【手続補正書】
【提出日】平成27年2月17日(2015.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の表面（２３１）と、前記第一の表面（２３１）とは反対側の第二の表面（２３２）とを備える第一の層（２３）を備える多層体（１０）であって、前記第一の層（２３）の前記第一の表面（２３１）が、x軸及びy軸の座標軸により広がる基準面を規定し、第一のエリア（３１）において、前記第一の層（２３）の前記第二の表面（２３２）に、多数のファセット面（５０）がモールドされ、前記ファセット面（５０）それぞれが、1μmより大きい最小寸法（６７）と、300μm未満の最大寸法（６８）とを有し、前記ファセット面（５０）それぞれが、パラメータ：前記ファセット面の形状F、前記ファセット面の面積サイズS、前記ファセット面の重心（６６）の前記基準面からの間隔H、x軸及びy軸により広がる座標系における前記ファセット面の重心（６６）の位置P、前記ファセット面の前記基準面に向かうx軸に関する傾斜角Ax、前記ファセット面の前記基準面に向かうy軸に関する傾斜角Ay、及び、前記基準面に垂直なz軸に関する前記ファセット面の回転角により規定される前記ファセット面のアジマス角Az、により設定され、前記第一のエリア（３１）に配置される前記ファセット面（５０）の前記パラメータF、S、H、P及びAzの一つ以上が、それぞれ前記第一のエリア（３１）に対する所定の変動範囲内で、擬似乱数的に変動し、反射性の第二の層（２４）が、前記ファセット面それぞれに適用され、前記多層体（１０）が、光学的に変化する第一の情報を生じ、前記第一の情報を生じるために、前記第一のエリア（３１）における前記ファセット面（５０）の前記傾斜角Ax及びAyが、関数F(x, y)に従って変動すること、
を特徴とする多層体。
【請求項２】
第一の表面（２３１）と、前記第一の表面（２３１）とは反対側の第二の表面（２３２）とを備える第一の層（２３）を備える多層体（１０）であって、前記第一の層（２３）の前記第一の表面（２３１）が、x軸及びy軸の座標軸により広がる基準面を規定し、第一のエリア（３１）において、前記第一の層（２３）の前記第二の表面（２３２）に、多数のファセット面（５０）がモールドされ、前記ファセット面（５０）それぞれが、1μmより大きい最小寸法（６７）と、300μm未満の最大寸法（６８）とを有し、前記ファセット面（５０）それぞれが、パラメータ：前記ファセット面の形状F、前記ファセット面の面積サイズS、前記ファセット面の重心（６６）の前記基準面からの間隔H、x軸及びy軸により広がる座標系における前記ファセット面の重心（６６）の位置P、前記ファセット面の前記基準面に向かうx軸に関する傾斜角Ax、前記ファセット面の前記基準面に向かうy軸に関する傾斜角Ay、及び、前記基準面に垂直なz軸に関する前記ファセット面の回転角により規定される前記ファセット面のアジマス角Az、により設定され、前記第一のエリア（３１）に配置される前記ファセット面（５０）の前記パラメータF、S、H、P、Ax、Ay、及びAzの一つ以上が、それぞれ前記第一のエリア（３１）に対する所定の変動範囲内で、擬似乱数的に変動し、反射性の第二の層（２４）が、前記ファセット面それぞれに適用され、
前記第一のエリア（３１）における前記ファセット面（５０）の前記傾斜角Ax及びAyが、それぞれ、関数F(x, y)により設定される前記傾斜角Ax及びAyと、前記傾斜角Ax及び／または前記傾斜角Ayの、表面の前記第一のエリアに対するそれぞれ所定の変動範囲内での擬似乱数的変動との、付加的な重畳に従って設定され、前記関数F(x, y)が、光学的に変化する第一の情報（７５）を生じるために、前記傾斜角Ax及びAyを変えるように選択されること、
を特徴とする多層体（１０）。
【請求項３】
前記傾斜角Ax及び／または前記傾斜角Ayの前記所定の変動範囲が、前記第一のエリア（３１）における前記関数F(x, y)の平均勾配よりも小さく選択され、特に、前記関数F(x, y)の平均勾配の0.1倍から1.9倍の間で選択されること、
を特徴とする請求項２に記載の多層体（１０）。
【請求項４】
前記関数F(x, y)が、一つ以上の自由エレメント（７０、７１、７２、７３）を備える三次元自由曲面（７４）を描写し、前記関数F(x, y)により設定される前記傾斜角Ax及び／または前記傾斜角Ayが、前記各ファセット面（５０）の前記重心において、前記三次元自由平面の各表面法線により設定されること、
を特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の多層体（１０）。
【請求項５】
前記関数F(x, y)が、自由エレメント（７４）として、三次元物体の表面の切断部を描写し、前記基準面上への投影に対する自由エレメントの最小寸法が、特に2mmより大きく、さらに好ましくは4mmより大きく、前記基準面上への投影に対する前記自由エレメントのz軸の方向における隣り合う最大値が、特に4mmより大きく、さらに好ましくは8mmより大きく、互いに離間し、
及び／または、
前記三次元自由曲面が、レンズ様の拡大効果、縮小効果、または歪み効果を生じる、英数字、幾何学的図形、または他の物体の形の、一つ以上の自由エレメントを含み、
及び／または、
前記自由エレメントそれぞれが、前記基準面において、2mmより大きく、特に2mmから50mmの間の最小表面範囲を有し、及び／または、前記基準面への各投影に対する前記自由エレメントの最大値が、4mmより大きく、好ましくは8mmより大きく、互いに離間し、
及び／または、
前記関数F(x, y)が、各自由エレメントのエリアにおいて、一定で微分可能であり、及び／または、前記関数F(x, y)が、各自由エレメントのエリアにおいて、直線状及び湾曲する表面エリアから成り、
及び／または、
前記関数F(x, y)が、自由エレメントのエリアにおいて、レンズまたは英数字、幾何学的図形、または、他の物体を表すために変形されたレンズの形の自由曲面を描写すること、
を特徴とする請求項４に記載の多層体（１０）。
【請求項６】
前記パラメータF、S、H、P、Ax、Ay、及びAzの一つ以上の各所定の変動範囲内での擬似乱数的変動に対して、パラメータ変動値が、パラメータ変動値の所定の選択肢から擬似乱数的に選択され、前記選択肢が、3から30の間、特に3から10の間のパラメータ変動値を含むこと、
を特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の多層体（１０）。
【請求項７】
前記第一のエリア（３１）における前記ファセット面（５０）の前記傾斜角Ax及び／またはAyが、-45°から+45°の変動範囲、さらに好ましくは-30°から+30°の変動範囲で、擬似乱数的に変動し、特に輝き効果を達成し、
及び／または、
前記第一のエリア（３１）における前記ファセット面（５０）の前記アジマス角Azが、-90°から+90°、さらに好ましくは-45°から+45°の変動範囲で、擬似乱数的に変動し、
及び／または、
前記第一のエリアにおける前記ファセット面の前記間隔Hが、擬似乱数的に変動し、最大間隔と最小間隔との間の差異により規定され、前記第一のエリア（３１）における前記ファセット面（５０）の間の前記間隔Hが乱数的に変動する、変動範囲が、0.5μmから8μmの間、さらに好ましくは0.5μmから2μmの間であること、
を特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の多層体（１０）。
【請求項８】
前記ファセット面（５０）が、x軸及びy軸により広がる二次元格子に従って配置されること、
を特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の多層体（１０）。
【請求項９】
X方向及び／またはy方向における前記各定位置からの前記擬似乱数的なシフトの変動範囲の限界値が、x軸またはy軸の方向における前記ファセット面の寸法の0%から100%の間、好ましくは0%から20%の間であり、
及び／または、
前記乱数的なシフトの前記変動範囲が、+D/2から-D/2であり、ここで、Dが、x軸またはy軸の方向における前記ファセット面の寸法であり、
及び／または、
x軸またはy軸の方向における前記格子の格子幅が、x軸またはy軸の方向における前記ファセット面の寸法の1.2倍から2倍の間であり、特に、x軸またはy軸の方向における前記ファセット面（５０）の寸法の1.5倍であること、
を特徴とする請求項８に記載の多層体（１０）。
【請求項１０】
一つ以上の前記ファセット面（５０）が、回折構造（４４）、0次回折構造（４５）、または極小文字（４６、４７）で覆われ、
及び／または、
前記第二の層（２４）が、一つ以上のスペーサー層（２４２）を有する薄膜層系を有し、その層厚が、前記薄膜層系が、特に可視波長範囲で、入射光の干渉により、観察角度に応じたカラーシフト効果を生じるように選択され、
及び／または、
前記第二の層が、指向性の液晶層を含み、
及び／または、
前記第二の層が、金属層（２４３）及び／またはHRI層を含むこと、
を特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の多層体（１０）。
【請求項１１】
前記多層体（１０）が、第二のエリア（３２）を有し、前記第二のエリア（３２）に配置される前記ファセット面（５０）それぞれの前記パラメータF、S、H、P、Ax、Ay及びAzが、前記第二のエリア（３２）に対する各所定の変動範囲内で、前記第二のエリア（３２）において、擬似乱数的に変動し、前記第一のエリア及び前記第二のエリア（３１、３２）において擬似乱数的に変動するパラメータが異なり、及び／または、前記変動パラメータの少なくとも一つの変動範囲が、前記第一のエリア及び前記第二のエリア（３１、３２）において異なって選択され、特に、前記第一のエリア（３１）における少なくとも一つの変動範囲が、前記第二のエリア（３２）におけるものと、少なくとも20%異なること、
を特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載の多層体（１０）。
【請求項１２】
前記ファセット面（５０）により覆われていない前記第一のエリア（３１）の部分的セクション（３１２）において、背景構造（４４）が前記第一の層（２３）の前記第二の表面（２３２）にモールドされ、前記背景構造（４４）が、特に、回折及び／または屈折レリーフ構造、特に、キネグラム（登録商標）を含むこと、
を特徴とする請求項１から１１のいずれか１項に記載の多層体（１０）。
【請求項１３】
前記第一のエリアの前記ファセット面（５０）により覆われる部分的セクション（３１１）の全表面と、前記第一のエリアの前記背景構造（４４）に覆われる部分的セクション（３１２）のエリアの全表面とに対する、前記多層体の前記ファセット面（５０）に覆われる部分的セクション（３１１）のエリアにより覆われる表面の比率が、前記多層体が前記基準面に垂直に観察される場合、70%未満、好ましくは50%未満、さらに好ましくは30%未満であり、
及び／または、
隣り合うファセット面（５０）の前記重心が、2μmから300μmの間、さらに好ましくは、5μmから100μmの間、互いに離間し、
及び／または、
前記ファセット面それぞれの外縁上の点と、それぞれ隣り合う前記ファセット面の外縁上の点との間の最小距離が、300μm未満、好ましくは100μm未満、さらに好ましくは0μmから100μmの間、さらに好ましくは1μmから50μmの間であること、
を特徴とする請求項１２に記載の多層体（１０）。
【請求項１４】
前記反射性の第二の層（２４）が、前記第一のエリア（３１）において、前記ファセット面（５０）のエリアにそれぞれ備えられ、前記ファセット面（５０）で覆われない第一の部分的セクション（３１２）には備えられず、
前記各第二の層（２４）が、特に前記第一のエリア（３１）において、前記ファセット面（５０）で覆われない第二の部分的セクション（３１３）に備えられ、
前記第一及び／または第二の部分的セクション（３１２、３１３）が、パターンで形成され、特に、前記第一の部分的セクション（３１２）が、パターンエリアを形成するとともに、前記第二の部分的セクション（３１３）が、前記第一の部分的セクション（３１２）に対する背景エリアを形成し、またはその逆であり、透過光で観察される場合に、前記多層体が、前気第一及び第二の部分的セクションの形状によって設定され、観察者に見える、情報を提供し、
前記第一の部分的セクションが、前記ファセット面で覆われる前記第一のエリアの前記部分的セクションに対する特に背景エリアを形成し、好ましくは多数のファセット面を囲むこと、
を特徴とする請求項１から１３のいずれか１項に記載の多層体（１０）。
【請求項１５】
多層体（１０）の製造プロセスであって、
第一の表面（２３１）と、前記第一の表面（２３１）とは反対側の第二の表面（２３２）とを備える第一の層（２３）であり、前記第一の層（２３）の前記第一の表面（２３１）が、x軸及びy軸の座標軸により広がる基準面を規定する第一の層を提供するステップと、
多数のファセット面（５０）を、特に型押しツールにより、前記第一の層（２３）の前記第二の表面（２３２）にモールドするステップであり、前記ファセット面（５０）それぞれが、3μmより大きい最小寸法（６７）と、300μm未満の最大寸法（６８）とを有し、前記ファセット面（５０）それぞれが、パラメータ：前記ファセット面の形状F、前記ファセット面の面積サイズS、前記ファセット面の重心（６６）の前記基準面からの間隔H、x軸及びy軸により広がる座標系における前記ファセット面の重心（６６）の位置P、前記ファセット面の前記基準面に向かうx軸に関する傾斜角Ax、前記ファセット面の前記基準面に向かうy軸に関する傾斜角Ay、及び、前記基準面に垂直なz軸に関する前記ファセット面の回転角により規定される前記ファセット面のアジマス角Az、により設定され、第一のエリアに配置される前記ファセット面（５０）の前記パラメータF、S、H、P、Ax、Ay、及びAzの一つ以上が、前記第一のエリア（３１）において、それぞれ前記第一のエリア（３１）に対する所定の変動範囲内で、擬似乱数的に変動する、ステップと、
反射性の第二の層（２４）を、多数の前記ファセット面に適用するステップと、
前記第一のエリア（３１）における前記ファセット面（５０）の前記傾斜角Ax及びAyを、関数F(x, y)により設定される前記傾斜角Ax及びAyと、前記傾斜角Ax及び／または前記傾斜角Ayの、前記第一のエリア（３１）に対するそれぞれ所定の変動範囲内での擬似乱数的変動との、付加的な重畳によって、設定するステップであり、前記関数F(x, y)が、光学的に変化する第一の情報（７５）を生じるために、前記傾斜角Ax及びAyを変えるように選択されるステップと、
を含むプロセス。
【請求項１６】
多層体（１０）の製造プロセスであって、
第一の表面（２３１）と、前記第一の表面（２３１）とは反対側の第二の表面（２３２）とを備える第一の層（２３）であり、前記第一の層（２３）の前記第一の表面（２３１）が、x軸及びy軸の座標軸により広がる基準面を規定する第一の層を提供するステップと、
多数のファセット面（５０）を、特に型押しツールにより、前記第一の層（２３）の前記第二の表面（２３２）にモールドするステップであり、前記ファセット面（５０）それぞれが、3μmより大きい最小寸法（６７）と、300μm未満の最大寸法（６８）とを有し、前記ファセット面（５０）それぞれが、パラメータ：前記ファセット面の形状F、前記ファセット面の面積サイズS、前記ファセット面の重心（６６）の前記基準面からの間隔H、x軸及びy軸により広がる座標系における前記ファセット面の重心（６６）の位置P、前記ファセット面の前記基準面に向かうx軸に関する傾斜角Ax、前記ファセット面の前記基準面に向かうy軸に関する傾斜角Ay、及び、前記基準面に垂直なz軸に関する前記ファセット面の回転角により規定される前記ファセット面のアジマス角Az、により設定され、第一のエリアに配置される前記ファセット面（５０）の前記パラメータF、S、H、P及びAzの一つ以上が、前記第一のエリア（３１）において、それぞれ前記第一のエリア（３１）に対する所定の変動範囲内で、擬似乱数的に変動する、ステップと、
反射性の第二の層（２４）を、多数の前記ファセット面に適用するステップと、
を含み、
前記多層体（１０）が、光学的に変化する第一の情報を生じ、前記第一の情報を生じるために、前記第一のエリア（３１）における前記ファセット面（５０）の前記傾斜角Ax及びAyが、関数F(x, y)に従って変動する、プロセス。
【請求項１７】
前記プロセスが、
前記第一のエリア（３１）における前記ファセット面（５０）それぞれの前記位置Pを、前記各ファセット面（５０）の前記重心（６６）の、x及び／またはy方向における各定位置（６５）からの、擬似乱数的なシフトにより設定するステップであり、x軸及びy軸により広がる二次元格子が、前記第一のエリア（３１）に配置される前記ファセット面（５０）それぞれに対して、前記基準面における前記各ファセット面（５０）の前記重心（６６）の前記定位置（６５）を規定するステップを含むこと、
を特徴とする請求項１５または１６に記載のプロセス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８５】
図２ａ及び図２ｂに示すように、座標軸ｘ及びｙに従って広がる基準面は、層２３の上部表面と、さらにこの基準面に垂直なz軸とにより、規定される。従って、図２ａ及び図２ｂは、層２３により規定される三次元座標系を、対応する空間方向６１、６２、及び６３を規定するx軸、y軸、及びz軸と共に、例として説明している。ここで、レリ−フ構造が、層２３の上部にある表面に形成されてもよく、従って、層２３の上部表面は、完全に平らでなくてもよい。この場合、基準面は、層２３の上部表面の平らなエリアにより設定される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１７】
しかしながら、反射金属層、例えばAl、またはHRI層（HRI＝高屈折率）、例えばZnSまたはTiO2を、層２４として適用してもよい。さらに、反射層２４は、層２３の全ての表面２３２の表面全体に亘って適用されず、部分的に、及び／またはパターンで、表面２３２に適用されてもよい。従って、例えば、層２４を、エリア３１から３５のみに適用し、周囲エリア３０には適用しなくてもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２５】
キャリア基板１１へのセキュリティエレメント１０の適用に対して、図３ｂにより、転写フィルムがキャリア基板１１に適用され、接着層２５が例えば熱及び圧力により活性化され、続いてキャリアフィルム２０が除去され、その結果、図２ｂに示す層構造を備える多層体が、キャリア基板１１上に残る。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２８】
従って、図２ｇに示すように、エリア３１は、ファセット面により覆われる表面によりそれぞれ形成され、反射層、好ましくは金属反射層により覆われる、多数の部分的セクション３１１を有する。さらに、部分的セクション３１１に対する背景エリアは、第一の部分的セクション３１３と、第二の部分的セクション３１２とに分割される。第一の部分的セクション３１３は、同様に、反射層により覆われ、特に、金属反射層により覆われる。第二の部分的セクション３１２は、反射層には覆われず、好ましくは脱金属化される。従って、“50”のエリアでは、部分的セクション３１１は、部分的セクション３１２により囲まれ、“50”の外側では、部分的セクション３１３により囲まれる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３３】
図４は、エリア３１における、上面２３１と、下面２３２に成形された多数のファセット面５０とを備える、層２３のモデルを示している。関連する空間方向６１、６２及び６３を規定する座標軸x、y及びzを備える座標系が、層２３の上面２３１により設定される。図４に示すように、ファセット面５０は、座標系のx軸及びy軸により広がる、規則正しい二次元格子に従って配置される。この格子は、ファセット面５０の各重心６６に対して、x軸及びy軸により広がる基準面における定位置６５を規定する。ここで、方向６１及び方向６２における格子の格子幅は、一定に選択されることが好ましい。さらに、格子の格子幅は、方向６１及び方向６２において、同じであることが好ましい。ファセット面のパラメータF、S、H、P、Ax、Ay及びAzを設定する関数は、図４において、それぞれ一定である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３８】
同様のことが、x軸及びy軸により設定される基準面からのファセット面５０の重心６６の間隔６４にも当てはまる。これは、所与の光学情報を生じるための所定の関数により、事前に規定されてもよく、擬似乱数的に変化してもよく、または、パラメータの擬似乱数的変動による、所定の関数に従って提供される値のさらなるシフトにより、設定されてもよい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４０】
図５ａから５ｄは、それぞれ重心６６のファセット面５０の空間配置を示している。図５ｂの図において、ファセット面５０は、図５ａに示す開始位置から、基準面に垂直なｚ軸に関して回転し、従って、ファセット面５０のアジマス角Azは変動している。図５ｃの図において、ファセット面５０は、図５ａに示す開始位置と比べて、ｙ軸に関して傾斜し、従って、ファセット面の基準面に向かうy軸に関する傾斜角Ayは、変動している。図５ｄの図において、ファセット面５０は、図５ａの開始位置と比べて、x軸とy軸の双方に関して傾斜し、従って、ファセット面の基準面に向かうx軸に関する傾斜角Ax、及び、ファセット面の基準面に向かうy軸に関する傾斜角Ayの双方が、変動している。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４９】
まず、ファセット面５０の位置Pが確定され、すなわち、ファセット面の重心のx、y位置が設定される。続いて、この点x、yでの所定の関数の局所的法線が確定され、この点におけるファセット面５０の法線として設定され、従って、ファセット面の傾斜角Ax及びAyが設定される。続いて、この点x、yにおける関数の勾配が、ファセット面の配向、従って、この点x、yにおけるファセット面のアジマス角Azを設定するために用いられる。残るパラメータは、関数により、一定値に設定されることが好ましい。既に上述したように、グレースケールイメージを生じるためにパラメータSが変動することも、ここでは有利である。続いて、こうして設定されたこれらのファセット面５０のパラメータは、既に上述したように、ファセット面の一つ以上のパラメータの擬似乱数的変動と、足し算的に重畳される。従って、例えば、位置Pが、図７ｃに示すように、擬似乱数的に変動し、傾斜角Ax及びAyが、図７ｂに示すように、擬似乱数的に変動する。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５０】
従って、例えば、所定の光学情報、特に所定の光学可変情報を含む関数F(x, y)が、まず、事前に規定される。関数F(x, y)が一定であり、法線ベクトルが常にｚ軸に平行である、図４に従うx軸及びy軸によって広がる格子における各定位置に対して、各定位置に割り当てられたファセット面の少なくとも傾斜角Ax及びAyが、上述したように、エリア３１において計算される。傾斜角Ax及びAyに加えて、任意で、アジマス各Az、基準面からの重心の間隔H、及び、各ファセット面の面積サイズS、及び、また任意でファセット面の形状Fが、関数F(x, y)によりそれぞれ設定されてもよい。従って、間隔Hは、例えば、基準表面からの各点の間隔から設定可能であり（任意でモジュロ関数とのさらなる組み合わせも伴う）、面積サイズSは、各点に割り当てられる輝度値により設定可能である。続いて、各ファセット面の位置が、上述したように任意で擬似乱数的に変動され、続いて対応する計算が、次のファセット面５０に対して実施される。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６５】
上述した実施形態は、80%から50%の間の、エリア３１の全面積に対する、ファセット面に覆われるエリア３１の面積の比率である、充填係数を有する。従って、所与の観察エリアにおいて、光学可変インプレッションは、ファセット面に覆われないエリア３１のエリアにより形成される光学インプレッションと重畳される。ファセット面の高いオーバーレイ密度に達するために、ファセット面の配置を生じる際に、マスター構造に補正ステップを取り入れる必要がある。例えば、ファセット面の最初の配置の実施後、アルゴリズムが、ファセット面を有さないもののファセット面を保持するのに十分大きい、ランダムに形成された表面を探索する、探索ステップを提供してもよい。このアルゴリズムは、これらの表面に、さらなるファセット面を配置、特に適合することができる。