【事件の表示】
　平成　２年特許願第４１１４８３号「電子ビーム描画装置」拒絶査定に対する審判事件［平成　４年　８月　６日出願公開、特開平　４−２１６６５０］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯・本願発明
　本願は、平成２年１２月１７日に出願されたものであって、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成１１年３月２３日付け及び平成１２年２月３日付けの手続補正書によって補正された明細書並びに平成１１年３月２３日付けの手続補正書によって補正された図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものと認める。
「【請求項１】静電チャックを内蔵したパレットを使用する電子ビーム描画装置において、
　ウエハと静電チャック用電極間の静電容量または複数の静電チャック用電極間の静電容量を測定する回路と、
　ウエハの平坦度がよいときの静電容量を基準にして決定された静電容量の許容範囲に基づき、ウエハの吸着状態を可否判断する比較器とを具備することを特徴とする電子ビーム描画装置。」
　
２　引用例
　これに対して、原査定の拒絶の理由で引用された特開昭６３−１６９２４４号公報（以下「引用例」という。）には、試料保持装置に係る発明について以下の記載がある。
ａ　「半導体露光装置によってシリコンウエハ等の試料に集積回路パターンを転写する際、あるいはこのウエハを検査する際に試料を平坦な面に保持固定する必要がある。」（第１頁右下欄第２から５行）
ｂ　「第１図は本発明の一実施例に係る静電チャック本体の説明図である。同図において、１は導体あるいは半導体などの試料、２，５は絶縁層（アルミナセラミックスなど）、３，４は極性の異なる電極板である。（中略）ε０は真空誘電率、εＳは絶縁層２の比誘電率、（中略）ｄはこの静電チャックと等価な平行板コンデンサの極板間の距離である。第２図は第１図の静電チャックと等価な平行板コンデンサを示す。第２図において、２は絶縁層、３，４は極性の異なる電極板、ｄは極板３，４間の距離である。ここで、極板３，４間の静電容量Ｃと距離ｄとの間には、極板面積をＳとして、次の式が成り立つ。
Ｃ＝（ε０εＳ）Ｓ／ｄ　　　……（２）
つまり、静電容量Ｃがわかれば、試料１と静電チャックとの平均的距離ｄがわかる。一方、第３図のように、コンデンサ２１とコイル２２を並列に接続して電源に接続すると、このコンデンサの容量Ｃによって共振する周波数ｆは次式のようになる。
ｆ＝１／（２π√（ＬＣ））　　……（３）
ここで、Ｌはコイルのインダクタンスである。したがって、既知のインダクタンスＬと静電容量Ｃとの共振周波数ｆがわかれば、（３）式より静電容量Ｃがわかり、（２）式より試料１と静電チャック面との平均距離ｄがわかる。」（第２頁左下欄第６行から右下欄第１６行）
ｃ　「このことを第１図の装置に対して利用した例を第４図に示す。同図において、１２は第１図の静電チャック自身を等価的に表わすコンデンサ、１３は供給電源、１４，１５はコンデンサ、１６はコイル、１７はリアクタンス発振回路である。
　この構成において、（中略）コンデンサ１２，１４，１５およびコイル１６からなる回路は第３図に示すＬＣ発振回路と等価である。したがって、リアクタンス発振回路１７を加えることにより、静電チャック（コンデンサ１２）の有する容量に対応した共振周波数ｆが検出でき、したがって、（２），（３）式より、コンデンサ１２の静電容量Ｃおよび試料１と静電チャック面との平均距離ｄが得られる。
　このような構成にすると、上記平均距離の検出値をｄ１、試料が確実に保持されているときの検出値をｄ２とすれば、ｄ１とｄ２の値を比較することにより、検出時の試料の吸着状態の良否を判断することができる。また、熱その他の影響で、試料がプロセス中に反り、許容できる平均距離の値ｄ３を越えた場合には、露光を中止し、その試料を除去し次の試料に変えることができる。」（第２頁右下欄第１７行から第３頁右上欄第１行）
ｄ　「この装置では、許容できるｄ３の値をあらかじめ定めておけば、試料１と静電チャックの間にごみが入った場合、あるいは上述のように露光時に試料が反ったりした場合のような悪い吸着状態で微細加工をしなくてすむので、この装置の導入は能率的なシステムの運用につながる。
　なお、本装置は、Ｘ線ステッパ、ＥＢ描画、光学ステッパおよび検査機等に有用である。」（第３頁右上欄第１２行から１９行）
ｅ　第１図には、静電チャック本体の電極板３，４と試料１との間でコンデンサが形成されることが示されている。
ｆ　第２図には、第１図の静電チャックと等価な平行板コンデンサとして、電極板３，４間に形成されるコンデンサが示されている。
　これらの記載から、上記引用例には、次の発明が記載されていると認める。
　静電チャックを内蔵した静電チャック本体を使用するＥＢ描画装置等に適用される試料保持装置において、
　複数の静電チャック用の電極板間の静電容量を測定するリアクタンス発振回路を用いて、シリコンウエハ等の試料と電極板との平均距離を検出し、
　上記試料が確実に保持されているときの静電容量から算出される試料と電極板との平均距離と比較することにより、上記試料の吸着状態の良否を判断すること、
　及び、熱その他の影響で、試料がプロセス中に反り、許容できる平均距離の値を超えた場合に、これを検知すること。
　
３　対比
　そこで、本願発明と引用例に記載された発明とを対比すれば、引用例に記載された発明における「静電チャック本体」、「ＥＢ描画装置」及び「シリコンウエハ等の試料」は、それぞれ本願発明における「パレット」、「電子ビーム描画装置」及び「ウエハ」に相当する。また、引用例記載の発明において、「試料が確実に保持されているときの静電容量から検出された試料と電極板との平均距離と比較することにより、上記試料の吸着状態の良否を判断すること」は、基準状態と比較してウエハの吸着状態を可否判断するという限りにおいて、本願発明の比較器が「ウエハの平坦度がよいときの静電容量を基準にして決定された静電容量の許容範囲に基づき、ウエハの吸着状態を可否判断すること」と、共通している。
　したがって、両発明は、次の点で一致する。
　静電チャックを内蔵したパレットを使用する電子ビーム描画装置において、
　複数の静電チャック用電極間の静電容量を測定する回路を具備し、
　基準状態と比較してウエハの吸着状態を可否判断することが可能な電子ビーム描画装置。
　一方、両者は次の２点で相違する。
　本願発明では、ウエハの吸着状態を判断するにあたり、ウエハの平坦度がよいときの静電容量を基準にして決定された静電容量の許容範囲に基づき判断を行うのに対し、引用例記載の発明では、試料が確実に保持されているときの静電容量から算出された試料と電極板との平均距離に基づき判断を行う点（以下「相違点１」という。）
　本願発明では、ウエハの吸着状態を可否判断する比較器を設けているのに対し、引用例記載の発明では、そのような構成がない点（以下「相違点２という。）
　
４　当審の判断
　まず、相違点１に関し検討する。
　引用例記載の発明において、試料と電極板との平均距離は、電極板間の静電容量から一意に導き出されるものである。したがって、本願発明と同様に、静電容量を基準状態と比較してもウエハの吸着状態が判断可能であることは、引用例の記載から明らかである。
　なお、引用例記載の発明は、プロセス中に試料が反り、試料と電極板との平均距離が許容できる値を超えた場合に、これを検知するものであるから、試料の平坦度がよいときを実質的な基準として、試料の反りの検知を行っているものと認められる。また、引用例記載の発明において、許容できる値を超えた場合を検知することは、許容範囲に基づき判断することにほかならない。
　故に、本願発明において、ウエハの吸着状態を判断するにあたり、ウエハの平坦度がよいときの静電容量を基準にして決定された静電容量の許容範囲に基づき判断を行う点は、上記引用例記載の発明から容易に想到し得たものである。
　次に相違点２に関し検討する。
　本願発明において、ウエハの吸着状態を可否判断する比較器は、引用例記載の発明において、装置を操作する者が、測定値を基に可否判断していた事項を、単に比較器に置き換えたに過ぎない。そして、測定値が許容範囲内にあるかどうかを判断する比較器は、ごく一般的に用いられているものである。したがって、本願発明において、引用例記載の発明に比較器を加えることにより自動化を図った点に、格別な困難性があったものとは言えない。
　結局、上記各相違点はいずれも格別なものではなく、また、上記相違点を総合的に検討しても、これらによって奏する効果は、上記引用例に記載された発明及び一般的技術から、当業者が当然に予測できる範囲内のものであると認められる。
　
５　むすび
　したがって、本願発明は、引用例及び一般的技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。