【手続補正書】
【提出日】平成27年6月5日(2015.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも2つの異なるトポグラフィーパターンが形成された少なくとも1つの表面を有する流路と、
流体が該流路へ流れるのを可能にするための、該流路と流体接続した入口と
を備え、
該少なくとも1つの表面の上に配置された細胞層における細胞が、該少なくとも1つの表面の少なくとも2つの異なるトポグラフィーパターンによって少なくとも部分的に決定される配列、挙動または形態を実現するように、該流路の少なくとも1つの表面の少なくとも2つの異なるトポグラフィーパターンが選択される、装置。
【請求項２】
前記少なくとも1つの表面の少なくとも2つの異なるトポグラフィーパターンが、該少なくとも1つの表面に対する、前記細胞層における細胞の付着の増大を促進するように選択される、請求項1記載の装置。
【請求項３】
前記入口を介して前記流路に流体を流すための流体源をさらに備え、該流体が前記細胞層に対するせん断応力を誘発する、請求項1記載の装置。
【請求項４】
前記流路に流体を流した後、前記細胞層を検査するために該流路を分解することができる、請求項3記載の装置。
【請求項５】
前記流体源が、前記細胞層に対して0.1dyn/cm2未満のせん断応力レベルを生じる流速にて流体を流すように構成されている、請求項3記載の装置。
【請求項６】
前記流路が、該流路に流体を流すことによって流路の長さに沿って複数のせん断応力値が生じるように形作られる、請求項3記載の装置。
【請求項７】
前記少なくとも1つの表面の少なくとも2つの異なるトポグラフィーパターンが、約5μm以下の幅を有する隆起部を含む、請求項1記載の装置。
【請求項８】
基板の一部分において細胞層を成長させるために該基板の一部分の上に配置された細胞親和性物質を含み、該基板の一部分が前記流路の表面を形成する、請求項1記載の装置。
【請求項９】
基板の一部分において細胞層を成長させないために該基板の表面の一部分の上に配置された細胞非親和性（cytophobic）物質を含み、該基板の一部分がどの流路の表面も形成しない、請求項1記載の装置。
【請求項１０】
基板の一部分において細胞層を成長させないために該基板の表面の一部分の上に配置された細胞非親和性物質を含み、該基板の一部分が少なくとも1つの流路の表面部分を形成する、請求項1記載の装置。
【請求項１１】
前記少なくとも2つの異なるトポグラフィーパターンが、前記細胞層の配列、挙動または形態に、腎臓における細胞の配列、挙動または形態を再現させる、請求項1記載の装置。
【請求項１２】
トポグラフィーが形成された第二の流路の少なくとも1つの表面を有する少なくとも第二の流路をさらに備える、請求項1記載の装置。
【請求項１３】
少なくとも2つの異なるトポグラフィーパターンが形成された少なくとも1つの表面を有する流路と、
該少なくとも1つの表面上に配置された、配列、挙動または形態を有する細胞層と
を備える流動装置を用意する工程；
流路に流された際に、インビボで示すような形態、挙動または配列を細胞が模倣するような、細胞層に対するせん断応力レベルを生じる、流体の流速を選択する工程；および
選択された流速にて流路を流れる流体を導入する工程
を含む、器官の働きをシミュレートする方法。
【請求項１４】
前記細胞層における細胞の配列、挙動または形態が、前記少なくとも1つの表面の少なくとも2つの異なるトポグラフィーパターンによって少なくとも部分的に決定され、かつ該少なくとも1つの表面の少なくとも2つの異なるトポグラフィーパターンが、そのような配列、挙動または形態を実現するように選択される、請求項13記載の方法。
【請求項１５】
前記少なくとも1つの表面の少なくとも2つの異なるトポグラフィーパターンが、該少なくとも1つの表面に対する、前記細胞層における細胞の付着の増大を促進するように選択される、請求項14記載の方法。
【請求項１６】
インビボで器官の異なる位置において細胞が受けるであろうせん断応力を模倣する、細胞層に対する複数のせん断応力レベルを生じる流速を選択する工程
をさらに含み、前記流路が、流体を流すことによって、流路の長さに沿って複数のせん断応力レベルが生じるように形作られる、請求項13記載の方法。
【請求項１７】
前記流体を前記流路に流した後に、該流路を分解して前記細胞層を検査する工程
をさらに含む、請求項13記載の方法。
【請求項１８】
分析のために前記細胞層を保存するために、前記細胞を固定する工程
をさらに含む、請求項13記載の方法。
【請求項１９】
前記流体が治療薬を含む方法であって、
前記細胞層に対する該治療薬の効力を決定するために前記細胞を分析する工程
をさらに含む、請求項13記載の方法。
【請求項２０】
前記流体が潜在的毒素を含有する方法であって、
前記細胞層に対する該潜在的毒素の毒性を決定するために前記細胞を分析する工程
をさらに含む、請求項13記載の方法。
【請求項２１】
少なくとも2つの異なるトポグラフィーパターンが形成された少なくとも1つの表面を有する流路であって、該表面上で成長した細胞層における細胞が、ある配列、挙動または形態を実現するように、該流路の表面の少なくとも2つの異なるトポグラフィーパターンが選択される、流路と、
流体が該流路へ流れるのを可能にするための、該流路と流体接続した入口と、
前記細胞層に対するせん断応力を誘発するために流体を流路に流すための流体注入システムと、
を含む、生体模倣フローを作り出すシステム。
【請求項２２】
前記流路の少なくとも1つの表面の少なくとも2つの異なるトポグラフィーパターンが、該少なくとも1つの表面に対する、前記細胞層における細胞の付着の増大を促進するように選択される、請求項21記載のシステム。
【請求項２３】
流路の温度をほぼ一定温度に維持するための温度コントローラをさらに含む、請求項21記載のシステム。
【請求項２４】
前記細胞層における細胞を観察するための観測装備をさらに含む、請求項21記載のシステム。
【請求項２５】
前記流路が少なくとも第一の流路層および第二の流路層から形成されるシステムであって、
該第一の流路層を該第二の流路層にシーリングする取り付け装置
をさらに含む、請求項21記載のシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
一部の態様において、本システムは、微小流体の流路の温度をほぼ一定温度に維持するための温度コントローラを含む。一部の態様において、本システムは、細胞層における細胞を観察するための観測装備を含む。流路が、少なくとも第一の流路層および第二の流路層から形成される場合、該システムは、該第一の流路層を該第二の流路層にシーリングさせるための取り付け装置も含んでいてもよい。
[本発明1001]
トポグラフィーが形成された少なくとも1つの表面を有する微小流体の流路と、
流体が該流路へ流れるのを可能にするための、該流路と流体接続した入口と
を備え、
該表面の上に配置された細胞層における細胞が、該少なくとも1つの表面のトポグラフィーによって少なくとも部分的に決定される配列、挙動または形態を実現するように、該流路の表面のトポグラフィーが選択される、装置。
[本発明1002]
前記表面のトポグラフィーが、前記少なくとも1つの表面に対する、前記細胞層における細胞の付着の増大を促進するように選択される、本発明1001の装置。
[本発明1003]
前記入口を介して前記流路に流体を流すための流体源をさらに備え、該流体が前記細胞層に対するせん断応力を誘発する、本発明1001の装置。
[本発明1004]
前記流路に流体を流した後、前記細胞層を検査するために該流路を分解することができる、本発明1003の装置。
[本発明1005]
前記流体源が、前記細胞層に対して0.1dyn/cm2未満のせん断応力レベルを生じる流速にて流体を流すように構成されている、本発明1003の装置。
[本発明1006]
前記流路が、前記流路に流体を流すことによって流路の長さに沿って複数のせん断応力値が生じるように形作られる、本発明1003の装置。
[本発明1007]
前記流路の少なくとも1つの表面が少なくとも2つの異なるトポグラフィーを有する、本発明1001の装置。
[本発明1008]
前記表面のトポグラフィーが、約5μm以下の幅を有する隆起部を含む、本発明1001の装置。
[本発明1009]
基板の一部分において細胞層を成長させるために該基板の一部分の上に配置された細胞親和性物質を含み、該基板の一部分が前記流路の表面を形成する、本発明1001の装置。
[本発明1010]
基板の一部分において細胞層を成長させないために該基板の表面の一部分の上に配置された細胞非親和性（cytophobic）物質を含み、該基板の一部分がどの流路の表面も形成しない、本発明1001の装置。
[本発明1011]
基板の一部分において細胞層を成長させないために該基板の表面の一部分の上に配置される細胞非親和性物質を含み、該基板の一部分が少なくとも1つの流路の表面部分を形成する、本発明1001の装置。
[本発明1012]
前記表面トポグラフィーが、前記細胞層の配列、挙動または形態に、腎臓における細胞の配列、挙動または形態を再現させる、本発明1001の装置。
[本発明1013]
トポグラフィーが形成された第二の流路の少なくとも1つの表面を有する少なくとも第二の流路をさらに備える、本発明1001の装置。
[本発明1014]
トポグラフィーが形成された少なくとも1つの表面を有する流路と、
該少なくとも1つの表面上に配置された、配列、挙動または形態を有する細胞層と
を備える流動装置を用意する工程；
流路に流された際に、インビボで示すような形態、挙動または配列を細胞が模倣するような、細胞層に対するせん断応力レベルを生じる、流体の流速を選択する工程；および
選択された流速にて流路を流れる流体を導入する工程
を含む、器官の働きをシミュレートする方法。
[本発明1015]
前記細胞層における細胞の配列、挙動または形態が、前記少なくとも1つの表面のトポグラフィーによって少なくとも部分的に決定され、かつ該少なくとも1つの表面のトポグラフィーが、そのような配列、挙動または形態を実現するように選択される、本発明1014の方法。
[本発明1016]
前記表面のトポグラフィーが、前記少なくとも1つの表面に対する、前記細胞層における細胞の付着の増大を促進するように選択される、本発明1015の方法。
[本発明1017]
インビボで器官の異なる位置において細胞が受けるであろうせん断応力を模倣する、細胞層に対する複数のせん断応力レベルを生じる流速を選択する工程
をさらに含み、前記流路が、流体を流すことによって、流路の長さに沿って複数のせん断応力レベルが生じるように形作られる、本発明1014の方法。
[本発明1018]
前記流体を前記流路に流した後に、該流路を分解して前記細胞層を検査する工程
をさらに含む、本発明1014の方法。
[本発明1019]
分析のために前記細胞層を保存するために、前記細胞を固定する工程
をさらに含む、本発明1014の方法。
[本発明1020]
前記流体が治療薬を含む方法であって、
前記細胞層に対する該治療薬の効力を決定するために前記細胞を分析する工程
をさらに含む、本発明1014の方法。
[本発明1021]
前記流体が潜在的毒素を含有する方法であって、
前記細胞層に対する該潜在的毒素の毒性を決定するために前記細胞を分析する工程
をさらに含む、本発明1014の方法。
[本発明1022]
トポグラフィーが形成された少なくとも1つの表面を有する微小流体の流路であって、該表面上で成長した細胞層における細胞が、ある配列、挙動または形態を実現するように、該流路の表面のトポグラフィーが選択される、流路と、
流体が該流路へ流れるのを可能にするための、該流路と流体接続した入口と、
前記細胞層に対するせん断応力を誘発するために流体を流路に流すための流体注入システムと、
を含む、生体模倣フローを作り出すシステム。
[本発明1023]
前記流路の表面のトポグラフィーが、前記少なくとも1つの表面に対する、前記細胞層における細胞の付着の増大を促進するように選択される、本発明1022のシステム。
[本発明1024]
微小流体の流路の温度をほぼ一定温度に維持するための温度コントローラをさらに含む、本発明1022のシステム。
[本発明1025]
前記細胞層における細胞を観察するための観測装備をさらに含む、本発明1022のシステム。
[本発明1026]
前記流路が少なくとも第一の流路層および第二の流路層から形成されるシステムであって、
該第一の流路層を該第二の流路層にシーリングする取り付け装置
をさらに含む、本発明1022のシステム。