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【手続補正書】
【提出日】平成27年10月7日(2015.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
テンプレートの非存在下での高活性大結晶ＺＳＭ−５型ゼオライトの製造方法であって：
（ａ）水、１５０ｍ２／ｇ未満の表面積を有するシリカ源、アルミナ源、シード、アルカリ金属酸化物の供給源Ｍ及び、グルコン酸またはその塩の供給源Ｑを含む反応混合物を調製するステップであって、前記混合物が、４０以下のＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比を有するステップ；
（ｂ）前記反応混合物を約１００℃〜２００℃の結晶化温度で、ＺＳＭ−５の結晶を形成するために十分な時間加熱するステップ；
（ｃ）前記反応混合物から、４０以下のＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比を有するＺＳＭ−５の結晶を回収するステップであって、前記結晶の大部分は、少なくとも約２μｍの少なくとも１つの結晶寸法を有するステップを含む、製造方法。
【請求項２】
前記シリカ源が、１２５ｍ２／ｇ未満の比表面積を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記反応混合物が：
ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３：最大約４０／１；
Ｈ２Ｏ／ＳｉＯ２：約５〜約５０；
ＯＨ−／ＳｉＯ２：約０．０５〜約０．５
Ｍ／ＳｉＯ２；約０．０５〜約０．５；および
Ｑ／ＳｉＯ２：約０．０５〜約１．０
の量のモル組成を有する、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記反応混合物が、約１５／１〜約４０／１のＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比を有する、請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
加熱ステップ（ｂ）が、約２時間〜約１００時間の時間で行われる、請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記反応混合物が、前の合成で得たＺＳＭ−５シードを含有する、請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
前記反応混合物が、２５℃において１０００ｃＰ未満の粘度を有する、請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
ステップ（ｃ）で回収される前記ＺＳＭ−５が、３５以下のＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比を有する、請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
トルエン不均化用途では、選択化され場合により金属で改質された触媒を次に、通常は水素の存在下、不均化条件下でトルエンと接触させることができ、不均化条件は、約２００℃〜約５００℃（たとえば３５０℃〜約５００℃）の反応器入口温度、ほぼ大気圧（約１５ｐｓｉａ、または約１００ｋＰａａ）から約５０００ｐｓｉａ（約３４ＭＰａａ）、たとえば約１００ｐｓｉａ（約６９０ｋＰａａ）〜約１０００ｐｓｉａ（約６．９ＭＰａａ）の反応器圧力；約０．１ｈｒ−１〜約２０ｈｒ−１、たとえば約２ｈｒ−１〜約１０ｈｒ−１の重量時間空間速度（ＷＨＳＶ）；および約０．１〜約２０、たとえば約１〜約１０のＨ２／炭化水素モル比の１つまたは複数を含むことができる。
本明細書に記載された主な形態を以下に示す。
１．テンプレートの非存在下での高活性大結晶ＺＳＭ−５型ゼオライトの製造方法であって：
（ａ）水、１５０ｍ２／ｇ未満の表面積を有するシリカ源、アルミナ源、シード、アルカリ金属酸化物の供給源Ｍ及び、グルコン酸またはその塩の供給源Ｑを含む反応混合物を調製するステップであって、前記混合物が、４０以下のＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比を有するステップ；
（ｂ）前記反応混合物を約１００℃〜２００℃の結晶化温度で、ＺＳＭ−５の結晶を形成するために十分な時間加熱するステップ；
（ｃ）前記反応混合物から、４０以下のＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比を有するＺＳＭ−５の結晶を回収するステップであって、前記結晶の大部分は、少なくとも約２μｍの少なくとも１つの結晶寸法を有するステップを含む、製造方法。
２．前記シリカ源が、１２５ｍ２／ｇ未満の比表面積を有する、上記１に記載の方法。
３．前記反応混合物が：
ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３：最大約４０／１；
Ｈ２Ｏ／ＳｉＯ２：約５〜約５０；
ＯＨ−／ＳｉＯ２：約０．０５〜約０．５
Ｍ／ＳｉＯ２；約０．０５〜約０．５；および
Ｑ／ＳｉＯ２：約０．０５〜約１．０
の量のモル組成を有する、上記１または２に記載の方法。
４．前記反応混合物が、約１５／１〜約４０／１のＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比を有する、上記１〜３のいずれかに記載の方法。
５．加熱ステップ（ｂ）が、約２時間〜約１００時間の時間で行われる、上記１〜４のいずれかに記載の方法。
６．前記反応混合物が、前の合成で得たＺＳＭ−５シードを含有する、上記１〜５のいずれかに記載の方法。
７．前記反応混合物が、２５℃において１０００ｃＰ未満の粘度を有する、上記１〜６のいずれかに記載の方法。
８．ステップ（ｃ）で回収される前記ＺＳＭ−５が、３５以下のＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比を有する、上記１〜７のいずれかに記載の方法。
９．上記１〜８のいずれかに記載の製造方法によって製造されたＺＳＭ−５。
１０．転化条件下、トルエン供給材料を、上記１〜８のいずれかに記載の製造方法によって製造された活性およびケイ素選択化型のＺＳＭ−５と接触させるステップを含む、トルエンからパラキシレンへの選択的不均化方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月17日(2015.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自動車の少なくとも１の運転パラメータを評価して運転者のフィードバックを提供する方法であって、
前記自動車の第１の運転パラメータに関する第１のシステム変数を測定することと、
前記第１の運転パラメータと関連する第１のルックアップマップにアクセスすることであって、前記第１のルックアップマップが第１の閾値の１又は複数のセットを備えていることと、
前記第１のシステム変数を前記第１の閾値と比較して第１の経済性評価を決定することと、
前記第１の経済性評価に基づいて第１の経済性指標を出力すること
を含む方法。
【請求項２】
複数のルックアップマップから前記第１のルックアップマップを選択することであって、前記複数のルックアップマップのそれぞれが車両運転モードのそれぞれと関連していることを含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
車両モードデータを受け付け、受け付けた車両モードデータに依存する車両運転モードを決定し、決定された車両運転モードに依存する前記複数のルックアップマップから前記第１のルックアップマップにアクセスすることを含む請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記第１のルックアップマップが、前記第１の閾値の複数のセットを備え、それぞれのセットが特定の車両運転条件に関連する請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
第１の閾値のそれぞれのセットが車両速度の予め定められた範囲と関連し、前記方法が、前記自動車の速度を決定し、決定された車両速度に依存する前記第１のシステム変数との比較のために前記第１のルックアップマップの第１の閾値のセットを選択することを含む請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記第１の閾値が前記自動車の前記第１のシステム変数の定常状態の測定に対応するか又は前記第１の閾値が前記自動車の前記第１のシステム変数の変化率の測定に対応する請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記第１の運転パラメータと関連する複数のルックアップマップから前記第１のルックアップマップを選択することを含み、その選択が、測定された第１のシステム変数の特性に基づいて実行されることを含む請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記第１の経済性指標を生成するために、修飾子を前記第１の経済性評価に適用することを含む請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記修飾子が、前記自動車の第２運転パラメータに関する第２のシステム変数に基づく請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
少なくとも１の運転パラメータが、スロットル位置、エンジン回転数、車両速度、及び摩擦ブレーキのうちの１又は複数に関する請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
前記自動車の異なる運転パラメータに関する少なくとも１の追加システム変数に対して前記測定、前記アクセス、前記比較及び前記出力するステップを繰り返すことを含む請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
前記少なくとも１の追加システム変数に対して決定された経済性評価に基づく少なくとも１の追加的な指標を出力することを含む請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
コンピュータによる実行時に請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法のすべてのステップをコンピュータに実行させるためのコンピュータ読み取り可能な命令を有する１又は複数のコンピュータ読み取り可能な媒体。
【請求項１４】
自動車の少なくとも１の運転パラメータの評価に応じて運転者のフィードバックを提供するためのシステムであって、
前記自動車の第１の運転パラメータに関する第１のシステム変数に対応するセンサデータを受け付けるためのデータバスと、
前記第１の運転パラメータと関連する第１のルックアップマップを記憶するための記憶装置であって、
前記第１のルックアップマップが第１の閾値の少なくとも１のセットを備えており、
前記センサデータを前記第１の閾値のセットと比較し、第１の経済性評価を決定するように構成されたプロセッサと、
前記第１の経済性評価に基づいて第１の経済性指標を出力するための出力装置と
を備えるシステム。
【請求項１５】
前記記憶装置が、複数のルックアップマップを記憶し、前記複数のルックアップマップのそれぞれが車両運転モードのそれぞれと関連しており、前記プロセッサが、前記複数のルックアップマップからの前記センサデータとの比較のために前記第１のルックアップマップを選択するように構成されている請求項１４に記載のシステム。
【請求項１６】
前記プロセッサが、車両運転モードデータを受け付け、前記車両運転モードデータの受け付けに応答して車両運転モードを決定し、決定された車両運転モードに依存する前記複数のルックアップマップから前記第１のルックアップマップを選択するように構成されている請求項１５に記載のシステム。
【請求項１７】
前記第１のルックアップマップが前記第１の閾値の複数のセットを備え、それぞれのセットが特定の車両運転条件に関連する請求項１４〜１６のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１８】
第１の閾値のそれぞれのセットが車両速度の予め定められた範囲と関連し、前記プロセッサが前記自動車の速度を決定し、決定された車両速度に依存する前記第１のシステム変数との比較のために前記第１のルックアップマップの第１の閾値のセットを選択するように構成されている請求項１７に記載のシステム。
【請求項１９】
前記第１の閾値が前記自動車の前記第１のシステム変数の定常状態の測定に対応するか又は前記第１の閾値が前記自動車の前記第１のシステム変数の変化率の測定に対応する請求項１４〜１８のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項２０】
前記データバスが前記自動車の複数の運転パラメータに関するセンサデータを受け付けるように構成され、前記プロセッサが各運転パラメータに関する前記センサデータを、それぞれの経済性評価を決定するために前記記憶装置に記憶された閾値のそれぞれのセットと比較するように構成されている請求項１４〜１９のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項２１】
前記プロセッサが、前記第１の経済性指標を生成するために修飾子を前記第１の経済性評価に適用するように構成されている請求項１４〜２０のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項２２】
前記修飾子が、前記自動車の第２運転パラメータに関する第２のシステム変数に基づく請求項２１に記載のシステム。
【請求項２３】
少なくとも１の運転パラメータがスロットル位置、エンジン回転数、車両速度、及び摩擦ブレーキのうちの１又は複数に関するものである請求項１４〜２２のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項２４】
請求項１４〜２３のいずれか１項に記載の運転者のフィードバックを提供するためのシステムを有する自動車。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月13日(2015.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の電極を備えた埋込み可能刺激器デバイスであって、
各々が複数の電極出力を含み、各々が該電極出力で電流を供給するように構成された刺激回路を更に含む複数の集積回路、
を含み、
前記複数の集積回路の各々の対応する複数の電極出力が互いに短絡され、短絡された対応する電極出力の各々は、減結合コンデンサを通して前記複数の電極の異なるものに結合される、
ことを特徴とするデバイス。
【請求項２】
前記複数の集積回路は、単一パッケージに収容され、
前記対応する複数の電極出力は、前記パッケージ内で短絡される、
ことを特徴とする請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
前記複数の集積回路の第１のものが、マスター集積回路を含み、該複数の集積回路の第２のものが、該マスター集積回路に対するスレーブ集積回路を含み、前記マスター及びスレーブ集積回路は、プログラム可能に結合されることを特徴とする請求項１に記載のデバイス。
【請求項４】
マイクロコントローラを更に含み、
前記マイクロコントローラ、前記マスター集積回路、及び前記スレーブ集積回路は、バスプロトコルに従ってバスによって通信する、
ことを特徴とする請求項３に記載のデバイス。
【請求項５】
前記複数の集積回路の各々の前記刺激回路は、それがいつ前記電極出力で電流を供給するように構成されるかに関するタイミング情報を用いてプログラムされることを特徴とする請求項１に記載のデバイス。
【請求項６】
前記複数の集積回路の各々の前記刺激回路は、他の集積回路の全てからの前記タイミング情報を用いて更にプログラムされることを特徴とする請求項５に記載のデバイス。
【請求項７】
前記刺激回路は、前記複数の集積回路の各々において異なる周波数で前記電極出力で前記電流を供給するように構成されることを特徴とする請求項１に記載のデバイス。
【請求項８】
前記短絡された対応する電極出力の各々は、減結合コンデンサを通して前記複数の電極の異なるものに結合されることを特徴とする請求項１に記載のデバイス。
【請求項９】
前記複数の集積回路は、同一であることを特徴とする請求項１に記載のデバイス。
【請求項１０】
埋込み可能刺激器デバイスであって、
複数の電極ノードと、
第１の周波数の第１の電流パルスを供給し、かつ該第１の電流パルスを受け入れる前記複数の電極ノードのうちの第１の複数のものを選択するようにプログラムされた第１の刺激回路と、
第２の周波数の第２の電流パルスを供給し、かつ該第２の電流パルスを受け入れる前記複数の電極ノードのうちの第２の複数のものを選択するようにプログラムされた第２の刺激回路と、
を含み、
電極ノードが、前記選択された第１の複数の電極ノード及び前記第２の複数の電極ノードの両方に共通する場合に、前記第１及び第２の電流パルスは、それらが重なる時に該共通の電極ノードで足し合わされる、
ことを特徴とするデバイス。
【請求項１１】
前記第１の刺激回路は、第１の集積回路を含み、
前記第２の刺激回路は、第２の集積回路を含む、
ことを特徴とする請求項１０に記載のデバイス。
【請求項１２】
前記第１の刺激回路は、前記第２の電流パルスのタイミング情報を用いてプログラムされ、
前記第２の刺激回路は、前記第１の電流パルスのタイミング情報を用いてプログラムされる、
ことを特徴とする請求項１０に記載のデバイス。
【請求項１３】
埋込み可能刺激器デバイスであって、
導電性ケースと、
第１の電極アレイと、
第２の電極アレイと、
前記導電性ケース内にあり、第１の周波数で第１の電流パルスを供給して前記第１の電極アレイと該ケースの間に第１の電流を流すように構成された第１の集積回路と、
前記導電性ケース内にあり、第２の周波数で第２の電流パルスを供給して前記第２の電極アレイと該ケースの間に第２の電流を流すように構成された第２の集積回路と、
を含み、
前記第１及び第２の電流パルスは、時間的に共に重なり得る、
ことを特徴とするデバイス。
【請求項１４】
前記第１及び第２の電流は、前記第１及び第２のパルスが時間的に重なる時に前記導電性ケースにおいて足し合わされることを特徴とする請求項１３に記載のデバイス。
【請求項１５】
前記第１及び第２の集積回路は、単一パッケージに収容されることを特徴とする請求項１３に記載のデバイス。
【請求項１６】
マイクロコントローラを更に含み、
前記マイクロコントローラ、前記第１の集積回路、及び前記第２の集積回路は、バスプロトコルに従ってバスによって通信する、
ことを特徴とする請求項１３に記載のデバイス。
【請求項１７】
前記複数の集積回路は、同一であることを特徴とする請求項１３に記載のデバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月6日(2015.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スクロールを製造する方法であって、
第１の側及び第２の側を有するテープを提供する工程であって、前記テープの前記第１の側がその上に配設された接着剤を有し、前記テープの前記第２の側がその上に配設された剥離剤コーティングを有する、工程と、
前記接着剤を固体表面に固着させる工程と、
前記テープの剥離側に剥落性粒子をバフコーティングして、コーティングを形成する工程と、
ある角度で前記固体表面から前記テープを剥がす工程と、を含み、
前記コーティングが、前記テープの剥離側から分離し、スクロールを形成するように内側に丸まる、スクロールを製造する方法。
【請求項２】
前記スクロールが、グラファイトを含む、請求項１に記載のスクロールを製造する方法。
【請求項３】
スクロールを連続的に製造する方法であって、
内側に剥離剤コーティングを有する連続フィルムを提供する工程と、
前記連続フィルムをループの周囲で移動させる工程と、
前記連続フィルムの前記内側の一部分の上に、グラファイトを含む剥落性粒子を堆積させる工程と、
前記剥落性粒子を１つ以上の実質的に静止したバフがけサンダの下を通して、前記連続フィルムのバフコーティングされた部分を形成する工程と、
前記連続フィルムの前記バフコーティングされた部分を、小半径を有するアイドラの周囲を通過させることによって前記連続フィルムからスクロールを取り外す工程と、を含む、
スクロールを連続的に製造する方法。
【請求項４】
内側に剥離剤コーティングを有する連続フィルムループと、
前記剥離剤コーティング上に剥落性粒子を堆積させるための手段と、
パッドを装着した１つ以上のバフがけサンダと、
前記連続フィルムループを駆動するための手段と、
小半径を有するアイドラと、
剥離ライナから剥離されたスクロールを捕捉するための傾斜パンと、を備える、スクロールを連続的に製造するための装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月8日(2015.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ホットメルト洗浄組成物であって、室温で固体および高温で液体であり、ホットメルト溶媒であって室温で固体および高温で液体であるホットメルト溶媒と、ホットメルト媒体組成物であって、室温で固体および高温で液体であるホットメルト媒体組成物とを含む、ホットメルト洗浄組成物。
【請求項２】
ホットメルト媒体組成物が結晶性硬化材料、非晶質硬化材料およびゲル化剤を含む群から選択される成分の少なくとも１つを含む、請求項１に記載のホットメルト洗浄組成物。
【請求項３】
ホットメルト媒体組成物が結晶性硬化材料を含み、前記結晶性硬化材料が安息香酸のエステル、安息香酸誘導体のエステル、アルコール、スルホンアミド、ビス−ウレタンおよびアミドから選択される、請求項１または２に記載のホットメルト洗浄組成物。
【請求項４】
ホットメルト媒体組成物が非晶質硬化材料を含み、前記非晶質硬化材料が１０から５０℃のガラス転移温度（Ｔｇ）、１５０℃で１００ｍＰａ．ｓ未満の粘度および１０００ｇ／モル未満の分子量を有する、請求項１から３のいずれか一項に記載のホットメルト洗浄組成物。
【請求項５】
ホットメルト溶媒およびホットメルト媒体組成物からなる、請求項１から４のいずれか一項に記載のホットメルト洗浄組成物。
【請求項６】
ホットメルト溶媒がホットメルト洗浄組成物の噴射温度で液体である、請求項１から５のいずれか一項に記載のホットメルト洗浄組成物。
【請求項７】
ホットメルト溶媒がジメチルスルホンである、請求項１から６のいずれかに記載のホットメルト洗浄組成物。
【請求項８】
印字ヘッドを含むインクジェット装置を動作させるおよび洗浄するためのキットであって、２つの装置を含み、第１の装置はホットメルト洗浄組成物であって、室温で固体および高温で液体であり、第１のホットメルト媒体組成物であって、室温で固体および高温で液体である第１のホットメルト媒体組成物と、ホットメルト溶媒であって、室温で固体および高温で液体であるホットメルト溶媒とを含むホットメルト洗浄組成物を含み、ならびに第２の装置はホットメルトインク組成物であって、室温で固体および高温で液体であり、第２のホットメルト媒体組成物であって、室温で固体および高温で液体である第２のホットメルト媒体組成物と、着色剤とを含むホットメルトインク組成物を含む、キット。
【請求項９】
第１のホットメルト媒体組成物が第２のホットメルト媒体組成物と本質的に同じである、請求項８に記載のキット。
【請求項１０】
請求項１から７のいずれかに記載のホットメルト洗浄組成物を調製する方法であって、
室温で固体および高温で液体であるホットメルト溶媒を用意するステップと；
室温で固体および高温で液体であるホットメルト媒体組成物を用意するステップと；
前記ホットメルト溶媒と前記ホットメルト媒体組成物を溶融混合するステップと
を含む方法。
【請求項１１】
溶融ホットメルト洗浄組成物を鋳型に注ぎ込むステップと；
前記ホットメルト洗浄組成物を冷まし、前記鋳型中で凝固させるステップと；
前記凝固したホットメルト洗浄組成物を前記鋳型から分離するステップと
をさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
印字ヘッドを洗浄する方法であって、前記印字ヘッドは、ホットメルト組成物を溶融するように配置されたホットメルト組成物溶融装置であって、前記ホットメルト組成物は室温で固体および高温で液体である、ホットメルト組成物溶融装置と、インク流路であって、前記溶融装置がホットメルト組成物供給装置と連通して、前記インク流路は前記溶融装置から前記印字ヘッドのオリフィスまで延びており、前記インク流路は溶融状態のホットメルト組成物を含むよう適合されている、インク流路とを含み、
一定量のホットメルト洗浄組成物であって、室温で固体および高温で液体であり、ホットメルト媒体であって室温で固体および高温で液体であるホットメルト媒体と、ホットメルト溶媒であって室温で固体および高温で液体であるホットメルト溶媒とを含むホットメルト洗浄組成物を前記印字ヘッドの前記溶融装置に適用するステップと；
前記ホットメルト組成物を溶融するステップと；
前記印字ヘッドの前記インク流路を前記溶融ホットメルト洗浄組成物ですすぐステップと
を含む方法。
【請求項１３】
オリフィスが複数のオリフィスを含むオリフィスプレートに配置される請求項１２に記載の方法であって、
オリフィスをホットメルト洗浄組成物で一掃し、オリフィスプレートを払拭するステップ
をさらに含む方法。
【請求項１４】
印字ヘッドを洗浄するためのホットメルト洗浄組成物の使用であって、前記ホットメルト洗浄組成物は室温で固体および高温で液体であり、ホットメルト溶媒であって室温で固体および高温で液体であるホットメルト溶媒と、ホットメルト媒体であって、室温で固体および高温で液体であるホットメルト媒体とを含む、使用。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月18日(2015.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２〜８個の炭素原子を有するアルカン類の脱水素化に適し亜鉛および／またはマンガンアルミネートを含む触媒組成物であって、前記組成物に含まれる各元素の相対モル比は化学式
Ｍ／Ｚｎ１−ｙＭｎｙＡｌ２Ｏ４
で表され、ここで、
亜鉛および／またはマンガンアルミネートを基準にして０〜５重量％のＭが前記触媒組成物中に存在し、Ｍは、ナトリウム（Ｎａ）、カリウム（Ｋ）、セシウム（Ｃｓ）、ルビジウム（Ｒｂ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、ガリウム（Ｇａ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、スズ（Ｓｎ）、銅（Ｃｕ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、コバルト（Ｃｏ）、タングステン（Ｗ）、およびそれらの混合物から成る群から選択されたものであり、
ｙは０から１の範囲内の値である、触媒組成物。
【請求項２】
プラチナを実質的に含まない、請求項１に記載の触媒組成物。
【請求項３】
前記亜鉛および／またはマンガンアルミネートがスピネル構造を有する、請求項１または２に記載の触媒組成物。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか一項に記載の触媒組成物であって、ｙ＝０．０１〜０．９９であり、より好ましくはｙ＝０．１〜０．９であり、最も好ましくはｙ＝０．４〜０．６である、触媒組成物。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか一項に記載の触媒組成物であって、Ｍがガリウム（Ｇａ）またはスズ（Ｓｎ）０．０１〜０．１重量％である、触媒組成物。
【請求項６】
請求項１から３のいずれか一項に記載の触媒組成物であって、ｙが０を表す場合に、前記触媒組成物中に存在する亜鉛アルミネートを基準にして０．０１〜１．５重量％の分量にてＭが存在する、触媒組成物。
【請求項７】
請求項６に記載の触媒組成物であって、Ｍが、セシウム（Ｃｓ）、カリウム（Ｋ）、銅（Ｃｕ）、ナトリウム（Ｎａ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、およびそれらの混合物から成る群から選択されたものである、触媒組成物。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか一項に記載の触媒組成物を調製する方法であって、
（ａ）亜鉛および／またはマンガン含有塩の溶液と、アルミニウム含有塩の溶液とを調製し、亜鉛および／またはマンガンならびにアルミニウム含有溶液を作成する工程と、
（ｂ）好ましくは炭酸ナトリウム（Ｎａ２Ｃｏ３）溶液であるアルカリ性溶液を、前記亜鉛および／またはマンガンならびにアルミニウム含有溶液に混合し、亜鉛および／またはマンガンアルミネートを形成する工程と、
（ｃ）前記亜鉛および／またはマンガンアルミネートをか焼する工程と、
を含む方法。
【請求項９】
請求項８に記載の方法であって、
前記工程（ｂ）で炭酸ナトリウム（Ｎａ２Ｃｏ３）溶液を混合する以前に、前記亜鉛および／またはマンガンならびにアルミニウム含有溶液がさらにＭを含有していること、あるいは、前記工程（ｂ）で形成された前記亜鉛および／またはマンガンアルミネートにＭ含有塩溶液を接触させることを含み、
前記Ｍ含有塩溶液中のＭは、ナトリウム（Ｎａ）、カリウム（Ｋ）、セシウム（Ｃｓ）、ルビジウム（Ｒｂ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、ガリウム（Ｇａ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、スズ（Ｓｎ）、銅（Ｃｕ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、コバルト（Ｃｏ）、タングステン（Ｗ）、およびそれらの混合物から成る群から選択されたものである、方法。
【請求項１０】
前記Ｍ含有塩溶液中の一つまたはそれ以上の塩が硝酸塩である、請求項８または９に記載の方法。
【請求項１１】
請求項８から１０のいずれか一項に記載の方法であって、前記亜鉛および／またはマンガンアルミネートを、５００〜１１００℃、好ましくは５５０〜８００℃、最も好ましくは６００〜７００℃にて、好ましくは空気である有酸素雰囲気中で２〜２４時間にわたってか焼すること、及び、
か焼後に前記触媒組成物に還元剤を接触させることを含み、前記還元剤は好ましくは、水素（Ｈ２）と、２〜５個の炭素原子を有する炭化水素とから成る群から選択されたものである、方法。
【請求項１２】
請求項８から１１のいずれか一項に記載の方法によって得られる前記触媒組成物を含む２〜８個の炭素原子を有するアルカン類の脱水素化に対する触媒。
【請求項１３】
好ましくはプロパンまたはイソブタンである、２〜８個の炭素原子を有するアルカン類を脱水素化するプロセスであって、請求項１から７および１２のいずれか一項に記載の触媒組成物を前記アルカン類に接触させ、前記プロセスは反応温度が５００〜６００℃で、空間速度が０．１〜１ｈ−１で、圧力が０．０１〜０．１ＭＰａの条件下で実施されるプロセス。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月10日(2015.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマを提供するプラズマ源、
前記プラズマからイオンを受けるように配置されたワークピースホルダ、及び
前記プラズマ源に電気的に結合されたパルスバイアス回路を備える処理システムであって、
前記パルスバイアス回路は、前記プラズマ源に供給するバイアス電圧を、前記バイアス源を接地に対して正にバイアスする高電圧状態と前記プラズマ源を接地に対して負にバイアスする低電圧状態との間で切り替えるように動作する、
ことを特徴とする処理システム。
【請求項２】
前記プラズマ源と前記ワークピースホルダとの間に配置された抽出プレートを更に備え、前記抽出プレートは前記高電圧状態中にイオンビームを規定するように構成されている、請求項１記載の処理システム。
【請求項３】
前記パルスバイアス回路は、前記バイアス電圧が前記高電圧状態に切り替えられる際に前記プラズマ源へ電流を放電するキャパシタを含む高電圧回路を備える、請求項１記載の処理システム。
【請求項４】
前記高電圧回路は、正電圧を供給する高電圧源及び前記高電圧源を前記プラズマ源に交互に接続及び切断するように動作する高電圧スイッチを備える、請求項３記載の処理システム。
【請求項５】
前記パルスバイアス回路は、負電圧を出力する低電圧源、及び
前記低電圧源を前記プラズマ源に交互に接続及び切断するように動作する低電圧スイッチ、
を含む低電圧回路を更に備える、請求項４記載の処理システム。
【請求項６】
前記プラズマ源により規定される前記高電圧状態は前記ワークピースホルダに対して１００Ｖ以上正の電位を有する、請求項３記載の処理システム。
【請求項７】
前記パルスバイアス回路は、前記バイアス電圧が前記低電圧状態に切り替えられる際に前記プラズマ源から電流を放電するキャパシタを含む低電圧回路を備える、請求項１記載の処理システム。
【請求項８】
前記プラズマ源により規定される前記低電圧状態は前記ワークピースホルダに対して約２Ｖ〜１００Ｖ負の電位を有する、請求項７記載の処理システム。
【請求項９】
前記高電圧状態及び前記低電圧状態の部分を交互に含む電圧パルス列を出力するように前記パルスバイアス回路に指示するコントローラをさらに備え、前記コントローラは前記電圧パルス列のデューティサイクルを変えるように動作する、請求項１記載の処理システム。
【請求項１０】
処理システム内でワークピースを処理する方法であって、
プラズマ源を用いてプラズマを発生させるステップ、
前記プラズマからイオンを受けるためにワークピースホルダを接地するステップ、及び
前記プラズマ源に電圧パルス列を供給するステップを備え、
前記電圧パルス列は、前記バイアス源を接地に対して正にバイアスする高電圧部分及び前記プラズマ源を接地に対して負にバイアスする低電圧部分を含む、ことを特徴とする処理システム。
【請求項１１】
前記プラズマ源と前記ワークピースホルダとの間に配置された抽出プレートによりイオンを方向づけ、前記ワークピースホルダに向かってある角度範囲亘って入射するイオンビームを規定するステップを備える、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
前記バイアス電圧が高電圧状態に切り替えられる際にキャパシタから前記プラズマ源へ電流を放電するステップを備える、請求項１０記載の方法。
【請求項１３】
前記バイアス電圧が低電圧状態に切り替えられる際に前記プラズマ源からキャパシタへ電流を放電するステップを備える、請求項１０記載の方法。
【請求項１４】
前記高電圧状態において前記ワークピースホルダに対して１００Ｖ以上正のプラズマ源電位を設定するステップを備える、請求項１０記載の方法。
【請求項１５】
前記低電圧状態において前記ワークピースホルダに対して約２Ｖ〜１００Ｖ負のプラズマ源を設定するステップを備える、請求項１０記載の方法。
【請求項１６】
前記電圧パルス列が前記プラズマ源に供給された後に前記ワークピース上の電荷を監視するステップ、及び
前記高電圧状態の設定電圧、前記低電圧状態の設定電圧、前記高電圧状態の持続時間及び前記低電圧状態の持続時間のうちの１つ以上を前記電荷に応答して変化させることによって第２の電圧パルス列を設定するステップ、
をさらに備える、請求項１０記載の方法。
【請求項１７】
プラズマ源、
ワークピースを移動させながら前記プラズマ源により供給されるプラズマからイオンを受ける、接地された移動可能なワークピースホルダ、
前記プラズマ源と前記ワークピースホルダとの間に配置され、イオンをある角度範囲に亘って前記ワークピースホルダに向けて方向づけるように構成された抽出プレート、及び
前記プラズマ源及び前記ワークピースホルダに供給するバイアス電圧を、前記バイアス源を接地に対して正にバイアスする高電圧状態と前記プラズマ源を接地に対して負にバイアスする低電圧状態との間で切り替えるように動作するパルスバイアス回路、
を備えるイオン注入システム。
【請求項１８】
前記パルスバイアス回路は、
前記バイアス電圧が前記高電圧状態に切り替えられる際に前記プラズマ源へ電流を放電するキャパシタを含む高電圧回路、及び
前記バイアス電圧が前記低電圧状態に切り替えられる際に前記プラズマ源からの電流を放電するキャパシタを含む低電圧回路、
を備える、請求項１７記載のイオン注入システム。
【請求項１９】
前記プラズマ源により規定される前記高電圧状態は接地に対して１００Ｖ以上正の電位を有し、前記プラズマ源により規定される前記低電圧状態は接地に対して約２Ｖ〜１００Ｖ負の電位を有する、請求項１７記載のイオン注入システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2015507688.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2015507688.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月28日(2015.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体懸濁液から基板上にコーティングを施すための溶射システムであって、
プラズマを発生させるための溶射トーチと、
サブミクロンの粒子を有する前記液体懸濁液の流れを配送するための液体懸濁液配送サブシステムと、
プラズマ放出物を生成するために、前記溶射トーチから前記液体懸濁液に前記プラズマを配送するノズル・アセンブリであって、前記プラズマ放出物を実質的に囲む反応性ガス・シュラウドを提供するように構成されたノズル・アセンブリとを備え、
前記反応性ガス・シュラウドは、前記プラズマ放出物中に前記サブミクロンの粒子の同伴を実質的に維持し、ガスが前記プラズマ放出物に進入して反応するのを実質的に阻止するように構成され、
前記反応性ガス・シュラウドは、前記懸濁液の液滴の断片化を助長し、前記プラズマ放出物内で前記サブミクロンの粒子の気化種を生成するように、前記プラズマ放出物と反応する、溶射システム。
【請求項２】
前記シュラウドは、前記基板表面から前記ノズル・アセンブリまで延在する、請求項１に記載の溶射システム。
【請求項３】
前記シュラウドは、層状に流れるシールドである、請求項１に記載の溶射システム。
【請求項４】
前記シュラウドは、前記ノズルから前記基板表面までの距離よりも短い軸方向距離を有する、請求項１に記載の溶射システム。
【請求項５】
前記反応性ガス・シュラウドの周囲に配設された不活性ガス・シュラウドをさらに備える、請求項１に記載の溶射システム。
【請求項６】
第１の反応性ガス・シュラウド及び第２の反応性ガス・シュラウドをさらに備える、請求項１に記載の溶射システム。
【請求項７】
前記液体懸濁液の前記流れを囲むフレーム外被を提供するように構成されたインジェクタをさらに備える、請求項１に記載の溶射システム。
【請求項８】
前記液体懸濁液配送サブシステムは、前記ノズルの内部に構成される、請求項１に記載の溶射システム。
【請求項９】
前記液体懸濁液配送サブシステムは、前記液体懸濁液の軸方向流れを配送するように前記ノズルの内部に構成される、請求項１に記載の溶射システム。
【請求項１０】
前記液体懸濁液配送サブシステムは、前記ノズルの外部に構成される、請求項１に記載の溶射システム。
【請求項１１】
サブミクロンの粒子が中に分散した液体懸濁液を使用して基板上にコーティングを施す方法であって、
溶射トーチからプラズマを発生させるステップと
プラズマ放出物の流れを提供するために、サブミクロンの粒子が中に分散された液体懸濁液の流れを前記プラズマまで又はその近傍まで配送するステップと、
前記サブミクロンの粒子を前記プラズマ放出物内に巻き込まれた状態に維持し、周囲ガスの前記プラズマ放出物中への巻き込みを実質的に防止するために、前記プラズマ放出物を反応性ガス・シュラウドで囲むステップと、
前記懸濁液の液滴の断片化を助長し、前記プラズマ放出物内で前記サブミクロンの粒子の気化種を生成するために、前記シュラウド・ガスを前記プラズマ放出物と反応させるステップと、
前記基板を被覆するために、前記サブミクロンの粒子を中に含んだ前記シュラウドされたプラズマ放出物を前記基板の方向に向けるステップとを含む、方法。
【請求項１２】
前記シュラウドされた放出物中へのガスの巻き込みを実質的に防止するステップをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記反応性シュラウドのいたるところで前記液体懸濁液の液滴を断片化するステップをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記放出物を実質的に囲む不活性ガス・シュラウドを導入するステップをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
前記放出物を実質的に囲む第２の反応性ガス・シュラウドを導入するステップをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
前記液体懸濁液を囲むフレーム外被を導入するステップをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１７】
前記ノズルの外部において前記液体懸濁液を噴射するステップをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１８】
前記ノズルの内部において前記液体懸濁液を噴射するステップをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１９】
請求項１１に記載のプロセスにより調製された、前記基板上に堆積されたコーティング。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月27日(2015.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
病理学的に同期した振動神経活動を有するニューロンを刺激するための装置（１）であって、
患者に刺激（２２）を加えるための非侵襲性刺激ユニット（１１）であって、前記刺激（２２）が前記患者のニューロンを刺激する非侵襲性刺激ユニット（１１）と、
前記刺激されたニューロンの神経活動を再生する測定信号（２３）を記録するための測定ユニット（１２）と、
前記刺激ユニット（１１）を制御しかつ前記測定信号（２３）を分析するための制御分析ユニット（１０）とを備え、
前記制御分析ユニット（１０）が、
前記刺激ユニット（１１）が第１の刺激（３４）を加えるように前記刺激ユニット（１１）を制御し、
前記第１の刺激（３４）を加えたことに応答して記録された前記測定信号（２３）を参照して前記刺激されたニューロンの前記病理学的に同期した振動神経活動の位相リセットを行う前記第１の刺激（３４）を選択し、
前記刺激ユニット（１１）が前記選択された第１の刺激（３４）または前記選択された第１の刺激（３４）から生成された刺激（３８）を時間をずらして加えるように前記刺激ユニット（１１）を制御し、
前記加えられた刺激（３４、３８）に応答して記録された前記測定信号（２３）を参照して、時間をずらして加えられた前記刺激（３４、３８）が前記刺激されたニューロンの前記病理学的に同期した振動神経活動を抑圧するかどうかを検査するように構成される、装置（１）。
【請求項２】
前記第１の刺激（３４）の各々は、すべての第１の刺激（３４）についての第１の刺激パラメータ範囲内に存在する刺激パラメータを有する、請求項１に記載の装置（１）。
【請求項３】
前記制御分析ユニット（１０）は、
すべての前記加えられた第１の刺激（３４）が前記刺激されたニューロンの前記病理学的に同期した振動神経活動の位相リセットを行う場合に、前記刺激ユニット（１１）を、第２の刺激を加えるように制御することであって、前記第２の刺激の各々が、前記第１の刺激パラメータ範囲の外側でかつすべての第２の刺激についての第２の刺激パラメータ範囲内に存在する刺激パラメータを有する、制御することと、
前記第２の刺激を加えたことに応答して記録された前記測定信号（２３）を参照して、前記刺激されたニューロンの前記病理学的に同期した振動神経活動の位相リセットを行う前記第２の刺激を選択することとを行うように構成される、請求項２に記載の装置（１）。
【請求項４】
前記制御分析ユニット（１０）は、
前記第２の刺激パラメータ範囲において外側に配置された前記選択された第２の刺激ならびにこれらの第２の刺激の間に配置されたさらなる刺激が属する、第３の刺激（３８）の集合を形成し、
前記刺激ユニット（１１）を、前記第３の刺激（３８）のうちの２回の刺激のみを時間をずらして加えるように制御し、
時間をずらして加えられた前記第３の刺激（３８）に応答して記録された前記測定信号（２３）を参照して、時間をずらして加えられた前記第３の刺激（３８）が前記ニューロンの前記病理学的に同期した振動活動を増強させるかどうかを検査するように構成される、請求項３に記載の装置（１）。
【請求項５】
前記制御分析ユニット（１０）は、
前記第１の刺激パラメータ範囲において外側に配置された前記選択された第１の刺激（３４）ならびにこれらの第１の刺激（３４）の間に配置されたさらなる刺激が属する、第３の刺激（３８）を形成し、
前記刺激ユニット（１１）を、前記第３の刺激（３８）のうちの２回の刺激のみを時間をずらして加えるように制御し、
時間をずらして加えられた前記第３の刺激（３８）に応答して記録された前記測定信号（２３）を参照して、時間をずらして加えられた前記第３の刺激（３８）が前記ニューロンの前記病理学的に同期した振動活動を増強させるかどうかを検査するように構成される、請求項２に記載の装置（１）。
【請求項６】
前記制御分析ユニット（１０）は、時間をずらして加えられた前記２回の第３の刺激（３８）が前記ニューロンの前記病理学的に同期した振動活動を増強させる場合に前記２回の第３の刺激（３８）のうちの１回の前記刺激パラメータを変更するように構成される、請求項４または５に記載の装置（１）。
【請求項７】
前記２回の第３の刺激（３８）の間のトノトピック距離またはソマトトピック距離が、前記２回の第３の刺激（３８）のうちの１回の刺激の前記刺激パラメータを前記変更することによって延ばされる、請求項６に記載の装置（１）。
【請求項８】
前記第１の刺激（３４）は、前記患者の脳または脊髄内の第１の刺激に関連する目標部位が概ね等間隔に位置するように選択される、請求項１〜７のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項９】
前記刺激ユニット（１１）は、音響刺激、光刺激、触覚刺激、振動性刺激、熱刺激、および電気的経皮刺激の群から刺激（２２）を生成するように構成される、請求項１〜８のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項１０】
前記刺激パラメータは、音響刺激（２２）の場合には周波数であり、前記第１の刺激パラメータ範囲および前記第２の刺激パラメータ範囲の各々は周波数間隔であり、
前記刺激パラメータは、光刺激（２２）の場合には前記患者の視野内の位置であり、前記第１の刺激パラメータ範囲および前記第２の刺激パラメータ範囲の各々は視野領域であり、
前記刺激パラメータは、触覚刺激、振動性刺激、熱刺激、および電気的経皮刺激（２２）の場合には前記患者の皮膚上の位置であり、前記第１の刺激パラメータ範囲および前記第２の刺激パラメータ範囲の各々は皮膚領域である、請求項９に記載の装置（１）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】非侵襲性非同期神経刺激を較正するための装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、非侵襲性非同期神経刺激を較正するための装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の基本的な目的は、自動的にかつ電気生理学的に実施される刺激パラメータの較正を試験者に依存せずに可能にする装置を提供することである。この較正は特に、（ｉ）治療を効果的に実施し、（ｉｉ）副作用を回避し、（ｉｉｉ）パラメータ設定に関して実施すべき試験を患者にとってできるだけ短時間で実際的かつ耐えられるものにするべきである。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月20日(2015.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
哺乳動物患者用のグラフト装置であって、
管状導管と、
前記管状導管を包囲する繊維マトリックスと、
前記管状導管および繊維マトリックスの少なくとも一方に沿って、または前記管状導管および繊維マトリックスの少なくとも一方の内に、あるいはその両方に配置されている耐キンク要素と、を備える、
グラフト装置。
【請求項２】
前記耐キンク要素の少なくとも一部は、前記管状導管の内側、前記管状導管と繊維マトリックスとの間、前記繊維マトリックスの壁内、前記繊維マトリックスの外側、およびそれらの組み合わせのうちから選択される位置に配置されている、請求項１に記載のグラフト装置。
【請求項３】
前記耐キンク要素は耐久性材料を含む、請求項１に記載のグラフト装置。
【請求項４】
前記耐キンク要素は一時的な耐キンク性を提供するように構成および配置された材料を含む、請求項１に記載のグラフト装置。
【請求項５】
前記耐キンク要素の少なくとも一部は生分解性である、請求項４に記載のグラフト装置。
【請求項６】
前記繊維マトリックスは前記耐キンク要素を含む、請求項１に記載のグラフト装置。
【請求項７】
前記耐キンク要素は、前記繊維マトリックスの変更部分を含む、請求項６に記載のグラフト装置。
【請求項８】
前記変更部分は、剛性、硬度、厚さ、構成材料、およびそれらの組み合わせのうちから選択される変更されたパラメータを有する繊維マトリックスの一部を含む、請求項７に記載のグラフト装置。
【請求項９】
前記耐キンク要素は、硬化された、軟化された、溶融された、剛直化された、弾性偏倚を有するように変更された、拡張された、および収縮された状態の少なくともいずれかの状態の前記繊維マトリックスの少なくとも一部を含む、請求項７に記載のグラフト装置。
【請求項１０】
前記変更部分は弾性的に偏倚された構造を備える、請求項７に記載のグラフト装置。
【請求項１１】
前記耐キンク要素は、前記繊維マトリックスとは別個の構成要素を備える、請求項１に記載のグラフト装置。
【請求項１２】
前記耐キンク要素は、複数の別個の構成要素を備える、請求項１１に記載のグラフト装置。
【請求項１３】
前記耐キンク要素は、らせんコイル、スリーブ、接着剤、外骨格構造、リング、リングおよび接続要素、半径方向突起、およびそれらの組み合わせのうちから選択される構成要素を備える、請求項１１に記載のグラフト装置。
【請求項１４】
前記耐キンク要素は、前記管状導管に挿入された、または前記管状導管と繊維マトリックスとの間に挿入された、または前記繊維マトリックスの外部に配置された、あるいはその組み合わせにおいて位置する、要素を含む、請求項１１に記載のグラフト装置。
【請求項１５】
前記耐キンク要素は、金属あるいは金属の１つまたはそれ以上の組み合わせと、ポリマーあるいはポリマーの１つまたはそれ以上の組み合わせと、それらの組み合わせとのうちから選択される材料を含有する、請求項１１に記載のグラフト装置。
【請求項１６】
前記管状導管は採取した組織を含む、請求項１に記載のグラフト装置。
【請求項１７】
前記採取した組織は、伏在静脈、動脈、尿道、腸、食道、尿管、気管、気管支、管、ファロピー管、およびそれらの組み合わせのうちから選択される組織を含む、請求項１６に記載のグラフト装置。
【請求項１８】
前記繊維マトリックスは、２種以上の材料を含む熱可塑性コポリマーを含有する、請求項１に記載のグラフト装置。
【請求項１９】
前記２種以上の材料は、第１材料と、該第１材料より柔軟な第２材料とを含む、請求項１８に記載
のグラフト装置。
【請求項２０】
前記繊維マトリックスは、電界紡糸装置、溶融紡糸装置、溶融電界紡糸装置、霧化アセンブリ、噴霧器、電気噴霧器、およびそれらの組み合わせのうちから選択される装置によって付与された繊維を含む、請求項１に記載のグラフト装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】哺乳動物患者用のグラフト装置
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月24日(2015.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
図１２は、ヒューズ１４０とヒューズ端子２１０，２４８，３００のアセンブリを示す、バッテリコネクタシステム１００の一部分を示す。ヒューズ１４０のヒューズブレード１４２は、ワイヤハーネス端子３００とバスバー１３５，１３６の二股端子２１０，２４８の両方と嵌合される。ヒューズ１４０は、バッテリモジュール１０２とバッテリ管理システム１１２（図１に示される）のような制御モジュールとの間の感知接続部を保護するためにヒューズを備えるバッテリコネクタシステム１００に組み込まれる。ヒューズ１４０は、セルタブ１２６や関連するプレート２１２，２５０とワイヤハーネス端子３００によって画定されるヒューズ端子２１０、２４８を含む電気コネクタ１０６との間に画定されたヒューズを備える電路に配置される。各ヒューズを備える電路は、対応するヒューズ１４０を通る。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月11日(2015.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンピュータで実行される方法であって、前記方法は、
イベント処理システムにおいて料金プラン指標に関連付けられたイベントを受け取るステップを備え、前記イベントの受け取りに応答して、
前記料金プラン指標に基づき、複数の料金プラン関数オブジェクトから料金プラン関数オブジェクトを識別するステップを備え、
前記複数の料金プラン関数オブジェクトの各料金プラン関数オブジェクトは、複数の料金プランの異なる料金プランに対応し、
前記料金プラン関数オブジェクトは、複数の関数オブジェクトを含み、
前記複数の関数オブジェクトの第１のサブセットは、１つ以上の条件の第１のセットと、前記条件の第１のセットが満たされた場合に実行される第１の動作とを反映し、
前記複数の関数オブジェクトの第２のサブセットは、１つ以上の条件の第２のセットと、前記条件の第２のセットが満たされた場合に実行される第２の動作と反映し、
前記料金プラン関数オブジェクトを実行するステップを備え、前記料金プラン関数オブジェクトを実行するステップは、
前記複数の関数オブジェクトの第１の関数オブジェクトを実行して第１の結果を生成するステップと、
前記第１の結果に基づき、前記複数の関数オブジェクトの第２の関数オブジェクトを識別するステップと、
前記第２の関数オブジェクトを実行して第２の結果を生成するステップと、
前記第２の結果に基づき、複数のアカウントのうち前記イベントに関連付られたアカウントを更新するステップとを含み、
前記方法は１つ以上の演算装置によって行われる、方法。
【請求項２】
前記第２の結果を生成するために前記複数の関数オブジェクトの全ての関数オブジェクトより少ない関数オブジェクトが実行される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記実行するステップ、前記識別するステップ、および前記実行するステップは、単一の処理によって行われる、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記複数の料金プラン関数オブジェクトは、第１の料金プラン関数オブジェクトと第２の料金プラン関数オブジェクトとを含み、
前記第１の料金プラン関数オブジェクトは、特定の関数オブジェクトを含む第１の複数の関数オブジェクトを含み、
前記第２の料金プラン関数オブジェクトは、前記特定の関数オブジェクトを含む第２の複数の関数オブジェクトを含み、
前記特定の関数オブジェクトのインスタンスは、前記第１の料金プラン関数オブジェクトおよび前記第２の料金プラン関数オブジェクトによって共有される、請求項１から３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
ドメイン固有言語（ＤＳＬ）に準拠する宣言文を受け取るステップと、
前記料金プラン関数オブジェクトを生成するために前記宣言文を処理するステップとをさらに備える、請求項１から４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
ユーザによって確立された複数の規則を反映する規則データを受け取るステップと、
宣言文を生成するために規則データを処理するステップとをさらに備える、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記宣言文はユーザからの入力において反映される、請求項５または６に記載の方法。
【請求項８】
前記料金プラン関数オブジェクトにおける前記関数オブジェクトはいずれも前記アカウントが更新された後に状態情報を格納しない、請求項１から７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記料金プラン関数オブジェクトにおける特定の関数オブジェクトに関連付けて、前記特定の関数オブジェクトに対する特定の入力に基づいた前記特定の関数オブジェクトの実行結果を格納するステップと、
第２の顧客と関連付けられた第２のイベントを受け取るステップと、
前記第２のイベントの受け取りに応答して、前記実行結果を生成するために前記特定の関数オブジェクトを実行する代わりに前記実行結果を読み込むステップとをさらに備える、請求項１から８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記イベントは、システムイベント、または顧客による利用を示す利用データを含む利用イベントである、請求項１から９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
１つ以上のプロセッサによって実行された場合に請求項１から１０のいずれか１項に記載の方法が行われる命令を格納する、１つ以上の記録媒体。
【請求項１２】
装置であって、
１つ以上のプロセッサと、
１つ以上のプロセッサによって実行された場合に請求項１から１０のいずれか１項に記載の方法が行われる命令を格納する１つ以上の記録媒体とを備える、装置。