【事件の表示】
　特許第３２６４４７７号「液晶配向膜、液晶配向膜の製造方法、液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法」の請求項１ないし１３に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３２６４４７７号の請求項１ないし１１に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第３２６４４７７号の請求項１ないし１３に係る発明は、平成８年７月１０日に出願され、平成１３年１２月２８日にその設定登録がなされ、その後、志築 正治より特許異議の申立がなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１５年１月１４日に意見書とともに訂正請求書が提出されたものである。
　
２．訂正の適否について
2．1　訂正の内容
　平成１５年１月１４日付けの訂正請求書による訂正事項は、下記のとおりである。
ａ．【請求項１】を、下記のように訂正する。
「【請求項１】エネルギービーム感応性基及び熱反応性基をそれぞれ含むモノマーから共重合された樹脂からなりかつ可視光域で透明な樹脂膜が電極上に直接または任意の薄膜を介して間接的に形成され、少なくとも前記エネルギービーム感応性基を反応架橋させ、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光されていることを特徴とする液晶配向膜。」
　　
ｂ．【請求項４】全文を削除する。
　
ｃ．【請求項５】を、下記のように訂正する。
「【請求項４】熱反応性基が反応架橋されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の液晶配向膜。」
　
ｄ．【請求項６】を【請求項５】と訂正する。
　
ｅ．【請求項７】を、下記のように訂正する。
「【請求項６】電極の形成された所定の基板表面に直接または任意の薄膜を介して間接的に、エネルギービーム感応性基及び熱反応性基をそれぞれ含むモノマーから共重合された樹脂からなりかつ可視光域で透明な樹脂膜を塗布形成する工程と、少なくとも任意のマスクを介してエネルギービームを前記樹脂膜に照射して前記エネルギービーム感応性基を反応架橋させ、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光する工程とを有する液晶配向膜の製造方法。」
　
ｆ．【請求項８】を、下記のように訂正する。
「　【請求項７】エネルギービーム感応性基を反応架橋する工程の前あるいは後に加熱により熱反応性基を反応架橋させる工程を付加したことを特徴とする請求項６記載の液晶配向膜の製造方法。」
　
ｇ．【請求項９】を、下記のように訂正する。
「【請求項８】エネルギービーム感応性基が感光性基であり、マスクを介して紫外線を照射して樹脂膜内の感光性基を反応させ、主鎖間を架橋するとともに側鎖基を配向固定することを特徴とする請求項６記載の液晶配向膜の製造方法。」
　
ｈ．【請求項１０】を、下記のように訂正する。
「【請求項９】マスクとして偏光膜または回折格子を用いて露光することを特徴とする請求項６記載の液晶配向膜の製造方法。」
　　
ｉ．【請求項１１】全文を削除する。
　
ｊ．【請求項１２】を、下記のように訂正する。
「【請求項１０】エネルギービーム感応性基及び熱反応性基をそれぞれ含むモノマーから共重合された樹脂からなりかつ可視光域で透明な樹脂膜が電極上に直接または任意の薄膜を介して間接的に形成され、少なくとも前記エネルギービーム感応性基を反応架橋させ、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光されている液晶配向膜が２つの対向する電極の少なくとも一方の電極上に形成されており、液晶が前記２つの対向する電極に前記樹脂膜を介して挟まれていることを特徴とする液晶表示装置。」　
ｋ．【請求項１３】を、下記のように訂正する。
「【請求項１１】マトリックス状に載置された第１の電極群を有する第１の基板上に直接または任意の薄膜を介して間接的にエネルギービーム感応性基及び熱反応性基をそれぞれ含むモノマーから共重合された樹脂からなりかつ可視光域で透明な樹脂膜を塗布形成する工程と、少なくとも任意のマスクを介してエネルギービームを照射して前記エネルギービーム感応性基を反応架橋させ、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光する工程と、前記第１の電極群と対向するように載置した第２の電極又は電極群を有する第２の基板をそれぞれの電極側が対向するように位置合わせして接着固定する工程と、前記第１と第２の基板に所定の液晶を注入する工程とを有する液晶表示装置の製造方法。」
　
ｌ．【０００６】を、下記のように訂正する。
「【０００６】
　【課題を解決するための手段】
　本発明の液晶配向膜は、上述の目的を達成するものであり、エネルギービーム感応性基及び熱反応性基をそれぞれ含むモノマーから共重合された樹脂からなりかつ可視光域で透明な樹脂膜が電極上に直接または任意の薄膜を介して間接的に形成され、少なくともエネルギービーム感応性基を反応架橋させ、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光されていることを特徴とする。」
　　
ｍ．【０００７】を、下記のように訂正する。
「【０００７】
　また、本発明の液晶配向膜の製造方法は、電極の形成された所定の基板表面に直接または任意の薄膜を介して間接的に、エネルギービーム感応性基及び熱反応性基をそれぞれ含むモノマーから共重合された樹脂からなりかつ可視光域で透明な樹脂膜を塗布形成する工程と、少なくとも任意のマスクを介してエネルギービームを樹脂膜に照射してエネルギービーム感応性基を反応架橋させ、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光する工程とを有することを特徴とする。」
　
ｎ．【０００９】を、下記のように訂正する。
「【０００９】
　また本発明の液晶表示装置は、エネルギービーム感応性基及び熱反応性基をそれぞれ含むモノマーから共重合された樹脂からなりかつ可視光域で透明な樹脂膜が電極上に直接または任意の薄膜を介して間接的に形成され、少なくともエネルギービーム感応性基を反応架橋させ、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光されている液晶配向膜が２つの対向する電極の少なくとも一方の電極上に形成されており、液晶が２つの対向する電極に樹脂膜を介して挟まれていることを特徴とする。」
　
ｏ．【００１０】を、下記のように訂正する。
「【００１０】
　さらに本発明の液晶表示装置の製造方法は、マトリックス状に載置された第１の電極群を有する第１の基板上に直接または任意の薄膜を介して間接的にエネルギービーム感応性基及び熱反応性基をそれぞれ含むモノマーから共重合された樹脂からなりかつ可視光域で透明な樹脂膜を塗布形成する工程と、少なくとも任意のマスクを介してエネルギービームを照射してエネルギービーム感応性基を反応架橋させ、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光する工程と、第１の電極群と対向するように載置した第２の電極又は電極群を有する第２の基板をそれぞれの電極側が対向するように位置合わせして接着固定する工程と、第１と第２の基板に所定の液晶を注入する工程とを有することを特徴とする。」
　
ｐ．【００１９】を、下記のように訂正する。
「【００１９】
　なお、（化２）では、エネルギービーム感応性のベンザルアセトフェノン基と熱反応性のグリシジル基が側鎖基として導入されており、さらに炭化水素基（−ＣＨ3）が側鎖基として導入されているので、側鎖基として炭化水素基を含んでいないものに比べさらに配向安定性が向上した。また、この場合、透明な樹脂膜の表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光することが液晶の配向安定性を向上する上で重要であった。」
　
ｑ．【００３０】を、下記のように訂正する。
「【００３０】
　そこで、さらに配向膜の熱安定製を向上させるため１８０℃で１０分加熱して熱反応性のグリシジル基（すなわち熱硬化性基）を開環架橋させた。この状態で、液晶表示セルを組み立て、ネマチック液晶を注入して配向状態を確認すると、格子パターンと垂直の方向に液晶が配向して、プレチルト角はおよそ７度になっていた。また、配向膜の熱安定性も１７０℃まで向上した。」 
　
2．2　訂正の目的の適否、新規事項の有無、特許請求の範囲の拡張・変更の存否
　
（１）上記訂正事項ａは、「反応架橋されていること」を「反応架橋させ、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光されていること」と限定しようとするものであり、上記訂正事項ｅ及びｋは、「反応架橋する工程」を「反応架橋させ、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光する工程」と限定しようとするものであり、上記訂正事項ｊは、「反応架橋されている」を「反応架橋させ、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光されている」と限定しようとするものであり、何れも特許請求の範囲の減縮を目的としたものに該当し、特許明細書の段落【００１９】等に記載されている事項であるから、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内においてするものであり、実質上特許請求の範囲を拡張・変更するものにも該当しない。
　
（２）上記訂正事項ｂ及びｉは、請求項を削除するものであるから、何れも特許請求の範囲の減縮を目的としたものに該当し、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内においてするものであり、実質上特許請求の範囲を拡張・変更するものにも該当しない。
　
（３）上記訂正事項ｃ、ｄ、ｆ〜ｈ、ｌ〜ｏは、上記（１）、（２）の訂正に伴い、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載との整合を図るための訂正であるから、明りょうでない記載の釈明を目的としたものに該当し、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内においてするものであり、実質上特許請求の範囲を拡張・変更するものにも該当しない。
　
（４）上記訂正事項ｐ、ｑは、誤記の訂正を目的としたものに該当し、願書に最初に添付した明細書に記載した事項の範囲内においてするものであり、実質上特許請求の範囲を拡張・変更するものには該当しない。
　
2．3　結論
　したがって、上記訂正は、特許法第１２０条の４第第２項及び同条第３項で準用する特許法第１２６条第２項及び同条第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．特許異議の申立てについて
3．1　特許異議の申立の概要
　特許異議申立人 志築 正治は、証拠として甲第１号証（特開平９−１３３９２３号公報）、甲第２号証（特開平８−３２８００５号公報）、を提出し、以下のように主張している。
　
（１）本件の訂正前の請求項１〜１３に係る発明は、本件特許の出願日前の出願であって、本件特許の出願後に出願公開された特願平７−２４８１７５号の願書に最初に添付した明細書又は図面（甲第１号証に係る特開平９−１３３９２３号公報参照。以下、「先願明細書Ａ」という。）に記載された発明と同一であるから、特許法第２９条の２の規定に違反して特許されたものである。
　
（２）本件の訂正前の請求項１、２、３，５、１２に係る発明は、本件特許の出願日前の出願であって、本件特許の出願後に出願公開された特願平７−１２８６５１号の願書に最初に添付した明細書又は図面（甲第２号証に係る特開平８−３２８００５号公報参照。以下、「先願明細書Ｂ」という。）に記載された発明と同一であるから、特許法第２９条の２の規定に違反して特許されたものである。
　
3．2　本件発明
　本件の訂正後の請求項１〜１１に係る発明は、訂正された特許明細書の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１〜１１に記載された次の事項により特定されるとおりのものである。（以下、「本件発明１〜１１」という。）
　
「【請求項１】エネルギービーム感応性基及び熱反応性基をそれぞれ含むモノマーから共重合された樹脂からなりかつ可視光域で透明な樹脂膜が電極上に直接または任意の薄膜を介して間接的に形成され、少なくとも前記エネルギービーム感応性基を反応架橋させ、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光されていることを特徴とする液晶配向膜。
　【請求項２】樹脂膜において、エネルギービーム感応性基及び熱反応性基が側鎖基として導入されていることを特徴とする請求項１記載の液晶配向膜。
　【請求項３】樹脂膜において、エネルギービーム感応性基、熱反応性基及び炭化水素基が側鎖基として導入されていることを特徴とする請求項１記載の液晶配向膜。
　【請求項４】熱反応性基が反応架橋されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の液晶配向膜。
　【請求項５】樹脂膜として下記の化学式で表される物質を用いることを特徴とする請求項１記載の液晶配向膜。
　【化１】
　
　
　【請求項６】電極の形成された所定の基板表面に直接または任意の薄膜を介して間接的に、エネルギービーム感応性基及び熱反応性基を有する可視光域で透明な樹脂膜を塗布形成する工程と、少なくとも任意のマスクを介してエネルギービームを前記樹脂膜に照射して前記エネルギービーム感応性基を反応架橋させ、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光する工程とを有する液晶配向膜の製造方法。
　【請求項７】エネルギービーム感応性基を反応架橋する工程の前あるいは後に加熱により熱反応性基を反応架橋させる工程を付加したことを特徴とする請求項６記載の液晶配向膜の製造方法。
　【請求項８】エネルギービーム感応性基が感光性基であり、マスクを介して紫外線を照射して樹脂膜内の感光性基を反応させ、主鎖間を架橋するとともに側鎖基を配向固定することを特徴とする請求項７記載の液晶配向膜の製造方法。
　【請求項９】マスクとして偏光膜または回折格子を用いて露光することを特徴とする請求項７記載の液晶配向膜の製造方法。
　【請求項１０】エネルギービーム感応性基及び熱反応性基をそれぞれ含むモノマーから共重合された樹脂からなりかつ可視光域で透明な樹脂膜が電極上に直接または任意の薄膜を介して間接的に形成され、少なくとも前記エネルギービーム感応性基を反応架橋させ、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光されている液晶配向膜が２つの対向する電極の少なくとも一方の電極上に形成されており、液晶が前記２つの対向する電極に前記樹脂膜を介して挟まれていることを特徴とする液晶表示装置。
　【請求項１１】マトリックス状に載置された第１の電極群を有する第１の基板上に直接または任意の薄膜を介して間接的にエネルギービーム感応性基及び熱反応性基をそれぞれ含むモノマーから共重合された樹脂からなりかつ可視光域で透明な樹脂膜を塗布形成する工程と、少なくとも任意のマスクを介してエネルギービームを照射して前記エネルギービーム感応性基を反応架橋させ、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光する工程と、前記第１の電極群と対向するように載置した第２の電極又は電極群を有する第２の基板をそれぞれの電極側が対向するように位置合わせして接着固定する工程と、前記第１と第２の基板に所定の液晶を注入する工程とを有する液晶表示装置の製造方法。」
　
3．3　先願明細書Ａ及びＢに各記載された発明
3．3．1　先願明細書Ａ（特開平９−１３３９２３号公報参照）
　先願明細書Ａには、「光架橋性官能基を有する異方性高分子からなり、この高分子膜が電極上に形成され、紫外線を照射することにより架橋させて液晶配向性を持たせてなる液晶配向膜」が記載されている（先願明細書Ａの【請求項１】、【００１４】、【００２２】等）。
　ここで、高分子膜表面へは転写型の押圧により凹凸が形成されている（先願明細書Ａの【００３２】〜【００３８】）。
　
　以上によれば、
　先願明細書Ａには、「光架橋性官能基を有する異方性高分子からなり、この高分子膜が電極上に形成され、光架橋性官能基を反応架橋させていることを特徴とする液晶配向膜であって、樹脂膜表面へは凹凸が形成されている。」が記載されている（以下、「先願発明Ａ」という。）。
　　
3．3．2　先願明細書Ｂ（特開平８−３２８００５号公報参照）
　先願明細書Ｂには、「光異性化可能であって二色性を示す構成単位（コマンダー分子）を含む樹脂からなり、この樹脂膜が電極上に形成され、この樹脂膜に直線偏光を照射することにより液晶配向性を持たせかつその液晶配向性が保持されている液晶配向膜」が記載されている（先願明細書Ｂの【請求項１】等）。
　ここで、「光異性化可能であって二色性を示す構成単位（コマンダー分子）を含む樹脂」とは、アクリロイル基、メタクリロイル基等の光硬化可能な構成単位を含む樹脂であり、これに光硬化反応（反応架橋）を起こさせることにより、液晶配向膜とするものである（先願明細書Ｂの【請求項２】、【００１７】、【００２０】等）。
　
　以上によれば、先願明細書Ｂには、「光硬化可能な構成単位を含む樹脂からなり、この樹脂膜が電極上に形成され、少なくとも光硬化可能な構成単位を反応架橋させていることを特徴とする液晶配向膜」が記載されている（以下、「先願発明Ｂ」という。）。
　　
3．4　対比・判断
　本件発明１〜１１と先願発明Ａとを対比すると、先願発明Ａの「光架橋性官能基を有する異方性高分子膜」は、本件発明１〜１１の「エネルギービーム感応性基を含む樹脂」に相当するから、両者は、「エネルギービーム感応性基を含む樹脂からなり、この樹脂膜が電極上に形成され、少なくともエネルギービーム感応性基を反応架橋させていることを特徴とする液晶配向膜であって、樹脂膜表面へは凹凸が形成されている。」点で一致しているが、
　先願発明Ａでは、樹脂膜表面への凹凸の形成は、転写型の押圧によるものであって（先願明細書Ａの【００３２】〜【００３８】）、先願明細書Ａには、本件発明１〜１１の構成である「（樹脂膜）表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光」する点については、何も記載されていない。
　
　また、本件発明１〜１１と先願発明Ｂとを対比すると、先願発明Ｂの「光硬化可能な構成単位を含む樹脂」は、本件発明１〜１１の「エネルギービーム感応性基を含む樹脂」に相当するから、両者は、「エネルギービーム感応性基を含む樹脂からなり、この樹脂膜が電極上に形成され、少なくともエネルギービーム感応性基を反応架橋させていることを特徴とする液晶配向膜」の点で一致しているが、
　先願発明Ｂは、本件発明１〜１１の構成である「（樹脂膜）表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光」する点の構成を備えておらず、
　先願明細書Ｂには、上記の構成について、何も記載されていない。
　
　一方本件発明１〜１１は、「（樹脂膜）表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光」する点により、１回露光でプレチルト角を安定に制御できる旨の特許明細書記載の格別な効果が奏されるものと認められる（本件特許明細書【００３６】等参照）。
　したがって、本件発明１〜１１が先願明細書Ａ又はＢに記載された発明と同一であるとすることができない。
　
4．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件の訂正後の請求項１〜１１に係る発明の特許を取り消すことができない。
　また、他に本件の訂正後の請求項１〜１１に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１５年５月２２日（２００３．５．２２）
【訂正の要旨】
（ａ）【請求項１】（特許公報１頁１欄２〜７行）を次のとおり訂正する。
「【請求項１】エネルギービーム感応性基及び熱反応性基をそれぞれ含むモノマーから共重合された樹脂からなりかつ可視光域で透明な樹脂膜が電極上に直接または任意の薄膜を介して間接的に形成され、少なくとも前記エネルギービーム感応性基を反応架橋さ
せ、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光され
（ｂ）【請求項４】（特許公報１頁１欄１４〜１５行）全文を削除する。
（ｃ）【請求項５】（特許公報１頁２欄１〜２行）を次のとおり訂正する。
「【請求項
４
３の
（ｄ）【請求項６】（特許公報１頁２欄３行目）を【請求項
５
（ｅ）【請求項７】（特許公報２頁３欄１５〜２２行）を次のとおり訂正する。
「【請求項
６
させ、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光
（ｆ）【請求項８】（特許公報２頁３欄２３〜２６行）を次のとおり訂正する。
「【請求項
７
６
（ｇ）【請求項９】（特許公報２頁３欄２７〜３１行）を次のとおり訂正する。
「【請求項
８
６
（ｈ）【請求項１０】（特許公報２頁３欄３２〜３４行）を次のとおり訂正する。
「【請求項
９
６
（ｉ）【請求項１１】（特許公報２頁３欄３５〜３７行）全文を削除する。
（ｊ）【請求項１２】（特許公報２頁３欄３８〜４６行）を次のとおり訂正する。
「【請求項
１０
せ、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光され
（ｋ）【請求項１３】（特許公報２頁３欄４７行〜４欄８行）を次のとおり訂正する。
「【請求項
１１
、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光する
（ｌ）【０００６】（特許公報２頁４欄４８行〜３頁５欄４行）を次のとおり訂正する。
「【０００６】
　課題を解決するための手段】
　本発明の液晶配向膜は、上述の目的を達成するものであり、エネルギービーム感応性基及び熱反応性基をそれぞれ含むモノマーから共重合された樹脂からなりかつ可視光域で透明な樹脂膜が電極上に直接または任意の薄膜を介して間接的に形成され、少なくとも前記エネルギービーム感応性基を反応架橋さ
せ、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光され
（ｍ）【０００７】（特許公報３頁５欄５〜１２行）を次のとおり訂正する。
「【０００７】
　また、本発明の液晶配向膜の製造方法は、電極の形成された所定の基板表面に直接または任意の薄膜を介して間接的に、エネルギービーム感応性基及び熱反応性基をそれぞれ含むモノマーから共重合された樹脂からなりかつ可視光域で透明な樹脂膜を塗布形成する工程と、少なくとも任意のマスクを介してエネルギービームを前記樹脂膜に照射して前記エネルギービーム感応性基を反応架橋
させ、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光
（ｎ）【０００９】（特許公報３頁５欄１６〜２４行）を次のとおり訂正する。
「【０００９】
　また本発明の液晶表示装置は、エネルギービーム感応性基及び熱反応性基をそれぞれ含むモノマーから共重合された樹脂からなりかつ可視光域で透明な樹脂膜が電極上に直接または任意の薄膜を介して間接的に形成され、少なくとも前記エネルギービーム感応性基を反応架橋さ
せ、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光され
（ｏ）【００１０】（特許公報３頁５欄２５〜３７行）を次のとおり訂正する。
「【００１０】
　さらに本発明の液晶表示装置の製造方法は、マトリックス状に載置された第１の電極群を有する第１の基板上に直接または任意の薄膜を介して間接的にエネルギービーム感応性基及び熱反応性基をそれぞれ含むモノマーから共重合された樹脂からなりかつ可視光域で透明な樹脂膜を塗布形成する工程と、少なくとも任意のマスクを介してエネルギービームを照射して前記エネルギービーム感応性基を反応架橋させ
、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光する
（ｐ）【００１９】（特許公報３頁６欄４３行〜４頁７欄１行）を次のとおり訂正する。
「【００１９】
　なお、（化２）では、エネルギービーム感応性のベンザルアセトフェノン基と熱反応性のグリシジル基が側鎖基として導入されており、さらに炭化水素基（−ＣＨ３）が側鎖基として導入されているので、側鎖基として炭化水素基を含んでいないものに比べさらに配向安定性が向上した。また、この場合、透明な樹脂膜の表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹に
なる
（ｑ）【００３０】（特許公報７頁８欄３９〜４６行）を次のとおり訂正する。
「【００３０】
　そこで、さらに配向膜の熱安定製を向上させるため１８０℃で１０分加熱して熱反応性のグリシジル基（すなわち熱硬化性基）を開環架橋させた。この状態で、液晶表示セルを組み立て、ネマチック液晶を注入して配向状態を確認すると、格子パターンと垂直の方向に液晶が配向して、プレチルト角はおよそ７度になっていた。また、配向膜の熱安定性も１７０℃まで向上
した
（５４）【発明の名称】
液晶配向膜、液晶配向膜の製造方法、液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】エネルギービーム感応性基及び熱反応性基をそれぞれ含むモノマーから共重合された樹脂からなりかつ可視光域で透明な樹脂膜が電極上に直接または任意の薄膜を介して間接的に形成され、少なくとも前記エネルギービーム感応性基を反応架橋さ
せ、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光され
　【請求項２】樹脂膜において、エネルギービーム感応性基及び熱反応性基が側鎖基として導入されていることを特徴とする請求項１記載の液晶配向膜。
　【請求項３】樹脂膜において、エネルギービーム感応性基、熱反応性基及び炭化水素基が側鎖基として導入されていることを特徴とする請求項１記載の液晶配向膜。
　【請求項
４
３の
　【請求項
５
　【化１】
　【請求項
６
させ、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光
　【請求項
７
６
　【請求項
８
６
　【請求項
９
６
　【請求項
１０
せ、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光され
　【請求項
１１
、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光する
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明は、液晶を用いた画像表示装置およびその製造方法に関するものであり、特に、ＴＶ画像やコンピュータ画像等を表示する液晶を用いた平面表示パネルに用いる液晶配向膜およびその製造方法およびそれを用いた液晶表示装置とその製造方法に関するものである。
　【０００２】
　【従来の技術】
　従来カラー液晶表示パネルは、マトリックス状に配置された対向電極を形成した２つの基板の間にポリビニルアルコールやポリイミドをスピナーで塗布焼成して形成した被膜をフェルト布で擦って（すなわちラビング）作製した液晶配向膜を介して液晶を封入した装置が一般的であった。
　【０００３】
　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら、従来の配向膜の作成は、上記したように、ポリビニルアルコールやポリイミドを有機溶媒に溶解させ回転塗布法などを用いて塗布形成した後、フェルト布等を用いてラビングを行なう方法が用いられていたため、大面積パネル（例えば１４インチディスプレイ）では配向膜の均一コーティングが困難であり、また、回転塗布では塗布厚が数ミクロン程度にもなり、強誘電液晶のような１０００オングストローム程度の厚みの配向膜を必要とする表示パネルでは、性能が大幅に低減されるという大きな欠点があった。
　【０００４】
　さらに、最近では、ポリビニルシンナメイトやポリイミド膜を用いて偏光膜をマスクに露光してラビングフリーの配向膜を提供する方法が開発されつつあるが、ポリビニルシンナメイトやポリイミド膜は感光感度が数Ｊ／ｃｍ２と極めて低く露光に必要とする時間が数分もかかってしまい実用性に乏しかった。
　【０００５】
　上記の問題点に鑑み、本発明の目的は、従来のようなラビングを必要としない高信頼性の配向膜およびそれを短時間高能率に作成する方法を提供することにある。また、それを用いた表示パネルおよびその製造方法を提供ことにある。
　【０００６】
　【課題を解決するための手段】
　本発明の液晶配向膜は、上述の目的を達成するものであり、エネルギービーム感応性基及び熱反応性基をそれぞれ含むモノマーから共重合された樹脂からなりかつ可視光域で透明な樹脂膜が電極上に直接または任意の薄膜を介して間接的に形成され、少なくとも前記エネルギービーム感応性基を反応架橋さ
せ、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光され
　【０００７】
　また、本発明の液晶配向膜の製造方法は、電極の形成された所定の基板表面に直接または任意の薄膜を介して間接的に、エネルギービーム感応性基及び熱反応性基をそれぞれ含むモノマーから共重合された樹脂からなりかつ可視光域で透明な樹脂膜を塗布形成する工程と、少なくとも任意のマスクを介してエネルギービームを前記樹脂膜に照射して前記エネルギービーム感応性基を反応架橋
させ、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光
　【０００８】
　そして上記の構成により、従来不良の発生率が極めて高かったラビング工程を不要とし、それを用いた表示パネルを極めて低コストに製造できる。
　【０００９】
　また本発明の液晶表示装置は、エネルギービーム感応性基及び熱反応性基をそれぞれ含むモノマーから共重合された樹脂からなりかつ可視光域で透明な樹脂膜が電極上に直接または任意の薄膜を介して間接的に形成され、少なくとも前記エネルギービーム感応性基を反応架橋さ
せ、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光され
　【００１０】
　さらに本発明の液晶表示装置の製造方法は、マトリックス状に載置された第１の電極群を有する第１の基板上に直接または任意の薄膜を介して間接的にエネルギービーム感応性基及び熱反応性基をそれぞれ含むモノマーから共重合された樹脂からなりかつ可視光域で透明な樹脂膜を塗布形成する工程と、少なくとも任意のマスクを介してエネルギービームを照射して前記エネルギービーム感応性基を反応架橋させ
、表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹になるまで露光する
　【００１１】
　【発明の実施の形態】
　以下では本発明の実施の形態における配向膜について説明する。
　【００１２】
　そこでまず本実施の形態における配向膜の概要について説明する。
　まずあらかじめ、電極の形成された所定の基板表面に直接または任意の薄膜を介して間接的にエネルギービーム感応性基と熱反応性基を持つ可視光域で透明な樹脂膜を塗布形成する。次に、任意のマスクを介してエネルギービームを照射して前記エネルギービーム感応性基を反応架橋させる。
　【００１３】
　このとき、エネルギービーム感応性基が感光性基であり、マスクを介して光を照射して前記被膜内の感光性基を反応させ、主鎖間を架橋するとともに側鎖基を配向固定する工程をもちいれば、従来のようなラビングを必要とせず通常の露光機が使用可能となり液晶配向膜の製造工程を簡略化できる。
　【００１４】
　また、マスクとして偏光膜または回折格子を介して露光すると、表面に筋状の凸凹を有する液晶配向膜を高能率に製造できた。
　【００１５】
　このとき、偏光膜および回折格子を介して斜めより露光するか、あるいは偏光膜を介して露光した後回折格子を介して斜め露光するか、回折格子を介して露光した後を偏光膜介して斜め露光することで挟み込んだ液晶のプレチルト角まで制御できる液晶配向膜を製造できた。なお、回折格子を介して露光する工程においては、感光性の被膜の表面が凸凹になるまで露光することが配向性を安定化する上で重要であった。
　【００１６】
　また、エネルギービームを照射して前記エネルギービーム感応性基を反応架橋する工程の前あるいは後に加熱して熱反応性基を反応させておくと、液晶の配向耐熱性が向上した。エネルギービームとして電子線、Ｘ線、または紫外線が利用可能であるが、紫外線の方が実用性が高かった。
　【００１７】
　エネルギービーム感応性基と熱反応性基を持つ可視光域で透明な樹脂として、下記に示す化学式で表される物質を用いれば、紫外線感光性が高く熱架橋反応も利用できるので液晶配向膜の製造には極めて好都合であった。
　【００１８】
　【化２】
　【００１９】
　なお、（化２）では、エネルギービーム感応性のベンザルアセトフェノン基と熱反応性のグリシジル基が側鎖基として導入されており、さらに炭化水素基（−ＣＨ３）が側鎖基として導入されているので、側鎖基として炭化水素基を含んでいないものに比べさらに配向安定性が向上した。また、この場合、透明な樹脂膜の表面が筋状の１〜１００ｎｍの凸凹に
なる
　【００２０】
　以上のような方法で、エネルギービーム感応性基と熱反応性基を持つ可視光域で透明な樹脂膜が電極上に直接または任意の薄膜を介して間接的に形成され、少なくとも前記エネルギービーム感応性基を反応させた被膜よりなるラビングフリーの液晶配向膜を極めて簡便な方法で製造できた。
　【００２１】
　そこで、実際の表示素子の製造では、あらかじめマトリックス状に載置された第１の電極群を有する第１の基板上に直接または任意の薄膜を介して間接的にエネルギービーム感応性基と熱反応性基を持つ可視光域で透明な樹脂膜を塗布形成する工程と、および少なくとも任意のマスクを介してエネルギービームを照射して前記エネルギービーム感応性基を反応架橋する工程と、前記第１の電極群と対向するように載置した第２の電極叉は電極群を有する第２の基板を、それぞれの電極側が対向するように位置合わせして接着固定する工程と、前記第１と第２の基板に所定の液晶を注入する工程を用いて、エネルギービーム感応性基と熱反応性基を持つ可視光域で透明な樹脂膜が塗布形成され、少なくとも任意のマスクを介してエネルギービームを照射して前記エネルギービーム感応性基を反応架橋させた被膜が、液晶用の配向膜として２つの対向する電極の少なくとも一方の電極上に形成されており、液晶が前記２つの対向する電極に前記被膜を介して挟まれている構造の液晶表示装置を極めて高効率で製造できた。
　【００２２】
　次に以下では、本発明の実施の形態における液晶配向膜について図面を参照しながら詳細に説明する。
　【００２３】
　図１は、本発明の実施の形態における液晶配向膜の製造工程断面図を示したものであり、以下では図１（ａ）〜（ｄ）に沿って本実施の形態を説明することとする。
　【００２４】
　まず、あらかじめ、４’メタクリロイロキシカルコン（４’ＭＣ）とグリシジルメタアクリレート（ＧＭＡ）を１：４のモル比で共重合して、（化２）で示されるような感光性のベンザルアセトフェノン基と熱架橋性のグリシジル基およびメチル基が側鎖基として導入された可視光域で透明な樹脂（すなわち、エネルギービーム感応性基と熱反応性基を持つ樹脂）を作製し、シクロヘキサノンで０．５％に希釈して感光液を調製した。
　【００２５】
　次に、図１（ａ）に示すような、あらかじめ、ＩＴＯよりなる透明電極１の形成された所定のガラス基板２の表面に、直接（またはＳｉＯ２等の絶縁性の薄膜を介して間接的にでもよい）ディッピング法（またはロールコーター、フレキソ印刷法が使用でも可）を用いて上記の感光液を塗布し図１（ｂ）に示すように感光性でかつ熱硬化性の被膜３を形成した。
　【００２６】
　その後、１００℃で１０分間加熱して大部分の溶媒を蒸発除去した（このときの膜厚はおよそ３００ｎｍであった）。次に、図１（ｃ）に示すように、１０００本／ｍｍの回折格子４（偏光板を用いても良いが、その場合には光透過率が悪いので露光時間を長くする必要がある）をマスクとして用い、電極パターンと格子が平行になるようセットして、垂直方向よりエネルギービームとして５００Ｗの超高圧水銀灯の３６５ｎｍ（ｉ線）の波長の紫外線５（マスク通過後２８ｍＪ／ｃｍ２）を５秒間照射して、前記感光性のベンザルアセトフェノン基を反応架橋させると、回折格子パターン沿って被膜表面にピッチ１０００本／ｍｍでおよそ３０〜４０ｎｍの凸凹が形成された。
　【００２７】
　なお、この時の感光膜の分光感度特性を図２に示す。
　この状態で、液晶表示セルを２０ミクロンギヤップで組み立て、ネマチック液晶（ＺＬＩ４７９２；メルク社製）を注入して配向状態を確認すると、回折格子パターンと交差する方向に液晶が配向していることが確認できた。また、露光量に応じて注入した液晶のプレチルト角を制御できることが確認できた。
　【００２８】
　一方、前述の露光工程において、回折格子を用いて３秒間露光した後、さらに、市販のＵＶ用偏光板６（ＨＮＰ’Ｂ；ポラロイド社製）をマスクとして用い、回折格子パターンと偏光方向が垂直且つ基板に対して入射角度が４５度の方向になるようセットして、エネルギービームとして５００Ｗの超高圧水銀灯を用いて３６５ｎｍ（ｉ線）の波長の紫外線（マスク通過後３ｍＪ／ｃｍ２）を４０秒間照射し（図１（ｄ））、前記エネルギービーム感応性基の未反応の残りをさらに反応架橋させた。
　【００２９】
　この状態で、液晶表示セルを組み立て、ネマチック液晶を注入して配向状態を確認すると、格子パターンの方向に液晶が配向して、プレチルト角はおよそ２０度になっていることが確認できた。また、この２回目の照射において照射角度を変えることで注入した液晶のプレチルト角を制御できることも確認できた。なお、上記２つのプロセスで作製された配向膜はそのままでもそれぞれ配向膜として利用可能であったが、１５０℃程度で熱処理すると配向膜の配向性が劣化した。
　【００３０】
　そこで、さらに配向膜の熱安定製を向上させるため１８０℃で１０分加熱して熱反応性のグリシジル基（すなわち熱硬化性基）を開環架橋させた。この状態で、液晶表示セルを組み立て、ネマチック液晶を注入して配向状態を確認すると、格子パターンと垂直の方向に液晶が配向して、プレチルト角はおよそ７度になっていた。また、配向膜の熱安定性も１７０℃まで向上
した
　【００３１】
　なお、このときの感光性で且つ熱硬化性の被膜の露光による反応および加熱による反応は、下記の反応式に示したように、いずれも架橋反応である。
　【００３２】
　【化３】
　【００３３】
　さらに炭化水素基（−ＣＨ３）を含まないものも合成して同様の実験を試みたが、液晶の配向制御性特にプレチルト角制御安定性は−ＣＨ３を含むものに比べて悪かった。
　【００３４】
　以上のように、本実施の形態の被膜では、エネルギービーム感応性基が感光性基であり、マスクを介して光を照射して前記被膜内の感光性基を反応させ、主鎖間を架橋するとともに側鎖基を配向固定できた。また、ｉ線に感度があるため（図２参照）通常の露光機が使用可能となり液晶配向膜の製造工程が簡略化できた。
　【００３５】
　また、マスクとして偏光膜または回折格子を介して露光することで被膜表面に筋状の凸凹を有する液晶配向膜を容易に製造できた。
　【００３６】
　さらに、このとき露光量、あるいは偏光膜および回折格子を介して斜めより露光するか、あるいは偏光膜を介して斜めに露光した後回折格子を介して露光するか、回折格子を介して露光した後を偏光膜介して斜め露光することで挟み込んだ液晶のプレチルト角まで制御でき、また、そのようにして配向性の安定した液晶配向膜を製造できた。なお、１回露光でプレチルト角を安定に制御するためには、感光性の被膜の表面が所定の凸凹になるまで露光することが重要であった。
　【００３７】
　また、エネルギービームを照射して前記エネルギービーム感応性基を反応架橋する工程の前あるいは後に加熱して熱反応性基を反応させておくと、配向膜の配向耐熱性が向上した。また、エネルギービームとして電子線、Ｘ線、または紫外線が利用可能であるが、実際の製造工程では紫外線の方が実用性が高かった。
　【００３８】
　以上のように、エネルギービーム感応性基と熱反応性基を持つ可視光域で透明な樹脂膜が電極上に直接または任意の薄膜を介して間接的に形成され、少なくとも前記エネルギービーム感応性基を反応させた被膜よりなるラビングフリーの液晶配向膜を極めて簡便な方法で製造できた。
　【００３９】
　次に、以下では上記した液晶配向膜を用いた液晶表示デバイス及びその製造方法について図３を参照しながら詳細に説明する。
　【００４０】
　まず、あらかじめ（化２）で示されるエネルギービーム感応性基と熱反応性基を持つ可視光域で透明な樹脂をシクロヘキサノンで０．５％に希釈して調製した感光液を作製し、図３に示すように、マトリックス状に載置された第１の電極群１１とこの電極を駆動するトランジスター群１２を有する第１の基板１３上、および第１の電極群と対向するように載置したカラーフィルター群１４と第２の電極１５を有する第２の基板１６上の両方の電極上に、それぞれディッピング法を用いて塗布し感光性で且つ熱硬化性の樹脂被膜を形成した。
　【００４１】
　その後、１００℃で１０分間加熱してある程度溶媒を除去し後、１０００本／ｍｍの回折格子をマスクとして用い、電極パターンと格子が平行になるようセットして、垂直方向よりエネルギービームとして５００Ｗの超高圧水銀灯を用いて３６５ｎｍ（ｉ線）の波長の紫外線（マスク通過後２８ｍＪ／ｃｍ２）を５秒照射して前記エネルギービーム感応性のベンザルアセトフェノン基を反応架橋すると、電極パターンに沿っておよそ３０〜４０ｎｍの凸凹が形成された液晶配向膜１７が作製できた。
　【００４２】
　次に、前記第１と第２の基板１３、１６を対抗するように位置合わせしてスペーサー１８と接着剤１９でおよそ５ミクロンのギャップで固定した。その後、前記第１と第２の基板に前記液晶２０を注入した後、偏光板２１、２２を組み合わせて表示素子を完成した。
　【００４３】
　この様なデバイスは、バックライト２３を全面に照射しながら、ビデオ信号を用いて各々のトランジスタを駆動することで矢印Ａの方向に映像を表示できた。
　【００４４】
　【発明の効果】
　以上述べてきたように、本発明の液晶配向膜は、電極の形成された所定の基板表面に直接または任意の薄膜を介して間接的にエネルギービーム感応性基と熱反応性基を持つ可視光域で透明な樹脂膜を塗布形成する工程、および少なくとも任意のマスクを介してエネルギービームを照射して前記エネルギービーム感応性基を反応架橋する工程を用いているため、高能率で均一且つ極めて薄い配向膜を作製できる。
　【００４５】
　また、このような液晶配向膜を用いることで、従来のようなラビング工程を必要とせず、歩留まりが高く極めて低コスト高信頼性の液晶表示装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明の実施の形態における液晶配向膜の製造工程断面図
　【図２】
　本発明の実施の形態における液晶配向膜中の感光性且つ熱硬化性樹脂の分光感度特性を示す図
　【図３】
　本発明の実施の形態における液晶表示デバイスの断面図
　【符号の説明】
　１　電極
　２　ガラス板
　３　感光性且つ熱硬化性の樹脂膜
　４　回折格子マスク
　５　紫外光
　６　偏光板マスク
　１１　第１の電極群
　１２　トランジスタ群
　１３　第１の基板
　１４　カラーフィルター群
　１５　第２の電極
　１６　第２の基板
　１７　ラビングフリー液晶配向膜
　１８　スペーサー
　１９　接着剤
　２０　液晶
　２１，２２　偏光板
　２３　バックライト