(57)【要約】      （修正有）【課題】塩化物イオン等のイオンが赤外線反射フィルムに浸透すると、赤外線反射フィルムの劣化が生じる場合があり、イオンの浸透に対するバリア性が高い赤外線反射フィルムを提供する。【解決手段】基材と、赤外線反射部とをこの順に有する赤外線反射フィルムであって、赤外線反射部は、金属部と、金属酸化物部とを有し、金属酸化物部は、基材側から順に、第一金属酸化物層と、第一金属酸化物層と同じ金属元素を含有する第二金属酸化物層とを有する、赤外線反射フィルム。【選択図】図１
2018205440.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、赤外線反射部とをこの順に有する赤外線反射フィルムであって、
前記赤外線反射部は、金属部と、金属酸化物部とを有し、
前記金属酸化物部は、前記基材側から順に、第一金属酸化物層と、前記第一金属酸化物層と同じ金属元素を含有する第二金属酸化物層とを有する、赤外線反射フィルム。
【請求項２】
前記第二金属酸化物層の厚さは、前記第一金属酸化物層の厚さよりも大きい、請求項１に記載の赤外線反射フィルム。
【請求項３】
前記第一金属酸化物層の厚さは、１０ｎｍ以下である、請求項１または請求項２に記載の赤外線反射フィルム。
【請求項４】
請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載の赤外線反射フィルムと、
前記基材を基準として、前記赤外線反射部とは反対側に位置する粘着層と、
前記粘着層を基準として、前記基材とは反対側に位置する剥離フィルムと、
を有する、剥離フィルム付赤外線反射フィルム。
【請求項５】
請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載の赤外線反射フィルムと、
前記基材を基準として、前記赤外線反射部とは反対側に位置する粘着層と、
前記粘着層を基準として、前記基材とは反対側に位置するガラス部材と、
を有する、窓ガラス。
【請求項６】
請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載の赤外線反射フィルムを製造する赤外線反射フィルムの製造方法であって、
前記基材を準備する基材準備工程と、
前記基材の一方の面側に、前記赤外線反射部を形成する赤外線反射部形成工程と、
を有し、
前記赤外線反射部形成工程は、
金属酸化物の酸素欠損体をターゲットとしたスパッタリング法により、前記第一金属酸化物層の前駆体層を形成する前駆体層形成処理と、
酸素雰囲気において、前記酸素欠損体をターゲットとした反応性スパッタリング法により、前記第二金属酸化物層を形成するとともに、前記前駆体層を酸化し前記第一金属酸化物層を形成する金属酸化物層形成処理と、
を有する、赤外線反射フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、赤外線反射フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば窓ガラスの断熱を目的として、金属層および金属酸化物層を有する赤外線反射部を備える赤外線反射フィルムを設置する場合がある。金属層および金属酸化物層を形成する方法としては、一般的にはスパッタリング法が挙げられる。例えば特許文献１には、反応性スパッタリング法により金属酸化物層（ＴｉＯｘ）を形成し、スパッタリング法により金属層（Ａｇ）を形成する方法が開示されている。また、特許文献２には、透明基材上に、第一金属酸化物層、第二金属酸化物層および金属層をこの順に備える赤外線反射基板が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１７−０５３９６７号公報
【特許文献２】特開２０１５−１６６１４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
例えば塩化物イオン等のイオンが赤外線反射フィルムに浸透すると、赤外線反射フィルムの劣化が生じる場合がある。本開示は、上記実情に鑑みてなされたものであり、イオンの浸透に対するバリア性が高い赤外線反射フィルムを提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本開示においては、基材と、赤外線反射部とをこの順に有する赤外線反射フィルムであって、上記赤外線反射部は、金属部と、金属酸化物部とを有し、上記金属酸化物部は、上記基材側から順に、第一金属酸化物層と、上記第一金属酸化物層と同じ金属元素を含有する第二金属酸化物層とを有する、赤外線反射フィルムを提供する。
【０００６】
本開示においては、上述した赤外線反射フィルムと、上記基材を基準として、上記赤外線反射部とは反対側に位置する粘着層と、上記粘着層を基準として、上記基材とは反対側に位置する剥離フィルムと、を有する、剥離フィルム付赤外線反射フィルムを提供する。
【０００７】
本開示においては、上述した赤外線反射フィルムと、上記基材を基準として、上記赤外線反射部とは反対側に位置する粘着層と、上記粘着層を基準として、上記基材とは反対側に位置するガラス部材と、を有する、窓ガラスを提供する。
【０００８】
本開示においては、上述した赤外線反射フィルムを製造する赤外線反射フィルムの製造方法であって、上記基材を準備する基材準備工程と、上記基材の一方の面側に、上記赤外線反射部を形成する赤外線反射部形成工程と、を有し、上記赤外線反射部形成工程は、金属酸化物の酸素欠損体をターゲットとしたスパッタリング法により、上記第一金属酸化物層の前駆体層を形成する前駆体層形成処理と、酸素雰囲気において、上記酸素欠損体をターゲットとした反応性スパッタリング法により、上記第二金属酸化物層を形成するとともに、上記前駆体層を酸化し上記第一金属酸化物層を形成する金属酸化物層形成処理と、を有する、赤外線反射フィルムの製造方法を提供する。
【発明の効果】
【０００９】
本開示の赤外線反射フィルムは、イオンの浸透に対するバリア性が高いという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本開示の赤外線反射フィルムの一例を示す概略断面図である。
【図２】本開示の赤外線反射フィルムの一例を示す概略断面図である。
【図３】本開示の剥離フィルム付赤外線反射フィルムの一例を示す概略断面図である。
【図４】本開示の窓ガラスの一例を示す概略断面図である。
【図５】本開示の窓ガラスの一例を示す概略平面図である。
【図６】本開示の赤外線反射フィルムの製造方法一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
Ａ．赤外線反射フィルム
図１は、本開示の赤外線反射フィルムの一例を示す概略断面図である。図１に示す赤外線反射フィルム１０は、厚さ方向において、基材１と、赤外線反射部４とをこの順に有する。赤外線反射部４は、基材１側から順に、金属部２と、金属酸化物部３とを有する。さらに、金属酸化物部３は、基材１側から順に、第一金属酸化物層３ｘと、第一金属酸化物層３ｘと同じ金属元素を含有する第二金属酸化物層３ｙとを有する。
【００１２】
本開示によれば、金属酸化物部が、第一金属酸化物層および第二金属酸化物層を有するため、イオンの浸透に対するバリア性が高い赤外線反射フィルムとすることができる。バリア性が高くなる理由は、第一金属酸化物層および第二金属酸化物層の境界において、微小な空間が生じ、イオンが拡散しにくくなるためであると推測される。
【００１３】
赤外線反射フィルムを劣化させるイオンとしては、典型的には、塩化物イオンが挙げられる。塩化物イオンが、金属部と反応すると、赤外線反射性の低下（塩害）が生じやすい。本開示の赤外線反射フィルムは、第一金属酸化物層および第二金属酸化物層を有するため、塩害の発生を抑制できる。さらに、後述するように、第一金属酸化物層の酸素欠損率が小さい場合には、金属部（金属層）および第一金属酸化物層の間で生じるガルバニック腐食を抑制でき、塩害の発生をより効果的に抑制できる。
以下、本開示の赤外線反射フィルムについて、構成ごとに説明する。
【００１４】
１．基材
基材は、後述する赤外線反射部を保持する部材である。基材の材料は、特に限定されないが、例えば、樹脂が挙げられる。樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィンが挙げられ、ポリエステルが好ましい。樹脂の他の例としては、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド等が挙げられる。また、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体等のフッ素含有樹脂を用いても良い。また、基材は、樹脂を主成分として含有することが好ましい
【００１５】
基材の厚さは、例えば、１０μｍ以上２００μｍ以下であり、２０μｍ以上１００μｍ以下であっても良い。基材の厚さが小さすぎると、赤外線反射部を形成する際に、ハンドリング性が悪化する場合があり、基材の厚さが大きすぎると、可撓性が低下する場合がある。
【００１６】
基材の製造方法は特に限定されないが、例えば、原料の樹脂をフィルム状に溶融押出しするか、溶液押出しすることで、フィルム状に成形する方法が挙げられる。得られたフィルムに対して、必要に応じて、延伸処理、熱固定処理、および、熱弛緩処理の少なくとも一つの処理を行っても良い。また、延伸処理は、長手方向の処理であっても良く、幅方向の処理であっても良く、長手方向および幅方向の処理であっても良い。
【００１７】
２．赤外線反射部
赤外線反射部は、金属部と、金属酸化物部とを有する。さらに、金属酸化物部は、基材側から順に、第一金属酸化物層と、第一金属酸化物層と同じ金属元素を含有する第二金属酸化物層とを有する。
【００１８】
（１）金属部
金属部は、赤外線反射性を付与する層である。金属部は、単層構造を有していても良く、二以上の複層構造を有していても良い。なお、前者の場合、金属部が金属層に該当し、後者の場合、金属部が複数の金属層を有することになる。金属部の材料は、特に限定されないが、例えば、Ａｇ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｎｉ、Ｂｉ、Ｇｅ、Ｇａ等の金属、および、これらの金属の少なくとも一種を含有する合金が挙げられる。中でも、銀、銀合金、アルミニウム、アルミニウム合金、銅、銅合金が好ましい。これらは、高い自由電子密度を有するため、薄膜であっても、高い赤外線反射性を得ることができる。
【００１９】
金属部の厚さは、例えば、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下である。金属部の厚さが小さすぎると、赤外線反射性が低下する場合があり、金属部の厚さが大きすぎると、可撓性が低下する場合がある。
【００２０】
金属部は、開口を有しない層（いわゆるベタ層）であっても良い。この場合、高い赤外線反射性を得ることができる。一方、金属部は、金属領域および開口領域を有する層であっても良い。開口領域を設けることで、電波透過性が向上する。各々の金属領域は、電気的に独立していても良く、電気的に独立していなくても良いが、前者が好ましい。電波透過性が向上するからである。また、複数の金属領域が、金属領域の長手方向に交差する方向にそれぞれ配置されていることで、パターンが得られる。複数の金属領域から構成されるパターン形状としては、例えば、ストライプ状が挙げられる。また、金属領域の幅、および、隣り合う金属領域の幅は、それぞれ、１０μｍ以上５ｍｍ以下であることが好ましい。
【００２１】
金属部が、金属領域および開口領域を有する場合、開口領域の開口率は、特に限定されないが、例えば、０．５％以上３０％以下であり、０．５％以上１０％以下であっても良く、０．７％以上２％以下であっても良い。なお、開口率とは、開口領域の面積を含む金属部全体の面積に対する開口領域の面積をいう。
【００２２】
（２）金属酸化物部
金属酸化物部は、基材側から順に、第一金属酸化物層と、第一金属酸化物層と同じ金属元素を含有する第二金属酸化物層とを有する。金属酸化物部は、第一金属酸化物層および第二金属酸化物層のみを有していても良く、他の金属酸化物層をさらに有していても良い。
【００２３】
（ｉ）第一金属酸化物層
第一金属酸化物層は、金属部よりも屈折率の高い層であることが好ましい。第一金属酸化物層の材料は、６３３ｎｍの光に対する屈折率が、１．４以上であることが好ましい。良好な干渉効果が得られるからである。第一金属酸化物層の材料としては、例えば、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｇａ、Ｓｎ、Ｓｉ等の金属の酸化物、および、これらの金属の少なくとも一種を含有する複合酸化物を挙げることができ、中でも、ＴｉＯ２、ＺｎＯおよびＳｉＯ２が好ましい。
【００２４】
第一金属酸化物層に含まれる金属酸化物の酸素欠損率（％）は、特に限定されないが、
例えば、１０％以下であり、５％以下であっても良い。第一金属酸化物層の酸素欠損率が小さい場合、金属部（金属層）および第一金属酸化物層の間で生じるガルバニック腐食を抑制でき、塩害の発生を効果的に抑制できる。なお、酸素欠損率（％）とは、化学量論的な金属酸化物に対する、酸素欠損の割合をいう。例えば、Ｔｉ（二価）は、化学量論的にＴｉＯ２という金属酸化物を形成する。そのため、例えば、ＴｉＯ１．９の酸素欠損率は、（２−１．９）／２×１００＝５（％）となる。また、酸素欠損率（％）は、例えばＴＥＭ−ＥＥＬＳ（透過型電子顕微鏡−電子エネルギー損失分光法）により求めることができる。
【００２５】
第一金属酸化物層の厚さは、特に限定されないが、例えば１５ｎｍ以下であり、１２ｎｍ以下であっても良く、１０ｎｍ以下であっても良い。例えば、第一金属酸化物層の厚さが１０ｎｍ以下である場合、後述する赤外線反射フィルムの製造方法において、第二金属酸化物層を形成しつつ、前駆体層の酸化を十分に行うことができ、絶縁性の高い第一金属酸化物層の形成を得ることができる。一方、第一金属酸化物層の厚さは、例えば４ｎｍ以上である。
【００２６】
（ii）第二金属酸化物層
第二金属酸化物層は、第一金属酸化物層と同じ金属元素を含有する。第二金属酸化物層および第一金属酸化物層は、同じ金属酸化物を含有することが好ましい。
【００２７】
第二金属酸化物層に含まれる金属酸化物の酸素欠損率（％）は、特に限定されないが、例えば、５％以下であり、３％以下であっても良い。
【００２８】
第二金属酸化物層の厚さは、第一金属酸化物層の厚さよりも大きいことが好ましい。第二金属酸化物層の厚さと、第一金属酸化物層の厚さとの差は、例えば５ｎｍ以上であり、１０ｎｍ以上であっても良く、２０ｎｍ以上であっても良い。第二金属酸化物層の厚さは、特に限定されないが、例えば１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であり、２０ｎｍ以上９０ｎｍ以下であっても良い。
【００２９】
（iii）金属酸化物部
金属酸化物部は、基材側から順に、第一金属酸化物層および第二金属酸化物層を有する。第一金属酸化物層に含まれる金属酸化物の結晶粒の大きさは、第二金属酸化物層に含まれる金属酸化物の結晶粒の大きさと、ほぼ同じであることが好ましい。例えば、後述する前駆体層形成処理および金属酸化物層形成処理を連続的に行う場合、金属酸化物の結晶粒の大きさは、ほぼ同じとなる。
【００３０】
（３）赤外線反射部
赤外線反射部は、金属部を一または二以上有していても良く、金属酸化物部を一または二以上有していても良い。赤外線反射部の一例としては、図１に示すように、基材１側から順に、金属部２および金属酸化物部３を有する赤外線反射部４が挙げられる。また、赤外線反射部の他の例としては、図２に示すように、基材１側から順に、第一金属部２ａ、第一金属酸化物部３ａ、第二金属部２ｂおよび第二金属酸化物部３ｂを有する赤外線反射部４が挙げられる。
【００３１】
赤外線反射フィルムは、金属部および金属酸化物部を交互に有することが好ましい。基材と、上記基材に最も近い金属部との間に、金属酸化物部を有していても良く、金属酸化物部を有していなくても良い。
【００３２】
赤外線反射部の構成としては、基材から順に、例えば、金属部および金属酸化物部の構成、第一金属酸化物部、第一金属部および第二金属酸化物部の構成、第一金属部、第一金属酸化物部、第二金属部および第二金属酸化物部の構成、第一金属酸化物部、第一金属部、第二金属酸化物部、第二金属部および第三金属酸化物部の構成、第一金属部、第一金属酸化物部、第二金属部、第二金属酸化物部、第三金属部および第三金属酸化物部の構成等が挙げられる。赤外線反射部が、二以上の金属酸化物部を有する場合、その少なくとも一つの金属酸化物部が、上述した第一金属酸化物層および第二金属酸化物層を有していれば良い。
【００３３】
３．赤外線反射フィルム
赤外線反射フィルムは、基材と、赤外線反射部とをこの順に有する。さらに、赤外線反射フィルムは、赤外線反射部を基準として、基材側の位置にハードコート層を有していても良く、有していなくても良い。同様に、赤外線反射フィルムは、赤外線反射部を基準として、基材とは反対側の位置にハードコート層を有していても良く、有していなくても良い。
【００３４】
ハードコート層は、赤外線反射部（金属部または金属酸化物部）よりも高い表面硬度を有することが好ましい。ハードコート層の表面のＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）の鉛筆硬度は、例えば、Ｆ以上であり、Ｈ以上であっても良い。ハードコート層の材料は、一般的に使用されるものであれば良く、例えば、電離放射線硬化性樹脂を用いることができる。電離放射線硬化性樹脂としては、例えば、アクリレート系樹脂、オキセタン系樹脂、シリコーン系樹脂等が挙げられる。
【００３５】
赤外線反射フィルムは、可視光透過率が高いことが好ましい。良好な視認性が得られるからである。可視光透過率は、例えば、７０％以上であり、８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。可視光透過率は、ＪＩＳ  Ａ  ５７５９：２００８に基づいて測定することができる。
【００３６】
赤外線反射フィルムは、可視光反射率（正反射率）が低いことが好ましい。ぎらつきを抑制できるからである。可視光反射率（正反射率）は、例えば、６％以下であり、５％以下であることが好ましく、４％以下であることがより好ましい。
【００３７】
赤外線反射フィルムは、遮蔽係数が低いことが好ましい。良好な遮熱性が得られるからである。遮蔽係数は、例えば０．８以下であり、０．７以下であることが好ましい。
【００３８】
赤外線反射フィルムは、熱貫流率が低いことが好ましい。良好な断熱性が得られるからである。熱貫流率は、例えば４．５Ｗ／ｍ２・Ｋ以下であり、４．０Ｗ／ｍ２・Ｋ以下であることが好ましい。なお、上述した可視光透過率、可視光反射率（正反射率）、遮蔽係数および熱貫流率は、ＪＩＳ  Ａ  ５７５９：２００８に基づいて測定することができる。
【００３９】
赤外線反射フィルムは、赤外線反射率が高いことが好ましい。赤外線反射率は、例えば、６０％以上であり、７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。赤外線反射率は、測定波長５００ｎｍ以上２２００ｎｍ以下で測定したときの、各波長における反射率の平均値として特定される。
【００４０】
赤外線反射フィルムは、電波透過性を有することが好ましい。赤外線反射フィルムの電波遮蔽係数は、例えば、１０ｄＢ以下であっても良く、７ｄＢ以下であっても良い。電波遮蔽係数は、電磁波シールド効果評価器ＴＳＥＳ−ＫＥＣ（テクノサイエンスジャパン製）を用い、ＫＥＣ法により、周波数３０ＭＨｚ以上１ＧＨｚ以下の範囲で測定し、１ＧＨｚにおける数値（ｄＢ）を求めることにより特定する。
【００４１】
赤外線反射フィルムの厚さは、例えば、３ｍｍ以下であり、１ｍｍ以下であっても良く、５００μｍ以下であっても良い。
【００４２】
Ｂ．剥離フィルム付赤外線反射フィルム
図３は、本開示の剥離フィルム付赤外線反射フィルムの一例を示す概略断面図である。図３に示す剥離フィルム付赤外線反射フィルム２０は、赤外線反射フィルム１０と、基材１を基準として、赤外線反射部４とは反対側に位置する粘着層１１と、粘着層１１を基準として、基材１とは反対側に位置する剥離フィルム１２とを有する。
【００４３】
本開示によれば、上述した赤外線反射フィルムを用いることで、イオンの浸透に対するバリア性が高い剥離フィルム付赤外線反射フィルムとすることができる。
【００４４】
粘着層は、粘着剤を含有する層である。粘着剤としては、例えば、アクリル系樹脂が挙げられる。具体的には、式Ａ−Ｂ−Ａ（式中、ＡおよびＢはそれぞれ異なる重合体ブロックを表し、Ａはメタクリル酸アルキルエステル単位からなり、Ｂはアクリル酸アルキルエステル単位からなる）で表されるトリブロック共重合体を含むアクリル系樹脂が挙げられる。
【００４５】
粘着層は、ＪＩＳ  Ｋ６８５４−２に規定の１８０度剥離試験によるガラス板に対する剥離力が、例えば、２０Ｎ／２５ｍｍ幅以上３０Ｎ／２５ｍｍ幅以下であることが好ましい。また、粘着層の厚さは、例えば、５０μｍ以上２０００μｍ以下である。
【００４６】
剥離フィルムは、赤外線反射フィルムをガラス部材に貼着する前の状態（保存状態）において、粘着層を保護するためのフィルムである。剥離フィルムの材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンアフタレート等のポリエステル樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂等の樹脂フィルムが挙げられる。剥離フィルムの厚さは、例えば２０μｍ以上１００μｍ以下である。
【００４７】
Ｃ．窓ガラス
図４は、本開示の窓ガラスの一例を示す概略断面図である。図４に示す窓ガラス３０は、赤外線反射フィルム１０と、赤外線反射フィルム１０の基材１を基準として、赤外線反射部４とは反対側に位置する粘着層１１と、粘着層１１を基準として、基材１とは反対側に位置するガラス部材１３とを有する。
【００４８】
本開示によれば、上述した赤外線反射フィルムを用いることで、イオンの浸透による赤外線反射フィルムの劣化が生じにくい窓ガラスとすることができる。なお、粘着層については、上述した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。
【００４９】
ガラス部材としては、例えば、無機ガラス、有機ガラスが挙げられる。無機ガラスの材料としては、例えばケイ素酸化物が挙げられる。無機ガラスは、ケイ素酸化物を主成分とするガラスであることが好ましく、具体例としては、ソーダライムガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、アルミノシリケートガラス等が挙げられる。一方、有機ガラスの材料としては、典型的には、樹脂が挙げられ、具体的には、ポリジエチレングリコールビスアリルカーボネート等のポリカーボネート系樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂等が挙げられる。有機ガラスは、上記樹脂を主成分とするガラスであることが好ましい。
【００５０】
また、ガラス部材は、例えば、板ガラスおよび加工ガラスに分類できる。板ガラスとしては、例えば、フロート板ガラス、磨き板ガラス、型板ガラス、網入板ガラス、線入板ガラス、熱線吸収板ガラス等が挙げられる。板ガラスの厚さは、例えば２ｍｍ以上１２ｍｍ以下である。一方、加工ガラスとしては、合わせガラス、熱処理ガラス（例えば強化ガラス、倍強度ガラス）、化学強化ガラス等が挙げられる。合わせガラスは、２以上の板ガラスを、中間膜を挟み接着したガラスをいう。
【００５１】
また、例えば図５に示すように、窓ガラス３０は、複数の赤外線反射フィルム１０を有していても良い。なお、図５は、図４における赤外線反射フィルム１０を室内側から見た平面図に相当する。赤外線反射フィルム１０の長手方向Ｄは、鉛直方向に対して平行であることが好ましい。例えば、赤外線反射フィルムを水貼りする場合、赤外線反射フィルムは他のフィルムに比べて水が抜けにくい性質があるため、水染みが生じやすいが、赤外線反射フィルムの長手方向は、鉛直方向に対して平行であることで、水が重力によって抜け易くなり、水染みの発生を抑制できる。なお、「鉛直方向に対して平行」とは、厳密な平行のみならず、鉛直方向に対する角度が±１５°以内である場合も含まれる。
【００５２】
また、例えば図５に示すように、窓ガラス３０が、複数の赤外線反射フィルム１０を有する場合、隣り合う２枚の赤外線反射フィルム１０の継目部において、赤外線反射フィルムの粘着層が、赤外線反射フィルムの赤外線反射部の端部を覆っていることが好ましい。赤外線反射部の端部を保護できるからである。
【００５３】
窓ガラスは、例えば、建築物、乗物の開口部に用いられる。上記乗物としては、例えば自動車、電車等の車両、船舶、航空機等が挙げられる。本開示においては、建築物または乗物の開口部に用いられる閉鎖部材であって、上述した窓ガラスと、サッシ（窓枠）とを有する閉鎖部材を提供することもできる。また、赤外線反射シートを有しない既設の閉鎖部材に対して、赤外線反射シートを貼付することで、低コストで、赤外線反射性の高い閉鎖部材を得ることができる。さらに、本開示においては、上述した窓ガラスを開口部に有する建築物または乗物を提供することもできる。
【００５４】
Ｄ．赤外線反射フィルムの製造方法
図６は、本開示の赤外線反射フィルムの製造方法の一例を示す概略断面図である。図６では、まず、基材１を準備する（図６（ａ））。次に、基材１の一方の面側に、スパッタリング法により金属部２を形成する（図６（ｂ））。次に、金属部２を基準として、基材１とは反対側に、金属酸化物の酸素欠損体をターゲットとしたスパッタリング法により、第一金属酸化物層の前駆体層３αを形成する（図６（ｃ））。次に、酸素雰囲気において、金属酸化物の酸素欠損体をターゲットとした反応性スパッタリング法により、第二金属酸化物層３ｙを形成するとともに、前駆体層３αを酸化し第一金属酸化物層３ｘを形成する（図６（ｄ））。これにより、基材１と、赤外線反射部４とをこの順に有する赤外線反射フィルム１０が得られる。
【００５５】
本開示によれば、赤外線反射部形成工程において、前駆体層形成処理および金属酸化物層形成処理を行うことにより、第一金属酸化物層および第二金属酸化物層を有する金属酸化物部を形成することができる。その結果、イオンの浸透に対するバリア性が高い赤外線反射フィルムを得ることができる。
【００５６】
一般的な金属酸化物部の形成方法として、スパッタリング法が知られている。スパッタリング法の中でも、成膜レートが早いＤＣ（直流）スパッタリング法が量産の面では好ましいが、ＤＣスパッタリング法では、絶縁体（金属酸化物）をターゲットとすることができない。これに対して、本開示においては、金属酸化物の酸素欠損体をターゲットとして用いることで、第一金属酸化物層の前駆体を高い生産速度で形成することができる。特に、前駆体層形成処理を非酸素雰囲気で行うことで、基材または金属部の酸化を防止できるという利点がある。なお、金属部の酸化は、赤外線反射性を低下させる原因となる。
【００５７】
さらに、本開示においては、反応性スパッタリング法により、第二金属酸化物層を形成しつつ、前駆体層の酸化（第一金属酸化物層の形成）を行うことができる。そのため、第一金属酸化物層の酸素欠損率を小さくすることが可能である。ここで、第一金属酸化物層の酸素欠損率が大きく、導電層として機能する場合、金属部（金属層）および第一金属酸化物層は、導電性を有する異種の層が接触した状態となり、ガルバニック腐食が生じやすくなる。これに対して、本開示においては、第一金属酸化物層の酸素欠損率を小さくすることが可能であるため、金属部（金属層）および第一金属酸化物層の間で生じるガルバニック腐食を抑制でき、塩害の発生を効果的に抑制できる。
【００５８】
さらに、前駆体層形成処理において、金属酸化物の酸素欠損体をターゲットとして用いることにより、例えば金属単体をターゲットとして用いた場合に比べて、絶縁性の高い第一金属酸化物層を形成しやすいという利点がある。さらに、前駆体層形成処理および金属酸化物層形成処理において、同一のターゲットを用いることで、生産効率が高いという利点がある。
【００５９】
１．基材準備工程
基材準備工程は、赤外線反射フィルムに用いられる基材を準備する工程である。基材については、上記「Ａ．赤外線反射フィルム」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。
【００６０】
２．赤外線反射部形成工程
赤外線反射部形成工程は、基材の一方の面側に、赤外線反射部を形成する工程である。赤外線反射部形成工程では、目的とする赤外線反射部の構成に合わせて、金属部および金属酸化物部を形成する。
【００６１】
金属部を形成する方法としては、例えば、蒸着法が挙げられる。蒸着法としては、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、電子線蒸着法等のＰＶＤ法、および、ＣＶＤ法が挙げられる。また、マスクを用いた蒸着法により、金属部を形成しても良い。マスクを用いることで、金属領域および開口領域を有する金属部を得ることができる。
【００６２】
金属酸化物部を形成する方法としては、例えば、蒸着法が挙げられる。蒸着法としては、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、電子線蒸着法等のＰＶＤ法、および、ＣＶＤ法が挙げられる。また、赤外線反射部形成工程では、後述する前駆体層形成処理と、金属酸化物層形成処理とを行うことが好ましい。
【００６３】
（１）前駆体層形成処理
前駆体層形成処理は、金属酸化物の酸素欠損体をターゲットとしたスパッタリング法により、第一金属酸化物層の前駆体層を形成する処理である。
【００６４】
酸素欠損体の酸素欠損率（％）は、例えば５％以上であり、１０％以上であっても良い。酸素欠損率が少なすぎると、導電性が低く、例えばＤＣスパッタリング法を用いることができない可能性がある。一方、酸素欠損率（％）は、例えば８０％以下であり、７０％以下であっても良い。酸素欠損率が多すぎると、第一金属酸化物層が十分に酸化せずに、金属層の腐食が生じる可能性がある。
【００６５】
スパッタリング法としては、例えば、ＤＣ（直流）スパッタリングが挙げられる。また、スパッタリング法は、非酸素雰囲気で行われることが好ましい。例えば金属層の酸化を防止できるからである。なお、非酸素雰囲気には、金属層の酸化を実質的に防止できる程度に、僅かに酸素が存在する雰囲気も包含される。また、非酸素雰囲気としては、例えば、Ａｒ雰囲気等の希ガス雰囲気が挙げられる。
【００６６】
（２）金属酸化物層形成処理
酸素雰囲気において、上記酸素欠損体をターゲットとした反応性スパッタリング法により、上記第二金属酸化物層を形成するとともに、上記前駆体層を酸化し上記第一金属酸化物層を形成する処理である。なお、酸素欠損体については、上述した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。
【００６７】
スパッタリング法としては、例えば、ＤＣ（直流）スパッタリングが挙げられる。また、スパッタリング法は、酸素雰囲気で行われることが好ましい。第二金属酸化物層を形成しつつ、前駆体層の酸化（第一金属酸化物層の形成）を行うことができるからである。なお、酸素濃度は、例えば、Ａｒ等の希ガスで希釈されていることが好ましい。特に、本開示においては、前駆体層形成処理および金属酸化物層形成処理を連続的に行うことが好ましい。例えば、酸素導入量を調整することで、両処理を連続的に行うことができる。
【００６８】
３．赤外線反射フィルム
本開示の赤外線反射フィルムの製造方法により得られる赤外線反射フィルムについては、上記「Ａ．赤外線反射フィルム」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。
【００６９】
なお、本開示は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本開示の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本開示の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００７０】
以下、実施例を用いて、さらに具体的に説明する。
【００７１】
［実施例１］
二軸配向透明ＰＥＴフィルム（東洋紡績社製、Ａ４１００、厚さ５０μｍ、Ｔｇ６７℃）をキャノンアネルパ製スパッタ装置ＳＰＣ−３５０ＵＨＶに、ＰＥＴフィルムの平滑面側に成膜されるよう設置した。ターゲットをＴｉとし、チャンバ内圧力が２．０×１０−３Ｐａ以下となるまで排気し、Ａｒを１０ｓｃｃｍ、Ｏ２を５ｓｃｃｍ導入した。その後、チャンバ内圧力を０．４Ｐａに調節し、直流スパッタリング法を行った。この時、放電電流を０．３Ａとし、ＰＥＴフィルムの温度は室温とした。これにより、ＰＥＴフィルム上に金属酸化物部（厚さ３０ｎｍ、酸化チタン層（１））を成膜した。
【００７２】
次に、ターゲットをＡｇ、Ｐｄ、Ｃｕとし、チャンバ内圧力が２．０×１０−３Ｐａ以下となるまで排気し、放電ガスとしてＡｒを２５ｓｃｃｍ導入した。その後、チャンバ内圧力を０．４Ｐａに調節し、直流スパッタリング法を行った。この時、放電電流を０．２Ａとし、ＰＥＴフィルム温度は室温とした。これにより、金属酸化物部上に金属部（厚さ１８ｎｍ、Ａｇ合金層）を成膜した。
【００７３】
次に、ターゲットを酸素欠損型酸化チタンとし、チャンバ内圧力が２．０×１０−３Ｐａ以下となるまで排気し、Ａｒを８ｓｃｃｍ導入した。その後、チャンバ内圧力を０．４Ｐａに調節し、直流スパッタリング法を行った。この時、放電電流を０．３Ａとし、ＰＥＴフィルム温度は室温とした。これにより、金属部上に、第一金属酸化物層の前駆体層を成膜した。
【００７４】
次に、同じターゲットを用い、チャンバ内圧力が２．０×１０−３Ｐａ以下となるまで排気し、Ａｒを８ｓｃｃｍ、Ｏ２を２ｓｃｃｍ導入した。その後、チャンバ内圧力を０．４Ｐａに調節し、直流スパッタリング法を行った。この時、放電電流を０．３Ａとし、ＰＥＴフィルム温度は室温とした。これにより、前駆体層上に、第二金属酸化物層（厚さ３０ｎｍ、酸化チタン層（３））を成膜した。同時に、前駆体層を酸化し、第一金属酸化物層（厚さ４ｎｍ、酸化チタン層（２））を得た。このようにして、赤外線反射フィルムを得た。
【００７５】
［実施例２］
第一金属酸化物層の厚さを８ｎｍに変更したこと以外は、実施例１と同様にして赤外線反射フィルムを得た。
【００７６】
［実施例３］
第一金属酸化物層の厚さを１０ｎｍに変更したこと以外は、実施例１と同様にして赤外線反射フィルムを得た。
【００７７】
［比較例１］
まず、実施例１と同様にして、ＰＥＴフィルム上に、金属酸化物部（厚さ３０ｎｍ、酸化チタン（１））および金属部（厚さ１８ｎｍ、Ａｇ合金）を成膜した。次に、ターゲットを酸素欠損型酸化チタンとし、チャンバ内圧力が２．０×１０−３Ｐａ以下となるまで排気し、Ａｒを８ｓｃｃｍ、Ｏ２を２ｓｃｃｍ導入した。その後、チャンバ内圧力を０．４Ｐａに調節し、直流スパッタリング法を行った。この時、放電電流を０．３Ａとし、ＰＥＴフィルム温度は室温とした。これにより、金属部上に、金属酸化物層（厚さ３０ｎｍ、酸化チタン層（３））を成膜した。このようにして、赤外線反射フィルムを得た。
【００７８】
［比較例２］
まず、実施例１と同様にして、ＰＥＴフィルム上に、金属酸化物部（厚さ３０ｎｍ、酸化チタン（１））および金属部（厚さ１８ｎｍ、Ａｇ合金）を成膜した。次に、ターゲットを酸素欠損型酸化チタンとし、チャンバ内圧力が２．０×１０−３Ｐａ以下となるまで排気し、Ａｒを８ｓｃｃｍ導入した。その後、チャンバ内圧力を０．４Ｐａに調節し、直流スパッタリング法を行った。この時、放電電流を０．３Ａとし、ＰＥＴフィルム温度は室温とした。これにより、金属部上に、金属酸化物層（厚さ３０ｎｍ、酸化チタン層（２））を成膜した。
【００７９】
［評価］
（可視光特性、遮熱性および断熱性の評価）
実施例１〜３および比較例１、２で得られた赤外線反射フィルムを用いて、可視光特性（可視光透過率）、遮熱性（遮蔽係数）および断熱性（熱貫流率）を評価した。これらの測定は全てＪＩＳ  Ａ  ５７５９：２００８に基づいて行った。具体的には、建築用窓に屋内側から施工した場合を想定し、可視光透過率および蔽係数については、フィルムを３ｍｍ厚のソーダガラスに貼合し、ガラス側（屋外側）から測定した。一方、熱貫流率については、屋内の暖房効果を反映するため、フィルム側（屋内側）から測定した。可視光透過率および遮蔽係数については、分光光度計（商品名：ＵＶ−２６００／２７００、島津製作所製）にて測定した。熱貫流率の算出に必要な遠赤外線（波長５μｍ以上２５μｍ以下）の反射率については、赤外分光光度計（商品名：ＦＴＳ７０００、ＤｉｇｉＬａｂ社製）で測定した。その結果を表１に示す。
【００８０】
（塩水テスト）
実施例１〜３および比較例１、２で得られた赤外線反射フィルムを、５％濃度の塩水に浸漬させ、室温（２３℃）にて１４日間置いた。外観変化がなく、可視光透過率の低下が３％以下である場合を○とし、外観変化があるか、可視光透過率の低下が３％以上である場合を×とした。その結果を表１に示す。
【００８１】
【表１】
2018205440.tif 000003
【００８２】
表１に示すように、実施例１〜３は、塩水テストの結果が良好であり、塩害の発生を抑制可能な赤外線反射フィルムが得られた。これに対して、比較例１、２は、塩水テストの結果が良好ではなかった。その理由は、金属酸化物部が、単層の酸化チタン層（酸化チタン層（２）または酸化チタン層（３））であり、塩化物イオンの侵入を効果的に抑制できなかったためであると推測される。なお、比較例１では、酸素プラズマによってＡｇ合金層が酸化され、表面が粗くなり、Ａｇ合金層上に形成された酸化チタン層（３）も疎な層となったため、腐食が生じた可能性もある。また、比較例２では、酸化チタン層（２）が導電層として機能し、腐食が生じたと推測される。
【００８３】
また、実施例１〜３の可視光透過率は、比較例１、２よりも高かった。また、実施例１〜３の遮蔽係数は、比較例１、２に比べて低く、遮熱性が高かった。また、実施例１〜３および比較例２の熱貫流率は、比較例１に比べて低く、断熱性が高かった。これらの観点からも、実施例１〜３で得られた赤外線反射シートは、優れた特性を有することが確認された。
【符号の説明】
【００８４】
１  …  基材
２  …  金属部
３  …  金属酸化物部
４  …  赤外線反射部
１０  …  赤外線反射フィルム
１１  …  粘着層
１２  …  剥離フィルム
１３  …  ガラス部材
２０  …  剥離フィルム付赤外線反射フィルム
３０  …  窓ガラス
【図１】
2018205440.tif 000004
【図２】
2018205440.tif 000005
【図３】
2018205440.tif 000006
【図４】
2018205440.tif 000007
【図５】
2018205440.tif 000008
【図６】
2018205440.tif 000009