(57)【要約】【課題】塩化物イオンによる腐食が抑制され、信頼性に優れた導電材料積層体を提供する。【解決手段】支持体上に、アミノ基を有する化合物を含有する下引き層と、該下引き層上に導電性金属細線を有する導電層を少なくとも有する導電材料と、該導電材料が有する導電層上にエポキシ基を有する化合物を含有する粘着剤層と、該粘着剤層上に機能材料を少なくともこの順で有し、該粘着剤層の側面部と、該導電層の最外縁部との最短距離が２００μｍ以上であることを特徴とする導電材料積層体。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、アミノ基を有する化合物を含有する下引き層と、該下引き層上に導電性金属細線を有する導電層を少なくとも有する導電材料と、該導電材料が有する導電層上にエポキシ基を有する化合物を含有する粘着剤層と、該粘着剤層上に機能材料を少なくともこの順で有し、該粘着剤層の側面部と、該導電層の最外縁部との最短距離が２００μｍ以上であることを特徴とする導電材料積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塩化物イオンによる腐食が抑制され、信頼性に優れた導電材料積層体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
スマートフォン、パーソナル・デジタル・アシスタント（ＰＤＡ）、ノートＰＣ、タブレットＰＣ、ＯＡ機器、医療機器、あるいはカーナビゲーションシステム等の電子機器においては、これらのディスプレイに入力手段としてタッチパネルセンサーが広く用いられている。
【０００３】
タッチパネルセンサーには、位置検出の方法により光学方式、超音波方式、抵抗膜方式、表面型静電容量方式、投影型静電容量方式等があり、上記したディスプレイ用途においては抵抗膜方式と投影型静電容量方式が好適に利用されている。抵抗膜方式のタッチパネルセンサーは、支持体上に光透過性導電層を有する導電材料を２枚利用し、これら導電材料をドットスペーサーを介して対向配置した構造を有しており、タッチパネルセンサーの１点に力を加えることにより光透過性導電層同士が接触し、各光透過性導電層に印加された電圧をもう一方の光透過性導電層を通して測定することで、力の加えられた位置の検出を行うものである。一方、投影型静電容量方式のタッチパネルセンサーは、２層の光透過性導電層を有する導電材料を１枚、または１層の光透過性導電層を有する導電材料を２枚利用し、指等を接近させた際の光透過性導電層間の静電容量変化を検出し、指を接近させた位置の検出を行うものである。後者は可動部分がないため耐久性に優れる他、多点同時検出ができることから、スマートフォンやタブレットＰＣ等で、とりわけ広く利用されている。
【０００４】
投影型静電容量方式のタッチパネルセンサーにおいては、支持体上に光透過性導電層をパターニングすることで得られた複数のセンサーからなるセンサー部を配することで、多点同時検出や移動点の検出を可能にしている。このセンサー部が検出した静電容量の変化を電気信号として外部に取り出すため、導電材料が有する全てのセンサーと、外部に電気信号を取り出すために設けられる複数の端子からなる端子部との間には、これらを電気的に接続する複数の周辺配線からなる周辺配線部が設けられる。通常、前述した光透過性導電層はディスプレイ上に位置し、周辺配線部や端子部はディスプレイの外、いわゆる額縁部に位置する。従来技術においては、光透過性導電層はＩＴＯ（インジウム−錫酸化物）導電膜により形成されるのが一般的であり、周辺配線部や端子部は、金、銀、銅、ニッケル、アルミニウム等の金属により形成されるのが一般的であった。例えば特開２０１５−３２１８３号公報（特許文献１）には、光透過性導電層の材料としてＩＴＯやＩＺＯ（インジウム−亜鉛酸化物）、ＺｎＯ（酸化亜鉛）等の透明導電体を使用し、取出配線（周辺配線部）の材料として銅等の金属を使用したタッチパネルセンサー部材が開示されている。
【０００５】
また、近年では光透過性導電層として網目状金属細線パターンを有する導電材料も開示されている。例えば特開２０１５−１３３２３９号公報（特許文献２）には、網目状金属細線パターンと周辺配線部を、銀微粒子を含有するインクを印刷して形成する方法や、無電解めっき触媒を含有する樹脂塗料を印刷した後に無電解めっきを施す方法、金属層上にフォトレジスト層を設け、レジストパターンを形成した後、金属層をエッチング除去するサブトラクティブ法、銀塩感光材料を用いる方法等、様々な方法により形成できることが記載されている。
【０００６】
上記した導電材料において、網目状金属細線パターンを構成する金属細線や、周辺配線部を構成する周辺配線、端子部を構成する端子等の導電性金属細線を有する層（導電層）上に粘着剤層と、該粘着剤層上に機能材料とを有する導電材料積層体も知られており、例えば特開２０１４−１９８８１１号公報（特許文献３）にはタッチパネルセンサー上に粘着シートからなる粘着剤層と、該粘着剤層上に保護基板を有するタッチパネル用積層体が開示されている。該粘着剤層は一般的に、表示装置やタッチパネルセンサー等の各部材間を密着させるために利用されるものである。
【０００７】
上記した導電層が有する導電性金属細線は、例えば人間の汗に含まれる塩化物イオンにより金属が腐食され、その抵抗値が変動する場合があった。導電性金属細線の抵抗値が変動すると、タッチパネルセンサーの検出感度の低下や誤認識が発生する等して、タッチパネルセンサーの信頼性は著しく低下する。近年は意匠性の観点からタッチパネルの狭額縁化が進められ、粘着剤層の側面部から浸透した塩化物イオンが額縁部に存在する周辺配線や、さらに内部に存在する網目状金属細線パターンを構成する金属細線にとりわけ作用しやすくなっており、改善が求められていた。
【０００８】
国際公開第２０１４／００７３３３号パンフレット（特許文献４）には塩水試験前後においても動作不良の発生が抑制され、歩留まりに優れた静電容量式タッチパネルとして、絶縁層上の電極部と引き出し配線部上に透明樹脂層と基板を備え、さらに絶縁層と基板との間から露出した透明樹脂層周縁部の表面上に水蒸気透過度が低い封止層を設けた静電容量式タッチパネルが開示される。また特開２０１６−５１４７０号公報（特許文献５）にはジ（メタ）アクリレート系化合物、バインダーポリマー、および光重合開始剤を含有するタッチパネル電極保護膜形成用組成物が開示され、塩水付与後の湿熱耐性に優れたタッチパネル電極の保護膜が得られることが記載される。しかし、上記した塩化物イオンによる腐食を抑制するにはいずれも十分な方法ではなかった。
【０００９】
一方、特開２００６−４５３１５号公報（特許文献６）には、特定のモノマーを重合してなるアクリル系共重合体とベンゾトリアゾールおよび／またはその誘導体を含有する粘着剤組成物を、エポキシ架橋剤にて架橋して得られる粘着剤層を金属回路上に貼着したタッチパネル用部材が開示され、高温高湿環境下で長期にわたって使用した場合にも金属の腐食を防止できることが記載される。特開２０１５−７５９５０号公報（特許文献７）には基板上に配線と低透湿度の粘着層を有し、さらに粘着層の側面部と配線が一定以上離れているタッチパネル用積層体により、水分の混入による配線のマイグレーションを防止できることが記載される。特開２０１４−２９６７１号公報（特許文献８）には、ゼラチンを含むハロゲン化銀乳剤層を露光・現像・硬膜処理した電極パターンと粘着性絶縁層とを備えるタッチパネル用導電性フィルムが開示され、該粘着性絶縁層に特定の酸価を有する粘着性絶縁材料をエポキシ化合物等の硬化剤で硬化した粘着剤を用いることで、タッチパネルの動作不良の発生が抑制されることが記載される。特開２０１４−７５１１５号公報（特許文献９）には、銀を含む金属配線間のイオンマイグレーションを抑制し、金属配線間の絶縁信頼性を向上させることを目的として、絶縁基板上の銀を含む金属配線上に、特定の構造を有するフェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、およびヒドラジン化合物から選択される化合物と、エポキシ樹脂等の絶縁樹脂を含有する樹脂層を設けることが記載される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２０１５−３２１８３号公報
【特許文献２】特開２０１５−１３３２３９号公報
【特許文献３】特開２０１４−１９８８１１号公報
【特許文献４】国際公開第２０１４／００７３３３号パンフレット
【特許文献５】特開２０１６−５１４７０号公報
【特許文献６】特開２００６−４５３１５号公報
【特許文献７】特開２０１５−７５９５０号公報
【特許文献８】特開２０１４−２９６７１号公報
【特許文献９】特開２０１４−７５１１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の課題は、塩化物イオンによる腐食が抑制され、信頼性に優れた導電材料積層体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の上記課題は、以下の発明によって達成される。
（１）支持体上に、アミノ基を有する化合物を含有する下引き層と、該下引き層上に導電性金属細線を有する導電層を少なくとも有する導電材料と、該導電材料が有する導電層上にエポキシ基を有する化合物を含有する粘着剤層と、該粘着剤層上に機能材料を少なくともこの順で有し、該粘着剤層の側面部と、該導電層の最外縁部との最短距離が２００μｍ以上であることを特徴とする導電材料積層体。
【発明の効果】
【００１３】
本発明により、塩化物イオンによる腐食が抑制され、信頼性に優れた導電材料積層体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の導電材料積層体の一例を示す概略断面図
【図２】本発明の導電材料積層体の一例を示す概略平面図
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明について図面を用いて説明する。本発明の導電材料積層体は、支持体上に、アミノ基を有する化合物を含有する下引き層と、該下引き層上に導電性金属細線を有する導電層を少なくとも有する導電材料と、該導電材料が有する導電層上にエポキシ基を有する化合物を含有する粘着剤層と、該粘着剤層上に機能材料を少なくともこの順で有する。
【００１６】
図１は本発明の導電材料積層体の一例を示す概略断面図である。図１において導電材料積層体５０は、支持体１１上にアミノ基を有する化合物を含有する下引き層１２と、下引き層１２上に導電性金属細線１３を有する導電層１４を少なくとも有する導電材料１０と、該導電材料が有する導電層１４上にエポキシ基を有する化合物を含有する粘着剤層２０と、粘着剤層２０上に機能材料３０を有する。本発明の導電材料積層体では、粘着剤層２０中のエポキシ基を有する化合物と、導電材料１０の下引き層１２が有するアミノ基を有する化合物の反応により、粘着剤層２０と下引き層１２が強固に接着し、塩化物イオンの浸透が抑制され、さらに導電層１４の最外縁部と粘着剤層２０の側面部との距離を一定以上に保つことと相まって、導電層１４中の導電性金属細線１３の腐食が抑制されると推測される。
【００１７】
本発明の導電材料積層体が有する導電材料１０について説明する。導電材料１０が有する支持体１１の材質は特に限定されないが、本発明の導電材料積層体をタッチパネルセンサー等の光透過性が必要な用途に利用する場合、導電材料積層体の透明性の観点から、支持体１１は光透過性を有することが特に好ましい。光透過性を有する支持体としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、ポリアリレート、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリイミド、フッ素樹脂、フェノキシ樹脂、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリフェニレンスルファイド、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、アクリル樹脂、セロファン、ナイロン、ポリスチレン系樹脂、ＡＢＳ樹脂等の各種樹脂フィルム、石英ガラス、無アルカリガラス等のガラス等が例示できる。導電材料積層体の透明性の観点から、支持体の全光線透過率は６０％以上が好ましく、特に好ましくは７０％以上であり、同様の観点から支持体のヘイズは０〜３％が好ましく、特に好ましくは０〜２％である。支持体１１と下引き層１２の間や、支持体１１の下引き層を有する側の面の反対側の面には、易接着層、ハードコート層、反射防止層、防眩層等の公知の層を有していてもよい。
【００１８】
下引き層１２が含有するアミノ基を有する化合物は特に限定されず、アミノ基を有する公知の化合物を用いることができる。具体的には「高分子の化学反応」（大河原  信  著  １９７２、化学同人社）２．６．４章記載のアミノ化セルロース、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン、ポリジアリルアミン、アリルアミンとジアリルアミンの共重合体、ジアリルアミンと無水マレイン酸との共重合体、ジアリルアミンと二酸化硫黄との共重合体等の高分子化合物、ゼラチン、アルブミン、カゼイン、ポリジン等のタンパク質、キトサン、キチン、コンドロイチン硫酸等の多糖類、アルギニン、アスパラギン、アスパラギン酸、システイン、グルタミン、グルタミン酸等のアミノ酸、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−メチル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ基を有するシランカップリング剤、１−アミノベンゾトリアゾール、２−アミノ−４−メルカプト−６−ベンジル−１，３，５−トリアジン等のアミノ基含有含窒素複素環化合物等が例示できる。中でも高分子化合物やタンパク質が好ましく、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミンが特に好ましい。
【００１９】
下引き層はアミノ基を有する化合物以外に、アミノ基を有さない公知の高分子化合物を含有していてもよい。アミノ基を有さない高分子化合物としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸等の水溶性高分子化合物や、酢酸ビニル、塩化ビニル、スチレン、メチルアクリレート、ブチルアクリレート、メタクリロニトリル、ブタジエン、イソプレンの単独重合体や、エチレン・ブタジエン共重合体、スチレン・ブタジエン共重合体、スチレン・ｐ−メトキシスチレン共重合体、スチレン・酢酸ビニル共重合体、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、酢酸ビニル・マレイン酸ジエチル共重合体、メチルメタクリレート・アクリロニトリル共重合体、メチルメタクリレート・ブタジエン共重合体、メチルメタクリレート・スチレン共重合体、メチルメタクリレート・酢酸ビニル共重合体、メチルメタクリレート・塩化ビニリデン共重合体、メチルアクリレート・アクリロニトリル共重合体、メチルアクリレート・ブタジエン共重合体、メチルアクリレート・スチレン共重合体、メチルアクリレート・酢酸ビニル共重合体、アクリル酸・ブチルアクリレート共重合体、メチルアクリレート・塩化ビニル共重合体、ブチルアクリレート・スチレン共重合体、ポリエーテル系ウレタン、ポリエステル系ウレタン、ポリカーボネート系ウレタン等の非水溶性高分子化合物が例示できる。
【００２０】
下引き層中のアミノ基を有する化合物の含有量は１ｍｇ〜３ｇ／ｍ２であることが好ましく、より好ましくは２ｍｇ〜２ｇ／ｍ２である。また下引き層におけるアミノ基を有する化合物の比率は、下引き層の全質量に対して２０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは５０質量％以上である。
【００２１】
下引き層は上記した成分に加え、さらに架橋剤を含有することが好ましい。架橋剤は特に限定されず、公知の架橋剤を用いることができる。具体的にはテトライソプロピルチタネート、チタンアセチルアセトネート、チタンラクテート、ノルマルブチルジルコネート、ジルコニウムモノアセチルアセトネート、アルミニウムトリスアセチルアセトネート等の有機金属化合物、ホルムアルデヒド、グリオキサール、マレアルデヒド、グルタルアルデヒドのようなアルデヒド類、尿素やエチレン尿素等のＮ−メチロール化合物、ムコクロル酸、２，３−ジヒドロキシ−１，４−ジオキサンのようなアルデヒド等価体、２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジン塩や、２，４−ジヒドロキシ−６−クロロ−トリアジン塩のような活性ハロゲンを有する化合物、ジビニルスルホン、ジビニルケトンやＮ，Ｎ，Ｎ−トリアクリロイルヘキサヒドロトリアジン、活性な三員環であるエチレンイミノ基を２つ以上有する化合物、粘着剤層が含有するエポキシ基を有する化合物のうち、２つ以上のエポキシ基を有する化合物、硫酸カリウムアルミニウム（ミョウバン）、その他「高分子の化学反応」（大河原  信  著  １９７２、化学同人社）の２．６．７章、５．２章、９．３章等に記載の架橋剤等が例示できる。
【００２２】
下引き層が含有する架橋剤の含有量は、下引き層中に未反応のアミノ基が残存する範囲に留めることが塩化物イオンによる腐食を抑制する観点から特に好ましい。下引き層中の未反応のアミノ基は反応前の２０モル％以上残存していることが好ましく、４０モル％以上残存していることが特に好ましい。
【００２３】
特開２００３−７７３５０号公報等に開示される方法に従い、銀塩感光材料を導電材料前駆体として用い、可溶性銀塩形成剤および還元剤をアルカリ液中で作用させる、いわゆる銀塩拡散転写法を用いて導電層を形成する場合、導電層の導電性の観点や、導電層と下引き層との接着性の観点から、下引き層は物理現像核を含有することが特に好ましい。物理現像核としては、重金属あるいはその硫化物からなる微粒子（粒子サイズは１〜数十ｎｍ程度）が用いられる。例えば、金、銀等の金属コロイド、パラジウム、亜鉛等の水溶性塩と硫化物を混合した金属硫化物等が挙げられる。下引き層における物理現像核の含有量は、固形分で０．０１〜１０ｍｇ／ｍ２が好ましい。
【００２４】
導電層１４が有する導電性金属細線１３の金属種は限定されず、金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル等の公知の金属や公知の金属からなる合金を例示できるが、導電性の観点から銀または銅を含有することが好ましく、銀を含有することが特に好ましい。導電性金属細線１３は、該導電性金属細線の全固形分質量に対し５０質量％以上が金属であることが好ましく、かかる金属の割合は７０質量％以上がより好ましく、８０質量％以上が特に好ましい。導電性金属細線の線幅は特に限定されないが、１〜５００μｍであることが導電材料積層体の信頼性の観点から好ましい。
【００２５】
導電層の金属量は、０．５〜２０ｇ／ｍ２であることが導電材料積層体の信頼性の観点から好ましい。導電層の金属量は、導電材料１０を支持体および下引き層ごと一部切り取って測定試料とし、蛍光Ｘ線により測定試料中の金属の存在量（ｇ）を測定し、測定試料の導電層を有する面のうち、導電性金属細線が存在する部分のみの面積（ｍ２）に換算することで算出できる。
【００２６】
本発明の導電材料積層体をタッチパネルセンサーに利用する場合、導電材料１０が有する導電層１４は導電性金属細線からなる網目状金属細線パターンを有することが好ましい。網目状金属細線パターンは複数の単位格子を網目状に配置した幾何学形状を有することがセンサーの感度、視認性（センサーの形状が見えにくい）等の観点から好ましい。単位格子の形状としては、例えば正三角形、二等辺三角形、直角三角形等の三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形等の四角形、六角形、八角形、十二角形、二十角形等のｎ角形、星形等を組み合わせた形状が挙げられ、またこれらの形状の単独の繰り返し、あるいは２種類以上の複数の形状の組み合わせが挙げられる。中でも単位格子の形状としては正方形もしくは菱形が好ましい。またボロノイ図形やドロネー図形、ペンローズタイル図形等に代表される不規則幾何学形状も好ましい網目状金属細線パターンの形状の一つである。
【００２７】
下引き層１２上に導電層１４を形成する方法は特に限定されず、例えば特開２０１５−６９８７７号公報に開示される方法に従い、金属およびバインダーを含有する導電性金属インキや導電性ペーストを、支持体上の下引き層上に印刷等の方法で付与して導電層を形成する方法や、特開２００７−５９２７０号公報に開示される方法に従い、支持体上に下引き層およびハロゲン化銀乳剤層を有する銀塩感光材料を導電材料前駆体として用い、硬化現像方式を用いて導電層を形成する方法、特開２００４−２２１５６４号公報、特開２００７−１２３１４号公報等に開示される方法に従い、支持体上に下引き層およびハロゲン化銀乳剤層を有する銀塩感光材料を導電材料前駆体として用い、直接現像方式を用いて導電層を形成する方法、特開２００３−７７３５０号公報、特開２００５−２５０１６９号公報、特開２００７−１８８６５５号公報、特開２００４−２０７００１号公報等に開示される方法に従い、支持体上に物理現像核を有する下引き層と、ハロゲン化銀乳剤層を少なくともこの順に有する銀塩感光材料を導電材料前駆体として用い、可溶性銀塩形成剤および還元剤をアルカリ液中で作用させる、いわゆる銀塩拡散転写法を用いて導電層を形成する方法、特開２０１４−１９７５３１号公報に開示される方法に従い、支持体上に下引き層、感光性レジスト層を積層した感光性レジスト材料を導電材料前駆体として用い、感光性レジスト層を任意のパターン状に露光後、現像し、レジスト画像を形成した後、無電解めっきを施してレジスト画像に被覆されていない下引き層上に金属を局在化させ、その後レジスト画像を除去し導電層を形成する方法、特開２０１５−８２１７８号公報に開示されている方法に従い、支持体上に下引き層、金属膜、レジスト膜を設け、該レジスト膜を露光および現像して開口部を形成し、該開口部の金属膜をエッチングして除去して導電層を形成する方法、等が例示できる。
【００２８】
上記した方法の中でも、導電性金属インキや導電性ペーストを印刷する方法、銀塩感光材料を導電材料前駆体として用いた銀塩拡散転写法を用いる方法、感光性レジスト材料を導電材料前駆体として用いる方法、以上の方法が導電性に優れた銀により形成された導電性金属細線からなる導電層を容易に形成できることから好ましく、特に微細な導電性金属細線からなる導電層を容易に形成できることから、銀塩感光材料を導電材料前駆体として用いた銀塩拡散転写法を用いる方法が好ましい。
【００２９】
導電層１４の導電性金属細線１３の表面に公知の金属表面処理を施してもよい。例えば特開２００８−３４３６６号公報に記載されているような還元性物質、水溶性リンオキソ酸化合物、水溶性ハロゲン化合物を作用させてもよく、特開２０１３−１９６７７９号公報に記載されているような分子内に２つ以上のメルカプト基を有するトリアジンもしくはその誘導体を作用させてもよく、特開２０１１−２０９６２６号公報に記載されているように硫化反応による黒化処理を施してもよい。また、銀塩感光材料を導電材料前駆体として用いて導電層を形成する場合、特開２００７−１２４０４号公報に記載されているようにタンパク質分解酵素等の酵素を含有する処理液で処理してもよい。
【００３０】
本発明の導電材料積層体が有する粘着剤層２０について説明する。粘着剤層はエポキシ基を有する化合物を少なくとも含有する。エポキシ基を有する化合物としては芳香族エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物、エポキシシラン化合物等が例示できるが、これらに限定されず、エポキシ基を有する公知の化合物を用いることができる。エポキシ基を有する化合物は２種類以上混合して用いてもよい。
【００３１】
芳香族エポキシ化合物とは、１つ以上のエポキシ基を有する芳香族化合物を意味する。具体的にはフェノール、クレゾール等の一価のフェノール類またはそのアルキレンオキサイド付加体のグリシジルエーテル、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、ビスフェノールフルオレン、ナフタレンジオール等の少なくとも１個の芳香族環を有する多価フェノールまたはそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、フェノールノボラック型エポキシ化合物、ビフェニルノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ化合物等のノボラック型エポキシ化合物等が例示できる。
【００３２】
上記芳香族エポキシ化合物は市販されており、いずれも好ましく用いることができる。具体的にはナガセケムテックス（株）製デナコール  ＥＸ−１４１、ＥＸ−１４２、ＥＸ−１４５、ＥＸ−１４６、ＥＸ−１４７、ＥＸ−２０１、ＥＸ−７２１等、新日本理化（株）製リカレジン  ＢＰＯ−２０Ｅ、ＢＥＯ−６０Ｅ等、三菱化学（株）製ｊＥＲ  １５２、１５４、６３０、８０２、８０６、８０７、８２５、８２７、８２８、８７１、８７２、１００１、１０１０、１００３Ｆ、１２５６、４２５０、ＹＬ９８０、ＹＬ９８３Ｕ、ＹＸ４０００、ＹＥＤ１２２等、（株）ＡＤＥＫＡ製アデカレジン  ＥＰ−４０００Ｓ、ＥＰ−４０１０Ｓ、ＥＰ−４１００、アデカグリシロール  ＥＤ−５０９Ｅ、ＥＤ−５２９等、ＤＩＣ（株）製ＥＰＩＣＬＯＮ  ８３０、８４０、８５０、ＥＸＡ−８３０ＣＲＰ、Ｎ−６６０、Ｎ−６９０等、三菱ガス化学（株）製ＴＥＴＲＡＤ−Ｘ等が例示できる。
【００３３】
脂環式エポキシ化合物とは、１つ以上のエポキシ基と１つ以上の脂肪族環を有する化合物を意味する。脂環式エポキシ化合物としては１つ以上の脂環族環を有する一価のアルコールのグリシジルエーテル、１つ以上の脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル、シクロヘキセンやシクロペンテン環含有化合物を酸化剤でエポキシ化することによって得られるシクロヘキセンオキサイドやシクロペンテンオキサイド含有化合物、上記芳香族エポキシ化合物を触媒の存在下、芳香環を選択的に水素化することによって得られる化合物が挙げられ、具体的には水素添加ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、ノボラック型エポキシ化合物を水素化したエポキシ化合物、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチルシクロヘキシル−３，４−エポキシ−１−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、６−メチル−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−６−メチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−３−メチルシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシ−３−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−５−メチルシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシ−５−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ−２−エチルヘキシル等が例示できる。芳香環の水素化に用いる触媒としてはロジウムやルテニウムを活性炭またはグラファイトに担持したものを例示できる。
【００３４】
上記脂環式エポキシ化合物は市販されており、いずれも好ましく用いることができる。具体的にはナガセケムテックス（株）製デナコール  ＥＸ−２５２等、（株）ダイセル製セロキサイド  ２０００、２０２１Ｐ、２０８１、サイクロマー  Ｍ１００、ＥＨＰＥ３１５０、エポリードＧＴ−４０１等、（株）ＡＤＥＫＡ製アデカレジン  ＥＰ−４０８０Ｅ、ＥＰ−４０８２ＨＴ等、ユニオンカーバイド社製ＵＶＲ−６１００、ＵＶＲ−６１０５、ＵＶＲ−６１１０、ＵＶＲ−６１２８、ＵＶＲ−６２００等、新日本理化（株）製リカレジン  ＨＢＥ−１００、ＤＭＥ−１００等、三菱化学（株）製ｊＥＲ  ＹＸ８０００、ＹＸ８０３４等、三菱ガス化学（株）製ＴＥＴＲＡＤ−Ｃ等が例示できる。
【００３５】
脂肪族エポキシ化合物とは、１つ以上のエポキシ基を有する脂肪族化合物のうち、上記脂環式エポキシ化合物を除く化合物を意味する。脂肪族エポキシ化合物としては、脂肪族多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジルアクリレートまたはグリシジルメタクリレートのビニル重合により合成したホモポリマー、グリシジルアクリレートまたはグリシジルメタクリレートとその他のビニルモノマーとのビニル重合により合成したコポリマー等が挙げられ、具体的には１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンのジグリシジルエーテル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンのトリグリシジルエーテル、ソルビトールのテトラグリシジルエーテル、ジペンタエリスリトールのヘキサグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールのジグリシジルエーテルなどの多価アルコールのグリシジルエーテル、またプロピレングリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイドを付加することによって得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステルが挙げられる。さらに、脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテルやフェノール、クレゾール、ブチルフェノール、また、これらにアルキレンオキサイドを付加することによって得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル、高級脂肪酸のグリシジルエステル、エポキシ化大豆油、エポキシステアリン酸オクチル、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシ化ポリブタジエン等が挙げられる。
【００３６】
上記脂肪族エポキシ化合物は市販されており、いずれも好ましく用いることができる。具体的にはナガセケムテックス（株）製デナコール  ＥＸ−１１１、ＥＸ−１２１、ＥＸ−１７１、ＥＸ−２１１、ＥＸ−２１２、ＥＸ−８１０、ＥＸ−８１１、ＥＸ−８３０、ＥＸ−８５０、ＥＸ−８６１、ＥＸ−９１１、ＥＸ−９４１、ＥＸ−３１３、ＥＸ−３１４、ＥＸ−３２１、ＥＸ−４１１、ＥＸ−４２１、ＥＸ−５２１、ＥＸ−６１２、ＥＸ−６１４等、（株）ＡＤＥＫＡ製アデカグリシロール  ＥＤ−５０３、ＥＤ−５０５、ＥＤ−５０６等、共栄社化学（株）製エポライトＭ−１２３０、エポライト４０Ｅ、エポライト１００Ｅ、エポライト２００Ｅ、エポライト４００Ｅ、エポライト７０Ｐ、エポライト２００Ｐ、エポライト４００Ｐ、エポライト１５００ＮＰ、エポライト１６００、エポライト８０ＭＦ、エポライト１００ＭＦ、エポライト４０００、エポライト３００２（Ｎ）等が例示できる。
【００３７】
エポキシシラン化合物とは、１つ以上のエポキシ基を有するシラン化合物を意味する。中でも以下の一般式１で表される化合物であることが塩化物イオンによる腐食を抑制する観点から好ましい。
【００３８】
【化１】
2018049946.tif 000003
【００３９】
一般式１中のＲａは３−グリシドキシプロピル基または２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル基を表し、Ｒｂは炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒｃは炭素数１〜３のアルキル基を表す。一般式１中のｎは０または１を表す。
【００４０】
一般式１で表されるエポキシシラン化合物の具体例としては、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリプロポキシシラン等が挙げられるがこれらに限定されない。
【００４１】
上記エポキシシラン化合物は市販されており、いずれも好ましく用いることができる。具体的には信越化学工業（株）製ＫＢＭ−３０３、ＫＢＭ−４０２、ＫＢＭ−４０３、ＫＢＥ−４０２、ＫＢＥ−４０３等、東レ・ダウコーニング（株）製Ｚ−６０４０、Ｚ−６０４３、Ｚ−６０４４等が例示できる。
【００４２】
一般式１で表されるエポキシシラン化合物以外のエポキシシラン化合物としては、エポキシ基を有するシリコーンオリゴマーである信越化学工業（株）製ＫＲ−５１６、ＫＲ−５１７、Ｘ−４１−１０５９Ａ、Ｘ−２４−９５９０や、ポリマー型多官能エポキシシランである信越化学工業（株）製Ｘ−１２−９８１Ｓ、Ｘ−１２−９８４Ｓが例示できる。
【００４３】
上記エポキシ基を有する化合物の中でも、芳香族エポキシ化合物、エポキシシラン化合物を用いることが塩化物イオンによる腐食を抑制する観点から好ましい。
【００４４】
粘着剤層中のエポキシ基を有する化合物の含有量は特に限定されず、エポキシ基が存在していれば本発明の効果が得られるが、粘着剤層の粘着力の観点や、塩化物イオンによる腐食を抑制する観点から０．０１〜２．５質量％含有することが好ましく、より好ましくは０．０５〜１．５質量％である。
【００４５】
本発明の導電材料積層体が有する粘着剤層は上記エポキシ基を有する化合物以外に、樹脂を好ましく含有する。該樹脂は特に限定されず、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂等の公知の樹脂を例示できる。上記樹脂は、樹脂前駆体を重合開始剤により重合させることで得られる。
【００４６】
樹脂前駆体は特に限定されず、各種樹脂のモノマーやオリゴマーを用いることができる。中でもアクリル系モノマーは、重合により得られる樹脂が透明性に優れ、またモノマーの重合を制御して樹脂に粘着性を付与することも容易であることから、特に好ましい。従って本発明の導電材料積層体が有する粘着剤層が含有する好ましい樹脂はアクリル系樹脂である。樹脂前駆体として単一のアクリル系モノマーを用いてもよく、２種類以上のアクリル系モノマーを用いてもよく、アクリル系モノマーとアクリル系モノマー以外のモノマーやオリゴマーを用いてもよい。アクリル系モノマーとしては、直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルと、（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルとが例示できる。なお、「（メタ）アクリル」とは、「アクリル」および／または「メタクリル」を表し、他も同様である。
【００４７】
上記直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、特に限定されないが、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｓ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸イソペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸ヘプチル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸ノニル、（メタ）アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸イソデシル、（メタ）アクリル酸ウンデシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸トリデシル、（メタ）アクリル酸テトラデシル、（メタ）アクリル酸ペンタデシル、（メタ）アクリル酸ヘキサデシル、（メタ）アクリル酸ヘプタデシル、（メタ）アクリル酸オクタデシル、（メタ）アクリル酸イソステアリル、（メタ）アクリル酸ノナデシル、（メタ）アクリル酸エイコシル等の炭素数が１〜２０の直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルが挙げられる。上記直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルは、２種類以上混合して用いてもよい。
【００４８】
上記（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルとしては、特に限定されないが、例えば、（メタ）アクリル酸−２−メトキシエチル、（メタ）アクリル酸−２−エトキシエチル、（メタ）アクリル酸メトキシトリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸−３−メトキシプロピル、（メタ）アクリル酸−３−エトキシプロピル、（メタ）アクリル酸−４−メトキシブチル、（メタ）アクリル酸−４−エトキシブチル等が挙げられる。上記（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルは、２種類以上混合して用いてもよい。
【００４９】
上記アクリル系モノマーの中でも、アクリル系モノマーとして（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルを用いることが、塩化物イオンによる腐食を抑制する観点から好ましく、具体的には重合に供する樹脂前駆体の全量１００質量部のうち、（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルの質量は、３０〜９０質量部が好ましく、より好ましくは３５〜９０質量部であり、特に好ましくは４０〜８５質量部である。
【００５０】
上記したアクリル系モノマー以外のモノマーとしては、極性基含有モノマー、多官能性モノマー等が例示できる。
【００５１】
上記極性基含有モノマーとしては、特に限定されないが、例えば、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イソクロトン酸等のカルボキシ基含有モノマーまたはその無水物（無水マレイン酸等）、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸−３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸−４−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸−６−ヒドロキシヘキシル等の（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキル、ビニルアルコール、アリルアルコール等のヒドロキシ基含有モノマー、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド等のアミド基含有モノマー、（メタ）アクリル酸アミノエチル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸−ｔ−ブチルアミノエチル等のアミノ基含有モノマー、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸メチルグリシジル等のグリシジル基含有モノマー、アクリロニトリルやメタクリロニトリル等のシアノ基含有モノマー、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、（メタ）アクリロイルモルホリンの他、Ｎ−ビニルピリジン、Ｎ−ビニルピペリドン、Ｎ−ビニルピリミジン、Ｎ−ビニルピペラジン、Ｎ−ビニルピロール、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニルオキサゾール等の複素環含有ビニル系モノマー、ビニルスルホン酸ナトリウム等のスルホン酸基含有モノマー、２−ヒドロキシエチルアクリロイルフォスフェート等のリン酸基含有モノマー、シクロヘキシルマレイミド、イソプロピルマレイミド等のイミド基含有モノマー、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート等のイソシアネート基含有モノマー等が挙げられる。上記極性基含有モノマーは、２種類以上混合して用いてもよい。
【００５２】
上記多官能性モノマーとしては、特に限定されないが、例えば、ジ（メタ）アクリル酸ヘキサンジオール、ジ（メタ）アクリル酸ブタンジオール、ジ（メタ）アクリル酸（ポリ）エチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸（ポリ）プロピレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸ネオペンチルグリコール、ジ（メタ）アクリル酸ペンタエリスリトール、トリ（メタ）アクリル酸ペンタエリスリトール、ヘキサ（メタ）アクリル酸ジペンタエリスリトール、トリ（メタ）アクリル酸トリメチロールプロパン、トリ（メタ）アクリル酸テトラメチロールメタン、（メタ）アクリル酸アリル、（メタ）アクリル酸ビニル等が挙げられる。上記多官能性モノマーは、２種類以上混合して用いてもよい。
【００５３】
上記アクリル系モノマー以外のモノマーの中でも、極性基含有モノマーを用いることが塩化物イオンによる腐食を効果的に抑制する観点から好ましく、ヒドロキシ基含有モノマーを用いることが特に好ましい。
【００５４】
上記モノマー以外にも、（メタ）アクリル酸シクロペンチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸イソボルニル等の環状アルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル等の、公知の共重合性モノマーを用いることができる。
【００５５】
前述した樹脂前駆体として用いられるオリゴマーとしては、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、イソプレンアクリレート、ブタジエンアクリレート等のアクリル系オリゴマーが例示できる。本発明におけるアクリル系オリゴマーとは、アクリル基を少なくとも１つ以上有するオリゴマーを意味する。
【００５６】
上記アクリル系オリゴマーは市販されており、いずれも好ましく用いることができる。ウレタンアクリレートとしては東亞合成（株）製アロニックスＭ−１１００、アロニックスＭ−１２００、新中村化学工業（株）製ＵＡ−１１００Ｈ、ＵＡ−１６０ＴＭ、ダイセル・オルネクス（株）製ＥＢＥＣＲＹＬ２１０、ＥＢＥＣＲＹＬ２３０、ＥＢＥＣＲＹＬ２７０、荒川化学工業（株）製ビームセット５０５Ａ−６、ビームセット５５０Ｂ、ビームセット５７５等が例示できる。エポキシアクリレートとしてはＤＩＣ（株）製ユニディックＶ−５５００、ユニディックＶ−５５０２、共栄社化学（株）エポキシエステル８０ＭＦＡ、エポキシエステル３０００ＭＫ等が例示できる。ポリエステルアクリレートとしては東亞合成（株）製アロニックスＭ−７１００、アロニックスＭ−８１００、ダイセル・オルネクス（株）製ＥＢＥＣＲＹＬ４３６、ＥＢＥＣＲＹＬ４５０、ＥＢＥＣＲＹＬ８１０等が例示できる。イソプレンアクリレートとしては、（株）クラレ製ＵＣ−１０２、ＵＣ−２０３等が例示できる。ブタジエンアクリレートとしては、日本曹達（株）製ＮＩＳＳＯ−ＰＢ  ＴＥ−２０００等が例示できる。
【００５７】
樹脂前駆体の重合に用いる重合開始剤は特に限定されず、公知の重合開始剤が例示できる。ここで重合開始剤とは、熱や電離放射線により、上記樹脂前駆体の重合反応を開始させる化合物を意味する。熱により重合反応を開始させる重合開始剤としては、メチルエチルケトンペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、（２−エチルヘキサノイル）（ｔｅｒｔ−ブチル）ペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド等の有機過酸化物、２，２′−アゾビスイソブチロニトリル、２，２′−アゾビス−２，４−ジメチルバレロニトリル、２，２′−アゾビス−２−メチルブチロニトリル等のアゾ化合物が例示でき、電離放射線により重合反応を開始させる重合開始剤としては、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン、オリゴ｛２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパノン｝、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル｝−２−メチルプロパン−１−オン等のアセトフェノン化合物、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン化合物、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４′−メチル−ジフェニルサルファイド、３，３′，４，４′−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−［２−（１−オキソ−２−プロペニルオキシ）エチル］ベンゼンメタナミニウムブロミド、（４−ベンゾイルベンジル）トリメチルアンモニウムクロリド等のベンゾフェノン化合物、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、２−（３−ジメチルアミノ−２−ヒドロキシ）−３，４−ジメチル−９Ｈ−チオキサントン−９−オンメソクロリド等のチオキサントン化合物等が例示できる。なお、電離放射線とは、樹脂前駆体の重合反応を開始させうるエネルギーを有する電磁波または荷電粒子を意味し、紫外線、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、電子線等が例示でき、中でも紫外線を用いることが生産性の観点から好ましい。
【００５８】
上記重合開始剤は市販されており、いずれも好ましく用いることができる。具体的にはＢＡＳＦジャパン（株）製ＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ５００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ７５４、ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１１７３等、大塚化学（株）製ＡＩＢＮ、ＡＤＶＮ、ＡＭＢＮ等が例示できる。
【００５９】
樹脂前駆体の重合に用いる重合開始剤の量は特に限定されないが、重合に供する樹脂前駆体の全量１００質量部に対し、重合開始剤は０．０５〜５質量部であることが重合速度の観点から好ましく、０．１〜３質量部が特に好ましい。
【００６０】
樹脂前駆体の重合方法としては、溶液重合方法、乳化重合方法、塊状重合方法、電離放射線照射重合方法等の公知の重合方法が例示でき、熱により重合反応を開始させる重合開始剤を用いる場合は溶液重合方法を、電離放射線により重合反応を開始させる重合開始剤を用いる場合は電離放射線照射重合方法を、といったように使用する重合開始剤の特性に合わせて選択すればよい。
【００６１】
溶液重合方法を用いて樹脂前駆体を重合する場合に用いる重合用溶媒は特に限定されず、樹脂前駆体および重合開始剤を溶解可能な公知の有機溶媒を用いることができる。具体的には酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル系溶媒、アセトン、２−ブタノン等のケトン系溶媒、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、エタノール、２−プロパノール等のアルコール系溶媒が例示できる。重合用溶媒として２種以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。
【００６２】
本発明の導電材料積層体が有する粘着剤層は、上記した樹脂、エポキシ基を有する化合物以外に、架橋剤（イソシアネート系架橋剤、金属キレート系架橋剤、前述したエポキシ基を有する化合物のうち、２つ以上のエポキシ基を有する化合物に代表されるエポキシ系架橋剤等）、シランカップリング剤（３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト基を有するシランカップリング剤、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアクリル基を有するシランカップリング剤等）、粘着付与剤（ロジン誘導体樹脂、ポリテルペン樹脂、石油樹脂、油溶性フェノール樹脂等）、金属腐食防止剤（ベンゾトリアゾール化合物等）、酸化防止剤（ヒンダードフェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物等）、紫外線吸収剤（ベンゾトリアゾール化合物、トリアジン化合物、ベンゾフェノン化合物等）、光安定剤（ヒンダードアミン化合物等）、充填剤、着色剤（顔料や染料等）、連鎖移動剤、可塑剤、軟化剤、界面活性剤、帯電防止剤等の公知の樹脂用添加剤を含有していてもよい。
【００６３】
イソシアネート系架橋剤としては、１，２−エチレンジイソシアネート、１，４−ブチレンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート等の低級脂肪族ポリイソシアネート類、シクロペンチレンジイソシアネート、シクロへキシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水素添加トリレンジイソシアネート、水素添加キシレンジイソシアネート等の脂環族ポリイソシアネート類、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の芳香族ポリイソシアネート類等の公知のイソシアネート系架橋剤が例示できる。また、トリメチロールプロパン／トリレンジイソシアネート付加物（日本ポリウレタン工業（株）製、商品名「コロネートＬ」）、トリメチロールプロパン／ヘキサメチレンジイソシアネート付加物（日本ポリウレタン工業（株）製、商品名「コロネートＨＬ」）等も好ましく用いることができる。
【００６４】
金属キレート系架橋剤としては、アルミニウム、鉄、銅、亜鉛、スズ、チタン、ニッケル、アンチモン、マグネシウム、バナジウム、クロム、ジルコニウム等の多価金属のアセチルアセトンやアセトアセチルエステル配位化合物等が例示できる。
【００６５】
本発明の導電材料積層体が有する粘着剤層は、２層以上の組成の異なる粘着剤層からなっていてもよい。例えば、導電材料の導電性金属細線を有する側の面に、上記エポキシ基を有する化合物を含有する粘着剤層Ａを設け、該粘着剤層Ａ上にエポキシ基を有する化合物を含有しない粘着剤層Ｂを設けて、１つの粘着剤層としてもよい。
【００６６】
粘着剤層の厚みは特に限定されないが、薄すぎると導電性金属細線を有する側の導電材料表面の凹凸へ追従しきれず、導電材料積層体中に泡が入る場合があり、また厚すぎると導電材料積層体の透明性が損なわれる場合がある。よって粘着剤層の厚みは５〜３００μｍが好ましく、より好ましくは１０〜２５０μｍである。また、導電材料積層体の透明性の観点から、粘着剤層の全光線透過率は９０％以上であることが好ましく、特に好ましくは９５％以上である。同様の観点から、粘着剤層のヘイズは０〜３％が好ましく、特に好ましくは０〜２％である。
【００６７】
本発明の導電材料積層体が有する粘着剤層を形成する方法は特に限定されないが、上記した樹脂、エポキシ基を有する化合物、その他の粘着剤層が含有していてもよい添加剤、以上のものを溶媒に溶解させた粘着剤層形成用塗液を作製し、これを塗布・乾燥させ粘着剤層を形成する方法が、生産性の観点から特に好ましい。従って本発明において、該樹脂は溶液重合方法により重合することが重合用溶媒をそのまま粘着剤層形成用塗液の溶媒として利用できるため生産性の観点から好ましく、重合開始剤としては熱により重合反応を開始させる重合開始剤を用いることが好ましい。
【００６８】
本発明においては、導電材料１０上に粘着剤層２０を直接形成し、該粘着剤層２０上に後述する機能材料３０を積層してもよく、機能材料３０上に粘着剤層２０を直接形成し、該粘着剤層２０上に導電材料１０を積層してもよく、剥離加工済み支持体上に粘着剤層２０を形成し、該粘着剤層２０を導電材料１０上に積層し、該粘着剤層２０から剥離加工済み支持体を剥離し、さらに該粘着剤層２０上に機能材料３０を積層してもよい。中でも剥離加工済み支持体上に粘着剤層２０を形成する方法が、粘着剤層を形成する工程中に導電材料や機能材料を傷つける可能性を回避できるため、生産性の観点から特に好ましい。
【００６９】
剥離加工済み支持体の支持体は特に限定されず、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、ポリアリレート、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリイミド、フッ素樹脂、フェノキシ樹脂、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリフェニレンスルファイド、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、アクリル樹脂、セロファン、ナイロン、ポリスチレン系樹脂、ＡＢＳ樹脂等の各種樹脂フィルム、各種金属、石英ガラス、無アルカリガラス等のガラス等が例示できる。剥離加工方法としては、シリコーン系、長鎖アルキル系、フッ素系、硫化モリブデン等の公知の剥離処理剤で支持体表面を処理する方法が例示できる。
【００７０】
粘着剤層形成用塗液を剥離加工済み支持体上に付与する方法は特に限定されず、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、ダイコート法、ブレードコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、キスコート法等の公知の方法を用いて塗布する方法や、グラビア印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、グラビアオフセット印刷、ディスペンサー印刷、パッド印刷等の公知の方法を用いて印刷する方法等が例示できる。粘着剤層形成用塗液を付与した後は、加熱や自然乾燥等の公知の乾燥方法により溶媒を乾燥させ、粘着剤層とする。乾燥後に粘着剤層中に残留する溶媒は、粘着剤層の全質量に対して４質量％以下とすることが導電材料積層体の信頼性の観点から好ましい。
【００７１】
上記した方法により導電材料上に粘着剤層を形成した後に加熱工程を設けることは、粘着剤層中のエポキシ基を有する化合物と、導電材料の下引き層が有するアミノ基を有する化合物の反応を促進させ、塩化物イオンによる腐食を抑制する観点から好ましい態様の１つである。加熱する温度は３５℃以上が好ましく、４５℃以上が特に好ましい。加熱する温度の上限は特に限定されないが、あまりに高温にすると導電材料の支持体が熱膨張したり、下引き層や粘着剤層の熱劣化が発生したりする可能性があるため、７０℃以下が好ましい。加熱時間は１０分間以上が好ましく、２０分間以上が特に好ましい。加熱時間の上限は生産性の観点から１２０分以下が好ましい。
【００７２】
本発明の導電材料積層体が有する機能材料３０としては、前述の導電材料１０や、化学強化ガラス、ソーダガラス、石英ガラス、無アルカリガラス等のガラス、ポリエチレンテレフタレート等の各種樹脂からなるフィルム、および上記したガラスやフィルムの少なくとも一方の面にハードコート層、反射防止層、防眩層、偏光層、ＩＴＯ等からなる導電性非金属層等の公知の機能層を有する材料が例示できる。
【００７３】
次に、粘着剤層２０の側面部と導電層１４の最外縁部との距離について図を用いて説明する。図２は本発明の導電材料積層体５０の一例を示す概略平面図である。図２において導電材料１０は網目状金属細線パターンを有するセンサー部４１と、端子部４２、４２’と、該センサー部と端子部とを電気的に接続する周辺配線部４３、４３’を有しており、センサー部４１、端子部４２、４２’、周辺配線部４３、４３’の全ては導電性金属細線によって形成されている。センサー部４１は、図中ｘ方向に伸びた、網目状金属細線パターンを有する複数のセンサー（例えば４１ａ、４１ｂ、４１ｃ等）が、図中ｙ方向に並ぶことで形成される。なお、図２においてセンサー部４１は必ずしも網目状金属細線パターンである必要はなく、ＩＴＯ等からなる導電性非金属層をパターニングしたものであってもよい。さらに図２においてセンサー部４１を網目状金属細線パターンで図示するにあたり、一例として正方形を単位格子とするパターンで表したが、前述のごとく網目状金属細線パターンの単位格子の形状は正方形に限定されず、また単位格子の大きさは図中では実際の大きさより極端に大きく記載されている。図２において周辺配線部４３および４３’は、センサー部４１と端子部４２および４２’を電気的に接続する複数の周辺配線（図中４３ａ、４３ｂ、４３ｃ、４３’ａ、４３’ｂ、４３’ｃ等）から構成される。端子部４２および４２’は、センサー部４１と外部とを電気的に接続するための部分であり、センサー部４１が有するセンサーの数に応じて複数の端子（図中４２ａ、４２ｂ、４２ｃ、４２’ａ、４２’ｂ、４２’ｃ等）から構成される。センサー４１ａは周辺配線４３ａおよび４３’ａを介し端子４２ａおよび４２’ａに電気的に接続されており、センサー４１ａで検出された静電容量変化は端子４２ａおよび４２’ａを通して電気信号として外部に取り出される。上記した導電材料１０の端子部４２、４２’には、外部との電気的接続を担うフレキシブルプリント配線板等の配線部材が一般的に接続される。
【００７４】
図２において破線で表されるのは粘着剤層２０の側面部４４の位置であり、両矢印で表されるのは側面部４４からセンサー部４１および周辺配線部４３、４３’の最外縁部に対して描画した垂線の長さ、つまり粘着剤層の側面部とセンサー部４１および周辺配線部４３、４３’の最外縁部との最短距離４５を表すものであり、この破線と両矢印は実際の導電材料積層体には存在しない。最短距離４５が２００μｍ以上である部分が本発明の導電層であり、より好ましくは３００μｍ以上であり、特に好ましくは４００μｍ以上である。最短距離４５が２００μｍ未満である場合、塩化物イオンの浸透抑制が不十分になるため腐食を抑制しきれず、導電材料積層体の信頼性が低下する。このように、本発明における導電層にはセンサー部と、周辺配線部の大部分が含まれるが、外部に電気信号を取り出すための端子部や、端子部との接続部分を形成している周辺配線の一部分は原理的に粘着剤層で覆うことができないため、これらの部位は本発明の導電層には含まない。具体的には、端子部および、端子部との接続部分を形成している周辺配線の、粘着剤層の側面部からの最短距離が２００μｍ未満で粘着剤層で覆われている部位と、粘着剤層で覆われていない部位は、本発明の導電層には含まない。これらの部位には通常、別途封止剤等により腐食対策が取られる。
【実施例】
【００７５】
以下、本発明に関し実施例を用いて詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
【００７６】
＜導電材料１の作製＞
支持体として、厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。なお、支持体の全光線透過率は９１％、ヘイズは０．８％であった。
【００７７】
次に下記組成の下引き層１塗液を支持体上に塗布、乾燥してアミノ基を有する化合物を含有する下引き層１を設けた。下引き層１中の未反応のアミノ基は架橋剤との反応前の９０．３モル％以上残存しているものと推測される。
【００７８】
＜硫化パラジウムゾルの調製＞
Ａ液    塩化パラジウム                                ５ｇ
塩酸                                        ４０ｍｌ
蒸留水                                  １０００ｍｌ
Ｂ液    硫化ソーダ                                ８．６ｇ
蒸留水                                  １０００ｍｌ
Ａ液とＢ液を撹拌しながら混合し、３０分後にイオン交換樹脂の充填されたカラムに通し硫化パラジウムゾルを得た。
【００７９】
＜下引き層１塗液／１ｍ２あたり＞
前記硫化パラジウムゾル（物理現像核、固形分として）０．４ｍｇ
２質量％グリオキザール水溶液                      ０．２ｍｌ
界面活性剤（Ｓ−１）                                  ４ｍｇ
デナコールＥＸ−８３０                              ５０ｍｇ
（ナガセケムテックス（株）製ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル）
１０質量％ＳＰ−２００水溶液                      ０．５ｇ
（（株）日本触媒製ポリエチレンイミン；平均分子量１０，０００）
【００８０】
【化２】
2018049946.tif 000004
【００８１】
続いて、支持体に近い方から順に下記組成の中間層、ハロゲン化銀乳剤層、および保護層を上記下引き層１の上に塗布、乾燥して、銀塩感光材料を得た。ハロゲン化銀乳剤は、写真用ハロゲン化銀乳剤の一般的なダブルジェット混合法で製造した。このハロゲン化銀乳剤は、塩化銀９５モル％と臭化銀５モル％で、平均粒径が０．１５μｍになるように調製した。このようにして得られたハロゲン化銀乳剤を定法に従いチオ硫酸ナトリウムと塩化金酸を用い、金イオウ増感を施した。こうして得られたハロゲン化銀乳剤は銀１ｇあたり０．５ｇのゼラチンを含む。
【００８２】
＜中間層組成／１ｍ２あたり＞
ゼラチン                                          ０．５ｇ
界面活性剤（Ｓ−１）                                  ５ｍｇ
染料１                                                ５ｍｇ
【００８３】
【化３】
2018049946.tif 000005
【００８４】
＜ハロゲン化銀乳剤層組成／１ｍ２あたり＞
ゼラチン                                          ０．５ｇ
ハロゲン化銀乳剤                                  ３．０ｇ銀相当
１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール              ３ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１）                                ２０ｍｇ
【００８５】
＜保護層組成／１ｍ２あたり＞
ゼラチン                                              １ｇ
不定形シリカマット剤（平均粒径３．５μｍ）          １０ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１）                                １０ｍｇ
【００８６】
銀塩感光材料と、網目状細線パターン、周辺配線パターン、端子パターンを有するポジ型透過原稿とを密着し、水銀灯を光源とする密着プリンターで４００ｎｍ以下の光をカットする樹脂フィルターを介して露光した。その後、下記拡散転写現像液中に２０℃で６０秒間浸漬した後、続いてハロゲン化銀乳剤層、中間層、および保護層を４０℃の温水で水洗除去し、乾燥処理した。このようにして図２に示す導電材料１を得た。
【００８７】
＜拡散転写現像液組成＞
水酸化カリウム                                      ２５ｇ
ハイドロキノン                                      １８ｇ
１−フェニル−３−ピラゾリドン                        ２ｇ
亜硫酸カリウム                                      ８０ｇ
Ｎ−メチルエタノールアミン                          １５ｇ
臭化カリウム                                      １．２ｇ
全量を水で１０００ｍｌ
ｐＨ＝１２．２に調整する。
【００８８】
導電材料１は下引き層上に導電層としてセンサー部４１、端子部４２、４２’、周辺配線部４３、４３’を有しており、その全てが導電性金属細線によって形成されている。センサー部４１は線幅４．５μｍ、一辺の長さが３００μｍで狭い方の角度が６０°の菱形の単位格子からなる網目状金属細線パターンによって形成されており、端子部４２、４２’、周辺配線部４３、４３’は全てベタパターン（塗りつぶしパターン）である。周辺配線部４３、４３’を構成する周辺配線の線幅は全て２０μｍであり、隣接する周辺配線間の最短距離は２０μｍである。蛍光Ｘ線分析による測定の結果、導電性金属細線の金属量は１．０ｇ／ｍ２であった。
【００８９】
＜導電材料２の作製＞
下記組成の下引き層２塗液を支持体上に塗布、乾燥してアミノ基を有する化合物を含有する下引き層２を設けた以外は導電材料１と同様にして、導電材料２を得た。導電材料２の導電層が有する導電性金属細線の線幅や金属量は導電材料１と同じであった。下引き層２中の未反応のアミノ基は架橋剤との反応前の８０．７モル％以上残存しているものと推測される。
【００９０】
＜下引き層２塗液／１ｍ２あたり＞
前記硫化パラジウムゾル（物理現像核、固形分として）０．４ｍｇ
２質量％グリオキザール水溶液                      ０．２ｍｌ
界面活性剤（Ｓ−１）                                  ４ｍｇ
デナコールＥＸ−８３０                              ５０ｍｇ
（ナガセケムテックス（株）製ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル）
１０質量％ゼラチン水溶液                          ０．５ｇ
【００９１】
＜導電材料３の作製＞
下記組成の下引き層３塗液を支持体上に塗布、乾燥してアミノ基を有する化合物を含有しない下引き層３を設けた以外は導電材料１と同様にして、導電材料３を得た。導電材料３の導電性金属細線の線幅や金属量は導電材料１と同じであった。
【００９２】
＜下引き層３塗液／１ｍ２あたり＞
前記硫化パラジウムゾル（物理現像核、固形分として）０．４ｍｇ
２質量％グリオキザール水溶液                      ０．２ｍｌ
界面活性剤（Ｓ−１）                                  ４ｍｇ
デナコールＥＸ−８３０                              ５０ｍｇ
（ナガセケムテックス（株）製ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル）
１０質量％ＰＶＡ−１１７水溶液                    ０．５ｇ
（（株）クラレ製ポリビニルアルコール）
【００９３】
＜粘着剤層Ａの作製＞
アクリル酸−２−メトキシエチルを６０質量部、アクリル酸−２−エチルヘキシルを３９質量部、アクリル酸−４−ヒドロキシブチルを１質量部、重合開始剤として２，２′−アゾビスイソブチロニトリル（大塚化学（株）製ＡＩＢＮ）を０．５質量部、重合用溶媒として酢酸エチルを３００部、以上をセパラブルフラスコに投入し、窒素ガスを導入しながら１時間撹拌した。その後、６５℃に昇温して１０時間撹拌して溶液重合方法により樹脂前駆体を重合させ、固形分濃度２５質量％の樹脂溶液を得た。
【００９４】
この樹脂溶液１００質量部（固形分換算）に、イソシアネート系架橋剤（日本ポリウレタン工業（株）製、コロネートＬ）を０．５質量部（固形分換算）添加した後、これらを均一に混合し粘着剤層形成用塗液Ａを得た。該粘着剤層形成用塗液Ａを厚み３８μｍの剥離加工済みポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂（株）製ＭＲＦ３８）の剥離加工面上に塗布し、１００℃の温風で３分間加熱し乾燥させ、粘着剤層Ａ（厚み５０μｍ）を作製した。その後、剥離加工済みポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂（株）製ＭＲＦ３８）の剥離加工面を粘着剤層Ａ上に貼合した。
【００９５】
＜粘着剤層Ｂの作製＞
上記した粘着剤層形成用塗液Ａに対し、エポキシ基を有する化合物として三菱化学（株）製ｊＥＲ  １５２を該粘着剤層形成用塗液の全固形分（形成後の粘着剤層の全質量に相当）に対して０．２質量％含有するように添加・混合した以外は粘着剤層Ａと同様にして粘着剤層Ｂを作製した。
【００９６】
＜粘着剤層Ｃの作製＞
上記した粘着剤層形成用塗液Ａに対し、エポキシ基を有する化合物として三菱ガス化学（株）製ＴＥＴＲＡＤ−Ｘを該粘着剤層形成用塗液の全固形分（形成後の粘着剤層の全質量に相当）に対して０．２質量％含有するように添加・混合した以外は粘着剤層Ａと同様にして粘着剤層Ｃを作製した。
【００９７】
＜粘着剤層Ｄの作製＞
上記した粘着剤層形成用塗液Ａに対し、エポキシ基を有する化合物として（株）ダイセル製セロキサイド  ２０００を該粘着剤層形成用塗液の全固形分（形成後の粘着剤層の全質量に相当）に対して０．２質量％含有するように添加・混合した以外は粘着剤層Ａと同様にして粘着剤層Ｄを作製した。
【００９８】
＜粘着剤層Ｅの作製＞
上記した粘着剤層形成用塗液Ａに対し、エポキシ基を有する化合物としてナガセケムテックス（株）製デナコール  ＥＸ−２５２を該粘着剤層形成用塗液の全固形分（形成後の粘着剤層の全質量に相当）に対して０．２質量％含有するように添加・混合した以外は粘着剤層Ａと同様にして粘着剤層Ｅを作製した。
【００９９】
＜粘着剤層Ｆの作製＞
上記した粘着剤層形成用塗液Ａに対し、エポキシ基を有する化合物として共栄社化学（株）製エポライトＭ−１２３０を該粘着剤層形成用塗液の全固形分（形成後の粘着剤層の全質量に相当）に対して０．２質量％含有するように添加・混合した以外は粘着剤層Ａと同様にして粘着剤層Ｆを作製した。
【０１００】
＜粘着剤層Ｇの作製＞
上記した粘着剤層形成用塗液Ａに対し、エポキシ基を有する化合物として共栄社化学（株）製エポライト８０ＭＦを該粘着剤層形成用塗液の全固形分（形成後の粘着剤層の全質量に相当）に対して０．２質量％含有するように添加・混合した以外は粘着剤層Ａと同様にして粘着剤層Ｇを作製した。
【０１０１】
＜粘着剤層Ｈの作製＞
上記した粘着剤層形成用塗液Ａに対し、エポキシ基を有する化合物として信越化学工業（株）製ＫＢＥ−４０２を該粘着剤層形成用塗液の全固形分（形成後の粘着剤層の全質量に相当）に対して０．２質量％含有するように添加・混合した以外は粘着剤層Ａと同様にして粘着剤層Ｈを作製した。
【０１０２】
＜粘着剤層Ｉの作製＞
上記した粘着剤層形成用塗液Ａに対し、エポキシ基を有する化合物として三菱ガス化学（株）製ＴＥＴＲＡＤ−Ｘを該粘着剤層形成用塗液の全固形分（形成後の粘着剤層の全質量に相当）に対して０．０２質量％含有するように添加・混合した以外は粘着剤層Ａと同様にして粘着剤層Ｉを作製した。
【０１０３】
＜粘着剤層Ｊの作製＞
上記した粘着剤層形成用塗液Ａに対し、エポキシ基を有する化合物として三菱ガス化学（株）製ＴＥＴＲＡＤ−Ｘを該粘着剤層形成用塗液の全固形分（形成後の粘着剤層の全質量に相当）に対して０．０８質量％含有するように添加・混合した以外は粘着剤層Ａと同様にして粘着剤層Ｊを作製した。
【０１０４】
＜粘着剤層Ｋの作製＞
上記した粘着剤層形成用塗液Ａに対し、エポキシ基を有する化合物として三菱ガス化学（株）製ＴＥＴＲＡＤ−Ｘを該粘着剤層形成用塗液の全固形分（形成後の粘着剤層の全質量に相当）に対して０．７５質量％含有するように添加・混合した以外は粘着剤層Ａと同様にして粘着剤層Ｋを作製した。
【０１０５】
＜粘着剤層Ｌの作製＞
上記した粘着剤層形成用塗液Ａに対し、エポキシ基を有する化合物として三菱ガス化学（株）製ＴＥＴＲＡＤ−Ｘを該粘着剤層形成用塗液の全固形分（形成後の粘着剤層の全質量に相当）に対して１．２５質量％含有するように添加・混合した以外は粘着剤層Ａと同様にして粘着剤層Ｌを作製した。
【０１０６】
＜粘着剤層Ｍの作製＞
上記した粘着剤層形成用塗液Ａに対し、エポキシ基を有する化合物として三菱ガス化学（株）製ＴＥＴＲＡＤ−Ｘを該粘着剤層形成用塗液の全固形分（形成後の粘着剤層の全質量に相当）に対して１．７５質量％含有するように添加・混合した以外は粘着剤層Ａと同様にして粘着剤層Ｍを作製した。
【０１０７】
＜粘着剤層Ｎの作製＞
上記した粘着剤層形成用塗液Ａに対し、エポキシ基を有する化合物として三菱ガス化学（株）製ＴＥＴＲＡＤ−Ｘを該粘着剤層形成用塗液の全固形分（形成後の粘着剤層の全質量に相当）に対して２．２５質量％含有するように添加・混合した以外は粘着剤層Ａと同様にして粘着剤層Ｎを作製した。
【０１０８】
＜粘着剤層Ｏの作製＞
アクリル酸−２−メトキシエチルを６０質量部、アクリル酸ｎ−ブチルを３４質量部、Ｎ−ビニル−２−ピロリドンを３．５質量部、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミドを１質量部、２−アクリル酸−４−ヒドロキシブチルを１質量部、アクリル酸を０．５質量部、重合開始剤として２，２′−アゾビス−２−メチルブチロニトリル（大塚化学（株）製ＡＭＢＮ）を０．５質量部、重合用溶媒として酢酸エチルを３００部、以上をセパラブルフラスコに投入し、窒素ガスを導入しながら１時間撹拌した。その後、６５℃に昇温して１０時間撹拌して溶液重合方法により樹脂前駆体を重合させ、固形分濃度２５質量％の樹脂溶液を得た。
【０１０９】
この樹脂溶液１００質量部（固形分換算）に、イソシアネート系架橋剤（日本ポリウレタン工業（株）製、コロネートＬ）を０．５質量部（固形分換算）添加した後、これらを均一に混合し粘着剤層形成用塗液Ｏを得た。該粘着剤層形成用塗液Ｏを厚み３８μｍの剥離加工済みポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂（株）製ＭＲＦ３８）の剥離加工面上に塗布し、１００℃の温風で３分間加熱し乾燥させ、粘着剤層Ｏ（厚み５０μｍ）を作製した。その後、剥離加工済みポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂（株）製ＭＲＦ３８）の剥離加工面を粘着剤層Ｏ上に貼合した。
【０１１０】
＜粘着剤層Ｐの作製＞
上記した粘着剤層形成用塗液Ｏに対し、該粘着剤層形成用塗液の全固形分（形成後の粘着剤層の全質量に相当）に対してエポキシ基を有する化合物として三菱ガス化学（株）製ＴＥＴＲＡＤ−Ｘを０．１質量％と、信越化学工業（株）製ＫＢＥ−４０２を０．１質量％含有するように添加・混合した以外は粘着剤層Ｏと同様にして粘着剤層Ｐを作製した。
【０１１１】
＜試料１〜１６の作製＞
粘着剤層Ａの一方の剥離加工済みポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、粘着剤層Ａの一方の面を露出させた。次に、導電材料１上の、図２で示した側面部４４で囲まれた領域に対し、粘着剤層Ａの露出させた面を貼合した。その後、粘着剤層Ａのもう片方の剥離加工済みポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、粘着剤層Ａ上に無アルカリガラス（コーニングジャパン（株）製イーグル２０００）を貼合した。この手順を繰り返し、試料１を３０枚作製した。粘着剤層Ｂ〜Ｐを用いた以外は同様にして、試料２〜１６を各３０枚作製した。図２における導電材料積層体の右側の側面部４４と周辺配線４３ａとの最短距離４５は、試料１〜１６のいずれも４５０μｍであった。
【０１１２】
＜試料１７、１８の作製＞
導電材料２、３を使用した以外は試料３と同様にして試料１７、１８を各３０枚作製した。図２における導電材料積層体の右側の側面部４４と周辺配線４３ａとの最短距離４５は、試料１７、１８のいずれも４５０μｍであった。
【０１１３】
＜試料１９〜２１の作製＞
図２における導電材料積層体の右側の側面部４４と周辺配線４３ａとの最短距離４５が３５０μｍ、２５０μｍ、１５０μｍとなるように貼合する粘着剤層の大きさを変化させた以外は試料３と同様にして試料１９〜２１を各３０枚作製した。
【０１１４】
＜試料２２の作製＞
導電材料、粘着剤層、無アルカリガラスを貼合後に４０℃で３０分間加熱する工程を設けた以外は試料３と同様にして、試料２２を３０枚作製した。
【０１１５】
＜試料２３の作製＞
導電材料、粘着剤層、無アルカリガラスを貼合後に５０℃で３０分間加熱する工程を設けた以外は試料３と同様にして、試料２３を３０枚作製した。
【０１１６】
＜腐食が生じた試料数＞
全ての試料をスガ試験機（株）製塩水噴霧試験装置内に入れ、ＪＩＳ  Ｚ  ２３７１に準じ１２０時間の中性塩水噴霧試験を実施した。試験に使用した塩化ナトリウム水溶液の塩化ナトリウム濃度は５０ｇ／Ｌ、試験時の水温は３５℃であった。試験後の全ての試料について、図２における導電材料積層体の右側の周辺配線４３ａを（株）キーエンス製デジタルマイクロスコープＶＨＸ−５０００で観察し、金属光沢が失われ黒色への変色が生じていた試料の枚数を数えた（腐食が生じた試料数）。結果を表１に示す。
【０１１７】
【表１】
2018049946.tif 000006
【０１１８】
表１の結果から、本発明によって、塩化物イオンによる腐食が抑制され、信頼性に優れた導電材料積層体が得られることが判る。
【符号の説明】
【０１１９】
１０  導電材料
１１  支持体
１２  下引き層
１３  導電性金属細線
１４  導電層
２０  粘着剤層
３０  機能材料
４１  センサー部
４１ａ、４１ｂ、４１ｃ  センサー
４２、４２’  端子部
４２ａ、４２ｂ、４２ｃ、４２’ａ、４２’ｂ、４２’ｃ  端子
４３、４３’  周辺配線部
４３ａ、４３ｂ、４３ｃ、４３’ａ、４３’ｂ、４３’ｃ  周辺配線
４４  側面部
４５  最短距離
５０  導電材料積層体
【図１】
2018049946.tif 000007
【図２】
2018049946.tif 000008