【事件の表示】
　特許第３３２８４８８号「基板洗浄装置」の請求項１及び２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３３２８４８８号の請求項１及び２に係る特許を維持する。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯 
　本件特許第３３２８４８８号の請求項１及び２に係る発明についての出願は、平成７年１２月２６日に出願され、平成１４年７月１２日にその発明について特許権の設定登録（平成１４年９月２４日特許公報発行）がされた。これに対して、平成１５年３月２４日に特許異議申立人・振屋　正、及び、特許異議申立人・松原いづみによりそれぞれ特許異議の申立てがなされ、取消しの理由が通知され、その指定期間内である平成１６年１０月１日に特許異議意見書の提出及び訂正請求がなされたものである。 
　 
II．訂正の適否 
１．訂正の内容 
　平成１６年１０月１日付けの訂正請求書は、本件特許第３３２８４８８号の願書に添付された明細書（以下、「特許明細書」という。）を、上記訂正請求書に添付した訂正明細書（以下、「訂正明細書」という。）のとおりに訂正することを求めるものであり、その内容は以下のとおりである。 
　なお、下線は対比の便宜のために当審において付したものである。 
（１）訂正事項ａ 
　特許明細書における特許請求の範囲の請求項１の記載を、 
　「【請求項１】　超音波印加手段により超音波振動が加えられた洗浄液をノズルから基板の表面に供給することにより基板の表面を洗浄する基板洗浄装置であって、
　前記超音波印加手段の超音波出力を含む基板の洗浄条件を設定するための設定手段と、
　前記設定手段により設定された前記洗浄条件に応じて前記超音波印加手段の超音波出力を可変制御する制御手段とを備えたことを特徴とする基板洗浄装置。」から、 
　「【請求項１】　超音波印加手段により超音波振動が加えられた洗浄液をノズルから基板の表面に供給することにより基板の表面を洗浄する基板洗浄装置であって、
　前記超音波印加手段の超音波出力を含む基板の洗浄条件を
基板の種類ごとに設定するためのパネルを有し、前記パネルを用いて予め設定された複数の洗浄条件を基板の種類ごとに記憶
　前記設定手段により
記憶された複数の洗浄条件のうち洗浄すべき基板の種類に応じた洗浄条件を選択するための選択手段と、
前記選択手段により選択された
と訂正する。 
 　 
（２）訂正事項ｂ 
　特許明細書における特許請求の範囲の請求項２の記載を、 
　「【請求項２】　前記超音波印加手段は、与えられる高周波電流の値に応じた超音波出力を発生する高周波振動子を含み、
　前記制御手段は、前記設定手段により設定された前記洗浄条件に基づく制御信号を発生する制御信号発生手段と、前記制御信号により発生された前記制御信号に応じた値の高周波電流を前記高周波振動子に与える高周波発振手段とを含むことを特徴とする請求項１記載の基板洗浄装置。」から、 
　「【請求項２】　前記超音波印加手段は、与えられる高周波電流の値に応じた超音波出力を発生する高周波振動子を含み、
　前記制御手段は、前記
選択
選択
と訂正する。 
 　 
（３）訂正事項ｃ 
　特許明細書の段落【００１０】における、
　「超音波印加手段の超音波出力を含む基板の洗浄条件を設定するための設定手段と、設定手段により設定された洗浄条件に応じて超音波印加手段の超音波出力を可変制御する制御手段とを備えたものである。」を、 
　「超音波印加手段の超音波出力を含む基板の洗浄条件を
基板の種類ごとに設定するためのパネルを有し、パネルを用いて予め設定された複数の洗浄条件を基板の種類ごとに記憶
記憶された複数の洗浄条件のうち洗浄すべき基板の種類に応じた洗浄条件を選択するための選択手段と、選択手段により選択された
　 
（４）訂正事項ｄ 
　特許明細書の段落【００１１】における、
　「制御手段が、設定手段により設定された洗浄条件に基づく制御信号を発生する制御信号発生手段と、」を、 
　「制御手段が、
選択
選択
　
（５）訂正事項ｅ 
　特許明細書の段落【００１２】における、
　「第１および第２の発明に係る基板洗浄装置においては、設定手段により設定された洗浄条件に応じて超音波印加手段の超音波出力が可変制御される。」を、 
　「第１および第２の発明に係る基板洗浄装置においては、設定手段
のパネルを用いて基板の種類ごとに設定され記憶された複数の
　
（６）訂正事項ｆ 
　特許明細書の段落【００１３】における、
　「第２の発明に係る基板洗浄装置においては、設定手段により設定された洗浄条件に基づく制御信号が発生され、」を、 
　「第２の発明に係る基板洗浄装置においては、
選択
選択
　
２．訂正の目的の適否、新規事項の有無、及び特許請求の範囲の拡張・変更の存否 
（１）訂正事項ａ 
　特許明細書には、段落【００２０】〜【００２４】に、「洗浄条件設定パネル３１は、基板１００の回転数、洗浄時間、超音波ノズル８の走査速度、超音波ノズル８の走査回数等の洗浄条件（レシピ）を設定するために用いられる。本実施例では、この洗浄条件に純水に印加する超音波出力が含められる。基板の種類に応じて複数の洗浄条件を設定することができる。洗浄条件設定パネル３１により設定された洗浄条件はＣＰＵ３２を介してメモリ３３に記憶される。
　ＣＰＵ３２は、メモリ３３に記憶された洗浄条件に従って高周波発振器１０に制御信号ＣＴを与えるとともに、図１のモータ３、アーム駆動部７等の各部分に種々の制御信号を与える。操作パネル３４は、基板１００の洗浄時に作業者が洗浄条件を選択するために用いられる。
　本実施例では、高周波振動子９が超音波印加手段を構成し、洗浄条件設定パネル３１およびメモリ３３が設定手段を構成する。また、高周波発振器１０およびＣＰＵ３２が制御手段を構成する。ＣＰＵ３２が制御信号発生信号に相当し、高周波発振器１０が高周波発振手段に相当する。
　次に、図４のフローチャートを参照しながら本実施例の基板洗浄装置の動作を説明する。なお、予め洗浄条件設定パネル３１を用いて基板の種類に応じた複数の洗浄条件がメモリ３３に設定されているものとする。この洗浄条件には、基板の回転数、洗浄時間、超音波ノズル８の走査速度、超音波ノズル８の走査回数等の通常の洗浄条件とともに、純水に印加する超音波出力も含まれる。」と記載されている。 
　訂正事項ａは、上記記載事項に基づいてなされたものと認められ、特許請求の範囲の請求項１における「基板の洗浄条件」について、より下位概念である「
基板の種類ごとに設定するためのパネルを有し、前記パネルを用いて予め設定された複数の洗浄条件を基板の種類ごとに記憶
記憶された複数の洗浄条件のうち洗浄すべき基板の種類に応じた洗浄条件を選択するための選択手段と、前記選択手段により選択された
　したがって、訂正事項ａは、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正に該当する。 
 　 
（２）訂正事項ｂ〜ｆ 
　訂正事項ｂ〜ｆは、訂正事項ａによる請求項１の記載の訂正に伴って、請求項１の記載と、請求項２の記載及び発明の詳細な説明の欄の記載との整合性を図るためのものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正に該当する。 
 　 
　そして、訂正事項ａ〜ｆは、いずれも願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、新規事項の追加には該当せず、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。 
　 
３．訂正の適否についてのまとめ 
　以上のとおり、本件訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項において準用する特許法第１２６条第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。 
 　 
III．特許異議の申立てについての判断 
１．特許異議申立の理由の概要 
（１）特許異議申立０１
　特許異議申立人・振屋　正は、下記甲第１〜５号証を提出し、本件特許の請求項１及び２に係る発明は、甲第１〜５号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により拒絶されるべきであると主張している。 
 ＜甲号各証＞ 
　　甲第１号証：社団法人日本電子機械工業会編「超音波工学」（株式会社　　　　　　コロナ社、１９９３年１月３０日発行）第２５３〜２５４頁
　　甲第２号証：特公平３−２６１１６号公報
　　甲第３号証：「solid state technology　日本版１１月号　1987」（日
　　　　　　本エス・エス・ティ株式会社、１９８７年１１月１５日発行）　　　　　　第３３頁
　　甲第４号証：特開平７−２７５８１７号公報 
　　甲第５号証：宮腰伸一「多機能高周波超音波発振器」（超音波TECHNO　　　　　　、平成７年８月１５日，第７巻第８号（通巻第７８号））
　　　　　　第２０〜２３頁 
　
（２）特許異議申立０２
 　特許異議申立人・松原いづみは、下記甲第１〜５号証を提出し、本件特許の請求項１及び２に係る発明は、甲第１〜５号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により拒絶されるべきであると主張している。 
 ＜甲号各証＞ 
　　甲第１号証：特開平７−１３０６９３号公報 
　　甲第２号証：特開昭６２−７１５８４号公報
　　甲第３号証：宮腰伸一「多機能高周波超音波発振器」（超音波TECHNO　　　　　　、平成７年８月１５日，第７巻第８号（通巻第７８号））
　　　　　　第２０〜２３頁
　　甲第４号証：特開平３−２１８０１６号公報
　　甲第５号証：特開平４−２１３８２７号公報　 
　
２．本件発明 
　前述のとおり、本件訂正が認められたことにより、本件特許の請求項１及び２に係る発明（以下、「本件発明１」及び「本件発明２」という。）は、訂正明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１及び２に記載された事項により特定される次のとおりのものと認められる。
「【請求項１】　超音波印加手段により超音波振動が加えられた洗浄液をノズルから基板の表面に供給することにより基板の表面を洗浄する基板洗浄装置であって、
　前記超音波印加手段の超音波出力を含む基板の洗浄条件を基板の種類ごとに設定するためのパネルを有し、前記パネルを用いて予め設定された複数の洗浄条件を基板の種類ごとに記憶するための設定手段と、
　前記設定手段により記憶された複数の洗浄条件のうち洗浄すべき基板の種類に応じた洗浄条件を選択するための選択手段と、
　前記選択手段により選択された前記洗浄条件に応じて前記超音波印加手段の超音波出力を可変制御する制御手段とを備えたことを特徴とする基板洗浄装置。
　【請求項２】　前記超音波印加手段は、与えられる高周波電流の値に応じた超音波出力を発生する高周波振動子を含み、
　前記制御手段は、前記選択手段により選択された前記洗浄条件に基づく制御信号を発生する制御信号発生手段と、前記制御信号により発生された前記制御信号に応じた値の高周波電流を前記高周波振動子に与える高周波発振手段とを含むことを特徴とする請求項１記載の基板洗浄装置。」
　
３．通知した取消しの理由に引用した刊行物の記載事項
　これに対して、当審において平成１６年７月２７日付けで通知した取消しの理由には、本件出願前に頒布された刊行物である次の刊行物１〜５が引用されており、各刊行物には以下の技術的事項が記載されている。
［引用刊行物］
　刊行物１：特開平７−１３０６９３号公報　
　　　　　（特許異議申立人・松原いづみが提出した甲第１号証）
　刊行物２：特開昭６２−７１５８４号公報
　　　　　（同甲第２号証、特許異議申立人・振屋　正が提出した甲第２号　　　　　　証の公開公報）
　刊行物３：宮腰伸一「多機能高周波超音波発振器」（超音波TECHNO、平　　　　　　成７年８月１５日，第７巻第８号（通巻第７８号））第２０〜　　　　　　２３頁（特許異議申立人・松原いづみが提出した甲第３号証、　　　　　　特許異議申立人・振屋　正が提出した甲第５号証）
　刊行物４：特開平３−２１８０１６号公報  
　　　　　（特許異議申立人・松原いづみが提出した甲第４号証）
　刊行物５：特開平４−２１３８２７号公報 
　　　　　（同甲第５号証）
　
（１）刊行物１ 　 
（１−イ）「一方、ジェットノズル１０２は、図２に示すように、前記スピンチャック１０１を挟んで前記ブラシ１０４に対向する側に配設されており、アーム１６０の一端側に固着され、かつ、このアーム１６０の他端側はスキャナ１６１に支持されている。このスキャナ１６１の駆動により前記アーム１６０を介して前記ジェットノズル１０２を図２に示す待機位置と半導体ウエハＷの上面との揺動範囲にわたって揺動（公転駆動）可能としている。」（段落【００２０】参照）
 　 
（１−ロ）「また、表面ブラシスクラバ７の構成は、図２に示すように前記裏面ブラシスクラバ８における、半導体ウエハＷを水平状態に保持する回転保持手段であるスピンチャック１０１と、洗浄液噴射ノズル１０３から供給される洗浄液を用いて半導体ウエハＷの上面に付着する粒子汚染物を洗浄除去するブラシ１０４と、被洗浄体を裏面ブラシスクラバー８に搬入搬出するために上下動し開閉する開閉ドアと連動して上下動することにより、半導体ウエハＷを洗浄する時に洗浄液等が飛び散ることを防止するためのカップ１０５とによって構成されることは略同じである。構成の相違は、前記スピンチャック１０１にて保持される半導体ウエハＷの上面に処理液すなわち洗浄液をジェット流にして噴出するジェットノズル１０２の代わりに図３に示すメガソニックノズル１８０を備えていることである。このメガソニックノズル１８０から超音波振動を与えられた洗浄液を半導体ウエハＷの上面に噴射して洗浄するように構成されている。さらに詳しくには、前記メガソニックノズル１８０には、洗浄液を供給する洗浄液供給管１８１と、供給された洗浄液に超音波振動を与える超音波発振器１８２と、洗浄液を噴射する噴射口１８３が設けられている。前記超音波発振器１８２は、洗浄液に対して、たとえば、０．５から５メガヘルツの範囲の超音波振動を与えるように構成されている。」（段落【００２３】参照） 
 　 
（１−ハ）「この後、メガソニックノズル１８０を半導体ウエハＷの略中心位置に移動して、メガソニックノズル１８０から半導体ウエハＷの表面に洗浄液を散布し、半導体ウエハＷの略中心位置と外周端との間を往復移動して半導体ウエハＷの全面を均等に洗浄する。この洗浄は、メガソニックノズル１８０から洗浄液を散布するメガソニック洗浄単独でおこなってもよく、また、ブラシ１０４近傍に洗浄液を供給しつつ洗浄するブラシ洗浄単独で行ってもよく、また、両者を交互に行う、同時に行うなど、被洗浄体の種類や洗浄状態に応じて、種々変更設定して行うようにしてもよい。」（段落【００４２】参照） 
 　 
（１−ニ）「さらに、上記実施例の構成は、上記プロセスに限らず例えばウエハの裏面洗浄工程を行った後に表面洗浄工程を行ってもよい。また、表面洗浄においてはメガソニックによる超音波洗浄を行い、裏面洗浄においてはジェットノズルによる洗浄を行ったが、これに限られるものではなく、表面洗浄においてジェットノズルによる洗浄を行ってもよく、また、裏面洗浄においてメガソニックによる超音波洗浄を行ってもよいことは言うまでもないことである。このようにプロセスを任意に所望のプロセスを必要に応じてプログラムできることが特徴である。」（段落【００４６】参照） 
 　 
（１−ホ）「また、本装置においては、それぞれのレシピをモード画面２０より入力することが出来るようになっている。　前記ブラシ１０４、ジェットノズル１０２、メガソニックノズル１８０等のスキャン方式は、それぞれのスキャン距離とスキャン速度を設定することにより、スキャン時間を自動的に設定できるようになっている。また、ブラシ１０４の自転方向についても、ＣＷ（時計回り）モード、ＣＣＷ（反時計回り）モード、ＣＷモードとＣＣＷモードをくみあわせた反転モードの３つを選択できるようになっている。また、ブラシ１０４の高さ、交換時期、スキャンアームのスキャン範囲の調整も任意に設定できる。また、被洗浄体反転機構１０には、アライメント動作、クランプ動作、反転動作等をステップごとにチェックするチェック機能が設けられている。］（段落【００４８】参照）
　
（２）刊行物２
（２−イ）「（従来技術）
　性質の異なる洗浄溶液がそれぞれ入れられた洗浄槽に被洗浄物を順次浸し複数工程で洗浄する超音波洗浄装置は知られている。特に光学ガラスでは、ガラス材質の相違、ガラス表面構造の状態、洗浄溶液の種類など多数の条件に応じて、超音波出力強度・超音波放射時間の変更を行うことが必要である。このため、被洗浄物の種類が変更される毎に各工程の槽の超音波出力強度、洗浄時間等の条件の変更を行なわなければならなかった。
（発明の目的）
　本発明は上記実情に鑑みなされたもので複数個の超音波洗浄槽のそれぞれの超音波発振子に超音波出力強度と超音波洗浄時間とを組合せ設定した洗浄条件作動モードを複数種類備えこの複数種類の洗浄条件作動モードから被洗浄物に応じた洗浄条件作動モードを容易に選択できるようにした超音波洗浄装置を提供しようとするものである。」（第１頁左下欄第１８行〜右下欄第１５行） 
 　 
（２−ロ）「コントローラー３は切換ダイヤル１０の切換えでＨ、Ｌ、Ｍの３種類のモードのうち１つのモードが選択されて各超音波発振子７を駆動する。Ｈモードは超音波耐性の強い又は汚染度の高い等の被洗浄物の洗浄を行うモードで、このモードを選択した場合はコントローラー３がスイツチング作用を行い超音波発振器１ａ〜１ｅから第１表に例示した超音波発振信号がそれぞれの発振子７に印加される。そしてＬモード又はＭモードを選択した場合は同様に第１表のＬモード又はＭモードに例示した超音波発振信号がＨモードの超音波信号の代りに発振子７に印加される。」（第２頁左上欄第１６行〜右上欄第７行）
　
（２−ハ）「被洗浄物の洗浄条件作動モードを自動的に選択する場合には出力設定部１１をコントローラーに接続するもので、この場合を第２図、第３図とともに説明する。第２図において、被洗浄物を積載した運搬キヤリア１３は入口コンベヤ１４により搬送され、反射式光電管方式の選別感知器１５によつて被洗浄物に加えるべき超音波出力の強Ｈ、中Ｍ、弱Ｌを選別し、その信号が出力設定部１１に入力される。キヤリア１３には第３図に示すように選別感知器１５の作用に対して、穴位置及び穴の有無により超音波出力の強度が選別されるようになっており、（ａ）の穴なしの場合には強Ｈ、（ｂ）の穴１６が左側にある場合には中Ｍ、（ｃ）の穴１６が右側の場合は弱Ｌの３段階が検出される。更に、穴１６に左右に設ければ４段階に区分されることになる。」（第３頁左上欄第１〜１５行） 
 　 
（２−ニ）「コントローラー３には超音波発振器１ａ〜１ｅからの出力を、選別感知器１５からの信号によって洗浄槽６ａ〜６ｅに付属する超音波発振子７に分配する。一方、キヤリア１３は自動搬送装置によって超音波洗浄槽６、溶液洗浄槽８、蒸留乾燥槽９から成る洗浄機１７に配送され、超音波洗浄、溶液洗浄、乾燥を経て出口コンベヤ１８から搬出されるようになっている。なお、コンピユータを使用して設定部１２を設定する場合には、被洗浄物の特性を予め分析しておき、各洗浄槽６ａ〜６ｅごとに超音波出力とその放射時間を記憶しておけばよい。」（第３頁左上欄第１６行〜右上欄第６行） 
 　 
（３）刊行物３ 
（３−イ）「外観はシンプルに徹している。操作面のパネルを非常にシンプルとし、使い易さを考慮した結果である。発振器の前面には、出力設定ボリュームと出力電力ディジタル表示器、それに状態やエラー表示のＬＥＤのみである。
　発振器の後面は、電源スイッチ、出力コネクタ、外部制御コネクタとヒューズなどとなっている。
　実際に使用するには、出力コネクタと振動子を接続し、電源をＯＮとして、出力設定ボリュームを希望の電力に設定するだけで、自動的に最適点で動作する。出力電力ディジタル表示器は希望の設定電力を表示し、その後は計測した電力を表示する。」（第２１頁左欄下から８行〜右欄第４行） 
 　 
（３−ロ）「（１）パワー設定機能（ＰＳＦ）
　パワー設定機能（Power Setting Function）は、超音波の周波数が特に高い場合、指向性が鋭く限られた方向に超音波が放射されるが、ディジタル式に出力電力が設定できるため、ユニット間の出力バラツキが解消される。ディジタル式のため出力電力は段階的に設定できる。」（第２２頁右欄第４〜１０行） 
 　 
（４）刊行物４ 
（４−イ）「超音波振動を与えられた洗浄液体を半導体基板に与える工程と、前記液体の振動を読みとる工程と、前記読みとった振動に基づいて液体の振動を調整する工程とを具備したことを特徴とする半導体基板の洗浄方法」（特許請求の範囲（１）） 
 　
（５）刊行物５
（５−イ）「本発明の半導体製造用ウェーハ表面洗浄装置は、超音波により純水に振動を与える超音波ノズルを垂直方向にも動作させる垂直方向駆動部と、この動作量を制御する垂直方向制御部とを有する洗浄装置、または純水を振動させるための超音波の発振周波数を可変できる超音波発振器を有する洗浄装置である。」（段落【０００４】参照）
　
４．対比・判断 
　刊行物１に記載された枚葉式両面洗浄装置における表面ブラシスクラバ７においては、超音波発振器により超音波振動を与えられた洗浄液をメガソニックノズルから半導体ウエハＷの上面に噴射して洗浄するように構成されている（上記記載事項（１−ロ）参照）。そして、当該装置においては、それぞれのレシピ（洗浄条件）をモード画面２０より入力することができるようになっている（同（１−ホ）参照）。
　そこで本件発明１と刊行物１に記載された発明とを対比すると、後者における「超音波発振器」は前者における「超音波印加手段」に相当し、以下同様に、「メガソニックノズル」は「ノズル」に、「半導体ウエハＷ」は「基板」に、「モード画面２０」は「パネル」に、「枚葉式両面洗浄装置」は「基板洗浄装置」に、それぞれ相当する。
　そして、刊行物１に記載された発明は、モード画面２０より入力されたレシピに応じて制御されるものであるから、両者は、「超音波印加手段により超音波振動が加えられた洗浄液をノズルから基板の表面に供給することにより基板の表面を洗浄する基板洗浄装置であって、基板の洗浄条件を設定するためのパネルを有し、前記パネルを用いて予め設定された洗浄条件に応じて制御する基板洗浄装置」である点で一致し、次の点で相違する。 
［相違点］ 
　本件発明１では、「超音波印加手段の超音波出力を含む基板の洗浄条件を基板の種類ごとに設定するためのパネルを有し、前記パネルを用いて予め設定された複数の洗浄条件を基板の種類ごとに記憶するための設定手段と、前記設定手段により記憶された複数の洗浄条件のうち洗浄すべき基板の種類に応じた洗浄条件を選択するための選択手段と、前記選択手段により選択された前記洗浄条件に応じて前記超音波印加手段の超音波出力を可変制御する制御手段とを備えた」のに対し、刊行物１に記載された発明では、そのように特定されていない点。 
 　 
　上記相違点について検討する。
　刊行物１には、モード画面よりレシピ（洗浄条件）を入力することが記載されているが、超音波印加手段の超音波出力を含む基板の洗浄条件を、基板の種類ごとに設定し記憶することについては記載されていない。
　なお、刊行物１には、「被洗浄体の種類や洗浄状態に応じて、種々変更設定して行うようにしてもよい。」及び「このようにプロセスを任意に所望のプロセスを必要に応じてプログラムできることが特徴である。」と記載されているが（上記記載事項（１−ハ）、（１−ニ）参照）、上記記載は、それぞれ、メガソニック洗浄単独で行うかブラシ洗浄を交互に又は同時に行うか等の洗浄工程を変更設定できる旨、及び、超音波洗浄を表面洗浄及び裏面洗浄のどちらにおいて行うかを任意にプログラムできる旨を開示するにすぎず、モード画面を用いて基板の種類ごとに洗浄条件を設定し記憶することを開示するものではない。
　一方、刊行物２には、超音波洗浄装置において、複数個の超音波洗浄槽のそれぞれの超音波発振子に超音波出力強度と超音波洗浄時間とを組合せ設定した洗浄条件作動モードを複数種類備え、この洗浄条件作動モードから被洗浄物に応じた洗浄条件作動モードを選択できるようにすることが記載されており、前記作動モードを自動的に選択する場合には、選別感知器１５によって被洗浄物に加えるべき超音波出力の強Ｈ、中Ｍ、弱Ｌを選別し、その信号が出力設定部１１に入力される旨記載されている（上記記載事項（２−イ）〜（２−ハ）を参照）。
　しかしながら、刊行物２には、上記複数の洗浄条件作動モードをどのように設定するかについては記載されていない。
　ところで、刊行物２には、コンピユータを使用して設定部１２を設定する場合には、被洗浄物の特性を予め分析しておき、各洗浄槽６ａ〜６ｅごとに超音波出力とその放射時間を記憶しておけばよい旨記載されているが（同（２−ニ）を参照）、各洗浄槽６ａ〜６ｅごとに設定すべき洗浄条件（第１表参照）を予め分析し記憶しておくことが記載されているに留まり、複数の洗浄条件をパネルを用いて基板の種類ごとに記憶させることが記載又は示唆されているとすることはできない。そして、パネルを用いて設定を行うこと自体は周知の技術事項と認められるが、基板洗浄装置において複数の洗浄条件をパネルを用いて基板の種類ごとに記憶させることまで当業者に知られた事項であったとすることはできない。
　また、刊行物３には、超音波発振器を備えた洗浄機において、出力設定ボリュームを用いて出力電力を段階的に設定することが記載されているにすぎず（上記記載事項（３−イ）、（３−ロ）を参照）、基板の種類ごとに複数の洗浄条件を設定することについては記載されていない。
　さらに、刊行物４及び刊行物５には、それぞれ、読みとった液体の振動に基づいて超音波振動の調整を行うこと及び超音波の発振周波数を可変にすることが記載されているが（同（４−イ）、（５−イ）を参照）、基板の種類に応じて超音波出力を可変制御する本件発明１とは技術思想が異なるものである。 
　してみると、上記刊行物１〜５には、上記相違点に係る本件発明１の構成が記載されておらず、また示唆する記載も見出すことができない。 
　
　そして、本件発明１は、上記相違点に係る構成を具備することにより、訂正明細書に記載の「第１および第２の発明に係る基板洗浄装置においては、設定手段のパネルを用いて基板の種類ごとに設定され記憶された複数の洗浄条件に応じて超音波印加手段の超音波出力が可変制御される。それにより、基板の種類および洗浄条件に応じて洗浄液に印加される超音波出力も自動的に変更される。したがって、基板の種類および洗浄条件を変更するごとに超音波出力を手動操作で変更することなく、基板を最適な超音波出力で自動的に洗浄することが可能となる。」（段落【００１２】参照）という格別の効果を奏するものと認められる。 
 　 
　したがって、本件発明は、刊行物１〜５に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることができない。 
 　 
　なお、特許異議申立人・振屋　正の提出した甲第１、３、４号証についても、上記相違点に係る本件発明１の構成が記載されておらず、また示唆する記載も見出せないから、本件発明が、上記甲第１、３、４号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることができない。 
 　 
（２）本件発明２について
　本件発明２は、本件発明１を引用する発明であって、本件発明１を特定するために必要な事項をさらに限定するものである。そして、本件発明１が、上述のとおり、刊行物１〜５及び上記甲第１、３、４号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることができないものである以上、同様の理由により、本件発明２は、刊行物１〜５及び上記甲第１、３、４号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることができない。
　
５．むすび 
　上記のとおり、本件請求項１及び２に係る発明は、上記刊行物１〜５及び上記甲第１、３、４号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることができないから、特許法第２９条第２項の規定に違反するものとすることはできない。 
　以上のとおりであるから、特許異議の申立ての理由及び証拠によっては本件請求項１及び２に係る発明についての特許を取り消すことはできない。 
　また、他に本件請求項１及び２に係る発明についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　したがって、本件請求項１及び２に係る発明についての特許は、拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。 
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１７年２月３日（２００５．２．３）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
基板洗浄装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　超音波印加手段により超音波振動が加えられた洗浄液をノズルから基板の表面に供給することにより基板の表面を洗浄する基板洗浄装置であって、
　前記超音波印加手段の超音波出力を含む基板の洗浄条件を
基板の種類ごとに設定するためのパネルを有し、前記パネルを用いて予め設定された複数の洗浄条件を基板の種類ごとに記憶
　前記設定手段により
記憶された複数の洗浄条件のうち洗浄すべき基板の種類に応じた洗浄条件を選択するための選択手段と、
　
前記選択手段により選択された
　【請求項２】　前記超音波印加手段は、与えられる高周波電流の値に応じた超音波出力を発生する高周波振動子を含み、
　前記制御手段は、前記
選択
選択
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明は、超音波振動が加えられた洗浄液を基板の表面に供給して基板の表面を洗浄する基板洗浄装置に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、マスク基板等の基板の表面を洗浄するために、超音波振動が加えられた純水等の洗浄液を基板の表面に供給することによりキャビテーション現象を用いて基板の表面を洗浄する基板洗浄装置が用いられている。
　【０００３】
　図５は従来の基板洗浄装置の一例を示す模式的断面図である。図５において、ハウジング１内に基板１００を吸引保持する回転保持部２が配設されている。回転保持部２はモータ３により鉛直方向の回転軸Ｐ１の周りで回転駆動される。回転保持部２の周囲には、基板１００を取り囲むようにカップ４が上下動自在に設けられている。カップ４の下面には洗浄液を排出するための排出口５が設けられている。
　【０００４】
　カップ４の側方には、ノズルアーム６がアーム駆動部７により鉛直方向の回動軸Ｐ２の周りで回動可能に設けられている。ノズルアーム６の先端部には超音波ノズル８が取り付けられている。超音波ノズル８は、高周波発振器（図示せず）により振動する高周波振動子を内蔵し、供給される純水等の洗浄液に超音波振動を加えて吐出する。
　【０００５】
　この基板洗浄装置では、基板１００を所定の回転数で回転させ、超音波ノズル８から超音波振動が加えられた純水を基板１００の表面に供給しつつノズルアーム６を回動させることにより超音波ノズル８を基板１００の一方の外周部から中心部を通って他方の外周部まで走査させる。これにより、基板１００の表面の全域が超音波振動状態の純水により洗浄される。
　【０００６】
　【発明が解決しようとする課題】
　上記の従来の基板洗浄装置では、洗浄する基板の種類によって純水に印加する超音波出力を変更する必要がある。例えば、軟質の基板やパターンが形成された基板を洗浄する場合には、超音波出力を低く設定して純水の強度を低くする。一方、硬質の基板やパターン未形成の基板を洗浄する場合には、超音波出力を高く設定して純水の強度を高くする。
　【０００７】
　また、基板の回転数、洗浄時間、超音波ノズルの走査速度、超音波ノズルの走査回数等の洗浄条件によっても超音波出力を変更する必要がある。そのため、従来の基板洗浄装置では、洗浄する基板の種類や洗浄条件を変更するごとに、手動操作で超音波出力を再設定している。
　【０００８】
　しかしながら、多くの種類の基板を順次洗浄する場合や基板の種類を頻繁に変更する場合には、超音波出力を変更し忘れたり、超音波出力を戻し忘れたりすることがある。それにより、基板の表面を十分に洗浄することができなかったり、あるいは基板の表面を傷めるという問題が生じる。
　【０００９】
　本発明の目的は、基板の種類および洗浄条件に応じて超音波出力を自動的に変更することができる基板洗浄装置を提供することである。
　【００１０】
　【課題を解決するための手段および発明の効果】
　超音波印加手段により超音波振動が加えられた洗浄液をノズルから基板の表面に供給することにより基板の表面を洗浄する基板洗浄装置であって、超音波印加手段の超音波出力を含む基板の洗浄条件を
基板の種類ごとに設定するためのパネルを有し、パネルを用いて予め設定された複数の洗浄条件を基板の種類ごとに記憶
記憶された複数の洗浄条件のうち洗浄すべき基板の種類に応じた洗浄条件を選択するための選択手段と、選択手段により選択された
　【００１１】
　第２の発明に係る基板洗浄装置は、第１の発明に係る基板洗浄装置の構成において、超音波印加手段が、与えられる高周波電流の値に応じた超音波出力を発生する高周波振動子を含み、制御手段が、
選択
選択
　【００１２】
　第１および第２の発明に係る基板洗浄装置においては、設定手段
のパネルを用いて基板の種類ごとに設定され記憶された複数の
　【００１３】
　特に、第２の発明に係る基板洗浄装置においては、
選択
選択
　【００１４】
　【発明の実施の形態】
　図１は本発明の一実施例における基板洗浄装置の模式的断面図であり、図２は図１の基板洗浄装置の模式的平面図である。
　【００１５】
　図１に示すように、ハウジング１内に基板１００を吸引保持する回転保持部２が配設されている。回転保持部２はモータ３により鉛直方向の回転軸Ｐ１の周りで回転駆動される。回転保持部２の周囲には、基板１００を取り囲むようにカップ４が上下動自在に設けられている。カップ４の下面には洗浄液としての純水を排出するための排出口５が設けられている。
　【００１６】
　カップ４の側方には、ノズルアーム６がアーム駆動部７により鉛直方向の回動軸Ｐ２の周りで回動可能に設けられている。ノズルアーム６の先端部には超音波ノズル（超音波発生ユニット）８が取り付けられている。超音波ノズル８は、高周波発振器１０により駆動される高周波振動子９を内蔵し、純水源（図示せず）から供給された純水に超音波を印加し、その純水を基板１００の表面に吐出する。モータ３、アーム駆動部７および高周波発振器１０は制御部１１により制御される。
　【００１７】
　図２に示すように、基板１００は回転軸Ｐ１の周りで矢印Ｘの方向に回転され、ノズルアーム６はアーム駆動部７により回動軸Ｐ２の周りで矢印Ｙの方向に回動される。
　【００１８】
　洗浄時には、超音波ノズル８から純水を吐出しながらノズルアーム６が回動軸Ｐ２の周りで回動し、超音波ノズル８を基板１００の一方の外周部から中心部を通って他方の外周部まで破線３００で示すように円弧状に走査させたり、中心部から外周部まで走査する間のみ吐出する動作を繰り返させる。
　【００１９】
　図３は図１の制御部１１およびその関連部分の構成を示すブロック図である。図３に示すように、制御部１１は、洗浄条件設定パネル３１、ＣＰＵ（中央演算処理装置）３２、メモリ３３および操作パネル３４を含む。
　【００２０】
　洗浄条件設定パネル３１は、基板１００の回転数、洗浄時間、超音波ノズル８の走査速度、超音波ノズル８の走査回数等の洗浄条件（レシピ）を設定するために用いられる。本実施例では、この洗浄条件に純水に印加する超音波出力が含められる。基板の種類に応じて複数の洗浄条件を設定することができる。洗浄条件設定パネル３１により設定された洗浄条件はＣＰＵ３２を介してメモリ３３に記憶される。
　【００２１】
　ＣＰＵ３２は、メモリ３３に記憶された洗浄条件に従って高周波発振器１０に制御信号ＣＴを与えるとともに、図１のモータ３、アーム駆動部７等の各部分に種々の制御信号を与える。操作パネル３４は、基板１００の洗浄時に作業者が洗浄条件を選択するために用いられる。
　【００２２】
　純水源２０の純水は純水供給管２１を介して超音波ノズル８に供給され、吐出口８ａから吐出される。このとき、高周波発振器１０は、ＣＰＵ３２から与えられる制御信号ＣＴに基づく高周波電流を超音波ノズル８内の高周波振動子９に供給する。それにより、高周波振動子９が超音波振動し、超音波ノズル８内を通る純水に高周波電流の値に応じた高周波出力が印加される。その結果、超音波振動状態となった純水が、基板１００の表面に吐出される。
　【００２３】
　本実施例では、高周波振動子９が超音波印加手段を構成し、洗浄条件設定パネル３１およびメモリ３３が設定手段を構成する。また、高周波発振器１０およびＣＰＵ３２が制御手段を構成する。ＣＰＵ３２が制御信号発生信号に相当し、高周波発振器１０が高周波発振手段に相当する。
　【００２４】
　次に、図４のフローチャートを参照しながら本実施例の基板洗浄装置の動作を説明する。なお、予め洗浄条件設定パネル３１を用いて基板の種類に応じた複数の洗浄条件がメモリ３３に設定されているものとする。この洗浄条件には、基板の回転数、洗浄時間、超音波ノズル８の走査速度、超音波ノズル８の走査回数等の通常の洗浄条件とともに、純水に印加する超音波出力も含まれる。
　【００２５】
　基板１００の洗浄時には、作業者が操作パネル３４を用いてその基板１００の種類に応じた洗浄条件を選択する（ステップＳ１）。ＣＰＵ３２は、選択された洗浄条件をメモリ３３から読み出し、その洗浄条件に基づいて基板１００の回転数、洗浄時間、超音波ノズル８の走査速度、超音波ノズル８の走査回数、超音波ノズル８の移動範囲、超音波ノズル８の移動方向等を設定するとともに、超音波ノズル８の超音波出力を設定された超音波出力（設定出力）に設定する。
　【００２６】
　そして、超音波ノズル８の超音波出力が設定出力になったかどうかを判別する（ステップＳ２）。超音波ノズル８の超音波出力が設定出力になった場合には、超音波ノズル８を基板１００上に走査させるとともに、純水源２０から超音波ノズル８に純水を供給して基板１００の表面に吐出させる（ステップＳ３）。
　【００２７】
　故障等により超音波ノズル８の超音波出力が設定出力にならない場合には、所定のエラー処理を行う（ステップＳ４）。
　本実施例の基板洗浄装置においては、作業者が選択した洗浄条件に応じて純水に印加される超音波出力が自動的に可変制御される。したがって、作業者は、基板の種類または洗浄条件を変更するごとに超音波出力を設定する必要がなくなる。その結果、超音波出力の設定忘れや誤設定がなくなり、基板の種類に応じて基板の表面を最適な条件で自動的に洗浄することが可能となる。
　【００２８】
　なお、上記実施例では、洗浄条件設定パネル３１を用いて洗浄条件を設定する際に、通常の洗浄条件とともに超音波出力も設定しているが、通常の洗浄条件を設定することによりその洗浄条件に応じた超音波出力が自動的に設定されるように構成してもよい。
　【００２９】
　また、上記実施例における洗浄条件設定パネル３１を、操作パネル３４で兼用させるようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明の一実施例における基板洗浄装置の模式的断面図である。
　【図２】
　図１の基板洗浄装置の模式的平面図である。
　【図３】
　図１の制御部およびその関連部分の構成を示すブロック図である。
　【図４】
　図１の基板洗浄装置の動作を示すフローチャートである。
　【図５】
　従来の基板洗浄装置の一例を示す模式的断面図である。
　【符号の説明】
　８　超音波ノズル
　９　高周波振動子
　１０　高周波発振器
　１１　制御部
　２０　純水源
　３１　洗浄条件設定パネル
　３２　ＣＰＵ
　３３　メモリ
　３４　操作パネル