【事件の表示】
　特許第３０５３６６８号「熱線遮断膜」の請求項１ないし３に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３０５３６６８号の請求項１ないし２に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件特許第３０５３６６８号の請求項１〜３に係る発明についての出願は、平成３年７月５日に出願（優先日：平成２年７月５日、特願平２−１７６２８２号　国内優先権主張出願　日本並びに平成２年１１月２７日、特願平２−３２１２７３号　国内優先権主張出願　日本）され、平成１２年４月７日にその発明について特許権の設定登録がなされ、その後、特許異議申立人　日本板硝子株式会社及び加藤澄江より特許異議の申立てがなされ、平成１３年３月３０日付け取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１３年６月１２日に意見書が提出されるとともに、訂正請求がなされ、その後、訂正拒絶理由が通知され、その指定期間内である平成１４年６月１３日に手続補正書が提出されたものである。
　
２．訂正の適否についての判断
２−１．訂正請求に対する補正の適否について
　特許権者は、手続補正書により訂正請求書中の誤記の訂正のため訂正請求書の（３）訂正の要旨の訂正事項ｄないし訂正事項ｇを削除する補正をするものであり、当該訂正請求に対する補正は、訂正請求書の要旨を変更するものでなく、特許法第１２０条の４第３項において準用する同法第１３１条第２項の規定に適合する。
　なお、手続補正書（２）の「（３）訂正の趣旨・・・削除する。」との記載において、趣旨は「要旨」、丸３〜丸６の表記が丸４〜丸７の誤記であることは明らかであるから、上記のとおり解し、判断した。（丸付き数字は、丸ｎ（ｎは数字）と標記した）
　
２−２．訂正の内容
　特許権者が求めている訂正の内容は、以下の訂正事項ａ．ないしｃ．のとおりのものである。
訂正事項ａ．：
　特許請求の範囲の請求項１に係る記載の「基体上に酸化物膜、金属膜、酸化物膜、と交互に・・・ことを特徴とする熱線遮蔽膜。」を、「基体上に酸化物膜、金属膜、酸化物膜、と交互に積層された（２ｎ＋１）層（ｎ≧１）からなる熱線遮断膜において、基体から見て、基体から最も離れた金属膜（Ａ）の反対側に形成された膜厚が２００〜７００Åの酸化物膜（Ｂ）は、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｃｒのうち少なくとも１種をＺｎとの合計量に対して原子比で１０％以下の割合でドープした酸化亜鉛を主成分とする膜を少なくとも１層有する膜であり、酸化亜鉛の結晶系が大方晶であり、該熱線遮断膜のＣｕＫα線を用いたＸ線回折法による六方晶酸化亜鉛の（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）の値が３４．００°以上３４．８８°以下であることを特徴とする熱線遮断膜。」に訂正する。
訂正事項ｂ．：
　特許請求の範囲の請求項２を削除し、特許請求の範囲の「請求項３」を「請求項２」に訂正するとともに、旧請求項３における「請求項１または２記載の」を「請求項１記載の」に訂正する。
訂正事項ｃ．：
　明細書の【０００７】に係る記載の
「【課題を解決するための手段】
　本発明は、上述の課題を解決すべくなされたものであり、・・・ことを特徴とする熱線遮断膜を提供する。」という記載を、
「【課題を解決するための手段】
　本発明は、上述の課題を解決すべくなされたものであり、基体上に酸化物膜、金属膜、酸化物膜、と交互に積層された（２ｎ＋１）層（ｎ≧１）からなる熱線遮断膜において、基体から見て、基体から最も離れた金属膜（Ａ）の反対側に形成された膜厚が２００〜７００Åの酸化物膜（Ｂ）は、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｃｒのうち少なくとも１種をＺｎとの合計量に対して原子比で１０％以下の割合でドープした酸化亜鉛を主成分とする膜を少なくとも１層有する膜であり、酸化亜鉛の結晶系が大方晶であり、該熱線遮断膜のＣｕＫα線を用いたＸ線回折法による六方晶酸化亜鉛の（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）の値が３４．００°以上３４．８８°以下であることを特徴とする熱線遮断膜を提供する。」に訂正する。
　
２−３．訂正の目的の適否、新規事項の追加の有無、及び特許請求の範囲の拡張・変更の存否
　上記訂正事項ａ．に関する記載として、願書に添付した明細書（以下、「特許明細書」という）の発明の詳細な説明の、段落【００２４】には、「酸化物膜（Ｂ）の膜厚は、特に限定されないが、熱線遮断膜全体の色調、可視光透過率を考慮すると、２００〜７００Åが望ましい。」、段落【００２８】には、「このように、酸化物膜（Ｂ）として高内部応力の膜と低内部応力の膜を組み合わせて２層以上の構成とした多層膜を用いる場合、合計２００〜７００Åであることが好ましい。積層数及び１層の膜厚は、装置に応じて選べばよく特に限定されない。また、各層の膜厚がそれぞれ異なってもよい。」、段落【００２２】「特に、酸化物膜（Ｂ）を構成するＺｎＯ薄膜に関しては、上述のように、六方晶酸化亜鉛の内部応力と、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折による回折角２θ（重心位置）とがほぼ対応している。酸化亜鉛を主成分とする膜の結晶系は六方晶である。本発明の熱線遮断膜の耐久性向上のためには、熱線遮断膜のＣｕＫα線を用いたＸ線回折において、六方晶酸化亜鉛の（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）が３３．８８°から３５．００°までの間の値、特に、３４．００°から３４．８８°までの値であることが好ましい。回折角２θが３４．４４°以下の値は圧縮応力、３４．４４°以上の値は引張応力、を示す。」、及び段落【００２３】「ＺｎＯ膜に、酸化状態でＺｎ２＋よりイオン半径の小さい他の元素を添加（ドープ）する場合にも、成膜条件により異なるが、内部応力を低減できる傾向があり、かかる元素としては、Ａｌ、Ｓｉ、Ｂ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｃｒ等が挙げられる。従ってこれらのうちから少なくとも１種をドープしたＺｎＯを主成分とする膜も、ＺｎＯ膜と同様に使用できる。ドープ量は、Ａｌ、Ｓｉ、Ｂ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｃｒのうち少なくとも１種を、Ｚｎとの合計量に対して、原子比で１０％以上としても、内部応力低減効果は変わらないことが多いので、１０％以下程度で十分である。このような、他の元素をドープしたＺｎＯ膜についても、六方晶酸化亜鉛の（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）に関して、ＺｎＯ膜と同様のことがいえる。」と記載されていることから、酸化物膜（Ｂ）の膜厚を、「膜厚が２００〜７００Å」に、また、「Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｃｒのうち少なくとも１種をＺｎとの合計量に対して原子比で１０％以下の割合でドープした」、回折角２θの値を「３４．００°以上３４．８８°以下」とする訂正は、願書に添付された明細書に記載された事項の範囲内において酸化物層（Ｂ）を限定するものであり、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正に該当するものであって、新規事項の追加に該当せず、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　訂正事項ｂ．の、訂正前の請求項２を削除する訂正は、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正に該当するものであり、また、訂正前の請求項３の請求項番号を繰り上げて、請求項２に訂正するとともに、引用請求項番号を整合させる訂正は、明りょうでない記載の釈明に該当するものであって、ともに新規事項の追加に該当せず、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　訂正事項ｃ．は、上記特許請求の範囲請求項１、２の訂正に整合させるために特許明細書を訂正するものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とする特許明細書の訂正に該当するものであって、願書に最初に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
　
２−４．むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項において準用する平成六年法改正前の特許法第１２６条第１項ただし書き、第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．本件特許発明
　上記２．において詳述したように訂正は認められるから、本件特許第３０５３６６８号の発明は、平成１４年６月１３日付け手続補正書に補正された平成１３年６月１２日付け訂正請求書により訂正された訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１、２に記載された事項により特定されるとおりのものと認める。
　「【請求項１】
基体上に酸化物膜、金属膜、酸化物膜、と交互に積層された（２ｎ＋１）層（ｎ≧１）からなる熱線遮断膜において、基体から見て、基体から最も離れた金属膜（Ａ）の反対側に形成された膜厚が２００〜７００Åの酸化物膜（Ｂ）は、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｃｒのうち少なくとも１種をＺｎとの合計量に対して原子比で１０％以下の割合でドープした酸化亜鉛を主成分とする膜を少なくとも１層有する膜であり、酸化亜鉛の結晶系が六方晶であり、該熱線遮断膜のＣｕＫα線を用いたＸ線回折法による六方晶酸化亜鉛の（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）の値が３４．００°以上３４．８８°以下であることを特徴とする熱線遮断膜。
【請求項２】
前記金属膜（Ａ）はＡｇを主成分とする金属膜である請求項１記載の熱線遮断膜。」
　
４．特許異議申立ての理由の概要
（１）特許異議申立人　加藤　澄江（以下、「申立人Ａ」という）は、証拠として甲第１〜第９号証を提出し、訂正前の本件請求項１〜３に係る発明は、甲第１、第３、又は第４号証に記載された発明であるから、本件発明の特許は特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができないものであり、
　また、訂正前の本件請求項１〜３に係る発明は、甲第１〜第８号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明の特許は特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができたものであり、
　さらに、訂正前の本件請求項１〜３に係る発明は、甲第９号証の特願平３−１９１０６４号（特許第３０５３６６９号）の発明と同一であるから、本件発明の特許は特許法第３９条第１項の規定により特許を受けることができないものであるから、
　本件請求項１〜３に係る発明の特許は取り消されるべきものである旨の主張をしている。
　
甲第１号証：「Ｓｏｌａｒ　Ｅｎｅｒｇｙ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ　＆　Ｓｏｌａｒ　Ｃｅｌｌｓ」１９　（１９８９）　Ｐ６７−７８（以下、刊行物１という）
甲第２号証：早川茂他１名著「薄膜化技術」第１４８〜１５３頁（以下、刊行物２という）
甲第３号証：特開昭６３−１３４２３２号公報（以下、刊行物３という）
甲第４号証：特開昭５９−７６５３４号公報（以下、刊行物４という）
甲第５号証：特開昭５６−５１３５４号公報（以下、刊行物５という）
甲第６号証：特開平２−２３９１３５号公報（以下、刊行物６という）
甲第７号証：特開昭６１−１１１９４０号公報（以下、刊行物７という）
甲第８号証：特公昭５９−７３５１号公報（以下、刊行物８という）
甲第９号証：特願平３−１９１０６４号，特許第３０５３６６９号公報（以下、先願１という）
参考資料：実験報告書
　
（２）特許異議申立人　日本板硝子株式会社（以下、「申立人Ｂ」という）は、証拠として下記甲第１〜第１０号証を提出し、
　訂正前の本件請求項１〜３に係る発明は、甲第１〜第１０号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明の特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであり、
　また、本件特許の請求項１に係る発明は、請求項１に記載された数値（角度）は最外層の内部歪を表わすものではなく、当業者をして当該発明を実施できるように発明の詳細な説明に記載されておらず，且つ特許を受けようとする発明が不明確であるので、特許法第３６条第４項又は第５項の規定に違反してなされたものであるから、
取り消されるべきものである旨の主張をしている。
　当審注：本件特許に係る出願は、平成３年７月５日に出願されたものであるから、申立人Ｂの主張の根拠条文は特許法第３６条第４項及び第５項であるのでそのように訂正して記載した。
　
甲第１号証：Ｊａｐａｎｅｓｅ　Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ａｐｐｌｉｅｄ　Ｐｈｙｓｉｃｓ，Ｖｏｌ．２１，Ｎｏ．２，ｐ２６４−２７１（１９８２）．および翻訳文（抜粋）（以下、刊行物９という）
甲第２号証：特開昭５５−１６５５５号公報（以下、刊行物１０という）
甲第３号証：特開昭６３−２３９０４４号公報（以下、刊行物１１という）
甲第４号証：Ｐｒｏｃ．６ｔｈ　Ｉｎｔｅｒｎａｌ．Ｖａｃｕｕｍ　Ｃｏｎｇｒ．１９７４；Ｊａｐａｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｓｕｐｐｌ．２，Ｐｔ．１，ｐ７４１−７４４（１９７４）および翻訳文（抜粋）    （以下、刊行物１２という）
甲第５号証：特開昭５９−７６５３４号公報（申立人Ａの提出した甲第４号証に同じ。以下、刊行物４という）
甲第６号証：特開平２−９７３１号公報（以下、刊行物１３という）
甲第７号証：特開平２−１６０６４１号公報（以下、刊行物１４という）
甲第８号証：雑誌：真空、第３０巻、第５号、ｐ２８８〜２９１（１９８７）（以下、刊行物１５という）
甲第９号証：雑誌：セラミックス、２５巻、第２号、ｐ１５２〜１５８（１９９０）（以下、刊行物１６という）
甲第１０号証：”Ｘ−ＲＡＹ　ＤＩＦＦＲＡＣＴＩＯＮ　ＰＲＯＣＥＤＵＲＥＳ”，２ｎｄ　Ｅｄ．，ｐ７５５−７５７，ＪＯＨＮ　ＷＩＬＥＹ　＆　ＳＯＮＳ，Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ（１９７４）および翻訳文（以下、刊行物１７という）
　
（３）各刊行物（甲第各号証）の記載事項
　刊行物１：
（１−ａ）ガラス基板上に形成されたＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯのコーティング（熱線遮断膜）について「Ｘ線回折分析は、全てのＺｎＯ膜とＡｇ膜が基板に平行なＺｎＯ（００２）面とＡｇ（１１１）面とを持った多結晶であることを示した。」（第６８頁第３１〜３２行）
（１−ｂ）Ｔａｂｌｅ　１　異なった測定方法により測定された、銀層の粒径とＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯコーティングの各層の厚みと題し、ＢＯＣ１、ＢＯＣ３、ＢＯＣ８、それぞれの、ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯの各層の厚み（Å）　Profilometry：４４５／４７／４１５、４５０／９８／４２５、４５５／２５０／４１５、Ellipsometry　１−shell：４１５／９１／３９６、４１５／９１／３９６、４２３／２９７／３７４、Ellipsometry　２−shell：４０４／１０４／３９４、４２０／１７６／３４８、４１９／３１８／３７８。（第６９頁　Ｔａｂｌｅ　１　抜粋）
　
　刊行物２：
（２−ａ）「６．２酸化物薄膜の形成　Ａ．　ＺｎＯ圧電薄膜」の章に、「ＺｎＯ結晶は六方晶形で、ｃ軸が基板に垂直に成長すると、六方晶形の（０００１）面が表面に現れる。・・・図６．１にその結晶構造を示す。」（第１４９頁第４〜６行）
（２−ｂ）「（１）ｃ軸配向膜　ガラス板のような非晶質の基板を用い、高周波スパッタで蒸着する。この場合、スパッタ蒸着中の基板の温度を１００〜２００℃程度に保つと、ｃ軸配向した多結晶のＺｎＯ薄膜が成長する。」（第１５０頁第１２〜１４行）
（２−ｃ）「図６．６に示すように、基板位置をアノード中央部をさけて配置する８，５５）。この場合、基板をターゲットの側面においてもよい。また、図６．７に示すような同心球電極構造にしても、再現性よくｃ軸配向膜が形成される。」（第１５３頁３〜５行）
（２−ｄ）図６．６と図６．７には、スパッタ装置の電極構造とＺｎＯスパッタ膜のＸ線回折パターンと題し、ＺｎＯスパッタ膜のＸ線回折パターンが示され、六方晶ＺｎＯの（００２）回折線の回折角２θの値がほぼ３４°と３５°の間にあることが示されている。（図６．６、図６．７）
　
　刊行物３：
（３−ａ）「透明基板上に基板側から順次透明酸化物の第１層、銀の第２層、透明酸化物の第３層、銀の第４層、透明酸化物の第５層からなる５層コーティングが設けられた赤外反射物品において、該銀層の厚みが１１０Å以下であり、可視光線透過率が７０％以上であることを特徴する高透過率を有する赤外反射物品。」（特許請求の範囲）
（３−ｂ）「実施例１　ガラス基板を真空槽にセットし、・・・基板上に第１層としてＺｎＯの膜を形成した。・・・第２層としてＡｇの膜を形成した。・・・次いで、第１層と同じ条件でＺｎＯの第３層を約８００Å形成した。次いで第２層と同じ条件でＡｇの第４層を約１００Å形成した。次いで第１層と同じ条件でＺｎＯの第５層を約４００Å形成した。」（第３頁上右欄１７行〜下左欄１１行）
　
　刊行物４：
（４−ａ）「本発明は透明基板上の低放射率コーテイングに関するものであり、特に銀層と上に在る金属酸化物の抗反射層とを有する低放射率銀コーテイングおよびこの種のコーテイングの製造に開するものである。」（第３頁左上欄１６〜２０行）
（４−ｂ）「上記のような抗反射金属酸化物層の間にはさまれた銀層から成る銀コーテイングは伝導率が高いだけでなく、放射率が低く、すなわち、短波赤外線および可視光線を通り抜ける間に入射する大部分の赤外線を反射する。」（第３頁右下欄９〜１３行）
（４−ｃ）「銀層上の抗反射金属酸化物層は、可視光吸収が低い金属酸化物から成ることが好ましく、例えば、酸化スズ、酸化チタン、酸化亜鉛、・・・が好ましい。この理由は、これらが与える抗反射性の他に、耐久性が良く、機械的損傷から保護された銀層を与えるために役立つからである。・・・所望により、単一の金属酸化物層を使用する代りに、全体の厚さが何じような、すなわち、通常は１０〜８０ｎｍ、特に２０〜６０ｎｍの異なる金属酸化物の２層またはこれ以上の一連の層を用いることができる。」（第５頁右上欄８行〜同頁左下欄８行）
（４−ｄ）「実施例３　厚さが４ｍｍの一枚のフロートガラスをコーティングのために用意して洗浄後乾燥し、・・・・。・・・スズ陰極からガラス表面に、酸化スズを反応的にスパッターし、３０ｎｍ厚さの酸化スズ層を与えた。次いで、・・・酸化スズの上に酸化亜鉛を反応的にスパッターし、１５ｎｍ厚さの酸化亜鉛層を与えた。次いで、・・酸化亜鉛の上に・・・銀層をスパッターし・・・銅をスパッターした。最後に、それぞれ１５ｎｍ厚さと３０ｎｍ厚さの酸化亜鉛および酸化スズの層を、２．５×１０−３トルにて酸素雰囲気の存在で金属陰極から銅の上に順に反応的にスパッターした。得られた被覆生成物は放射率が０．０８、光透過率が８０％であつた。」（第７頁左下欄１５行〜同頁右下欄１５行）
（４−ｅ）「１．　連続して、（ｉ）　透明なガラスまたはプラスチツクの基板の上に、５〜３０ｎｍ厚さの銀の層をスパツターし、（ｉｉ）　銀の上に、０．５〜１０ｎｍ厚さの層に等しい量の銀とは別の追加の１種または複数種の金属をスパツターし、（ｉｉｉ）　銀および追加の金属の上に、酸素または酸化ガスの存在で、１または複数の抗反射金属酸化物層を反応的にスパツターする各工程から成る陰極スパツターによつて、透明なガラスまたはプラスチツク材料の基板上に低放射率コーテイングを製造する方法。
８．　１または複数の抗反射層を、銀の層をスパツターする前に基板の上にスパツターする特許請求の範囲第１〜７のいずれか１項記載の方法。
９．　銀の層の前にスパツターした抗反射層が酸化スズ、酸化チタン、（随意に酸化スズを用いてドープした）酸化インジウム、酸化ビスマスまたは酸化ジルコニウムである特許請求の範囲第８項記載の方法。
１０．　銀の層の前にスパツターした１または複数の抗反射金属酸化物層の全厚が２０〜６０ｎｍである特許請求の範囲第８または９項記載の方法。
１２．　（ａ）ガラス基板の上に、酸素または酸化ガスの存在でスズの反応性スパツターによつて３０〜５０ｎｍ厚さのＳｎＯ２の抗反射層を溶着し；（ｂ）　前記抗反射層の上に８〜１２ｎｍ厚さの銀層をスパツターし；（ｃ）　前記銀層の上に１〜５ｎｍ厚さの銅層に等しい量の銅をスパツターし；次いで（ｄ）酸素または酸化ガスの存在で、スズの反応性スパツターによつて３０〜５０ｎｍ厚さのＳｎＯ２の抗反射層を形成するようにコーテイングに溶着する各工程から成る陰極スパツターによつて、透明なガラスまたはプラスチツク材料の基板上に低放射率コーテイングを製造する方法。」（特許請求の範囲第１、８、９、１０及び１２項）
　
　刊行物５：
（５−ａ）「（１）　透明な成形物基板の少なくとも片面に、金属薄膜層を含む選択透過膜を設け、成形物基盤との反対側の該選択透過膜の上に中間層及び有機物系の透明保護層を設けてなる積層体において、前記中間層が次式　Ｒ１Ｓｉ（ＯＲ２）３  ・・・　で表される有機シラン化合物からなることを特徴とする積層体。」（特許請求の範囲第１項）
（５−ｂ）「本発明は耐久性の優れた選択的光透過性の積層体に関する。選択的光透過性積層体は、例えば可視光に対しては透明であるが、遠赤外線に対しては反射能を有するものである。」（第１頁下右欄４〜８行）
（５−ｃ）「本発明において、可視域での透過率を高めるため、あるいは接着性改善のため、透明高屈折率を持つ誘電体薄層を金属薄膜層の上に積層することができる。ここに、高屈折率誘電体とは・・・二酸化チタン，・・・酸化スズ，・・・酸化亜鉛・・・等が挙げられる。この中でも、・・・一酸化チタン，・・・酸化亜鉛が透明性や膜形成速度の点より好ましく」（第３頁上左段１９行〜同頁上右段１２行）
　
　刊行物６：
（６−ａ）「１．　透明下部被覆及び透明上部被覆の間にサンドイッチされた銀の反射層を有する多層被覆を担時するガラス材料の基体において、銀層に対する下部被覆が金属酸化物の少なくとも一つの層を有し、銀層に対する上部被覆が、チタン、アルミニウム、不銹鋼、ビスマス、錫及びそれらの二つ以上の混合物からなる群から選択した犠牲金属の酸化物の層・・・、１５ｎｍ以下の厚さを有する酸化亜鉛の層、及び酸化錫、酸化ビスマス・・・及びそれらの二つ以上の混合物からなる群から選択した金属酸化物の最上部上被覆層を含有することを特徴とする被覆基体。
３．　下部被覆が二つ以上の異なる金属酸化物を含有する請求項１又は２記載の被覆基体。
６．　上部被覆の酸化亜鉛層が５〜１５ｎｍの範囲の厚さを有する請求項１〜５の何れかに記載の被覆基体。
８．　下部被覆が銀層の直ぐ下に付着した酸化亜鉛の層を含む請求項１〜７の何れかに記載の被覆基体。
１６．　上部被覆が酸化亜鉛層と前記最上層の間に付着させた酸化錫の層を含み、かかる最上層が二酸化チタンの層である請求項１〜１５の何れかに記載の被覆基体。」（特許請求の範囲請求項１、３、６、８、及び１６）
（６−ｂ）「しかしながら添加材料の選択、及びそれらをガラスに付与する順序には複雑な問題がある。何故なら選択した材料にとつて一つの品質を改良する傾向があるが一つ以上の他の品質を低下させる傾向があるからである。これはひいてはかかる他の品質についての悪い効果を修正するため更に別の層を要求することになる。」（第３頁下左欄５〜１２行）
（６−ｃ）「本発明は、腐蝕に対し銀を保護するばかりでなく、ガラス材料自体及び銀層の性質によりその上に与えられる如きガラスの光学的性質に悪い影響をもたらすことのないように、銀反射層を有するガラスシートのための保護層の組合せを設ける問題の解決を目的としている。」（第４頁上右欄６〜１１行）
（６−ｄ）「上部被覆中の犠牲金属上の酸化亜鉛のこの薄層の位置も重要である。別の要因は酸化亜鉛が犠牲バリヤー層を通つて拡散し、銀の不動態化を行いうることにある。又酸化亜鉛の存在は、犠牲金属の酸化が完了する間銀の酸化が避けられるように、犠牲金属の酸化を増強する。前記酸化亜鉛層は非常に緊密であり、大気酸素が銀層へと侵入することを実質的に防止するよう形成できる。」（第５頁上左欄２〜１０行）
（６−ｅ）「前述した限定された厚さを有する酸化亜鉛の上部被覆層は良好な光透過性を有し、又その下の層への酸素の侵入に対するバリヤーとしても作用する。金属酸化物の最上層は高度に透明で非反射性であり、下層に対し、良好な耐化学性及び耐候性を有する保護バリヤーを提供する。」（第６頁上右欄１８行〜下左欄４行）
（６−ｆ）「被覆の犠牲金属層上の酸化亜鉛の層の有利な効果は、この酸化亜鉛層を本発明の本質的な特長にする。それにも拘らず、酸化亜鉛の一定の負の特長は、酸化亜鉛の全量をできる限り低く保つことを必要とする。例えば酸化錫と比較すると、酸化亜鉛は化学的抵抗に劣り、耐候性に劣る傾向がある。例えば、酸化亜鉛の層を含む被覆は、たとえ、不透明化層を酸化亜鉛の上に置いても、ガラス材料の基体の外面のために一般には使用できない・・・これらの層は大気条件に耐性がないからである。・・・二重ガラスパネルの内面に使用するだけの用途を有するにすぎない。」（第６頁右下段１０行〜第７頁上左欄４行）
（６−ｇ）「本発明は、上部被覆酸化亜鉛層の厚さを選択するに当つて、隣接層に対し良好な保護を与えるのに要する最低の量と、被覆に物理的弱さと化学的反応性を導入することを避けるための最大量との間のバランスに衝突する。・・・最大の許容しうる厚さ１５ｎｍであり、・・・最も好ましい厚さは７〜１３ｎｍの範囲である。」（第７頁下左欄６〜１３行）
（６−ｈ）「好ましくは上部被覆は、前記酸化亜鉛層及び前記最上部層の間に付着させた酸化錫を含有する、かかる最上部層は二酸化チタンである。・・・別の中間層は被覆のすぐ下の層に摩耗に対する追加の保護を与え、上部被覆中の他の金属酸化物の厚さを比例的に減ずるならば、それは被覆の光学的性質を著しく変えることはない。・・・酸化亜鉛及び酸化錫は、相互に実質的に同じ屈折率を有する、従って光学的見地からは層の厚さにおいて何ら調整することなく相互に交換することができる。」（第８頁下左欄２〜１８行）
（６−ｉ）実施例においては、上部被覆層として二酸化チタンに変換するためのチタン／酸化亜鉛／酸化錫の例（実施例２）と、二酸化チタンに変換するためのチタン／酸化亜鉛／酸化錫／二酸化チタンの例（実施例１，３）が示されている。（第９〜１０頁、実施例１〜３）
　
　刊行物７：
（７−ａ）「１　（ａ）透明な非金属基材と、（ｂ）該基材表面上に付着された亜鉛とスズとからなる合金の酸化反応生成物からなる透明な第１の透明フィルムと、（ｃ）該第１の合金酸化物フィルム上に付着された透明な金属フィルムと、（ｄ）該金属フィルム上の付着された亜鉛とスズとからなる合金の酸化反応生成物からなる第２の透明フィルムとからなる高透過率で低放射率の製品。」（特許請求の範囲第１項）
（７−ｂ）「通常用いられる金属酸化物フィルムのうちで、酸化亜鉛と酸化ビスマスとは充分には耐久性がなく、酸及びアルカリの両方に可溶であり、・・・酸化スズもまたより一層の耐久性を有するが、銀フィルムの核生成に好適な表面を与えず、高抵抗でかつ低透過率となる。」（第５頁上右欄１４行〜同頁下左欄６行）
　
　刊行物８：
（８−ａ）「ガラス基板上に酸化亜鉛薄膜を２０ミクロンの厚みに形成すると、酸化亜鉛の結晶構造による応力がガラス基板に加わり、ガラスが割れる場合があり、膜厚を十分に大きくとることが困難であった。この原因は、酸化亜鉛の結晶構造によるものと考えられる。酸化亜鉛は酸素と亜鉛が共有結合（II−IV結合）により結合し、その結果は六方晶系である。・・・酸化亜鉛の結晶軸配向性が悪くなるとともに、応力が増大し、膜厚が大きくなるとその応力にガラスが耐えられずに割れるものと考えられる。・・・ガラスが割れないようにするためには、酸化亜鉛薄膜の応力がガラスに影響しないようにすることが必要である。」（第１頁２欄１６〜３６行）
（８−ｂ）「本発明は、上記のような応力を緩衝する酸化亜鉛薄膜を得ることを目的とし、・・・ガラス基板１１上に酸化亜鉛１２を多層に形成し、酸化亜鉛１２の間には他の物質の層１３を形成した酸化亜鉛薄膜を得るものである。」（第１頁２欄３７行〜第２頁３欄６行）
（８−ｃ）「上記の酸化銅の層によって酸化亜鉛の結晶構造による応力を和らげ吸収してガラス基板に及ばないようにするものである。その層を形成する材料はいかなるものでも良いが、・・・銅、マグネシウム、カルシウム等が良い。」（第２頁４欄１〜７行）
　
　先願１：
（先願−ａ）「【請求項１】　基体上に酸化物膜、金属膜、酸化物膜、と交互に積層された（２ｎ＋１）層（ｎ≧１）からなる熱線遮断膜において、基体から見て、基体から最も離れた金属膜（Ａ）の反対側に形成された酸化物膜（Ｂ）は、酸化亜鉛を主成分とする膜を少なくとも１層と、酸化錫を主成分とする膜を少なくとも１層有する多層膜であることを特徴とする熱線遮断膜。
【請求項２】　前記酸化物膜（Ｂ）は、酸化亜鉛を主成分とする膜と、酸化錫を主成分とする膜とが交互に積層された３層以上からなる多層膜を有することを特徴とする請求項１記載の熱線遮断膜
【請求項３】　前記酸化物膜（Ｂ）は、酸化亜鉛を主成分とする膜、酸化錫を主成分とする膜、酸化亜鉛を主成分とする膜、と交互に積層された３層、５層、７層、または９層からなる多層膜を有することを特徴とする請求項２記載の熱線遮断膜
【請求項４】　前記酸化物膜（Ｂ）は、酸化錫を主成分とする膜、酸化亜鉛を主成分とする膜、酸化錫を主成分とする膜、と交互に積層された３層、５層、７層、または９層からなる多層膜を有することを特徴とする請求項２記載の熱線遮断膜
【請求項５】　前記金属膜（Ａ）はＡｇを主成分とする金属膜であることを特徴とする請求項１，２，３または４記載の熱線遮断膜。　」（特許明細書特許請求の範囲請求項１ないし請求項５）
（先願−ｂ）「【請求項１】　基体上に酸化物膜、金属膜、酸化物膜、と交互に積層された（２ｎ＋１）層（ｎ≧１）からなる熱線遮断膜において、基体から見て、基体から最も離れた金属膜（Ａ）の反対側に形成された膜厚が２００〜７００Åの酸化物膜（Ｂ）は、膜厚が２００Å以下の酸化亜鉛を主成分とする膜と、酸化錫を主成分とする膜とが交互に積層された３層以上からなる多層膜を有することを特徴とする熱線遮断膜。
【請求項２】　前記酸化物膜（Ｂ）は、酸化亜鉛を主成分とする膜、酸化錫を主成分とする膜、酸化亜鉛を主成分とする膜、と交互に積層された３層、５層、７層、または９層からなる多層膜を有することを特徴とする請求項１記載の熱線遮断膜。
【請求項３】　前記酸化物膜（Ｂ）は、酸化錫を主成分とする膜、酸化亜鉛を主成分とする膜、酸化錫を主成分とする膜、と交互に積層された３層、５層、７層、または９層からなる多層膜を有することを特徴とする請求項１記載の熱線遮断膜。
【請求頂４】　前記金属膜（Ａ）はＡｇを主成分とする金属膜であることを特徴とする請求項１、２または３記載の熱線遮断膜。　」（平成１３年６月１２日付け訂正請求書により訂正された訂正明細書の特許請求の範囲請求項１ないし請求項４）
　
　刊行物９：
（９−ａ）「酸化亜鉛薄膜は、超音波変換器・・・良く材料である。・・・多くの種類の基板上にＺｎＯ薄膜が形成されている。ＺｎＯ薄膜を形成する際の重要な点は、通常はある分布角度の範囲内で基板に垂直であるｃ軸配向性を制御することである。・・・知られたこの論文は、ＺｎＯ薄膜のｃ軸配向性及びその他結晶の特性に対する、膜厚及びスパッタリングガス圧の影響に関するものであり、これによりｃ軸がその配向性について（影響を）受ける機構についても考察する。」（部分訳文第１頁３〜１５行）
（９−ｂ）「しかし、スパッタリングガス圧を４×１０−２Ｔｏｒｒ，他の条件を上記と同様とすると、ＺｎＯ薄膜は剥がれなかった。この結果から、スパッタリングガス圧を５×１０−３Ｔｏｒｒとして形成したＺｎＯ薄膜は、スパッタリングガス圧を４×１０−２Ｔｏｒｒとして形成したＺｎＯ薄膜よりも大きな内部応力を有し、この内部応力が圧縮であるということが結論づけられた。」（第２頁８〜１２行）
　
　刊行物１０：
（１０−ａ）「酸素を含む雰囲気中で亜鉛または酸化亜鉛をスパッタする酸化亜鉛薄膜の製造方法において、亜鉛と同時にリチウム及び亜鉛よりイオン半径の小さい３価以上の金属をスパッタして、リチウム及び該金属を含む酸化亜鉛薄膜を得ることを特徴とする酸化亜鉛薄膜の製造方法。」（特許請求の範囲）
（１０−ｂ）弾性表面波装置に用いる圧電材料の酸化亜鉛薄膜において、「このガラスが割れる原因を調べてみると、酸化亜鉛薄膜の結晶構造にその原因のあることが分つた。酸化亜鉛は六方晶系の構造で、酸素と亜鉛が交互に層を成しており、そこに過剰な酸素が入り込むと結晶構造に歪みを生ずる。この歪みが内部応力となつてガラス基板に加わり、ガラス基板が割れるものである。・・・過剰な酸素を除去すれば良いが、今度はガラス基板と酸化亜鉛薄膜の密着性が悪化し、剥離するようになった。・・・結晶構造の歪みを緩和して内部応力を減少させながら、ガラス基板との密着性を十分維持した酸化亜鉛薄膜を得ることを目的とするものである。」（第２頁上左欄６行〜上右欄２行）
（１０−ｃ）「本発明は、歪みを吸収するために亜鉛よりもイオン半径が小さい３価以上の元素を含む酸化亜鉛薄膜を製造するものである。・・・亜鉛のイオン半径０．７１Åに対して、リチウムは０．６８Å・・・ホウ素Ｂ、アルミニウムＡｌ、シリコンＳｉであり、・・・亜鉛のそれよりも小さい。・・・内部応力を緩和できることになる。」（第２頁上右欄１５行〜同頁下左欄１２行）
　
　刊行物１１：
（１１−ａ）「（１）透明基板上に透明酸化物層と銀層を交互に積層した合計（２ｎ＋１）層（ｎ≧２）のコーティングが施された積層体であって、表面抵抗が６Ω／□以下、可視光透過率が７０％以上であることを特徴とする透明導電性積層体」（特許請求の範囲請求項１）
（１１−ｂ）「本発明における透明酸化物層としては、ＺｎＯ，ＴｉＯ２・・・中でもＺｎＯは耐久性に優れ、又スパッタで作成する場合の成膜スピードが速く、生産性の面からも最適である。」（第２頁左下欄４〜１０行）
（１１−ｃ）「本発明の好ましい態様における各層の膜厚範囲としては使用する材料によって若干の変化があるが、おおよそ次の通りである。すなわち、基板側から数えて１層目及び最外層の透明酸化物層としては２００〜６００Å、・・・これらの膜厚範囲は十分な可視光線透過率を実現させるために設定されたものであり、膜厚がこの範囲を逸脱すると緩衝条件からはずれ、反射防止効果が発揮されず可視光線透過率が低下してしまう。」（第２頁左下欄４〜１０行）
　
　刊行物１２：
（１２−ａ）ＺｎＯ膜を形成する基板として、石英ガラス／１００ÅのＣｒ／１２００ÅのＡｕ／２．０５μのＺｎＯ、または石英ガラス／１００ÅのＣｒ／１２００ÅのＡｕ／２００ÅのＳｉＯ２／２．０５μのＺｎＯ積層体が挙げられ、Ｆｉｇ．２には、ＺｎＯの（００２）回折線の回折角２θの値として３４．５°より小さい角度が読み取れる。（第７４２頁右欄５〜１４行、同７４２頁　Ｆｉｇ．２）
　
　刊行物１３：
（１３−ａ）「（１）ａ．透明な非金属基体；　ｂ．前記基体表面上に付着させた約２．０の屈折率を有する第一透明反射防止金属酸化物膜；　ｃ．前記第一金属酸化物膜の上に付着させた２．０より大きな屈折率を有する透明灰色金属酸化物層；　ｄ．前記灰色金属酸化物層の上に付着させた透明赤外線反射性金属膜；　ｅ．前記赤外線反射性金属膜の上の透明灰色金属層；及び　ｆ．前記灰色金属層上に付着させた第二透明反射性金属酸化物膜；　からなる灰色に反射して見える高透過性低放射性物品。
（３）赤外線反射性金属膜が銀である請求項２に記載の物品。
（４）反射防止金属酸化物が亜鉛と錫を含む酸化反応生成物からなる請求項３に記載の物品。
（６）反射防止金属酸化物膜と赤外線反射性金属膜との間に付着させた灰色金属酸化物膜が、酸化チタン及び酸化ジルコニウムからなる群から選択される請求項１に記載の物品。」
（特許請求の範囲請求項１、３、４、６）
（１３−ｂ）「本発明は、金属合金酸化物及び銀の如き金属からなる金属合金酸化物膜、特に多層膜の耐久性を金属層と金属酸化物層との間の付着を改良し且つ灰色に見える被覆物品を生ずる酸化チタン層を与えることにより改良する。」（第４頁上右欄１１〜１５行）
　
　刊行物１４：
（１４−ａ）「透明ガラス板の表面に、酸化インジュウムと酸化錫の混合酸化物（ＩＴＯ）または窒化アルミニウム（ＡＩＮ）、銀または銅ならびに金属亜鉛の各薄膜層を順次交互に繰返し積層し、４層以上の多層膜を形成した熱線反射ガラスにおいて、第１薄膜層をＩＴＯまたはＡＩＮ、第２薄膜層を厚さ４０〜２００Åの銀または銅、第３薄膜層を厚さ２０〜２００Åの金属亜鉛ならびに第４薄膜層をＩＴＯまたはＡＩＮと少なくとも順次交互に積層し、常にＩＴＯまたはＡＩＮ薄膜層を最外側薄膜層とすることを特徴とする熱線反射ガラス。」（特許請求の範囲）
（１４−ｂ）「熱線反射性能に最も優れている銀または銅薄膜層に、特定膜厚以上の金属亜鉛薄膜層を確実に残留せしめて順次積層するようにすることによってマイグレーションはもとより湿・水分による欠陥の発生をも防止した耐湿性等に優れた熱線反射ガラスを提供するものである。」（第３頁上左欄４〜１０行）
　
　刊行物１５：
（１５−ａ）ガスセンサや透明導電膜としての応用されるＺｎＯ薄膜について、本報告ではＩＢＳ法によりＺｎＯ膜を作製し、その作製条件と膜の特性、特にＸ線回折による膜の結晶性の関係について記すとして、ガラス基板上に形成されるＺｎＯ膜の厚み；２００〜５００Åの変化に対するＸ線回折法による回折角２θパターンが開示され、かなり薄い膜厚の段階であっても（００２）面は基板に平行に配向すること、また２θのピーク値はほぼ３４°であることが開示されている。（第２８８頁左欄１７行〜第２８９頁左欄１９行、Ｆｉｇ２）
　
　刊行物１６：
（１６−ａ）Ｘ線の固体への浸透深さは大体０．１〜数十μｍであるから、これより薄い膜では回折強度が落ちるので，試料を斜めにして低角度入射させ１００Å程度の厚さでも測定できるようにしていることが記載されている。（第１５４頁左欄５〜１３行）
　
　刊行物１７：
（１７−ａ）応力ひずみ現象は、均質な金属棒材の軸方向に応力を加えたときの寸法の変化によって適切に示すことができる。・・・その結果、棒材中の個々のクリスタライトへの作用により、棒材が軸と平行方向に膨脹し、軸と垂直方向に縮小する。そのような、膨脹力または圧縮力に対して垂直な結晶面は、その格子面間隔が±Δｄだけ変化し、この変化を測定することによって、弾性ひずみを測定することができ、それにより応力も測定することができること、及びＸ線回折における圧縮応力及び引張応力と格子面間隔（ｄ）との関係が示されている。（翻訳文第１頁１〜８行、Ｆｉｇ．１１−１とその説明 ）
　
５．当審の判断
５−１．申立人Ａの特許異議申立てについて
５−１−１．特許法第２９条第１項第３号違反について
（１）本件発明１と刊行物１記載の発明
　刊行物１には、摘示記載（１−ａ）、（１−ｂ）の記載によれば、
　「ガラス基板上に、ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯのコーティングを設けたものであって、銀膜のき基板からみて反対側に生成された酸化亜鉛の膜厚が、４１５、４２５Åの熱線遮断ガラス」の発明（以下、刊行物１記載の発明という）が記載されているものと認められる。
　本件発明１と刊行物１記載の発明とを対比すると、刊行物１記載の発明の「ガラス基板」、コーティング膜のガラス基板側からの「酸化亜鉛」、「銀層」、「酸化亜鉛」、及び「熱線遮蔽ガラス」は、それぞれ、本件発明の「基体」、「酸化物膜」、「金属膜」、「酸化亜鉛を主成分とする膜」、及び「熱線遮断膜」に相当するから、
　両者は、「基体上に酸化物膜、金属膜、酸化物膜、と交互に積層された３層からなる熱線遮断膜において、基体から見て、基体から最も離れた金属膜（Ａ）の反対側に形成された膜厚が４１５〜４２５Åの範囲の酸化亜鉛層からなることを特徴とする熱線遮断膜」の点で一致し、以下の点で相違している。
　相違点１：本件発明１では、酸化亜鉛を主成分とする、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｃｒのうち少なくとも１種をＺｎとの合計量に対して原子比で１０％以下の割合でドープした膜であって、六方晶酸化亜鉛の（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）の値が３４．００°以上３４．８８以下である膜と特定しているのに対し、刊行物３に記載の発明では単に酸化亜鉛膜と特定している点。
　そこで、上記相違点１について検討する。
　刊行物１には、具体的なＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯのコーティングとして、Ｔａｂｌｅ　１等に記載されている酸化亜鉛という以上の記載はないので、上記相違点１のような特定の酸化亜鉛を主成分とする膜とすることについて記載も示唆もされていないし、また、特定の金属を特定量ドープすることで特定の回折角を有する内部応力を低減した酸化亜鉛とすることが、当該技術分野において周知慣用の技術であるとも認められないから、本件発明１は刊行物１に記載された発明とすることはできない。
　
（２）本件発明１と刊行物３に記載の発明
　刊行物３には、摘示記載（３−ａ）、（３−ｂ）によれば、透明基板上に基板側から順次透明酸化亜鉛の第１層、銀の第２層、透明酸化亜鉛の第３層、銀の第４層、約４００Åの透明酸化亜鉛の第５層からなる５層コーティングが設けられた赤外反射物品である熱線反射ガラスの発明（以下、「刊行物３記載の発明」という）が記載されているものと認められる。
　本件発明１と刊行物３記載の発明とを対比すると、刊行物３記載の発明の「ガラス基板」、「透明酸化亜鉛の第１、３層」、「銀層の第２、４層」、「透明酸化亜鉛第５層」、及び「熱線遮蔽ガラス」は、それぞれ、本件発明の「基体」、「酸化物膜」、「金属膜」、「酸化亜鉛を主成分とする膜」、及び「熱線遮断膜」に相当するから、
　両者は、「基体上に酸化物膜、金属膜、酸化物膜、と交互に積層された５層からなる熱線遮断膜において、基体から見て、基体から最も離れた金属膜（Ａ）の反対側に形成された膜厚が４００Åの酸化亜鉛層からなることを特徴とする熱線遮断膜」の点で一致し、以下の点で相違している。
　相違点１：本件発明１では、酸化亜鉛を主成分とする、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｃｒのうち少なくとも１種をＺｎとの合計量に対して原子比で１０％以下の割合でドープした膜であって、六方晶酸化亜鉛の（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）の値が３４．００°以上３４．８８以下である膜と特定しているのに対し、刊行物３記載の発明では単に酸化亜鉛膜と特定している点。
　そこで、上記相違点１について検討する。
　刊行物３には、酸化亜鉛という以上の具体的な記載はないので、上記相違点１のような特定の酸化亜鉛を主成分とする膜とすることについて記載も示唆もされていないし、また、特定の金属を特定量ドープすることで特定の回折角を有する内部応力を低減した酸化亜鉛とすることが、当該技術分野において周知慣用の技術であるとも認められないから、本件発明１は刊行物３に記載された発明とすることはできない。
（３）本件発明１と刊行物４記載の発明
　刊行物４には、摘示記載（４−ａ）〜（４−ｆ）の記載並びに、特に、摘示記載（４−ｄ）によれば、刊行物４には実施例として、基体から最も離れた金属膜（Ａ）の反対側に形成される、異なる金属酸化物の２種またはこれ以上の一連の酸化物膜の例として、膜厚が２００〜６００Åであって、酸化亜鉛層と酸化錫層とからなる多層膜からなっているものが記載されているから、
　「透明なガラスまたはプラスチック材料の基板上に、１種または複数種の抗反射金属酸化物層を形成し、当該金属酸化物層上に銀層及び追加の金属層を形成し、当該銅層の上に異なる金属酸化物、例えば酸化亜鉛と酸化錫の２種の層からなる、全厚みが２００〜６００Åの抗反射金属酸化物多層膜を形成してなる低放射率コーテイングを形成した基板」の発明（以下、刊行物４記載の発明という）が記載されているものと認められる。
　本件発明１と刊行物４記載の発明とを対比すると、刊行物４記載の発明の「基板」、「１種または複数種の抗反射金属酸化物層」、「銀層及び追加の金属層」、「酸化亜鉛と酸化錫の２種の層からなる抗反射金属酸化物多層膜」、及び「低放射率コーテイングを形成した基板」は、それぞれ、本件発明の「基体」、「酸化物膜」、「金属膜」、「酸化亜鉛を主成分とする膜を少なくとも１層有する膜」、及び「熱線遮断膜」に相当するから、
　両者は、「基体上に酸化物膜、金属膜、酸化物膜、と交互に積層された３層からなる熱線遮断膜において、基体から見て、基体から最も離れた金属膜（Ａ）の反対側に形成された膜厚が２００〜６００Åの酸化物膜（Ｂ）は、酸化亜鉛を主成分とする膜を少なくとも１層有する膜を有することを特徴とする熱線遮断膜」の点で一致し、以下の点で相違している。
　相違点１：本件発明１では、酸化亜鉛を主成分とする、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｃｒのうち少なくとも１種をＺｎとの合計量に対して原子比で１０％以下の割合でドープした膜であって、六方晶酸化亜鉛の（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）の値が３４．００°以上３４．８８以下である膜と特定しているのに対し、刊行物４記載の発明では単に酸化亜鉛膜と特定している点。
　そこで、上記相違点について検討する。
　相違点１について、刊行物４の酸化物膜として、酸化亜鉛層と酸化錫層との２層からなる多層膜が特定されているが、酸化亜鉛層という以上の具体的な記載はないので、上記相違点１のような特定の酸化亜鉛を主成分とする膜とすることについて記載も示唆もされていないし、また、申立人Ａは参考資料として実験報告書を提出して、酸化亜鉛は本件発明１の回折角２θを満足するものである旨主張しているが、単に酸化亜鉛が回折角２θを満足することを示すに過ぎず、特定の金属を特定量ドープすることで特定の回折角を有する内部応力を低減した酸化亜鉛とすることについて記載も示唆もなく、そのことが当該技術分野において周知慣用の技術であるとも認められないから、本件発明１は刊行物３に記載された発明とすることはできない。
　
（４）本件発明２について
　本件発明２は、本件発明１に記載の金属膜を銀を主成分とする金属膜に技術的に限定を加えるものであり、本件発明１と同様に上記（１）ないし（３）に記載した理由により刊行物１、刊行物３又は刊行物４に記載された発明とすることはできない。
　
５−１−２．特許法第２９条第２項違反について
（１）本件発明１について
　本件発明１と刊行物１、３又は４記載の発明とを対比すると、上記５−１−１．（１）〜（３）において記載したように、いずれの発明と対比しても下記の点で少なくとも相違しているものと認められる。
　相違点２：本件発明１では、酸化亜鉛を主成分とする、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｃｒのうち少なくとも１種をＺｎとの合計量に対して原子比で１０％以下の割合でドープした膜であって、六方晶酸化亜鉛の（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）の値が３４．００°以上３４．８８以下である膜と特定しているのに対し、刊行物３記載の発明では単に酸化亜鉛膜と特定している点。
　そこで、上記相違点２について検討する。
　刊行物２には、摘示記載（２−ａ）〜（２−ｄ）によれば、ＺｎＯ圧電薄膜に関し、ＺｎＯ膜を有する電極構造が記載され、ＺｎＯの結晶構造が六方晶系で、（００２）回折線の回折角２θのピークの値がほほ３４°と３５°の間にあることが記載されているだけであって、本件発明１の基体上に酸化物膜、金属膜、酸化物膜、と交互に積層された（２ｎ＋１）層（ｎ≧１）からなる熱線遮断膜に関するものでなく、特定の金属を特定量ドープすることで特定の回折角を有する内部応力を低減した酸化亜鉛を主成分とする膜を特定した上記相違点について全く記載も示唆もされていない。
　刊行物５には、摘示記載（５−ａ）〜（５−ｃ）によれば、透明な成形物基板の少なくとも片面に、金属薄膜層を含む選択透過膜を設け、成形物基板との反対側の該選択透過膜の上に中間層及び有機物系の透明保護層を設けてなる耐久性の優れた選択的光透過性の積層体において、酸化チタン、酸化亜鉛などの透明高屈折率を持つ誘電体薄層を金属薄膜層の上に積層することが記載されているのみで、特定の金属を特定量ドープすることで特定の回折角を有する内部応力を低減した酸化亜鉛を主成分とする膜を特定した上記相違点について全く記載も示唆もされていない。
　刊行物６には、摘示記載（６−ｅ）、（６−ｉ）によれば、実施例の酸化物膜（Ｂ）として、酸化亜鉛層と下層である酸化亜鉛層の耐化学性及び耐候性を有する保護バリヤーを与える最上層被覆層としての酸化錫層とからなる多層膜を形成した例が記載されているが、摘示記載（６−ｄ）、（６−ｇ）、（６−ｈ）を見る限り、酸化亜鉛の銀層に対する位置が重要であり、また、酸化亜鉛層の負の特長を低くすることを指向することが記載されていることから、特定の金属を特定量ドープすることで特定の回折角を有する内部応力を低減した酸化亜鉛を主成分とする膜を特定した上記相違点について記載も示唆もされていない。
　刊行物７には、摘示記載（７−ａ）、（７−ｂ）によれば、単に基材、金属酸化物層、金属層、金属酸化物層とからなる高透過率で低放射率の製品で、金属酸化物層として亜鉛とスズとからなる合金の酸化物を用いたものが記載されているのみで、特定の金属を特定量ドープすることで特定の回折角を有する内部応力を低減した酸化亜鉛を主成分とする膜を特定した上記相違点について記載も示唆もされていない。
　刊行物８には、摘示記載（８−ａ）〜（８−ｃ）によれば、酸化亜鉛の結晶構造に基づいて生じる応力を緩和するために酸化亜鉛と銅、マグネシウム、カルシウムなどの他の物質層（応力を和らげ吸収する酸化銅層）とを交互に積層（５層）させることが開示されているだけであって、本件発明のような熱線遮断膜に関するものでなく、特定の金属を特定量ドープすることで特定の回折角を有する内部応力を低減した酸化亜鉛を主成分とする膜を特定した上記相違点について記載も示唆もされていない。
　さらに、甲各号証の何れにも酸化亜鉛の内部応力と、金属膜の劣化防止、膜の耐湿性の向上、耐酸性の向上との関連について記載も示唆もされていない。
　そして、本件発明１は、上記構成を採用することにより、本件特許明細書に記載の、耐湿性および耐酸性が改善された熱線遮断膜を提供でき、単板での取扱が容易になり、単板での室内長期保存が可能になるとともに、合わせガラスとした場合では中間膜に含まれる水分によって劣化しにくく耐久性が向上するという効果を奏するものである。
　したがって、上記相違点は、刊行物１ないし刊行物８に基づいて当業者が容易に想到し得るものとは認められないから、本件発明１は、甲第１号証ないし甲第８号証に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではない。
　
（２）本件発明２について
　本件発明２は、請求項１に係る発明に技術的に限定を加えたものであるから、本件発明１と同様に上記（１）に記載した理由により甲第１号証ないし甲第８号証に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものではない。
　
５−１−３．特許法第３９条第１項違反について
（１）本件発明１について
　先願として提示された出願の特許明細書の特許請求の範囲には、上記（先願−ａ）に記載の先願発明が記載されている。
そこで、本件発明１と上記先願発明と対比すると、先願発明も本件発明１もともに、基体上に酸化物膜、金属膜、酸化物膜、と交互に積層された（２ｎ＋１）層（ｎ≧１）からなる熱線遮断膜であって、基体から見て、基体から最も離れた金属膜（Ａ）の反対側に形成された酸化物膜（Ｂ）が、酸化亜鉛を主成分とする膜を少なくとも１層を有するものである点で一致するものの、下記の点で相違するものである。
　相違点：本件発明１では、酸化亜鉛を主成分とする、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｃｒのうち少なくとも１種をＺｎとの合計量に対して原子比で１０％以下の割合でドープした膜であって、六方晶酸化亜鉛の（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）の値が３４．００°以上３４．８８以下である膜であるのに対し、先願発明では酸化亜鉛を主成分とする膜を少なくとも１層と、酸化錫を主成分とする膜を少なくとも１層有する多層膜である点。
　上記相違点は単なる表現上の差異であるとはいえず、また、内部応力を低減する手段としてどのような手段を選択するか、あるいはドープする金属としてどのような材料を選択するかといった選択の余地のある事項を、本件発明１において、夫々上記のように選択し限定したものであって、上記事項は、本件発明１が当然に有する程度のいわゆる設計事項とも言えないから、両者は実質的に同一とは言えない。
　また、先願発明は、特許後に特許異議申立てがなされ、特許権者は訂正請求をなし、上記（先願−ｂ）の如く特許請求の範囲を限定し、減縮しているが、減縮する前の先願発明と本件発明１は同一とは認められないから、訂正後の特許請求の範囲請求項１に係る発明は、詳細に論ずるまでもなく、同一の発明とは認められない。
　したがって、本件発明１は、先願発明と同一であるとすることはできない。
（２）本件発明２について
　本件発明２は、請求項１に係る発明に技術的に限定を加えたものであるから、本件発明１と同様に上記（１）に記載した理由により甲第９号証に記載の先願発明と同一であるとすることはできない。
　
５−２．申立人Ｂの特許異議申立について
５−２−１．特許法第２９条第２項違反について
（１）本件発明１について
　刊行物９には、上記摘示記載（９−ａ）、（９−ｂ）によれば、ＺｎＯ薄膜を形成した基板からなる超音波変換器であって、基板からのＺｎＯ薄膜の剥がれが、スパッタリングガス圧が影響し、内部応力が関係することが記載されているだけで、本件発明１のような基体上に酸化物膜、金属膜、酸化物膜、と交互に積層された（２ｎ＋１）層（ｎ≧１）からなる熱線遮断膜について記載するところもないし、金属膜と酸化物膜との剥がれを防止するとともに、耐湿性及び耐酸性を向上するための下記相違点についても記載するところがないものと認められる。
　相違点：基体から見て、基体から最も離れた金属膜（Ａ）の反対側に形成された酸化物膜（Ｂ）は、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｃｒのうち少なくとも１種をＺｎとの合計量に対して原子比で１０％以下の割合でドープした酸化亜鉛を主成分とする膜を少なくとも１層有する膜であり、熱線遮断膜のＣｕＫα線を用いたＸ線回折法による六方晶酸化亜鉛の（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）の値が３４．００°以上３４．８８°以下である点。
　そこで、上記相違点について検討する。
　刊行物１０には、摘示記載（１０−ａ）〜（１０−ｃ）によれば、弾性表面波装置に用いる圧電材料に関するものであって、応力緩和をするために亜鉛よりイオン半径の小さい元素（リチウム、ホウ素、アルミニウム、シリコン）を含む酸化亜鉛薄膜が記載されているのみで、酸化物膜（Ｂ）の膜厚が２００〜７００Åで、酸化亜鉛層の１層の膜厚を２００Å以下とすることについて記載がないだけでなく、本件発明のような熱線遮断膜と全く異なる技術分野であり、熱線遮断膜において上記相違点のような構成を採用することについて記載も示唆もされていない。
　刊行物１１には、摘示記載（１１−ａ）〜（１１−ｃ）の記載によれば、透明基板上に透明酸化物層と銀層を交互に積層した合計（２ｎ＋１）層（ｎ≧２）のコーティングが施された透明導電性積層体である、熱線遮蔽ガラスであって、透明酸化物として酸化亜鉛を用いたものが記載されているものの、上記相違点のＡｌ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｃｒのうち少なくとも１種をＺｎとの合計量に対して原子比で１０％以下の割合でドープした酸化亜鉛を主成分とする膜を少なくとも１層有する膜であり、熱線遮断膜のＣｕＫα線を用いたＸ線回折法による六方晶酸化亜鉛の（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）の値が３４．００°以上３４．８８°以下である点について記載も示唆もされていない。
　刊行物１２には、摘示記載（１２−ａ）の記載によれば、石英ガラス／１００ÅのＣｒ／１２００ÅのＡｕ／２．０５μのＺｎＯ、または石英ガラス／１００ÅのＣｒ／１２００ÅのＡｕ／２００ÅのＳｉＯ２／２．０５μのＺｎＯ積層体が記載され、ＺｎＯの回折線の回折角２θの値として約３４．５°の角度が読み取れるだけであって、上記相違点のＡｌ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｃｒのうち少なくとも１種をＺｎとの合計量に対して原子比で１０％以下の割合でドープした酸化亜鉛を主成分とする膜を少なくとも１層有する膜であり、熱線遮断膜のＣｕＫα線を用いたＸ線回折法による六方晶酸化亜鉛の（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）の値が３４．００°以上３４．８８°以下である酸化亜鉛を主成分とする膜について記載も示唆もされていない。
　刊行物４には、上記５−１−１．（３）で詳述したように
　「透明なガラスまたはプラスチック材料の基板上に、１種または複数種の抗反射金属酸化物層を形成し、当該金属酸化物層上に銀層及び追加の金属層を形成し、当該銅層の上に異なる金属酸化物、例えば酸化亜鉛と酸化錫の２種の層からなる、全厚みが２００〜６００Åの抗反射金属酸化物多層膜を形成してなる低放射率コーテイングを形成した基板」の発明が記載され、酸化物膜として酸化亜鉛を用いることが記載されているものの、上記相違点のような酸化亜鉛を主成分とする膜とすることについて記載も示唆もされていない。
　刊行物１３には、摘示記載（１３−ａ）、（１３−ｂ）によれば、本件発明１と同じ基板、金属酸化物層、金属層、金属酸化物とからなる高透過性低放射性物品である熱線遮断膜であって、多層膜の耐久性を金属層と金属酸化物層との間の付着を改良しかつ酸化チタン層を与えることにより改良することが記載されているものの、金属酸化物膜として酸化亜鉛を主成分とする膜を少なくとも１層とすることについて記載がなく、上記相違点について全く記載も示唆もされていない。
　刊行物１４には、摘示記載（１４−ａ）、（１４−ｂ）によれば、透明ガラス板に、酸化インジュウムと酸化錫の混合酸化物（ＩＴＯ）または窒化アルミニウム（ＡＩＮ）／銀または銅ならびに金属亜鉛の４層以上の多層膜を形成した熱線反射ガラスであって、第３薄膜層を厚さ２０〜２００Åの金属亜鉛ならびに第４薄膜層をＩＴＯまたはＡＩＮと少なくとも順次交互に積層し、常にＩＴＯまたはＡＩＮ薄膜層を最外側薄膜層とする熱線反射ガラスであって、銀または銅薄膜層に、特定膜厚以上の金属亜鉛薄膜層を確実に残留せしめて順次積層するようにすることによってマイグレーションはもとより湿・水分による欠陥の発生をも防止した耐湿性等に優れたものとするものであり、最外層の金属酸化物層が酸化亜鉛を主成分とする膜を少なくとも１層とすることについて記載がなく、上記相違点について全く記載も示唆もされていない。
　刊行物１５には、ガスセンサ、透明導電膜等に用いられる酸化亜鉛薄膜に関するもので、Ｘ線回折パターンについて薄い膜厚段階で（００２）面は基板に平行に配向し、ピーク値は３４°であることが記載されるのみで、熱線遮蔽膜について記載するところがないだけでなく、上記相違点について記載も示唆もされていない。
　刊行物１６には、セラミックスの評価法と題し、薄膜の結晶性を評価する手段としてＸ線回折が用いられることが記載されているのみであり、熱線遮蔽膜について記載するものでもなく、ましてや、上記相違点について何ら記載も示唆もされていない。
　刊行物１７には、Ｘ線回折により応力ひずみ現象を測定でき、結晶に圧縮応力が作用すると格子面間隔が大きくなり、張力応力が作用すると小さくなることが記載されているのみで、熱線遮蔽膜について記載するものでもなく、ましてや、上記相違点について何ら記載も示唆もされていない。
　刊行物１５〜１７の記載から、Ｘ線回折により内部応力を（００２）面の回折角２θの値から知ることが、技術常識であったとしても上記相違点のような構成とすることにより応力を低減し、その応力状態として３４．００°〜３４．８８°となるような酸化亜鉛を主成分とする膜とすることは導き出すことはできない。
　さらに、甲各号証の何れにも酸化亜鉛の内部応力と、金属膜の劣化防止、膜の耐湿性の向上、耐酸性の向上との関連について記載も示唆もされていない。
　そして、本件発明１は、上記相違点の構成を採用することにより、本件特許明細書に記載の、耐湿性および耐酸性が改善された熱線遮断膜を提供でき、単板での取扱が容易になり、単板での室内長期保存が可能になるとともに、合わせガラスとした場合では中間膜に含まれる水分によって劣化しにくく耐久性が向上するという効果を奏するものである。
　したがって、本件発明１は、刊行物４、刊行物９ないし刊行物１７に対比して、いずれの刊行物にも記載のない上記相違点において少なくとも相違していることから、本件発明１は、甲第１号証ないし甲第１０号証に記載のいずれの発明に基づいても当業者が容易に発明をすることができたものではない。
　
（２）本件発明２について
　本件発明２は、請求項１に係る発明に技術的に限定を加えたものであり、本件発明１と同様に上記５−２−１．（１）に記載した理由により甲第１号証ないし甲第５号証に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものではない。
　
５−２−２．特許法第３６条第４項又は第６項違反について
　申立人Ｂは、「本件明細書ではＸ線回折におけるピーク値は最上層のＺｎＯ（ｂ）のものであるとしているが、下層のＺｎＯ（ａ）のピークとが重畳されたものであり、結局請求項１に記載された数値（角度）は最外層の内部歪を表わすものではない。よって当業者をして当該発明を実施できるように発明の詳細な説明に記載されておらず，且つ特許を受けようとする発明が不明確である。」と主張している。
　しかしながら、Ｘ線回折により内部応力を（００２）面の回折角２θの値から知ることができることは技術常識であり、特許明細書の段落［００１９］〜段落［００２３］、段落［００２９］〜段落［００３５］、段落［００４２］〜段落［００５４］に、Ｘ線回折法により回折角を測定することとともに、測定された回折角２θ、内部応力が具体的に明記されていること、及び、金属層の外側に形成された酸化亜鉛層と内側基板側に形成された酸化亜鉛層とは金属層により分離され、当然にＸ線回折線も各層の界面で回折され、結果として表面側の酸化亜鉛層の回折線の強度が強く計測されることは予測し得ることを勘案するならば、最外層の内部歪が計測可能であるものと認められるので、当業者が容易に実施し得る程度に記載されているものと認められる。
　また、請求項１に係る発明が明確でないと主張しているが、請求項１に記載された発明は六方晶酸化亜鉛の（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）の値と構成を特定しており、Ｘ線回折により（００２）面の回折角２θの値を測定し得ることは技術常識であるから、何ら明瞭でないところはない。
　以上のとおりであるから、特許異議申立人のこの主張は採用できない。
　
６．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件請求項１、請求項２に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１、請求項２に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　したがって、本件発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１５年５月６日（２００３．５．６）
【訂正の要旨】
▲１▼「【００１９
】
を、
「【００１９】
　酸化物膜（Ｂ）の内部応力は、成膜条件により大きく異なり、低内部応力の膜を成膜するときは、成膜条件を精密に制御する必要がある。膜の内部応力を低減化できる傾向を示す方法としては、成膜時（特にスパッタリング法による場合）の成膜雰囲気の圧力（スパッタ圧力）を高くする、成膜中に基板加熱を施す等、成膜条件を変える方法や、成膜後に加熱処理を施す方法等が挙げられる。それぞれの具体的な条件は、成膜装置に応じて選べばよく特に限定されない。」
と、補正する。
▲２▼「【００２１】
　酸化物膜（Ｂ）を構成する具体的な膜としては、特に限定されない。例えば、ＺｎＯを主成分とする
膜に
を、
「【００２１】
　酸化物膜（Ｂ）を構成する具体的な膜としては、特に限定されない。例えば、ＺｎＯを主成分とする膜、ＳｎＯ２を主成分とする膜、ＴｉＯ２を主成分とする膜、これらの２種以上を含む積層膜などが挙げられる。これらの膜に、酸化状態でＺｎ２＋よりイオン半径の小さい他の元素を添加すると、成膜条件によりかなりのバラツキがあるが、その膜の内部応力を低減できる傾向がある。」
と、補正する。
▲３▼「【００２２】
　特に、酸化物膜（Ｂ）を構成するＺｎＯ膜に関しては、上述のように、六方晶酸化亜鉛の内部応力と、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折による回折角２θ（重心位置）とがほぼ対応している。酸化亜鉛を主成分とする膜の結晶系は六方晶である。本発明の熱線遮断膜の耐久性向上のためには、熱線遮断膜のＣｕＫα線を用いたＸ線回折において、六方晶酸化亜鉛の（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）
は
る。
を
「【００２２】
　特に、酸化物膜（Ｂ）を構成するＺｎＯ膜に関しては、上述のように、六方晶酸化亜鉛の内部応力と、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折による回折角２θ（重心位置）とがほぼ対応している。酸化亜鉛を主成分とする膜の結晶系は六方晶である。本発明の熱線遮断膜の耐久性向上のためには、熱線遮断膜のＣｕＫα線を用いたＸ線回折において、六方晶酸化亜鉛の（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）が３３．８８°から３５．００°までの間の値、特に、３４．００°から３４．８８°までの値であることが好ましい。回折角２θが３４．４４°以下の値は圧縮応力、３４．４４°以上の値は引張応力、を示す。」
と、補正する。
▲４▼「【００２３】
　ＺｎＯ膜に、酸化状態でＺｎ２＋よりイオン半径の小さい他の元素を添加（ドープ）する場
合、
、Ｔ
、Ｃｒ
を
す
、Ｔ
、Ｃ
とす
は
を、
「【００２３】
　ＺｎＯ膜に、酸化状態でＺｎ２＋よりイオン半径の小さい他の元素を添加（ドープ）する場合にも、成膜条件により異なるが、内部応力を低減できる傾向があり、かかる元素としては、Ａｌ、Ｓｉ、Ｂ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｃｒ等が挙げられる。したがってこれらのうちから少なくとも１種をドープしたＺｎＯを主成分とする膜も、ＺｎＯ膜と同様に使用できる。ドープ量は、Ａｌ、Ｓｉ、Ｂ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｃｒのうち少なくとも１種を、Ｚｎとの合計量に対して、原子比で１０％以上としても、内部応力低減効果は変わらないことが多いので、１０％以下程度で十分である。このような、他の元素をドープしたＺｎＯ膜についても、六方晶酸化亜鉛の（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）に関して、ＺｎＯ膜と同様のことがいえる。」
と、補正する。
▲５▼「【００２４】
　酸化物膜（Ｂ）の膜厚は
、熱
である
を、
「【００２４】
　酸化物膜（Ｂ）の膜厚は、特に限定されないが、熱線遮断膜全体の色調、可視光透過率を考慮すると、２００〜７００Åが望ましい。」
と、補正する。
▲６▼「【００２６】
　酸化物膜（Ｂ）としては、島内部応力の膜と低内部応力の膜を組み合わせて２層以上の構成とした多層膜を用いることもできる
。
を、
「【００２６】
　酸化物膜（Ｂ）としては、高内部応力の膜と低内部応力の膜を組み合わせて２層以上の構成とした多層膜を用いることもできる。低内部応力の膜としては、成膜条件によるが、比較的、７．０×１０９ｄｙｎ／ｃｍ２以下の内部応力の低い膜が形成しやすい、ＳｎＯ２膜が挙げられる。具体的な例としては、ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯや、ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２のような３層系や、ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯや、ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２のような５層系、あるいは同様に交互に積層した７層系、９層系など、ＺｎＯ膜と、ＳｎＯ２膜を交互に積層したものが挙げられる。
　酸化亜鉛１層の膜厚は２００Å以下、好ましくは１８０Å以下とするのがよい。特に好ましくは１００Å以下として上記５層系で構成するのが望ましい。成膜時の生産性を考慮すると、各層の成膜速度に比例した膜厚に調整して全体で４５０Å程度の上記５層系の積層膜が好ましい。」
と、補正する。
▲７▼「【００２８】
　酸化物膜（Ｂ）として島内部応力の膜と低内部応力の膜を組み合わせて２層以上の構成とした多層膜を用いる場合、合計２００〜７００Åであ
る。
を、
「【００２８】
　このように、酸化物膜（Ｂ）として高内部応力の膜と低内部応力の膜を組み合わせて２層以上の構成とした多層膜を用いる場合、合計２００〜７００Åであることが好ましい。積層数及び１層の膜厚は、装置に応じて選べばよく特に限定されない。また、各層の膜厚がそれぞれ異なってもよい。」
と、補正する。
▲８▼「【００３０】
　【表２】
」
を、
「【００３０】
　【表２】
」
と、補正する。
▲９▼「【００３３】
　Ａｌ
、Ｔ
、Ｃ
を、
「【００３３】
　Ａｌ、Ｓｉ、Ｂ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｃｒのドープ量は、すべて、Ｚｎとの総量に対して原子比で４％である。」
と、補正する。
▲１０▼「【００４９
】
　【００５０
】
　【００５１
】
　【００５２
】
　【００５３
】
　【００５４
】
を、
「【００４９】
（実施例３）
　上記実施例２と同様の方法により、ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯ／ガラスという膜構成のＬｏｗ−Ｅ膜を作製した。Ａｇは１００Å、Ａｇとガラスの間のＺｎＯは４５０Å、Ａｇの上のＺｎＯおよびＳｎＯ２膜はいずれも９０Åであった。ＺｎＯ及びＡｇはＺｎＯ及びＡｇターゲットをＡｒガスでスパッタリングし、ＳｎＯ２はＳｎＯ２ターゲットをＡｒとＯ２との混合ガスでスパッタリングして得た。スパッタ圧力、基板温度、ＺｎＯ及びＡｇ成膜の際のスパッタ電力は上記実施例と同様である。ＳｎＯ２成膜の際はスパッタ電力密度は１Ｗ／ｃｍ２、Ａｒ：Ｏ２ガス流量比は８：２であった。
　【００５０】
　上記と同様の条件で作製した、ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ膜の内部応力は９．２×１０９ｄｙｎ／ｃｍ２であった。
　ここで得た熱線遮断膜の耐湿性は、上記実施例と同様良好であった。
　【００５１】
（実施例４）
　上記実施例３と同様の方法により、ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ガラスという膜構成の熱線遮断膜を作製した。Ａｇは１００Å、ＺｎＯおよびＳｎＯ２膜はいずれも１層９０Åであった。ターゲット及びスパッタリングガス、スパッタ圧力、基板温度、パワー密度は実施例３と同様であった。
　【００５２】
　この条件で作製した、ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ膜の内部応力は９．２×１０９ｄｙｎ／ｃｍ２であった。
　得られた熱線遮断膜の耐湿性は、上記実施例と同様良好であった。
　【００５３】
（実施例５）
　上記実施例２と同様の方法により、ガラス基板上にＺｎＯ膜、Ａｇ膜、ＺｎＯ膜をそれぞれ４５０Å、１００Å、４５０Åの膜厚で、順次積層させた。ターゲットは、ＺｎＯ、Ａｇを用い、Ａｒガスによりスパッタリングを行った。スパッタ圧力、基板温度、スパッタ電力密度は実施例２と同様である。成膜後の膜をＮ２雰囲気中４００℃で１時間加熱処理を行った。
　【００５４】
　加熱処理後の熱線遮断膜をＸ線回折法で調べたところ、ＺｎＯ（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）は３４．４２°であった。
　この熱線遮断膜の耐湿性は、上記実施例と同様良好であった。」
と、補正する。
▲１１▼「【００５９
】
　【００６０
】
を、
「【００５９】
（実施例６）
　Ｚｎ、Ｓｎ、Ａｇの金属ターゲットをそれぞれ用いて、Ａｇ膜はアルゴン雰囲気中で直流スパッタリング法により、ＳｎＯ２膜、ＺｎＯ膜は酸素含有雰囲気中で反応性直流スパッタリング法により、ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ガラスという膜構成の熱線遮断膜を作製した。Ａｇは１００Å、ＺｎＯ、ＳｎＯ２はいずれも１層９０Åであった。かかる熱線遮断膜付きガラスの可視光線透過率は８６％、エミッシビティは０．０６であった。
　【００６０】
　この熱線遮断膜付きガラスを１規定の塩酸に浸漬するという耐酸性試験を行った。浸漬後２分までは変化がなかったが、３分後には、膜の端から一部茶色っぽく変色しはじめ、５分後には、膜の一部に剥離している部分が見られた。」
と、補正する。
（５４）【発明の名称】
熱線遮断膜
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　基体上に酸化物膜、金属膜、酸化物膜、と交互に積層された（２ｎ＋１）層（ｎ≧１）からなる熱線遮断膜において、基体から見て、基体から最も離れた金属膜（Ａ）の反対側に形成された
膜厚が２００〜７００Åの
Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｃｒのうち少なくとも１種をＺｎとの合計量に対して原子比で１０％以下の割合でドープした
３４．００°以上３４．８８°以下
　【請求項
２
　前記金属膜（Ａ）はＡｇを主成分とする金属膜である請求項
１記
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は耐久性、特に耐湿性や耐酸性の優れた熱線遮断膜に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　基体表面に酸化物膜、Ａｇ膜、酸化物膜を順に積層した３層からなる膜、または酸化物膜、Ａｇ膜、酸化物膜、Ａｇ膜、酸化物膜を順次積層した５層からなる膜等の（２ｎ＋１）層（ｎ≧１）からなる膜は、Ｌｏｗ−Ｅ（Ｌｏｗ−Ｅｍｉｓｓｉｖｉｔｙ）膜と呼ばれる熱線遮断膜であり、かかるＬｏｗ−Ｅ膜を形成したガラスは、Ｌｏｗ−Ｅガラスと呼ばれている。
　【０００３】
　これは、室内からの熱線を反射することにより室内の温度低下を防止できる機能ガラスであり、暖房負荷を軽減する目的でおもに寒冷地で用いられている。また、太陽熱の熱線遮断効果も有するため、自動車の窓ガラスにも採用されている。透明でありかつ導電性を示すため、電磁遮蔽ガラスとしての用途もある。導電性プリント等からなるバスバー等の通電加熱手段を設ければ、通電加熱ガラスとして用いることができる。
　【０００４】
　おもなＬｏｗ−Ｅガラスとしては、ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯ／ガラスという膜構成を有するものが挙げられる。しかし、このような膜では、耐擦傷性、化学的安定性などの耐久性に欠けるため、単板で使うことができず、合わせガラスまたは複層ガラスにする必要があった。
　【０００５】
　特に耐湿性にも問題があり、空気中の湿度や合わせガラスとする場合の中間膜に含まれる水分により、白色斑点や白濁を生じる。また、ＺｎＯは耐酸性も不十分であるため、空気中の酸性物質によって劣化する不安があった。このようなことから、単板での保管やハンドリングに注意を要していた。
　【０００６】
　【発明が解決しようとする課題】
　本発明の目的は、従来技術が有していた上記の欠点を解決し、耐久性、特に耐湿性や耐酸性の優れた熱線遮断膜を提供しようとするものである。
　【０００７】
　【課題を解決するための手段】
　本発明は、上述の課題を解決すぺくなされたものであり、基体上に酸化物膜、金属膜、酸化物膜、と交互に積層された（２ｎ＋１）層（ｎ≧１）からなる熱線遮断膜において、基体から見て、基体から最も離れた金属膜（Ａ）の反対側に形成された
膜厚が２００〜７００Åの
Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｃｒのうち少なくとも１種をＺｎとの合計量に対して原子比で１０％以下の割合でドープした
３４．００°以上３４．８８°以下
　【０００８】
　以下に酸化物膜（Ｂ）について説明する。
　【０００９】
　上述のように、従来のＬｏｗ−Ｅガラス（膜構成：ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯ／ガラス）の場合、単板で室内放置すると、空気中の湿気により白色斑点や白濁を生じる。
　【００１０】
　白色斑点や白濁の存在する膜を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察することにより、膜の表面にひびわれやしわの存在、及び膜の剥離の存在が確認された。
　【００１１】
　この膜の剥離部について、ＡｇおよびＺｎの各元素について元素分析を行ったところ、Ａｇは剥離の有無にかかわらずほぼ一定量存在するのに対して、Ｚｎは剥離部で検出量がほぼ半分になっていた。つまり、剥離は最上層のＺｎＯ層とＡｇ層の界面で起きていることがわかった。
　【００１２】
　次に、耐湿試験（５０℃、相対湿度９５％雰囲気中、６日間放置）前後の試料をＣｕＫα線を用いたＸ線回折法で調べた。六方晶酸化亜鉛の（００２）回折線、立方晶Ａｇの（１１１）回折線について、回折角２θ（ピークの重心位置）、結晶面間隔ｄ、積分幅Ｉ．Ｗ．をそれぞれ表１に示す。
　【００１３】
　Ｘ線回折法におけるピークのずれの程度により内部応力による格子歪の程度を検出することができる。ＺｎＯ（ｂ）／Ａｇ／ＺｎＯ（ａ）／ガラスという試料の場合、最上層のＺｎＯ（ｂ）によるピークが、ＺｎＯ（ａ）によるピークの５〜１５倍の強さで検出されるため、試料全体におけるＸ線回折法のＺｎＯのピークは、若干ＺｎＯ（ａ）による影響があるかもしれないが、ほとんど最上層の六方晶ＺｎＯ（ｂ）によるピークと考えてよい。
　【００１４】
　【表１】
　【００１５】
　表１より、耐湿試験前のＬｏｗ−Ｅ膜のＺｎＯの（００２）回折線は、ＺｎＯ粉末の２θ＝３４．４４°と比較するとかなり位置がずれている。これは、結晶歪の存在を示唆している。この結晶歪は、膜の内部応力によるものと考えられる。耐湿試験前サンプルでは、結晶面間隔ｄ００２＝２．６５０Åとなっており、ＺｎＯ粉末のｄ００２＝２．６０２Åと比較すると１．８％大きい。このことから、結晶がかなり大きな圧縮応力を受けていることがわかる。耐湿試験後のサンプルでは、ｄ００２＝２．６４１Åとなっており、やや結晶歪が小さくなっている。これは、最上層の六方晶ＺｎＯの内部応力が、ひび、しわ、剥離により一部緩和されたことと対応している。
　【００１６】
　Ａｇの（１１１）回折線に関しては、耐湿試験後の積分幅が小さくなっていることから、耐湿試験を施すことにより、Ａｇが粒成長すると考えられる。
　【００１７】
　つまり、白濁発生のメカニズムは、最上層のＺｎＯ膜が内部応力に耐えきれず、Ａｇ膜との界面から剥離、破損し、次に銀の劣化、即ち粒径が増大し、かかる破損した表面および大きな銀粒子により光が散乱されて白濁して見えるものと考えられる。表１の例では、内部応力は圧縮応力であるが、内部応力には圧縮応力と引張応力の２種類があり、いずれも膜破損の原因となると考えられる。
　以上のことから、湿気による白濁を抑えるためには、最上層ＺｎＯ膜の内部応力低減が有効であることを見出した。
　【００１８】
　図１に本発明の熱線遮断膜の代表例の断面図を示す。図１（ａ）は、３層からなる熱線遮断膜の断面図、図１（ｂ）は、（２ｎ＋１）層からなる熱線遮断膜の断面図である。１は基体、２は酸化物膜、３は金属膜、４は内部応力の低い酸化物膜（Ｂ）である。
　本発明における基体１としては、ガラス板の他、プラスチック等のフィルムや板も使用できる。
　【００１９】
　酸化物膜（Ｂ）の内部応力は、成膜条件により大きく異なり、低内部応力の膜を成膜するときは、成膜条件を精密に制御する必要がある。膜の内部応力を低減化できる傾向を示す方法としては、成膜時（特にスパッタリング法による場合）の成膜雰囲気の圧力（スパッタ圧力）を高くする、成膜中に基板加熱を施す等、成膜条件を変える方法や、成膜後に加熱処理を施す方法等が挙げられる。それぞれの具体的な条件は、成膜装置に応じて選べばよく特に限定されない。
　【００２０】
　酸化物膜（Ｂ）の膜材料としては、特に限定されない。１層でもよいし、多層でもよい。例えば、本発明の熱線遮断膜を内側にしてプラスチック中間膜を介してもう１枚の基体と積層して合わせガラスとする場合に、かかるプラスチック中間膜との接着力の調整、もしくは、耐久性向上の目的で中間膜と接する層として、１００Å以下の酸化物膜（例えば、酸化クロム膜）を形成する場合があるが、このような膜を含めて２層以上の構成とすることもできる。
　【００２１】
　酸化物膜（Ｂ）を構成する具体的な膜としては、特に限定されない。例えば、ＺｎＯを主成分とする膜、ＳｎＯ２を主成分とする膜、ＴｉＯ２を主成分とする膜、これらの２種以上を含む積層膜などが挙げられる。これらの膜に、酸化状態でＺｎ２＋よりイオン半径の小さい他の元素を添加すると、成膜条件によりかなりのバラツキがあるが、その膜の内部応力を低減できる傾向がある。
　【００２２】
　特に、酸化物膜（Ｂ）を構成するＺｎＯ膜に関しては、上述のように、六方晶酸化亜鉛の内部応力と、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折による回折角２θ（重心位置）とがほぼ対応している。酸化亜鉛を主成分とする膜の結晶系は六方晶である。本発明の熱線遮断膜の耐久性向上のためには、熱線遮断膜のＣｕＫα線を用いたＸ線回折において、六方晶酸化亜鉛の（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）が３３．８８°から３５．００°までの間の値、特に、３４．００°から３４．８８°までの値であることが好ましい。回折角２θが３４．４４°以下の値は圧縮応力、３４．４４°以上の値は引張応力、を示す。
　【００２３】
　ＺｎＯ膜に、酸化状態でＺｎ２＋よりイオン半径の小さい他の元素を添加（ドープ）する場合にも、成膜条件により異なるが、内部応力を低減できる傾向があり、かかる元素としては、Ａｌ、Ｓｉ、Ｂ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｃｒ等が挙げられる。したがってこれらのうちから少なくとも１種をドープしたＺｎＯを主成分とする膜も、ＺｎＯ膜と同様に使用できる。ドープ量は、Ａｌ、Ｓｉ、Ｂ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｃｒのうち少なくとも１種を、Ｚｎとの合計量に対して、原子比で１０％以上としても、内部応力低減効果は変わらないことが多いので、１０％以下程度で十分である。このような、他の元素をドープしたＺｎＯ膜についても、六方晶酸化亜鉛の（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）に関して、ＺｎＯ膜と同様のことがいえる。
　【００２４】
　酸化物膜（Ｂ）の膜厚は、特に限定されないが、熱線遮断膜全体の色調、可視光透過率を考慮すると、２００〜７００Åが望ましい。
　【００２５】
　酸化物膜（Ｂ）を酸素含有雰囲気中で反応性スパッタリングにより成膜する場合は、金属膜（Ａ）の酸化を防ぐために、まず金属膜（Ａ）上に酸素の少ない雰囲気中で薄い金属膜もしくは酸化不充分な金属酸化物膜を形成するのが望ましい。この薄い金属膜は、酸化物膜（Ｂ）の成膜中に酸化されて酸化物膜となる。したがって上述の酸化物膜（Ｂ）の好ましい膜厚は、かかる薄い金属膜が酸化されてできた酸化物膜の膜厚も含んだ膜厚である。本明細書において、金属膜３上に形成する酸化物膜に関しても、同様である。
　【００２６】
　酸化物膜（Ｂ）としては、高内部応力の膜と低内部応力の膜を組み合わせて２層以上の構成とした多層膜を用いることもできる。低内部応力の膜としては、成膜条件によるが、比較的、７．０×１０９ｄｙｎ／ｃｍ２以下の内部応力の低い膜が形成しやすい、ＳｎＯ２膜が挙げられる。具体的な例としては、ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯや、ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２のような３層系や、ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯや、ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２のような５層系、あるいは同様に交互に積層した７層系、９層系など、ＺｎＯ膜と、ＳｎＯ２膜を交互に積層したものが挙げられる。
　酸化亜鉛１層の膜厚は２００Å以下、好ましくは１８０Å以下とするのがよい。特に好ましくは１００Å以下として上記５層系で構成するのが望ましい。成膜時の生産性を考慮すると、各層の成膜速度に比例した膜厚に調整して全体で４５０Å程度の上記５層系の積層膜が好ましい。
　【００２７】
　この場合、これらの積層膜を有する酸化物膜（Ｂ）全体の内部応力は、１．１×１０１０ｄｙｎ／ｃｍ２以下であることが好ましい。
　【００２８】
　このように、酸化物膜（Ｂ）として高内部応力の膜と低内部応力の膜を組み合わせて２層以上の構成とした多層膜を用いる場合、合計２００〜７００Åであることが好ましい。積層数及び１層の膜厚は、装置に応じて選べばよく特に限定されない。また、各層の膜厚がそれぞれ異なってもよい。
　【００２９】
　酸化物膜（Ｂ）１層（４５０Å）の内部応力、および、ガラス／ＺｎＯ（４５０Å）／Ａｇ（１００Å）の上に同様の酸化物膜（Ｂ）（４５０Å）をスパッタリング法により形成した熱線遮断膜の六方晶酸化亜鉛の（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）と、かかる熱線遮断膜の耐湿性の関係を表２に示す。
　【００３０】
　【表２】
　【００３１】
　耐湿性は、５０℃、相対湿度９５％の雰囲気中に６日間放置するという試験を行い、評価した。
　【００３２】
　評価基準は、膜の端部付近に白濁がなく、直径１ｍｍ以上の白色斑点が現れなければ○、膜の端部付近に白濁がなく、直径１〜２ｍｍの白色斑点が現れたものを△、膜の端部付近に白濁が現れたものまたは直径２ｍｍ以上の白色斑点が現れたものを×とした。
　【００３３】
　Ａｌ、Ｓｉ、Ｂ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｃｒのドープ量は、すべて、Ｚｎとの総量に対して原子比で４％である。
　【００３４】
　サンプル２は、サンプル１より、成膜時の雰囲気の圧力を高くしたもの、サンプル３は、サンプル１より、成膜時の基板温度を高くしたもの、サンプル４は、成膜した後に加熱したものである。
　【００３５】
　表２より、熱線遮断膜の耐湿性は、膜材料や、単層、多層によらず、内部応力や、ＺｎＯの（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）によることがわかる。
　【００３６】
　酸化物膜（Ｂ）以外の酸化物膜２の材料は、特に限定されない。ＺｎＯ、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、これらの２種以上を含む積層膜、これらに他の元素を添加した膜等が使用できるが、さらに、生産性を考慮すると、ＺｎＯ膜、ＳｎＯ２膜、ＺｎＯとＳｎＯ２とを交互に２層以上積層させた膜、Ａｌ、Ｓｉ、Ｂ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｃｒのうち少なくとも一つをＺｎとの総量に対し合計１０原子％以下添加したＺｎＯ膜が好ましい。
　【００３７】
　色調、可視光透過率を考慮すると、酸化物膜２は２００Å〜７００Åであることが望ましい。積層膜の場合、合計２００Å〜７００Åであればよく、それぞれの層の膜厚は限定されない。
　【００３８】
　特に、酸化物膜、金属膜、酸化物膜、金属膜、酸化物膜、という５層構成、あるいは５層以上の膜構成の熱線遮断膜の場合、最外層の酸化物膜（Ｂ）以外の酸化物膜２の内部応力は１．１×１０１０ｄｙｎ／ｃｍ２以下であることが望ましい。
　【００３９】
　本発明における金属膜３としては、Ａｇ膜、またはＡｕ、Ｃｕ、Ｐｄのうちの少なくとも一つを含むＡｇを主成分とする膜などの、熱線遮断性能を有する膜が使用できる。金属膜３は、かかる熱線遮断性能を有する金属膜の他に、各種の機能を有する金属層を有していてもよい。例えば、熱線遮断性能を有する金属膜と酸化物膜（Ｂ）や酸化物膜２との間の接着力を調整する金属層や、熱線遮断性能を有する金属膜からの金属の拡散防止機能を有する金属層等が挙げられる。
　【００４０】
　これらの機能を有する金属層を構成する金属の例としては、Ｚｎ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｗ、Ｎｉ、Ｔｉや、これらのうち２種以上の金属の合金等が挙げられる。
　【００４１】
　これらの金属層を含む金属膜３全体の膜厚としては、熱線遮断性能及び可視光透過率等とのかねあいを考慮して、５０Å〜１５０Å、特に１００Å程度が適当である。
　【００４２】
　【実施例】
（実施例１）
　直流スパッタリング法により、ガラス基板上に、Ａｒ：Ｏ２＝２：８の６．５×１０−３Ｔｏｒｒの雰囲気中で、ＡｌをＺｎとの総量に対してＡｌを３．０原子％含む金属をターゲットとして、ＡｌドープＺｎＯ膜を４５０Å形成し、次いで、Ａｒのみの６．５×１０−３Ｔｏｒｒの雰囲気中で、Ａｇをターゲットとして、Ａｇ膜を１００Å形成し、次いで雰囲気を変えずに、ＡｌをＺｎとの総量に対して３．０原子％添加した金属をターゲットとして、２０Å程度のごく薄いＡｌドープＺｎ膜を形成し、最後に、Ａｒ：Ｏ２＝２：８の６．５×１０−３Ｔｏｒｒの雰囲気中で、ＡｌをＺｎとの総量に対して３．０原子％添加した金属をターゲットとして、上記Ａｇ膜上にＡｌドープＺｎＯ膜を形成した。
　【００４３】
　ＡｌドープＺｎＯ膜の成膜中に、ＡｌドープＺｎ膜が酸化雰囲気中で酸化されてＡｌドープＺｎＯ膜となったので、Ａｇ膜上に形成されたＡｌドープＺｎＯ膜の総膜厚は、４５０Åであった。成膜中の基板温度は室温、スパッタ電力密度は、ＡｌドープＺｎＯ膜の成膜時には２．７Ｗ／ｃｍ２、Ａｇ膜の成膜時には、０．７Ｗ／ｃｍ２であった。
　【００４４】
　得られた熱線遮断膜をＸ線回折法で調べたところ、ＺｎＯの（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）は３４．１２°であった。同様の条件で作製したＡｌドープＺｎＯ膜１層（４５０Å）の内部応力は６．２×１０９ｄｙｎ／ｃｍ２であった。
　【００４５】
　上記熱線遮断膜について、５０℃、相対湿度９５％の雰囲気中に６日間放置するという耐湿試験を行った。耐湿試験後の外観は、ごく微小の斑点は見られたものの、目立った白色斑点及び白濁は観察されず良好であった。耐湿試験後の膜表面のＳＥＭ写真において、膜表面に、ひびわれ、しわ、剥離はほとんど観察されなかった。
　【００４６】
　上記熱線遮断膜を形成したガラスを、膜を内側にして、プラスチック中間膜を介してもう１枚のガラス板と積層して合わせガラスとした。かかる合わせガラスについても同様の耐湿試験を行った。耐湿試験１４日目でも白濁や斑点は全く生じていなかった。
　【００４７】
（実施例２）
　ＲＦ（高周波）スパッタリング法により、ガラス基板上にＺｎＯ膜、Ａｇ膜、ＡｌドープＺｎＯ膜をそれぞれ４５０Å、１００Å、４５０Åの膜厚で、順次積層させて、熱線遮断膜を作成した。ターゲットは、それぞれ、ＺｎＯ、Ａｇ、Ａｌ２Ｏ３を含むＺｎＯ（ＺｎＯ　９８重量％、Ａｌ２Ｏ３２重量％）を用い、Ａｒガスによりスパッタリングを行った。スパッタ圧力は１．８×１０−３Ｔｏｒｒ、基板温度は室温、ＲＦスパッタ電力密度は３Ｗ／ｃｍ２であった。
　【００４８】
　得られた熱線遮断膜をＸ線回折法で調べたところ、ＺｎＯの（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）は３４．００°であった。上記と同様の条件で作製したＡｌドープＺｎＯ膜の内部応力は６．２×１０９ｄｙｎ／ｃｍ２であった。
　以上の膜について、上記実施例１と同様の耐湿試験を行った。試験後の膜は、ごく微小の班点は存在するが、目立った白色斑点及び白濁は見られず、耐湿性は良好であった。
　【００４９】
（実施例３）
　上記実施例２と同様の方法により、ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯ／ガラスという膜構成のＬｏｗ−Ｅ膜を作製した。Ａｇは１００Å、Ａｇとガラスの間のＺｎＯは４５０Å、Ａｇの上のＺｎＯおよびＳｎＯ２膜はいずれも９０Åであった。ＺｎＯ及びＡｇはＺｎＯ及びＡｇターゲットをＡｒガスでスパッタリングし、ＳｎＯ２はＳｎＯ２ターゲットをＡｒとＯ２との混合ガスでスパッタリングして得た。スパッタ圧力、基板温度、ＺｎＯ及びＡｇ成膜の際のスパッタ電力は上記実施例と同様である。ＳｎＯ２成膜の際はスパッタ電力密度は１Ｗ／ｃｍ２、Ａｒ：Ｏ２ガス流量比は８：２であった。
　【００５０】
　上記と同様の条件で作製した、ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ膜の内部応力は９．２×１０９ｄｙｎ／ｃｍ２であった。
　ここで得た熱線遮断膜の耐湿性は、上記実施例と同様良好であった。
　【００５１】
（実施例４）
　上記実施例３と同様の方法により、ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ガラスという膜構成の熱線遮断膜を作製した。Ａｇは１００Å、ＺｎＯおよびＳｎＯ２膜はいずれも１層９０Åであった。ターゲット及びスパッタリングガス、スパッタ圧力、基板温度、パワー密度は実施例３と同様であった。
　【００５２】
　この条件で作製した、ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ膜の内部応力は９．２×１０９ｄｙｎ／ｃｍ２であった。
　得られた熱線遮断膜の耐湿性は、上記実施例と同様良好であった。
　【００５３】
（実施例５）
　上記実施例２と同様の方法により、ガラス基板上にＺｎＯ膜、Ａｇ膜、ＺｎＯ膜をそれぞれ４５０Å、１００Å、４５０Åの膜厚で、順次積層させた。ターゲットは、ＺｎＯ、Ａｇを用い、Ａｒガスによりスパッタリングを行った。スパッタ圧力、基板温度、スパッタ電力密度は実施例２と同様である。成膜後の膜をＮ２雰囲気中４００℃で１時間加熱処理を行った。
　【００５４】
　加熱処理後の熱線遮断膜をＸ線回折法で調べたところ、ＺｎＯ（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）は３４．４２°であった。
　この熱線遮断膜の耐湿性は、上記実施例と同様良好であった。
　【００５５】
（比較例１）
　上記実施例と同様の方法により、ガラス基板上にＺｎＯ膜、Ａｇ膜、ＺｎＯ膜をそれぞれ４５０Å、１００Å、４５０Åの膜厚で、順次積層させた。ターゲットは、ＺｎＯ、Ａｇを用い、Ａｒガスによりスパッタリングを行った。スパッタ圧力、基板温度、スパッタ電力密度は実施例２と同様である。
　【００５６】
　得られた熱線遮断膜をＸ線回折法で調べたところ、ＺｎＯ（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）は３３．７８°であった。この条件で作製したＺｎＯ膜の内部応力は１．５×１０１０ｄｙｎ／ｃｍ２であった。
　【００５７】
　耐湿試験後の熱線遮断膜は、全面がうすく白濁しており、直径１ｍｍ以上のはっきりした白色斑点もかなり見られた。
　耐湿試験後のＳＥＭ写真によれば、膜表面全体にわたって、ひびわれがひろがっており、膜の破損が著しいことがわかった。
　【００５８】
　上記熱線遮断膜を形成したガラスを、膜を内側にして、プラスチック中間膜を介してもう１枚のガラス板と積層して合わせガラスとした。かかる合わせガラスについても同様の耐湿試験を行った。耐湿試験１４日目には白濁や斑点がはっきり認められた。
　【００５９】
（実施例６）
　Ｚｎ、Ｓｎ、Ａｇの金属ターゲットをそれぞれ用いて、Ａｇ膜はアルゴン雰囲気中で直流スパッタリング法により、ＳｎＯ２膜、ＺｎＯ膜は酸素含有雰囲気中で反応性直流スパッタリング法により、ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ガラスという膜構成の熱線遮断膜を作製した。Ａｇは１００Å、ＺｎＯ、ＳｎＯ２はいずれも１層９０Åであった。かかる熱線遮断膜付きガラスの可視光線透過率は８６％、エミッシビティは０．０６であった。
　【００６０】
　この熱線遮断膜付きガラスを１規定の塩酸に浸漬するという耐酸性試験を行った。浸漬後２分までは変化がなかったが、３分後には、膜の端から一部茶色っぽく変色しはじめ、５分後には、膜の一部に剥離している部分が見られた。
　【００６１】
（比較例２）
　Ｚｎ、Ａｇの金属ターゲットをそれぞれ用いて、Ａｇ膜はアルゴン雰囲気中で直流スパッタリング法により、ＺｎＯ膜は酸素含有雰囲気中で反応性直流スパッタリング法により、ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯ／ガラスという膜構成の熱線遮断膜を作製した。Ａｇは１００Å、ＺｎＯは４５０Åであった。かかる熱線遮断膜付きガラスの可視光線透過率は８６％、エミッシビティは０．０６であった。
　【００６２】
　この熱線遮断膜付きガラスを１規定の塩酸に浸漬するという耐酸性試験を行った。浸漬直後から膜が剥離し始め、５分後には、熱線遮断膜が全部ガラスから剥離し、消失した。
　【００６３】
　【発明の効果】
　本発明による熱線遮断膜は、耐湿性および耐酸性が著しく改善されている。このため、単板での取扱が容易になると考えられる。また単板での室内長期保存が可能になる。さらに、自動車用、建築用熱線遮断ガラスの信頼性向上につながる。また、合わせガラスとした際にも中間膜が含有している水分によって劣化することがないので、自動車用、建築用等の合わせガラスの耐久性が向上する。
　【００６４】
　本発明の熱線遮断膜は、金属膜を有しているため、熱線遮断性能とともに導電性もある。したがって、本発明の熱線遮断膜は、この導電性を利用して、種々の技術分野に使用できる。例えば、エレクトロニクス分野においては、電極として（太陽電池の電極などにも使用できる）、また、通電加熱窓においては、発熱体として、窓や電子部品においては、電磁波遮蔽膜として、使用できる。場合によっては、本発明の熱線遮断膜は、基体の上に、各種の機能を有する膜を介して形成することもできる。このような場合には、本発明の熱線遮断膜の各膜の最適膜厚を選択するなどにより、その用途に応じて、光学性能を調節できる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】本発明による熱線遮断膜をガラス上に形成した熱線遮断ガラスの一例の断面図
　【符号の説明】
　１　基体
　２　酸化物膜
　３　金属膜
　４　酸化物膜（Ｂ）