【事件の表示】
　平成　９年特許願第３６２６７１号「文字転写装置」拒絶査定に対する審判事件［平成１０年　６月２６日出願公開、特開平１０−１７１０９８］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１，経緯
　本願は、平成1年3月31日に出願された特願平1-81039号の特許出願の一部を特許法第４４条第１項の規定により分割して新たな特許出願として平成9年12月12日に出願されたものである。
２，発明の要旨
　平成11年1月29日付の手続補正書によって補正された明細書及び図面の記載からみて、本願発明の要旨はその特許請求の範囲請求項１に記載された次のとおりのものである。
  「【請求項１】画素毎に発光強度を制御可能であり且つ複数の文字を同時に表示可能である発光表示パネルと、
　表示すべき１又は複数の文字を任意に指定すると共に表示すべき１又は複数の文字について表示パラメータを指定するための指定手段と、
　この指定手段での文字指定及び表示パラメータ指定に応じて前記発光表示パネルの画素毎に発光強度を制御することにより前記発光表示パネルに指定に係る１又は複数の文字を指定に係る表示パラメータに従って表示させる表示制御手段と、
　表面にレジスト層が形成された被処理品を保持するための保持手段と、
　この保持手段に前記被処理品が保持された状態において前記被処理品のレジスト層に対して前記発光表示パネルに表示された１又は複数の文字の光学像をフォトマスクを介さずに一括転写する転写手段と
をそなえた文字転写装置。」
３，引用例
　原審における平成10年6月19日付け拒絶理由通知において引用された特開昭64-18235号公報（以下「引用例」という。）には、「第１図は本発明の一実施例の使用状態を示す。例えばシリコンウェハなどの基板1 は表面に感光性レジスト膜２が塗布されており、露光装置の露光テーブル３の上にセットされている。基板１の上方には下面にパターン４１が描かれたフォトマスク４がマスクホルダ５に支持されて近接している。フォトマスクのパターン４１は図示しない露光装置からの光６によりレジスト膜に焼き付けられる。以上は従来の露光装置である。この露光装置のマスクホルダ５に支持されて、本発明の一実施例の符号露光装置１０がフォトマスク４のパターン４１の外に取り付けられている。符号露光装置１０は、光の相互干渉を防ぐための内外つやけし黒塗りの薄形箱１１の中に発光表示素子１２を有し、パッキング１５を介してフォトマスク４の上に密着させられる。発光表示素子１２の像は、レンズ１３により、反射ミラー１４を介し、フォトマスク４の透明部分を通ってレジスト膜２の上に投影される。発光表示素子１２は、例えば市販のネオン管を用いた８セグメントの高輝度表示管を使用し、キーボード１６，カウンタ１７，基板センサ１８で操作される表示コントローラ１９により、文字、数字などの任意の表示内容を発光させることができる。フォトマスク４のパターン４１の焼付けのための光６による露光開始信号あるいは露光完了信号により、表示素子１２を発光させ、一定時間後オフすることにより、レジスト膜２にはパターン４１とその都度任意に選択できる符号を同時に焼付けることができる。発光表示素子には、高輝度表示管のほかに発光ダイオード表示素子、液晶表示素子も用いることができるが、レジストの感度特性の高い波長の光を発するものが望ましい。また、表示素子のけた数を増加すれば、焼付けられる情報の内容を多くすることができる。」（第２頁左上欄第１３行〜左下欄第６行）という記載がなされ、この記載と第１図からすると、同引用例には、次のことが記載されている。
 露光テーブル上に感光レジスト膜を塗布した半導体基板をセットし、その上にパターンが描かれたフォトマスクを配置し、フォトマスクのパターン外の透明部分上に符号露光装置が載置されている。同引用例の符号露光装置は、8セグメントの高輝度表示管、発光ダイオード等からなる発光表示素子と、レンズ、ミラーとから構成され、前記発光表示素子は、キーボードとカウンタと基板センサとにより操作される表示コントローラによって制御され、表示素子のけた数を増加して文字、数字などの任意の表示内容を発光させることができる。また、発光表示素子１２の像は、レンズ１３により、反射ミラー１４を介し、フォトマスク４の透明部分を通ってレジスト膜２の上に投影露光される。
　
４，対比
　引用例における「発光表示素子」は8セグメントの高輝度表示管、発光ダイオード等からなるものであるから、画素毎に発光強度を制御可能であり、かつ複数の文字を同時に表示可能でり、本願発明における「画素毎に発光強度を制御可能であり且つ複数の文字を同時に表示可能である発光表示パネル」に対応する。同じく引用例における「キーボード」は、複数の文字とそのパラメータを指定することができることは明らかであるから、本願発明における「表示すべき１又は複数の文字を任意に指定すると共に表示すべき１又は複数の文字について表示パラメータを指定するための指定手段」に対応する。同じく引用例における「表示コントローラ」は、キーボードとカウンタと基板センサとにより操作され、発光表示素子を介して文字、数字などの任意の表示内容を発光させることができるものであるから、本願発明における「指定手段での文字指定及び表示パラメータ指定に応じて発光表示パネルの画素毎に発光強度を制御することにより発光表示パネルに指定に係る１又は複数の文字を指定に係る表示パラメータに従って表示させる表示制御手段」に対応する。同じく引用例の「露光テーブル」は、感光レジスト膜を塗布した半導体基板をセットするものであるから、本願発明における「表面にレジスト層が形成された被処理品を保持するための保持手段」に対応する。同じく引用例における「レンズ」と「反射ミラー」は、発光表示素子１２の像を、フォトマスク４の透明部分を通ってレジスト膜２の上に投影するものであるから、本願発明における「被処理品のレジスト層に対して発光表示パネルに表示された１又は複数の文字の光学像を一括転写する転写手段」に対応する。
　そして、本願発明と引用例記載の発明とを対比すると、両者は「画素毎に発光強度を制御可能であり且つ複数の文字を同時に表示可能である発光表示パネルと、表示すべき１又は複数の文字を任意に指定すると共に表示すべき１又は複数の文字について表示パラメータを指定するための指定手段と、この指定手段での文字指定及び表示パラメータ指定に応じて前記発光表示パネルの画素毎に発光強度を制御することにより前記発光表示パネルに指定に係る１又は複数の文字を指定に係る表示パラメータに従って表示させる表示制御手段と、表面にレジスト層が形成された被処理品を保持するための保持手段と、この保持手段に前記被処理品が保持された状態において前記被処理品のレジスト層に対して前記発光表示パネルに表示された１又は複数の文字の光学像を一括転写する転写手段とをそなえた文字転写装置。」という点で一致する。しかしながら、本願発明が、発光表示パネルに表示された１又は複数の文字の光学像を被処理品のレジスト層に対してフォトマスクを介さずに一括転写するものであるのに対し、引用例記載の発明においては、発光表示パネルに表示された１又は複数の文字の光学像を被処理品のレジスト層に対してフォトマスクの透明部分を介して一括転写するものであるという点で、両者は相違する。
　
５，相違点の検討
　発光表示素子の指定されたパターン情報の光学像をフォトマスクを介さずに直接に被処理品のレジスト層に対して一括転写露光を行うことは、周知慣用されていることである（原審の平成10年11月18日付け拒絶理由通知で引用された特開昭58-166723号公報などを参照のこと。）。
　そして、引用例記載の発明においてフォトマスクの透明部分を介して転写を行うことは、実質的にはフォトマスクを介さずに転写を行うことと光学的な違いはないので、引用例記載の発明において、発光表示パネルに表示された１又は複数の文字の光学像を被処理品のレジスト層に対してフォトマスクの透明部分を介して一括転写することに代えて、フォトマスクを介さずに一括転写するようにすることは、当業者が容易に想到し得たことである。
６，むすび
　　以上のとおりであるから、本願発明は引用例の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるので、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。　　　　　　　　　　　　　　　　　　  
　よって結論のとおり審決する。