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【事件の表示】
　平成　２年特許願第２１８９０４号「磁気ヘッド」拒絶査定に対する審判事件〔平成　４年　４月　６日出願公開、特開平　４−１０３０１４、請求項の数（５）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
１　経緯
　特許出願　　　　　　　　　　　　　　平成２年８月２２日
　補正書・審査請求　　　　　　　　　　平成９年８月２０日
　補正却下　　　　　　　　　　　　　　平成１１年５月１３日
　拒絶理由通知　　　　　　　　　　　　平成１１年１１月５日
　補正書・意見書　　　　　　　　　　　平成１２年１月３１日
　拒絶査定　　　　　　　　　　　　　　平成１２年３月２７日
　審判請求　　　　　　　　　　　　　　平成１２年５月８日
　補正書　　　　　　　　　　　　　　　平成１２年６月５日
　前置報告　　　　　　　　　　　　　　平成１３年１月１５日
　拒絶理由通知　　　　　　　　　　　　平成１３年６月１２日
　補正書　　　　　　　　　　　　　　　平成１３年７月１３日
　
２　本願発明
　本願の請求項に係る発明は、補正された明細書及び図面の記載から見て、特許請求の範囲の請求項に記載された事項により特定されるとおりの次のものであると認める。
「【請求項１】
　第１の非磁性金属層と、該第１の非磁性金属層上に形成された磁気抵抗効果膜と、該磁気抵抗効果膜上に形成された第２の非磁性金属層とを備えた磁気ヘッドにおいて、前記磁気抵抗効果膜が第１の磁性層と、該第１の磁性層上に形成された絶縁材料からなる中間層と、該中間層上に形成された第２の磁性層と、該第２の磁性層上に形成された反強磁性層とを有し、前記中間層を通って前記第１の磁性層及び第２の磁性層間にトンネル電流が流れ、外部磁界が印加されると上記第１の磁性層の磁化方向は変化することを特徴とする磁気ヘッド。
　【請求項２】
　前記中間層を通って前記第１の磁性層及び第２の磁性層間にトンネル電流が流れるとき、前記第１の磁性層及び第２の磁性層の磁化の向きが平行の時より前記第１の磁性層及び第２の磁性層の磁化の向きが反平行の時の方が、前記磁気抵抗効果膜の電気抵抗率が高いことを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。
　【請求項３】
　前記反強磁性層は前記第２の磁性層へバイアス磁界を印加することを特徴とする請求項１または２記載の磁気ヘッド。
　【請求項４】
　トラック幅方向における前記磁気抵抗効果膜を構成する磁性層の幅は前記第１の非磁性金属層及び第２の非磁性金属層の幅より小さいことを特徴とする請求項１乃至３記載の磁気ヘッド。
　【請求項５】
　前記中間層は酸化アルミニウムを含む絶縁材料からなることを特徴とする請求項１乃至４記載の磁気ヘッド。」
　
３　拒絶の理由
　拒絶査定の理由は、本発明は、引用例１（　Proceedings　of　the　International　Symposium　on　Physics　of　Magnetic　Materials（1987）p．303〜306「Effect　of　spin−dependent　tunneling　on　the　magnetic　properties　of　multilayered　ferromagnetic　thin　films」）、引用例２（　特開平２−６１５７３号公報）、引用例３（　特開昭５８−４９３１号公報）記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるというものである。
　
４　引用例記載の発明
　引用例１には、　Ｎｉ／ＮｉＯ／Ｃｏ接合、Ａｌ／Ａｌ２Ｏ３／Ｎｉ、Ｃｏ−Ａｌ／Ａｌ２Ｏ３／Ｎｉなどの強磁性トンネル効果を示す多層膜  （第１の磁性層／中間層／第２の磁性層からなり、第１及び第２の磁性層間に電流を流すトンネル効果膜）が記載されている。
　そして、第１及び第２の磁性層をそれぞれ電極層として兼用している。
　引用例２には、ＭＲの両端から電極を設けることは示されているが、電極は、ＭＲ層の上下面にあるのではない。
　引用例３には、ジョセフソン素子において、上下面に電極を設けることが示されている。
　
５　本願発明と引用例との対比
　引用例１は、トンネル電流による磁気抵抗の原理を示すものであり、第１の非磁性金属層と、該第１の非磁性金属層上に形成された磁気抵抗効果膜と、該磁気抵抗効果膜上に形成された第２の非磁性金属層とを備えた磁気ヘッドを示していない。そして、引用例１では、第１及び第２の磁性層をそれぞれ電極層として兼用しているから、電極を別に設けるとしても、どのように設けるかの示唆はない。そして、引用例２の電極位置は、本願発明と異なるし、引用例３のジョセフソン素子の電極構造を適応すべき必然性はない。してみると、請求項１に係る発明は、引用例１〜３記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
　
６　まとめ
　本願については、原査定の拒絶理由を検討してもその理由によって拒絶すべきものとすることはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。
【事件の表示】
　平成　２年特許願第１３３８３３号「半導体集積回路装置の製造方法」拒絶査定に対する審判事件〔平成　４年　１月３１日出願公開、特開平　４−　２９３５４、請求項の数（１）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
１．手続きの経緯・本願発明
　本願は、平成２年５月２５日の出願であり、その請求項１に係る発明は、平成９年５月２３日付手続補正書及び平成１１年７月９日付手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、
「半導体基板主面の能動素子が形成されるべき領域を囲むように該半導体基板の主面に第１の溝を形成する工程と、
　該第１の溝の底面に第１の溝より幅の狭い第２の溝を形成する工程と、
　該半導体基板の主面上にＣＶＤ法により絶縁物を上記第１の溝の深さと略同程度の厚さに堆積して該第１及び第２の溝に絶縁膜を形成する工程と
　該絶縁膜を上記半導体基板の主面が露出するまでエッチバックする工程とを含み、
　上記第２の溝は０．５μｍ以下の溝幅に形成され、かつ、エッチバックされた上記絶縁膜の表面は略平坦であり、かつ、該表面には上記ＣＶＤ法により生じる絶縁膜同士の接合界面が露出しないことを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法」（以下、本願発明という）
にあるものと認める。
２．引用例
　これに対して、原審における拒絶の理由に引用された刊行物、特開昭５９−１２４１４１号公報（以下引用例１という）には、
「ＲＩＥ法によりエッチングして幅広の第１の溝部１０６・・・を形成した後、・・・・ＣＶＤ−ＳｉＯ２膜１０８を堆積した・・・ＲＩＥ法によりＣＶＤ−ＳｉＯ２膜１０８をその膜厚程度エッチングして第１の溝部１０６の内側面のみにＣＶＤ−ＳｉＯ２膜（マスク材）１０９を残存させる」（第６頁右上欄第１５行ないし左下欄第２行）
「ＣＶＤ−ＳｉＯ２１０９が残存させた第１の溝部１０６底面から露出したシリコン層１０３部分をＲＩＥ法によりその下のｎ＋型シリコン層１２４、基板１０１表面部まで除去されるようにエッチングして階段状の深い溝部１２５を形成した。」（第６頁左下欄第５行ないし第１０行）
「次いで、ＣＶＤ−ＳｉＯ２１０９、１１０を除去した後、・・・幅広の溝部１２５の幅の１／２以上の膜厚でＣＶＤ−ＳｉＯ２膜・・を堆積した後、Ｓｉ３Ｎ４膜が露出するまでＲＩＥ法によりエッチバックして溝部１２５・・・をＣＶＤ−ＳｉＯ２（分離材）１１３、１１３’で夫々充填した。」（第６頁左下欄第１７行ないし右下欄第３行）が、第４図と共に記載されている。
　同じく、引用された特開昭６４−５０５４０号公報（以下、引用例２という。）には、微細素子分離方法に関し、
「溝内酸化によって側壁の基板−酸化膜界面が後退するので仕上がりの溝幅は約０．３５μｍとなり、初期のパターン幅である０．５μｍより０．１５μｍ小さくできる。」（第３頁右下欄第５行ないし第８行）が、第１図と共に記載されている。
３．当審の判断
　本願発明と引用例１、２に記載された発明とを対比すると、引用例１及び引用例２には、本願発明の「エッチバックされた上記絶縁膜の表面は略平坦であり、かつ、該表面には上記ＣＶＤ法により生じる絶縁膜同士の接合界面が露出しない」点が備わっていない。また、両引用例には、絶縁膜同士の接合界面が露出させないようにして、オーバーエッチされる不良を防止する点を示唆する記載が何もなく、引用例１及び２に記載の発明の組み合わせから本願発明をなすことが容易に成し得たとも認められない。
　そして、本願発明は、上記構成を有することにより、薄いＣＶＤ絶縁膜にて平坦化が行われるという格別の効果を有するものである。
 ４．むすび
　したがって、本願発明は、その出願前に国内において頒布された上記の引用例１、２に記載された発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術分野における通常の知識を有するものが、容易に発明をすることができたものではない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。
【事件の表示】
　平成１１年特許願第２１７６０４号「遊技機」において、平成１１年８月３０日付けでした手続補正に対してされた補正の却下の決定に対する審判事件について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原決定を取り消す。
【理　由】
　この出願は、平成４年７月３１日に出願された特願平４−２０５６０３号の一部が特許法第４４条第１項の規定により平成１１年７月３０日に新たな特許出願に分割されたものであって、その明細書は、平成１１年８月３０日付けの手続補正によって補正されたが、この手続補正は、平成１２年１１月１０日付けで決定をもって却下された。
　原決定の理由は、
「補正された請求項１の「前記複数の可変表示部の表示結果内容を事前に決定し、その決定内容がリーチ状態が成立するのも（「もの」の誤記と認められる。）であった場合に、前記可変表示装置の表示状態を通常とは異なった態様で表示するリーチ時制御を行なうことが可能なリーチ時制御手段」によれば、「特定の識別情報の組合わせが表示される前に、例えばその予告報知を行うもの」も本願発明に含まれることになる。
　しかしながら、このような事項は、当初明細書又は図面には記載されておらず、かつ同記載から見て自明の事項とも認められない。
　したがって、この補正は、明細書の要旨を変更するものと認められ、特許法第５３条第１項の規定により、上記結論の通り決定する。」
というものである。
　そこで検討するに、
補正された請求項１の「前記複数の可変表示部の表示結果内容を事前に決定し、その決定内容がリーチ状態が成立するのもであった場合に、前記可変表示装置の表示状態を通常とは異なった態様で表示するリーチ時制御を行なうことが可能なリーチ時制御手段」（以下、これを「補正事項」という）は、分割された新たな特許出願の願書に最初に添付した明細書（以下、これを「願書に最初に添付した明細書」という）の段落【００３８】の「Ｓ２５により、プロセスフラグが「７」以上の値であるかどうかについての判断が行なわれる。７以上である場合にはＳ２６に、それ以外の場合にはＳ２７にそれぞれ処理が進む。この場合、停止図柄が現実にリーチ状態となるよりも先に、大当りが事前決定された時点あるいはリーチとなることが事前決定された時点をもって映像表示を切換える場合には、Ｓ２５においてプロセスフラグが「４」以上であるかどうかについての判断を行ない、４以上である場合にはＳ２６に、それ以外の場合にはＳ２７に進むようにすればよい」に記載されているものと認められる。
　すなわち、願書に最初に添付した明細書の段落【００３８】の記載によれば、「映像表示を切換えるかどうかの判断を、Ｓ２５で、プロセスフラグが「７」以上の値であるかどうかにより行なうのであるが、リーチとなることが事前決定された時点でもって映像表示を切換える場合には、Ｓ２５で、プロセスフラグが「４」以上の値であるかどうかにより判断すればよい」のであるから、「複数の可変表示部の表示結果内容を事前に決定し、その決定内容がリーチ状態が成立するのもであった場合に、前記可変表示装置の表示状態を切換える」旨が記載されており、
そして、願書に最初に添付した明細書の段落【０００５】の「通常時には前記可変表示装置における比較的小さな表示領域に前記表示情報を表示するように制御するとともに同時に前記映像情報を表示するように前記可変表示装置を制御し、所定条件の成立に基づき、自動的に前記可変表示装置における比較的大きな表示領域に前記表示情報を表示する」の記載からみて、「所定条件の成立に基づき、すなわち、リーチ状態が成立するものであった場合に、通常時とは異なる表示に切換える」ものと認められるから、
「リーチ時制御を行なうことが可能なリーチ時制御手段」なる文言自体は出願当初明細書にないものの、補正事項は、願書に最初に添付した明細書に記載されていたものと認められる。
　したがって、上記の手続補正は、願書に最初に添付した明細書又は図面に記載された事項の範囲内の補正と認められるから、原決定は妥当なものとはいえない。
　よって、結論のとおり審決する。
【事件の表示】
　平成　２年特許願第１９２４１６号「ガス化発電プラント」拒絶査定に対する審判事件〔平成　４年　３月１６日出願公開、特開平４−８１５２６、請求項の数（１）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
【１】本願発明
　本願は、平成２年７月２０日の出願であって、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成９年９月５日付け、平成１１年７月１２日付け、及び平成１２年１２月６日付け手続補正書によって補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものと認める。
　「【請求項１】　石炭等の燃料を理論当量以下の酸素又は空気で高温部分燃焼させるガス化燃焼器と、該ガス化燃焼器で生成した燃焼ガスを減温する減温装置と、該減温装置で減温した生成ガスを石灰石を脱硫剤として９００℃〜１０００℃以上の高温で脱硫する脱硫装置と、該脱硫装置で脱硫した生成ガスを除塵する高温乾式除塵装置と、該除塵装置で除塵した生成ガスを燃料として受け入れる燃焼器を具備したガスタービンと、前記脱硫装置で石灰石が燃焼ガス中の硫化水素Ｈ２Ｓ及びＣＯＳと反応して生成される硫化カルシウムＣａＳを空気又は酸素を投入して石膏に変える硫化カルシウム酸化装置と、前記ガスタービンの下流側に設置された排ガスボイラと、該排ガスボイラで発生した蒸気により駆動される蒸気タービンプラントとを具えたガス化発電プラントにおいて、
　前記減温装置が、該排ガスボイラの発生蒸気又は給水が投入されるスプレイ装置として形成され、前記硫化カルシウム酸化装置における酸化剤としてガスタービン圧縮機吐出空気を供給し、該酸化装置出口空気を除塵してガスタービン燃焼器に導入することを特徴とするガス化発電プラント。」
　
【２】引用例記載の発明
　これに対して、原査定の拒絶の理由の概要は、本願発明は、本願出願前、日本国内において頒布された刊行物である特開昭６３−１３１８３２号公報（以下、「引用例１」という。）、特開昭６３−３１４３２３号公報（以下、「引用例２」という。）、社団法人火力原子力発電技術協会編、火原協会講座１０「複合発電」（昭和６０年６月２０日、社団法人火力原子力発電技術協会発行）Ｐ３〜２９，Ｐ１４９〜１６６（以下、「引用例３」という。）、及び、特開平２−１５７４２６号公報（以下、「引用例４」という。）に記載された各発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるので、本願発明は特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない、というにある。
　そして、引用例１（特に、第１図参照）には、
「石炭等の燃料を理論当量以下の酸素又は空気で高温部分燃焼させるガス化燃焼器７と、該ガス化燃焼器７で生成した燃焼ガスを減温する減温装置４１と、該減温装置４１で減温した生成ガスを石灰石を脱硫剤として脱硫する脱硫装置４４と、該脱硫装置４４で脱硫した生成ガスを除塵する高温乾式除塵装置２０と、該除塵装置２０で除塵した生成ガスを燃料として受け入れる燃焼器２２を具備したガスタービン１と、前記ガスタービン１の下流側に設置された排ガスボイラ３４と、該排ガスボイラ３４で発生した蒸気により駆動される蒸気タービンプラント２３とを具えたガス化発電プラントにおいて、前記減温装置４１が、給水が投入されるスプレイ装置として形成されるガス化発電プラント」、
という発明が記載されているものと認められる。
　また、引用例２（特に、第５図、第１０図参照）には、
「石炭等の燃料を燃焼させるガス化燃焼器１と、生成ガスを脱硫剤により脱硫する脱硫装置１２と、該脱硫装置１２で脱硫した生成ガスを除塵する除塵装置１４と、該除塵装置１４で除塵した生成ガスを燃料として受け入れる燃焼器１５を具備したガスタービン１３とを具えたガス化発電プラント」、
という発明が記載されているものと認められる。
　また、引用例３（特に、第２２図、第３６図、第９表参照）には、
「石炭等の燃料を燃焼させるガス化燃焼器と、生成ガスを石灰石を脱硫剤として脱硫する脱硫装置と、該脱硫装置で脱硫した生成ガスを除塵する高温乾式除塵装置と、該除塵装置で除塵した生成ガスを燃料として受け入れる燃焼器を具備したガスタービンと、前記脱硫装置で石灰石が燃焼ガス中の硫化水素Ｈ２Ｓと反応して生成される硫化カルシウムＣａＳを処理する再生装置と、前記ガスタービンの下流側に設置された排ガスボイラと、該排ガスボイラで発生した蒸気により駆動される蒸気タービンプラントとを具えたガス化発電プラント」、
という発明が記載されているものと認められる。
　また、引用例４（特に、第１〜４図参照）には、
「石炭等の燃料を燃焼させるガス化燃焼器１と、該ガス化燃焼器１で生成した燃焼ガスを減温する減温装置２と、該減温装置２で減温した生成ガスを除塵脱硫する除塵脱硫装置７と、該除塵脱硫装置７で除塵脱硫した生成ガスを燃料として受け入れる燃焼器１２を具備したガスタービン１３と、前記ガスタービン１３の下流側に設置された排ガスボイラ３１と、該排ガスボイラ３１で発生した蒸気により駆動される蒸気タービンプラント３４とを具えたガス化発電プラント」、
という発明が記載されているものと認められる。
　
【３】対比・判断
　そこで、本願発明と上記引用例１〜４記載の発明とを対比すると、
　引用例１〜４記載の発明のいずれもが、本願発明の構成要件である「生成ガスを９００℃〜１０００℃以上の高温で脱硫する」という構成、及び、「減温装置が、排ガスボイラの発生蒸気又は給水が投入されるスプレイ装置として形成され」るという構成、そして、とりわけ、
　「脱硫装置で生成される硫化カルシウムＣａＳを空気又は酸素を投入して石膏に変える硫化カルシウム酸化装置」を具え、「硫化カルシウム酸化装置における酸化剤としてガスタービン圧縮機吐出空気を供給し、該酸化装置出口空気を除塵してガスタービン燃焼器に導入する」という構成（以下、この構成を「構成Ａ」という。）、
を備えていない。
　しかも、上記「構成Ａ」が、引用例１〜４記載の各発明から当業者が容易に想到し得るとする根拠はなんら見当たらず、また、上記「構成Ａ」が、本願出願前、当業者にとって周知技術であったということを認めるに足る証拠も見当たらない。
　そして、本願発明は、特に、上記「構成Ａ」により、明細書に記載される「好適には、この硫化カルシウムを図1に示した実施例の硫化カルシウム酸化装置にて酸素雰囲気下で加熱することにより、容易に硫酸カルシウムを得て、建材等に利用することができる。また、前述した高温石灰石脱硫装置にて脱硫された高温の生成ガスは、その後乾式除塵装置にて除塵されてガスタービン燃焼器へ供給されるので、生成ガスは高温で増湿しない状態でガスタービン燃焼器に供給されることになり、したがって湿式除塵装置の場合におけるスプレイ水等の蒸発に伴う潜熱及び顕熱の損失がないので、高効率達成に有利となる。」（段落【００１７】後半部）という、引用例１〜４記載の各発明にはない格別の効果を奏するものと認められる。
　
【４】むすび
　したがって、本願発明は、引用例１〜４記載の発明から当業者が容易に発明をすることができたものである、とすることはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。
【事件の表示】
　平成　３年特許願第２４２２６９号「広視野角液晶表示装置」拒絶査定に対する審判事件［平成　５年　４月　２日出願公開、特開平　５−　８０２０７］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．本願は、平成３年９月２４日の出願であつて、その請求項１に係る発明は、願書に添付した明細書及び図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１に特定された次のとおりのものである。
　「【請求項１】複数の画素が形成された２枚の基板と、前記基板に狭持された液晶層と、前記基板の外側の少なくとも一方に配設された偏光板と、前記基板と前記液晶との間の少なくとも一方に配設された透明電極およびカラーフィルタとを有する液晶表示装置において、前記基板の構成材料の少なくとも一部が屈折率が異なる２層構造からなることを特徴とする広視野角液晶表示装置。」
２．これに対して、当審における拒絶の理由に引用した特開平３−１８４０２１号公報（以下、第１引用例という。）には、「すなわち第１図において、透明絶縁基板１上には、複数の透明絵素電極２と、各透明絵素電極２に１対１に対応付けて接続された複数のＴＦＴ３とがマトリクス状に配列して形成されている。一方、上記透明絶縁基板１に対して対向配置されるもう１つの透明絶縁基板４の相手方透明絶縁基板１と対向する表面側は概平坦であり、各透明絵素電極２と対向する位置にそれぞれバックライト光のうち、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの波長光のみ透過するカラ−フィルタ５が形成される。・・・さらに、カラーフィルタ５および遮光層６の上全面に共通電極７が形成される。上記した透明絶縁基板４のもう一方の表面は、透明絵素電極２に対応する部分では凸、遮光層６に対応する部分では凹となっている。」（第２頁右下欄第４〜２０行）、「これらの２つの基板１、４間には、液晶層８が介在させてあり、その液晶層８は図示しないシール部材によって封止されている。また透明絶縁基板４の共通電極７形成表面とは反対側の表面には上側偏光板９が配置され、他方の透明絶縁基板１の透明絵素電極２形成表面とは反対側の表面にも下側偏光板ｌ０が配置されている。」（第３頁左上欄第１４行〜右上欄第１行）及び「また、上記した各絵素単位で凸レンズ機能をもつ形状を有する透明絶縁基板４は、概平坦な透明絶縁基板に直接集光レンズを設けているので、生産性に優れている。」（第３頁右上欄第５〜８行）との記載があり、結局、複数の画素が形成された２枚の透明絶縁基板１、４と、前記透明絶縁基板１、４に狭持された液晶層８と、前記透明絶縁基板１、４の外側の少なくとも一方に配設された上側偏光板９、下側偏光板１０と、前記透明絶縁基板１、４と前記液晶層８との間の少なくとも一方に配設された共通電極７およびカラーフィルタ５とを有する液晶表示装置において、前記透明絶縁基板１、４の構成材料の少なくとも一部が１層構造からなることを特徴とする液晶表示装置、が記載されている。
　同じく引用した実願昭５１−９２３９５号＜実開昭５３−１１９８７号＞のマイクロフイルム（以下、第２引用例という。）には、「その観察面側に複数個からなるレンズを配置したことを特徴とする広視野角液晶表示セル」（実用新案登録請求の範囲第６〜８行）及び「液晶表示セル部は従来のものと同じで、その前面、即ち表示の観察側に、レンズを配置したことを考案の基本とするものである。」（第３頁第１６〜１９行）との記載がある。
３.そこで、本願請求項１に係る発明と第１引用例記載のものとを対比すると、本願請求項１に係る発明の「基板」、「液晶層」、「偏光板」、「透明電極」、「カラーフィルタ」は、夫々第１引用例記載のものの「透明絶縁基板１、４」、「液晶層８」、「上側偏光板９、下側偏光板１０’」、「共通電極７」、「カラーフィルタ５」に相当するから、両者は、複数の画素が形成された２枚の基板と、前記基板に狭持された液晶層と、前記基板の外側の少なくとも一方に配設された偏光板と、前記基板と前記液晶との間の少なくとも一方に配設された透明電極およびカラーフィルタとを有する液晶表示装置において、前記基板の構成材料の少なくとも一部が１または２層構造からなることを特徴とする液晶表示装置で一致し、
Ａ層構造が、本願請求項１に係る発明は、屈折率が異なる２層であるのに対して、第１引用例記載のものは、１層である点、
Ｂ液晶表示装置が、本願請求項１に係る発明は、広視野角であるのに対して、第１引用例記載のものには、そのような記載が無い点で相違する。
４.そこで先ず、相違点Ａについて検討すると、第１引用例記載の集光レンズを設けた透明絶縁基板４は、１層であるが、透明絶縁基板４と上側偏光板９との間には、例えば、空気の層が存在するから、これをも含めて２層であるとも言え、集光レンズとして機能する透明絶縁基板４と空気の層との屈折率が異なることは自明であるから、相違点Ａは、第１引用例に示唆されていると言える。
　また、この種の空気の層に換えて何等かの材料の層を設けることは、従来周知（例えば、特開平３−１８７５９３号公報の接着剤層２４、特開平３−１８２７１９号公報の第２ガラス基板８、特開平３−１３７６１７号公報の低屈折率媒質１０、特開平２−２５１９０２号公報の透明樹脂２０３等を参照。）の技術手段に過ぎない。
　次に、相違点Ｂについて検討すると、第２引用例には、広視野角液晶表示用セルとの記載があり、相違点Ｂが開示されている。
　そして、第１引用例及び第２引用例はいずれも液晶の分野に属するものであるから、第２引用例に開示された技術手段を第１引用例に記載されたものに適用し、本願請求項１に係る発明を推考することは、当業者が容易になし得たものと認められる。
５．したがつて、本願請求項１に係る発明は、第１引用例、第２引用例及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものと認められるので、本願請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よつて、結論のとおり審決する。
【事件の表示】
　平成１１年特許願第２１８９５７号「電気光学装置およびその製造方法」拒絶査定に対する審判事件［平成１２年　２月１８日出願公開、特開２０００−　４７２０３］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成２年１１月２８日に出願された特願平２−３２８２６１号の一部を平成１１年８月２日に新たな出願としたものであって、その請求項１ないし６に係る発明は、それぞれ、平成１１年１２月９日付けで補正された明細書の特許請求の範囲に記載された事項により特定されるものであるところ、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、次の事項により特定されるものである。
「ガラス基板上に、表面に凹凸を有する有機膜を形成し、該有機膜上に反射層を形成する工程を有する電気光学装置の製造方法であって、
　前記有機膜は、入力用端子部を避けて形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。」
２．引用例記載の発明
　これに対して、前置審査において拒絶の理由に引用された、原出願の出願日前に頒布された特開昭５９−７９２８０号公報（以下、「引用例１」という。）には、基板上の有機絶縁物をマスクを用いてエッチングすることにより凹凸を設け、この凹凸の上に反射用金属層を被着し液晶表示装置等における白色表面を製造する方法が記載されている。
　また、引用例１には、基板上の有機絶縁物を金型を用いてプレスすることにより振幅０．１〜１０μ程度の凹凸を設け、これらの凹凸の上に反射用金属層を被着し液晶表示装置等における白色表面を製造し、この金属膜の形成された基板表面は凹凸がたくさんあるために光が乱反射して白色に見えるという点が記載されている。
　同じく、前置審査において拒絶の理由に引用された、原出願の出願日前に頒布された特開平２−１９８２６号公報（以下、「引用例２」という。）には、従来のカラー液晶表示装置では、各カラーフィルター間で透明電極が凹凸部を形成しているため、透明電極膜形成の際に、前記凹部の電極パターン精度が低下したり配向不良が生じる欠点があり、又カラーフィルタを被う有機高分子膜からなる平坦な保護膜を形成した場合、実装端子部にも有機高分子膜が形成されているために実装時に透明電極の断線等、取り扱いキズ等により歩留まり低下が生じる欠点があるという点が記載されており、さらにこのような課題を解決するために、液晶層を介して対向する一対の透明基板と、この一方の透明基板の液晶層側に所定の多数色のパターンで配置された複数のカラーフィルターを備えており、カラーフィルターを被うような有機高分子膜、透明電極膜がこの順に積層され、かつ、シール部及び実装端子部から有機高分子膜を除去したカラー液晶表示装置を提供するという点が記載されている。
　同じく、前置審査において拒絶の理由に引用された、原出願の出願日前に頒布された特開平２−２８７３２１号公報（以下、「引用例３」という。）には、従来のカラー液晶表示装置では、各カラーフィルター間で透明電極が凹凸部を形成しているため、透明電極膜形成の際に、前記凹部の電極パターン精度が低下したり配向不良が生じる欠点があり、この対策として、カラーフィルターを被う有機高分子膜からなる平坦な保護膜を形成した場合、保護膜が部分的に膨潤及び膜べり等で保護膜と透明電極膜との密着性に劣る欠点があり、又カラーフィルターを被う有機高分子膜を全面にベタに形成した場合、実装端子部にも有機高分子膜が形成されているため、実装時に発生する圧力による透明電極膜の断線及び扱いキズ等による実装不良が生じる欠点があるという点が記載されており、さらにこのような課題を解決するために、液晶層を介して対向する一対の透明基板と、この一方の透明基板の液晶層側に所定の多数色のパターンで配置された複数のカラーフィルターを備えており、カラーフィルターを被うような有機高分子膜、透明電極膜がこの順に積層され、かつ、シール部及び実装端子部から感光性有機高分子膜を除去したカラー液晶表示装置を提供するという点が記載されている。
　結局、引用例１には、基板上の有機絶縁物の表面に凹凸を設け、これらの凹凸の上に反射用金属層を被着する工程を具備する液晶表示装置等の白色表面を製造する方法の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されているものと認められる。
　また、引用例２及び３には、液晶表示装置の基板に有機高分子膜を設ける場合に、実装端子部にも有機高分子膜が形成されていると実装時に透明電極の断線等、取り扱いキズ等により歩留まり低下が生じる欠点があるので、シール部及び実装端子部には有機高分子膜を設けないことが記載されているものと認められる。
３．対比
　本願発明と引用発明を比較するに、引用発明の「有機絶縁物」、「反射用金属層」及び「液晶表示装置」がそれぞれ本願発明の「有機膜」、「反射層」及び「電気光学装置」に相当することは明らかであり、また、引用発明は液晶表示装置等の白色表面を製造するものであり、引用発明も電気光学装置の製造方法に係るものであることが明白であるから、両者は、ともに「基板上に、表面に凹凸を有する有機膜を形成し、該有機膜上に反射層を形成する工程を有する電気光学装置の製造方法」の発明である点で一致する。
　一方、次の点で相違する。
ａ．本願発明では、「基板」が「ガラス基板」であるとされているのに対し、引用発明では、単に基板とされているだけであって、引用例１に「ガラス基板」とは記載されていない点。
ｂ．本願発明では、有機膜は、入力用端子部を避けて形成するのに対し、引用例１にはこの構成が記載されていない点。
４．相違点についての検討
　相違点ａについて検討するに、引用例１には、ガラス基板とは記載されていないが、液晶表示装置に用いられる基板としてガラス基板は周知であるから、この点は、格別の相違とはいえない。
　相違点ｂについて検討するに、引用例２や３に記載されているように、液晶表示装置において、基板に有機高分子膜を設ける場合に、シール部及び実装端子部には有機高分子膜を設けないことが周知であるから、引用発明においてもその液晶表示装置の基板上の有機絶縁物を入力用端子部を避けて形成するようになすことは、当業者が容易に想到し得たものと認められる。
　なお、この点について請求人は、意見書において、引用例１の有機膜は表面に凹凸が形成されたものであり、一方、引用例２や３の有機膜は表面が平坦なものであるから、この点が阻害事由となり、引用例２、３を引用例１に適用するという発想は当業者には容易に生じ得ないものである旨の主張をしているが、引用例２や３において有機膜をシール部及び実装端子部に設けないのは、シール部や実装端子部に有機膜が存在すること自体が実装時の望ましくない要因となるからであって、この望ましくない要因が有機膜の表面が引用発明のように凹凸形状をしているからといって除かれるものでないことは明らかであるから、引用例１において有機膜の表面が凹凸形状をしていることが、引用例２、３を引用例１に適用する際の阻害事由になるとはいえない。
　したがって、請求人の主張は採用できない。
５．むすび
　以上のとおりであるから、本願の請求項１に係る発明は、上記引用例１ないし３に記載された発明に基いて当業者が容易に発明できたものであるので、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。
【事件の表示】
　平成　３年特許願第２０５０８３号「自動的に文書の位置決めを設定し校正用の帯部を位置決めする方法」拒絶査定に対する審判事件〔平成　４年　９月１８日出願公開、特開平　４−２６２６６５、請求項の数（１）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
（１）手続の経緯
　本願は、平成３年８月１５日（パリ条約による優先権主張１９９０年８月２８日、米国）に出願され、
　平成１２年２月１０日に、特許請求の範囲の請求項１に係る発明の記載が特許法第３６条第５項第２号及び第６項に規定する要件を満たしていないといる理由で拒絶理由通知を受け、
　平成１２年６月６日に、特許請求の範囲の請求項１には、発明の構成に欠くことができない事項のみが記載されていないから、依然として、特許請求の範囲の請求項１に係る発明の構成が不明瞭であるとして、拒絶査定されたものである。
　
（２）本願発明
　本願は、平成３年８月１５日（パリ条約による優先権主張１９９０年８月２８日、米国）の出願であって、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成１２年５月１９日及び平成１２年１０月１１日付けの手続補正によって補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲第１項に記載された次のとおりのものである。
　
　「可動走査キャリッジと長く延びたスキャナ・アレイを有するラスタ入力スキャナのプラテン上にある対象の位置を位置決めする方法において、上記の方法は、
　ａ）前に記憶した対象の理論上の位置をメモリから獲得するステップと、
　ｂ）前に記憶した位置から所定の間隔を置いた位置に走査キャリッジを位置決めするステップと、
　ｃ）少なくとも複数のスキャナの一部が対象上にある目標を検出するまで、この一部のスキャナを動作させながら、前に記憶した位置の方向へ走査キャリッジを移動させるステップと、
　ｄ）目標が検出されたキャリッジの目標位置を記憶するステップと、を有し、
　上記対象は、上記目標を含む文書であり、このテスト文書は、上記走査キャリッジにより走査される目的のために後続の文書が位置決めされるであろう走査位置にて上記プラテン上に位置決めされ、
　これにより、上記目標位置が上記走査位置の校正された位置を表していることを特徴とする方法。」
　
２．拒絶査定の理由
　原審は、次の（１）、（２）の理由によって拒絶の査定をした。
（１）「数個のスキャナを動作させる技術的意義が認められないし、数個のスキャナを動作させることと目標位置を決定することとの関連性も明確ではない。」
（２）「目標位置そのものの技術的意義も明確とはいえない。」
　
３．当審の判断
（１）数個のスキャナを動作させる技術的意義について
　「数個のスキャナを動作させる技術的意義が認められないし、数個のスキャナを動作させることと目標位置を決定することとの関連性も明確ではない。」という原審の拒絶査定時の指摘に対し、審判請求人は、特許請求の範囲の請求項１に係る発明の記載を、「少なくとも複数のスキャナの一部が対象上にある目標を検出するまで、この一部のスキャナを動作させながら、前に記憶した位置の方向へ操作キャリッジを移動させるステップ」と補正した。
　この補正に係る記載事項及び明細書に記載されている事項からみるに、電気的に動作するのは、走査アレイ１１内のスキャナの内、間隔の離れた複数のスキャナであり、これらのスキャナは、テスト用紙上の追従側端部の位置及び末端部の位置を決定するテストパターンを読み取る位置に配置されており、その位置情報を取得するために動作すると明りょうに解されるから、上記原審の拒絶の理由は解消した。
　
（２）目標位置そのものの技術的意義について
　「目標位置そのものの技術的意義も明確とはいえない。」という原審の拒絶査定時の指摘に対し、審判請求人は、特許請求の範囲の請求項１に係る発明の記載を、「上記対象は、上記目標を含むテスト文書であり、このテスト文書は、上記走査キャリッジにより走査される目的のために後続の文書が位置決めされるであろう走査位置にて上記プラテン上に位置決めされ、これにより、上記目標位置が上記走査位置の校正された位置を表している。」と補正した。
　この補正により、明細書に記載された事項からみるに、「目標位置」は、汎用文書処理装置（ＵＤＨ）がプラテン３０上に供給する後続の用紙に対する走査キャリッジ４０の始動位置であることが明確になったから、上記原審の拒絶の理由は解消した。
　
４．むすび
　以上のとおりであるから、原審の拒絶の理由によっては、本願発明を拒絶することはできない。
　また、他に本願発明を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【事件の表示】
　平成１０年特許願第２２６８２５号「鉄合金酸化皮膜の除去処理方法」拒絶査定に対する審判事件［平成１２年２月２５日出願公開、特開２０００−５６０８８］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成１０年８月１１日の出願であって、その請求項に係る発明は、明細書及び図面の記載からみて、特許請求の範囲に記載されたとおりのものと認められるところ、請求項１に係る発明は次のものである。
「表面に酸化皮膜を有する鉄合金を硫酸溶液に浸漬して酸化皮膜を剥離除去した後、この鉄合金を溶解しない液体中で超音波振動を印加することにより、酸化皮膜剥離後に鉄合金表面に形成されるスポンジ状の層を除去することを特徴とする鉄合金酸化皮膜の除去処理方法。」（以下、「本願発明」という）
　
２．引用刊行物記載の発明
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された特開昭６２−１８２６９９号公報（以下「引用刊行物」という。）には、次の事項が記載されている。
「この発明は、例えば放射性物質などを収容した容器等の内壁面に付着して残る放射性物質等の汚染物質を充分かつ確実に除染することのできる除染方法に関するものである。」（１頁左下欄９行〜１２行）、
「この発明の除染方法にあっては、電解洗浄時に電解質溶液の作用により、被除染体に付着している汚染物質の被除染体に対する電気的付着力を減じ、ほとんどの汚染物質を被除染体表面から遊離させる。その後、電解を止め電場を解除した後には、一旦遊離した汚染物質が被除染体表面に再吸着するので、・・・速やかに超音波により汚染物質を被除染体表面から剥離させ、貧溶媒中に分散させる。」（２頁左上欄１６行〜同頁右上欄５行）、
「この発明の除染方法は、汚染物質が付着している容器を電解洗浄したのち、これを上記汚染物質に対する貧溶媒中で超音波洗浄するものである。
　上記の容器は、被除染体であって、このものは、通常、汚染物質を除去する際に用いられる腐食性を有する酸類などの薬剤に対して腐食されにくいステンレスなどからなるものである。」（２頁右上欄９行〜１５行）、
「上記の電解洗浄に用いられる電解質溶液としては、汚染物質を溶解しやすいものが選ばれ、具体的には、例えば汚染物質が酸化物であれば・・・硫酸水溶液などの酸溶液・・・が好適に用いられる。また、この電解質溶液の濃度は、汚染物質の種類や濃度などを加味して決められ・・・これに限定されるものではない。」（２頁右上欄１６行〜同頁左下欄６行）、
「また、超音波洗浄に用いられる貧溶媒は、・・・汚染物質がＵＯ２，Ｕ２Ｏ６等の酸化物などの場合、この酸化物に対する貧溶媒として・・・水・・・などの極性溶媒が用いられ、また汚染物質がＮａＣｌ等の無機塩類の場合・・・有機無極性溶媒が用いられる。」（２頁左下欄１９行〜同頁右下欄８行）
　
３．対比
　本願発明と引用刊行物に記載された発明を対比する。
（１）引用刊行物の「ステンレス」「水」「超音波洗浄」がそれぞれ本願発明の「鉄合金」「鉄合金を溶解しない液体」「超音波振動を印加」に相当することは明らかである。
（２）本願発明の「酸化皮膜」は、本願明細書の「ウラン濃縮用遠心分離機の回転胴材には鉄合金が用いられており、ウラン濃縮に使用された回転胴材の鉄合金表面は、ウラン２３８のごとき放射性物質で汚染された酸化皮膜が存在する。」（【０００２】）との記載を参酌し、また引用刊行物の「例えば汚染物質が酸化物であれば・・・硫酸水溶液などの酸溶液・・・が好適に用いられる」との記載を勘案すれば、引用刊行物に記載された「放射性物質などを収容した容器等の内壁面に付着して残る放射性物質等の汚染物質」とに差異は認められない。そして、本願発明も引用刊行物もともに硫酸溶液に浸漬している点で共通しており、酸化皮膜を剥離除去する点でも両者は相違するものではないから、引用刊行物のものは本願発明の「表面に酸化皮膜を有する鉄合金を硫酸溶液に浸漬して酸化皮膜を剥離除去」するとの技術的事項を有するものである。
　なお、引用刊行物のものは、具体的には電解洗浄をするものであるが、電解洗浄を採用するかどうかは剥離速度等の程度を考慮して当業者が必要に応じて適宜採用しうる選択の問題であるともに、電解洗浄が本願発明のものと異なる作用をすると解釈する理由はないから、この点は相違点を構成するものではない。
（３）引用刊行物には、「電解洗浄時に電解質溶液の作用により、・・・ほとんどの汚染物質を被除染体表面から遊離させる。その後、電解を止め電場を解除した後には、一旦遊離した汚染物質が被除染体表面に再吸着するので、・・・速やかに超音波により汚染物質を被除染体表面から剥離させ、貧溶媒中に分散させる。」と記載されており、上記引用刊行物の『「一旦遊離した汚染物質が被除染体表面に再吸着」した層』が、本願発明の『「酸化皮膜剥離後に鉄合金表面に形成される」「層」』に相当することは明らかである。
　
　上記（１）〜（３）の考察から、両者は、「表面に酸化皮膜を有する鉄合金を硫酸溶液に浸漬して酸化皮膜を剥離除去した後、この鉄合金を溶解しない液体中で超音波振動を印加することにより、酸化皮膜剥離後に鉄合金表面に形成される層を除去する鉄合金酸化皮膜の除去処理方法」である点で一致し、次の点で相違する
　
相違点：
　超音波振動を印加することにより、本願発明では、酸化皮膜剥離後に鉄合金表面に形成される「スポンジ状」の層を除去しているのに対して、引用刊行物では、除去する層が「スポンジ状」であるとの記載がない点。
　
４．当審の判断
　上記相違点について検討する。
　本願発明及び引用刊行物に記載された発明はともに、表面に酸化皮膜を有する鉄合金を硫酸溶液に浸漬して酸化皮膜を剥離除去した後、この鉄合金を溶解しない液体中で超音波振動を印加していることに変わりなく、本願発明の酸化皮膜剥離後に鉄合金表面に形成される「スポンジ状」の層が引用刊行物のものにおいて形成されるとしても、両者は同様の処理を行っているのであって、引用刊行物のものにおいても「スポンジ状」の層は超音波振動により除去されるものであるから、上記相違点は、超音波振動により除去される層の種類に着目してこれを記載したにすぎないものであって、当業者が適宜なし得る程度の事項である。
　
　そして、本願発明が奏する作用効果は、引用刊行物に記載された発明から予測し得る程度のものである。
　
５．むすび
　したがって、本願発明は、引用刊行物に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。
【事件の表示】
　昭和６３年特許願第　２７８４２号「レーザー光学的書き込み及び読み出し法、その装置及び多層レーザ光学的データディスク」拒絶査定に対する審判事件［昭和６３年　９月　９日出願公開、特開昭６３−２１６７９１］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
　本願は、昭和６３年　２月１０日（パリ条約による優先権主張　１９８７年　２月１１日　（ＤＥ）ドイツ連邦共和国）の出願であって、「レーザー光学的書き込み及び読み出し法、その装置及び多層レーザ光学的データディスク」に関するものと認める。
これに対して、平成１０年１１月１７日付けで、本願は、その明細書と図面の記載が不備で特許法第３６条第３〜５項に規定する要件を満たしていない旨の拒絶理由を通知したが、依然として上記の拒絶理由で指摘した不備の点は解消していない。
したがって、本願は、上記の拒絶理由によって拒絶すべきものである。
よって、結論のとおり審決する。
【事件の表示】
　平成　４年特許願第　６８３４５号「圧電体マザー基板及びその圧電体マザー基板を使用した圧電部品の製造方法」拒絶査定に対する審判事件〔平成　５年１０月２２日出願公開、特開平　５−２７５９５６、請求項の数（２）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
　本願は、平成４年３月２６日に出願したものであって、その各請求項に係る各発明は、平成１２年５月２５日付けの手続補正書により補正された明細書、図面の記載からみて、その特許請求の範囲に記載された次のとおりのものである（以下、本件発明という。）。
「【請求項１】カット代部分によって所定の形状に設定された複数のエレメント部分を有する圧電体マザー基板において、矩形状の前記エレメント部分が、エレメント部分の中央部表裏面に設けた少なくとも１対の圧電共振子電極と、エレメント部分の両側縁部表裏面に設けた２対のコンデンサ電極とを備え、前記コンデンサ電極が前記カット代部分に延在し、前記エレメント部分の中央部表面に設けた圧電共振子電極がエレメント部分の一方の側の縁部表面に設けた一方のコンデンサ電極に接続するとともに、該一方のコンデンサ電極がエレメント部分の表面に設けた引出し電極を介してエレメント部分の他方の側の縁部表面に設けた他方のコンデンサ電極に接続し、前記エレメント部分の中央部裏面に設けた圧電共振子電極がエレメント部分の他方の側の縁部裏面に設けた他方のコンデンサ電極に接続するとともに、該他方のコンデンサ電極がエレメント部分の裏面に設けた引出し電極を介してエレメント部分の一方の側の縁部裏面に設けた一方のコンデンサ電極に接続し、前記エレメント部分の一方の側の縁部表面に設けた一方のコンデンサ電極が、エレメント部分の一方の側の縁部裏面に設けた一方のコンデンサ電極と、圧電体マザー基板を挟んで対向し、前記エレメント部分の他方の側の縁部表面に設けた他方のコンデンサ電極が、エレメント部分の他方の側の縁部裏面に設けた他方のコンデンサ電極と、圧電体マザー基板を挟んで対向していること、
を特徴とする圧電体マザー基板
　【請求項２】請求項１記載の圧電体マザー基板をカット代部分に沿ってカットすることにより、圧電体マザー基板からエレメント部分を切り出すと共に、エレメント部分に設けた一方の１対のコンデンサ電極の面積が減少した際に、他方の１対のコンデンサ電極がカット代部分に延在している部分にて前記一方の１対のコンデンサ電極の面積の減少分を補償することを特徴とする圧電部品の製造方法。」
  そして、請求項１に係る発明は、コンデンサ電極が前記カット代部分に延在して設けた点に特徴を有するところ、原査定の拒絶の理由に引用された実願平１−１５１６３３号（実開平３−９０５１７号）のマイクロフィルム、特開平３−５３６０５号公報、特開平３−５２３１２号公報、実願昭６２−１７３２５２号（実開平１−７８０４２号）のマイクロフィルム、特開平１−７８０１１号公報、特公平１−４９０４８号公報、特開昭６１−７７１１号公報のいずれにも、コンデンサ電極が前記カット代部分に延在して設けたとする点についての記載はない。また、その点が本件出願前周知であるとする証拠もない。
　したがって、その余を検討するまでもなく、上記刊行物記載のそれぞれの発明によって、また、それら発明のいずれを組み合わせたとしても、請求項１に係る本件発明とすることはできない。
  また、請求項２に係る発明は、請求項１を引用しているところ、請求項１に係る発明が上記刊行物記載のそれぞれの発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたとすることはできないので、請求項２に係る発明も、その余を検討するまでもなく、上記刊行物記載のそれぞれの発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたとすることはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　
　よって、結論のとおり審決する。
【事件の表示】
　平成３年特許願第３４１２７５号「鋳造用金型」拒絶査定に対する審判事件〔平成５年７月９日出願公開、特開平５−１６９２３０号、請求項の数（２）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
１）本願発明
　本願発明は、平成１１年５月２８日付け手続補正書により補正された明細書及び図面の記載よりみて、その特許請求の範囲の請求項１、２に記載されたつぎのとおりのものと認める。
「【請求項１】金型キャビティを構成する固定型と可動型とからなり、上記金型キャビティ内に溶湯を低圧で供給充満させた後に当該金型キャビティ内に供給充満せしめた溶湯に圧を加えるようにした鋳造法を実施する金型であって、前記固定型又は可動型の型合わせ面部に温度コントロール可能な溶湯供給パイプを一体的に取付け、該溶湯供給パイプを金型キャビティの湯口部に連通せしめると共に、金型キャビティ内に低圧で供給充満された溶湯に圧を加えるための加圧子を内挿したスリーブを金型キャビティの湯口部に連通させて一体的に設けてなる事を特徴とした鋳造用金型。
【請求項２】金型キャビティを構成する固定型と可動型とからなり、上記金型キャビティ内に溶湯を低圧で供給充満させた後に当該金型キャビティ内に供給充満せしめた溶湯に圧を加えるようにした鋳造法を実施する金型であって、前記固定型及び可動型の型合わせ面部に半割り状の分割スリーブを夫々金型キャビティの湯口部に連通させて一体的に取付け、該分割スリーブに金型キャビティ内に低圧で供給充満された溶湯に圧を加えるための加圧子を内挿させると共に、該分割スリーブに温度コントロール可能な溶湯供給パイプを連通接続せしめてなる事を特徴とした鋳造用金型。」
（なお、請求項１、２に係る各発明を、以下では請求項順に「本願発明１、２」という。）
　
２）原査定の拒絶の理由
　これに対し、原査定の拒絶の理由の概要は、本願発明１、２は、実願平０１−１０９５７１号（実開平０３−４７６４９号）のマイクロフィルム（以下、これを引用例１という。）、特開昭６０−２１６９６１号公報（以下、これを引用例２という。）、特開昭６１−２３２０５１号公報（以下、これを引用例３という。）に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものと認められるので、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないというものである。
　
３）当審の判断
３−１）本願発明１について
　本願発明１は、請求項１に記載されているように、金型キャビティ内に溶湯を低圧で供給充満させた後に当該金型キャビティ内に供給充満せしめた溶湯に圧を加えるようにした鋳造法（この鋳造法を、以下、低圧鋳造法という。）を実施するための金型に関するもので、溶湯供給パイプを金型の型合わせ面部に一体的に取付けるとともに、溶湯供給パイプと加圧子を内挿したスリーブをともに湯口部に連通させたものである。
　これに対し、引用例１〜３には、いずれもダイカスト法を実施するための金型について記載されているが、低圧鋳造法を実施する金型については何ら記載されておらず、かつ、溶湯供給パイプを金型キャビティの形成されていない型合わせ面部に一体的に取付けることもいずれの引用例にも記載されていない。、
　そして、本願発明１は、低圧鋳造法を実施する金型に関し、溶湯供給パイプと加圧子を内挿したスリーブとを前記のようにしたことにより、溶湯を直接金型キャビティ内に供給し充満させることが出来て、湯口部などの返り材の発生を最小限に抑えることが出来、さらに、湯口部を直接加圧するため、製品への加圧効果が大きいので、製品欠陥が大幅に減少し製品の歩留りが向上するという明細書に記載された格別の作用効果を奏するものである（明細書の段落【００１９】参照）。
　そうすると、本願発明１は、引用例１〜３に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　
３−２）本願発明２について
　本願発明２は、本願発明１と同様、低圧鋳造法を実施するための金型に関するもので、請求項２に記載されているように、金型の型合わせ面部に半割り状の分割スリーブを金型キャビティの湯口部に連通させて一体的に取付け、分割スリーブに加圧子を内挿させるとともに溶湯供給パイプを連通接続したものである。
　これに対し、引用例３には、金型の型合わせ面部に半割り状の分割スリーブを金型キャビティの湯口部に連通させて一体的に取付けたものが記載されているが、引用例３に記載のものは、前記のように低圧鋳造法を実施するための金型でなく、かつ、分割スリーブが加圧子を内挿するものではない点で本願発明２とは相違している。さらに、引用例１、２にも、低圧鋳造法を実施する金型に関し、加圧子を内挿した分割スリーブと溶湯供給パイプとを前記のようにすることについては何ら記載されていない。
　そして、本願発明２は、前記のようにしたことにより、本願発明１の効果に加え、さらに、分割スリーブや加圧子部分などに鋳バリがさしても、型開きすればごく簡単に除去することが可能となり、金型自体のメンテナンスが容易となるという明細書に記載された格別の作用効果を奏するものである（明細書の段落【００１９】参照）。
　そうすると、本願発明２も、引用例１〜３に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　
４）むすび
　以上のとおりであるから、原査定の理由によっては本願を拒絶することはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。