【事件の表示】
　特許第３０５７３７８号「高強度小径Ｘ線ビームの毛細管光学システム」の請求項１ないし９に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３０５７３７８号の請求項１ないし７に係る特許を取り消す。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第３０５７３７８号「高強度小径Ｘ線ビームの毛細管光学システム」の請求項１ないし９項に係る発明は、１９９６年２月２７日（パリ条約による優先権主張外国庁受理１９９５年２月２８日、米国）を国際出願日として特許出願され、平成１２年４月２１日にその特許権の設定登録がなされ、その後、平成１２年１２月２５日に越智光政により請求項１ないし９項に係る特許について特許異議の申立がなされ、取消しの理由が通知され、その所定の期間内である平成１３年１０月２４日に特許異議意見書が提出されると共に、訂正請求がなされた後、平成１３年１２月２１日付けで再度取消しの理由が通知され、その所定の期間内である平成１４年７月１１日に特許異議意見書が提出されたものである。
２．訂正の適否についての判断
　（１）訂正の要旨
　ア．訂正事項ａ
　請求項１中の記載「融解により一体成形されたモノリシックな多重全外部反射の毛細管からなる光学装置とを備え、」を「複数の多重全外部反射の毛細管を融解により一体成形したモノリシックな光学装置とを備え、」と訂正する。
　イ．訂正事項ｂ
　請求項７及び９を削除し、該削除にともない、請求項８の項番号を改め、訂正後の請求項７とする。
　ウ．訂正事項ｃ
　本件明細書の第２頁第１８行の記載「・・・パワーの増強のために、光学設置の有無の・・・」を「・・・パワーの増強のために、光学装置の有無の・・・」と訂正する。
　（２）訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　訂正事項ａについて；
　「融解により一体成形されたモノリシックな多重全外部反射の毛細管からなる光学装置」を「複数の多重全外部反射の毛細管を融解により一体成形したモノリシックな光学装置」と訂正することは特許請求の範囲の減縮を目的とするものであり、これは、本件の明細書第９頁第８〜１１行の記載「光学装置４４は、複数の中空ガラスの毛細管４８を備えるが、この中空ガラスの毛細管は、一緒に融解されて、Ｘ線源４２から出現する発散Ｘ線放射線４３の効率的な補足を許容する配列に塑造成形される。」及び同第９頁第２３行〜第１０頁第１行の記載「主題の発明において使用される光学装置のクラスは、モノリシックである。これは、光路自身の壁７０が光学装置を一緒に保持する支持構造体を形成していることを意味する。」の記載に基づくものである。
　そうすると、訂正事項ａは、願書に添付した明細書に記載された事項の範囲内のものであって、新規事項の追加に該当せず、また、実質上特許請求の範囲を拡張・変更するものではない。
　訂正事項ｂについて；
　　請求項７及び９を削除する訂正は、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであり、また、請求項８の項番号を７と訂正することは、請求項７及び９を削除したことによる項番号の整理をおこなうものであって、明瞭でない記載の釈明を目的とするものであり、これらの訂正は、 新規事項の追加に該当せず、また、実質上特許請求の範囲を拡張・変更するものではない。
　訂正事項ｃについて；
　　訂正事項ｃは、「光学設置」を「光学装置」と訂正することは、誤記の訂正を目的とするものであって、新規事項の追加に該当せず、また、実質上特許請求の範囲を拡張・変更するものではない。
　（３）むすび
　したがって、上記各訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項において準用する特許法第１２６条第２項、第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
３．本件発明
　本件特許第３０５７３７８号の請求項１ないし７に係る発明（以下、「本件発明１ないし７」という。）は、訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１ないし７に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
　「１．Ｘ線源と、
複数の多重全外部反射の毛細管を融解により一体成形したモノリシックな光学装置とを備え、
　該光学装置は、入射端と出射端とを有し、該光学装置の入射端が前記Ｘ線源に対面していて光学装置と線源間の距離が６０ｍｍより小さくなる位置に配置されるような位置取りにされてなり、該光学装置は、各々が前記Ｘ線源にねらいを定められている入射端を有する毛細管による多重光路を有してなり、該光学装置の出力がＸ線ビームを提供してなるＸ線ビームの生成装置。
　２．前記Ｘ線ビームが疑似平行のＸ線ビームからなる請求項１に記載した装置。
　３．前記Ｘ線源は、スポットを備えて、大略３０μｍのスポットサイズ幅を有してなり、光学装置と線源間の距離は、前記光学装置がその出射端でｌｍｍ幅の疑似平行のＸ線ビームを生成するように大略ｌｍｍとされてなる請求項２に記載した装置。
　４．前記Ｘ線ビームが、収束Ｘ線ビームからなり、前記光学装置の前記多重光路の各光路が、該光学装置の出射端から隔てられている出射焦点位置にねらいを定められてなる請求項１に記載した装置。
　５．前記Ｘ線源が１００μｍのスポットサイズ幅を有してなり、光学装置と線源間の距離が大略２７ｍｍにされてなり、前記光学装置が大略２ｍｍの出射端焦点距離を有してなる請求項４に記載した装置。
　６．前記光学装置の入射端が７ｍｍの直径を有してなり、前記光学装置中の前記多重光路の各光路の入射端が１４μｍにされてなる請求項５に記載した装置。
　７．前記Ｘ線源が、３００μｍより小さなスポットサイズ幅を有するスポット源を備えてなる請求項１に記載した装置。」
４．引用刊行物に記載された発明
　（１）刊行物
　　　　　刊行物１：米国特許第５１９２８６９号明細書
　　　　　刊行物２：ＡＤＶＡＮＣＥＳ　ＩＮ　Ｘ−ＲＡＹ　ＡＮＡＬＹＳ
　　　　　　　　　　ＩＳ，Ｖｏｌｕｍｅ３７　：１９９４年発行　ｐ．５
　　　　　　　　　　０７−５１４（甲第１号証）
　（２）刊行物に記載された発明
　　　当審が再度通知した取消理由に引用された刊行物１には、「Ｔｈｉｓ　ｉｎｖｅｎｔｉｏｎ　ｒｅｌａｔｅｓ　ｔｏ　・・・・ｄｅｖｉｃｅｓ　ｆｏｒ　ｃｏｎｔｒｏｌｌｉｎｇ　Ｘ−ｒａｙ・・・・・・，ａｎｄ　ｃａｎ　ｂｅ　ｕｓｅｄ　ｔｏ　ｓｈａｐｅ　ｃｏｎｖｅｒｇｉｎｇ・・・ａｎｄ　ｑｕａｓｉ−ｐａｒａｌｌｅｌ　ｂｅａｍｓ」（第１欄第９〜１３行）、「Ａ　ｍｏｓｔ　ａｄｖａｎｔａｇｅｏｕｓ　ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ　ｏｆ　ｔｈｉｓ　ｉｎｖｅｎｔｉｏｎ　ｉｓ　ｔｏ　ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｅ　ｅｎｅｒｇｙ　ｒａｄｉａｔｅｄ　ｂｙ　ｖａｒｉｕｏｓ　ｓｏｕｒｃｅｓ　ｗｉｔｈ　ｔｈｅ　ｏｂｊｅｃｔｉｖｅ　ｏｆ　ｐｒｏｄｕｃｉｎｇ　ｒａｄｉａｔｉｏｎ　ｂｅａｍｓ　ｗｉｔｈ　ａ　ｈｉｇｈ　ｐｏｗｅｒ　ｄｅｎｓｉｔｙ　ｉｎ　ａ　ｓｍａｌｌ　ａｒｅａ」（第１欄第２２〜２５行）、「Ａｓ　ｉｓ　ｋｎｏｗｎ，ｉｎｃｉｄｅｎｃｅ　ｏｆ　ｂｅａｍｓ　ｏｆ・・・Ｘ−ｒａｙｓ・・・・・ｏｎｔｏ　ｂｏｕｎｄａｒｉｅｓ　ｏｆ　ｃｏｎｄｅｎｓｅｄ　ｍｅｄｉａ，ｆｅａｔｕｒｅｓ　ａ　ｃｅｒｔａｉｎ　ｖａｌｕｅ　ｏｆ　ｔｈｅ　ｇｒａｚｉｎｇ　ａｎｇｌｅ，ｃａｌｌｅｄ　ｔｈｅ　ｃｒｉｔｉｃａｌ　ａｎｇｌｅ　ｏｆ　ｔｏｔａｌ　ｅｘｔｅｒｎａｌ　ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ，ｂｅｌｏｗ　ｗｈｉｃｈ　ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ　ｉｓ　ａｃｃｏｍｐａｎｉｅｄ　ｂｙ　ｖｅｒｙ　ｌｏｗ　ｌｏｓｓｅｓ．Ｉｎ　ｔｈｅ　ｃａｓｅ　ｏｆ　ｖｅｒｙ　ｓｍｏｏｔｈ　ｓｕｒｆａｃｅｓ　ａｎｄ　ｌｏｗ　ｒａｄｉａｔｉｏｎ　ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎ　ｉｎ　ｔｈｅ　ｍａｔｅｒｉａｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ　ｓｕｒｆａｃｅ，　ｔｈｅ　ｌｏｓｓｅｓ　ｗｉｔｈ　ｔｏｔａｌ　ｅｘｔｅｒｎａｌ　ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ　ａｒｅ　ｓｏ　ｌｏｗ　ｔｈａｔ　ｔｈｅｙ　ａｌｌｏｗ　ｅｆｆｉｃｉｅｎｔ　ｂｅａｍ　ｃｏｎｔｒｏｌ　ｖｉａ　ｍｕｌｔｉｐｌｅ　ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎｓ　ａｔ　ａｎｇｌｅｓ　ｂｅｌｏｗ　ｃｒｉｔｉｃａｌ．Ｋｎｏｗｎ　ｉｎ　ｔｈｅ　ａｒｔ　ａｒｅ　ｄｅｖｉｃｅｓ　ｆｕｎｃｔｉｏｎｉｎｇ　ｗｉｔｈ　ｍｕｌｔｉｐｌｅ　ｔｏｔａｌ　ｅｘｔｅｒｎａｌ　ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ　ｉｎ　ｂｅｎｔ　ｔｕｂｅ　ｃｈａｎｎｅｌｓ　ｔｏ　ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｅ　ａｎｄ　ｓｈａｐｅ　ｑｕａｓｉ−ｐａｒａｌｌｅｌ　ｂｅａｍｓ　ｏｆ　Ｘ−ｒａｙｓ．・・・・・Ｔｈｉｓ　ｐｒｉｏｒ　ａｒｔ　ｄｅｖｉｃｅ　ｆｏｒ　ｃｏｎｔｒｏｌｌｉｎｇ　ｂｅａｍｓ　ｏｆ　Ｘ−ｒａｙ・・・ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ　ａ　ｐｌｕｒａｌｉｔｙ　ｏｆ　ｃｈａｎｎｅｌｓ　ｗｉｔｈ　ｉｎｎｅｒ　ｓｕｒｆａｃｅｓ　ｆｅａｔｕｒｉｎｇ　ｔｏｔａｌ　ｅｘｔｅｒｎａｌ　ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ，ｗｉｔｈ　ｉｎｐｕｔ　ｂｕｔｔ−ｅｎｄｓ　ｆａｃｉｎｇ　ａ　ｒａｄｉａｔｉｏｎ　ｓｏｕｒｃｅ，ａｎｄ　ｗｉｔｈ　ｏｕｔｐｕｔ　ｂｕｔｔ−ｅｎｄｓ　ｄｉｒｅｃｔｅｄ　ａｔ　ａ　ｒｄｉａｔｉｏｎ　ｒｅｃｅｉｖｅｒ．」（第１欄第３８〜６１）、「・・・ｏｂｊｅｃｔ　ｏｆ　ｔｈｉｓ　ｉｎｖｅｎｔｉｏｎ　ｔｏ　ｒｅｄｕｃｅ　ｔｈｅ　ｏｖｅｒａｌｌ　ｄｉｍｅｎｓｉｏｎｓ　ｏｆ　ｔｈｅ　ｄｅｖｉｃｅ，ｒｅｄｕｃｅ　ｔｈｅ　ｓｉｚｅ　ｏｆ　ｉｔｓ　ｆｏｃａｌ　ａｒｅａ，ａｎｄ　ｃｏｒｒｅｓｐｏｎｄｉｎｇｌｙ　ｉｎｃｒｅａｓｅ　ｔｈｅ　ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙ　ｏｆ　ｂｅａｍ　ｅｎｅｒｇｙ　ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ　ａｎｄ　ｂｅａｍ　ｐｏｗｅｒ　ｄｅｎｓｉｔｙ　ａｔ　ｔｈｅ　ｄｅｖｉｃｅ　ｏｕｔｐｕｔ．」（第２欄第２６〜３０行）、「　Ｔｈｅｓｅ　ａｎｄ　ｏｔｈｅｒ　ｏｂｊｅｃｔｓ　ａｒｅ　ａｃｈｉｅｖｅｄ，ｉｎ　ａ　ｄｅｖｉｃｅ　ｆｏｒ　ｃｏｎｔｒｏｌｌｉｎｇ　ｂｅａｍｓ　ｏｆ・・・Ｘ−ｒａｙ・・・ｈａｖｉｎｇ　ａ　ｐｌｕｒａｌｉｔｙ　ｏｆ　ｃｈａｎｎｅｌｓ　ｗｉｔｈ　ｉｎｎｅｒ　ｓｕｒｆａｃｅｓ　ｅｘｈｉｂｉｔｉｎｇ　ｍｕｌｔｉｐｌｅ　ｔｏｔａｌ　ｅｘｔｅｒｎａｌ　ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎｓ，ｗｉｔｈ　ｉｎｐｕｔ　ｂｕｔｔ−ｅｎｄｓ　ｆａｃｉｎｇ　ａ　ｓｏｕｒｃｅ　ｏｆ　ｒａｄｉａｔｉｏｎ，　ａｎｄ　ｗｉｔｈ　ｏｕｔｐｕｔ　ｂｕｔｔ−ｅｎｄｓ　ａｉｍｅｄ　ａｔ　ａ　ｒａｄｉａｔｉｏｎ　ｒｅｃｅｉｖｅｒ」（第２欄第３７〜４２行）、「　Ｔｈｅ　ｄｅｖｉｃｅ（ａｌｓｏ　ｒｅｆｅｒｒｅｄ　ｔｏ　ａｓ　ａ　Ｋｕｍａｋｈｏｖ　ｌｅｎｓ）ｆｏｒ　ｃｏｎｔｒｏｌｌｉｎｇ　ｂｅａｍｓ　ｏｆ・・・Ｘ−ｒａｙ・・・ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ　ａ　ｐｌｕｒａｌｉｔｙ　ｏｆ　ｃｈａｎｎｅｌｓ　ｗｉｔｈ　ｉｎｎｎｅｒ　ｓｕｒｆａｃｅｓ　ｆｅａｔｕｒｉｎｇ　ｍｕｌｔｉｐｌｅ　ｔｏｔａｌ　ｅｘｔｅｒｎａｌ　ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎｓ．Ｉｎ　ｔｈｅ　ｅｍｂｏｄｉｍｅｎｔ　ｏｆ　ＦＩＧ．１，ｔｈｅ　ｃｈａｎｎｅｌ−ｆｏｒｍｉｎｇ　ｅｌｅｍｅｎｔｓ　ａｒｅ　ｂｅｎｔ　ｈｏｌｌｏｗ　ｔｕｂｅｓ．Ｔｈｅ　ｌｏｎｇｉｔｕｄｉｎａｌ　ａｘｅｓ　２　ｏｆ　ｔｕｂｅｓ　１　ａｒｅ　ｌｏｃａｔｅｄ　ａｌｏｎｇ　ｔｈｅ　ｇｅｎｅｒａｔｒｉｃｅｓ　ｏｆ　ｉｍａｇｉｎａｒｙ　ｂａｒｒｅｌ−ｓｈａｐｅｄ　ｓｕｒｆａｃｅｓ　ｃｏａｘｉａｌ　ｔｏ　ｃｅｎｔｒａｌ　ａｘｉｓ　３　ｏｆ　ｔｈｅ　ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ　ｂｅａｍ．Ｔｈｅ　ｃｈａｎｎｅｌ−ｆｏｒｍｉｎｇ　ｅｌｅｍｅｎｔｓ　ａｒｅ　ｒｉｇｉｄｌｙ　ｌｉｎｋｅｄ　ｔｏ　ｏｎｅ　ａｎｏｔｈｅｒ　ｂｙ　ａ　ｒｉｇｉｄ　ｓｕｐｐｏｒｔ　ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ．」（第７欄第４〜１４行）、「Ｔｈｅ　ｉｎｐｕｔ　ｂｕｔｔ−ｅｎｄｓ　ｏｆ　ｂｅｎｔ　ｔｕｂｅｓ　１　ｆａｃｅ　ｒａｄｉａｔｉｏｎ　ｓｏｕｒｃｅ　７，ａｎｄ　ｔｈｅ　ｏｕｔｐｕｔ　ｂｕｔｔ−ｅｎｄｓ　ａｒｅ　ｏｒｉｅｎｔｅｄ　ａｔ　ｒａｄｉａｔｉｏｎ　ｒｅｃｅｉｖｅｒ　８．」（第７欄第３０〜３２行）との記載からみて、「放射源と、複数の多重全外部反射の曲がり中空束管より構成したビーム制御装置とを備え、該制御装置は、入力端と出力端とを有し、該制御装置の入力端が前記放射源に対面し、出力端は受光器に向いており、該制御装置は、各々が前記放射源に向かう入力端を有する中空束管による多重光路を有してなり、該制御装置の出力がＸ線ビーム（収束ビーム及び準平行ビームを含む）を提供してなるＸ線ビームの生成装置」（以下、引用発明１という。）が記載されていると認める。
　さらに、同刊行物２には、「　Ｔｈｅ　Ｘ−ｒａｙ　ｌｅｎｓ　ｃｏｎｓｉｓｔｓ　ｏｆ　ｈｏｌｌｏｗ　，ｐｏｌｙ・・・Ｘ−ｒａｙ　ｇｕｉｄｉｎｇ　ｃａｐｉｌｌａｒｉｅｓ．Ｗｈｅｎ　ｔｈｅ　Ｘ−ｒａｙｓ　ｉｎｃｉｄｅｎｔ　ｉｎｔｏ　ｔｈｅ　Ｘ−ｒａｙ　ｇｕｉｄｉｎｇ　ｔｕｂｅ，ｔｈｅｙ　ｅｘｐｅｒｉｅｎｃｅ　ｍｕｌｔｉｐｌｅ　ｅｘｔｅｒｎａｌ　ｔｏｔａｌ　ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎｓ，ｔｈｅｒｅｂｙ　ｐｒｏｐａｇａｔｅｄ　ｉｎ　ｔｈｅ　ｔｕｂｅ　ｗｉｔｈ　ｈｉｇｈ　ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙ．」（第５０７頁第１７〜２０行）、「Ｔｈｅ　ｐｉｃｔｕｒｅ　ｏｆ　ｔｈｅ　ｆｏｕｒ　ｄｅｖｅｌｏｐｅｄ　Ｘ−ｒａｙ　ｌｅｎｓｅｓ　ｉｓ　ｓｈｏｗｎ　ｉｎ　Ｆｉｇｕｒｅ　３　．　Ｔｗｏ　ｏｆ　ｔｈｅ　ｌｅｎｓｅｓ　ａｒｅ　ｆｏｃｕｓｉｎｇ　ｌｅｎｓｅｓ，ａｎｄ　ｔｈｅ　ｏｔｈｅｒ　ｔｗｏ　ａｒｅ　ｐａｒａｌｌｅｌ　ｂｅａｍ　ｏｎｅｓ．」（第５０９頁第２４〜２６行）、「Ｔｈｅ　ｌｅｆｔ　ｆｏｃｕｓ　ｄｉｓｔａｎｃｅ　ｆｒｏｍ　ｔｈｅ　ｅｎｔｒｙ　ｏｆ　ｌｅｎｓ　ｔｏ　ｔｈｅ　ａｎｏｄｅ　ｏｆ　Ｘ−ｒａｙ　ｔｕｂｅ　ｉｓ　１０　ｍｍ．」（第５１１頁第２０，２１行）との記載からみて、「複数の多重全外部反射の毛細管より構成したＸ線レンズの入口がＸ線管の対陰極に対面していてＸ線レンズとＸ線管の対陰極間の距離が１０ｍｍの位置に配置されるような位置取りにされているＸ線ビームの生成装置」（以下、引用発明２という。）が記載されていると認める。
５．対比・判断 
　（１）本件発明１について
　本件発明１と引用発明１とを対比すると、引用発明１における「放射源」、「中空束管」、「ビーム制御装置」、「入力端」、「出力端」は、それぞれ本件発明１における「Ｘ線源」、「毛細管」、「光学装置」、「入射端」、「出射端」に相当するから、両者は、
「Ｘ線源と、複数の多重全外部反射の毛細管より成形した光学装置とを備え、該光学装置は、入射端と出射端とを有し、該光学装置の入射端が前記Ｘ線源に対面して配置されるような位置取りにされてなり、該光学装置は、各々が前記Ｘ線源にねらいを定められている入射端を有する毛細管による多重光路を有してなり、該光学装置の出力がＸ線ビームを提供してなるＸ線ビームの生成装置。」の点で一致し、次の点で相違する。
　「本件発明１の光学装置は、複数の多重全外部反射の毛細管を融解により一体成形したモノリシックであるのに対して、引用発明１の光学装置は、毛細管に相当する中空束管は剛性支持構造により相互にしっかりと固定されている」の点、（以下、「相違点１」という。）及び、
　「本件発明１は、光学装置と線源間の距離が６０ｍｍ以下であるのに対して、引用発明１では該距離の数値が特定されていない」の点（以下、「相違点２」）で相違する。
　そこで、これら相違点について検討すると、
　〈相違点１について〉
　複数の光学繊維を束ねて形成される光学装置においては、その形成にあたって、該繊維同士を融解により一体形成したモノリシックなものとすることは慣用手段（例えば、特公昭４２−２１４６０号公報、特開昭５６−６７８０６号公報、特公昭６０−３３２２７号公報等参照）であり、該手段を適用する点に格別の困難性はなく、この点は容易になし得る設計的事項である。
　なお、権利者は、平成１４年７月１１日付けの特許異議意見書において、上記慣用技術として例示されている刊行物に記載されている発明は、いずれも、可視光の伝導に関する技術であって、これはＸ線ビームの生成に関する技術とは異なる技術分野のものである。また、請求項１に係る発明の特徴事項により、小さなスポットを有する比較的パワーの小さいＸ線源により、より大きなスポットを有する比較的パワーの大きなＸ線源を利用したときのＸビームよりも高強度のＸビームを生成することができると言う技術的効果についてはなんら記載も示唆もされていないから、引用発明１に上記慣用手段を適用して組み合わせることには困難性があると主張している。
　しかしながら、引用発明１のものも、上記慣用技術のものも、共に、複数の光学繊維を束ねて形成される電磁放射線の伝導光学装置という同一の技術分野に属するものであること、また、複数のビーム反射伝導性細管を利用した光学装置の出射ビーム強度を上げるためには、スポット（ビーム源）の大きさには関係なく、スポット（ビーム源）を狙う細管の単位面積あたりの本数を増やせば良いことは自明であるから、上記慣用技術のものも、複数の細管を融解してモノシリックに成形すれば、同一径の前記光学装置同士においては、モノシリックに成形したものの方が高強度のビームを生成するという技術的効果を有することも自明である。
　したがって、引用発明１に上記慣用手段を適用して組み合わせることには困難性があるとする権利者の主張は採用できない。
　〈相違点２について〉
　引用発明２に、Ｘ線ビームの生成装置において、複数の多重全外部反射の毛細管より構成したＸ線レンズ（光学装置）とＸ線管の対陰極（Ｘ線源）との距離を１０ｍｍとする配置が示されているように、Ｘ線源と光学装置との距離が大きくなるとＸ線が有効に補足できなくなるため、この距離を短くする必要があることは明らかである。そして、当該距離を「６０ｍｍ以下」と数値を限定したことに臨界的効果も認められないから、「６０ｍｍ以下」という数値に限定することは当業者が適宜に選択し得る事項にすぎない。
　（２）本件発明２について
　本件発明２は、本件発明１において、そのＸ線ビームが「疑似平行である」ことをさらに限定するものであるが、この点は引用発明１に記載されている事項である。したがって、本件発明２についての判断は、上記５−（１）と同趣旨である。
　（３）本件発明３について
　本件発明３は、本件発明２において、Ｘ線源を大略３０μｍのスポットサイズ幅とし、光学装置と線源間の距離を大略１ｍｍとして出射端でのビーム幅を１ｍｍとして各部の数値を限定するものであるが、引用発明１を具体化するためにはこれら各部の数値を設定する必要があるところ、前記各部の数値には、その限定による臨界的効果も認められないことから、当該数値の限定は当業者であれば適宜に選択し得る事項にすぎない。したがって、本件発明３についての判断は、上記５−（２）と同趣旨である。
　なお、権利者は、平成１４年７月１１日付けの特許異議意見書において、上記刊行物１及び２には、Ｘ線源のスポットサイズは記載されていないと主張しているが、例えば、刊行物１の米国特許第５１９２８６９号明細書第２欄第３８〜５４行には、「Ｔｈｅｓｅ　ａｎｄ　ｏｔｈｅｒ　ｏｂｊｅｃｔｓ　・・・・・・・ｔｈｅ　ｅｆｆｅｃｔｉｖｅ　ｒａｄｉａｔｉｏｎ　ｓｏｕｒｃｅ　ｄｉａｍｅｔｅｒ」と記載されており、Ｘ線源のスポットサイズについて言及されていることは明らかであるから、権利者の当該主張は採用できない。
　（４）本件発明４について
　本件発明４は、本件発明１において、Ｘ線ビームが収束Ｘ線ビームであり、多重光路の出射端が出射焦点位置にねらいを定めていることをさらに限定するものであるが、引用発明１には、Ｘ線ビームを収束Ｘ線ビームとすること、及び多重光路が出射端から受光器（焦点位置にあることは明らか）に向けられていることが記載されている。したがって、本件発明４についての判断は、上記５−（１）と同趣旨である。
　（５）本件発明５について
　本件発明５は、本件発明４において、Ｘ線源を１００μｍのスポットサイズ幅とし、光学装置と線源間の距離を大略２７ｍｍ、光学装置の出射端焦点距離を大略２ｍｍとして各部の数値を限定するものであるが、引用発明１を具体化するためにはこれら各部の数値を設定する必要があるところ、前記各部の数値には、その限定による臨界的効果も認められないことから、当該数値の限定は当業者であれば適宜に選択し得る事項にすぎない。したがって、本件発明５についての判断は、上記５−（４）と同趣旨である。
　（６）本件発明６について
　本件発明６は、本件発明５において、光学装置の入射端の直径を７ｍｍ、光学装置中の多重光路の各光路の入射端を１４μｍとして各部の数値を限定するものであるが、引用発明１を具体化するためにはこれら各部の数値を設定する必要があるところ、前記各部の数値には、その限定による臨界的効果も認められないことから、当該数値の限定は当業者であれば適宜に選択し得る事項にすぎない。したがって、本件発明６についての判断は、上記５−（５）と同趣旨である。
　（７）本件発明７について
　本件発明７は、本件発明１において、Ｘ線源のスポットサイズ幅を３００μｍより小さいものと限定するものであるが、上記刊行物１の第１図及びその関連箇所の記載によると、クマコフレンズを構成する曲がり束管１の入力端は放射源７に向かって収束されていることから、放射源の大きさは小さくした方が放射源のビーム強度を有効に利用できることは明らかである。そして、Ｘ線源のスポットサイズ幅を「３００μｍより小さいもの」に限定することによる臨界的効果も認められないから、当該数値の限定は当業者であれば適宜に選択し得る事項にすぎない。したがって、本件発明７についての判断は、上記５−（１）と同趣旨である。
６．むすび
　以上のとおりであるから、本件発明１ないし７は、引用発明１、引用発明２及び上記慣用手段等に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、請求項１ないし７に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。
　したがって、請求項１ないし７に係る発明の特許は、特許法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年８月２０日（２００２．８．２０）
【訂正の要旨】
訂正事項
　▲１▼特許請求の範囲の請求項１について
　請求項１の「融解により一体成形されたモノリシックな多重全外部反射の毛細管からなる光学装置とを備え、」の記載を「
複数の多重全外部反射の毛細管を
した
な光
　▲２▼特許請求の範囲の請求項７及び９について
　請求項７及び９を削除する。
　また、請求項７及び９の削除にともない、請求項８の項番号を改め、訂正後の請求項７とする。
　▲３▼明細書中の誤記の訂正について
　本件の明細書の第２頁第１８行「…パワーの増強のために、光学設置の有無の…」という誤記を「…パワーの増強のために、光学
装置
（５４）【発明の名称】
高強度小径Ｘ線ビームの毛細管光学システム
【発明の詳細な説明】
　　　
連邦後援研究下の権利に関する宣言
　本発明は、商務省査定の契約番号第７０ＮＡＮＢ２Ｈ１２５０号の下に政府の支援でなされたものである。従って、本発明においては米国政府が一定の権利を有する。
　　　
発明の属する技術分野
　本発明は、広くはＸ線の分野に係る。特に、本発明はＸ線光学の分野に関する。本発明は、高強度で小径のＸ線ビームを生成する毛細管Ｘ線光学装置／Ｘ線源システムの性能改良のための装置と方法とを提供する。
　　　
技術的背景
　試料がＸ線回折のような種々なＸ線技法で分析されるときには、試料に当たるＸ線ビームの大きさは、試料のサイズと同じオーダーのものであるか、或いは被試験試料の上のスポットと同じオーダーのものであることが望ましい。ビームのサイズに関するこの規準は、望ましからざるフォトンによって生成されるバックグランドノイズを最小化しながら空間的な解像を最大化するので、重要なものである。多くの場合、例えば蛋白結晶のＸ線回折の場合のように、試料のサイズが非常に小さいので、従来型のＸ線回折装置は効果的には機能していない。このような小さな試料を分析するために伝統的な実験室のＸ線源が使用される場合には、適切なサイズのビームは、典型的には視準法によって得られる。これは、鉛のようなＸ線吸収材料の中にあけられたピンホールを通過するＸ線ビームのようなものを含んでいる。また、低いビーム発散が望ましいので、これらのピンホールは、ビーム源から有意な距離だけ離れたところに設置されなければならない。これは、ビーム源からの収集立体角が極めて小さいことを意味する。これは、次いで試料に到達するビーム強度が極めて低い結果をもたらし、ビーム強度の低いことの１つの重大な欠点は、測定時間を極端に長いものにする可能性のあることである。幾つかの試料に対しては、これは単に不便なだけである。しかしながら、比較的短かい寿命を有する蛋白結晶のような試料に対しては、この分析期間の長期化が、分析技法を役立たないものにする可能性がある。全てのケースにおいて、測定時間の長期化は、信号ノイズ比の減少をもたらす。また、商用の分析作業にとっては、分析時間の最小化による試料のスループットの最大化を図ることが重要である。かくして、より短かい分析時間は、実質的な金銭上の報酬をもたらすことができる。
　この技術においては、Ｘ線源からより多くのＸ線を取得するために、陽極上により大きなスポットサイズが必要であることはよく知られている。かくして、従来からの知恵は、試料に発せられるパワーの増強のために、光学
装置
　当業界では、単一の中空ガラスの毛細管が非常に小さな寸法のＸ線ビームを形成し得ることは知られており、例えばＰ．Ｂ．ヒルシュ及びＪ．Ｎ．ケラーの物理学協会報第６４巻第３６９頁（１９５１年）を参照されたい。出射のスポットサイズを更に制限するべく、これらの単一の中空ガラスの毛細管にテーパを付けることも、この技術ではまた知られており、Ｅ．Ａ．スターン他の応用光学第２７巻第５１３５頁（１９８８年）を参照されたい。しかしながら、これらの装置は、両者共、線源の非常に少ない部分からのＸ線を捕捉するに過ぎない。かくして、これらの装置の使用は、また、必要とされるよりもより低い強度のＸ線ビームをもたらすことになる。テーパ付の装置の尚他の１つの欠点は、最小のＸ線のスポットサイズが正に装置の先端のところに配置されていることである。このことが、試料の位置取りの上での厳格な制約を設けている。加えて、これらの単一のテーパ付きの毛細管は、かなりの発散を伴った上で小さなスポットを形成するに過ぎない可能性を有している。回折実験に対しては、しばしば平行ビームが必要となる。
　また、この技術では、多重繊維の多重毛細管のＸ線光学装置が知られている。これらの装置は、より一般的なタイプのクマクホフ光学装置として知られているＸ線及びニュートロンの光学装置の特別なクラスを形成する。例えば、クマクホフに普通に付与された米国特許第５，１９２，８６９号公報を参照されたい。この特許の中には、高流量の疑似平行ビームの生成のために、曲げられた多重繊維を有する光学装置が開示されている。これらの光学装置は、発散線源から大きな立体角のＸ線を捕らえることができるが、その小さなスポットの線源からの捕捉する可能性又は小さな寸法の出射ビームを形成する可能性は、個別の多重毛細管繊維が相対的に大きな外径によって制約を受けている。この繊維の外径は、０．５ｍｍのオーダである。この繊維の外径のために、これらの多重繊維光学装置は、大略１５０ｍｍの最小の入射焦点距離を有する。ガラスに対する８ＫｅＶにおける全外部反射の臨界角度は４ミリラジアンである。多反射後の有効な透過は、フォトンが近似的に臨界角度の半分にあるときにのみ得られる。その結果、０．５ｍｍ外径の繊維を使うと、幾何学は、１００μｍ程度の小さな線源によって外部光路が有効な伝送を行うために、線源−光学装置間の距離が少なくとも１５０ｍｍなければならないことを示している。この相対的に長い入射焦点距離のために、線源からの大きな角度範囲でのＸ線の捕えるためには、入射直径が比較的大きくなる必要があり、これが次いで出射ビームの最小径及び最大強度（即ち、単位面積当りのフォトン数）を拘束している。０．１５ラジアンの捕捉角度を有する疑似平行ビームを形成する多重繊維の多重毛細管の光学装置に対する最小ビーム径は、３０ｍｍのオーダである。かくして、これらの光学装置は、蛋白結晶構造の解析のような、小試料の回折実験に対して必要な、強力な小さな径のＸ線ビームを生成するのには適切でない。集光光学装置にとって、大きな繊維径のために、最小集光スポットサイズは、０．５ｍｍのオーダの直径を有する。
　　　
発明の目的
　かくして、主題の発明の目的は、実験室ベースでの小径の高強度のＸ線ビームに対する技術で長い間感じていた要求の解決を提供することである。本発明の他の目的は、装置の出射端から離れた位置に分析試料を設置するのを許容することである。本発明のさらに他の目的は、最小の発散を有して高度な平行度を保持する小さな強力なＸ線ビームを提供することである。本発明のさらに他の目的は、小さな高強度の焦点を結ぶＸ線のスポットを生成することにある。本発明の他の目的は、相対的にコンパクトでコスト効果のあるシステムの中に、これらの有利性を備えさせることにある。
　　　
発明の概要
　主題の発明は、
１）　フォトンのエネルギー、線源の直径、及び光路の直径に関して、最小化されててスケールダウンされた入出射径を有する、モノリシックな多重光路の毛細管光学装置と、
２）　望みの出射ビーム径に対して、光学装置の出射強度を最大化させるよう設計されるスポットサイズを有するＸ線源とを、
備えてなり、入念に設計されたＸ線源／毛細管光学システムを以って、これらの目的を達成する。
　特別に設計された光学装置は、Ｘ線源に対して６０ｍｍ以内のところに配置される。
　モノリシックな光学装置は、本質的には集合された一体構造のものであり、この一体構造の中で繊維の光路は、その全長に亘って近接梱包された自己整列性を有している。光学装置の入射端において、光路は、実質的にＸ線源にねらいをつける方向に向けられている。光学装置の出射端は、本発明の利用意図に基づいて、収束ビーム或いは疑似平行ビームのいづれかを形成するような形状にできる。
　この比較的小型の線源は、力強さは比較的小さいが、Ｘ線の面積密度の増強を提供する。このモノリシックな光学装置は、各個別の光路が線源スポットに対して、より効率的に整列され得るがために、小さなスポットのＸ線を効率的に捕えることを可能にする。驚くことに、モノリシックな毛細管光学装置の優秀なＸ線収集能力と組合された時の、小さなスポットを有する比較的パワーの小さい線源は、光学装置を使用して、或いは使用しないで大きなスポットを有する比較的大きなパワーの線源を利用することと比較すると、光学装置の出射端におけるＸ線を比較的高強度にすることが可能であるということを発見した。
　それでは、本発明の背後にある基本的な概念が何であるかといえば、それは、線源からＸ線を捕え続けることと、望みの高強度の小さな直径を有するビームを生成するために、フォトンを比例的により小さくした出射空間に絞り出すこととである。このことは、既存の光学装置を有意なまでに設計することと、使用されるＸ線源を改変することを必要としている。第１の改変は、光学装置の入射直径を、一般に知られているものから減少させなければならないことである。本発明に対する１つの決定的なポイントは、光学装置の入射端に進入するフォトンの量を同一に保持するために、同一の捕捉立体角度を維持すべく、光学装置をＸ線源により近いところに移動させなければならないことである。主題の発明の固有の入射焦点距離は、最良の多重繊維の多重毛細管の光学装置に要求されている、大略１５０ｍｍの半分より小さいものである。より近いところに移動させ、１つの共通点を全てがにらむようにした、より小さな入射径のものを使用することは、この光学装置が、線源のより小さな部分を“凝視する”であろうことを意味する。かくして、主題の発明の他の１つのキー要素は、パワー密度を増大させるために、つまり光学装置がフォトンを捕える線源の領域からのＸ線の生成量を増大させるために、線源のスポットを縮小することである。このことは、線源から発生するＸ線の全体の数量が減少するという事実にも拘わらず実現される。この発明は、存在するＸ線パワーのより効率的な利用を提供する。
　　　
図面の簡単な説明
　本発明のこれら及びその他の目的、効果及び特徴は、添付の図面との関連で考える時に、以下の本発明の特定の好適な実施例の詳細な記述から、より容易に理解されるであろう。これらの図面において、
　図１は、Ｘ線源の概略図であり、
　図２は、スポットサイズ径の函数としてのパワー密度と全体パワーとのグラフであり、
　図３は、多重繊維の多重毛細管の光学装置を表示し、
　図４は、本発明によるモノリシックな毛細管光学装置及び線源を表示し、
　図５は、本発明によるモノリシックな毛細管光学装置の、他の１つの実施例を表示するものである。
　　　
本発明を実施する最良形態
　今、図１を参照すると、典型的なＸ線源の基本要素が図示されている。フィラメント１０は、電圧印加により、電子１２が熱放射されるような温度に加熱される。これらの放射電子は標的材料１６で覆われている陽極１４との電位差によって加速され、スポットサイズ１８と呼ばれる陽極の所定の表面領域内の標的材料に衝突する。Ｘ線２０は、加速された電子と標的材料の原子との間の衝突の結果として陽極から放射される。スポットサイズを制御するために、電磁的収束手段２２が電子放射フィラメント１０と陽極１４との間に配置され、その結果、電子ビームは電磁的収束手段の影響領域の中を通る。２ミクロン以下のスポットサイズを有するＸ線源は、市販品の利用が可能である。しかしながら、電子スポットサイズが減少するのにつれてＸ線の生成量も減少する。
　図２は、線源のＸ線パワー（Ｘ線の生成量）とパワー密度（パワー／スポット面積）が、スポットの直径と共に如何に変化するかを示している。グラフの右側上には、全体のパワーに対する垂直なリニアスケールが使用されていることに着目すれば、全体のパワー曲線２６の下方尾部２４から、非常に小さなスポットサイズに対しては、全体のパワーがスポットの直径と共にほぼリニアに減少していると見ることが可能である。今度は、注意をパワー密度曲線２８に向けて、この曲線に適用されるグラフの左側上の垂直スケールが対数尺であることに着目すれば、パワー密度とスポットの直径との間に逆数関係のあることを見ることが可能である。この理由は、全体のパワーがスポットの直径に比例して変化する一方で、面積はスポットの直径の２乗に逆比例して変化することにある。かくして、全体のＸ線の生成量が減少してさえ、パワー密度はスポットサイズの減少につれて増大すると見ることが可能である。
　モノリシックな毛細管光学装置は、増強されたパワー密度の小さなスポットのＸ線源の効果的な利用に、無比の可能性を与える。かくして、比較的小さなスポットの線源と適切に設計された主題の発明のモノリシックな毛細管光学装置との組合せは、小さな直径の出射Ｘ線ビームの強度の実質的な増大をもたらし得る。
　特定の設計パラメータは、使用されるＸ線のエネルギーに応じて変化する。２つのタイプのシステムを特に指摘しておく。第１は、非常に強烈な小さな直径の疑似平行ビームが形成されるシステムであり、第２は、非常に小さな強烈な集束Ｘ線のスポットが形成されるシステムである。全てのケースにおいて、主題の発明によって定義されるタイプのシステムは、線源と光学装置との距離が大いに減少されていることに基づいて、従来の技術のシステムからは容易に区別され得るものである。図３は、Ｘ線源３０と、多重繊維の多重毛細管の光学装置３２とを示す。多重毛細管の繊維３３が線源３０からの放射線を効率良く捕捉するために、毛細管の収光角度３４は全外部反射に対する臨界角度より小さいものでなければならない。この角度は、Ｘ線のエネルギーに依存するものである。０．５ｍｍ近辺の多重毛細管の外径を有する大略８ｋｅＶの光学装置の典型的な例に関しては、単純な幾何学的思考によって、光学装置は線源から少なくとも１５０ｍｍ離れたところに設置されなければならないという結論が引き出される。主題の発明は、この距離の半分よりも大きくない距離だけ線源から離れている光学装置によって定義付けられる。
　主題の発明の第１の実施例は、図４に示されている。高強度の小さな直径のＸ線ビームを生成するためのシステム４０は、２つの主構成部品、即ち、小さなスポットのＸ線源４２とモノリシックな毛細管光学装置４４とを備えている。この２つの構成部品は、光学軸４６に沿って測定される、焦点距離として知られている距離ｆだけ隔てられている。光学装置４４は、複数の中空ガラスの毛細管４８を備えるが、この中空ガラスの毛細管は一緒に融解されてＸ線源４２から出現する発散Ｘ線放射線４３の効率的な捕捉を許容する配列に塑造成形される。この実施例では、捕捉されたＸ線ビームは、光学装置によって疑似平行ビーム５０に形づけられる。出射ビームは、有限の臨界角度の全外部反射による発散であるが故に、完全な平行にはならない。光学装置の入射端５４のところに配置される光路開口５２は、大凡Ｘ線源を指し示している。各個別の光路が本質的に線源を指す能力は、主題の発明にとっての幾つかの動機、即ち、１）この能力が、光学装置の入射径を充分に減少させ、次いで、この減少した入射直径によって光学装置のより小さな出射直径をもたらすことの可能性を許容すること、２）この能力が、線源のスポットが小さくされる時でさえも、Ｘ線の充分な捕捉を可能ならしめること、及び、３）この能力が、線源への光学装置の短かい焦点距離に対しても効率的なＸ線捕捉を可能ならしめることに関して、決定的な重要性を有するものである。光学装置の入射端５４のところにある個別の光路開口５２の直径は、光学装置の出射端５６のところにある光路直径よりも小さい。主題の発明において使用される光学装置のクラスは、モノリシックである。これは、光路自身の壁７０が光学装置を一緒に保持する支持構造体を形成していることを意味する。この場合に対して、最大の捕捉角度は２Ψで与えられるが、ここにΨは曲げられる毛細管の最大曲げ角度である。
　好適なる第１実施例においては、Ｘ線源４２は、大凡３０ミクロンのスポットサイズを有しており、毛細管の光学装置４４の入射端５４から大略１ｍｍの距離のところに置かれている。この光学装置に対する収光角度Ψは０．２ラジアン近辺である。光学装置は、本質的に１．０ｍｍの直径を有する出射ビームを生成する。光学装置の全体的な長さは大略８．０ｍｍである。強度における増大は、一般に利用可能な研究室の線源よりも、大きさで大凡２倍より大きな値の明るさになることが期待される。
　図５は主題の発明の第２の実施例を示す。再び線源／光学装置のシステム８０は、小さなスポットのＸ線源８２とモノリシックな毛細管の光学装置８４とを備える。この光学装置は、一緒に融解された個別のガラス毛細管８９によって形成される光路を有する。入射端８８のところにある光路開口８６は、発散線源８２からの放射線を捕捉するべく配置されている。しかしながら、この特別の実施例においては、光学装置の出射端９０は、非常に小さなスポットの収束ビームを形成されている。この場合に対しては、放射線が疑似平行出射の光学装置の２倍の角度を通って曲げられているので、最大捕捉角度は、丁度、最大曲げ角度のΨである。大略８ｋｅＶのＸ線に対して設計されたこのシステムの好適な１実施例は、以下のように詳細に述べることができる。再度図５を参照すると、Ｘ線源８２は、１００μｍ近辺の陽極スポットサイズを有する。収束光学装置８４は、線源前方の本質的に２７ｍｍのところに設置される。光学装置８５の受容角度は大凡０．１３ラジアンであり、この光学装置は、約２ｍｍの出射焦点距離８７を有する。この光学装置の全体的な長さは約１６５ｍｍである。光学装置の入射直径８８は本質的に１４μｍの入射光路直径を有する、大略で７ｍｍのものである。出射直径９０は、大凡０．６ｍｍである。最大の光路直径は、１０μｍ近辺である。
　本発明は、特殊な実施例によって、部分的には詳細に述べられている。種々な改変や置換や追加等が、以下の請求の範囲及びそれ相応のものによって範囲を定義されている本発明の精神から離脱することなくなされ得ることは、当業者にとっては明白なことであることを理解するべきである。
（５７）【特許請求の範囲】
１．　Ｘ線源と、
　
複数の多重全外部反射の毛細管を
した
な光
　該光学装置は、入射端と出射端とを有し、該光学装置の入射端が前記Ｘ線源に対面していて光学装置と線源間の距離が６０ｍｍより小さくなる位置に配置されるような位置取りにされてなり、該光学装置は、各々が前記Ｘ線源にねらいを定められている入射端を有する毛細管による多重光路を有してなり、該光学装置の出力がＸ線ビームを提供してなるＸ線ビームの生成装置。
２．　前記Ｘ線ビームが疑似平行のＸ線ビームからなる請求項１に記載した装置。
３．　前記Ｘ線源は、スポットを備えて、大略３０μｍのスポットサイズ幅を有してなり、光学装置と線源間の距離は、前記光学装置がその出射端で１ｍｍ幅の疑似平行のＸ線ビームを生成するように大略１ｍｍとされてなる請求項２に記載した装置。
４．　前記Ｘ線ビームが、収束Ｘ線ビームからなり、前記光学装置の前記多重光路の各光路が、該光学装置の出射端から隔てられている出射焦点位置にねらいを定められてなる請求項１に記載した装置。
５．　前記Ｘ線源が１００μｍのスポットサイズ幅を有してなり、光学装置と線源間の距離が大略２７ｍｍにされてなり、前記光学装置が大略２ｍｍの出射端焦点距離を有してなる請求項４に記載した装置。
６．　前記光学装置の入射端が７ｍｍの直径を有してなり、前記光学装置中の前記多重光路の各光路の入射端が１４μｍにされてなる請求項５に記載した装置。
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