【事件の表示】
　特願２０１１−　９９０４５「リソグラフィ装置およびデバイス製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２３年１１月２４日出願公開、特開２０１１−２３８９２０、請求項の数（１４）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
 第１　手続の経緯 
　本願は、平成２３年４月２７日（パリ条約による優先権主張２０１０年５月５日、米国、２０１０年９月８日、米国）の出願であって、平成２４年１１月８日付けで手続補正がなされたが、平成２５年１月１１日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年５月１４日に拒絶査定不服審判が請求されると同時に手続補正がなされたものである。
　そして、平成２５年６月７日付けで審査官により作成された前置報告書について、同年７月１８日付けで審尋を行ったところ，審判請求人は同年１０月２日付けで回答書を提出した。
　
第２　平成２５年５月１４日付け手続補正（以下、「本件補正」という。）の適否
　
１．補正の内容
　本件補正は、特許請求の範囲を以下の下線部のとおりに補正するものである。
「【請求項１】
　パターニングデバイスから基板上へパターンを投影するリソグラフィ投影装置であって、
　使用中、約１００ｎｍ未満の距離だけ前記基板から間隔を置いて配置され、かつ内側部分および外側部分に分割される屈折型光エレメントである最終要素を有する投影システムと、
　前記最終要素の前記内側部分の位置および／または向きを制御するアクチュエータシステムと、
　前記投影システムの下で走査されようとしている前記基板の一部分上の粒子を検出する粒子ディテクタと、
を備え、
　前記外側部分に対向する前記内側部分の表面および前記内側部分に対向する前記外側部分の表面は、共に、実質的に球面状であり、かつ共通の中心を有し、
　前記アクチュエータシステムは、前記最終要素の前記内側部分を前記共通の中心の周りを回転させるものであり、
　
前記粒子ディテクタは、前記基板をクリーニングするクリーニングデバイスと前記投影システムとの間に位置決めされ、かつ、前記クリーニングデバイスによりクリーニングされかつ前記投影システムの下で走査されようとしている前記基板の一部分上の粒子を検出す
装置。
　　【請求項２】
　前記粒子ディテクタで粒子が検出された場合に前記最終要素を前記基板から離すように移動させる作動システムをさらに備える、
請求項
１に
　　【請求項３】
　前記最終要素の前記内側部分と前記外側部分との間にギャップが画定され、前記ギャップに流体を供給する流体供給システムをさらに備える、
請求項１
又は２
　　【請求項４】
　前記流体供給システムは、液体を前記ギャップに供給する、請求項
３
　　【請求項５】
　前記液体は、約１．４より大きい屈折率を有する、請求項
４
　　【請求項６】
　前記最終要素と前記基板との間の距離を検出するセンサシステムをさらに備える、請求項１から
５
　　【請求項７】
　放射ビームを前記最終要素の前記内側部分の側面内へと誘導し、前記基板に対向する前記最終要素の前記内側部分の表面上で前記放射ビームを内部反射させる、
請求項
６
　　【請求項８】
　前記アクチュエータシステムは、前記投影システムの光軸に沿った位置および前記光軸に垂直な軸周りの回転から成る群から選択される少なくとも１つの自由度で、前記最終要素の前記内側部分を制御する、
請求項１から
７
　　【請求項９】
　前記アクチュエータシステムは、前記投影システムの光軸に沿った前記最終要素の前記内側部分の前記位置および前記光軸に垂直な２つの直交軸周りの前記最終要素の前記内側部分の回転を制御する、
請求項１から
８
　　【請求項１０】
　前記最終要素の出射面から前記投影システム内へ後方反射した放射を検出する後方散乱検出システムをさらに備える、
請求項１から
９
　　【請求項１１】
　前記後方散乱検出システムは、前記最終要素の前記出射面上の３つの離れた位置から反射された放射のそれぞれの強度を検出する、
請求項
１０
　　【請求項１２】
　前記距離は、前記基板上に前記パターンを投影する投影ビームの波長未満である、請求項１から
１１
　　【請求項１３】
　放射のパターン付きビームを、前記パターン付きビーム投影する最終要素を有する投影システムを使って基板上に投影することであって、前記最終要素は約１００ｎｍ未満の距離だけ前記基板から間隔を置いて配置され、かつ内側部分および外側部分に分割される屈折型光エレメントである、投影することと、
　前記投影中、アクチュエータシステムを使って前記最終要素の前記内側部分の位置および／または向きを制御することと、
　
前記基板をクリーニングするクリーニングデバイスと前記投影システムとの間に位置決めされた
前記クリーニングデバイスによりクリーニングされかつ
を含み、
　前記外側部分に対向する前記内側部分の表面および前記内側部分に対向する前記外側部分の表面は、共に、実質的に球面状であり、かつ共通の中心を有し、
　前記アクチュエータシステムは、前記最終要素の前記内側部分を前記共通の中心の周りを回転させる、
デバイス製造方法。
　　【請求項１４】
　前記粒子ディテクタで粒子が検出された場合に、作動システムで前記最終要素を前記基板から離すように移動させることをさらに含む、
請求項
１３
　
２．補正の適否
　本件補正は、請求項１に記載した発明を特定するために必要な事項である「粒子ディテクタ」について、「前記粒子ディテクタは、前記基板をクリーニングするクリーニングデバイスと前記投影システムとの間に位置決めされ、かつ、前記クリーニングデバイスによりクリーニングされかつ前記投影システムの下で走査されようとしている前記基板の一部分上の粒子を検出する」との限定を付加し、請求項２を削除し、それに伴い請求項３から１４をそれぞれ一項ずつ繰り上げ、引用する請求項２に相当する請求項を削除し、請求項１４に記載した発明を特定するために必要な事項である「粒子ディテクタで、前記投影システムの下で走査されようとしている前記基板の一部分上の粒子を検出すること」について、「前記基板をクリーニングするクリーニングデバイスと前記投影システムとの間に位置決めされた粒子ディテクタで、前記クリーニングデバイスによりクリーニングされかつ前記投影システムの下で走査されようとしている前記基板の一部分上の粒子を検出すること」との限定を付加するものであって、特許法第１７条の２第５項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　また、特許法第１７条の２第３項、第４項に違反するところはない。
そこで、本件補正後の前記請求項１ないし１４に記載された発明（以下、「本願発明１」ないし「本願発明１４」という。）が特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定（特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか）について以下に検討する。
　
（１）刊行物の記載事項
ア　原査定の拒絶理由において引用され、本願の出願前に頒布された刊行物、特開２００６−４５９６号公報（以下「引用文献１」という。）には下記の記載がある。（なお、下線は摘記箇所を示すために当審で引いたものである。）
　
（ア）「【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
　 
本発明は、近接場光を用いて信号の記録及び再生のうち少なくとも一方を行う光記録再生装置に適用して好適な光学ピックアップ装置、光記録再生装置及びギャップ検出方法に係わる。
【背景技術】
【０００２】
  近年、記録密度の高密度化、大容量化の要求から、開口数の大なる集光レンズを利用して、光記録媒体に対して近接場光を照射して記録、再生を行う方法が種々提案されている。このような近接場光を利用する集光レンズとして、ソリッドイマージョンレンズ（Solid Immersion Lens：以下、ＳＩＬと表記）と非球面レンズ等の光学レンズとを組み合わせた開口数1以上を実現する集光レンズが提案されている。
【０００３】
  近接場光を用いた光記録再生装置において、光ヘッドのＳＩＬなどの先端側レンズの端面と、光記録媒体の信号の記録面との距離は、入射光の波長の１／４程度とされ、現在用いられている光源の波長範囲では略１００ｎｍ以下が要求される。
  このため、このようなソリッドイマージョンレンズがわずかでも傾いて、いわゆるチルト角を持っていると、光記録媒体の記録面と容易に衝突する可能性があり、衝突した場合には記録面の損傷を生じるなどの不都合を生じ、正常に記録又は再生を行うことが困難になってしまう恐れがある。
【０００４】
  近接場光を用いるニアフィールド光学系に対して、近接場光を用いない通常のいわゆるファーフィールドの光学系を用いた光学ピックアップ装置においては、例えばチルト検出用レーザーを、回折格子により分離し、各スポットでのフォーカス信号を非点収差法やナイフエッジ法等で求め、これらが等しくなるようにチルトを補正する方法が提案されている（例えば特許文献１参照。）
【０００５】
  また、同様に近接場光を用いない通常の光学ピックアップ装置において、チルト用検出レーザー光を回折格子により分離して、複数のスポットからチルトセンサーによりチルト量を求める方法が提案されている（例えば特許文献２参照。）。
【特許文献１】特開2002-197699号公報
【特許文献２】特開2000-155969号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
  しかしながら、近接場光を用いる光学ピックアップ装置においては、上述の従来方法によるフォーカス信号を用いたチルト検出やギャップ検出を行うことができない。
  また、外部のチルトセンサーやギャップセンサーを用いる場合は、装置構成が複雑となり、またコスト高を招来するという問題がある。あるいは、外部センサーによるチルト検出位置またはギャップ検出位置と記録再生位置とが異なるため、別途、両者の位相を合致させることが必要となる。
【０００７】
  以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、近接場光による記録及び／又は再生を行う光ピックアップ装置、光記録再生装置において、記録及び／又は再生に用いる光ピックアップとは別体の外部センサーの設置を必要とせず、自動的にチルト制御及び／又はギャップ制御を行うことが可能な光学ピックアップ装置、光記録再生装置及びギャップ検出方法を提供することを目的とする。」
（イ）「【００２１】
（１）第1の実施の形態例
  
図１は、本発明による光学ピックアップ装置を備えた光記録再生装置の一例の概略構成図である。この例においては、一つの光源から出射された光を回折格子（グレーティング）により複数の光ビームに分離して、この複数の光ビームを近接場光としてヘッド部４２により光記録媒体９に照射する例を示し、また、チルト制御部４６及びチルト駆動部４３とともに、ギャップ制御部４７及びギャップ駆動部４４を設けて、ヘッド部４２と光記録媒体９との間隔すなわちギャップを制御し、またヘッド部４２と光記録媒体９との傾きすなわちチルトを制御する構成とする例を示す。
　【００２２】
  
図１に示すように、この例においては、情報源１からの情報に基づき例えばディスク状の光記録媒体９に記録を行う場合の光照射態様の一例を示し、レーザーダイオード（ＬＤ）等より成る光源３から出射される光ビームは、情報源１により情報信号に対応して変調され、また自動パワー制御手段（ＡＰＣ）２により出力が制御される。そしてこの出射光は、光学部４１においてコリメーターレンズ４により平行光とされ、グレーティング５により複数の光ビームに分割され、ビームスピリッター６、ミラー７を介して、ヘッド部４２に入射される。ヘッド部４２には、非球面レンズ等より成る第1のレンズ１６及びソリッドイマージョンレンズ（ＳＩＬ）等より成る第２のレンズ１０から構成される開口数1以上を達成する集光レンズによって近接場光を光記録媒体９に照射する光学系が構成される。ヘッド部４２は、それぞれチルト駆動部４３、ギャップ駆動部４４を構成するアクチュエーター８、１７に例えばＳＩＬ等の第２のレンズ１０及び第1のレンズ１６が設置されて構成される。そして、光学部４１から出射された光ビームはヘッド部４２により光記録媒体９の情報が記録される記録面に近接場光として照射される。
 
【００２３】  なお、光記録媒体９は、これを回転移動する回転手段１５等より成る移動機構部４８に保持され、図示しないが例えばヘッド部４２側を光記録媒体９の記録面に沿って平行移動する水平移動機構との連動によって、ヘッド部４２から照射される近接場光が光記録媒体９の盤面に沿って例えばスパイラル状、または同心円状の記録トラックに沿って走査される構成とする。」
【００２４】
　図１においては、１つの光路のみを示しているが、図２Ａ及びＢにおいては、上述のグレーティング５により３本のビームに分離した場合の光記録媒体９上に形成されるスポット２１〜２３の平面構成を示す。図２Ａは、トラック２０の延長方向に対して直交する方
向にスポット２１〜２３が配列されている例を示し、図２Ｂは、トラック２０の延長方向に平行にスポット２１〜２３が配列されている例を示している。
 
　　　　　　　　 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　【００２５】
  なお、後述するように、図２Ａに示すスポットの配列方向はラジアル方向、図２Ｂに示すスポットの配列方向はタンジェンシャル方向のチルトを検出することができる。
  ここで、図３に示すように、ディスク状の光記録媒体９に対し、破線ｘ、ｙ及びｚをそれぞれトラッキング方向、トラックの延長する例えば円周の接線方向、光記録媒体９とヘッド部４２との間隔を調整するいわゆるギャップ方向とすると、ラジアル方向及びタンジェンシャル方向のチルトは、矢印ｒ及びｔで示すように、それぞれ破線ｘ及びｙを回転軸とする回転方向の傾きである。
【００２６】
  このようにして配列されたスポットの検出態様について、再び図１を参照して説明する。この場合、光記録媒体９から反射された光は、ヘッド部４２を介してビームスプリッター６により反射されて、フォトディテクター（ＰＤ）１１より成る光検出部４５において検出される。
  フォトディテクター１１は、図示しないが、上述の複数のスポットからの戻り光を受光するため、スポットと同数の受光部を有する構成とし得る。
【００２７】
  そしてこのようにして検出された戻り光量が、チルトサーボ１２、ギャップサーボ１３に入力され、後述する検出方法に基づいて、検出光量値から制御信号に変換される。すなわちこの場合チルト制御信号Ｓｇ、ギャップ制御信号Ｓｔが出力され、各アクチュエーター８、１７によるチルト駆動部４３、ギャップ駆動部４４に入力されてチルト及びギャップの補正がなされる。その結果、第２のレンズ１０と光記録媒体９とのギャップが一定に保持され、また、第２のレンズ１０の端面と光記録媒体９とのチルトが略ゼロになり、すなわち、第２のレンズ１０の端面と光記録媒体９が略平行なるように保持される。」
　
　
イ　原査定の拒絶理由において引用され、本願の出願前に頒布された刊行物、再公表特許第２００４／１１４３８０号（以下「引用文献２」という。）には下記の記載がある。（なお、下線は摘記箇所を示すために当審で引いたものである。）
　
（ア）「【技術分野】
【０００１】
　
本発明は、露光装置及びデバイス製造方法に係り、更に詳しくは、半導体素子、液晶表示素子等の電子デバイスの製造におけるリソグラフィ工程で用いられる露光装置及び該露光装置を用いたデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
  半導体素子（集積回路）、液晶表示素子等の電子デバイスを製造するリソグラフィ工程では、マスク又はレチクル（以下、「レチクル」と総称する）のパターンの像を投影光学系を介して、レジスト（感光剤）が塗布されたウエハ又はガラスプレート等感光性の基板（以下、「基板」又は「ウエハ」と呼ぶ）上の各ショット領域に転写する投影露光装置が使用されている。この種の投影露光装置としては、従来、ステップ・アンド・リピート方式の縮小投影露光装置（いわゆるステッパ）が多用されていたが、最近ではレチクルとウエハとを同期走査して露光を行うステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ）も注目されている。
【０００３】
  投影露光装置が備える投影光学系の解像度は、使用する露光光の波長（以下、「露光波長」とも呼ぶ）が短くなるほど、また投影光学系の開口数（ＮＡ）が大きいほど高くなる。そのため、集積回路の微細化に伴い投影露光装置で使用される露光波長は年々短波長化しており、投影光学系の開口数も増大してきている。そして、現在主流の露光波長は、ＫｒＦエキシマレーザの２４８ｎｍであるが、更に短波長のＡｒＦエキシマレーザの１９３ｎｍも実用化されている。
【０００４】
  また、露光を行う際には、解像度と同様に焦点深度（ＤＯＦ）も重要となる。解像度Ｒ、及び焦点深度δはそれぞれ以下の式で表される。
【０００５】
  Ｒ＝ｋ１・λ／ＮＡ        ……（１）
  δ＝ｋ２・λ／ＮＡ２        ……（２）
【０００６】
  ここで、λは露光波長、ＮＡは投影光学系の開口数、ｋ１，ｋ２はプロセス係数である。（１）式、（２）式より、解像度Ｒを高めるために、露光波長λを短くして、開口数ＮＡを大きく（大ＮＡ化）すると、焦点深度δが狭くなることが分かる。投影露光装置では、オートフォーカス方式でウエハの表面を投影光学系の像面に合わせ込んで露光を行っているが、そのためには焦点深度δはある程度広いことが望ましい。そこで、従来においても位相シフトレチクル法、変形照明法、多層レジスト法など、実質的に焦点深度を広くする提案がなされている。
【０００７】
  上記の如く従来の投影露光装置では、露光光の短波長化及び投影光学系の大ＮＡ化によって、焦点深度が狭くなってきている。そして、集積回路の一層の高集積化に対応するために、露光波長は将来的に更に短波長化することが確実視されており、このままでは焦点深度が狭くなり過ぎて、露光動作時のマージンが不足するおそれがある。
【０００８】
  そこで、実質的に露光波長を短くして、かつ空気中に比べて焦点深度を大きく（広く）する方法として、液浸露光法（以下、適宜「液浸法」とも呼ぶ）が提案されている。この液浸法は、投影光学系の下面とウエハ表面との間を水又は有機溶媒等の液体で満たし、液体中での露光光の波長が、空気中の１／ｎ倍（ｎは液体の屈折率で通常１．２〜１．６程度）になることを利用して解像度を向上すると共に、その解像度と同一の解像度が液浸法によらず得られる投影光学系（このような投影光学系の製造が可能であるとして）に比べて焦点深度をｎ倍に拡大する、すなわち空気中に比べて焦点深度を実質的にｎ倍に拡大するものである。
【０００９】
  上記の液浸法を、ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置に単に適用するものとすると、１つのショット領域の露光を終了した後、次のショット領域を露光位置に移動するためのウエハのショット間ステップ移動の際に、投影光学系とウエハとの間から液体が出てしまう。このため、再び液体を供給する必要があるとともに、液体の回収も困難になるおそれがあった。また、液浸法を仮にステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置に適用する場合、ウエハを移動させながら露光を行うため、ウエハを移動させている間も投影光学系とウエハとの間には液体が満たされている必要がある。
【００１０】
  かかる点に鑑みて、最近になって、「基板を所定方向に沿って移動させる際に、投影光学系の基板側の光学素子の先端部とその基板の表面との間を満たすように、その基板の移動方向に沿って所定の液体を流すようにした、投影露光方法及び装置に関する発明」が提案されている（例えば、下記特許文献１参照）。
【００１１】
  この他、液浸露光法と同様に、解像度の向上を目的とするものとして、投影リソグラフィ・レンズ系（投影光学系）とサンプルとの間にソリッドイマージョンレンズ（Ｓｏｌｉｄ  Ｉｍｍｅｒｓｉｏｎ  Ｌｅｎｓ）を配置した、リソグラフィシステムが知られている（例えば下記特許文献２参照）。
【００１２】
  下記特許文献１に記載の発明によると、液浸法による高解像度かつ空気中と比べて焦点深度が大きくなった露光を行うことができるとともに、投影光学系とウエハとが相対移動しても、投影光学系と基板との間に液体を安定に満たしておくこと、すなわち保持することができる。
【００１３】
  しかしながら、下記特許文献１に記載の発明では、投影光学系の外部に供給用配管、回収用配管などが配置されているため、投影光学系の周囲に配置する必要がある、フォーカスセンサやアライメントセンサなどの各種センサなどの周辺機器の配置の自由度が制限される。
【００１４】
  また、下記特許文献１に記載の発明では、投影光学系と基板との間の液体に流れがあると、その液体に露光光が照射されることによって、パターンの投影領域内で投影光学系と基板との間にその流れの方向に関する温度傾斜や、圧力傾斜が発生する可能性があり、特に投影光学系と基板との間隔、すなわち液体の層が厚い場合、上記温度傾斜や圧力傾斜が像面傾斜などの収差の要因となり、パターンの転写精度の部分的な低下、ひいてはパターンの転写像の線幅均一性の悪化要因となるおそれもあった。このため、液体の層は薄い方が望ましいが、この場合、投影光学系と基板との間隔が狭くなり、フォーカスセンサの配置が困難になってしまう。
【００１５】
  また、下記特許文献１に記載の発明では、完全に液体を回収するのが困難であり、露光後、ウエハ上に液浸に用いた液体が残る蓋然性が高かった。このような場合、残った液体が蒸発する際の気化熱によって雰囲気中に温度分布が生じ、あるいは雰囲気の屈折率変化が生じ、これらの現象が、そのウエハが載置されたステージの位置を計測するレーザ干渉計の計測誤差の要因となるおそれがあった。また、ウエハ上に残留した液体がウエハの裏側に回り込み、ウエハが搬送アームに密着して離れにくくなったりするおそれもあった。
【００１６】
  一方、下記特許文献２に記載のリソグラフィシステムでは、ソリッドイマージョンレンズ（以下、適宜「ＳＩＬ」と略述する）とサンプルとの間隔を５０ｎｍ程度以下に保つようにされているが、近い将来の目標とされている線幅７０ｎｍ程度以下の微細パターンをサンプル（ウエハ等）上に転写、形成するリソグラフィシステムでは、ＳＩＬとサンプルとの間に厚さ５０ｎｍの空気層が存在したのでは、上記微細パターンの像の十分な解像度を得ることが困難である。すなわち、上記微細パターン像の十分な解像度を得るためには、ＳＩＬとサンプルとの間隔を最大でも３０ｎｍ以下に保つ必要がある。
【００１７】
  しかしながら、下記特許文献２に記載のリソグラフィシステムでは、エアベアリング（空気ベアリング）を用いてＳＩＬとサンプルとの間隔を保つ構成が採用されているため、エアベアリングの性質上十分な振動減衰性を得ることが困難であり、その結果、ＳＩＬとサンプルとの間隔を３０ｎｍ以下に保つことができなかった。
【００１８】
  このように、下記特許文献１、２などに開示される従来例には、数々の改善すべき点が散見される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２０】
  本発明は、上述したような事情の下になされたもので、その第１の目的は、焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どない基板上へのパターンの転写を実現することが可能な露光装置を提供することにある。
【００２１】
  また、本発明の第２の目的は、液浸法に好適な複数のテーブルを備えた露光装置を提供することにある。
【００２２】
  また、本発明の第３の目的は、高集積度のマイクロデバイスの生産性の向上を図ることが可能なデバイス製造方法を提供することにある。」
（イ）「【００４８】
《第１の実施形態》
  以下、本発明の第１の実施形態について、図１〜図６に基づいて説明する。
【００４９】
  
図１には、第１の実施形態に係る露光装置１００の概略構成が示されている。この露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ）である。この露光装置１００は、照明系１０、マスクとしてのレチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴ、光学ユニットＰＵ、基板としてのウエハＷが搭載されるテーブルとしてのウエハテーブルＴＢ、及び装置全体を統括制御する主制御装置２０等を備えている。
・・・
【００５５】
  
前記光学ユニットＰＵは、レチクルステージＲＳＴの図１における下方に配置されている。光学ユニットＰＵは、鏡筒４０と、該鏡筒内に所定の位置関係で保持された複数の光学素子、具体的にはＺ軸方向の共通の光軸ＡＸを有する複数のレンズ（レンズエレメント）から成る光学系４２とを備えている。また、本実施形態では、鏡筒４０の下端（光学系４２を構成する最も像面側（ウエハＷ側）の光学素子（光学部材）を保持する鏡筒４０部分の先端）に液体静圧軸受としての水圧パッド３２が一体的に取り付けられ、該水圧パッド３２の中央部の開口の内部にソリッドイマージョンレンズ（以下、「ＳＩＬ」と略述する）２２が配置されている（図３参照）。このＳＩＬ２２は、平凸レンズから成り、その平面（以下、便宜上「下面」と呼ぶ）を下方に向け、その下面が水圧パッド３２の軸受面とほぼ同一面とされている。ＳＩＬ２２は、屈折率ｎ
ＳＩＬ
が２〜２．５程度の素材によって形成されている。
 【００５６】 
本実施形態では、鏡筒４０内部の光学系４２とＳＩＬ２２とによって、例えば両側テレセントリックで所定の投影倍率（例えば１／４倍又は１／５倍）の屈折光学系から成る投影光学系が実質的に構成されている。以下、この投影光学系を投影光学系ＰＬと記述する。
【００５７】
  この場合、照明系１０からの照明光ＩＬによってレチクルＲの照明領域が照明されると、このレチクルＲを通過した照明光ＩＬにより、投影光学系ＰＬを介してその照明領域内のレチクルＲの回路パターンの縮小像（回路パターンの一部の縮小像）が表面にレジスト（感光剤）が塗布されたウエハＷ上の前記照明領域に共役な照明光の照射領域（以下、「露光領域」とも呼ぶ）に形成される。
【００５８】
  また、図示は省略されているが、光学系４２を構成する複数のレンズのうち、特定の複数のレンズは、主制御装置２０からの指令に基づいて、結像特性補正コントローラ８１によって制御され、投影光学系ＰＬの光学特性（結像特性を含む）、例えば倍率、ディストーション、コマ収差、及び像面湾曲（像面傾斜を含む）などを調整できるようになっている。
【００５９】
  なお、上記の水圧パッド３２及びこれに接続された配管系の構成等については後に詳述する。
・・・
【００７５】
  次に、水圧パッド３２、３４及びこれらに接続された配管系について、図３、及び図４に基づいて説明する。
 【００７６】
  光学ユニットＰＵの鏡筒４０の像面側の端部（下端部）には、図３に示されるように、下方に行くにつれてその直径が小さくなるテーパ部４０ａが形成されている。この場合、テーパ部４０ａの内部に光学系４２を構成する最も像面側のレンズ（不図示）、すなわち投影光学系ＰＬを構成する像面に２番目に近いレンズが配置されている。
【００７７】
  鏡筒４０の下方に取り付けられた水圧パッド３２は、一例として、外径が６０ｍｍ、内径が３５ｍｍ程度で、高さが２０ｍｍ〜５０ｍｍ程度の厚肉の円筒状（ドーナツ状）の形状を有するものが用いられている。この水圧パッド３２は、その軸受面（底面）が、ＸＹ平面に平行になる状態で、鏡筒４０の下端面に軸受面と反対側の面（上面）が固着されている。この結果、本実施形態では、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸ方向に関し、水圧パッド３２と投影光学系ＰＬとの位置関係が一定に維持されるようになっている。
【００７８】
  水圧パッド３２の軸受面（底面）には、図３及び水圧パッド３２の底面図である図４を総合するとわかるように、液体排出溝（及び溝）としての円環状の排水溝６８、液体供給溝（及び溝）としての円環状の給水溝７０、及び液体排出溝（及び溝）としての円環状の排水溝７２が、内側から外側に順次、かつ同心円状に形成されている。なお、図３においては、これらの３つの溝６８，７０，７２の内、中央の給水溝７０の溝幅が残りの二つの溝の溝幅の約２倍程度とされているが、溝７０と溝７２の面積比は、各陽圧、負圧による力が丁度つりあうように決定される。
【００７９】
  排水溝７２の内部底面（図３の内部上面）には、上下方向に貫通する貫通孔７４が、ほぼ等間隔で複数形成され、各貫通孔７４に排水管７６の一端がそれぞれ接続されている。
【００８０】
  同様に、給水溝７０の内部底面（図３の内部上面）には、上下方向に貫通する貫通孔７８が、ほぼ等間隔で複数形成され、各貫通孔７８に給水管８０の一端がそれぞれ接続されている。
【００８１】
  同様に、排水溝６８の内部底面（図３の内部上面）には、上下方向に貫通する貫通孔８２が、ほぼ等間隔で複数形成され、各貫通孔８２に排水管８４の一端がそれぞれ接続されている。
【００８２】
  上記各給水管８０の他端は、バルブ８６ａをそれぞれ介して、液体供給装置８８にその一端が接続された供給管路９０の他端にそれぞれ接続されている。液体供給装置８８は、液体のタンク、加圧ポンプ、温度制御装置等を含んで構成され、主制御装置２０によって制御される。この場合、対応するバルブ８６ａが開状態のとき、液体供給装置８８が作動されると、例えば露光装置１００（の本体）が収納されているチャンバ（図示省略）内の温度と同程度の温度に温度制御装置によって温調された液浸用の所定の液体が、供給管路９０、給水管８０及び貫通孔７８を順次介して、水圧パッド３２の給水溝７０内部に供給される。なお、以下では、各給水管８０に設けられたバルブ８６ａを纏めて、バルブ群８６ａとも記述する（図６参照）。
【００８３】
  上記の液体としては、ここでは、ＡｒＦエキシマレーザ光（１９３．３ｎｍの光）が透過する超純水（以下、特に必要な場合を除いて、単に「水」と記述する）を用いるものとする。超純水は、半導体製造工場等で容易に大量に入手できると共に、ウエハ上のフォトレジストや光学レンズ等に対する悪影響がない利点がある。また、超純水は環境に対する悪影響がないと共に、不純物の含有量が極めて低いため、ウエハの表面、及びＳＩＬ２２の表面を洗浄する作用も期待できる。
【００８４】
  前記各排水管７６の他端は、バルブ８６ｂをそれぞれ介して、液体回収装置９２にその一端が接続された排水路９４の他端にそれぞれ接続されている。液体回収装置９２は、液体のタンク及び真空ポンプ（又は吸引ポンプ）等を含んで構成され、主制御装置２０によって制御される。この場合、対応するバルブ８６ｂが開状態のとき、水圧パッド３２の軸受面とウエハＷ表面との間の、排水溝７２近傍に存在する水が排水管７６を介して液体回収装置９２によって回収される。なお、以下では、各排水管７６に設けられたバルブ８６ｂを纏めて、バルブ群８６ｂとも記述するものとする（図６参照）。
【００８５】
  また、前記各排水管８４の他端は、不図示の水槽の内部空間に引き込まれ、その水槽の内部空間は、大気中に開放されている。
・・・
【００９３】
  図６には、露光装置１００の制御系の構成が一部省略してブロック図にて示されている。この制御系は、ワークステーション（又はマイクロコンピュータ）などから成る主制御装置２０を中心として構成されている。
【００９４】
  ここで、本実施形態の露光装置１００における、水圧パッド３２、３４によるウエハテーブルＴＢの支持について、主制御装置２０の動作を含めて、図３、図５及び図６等を参照して説明する。
【００９５】
  まず、ウエハテーブルＴＢが、静止状態にある、例えば、水圧パッド３２、３４によってウエハテーブルＴＢの支持が開始されるときの様子を説明する。
【００９６】
 
 主制御装置２０は、まず、バルブ群８６ａを所定の開度で開いた状態で、液体供給装置８８から上側の水圧パッド３２に対して給水を開始するとともに、バルブ群８６ｂを所定の開度で開いた状態で、液体回収装置９２の作動を開始させる。これにより、液体供給装置８８から給水路９０及び各給水管８０を介して水圧パッド３２の給水溝７０内部に所定の圧力（陽圧）の水が送り込まれ、この送り込まれた水の一部が水圧パッド３２の給水溝７０内部及び水圧パッド３２の軸受面とウエハＷとの間を介して排水溝７２、各貫通孔７４、排水管７６及び排水路９４を介して液体回収装置９２に回収される（図５参照）。
【００９７】
  また、主制御装置２０は、上述の水圧パッド３２に対する給水の開始とほぼ同時に、バルブ群８６ｃを所定の開度で開いた状態で、液体供給装置１１４から下側の水圧パッド３４に対して給水を開始するとともに、バルブ群８６ｄ、８６ｅをそれぞれ所定の開度で開いた状態で、液体回収装置１１６の作動を開始させる。これにより、液体供給装置１１４から給水路及び各給水管１０８を介して水圧パッド３４の給水溝１０２内部に所定の圧力（陽圧）の水が送り込まれ、この送り込まれた水が水圧パッド３４の給水溝１０２内部及び水圧パッド３４の軸受面とウエハテーブルＴＢとの間の空間に行き渡った後、排水溝１０４，１０６及び各貫通孔、並びに配水管１１０，１１２を介して液体回収装置１１６に回収される（図５参照）。このとき、主制御装置２０は、水圧パッド３４に供給される水の量と、水圧パッド３４の排水溝１０４，１０６を介して排出される水の量とが、ほぼ一致するようにバルブ群８６ｄ，８６ｅの各バルブの開度、液体供給装置１１４からの供給される水の圧力、液体回収装置１１６が各配水管１１０、１１２の内部に生じさせる負圧などを設定している。この結果、常に一定量の水が水圧パッド３４とウエハテーブルＴＢとの間に満たされるようになっている。従って、水圧パッド３４の軸受面とウエハテーブルＴＢの裏面との間の水の層の厚さが常に一定となり、高剛性でウエハテーブルＴＢが水圧パッド３４によって支持される。このとき、水圧パッド３４とウエハテーブルＴＢとの間の水の圧力は、上側の水圧パッド３２に対する予圧力（与圧力）として作用する。すなわち、ウエハテーブルＴＢは、常に一定の力で下方から押圧されている。
【００９８】
  このとき
、主制御装置２０は、水圧パッド３２に対する給水量が、排水溝７２から排水される量より僅かに多くなるように、
設定している。このため、水圧パッド３２に供給され、排水溝７２から排水されなかった残りの水は、水圧パッド３２の軸受面とウエハＷとの間の空間（ＳＩＬ２２下の空間を含む）を満たした後、排水溝６８に形成された各貫通孔８２，排水管８４を介して外部に排水される。
　【００９９】
  
ここで、排水溝６８は、大気開放された受動的な排水溝となっているので、ＳＩＬ２２とウエハＷとの間に存在する水は大気開放された状態になっている。従って、ＳＩＬ２２には、殆ど水圧がかからず、ストレス（応力）が発生しない。
　【０１００】
  
この一方、給水溝７０内部近傍の水は、高い圧力（陽圧）がかかっており、高い負荷容量と剛性を水圧パッド３２に与えている。また、水圧パッド３２とウエハＷ表面との間には、常時一定量の水が送り込まれ、この送り込まれた水のうちの一部の一定量の水が液体回収装置９２によって常時回収されている。この結果、水圧パッド３２の軸受面とウエハＷ表面との間の隙間（いわゆる軸受け隙間）が一定に維持されている。
　【０１０１】
  従って、本実施形態では、ウエハテーブルＴＢ及び該ウエハテーブルＴＢ上に載置されたウエハＷのＳＩＬ２２の周辺領域部分は、水圧パッド３２、３４によって上下から狭持された状態で、かつ高い剛性で支持されている。
【０１０２】
  そして、ウエハテーブルＴＢが、所定方向、例えば図５中に矢印Ｃで示される方向に移動する際には、ＳＩＬ２２の下方に同図に矢印Ｆで示されるような水の流れが生じる。この矢印Ｆで示される流れは、非圧縮性の粘性流体であり、かつニュートンの粘性の法則が成り立つニュートン流体である水が、ウエハＷ表面とＳＩＬ２２下面との相対変位によりせん断力を受けることに起因して生じる、層流クエット（Ｃｏｕｅｔｔｅ）流れである。
【０１０３】
  
本実施形態の露光装置１００では、ウエハテーブルＴＢ及びウエハＷが、水圧パッド３２、３４によって上述のようにして狭持され、かつ駆動されるとき、例えば後述するウエハテーブルＴＢのショット間ステッピング時及びスキャン露光時などには、その駆動方向に応じた向きの層流クエット流れが生じるので、ＳＩＬ２２下方の水が入れ替わるようになっている。
　【０１０４】
  上述のようにして構成された本実施形態の露光装置１００では、通常のスキャニング・ステッパと同様に、不図示のレチクルアライメント系、アライメント検出系ＡＬＧ及び前述した基準マーク板ＦＭなどを用いた、レチクルアライメント、アライメント検出系ＡＬＧのベースライン計測、並びにＥＧＡ（エンハンスト・グローバル・アライメント）等のウエハアライメントなどの所定の準備作業が行われる。なお、上記のレチクルアライメント、ベースライン計測等の準備作業については、例えば特開平７−１７６４６８号公報及びこれに対応する米国特許第５，６４６，４１３号に詳細に開示され、これに続くＥＧＡについては、特開昭６１−４４４２９号公報及びこれに対応する米国特許第４，７８０，６１７号等に詳細に開示されている。本国際出願で指定した指定国（又は選択した選択国）の国内法令が許す限りにおいて、上記各公報及びこれらに対応する上記米国特許における開示を援用して本明細書の記載の一部とする。
【０１０５】
  そして、ウエハアライメントが終了すると、主制御装置２０により、前述した水圧パッド３２、３４に対する給水動作が開始され、前述のようにして、ウエハテーブルＴＢ及び該ウエハテーブルＴＢ上に載置されたウエハＷが、水圧パッド３２、３４によって高剛性で狭持される。
【０１０６】
  次いで、主制御装置２０によって、ウエハアライメントの結果に基づいて、ウエハＷ上の第１番目の区画領域としての第１ショット領域（ファーストショット）の露光のための加速開始位置に駆動装置５０を介してウエハテーブルＴＢが移動される。
【０１０７】
  上記の加速開始位置へのウエハＷの移動が終了すると、主制御装置２０が、レチクルステージ駆動部１１及び駆動装置５０の第１駆動機構（Ｙ軸リニアモータ６４Ａ，６４Ｂ及びボイスコイルモータ６６Ａ，６６Ｂ）を介してレチクルステージＲＳＴとウエハテーブルＴＢとのＹ軸方向の相対走査を開始する。そして、レチクルステージＲＳＴとウエハテーブルＴＢとが、それぞれの目標走査速度に達し、等速同期状態に達すると、照明系１０からの照明光（紫外パルス光）ＩＬによってレチクルＲのパターン領域が照明され始め、走査露光が開始される。上記の相対走査は、主制御装置２０が前述したエンコーダ９６、並びにレチクル干渉計１６の計測値をモニタしつつ、レチクルステージ駆動部１１及び上記第１駆動機構を制御することにより行われる。
【０１０８】
  主制御装置２０は、特に上記の走査露光時には、レチクルステージＲＳＴのＹ軸方向の移動速度ＶｒとウエハテーブルＴＢのＹ軸方向の移動速度Ｖｗとが、投影光学系ＰＬの投影倍率に応じた速度比に維持されるように同期制御を行う。
【０１０９】
  そして、レチクルＲのパターン領域の異なる領域が紫外パルス光で逐次照明され、パターン領域全面に対する照明が完了することにより、ウエハＷ上のファーストショットの走査露光が終了する。これにより、レチクルＲのパターンが投影光学系ＰＬを介してファーストショットに縮小転写される。
【０１１０】
  このようにして、ウエハＷ上のファーストショットに対する走査露光が終了すると、主制御装置２０により、駆動装置５０の第２駆動機構（Ｘ軸リニアモータ５８Ａ，５８Ｂ）を介してウエハテーブルＴＢが例えばＸ軸方向にステップ移動され、ウエハＷ上のセカンドショット（第２番目の区画領域としてのショット領域）の露光のための加速開始位置に移動される。次に、主制御装置２０の管理の下、ウエハＷ上のセカンドショットに対して前述と同様の走査露光が行われる。
【０１１１】
  このようにして、ウエハＷ上のショット領域の走査露光とショット領域間のステッピング動作とが繰り返し行われ、ウエハＷ上の複数の区画領域としてのショット領域にレチクルＲの回路パターンが順次転写される。
【０１１２】
  ここで、上記のウエハテーブルＴＢのショット間ステッピング時及びスキャン露光時などには、ウエハテーブルＴＢのその駆動方向に応じた向きの前述した層流クエット流れが生じるので、ＳＩＬ２２下方の水が常時入れ替わる。従って、露光装置１００では、新鮮で温度の安定した水を常に用いて液浸露光が行われるようになっている。
【０１１３】
  また、例えば、ウエハＷ上の周辺ショット領域を露光する場合などには、水圧パッド３２の軸受面の少なくとも一部が、ウエハＷから外れることがあるが、ウエハテーブルＴＢ上には、ウエハＷの周辺に前述の補助プレート２４が設けられているので、水圧パッド３２の軸受面の全域が、ウエハＷ又は補助プレートのいずれかに対向した状態が維持される。この場合、前述のように、補助プレート２４の上方に水圧パッド３２が位置する状態では、水圧パッド３２の陽圧と負圧とのバランスにより、補助プレート２４の上面がウエハＷ上面と一致する高さまで上昇するようになっていることから、水圧パッド３２に供給された水を、水圧パッド３２と補助プレート２４又はウエハＷとで狭持することができるので、水の漏出を防ぐことができる。
【０１１４】
  これまでの説明から明らかなように、本実施形態では、水圧パッド３２、液体供給装置８８、液体回収装置９２及びこれらに接続された給排水系（具体的には、排水管７６、給水管８０、排水管８４、バルブ群８６ａ、８６ｂ、供給管路９０及び排水路９４）によって、液体軸受装置が構成されている。
【０１１５】
  以上詳細に説明したように、
本実施形態の露光装置１００によると、上記の液体静圧軸受装置によって、水圧パッド３２の軸受面とウエハテーブルＴＢ上に載置されたウエハＷの表面との投影光学系ＰＬの光軸ＡＸ方向（Ｚ軸方向）に関する間隔が、所定寸法（例えば１０μｍ程度）に維持される。また、ウエハテーブルＴＢの裏面側には、水圧パッド３２に対向して流体静圧軸受としての水圧パッド３４が配置され、該水圧パッド３４によってウエハテーブルＴＢの裏面に対向する軸受面とウエハテーブルとの間に水を供給して該水の静圧によりその軸受面とウエハテーブルＴＢの裏面との隙間が維持されている。この結果、ウエハテーブルＴＢと該ウエハテーブルＴＢ上のウエハＷとが、水圧パッド３２と水圧パッド３４とによって、上下から狭持される。この場合、水圧パッド３２、３４それぞれの軸受面とウエハＷ又はウエハテーブルＴＢとの間隔を、例えば１０μｍ程度以下に安定してかつ一定に保つことができる。水圧パッドなどの液体静圧軸受は、気体静圧軸受とは異なり、軸受面と支持対象物（ウエハＷ又はウエハテーブルＴＢ）との間の非圧縮性流体である水（液体）の静圧を利用するので、軸受の剛性が高く、軸受面と支持対象物との間隔を、安定してかつ一定に保つことができる。また、水（液体）は気体（例えば空気）に比べて、粘性が高く、液体は振動減衰性が気体に比べて良好である。この結果、ウエハテーブルＴＢ及びウエハＷは、その移動時に少なくとも露光領域及びその近傍の部分では、Ｚ軸方向（光軸ＡＸ方向）の位置ずれが生じないようになっている。
　【０１１６】
  従って、本実施形態の露光装置１００によると、フォーカスセンサなどの焦点位置検出系を特に設けなくても、ウエハテーブルＴＢの移動に起因するデフォーカスの発生をほぼ確実に防止した状態で、レチクルＲのパターンをウエハＷ上の複数のショット領域に転写することが可能となる。
【０１１７】
  また、本実施形態の露光装置１００では、ウエハテーブルＴＢ及びウエハＷが、ウエハＷ上へのパターンの投影領域（露光領域）が含まれるＳＩＬ２２の周囲の帯状の領域（水圧パッド３２，３４の軸受面に対応する領域）部分で、水圧パッド３２、３４によって高剛性で狭持されるので、ウエハテーブルＴＢ自体の剛性はそれほど高くなくても良くなる。この結果、ウエハテーブルＴＢを薄くすることができ、その分ウエハテーブルＴＢの軽量化、ひいてはその位置制御性の向上が可能である。例えば、ウエハテーブルＴＢの厚さを、従来の１／４程度以下に設定することも可能である。すなわち、ウエハテーブルＴＢの厚さは、１０ｍｍ程度以下に設定することができる。
【０１１８】
  また、本実施形態の露光装置１００では、投影光学系ＰＬの最も像面側の光学部材であるＳＩＬ２２の下面とウエハＷ表面との間に、空気に比べて屈折率が高い水（高屈折率流体）が常に存在する状態で、レチクルＲのパターン領域、投影光学系ＰＬ及び水を介して照明光ＩＬによりウエハＷが露光される。すなわち、液浸露光が行われ、ウエハＷ表面における照明光ＩＬの波長を空気中における波長の１／ｎ倍（ｎは液体の屈折率、水の場合ｎは１．４）に短波長化でき、更に実効的な焦点深度は空気中に比べて約ｎ倍に広がる。従って、解像度の高い露光が可能になる。なお、空気中で使用する場合と同程度の焦点深度が確保できれば良い場合には、投影光学系ＰＬの開口数（ＮＡ）をより増加させることができ、この点でも解像度が向上する。
【０１１９】
  また、実効的な焦点深度が空気中に比べて約ｎ倍に広がることは、デフォーカスの発生を抑制できるという効果もある。
【０１２０】
  
また、本実施形態の露光装置１００では、走査露光中などには、前述の如く、水圧パッド３２に供給される水は、常時入れ替えられているので、ウエハＷ上に異物が付着している場合には、その異物が水の流れにより除去される。」
　（ウ）「【０１３４】
《変形例》
  
これまでの説明では、水圧パッド３２が鏡筒４０に固定され、投影光学系ＰＬと水圧パッド３２との位置関係が一定に維持されている場合について説明したが、これに限らず、例えば、投影光学系ＰＬを構成する最も像面側の光学部材として、図８に示されるような上下に２分割された分割レンズ（Ｄｉｖｉｄｅｄ  Ｌｅｎｓ）を用いることとしても良い。この図８に示される分割レンズ１５０は、下側の半球状の第１部分レンズ１５２ａと、その第１部分レンズの外表面（球面の一部）と同一の点を中心とする曲率半径が僅かに大きな曲率半径の球面をその内面（内表面）として有し、前記第１部分レンズ１５２ａの中心とは異なる点を中心とする球面を外面（外表面）として有する第２部分レンズ１５２ｂとによって構成されている。この場合、第１部分レンズ１５２ａは平凸レンズであり、第２部分レンズ１５２ｂは、凹メニスカスレンズである。
【０１３５】
  
このようにして構成される分割レンズ１５０を、上記実施形態中のＳＩＬ２２に代えて用いることができる。このとき、第２部分レンズ１５２ｂを、鏡筒４０に一体的に取り付け、第１部分レンズ１５２ａを、水圧パッド３２にその軸受面と第１部分レンズ１５２ａの下面とがほぼ同一面となるように保持させる。
　
　上記（ア）ないし（ウ）から、引用例２には、以下の発明（以下「引用発明」という。）が記載されているものと認められる。
「リソグラフィ工程で用いられる投影露光装置であって、この露光装置１００は、照明系１０、マスクとしてのレチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴ、光学ユニットＰＵ、基板としてのウエハＷが搭載されるテーブルとしてのウエハテーブルＴＢ、及び装置全体を統括制御する主制御装置２０を備え、
光学ユニットＰＵは、鏡筒４０と、該鏡筒内に所定の位置関係で保持された複数のレンズ（レンズエレメント）から成る光学系４２とを備え、光学系４２を構成する最も像面側（ウエハＷ側）の光学素子（光学部材）を保持する鏡筒４０部分の先端に液体静圧軸受としての水圧パッド３２が一体的に取り付けられ、
該水圧パッド３２の中央部の開口の内部にソリッドイマージョンレンズ２２が配置され、このＳＩＬ２２は、上下に２分割された分割レンズ（Ｄｉｖｉｄｅｄ  Ｌｅｎｓ）を用いることとしても良く、下側の半球状の第１部分レンズ１５２ａと、その第１部分レンズの外表面（球面の一部）と同一の点を中心とする曲率半径が僅かに大きな曲率半径の球面をその内面（内表面）として有し、前記第１部分レンズ１５２ａの中心とは異なる点を中心とする球面を外面（外表面）として有する第２部分レンズ１５２ｂとによって構成され、第２部分レンズ１５２ｂの平面（「下面」）が水圧パッド３２の軸受面とほぼ同一面とされ、
露光装置１００の制御系の主制御装置２０は、水圧パッド３２に対する給水量が、水圧パッド３２の排水溝７２から排水される量より僅かに多くなるように設定し、このため、水圧パッド３２に供給され、排水溝７２から排水されなかった残りの水は、水圧パッド３２の軸受面とウエハＷとの間の空間（ＳＩＬ２２下の空間を含む）を満たした後、水圧パッド３２の排水溝６８に形成された各貫通孔８２，排水管８４を介して外部に排水され、排水溝６８は、大気開放された受動的な排水溝となっているので、ＳＩＬ２２とウエハＷとの間に存在する水は大気開放された状態になって、ＳＩＬ２２には、殆ど水圧がかからず、ストレス（応力）が発生しない一方、給水溝７０内部近傍の水は、高い圧力（陽圧）がかかっており、高い負荷容量と剛性を水圧パッド３２に与え、水圧パッド３２とウエハＷ表面との間には、常時一定量の水が送り込まれ、この送り込まれた水のうちの一部の一定量の水が液体回収装置９２によって常時回収されている結果、水圧パッド３２の軸受面とウエハＷ表面との間の隙間（いわゆる軸受け隙間）が一定（例えば１０μｍ程度以下）に維持され、
また、走査露光中などには、水圧パッド３２に供給される水は、常時入れ替えられているので、ウエハＷ上に異物が付着している場合には、その異物が水の流れにより除去される装置。」
　
ウ　原査定の備考において周知例として引用され、本願の出願前に頒布された刊行物、特開２００１−２６６３４３号公報（以下「周知例１」という。）には下記の記載がある。（なお、下線は摘記箇所を示すために当審で引いたものである。）
　
（ア）「【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザ光を用いて情報記録媒体から情報を再生する情報再生装置又は情報記録媒体に情報を記録する情報記録装置に用いられる光ヘッド装置に関する。
　【０００２】
【従来の技術】ＤＶＤに代表される、情報を担持するピットが高密度に形成された光ディスクから、当該ピットを介して、記録した情報を再生する情報再生装置の光ヘッドは、本体内に設けられた光源としての半導体レーザ素子から射出されるレーザ光を所定の光路に沿って対物レンズに導き、この対物レンズで集光された光ビームを光ディスクの情報記録面上に照射すると共に、当該情報記録面上に形成された上記ピットにより光変調された反射光を再び対物レンズを通して所定の光路により受光素子まで導き、かかる受光素子において、受光した光量に対応する電気信号に変換することにより、記録情報を読取ることができる。
【０００３】ところで、近年、上記ＤＶＤに比べてより高密度に情報を記録可能とする光ディスクの検討が行われている。かかる光ディスクにおいては、情報記録面上のピットが上記ＤＶＤのピットよりも小さく形成されるので、これを読取る光ビームも小さな光スポットにする必要がある。
【０００４】光スポットの大きさ（直径）は、対物レンズの開口数をＮＡとし、光ビームの波長をλとすると、λ／ＮＡに比例することが知られている。従って、光ビームの波長が短いほど、また、対物レンズの開口数ＮＡが大きいほど光スポットを小さくできる。
【０００５】ところが、情報記録媒体の厚さ、記録再生時におけるチルト（傾き）又は光ビームの焦点深度の許容値等との関連から、開口数ＮＡをあまり大きくするとそれらの許容値幅が狭くなってサーボ制御の能力を越えてしまうため、現状における現実的な開口数ＮＡとしては、０．６程度の値となるように設定されている。
【０００６】そこで、上記許容値幅を維持したまま開口数ＮＡを向上させるための技術として、ソリッドイマージョンレンズ（Solid Immersion Lens：以下ＳＩＬと称する。）を用いた光ヘッド装置が検討されている。
【０００７】これは、対物レンズと光ディスクとの間にＳＩＬを配し、対物レンズにより集光されたレーザ光をＳＩＬに照射して、ＳＩＬによりレーザ光をさらに収束させて合焦させた後、光ディスクの情報記録面に照射するようにしたものである。つまり、ＳＩＬによる屈折を利用して、見掛け上のＮＡを向上させ、光ディスクの情報記録面上に微小な光スポットを形成するのである。
 
【０００８】図５は、ＳＩＬを用いた光ヘッド装置の一例を示す図である。図５において、ピックアップＰ１の筐体１００にはフォーカス制御用の磁石１０１と、かかる磁石によって発生する磁界内にフォーカスコイル１０２が設けられている。フォーカスコイル１０２は、対物レンズ１０３を保持するレンズホルダ１０４と共に一体的に固定されている。
【０００９】レンズホルダ１０４は、対物レンズ１０３の光軸方向に弾性を有する支持部材１０５を介して筐体１００に連結されて該筐体１００によって対物レンズ１０３の光軸方向に移動可能に支持されている。
【００１０】ＳＩＬ１０６は、平面部が光ディスクの情報記録面と対向する様に配された半円球状の微小レンズであり、スライダ１０７上に、対物レンズ１０３と同軸となるように固定保持される。スライダ１０７は、対物レンズ１０３の光軸方向に弾性を有する支持部材１０８を介してレンズホルダ１０４に連結されることによって、対物レンズの光軸方向に移動可能に弾性支持されている。
【００１１】また、ピックアップＰ１は、アーム１０９を介して光ヘッド装置のキャリッジ１１０に連結されている。キャリッジ１１０は、アーム１０９によって支持されるピックアップＰ１を光ディスクの半径方向に移動させる移動機構であり、アーム１０９を介して該ピックアップＰ１を適宜ディスク半径方向に移動させる。
【００１２】また、ＳＩＬ１０６は、光ディスクが回転状態にあると、ディスク表面との間に空気の薄層が形成されて、１００ｎｍ程度の一定の間隔ｈで浮上する。
【００１３】図５は、光ディスクが回転状態にある光ヘッド装置を示している。光ヘッド装置は、図示せぬ制御部によりフォーカスコイル１０２を制御して、現在浮上中のＳＩＬ１０６と対物レンズ１０３との光軸方向の距離が所定距離となるように対物レンズ１０３の位置調整をする。これにより、ＳＩＬ１０６及び対物レンズ１０７は、情報記録面からのフォーカス方向における適正な光学位置にそれぞれ配されることになり、レーザ光を光ディスクの情報記録面上に微小な光スポットとして集光させることができる。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】上述のように、ＳＩＬ１０６を用いた光ヘッド装置では、ピックアップＰ１が回転する光ディスクから記録情報を読取る場合に、浮上中のＳＩＬ１０６の底面部と光ディスク表面との間が極めて狭い間隔ｈに保たれているので、例えば図５に示すようにディスク表面上にこの間隔ｈよりも大きな高さＨのゴミやディスク表面の成形不良などによる突起等の異物があった場合には、ＳＩＬ１０６がその異物にぶつかることになり、最悪の場合、ＳＩＬを傷つける虞れがある。
【００１５】
本発明は、上述の問題点に鑑みてなされたものであり光ディスク表面上にＳＩＬの浮上高以上の高さの異物が有る場合でも、ＳＩＬがその異物によって傷つけられることのない光ヘッド装置を提供することを目的とする。
　
（イ）「【００２０】
【発明の実施の形態】次に、本発明の好適な実施の形態について図面を用いて説明する。図１は、本発明の好適な実施形態における光ヘッド装置を示す図である。なお、図１に示す光ヘッド装置の各部の構成中、先に説明した図５における光ヘッド装置の各構成部分と同等の部分については同一の符号を付してあり、その詳細な説明は省略する。
図１において、光ヘッド装置は、ピックアップＰ２と、支持手段としてのアーム１０９と、光ディスクの表面上の異物の高さを検出するための検出手段１と、遅延回路２と、制御手段としての制御回路３と、磁界発生手段としてのコイル４と、を備えて構成される。
　【００２１】ピックアップＰ２は、先の図５におけるピックアップＰ１で示したスライダ１０７を、コイル４と対向する面が、コイル４によって発生される磁界とは逆方向となる極性に磁化された鉄やニッケル等の磁性体（磁石）からなるスライダ５に置き換えて構成したものである。ピックアップＰ２は、図５におけるピックアップＰ１と同様にアーム１０９を介してキャリッジ１１０に連結されている。
 
【００２２】なお、本実施形態では、スライダ５とコイル４とによってピックアップＰ２のＳＩＬ１０６を対物レンズ１０３の光軸方向に移動させるための移動手段を構成する。
【００２３】スライダ５は、光ディスクの表面と対向する下面側（底面部）が磁石の一方の磁極側の面となるように配されると共にＳＩＬ１０６を固定保持している。また、スライダ５は、先のピックアップＰ１におけるスライダ１０７と同様に、支持部材１０８を介してレンズホルダ１０４に連結されて該レンズホルダ１０４によって対物レンズの光軸方向に移動可能に弾性支持されている。
【００２４】また、コイル４は、銅線を例えば筒状に巻いたいわゆるソレノイド型電磁石を構成するものであって、図１に示すように、光ディスクを挟んでスライダ５の直下に当該ソレノイドの円形断面がスライダ5に対向するように配されており、制御手段である制御回路３から供給される制御電流に応じた磁界を発生する。また、コイル４は、図示しない剛性の高い支持部材によってピックアップＰ２の筐体１００との相対位置が固定されており、ピックアップＰ２がキャリッジ１１０によってディスク半径方向に移動する際には、ピックアップＰ２の筐体１００と一体に移動が可能となるように構成されている。
【００２５】検出手段１は、光ディスクの回転方向において、ピックアップＰ２の上流位置、すなわちピックアップＰ２による情報記録トラックからの情報読み取り動作あるいは情報記録動作に先行して、当該情報記録トラックの状態を検出することができる位置に配されている。なお、ランダムアクセスの高速化や、後述する検出処理のし易さを考慮すると、ピックアップＰ２と同一の半径位置に配されることが好ましい。このような位置に配された検出手段１は、後述の手法により、ピックアップＰ２が光ディスクの情報記録面から順次記録情報を読取るのに先立って、情報記録媒体表面の異物を検出する動作を行い、検出した異物の高さに応じた光検出信号を遅延回路２に供給する。
【００２６】遅延回路２は、供給された上記光検出信号を、異物を検出してから所定時間、即ち、検出手段１によって異物を検出した時点から当該異物がスライダ５に到達するまでに要する時間に応じた時間だけ遅延させて遅延検出信号を生成し、この遅延検出信号を制御回路３に供給する。
【００２７】制御回路３は、遅延回路２から供給される上記遅延検出信号の大きさに応じた制御信号である制御電流を生成し適宜磁気回路のコイル４に供給することにより当該制御電流の大きさに応じた磁界をコイル４に発生させる。なお、制御電流は、コイル４が磁性体としてのスライダ５に対し反発力を与える磁界を発生させる方向に流される。
【００２８】上記制御電流は、例えば、以下に示す関係式に基づいて求めることができる。すなわち、スライダ５が有する磁極の強さをｍ[ｗｂ]、スライダを弾性支持する支持部材１０８のバネ定数をｋ、検出した異物の高さをｘ、コイル４の巻数をｎとすると、制御電流Ｉは、
Ｉ＞２ｋｘ／（ｍ・ｎ）
の条件を満足する電流値であれば良い。
【００２９】コイル４は、上記制御電流により発生した磁界を直上のスライダ５に付与することにより当該磁界とスライダの底面部の磁極との間に磁気反発力を生成させて当該異物がスライダ５の位置に到達する前に、弾性の高い支持部材１０８で支持されたスライダ５をＳＩＬ１０６と共に情報読取面から遠ざける方向に移動させる。これにより、スライダ５及びＳＩＬ１０６が異物に不用意にぶつかるのを未然に回避させることができる。
【００３０】光ヘッド装置は、以上のように構成され、ピックアップＰ２が回転中の光ディスクの記録情報を順次読取る場合に、検出手段１がピックアップＰ２の記録情報の読取りに先行して当該記録情報の位置する記録情報面上の異物の有無及び異物が有る場合の当該異物の高さを検出し、検出結果に応じて移動手段が浮上中のスライダ５及びＳＩＬ１０６を情報記録媒体表面から当該異物の高さよりも高い位置まで遠ざける移動動作を行うようにしたので、スライダ５及びＳＩＬ１０６が当該異物にぶつかるのを未然に回避することができる。
【００３１】次に、検出手段１の具体的な構成例について説明する。図２は、検出手段１の構造の一例を示した図である。図２において、検出手段１は、照明光源としてのレーザ光源６と、レンズ７と、レンズ８と、光検出器９と、検出信号生成部１０を備えて構成される。
 
【００３２】レーザ光源６は、レーザ光を光ディスクの情報記録面に対し所定の入射角度で照射する。レンズ７は、レーザ光源６と情報記録面との間に配されてレーザ光源６からのレーザ光を回転中の光ディスクの情報記録面上に集光させる。この集光位置は、光ディスクの回転方向においてピックアップＰ２の記録情報読取位置よりも所定距離だけ上流側に位置している。
【００３３】検出手段１は、ピックアップＰ２の筐体１００に対して上記所定の位置関係を維持するように図示しない移動制御手段によってディスク半径方向に移動制御される。従って、ピックアップＰ２がキャリッジ１１０によってディスク半径方向に移送される際には、このピックアップＰ２の筐体１００の移動に伴ってレーザ光源６からのレーザ光による情報記録面上の集光位置も移動する。
【００３４】レンズ８は、上記情報記録面上の集光位置から略垂直方向（記録媒体表面に対する法線方向）上に配され、該集光位置付近の情報記録面から光が入射した場合には、その一部を集光させて光検出器９の受光面に導くように光路が形成されている。
【００３５】レーザ光源６からレンズ７を通して情報記録面上の集光位置に集光するレーザ光は、該集光位置にゴミや情報読取面の成形不良などによる突起等の異物がない場合には、該集光位置において入射角度と略同じ反射角度で反射して図２の点線で示す反射光路に沿った反射光を生成する。図２に示すように、レンズ８及び光検出器９は、この反射光路による反射光から外れた位置に有るので、光検出器９はこの反射光を受光しない。従ってこの場合には、光検出器９から検出信号は出力されない。
【００３６】一方、情報記録面上の上記集光位置にゴミや成形不良などによる突起等の異物が有る場合には、該異物上を照射するので該異物からの散乱光が生成される。この散乱光は、概ね当該異物の高さに比例した光の強さで当該異物を中心とする情報記録面上の空間にほぼ均一に散乱し、その一部がレンズ８に入射する。レンズ８に入射した上記散乱光は（図２の斜線部分）レンズ８によって集光されて光検出器９の受光面に導かれる。これにより、光検出器９は、受光した散乱光の強度に比例した受光信号、即ち、当該異物の高さに概ね比例した受光信号を出力する。
【００３７】光検出器９は、レンズ８によって受光面に導かれた光を検出し、受光した光の強さに比例した受光信号を検出信号生成部１０へ供給する。検出信号生成部１０は、光検出器９から供給される受光信号を所定のゲイン値で増幅して得られる光検出信号のピーク値に相当するデータ値を算出する。そして、この算出したデータ値を予め記憶している参照値と比較して、データ値が参照値より大なる場合のみ、当該データ値を遅延回路２に出力する。
【００３８】ここで、上述した参照値とは、ＳＩＬ１０６の浮上高ｈよりも僅かに小なる高さの異物からの散乱光を上記検出信号生成部１０において所定のゲイン値で増幅して得られる光検出信号のピーク値に相当するデータ値である。したがって、異物が無い場合は、もちろん異物が有る場合においても、当該異物の高さがＳＩＬ１０６の浮上高ｈよりも低いと判断された場合には、光検出信号は出力されない。
【００３９】つまり、当該異物の高さがＳＩＬ１０６の浮上高ｈ以上の高さであると判断された場合にのみ当該異物に対応する光検出信号が遅延回路２へ供給される。
【００４０】次に、検出手段１が光ディスク表面に異物を検出した場合における制御手段である制御回路３の動作について説明する。
【００４１】検出手段１が集光位置に現在浮上中のスライダ５の浮上高ｈ以上の異物を検出して当該異物の高さに応じた大きさの光検出信号を移動手段の遅延回路２に供給すると、遅延回路２は、供給される光検出信号に対し先述した遅延処理を行って遅延信号を生成し、これを制御回路３に供給する。
【００４２】制御回路３は、供給される遅延信号の大きさに応じた大きさの制御電流を生成し、これをコイル４に供給する。コイル４は、供給された制御電流に応じてスライダ５の底面部側の磁極面に対する反発磁界を発生させ、これを浮上中のスライダ５に付与することにより、スライダ５に対し制御電流の大きさに応じた反発力を与える。
【００４３】支持部材１０８に弾性支持された状態で情報記録面から浮上高ｈで浮上中のＳＩＬ１０６は、この反発力を受けてこの反発力に対応する距離だけスライダ５と共に対物レンズ１０３の光軸方向に沿って上方に押しやられて情報読取面から異物の高さよりも高い位置まで移動する。
【００４４】なお、制御回路３は、検出手段１から出力された異物の検出信号を遅延回路２によって所定時間遅延された遅延検出信号に基づいてコイル４に制御電流を印加する。したがって、上記所定時間を、検出手段１がディスク表面上に異物を検出してから当該異物がスライダ５及びＳＩＬ１０６の位置に到達するまでの時間よりも反発力の印加によってスライダが所定高さまで移動するのに要する時間だけ短い時間に設定することにより、で異物がピックアップの情報読取点上に到来したときには、スライダ５は確実に異物の高さ以上の高さ位置に移動していることになる。
【００４５】その結果、情報読取面上を浮上中のＳＩＬ１０６及びスライダ５がこの異物に不用意にぶつかるのを回避することができる。
・・・
【００５４】
【発明の効果】以上説明したとおり、
請求項１に記載の発明によれば、検出手段が記録媒体の情報読取面上の異物の高さの検出を行い、制御手段がこの検出結果に応じて移動手段をしてピックアップを情報記録媒体から離間せしめるための制御信号を移動手段に供給する。そして、移動手段が、供給された制御信号に基づいてピックアップを情報記録媒体から遠ざける方向へ移動させるので、ピックアップが異物にぶつかることを防ぐことが可能となる
　
エ　前置報告書において周知例として引用され、本願の出願前に頒布された刊行物、特開２００４−３４８９２７号公報（以下「周知例２」という。）には下記の記載がある。（なお、下線は摘記箇所を示すために当審で引いたものである。）
（ア）「【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、近接場光記録再生を可能とする対物レンズを有する光記録装置、光再生装置、光記録方法および光再生方法に関するものである。
【従来の技術】
従来の光記録装置に用いられるレンズは、原盤表面とレンズ先端の差動距離の間が大気で、屈折率は約１である。そのため、レンズの開口率（ＮＡ：Ｎｕｍｅｒｉｃａｌ  Ａｐｅｒｔｕｒｅ）が１を超えるようにすることはできない。
【０００３】
これを解決するために原盤表面とレンズ先端のワークディスタンスを短くした近接場による光記録装置があった。光ディスクを光記録媒体に用いた近接場による信号記録装置や信号再生装置として、２群レンズから構成されるＳＩＬ（Ｓｏｌｉｄ  Ｉｍｍｅｒｓｉｏｎ  Ｌｅｎｓ）等の固体浸レンズによる近接場光を利用したものが提案されている。このような近接場を利用することにより、光ディスクの高密度化のニーズに対応して、スポット径を一層微小化させることが可能となっている。
【０００４】
このようなＳＩＬを用いて光ディスクに対する記録または再生をおこなうには、ＳＩＬ端面と光ディスクの信号記録面または信号再生面との距離を近接場光が生じる距離（光の波長の１／２以下、代表的には２００ｎｍ以下）に接近させ、その距離を一定に保つギャップ制御を行い、光ディスク上の集光スポットを一定にしている。
【０００５】
また、特許文献１には、近接場光発生手段が記録媒体の潤滑剤層に接触した状態で近接場光を発生させるとともに、吸着手段が潤滑剤層中に含まれる塵埃を吸着することにより、データの記録時に潤滑剤層に含まれる塵埃によって近接場光が遮られることがなく、安定してデータの記録、再生または消去を行うことができる光記録装置が開示されている。
【０００６】
また、特許文献２，３，４において構成要素として説明されている静圧浮上パッドは、複数の環状溝を有し、非接触で真空度を維持する差動排気を行なう差動排気静圧浮上パッドについて開示されている。
【０００７】
【特許文献１】
特開２００１−１９５７６４号公報
【特許文献２】
特開２０００−０７６７０７号公報
【特許文献３】
特開２０００−０７６７０８号公報
【特許文献４】
特開２００１−２４２３００号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、
上述した従来の近接場による光記録装置では、光ディスクをターンテーブル上に置くまでの間、または、置いたディスクを記録または再生する前に、空気中を浮遊しているゴミが光ディスクの表面に付着することが頻繁にあった。
　【０００９】
このため、近接場状態（２００ｎｍ以下）でのギャップ制御下、光ヘッドとディスクとの間でゴミを巻き込み、ギャップ制御が破綻してしまい、その後の記録または再生が不可能となる場合があった。最悪、光ヘッドと光ディスクとの間にゴミを巻き込んだ結果、ギャップ制御動作が不安定となり、光ヘッドが光ディスクと衝突し、光ヘッドを破損させてしまうという不都合があった。
　【００１０】
上述したゴミ付着防止のため、記録または再生装置をクリーンブース等で覆い、空気中に浮遊するごみの抑制管理をおこなってはいるが、それでも、除去しきれないごみがあり、このため、クリーンブースを用意すると、製造コストが上がってしまうという不都合があった。
　【００１１】
そこで、本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、近接場光記録再生において、光ディスクの表面に付着したゴミを除去することにより光ヘッドの破損を防止すると共に、製造コスト抑えることができる光記録装置、光再生装置、光記録方法および光再生方法を提供することを課題とする。
　
（イ）「【００１７】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の実施の形態について、適宜、図面を参照しながら説明する。
【００１８】
図１は、光ディスク記録再生装置の構成を示すブロック図である。
光ディスク記録再生装置は、レーザー光源部１からのレーザー光をビームスプリッタ２などの光学系を介してスピンドルモータ６およびスライドモータ７により回転移動およびスライド移動するターンテーブル上に真空吸着された光ディスク５に照射することにより、情報の記録または再生を可能にするものである。ここで、レーザー光源部１は信号記録再生ユニット１０からの駆動情報に基づいてレーザー光を発生する。スピンドルモータ６およびスライドモータ７は、モータ制御回路８からの駆動情報に基づいて回転する。
 
【００１９】
この静圧浮上パッド４は、光ディスク５に対して微小間隔（５μｍ）をもって対向し、後述するように、光ディスク５にレーザー照射光を照射するための出射孔２１を有し、出射孔２１に連通する照射光の通路の周囲に光ディスク５との対向面に開口する複数の環状吸引溝２２，２３，２４が形成され、吸引溝２２，２３，２４の周囲に多孔質２５の環状気体排出軸受け部が形成される。
【００２０】
また、静圧浮上パッド４に設けられた近接場光ヘッド３は、レーザー照射光の通路に対物レンズを設け、アクチュエータ１２−１により光ディスク５に対して対向する方向に進退可能に構成され、光ディスク５に近接することにより高屈折率で高開口率の対物レンズとして機能する。
【００２１】
また、近接場光ヘッド３の近傍に設けられたゴミ回収／吹き飛ばし部１４は、近接場光ヘッド３による情報の記録または再生の前方に配置され、エア源１４−１からの圧縮気体を用いた負圧を介して光ディスク５上のゴミ１５を吸い取るようにエア１６を排気可能な排気部１４−２と、エア源１４−１からの圧縮気体を介して光ディスク５上のゴミ１５を吹き飛ばすようにエア１６を供給可能な供給部１４−３とを有して構成される。ゴミ回収／吹き飛ばし部１４は、ゴミ回収／吹き飛ばし制御回路１３からの駆動情報に基づいてエアの排気／供給の動作をする。
【００２２】
また、ギャップ制御部１２は、静圧浮上パッド４の複数の環状吸引溝２２，２３，２４からエア源１２−１からの圧縮気体を用いた負圧を介して光ディスク５を静圧浮上パッド４に向けて吸着するようにエア１６を排気可能な排気部１２−２と、エア源１２−１からの圧縮気体を介してエア１６を静圧浮上パッド４を光ディスク５に対して対向する方向に伸縮させる図示しない伸縮部に供給されると共に、環状気体排出軸受け部として機能する多孔質２５に光ディスク５に対して所定のギャップで静圧浮上パッド４が浮上するように供給可能な供給部１２−３とを有して構成される。ギャップ制御部１２は、ギャップ制御回路１１からの駆動情報に基づいてエアの排気／供給の動作をする。
【００２３】
また、光ディスク記録再生装置は、レーザー光源部１を駆動させる信号記録再生ユニット１０、スピンドルモータ６およびスライドモータ７を駆動させるモータ制御回路８ならびにギャップ制御部１２を駆動させるギャップ制御回路１１およびゴミ回収／吹き飛ばし部１４を駆動させるゴミ回収／吹き飛ばし制御回路１３を制御すると共に、光ディスク５に対する反射レーザー照射光のビームスプリッタ２を介した信号記録再生ユニット１０内の検出機構によりレーザー照射光が合焦状態となるように近接場光ヘッド３の対物レンズをアクチュエータ１２−１により光ディスク５に対して対向する方向に進退させるコントローラ９を有して構成される。
・・・
【００７７】
なお、本発明の実施の形態は、光ディスク記録再生装置の静圧浮上パッド４上の近接場光ヘッド３に近接して設けられたゴミ回収／吹き飛ばし部１４の工夫に関して説明したが、同様の効果のあるたとえば、レーザー光を照射して反者検出するテレビジョン受像機管面検出装置、半導体検査装置などすべての用途について利用可能である。
【００７８】
【発明の効果】
この発明によれば、情報信号記録または情報信号再生装置では、信号記録または再生時に、近接場光ヘッド横に有する、エアによる、ウェハ上のゴミを吸い取るおよび／または吹き飛ばす排気手段および／または供給手段により、ウェハ上のごみを信号記録または再生に先行して除去することができる。これにより、光記録媒体上にゴミが付着していたり、ゴミが浮遊している環境下においても、近接場光を用いた安定したギャップ制御による信号記録または再生を行なうことができるという効果を奏する。
【００７９】
また、上記情報信号記録または情報信号再生装置において、エアにて、信号記録または再生に先行してウェハ上のゴミを吸い取るおよび／または吹き飛ばす排気手段および／または供給手段を近接場光ヘッド横に有し、それを制御することにより、ゴミが浮遊している環境下においても、近接場光を用いた安定したギャップ制御による信号記録または再生を行なうことができるという効果を奏する。」
　
オ　前置報告書において周知例として引用され、本願の出願前に頒布された刊行物、特開２００６−１３４３８２号公報（以下「周知例３」という。）には下記の記載がある。（なお、下線は摘記箇所を示すために当審で引いたものである。）
（ア）「【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
　
本発明は光ディスク装置に関し、例えば光ディスクに情報を書き込んで記録し、また当該光ディスクから情報を読み出して再生する光ディスク記録再生装置に適用して好適なものである。
　【背景技術】
【０００２】
  従来、光ディスク記録再生装置においては、ＣＤ（Compact Disc）やＤＶＤ（Digital Versatile Disc）、あるいはＢＤ（Blu-ray Disc、登録商標）等の規格に準じた光ディスクを記録媒体として、音楽等の音声データ、映画等の映像データ、及びパーソナルコンピュータ等で用いるプログラム等の種々の情報を記録し、また再生するものが実用化されている。
【０００３】
  このような光ディスクにおいては、１枚の光ディスクにおける記録容量の増加が次々と要求されてきたものの、使い勝手の観点から光ディスクのサイズ（直径）を大きくすることが困難であるため、単位面積あたりの情報の記録密度を向上させることにより、ＣＤ（約６５０ＭＢ）、ＤＶＤ（約４．７ＧＢ）、ＢＤ（約２５ＧＢ）のように、新たな規格が提案される度に大容量化が実現されてきた。
【０００４】
  さらに近年では、光ディスクのさらなる大容量化を実現するべく、光ディスク記録再生装置においてレーザ光を光ディスクに照射する際の対物レンズとして固体液浸レンズ（SIL:Solid Immersion Lens）を用いる手法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平５−１８９７９６号公報（第３頁、第３図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
  ところで、従来のＣＤやＤＶＤ等においては、対物レンズと光ディスクとの間の距離が十分に広く、当該光ディスクの信号記録面におけるレーザ光のスポット径も十分に大きいため、当該光ディスクの信号記録面の表面に例えば数十から数百［ｎｍ］程度の微小な異物が付着していたとしても、情報の書き込み又は読み出しにはほとんど影響を及ぼすことが無く、当該情報の記録又は再生を正常に行うことができた。
【０００６】
  しかしながら、上述した固体液浸レンズを用いた光ディスク記録再生装置では、当該固体液浸レンズの特性上、対物レンズと光ディスクとの間の距離を約２０［ｎｍ］程度といった極めて近接した状態に保ってレーザ光を光ディスクに照射する必要がある。
【０００７】
  このため光ディスク記録再生装置は、ディスクの記録面上に数十から数百［ｎｍ］程度の微小な異物が付着していた場合、レーザ光が完全に遮断されてしまい、あるいは当該異物が対物レンズに衝突して当該対物レンズが損傷してしまうという問題があった。
【０００８】
  
本発明は以上の点を考慮してなされたもので、光ディスクの表面又はその近傍に存在する異物を除去し得る光ディスク装置を提案しようとするものである。
（イ）「【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
  以下、図面について、本発明の一実施の形態を詳述する。
【００１６】
（１）第１の実施の形態
（１−１）光ディスク記録再生装置の全体構成
  図１において、１は全体として第１の実施の形態による光ディスク記録再生装置を表しており、光ディスク１００が収納されたディスクカートリッジ１０１を内部に装填し、当該光ディスク１００に対して情報の記録又は再生を行い得るようになされている。
 
【００１７】
  ディスクカートリッジ１０１は、光ディスク１００に直接レーザ光を照射させるための開閉式のシャッタを下面側に有しており（図示せず）、当該シャッタと当該ディスクカートリッジ１０１と間には実際上どうしても隙間を生じてしまう。このため光ディスク１００は、ディスクカートリッジ１０１に収納されたままユーザに取り扱われるものの、この隙間からディスクカートリッジ１０１内に侵入したダストが付着する可能性を有している。
【００１８】
  一方光ディスク記録再生装置１は、前面に設けられたディスクカートリッジ挿入口（図示せず）から装填されたディスクカートリッジ１０１を光ディスク格納室２に格納させるようになされている。この光ディスク格納室２は、ディスクカートリッジ挿入口に設けられたドア（図示せず）によってほぼ密閉された状態に保たれており、外部からのゴミや埃などの異物（以下これをダストと呼ぶ）を当該光ディスク格納室２内に極力侵入させないようになされている。
【００１９】
  なお光ディスク記録再生装置１においては、ディスクカートリッジ挿入口からディスクカートリッジ１０１を挿入する方向を後方向、その反対方向を前方向と定義すると共に、
ディスクカートリッジ挿入口にユーザが対峙した状態において右方向及び左方向を定義した上で以下説明する。
【００２０】
  スピンドルモータ１５は、光ディスク格納室２のほぼ中央位置に取り付けられており、ディスクカートリッジ１０１内の光ディスク１００を回転駆動するようになされている。
【００２１】
  光ピックアップ１０は、ねじが刻まれた回転ねじ軸９及び摺動抵抗が非常に小さいガイドレール１１によって貫通されており、スレッドモータ８の駆動力が当該回転ねじ軸９に伝達して当該回転ねじ軸９が回転駆動されることにより、当該ガイドレール１１に沿って光ディスク１００の半径方向に移動するようになされている。
【００２２】
  また光ピックアップ１０は、光ディスク１００の信号記録面（すなわち下面）に対してデータの記録用又は再生用のレーザ光を照射してその反射光を読み取るようになされており、当該光ディスク１００の半径方向へ移動されることにより、スピンドルモータ１５により回転されている光ディスク１００上の所望の位置に当該レーザ光を照射し得るようになされている。
【００２３】
  また回転ねじ軸９及びガイドレール１１は、光ディスク格納室２に隣接した電極クリーニング室３の内部まで延長されており、当該光ピックアップ１０を当該光ディスク格納室２の内部のみでなく当該電極クリーニング室３の内部にまで移動させ得るようになされている。
【００２４】
（１−２）光ピックアップの構成
  光ピックアップ１０は、図２（Ａ）に示すように、光ディスク１００（図１）の信号記録面（下面）と対向する上面側に対物レンズ部１２及び電極部２０を有している。
 
【００２５】
  対物レンズ部１２は、図示しないレーザダイオードから出射されたレーザ光を集光して光ディスク１００に照射するようになされ、また図２（Ｂ）に示すように、アクチュエータ１３によって上下方向に移動されるようになされており、回転する際にいわゆる「面ぶれ」が生じる光ディスク１００との間の距離ＤＬが一定に保たれるようになされている。
【００２６】
  ちなみに対物レンズ部１２には対物レンズとして固体液浸レンズ（SIL:Solid Immersion Lens）が用いられており、当該固体液浸レンズの特性上、当該対物レンズ部１２を光ディスク１００に極めて近接させる必要がある。そこで光ピックアップ１０は、対物レンズ部１２をアクチュエータ１３によって光ディスク１００に近接させており、実際上、当該対物レンズ部１２と光ディスク１００との間の距離ＤＬを約２０［ｎｍ］に保つようになされている。
【００２７】
  電極部２０は、それぞれ矩形板状の金属材料でなる正電極２１Ａ及び負電極２１Ｂによ
って構成されており、当該正電極２１Ａ及び負電極２１Ｂの表面積はほぼ同等となるようになされている。
【００２８】
  ちなみに電極部２０の正電極２１Ａ及び負電極２１Ｂは、共に光ピックアップ１０の上面に取り付けられており、実際上当該正電極２１Ａ及び負電極２１Ｂと光ディスク１００との間の距離ＤＥは数百［μｍ］程度に保たれている。
【００２９】
（１−３）電極部によるダストの吸着
  電極部２０の正電極２１Ａ及び負電極２１Ｂは、図３に示すように、それぞれ直流電源２２の正極及び負極に接続されており、当該直流電源２２によって所定電圧が印加されることにより帯電し、当該正電極２１Ａにはプラスの静電気力が生じ、また当該負電極２１Ｂにはマイナスの静電気力が生じる。
【００３０】
  これによりプラスの静電気力を生じた正電極２１Ａは、光ディスク１００の信号記録面（すなわち下面）に付着しているダストｄｓ及びその近傍に浮遊しているダストｄｓのうち、マイナスに帯電しているダストｄｓ１を吸着する。また正電極２１Ａは、当該正電極２１Ａが帯電したことにより生じた電界によって、電気的に中性のダストｄｓ２の内部における電荷の分布を変化させてマイナスの電荷を当該正電極２１Ａ側に引き寄せ、さらに当該マイナスの電荷との間に作用する静電気力（クーロン力）によって当該ダストｄｓ２を吸着する。
【００３１】
  マイナスの静電気力を生じた負電極２１Ｂは、当該静電気力によってプラスに帯電しているダストｄｓ３を吸着する。また負電極２１Ｂは、当該負電極２１Ｂが帯電したことにより生じた電界によって、電気的に中性のダストｄｓ４の内部における電荷の分布を変化させてプラスの電荷を当該負電極２１Ｂ側に引き寄せ、さらに当該プラスの電荷との間に作用する静電気力（クーロン力）によって当該ダストｄｓ４を吸着する。
【００３２】
  ちなみに直流電源２２は、電極部２０の正電極２１Ａ及び負電極２１Ｂにおいて静電気力を生じ得る範囲内で、例えば約１００［Ｖ］等の任意の電圧を生じるようにしても良い。また、正電極２１Ａと負電極２１Ｂと間ではほとんど電流が流れないため、直流電源２２は比較的高い電圧を生じているものの消費電力を非常に小さく抑えることができる。
【００３３】
  ここで図４（Ａ）に示すように、電極部２０は、光ピックアップ１０と一体にガイドレール１１に沿って移動することにより、光ディスク１００の内周側（左側）から外周側（右側）までの任意の位置においてダストｄｓを吸着することができる。
【００３４】
  また図４（Ｂ）に示すように、光ディスク１００がスピンドルモータ１５によって矢印ｒ方向に回転されているため、当該光ディスク１００の信号記録面（すなわち下面）の様々な箇所に付着したダストｄｓも当該光ディスク１００と共に回転され、図中に破線で示すようにその軌跡が円弧を描くことになる。
【００３５】
  このため光ディスク１００の様々な箇所に付着しているダストｄｓは、当該光ディスク１００が回転されることにより、周期的に電極部２０の移動範囲ＡＲを通過することになり、このとき光ピックアップ１０が付近に位置している場合、電極部２０によって吸着されることになる。
【００３６】
  仮に、光ディスク１００を回転させながら光ピックアップ１０を最内周から外周側へ徐々に移動させていった場合、電極部２０は、図５に示すような螺旋状の軌跡を当該光ディスク１００上に描くことになり、当該光ディスク１００の全面にもれなく対処することができる。
【００３７】
  すなわち電極部２０は、光ディスク１００が回転され、光ピックアップ１０が当該光ディスク１００の半径方向に移動することにより、当該光ディスク１００の信号記録面における様々な箇所に付着したダストｄｓを吸着することができる。
【００３８】
  また電極部２０は、光ピックアップ１０において対物レンズ部１２よりも後側に取り付けられているため、光ピックアップ１０の対物レンズ部１２から光ディスク１００へレーザ光を照射してデータの記録や再生を行いながら、当該レーザ光を照射する直前の箇所における当該光ディスク１００の信号記録面の表面やその近傍に存在するダストｄｓを電極部２０に吸着させて取り除くことができる。
【００３９】
  これにより光ディスク記録再生装置１は、矢印ｒ方向に回転する光ディスク１００に付着して当該対物レンズ部１２に接近してくるダストｄｓを当該対物レンズ部１２の直前で吸着することができ、当該ダストｄｓを当該対物レンズ部１２に近接又は衝突させることを未然に防止するようになされている。
【００４０】
（１−４）電極のクリーニング
  ところで光ディスク記録再生装置１は、電極部２０に吸着したダストｄｓをそのままにしておくと、既に吸着したダストｄｓによって静電気力が弱められることにより新たなダストｄｓを吸着できなくなる可能性があり、また電源が切断されて当該電極部２０の正電極２１Ａ及び負電極２１Ｂ（図３）における静電気力が消失した際に、一度吸着したダストｄｓを光ディスク格納室２内に拡散させてしまい、当該ダストｄｓを再度光ディスク１００に付着させてしまう可能性もある。
【００４１】
  このため光ディスク記録再生装置１は、光ピックアップ１０を光ディスク格納部としての光ディスク格納室２（図１）から異物除去部としての電極クリーニング室３へ移動させ、当該電極クリーニング室３に設けたダスト除去部３０によって電極部２０に吸着したダストｄｓを除去する電極のクリーニング処理を行うようになされている。
【００４２】
（１−４−１）ダスト除去部の構成
  図６（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、異物除去手段としてのダスト除去部３０は電極クリーニング室３において支持部３１によって筐体の天板に取り付けられており、矩形板状の電極ワイパー３２を中心に構成されている。
 
【００４３】
  ちなみに電極ワイパー３２は、樹脂素材で構成され全体として可撓性を有しており、撓んだ際には元の形状に戻ろうとする弾性力を有する。
【００４４】
  電極ワイパー３２は、電極ワイパー回動軸３３と一体に形成されており、当該電極ワイパー回動軸３３を回動自在に支持する支持部３１によって電極クリーニング室３の天板から吊り下げられている。
【００４５】
  なお以下では、図６（Ａ）に示したように電極ワイパー３２が重力によって電極ワイパー回動軸３３から真下方向へ向けられている状態を自然状態と呼ぶ。
【００４６】
  支持部３１は、当該支持部３１と一体に形成されたストッパ３１Ａを電極ワイパー３２の左側に有しており、自然状態からわずかに左方向へ回動した電極ワイパー３２と当該ストッパ３１Ａとを当接させるようになされている。
【００４７】
  このため電極ワイパー３２は、矢印ａで示すように、支持部３１に支持された電極ワイパー回転軸３３を中心に自然状態から右方向へ回動し得るものの、左方向へはほとんど回
動し得ないようになされている。
【００４８】
  また電極ワイパー３２の左側面の下方後側には、当該電極ワイパー３２よりも小さい矩形板状でなる持上板３４が、当該持上板３４と一体に形成された持上板回動軸３５によって当該電極ワイパー３２に対して回動自在に取り付けられている。
【００４９】
  この持上板３４は、図６（Ａ）に示したように自然状態ではほぼ真下方向を向いており、矢印ｂで示すように、持上板回動軸３５を中心に左方向へは自在に回動し得るものの、右方向へは電極ワイパー３２と干渉するため回動し得ないようになされている。
【００５０】
  このためダスト除去部３０においては、仮に自然状態において持上板３４の下部が外部から右方向への外力を受けた場合、当該持上板３４が持上板回動軸３５を中心に右方向へ回動し得ないため、当該持上板３４から当該外力を電極ワイパー３２へ伝達し、当該電極ワイパー３２が持上板３４と一体に電極ワイパー回動軸３３を中心として右方向へ回動する。
【００５１】
  またダスト除去部３０においては、仮に自然状態において持上板３４の下部が外部から左方向への外力を受けた場合、電極ワイパー３２が電極ワイパー回動軸３３を中心に左方向へ回動し得ないため、当該電極ワイパー３３はほぼ自然状態のままとなり、持上板３４のみが持上板回転軸３５を中心に左方向へ回動する。
【００５２】
  ちなみに、持上板３４の下端部３４Ａと電極ワイパー３２の下端部３２Ａとの距離ＤＷは、図２（Ｂ）に示した正電極２１Ａ及び負電極２１Ｂの厚さＤＰよりも十分長くなるようになされている。
【００５３】
  このようにダスト除去部３０は、電極ワイパー回動軸３３及び持上板回動軸３５を中心に電極ワイパー３２及び持上板３４の回動可能な方向をそれぞれ片方向のみに制約するようになされている。
【００５４】
（１−４−２）電極のクリーニング処理
  次に、光ディスク記録再生装置１がダスト除去部３０によって電極部２０からダストを除去する電極のクリーニング処理について順次説明する。
【００５５】
  まず光ディスク記録再生装置１は、図７（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、光ピックアップ１０の電極部２０により、光ディスク格納室２において光ディスク１００（図１）の信号記録面の表面に付着していたダストｄｓやその近傍に浮遊していたダストｄｓ等を吸着し、ガイドレール１１に沿って当該光ピックアップ１０を電極クリーニング室３側へ移動させる。
 【００５６】
  なお、図７（Ａ）は光ディスク記録再生装置１の内部を前面側からみた正面図を表しており、図７（Ｂ）はダスト除去部３０及び光ピックアップ１０を左側からみた左側面図を表す。また以下の図８〜図１５についても同様である。
【００５７】
  次に光ディスク記録再生装置１は、図８（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、光ピックアップ１０をガイドレール１１に沿って光ディスク格納室２から徐々に電極クリーニング室３の内部へ移動させ、光ピックアップ１０の右側側面をダスト除去部３０の持上板３４に当接させる。
【００５８】
  さらに光ディスク記録再生装置１は、図９（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、光ピックアップ１０をガイドレール１１に沿って電極クリーニング室３の内部へ移動させる。このと
き光ピックアップ１０は、持上板３４の下部を右方向へ押し付けながら移動するため、電極ワイパー３２及び当該持上板３４の回動可能な方向の制約により、当該電極ワイパー３２と当該持上板３４を一体に電極ワイパー回動軸３３を中心に右方向へ回動させていく。これにつれて光ピックアップ１０は、持上板３４の下端部３４Ａを徐々に持ち上げていき、当該光ピックアップ１０の上面の高さにまで持ち上げる。
【００５９】
  引き続き光ディスク記録再生装置１は、図１０（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、光ピックアップ１０をガイドレール１１に沿って電極クリーニング室３の内部をさらに右方向へ移動させる。このとき光ピックアップ１０は、既に当該光ピックアップ１０の上面の高さにまで持ち上げた持上板３４の下端部３４Ａを、今度は当該光ピックアップ１０の上面で支えながら、すなわち持上板３４の下端部３４Ａを摺動させながら移動する。
【００６０】
  ここで持上板３４は、電極ワイパー３２の後側に取り付けられているため、図１０（Ｂ）に示したように、電極部２０と接触せずに光ピックアップ１０の上面後側を下端部３４Ａによって摺動していく。
【００６１】
  このとき電極ワイパー３２は、持上板３４の下端部３４Ａと電極ワイパー３２の下端部３２Ａとの距離ＤＷ（図６（Ｂ））が正電極２１Ａ及び負電極２１Ｂの厚さＤＰ（図２（Ｂ））よりも十分に長いため、持上板３４によって光ピックアップ１０の上面から持ち上げられることになり、電極部２０の正電極２１Ａ及び負電極２１Ｂや当該電極部２０に吸着したダストｄｓと当該電極ワイパー３２の下端部３２Ａとの間に十分な距離を保ち、当該ダストｄｓと接触することがない。
【００６２】
  その後、光ディスク記録再生装置１は、図１１（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、電極部２０にダストｄｓを吸着させたまま光ピックアップ１０をガイドレール１１に沿って電極クリーニング室３の内部をさらに右方向へ移動させる。このとき電極ワイパー３２及び持上板３４は、持上板３４の下端部３４Ａが光ピックアップ１０の上面によって支えられなくなるため、重力の作用によって電極ワイパー回動軸３３を中心に左方向へ回動し、自然状態に戻る。
【００６３】
  次に光ディスク記録再生装置１は、図１２（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、今度は光ピックアップ１０をガイドレール１１に沿って電極クリーニング室３の内部を左方向へ移動させ始め、光ピックアップ１０の左側側面をダスト除去部３０の持上板３４に当接させる。また光ディスク記録再生装置１は、直流電源２２（図３）により電極部２０の正電極２１Ａ及び負電極２１Ｂの間における所定電圧の印加を一時停止し、静電気力を一時的に発生させないようにする。
【００６４】
  続いて光ディスク記録再生装置１は、図１３（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、光ピックアップ１０をガイドレール１１に沿って電極クリーニング室３から徐々に光ディスク格納室２の内部へ左方向に移動させる。このとき光ピックアップ１０は、持上板３４の下部を左方向へ押し付けながら移動するため、電極ワイパー３２及び当該持上板３４の回動可能な方向の制約により、持上板回動軸３５を中心に当該持上板３４のみを左方向へ回動させていき、当該持上板３４の下端部３４Ａを光ピックアップ１０の上面の高さにまで持ち上げてから、当該光ピックアップ１０の上面によって当該持上板３４の下端部３４Ａを摺動させる。
【００６５】
  さらに電極ワイパー３２は、光ピックアップ１０の電極部２０によって下端部３２Ａが左方向へ押し付けられるが、ストッパ３１Ａの作用により電極ワイパー回動軸３３を中心に左方向へ回動し得ないため、当該電極ワイパー３２全体が撓み、元の形状に戻ろうとする弾性力の作用によって下端部３２Ａを電極部２０へ押し付けた状態となる。
【００６６】
  引き続き光ディスク記録再生装置１は、図１４（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、光ピックアップ１０をガイドレール１１に沿って電極クリーニング室３から光ディスク格納室２の内部へさらに移動させる。このとき電極ワイパー３２は、弾性力の作用によって下端部３２Ａを電極部２０へ押しつけたままの状態であるため、左方向に移動する光ピックアップ１０の電極部２０に当該下端部３２Ａを摺動させ、当該電極部２０に吸着したダストｄｓを削ぎ落として当該電極ワイパー３２に付着させていく。
【００６７】
  ちなみに光ディスク記録再生装置１は、一時的に電極部２０の正電極２１Ａ及び負電極２１Ｂに静電気力を発生させていないため、当該電極部２０に吸着したダストｄｓを電極ワイパー３２によって容易に削ぎ落とすことができる。
【００６８】
  その後、光ディスク記録再生装置１は、図１５（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、光ピックアップ１０をガイドレール１１に沿ってさらに左方向へ移動させ、完全に光ディスク格納室２の内部へ移動させる。ここで電極ワイパー３２は、下端部３２Ａによって電極部２０の全ての表面を摺動することになり、当該電極部２０に吸着したダストｄｓを全て削ぎ落として当該電極ワイパー３２に付着させている。
【００６９】
  また光ディスク記録再生装置１は、光ピックアップ１０が完全に光ディスク格納室２の内部に戻った時点で、直流電源２２（図３）により電極部２０の正電極２１Ａ及び負電極２１Ｂの間における所定電圧の印加を再開し、再度静電気力を発生させる。
【００７０】
  すなわち光ピックアップ１０は、電極部２０にダストｄｓを吸着していない状態で光ディスク格納室２の内部へ戻るため、当該光ディスク格納室２内で再度新たなダストｄｓを吸着することができる。
【００７１】
  このように光ディスク記録再生装置１は、ダスト除去部３０の電極ワイパー３２によって電極部２０からダストｄｓを除去することにより電極のクリーニング処理を行うようになされている。
【００７２】
  ちなみに光ディスク記録再生装置１は、光ピックアップ１０によってデータの書き込みや読み出しを行わないアイドリング時や次の命令を待ち受けている際に、この電極のクリーニング処理を随時行うようになされている。
【００７３】
（１−５）動作及び効果
  以上の構成において、光ディスク記録再生装置１は、光ピックアップ１０の上面に取り付けた電極部２０において直流電源２２により所定電圧を印加して正電極２１Ａ及び負電極２１Ｂにそれぞれ静電気力を発生させ、光ディスク１００を回転させると共に当該光ピックアップ１０を当該光ディスク１００の半径方向に移動させることにより、当該光ディスク１００の信号記録面の表面に付着したダストｄｓ及びその近傍に存在するダストｄｓ等を当該電極部２０に吸着させる。
【００７４】
  従って光ディスク記録再生装置１は、ユーザに光ディスク１００を手動でクリーニングさせることなく当該光ディスク１００に付着したダストｄｓを取り除くことができる。
【００７５】
  ここで光ディスク記録再生装置１は、光ピックアップ１０に正電極２１Ａ及び負電極２１Ｂでなる電極部２０を取り付けて当該正電極２１Ａ及び当該負電極２１Ｂに直流電圧を印加するといった簡易な構成により、光ディスク１００に付着したダストｄｓを取り除くことができるので、仮に既存の光ピックアップに対して電極部を取り付ける場合であっても、僅かな設計変更を行うだけで良い。
【００７６】
  また電極部２０は、正電極２１Ａ及び負電極２１Ｂに静電気力を発生させて光ディスク１００の表面に付着しているダストｄｓを当該正電極２１Ａ及び負電極２１Ｂに吸着させるため、当該光ディスク１００の表面からダストｄｓを非接触で取り除くことができ、摺動によって表面を損傷させる可能性がない。
【００７７】
  また光ディスク記録再生装置１は、電極部２０を光ピックアップ１０に取り付けているため、光ディスク１００上の様々な箇所に対して情報の書き込み又は読み出しを行うべく光ピックアップ１０を当該光ディスク１００の半径方向に移動させるだけで、電極部２０も移動させることができるので、当該電極部２０を移動させるための複雑な機構を設ける必要がない。
【００７８】
  特に光ディスク記録再生装置１は、電極部２０によって光ディスク１００の信号記録面の表面及びその近傍からダストｄｓを吸着して取り除くことにより、固体液浸レンズを使用しているために光ディスク１００との間隔をわずか２０［ｎｍ］程度に保つ必要がある対物レンズ部１２において、ダストｄｓによって当該対物レンズ部１２から照射するレーザ光を完全に遮断されたり、あるいは当該ダストｄｓを当該対物レンズ部１２に衝突させる可能性を格段に低減することができる。
【００７９】
  さらに電極部２０は、その表面積が光ディスク１００の信号記録面の面積と比較して非常に小さいものの、当該電極部２０が光ピックアップ１０と一体に当該光ディスク１００の半径方向に移動し、かつ当該光ディスク１００が回転駆動されることにより、当該光ディスク１００の全面にもれなく対処することができる。
【００８０】
  そのうえ電極部２０は、光ピックアップ１０の上面において対物レンズ部１２よりも後側に取り付けられていることにより（図４（Ｂ））、光ディスク１００が矢印ｒ方向に回転した際に、当該光ディスク１００に付着して当該対物レンズ部１２に接近してくるダストｄｓを当該対物レンズ部１２の直前で吸着することができ、光ディスク格納室２内で当該光ディスク１００に新たに付着したダストｄｓであっても、対物レンズ部１２によってアクセスする直前に吸着して取り除くことができる。
【００８１】
  また光ディスク記録再生装置１は、光ピックアップ１０を光ディスク格納室２から電極クリーニング室３へ移動させ、ダスト除去部３０の電極ワイパー３２によって電極部２０に吸着したダストｄｓを削ぎ落としてから再度光ディスク格納室２へ戻す。
【００８２】
  従って光ディスク記録再生装置１は、電極部２０に吸着したダストｄｓを削ぎ落とすことによって、当該電極部２０を再度ダストｄｓが無い状態に戻すことができるので、十分な静電気力によって多くのダストｄｓを新たに吸着することができる。
【００８３】
  このとき光ディスク記録再生装置１は、光ピックアップ１０を移動させることにより電極部２０に吸着したダストｄｓを光ディスク格納室２とは異なる電極クリーニング室３で除去するため、一度吸着したダストｄｓを光ディスク格納室２に再度撒き散らしてしまうことが無く、光ディスク１００に付着する可能性がある光ディスク格納室２内のダストｄｓを確実に削減していくことができる。
【００８４】
  またダスト除去部３０は、光ピックアップ１０が左右方向へ移動することを利用し、簡易な構成による電極ワイパー３２の下端部３２Ａを電極部２０へ押しつけながらダストｄｓを削ぎ落とすため、当該ダストｄｓを電極部２０から削ぎ落とすために別途動力源を用いたり複雑な機構を設ける必要がない。
【００８５】
  さらに光ディスク記録再生装置１は、ダストｄｓを電極部２０から削ぎ落とす間は電極部２０に静電気力を発生させないため、当該電極部２０に吸着したダストｄｓを容易に削ぎ落とすことができる。
【００８６】
  
以上の構成によれば、光ディスク記録再生装置１は、光ディスク１００の半径方向に移動する光ピックアップ１０の上面に取り付けた電極部２０の正電極２１Ａ及び負電極２１Ｂにそれぞれ静電気力を発生させることにより、回転する光ディスク１００の信号記録面の表面に付着したダストｄｓ及びその近傍に存在するダストｄｓ等を当該電極部２０に吸着させて取り除くことができる。
　
（２）対比
　本願発明１と引用発明を対比する。
　
ア　引用発明の投影露光装置は、マスクとしてのレチクルＲをウエハＷに投影露光するものであるから、本願発明１の「パターニングデバイスから基板上へパターンを投影するリソグラフィ投影装置」に相当する。
　
イ　引用発明の「ソリッドイマージョンレンズ２２」は「上下に２分割された分割レンズ（Ｄｉｖｉｄｅｄ  Ｌｅｎｓ）を用いることとしても良く、下側の半球状の第１部分レンズ１５２ａと、その第１部分レンズの外表面（球面の一部）と同一の点を中心とする曲率半径が僅かに大きな曲率半径の球面をその内面（内表面）として有し、前記第１部分レンズ１５２ａの中心とは異なる点を中心とする球面を外面（外表面）として有する第２部分レンズ１５２ｂとによって構成され、第２部分レンズ１５２ｂの平面（「下面」）が水圧パッド３２の軸受面とほぼ同一面とされ、水圧パッド３２の軸受面とウエハＷ表面との間の隙間（いわゆる軸受け隙間）が一定（例えば１０μｍ程度以下）に維持され」るので、本願発明１の「基板から間隔を置いて配置され、かつ内側部分および外側部分に分割される屈折型光エレメントである最終要素であって、前記外側部分に対向する前記内側部分の表面および前記内側部分に対向する前記外側部分の表面は、共に、実質的に球面状であり、かつ共通の中心を有している最終要素」に相当する。
　　
ウ　引用発明は、「露光装置１００の制御系の主制御装置２０」により、「開口の内部にソリッドイマージョンレンズ２２が配置され、このＳＩＬ２２の第２部分レンズ１５２ｂの平面（「下面」）が水圧パッド３２の軸受面とほぼ同一面とされる水圧パッド３２の軸受面とウエハＷ表面との間の隙間（いわゆる軸受け隙間）が一定（例えば１０μｍ程度以下）に維持され」るものであるので、本願発明１の「最終要素の前記内側部分の位置および／または向きを制御するアクチュエータシステム」を具備する。
　
エ　上記アないしウから、本願発明１と引用発明とは、
「パターニングデバイスから基板上へパターンを投影するリソグラフィ投影装置であって、
　前記基板から間隔を置いて配置され、かつ内側部分および外側部分に分割される屈折型光エレメントである最終要素を有する投影システムと、
前記最終要素の前記内側部分の位置および／または向きを制御するアクチュエータシステムと、
を備え、
　前記外側部分に対向する前記内側部分の表面および前記内側部分に対向する前記外側部分の表面は、共に、実質的に球面状であり、かつ共通の中心を有する、
装置。」である点で一致し、以下の点で相違する。
　
相違点１：
　本願発明１は、「前記投影システムの下で走査されようとしている前記基板の一部分上の粒子を検出する粒子ディテクタ」を備え、「前記粒子ディテクタは、前記基板をクリーニングするクリーニングデバイスと前記投影システムとの間に位置決めされ、かつ、前記クリーニングデバイスによりクリーニングされかつ前記投影システムの下で走査されようとしている前記基板の一部分上の粒子を検出する」ものであるのに対し、引用発明はそのような「粒子ディテクタ」を備えない点。
　
相違点２：
本願発明１は、「最終要素」が「使用中、約１００ｎｍ未満の距離だけ前記基板から間隔を置いて配置され」るのに対し、引用発明がそのようなものであるか明らかでない点。
　
相違点３：
本願発明１の「アクチュエータシステム」は「前記最終要素の前記内側部分を前記共通の中心の周りを回転させるものである」ものであるのに対し、引用発明はそのようなものであるか明らかでない点。
　
（３）判断
ア　相違点１について
　引用発明は、「リソグラフィー工程で用いられる投影露光装置であって、・・・走査露光中などには、水圧パッド３２に供給される水は、常時入れ替えられているので、ウエハＷ上に異物が付着している場合には、その異物が水の流れにより除去される」ものであり、また、いわゆるクリーンル−ム内に設置することが想定されるものであるから、周知例１〜３のように情報記録媒体に情報を記録する情報記録装置に用いられる光ヘッド装置に粒子ディテクタまたは異物除去手段が付加されることがあったとしても、本願発明１や引用発明の「リソグラフィー工程で用いられる投影露光装置」とは同一視できないから、引用発明においてさらに「基板をクリーニングするクリーニングデバイス」および「投影システムの下で走査されようとしている前記基板の一部分上の粒子を検出する粒子ディテクタ」を設け「前記粒子ディテクタは、前記基板をクリーニングするクリーニングデバイスと前記投影システムとの間に位置決めされ、かつ、前記クリーニングデバイスによりクリーニングされかつ前記投影システムの下で走査されようとしている前記基板の一部分上の粒子を検出する」構成を付加することについて積極的な動機づけがあるとはいえない。
　また、上記「（１）引用刊行物の記載事項」において引用した各刊行物に、本願発明１や引用発明のような「リソグラフィ工程で用いられる投影露光装置」において、「投影システムの下で走査されようとしている前記基板の一部分上の粒子を検出する粒子ディテクタ」を具備することについての記載はない。
　以上のことから、引用発明に「前記投影システムの下で走査されようとしている前記基板の一部分上の粒子を検出する粒子ディテクタ」を備えるようにすることが容易想到であるとすることはできない。
　そうである以上、引用発明に相違点１に係る本願発明１の構成を付加することが容易想到であるとすることはできない。
　
イ　まとめ
　以上のとおりであるから、その余の相違点について判断するまでもなく本願発明１は、引用発明及びその他の上記「（１）引用刊行物の記載事項」において引用した各刊行物に記載された技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
　また、本願発明１の相違点１の構成に係る構成について、上記「（１）引用刊行物の記載事項」において引用したいずれの刊行物にも記載されていないことから、本願発明１の相違点１の構成に係る構成について、上記「（１）引用刊行物の記載事項」において引用した各刊行物から、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
　本願発明１の「投影システムの下で走査されようとしている前記基板の一部分上の粒子を検出する粒子ディテクタ」を発明特定事項として含む本願発明２〜本願発明１４についても同様に、上記「（１）引用刊行物の記載事項」において引用した各刊行物から、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
　
（４）むすび
　本願について、拒絶の理由を発見しないから、本件補正は、特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定の規定に適合する。　　
　
　
第３　本願発明について
　本件補正は上記のとおり、特許法第１７条の２第３ないし第６項の規定に適合するから、本願発明は、本件補正により補正された特許請求の範囲の請求項１ないし１４により特定されるとおりのものである。
　本願について、上記「第２」での検討と同様、原査定の拒絶理由によって拒絶すべきものとすることはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
よって、結論のとおり審決する。