【事件の表示】
　特許第３２１８８８１号「ウェーハ膜厚測定装置、ウェーハ膜厚測定方法およびウェーハ研磨装置」の請求項１、２、５ないし７に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第３２１８８８１号の請求項１、２、５、６、７に係る特許を維持する。
【理　由】
【１】本件発明
 本件特許第３２１８８８１号（平成６年９月１６日出願（優先権主張　平成６年３月２２日）、平成１３年８月１０日設定登録）の請求項１〜１０に係る発明は、特許明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１〜１０に記載されたとおりのものと認められるところ、その請求項１、２、５、６、７には次のとおりに記載されている。
「【請求項１】ウェーハ表面に形成された膜の厚さを、光干渉法によって測定するためのウェーハ膜厚測定装置であって、
光照射部から発信する光を光透過部を通じてウェーハ成膜面に照射し、その反射光を前記光照射部で受信してその干渉を検知することにより膜厚を測定する光干渉型膜厚測定機構と、
一端側に開口部を有しこの開口部の周縁がウェーハ成膜面に近接して配置されるとともに、その他端側の底部を貫通して、前記光干渉型膜厚測定機構の前記光透過部がウェーハの膜厚測定箇所に対向配置されている液体充填容器と、
前記光を通過可能な液体を、前記液体充填容器の内部に加圧供給するための液体供給手段と具備することを特徴とするウェーハ膜厚測定装置。
【請求項２】一面を吸着されて保持されたウェーハの他面に形成された膜の厚さを測定するためのウェーハ膜厚測定装置であって、
光照射部から発信する光をウェーハ成膜面に照射し、その反射光を前記光照射部で受信してその干渉を検知することにより膜厚を測定する光干渉型膜厚測定機構と、前記光照射部と前記ウェーハ成膜面との間に介装される洗浄機構とを具備し、
前記洗浄機構は、ウェーハ成膜面との対向面が開口しその開口部の周縁がウェーハ成膜面に近接して配置される洗浄液容器と、この洗浄液容器の底部に形成され前記光照射部とウェーハ成膜面との間で光透過を許容する光透過部と、前記洗浄液容器に設けられ前記ウェーハ成膜面の測定個所に洗浄液を吹き付けるウェーハ洗浄ノズルと、このウェーハ洗浄ノズルに洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを具備することを特徴とするウェーハ膜厚測定装置。
【請求項５】一端側に開口部を有し他端側に光透過部を有する液体充填容器を用意し、
この液体充填容器を、前記開口部の周縁が、膜厚測定すべきウェーハの成膜面に近接するように配置し、
前記液体充填容器の内部に、前記光を通過可能な液体を加圧供給することにより、前記光透過部とウェーハ成膜面との間に液体を満たしたうえ、
光干渉型膜厚測定機構の光照射部から発信する光を前記光透過部および前記液体を通じてウェーハ成膜面に照射し、その反射光を再び前記光照射部で受信してその干渉を検知することにより膜厚を測定することを特徴とするウェーハ膜厚測定方法。
【請求項６】一面を吸着されて保持されたウェーハの他面に形成された膜の厚さを測定するウェーハ膜厚測定方法であって、
一端に開口部が形成された洗浄液容器を、前記開口部をウェーハ成膜面と対向させて配置し、この洗浄液容器内に洗浄液を供給することにより洗浄液容器内に洗浄液を満たすと共に、前記開口部とウェーハ成膜面との間隙から洗浄水を流出させ、さらに、洗浄液容器に付設したウェーハ洗浄ノズルよりウェーハ成膜面の膜厚測定個所に洗浄水を吹き付けて前記膜厚測定個所を洗浄した後、
前記洗浄液容器の底部に形成された光透過部より洗浄液のみを通じてウェーハ成膜面に光を照射し、ウェーハに形成された膜の上面での反射光と、膜の下面での反射光との干渉を検知することにより膜厚を測定することを特徴とするウェーハ膜厚測定方法。
【請求項７】前記洗浄液として純水を使用することを特徴とする請求項６記載のウェーハ膜厚測定方法。」
【２】申立ての理由の概要　　
     特許異議申立人　山下　千代子は、
請求項１、５に係る発明は下記の甲第１号証と同一乃至甲第１号証から容易に発明をすることができたものであり、
請求項２、６に係る発明は甲第１号証から容易に発明をすることができたものであり、
請求項７に係る発明は甲第１号証乃至甲第２号証から容易に発明をすることができたものであって、特許法第２９条第１項第３号の規定により、また、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、特許を取り消すべきものと主張している。
　　　　　　　　　記
甲第１号証（特開平５−３２２５１５号公報）、
甲第２号証（特開平５−１２３９６８号公報）、
　また、異議申立人は上記甲号証の他に参考資料（日本半導体製造装置協会編「半導体製造装置用語辞典」第２版　１９５頁）を提出している。
【３】甲号証に記載の発明
イ）甲第１号証（特開平５−３２２５１５号公報）の記載事項 
・表面処理の進行に従って表面層の膜厚が減少し、その膜厚の変化に伴って反射光の光量が変化するので、この反射光の光量の変化に基づいて、表面処理の終点を検出するものである。（段落番号【０００３】）
・「基板としてのシリコンウエハ１の主面上に表面層としてのポリシリコン層２が形成され、また、そのポリシリコン層２の上面には所望のパターンを有するレジスト層３が形成された被処理物Ｘのエッチング領域４のエッチング処理における終点検出について具体的に説明する。」（段落番号【０００４】
・「同図に示すように、図示しない発光素子から被処理物Ｘの上面に計測用の光（例えば、赤外光）Ｌt を照射すると、その照射光Ｌt は、エッチング領域４では、ポリシリコン層２の上面、ポリシリコン層２とシリコン酸化膜との界面、シリコンウエハ１の下面で反射され、各反射光ＬR0、ＬR1、ＬR2、となり、また、マスク領域５では、レジスト層３の上面、レジスト層３とポリシリコン層２との界面、ポリシリコン層２とシリコン酸化膜との界面および、シリコンウエハ１の下面で反射され、各反射光ＬR3、ＬR4、ＬR5、ＬR6となる。そして、反射光ＬR0、P.   4ＬR1、ＬR2の干渉光ＬRB及び、ＬR3、ＬR4、ＬR5、ＬR6の干渉光ＬRAが、図示しない受光素子で受光される。
【０００６】エッチング処理は、図７（ｂ）に示すように進行していくが、このとき、マスク領域５からの干渉光ＬRAは一定である。一方、エッチング領域４からの干渉光ＬRBの光量は、図８に示すように、エッチングの進行、すなわち、ポリシリコン膜２のエッチング領域４の膜厚に伴って変化する。
【０００７】図８は、横軸に時間を取り、縦軸に受光素子で受光された反射光の光量をとって、ポリシリコン層２のエッチングの進行に伴う反射光の光量の変化を表したものである。図中、符号Ａはエッチング領域４からの干渉光ＬRBによって形成される振動の振幅であり、ａはその振動中心、また、オフセットＢは、主としてマスク領域５からの干渉光ＬRAの光量によって形成される。同図に示すように、反射光の光量は、ポリシリコン層２のエッチングが進行している間、略一定周期で振幅Ａの振動を繰り返し、ｔf 時間経過後、すなわち、エッチングが完了した後は一定の光量Ｓf となる。これは、ポリシリコン層２のエッチングが完了したことにより、エッチング領域４の膜厚が一定になるからである。
【０００８】上述のような光学的特性に基づいて、エッチング終了時刻ｔf を検出することにより、エッチング処理の終点を検出することができる。」（段落番号【０００５】〜【０００８】）
・「表面層の上面で処理液の脈流や気泡が発生する。この脈流や気泡が発生した状態で反射率測定を行うと、脈流や気泡によって散乱された散乱光を、表面層等からの反射光とともに計測することになる。このように終点検出に悪影響を与える散乱光、すなわち、ノイズを計測データそれ自体に取り込むことにより、終点検出が容易に行えないという問題がある。」（段落番号【００１０】）
・「液晶表示器用基板Ｇは、図３に示すように、ガラス基板１１の主面上にＩＴＯ膜１２が形成され、ＩＴＯ膜１２の上面には、所望のパターンを有するレジスト層１３が形成されている。そして、このエッチング装置では、レジスト層１３が取り去られているエッチング領域１４のＩＴＯ膜１２の除去処理が行われている。なお、図中、符号１５はエッチングされない領域（マスク領域）である。」（段落番号【００２７】）
・「測定光学機構３０は本発明の要部であり、詳細は後述するが、液晶表示器用基板Ｇがエッチングされている間、平行光束を液晶表示器用基板Ｇのサンプル面に垂直に照射し、液晶表示器用基板Ｇで反射された反射光を受光し、その反射光の光量に応じた検知信号を制御部２７に供給する。反射光の光量に応じた検知信号が供給された制御部２７は、そのデータに基づいて、従来例で説明したようにしてエッチングの終点を検出する。」（段落番号【００３０】）
・「処理液カーテン形成機構３３は、同心状の２つの円筒を組み合わせて、大きい円筒が外壁５１、小さい円筒が内壁５２となるようなタンク５０によって構成されている。外壁５１と内壁５２との上面は密閉されており、外壁５１と内壁５２との間の空間には、エッチング液が準備された図示しないタンクに連通されたパイプ５３からエッチング液が流入され、流入されたエッチング液は外壁５１と内壁５２との間の空間の下面から液晶表示器用基板Ｇの上面に流出される。このエッチング液の流入制御は、制御部２７によって行われている。タンク５０の下面と液晶表示器用基板Ｇの上面とは、タンク５０の下面から流出したエッチング液が液晶表示器用基板Ｇの上面とタンク５０の下面との間に満たされる程度の間隔、一例を示せば、１mm〜３mm程度に保たれている。また、タンク５０の内壁５２の内空間、すなわち、照射光が通過する空間の下面には、エッチング液の流入を防ぐためのガラス板５４が、水平に対してθ（θは、上述した液晶表示器用基板Ｇの最大傾き角）より大きい角度をもって取り付けられている。」（段落番号【００４０】）
・「このとき、処理液カーテン形成機構３３が形成したエッチング液のカーテンによって、サンプル面上の照射光の照射領域内に処理液カーテン形成機構３３からのエッチング液が満たされ、ノズル２６からのエッチング液の流入が防止され、サンプル面上でのエッチング液の脈流や気泡による散乱光の発生を防止することができる。」（補正後の段落番号【００４４】）
ロ）甲第２号証（特開平５−１２３９６８号公報）の記載事項
・「プレ−ト２の上にワックスを用いて貼り付けた４″φＧａＡｓウエハ−１を片面鏡面研磨装置にて次亜塩素酸系研磨剤を用いて研磨加工後、プレート２を傾斜させて保持しシャワーノズル６から清浄な水をウエハ−１へ散布することによってその全面を水洗する。」（段落番号【００１０】）
・「剥離したウエハ−はカセット９ごと水槽８から取り出し、アルコ−ルに入れて付着した水と置換した後アセトンにて有機洗浄し、さらに超純水にてリンスした後、蒸気乾燥により乾燥した。」（段落番号【００１３】）
【４】（当審の判断）
　（請求項１に係る発明について）
　異議申立人の提出した甲第１号証乃至甲第２号証には、本件発明の構成要件である、
「他端側の底部を貫通して、前記光干渉型膜厚測定機構の前記光透過部がウェーハの膜厚測定箇所に対向配置されている液体充填容器」を具備するウェーハ膜厚測定装置、が記載されていない。
　すなわち、甲第１号証のものにおいて、
（１）タンク５０は処理液のカーテンを形成するためのものであって、必ずしもタンク内にエッチング液が「充填」されているとは言えない点で疑問は残るが、一応異議申立人の主張するとおり「液体充填容器」に相当するものとすると、その底部は、外壁５１と内壁５２の上面を密閉する壁ということになる。
　一方、ガラス板５４は、請求項１に係る発明における「光透過部」に相当し、この点は異議申立人も認めるところである。
　そうすると、甲第１号証におけるタンク５０は、「他端側の底部を貫通して、前記光干渉型膜厚測定機構の前記光透過部がウェーハの膜厚測定箇所に対向配置されている」構成を有しないことになるから、甲第１号証のものが、請求項１に係る発明と同一であるとは言えない。
　また、甲第１号証の図１に依れば、上記外壁５１と内壁５２の上面を密閉する壁は膜厚測定光学系の光路中に配置されていないのであるから、「光透過部」を該外壁５１と内壁５２の上面を密閉する壁（すなわちタンク５０の底部）に形成するという着想に到達し得るはずもない。
　したがって、請求項１に係る発明が甲第１号証から容易に想到し得たものであるとは言えない。
　以上、甲第１号証における「タンク５０」、「ガラス板５４」が、それぞれ、異議申立人の主張するとおり請求項１に係る発明における「液体充填容器」、「光透過部」に相当するとした場合の判断について述べた。
（２）次に、ガラス板５４が光透過部に相当することはそのままに、「サンプル面上の照射光の照射領域内に処理液カーテン形成機構３３からのエッチング液が満たされ」ていることに着目すると、甲第１号証のものでは、光透過部の下部に液体が充填されており、該光透過部と該充填液体を通じて光を照射し、ウェーハ膜厚を測定するという技術思想が把握し得ることになるので、甲第１号証をこのように把握した場合の判断について述べる。
　請求項１に係る発明も、光透過部と液体充填容器に充填された液体を通じて光を照射し、ウェーハ膜厚を測定する構成を有する点で、上記技術思想と共通するものであるが、請求項１に係る発明では該液体充填容器について、「他端側の底部を貫通して、前記光干渉型膜厚測定機構の前記光透過部がウェーハの膜厚測定箇所に対向配置されている液体充填容器」と構成を限定しており、そのような構成が甲第１号証に示されていない以上、請求項１に係る発明が甲第１号証から容易に想到し得たものであるとは言えない。
　また、甲第２号証はウェーハを研磨後、洗浄することを示すに止まる。
　そして、該構成により請求項１に係る発明は、「光透過部とウェーハ成膜面との間を液体で満たして気相を排除し、気相による光干渉に対する外乱を防止しつつ、正確な測定が行える」という明細書に記載の効果を奏するものと認められる。
　したがって、請求項１に係る発明は、甲第１号証又は甲第２号証と同一であるとは言えず、また、甲第１号証乃至甲第２号証から容易に発明をすることができたものとも言えない。
（請求項２に係る発明について）
　異議申立人の提出した甲第１号証乃至甲第２号証には、請求項２に係る発明の構成要件である、
「光照射部と前記ウェーハ成膜面との間に介装される洗浄機構」及び、「洗浄液容器の底部に形成され前記光照射部とウェーハ成膜面との間で光透過を許容する光透過部と、前記洗浄液容器に設けられ前記ウェーハ成膜面の測定個所に洗浄液を吹き付けるウェーハ洗浄ノズルと、このウェーハ洗浄ノズルに洗浄液を供給する洗浄液供給手段」について記載されていない。
　すなわち甲第１号証のものは、エッチングにおけるウェーハの膜厚測定技術であって、ウェーハ成膜面の洗浄時にウェーハの膜厚を測定する請求項２に係る発明とは構成を異にする。
　そして、洗浄液容器底部に光透過部を設ける点についての判断は、（請求項１に係る発明について）で、液体充填容器に関して述べた判断と同様である。
　したがって、請求項２に係る発明は、甲第１号証又は甲第２号証と同一であるとは言えず、また、甲第１号証乃至甲第２号証から容易に発明をすることができたものとも言えない。
（請求項５に係る発明について）
　異議申立人の提出した甲第１号証乃至甲第２号証には、請求項５に係る発明の構成要件である、
「一端側に開口部を有し他端側に光透過部を有する液体充填容器」について、記載されていない。
　すなわち、甲第１号証におけるタンク５０は、「一端側に開口部を有」するものであるが、他端側、すなわち外壁５１と内壁５２の上面を密閉する壁に光透過部を有さず、かつ、該壁に光透過部を形成し得ないことは、（請求項１に係る発明について）で、述べたとおりである。
　また、充填液体を（請求項１に係る発明について）（２）で述べたように捉えたところで、甲第１号証のものは、そもそも該充填液体を収容する容器を有しない以上、該液体充填容器についての上記構成を容易に想到し得るものであるとは言えない。
　したがって、請求項５に係る発明は、甲第１号証又は甲第２号証と同一であるとすることはできず、また、甲第１号証乃至甲第２号証から容易に発明をすることができたものすることもできない。
（請求項６に係る発明について）
　請求項２に係る発明についての判断と同様である。
（請求項７に係る発明について）
　請求項６に係る発明についての判断と同様である（なお、半導体製造装置技術分野において、洗浄液に純水を用いること自体は、参考資料を持ち出すまでもなく、極めて慣用されていることである）。
【５】むすび
　以上のとおりであるから、特許異議の申立ての理由及び証拠によっては本件請求項１、２、５、６、７に係る発明の特許を取り消すことができない。
　また、他に本件請求項１、２、５、６、７に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年１２月１６日（２００２．１２．１６）