(57)【要約】【課題】供給側ロールと巻取側ロールとの間でテンションを与えたフレキシブル基板を搬送する搬送系を有する露光装置において、フレキシブル基板に与えるテンションが露光精度に悪影響を与えることがない露光装置を得る。【解決手段】基板載置面（３１ａ）を有する基板載置台（３１）と、フレキシブル基板（Ｗ）を搬送する搬送手段と、を有する露光装置において、上記フレキシブル基板を低テンション状態で接近させて上記基板載置面に載置する基板支持手段（６２）を有する露光装置。【選択図】図１
2018205330.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板載置面を有する基板載置台と、
フレキシブル基板を搬送する搬送手段と、
を有する露光装置において、
上記フレキシブル基板が低テンション状態で上記基板載置面に載置する基板支持手段を有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
請求項１に記載の露光装置において、
上記基板支持手段は、上記フレキシブル基板を搬送するときよりもテンションを低下させることで、上記フレキシブル基板を低テンション状態とする露光装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の露光装置において、
上記基板支持手段は、上記基板載置面と上記フレキシブル基板との接近に応じて、上記基板載置面と上記フレキシブル基板とが接触する面積を拡大させる露光装置。
【請求項４】
請求項３に記載の露光装置において、
上記フレキシブル基板の上記基板載置面に接近して接触する部分は、テンションが解除された状態で上記基板載置面に接触する露光装置。
【請求項５】
請求項１に記載の露光装置において、
上記基板支持手段は、
上記フレキシブル基板を、上記基板載置面から離間する離間位置と、上記基板載置面に沿って接触する載置位置との間で移動させる基板移動手段を備え、
上記基板移動手段が上記フレキシブル基板を上記離間位置から上記載置位置へ移動させる間に、上記フレキシブル基板にかかるテンションを低下させることで上記フレキシブル基板を低テンション状態とする露光装置。
【請求項６】
請求項５に記載の露光装置において、
上記基板支持手段は、
上記離間位置と上記載置位置との間で、上記フレキシブル基板を支持する位置の間隔を変化させている露光装置。
【請求項７】
基板載置面を有する基板載置台と、
上記基板載置面に載置されたフレキシブル基板にパターンを露光する露光手段と、
を有する露光装置において、
上記フレキシブル基板を上記基板載置面から離間する方向に変形させた後、上記基板載置面上に自重により降下させて低テンション状態で上記基板載置面に沿わせる基板支持手段、
を有することを特徴とする露光装置。
【請求項８】
請求項７に記載の露光装置において、
上記基板支持手段は、
上記基板載置台の上記基板搬送方向両側に位置する第１の基板支持部及び第２の基板支持部と、
上記第１の基板支持部と第２の基板支持部の少なくとも一方を上記基板載置面を含む基準面に対して突出するように移動させる昇降手段と、
上記第１と第２の基板支持部より上記基板載置台から離れた側に位置する、上記フレキシブル基板を制動する第１の制動手段及び第２の制動手段と、
を備える露光装置。
【請求項９】
長尺のフレキシブル基板を基板載置面上に搬送するステップと、
上記基板載置面上に位置している上記フレキシブル基板の一部を上記基板載置面に接触させるステップと、
上記基板載置面と上記フレキシブル基板とが接触する面積を拡大するステップと、
を有することを特徴とする基板載置方法。
【請求項１０】
長尺のフレキシブル基板を基板載置面上に搬送するステップと、
上記基板載置面上に位置している上記フレキシブル基板のテンションを低下させるステップと、
テンションが低下した上記フレキシブル基板を上記基板載置面に吸着するステップと、
を有することを特徴とする基板載置方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、供給側ロールと巻取側ロールとの間で長尺基板（長尺感光材料、フレキシブル基板）を移動させながら露光するいわゆるロールトゥロール方式の露光装置及び基板載置面にフレキシブル基板を載置する基板載置方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
長尺帯状の柔軟な長尺基板（フレキシブル基板）用の露光装置においては、供給側ロールに巻回されたフレキシブル基板を巻取側ロールに巻き取る搬送系が一般的に用いられている。このような露光装置においては、露光ステージ（基板載置面）の前後（基板供給側を前、基板巻取側を後とする）に位置する供給側ロールと巻取側ロールの間でフレキシブル基板を搬送し、露光の前に、露光ステージにフレキシブル基板を吸着し固定している。このようなフレキシブル基板の搬送系では、両ロール間のフレキシブル基板に弛みが生じないように、ダンサーローラ等のテンション付与手段によりフレキシブル基板にテンションを掛ける（付与する）のが普通であった（特許文献１、特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１５−２２２３７０号公報
【特許文献２】特開２００９−２１６８６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
すなわち、テンションが掛かった状態のフレキシブル基板を露光ステージに吸着固定し、この吸着固定状態で露光を行っている。従来は露光パターンの精細度に対してテンションによるフレキシブル基板の変形量が小さかった（露光パターンがそれほど精細ではなかったのでフレキシブル基板の変形の許容量が大きかった）ため、吸着固定状態で若干のテンションが加わっていたとしても、露光精度への影響は無視できると考えられていた。
【０００５】
ところが、本発明者らによると、近年の露光装置に要求される露光パターンの高精細化により、フレキシブル基板にかかるテンションが露光精度に無視できない悪影響を与えることが判明した。すなわち、フレキシブル基板にテンションを付与すると、フレキシブル基板に変形が生じる。そして、テンションを開放すると変形したフレキシブル基板は復元する。そのため、テンションが掛かった状態のフレキシブル基板を露光ステージが吸着し、露光を行うと、テンション及び吸着を開放したとき、フレキシブル基板に露光したパターンの位置や形状に誤差を生じる。これは、変形したフレキシブル基板を露光ステージが吸着固定しているため、フレキシブル基板に設けられたアライメントマーク位置に誤差が生じており、この誤差がパターンの露光位置誤差の要因となるためである。さらに、露光ステージに固定されたフレキシブル基板に対して歪みのないパターンを露光しても、露光後にフレキシブル基板に掛かったテンションを開放すると、変形したフレキシブル基板の復元に伴って露光したパターン形状に歪みが生じることになる。本発明者らによれば、露光ステージにフレキシブル基板を吸着した後にテンションを開放しても、基板変形は復元しない。昨今の露光パターンの配線の微細化、高密度化により、露光したパターンの位置誤差や歪みに対する許容値は小さくなって来ており、基板変形の少ない状態でパターン露光を行う露光装置が望まれている。
【発明の目的】
【０００６】
本発明は従って、供給側ロールと巻取側ロールとの間でテンションを与えたフレキシブル基板を搬送する搬送系を有する露光装置において、フレキシブル基板に与えるテンションが露光精度に悪影響を与えることがない（少ない）露光装置を得ることを目的とする。また、本発明は、フレキシブル基板に与えるテンションが露光精度に悪影響を与えることがないように、基板載置面にフレキシブル基板を載置することができる基板載置方法を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、フレキシブル基板にテンションを与えていない状態（フレキシブル基板が変形していない状態）で露光ステージに吸着させ露光を行なうことで、フレキシブル基板に形成した（する）パターンの位置と形状精度を良好に保つという着眼に基づいて完成されたものである。
【０００８】
本発明は、基板載置面を有する基板載置台と、フレキシブル基板を搬送する搬送手段と、を有する露光装置において、上記フレキシブル基板を低テンション状態で上記基板載置面に載置する基板支持手段を有することを特徴とする。
【０００９】
上記基板支持手段は、上記フレキシブル基板を搬送するときよりもテンションを低下させることで、上記フレキシブル基板を低テンション状態にすることができる。
【００１０】
上記基板支持手段は、上記基板載置面と上記フレキシブル基板との接近に応じて、上記基板載置面と上記フレキシブル基板とが接触する面積を拡大さることができる。
【００１１】
上記フレキシブル基板の上記基板載置面に接近して接触する部分は、テンションが解除された状態で上記基板載置面に接触することが好ましい。
【００１２】
上記基板支持手段は、上記フレキシブル基板を、上記基板載置面から離間する離間位置と、上記基板載置面に沿って接触する載置位置との間で移動させる基板移動手段を備え、上記基板移動手段が上記フレキシブル基板を上記離間位置から上記載置位置へ移動させる間に、上記フレキシブル基板にかかるテンションを低下させることで上記フレキシブル基板を低テンション状態とする。
【００１３】
上記基板支持手段は、上記離間位置と上記載置位置との間で、上記フレキシブル基板を支持する位置の間隔を変化させてもよい。
【００１４】
本発明の露光装置は、別の態様では、基板載置面を有する基板載置台の上記基板載置面に載置されたフレキシブル基板にパターンを露光する露光手段と、を有する露光装置において、上記フレキシブル基板を上記基板載置面から離間する方向に変形させた後、上記基板載置面上に自重により降下させて低テンション状態で上記基板載置面に沿わせる基板支持手段を有することができる。
【００１５】
上記基板支持手段は、上記基板載置台の上記基板搬送方向両側に位置する第１の基板支持部及び第２の基板支持部と、上記第１の基板支持部と第２の基板支持部の少なくとも一方を上記基板載置面を含む基準面に対して突出するように移動させる昇降手段と、上記第１と第２の基板支持部より上記基板載置台から離れた側に位置する、上記フレキシブル基板を制動する第１の制動手段及び第２の制動手段と、を備える。
【００１６】
本発明は、基板載置方法のカテゴリでは、長尺のフレキシブル基板を基板載置面上に搬送するステップと、上記基板載置面上に位置している上記フレキシブル基板の一部を上記基板載置面に接触させるステップと、上記基板載置面と上記フレキシブル基板とが接触する面積を拡大するステップと、を有することを特徴とする。
【００１７】
本発明の基板載置方法は、別の態様では、基板載置方法のカテゴリでは、長尺のフレキシブル基板を基板載置面上に搬送するステップと、上記基板載置面上に位置している上記フレキシブル基板のテンションを低下させるステップと、テンションが低下した上記フレキシブル基板を上記基板載置面に吸着するステップと、を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、テンションが掛かっていない（若干の弛みが生じている）低テンション状態のフレキシブル基板を露光ステージに吸着固定するので、テンション由来の基板変形が生じない。また、露光ステージの基板載置面と接触する面積を拡大させて、フレキシブル基板を基板載置面に沿わせ露光ステージに吸着させるので、露光ステージに対する載置位置のずれを抑えることができ、フレキシブル基板にシワや空気だまりが発生しにくい。従って、露光精度の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明による露光装置の一実施形態を示す、露光装置全体の側面透視図である。
【図２】図１の露光装置の動作状況を示す要部の拡大側面図である。
【図３】図１の露光装置の動作状況を示す要部の拡大側面図である。
【図４】図１の露光装置の動作状況を示す要部の拡大側面図である。
【図５】図１の露光装置の動作状況を示す要部の拡大側面図である。
【図６】図１の露光装置の動作状況を示す要部の拡大側面図である。
【図７】図１の露光装置の動作状況を示す要部の拡大側面図である。
【図８】本発明による露光装置の別の実施形態を示す、露光装置全体の側面透視図である。
【図９】本発明による露光装置のさらに別の実施形態を示す、露光装置全体の側面透視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
図１は、本発明の第１実施形態に係る露光装置１の全体構成を示している。露光装置１は、いわゆるロールトゥロール方式の露光装置であり、フレキシブル基板（長尺基板、長尺ワーク）Ｗの搬送方向の上流側から下流側に向かって順に、フレキシブル基板Ｗを供給する供給部１０と、フレキシブル基板Ｗの表面にパターンを露光して電子回路を形成する露光部３０と、露光済みのフレキシブル基板Ｗを回収する巻取部２０とを備えている。供給部１０と巻取部２０は、フレキシブル基板Ｗを搬送する搬送手段（搬送系）を構成する。露光部３０には、フレキシブル基板Ｗの裏面を吸着してこれを平坦に保持し、図１の左右方向に正逆に移動する露光ステージ（基板載置台）３１が備えられている。
【００２１】
フレキシブル基板Ｗは、例えば、携帯電話やモバイル機器等に用いられる電子回路基板（プリント回路基板）のベース素材となる感光性長尺フィルム（表面に感光体を塗布した合成樹脂製柔軟フィルム）をロール状にしたものである。フォトレジストなどの感光材料が塗布されたフレキシブル基板Ｗは、銅張積層板などによるシート状に形成され、数十〜数百メートルの長さを有する。以下では、フレキシブル基板Ｗの表裏面のうち、図中の上方を向く面を「表面（または上面）と呼び、図中の下方を向く面を「裏面（または下面）」と呼ぶ。また、露光ステージ３１の移動方向に沿った方向を“Ｘ方向”、フレキシブル基板Ｗの幅方向（図１の紙面に垂直な方向）を“Ｙ方向”、Ｘ方向とＹ方向の双方と垂直な方向（鉛直方向）を“Ｚ方向”で表す。また、露光装置１における要素の位置関係を表す際に、供給部１０に近い側を上流側または供給側、巻取部２０に近い側を下流側または巻取側と呼称することがある。
【００２２】
供給部１０は、フレキシブル基板Ｗを露光部３０に供給するためのワーク供給系を構成するもので、フレキシブル基板Ｗの搬送方向の上流側から下流側に向かって順に、供給ロール１１、供給ガイドローラ１２、供給側ダンサーローラ１３、ガイドローラ１４、供給側基板制動部１５及びガイドローラ１６を備えている。供給側基板制動部１５は、ガイドローラ１５ａと、図示しないアクチュエータによって、このガイドローラ１５ａに向かって進退するブレーキ部材１５ｂとを備えている。ブレーキ部材１５ｂがガイドローラ１５ａ方向に接近移動されて、ガイドローラ１５ａとブレーキ部材１５ｂの間にフレキシブル基板Ｗを挟持したとき、フレキシブル基板Ｗの移動にブレーキが掛かり、ブレーキ部材１５ｂがガイドローラ１５ａから離間するとフレキシブル基板Ｗが自由となる。供給側基板制動部１５は、フレキシブル基板Ｗを制動（移動を制限）する第１の制動手段を構成する。
【００２３】
巻取部２０は、フレキシブル基板Ｗの搬送方向の上流側から下流側に向かって順に、巻取側制動ローラ２５、ガイドローラ２４、巻取側ダンサーローラ２３、ガイドローラ２２、及び巻取ロール２１を備え、露光部３０で露光されたフレキシブル基板Ｗを巻き取るためのワーク巻取系を構成する。図１には、フレキシブル基板Ｗの搬送方向のうち、露光部３０におけるＸ方向と平行な搬送方向を符号“Ｍ”を付した矢印で示してある。
【００２４】
供給ロール１１は、ロール状に巻回されたフレキシブル基板Ｗを保持しており、自身の回転軸を中心にして回転することで、フレキシブル基板Ｗを下流側に向けて供給する（繰り出す）ものである。巻取ロール２１は、自身の回転軸を中心にして回転することで、上流側から供給されてきたフレキシブル基板Ｗをロール状に巻き取ってこれを保持するものである。供給ロール１１と巻取ロール２１は、この供給ロール１１と巻取ロール２１を間欠的に回転駆動する回転駆動手段（図示せず）を備えている。
【００２５】
供給部１０のガイドローラ１２、１４、供給側基板制動部１５のガイドローラ１５ａ、ガイドローラ１６、巻取部２０のガイドローラ２２、２４、及び巻取側制動ローラ２５は、Ｙ方向を向く自身の回転軸を中心にして回転することで、供給ロール１１からのフレキシブル基板Ｗを巻取ロール２１に向けて搬送するものである。なお、供給部１０、巻取部２０及び露光部３０中の全てのローラ（ロール）の回転軸はＹ方向を向いている。
【００２６】
巻取側制動ローラ２５は、フレキシブル基板Ｗを挟み対向して配置された２つ（一対）のローラからなるニップローラにて構成されている。この２つのローラはフレキシブル基板Ｗを挟持して制動し又は開放するように、不図示の機構にて上下方向（Ｚ方向）にそれぞれ移動可能となっている。そしてニップローラがフレキシブル基板Ｗを挟持し、かつニップローラが回転しないようにブレーキを掛けることで、フレキシブル基板Ｗに制動を掛けることができる。一方、ニップローラをフレキシブル基板Ｗの表裏面から離間させた状態では、フレキシブル基板Ｗが開放され、フレキシブル基板Ｗは自由に移動できる。
【００２７】
供給側ダンサーローラ１３及び巻取側ダンサーローラ２３は、フレキシブル基板Ｗの搬送に従って昇降し、フレキシブル基板Ｗに対して適切なテンション（張力）を掛けることでフレキシブル基板Ｗに弛みやしわが生じるのを防止する。また、ダンサーローラ１３、２３は、露光部３０での走査露光のために、露光部３０に位置するフレキシブル基板Ｗを所定のテンションを維持して搬送（移動）するためのバッファとしての機能を有している。
【００２８】
供給部１０と巻取部２０の間に配置された露光部３０は、上述の露光ステージ３１、アライメントカメラ４１及び露光ユニット５１を備えている。
【００２９】
露光部３０は、基台３２上にＸ方向に向けて配置したガイドレール３３、ガイドレール３３に沿って移動可能なＸ移動機構部（搬送方向駆動手段）３４、及びＸ移動機構部３４上に設けた昇降駆動手段（Ｚ方向移動部）３５を備え、昇降駆動手段３５上に露光ステージ３１が備えられている。露光ステージ３１の上面は、基板載置面（基板吸着面）３１ａを構成する。基板載置面３１ａには図示しない負圧源に接続された無数の吸着孔が形成されていて、この吸着孔から空気を吸引することにより、基板載置面３１ａ上に位置するフレキシブル基板Ｗが吸引固定される。基板載置面３１ａの無数の吸着孔及び負圧源は、フレキシブル基板Ｗを基板載置面３１ａに吸着する吸着手段を構成する。
【００３０】
基台３２上のＸ移動機構部３４上には、露光ステージ３１より下流側に位置させて順に、下流側基板支持部（第２の基板支持部）６０と、下流側基板制動部６１が配置されている。下流側基板支持部６０は、フレキシブル基板Ｗの下面と接触してフレキシブル基板Ｗの移動によって連れ回りするガイドローラ（フリーローラ）６０ａが備えられている。ガイドローラ６０ａは、供給部１０側のガイドローラ１６との間にフレキシブル基板Ｗが平面状に支持されたと仮定したとき、このフレキシブル基板Ｗが正しいＸＹ平面（基準ＸＹ平面ＸＳ）に位置するようにその位置が定められている。ガイドローラ１６の下部周面に接する水平平面と、ガイドローラ６０ａの上部周面に接する水平平面とがフレキシブル基板Ｗの厚さと同一の間隔で対向するとき、いずれか一方、例えば下方の水平平面を基準ＸＹ平面ＸＳとする。基準ＸＹ平面ＸＳは、基板載置面（基板吸着面）３１ａを含む。ガイドローラ６０ａは、第２の基板支持手段を構成する。
【００３１】
下流側基板制動部６１は、下流側基板支持部６０の下流側において、フレキシブル基板Ｗの上面に接触して連れ回りするガイドローラ６１ａと、図示しないアクチュエータによって、このガイドローラ６１ａに向かって進退するブレーキ部材６１ｂとを備えており、ブレーキ部材６１ｂがガイドローラ６１ａに押し付けられたとき、フレキシブル基板Ｗの移動にブレーキが掛かり、ブレーキ部材６１ｂがガイドローラ６１ａから離間するとフレキシブル基板Ｗが自由となる。下流側基板制動部６１は、フレキシブル基板Ｗを制動（移動を制限）する第２の制動手段を構成する。
【００３２】
基台３２の上流側には、基台３２とガイドローラ１６との間の固定位置に位置させて、基板上昇部６２が備えられている。すなわち、基板上昇部６２は露光ステージ３１と相対移動する固定位置に設けられている。この基板上昇部６２は、昇降アクチュエータ６２ａによってＺ方向に進退移動（昇降）するガイドローラ（フリーローラ）６２ｂを備えており、ガイドローラ６２ｂの上部周面は、基準ＸＹ平面ＸＳの上下に移動可能である。基板上昇部６２及びガイドローラ６２ｂは、基板支持手段を構成する。
【００３３】
露光部３０の露光ステージ３１は、昇降駆動手段３５によって、基準ＸＹ平面ＸＳ内に位置するフレキシブル基板Ｗの裏面に接触する上端位置と、同裏面から離間する下端位置との間で昇降可能である。
【００３４】
アライメントカメラ４１は、露光ユニット５１より上流側に位置していて、露光ユニット５１とともにフレキシブル基板Ｗの移動平面上の定位置に設置されている。アライメントカメラ４１は、フレキシブル基板Ｗに予め設けられたアライメントマークを撮像することにより、フレキシブル基板Ｗの位置情報を取得する。
【００３５】
露光ユニット５１は、複数の露光ヘッド（不図示）を備え、フレキシブル基板Ｗから所定距離だけ鉛直上方に離れた場所に規則的に配置されている。各露光ヘッドに対し、光源および照明光学系（図示せず）が配置されており、光源から放射された光は、それぞれ対応する照明光学系を介して対応する露光ヘッドに導かれる。各露光ヘッドは、複数のマイクロミラーを２次元配列させたＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）と、ＤＭＤの像をワーク上に結像する結像光学系とを備える。ＤＭＤを備えた露光ユニット５１は周知である。
【００３６】
図２〜図７の工程図を参照して、以上の露光装置１によるフレキシブル基板Ｗの露光ステージ３１への吸着固定動作について詳細に説明する。今、基板上昇部６２のガイドローラ６２ｂは下降状態（フレキシブル基板Ｗとの非接触状態、基準ＸＹ平面ＸＳと干渉しない非干渉位置）にあり、供給部１０のガイドローラ１６と、下流側基板支持部６０のガイドローラ６０ａとの間に、フレキシブル基板Ｗが平面状態で位置している（理想的には基準ＸＹ平面ＸＳ内にフレキシブル基板Ｗが位置している）状態を想定する（図２）。露光ステージ３１上のフレキシブル基板Ｗは、基板載置面３１ａに沿って接触する載置位置に位置している。
【００３７】
（ステップ１）
この状態において、図２に示すように、下流側基板制動部６１のブレーキ部材６１ｂをガイドローラ６１ａに接近移動させ、ブレーキ部材６１ｂとガイドローラ６１ａの間にフレキシブル基板Ｗを挟持して、フレキシブル基板Ｗが搬送方向Ｍに移動しないようにする。この状態では、基準ＸＹ平面ＸＳ内に位置しているフレキシブル基板Ｗに、巻取側ダンサーローラ２３によるテンション（巻取部２０側からのテンション）は加わらない（但し、供給側ダンサーローラ１３によるテンションは加わっている）。
【００３８】
（ステップ２）
次に、図３に示すように、基板上昇部６２の昇降アクチュエータ６２ａにより、非接触位置に位置しているガイドローラ６２ｂを基準ＸＹ平面ＸＳを超えて上昇させ、フレキシブル基板Ｗの基板載置面３１ａより上流側の部分を基板載置面３１ａから離間する方向に変形させる（フレキシブル基板Ｗが基板載置面３１ａに対して離間し、傾斜している状態、またはフレキシブル基板Ｗが基板載置面３１ａから離間した離間位置に保持されている状態にする）。ここでいう変形は、フレキシブル基板Ｗの面状態の変化であり、例えばフレキシブル基板Ｗが湾曲することを意味する。換言すれば、基板搬送形状（Ｙ方向から見たときのフレキシブル基板Ｗの形状）の変形である。この状態では、フレキシブル基板Ｗが押し上げられて引っ張られた分だけ供給側ダンサーローラ１３が上昇移動し、フレキシブル基板Ｗに供給部１０側から一定のテンションが加わっている。基板上昇部６２のガイドローラ６２ｂは、フレキシブル基板Ｗを、基板載置面３１ａから離間する離間位置と、基板載置面３１ａに沿って接触する載置位置との間で移動させる基板移動手段を構成するとともに、ガイドローラ６０ａとで基板支持手段（第１と第２の基板支持手段）を構成する。昇降アクチュエータ６２ａは、ガイドローラ６２ｂを基板載置面３１ａを含む基準ＸＹ平面ＸＳに対して突出するように移動させる昇降手段を構成する。
【００３９】
（ステップ３）
このように、フレキシブル基板Ｗを基板載置面３１ａに対して傾斜させた状態（フレキシブル基板Ｗを基板載置面３１ａから離間させた状態、離間位置）において、図４に示すように、供給側基板制動部１５のブレーキ部材１５ｂをガイドローラ１５ａに対して接近移動させ、ブレーキ部材１５ｂとガイドローラ１５ａの間にフレキシブル基板Ｗを挟持して制動する。この状態では、フレキシブル基板Ｗは供給側基板制動部１５（ブレーキ部材１５ｂ）及び下流側基板制動部６１（ブレーキ部材６１ｂ）に対して相対移動できないが、フレキシブル基板Ｗには搬送時と同等のテンションが掛かっている。しかし、フレキシブル基板Ｗには、供給部１０の供給側ダンサーローラ１３によるテンションは掛かっていない。
【００４０】
（ステップ４）
次に、図５に示すように、基板上昇部６２のガイドローラ６２ｂを昇降アクチュエータ６２ａによって下降させる。すると、ガイドローラ６０ａとガイドローラ６２ｂの間に平面状に張られていたフレキシブル基板Ｗが緩んで（フレキシブル基板Ｗにかかるテンションが搬送するときより低下して）、自重により降下し、低テンション状態で基板載置面３１ａに接近し、基板載置面３１ａに沿う。その結果、フレキシブル基板Ｗは、下流側基板支持部６０のガイドローラ６０ａに近い部分から順に、露光ステージ３１の基板載置面３１ａと接触し、基板載置面３１ａと接触する範囲ＣＡの面積を拡大し、基板載置面３１ａに沿った載置状態になる。このフレキシブル基板Ｗが自重により降下して基板載置面３１ａに接近し、接触を開始するタイミング迄に、露光ステージ３１の基板載置面３１ａに対する負圧の供給を開始する。
【００４１】
フレキシブル基板Ｗの低テンション状態とは、フレキシブル基板Ｗに重力以外の外力がかかっていない状態であり、フレキシブル基板Ｗのテンション（搬送方向の外力）が解除された状態、あるいは露光パターン幅に対してフレキシブル基板Ｗの伸縮量を無視できるほど小さいテンションが作用している状態（例えば、露光ステージ載置範囲において、フレキシブル基板の伸縮量が最小ライン・アンド・スペース寸法の１／１０以下の状態）を意味する。以上の実施形態では基板載置面３１ａに接触する直前のフレキシブル基板Ｗまたは接触しているフレキシブル基板Ｗの部分が低テンション状態である。フレキシブル基板Ｗの基板載置面３１ａに接近して接触する部分は、接触直前から接触直後までの間に低テンション状態となり、低テンション状態で基板載置面３１ａに接触している（載置されている）。
フレキシブル基板Ｗを基板載置面３１ａに沿わせるもしくは沿う、またはフレキシブル基板Ｗが基板載置面３１ａに沿ったとは、フレキシブル基板Ｗが基板載置面３１ａと対向し面接触している状態を意味する。
【００４２】
（ステップ５）
基板上昇部６２のガイドローラ６２ｂの下降に従い、フレキシブル基板Ｗは露光ステージ３１の基板載置面３１ａ上に自重で降下して低テンション状態で巻取（下流）側から供給（上流）側に吸着固定されてゆく。そして、図６に示すように、ガイドローラ６２ｂが基準ＸＹ平面ＸＳとの非干渉位置に完全に後退する（下降する）と、テンションが加わっていない低テンション状態のフレキシブル基板Ｗが露光ステージ３１の基板載置面３１ａに沿った状態となり、接触範囲ＣＡが巻取側縁部から供給側縁部に亘る最大面積で接触した状態で、吸着固定される。この吸着固定状態では、フレキシブル基板Ｗの弛みは露光ステージ３１の上流側の部分にのみ生じる。基板上昇部６２のガイドローラ６２ｂは、基板載置面３１ａにフレキシブル基板Ｗを接近させる動作に応じて、基板載置面３１ａとフレキシブル基板Ｗとが接触する面積を拡大させて、フレキシブル基板Ｗを基板載置面３１ａに沿わせる基板支持手段を構成する。フレキシブル基板Ｗの基板載置面３１ａに接近して接触する部分は、テンションが解除された状態（低テンション状態）で基板載置面３１ａに接触する。
【００４３】
（ステップ６）
以上の動作により、テンションが加わっていない低テンション状態のフレキシブル基板Ｗの基板載置面３１ａへの吸着固定動作が終了する。その後、図７に示すように、ブレーキ部材６１ｂとブレーキ部材１５ｂをそれぞれガイドローラ６１ａとガイドローラ１５ａから離間させ、下流側基板制動部６１と供給側基板制動部１５によるフレキシブル基板Ｗの制動（拘束）動作を終了する。すると、フレキシブル基板Ｗには、供給部１０の供給側ダンサーローラ１３と巻取部２０の巻取側ダンサーローラ２３による一定のテンションが加わることになり、露光ステージ３１の上流側のフレキシブル基板Ｗの弛みは供給側ダンサーローラ１３により除去される。
露光装置１は、図７の状態が、露光動作開始前の初期状態である。
【００４４】
以上の供給側基板制動部１５、ガイドローラ１６及び基板上昇部６２は、フレキシブル基板Ｗを基板載置面３１ａに沿って接触する載置位置と基板載置面３１ａから離間する離間位置との間で移動させる基板移動手段を構成する。基板上昇部６２（基板移動手段）は、フレキシブル基板Ｗを載置位置から離間位置方向に移動（変形）させた後、離間位置から基板載置面３１ａ（載置位置）に移動（自重により降下）させる間に、フレキシブル基板Ｗにかかるテンションを低下させることでフレキシブル基板Ｗを低テンション状態とし、低テンション状態となった部分を基板載置面３１ａに沿わせる基板支持手段を構成する。基板上昇部６２（ガイドローラ６２ｂ）は、フレキシブル基板Ｗを基板載置面３１ａに対して傾斜させるように接離し、フレキシブル基板Ｗが基板載置面３１ａに対して離間する離間位置と、基板載置面３１ａに沿った載置位置との間で、上記フレキシブル基板を支持する位置の間隔を変化させる基板支持手段を構成する。
【００４５】
基板上昇部６２は、ガイドローラ６２ｂが非干渉位置と上昇位置にあるときとでガイドローラ６０ａとの間隔が変化しているので、フレキシブル基板Ｗを支持する位置の間隔が変化し、上昇位置から非干渉位置に移動することでフレキシブル基板Ｗを弛ませるようにしてテンションを低下させている。この基板上昇部６２は、フレキシブル基板Ｗの離間位置と載置位置との間で、フレキシブル基板Ｗを支持する位置の間隔を変化させる基板支持手段を構成する。フレキシブル基板Ｗにかかるテンションを低下（搬送時より低下）させることでフレキブル基板を低テンション状態とする基板支持手段を構成する。
【００４６】
このようにして露光ステージ３１の基板載置面３１ａにフレキシブル基板Ｗを吸着固定した後の露光動作は、従来装置と同様である。その一例は次の通りである。
【００４７】
供給ロール１１が回転駆動手段（図示せず）によって所定の回転駆動量だけ回転することにより、供給ロール１１がフレキシブル基板Ｗを所定量だけ繰り出す。繰り出されたフレキシブル基板Ｗは、供給ガイドローラ１２を経由して供給側ダンサーローラ１３に入る。ここで、フレキシブル基板Ｗは、供給側ダンサーローラ１３より下流側において露光ステージ３１で吸着されているため、適度な一定のテンションを保ちながら供給側ダンサーローラ１３にバッファされる。
【００４８】
露光ステージ３１がガイドレール３３上をＸ方向（下流方向）に駆動され、フレキシブル基板Ｗを吸着保持したままアライメントカメラ４１の下方を通過する。その際に、露光ステージ３１の移動につれ、供給側ダンサーローラ１３にバッファされていたフレキシブル基板Ｗが引き出され、同時に巻取側ダンサーローラ２３部でフレキシブル基板ＷのＵ字形状が深くなっていき（巻取側ダンサーローラ２３が下降し）、フレキシブル基板Ｗが巻取側ダンサーローラ２３にバッファされる。
【００４９】
露光ステージ３１の移動に同期させて、フレキシブル基板Ｗに形成されたアライメントマークをアライメントカメラ４１で撮像する。アライメントマークの撮像により得たフレキシブル基板Ｗの位置情報に基づいて、フレキシブル基板と露光されるパターンとのアライメントが行われる。
【００５０】
露光ステージ３１がＸ方向下流方向に高精度に駆動制御され、露光部３０では、既知の露光技術によって、露光ステージ３１に吸着保持されているフレキシブル基板Ｗの表面の感光材料層に電子回路パターンが走査露光される。フレキシブル基板Ｗの露光が完了すると、露光ステージ３１はＸ方向下流方向への移動を終了し、露光終了位置で停止する。その後、露光ステージ３１によるフレキシブル基板Ｗの吸着が解除された後、昇降駆動手段３５により露光ステージ３１を下端位置に下降させる。
【００５１】
巻取側制動ローラ２５にフレキシブル基板Ｗを挟持させた後、露光ステージ３１を上流側の初期位置に戻す動作と、初期位置の露光ステージ３１を露光初期位置に上昇させる動作と、図２乃至図７（ステップ１乃至ステップ６）のフレキシブル基板Ｗを露光ステージ３１に吸着固定する動作と、上記露光動作とが繰り返される。
【００５２】
以上の実施形態の露光装置１は、フレキシブル基板Ｗをテンションがかけられていない低テンション状態で露光ステージ３１の基板載置面３１ａに沿って吸着固定するので、テンション由来の基板変形が生ぜず、パターンを高精度に正確に露光することができる。
【００５３】
以上の実施形態は、ガイドローラ６０ａが露光ステージ３１と一体的に移動する構成であるため、露光ステージ３１に対するフレキシブル基板Ｗの位置がずれにくい。
以上の実施形態では、下流側基板支持部６０と基板上昇部６２のうち、一方（基板上昇部６２）のみをＺ方向（上下方向）に昇降させ、他方（下流側基板支持部６０）は固定位置に設けているが、双方をＺ方向に昇降させ、フレキシブル基板Ｗに同様の動作を与えることも可能である。
【００５４】
また、以上の実施形態は、基板上昇部６２を露光ステージ３１（Ｘ移動機構部３４）に対して相対移動する、供給部１０と基台３２の間の固定位置に設けたものであるが、図８は、本発明を基板上昇部６２ＭをＸ移動機構部３４に固定して設けた露光装置に適用した別の実施形態である。この実施形態では、露光ステージ３１にフレキシブル基板Ｗを吸着固定して行う露光動作において、基板上昇部６２Ｍが露光ステージ３１（Ｘ移動機構部３４）と一緒にＸ方向に移動する点を除き、第１の実施形態と同じ動作が実行される。また、図９は、フレキシブル基板Ｗを吸着保持する露光ステージ３１ＦがＸ方向に移動しない（固定されている）タイプの露光装置に本発明を適用したさらに別の実施形態である。図９の実施形態では、露光装置として、周知のコンタクト露光方式のコンタクト露光ユニット５１Ｆを使用している。下流側基板支持部６０Ｆ及び下流側基板制動部６１Ｆは、基台３２Ｆに取付られている。図８、図９の実施形態において、第１実施形態と同一の構成要素には同じ符号を付して説明を省略する。
【００５５】
供給側基板制動部１５と下流側基板制動部６１の図示実施形態の構成はその一例を概念的に示したものであり、フレキシブル基板Ｗの開放動作と拘束動作を選択できるものであればその具体的構成を問わない。同様に、基板上昇部６２の図示実施形態の構成はその一例を概念的に示したものであり、例えばフレキシブル基板Ｗの支持部分はローラでなくともよく、フレキシブル基板裏面を傷つけない形状であればよい。また、フレキシブル基板下方から押し上げる代わりに、フレキシブル基板上面を吸着してピックアップするようにしてもよい。直動の昇降アクチュエータ６２ａの代わりに、回転リンク機構等を用いてもよい。
【符号の説明】
【００５６】
１  露光装置
１０  供給部
１１  供給ロール（供給側ロール）
１２  １４  ガイドローラ
１３  供給側ダンサーローラ
１５  供給側基板制動部（第１の制動手段）
１５ａ  ガイドローラ
１５ｂ  ブレーキ部材
１６  ガイドローラ
２１  巻取ロール（巻取側ロール）
２２  ２４  ガイドローラ
２３  巻取側ダンサーローラ
２５  巻取側制動ローラ
３０  露光部（露光手段）
３１  ３１Ｆ  露光ステージ（基板載置台）
３１ａ  基板載置面
３２  ３２Ｆ  基台
３３  ガイドレール
３４  Ｘ移動機構部
３５  昇降駆動手段
４１  アライメントカメラ
５１  ５１Ｆ  露光ユニット（露光手段）
６０  ６０Ｆ  下流側基板支持部（第２の基板支持部）
６０ａ  ガイドローラ（第２の基板支持部）
６１  ６１Ｆ  下流側基板制動部（第２の制動手段）
６１ａ  ガイドローラ
６１ｂ  ブレーキ部材
Ｗ  フレキシブル基板（感光性基板、長尺ワーク）
６２  ６２Ｍ  基板上昇部（基板支持手段、基板昇降手段）
６２ａ  昇降アクチュエータ
６２ｂ  ガイドローラ（基板支持手段、第２の基板支持手段、基板昇降手段）
ＸＳ  基準ＸＹ平面（基板載置面を含む面）
【図１】
2018205330.tif 000003
【図２】
2018205330.tif 000004
【図３】
2018205330.tif 000005
【図４】
2018205330.tif 000006
【図５】
2018205330.tif 000007
【図６】
2018205330.tif 000008
【図７】
2018205330.tif 000009
【図８】
2018205330.tif 000010
【図９】
2018205330.tif 000011