Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月24日(2015.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
４−（８−メトキシ−１−（１−メトキシプロパン−２−イル）−２−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−４−イル）−１Ｈ−イミダゾ［４，５−ｃ］キノリン−７−イル）−３，５−ジメチルイソオキサゾールである式（Ｉ）の化合物またはその塩。
【化１】
2014521735.tif 000001
【請求項２】
４−（８−メトキシ−１−（（Ｒ）−１−メトキシプロパン−２−イル）−２−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−４−イル）−１Ｈ−イミダゾ［４，５−ｃ］キノリン−７−イル）−３，５−ジメチルイソオキサゾールである式（ＩＡ）の化合物またはその塩。
【化２】
2014521735.tif 000002
【請求項３】
４−（８−メトキシ−１−（（Ｓ）−１−メトキシプロパン−２−イル）−２−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−４−イル）−１Ｈ−イミダゾ［４，５−ｃ］キノリン−７−イル）−３，５−ジメチルイソオキサゾールである式（ＩＢ）の化合物またはその塩。
【化３】
2014521735.tif 000003
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の化合物またはその薬学上許容可能な塩。
【請求項５】
請求項４において定義された化合物またはその薬学上許容可能な塩および１以上の薬学上許容可能な担体、希釈剤または賦形剤を含む、医薬組成物。
【請求項６】
１以上の他の治療的に活性な薬剤と一緒に、請求項４において定義された化合物またはその薬学上許容可能な塩を含む、組み合わせ医薬製品。
【請求項７】
治療において使用するための、請求項４において定義された化合物またはその薬学上許容可能な塩。
【請求項８】
ブロモドメイン阻害剤が適応される疾患または病態の治療において使用するための、請求項４において定義された化合物またはその薬学上許容可能な塩。
【請求項９】
疾患または病態が慢性の自己免疫性のおよび／または炎症性の病態である、請求項８に記載の化合物。
【請求項１０】
疾患または病態が癌である、請求項８に記載の化合物。
【請求項１１】
ブロモドメイン阻害剤が適応される疾患または病態の治療のための薬剤の製造における、請求項４において定義された化合物またはその薬学上許容可能な塩の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月21日(2015.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コロールの遷移金属錯体、その光学活性異性体または薬学的に許容可能な塩と、
スタチンまたはその薬学的に許容可能な塩と、
薬学的に許容可能なキャリアーと
を含む、薬学的組成物。
【請求項２】
錠剤またはカプセルの形体である、請求項１に記載の薬学的組成物。
【請求項３】
前記コロールの遷移金属錯体が、構造
【化２】
2014521738.tif 000001
を有し、式中、
Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３が、それぞれ独立して炭素環アリールまたは複素環アリールであり、各環が、５または６個の原子を含み、
Ｍが、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｖ、Ｃｒ、およびＣｕからなる群から選択される遷移金属であり、
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、およびＸ４が、それぞれ独立してＨまたはハロゲンであり、
Ｅ２、Ｅ３、Ｅ１７およびＥ１８が、それぞれ独立して、Ｈ、ハロゲン、ＳＯ２Ｃｌ、ＳＯ３Ｈ、ＳＯ２ＮＲ４Ｒ５、ＣＯ２Ｈ、ＣＯ２Ｒ、ＣＯＣｌ、ＣＯＮＲ４Ｒ５、ＣＨＯ、ＣＨ＝Ｃ（ＣＯ２Ｈ）２、ＣＨ＝Ｃ（ＣＮ）ＣＯ２Ｈ）、またはＮＯ２であり、
Ｒが、アルキルまたはアリールであり、Ｒ４およびＲ５が、それぞれ独立して、Ｈ、アルキル、アリールであり、または、付着したＮ原子と共に、任意にＯ、Ｓ、およびＮからなる群から選択されるさらなるヘテロ原子を含む飽和型５〜６員環の形体である、
請求項１または２に記載の薬学的組成物。
【請求項４】
Ｍが、ＦｅまたはＭｎである、請求項３に記載の薬学的組成物。
【請求項５】
Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３が、それぞれペンタフルオロフェニルであり、Ｅ２およびＥ１７が、ＳＯ３Ｈであり、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、およびＸ４が、それぞれＨであり、Ｅ３およびＥ１８がＨである、請求項３または４に記載の薬学的組成物。
【請求項６】
Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３が、それぞれ４−ニトロフェニルであり、Ｅ２およびＥ１７が、ＳＯ３Ｈであり、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、およびＸ４が、それぞれＨであり、Ｅ３およびＥ１８がＨである、請求項３または４に記載の薬学的組成物。
【請求項７】
前記スタチンが、アトルバスタチン、セリバスタチン、フルバスタチン、ロバスタチン、メバスタチン、ピタバスタチン、プラバスタチン、ロスバスタチン、およびシンバスタチンからなる群から選択される、請求項１〜６のいずれか１項に記載の薬学的組成物。
【請求項８】
前記薬学的組成物の総重量に対する活性成分の重量パーセントが、１％および７０％の間である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の薬学的組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月7日(2015.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
幹細胞治療面で対象を治療する幹細胞治療において使用する医薬組成物の製造における、リゾホスファチジン酸（ＬＰＡ）の阻害剤の使用であって、前記ＬＰＡの阻害剤は抗体または抗原結合性抗体誘導体、抗体断片、またはＬＰＡと結合しかつ中和する抗体変異体であることを特徴とする、使用。
【請求項２】
請求項１に記載の使用であって、前記抗体または抗原結合性抗体誘導体、抗体断片、またはＬＰＡと結合し中和する抗体変異体は、そのモノクローナル抗体または抗原結合性誘導体、断片、または変異体であることを特徴とする、使用。
【請求項３】
請求項１に記載の使用であって、前記抗体または抗原結合性抗体誘導体、抗体断片、またはＬＰＡと結合し中和する抗体変異体は、そのヒト化抗体または抗原結合性誘導体、断片、または変異体であることを特徴とする、使用。
【請求項４】
幹細胞治療における使用のための幹細胞の調整におけるリゾホスファチジン酸（ＬＰＡ）の阻害剤の使用であって、前記ＬＰＡの阻害剤は、そのモノクローナル抗体または抗原結合性抗体誘導体、抗体断片、またはＬＰＡと結合しかつ中和する抗体変異体であることを特徴とする、使用。
【請求項５】
請求項４に記載の使用であって、前記モノクローナル抗体または抗原結合性抗体誘導体、抗体断片、またはＬＰＡと結合しかつ中和する抗体変異体は、そのヒト化抗体または抗原結合性誘導体、断片、または変異体であることを特徴とする、使用。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月24日(2015.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２−（４−アミノフェニル）−５（６）アミノベンズイミダゾール（ＤＡＰＢＩ）、ｐ−フェニレンジアミン、およびテレフタロイルジクロライドの残基を含むポリマーの製造方法であって、
ａ）ＤＡＰＢＩおよび二塩酸ｐ−フェニレンジアミンを有機溶媒と無機塩とを含む溶媒系に溶解した溶液を形成する工程；
ｂ）前記溶液を３０℃以下の温度に冷却する工程；
ｃ）前記ＤＡＰＢＩおよび前記二塩酸ｐ−フェニレンジアミンの全量に対して化学量論量のテレフタロイルジクロライドを前記溶液に添加する工程；および
ｄ）前記工程ｃ）の溶液を撹拌してポリマーを生成する工程；
を含む方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
【表１】
2014521780.tif 000001
次に、本発明の好ましい態様を示す。
１．  ２−（４−アミノフェニル）−５（６）アミノベンズイミダゾール（ＤＡＰＢＩ）、ｐ−フェニレンジアミン、およびテレフタロイルジクロライドの残基を含むポリマーの製造方法であって、
ａ）ＤＡＰＢＩおよび二塩酸ｐ−フェニレンジアミンを有機溶媒と無機塩とを含む溶媒系に溶解した溶液を形成する工程；
ｂ）前記溶液を３０℃以下の温度に冷却する工程；
ｃ）前記ＤＡＰＢＩおよび前記二塩酸ｐ−フェニレンジアミンの全量に対して化学量論量のテレフタロイルジクロライドを前記溶液に添加する工程；および
ｄ）前記工程ｃ）の溶液を撹拌してポリマーを生成する工程；
を含む方法。
２．  前記有機溶媒がＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）またはジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）である、上記１に記載の方法。
３．  前記無機塩がＬｉＣｌまたはＣａＣｌ2である、上記１または２に記載の方法。
４．  前記溶媒系がＮＭＰ／ＣａＣｌ2である、上記１〜３のいずれか一に記載の方法。
５．  前記ポリマーを前記溶媒系から単離する工程をさらに含む、上記１〜４のいずれか一に記載の方法。
６．  工程ａ）で前記溶液が、ＤＡＰＢＩおよび二塩酸ｐ−フェニレンジアミンを前記溶媒系に入れて加熱することにより形成される、上記１〜５のいずれか一に記載の方法。
７．  テレフタロイルジクロライドを段階的に添加する、上記１〜６のいずれか一に記載の方法。
８．  テレフタロイルジクロライドを一段階で添加する、上記１〜７のいずれか一に記載の方法。
９．  前記ポリマーを粉砕する工程をさらに含む、上記５に記載の方法。
１０．  前記ポリマーを１つ以上の洗浄工程、中和工程、またはその両方で処理することをさらに含む、上記５に記載の方法。
１１．  前記ポリマーを１つ以上の洗浄工程、中和工程、またはその両方で処理することをさらに含む、上記９に記載の方法。
１２．  硫酸を含む溶媒に前記ポリマーを溶解し、繊維の紡糸に好適な溶液を形成する工程をさらに含む、上記１０に記載の方法。
１３．  硫酸を含む溶媒に前記ポリマーを溶解し、繊維の紡糸に好適な溶液を形成する工程をさらに含む、上記１１に記載の方法。
１４．  ＤＡＰＢＩおよびフェニレンジアミンが０．２５〜４の範囲のモル比で存在する、上記１〜１３のいずれか一に記載の方法。
１５．  ＮＭＰ／ＣａＣｌ2のＣａＣｌ2重量パーセントが１〜１０％の範囲である、上記４に記載の方法。
１６．  前記工程（ａ）の溶液の形成に使用されるＤＡＰＢＩの量が０．３〜９．０重量％の範囲である、上記１〜１５のいずれか一に記載の方法。
１７．  前記工程（ａ）の溶液の形成に使用されるｐ−フェニレンジアミンジクロライドの量が０．２〜１０．０重量％の範囲である、上記１〜１６のいずれか一に記載の方法。
１８．  前記溶液が１０℃以下の温度に冷却される、上記１〜１７のいずれか一に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月27日(2015.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉ）Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）またはジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）と（ｉｉ）無機塩とを含む溶媒系に溶解することができる、２−（４−アミノフェニル）−５（６）アミノベンズイミダゾール（ＤＡＰＢＩ）、ｐ−フェニレンジアミン、およびテレフタロイルジクロライドを含むポリマー粉末であって；前記ポリマーを前記溶媒系から取り出した後、前記ポリマーは前記溶媒系に再溶解することができる、ポリマー粉末。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
【表１】
2014521778.tif 000001
次に、本発明の好ましい態様を示す。
１．  （ｉ）Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）またはジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）と（ｉｉ）無機塩とを含む溶媒系に溶解することができる、２−（４−アミノフェニル）−５（６）アミノベンズイミダゾール（ＤＡＰＢＩ）、ｐ−フェニレンジアミン、およびテレフタロイルジクロライドを含むポリマー粉末であって；前記ポリマーを前記溶媒系から取り出した後、前記ポリマーは前記溶媒系に再溶解することができる、ポリマー粉末。
２．  固有粘度が２ｄｌ／ｇより大きい、上記１に記載のポリマー粉末。
３．  固有粘度が４ｄｌ／ｇ以上である、上記２に記載のポリマー粉末。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月9日(2015.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭化水素原料油を、化学変化を起こしやすいヘテロ原子含有化合物を含有する貧芳香族画分と、処理しにくいヘテロ原子含有芳香族化合物を含有する富芳香族画分とに分離する工程、
４０ｂａｒ未満の水素分圧を含む、貧芳香族画分の硫黄含量を低減するのに有効な穏やかな水素化処理条件で運転される第一水素化処理ゾーンに貧芳香族画分を導入し、第一水素化処理流出物を回収する工程、および
４０ｂａｒ以上の水素分圧を含む、富芳香族画分の硫黄含量を低減するのに有効な条件で運転される第二水素化処理ゾーンに富芳香族画分を導入し、第二水素化処理流出物を回収する工程
を含む、不要有機硫黄化合物の濃度を低減するための炭化水素原料油の処理方法。
【請求項２】
第二水素化処理流出物から軽質ガスを除去して水素化処理液体流出物を生成する工程、および
水素化処理液体流出物を芳香族化合物水素化ゾーンに導入し、水素化炭化水素生成物流を回収する工程
を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
炭化水素原料油を貧芳香族画分と富芳香族画分とに分離する工程は、
炭化水素原料油および有効な量の抽出溶媒を抽出ゾーンに導入して、炭化水素原料油の芳香族化合物の主要割合および抽出溶媒の一部を含有する抽出物と、炭化水素原料油の非芳香族化合物の主要割合および抽出溶媒の一部を含有するラフィネートとを生成する工程、
ラフィネートから抽出溶媒の少なくとも実質的な割合を分離し、貧芳香族画分を確保する工程、
抽出物から抽出溶媒の少なくとも実質的な割合を分離し、富芳香族画分を確保する工程
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
富芳香族画分は、ベンゾチオフェン、ベンゾチオフェンのアルキル化誘導体、ジベンゾチオフェン、ジベンゾチオフェンのアルキル誘導体、ベンゾナフテノチオフェンおよびベンゾナフテノチオフェンのアルキル誘導体を包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
富芳香族画分は、ピロール、キノリン、アクリジン、カルバゾールおよびそれらの誘導体を包含する芳香族窒素化合物を包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
炭化水素原料油は１８０℃〜４５０℃の沸点を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
第一水素化処理ゾーンにおける運転温度は３００℃〜４００℃である、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
第一水素化処理ゾーンにおける水素供給速度は、油１リットルあたり１００標準リットル（ＳＬｔ）〜５００標準リットルの水素である、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
第一水素化処理ゾーンにおける原料油の液体時空間速度は０．５ｈｒ−１〜１０ｈｒ−１である、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
第二水素化処理ゾーンにおける運転温度は３００℃〜４００℃である、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
第二水素化処理ゾーンにおける水素供給速度は、１００ＳＬｔ／Ｌｔ〜１０００ＳＬｔ／Ｌｔである、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
第二水素化処理ゾーンにおける圧力は４０ｂａｒ〜１００ｂａｒである、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
第二水素化処理ゾーンにおける液体時空間速度は０．１ｈ−１〜６．０ｈ−１である、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
第二水素化処理ゾーンにおける水素化処理触媒は、アルミナ基材に付着したニッケルおよびモリブデンを包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
第二水素化処理ゾーンにおける水素化処理触媒は、アルミナ基材に付着したニッケル、コバルトおよびモリブデンを包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
第二水素化処理ゾーンにおける水素化処理触媒は、アルミナ基材に付着したコバルトおよびモリブデンと、アルミナ基材に付着したニッケルおよびモリブデンとの組み合わせを包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
抽出ゾーンは段階型抽出装置である、請求項３に記載の方法。
【請求項１８】
抽出ゾーンは微分抽出装置である、請求項３に記載の方法。
【請求項１９】
芳香族化合物水素化ゾーンにおける水素分圧は４０ｂａｒ〜１００ｂａｒである、請求項２に記載の方法。
【請求項２０】
芳香族化合物水素化ゾーンにおける運転温度は２５０℃〜４００℃である、請求項２に記載の方法。
【請求項２１】
芳香族化合物水素化ゾーンにおける水素供給速度は１００ＳＬｔ／Ｌｔ〜１０００ＳＬｔ／Ｌｔである、請求項２に記載の方法。
【請求項２２】
芳香族化合物水素化ゾーンにおける液体時空間速度は０．５ｈ−１〜１０ｈ−１である、請求項２に記載の方法。
【請求項２３】
芳香族化合物水素化ゾーンにおける触媒はプラチナ、パラジウム、またはプラチナとパラジウムとの組み合わせを包含する、請求項２に記載の方法。
【請求項２４】
第一および第二水素化処理ゾーンの少なくとも１つは、異なった触媒組成の少なくとも第一および第二層を有する層状触媒床を含んでなり、触媒はアルミナ上のＣｏ−Ｍｏおよびアルミナ上のＮｉ−Ｍｏである、請求項１に記載の方法。
【請求項２５】
相対的に低い割合の処理しにくい硫黄および窒素含有分子を含有する貧芳香族画分を、第一水素化処理ゾーンにおいてＣｏ−Ｍｏ触媒組成物と接触させる、請求項１に記載の方法。
【請求項２６】
相対的に高い割合の処理しにくい硫黄および／または窒素含有分子を含有する富芳香族画分を、第二水素化処理ゾーンにおいてＣｏ−Ｍｏ−Ｎｉ触媒組成物と接触させる、請求項１に記載の方法。
【請求項２７】
原料油流は窒素も含有しており、富芳香族画分を第二水素化処理ゾーンにおいてＮｉ−Ｍｏ触媒組成物と接触させる、請求項１に記載の方法。
【請求項２８】
炭化水素原料油の受入口、富芳香族画分の出口、および貧芳香族画分の出口を含んでなり、炭化水素原料油から有機硫黄芳香族炭化水素化合物を抽出できる芳香族化合物分離ゾーン、
貧芳香族画分の出口と流体連結している入口、および第一水素化処理流出物を吐出するための出口を有する第一水素化処理ゾーン、並びに
富芳香族画分の出口と流体連結している入口、および第二水素化処理流出物を吐出するための出口を有する第二水素化処理ゾーン
を含んでなる、不要有機硫黄化合物の濃度を低減するための有機硫黄芳香族炭化水素化合物含有炭化水素原料油の処理装置。
【請求項２９】
第二水素化処理流出物を含む流路における入口、軽質ガスを吐出するための出口、および水素化処理液体流出物を吐出するための出口を有するフラッシング装置、並びに
水素化処理液体流出物を含む流路における入口、および水素化炭化水素生成物流を吐出するための出口を有する芳香族化合物水素化ゾーン
を更に含んでなる、請求項２８に記載の装置。
【請求項３０】
第一水素化処理ゾーンにおいて、貧芳香族画分を、活性金属成分としてのコバルトおよびモリブデンからなる触媒組成物と接触させる、請求項１に記載の方法。
【請求項３１】
第二水素化処理ゾーンにおいて、富芳香族画分を、活性金属成分としてのニッケルおよびモリブデンからなる触媒組成物と接触させる、請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
第二水素化処理ゾーンにおいて、富芳香族画分を、活性金属成分としてのニッケル、コバルトおよびモリブデンからなる触媒組成物と接触させる、請求項３０に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月24日(2015.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２−（４−アミノフェニル）−５（６）アミノベンズイミダゾール（ＤＡＰＢＩ）、ｐ−フェニレンジアミン、およびテレフタロイルジクロライドの残基を含むポリマーの製造方法であって、
ａ）有機溶媒と無機塩とを含む溶媒系中で１モルのｐ−フェニレンジアミンと１．３〜５モルのテレフタロイルジクロライドとから、塩素末端基を有するオリゴマーの溶液を形成する工程；および
ｂ）ＤＡＰＢＩとテレフタロイルジクロライドをオリゴマーの溶液に添加し、ポリマーを生成する工程；
を含む方法。
【請求項２】
２−（４−アミノフェニル）−５（６）アミノベンズイミダゾール（ＤＡＰＢＩ）、ｐ−フェニレンジアミン、およびテレフタロイルジクロライドの残基を含むポリマーであって、ＩＰＣピークブロック比が１．６４〜１．６８であり、固有粘度が２ｄｌ／ｇより大きいポリマー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
【表１】
2014521779.tif 000001
次に、本発明の好ましい態様を示す。
１．  ２−（４−アミノフェニル）−５（６）アミノベンズイミダゾール（ＤＡＰＢＩ）、ｐ−フェニレンジアミン、およびテレフタロイルジクロライドの残基を含むポリマーの製造方法であって、
ａ）有機溶媒と無機塩とを含む溶媒系中で１モルのｐ−フェニレンジアミンと１．３〜５モルのテレフタロイルジクロライドとから、塩素末端基を有するオリゴマーの溶液を形成する工程；および
ｂ）ＤＡＰＢＩとテレフタロイルジクロライドをオリゴマーの溶液に添加し、ポリマーを生成する工程；
を含む方法。
２．  前記有機溶媒がＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）またはジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）である、上記１に記載の方法。
３．  前記無機塩がＬｉＣｌまたはＣａＣｌ2である、上記１または２に記載の方法。
４．  前記溶媒系がＮＭＰ／ＣａＣｌ2である、上記１〜３のいずれか一に記載の方法。
５．  前記工程ｂ）のＤＡＰＢＩの量が、ｐ−フェニレンジアミンの量に対して５０〜４００モルパーセントの範囲である、上記１〜４のいずれか一に記載の方法。
６．  工程ｂ）で添加されるテレフタロイルジクロライドの量が、溶液中のジアミンの量に基づく化学量論バランスを達成するのに十分である、上記１〜５のいずれか一に記載の方法。
７．  前記溶媒系から前記ポリマーを単離する工程をさらに含む、上記１〜６のいずれか一に記載の方法。
８．  前記ポリマーを粉砕する工程をさらに含む、上記７に記載の方法。
９．  前記ポリマーを１つ以上の洗浄工程、中和工程、またはその両方で処理することをさらに含む、上記７に記載の方法。
１０．  前記粉砕されたポリマーを１つ以上の洗浄工程、中和工程、またはその両方で処理することをさらに含む、上記８に記載の方法。
１１．  硫酸を含む溶媒に前記ポリマーを溶解し、繊維の紡糸に好適な溶液を形成する工程をさらに含む、上記９に記載の方法。
１２．  硫酸を含む溶媒に前記ポリマーを溶解し、繊維の紡糸に好適な溶液を形成する工程をさらに含む、上記１０に記載の方法。
１３．  ＮＭＰ／ＣａＣｌ2のＣａＣｌ2重量パーセントが１〜１０％の範囲である、上記４に記載の方法。
１４．  ２−（４−アミノフェニル）−５（６）アミノベンズイミダゾール（ＤＡＰＢＩ）、ｐ−フェニレンジアミン、およびテレフタロイルジクロライドの残基を含むポリマーであって、ＩＰＣピークブロック比が１．６４〜１．６８であり、固有粘度が２ｄｌ／ｇより大きいポリマー。
１５．  ＩＰＣピークブロック比が１．６５〜１．６７である、上記１４に記載のポリマー。
１６．  固有粘度が４ｄｌ／ｇ以上である、上記１４または１５に記載のポリマー。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月27日(2015.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２−（４−アミノフェニル）−５（６）アミノベンズイミダゾール（ＤＡＰＢＩ）、ｐ−フェニレンジアミン（ＰＰＤ）、およびテレフタロイルジクロライドの残基を含むポリマーの製造方法であって：
ａ）有機溶媒と無機塩とを含む溶媒系にＤＡＰＢＩを懸濁したスラリーを形成する工程；
ｂ）ＤＡＰＢＩの量に対して、化学量論量未満のテレフタロイルジクロライドを前記スラリーに添加する工程；
ｃ）前記スラリーを撹拌して前記ＤＡＰＢＩとテレフタロイルジクロライドを反応させ、オリゴマー溶液を生成する工程；
ｄ）ＰＰＤを前記オリゴマー溶液に添加し、前記ＰＰＤが実質的に全部溶解するまで撹拌した後、テレフタロイルジクロライドを添加してプレポリマー溶液を生成する工程；および
ｅ）前記プレポリマー溶液からポリマーを生成する工程；
を含む方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
【表１】
2014521777.tif 000001
次に、本発明の好ましい態様を示す。
１．  ２−（４−アミノフェニル）−５（６）アミノベンズイミダゾール（ＤＡＰＢＩ）、ｐ−フェニレンジアミン（ＰＰＤ）、およびテレフタロイルジクロライドの残基を含むポリマーの製造方法であって：
ａ）有機溶媒と無機塩とを含む溶媒系にＤＡＰＢＩを懸濁したスラリーを形成する工程；
ｂ）ＤＡＰＢＩの量に対して、化学量論量未満のテレフタロイルジクロライドを前記スラリーに添加する工程；
ｃ）前記スラリーを撹拌して前記ＤＡＰＢＩとテレフタロイルジクロライドを反応させ、オリゴマー溶液を生成する工程；
ｄ）ＰＰＤを前記オリゴマー溶液に添加し、前記ＰＰＤが実質的に全部溶解するまで撹拌した後、テレフタロイルジクロライドを添加してプレポリマー溶液を生成する工程；および
ｅ）前記プレポリマー溶液からポリマーを生成する工程；
を含む方法。
２．  添加されるテレフタロイルジクロライドの全量が、ＤＡＰＢＩとＰＰＤとを含む全ジアミンに対する化学量論量である、上記１に記載の方法。
３．  前記有機溶媒が、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）またはジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）である、上記１または２に記載の方法。
４．  前記無機塩がＬｉＣｌまたはＣａＣｌ2である、上記１〜３のいずれか一項に記載の方法。
５．  前記溶媒系がＮＭＰ／ＣａＣｌ2である、上記１〜４のいずれか一項に記載の方法。
６．  工程ｅ）が撹拌下で行われる、上記１〜５のいずれか一項に記載の方法。
７．  前記ポリマーを単離する工程をさらに含む、上記１〜６のいずれか一項に記載の方法。
８．  前記ポリマーを粉砕する工程をさらに含む、上記７に記載の方法。
９．  前記ポリマーを１つ以上の洗浄工程、中和工程、またはその両方で処理することをさらに含む、上記７に記載の方法。
１０．  前記粉砕されたポリマーを１つ以上の洗浄工程、中和工程、またはその両方で処理することをさらに含む、上記８に記載の方法。
１１．  硫酸を含む溶媒に前記ポリマーを溶解し、繊維の紡糸に好適な溶液を形成する工程をさらに含む、上記９に記載の方法。
１２．  硫酸を含む溶媒に前記ポリマーを溶解し、繊維の紡糸に好適な溶液を形成する工程をさらに含む、上記１０に記載の方法。
１３．  Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）またはジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）と無機塩とを含む溶媒に前記ポリマーを溶解し、繊維の紡糸に好適な溶液を形成する工程をさらに含む、上記９に記載の方法。
１４．  Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）またはジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）と無機塩とを含む溶媒に前記ポリマーを溶解し、繊維の紡糸に好適な溶液を形成する工程をさらに含む、上記１０に記載の方法。
１５．  ＤＡＰＢＩとフェニレンジアミンが０．２５〜４．０の範囲のモル比で存在する、上記１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
１６．  ＮＭＰ／ＣａＣｌ2のＣａＣｌ2重量パーセントが１〜１０％の範囲である、上記５に記載の方法。
１７．  工程（ａ）のＤＡＰＢＩである前記スラリーの量が０．５〜１０重量％の範囲である、上記１〜１６のいずれか一項に記載の方法。
１８．  工程（ｄ）の前記オリゴマー溶液に溶解されるｐ−フェニレンジアミンの量が０．２〜６．０重量％の範囲である、上記１〜１７のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月10日(2015.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体炭化水素原料を、流動接触分解の反応・分離帯にて低分子量の炭化水素化合物に変換するプロセスであって、
ａ．液体炭化水素原料および過剰量の水素ガスを混合帯にて混合し、水素ガスの一部を液体炭化水素原料に溶かし、水素に富む液体炭化水素原料を生成し；
ｂ．水素に富む液体炭化水素原料と残りの水素をフラッシング帯に導入し、そこで未溶解の水素の少なくとも一部をフラッシュさせ；
ｃ．水素に富む液体炭化水素原料を、フラッシング帯から、低沸点の炭化水素への液体炭化水素原料の変換を含む反応のための流動固形接触性クラッキング触媒を含有する流動接触分解の反応・分離帯に通し；および
ｄ．変換された炭化水素の生成物を流動接触分解の反応・分離帯より回収する
ことを含む、プロセス。
【請求項２】
液体炭化水素原料が含硫炭化水素化合物を含むプロセスであって、水素を含硫炭化水素化合物と反応させ、脱硫炭化水素化合物および硫化水素を生成し、硫化水素を変換された炭化水素生成物と一緒に流動接触分解の反応・分離帯から回収することを含む、請求項１記載のプロセス。
【請求項３】
液体炭化水素原料が含窒素炭化水素化合物を含むプロセスであって、水素を含窒素炭化水素化合物と反応させ、脱窒素炭化水素化合物およびアンモニアを生成し、アンモニアを変換された炭化水素生成物と一緒に流動接触分解の反応・分離帯から回収することを含む、請求項１記載のプロセス。
【請求項４】
水素がフラッシング帯より回収され、混合帯にて液体炭化水素原料と混合するために再循環される、請求項１記載のプロセス。
【請求項５】
混合帯が水素分配装置槽を含み、そこで水素ガスを炭化水素原料と乱流条件下で接触させる、請求項１記載のプロセス。
【請求項６】
分配装置槽が複数の注入ポートを含む、請求項５記載のプロセス。
【請求項７】
混合帯が約５バール〜約２００バールの範囲の圧力で維持される、請求項１記載のプロセス。
【請求項８】
混合帯における水素の正規化容量の液体炭化水素の容量に対する容量割合が、約３００：１〜約３０００：１の範囲にて維持される、請求項１記載のプロセス。
【請求項９】
液体炭化水素原料が、原油、合成原油、分解ビチューメン、油砂、分解シェールオイル、石炭液化油、真空軽油、脱アスファルト油、脱金属油、未変換の水素化分解装置残油、水素化分解装置再循環ストリーム、水素化処理の真空軽油、軽質コーカー軽油、重質コーカー軽油、軽質サイクルオイル、重質サイクルオイル、精製スラリーオイル、ビスブレーキング軽油、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１記載のプロセス。
【請求項１０】
変換された炭化水素の生成物が、ナフサストリーム、軽質サイクルオイルストリーム、重質サイクルオイルストリームおよびスラリーオイルストリームを包含する、請求項１記載のプロセス。
【請求項１１】
軽質サイクルオイルが請求項１に記載の工程（ａ）における混合帯に再循環される、請求項１０記載のプロセス。
【請求項１２】
流動接触分解の反応・分離帯に水素化分解性触媒を導入し、ヘテロ原子含有炭化水素のヘテロ原子不含炭化水素への変換を促進することをさらに含む、請求項１記載のプロセス。
【請求項１３】
フラッシング帯から由来の原料の流出物の圧力および温度が、流動接触分解および反応帯に流入する溶存水素の濃度を最大とするように維持される、請求項１記載のプロセス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
本発明の方法およびシステムは上記にて、および添付した図面にて記載されているが、修飾は本明細書の記載に基づいて当業者に明らかであり、本発明の保護の範囲は以下に記載の特許請求の範囲により決定されるべきである。
本発明の好ましい態様は、以下を包含する。
［１］  液体炭化水素原料を、流動接触分解の反応・分離帯にて低分子量の炭化水素化合物に変換するプロセスであって、
ａ．液体炭化水素原料および過剰量の水素ガスを混合帯にて混合し、水素ガスの一部を液体炭化水素原料に溶かし、水素に富む液体炭化水素原料を生成し；
ｂ．水素に富む液体炭化水素原料と残りの水素をフラッシング帯に導入し、そこで未溶解の水素の少なくとも一部をフラッシュさせ；
ｃ．水素に富む液体炭化水素原料を、フラッシング帯から、低沸点の炭化水素への変換を含む反応のための流動接触性クラッキング触媒を含有する流動接触分解の反応・分離帯に通し；および
ｄ．変換された炭化水素の生成物を流動接触分解の反応・分離帯より回収する
ことを含む、プロセス。
［２］  液体炭化水素原料が含硫炭化水素化合物を含むプロセスであって、水素を含硫炭化水素化合物と反応させ、脱硫炭化水素化合物および硫化水素を生成し、硫化水素を変換された炭化水素生成物と一緒に流動接触分解の反応・分離帯から回収することを含む、［１］に記載のプロセス。
［３］  液体炭化水素原料が含窒素炭化水素化合物を含むプロセスであって、水素を含窒素炭化水素化合物と反応させ、脱窒素炭化水素化合物およびアンモニアを生成し、アンモニアを変換された炭化水素生成物と一緒に流動接触分解の反応・分離帯から回収することを含む、［１］に記載のプロセス。
［４］  水素がフラッシング帯より回収され、混合帯にて液体炭化水素原料と混合するために再循環される、［１］に記載のプロセス。
［５］  混合帯が水素分配装置槽を含み、そこで水素ガスを炭化水素原料と乱流条件下で接触させる、［１］に記載のプロセス。
［６］  分配装置槽が複数の注入ポートを含む、請求項５記載のプロセス。
［７］  混合帯が約５バール〜約２００バールの範囲の圧力で維持される、［１］に記載のプロセス。
［８］  混合帯における水素の正規化容量の液体炭化水素の容量に対する容量割合が、約３００：１〜約３０００：１の範囲にて維持される、［１］に記載のプロセス。
［９］  液体炭化水素原料が、原油、合成原油、分解ビチューメン、油砂、分解シェールオイル、石炭液化油、真空軽油、脱アスファルト油、脱金属油、未変換の水素化分解装置残油、水素化分解装置再循環ストリーム、水素化処理の真空軽油、軽質コーカー軽油、重質コーカー軽油、軽質サイクルオイル、重質サイクルオイル、精製スラリーオイル、ビスブレーキング軽油、およびそれらの組み合わせを包含する、［１］に記載のプロセス。
［１０］  変換された炭化水素の生成物が、ナフサストリーム、軽質サイクルオイルストリーム、重質サイクルオイルストリームおよびスラリーオイルストリームを包含する、［１］に記載のプロセス。
［１１］  軽質サイクルオイルが請求項１に記載の工程（ａ）における混合帯に再循環される、［１］に記載のプロセス。
［１２］  流動接触分解の反応・分離帯に水素化分解性触媒を導入し、ヘテロ原子含有炭化水素のヘテロ原子不含炭化水素への変換を促進することをさらに含む、［１］に記載のプロセス。
［１３］  フラッシング帯から由来の原料の流出物の圧力および温度が、流動接触分解および反応帯に流入する溶存水素の濃度を最大とするように維持される、［１］に記載のプロセス。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月6日(2015.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の化合物
【化１】
2014521744.tif 000001
またはその薬学的に許容される塩。
【請求項２】
請求項１に記載の化合物またはその薬学的に許容される塩、および薬学的に許容される担体、希釈剤または賦形剤のうちの少なくとも１つを含む、医薬組成物。
【請求項３】
哺乳類の糖尿病の治療における使用のための、請求項１に記載の化合物またはその薬学的に許容される塩を含む、医薬組成物。
【請求項４】
式ＩＩの化合物
【化２】
2014521744.tif 000002
（式中、Ｒは、Ｃ１−４アルキル、Ｃ１−４ハロアルキル、Ｃ３−６シクロアルキル、Ｃ１−４アルキル−Ｃ３−６シクロアルキル、フェニルおよびＣ１−５アルキルフェニルから選択される）
またはその薬学的に許容される塩。
【請求項５】
（３Ｓ）−３−［４−［［５−［（８−メトキシ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−キノリン−１−イル）メチル］−２−チエニル］メトキシ］フェニル］ヘキサ−４−イン酸またはその薬学的に許容される塩を調製する方法であって、式ＩＩの化合物
【化３】
2014521744.tif 000003
（式中、Ｒは、Ｃ１−４アルキル、Ｃ１−４ハロアルキル、Ｃ３−６シクロアルキル、Ｃ１−４アルキル−Ｃ３−６シクロアルキル、フェニルおよびＣ１−５アルキルフェニルから選択される）
またはその薬学的に許容される塩を脱エステル化して、式Ｉの化合物
【化４】
2014521744.tif 000004
またはその薬学的に許容される塩を得ることを含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月10日(2015.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基剤ペーストと触媒ペーストとを混合することにより作製される硬化性歯科用組成物であって、
前記基剤ペーストは、少なくとも２つの脂肪族不飽和基を有する少なくとも１つのオルガノポリシロキサンと、Ｓｉ−Ｈ部分を有する少なくとも１つの成分との組み合わせから選択される、硬化性部分（ＡＣ）を有する成分（１つ又は複数）（Ａ）を含有し、
前記触媒ペーストは、Ｐｔ含有成分を含有する触媒（Ｃ）を含有し、
前記硬化性組成物は、少なくとも１つのＳｉ−Ｈ基を反応性部分として有する成分（Ｘ）を含有し、
前記基剤ペースト又は前記触媒ペーストのいずれかは、反応体（Ｙ）を含有し、前記反応体（Ｙ）は前記成分（Ｘ）と相互作用することが可能であるが、架橋反応には関与せず、
前記反応体（Ｙ）は、不飽和部分を１つだけ有するシラン成分、アルキルビニルエーテル成分、アルキルアリルエーテル成分、及びこれらの混合物から選択され、
前記硬化性組成物は、前記基剤ペーストと前記触媒ペーストとを混合してから２０秒後の前記組成物の温度Ｔ１を、Ｔ１より約６〜約２０℃高い温度Ｔ２まで上昇させるのに十分な量のエネルギーを生成することが可能である、組成物。
【請求項２】
Ｆ−含有成分を含み、ここで前記Ｆ−含有化合物が次式によって特徴づけられ、
Ｔ１−Ｘ−［（Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２）ｕ−（Ｏ−ＣＦ２）ｖ−（Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＦ２）ｗ−（Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＦ２）ｘ−Ｏ］−Ｘ−Ｔ２
式中、ｕ＝０〜８、ｖ＝０〜８、ｗ＝０〜８、ｘ＝０〜８、ｕ＋ｖ＋ｗ＋ｘ≧１であり、ここでＴ１及びＴ２は、同じでも異なっていてもよく、また独立して−ＣＯＯＲ、−ＣＨ２ＯＨ、−ＣＦ２ＯＲ、−ＣＨＦＯＨ、−ＣＨＦＯＲ、−ＣＨ２ＯＲ、又は−Ｆから選択され、Ｒは直鎖状又は分岐鎖状のアルキル残基（Ｃ１〜Ｃ９）、アリール残基（Ｃ１〜Ｃ９）、又はアルキルアリール残基（Ｃ１〜Ｃ９）であり、ここでＸは−（ＣＦ２）１〜６−、−ＣＦ（ＣＦ３）−、及び−ＣＨＦ−ＣＦ２−から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
全組成物の重量に対する重量％で、
前記成分（Ａ）が約２０〜約６０重量％、
前記触媒（Ｃ）が約０．００００５〜約３５重量％、
前記成分（Ｘ）が約５〜約２５重量％、
前記反応体（Ｙ）が約１〜約５重量％、
前記充填剤が約０〜約７０重量％、
前記添加剤が約０〜約３０重量％を含有する、
請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載される基剤ペーストと触媒ペーストとを混合する工程を含む、歯科用印象材の製造方法であって、前記基剤ペーストと前記触媒ペーストとの混合物が、混合してから２０秒後に測定した温度Ｔ１を有し、かつ混合後約１５分の時間枠の範囲内で測定した温度Ｔ２を有し、前記Ｔ２が前記Ｔ１よりも約６〜約２０℃高い、歯科用印象材の製造方法。
【請求項５】
基剤ペースト及び触媒ペーストの形態で存在する硬化性歯科用組成物の硬化時間を短縮するための反応体（Ｙ）の使用であって、基剤ペースト、触媒ペースト、及び反応体（Ｙ）が請求項１〜４のいずれか一項に記載される通りである、使用。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月24日(2015.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
テレフタロイルクロライド、ｐ−フェニレンジアミン、および式Ｉ：
【化１】
2014521781.tif 000001
（式中、Ａ-は、ハロゲンアニオン、ＨＳＯ4-、ＯＨ-、ＮＯ3-、Ｃ2Ｈ3Ｏ2-、またはＨ2ＰＯ4-である）の塩の残基を含むポリマーの製造方法であって、
ａ）有機溶媒と無機塩とを含む溶媒系中に式Ｉの塩とｐ−フェニレンジアミンとを含む混合物を形成する工程；
ｂ）テレフタロイルクロライドを前記混合物に添加し、前記ポリマーを生成する工程；
を含む方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
実施例２
実施例１のポリマーを、硫酸含有溶媒と混合する。ポリマーが溶媒に十分に溶解し、繊維の紡糸に好適な溶液が形成されるまで、必要に応じて冷却して温度を制御しながら、混合物を撹拌する。
次に、本発明の態様を示す。
1.  テレフタロイルクロライド、ｐ−フェニレンジアミン、および式Ｉ：
2014521781.tif 000002
（式中、Ａ-は、ハロゲンアニオン、ＨＳＯ4-、ＯＨ-、ＮＯ3-、Ｃ2Ｈ3Ｏ2-、またはＨ2ＰＯ4-である）の塩の残基を含むポリマーの製造方法であって、
ａ）有機溶媒と無機塩とを含む溶媒系中に式Ｉの塩とｐ−フェニレンジアミンとを含む混合物を形成する工程；
ｂ）テレフタロイルクロライドを前記混合物に添加し、前記ポリマーを生成する工程；
を含む方法。
2.  化学量論量のテレフタロイルクロライドを前記混合物に添加する、上記１に記載の方法。
3.  前記有機溶媒が、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）またはジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）である、上記１または２に記載の方法。
4.  前記無機塩がＬｉＣｌまたはＣａＣｌ2である、上記１〜３のいずれか一項に記載の方法。
5.  前記溶媒系がＮＭＰ／ＣａＣｌ2である、上記１〜４のいずれか一項に記載の方法。
6.  前記式Ｉの塩が次式：
2014521781.tif 000003
の塩である、上記１〜５のいずれか一項に記載の方法。
7.  前記テレフタロイルクロライドを２段階以上で添加する、上記２に記載の方法。
8.  工程ｂ）が、
前記テレフタロイルクロライドの２０〜５０％を第１の添加段階で添加して、第２の混合物を形成すること、
前記第２の混合物を少なくとも１分間撹拌すること、および
前記撹拌された第２の混合物に前記残りのテレフタロイルクロライドを１つ以上の添加段階で添加すること、
を含む、上記７に記載の方法。
9.  工程ｂ）が−１０〜３０℃の温度で行われる、上記１〜８のいずれか一項に記載の方法。
10.  前記式Ｉの塩とｐ−フェニレンジアミンが０．５〜４．０の範囲のモル比で存在する、上記１〜９のいずれか一項に記載の方法。
11.  ＮＭＰ／ＣａＣｌ2のＣａＣｌ2重量パーセントが１．０〜１０％の範囲である、上記５に記載の方法。
12.  前記ポリマーを単離する工程をさらに含む、上記１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
13.  前記ポリマーを粉砕する工程をさらに含む、上記１２に記載の方法。
14.  前記ポリマーを１つ以上の洗浄工程、中和工程、またはその両方で処理することをさらに含む、上記１２に記載の方法。
15.  前記粉砕されたポリマーを１つ以上の洗浄工程、中和工程、またはその両方で処理することをさらに含む、上記１３に記載の方法。
16.  硫酸を含む溶媒に前記ポリマーを溶解し、繊維の紡糸に好適な溶液を形成する工程をさらに含む、上記１４に記載の方法。
17.  硫酸を含む溶媒に前記ポリマーを溶解し、繊維の紡糸に好適な溶液を形成する工程をさらに含む、上記１５に記載の方法。
18.  Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）またはジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）と無機塩とを含む溶媒に前記ポリマーを溶解し、繊維の紡糸に好適な溶液を形成する工程をさらに含む、上記１４に記載の方法。
19.  Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）またはジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）と無機塩とを含む溶媒に前記ポリマーを溶解し、繊維の紡糸に好適な溶液を形成する工程をさらに含む、上記１５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月23日(2015.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
供給原料からディーゼルおよび／またはナフサ生成物流を製造する統合的水素化分解方法であって：
ａ．炭化水素供給物を芳香族リーン留分および芳香族リッチ留分に分離する工程；
ｂ．芳香族リッチ留分に含まれる芳香族化合物の少なくとも一部を水素化処理および水素化分解するのに効果的な条件下において操作される第１段階水素化処理反応ゾーンの第１容器において芳香族リッチ留分を水素化処理し、第１容器第１段階水素化処理反応ゾーン流出物を製造する工程；
ｃ．芳香族リーン留分に含まれる芳香族化合物の少なくとも一部を水素化処理および水素化分解するのに効果的な条件下において操作される第１段階水素化処理反応ゾーンの第２容器において芳香族リーン留分を水素化処理し、第２容器第１段階水素化処理反応ゾーン流出物を製造する工程；
ｄ．第１容器第１段階水素化処理反応ゾーン流出物および第２容器第１段階水素化処理反応ゾーン流出物の混合物を精留し、１以上の精留ゾーンディーゼルおよび／またはナフサ生成物流および１以上の精留ゾーン底部流を製造する工程；
ｅ．第２段階水素化処理反応ゾーンにおいて精留ゾーン底部流の少なくとも一部を水素化処理し、第２段階水素化処理反応ゾーン流出物を製造する工程；
ｆ．第２段階水素化処理反応ゾーン流出物を精留工程に運ぶ工程
を含む方法。
【請求項２】
第１容器第１段階水素化処理反応ゾーンは、芳香族リッチ留分に含まれる芳香族化合物の少なくとも一部からヘテロ原子を除去し、および水素化分解するのに効果的である比較的厳しい条件下において操作される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
第２容器第１段階水素化処理反応ゾーンは、芳香族リーン留分に含まれるパラフィンおよびナフテン化合物の少なくとも一部からヘテロ原子を除去し、および水素化分解するのに効果的である比較的穏和な条件下において操作される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
第２段階水素化処理反応ゾーンは、精留ゾーン底部流に含まれるパラフィンおよびナフテン化合物の少なくとも一部からヘテロ原子を除去し、および水素化分解するのに効果的である比較的穏和な条件下において操作される、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
芳香族リッチ留分には、ピロール、キノリン、アクリジン、カルバゾールおよびそれらの由来物を含む芳香族窒素化合物が含まれる、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
芳香族リッチ留分には、チオフェン、ベンゾチオフェンおよびそれらの由来物、ならびにジベンゾチオフェンおよびそれらの由来物を含む芳香族硫黄化合物が含まれる、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
未反応の炭化水素および／または部分分解炭化水素を含む、精留ゾーンからの一部または全ての１以上の底部流を、芳香族分離ゾーンおよび／または第１段階水素化反応ゾーンに戻し再利用する、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
炭化水素供給物を芳香族リーン留分および芳香族リッチ留分に分離する工程は：
炭化水素供給物および有効量の抽出溶媒を抽出ゾーンに導入し、
炭化水素供給物の芳香族含有物の大部分および抽出溶媒の一部を含む抽出物および
炭化水素供給物の非芳香族含有物の大部分および抽出溶媒の一部を含むラフィネート
を製造すること；
ラフィネートから少なくとも実質的に一部の抽出溶媒を分離し、芳香族リーン留分を残すこと；ならびに
抽出物から少なくとも実質的に一部の抽出溶媒を分離し、芳香族リッチ留分を残すこと
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
炭化水素供給物の、芳香族リーン留分および芳香族リッチ留分への分離は、混合−沈降装置において行う、請求項１または８に記載の方法。
【請求項１０】
炭化水素供給物の、芳香族リーン留分および芳香族リッチ留分への分離は、遠心抽出装置において行う、請求項１または８に記載の方法。
【請求項１１】
炭化水素供給物の、芳香族リーン留分および芳香族リッチ留分への分離は、接触塔において行う、請求項１または８に記載の方法。
【請求項１２】
接触塔は棚段塔である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
接触塔は充填床式塔である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
接触塔は回転円盤抽出塔である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
接触塔はパルス式塔である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
クリーンな輸送燃料を製造するための重質炭化水素供給原料処理用の統合的装置であって、
炭化水素供給物から芳香族有機硫黄化合物を抽出するよう操作可能な芳香族分離ゾーン（芳香族分離ゾーンは、炭化水素供給物を受けるための入口、芳香族リッチ出口および芳香族リーン出口を含む）；
芳香族リッチ出口と流体連通する入口および第１容器第１段階水素化処理反応ゾーン流出物を送り出すための出口を有する第１段階水素化処理反応ゾーンの第１容器；
芳香族リーン出口と流体連通する入口、および第２容器第１段階水素化処理反応ゾーン流出物を送り出すための出口を有する第１段階水素化処理反応ゾーンの第２容器；
第１段階水素化処理反応ゾーン流出物および第２段階水素化処理反応ゾーン流出物の両方と流体連通する入口、生成物を送り出すための１以上の出口および精留ゾーン底部を送り出すための１以上の出口を有する精留ゾーン；ならびに
精留ゾーン底部流と流体連通する入口および第２段階水素化処理反応ゾーン流出物を送り出すための出口を有する第２段階水素化処理反応ゾーン
を含む装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
段階型抽出装置の例は、図３に概略的に示される混合-沈降装置340である。混合-沈降装置340には、タービンまたはプロペラ型攪拌機382および１以上のバッフル384が組み込まれた縦型タンク381が含まれる。充填入口386、388はタンク381の上部に位置し、出口391はタンク381の底に位置する。抽出される供給原料は、入口386を通じて容器381に充填され、適当な量の溶媒が入口388を通じて添加される。攪拌機382は、溶媒および充填原料の均質混合をもたらすのに十分な時間駆動させ、混合循環の終わりにおいて攪拌を停止し、バルブ392の制御によって、少なくとも一部の含有物を送り出し、沈降タンク394に通す。沈降タンク394において層が分離し、芳香族リーン炭化水素混合物を含むラフィネート層および芳香族リッチ混合物を含む抽出層を、それぞれ出口396および398を通じて引き抜く。一般に、混合-沈降装置を回分式において用いてよく、または連続式において複数の混合-沈降装置を操作するために設置してよい。