【事件の表示】
　特許第３３２１５７３号「レーザーシステムにより加工する浸透性ゴム印の印面部材とその印面部材にて加工した浸透性ゴム印」の請求項１ないし３に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３３２１５７３号の請求項１に係る特許を取り消す。
　同請求項２に係る特許を維持する。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本件出願は、平成１１年５月３１日に出願した特願平１１−１５２７８１号の一部を新たな特許出願としたものであって（以下、平成１１年５月３１日を「本願出願日」という。）、その出願からの主だった経緯を箇条書きにすると次のとおりである。
・平成１２年１１月９日　本件出願
・平成１４年６月２８日　特許第３３２１５７３号として設定登録（請求項１〜３）
・平成１５年２月２７日　異議申立人シヤチハタ株式会社より全請求項に係る発明について特許異議の申立て
・平成１５年１２月１５日付け　取消し理由の通知（第１回）
・平成１６年３月５日（受理日）　意見書の提出
・平成１６年４月２３日付け　取消し理由の通知（第２回）
・平成１６年７月１２日　特許異議意見書及び訂正請求書の提出（その後、当該訂正請求は取り下げられた。）
・平成１６年１１月２日　訂正拒絶理由及び取消し理由の通知（第３回）
・平成１７年１月１１日　特許異議意見書及び訂正請求書の提出
　
　
第２　訂正の適否についての判断
１．訂正の内容
　平成１７年１月１１日付訂正請求書により特許権者が求めている訂正（以下、「本件訂正」という。）の内容は、以下のとおりである。
　
（１）訂正事項１
　特許請求の範囲の請求項１の記載を、
「【請求項１】　メチルビニルシリコーンゴム等のシリコーン系発泡合成ゴムにて形成したことを特徴とするレーザーシステムにより加工する浸透性ゴム印の印面部材」
から、
「【請求項１】　
気孔径５〜１０μｍ、空孔率５０〜７０％のメチルビニルシリコーンゴム発泡合成ゴム
。
に訂正する。
　
（２）訂正事項２
　特許請求の範囲の請求項２を、削除する。
　
（３）訂正事項３
　特許請求の範囲の請求項３の項番を２に改めた上で、その記載を、
「【請求項３】　メチルビニルシリコーンゴム等のシリコーン系発泡合成ゴムにて形成した印面部材を浸透性ゴム印のインク供給部材の支持部を備える印面保持部材の保持部に装着するとともに前記印面部材を装着した印面保持部材をレーザー彫刻機の彫刻用治具にセットした後、前記印面部材をレーザー彫刻しつつ浸透性ゴム印に必要な印面を形成することにより加工したことを特徴とする浸透性ゴム印。」
から、
「【請求項２】　
気孔径５〜１０μｍ、空孔率５０〜７０％のメチルビニルシリコーンゴム発泡合成ゴム
に訂正する。
　
（４）訂正事項４
　明細書の段落【００１２】の記載を、
「【課題を解決するための手段】
　本発明の請求項１に係る印面部材は
気孔径５〜１０μｍ、空孔率５０〜７０％のメチルビニルシリコーンゴム発泡合成ゴム
と訂正する。
　
（５）訂正事項５
　明細書の段落【００１３】の記載を、
「本発明の請求項２に係る浸透性ゴム印は、
気孔径５〜１０μｍ、空孔率５０〜７０％のメチルビニルシリコーンゴム発泡合成ゴム
着した印面保持部材をレーザー彫刻機の彫刻用治具にセットした後、前記印面部材をレーザー彫刻しつつ浸透性ゴム印に必要な印面を形成することにより加工したことを特徴とする。請求項２によれば、予め外形を成形した印面部材を印面保持部材にセットし、この印面保持部材を彫刻用治具に取り付けることにより、印面保持部材にセットした印面部材を直接に彫刻することができるので、印面突出量のばらつきが低減し、高精度な加工が可能となる。また印面部材に対してインクを自然含浸させているので、従来における強制含浸をするための真空含浸機が不要となる。」
と訂正する。
　
（６）訂正事項６
　明細書の段落【００３０】の「ホルダー１１」という記載を「印面保持部材１１」に訂正し、段落【００３４】及び【００３５】の「ホルダー」という記載を「印面保持部材」に訂正する。
　
２．訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　上記訂正事項１は、訂正前の請求項１に記載された「印面部材」の材料としての「シリコーン系発泡合成ゴム」が、気孔径５〜１０μｍ、空孔率５０〜７０％であることを限定すると共に、その具体的材料が、メチルビニルシリコーンゴムであることを限定するためのものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。そして、本件の願書に添付された明細書の段落【００１８】には「本発明の印面部材は浸透性を有するメチルビニルシリコーンゴム等のシリコーン系発泡合成ゴムから成り、硬度は３０〜４０°、気孔径は５〜１０μｍ、空孔率は５０〜７０％の範囲のものである。」と記載されていることから、気孔径５〜１０μｍ、空孔率５０〜７０％のメチルビニルシリコーンゴムを印面部材としてのシリコーン系発泡合成ゴムとして採用することは、願書に添付された明細書に記載された事項である。したがって、訂正事項１は、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてするものである。また、訂正事項１が、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものでないことは明らかである。
　また、上記訂正事項２については、請求項２を削除するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてするものであり、かつ、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものでない。
　また、上記訂正事項３は、上記訂正事項２による請求項２の削除に伴って、請求項３の項番を１だけ繰り上げると共に、訂正前の請求項３に記載された「印面部材」の材料としての「シリコーン系発泡合成ゴム」が、気孔径５〜１０μｍ、空孔率５０〜７０％であることを限定すると共に、その具体的材料が、メチルビニルシリコーンゴムであることを限定するためのものであるから、明りょうでない記載の釈明及び特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。そして、本件の願書に添付された明細書の段落【００１８】には「本発明の印面部材は浸透性を有するメチルビニルシリコーンゴム等のシリコーン系発泡合成ゴムから成り、硬度は３０〜４０°、気孔径は５〜１０μｍ、空孔率は５０〜７０％の範囲のものである。」と記載されていることから、気孔径５〜１０μｍ、空孔率５０〜７０％のメチルビニルシリコーンゴムを印面部材としてのシリコーン系発泡合成ゴムとして採用することは、願書に添付された明細書に記載された事項である。したがって、訂正事項３は、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてするものである。また、訂正事項３が、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものでないことは明らかである。
　また、上記訂正事項４及び５は上記訂正事項１〜３との整合を図るものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とするものである。また、上記訂正事項４及び５が、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてするものであり、かつ、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものでないことは明らかである。
　さらに、上記訂正事項６は、訂正前の明細書中で、図番１１で示される同一の部材について、「ホルダー」（段落【００３０】、【００３４】、【００３５】）及び「印面保持部材」（段落【００２２】等）という２通りの用語で表現していたものを、「印面保持部材」という特許請求の範囲で使用している用語に統一するためのものであるから、誤記の訂正を目的とするものである。また、上記訂正事項６が、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてするものであり、かつ、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものでないことは明らかである。
　
３．むすび
　したがって、本件訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項において準用する特許法第１２６条第２項から第４項までの規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
　
第３　特許異議の申立てについての判断
１．本件発明の認定
　上述したように、本件訂正が認められるから、本件の請求項１及び請求項２に係る発明（以下、各請求項に係る発明をそれぞれ「本件発明１」及び「本件発明２」という。）は、訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１及び請求項２に記載された事項により特定されるとおりの次のものと認める。
「【請求項１】　気孔径５〜１０μｍ、空孔率５０〜７０％のメチルビニルシリコーンゴム発泡合成ゴムにて形成したことを特徴とするレーザーシステムにより加工する浸透性ゴム印の印面部材。
【請求項２】　気孔径５〜１０μｍ、空孔率５０〜７０％のメチルビニルシリコーンゴム発泡合成ゴムにて形成した印面部材を浸透性ゴム印のインク供給部材の支持部を備える印面保持部材の保持部に装着するとともに前記印面部材を装着した印面保持部材をレーザー彫刻機の彫刻用治具にセットした後、前記印面部材をレーザー彫刻しつつ浸透性ゴム印に必要な印面を形成することにより加工したことを特徴とする浸透性ゴム印。」
　
２．申立ての理由の概要
（１）申立理由１（特許法第２９条第２項）
　特許異議申立人は、本件訂正前の請求項１〜３に係る発明は、本願出願日前に公知の刊行物に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、その特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであるから、平成１５年改正前の特許法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべき旨主張し、証拠として、甲第１号証〜甲第３号証、及び、甲第５号証〜甲第７号証を提出している。
　
（２）申立理由２（特許法第２９条の２）
　特許異議申立人は、本件訂正前の請求項１に係る発明は、先願明細書に記載された発明であり、その特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであるから、平成１５年改正前の特許法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべき旨主張し、証拠として、甲第４号証を提出している。
　
（３）申立理由３（特許法第３６条第６項）
　特許異議申立人は、本件訂正前の請求項３の記載中の「インク供給部材」、「インク供給部材の支持部」、及び「印面保持部材の保持部」という用語が、発明の詳細な説明に記載されていないことから、これら用語が指し示すものを特定することができず、請求項３に係る発明の外縁が不明確であるから、その特許は特許法第３６条第６項に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであり、平成１５年改正前の特許法第１１３条第４号に該当し、取り消されるべき旨主張している。
　
３．当審が平成１６年１１月２日付けで通知した取消し理由の概要
　当審が平成１６年１１月２日付けで通知した取消し理由のうちの１つは、次のとおりである。
（１）取消し理由
　本件の請求項１〜３に係る発明は、その出願前日本国内または外国において頒布された次の引用刊行物１〜１０に記載された発明に基づいて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、その特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。 
　引用刊行物１．特開平１０−２７８２１４号公報
　引用刊行物２．特開平１１−３４２３６号公報
　引用刊行物３．特開平１１−１２９５９４号公報
　引用刊行物４．特開平８−１１１４１号公報
　引用刊行物５．特開昭６０−３６１７１号公報
　引用刊行物６．特開平８−４８８０５号公報
　引用刊行物７．特開平１１−６５３４９号公報
　引用刊行物８．特開平８−２１６４８９号公報
　引用刊行物９．特開平７−２１４８８３号公報
　引用刊行物１０．特開平３−３５８９０号公報（異議申立人が提出した甲３号証）
　
４．訂正後の請求項１に係る特許についての当審の判断
（１）引用刊行物１の記載事項
　当審が平成１６年１１月２日付けで通知した取消し理由で引用した上記引用刊行物１には、次の事項が記載されている。
記載事項ａ：「【発明の属する技術分野】本発明はレーザーシステムによる印面の加工方法に関し、特にゴム印の加工方法に関する。」（段落【０００１】）
記載事項ｂ：「印材２１として発泡性合成ゴム、例えば略１１０℃にて溶融可能なミクロポーラム等を用い、・・・印材２１を加工装置のテーブル２７上に取り付け、テーブル２７を上下に移動させ、印材２１の面にレーザースポット１ａを合わせる。・・・加工面にレーザー光線１を照射して印面の加工を開始する。・・・そして、レーザー光線１にて照射れた部分は溶融するが、印材２１に含浸したインクにて冷却されるため、印材２１の表面のみが溶融し、表面部分の細孔が潰れて閉塞面を形成する。なお、加工を継続している間は、レーザー光線１の照射により印面が溶融して悪臭ガスや塵埃が発生するが、これらは直ちに吸入口２３から連続的に吸入し、集塵脱臭装置２４にて処理した後に清浄された空気を大気中に放出するので、悪臭や塵埃による公害の発生を防止するすることができる。本実施の形態によれば、発泡性合成ゴムから成る印材２１の面にレーザー光線１を照射してその面を溶融させ、溶融した際の溶融熱をインクにて直ちに冷却することにより表面部分にのみ閉塞面を形成することが可能となる。これにより閉塞面からはインクが浸透しなくなり、閉鎖面を形成しない部分からインクを浸透させて印影を形成することが可能となる。」（段落【００１２】〜段落【００１４】）
　
（２）引用刊行物１に記載された発明の認定
　上記記載事項ｂによれば、発泡性合成ゴムからなる印材２１にはインクが含浸されており、印材２１を対象物に押圧すると、含浸したインクが対象物に浸透して印影を形成するのであるから、当該ゴム印を「浸透性ゴム印」ということができる。
　したがって、上記記載事項ａ及びｂを含む引用刊行物１の全記載及び図示によれば、上記引用刊行物１には、次の発明（以下、「引用発明１」という。）が記載されていると認めることができる。
　
「発泡性合成ゴムにて形成した浸透性ゴム印の印材２１であって、レーザーシステムにより加工して印面を形成するための浸透性ゴム印の印材２１。」
　
（３）本件発明１と引用発明１の一致点及び相違点
　引用発明１の「印材２１」は、レーザーシステムにより印面が形成されるのであるから、本件発明１の「印面部材」に相当する。
　また、引用発明１の「発泡性合成ゴム」と、本件発明１の「メチルビニルシリコーンゴム発泡合成ゴム」とは、発泡合成ゴムである点において共通する。
　してみると、両者は、
「発泡合成ゴムにて形成した、レーザーシステムにより加工する浸透性ゴム印の印面部材。」
である点において一致し、以下の点において相違する。
　
相違点１：本件発明１では、「印面部材」の材料として、メチルビニルシリコーンゴムを採用しているのに対して、引用発明１の「印材２１」は、発泡合成ゴムで形成されてはいるものの、引用刊行物１にその具体的材料が明記されていないことから、「印材２１」の具体的材料が不明である点
相違点２：本件発明１の「印面部材」は、気孔径が５〜１０μｍ、空孔率が５０〜７０％の発泡合成ゴムであるのに対して、引用発明１の「印材２１」は、発泡合成ゴムで形成されていることから、気孔径や空孔率として何らかの数値は有しているものの、引用刊行物１にその数値が明記されていないことから、気孔径や空孔率の値が不明である点
　
（４）相違点１についての判断
　浸透性ゴム印の印面部材ではない（すなわち、インクを含浸させる印面部材ではない）ものの、印面部材の材料として、シリコーンゴムを採用することは、当審が平成１６年１１月２日付けで通知した取消し理由で引用した上記引用刊行物３（段落【０００２】、【０００３】）や、上記引用刊行物４（段落【０００１】、【００１１】）、上記引用刊行物５（特許請求の範囲、第２頁右下欄第１５行〜同欄第２０行）等にみられるように、本願出願日前に周知の技術（以下、「第１の周知技術」という。）である。さらに、当審が平成１６年１１月２日付けで通知した取消し理由で引用した上記引用刊行物６（段落【０００１】、【００１１】）や上記引用刊行物７（段落【００４４】）等にみられるように、シリコーンゴムに連続気泡を形成することも、本願出願日前に周知の技術（以下、「第２の周知技術」という。）であるから、引用発明１の浸透性ゴム印の印面部材として、連続気泡を形成したシリコーンゴム発泡体を用いようとすることは、当業者にとって、自然な発想である。
　そして、メチルビニルシリコーンゴムは、シリコーンゴムとして最も代表的なものとして知られているから（必要ならば、「シリコーンハンドブック」（初版１刷、日刊工業新聞社、１９９０年８月３１日発行）の第２８０頁〜第２８４頁を参照されたい。当該刊行物には、「シリコーンゴムは，シリコーン生ゴムにシリカ系充填剤，湿潤剤，各種機能性付与剤などを添加したものである。」と記載され、その後に、シリコーン生ゴムとして、ジメチルシリコーン生ゴム（ＭＱ）、メチルビニルシリコーン生ゴム（ＶＭＱ）、メチルフェニルビニルシリコーン生ゴム（ＰＶＭＱ）、及びフロロシリコーン生ゴム（ＦＶＭＱ）の４種のシリコーン生ゴムが掲載されており、メチルビニルシリコーン生ゴムの説明として、「現在もっとも多く用いられている代表的生ゴムである。」との記載がある。）、上記発想を具体化する際に、シリコーンゴム発泡体の具体的材料として、メチルビニルシリコーンゴムを選定することは、当業者が容易になし得たことと言わざるを得ない。
　したがって、引用発明１の印材２１として、連続気泡を形成したメチルビニルシリコーンゴム発泡体を採用すること、すなわち、相違点１に係る本件発明１の発明特定事項を採用することは、上記第１及び第２の周知技術に基づいて、当業者が容易に想到し得たことである。
　
（５）相違点２についての判断
　印面部材の気孔径や空孔率が小さすぎれば、捺印時にインクの流出量が不足して、印影がかすれてしまうこと、また、逆に、気孔率や空孔率が大きすぎれば、捺印時にインクが必要以上に漏出して印影がにじんでしまったり、保管時に印面部材からインクが漏れだしたりするというような不都合が生じてしまうことは、当業者にとって明らかな事項であるから、引用発明１において、印材２１の気孔径や空孔率を、インクの流出量が浸透性ゴム印として良好なものとなるような値に設定することは、浸透性ゴム印の設計に際して、当業者が当然に考慮する事項である。このような事情は、印面部材の材料として、メチルビニルシリコーンゴムを採用したからといって、何ら変わるものではない。（なお、当然ながら、インクの流出量が、印面部材の硬度や、インクの粘性等により変化することは明らかであるから、気孔径や空孔率の適切な値は、採用した印面部材の硬度や、インクの粘性等により異なるものである。）
　そして、上記相違点１に係る本件発明１の発明特定事項である、気孔径５〜１０μｍ、空孔率５０〜７０％という数値範囲については、本件訂正後の明細書又は図面の記載を参酌しても、その臨界的意義ばかりではなく技術的意義についても記載がなく、かつ、当審が平成１６年１１月２日付けで通知した取消し理由で引用した上記引用刊行物８には、インクを含浸させる印面部材の気孔径として１．０〜２００μｍという値を、また、気孔率として２０〜９０％という値を採用すべきことが示されている（特に、段落【０００１】の「本発明は、印版およびその製造方法に関し、特に、熱または光のエネルギーにより簡単に形成することができる印版およびその製造方法に関する。」、段落【０００９】の「本発明の印版に使用する熱可塑性樹脂の気孔率は２０〜９０％、気孔径は１．０〜２００μｍであることが必要である。」、段落【００１３】の「製版に使用する熱エネルギーとしては、サーマルヘッド、レーザー光線、加熱したワイヤードットおよび赤外線等によるものが利用できる。」、及び段落【００１６】の「本発明の印版もしくは本発明の方法により製造した印版に、目的に応じたインクを含浸し、製版した面を紙、フィルム、プラスチック、布、ガラス、金属、板等の被記録媒体に適当な圧力で印刷することにより鮮明な捺印が可能となる。例えば、本発明の印版を、インクを自動供給できるスタンプホルダーに取り付ければ、多数回使用できるスタンプ・・・として使用できる。」等の記載を参照されたい。）ことからみて、上記数値範囲は、印面部材の気孔径及び空孔率の数値としては普通に採用されるような値であると認められることから、引用発明１において、印面部材の気孔径を５〜１０μｍに、空孔率を５０〜７０％に設定することは、単に、浸透性ゴム印の印面部材として好適な気孔径や空孔率を設定したにすぎないというべきであって、このような設定は技術の具体的適用に伴う設計事項と言わざるを得ない。
　したがって、引用発明１において、相違点２に係る本件発明１の発明特定事項を採用することは、当業者が容易に想到し得たことである。
　
（６）むすび
　以上のとおり、引用発明１において、各相違点に係る本件発明１の発明特定事項を採用することは、いずれも、当業者が容易に想到し得たことであるか、単なる設計事項にすぎない。
　また、本件発明１が有する技術的効果は、当業者が容易に予測できる程度のものである。（当審が平成１６年１１月２日付けで通知した取消し理由で引用した上記引用刊行物２の、段落【０００８】に「本発明は、・・・燃焼時ハロゲン化水素ガスを発生せず、低発煙である難燃性シートを提供することを目的とする。」と、段落【００１６】に「白色難燃シリコーンゴム層２０は、白色性、難燃性、低発煙性を達成できるシリコーンゴムであれば、特に限定されるものではなく、例えば、・・・メチルビニルシリコーンゴム・・・などが使用できる。」と記載されていることから明らかなように、メチルビニルシリコーンゴムが、燃焼時に有害なハロゲン化水素ガスを発生せず、かつ、低発煙であることは、本願出願日前に公知の事項である。）
　したがって、本件発明１は、上記引用刊行物１に記載された発明、及び上記第１、第２の周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであって、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
　
５．訂正後の請求項２に係る特許についての当審の判断
（１）特許異議申立人提出の証拠
　訂正後の請求項２に係る特許（本件訂正前の請求項３に係る特許）についての異議申立の理由は、申立理由１（特許法第２９条第２項）及び申立理由３（特許法第３６条第６項）であり、その証拠として特許異議申立人が提出した刊行物は、次のとおりである。
　甲第１号証：特開平９−９５５５１号公報
　甲第２号証：特開平２−４５５６６号公報
　甲第３号証：特開平３−３５８９０号公報（引用刊行物１０）
　甲第５号証：特開平７−１４９０３２
　甲第６号証：特開昭５４−１４０６０２号公報
　甲第７号証：特開平９−２５４５１３号公報
　
（２）甲第１〜３、５〜７号証の記載事項
［甲第１号証］
記載事項ａ：「本発明は・・・発泡剤にアゾビスイソブチロニトリルを用いなくとも、発泡倍率が高く、セル構造が均一で、表面平滑性や表面粘着性に問題がなく、しかも圧縮永久歪み特性も良好で、成形時および発泡硬化物の臭気が少なく長時間のポストキュアーを必要としないシリコーンゴムスポンジを得ることのできるシリコーンゴムスポンジ用組成物およびこれを用いたシリコーンゴムスポンジを提供することを目的とする。」（段落【０００３】）
記載事項ｂ：「本発明のシリコーンゴムスポンジ組成物を成す構成成分について説明する。第１成分としてのオルガノポリシロキサンは式・・・で示され、このＲはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、ビニル基、アリル基、ブタニエル基などのアルケニル基、フェニル基、トリル基などのアリール基またはこれらの基の炭素原子に結合した水素原子の一部または全部をハロゲン原子、シアノ基などで置換したクロロメチル基、クロロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２−シアノエチル基などから選択される炭素数１〜１０の、好ましくは炭素数１〜８の同種または異種の非置換または置換１価炭化水素基が挙げられるが、メチル基、フェニル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、ビニル基が好ましい。またビニル基を ０．００１モル％〜１０モル％含むことが好ましく、さらに好ましくは０．０１〜５モル％である。 ０．００１モル％より少ないと圧縮永久歪みが悪くなり、１０モル％を越えると機械的強度が悪くなるからである。ａ は０．９５〜２．０５の正数であるものとされる。このものは分子構造が直鎖状のものとすることが好ましいが、これは分子中に一部分枝鎖状のものを含有していても問題はない。また、このものは分子鎖末端がトリオルガノシリル基または水酸基で封鎖されたものとすればよいが、このトリオルガノシリル基としてはトリメチルシリル基、ジメチルビニルシリル基、メチルフェニルビニルシリル基、メチルジフェニルシリル基、メチルジビニルシリル基、トリビニルシリル基などが例示される。なお、このものは重合度に特に限定はないが、好ましくは重合度３０００〜３００００より好ましくは５０００〜１００００である。重合度が３０００未満であるとシリコーンゴムスポンジの機械的強度が低下し、重合度が３００００を越えると充填剤配合が困難となり作業性が低下する。」（段落【０００７】〜【０００９】）
　
［甲第２号証］
記載事項ｃ：「ポリオルガノシロキサンを素材としたシリコーンゴムは、その優れた離型性から種々の型取り材料、すなわちシリコーンゴム印象材として広く利用されている。」（第２頁左上欄第４行〜同欄第７行）
記載事項ｄ：「例えば口腔内歯科用印象材として適用した場合」（第２頁右上欄第９行）
記載事項ｅ：「［発明の目的］本発明者らは、・・・未硬化時および硬化後のいずれの場合においても高い濡れ性を有する室温硬化性シリコーンゴム印象材組成物の提供を目的とする。」（第２頁左下欄第８行〜同欄第１２行）
　
［甲第３号証（引用刊行物１０）］
記載事項ｆ：「この発明は、レーザ加工方法およびその装置に関し、更に詳しくは、天然ゴムやエラストマーに代表されるゴム系材質からなる印材等の被加工物を加工して印鑑やスタンプ等を製作するに際し、その印字面における強度の増大が図られ、また、また多孔質体にあっては、インキの浸透を良好にして捺印ムラを解消し得る新規なレーザ加工方法およびその装置に関するものである。」（第２頁左上欄第７行〜同欄第１４行）
記載事項ｇ：「実施例でレーザ加工される対象物となる被加工物は、天然ゴムやエラストマーに代表されるゴム系材質のものであって、何れも印鑑やスタンプ等の印材に好適に使用されるものとする。例えば、・・・合成ゴムや弾性プラスチック（低密度ポリエチレン、軟質塩化ビニルプラスチック等）を総称する高分子エラストマーを素材とするものがこれである。このゴム系材質の被加工物としては、インクの含浸性が良好な多孔質体も含まれることは勿論である。」（第３頁右下欄第１８行〜第４頁左上欄第８行）
記載事項ｈ：「第２図は、本発明の一実施例に係るレーザ加工装置の構成図を示している。このレーザ加工装置は２段彫り加工用であり、・・・ハーフミラー３０から射出するレーザ光の強度は最大となり、被加工物５の表面に溝部が形成される。・・・ハーフミラー３０から射出されるレーザ光の出力は最大出力時に比べて半減する。従って、このレーザ光で彫られる溝の深さは最大出力時の半分となり、第１図に示す中間団部４０ａが形成される。・・・コンバータ２４は電力の供給を遮断する。これにより、第１図に示す凸部頂面４０ｂ、すなわちインクや朱肉を付ける部分が形成される。・・・以上の走査を繰り返すことによって、被加工物５の表面に、パターン６の検出体６ａに応じた２段凸部４０が形成される。」（第４頁左上欄第９行〜第５頁左上欄第１８行）
　
［甲第５号証］
記載事項ｉ：「スプリング硬さ３０〜４０である印字層とスプリング硬さ１０〜２０のインキ吸蔵層からなることを特徴とする連続気孔を有する多孔性ゴム印材。」（特許請求の範囲の請求項１）
記載事項ｊ：「従来の多孔性ゴム印は、スプリング硬さ（スプリングの硬さ試験機による測定値−日本ゴム協会標準規格ＳＲＩＳ　０１０１−１９６８）２０〜３０の印字層をスプリング硬さ１０〜２０のインキ吸蔵層の表面に層着したものが多く使用されており、」（段落【０００５】）
　
［甲第６号証］
記載事項ｋ：「空隙部分が、ａ．直径役０．０１ｍ／ｍ〜０．１０３ｍ／ｍの範囲内にある小さな気泡（ａ）　ｂ．直径役０．１４９ｍ／ｍ〜０．４９８ｍ／ｍの範囲内にある大きな気泡（ｂ）からなり、上記の小さな気泡（ａ）と大きな気泡（ｂ）の合計の容積比を６０％〜８５％（スポンジゴム基準）とし、この両者は相互に連通し、かつ、それらの連通接続路が広くて該路を妨げる弁状片を含まず、ゴム基体部分に一様に混在することを特徴とする連続気泡を有するスポンジゴム印字体。」（特許請求の範囲第１項）
　
［甲第７号証］
記載事項ｌ：「本発明は、連続して押印することが可能な印判の製造方法及びその装置に関するものである。」（段落【０００１】）
記載事項ｍ：「本実施形態において使用する多孔性樹脂板の斜視図を図１に示す。この多孔性樹脂板２０は、微細な連続気泡を有するポリウレタンやポリエチレン等で形成された多孔性樹脂の薄板であり、連続気泡を有するために、インクを透過させる性質を有する。・・・多孔性樹脂板２０を予め加熱した型により、側面２３が面押しされ、気孔が溶融固化されてインク非透過部となっている。そして、上面部２２が印面形成が可能なインク透過領域となる。このように前加工された多孔性樹脂板２０を印判用部材２７とする。・・・図２に示した印判用部材２７に、印面が形成された状態の斜視図を図３に示す。上面２２は、印字パターンに応じて表面処理され、インク透過部２４とインク非透過部２５が形成されている。このインク透過部２４とインク非透過部２５が形成された多孔性樹脂板２０を印判２８とする。・・・次に、前記印判２８を用いたスタンプ３５の断面図及び斜視図を図４，図５に示す。スタンプ３５は、プラスチックまたは金属から成るケース３１を有し、印判２８はケース３１内に収納されている。印判２８の側面２３と、ケース３１の内壁３１ａとが接着剤層３０によって接着されることにより、印判２８はケース３１に固定されており、印判２８の裏面（図中、印判２８の上方）にはスポンジ等で形成されるインク保持層３２が置かれており、インクはここから常時印判２８に供給される。さらに、インク保持層３２の上部には、格子状支持部材３３が設けられており、これによって押印時に印判２８の平面状態が保持されるようになっている。また、ケース３１の上面には、取っ手３４が設けられ、その側面には、後述するガイド溝４１と係合部４２が設けられている。」（段落【００１２】〜【００１４】）
記載事項ｎ：「多孔性樹脂板２０は、印面を形成する前の印判用部材２７の状態で、予めスタンプ３５に取り付けられ、印面作成装置５０に装着される。スタンプ３５は、可動部材６０が挿入口５４側に位置している状態で、印判用部材２７を上方（図６参照）に向けて、可動部材６０に装着される。」（段落【００１９】）
記載事項ｏ：「印面が形成されていないスタンプ３５を、挿入口５４から挿入し前記可動部材６０に装着し、キーボード５１の製版キー５６を入力すると、印判用部材２７への製版が開始される。・・・ＣＰＵ８１は、ＤＣコントローラ回路１１８を介してレーザー光源駆動回路１１５に駆動信号を送信し、レーザー光ＬＢがレーザー光源１２５から投射させる。・・・レーザー光ＬＢは、ユニットケース１２１の底壁１２１ａに形成された左右方向に延びる矩形状の切欠き１２１ｃを挿通して、可動部材６０にセットされたスタンプ３５の印判用部材２７上面を押圧している透明板６６を透過し、印判用部材２７上に照射され、前記上面部２２を溶融固化する。この動作を繰り返すことによりインクの透過を阻止する薄膜層を形成する。」（段落【００３６】〜【００３７】）
　
（３）申立理由１についての当審の判断
　上記甲第１〜３、５〜７号証のいずれにも、本件発明２の発明特定事項である「印面部材を浸透性ゴム印のインク供給部材の支持部を備える印面保持部材の保持部に装着するとともに前記印面部材を装着した印面保持部材をレーザー彫刻機の彫刻用治具にセットした後、前記印面部材をレーザー彫刻」する点について、記載も示唆もない。特に、甲第７号証については、当該刊行物に記載された「印面作成装置５０」、「印判用部材２７」、「インク保持層３２」、「ケース３１」及び「スタンプ３５」が、本件発明２の「レーザー彫刻機」、「印面部材」、「インク供給部材」、「印面保持部材」及び「浸透性ゴム印」にそれぞれ相当するということはできるかもしれないが、甲第７号証に記載された「スタンプ３５」は、印判用部材２７をレーザー彫刻する際に、スタンプ３５自身を印面作成装置５０に装着するものであって、「印面部材を装着した印面保持部材をレーザー彫刻機の彫刻用治具にセット」するものということはできない。
　そして、本件発明２は、上記発明特定事項を備えることによって、本件訂正明細書に記載された「印面突出量のばらつきが減少」（段落【００３４】）し、「印面部材を高精度にかつ容易に取り付けることが可能となる。」（段落【００３５】）、すなわち、「印面部材１２の印面２２を印面保持部材１１から均一な突出量で突出させた状態で複数の印面保持部材１１すなわち印面部材１２を彫刻用治具１６に装着した状態でレーザー加工できるものである。これにより、等しく突出させた加工印面部材が多数得られ、押印時のインクの出すぎあるいは少なすぎるという不具合をなくすることができる。」（平成１７年１月１１日付特許異議意見書第１０頁第２２行〜同頁第２６行）という顕著な作用効果を奏するものである。
　したがって、特許異議申立人が提出した証拠によっては、本件発明２が、当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
　
（３）申立理由３についての当審の判断
　本件訂正後の請求項２において、「インク供給部材」が、印面部材にインクを供給するための部材であることは、例え当該請求項２に明記がなくとも、当該部材の名称、及び、本件発明２が浸透性ゴム印であって、印面部材にインクを供給しなければならないことが自明であることから、当業者にとって明らかな事項であって、「インク供給部材」という記載が不明確であるとすることはできない。
　また、「インク供給部材の支持部」という記載については、本件訂正後の請求項２の「インク供給部材の支持部を備える印面保持部材」という記載によれば、「印面保持部材」に、「インク供給部材」を支持する部位が存在することを意味するものと解され、その他の解釈が可能であるとはおよそ考えられないから、「インク供給部材の支持部」という記載が不明確であるとすることはできない。
　さらに、「印面保持部材の保持部」という記載については、本件訂正後の請求項２の「印面部材を浸透性ゴム印の支持部を備える印面保持部材の保持部に装着する」という記載によれば、「印面保持部材」に、「印面部材」を装着する部位が存在することを意味するものと解され、その他の解釈が可能であるとはおよそ考えられないから、「印面保持部材の保持部」という記載が不明確であるとすることはできない。
　なお、異議申立人が主張する、各用語と発明の詳細な説明における用語との整合性については、上述の各解釈からみて、本件訂正明細書の発明の詳細な説明に記載された「インク軸２５」、「口金受け１３の小径側内径部分」（段落【００３１】参照）及び「口金受け１３の大径側内径部分」（段落【００２２】参照）が、それぞれ「インク供給部材」、「インク供給部材の支持部」及び「印面保持部材の保持部」に相当することは、自明の事項であるから、この点に関して、本件訂正後の特許請求の範囲や、発明の詳細な説明の記載に、不備が存在するということもできない。
　
　
第４　むすび 
　以上のとおり、本件発明１は、上記引用刊行物１に記載された発明、及び上記第１、第２の周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、その特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであり、平成１５年改正前の特許法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。
　また、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件発明２の特許を取り消すことはできず、他に本件発明２の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１７年３月１０日（２００５．３．１０）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
レーザーシステムにより加工する浸透性ゴム印の印面部材とその印面部材にて加工した浸透性ゴム印用の加工印面部材
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　
気孔径５〜１０μｍ、空孔率５０〜７０％の
　【請求項２】　
気孔径５〜１０μｍ、空孔率５０〜７０％の
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明はレーザーシステムにより加工する浸透性ゴム印の印面部材とその印面部材にて加工した浸透性ゴム印に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　従来から行われている印面の加工には、例えば特開昭５２−４１０２３号公報に開示された発明が知られている。この発明は、図７で示す逆版文字４３を形成した文字母型３３を加熱して、図８に示す印版３１の凹部４１に嵌め込んだ熱可塑性の樹脂素材から成る印面版３４の印面に圧着することにより、印面版３４の印面を溶融軟化させて凹凸の印面３２を形成するものである。
　【０００３】
　他の例として、特公平７−１３７４１０号公報に係る発明が知られている。この発明は、図９に示すように、外ケース３７内にクッション３８を介して印面保持部材３９を嵌合し、前記両者間に保護ケース１４をバネ１５を介して摺動可能に嵌合させた、前記印面ホルダー３９下端に熱可塑性の液浸透式印面版４０を嵌め込み、この印面版４０の面に対して、逆版文字４４を形成した文字母型４５を加熱し圧着することにより印面版４０の面を溶融軟化させて凹凸の印面を形成するものである。
　【０００４】
　しかしながら、前記従来の印面の加工方法は、いずれの場合も逆版文字を形成した文字母型を用いていることから、印面を加工する前に文字母型を製作しなければならないことと、文字母型の製作に多大な日時が必要となるという問題があり、本願発明者はこの問題を解決するために既に特開平１０−２７８２１４号公報に開示された印面の加工方法及び印版の製造方法を提案している。
　【０００５】
　前記特開平１０−２７８２１４号公報記載の発明は、ゴム印の印面部材として約１１０℃にて溶融するＥＶＡの発泡性ゴムを用い、図１０に示すようにテーブル２７上に直接取り付けてレーザー光線により印面を彫刻するものである。印面部材２１の上方には左右方向に移動するロボットフレーム５か配置され、ロボットフレーム５の側面にはローラー８を介して前後方向に移動するレーザー光線１の照射装置２と空気源９から供給されるエアーの噴射ノズル１０とが設けられており、照射装置２から印面部材２１の面に照射されるレーザー光線１のレーザースポット１ａはテーブル２７の上下動により調整され、レーザースポット１ａに対するエアー１７の噴射方向は位置調整クランプ１３により噴射ノズル１０の位置を調整することにより行われるようになっている。
　【０００６】
　この装置を用いたゴム印の彫刻は、先ず平板状印面部材２１をテーブル２７上に載置した後、テーブル２７の上下動にて印面におけるレーザースポット１ａを調整するとともにレーザースポット１ａに対するエア噴射ノズル１０の噴射方向を調整する。その後に図示しない制御部を作動させて彫刻を開始する。彫刻により発生した有害ガスや彫刻カスは噴射ノズル１０からの噴射エア１７にて吹き飛ばされて吸込口２３に吸い込まれ、集塵脱臭装置２４にて浄化処理された後、大気中に放出される。
　【０００７】
　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら、前記レーザー光線を用いた印面加工においては、印面加工に用いられている印面部材が発泡性合成ゴムから成ることによりレーザー加工時に強臭の有害ガスやタール状の彫刻カスが発生し、有害ガスは職場環境を初め、近隣地域の自然環境に大きな影響を及ぼすために強力な脱臭装置２７を設備しなければならないという問題がある。また脱臭装置を設備しても完全に脱臭することができないために浸透性ゴム印製造の普及に大きな障害となっていた。
　【０００８】
　また、印面から発生するタール状の彫刻カスは印面に付着するとインクに混じってインクを変色させる恐れがあるので、このカスを除去するために図示しない洗浄及び乾燥処理装置を設ける必要がある他、洗浄した後に廃液を処理する装置まで設けなければならないという問題がある。
　【０００９】
　その他に、印面部材として発泡性合成ゴムを用いた場合は、真空による強制含浸にてインクを含浸させるのが一般的的である。このためには真空含浸機が必要となり、またインクを適量にするために複雑なインクの除去処理が必要になるという問題がある。
　【００１０】
　さらに、従来の加工方法では、彫刻、脱臭、洗浄、乾燥の多くの工程と、彫刻後に印面保持部材のサイズに合わせて印面をカットするという多くの工程が必要になる。またこのような方法では、印面の突出量等に関わる彫刻の深さが、加工する機械の状態や加工条件の設定等により変動するため、製品の品質にばらつきが生じやすく、品質を大きく左右するという問題がある。
　【００１１】
　よって本発明は前記問題点に鑑みてなされたものであり、ゴム印をレーザー加工にて彫刻する際にタール状の彫刻カスや有害ガスを発生させずに、しかも高精度にかつ安定した品質が得られる印面部材とその印面部材にて加工した浸透性ゴム印の提供を目的とする。
　【００１２】
　【課題を解決するための手段】
　本発明の請求項１に係る印面部材は、
気孔径５〜１０μｍ、空孔率５０〜７０％の
　【００１３】
　本発明の請求項２に係る浸透性ゴム印は、
気孔径５〜１０μｍ、空孔率５０〜７０％の
　【００１４】
　【発明の実施の形態】
　以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１から図６は本発明の実施の形態に係り、図１は印面保持部材を挿着した彫刻用治具の断面図、図２は印面部材の斜視図、図３は印面保持部材に印面部材を取り付けた断面図、図４は印面保持部材に印面部材を取り付けた斜視図、図５は彫刻用治具をテーブルに取り付けた斜視図、図６はゴム印の組立断面図である。
　【００１５】
　本実施の形態にて使用する印面の加工装置は図１０に示すように、印面部材を取り付けるテーブル２７の上方に左右方向に移動するロボットフレーム５が配置され、ロボットフレーム５の側面を左右のローラ８を介して前後方向に移動するレーザー光線の照射装置２とエアーの噴射ノズル１０とが設けられている。
　【００１６】
　照射装置２から照射されるレーザー光線の印面に対すれレーザースポット１ａはテーブルの上下動により調整が可能であり、噴射ノズル１０のレーザースポット１ａに対するエアー１７の噴射方向はノズルクランプ１３により調整が可能となっている。
　【００１７】
　また、装置の側方には噴射されたエアの吸込口２３が設けられ、吸込口２３は集塵装置２４に連結されていて、彫刻時に印面から発生したガスや彫刻カスは噴射ノズル１０からの噴射エア１７にて吹き飛ばさると同時に吸込口２３に吸い込まれ、集塵装置２４に送られて彫刻カスが集塵されるように構成されている。
　【００１８】
　この場合、本発明の印面部材は浸透性を有するメチルビニルシリコーンゴム等のシリコーン系発泡合成ゴムから成り、硬度は３０〜４０°、気孔径は５〜１０μｍ、空孔率は５０〜７０％の範囲のものである。
　【００１９】
　なお、この印面部材を用いた場合はレーザー加工した際に強臭の有害ガスが発生しないため集塵装置２４内に脱臭装置が設けられていない。また、彫刻カスは燃焼して粉状になるために、従来のようにタール状彫刻カスが発生しない。従って、タール状彫刻カスを除去するための洗浄装置や乾燥装置も設けられていない。
　【００２０】
　また、前記加工装置に対する印面部材の取り付けについては、従来はテーブル２７上に板状の印面部材を直接にセットしていたが、本発明においては、印面部材を印面保持部材にセットし、その印面保持部材を彫刻用治具に固定したうえで彫刻用治具をテーブル上に位置決め部材を介してセットするものである。
　【００２１】
　図１に示すように、印面部材１２は、前記メチルビニルシリコーンゴム等のシリコーン系発泡合成ゴムからなり、後述の口金受け１３の大径端に載置するとともに口金内径に挿入しうる外径を有する厚めの円板の一方の平面部における円周に沿って後述の装着口金にて係止するためのリング状の一段低い係止段付き部を形成している。なお、印面部材１２全体の形状は、例えば成形型等を用いて全数が均一な寸法になるように予め形成しておく。
　【００２２】
　この印面部材１２を取り付ける印面保持部材１１は、図３に示すように２段の円筒状に形成された口金受け部１３と、口金受け部１３の大径側に嵌着される円筒状の口金１４とからなっており、口金受け部１３の大径側には図６に示すように印面部材１２が口金１４にて装着され、小径側の外径は後述のホルダーＡに嵌着され、内径はインク軸２５が挿入される部分となっている。
　【００２３】
　彫刻用治具１６は、図１及び５に示すように直方体の上下面が側方に張出した張出部１６ａを形成した断面略Ｈ形のものであり、その上面における１乃至複数箇所に印面保持部材１１の装着穴１８が設けられ、装着穴１８内には印面保持部材１１の口金受け１３に形成された段付部が当接することにより印面保持部材１１に取り付けられた印面部材１２の印面が同一面になるように段付部が形成されており、側面の直交する２辺が印面部材１２の位置決め基準面となっている。
　【００２４】
　この彫刻用治具１６を加工テーブル２７に取り付ける場合は、図５に示すように加工テーブル上に固定されたＬ形位置決め部材１９の直交２辺に前記彫刻用治具１６の直交２辺を当接させるだけで高精度にかつ容易に位置決めすることができるようになっている。
　【００２５】
　次に、印面保持部材１１に印面部材１２を取り付けるとともに印面保持部材１１を彫刻用治具１６に装着し、さらにレーザー加工装置のテーブル面にセットして印面を彫刻する手順及びゴム印の組立手順について説明する。
　【００２６】
　先ず図３に示すように、外形が予め形成された印面部材１２を複数の印面保持部材１１の口金受け１３における大径端に載置するとともに印面部材１２に口金１４を被せて押し込むことにより印面部材１２の係止段付部２０が口金１４のＵ字形係止部１５により押圧され、同時に口金１４の開口部が口金受け１３の外径に嵌着される。これにより印面保持部材１１に取り付けられた印面部材１２の印面２２がＵ字形曲折部１５の端部から０．１〜０．２ｍｍの規定範囲内にてほぼ均一に突出した状態となる。なお印面部材の突出量は規定量より多いと押印時にインクが出すぎ、少ないと押印が困難になる。
　【００２７】
　次に、図１に示すように、印面部材１２が取り付けられた複数個の印面保持部材１１を彫刻用治具１６の装着孔１８に装着する。この場合、印面保持部材１１を彫刻用治具１６の装着穴１８の最深部まで挿入することにより口金受け１３の段付部が装着付穴１８の段付部に当接して印面保持部材１１の装着高さが同一になり、各印面部材１２の印面２２が同一面になる。
　【００２８】
　次に、図５に示すように、ホルダーが挿着された彫刻用治具１６を加工テーブル２７の面に取り付ける。この場合は、加工テーブル２７に固定されたＬ形位置決め部材１９の直交２辺に対して彫刻用治具１６の直交２辺を当接させることにより容易にかつ高精度に位置決めすることができる。
　【００２９】
　次に、レーザー照射装置２から照射されるレーザー光線１の印面に対するレーザースポット及びエア噴射ノズル１０のレーザースポットに対する噴射方向の調整を行い、図示しない自動制御装置の指令により装置の各部を作動させ自動制御しつつ印面の彫刻を開始する。彫刻開始と同時に発生するガスや彫刻カスはエア噴射ノズル１０からの噴出エアにて吹き飛ばされると同時に吸込口２３に吸い込まれ、集塵装置２４にて集塵され、浄化されたエアが大気中に放出される。この場合彫刻時に発生するガスは無害であり、また臭気はごく僅かであるために脱臭装置を設備する必要がない。
　【００３０】
　彫刻が終了した印面部材１２は
印面保持部材
　【００３１】
　これにより袴２６はバネ２９に押されてその開口端が印面１２より前方に突出した状態となる。さらに口金受け１３の小径側内径にインク軸２５を挿入し、インク軸２５の突出端部にインクキャップ３０を被せるとともにインクキャップ３０の端部を口金受け１３の小径端部に嵌着させる。この後はホルダーＡの後端側にホルダーＢを嵌着し、前端側に印面キャップＣを嵌着して組み立てが完了する。なお組立予定外の印面保持部材１１は印面部材１２を取り付けたまま予備部品として保管しておく。
　【００３２】
　完成したゴム印は図６に示すとおりで、常時は袴２６がバネ２９にて前方に押出されていることにより印面保持部材１１に取り付けられた印面部材１２の印面２２が袴２６の開口端より後退した位置にあり、押印の際に袴２６を押印面に当てて押圧することにより袴２６は押されて後退し、印面２２が露出して押印が可能となる。押印後は袴２６がバネ２９にて押し出されて元の状態に戻る。
　【００３３】
　【発明の効果】
　本発明によれば、印面部材としてメチルビニルシリコーンゴムを用いることにより、レーザー加工の際に印面部材から発生するガスが強臭のない無害ガスとなり、脱臭装置が不要となる。さらに、彫刻カスがタール状にならずに完全燃焼して灰になるために灰はフィルターで回収処理することが可能となる。これにより従来の加工において発生していたタール状の彫刻カスを洗浄し乾燥するための工程が不要になるとともに、洗浄や乾燥装置も不要となり、工程数を削減し、製造の工期を短縮することが可能となる。
　【００３４】
　また、印面部材は予め外形を成形しておき、これを用いて
印面保持部材
　【００３５】
　また印面部材を取り付けた
印面保持部材
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明の実施の形態に係るホルダーを装着した彫刻用治具の断面図である。
　【図２】
　印面部材の斜視図である。
　【図３】
　印面保持部材に印面部材を取り付けた断面図である。
　【図４】
　印面保持部材に印面部材を取り付けた斜視図である。
　【図５】
　彫刻用治具をテーブルに取り付けた斜視図である。
　【図６】
　ゴム印の組立断面図である。
　【図７】
　従来のゴム印製造方法の例を示す図である。
　【図８】
　従来のゴム印製造方法の例を示す図である。
　【図９】
　従来のゴム印製造方法の例を示す図である。
　【図１０】
　従来のゴム印製造方法の例を示す図である。
　【符号の説明】
　１　レーザー光線
　２　レーザー照射装置
　５　ロボットフレーム
　１０　エア噴射ノズル
　１１　印面保持部材
　１２　印面部材
　１３　口金受け
　１４　装着口金
　１５　Ｕ字形係止部
　１６　彫刻用治具
　１７　エア
　１８　装着穴
　１９　Ｌ型位置決め部材
　２０　係止段付部
　２２　印面
　２３　吸込口
　２４　集塵装置
　２５　インク軸
　２６　袴
　２７　テーブル
　２８　本体
　２９　バネ
　３０　インクキャップ