【手続補正書】
【提出日】平成26年11月13日(2014.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マルチ小ビーム露光装置で使用するための単一面で第１の荷電粒子小ビーム（１０４ａ）と第２の荷電粒子小ビーム（１０４ｂ）との間の距離を決定する方法であって、
前記マルチ小ビーム露光装置には、荷電粒子のエネルギを光に変換するコンバータ素子（１）と、光を受光する感光検出器（５）とを有するセンサ（１００）が設けられ、前記コンバータ素子には、小ビームブロッキング領域（３３；７４；８４）と非ブロッキング領域（３４；７３；８３）との２次元パターン（４０；５０；１０２）が設けられたセンサ面領域が設けられており、
この方法は、
前記２次元パターン上で前記第１の荷電粒子小ビームを走査して、前記コンバータ素子から受光した光を第１の信号に変換することによって第１の小ビーム情報を得ることと、
前記２次元パターンと前記第１の荷電粒子小ビームとを所定の距離にわたって互いに関連付けて相対的に動かすことと、
前記２次元パターン上で前記第２の荷電粒子小ビームを走査して、前記コンバータ素子から受光した光を第２の信号に変換することによって第２の小ビーム情報を得ることと、
前記第１の小ビーム情報と前記第２の小ビーム情報と前記所定の距離とに基づいて、前記第１の荷電粒子小ビームと前記第２の荷電粒子小ビームとの間の距離を決定することと、を具備する方法。
【請求項２】
前記所定の距離は、前記第１の荷電粒子小ビームと前記第２の荷電粒子小ビームとの間の基準ベクトル距離に対応している請求項１の方法。
【請求項３】
前記第１の小ビーム情報を所定の基準小ビーム情報と比較して、第１の小ビームのずれを得ることと、
前記第２の小ビーム情報を所定の基準情報と比較して、第２の小ビームのずれを得ることと、
前記第１の小ビームのずれと前記第２の小ビームのずれとを比較することとをさらに具備する請求項１又は２の方法。
【請求項４】
前記第１の小ビーム情報及び前記第２の小ビーム情報は、夫々、前記第１の小ビーム及び第２の小ビームの実際の位置を含む請求項１又は２の方法。
【請求項５】
前記２次元パターンと前記第１の荷電粒子小ビームとを所定の距離にわたって互いに関連付けて相対的に動かすことは、前記コンバータ素子を前記所定の距離にわたって動かすことを含み、前記第１の荷電粒子小ビームの位置は、ほぼ動かない請求項１ないし４のいずれか１の方法。
【請求項６】
前記２次元パターンと前記第１の荷電粒子小ビームとを所定の距離にわたって互いに関連付けて動かすことは、前記第１の荷電粒子小ビームを前記所定の距離にわたって動かすことを含み、前記コンバータ素子の位置は、ほぼ動かない請求項１ないし４のいずれか１の方法。
【請求項７】
前記２次元パターンは、複数のパターン部分を有し、
各パターン部分は、ブロッキング構造の一意的な２次元パターンである請求項１ないし６のいずれか１の方法。
【請求項８】
前記２次元パターン部分は、４つの部分（４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄ）に分割され、
前記４つの部分の各々には、ブロッキング構造の異なる所定のパターンが設けられている請求項１ないし６のいずれか１の方法。
【請求項９】
複数の小ビーム対の間の距離が、同時に決定される請求項１ないし６のいずれか１の方法。
【請求項１０】
前記小ビーム対の間の距離を同時に決定することは、前記２次元パターン上で、複数の第１の荷電粒子小ビームの同時の走査及び複数の第２の荷電粒子小ビームの同時の走査を可能にするように、２次元パターンに適切に離間された複数の同様のパターンを与えることを含む請求項９の方法。
【請求項１１】
前記２次元パターンは、非ブロッキング領域が、好ましくは円形の非ブロッキング領域が設けられたブロッキング層を有し、
前記非ブロッキング領域の位置は、前記基準ベクトル距離に対応するピッチを有する請求項１０の方法。
【請求項１２】
前記２次元パターンは、個々の小ビームを評価するための複数のセルに分割され、各セルは、所定のパターンを有する請求項１ないし６のいずれか１の方法。
【請求項１３】
各セルは、異なる部分を有し、
各部分は、このような部分上で所定の小ビームの走査軌道に沿って、ブロッキング領域と非ブロッキング領域との間の移行部で複数のナイフエッジを形成している異なるパターンの荷電粒子ブロッキング構造を有する請求項１２の方法。
【請求項１４】
前記２次元パターンは、非ブロッキング領域、特に、円形の非ブロッキング領域が設けられたブロッキング層を有する請求項１ないし１３のいずれか１の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
本発明が、上述された実施の形態を参照して説明されてきた。これらの実施の形態は、当業者に周知のさまざまな変更を加えられたり、代わりの形態とされたりすることができる。上述の説明に加えて、さらなる変更が、本発明の意図及び範囲を逸脱することなく、ここに説明される構造及び技術に加えられることができる。従って、特定の実施の形態が説明されてきたが、これらは単なる例であり、本発明の範囲を限定するものではなく、本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲により規定される。
出願当初の特許請求の範囲に記載された発明を以下に付記する。
［１］荷電粒子のエネルギを光に変換するコンバータ素子と、感光検出器とを具備するセンサが設けられたマルチ小ビーム露光装置における２つの荷電粒子小ビーム間の距離を決定する方法であって、前記コンバータ素子には、小ビームブロッキング領域と非ブロッキング領域との２次元パターンが設けられたセンサ面領域が設けられており、この方法は、前記２次元パターン上で第１の小ビームを走査することと、前記２次元パターンを透過した前記第１の小ビームの部分である荷電粒子に応答して前記コンバータ素子によって発生された光を受光することと、前記感光検出器によって、前記受光された光を第１の信号に変換することと、前記２次元パターンと前記第１の小ビームとを所定の距離にわたって互いに関連して相対的に動かすことと、前記２次元パターン上で第２の小ビームを走査することと、前記２次元パターンを透過した前記第２の小ビームの部分である荷電粒子に応答して前記コンバータ素子によって発生された光を受光することと、前記感光検出器によって、前記受光された光を第２の信号に変換することと、前記第１の信号、前記第２の信号及び前記所定の距離に基づいて、前記第１の小ビームと第２の小ビームとの間の距離を決定することと、を具備する方法。
［２］前記２次元パターンと前記第１の小ビームとを所定の距離にわたって互いに関連して相対的に動かすことは、前記コンバータ素子を前記所定の距離にわたって動かすことを含み、前記第１の小ビームの位置は、ほぼ動かない［１］の方法。
［３］前記マルチ小ビーム露光装置は、小ビーム発生器を有し、前記２次元パターンと前記第１の小ビームとを所定の距離にわたって互いに関連して動かすことは、前記第１の小ビームを前記所定の距離にわたって動かすことを含み、前記コンバータ素子の位置は、ほぼ動かない［１］の方法。
［４］前記２次元パターンは、複数のパターン部分を有し、各パターン部分は、ブロッキング構造の一意的な２次元パターンである［１］ないし［３］のいずれか１の方法。
［５］前記２次元パターン部分は、４つに分割され、各４つに分割された部分には、ブロッキング構造の異なる所定のパターンが設けられている［１］ないし［３］のいずれか１の方法。
［６］複数の小ビーム対の間の距離が、同時に決定される［１］ないし［３］のいずれか１の方法。
［７］前記２つの小ビーム間の距離を同時に決定することは、前記２次元パターン上で、複数の第１の小ビームの同時の走査及び複数の第２の小ビームの同時の走査を可能にするように、２次元パターンに適切に離間された複数の同様のパターンを与えることを含む［６］の方法。
［８］前記２次元パターンは、非ブロッキング領域が、好ましくは円形の非ブロッキング領域が設けられたブロッキング層を有する［７］の方法。
［９］前記非ブロッキング領域の位置は、前記所定の距離に対応するピッチを有する［８］の方法。
［１０］前記２次元パターンは、個々の小ビームを評価するように複数のセルに分割され、各セルは、所定のパターンを有する［１］ないし［３］のいずれか１の方法。
［１１］各セルは、ブロッキング構造の一意的な２次元ブロッキングパターンを有する［１０］の方法。
［１２］各セルが、複数のパターン部分を有し、各パターン部分が、ブロッキング構造の一意的な２次元パターンである［１０］の方法。
［１３］各セルが、４つに分割され、各４つに分割された部分には、ブロッキング構造の異なる所定のパターンが設けられている［１０］の方法。
［１４］各セルは、異なる部分を有し、各部分は、このような部分上で所定の小ビームの走査軌道に沿って、ブロッキング領域と非ブロッキング領域との間の移行部で複数のナイフエッジを形成している異なるパターンの荷電粒子ブロッキング構造を有する［１０］の方法。
［１５］前記２次元パターンは、非ブロッキング領域、特に、円形の非ブロッキング領域が設けられたブロッキング層を有する［１］ないし［１４］のいずれか１の方法。
［１６］前記距離を決定することは、前記第１の信号と前記第２の信号とを比較することを含む［１］ないし［１５］のいずれか１の方法。
［１７］前記距離を決定することは、前記第１の信号を所定の基準信号と比較して、第１のずれを得ることと、前記第２の信号を所定の基準信号と比較して、第２のずれを得ることと、前記第１のずれと前記第２のずれとを比較することとを含む［１］ないし［１５］のいずれか１の方法。
［１８］マルチ小ビーム露光装置で使用するための単一面で第１の小ビームと第２の小ビームとの間の基準ベクトル距離からのずれを決定する方法であって、この方法は、センサ面に設けられたナイフエッジを有する２次元ブロッキング構造パターン上で前記第１の小ビームを走査して、第１の小ビーム情報を得ることと、前記２次元ブロッキング構造パターン上で前記第２の小ビームを走査して、第２の小ビーム情報を得ることと、前記第１の小ビーム情報及び前記第２の小ビーム情報に基づいて、前記基準ベクトル距離からのずれを決定することと、を具備する方法。
［１９］前記第１の小ビームを走査した後、さらに、前記２次元ブロッキング構造を前記基準ベクトル距離に対応する距離にわたって前記第１の小ビームに関連して移動させることを含む［１８］の方法。
［２０］前記移動させることは、前記基準ベクトル距離に対応する距離にわたって前記２次元ブロッキング構造パターンを移動させることによって果される［１９］の方法。
［２１］前記基準ベクトル距離からのずれを決定することは、前記第１の小ビーム情報と前記第２の小ビーム情報とを比較することを含む［１８］ないし［２０］の方法。
［２２］前記基準ベクトル距離からのずれを決定することは、前記第１の小ビーム情報を所定の基準小ビーム情報と比較して、第１の小ビームのずれを得ることと、前記第２の小ビーム情報を所定の基準情報と比較して、第２の小ビームのずれを得ることと、前記第１の小ビームのずれと前記第２の小ビームのずれとを比較することとを含む［１８］ないし［２０］のいずれか１の方法。
［２３］前記第１の小ビーム情報及び前記第２の小ビーム情報は、夫々、前記第１の小ビーム及び第２の小ビームの実際の位置を含む［１８］ないし［２０］のいずれか１の方法。
［２４］前記２次元パターンは、非ブロッキング領域、特に、円形の非ブロッキング領域が設けられたブロッキング層を有する［１８］ないし［２３］のいずれか１の方法。