【手続補正書】
【提出日】平成27年4月22日(2015.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも1つの堆積構造を形成するために、少なくとも1種類の前駆体組成物を少なくとも1つの基板上に堆積させる工程であって、該前駆体組成物が、少なくとも1種類の第1の金属を含む少なくとも1種類の第1の金属錯体と、該第1の金属錯体とは異なりかつ該第1の金属とは異なる少なくとも1種類の第2の金属を含む、少なくとも1種類の第2の金属錯体とを含む、少なくとも2種類の金属錯体を含む、工程、
該第1の金属および該第2の金属が処理構造中で該第1の金属および該第2の金属の元素形態を形成するように該堆積構造を処理する工程
を含む、方法。
【請求項２】
前記前駆体組成物が均一組成物である、請求項1記載の方法。
【請求項３】
前記第1の金属錯体が銀、金、銅、ニッケル、白金、イリジウムまたはロジウムの錯体である、請求項1記載の方法。
【請求項４】
前記第2の金属錯体が銀、金、銅、ニッケル、白金、イリジウムまたはロジウムの錯体である、請求項1記載の方法。
【請求項５】
前記第1の金属錯体が銀錯体であり、前記第2の金属錯体が金錯体である、請求項1記載の方法。
【請求項６】
前記前駆体組成物について、全金属含有量に対する前記第1の金属の原子パーセントが約20%〜約80%であり、前記第2の金属の原子パーセントが約20%〜約80%である、請求項1記載の方法。
【請求項７】
前記前駆体組成物が少なくとも1種類の溶媒をさらに含む、請求項1記載の方法。
【請求項８】
前記前駆体組成物が25℃で約100cps以下の粘度を有する、請求項1記載の方法。
【請求項９】
前記第1の金属錯体および前記第2の金属錯体がそれぞれ金属中心を1個だけ含む、請求項1記載の方法。
【請求項１０】
前記第1の金属錯体が少なくとも1つのカルボキシレート配位子を含む、請求項1記載の方法。
【請求項１１】
前記第1の金属錯体が少なくとも1つのアミノ多座配位子（multidentate amino ligand）を含む、請求項1記載の方法。
【請求項１２】
前記第1の金属錯体が少なくとも1つのカルボキシレート配位子および少なくとも1つのアミノ多座配位子を含む、請求項1記載の方法。
【請求項１３】
前記第2の金属錯体が少なくとも1つのカルボキシレート配位子を含む、請求項1記載の方法。
【請求項１４】
少なくとも前記第2の金属を含むナノ多孔質材料とするために前記第1の金属の少なくとも一部を除去する工程をさらに含む、請求項1記載の方法。
【請求項１５】
前記除去工程が化学的除去である、請求項14記載の方法。
【請求項１６】
前記除去工程が電気化学的除去ではない、請求項14記載の方法。
【請求項１７】
前記除去工程が酸によって行われる、請求項14記載の方法。
【請求項１８】
第1の金属と、該第1の金属用の、少なくとも1つの第1の配位子および該第1の配位子とは異なる少なくとも1つの第2の配位子とを含む、少なくとも1種類の第1の金属錯体;
該第1の金属錯体とは異なり、かつ第2の金属と、該第2の金属用の、少なくとも1つの第1の配位子および該第1の配位子とは異なる少なくとも1つの第2の配位子とを含む、少なくとも1種類の第2の金属錯体;
少なくとも1種類の溶媒
を含む、組成物であって、
(i) 該第1の金属錯体の量および該第2の金属錯体の量の選択、(ii) 該第1および第2の金属用の該第1の配位子の選択および該第2の配位子の選択、ならびに(iii) 該溶媒の選択が、均一組成物を与えるように適合している、組成物。
【請求項１９】
酸化状態(I)または(II)の少なくとも1種類の第1の金属と、少なくとも1つの第1の配位子がアミンであり少なくとも1つの第2の配位子がカルボキシレートアニオンである少なくとも2つの配位子とを含む、中性の不斉錯体である、少なくとも1種類の第1の金属錯体;
酸化状態(I)または(II)の少なくとも1種類の第2の金属と、少なくとも1つの第1の配位子が硫黄化合物であり少なくとも1つの第2の配位子が該第1の金属錯体の該カルボキシレートアニオンである少なくとも2つの配位子とを含む、中性の不斉錯体である、該第1の金属錯体とは異なる少なくとも1種類の第2の金属錯体;
少なくとも1種類の有機溶媒
を含む、組成物であって、
全金属含有量に対する該第1の金属の原子パーセントが約20%〜約80%であり、該第2の金属の原子パーセントが約20%〜約80%である、組成物。
【請求項２０】
少なくとも1種類の第1の金属錯体および少なくとも1種類の第1の溶媒を含む少なくとも1種類の第1の前駆体組成物と、該第1の金属錯体とは異なる少なくとも1種類の第2の金属錯体および少なくとも1種類の第2の溶媒を含む少なくとも1種類の第2の前駆体組成物とを組み合わせる工程であって、該第1および第2の前駆体組成物、該第1および第2の溶媒、ならびに該第1および第2の金属錯体の配位子の量が、均一組成物を形成するように選択される、工程
を含む、方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
少なくとも1つの態様における少なくとも1つのさらなる利点としては、除去された金属を再利用する能力が挙げられる。
[本発明1001]
少なくとも1つの堆積構造を形成するために、少なくとも1種類の前駆体組成物を少なくとも1つの基板上に堆積させる工程であって、該前駆体組成物が、少なくとも1種類の第1の金属を含む少なくとも1種類の第1の金属錯体と、該第1の金属錯体とは異なりかつ該第1の金属とは異なる少なくとも1種類の第2の金属を含む、少なくとも1種類の第2の金属錯体とを含む、少なくとも2種類の金属錯体を含む、工程、
該第1の金属および該第2の金属が処理構造中で該第1の金属および該第2の金属の元素形態を形成するように該堆積構造を処理する工程
を含む、方法。
[本発明1002]
前記前駆体組成物が均一組成物である、本発明1001の方法。
[本発明1003]
前記前駆体組成物が、前記少なくとも1種類の第1の金属錯体および前記少なくとも1種類の第2の金属錯体を混合することにより調製される、本発明1001の方法。
[本発明1004]
前記前駆体組成物が金属ナノ粒子を実質的に含まない、本発明1001の方法。
[本発明1005]
前記前駆体組成物が金属ナノ粒子を含まない、本発明1001の方法。
[本発明1006]
前記前駆体組成物が金属ナノ粒子を0.1重量%未満のレベルで含む、本発明1001の方法。
[本発明1007]
前記第1の金属錯体が銀、金、銅、ニッケル、白金、イリジウムまたはロジウムの錯体である、本発明1001の方法。
[本発明1008]
前記第2の金属錯体が銀、金、銅、ニッケル、白金、イリジウムまたはロジウムの錯体である、本発明1001の方法。
[本発明1009]
前記第1の金属錯体が銀錯体であり、前記第2の金属錯体が金錯体である、本発明1001の方法。
[本発明1010]
前記前駆体組成物が、前記第1および第2の金属錯体とは異なりかつ前記第1および第2の金属とは異なる少なくとも1種類の第3の金属を含む、少なくとも1種類の第3の金属錯体をさらに含む、本発明1001の方法。
[本発明1011]
前記前駆体組成物について、全金属含有量に対する前記第1の金属の原子パーセントが約10%〜約90%であり、前記第2の金属の原子パーセントが約10%〜約90%である、本発明1001の方法。
[本発明1012]
前記前駆体組成物について、全金属含有量に対する前記第1の金属の原子パーセントが約20%〜約80%であり、前記第2の金属の原子パーセントが約20%〜約80%である、本発明1001の方法。
[本発明1013]
前記前駆体組成物が少なくとも1種類の溶媒をさらに含む、本発明1001の方法。
[本発明1014]
前記前駆体組成物が、炭化水素である少なくとも1種類の溶媒をさらに含む、本発明1001の方法。
[本発明1015]
前記前駆体組成物が、極性プロトン性溶媒である少なくとも1種類の溶媒をさらに含む、本発明1001の方法。
[本発明1016]
前駆体組成物の全量に対する前記第1の錯体および前記第2の錯体の量が約500mg/mL以下である、本発明1001の方法。
[本発明1017]
前駆体組成物の全量に対する前記第1の錯体および前記第2の錯体の量が約250 mg/mL以下である、本発明1001の方法。
[本発明1018]
前記前駆体組成物が、前記堆積工程用のインクジェット印刷における使用に適合した粘度を有する、本発明1001の方法。
[本発明1019]
前記前駆体組成物が25℃で約100cps以下の粘度を有する、本発明1001の方法。
[本発明1020]
前記第1の金属錯体および前記第2の金属錯体がそれぞれ金属中心を1個だけ含む、本発明1001の方法。
[本発明1021]
前記第1の金属錯体の前記第1の金属および前記第2の金属錯体の前記第2の金属がそれぞれ酸化状態(I)または(II)である、本発明1001の方法。
[本発明1022]
前記第1の金属錯体および前記第2の金属錯体がそれぞれ中性錯体である、本発明1001の方法。
[本発明1023]
前記第1の金属錯体が少なくとも1つのカルボキシレート配位子を含む、本発明1001の方法。
[本発明1024]
前記第1の金属錯体が少なくとも1つのアミノ多座配位子（multidentate amino ligand）を含む、本発明1001の方法。
[本発明1025]
前記第1の金属錯体が少なくとも1つのカルボキシレート配位子および少なくとも1つのアミノ多座配位子を含む、本発明1001の方法。
[本発明1026]
前記第2の金属錯体が少なくとも1つのカルボキシレート配位子を含む、本発明1001の方法。
[本発明1027]
前記第2の金属錯体が少なくとも1つの硫黄含有配位子を含む、本発明1001の方法。
[本発明1028]
前記第2の金属錯体が少なくとも1つのカルボキシレート配位子および少なくとも1つの硫黄含有配位子を含む、本発明1001の方法。
[本発明1029]
前記堆積工程が、ドロップキャスティング、スピンコーティング、インクジェット印刷、ロールツーロール、スロットダイ、グラビア、マイクロコンタクトプリンティングまたはフレキソ印刷を含む、本発明1001の方法。
[本発明1030]
前記堆積工程がインクジェット印刷を含む、本発明1001の方法。
[本発明1031]
前記堆積工程が真空下で行われない、本発明1001の方法。
[本発明1032]
前記堆積工程がスパッタリングを含まない、本発明1001の方法。
[本発明1033]
前記堆積工程が電気化学堆積法を含まない、本発明1001の方法。
[本発明1034]
前記堆積工程が前記基板上の同一位置に対して少なくとも2回行われる、本発明1001の方法。
[本発明1035]
前記堆積構造が線、または頂点を共有する（vertex-shared）多角形である、本発明1001の方法。
[本発明1036]
前記基板が可撓性基板または剛性基板である、本発明1001の方法。
[本発明1037]
前記基板がポリマー基板である、本発明1001の方法。
[本発明1038]
前記基板がガラスまたは半導体材料である、本発明1001の方法。
[本発明1039]
前記処理工程が加熱工程または放射線曝露工程である、本発明1001の方法。
[本発明1040]
前記処理構造が約500nm以下の厚さを有する、本発明1001の方法。
[本発明1041]
前記処理工程が250℃未満での加熱工程である、本発明1001の方法。
[本発明1042]
前記処理工程が200℃未満での加熱工程である、本発明1001の方法。
[本発明1043]
前記処理構造中の2種類の元素金属が合金の形態である、本発明1001の方法。
[本発明1044]
前記処理構造中の2種類の元素金属が固溶体の形態である、本発明1001の方法。
[本発明1045]
前記処理構造中の2種類の元素金属が固溶体の形態ではない、本発明1001の方法。
[本発明1046]
前記前駆体組成物中および処理堆積物中の金属の原子比が実質的に同一である、本発明1001の方法。
[本発明1047]
前記前駆体組成物中および処理堆積物中の金属の原子比が互いに対して5パーセントの範囲内である、本発明1001の方法。
[本発明1048]
前記前駆体組成物中および処理堆積物中の金属の原子比が互いに対して1パーセントの範囲内である、本発明1001の方法。
[本発明1049]
少なくとも前記第2の金属を含むナノ多孔質材料とするために前記第1の金属の少なくとも一部を除去する工程をさらに含む、本発明1001の方法。
[本発明1050]
前記除去工程が化学的除去である、本発明1049の方法。
[本発明1051]
前記除去工程が電気化学的除去ではない、本発明1049の方法。
[本発明1052]
前記除去工程が酸によって行われる、本発明1049の方法。
[本発明1053]
ナノ多孔質材料が約100nm以下の平均孔径を有する、本発明1049の方法。
[本発明1054]
除去される前記第1の金属の少なくとも一部分が回収される、本発明1049の方法。
[本発明1055]
前記ナノ多孔質材料が、化学吸着工程にさらに供される、本発明1049の方法。
[本発明1056]
前記ナノ多孔質材料がさらに化学修飾される、本発明1049の方法。
[本発明1057]
前記ナノ多孔質材料が、金属プラズモン周波数モニタリングプロセスにおいてさらに使用される、本発明1049の方法。
[本発明1058]
前記第1および第2の金属が銀、金、銅、ニッケル、白金、イリジウムまたはロジウムであり、前記前駆体組成物が少なくとも1種類の溶媒をさらに含む、本発明1001の方法。
[本発明1059]
前記第1および第2の金属が銀または金であり、前記前駆体組成物が少なくとも1種類の炭化水素溶媒をさらに含む、本発明1001の方法。
[本発明1060]
前記第1および第2の金属が銀または金であり、前記前駆体組成物が少なくとも1種類の炭化水素溶媒をさらに含み、前記堆積工程がインクジェット印刷を含み、前記処理工程が250℃未満の温度での加熱工程であり、除去工程が化学エッチングによって行われる、本発明1049の方法。
[本発明1061]
第1の金属と、該第1の金属用の、少なくとも1つの第1の配位子および該第1の配位子とは異なる少なくとも1つの第2の配位子とを含む、少なくとも1種類の第1の金属錯体;
該第1の金属錯体とは異なり、かつ第2の金属と、該第2の金属用の、少なくとも1つの第1の配位子および該第1の配位子とは異なる少なくとも1つの第2の配位子とを含む、少なくとも1種類の第2の金属錯体;
少なくとも1種類の溶媒
を含む、組成物であって、
(i) 該第1の金属錯体の量および該第2の金属錯体の量の選択、(ii) 該第1および第2の金属用の該第1の配位子の選択および該第2の配位子の選択、ならびに(iii) 該溶媒の選択が、均一組成物を与えるように適合している、組成物。
[本発明1062]
前記第1の金属錯体が銀、金、銅、ニッケル、白金、イリジウムまたはロジウムの錯体である、本発明1061の組成物。
[本発明1063]
前記第1の金属錯体が銀錯体である、本発明1061の組成物。
[本発明1064]
前記第2の金属錯体が銀、金、銅、ニッケル、白金、イリジウムまたはロジウムの錯体である、本発明1061の組成物。
[本発明1065]
前記第2の金属錯体が金錯体である、本発明1061の組成物。
[本発明1066]
前記第1の金属錯体が銀錯体でありかつ前記第2の金属錯体が金錯体であるか、あるいは該第1の金属錯体が白金錯体でありかつ該第2の金属錯体が金錯体であるか、あるいは該第1の金属錯体が白金錯体でありかつ該第2の金属錯体がイリジウム錯体であるか、あるいは該第1の金属錯体が白金錯体でありかつ該第2の金属錯体がロジウム錯体である、本発明1061の組成物。
[本発明1067]
前記第1の金属錯体が銀錯体であり、前記第2の金属錯体が金錯体である、本発明1061の組成物。
[本発明1068]
前記第1の金属錯体の前記第2の配位子がカルボキシレートである、本発明1061の組成物。
[本発明1069]
前記第2の金属錯体の前記第2の配位子がカルボキシレートである、本発明1061の組成物。
[本発明1070]
2種類の前記錯体の2つの第2の配位子が同一である、本発明1061の組成物。
[本発明1071]
前記第1の金属錯体および前記第2の金属錯体がそれぞれ不斉錯体である、本発明1061の組成物。
[本発明1072]
全金属含有量に対する前記第1の金属の原子パーセントが約10%〜約90%であり、前記第2の金属の原子パーセントが約10%〜約90%である、本発明1061の組成物。
[本発明1073]
全金属含有量に対する前記第1の金属の原子パーセントが約20%〜約80%であり、前記第2の金属の原子パーセントが約20%〜約80%である、本発明1061の組成物。
[本発明1074]
前記溶媒が炭化水素である、本発明1061の組成物。
[本発明1075]
前記溶媒が芳香族炭化水素である、本発明1061の組成物。
[本発明1076]
前記第1および第2の金属錯体がそれぞれ少なくとも25重量%の金属を含む、本発明1061の組成物。
[本発明1077]
前記第1および第2の金属錯体がそれぞれ少なくとも50重量%の金属を含む、本発明1061の組成物。
[本発明1078]
前記第1および第2の金属錯体がそれぞれ少なくとも70重量%の金属を含む、本発明1061の組成物。
[本発明1079]
前記組成物の全量に対する前記第1の錯体および前記第2の錯体の量が約500mg/mL以下である、本発明1061の組成物。
[本発明1080]
前記組成物の全量に対する前記第1の錯体および前記第2の錯体の量が約250 mg/mL以下である、本発明1061の組成物。
[本発明1081]
インクジェット印刷における使用に適合した粘度を有する、本発明1061の組成物。
[本発明1082]
前駆体組成物が約1cps〜約20cpsの粘度を有する、本発明1061の組成物。
[本発明1083]
前記第1の金属錯体および前記第2の金属錯体がそれぞれ金属中心を1個だけ含む、本発明1061の組成物。
[本発明1084]
前記第1の金属錯体の前記第1の金属および前記第2の金属錯体の前記第2の金属がそれぞれ酸化状態(I)または(II)である、本発明1061の組成物。
[本発明1085]
前記第1の金属錯体が少なくとも1つのアルキルカルボキシレート配位子を含む、本発明1061の組成物。
[本発明1086]
前記第1の金属錯体が少なくとも1つのアミノ配位子を含む、本発明1061の組成物。
[本発明1087]
前記第1の金属錯体が少なくとも1つのカルボキシレート配位子および少なくとも1つのアミノ配位子を含む、本発明1061の組成物。
[本発明1088]
前記第2の金属錯体が少なくとも1つのアルキルカルボキシレート配位子を含む、本発明1061の組成物。
[本発明1089]
前記第2の金属錯体が少なくとも1つの硫黄含有配位子を含む、本発明1061の組成物。
[本発明1090]
前記第2の金属錯体が少なくとも1つのカルボキシレート配位子および少なくとも1つの硫黄含有配位子を含む、本発明1061の組成物。
[本発明1091]
前記第1の金属錯体が銀錯体であり、前記第2の金属錯体が金錯体である、本発明1061の組成物。
[本発明1092]
前駆体組成物が金属ナノ粒子を全く含まない、本発明1061の組成物。
[本発明1093]
前記第1の金属錯体が少なくとも1つのカルボキシレート配位子および少なくとも1つのアミン配位子を含み、前記第2の金属錯体が少なくとも1つのカルボキシレート配位子および少なくとも1つのチオエーテル配位子を含む、本発明1061の組成物。
[本発明1094]
前記第1の金属錯体および前記第2の金属錯体がそれぞれ、各錯体について同一であるカルボキシレート配位子を含む、本発明1061の組成物。
[本発明1095]
前記第1の金属錯体および前記第2の金属錯体がそれぞれ、8個以下の炭素原子を有するカルボキシレート配位子を含む、本発明1061の組成物。
[本発明1096]
前記溶媒が炭化水素であり、前記組成物の全量に対する前記第1の錯体および前記第2の錯体の量が約500mg/mL以下である、本発明1061の組成物。
[本発明1097]
前記第1の金属錯体が銀錯体であり、前記第2の金属錯体が金錯体であり、前記組成物の全量に対する該第1の錯体および該第2の錯体の量が約500mg/mL以下である、本発明1061の組成物。
[本発明1098]
前記第1の金属錯体が銀錯体であり、前記第2の金属錯体が金錯体であり、前記組成物の全量に対する該第1の錯体および該第2の錯体の量が約500mg/mL以下であり、該組成物がインクジェット印刷における使用に適合した粘度を有する、本発明1061の組成物。
[本発明1099]
前記第1の金属錯体が銀錯体であり、前記第2の金属錯体が金錯体であり、前駆体組成物が金属ナノ粒子を実質的に含まず、該第1の金属錯体の前記第1の金属および該第2の金属錯体の前記第2の金属がそれぞれ酸化状態(I)または(II)である、本発明1061の組成物。
[本発明1100]
全金属含有量に対する前記第1の金属の原子パーセントが約20%〜約80%であり、前記第2の金属の原子パーセントが約20%〜約80%であり、前記溶媒が炭化水素であり、前記第1および第2の金属錯体が少なくとも50重量%の金属を含む、本発明1061の組成物。
[本発明1101]
酸化状態(I)または(II)の少なくとも1種類の第1の金属と、少なくとも1つの第1の配位子がアミンであり少なくとも1つの第2の配位子がカルボキシレートアニオンである少なくとも2つの配位子とを含む、中性の不斉錯体である、少なくとも1種類の第1の金属錯体;
酸化状態(I)または(II)の少なくとも1種類の第2の金属と、少なくとも1つの第1の配位子が硫黄化合物であり少なくとも1つの第2の配位子が該第1の金属錯体の該カルボキシレートアニオンである少なくとも2つの配位子とを含む、中性の不斉錯体である、該第1の金属錯体とは異なる少なくとも1種類の第2の金属錯体;
少なくとも1種類の有機溶媒
を含む、組成物であって、
全金属含有量に対する該第1の金属の原子パーセントが約20%〜約80%であり、該第2の金属の原子パーセントが約20%〜約80%である、組成物。
[本発明1102]
少なくとも1種類の第1の金属錯体および少なくとも1種類の第1の溶媒を含む少なくとも1種類の第1の前駆体組成物と、該第1の金属錯体とは異なる少なくとも1種類の第2の金属錯体および少なくとも1種類の第2の溶媒を含む少なくとも1種類の第2の前駆体組成物とを組み合わせる工程であって、該第1および第2の前駆体組成物、該第1および第2の溶媒、ならびに該第1および第2の金属錯体の配位子の量が、均一組成物を形成するように選択される、工程
を含む、方法。