Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月14日(2015.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者の眼のレーザー治療の方法であって、
少なくとも二つのエネルギー曲線を形成するステップであって、該少なくとも二つのエネルギー曲線は、第１の検出可能な外傷を前記患者の眼に生成するために動作可能なレーザービームアウトプットの持続時間及び出力の組合せを示す第１エネルギー曲線と、第２の検出可能な外傷を前記患者の眼に生成するために動作可能なレーザービームアウトプットの持続時間及び出力の組合せを示す第２エネルギー曲線とを含み、前記第１の検出可能な外傷と前記第２の検出可能な外傷は異なったタイプの診療結果を有している前記ステップと、
レーザー治療ビームを発生するレーザーエネルギー源を準備するステップと、
前記レーザー治療ビームの出力の明細を得るステップと、
前記レーザー治療ビームの得られた出力の詳細に少なくとも部分的に基づいて前記レーザー治療ビームのための動作曲線を生成するステップであって、前記動作曲線はエネルギー値目盛を前記レーザー治療ビームのアウトプットの持続時間と出力に関連付け、前記動作曲線は前記第１エネルギー曲線と(i)第１の持続時間と出力の組合わせにおいて交わり及び前記第２エネルギー曲線は(ii)第２の持続時間と出力の組合せにおいて交わり、
(i)または(ii)の選択を表すインプットを受け取るステップと、
患者の眼の対応する検出可能な外傷を生成するための選択に対応するレーザー治療ビームの出力及び持続時間を調節するステップとを含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記第１エネルギー曲線と前記第２エネルギー曲線は、前記エネルギー値目盛の線形変化を、前記レーザー治療ビームによって生じることになる前記患者の前記眼内の細胞損傷の予測量を表す値の指数関数的変化に関連付けることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１エネルギー曲線は、細胞損傷の予測量を表す計算されたアレニウス曲線であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記選択された持続時間及び出力の組合せは、目に見えない外傷を前記患者の前記眼に生成するように動作可能である前記レーザー治療ビームの出力を表すことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
エネルギー値の直線的変化は、前記レーザー治療ビームによって形成されるエネルギーの指数関数的変化に関連することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
可視通知又は可聴通知のうちの少なくとも１つを前記レーザー治療ビームの発生の少なくとも３秒後に生成するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記検出可能な外傷は、目に見える外傷又は目に見えない外傷を含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記エネルギー値は、単一の数値からなることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
ユーザー選択のためのユーザインターフェースのエネルギー値を表示することをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記レーザー治療ビームの出力及び持続時間を調整するステップが、前記(i)及び(ii)の間の動作曲線に沿って前記レーザー治療ビームの出力と持続時間の用量設定を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
患者の眼のレーザー治療のための動作曲線を生成する方法であって、
レーザー治療ビームを発生するように構成されたレーザーエネルギー源を準備するステップと、
前記患者の前記眼の検出可能な外傷の形成を生じさせるレーザー治療ビームの出力及び持続時間を決定するステップと、
前記レーザー治療ビームの前記出力及び前記持続時間に関連付けられる定数アレニウス積分値を決定するステップと、
前記定数アレニウス積分値を有する定数−アレニウス曲線をプロットするステップと、
前記定数アレニウス積分値の対数値を有する複数の定数−アレニウス曲線をプロットするステップと、
エネルギー値目盛の最大エネルギー値を、前記検出可能な外傷を生じさせる前記出力及び前記持続時間に割り当てるステップと、
前記動作曲線を、
前記エネルギー値目盛のエネルギー値と前記複数の定数−アレニウス曲線との間の複数の交点、及び
前記エネルギー値目盛の前記最大エネルギー値と前記定数−アレニウス曲線との間の交点
に少なくとも部分的に基づいて生成するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１２】
前記動作曲線は、
前記エネルギー値目盛のエネルギー値と前記複数の定数−アレニウス曲線との間の複数の交点、及び
前記エネルギー値目盛の前記最大エネルギー値と前記定数−アレニウス曲線との間の交点
を含むことを特徴とする、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記エネルギー値は、単一の数値からなることを特徴とする、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
患者の眼のレーザー治療のためのシステムであって、
レーザー治療ビームを発生するように構成されたレーザーエネルギー源と、
ユーザが、前記レーザー治療ビームによって前記患者に送達されるエネルギー量を表すエネルギー値を選択することを可能にするように構成されたインタフェースと、
前記選択されたエネルギー値に応じて前記レーザー治療ビームの出力及び持続時間を調節するように構成されたコントローラと、
を含み、
前記コントローラーが、第１動作曲線または第２動作曲線に少なくとも部分的に基づいて前記レーザー治療ビームの出力と持続時間の一方を調節するようになっており、前記第１動作曲線は出力の指数関数的変化を計算されたアレニウス値の指数関数的変化に関連つけ、該計算されたアレニウス値は前記レーザー治療によっては発生される患者の眼の細胞損傷の量を表し、前記第２動作曲線は持続時間の指数関数的変化を前記計算されたアレニウス値の指数関数的変化に関連つけることを特徴とするシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月15日(2015.7.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）第１の反応段階において、ヒドロホルミル化反応物質を流動性の反応混合物中で発熱反応させて、反応生成物を生成するステップと、
（ｂ）更に発熱を伴って生成物を生成する反応を行うために、流動性の反応混合物のプロセス流を、反応段階から１以上の異なる後段の反応段階へ移送し、その後生成物回収ユニット操作へ移送するステップと、
（ｃ）熱移動のための反応混合物の流れを、反応段階から前記流れが冷却される外部熱交換器へ移送し、冷却された前記流れを複数の冷却された反応混合物流に分割するステップと、
（ｄ）ステップ（ｃ）からの冷却された反応混合物流を、前記反応混合流を取り出した同じ反応段階に戻し、当該反応段階中の反応混合物を冷却するステップと、
（ｅ）ステップ（ｃ）からの少なくとも１つの冷却された反応混合物流を、異なる反応段階を冷却する熱交換手段に移送して該手段を通過させ、前記反応混合物流を取り出した同じ反応段階に戻すステップと、
（ｆ）前記反応混合物から反応生成物を分離及び回収し、任意に少なくとも一部の反応混合物成分を反応段階中の反応混合物へ再循環するステップと、
を含む、少なくとも２つの反応段階を有する、改良された発熱ヒドロホルミル化プロセス。
【請求項２】
異なる反応槽で行われる少なくとも２つの反応段階を含む、請求項１記載の改良されたヒドロホルミル化プロセス。
【請求項３】
同一の反応槽で行われ、邪魔板により分離される少なくとも２つの反応段階を含む、請求項１記載の改良されたヒドロホルミル化プロセス。
【請求項４】
少なくとも２種の異なるロジウム含有ヒドロホルミル化触媒が使用され、異なる反応段階で使用される、請求項２に記載の改良されたヒドロホルミル化プロセス。
【請求項５】
ステップ（ｆ）から触媒を反応段階の反応混合物中に再循環して戻すステップを含む、請求項１記載の改良されたヒドロホルミル化プロセス。
【請求項６】
（ａ）第１の反応段階において、ロジウム含有ヒドロホルミル化触媒を用いて、オレフィン、水素及び一酸化炭素を含むヒドロホルミル化反応物質を液体反応混合物中で発熱反応させて、出発オレフィンよりも炭素原子が１つ多いアルデヒド又はアルデヒド混合物を与えるステップと、
（ｂ）更に発熱を伴って反応物質をアルデヒド生成物へ転化するために、反応混合物のプロセス流を、前記第１の反応段階から第２の反応段階へ移送するステップと、
（ｃ）熱移動のための反応混合物の流れを、前記第１の反応段階から前記流れが冷却される外部熱交換器へ移送し、冷却された前記流れを２つの冷却された反応混合物流に分割するステップと、
（ｄ）ステップ（ｃ）からの第１の冷却された反応混合物流を、該反応混合物流を取り出した第１反応段階に戻し、当該反応段階中の反応混合物を冷却するステップと、
（ｅ）ステップ（ｃ）からの第２の冷却された反応混合物流を、前記第２の反応段階を冷却する熱交換手段に移送して当該手段を通過させ、それを前記第１の反応段階に戻すステップと、
を含む、アルデヒド又はアルデヒドの混合物を製造するための、少なくとも第１及び第２の異なる反応段階を有する、請求項２に記載の改良されたヒドロホルミル化プロセス。
【請求項７】
ロジウム−リン錯体触媒及び遊離のリン配位子を用いる、請求項６記載の改良されたヒドロホルミル化プロセス。
【請求項８】
生成物を含む気体状生成物混合物が反応段階から触媒除去手段へ移送され、該触媒除去手段から、（ａ）触媒が前記反応段階に戻され、（ｂ）発熱を伴って反応物質をアルデヒド生成物へ転化するために、前記気体状生成物反応混合物流が（未反応反応物質と共に）前記第２の反応段階に移送され、ガスを含む再循環流が前記反応混合物に戻されるガス再循環プロセスを使用するステップを含む、請求項６記載の改良されたヒドロホルミル化プロセス。
【請求項９】
それぞれが単一の反応段階を有する２つの撹拌反応器を用いるステップを含む、請求項６記載の改良されたヒドロホルミル化プロセス。
【請求項１０】
外部冷却熱交換器からの１つの冷却された反応混合物流が前記第１の反応段階に戻され、外部冷却熱交換器からの複数の冷却された反応混合物流が、他の反応段階のための熱交換手段に供給され、それらの反応段階中の反応混合物を冷却するために使用され、その後前記第１の反応段階の反応混合物に戻される、邪魔板により分離された少なくとも２つの異なる反応段階を有する撹拌反応槽を用いるステップを含む、請求項６記載の改良されたヒドロホルミル化プロセス。
【請求項１１】
前記外部冷却熱交換器からの冷却された反応混合物流が複数の冷却された反応混合物流に分割され、１つの冷却された流れが前記第１の反応段階に戻され、冷却された流れの残りが前記第２の反応器中の熱交換手段の一部又は全てに供給される、第１の反応槽が単一の反応段階を有し、第２の反応槽が邪魔板で分離された２以上の反応段階を有する２基の撹拌反応槽を用いるステップを含む、請求項６記載の改良されたヒドロホルミル化プロセス。
【請求項１２】
前記オレフィンが、エチレン、プロピレン、１−ブテン、（シス又はトランス）２−ブテン、イソブテン及びそれらの混合物から選択される、請求項１に記載の改良されたヒドロホルミル化プロセス。
【請求項１３】
前記オレフィンがエチレン又はプロピレンである、請求項１２記載の改良されたヒドロホルミル化プロセス。
【請求項１４】
前記外部冷却熱交換器からの冷却された反応混合物に、未冷却の反応混合物が添加され、後段の反応段階を冷却する熱交換手段に供給される冷却された反応混合物流において所望の温度を得る、請求項１に記載の改良されたヒドロホルミル化プロセス。
【請求項１５】
前記外部冷却熱交換器からの冷却された混合物流が、後段の反応段階中の内部コイル熱交換手段に供給される、請求項１に記載の改良されたヒドロホルミル化プロセス。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月29日(2015.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
次の、表１中の代表的な化合物を、上述したものと類似の方法によって合成した。
2015504846.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月22日(2014.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
歯磨剤ベース中に（ｉ）マグネシウムアルカリ金属シリケート錯体クレーおよび（ｉｉ）口腔で許容可能なアニオン性ポリマーを含有し、かつ歯磨剤へ導入後、前記クレーが実質的に非水和のままである歯磨剤組成物。
【請求項２】
前記クレーがヘクトライト・クレーである請求項１記載の組成物。
【請求項３】
前記ヘクトライト・クレーが５８〜６１％の二酸化ケイ素、２６〜２９％の酸化マグネシウム、０．７〜０．９％の酸化ジリチウムおよび２．６〜３％の酸化ジナトリウムを含有する合成クレーである請求項２記載の組成物。
【請求項４】
前記クレーが組成物の約１〜５％である前述の請求項いずれかに記載の組成物。
【請求項５】
前記アニオン性ポリマーが合成アニオン性重合ポリカルボキシレートである前述の請求項いずれかに記載の組成物。
【請求項６】
前記アニオン性ポリマーが約３０，０００〜約１，０００，０００の平均分子量を有するメチルビニルエーテル／無水マレイン酸である前述の請求項いずれかに記載の組成物。
【請求項７】
前記アニオン性ポリマーが組成物の重量の約１〜５重量％である前述の請求項いずれかに記載の組成物。
【請求項８】
フッ化物、遊離若しくは口腔で許容可能な塩の形のアルギニン、ガリウム塩および塩基性アミノ酸ポリマーに加えて抗菌剤、抗炎症薬、ホワイトニング薬剤およびそれらの二つ以上の組合せから選ばれる添加剤の効果的量を更に含んでいる前述の請求項いずれかに記載の組成物。
【請求項９】
組成物が水、研磨剤、界面活性剤、起泡剤、ビタミン、ポリマー、酵素、湿潤剤、増粘剤、抗菌剤、防腐剤、香味料、着色料およびそれらの二つ以上の組合せの一以上を含有している練り歯磨きである前述の請求項いずれかに記載の組成物。
【請求項１０】
組成物の効果的量を必要としている被験者の口腔に接触する請求項１〜９いずれかに記載の組成物。
【請求項１１】
デンタル知覚過敏を処置または防止に使用するための請求項１〜９に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月22日(2014.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
口腔で許容可能なキャリヤー中に、アルカリ性プロテアーゼと、セルラーゼ、α−グルカナーゼおよびその組合せから選択される第２の酵素と、の組合せの効果的量を含有するオーラル・ケア組成物。 
【請求項２】
アルカリ性プロテアーゼがセリンプロテアーゼである請求項１記載の組成物。
【請求項３】
アルカリ性プロテアーゼがスブチリシン（ｓｕｂｔｉｌｉｓｉｎ）である請求項２記載の組成物。
【請求項４】
第２の酵素がセルラーゼである前述の請求項のいずれかに記載の組成物。
【請求項５】
第２の酵素がα−グルカナーゼである前述の請求項のいずれかに記載の組成物。
【請求項６】
０．００１％−０．１％のセルラーゼおよび０．００２％−０．２％のアルカリ性プロテアーゼを含有する前述の請求項のいずれかに記載の組成物。
【請求項７】
０．００２％−０．２％のα−グルカナーゼおよび０．００２％−０．２％のアルカリ性プロテアーゼを含有する前述の請求項のいずれかに記載の組成物。
【請求項８】
アルカリ性プロテアーゼが菌類（ｆｕｎｇａｌ）起源かまたは細菌（ｂａｃｔｅｒｉａｌ）起源である前述の請求項のいずれかに記載の組成物。
【請求項９】
洗口液、歯磨剤、歯ゲル、歯磨き粉、非研磨性ゲル、ムース、フォーム、マウス・スプレー、トローチ剤、オーラル錠剤、デンタル・インプリメント、義歯クリーナーおよびペット・オーラル・ケア用品から選択される形の前述の請求項のいずれかに記載の組成物。
【請求項１０】
組成物が必要に応じて更に水、研磨剤、界面活性剤、起泡剤、ビタミン、ポリマー類、添加酵素、湿潤剤、増粘剤、抗菌剤、防腐剤、香味料、着色料および／またはその組合せを含有する歯磨剤またはマウスウォッシュである前述の請求項のいずれかに記載の組成物。
【請求項１１】
組成物のｐＨが４．５〜６．５である前述の請求項のいずれかに記載の組成物。
【請求項１２】
遊離または酸付加塩の形態で塩基性アミノ酸を更に含有する前述の請求項のいずれかに記載の組成物。
【請求項１３】
効果的量のフッ化物イオン源を更に含有する前述の請求項のいずれかに記載の組成物。
【請求項１４】
以下の成分を重量によって含有するマウスウォッシュの形態の前述の請求項のいずれかに記載の組成物：
【表１】
2015504880.tif 000001
【請求項１５】
オーラル・ケア組成物の製造における、アルカリ性プロテアーゼと、セルラーゼおよびα−グルカナーゼから選択される第２の酵素の使用。
【請求項１６】
アルカリ性プロテアーゼと、セルラーゼおよびα−グルカナーゼから選ばれる第２の酵素とを含有するオーラル・ケア組成物において使用のための液体酵素プレ濃縮物。
【請求項１７】
アルカリ性プロテアーゼと、セルラーゼおよびα−グルカナーゼから選択される第２の酵素と、を含有する組成物であって、（ｉ）口腔における微生物バイオフィルム形成を抑制する、（ｉｉ）プラークの蓄積を減少する、（ｉｉｉ）歯肉炎を減らすか抑制する、（ｉｖ）虫歯の形成を減らすか抑制する、（ｖ）歯と口腔をきれいにする、および／または（ｖｉ）全身の健康を促進する方法に使用し、該方法が組成物の効果的量を口腔に適用することを包含する、組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月7日(2015.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸素に依存した色素または酸素に対して不安定な色素が想定される期間に密封容器内で変色しないように安定させる方法であって、
（１）外部の二酸化炭素を導入せずに前記密封容器内の空気の酸素濃度を低下させ、外部の二酸化炭素を前記密封容器に導入した場合には、想定される前記期間における色素の損傷を最小限とするレベルまで酸素濃度を低下させるステップと、
（２）前記密封容器内の空気の酸素濃度を保持しながらまたはさらに低下させながら、外部の二酸化炭素を前記密封容器に導入するステップと、
を有する方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法において、
前記色素は、ミオグロビンである方法。
【請求項３】
請求項１記載の方法において、
前記ステップ（２）の酸素濃度は、前記密封容器内で少なくとも３日間保持される方法。
【請求項４】
請求項１記載の方法において、
燃料電池を用いて酸素濃度を低下させる方法。
【請求項５】
請求項４記載の方法において、
前記燃料電池は、前記密封容器の内部にある方法。
【請求項６】
請求項４記載の方法において、
前記燃料電池は、前記密封容器の外部にある方法。
【請求項７】
請求項１記載の方法において、
酸素を窒素で置き換えて酸素濃度を低下させる方法。
【請求項８】
請求項１記載の方法において、
前記ステップ（１）において、前記密封容器内の空気の酸素濃度を５％未満にまで低下させる方法。
【請求項９】
請求項１記載の方法において、
前記ステップ（２）の前に、前記ステップ（１）で形成された前記密封容器内の空気中で食材が脱酸素化されるように食材を保持する方法。
【請求項１０】
請求項１記載の方法において、
前記ステップ（２）の前に、前記ステップ（１）で形成された前記密封容器内の空気中で食材を少なくとも１時間保持する方法。
【請求項１１】
請求項１記載の方法において、
前記ステップ（２）において、前記密封容器内の空気の酸素濃度を１，５００ｐｐｍ未満にまでさらに低下させる方法。
【請求項１２】
請求項１記載の方法において、
前記密封容器は、柔軟または収縮可能または膨張可能な素材を含む袋であり、
前記袋は、上部空間を有する方法。
【請求項１３】
請求項１記載の方法において、
前記密封容器は、硬い容器である方法。
【請求項１４】
請求項１記載の方法において、
前記色素は、赤肉またはティラピアまたはマグロまたはサバに存在するミオグロビン色素である方法。
【請求項１５】
請求項１記載の方法において、
想定される前記期間は、少なくとも３日である方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月25日(2015.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
事前圧壊容量マイクロマシン・トランスデューサセルであって、
基板と、
メンブレンであって、キャビティが、前記メンブレン及び前記基板の間に形成され、前記メンブレンは、穴及び前記穴を囲むエッジ部分を含み、前記メンブレンのエッジ部分が、前記基板に対して圧壊される、メンブレンと、
前記メンブレンの穴において配置されるプラグであって、総メンブレン領域のサブエリアにおいてのみ配置される、プラグとを有する、事前圧壊容量マイクロマシン・トランスデューサセルにおいて、前記プラグは前記基板に接触するか又は固定される事前圧壊容量マイクロマシン・トランスデューサセル。
【請求項２】
前記メンブレンの穴が、前記総メンブレン領域の中心領域に配置される、請求項１に記載のセル。
【請求項３】
前記プラグが、前記基板に配置されるステム部と、前記エッジ部分に配置されるヘッド部分とを有する、請求項１に記載のセル。
【請求項４】
前記プラグが、前記メンブレンに対する所定の応力値を持つ応力層を除去することにより形成されるリセスを有する、請求項１に記載のセル。
【請求項５】
前記メンブレン上に応力層を更に有し、前記応力層が、所定の応力値を持つ、請求項１に記載のセル。
【請求項６】
前記プラグは、窒化物、二酸化ケイ素又はこれらの組み合わせから作られる、請求項１に記載のセル。
【請求項７】
前記メンブレン及び／又は前記プラグに配置されるカバー層を更に有する、請求項１に記載のセル。
【請求項８】
前記基板上に又はこの中にある第１の電極と、前記メンブレン上に又はこの中にある第２の電極とを更に有する、請求項１に記載のセル。
【請求項９】
前記第２の電極が、環状の電極である、請求項８に記載のセル。
【請求項１０】
前記キャビティが、環状のキャビティである、請求項１に記載のセル。
【請求項１１】
前記セルが、超音波の送信及び／又は受信に関する、容量マイクロマシン超音波トランスデューサセルである、請求項１に記載のセル。
【請求項１２】
事前圧壊容量マイクロマシン・トランスデューサセルを製造する方法において、
基板を提供するステップと、
総メンブレン領域を覆うメンブレンを提供するステップであって、キャビティが前記メンブレン及び前記基板の間に形成される、ステップと、
前記メンブレンにおいて穴を提供するステップであって、前記メンブレンが、前記穴を囲むエッジ部分を有する、ステップと、
前記基板に対して前記メンブレンのエッジ部分を圧壊させるステップと、
前記メンブレンの穴に配置されるプラグを提供するステップであって、前記プラグが、前記総メンブレン領域のサブエリアにおいてのみ配置され、前記基板に接触するか又は固定される、ステップとを有する、方法。
【請求項１３】
前記プラグを提供するステップが、少なくとも前記総メンブレン領域における前記メンブレンに追加的な層を適用し、前記サブエリアに配置される前記層の部分を除いて前記層を除去するステップを有する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記メンブレン上に応力層を提供するステップを更に有し、前記応力層が、前記メンブレンに対する所定の応力値を持つ、請求項１２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月8日(2015.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者の焦点深度を高めるように構成されているマスクであり、実質的に全ての可視入射光を光軸に沿って透過するように構成されているアパーチャを備える前記マスクを備える眼科デバイスであって、
前記マスクは、前記アパーチャを囲む構造体を更に含み、前記構造体は、可視光に対して実質的に不透明であるように、かつ波長が約７５０ｎｍから約１５００ｎｍの間である少なくとも一部の不可視電磁放射線に対して実質的に透明であるように構成されていることを特徴とする眼科デバイス。
【請求項２】
前記構造体の中に複数の孔を更に含み、前記複数の孔は不規則なパターンで散在しており、前記マスクの両側のレンズ本体部分の間に結合を形成することができるように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の眼科デバイス。
【請求項３】
前記複数の孔はそれぞれ約０．０１ｍｍから０．０２ｍｍの間の直径を有することを特徴とする請求項２に記載の眼科デバイス。
【請求項４】
前記構造体は、電磁放射線を吸収することができる少なくとも１種の染料を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の眼科デバイス。
【請求項５】
前記少なくとも１種の染料は、第１の染料および第２の染料を含み、前記第１の染料は電磁放射線波長の第１の範囲を吸収し、前記第２の染料は電磁放射線波長の第２の範囲を吸収することを特徴とする請求項４に記載の眼科デバイス。
【請求項６】
前記電磁放射線波長の第１の範囲および前記電磁放射線波長の第２の範囲は、可視電磁放射線の実質的に全ての範囲を含み、それにより可視電磁放射線の実質的に全ての範囲が吸収され、前記電磁放射線波長の第１の範囲および前記電磁放射線波長の第２の範囲は、電磁放射線の近赤外域の実質的範囲を含まず、それにより、近赤外電磁放射線の実質的に全ての範囲を透過することができることを特徴とする請求項５に記載の眼科デバイス。
【請求項７】
前記少なくとも１種の染料は、第３の染料を更に含み、前記第３の染料は電磁放射線波長の第３の範囲を吸収することを特徴とする請求項５または６に記載の眼科デバイス。
【請求項８】
前記電磁放射線波長の第１の範囲、前記電磁放射線波長の第２の範囲、および、前記電磁放射線波長の第３の範囲は、可視電磁放射線の実質的に全ての範囲を含み、それにより可視電磁放射線の実質的に全ての範囲が吸収され、前記電磁放射線波長の第１の範囲、前記電磁放射線波長の第２の範囲、および、前記電磁放射線波長の第３の範囲は、電磁放射線の近赤外域の実質的範囲を含まず、それにより、近赤外電磁放射線の実質的に全ての範囲を透過することができることを特徴とする請求項７に記載の眼科デバイス。
【請求項９】
前記第１の染料はオレンジ色染料であり、前記第２の染料は青緑色染料であることを特徴とする請求項５から８のいずれか一項に記載の眼科デバイス。
【請求項１０】
前記第１の染料はオレンジ色染料であり、前記第２の染料は青緑色染料であり、前記第３の染料は黄色染料であることを特徴とする請求項７または８に記載の眼科デバイス。
【請求項１１】
前記オレンジ色染料は、２−［Ｎ−エチル−４−［（４−ニトロフェニル）ジアゼニル］アニリノ］エチルプロパ−２−エノエートであることを特徴とする請求項９または１０に記載の眼科デバイス。
【請求項１２】
前記青緑色染料は、２−［−（｛４−［（４−｛２−［（２−メチルプロパ−２−エノイル）オキシ］エチル｝フェニル）アミノ］−９，１０−ジオキソ−９，１０−ジヒドロ−アントラセン−１−イル｝アミノ）フェニル］エチル−２−メチルプロパ−２−エノエートであることを特徴とする請求項９〜１１のいずか一項に記載の眼科デバイス。
【請求項１３】
当該眼科デバイスは、ＵＶ遮断剤を更に含み、前記ＵＶ遮断剤は電磁放射線のＵＶ域の少なくとも一部で遮断することを特徴とする請求項４〜１２のいずれか一項に記載の眼科デバイス。
【請求項１４】
前記ＵＶ遮断剤は、ベンゾトリアゾールＵＶ遮断剤であることを特徴とする請求項１３に記載の眼科デバイス。
【請求項１５】
前記ＵＶ遮断剤は、（［２−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１，１−ジメチルエチル）−４−エテニルフェノールであることを特徴とする請求項１３に記載の眼科デバイス。
【請求項１６】
ＵＶ遮断剤を更に含み、前記ＵＶ遮断剤は、（［２−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１，１−ジメチルエチル）−４−エテニルフェノールであり、少なくとも１種の染料は、２−［Ｎ−エチル−４−［（４−ニトロフェニル）ジアゼニル］アニリノ］エチルプロパ−２−エノエートおよび２−［４−（｛４−［（４−｛２−［（２−メチルプロパ−２−エノイル）オキシ］エチル｝フェニル）アミノ］−９，１０−ジオキソ−９，１０−ジヒドロ−アントラセン−１−イル｝アミノ）フェニル］エチル−２−メチルプロパ−２−エノエートを含むことを特徴とする請求項４に記載の眼科デバイス。
【請求項１７】
可視入射光の大部分を光軸に沿って透過するように構成されている第１のゾーンと、
前記第１のゾーンの周囲に配置され、可視光に対して実質的に不透明であるように、かつ可視スペクトル外の少なくとも一部の電磁放射線に対して実質的に透明であるように構成されているマスクと、
を備えることを特徴とする患者の焦点深度を高めるように構成されている眼科デバイス。
【請求項１８】
前記マスクは、近赤外スペクトルにおける少なくとも一部の電磁放射線に対して実質的に透明であることを特徴とする請求項１７に記載の眼科デバイス。
【請求項１９】
可視域における光に対して実質的に不透過であるピンホール結像デバイスの一部と、電磁放射線源を位置合わせする工程と、
波長が約７５０ｎｍから約１５００ｎｍの間である電磁放射線を実質的に不透過な部分を介して透過させる工程と、
を含む、ピンホール結像デバイスが配置されていることを特徴とする患者の眼の検査方法。
【請求項２０】
患者インターフェースを有する光コヒーレンストモグラフィー装置を準備する工程と、
患者と患者インターフェースとを係合させる工程と、
を更に含むことを特徴とする請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
波長が約７５０ｎｍから約１５００ｎｍの間である電磁放射線を、ピンホール結像デバイスのアパーチャを介して透過させる工程を更に含むことを特徴とする請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
電磁放射線をピンホール結像デバイスのアパーチャおよび実質的に不透過の部分を介して同時に透過させることを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月15日(2015.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一次装置及び二次装置を備える電気システムであって、該一次装置が、
電力源と、
前記二次装置を受け入れるように構成されたキャビティと、
前記二次装置がキャビティ内にある場合に前記電力源に電気接続されて前記二次装置の対応する接点に接触するように構成された前記キャビティ内の複数の電気接点と、
前記二次装置を前記少なくとも１つの電気接点に接触した状態に保持する第１の位置と、前記二次装置が少なくとも１つの電気接点に接触した状態から脱して自由に移動できる第２の位置と、の間を移動できる蓋と、
を含み、前記蓋が、前記二次装置が前記キャビティ内にあり前記蓋が前記第１の位置にある場合に前記キャビティから有機物質を放出することができる少なくとも１つのアパーチャを含む、電気システム。
【請求項２】
前記一次装置は、前記蓋が前記第１の位置に無い場合に前記複数の電気接点を経由した前記二次装置への電力供給を阻止するように構成される、請求項１に記載の電気システム。
【請求項３】
前記第１の位置において、前記蓋が、前記二次装置を前記複数の電気接点と接触するように付勢する、請求項１又は２に記載の電気システム。
【請求項４】
前記二次装置が前記キャビティ内に配置された場合に前記二次装置を前記蓋に向かって付勢するように構成された少なくとも１つの弾性要素を含む、請求項１〜３の何れかに記載の電気システム。
【請求項５】
前記複数の電気接点のうちの少なくとも１つが、前記少なくとも１つの弾性要素である、請求項４に記載の電気システム。
【請求項６】
電源装置が、前記二次装置の二次バッテリを再充電するのに適した方法で前記二次装置に電力を供給するように構成される、請求項１〜５の何れかに記載の電気システム。
【請求項７】
前記二次装置が、電気加熱式エアロゾル発生装置である、請求項１〜６の何れかに記載の電気システム。
【請求項８】
前記二次装置が電気加熱要素を含み、前記一次装置は、前記蓋が前記第１の位置にある場合に前記二次装置に電力を供給して、前記電気加熱要素を加熱して該加熱要素上に付着又は堆積した有機物質を熱的に遊離するように構成される、請求項７に記載の電気システム。
【請求項９】
前記二次装置が充電式バッテリを含み、前記一次装置が、前記二次装置が少なくとも１つの電気接点に接触する状態で前記二次装置の充電式バッテリを再充電するのに適した方法で前記二次装置に電力を供給するように構成される、請求項７又は８の何れかに記載の電気システム。
【請求項１０】
エアロゾル形成基材と、請求項１〜９の何れかに記載の電気システムとを備えたエアロゾル発生システムであって、前記二次装置が、前記エアロゾル形成基材を受け入れるよう構成されたエアロゾル発生装置であり、前記蓋は、前記二次装置がキャビティ内にありかつ前記エアロゾル形成基材が前記二次装置内に収容されている場合に前記第１の位置に移動することが阻止される、エアロゾル発生システム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月2日(2015.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコンをエッチングする方法であって、以下のステップ：
エッチングされる材料の少なくとも１個のシリコン表面を銅金属で部分的に被覆するステップ；及び
前記少なくとも１個の表面を、酸化剤及びフッ化物イオン源を有する水性エッチング組成物に露出するステップ；
を有し、及び
エッチングされる材料をエッチングする間中、バイアスはシリコンに印加されない、方法。
【請求項２】
前記銅金属の少なくとも一部は、前記エッチングされる材料の少なくとも１個の表面上に無電解堆積プロセスにより形成され、且つ
前記無電解堆積プロセスは、前記エッチングされる材料の少なくとも１個の表面を、銅塩及びフッ化物イオン源を有する水性堆積組成物に露出することを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記酸化剤は、Ｏ２；Ｏ３；及びＮＯ３−，Ｓ２Ｏ８２−，ＮＯ２−，Ｂ４Ｏ７２−もしくはＣｌＯ４−の酸もしくは塩又はこれらの混合物からなるグループから選択される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記酸化剤は、アルカリ金属硝酸塩、硝酸アンモニウム及びこれらの混合物からなるグループから選択される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記水性エッチング組成物は銅イオンを実質的に含まない、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記水性エッチング組成物は、前記酸化剤及び任意にはさらにフッ化物イオンを前記水性堆積組成物に添加することにより形成され；
前記酸化剤及び任意のさらなるフッ化物イオンは水性形態で添加され；及び
銅イオンの濃度は前記水性酸化剤及び任意のさらなるフッ化物の添加により希釈される、請求項２乃至４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
無電解堆積した銅が、複数の孤立した銅の島をいったん形成したら、さらなる銅の無電解堆積を実質的に停止するため、前記水性酸化剤及び任意のさらなるフッ化物の添加により銅イオンの濃度が希釈される、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
無電解堆積した銅が銅の単分子層をいったん形成したら、さらなる銅の無電解堆積を実質的に停止するため、前記水性酸化剤及び任意のさらなるフッ化物の添加により銅イオンの濃度が希釈される、請求項６又は７に記載の方法。
【請求項９】
前記エッチングされる材料は、無電解堆積の後及び前記水性エッチング組成物に対して露出される前に、水性堆積組成物から除去される、請求項２乃至５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
無電解堆積した銅は複数の孤立した銅の島を形成し、前記少なくとも１個のシリコン表面上に前記複数の孤立した銅の島を提供するため、エッチングされる材料は第１の水性組成物から除去される、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記無電解堆積した銅は銅の単分子層を形成し、前記少なくとも１個のシリコン表面上に前記銅の単分子層を提供するため、前記エッチングされる材料は第１の水性組成物から除去される、請求項９又は１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記少なくとも１個の表面をエッチングすることにより形成されたエッチングされたシリコン表面から延びるシリコンピラーを形成するため、前記少なくとも１個の表面はエッチングされる、請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
エッチングされたシリコン表面からシリコンピラーを分離するステップをさらに有する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
水性エッチング組成物はアルコールを実質的に含まない、請求項１乃至１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記少なくとも１個の表面を水性堆積組成物に２分間未満露出する、請求項２乃至１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
シリコンは抵抗率少なくとも０．００５Ω・ｃｍを有する、請求項１乃至１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
前記シリコンはｎドープされたもの、ｐドープされたものもしくはこれらの混合物である、請求項１ないし１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
前記エッチングされる少なくとも１個の表面は｛１１１｝もしくは｛１００｝配向を有する、請求項１乃至１７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】
前記エッチングされる材料の少なくとも１個の表面は少なくとも０．５ミクロンの深さまでエッチングされる、請求項１乃至１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】
エッチングされたシリコンは、前記少なくとも１個の表面をエッチングすることにより形成された少なくとも１個のエッチングされた表面内に延びるポアを有する、請求項１乃至１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
前記ポアは直径少なくとも５０ｎｍを有する、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記エッチングされる材料はバルクシリコンの形態である、請求項１乃至２１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２３】
前記エッチングされたバルクシリコンを複数のエッチングされたバルクシリコン破片へ粉砕するステップを有する、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記エッチングされる材料はシリコン粉末の形態である、請求項１乃至２１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５】
前記シリコン粉末はシリコンフレークを有する、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
エッチングされたシリコン構造の表面上に残留する銅は保持される、請求項１乃至２５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２７】
エッチングされたシリコン構造を、ケイ化銅を形成するようにアニールする、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
請求項１乃至２７のいずれか一項に記載の方法により得られる、エッチングされたシリコン。
【請求項２９】
請求項２８に記載のエッチングされたシリコンの活物質と、前記活物質と電気的に接触した導電性集電体とを有する電極。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月6日(2015.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ナビゲート可能セグメントの電子地図における経路の生成に利用されるコストデータを生成する方法であって、
複数のユーザからプローブデータを受信するステップであって、該プローブデータは、各ユーザに対して、時間に対するユーザの移動を表す移動データと、時間と共にユーザの移動に関連付けられた少なくとも１つの身体運動の計測値を表す身体運動データと、を含む、前記受信するステップと、
前記電子地図の１以上のナビゲート可能セグメントに対する正規化された経路コストデータを生成するため、ユーザに対する能力プロファイルを用いて、前記受信した各ユーザのプローブデータを処理するステップと、
前記経路コストデータを前記電子地図の前記１以上のナビゲート可能セグメントに関連付けるステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記プローブデータは、前記電子地図の１以上の所与のナビゲート可能セグメントに沿った多数のユーザの移動を表す移動データと関連付けられた身体運動データとを含み、
前記方法は、前記１以上の所与のナビゲート可能セグメントの各々に対する正規化された経路コストの生成が可能となるように、各ユーザの前記能力プロファイルを使用して、前記１以上の所与のナビゲート可能セグメントに沿ったユーザの移動に関連する前記多数のユーザからのプローブデータを処理するステップを含む
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記移動データは、
時間に関するユーザの位置を表すデータを含み、
時間に関するユーザの標高を表す標高データをオプションで含む
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記プローブデータは、ユーザにより運搬、搬送又は着用されるように構成されるパーソナルトレーニング装置の位置決定追跡手段から受信され、
該位置決定追跡手段は、グローバルナビゲーション衛星システム（ＧＮＳＳ）受信機を含む
ことを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記身体運動データは、ユーザの心拍数の表示である
ことを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記能力プロファイルは、少なくともユーザの健康状態レベルの関数である
ことを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記コストデータは、機械学習処理を用いて決定される
ことを特徴とする請求項１乃至６の何れか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記１以上のナビゲート可能セグメントに対する前記コストデータは、時間及び／又は天候に依存する
ことを特徴とする請求項１乃至７の何れか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記ナビゲート可能セグメントは、オフロードセグメントである
ことを特徴とする請求項１乃至８の何れか一項に記載の方法。
【請求項１０】
ユーザの能力プロファイル及び／又は１以上のユーザ指定パラメータに基づいて提案される経路をユーザに提供するため、前記正規化したコストデータを使用するステップを更に含む
ことを特徴とする請求項１乃至９の何れか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記１以上のユーザ指定パラメータは、
アクティビティ時間、距離、開始位置、終了位置、セグメントタイプ、身体運動
から構成されるグループから選択される
ことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
コンピュータ上で実行されるとき、請求項１乃至１１の何れか一項に記載の方法を実行するのに適したプログラムコードを含むコンピュータプログラム。
【請求項１３】
複数のナビゲート可能セグメントを表すデータと、
前記複数のナビゲート可能セグメントの１以上と関連付けられた、請求項１乃至１１の何れか一項に記載の方法を使用して生成された経路コストデータと、
を含む電子地図。
【請求項１４】
ナビゲート可能セグメントの電子地図における経路の生成に利用されるコストデータを生成するためのシステムであって、
複数のユーザからプローブデータを受信する手段であって、該プローブデータは、各ユーザに対して、時間に対するユーザの移動を表す移動データと、時間と共にユーザの移動に関連付けられた少なくとも１つの身体運動の計測値を表す身体運動データと、を含む、前記受信する手段と、
前記電子地図の１以上のナビゲート可能セグメントに対する正規化された経路コストデータを生成するため、ユーザに対する能力プロファイルを用いて、前記受信した各ユーザのプローブデータを処理する手段と、
前記経路コストデータを前記電子地図の前記１以上のナビゲート可能セグメントに関連付ける手段と、
を有することを特徴とするシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月11日(2015.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の半導体材料を含み、アスペクト比が1.0〜2.0の間の、但し1.0及び2.0を含まない、異方性ナノ結晶コア、
異方性ナノ結晶コアを少なくとも部分的に取り囲む第二の、異なる半導体材料を含むナノ結晶シェル、及び
ナノ結晶シェル及び異方性ナノ結晶コアを封止する絶縁層、を含む半導体構造。
【請求項２】
絶縁層が、ナノ結晶シェル及び異方性ナノ結晶コアのための、該絶縁層の外への不透過性のバリアとなる、請求項１記載の半導体構造。
【請求項３】
絶縁層が一のナノ結晶シェル／異方性ナノ結晶コアペアリングのみを封止する、請求項１記載の半導体構造。
【請求項４】
絶縁層が、シリカ (SiOx)、酸化チタン (TiOx)、酸化ジルコニウム (ZrOx)、アルミナ(AlOx)、及びハフニア (HfOx)からなる群より選ばれる材料の層を含む、請求項１記載の半導体構造。
【請求項５】
該層が、約3〜30ナノメートルの厚みを有するシリカの層である、請求項４記載の半導体構造。
【請求項６】
ナノ結晶コアは、約2〜5ナノメートルの直径を有し、ナノ結晶シェルは、長軸及び短軸を有し、長軸は約5〜40ナノメートルの長さを有し、且つ短軸はナノ結晶コアの直径より約1〜5ナノメートル大きく、及び絶縁層は該長軸と共軸である軸に沿って約1〜20ナノメートルの厚みを有し、且つ該短軸と共軸である軸に沿って約3〜30ナノメートルの厚みを有する、請求項１記載の半導体構造。
【請求項７】
ナノ結晶シェルを少なくとも部分的に取り囲むナノ結晶外側シェルを、ナノ結晶シェルと絶縁層の間に、さらに含み、ナノ結晶外側シェルは、第一及び第二の半導体材料と異なる第三の半導体材料を含む、請求項１記載の半導体構造。
【請求項８】
異方性ナノ結晶コア及びナノ結晶シェルが量子ドットを形成する、請求項１記載の半導体構造。
【請求項９】
量子ドットの吸収スペクトル及び発光スペクトルが本質的に重複しない、請求項８記載の半導体構造。
【請求項１０】
量子ドットの、400ナノメートルでの吸収対量子ドットの励起子ピークでの吸収の吸収比が約5〜35である、請求項８記載の半導体構造。
【請求項１１】
絶縁層が不定形層である、請求項１記載の半導体構造。
【請求項１２】
第一の半導体材料を含む異方性ナノ結晶コア、
異方性ナノ結晶コアを少なくとも部分的に取り囲む第二の、異なる半導体材料を含むナノ結晶シェル、及び
ナノ結晶シェル及びコアを封止する絶縁層であって、該絶縁層の外表面がリガンド官能化されている、絶縁層、
を含む半導体構造。
【請求項１３】
絶縁層がナノ結晶シェル及び異方性ナノ結晶コアのための、該絶縁層の外への不透過性のバリアとなる、請求項１２記載の半導体構造。
【請求項１４】
絶縁層が一のナノ結晶シェル／異方性ナノ結晶コアペアリングのみを封止する、請求項１２記載の半導体構造。
【請求項１５】
絶縁層が、シリカ (SiOx)、酸化チタン (TiOx)、酸化ジルコニウム (ZrOx)、アルミナ(AlOx)、及びハフニア (HfOx)からなる群より選ばれる材料の層を含む、請求項１２記載の半導体構造。
【請求項１６】
該層が、約3〜30ナノメートルの厚みを有するシリカの層である、請求項１５記載の半導体構造。
【請求項１７】
ナノ結晶コアは、約2〜5ナノメートルの直径を有し、ナノ結晶シェルは、長軸及び短軸を有し、長軸は約5〜40ナノメートルの長さを有し、且つ短軸はナノ結晶コアの直径より約1〜5ナノメートル大きく、及び絶縁層は該長軸と共軸である軸に沿って約1〜20ナノメートルの厚みを有し、且つ該短軸と共軸である軸に沿って約3〜30ナノメートルの厚みを有する、請求項１２記載の半導体構造。
【請求項１８】
ナノ結晶シェルを少なくとも部分的に取り囲むナノ結晶外側シェルを、ナノ結晶シェルと絶縁層の間に、さらに含み、ナノ結晶外側シェルは、第一及び第二の半導体材料と異なる第三の半導体材料を含む、請求項１２記載の半導体構造。
【請求項１９】
異方性ナノ結晶コア及びナノ結晶シェルが量子ドットを形成する、請求項１２記載の半導体構造。
【請求項２０】
量子ドットの吸収スペクトル及び発光スペクトルが本質的に重複しない、請求項１９記載の半導体構造。
【請求項２１】
量子ドットの、400ナノメートルでの吸収対量子ドットの励起子ピークでの吸収の吸収比が約5〜35である、請求項１９記載の半導体構造。
【請求項２２】
量子ドットがダウンコンバートする量子ドットである、請求項１９記載の半導体構造。
【請求項２３】
発光ダイオード、及び
複数の半導体構造、
を含む照明器具であって、各半導体構造が、
第一の半導体材料を含むナノ結晶コア；及び
ナノ結晶コアを少なくとも部分的に取り囲む第二の異なる半導体材料を含むナノ結晶シェル、
を含み、少なくとも90％のフォトルミネッセンス量子収率(PLQY)を有する、量子ドット、並びに
量子ドットを封止する絶縁層を含む、
照明装置。
【請求項２４】
第一の半導体材料から、1.0〜2.0の間、但し1.0及び2.0を含まない、アスペクト比を有する異方性ナノ結晶コアを形成すること； 
第二の、異なる半導体材料からナノ結晶シェルを形成して異方性ナノ結晶コアを少なくとも部分的に取り囲むこと；及び
ナノ結晶シェル及び異方性ナノ結晶コアを封止する絶縁層を形成すること、
を含む、半導体構造を作る方法。
【請求項２５】
絶縁層を形成することが、ナノ結晶シェル及び異方性ナノ結晶コアのための、該絶縁層の外への不透過性のバリアを提供することを含む、請求項２４記載の方法。
【請求項２６】
絶縁層を形成することが、一のナノ結晶シェル／異方性ナノ結晶コアペアリングのみを封止することを含む、請求項２４記載の方法。
【請求項２７】
絶縁層を形成することが、シリカ (SiOx)、酸化チタン (TiOx)、酸化ジルコニウム (ZrOx)、アルミナ(AlOx)、及びハフニア (HfOx)からなる群より選ばれる材料の層を形成することを含む、請求項２６記載の方法。
【請求項２８】
該層を形成することが、シリカの層を形成することを含み、及び、逆ミセルゾル−ゲル反応を用いることをさらに含む、請求項２７記載の方法。
【請求項２９】
該層を形成することが、シリカ層を形成することを含み、及び、スルホコハク酸ジオクチルナトリウム(AOT)とテトラオルソシリケート(TEOS)の組み合わせを使用することをさらに含む、請求項２７記載の方法。
【請求項３０】
該層を形成することが、シリカ層を形成することを含み、及び、ポリオキシエチレン(5)ノニルフェニルエーテルとテトラオルソシリケート(TEOS)の組み合わせを使用することをさらに含む、請求項２７記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月20日(2015.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回路ブロックへ内部電圧を提供するブロック電源スイッチであって、
イネーブル信号に応答してオンするように動作可能で、前記イネーブル信号が静電気放電（ＥＳＤ）事象から独立し、かつ外部電源供給レール電圧から独立した、電源スイッチと、
前記ＥＳＤ事象に応答して前記電源スイッチを開放するためのＥＳＤ保護回路と、
前記内部電圧を前記外部電源供給レール電圧に結合するためのＥＳＤダイオードと
を備える、ブロック電源スイッチ。
【請求項２】
前記電源スイッチは少なくとも１つのトランジスタを備える、請求項１のブロック電源スイッチ。
【請求項３】
前記少なくとも１つのトランジスタに結合される適応ボディバイアス回路をさらに備える、請求項２のブロック電源スイッチ。
【請求項４】
前記電源スイッチはヘッドスイッチ回路を備える、請求項１のブロック電源スイッチ。
【請求項５】
前記電源スイッチはフットスイッチ回路を備える、請求項１のブロック電源スイッチ。
【請求項６】
移動電話、セットトップボックス、音楽プレーヤー、映像プレーヤー、エンターテーメントユニット、ナビゲーションデバイス、コンピュータ、ハンドヘルドパーソナル通信システム（ＰＣＳ）ユニット、ポータブルデータユニット、および固定位置データユニットのうちの少なくとも１つに集積される、請求項１のブロック電源スイッチ。
【請求項７】
イネーブル信号に応答してオンするように動作可能で、前記イネーブル信号が静電気放電（ＥＳＤ）事象から独立し、かつ外部電源供給レール電圧から独立した、電源スイッチと、
ＥＳＤ保護のための手段であって、前記前記ＥＳＤ事象に応答して前記電源スイッチを開放する、ＥＳＤ保護のための手段と、
内部電圧を前記外部電源供給レール電圧に結合するためのＥＳＤダイオードと
を備える、装置。
【請求項８】
前記電源スイッチは少なくとも１つのトランジスタを備える、請求項7の装置。
【請求項９】
前記少なくとも１つのトランジスタに結合される適応ボディバイアス手段をさらに備える、請求項８の装置。
【請求項１０】
前記電源スイッチはヘッドスイッチ手段を備える、請求項7の装置。
【請求項１１】
前記電源スイッチはフットスイッチ手段を備える、請求項7の装置。
【請求項１２】
移動電話、セットトップボックス、音楽プレーヤー、映像プレーヤー、エンターテーメントユニット、ナビゲーションデバイス、コンピュータ、ハンドヘルドパーソナル通信システム（ＰＣＳ）ユニット、ポータブルデータユニット、および固定位置データユニットのうちの少なくとも１つに前記装置を集積するための手段をさらに備える、請求項7の装置。
【請求項１３】
出力信号を生成するように構成された論理回路と、
電源およびある回路の電源入力間に接続され、制御端子で前記出力信号を受けるように構成された第１のスイッチと、ここにおいて第１のスイッチ静電気放電を同時に受けることなく第１のイネーブル信号を受け取る前記論理回路に応答して閉じられるように構成される、
ここにおいて前記論理回路は前記第１のイネーブル信号を受けるように構成された第１の入力、および前記静電気放電を受けるように構成された第２の入力を有する、
前記第２の入力に接続され、かつ前記電源に接続されるように構成された抵抗と、
前記第２の入力に接続され、かつ保護されるべき前記回路の前記電源入力に接続されるように構成された容量とを備える、装置。
【請求項１４】
前記電源の電圧は接地電圧よりも大きく、前記電源に接続されるように構成されたカソードおよび保護されるべき前記回路の前記電源入力に接続されるように構成されたアノードを有するダイオードをさらに備える、請求項１３の装置。
【請求項１５】
前記電源の電圧は接地電圧に等しく、前記電源に接続されるように構成されたアノードおよび保護されるべき前記回路の前記電源入力に接続されるように構成されたカソードを有するダイオードをさらに備える、請求項１３の装置。
【請求項１６】
前記電源および保護されるべき前記回路の電源入力間に接続されるように構成される第２のスイッチであって、前記第２のスイッチの制御端子で前記第１のイネーブル信号を受けるように構成された、第２のスイッチをさらに備える、請求項１３の装置。
【請求項１７】
前記電源および保護されるべき前記回路の電源入力間に接続されるように構成される第２のスイッチであって、前記第２のスイッチの制御端子で前記第２のイネーブル信号を受けるように構成された、第２のスイッチをさらに備える、請求項１３の装置。
【請求項１８】
前記論理回路は、
前記第１のイネーブル信号を受けるように構成された第１の入力、前記静電気放電を受けるように構成された第２の入力、および中間の信号を生成するように構成されたＮＡＮＤゲートと、
前記中間の信号を受けて前記出力信号を生成するように構成されたインバータとを備える、請求項１３の装置。