【事件の表示】
　特許第３２４５１１２号「カラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法」の請求項１、２、４、５、７、８に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３２４５１１２号の請求項１、２、４、５、７、８に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件特許第３２４５１１２号の発明は、平成１０年４月２８日に特許出願され、平成１３年１０月２６日にその特許の設定登録がなされたものであり、その後、日野　貴美子より特許異議の申立てがなされ、取消しの理由が通知され、その指定期間内である平成１５年３月１７日に訂正請求がなされたものである。　
　
２．訂正の適否についての判断
（１）［訂正の内容］
　訂正請求書による訂正事項は次のとおりである。
（ａ）特許請求の範囲の請求項１、２、４、５、７、８の「前記ガラス基板上の有機汚染物」を「前記ガラス基板上の前記透明電極パターン上に付着した有機汚染物」と訂正する。
　
（２）［訂正の範囲の適否、拡張・変更の存否］ 
　本件訂正事項（ａ）は、特許明細書の特許請求の範囲に記載された「ガラス基板上の有機汚染物」をより下位概念である「ガラス基板上の前記透明電極パタ一ン上に付着した有機汚染物」と限定しようとするもので、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　したがって、上記訂正事項（ａ）は、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
　
（３）［結び］
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項ただし書及び同条第３項において準用する特許法１２６条第２項から第４項までの規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．特許異議の申立てについて
（１）［申立ての理由の概要］
　特許異議申立人日野　貴美子は、下記甲第１〜４号証を提出し、請求項１、２、４、５、７、８に係る発明は、甲第１号証記載の発明と同一であるか、または甲第１〜４号証記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、請求項１、２、４、５、７、８に係る発明の特許は、特許法第２９条第１項第３号、または同法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであり、取り消すべき旨主張している。
　甲第１号証：特開平１０−５０６４６号公報
　甲第２号証：特開平７−２７１０２０号公報
　甲第３号証：特開平７−２２５３７３号公報
　甲第４号証：特開平８−２２０３３９号公報
　
（２）［本件発明］
　本件請求項１、２、４、５、７、８に係る発明（以下、「本件発明１、２、４、５、７、８」という。）は、訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１、２、４、５、７、８に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
　【請求項１】
　色素部の表面に透明電極パターンが形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法であって、前記透明電極パターンを透過しない波長成分の紫外線を照射することによって前記ガラス基板上の前記透明電極パターン上に付着した有機汚染物を除去することを特徴とするカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法。
　【請求項２】
　色素部の表面にＩＴＯ（酸化インジウムと酸化錫の合金）膜が形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法であって、前記ＩＴＯ膜を透過しない波長成分の紫外線を照射することによって前記ガラス基板上の前記透明電極パターン上に付着した有機汚染物を除去することを特徴とするカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法。
　【請求項４】
　色素部の表面に透明電極パターンが形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法であって、波長１７２ｎｍの紫外線を照射することによって前記ガラス基板上の前記透明電極パターン上に付着した有機汚染物を除去することを特徴とするカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法。
　【請求項５】
　色素部の表面にＩＴＯ（酸化インジウムと酸化錫の合金）膜が形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法であって、波長１７２ｎｍの紫外線を照射することによって前記ガラス基板上の前記透明電極パターン上に付着した有機汚染物を除去することを特徴とするカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法。
　【請求項７】
　色素部の表面に透明電極パターンが形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法であって、波長１８０ｎｍ以下の紫外線を照射することによって前記ガラス基板上の前記透明電極パターン上に付着した有機汚染物を除去することを特徴とするカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法。
　【請求項８】
　色素部の表面にＩＴＯ（酸化インジウムと酸化錫の合金）膜が形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法であって、波長１８０ｎｍ以下の紫外線を照射することによって前記ガラス基板上の前記透明電極パターン上に付着した有機汚染物を除去することを特徴とするカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法。
　
（３）［引用刊行物記載の発明］
　当審が通知した取消しの理由に引用された刊行物、
　刊行物１：特開平１０−５０６４６号公報（甲第１号証）
　刊行物２：特開平７−２７１０２０号公報（甲第２号証）
　刊行物３：特開平７−２２５３７３号公報（甲第３号証）
　刊行物４：特開平８−２２０３３９号公報（甲第４号証）
　刊行物１には、
　「【請求項１】基板上の付着物を除去するための洗浄方法において、洗浄剤を使用するウェット洗浄の直前に、大気中において波長が１７２ｎｍの紫外線を基板の表面に照射することを特徴とする基板の洗浄方法。
　【請求項２】基板上の付着物を除去するための洗浄方法において、洗浄剤を使用するウェット洗浄の直前に、基板を加熱し、加熱された前記基板の表面に大気中において波長が１７２ｎｍの紫外線を照射することを特徴とする基板の洗浄方法。
　【請求項３】基板上の付着物を除去するための洗浄方法において、洗浄剤を使用するウェット洗浄の直前に、大気中において波長が１７２ｎｍの紫外線と遠赤外線とを基板の表面に照射することを特徴とする基板の洗浄方法。
　【請求項４】請求項３に記載の基板の洗浄方法において、前記波長が１７２ｎｍの紫外線を前記基板の一方の側の表面に照射し、前記遠赤外線を前記基板の他方の側の表面に照射することを特徴とする基板の洗浄方法。
　【請求項５】請求項３または４のいずれか１項に記載の基板の洗浄方法において、前記波長が１７２ｎｍの紫外線と遠赤外線とを同時に照射することを特徴とする基板の洗浄方法。」（特許請求の範囲）、
　「本発明は、基板の洗浄方法に関し、さらに詳細には、半導体基板、液晶素子用ガラス基板、カラーフィルタ基板などのような各種の基板の洗浄方法に関し、特に、半導体、液晶素子、カラーフィルタなどの製造工程において、不良の原因となる各種の基板上のゴミや汚れのような有機物や無機物の付着物（以下、単に「付着物」と称する。）を除去する基板の洗浄方法に関する。」（段落【０００１】）、
　「波長が１８４．９ｎｍと２５３．７ｎｍの紫外線によるオゾンラジカルの生成反応式は、図１に示すように、波長が１８４．９ｎｍの紫外線によりＯ2からＯ3を生成し、波長が２５３．７ｎｍの紫外線によりＯ3からＯ（1D）（オゾンラジカル）を生成するというように、必ず２段階の生成過程を必要とするために、オゾンラジカルの発生効率が低く、充分な濃度のオゾンラジカルを発生させることができないものであった。」（段落【０００７】）、
　「従って、本発明のうち請求項１に記載の発明によれば、基板上の付着物を除去するための洗浄方法において、洗浄剤を使用するウェット洗浄の直前に、基板の表面に波長が１７２ｎｍにピークをもつ紫外線を大気中で照射することにより、図２の式１および式２に示す生成反応式によってオゾンラジカルが発生される。これら式１および式２の２つの生成反応式によると、特開平５−２２４１６７号公報に開示された洗浄方法たる波長が１８４．９ｎｍと２５３．７ｎｍとの紫外線の同時照射によるよりも、オゾンラジカルを効率よく多量に発生することができ、オゾンラジカルを高濃度に発生することができる。」（段落【００１１】）が記載されている。
　刊行物２には、
　「ガラス基板１に対向する位置に、カラーフィルター基板となるガラス基板３０が表示電極１２と共通電極３４の間の液晶４２の層が所定の厚みになるように設けられている。ガラス基板３０の表面には遮光機能を持たせたブラックマトリックス２４とＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の三原色で構成されるカラーフィルター３２が形成されている。」（段落【００１９】）、
　「ガラス基板１に対向する位置に、カラーフィルター基板となるガラス基板３０が、表示電極１２と共通電極３４の間の液晶４２の層が所定の厚みになるように設けられている。ガラス基板３０の表面にはＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の三原色の画素で構成されるカラーフィルター３２が形成されている。」（段落【００２３】）が記載されている。
　刊行物３には、
　「図１は、本発明の一実施例に用いるＣＦ基板の断面図である。このＣＦ基板は、ガラス基板１上に遮光パターン（ＢＭ）２を形成した後ＲＧＢ画素３ーａ、３−ｂ、３−ｃを各々フォトリソ法や印刷法において形成している。その際の重なり合の特徴については後述する。その後、ＩＴＯ膜５、配向膜６が形成された後、ラビング処理を施しＣＦ基板に配向規制力を与える。」（段落【００１８】）が記載されている。
　刊行物４には、
　「本発明において、透明な基板としては、液晶表示装置の種類等によっても異なるが、例えば、ソ−ダライムガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラス等の各種のガラス基板、シリコン基板、その他耐熱性を有する透明な高分子化合物の基板等を使用することができる。次に、本発明において、金属薄膜を構成する金属としては、例えば、クロム、アルミニュウム、ニッケル、銅、銀、金、ビスマス、バナジュウム等の金属を使用することができる。更に、本発明において、着色パタ−ンとしては、例えば、着色樹脂膜等を使用することができる。更にまた、本発明において、透明電極としては、例えば、前述のＩＴＯ膜、酸化錫膜、酸化インジュウム膜等を使用することができる。」（段落【００１１】）が記載されている。
　
（４）［対比・判断］
［本件発明１、２について］
　本件発明１、２と刊行物１記載の発明とを対比すると、刊行物１記載の発明は、カラーフィルタ基板などの基板上のゴミや汚れのような有機物や無機物の付着物を除去する洗浄方法に関するもので、その洗浄方法は、従来、波長が１８４．９ｎｍと２５３．７ｎｍの紫外線を用い、オゾンラジカルの生成反応式が２段階の生成過程を必要としていたものを、波長が１７２ｎｍにピークをもつ紫外線を大気中で照射することにより、オゾンラジカルを効率よく多量に発生することができるようになったというものにとどまり、本件発明１、２が具備する「透明電極パターンを透過しない波長成分の紫外線を照射することによって前記ガラス基板上の前記透明電極パターン上に付着した有機汚染物を除去する」という構成を具備していない。
　また、かかる点は、前記刊行物２〜４に記載も示唆もなされていない。
　しかも本件発明１、２は、前記構成を有することで、明細書記載の「紫外線を照射することで、色素部は透明電極層によって保護されたまま、ＩＴＯ膜やＩＺＯ膜上に付着した有機汚染物を効果的に除去することができる、カラー・フィルター用ガラス基板のための優れた洗浄方法及び洗浄機を提供することができる。」といった顕著な効果を奏するものと認められる。
　してみると、本件発明１、２は、刊行物１に記載された発明と同一であるとも、また刊行物１〜４に記載された発明に基づき当業者が容易に発明することができたものとも認められない。
　したがって、本件発明１、２の特許は、特許法第２９条第１項第３号または同法第２９条第２項のいずれの規定にも違反してなされたものではない。
［本件発明４、５について］
　本件発明４、５と刊行物１記載の発明とを対比すると、刊行物１記載の発明は、カラーフィルタ基板などの基板上のゴミや汚れのような有機物や無機物の付着物を除去する洗浄方法に関するもので、その洗浄方法は、従来、波長が１８４．９ｎｍと２５３．７ｎｍの紫外線を用い、オゾンラジカルの生成反応式が２段階の生成過程を必要としていたものを、波長が１７２ｎｍにピークをもつ紫外線を大気中で照射することにより、オゾンラジカルを効率よく多量に発生することができるようになったというものにとどまり、本件発明４、５が具備する「透明電極パターンを透過しない波長成分の紫外線を照射することによって前記ガラス基板上の前記透明電極パターン上に付着した有機汚染物を除去する」という構成を具備していない。
　また、かかる点は、前記刊行物２〜４に記載も示唆もなされていない。
　しかも本件発明４、５は、前記構成を有することで、明細書記載の「紫外線を照射することで、色素部は透明電極層によって保護されたまま、ＩＴＯ膜やＩＺＯ膜上に付着した有機汚染物を効果的に除去することができる、カラー・フィルター用ガラス基板のための優れた洗浄方法及び洗浄機を提供することができる。」といった顕著な効果を奏するものと認められる。
　してみると、本件発明４、５は、刊行物１に記載された発明と同一であるとも、また刊行物１〜４に記載された発明に基づき当業者が容易に発明することができたものとも認められない。
　したがって、本件発明４、５の特許は、特許法第２９条第１項第３号または同法第２９条第２項のいずれの規定にも違反してなされたものではない。
［本件発明７、８について］
　本件発明７、８と刊行物１記載の発明とを対比すると、刊行物１記載の発明は、カラーフィルタ基板などの基板上のゴミや汚れのような有機物や無機物の付着物を除去する洗浄方法に関するもので、その洗浄方法は、従来、波長が１８４．９ｎｍと２５３．７ｎｍの紫外線を用い、オゾンラジカルの生成反応式が２段階の生成過程を必要としていたものを、波長が１７２ｎｍにピークをもつ紫外線を大気中で照射することにより、オゾンラジカルを効率よく多量に発生することができるようになったというものにとどまり、本件発明７、８が具備する「波長１８０ｎｍ以下の紫外線を照射することによって前記ガラス基板上の前記透明電極パターン上に付着した有機汚染物を除去する」という構成を具備していない。
　また、かかる点は、前記刊行物２〜４に記載も示唆もなされていない。
　しかも本件発明７、８は、前記構成を有することで、明細書記載の「紫外線を照射することで、色素部は透明電極層によって保護されたまま、ＩＴＯ膜やＩＺＯ膜上に付着した有機汚染物を効果的に除去することができる、カラー・フィルター用ガラス基板のための優れた洗浄方法及び洗浄機を提供することができる。」といった顕著な効果を奏するものと認められる。
　してみると、本件発明７、８は、刊行物１に記載された発明と同一であるとも、また刊行物１〜４に記載された発明に基づき当業者が容易に発明することができたものとも認められない。
　したがって、本件発明７、８の特許は、特許法第２９条第１項第３号または同法第２９条第２項のいずれの規定にも違反してなされたものではない。
　
（５）［結び］
　したがって、特許異議申立ての理由および証拠によっては、本件発明についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１５年４月２２日（２００３．４．２２）
【訂正の要旨】
　（ａ）特許請求の範囲の請求項１、２、４、５、７、８の「前記ガラス基板上の有機汚染物」を「前記ガラス基板上の
前記透明電極パターン上に付着した
（５４）【発明の名称】
カラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　色素部の表面に透明電極パターンが形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法であって、前記透明電極パターンを透過しない波長成分の紫外線を照射することによって前記ガラス基板上の
前記透明電極パターン上に付着した
　【請求項２】
　色素部の表面にＩＴＯ（酸化インジウムと酸化錫の合金）膜が形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法であって、前記ＩＴＯ膜を透過しない波長成分の紫外線を照射することによって前記ガラス基板上の
前記透明電極パターン上に付着した
　【請求項３】
　色素部の表面にＩＺＯ（酸化インジウムと酸化亜鉛の合金）膜が形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法であって、前記ＩＺＯ膜を透過しない波長成分の紫外線を照射することによって前記ガラス基板上の有機汚染物を除去することを特徴とするカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法。
　【請求項４】
　色素部の表面に透明電極パターンが形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法であって、波長１７２ｎｍの紫外線を照射することによって前記ガラス基板上の
前記透明電極パターン上に付着した
　【請求項５】
　色素部の表面にＩＴＯ（酸化インジウムと酸化錫の合金）膜が形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法であって、波長１７２ｎｍの紫外線を照射することによって前記ガラス基板上の
前記透明電極パターン上に付着した
　【請求項６】
　色素部の表面にＩＺＯ（酸化インジウムと酸化亜鉛の合金）膜が形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法であって、波長１７２ｎｍの紫外線を照射することによって前記ガラス基板上の有機汚染物を除去することを特徴とするカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法。
　【請求項７】
　色素部の表面に透明電極パターンが形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法であって、波長１８０ｎｍ以下の紫外線を照射することによって前記ガラス基板上の
前記透明電極パターン上に付着した
　【請求項８】
　色素部の表面にＩＴＯ（酸化インジウムと酸化錫の合金）膜が形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法であって、波長１８０ｎｍ以下の紫外線を照射することによって前記ガラス基板上の
前記透明電極パターン上に付着した
　【請求項９】
　色素部の表面にＩＺＯ（酸化インジウムと酸化亜鉛の合金）膜が形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法であって、波長１８０ｎｍ以下の紫外線を照射することによって前記ガラス基板上の有機汚染物を除去することを特徴とするカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明は、カラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法及び洗浄機に係り、特に、色素部の表面にＩＴＯ（酸化インジウムと酸化錫の合金）膜やＩＺＯ（酸化インジウムと酸化亜鉛の合金）膜などの透明電極パターンが形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法及び洗浄機に関する。更に詳しくは、本発明は、紫外線を照射することでＩＴＯ膜やＩＺＯ膜上に付着した有機汚染物を除去することができるカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法及び洗浄機に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　昨今の技術革新とともに、ラップトップ、あるいはノートブックと呼ばれるタイプの携行性に優れたＰＣ（パーソナル・コンピュータ）が開発・製造され、広汎に普及している。これら携帯型のＰＣは、一般に、液晶、ＥＬ（ＥｌｅｃｔｒｏＬｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ）、プラズマなどを利用した各種表示装置を利用している。これは、この種の表示装置が薄型軽量で且つ低消費電力であり、携行性を阻害しないからである。
　【０００３】
　この種の表示装置は、電極ガラス基板を主要構成部品として含んでいる。例えば液晶表示装置は、２枚のガラス基板を利用して、これらガラス基板の間隙に液晶組成物を充填して構成されている。液晶組成物を挟んだガラス基板の表面には、液晶組成物に電界を印加するための透明電極が、表示内容に対応したパターン状に形成されている。カラー表示用の液晶の場合、２枚のガラス基板のうち上部はカラー・フィルターとして機能する。この場合には、透明電極は、通常、Ｒ，Ｇ，Ｂ夫々の色を表現するための色素部の表面上を覆うようにして成膜される。そして、透明電極としてはＩＴＯ（酸化インジウムと酸化錫の合金）やＩＺＯ（酸化インジウムと酸化亜鉛の合金）などの合金が用いられるのが一般的である。例えばＩＴＯ膜は、まずガラス基板上にＩｎ−Ｓｎ系金属を蒸着した後に、これを焼成・酸化処理することによって透明導電膜にされる。
　【０００４】
　図８にはカラー・フィルタの断面図を示している。同図に示すように、ガラス基板上には、ＢＭ（Ｂｌａｃｋ　Ｍａｔｒｉｘ）層、色素部の順で成膜されている。ガラス基板は、例えば無アルカリほうけい酸ガラス又は石英ガラスでできており、厚み０．７ｍｍを有する。また、色素部は、Ｒ、Ｇ、Ｂからなる３原色のうちの一色に調色され、さらにその上面は、膜厚１５００±２００オングストロームのＩＴＯなどの透明導電膜で被覆されている。ＢＭ層は、画素の有効部分以外の光の透過を遮断して黒を強調することによってコントラスト比を出すために形成された層であり、一般にＣｒなどの金属を用いてカラー・フィルタ層の下に配設される（周知）。
　【０００５】
　ところで、ガラス基板はとりわけ密着力が強いため染料などが不要な有機物として付着し易い。例えばガラス基板表面に有機汚染物等が付着していると、液晶組成物を挟み込む際に液晶を変質させてしまったり、表示に欠損部分を作ってしまうなどの不具合が生じる危惧がある。このため、ＩＴＯ膜やＩＺＯ膜などの透明電極を備えたガラス基板を製造するに当たっては、ガラス基板を清浄な状態に保つことが不可欠である。
　【０００６】
　当業界では、有機物除去には紫外線洗浄が有効であることは広く知られている。これは、紫外線の持つ光化学作用、すなわち紫外線の照射により活性酸素が発生し、この活性酸素の作用により有機物が酸化されて揮発性分子に変化する、というメカニズムに依るものである。
　【０００７】
　しかしながら、紫外線照射による有機物洗浄の場合、ガラス基板全面が紫外線に晒されてしまうため、不要な有機物の外、基板上の必要な有機物まで損傷してしまいかねない。
　【０００８】
　現在、製造ライン等で普及しているこの種のガラス基板用洗浄機は、出力波長２５４ｎｍの低圧水銀灯を用いたもののみである。２５４ｎｍなどの比較的長い波長成分を持つ紫外線はＩＴＯ膜やＩＺＯ膜などの透明電極層を透過してしまう。透明電極層を透過した紫外線は、不要な有機物の除去作用の外に、色素部に対して褪色などの悪影響を及し、カラー・フィルターとしての特性を劣化させてしまう。このため、紫外線洗浄には照射時間を制限するなどの問題点を伴っていた。照射時間を制限すれば、洗浄力は自ずと低下する。
　【０００９】
　例えばＩＴＯ膜やＩＺＯ膜の膜厚を大きくすることによって色素部を紫外線照射から保護する、という安直な解決法も考えられよう。しかしながら、ＩＴＯ膜やＩＺＯ膜の透過率を高めるという要請から、膜厚は１３００〜１７００オングストロームの範囲内にせざるを得ない。
　【００１０】
　【発明が解決しようとする課題】
　本発明の目的は、カラー・フィルター用ガラス基板のための優れた洗浄方法及び洗浄機を提供することにある。
　【００１１】
　本発明の更なる目的は、色素部の表面にＩＴＯ（酸化インジウムと酸化錫の合金）膜やＩＺＯ（酸化インジウムと酸化亜鉛の合金）膜などの透明電極パターンが形成されたガラス基板のための、優れた洗浄方法及び洗浄機を提供することにある。
　【００１２】
　本発明の更なる目的は、紫外線を照射することでＩＴＯ膜やＩＺＯ膜上に付着した有機汚染物を効果的に除去することができる、カラー・フィルター用ガラス基板のための優れた洗浄方法及び洗浄機を提供することにある。
　【００１３】
　【課題を解決するための手段】
　本発明は、上記課題を参酌してなされたものであり、その第１の側面は、色素部の表面に透明電極パターンが形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法であって、前記透明電極パターンを透過しない波長成分の紫外線を照射することによって前記ガラス基板上の有機汚染物を除去することを特徴とするカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法である。
　【００１４】
　また、本発明の第２の側面は、色素部の表面にＩＴＯ（酸化インジウムと酸化錫の合金）膜が形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法であって、前記ＩＴＯ膜を透過しない波長成分の紫外線を照射することによって前記ガラス基板上の有機汚染物を除去することを特徴とするカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法である。
　【００１５】
　また、本発明の第３の側面は、色素部の表面にＩＺＯ（酸化インジウムと酸化亜鉛の合金）膜が形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法であって、前記ＩＺＯ膜を透過しない波長成分の紫外線を照射することによって前記ガラス基板上の有機汚染物を除去することを特徴とするカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法である。
　【００１６】
　また、本発明の第４の側面は、色素部の表面に透明電極パターンが形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法であって、波長１７２ｎｍの紫外線を照射することによって前記ガラス基板上の有機汚染物を除去することを特徴とするカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法である。
　【００１７】
　また、本発明の第５の側面は、色素部の表面にＩＴＯ（酸化インジウムと酸化錫の合金）膜が形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法であって、波長１７２ｎｍの紫外線を照射することによって前記ガラス基板上の有機汚染物を除去することを特徴とするカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法である。
　【００１８】
　また、本発明の第６の側面は、色素部の表面にＩＺＯ（酸化インジウムと酸化亜鉛の合金）膜が形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法であって、波長１７２ｎｍの紫外線を照射することによって前記ガラス基板上の有機汚染物を除去することを特徴とするカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法である。
　【００１９】
　また、本発明の第７の側面は、色素部の表面に透明電極パターンが形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法であって、波長１８０ｎｍ以下の紫外線を照射することによって前記ガラス基板上の有機汚染物を除去することを特徴とするカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法である。
　【００２０】
　また、本発明の第８の側面は、色素部の表面にＩＴＯ（酸化インジウムと酸化錫の合金）膜が形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法であって、波長１８０ｎｍ以下の紫外線を照射することによって前記ガラス基板上の有機汚染物を除去することを特徴とするカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法である。
　【００２１】
　また、本発明の第９の側面は、色素部の表面にＩＺＯ（酸化インジウムと酸化亜鉛の合金）膜が形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法であって、波長１８０ｎｍ以下の紫外線を照射することによって前記ガラス基板上の有機汚染物を除去することを特徴とするカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄方法である。
　【００２２】
　また、本発明の第１０の側面は、色素部の表面に透明電極パターンが形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄機であって、所定雰囲気を保つためのチャンバーと、ガラス基板を搭載するための載置台と、前記透明電極パターンを透過しない波長成分の紫外線を出力する光源と、前記光源が紫外線を照射した際に発生するオゾンの処理をするためのオゾン・フィルタ及びオゾン・センサと、を含むことを特徴とするカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄機である。
　【００２３】
　また、本発明の第１１の側面は、色素部の表面に透明電極パターンが形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄機であって、所定雰囲気を保つためのチャンバーと、ガラス基板を搭載するための載置台と、波長１７２ｎｍの紫外線を出力する光源と、前記光源が紫外線を照射した際に発生するオゾンの処理をするためのオゾン・フィルタ及びオゾン・センサと、を含むことを特徴とするカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄機である。
　【００２４】
　また、本発明の第１２の側面は、色素部の表面に透明電極パターンが形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄機であって、所定雰囲気を保つためのチャンバーと、ガラス基板を搭載するための載置台と、波長１８０ｎｍ以下の紫外線を出力する光源と、前記光源が紫外線を照射した際に発生するオゾンの処理をするためのオゾン・フィルタ及びオゾン・センサと、を含むことを特徴とするカラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄機である。
　【００２５】
　ここで、前記載置台は搭載したガラス基板の位置決めするための水平移動機構及び照射位置を定めるための上昇・下降機構を含んでいてもよい。
　【００２６】
　また、カラー・フィルター用ガラス基板のための洗浄機は、さらにガラス基板を搬入するための搬入コンベアと、洗浄処理後のガラス基板を搬出するための搬出コンベアを含んでいてもよい。
　【００２７】
　【作用】
　本発明は、本発明者による先験的な実験データに基づいて得られた透明電極（ＩＴＯ及びＩＺＯなど）の物理的・光学的特性に依拠するものである。
　【００２８】
　すなわち、本発明者による実験によれば、波長１８０ｎｍ以下となる紫外線はＩＴＯ膜やＩＺＯ膜などの透明電極層をを透過しないことが判明した（後述）。したがって、波長１８０ｎｍ以下（例えば１７２ｎｍ）という出力光を持つ光源を用いて紫外線洗浄を行えば、色素部はＩＴＯ膜やＩＺＯ膜によって保護されることになる。この結果、色素部は褪色などの悪影響を被らずに紫外線洗浄を行うことができる。また、紫外線の照射時間を制限する必要がないことから、洗浄力を向上させることもできる。。
　【００２９】
　本発明のさらに他の目的、特徴や利点は、後述する本発明の実施例や添付する図面に基づくより詳細な説明によって明らかになるであろう。
　【００３０】
　【発明の実施の形態】
　以下、図面を参照しながら本発明の実施例を詳解する。
　【００３１】
　［作用］の項で上述したように、本発明は、本発明者による先験的な実験データに基づいて得られた透明電極（ＩＴＯ及びＩＺＯなど）の物理的・光学的特性に依拠する。ここでは、実施例を詳解する前に、まずこの先験的な実験データについて言及することにする。
　【００３２】
　図１は、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）膜の透過率の波長依存特性を示したグラフであり、横軸を照射紫外光の波長［μｍ］とし、縦軸を透過率［％］とする。同図から判るように、波長１８０ｎｍ以下では、酸化インジウム膜の透過率はほとんど０％となる。例えば、光源照度２８．８［ｍＷ／ｃｍ２］で波長１７２ｎｍの紫外光をカラー・フィルターに照射した場合、酸化インジウム膜のない部分では石英ガラス基板の透過率は９４．５％となるのに対して、酸化インジウム膜のある部分ではその透過率は０％に等しい。
　【００３３】
　図２及び図３には、酸化インジウム膜がない場合とある場合各々における紫外光照射による色素部の色度への影響を示している。但し、使用した紫外光は波長を１７２ｎｍとし、照射時間を９０分とする。また、酸化インジウム膜の膜厚は１５００±２００オングストロームとする。図２に示すように、酸化インジウム膜がない場合には、Ｒ，Ｇ，Ｂ各々の色素部ともに褪色が顕著に認められる。これは、各色素部が紫外線を直接浴びることによって、エッチング現象が発生して特性が変化／劣化することに依拠すると思われる。他方、図３に示すように、酸化インジウム膜がある場合には、褪色がほとんど全く見受けられない。これは、酸化インジウム膜が波長１７２ｎｍの紫外光を通過させない結果として色素部が保護されたからに外ならない。
　【００３４】
　また、図４及び図５には、酸化インジウム膜がない場合とある場合各々における紫外光照射による分光特性への影響を示している。但し、使用した紫外光は波長を１７２ｎｍとし、照射時間を９０分とする。また、酸化インジウム膜の膜厚は１５００±２００オングストロームとする。図４に示すように、酸化インジウム層がない場合には、Ｒ，Ｇ，Ｂ各々の色素部ともに分光特性の著しい変化が確認される。これは、各色素部が紫外線を直接浴びることによって、エッチング現象が発生して特性が変化／劣化することに依拠すると思われる。他方、図５に示すように、酸化インジウム層がある場合には、分光特性の変化はほとんど全く見受けられない。これは、酸化インジウム膜が波長１７２ｎｍの紫外光を通過させない結果として色素部が保護されたからに外ならない。
　【００３５】
　図１〜５を用いて説明したように、要するに、酸化インジウムなどの透明電極層は波長１８０ｎｍ以下（例えば１７２ｎｍ）の紫外光を遮蔽する特性を持ち、その下層の色素部を保護する役割をも果たす。したがって、波長１８０ｎｍ以下（例えば１７２ｎｍ）という出力光を持つ光源を用いて紫外線洗浄を行えば、色素部は透明電極層によって保護されたまま、不要な有機物を除去することができる。洗浄の際、色素部は褪色などの悪影響を被らずに済む。また、紫外線の照射時間を制限する必要がなくなる訳である。
　【００３６】
　図６には、本発明を実現するのに適した紫外線洗浄機１００の構成を模式的に示している。この紫外線洗浄機１００は、カラー・フィルター用ガラス基板の洗浄に適するようにデザインされている。
　【００３７】
　同図に示すように、紫外線洗浄機１００は、紫外線の照射光源である紫外線照射装置１０と、照射位置にてガラス基板を載置するための照射ステージ２０と、紫外線の照射に伴うオゾン処理のためのオゾン・フィルタ３１及びオゾン・センサ３２と、有機物洗浄処理を施すためのガラス基板を搬入するための搬入コンベア４０と、洗浄処理後のガラス基板を搬出するための搬出コンベア５０とで構成され、これら各部は同一チャンバー７０内に収容された格好となっている。
　【００３８】
　紫外線照射装置１０は、紫外線を出力し、対向して配置されたガラス基板を照射するためのものである。紫外線を浴びたガラス基板表面では、光化学作用が促進されて、表面の不要な有機物が除去される。より具体的には、紫外線が大気中の酸素分子に作用することによって、活性酸素（すなわち励起された酸素原子）とオゾンが発生する。このうち、活性酸素の作用によって照射表面上の有機物が酸化されて揮発分子に変化し、付着状態が解かれて除去される訳である。
　【００３９】
　紫外線照射による洗浄メカニズム自体は当業界で既に周知である。本実施例において特徴的なのは、紫外線照射装置１０の照射光の波長が１８０ｎｍ以下に限定されている点である。既に詳解したように、酸化インジウムなどの透明電極層は波長１８０ｎｍ以下の紫外光を遮蔽する特性を持ち、その下層の色素部を保護する役割をも果たす。したがって、波長１８０ｎｍ以下という出力光を持つ光源を用いて紫外線洗浄を行えば、色素部は透明電極層によって保護されたまま、不要な有機物を除去することができる。また、照射時間を制限しなくても、色素部は褪色などの悪影響を被らずに済む。
　【００４０】
　波長１８０ｎｍ以下の紫外光のみを照射する照射光源は、例えばウシオ電機株式会社（本社：東京都千代田区大手町２−６−１）によって市販されている（但し、同光源の出力波長は１７２ｎｍ）。標準光源や実験室レベルで考えられる光源としては、この外に、Ｄ２ランプ（重水素ランプ）やアルゴン・ランプ、クリプトン・ランプなどを候補として挙げることができよう（但し、本出願時においてはこれらの光源は、非常に低出力で且つ照射範囲が狭く、洗浄処理に適用することは困難である）。なお、光源の波長は、光の放電空間中のガス原子の種類とガス温度（プラズマ温度）に依存している。先述のウシオ電機製の光源ランプはキセノンが充填されている（但し、いわゆるキセノン・ランプとは別物）。プラズマ温度は、プラズマを発生させる電極の構造などにも関係がある。
　【００４１】
　照射ステージ２０は、ガラス基板を載置し固定するとともに、これを照射位置に設定するための装置である。より具体的には、照射ステージ２０は、搬入コンベア４０を介して供給されたガラス基板を吸引方式で固定する吸引機構と、ガラス基板の水平位置を設定するためのＸＹ軸テーブルと、ステージ２０を上昇／下降させて紫外光の照射位置を設定するためのＺ軸テーブルとを含んでいる。吸引機構やＸＹＺ軸テーブルは当業界において周知慣用の装置をそのまま利用できるので、ここではこれ以上説明しない。
　【００４２】
　オゾン・フィルタ３１及びオゾン・センサ３２は、紫外線の照射に伴うオゾン処理のために、チャンバー７０内に配設されている。紫外光を大気中で照射した場合、活性酸素（励起された酸素原子）の外に、オゾンが生成される（周知）。すなわち、活性酸素によって有機物が分解されて洗浄処理がなされる一方で、チャンバー７０内にはオゾンが残存することになる（反応式はＯ２→Ｏ３→Ｏ２＋Ｏ）。周知のようにオゾンは人体に害があるため、安全衛生の観点から、オゾンをオゾン・フィルタ３１によって分解した後に装置１００の外に排気する。また、オゾン・センサ３２は、チャンバー７０内のオゾン濃度を監視するために設けられている。オゾン・フィルタ３１やオゾン・センサ３２は周知慣用の装置をそのまま利用することができ、またオゾンの排気処理自体は本発明の構成や作用とは無関係なので、ここではこれ以上説明しない。
　【００４３】
　搬入コンベア４０と搬出コンベア５０は、洗浄処理の対象物であるガラス基板をチャンバー７０内に搬入し、洗浄後に搬出するために設けられている。これらコンベア４０／５０は、本発明の特徴を構成するものではなく、従来の方式をそのまま採用することもできるので、ここでは敢えて詳細に説明することはない。
　【００４４】
　チャンバー７０は、洗浄が行われている雰囲気を一時的に外気と隔離する役割を果たす。紫外線洗浄工程では、大気中の酸素を消費しながらオゾンや二酸化炭素や水を生成する。このため、チャンバー７０内の雰囲気を大気に保つ必要がある。すなわち、生成されたオゾンを処理しつつ、これら生成物をチャンバー７０外に排気しなければならない。
　【００４５】
　次いで、この洗浄装置１００による洗浄動作のフローを考察してみる。図７には、装置１００の動作フローを模式的に示している。
　【００４６】
　搬入コンベア４０は、ガラス基板をチャンバー７０内に搬入する（ステップＳ１００）。ガラス基板が照射ステージ２０まで届くと、搬入コンベア４０は停止する（ステップＳ１２０）。
　【００４７】
　次いで、照射ステージ２０は、載置したガラス基板が適正な照射範囲に入るように、その水平位置を定め（ステップＳ１４０）、ガラス基板を吸引して固定する（ステップＳ１６０）。
　【００４８】
　次いで、照射ステージ２０は、載置したガラス基板が適正な照射距離になるまで上昇する（ステップＳ１８０）。
　【００４９】
　この時点で、紫外線洗浄処理のための設定が完了している。そこで、紫外線洗浄装置１０はガラス基板に向かって紫外光を照射し、洗浄が実行される（ステップＳ２００）。
　【００５０】
　紫外線が大気中の酸素分子に作用することによって、活性酸素が発生する。活性酸素の作用によって照射表面上の有機物が酸化されて揮発分子に変化し、付着状態が解かれて除去される。本実施例において特徴的なのは、紫外線照射装置１０の照射光の波長が１８０ｎｍ以下に限定されている点である。既に詳解したように、酸化インジウムなどの透明電極層は波長１８０ｎｍ以下の紫外光を遮蔽する特性を持ち、その下層の色素部を保護する役割をも果たす。したがって、波長１８０ｎｍ以下という出力光を持つ光源を用いて紫外線洗浄を行えば、色素部は透明電極層によって保護されたまま、不要な有機物を除去することができる。また、照射時間を制限しなくても、色素部は褪色などの悪影響を被らずに済む。
　【００５１】
　洗浄処理が完了すると、照射ステージ２０は下降して、載置したガラス基板は照射距離から外れる（ステップＳ２２０）。
　【００５２】
　次いで、照射ステージ２０は、ガラス基板の吸引を解除する（ステップＳ２４０）。
　【００５３】
　次いで、搬出コンベア５０は、洗浄処理済みのガラス基板を照射ステージ２０から引き取って、チャンバー７０外に搬出する（ステップＳ２６０）。
　【００５４】
　次いで、ステップＳ１００に復帰して、次のガラス基板の洗浄処理を開始してもよい。
　【００５５】
　なお、これら一連の処理の間、オゾン・フィルタ３１及びオゾン・センサ３２との協働的動作によって、チャンバー７０内は常に換気され大気に保たれる必要がある。
　【００５６】
追補
　以上、特定の実施例を参照しながら、本発明について詳解してきた。しかしながら、本発明の要旨を逸脱しない範囲で当業者が該実施例の修正や代用を成し得ることは自明である。すなわち、例示という形態で本発明を開示してきたのであり、限定的に解釈されるべきではない。本発明の要旨を判断するためには、冒頭に記載した特許請求の範囲の欄を参酌すべきである。
　【００５７】
　【発明の効果】
　以上詳記したように、本発明によれば、カラー・フィルター用ガラス基板のための優れた洗浄方法及び洗浄機を提供することができる。
　【００５８】
　また、本発明によれば、色素部の表面にＩＴＯ（酸化インジウムと酸化錫の合金）膜やＩＺＯ（酸化インジウムと酸化亜鉛の合金）膜などの透明電極パターンが形成されたカラー・フィルター用ガラス基板のための、優れた洗浄方法及び洗浄機を提供することができる。
　【００５９】
　また、本発明によれば、紫外線を照射することでＩＴＯ膜やＩＺＯ膜上に付着した有機汚染物を効果的に除去することができる、カラー・フィルター用ガラス基板のための優れた洗浄方法及び洗浄機を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　図１は、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）膜の透過率の波長依存特性を示したグラフである。
　【図２】
　図２は、酸化インジウム膜がない場合における紫外光照射による色素部の色度への影響を示した図である。
　【図３】
　図３は、酸化インジウム膜がある場合における紫外光照射による色素部の色度への影響を示した図である。
　【図４】
　図４は、酸化インジウム膜がない場合における紫外光照射による分光特性への影響を示した図である。
　【図５】
　図５は、酸化インジウム膜がある場合における紫外光照射による分光特性への影響を示した図である。
　【図６】
　図６は、本発明を実現するのに適した紫外線洗浄機１００の構成を模式的に示した図である。
　【図７】
　図７は、紫外線洗浄機１００の動作フローを模式的に示した図である。
　【図８】
　図８は、カラー・フィルタの断面を示した図である。
　【符号の説明】
　１０…紫外線照射装置、２０…照射ステージ、３１…オゾン・フィルタ、
　３２…オゾン・センサ、４０…搬入コンベア、５０…搬出コンベア、
　７０…チャンバー、１００…紫外線洗浄機。