【事件の表示】
　特願２００９−１３３８６５「フッ素化合物を含有する排ガスの処理方法及び装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２２年１２月１６日出願公開、特開２０１０−２８１４８２、請求項の数（５）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　本件出願は、平成２１年６月３日の出願であって、平成２４年１２月２５日付けで拒絶理由が通知され、平成２５年２月２２日に意見書が提出されたが、平成２５年４月１１日付けで拒絶査定がされ、これに対し、平成２５年５月３１日に拒絶査定に対する審判請求がされたものである。 
 　 
第２　本願発明 
　本件出願の請求項１ないし５に係る発明は、願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１ないし５に記載された事項によって特定されるとおりのものであるところ、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は次のとおりである。  
「難分解性のパーフルオロ化合物（ＰＦＣ）を含む排ガスの処理方法において、該排ガスを、酸素の存在下に７００℃以上の温度で加熱分解し、該分解ガスをAl(OH)３とCa(OH)２の混合物を焼成して得られた複合酸化物からなるＰＦＣ処理剤（パーフルオロ化合物処理剤）を充填した反応槽に通すことを特徴とする排ガス処理方法。」  
 　 
第３　原査定の理由の概要 
　この出願の下記の請求項に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
　　　　　記　　　（引用文献等については引用文献等一覧参照）
　
・請求項１−４について
・引用文献１，２
備考
　引用文献１（特に段落００２３−００２８，図２，３）には、難分解性のＰＦＣを含む排ガスを、酸素の存在下に７００℃以上の温度で加熱分解し、該分解ガスを複合酸化物からなるＰＦＣ処理剤を充填すると共に６００〜９００℃に加熱された反応槽に通す、排ガス処理方法及び排ガス処理装置が記載されている。
　引用文献２（特に段落００１０）には、ＰＦＣ処理剤を、平均粒子径５５μｍ以上１６０μｍ以下のAl(OH)３と、Ca(OH)２とのモル比が３：７〜５：５である混合物を成形して乾燥し、４３０℃よりも高く８９０℃以下の温度範囲で、窒素流又は空気流中で焼成して得る技術が記載されている。
　引用文献１記載の方法及び装置において、引用文献２記載のＰＦＣ処理剤を用いることは当業者にとって容易である。
・請求項５について
・引用文献１，２
備考
　引用文献１の図３には、加熱分解槽１６と反応槽１７を一体構成とした例が記載されている。
　　　　　　　　　　引　用　文　献　等　一　覧
１.特開２００６−０７５８３２号公報
２.特開２００９−０３４６６２号公報
　
第４　当審の判断 
１．引用文献１記載の発明及び引用文献２記載の発明  
（１）原査定の拒絶の理由に引用された、本件出願日前に頒布された刊行物である特開２００６−０７５８３２号公報（以下、「引用文献１」という。）には、図面とともに、次の事項が記載されている。 
ア．「【０００２】
　半導体製造時のエッチング工程やＣＶＤ工程などにおいて、CHF３などのフッ化炭化水素や、CF４，C２F６，C３F８，C４F８，C５F８，C４F６，SF６，NF３などのパーフルオロ化合物（以下「ＰＦＣ」という）などのフッ素含有化合物が使用されている。また、COやNH３やO２が半導体製造装置で使用されることもある。これらフッ素含有化合物やCOやNH３を使用した半導体製造装置から排出される排ガス中には、CO，NH３，SiF４，F２，COF２，C５F８，C４F６，NF３などの有害成分が含まれるとともに、有害ではないが地球温暖化効果のあるフッ素含有化合物が含まれている。そのため、フッ素含有化合物やCOを使用した半導体製造装置から排出される排ガスを環境中に排出する場合には、排ガス中に含まれる有害ガスの無害化および地球温暖化ガスの分解処理が必要となる。」（段落【０００２】）
　
イ．「【００２３】
　図２は、本発明の第２の実施形態の排ガス処理装置を示す。この装置においては、加熱酸化分解処理が行われた排ガスは、引き続き触媒反応部である触媒反応槽３で触媒による分解処理が行われる。なお、触媒反応槽３を設けた以外の構成は、図１に示す排ガス処理装置の構成と同様である。
【００２４】
　触媒反応槽３にはＰＦＣ分解触媒が充填されていて排ガスは触媒層上層から下層に向かって流れる。また触媒反応槽３には加熱手段としてセラミック製電気管状炉１０が取り付けられており、触媒反応槽３の温度を600〜900℃になるように加熱している。これにより触媒反応部では炭素数３以下のＰＦＣおよびSF６と触媒が接触することで以下の反応がおこり、ＰＦＣおよびSF６の分解処理が行われる。なお、分解反応に寄与するO２と水（H２O）は上流の加熱酸化分解処理槽２で導入されたものである。触媒としては、γアルミナ、アルミナジルコニウム複合酸化物にタングステン酸化物を担持した触媒等のフッ素含有化合物分解触媒が用いられる。これにより、加熱酸化分解処理槽２で処理しきれなかった難分解性のＰＦＣおよびSF６の分解処理が行える。従って、この触媒反応による分解処理を付加することで、人体には直接影響がないとされるが、地球温暖化等に悪影響を及ぼすとされる排ガス成分を完全に除去することができる。
【００２５】
　　CF４　＋　2H２O　→　CO２　＋　4HF　
　　2C２F６　＋　6H２O　＋　O２　→　4CO２　＋　12HF　
　　C３F８　＋　4H２O　＋　O２　→　3CO２　＋　8HF
　　2SF６　＋　3H２O　＋　O２　→　SO２　＋　SO３　+　6HF
【００２６】
　図３は、本発明の第３の実施形態の排ガス処理装置を示す。この排ガス処理装置は、加熱酸化分解処理部と触媒反応部と後処理部を一体にしたガス処理槽１３を備えている。また、前処理部にファンスクラバー１４を設置している。ファンスクラバー１４には洗浄水が送水ポンプ１５から供給され、この洗浄水と排ガスがファンスクラバー１４内のファンの回転により接触し、排ガス中の粉体成分、水溶性成分、加水分解成分を除去する。
【００２７】
　加熱酸化分解処理部と触媒反応部と後処理部に相当するのがガス処理槽１３で、排ガスの通過する順に加熱酸化分解部１６と触媒反応部１７と後処理部１８が備えられている。加熱酸化分解部１６と触媒反応部１７と後処理部１８を一体構造とすることで、装置の小型化を計っている。また、一体とすることで加熱酸化分解部１６でセラミック電気管状炉１９により700〜900℃に加熱した排ガスを温度低下させることなく触媒反応部１７に導入することができる。従って、触媒反応部１７にはヒータなどの加熱手段を設ける必要が無く、保温材２０を触媒反応部１７の外周に設置するだけでよい。
【００２８】
　加熱酸化分解処理および触媒反応処理に必要なO２はガス処理槽１３の上部に接続された空気配管２１から供給される。また、水（H２O）は水清浄器２３により蒸留水相当に浄化され、その後にガス処理槽１３に導入される。その後、ガス処理槽１３内部のセラミック電気管状炉１９の外壁に設置された水気化配管２５を通過する際に、セラミック電気管状炉１９の排熱との熱交換により加熱され気化し、ガス処理槽１３の上部に備えられた加熱酸化分解処理部１６に導入される。ガス処理槽１３の下部には水スプレー１８を具備した後処理部が備えられており、水スプレー１８には送水ポンプ１５から洗浄水が供給される。」（段落【００２３】ないし【００２８】）
　 　 
（２）ここで、上記（１）ア．及びイ．並びに図面から、次のことが分かる。  
カ．上記（１）ア．及びイ．から、難分解性のパーフルオロ化合物（ＰＦＣ）を含む排ガスの処理方法において、該排ガスを、酸素と水の存在下に７００℃以上の温度で加熱分解することが分かる。
 　  
キ．上記（１）ア．及びイ．並びに図３から、加熱分解された分解ガスをフッ素含有化合物分解触媒を充填した触媒反応槽３に通すことが分かる。
 　 
（３）引用文献１記載の発明  
　上記（１）及び（２）より、引用文献１には、次の発明が記載されている。  
「難分解性のパーフルオロ化合物（ＰＦＣ）を含む排ガスの処理方法において、該排ガスを、酸素と水の存在下に７００℃以上の温度で加熱分解し、該分解ガスをフッ素含有化合物分解触媒を充填した触媒反応槽３に通す排ガス処理方法。」（以下、「引用文献１記載の発明」という。） 
　
（４）原査定の拒絶の理由に引用された、本件出願日前に頒布された刊行物である特開２００９−０３４６６２号公報（平成２１年２月１９日公開。以下、「引用文献２」という。）には、図面とともに、次の事項が記載されている。 
サ．「【請求項２１】
　請求項１９又は２０に記載のＰＦＣ（パーフルオロカーボン）分解処理剤と、フッ素含有化合物を含む被処理ガスとを接触させることを特徴とする、フッ素含有化合物を含む被処理ガスの処理方法。」（【請求項２１】）
　
シ．「【００１０】
　本発明によれば、平均粒子径（メディアン径）６０μｍ以上１６０μｍ以下のAl(OH)３と、Ca(OH)２とのモル比が３：７〜５：５である混合物を４３０℃よりも高く８９０℃以下の温度範囲で、窒素流又は空気流中で焼成することを特徴とするフッ素固定剤又はＰＦＣ（パーフルオロカーボン）分解処理剤の調製方法及び当該調製方法により得られるフッ素固定剤又はＰＦＣ（パーフルオロカーボン）分解処理剤が提供される。また、本発明によれば、平均粒子径（メディアン径）５５μｍ以上１６０μｍ以下のAl(OH)３と、Ca(OH)２とのモル比が３：７〜５：５である混合物を４３０℃よりも高く８９０℃以下の温度範囲で、窒素流又は空気流中で焼成することを特徴とするフッ素固定剤又はＰＦＣ（パーフルオロカーボン）分解処理剤の調製方法及び当該調製方法により得られるフッ素固定剤又はＰＦＣ（パーフルオロカーボン）分解処理剤が提供される。なお、本願明細書において「ＰＦＣ分解処理」と「フッ素固定」とは、前者がＰＦＣ分解処理までを意味し、後者がさらにフッ素をCaF２などの固形物として回収することまでを包含する概念として使い分ける。ただし、「ＰＦＣ分解処理剤」と「フッ素固定剤」との構成成分としては同一であるので、以後の説明では両者を特に使い分けず、「フッ素固定剤」との表現には「ＰＦＣ分解処理剤」を包含させる。」（段落【００１０】） 
　
ス．「【００２０】
　本発明の調製方法により得られるフッ素固定剤は、後述するＸＲＤ（X線回折）分析により示されるように非晶質Al２O３とCaOとの複合酸化物である。上記複合酸化物における非晶質Al２O３とCaOとの含有比は、モル比でAl２O３：CaO＝１：１０．５〜１：１２．５であるのが、フッ素固定剤としての活性維持の点で好ましく、１：１０．５〜１：１２であるのが更に好ましい。」（段落【００２０】）
　
セ．「【００２５】
　本発明のフッ素固定剤又はＰＦＣ分解処理剤により処理することのできるフッ素含有化合物としては，CHF３等のフッ化炭化水素、CF４、C２F６、C３F８、SF６、NF３などのパーフルオロ化合物（ＰＦＣ）等を挙げることができる。このようなフッ素含有化合物を含むガスとしては、半導体工業で半導体製造装置の内面等をドライクリーニングする工程や、各種成膜をエッチングする工程で排出される排ガスなどを挙げることができる。」（段落【００２５】）
　
（５）ここで、上記（４）サ．ないしセ．から、次のことが分かる。  
タ．上記（４）シ．ないしセ．から、ＰＦＣ分解処理剤（パーフルオロ化合物処理剤）は、Al(OH)３とCa(OH)２の混合物を焼成して得られた複合酸化物からなることが分かる。
　 
チ．上記（４）サ．及びセ．から、ＰＦＣ分解処理剤（パーフルオロ化合物処理剤）により、排ガスが処理されることが分かる。
　
（６）引用文献２記載の発明  
　上記（４）及び（５）より、引用文献２には、次の発明が記載されている。  
「Al(OH)３とCa(OH)２の混合物を焼成して得られた複合酸化物からなるＰＦＣ分解処理剤によるパーフルオロ化合物（ＰＦＣ）を含む排ガスの処理方法。」（以下、「引用文献２記載の発明」という。）  
　
２．本願発明と引用文献１記載の発明との対比  
　本願発明と引用文献１記載の発明とを対比すると、引用文献１記載の発明における「フッ素含有化合物分解触媒」は、「ＰＦＣ処理剤（パーフルオロ化合物処理剤）」という限りにおいて、本願発明における「Al(OH)３とCa(OH)２の混合物を焼成して得られた複合酸化物からなるＰＦＣ処理剤（パーフルオロ化合物処理剤）」に相当し、また、引用文献１記載の発明における「触媒反応槽３」は、「反応槽」という限りにおいて、本願発明における「反応槽」に相当する。  
　したがって、本願発明と引用文献１記載の発明は、  
「難分解性のパーフルオロ化合物（ＰＦＣ）を含む排ガスの処理方法において、該排ガスを、７００℃以上の温度で加熱分解し、該分解ガスをＰＦＣ処理剤（パーフルオロ化合物処理剤）を充填した反応槽に通す排ガス処理方法。」  
　の点で一致し、以下の点で相違している。  
 　  
 ［相違点］  
　本願発明においては、「排ガス」を、「酸素の存在下」に加熱分解し、「該分解ガスをAl(OH)３とCa(OH)２の混合物を焼成して得られた複合酸化物からなるＰＦＣ処理剤（パーフルオロ化合物処理剤）を充填した反応槽に通す」のに対して、引用文献１記載の発明においては、「排ガス」を、「酸素と水の存在下」に加熱分解し、「該分解ガスをフッ素含有化合物分解触媒触媒を充填した触媒反応槽３に通す」点（以下、「相違点」という。）。
　
３．判断 　  
　上記相違点について検討する。  
　本願発明と引用文献２記載の発明とを対比すると、引用文献２記載の発明における「ＰＦＣ分解処理剤」は、本願発明における「ＰＦＣ処理剤（パーフルオロ化合物処理剤）」に相当する。  
　したがって、引用文献２記載の発明を本願発明の用語を用いて表現すると
「Al(OH)３とCa(OH)２の混合物を焼成して得られた複合酸化物からなるＰＦＣ処理剤（パーフルオロ化合物処理剤）によるパーフルオロ化合物（ＰＦＣ）を含む排ガスの処理方法。」となる。　  
　ここで、引用文献２記載の発明について、さらに検討すると、引用文献２記載の発明における「ＰＦＣ処理剤（パーフルオロ化合物処理剤）」は、パーフルオロ化合物（ＰＦＣ）を含む排ガスを処理するものではあるが、引用文献２には、処理すべきパーフルオロ化合物（ＰＦＣ）を含む排ガスを、予め酸素の存在下に７００℃以上の温度で加熱分解した上で、ＰＦＣ処理剤（パーフルオロ化合物処理剤）を使用する点が記載も示唆もされていない。
　そうすると、引用文献１記載の発明における「フッ素含有化合物分解触媒」及び引用文献２記載の発明における「Al(OH)３とCa(OH)２の混合物を焼成して得られた複合酸化物からなるＰＦＣ処理剤（パーフルオロ化合物処理剤）」は、それらの上位概念として「ＰＦＣ処理剤」とは表現されるものの、引用文献２記載の発明における「ＰＦＣ処理剤」は、処理すべきパーフルオロ化合物（ＰＦＣ）を含む排ガスを、加熱分解した上で、使用するものではないから、加熱分解した上で、ＰＦＣ処理剤を使用する引用文献１記載の発明における「フッ素含有化合物分解触媒」の上位概念である「ＰＦＣ分解処理剤」に代えて、引用文献２記載の発明における「Al(OH)３とCa(OH)２の混合物を焼成して得られた複合酸化物からなるＰＦＣ処理剤（パーフルオロ化合物処理剤）」を適用する動機づけが存在しない。
　また、そもそも、引用文献１記載の発明は、酸素と水の存在下に加熱分解するものであって、本願発明とは、加熱分解の条件が異なり、また、加熱分解により生成される物質も異なるものである。
　そして、本願発明は、相違点に係る本願発明の発明特定事項を有することにより、難分解性のＣ２Ｆ６やＣ３Ｆ８をＣＦ４まで分解し、残留するＣＦ４を、ＰＦＣ処理剤を充填した反応槽で分解するという効果を奏するものであって、これらの事項は、引用文献１及び２には記載も示唆もない。
　したがって、本願発明は、引用文献１記載の発明及び引用文献２記載の発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたとはいえない。 
　
　また、本件出願の請求項２及び３に係る発明は、いずれも本願発明である請求項１に係る発明の発明特定事項を全て含むものであるから、本件出願の請求項２及び３に係る発明も上記で検討したことと同じ理由により、当業者が容易になし得ることができたものであるとはいえない。
　さらに、本件出願の請求項４に係る発明は、方法の発明である本願発明を、実質的に物である装置の発明としたものであるところ、本件出願の請求項４に係る発明も上記で検討したことと同じ理由により、当業者が容易になし得ることができたものであるとはいえない。
　加えて、本件出願の請求項５に係る発明は、本件出願の請求項４に係る発明の発明特定事項を全て含むものであるから、本件出願の請求項５に係る発明も上記で検討したことと同じ理由により、当業者が容易になし得ることができたものであるとはいえない。
　
第５．むすび 
　以上のとおり、本件出願の請求項１ないし５に係る発明は、引用文献１記載の発明及び引用文献２記載の発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとすることができないから、原査定の理由によっては、本件出願の請求項１ないし５に係る発明を拒絶することはできない。
　また、他に本件出願を拒絶すべき理由を発見しない。 
　
　よって、結論のとおり審決する。