【事件の表示】
　特願２００７−２９３０２８「放射線画像撮影装置の製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２０年　７月　３日出願公開、特開２００８−１５１７６８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１９年１１月１２日（優先権主張平成１８年１１月２２日）の出願であって、平成２３年２月２２日付けで拒絶理由が通知され、同年４月２６日付けで意見書が提出されるとともに、同日付けで手続補正書が提出され、平成２４年１月１２日付けで拒絶理由（最後）が通知され、同年３月１２日付けで意見書が提出されるとともに、同日付けで手続補正書が提出され、平成２４年８月３０日付けで拒絶理由（最後）が通知され、同年１０月３０日付けで意見書が提出されるとともに、同日付けで手続補正書が提出されたが、その後、平成２５年３月８日付けで平成２４年１０月３０日付けの手続補正の補正の却下の決定がなされるとともに、同日付けで拒絶査定がなされた。本件は、これに対して、平成２５年６月１４日に拒絶査定に対する審判請求がなされ、同時に手続補正がなされたものである。
　その後、平成２５年９月５日付けで、審判請求人に前置報告の内容を示し意見を求めるための審尋を行ったところ、同年１１月７日付けで回答書が提出された。
　
第２　平成２５年６月１４日付けの手続補正についての補正の却下の決定
［補正の却下の決定の結論］
　平成２５年６月１４日付けの手続補正を却下する。
　
［理由］
１．補正後の請求項に記載された発明
　平成２５年６月１４日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）により、本願の特許請求の範囲の請求項１は、特許法第１７条の２第５項第２号に掲げられた特許請求の範囲の減縮を目的として補正された。
　よって、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下「本願補正発明」という。）は、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に記載された、次のとおりのものである。
　
「放射線透過性の基板と、前記基板に放射線が照射されることにより光を発する蒸着により形成されたＣｓＩ蛍光体層と、を有する放射線用シンチレータパネルと、前記ＣｓＩ蛍光体層からの発光を受光する光電変換手段を有する放射線検出手段を備えた放射線画像撮影装置の製造方法であって、
前記基板の４つの側辺と、前記基板の表面上に設けられた前記蛍光体層の周辺の４つの側辺とが、幾何学的に同一平面上に配置されるとともに、前記蛍光体層の側面形状が垂直側壁面となるように、前記基板及び前記基板の表面上に設けられた前記蛍光体層を断裁手段により形成することを特徴とする放射線画像撮影装置の製造方法。」
　
　そこで、上記本願補正発明が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否か（特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に違反するか否か）について、以下に検討する。
　
２．引用刊行物
（１）原査定の拒絶の理由に引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物である、特開２００６−７８４７２号公報（以下「引用文献１」という。）には、以下の事項が記載されている。（下線は当審で付した。）
　
（ａ）「【技術分野】
【０００１】
　
本発明は、放射線検出装置、シンチレータパネル、これらの製造方法及びシステムに関し、特に、医療用診断装置、非破壊検査装置などに用いられる放射線検出装置、シンチレータパネル、これらの製造方法及びシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
　近年、少なくとも大面積の平面に形成された光電変換素子の表面にＸ線を照射することによって発光するシンチレータ層を積層したデジタル放射線検出装置が商品化されている。
【０００３】
　これらデジタル放射線検出装置の中でも、高感度で高鮮鋭な装置として、特許文献１、または、特許文献２に開示されている。このようなデジタル放射線検出装置として、複数のフォトセンサー及びＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  ｆｉｌｍ  ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）等の電気素子が２次元に配置されている光電変換素子部からなる光検出器（「センサーパネル」とも言う）が知られている。そしてその光検出器上に、放射線を光電変換素子で検出可能な光に変換するための波長変換体であるシンチレータ層を直接形成してなる放射線検出装置（「直接蒸着タイプ」又は「直接タイプ」等とも言う）が知られている。
【０００４】
　また、特許文献３に開示されているように、上記光検出器上に、上記シンチレータ層が支持基板に形成されたシンチレータパネルを貼り合わせてなる放射線検出装置（「貼り合わせタイプ」又は「間接タイプ」等とも言う）が知られている。」
　
（ｂ）「【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
  以下に、本発明の実施形態に係わる放射線検出装置について説明する。
【００２１】
　（第１の実施形態）
　図１は本発明の第１実施形態に係わる直接蒸着タイプの放射線検出装置の模式的平面図、図２は図１のＡ−Ａ′断面図、図３は図２の一部拡大図、図４は図１のＢ−Ｂ′断面図である。図１〜図４において、１はガラス等の基板、４０１光電変換素子、４０２は配線であり、光電変換素子４０１、配線４０２、及び薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）によって受光部４０３が構成されている。４０４は電気的接続部（取り出し配線）、３ｂはセンサー保護層、３ａはシンチレータ下地層、４０５は配線接続部、であり、
１、４０１、４０２、４０４、３ｂ、３ａ、４０５によって光検出器（センサーパネル）４０８が構成されている。
【００２２】
　図２に示すように、ホットメルト樹脂からなるシンチレータ保護層５でシンチレータ層４が被覆されている。図３に示されるように、ホットメルト樹脂からなるシンチレータ保護層５の一端部がセンサーエリア２のシンチレータ下地層３ａの上面（シンチレータ層４との界面）Ｓを超えてシンチレータ下地層３ａの側面を覆っている。またシンチレータ保護層５の他端部はシンチレータ下地層３ａを覆うように形成されている。このように、シンチレータ層４の上面と側面、及びシンチレータ層４とシンチレータ下地層３ａとの界面端部を、シンチレータ保護層５で覆うことでシンチレータ層４への外部からの水分の侵入を防ぐことができる。なお、シンチレータ保護層５はセンサー保護層３ｂの一部又は全部を覆う（被覆する）まで形成されていてもよいことは勿論である。さらに、シンチレータ下地層３ａが形成されず、センサー保護層３ｂ上にシンチレータ層４が形成される場合もあり、その場合にはセンサー保護層３ｂの一部又は全部を覆うようにシンチレータ保護層５が形成される。
【００２３】
　図１に示すように、センサーパネルの４辺のうち、下部の１辺には電気信号の取り出しあるいは駆動ドライブを配していない。このような形状のセンサーパネルでは、当該下部の一辺では端部までシンチレータ層、光電変換素子を形成することができるので、センサー端を患者に接触させて撮影するような場合に適しており、たとえば、乳癌の有無を検査するマンモグラフィ撮影には好適に用いられる。
【００２４】
　図５は本発明の第１の実施形態の変形例を示す図であり、図１のＡ−Ａ′断面を示す図である。図５では、シンチレータ保護層５と反射層６と反射層保護層７からなるシンチレータ保護部材でシンチレータ層４を被覆している。ここでは１５はシンチレータ保護部材の外周部を示す。本変形例でもシンチレータ層４の上面と側面、及びシンチレータ層４とシンチレータ下地層３ａとの界面端部を、シンチレータ保護部材のシンチレータ保護層５で覆うことで、外部からの水分の侵入を防ぐことができる。
【００２５】
　基板１は、光電変換素子、配線、ＴＦＴからなる受光部が形成されるものであり、材料
として、ガラス、耐熱性プラスチック等を好適に用いることができる。
【００２６】
　
光電変換素子４０１はシンチレータ層４によって放射線から変換された光を電荷に変換するものであり
【００２７】
　配線４０２は信号配線の一部や光電変換素子に電圧（Ｖｓ）を印加するバイアス配線を示し、電気的接続部４０４は信号配線又は駆動配線を示す。光電変換素子４０１で光電変換された信号はＴＦＴによって読み出され、信号配線を介して信号処理回路に出力される。また行方向に配列されたＴＦＴのゲートは行ごとに駆動配線に接続され、ＴＦＴ駆動回路により行毎にＴＦＴが選択される。信号処理回路及びＴＦＴ駆動回路は基板１外に設けられ、光電変換素子４０１やＴＦＴとは電気的接続部４０４、配線接続部４０５、配線部材１６，１７を介して接続される。
【００２８】
　センサー保護層３ｂは、受光部４０３（センサーエリア２）を被覆して保護するためのものであり、ＳｉＮ，ＳｉＯ２などの無機膜が好ましい。シンチレータ下地層３ａはセンサー保護層３ｂ上に設けられ、材料としては、ポリイミド、パラキシリレン等の有機物質からなる耐熱性の樹脂が好ましい。たとえば、熱硬化型のポリイミド樹脂等を用いることが可能である。センサー保護層３ｂ、シンチレータ下地層３ａは光電変換素子を保護する機能を有する。またシンチレータ下地層３ａはセンサーパネル４０８の表面を平坦化する機能を有する。また、シンチレータ下地層３ａの表面は、シンチレータ層４との密着性を向上させるために、シンチレータ下地層３ａの表面を大気圧プラズマ処理等の活性化処理を適宜用いてもよい。
【００２９】
　
シンチレータ層４は、放射線を光電変換素子４０１が感知可能な波長の光に変換するものであり、柱状結晶構造を有するシンチレータが好ましい。
柱状結晶構造を有するシンチレータ層４の材料としては、ハロゲン化アルカリを主成分とする材料が用いられる。たとえば、ＣｓＩ：Ｔｌ、ＣｓＩ：Ｎａ、ＣｓＢｒ：Ｔｌが用いられる。その作製方法は、たとえばＣｓＩ：Ｔｌでは、ＣｓＩとＴｌＩを同時に蒸着することで形成できる。
【００３０】
　シンチレータ保護層５は、シンチレータ層４に対して、外気からの水分の侵入を防止する防湿保護機能及び衝撃により構造破壊を防止する衝撃保護機能を有するものである。シンチレータ保護層５の厚さは２０〜２００μｍが好ましい。２０μｍ以下では、シンチレータ層４表面の凹凸、及びスプラッシュ欠陥を完全に被覆することができず、防湿保護機能が低下する恐れがある。一方、２００μｍを超えるとシンチレータ層４で発生した光もしくは反射層で反射された光のシンチレータ保護層５内での散乱が増加し、取得される画像の解像度及びＭＴＦ（Ｍｏｄｕｌａｔｉｏｎ  Ｔｒａｎｓｆｅｒ  Ｆａｎｃｔｉｏｎ）が低下する恐れがある。本発明において、シンチレータ保護層５としてホットメルト樹脂を用いることを特徴としている。ホットメルト樹脂を用いたシンチレータ保護層に関する説明は別途後述する。
【００３１】
　反射層６は、シンチレータ層４で変換して発せられた光のうち、光電変換素子４０１と反対側に進行した光を反射して光電変換素子４０１に導くことにより、光利用効率を向上させる機能を有するものである。また、反射層６は、光電変換素子４０１にシンチレータ層４で発生された光以外の外部光線を遮断し、光電変換素子２にノイズが入ることを防止する機能を更に有する。また電磁シールド機能をも有する。反射層６としては、金属箔ま
たは金属薄膜を用いることが好ましく、反射層６の厚さは１〜１００μｍが好ましい。１μｍより薄いと反射層６の形成時にピンホール欠陥が発生しやすく、また遮光性に劣る。一方、１００μｍを超えると、放射線の吸収量が大きく被撮影者が被爆する線量の増加につながる恐れがあり、また、シンチレータ層４とセンサーパネル４０８の表面との段差を隙間無く覆うことが困難となる恐れがある。反射層６の材料としては、アルミニウム、金、銅、アルミ合金、などの特に限定されない金属材料を用いることができるが、反射特性の高い材料としては、アルミニウム、金が好ましい。
【００３２】
　反射層保護層７は、反射層６の衝撃による破壊、及び水分による腐食を防止する機能を有し、樹脂フィルムを用いることが好ましい。反射層保護層７の材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、塩化ビニル、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、などのフィルム材料を用いることが好ましい。反射層保護層７の厚さは１０〜１００μｍが好ましい。
【００３３】
　配線接続部４０５は、電気的接続部４０４と配線部材１６（又は１７）とを電気的に接続するための部材であり、異方導電性接着剤などにより配線部材１６（又は１７）と電気的に接続される。
【００３４】
　配線部材１６は、光電変換素子４０１で変換された電気信号を読み出すためのＩＣ部品などを搭載した部材であり、ＴＣＰ（Ｔａｐｅ  Ｃａｒｒｉｅｒ  Ｐａｃｋａｇｅ）などが好適に用いられる。また配線部材１７はセンサーを駆動するための信号を入力するドライバＩＣ部品などを搭載じた部材であり、ＴＣＰ（Ｔａｐｅ  Ｃａｒｒｉｅｒ  Ｐａｃｋａｇｅ）などが好適に用いられる。
【００３５】
　封止部材４０７は、配線部材１６，１７及び電気的接続部４０４に対して、水分による腐食を防止する機能、衝撃による破壊を防止する機能、及び製造時に発生する受光部４０３の破壊の原因となる静電気を防止する機能を有するものである。」
　
（ｃ）「【００７８】
　ここまで、図１に示したように、四角形状のセンサーパネルの一辺の側面にシンチレータ保護層を被覆した形態の放射線検出装置で説明してきたが、図１８あるいは図１９に示すように、四角形状のセンサーパネルの二辺の側面、三辺の側面に、同様のシンチレータ保護層５あるいはシンチレータ保護層５，反射層６，反射層保護層７を有するシンチレータ保護部材を配置することができる。図１８では１辺に電気信号を外部に取り出すための配線部材２６、１辺にセンサーを駆動するための信号を入力するための配線部材２７を配しており、他２辺には外部接続部を設けていない。図１８において、２２はセンサーエリア、２４はシンチレータ層、２５はシンチレータ保護層を示している。２辺の外部接続部のない部位を用いることにより、患者又は患部に対して２次元の自由度をもたせることが可能となる。
【００７９】
　図１９は、外部接続部を１辺に集中させ、他の３辺をフリーにした形態である。図１９では１辺に電気信号を外部に取り出すための配線部材３６と、センサーを駆動するための信号を入力するための配線部材２７とを配しており、他３辺には外部接続部を設けていない。図１９において、３２はセンサーエリア、３４はシンチレータ層、３５はシンチレータ保護層を示している。かかる構成により、さらなる自由度が増すとともに、軽量化を達成できる。病室等での寝たきりの患者や、座ったままの患者の撮影を行う場合、装置端部までセンサーであることは応用がひろがることになり、非常に有用である。」
　
（ｄ）「【００８８】
　ここまで、センサーパネルに柱状シンチレータを直接蒸着したタイプの放射線検出装置について説明したが、この他、支持基板に柱状構造のシンチレータ層を蒸着し、支持基板をセンサーパネルに接着する間接（貼り合わせ）タイプが考えられる。直接タイプでは、高価なセンサーパネルに柱状構造のシンチレータ層を蒸着した際、シンチレータ層に異物を含んだり、欠陥が多く発生した場合、センサーパネルも使えなくなるというリスクを負う。一方、間接貼り合わせタイプでは、シンチレータ層を支持基板に蒸着したのちセンサーに貼り合せるため、シンチレータ層のでき不出来に左右されず、製造上センサーパネルへの影響はない。
【００８９】
　（第８の実施形態）
  図２７、図２８、図２９はいずれも支持基板３１に蒸着された柱状結晶構造を有するシンチレータ層３５にホットメルト樹脂からなるシンチレータ保護層を形成したものである。各図の違いはシンチレータ保護層の形成範囲の違いであり、その効果は前述の実施形態で説明しているので、図２１を用いて間接（張り合わせ）タイプの保護層形成について説明する。
【００９０】
　図２１において、
３１は支持基板、３２は絶縁層、３３は反射層、３４は反射層保護層、３５は柱状構造のシンチレータ層、３６（図２２では３７、図２３では３８）はホットメルト樹脂のシンチレータ保護層である。かかる３１−３６の構成によりシンチレータパネルが構成される。
設けられる。センサーパネルにはホットメルト樹脂のシンチレータ保護層３６とセンサー表面が接するように配置し、ホットメルト樹脂が溶解状態になるようにセンサーパネルを加熱することで、
センサーパネルとシンチレータ層が形成された支持基板を一体化することができる。
【００９１】
　
支持基板３１としては、アモルファスカーボン基板やＡｌ基板、ガラス基板、石英基板など種々の放射線透過性の基板を用いることが好ましい。
【００９２】
　また、以上説明した各実施形態では正方形状の放射線検出装置について説明したが、長方形、多角形状、円板形状、半円形状、長尺形状等必要に応じた形状を採用することができる。
【００９３】
　（第９の実施形態）
　
次に本発明に係わる放射線検出装置を用いた放射線検出システムについて図３０を用いて説明する。
【００９４】
　図３０に示すように、Ｘ線チューブ６０５０で発生したＸ線６０６０は、患者或いは被験者６０６１の胸部６０６２を透過し、放射線検出装置６０４０に入射する。この入射したＸ線には患者６０６１の体内部の情報が含まれている。Ｘ線の入射に対応して放射線検出装置６０４０のシンチレータは発光し、これを光電変換して電気的情報を得る。この情報は、ディジタルに変換されイメージプロセッサ６０７０により画像処理され制御室のディスプレイ６０８０で観察できる。
【００９５】
　また、この情報は電話回線６０９０等の伝送手段により遠隔地へ転送でき、別の場所のドクタールーム等ディスプレイ６０８１に表示又は光ディスク等の保存手段に保存することができ、遠隔地の医師が診断することも可能である。またフィルムプロセッサ６１００によりフィルム６１１０に記録することもできる。」
　
（ｅ）「
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図１８】
【図１９】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 」
　
（ｆ）上記引用文献１の記載事項において、（第８の実施形態）の「センサーパネル」及び「シンチレータ層３５」は、（第１の実施形態）の「センサーパネル４０８」及び「シンチレータ層４」と同様の構成であることは明らかである。
　
（ｇ）上記引用文献１の記載事項の図２７等の記載から、（第８の実施形態）の「シンチレータパネル」において、「支持基板３１」と「シンチレータ層３５」の２つの側辺とは、幾何学的に同一平面上に配置されるとともに、「シンチレータ層３５」の前記２つの側辺に対応する側面の形状が垂直側壁面となるように形成されていることが読み取れる。
　
　すると、引用文献１には、以下の発明（以下「引用発明」という。）が記載されている。
　
「センサーパネルと、支持基板３１、絶縁層３２、反射層３３、反射層保護層３４、柱状構造のシンチレータ層３５、ホットメルト樹脂のシンチレータ保護層３６により構成されたシンチレータパネルとを一体化した放射線検出装置を用いた放射線検出システムの製造方法であって、
　センサーパネルは、シンチレータ層によって放射線から変換された光を電荷に変換するものである光電変換素子を有し、
　支持基板３１は、放射線透過性の基板であり、
　シンチレータ層３５は、放射線を光電変換素子が感知可能な波長の光に変換するものであり、支持基板３１にＣｓＩとＴｌＩを同時に蒸着することで形成されたＣｓＩ：Ｔｌの柱状結晶構造を有し、
　支持基板３１の２つの側辺と、シンチレータ層３５の２つの側辺とが、幾何学的に同一平面上に配置されるとともに、シンチレータ層３５の前記２つの側辺に対応する側面の形状が垂直側壁面となるように形成する、
放射線検出システムの製造方法。」
　
（２）原査定の拒絶の理由に引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物である、特開２００３−２４８０９３号公報（以下「引用文献２」という。）には、以下の事項が記載されている。
　
（ａ）「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カセッテに収納可能とした、気相堆積法により形成した輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルに関するものである。」
　
（ｂ）「【００１６】通常、気相堆積法により支持体上に輝尽性蛍光体膜を形成する場合には、気相堆積装置内に支持体を支持、設置する制約上から、支持体の周縁部が蒸気流に対してマスクされた状態になり、その結果輝尽性蛍光体プレート周縁部、即ち支持体端面と輝尽性蛍光体膜端面の間に距離があるのが一般的である。
【００１７】前記のように、カセッテ中に、取り外し可能な状態で放射線画像変換パネルを内蔵させるには、輝尽性蛍光体の成膜されていない周縁部（即ち放射線画像変換パネル端面と輝尽性蛍光体膜端面間の距離）が大きいままだと、カセッテの周縁部に加えて更に使用できない領域が大きくなり充分な画像領域を確保できない、重さが重くなる、又、材料も無駄になる等、より適した形態の放射線画像変換パネルが必要であった。
【００１８】又、マンモグラフィー撮影に用いられるプレートにおいても、周縁部に画像領域として使用できない大きな領域が存在するパネルでは、撮影、従って診断の都合上改善が必要である。
【００１９】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的は、カセッテに収納可能であり、カセッテ撮影で撮影領域が大きくとれる、気相堆積法により形成した輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルを得ることにあり、又、マンモ撮影用として用いることのできる、気相堆積法により形成した輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルを得ることにある。」
　
（ｃ）「【００５４】以下、本発明に係わる、有効撮影面積の大きい放射線画像変換パネルの幾つかを例示する。
【００５５】図８の（ａ）に示すように、気相堆積法により形成された輝尽性蛍光体層を有する例えばガラス支持体を、Ｃで表される位置で裏面からカッターにより切断しマスク部分を切り落とすことによって、同じ図８の（ｂ）で表される様な支持体端面まで蛍光体層が形成されたガラス支持体が得られる。次いで、図９で示されるようにスペーサ１６としてガラスを用い、スペーサの幅分だけ４つの辺を長くした同じくガラス製の保護層１５と組み合わせ封着剤で封止することで蛍光体端面と放射線画像変換パネル端面間の距離がスペーサ幅分の長さを有する放射線画像変換パネル１１となる。この様なパネルにおいて例えば３ｍｍ幅のスペーサを用いることにより、蛍光体層１４の端面とパネル端面の距離ＬがＬ＝３ｍｍである放射線画像変換パネルが得られる。
【００５６】この様な放射線画像変換パネルを、前記のトレー上にのせ、カセッテに収納することで充分な画像面積を得ることが出来る。
【００５７】この様に蛍光体端面とパネル側面間の距離を少なくしたパネルはスペーサ、保護層として用いる、例えばガラスの大きさ、そしてその組合せ方等により幾つかのバリエーションはあるが、要するに蛍光体端面とパネル端面の距離Ｌが４ｍｍ以下となるよう作製されていればよい。
【００５８】図１０に、保護層としてプラスチックシートを用いた本発明に係わる放射線画像変換パネルの別の例を示す。
【００５９】図１０の（ａ）は、前記図８の（ｂ）で示される蛍光体層１４が形成されたガラスの支持体１３に、プラスチックシート例えばポリエチレンテレフタレートシートを保護膜１５として用い、支持体の裏面で接着し封止した形態の放射線画像形成パネルである。支持体より少し大きいポリエチレンテレフタレートシートを重ね十分密着したのち、先ず、３辺をしっかり裏面で後述する封着剤或いは熱接着等を用いて接着し、後に、残った１辺から減圧により保護層のシートを蛍光体層とよく密着させ完全に封着剤を用いて或いは熱接着し封着する。この方法によれば蛍光体端面からパネルの各辺の端面までの長さＬは実質的にポリエチレンテレフタレートシートの厚みであり、例えばシートの厚みが１８０μｍであればほぼＬ＝１８０μｍである。
【００６０】又、図１０の（ｂ）には、別の形態の放射線画像変換パネルを示すが、保護層としてやはりプラスチックシート例えばポリエチレンテレフタレートシートを用いて封止するものである。先ず、１枚のポリエチレンテレフタレートシートを二つ折りしたときに、蛍光体層を製膜した支持体の大きさより３辺がやや大きくなる（図でそれぞれＬ及びＬ′）ような大きさに断裁する。Ｌ、Ｌ′は同じでもよい。次いで、二つ折りしたシートの間に前記の図８の（ｂ）で示される蛍光体層１４を製膜した支持体１３を挟み、先ず２辺を熱接着等を用いて封着する。次いで、のこりの１辺を、シート間から減圧によって空気を十分除き保護層を十分密着させた後、やはり熱接着等により接着封止する。接着に使用する糊代部分Ｐを小さくする、即ち蛍光体層端面とパネル端面間の距離Ｌ、Ｌ′を４ｍｍ以下とすることで同様にデッドエリアの小さい放射線画像変換パネルが得られる。尚、１つの辺についてはこれもやはり実質的にはシートの厚みとなり、図でＬ″がこれにあたり、シートの厚みが２００μｍであれば実質的にＬ″＝２００μｍである。
【００６１】本発明のもう一つの態様は、気相堆積法により形成された輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルをマンモグラフィー用途のカセッテに対応させたものである。
【００６２】マンモグラフィー用の放射線画像変換パネルにおいては、図１１に示すように、放射線画像変換パネルを収納したカセッテを乳房（検体）の直下に配置してこれを例えば上部からＸ線撮影する用途に用いるため、このようなカセッテの場合、人体側において、カセッテの端面まで撮影可能領域が広がっている放射線画像変換パネルが好適であり、従って、カセッテに収納する放射線画像変換パネルの蛍光体塗布端面からパネルの端面距離は、少なくとも人体側になる１つの辺においてはなるべく少ない方がよい。
【００６３】従って、本発明の放射線画像変換パネルのもう一つの有用な態様においては、支持体、輝尽性蛍光体層が気相堆積法により形成される輝尽性蛍光体層、保護層からなる放射線画像変換パネルにおいて、パネルの４辺の少なくとも１つにおいて、
０≦Ｌ≦２ｍｍ
であることを特徴とする。
【００６４】ここでＬはやはり蛍光体端面とパネルの端面間の距離であり、これらの長さＬは小さい方が、上記撮影を行うマンモグラフィー用途においては撮影範囲が広がるため、診断に必要な情報が多く得られ好ましい。パネルの少なくとも１つの辺において、更に好適には、
０≦Ｌ≦０．５ｍｍ
である。」
　
（ｄ）「
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 」
　
　上記記載事項（ｃ）（特に、段落【００５５】）、（ｄ）（特に、図８、９）の記載において、「放射線画像変換パネル」は、「ガラス支持体」の４つの側辺と、「輝尽性蛍光体層」の４つの側辺とが、幾何学的に同一平面上に配置されるとともに、「輝尽性蛍光体層」の側面形状が垂直側壁面となるように、「ガラス支持体」及び「輝尽性蛍光体層」をカッターにより切断することにより形成されることが開示されていると認められる。
　
３．対比
（１）引用発明と本願補正発明との対比
（ａ）引用発明の「シンチレータ層によって放射線から変換された光を電荷に変換するものである光電変換素子を有」する「センサーパネル」、「放射線透過性の基板であ」る「支持基板３１」、「放射線を光電変換素子が感知可能な波長の光に変換するものであり、支持基板３１にＣｓＩとＴｌＩを同時に蒸着することで形成されたＣｓＩ：Ｔｌの柱状結晶構造を有」する「柱状構造のシンチレータ層３５」、「シンチレータパネル」、「放射線検出装置」、「放射線検出システム」が、それぞれ、本願補正発明の「前記ＣｓＩ蛍光体層からの発光を受光する光電変換手段」、「放射線透過性の基板」、「前記基板に放射線が照射されることにより光を発する蒸着により形成されたＣｓＩ蛍光体層」、「放射線用シンチレータパネル」、「放射線検出手段」、「放射線画像撮影装置」に相当する。
　
（ｂ）引用発明の「センサーパネルと、支持基板３１、絶縁層３２、反射層３３、反射層保護層３４、柱状構造のシンチレータ層３５、ホットメルト樹脂のシンチレータ保護層３６により構成されたシンチレータパネルとを一体化した放射線検出装置を用いた放射線検出システムの製造方法」が、本願補正発明の「放射線透過性の基板と、前記基板に放射線が照射されることにより光を発する蒸着により形成されたＣｓＩ蛍光体層と、を有する放射線用シンチレータパネルと、前記ＣｓＩ蛍光体層からの発光を受光する光電変換手段を有する放射線検出手段を備えた放射線画像撮影装置の製造方法」に相当する。
　
（ｃ）引用発明の「支持基板３１の２つの側辺と、シンチレータ層３５の２つの側辺とが、幾何学的に同一平面上に配置されるとともに、シンチレータ層３５の前記２つの側辺に対応する側面の形状が垂直側壁面となるように形成する」ことと、本願補正発明の「前記基板の４つの側辺と、前記基板の表面上に設けられた前記蛍光体層の周辺の４つの側辺とが、幾何学的に同一平面上に配置されるとともに、前記蛍光体層の側面形状が垂直側壁面となるように、前記基板及び前記基板の表面上に設けられた前記蛍光体層を断裁手段により形成する」こととは、「前記基板の側辺と、前記基板の表面上に設けられた前記蛍光体層の周辺の側辺とが、幾何学的に同一平面上に配置されるとともに、前記蛍光体層の側面形状が垂直側壁面となるように形成する」ことで一致する。
　
（２）一致点
　してみると、両者は、
「放射線透過性の基板と、前記基板に放射線が照射されることにより光を発する蒸着により形成されたＣｓＩ蛍光体層と、を有する放射線用シンチレータパネルと、前記ＣｓＩ蛍光体層からの発光を受光する光電変換手段を有する放射線検出手段を備えた放射線画像撮影装置の製造方法であって、
前記基板の側辺と、前記基板の表面上に設けられた前記蛍光体層の周辺の側辺とが、幾何学的に同一平面上に配置されるとともに、前記蛍光体層の側面形状が垂直側壁面となるように形成する、放射線画像撮影装置の製造方法。」
で一致し、次の各点で相違する。
　
（３）相違点
（イ）幾何学的に同一平面上に配置されるとともに、蛍光体層の側面形状が垂直側壁面となるように形成される、基板の側辺と、基板の表面上に設けられた蛍光体層の周辺の側辺の数が、本願補正発明では４つであるのに対して、引用発明では２つである点。
　
（ロ）基板の側辺と、基板の表面上に設けられた蛍光体層の周辺の側辺とが、幾何学的に同一平面上に配置されるとともに、蛍光体層の側面形状が垂直側壁面となるように形成する方法について、本願補正発明では、「前記基板及び前記基板の表面上に設けられた前記蛍光体層を断裁手段により形成する」のに対して、引用発明では、どのように形成するのかが不明である点。
　
 ４．判断
（１）相違点（イ）について
　引用文献１には、４辺のうちの１辺が端部までシンチレータ層を形成できるとマンモグラフィ撮影には好適であり（段落【００２３】）、さらに、２辺、３辺が端部までセンサーであると非常に有用であること（段落【００７８】〜【００７９】）が記載されており、また、引用文献２に、「ガラス支持体」の４つの側辺と、「輝尽性蛍光体層」の４つの側辺とが、幾何学的に同一平面上に配置されるとともに、「輝尽性蛍光体層」の側面形状が垂直側壁面となるように、「ガラス支持体」及び「輝尽性蛍光体層」をカッターにより切断することにより形成することが記載されていることや、本願の明細書中で【特許文献１】として引用された特開２００３−７５５４２号公報（段落【０１１３】〜【０１１６】、図５に記載された（実施形態５）参照）に、４つの辺のすべてで、基板の側面と蛍光体層の側面を幾何学的に同一平面上に配置し、蛍光体層の側面形状が垂直側壁面となるように形成されたシンチレータパネルが記載されていることを参酌すれば、引用発明において、４辺のすべてについて、端部までセンサーとするべく、幾何学的に同一平面上に配置されるとともに、前記蛍光体層の側面形状が垂直側壁面となるように形成される、基板の側辺と蛍光体層の側辺の数を４つとして、上記相違点（イ）に係る本願発明の発明特定事項を得ることは当業者が容易に想到し得ることである。
　
（２）相違点（ロ）について
　引用文献２に、「ガラス支持体」の側辺と、「輝尽性蛍光体層」の側辺とが、幾何学的に同一平面上に配置されるとともに、「輝尽性蛍光体層」の側面形状が垂直側壁面となるように、「ガラス支持体」及び「輝尽性蛍光体層」をカッターにより切断することにより形成することが記載されており、また、原査定の拒絶の理由に引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物である、特開２００５−２９８９５号公報（特に、段落【００６７】参照．以下「引用文献３」という。）に、「シンチレータ層」を蒸着した「可撓性支持体」を切断して、「所望のフォーマットを有するシート又はパネル」を形成することが記載されていることを参酌すれば、引用発明において、「支持基板３１、絶縁層３２、反射層３３、反射層保護層３４、柱状構造のシンチレータ層３５」を切断することにより、「支持基板３１」の側辺と、「柱状構造のシンチレータ層３５」側辺とが、幾何学的に同一平面上に配置されるとともに、「柱状構造のシンチレータ層３５」の側面形状が垂直側壁面となるように形成する方法として、上記相違点（ロ）に係る本願発明の発明特定事項を得ることは当業者が容易に想到し得ることである。
　
（３）効果について
　本願補正発明が奏し得る効果は、引用発明及び引用文献２、３に記載された技術事項から当業者が予測し得る範囲のものであって格別なものではない。
　
（４）結論
　本願補正発明は、引用発明及び引用文献２、３に記載された技術事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
（５）請求人の主張について
　請求人は、審判請求書の【請求の理由】において、「引用文献２記載の発明は、輝尽性蛍光体層を用いるＣＲシステムに使用する放射線画像変換パネルに関するものであり、引用文献１、４、５記載の発明や本願発明のように、瞬時発光性蛍光体層を用いるＦＰＤシステムとは全くその原理が異なるものであります。すなわち、輝尽性蛍光体層を用いるＣＲシステムに使用する放射線画像変換パネルでは、Ｘ線を輝尽性蛍光体層にいったん貯蔵して記録した後、励起光を２次元的に照射して輝尽発光を読み取ることにより画像形成するものであります。それに対し、ＦＰＤシステムでは瞬時発光性蛍光体層を用い、Ｘ線により瞬時発光した蛍光を光電変換素子が２次元的に配列されたアレイ層で直接読み取ることにより画像形成するものであります。よって、画像形成の原理も、使用される材料も異なることから、引用文献１、４、５記載の発明と引用文献２記載の発明とを組み合わせることはできません。」と主張する。
　確かに、輝尽性蛍光体層を用いる放射線画像変換パネルと瞬時発光性蛍光体層を用いる放射線画像変換パネルとは、放射線により放射線画像変換パネルに形成された画像（潜像あるいは可視光像）をどのように読み取るかという画像読取方法や蛍光材料に差異があるが、マンモグラフィ撮影等の際に周辺部に非画像形成領域が少ない方がよいという課題は共通であって、該課題に対して、放射線画像変換パネルにおいて、基板の側面と蛍光体層の側面とが同一平面上にあるように形成するという解決手段でも共通しているから、引用発明に引用文献２に記載された技術事項を組み合わせることは、当業者には容易である。
　
５．小括
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
　
第３　本願発明について
１．本願発明
　平成２５年６月１４日付けの手続補正は上記のとおり却下され、平成２４年１０月３０日付けの手続補正は平成２５年３月８日付けで補正の却下の決定がなされているので、本願の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成２４年３月１２日付けの手続補正により補正された、本願の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。
　
「放射線透過性の基板と、前記基板に放射線が照射されることにより光を発する蒸着により形成されたＣｓＩ蛍光体層と、を有する放射線用シンチレータパネルと、前記ＣｓＩ蛍光体層からの発光を受光する光電変換手段を有する放射線検出手段を備えた放射線画像撮影装置の製造方法であって、
前記基板の側辺のうち少なくとも一側辺と、前記基板の表面上に設けられた前記蛍光体層の周辺のうち少なくとも一側辺とが、幾何学的に同一平面上に配置されるように、前記基板及び前記基板の表面上に設けられた前記蛍光体層を断裁手段により形成することを特徴とする放射線画像撮影装置の製造方法。」
　
２．引用刊行物
　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物、その記載内容、引用発明及び引用文献２の技術事項は、上記「第２」「［理由］」「２．」に記載したとおりである。
　
２．引用刊行物
　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物、その記載内容、引用発明は、上記「第２」「［理由］」「２．」に記載したとおりである。
　
３．対比・判断
　本願発明は、前記「第２」で検討した本願補正発明から、「４つの」及び「前記蛍光体層の側面形状が垂直側壁面となる」という事項を削除したものである。
　そうすると、本願発明の発明特定事項をすべて含み、更に限定したものに相当する本願補正発明は、前記「第２」「３．」及び「４．」に記載したとおり、引用発明及び引用文献２、３に記載された技術事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も引用発明及び引用文献２、３に記載された事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　してみると、本願発明は、引用発明及び引用文献２、３に記載された事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
　
第４　むすび
　したがって、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、本願の他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。