(57)【要約】【課題】カラーフィルタ基板にスペーサなどの高さの異なる構造物を形成する表示装置基板の製造工程において、ハーフトーンマスクの使用、及び頻繁なマスク洗浄の必要がなく、構造物の高さや大きさが変化する現象が抑えられる表示装置基板の製造方法を提供する。【解決手段】カラーフィルタ基板上に、感光性樹脂組成物の複数の膜厚の異なる領域を形成するように感光性樹脂組成物を塗布する工程、及び遮光部と透光部のみを有するフォトマスクを介して露光し複数の膜厚の異なる領域の膜厚の順に複数の高さの異なる構造物を形成する工程を含み、前記複数の膜厚の異なる領域を形成する方法は、スリットコータのスリットノズルがカラーフィルタ基板に対して、相対的に垂直方向及び水平方向に移動しつつ、感光性樹脂組成物を吐出することによる表示装置基板の製造方法とする。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
カラーフィルタ基板上に、感光性樹脂組成物を用いて、フォトリソグラフィ法により、複数の高さの異なる構造物を形成する表示装置基板の製造方法であって、次の１）、２）の工程を含むことを特徴とする表示装置基板の製造方法。
１）前記カラーフィルタ基板上に、前記感光性樹脂組成物の複数の膜厚の異なる領域を形成するように、スリットコータにより前記感光性樹脂組成物を塗布する工程。
２）前記カラーフィルタ基板上に塗布した前記感光性樹脂組成物を、遮光部と透光部のみを有するフォトマスクを介して露光し、前記複数の膜厚の異なる領域の膜厚の順に前記複数の高さの異なる構造物を形成する工程。
【請求項２】
前記感光性樹脂組成物の複数の膜厚の異なる領域を形成する方法は、前記スリットコータのスリットノズルが前記カラーフィルタ基板に対して、相対的に垂直方向及び水平方向に移動しつつ、前記感光性樹脂組成物を吐出することによることを特徴とする請求項１に記載の表示装置基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタ基板上に、複数の高さの異なる構造物を形成する表示装置基板の製造方法に関わる。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置を始めとする平面型表示装置をカラー表示するために使用するカラーフィルタを透明基板上に効率よく製造する技術として、フォトリソグラフィ法により顔料分散タイプの感光性着色樹脂組成物を基板に塗布、乾燥後、露光、現像、硬化して形成する方法は従来より行われている。一般にフォトリソグラフィ法では、光照射部分が選択的に硬化または分解する感光性の塗布材料の特性に応じて、選択的に光を透過する遮光パターンを予め形成したフォトマスクを露光装置に設置して、感光性材料を塗布した被露光基板とフォトマスクとの正確な位置合わせを行い露光する。
【０００３】
前記フォトマスクとしては、平坦で無欠陥であり、高い透明性を有し、機械的強度に優れ、熱に対して低膨張の合成石英基板またはガラス基板の表面に、金属クロム等の遮光膜パターンを高精度で形成している。フォトマスクを通してパターン露光される被露光基板としては、大画面の表示装置に使用するカラーフィルタを例にとると、大サイズのマザーガラス基板を用い多面付けして製造することが量産上有利である。そこで、前記のカラーフィルタの製造工程では、一括露光用の大型のフォトマスクを用いて、フォトマスクと被露光基板との間に７０μｍ〜３００μｍ程度の均一な微小間隔（露光ギャップ）を設けてパターン露光するプロキシミティ（近接）露光が行われる。
【０００４】
露光装置の光源としては高圧水銀灯を用いることが実用的である。高圧水銀灯が出射する露光光の主波長は、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）とあるが、カラーフィルタにおけるパターンを形成するには、通常、波長の短いｉ線が最も有効に利用される。
【０００５】
液晶表示装置は一般に、ガラス基板上の各画素に合わせて薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等のスイッチング素子を形成した画素電極基板と、着色画素パターンを配列したカラーフィルタ基板を、所定の間隔（セルギャップ）を設けて対向させて貼り合わせ、セルギャップ内に液晶を封入することにより構成される。ここで、セルギャップが均一に保持されていない場合、面内で液晶層の厚みの差が生じ、液晶の旋光特性差による着色や部分的な色ムラなどの表示不具合が起こる。
【０００６】
そのため、液晶にスペーサと称する直径２μｍから１０μｍの樹脂、ガラス、アルミナ等からなる粒子あるいは棒状体を多数混合し、セルギャップ保持を図っている。しかし、スペーサが透明な粒子であると、画素内に液晶と一諸に入っていることで、黒色表示時にスペーサを介した光漏れや、スペーサ近傍の液晶分子の配列が乱されることに起因した光漏れによるコントラスト低下といった問題が生じる。
【０００７】
このような問題を解決する技術として、例えばフォトリソグラフィ法により、感光性樹脂組成物を用いパターン露光、現像を行い、着色画素間のブラックマトリックス上に固定スペーサを形成する方法が特許文献１、２に提案されている。固定スペーサは、フォトスペーサ、あるいは柱状（ポスト）スペーサなどとも呼ばれる。固定スペーサは、高さの高いメインスペーサ７２と高さの低いサブスペーサ７３で形成されることが多い。以下の記載では、固定スペーサを単にスペーサと略称し、カラーフィルタ基板にスペーサが形成された形態を表示装置基板と称する（図８参照）。
【０００８】
メインスペーサは液晶表示装置において液晶のセルギャップ規制を目的とし、サブスペーサは液晶パネルに機械的な圧力がかかったときの変形を防止する目的で形成される。メインスペーサとサブスペーサは、平面視の大きさを異ならせた設計仕様で形成されることが多く、選択的に位置決めされる複数のスペーサを、カラーフィルタ基板上に感光性樹脂組成物を用いてフォトリソグラフィ法により規則的に配して形成する。高さの異なるスペーサに関わる技術は、特許文献３に記載されている。
【０００９】
カラーフィルタのパターン（複数色の着色画素）やカラーフィルタのブラックマトリックス上に形成されるスペーサは、近時高精細化が進んでいる。高精細化対応のため、メインスペーサやサブスペーサなど高さの異なる構造物を形成するにあたっては、それぞれの高さに応じて異なった透過率をもつフォトマスク、すなわち透光部と半透過（ハーフトーン）部を有するフォトマスク（以下、ハーフトーンマスクと称する）が用いられることが多くなっている。
【００１０】
たとえば、メインスペーサと高さの低いサブスペーサを形成するためのハーフトーンマスク（図８、符号７６）では、メインスペーサを形成するマスクパターン透光部７８の透過率よりサブスペーサを形成するマスクパターン開口部（半透過部７９）の透過率を低くするために、半透過部７９には酸化クロムやモリブデンシリコン系の半透過膜が形成されている。図８は、ハーフトーンマスク７６を用いて露光し（図８（ａ））、カラーフィルタ基板７０にメインスペーサ７２、サブスペーサ７３を形成して表示装置基板８０（図８（ｂ））を作製した形態を示す模式断面図である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開平１０−４８６３６号公報
【特許文献２】特開平８−２６２４８４号公報
【特許文献３】特開平９−２５８１９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、上述のスペーサの製造工程では、生産数量に伴う露光シート数の増加により、サブスペーサの高さやサイズが変化する現象が見られている。ハーフトーンマスクを介して感光性樹脂組成物を露光する際、数十〜数百μｍの露光ギャップを設けているため両者は直接は接触しないが、露光を数百〜数千回繰り返すと、スペーサの製造工程で用いる感光性樹脂組成物から昇華物が発生し、ハーフトーンマスクの膜面に付着する現象が確認されるようになる。接触せずに汚れが付着することから、この汚れを昇華物汚れと呼んでいる。
【００１３】
ハーフトーンマスクに昇華物汚れが付着すると、ハーフトーンマスクを通過して感光性樹脂組成物に照射される露光量に変化が起こり、サブスペーサの高さやサイズが露光を繰り返すごとに変わっていく。露光量の変化は半透過膜と昇華物の薄膜干渉によるものであり、膜厚等の条件により露光量は高くなる方向へ変化する場合と低くなる方向へ変化する場合があり、前者（後者）の場合はサブスペーサは高く（低く）なる方向へ変化する。
【００１４】
サブスペーサの高さなどの特性値が変化すると、液晶表示装置作製時の液晶封入量マージンや貼り合わせ後の押圧耐性に不具合が生じる。このため、定期的にハーフトーンマスクを洗浄し昇華物を洗い落とす必要があるが、頻繁なマスク洗浄の工程が生産ラインの時間稼動率や生産量を低下させることが問題となっている。また、ハーフトーンマスクは遮光部と透光部のみからなる通常のバイナリ型フォトマスクに比べ高価であるため、表示装
置基板、ひいては表示装置の製造コストを上昇させる要因となっている。
【００１５】
本発明は、上記の問題に鑑みてなされたもので、カラーフィルタ基板にスペーサなどの高さの異なる構造物を形成する表示装置基板の製造工程において、ハーフトーンマスクの使用を必要とせず、従ってフォトマスク表面に昇華物が付着しても頻繁なマスク洗浄工程を行う必要がなく、構造物の高さや大きさが変化する現象が抑えられ、表示装置基板、ひいては表示装置の製造コストを抑制するとともに、生産ラインの時間稼動率や生産量を低下させない表示装置基板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上述の課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、カラーフィルタ基板上に、感光性樹脂組成物を用いて、フォトリソグラフィ法により、複数の高さの異なる構造物を形成する表示装置基板の製造方法であって、次の１）、２）の工程を含むことを特徴とする表示装置基板の製造方法としたものである。
１）前記カラーフィルタ基板上に、前記感光性樹脂組成物の複数の膜厚の異なる領域を形成するように、スリットコータにより前記感光性樹脂組成物を塗布する工程。
２）前記カラーフィルタ基板上に塗布した前記感光性樹脂組成物を、遮光部と透光部のみを有するフォトマスクを介して露光し、前記複数の膜厚の異なる領域の膜厚の順に前記複数の高さの異なる構造物を形成する工程。
【００１７】
請求項２に記載の発明は、前記感光性樹脂組成物の複数の膜厚の異なる領域を形成する方法は、前記スリットコータのスリットノズルが前記カラーフィルタ基板に対して、相対的に垂直方向及び水平方向に移動しつつ、前記感光性樹脂組成物を吐出することによることを特徴とする請求項１に記載の表示装置基板の製造方法としたものである。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によると、カラーフィルタ基板上に、感光性樹脂組成物の複数の膜厚の異なる領域を形成するように、スリットコータにより前記感光性樹脂組成物を塗布した後、フォトリソグラフィ法により複数の高さの異なる構造物を形成するので、ハーフトーンマスクを使用する必要がなく、表示装置基板、ひいては表示装置の製造コストを抑制する。また、フォトマスク表面に昇華物が付着しても頻繁なマスク洗浄工程を行う必要がないので、生産ラインの時間稼動率や生産量を低下させずに表示装置基板を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の表示装置基板の製造方法で使用するスリットコータの一例であり、（ａ）斜視図（ｂ）側面図及び制御系統図である。
【図２】図１のスリットコータにおけるスリットノズルの（ａ）斜視図（ｂ）断面図（塗液吐出時）である。
【図３】本発明の表示装置基板の製造方法に係り、感光性樹脂組成物の塗液を吐出する様態のうち、スリットノズルがカラーフィルタ基板に比較的（ａ）近い場合、（ｂ）遠い場合を示す模式断面図である。
【図４】図３に関連して、スリットノズルがカラーフィルタ基板に比較的（ａ）近い場合、（ｂ）遠い場合の吐出塗膜の断面形状を近似する正規分布曲線の図である。
【図５】本発明の表示装置基板の製造方法で使用するスリットコータを用いて、基板上に複数の膜厚の異なる領域を有する塗膜を形成する方法を示す（ａ）模式側面図、（ｂ）時間ステップ図である。
【図６】本発明の表示装置基板の製造方法に係り、カラーフィルタ基板に感光性樹脂組成物を塗布し、感光性樹脂組成物の複数の膜厚の異なる領域を形成する様態を示す模式断面図である。
【図７】本発明の表示装置基板の製造方法に係り、露光によりカラーフィルタ基板にスペーサを形成する工程を示す模式断面図である。
【図８】従来の方法で、ハーフトーンマスクを用いた露光によりカラーフィルタ基板にスペーサを形成する工程を示す模式断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の表示装置基板の製造方法について詳細に説明する。尚、同一の構成要素については便宜上の理由がない限り同一の符号を付け、重複する説明は省略する。また、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などは実際と同じではない。
【００２１】
＜本発明の表示装置基板の製造方法で使用するスリットコータ＞
説明の都合上、本発明の表示装置基板の製造方法で使用するスリットコータを先に説明する。
【００２２】
一般に、着色画素やスペーサを形成するために感光性樹脂組成物を基板に塗布する方法としては、スピンコート方式、スリット・スピンコート方式、スリットコート方式が公知となっている。本発明のカラーフィルタ基板上に複数の高さの異なる構造物を形成する表示装置基板の製造方法においては、スリット状の吐出部を有するスリットノズルを備え、スリットノズルより感光性樹脂組成物の塗液を滴下し、基板を回転させずに、スリットノズルを基板に対して相対的に水平方向に移動させて、感光性樹脂組成物を塗布するスリットコータを用いる。
【００２３】
図１は、本発明の表示装置基板の製造方法で使用するスリットコータの一例であり、（ａ）斜視図（ｂ）側面図及び制御系統図である。図１のスリットコータ２１は、本体２２及びスリットノズル４１と、制御系２６及び塗液供給機構２９（図１（ｂ））とに大別される。スリットノズル４１は感光性樹脂組成物の塗液を吐出するようになっている。本体２２は、基板６０を載置して保持するための保持台として機能するとともに、付属する各機構の基台としても機能するステージ２３を備えている。
【００２４】
ステージ２３の上面は水平面となっており、基板６０の保持面３０となっている。保持面３０には多数の真空吸着口（図示せず）が分布して形成されており、基板６０を吸着することにより、基板６０を所定の水平位置に保持する。保持面３０を挟んだ両端部には、Ｘ方向に平行に伸びる一対の走行レール３１が固設されている。走行レール３１は、架橋構造２４の移動を補助し、架橋構造２４を保持面３０の上方に支持するリニアガイドを構成する。
【００２５】
ステージ２３の上方には、ステージ２３の両側部分から水平に掛け渡された架橋構造２４が設けられている。架橋構造２４は、スリットノズル支持部４０と、その両端を支持する昇降機構４３、４４とから主に構成される。スリットノズル支持部４０には、ギャップセンサ４２を含むスリットノズル４１が取り付けられている。
【００２６】
図１においてＹ軸方向に長手方向を有するスリットノズル４１には、スリットノズル４１へ塗液を供給する配管（図示せず）、塗液用ポンプ（図示せず）などを含む塗液供給機構２９（図１（ｂ））が接続されている。スリットノズル４１は、基板６０の表面をＸ方向へ走行しつつ、塗液用ポンプにより供給される塗液を基板６０表面の所定の領域に吐出する。
【００２７】
ギャップセンサ４２は、スリットノズル４１の近傍となるよう、スリットノズル支持部４０に取り付けられ、下方の平面、すなわち基板６０の表面や若しくは塗膜の表面との間の高低差（ギャップ距離）を測定する。制御系２６はギャップセンサ４２の測定結果に基
づいて、ギャップ距離を制御する。
【００２８】
昇降機構４３、４４は、スリットノズル４１の両側に分かれて、スリットノズル支持部４０によりスリットノズル４１と連結されている。昇降機構４３、４４は、制御系２６からの制御信号に基づいて、架橋構造２４の昇降駆動力を生成する。これにより、昇降機構４３、４４は、スリットノズル４１をＺ方向に昇降させる。
【００２９】
制御系２６及び塗液供給機構２９（図１（ｂ））は、プログラムに従って各種データを処理する演算部、プログラムや各種データを保存する記憶部を内部に備える。また、前面には、図示しないが、オペレータがスリットコータ２１に対して必要な指示を入力するための操作部、及び各種データを表示する表示部を備える。
【００３０】
制御系２６及び塗液供給機構２９は、ケーブルにより本体２２に付属する各機構と電気的に接続されている。制御系２６及び塗液供給機構２９は、操作部からの入力信号や、ギャップセンサ４２及びその他の各種センサーなどからの信号に基づいて、昇降機構４３、４４による昇降動作、走行機構２５（図１（ｂ））によるＸ方向への走行動作、塗液供給機構２９による塗液の供給及び吐出動作等に付随する各駆動機構、各回動機構及び各バルブ等の動作を制御する。
【００３１】
次に、スリットノズルについてより詳しく説明する。図２は、図１のスリットコータ２１におけるスリットノズル４１の（ａ）斜視図（ｂ）断面図（塗液吐出時）である。図２（ｂ）に示すように、スリットノズル４１の下側略半分は、長手方向（Ｙ方向）に垂直な面内における断面で下方に向けて細くなった略Ｖ字型の外観形状をなしている。
【００３２】
スリットノズル４１の内部には、長手方向の両側端部間にわたって、かつ断面中央部の上寄りに、塗液を一時的に貯留するマニホールド４５が設けられている。さらに、スリットノズル４１の内部には、マニホールド４５の上端部からスリットノズル４１の上端部にまで達する空気抜き穴４７が設けられている。空気抜き穴４７は、スリットノズル４１の長手方向の中央部に設けられ、マニホールド４５から空気及び空気が混入した塗液を排出する排出口である。
【００３３】
さらに、マニホールド４５の最下部と、Ｖ字型の下部の頂点部分に相当する下部の先端との間には、一定間隔のギャップ４１ａが、スリットノズル４１の長手方向（Ｙ方向）の両側端部間にわたって設けられている。ギャップ４１ａの最下端が塗液を吐出するためのスリット４１ｂとなっている。すなわち、マニホールド４５に供給された塗液は、塗液供給機構２９が備える圧縮空気によって所定の吐出圧を与えられると、ギャップ４１ａを経てスリット４１ｂから基板６０に向かって吐出される。
【００３４】
＜感光性樹脂組成物を塗布する方法＞
次に、本発明の表示装置基板の製造方法に係る、感光性樹脂組成物を塗布する方法について説明する。
【００３５】
図３は、本発明の表示装置基板の製造方法に係り、感光性樹脂組成物の塗液を吐出する様態のうち、スリットノズル４１がカラーフィルタ基板１０に比較的（ａ）近い場合、（ｂ）遠い場合を示す模式断面図である。スリットノズル４１がスリット４１ｂから吐出する感光性樹脂組成物の塗液Ｌ１、Ｌ２は放射状であり、Ｘ−Ｚ平面の断面形状を視ると、図のような三角形状で近似することができる。尚、ギャップ４１ａ及びがスリット４１ｂはスリットノズル４１の長手方向（Ｙ方向）の両側端部間にわたって延びているので、Ｘ−Ｚ平面について考察すれば十分である。
【００３６】
ここでスリットノズル４１がカラーフィルタ基板１０に比較的（ａ）近い場合、（ｂ）遠い場合の前記三角形状を比較すると、（ｂ）遠い場合の三角形が（ａ）近い場合の三角形よりも大きいが、これらは相似形であるので、三角形の高さ（＝スリットノズル４１とカラーフィルタ基板１０間の距離）をｄ１、ｄ２、底辺をａ１、ａ２とすると、以下の関係が成り立つ。
ｄ１：ｄ２＝ａ１：ａ２  ・・・（１）
【００３７】
吐出塗液Ｌ１、Ｌ２がカラーフィルタ基板１０に堆積した状態を吐出塗膜Ｔ１、Ｔ２と呼ぶと、吐出塗膜Ｔ１、Ｔ２のＸ−Ｚ平面の断面形状は、ｄ１、ｄ２に関わらず、ほぼ図に示すような正規分布曲線ｇ１、ｇ２で近似できると考えられる。但し、本来正規分布曲線は−∞〜＋∞の範囲にわたるが、ここではカラーフィルタ基板１０に接する底辺を持つ正規分布曲線である。前記正規分布曲線ｇ１、ｇ２の底辺は塗液の流動性とともに広がるが、堆積直後は前記三角形状の底辺ａ１、ａ２にほぼ等しいか、比例関係にあると考えられる（図では簡略化のため等しく描いている）。
【００３８】
さらに、スリットノズル４１とカラーフィルタ基板１０間の距離に関わらず吐出する塗液量が同じであるとすると、正規分布曲線ｇ１、ｇ２の面積Ｓ１、Ｓ２は等しいが、本来正規分布曲線の面積は高さ、幅が変わっても１であるので、そのまま吐出塗膜Ｔ１、Ｔ２のＸ−Ｚ平面の断面形状の近似として利用することができる。
【００３９】
スリットノズル４１がカラーフィルタ基板１０に比較的（ａ）近い場合、（ｂ）遠い場合の吐出塗膜Ｔ１、Ｔ２の断面形状を近似する正規分布曲線を座標上に表示したのが図４である。ここでは、（ａ）近い場合の底辺が２．０（−１．０〜１．０）、（ｂ）遠い場合の底辺が３．０（−１．５〜１．５）と、近い場合の１．５倍である場合を例示している。ここで、（ａ）、（ｂ）の高さを比較すると、（ａ）は１．２、（ｂ）は０．８であり、底辺の長さに反比例して、（ａ）近い場合が（ｂ）遠い場合の１．５倍になることが確認できる。
【００４０】
（１）式の関係、及び前記の関係をまとめれば、スリットノズル４１の高さを昇降機能４３（図１参照）によりＺ方向（垂直方向）へ昇降させ、スリットノズル４１とカラーフィルタ基板１０間の距離を、図３のようにｄ１、ｄ２として塗液を吐出すると、吐出塗膜Ｔ１、Ｔ２の高さｈ１、ｈ２はｄ１、ｄ２に反比例した高さとなることが分る。すなわち、次式が成り立つ。
ｄ１：ｄ２＝ｈ２：ｈ１  ・・・（２）
【００４１】
図５は、本発明の表示装置基板の製造方法において感光性樹脂組成物を塗布する方法を説明するための（ａ）模式側面図、（ｂ）時間ステップ図である。図５（ａ）のスリットコータ２１ａは、図１のスリットコータ２１と同種のものであり、各部の符号はスリットコータ２１と同じとする。本発明の表示装置基板の製造方法における感光性樹脂組成物の塗布方法では、図５（ｂ）のように、時間的にスリットノズル４１の高さを昇降機能４３、４４（図１参照）によりステップ（階段）状に変化させる（＝垂直方向（Ｚ方向）へ昇降させる）とともに、走行機構２５（図１（ｂ）参照）により相対的に水平方向（Ｘ方向）へも移動させながら、感光性樹脂組成物の塗液Ｌを吐出することによって、カラーフィルタ基板１０上に感光性樹脂組成物１１の複数の膜厚の異なる領域を形成する。
【００４２】
図６は、前記のようにしてカラーフィルタ基板１０に感光性樹脂組成物１１を塗布し、感光性樹脂組成物１１の複数の膜厚の異なる領域を形成する様態を示す模式断面図である。ここで、スリットノズル４１とカラーフィルタ基板１０の位置関係は相対的なものであればよいので、スリットノズル４１が移動せずにカラーフィルタ基板１０が移動するような機構であってもよいが、機構の簡易性の観点からはスリットノズル４１が移動する方が好ましい。
【００４３】
＜露光・現像によるスペーサの形成＞
図７は、本発明の表示装置基板の製造方法に係り、露光によりカラーフィルタ基板１０上にスペーサ１２、１３を形成する工程を示す模式断面図である。図７（ａ）では、フォトマスク１６を介して、露光光１５をカラーフィルタ基板１０上の、本発明により作製した複数の膜厚の異なる領域を有する感光性樹脂組成物１１に照射している。フォトマスク１６は、遮光部１７と透光部１８のみを有する通常のバイナリ型フォトマスクであり、カラーフィルタ基板１０上にメインシペーサ１２、サブスペーサ１３を形成する部分が透光部１８となっている。
【００４４】
すなわち、複数の膜厚の異なる領域を有する感光性樹脂組成物１１の比較的膜厚の厚い領域にはメインスペーサ１２が形成され、それよりも膜厚の薄い領域にはサブスペーサ１３が形成される。図７（ｂ）には、露光後の現像処理により表示装置基板２０を作製した形態を示す。尚、図７では、感光性樹脂組成物１１の膜厚のピーク部を使ってメインスペーサ１２、サブピーク部を使ってサブスペーサ１３を形成しているが、必ずしもピーク部を使う必要はない。また、膜厚の異なる領域を複数利用することで、膜厚の異なる領域の膜厚の厚い順に複数の高さの異なるスペーサ（構造物）を同時に形成することができる。
【００４５】
以上のように、本発明では、カラーフィルタ基板にスペーサなど高さの異なる構造物を形成する工程において、ハーフトーンマスクを使用せず、複数の膜厚の異なる領域を有するように塗布した感光性樹脂組成物を利用するので、表示装置基板、ひいては表示装置の製造コストを抑制し、生産ラインの時間稼動率や生産量を低下させない製造技術となる。
【符号の説明】
【００４６】
Ｌ、Ｌ１、Ｌ２・・・吐出塗液
Ｔ１、Ｔ２・・・・・吐出塗膜
ｇ１、ｇ２・・・・・正規分布曲線
Ｓ１、Ｓ２・・・・・面積
１０、７０・・・・カラーフィルタ基板
１１、７１・・・・感光性樹脂組成物
１２、７２・・・・メインスペーサ
１３、７３・・・・サブスペーサ
１５、７５・・・・露光光
１６・・・・・・・フォトマスク
７６・・・・・・・ハーフトーンマスク
１７、７７・・・・遮光部
１８、７８・・・・透光部
７９・・・・・・・半透過部（ハーフトーン膜）
２０、８０・・・・表示装置基板
２１、２１ａ・・・・スリットコータ
２２・・・・本体
２３・・・・ステージ
２４・・・・架橋構造
２５・・・・走行機構
２６・・・・制御系
２７・・・・スリットノズル洗浄機構
２９・・・・塗液供給機構
３０・・・保持面
３１・・・走行レール
３２・・・開口
４０・・・スリットノズル支持部
４１・・・スリットノズル
４１ａ・・・ギャップ
４１ｂ・・・スリット
４２・・・ギャップセンサ
４３、４４・・・昇降機構
４５・・・マニホールド
４７・・・空気抜き穴
５０、５１・・・走行機構
５０ａ、５０ｂ、５１ａ、５１ｂ・・・リニアモータ
６０・・・基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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