【手続補正書】
【提出日】平成27年10月13日(2015.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フルオロオレフィンを調製するのに用いる供給原料であって、不純物を実質的に含まない１，１，２，３−テトラクロロプロペンを含む組成物を含むことを特徴とする供給原料。
【請求項２】
前記不純物がイオン性金属を含み、前記イオン性金属が鉄であることを特徴とする請求項１に記載の供給原料。
【請求項３】
前記不純物が１，１，２，３−テトラクロロプロペン以外の１種または複数種の有機化合物を含み、前記１種または複数種の有機化合物が、ヘキサクロロエタン、テトラクロロプロパン、ペンタクロロプロパン、ジクロロプロペン、トリクロロプロパン、ヘキサクロロヘキサジエン、トリクロロプロペン、ペンタクロロプロペン、ジクロロブテンおよびそれらの組み合わせからなる群から選択されることを特徴とする請求項１または２に記載の供給原料。
【請求項４】
前記有機化合物のいずれもが、１０００ｐｐｍ未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする請求項３に記載の供給原料。
【請求項５】
前記１種または複数種の有機化合物が、前記組成物の０．５％（ｗ／ｗ）未満で存在することを特徴とする請求項３または４に記載の供給原料。
【請求項６】
２−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペンを調製するための方法であって、
式Ｉを有する少なくとも１種の化合物を含む出発組成物を提供する工程であって、
ＣＸ2＝ＣＣｌ−ＣＨ2Ｘ      （Ｉ）
Ｘは、少なくとも１つのＸがフッ素ではないことを条件として、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩから独立的に選択され、前記出発組成物は不純物を実質的に含まない工程と、
前記出発組成物をフッ素化剤と接触させて、２−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペンを含む最終組成物を生成する工程と
を含むことを特徴とする方法。
【請求項７】
前記出発組成物をフッ素化剤と接触させる工程を気相で、任意選択的に触媒の存在下で実施し、前記触媒が気相触媒であることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
ＧＣ（ＦＩＤ）面積で測定される際に、１％未満の不純物が存在することを特徴とする請求項６または７に記載の方法。
【請求項９】
前記不純物がイオン性金属を含み、前記イオン性金属が鉄であることを特徴とする請求項６から８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
前記不純物が、１，１，２，３−テトラクロロプロペン以外の１種または複数種の有機化合物を含み、前記１種または複数種の有機化合物が、ヘキサクロロエタン、テトラクロロプロパン、ペンタクロロプロパン、ジクロロプロペン、トリクロロプロペン、トリクロロプロパン、ヘキサクロロヘキサジエン、ペンタクロロプロペン、ジクロロブテンおよびそれらの組み合わせからなる群から選択されることを特徴とする請求項６から９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
前記１種または複数種の有機化合物が、総量として、前記出発組成物の０．５％（ｗ／ｗ）未満の濃度で存在することを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記触媒は、６０ｍ2／ｇから３００ｍ2／ｇの範囲内で変動する表面積を有することを特徴とする請求項７から１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
前記出発組成物をフッ素化剤と接触させる工程は、
１８０℃から４００℃の範囲内で変動する温度で前記出発組成物をフッ化水素と接触させる工程、および／または
５ｐｓｉａ（３４．５ｋＰａ）から１００ｐｓｉａ（６８９．５ＭＰａ）の範囲内で変動する圧力で前記出発組成物をフッ化水素と接触させる工程
を含むことを特徴とする請求項６から１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
２，３，３，３−テトラフルオロプロプ−１−エンを調製するための方法であって、
式Ｉを有する化合物を含む出発組成物を提供する工程であって、
ＣＸ2＝ＣＣｌ−ＣＨ2Ｘ      （Ｉ）
Ｘは、少なくとも１つのＸがフッ素ではないことを条件として、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩから独立的に選択され、前記出発組成物は不純物を実質的に含まない工程と、
前記出発組成物を第１のフッ素化剤と接触させて、２−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペンを含む第１の中間体組成物を生成する工程と、
前記第１の中間体組成物を第２のフッ素化剤と接触させて、２−クロロ−１，１，１，２−テトラフルオロプロパンを含む第２の中間体組成物を生成する工程と、
前記２−クロロ−１，１，１，２−テトラフルオロプロパンの少なくとも一部を脱塩化水素化して、２，３，３，３−テトラフルオロプロプ−１−エンを含む反応生成物を生成する工程と
を含むことを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
上記の好ましい実施形態および実施例は、本発明の範囲および趣旨を例示するために提供された。これらの実施形態および実施例は、当業者に対して、他の実施形態および実施例を明瞭にする。他の実施形態および実施例は、本発明の意図の範囲内である。したがって、本発明は、補正された特許請求の範囲のみによって制限されるべきである。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
［１］  フルオロオレフィンを調製するのに用いる供給原料であって、不純物を実質的に含まない１，１，２，３−テトラクロロプロペンを含む組成物を含むことを特徴とする供給原料。
［２］  ＧＣ（ＦＩＤ）面積で測定される際に、１％未満の不純物が存在することを特徴とする［１］に記載の供給原料。
［３］  ＧＣ（ＦＩＤ）面積で測定される際に、０．５％未満の不純物が存在することを特徴とする［１］に記載の供給原料。
［４］  ＧＣ（ＦＩＤ）面積で測定される際に、０．２％未満の不純物が存在することを特徴とする［１］に記載の供給原料。
［５］  ＧＣ（ＦＩＤ）面積で測定される際に、０．１％未満の不純物が存在することを特徴とする［１］に記載の供給原料。
［６］  前記不純物がイオン性金属であることを特徴とする［１］に記載の供給原料。
［７］  前記イオン性金属が鉄であることを特徴とする［６］に記載の供給原料。
［８］  前記イオン性金属が、約１００ｐｐｍ未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする［６］に記載の供給原料。
［９］  前記イオン性金属が、約５０ｐｐｍ未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする［６］に記載の供給原料。
［１０］  前記イオン性金属が、約２０ｐｐｍ未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする［６］に記載の供給原料。
［１１］  前記イオン性金属が、約１０ｐｐｍ未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする［６］に記載の供給原料。
［１２］  前記不純物が、１，１，２，３−テトラクロロプロペン以外の１種または複数種の有機化合物を含むことを特徴とする［１］に記載の供給原料。
［１３］  前記１種または複数種の有機化合物が、ヘキサクロロエタン、テトラクロロプロパン、ペンタクロロプロパン、ジクロロプロペン、トリクロロプロパン、ヘキサクロロヘキサジエン、トリクロロプロペン、ペンタクロロプロペン、ジクロロブテンおよびそれらの組み合わせからなる群から選択されることを特徴とする［１２］に記載の供給原料。
［１４］  前記有機化合物のいずれもが、１０００ｐｐｍ未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする［１２］に記載の供給原料。
［１５］  前記有機化合物のいずれもが、５００ｐｐｍ未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする［１２］に記載の供給原料。
［１６］  前記有機化合物のいずれもが、２００ｐｐｍ未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする［１２］に記載の供給原料。
［１７］  前記有機化合物のいずれもが、１００ｐｐｍ未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする［１２］に記載の供給原料。
［１８］  前記１種または複数種の有機化合物が、前記組成物の０．５％（ｗ／ｗ）未満で提供されていることを特徴とする［１２］に記載の供給原料。
［１９］  前記１種または複数種の有機化合物が、前記組成物の０．３％（ｗ／ｗ）未満で提供されていることを特徴とする［１２］に記載の供給原料。
［２０］  前記１種または複数種の有機化合物が、前記組成物の０．１％（ｗ／ｗ）未満で提供されていることを特徴とする［１２］に記載の供給原料。
［２１］  ２−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペンを調製するための方法であって、
式Ｉを有する少なくとも１種の化合物を含む出発組成物を提供する工程であって、
ＣＸ2＝ＣＣｌ−ＣＨ2Ｘ      （Ｉ）
Ｘは、少なくとも１つのＸがフッ素ではないことを条件として、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩから独立的に選択され、前記出発組成物は不純物を実質的に含まない工程と、
前記出発組成物をフッ素化剤と接触させて、２−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペンを含む最終組成物を生成する工程と
を含むことを特徴とする方法。
［２２］  式Ｉを有する少なくとも１種の化合物は、少なくとも１つのＸが塩素である化合物であることを特徴とする［２１］に記載の方法。
［２３］  式Ｉを有する少なくとも１種の化合物は、全てのＸが塩素である化合物であることを特徴とする［２１］に記載の方法。
［２４］  式Ｉを有する少なくとも１種の化合物は、１，１，２，３−テトラクロロプロペンを含むことを特徴とする［２１］に記載の方法。
［２５］  前記出発物質をフッ素化剤と接触させる工程を、気相で実施することを特徴とする［２１］に記載の方法。
［２６］  触媒の存在下で接触工程を実施することを特徴とする［２１］に記載の方法。
［２７］  前記触媒が気相触媒であることを特徴とする［２６］に記載の方法。
［２８］  前記気相触媒が、クロム酸化物、クロム水酸化物、クロムハロゲン化物、クロムオキシハロゲン化物、アルミニウム酸化物、アルミニウム水酸化物、アルミニウムハロゲン化物、アルミニウムオキシハロゲン化物、コバルト酸化物、コバルト水酸化物、コバルトハロゲン化物、コバルトオキシハロゲン化物、マンガン酸化物、マンガン水酸化物、マンガンハロゲン化物、マンガンオキシハロゲン化物、ニッケル酸化物、ニッケル水酸化物、ニッケルハロゲン化物、ニッケルオキシハロゲン化物、鉄酸化物、鉄水酸化物、鉄ハロゲン化物、鉄オキシハロゲン化物、それらの無機塩、それらのフッ素化誘導体、およびそれらの組み合わせからなる群から選択されることを特徴とする［２７］に記載の方法。
［２９］  前記触媒は、クロム酸化物を含むことを特徴とする［２８］に記載の方法。
［３０］  前記触媒は、Ｃｒ2Ｏ3を含むことを特徴とする［２９］に記載の方法。
［３１］  前記組成物中に存在する不純物を、蒸留またはクロマトグラフィーにより減少させることを特徴とする［２１］に記載の方法。
［３２］  ＧＣ面積で測定される際に、１％未満の不純物が存在することを特徴とする［２１］に記載の方法。
［３３］  ＧＣ（ＦＩＤ）面積で測定される際に、０．５％未満の不純物が存在することを特徴とする［２１］に記載の方法。
［３４］  ＧＣ（ＦＩＤ）面積で測定される際に、０．２％未満の不純物が存在することを特徴とする［２１］に記載の方法。
［３５］  ＧＣ（ＦＩＤ）面積で測定される際に、０．１％未満の不純物が存在することを特徴とする［２１］に記載の方法。
［３６］  前記不純物がイオン性金属を含むことを特徴とする［２１］に記載の方法。
［３７］  前記イオン性金属が鉄であることを特徴とする［３６］に記載の方法。
［３８］  前記イオン性金属が、約１００ｐｐｍ未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする［３６］に記載の方法。
［３９］  前記イオン性金属が、約３６ｐｐｍ未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする［３６］に記載の方法。
［４０］  前記イオン性金属が、約２０ｐｐｍ未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする［３６］に記載の方法。
［４１］  前記イオン性金属が、約１０ｐｐｍ未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする［３６］に記載の方法。
［４２］  前記不純物が、１，１，２，３−テトラクロロプロペン以外の１種または複数種の有機化合物を含むことを特徴とする［２１］に記載の方法。
［４３］  前記１種または複数種の有機化合物が、ヘキサクロロエタン、テトラクロロプロパン、ペンタクロロプロパン、ジクロロプロペン、トリクロロプロペン、トリクロロプロパン、ヘキサクロロヘキサジエン、ペンタクロロプロペン、ジクロロブテンおよびそれらの組み合わせからなる群から選択されることを特徴とする［４２］に記載の方法。
［４４］  前記有機化合物のいずれもが、１０００ｐｐｍ未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする［４２］に記載の方法。
［４５］  前記有機化合物のいずれもが、５００ｐｐｍ未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする［４２］に記載の方法。
［４６］  前記有機化合物のいずれもが、２００ｐｐｍ未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする［４２］に記載の方法。
［４７］  前記有機化合物のいずれもが、１００ｐｐｍ未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする［４２］に記載の方法。
［４８］  前記１種または複数種の有機化合物が、総量として、前記組成物の０．５％（ｗ／ｗ）未満の濃度で存在することを特徴とする［４２］に記載の方法。
［４９］  前記１種または複数種の有機化合物が、総量として、前記組成物の０．３％（ｗ／ｗ）未満の濃度で存在することを特徴とする［４２］に記載の方法。
［５０］  前記１種または複数種の有機化合物が、総量として、前記組成物の０．１％（ｗ／ｗ）未満の濃度で存在することを特徴とする［４２］に記載の方法。
［５１］  前記組成物をフッ化水素と接触させる工程を、供給酸素および重合禁止剤の両方の不在下で実施することを特徴とする［２１］に記載の方法。
［５２］  前記組成物をフッ化水素と接触させる工程を、供給酸素の不在下で実施することを特徴とする［２１］に記載の方法。
［５３］  前記組成物をフッ化水素と接触させる工程を、重合禁止剤の不在下で実施することを特徴とする［２１］に記載の方法。
［５４］  前記組成物をフッ化水素と接触させる工程を、供給酸素の存在下で実施することを特徴とする［２１］に記載の方法。
［５５］  前記組成物をフッ化水素と接触させる工程を、重合禁止剤の存在下で実施することを特徴とする［２１］に記載の方法。
［５６］  前記触媒は、約６０ｍ2／ｇから約３００ｍ2／ｇの範囲内で変動する表面積を有することを特徴とする［２９］に記載の方法。
［５７］  前記触媒は、約１００ｍ2／ｇから約３００ｍ2／ｇの範囲内で変動する表面積を有することを特徴とする［２９］に記載の方法。
［５８］  前記出発組成物をフッ化水素と接触させる工程を、約１８０℃から約４００℃の範囲内で変動する温度で実施することを特徴とする［２１］に記載の方法。
［５９］  前記出発組成物をフッ化水素と接触させる工程を、約２００℃から約３００℃の範囲内で変動する温度で実施することを特徴とする［２１］に記載の方法。
［６０］  前記出発組成物をフッ化水素と接触させる工程を、約５ｐｓｉａ（約０．０３ＭＰａ）から約１００ｐｓｉａ（約０．６９ＭＰａ）の範囲内で変動する圧力で実施することを特徴とする［２１］に記載の方法。
［６１］  前記方法を連続的に運転することを特徴とする［２１］に記載の方法。
［６２］  前記方法を、少なくとも１５０時間にわたって連続的に運転し、少なくとも９０％のＨＣＯ−１２３０ｘａが反応することを特徴とする［２１］に記載の方法。
［６３］  ２，３，３，３−テトラフルオロプロプ−１−エンを調製するための方法であって、
式Ｉを有する化合物を含む出発組成物を提供する工程であって、
ＣＸ2＝ＣＣｌ−ＣＨ2Ｘ      （Ｉ）
Ｘは、少なくとも１つのＸがフッ素ではないことを条件として、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩから独立的に選択され、前記出発組成物は不純物を実質的に含まない工程と、
前記出発組成物を第１のフッ素化剤と接触させて、２−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペンを含む第１の中間体組成物を生成する工程と、
前記第１の中間体組成物を第２のフッ素化剤と接触させて、２−クロロ−１，１，１，２−テトラフルオロプロパンを含む第２の中間体組成物を生成する工程と、
前記２−クロロ−１，１，１，２−テトラフルオロプロパンの少なくとも一部を脱塩化水素化して、２，３，３，３−テトラフルオロプロプ−１−エンを含む反応生成物を生成する工程と
を含むことを特徴とする方法。