(57)【要約】      （修正有）【課題】高いＲｔｈを発現し、湿気による位相差の変動が少ない光学フィルムが得られ、揮発しにくく光学フィルムの改質剤として好適に用いることができるエステル化合物の提供。【解決手段】下記一般式（１）で表され、数平均分子量が５００〜２，０００であるエステル化合物。2018104315.tif 000014（式中、ＧはＣ２〜１０アルキレングリコール残基又はＣ４〜１０オキシアルキレングリコール残基；ＡはＣ２〜８アルキレンジカルボン酸残基又はＣ６〜１８アリールジカルボン酸残基；ｎは１〜１０；Ｒ１〜Ｒ５はＨ、ハロゲン、Ｃ１〜１０アルキル基等である）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）
【化１】
2018104315.tif 000011
（式中、Ｇは炭素原子数２〜１０のアルキレングリコール残基または炭素原子数４〜１０のオキシアルキレングリコール残基を表す、Ａは炭素原子数２〜８のアルキレンジカルボン酸残基または炭素原子数６〜１８のアリールジカルボン酸残基を表す。ｎは括弧で括られた繰り返し単位の繰り返し数で１〜１０であり、括弧で括られた繰り返し単位毎にＡおよびＧは同一であっても異なっていても良い。Ｒ１〜Ｒ５はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、アミノ基、シアノ基またはニトロ基である。）
で表され、数平均分子量（Ｍｎ）が５００〜２，０００であることを特徴とするエステル化合物。
【請求項２】
前記Ｇが炭素原子数２〜４のアルキレングリコール残基または炭素原子数４〜６のオキシアルキレングリコール残基で、Ａが炭素原子数６〜１２のアリールジカルボン酸残基である請求項１記載のエステル化合物。
【請求項３】
前記Ｇがプロピレングリコール残基または２−メチル−１，３−プロパンジオール残基で、Ａがフタル酸残基、テレフタル酸残基またはイソフタル酸残基である請求項１記載のエステル化合物。
【請求項４】
前記数平均分子量（Ｍｎ）が６００〜１，２００である請求項１記載のエステル化合物。
【請求項５】
前記Ｒ１〜Ｒ５が全て水素原子である請求項１〜４のいずれか１項記載のエステル化合物。
【請求項６】
炭素原子数２〜１０のアルキレングリコールまたは炭素原子数４〜１０のオキシアルキレングリコール（ｇ）と、炭素原子数２〜８のアルキレンジカルボン酸、該アルキレンジカルボン酸誘導体、炭素原子数６〜１８のアリールジカルボン酸および該アリールジカルボン酸誘導体からなる群から選ばれる一種以上の化合物（ａ）とを反応させて末端に水酸基を有する縮合物を得る工程と、該縮合物と下記一般式（２）
【化２】
2018104315.tif 000012
（式中、Ｒ１〜Ｒ５はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、アミノ基、シアノ基またはニトロ基である。）
で表されるイソシアネート化合物（ｓ）とを反応させて、下記一般式（１）
【化３】
2018104315.tif 000013
（式中、Ｇは炭素原子数２〜１０のアルキレングリコール残基または炭素原子数４〜１０のオキシアルキレングリコール残基を表す、Ａは炭素原子数２〜８のアルキレンジカルボン酸残基または炭素原子数６〜１８のアリールジカルボン酸残基を表す。ｎは括弧で括られた繰り返し単位の繰り返し数で１〜１０であり、括弧で括られた繰り返し単位毎にＡおよびＧは同一であっても異なっていても良い。Ｒ１〜Ｒ５はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、アミノ基、シアノ基またはニトロ基である。）
で表され、数平均分子量が５００〜２，０００であるエステル化合物を得る工程を含有することを特徴とするエステル化合物の製造方法。
【請求項７】
前記グリコール（ｇ）が炭素原子数２〜４のアルキレングリコールまたは炭素原子数４〜６のオキシアルキレングリコールで、化合物（ａ）が炭素原子数６〜１２のアリールジカルボン酸または該アリールジカルボン酸誘導体である請求項１記載のエステル化合物の製造方法。
【請求項８】
前記グリコール（ｇ）がプロピレングリコールまたは２−メチル−１，３−プロパンジオールで、化合物（ａ）がフタル酸、テレフタル酸またはイソフタル酸で、イソシアネート化合物（ｓ）がイソシアン酸フェニルである請求項６記載のエステル化合物の製造方法
【請求項９】
前記一般式（１）で表されるエステル化合物の数平均分子量が６００〜１，２００となるようにグリコール（ｇ）と化合物（ａ）とイソシアネート化合物（ｓ）とを反応させる請求項６記載のエステル化合物の製造方法。
【請求項１０】
前記グリコール（ｇ）と化合物（ａ）とを、モル比〔（ｇ）／（ａ）〕で１.０１／１〜５／１となる範囲で反応させる請求項６記載のエステル化合物の製造方法。
【請求項１１】
請求項１〜５のいずれか１項記載のエステル化合物とセルロースエステル樹脂とを含有することを特徴とするセルロースエステル樹脂組成物。
【請求項１２】
前記セルロースエステル樹脂１００質量部に対してエステル化合物を０．５〜５０質量部含有する請求項１１記載のセルロースエステル樹脂組成物。
【請求項１３】
前記セルロースエステル樹脂がジアセチルセルロース樹脂である請求項１１記載のセルロースエステル樹脂組成物。
【請求項１４】
請求項１１から１３のいずれか１項記載のセルロースエステル樹脂組成物を含有することを特徴とする光学フィルム。
【請求項１５】
偏光板保護フィルムである請求項１４記載の光学フィルム。
【請求項１６】
請求項１４または１５記載の光学フィルムを有することを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高いＲｔｈを発現し、湿気による位相差の変動が少ない（耐水性に優れる）光学フィルムが得られ、しかも、該光学フィルムから揮発しにくく光学フィルムの改質剤として好適に用いることができるエステル化合物、該エステル化合物の製造方法に関する。また、本発明は、該エステル化合物を含むセルロースエステル樹脂組成物、該組成物を用いて得られる光学フィルム及び該光学フィルムを有する液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
セルロースエステル樹脂フィルムは透明性、強靭性があり、液晶表示装置の偏光板の材料であるポリビニルアルコールとの接着性が良好なことから、テレビ、ノートパソコン等の液晶表示装置の偏光板を構成する偏光板保護フィルム等の光学フィルムとして用いられている。
【０００３】
一般に液晶表示装置の偏光板は、ヨウ素や染料等の二色性分子を吸着配向させたポリビニルアルコールフィルム等からなる偏光子、その偏光子の表裏両側に透明な保護フィルム（偏光板保護フィルム）を貼り合わせた構成となっている。該保護フィルムとしては、一般にセルロースエステル樹脂のフィルムが用いられている。
【０００４】
液晶表示装置の中でも、ＶＡ方式を用いた液晶表示装置には、視野角補償機能を付与するために、前記偏光板保護フィルムとして高位相差のセルロースエステル樹脂のフィルムが用いられる。近年では、位相差発現性が高いジアセチルセルロース樹脂のフィルムを用いることが検討されている。
【０００５】
一般に、セルロースエステル樹脂のフィルムは、外部の湿気をフィルム内に取り込んだ場合、取り込む湿気の量に応じて位相差が変化しやすい。その結果、液晶表示装置の液晶画面の見え具合が使用環境の湿度に応じて変動してしまう問題が生じる。この問題は、位相差発現性が高いジアセチルセルロースエステル樹脂のフィルムで特に顕著である。
【０００６】
使用環境の湿度に応じて位相差の変動が少ない液晶表示装置を得る為に、セルロースエステル樹脂に改質剤を用いて得られるセルロースエステル樹脂組成物のフィルムが検討されている。このようなフィルムとしては、例えば、末端がベンゼンモノカルボン酸残基で封止されたポリエステル化合物を改質剤として用いて得られるフィルムが知られている（例えば、特許文献１参照。）。しかしながら、近年では、前記特許文献１で開示されたフィルムよりも、より使用環境の湿度の変化に応じた位相差の変動が少ないフィルムが求められている。
【０００７】
また、骨格中にカルバメート結合（ウレタン結合）を有する化合物をセルロースエステル樹脂の改質剤として使用することが知られている（例えば、特許文献２参照。）。しかしながら、前記特許文献２に開示された化合物を用いても湿気によるフィルムの位相差の変動を十分に抑制することは困難であった。
【０００８】
加えて、近年では、フィルムの製造設備の汚染の防止上、フィルムの製造中に当該フィルムから揮発しにくい添加剤が求められているが、前記特許文献１や特許文献２に開示された化合物は揮発性が高く、前記製造設備を汚染しやすい問題を有していた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２０１３−０３２５２９号公報
【特許文献２】特開２０１５−０６７６２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明が解決しようとする課題は、高いＲｔｈを発現し、湿気による位相差の変動が少ない（耐水性に優れる）光学フィルムが得られ、しかも、該光学フィルムから揮発しにくく光学フィルムの改質剤として好適に用いることができるエステル化合物を提供することである。また、本発明が解決しようとする課題は前記エステル化合物を含むセルロースエステル樹脂組成物、該組成物を用いて得られる光学フィルム及び該光学フィルムを有する液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、鋭意研究した結果、カルバメート結合（ウレタン結合）を有する化合物で、その両末端が芳香族構造で封止されており、しかも数平均分子量が５００〜２，０００のある範囲にある化合物が光学フィルムの改質剤として使用できること、該化合物をセルロースエステル樹脂に含有させて得られるフィルムは高いＲｔｈを発現できること、湿気による位相差の変動が少ないフィルムとなること、該化合物は、フィルムの製造中に揮発しにくくフィルムの製造環境や製造設備を汚染しにくいこと、フィルムは液晶表示装置を製造する際の部材として好適に使用できる事等を見出し、本発明を完成するに至った。
【００１２】
即ち、本発明は、下記一般式（１）
【００１３】
【化１】
2018104315.tif 000002
（式中、Ｇは炭素原子数２〜１０のアルキレングリコール残基または炭素原子数４〜１０のオキシアルキレングリコール残基を表す、Ａは炭素原子数２〜８のアルキレンジカルボン酸残基または炭素原子数６〜１８のアリールジカルボン酸残基を表す。ｎは括弧で括られた繰り返し単位の繰り返し数で１〜１０であり、括弧で括られた繰り返し単位毎にＡおよびＧは同一であっても異なっていても良いＲ１〜Ｒ５はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、アミノ基、シアノ基またはニトロ基である。）
で表され、数平均分子量（Ｍｎ）が５００〜２，０００であることを特徴とするエステル化合物を提供するものである。
【００１４】
また、本発明は、炭素原子数２〜１０のアルキレングリコールまたは炭素原子数４〜１０のオキシアルキレングリコール（ｇ）と、炭素原子数２〜８のアルキレンジカルボン酸、該アルキレンジカルボン酸誘導体、炭素原子数６〜１８のアリールジカルボン酸および該アリールジカルボン酸誘導体からなる群から選ばれる一種以上の化合物（ａ）とを反応させて末端に水酸基を有する縮合物を得る工程と、該縮合物と下記一般式（２）
【００１５】
【化２】
2018104315.tif 000003
（式中、Ｒ１〜Ｒ５はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、アミノ基、シアノ基またはニトロ基である。）
で表されるイソシアネート化合物（ｓ）とを反応させて、下記一般式（１）
【００１６】
【化３】
2018104315.tif 000004
（式中、Ｇは炭素原子数２〜１０のアルキレングリコール残基または炭素原子数４〜１０のオキシアルキレングリコール残基を表す、Ａは炭素原子数２〜８のアルキレンジカルボン酸残基または炭素原子数６〜１８のアリールジカルボン酸残基を表す。ｎは括弧で括られた繰り返し単位の繰り返し数で１〜１０であり、括弧で括られた繰り返し単位毎にＡおよびＧは同一であっても異なっていても良い。Ｒ１〜Ｒ５はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、アミノ基、シアノ基またはニトロ基である。）
で表され、数平均分子量が５００〜２，０００であるエステル化合物を得る工程を含有することを特徴とするエステル化合物の製造方法を提供するものである。
【００１７】
また、本発明は、前記エステル化合物とセルロースエステル樹脂とを含有することを特徴とするセルロースエステル樹脂組成物を提供するものである。
【００１８】
更に、本発明は、前記セルロースエステル樹脂組成物を含有することを特徴とする光学フィルムを提供するものである。
【００１９】
更に、本発明は、前記光学フィルムを有することを特徴とする液晶表示装置を提供するものである。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、高いＲｔｈを発現し、湿気による位相差の変動が少ない光学フィルムが得られ、しかも、該光学フィルムから揮発しにくく光学フィルムの改質剤として好適に用いることができるエステル化合物を提供することができる。本発明のエステル化合物は、前記の通り光学フィルムに優れた耐水性を付与できることから、高温高湿下という過酷な環境下においても湿気による位相差が変動しにくい光学フィルムを提供することができる。そして、本発明の光学フィルムは、液晶表示装置の部材として好適に使用することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本発明のエステル化合物は、下記一般式（１）
【００２２】
【化４】
2018104315.tif 000005
【００２３】
で表される構造を有する。前記一般式（１）中のＧは炭素原子数２〜１０のアルキレングリコール残基または炭素原子数４〜１０のオキシアルキレングリコール残基である。Ａは炭素原子数２〜８のアルキレンジカルボン酸残基または炭素原子数６〜１８のアリールジカルボン酸残基である。ｎは括弧で括られた繰り返し単位の繰り返し数で１〜１０であり、括弧で括られた繰り返し単位毎にＡおよびＧは同一であっても異なっていても良い。Ｒ１〜Ｒ５はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、アミノ基、シアノ基又はニトロ基である。
【００２４】
本発明のエステル化合物は数平均分子量（Ｍｎ）が５００〜２，０００である必要がある。数平均分子量が５００より小さいと揮発性が高くなることから好ましくない。数平均分子量（Ｍｎ）が２，０００より大きいとセルロースエステル樹脂との相溶性が悪くなり、均一なセルロースエステル樹脂組成物が得にくくなることから好ましくない。数平均分子量（Ｍｎ）は５５０〜１，５００が好ましく、６００〜１，２００がより好ましい。
【００２５】
本発明において、前記数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）はＧＰＣ測定に基づきポリスチレン換算した値である。なお、ＧＰＣの測定条件は以下の通りである。
【００２６】
［ＧＰＣ測定条件］
測定装置：東ソー株式会社製高速ＧＰＣ装置「ＨＬＣ−８３２０ＧＰＣ」
カラム：東ソー株式会社製「ＴＳＫ  ＧＵＲＤＣＯＬＵＭＮ  ＳｕｐｅｒＨＺ−Ｌ」
＋東ソー株式会社製「ＴＳＫ  ｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｍ」
＋東ソー株式会社製「ＴＳＫ  ｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｍ」
＋東ソー株式会社製「ＴＳＫ  ｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＺ−２０００」
＋東ソー株式会社製「ＴＳＫ  ｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＺ−２０００」
検出器：ＲＩ（示差屈折計）
データ処理：東ソー株式会社製「ＥｃｏＳＥＣ  Ｄａｔａ  Ａｎａｌｙｓｉｓ  バージョン１．０７」
カラム温度：４０℃
展開溶媒：テトラヒドロフラン
流速：０．３５ｍＬ／分
測定試料：試料１５ｍｇを１０ｍｌのテトラヒドロフランに溶解し、得られた溶液をマイクロフィルターでろ過したものを測定試料とした。
試料注入量：２０μｌ
標準試料：前記「ＨＬＣ−８３２０ＧＰＣ」の測定マニュアルに準拠して、分子量が既知の下記の単分散ポリスチレンを用いた。
【００２７】
（単分散ポリスチレン）
東ソー株式会社製「Ａ−３００」
東ソー株式会社製「Ａ−５００」
東ソー株式会社製「Ａ−１０００」
東ソー株式会社製「Ａ−２５００」
東ソー株式会社製「Ａ−５０００」
東ソー株式会社製「Ｆ−１」
東ソー株式会社製「Ｆ−２」
東ソー株式会社製「Ｆ−４」
東ソー株式会社製「Ｆ−１０」
東ソー株式会社製「Ｆ−２０」
東ソー株式会社製「Ｆ−４０」
東ソー株式会社製「Ｆ−８０」
東ソー株式会社製「Ｆ−１２８」
東ソー株式会社製「Ｆ−２８８」
【００２８】
前記一般式（１）で表されるエステル化合物中のＧである炭素原子数２〜１０のアルキレングリコール残基としては、例えば、エチレングリコール残基、１，２−プロピレングリコール残基、１，３−プロピレングリコール残基、１，２−ブタンジオール残基、１，３−ブタンジオール残基、２−メチル−１，３−プロパンジオール残基、１，４−ブタンジオール残基、１，５−ペンタンジオール残基、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）残基、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロ−ルペンタン）残基、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）残基、３−メチル−１，５−ペンタンジオール残基、１，６−ヘキサンジオール残基、２，２，４−トリメチル１，３−ペンタンジオール残基、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール残基、２−メチル−１，８−オクタンジオール残基、１，９−ノナンジオール残基、１，１０−デカンジオール残基等が挙げられる。
【００２９】
前記一般式（１）で表されるエステル化合物中のＧである炭素原子数４〜１０のオキシアルキレングリコール残基としては、例えば、ジエチレングリコール残基、トリエチレングリコール残基、テトラエチレングリコール残基、ジプロピレングリコール残基、トリプロピレングリコール残基等が挙げられる。
【００３０】
一般式（１）で表されるエステル化合物中のＧの中でも、炭素原子数２〜４のアルキレングリコール残基または炭素原子数４〜６のオキシアルキレングリコール残基がセルロースエステル樹脂との相溶性が良好なエステル化合物となり、その結果、高いＲｔｈを発現し、湿気による位相差の変動が少ない光学フィルムが得られることから好ましく、プロピレングリコール残基又は２−メチル−１，３−プロパンジオール残基がより好ましい。
【００３１】
本発明の一般式（１）で表されるエステル化合物はＧとして１種類の残基を有していても良いし、２種以上の残基を有していても良い。
【００３２】
本発明において、前記「グリコール残基」とは、グリコールが有する２つの水酸基を除いた残りの有機基を表す。
【００３３】
前記一般式（１）で表されるエステル化合物中のＡである炭素原子数２〜８のアルキレンジカルボン酸残基としては、例えば、コハク酸残基、マレイン酸残基、フマル酸残基、グルタール酸残基、アジピン酸残基、アゼライン酸残基、セバシン酸残基、シクロヘキサンジカルボン酸残基等が挙げられる。
【００３４】
前記一般式（１）で表されるエステル化合物中のＡである炭素原子数６〜１８のアリールジカルボン酸残基としては、例えば、フタル酸残基、テレフタル酸残基、イソフタル酸残基、２，６ナフタレンジカルボン酸残基、１，５ナフタレンジカルボン酸残基、１，４ナフタレンジカルボン酸残基、４，４’−ビフェニルジカルボン酸残基等が挙げられる。
【００３５】
前記一般式（１）で表されるエステル化合物中のＡの中でも、炭素原子数６〜１２のアリールジカルボン酸残基が相溶性が良好なエステル化合物となり、その結果、高いＲｔｈを発現し、湿気による位相差の変動が少ない光学フィルムが得られることから好ましく、フタル酸残基、テレフタル酸残基またはイソフタル酸残基がより好ましい。
【００３６】
本発明の一般式（１）で表されるエステル化合物はＡとして１種類の残基を有していても良いし、２種以上の残基を有していても良い。
【００３７】
本発明において、「ジカルボン酸残基」とは、ジカルボン酸が有する２つのカルボキシル基を除いた残りの有機基を示す。
【００３８】
本発明の一般式（１）で表されるエステル化合物中のｎは括弧で括られた繰り返し単位の繰り返し数で１〜１０である。ｎはセルロースエステル樹脂との相溶性が良好なエステル化合物となり、その結果、高いＲｔｈを発現し、湿気による位相差の変動が少ない光学フィルムが得られることから１〜５が好ましい。
【００３９】
本発明の一般式（１）で表されるエステル化合物中のＲ１〜Ｒ５はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、アミノ基、シアノ基又はニトロ基である。
【００４０】
前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。前記炭素原子数１〜１０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、１，２−ジメチルブチル基、２−メチルヘキシル基、１−イソプロピルプロピル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、２−ヘプチル基、１，４−ジメチルペンチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、２−メチル−１−イソプロピルプロピル基、１−エチル−３−メチルブチル基、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、イソノニル基、デシル基、イソデシル基等が挙げられる。
【００４１】
前記炭素原子数１〜１０のアルコキシル基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、１，２−ジメチルプロポキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、１，２−ジメチルブトキシ基、２−メチルヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基等が挙げられる。
【００４２】
前記Ｒ１〜Ｒ５は、水素原子又はメチル基がセルロースエステル樹脂との相溶性が良好なエステル化合物となり、その結果、高いＲｔｈを発現し、湿気による位相差の変動が少ない光学フィルムが得られることから好ましく、水素原子がより好ましい。更に、Ｒ１〜Ｒ５は全て水素原子が好ましい。
【００４３】
前記Ｒ１〜Ｒ５は、それぞれ同一であっても異なっていても良い。また、一般式（１）で表されるエステル化合物はＲ１〜Ｒ５をそれぞれ二つ有する。二つある同じＲ１〜Ｒ５は同一であっても良いし、異なっていても良い。
【００４４】
本発明のエステル化合物は、一般式（１）で表される通り、骨格中に芳香族カルバメート結合を有する。芳香族カルバメート結合は水素結合性のプロトンを有しており、本発明のエステル化合物は高極性であるセルロースエステル樹脂と強く相互作用する。芳香族カルバメート結合がセルロースエステル樹脂と強く相互作用することにより水分がセルロースエステル樹脂と相互作用することを抑制することができ、耐水性に優れるフィルムが得られる。更に、特定の分子量のポリエステルとすることで、優れた耐揮発性のフィルムを得ることができる。
【００４５】
本発明の一般式（１）で表されるエステル化合物は、例えば、以下の工程を含む本発明の製造方法により好適に得ることができる。
・炭素原子数２〜１０のアルキレングリコールまたは炭素原子数２〜８のオキシアルキレングリコール（ｇ）と、炭素原子数２〜８のアルキレンジカルボン酸、該アルキレンジカルボン酸誘導体、炭素原子数６〜１８のアリールジカルボン酸および該アリールジカルボン酸誘導体からなる群から選ばれる一種以上の化合物（ａ）とを反応させて末端に水酸基を有する縮合物を得る工程（この工程を第一工程と略記することがある。）。
・前記第一工程で得られた縮合物と下記一般式（２）
【００４６】
【化５】
2018104315.tif 000006
【００４７】
（式中、Ｒ１〜Ｒ５はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、アミノ基、シアノ基又はニトロ基である。）
で表されるイソシアネート化合物（ｓ）とを反応させて、前記一般式（１）で表され、数平均分子量が５００〜２，０００であるエステル化合物を得る工程（この工程を第二工程と略記することがある。）。
【００４８】
前記第一工程で用いるグリコール（ｇ）である炭素原子数２〜１０のアルキレングリコールとしては、例えば、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロ−ルペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル１，３−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール等が挙げられる。
【００４９】
前記炭素原子数４〜１０のオキシアルキレングリコールとしては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等が挙げられる。
【００５０】
前記グリコール（ｇ）の中でも、炭素原子数２〜４のアルキレングリコールまたは炭素原子数４〜６のオキシアルキレングリコールがセルロースエステル樹脂との相溶性が良好なエステル化合物となり、その結果、高いＲｔｈを発現し、湿気による位相差の変動が少ない光学フィルムが得られることから好ましく、プロピレングリコール又は２−メチル−１，３−プロパンジオールがより好ましい。グリコール（ｇ）は１種類を使用しても良いし、２種以上を併用しても良い。
【００５１】
前記第一工程で用いる化合物（ａ）の中でも炭素原子数２〜８のアルキレンジカルボン酸としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタール酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、シクロヘキサンジカルボン酸等が挙げられる。
【００５２】
前記第一工程で用いる化合物（ａ）の中でも炭素原子数２〜８のアルキレンジカルボン酸誘導体は、エステル化反応やエステル置換反応等により水酸基含有化合物とアルキレンカルボン酸エステルを形成できる誘導体である。具体的には、例えば、前記アルキレンジカルボン酸のアルキルエステル、酸無水物、アミド等が挙げられる。 
【００５３】
前記炭素原子数６〜１８のアリールジカルボン酸としては、例えば、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、２，６ナフタレンジカルボン酸、１，５ナフタレンジカルボン酸、１，４ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ビフェニルジカルボン酸等が挙げられる。
【００５４】
前記第一工程で用いる化合物（ａ）の中でも炭素原子数６〜１８のアリールジカルボン酸誘導体は、エステル化反応やエステル置換反応等により水酸基含有化合物とカルボン酸エステルを形成できる誘導体である。具体的には、例えば、前記アリールジカルボン酸のアルキルエステル、酸無水物、アミド等が挙げられる。 
【００５５】
前記化合物（ａ）の中でも、炭素原子数６〜１２のアリールジカルボン酸又は該アリールジカルボン酸誘導体が、セルロースエステル樹脂との相溶性が良好なエステル化合物となり、その結果、高いＲｔｈを発現し、湿気による位相差の変動が少ない光学フィルムが得られることから好ましく、フタル酸、テレフタル酸またはイソフタル酸がより好ましい。化合物（ａ）は１種類を使用しても良いし、２種以上を併用しても良い。
【００５６】
本発明において、炭素原子数２〜８のアルキレンジカルボン酸、該アルキレンジカルボン酸誘導体、炭素原子数６〜１８のアリールジカルボン酸、該アリールジカルボン酸誘導体の炭素原子数とは、カルボキシル基の炭素原子数を含めない数を言う。
【００５７】
前記第一工程において、グリコール（ｇ）と化合物（ａ）とを反応させて末端に水酸基を有する縮合物は、ポリエステルポリオールである。該ポリエステルポリオールは、例えば、グリコール（ｇ）と化合物（ａ）とを化合物（ａ）中のカルボキシル基に対してグリコール（ｇ）中の水酸基が過剰となるような反応割合で必要に応じてエステル化触媒の存在下で、例えば、１８０〜２５０℃の温度範囲内で１０〜２５時間、エステル化反応させることにより製造することができる。尚、エステル化反応の温度、時間などの条件は特に限定せず、適宜設定してよい。
【００５８】
グリコール（ｇ）と化合物（ａ）は、グリコール（ｇ）と化合物（ａ）とをモル比〔（ｇ）／（ａ）〕で１．０１／１〜１０／１となる範囲で反応させることが反応完結しやすいことから好ましく、モル比〔（ｇ）／（ａ）〕で１．０１／１〜５／１となる範囲がより好ましい。
【００５９】
前記第一工程で得られる縮合物の水酸基価は、セルロースエステル樹脂との相溶性が良好なエステル化合物となり、その結果、高いＲｔｈを発現し、湿気による位相差の変動が少ない光学フィルムが得られることから５０〜３５０が好ましく、１２０〜３００がより好ましい。
【００６０】
前記第一工程で得られる縮合物は、例えば、下記一般式（３）
【００６１】
【化６】
2018104315.tif 000007
【００６２】
（式中、Ｇは炭素原子数２〜１０のアルキレングリコール残基または炭素原子数４〜１０のオキシアルキレングリコール残基を表す、Ａは炭素原子数２〜８のアルキレンジカルボン酸残基または炭素原子数６〜１８のアリールジカルボン酸残基を表す。ｎは括弧で括られた繰り返し単位の繰り返し数で１〜１０であり、括弧で括られた繰り返し単位毎にＡおよびＧは同一であっても異なっていても良い。）
で表される縮合物を例示することができる。
【００６３】
前記一般式（１）で表される縮合物の数平均分子量（Ｍｎ）は、本発明のエステル化合物を容易に得ることができることから３００〜１，７００が好ましく、３５０〜９００がより好ましい。
【００６４】
前記第二工程で用いるイソシアネート化合物（ｓ）としては、例えば、イソシアン酸フェニル、４−メチルイソシアン酸フェニル、４−イソプロピルイソシアン酸フェニル、４−ヒドロキシイソシアン酸フェニル、４−フルオロイソシアン酸フェニル、４−クロロイソシアン酸フェニル、４−臭素イソシアン酸フェニル等が挙げられる。イソシアネート化合物（ｓ）の中でも優れた相溶性、耐水性を発現することから、イソシアン酸フェニルが好ましい。
【００６５】
第二工程において縮合物とイソシアネート化合物（ｓ）とは、通常のウレタン化反応により反応させることができる。具体的には、例えば、縮合物とイソシアネート化合物（ｓ）とを、必要に応じて触媒の存在下に４０℃〜１４０℃、好ましくは６０℃〜１２０℃の温度範囲で３〜２０時間反応させることができる。縮合物とイソシアネート化合物（ｓ）とは、縮合物が有する水酸基数とイソシアネート化合物（ｓ）が有するイソシアネート基数の比〔水酸基数／イソシアネート基数〕が１／０．８５〜１／０．９９となるように反応させることがイソシアネート基の残存がなく、かつ、湿気による位相差の変動が少ない光学フィルムが得られることから好ましく、１／０．９０〜１／０．９９となるように反応させることがより好ましい。
【００６６】
前記必要に応じて使用できる触媒としては、例えば、３級アミン類のテトラメチルヘキサメチレンジアミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、ジメチルシクロヘキシルアミン、トリエチレンジアミン、１，８−ジアザビシクロ（５，４，０）ウンデセン−７等が挙げられる。又、４級アンモニユウム塩や、金属化合物のオクチル酸鉛、ナフテン酸鉛、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジラウレート等も使用できる。触媒は、前記縮合物とイソシアネート化合物（ｓ）との合計１００質量部に対して０．０００５〜０．１質量部使用することが好ましい。
【００６７】
本発明のセルロースエステル樹脂組成物は、本発明のエステル化合物とセルロースエステル樹脂とを含有することを特徴とする。
【００６８】
前記セルロースエステル樹脂は、綿花リンター、木材パルプ、ケナフ等から得られるセルロースの有する水酸基の一部、又は全部がエステル化されたものである。これらの中でも、綿花リンターから得られるセルロースをエステル化して得られるセルロースエステル樹脂を使用して得られるフィルムは、フィルムの製造装置を構成する金属支持体から剥離しやすく、フィルムの生産効率を向上させることが可能となるため好ましい。
【００６９】
前記セルロースエステル樹脂の具体例としては、例えば、トリアセチルセルロース樹脂やジアセチルセルロース樹脂等のセルロースアセテート樹脂；セルロースアセテートプロピオネート樹脂、セルロースアセテートブチレート樹脂、セルロースアセテートプロピオネートブチレート樹脂、セルロースアセテートフタレート樹脂及び硝酸セルロース樹脂等が挙げられる。これらのセルロースエステル樹脂は、単独で用いることも２種以上併用することもできる。本発明のセルロースエステル樹脂組成物からなるフィルムを光学フィルム、特に偏光板保護フィルムとして使用する場合には、セルロースアセテート樹脂、セルロースアセテートプロピオネート樹脂を使用することが、機械的物性及び透明性に優れたフィルムを得ることができるため好ましく、セルロースアセテート樹脂の中でも、高位相差を発現できることからジアセチルセルロース樹脂がより好ましい。
【００７０】
前記セルロースアセテート樹脂としては、平均酢化度（結合酢酸量）が５０．０〜６２．５質量％の範囲のものであると、得られるセルロースエステル樹脂組成物からなる光学フィルムは機械的物性及び透明性に優れたフィルムとなるため好ましい。
【００７１】
なお、平均酢化度は、セルロースアセテート樹脂の質量を基準として、該セルロースアセテート樹脂をケン化することによって生成する酢酸の質量割合である。
【００７２】
前記セルロースエステル樹脂は、数平均分子量が３０，０００〜３００，０００の範囲のものであると、フィルムの機械的物性を向上することができるため好ましい。また、より高い機械的物性が必要な場合は、５０，０００〜２００，０００の範囲のものを用いるとより好ましい。
【００７３】
本発明のセルロースエステル樹脂組成物中の本発明のエステル化合物の含有量としては、セルロースエステル樹脂１００質量部に対して、０．５〜５０質量部の範囲が好ましく、０．５〜３０質量部の範囲がより好ましく、５〜１５質量部の範囲がより好ましい。前記エステル化合物をかかる範囲で用いるならば、耐水性、透明性に優れ高いＲｔｈを発現し、光学用途に好適に使用できるフィルムが得られる組成物となる。
【００７４】
本発明の光学フィルムは、本発明のセルロースエステル樹脂組成物を含有するフィルムである。本発明のセルロースエステルフィルムの膜厚は使用される用途により異なるが、一般に１０〜２００μｍの範囲が好ましい。
【００７５】
本発明の光学フィルムは、種々の用途で用いることができる。最も有効な用途としては、例えば、液晶表示装置の光学補償機能を必要とする偏光板保護フィルムがあるが、光学等方性を必要とする偏光板保護フィルムフィルムの支持体としても使用することができる。
【００７６】
本発明の光学フィルムは、種々の表示モードの液晶セルに用いることができる。例えばＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）等が例示できる。
【００７７】
本発明の光学フィルムは、例えば、溶融押出法により製造することができる。具体的には、前記セルロースエステル樹脂、本発明のエステル化合物及び必要に応じてその他の各種添加剤等を含有してなるセルロースエステル樹脂組成物を、例えば、押出機等で溶融混練し、Ｔダイ等を用いてフィルム状に成形することにより得ることができる。
【００７８】
また、本発明の光学フィルムは、前記成形方法の他に、例えば、前記セルロースエステル樹脂と前記エステル化合物とを有機溶剤中溶解して得られた樹脂溶液を、金属支持体上に流延させ、次いで、前記有機溶剤を留去し乾燥させる、いわゆる溶液流延法（ソルベントキャスト法）で成形することによって得ることができる。
【００７９】
前記溶液流延法によれば、表面に凹凸が形成されにくく、表面平滑性に優れるフィルムが得られる。その為、該溶液流延法により得られるフィルムは光学用途に好ましく用いることが出来、特に偏光板保護フィルム用途として好ましく使用できる。
【００８０】
前記溶液流延法は、一般に、セルロースエステル樹脂と本発明のエステル化合物とを有機溶剤中に溶解させ、得られた樹脂溶液を金属支持体上に流延させる第１工程と、流延させた前記樹脂溶液中に含まれる有機溶剤を留去し乾燥させてフィルムを形成する第２工程、それに続く、金属支持体上に形成されたフィルムを金属支持体から剥離し加熱乾燥させる第３工程からなる。 
【００８１】
前記第１工程で使用する金属支持体としては、無端ベルト状又はドラム状の金属製のものなどを例示でき、例えば、ステンレス製でその表面が鏡面仕上げの施されたものを使用することができる。   
【００８２】
前記金属支持体上に樹脂溶液を流延させる際には、得られるフィルムに異物が混入することを防止するために、フィルターで濾過した樹脂溶液を使用することが好ましい。 
【００８３】
前記第２工程の乾燥方法としては、特に限定しないが、例えば３０〜５０℃の温度範囲の風を前記金属支持体の上面及び／又は下面に当てることで、流延した前記樹脂溶液中に含まれる有機溶剤の５０〜８０質量％を蒸発させ、前記金属支持体上にフィルムを形成させる方法が挙げられる。 
【００８４】
次いで、前記第３工程は、前記第２工程で形成されたフィルムを金属支持体上から剥離し、前記第２工程よりも高い温度条件下で加熱乾燥させる工程である。前記加熱乾燥方法としては、例えば１００〜１６０℃の温度条件にて段階的に温度を上昇させる方法が、良好な寸法安定性を得ることができるため、好ましい。前記温度条件にて加熱乾燥することにより、前記第２工程後のフィルム中に残存する有機溶剤をほぼ完全に除去することができる。
【００８５】
尚、前記第１工程〜第３工程で、有機溶媒は回収し再使用することも可能である。   
【００８６】
前記セルロースエステル樹脂と本発明のエステル化合物とを有機溶剤に混合させ溶解する際に使用できる有機溶剤としては、それらを溶解可能なものであれば特に限定しないが、例えばセルロースエステル樹脂としてセルロースアセテートを使用する場合は、良溶媒として、例えばメチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類を使用することが好ましい。
【００８７】
また、前記良溶媒と共に、例えばメタノール、エタノール、２−プロパノール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等の貧溶媒を併用することが、フィルムの生産効率を向上させるうえで好ましい。
【００８８】
前記良溶媒と貧溶媒との混合割合は、質量比で良溶媒／貧溶媒＝７５／２５〜９５／５の範囲が好ましい。
【００８９】
前記樹脂溶液中のセルロースエステル樹脂の濃度は、１０〜５０質量％が好ましく、１５〜３５質量％がより好ましい。
【００９０】
前記溶液流延法において、第３工程で加熱乾燥させたフィルムを得た後、更にこのフィルムを加熱延伸する第４工程を設けることができる。
【００９１】
第４工程では、第１工程〜第３工程により本発明のセルロースエステル樹脂組成物を用いて製膜後、得られたフィルムを加熱延伸する。延伸操作は多段階に分割して実施してもよく、流延方向、幅手方向に二軸延伸を実施しても良い。また、二軸延伸を行う場合には、同時二軸延伸を行ってもよいし、段階的に実施してもよい。この場合、段階的とは、例えば、延伸方向の異なる延伸を順次行うことも可能であるし、同一方向の延伸を多段階に分割し、かつ異なる方向の延伸をそのいずれかの段階に加えることも可能である。 
【００９２】
また、同時二軸延伸には、一方向に延伸し、もう一方向については張力を緩和して収縮させる場合も含まれる。同時二軸延伸の好ましい延伸倍率は、例えば、幅方向に×１．０５〜×１．５倍で長手方向（流延方向）に×０．８〜×１．３倍であり、特に幅方向に×１．１〜×２．５倍、長手方向に×０．８〜×０．９９倍とすることが好ましい。特に好ましくは幅方向に×１．１〜×２．０倍、長手方向に×０．９〜×０．９９倍である。
【００９３】
前記必要に応じて添加する事ができるその他の各種添加剤としては、例えば、本発明のエステル化合物以外でセルロースエステル樹脂の改質の改質が期待される改質剤、熱可塑性樹脂、紫外線吸収剤、マット剤、染料等が挙げられる。
【００９４】
前記必要に応じて添加する事ができるその他の各種添加剤としては、例えば、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート等のリン酸エステル；ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等のフタル酸エステル；トリメチロールプロパントリベンゾエート、ペンタエリスリトールテトラアセテート、アセチルクエン酸トリブチル等の多価アルコールのエステル化合物；末端が酢酸等の脂肪族モノカルボン酸で封止されたポリエステル化合物、スクロースオクタアセテート、スクロースベンゾエート等のフラノース構造もしくはピラノース構造を有する糖エステル化合物；バルビツール酸構造を有する化合物；イミダゾール、トリアゾール、ピラゾール等の５員の芳香族複素環と６員の芳香族炭化水素環とが連結された構造を有する化合物等が挙げられる。
【００９５】
前記熱可塑性樹脂としては、例えば、本発明のエステル化合物以外のポリエステル樹脂、ポリエステルエーテル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、トルエンスルホンアミド樹脂等が挙げられる。
【００９６】
前記紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられる。前記紫外線吸収剤は、前記セルロースエステル樹脂１００質量部に対して、０．０１〜２質量部の範囲が好ましい。
【００９７】
前記マット剤としては、例えば、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム、リン酸カルシウム、カオリン、タルク等が挙げられる。前記マット剤は、前記セルロースエステル樹脂１００質量部に対して、０．１〜０．３質量部の範囲が好ましい。
【００９８】
前記染料としては、本発明の目的を阻害しない範囲であれば、種類や配合量など特に限定しない。
【００９９】
本発明の光学フィルムの膜厚は、５〜１２０μｍの範囲が好ましく、８〜１００μｍの範囲がより好ましく、１０〜８０μｍの範囲が特に好ましい。前記光学フィルムを偏光板板保護フィルムとして用いる場合には、膜厚が１０〜８０μｍの範囲であれば、液晶表示装置の薄型化を図る際に好適であり、且つ充分なフィルム強度、Ｒｔｈ、耐水性などの優れた性能を維持することができる。
【０１００】
本発明の光学フィルムは、耐水性が良好なことから、偏光板保護フィルム、位相差フィルム、反射板、視野角向上フィルム、防眩フィルム、無反射フィルム、帯電防止フィルム、カラーフィルター等の液晶表示装置の部材として好適に使用する事ができる。
【実施例】
【０１０１】
以下、本発明を実施例に基づき更に具体的に説明する。例中の部及び％は断りがない限り質量基準である。本発明において、酸価および水酸基価はＪＩＳ  Ｋ  ００７０−１９９２に準じた方法により測定した。
【０１０２】
実施例１（エステル化合物）
温度計、撹拌器及び還流冷却器を備えた５リットルの四つ口フラスコに、テレフタル酸ジメチル１７４８ｇ、２−メチル−１，３−プロパンジオール２４３３ｇ及びエステル化触媒としてテトライソプロピルチタネート０．２５ｇを加えた。窒素気流下で攪拌しながら、２１０℃になるまで段階的に昇温して、合計１１時間反応させた。反応後、１６０℃で未反応の２−メチル−１，３−プロパンジオールを減圧除去し、取り出しポリエステルポリオールを得た。得られたポリエステルポリオールの得量は２４５２ｇで、酸価は０．１ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価は２７７ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【０１０３】
温度計、撹拌器及び還流冷却器を備えた０．３リットルの四つ口フラスコに、前記ポリエステルポリオール１５２ｇを仕込んだ。フラスコ内温度が１２０℃を超えないように、イソシアン酸フェニル８５ｇを５回に分割して加えた。その後、８０℃で１４時間反応し、ＩＲ測定により、イソシアネートの消失を確認した。１２０℃で、未反応原料や低分子量成分を減圧除去し、一般式（１）で表されるエステル化合物（１）を得た。エステル化合物（１）の酸価は０．１ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価は１０ｍｇＫＯＨ／ｇ、数平均分子量（Ｍｎ）７１０、重量平均分子量（Ｍｎ）８４０であった。
【０１０４】
得られたエステル化合物（１）の耐揮発性の評価を行った。具体的には、正確に量ったエステル化合物（１）１０ｇを容器に入れ、ギヤーオーブンにて、１４０℃で２時間加温し、加熱後の重量を測定した。下記式より、重量変化率を求め、下記の基準に従い評価した。
重量減少率［％］＝〔重量減少量［ｇ］×１００〕／加熱前のエステル化合物の量［ｇ］
【０１０５】
＜耐揮発性の評価基準＞
○：重量減少率の絶対値が０．５％以下である
×：重量減少率の絶対値が０．５％を超える
【０１０６】
重量変化率の絶対値が小さい程、耐揮発性に優れるエステル化合物である。耐揮発性の評価結果を、エステル化合物（１）の数平均分子量（Ｍｎ）重量平均分子量（Ｍｗ）、酸価、水酸基価の濃度と共に第１表に示す。
【０１０７】
実施例２（同上）
温度計、撹拌器及び還流冷却器を備えた３リットルの四つ口フラスコに、テレフタル酸ジメチル９７１ｇ、プロピレングリコール１１４１ｇ、エステル化触媒としてテトライソプロピルチタネート０．１３ｇを加えた。窒素気流下で攪拌しながら、２００℃になるまで段階的に昇温して、合計２９時間反応させた。反応後、１６０℃で未反応のプロピレングリコールを減圧除去し、取り出し、ポリエステルポリオールを得た。得られたポリエステルポリオールの得量は９５７ｇで酸価は０．１ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価は２７８ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【０１０８】
温度計、撹拌器及び還流冷却器を備えた０．３リットルの四つ口フラスコに、前記ポリエステルポリオール１５１ｇを仕込んだ。フラスコ内温度が１２０℃を超えないように、イソシアン酸フェニル１５１ｇを５回に分割して加えた。その後、１０５℃で１４時間反応し、ＩＲ測定により、イソシアネートの消失を確認した。１２０℃で、未反応原料や低分子量成分を減圧除去し、一般式（１）で表される本発明のエステル化合物（２）を得た。エステル化合物（２）の酸価は０．６ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価は１５ｍｇＫＯＨ／ｇ、数平均分子量（Ｍｎ）は６５０、重量平均分子量（Ｍｗ）７４０であった。
【０１０９】
実施例１と同様にしてエステル化合物（２）の耐揮発性の評価を行った。評価結果をエステル化合物（２）の数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、酸価、水酸基価、末端構造情報と共に第１表に示す。
【０１１０】
実施例３（同上）
温度計、撹拌器及び還流冷却器を備えた３リットルの四つ口フラスコに、無水フタル酸１４８１ｇ、プロピレングリコール１０９２ｇ、エステル化触媒としてテトライソプロピルチタネート０．１５ｇを加えた。窒素気流下で攪拌しながら、２２０℃になるまで段階的に昇温して、合計２１時間反応させた。反応後、１６０℃で未反応のプロピレングリコールを減圧除去し、取り出し、ポリエステルポリオールを得た。得られたポリエステルポリオールの得量は１５６０ｇで、酸価は０．８ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価は１３８ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【０１１１】
温度計、撹拌器及び還流冷却器を備えた０．３リットルの四つ口フラスコに、前記ポリエステルポリオール１８３ｇを仕込んだ。フラスコ内温度が１２０℃を超えないように、イソシアン酸フェニル５１ｇを５回に分割して加えた。１００℃で１３時間反応し、ＩＲ測定により、イソシアネートの消失を確認した。１２０℃で、未反応原料や低分子量成分を減圧除去し、一般式（１）で表される本発明のエステル化合物（３）を得た。エステル化合物（３）の酸価は０．７ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価は１８ｍｇＫＯＨ／ｇ、数平均分子量（Ｍｎ）は８３０、重量平均分子量（Ｍｗ）１２１０であった。
【０１１２】
実施例１と同様にしてエステル化合物（３）の耐揮発性の評価を行った。評価結果をエステル化合物（３）の数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、酸価、水酸基価、末端構造情報と共に第１表に示す。
【０１１３】
比較例１（比較対照用エステル化合物）
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を付した内容積３リットルの四つ口フラスコに、テレフタル酸ジメチルを５５４ｇ、プロピレングリコールを４７６ｇ、パラトルイル酸を８１７ｇ、エステル化触媒としてテトライソプロピルチタネートを０．１１ｇ仕込み、窒素気流下で攪拌しながら、２３０℃になるまで段階的に昇温し、合計１７時間縮合反応させた。反応後、１９５℃にて未反応のプロピレングリコールを減圧除去し、比較対照用エステル化合物（１’）を得た。比較対照用エステル化合物（１’）の酸価は０．３ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価は１２ｍｇＫＯＨ／ｇ、数平均分子量（Ｍｎ）は４９０、重量平均分子量（Ｍｗ）は７２０であった。
【０１１４】
実施例１と同様にして比較対照用エステル化合物（１’）の耐揮発性の評価を行った。評価結果を比較対照用エステル化合物（１’）の数平均分子量（Ｍｎ）重量平均分子量（Ｍｗ）、酸価、水酸基価、末端構造情報と共に第１表に示す。
【０１１５】
比較例２（同上）
温度計、撹拌器及び還流冷却器を備えた０．３リットルの四つ口フラスコに、シクロヘキサノール１１０ｇを仕込んだ。フラスコ内温度が１２０℃を超えないように、イソシアン酸フェニル１１９ｇを３回に分割して加えた。８０℃で５時間反応させ、ＩＲ測定により、イソシアネートの消失を確認した。１２０℃で、未反応原料や低分子量成分を減圧除去し、比較対照用エステル化合物（２’）を得た。比較対照用エステル化合物（２’）の酸価は０．２ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価は３ｍｇＫＯＨ／ｇ、数平均分子量（Ｍｎ）は２７０、重量平均分子量（Ｍｗ）は２７０であった。
【０１１６】
実施例１と同様にして比較対照用エステル化合物（２’）の耐揮発性の評価を行った。評価結果を比較対照用エステル化合物（１’）の数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、酸価、水酸基価、末端構造情報と共に第１表に示す。
【０１１７】
比較例３（同上）
温度計、撹拌器及び還流冷却器を備えた３リットルの四つ口フラスコに、テレフタル酸ジメチル９７１ｇ、プロピレングリコール１１４１ｇ、エステル化触媒としてテトライソプロピルチタネート０．１３ｇを加えた。窒素気流下で攪拌しながら、２００℃になるまで段階的に昇温し、合計２９時間反応させた。反応後、１６０℃で未反応のプロピレングリコールを減圧除去し、比較対照用エステル化合物（３’）を得た。比較対照用エステル化合物（３’）の酸価は０．１ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価は２７８ｍｇＫＯＨ／ｇ、数平均分子量（Ｍｎ）は５００、重量平均分子量（Ｍｗ）は６１０であった。
【０１１８】
実施例１と同様にして比較対照用エステル化合物（３’）の耐揮発性の評価を行った。評価結果を比較対照用エステル化合物（３’）の数平均分子量（Ｍｎ）重量平均分子量（Ｍｗ）、酸価、水酸基価、
末端構造情報と共に第１表に示す。
【０１１９】
【表１】
2018104315.tif 000008
【０１２０】
実施例４（セルロースエステル樹脂組成物及び光学フィルム）
ジアセチルセルロース（製品名  Ｌ−５０、酢化度５５％、ダイセル化学工業製）１００部、エステル化合物（１）１０部、メチレンクロライド８１０部、メタノール９０部を加えて溶解し、セルロースエステル樹脂組成物であるドープ液を得た。ドープ液をガラス板上に厚み約０．８ｍｍとなるように流延し、室温で一晩放置後、５０℃で３０分、１２０℃で３０分乾燥し、膜厚６０μｍのセルロースエステル樹脂フィルム（１）を得た。得られたセルロースエステル樹脂フィルム（１）のＲｔｈ、耐水性、耐アルカリ性（耐けん化性）及び耐透湿性を下記方法に従って評価した。評価結果を第２表に示す。
【０１２１】
＜Ｒｔｈ値の評価方法＞
王子計測機器株式会社製  位相差測定装置ＫＯＢＲＡ−ＷＲを用い、平行ニコル測定法にてフィルムのＲｔｈを測定し、下記の基準に従って評価した。尚、測定は、２３℃／５５％ＲＨにて行った。測定には、２３℃／５５％ＲＨの環境下に１時間静置したセルロースエステル樹脂フィルム（１）を用いた。
○：Ｒｔｈが１００ｎｍ以上である。
×：Ｒｔｈが１００よりも小さい。
【０１２２】
＜耐水性の評価方法＞
耐水性は環境の湿度によって変化するＲｔｈ値（絶対値）で評価した。具体的には、前記＜Ｒｔｈ値の評価方法＞にてＲｔｈを測定したのち、セルロースエステル樹脂フィルム（１）を２３℃のイオン交換水に１２時間浸漬した。イオン交換水中でセルロースエステル樹脂フィルム（１）をガラスに挟みこみ、フィルムが乾燥しない状態でＲｔｈ値を測定した。以下の式で、Ｒｔｈ変化量を求め、下記の基準に従って評価した。
Ｒｔｈ変化量［ｎｍ］＝イオン交換水に浸漬後のＲｔｈ−イオン交換水に浸漬前のＲｔｈ
【０１２３】
＜Ｒｔｈ変化量の評価基準＞
○：Ｒｔｈ変化量の絶対値が３５より小さい。
×：Ｒｔｈ変化量の絶対値が３５以上である。
【０１２４】
＜耐けん化性の評価方法＞
４ｃｍ角のセルロースエステル樹脂フィルム（１）を作成し、この質量を測定した（試験前質量）。このフィルムを５０℃に加温した２ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム水溶液に３０分間浸漬した。その後、室温のイオン交換水に２分間浸漬し、フィルムを洗浄した。フィルムを７０℃で１時間乾燥し、重量を測定した（試験後重量）。以下の式で、重量変化率を求め、また、フィルム外見を目視で観察し、下記の基準に従って評価した。
質量変化率［％］＝〔（試験後質量−試験前質量）×１００〕／試験前質量
【０１２５】
○：質量変化率が２５％よりも小さく、且つ、フィルムが透明である。
×：質量変化率が２５％以上、または、フィルムが不透明である。
【０１２６】
＜耐透湿性の評価方法＞
ＪＩＳ  Ｚ  ０２０８に記載の方法に従い、セルロースエステル樹脂フィルム（１）の透湿度を測定した。透湿度（ｇ／ｍ２・２４ｈｒ）が小さい程、耐透湿性に優れる。
【０１２７】
実施例５（同上）
エステル化合物（１）のかわりにエステル化合物（２）を用いた以外は実施例４と同様にしてセルロースエステル樹脂フィルム（２）を得た。実施例４と同様の評価を行い、その結果を第２表に示す。
【０１２８】
実施例６（同上）
エステル化合物（１）のかわりにエステル化合物（３）を用いた以外は実施例４と同様にしてセルロースエステル樹脂フィルム（３）を得た。実施例４と同様の評価を行い、その結果を第２表に示す。
【０１２９】
比較例４（同上）
エステル化合物（１）のかわりに比較対照用エステル化合物（１’）を用いた以外は実施例４と同様にして比較対照用セルロースエステル樹脂フィルム（１’）を得た。実施例４と同様の評価を行い、その結果を第３表に示す。
【０１３０】
比較例５（同上）
エステル化合物（１）のかわりに比較対照用エステル化合物（２’）を用いた以外は実施例４と同様にして比較対照用セルロースエステル樹脂フィルム（２’）を得た。実施例４と同様の評価を行い、その結果を第３表に示す。
【０１３１】
比較例６（同上）
エステル化合物（１）のかわりに比較対照用エステル化合物（３’）を用いた以外は実施例４と同様にして比較対照用セルロースエステル樹脂フィルム（３’）を得た。実施例４と同様の評価を行い、その結果を第３表に示す。
【０１３２】
比較例７（同上）
エステル化合物（１）を除いた以外は実施例４と同様にして比較対照用セルロースエステル樹脂フィルム（４’）を得た。実施例４と同様の評価を行い、その結果を第３表に示す。
【０１３３】
【表２】
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【０１３４】
【表３】
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【０１３５】
第３表の脚注
−：測定せず。