれる。また、灯照明系２９はｇ線、ｅ線、ｄ線が混在した光を放出するので、検出光２０中のｇ線光の像を検出するときには、他の波長光によるゴースト像を除去するため、ｇ線バンドパスフィルタ２４を光路中に挿入する機能が付加されている。ｅ線光の像の検出をするときには、同じようにｅ線バンドパスフィルタ２５が光路中に挿入される機能がついている。このフィルタ挿入機能は、制御用計算機２８よりフィルタ選択モータ２８に命令をあたえることで行なわれる。」と記載されている。
２．訂正の適否について
  本件訂正請求は、本件特許第３１５４２０２号の明細書（以下、「特許明細書」という。）を、本件訂正請求書に添付した訂正明細書のとおりに、訂正しようとするものである。
２．１　訂正事項
訂正事項ａ
　特許明細書の請求項１，３，４を削除する。特許明細書の請求項２を、請求項１に繰り上げる
訂正事項ｂ
　特許明細書の請求項２の「可視領域に吸収を持つ色素を含む着色膜の位置合わせを行う工程を備える半導体装置の製造方法において、」を、「レジスト膜を形成して加工を行う際、露光光のレジスト反射を抑制するため、可視領域に吸収を持つ色素を含むカラーレジストを用いるとともに、該カラーレジストからなる着色膜の位置合わせを行う工程を備える半導体装置の製造方法において、」と訂正する。
訂正事項ｃ
　特許明細書の請求項２の「位置合わせ用光源として赤、青、緑の３色の光の内少なくとも２色の光、またはシアン、イエロー、マゼンタの３色の光の内少なくとも２色の光を含む光を用いることを特徴とする半導体装置の製造方法。」を、「位置合わせ用光源として赤、青、緑の３色の光、またはシアン、イエロー、マゼンタの３色の光を用い、該３色の光は１つの光にまとめられ、被露光部材である半導体ウェハー上に導かれ、被露光部材である半導体ウェハー上から帰ってきた光は３色に分離され、各色それぞれ検出手段により検出され、その信号について画像処理を行い、基準からのズレを検出することにより位置合わせを行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。」
と訂正する。
訂正事項ｄ
　特許明細書の発明の名称の「半導体装置の製造方法及び位置合わせ装置」を、「半導体装置の製造方法」と訂正する。訂正事項ｅ
　特許号明細書の発明の詳細な説明の欄の【０００８】、【００１０】〜【００１３】、【００１６】〜【００１９】段落を削除する。
訂正事項ｆ
　特許明細書の発明の詳細な説明の欄の【０００１】段落を、「【０００１】【産業上の利用分野】
　本発明は、半導体装置の製造方法に関する。特に、可視領域に吸収を持つ色素を含む着色膜の位置合わせを行う工程を備える半導体装置の製造方法に関するものである。」と訂正し、【０００７】段落を、「【０００７】　本発明は、上記問題点を解決して、各種の色の着色膜の位置合わせが可能であって、よって工程の複雑化を避けることができる半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。
」と訂正し、【０００９】段落を、「【０００８】【問題点を解決するための手段】
　本発明は（レジスト膜を形成して加工を行う際、露光光のレジスト反射を抑制するため、可視領域に吸収を持つ色素を含むカラーレジストを用いるとともに、該カラーレジストからなる着色膜の位置合わせを行う工程を備える半導体装置の製造方法において、位置合わせ用光源として赤、青、緑の３色の光、またはシアン、イエロー、マゼンタの３色の光を用い、該３色の光は１つの光にまとめられ、被露光部材である半導体ウェハー上に導かれ、被露光部材である半導体ウェハー上から帰ってきた光は３色に分離され、各色それぞれ検出手段により検出され、その信号について画像処理を行い、基準からのズレを検出することにより位置合わせを行うことを特徴とする半導体装置の製造方法であって、これにより上記目的を達成するものである。」と訂正し、【００１４】段落を、「【０００９】【作用】
　本発明によれば、単一波長の光を用いた位置合わせでは位置合わせ不可能な色についても、赤、青、緑の３色またはシアン、マゼンタ、イエローの３色のアライメント用光源を用意することにより、あらゆる色の着色膜の位置合わせが可能となる。即ち、どこの波長に吸収を持つ色素を含む着色膜にも対応した位置合わせが可能となる。
　なお図２に符号Ｉ〜ＩＩＩで示すのは、青・緑・赤の市販のカラーレジストの分光透過特性の一例である。
」と訂正し、【００２３】段落を、「【００１４】【発明の効果】
　上述した如く、本発明によれば、各種の色の着色膜の位置合わせが可能であって、よって工程の複雑化を避けることができる半導体装置の製造方法を提供することができる。」と訂正する。
訂正事項ｇ
　特許明細書の図面の簡単な説明の欄を、「【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１の露光光学系を示す構成図である。
【図２】カラーレジストの分光透過特性の例を示す図である。
【符号の説明】
　１　赤外光
　１１　赤色光
　１２　緑色光
　１３　青色光
　２　光源
　２１　赤色光源
　２２　緑色光源
　２３　青色光源
　３　被露光部材（ウェハー）
　４　検出手段（ＣＣＤ力メラ）
訂正事項ｈ
　特許明細書に添付の図面中の図１ないし図３を削除する。図４を図１と訂正し、図５を図２と訂正する。
２．２　訂正後の特許請求の範囲
請求項１
「レジスト膜を形成して加工を行う際、露光光のレジスト反射を抑制するため、可視領域に吸収を持つ色素を含むカラーレジストを用いるとともに、該カラーレジストからなる着色膜の位置合わせを行う工程を備える半導体装置の製造方法において、
　位置合わせ用光源として赤、青、緑の３色の光、またはシアン、イエロー、マゼンタの３色の光を用い、
　該３色の光は１つの光にまとめられ、被露光部材である半導体ウェハー上に導かれ、被露光部材である半導体ウェハー上から帰ってきた光は３色に分離され、各色それぞれ検出手段により検出され、その信号について画像処理を行い、基準からのズレを検出することにより位置合わせを行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。」
２．３　訂正の適否
訂正事項ａ
　上記訂正事項ａについては、特許明細書の請求項１，３および４を削除するものであるから、特許請求の範囲の減縮に相当する。
　また、上記訂正事項ａは、実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
訂正事項ｂ
　上記訂正事項ｂについては、特許明細書の請求項２の「可視領域に吸収を持つ色素を含む着色膜の位置合わせを行う工程を備える半導体装置の製造方法において、」を、下位概念である「レジスト膜を形成して加工を行う際、露光光のレジスト反射を抑制するため、可視領域に吸収を持つ色素を含むカラーレジストを用いるとともに、該カラーレジストからなる着色膜の位置合わせを行う工程を備える半導体装置の製造方法において、」と訂正するものであるから、特許請求の範囲の減縮に相当する。
　また、当該「レジスト膜を形成して加工を行う際、露光光のレジスト反射を抑制するため、可視領域に吸収を持つ色素を含むカラーレジストを用いるとともに、該カラーレジストからなる着色膜の位置合わせを行う工程を備える半導体装置の製造方法」は、特許明細書の【０００２】段落から、直接かつ一義的に導き出されるものであるから、上記訂正事項ｂは、特許明細書又は図面に記載された事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
訂正事項ｃ
　上記訂正事項ｃについては、特許明細書の請求項２の「位置合わせ用光源として赤、青、緑の３色の光の内少なくとも２色の光、またはシアン、イエロー、マゼンタの３色の光の内少なくとも２色の光を含む光を用いることを特徴とする半導体装置の製造方法。」を、下位概念である「位置合わせ用光源として赤、青、緑の３色の光、またはシアン、イエロー、マゼンタの３色の光を用い、該３色の光は１つの光にまとめられ、被露光部材である半導体ウェハー上に導かれ、被露光部材である半導体ウェハー上から帰ってきた光は３色に分離され、各色それぞれ検出手段により検出され、その信号について画像処理を行い、基準からのズレを検出することにより位置合わせを行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。」と訂正するものであるから、特許請求の範囲の減縮に相当する。
　また、当該「位置合わせ用光源として赤、青、緑の３色の光、またはシアン、イエロー、マゼンタの３色の光を用い、該３色の光は１つの光にまとめられ、被露光部材である半導体ウェハー上に導かれ、被露光部材である半導体ウェハー上から帰ってきた光は３色に分離され、各色それぞれ検出手段により検出され、その信号について画像処理を行い、基準からのズレを検出することにより位置合わせを行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。」は、特許明細書の【００２０】段落から、直接かつ一義的に導き出されるものであるから、上記訂正事項ｂは、特許明細書又は図面に記載された事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
訂正事項ｄ
　上記訂正事項ｄは、上記訂正事項ａ〜ｃの訂正による明細書の発明の詳細な説明の記載と発明の名称の不一致を解消するものである。
　従って、訂正事項ｄについては、明りょうでない記載の釈明に相当する。
　また、上記訂正事項ｄは、特許明細書又は図面に記載された事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
訂正事項ｅ〜ｈ
　上記訂正事項ｅ〜ｈは、上記訂正事項ａ〜ｃの特許請求の範囲の訂正による明細書発明の詳細な説明と特許請求の範囲との不一致を解消するものである。
　従って、訂正事項ｅ〜ｈについては、明りょうでない記載の釈明に相当する。
　また、上記訂正事項ｅ〜ｈは、特許明細書又は図面に記載された事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
２．４　訂正の適否の判断
　上記訂正事項ａ〜ｈは、上記のとおりであるから、平成６年法律第１１６号附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、改正前の特許法第１２６条第１項ただし書、同条第２項の規定に適合する。
　従って、当該請求を認める。
３．特許異議申立てについての判断
３．１　本件請求項１に係る発明
　上記２．２に記載のとおり。
３．２　異議申立ての理由の概要
　上記１．１に記載のとおり。
３．２．１　本件請求項１に係る発明と甲１号証との対比、判断
　本件請求項１に係る発明が、「位置合わせ用光源として赤、青、緑の３色の光、またはシアン、イエロー、マゼンタの３色の光を用い、
　該３色の光は１つの光にまとめられ、被露光部材である半導体ウェハー上に導かれ、被露光部材である半導体ウェハー上から帰ってきた光は３色に分離され、各色それぞれ検出手段により検出され、その信号について画像処理を行い、基準からのズレを検出することにより位置合わせを行う」構成（以下、「本件請求項１に係る発明の特徴的構成」という。）を有するのに対し、異議申立人キャノン株式会社が提出した甲第１、２号証及び異議申立人桑田勉が提出した甲第１〜４号証記載の発明にも上記本件請求項１に係る発明の特徴的構成の記載及びその記載を示唆する記載がない。
　また、本件請求項１に係る発明は、上記本件請求項１に係る発明の特徴的構成を有することにより、「本件発明は、…色収差による誤差を避けることが可能になる。色収差は光学系にとって不可避であり、３色の光に対して、たとえば対物レンズ等のもつ色収差により、「被露光部材である半導体ウェハー」上のアライメントマークのフオーカス位置が、色毎に変わことになる。よって、ここで検出光を「３色に分離」することで、たとえば一番検出精度が高くなる（出力信号が大きい）色に対して選択的にフォーカスさせことが可能となる。かつ本件発明では、「各色それぞれ検出手段により検出され」る構成をとるので、一番検出精度が高くなる（出力信号が大きい）色についの信号（「検出手段により検出され」た信号）のみを選択的に扱うことも可能なる。このように、検出光を「３色に分離」することで、フォーカスのずれたの光の影響を排除し、アライメントの精度向上を実現することが可能ならしめる。」（平成１４年９月１７日付意見書第６頁第２６行〜第７頁第８行）という上記甲第１号証記載の発明にはない効果を有する。
　従って、本件請求項１に係る発明は、異議申立人キャノン株式会社が提出した甲第１、２号証及び異議申立人桑田勉が提出した甲第１〜４号証号証記載の発明と同一ではなく、また当該各発明に基づいて当業者が容易に発明できたものでもない。
４．むすび
 したがって、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件請求項１に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　従って、本件請求項１に係る発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。
　よって、特許法の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、上記のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年１０月３日（２００２．１０．３）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　訂正事項ａ、ｂ及びｃは、特許請求の範囲の減縮を目的とし、訂正事項ｄ〜ｇは、明りょうでない記載の釈明を目的とする。
訂正事項ａ
　特許明細書の請求項１，３，４を削除する。これに伴い、同請求項２を請求項１に繰り上げる。
訂正事項ｂ
　特許明細書の請求項２の「可視領域に吸収を持つ色素を含む着色膜の位置合わせを行う工程を備える半導体装置の製造方法において、」を、「レジスト膜を形成して加工を行う際、露光光のレジスト反射を抑制するため、可視領域に吸収を持つ色素を含むカラーレジストを用いるとともに、該カラーレジストからなる着色膜の位置合わせを行う工程を備える半導体装置の製造方法において、」と訂正する。
訂正事項ｃ
　特許明細書の請求項２の「位置合わせ用光源として赤、青、緑の３色の光の内少なくとも２色の光、またはシアン、イエロー、マゼンタの３色の光の内少なくとも２色の光を含む光を用いることを特徴とする半導体装置の製造方法。」を、「位置合わせ用光源として赤、青、緑の３色の光、またはシアン、イエロー、マゼンタの３色の光を用い、該３色の光は１つの光にまとめられ、被露光部材である半導体ウェハー上に導かれ、被露光部材である半導体ウェハー上から帰ってきた光は３色に分離され、各色それぞれ検出手段により検出され、その信号について画像処理を行い、基準からのズレを検出することにより位置合わせを行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。」と訂正する。
訂正事項ｄ
　特許明細書の発明の名称の「半導体装置の製造方法及び位置合わせ装置」を、「半導体装置の製造方法」と訂正する。
訂正事項ｅ
　特許号明細書の発明の詳細な説明の欄の【０００８】、【００１０】〜【００１３】、【００１６】〜【００１９】段落を削除する。
訂正事項ｆ
　特許明細書の発明の詳細な説明の欄の【０００１】段落を、「【０００１】【産業上の利用分野】
　本発明は、半導体装置の製造方法に関する。特に、可視領域に吸収を持つ色素を含む着色膜の位置合わせを行う工程を備える半導体装置の製造方法に関するものである。」と訂正し、【０００７】段落を、「【０００７】　本発明は、上記問題点を解決して、各種の色の着色膜の位置合わせが可能であって、よって工程の複雑化を避けることができる半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。」と訂正し、【０００９】段落を、「【０００８】【問題点を解決するための手段】
　本発明は（レジスト膜を形成して加工を行う際、露光光のレジスト反射を抑制するため、可視領域に吸収を持つ色素を含むカラーレジストを用いるとともに、該カラーレジストからなる着色膜の位置合わせを行う工程を備える半導体装置の製造方法において、位置合わせ用光源として赤、青、緑の３色の光、またはシアン、イエロー、マゼンタの３色の光を用い、該３色の光は１つの光にまとめられ、被露光部材である半導体ウェハー上に導かれ、被露光部材である半導体ウェハー上から帰ってきた光は３色に分離され、各色それぞれ検出手段により検出され、その信号について画像処理を行い、基準からのズレを検出することにより位置合わせを行うことを特徴とする半導体装置の製造方法であって、これにより上記目的を達成するものである。」と訂正し、【００１４】段落を、「【０００９】【作用】
　本発明によれば、単一波長の光を用いた位置合わせでは位置合わせ不可能な色についても、赤、青、緑の３色またはシアン、マゼンタ、イエローの３色のアライメント用光源を用意することにより、あらゆる色の着色膜の位置合わせが可能となる。即ち、どこの波長に吸収を持つ色素を含む着色膜にも対応した位置合わせが可能となる。
　なお図２に符号Ｉ〜ＩＩＩで示すのは、青・緑・赤の市販のカラーレジストの分光透過特性の一例である。
」と訂正し、【００２３】段落を、「【００１４】【発明の効果】
　上述した如く、本発明によれば、各種の色の着色膜の位置合わせが可能であって、よって工程の複雑化を避けることができる半導体装置の製造方法を提供することができる。」と訂正する。
訂正事項ｇ
　特許明細書の図面の簡単な説明の欄を、「【図面の簡単な説明】
　【図１】実施例１の露光光学系を示す構成図である。
　【図２】カラーレジストの分光透過特性の例を示す図である。
　【符号の説明】
　１　赤外光
　１１　赤色光
　１２　緑色光
　１３　青色光
　２　　光源
　２１　　赤色光源
　２２　　緑色光源
　２３　　青色光源
　３　被露光部材（ウェハー）
　４　検出手段（ＣＣＤカメラ）
訂正事項ｈ
　特許明細書に添付の図面中の図１ないし図３を削除する。図４を図１と訂正し、図５を図２と訂正する。
（５４）【発明の名称】
半導体装置の製造方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　レジスト膜を形成して加工を行う際、露光光のレジスト反射を抑制するため、可視領域に吸収を持つ色素を含むカラーレジストを用いるとともに、該カラーレジストからなる着色膜の位置合わせを行う工程を備える半導体装置の製造方法において、
　位置合わせ用光源として赤、青、緑の３色の光、またはシアン、イエロー、マゼンタの３色の光を用い、
　該３色の光は１つの光にまとめられ、被露光部材である半導体ウェハー上に導かれ、被露光部材である半導体ウェハー上から帰ってきた光は３色に分離され、各色それぞれ検出手段により検出され、その信号について画像処理を行い、基準からのズレを検出することにより位置合わせを行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は、半導体装置の製造方法に関する。特に、可視領域に吸収を持つ色素を含む着色膜の位置合わせを行う工程を備える半導体装置の製造方法に関するものである。
　【０００２】
　【従釆の技術】
　従来より、例えば代表的には半導体装置の製造プロセスにおいて、可視領域に吸収を持つ色素を含む着色膜の位置合わせを行う工程を要する場合がある。これは、カラーレジストと称される可視領域に吸収をもつ色素を含有するレジストを用いるとき、不可欠である。このようなカラーレジストは、例えば高反射率の下地上にレジスト膜を形成して加工を行う際、露光光のレジスト反射を抑制するため等の目的で使用される。
　【０００３】
　従来のフォトリソグラフィー工程の位置合わせ用光源には、主に次のものがある。
　▲１▼Ｈｅ−Ｎｅ　レーザー，６３３ｎｍ
　▲２▼Ｈｅ−Ｃｄ　レーザー，４４２ｎｍ
　▲３▼ハロゲン・ブロード・バンド光　５００〜７５０ｎｍ
　▲４▼ＴＴＬ　露光光源　ｇ線（４３６ｎｍ）　ｉ線（３６５ｎｍ）
　【０００４】
　しかしこれらの波長では、色によっては光が透過せず、よって全ての色素において位置合わせができるわけではない。
　【０００５】
　このため、上述したような色素入りのカラーレジストを用いた着色膜については、その位置合わせができない。そのことにより、例えばオンチップカラーフィルターなどではコーティング（ｃｏａｔｉｎｇ）−リソグラフィ（ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）−染色といった工程をくり返して行う必要がある。特にこの染色工程は、複雑な工程である。
　【０００６】
　【発明が解決しようとする問題点】
　上述したように、着色膜を半導体製造工程等に導入した場合、その位置合わせが重要となるが、従来の単一波長を用いた位置合わせ技術では位置合わせができない色の着色膜がでてくるという問題がある。また、これを避けるために、例えばＬＣＤやＣＣＤのカラーフィルター工程において染色工程を行う必要が出て来て、工程がきわめて煩雑になるという問題がある。
　【０００７】
　本発明は、上記問題点を解決して、各種の色の着色膜の位置合わせが可能であって、よって工程の複雑化を避けることができる半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。
　【０００８】
　【問題点を解決するための手段】
　本発明は、レジスト膜を形成して加工を行う際、露光光のレジスト反射を抑制するため、可視領域に吸収を持つ色素を含むカラーレジストを用いるとともに、該カラーレジストからなる着色膜の位置合わせを行う工程を備える半導体装置の製造方法において、位置合わせ用光源として赤、青、緑の３色の光、またはシアン、イエロー、マゼンタの３色の光を用い、該３色の光は１つの光にまとめられ、被露光部材である半導体ウェハー上に導かれ、被露光部材である半導体ウェハー上から帰ってきた光は３色に分離され、各色それぞれ検出手段により検出され、その信号について画像処理を行い、基準からのズレを検出することにより位置合わせを行うことを特徴とする半導体装置の製造方法であって、これにより上記目的を達成するものである。
　【０００９】
　【作用】
　本発明によれば、単一波長の光を用いた位置合わせでは位置合わせ不可能な色についても、赤、青、緑の３色またはシアン、マゼンタ、イエローの３色のアライメント用光源を用意することにより、あらゆる色の着色膜の位置合わせが可能となる。即ち、どこの波長に吸収を持つ色素を含む着色膜にも対応した位置合わせが可能となる。
　なお図２に符号Ｉ〜ＩＩＩで示すのは、青・緑・赤の市販のカラーレジストの分光透過特性の一例である。
　【００１０】
　【実施例】
　以下本発明の実施例について、図面を参照して説明する。なお当然のことではあるが、本発明は実施例により限定を受けるものではない。
　【００１１】
　実施例１
　図１は、本実施例の露光光学系の構成図である。これは、３色光源を用いた露光装置のアライメント光学系を示すものである。図１中、２は光源であり、赤色光源２１、緑色光源２２、青色光源２３から成る。この光源２からの光としては、例えば、赤色光１１にはＨｅ−Ｎｅレーザー（６３３ｎｍ）、緑色光１２及び青色光１３にはそれぞれ５１５ｎｍ、４８８ｎｍのＡｒレーザーを用いる。３色のレーザー光１１〜１３は、ミラーＳ１及びダイクロイックミラーＳ２ａ，Ｓ２ｂによって１つの光にまとめられ、被露光部材３であるウェハー上に導かれる。帰ってきた光は、ビームスプリッタＳ３により分離され、ミラー５１′及びダイクロミラー５２ａ′，５２ｂ′により３色に分離され、各色それぞれ検出手段４（各色に対応した検出部４１〜４３から成る）であるＣＣＤカメラにより検出される。その信号について画像処理８を行い、基準からのズレを検出する。
　【００１２】
　図１中、７１は投影レンズ、７２は対物レンズ、３１は被露光部材３であるウェハーを載置するステージである。
　【００１３】
　本実施例によれば、各種の色のカラーレジストを用いた各種の着色膜について、その位置合わせが可能であった。染色法を用いたコーティング−リソグラフイー−染色の工程を繰り返す複雑なプロセスをとる必要は全くなかった。
　【００１４】
　【発明の効果】
　上述した如く、本発明によれば、各種の色の着色膜の位置合わせが可能であって、よって工程の複雑化を避けることができる半導体装置の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】実施例１の露光光学系を示す構成図である。
　【図２】カラーレジストの分光透過特性の例を示す図である
　【符号の説明】
　　１　　赤外光
　１１　　赤色光
　１２　　緑色光
　１３　　青色光
　２　　光源
　２１　　赤色光源
　２２　　緑色光源
　２３　　青色光源
　　３　　被露光部材（ウェハー）
　　４　　検出手段（ＣＣＤカメラ）
【図面】