【事件の表示】
　平成　１年特許願第２２８４５６号「導電性表面層」拒絶査定に対する審判事件［平成　２年　５月２３日出願公開、特開平　２−１３４８８３］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．本願発明
　本願は、平成１年９月５日（優先権主張：独国１９８８年９月６日）の特許出願であって、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という）は、平成１１年３月８日付け手続補正書及び平成１１年９月２９日付け手続補正書で補正された明細書並びに図面の記載からみて、その特許請求の範囲請求項１に記載された次のとおりのものである。（「表面相」は、誤記なので「表面層」とした。）
「電極として供されるべき導電性表面層を備えた圧電要素、ピロ電気性要素、強誘電性要素又は高圧セラミック要素において、
　上記表面層（１２，１３）が各々元素周期表の第III族から第ＶIII族に属する金属の導電性硬質物質からなり、
　当該硬質物質が非化学量論的な原子構造及び／又は分子構造を有していることを特徴とする要素。」
　
２．引用文献に記載された発明
　原審の拒絶の理由に引用された特開昭５１−１０８５９１号公報（以下「引用文献１」という）は、圧電素子に関するものであり、第１図及び第２図と共に以下の点が記載されている。
「薄板状圧電体表面にＴｉＣなどの導電性硬質無機材料を反応性蒸着またはイオンプレーテイング等の手段によつて、少なくとも１０μ以上の厚さに被着したことを特徴とする圧電素子。」（特許請求の範囲：第１頁左下欄第５行〜第８行）
「電極３，４（金属板３は電極を兼ねている）」（第１頁右下欄第４行〜第５行）
「本発明は、短冊状セラミツクなどの薄板状圧電体５の表面にＴｉＣなどの導電性硬質無機材料６を反応性蒸着、またはイオンプレーテイング等の手段によつて、少なくとも１０μ以上の厚さに被着させるようにしたことを特徴とする」（第２頁左上欄第９行〜第１３行）
「ＴｉＣのようなセラミツク圧電体以上のヤング率を有し、軽い導電性材料であれば薄い被着層ですむので、圧電素子の軽量化のためには非常に有利である」（第２頁右上欄第１行〜第４行）
「第２図はこのようにして得られた圧電バイモルフの断面図で、７は従来と同様の手段によつて得られる金属蒸着膜による電極である。」（第２頁左下欄第４行〜第６行）
「以上は、反応性蒸着によるＴｉＣ膜などの被着について述べたが、その他イオンプレーテイング法によつても同様の被着が可能であり、また、被着材料としてはＴｉＣのほかに、ＴｉＮ、ＮｂＣ等でも同様の効果が得られる。
　本発明になる圧電素子は、以上述べたように、従来品に対して軽量となるから、ピツクアツプカートリツジ用の圧電素子として用いる場合は、高い周波数での機械インピーダンスを小さくできる特長があり、また、従来のような接着工程を不要としたので、接着時に生じるトラブルがなく、かつ、量産性に富む利点があり、さらに、高いヤング率を有する導電性硬質無機材料を用いているので、高域周波数限界を高めることができるものである。」（第３頁左上欄第１７行〜右上欄第１１行）
　以上の記載から、引用文献１には「電極を備えた圧電素子において、上記電極がＴｉＣ又はＴｉＮなどの導電性硬質無機材料からなることを特徴とする圧電素子。」が記載されている。
　
　周知例としての特開昭６３−６２８６５号公報（以下「引用文献２」という）は、イオンプレーティングによるコーティング方法に関するものであり、第１図と共に以下の点が記載されている。
「ＨＣＤ型イオンプレーティングによるＴｉＮコーティングは、蒸着源にチタンメタルを用いこれをＨＣＤガンで溶融、イオン化を行なわしめ、活性化されたチタン蒸気中に反応ガスとして窒素を導入して、気相中でＴｉＮを生成させ、基板上にコーティングする方法である。ここで基板としてはたとえば金属、セラミックス、プラスティック、紙などが挙げられ、またその形状は平面状であっても、曲面状であってもよく、特に限定するものではない。
　ＨＣＤガンの出力と導入する反応窒素ガス流量の２つのパラメータを用いることで、生成するＴｉＮ膜の物性を望むものにすることができる。このとき、得られる成膜速度は２つのパラメータにより必然的に決るものであり、この成膜速度でモニターが可能である。
　この２つのパラメータによって決まる成膜速度と得られるＴｉＮｘの色の領域の関係を第１図に示す。図中○は金色、△は無色、×は黒褐色を示した点である。このうち、黒褐色領域は導入する窒素ガス流量（ＳＣＣＭ）に対するホローカソードガン出力（Ａ）の比が１以下の領域であり（成膜速度は１８Å／Ｓ以下）、窒素リッチな膜である。
　また無色領域は該比が３以上の領域であり（成膜速度は３５Å／Ｓ以上）、チタンリッチからチタンメタルに近い膜でる。この２領域で得られる膜はいずれも耐摩耗性、密着性に乏しいものである。一方、金色領域では該比が１を越えて２.５以下の領域であり（成膜速度は２０Å／Ｓ以上、３２Å／Ｓ以下）、化学量論的にＴｉＮに近い領域で、装飾性、密着性、耐摩耗性に優れた膜が得られる。」（第２頁右上欄第１０行〜左下欄第２０行）
　以上の記載から、引用文献２には「セラミックスなどにＨＣＤ型イオンプレーティングによりＴｉＮコーティングを施す際、窒素リッチ、チタンリッチ、及び化学量論的にＴｉＮに近い領域、すなわち、非化学量論的なＴｉＮも存在する」ことが示されている。
　
３．本願発明と引用文献に記載された発明との対比・判断
　引用文献１に記載された発明の「電極」、「圧電素子」、「ＴｉＣ又はＴｉＮなどの導電性硬質無機材料」は、それぞれ本願発明の「電極として供されるべき導電性表面層」、「圧電要素」、「元素周期表の第III族から第ＶIII族に属する金属の導電性硬質物質」に相当する。
　したがって、本願発明と引用文献１に記載された発明とを対比すると、両者は、
「電極として供されるべき導電性表面層を備えた圧電要素において、
　上記表面層が元素周期表の第III族から第ＶIII族に属する金属の導電性硬質物質からなることを特徴とする要素。」である点で一致し、
　相違点１：本願発明では、表面層が各々導電性硬質物質からなる、つまり、表面層が両面とも導電性硬質物質からなるのに対して、引用文献１に記載された発明の実施例では、片面だけである点、
　相違点２：本願発明では、導電性硬質物質が、非化学量論的な原子構造及び／又は分子構造を有しているのに対して、引用文献１に記載された発明では、そのような記載がない点、
において、両者は相違する。
　そこで、上記相違点について検討する
　相違点１：引用文献１の特許請求の範囲の記載では、導電性硬質無機材料を片面だけに設けるとは限定されていず、両面に設けることを排除していない。さらに、引用文献１には「ＴｉＣのようなセラミツク圧電体以上のヤング率を有し、軽い導電性材料であれば薄い被着層ですむので、圧電素子の軽量化のためには非常に有利である」と記載されており、片面だけでなく両面ともＴｉＣのような導電性硬質無機材料を用いればより軽量化に有利なことは、当業者が容易に想到し得ることである。
　相違点２：本願明細書には、導電性硬質物質の実施例として窒化チタンＴｉＮ、炭化チタンＴｉＣが記載されており、引用文献１にも、導電性硬質無機材料の実施例としてＴｉＮ、ＴｉＣが記載されている。そして、引用文献２にも示されるように「ＴｉＮが非化学量論的にも存在すること」は、周知である。したがって、引用文献１の導電性硬質物質として周知の非化学量論的なものを用いることは、当業者が必要に応じて適宜採用し得ることである。
　また、本願発明の効果についても格別のものではない。
　
４．結び
　ゆえに、本願発明は、本願出願前に国内で頒布された刊行物である前記引用文献１に記載された発明及び上記周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができず、本願は拒絶されるべきである。
　よって、結論のとおり審決する。