【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年7月7日(2015.7.7)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理チャンバ内部で洗浄ガスの乱流を誘発するための装置であって、
円形リングと、
前記円形リングの内側に位置決めされた中央ハブと、
前記中央ハブと前記円形リングの間に延在する第１の組の乱流誘発構造とを備え、前記第１の組の乱流誘発構造のうちの１対または複数対の乱流誘発構造の間に開口が画定され、前記乱流誘発構造が透光性材料を有する装置。
【請求項２】
さらに、前記第１の組の乱流誘発構造と前記円形リングの間に延在する第２の組の乱流誘発構造を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記第１の組の乱流誘発構造と前記第２の組の乱流誘発構造が、前記円形リングおよび前記中央ハブと同じ平面内に位置される、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記第１の組の乱流誘発構造および前記第２の組の乱流誘発構造の少なくとも１つの側壁が前記平面に垂直である、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
さらに、
前記中央ハブと前記円形リングの間に延在する第３の組の乱流誘発構造と、
前記第３の組の乱流誘発構造から延出する複数の足部とを備え、前記足部が、丸みの付いた縁部を有し、前記平面に垂直な方向に延出する、
請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記円形リング、前記中央ハブ、前記第１の組の乱流誘発構造、および前記第２の組の乱流誘発構造が石英を含み、前記円形リングが、洗浄プロセス中にシャワーヘッド表面の近くで処理ガスを維持するように適合される、請求項２に記載の装置。
【請求項７】
処理チャンバ内部で洗浄ガスの乱流を誘発するための装置であって、
透光性材料からなるプレート状本体と、
前記プレート状本体の上面の周縁部に巡らせて配設された円形リングと、
前記プレート状本体の前記上面に形成された複数の乱流誘発構造と
を備える装置。
【請求項８】
前記透光性材料が、石英またはサファイアを含み、前記乱流誘発構造が、前記プレート状本体の中心から放射状に延びる複数の稜部を備える、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記乱流誘発構造が、前記プレート状本体の前記上面に形成された複数の隆起部を備える、請求項７に記載の装置。
【請求項１０】
前記複数の乱流誘発構造が稜部および隆起部を含む、請求項７に記載の装置。
【請求項１１】
洗浄ガスの乱流を誘発することにより、シャワーヘッドを洗浄する方法であって、
処理チャンバ内部に配設された基板支持体上に洗浄プレートを位置決めするステップであって、前記洗浄プレートが複数の乱流誘発構造を備えるステップと、
前記処理チャンバ内に配設されたシャワーヘッドに隣接させて前記洗浄プレートを位置決めするステップと、
前記シャワーヘッドの表面上に配置された材料堆積物を加熱するステップと、
前記シャワーヘッドの前記表面と前記洗浄プレートの間の位置に洗浄ガスを導入するステップと、
前記洗浄プレートを回転させるステップと、
前記材料堆積物を蒸発させるステップと、
前記蒸発された材料堆積物を前記処理チャンバから排出するステップと
を含む方法。
【請求項１２】
前記材料堆積物が、ガリウム含有材料を含み、前記材料堆積物を加熱するステップが、複数のランプに電力を供給し、前記材料堆積物を照明するステップを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
さらに、
前記基板支持体上に前記洗浄プレートを位置決めする前に、前記処理チャンバからキャリアプレートを取り外すステップと、
前記蒸発された材料堆積物を排出する前に、前記基板支持体、および前記基板支持体上に配設された洗浄プレートを下降させるステップと
を含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記洗浄プレートに複数の開口が形成され、前記洗浄プレートの回転が、前記洗浄プレートと前記シャワーヘッドの間で前記洗浄ガスの乱流を引き起こす、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
前記洗浄プレートが、さらに、前記プレート状本体の周縁部に巡らせて配設された円形リングを備え、前記円形リングが、前記シャワーヘッドの表面の近くで前記洗浄ガスを含むように適合される、請求項１４に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
アクチュエータアセンブリ２８６は、矢印２１５によって示されるように、シャワーヘッドアセンブリ２０４に向かうように、またはシャワーヘッドアセンブリ２０４から離れるように基板支持体２１４を垂直方向で移動させることができ、また、矢印２１６によって示されるように、基板支持体２１４を回転させることができる。下側体積２１０内で堆積が生じるのを防止する助けとなるように、また排出ガスをＭＯＣＶＤチャンバ１０２から排出ポート２０５に向ける助けにもなるように、チャンバ本体２０１の内面に巡らせてリング２２０が配設される。下側ドーム２１９が、基板支持体２１４の下に配設される。下側ドーム２１９は、高純度石英などの透明材料からなり、内側ランプ２２１Ａおよび外側ランプ２２１Ｂからの光が、キャリアプレート１１２の放射加熱のために通過できるようにする。内側ランプ２２１Ａおよび外側ランプ２２１Ｂによって提供される放射エネルギーへのＭＯＣＶＤチャンバ１０２の露出を制御する助けとなるように反射器２６６が使用される。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２３】
洗浄プレート２３０は、各乱流誘発構造３７５ａ〜３７５ｄの間に開口３４８を含み、これらの開口３４８は、キャリアプレート１１２の上面と乱流誘発構造３７５ａ〜３７５ｄの側壁とによって画定されたポケットを形成する。処理中、各ポケットは、洗浄位置でシャワーヘッドアセンブリに隣接して位置決めされるときに、シャワーヘッドアセンブリ表面の近くで洗浄ガスを含むことができ、それにより、シャワーヘッドアセンブリの近くでの洗浄ガスの滞留時間を延ばす。洗浄プレート２３０は、洗浄プレート２３０の底部から延出して、キャリアプレート１１２の上面に形成された基板キャリアポケット３９０内に入る足部によって、キャリアプレート１１２上に維持される。洗浄プレート２３０は、約３〜約１０ミリメートルの範囲内、例えば約７ミリメートルの高さを有する。洗浄プレート２３０は、約３００ミリメートル〜約４００ミリメートルの範囲内の直径を有する。しかし、洗浄プレートが使用される処理チャンバのサイズに応じて、洗浄プレートを大きくすることも小さくすることもできると考えられる。洗浄プレート２３０は、石英から形成されるが、あるいは、処理チャンバに供給される洗浄ガスと実質的に非反応性の炭化ケイ素または別の材料から形成することもできる。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４１】
図８Ａは、洗浄プレート８３０Ａを示す。洗浄プレート８３０Ａは、基板支持体上に配設されるように適合された底面と、底面と反対側の上面８３６とを有するプレート状本体を含む。洗浄プレート８３０Ａは、洗浄プレート８３０Ａの上面８３６の周縁部に巡らせて位置されて、上面８３６から垂直に延出するリング８４７を有する。リング８４７は、洗浄プロセス中に洗浄ガスのためのガス保持リングとして作用するように適合される。ガスじょう乱部または乱流誘発構造８７５Ａ、例えば稜部または隆起部が、洗浄プレート８３０Ａの上面８３６に位置される。乱流誘発構造８７５Ａは、洗浄プレート８３０Ａの中心から外方向に放射状に延びる稜部として構成される。洗浄プレート８３０Ａは、石英やサファイアなど透光性材料から形成される。しかし、洗浄プレート８３０Ａが放射エネルギーを直接吸収することができることが望まれるときには、洗浄プレート８３０Ａを、代わりに炭化ケイ素または別の高放射率材料から形成することもできると考えられる。