【事件の表示】
　　平成６年特許願第５０７７８０号「非線形光学積層構造体」拒絶査定に対する審判事件〔（平成６年３月３１日国際公開ＷＯ９４／０７１７６、平成７年８月２４日国内公表特許出願公表平７−５０７６４４号）について、次のとおり審決する。
【結論】
　　本件審判の請求は、成り立たない。
【理由】
（手続の経緯、請求項に係る発明）
　この出願は、１９９３年９月１３日を国際出願日とする出願であって、請求項１乃至請求項３に係る発明は、平成９年１０月１日付け手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１乃至請求項３に記載されたとおりのものと認められ、請求項１には次のとおり記載されている。
「空気酸素の攻撃から保護された、非線形光学材料（ＮＬＯ）からなる層において、該ＮＬＯ層がポリアセチレン、多複素環またはカロチノイド構造を有するポリエンからなり、かつ少なくとも片面に金属または非金属の少なくとも１つの窒化物または炭化物からなる６０ｎｍまでの層厚の拡散遮断層を有することを特徴とする非線形光学材料からなる層。」
（引用例）
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された特開平４−１０７５０９号公報（以下、引用例という。）には、
「有機結晶をコアとし、ガラスをクラッドとするファイバーの端面に薄膜を形成する方法であって、減圧下で、上記ファイバーを切断し、切断と同時またはその直後に、ファイバーの切断面に薄膜を形成することを特徴とするファイバーの端面に薄膜を形成する方法。」（特許請求の範囲）、
「上記有機結晶がその分子内に水素結合を有している場合、コアはファイバー端面で空気等の雰囲気中の水分と接触し、該水分がコア内に侵入し、光の透過率が低下する等、経時安定性に劣るという問題があった。」（公報第２頁第２４行〜第２７行）、
「本発明方法により、端面に薄膜が形成されたファイバーでは、有機結晶からなるコアが空気等の雰囲気と接触することが薄膜により防止される。」（公報第３頁第２５行〜第２６行）、
「薄膜２を形成する材料としては、可視光および近赤外領域において透明である必要があり、誘電体が好ましく、例えばＳｉＯ２、ＭｇＦ２、Ａ１２Ｏ３、Ｓｉ４Ｎ３、ＬｉＮｂＯ３、ＺｎＯ等の無機材料、ポリエチレン、ポリメタクリル酸メチル、ポリアクリル酸等の有機材料が例示でき、コア材料の透過性の低い無機材料が特に好ましい。」（公報第５頁第２０行〜第２４行）、
「本発明方法は、２次の非線形光学効果を示す有機非線形光学結晶をコアとし、ガラスをクラッドとしており、チェレンコフ放射によって、入射光の第２高調波を発生するファイバー型波長変換素子に、特に好適に用いられる。」（公報第６頁第２２行〜第２４行）、
「上記有機非線形光学結晶の材料としては、特に限定されるものではなく、種々のものに対して本発明方法は有効であり、例えば３ーニトロー５ー（Ｎ、Ｎージメチルアミノ）ーアセトアニリド、・・・などがあげられる。
　【００２４】
　さらに、本発明方法は、コア１１が３次の非線形光学効果を示す有機非線形光学結晶からなる場合にも好適に利用することができる。この場合、コア材料としては、例えばｐーニトロアニリン、・・・等の有機色素材料を例示することができる。」（公報第７頁第８行〜第８頁第５行）と記載されており、公報第１０頁の実施例４には、厚さ９８０ÅのＳｉＮ３からなる薄膜を形成したことが記載されている。
　したがって、引用例には、
「２次あるいは３次の有機非線形光学結晶に厚さ９８０Åの窒化シリコンからなる薄膜を形成することにより、空気との接触を防止したファイバー型波長変換素子。」
の発明が記載されている。
（対比）
　そこで、本願の請求項１に係る発明（以下、本願発明という。）と引用例に記載された発明（以下、引用発明という。）とを対比すると、引用発明における「２次あるいは３次の有機非線形光学結晶」及び「窒化シリコンからなる薄膜」は、本願発明における「非線形光学材料（ＮＬＯ）からなる層」及び「金属または非金属の少なくとも１つの窒化物または炭化物からなる拡散遮断層」に相当し、引用発明において、空気との接触を防止していることは、本願発明の、空気酸素の攻撃から保護されていること、と差違はないから、両者は、
「空気酸素の攻撃から保護された、非線形光学材料（ＮＬＯ）からなる層において、少なくとも片面に金属または非金属の少なくとも１つの窒化物または炭化物からなる拡散遮断層を有することを特徴とする非線形光学材料からなる層。」である点で一致しており、
▲１▼ＮＬＯ層が、本願発明では「ポリアセチレン、多複素環またはカロチノイド構造を有するポリエン」からなっているのに対し、引用発明ではこれらの材料名はない点、
▲２▼拡散遮断層が、本願発明では、「６０ｎｍまでの層厚」であるのに対して、引用発明では、
　「厚さ９８０Å」である点、
で相違している。
（当審の判断）
　上記各相違点について検討する。
　相違点▲１▼について
　ポリアセチレンやある種のポリエンが２次あるいは３次の非線形光学材料であること、これらが酸素を含む雰囲気中で不安定であることは周知であり（例えば、特開平１−１０１３１４号公報、特開平２−１８２７０８号公報、特開平２−２４５７４４号公報参照）、引用発明においては、２次あるいは３次の有機非線形光学結晶の材料は限定されていないので、前記周知の材料を選択することに格別の困難性はないものと認められる。
　相違点▲２▼について
　光学透過率が層厚に依存して低下すること、遮断層の光学透過率は高いほうが好ましいことは各々自明であり、本願発明における６０ｎｍという数値に臨界的意義があるとは認められないので、引用発明において、遮断層の光学透過率を高くするために、６０ｎｍまでの層厚とすることは、当業者ならば容易に想到し得たものと認められる。
　これに関して審判請求人は、審判請求理由補充書において、引用例の実施例に記載された遮断層の厚さは９８０Å〜０．５μｍであり、このような厚手の遮断層は、材料の光学透過性が存在しないので、本願発明にとって重要なχ３（ＮＬＯ）効果にとっては使用不可能なものである旨、主張している。
　しかしながら、本願明細書には、具体的な層厚の数値に関して、
「拡散遮断被覆の層厚は５〜１００００ｎｍ、有利に２０〜２００ｎｍの範囲内にあることができる。層の厚さを全結合体の特殊な光学的要件に適応させることは可能である。この場合、適当な層厚の選択は、自体公知の薄層の光学的性質に対する合法性に相応して行われる」（明細書第３頁第１５行〜第２０行）、
「有機層を生成するには、ポリマー層を製造する公知方法、例えばスピンコーティング・・・有機層の厚さは１０〜１００００ｎｍの範囲内であってよい。」（明細書第７頁第１３行〜第１７行）、「ＳｉターゲットにＲＦ電圧をかける（スパッタリング出力４００Ｗ）ことによって、厚さ６０ｎｍの透明な（Ｓｉ−Ｎ）層を付着させる。」（明細書第８頁第２０行〜第２３行）と記載されているのみであり、層厚は５〜１００００ｎｍ、有利には２０〜２００ｎｍの範囲内にあること、及び、層厚６０ｎｍの実施例、は記載されているが、６０ｎｍまでの層厚であるが故に作用効果を奏する旨の記載はない。
　そして、引用例にも、「３次の非線形光学効果を示す有機非線形光学結晶からなる場合にも好適に利用することができる」との記載があるから、引用発明の遮断層を、χ３（ＮＬＯ）効果にとっても使用可能な光学透過率を有する層厚にすることに、何ら困難性があるとは認められない。
　よって、審判請求人の主張は採用できない。
（むすび）
　したがって、本願の請求項１に係る発明は、引用例に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。