【事件の表示】
　特許第３２７６２２７号「座標入力装置及びその製造方法」の請求項１ないし４に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３２７６２２７号の請求項１ないし４に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続きの経緯
　
　本件特許第３２７６２２７号の発明は、平成５年１０月２５日に特許出願され、平成１４年２月８日にその特許の設定登録がなされ、その後、末岡　定より特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１５年５月２９日に訂正請求がなされたものである。
２．訂正の適否についての判断
　
（１）訂正の要旨
　
・訂正事項ａ
　
　特許請求の範囲の請求項１、２及び請求項４を
「【請求項１】第１抵抗層を有する、厚み約１００〜２００μｍとした可撓性の樹脂フィルムからなる上部基板と、前記第１抵抗層に対向して形成される第２抵抗層を有する下部基板と、前記上部基板と前記下部基板とを所定隙間で維持するスペーサ群とを備え、前記上部基板を押圧することにより前記第１、２抵抗層が接触し、前記第１、２抵抗層に流れる電圧値の変化により押圧位置を検出する座標入力装置であって、
　前記第１抵抗層は、前記上部基板の中央部分に設けられた入力操作部の下面全体に形成され、前記第２抵抗層は、前記下部基板上の全面に形成され、、前記スペーサ群は、前記下部基板上に設けられた第２抵抗層上であって、前記第１抵抗層と面対向する領域内にマトリックス状に配置された複数のスペーサからなり、
　前記各スペーサの径を２０〜５０μｍ、ピッチを０．３〜１．０ｍｍとし、該各スペーサ高さを１．５μｍ以上４μｍ以下の均一な高さとし、
　前記入力操作部を押圧することにより、前記上部基板の湾曲変形に伴って、前記第１抵抗層が前記スペーサ間に湾曲して入り込み、前記第１抵抗層と第２抵抗層とが前記スペーサ間で接触することを特徴とする座標入力装置。
【請求項２】請求項１の記載において、前記スペーサ群の各スペーサ高さを１．５μｍ以上２．５μｍ以下としたことを特徴とする座標入力装置。　　　　
【請求項３】請求項１の記載において、前記上部基板が透明であると共に、前記下部基板が透明なガラス基板からなり、前記下部基板の底部に液晶表示装置を設けたことを特徴とする座標入力装置。
【請求項４】ガラス基板上の全面に抵抗層を塗布し、該抵抗層の上に厚み１．５μｍ以上２．５μｍ以下の均一なレジストスペーサ層を塗布して形成した後、前記レジストスペーサ層を露光・現像によりスペーサ群以外を除去して、各スペーサの径を２０〜５０μｍ、ピッチを０．３〜１．０ｍｍ、スペーサ高さを１．５μｍ〜２．５μｍとしたスペーサパターンを形成したことを特徴とする座標入力装置の製造方法。」と訂正する。
　
・訂正事項ｂ
　
　発明の詳細な説明において、明細書段落番号【０００５】〜【０００７】の【課題を解決するための手段】の記載を、
「【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するために、本発明は、第１抵抗層を有する、厚み約１００〜２００μｍとした可撓性の樹脂フィルムからなる上部基板と、前記第１抵抗層に対向して形成される第２抵抗層を有する下部基板と、前記上部基板と前記下部基板とを所定隙間で維持するスペーサ群とを備え、前記上部基板を押圧することにより前記第１、２抵抗層が接触し、前記第１、２抵抗層に流れる電圧値の変化により押圧位置を検出する座標入力装置であって、
　前記第１抵抗層は、前記上部基板の中央部分に設けられた入力操作部の下面全体に形成され、前記第２抵抗層は、前記下部基板上の全面に形成され、、前記スペーサ群は、前記下部基板上に設けられた第２抵抗層上であって、前記第１抵抗層と面対向する領域内にマトリックス状に配置された複数のスペーサからなり、
　前記各スペーサの径を２０〜５０μｍ、ピッチを０．３〜１．０ｍｍとし、該各スペーサ高さを１．５μｍ以上４μｍ以下の均一な高さとし、
　前記入力操作部を押圧することにより、前記上部基板の湾曲変形に伴って、前記第１抵抗層が前記スペーサ間に湾曲して入り込み、前記第１抵抗層と第２抵抗層とが前記スペーサ間で接触することを特徴とする。
【０００６】また、スペーサ群の各スペーサ高さを１．５μｍ以上２．５μｍ以下とすると共に、各スペーサのピッチを０．３〜１．０ｍｍとなるように構成したことを特徴とする。
【０００７】また、ガラス基板上の全面に抵抗層を塗布し、該抵抗層の上に厚み１．５μｍ以上２．５μｍ以下の均一なレジストスペーサ層を塗布して形成した後、前記レジストスペーサ層を露光・現像によりスペーサ群以外を除去して、各スペーサの径を２０〜５０μｍ、ピッチを０．３〜１．０ｍｍ、スペーサ高さを１．５μｍ〜２．５μｍとしたスペーサパターンを形成したスペーサパターンを形成する製造方法を特徴とする。」と訂正する。
　
（２）訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　
　上記訂正事項ａは、特許請求の範囲の減縮に該当し、上記訂正事項ｂは明りょうでない記載の釈明に該当する。そして、上記各訂正事項は、新規事項の追加に該当せず、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
　
（３）独立特許要件の判断
　
（３.１）請求項１〜４に係る発明
　
　訂正明細書の請求項１〜４に係る発明は、該明細書の特許請求の範囲のそれぞれの請求項に記載されたとおりものであり、請求項１に係る発明は、「第１抵抗層を有する、厚み約１００〜２００μｍとした可撓性の樹脂フィルムからなる上部基板と、前記第１抵抗層に対向して形成される第２抵抗層を有する下部基板と、前記上部基板と前記下部基板とを所定隙間で維持するスペーサ群とを備え、前記上部基板を押圧することにより前記第１、２抵抗層が接触し、前記第１、２抵抗層に流れる電圧値の変化により押圧位置を検出する座標入力装置であって、
　前記第１抵抗層は、前記上部基板の中央部分に設けられた入力操作部の下面全体に形成され、前記第２抵抗層は、前記下部基板上の全面に形成され、、前記スペーサ群は、前記下部基板上に設けられた第２抵抗層上であって、前記第１抵抗層と面対向する領域内にマトリックス状に配置された複数のスペーサからなり、
　前記各スペーサの径を２０〜５０μｍ、ピッチを０．３〜１．０ｍｍとし、該各スペーサ高さを１．５μｍ以上４μｍ以下の均一な高さとし、
　前記入力操作部を押圧することにより、前記上部基板の湾曲変形に伴って、前記第１抵抗層が前記スペーサ間に湾曲して入り込み、前記第１抵抗層と第２抵抗層とが前記スペーサ間で接触することを特徴とする座標入力装置。」である。
　
（３.３）特許法第２９条第２項に規定する要件の適否
　
（取消理由の概要）
　
　当審が平成１５年４月１日付けで通知した取消理由の概要は次のとおりである。
　
「本件請求項１に係る発明は、刊行物１に記載されたものとは実質的に同一であり、本件請求項１に係る発明の特許は、特許法第２９条第１項第３号の規定に違反してなされたものである。本件請求項２に係る発明は、刊行物１に記載されたものとは実質的に同一であると認められる。よって、本件請求項２に係る発明の特許は、特許法第２９条第１項第３号の規定に違反してなされたものである。本件請求項３に係る発明は、刊行物１に記載されたものとは実質的に同一であると認められる。よって、本件請求項３に係る発明の特許は、特許法第２９条第１項第３号の規定に違反してなされたものである。本件請求項４に係る発明は、刊行物１に記載されたものを、刊行物２，３にあるような通常行われている製造方法を用いて表現したものであることから、本件請求項４に係る発明の特許は、特許法第２９条第１項第３号の規定に違反してなされたものである。」
　
（引用刊行物の発明）
・刊行物１（特開平５−２４２７５９号公報）
「一方の主表面に透明抵抗膜が形成された一対の絶縁性基材を、前記抵抗膜がスペーサーにより所定の隙間を隔てて対面するように形成した抵抗膜式透明タッチパネルにおいて、スペーサーの径を２５μ〜２００μ、高さを１〜１０μとすることにより、同タッチパネルと組み合わせて使用する表示ディスプレイの表示画面を見やすくすることを特徴とする抵抗膜式透明タッチパネル。」（請求項１の記載）、
「【産業上の利用分野】本発明は、ＬＣＤ、ＣＲＴ、ＥＬＤ等の表示ディスプレーと組み合わせて使用する抵抗膜式透明タッチパネルに関する。」（段落番号【００１】）、
「【課題を解決するための手段】第一項の発明は、一方の主表面に抵抗膜が形成された一対の絶縁性基材を、前記抵抗膜がスペーサーにより所定の隙間を隔てて対面するように形成した抵抗膜式タッチパネルにおいて、スペーサーの径を２５μ〜２００μ、高さを１〜１０μとすることにより、同タッチパネルと組み合わせて使用する表示ディスプレイの表示画面を見やすくすることを特徴とする。」（段落番号【００５】）、
「【実施例】本発明の一対の絶縁性基材の材質としては、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリオレフィン等例示でき、ガラス等も使用可能であるが、少なくとも一方の基材が可撓性を有する透明フィルムであることが必要である。特に透明なポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）の２軸延伸フィルムが適している。」（段落番号【０００８】）、
「スペーサーに使用されるインクは，エポキシ樹脂系、ポリエステル樹脂系、ウレタン樹脂系、シリコン樹脂系等透明なインクであれば加熱乾燥タイプ、ＵＶ硬化タイプ、ＥＢ硬化タイプ何でも良い。また、印刷方式もスクリーン印刷、グラビア印刷、オフセット印刷等適宜で良い。」（段落番号【００１０】）、
「例えば、スペーサーの径を２００μ以下にしたときは、スペーサーの高さを２０μ〜３０μの印刷厚みに保つことが困難となり、対面する抵抗膜を所定の隙間を隔てた状態にしておくためには、スペーサーの配置間隔を小さくすることが必要となる。この際、スペーサーの配置間隔は２ｍｍ〜０．１ｍｍ迄小さくすることが必要である」。（段落番号【００１２】参照）。
・刊行物２（特開平５−６１５９１号公報）
「【産業上の利用分野】本発明は、例えば押圧による文字や図形の位置情報を電気的に検出するデジタイザ等の座標入力装置に関する。」（段落番号【０００１】）、
「図１は本発明の一実施例の製造工程を示している。同図において、まず工程（Ａ）では、分圧出力端子６が設けられた面抵抗体２の表面に、熱圧着ローラ３１ａ、３１ｂによって紫外線硬化型レジストフィルム３２を分圧出力端子６の表面にわたって圧着する。次に、工程（Ｂ）において、所定のパターンの透過孔３３ａ、３３ｂ、３３ｃが形成されたドットパターンマスク３３を紫外線硬化型レジストフィルム３２上に重ね、光源３４から紫外線を照射する。これにより、ドットパターンマスク３３によってマスクされなかった紫外線硬化型レジストフィルム３２の露光部分は硬化する。次に、工程（Ｃ）において、現像液で紫外線硬化型レジストフィルム３２の未露光部分を洗い流す。その結果、工程（Ｄ）に示すように、面抵抗体２上に絶縁体としてのドットスペーサ３５ｂ、３５ｃ、３５ｄが形成されると共に、分圧出力端子６の表面に絶縁保護層３５ａが形成される。」（段落番号【００１３】）。
・刊行物３（特開平４−１１７５１４号公報）
「＜産業上の利用分野＞　この発明は、文字や図形などを手書き入力する場合に用いられる座標入力装置に関し、特に、スタイラスペンのような専用ペンのペン先を座標入力シートに接触させて、その接触点の座標位置を入力するための座標入力装置に関する。」（第(１)頁右下欄第２〜７行目）、
「＜課題を解決するための手段＞　この発明は、上記のような目的を達成するため、２つの対向電極間のシートにそれぞれ面抵抗体が相対向するように形成されたＸ座標およびＹ座標位置検出用シートを備えた座標入力装置において、　上記２つの面抵抗体の一方の対向面に、直径２５〜１００μｍ、高さ５〜３０μｍ、配置ピッチ０．３〜１．０ｍｍのドット状スペーサを形成するとともに、該ドット状スペーサは、イソプロビルアルコールにて洗浄された対向面上に感光性絶縁フィルムを圧着して、さらにドット形成用穴が多数形成されたドット形成用マスクを重ね、該マスク上から硬化用光を照射することによりドット形成用穴から露出する感光性絶縁フィルムを硬化させ、感光性絶縁フィルムの非硬化部分を溶剤で除去することにより形成されることを特徴とする。」（第(２)頁左下欄第８行目〜右下欄第４行目）、
「以下、第２図を参照しながらこの場合のスペーサ３０の形成方法を説明する。同図(ａ)において、８Ｂは絶縁シートで、その上面には面抵抗体４Ｂが設けられている。一方、２４は感光性絶縁フィルムとしてのドライレジストフィルムであり、加圧貼付により面抵抗体４Ｂ上に設けられる。
　………
　こうして、ドライレジストフィルム２４が貼付されると、さらにその上部にドット形成用マスク２６が設けられる。同図(ｂ)はドット形成用マスク２６が貼り付けられた状態における断面図であり、ドット形成用マスク２６には多数のドット形成用穴２８が設けられている。
　次に、光源２９から硬化用光を照射し、ドライレジストフィルム２４のドット形成用２８から露出する部分の硬化を行う（露光工程）。そしてその後溶剤による洗い流しによって、ドット形成用マスク２６とドライレジストフィルム２４の非硬化部分を除去し（エッチング工程）、同図(ｃ)に示すようなドット状スペーサ３０を多数形成する。　そして、このドット状スペーサ３０上に、下面に面抵抗体４Ａが設けられた上記絶縁シートが８Ｂと同様の構成の絶縁シートが貼り付けられて、同図(ｄ)に示すような、両絶縁シート８Ａ、８Ｂ間に細密なドット状スペーサ３０が多数形成された座標入力装置が完成される。」（第(３)頁右上欄第１２行目〜右下欄第２行目）。
　
（対比、判断）
　
・請求項１に係る発明について
　
　訂正後の請求項１に係る発明（以下「訂正第１発明」という。）と刊行物１〜３に記載のものとを対比すると、訂正第１発明は、
（イ）第１抵抗層を有する、厚み約１００〜２００μｍとした可撓性の樹脂フィルムからなる上部基板を有すること、
（ロ）第１抵抗層は、上部基板の中央部分に設けられた入力操作部の下面全体に形成され、第２抵抗層は、下部基板上の全面に形成されていること、
（ハ）入力操作部を押圧することにより、前記上部基板の湾曲変形に伴って、前記第１抵抗層が前記スペーサ間に湾曲して入り込み、前記第１抵抗層と第２抵抗層とが前記スペーサ間で接触する座標入力装置であること、
　を発明の必須の構成要件としているが、上記刊行物１〜３には、これらの構成要件については何ら記載されていないし、また示唆もされていない。
　
　すなわち、刊行物１に記載のものは、表示ディスプレイと組み合わせて使用することを前提とした抵抗膜式透明タッチパネルであり、座標入力装置である訂正第１発明とは発明の対象が異なるものであり、想定される課題においても相違するものである。
　具体的には、訂正第１発明の場合、「フィルムの表面を先端が球面状の入力ペン３５で擦って文字等を入力する」（【０００３】）、及び「先端が曲面の入力ペン２５に荷重Ｆを加えてフィルム基板２２を湾曲させ、フィルム基板２２の表面を連続的に左右に往復運動させる。」（【００１６】）の記載からして、文字等を入力するために、入力ペンをフィルム上で線状に軌道を描きながら移動させることを想定した座標入力装置であり、またそのような入力形態による不具合を検証するため、上記【００１６】に記載のような入力ペンによる左右への往復運動を連続的に行っており、よって、1)線状の軌跡を以てペンを移動させても途切れることなく入力できるよう、抵抗層及びスペーサが入力装置のほぼ全面に配置されること、及び、2)入力操作部を押圧することにより、前記上部基板の湾曲変形に伴って、前記第１抵抗層が前記スペーサ間に湾曲して入り込み、前記第１抵抗層と第２抵抗層とが前記スペーサ間で接触することで入力できるよう、可撓性の樹脂フィルムからなる上部基板が適切な厚さ（ここでは約１００〜２００μｍ）であることが課題として求められ、そのための構成要件（イ）、（ロ）、（ハ）を有している。
　一方、刊行物１に記載のものは、入力の具体的方法については明記されていないものの、表示ディスプレイと組み合わせて使用することを前提としており、かつタッチパネルという名称を用いていることから勘案して、ディスプレイ上に入力用のパターンを表示させるなどして、所定の箇所をポイント的に押圧することを想定したものと認められ、よって、上記1)、及び2)のような課題を必然的に有するものではなく、したがって本件訂正第１発明の構成要件（イ）、（ロ）、（ハ）を当然有するものでもない。
　なお、上記構成要件（イ）に係る可撓性の樹脂フィルムにおいて厚みを約１００〜２００μｍとする点については、その点だけを摘出してみると周知の事項であるが、本件訂正第１発明における当該構成要件は、座標入力装置における上記課題1)、2)を解決するための複合的一要素として規定されているものであり、したがって、他の構成要件を前提として初めて意味を有するものである。その点、本件訂正第１発明は、座標入力装置において、他の構成要件に加えて、上部基板を厚み約１００〜２００μｍとした可撓性の樹脂フィルムからなるようにすることで、格別の効果を奏するに到ったと認められることから、格別なる発明力を要したものと認められる。
　また、表示装置に関して、本件訂正第１発明においても、「上記実施例では透明なフィルム基板と透明なガラス基板との組合せにより座標入力装置を形成しており、この座標入力装置と例えば液晶表示装置とを一体化させた入出力機器にできる。また、不透明なフィルム基板と基板とを組合せて単体の手書き入力装置としても使用できる。」（【００２５】）のように、表示装置と組み合わせて使用することがある旨の記載があるが、上記記載のうち後半の部分を見てみると、この表示装置はあくまで座標入力装置としての操作を補助するためのものであって、言い換えれば本件訂正第１発明は表示装置を伴わない状態でも使用することを想定したものであるから、前記刊行物１記載のもののように表示ディスプレイを必須の構成とするものとは使用形態において当然異なるものであり、この点を以て刊行物１に記載のものが、本件訂正第１発明と同様の使用形態を想定し得るものとは認められない。
　
　そして、訂正第１発明は、上記の構成要件（イ）、（ロ）、（ハ）を備えていることにより本件訂正明細書に記載されているように「抵抗層の亀裂発生までの延ばすことができると共に、フィルム基板の表面の傷発生までの寿命も延ばすことができるので、耐寿命の長い表入力装置を得ることができる」という、当該発明に特有の作用効果を奏するものである。
　
　したがって、訂正第１発明は、刊行物１〜３に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　
・請求項２〜４に係る発明について
　
　刊行物１〜３には訂正第１発明の構成要件である上記（イ）、（ロ）、（ハ）の構成要件に関する記載はなく、示唆もない。そして、請求項２〜４は請求項１を引用する項項であり、これらの請求項に係る発明は、いずれも上記構成要件（イ）、（ロ）、（ハ）を含むものであるから、訂正第１発明の場合と同様に、刊行物１〜３に記載された発明から当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　
　また、他に本件の上記各請求項に係る各発明について、出願の際独立して特許を受けることができないとする理由は発見しない。
　
　さらに、上記請求項以外の請求項に係る各発明についても、特許出願の際独立して特許を受けることができないとする理由は発見しない。
　
　よって、本件訂正後における特許請求の範囲に記載されている事項により構成される各発明は特許出願の際独立して特許を受けることができるものである。
　
（４）むすび
　
　以上のとおりであるから、上記訂正請求は、特許法第１２０条の４第２項並びに同条第３項で準用する同法第１２６条第１項ただし書及び第２〜３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．特許異議の申立てについての判断
　
　特許異議申立人末岡　定は、証拠として甲第１号証（上記刊行物１）、甲第２号証（上記刊行物２）、甲第３号証（上記刊行物３）を提出し、本件請求項１〜４に係る発明は、上記甲第１号証〜甲第３号証刊行物に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、その特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであり、その特許は取り消されるべきものであると主張している。
　
　しかしながら、上記２（３.３）で述べたとおり、本件特許の請求項１〜４に係る発明は、上記刊行物に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができものであるとすることはできない。
　
４．むすび
　
　以上のとおりであるので、請求項１〜４に係る発明の特許は、異議申立人提出する証拠及び理由によっては取り消すことはできない。
　
　また、他に本件の上記各請求項に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１５年７月１日（２００３．７．１）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
座標入力装置及びその製造方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　第１抵抗層を有する、厚み約１００〜２００μｍとした可撓性の樹脂フィルムからなる上部基板と、前記第１抵抗層に対向して形成される第２抵抗層を有する下部基板と、前記上部基板と前記下部基板とを所定隙間で維持するスペーサ群とを備え、前記上部基板を押圧することにより前記第１、２抵抗層が接触し、前記第１、２抵抗層に流れる電圧値の変化により押圧位置を検出する座標入力装置であって、
　前記第１抵抗層は、前記上部基板の中央部分に設けられた入力操作部の下面全体に形成され、
　前記第２抵抗層は、前記下部基板上の全面に形成され、
　前記スペーサ群は、前記下部基板上に設けられた第２抵抗層上であって、前記第１抵抗層と面対向する領域内にマトリックス状に配置された複数のスペーサからなり、
　
前記
、
　前記入力操作部を押圧することにより、前記上部基板の湾曲変形に伴って、前記第１抵抗層が前記スペーサ間に湾曲して入り込み、前記第１抵抗層と第２抵抗層とが前記スペーサ間で接触する
　【請求項２】　請求項１の記載において、前記スペーサ群の各スペーサ高さを
１．５ｍ以上
　【請求項３】　請求項１の記載において、前記上部基板が透明であると共に、前記下部基板が透明なガラス基板からなり、前記下部基板の底部に液晶表示装置を設けたことを特徴とする座標入力装置。
　【請求項４】　ガラス基板
上の全面
、スペーサ高さを１．５μｍ〜２．５μｍ
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は、入力ペンが位置する座標を検出し、手書き文字や図形等をコンピュータに入力する座標入力装置に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　従来より手書き文字や図形等を入力する入力装置として、図９に示すような抵抗膜を用いた電圧分割式の入力装置が知られている。この入力装置は、２枚の絶縁性フィルム３０，３１の互いに向い合う面に抵抗膜３２，３３を塗布または蒸着し、抵抗膜３２，３３間に複数の絶縁性のドットスペーサ３４を設けて両抵抗膜３２，３３間を所定の間隔に隔ている。そして、一方の抵抗膜３２の端部の対向する２辺にはＸ軸電極が設けられ、他方の抵抗膜３３の端部には前記Ｘ軸電極と直交するＹ軸電極が設けられている。そして、この入力装置の押圧位置の検出方法は図示しない処理回路により、電極と電極とに交互に電圧が時分割的に印加され、電圧が印加されていない方の抵抗膜の電極から電圧を検知してそれぞれの方向の位置を検出するようになっている。
　【０００３】
　【発明が解決しようとする課題】
　ところで、上記入力装置は、入力側の基板をフィルムにより形成し、そのフィルムの表面を先端が球面状の入力ペン３５で擦って文字等を入力することになり、入力の際に図９に示すようなフィルム３０の湾曲が発生する。このフィルム３０の湾曲に伴なってフィルム３０に形成された抵抗膜３２に頻繁な曲げ応力がかかり、抵抗膜３２に亀裂等が発生して位置検出が不可能になる。また、入力ペン３５との摩擦によりフィルム３０表面に傷が付き商品価値が短時間で低下してしまう欠点があった。
　【０００４】
　本発明は、このような抵抗膜の亀裂の発生、フィルム表面の傷の発生を長時間防止し、耐寿命の長い座標入力装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
　【０００５】
　【課題を解決するための手段】
　上記目的を達成するために、本発明は、第１抵抗層を有する、厚み約１００〜２００μｍとした可撓性の樹脂フィルムからなる上部基板と、前記第１抵抗層に対向して形成される第２抵抗層を有する下部基板と、前記上部基板と前記下部基板とを所定隙間で維持するスペーサ群とを備え、
前記上部基板を押圧することにより前記第１、２抵抗層が接触し、前記第１、２抵抗層に流れる電圧値の変化により押圧位置を検出する座標入力装置であって、
　前記第１抵抗層は、前記上部基板の中央部分に設けられた入力操作部の下面全体に形成され、
　前記第２抵抗層は、前記下部基板上の全面に形成され、
　前記スペーサ群は、前記下部基板上に設けられた第２抵抗層上であって、前記第１抵抗層と面対向する領域内にマトリックス状に配置された複数のスペーサからなり、
　
前記
し、
　前記入力操作部を押圧することにより、前記上部基板の湾曲変形に伴って、前記第１抵抗層が前記スペーサ間に湾曲して入り込み、前記第１抵抗層と第２抵抗層とが前記スペーサ間で接触する
　【０００６】
　また、スペーサ群の各スペーサ高さを
１．５μｍ以上
　【０００７】
　また、ガラス基板
上の全面
、スペーサ高さを１．５μｍ〜２．５μｍ
　【０００８】
　また、上部基板が透明であると共に、下部基板が透明なガラス基板からなり、下部基板の底部に液晶表示装置を設けたことを特徴とする。
　【０００９】
　【作用】
　第１抵抗層を有する、厚み約１００〜２００μｍとした可撓性の樹脂フィルムからなる上部基板と、第１抵抗層に対向して形成される第２抵抗層を有する下部基板と、上部基板と下部基板とを所定隙間で維持するスペーサ群とを備え、上部基板を押圧することにより第１、２抵抗層が接触し、第１、２抵抗層に流れる電圧値の変化により押圧位置を検出する座標入力装置であって、スペーサ群の各スペーサの径を２０〜５０μｍ、ピッチを０．３〜１．０ｍｍとし、該各スペーサ高さを１．５μｍ以上４μｍ以下の均一な高さとしたことにより、上部基板に形成された第１抵抗層の亀裂や上部基板表面の傷の発生を長時間防止できる。また、ガラス基板に抵抗層を塗布し、該抵抗層の上に厚み１．５μｍ以上２．５μｍ以下の均一なレジストスペーサ層を塗布して形成した後、レジストスペーサ層を露光・現像によりスペーサ群以外を除去して、各スペーサの径を２０〜５０μｍ、ピッチを０．３〜１．０ｍｍとしたスペーサパターンを形成したことにより、耐寿命が向上した座標入力装置を効率良く製造できる。
　【００１０】
　【実施例】
　以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。図１は本発明の一実施例に係る座標入力装置のフィルム基板の平面図、図２はその座標入力装置のガラス基板の平面図、図３はその座標入力装置の断面図、図４は実験装置の全体図、図５はスペーサ高さと抵抗層の亀裂寿命との関係図、図６はスペーサ高さとフィルム基板の傷との関係図を示す。
　【００１１】
　１はフィルム基板を示し、可撓性を有するポリエステルフィルムからなり、厚み約１００〜２００μｍで透明である。フィルム基板１は、図１、３に示すように、フィルム基板１の中央部分に抵抗層となるＩＴＯ（酸化インジウム）層２だけが積層された入力操作部１ａと、フィルム基板１の周囲部分にＩＴＯ層２、第１レジスト層３、Ｘ軸電極４及びＸ軸電極引出しリード４ａ、Ｙ軸電極引出しリード５ａ、第２レジスト層６が積層された電極パターン部１ｂとからなっている。また、フィルム基板１は、テール部１ｃを有し、テール部１ｃによりＸ軸電極引出しリード４ａ、Ｙ軸電極引出しリード５ａを外部回路と接続させる。
　【００１２】
　入力操作部１ａはＩＴＯ層２が露出し、電極パターン部１ｂは、Ｙ軸電極引出しリード５ａのトランスファ窓５ｂを除いて第２レジスト層６で被われている。
　【００１３】
　１０はガラス基板を示し、図２、３に示すように、全面をＩＴＯ層１１で被われ、ＩＴＯ層１１上にガラス基板１０の対向する２辺でトランスファ窓５ｂに対向する位置にＹ軸電極５及び突部のトランスファ部５ｃが形成されている。また、ＩＴＯ層１１上には、フィルム基板１の入力操作部１ａに対向する面にスペーサ１２群が形成されており、このスペーサ１２群によりフィルム基板１のＩＴＯ層２とガラス基板１０のＩＴＯ層１１とが通常時、所定隙間を維持している。スペーサ群１２は、各スペーサ１２ａがマトリックス状に配置され、各スペーサ１２ａを径Ｄ＝２０〜５０μｍ、高さＨ＝約１．５〜４μｍとし、各スペーサ１２ａのピッチをＰ＝０．３〜１．０ｍｍに形成している。入力荷重が小さい場合は、ピッチＰを少し大きく約１．０ｍｍぐらいにし、入力荷重が大きくなるにしたがってピッチＰを小さくし、高さＨは入力荷重の大小にかかわらず約２．５μｍ以下が良い。
　【００１４】
　座標入力装置１５は、上述のフィルム基板１とガラス基板１０とを、トランスファ窓５ｂとＹ軸電極５のトランスファ部５ｃとが導通するようにかさね合わした構造であり、フィルム基板１の表面を入力ペン１６で押圧してＩＴＯ層２，１１とを接触させ、入力ペン１６を押圧したまま文字等を描いて入力することになる。入力ペン１６の押圧による座標検出は従来と同じ方法である。
　【００１５】
　次に、入力ペン１６の押圧に伴なうフィルム基板１の湾曲によるＩＴＯ層２の亀裂発生及びフィルム基板１の表面の傷発生とスペーサの高さＨとの関係を図４〜６と共に説明する。
　【００１６】実験装置２０は、図４に示すように、ＩＴＯ層２１を有するフィルム基板２２とガラス基板２３との間隙をスペーサ２４で維持し、ＩＴＯ層２１の両端を抵抗器Ｒに接続した構造とし、先端が曲面の入力ペン２５に荷重Ｆを加えてフィルム基板２２を湾曲させ、フィルム基板２２の表面を連続的に左右に往復動させる。入力ペン２５の往復回数をカウントしながら、ＩＴＯ層２１の両端間の抵抗値の変化を抵抗器Ｒで検出し、抵抗変化率が０．５％以上になった状態でＩＴＯ層２１に亀裂が発生したものとした。また、フィルム基板２２への傷発生は目視とした。
　【００１７】
　実験は、▲１▼スペーサのピッチＰ＝１．０ｍｍと０．３ｍｍとの２種類
　▲２▼スペーサの高さＨ＝１９．２μｍ、１３．７μｍ、９．８μｍ、６．４μｍ、２．５μｍの５種類とし、スペーサの各高さ毎に４回の同じ実験を行なった。
　【００１８】
　【００１９】
　上記実験結果をグラフ化したものを図５、６に示す。図５、６に示すように、亀裂及び傷の発生は、スペーサ高さが１０μｍ以下から急激に往復回数が増加し寿命が延びる傾向にあることがわかった。そして、スペーサ高さ４μｍ以下で往復回数が１０万回までに達しており、製品寿命を満足している。スペーサ高さ２．５μｍでは２０万回以上となり、亀裂及び傷の発生の問題を十分に解消している。
　【００２０】
　次に、上述の座標入力装置の製造方法について、図７（ａ）〜（ｃ）、図８（ａ）〜（ｄ）と共に説明する。
　【００２１】
　図７（ａ）〜（ｃ）はフィルム基板の製造工程図を示す。図７（ａ）は第１レジスト層の形成工程を示し、フィルム基板１の裏面１ｄの全面にＩＴＯ層２を塗布し、そのＩＴＯ層２の３周辺に第１レジスト層３を積層塗布する工程である。図７（ｂ）は電極及び電極引出しリードの形成工程を第１レジスト層３に銀のＸ軸電極引出しリード４ａ、Ｙ軸電極引出しリード５ａを積層・印刷し、ＩＴＯ層２に銀のＸ軸電極４を積層して形成する工程である。
　【００２２】
　図７（ｃ）は第２レジスト層の形成工程を示し、Ｘ軸電極４、Ｘ軸電極引出しリード４ａ、Ｙ軸電極引出しリード５ａを第２レジスト層６で積層して電極パターン部１ｂを形成する工程である。第２レジスト層６の形成に際し、トランスファ窓５ｂのみを残し、Ｙ軸電極引出しリード５ａを一部露出している。
　【００２３】
　図８（ａ）〜（ｄ）はガラス基板の製造工程図を示す。図８（ａ）はスペーサレジスト層の形成工程を示し、ガラス基板１０の裏面１０ａの全面にＩＴＯ層１１を塗布し、そのＩＴＯ層１１の全面にスペーサレジスト層１３をロールコートで塗布する工程であり、このレジスト層１３の厚みは約２．５μｍ以下である。図８（ｂ）はスペーサパターンの露光・現像工程を示し、スペーサレジスト層１３を露光・現像によりスペーサ群１２を形成する工程であり、各スペーサ１２ａを残してＩＴＯ層１１を露出している。図８（ｃ）はＹ軸電極５の形成工程を示し、露光・現像工程の後、ＩＴＯ層１１にＹ軸電極５を銀印刷で形成して乾燥硬化し、更に図８（ｄ）に示すように図７（ｃ）のトランスファ窓５ｂに対向する位置にトランスファ部５ｃとなる突部の銀を印刷形成してガラス基板１０を完成する。
　【００２４】
　そして、上述のフィルム基板１の電極パターン部１ｂにトランスファ窓５ｂを除いて接着剤を塗布し、フィルム基板１と上述のガラス基板１０とを貼合わせて座標入力装置１５を組立てる。この組立てにより、トランスファ部５ｃとＹ軸電極引出しリード５ａとが導通する。
　【００２５】
　このような、製造工程により、高さが２．５μｍ以下となるスペーサ群１２が正確に簡単な工程で形成できる。なお、上記実施例では透明なフィルム基板と透明なガラス基板との組合せにより座標入力装置を形成しており、この座標入力装置と例えば液晶表示装置とを一体化させた入出力機器にできる。また、不透明なフィルム基板と基板とを組合せて単体の手書き入力装置としても使用できる。
　【００２６】
　【発明の効果】
　以上説明したように、本発明によれば、スペーサの径を２０〜５０μｍ、ピッチを０．３〜１．０ｍｍ、高さを１．５μｍ以上４μｍ以下の均一な高さに形成することによって、抵抗層の亀裂発生までの寿命を延すことができると共に、フィルム基板の表面の傷発生までの寿命も延すことができるので、耐寿命の長い座標入力装置を得ることができる。また、厚み１．５μｍ以上２．５μｍ以下のスペーサレジスト層を塗布して形成し、露光・現像により各スペーサの径を２０〜５０μｍ、ピッチを０．３〜１．０ｍｍとしたスペーサパターンを形成したため、スペーサが小さく、且つ均一に形成でき、安価で耐寿命のある座標入力装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】　本発明の一実施例に係る座標入力装置のフィルム基板の平面図である。
　【図２】　本発明の一実施例に係る座標入力装置のガラス基板の平面図である。
　【図３】　本発明の一実施例に係る座標入力装置の断面図である。
　【図４】　実験装置の全体図。
　【図５】　スペーサ高さと抵抗層の亀裂寿命との関係図である。
　【図６】　スペーサ高さとフィルム基板表面の傷との関係図である。
　【図７】　本発明の一実施例に係る座標入力装置のフィルム基板の製造工程を示し、（ａ）は第１レジスト層の形成工程、（ｂ）は電極及び電極引出しリードの形成工程、（ｃ）は第２レジスト層の形成工程である。
　【図８】　本発明の一実施例に係る座標入力装置のガラス基板の製造工程を示し、（ａ）はスペーサレジスト層の形成工程、（ｂ）はスペーサパターンの露光・現像工程、（ｃ）は電極形成工程、（ｄ）はトランスファ部形成工程である。
　【図９】　従来の座標入力装置の断面図である。
　【符号の説明】
　１　フィルム基板
　２　ＩＴＯ層
　３　第１レジスト層
　４　Ｘ軸電極
　５　Ｙ軸電極
　６　第２レジスト層
　１０　ガラス基板
　１１　ＩＴＯ層
　１２　スペーサ群
　１２ａ　スペーサ
　１３　スペーサレジスト層
　１５　座標入力装置
　２０　実験装置