Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月27日(2014.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
眼疾患を治療するためまたは眼域組織を清浄するためのキットであって、
眼組織に塗布するためのイソプレノイドエッセンシャルオイルと、
眼域組織を擦るための研磨剤と、
眼疾患を治療するためまたは眼域組織を清浄するための使用説明書とを含むことを特徴とするキット。
【請求項２】
前記研磨剤が、研磨剤粒子を含むことを特徴とする請求項１に記載のキット。
【請求項３】
前記研磨剤粒子が、最長寸法が約１μｍないし約６００μｍである大きさの粒子を含むことを特徴とする請求項２に記載のキット。
【請求項４】
前記研磨剤粒子が、最長寸法が約２５μｍないし３００μｍ未満である大きさの粒子を含むことを特徴とする請求項２に記載のキット。
【請求項５】
前記研磨剤粒子が、最長寸法が３００μｍないし約６００μｍである大きさの粒子を含むことを特徴とする請求項２に記載のキット。
【請求項６】
前記イソプレノイドエッセンシャルオイル及び前記研磨剤粒子が、混合物を形成していることを特徴とする請求項２に記載のキット。
【請求項７】
前記イソプレノイドエッセンシャルオイルが、約０．５％（ｗ／ｗ）ないし５０％（ｗ／ｗ）の濃度でティーツリーオイルを含むことを特徴とする請求項１に記載のキット。
【請求項８】
前記ティーツリーオイルの濃度が、約５％ないし５０％であることを特徴とする請求項７に記載のキット。
【請求項９】
前記ティーツリーオイルの濃度が、約０．５％ないし４％であることを特徴とする請求項８に記載のキット。
【請求項１０】
前記イソプレノイドエッセンシャルオイルを眼組織に塗布するためのアプリケータをさらに含み、該アプリケータが前記研磨剤を含むことを特徴とする請求項１に記載のキット。
【請求項１１】
組成物であって、
眼科学的に許容される基材で希釈した約０．５％ないし４％のイソプレノイドエッセンシャルオイルと、
複数の研磨剤粒子とを含むことを特徴とする組成物。
【請求項１２】
前記イソプレノイドエッセンシャルオイルがティーツリーオイルを含むことを特徴とする請求項１１に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月15日(2014.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＭＯＣ組成物、特にデオドラント組成物であって、下記のＡ群およびＢ群
Ａ．少なくとも１つの下記化合物を合計で少なくとも５％：２−シクロヘキシリデン−２−フェニルアセトニトリル、シクロヘキシリデン（２−メチルフェニル）アセトニトリル、２−エトキシ−４−ホルミルフェニル（Ｅ）−３−（２−ヒドロキシフェニル）アクリラートおよび（Ｅ）−デカ−９−エニル３−（２−ヒドロキシフェニル）アクリラート、２−アセチル−１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロ−１，２，８，８−テトラメチルナフタレン、
Ｂ．任意に、少なくとも１つの下記化合物：３，８，８，１１ａ−テトラメチルドデカヒドロ−５Ｈ−３，５ａ−エポキシ−ナフト［２，１−Ｃ］オキセピン、オキサシクロヘプタデカ−１０−エン−２−オン、３−メチル−５−（２，２，３−トリメチル−３−シクロペンテン−１−イル）−４−ペンテン−２−オール、エチル２，６，６−トリメチル−１，３−シクロヘキサジエン−１−カルボキシラート、２−メチル−３−（４−メトキシフェニル）プロパナール、３−（３−イソプロピルフェニル）ブタナール、２（６）−メチル−８−（１−メチルエチル）ビシクロ［２．２．２］オクタ−５−エン−２（３）−イル−１，３−ジオキソラン、１−メチル−２−（１，２，２−トリメチルビシクロ［３．１．０］−ヘキサ−３−イルメチル）シクロプロピル）メタノール、３，７−ジメチル−２（３），６−ノナジエノニトリル、２−（２−（４−メチル−３−シクロヘキセン−１−イル）プロピル）シクロペンタノン、２−シクロヘキシル−１，６−ヘプタジエン−３−オン、（２Ｚ）−２−エチル−４−（２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エン−１−イル）ブタ−２−エン−１−オール、２−｛［１−（３，３−ジメチルシクロヘキシル）エチル］オキシ｝−２−メチルプロピルシクロプロパンカルボキシラート、１−スピロ［４．５］デカ−７−エン−７−イル−４−ペンテン−１−オン、１−スピロ［４．５］デカ−６−エン−７−イル−４−ペンテン−１−オン、１−（トリメチルシクロドデカトリエニル）−エタノン、４−シクロオクテン−１−イルメチルカルボナート、２−（２，４−ジメチルシクロヘキシル）−ピリジン、
から選択される少なくとも３つの化合物を合計で少なくとも２５％ｗ／ｗ含み、
ここで、すべての成分の重量パーセンテージの計算は、いずれの希釈剤の存在も無視されることに基づき行われている、
前記組成物。
【請求項２】
ＭＯＣ組成物、特にデオドラント組成物であって、下記のＡ群およびＢ群
Ａ．少なくとも１つの下記化合物を合計で少なくとも５％：２−シクロヘキシリデン−２−フェニルアセトニトリル、２−アセチル−１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロ−１，２，８，８−テトラメチルナフタレン、シクロヘキシリデン（２−メチルフェニル）アセトニトリル、２−エトキシ−４−ホルミルフェニル（Ｅ）−３−（２−ヒドロキシフェニル）アクリラートおよび（Ｅ）−デカ−９−エニル３−（２−ヒドロキシフェニル）アクリラート、２−アセチル−１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロ−１，２，８，８−テトラメチルナフタレン、
Ｂ．任意に、少なくとも１つの下記の化合物：３，８，８，１１ａ−テトラメチルドデカヒドロ−５Ｈ−３，５ａ−エポキシ−ナフト［２，１−Ｃ］オキセピン、オキサシクロヘプタデカ−１０−エン−２−オン、３−メチル−５−（２，２，３−トリメチル−３−シクロペンテン−１−イル）−４−ペンテン−２−オール、エチル２，６，６−トリメチル−１，３−シクロヘキサジエン−１−カルボキシラート、２−メチル−３−（４−メトキシフェニル）プロパナール、３−（３−イソプロピルフェニル）ブタナール、２（６）−メチル−８−（１−メチルエチル）ビシクロ［２．２．２］オクタ−５−エン−２（３）−イル−１，３−ジオキソラン、１−メチル−２−（１，２，２−トリメチルビシクロ［３．１．０］−ヘキサ−３−イルメチル）シクロプロピル）メタノール、３，７−ジメチル−２（３），６−ノナジエノニトリル、２−（２−（４−メチル−３−シクロヘキセン−１−イル）プロピル）シクロペンタノン、２−シクロヘキシル−１，６−ヘプタジエン−３−オン、（２Ｚ）−２−エチル−４−（２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エン−１−イル）ブタ−２−エン−１−オール、２−｛［１−（３，３−ジメチルシクロヘキシル）エチル］オキシ｝−２−メチルプロピルシクロプロパンカルボキシラート、１−スピロ［４．５］デカ−７−エン−７−イル−４−ペンテン−１−オン、１−スピロ［４．５］デカ−６−エン−７−イル−４−ペンテン−１−オン、１−（トリメチルシクロドデカトリエニル）−エタノン、４−シクロオクテン−１−イルメチルカルボナート、２−（２，４−ジメチルシクロヘキシル）−ピリジン
から選択される少なくとも５つの化合物を合計で少なくとも２５％ｗ／ｗ含み、
ここで、すべての成分の重量パーセンテージの計算は、いずれの希釈剤の存在も無視されることに基づき行われている、
前記組成物。
【請求項３】
ＡおよびＢ群から選択される少なくとも５つの化合物を少なくとも３０％含む、請求項２に記載のＭＯＣ組成物。
【請求項４】
Ａ群から選択される少なくとも２つの化合物を少なくとも１０％含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載のＭＯＣ組成物。
【請求項５】
Ａ群から選択される（Ｅ）−デカ−９−エニル３−（２−ヒドロキシフェニル）アクリラートを少なくとも２．５％含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載のＭＯＣ組成物。
【請求項６】
Ａ群から選択される２−シクロヘキシリデン−２−フェニルアセトニトリルを少なくとも５％含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載のＭＯＣ組成物。
【請求項７】
Ａ群から選択される化合物である２−シクロヘキシリデン−２−フェニルアセトニトリルおよび（Ｅ）−デカ−９−エニル３−（２−ヒドロキシフェニル）アクリラートを少なくとも１０％ｗ／ｗ含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載のＭＯＣ組成物。
【請求項８】
ＭＯＣ製品、特にデオドラントおよび／または制汗剤製品を作り出すまたは改変する方法であって、前記製品を請求項１〜７のいずれか一項に定義された組成物に加えるステップを含む、前記方法。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか一項に定義された組成物を含む、ＭＯＣ製品。
【請求項１０】
０．０１％〜４０％の範囲内で請求項１〜７のいずれか一項に定義された組成物を含む、請求項９に記載のＭＯＣ製品。
【請求項１１】
製品がデオドラントまたは制汗剤である、請求項９または１０に記載のＭＯＣ製品。
【請求項１２】
悪臭を中和するための、請求項１〜７のいずれか一項に定義された組成物の使用。
【請求項１３】
悪臭を中和する方法であって、請求項１〜７のいずれか一項に定義された組成物の表面への塗布を含む、前記方法。
【請求項１４】
表面がヒトの皮膚である、請求項１３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月11日(2014.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明の材料の前記球状粒子のそれぞれの中に含まれるメソ構造化マトリクスは、金属ナノ粒子を含み、この金属ナノ粒子は、バナジウム、ニオブ、タンタル、モリブデンおよびタングステンから選択される少なくとも１種の金属Ｍを含有し、好ましくは、モリブデンおよび／またはタングステンを含有する。より正確には、前記金属ナノ粒子は、メソ構造化マトリクスに捕捉されている。バナジウム、ニオブ、タンタル、モリブデン、タングステンおよびそれらの混合から選択され、好ましくはモリブデンまたはタングステンである、前記金属は、酸素化された環境下にある。本発明の材料の前記球状粒子のそれぞれの中に含まれるメソ構造化酸化物マトリクス中に捕捉された前記金属ナノ粒子は、有利には、酸化数が+IV、+Vおよび／または+VIに等しい原子Ｍを有する。金属ナノ粒子は、均一かつ一様にマトリクス中に捕捉されている。前記ナノ粒子の例は、モノモリブデン酸種、モノタングステン酸種、ポリモリブデン酸種またはポリタングステン酸種である。このような種、特にポリモリブデン酸種は、S. B. Umbarkar et al., Journal of Molecular Catalysis A: Chemical, 310, 2009, 152によって記載されている。有利には、前記メソ構造化マトリクスは、バナジウム、ニオブ、タンタル、モリブデン、タングステンから選択される金属をベースとする金属ナノ粒子と、バナジウム、ニオブ、タンタル、モリブデンおよびタングステンから選択される別の金属をベースとする他のナノ粒子とを含む。非常に有利には、前記メソ構造化マトリクスは、モリブデンをベースとする金属ナノ粒子と、タングステンをベースとする他のナノ粒子とを含む。前記金属ナノ粒子は、当業者に公知の手順を用いて、前駆体を用いて調製される。この前駆体は、有利には、単金属性であり、例えば、本発明の開示において以下に記載されるものである。それらは、厳密に１ｎｍ未満の寸法を有する。特に、前記金属ナノ粒子は、透過型電子顕微鏡法（transmission electron microscopy：ＴＥＭ）において検出されない。本発明によると、本発明の材料を構成する前記球状粒子には、ヘテロポリアニオンの形態の金属粒子は存在しない。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
本発明によるメソ構造化無機材料であって、金属ナノ粒子を含む基本球状粒子によって構成され、この金属ナノ粒子は、メソ細孔領域において組織化しかつ均一な多孔度を有するメソ構造化酸化物マトリクス中に捕捉されている、ものは、数多くの分析技術によって、特に、小角Ｘ線回折（小角ＸＲＤ）、広角Ｘ線回折（ＸＲＤ）、窒素容積測定分析（ＢＥＴ）、透過電子顕微鏡法（ＴＥＭ）、走査型電子顕微鏡法（scanning electron microscopy：ＳＥＭ）、および蛍光Ｘ線（X-ray fluorescence：ＸＲＦ）によって特徴付けられる。本明細書の上記に記載の金属粒子の存在は、種々の技術によって、特に、ラマン、ＵＶ可視または赤外線分光法、並びに微量分析によって示される。核磁気分光法（ＮＭＲ）、特に９５Ｍｏおよび１８３Ｗ  ＮＭＲも、有利には、金属ナノ粒子を特徴付けするために用いられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７９】
（実施例３（本発明）：タングステンおよびニッケルをベースとし、最終材料に対して９．３重量％のＷＯ３と１．９重量％のＮｉＯとを含有する金属ナノ粒子を含む材料の調製。マトリクスは、ジルコニウムおよびケイ素をベースとし、Ｓｉ／Ｚｒモル比＝１０を有するメソ構造化酸化物である。）
０．３５ｇのＷＣｌ４と、０．０４ｇのＮｉ（ＯＨ）２と、１５．０ｇの置換水とを含有する水溶液を、撹拌しながら、周囲温度で調製した。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
０．４３ｇのＭｏＣｌ５と、０．０６ｇのＣｏ（ＯＨ）２と、１５．０ｇの置換水とを含有する水溶液を、撹拌しながら、周囲温度で調製した。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月25日(2014.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結晶の成長中に結晶を計測するためのシステムであって、上記システムは、
第１の画像平面上に、成長中の上記結晶の第１の画像を撮像するよう構成された第１のカメラと、
第２の画像平面上に、成長中の上記結晶の第２の画像を撮像するよう構成された第２のカメラと、
前記第１のカメラおよび前記第２のカメラに対して通信上結合された処理装置を含み、
前記処理装置は、
結晶の成長中に結晶の数学的モデルを生成し、上記数学的モデルは、第１のモデルのサンプル点を含んだ複数のモデルのサンプル点を包含し、
上記第１の画像および上記第２の画像の範囲内で、少なくとも一つの結晶の成長特性を検知し、
上記第１の画像にて上記結晶の成長特性と上記数学的モデルを比較することによって、第１のエラー値を決定し、且つ上記第２の画像にて上記結晶の成長特性と上記数学的モデルを比較することによって、第２のエラー値を決定し、
上記決定した第１のエラー値および上記決定した第２のエラー値に基づいて、上記数学的モデルから、上記少なくとも一つの結晶の成長特性に関連付いた見積もりの計量値を生成する、
ようにプログラムされた、システム。
【請求項２】
上記第１のカメラおよび上記第２のカメラの少なくとも一つが、ディスクリートなデジタルカメラを含み、
上記ディスクリートなデジタルカメラは、シリアル式デジタルカメラとパラレル式デジタルカメラの内の少なくとも一つを含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
上記第１のカメラのための第１の調整パラメータのデータセットと、上記第２のカメラのための第２の調整パラメータのデータセットとを生成するよう構成された調整システムを更に含み、
前記処理装置は、更に、
上記第１のエラー値および上記第２のエラー値が、所定のエラー基準よりも大きいことを決定し、
上記第１のエラー値および上記第２のエラー値にゲイン行列を適用することにより数学的モデルの調整値を生成し、上記ゲイン行列は、上記第１及び第２の調整パラメータのデータセットからのデータを包含する、ように構成された請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記処理装置は、更に、上記第１のエラー値および上記第２のエラー値が、所定のエラー基準よりも小さい又は等しいことを決定し、上記数学的モデルに基づいた、上記結晶の成長特性の見積もりの計量値を出力する、ように構成された請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記処理装置は、更に、上記第１のモデルのサンプル点における第１の複数の特性標準点を決定するよう構成され、上記特性標準点は、上記複数の特性標準点および上記第１のモデルのサンプル点を包含するサンプリング線を規定し、上記サンプリング線は、上記数学的モデルの表面の接線に、及び上記第１のモデルのサンプル点から上記第１のカメラの中心への経路に直交し、
前記処理装置は、更に、
上記第１の画像平面上に上記サンプリング線を射影し、
上記第１の画像内でブライトリングの位置を決定するため、上記サンプリング線に沿ってサンプリングし、
上記第１のモデルのサンプル点と上記ブライトリングの上記位置を比較することによって、第１のエラーを決定し、
上記第２の画像平面上に上記サンプリング線を射影し、
上記第２の画像内で上記ブライトリングの位置を決定するため、上記サンプリング線に沿ってサンプリングし、
上記第１のモデルのサンプル点と上記ブライトリングの上記位置を比較することによって、第２のエラーを決定する、
ように構成される、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
第１のカメラが第１の画像平面上に、成長する結晶の第１の画像を撮像し、第２のカメラが第２の画像平面上に、上記成長する結晶の第２の画像を撮像することにより、るつぼから引き出される間の上記成長する結晶を三次元的に計測するための方法であって、
上記方法は、
結晶の成長中において結晶の数学的モデルを生成するステップであって、上記数学的モデルは複数のモデルのサンプル点を包含する、ステップと、
上記第１の画像および上記第２の画像の範囲内において、少なくとも一つの結晶の成長特性を検知するステップと、
上記第１の画像にて上記少なくとも一つの結晶の成長特性と上記数学的モデルを比較することにより、第１のエラー値を決定し、且つ上記第２の画像にて上記少なくとも一つの結晶の成長特性と上記数学的モデルを比較することにより、第２のエラー値を決定するステップと、
上記決定した第１のエラー値および上記決定した第２のエラー値に基づき、上記数学的モデルから上記少なくとも一つの結晶の成長特性に関連付いた見積もりの計量値を生成するステップと、
を含む、方法。
【請求項７】
上記第１のエラー値および上記第２のエラー値が、所定のエラー基準よりも大きいことを決定するステップと、
上記第１のエラー値および上記第２のエラー値にゲイン行列を適用することにより、数学的モデルの調整値を生成するステップと、
上記数学的モデルの調整値に従って上記数学的モデルの調整することにより、調整された数学的モデルを生成するステップであって、上記調整された数学的モデルが複数の調整されたモデルのサンプル点を含む、ステップと、
上記複数の調整されたモデルのサンプル点の内の上記少なくとも一つにおいて複数の特性標準点を決定するステップであって、上記複数の特性標準点および上記複数の調整されたモデルのサンプル点の内の上記少なくとも一つが、調整されたサンプリング線を規定する、ステップと、
上記第１の画像平面上へ上記調整されたサンプリング線を射影するステップと、
上記第１の画像平面上でブライトリングの位置を決定するため、上記サンプリング線に沿ってサンプリングするステップと、
上記複数の調整されたモデルのサンプル点の内の少なくとも一つと、上記ブライトリングの上記位置を比較することにより、上記第１のエラー値を決定するステップと、
上記第２の画像平面上へ上記調整されたサンプリング線を射影するステップと、
上記第２の画像平面上で上記ブライトリングの位置を決定するため、上記調整されたサンプリング線に沿ってサンプリングするステップと、
上記複数の調整されたモデルのサンプル点の内の上記少なくとも一つと、上記ブライトリングの上記位置を比較することにより、上記第２のエラー値を決定するステップと、
上記第１のエラー値および上記第２のエラー値が、所定のエラー基準よりも小さい又は等しいことを決定するステップと、
上記複数の調整されたモデルのサンプル点に基づき、上記少なくとも一つ結晶の成長特性の調整された見積もりの計量値を生成するステップと、
を更に含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
上記数学的モデルが中心に置かれる仮定された数学的モデルのリファレンスを生成するステップを更に含む、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
上記数学的モデルの上記複数の点は、結晶の特性の少なくとも一つを表し、上記特性の少なくとも一つは、結晶の直径、融液の高度、およびリフレクタの高度の内少なくとも一つを包含する、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
少なくとも一つの結晶の特性の前記見積もりの計量値を生成するステップは、見積もりの結晶の直径、見積もりの融液の高度、及び見積もりの融液リフレクタ間のギャップ長さの内少なくとも一つを生成するステップを包含する、請求項６に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月25日(2014.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セメント工場からの水銀の排出量を削減するための方法であって、前記セメント工場は、少なくともキルン、微粒子回収デバイス、加熱器、および水銀スクラバーを含み、前記加熱器は、前記キルンから上流にあり、前記水銀スクラバーは、前記加熱器から下流にあり、前記セメント工場は、回収された微粒子および排ガス流をそこに有し、前記方法は、
前記回収された微粒子からの揮発した水銀種を排ガス流に形成するように、
前記回収された微粒子および排ガス流を前記加熱器を通して誘導することと、
前記加熱器からの前記回収された微粒子を前記キルンに向かって下流に誘導することと、
前記揮発した水銀種を含む排ガス流を前記水銀スクラバーに誘導することと、
前記水銀スクラバーからの排ガス流を微粒子回収デバイスに誘導することと、
前記排ガス流を前記微粒子回収デバイスから流出するように誘導し、前記加熱器内に誘導しないこと、
を含む方法。
【請求項２】
セメント工場からの水銀の排出量を削減するための方法であって、前記セメント工場は、少なくともキルンおよび微粒子回収デバイスを含み、前記セメント工場は、回収された微粒子および排ガス流をそこに有し、前記方法は、
前記回収された微粒子および排ガス流が前記加熱器を通って前記キルンの下流に進むように、前記キルンの上流に加熱器を配置することと、
前記回収された微粒子から形成された揮発した水銀種が前記加熱器から前記水銀スクラバーに進入できるように、前記加熱器から下流に水銀スクラバーを配置することと、
前記回収された微粒子からの揮発した水銀種を排ガス流に形成するように、前記回収された微粒子および排ガス流を前記加熱器を通して誘導することと
前記加熱器からの前記回収された微粒子を前記キルンに向かって下流に誘導することと、
前記揮発した水銀種を含む排ガス流を前記水銀スクラバーに誘導することと、
前記水銀スクラバーからの排ガス流を微粒子回収デバイスに誘導することと、
前記排ガス流を前記微粒子回収デバイスから流出するように誘導し、前記加熱器内に誘導しないこと
を含む方法。
【請求項３】
前記セメント工場は、原料供給物をさらに含み、前記原料供給物が前記キルンに進入する前に、前記加熱器からの前記回収された微粒子の少なくとも一部が前記原料供給物と組み合わされる、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記セメント工場は、原料ミルをさらに含み、前記加熱器からの前記回収された微粒子の少なくとも一部が前記原料ミル内に導入される、請求項１または２に記載の方法。
【請求項５】
前記加熱器からの前記回収された微粒子の少なくとも一部が前記キルン内に導入される、請求項１または２に記載の方法。
【請求項６】
前記キルンと前記微粒子回収デバイスとの間の１つ以上の地点で水銀吸着剤を注入することをさらに含む、請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
前記水銀スクラバーは水銀吸着剤を含み、前記水銀吸着剤は活性炭吸着剤である、請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
前記活性炭吸着剤は、前記活性炭が水銀および水銀含有化合物を吸着する能力を高めるのに十分な時間用の有効量の臭素含有物質で処理されている、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記水銀吸着剤は、約０．１〜約１５重量パーセントの臭素を有する、請求項７または８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
前記セメント工場は、予熱塔をさらに含み、前記水銀吸着剤は、前記予熱塔の前またはその中には注入されない、請求項６に記載の方法。
【請求項１１】
前記水銀吸着剤は、活性炭吸着剤である、請求項６または１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記活性炭吸着剤は、前記活性炭が水銀および水銀含有化合物を吸着する能力を高めるのに十分な時間用の有効量の臭素含有物質で処理されている、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記水銀吸着剤は、約０．１〜約１５重量パーセントの臭素を有する、請求項１１または１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
前記注入速度は、約０．５ｌｂ／ＭＭａｃｆ〜約１５ｌｂ／ＭＭａｃｆの範囲内である、請求項６、１０、１１、または１３のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
前記加熱器は、約２００℃〜約８００℃の範囲内の温度である、請求項１〜１４のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月29日(2015.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
スルホン酸基は、好ましくは、成分ａ）の一つ又はより多くの第二級パラフィンスルホネートの非末端パラフィン部分上にランダムに分布し、そして、更に好ましくは、成分ａ）の一つ又はより多くの第二級パラフィンスルホネートの７５〜９５重量％は、一個のスルホン酸基であり、そして、成分ａ）の一つ又はより多くの第二級パラフィンスルホネートの５〜２５重量％は、二個又はより多くのスルホン酸基である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
【表５】
2014501297.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月12日(2014.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
本発明の範囲及び趣旨から逸脱しない本発明の様々な変更や改変は、当業者には明らかとなるであろう。本発明の実施態様の一部を以下の項目［１］−［１７］に記載する。
[１]
第１の成分を含む第１の層と、前記第１の層と一体になった相互貫入層と、を備える物品であって、前記相互貫入層が、前記第１の成分と第２の成分との混合物を含み、前記第１の成分及び前記第２の成分の濃度が、前記相互貫入層の厚さにわたって逆に、かつ連続的に変化する、物品。
[２]
前記相互貫入層の厚さが、少なくとも１０ナノメートルである、項目１に記載の物品。
[３]
前記相互貫入網の厚さが、前記第１の層の厚さの８０％以下である、項目２に記載の物品。
[４]
前記相互貫入層の厚さが、１０〜２００ｎｍ（境界値も含む）である、項目３に記載の物品。
[５]
前記相互貫入層の厚さが、１０〜５０ｎｍ（境界値も含む）である、項目４に記載の物品。
[６]
前記相互貫入層の厚さが、５０〜１５０ｎｍ（境界値も含む）である、項目４に記載の物品。
[７]
相互貫入層が、前記相互貫入層の厚さにわたって前記第１の成分と前記第２の成分とを含む表面層である、項目１〜６のいずれか一項に記載の物品。
[８]
相互貫入層が、前記第１の層と前記第２の成分を含む第２の層との間に配置された接着層である、項目１〜６のいずれか一項に記載の物品。
[９]
前記第２の層が連続層である、項目８に記載の物品。
[１０]
前記第２の層が不連続層である、項目８に記載の物品。
[１１]
前記第１の成分が前記第２の層に存在せず、前記第２の成分が前記第１の層に存在しない、項目８に記載の物品。
[１２]
前記第１の成分がポリウレタンを含む、項目１〜１１のいずれか一項に記載の物品。
[１３]
前記第２の成分がシリコーンを含む、項目１〜１２のいずれか一項に記載の物品。
[１４]
前記第２の成分がフッ素化されている、項目１〜１３のいずれか一項に記載の物品。
[１５]
前記第２の成分がアクリレートを含む、項目１〜１４のいずれか一項に記載の物品。
[１６]
前記第２の成分がシリカナノ粒子を含む、項目１〜１５のいずれか一項に記載の物品。
[１７]
前記相互貫入層が微細構造化される、項目１〜１６のいずれか一項に記載の物品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の成分を含む第１の層と、前記第１の層と一体になった相互貫入層と、を備える物品であって、前記相互貫入層が、前記第１の成分と第２の成分との混合物を含み、前記第１の成分及び前記第２の成分の濃度が、前記相互貫入層の厚さにわたって逆に、かつ連続的に変化し、前記相互貫入層の厚さが、少なくとも１０ナノメートルである物品。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月1日(2014.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも濃度300mMの塩および濃度5〜30%のグリセロールを含む水溶液においてFVIIIを保存するステップを含む、FVIII濃度が少なくとも1μg/mlでありpHが5.5〜8.5である水溶液においてFVIIIを安定化する方法。
【請求項２】
前記水溶液が濃度2〜20mMの二価陽イオンを含む、請求項1に記載の方法。
【請求項３】
前記水溶液が濃度0.05〜0.3g/kgの界面活性剤を含む、請求項1または2に記載の方法。
【請求項４】
前記塩がNaClである、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記水溶液中の前記塩濃度が300〜1000mMである、請求項1から4のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
FVIIIがBドメイン切断型変異体であり、前記FVIII濃度が少なくとも1μg/mlであり、前記塩濃度が500mMであり、前記グリセロール濃度が10〜20%であり、前記二価陽イオン濃度が10mMであり、前記界面活性剤濃度が0.1〜0.2g/kgであり、かつ前記溶液のpHが6〜8である、請求項1から5のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
少なくとも1μg/mlのFVIIIを含み、pHが5.5〜8.5であり、少なくとも濃度300mMの塩および濃度5〜30%のグリセロールを含む、FVIII水溶液。
【請求項８】
濃度0.05〜0.3g/kgの界面活性剤をさらに含む、請求項7に記載の溶液。
【請求項９】
濃度2〜20mMの二価陽イオンをさらに含む、請求項7または8に記載の溶液。
【請求項１０】
前記塩がNaClである、請求項7から9のいずれか一項に記載のFVIII溶液。
【請求項１１】
前記水溶液中の前記塩濃度が300〜1000mMである、請求項7から10のいずれか一項に記載のFVIII溶液。
【請求項１２】
FVIIIがBドメイン切断型変異体であり、前記FVIII濃度が少なくとも1μg/mlであり、前記塩濃度が500mMであり、前記グリセロール濃度が10〜20%であり、前記二価陽イオン濃度が10mMであり、前記界面活性剤濃度が0.1〜0.2g/kgであり、かつ前記溶液のpHが6〜8である、請求項7から11のいずれか一項に記載のFVIII溶液。
【請求項１３】
請求項1から6のいずれか一項に記載の方法および請求項7から12のいずれか一項に記載の溶液を用いた分離または精製の間にFVIIIが安定化される、サイズ排除クロマトグラフィーによるFVIIIの分離または精製のための方法。
【請求項１４】
請求項1から6のいずれか一項に記載の方法および請求項7から12のいずれか一項に記載の溶液を用いた修飾工程の間にFVIIIが安定化される、FVIIIの翻訳後修飾のための方法。
【請求項１５】
FVIIIを安定化するための、請求項7から12のいずれか一項に記載の溶液または請求項1から6のいずれか一項に記載の方法の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月19日(2014.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
発泡体材料で形成された場合、裏材１７、２５、３３及び間隙充填材１３、２０、２８、３６は、好ましくは方形断面を有する細長い物品であるが、各断面は、三角形、楕円形、又は多角形であってよい。上述の各実施形態では、間隙充填材１３、２０、２８、３６は、裏材１０、１７、２５、３３の第１の表面１１、１８、２６、３４から延在する。しかし、その代わりに、間隙充填材１３、２０、２８、３６は、裏材１０、１７、２５、３３の第２の表面１２、１９、２７、３５から延在してよい。この場合、間隙充填材１３、２０、２８、３６は、折り畳まれるか、ないしは別の方法で接着剤層１５、２２、３０ａ、３８ｂと反対方向に屈曲してもよい。裏材１０、１７、２５、３３、間隙充填材１３、２０、２８、３６、スペーサ２３、３１、３９、及び複合スペーサ３１、３１ａ、３１ｂ、３９、３９ａ、３９ｂの部分の結合には、任意の好適な接着剤を用いてよい。本発明の実施態様の一部を以下の項目［１］−［１４］に記載する。
［１］
塗装される第１の基材と第２の基材との間の間隙の内面を遮蔽するためのマスキングストリップであって、
第１の表面及び第２の表面を有する裏材と、
前記裏材から延在し、前記間隙に塗料が流れ込まないように構成された間隙充填材と、を含み、
前記裏材が、前記マスキングストリップが固定される前記間隙の内面から塗料を吸い上げるように作用する繊維含有材料で形成されるか、又は該繊維含有材料に貼付される、マスキングストリップ。
［２］
前記間隙充填材が、前記裏材の前記第１の表面又は前記第２の表面から延在する、項目１に記載のマスキングストリップ。
［３］
前記裏材の前記第２の表面が、前記マスキングストリップを前記間隙の内面に固定する接着剤を有する、項目１又は２に記載のマスキングストリップ。
［４］
前記ストリップが、前記裏材の前記第２の表面に貼付されたスペーサを更に含む、項目１又は２に記載のマスキングストリップ。
［５］
前記スペーサが、前記繊維含有材料で形成される、項目４に記載のマスキングストリップ。
［６］
前記スペーサが、基層と、カバー層と、を含む複合スペーサである、項目４に記載のマスキングストリップ。
［７］
前記カバー層が、繊維含有材料である、項目６に記載のマスキングストリップ。
［８］
前記繊維含有材料が、天然繊維、セルロース繊維、又は合成繊維のうちの少なくとも１つを含む、項目１〜７のいずれか一項に記載のマスキングストリップ。
［９］
前記繊維含有材料が、紙材、ティッシュ材、織布材料、又は不織布材料のうちの１つを含む、項目１〜８のいずれか一項に記載のマスキングストリップ。
［１０］
前記紙材が、３５〜１００ｇｓｍの重量を有する、項目９に記載のマスキングストリップ。
［１１］
前記紙材が、織り目加工されている、項目９に記載のマスキングストリップ。
［１２］
前記ティッシュ材が、１０〜３５ｇｓｍの範囲の重量を有する、項目９に記載のマスキングストリップ。
［１３］
前記繊維含有材料が穿孔される、項目１〜１２のいずれか一項に記載のマスキングストリップ。
［１４］
前記間隙充填材が、発泡体材料を含む、項目１〜１３のいずれか一項に記載のマスキングストリップ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗装される第１の基材と第２の基材との間の間隙の内面を遮蔽するためのマスキングストリップであって、
第１の表面及び第２の表面を有する裏材と、
前記裏材から延在し、前記間隙に塗料が流れ込まないように構成された間隙充填材と、を含み、
前記裏材が、前記マスキングストリップが固定される前記間隙の内面から塗料を吸い上げるように作用する繊維含有材料で形成されるか、又は該繊維含有材料に貼付される、マスキングストリップ。
【請求項２】
前記間隙充填材が、前記裏材の前記第１の表面又は前記第２の表面から延在する、請求項１に記載のマスキングストリップ。
【請求項３】
前記裏材の前記第２の表面が、前記マスキングストリップを前記間隙の内面に固定する接着剤を有する、請求項１又は２のいずれかに記載のマスキングストリップ。
【請求項４】
前記ストリップが、前記裏材の前記第２の表面に貼付されたスペーサを更に含む、請求項１又は２のいずれかに記載のマスキングストリップ。
【請求項５】
前記スペーサが、前記繊維含有材料で形成される、請求項４に記載のマスキングストリップ。
【請求項６】
前記スペーサが、基層と、カバー層と、を含む複合スペーサである、請求項４に記載のマスキングストリップ。
【請求項７】
前記カバー層が、繊維含有材料である、請求項６に記載のマスキングストリップ。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月10日(2015.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
陽極が設けられた陽極コンパートメントと、
陽極コンパートメントから離隔し、陰極が設けられた陰極コンパートメントであって、陽極及び陰極が、直流電源に結合して、陽極と陰極の間に電位差をもたらし、電位差の影響によって液体媒体及びイオン交換媒体中のイオン材料の輸送に影響を及ぼすように構成される、陰極コンパートメントと、
供給溶液を受け取る供給入口と、
生産水出口と、
陽極コンパートメントと陰極コンパートメントの間に交互に配置された複数の陰イオン交換膜及び複数の陽イオン交換膜と、
複数のスペーサと
を備え、複数のスペーサ及び陰イオン交換膜並びに陽イオン交換膜が、供給入口から供給溶液を受け取る第１の希釈コンパートメント、第１の希釈コンパートメントと直列の、生産水を生産水出口に引き渡す第２の希釈コンパートメント、第１の濃縮コンパートメント及び第１の濃縮コンパートメントと平行な第２の濃縮コンパートメントを形成するように構成され、第１及び第２の希釈コンパートメントが、陽極に最も近い側の陰イオン交換膜及び陰極に最も近い側の陽イオン交換膜によって境界が画成され、かつ、第１及び第２の濃縮コンパートメントが、陽極に最も近い側の陽イオン交換膜及び陰極に最も近い側の陰イオン交換膜によって境界が画成され、
第１及び第２の希釈コンパートメント並びに第１及び第２の濃縮コンパートメントを形成するスペーサと、陰イオン交換膜及び陽イオン交換膜とが共に電気脱塩グループを形成し、電気脱塩装置が、スタックとしてまとめて組み立てられた複数の反復電気脱塩グループを備えており、
電気脱塩グループが、第１及び第２の希釈コンパートメントスペーサ並びに第１及び第２の濃縮コンパートメントスペーサを備え、
第１の希釈コンパートメントスペーサが第１及び第２の希釈コンパートメントを形成し、第１の希釈コンパートメントスペーサがその一方の端部に入口ポートを有し、かつ、反対側の端部に出口ポートを有し、第１の希釈コンパートメントスペーサの第１の部分が、その供給入口から供給溶液を受け取る第１の希釈コンパートメント、及び第１の希釈コンパートメントから供給溶液を受け取る第２の希釈コンパートメントを形成し、
第２の希釈コンパートメントを通る流れの方向が、第１の希釈コンパートメントスペーサ内の流れの方向と比較して逆方向になるように、第２の希釈コンパートメントスペーサの入口ポート及び出口ポートが第１の希釈コンパートメントスペーサの入口ポート及び出口ポートとは反対側の端部に位置するように構成され、第２の希釈コンパートメントスペーサが、直列に構成された第１及び第２の希釈コンパートメントを形成し、
濃縮コンパートメントスペーサの各々がその中央部分に濃縮流を受け取る入口ポートを有し、濃縮スペーサが流入する濃縮流を２つの流れ方向に導き、濃縮コンパートメントスペーサが第１及び第２の濃縮コンパートメントを形成し、第１の濃縮コンパートメントが第１の方向に導かれる濃縮流の第１の部分を受け取り、第２の濃縮コンパートメントが第２の方向に導かれる濃縮流の第２の部分を受け取る、電気脱塩装置。
【請求項２】
電気脱塩グループが、第１及び第２の陽イオン交換膜並びに第１及び第２の陰イオン交換膜を有し、かつ、第１の希釈スペーサに隣接する第１の陽イオン交換膜、第１の陽イオン交換膜に隣接する第１の濃縮コンパートメントスペーサ、第１の濃縮コンパートメントスペーサに隣接する第１の陰イオン交換膜、第１の陰イオン交換膜に隣接する第２の希釈コンパートメントスペーサ、第２の希釈コンパートメントスペーサに隣接する第２の陽イオン交換膜、第２の陽イオン交換膜に隣接する第２の濃縮コンパートメントスペーサ、及び第２の濃縮コンパートメントスペーサに隣接する第２の陰イオン交換膜と共に配置される、請求項１記載の電気脱塩装置。
【請求項３】
希釈コンパートメント及び濃縮コンパートメントの厚さが１．０ｍｍ〜１０．０ｍｍである、請求項１記載の電気脱塩装置。
【請求項４】
第１の希釈コンパートメントの厚さが第２の希釈コンパートメントの厚さよりも大きい、請求項１記載の電気脱塩装置。
【請求項５】
第１の希釈コンパートメントの厚さが第２の希釈コンパートメントの厚さよりも２〜４倍大きい、請求項４記載の電気脱塩装置。
【請求項６】
第１の希釈コンパートメントの厚さが第２の希釈コンパートメントの厚さよりも４〜８倍大きい、請求項４記載の電気脱塩装置。
【請求項７】
第１の希釈コンパートメントの厚さが第２の希釈コンパートメントの厚さよりも小さい、請求項１記載の電気脱塩装置。
【請求項８】
第１の希釈コンパートメントの厚さが第２の希釈コンパートメントの厚さの１／２〜１／４の厚さである、請求項７記載の電気脱塩装置。
【請求項９】
第１の希釈コンパートメントの厚さが第２の希釈コンパートメントの厚さの１／４〜１／８の厚さである、請求項７記載の電気脱塩装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月28日(2014.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
多数の薬剤を身体に注射しなければならない。これは、特に、経口投与によって失活する、またはその効果を著しく低下させる薬剤、たとえば、タンパク質（インスリン、成長ホルモン、インターフェロンなど）、炭水化物（たとえば、ヘパリン）、抗体、および大多数のワクチンに当てはまる。そのような薬剤は、シリンジ、薬剤ペン、または薬剤ポンプにより注射されるのが主流である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
針ガイドは、遠位開口から針シールドの内部を通って延びる針チャネルを備えることが好ましく、針チャネルは、注射針を受容し案内するように形成される。針チャネルは、針シールドがハウジングに対して保護位置と注射位置の間で摺動するとき注射針を案内し安定化するための単純かつ効率的な手段を提供し、注射プロセス中に針の撓みを防止し、そのような撓みによって引き起こされる、患者が受ける可能性がある痛みを低減する上述の利点がある。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月27日(2014.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ニコチアナ種植物の茎に由来する糖化合物を含む糖含有シロップの形態でたばこ製品に用いる風味タバコ組成物であって、前記シロップが少なくとも２０のブリックスレベルを有する組成物。
【請求項２】
糖含有シロップがタバコ原料への適用に適合するケーシング製剤または最上層製剤に含まれる、請求項１記載のタバコ組成物。
【請求項３】
糖含有シロップがスクロース、フルクトース、およびグルコースを含む、請求項１記載のタバコ組成物。
【請求項４】
糖含有シロップが少なくとも５０重量％の水と糖化合物を含む、請求項１記載のタバコ組成物。
【請求項５】
糖含有シロップが少なくとも１５重量％の糖化合物を含む、請求項１記載のタバコ組成物。
【請求項６】
糖含有シロップが少なくとも２０重量％の糖化合物を含む、請求項１記載のタバコ組成物。
【請求項７】
糖含有シロップがシロップ組成物の総重量に基づいて２０重量％から６０重量％の水および１５重量％から４０重量％の糖化合物を含む、請求項１記載のタバコ組成物。
【請求項８】
糖含有シロップが２０から５０ｇ/ｃｍ３の範囲の比重を有する、請求項１記載のタバコ組成物。
【請求項９】
請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の風味タバコ組成物を含むたばこ製品。
【請求項１０】
さらにタバコ原料または非タバコ植物原料を糖含有シロップ用の担体として含む、請求項９記載のたばこ製品。
【請求項１１】
たばこ製品が無煙タバコ組成物、喫煙具、または植物原料の不燃焼用に設定されたエアロゾル生成装置の形態である、請求項９記載のたばこ製品。
【請求項１２】
無煙タバコ組成物の形態が、湿性嗅ぎたばこ、乾燥嗅ぎたばこ、噛みたばこ、タバコ含有ガム、および溶解または融解するたばこ製品から成る群から選択される、請求項１１記載のたばこ製品。
【請求項１３】
糖含有シロップをニコチアナ種植物の茎から調製する方法であって、
i）糖化合物を含む水性液体成分をニコチアナ種植物の茎またはその一部から採取する工程；および
ii）水性液体成分を濃縮して水性液体成分の比重を増し、たばこ製品における風味タバコ組成物としての使用に適した糖含有シロップを形成する工程を含み、前記糖含有シロップが少なくとも２０のブリックスレベルを有する方法。
【請求項１４】
さらにニコチアナ植物種の茎またはその一部を採取段階前に乾燥させる工程を含む、請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
乾燥段階が茎を１４重量パーセント未満の水分量まで乾燥させる工程を含む、請求項１４記載の方法。
【請求項１６】
採取段階が水性液体成分を茎から圧搾する工程；植物の茎またはその一部を液体と接触させ前記水性液体成分を取り出す工程；および前記茎を水性液体で抽出する工程の少なくとも１つを含む、請求項１３記載の方法。
【請求項１７】
濃縮段階が水性液体成分を大気圧または真空下で加熱する工程を含む、請求項１３記載の方法。
【請求項１８】
濃縮段階が水性液体成分を２０から５０g/cm3の比重に濃縮する工程を含む、請求項１３記載の方法。
【請求項１９】
さらに水性液体成分を濾過して固体成分を除去する工程を含む、請求項１３記載の方法。
【請求項２０】
濾過段階が水性液体成分を限外濾過膜に曝す工程を含む、請求項１９記載の方法。
【請求項２１】
水性液体成分が濃縮段階中に固体成分を表面からすくい取ることにより濾過される、請求項１９記載の方法。
【請求項２２】
さらに１以上の清澄剤を水性液体成分に添加することにより水性液体成分を浄化する工程を含む、請求項１３記載の方法。
【請求項２３】
さらに糖含有シロップを糖含有シロップ用の担体としてのタバコ原料または非タバコ植物原料に添加する工程を含む、請求項１３記載の方法。
【請求項２４】
さらにタバコ原料または非タバコ植物原料をたばこ製品に組み込む工程を含む、請求項２３記載の方法。
【請求項２５】
たばこ製品が無煙タバコ組成物または喫煙具の形態である、請求項２４記載の方法。
【請求項２６】
無煙タバコ組成物の形態が、湿性嗅ぎたばこ、乾燥嗅ぎたばこ、噛みたばこ、タバコ含有ガム、および溶解または融解するたばこ製品から成る群から選択される、請求項２５記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月8日(2014.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者に供給されるガスを加湿する加湿器システムにおいて、
液体源と、
患者にガスを供給する患者回路に配置された加湿ユニットであって、
前記液体源から液体を受け取る液体チャンバであって、凹形形状底部を含む、液体チャンバ、
前記液体チャンバからの液体を霧状にする噴霧器であって、前記噴霧器が、前記液体チャンバに導入された液体が前記噴霧器に向けて流し込まれるよう、前記液体チャンバの底部に配置され、前記噴霧器は、孔を持つ開口板を有し、前記開口板が、振動素子に接続され、前記振動素子の振動は、前記開口板が振動することをもたらし、前記液体が前記孔を通り移動することをもたらし、前記液体がエアロゾル化粒子へと霧状にされる、噴霧器、
前記噴霧器からエアロゾル化粒子を受け取るエアロゾルチャンバ、及び
前記エアロゾル化粒子を、前記患者回路内のガスを加湿する蒸気に変換する熱源、
を有する当該加湿ユニットと、
を有するシステム。
【請求項２】
前記加湿ユニットが、前記患者回路から前記エアロゾルチャンバを分離する疎水性膜を含み、前記疎水性膜は、液体が前記エアロゾルチャンバから前記患者回路に入ることを防ぐが、蒸気が前記エアロゾルチャンバから前記患者回路に入ることを可能にする、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記熱源が、前記エアロゾルチャンバの壁に配置される、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記熱源が、前記エアロゾルチャンバから前記患者回路への経路に沿った場所に配置される、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記熱源が、前記患者回路内に配置される、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
患者に供給されるガスを加湿する方法において、
液体チャンバにおいて、液体源からの水を受け取るステップであって、前記液体チャンバが、凹形形状底部を含む、ステップと、
前記液体チャンバからの液体をエアロゾル化するステップであって、前記液体チャンバに導入された液体が噴霧器に向けて流し込まれるよう、前記液体チャンバの底部に配置される噴霧器を提供するステップを含み、前記噴霧器が、孔を持つ開口板を有し、前記開口板は、振動素子に接続され、前記振動素子の振動が、前記開口板が振動することをもたらし、前記液体が前記孔を通り移動することをもたらし、前記液体がエアロゾル化粒子へと霧状にされる、ステップと、
前記エアロゾル化粒子をエアロゾルチャンバに供給するステップと、
前記エアロゾル化粒子を蒸気にするように加熱するステップと、
ガスを加湿するように患者回路に前記蒸気を供給するステップと、
を有する方法。
【請求項７】
疎水性膜は、液体が前記エアロゾルチャンバから前記患者回路に入ることを防がれ、前記蒸気が前記エアロゾルチャンバから前記患者回路に入ることを可能にされるように、前記患者回路から前記エアロゾルチャンバを分離する、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記エアロゾル化粒子が、前記エアロゾルチャンバの壁に配置された熱源から前記蒸気になるように加熱される、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記エアロゾル化粒子が、前記エアロゾルチャンバから前記患者回路への経路に沿った場所に配置された熱源から前記蒸気になるように加熱される、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
前記エアロゾル化粒子が、前記患者回路内に配置された熱源から前記蒸気になるように加熱される、請求項６に記載の方法。
【請求項１１】
患者に供給されるガスを加湿する加湿器システムにおいて、
液体を蓄える液体源手段と、
患者にガスを供給する患者回路に配置された加湿手段であって、
前記液体源手段から液体を受け取る液体チャンバ手段であって、凹形形状底部を含む、液体チャンバ手段、
前記液体チャンバ手段からの液体を霧状にする噴霧手段であって、前記噴霧手段が、前記液体チャンバ手段に導入された液体が前記噴霧手段に向けて流し込まれるよう、前記液体チャンバ手段の底部に配置され、前記噴霧手段は、孔を持つ開口板を有し、前記開口板が、振動素子に接続され、前記振動素子の振動は、前記開口板が振動することをもたらし、前記液体が前記孔を通り移動することをもたらし、前記液体がエアロゾル化粒子へと霧状にされる、噴霧手段、
前記噴霧手段からのエアロゾル化粒子を受け取るエアロゾルチャンバ手段、及び
前記エアロゾル化粒子を、前記患者回路におけるガスを加湿する蒸気に変換する熱源手段、
を有する当該加湿手段と、
を有するシステム。
【請求項１２】
前記加湿手段が、前記患者回路から前記エアロゾルチャンバ手段を分離する膜手段を含み、前記膜手段は、液体が前記エアロゾルチャンバ手段から前記患者回路に入ることを防ぐが、前記蒸気が前記エアロゾルチャンバ手段から前記患者回路に入ることを可能にする、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記熱源手段が、前記エアロゾルチャンバ手段の壁に配置される、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１４】
前記熱源手段が、前記エアロゾルチャンバ手段から前記患者回路への経路に沿った場所に配置される、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１５】
前記熱源手段が、前記患者回路内に配置される、請求項１１に記載のシステム。