【事件の表示】
　特許第３１９４２４６号「Ｘ−Ｙステージの制御装置」の請求項１ないし３に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３１９４２４６号の請求項１ないし３に係る特許を維持する。
【理　由】
第１　手続の経緯
　特許第３１９４２４６号の請求項１〜３に係る発明についての出願は、平成９年４月４日に特許出願され、平成１３年６月１日にその特許権の設定登録がされ、その後、特許異議申立人酒井敏夫より特許異議の申立てがされ、取消しの理由が通知され、その指定期間内である平成１４年７月２２日に訂正請求がされたものである。
　
第２　訂正の適否についての判断
１　訂正の内容
　特許権者が求めている訂正の内容は以下のとおりである。
（１）訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１の「Ｘ軸方向及びＹ軸方向に駆動可能にされたトッププレートと、ベース上に設置され、前記トッププレートをＸ軸、Ｙ軸の一方の軸方向に駆動する１つのリニアモータと、
　前記ベース上に設置され、前記トッププレートをＸ軸、Ｙ軸の他方の軸方向に駆動するように互いに平行に構成された第１、第２のリニアモータと、
　前記ベース上に設けられて前記トッププレートの一方の軸方向の位置を検出するための１つの位置検出器と、
　前記第１、第２のリニアモータのそれぞれに対応して前記ベース上に設けられて互いに離れた位置で前記トッププレートの他方の軸方向の位置を検出するための第１、第２の位置検出器と、
　前記１つのリニアモータ、前記第１、第２のリニアモータをそれぞれ、対応する位置検出器からの位置検出値と対応する位置指令値とに基づいて制御する３つのフィードバック制御系とを備え、
　前記３つのフィードバック制御系はそれぞれ、前記位置検出値と前記位置指令値とにより制御量指令値を作成する位置制御器を含み、
　前記第１、第２のリニアモータの前記フィードバック制御系にはそれぞれ、前記位置制御器の後段に前記１つの位置検出器の位置検出値に応じてゲイン量が決定される補正ゲイン要素を付加したことを特徴とするＸ−Ｙステージの制御装置。」を、
「Ｘ軸方向及びＹ軸方向に駆動可能にされたトッププレートと、
　ベース上に設置され、前記トッププレートをＸ軸、Ｙ軸の一方の軸方向に駆動する１つのリニアモータと、
　前記ベース上に設置され、前記トッププレートをＸ軸、Ｙ軸の他方の軸方向に駆動するように互いに平行に構成された第１、第２のリニアモータと、
　前記ベース上に設けられて前記トッププレートの一方の軸方向の位置を検出するための１つの位置検出器と、
　前記第１、第２のリニアモータのそれぞれに対応して前記ベース上に設けられて互いに離れた位置で前記トッププレートの他方の軸方向の位置を検出するための第１、第２の位置検出器と、
　前記１つのリニアモータ、前記第１、第２のリニアモータをそれぞれ、対応する位置検出器からの位置検出値と対応する位置指令値とに基づいて制御する３つの独立したフィードバック制御系とを備え、
　前記３つのフィードバック制御系はそれぞれ、前記位置検出値と前記位置指令値との間の偏差により制御量指令値を作成する位置制御器を含み、
　前記第１、第２のリニアモータの前記フィードバック制御系にはそれぞれ、前記位置制御器の後段に前記１つの位置検出器の位置検出値に応じてゲイン量が決定される補正ゲイン要素を付加したことを特徴とするＸ−Ｙステージの制御装置。」と訂正する。
（２）訂正事項ｂ
　願書に添付された明細書の段落【０００７】の「【課題を解決するための手段】本発明によれば、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に駆動可能にされたトッププレートと、前記ステージをＸ軸方向に駆動するＸリニアモータと、前記ステージをＹ軸方向に駆動するように互いに平行に構成された第１、第２のＹリニアモータと、前記Ｘリニアモータに設けられて前記ステージのＸ軸方向の位置を検出するためのＸ軸位置検出器と、前記２組のＹリニアモータのそれぞれに設けられて互いに離れた位置で前記ステージのＹ軸方向の位置を検出するための第１、第２のＹ軸位置検出器と、前記Ｘリニアモータ、前記第１、第２のＹリニアモータをそれぞれ、対応する位置検出器からの位置検出値と対応する位置指令値とに基づいて制御する３つの制御系とを備え、前記３つの制御系はそれぞれ、前記位置検出値と前記位置指令値とにより制御量指令値を作成する位置制御器を含み、前記第１、第２のＹリニアモータの前記制御系にはそれぞれ、前記位置制御器の後段に前記Ｘ軸位置検出器の位置検出値に応じてゲイン量が決定される補正ゲイン要素を付加したことを特徴とするＸ−Ｙステージの制御装置が提供される。」を、「【課題を解決するための手段】本発明によれば、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に駆動可能にされたトッププレートと、前記ステージをＸ軸方向に駆動するＸリニアモータと、前記ステージをＹ軸方向に駆動するように互いに平行に構成された第１、第２のＹリニアモータと、前記Ｘリニアモータに設けられて前記ステージのＸ軸方向の位置を検出するためのＸ軸位置検出器と、前記２組のＹリニアモータのそれぞれに設けられて互いに離れた位置で前記ステージのＹ軸方向の位置を検出するための第１、第２のＹ軸位置検出器と、前記Ｘリニアモータ、前記第１、第２のＹリニアモータをそれぞれ、対応する位置検出器からの位置検出値と対応する位置指令値とに基づいて制御する３つの独立した制御系とを備え、前記３つの制御系はそれぞれ、前記位置検出値と前記位置指令値との間の偏差により制御量指令値を作成する位置制御器を含み、前記第１、第２のＹリニアモータの前記制御系にはそれぞれ、前記位置制御器の後段に前記Ｘ軸位置検出器の位置検出値に応じてゲイン量が決定される補正ゲイン要素を付加したことを特徴とするＸ−Ｙステージの制御装置が提供される。」と訂正する。
　
２　訂正の目的、新規事項の有無及び特許請求の範囲の拡張・変更の存否
（１）訂正事項ａについて
　訂正事項ａは、訂正前の請求項１に係る発明を特定する事項である「３つのフィードバック制御系」をより技術的に限定された「３つの独立した制御系」と変更し、同じく「前記位置検出値と前記位置指令値とにより制御指令値を作製する位置制御器」をより技術的に限定された「前記位置検出値と前記位置指令値との間の偏差により制御指令値を作製する位置制御器」と変更するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とした明細書の訂正に該当する。そして、この訂正は、訂正前の明細書の段落【００１３】、及び図１の記載に基づくものであるから、新規事項の追加に該当せず、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものでもない。
（２）訂正事項ｂについて
　訂正事項ｂは、請求項１を訂正したことに伴い、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載との整合をとるためのものであるから、明りようでない記載の釈明を目的とした明細書の訂正に該当する。そして、新規事項の追加に該当せず、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものでもない。
　
３　むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び第３項において準用する同法第１２６条第２、３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
第３　特許異議の申立てについて　
１　申立の理由の概要
　特許異議申立人は、特許第３１９４２４６号の訂正前の請求項１〜３に係る発明は、本件出願の出願前に日本国内で頒布された刊行物である甲第１号証（実願平１−４６３２６号（実開平２−１３９０３９号）のマイクロフィルム）、甲第２号証（特開昭６０−１２７９３２号公報）、甲第３号証（実願昭６０−１０４１２０号（実開昭６２−１５４４５号）のマイクロフィルム）、甲第４号証（特開平６−９５７４４号公報）、甲第５号証（ＳＣＨＡＵＭ’Ｓ　ＯＵＴＬＩＮＥ　ＳＥＲＩＥＳ　ＴＨＥＯＲＹ　ＡＮＤ　ＰＲＯＢＬＥＭＳ　ＯＦ　ＦＥＥＤＢＡＣＫ　ａｎｄ　ＣＯＮＴＲＯＬ　ＳＹＳＴＥＭＳ、第１１２〜１１９頁（１９６７年　ＭｃＧｒａｗ−Ｈｉｌｌ　ＢＯＯＫ　ＣＯＭＰＡＮＹ））、甲第６号証（ＯＰアンプＩＣ活用ノウハウ、第１９３〜２１３頁（玉村俊雄著、ＣＱ出版社、昭和５８年１０月２０日発行））、及び甲第７号証（これでわかったＯＰアンプ回路、第１９０〜１９５頁（平川光則著、オーム社、平成７年１２月２０日発行））に記載された発明乃至技術的事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定に違反して特許をされたものであり、その特許は、同法第１１３条第２号に該当するので、取り消されるべきものである旨主張している。
　
２　本件発明１〜３
　本件の訂正後の請求項１〜３に係る発明（以下「本件発明１〜３」という。）は、訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１〜３に記載された事項により特定される以下のとおりのものと認める。
「【請求項１】Ｘ軸方向及びＹ軸方向に駆動可能にされたトッププレートと、
　ベース上に設置され、前記トッププレートをＸ軸、Ｙ軸の一方の軸方向に駆動する１つのリニアモータと、
　前記ベース上に設置され、前記トッププレートをＸ軸、Ｙ軸の他方の軸方向に駆動するように互いに平行に構成された第１、第２のリニアモータと、
　前記ベース上に設けられて前記トッププレートの一方の軸方向の位置を検出するための１つの位置検出器と、
　前記第１、第２のリニアモータのそれぞれに対応して前記ベース上に設けられて互いに離れた位置で前記トッププレートの他方の軸方向の位置を検出するための第１、第２の位置検出器と、
　前記１つのリニアモータ、前記第１、第２のリニアモータをそれぞれ、対応する位置検出器からの位置検出値と対応する位置指令値とに基づいて制御する３つの独立したフィードバック制御系とを備え、
　前記３つのフィードバック制御系はそれぞれ、前記位置検出値と前記位置指令値との間の偏差により制御量指令値を作成する位置制御器を含み、
　前記第１、第２のリニアモータの前記フィードバック制御系にはそれぞれ、前記位置制御器の後段に前記１つの位置検出器の位置検出値に応じてゲイン量が決定される補正ゲイン要素を付加したことを特徴とするＸ−Ｙステージの制御装置。
【請求項２】請求項１記載の制御装置において、前記補正ゲイン要素のゲイン量を、前記トッププレートの一方の軸方向のストローク量と前記１つの位置検出器の位置検出値との比に基づいて決定することを特徴とするＸ−Ｙステージの制御装置。
【請求項３】請求項１あるいは２記載の制御装置において、前記３つのフィードバック制御系にそれぞれ、前記制御量指令値を２次低域通過型フィルタにてフィルタリングした制御量指令推定値と、対応するモータおよび負荷を擬似した制御対象の逆モデル及び２次低域通過型フィルタにて対応する位置検出値より推定した実推力値指令との差分により外乱力を推定する外乱オブザーバと、前記外乱力を対応する前記制御量指令値から減算することで外乱を補償する減算器とを含む外乱補償器を設けたことを特徴とするＸ−Ｙステージの制御装置。」
　
３　甲第１〜７号証記載の発明乃至技術的事項
（１）甲第１号証
　甲第１号証には、以下のとおり記載されている。
ア　明細書第２頁第１行〜第３頁第２行
「［従来の技術］
　この種のＸＹテーブルの構造を、この考案の実施例を示す第１図及び第２図を参考にして説明する。このＸＹテーブルは、２組のＸ軸スライド１、１を平行に配置し、このＸ軸スライド１、１の上部に直交状にＹ軸スライド２を移動可能に取付け、このＹ軸スライド２にステージ３を移動可能に支持して成っている。
　上記Ｙ軸スライド２とステージ３は、それぞれＸ軸スライド１、１とＹ軸スライド２に対して静圧軸受を介して浮上支持されており、Ｙ軸スライド２を両Ｘ軸スライド１、１に設けたスライド駆動装置４、４により、またステージ３をＹ軸スライド２に設けたステージ駆動装置５によって移動させるようにしている。
　このスライド駆動装置４、４とステージ駆動装置５は、Ｘ軸スライド１、１とＹ軸スライド２の長さ方向に設けた電磁コイル６と、その電磁コイル６に対向させてＹ軸スライド２とステージ３の下面に設けたヨーク７とマグネット７’とから成っており、電磁コイル６を励磁してマグネット７’との間に作用する磁気力により駆動力を発生する。」
イ　明細書第３頁第１０行〜第５頁１０行
「ところで、上記構造のＸＹテーブルにおいては、Ｘ軸スライド１上を移動するＹ軸スライド２の重心、すなわちステージ３の中心位置がＸ軸スライド１、１間のどの位置にあるかによってＹ軸スライド２の動きに差異が生じる。
　すなわち、ステージ３の中心がＸ軸スライド１、１間の中央に位置して移動する場合は、各スライド駆動装置４、４にＹ軸スライド２の重量が等しく加わるため、各駆動力の間に差異が生じず、Ｙ軸スライド２に偶力が発生しないが、ステージ３がＹ軸スライド２の一方の端部に片寄った状態でＹ軸スライド２がＸ軸スライド１、１上を移動すると、各Ｘ軸スライド１、１に加わる重量が異なるため、各駆動装置４、４からＹ軸スライド２に加わる駆動力に差異が生じる。このような駆動力の差は、Ｙ軸スライド２に対してその重心位置の回りに偶力を生じさせ、ヨーイングが起こる要因になる。・・・すなわち、テーブルの速応性を高めるためには、サーボ系のゲインを高める必要があるが、ゲインを高くしすぎると機械系の固有振動数のピークが０ｄＢ以上となり、機械系が発振しやすくなる。このため・・・テーブルの速応性を低下させる不具合がある。」
ウ　明細書第６頁第４〜１５行
「上記の課題を解決するため、この考案は、第５図に示すように、Ｙ軸スライドの両端部に作用するスライド駆動装置の駆動力をそれぞれ、Ｆ１、Ｆ２とし、各駆動力の作用点からＹ軸スライドの重心Ｇまでの距離をそれぞれｌ１、ｌ２とした場合に、Ｆ１×ｌ１＝Ｆ２×ｌ２の関係を満たすようにＦ１とＦ２を設定する構成を採用したものである。
［作用］
　上記のように構成すると、Ｙ軸スライドの重心と各駆動力の間で作用するモーメント力が等しくなり、Ｙ軸スライドの重心に作用するモーメントがゼロになるので、偶力の発生が防止される。」
エ　明細書第７頁第３行〜第８頁第７行
「第１図に示す実施例のＸＹテーブルは、従来技術で述べたように２組のＸ軸スライド１、１にステージ３を上部に支持したＹ軸スライド２を取付けて成っており、ステージ３とＹ軸スライド２との間に、ステージ３のｙ軸方向の位置を検出する位置検出器８が設けてある。
　この位置検出器８は、Ｙ軸スライド２の側面に取付けた検出ヘッド１０と、ステージ３の側面に取付けたリニアスケール９から成っている。
　いま、Ｙ軸スライド２のステージ駆動装置５を駆動してステージ３をｙ軸方向に移動させると、その移動量は、位置検出器８により検出され、その測定値はＸ軸スライド１、１のスライド駆動装置４、４の制御部に入力される。この制御部では、・・・距離ｌ１、ｌ２を算出し、Ｙ軸スライド２を指定の速度で移動させるために必要な全駆動力をＦ（このＦは、Ｆ１、Ｆ２の合力となる）、両作用点間の距離をｌ（＝ｌ１＋ｌ２）とした場合、各駆動装置４、４の推力Ｆ１、Ｆ２が、
　　　　Ｆ１＝ｌ２／ｌ　Ｆ　　　・・・・・・・（１）
　　　　Ｆ２＝ｌ１／ｌ　Ｆ　　　・・・・・・・（２）
で設定される値になるように、各駆動装置４、４の電磁コイル６、６に流す電流を変化せせる。」　
（２）甲第２号証
　甲第２号証の第１頁右下欄第３〜１５行には、以下のとおり記載されている。
「従来この種ＸＹステージとしては、第４図および第５図に示す如く、案内面を構成するベース８の四辺に固定ガイド８１，８１ａ，８２，８２ａおよび各固定ガイド８１，８２に沿ってリニアモータ８３，８４を配設し、一方、ベース８の上方には縦横可動ガイド８５，８６を直交配備して各可動ガイド８５，８６の両端は空気軸受を介して固定ガイド８１，８２およびリニアモー夕８３，８４に連繋すると共に、縦横可動ダイド８５，８６の交叉部に空気軸受８７を介して自在ステージ８９を配備しており、縦横可動ガイド８５，８６の交叉部の変位により自在ステージ８９を目標位置へ移行するものである。」
　また、第４、５図には以下の技術的事項が記載されていると認める。
　４個のリニアモータが、ベース上に設けられていること。
（３）甲第３号証
　甲第３号証には、以下のとおり記載されている。
ア　明細書第１頁第１５〜１７行
「本考案は移動テーブル装置に係り、特に移動テーブルを安定に移動させるに好適な移動テーブル装置に関する。」
イ　明細書第３頁第１８行〜第４頁第１０行
「第１図は本考案の移動テーブル装置の一実施例を示すもので、この図において、Ｘ方向に移動する第１の移動部材５は、２個のＸ方向のアクチュエータ１，２によって、ＸベースＢに固定した方向の案内部材３，４上を運動する。Ｙ方向に移動する第２の移動部材６は、Ｙ方向のアクチュエータ１６によって第１の移動部材５上を運動する。第１の移動部材５の位置及び第２の移動部材６の位置は、各々位置センサー１４及び１５により測定される。１７はＸ方向目標位置発生器、１８はＹ方向目標位置発生器、１９，２０は比較器、１０は力配分決定回路、１３は重心決定回路である。」
ウ　明細書第４頁第２０行〜第５頁第１７行
「比較器１９は、Ｘ方向位置センサ１４によって測定した第１の移動部材６の位置と、Ｘ方向目標位置発生器１７からの目標値との偏差２１を作り、これを力配分決定回路１０に導く。力配分決定回路１０は偏差２１より定まる合力Ｆと、第１の移動部材５の重心ｙＧとから次の（２）式および（３）式に従って２個のＸ方向のアクチュエータ１，２に配分する力ｆ１，ｆ２を決める。
　　　ｆ１＝（１／２十ｙＧ／２ｌ）Ｆ　　……（２）
　　　ｆ２＝（１／２−ｙＧ／２ｌ）Ｆ　　……（３）
　ここに、Ｆは２個のアクチュエータ１，２の合力しとて第１の移動部材５に加えられる力、ｌは第１の移動部材５の長さの１／２である。Ｘ方向のアクチュエータ１，２は力配分決定回路１０により決定された力ｆ１，ｆ２を発生し、第１の移動部材５に加える。」
エ　明細書第５頁第１８行〜第７頁第３行
「前述した力配分回路１０および重心決定回路１３の構成の一例を第２図に示す。この第２図において第１図と同符号のものは同一部分である。重心決定回路１３は、係数器により構成される。また、力配分決回路１０は、係数器３０、加算器３４、減算器３５、定数発生器３１、乗算器３２，３３及び駆動補償器３６より構成される。重心決定回路１３により求められた重心ｙＧは係数器３０によりｙＧ／２ｌに変換され、定数発生器３１により発生した定数１／２と、加算又は減算される。一方、Ｘ方向の偏差２１から既知の駆動補償器３６によって、合力Ｆが計算される。合力Ｆは、乗算器３２，３３によって前記加算結果と乗算され、アクチュエータ１，２に配分する力ｆ１，ｆ２を得る。このようにして、（２）式の演算を実現することができる。
　このように構成したことにより、第１の移動部材５の重心が第２の移動部材６の移動により変化しても、Ｘ方向のアクチュエータ１，２は力配分決定回路１３からの重心の偏心を考慮した力ｆ１，ｆ２により駆動されるため、これらのＸ方向のアクチュエータ１，２により第１の移動部材５に加わる力の合力は、常に第１の移動部材の重心に一致した点に作用する。その結果、第　の移動部材５を、ヨーイング振動を与えることなく駆動することができる。」
（４）甲第４号証
　甲第４号証には、以下のとおり記載されている。
ア　項目【０００９】
「【０００９】図１に、本発明の主要部にかかるリニアパルスモータ制御装置の一実施例の概念構成図を示す。」
イ　項目【００１６】〜【００２２】
「【００１６】本発明の特徴は、前述した構成に加え、推力外乱補償手段１３０を具備したところにある。以下、推力外乱補償手段１３０の構成について説明する。
【００１７】前記外乱補償手段１３０は、前記位置検出値１４２と、前記電流指令値１４３とを用いる。
【００１８】前記位置検出値１４２は、負荷入力逆モデル１３２に入力される。ここで、あらかじめ設定された前記リニアパルスモータの慣性質量を含んでなる負荷入力と位置との相関関数に基づいて、前記位置検出値１４２に対応する負荷入力推定値１４４が計算される。
【００１９】前記電流指令値１４３は、リニアパルスモータ推力モデル１３１に入力される。ここで、前記電流指令値１４３にあらかじめ設定された推力定数を乗じて、発生推力推定値１４５が計算される。
【００２０】前記負荷入力推定値１４４と前記発生推力推定値１４５との差を推力外乱推定値１４６とし、リニアパルスモータ推力逆モデル１３３に入力される。リニアパルスモータ推力逆モデル１３３により、推力外乱推定値１４６は前記推力定数で除され、フィルタ１３４による演算を経て、電流指令値の補正値１４７として、位置制御手段１１０の出力から減算され、電圧を補正する。
【００２１】推力外乱補償手段１３０は、リニアアクチュエータ１００の内部で発生するディテント力や、リニアアクチュエータ１００の外部で発生し、リニアアクチュエータ１００に影響を与える推力外乱を推定し、それを打ち消す補正信号を発生するものである。本推力外乱補償手段１３０を具備することにより、より精度が良く、加速度変化の少ない位置制御が実現できる。
【００２２】図２に、本発明による制御系のブロック線図の一例を示す。これを用いて本制御系の特徴について説明する。」
ウ　項目【００２８】
「【００２８】フィルタ１３４は、通常一次のローパスフィルタが用いられる。このとき、ローパスフィルタの折点周波数よりも低い周波数で、推力外乱を補償できる。これは、ローパスフィルタの折点周波数を充分大きくすれば、考えられるほとんど全ての外乱を補償できることを意味するが、高周波ノイズの及ぼす悪影響のため、ローパスフィルタの折点周波数は、経験的に数１０Ｈｚが限界であることが知られている。」
（５）甲第５号証
　甲第５号証の第１１５頁の等価ブロック線図と元のブロック線図の対応表の行番号７の箇所には、以下の技術的事項が記載されていると認める。
　加え合わせ点に対する出力Ｚ側の伝達関数Ｐを、加え合わせ点に対する入力Ｘ，Ｙ側に配置替えする場合、その伝達関数Ｐを両方の入力Ｘ，Ｙに掛けると等価になること。
（６）甲第６号証
　甲第６号証の第１９７頁の「７．２簡単なアクティブ・フィル夕の設計法」と題する個所の第６〜７行に「アクティブ・フィル夕の設計は、ＯＰアンプを１個使った２次が基本で，高次のフィル夕はこれをカスケードに接続して構成します。」と記載されている。
（７）甲第７号証
　甲第７号証の第１９０〜１９４頁には、一次ローパスフィルタ及び二次ローパスフィルタの構成及び特性が記載されていると認める。
　
４　対比及び当審の判断
（１）本件発明１について
　本件発明１は、「第１、第２のリニアモータのそれぞれに対応してベース上に設けられて互いに離れた位置でトッププレートの他方の軸方向の位置を検出するための第１、第２の位置検出器」（以下「特定事項Ａ」という。）、及び「１つのリニアモータ、第１、第２のリニアモータをそれぞれ、対応する位置検出器からの位置検出値と対応する位置指令値とに基づいて制御する３つの独立したフィードバック制御系」（以下「特定事項Ｂ」という。）を備えることを、その発明特定事項とするものである。
　一方、甲第１、３号証には、何れも、本件発明１と同様の、第１、第２の駆動装置へ与える制御指令をトッププレートの一方の軸方向の位置に応じて作製するようにしたＸ−Ｙステージが記載されているといえるものの、上記特定事項Ａ、Ｂについて記載されていない。
　甲第２号証には、Ｘ−Ｙステージに関して、４つのモータをベース上に設けることが記載されているといえるものの、モータへ与える制御指令をトッププレートの一方の軸方向の位置に応じて作製するものは記載されておらず、上記特定事項Ａ、Ｂについても記載されていない。
　甲第４〜７号証は、本件発明３に関して引用されたもので、Ｘ−Ｙステージに関するものではなく、当然上記特定事項Ａ、Ｂについて記載されていない。
　また、上記特定事項Ａ、Ｂは、本件出願時の技術常識を考慮しても、甲第１〜７号証の記載から、当業者が容易に想到することができたともいえない。
　そして、本件発明１は、上記特定事項Ａ、Ｂを有することにより、「結果としてずれが生じたとしても、第１、第２の位置検出器によりヨーイング運動を検出できますので、ヨ−イング運動に対する補正を行うことができる」（特許異議意見書第７頁末行〜第８頁第２行参照。）という甲第１〜７号証何れに記載のものにもない格別の効果を奏するものである。
　したがって、本件発明１が甲第１〜７号証記載の発明乃至技術的事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　
　なお、特許異議申立人は、当審が行った審尋に対する平成１４年１２月１７日付け回答書において、証拠として「デザインニュース誌」（１９９６年１１月１８日発行）第７７、７８、８０頁（以下「追加証拠」という。）を提出し、「トッププレート」の「他方の軸方向」の制御を独立した２つのフィードバック制御系で行う点、「トッププレート」の「他方の軸方向」の位置を検出する位置検出器を互いに離れた位置に２つ有する点は、追加証拠に記載されているように、いずれも技術常識的な事項であり、甲第１号証、又は甲第３号証記載の発明において、追加証拠に開示のフィードバック制御の基本的事項を適用することは、当業者が自由に選択できる程度の事項である旨主張している。
　そこで、この主張について検討する。
　追加証拠の第７８頁の上段に記載された空気軸受を用いたＸ−Ｙステージの平面図、正面図、及びその制御系のブロック線図から、追加証拠には、「トッププレート」の「他方の軸方向」の位置を検出する位置検出器を互いに離れた位置に２つ有する点は記載されていると認めることはできる。しかしながら、追加証拠記載のものは、本件発明１、及び甲第１、３号証記載のものと異なり、トッププレートの他方の軸方向の位置、及びそのずれを検出し、その検出値から直接モータの制御指令を作製するものであり、そのために、位置検出器を互いに離れた位置に２つ設けたものである。
　また、制御系のブロック線図に記載された制御ループは２系統あるものの、一方の制御ループからの指令値に他方の制御ループからの指令値を加算、又は減算し、その値をモータに与えるものであって、独立した制御ループではない。
　さらに、追加証拠に記載されたものは、２つのモータで駆動する場合に、２つのモータのずれを補正するために、位置検出器を２つ設け、上記の２系統の制御ループを設けたものであるから、位置検出器を２つ設け、独立した２系統の制御ループで制御するものが基本であるとはいえない。
　したがって「トッププレート」の「他方の軸方向」の制御を独立した２つのフィードバック制御系で行う点は、当業者に技術常識的な事項であったとはいえないし、「トッププレート」の「他方の軸方向」の位置を検出する位置検出器を互いに離れた位置に２つ有するという技術的事項が、追加証拠に記載されていたとしても、追加証拠記載のものと異なる手段で、モータの制御指令を作製するものである甲第１、３号証記載のものに、上記技術的事項を適用することが当業者に容易であったとはいえない。
　よって、特許異議申立人の上記主張は採用できない。
　
（２）本件発明２、３について
　本件発明２、３は、本件発明１に従属し、さらに技術的限定を加えたものであるから、本件発明１が、甲第１〜７号証記載の発明乃至技術的事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることができない以上、本件発明２、３も甲第１〜７号証記載の発明乃至技術的事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　
５　むすび
　以上のとおりであるから、特許異議の申立ての理由及び証拠によっては、本件発明１〜３の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明１〜３の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１５年２月１２日（２００３．２．１２）
【訂正の要旨】
　▲１▼訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１に係る記載
　『［請求項１］　Ｘ軸方向及びＹ軸方向に駆動可能にされたトッププレートと、
　ベース上に設置され、前記トッププレートをＸ軸、Ｙ軸の一方の軸方向に駆動する１つのリニアモータと、
　前記ベース上に設置され、前記トッププレートをＸ軸、Ｙ軸の他方の軸方向に駆動するように互いに平行に構成された第１、第２のリニアモータと、
　前記ベース上に設けられて前記トッププレートの一方の軸方向の位置を検出するための１つの位置検出器と、
　前記第１、第２のリニアモータのそれぞれに対応して前記ベース上に設けられて互いに離れた位置で前記トッププレートの他方の軸方向の位置を検出するための第１、第２の位置検出器と、
　前記１つのリニアモータ、前記第１、第２のリニアモータをそれぞれ、対応する位置検出器からの位置検出値と対応する位置指令値とに基づいて制御する３つのフィードバック制御系とを備え、
　前記３つのフィードバック制御系はそれぞれ、前記位置検出値と前記位置指令値とにより制御量指令値を作成する位置制御器を含み、
　前記第１、第２のリニアモータの前記フィードバック制御系にはそれぞれ、前記位置制御器の後段に前記１つの位置検出器の位置検出値に応じてゲイン量が決定される補正ゲイン要素を付加したことを特徴とするＸ−Ｙステージの制御装置。』
を、
　『［請求項１］　Ｘ軸方向及びＹ軸方向に駆動可能にされたトッププレートと、
　ベース上に設置され、前記トッププレートをＸ軸、Ｙ軸の一方の軸方向に駆動する１つのリニアモータと、
　前記ベース上に設置され、前記トッププレートをＸ軸、Ｙ軸の他方の軸方向に駆動するように互いに平行に構成された第１、第２のリニアモータと、
　前記ベース上に設けられて前記トッププレートの一方の軸方向の位置を検出するための１つの位置検出器と、
　前記第１、第２のリニアモータのそれぞれに対応して前記ベース上に設けられて互いに離れた位置で前記トッププレートの他方の軸方向の位置を検出するための第１、第２の位置検出器と、
　前記１つのリニアモータ、前記第１、第２のリニアモータをそれぞれ、対応する位置検出器からの位置検出値と対応する位置指令値とに基づいて制御する３つの
独立した
　前記３つのフィードバック制御系はそれぞれ、前記位置検出値と前記位置指令値と
の間の偏差
　前記第１、第２のリニアモータの前記フィードバック制御系にはそれぞれ、前記位置制御器の後段に前記１つの位置検出器の位置検出値に応じてゲイン量が決定される補正ゲイン要素を付加したことを特徴とするＸ−Ｙステージの制御装置。』
と訂正します。
　▲２▼訂正事項ｂ
　明細書の段落［０００７］（特許第３１９４２４６号公報第２頁右欄の段落［０００７］）に係る記載
　『［課題を解決するための手段］　本発明によれば、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に駆動可能にされたトッププレートと、ベース上に設置され、前記トッププレートをＸ軸、Ｙ軸の一方の軸方向に駆動する１つのリニアモータと、前記ベース上に設置され、前記トッププレートをＸ軸、Ｙ軸の他方の軸方向に駆動するように互いに平行に構成された第１、第２のリニアモータと、前記ベース上に設けられて前記トッププレートの一方の軸方向の位置を検出するための１つの位置検出器と、前記第１、第２のリニアモータのそれぞれに対応して前記ベース上に設けられて互いに離れた位置で前記トッププレートの他方の軸方向の位置を検出するための第１、第２の位置検出器と、前記１つのリニアモータ、前記第１、第２のリニアモータをそれぞれ、対応する位置検出器からの位置検出値と対応する位置指令値とに基づいて制御する３つのフィードバック制御系とを備え、前記３つのフィードバック制御系はそれぞれ、前記位置検出値と前記位置指令値とにより制御量指令値を作成する位置制御器を含み、前記第１、第２のリニアモータの前記フィードバック制御系にはそれぞれ、前記位置制御器の後段に前記１つの位置検出器の位置検出値に応じてゲイン量が決定される補正ゲイン要素を付加したことを特徴とするＸ−Ｙステージの制御装置が提供される。』
を、
　『［課題を解決するための手段］　本発明によれば、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に駆動可能にされたトッププレートと、ベース上に設置され、前記トッププレートをＸ軸、Ｙ軸の一方の軸方向に駆動する１つのリニアモータと、前記ベース上に設置され、前記トッププレートをＸ軸、Ｙ軸の他方の軸方向に駆動するように互いに平行に構成された第１、第２のリニアモータと、前記ベース上に設けられて前記トッププレートの一方の軸方向の位置を検出するための１つの位置検出器と、前記第１、第２のリニアモータのそれぞれに対応して前記ベース上に設けられて互いに離れた位置で前記トッププレートの他方の軸方向の位置を検出するための第１、第２の位置検出器と、前記１つのリニアモータ、前記第１、第２のリニアモータをそれぞれ、対応する位置検出器からの位置検出値と対応する位置指令値とに基づいて制御する３つの
独立した
の間の偏差
と訂正します。
（５４）【発明の名称】
Ｘ−Ｙステージの制御装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　Ｘ軸方向及びＹ軸方向に駆動可能にされたトッププレートと、
　ベース上に設置され、前記トッププレートをＸ軸、Ｙ軸の一方の軸方向に駆動する１つのリニアモータと、
　前記ベース上に設置され、前記トッププレートをＸ軸、Ｙ軸の他方の軸方向に駆動するように互いに平行に構成された第１、第２のリニアモータと、
　前記ベース上に設けられて前記トッププレートの一方の軸方向の位置を検出するための１つの位置検出器と、
　前記第１、第２のリニアモータのそれぞれに対応して前記ベース上に設けられて互いに離れた位置で前記トッププレートの他方の軸方向の位置を検出するための第１、第２の位置検出器と、
　前記１つのリニアモータ、前記第１、第２のリニアモータをそれぞれ、対応する位置検出器からの位置検出値と対応する位置指令値とに基づいて制御する３つの
独立した
　前記３つのフィードバック制御系はそれぞれ、前記位置検出値と前記位置指令値と
の間の偏差
　前記第１、第２のリニアモータの前記フィードバック制御系にはそれぞれ、前記位置制御器の後段に前記１つの位置検出器の位置検出値に応じてゲイン量が決定される補正ゲイン要素を付加したことを特徴とするＸ−Ｙステージの制御装置。
　【請求項２】　請求項１記載の制御装置において、前記補正ゲイン要素のゲイン量を、前記トッププレートの一方の軸方向のストローク量と前記１つの位置検出器の位置検出値との比に基づいて決定することを特徴とするＸ−Ｙステージの制御装置。
　【請求項３】　請求項１あるいは２記載の制御装置において、前記３つのフィードバック制御系にそれぞれ、前記制御量指令値を２次低域通過型フィルタにてフィルタリングした制御量指令推定値と、対応するモータおよび負荷を擬似した制御対象の逆モデル及び２次低域通過型フィルタにて対応する位置検出値より推定した実推力値指令との差分により外乱力を推定する外乱オブザーバと、前記外乱力を対応する前記制御量指令値から減算することで外乱を補償する減算器とを含む外乱補償器を設けたことを特徴とするＸ−Ｙステージの制御装置。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明はＸ−Ｙステージの制御装置に関し、特にレーザ加工システムにおいて用いられるワーク位置決め用のＸ−Ｙステージに適した制御装置に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　レーザ加工システムに用いられるワーク位置決め用のＸ−Ｙステージでは、広い加工範囲（ストローク）を有すること並びに、加速・減速時及び高速運動時を含めた運動精度がストローク内で変化の無いことが要求される。
　【０００３】
　この種のＸ−Ｙステージの一例を図６を参照して説明する。図６において、このＸ−Ｙステージは、サーボモータ６１とボールねじ６２とを組み合わせたＸ軸ステージ６０に、サーボモータ７１とボールねじ７２とを組み合わせたＹ軸ステージ７０を積み上げるように構成している。ボールねじ６２には、図示していないが、その回転によりＸ軸方向に駆動される被駆動部材が組み合わされており、この被駆動部材にＹ軸ステージ７０が搭載された構成となっている。そして、Ｙ軸ステージ７０のボールねじ７２にはトッププレート８０が組み合わされ、ボールねじ７２の回転によりトッププレート８０がＹ軸方向に駆動される。結果として、Ｘ軸ステージ６０とＹ軸ステージ７０との組み合わせにより、トッププレート８０はＸ軸方向及びＹ軸方向に駆動される。
　【０００４】
　【発明が解決しようとする課題】
　トッププレート８０の位置制御方式としては、サーボモータ６１、７１のそれぞれに設けられたエンコーダ６３、７３からの回転検出信号に基づいてトッププレート８０のＸ軸方向、Ｙ軸方向に関する位置を検出し、これを目標値と一致するように制御するセミクローズドループ位置制御方式が採用されている。しかし、この方式では、ボールねじ部分の剛性やバックラッシュの影響がフィードバックされないために、トッププレート８０の位置に誤差が生じる。
　【０００５】
　このため、上記の方式に代えて、トッププレート８０の位置を直接検出してフィードバックするフルクローズドループ位置制御方式が採用される場合もあるが、この方式では高速移動時のボールねじ部分の振動による制御ループの安定性が確保できず、応答性をあげられないという問題がある。
　【０００６】
　そこで、本発明の課題は、ストローク内での制御特性の変動を無くし、一様な制御特性、運動精度を確保できるようなＸ−Ｙステージの制御装置を提供することにある。
　【０００７】
　【課題を解決するための手段】
　本発明によれば、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に駆動可能にされたトッププレートと、ベース上に設置され、前記トッププレートをＸ軸、Ｙ軸の一方の軸方向に駆動する１つのリニアモータと、前記ベース上に設置され、前記トッププレートをＸ軸、Ｙ軸の他方の軸方向に駆動するように互いに平行に構成された第１、第２のリニアモータと、前記ベース上に設けられて前記トッププレートの一方の軸方向の位置を検出するための１つの位置検出器と、前記第１、第２のリニアモータのそれぞれに対応して前記ベース上に設けられて互いに離れた位置で前記トッププレートの他方の軸方向の位置を検出するための第１、第２の位置検出器と、前記１つのリニアモータ、前記第１、第２のリニアモータをそれぞれ、対応する位置検出器からの位置検出値と対応する位置指令値とに基づいて制御する３つの
独立した
の間の偏差
　【０００８】
　上記の構成により、Ｘ、Ｙ方向ともに６００（ｍｍ）の加工範囲（ストローク）を有し、かつ高速運動に適した高精度なＸ−Ｙステージが得られ、このようなＸ−Ｙステージは、特にレーザを用いたクリーム半田印刷用のメタルマスク加工機に最適である。
　【０００９】
　【発明の実施の形態】
　本発明によるＸ−Ｙステージの一例を図２を参照して説明する。図２において、このＸ−Ｙステージは、ベース２０上に、トッププレート２１とそれをＸ軸方向−Ｙ軸方向に案内するリニアベアリングと３組のリニアモータとを組み合わせて構成される。ベース２０上に配置された２本のＹリニアベアリング２２とＹ軸方向駆動用の２組のＹ１リニアモータ２３、Ｙ２リニアモータ２４とその可動部を共用するＹリニアベアリング２５とによりＹ軸方向の案内系が構成されている。なお、トッププレート２１は、これに搭載されるワークよりもやや小さくなるような開口を有している。これは、レーザ加工時にはレーザ光がワークを透過するからである。
　【００１０】
　これらの案内系の可動部に中間プレート２６が締結されると共にＸリニアモータ２７が設けられ、中間プレート２６の上面に２組のＸリニアベアリング２８によりＸ軸方向の案内系が構成されている。Ｘ軸方向の案内系の可動部に、ワークが固定されるトッププレート２１が締結されている。
　【００１１】
　このＸ−Ｙステージにおいては、トッププレート２１のＹ軸方向の駆動は２組のＹ１リニアモータ２３、Ｙ２リニアモータ２４によりＸリニアベアリング２８を介して行われる。このような構造により、各リニアモータはＸ−Ｙステージの構造の一部（ビルトイン型）となり、機構の単純化、負荷の軽量化が図られている。一方、トッププレート２１のＸ軸方向の駆動は、Ｘリニアモータ２７によりトッププレート２１の側面に取り付けられたリニアベアリング２９を介して行われる。このようにして、Ｙ１リニアモータ２３、Ｙ２リニアモータ２４によりトッププレート２１と中間プレート２６とがベース２０上においてＹ軸方向に駆動され、Ｘリニアモータ２７によりトッププレート２１上においてＸ軸方向に駆動される。
　【００１２】
　トッププレート２１の位置検出は、Ｙ１リニアモータ２３の側面に取り付けられたＹ１リニアエンコーダ３１及びＹ２リニアモータ２４の側面に取り付けられたＹ２リニアエンコーダ３２と，Ｘリニアモータ２７の側面に取り付けられたＸリニアエンコーダ３３とにより行われる。このようにして、一定の距離をおいたＹ１リニアエンコーダ３１とＹ２リニアエンコーダ３２とでＹ軸方向の位置を検出することで、それぞれの検出値の差によりトッププレート２１のヨーイング運動を検出することができる。
　【００１３】
　図１を参照して、本発明の好ましい実施の形態による位置制御装置について説明する。前述したように、トッププレート２１の位置検出を、Ｙ１リニアモータ２３側面のＹ１リニアエンコーダ３１及びＹ２リニアモータ２４側面のＹ２リニアエンコーダ３２と、Ｘリニアモータ２７側面のＸリニアエンコーダ３３とで行う。Ｘリニアモータ２７に対する制御は、Ｘリニアエンコーダ３３の位置検出値をフィードバックしてＸ軸位置指令値との偏差を検出し、この偏差をＸ位置制御器１１に与える。Ｘ位置制御器１１では、この偏差に基づいてＸ軸に関する制御量指令値を作成する。一方、Ｙ１リニアモータ２３に対する制御は、Ｙ１リニアエンコーダ３１の位置検出値をフィードバックしてＹ軸位置指令値との偏差を検出し、この偏差をＹ１位置制御器１２に与える。Ｙ１位置制御器１２では、この偏差に基づいてＹ１軸に関する制御量指令値を作成する。同様にして、Ｙ２リニアモータ２４に対する制御は、Ｙ２リニアエンコーダ３２の位置検出値をフィードバックしてＹ軸位置指令値との偏差を検出し、この偏差をＹ２位置制御器１３に与える。Ｙ２位置制御器１３では、この偏差に基づいてＹ２軸に関する制御量指令値を作成する。
　【００１４】
　ここで、Ｙ１リニアモータ２３，Ｙ２リニアモータ２４のフィードバック制御ループには、Ｙ１位置制御器１２、Ｙ２位置制御器１３の後段にそれぞれ、トッププレート２１のＸ軸方向の位置検出値に応じた補正ゲイン要素１４，１５を付加して、Ｙ１位置制御器１２、Ｙ２位置制御器１３からの制御量指令値に補正ゲインを乗算することで、加工点回りの回転運動の発生を防ぐ構成としている。
　【００１５】
　また、Ｘリニアモータ２７，Ｙ１リニアモータ２３，Ｙ２リニアモータ２４の各制御ループにそれぞれ、外乱オブザーバを用いた外乱補償器１６，１７，１８を付加し、リニアベアリングガイドの摩擦特性の変動等の外乱要因をキャンセルする構成としている。外乱補償器１６，１７，１８から出力される電流指令値はそれぞれ、Ｘリニアモータ２７用のモータアンプ１９−１、Ｙ１リニアモータ２３用のモータアンプ１９−２、Ｙ２リニアモータ２４用のモータアンプ１９−３に与えられ、各モータアンプは与えられた電流指令値に基づいて対応するリニアモータの制御を行う。
　【００１６】
　以上の構成による本発明の位置制御装置の作用について説明する。
　【００１７】
　本制御装置によれば、これまで述べてきた各要素の構成により、全ストローク範囲において高い運動精度を確保できる。まず、トッププレート２１の位置はＸリニアエンコーダ３３、Ｙ１リニアエンコーダ３１，Ｙ２リニアエンコーダ３２により検出される。このとき、平行に一定距離をおいて配置されたＹ１リニアエンコーダ３１，Ｙ２リニアエンコーダ３２に、トッププレート２１のヨーイング運動が検出値の差として計測される。
　【００１８】
　図３に補正ゲイン要素１４、１５の原理モデルを示す。ここで、Ｍ１，Ｍ２はそれぞれＹ１リニアモータ２３，Ｙ２リニアモータ２４の負荷であり、Ｋは、Ｙ１リニアモータ２３，Ｙ２リニアモータ２４間の剛性である。Ｋ１，Ｋ２はそれぞれＹ１リニアモータ２３，Ｙ２リニアモータ２４の補正ゲインである。図３において、推力指令値ｆ＊からＹ１軸に関する位置検出値への伝達関係は、次式（１）で与えられる。
　【００１９】
　【数１】
　このときのトッププレート２１のヨーイング運動のモードの共振周波数は以下の式（２）、（３）で与えられる。
　【００２０】
　【数２】
　【数３】
　ここで、Ｙ１リニアモータ２３，Ｙ２リニアモータ２４の補正ゲインの比を各負荷質量の比と同一にする。すなわち、次の式（４）とする。
　【００２１】
　【数４】
　このようにすると、極周波数＝零点周波数となり、トッププレート２１のヨーイング運動のモードが極零キャンセルされる。したがって、推力指令値ｆ＊からＹ１軸に関する位置検出値への伝達関数は次の式（５）となり、モータの負荷は見かけ上質量のみとして扱える。
　【００２２】
　【数５】
　【００２３】
　本発明のステージでは、Ｙ１リニアモータ２３，Ｙ２リニアモータ２４から見た負荷質量は、トッププレート２１のＸ軸方向の位置によりほぼ比例的に変化するため、補正ゲイン量Ｋ１及びＫ２は、図４に示すようにトッププレート２１のＸ軸方向の位置検出値に応じて決定される。すなわち、Ｙ１位置制御器１２、Ｙ２位置制御器１３からの制御量指令値に補正ゲイン要素１４，１５により補正ゲイン量Ｋ１及びＫ２が乗算され、トッププレート２１のＹ軸方向の運動と加工点回りの回転運動を非干渉化し、トッププレート２１の加工点回りの回転運動の発生を防ぐ構成としている。
　【００２４】
　更に、Ｘリニアモータ２７，Ｙ１リニアモータ２３，Ｙ２リニアモータ２４の各制御系に付加された外乱補償器１６，１７，１８の詳細を、Ｘリニアモータ２７に適用した場合について図５に示す。まず、２次低域通過型フィルタ（Ｇｓ）からなるフィルタ１６−１を用いて、位置制御器から出力された制御量指令値をフィルタリングする。また、Ｘリニアモータ２７及び負荷を擬似した制御対象の逆モデル（Ｍｓ２／Ｋｆ、ここで、ＭｓはＸリニアモータ２７及び負荷の質量、Ｋｆはモータ推力定数）及び２次低域通過型フィルタ（Ｇｓ）から成るフィルタ１６−２を用いて、Ｘリニアエンコーダ３３にて検出された位置検出値より制御対象に印加されている実推力値指令値を推定する。
　【００２５】
　そして、減算器１６−３によりフィルタ１６−１、１６−２の出力の差分をとることにより、制御対象に印加されている外乱力を推定し、この推定外乱力を減算器１６−４により制御量指令値から減算することにより、外乱力を補償する。このように、実推力推定時の制御対象モデルとして、リニアモータ及び負荷の質量からなるモデルを用いることで、リニアベアリングの案内摩擦の変動等を外乱力として推定し補償することができる。これは、Ｙ１リニアモータ２３，Ｙ２リニアモータ２４の場合についても同様である。
　【００２６】
　以上のように、本発明では、トッププレート２１のＸ軸方向の位置検出値に応じてＹ１リニアモータ２３，Ｙ２リニアモータ２４の制御ゲインを可変させることで、トッププレート２１の加工点回りの回転運動の発生を防ぎ、それに起因する誤差を減少させることができる。これにより、トッププレート２１のＸ軸方向の位置の変化に伴うトッププレート２１の加工点回りの回転運動誤差を減少させることができる。
　【００２７】
　また、外乱オブザーバを用いた外乱補償器により、トッププレート位置で変動するリニアベアリングの案内摩擦の変動等を外乱として推定し、これら外乱要因を補償することができる。
　【００２８】
　なお、本発明は、対象物を移動及び走査させる装置の制御装置に広く応用可能である。例えば、各種のレーザ加工機のワーク位置決め装置、液晶パネル製造装置及び検査装置などに適用できる。
　【００２９】
　【発明の効果】
　本発明によれば、広い範囲のストロークにわたって制御特性の変動を無くし、一様な制御特性・運動精度を確保できる。また、従来の位置制御器に対して、構成要素を付加する構成で、優れた制御特性を持つ制御装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明の好ましい実施の形態による位置制御装置の構成を示すブロック図である。
　【図２】
　本発明によるＸ−Ｙステージの構成を示す図であり、図（ａ）は平面図、図（ｂ）は正面図、図（ｃ）は側面図である。
　【図３】
　図１に示された補正ゲイン要素の原理モデルについて説明するための図である。
　【図４】
　図１に示されたＹ１リニアモータ、Ｙ２リニアモータの制御系について示したブロック図である。
　【図５】
　図１に示された外乱補償器について説明するためのブロック図である。
　【図６】
　従来のＸ−Ｙステージの構成を示す図である。
　【符号の説明】
　２０　　ベース
　２１　　トッププレート
　２２、２５　　Ｙリニアベアリング
　２３　　Ｙ１リニアモータ
　２４　　Ｙ２リニアモータ
　２６　　中間プレート
　２７　　Ｘリニアモータ
　２８　　Ｘリニアベアリング
　２９　　リニアベアリング