【手続補正書】
【提出日】平成27年9月1日(2015.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィシステムにおいてウェーハテーブルを支持するための支持構造体（１）であって、前記リソグラフィシステムにおいて移動可能に適用され、
基準面（４０；５０）を有するベース（２０）と、
前記ベース（２０）よりも低い熱膨張率を有する材料ででき、前記ベースの上部に配置され、支持構造体（１）に前記ウェーハテーブルを位置決めするように適用されるインターフェース部材（３０）と、
前記ベース（２０）上に前記インターフェース部材（３０）を支持する可撓支持体（２１，２２，２３）とを具備し、前記可撓支持体は、移動平面内で前記ベースに対する前記インターフェース部材の移動を与える、支持構造体において、
前記インターフェース部材（３０）は、少なくとも１つの支柱（６０，６１；６６，６７）によって前記基準面（４０；５０）に接続され、
前記少なくとも１つの支柱は、前記ベースよりも低い熱膨張率を有する材料ででき、
前記少なくとも１つの支柱は、前記移動平面に平行な方向に沿って堅く、
前記少なくとも１つの支柱は、前記ベースが、熱膨張により、前記インターフェース部材とは異なるようにして変形したとき、前記基準面と前記インターフェース部材との間の距離がほぼ一定のままであることを確実にすることを特徴とする、支持構造体（１）。
【請求項２】
前記基準面は、前記ベースの縁部に配置された、鏡の反射面を有する請求項１の支持構造体。
【請求項３】
前記基準面は、第１の基準面であり、前記少なくとも１つの支柱は、少なくとも１つの第１の支柱を有し、前記ベースは、さらに、前記第１の基準面に垂直な第２の基準面を有し、前記インターフェース部材は、前記ベースよりも低い熱膨張率を有する低熱膨張率の材料でできた少なくとも１つの第２の支柱によって前記第２の基準面に接続されている請求項１又は２の支持構造体。
【請求項４】
前記可撓支持体は、前記移動平面に垂直な方向で前記ベースに対する前記インターフェース部材の移動を制限するように適用される請求項１ないし３のいずれか１の支持構造体。
【請求項５】
前記移動平面は、前記ウェーハテーブルのウェーハ支持平面に平行であるか、前記基準面に垂直であるかの少なくとも一方である請求項１ないし４のいずれか１の支持構造体。
【請求項６】
前記少なくとも１つの支柱は、前記支柱の長手方向で堅い請求項１ないし５のいずれか１の支持構造体。
【請求項７】
前記少なくとも１つの支柱は、前記長手方向に垂直な方向で可撓性を有する請求項６の支持構造体。
【請求項８】
前記少なくとも１つの支柱は、前記ベースに少なくとも平行な平面で曲がるように可撓性を有する請求項６又は７の支持構造体。
【請求項９】
前記少なくとも１つの支柱は、少なくとも前記インターフェース部材から少なくとも前記基準面まで延びている請求項１ないし８のいずれか１の支持構造体。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの支柱の第１の端部は、前記基準面に固定され、前記第１の端部の反対側の第２の端部は、前記インターフェース部材に固定されている請求項９の支持構造体。
【請求項１１】
前記少なくとも１つの支柱は、前記基準面に垂直に長手方向に延びている請求項１ないし１０のいずれか１の支持構造体。
【請求項１２】
前記インターフェース部材は、前記ベースから間隔を空けられている請求項１ないし１１のいずれか１の支持構造体。
【請求項１３】
前記可撓支持体は、前記ベースと前記インターフェース部材との間に配置されている請求項１ないし１２のいずれか１の支持構造体。
【請求項１４】
前記可撓支持体は、複数の可撓ピンを有し、前記ピンは、一方の側で前記インターフェース部材に接続され、他方の側で前記ベースに接続されている請求項１３の支持構造体。
【請求項１５】
前記可撓支持体は、少なくとも前記移動平面に垂直な方向で、前記ベースの熱膨張率に等しい熱膨張率を有する請求項１３の支持構造体。
【請求項１６】
前記インターフェース部材は、互いに間隔を空けられ、支持構造体に前記ウェーハテーブルを位置決めするように適用される２以上の位置決め部材を有する請求項１ないし１５のいずれか１の支持構造体。
【請求項１７】
前記位置決め部材は、前記ウェーハテーブルに対するキネマティックマウントを少なくとも形成している請求項１６の支持構造体。
【請求項１８】
前記インターフェース部材は、前記２以上の位置決め部材が設けられたモノリシックインターフェースプレートを有する請求項１６又は１７の支持構造体。
【請求項１９】
前記インターフェース部材は、前記ベースよりも低い熱膨張率を有する低熱膨張材料で、できている請求項１８の支持構造体。
【請求項２０】
前記インターフェース部材は、前記２以上の位置決め部材が固定して堅く接続されるフレームを有する請求項１６、１７又は１９のいずれか１の支持構造体。
【請求項２１】
前記フレームは、中空のフレームである請求項２０の支持構造体。
【請求項２２】
前記ベースは、前記インターフェース部材の熱伝導率よりも高い熱伝導率を有する材料を有する請求項１ないし２１のいずれか１の支持構造体。
【請求項２３】
前記材料は、金属である請求項２２の支持構造体。
【請求項２４】
前記基準面は、前記移動平面に垂直であるか、前記インターフェース部材に面している前記ベースの側に垂直であるかの少なくとも一方である平坦な表面である請求項１ないし２３のいずれか１の支持構造体。
【請求項２５】
請求項１ないし２４のいずれか１の支持構造体を具備するリソグラフィシステム。
【請求項２６】
前記投影システムは、さらに、
１以上のビームを発生させるためのビーム源と、
前記ターゲット上に前記１以上のビームを合焦させるための投影光学系と、
前記支持構造体に配置され、リソグラフィシステムで処理されるターゲットを支持するように適用されるウェーハテーブルと、
前記投影光学系に対する前記支持構造体の移動をさせるためのアクチュエータと、
前記投影光学系に対する前記支持構造体の前記基準面の位置又は移動を決定するように適用される測定システムと、
前記決定された位置又は移動に基づいて前記アクチュエータを制御するための制御装置とを具備する請求項２５のリソグラフィシステム。
【請求項２７】
前記支持構造体が前記投影光学に対して移動されているとき、前記１以上のビームを用いて前記ターゲットをパターニングするように適用される請求項２５又は２６のリソグラフィシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
好ましい実施の形態の動作を例証するために上の記載がなされており、本発明の範囲を限定することを意図していないことが理解される。上の説明から、当業者にとって、本発明の意図及び範囲に包含される多くの変形例があることが自明である。
以下に、出願当初の特許請求の範囲に記載の事項をそのまま付記しておく。
［１］
リソグラフィシステムにおいてウェーハテーブルを支持するための支持構造体（１）であって、
基準面（４０；５０）を有するベース（２０）と、
前記ベース（２０）よりも低い熱膨張率を有する材料ででき、前記ベースの上部に配置され、支持構造体（１）に前記ウェーハテーブルを位置決めするように適用されるインターフェース部材（３０）と、
前記ベース（２０）上に前記インターフェース部材（３０）を支持する可撓支持体（２１，２２，２３）とを具備し、前記可撓支持体は、実質的に移動平面内で前記ベースに対する前記インターフェース部材の移動を与える、支持構造体において、
前記インターフェース部材（３０）は、少なくとも１つの支柱（６０，６１；６６，６７）によって前記基準面（４０；５０）に接続され、
前記少なくとも１つの支柱は、前記ベースよりも低い熱膨張率を有する材料ででき、
前記少なくとも１つの支柱は、前記移動平面に平行な方向に沿って実質的に堅いことを特徴とする支持構造体（１）。
［２］
前記基準面は、好ましくは前記ベースの縁部に配置された、鏡の反射面を有する請求項１の支持構造体。
［３］
前記基準面は、第１の基準面であり、前記少なくとも１つの支柱は、少なくとも１つの第１の支柱を有し、前記ベースは、さらに、前記第１の基準面にほぼ垂直な第２の基準面を有し、前記インターフェース部材は、低熱膨張率の材料でできた少なくとも１つの第２の支柱によって前記第２の基準面に接続されている請求項１又は２の支持構造体。
［４］
前記可撓支持体は、前記移動平面に垂直な方向で前記ベースに対する前記インターフェース部材の移動を実質的に制限するように適用される請求項１ないし３のいずれか１の支持構造体。
［５］
前記移動平面は、前記ウェーハテーブルのウェーハ支持平面にほぼ平行であるか、前記基準面にほぼ垂直であるかの少なくとも一方である請求項１ないし４のいずれか１の支持構造体。
［６］
前記少なくとも１つの支柱は、前記支柱の長手方向で少なくとも実質的に堅い請求項１ないし５のいずれか１の支持構造体。
［７］
前記少なくとも１つの支柱は、前記長手方向に少なくともほぼ垂直な方向で可撓性を有する請求項６の支持構造体。
［８］
前記少なくとも１つの支柱は、前記ベースにほぼ平行な平面で曲がるように可撓性を有する請求項６又は７の支持構造体。
［９］
前記少なくとも１つの支柱は、少なくとも前記インターフェース部材から少なくとも前記基準面まで延びている請求項１ないし８のいずれか１の支持構造体。
［１０］
前記少なくとも１つの支柱の第１の端部は、前記基準面に固定され、前記第１の端部の反対側の第２の端部は、前記インターフェース部材に固定されている請求項９の支持構造体。
［１１］
前記少なくとも１つの支柱は、前記基準面にほぼ垂直に長手方向に延びている請求項１ないし１０のいずれか１の支持構造体。
［１２］
前記インターフェース部材は、前記ベースから間隔を空けられている請求項１ないし１１のいずれか１の支持構造体。
［１３］
前記可撓支持体は、前記ベースと前記インターフェース部材との間に配置されている請求項１ないし１２のいずれか１の支持構造体。
［１４］
前記可撓支持体は、複数の可撓ピンを有し、前記ピンは、一方の側で前記インターフェース部材に接続され、他方の側で前記ベースに接続されている請求項１３の支持構造体。
［１５］
前記可撓支持体は、少なくとも前記移動平面に垂直な方向で、前記ベースの熱膨張率にほぼ等しい熱膨張率を有する請求項１３の支持構造体。
［１６］
前記インターフェース部材は、互いに間隔を空けられ、支持構造体に前記ウェーハテーブルを位置決めするように適用される２以上の位置決め部材を有する請求項１ないし１５のいずれか１の支持構造体。
［１７］
前記位置決め部材は、前記ウェーハテーブルに対するキネマティックマウントを少なくとも実質的に形成している請求項１６の支持構造体。
［１８］
前記インターフェース部材は、前記２以上の位置決め部材が設けられたモノリシックインターフェースプレートを有する請求項１６又は１７の支持構造体。
［１９］
前記インターフェース部材は、低熱膨張材料で、好ましくはゼロデュア（商標）でできている請求項１８の支持構造体。
［２０］
前記インターフェース部材は、前記２以上の位置決め部材が固定して堅く接続されるフレームを有する請求項１６、１７又は１９のいずれか１の支持構造体。
［２１］
前記フレームは、ほぼ中空のフレームである請求項２０の支持構造体。
［２２］
前記ベースは、高い熱伝導率を有する材料を実質的に有する請求項１ないし２１のいずれか１の支持構造体。
［２３］
前記材料は、アルミニウムのような金属である請求項２２の支持構造体。
［２４］
前記基準面は、前記移動平面に垂直であるか、前記インターフェース部材に面している前記ベースの側に垂直であるかの少なくとも一方である実質的に平坦な表面である請求項１ないし２３のいずれか１の支持構造体。
［２５］
請求項１ないし２４のいずれか１の支持構造体を具備するリソグラフィシステム。
［２６］
前記投影システムは、さらに、
１以上のビームを発生させるためのビーム源と、
前記ターゲット上に前記１以上のビームを合焦させるための投影光学系と、
前記支持構造体に配置され、リソグラフィシステムで処理されるターゲットを支持するように適用されるウェーハテーブルと、
前記投影光学系に対する前記支持構造体の移動をさせるためのアクチュエータと、
前記投影光学系に対する前記支持構造体の前記基準面の位置又は移動を決定するように適用される測定システムと、
前記決定された位置又は移動に基づいて前記アクチュエータを制御するための制御装置とを具備する請求項２５のリソグラフィシステム。
［２７］
好ましくは前記支持構造体が前記投影光学に対して移動されているとき、前記１以上のビームを用いて前記ターゲットをパターニングするように適用される請求項２５又は２６のリソグラフィシステム。
［２８］
リソグラフィシステムにおいてウェーハテーブルを支持するための支持構造体であって、
基準面を有するベースと、
低熱膨張材料ででき、前記ベースの上部に配置され、支持構造体に前記ウェーハテーブルを位置決めするように適用されるインターフェース部材とを具備し、
前記インターフェース部材は、少なくとも１つの支柱によって前記基準面に接続され、前記少なくとも１つの支柱は、低熱膨張材料でできている支持構造体。