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【手続補正書】
【提出日】平成27年4月1日(2015.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外科訓練のための模擬組織構造であって、
ベース層と、
前記ベース層の上方に配置されかつ前記ベース層に結合された欠損層であって、少なくとも１つの間隙を画定している少なくとも１つの欠損部を含む欠損層と、
前記欠損層の上方に配置されかつ前記欠損部の少なくとも一部分を覆う模擬腫瘍と、
前記ベース層の上方に配置されかつ前記腫瘍を覆うカバー層と、を備える、模擬組織構造。
【請求項２】
前記欠損層が、前記ベース層から延在する複数の突出部を含む、請求項１に記載の模擬組織構造。
【請求項３】
前記欠損層の厚さが一様でない、請求項１に記載の模擬組織構造。
【請求項４】
前記欠損層が、複数の欠損部を含む、請求項１に記載の模擬組織構造。
【請求項５】
前記欠損層が、２つ以上の並置された小片を含む、請求項１に記載の模擬組織構造。
【請求項６】
前記カバー層が、透明かまたは半透明である、請求項１に記載の模擬組織構造。
【請求項７】
前記カバー層が、前記腫瘍および欠損層を覆う、請求項１に記載の模擬組織構造。
【請求項８】
前記欠損部が、前記少なくとも１つの間隙を間に画定している並置された２つの表面を含む、請求項１に記載の模擬組織構造。
【請求項９】
前記ベース層が、管形状である、請求項１に記載の模擬組織構造。
【請求項１０】
前記ベース層、欠損層、およびカバー層のうちの少なくとも１つが、メッシュ材料を含む、請求項１に記載の模擬組織構造。
【請求項１１】
外科訓練のための模擬組織構造であって、
模擬組織部分を含む少なくとも１つの模擬組織モジュールと、
第２の表面とは反対の第１の表面を有しかつそれらの間にある厚さを画定するモジュール支持体であって、前記少なくとも１つの模擬組織モジュールを受容するためのサイズおよび形状となされた少なくとも１つのモジュール受容部分を含むモジュール支持体と、を備え、
前記模擬組織モジュールが、前記少なくとも１つのモジュール受容部分への挿入およびそこからの取り外しが可能であり、かつ、別の模擬組織モジュールと交換可能である、模擬組織構造。
【請求項１２】
前記モジュール受容部分が、前記第１の表面に開口部を有しかつ前記モジュール支持体内まで延在している空洞を画定する、請求項１１に記載の模擬組織構造。
【請求項１３】
前記モジュール受容部分が、前記第１の表面に第１の開口部を含み、かつ前記モジュール支持体内まで延在し、かつ前記第２の表面において第２の開口部と相互接続し、前記少なくとも１つの模擬組織モジュールが、前記第１および第２の開口部の間に配置されるように構成されている、請求項１１に記載の模擬組織構造。
【請求項１４】
前記模擬組織部分が、少なくとも１つの模擬腫瘍または外科練習ターゲットを含む、請求項１１に記載の模擬組織構造。
【請求項１５】
前記模擬組織モジュールが、前記模擬組織部分を保持するように構成されたフレームを含み、前記フレームおよびモジュール支持体が、前記モジュール支持体のモジュール受容部分において互いに結合するように構成されている、請求項１１に記載の模擬組織構造。
【請求項１６】
前記モジュール支持体が、弾性ポリマーで作られた第１の層、および低密度弾性フォームで作られた第２の層を含み、前記モジュール受容部分が、少なくとも前記第２の層に形成される、請求項１１に記載の模擬組織構造。
【請求項１７】
前記模擬組織モジュールが、第１の弾性層と第２の弾性層との間に位置するシリコーン材料で作られた模擬腫瘍を含み、前記第１および第２の弾性層のうちの少なくとも一方が、シリコーンおよびメッシュ補強材で作られている、請求項１１に記載の模擬組織構造。
【請求項１８】
前記模擬組織モジュールが前記モジュール支持体の前記第１の表面および前記第２の表面からアクセス可能であるように、前記模擬組織モジュールおよび前記モジュール支持体が構成されている、請求項１１に記載の模擬組織構造。
【請求項１９】
外科訓練のための方法であって、
ベース層とカバー層との間に配置された人工腫瘍を含む模擬組織構造を用意すること、  前記模擬組織構造が少なくとも部分的に使用者の視界から隠されるように、前記模擬組織構造を外科訓練デバイスの模擬体腔内に設置すること、
前記人工腫瘍を前記模擬組織構造から除去すること、
実質的に前記腫瘍の位置に、間に間隙を画定している隣接した２つの表面を含む少なくとも１つ欠損部を生成すること、および、
前記間隙を閉鎖して前記隣接した２つの表面をくっつけることを含む、方法。
【請求項２０】
少なくとも１つの欠損部を生成する前記ステップが、前記模擬組織構造内に欠損層を設けるステップを含む、請求項１９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月16日(2015.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の特有の期間で経時的に変化する周波数を有する少なくとも１つの第１の電磁放射線を提供するように構成される少なくとも１つの第１のハードウェア構成と、
前記少なくとも１つの第１の電磁放射線を受信し、前記少なくとも１つの第１の電磁放射線を、第２の特有の期間で経時的に変化する周波数を有する少なくとも１つの第２の電磁放射線に変更するように構成される少なくとも１つの第２のハードウェア構成と、
を備え、
前記第２の特有の期間は前記第１の特有の期間より短く、
少なくとも１つの第２の構成は、前記第２の特有の期間とほぼ同じである前記少なくとも１つの第１の電磁放射線についての往復伝播時間を有する共振空洞を含む、
少なくとも１つの電磁放射線を提供する装置。
【請求項２】
前記少なくとも１つの第２の構成が、前記少なくとも１つの第１の電磁放射線を入れ、前記少なくとも１つの第２の電磁放射線を放出するように構成される結合デバイスを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記結合デバイスがＮ×Ｎ導波路デバイスである、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記結合デバイスが音響光学変調器である、請求項２に記載の装置。
【請求項５】
少なくとも１つの第１の構成がソース構成を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記少なくとも１つの第２の構成が再循環ループを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記少なくとも１つの第２の構成が、前記少なくとも１つの第１の電磁放射線または前記少なくとも１つの第２の電磁放射線の少なくとも１つを増幅するように構成される増幅デバイスをさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
第１の特有のデューティサイクルで経時的に繰り返して変化する周波数を有する少なくとも１つの第１の電磁放射線を提供するように構成される少なくとも１つの第１のハードウェア構成であって、前記第１の特有のデューティサイクルは０．５未満である、少なくとも１つの第１のハードウェア構成と、
前記少なくとも１つの第１の電磁放射線を受信し、前記少なくとも１つの第１の電磁放射線を、前記第１の特有のデューティサイクルより長い第２の特有のデューティサイクルで少なくとも１つの第２の電磁放射線に変更するように構成される少なくとも１つの第２のハードウェア構成と、
を備える、少なくとも１つの電磁放射線を提供する装置。
【請求項９】
前記第１の特有のデューティサイクルが１／３未満である、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記第２の特有のデューティサイクルが約１である、請求項８に記載の装置。
【請求項１１】
少なくとも１つの第２の構成が、少なくとも１つの第１の電磁放射線を入れ、前記少なくとも１つの第２の電磁放射線を放出するように構成される結合デバイスを備える、請求項８に記載の装置。
【請求項１２】
前記結合デバイスがＮ×Ｎ導波路デバイスである、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記結合デバイスが音響光学変調器である、請求項１１に記載の装置。
【請求項１４】
少なくとも１つの第１の構成がソース構成を備える、請求項８に記載の装置。
【請求項１５】
少なくとも１つの第２の構成が再循環ループを備える、請求項８に記載の装置。
【請求項１６】
少なくとも１つの第２の構成が、前記少なくとも１つの第１の電磁放射線または前記少なくとも１つの第２の電磁放射線の少なくとも１つを増幅するように構成される増幅デバイスをさらに備える、請求項８に記載の装置。
【請求項１７】
第１の特有の期間で経時的に変化する周波数を有する少なくとも１つの第１の電磁放射線を提供するステップを含み、
少なくとも１つのハードウェア構成が、前記少なくとも１つの第１の電磁放射線を受信し、前記少なくとも１つの第１の電磁放射線を、第２の特有の期間で経時的に変化する周波数を有する少なくとも１つの第２の電磁放射線に変更し、
前記第２の特有の期間は前記第１の特有の期間より短く、
前記少なくとも１つのハードウェア構成は、前記第２の特有の期間とほぼ同じである前記少なくとも１つの第１の電磁放射線についての往復伝播時間を有する共振空洞を備える、
少なくとも１つの電磁放射線を提供する方法。
【請求項１８】
第１の特有のデューティサークルで経時的に繰り返し変化する周波数を有する少なくとも１つの第１の電磁放射線を提供するステップであって、前記第１の特有のデューティサークルは０．５未満である、ステップと、
前記少なくとも１つの第１の電磁放射線を受信し、前記少なくとも１つの第１の電磁放射線を、前記第１の特有のデューティサークルより長い第２の特有のデューティサークルで少なくとも１つの第２の電磁放射線に変更するステップと、
を含む、少なくとも１つの電磁放射線を提供する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月5日(2015.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
略中空の内部を有する積層された複合管（２２）と、
前記複合管（２２）の対向する側に取り付けられた、少なくとも1対の長手方向の補剛材（５２，５４）と、
前記複合管（２２）の各端部に設けられ、構造体に取り付けるように適合された取付け具（２４）と、を備えるストラット（２０）において、
前記複合管の中空の内部にあって前記複合管に取り付けられている第2の補剛材の対を更に備え、
前記第2の補剛材の対（５４）が、開口（３０）の中心軸線（２７）に略平行な平面に対して略対称であり、かつ、
各前記補剛材（５２，５４）は横断面の形状が台形である、
ことを特徴とするストラット。
【請求項２】
前記補剛材（５２，５４）が、前記複合管の前記中空の内部に配置されている、請求項1に記載のストラット。
【請求項３】
前記取付け具（２４）が、中心軸線（２７）を有しかつ前記取付け具（２４）を前記構造体に結合する細長いピン（３２）を受けるように適合された開口（３０）を備え、
各前記補剛材（５２，５４）が、前記開口の前記軸線に垂直な平面に対して略対称である、請求項1または2に記載のストラット。
【請求項４】
各前記取付け具（２４）が、複数の外側段部を含み、
前記複合管（２２）が、前記外側段部にそれぞれ重なり合う複数の層の組を含み、
前記外側段部と、前記重なり合う複数の層の組とが単一のせん断接合部を形成する、請求項1から3のいずれか一項に記載のストラット。
【請求項５】
ストラット（２０）を作製するための方法であって、
細長いマンドレル（５６）を製造するステップと、
前記マンドレル（５６）の各端部に取付け具（２４）を配置するステップと、
前記マンドレル（５６）上に複合補剛材のレイアップ（５０、５２）を配置するステップと、
複合層を前記マンドレル（５６）上にレイアップすることによって複合管（２２）を形成するステップと、
前記複合管（２２）および前記複合補剛材を共に養生するステップと、
前記マンドレル（５６）を除去するステップと、を含み、
前記マンドレル（５６）を製造するステップが、前記マンドレル（５６）の各端部上に回転軸を形成するステップ、および前記マンドレル内に前記マンドレルの長さに沿って空隙部を形成するステップを含み、かつ、
前記マンドレル（５６）上に前記取付け具（２４）を配置するステップが、前記回転軸上に前記取付け具（２４）を配置するステップによってなされる、方法。
【請求項６】
前記複合補剛材のレイアップを前記マンドレル上に配置するステップが、
前記複合補剛材をレイアップし、かつ形成するステップと、
前記形成された複合補剛材のレイアップを前記マンドレルの空隙部内に配置するステップと、
を含む、請求項5に記載の方法。
【請求項７】
前記複合管を形成するステップが、自動繊維配置機を使用して、複合テープからなる複数のストリップを前記マンドレル（５６）の表面上に横たえかつ圧縮することにより実行される、請求項5または6に記載の方法。
【請求項８】
前記複合管（２２）を形成するステップが、該複合管と各前記取付け具（２４）との間に単一のせん断接合部を形成するステップを含む、請求項5から7のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記マンドレル（５６）を除去するステップが、前記マンドレル（５６）を液体で分解するステップを含む、請求項5から8のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記複合補剛材のレイアップ内に補剛材マンドレルを挿入するステップと、
前記複合管および前記複合補剛材が共に養生された後、前記補剛材マンドレルを除去するステップと
を更に含む、請求項5から9のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月20日(2015.1.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性材料を備え、内側表面（４００）を有する外側管（３０２）と、
導電性材料を備え、外側表面（４０２）を有する内側管（３０４）であって、前記内側管の前記外側表面及び前記外側管の前記内側表面が流路（３０６）を画定するように、前記外側管の内側に同軸配置で位置決めされ、前記流路が前記内側管を絶縁する熱絶縁材料を含む、内側管と、
導電性材料を備える橋渡し構造（３０８）であって、前記橋渡し構造が、前記外側管の前記内側表面の上の前記導電性材料及び前記内側管の前記外側表面の上の前記導電性材料の間に、機械的な接触及び静電接続を形成するように、前記流路の中に位置決めされ、前記橋渡し構造は、複数の第１のポイントにおいて前記外側管の前記内側表面と機械的に接触し、複数の第２のポイントにおいて前記内側管の前記外側表面と機械的に接触する、橋渡し構造（３０８）と
前記流路の中において、前記橋渡し構造の一側面の上に位置決めされた第１のリテーナ（３１０）と、
前記流路の中において、前記橋渡し構造の他の側面の上に位置決めされた第２のリテーナ（３１２）であって、前記橋渡し構造は第1のリテーナと第２のリテーナとの間に位置決めされ、第１のリテイナーと第２のリテーナとが前記流路の中で前記橋渡し構造が動くことを妨げる第２のリテーナ（３１２）とを備え、
前記流路がさらに第２のリテーナに隣接し、前記外側管の端（３１４）に提供されたシールを有し、前記流路中の材料が前記外側管の前記端から漏れることを防止する、装置。
【請求項２】
前記橋渡し構造は、スプリング、メッシュ、フォーム、及びフィラメントのストランドの束を有する構造のグループから選択される請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記橋渡し構造は、複数の側面を備えるマンドレルの周りに前記導電性材料を巻き付けることにより形成される前記スプリングを備える、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記第２のリテーナは、電気的な絶縁材料から作られ、前記外側管の一端部に位置決めされる、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記装置は、航空機に配置される、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記橋渡し構造は、いずれのポイントにおいても、前記外側管の前記内側表面及び前記内側管の前記外側表面に装着されていない、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
電気的に結合される管類のための方法であって、
導電性材料を備える橋渡し構造を、外側管及び内側管の間の流路の中に置いて、前記外側管の内側表面の上の導電性材料及び前記内側管の外側表面の上の導電性材料の間に、静電接続を形成することであって、前記内側管と前記外側管とは流路を形成するように同軸配置を有し、前記内側管は流体が伝わり、前記流路は熱絶縁材料を含み、前記橋渡し構造は、複数の第１のポイントにおいて前記外側管の前記内側表面と機械的に接触し、複数の第２のポイントにおいて前記内側管の前記外側表面と機械的に接触するように置かれることと、
前記流路の中において、前記橋渡し構造の一側面の上に第１のリテーナを置くことと、
前記流路の中において、前記橋渡し構造の別の側面の上に第２のリテーナを置くことであって、前記橋渡し構造は第１のリテーナと第２のリテーナとの間に位置決めされ、第１のリテーナと第２のリテーナとが前記流路における前記橋渡し構造が動くことを妨げることと
前記流路から流体が漏れることを防止するため、第２のリテーナに隣接して、前記外側管の端にシールを配置することとを含む、
方法。
【請求項８】
前記橋渡し構造は、スプリング、メッシュ、フォーム、及びフィラメントのストランドの束を有する構造のグループから選択される、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記橋渡し構造は、複数の側面を備えるマンドレルの周りに前記導電性材料を巻き付けることにより形成される前記スプリングを備える、請求項８に記載の方法。  
【請求項１０】
前記第２のリテーナを、前記外側管の一端部に置くことをさらに含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
前記橋渡し構造は、チタニウム及びステンレス鋼から成る材料のグループから選択される材料により作られる、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記橋渡し構造は、いずれのポイントにおいても、前記外側管の前記内側表面及び前記内側管の前記外側表面に装着されていない、請求項９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月25日(2015.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）シェル内に画定された内部容積、
（ｂ）前記シェルの内部容積内に配置された離間した複数のコア、及び
（ｃ）前記複数のコアを分離するための前記内部容積内に設置されたスロッシング制御バッフルを含み、各コアは液体のシェル側流体中に部分的に浸漬し、前記スロッシング抑制バッフルは各コア間の前記液体のシェル側流体の制限された分布を許容し、前記スロッシング抑制バッフルは極低温に耐えることができ、前記スロッシング抑制バッフルは各コア間の液体のシェル側の流れに耐えそれをそらせ得る熱交換器。
【請求項２】
前記スロッシング抑制バッフルは各コアの間に設置されている請求項１に記載の熱交換器。
【請求項３】
前記スロッシング抑制バッフルはコア中央部に設置されている請求項１に記載の熱交換器。
【請求項４】
前記スロッシング抑制バッフルは、各コアの間及びコアの中央部に設置されている請求項１に記載の熱交換器。
【請求項５】
前記スロッシング抑制バッフルが中実板であり、前記中実板はシェル内の内部容積の底近傍にある流路を含んでいる請求項１に記載の熱交換器。
【請求項６】
前記スロッシング抑制バッフルが多孔板である請求項１に記載の熱交換器。
【請求項７】
前記スロッシング抑制バッフルが二重多孔板である請求項１に記載の熱交換器。
【請求項８】
前記スロッシング抑制バッフルが各コアの端部に配置されている請求項１に記載の熱交換器。
【請求項９】
前記スロッシング抑制バッフルの間の領域が充填材料で充填されている請求項８に記載の熱交換器。
【請求項１０】
前記スロッシング抑制バッフルの間の領域が充填材料で充填されている請求項１に記載の熱交換器。
【請求項１１】
前記液体のシェル側流体が気化させる流体である請求項１に記載の熱交換器。
【請求項１２】
前記液体のシェル側流体が冷媒である請求項１１に記載の熱交換器。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の熱交換器内での動きの影響を低減する方法であり、前記熱交換器はシェル内に画定された内部容積を含み、前記内部容積は離間した複数のコアを含み、
ａ．前記シェル内の内部容積内にスロッシング抑制バッフルを設置すること、ここで前記スロッシング抑制バッフルは前記内部容積内の複数のコアを分離し、
ｂ．各コアを液体のシェル側流体内に部分的に浸漬すること、ここで前記スロッシング抑制バッフルは各コア間の前記液体のシェル側流体の制限された分配を許容し、
ｃ．コア側流体を各コアの中に導入すること、
ｄ．前記コア側流体を冷却しそれによって各コア内に冷却された流れを生成すること、及び
ｅ．各コアから前記冷却された流れを取り出すこと
を含む方法。
【請求項１４】
前記スロッシング抑制バッフルは極低温に耐えることができる請求項１３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月5日(2015.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
筐体と、
ユーザインターフェース構成要素と、
前記筐体内に配置され、前記ユーザインターフェース構成要素に連結される、処理システムであって、周囲気温を受信するための１つ以上の温度センサと動作通信するように構成され、さらに、ＨＶＡＣシステムと動作通信し、少なくとも部分的に、測定された周囲温度および設定点温度の比較に基づいて、前記ＨＶＡＣシステムを制御するように構成され、さらに、前記ユーザインターフェース構成要素のユーザ制御に基づいて、前記設定点温度値を即時制御しようとするユーザの所望を識別するように構成され、なおもさらに、所定の時間間隔の終了に応じて、前記設定点温度を低エネルギー消費温度に自動的にリセットし、少なくとも部分的に、前記設定点温度を即時制御しようとする前記ユーザの所望の反復識別に基づいて、前記サーモスタット用のスケジュールを生成するように構成される、処理システムと、
前記処理システムに連結され、前記識別された設定点温度値を表す情報を表示するように構成される、電子ディスプレイと、
を備える、サーモスタット。
【請求項２】
前記電子ディスプレイは、前記サーモスタット筐体の正面に沿って配置され、
前記ユーザインターフェース構成要素は、リング形状であるとともにユーザからの回転入力の動きを追跡するように構成され、かつ前記電子ディスプレイを実質的に囲繞し、さらに、前記回転入力の動きの回転軸の方向に沿って、前記ユーザによって内向きに押下可能であるように構成される、機械的に回転可能なリングを備え、
前記機械的に回転可能なリングおよび前記筐体は、前記機械的に回転可能なリングが、内向きに押下されると、前記回転軸の方向に沿って内向きに移動するように相互に構成される、請求項１に記載のサーモスタット。
【請求項３】
前記サーモスタット筐体は、概して、円盤状形状であって、その正面は、円形であって、前記機械的に回転可能なリングは、概して、前記円盤状形状の外側側方周縁と一致する、請求項２に記載のサーモスタット。
【請求項４】
前記ユーザインターフェース構成要素は、無線データ受信構成要素を備え、ユーザデバイスからデータネットワークによってユーザの所望の設定点温度を受信するよう構成されている、請求項１に記載のサーモスタット。
【請求項５】
前記所定の時間間隔は、少なくとも約１時間から約４時間未満である、請求項１に記載のサーモスタット。
【請求項６】
前記所定の時間間隔は、少なくとも１．５時間から約３時間未満である、請求項５に記載のサーモスタット。
【請求項７】
前記電子ディスプレイはさらに、ユーザに、前記スケジュールの生成に関する通知を表示するように構成される、請求項１に記載のサーモスタット。
【請求項８】
前記処理システムはなおもさらに、２つ以上の即時制御設定点温度変更が、９０分未満の時間間隔内に識別される場合、前記スケジュールの生成が、前記２つ以上の識別のうちの最新のものに基づくように構成される、請求項１に記載のサーモスタット。
【請求項９】
前記処理システムはなおもさらに、前記設定点温度の自動リセットが、前記ＨＶＡＣシステムが暖房を使用するときは、６８°Ｆ（２０℃）を下回る基準設定点温度に、前記ＨＶＡＣシステムが冷房を使用するときは、７８°Ｆ（２５．５℃）を上回る基準設定点温度に行なわれるように構成される、請求項１に記載のサーモスタット。
【請求項１０】
前記所定の時間間隔は、少なくとも約１時間から約４時間未満であり、前記スケジュールの生成は、
スケジュールを学習するためにユーザインターフェース構成要素を用いてなされたユーザ設定点の変更における温度および時刻の反復を追跡することであって、前記ユーザ設定点の変更は、自動リセットの前記所定の時間間隔内に行われたものが含まれる、反復を追跡すること、
前記スケジュールの学習のために、ユーザが設定点を変更しない自動リセットの後の所定の時間間隔に対して、追跡されたユーザ設定点の変更として低エネルギー消費温度および関連する自動リセットの時間を組み込むことと
を含む、請求項１に記載のサーモスタット。
【請求項１１】
ＨＶＡＣシステムの制御のために使用されるプログラム可能サーモスタット用スケジュールを生成するための方法であって、前記サーモスタットは、筐体と、リング形状のユーザインターフェース構成要素と、処理システムと、電子ディスプレイとを備え、
１つ以上の温度センサによって測定された周囲気温にアクセスすることと、
前記リング形状のユーザインターフェース構成要素の回転移動を検出および追跡し、ユーザの少なくとも１つの回転入力の動きを追跡することと、
第１の時点において追跡された回転入力の動きに基づいて、第１の設定点温度値を識別することと、
所定の時間間隔の間、少なくとも部分的に、前記測定された周囲気温および前記第１の設定点温度値の比較に基づいて、前記ＨＶＡＣシステムを制御することと、
前記所定の時間間隔の終了に応じて、前記第１の設定点温度を自動的にリセットすることと、
第２の時点において追跡された回転入力の動きに基づいて、第２の設定点温度値を識別することと、
前記所定の時間間隔の間、少なくとも部分的に、前記測定された周囲気温および前記第２の設定点温度値の比較に基づいて、前記ＨＶＡＣシステムを制御することと、
前記所定の時間間隔の終了に応じて、前記第２の設定点温度を自動的にリセットすることと、
前記処理システムを用いて、少なくとも部分的に、前記第１および第２の設定点ならびに前記第１および第２の時点に基づいて、前記プログラム可能サーモスタット用スケジュールを生成することと、
前記第１および第２の識別された設定点温度値を表す情報を前記電子ディスプレイ上に表示することと、
を含む、方法。
【請求項１２】
前記所定の時間間隔は、少なくとも約３０分から約６時間未満である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記所定の時間間隔は、約２時間である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記第１および第２の設定点のリセットは、前記設定点温度を基準設定点温度にリセットする、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
包囲空間が、少なくとも部分的に、時季および前記包囲空間の地理的場所に基づいて、暖房を使用する可能性があるかどうかを判定することをさらに含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記基準設定点温度は、前記包囲空間が暖房を使用する可能性があるときは、６５°Ｆを下回る、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記基準設定点温度は、前記包囲空間が冷房を使用する可能性があるときは、７８°Ｆを上回る、請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
前記電子ディスプレイ上に、前記スケジュールが生成されたことを示す通知を表示することをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１９】
前記第１および第２の設定点のリセットは、前記設定点温度を既存のスケジュールにリセットする、請求項１１に記載の方法。
【請求項２０】
前記生成されたスケジュールを前記プログラム可能サーモスタット用アクティブスケジュールとして自動的に採用することをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月14日(2015.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
カード所持者の指を感知領域３１６上の置くと、その指が低い抵抗となって、２つの分離した接点３３３、３３４の間に電流が流れ、感知領域３１６の容量Ｃｃが増加する。このように、感知領域３１６は閉位置にあるため、チップ３１４、アンテナ３１２及び感知領域からなる回路は閉になり、これによって、チップと、非接触型携帯機器に関連付けられたリーダとの間の通信が可能になる。従って、共振周波数は次に等しい。
2015502600.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月28日(2015.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モバイルデバイスにおいて実行中であるモバイルクライアントをデータネットワークに接続するステップと、
前記データネットワークを介して、前記モバイルクライアントと、リモートコンピュータデバイスにおいて実行中であるリモートクライアントとの間で、ピアツーピア接続を確立するステップと、
を含む、マシンにより実施される方法。
【請求項２】
前記モバイルクライアントを使用して、前記リモートコンピュータデバイスに対してファイル管理アクションを実行するステップ
をさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記モバイルクライアントと前記リモートクライアントとの間の同期スケジュールを作成するステップ
をさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記リモートコンピュータデバイスにおけるリモートファイルを、前記モバイルデバイスにおけるモバイルファイルと同期するステップ
をさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記リモートファイルと前記モバイルファイルとの間で、不一致解決アクションを実行するステップ
をさらに含む、請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記モバイルデバイスにおいてモバイルファイルを作成するステップと、
前記モバイルファイルを前記リモートクライアントにプッシュするステップと、
をさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項７】
前記ピアツーピア接続を確立するために、リモートアクセスサーバにコンタクトするステップ
をさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項８】
リモートコンピュータデバイスにおいて実行中であるリモートクライアントをデータネットワークに接続するステップと、
前記データネットワークを介して、前記リモートクライアントと、モバイルデバイスにおいて実行中であるモバイルクライアントとの間で、ピアツーピア接続を確立するステップと、
を含む方法をプロセッサに実行させるプログラム。
【請求項９】
モバイルファイルを記憶するデータストレージと、
データネットワークに接続する通信インタフェースと、
前記データネットワークを介して、リモートコンピュータデバイスにおいて実行中であるリモートクライアントとの直接接続を確立し、且つ前記モバイルファイルを前記リモートクライアントにプッシュするよう、モバイルクライアントを実行するプロセッサと、
を備えた、モバイルデバイス。
【請求項１０】
前記モバイルクライアントは、リモートファイルを選択し、前記リモートクライアントから前記リモートファイルをプルする、請求項９記載のモバイルデバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月13日(2015.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次式Ｉの化合物：
【化１】
2015502331.tif 000001
式中：
Ｒ7は次のものから選択される：ＯＲA（ここで、ＲAは、フェニル（クロロ置換基を有していてよい）、ピリジル及びフラニルで置換されていてよいＣ1〜4飽和アルキルから選択される）；クロロ；ＮＨ2；−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）Ｍｅ；
Ｒ8はＯＰｒｏｔOであり、ここで、ＯＰｒｏｔOは、ＲCに対して直交的であるケイ素系酸素保護基であり；
Ｒ9は、Ｈ、メチル及びメトキシから選択され；
ＲSは、ＣＦ3、（ＣＦ2）3ＣＦ3、ＣＨ3及び
【化２】
2015502331.tif 000002
から選択され；
そして
ＲCは次のものから選択される：
（ｉ）−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲC1（ここで、ＲC1は、飽和Ｃ1〜4アルキル基である）；
（ｉｉ）−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＲC2（ここで、ＲC2はメチル又はフェニルである）；
（ｉｉｉ）−ＣＨ2−Ｏ−Ｓｉ−（ＲSi1）（ＲSi2）（ＲSi3）（ここで、ＲSi1、ＲSi2、ＲSi3はＣ1〜6飽和アルキル基及びフェニル基から独立して選択される）；及び
（ｉｖ）−Ｃ（−ＹＲC3）（−ＹＲC4）（ここで、それぞれのＹは、独立してＯ又はＳであり、ＲC3及びＲC4は、独立して飽和Ｃ1〜4アルキル基であるか、又は一緒になってＣ2〜3アルキレンを形成する）。
【請求項２】
Ｒ7がＯＲA（ここで、ＲAは、非置換Ｃ1〜4飽和アルキルであり、しかもメチルであってよい。）である、請求項１の化合物。
【請求項３】
ＲSがＣＦ3である、請求項１又は２に記載の化合物。
【請求項４】
ＲC1がメチルである、請求項１〜３のいずれかに記載の化合物。
【請求項５】
−Ｓｉ−（ＲSi1）（ＲSi2）（ＲSi3）がＴＢＤＭＳである、請求項１〜４のいずれかに記載の化合物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の次式Ｉの化合物：
【化３】
2015502331.tif 000003
を次式ＩＩの化合物:
【化４】
2015502331.tif 000004
から合成する方法であって、該ＩＩを不活性雰囲気下で乾燥有機溶媒中において−３５℃以下の温度で適切な無水物及び無水２，６−ルチジン又は無水２，６−ｔＢｕ−ピリジンで処理することを含む方法。
【請求項７】
次式ＩＩＩの化合物：
【化５】
2015502331.tif 000005
式中：ＲC、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は請求項１〜５のいずれかに定義されたとおりであり；
Ｒ2は次のものから選択される：
（ｉ）置換されていてもよいＣ5〜20アリール基；
（ｉｉ）置換されていてもよいＣ1〜5アルキル基；及び
（ｉｉｉ）Ｈ。
【請求項８】
請求項７に記載の次式ＩＩＩの化合物：
【化６】
2015502331.tif 000006
を請求項１〜５のいずれかに記載の次式Ｉの化合物：
【化７】
2015502331.tif 000007
から、
（ｉ）式Ｉの化合物と適切なアリールホウ素誘導体とのスズキカップリング；
（ｉｉ）適切なアルケン、アクリルアミド又はアクリレートとのヘックカップリング；
（ｉｉｉ）適切な有機スズ試薬とのスティルカップリング；
（ｉｖ）適切なアルキンとのソノガシラカップリング；又は
（ｖ）トリエチルシランを使用したヒドリド移動
によって合成する方法。
【請求項９】
次式ＩＶの化合物：
【化８】
2015502331.tif 000008
式中：Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は請求項１〜５のいずれかに定義されたとおりであり、Ｒ2は請求項７で定義されたとおりであり；
ＲDは次のものから選択される：
（ｉｉ）−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＲC2（ここで、ＲC2はメチル又はフェニルである）；
（ｉｉｉ）−ＣＨ2−Ｏ−Ｓｉ−（ＲSi1）（ＲSi2）（ＲSi3）（ここで、ＲSi1、ＲSi2、ＲSi3はＣ1〜6飽和アルキル基及びフェニル基から独立して選択される。）；及び
（ｉｖ）−Ｃ（−ＹＲC3）（−ＹＲC4）（ここで、それぞれのＹは、独立してＯ又はＳであり、ＲC3及びＲC4は、独立して飽和Ｃ1〜4アルキル基であるか、又は一緒になってＣ2〜3アルキレンを形成する）。
【請求項１０】
−Ｓｉ−（ＲSi1）（ＲSi2）（ＲSi3）がＴＢＤＭＳである、請求項９に記載の化合物。  
【請求項１１】
ＲC2がメチルである、請求項９に記載の化合物。
【請求項１２】
請求項９〜１１のいずれかに記載の次式ＩＶの化合物：
【化９】
2015502331.tif 000009
を請求項７に記載の次式IIIの化合物：
【化１０】
2015502331.tif 000010
から、
（ｉ）ＲCが−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲC1の場合には、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲC1から−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＲC2又は−ＣＨ2−Ｏ−Ｓｉ−（ＲSi1）（ＲSi2）（ＲSi3）への転化、その後
（ｉｉ）ＲCが−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＲC2の場合には、酢酸中での亜鉛によるニトロ基の還元又はＲCが−ＣＨ2−Ｏ−Ｓｉ−（ＲSi1）（ＲSi2）（ＲSi3）の場合には、エタノール中５％ギ酸中における亜鉛を使用したニトロ基の還元；
（ｉｉｉ）ＲCが−Ｃ（−ＹＲC3）（−ＹＲC4）の場合には、Ｃｄ／Ｐｂ対、亜ジチオン酸ナトリウム又は塩化スズＩＩを使用したニトロ基の還元
によって合成する方法。
【請求項１３】
次式Ｖの化合物：
【化１１】
2015502331.tif 000011
式中：Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は請求項１〜５のいずれかに定義されたとおりであり、Ｒ2は請求項７で定義されたとおりであり、そしてＲDは請求項９〜１１のいずれかにおいて定義されたとおりであり、
Ｒ10は、パラジウムに不安定である及び／又は次の基：
【化１２】
2015502331.tif 000012
を付加する条件下では不安定であるカルバメート系窒素保護基、或いはパラジウムに不安定である及び／又は次の基：
【化１３】
2015502331.tif 000013
を付加するために使用される条件下で不安定である部分を含む。
【請求項１４】
Ｒ10が次のものから選択される、請求項１３に記載の化合物：
【表１】
2015502331.tif 000014
（ここで、アスタリスクは、Ｎ１０位への結合点を示す。）。
【請求項１５】
Ｒ10が次式：
【化１４】
2015502331.tif 000015
（ここで、アスタリスクはＮ１０位への結合点を示し、Ｇ1は細胞結合剤への結合を形成するための官能基であり、Ｌ1は切断可能なリンカーであり、Ｌ2は共有結合であり又は−ＯＣ（＝Ｏ）−と共に自壊性リンカーを形成する。）
である、請求項１３に記載の化合物。
【請求項１６】
請求項１３〜１５のいずれかに記載の次式Ｖの化合物：
【化１５】
2015502331.tif 000016
を請求項９〜１１のいずれかに記載の次式ＩＶの化合物：
【化１６】
2015502331.tif 000017
から、該ＩＶとトリホスゲンとを反応させてイソシアネートを得、その後Ｒ10−ＯＨと反応させることによって合成する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月23日(2015.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象において免疫応答を抑制するための組成物であって、ｉＮＫＴ細胞に選択的に結合する裸の遮断抗体を含み、ここで前記遮断抗体が、枯渇抗体であり、かつ前記抗体が、ｉＮＫＴ細胞機能を抑制するのに、および、ｉＮＫＴ細胞を枯渇させるのに有効な量である、前記組成物。
【請求項２】
抗原に対する対象の免疫応答が抑制される、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
抗原が、アレルゲンである、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
対象が、
（ａ）喘息を患い、処置が、対象において１つまたは２つ以上の喘息の症状を抑制し、ここで前記喘息が、好ましくはアレルギー性喘息であり、前記対象が、好ましくはヒトである；
（ｂ）ＣＯＰＤを患い、処置が、前記対象において１つまたは２つ以上のＣＯＰＤの症状を抑制する；
（ｃ）気道過敏性障害を患い、かつ処置が、前記対象において１つまたは２つ以上の前記障害の症状を抑制する；あるいは、
（ｄ）ヒトである、
請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
対象が、ヒトであり、抗体が、完全ヒト抗体である、請求項４に記載の組成物。
【請求項６】
抗体が、
（ａ）３つの軽鎖および３つの重鎖ＣＤＲ領域をもち、前記の３つの軽鎖および３つの重鎖のＣＤＲ領域の夫々が、ヒト配列の複合体である；
（ｂ）組み換えの可溶性ヒトｉＴＣＲへの結合において０．９未満である、６Ｂ１１抗体と比較した相対的なＩＣ５０を有する；
（ｃ）配列番号２４、２５および２６と、８５位にロイシンとを含む軽鎖可変領域をもつ；あるいは、
（ｄ）配列番号２１、２２および２３と、２３位にバリンおよび／または９９位にスレオニンとを含む重鎖可変領域をもつ、
請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
抗体が、
（ａ）配列番号１によって定義されるエピトープに結合する；
（ｂ）配列番号１および２によって定義されるエピトープに結合する；
（ｃ）配列番号１５、１６、１７、１８、１９または２０から選択される軽鎖可変領域を含む；
（ｄ）配列番号７、８、９、１０、１１、１２、１３または１４から選択される重鎖可変領域を含む；
（ｅ）ＮＫＴＴ１２０を含む；あるいは、
（ｆ）対象への投与後、１つまたは２つ以上の血清サイトカインレベルにおいて、有意な変化を引き起こさない、
請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
ｉＮＫＴ細胞に選択的に結合する、単離されたヒト化抗体を含む組成物であって、前記抗体が、組み換えの可溶性ヒトｉＴＣＲへの結合において０．９未満の、６Ｂ１１抗体と比較した相対的なＩＣ５０をもつ、前記組成物。
【請求項９】
重鎖可変領域および軽鎖可変領域が、ヒト配列からなる、請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
抗体が、組み換えの可溶性ヒトｉＴＣＲへの結合において０．１と０．４との間である、６Ｂ１１抗体と比較した相対的なＩＣ５０をもつ、請求項８に記載の組成物。
【請求項１１】
抗体が、
（ａ）配列番号１によって定義されるエピトープに結合する；
（ｂ）３つの軽ＣＤＲ領域および３つの重ＣＤＲ領域をもち、前記の３つの軽ＣＤＲ領域および３つの重ＣＤＲ領域の夫々が、ヒト配列の複合体である；
（ｃ）配列番号２４、２５および２６と、８５位でロイシンとを含む軽鎖可変領域をもつ；あるいは、
（ｄ）配列番号２１、２２および２３と、２３位でバリンおよび／または９９位でスレオニンとを含む重鎖可変領域をもつ、
請求項８〜１０のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１２】
抗体が、
（ａ）配列番号２４、２５および２６と、８５位でロイシンとを含む配列をもつ軽鎖可変領域、ならびに、配列番号２１、２２および２３と、２３位でバリンおよび／または９９位でスレオニンとを含む重鎖可変領域をもつ；
（ｂ）配列番号７、８、９、１０、１１、１２、１３または１４から選択される配列をもつ重鎖可変領域を含む；
（ｃ）配列番号１５、１６、１７、１８、１９または２０から選択される配列をもつ軽鎖可変領域を含む；
（ｄ）配列番号１７または１８から選択される配列をもつ軽鎖可変領域を含む；
（ｅ）配列番号７、８、９、１０または１４から選択される配列をもつ重鎖可変領域、および配列番号１７または１８から選択される配列をもつ軽鎖可変領域を含む；
（ｆ）配列番号１７または１８から選択される配列を有する軽鎖可変領域、および配列番号９または１０から選択される配列を有する重鎖可変領域をもつ；
（ｇ）配列番号２７の配列を有する重鎖可変領域、および配列番号２９の配列を有する軽鎖可変領域をもつ；
（ｈ）配列番号２８の配列を有する重鎖可変領域、および配列番号２９の配列を有する軽鎖可変領域をもつ；
（ｉ）枯渇抗体であり、好ましくは、対象への投与後、１つまたは２つ以上の血清サイトカインレベルにおいて、有意な変化を引き起こさない：あるいは、
（ｊ）活性化抗体である、
請求項８に記載の組成物。
【請求項１３】
抗体が、配列番号２７の配列を有する重鎖、および配列番号２９の配列を有する軽鎖をもち、ヒト対象においてｉＮＫＴ細胞を枯渇させることによって該対象を処置するためのものであって、前記抗体が、該ヒト対象においてｉＮＫＴ細胞を枯渇させるのに有効な量で投与される、請求項８に記載の組成物。
【請求項１４】
（ａ）対象が、気道過敏状態、アレルギー、自己免疫疾患、アレルギーを除く炎症状態、虚血再灌流傷害、血管炎性疾患もしくは鎌状赤血球貧血を患うか、または移植の予定があるか、もしくは移植を行った；あるいは、
（ｂ）抗体が、対象に投与後、１つまたは２つ以上の血清サイトカインレベルにおいて、有意な変化を引き起こさない、
請求項１３に記載の組成物。
【請求項１５】
抗体が、ヒト対象においてｉＮＫＴ細胞を活性化させることによって該対象を処置するための活性化抗体であって、前記抗体が、かかる処置が必要なヒト対象に、該ヒト対象においてｉＮＫＴ細胞を活性化させるのに有効な量で投与され、前記対象が、好ましくは感染性疾患を患うか、または癌を患う、請求項８に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月8日(2015.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式の化合物において、
Ｇ−（Ｘ）ｎ−γｑ−（Ｘ）ｍ−Ａ
式中
ｍは５〜１２であり；
ｎは４〜１０であり；
Ｇは、式 
2015502330.tif 000001
で示すグアニジニル基、又はその互変異性体であり、式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３又はＲ４は、水素、アルキル、アリル、又はアラルキルであり；
Ｘは各々独立に４−アミノ−２−カルボニル−Ｎ−メチルイミダゾール（Ｉｍ）、４−アミノ−２−カルボニル−Ｎ−メチルピロール（Ｐｙ）またはβ−アラニン（β）から選択され；
γｑはγ−アミノ酪酸（γ）；２，４−ジアミノ酪酸（γＮＨ２）；またはＨ２Ｎ（ＣＨ２）２ＣＨ（ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨＲ）ＣＯ２Ｈ（式中、Ｒは−（ＣＨ２）３−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−ＮＨ２（γＮＨＲ’）または−（ＣＨ２）３−Ｎ（ＣＨ３）２（γＮＨＲ’’）である）であり；かつ
Ａは３，３’−ジアミノ−Ｎ−メチルジプロピルアミン（Ｔａ）または３−（ジメチルアミノ）プロピルアミン（Ｄｐ）である
化合物またはその薬学的に許容される塩。
【請求項２】
請求項１に記載の化合物において、Ｇはテトラメチルグアニジニル（ＴＭＧ）であることを特徴とする化合物。
【請求項３】
請求項１に記載の化合物において、
ＴＭＧ−ＰｙＰｙβＰｙＰｙβＰｙＩｍ−γＮＨ２−ＰｙβＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙβＰｙＰｙ−Ｔａ；
ＴＭＧ−ＰｙＰｙＰｙβＰｙＰｙβＰｙＩｍ−γＮＨＲ’−ＰｙβＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙβＰｙβ−Ｔａ；
ＴＭＧ−ＰｙＰｙＰｙβＰｙＰｙβＰｙＩｍ−γＮＨ２−ＰｙβＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙβＰｙβ−Ｔａ；
ＴＭＧ−ＰｙＰｙＰｙβＰｙＰｙβＰｙ−γＮＨＲ’−ＰｙＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙβＰｙβ−Ｔａ；
ＴＭＧ−ＰｙＰｙＰｙβＰｙＰｙβＰｙＩｍ−γＮＨ２−ＰｙβＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙβＰｙβ−Ｄｐ；
ＴＭＧ−ＰｙＰｙＰｙβＰｙＰｙβＰｙ−γＮＨ２−ＰｙＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙβＰｙβ−Ｔａ；
ＴＭＧ−ＰｙＰｙＰｙβＰｙＰｙβＰｙ−γＮＨ２−ＰｙＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙβＰｙβ−Ｄｐ；
ＴＭＧ−ＰｙβＰｙＰｙＩｍβＰｙＰｙ−γ−ＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙβ−Ｔａ；
ＴＭＧ−ＰｙＰｙＰｙβＰｙＰｙβＰｙ−γＮＨＲ’’−ＰｙＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙβＰｙβ−Ｄｐ；
ＴＭＧ−ＰｙβＰｙＰｙＩｍβＰｙＰｙ−γ−ＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙβ−Ｄｐ；
ＴＭＧ−ＰｙβＰｙＰｙＰｙ−γ−ＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙＰｙβ−Ｄｐ；
ＴＭＧ−ＰｙβＰｙＰｙＰｙ−γ−ＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙＰｙβ−Ｔａ；
ＴＭＧ−ＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙ−γ−ＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙＰｙβ−Ｄｐ；
ＴＭＧ−ＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙ−γ−ＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙＰｙβ−Ｔａ；
ＴＭＧ−ＰｙＰｙβＰｙＰｙＩｍβＰｙＰｙ−γ−ＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙβ−Ｔａ；
ＴＭＧ−ＰｙＰｙβＰｙＰｙＩｍβＰｙＰｙ−γ−ＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙβ−Ｄｐ；
ＴＭＧ−ＰｙＰｙＰｙβＰｙＰｙβＰｙＩｍ−γ−ＰｙβＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙβＰｙβ−Ｔａ；
ＴＭＧ−ＰｙＰｙＰｙβＰｙＰｙβＰｙＩｍ−γ−ＰｙβＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙβＰｙβ−Ｄｐ；
ＴＭＧ−ＰｙＰｙβＰｙＰｙβＰｙＩｍ−γ−ＰｙβＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙβＰｙβ−Ｄｐ；
ＴＭＧ−ＰｙＰｙβＰｙＰｙβＰｙＩｍ−γ−ＰｙβＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙβＰｙβ−Ｔａ；
ＴＭＧ−ＰｙＩｍβＰｙＰｙ−γ−ＰｙＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙβ−Ｔａ；
ＴＭＧ−ＰｙＰｙβＰｙＰｙβＰｙ−γＮＨ２−ＰｙＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙβＰｙβ−Ｔａ；
ＴＭＧ−ＰｙＰｙβＰｙＰｙβＰｙＩｍ−γＮＨ２−ＰｙβＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙβＰｙβ−Ｔａ；
ＴＭＧ−ＰｙＰｙβＰｙＰｙβＰｙ−γ−ＰｙＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙβＰｙβ−Ｔａ；
ＴＭＧ−ＰｙＰｙＰｙβＰｙＰｙβＰｙ−γ−ＰｙＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙβＰｙβ−Ｔａ；
ＴＭＧ−ＰｙＩｍＰｙＩｍ−γ−ＰｙＰｙＰｙＰｙβ−Ｔａ；
ＴＭＧ−ＰｙＩｍβＩｍ−γ−ＰｙβＰｙＰｙβ−Ｔａ；
ＴＭＧ−ＰｙＩｍＰｙＩｍ−γ−ＰｙβＰｙＰｙβ−Ｔａ；
ＴＭＧ−ＰｙＩｍβＩｍ−γ−ＰｙＰｙＰｙＰｙβ−Ｔａ；
ＧＵＡＮ−ＰｙＩｍβＩｍγＰｙβＰｙＰｙβ−Ｔａ；
からなる群から選択されることを特徴とする化合物及びそれらの薬学的に許容される塩。
【請求項４】
請求項１に記載の化合物において、γｑは（Ｒ）−２，４−ジアミノ酪酸（γＮＨ２）であることを特徴とする化合物。
【請求項５】
請求項１に記載の化合物において、γｑは（Ｓ）−２，４−ジアミノ酪酸（γＮＨ２）であることを特徴とする化合物。
【請求項６】
治療有効量の請求項１に記載の化合物および薬学的に許容されるキャリアを含むことを特徴とする医薬組成物。
【請求項７】
請求項１に記載の化合物において、蛍光を発するまたは蛍光標識されることを特徴とする化合物。
【請求項８】
請求項７に記載の化合物において、下記式：
ＴＭＧ−ＰｙＰｙＰｙβＰｙＰｙβＰｙＩｍ−γ−ＰｙβＰｙＰｙβＰｙＰｙＰｙβＰｙβ−Ｔａ−ＦＡＭ；
であることを特徴とする化合物およびその薬学的に許容される塩。