【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年1月21日(2015.1.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
具体的な実施形態によれば、装置は、それぞれ個々に選択されるか、或いは何らかの技術的に可能な組み合わせをもって選択されるような、以下の掲げる各特徴の１つ又はそれ以上を有する。その特徴は、
前記支持部の短辺に対する支持部の長辺の比率は、例えば１０以上であって、好ましくは２０以上であることと、
前記図柄は、前記支持部の短辺に沿って、０．１ｍｍ〜５ｃｍ、好ましくは１ｍｍ〜２ｍｍの幅を持つ少なくとも１本の線を有することと、
前記図柄は、交互に連続する明・暗の線から成ることと、
前記参照パターンのための支持部は、前記照明システムによって背後から光があてられたパネルから成ることと、
前記支持部は、測定対象となるガラスパネルに向き合う面が白色プラスチック板のように半透明でかつ拡散性を有することと、
前記基板は、前記参照パターンと透過測定のための前記カメラとの間に位置することと、
前記参照パターンのための前記支持部は、前記基板の走行面に対し垂直に、基板に対して移動するように据え付けられることと、
前記装置は、前記支持部を、前記基板に対して離反、又は接近させるように移動させる一方で、なお前記カメラによって捕捉される前記参照パターン画像の十分なシャープネスを維持する機械的上昇／下降システムを有することと、
前記装置は、以下の各処理のため、適切なプログラムが記録されたメモリを有することであって、その処理は、
基板又は参照パターンが欠陥の方向及び参照パターンの線に平行な単一走行方向に沿って相対的に移動している状態で、リニア・カメラを使い、照射された前記参照パターンを透過させて線画像を撮影すること、
（１）参照パターンに対してカメラを移動することなく、参照パターンの長辺に沿って撮影された線画像の画素列を取得すること、
（２）取得した画素列に対しデジタル処理を施し、基板を透過する光に対する基板の影響を表すような、例えば各画素の光強度のような、画素毎の数量を演算すること、
（３）この量の値を、列の各画素毎にメモリに格納し、各画素の色がこの量を表すように画素列の画像を表示すること、
前記（１）、（２）、（３）の取得／処理／表示サイクルを複数回、周期的に繰り返し、前記基板の一部分の画像を再構成するように、画素列の画像を積み重ねること、及び
再構成された画像をデジタル処理によって分析し、そこから欠陥の位置を推測し、それらの重大さを定量化すること、であり、
前記列の取得期間は、例えば０．１秒又はそれ以上のように各列毎の取得の所要時間よりも長いこと、
前記基板の一部分の再構成画像が、欠陥の２次元マップのリアルタイム表示に対応することになる連続した走行効果をシミュレートするように、夫々のステップ（２）の後に各列が表示されること、
前記基板は連続するガラスリボンであること、である。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３２】
具体的な実施形態によれば、その方法は又、それぞれ個々に選択されるか、或いは何らかの技術的に可能な組み合わせをもって選択されるような、以下の掲げる各特徴の１つ又はそれ以上を有する。その特徴は、
前記基板の一部分の再構成画像が、欠陥の２次元マップのリアルタイム表示に対応することになる連続した走行効果をシミュレートするように、夫々のステップ（２）の後に各線が表示されること、
前記基板は連続するガラスリボンであること、
前記列の取得期間は、例えば０．１秒又はそれ以上のように各列毎の取得の所要時間よりも長いこと、である。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板（２）の透明な表面を分析するための装置であって、
測定対象となる基板表面に対面する支持部（１１）上に形成された参照パターン（１０）と、
基板（２）によって歪まされた参照パターン（１０）の少なくとも１つの画像を捕捉するためのカメラ（３）と、
参照パターン照明システム（４）と、
カメラ（３）に接続された画像処理／デジタル分析手段（５）と、
を有し、
支持部（１１）は、短辺及び長辺からなる長方形の形状を有し、
参照パターン（１０）は、単一指向性のものであって、前記支持部（１１）の短辺に沿って横たわる図柄（１０ａ）から成り、
図柄（１０ａ）は、短辺に対して周期的に横断するものであり、
カメラ（３）は、リニア・カメラであって、支持部（１１）の長辺に沿って、参照パターン（１０）の基板（２）を透過した線画像を獲得するように位置決めされ、
装置（１）は、以下の処理を実行し、
前記処理は、
基板（２）又は参照パターン（１０）が欠陥の方向及び参照パターンの線に平行な単一走行方向に沿って相対的に移動している状態で、カメラ（３）を使い、照射された参照パターンを透過させて線画像を撮影し、
（ａ）参照パターン（１０）に対してカメラ（３）を移動することなく、参照パターンの長辺に沿って撮影された線画像の画素列を取得し、
（ｂ）取得した画素列に対してデジタル処理を施し、基板（２）を透過する光に対する当該基板の影響を表す画素毎の数量を演算し、
（ｃ）この量の値を、列の各画素毎にメモリに格納し、各画素の色がこの量を表すように画素列の画像を表示し、
前記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の取得／処理／表示サイクルを複数回、周期的に繰り返し、基板（２）の一部分の画像を再構成するように、画素列の画像を積み重ね、
再構成された画像をデジタル処理によって分析し、そこから欠陥の位置を推測し、それらの重大さを定量化することである、装置（１）。
【請求項２】
支持部（１１）の短辺に対する支持部（１１）の長辺の比率は、１０以上であることを特徴とする、請求項１に記載の装置（１）。
【請求項３】
図柄（１０ａ）は、支持部（１１）の短辺に沿って、０．１ｍｍ〜５ｃｍの幅を持つ少なくとも１本の線を有することを特徴とする、請求項１又は２に記載の装置（１）。
【請求項４】
図柄（１０ａ）は、交互に連続する明・暗の線から成ることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項５】
参照パターン（１０）のための支持部（１１）は、照明システム（４）によって背後から光があてられたパネルから成ることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項６】
支持部（１１）は、測定対象となるガラスパネルに向き合う面が、白色プラスチック板のように半透明でかつ拡散性を有することを特徴とする、請求項５に記載の装置（１）。
【請求項７】
基板（２）は、参照パターン（１０）と、透過測定のためのカメラ（３）との間に位置することを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項８】
参照パターン（１０）のための支持部（１１）は、基板（２）の走行面に対して垂直に、基板（２）に対して移動するように据え付けられることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項９】
支持部（１１）を、基板（２）に対して離反させ又は接近させるように移動させる一方で、カメラ（３）によって捕捉される参照パターン画像の十分なシャープネスを維持する機械的上昇／下降システムを有することを特徴とする、請求項８に記載の装置（１）。
【請求項１０】
装置（１）に前記処理を実行させるプログラムが記録されたメモリを有することを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項１１】
列の取得期間は、各列毎の取得の所要時間よりも長いことを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の装置（１）。
【請求項１２】
長辺及び短辺からなる長方形の支持部（１１）上に形成された参照パターン（１０）と、
基板（２）によって歪まされた参照パターン（１０）の少なくとも１つの画像を捕捉するための、リニア・カメラであるカメラ（３）と、
参照パターン照明システム（４）と、
カメラ（３）に接続された画像処理／デジタル分析手段（５）と、
を有する装置を使って、基板（２）の透明面又は反射面を分析する方法であって、
基板（２）又は参照パターン（１０）が欠陥の方向及び参照パターンの線に平行な単一走行方向に沿って相対的に移動している状態で、カメラ（３）を使い、照射された参照パターンを透過させて線画像を撮影するステップと、
（ａ）参照パターン（１０）に対してカメラ（３）を移動することなく、参照パターンの長辺に沿って撮影された線画像の画素列を取得するステップと、
（ｂ）取得した画素列に対してデジタル処理を施し、基板（２）を透過する光に対する当該基板の影響を表す画素毎の数量を演算するステップと、
（ｃ）この量の値を、列の各画素毎にメモリに格納し、各画素の色がこの量を表すように画素列の画像を表示するステップと、
前記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の取得／処理／表示サイクルを複数回、周期的に繰り返し、基板（２）の一部分の画像を再構成するように、画素列の画像を積み重ねるステップと、
再構成された画像をデジタル処理によって分析し、そこから欠陥の位置を推測し、それらの重大さを定量化するステップと、
を有することを特徴とする方法。
【請求項１３】
基板（２）の一部分の再構成画像が、欠陥の２次元マップのリアルタイム表示に対応することになる連続した走行効果をシミュレートするように、夫々のステップ（ｂ）の後に各線が表示されることを特徴とする、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
基板（２）は、連続するガラスリボンであることを特徴とする、請求項１２又は１３に記載の方法。