【事件の表示】
　特許第２６７０５６０号に関する訂正審判事件について、次のとおり審決する。
【結　論】
　特許第２６７０５６０号に係る明細書を本件審判請求書に添付された訂正明細書のとおり訂正することを認める。
【理　由】
　１．手続の経緯
　本件特許第２６７０５６０号に係る出願は、昭和６１年８月８日に出願された特願昭６１−１８６２０３号の特許法第４４条の規定による新たな特許出願である特願平５−２２６６８１号であって、平成９年７月１１日に本件特許が設定登録されたところ、平成１０年４月２８日に特許異議申立があり、平成１２年２月３日に本件特許取消決定がなされたものである。
　これに対し、本件特許の特許権者は、平成１２年３月２８日に該取消決定の取消請求訴訟（平成１２年（行ケ）第１００号）を提起し、さらに平成１２年６月３日に訂正審判（審判２０００−３９０５３号）を請求したものの、平成１２年１２月２７日に同審判請求を取り下げ、同日付けで新たに本件訂正審判（審判２００１−３９００２号）を請求したものである。
　
　２．請求の要旨
　本件審判請求の要旨は、特許第２６７０５６０号に係る明細書（以下、「特許明細書」という。）を本件審判請求書に添付された訂正明細書のとおり訂正するもので、その訂正の内容は次のとおりである。
　すなわち、特許明細書の特許請求の範囲の請求項１の
「減圧状態で被膜形成用基板を保持する反応空間と、高周波電力を発生させる手段と、前記高周波電力を振幅変調せしめる手段と、前記反応空間における一対の電極間に前記振幅変調した高周波電力を供給する手段と、から構成されたことを特徴とするプラズマ処理装置。」を、
「減圧状態で被膜形成用基板を保持する反応空間と、高周波電力を発生させる手段と、前記高周波電力を
、反応容器の内壁に発生するフレークが低減するように放電の弱いまたは無い時が得られるように、
訂正するものである。（訂正箇所は下線部）
　
　３．当審の判断
　３−１．訂正の目的の適否、新規事項及び拡張変更の有無について
　上記訂正は、訂正前の特許請求の範囲の請求項１の「前記高周波電力を振幅変調せしめる手段」を「前記高周波電力を、反応容器の内壁に発生するフレークが低減するように放電の弱いまたは無い時が得られるように、振幅変調せしめる手段」とするものであって、訂正前の「前記高周波電力を振幅変調せしめる手段」に、高周波電力を反応容器の内壁に発生するフレークが低減するように放電の弱いまたは無い時が得られるように振幅変調せしめる手段が含まれていた点は、訂正前明細書の【００１２】欄中の「・・・従来のように、単に一定振幅の高周波電力を印加するのをやめて、高周波電力を振幅変調して印加することによって・・・反応性気体の分解または活性化を大きくしたり・・・反応性気体のラジカルが存在する場合は、放電の有無の繰り返しとして振幅変調を行なってもよい。かくすると、変調をかけられた放電が弱いまたは無い時には、減圧ＣＶＤと同様の効果があり、たとえば凹凸のある基板表面であっても、その側面が上面と同じ厚さに形成されたり、あるいは反応容器の内壁に発生するフレークを低減する等の効果がある。」との記載及び【００１７】欄中の「・・・高周波を振幅変調すると、振幅の波高値が大きくなったり、また小さく（ゼロを含む）なったりするいわゆる振幅変調（ａｍｐｒｉｆｉｃａｔｉｏｎ　ｍｏｄｕｔａｔｉｏｎ）をすることができる。」との記載から明らかである。
　したがって、上記訂正は、高周波電力について、訂正前では高周波電力を振幅変調せしめる手段であれば全ての手段が含まれていたものを、本件訂正により「反応容器の内壁に発生するフレークが低減するように放電の弱いまたは無い時が得られるように」振幅変調せしめる手段だけに減縮したものである。
　よって、上記訂正は、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、願書に添付した明細書または図面に記載した事項の範囲内のものであり、また、実質上特許請求の範囲を拡張・変更するものでもない。
　
　３−２．独立特許要件について
　３−２−１．訂正後の特許請求の範囲に記載された発明
　訂正後の特許請求の範囲の請求項１に記載された発明（以下、「訂正発明」という。）は、訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された以下のとおりのものである。
「１．減圧状態で被膜形成用基板を保持する反応空間と、高周波電力を発生させる手段と、前記高周波電力を、反応容器の内壁に発生するフレークが低減するように放電の弱いまたは無い時が得られるように、振幅変調せしめる手段と、前記反応空間における一対の電極間に前記振幅変調した高周波電力を供給する手段と、から構成されたことを特徴とするプラズマ処理装置。」　
　３−２−２．引用刊行物とその記載事項
　本件特許に係る出願（遡及する出願日：昭和６１年８月８日）の出願前に頒布された刊行物１（特開昭６０−８６８３１号公報：特許異議申立の甲第１号証）には、「プラズマにより処理ガスを分解し膜を形成するプラズマＣＶＤ」（１頁右下欄１７〜１９行）に用いることのできるプラズマ処理装置に関する発明が開示され、さらに次のことが記載されている。
　ア）１頁右下欄１１行〜２頁左上欄１行
「プラズマ処理は真空に排気した処理室に、処理ガスを導入し、処理室内に設けた平行平板電極に高周波電圧を印加してプラズマを発生させ、処理を行うものである。処理内容としては・・・プラズマにより処理ガスを分解し膜を形成するプラズマＣＶＤ・・・などである。」
　イ）４頁右上欄１５行〜右下欄６行及び３、７、８図
「処理室１０には処理用ガス供給口１１、排気口１２が設けてある。また処理室内には接地されたアース電極１３と高周波電極１４があり、高周波電極は絶縁ブッシュ１５を介して処理室に固定し、周囲には処理室内壁との放電を防止するシールドケース１６が設けてある。また、高周波電極１４にはマッチングボックス１８を介して高周波パワーアンプ１９が接続してある。１３．５６ＭＨＺの標準信号発生器２１の信号は、変調信号発生器２２からの信号に従い、ＡＭ変調器２０でＡＭ変調され、高周波パワーアンプ１９に供給される。変調信号発生器２２は、周期、振幅を変えた矩形波や正弦波など任意の波形を発生することができる。変調信号発生器２２でプラズマ処理対象に合わせた第３図や第７図に示す波形に変調する変調信号を発生し、１３．５６ＭＨＺの標準信号発生器２１の信号を変調して高周波パワーアンプ１９に入力する。高周波パワーアンプ１９からは第３図や第７図に示すような波形出力が出力され、マッチングボックス１８を通って高周波電極１４に印加される。ＡＭ変調の場合、周波数は同じであるため、１３．５６ＭＨＺ用のマッチングボックスでマッチングを取ることができる。以上によりプラズマ処理方法で述べた放電プラズマを発生し、プラズマ処理を行うことができる。プラズマエッチングやプラズマＣＶＤなどに用いるアノードカップリング形のプラズマ処理装置は本実施例のアース電極１３と高周波電極１４の位置を交換することで実現できる。」
　してみると、上記ア）イ）の記載から、刊行物１には、真空に排気した「処理室（１０）」に処理用ガスを導入し、処理室内に設けた平行平板電極に高周波電圧を印加してプラズマを発生させ、そのプラズマにより処理用ガスを分解し、「プラズマ処理対象」の表面に被膜を形成するプラズマＣＶＤ装置において、処理用ガスを分解させる高周波電力を発生させる「１３．５６ＭＨＺの標準信号発生器（２１）」と、前記高周波電力を振幅変調せしめる「ＡＭ変調器（２０）」と、前記振幅変調手段によって変調された高周波電力を増幅する「高周波パワーアンプ（１９）」と、「処理室（１０）」に配設されると共に、前記振幅変調された高周波電力を供給する平行平板電極を構成する「アース電極（１３）と高周波電極（１４）」と、前記電極によって振幅変調された高周波電力が平行な面内に供給されるように「プラズマ処理対象」が配設されるように構成されているプラズマＣＶＤ処理装置が記載されているといえる。
　
　３−２−３．訂正発明と刊行物１に記載された発明との対比
　そこで、刊行物１に記載された発明と訂正発明とを対比すると、前者における「処理室（１０）」、「プラズマ処理対象」、「プラズマＣＶＤ、プラズマ処理装置」、「１３．５６ＭＨＺの標準信号発生器（２１）」、「ＡＭ変調器（２０）」、「アース電極（１３）と高周波電極（１４）」は、それぞれ後者における「反応空間」、「被膜形成用基板」、「プラズマ処理装置」、「高周波電力を発生させる手段」、「振幅変調せしめる手段」、「反応空間における一対の電極」に相当するものである。
　それゆえ、訂正発明と刊行物１に記載された発明とは、
「減圧状態で被膜形成用基板を保持する反応空間と、高周波電力を発生させる手段と、前記高周波電力を振幅変調せしめる手段と、前記反応空間における一対の電極間に前記振幅変調した高周波電力を供給する手段と、から構成されたことを特徴とするプラズマ処理装置。」の点において一致し、
　前者が「高周波電力を、反応容器の内壁に発生するフレークが低減するように放電の弱いまたは無い時が得られるように、振幅変調せしめる手段」を有するのに対して、後者はそのような手段を有していない点で両者は一応相違する。
　
　３−２−４．相違点についての判断
　訂正発明では、「高周波電力を、反応容器の内壁に発生するフレークが低減するように放電の弱いまたは無い時が得られるように、振幅変調せしめる手段」という上記相違点の構成を採ることによって、「・・・また、反応性気体のラジカルが存在する場合は、放電の有無の繰り返しとして振幅変調を行なってもよい。かくすると、変調をかけたため放電が弱いまたは無い時、減圧ＣＶＤと同様の効果を奏し、たとえば凹凸のある基板表面であっても、その側面も上面と同じ厚さに形成されたり、あるいは反応容器の内壁に発生するフレークを低減する等」（訂正明細書【００１２】）の効果を奏するものである。
　そして、この点に付き、刊行物１には記載も示唆も見出すことができず、また、反応容器の内壁に発生するフレークが低減するように放電の弱いまたは無い時が得られるように高周波電力を振幅変調せしめることが周知の技術であるともいえないから、当該手段を当業者が容易に想到し得るものとは認められない。
　したがって、上記相違点は実質的な相違点である。
　よって、訂正発明は、刊行物１に記載されたものと同一であるとも、刊行物１に記載されたものから当業者が容易に発明することができたものともすることはできず、さらに、他に出願の際独立して特許を受けることのできない発明であるとする理由を発見しない。
　したがって、訂正発明は独立特許要件を満たすものである。
　　
　４．むすび
　以上のとおりであるから、本件審判請求は、特許法第１２６条第１項ただし書第１号に掲げる事項を目的として、かつ、同条第２項ないし第４項の規定に適合する。
　よって、結論のとおり審決する。