【事件の表示】
　特願２０１０−５０１５６２「オキシ窒化物スパッタリングターゲット」拒絶査定不服審判事件〔平成２０年１１月　６日国際公開、ＷＯ２００８／１３２４０９、平成２２年　７月１５日国内公表、特表２０１０−５２３８１５、請求項の数（３）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続の経緯　
　本願は、２００８年３月２６日（パリ条約による優先権主張外国庁受理　２００７年４月６日　フランス(ＦＲ))を国際出願日とする出願であって、平成２４年１１月１４日付けで拒絶理由が通知され、平成２５年３月２１日付けで意見書及び手続補正書が提出され、平成２５年６月２８日付けで拒絶査定がされ、これに対し、平成２５年１１月５日に拒絶査定不服審判が請求され、平成２６年４月２２日付けで当審の拒絶理由が通知され、同年５月８日付けで意見書及び手続補正書が提出されたものである。　　　
　　　
第２　本願発明
　本願の請求項１〜３に係る発明は、平成２６年５月８日付け手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１〜３に記載された事項により特定される、次のとおりのものである（以下、それぞれの発明を請求項の項番にしたがい、「本願発明１」などといい、全体をまとめて「本願発明」という。）。
「　 【請求項１】
下式：
・ Li3P1O3.1N0.6；
・ Li2.5P0.5Si0.5O2.6N0.6；
・ (Li3PO4)0.6(B2O3)0.2(Li3N)0.3；
のいずれか1つを有することを特徴とする、陰極スパッタリングターゲット。
　　【請求項２】
　請求項1に記載のターゲットの、純窒素、場合によりそのアルゴンとの混合物によって構成されている雰囲気中での磁場補助陰極スパッタリングによる、金属-オキシ窒化物ベースの薄膜の製造方法。
　　【請求項３】
　請求項2に記載の方法にしたがって得られる薄膜の形態の電解質を備えた、マイクロバッテリー、エレクトロクロミック素子、またはマイクロスーパーコンデンサからなる電気化学的装置。」
　　　　　
第３　拒絶理由の概要
　原査定の拒絶理由の概要は次の１のとおりであり、当審の拒絶理由の概要は次の２のとおりのものである。
１　本願発明は、その出願前に日本国内又は外国において、頒布された次の刊行物に記載された発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　　刊行物１：特開２００３−２７７９１５号公報
　　　同　２：米国特許出願公開第２００４／００２３１０６号明細書
　　　同　３：Sung Jong Yoo,Journal of The Electrochemical Society、米国、The Electrochemical Society、２００７年２月、vol.154, no.2, p6-10 
　　
２　本件出願は、特許請求の範囲の記載が次の(1)及び(2)の点で不備のため、特許法第３６条第６項第１号及び同条第６項２号の規定に適合しない。
(1)発明の詳細な説明の記載によれば、本願発明においてスパッタリングを行う反応性雰囲気は、純窒素、又は窒素／アルゴン混合物により構成される雰囲気であるので、これを補正前の請求項２における「反応性中性雰囲気または反応性還元雰囲気」まで拡張・一般化することはできない。
(2)補正前の請求項３における「気体、例えば」なる記載は、発明の特定事項の記載としては不明確である。
　　　　
第４　当審の判断
４−１　拒絶理由１について
１　刊行物に記載された発明
（１）刊行物１について
ア　刊行物１には、次の事項が記載されている。
「【００３４】次いで、上記ＬｉＣｏＯ2の薄膜を正極活物質層とする図３に示す構成のリチウム２次電池を作成した。作成方法は以下の通りである。
【００３５】上記と同様にしてステンレス鋼の支持体２０上に厚さ１μｍのＬｉＣｏＯ2薄膜からなる正極活物質層２２を形成した。蒸着に先立ってオイルマージン法により支持体２０の表面上に格子状にオイルを付与することにより、ＬｉＣｏＯ2の薄膜２２を一辺が１ｃｍの略正方形にパターニングした。
【００３６】このＬｉＣｏＯ2薄膜２２上に、０．２５Ｐａのアルゴン雰囲気下で、直径１００ｍｍのＬｉ2.9ＰＯ3.3Ｎ0.36をターゲットとする高周波マグネトロンスパッタ法を用いて、厚さ２μｍのＬｉ2.9ＰＯ3.3Ｎ0.36からなる固体電界質層２４を作成した。このときの高周波出力は１００Ｗである。
【００３７】上記Ｌｉ2.9ＰＯ3.3Ｎ0.36薄膜２４上に、Ｌｉを蒸発源とする電子ビーム蒸着により、厚さ２μｍのＬｉからなる負極活物質層２６を形成した。このときの真空度は２×１０-3Ｐａ、照射電子ビームの加速電圧及び電流は１０ｋＶ，８ｍＡとした。
【００３８】上記Ｌｉ薄膜上に、Ｎｉのタブレット材を蒸発源とする電子ビーム蒸着により、厚さ５μｍのＮｉからなる負極集電体層２８を形成した。このときの真空度は６×１０-3Ｐａ、照射電子ビームの加速電圧及び電流は１０ｋＶ，５００ｍＡとした。」
イ　これらの記載によれば、刊行物には、ＬｉＣｏＯ2の薄膜を正極活物質層とするリチウム２次電池の作成方法に関する技術が記載されており、ステンレス鋼の支持体上にＬｉＣｏＯ2薄膜からなる正極活物質層を形成し、このＬｉＣｏＯ2薄膜上に、Ｌｉ2.9ＰＯ3.3Ｎ0.36をターゲットとする高周波マグネトロンスパッタ法を用いて、Ｌｉ2.9ＰＯ3.3Ｎ0.36からなる固体電界質層を作成している。
　このため、刊行物１には、スパッタリングターゲットに関する発明として、次の発明（以下、「引用発明１」という。）が記載されている。
「高周波マグネトロンスパッタ法において使用するターゲットであって、化学式がＬｉ2.9ＰＯ3.3Ｎ0.36で表されるスパッタリングターゲット。」
　　　　　　　　
（２）刊行物２について
ア　刊行物２には、次の事項が記載されている。
「[0018]・・・・The present invention solves this bulk fracturing problem by, for example, interposing an ion-conducting interlayer between a pair of electrolyte layers. This pair of electrolyte layers sandwiching an interlayer may substitute for a single electrolyte layer.」（仮訳：本発明は、このバルク破壊の問題を、例えば、一対の電解質層の間にイオン伝導性中間層を挿入することにより解決する。この中間層を挟んだ一対の電解質層は一つの電解質層に置き換えられる。）
「[0047]　The interlayer of the present invention may be applied by sputter deposition. ・・・・The sputter target may include a variety of materials. For example, the sputter target may include ・・・Li2.88PO3.73N0.14, ・・・・.」（仮訳：本発明における中間層は、スパッタ蒸着により形成することができる。スパッタターゲットには、様々な材料を使用することができる。例えば、・・・Li2.88PO3.73N0.14・・・をスパッタターゲットとして使用できる。」
イ　これらの記載によれば、刊行物２には、スパッタ蒸着によりイオン伝導性中間層を製造するに当たり、ターゲットとしてLi2.88PO3.73N0.14を使用する技術が記載されている。
　このため、刊行物２には、スパッタリングターゲットに関する発明として、次の発明（以下、「引用発明２」という。）が記載されている。
「スパッタ蒸着に使用するターゲットであって、化学式がＬｉ2.88ＰＯ3.73Ｎ0.14で表されるスパッタリングターゲット。」
　　　　　
（３）刊行物３について
ア　刊行物３には、次の事項が記載されている。
「The electrochromic properties of WO3 thin films with a LiPON (lithium phosphorous oxynitride) protective layer and of an electrochromic device composed of WO3 and a V2O５ with a LiPON protective layer prepared by radio-frequecy magnetron sputtering were investigated.」（第１頁上欄）（仮訳：ＬｉＰＯＮ（燐を含むリチウム酸窒化物）保護層を備えたＷＯ３薄膜のエレクトロクロミック特性と、ラジオ周波数マグネトロンスパッタリングにより作製したＬｉＰＯＮ保護層を備えたＷＯ３とＶ２Ｏ５からなるエレクトロクロミック素子のエレクトロクロミック特性について研究した。）
「WO3 was deposited to a thickness of about 400nm. Then, LiPON [Li3.3PO3.8N0.22, United Vacuum  Materials (UVM)] was deposited on the WO3 layer. A LiPON target was used as an inorganic solid electrolite, ・・・ 」(第１頁右欄、Experimentalの項目の８〜１１行)（仮訳：ＷＯ３を約４００ｎｍの厚さに蒸着した。そして、ＷＯ３層の上にＬｉＰＯＮ（Li3.3PO3.8N0.22,・・・）を蒸着した。ＬｉＰＯＮターゲットを無機固体電解質として使用した。）
イ　これらの記載によれば、刊行物３には、ＬｉＰＯＮターゲットを無機固体電解質として使用して、スパッタリングによりLi3.3PO3.8N0.22からなる薄膜を形成する技術が記載されている。
　このため、刊行物３には、スパッタリングターゲットに関する発明として、次の発明（以下、「引用発明３」という。）が記載されている。
「ＬｉＰＯＮからなるスパッタリングターゲット。」
　　　　　
２　対比
　刊行物１〜３に記載されたターゲットは、いずれもスパッタリングターゲットであるので、本願発明１とは、「陰極スパッタリングターゲット」である点で共通する。
　そして、本願発明１に係る化学式がLi2.5P0.5Si0.5O2.6N0.6及び(Li3PO4)0.6(B2O3)0.2(Li3N)0.3であるターゲットは、引用発明１、２に係るターゲットとは、本願発明１に係るターゲットがＳｉあるいはＢを含有するのに対し、引用発明１、２のターゲットはいずれも、ＳｉあるいはＢを含有しない点で相違するので、両者は全く別のターゲットといえる。
　このため、具体的な検討をするまでもなく、本願発明１に係る化学式がLi2.5P0.5Si0.5O2.6N0.6及び(Li3PO4)0.6(B2O3)0.2(Li3N)0.3である陰極スパッタリングターゲットは、引用発明１、２から容易に想到することができたとはいえない。
　次に、本願発明１に係る化学式がLi3P1O3.1N0.6であるターゲットと、引用発明１に係るＬｉ2.9ＰＯ3.3Ｎ0.36ターゲット及び引用発明２に係るＬｉ2.88ＰＯ3.73Ｎ0.14ターゲットを比較すると、Ｌｉ、Ｐ、Ｏ、Ｎを構成元素とする点で共通するが、その組成割合を原子％に換算して比較すると、各構成元素の組成割合は次の表のとおり相違する。
　なお、引用発明３のターゲットは、各構成元素の割合が不明であるので検討の対象としていない。
　
　　　　
　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　Li　　P　　O　 　N（原子％）
Ｌｉ3Ｐ1Ｏ3.1Ｎ0.6 （本願発明１） 　39　　13　　40　　8
Ｌｉ2.9ＰＯ3.3Ｎ0.36 （引用発明１）　38　　13　　44　　5
Ｌｉ
2.88
ＰＯ
3.73
Ｎ
0.14
 (引用発明２)　37　　13　　48　　2　　　　　
　　　　　   　  　　　　　 　　　　
３　判断
　そこで、上記した本願発明１と引用発明１、２のターゲットの組成割合の相違について検討する。
　この点に関し、刊行物１には、ターゲットについては、「Ｌｉ2.9ＰＯ3.3Ｎ0.36をターゲットとする高周波マグネトロンスパッタ法を用いて、厚さ２μｍのＬｉ2.9ＰＯ3.3Ｎ0.36からなる固体電界質層２４を作成した。」と記載されているのみで、その組成割合を、リチウムイオン伝導性や成膜速度を改善するという観点から調整することを示唆する記載はない。また、同様に、刊行物２には、ターゲットとして使える様々な材料を多数列挙したうちの１としてＬｉ2.88ＰＯ3.73Ｎ0.14ターゲットが記載されているのみで、その組成割合を同様の観点から調整することについて、何ら示唆するものではない。
　これに対して、本願発明は、リチウムイオン伝導性に優れた電解質薄膜を１分あたり３０ｎｍ超の速度で蒸着するという課題を解決するために、上記したターゲットの特定の組成割合を採用したものである。
　したがって、本願発明１のターゲットは、構成元素の組成割合が引用発明１及び２のターゲットと近似しているといえるものの、刊行物１及び２には、引用発明１及び２のターゲットの構成元素の組成割合を調整して本願発明１のターゲットの構成割合とすることの動機付けが記載されていないので、本願発明１は、刊行物１〜３に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたとはいえない。
　また、本願発明２〜３は、本願発明１を引用し、本願発明１の特徴事項をすべて含むので、同様の理由により、引用発明１〜３に基いて、当業者が容易に発明をすることができたとはいえない。
　　
４−２　拒絶理由２について
（１）補正により、補正前の請求項２は削除され、補正前の請求項２における「反応性中性雰囲気または反応性還元性雰囲気」は、補正後の新請求項２において反応性雰囲気を、「純窒素、場合によりそのアルゴンとの混合物によって構成されている雰囲気」と限定された。
　このため、拒絶理由２の（１）は解消した。
（２）補正前の請求項３は、補正により補正後の新請求項２とされ、補正前の「気体、例えば」なる記載は削除されたので、拒絶理由２の（２）は解消した。　
　　　　
第５　むすび
　以上のとおり、本願の請求項１〜３に記載された発明は、刊行物１〜３に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとすることができないし、特許請求粉範囲の記載はサポート要件及び明確性要件を充足するから、原査定の拒絶理由及び当審の拒絶理由によっては、本願を拒絶することはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。