【事件の表示】
　特許第３４０２０７０号「プラズマディスプレイ」の請求項１ないし６に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３４０２０７０号の請求項１ないし６に係る特許を維持する。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本件は、平成７年６月１２日に特許出願された特願平７−１４４７７１号、同年１２月１１日に特許出願された特願平７−３２１７９３号、及び同年１２月１１日に特許出願された特願平７−３２１７９５号に基づく優先権主張を伴って、平成８年６月１２日に出願されたものであり、平成１５年２月２８日に特許権の設定登録（特許第３４０２０７０号）がされ、同年４月２８日にその特許掲載公報が発行され、同年１０月２７日にその請求項１ないし６に係る特許に対して、田中淳一より特許異議申立てがなされた。
　当審において、本件の請求項１ないし６に係る特許に対して、平成１６年１１月１日付けで取消理由を通知したところ、平成１７年１月７日付けで訂正請求がなされた。
　
第２　訂正の適否
１　訂正事項
　訂正を請求する事項は、次のとおりである。
訂正事項ａ：
　特許請求の範囲の請求項１ないし６において、「平均屈折率」とあるのを、「ｇ線（４３６ｎｍ）で測定した平均屈折率」と訂正する。
　
訂正事項ｂ：
　特許請求の範囲の請求項１ないし６において、「ガラス成分」とあるのを、「ガラス微粒子」と訂正する。
　
訂正事項ｃ：
　特許請求の範囲の請求項１ないし６において、「を用い、かつ、」とあるのを、「と、前記ガラス微粒子に対して屈折率差が０．１以下の有機成分からなるペーストを用いて形成されたプラズマディスプレイであって、」と訂正する。
　
訂正事項ｄ：
　段落【０００８】において、「平均屈折率」とあるのを、「ｇ線（４３６ｎｍ）で測定した平均屈折率」と訂正する。
　
訂正事項ｅ：
　段落【０００８】、【００１２】、【００１８】及び【００３０】において、「ガラス成分」とあるのを、「ガラス微粒子」と訂正する。
　
訂正事項ｆ：
　段落【０００８】において、「を用い、かつ、」とあるのを、「と、前記ガラス微粒子に対して屈折率差が０．１以下の有機成分からなるペーストを用いて形成されたプラズマディスプレイであって、」と訂正する。
　
２　訂正の目的の適否、新規事項追加の有無、及び特許請求の範囲の実質上の拡張又は変更の存否
(１)　願書に添付された明細書の表１における「ｎｇ」の記載における「ｇ」が測定波長であるｇ線を意味することは明らかであるから（必要ならば、特許権者が提出した平成１７年１月７日付け訂正請求書に添付された参考資料の第２頁「８．１　屈折率の表し方」の項を参照されたい。）、訂正事項ａは、該記載「ｎｇ」に基づいて、「平均屈折率」を明確にするものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正に該当するものであって、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内の訂正であり、また、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
　
(２)　訂正事項ｂは、願書に添付された明細書の段落【００１０】、【００１１】、【００２６】、及び表１の「ガラス微粒子」の記載に基づき、隔壁層の材料として用いられるペースト中の平均屈折率１．５〜１．６８ を有する対象物が「ガラス微粒子」であることを明確にするものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正に該当するものであって、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内の訂正であり、また、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
　
(３)　訂正事項ｃは、本件明細書の段落【００１０】の「ガラス微粒子の平均屈折率と有機成分の平均屈折率の差が０．１以下であることが好ましく」との記載に基づき、請求項１ないし６に記載されたプラズマディスプレイについて、「前記ガラス微粒子に対して屈折率差が０．１以下の有機成分からなるペーストを用いて形成されたプラズマディスプレイ」であるという特定事項を付加するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正に該当するものであって、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内の訂正であり、また、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
　
(４)　訂正事項ｄないしｆは、上記訂正事項ａないしｃの訂正に伴い、対応する明細書の記載を訂正するものであって、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明との整合をとるためのものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正に該当するものであって、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内の訂正であり、また、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
　
３　訂正の適否の結論
　以上のとおりであるから、上記訂正請求は、特許法第１２０条の４第２項の規定、及び同条第３項において準用する特許法第１２６条第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
第３　本件発明
　上述のとおり、本件訂正請求は認められるので、本件発明は、訂正請求書に添付された全文訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１ないし６に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
「【請求項１】　隔壁層の材料としてｇ線（４３６ｎｍ）で測定した平均屈折率が１．５〜１．６８であるガラス微粒子と、前記ガラス微粒子に対して屈折率差が０．１以下の有機成分からなるペーストを用いて形成されたプラズマディスプレイであって、前記ガラス微粒子として、酸化カリウム、酸化ナトリウム、酸化リチウムのうち、少なくとも１種類を含み、それらの合計量が３〜２０重量％であり、かつ、酸化珪素を３〜６０重量％、酸化ホウ素を５〜５０重量％を含有するガラス微粒子を用いることを特徴とするプラズマディスプレイ。
【請求項２】　隔壁層の材料としてｇ線（４３６ｎｍ）で測定した平均屈折率が１．５〜１．６８であるガラス微粒子と、前記ガラス微粒子に対して屈折率差が０．１以下の有機成分からなるペーストを用いて形成されたプラズマディスプレイであって、前記ガラス微粒子として、酸化リチウムを３〜１５重量％を含むガラス微粒子を用いることを特徴とするプラズマディスプレイ。
【請求項３】　隔壁層の材料としてｇ線（４３６ｎｍ）で測定した平均屈折率が１．５〜１．６８であるガラス微粒子と、前記ガラス微粒子に対して屈折率差が０．１以下の有機成分からなるペーストを用いて形成されたプラズマディスプレイであって、前記ガラス微粒子として、酸化カリウム、酸化ナトリウム、酸化リチウムのうち、少なくとも１種類を含み、それらの合計量が１〜２０重量％であり、かつ、酸化ビスマスを５〜３０重量％含有するガラス微粒子を用いることを特徴とするプラズマディスプレイ。
【請求項４】　隔壁層の材料としてｇ線（４３６ｎｍ）で測定した平均屈折率が１．５〜１．６８であるガラス微粒子と、前記ガラス微粒子に対して屈折率差が０．１以下の有機成分からなるペーストを用いて形成されたプラズマディスプレイであって、前記ガラス微粒子として、酸化珪素を３〜６０重量％、酸化ホウ素を５〜５０重量％含有するガラス微粒子を用いることを特徴とするプラズマディスプレイ。
【請求項５】　隔壁層の材料としてｇ線（４３６ｎｍ）で測定した平均屈折率が１．５〜１．６８であるガラス微粒子と、前記ガラス微粒子に対して屈折率差が０．１以下の有機成分からなるペーストを用いて形成されたプラズマディスプレイであって、前記ガラス微粒子として、酸化珪素を３〜６０重量％、酸化ホウ素を５〜５０重量％、酸化バリウムを１〜３０重量％、酸化アルミニウムを１〜３０重量％含有するガラス微粒子を用いることを特徴とするプラズマディスプレイ。
【請求項６】　隔壁層の材料としてｇ線（４３６ｎｍ）で測定した平均屈折率が１．５〜１．６８であるガラス微粒子と、前記ガラス微粒子に対して屈折率差が０．１以下の有機成分からなるペーストを用いて形成されたプラズマディスプレイであって、前記ガラス微粒子として、酸化珪素を１５〜５０重量％、酸化ホウ素を１５〜４０重量％、酸化バリウムを２〜１０重量％、酸化アルミニウムを６〜２５重量％、酸化リチウムを１〜１５重量％含有するガラス微粒子を用いることを特徴とするプラズマディスプレイ。」
　
第４　特許異議申立ての理由の概要
　特許異議申立人は、証拠として甲第１号証（特開平８−５０８１１号公報）を提出して、以下の理由１、２により、請求項１ないし６に係る特許は取り消されるべきである旨主張する。
理由１：
　本件の請求項１及び４に係る発明は、甲第１号証に記載された発明と同一であるから、特許法第２９第１項第３号の規定により特許を受けることができないものであり、また、甲第１号証に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９第２項の規定により特許を受けることができないものである。
理由２：
　本件の明細書は、発明の詳細な説明において、請求項１ないし６に係る発明を当業者が容易に実施できる程度に明確かつ十分に記載されていないから、特許法第３６条第４項の規定を満たしていないものであり、また、特許請求の範囲の記載に不備があるものであり、特許法第３６条第６項第２号の規定を満たしていないものである。
　
第５　当審の判断
１　理由１について
　本件の請求項１及び請求項４に係る発明の特定事項については、少なくとも、本件の優先権主張の基礎としている平成７年１２月１１日に特許出願された特願平７−３２１７９５号の願書に添付された明細書にすべて記載されている。
　これに対して、証拠として提出された甲第１号証は、公開日が平成８年２月２０日である特許公開公報であって、前記優先日後に頒布された刊行物である。
　したがって、該甲第１号証を証拠とする特許法第２９条第１項第３号及び同条第２項違反の理由については採用することができない。
　
２　理由２について
(１)　申立人が主張する特許法第３６条第４項及び同条第６項第２号違反についての具体的な理由は、概ね、以下のとおりである。
ア　発明の詳細な説明には、「屈折率は露光波長で測定することが効果を確認する上で正確である。特に、３５０〜６５０ｎｍの範囲の波長の光で測定することが好ましい。さらには、ｉ線（３６５ｎｍ）もしくはｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率測定が好ましい。」と説明しているが、ガラスの屈折率は波長依存性が有り、測定する波長により屈折率が大きく異なることから、本件発明における「１．５〜１．６８」という値が、どの波長の値であるのか一義的に特定することができないから、請求項１ないし６に係る発明を当業者が容易に実施できる程度に明確かつ十分に記載されているとは認められない。また、請求項１〜６のに記載された「１．５〜１．６８」が、どの波長の値であるのか特定されず、発明を不明確にしている。
イ　発明の詳細な説明において、表１中のガラス微粒子の組成「Ａ３」が、本件の請求項１、４、５及び６に記載されたガラス成分の規定を満たすにも拘わらず、このガラス微粒子を用いて隔壁を形成した具体例（実施例）では、良好なパターンが形成された場合（実施例３）とできなかった場合（比較例１）の両方があり、両者の違いは、ガラスと有機成分の屈折率差に起因するものであるが、本件特許発明では、ガラスに関する特徴しか規定しておらず、発明の範囲を不明確にしている。
　
(２)　しかしながら、これらの記載不備は、以下に記載するとおり、上記訂正により解消された。
アについて：
　上記訂正事項ａ及びｄによる訂正により、本件の明細書の特許請求の範囲及び発明の詳細な説明における「平均屈折率」は、実施例における測定のとおり、「ｇ線（４３６ｎｍ）で測定した平均屈折率」に訂正され、屈折率の測定波長がｇ線（４３６ｎｍ）であることが明確にされた。
イについて：
　上記訂正事項ｃによる訂正により、本件の請求項１ないし６に係る発明は、「ガラス微粒子に対して屈折率差が０．１以下の有機成分からなるペーストを用いる」ことを特定事項とするものとなり、その結果、実施例３はＡ３のガラス粉末（屈折率１．５３）とＢ４の有機成分（屈折率１．５２）を用いているため、その屈折率差が０．０１であって、該特定事項を満たしており、他方、比較例１はＡ３のガラス粉末（屈折率１．５３）とＢ２の有機成分（屈折率１．６５）を用いているため、その屈折率差が０．１２であり、該特定事項を満たしていないことが明確となった。
　
第６　むすび
  以上のとおりであるから、特許異議の申立ての理由及び証拠によっては本件の請求項１ないし６に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件の請求項１ないし６に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１７年１月１８日（２００５．１．１８）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
プラズマディスプレイ
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】隔壁層の材料として
ｇ線（４３６ｎｍ）で測定した
微粒子と、前記ガラス微粒子に対して屈折率差が０．１以下の有機成分からなるペーストを用いて形成されたプラズマディスプレイであって、
微粒子
微粒子
　【請求項２】隔壁層の材料として
ｇ線（４３６ｎｍ）で測定した
微粒子と、前記ガラス微粒子に対して屈折率差が０．１以下の有機成分からなるペーストを用いて形成されたプラズマディスプレイであって、
微粒子
微粒子
　【請求項３】隔壁層の材料として
ｇ線（４３６ｎｍ）で測定した
微粒子と、前記ガラス微粒子に対して屈折率差が０．１以下の有機成分からなるペーストを用いて形成されたプラズマディスプレイであって、
微粒子
微粒子
　【請求項４】隔壁層の材料として
ｇ線（４３６ｎｍ）で測定した
微粒子と、前記ガラス微粒子に対して屈折率差が０．１以下の有機成分からなるペーストを用いて形成されたプラズマディスプレイであって、
微粒子
微粒子
　【請求項５】隔壁層の材料として
ｇ線（４３６ｎｍ）で測定した
微粒子と、前記ガラス微粒子に対して屈折率差が０．１以下の有機成分からなるペーストを用いて形成されたプラズマディスプレイであって、
微粒子
微粒子
　【請求項６】隔壁層の材料として
ｇ線（４３６ｎｍ）で測定した
微粒子と、前記ガラス微粒子に対して屈折率差が０．１以下の有機成分からなるペーストを用いて形成されたプラズマディスプレイであって、
微粒子
微粒子
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明は、プラズマディスプレイやプラズマアドレス液晶ディスプレイのプラズマ放電部分に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　近年、ディスプレイにおいて、高精細化が進んでおり、それに伴って、パターン加工技術も技術向上が望まれている。プラズマディスプレイやプラズマ液晶ディスプレイ等のプラズマ放電を伴うディスプレイにおいて、色のクロストークなどを抑制するために各画素の仕切りとして隔壁層が形成されている。ディスプレイの高精細化に伴って、ガラスなどの無機材料で隔壁層を高精度かつ高アスペクト比に形成する要求が高まっている。
　【０００３】従来、無機材料のパターン加工を行う場合、無機粉末と有機バインダーからなるペーストによるスクリーン印刷が多く用いられている。しかし、スクリーン印刷は精度の高いパターンが形成できないという欠点があった。
　【０００４】この問題を改良する方法として、特開平１−２９６５３４号公報、特開平２−１６５５３８号公報、特開平５−３４２９９２号公報では、感光性ペーストを用いてフォトリソグラフィ技術に形成する方法が提案されている。しかしながら、感光性ペーストの感度や解像度が低いために高アスペクト比、高精細の隔壁が得られないために、例えば８０μｍを越えるような厚みのものをパターン加工する場合、複数回の加工工程（塗布、露光、現像工程）を必要とするため、工程が長くなる欠点があった。
　【０００５】また、特開平２−１６５５３８号公報では、感光性ペーストを転写紙上にコーティングした後、転写フィルムをガラス基板上に転写して隔壁を形成する方法が、特開平３−５７１３８号公報では、フォトレジスト層の溝に誘電体ペーストを充填して隔壁を形成する方法がそれぞれ提案されている。また特開平４−１０９５３６号公報では、感光性有機フィルムを用いて隔壁を形成する方法が提案されている。しかしながら、これらの方法では、転写フィルムやフォトレジストあるいは有機フィルムを必要とするために工程が増えるという問題点があった。また、高精細度や高アスペクト比を有する隔壁を得るには至っていない。
　【０００６】
　【発明が解決しようとする課題】
　発明者らは、感光性ペーストを用いた隔壁層の形成が、他の方法よりも、簡便で、かつ、高精度のパターン形成が可能であると考え、鋭意検討を進めた。しかし、従来から、無機微粒子と有機成分を含む感光性ペーストは、厚膜感光化が困難であり、そのために、１００μｍ以上の厚みの感光性ペーストをパターン加工するためには、複数回の塗布工程と露光工程を繰り返す必要があった。
　【０００７】本発明は、少ない工程数で作製可能な、高精細度かつ高アスペクト比を有する隔壁層を有するプラズマディスプレイを提供することを目的とする。
　【０００８】
　【課題を解決するための手段】
　本発明の目的は、隔壁層の材料として
ｇ線（４３６ｎｍ）で測定した
微粒子と、前記ガラス微粒子に対して屈折率差が０．１以下の有機成分からなるペーストを用いて形成されたプラズマディスプレイであって、
微粒子
微粒子
ｇ線（４３６ｎｍ）で測定した
微粒子と、前記ガラス微粒子に対して屈折率差が０．１以下の有機成分からなるペーストを用いて形成されたプラズマディスプレイであって、
微粒子
微粒子
ｇ線（４３６ｎｍ）で測定した
微粒子と、前記ガラス微粒子に対して屈折率差が０．１以下の有機成分からなるペーストを用いて形成されたプラズマディスプレイであって、
微粒子
微粒子
ｇ線（４３６ｎｍ）で測定した
微粒子と、前記ガラス微粒子に対して屈折率差が０．１以下の有機成分からなるペーストを用いて形成されたプラズマディスプレイであって、
微粒子
微粒子
ｇ線（４３６ｎｍ）で測定した
微粒子と、前記ガラス微粒子に対して屈折率差が０．１以下の有機成分からなるペーストを用いて形成されたプラズマディスプレイであって、
微粒子
微粒子
ｇ線（４３６ｎｍ）で測定した
微粒子と、前記ガラス微粒子に対して屈折率差が０．１以下の有機成分からなるペーストを用いて形成されたプラズマディスプレイであって、
微粒子
微粒子
　【０００９】
　【発明の実施の形態】
　プラズマディスプレイの隔壁は、ガラス基板上に、ガラス微粒子と有機成分を必須成分とするペーストを用いてパターン加工を行った後に、焼成することによって形成される。有機成分中に感光性の有機化合物を含有する感光性ペーストを用いた隔壁形成は、工程が簡便で、高精度のパターン加工が実現できる。
　【００１０】この場合、有機成分とガラス微粒子の平均屈折率が異なる場合は、ペースト内部での光散乱が生じるために、高精度のパターン加工が困難である。そこで、ガラス微粒子と有機成分の屈折率制御を行うことによって、光散乱を抑制できることを見出した。ガラス微粒子の平均屈折率と有機成分の平均屈折率の差が０．１以下であることが好ましく、より好ましくはガラス微粒子の平均屈折率Ｎ１と有機成分の平均屈折率Ｎ２の間に（Ａ）式の関係を持たせることによって、高アスペクト比かつ高精度のパターン加工が可能になる。
　【００１１】
　　−０．０３≦Ｎ１−Ｎ２≦０．０７・・・・・（Ａ）
しかし、一般に絶縁体として用いられるガラスは、１．５〜１．９程度の屈折率を有しているのに対し、一般的な有機成分の屈折率は１．４５〜１．７程度であり、屈折率を整合するためには、ガラス微粒子の平均屈折率を１．５〜１．６８にする必要がある。好ましくは、屈折率１．５５〜１．６５にすることによって、有機成分の選択の幅が広がる利点がある。
　【００１２】一方、隔壁形成はガラス基板上での焼成を行うために、ガラス
微粒子
　【００１３】このような、温度特性を有するガラスとしては、従来、酸化鉛や酸化ビスマスを２０重量％以上含有するガラスが用いられてきた。しかし、酸化鉛や酸化ビスマスを３０重量％以上含有するガラス微粒子は、平均屈折率が１．７以上になる場合が多かった。
　【００１４】屈折率１．５〜１．６８で、かつ、熱軟化温度が６００℃以下のガラスは、無機微粒子中の酸化鉛や酸化ビスマスの含有量が３０重量％以下であり、かつ、アルカリ金属の酸化物を１〜２０重量％含有することによって得られる。また、アルカリ金属の酸化物を３〜２０重量％含有することによって、熱膨張係数や温度特性、屈折率の制御が容易になる。２０重量％を超えるとガラスの吸水性が高まり、ディスプレイに用いるには好ましくない。
　【００１５】また、酸化ビスマスや酸化鉛を３０重量％以下、より好ましくは２０重量％以下の範囲で併用することによって、少ない量のアルカリ金属酸化物の添加で、各種特性を制御することが容易になる。
　【００１６】アルカリ金属の酸化物としては、酸化カリウム、酸化ナトリウム、酸化リチウムから選ばれる少なくとも１種類を用いることができる。特に、ペーストのポットライフという点からは、酸化リチウムを含有する場合が好ましい。前記の通りの発明者らが見出した知見等を勘案すると、本発明の一態様としては、酸化リチウムを３〜１５重量％含むものである。又、別の態様としては、酸化カリウム、酸化ナトリウム、酸化リチウムのうち、少なくとも１種類を含み、それらの合計量が１〜２０重量％であり、かつ、酸化ビスマスを５〜３０重量％含有するものである。
　【００１７】ガラス微粒子中の組成としては、酸化珪素は３〜６０重量％の範囲で配合することが好ましく、より好ましくは２０〜６０重量％である。３重量％未満の場合はガラス層の緻密性、強度や安定性が低下し、また熱膨張係数が所望の値から外れ、ガラス基板とのミスマッチが起こりやすい。また６０重量％以下にすることによって、熱軟化点が低くなり、ガラス基板への焼き付けが可能になるなどの利点がある。
　【００１８】酸化ホウ素は５〜５０重量％の範囲で配合することが好ましく、より好ましくは１０〜４０重量％である。この範囲で配合することによって、電気絶縁性、強度、熱膨張係数、絶縁層の緻密性などの電気、機械および熱的特性を向上することができる。５０重量％を越えるとガラスの安定性が低下する。前記の通りの発明者らが見出した知見等を勘案して、本発明の一態様としては、ガラス
微粒子
微粒子
　【００１９】酸化ビスマスや酸化鉛を含有することによって、焼き付け温度を制御できる効果があるものの、目標の屈折率よりも高くする効果もあり、３０重量％以下が好ましい。
　【００２０】また、ガラス中に、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなど、特に酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化亜鉛を添加することにより、硬度や加工性を改良することができるが、熱軟化点、熱膨張係数、屈折率の制御の点からは、その含有量は４０重量％以下が好ましく、より好ましくは３０重量％以下であり、かつ、これらの含有量の合計が５０重量％以下である。
　【００２１】前記の通りの発明者らが見出した知見等を勘案して、本発明の一態様としては、酸化珪素を３〜６０重量％、酸化ホウ素を５〜５０重量％、酸化バリウムを１〜３０重量％、酸化アルミニウムを１〜３０重量％含有するものである。更に好ましく用いられる別の本発明の一態様であるガラス組成の例を挙げると、酸化珪素を１５〜５０重量％、酸化ホウ素を１５〜４０重量％、酸化バリウムを２〜１０重量％、酸化アルミニウムを６〜２５重量％、酸化リチウムを１〜１５重量％含有するガラス組成である。
　【００２２】上記において使用されるガラス粒子径は、作製しようとするパターンの形状を考慮して選ばれるが、５０重量％粒子径が０．１〜１０μｍが好ましい。
　【００２３】ガラス微粒子として、球形率８０個数％以上のガラス微粒子を５０重量％以上用いることによって、ガラス表面積を小さくして、ペースト中の光散乱を抑制することができる。
　【００２４】さらに、ガラス微粒子として、４３６ｎｍの波長での全光線透過率が５０％以上のガラス微粒子を用いることを特徴とするガラス微粒子を用いることが好ましい。ガラス微粒子内部の散乱や吸収を抑制することによって、パターン特性は向上する。
　【００２５】この場合に用いるガラス微粒子としては、５０重量％粒子径が１〜７μｍ、１０重量％粒子径が０．４〜２μｍ、９０重量％粒子径が４〜１０μｍ、比表面積０．２〜３ｍ２／ｇのガラス微粒子が適している。
　【００２６】本発明におけるガラス微粒子の屈折率測定は、ベッケ法により行うことができる。屈折率は露光波長で測定することが効果を確認する上で正確である。特に、３５０〜６５０ｎｍの範囲の波長の光で測定することが好ましい。さらには、ｉ線（３６５ｎｍ）もしくはｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率測定が好ましい。
　【００２７】また、本発明に用いられるペースト中に、熱軟化温度が６００℃以上のガラス粒子やセラミックス粒子を４０重量％以下の範囲で添加することによって、焼成時の収縮率を抑制することができる。ただし、この場合に用いる微粒子相互の屈折率差が０．１以下、さらには、０．０５以下であることが、精度良くパターン形成する上で重要である。
　【００２８】また、プラズマディスプレイのコントラストを向上する目的で、隔壁層を黒色化する場合には、用いる感光性ペースト中に黒色の金属酸化物を１〜１０重量％含むことによって、黒色の隔壁を形成することができる。
　【００２９】この際に用いる黒色の金属酸化物として、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｃｕの酸化物の内、少なくとも１種、好ましくは３種以上を含むことによって、黒色の隔壁層を形成することができる。特に、ＦｅとＭｎの酸化物をそれぞれ０．５重量％以上含有することによって、より、黒色の隔壁層を形成できる。
　【００３０】上記のガラス
微粒子
　【００３１】本発明に用いる感光性ペーストに関しては、感光性成分の含有率が有機成分中の１０重量％以上、さらには、３０重量％以上であることが光に対する感度の点で好ましい。
　【００３２】有機成分は、感光性モノマー、感光性オリゴマー、感光性ポリマーのうち少なくとも１種類から選ばれる感光性成分を含有し、さらに必要に応じて、バインダー、光重合開始剤、紫外線吸光剤、増感剤、増感助剤、重合禁止剤、可塑剤、増粘剤、有機溶媒、酸化防止剤、分散剤、有機あるいは無機の沈殿防止剤やレベリング剤などの添加剤成分を加えることも行われる。
　【００３３】感光性成分としては、光不溶化型のものと光可溶化型のものがあり、光不溶化型のものとして、
（Ａ）分子内に不飽和基などを１つ以上有する官能性のモノマー、オリゴマー、ポリマーを含有するもの
（Ｂ）芳香族ジアゾ化合物、芳香族アジド化合物、有機ハロゲン化合物などの感光性化合物を含有するもの
（Ｃ）ジアゾ系アミンとホルムアルデヒドとの縮合物などいわゆるジアゾ樹脂といわれるもの等がある。
　【００３４】また、光可溶型のものとしては、
（Ｄ）ジアゾ化合物の無機塩や有機酸とのコンプレックス、キノンジアゾ類を含有するもの
（Ｅ）キノンジアゾ類を適当なポリマーバインダーと結合させた、例えばフェノール、ノボラック樹脂のナフトキノン１，２−ジアジド−５−スルフォン酸エステル等がある。
　【００３５】本発明において用いる感光性成分は、上記のすべてのものを用いることができる。感光性ペーストとして、無機微粒子と混合して簡便に用いることができる感光性成分は、（Ａ）のものが好ましい。
　【００３６】感光性モノマーとしては、炭素−炭素不飽和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、イソ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、ヘプタデカフロロデシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、イソボニルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリレート、オクタフロロペンチルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、トリフロロエチルアクリレート、アリル化シクロヘキシルジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、グリセロールジアクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、トリグリセロールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、アクリルアミド、アミノエチルアクリレート、フェニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、１−ナフチルアクリレート、２−ナフチルアクリレート、ビスフェノールＡジアクリレート、ビスフェノールＡ−エチレンオキサイド付加物のジアクリレート、ビスフェノールＡ−プロピレンオキサイド付加物のジアクリレート、チオフェノールアクリレート、ベンジルメルカプタンアクリレート、また、これらの芳香環の水素原子のうち、１〜５個を塩素または臭素原子に置換したモノマー、もしくは、スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、塩素化スチレン、臭素化スチレン、α−メチルスチレン、塩素化α−メチルスチレン、臭素化α−メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、カルボシキメチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、および、上記化合物の分子内のアクリレートを一部もしくはすべてをメタクリレートに変えたもの、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピロリドンなどが挙げられる。本発明ではこれらを１種または���種以上使用することができる。
　【００３７】これら以外に、不飽和カルボン酸等の不飽和酸を加えることによって、感光後の現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の具体的な例としては、アクリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれらの酸無水物などがあげられる。
　【００３８】バインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、メタクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体、α−メチルスチレン重合体、ブチルメタクリレート樹脂などがあげられる。
　【００３９】また、前述の炭素−炭素二重結合を有する化合物のうち少なくとも１種類を重合して得られたオリゴマーやポリマーを用いることができる。
　【００４０】重合する際に、これらのモノマーの含有率が１０重量％以上、さらに好ましくは３５重量％以上になるように、他のモノマーと共重合することができる。
　【００４１】共重合するモノマーとしては、不飽和カルボン酸等の不飽和酸を共重合することによって、感光後の現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の具体的な例としては、アクリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれらの酸無水物などがあげられる。
　【００４２】こうして得られた側鎖にカルボキシル基等の酸性基を有するポリマーもしくはオリゴマーの酸価（ＡＶ）は５０〜１８０、さらには７０〜１４０の範囲が好ましい。酸価が５０未満であると、現像許容幅が狭くなる。また、酸価が１８０を越えると未露光部の現像液に対する溶解性が低下するようになるため現像液濃度を濃くすると露光部まで剥がれが発生し、高精細なパターンが得られにくい。
　【００４３】以上示した、ポリマーもしくはオリゴマーに対して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加させることによって、感光性を持つ感光性ポリマーや感光性オリゴマーとして用いることができる。
　【００４４】好ましい光反応性基は、エチレン性不飽和基を有するものである。エチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基などがあげられる。
　【００４５】このような側鎖をオリゴマーやポリマーに付加させる方法は、ポリマー中のメルカプト基、アミノ基、水酸基やカルボキシル基に対して、グリシジル基やイソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライドを付加反応させて作る方法がある。
　【００４６】グリシジル基を有するエチレン性不飽和化合物としては、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、アリルグリシジルエーテル、エチルアクリル酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロトン酸グリシジルエーテル、イソクロトン酸グリシジルエーテルなどがあげられる。
　【００４７】イソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリロイルイソシアネート、（メタ）アクリロイルエチルイソシアネート等がある。
　【００４８】また、グリシジル基やイソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライドは、ポリマー中のメルカプト基、アミノ基、水酸基やカルボキシル基に対して０．０５〜１モル当量付加させることが好ましい。
　【００４９】光重合開始剤としての具体的な例として、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジル、ベンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４、４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホルフィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾインおよびエオシン、メチレンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビン酸、トリエタノールアミンなどの還元剤の組合せなどがあげられる。本発明ではこれらを１種または２種以上使用することができる。光重合開始剤は、感光性成分に対し、０．０５〜１０重量％の範囲で添加され、より好ましくは、０．１〜５重量％である。重合開始剤の量が少なすぎると、光感度が不良となり、光重合開始剤の量が多すぎれば、露光部の残存率が小さくなりすぎるおそれがある。
　【００５０】紫外線吸収剤を添加することも有効である。紫外線吸収効果の高い吸収剤を添加することによって高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。紫外線吸収剤としては有機系染料からなるもの、中でも３５０〜４５０ｎｍの波長範囲で高ＵＶ吸収係数を有する有機系染料が好ましく用いられる。具体的には、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンチン系染料、キノリン系染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系、ベンゾフェノン系、ジフェニルシアノアクリレート系、トリアジン系、ｐ−アミノ安息香酸系染料などが使用できる。有機系染料は吸光剤として添加した場合にも、焼成後の絶縁膜中に残存しないで吸収剤による絶縁膜特性の低下を少なくできるので好ましい。これらの中でもアゾ系およびベンゾフェノン系染料が好ましい。有機染料の添加量は０．０５〜５重量％が好ましい。０．０５重量％以下では紫外線吸収剤の添加効果が減少し、５重量％を越えると焼成後の絶縁膜特性が低下するので好ましくない。より好ましくは０．１〜１重量％である。有機顔料からなる紫外線吸光剤の添加方法としては、有機溶媒に溶解した後、ペースト作製時に混練りする方法以外に、有機顔料を予め有機溶媒に溶解した溶液を作製し、次に該有機溶媒中にガラス粉末を混合後、乾燥する方法がある。この方法によってガラス粉末の個々の粉末表面に有機の膜をコートしたいわゆるカプセル状の粉末が作製できる。
　【００５１】本発明において、無機微粒子に含まれるＰｂ、Ｆｅ、Ｃｄ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｍｇなどの金属および酸化物がペースト中に含有する感光性成分と反応してペーストが短時間でゲル化し、塗布できなくなる場合がある。このような反応を防止するために安定化剤を添加してゲル化を防止することが好ましい。用いる安定化剤としては、トリアゾール化合物が好ましく用いられる。トリアゾール化合物の中でも特にベンゾトリアゾールが有効に作用する。本発明において使用されるベンゾトリアゾールによるガラス粉末の表面処理の一例を上げると、無機微粒子に対して所定の量のベンゾトリアゾールを酢酸メチル、酢酸エチル、エチルアルコール、メチルアルコールなどの有機溶媒に溶解した後、これら微粒子が十分に浸すことができるように溶液中に１〜２４時間浸積する。浸積後、好ましくは２０〜３０℃下で自然乾燥して溶媒を蒸発させてトリアゾール処理を行った粉末を作製する。使用される安定化剤の割合（安定化剤／無機微粒子）は０．０５〜５重量％が好ましい。
　【００５２】増感剤は、感度を向上させるために添加される。増感剤の具体例としては、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミニベンザル）シクロヘキサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリデンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビニレン）−イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニル−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾール、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラゾールなどがあげられる。本発明ではこれらを１種または２種以上使用することができる。なお、増感剤の中には光重合開始剤としても使用できるものがある。増感剤を本発明の感光性ペーストに添加する場合、その添加量は感光性成分に対して通常０．０５〜１０重量％、より好ましくは０．１〜１０重量％である。増感剤の量が少なすぎれば光感度を向上させる効果が発揮されず、増感剤の量が多すぎれば露光部の残存率が小さくなりすぎるおそれがある。
　【００５３】重合禁止剤は、保存時の熱安定性を向上させるために添加される。重合禁止剤の具体的な例としては、ヒドロキノン、ヒドロキノンのモノエステル化物、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、フェノチアジン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェニルナフチルアミン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メチルフェノール、クロラニール、ピロガロールなどが挙げられる。重合禁止剤を添加する場合、その添加量は、感光性ペースト中に、通常、０．００１〜１重量％である。
　【００５４】可塑剤の具体的な例としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ポリエチレングリコール、グリセリンなどがあげられる。
　【００５５】酸化防止剤は、保存時におけるアクリル系共重合体の酸化を防ぐために添加される。酸化防止剤の具体的な例として２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−４−エチルフェノール、２，２−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、ビス［３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、ジラウリルチオジプロピオナート、トリフェニルホスファイトなどが挙げられる。酸化防止剤を添加する場合、その添加量は通常、添加量は、ペースト中に、通常、０．００１〜１重量％である。
　【００５６】本発明の感光性ペーストには、溶液の粘度を調整したい場合、有機溶媒を加えてもよい。このとき使用される有機溶媒としては、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸などやこれらのうちの１種以上を含有する有機溶媒混合物が用いられる。
　【００５７】有機成分の屈折率は、露光により感光性成分を感光させる時点におけるペースト中の有機成分の屈折率のことである。つまり、ペーストを塗布し、乾燥工程後に露光を行う場合は、乾燥工程後のペースト中の有機成分の屈折率のことである。
　【００５８】本発明における屈折率の測定は、一般的に行われるＶブロック法が好ましく、測定する波長は、ペーストを塗布した後に、露光する光の波長で測定することが効果を確認する上で正確である。特に、３５０〜６５０ｎｍの範囲中の波長の光で測定することが好ましい。さらには、ｉ線（３６５ｎｍ）もしくはｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率測定が好ましい。
　【００５９】また、有機成分が光照射によって重合した後の屈折率を測定するためには、ペースト中に対して光照射する場合と同様の光を有機成分のみに照射することによって測定できる。
　【００６０】ガラス基板上に焼き付けを行うことができる酸化ビスマスや酸化鉛を１０重量％以上含有するガラス粉末は、屈折率が１．６以上になる場合があり、この場合は有機物の屈折率を高くする必要がある。
　【００６１】この場合、有機成分中に高屈折率成分を導入する必要があり、有機成分中に硫黄原子、臭素原子、ヨウ素原子、ナフタレン環、ビフェニル環、アントラセン環、カルバゾール環を有する化合物を１０重量％以上用いることが高屈折率化に有効である。また、ベンゼン環を２０重量％以上含有することによって、高屈折率化ができる。
　【００６２】特に、硫黄原子もしくはナフタレン環を１０重量％以上含有することによって、より簡便に有機成分を高屈折率化することができる。ただし、含有量が６０重量％以上になると光感度が低下するという問題が発生するので、１０〜６０重量％の範囲で含有することが好ましい。
　【００６３】有機成分の屈折率を高くする方法としては、感光性モノマーやバインダー中に、硫黄原子、ナフタレン環を持つ化合物を用いることが有効である。
　【００６４】分子内に硫黄原子を原子を含有するモノマーとしては、次の一般式（ａ）、（ｂ）または（ｃ）で示される化合物が上げられる。
　【００６５】
　【化１】
構造式中のＲは水素原子もしくはメチル基を示す。ＸはＳまたはＯ、ｌは１〜３の整数、ｍ，ｎ，ｐ，ｑは０〜３の整数を示す。
　【００６６】また、増感剤は、露光波長に吸収を有しているものが用いられる、この場合、吸収波長近傍では屈折率が極端に高くなるため、増感剤を多量に添加することによって、屈折率を向上することができる。この場合の増感剤の添加量としてペースト中に０．５〜１０重量％添加することができる。より好ましくは、１〜６重量％である。
　【００６７】感光性ペーストは、通常、ガラス微粒子、紫外線吸光剤、感光性ポリマー、感光性モノマー、光重合開始剤および溶媒等の各種成分を所定の組成となるように調合した後、３本ローラや混練機で均質に混合分散し作製する。
　【００６８】ペーストの粘度は無機微粒子、増粘剤、有機溶媒、可塑剤および沈殿防止剤などの添加割合によって適宜調整されるが、その範囲は２０００〜２０万ｃｐｓ（センチ・ポイズ）である。例えばガラス基板への塗布をスピンコート法で行う場合は、２０００〜５０００ｃｐｓが好ましい。スクリーン印刷法で１回塗布して膜厚１０〜２０μｍを得るには、５万〜２０万ｃｐｓが好ましい。ブレードコーター法やダイコーター法などを用いる場合は、２０００〜２００００ｃｐｓが好ましい。
　【００６９】次に本発明によって、プラズマディスプレイの隔壁層のパターン加工を行う一例について説明する。ただし、本発明はこれに限定されない。
　【００７０】ガラス基板やポリマー製フィルムの上に、感光性ペーストを全面塗布、もしくは部分的に塗布する。塗布方法としては、スクリーン印刷、バーコーター、ロールコーター等一般的な方法を用いることができる。塗布厚みは、塗布回数、スクリーンのメッシュ、ペーストの粘度を選ぶことによって調整できるが、プラズマディスプレイの隔壁は１００〜２００μｍの厚みが必要であり、乾燥や焼成による収縮を考慮して、１２０〜３００μｍ程度の厚みで塗布することが好ましい。
　【００７１】ここでペーストとガラス基板との密着性を高めるためにガラス基板の表面処理を行うことができる。表面処理液としてはシランカップリング剤、例えばビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、トリス−（２−メトキシエトキシ）ビニルシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−（メタクリロキシプロピル）トリメトキシシラン、γ（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシランなどあるいは有機金属例えば有機チタン、有機アルミニウム、有機ジルコニウムなどである。シランカップリング剤あるいは有機金属を有機溶媒例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコールなどで０．１〜５％の濃度に希釈したものを用いる。次にこの表面処理液をスピナーなどで基板上に均一に塗布した後に８０〜１４０℃で１０〜６０分間乾燥することによって表面処理ができる
。
　【００７２】なお、本発明に用いるガラス基板は、一般的なものであれば特に限定はないが、一般的なソーダライムガラスやソーダライムガラスをアニール処理したガラス、または、高歪み点ガラス（例えば、旭硝子社製”ＰＤ−２００”）等を用いることができる。ガラス基板のサイズには特に限定はなく、１〜５ｍｍの厚みのガラスを用いることができる。
　【００７３】また、ガラス基板上に、銀やアルミ、銅、金、ニッケル、酸化錫、ＩＴＯ等をスクリーン印刷や感光性導電ペーストを用いたフォトリソグラフィー法によって、電極層をパターン形成したものを用いることが一般的である。さらに、放電の安定化のために電極層の上に誘電体層をもうけたガラス基板を用いても良い。
　【００７４】塗布した後、露光装置を用いて露光を行う。露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるように、フォトマスクを用いてマスク露光する方法が一般的である。用いるマスクは、感光性有機成分の種類によって、ネガ型もしくはポジ型のどちらかを選定する。また、フォトマスクを用いずに、レーザー光などで直接描画する方法を用いても良い。露光装置としては、ステッパー露光機、プロキシミティ露光機等を用いることができる。
　【００７５】露光工程を１回だけ行うことが、複数回の露光を行う場合に比べて、精度良く簡便に隔壁層を形成する方法としては好ましい。
　【００７６】また、大面積の露光を行う場合は、ガラス基板などの基板上に感光性ペーストを塗布した後に、搬送しながら露光を行うことによって、小さな有効露光面積の露光機で、大きな面積を露光することができる。
　【００７７】この際使用される活性光源は、たとえば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザー光などが挙げられるが、これらの中で紫外線が好ましく、その光源としてはたとえば低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。露光条件は塗布厚みによって異なるが、０．５〜１００ｍＷ／ｃｍ２の出力の超高圧水銀灯を用いて０．５〜３０分間露光を行なう。特に、露光量が０．３〜５Ｊ／ｃｍ２程度の露光を行うことが好ましい。
　【００７８】塗布した感光性ペースト表面に酸素遮蔽膜を設けることによって、パターン形状を向上することができる。酸素遮蔽膜の一例としては、ＰＶＡやセルロースなどの膜、あるいは、ポリエステルなどのフィルムが上げられる。
　【００７９】ＰＶＡ膜の形成方法は濃度が０．５〜５重量％の水溶液をスピナーなどの方法で基板上に均一に塗布した後に７０〜９０℃で１０〜６０分間乾燥することによって水分を蒸発させて行う。また水溶液中にアルコールを少量添加すると絶縁膜との塗れ性が良くなり蒸発が容易になるので好ましい。さらに好ましいＰＶＡの溶液濃度は、１〜３重量％である。この範囲にあると感度が一層向上する。ＰＶＡ塗布によって感度が向上するのは次の理由が推定される。すなわち感光性成分が光反応する際に、空気中の酸素があると光硬化の感度を妨害すると考えられるが、ＰＶＡの膜があると余分な酸素を遮断できるので露光時に感度が向上するので好ましい。
　【００８０】ポリエステルやポリプロピレン、ポリエチレン等の透明なフィルムを用いる場合は、塗布後の感光性ペーストの上に、これらのフィルムを張り付けて用いる方法がある。
　【００８１】露光後、現像液を使用して現像を行なうが、この場合、浸漬法やスプレー法、ブラシ法で行なう。現像液は、感光性ペースト中の有機成分が溶解可能である有機溶媒を使用できる。また該有機溶媒にその溶解力が失われない範囲で水を添加してもよい。感光性ペースト中にカルボキシル基等の酸性基を持つ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。アルカリ水溶液として水酸化ナトリウムや水酸化カルシウム水溶液などのような金属アルカリ水溶液を使用できるが、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にアルカリ成分を除去しやすいので好ましい。
　【００８２】有機アルカリとしては、一般的なアミン化合物を用いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は通常０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜５重量％である。アルカリ濃度が低すぎれば未露光部が除去されずに、アルカリ濃度が高すぎれば、パターン部を剥離させ、また露光部を腐食させるおそれがあり良くない。また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。
　【００８３】次に焼成炉にて焼成を行う。焼成雰囲気や、温度はペーストや基板の種類によって異なるが、空気中、窒素、水素等の雰囲気中で焼成する。焼成温度は４００〜６１０℃で行う。ガラス基板上にパターン加工する場合は、５２０〜６１０℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成を行う。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。
　【００８４】また、以上の各工程中に、乾燥、予備反応の目的で、５０〜３００℃加熱工程を導入しても良い。
　【００８５】以上の工程によって得られた隔壁層を有するガラス基板はプラズマディスプレイの前面側もしくは背面側に用いることができる。また、プラズマアドレス液晶ディスプレイのアドレス部分の放電を行うための基板として用いることができる。
　【００８６】形成した隔壁層の間に蛍光体を塗布した後に、前背面のガラス基板を合わせて封着し、ヘリウム、ネオン、キセノン等の希ガスを封入することによって、プラズマディスプレイのパネル部分を製造できる。さらに、駆動用のドライバーＩＣを実装することによって、プラズマディスプレイを製造することができる。
　【００８７】また、プラズマディスプレイを高精細化するため、つまり、一定の画面サイズで画素の数を増やすためには、１画素の大きさを小さくする必要がある。この場合、隔壁間のピッチを小さくする必要があるが、ピッチを小さくすると、放電空間が小さくなり、また、蛍光体の塗布面積が小さくなることから、輝度が低下する。具体的には、４２インチのハイビジョンテレビ（１９２０×１０３５画素）や２３インチのＯＡモニター（ＸＧＡ：１０２４×７６８画素）を実現しようとすると、画素のサイズを４５０μｍ角の大きさにする必要があり、各色を仕切る隔壁は１５０μｍピッチで形成する必要がある。この場合、隔壁の線幅が大きいと放電のための空間が確保できないことや蛍光体の塗布面積が小さくなることによって、輝度を向上することが困難になる。
　【００８８】発明者らは、本発明の技術を用いることによって、隔壁の幅を小さくすることができることを見いだした。特に、隔壁幅２０〜４０μｍ、好ましくは隔壁幅２０〜３５μｍのストライプ状隔壁を形成するプラズマディスプレイを得ることができ、高精細化時の輝度向上に有効である。
　【００８９】また、高さが１００〜１７０μｍ、ピッチが１００〜１６０μｍの高精細隔壁を形成することによって、ハイビジョンテレビやコンピューターモニターに用いることができる高精細プラズマディスプレイを提供できる。
　【００９０】
　【実施例】
　以下に、本発明を実施例を用いて、具体的に説明する。ただし、本発明はこれに限定はされない。なお、実施例、比較例中の濃度（％）は特にことわらない限り重量％である。
　【００９１】実施例は、無機微粒子および有機成分からなる感光性ペーストを作成した。作成手順は、まず、有機成分の各成分とγ−ブチロラクトンを８０℃に加熱しながら溶解し、その後、無機微粒子を添加し、混練機で混練することによってペーストを作成した。粘度は溶媒量をによって調整した。溶媒量（γ−ブチルラクトン）はペースト中に１０〜４０％になるように調整した。
　【００９２】次に、３０ｃｍ角のソーダガラス基板もしくは石英ガラス基板上に、スクリーン印刷法による複数回塗布によって、１００μｍ、１５０μｍ、２００μｍの塗布厚みになるように塗布を行った後、８０℃で３０分乾燥した。
　【００９３】次に、フォトマスクを介して露光を行った。マスクは次の２種類を用いた。
　【００９４】（１）ピッチ２２０μｍ、線幅５０μｍのクロム製ネガマスク
（２）ピッチ１５０μｍ、線幅２０μｍのクロム製ネガマスク
露光は、５０ｍＷ／ｃｍ２の出力の超高圧水銀灯で２〜１０Ｊ／ｃｍ２の光量で紫外線露光を行った。その後、モノエタノールアミンの０．５％水溶液に浸漬して、現像を行った。
　【００９５】さらに、得られたガラス基板を８０℃で１時間乾燥した後、最高温度５６０℃もしくは８５０℃（最高温度保持時間３０分）で焼成を行った。
　【００９６】得られた試料を切断し、走査型電子顕微鏡で断面観察した結果、良好な隔壁パターンが形成されている場合を○として評価し、パターンの欠落・断絶、現像不良による未露光部の詰まりなどによって、良好な隔壁が形成されていない場合を×として評価を行った。結果を表３に示す。
　【００９７】また、有機成分の屈折率は、ペースト中の有機成分だけを調整して、塗布および乾燥工程後に、エリプソメトリー法によって、２５℃における４３６ｎｍの波長の光に関して測定を行った。
　【００９８】実施例１
表１のＡ１のガラス粉末７５ｇとＢ３の有機成分を２５ｇを用いて、ペーストを作製した。使用した溶媒は、１０ｇであった。パターン形成、５６０℃３０分焼成を行った結果を表３に示す。
　【００９９】また、３６０×５００ｍｍのサイズのソーダガラス基板（厚み２．８ｍｍ）上に、感光性銀ペーストを用いて、線幅４０μｍ、ピッチ１５０μｍ、厚み１０μｍのストライプ状の銀配線を形成した後、上記ペーストを用いて、全面に２００μｍ厚みで塗布を行い、ピッチ１５０μｍ、線幅２０μｍのフォトマスクを用いて、露光後、現像、焼成を行って隔壁層を形成した。その後、蛍光体ペーストをスクリーン印刷によって塗布した後、４５０℃２０分の焼成を行って、２３インチ用プラズマディスプレイの背面板を作製した。この背面板を前面板と張り合わせ、ガスを封入することによって、２３インチＸＧＡ（１０２４×７６８画素）モニターを作製することができる。
　【０１００】実施例２
表１のＡ２のガラス粉末７５ｇとＢ３の有機成分を２５ｇを用いて、ペーストを作製した。使用した溶媒は、１５ｇであった。パターン形成、５６０℃１０分焼成を行った結果を表３に示す。
　【０１０１】実施例３
表１のＡ３のガラス粉末７０ｇとＢ４の有機成分を３０ｇを用いて、ペーストを作製した。使用した溶媒は、１５ｇであった。パターン形成、５６０℃１０分焼成を行った結果を表３に示す。
　【０１０２】
　【０１０３】
　【０１０４】実施例４
表１のＡ５のガラス粉末７５ｇとＢ１の有機成分２５ｇを用いて、ペーストを作製した。使用した溶媒は、１２ｇであった。パターン形成、５８０℃１５分焼成を行った結果を表３に示す。
　【０１０５】実施例５
表１のＡ６のガラス粉末７５ｇとＢ３の有機成分２５ｇを用いて、ペーストを作製した。使用した溶媒は、１０ｇであった。パターン形成、８５０℃１５分焼成を行った結果を表３に示す。
　【０１０６】実施例６
表１のＡ１のガラス粉末６０ｇとＡ６のガラス粉末１５ｇを混合した後、Ｂ３の有機成分２５ｇを用いて、ペーストを作製した。使用した溶媒は、１０ｇであった。パターン形成、５８０℃３０分焼成を行った結果を表３に示す。
　【０１０７】比較例１
表１のＡ３のガラス粉末７５ｇとＢ２の有機成分２５ｇを用いて、ペーストを作製した。使用した溶媒は、１０ｇであった。パターン形成、５６０℃１０分焼成を行った結果を表３に示す。
　【０１０８】比較例２
表１のＡ４のガラス粉末７５ｇとＢ４の有機成分２５ｇを用いて、ペーストを作製した。使用した溶媒は、１０ｇであった。パターン形成、５８０℃１５分焼成を行った結果を表３に示す。
　【０１０９】
　【表１】
　【表２】
　【表３】
表中の略称に関して、次に示す。
　【０１１０】（ポリマー１〜３の構造中の数字は、それぞれのモノマーの構成モル比を示す）
ＴＭＰＴＡ　　　　：トリメチロールプロパントリアクリレート
ＴＢＰＭＡ　　　　：トリブロモフェニルメタクリレート
ＴＢＢ−ＡＤＡ　　：テトラブロモビスフェノールＡジアクリレート
ＢＭＥＸＳ−ＭＡ　：
　【化２】
ＭＰＳ−ＭＡ：
　【化３】
ＰＶＡ　　　　　　　：ポリビニルアルコール
スダン　　　　　　　：アゾ系赤色染料、Ｃ２４Ｈ２０Ｎ４Ｏ
ユヒ°ナールＤ−５０：ベンゾフェノン系染料（ユピナールＤ−５０）Ｃ１３Ｈ１０Ｏ５
ＭＴＰＭＰ　　　　　：２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパノン−１
ＥＰＡ　　　　　　　：ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル
ＤＥＴ　　　　　　　：２，４−ジエチルチオキサントン
γ−ＢＬ　　　　　　：γ−ブチロラクトン
ポリマー１：
　【化４】
（重量平均分子量：４３０００、酸価：９０）
ポリマー２：
　【化５】
（重量平均分子量：３２０００、酸価：９５）
ポリマー３：
　【化６】
（重量平均分子量：３００００、酸価：１０１）
　【０１１１】
　【発明の効果】
　本発明は、高精度の隔壁を有するプラズマディスプレイに関し、高精細化可能なプラズマディスプレイを提供できる。