【事件の表示】
　特許第３２１９２５４号「真空用フッ素ゴム並びにその製造方法」の請求項１ないし４に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第３２１９２５４号の請求項１ないし４に係る特許を維持する。
【理　由】
［１］．手続きの経緯
  本件特許第３２１９２５４号に係る発明は、平成４年９月２５日に出願され、平成１３年８月１０日にその特許権の設定登録がなされ、その後、異議申立人　石井　睦子（以下、「特許異議申立人」という。）より特許異議の申立がなされ、取消理由が通知され、その指定期間内である平成１４年１１月１９日に特許異議意見書が提出されたものである。
　
［２］．異議申立についての判断
〈１〉異議申立理由の概要
　特許異議申立人は、甲第１〜４号を提出して、
「本件請求項１〜３に係る発明は甲第１〜４号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明し得たものであり、また、本件請求項４に係る発明は甲第１及び２号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明し得たものであるから、いずれも特許法第２９条第２項の規定に違反し、特許を受けることができない。」
　と主張している。
　
〈２〉．本件特許発明
　本件請求項１〜４に係る発明（以下、「本件発明１」〜「本件発明４」という。）は、特許明細書の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１〜４に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
　
「【請求項１】常温で１×１０−５〜１×１０−８Ｔｏｒｒの雰囲気下で１２時間放置後のアウトガス放出量が、単位表面積当り１×１０−７Ｔｏｒｒ・ｌ／ｓｅｃ・ｃｍ２以下であることを特徴とする真空用フッ素ゴム。
【請求項２】メチルエチルケトン溶剤に常温で２４時間浸漬した場合における、フッ素ゴムからの抽出量が単位体積当り０．０２ｇ／ｃｍ３以下であることを特徴とする真空用フッ素ゴム。
【請求項３】架橋されたフッ素ゴムを溶剤と接触させることを特徴とする真空用フッ素ゴムの製造方法。
【請求項４】溶剤が、水であることを特徴とする請求項３に記載の方法。」
　
〈３〉．取消理由
　当審において平成１４年９月６日付けで通知した取消理由は、
「本件請求項１〜３に係る発明は甲第１〜３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明し得たものであり、また、本件請求項４に係る発明は甲第１及び２号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明し得たものであるから、いずれも特許法第２９条第２項の規定に違反し、特許を受けることができない。」
というものであり、引用した刊行物及びその記載事項は以下のとおりである。
　
１．刊行物１：「バルカーレビュー」Ｖｏｌ．３６　Ｎｏ．８，日本バルカー工業株式会社，平成４年９月１５日，ｐ．８−１１（特許異議申立人が提出した甲第１号証）
（１−１）「１．はじめに
　真空技術の工業的利用は，電子管工業，金属工業，半導体工業をはじめとするあらゆる産業にわたっており，核融合，加速器などの高度先端技術の発展にも深くかかわっている．
　特に，気体分子運動論の世界から，表面科学に基礎を移した超高真空技術の進歩は，清浄で高品質な真空を実現し，成膜工業の発展を支え続けてきたし，超高真空の中でつくられる清浄なブラズマは，高度先端技術の必須要件でもある．
　このような真空技術の発展に関連して，そこに使われるシールも，放出ガスや透過が少なく，ベーキングやホットバキュームに耐えることが要求されるようになった．
　そのため，エラストマーシールとしては，耐熱性，耐プラズマ性に優れ，放出ガスの少ない各種のふっ素ゴムが開発されてきたし，金属シールや金属べローズの比重が従来に増して高まりつつある．」（第８頁左欄第１〜１９行）
（１−２）「３．真空シール
　静的シールにはゴムＯリングが多く使われており，耐熱性や耐プラズマ性を高めた各種のふっ素ゴムが開発され，放出ガスを低減すべく脱ガス処理が施される例も増えつつある．」（第１０頁左欄第２３〜２７行）
（１−３）「４．エラストマー
・・・真空用に使用されるエラストマーシール材としては，ふっ素ゴム（ＦＰＭ），ニトリルゴム（ＮＢＲ），シリコーンゴム（Ｑ），クロロブレンゴム（ＣＲ）等がある．これらは，使用目的に応じて使い分けられ，ベーキング温度の上昇により，ふっ素ゴムが使用される例が多い．
　一般に，ふっ素ゴムは高真空〜超高真空の温度の高い（２００℃以下）部分に使用され，ニトリルゴムは低〜高真空の温度の低い（８０℃以下）部分に使用される．」（第１０頁右欄第９〜２５行）
　
２．刊行物２：特開平３−２０７６３７号公報（同、甲第２号証）
（２−１）「１）熱溶融性フッ素樹脂成形品を、抵抗値が１０ＭΩ以上である純水と接触させることを特徴とする熱溶融性フッ素樹脂成形品の処理方法。」（特許請求の範囲の請求項１）
（２−２）「発明の目的
　本発明は、上記のような従来技術に鑑みてなされたものであって、半導体ウェハなどの極端に汚染されることを嫌う製品と接触しても、該製品を汚染することがないような熱溶融性フッ素樹脂成形品を得ることができる熱溶融性フッ素樹脂成形品の処理方法を提供することを目的としている。」（第１頁右欄第１８行〜第２頁左上欄第４行）
（２−３）「本発明によれば、熱溶融性フッ素樹脂成形品中に含まれるフッ素イオン（Ｆ−）および水素イオン（Ｈ＋）あるいはフッ化水素を有効に除去することができ、成形品と接触する半導体ウェハなどの製品を汚染することがない熱溶融性フッ素樹脂成形品を得ることができる。」（第２頁左上欄第１０〜１５行）
　
３．刊行物３：特開平４−７７５２９号公報（同、甲第３号証）
（３−１）「１．ゴムを成形した後、有機溶剤に浸せきする事を特徴とするゴム処理方法。」（特許請求の範囲の請求項１）
（３−２）「（本発明が解決しようとする課題）
　しかしながら、これら従来技術のゴム組成物は、水溶性有機溶剤含有水溶性液体と接触せしめて使用した場合、水溶液組成によってゴム組成物中の特定の添加剤またはその変性物、具体的には、ゴム組成物中に助剤として使用しているステアリン酸で代表される脂肪酸あるいはステアリン酸亜鉛で代表される脂肪酸塩が単体で、または無機加硫剤として添加されている酸化亜鉛で代表される重金属化合物とステアリン酸で代表される脂肪酸との反応生製物であるステアリン酸亜鉛等の有機酸重金属塩が、又は、軟化剤として添加されているナフテン、パラフィン、プロセスオイルが水溶液中に漏出してくるという欠点を有しており、その為水溶性有機溶剤含有水溶性液体の特徴を著しく減じるものであった。
　インクジェットプリンター用途においては市販のゴム組成物を使用すると上述の欠点等による水性インキの噴射が著しく不安定になるという問題を有していた。
　本発明の目的は、水溶性有機溶剤含有水溶性液体とゴム組成物とを接触せしめて使用する場合に、当該液体の特性を減じることを防止するゴム成形物の処理方法を提供するものである。」（第１頁右欄第１９行〜第２頁右上欄第２行）
（３−３）「本発明に使用し得る有機溶剤としてはケトン系、１価以上のアルコール系、脂肪族系、ナフテン系、芳香族系、エステル系、グリコール系有機溶剤から選ばれる１種以上の有機溶剤および、それらの水溶液または水分散液等が挙げられる。」（第２頁右上欄第１５〜１９行）
　
〈４〉．特許法第２９条第２項違反についての判断
１．本件発明１
　刊行物１には、真空技術に使われるシールとして，放出ガスや透過が少ないものが要求されること、エラストマーシールとしては，耐熱性，耐プラズマ性に優れ，放出ガスの少ない各種のふっ素ゴムが開発されてきたこと（摘示記載（１−１））、静的シールにはゴムＯリングが多く使われており，耐熱性や耐プラズマ性を高めた各種のふっ素ゴムが開発され，放出ガスを低減すべく脱ガス処理が施される例も増えつつあること、及び、ふっ素ゴムは高真空〜超高真空の温度の高い（２００℃以下）部分に使用されること（摘示記載（１−２））が記載されており、同号証には、本件発明１と軌を一にする「放出ガスの少ない真空フッ素ゴム」が記載されているものと認められる。
　しかしながら刊行物１には、本件発明１における
（あ）「常温で１×１０−５〜１×１０−８Ｔｏｒｒの雰囲気下で１２時間放置後のアウトガス放出量が、単位表面積当り１×１０−７Ｔｏｒｒ・ｌ／ｓｅｃ・ｃｍ２以下であること」
については記載がない点で、本件発明１と刊行物１に記載された発明とは相違している。
　この点について検討すると、刊行物１の記載からは、本件発明１の（あ）で規定されたアウトガス放出量が、通常、「放出ガスが少ない」と言えば直ちにこの程度のものであると言い得るような量であると解すべき根拠は見いだせない。
　また、刊行物２には、「熱溶融性フッ素樹脂成形品を、抵抗値が１０ＭΩ以上である純水と接触させることを特徴とする熱溶融性フッ素樹脂成形品の処理方法。」（摘示記載（２−１））が記載されており、これにより「熱溶融性フッ素樹脂成形品中に含まれるフッ素イオン（Ｆ−）および水素イオン（Ｈ＋）あるいはフッ化水素を有効に除去することができる」（摘示記載（２−３））ことが記載されている。
　しかしながら同刊行物には、純水で接触処理して得られたフッ素樹脂の用途としては半導体ウェハ関係のものしか記載されておらず、純水による処理が、「半導体ウェハなどの極端に汚染されることを嫌う製品と接触しても、該製品を汚染することがないような熱溶融性フッ素樹脂成形品を得ること」（摘示記載（２−２））を目的としているところからみて、このようにして得られた成形品を真空用ゴムとして用いることの開示ないし示唆はないものというべきである。
　更に、刊行物３には、「ゴムを成形した後、有機溶剤に浸せきする事を特徴とするゴム処理方法。」（摘示記載（３−１））が記載されており、「水溶性有機溶剤含有水溶性液体と接触せしめて使用した場合、・・・ゴム組成物中の特定の添加剤またはその変性物・・・が水溶液中に漏出してくるという欠点」（摘示記載（３−２））の改善をその目的とすることも記載されている。
　しかしながら同刊行物には、有機溶剤に浸せき処理するゴムとしてフッ素ゴムを用いることは記載されておらず、また、処理して得られるゴムの用途についてはインクジェットプリンターが例示されているにとどまり、本件発明１のように真空用ゴムとして用いることの開示ないし示唆はない。
　そして、刊行物２及び３のいずれにも、純水あるいは有機溶剤による処理後の樹脂（ゴム）のアウトガス放出量が、上記（あ）の程度であるのか否かを知る手がかりは何ら示されていない。
　したがって、刊行物２及び３に記載された樹脂（ゴム）の浄化技術を、被処理物の用途を異にする刊行物１に記載された真空フッ素ゴムに適用する誘因はないというべきであり、仮にそのようにしたとしても、本件発明１における（あ）のようなアウトガス放出量が達成し得るか否かは不明であるから、本件発明１が刊行物１〜３に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
　
２．本件発明２
　刊行物１には、本件発明２と軌を一にする「真空フッ素ゴム」が記載されているものと認められるが、本件発明２における
（い）「メチルエチルケトン溶剤に常温で２４時間浸漬した場合における、フッ素ゴムからの抽出量が単位体積当り０．０２ｇ／ｃｍ３以下であること」
については記載がない点で、本件発明２と刊行物１に記載された発明とは相違している。
　そして、刊行物２及び３のいずれにも純水あるいは有機溶剤による処理後の樹脂（ゴム）を真空用ゴムとすることは記載されておらず、これらの刊行物の記載からは、処理後の樹脂（ゴム）からのメチルエチルケトン溶剤による抽出量が上記（い）の程度であるのか否かは不明である。
　したがって、上記と同様、刊行物２及び３に記載された技術を刊行物１に記載された真空フッ素ゴムに適用すべき理由はなく、仮にそのようにしたとしても、本件発明２における（い）のような溶剤抽出量が達成し得るか否かは不明であるから、本件発明２が刊行物１〜３に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
　
３．本件発明３
  本件発明３と刊行物１記載の発明を対比すると、刊行物１にはフッ素ゴムを脱ガス処理すること及び放出ガスの少ないフッ素ゴムを真空技術に応用することが記載されており、このフッ素ゴムは架橋されているものと解される。また、本件発明３及び４はアウトガス放出量の低減を目的とする（本件特許明細書の段落【０００９】参照。）ものであるから「脱ガス処理」を行うものということができる。
　そうすると、本件発明３と刊行物１に記載された発明は、ともに
「架橋されたフッ素ゴムを脱ガス処理する真空用フッ素ゴムの製造方法」
である点で一致するものといえるが、この脱ガス処理について、本件発明３及び４においては
（う）「フッ素ゴムを溶剤と接触させる」
という操作を行うのに対して、刊行物１にはこの点について記載されていない点で、これらの発明は相違している。
　そこでこの相違点について検討すると、刊行物２には、フッ素樹脂を純水で接触処理することが記載されているが、処理の対象は「架橋されたフッ素ゴム」とは異なる「フッ素樹脂」であって、また、得られた処理品を真空用とすることは記載ないし示唆されていない。
　また、刊行物３には、ゴムを有機溶剤で浸漬処理することが記載されているが、このゴムとしてフッ素ゴムを用いることは記載されておらず、また、得られた処理品を真空用とすることも開示されていない。
　そして、刊行物２及び３に記載されたフッ素樹脂あるいはゴムは、架橋の有無あるいは化学組成等において架橋されたフッ素ゴムとは相違するものであり、溶剤との接触処理においてこれらの樹脂ないしゴムが架橋されたフッ素ゴムと同様に浄化されるのか否かは不明というべきであるから、刊行物２及び３に記載された処理を刊行物１に記載された真空用フッ素ゴムの製造方法に適用することを当業者が容易になし得たものとすることができず、まして、そのようにした場合に真空ゴムとしての用途に供し得る程度のアウトガス放出量あるいはメチルエチルケトン溶媒抽出量を有するフッ素ゴムが得られることを、当業者が容易に想到し得たものとすることはできない。
　よって、本件発明３は、刊行物１〜３に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
　
４．本件発明４
　本件発明４は本件発明３において「溶剤が、水である」との限定を付したものである。
　そして、上記のように、フッ素樹脂を純水で接触処理することが記載されている刊行物２には、「架橋されたフッ素ゴム」を処理すること、及び得られた処理品を真空用とすることは記載ないし示唆されておらず、刊行物２に記載された処理を刊行物１に記載された真空用フッ素ゴムの製造方法に適用すること、及びそのようにした場合に、真空ゴムとしての用途に供し得る程度のアウトガス放出量あるいはメチルエチルケトン溶媒抽出量を有するフッ素ゴムが得られることを、当業者が容易に想到し得たものとすることはできない。
　よって、本件発明４は、刊行物１及び２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
　
５．その他の証拠
　特許異議申立人が提出した甲第４号証（特開昭６３−２５８９３６号公報）は取消理由に引用しなかったが、同号証には、「未精製状態の導電性高分子膜の厚み方向に水又は有機溶媒を連続的に透過させて不純物を除去することを特徴とする導電性高分子膜の製造方法。」（特許請求の範囲の請求項１）等が記載されているにとどまり、上記（あ）〜（う）の点について何ら開示するものではない。
　したがって、甲第４号証の記載事項を参酌しても、上記１．〜４．の判断は変わらない。
　
［４］．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立の理由及び証拠によっては本件請求項１〜４に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１〜４に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、上記のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１５年１０月１０日（２００３．１０．１０）