【手続補正書】
【提出日】平成27年9月30日(2015.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非線形光学結晶の結晶欠陥を不活性化するためのシステムであって、
選択された濃度の、水素、重水素、水素含有混合物、重水素含有混合物の少なくとも１つを含む不活性化ガスを含むように構成された曝露チャンバであって、前記チャンバ内部での前記不活性化ガスへの曝露のために少なくとも１つのＮＬＯ結晶を含むようにさらに構成された前記曝露チャンバと、
前記曝露チャンバに流体的に接続される不活性化ガスソースであって、前記曝露チャンバの内部に不活性化ガスを供給するように構成された前記不活性化ガスソースと、
前記チャンバ内部に前記ＮＬＯ結晶を保持するように構成された基板であって、前記基板が前記ＮＬＯ結晶の温度を選択された温度で維持するようにさらに構成され、前記選択された温度が前記ＮＬＯ結晶の融解温度以下である、基板と
を備えるシステム。
【請求項２】
前記不活性化ガスソースと前記曝露チャンバとの間で流体的に接続される流量制御装置であって、前記曝露チャンバへの不活性化ガスの流量を制御するように構成された前記流量制御装置
をさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記流量制御装置に通信で結合されたコンピューティングシステムであって、前記流量制御装置に制御命令を伝達するように構成された前記コンピューティングシステム
をさらに備える、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記流量制御装置が、前記曝露チャンバに供給される不活性化ガスの前記流量を、約１０〜２００ｃｍ３／分の範囲内に維持するように構成される、請求項２に記載のシステム。
【請求項５】
前記基板が、前記ＮＬＯ結晶の前記温度を、約３００〜３５０℃の範囲の温度で維持するように構成される、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記システムが、ベータ型ホウ酸バリウム（ＢＢＯ）、三ホウ酸リチウム（ＬＢＯ）、四ホウ酸リチウム（ＬＴＢ）、ホウ酸リチウムセシウム（ＣＬＢＯ）、およびホウ酸セシウム（ＣＢＯ）の内の少なくとも１つを備えるＮＬＯ結晶をさらに含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
水素、重水素、水素含有混合物、重水素含有混合物の少なくとも１つを含む前記不活性化ガスの前記選択された濃度が約５〜１０％の範囲にある、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記不活性化ガスが水素含有分子と重水素含有分子の少なくとも１つを含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
前記水素含有分子と重水素含有分子の少なくとも１つが、低分子量の分子を備える、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記低分子量の分子がアンモニアまたはメタンの内の少なくとも１つを備える、請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
非線形光学結晶の結晶欠陥を不活性化するための方法であって、
非線形光学（ＮＬＯ）結晶を提供するステップと、
前記ＮＬＯ結晶の温度を、選択された温度で維持するステップであって、前記選択された温度が前記ＮＬＯ結晶の融解温度以下である、維持するステップと、
ＮＬＯ結晶内のダングリングボンドと破壊された結合の少なくとも１つを修復するために十分な選択された濃度の、水素、重水素、水素含有混合物、重水素含有混合物の少なくとも１つを含む不活性化ガスに前記ＮＬＯ結晶を曝露するステップと
を含む、方法。
【請求項１２】
前記ＮＬＯ結晶が酸化物型非線形結晶である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記ＮＬＯ結晶が、ベータ型ホウ酸バリウム（ＢＢＯ）、三ホウ酸リチウム（ＬＢＯ）、四ホウ酸リチウム（ＬＴＢ）、ホウ酸リチウムセシウム（ＣＬＢＯ）、およびホウ酸セシウム（ＣＢＯ）の内の少なくとも１つを備える、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記ＮＬＯ結晶の不活性化の程度が、前記ＮＬＯ結晶のＩＲスペクトル、可視スペクトル、および／またはＵＶスペクトルでの１つまたは複数の選択された吸収バンドを活用して監視され、前記選択された吸収バンドの特性が、前記ＮＬＯ結晶のＯＨ結合の存在度の関数である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
前記不活性化ガスの前記選択された濃度が約５〜１０％の範囲である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
前記選択された温度が約３００〜３５０℃の範囲にある、請求項１１に記載の方法。
【請求項１７】
非線形光学結晶の結晶欠陥を不活性化するための方法であって、
ＮＬＯ結晶に対してアニールプロセスを実行して、前記ＮＬＯ結晶の水素含量またはＯＨ含有量を削減するステップと、
前記ＮＬＯ結晶内のダングリングボンドと破壊された結合の少なくとも１つを修復するために十分な選択された濃度の、水素、重水素、水素含有混合物、重水素含有混合物の少なくとも１つを含む不活性化ガスに前記ＮＬＯ結晶を曝露するステップと
を含む、方法。
【請求項１８】
前記ＮＬＯ結晶の水分含量が、前記ＮＬＯ結晶のＩＲスペクトル、可視スペクトル、および／またはＵＶスペクトルでの１つまたは複数の選択された吸収バンドを活用して監視され、選択された吸収バンドの特性が前記ＮＬＯ結晶のＯＨ結合の存在度の関数である、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記ＮＬＯ結晶の不活性化の程度が、前記ＮＬＯ結晶のＩＲスペクトルでの１つまたは複数の吸収バンドを活用して監視され、選択された吸収バンドの特性が前記ＮＬＯ結晶のＯＨ結合の存在度の関数である、請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
１つまたは複数の試料を光学的に検査するためのシステムであって、
試料ステージと、
前記試料ステージ上に置かれる１つまたは複数の試料の表面の一部を照明するために構成されたレーザシステムであって、
少なくとも１つの不活性化され、アニールされたＮＬＯ結晶であって、前記ＮＬＯ結晶は選択されたレベル以下の水素含量を確立するために十分にアニールされ、選択された不活性化レベルを確立するために十分に不活性化される前記ＮＬＯ結晶と、
選択された波長の光を生成するように構成された少なくとも１つの光源であって、前記ＮＬＯ結晶を通して光を伝達するようにさらに構成された光源と、
前記ＮＬＯ結晶を収容するように構成された結晶ハウジングユニットと
を備える前記レーザシステムと、
前記試料の前記表面から反射される照明の少なくとも一部を受光するように構成された検出器と、
前記検出器に通信で結合されたコンピューティングシステムであって、前記コンピューティングシステムが前記検出器によって受光される照明の少なくとも一部に関する情報を取得するように構成され、前記検出器によって受光される照明の少なくとも一部に関する情報を活用して、前記試料の少なくとも１つの欠陥の存在または不在を決定するようにさらに構成される前記コンピューティングシステムと
を備えるシステム。
【請求項２１】
前記レーザの前記ＮＬＯ結晶が、前記ＮＬＯ結晶のＩＲスペクトル、可視スペクトル、および／またはＵＶスペクトルで１つまたは複数の吸収バンドを示し、前記吸収バンドが、前記ＮＬＯ結晶のＯＨ結合の数の変化によって影響を受け、前記吸収バンドが選択されたレベルのまたは選択されたレベル以上の強度を有する、請求項２０に記載のシステム。
【請求項２２】
前記レーザが、約１９３〜２６６ｎｍの範囲の１つまたは複数の波長で動作する、請求項２０に記載のシステム。
【請求項２３】
前記レーザシステムが、少なくとも１つのダイオード励起ソリッドステート（ＤＰＳＳ）ソースを有する少なくとも１つのレーザを備える、請求項２０に記載のシステム。
【請求項２４】
前記レーザシステムが、少なくとも１つのファイバＩＲソースを有する少なくとも１つのレーザを備える、請求項２０に記載のシステム。
【請求項２５】
前記システムが暗視野検査用に構成される、請求項２０に記載のシステム。
【請求項２６】
前記システムが明視野検査用に構成される、請求項２０に記載のシステム。
【請求項２７】
前記試料がパターンなしウェハを備える、請求項２０に記載のシステム。
【請求項２８】
前記試料がパターン付きウェハを備える、請求項２０に記載のシステム。
【請求項２９】
前記試料がレチクルまたはフォトマスクの内の少なくとも１つを備える、請求項２０に記載のシステム。
【請求項３０】
前記システムが、
前記レーザシステムから前記試料の表面に照明路に沿って照明を導くように構成された１つまたは複数の照明レンズ
をさらに含む、請求項２０に記載のシステム。
【請求項３１】
前記システムが、
前記試料の前記表面から反射される照明を、検出経路に沿って前記検出器へ導くように構成された１つまたは複数の集光レンズ
をさらに含む、請求項２０に記載のシステム。
【請求項３２】
前記不活性化ガスが、選択された濃度で水素、重水素、水素含有混合物、重水素含有混合物の少なくとも１つと混合された少なくとも１つの不活性ガスを含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項３３】
前記不活性化ガスが、酸素を含むガスでない、請求項１に記載のシステム。
【請求項３４】
前記不活性化ガスが、水素、重水素、不活性ガスの選択された濃度の混合ガスであり、混合ガス中の重水素の相対量が、選択された不活性化レベルあるいはそれ以上の不活性化を与える、請求項１に記載のシステム。
【請求項３５】
前記不活性化ガスが、選択された濃度で水素、重水素、水素含有混合物、重水素含有混合物の少なくとも１つと混合された少なくとも１つの不活性ガスを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項３６】
前記不活性化ガスが、酸素を含むガスでない、請求項１１に記載の方法。
【請求項３７】
前記活性化ガスが、水素、重水素、不活性ガスの選択された濃度の混合ガスであり、混合ガス中の重水素の相対量が、選択された不活性化レベルあるいはそれ以上の不活性化を与える、請求項１１に記載の方法。
【請求項３８】
前記不活性化ガスが、選択された濃度で水素、重水素、水素含有混合物、重水素含有混合物の少なくとも１つと混合された少なくとも１つの不活性ガスを含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項３９】
前記不活性化ガスが、酸素を含むガスでない、請求項１７に記載の方法。
【請求項４０】
前記不活性化ガスが、水素、重水素、不活性ガスの選択された濃度の混合ガスであり、混合ガス中の重水素の相対量が、選択された不活性化レベルあるいはそれ以上の不活性化レベルを与える、請求項１７に記載の方法。