【手続補正書】
【提出日】平成27年7月8日(2015.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気化学システム用のセパレータシステムであって、
第１高機械強度層であり、該第１高機械強度層を貫通して第１パターンで設けた複数の開口を有する第１高機械強度層と、
第２高機械強度層であり、該第２高機械強度層を貫通して第２パターンで設けた複数の開口を有し、前記第２パターンは、前記第１高機械強度層から前記第２高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った前記第１高機械強度層の前記開口と前記第２高機械強度層の前記開口との重なりが２０％以下であるように前記第１パターンに対してオフセット配列を有する第２高機械強度層と
を備え、前記第１高機械強度層及び前記第２高機械強度層は、前記第１高機械強度層及び前記第２高機械強度層に接触して設けた電解質のイオンを前記第１高機械強度層及び前記第２高機械強度層を通して輸送可能であるように位置決めされる、セパレータシステム。
【請求項２】
請求項１に記載のセパレータシステムにおいて、前記第１高機械強度層から前記第２高機械強度層まで垂直に延びる前記軸に沿った前記第１パターンおよび前記第２パターンの前記開口の重なりは、１０％以下であるセパレータシステム。
【請求項３】
請求項１に記載のセパレータシステムにおいて、前記第１高機械強度層から前記第２高機械強度層まで垂直に延びる前記軸に沿った前記第１パターンおよび前記第２パターンの前記開口の重なりは、０％〜５％の範囲から選択されるセパレータシステム。
【請求項４】
請求項１に記載のセパレータシステムにおいて、前記第１パターンおよび前記第２パターンは、実質的に相補的なパターンを含むセパレータシステム。
【請求項５】
請求項１に記載のセパレータシステムにおいて、前記第１高機械強度層および前記第２高機械強度層の少なくとも１つの片側に設けた１つ又は複数の低イオン抵抗層をさらに備え、前記１つ又は複数の低イオン抵抗層のそれぞれは、前記電解質のためのリザーバを提供する電解質含有リザーバである、セパレータシステム。
【請求項６】
請求項５に記載のセパレータシステムにおいて、前記第１高機械強度層および前記第２高機械強度層ならびに前記１つ又は複数の低イオン抵抗層の少なくとも１つは、前記第１高機械強度層および前記第２高機械強度層及び前記１つ又は複数の低イオン抵抗層の少なくとも１つに堆積させた堆積層であり、前記第１高機械強度層および前記第２高機械強度層ならびに前記１つ又は複数の低イオン抵抗層の少なくとも１つは、電気化学セルの電極に堆積させた堆積層であるセパレータシステム。
【請求項７】
請求項５に記載のセパレータシステムにおいて、前記１つ又は複数の低イオン抵抗層は、前記第１高機械強度層と前記第２高機械強度層との間に設けたスペーサを備え、該スペーサは、前記第１高機械強度層と前記第２高機械強度層とを１０ｎｍ〜１０００μｍの範囲から選択される選択距離だけ分離するセパレータシステム。
【請求項８】
請求項５に記載のセパレータシステムにおいて、前記１つ又は複数の低イオン抵抗層は、前記第１高機械強度層および前記第２高機械強度層の少なくとも１つと接触した１つ又は複数のフレーム層を含むか、または、前記１つ又は複数の低イオン抵抗層は、電気化学セルの少なくとも１つの電極と接触した１つ又は複数のフレーム層を含むセパレータシステム。
【請求項９】
請求項１に記載のセパレータシステムにおいて、前記第１高機械強度層および前記第２高機械強度層の少なくとも１つの片側に設けた、１つ又は複数の化学障壁層をさらに備え、前記１つ又は複数の化学障壁は独立して、当該１つ又は複数の化学障壁層を通して電気化学セルの正電極又は負電極への望ましくない化学成分の輸送を防止するセパレータシステム。
【請求項１０】
請求項９に記載のセパレータシステムにおいて、該セパレータシステムは、負電極及び正電極を有する電気化学セルのコンポーネントであり、前記１つ又は複数の化学障壁層は、イオン伝導性保護膜を含み、該イオン伝導性保護膜は、前記正電極と接触した第１電解質と前記負電極と接触した第２電極との間の障壁を提供し、前記イオン伝導性保護膜は、前記負電極と前記第１電解質との間の接触を防止するセパレータシステム。
【請求項１１】
請求項１に記載のセパレータシステムにおいて、第３高機械強度層であり、当該第３高機械強度層を貫通して第３パターンで設けた複数の開口を有する第３高機械強度層をさらに備え、前記第３高機械強度層は、前記第１高機械強度層と前記第２高機械強度層との間に位置決めされ、前記第３パターンは、前記第１高機械強度層又は前記第２高機械強度層から前記第３高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った前記第１パターン又は前記第２パターンの前記開口と前記第３パターンの前記開口との重なりが２０％以下であるように、前記第１パターン又は前記第２パターンに対してオフセット配列を有するセパレータシステム。
【請求項１２】
請求項１１に記載のセパレータシステムにおいて、第４高機械強度層であり、該第４高機械強度層を貫通して第４パターンで設けた複数の開口を有する第４高機械強度層をさらに備え、前記第４高機械強度層は、前記第１高機械強度層と前記第２高機械強度層との間に位置決めされ、前記第４パターンは、前記第１高機械強度層又は前記第２高機械強度層から前記第４高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った前記第１パターン、前記第２パターン、又は前記第３パターンの前記開口と前記第４パターンの前記開口との重なりが２０％以下であるように、前記第１パターン、前記第２パターン、又は前記第３パターンに対してオフセット配列を有するセパレータシステム。
【請求項１３】
請求項１に記載のセパレータシステムにおいて、開口の前記第１パターンは、３０％以上の前記第１高機械強度層の第１多孔度を提供し、開口の前記第２パターンは、３０％以上の前記第２高機械強度層の第２多孔度を提供するセパレータシステム。
【請求項１４】
請求項１に記載のセパレータシステムにおいて、前記第１高機械強度層および前記第２高機械強度層の前記開口は、２０μｍ以上の少なくとも１つの横寸法を有するセパレータシステム。
【請求項１５】
請求項１に記載のセパレータシステムにおいて、前記第１高機械強度層及び前記第２高機械強度層は、相互に完全に物理的に接触せず、２０ｎｍ〜２ｍｍの範囲から選択される距離だけ分離されるセパレータシステム。
【請求項１６】
請求項１に記載のセパレータシステムにおいて、前記第１高機械強度層および前記第２高機械強度層は独立して、５μｍ〜１ｍｍの範囲で選択される平均厚を有するセパレータシステム。
【請求項１７】
請求項１に記載のセパレータシステムにおいて、前記第１高機械強度層および前記第２高機械強度層は独立して、５００ＭＰａ〜５００ＧＰａの範囲で選択されるヤング率を有するセパレータシステム。
【請求項１８】
請求項１に記載のセパレータシステムにおいて、前記第１高機械強度層および前記第２高機械強度層は独立して、５ＭＰａ〜１０００ＭＰａの範囲で選択される降伏強度、１０Ｎｃｍ〜１０００Ｎｃｍの範囲で選択される衝撃強度、および５０ＭＰａ〜２ＧＰａの範囲で選択される引張強度を有する、セパレータシステム。
【請求項１９】
請求項１に記載のセパレータシステムにおいて、前記第１高機械強度層および前記第２高機械強度層は独立して、０．００５Ｎ〜１０Ｎの範囲で選択される引裂強度および１０Ｎ〜５００Ｎの範囲で選択される初期引裂強度を有するセパレー
タシステム。
【請求項２０】
請求項１に記載のセパレータシステムにおいて、前記第１高機械強度層および前記第２高機械強度層は独立して、金属、合金、セラミック、ポリアクリル酸（ＰＡＡ）、架橋ポリエチレン（ＰＥＸ、ＸＬＰＥ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ、ＰＥＴＥ）、ポリフェニルエーテル（ＰＰＥ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリ塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ）、ポリ乳酸（ＰＬＡ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリブチレン（ＰＢ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリウレタン（ＰＵ）、ポリエステル（ＰＥ）、アクリロニトリルブタジエンスチレン（ＡＢＳ）、ポリ（メチルメタクリレート）（ＰＭＭＡ）、ポリオキシメチレン（ＰＯＭ）、ポリスルホン（ＰＥＳ）、スチレン−アクリロニトリル（ＳＡＮ）、エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、スチレン無水マレイン酸（ＳＭＡ）、ＰＶＤＦ、ＰＥＯ  ＰＶＤＦ、ＬＩＰＯＮ  ＰＶＤＦ、ＬＩＳＩＣＯＮ  ＰＶＤＦ、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド五水和物（ＣＨ３）４ＮＯＨ・５Ｈ２Ｏ、ポリ（エチレンオキシド）（ＰＥＯ）、エピクロヒドリン及びエチレンオキシドＰ（ＥＣＨ−ｃｏ−ＥＯ）及びポリ（ビニルアルコール）のコポリマー、ＰＥＯ−ＰＶＡ−ガラス繊維ポリマー電解質、硫化亜鉛、二酸化ケイ素、ＰＶＡ及びＰＳＡ、ＰＶＡ／Ｖ６／ＰＳＳ、ＰＶＡＮ６（ＰＳＳ＋ＰＡＡ）、Ｖ６／ＰＶＡ（ＰＳＳ＋ＰＡＡ）、ＰＶＭＰＳＳ＋ＰＡＡ（３５％））／（ＰＳＳ＋ＰＡＡ（３５％））、（ＰＳＳ＋ＰＡＡ（３５％））／ＰＶＡ／（ＰＳＳ＋ＰＡＡ（３５％））、又は（ＰＳＳ＋ＰＡＡ（３５％））／（ＰＶＡ（１０％）＋ＰＳＳ（２０％）対ＰＶＡ））／（ＰＳＳ＋ＰＡＡ（３５％））ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコール、アクリルポリエチレングリコール、アクリルポリプロピレングリコール、アルキルポリブチレングリコール、そのコポリマー、ＰＥＯ材料、又はＰＶＡ材料、及びそれらの組み合わせから選択される１つ又は複数の材料を含むセパレータシステム。
【請求項２１】
負電極と、
正電極と、
前記正電極と前記負電極との間に設けた第１電解質と、
前記電解質と接触して前記負電極と前記正電極との間に設けたセパレータシステムと
を備えた電気化学セルであって、
前記セパレータシステムは、前記電解質のイオンを前記正電極と前記負電極との間で輸送可能であるよう位置決めされ、
前記セパレータシステムは、
（ｉ）第１高機械強度層であり、該第１高機械強度層を貫通して第１パターンで設けた複数の開口を有する第１高機械強度層と、
（ｉｉ）第２高機械強度層であり、該第２高機械強度層を貫通して第２パターンで設けた複数の開口を有し、前記第２パターンは、前記第１高機械強度層から前記第２高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った前記第１高機械強度層の前記開口と前記第２高機械強度層の前記開口との重なりが２０％以下であるように前記第１パターンに対してオフセット配列を有する、第２高機械強度層と
を備え、前記第１高機械強度層及び前記第２高機械強度層は、前記電解質のイオンを前記第１高機械強度層及び前記第２高機械強度層を通して輸送可能であるように位置決めされる、電気化学セル。
【請求項２２】
電気化学システム用のセパレータシステムであって、
第１高機械強度層であり、該第１高機械強度層を貫通して第１パターンで設けた複数の開口を有する第１高機械強度層と、
第２高機械強度層であり、該第２高機械強度層を貫通して第２パターンで設けた複数の開口を有し、前記第２パターンは、前記第１高機械強度層から前記第２高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った前記第１高機械強度層の前記開口と前記第２高機械強度層の前記開口との重なりが４０％以下であるように前記第１パターンに対してオフセット配列を有する第２高機械強度層と、
第３高機械強度層であり、該第３高機械強度層を貫通して第３パターンで設けた複数の開口を有し、前記第３パターンは、前記第１高機械強度層又は前記第２高機械強度層から前記第３高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った前記第１高機械強度層の前記開口と、前記第２高機械強度層の前記開口と、前記第３高機械強度層の前記開口との重なりが２０％以下であるように前記第１パターン及び前記第２パターンに対してオフセット配列を有する、第３高機械強度層と
を備え、前記第１高機械強度層、前記第２高機械強度層、及び前記第３高機械強度層は、前記第１高機械強度層、前記第２高機械強度層、及び前記第３高機械強度層に接触して設けた電解質のイオンを前記第１高機械強度層、前記第２高機械強度層、及び前記第３高機械強度層を通して輸送可能であるように位置決めされるセパレータシステム。
【請求項２３】
電気化学システム用のセパレータシステムであって、
第１高機械強度層であり、該第１高機械強度層を貫通して第１パターンで設けた複数の開口を有する第１高機械強度層と、
第２高機械強度層であり、該第２高機械強度層を貫通して第２パターンで設けた複数の開口を有し、前記第２パターンは、前記第１高機械強度層から前記第２高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った前記第１高機械強度層の前記開口と前記第２高機械強度層の前記開口との重なりが５０％以下であるように前記第１パターンに対してオフセット配列を有する、第２高機械強度層と、
第３高機械強度層であり、該第３高機械強度層を貫通して第３パターンで設けた複数の開口を有し、前記第３パターンは、前記第１高機械強度層又は前記第２高機械強度層から前記第３高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った前記第１高機械強度層の前記開口と、前記第２高機械強度層の前記開口と、前記第３高機械強度層の前記開口との重なりが３０％以下であるように第１パターン及び第２パターンに対してオフセット配列を有する、第３高機械強度層と、
第４高機械強度層であり、該第４高機械強度層を貫通して第４パターンで設けた複数の開口を有し、前記第４パターンは、前記第１高機械強度層又は前記第２高機械強度層から前記第４高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った前記第１高機械強度層の前記開口と、前記第２高機械強度層の前記開口と、前記第３高機械強度層の前記開口と、前記第４高機械強度層の前記開口との重なりが２０％以下であるように前記第１パターン、前記第２パターン、及び前記第３パターンに対してオフセット配列を有する、第４高機械強度層と
を備え、前記第１高機械強度層、前記第２高機械強度層、前記第３高機械強度層、及び前記第４高機械強度層は、前記第１高機械強度層、前記第２高機械強度層、前記第３高機械強度層、及び前記第４高機械強度層に接触して設けた電解質のイオンを前記第１高機械強度層、前記第２高機械強度層、前記第３高機械強度層、及び前記第４高機械強度層を通して輸送可能であるように位置決めされるセパレータシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電気化学システム用のセパレータシステムおよび電気化学セル