【手続補正書】
【提出日】平成27年9月11日(2015.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スルホキシド生成物および／またはスルホキシド化生成物を含有する炭化水素画分と、アセトン、メタノール、アセトニトリル、酢酸、ギ酸およびこれらの極性有機溶媒の少なくとも２つを含んでなる混合物からなる群から選択される極性有機溶媒の濃度２．５重量％〜７０重量％を有する水溶液を含んでなる選択的溶媒組成物とを接触させる工程を含む、芳香族炭化水素を包含する炭化水素の共抽出を最少にしながら、スルホキシド生成物および／またはスルホキシド化生成物を含有する炭化水素画分からスルホキシド生成物および／またはスルホキシド化生成物を抽出する方法であって、対象のスルホキシド生成物および／またはスルホキシド化生成物の抽出を最大にし、芳香族炭化水素を包含する炭化水素および未酸化有機硫黄化合物の共抽出を最少にするために、水溶液の濃度を選択する方法。
【請求項２】
水溶液は３０重量％〜７０重量％の極性有機溶媒濃度を有し、対象のスルホキシド生成物および／またはスルホキシド化生成物は、
ａ．チオフェン、ベンゾチオフェン、ナフトチオフェン、ジベンゾチオフェン、ナフトベンゾチオフェン、或いはチオフェン、ベンゾチオフェン、ナフトチオフェン、ジベンゾチオフェンまたはナフトベンゾチオフェンの１種以上のアルキルおよびジアルキル誘導体を包含する芳香族有機硫黄化合物に由来する１種以上のスルホキシド化生成物；もしくは
ｂ．チオフェン、ベンゾチオフェン、ナフトチオフェン、ジベンゾチオフェン、ナフトベンゾチオフェン、或いはチオフェン、ベンゾチオフェン、ナフトチオフェン、ジベンゾチオフェンまたはナフトベンゾチオフェンの１種以上のアルキルおよびジアルキル誘導体を包含する芳香族有機硫黄化合物に由来する１種以上のスルホキシド生成物
を包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
水溶液は２．５重量％〜５０重量％のアセトン濃度を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
水溶液は２．５重量％〜２０重量％のアセトン濃度を有し、抽出対象化合物は非嵩高スルホキシド生成物である、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
水溶液は２０重量％〜５０重量％のアセトン濃度を有し、抽出対象化合物は嵩高スルホキシド生成物である、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
水溶液は２．５重量％〜７０重量％のメタノール濃度を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
水溶液は１０重量％〜３０重量％のメタノール濃度を有し、抽出対象化合物は非嵩高スルホキシド生成物である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
水溶液は３０重量％〜７０重量％のメタノール濃度を有し、抽出対象化合物は嵩高スルホキシド生成物である、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
水溶液は２．５重量％〜６０重量％のアセトニトリル濃度を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
水溶液は５重量％〜３０重量％のアセトニトリル濃度を有し、抽出対象化合物は非嵩高スルホキシド生成物である、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
水溶液は２０重量％〜４０重量％のアセトニトリル濃度を有し、抽出対象化合物は嵩高スルホキシド生成物である、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
水溶液は４０重量％〜５５重量％のアセトニトリル濃度を有し、抽出対象化合物はスルホキシド化生成物である、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
水溶液は２．５重量％〜７０重量％の酢酸濃度を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
水溶液は２．５重量％〜２０重量％の酢酸濃度を有し、抽出対象化合物は非嵩高スルホキシド生成物である、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
水溶液は２０重量％〜４０重量％の酢酸濃度を有し、抽出対象化合物は嵩高スルホキシド生成物である、請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
水溶液は３０重量％〜７０重量％の酢酸濃度を有し、抽出対象化合物はスルホキシド化生成物である、請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】
水溶液は２．５重量％〜７０重量％のギ酸濃度を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
水溶液は２．５重量％〜３０重量％のギ酸濃度を有し、抽出対象化合物は非嵩高スルホキシド生成物である、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
水溶液は３０重量％〜７０重量％のギ酸濃度を有し、抽出対象化合物は嵩高スルホキシド生成物である、請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
水溶液は５０重量％〜７０重量％のギ酸濃度を有し、抽出対象化合物はスルホキシド化生成物である、請求項１７に記載の方法。
【請求項２１】
水溶液は５重量％〜３０重量％のアセトニトリル濃度および５重量％〜３０重量％のギ酸濃度を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項２２】
水溶液は５重量％〜３０重量％の酢酸濃度および５重量％〜３０重量％のアセトン濃度を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項２３】
水溶液は５重量％〜３０重量％のアセトニトリル濃度および５重量％〜３０重量％のアセトン濃度を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項２４】
対象のスルホキシド生成物および／またはスルホキシド化生成物の活量係数は１６．５未満であり、芳香族炭化水素の活量係数は１６．５超である、請求項１に記載の方法。
【請求項２５】
対象のスルホキシド生成物および／またはスルホキシド化生成物の活量係数は１６．５未満であり、未酸化有機硫黄化合物の活量係数は１６．５超である、請求項１に記載の方法。
【請求項２６】
有機硫黄化合物を含有する炭化水素画分をスルホキシド化反応させて、スルホキシド生成物および／またはスルホキシド化生成物を生成する工程；
請求項１に記載されている方法に従って抽出溶媒を用いてスルホキシド生成物および／またはスルホキシド化生成物を抽出する工程；および
低硫黄含量の炭化水素生成物を回収する工程
を含む、酸化脱硫法。
【請求項２７】
加熱により抽出溶媒の少なくとも一部を回収し、それにより対象のスルホキシド生成物および／またはスルホキシド化生成物を取り除く工程を更に含む、請求項２６に記載の酸化脱硫法。
【請求項２８】
対象のスルホキシド生成物および／またはスルホキシド化生成物を液体状で取り除く、請求項２７に記載の酸化脱硫法。
【請求項２９】
対象のスルホキシド生成物および／またはスルホキシド化生成物は固体として沈澱する、請求項２７に記載の酸化脱硫法。
【請求項３０】
低硫黄含量の炭化水素生成物を精製する工程を更に含む、請求項２６に記載の酸化脱硫法。
【請求項３１】
精製工程は水を用いた精製工程を含む、請求項３０に記載の酸化脱硫法。
【請求項３２】
スルホキシド化および抽出を同じ反応装置で行う、請求項２６に記載の酸化脱硫法。
【請求項３３】
スルホキシド化を反応装置で行い、処理済み炭化水素並びにスルホキシド生成物および／またはスルホキシド化生成物を含む反応装置からの流出物を、スルホキシド生成物および／またはスルホキシド化生成物を抽出するための抽出装置に供給する工程を更に含む、請求項２６に記載の酸化脱硫法。
【請求項３４】
光酸化、光化学的酸化、オゾン化、イオン液体酸化、電気化学的酸化、バイオ脱硫、過酸化水素による酸化、有機過酸による酸化、ペルオキソ一リン酸による酸化、酸化窒素による酸化、硝酸による酸化、およびこれら酸化法の組み合わせからなる群から選択される酸化法によってスルホキシド化を実施する、請求項２６に記載の酸化脱硫法。
【請求項３５】
０℃〜４０℃の温度でスルホキシド化を実施する、請求項２６に記載の酸化脱硫法。
【請求項３６】
大気圧下でスルホキシド化を実施する、請求項２６に記載の酸化脱硫法。
【請求項３７】
０℃〜４０℃の温度および大気圧下でスルホキシド化を実施する、請求項２６に記載の酸化脱硫法。
【請求項３８】
スルホキシド生成物および／またはスルホキシド化生成物を含有する炭化水素画分を定性分析して、スルホキシド生成物および／またはスルホキシド化生成物の種類、並びに芳香族炭化水素の種類および／または非芳香族炭化水素の種類を同定する工程；
対象のスルホキシド生成物および／またはスルホキシド化生成物として、１種以上のスルホキシド、または１種以上のスルホキシドと１種以上のスルホンとの混合物を選択する工程；
対象のスルホキシド生成物および／またはスルホキシド化生成物および少なくとも１種の芳香族または非芳香族炭化水素について、様々な抽出溶媒組成物の活量係数ｌｎγを測定する工程；
対象のスルホキシド生成物および／またはスルホキシド化生成物の抽出を最大にする、対象のスルホキシド生成物および／またはスルホキシド化生成物についての活量係数１６．５未満、および少なくとも１種の芳香族または非芳香族炭化水素の共抽出を最少にする、少なくとも１種の芳香族または非芳香族炭化水素についての活量係数１６．５超を有する抽出溶媒組成物を１つ選択する工程
を含む、スルホキシド生成物および／またはスルホキシド化生成物を含有する炭化水素画分からスルホキシド生成物および／またはスルホキシド化生成物を抽出するための抽出溶媒組成物を決定する方法であって、様々な抽出溶媒組成物に包含される抽出溶媒組成物は、２．５重量％〜７０重量％の水中極性有機溶媒濃度を有する水溶液を含んでなり、極性有機溶媒は、アセトン、メタノール、アセトニトリル、酢酸、ギ酸、並びにアセトン、メタノール、アセトニトリル、酢酸およびギ酸の２つ以上を含んでなる混合物からなる群から選択される、方法。
【請求項３９】
有機硫黄化合物を含有する炭化水素画分をスルホキシド化反応させる工程は、スルホキシド生成物を生成するのに有効な条件で運転される、請求項３２または３３に記載の酸化脱硫法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
ある種の高濃度メタノール組成物の活量係数値は、（スルホキシドおよびスルホンを包含する）ある種の嵩高または非嵩高スルホキシド化生成物の好ましい抽出を意味しているが、これらの高濃度（例えば７０重量％超）のメタノール組成物は非対象種も抽出してしまって、多岐にわたる有機硫黄酸化生成物の選択的抽出にとっては特に好ましくないことも、注目に値する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８５】
別の抽出シミュレーションでは、COSMO-RSソフトウェアを使用し、酸化モデルＢ燃料のための抽出溶媒としての酢酸水溶液組成物について、γをシミュレーションした。表５Ｂに示されているように、活量係数値は、ある種の酢酸水溶液組成物が、対応するスルホンおよび未処理有機硫黄化合物の共抽出を最少にしながら、嵩高スルホキシド生成物を選択的に抽出することを示している。また、表５Ｂに示されているように、活量係数値は、ある種の酢酸水溶液組成物が、芳香族化合物、未処理有機硫黄化合物および他の炭化水素の共抽出を最少にしながら、スルホキシドおよびスルホンを包含する嵩高スルホキシド化生成物を選択的に抽出することを示している。表５Ｂの活量係数値に基づくと、ベンゾチオフェンおよびジベンゾチオフェンのアルキルおよびジアルキル誘導体を包含する嵩高スルホキシド化生成物の選択的抽出に有用な酢酸選択的溶媒組成物は、約２０重量％〜約７０重量％の濃度を有する。また、約１０重量％〜約５０重量％の酢酸水溶液選択的溶媒組成物は、ある種のスルホン、芳香族化合物、未処理有機硫黄化合物および他の炭化水素の最少の共抽出を伴った、嵩高スルホキシド生成物の抽出にも有用である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
ある種の高濃度酢酸組成物の活量係数値は、（スルホキシドおよびスルホンを包含する）ある種の嵩高または非嵩高スルホキシド化生成物の好ましい抽出を意味しているが、これらの高濃度（例えば７０重量％超）の酢酸組成物は非対象種も抽出してしまって、多岐にわたる有機硫黄酸化生成物の選択的抽出にとっては特に好ましくないことは、注目に値する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９７】
別の抽出シミュレーションでは、COSMO-RSソフトウェアを使用し、酸化モデルＢ燃料のための抽出溶媒としてのギ酸水溶液組成物について、γをシミュレーションした。結果を表６Ｂに示す。表６Ｂに示されているように、活量係数値は、ある種のギ酸水溶液組成物が、対応するスルホンおよび未処理有機硫黄化合物の共抽出を最少にしながら、嵩高スルホキシド生成物を選択的に抽出することを示している。また、表６Ｂに示されているように、活量係数値は、ある種のギ酸水溶液組成物が、芳香族化合物、未処理有機硫黄化合物および他の炭化水素の共抽出を最少にしながら、スルホキシドおよびスルホンを包含する嵩高スルホキシド化生成物を選択的に抽出することを示している。表６Ｂの活量係数値に基づくと、ベンゾチオフェンおよびジベンゾチオフェンのアルキルおよびジアルキル誘導体を包含する嵩高スルホキシド生成物の選択的抽出に有用なギ酸選択的溶媒組成物は、約２０重量％〜約６０重量％の濃度を有する。また、約５０重量％〜約７０重量％のギ酸水溶液選択的溶媒組成物は、芳香族化合物、未処理有機硫黄化合物および他の炭化水素の最少の共抽出を伴った、スルホキシドおよびスルホンを包含する嵩高スルホキシド化生成物の抽出にも有用である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
ある種の高濃度ギ酸組成物の活量係数値は、（スルホキシドおよびスルホンを包含する）ある種の嵩高または非嵩高スルホキシド化生成物の好ましい抽出を意味しているが、これらの高濃度（例えば７０重量％超）のギ酸組成物は非対象種も抽出してしまって、多岐にわたる有機硫黄酸化生成物の選択的抽出にとっては特に好ましくないことは、注目に値する。