【事件の表示】
　特許第３３３８４０３号「プラズマディスプレイパネルの厚膜パターン形成方法」の請求項１、２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３３３８４０３号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
第１　手続きの経緯
　本件は、平成２年３月２日に特許出願された特願平２−５１１３８号の一部が、平成１１年６月２３日に新たな特許出願として出願されたものであり、平成１４年８月９日に特許権の設定登録（特許第３３３８４０３号）がされ、同年１０月２８日にその特許掲載公報が発行され、平成１５年４月２８日にその請求項１、２に係る特許に対して、凸版印刷株式会社より特許異議の申立てがなされた。
　当審において、本件の請求項１、２に係る特許に対して、平成１６年８月３１日付けで取消理由を通知したところ、平成１６年９月２日付けで訂正請求がなされた。
　
第２　訂正の適否
１　訂正事項
　訂正を請求する事項は、次のとおりである。なお、アンダーラインは訂正箇所を示すために付したものである。
訂正事項ａ：
　明細書の特許請求の範囲の請求項１に「紫外線を照射することによりパターン形成材料を硬化させ、続いて、硬化したパターン形成材料を焼成することによって、」とあるのを、「
次いで、該パターン形成材料を挟むようにして凹版に基板を密着させ、
後、硬化したパターン形成材料を基板の表面に残すようにして凹版を基板より剥離し、
表面に
が転写された基板に対し
を行
訂正事項ｂ：
　同請求項２を削除する。
訂正事項ｃ：
　同請求項３の項番号を「２」に繰り上げるとともに、同請求項の「基板を凹版に密着させる」の前に「パターン形成材料として紫外線硬化性ガラスペーストを用い、」を挿入し、かつ、「請求項２記載の」とあるのを、「請求項１記載の」と訂正する。
訂正事項ｄ：
　同請求項４ないし６の項番号を１つずつ繰り上るとともに、請求項５及び請求項６に「請求項１、２、３又は４」とあるのを、「請求項１、２又は３」と訂正する。
訂正事項ｅ：
　明細書の段落【０００６】に「すなわち、目的パターンの雌型である凹版の凹部に紫外線硬化性ガラスペーストを含むパターン形成材料を充填し、紫外線を照射することによりパターン形成材料を硬化させ、続いて、硬化したパターン形成材料を焼成することによって、セル障壁であるところの厚膜パターンを形成するようにしたものである。また、凹版に基板を密着させ、焼成前に、硬化したパターン形成材料が基板に残るように凹版を基板から剥離するようにしている。」とあるのを、「すなわち、目的パターンの雌型である凹版の凹部に紫外線硬化性ガラスペーストを含むパターン形成材料を充填し、
次いで、該パターン形成材料を挟むようにして凹版に基板を密着させ、
後、硬化したパターン形成材料を基板の表面に残すようにして凹版を基板より剥離し、
表面に
が転写された基板に対し
を行
　
２．新規事項追加の有無、訂正の目的の適否、及び特許請求の範囲の実質上の拡張又は変更の存否
(１)　訂正事項ａは、訂正前の請求項２に記載されていた「凹版に基板を密着させ、焼成前に、硬化したパターン形成材料が基板に残るように凹版を基板から剥離する」という構成を、請求項１に係る発明の構成に付加するものである。
　したがって、該訂正は、願書に添付された明細書又は図面に記載されていた事項の範囲内での訂正であって、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正に該当し、また、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
　
(２)　訂正事項ｂは、請求項を削除するものであるから、願書に添付された明細書又は図面に記載されていた事項の範囲内での訂正であって、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正に該当し、また、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
　
(３)  訂正事項ｃは、請求項２の削除にともない、項番号を繰り上げるとともに、訂正前の請求項３に係る発明の構成に「パターン形成材料として紫外線硬化性ガラスペーストを用いる」という構成を付加し、かつ、引用する請求項をそれに合わせて訂正するものである。そして、付加する構成については、明細書の段落【０００７】の「そして、上記の方法では、凹版の凹部に充填されたパターン形成材料が基板側に転写される段階でパターン形成材料の凝集力及びパターン形成材料と基板との密着力が強いことが必要である。このため、凹版の凹部に充填するパターン形成材料として紫外線硬化性ガラスペーストを用い、基板を凹版に密着させる前に紫外線硬化性プライマーにより基板の表面を処理するようにした。或いは、パターン形成材料としてセラミック材料粉を分散させた懸濁液を用い、基板を凹版に密着させる前に凹版の表面に紫外線硬化性樹脂を塗布するようにした。」という記載に基づくものである。
　したがって、該訂正は、願書に添付された明細書又は図面に記載されていた事項の範囲内での訂正であって、特許請求の範囲の減縮及び明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正に該当し、また、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
　
(４)　訂正事項ｄは、請求項２の削除にともない、項番号を繰り上げるとともに、引用する請求項をそれに合わせて訂正するものであるから、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内での訂正であって、明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正に該当し、また、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
　
(５)　訂正事項ｅは、発明の詳細な説明の項における記載を、訂正事項ａに伴いそれと同様の記載とするものであるから、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内での訂正であって、明りょうでない記載の釈明を目的とするものであり、また、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
　
３　特許異議の申立てがされていない請求項についての独立特許要件
(１)　訂正後における特許請求の範囲に記載されている事項により特定される発明は、以下のとおりである。
　「【請求項１】　目的パターンの雌型である凹版の凹部に紫外線硬化性ガラスペーストを含むパターン形成材料を充填し、次いで、該パターン形成材料を挟むようにして凹版に基板を密着させ、紫外線を照射することによりパターン形成材料を硬化させた後、硬化したパターン形成材料を基板の表面に残すようにして凹版を基板より剥離し、続いて、表面に硬化したパターン形成材料が転写された基板に対し焼成を行って、セル障壁であるところの厚膜パターンを形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの厚膜パターン形成方法。　
　【請求項２】パターン形成材料として紫外線硬化性ガラスペーストを用い、基板を凹版に密着させる前に紫外線硬化性プライマーにより基板の表面を処理することを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの厚膜パターン形成方法。
　【請求項３】　パターン形成材料としてセラミック材料粉を分散させた懸濁液を用い、基板を凹版に密着させる前に凹版の表面に紫外線硬化性樹脂を塗布することを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの厚膜パターン形成方法。
　【請求項４】　凹版の材料として熱可塑性樹脂を用いることを特徴とする請求項１，２又は３記載のプラズマディスプレイパネルの厚膜パターン形成方法。
　【請求項５】　凹版の材料として表面張力の小さい物質を用いることを特徴とする請求項１，２又は３記載のプラズマディスプレイパネルの厚膜パターン形成方法。」
　
(２)　訂正後の請求項２ないし５は、特許異議の申立てがなされていない訂正前の請求項３ないし６に相当するものであるが、これらの請求項は、訂正後の請求項１を引用する形式或いは更にそれを引用する形式で記載されているから、実質的に特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正がされているものである。
　そこで、訂正後の請求項２ないし５に係る発明の独立特許要件について検討するに、次項「第３　特許異議の申立てについて」に詳述するとおり、訂正後の請求項１に係る発明は、刊行物１ないし３（甲第１ないし３号証）に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることができない以上、該請求項１を引用する形式或いはそれを更に引用する形式で記載された訂正後の請求項２ないし５についても、同様の理由により、刊行物１ないし３（甲第１ないし３号証）に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることができない。
　したがって、訂正後の請求項２ないし５に係る発明が、特許出願の際独立して特許を受けることができないものではない。
　
４　訂正の適否の結論
　以上のとおりであるから、上記訂正請求は、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律１１６号）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書き、第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
第３　特許異議の申立てについて
１　本件発明
　上述のとおり、本件訂正請求は認められるので、特許異議の申立てがなされた訂正前の請求項１び２に係る発明は、訂正請求書に添付された全文訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものである。
（以下、「本件発明」という。）
　「【請求項１】　目的パターンの雌型である凹版の凹部に紫外線硬化性ガラスペーストを含むパターン形成材料を充填し、次いで、該パターン形成材料を挟むようにして凹版に基板を密着させ、紫外線を照射することによりパターン形成材料を硬化させた後、硬化したパターン形成材料を基板の表面に残すようにして凹版を基板より剥離し、続いて、表面に硬化したパターン形成材料が転写された基板に対し焼成を行って、セル障壁であるところの厚膜パターンを形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの厚膜パターン形成方法。」
　
２　特許異議の申立ての概要
　特許異議申立人は、証拠として、下記の甲号各証を提出し、本件発明は、甲号各証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである旨主張している。
　　　　　　　　　　　　　　　記
甲第１号証：特開平１−１３７５３４号公報
甲第２号証：特開平１−２９６５３４号公報
甲第３号証：特開昭６４−７００１号公報
　
３　甲号各証に記載される事項
 甲号各証には、それぞれ以下のような技術的事項が図面と共に記載されているものと認められる。
(１)　甲第１号証（以下、「刊行物１」という。）
(1a)「（ａ）プラズマディスプレイの隔壁と同一形状に配列された溝を有する治具を用意し、
（ｂ）該溝に隔壁形成材料を充填し、
（ｃ）該隔壁形成材料をベースガラスを有するベース部材に仮接着させ、
（ｄ）その後、焼成し隔壁の形成を行うことを特徴とするプラズマディスプレイの隔壁形成方法。」（特許請求の範囲）
に関し、
(1b)発明の作用について、「本発明によれば、上記のように、プラズマディスプレイの隔壁形成方法において、従来のペーストを用いた厚膜印刷による隔壁形成方法を使用せず、ペーストの代わりとなる予め隔壁の形状と同じ寸法に形成されている溝を有する治具を用い、その治具の溝に隔壁形成材料を入れ、予めガラスペーストを塗ってあるベースガラスを有するベース部材と前記治具とを密着させる。その後、治具をベース部材から取り外し焼成を行うことにより隔壁材料とべース部材とを完全に接着させる。」（第２頁右下欄第８〜１７行）
(1c)第１の実施例について、第１図と共に、「ここで、ベースガラスに形成される隔壁の形状は、幅１に対し高さ２の割合で形成される。例えば、幅が０．１ｍｍならば高さは０．２ｍｍとなる。
　そこで、第１図(ａ)に示すように、このような形状の材料（以下、隔壁材料という）が納まり、かつ同一ピッチで並ぶような溝２０ａが形成された型枠となる冶具２０を用意する。・・・
　次いで、ベースガラス２３上にＮｉパターン２４とガラスパターン２５を交互に形成し・・・第１図（ｂ）に示すように、更に、これらの上層に選択的に低融点ガラス２６をスクリーン印刷にて形成する。この状態で乾燥・・・を行い、更に、仮焼成・・・を行い、その後、焼成・・・を行って得られるベース部材２２を用意する。一方、治具２０の溝２０ａに隔壁材料２１を収納する。
　次に、第１図（ｃ）に示すように、そのベース部材２２を隔壁材料２１が充填された治具２０に押し付け、隔壁材料２１とベース部材２２とが合わさるようにする。
　次に、第１図（ｄ）に示すように、隔壁材料２１がのったベース部材２２を焼成し、隔壁材料２１とベース部材２２が完全に接着した後、治具２０を外す。この場合の焼成温度は約５８０℃であり、焼成時間は約１時間である。
　・・・
　また、隔壁の材料は高圧、高温に耐えること、下地のＮｉパターン、ガラスパターンと密着性が良いこと、導電性がないこと等からガラスファイバーなどが挙げられる。」（第３頁左上欄第１行〜右上欄第１３行）
(1d)第３の実施例について、第５図と共に、「前記した実施例と同様に、ベースガラスに形成される隔壁の形状は、幅１に対し高さが２の割合で形成される。例えば、幅が０．１ｍｍならば高さは０．２ｍｍとなる。この様な形状になるような溝４０ａが、第５図（ａ）に示すように、形成されており、かつ、この溝４０ａが同一ピッチで並んでいる型枠からなる治具４０を用い、、第５図（ｂ）に示すように、ペースト状にしておいた隔壁形成材料４１を、溝４０ａに塗りこみ、第５図（ｃ）に示すように、ベースガラス４３、Ｎｉパターン４４、ガラスパターン４５を有するベース部材４２に型枠４０ごと下方より押し付け、治具４０とベース部材４２とが完全に密着するようにする。この状態で焼成を行い、ペースト状の隔壁形成材料中の溶剤を蒸発させ硬化させる。この時の温度は約５８０℃、時間は約１時間である。次に、第５図（ｄ）に示すように、焼成後、型枠４０とベース部材４２とを分離する。
　上記した方法で隔壁形成を行うと従来の方法に対して数分の１の時間で済ますことができる。
　隔壁の材料は高温、高圧に耐え、下地のＮｉ、パターン、ガラスパターンと密着性が良いこと、絶縁性があることが必要であり、ガラス、セラミック等が好適である。また、治具と隔壁形成材料が接着してしまうことが考えられるため、治具の材料は隔壁形成材料が着かないもの、着いても容易に取れるものを用いる。」（第３頁左下欄第７行〜右下欄第１２行）
と記載されている。
　
(２)　甲第２号証（以下、「刊行物２」という。）
(2a)「前面板に障壁を設けたガス放電パネルにおいて、障壁の第１層目を感光性ペースト等を用いてフォトリソグラフィー技術により形成し、第２層目以降はその上にペーストを用いて厚膜技術により重ね刷りをして形成することを特徴とするガス放電パネルの製造法。」（特許請求の範囲）に関し、
(2b)実施例として、「第１図において、先ず、前面板１のガラス基板上に
、障壁材料である感光性ガラスペーストを塗布し、フォトリソグラフィー法により障壁３用の所定パターンのマスクを用いて、露光、現像を行うことにより、(ｂ)に示すように、第１層目の障壁１２のエッジ面１５を整形する。従って、エッヂの乱れ、波打ち、或いはだれのない障壁３を形成することができる。第２層目以降の障壁１３のエッヂ形状は外観上問題とならないので、厚膜印刷の重ね刷りにより障壁を形成し、パネルの低コスト化を図る。」（第２頁右上欄末行〜左下欄第１０行）
と記載されている。
　
(３)　甲第３号証（以下、「刊行物３」という。）
(3a)「（１）フレネルレンズ金型の全面に紫外線または電子線硬化性の第１の樹脂を塗布する第１の樹脂塗布工程と、前記フレネルレンズ金型の略中央部の前記第１の樹脂上に紫外線または電子線硬化性の第２の樹脂の樹脂溜りを形成する第２の樹脂塗布工程と、紫外線または電子線透過性の透明基板を前記第２の樹脂上に積層する基板積層工程と、前記透明板上に紫外線または電子線照射面を持つ定盤を積層する定盤積層工程と、前記定盤を加圧する加圧プレス工程と、前記定盤を介して前記各樹脂に紫外線または電子線を照射して硬化される樹脂硬化工程と、前記定盤の圧力を解圧して離型する解圧離型工程とから構成したフレネルレンズの製造方法。」（特許請求の範囲）
　
４　対比
　本件発明と刊行物１記載の発明とを対比する。
(１)　刊行物１に記載された「型枠からなる冶具４０」、「溝４０ａ」、「ペースト状の隔壁形成材料４１」、「ベース部材４２」及び「隔壁」は、それぞれ本件発明における「目的パターンの雌型である凹版」、「凹部」、「パターン形成材料」、「基板」及び「セル障壁」に相当するものである。
(２)　刊行物１の「この状態で焼成を行い、ペースト状の隔壁形成材料中の溶剤を蒸発させ硬化させる。この時の温度は約５８０℃、時間は約１時間である。次に、第５図（ｄ）に示すように、焼成後、型枠４０とベース部材４２とを分離する。」（摘記事項(1d)参照）の記載から明らかなように、刊行物１に記載された発明においても、隔壁形成材料４１（パターン形成材料）を硬化した後、硬化した隔壁形成材料をベース部材４０（基板）の表面に残すようにして型枠４０（凹版）を剥離するものである。
(３)　刊行物１には、「隔壁の材料は高温、高圧に耐え、下地のＮｉ、パターン、ガラスパターンと密着性が良いこと、絶縁性があることが必要であり、ガラス、セラミック等が好適である。」（摘記事項(1d)参照）と記載されており、刊行物１記載の発明において、ペースト状の隔壁形成材料としてガラスを用いた場合には、本件発明における「ガラスペーストを含むパターン形成材料」に相当する。
　
　上記の(１)ないし(３)からみて、両者は、
「目的パターンの雌型である凹版の凹部にガラスペーストを含むパターン形成材料を充填し、次いで、該パターン形成材料を挟むようにして凹版に基板を密着させ、パターン形成材料を硬化させた後、硬化したパターン形成材料を基板の表面に残すようにして凹版を基板より剥離して、セル障壁であるところの厚膜パターンを形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの厚膜パターン形成方法。」
で一致し、以下の点で相違しているといえる。
相違点：
　「ガラスペーストを含むパターン形成材料」が、本件発明では、「紫外線硬化性」であって、紫外線の照射により硬化させ、硬化したパターン形成材料を凹版から剥離した後に、焼成を行うものであるのに対して、刊行物１に記載された発明では、紫外線硬化性ではなく、焼成により硬化させるものであって、基板から剥離した後には焼成を行わない点。
　
５　相違点についての判断
　上記相違点について検討する。
(１)　刊行物１に記載された発明からの想到容易性について
　刊行物１には、パターン形成材料（隔壁形成材料）として、第１の実施例には「ガラスファイバー」（摘記事項(1c)参照）が、あるいは、第３の実施例のペースト状の隔壁形成材料として、「ガラス、セラミックス等」（摘記事項(1d)参照）が記載されているものの、紫外線硬化性ガラスペーストを用いることを示唆する記載は見あたらない。
　そして、刊行物１に記載された発明では、紫外線硬化性ではなく、単なるガラスペーストであるために、型枠４０（凹版）から剥離する前に、焼成により硬化させる必要があり、基板から剥離した後には焼成は行わないものである。
　したがって、刊行物１に記載された発明からでは、相違点に係る構成を導き出すことはできない。
　
(２)　刊行物２に記載された発明からの想到容易性について
　刊行物２記載の発明は、「先ず、前面板１のガラス基板上に、障壁材料である感光性ガラスペーストを塗布し、フォトリソグラフィー法により障壁３用の所定パターンのマスクを用いて、露光、現像を行うことにより、(ｂ)に示すように、第１層目の障壁１２のエッジ面１５を形成する。」（摘記事項(2b)）と記載されており、該記載の「感光性ガラスペースト」は、本件発明１における「紫外線硬化性ガラスペースト」に相当するものである。
　しかしながら、摘記事項(2a)、(2b)から明らかなように、刊行物２に記載された発明においては、障壁を形成する材料として紫外線硬化性ガラスペースト（感光性ガラス）が用いられるのは第１層目だけで、しかもフォトリソグラフィー法によるパターン形成材料であり、第２層目以降は、刊行物１や本件明細書において従来技術として記載されているところの厚膜印刷による重ね刷りにより障壁を形成するものである。そして、第２層目以降の厚膜印刷用のペーストについては、「感光性ガラスペースト」である旨の記載は見当たらない。
　よって、刊行物２には、セル障壁を構成する材料として、紫外線硬化性ガラスペーストが用いられているとすることはできない。
　しかも、刊行物２に記載された障壁形成方法は、刊行物１に記載された発明のような、凹部に隔壁形成材料を充填した凹版に基板を密着させた後、凹部の隔壁形成材料を焼成して硬化させ、続いて凹版から剥離するようにした（すなわち、転写による）隔壁形成方法とは、その技術的課題が明らかに相違するものである。
　したがって、刊行物１に記載された発明に、刊行物２に記載された発明を適用し、刊行物１に記載された発明における「隔壁形成材料」を、「紫外線硬化性ガラスペースト」とすることが、当業者にとって容易であるとすることはできない。
　
(３)　刊行物３に記載された発明からの想到容易性について
　刊行物３には、紫外線硬化性樹脂を用いたフルネルレンズの製造方に関し、「フレネルレンズ金型の全面に紫外線硬化性の第１の樹脂を塗布する第１の樹脂塗布工程と、前記フレネルレンズ金型の略中央部の前記第１の樹脂上に紫外線硬化性の第２の樹脂の樹脂溜りを形成する第２の樹脂塗布工程と、紫外線透過性の透明基板を前記第２の樹脂上に積層する基板積層工程と、前記透明板上に紫外線照射面を持つ定盤を積層する定盤積層工程と、前記定盤を加圧する加圧プレス工程と、前記定盤を介して前記各樹脂に紫外線を照射して硬化される樹脂硬化工程と、前記定盤の圧力を解圧して離型する解圧離型工程とから構成したフレネルレンズの製造方法」（摘記事項(3a)）が記載されている。
　該刊行物３に記載された「金型」、「紫外線硬化性樹脂」及び「透明基板」は、それぞれ刊行物１に記載された発明おける「冶具４０」、「隔壁形成材料４１」及び「ベース部材４２」に対応するものであって、刊行物３に記載された発明におけるフルネルレンズ形成方法は、「凹部にパターン形成材料を充填し、該パターン形成材料をベース部材に仮接着させたた後、凹部内で硬化させ、硬化したパターン形成材料を金型から離型して基板上に転写する」というパターン形成方法である点では、刊行物１に記載された発明と共通するものである。
　しかしながら、該刊行物３に記載された発明における紫外線硬化性樹脂は、ガラスペーストではなく、転写後に焼成を行うものでもないうえ、プラズマディスプレイのセル障壁の形成については、何ら示唆する記載すらない。
　すなわち、刊行物３記載の発明は、刊行物１記載の発明が属する「隔壁形成方法」という技術分野に属する発明ではないうえ、紫外線硬化性樹脂の記載があるのみで、ガラスペーストに関する記載が全くない。
　したがって、刊行物１に記載された発明に、刊行物３に記載された発明を適用し、刊行物１に記載された発明における「隔壁形成材料」を、「紫外線硬化性ガラスペースト」とすることが、当業者にとって容易であるとすることはできない。
　　
６　まとめ
　以上のとおり、上記相違点に係る構成については、刊行物１ないし３のいずれに記載された発明、及びこれらの記載の組合せからも、容易に導き出すことができないから、本件発明は、刊行物１ないし３に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではない。
　
第４　むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立人の主張する理由及び証拠方法によって、本件発明についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　したがって、本件発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものとは認められない。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１６年９月８日（２００４．９．８）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
プラズマディスプレイパネルの厚膜パターン形成方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　目的パターンの雌型である凹版の凹部に紫外線硬化性ガラスペーストを含むパターン形成材料を充填し、
次いで、該パターン形成材料を挟むようにして凹版に基板を密着させ、
た後、硬化したパターン形成材料を基板の表面に残すようにして凹版を基板より剥離し
表面に
が転写された基板に対し
を行
　【請求項
２
パターン形成材料として紫外線硬化性ガラスペーストを用い、
１
　【請求項
３
　【請求項
４
又は３
　【請求項
５
又は３
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明は、プラズマディスプレイパネルの製造工程における厚膜パターン形成方法に関するものである。
　【０００２】
　【従来の技術】
　従来、この種の厚膜パターン形成方法としては、ガラスやセラミック基板上に導体或いは絶縁体用のペーストをスクリーン印刷によりパターン状に印刷を行った後にこのペーストを乾燥、焼成する工程を繰り返して厚膜パターンを形成する方法が知られている。また、他の方法として、基板上の非パターン部にフォトレジストからなる焼却除去層を形成しておき、さらに基板上の全面にパターン形成層を施してから基板全体を焼成することにより厚膜パターンを得ることも行われている（特開昭６３−１１６８４６号公報参照）。
　【０００３】
　【発明が解決しようとする課題】
　前記従来のスクリーン印刷による方法においては、上述のように複数回のスクリーン印刷により重ね刷りをして所定の厚さにする方法が採られているが、この方法では例えば５０〜１００μｍの厚膜を得るために５〜１０回の重ね刷りを必要とし、その度ごとに乾燥工程が入ることとなり、その結果として極めて生産性が悪く、また、歩留りを低下させるという問題点があった。さらに、ペーストの粘度、チクソトロピー等によりパターンの線幅精度が損なわれるという問題点もあった。
　【０００４】
　また、基板上にフォトレジストからなる焼却除去層を設けておき、パターン形成層を施した後に全面焼成を行う方法では、現像にウェットプロセスが入ることから操作が煩雑になると共に、高価なフォトレジストを焼却するためにコスト高になるという問題点を有していた。
　【０００５】
　本発明は、このような従来技術の問題点を解消するために創案されたものであり、生産性を改善し歩留りを向上させるプラズマディスプレイパネルの厚膜パターン形成方法を提供することを目的としている。
　【０００６】
　【課題を解決するための手段】
　上記目的を達成するために、本発明に係るプラズマディスプレイパネルの厚膜パターン形成方法は、凹版転写法を利用している。すなわち、目的パターンの雌型である凹版の凹部に紫外線硬化性ガラスペーストを含むパターン形成材料を充填し、
次いで、該パターン形成材料を挟むようにして凹版に基板を密着させ、
た後、硬化したパターン形成材料を基板の表面に残すようにして凹版を基板より剥離し
表面に
が転写された基板に対し
を行
てい
　【０００７】
　【発明の実施の形態】
　そして、上記の方法では、凹版の凹部に充填されたパターン形成材料が基板側に転写される段階でパターン形成材料の凝集力及びパターン形成材料と基板との密着力が強いことが必要である。このため、凹版の凹部に充填するパターン形成材料として紫外線硬化性ガラスペーストを用い、基板を凹版に密着させる前に紫外線硬化性プライマーにより基板の表面を処理するようにした。或いは、パターン形成材料としてセラミック材料粉を分散させた懸濁液を用い、基板を凹版に密着させる前に凹版の表面に紫外線硬化性樹脂を塗布するようにした。
　【０００８】
　また、凹版の材料としては、熱可塑性樹脂或いは表面張力の小さい物質を使用することが好ましい。
　【０００９】
　上記構成からなるプラズマディスプレイパネルの厚膜パターン形成方法によれば、硬化したパターン形成材料が基板の表面に残るようにして凹版が剥離されることにより、目的パターンのパターン形成材料が基板の上に転写される。そして、このパターン形成材料が転写された基板を焼成することにより所望の厚膜パターンが形成される。
　【００１０】
　そして、パターン形成材料として紫外線硬化性ガラスペーストを用い、基板を凹版に密着させる前に紫外線硬化性プライマーにより基板の表面を処理するようにした場合にあっては、紫外線を照射することによりパターン形成材料が固まると共に、プライマーの作用によりパターン形成材料と基板との密着力が付与される。
　【００１１】
　また、パターン形成材料としてセラミック材料粉を分散させた懸濁液を用い、基板を凹版に密着させる前に凹版の表面に紫外線硬化性樹脂を塗布するようにした場合にあっては、塗布した紫外線硬化性樹脂がパターン形成材料に浸透する結果、紫外線を照射することによりパターン形成材料が固まると共に、紫外線硬化性樹脂の作用によりパターン形成材料と基板との密着力が付与される。
　【００１２】
　そして、凹版の材料として熱可塑性樹脂を使用した場合には、凹版を基板から剥離する前に熱処理を施すことにより凹版が軟化して容易に剥離される。また、凹版の材料として表面張力の小さい物質を使用した場合には、硬化したパターン形成材料との接着力が減少されて剥離が容易となる。
　【００１３】
　【実施例】
　上記の本発明について、以下に実施例を挙げてさらに具体的に説明する。
　【００１４】
〈実施例１〉
　図１（ａ）〜（ｅ）に示す工程図により説明する。
　【００１５】
　まず、図１（ａ）に示すように、目的パターンの雌型である凹版１を作成する。本実施例では、切削加工を施した銅板を元型として用い、熱可塑性樹脂であるダウコーニング（株）製シリコン含有ポリエチレン（マスターペレット　ＳＰ−３００）を凹版材料として用いて、１５０℃／８〜１０ｋｇ・ｃｍ−２／５〜１０ｍｉｎの条件でコンプレッション成型し、線幅１００μｍ、深さ１５０μｍ、ピッチ３００μｍのラインパターンを有する凹版１を得た。
　【００１６】
　続いて、図１（ｂ）に示すように、得られた凹版１に紫外線硬化性ガラスペースト２を充填した。具体的には、平板ゴムを凹版１に押し当てながらパターンを斜めに横切るように移動させ、紫外線硬化性ガラスペースト２を凹版１の凹部に押し込むと共に余分なペーストを掻き取るようにした。また、紫外線硬化性ガラスペースト２には市販の無溶剤型紫外線硬化性樹脂をバインダーとして結着剤、充填剤、着色顔料を練肉しペースト化したものを用いた。
　【００１７】
　次いで、ガラスペースト２が充填された凹版１に対し、図１（ｃ）に示すように、紫外線硬化性プライマー４で処理したガラス基板３を対向、密着させ、３〜５ｋｇ・ｃｍ−２の加圧下でガラス基板３側から紫外線を照射し、ガラスペースト２及びプライマー４を硬化させた。使用するプライマー４としては市販の紫外線硬化性樹脂の範囲で広く考えられるが、本実施例では東亜合成化学工業（株）製のウレタンアクリレート　Ｍ−１１００　を用いた。また、光開始剤としては市販の試薬の範囲で広く考えられるが、本実施例では１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（日本チバガイギー（株）製イルガキュア−１８４）を用いた。そして、前記ウレタンアクリレートに前記光開始剤を３ｗｔ％溶解させた樹脂分をメチルエチルケトンに５０ｗｔ％溶解させた溶液をプライマー液とし、これをアプリケーターにてガラス基板３上に約５μｍの厚みで塗布してプライマー処理を行った。ここで、前記の紫外線硬化性樹脂或いは光開始剤の選択は本発明を限定するものではないが、凹版１との密着時に凹版１内のガラスペースト２中に樹脂の拡散を防止するため室温における粘度が約１００００ｃｐｓ以上の高粘度の樹脂が好ましい。また、プライマー処理の厚みは適宜決定されるが、１０μｍ以上の厚さでは続く図１（ｅ）に示す焼成工程で障害となり、５μｍ以下の厚さでは十分な密着効果が得られなかった。なお、硬化条件は４０ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を光源とし、紫外線を１０００ｍＪ／ｃｍ２照射した。
　【００１８】
　次に、図１（ｄ）に示すように、凹版１を剥離し、ガラス基板３上にプライマー４を介してガラスペースト２でラインパターンを形成した。なお、剥離前に８０℃／５ｍｉｎ程度の熱処理を施すと凹版１が軟化するため剥離が容易になる。
　【００１９】
　最後に、図１（ｅ）に示すように、約６００℃で焼成を行い、線幅１００μｍ、高さ１５０μｍ、ピッチ３００μｍのセル障壁であるところの厚膜パターン５を得た。
　【００２０】
〈実施例２〉
　まず、図１（ａ）に示すように、目的パターンの雌型である凹版１を作成する。本実施例では、切削加工を施した銅板を元型として用い、表面張力の小さい物質である信越化学工業（株）製二液型ＲＴＶゴムＫＥ−１１２を凹版材料として用いて、元型上でＲＴＶゴムを硬化させ、線幅１００μｍ、深さ１５０μｍ、ピッチ３００μｍのラインパターンを有する凹版１を得た。
　【００２１】
　以下、実施例１と同様にして線幅１００μｍ、高さ１５０μｍ、ピッチ３００μｍのセル障壁であるところの厚膜パターン５を得た。
　【００２２】
〈実施例３〉
　図２（ａ）〜（ｆ）に示す工程図により説明する。
　【００２３】
　まず、図２（ａ）に示すように、目的パターンの雌型である凹版６を作成する。本実施例では、切削加工を施した銅板を元型として用い、ダウコーニング（株）製シリコン含有ポリエチレン（マスターペレットＳＰ−３００）を凹版材料として用いて、１５０℃／８〜１０ｋｇ・ｃｍ−２／５〜１０ｍｉｎの条件でコンプレッション成型し、線幅１００μｍ、深さ１５０μｍ、ピッチ３００μｍのラインパターンを有する凹版６を得た。
　【００２４】
　次いで、図２（ｂ）に示すように、得られた凹版６をセラミック材料粉、即ち結着剤、充填剤、着色顔料を分散した懸濁液７で被覆し、該懸濁液７中で前記各粉体が沈降することを利用して、凹版６の凹部に前記セラミック材料粉を充填した。本実施例では、懸濁液７として、日本電気硝子（株）製ＧＡ−８（結着剤）５０ｇ、昭和電工（株）製ＣＢＡ−０５Ｓ（充填剤）１０ｇ、大明化学工業（株）製ＴＭ−ＤＲ（充填剤）１０ｇ、大日精化工業（株）製ブラック＃９５９０（着色顔料）１０ｇに対し、界面活性剤として東芝シリコーン（株）製ＴＳＬ８８０２を０．４ｇ、分散媒としてイソプロピルアルコールを４０ｇを加え、直径約１ｍｍのガラスビーズ８０ｇの存在下で１２００ｒｐｍ／２ｈｒｓの条件でサンドミルを施したものを用いた。
　【００２５】
　しかる後、前記懸濁液７の膜を室温にて乾燥させ、図２（ｃ）に示すように、平板ゴム８を凹板６に押し当てながらパターンを斜めに横切るように移動させ、乾燥した前記懸濁液７の余分な部分を掻き取るようにした。
　【００２６】
　以上で得られた凹板６に対し、図２（ｄ）に示すように、紫外線硬化性樹脂９をバー１０によりバーコートし、前記セラミック材料充填部１１に凝集力を付与すると共に、続く図２（ｅ）に示したガラス基板１２との密着時の密着力を付与した。紫外線硬化性樹脂９は紫外線硬化性モノマー、オリゴマー及び光開始剤から構成され、それぞれ市販試薬の中から幅広く選択可能であるが、本実施例では、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（日本触媒化学工業（株）製２ＨＥＭＡ）に１−ヒドロキシシンクロヘキシルフェニルケトン（日本チバガイギー（株）製イルガキュア−１８４）を５ｗｔ％溶解させて紫外線硬化性樹脂９とした。ここで、前記紫外線硬化性樹脂９の選択は本発明を限定するものではなく、以下の条件が満たされるものであればどのようなものでもよい。
　【００２７】
　（１）前記セラミック材料充填部１１に浸透し易いこと。
　（２）硬化後の凝集力が高いこと。
　（３）ガラスとの密着性が良いこと。
　（４）焼成工程において完全にガス化すること。
　【００２８】
　なお、バーコート時のバー１０としては番定３番のミヤバーを用いた。
　【００２９】
　続いて、図２（ｅ）に示すように、凹版６をガラス基板と対向、密着させ、３〜５ｋｇ・ｃｍ−２の加圧下でガラス基板１２側から紫外線を照射し、前記セラミック材料充填部１１に浸透した紫外線硬化性樹脂９を硬化させた。なお、硬化条件は４０ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を光源とし、紫外線を１０００ｍＪ／ｃｍ２照射した。
　【００３０】
　最後に、図２（ｆ）に示すように、凹版６を剥離し、約６００℃で焼成を行って、線幅１００μｍ、高さ１５０μｍ、ピッチ３００μｍのセル障壁であるところの厚膜パターン１３を得た。
　【００３１】
〈実施例４〉
　まず、図２（ａ）に示すように、目的パターンの雄型である凹版６を作成する。本実施例では、切削加工を施した銅板を元型として用い、信越化学工業（株）製二液型ＲＴＶゴムＫＥ−１１２を凹版材料として用いて、元型上でＲＴＶゴムを硬化させ、線幅１００μｍ、深さ１５０μｍ、ピッチ３００μｍのラインパターンを有する凹版６を得た。
　【００３２】
　以下、実施例３と同様にして線幅１００μｍ、高さ１５０μｍ、ピッチ３００μｍのセル障壁であるところの厚膜パターン１３を得た。
　【００３３】
　【発明の効果】
　以上説明したように、本発明のプラズマディスプレイパネルの厚膜パターン形成方法は、一回の操作で高さ１００μｍ以上のパターンが得られることから、これまでのスクリーン印刷による積層等に比べ、処理時間が短縮されるとともに位置合わせ等の操作も一回でよいため、工程の簡略化を図ることができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明に係るプラズマディスプレイパネルの厚膜パターン形成方法の一実施例を示す工程図である。
　【図２】
　本発明に係るプラズマディスプレイパネルの厚膜パターン形成方法の他の実施例を示す工程図である。
　【符号の説明】
　１…凹版、２…紫外線硬化性ガラスペースト、３…ガラス基板、４…紫外線硬化性プライマー、５…厚膜パターン、６…凹版、７…懸濁液、８…平板ゴム、９…紫外線硬化性樹脂、１０…バー、１１…セラミック材料充填部、１２…ガラス基板、１３…厚膜パターン