Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年9月15日(2015.9.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３５】
本発明の別の実施形態では、液体フィブリンシーラント製剤は固体状で与えられ、その塗布に先立って元に戻される。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４９】
本発明の一実施形態では、液体フィブリンシーラント製剤は固体状で与えられ、その塗布に先立って元に戻される。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１１３】
本発明に基づけば、２０ｍｇ／ｍＬのフィブリノーゲン濃度を有するフィブリノーゲン含有溶液を凍結乾燥する工程によって調製された固体フィブリノーゲンは、室温で１０分間よりも短い時間で水溶液中で元に戻されることが見出された。本発明の一実施形態では、固体フィブリンシーラント混合物のフィブリノーゲン成分は、８５、２５ｍｇ／ｍＬ又は２０ｍｇ／ｍＬ以下など、１５０以下のフィブリノーゲン濃度を有するフィブリノーゲン含有溶液から調製される。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１１９】
タンパク質分解酵素は、トロンビン及び／又はヘビ毒から得られる特定の物質であってよい。液体成分は使用時まで凍結（例えば−１８℃以下の温度で）させるか、又は長期保存するためには例えば凍結乾燥によって乾燥させることができる。乾燥成分は、使用に先立って種々の容量の製薬上許容される担体を加えることによって元に戻すことができる。「製薬上許容される担体」なる用語は、ヒト又は他の動物における使用に適した任意の希釈剤又は溶媒のことを指す。担体は、これらに限定されるものではないが、リン酸緩衝溶液（ＰＢＳ）、生理食塩水、塩化ナトリウム溶液、塩化カルシウム溶液、乳酸リンゲル（ＬＲ）、通常の生理食塩水中の５％デキストロース溶液、及び注射用蒸留水などの当該技術分野では周知の任意の担体から選択することができる。凍結乾燥したフィブリノーゲンは、使用に先立って滅菌水で元に戻すことができる。凍結乾燥したトロンビンは、使用に先立って滅菌塩化カルシウム溶液、又は蒸留水などの水で元に戻すことができる。元に戻された凍結乾燥フィブリノーゲン及びトロンビンは、液体フィブリンシーラント製剤中に使用し、次いでこれらを合わせてフィブリンを形成することができる。これら２つの成分は、所望の部位に同時に、又は順次塗布することができる。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１３５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１３５】
液体フィブリンシーラント製剤は、本発明の方法においては、固体状で与えられ、その塗布に先立って元に戻すことができる。元に戻すことは、種々の容量の製薬上許容される担体を加えることによって行うことができる。「元に戻す」なる用語は、固体を液体状に転換するプロセスのことを指す。元に戻された製品は、予め液体を除去した乾燥固体に水性の液体を加えることによって調製される液体製品であってよい。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１６５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１６５】
更に、２０ｍｇ／ｍＬのフィブリノーゲン濃度を有するフィブリノーゲン含有溶液を凍結乾燥する工程によって調製された固体フィブリノーゲンは、室温で１０分間よりも短い時間で水溶液中で元に戻されることが観察された。フィブリノーゲン濃度が低いと、より多孔質の凍結乾燥したケーキが得られ、このケーキを粉砕するとより多孔質の粒子が得られる。多孔度の増大により、液体が粒子により入りやすくなり、その結果、再水和時間がより短くなると考えられる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年1月29日(2015.1.29)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００１】
本発明はβ−ヒドロキシ−β−メチルブチレート（ＨＭＢ）を含有するプラスチック包装栄養液剤に関する。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年6月15日(2015.6.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
他の局面にしたがって、クラウンが、クラウン移行領域内で上から見た場合に第1のクラウン移行輪郭を伴ってヒールおよびトウの一方に移行する後側クラウン縁を有しうる、クラブヘッドを提供することができる。ソールは、クラウン移行輪郭ほど滑らかには曲がっていない第1のソール移行領域内で上から見た場合に第1のソール移行輪郭を伴ってヒールおよびトウの一方に移行する後側ソール縁を有しうる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年7月9日(2015.7.9)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カルバメートを熱的に解離し、及びカルバメートの解離からの、対応するイソシアネートと対応するアルコールを含む反応混合物を蒸留により分離することによってイソシアネートを調製する方法であって、
前記反応混合物の蒸留による分離は、上側に位置する濃縮部（Ｖ）と下側に位置するストリッピング部（Ａ）を有するカラム（Ｋ）内で蒸留することによって行われ、
カルバメート（１）は、濃縮部（Ｖ）及びストリッピング部（Ａ）の間に導入され、及び、
イソシアネートが底部流（２）の成分として取り出され、及びアルコールがカラム（Ｋ）からのオーバーヘッド流（３）の成分として取り出され、及び
これらの取り出しは所定の不活性溶媒の存在下に行われ、
該不活性溶媒として、カルバメート解離の動作条件下で、イソシアネートの沸点とアルコールの沸点の間に沸点を有する中間沸点体が使用され、及び
前記不活性溶媒は、外部ランバック（４）として、外部ランバックの総質量に対して＞９５質量％の純度の液体状態で、濃縮部（Ｖ）の上部領域に供給され、及びガス状の過熱流（５）としてストリッピング部（Ａ）に一箇所以上で供給され、及び
不活性溶媒の流体（６）が、カルバメート（１）の供給点でカラム（Ｋ）に供給され、及び
不活性溶媒の流体（６）は、予熱又は過熱され、及び
前記カルバメートの熱的な解離は、２１０℃から４００℃の範囲の温度で行われることを特徴とする方法。
【請求項２】
大気圧で７０から３５０℃の範囲の沸点を持つ不活性溶媒が用いられることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
１００から２５０℃の範囲の沸点を持つ不活性溶媒が用いられることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
アルコールは脂肪族のモノヒドロキシアルコールであることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
カラム（Ｋ）のストリッピング部（Ａ）は、流下フィルム蒸発器として設定されていることを特徴とする請求項１から４の何れか１項に記載の方法。
【請求項６】
カラム（Ｋ）のストリッピング部（Ａ）は、複数の流下フィルム蒸発器を有し、これらは、その間に配置された分配器でシリーズに連結されていることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
シリーズに接続された１つ以上の流下フィルム蒸発器が、触媒的に被覆されることを特徴とする請求項５又は６に記載の方法。
【請求項８】
カルバメート（１）の供給点でカラム（Ｋ）に流体（６）として供給される不活性溶媒は、濃縮部（Ｖ）の上部領域に外部ランバック（４）として中間沸点体として供給され、及びストリッピング部（Ａ）に気体状の過熱流（５）として供給される物質と同一の物質を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】
カルバメートに対応するアルコールを含むオーバーヘッド流（３）は、気体状態で取り出され、取り出された後、直ぐに急冷されることを特徴とする請求項１から８の何れか１項に記載の方法。
【請求項１０】
カルバメートの解離で形成されるイソシアネートの５０から１００％が、底部を経由して取り出されることを特徴とする請求項１から９の何れか１項に記載の方法。
【請求項１１】
ロードトレイは、カラム（Ｋ）のストリッピング部（Ａ）で滞留時間トレイとして使用されることを特徴とする請求項１から４又は８から１０の何れか１項に記載の方法。
【請求項１２】
滞留時間トレイは、触媒が供給されていることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５８】
カラムは４バールの圧力で操作される。２８１℃まで過熱された気体の１，２，４−トリクロロベンゼン（流体６）２．３７ｋｇ／ｈが付加的にカラムの供給点（底部から３０段）に導入される。更に、０．４９ｋｇ／ｈの過熱された１，２，４−トリクロロベンゼンが２８１℃で底部から１５段に導入される。カラムの頂部では、純度９９．５％ｗである０．９５ｋｇ／ｈの１，２，４−トリクロロベンゼン（流体４）が２５０℃で液体分配器に供給される。底部の温度は２７０℃である。カラムの底部で、アルコールを取り除くために、０．０３ｋｇ／ｈのＮ２（流体５）及び１．１７ｋｇ/ｈの気体の１，２，４−トリクロロベンゼンがエネルギーを導入するために供給される。カラムの底部出口から、５．１質量％の２，４−ＴＤＩを含む３．８ｋｇ／ｈの混合物（流体２）が取り出される。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年12月18日(2014.12.18)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１３４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１３４】
本発明の方法は、更に、断続的に平坦な紙シートで互いに接着された複数の別のコルゲート紙またはカード層を構成し、上記接着剤組成物の所定量をそのコルゲーションの上に塗布して、各層を圧力下に接着する、積層コルゲート紙またはカードボードの製法を含んでもよい。本発明の方法により製造された物品は、任意にチューブまたは巻き付けチューブの形態である、積層非コルゲートまたはコルゲート紙またはカードボード、カードボード、コルゲートカードボード；およびカードボードまたはコルゲートカードボードを含む容器または包装容器からなる群から選択されうる。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
接着剤組成物の総重量に基づいて接着剤成分少なくとも７重量％かつ最大３０重量％を含有し、該接着剤成分が少なくとも一つのポリビニルアルコールおよび／または少なくとも一つのデキストリンおよび／または少なくとも一つの澱粉を含有し、さらに接着剤組成物がカルボマーおよび要すればホウ素化合物を含むものであって、該カルボマーが架橋されており、該接着剤組成物が最大ｐＨ１３を有しかつ、澱粉とホウ素化合物が接着剤組成物に存在するときには組成物中の全ての澱粉の９１．０％以上が冷水不溶形態であることを特徴とする水性接着剤組成物。
【請求項２】
更に、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）またはキサンタンガムを含む請求項１記載の組成物。
【請求項３】
以下の特徴：
（ｉ）７０℃以下のゲル化点
（ii）％ブリックス（Brix)における屈折計の読み１５％以下
（iii）フレッシュな接着剤組成物についてスピンドル４を有するブルックフィールドＲＶ装置で１５０ｒｐｍのスピードで測定して２５℃ブルックフィールド粘度５００〜５０００ｍＰａ．ｓ、および
（iv）（iii）に従ってスピンドルスピード１ｒｐｍで測定した粘度÷スピンドルスピード１５０ｒｐｍで測定した粘度の比率少なくとも５．００
の少なくとも一つを有する請求項１または２のいずれかに記載の組成物。
【請求項４】
実質上ホウ素またはホウ素含有化合物および／またはＮａＯＨフリーである１〜３いずれかに記載の組成物。
【請求項５】
更にホウ素含有化合物を含有する請求項１〜４いずれかに記載の組成物。
【請求項６】
ホウ素含有化合物が、ホウ酸、ナトリウムまたはカリウムポリボレートの水和または非水和形態、ホウ酸無水物、ナトリウムおよびカリウムメタボレート、並びにそれらの混合物から成る群から選択される請求項５記載の組成物。
【請求項７】
ホウ素含有化合物が、ナトリウムテトラボレート、ペンタボレートおよびオクタボレート、並びにそれらの混合物から成る群から選択される請求項６記載の組成物。
【請求項８】
ホウ素含有化合物が、ナトリウムテトラボレートデカハイドレート（ボラックス）である請求項６記載の組成物。
【請求項９】
（ｉ）ポリビニルアルコールおよび／または少なくとも一つのデキストリンおよび／または少なくとも一つの澱粉から選択される少なくとも一つの接着成分、（ii）カルボマーおよび（iii）塩基および要すればホウ素化合物を含有し、該カルボマーが架橋されており、澱粉とホウ素化合物が接着剤組成物に存在するときには組成物中の全ての澱粉の９１．０％以上が冷水不溶形態であることを特徴とする固体乾燥プレミックス組成物。
【請求項１０】
塩基がナトリウム（ビ）カーボネートである請求項９記載の組成物。
【請求項１１】
更に、接着促進剤、表面張力剤、消泡剤、スケール除去剤、光学透明化剤、防カビ剤、殺菌剤、着色剤、湿潤剤、粘度調整剤、レオロジー変性剤、凍結防止剤、溶剤およびそれらの混合物からなる群から選択される１以上の成分を含む請求項１〜１０いずれかに記載の組成物。
【請求項１２】
澱粉の少なくとも一部が澱粉の原料としてのフラワー（flour）を用いて提供される請求項１〜１１いずれかに記載の組成物。
【請求項１３】
（ａ）要すれば澱粉の一次量を水の一次量と混合し、熱および／または塩基を加えて第１次澱粉を少なくとも部分的にゲル化して第１キャリアーを形成する工程、
（ｂ）要すればカルボマーを水の第２次量に溶解して第２キャリアーを形成する工程、
（ｃ）要すれば工程（ｂ）からの第２キャリアーを、澱粉不存在下に、塩基に混合することにより所望のｐＨに中和して第３キャリアーを形成する工程、
（ｄ）水の第３次量、接着成分、および所望の更なる成分を工程（ａ）からの第１キャリアー、工程（b）からの第２キャリアーおよび／または所望の工程（ｃ）からの第３キャリアー中に混合し、水性接着組成物を形成する工程、
を包含する、請求項１〜８または請求項１〜８に従属する請求項１１または１２のいずれかに記載の水性接着剤組成物の製造方法。
【請求項１４】
工程（ａ）、（ｂ）、（ｃ）または（ｄ）に置いて、ホウ素含有化合物、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）、キサンタンガム、接着促進剤、光学透明化剤、表面張力剤、消泡剤、スケール除去剤、防カビ剤、殺菌剤、着色剤、湿潤剤、粘度調整剤、レオロジー変性剤、凍結防止剤、溶剤およびそれらの混合物からなる群から選択される１以上の更なる成分中に混合する請求項１３記載の製造方法。
【請求項１５】
更に、水を蒸発して乾燥粉末を形成する工程（ｅ）を含む請求項１３または１４記載の製造方法。
【請求項１６】
接着成分、カルボマー、要すれば十分な塩基および所望の更なる成分を乾燥混合して所望の固体プレミックス組成物を得る、請求項９または１０、或いは請求項９または１０に従属する請求項１１または１２のいずれかに記載の固体乾燥プレミックス組成物の製造方法。
【請求項１７】
澱粉の少なくとも一部が澱粉の原料としてのフラワーを用いて導入される請求項１３〜１６いずれかに記載の製造方法。
【請求項１８】
更に、工程（ｄ）の水性接着剤組成物または工程（ｅ）の固体プレミックス組成物を用いて、基材と接着結合を形成して基材と接着結合を含む物品を形成することを含む請求項１３〜１７いずれかに記載の製造方法。
【請求項１９】
物品が、任意にチューブまたは巻き付けチューブの形態である、積層非−コルゲートまたはコルゲート紙またはカードボード、カードボード、コルゲートカードボード；およびカードボードまたはコルゲートカードボードを含む容器または包装容器からなる群から選択される請求項１８記載の製造方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年5月27日(2015.5.27)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
核反応炉のための金属燃料ピンシステムにおいて、
環状の金属核燃料合金であって、照射されると中央孔が７５％又はそれ以下の有効燃料密度を提供する、金属核燃料合金と、
前記金属核燃料合金を取り囲むとともに前記金属核燃料合金にぴったり合うジルコニウムシースと、
前記シースを取り囲むクラッディングと、
前記クラッディング内のガスプレナムと、を備えているシステム。
【請求項２】
前記金属核燃料合金はウラン‐ジルコニウムを備えている、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記金属核燃料合金はウラン‐モリブデンを備えている、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記金属核燃料合金は超ウラン元素を備えている、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記金属核燃料合金はトリウム合金を備えている、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記ガスプレナムにはヘリウムが充填されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記クラッディングは鋼である、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
金属燃料鋳型システムにおいて、
鋳型ブロックと、
ねじの切られた中央ロッドと、
金属核燃料合金を受け入れるための環状開口部であって、シースで被覆された環状の金属燃料が照射されると前記環状開口部は７５％又はそれ以下の有効燃料密度を提供する、環状開口部と、
前記環状開口部の内径に隣接するジルコニウムシースと、を備えるシステム。
【請求項９】
前記鋳型ブロックは黒鉛を備えている、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記ねじの切られた中央ロッドは、窒化チタンがコーティングされた鋼又はねじの切られた中実の黒鉛ロッドを備えている、請求項８に記載のシステム。
【請求項１１】
前記金属核燃料合金はウラン‐ジルコニウムを備えている、請求項８に記載のシステム。
【請求項１２】
前記金属核燃料合金はウラン‐モリブデンを備えている、請求項８に記載のシステム。
【請求項１３】
前記金属核燃料合金は超ウラン元素を更に備えている、請求項８に記載のシステム。
【請求項１４】
前記金属核燃料合金はトリウム合金を備えている、請求項８に記載のシステム。
【請求項１５】
前記システムは下注ぎ鋳造に適合されている、請求項８に記載のシステム。
【請求項１６】
シースで被覆された環状の金属核燃料を加工する方法において、
液状の金属核燃料合金を鋳型の中へ下注ぎする工程であって、前記鋳型は、当該鋳型内の孔のセットと、前記孔それぞれの大凡中央にあるロッドと、前記１つ又はそれ以上の孔それぞれの内側のジルコニウムシースと、を備えている、その様な鋳型に下注ぎする工程と、
前記液状の金属核燃料合金に、シースで被覆された環状の金属燃料を形成させる工程と、
前記シースで被覆された環状の金属燃料を取り出す工程と、
前記シースで被覆された環状の金属燃料を、ガスプレナムを設けて、クラッディングに設置する工程と、を備え、
前記シースで被覆された環状の金属燃料が照射されると前記１つ又はそれ以上の孔のそれぞれは７５％又はそれ以下の有効燃料密度を提供する、方法。
【請求項１７】
前記１つ又はそれ以上の管は、下注ぎ工程に先立って前記クラッディングの中へ設置される、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記ロッドは、窒化チタンがコーティングされた鋼ロッド又はねじの切られた中実の黒鉛ロッドを備えている、請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
前記金属核燃料合金はウラン‐ジルコニウムを備えている、請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
前記金属核燃料合金はウラン‐モリブデンを備えている、請求項１６に記載の方法。
【請求項２１】
前記金属核燃料合金は超ウラン元素を備えている、請求項１６に記載の方法。
【請求項２２】
前記金属核燃料合金はトリウム合金を備えている、請求項１６に記載の方法。
【請求項２３】
再処理燃料の遠隔加工を更に備えている、請求項１６に記載の方法。
【請求項２４】
環状の金属燃料スラグを使用する方法において、
下注ぎ鋳造によって作り出される環状の金属燃料スラグを提供する工程と、
前記環状の金属燃料スラグを初期照射する工程と、を備え、
前記環状の金属燃料スラグ内の中央孔は照射されると７５％又はそれ以下の有効燃料密度を提供する、方法。
【請求項２５】
再処理燃料の遠隔加工を更に備えている、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
使用済み燃料からマイナーアクチニドを除去し、当該マイナーアクチニドを新しい金属燃料と合金化する工程を更に備えている、請求項２４に記載の方法。
【請求項２７】
前記環状の金属燃料スラグを取り囲むジルコニウムシースを提供する工程を更に備えている、請求項２４に記載の方法。
【請求項２８】
前記環状の金属燃料スラグは、トリウム合金を備えている、請求項２４に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２６】
[0026]図３は、１つの実施形態による、シースで被覆された環状の金属燃料システム３０１を示している。ジルコニウムシース２０５を有する環状の燃料スラグ２０１は、クラッディングジャケット２０７の中へ設置される。環状の燃料スラグ２０１に関する裕度は、クラッディング２０７に嵌って殆ど隙間が残らないような裕度とすることができる。クラッディングジャケット２０７内のガスプレナム３０３には、適切な熱伝達を作り出すためにヘリウムガス３０５を充填することができる。シースで被覆された環状の金属燃料システム３０１には、エンドキャップ３０７及び／又は底の鋤状部３０９も含まれている。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月17日(2014.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
骨の損傷部位に局所投与される、治療上有効な量の、ｉｎ  ｖｉｖｏでの骨への投与のために滅菌された、インシュリン疑似（ｉｎｓｕｌｉｎ−ｍｉｍｅｔｉｃ）バナジウム化合物および骨部位の局所へデリバリーするための製薬上許容できる生体適合性担体を含む、骨損傷の治療を促進する必要のある患者の骨損傷の治癒を促進するための薬剤組成物。
【請求項２】
前記インスリン疑似バナジウム化合物が、バナジルアセチルアセトネート（ＶＡＣ）、バナジルスルフェート（ＶＳ）、バナジル３−エチルアセチルアセトネート（ＶＥＴ）、およびビス（マルトラト）オキソバナジウム(bis(maltolato)oxovanadium)（ＢＭＯＶ）からなる群より選択される、請求項１に記載の薬剤組成物。
【請求項３】
前記インスリン疑似バナジウム化合物が、バナジルアセチルアセトネート（ＶＡＣ）である、請求項１に記載の薬剤組成物。
【請求項４】
前記インスリン疑似バナジウム化合物が、骨の損傷部位に直接投与される、請求項１〜３のいずれか１項に記載の薬剤組成物。
【請求項５】
前記骨の疾患が、骨折、骨の外傷、関節固定、および外傷後の骨の手術(post-traumatic bone surgery)、補綴後の関節の手術(post-prosthetic joint surgery)、整形後の骨の手術(post-plastic bone surgery)、ポストデンタル手術(post-dental surgery)、骨の化学療法処置(bone chemotherapy treatment)、先天性骨欠損、外傷後の骨欠損(post traumatic bone loss)、手術後の骨欠損(post surgical bone loss)、感染後の骨欠損(post infectious bone loss)、同種移植片の埋め込み(allograft incorporation)または骨の放射線療法処置(bone radiotherapy treatment)に関連する骨欠損疾患(bone deficit condition)からなる群より選択される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の薬剤組成物。
【請求項６】
前記骨の疾患が、骨折、骨欠損(osseous defects)、ならびに癒合遷延(delayed unions)および癒合不全(non-unions)から選択される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の薬剤組成物。
【請求項７】
同種移植片、自家移植片または整形外科用のバイオ複合材料と組み合わせて使用される、請求項１〜６のいずれか１項に記載の薬剤組成物。
【請求項８】
前記インスリン疑似バナジウム化合物が、前記バナジウム化合物を含む骨移植片用のバイオ複合材料(bone graft biocomposite)によって局所投与される、請求項１〜６のいずれか１項に記載の薬剤組成物。
【請求項９】
前記骨移植片用のバイオ複合材料が、自家移植片、同種移植片、異種移植片、人工移植片(alloplastic graft)、および合成移植片からなる群より選択される、請求項８に記載の薬剤組成物。
【請求項１０】
細胞毒性薬、サイトカインまたは成長阻害剤を前記バナジウム化合物と一緒に投与される(co-administer)、請求項１〜６のいずれか１項に記載の薬剤組成物。
【請求項１１】
外来骨成長刺激剤(external bone growth stimulator)と組み合わせて使用される、請求項１〜６のいずれか１項に記載の薬剤組成物。
【請求項１２】
生物活性骨剤(bioactive bone agent)をさらに含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の薬剤組成物。
【請求項１３】
前記生物活性骨剤が、ペプチド成長因子、抗炎症因子、炎症促進因子、アポトーシスの阻害剤、ＭＭＰ阻害剤、および骨異化アンタゴニストからなる群より選択される、請求項１２に記載の薬剤組成物。
【請求項１４】
前記ペプチド成長因子が、ＩＧＦ（１，２）、ＰＤＧＦ（ＡＡ、ＡＢ、ＢＢ）、ＢＭＰ、ＦＧＦ（１−２０）、ＴＧＦ−β（１−３）、ａＦＧＦ、ｂＦＧＦ、ＥＧＦ、ＶＥＧＦ、副甲状腺ホルモン（ＰＴＨ）、および副甲状腺ホルモン関連ペプチド（ＰＴＨｒＰ）からなる群より選択される、請求項１３に記載の薬剤組成物。
【請求項１５】
前記抗炎症因子が、抗ＴＮＦα、可溶性ＴＮＦレセプター、ＩＬｌｒａ、可溶性ＩＬ１レセプター、ＩＬ４、ＩＬ−１０、およびＩＬ−１３からなる群より選択される、請求項１３に記載の薬剤組成物。
【請求項１６】
前記骨異化アンタゴニストが、ビスホスホネート、オステオプロテゲリン、およびスタチンからなる群より選択される、請求項１３に記載の薬剤組成物。
【請求項１７】
前記患者が、哺乳動物である、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の薬剤組成物。
【請求項１８】
前記患者が、ヒトである、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の薬剤組成物。
【請求項１９】
前記患者が、非糖尿病の(non-diabetic)ヒトである、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の薬剤組成物。
【請求項２０】
骨損傷の治療を必要とする患者の骨の損傷部位に局所投与され、治療上有効な量の、ｉｎ  ｖｉｖｏでの骨への投与のために滅菌された、インシュリン疑似（ｉｎｓｕｌｉｎ−ｍｉｍｅｔｉｃ）バナジウム化合物を含む、骨損傷の治癒を促進するための薬剤組成物。
【請求項２１】
少なくとも一つの生体適合性担体をさらに含む、請求項２０に記載の薬剤組成物。
【請求項２２】
前記生体適合性担体が、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、ならびにポリ乳酸およびポリグリコール酸の共重合体からなる群より選択される、請求項２１に記載の薬剤組成物。
【請求項２３】
前記生体適合性担体が、少なくとも一つの生分解性脂肪酸またはその金属塩を含む、請求項２１に記載の薬剤組成物。
【請求項２４】
前記脂肪酸が、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、ミリスチン酸、およびこれらの金属塩からなる群より選択される、請求項２３に記載の薬剤組成物。
【請求項２５】
前記生体適合性担体が、多孔質または非多孔質リン酸カルシウム、多孔質または非多孔質ヒドロキシアパタイト、多孔質または非多孔質リン酸３カルシウム、多孔質または非多孔質リン酸４カルシウム、多孔質または非多孔質硫酸カルシウム、およびこれらの組み合わせからなる群より選択される塩を含む、請求項２１に記載の薬剤組成物。
【請求項２６】
骨の自家移植、骨の同種移植、自家幹細胞処置、同種幹細胞処置、化学的刺激、電気的刺激、内固定、および外固定からなる群より選択される少なくとも一つの処置と一緒に治療される、請求項２０〜２５のいずれか１項に記載の薬剤組成物。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年2月23日(2015.2.23)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのデータパケットを含むデータブロックを送信機から受信するための方法であって、通信ネットワークにおける受信機のマルチキャストグループの受信機側で使用される、方法であって、
ａ．前記データブロックの前記少なくとも１つのデータパケットを受信するステップと、
ｂ．前記データブロックの送信の間のパケット損失により前記データブロックを復号するには十分でないデータパケットが受信された場合、前記データブロックの送信後に、前記マルチキャストグループのすべての受信機に割り当てられた同じ単一のタイムスロットの間にＮＡＫメッセージを送出するステップであって、前記ＮＡＫメッセージは前記マルチキャストグループのすべての受信機に対して同じである、ステップと、
ｃ．前記送信機から少なくとも１つの回復データパケットを受信するステップであって、前記回復データパケットに対する単一の上りフィードバックタイムスロットを割り当てる、ステップと、
ｄ．所定の条件が満たされるまでステップｂおよびｃを繰り返すステップであって、前記ステップｂおよびｃの繰り返し回数は前記受信機の受信条件に基づいて変化する、ステップと、
を含む、前記方法。
【請求項２】
前記同じ単一のタイムスロットは、同期上りチャンネルのタイムスロットである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記少なくとも１つの回復データパケットを受信した後にパケット損失がまだあるため、少なくとも１つの受信機において前記データブロックを復号する問題を有する場合に行われる前記送出するステップをさらに含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
ＮＡＫメッセージを送出するために考慮されるデータパケットは、前記少なくとも１つのデータパケット、および、少なくとも１つの回復データパケットを含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記所定の条件は、与えられたデータブロックに対する回復シンボルの最大数、または、与えられたデータブロックに対する前記回復シンボルを送信する最大許容時間期間である、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか１項に記載の、データブロックを受信するための方法を実施する受信機。
【請求項７】
少なくとも１つのデータパケットを含むデータブロックを受信機のマルチキャストグループに送出するための方法であって、通信ネットワークの送信機で使用される、方法であって、
ａ．前記データブロックの前記少なくとも１つのデータパケットを送出するステップと、
ｂ．前記マルチキャストグループのすべての受信機に対してＮＡＫメッセージを送出するための同じ単一のタイムスロットを提供するステップであって、前記ＮＡＫメッセージは前記マルチキャストグループからのすべての受信機に対して同じである、ステップと、
ｃ．ＮＡＫメッセージが受信された場合、
ｄ．少なくとも１つの回復データパケットを前記マルチキャストグループの前記受信機に送出するステップと、
ｅ．さらに同じ単一のタイムスロットを前記マルチキャストグループの受信機に提供してさらなるＮＡＫメッセージを送出するステップと、
ｆ．所定の条件が満たされるまでステップｃからｅまでを繰り返すステップであって、前記ステップｃからｅの繰り返し回数は前記受信機の受信条件に基づいて変化する、ステップと、
を含む、前記方法。
【請求項８】
前記同じ単一のタイムスロットは、同期上りチャンネルのタイムスロットである、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記さらなるＮＡＫメッセージは、前記少なくとも１つのデータパケット、または、前記少なくとも１つの回復パケットのパケット損失を示す、請求項７または８に記載の方法。
【請求項１０】
前記所定の条件は、前記さらに送出するステップの数である、請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
請求項７ないし１０のいずれか１項に記載の、データブロックを送信するための方法を実施する送信機。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
図４は、本発明の実施形態による、ＮＡＫ抑制のためのタイムスロット割当てを示す図
である。送出機側では、ブロック１における初期パケットまたはシンボル（パケット１乃
至パケット５）が最初に送信される。ブロック送信の間に、受信機からのレポート応答は
不要となる。パケット５が送られるときに、受信状態を報告するための上りタイムスロットがこのマルチキャストセッションに属するすべての受信機に割当てられる。データブロックにおける初期シンボル送信の間にパケット損失がある場合に、例えば、受信機１０７−１がＰ１／Ｐ３／Ｐ５に関して損失を有し、受信機１０７−２がＰ３に関して損失を有し、受信機１０７−３がＰ２に関して損失を有する場合に、ＮＡＫメッセージは受信機によって送出される。この例において、マルチキャストグループのすべての受信機はブロック１に関してパケット損失を有するので、各受信機は、図３に定義される同一のメッセージフォーマットを使用することにより、ＮＡＫを同時に第１の上りフィードバックタイムスロットにおいて報告する。ＮＡＫを受信すると、送信機は、マルチキャストグループにおける少なくとも１つの端末装置は初期データパケットを復号化するのに問題があることが分かるので、送信機は、追加の回復パケットまたはシンボルＲ１を次のフレームの下りタイムスロットにおいて送出し、次にＲ１と同じフレームにおいてもう１つの上りフィードバックスロットを割当てる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年7月24日(2015.7.24)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００２】
[0002]ゼオライトは、ＡｌＯ２及びＳｉＯ２の４面体の角部を共有することによって形成される微孔性の結晶質アルミノシリケート組成物である。天然及び合成の両方の数多くのゼオライトが種々の工業プロセスにおいて用いられている。合成ゼオライトは、Ｓｉ、Ａｌの好適な源、並びにアルカリ金属、アルカリ土類金属、アミン、又は有機アンモニウムカチオンのような構造指向剤を用いる水熱合成によって製造される。構造指向剤は、ゼオライトの孔内に残留し、最終的に形成される特定の構造に大きく関与する。これらの種はアルミニウムと会合して骨格電荷を平衡化し、また空間充填剤として働かせることもできる。ゼオライトは、均一な寸法の孔開口を有し、大きなイオン交換能を有し、永久的なゼオライト結晶構造を構成する全ての原子を大きく変位させることなく結晶の内部空孔全体にわたって分散している吸着相を可逆的に脱着させることができることを特徴とする。ゼオライトは炭化水素転化反応のための触媒として用いることができ、この反応は外表面上及び孔内の内表面上で行うことができる。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００３】
[0003]ＭＣＭ−６８と名付けられたＭＳＥ構造タイプの１つの特定のゼオライトが、Calabroらによって１９９９年に開示された（米国特許第６，０４９，０１８号明細書）。この特許においては、ジカチオン指向剤であるＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラアルキルビシクロ［２．２．２］オクト−７−エン−２Ｒ，３Ｓ：５Ｒ，６Ｓ−ジピロリジニウムジカチオン及びＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラアルキルビシクロ［２．２．２］オクタン−２Ｒ，３Ｓ：５Ｒ，６Ｓ−ジピロリジニウムジカチオンからＭＣＭ−６８を合成することが記載されている。ＭＣＭ−６８は、それぞれのチャネルが４面体配位原子の１２員環によって画定されている少なくとも１つのチャネル系、及びそれぞれのチャネルが４面体配位原子の１０員環によって画定されている少なくとも２つの更なる独立のチャネル系を有し、固有の１０員環チャネルの数が１２員環チャネルの数の２倍であることが見出された。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年11月4日(2014.11.4)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ニッケル−チタン形状記憶材料でできているワイヤを含む医療装置であって、該形状記憶材料の２分の１よりも大きい範囲が３７℃でオーステナイトであり、該形状記憶材料が、Ｔｉ５６重量％のＮｉを有するニチノール・ワイヤ、Ｔｉ５５．８重量％およびＮｉ−０．２５重量％のＣｒを有するニチノール・ワイヤ、Ｔｉ５５．８重量％Ｎｉを有するニチノール・ワイヤのいずれかから選択され、該ワイヤが１０６を超えるサイクルで１．９０％の頂点間ひずみ振幅を上回る疲労耐久性を有することによって特徴付けられる、医療装置。
【請求項２】
前記ワイヤは、１０６を超えるサイクルで２．２％の頂点間ひずみ振幅を上回る疲労耐久性を有することにおいて特徴付けられる、請求項１の医療装置。
【請求項３】
前記ワイヤは、１０９を超えるサイクルで２．２％の頂点間ひずみ振幅を上回る疲労耐久性を有することにおいて特徴付けられる、請求項１の医療装置。
【請求項４】
前記ワイヤは、少なくとも９．５％の工学ひずみを受けた後に０．２５％未満の残留ひずみを有することにおいて特徴付けられる、請求項１の医療装置。
【請求項５】
前記ワイヤが、等温で回復可能でないひずみが１％より小さい、請求項１の医療装置。
【請求項６】
前記ワイヤが、円形断面を有することを特徴とする請求項１の医療装置。
【請求項７】
形状記憶材料でできていて、該形状記憶材料が複数の欠損を有するワイヤ製品を含む医療装置であって、
該形状記憶材料が、Ｔｉ５６重量％のＮｉを有するニチノール・ワイヤ、Ｔｉ５５．８重量％およびＮｉ−０．２５重量％のＣｒを有するニチノール・ワイヤ、Ｔｉ５５．８重量％Ｎｉを有するニチノール・ワイヤのいずれかから選択され、
該ワイヤ製品が、第１の位相の該形状記憶材料で構成され、
該ワイヤ製品が、該欠損のすぐ近くの場所に局所化された塑性変形を受けた第２の位相の該形状記憶材料を含み、該第１の位相によって分離された少なくともいくつかの第２の位相が存在しており、
該形状記憶材料がニッケル−チタン形状記憶材料であり、
該ワイヤが、１０６を超えるサイクルで１．９０％の頂点間ひずみ振幅を上回る疲労耐久性を有することによって特徴付けられる、医療装置。
【請求項８】
前記第１の位相がオーステナイト位相であり、前記第２の位相がマルテンサイト位相である、請求項７の医療装置。
【請求項９】
前記第２の位相の部分が前記形状記憶材料の１５％未満の容量を占める、請求項７または８の医療装置。
【請求項１０】
前記形状記憶材料がニッケル−チタン形状記憶材料であり、該ワイヤが、１０６を超えるサイクルで２．２％の頂点間ひずみ振幅を上回る疲労耐久性を有することによって特徴付けられる請求項７から９のいずれかの医療装置。
【請求項１１】
前記形状記憶材料がニッケル−チタン形状記憶材料であり、該ワイヤが、１０９を超えるサイクルで２．２％の頂点間ひずみ振幅を上回る疲労耐久性を有することによって特徴付けられる請求項７から９のいずれかの医療装置。
【請求項１２】
前記ワイヤ製品は、少なくとも９．５％の工学ひずみを受けた後に０．２５％未満の残留ひずみを有することにおいて特徴付けられる、請求項７から１１のいずれかの医療装置。
【請求項１３】
前記ワイヤ製品は、円形の断面を有するワイヤ、円形でない断面を有するワイヤ、ケーブル、コイルおよび管から構成されるグループから選択されることにおいて特徴付けられる、請求項７から１２のいずれかの医療装置。
【請求項１４】
前記ワイヤが、等温で回復可能でないひずみが１％より小さい、請求項７から１３のいずれかの医療装置。
【請求項１５】
前記ワイヤ製品が、円形断面を有することを特徴とする請求項７から１４のいずれかの医療装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３０】
ここで使用されるように、「欠損」とは、介在物、孔、空洞および酸化物構造のような材料の溶融後に内因的にまたは外因的に生じる欠損、および、亀裂や転位のような材料の内部または外部に存在する欠損を指す。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年8月11日(2015.8.11)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
１つの有利な実施形態では、加工プロセスおよび／または材料特性を監視して測定信号を検出する少なくとも１つの検出装置と、該検出装置に接続された評価装置とが設けられる。この評価装置は、前記検出装置の測定信号から加工プロセスおよび／または材料特性の実際値を求める。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２３】
本発明の方法の有利な実施形態では、検出装置によって測定信号を検出し、該検出装置に接続された評価装置によって加工プロセスおよび／または材料特性の実際値を求める。前記加工パラメータは有利には、適合装置によって事前設定にしたがい、前記評価装置によって求められた実際値に相応して、機器オペレータによって選択されたターゲットパラメータに適合される。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３０】
補正規則によって行われる加工パラメータの変更は段階的に、すなわち複数の適合レベルで行うか、または連続的に行うことができる。加工パラメータの連続的な適合はとりわけ、加工プロセスの実際状態または使用される被加工品の材料特性が検出装置および評価装置を使用して求められる場合に有利である。複数の適合レベルで加工パラメータを適合する際には、選択されたターゲットパラメータに相応して加工パラメータをより大きな幅で変化させることにより、たとえば加工プロセスのプロセス確実性を向上する。たとえばレーザ出力および送り速度は、第１の適合レベルでは４％ないしは１０％低減され、第２の適合レベルでは５％ないしは２５％低減される。もちろん、レーザ出力および送り速度の他に、場合によっては別の加工パラメータも適合しなければならないこともある。第１の適合レベルより第２の適合レベルのプロセス確実性を向上させるためには、機器オペレータは送り速度を低減し、ひいては加工時間を長くする。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４３】
ステップＳ３４において機器オペレータは検出装置３６および評価装置３７を作動化し、該検出装置３６および評価装置３７はステップＳ３５において、材料の特性を表す実際値を検出する。評価装置３７によって検出された実際値に基づいて、機器オペレータはステップＳ３６において、偏差する材料特性に基づいて加工パラメータを適合すべきか否かの推奨を受け取る。機器オペレータはステップＳ３７において、加工パラメータの適合を行うべきか否かを決定する。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４６】
複数の適合レベルで加工パラメータを適合する他に、加工パラメータを連続的に適合することもできる。このような連続的な適合では、評価装置３７によって検出された各実際値ごとに、補正規則のパラメータセットが事前設定で割り当てられている。加工パラメータを段階的に適合することは、連続的な適合と比較して、求めて記憶しなければならない補正規則のパラメータセット数が少ないという利点を有する。それに対し、加工パラメータを連続的に適合することの利点は、偏差する材料特性に合わせてほぼ最適に加工パラメータを変化させることが可能であることだ。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
制御プログラムを使用してレーザ加工設備（１）を制御するための制御装置（３０）であって、
前記制御装置（３０）は、前記制御プログラムで使用される標準的なレーザ加工パラメータ、および、前記標準的なレーザ加工パラメータを変更するための、複数の適合レベルを有する補正規則を記憶するデータメモリ（３３）を含み、
前記制御装置（３０）は、前記標準的なレーザ加工パラメータと前記補正規則とに基づいて、変更された加工パラメータを計算して、転送ファイルに書き込む適合装置（３１）を含み、
前記制御装置（３０）は、さらに、被加工品の材料特性の実際値を求める手段（３６、３７）を含み、
但し、前記補正規則は、異なる被加工品の材料特性にそれぞれ相応する適合レベルを含んでおり、
前記適合装置（３１）が、求められた前記実際値に相応する前記複数の適合レベルをオペレータに示し、前記オペレータによって１つの適合レベルが選択され、前記オペレータによって選択された前記適合レベルに相応する加工パラメータを計算し、前記被加工品の加工前に前記標準的な加工パラメータを前記計算された加工パラメータに変更する、
ことを特徴とする、制御装置。
【請求項２】
前記適合レベルを前記オペレータが選択する前に、前記標準的なレーザパラメータの変更を行うべきか否かの推奨が前記オペレータに示され、
前記オペレータによって前記変更を行うべきでないと判断されたとき、前記標準的なレーザパラメータが前記転送ファイルに書き込まれ、
前記オペレータによって前記変更を行うべきと判断されたとき、前記適合装置（３１）によって前記変更された加工パラメータが前記転送ファイルに書き込まれる、
請求項１記載の制御装置。
【請求項３】
制御プログラムによってレーザ加工設備（１）を制御するための制御方法であって、
前記制御プログラムで使用される標準的なレーザ加工パラメータ、および、前記標準的なレーザ加工パラメータを変更するための、複数の適合レベルを有する補正規則をデータメモリ（３３）に記憶しており、
適合装置（３１）が、前記標準的なレーザ加工パラメータと前記補正規則とに基づいて、変更された加工パラメータを計算して、転送ファイルに書き込む、
制御方法であって、
さらに、被加工品の材料特性の実際値を求め、
但し、前記補正規則は、異なる前記材料特性にそれぞれ相応する適合レベルを含んでおり、
前記適合装置（３１）が、求められた前記実際値に相応する前記複数の適合レベルをオペレータに示し、前記オペレータによって１つの適合レベルが選択され、前記オペレータによって選択された前記適合レベルに相応する加工パラメータを計算し、前記被加工品の加工前に前記標準的な加工パラメータを前記計算された加工パラメータに変更する、
ことを特徴とする、制御方法。
【請求項４】
前記適合レベルを前記オペレータが選択する前に、前記標準的なレーザパラメータの変更を行うべきか否かの推奨を前記オペレータに示し、
前記オペレータによって前記変更を行うべきでないと判断されたとき、前記標準的なレーザパラメータを前記転送ファイルに書き込み、
前記オペレータによって前記変更を行うべきと判断されたとき、前記適合装置（３１）によって前記変更された加工パラメータを前記転送ファイルに書き込む、
請求項３記載の制御方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年8月7日(2015.8.7)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
銅のＣＭＰの適用に関して、比較的低固体分散物(すなわち、1質量パーセント以下の全懸濁固体物(TSS)レベルで研磨剤濃度を有する)を用いることが望ましい場合があり、その固体分散物は銅に対して化学的な反応性がある。化学的反応性は、酸化剤、錯化剤、腐食抑制剤、pH、イオン強度等の使用を通して調節され得る。ＣＭＰスラリーの化学的な反応性と機械的な研磨特性を調節することを困難にする可能性がある。多くの市販されている銅ＣＭＰスラリーは化学的に高い反応性があり、例えば、ベンゾトリアゾール(ＢＴＡ)、他の有機トリアゾール及びイミダゾールのような有機腐食抑制剤によって少なくとも部分的に制御された高速の銅スタチックエッチング速度を提供する。ところが、多くのそのようなＣＭＰ組成物は、研磨後は良好な腐食の制御を提供しない。また、通常の市販されている銅ＣＭＰスラリーは、度々、ディッシング-エローション、比較的大きな欠陥性、及び表面トポグラフィーの問題を抱える。さらに多くの従来の銅ＣＭＰスラリーは、高水溶性銅錯体を作り出す銅錯形成の配位子を利用しているので、それが過酸化水素の存在下で、好ましくない水酸化銅の形成へと導く。水酸化銅の形成によって基材の表面に酸化銅が堆積する可能性があり、段々とスラリーの研磨性能を劣化させる可能性がある(このプロセスの説明図として図１を参照)。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１０】
【図１】図1は、過酸化水素の存在下で溶解性の銅錯体から酸化銅形成の略図を示す。
【図２】図2は、研磨剤粒子の表面に吸着した高分子電解質及び銅錯化剤(グリシン)を有する研磨剤粒子の略図を示す。
【図３】図3は、コロイダルシリカを含み、高分子電解質及び銅錯化剤が存在する場合及び存在しない場合のＣＭＰ組成物についてのゼータ電位及び粒子サイズの棒グラフを示す。
【図４】図4は、二酸化チタンを含み、高分子電解質及び銅錯化剤が存在する場合及び存在しない場合のＣＭＰ組成物についてのゼータ電位及び粒子サイズの棒グラフを示す。
【図５】図5は、本発明の組成物中の高分子電解質及び錯化剤によって作り出される潜在的な相互作用及び不動態フイルムの効果を示す。
【図６】図6は、表面不動態錯体を形成するために、イミノ二酢酸がCu(+2)に対して還元剤として作用する可能的な機構を示す。
【図７】図7は、コロイダルシリカ、ポリ(マドクアット)及びグリシンを含む本発明の組成物についての銅除去速度(Cu RR、Å/min)の棒グラフを表す。
【図８】図8は、二酸化チタン、ポリ(マドクアット)及びグリシン含む本発明の組成物についての銅除去速度(Cu RR、Å/min)の棒グラフを表す。
【図９】図9は、銅除去速度(RR)対、1質量パーセントのイミノ二酢酸、量を変化させたポリ(アクリル酸-コ-アクリルアミド)(PAA-PAcAm)、および0.1質量パーセントのコロイダルシリカを含む組成物で得られた過酸化水素レベル及び高分子電解質レベルの表面プロットを示す。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
銅含有基材を研磨するための化学機械研磨(ＣＭＰ)組成物であって、該組成物が、
(a)０．１から０．５質量パーセントの範囲であって、二酸化チタン及び二酸化ケイ素から成る群から選ばれる、粒子状研磨剤、
(b)高分子電解質、
(c)イミノジ酢酸、エチレンジアミンジコハク酸、イミノジコハク酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、ニトリロトリ酢酸及びそれらの塩、並びにそれらの組み合わせから選ばれるアミノポリカルボキシレートである銅錯化剤、該銅錯化剤は0.5から1.5質量パーセントの範囲の濃度で該組成物中に存在する、及び、
(d)水性キャリア、
を含み、
該高分子電解質がアニオン性又は両性ポリマーを含み、50から1000ppmの範囲の濃度で該組成物中に存在する、
組成物。
【請求項２】
前記高分子電解質が少なくとも10,000グラム-パー-モル(g/mol)の重量平均分子量を有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記高分子電解質がアクリル酸のポリマー又はコポリマーを含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
粒子状研磨剤が100nm以下の平均粒子サイズを有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
銅含有基材を研磨するための化学機械研磨(ＣＭＰ)組成物であって、該組成物が、
(a)100nm以下の平均粒子サイズを有し、０．１から０．５質量パーセントの範囲であって、二酸化チタン及び二酸化ケイ素から成る群から選ばれる、粒子状研磨剤、
(b)100から1000ppmのアニオン性又は両性高分子電解質、
(c)0.5から1.5質量パーセントの、イミノジ酢酸、エチレンジアミンジコハク酸、イミノジコハク酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、ニトリロトリ酢酸及びそれらの塩、並びにそれらの組み合わせから選ばれるアミノポリカルボキシレート銅錯化剤、及び、
(d)水性キャリア、
を含む、
組成物。
【請求項６】
前記高分子電解質が少なくとも50,000グラム-パー-モル(g/mol)の重量平均分子量を有する、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
前記高分子電解質がアクリル酸のポリマー又はコポリマーを含む、請求項５に記載の組成物。
【請求項８】
前記高分子電解質がアクリル酸とアクリルアミドのコポリマーを含む、請求項５に記載の組成物。
【請求項９】
前記アミノポリカルボキシレートがイミノ二酢酸又はその塩を含む、請求項５に記載の組成物。
【請求項１０】
前記粒子状研磨剤が二酸化チタン及び二酸化ケイ素からなる群から選ばれる少なくとも一つの金属酸化物を含む、請求項５に記載の組成物。
【請求項１１】
銅含有基材を研磨する方法であって、該方法が、請求項１に記載のＣＭＰ組成物で該基材の表面を摩耗させることを含む、方法。
【請求項１２】
前記ＣＭＰ組成物が、100から1000ppmの高分子電解質及び0.5から1.5質量パーセントの銅錯化剤を含み、並びに該高分子電解質がアニオン性又は両性ポリマーを含み、さらに該銅錯化剤がアミノポリカルボキシレート化合物を含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記ＣＭＰ組成物が、10から150ppmの高分子電解質及び0.5から1.5質量パーセントの銅錯化剤を含み、並びに該高分子電解質がカチオン性ポリマーを含み、さらに該銅錯化剤がアミノ酸を含む、請求項１１に記載の方法。