【事件の表示】
　特許第３２５１２３２号「回転式湿式処理方法および回転式湿式処理装置」の請求項１ないし７に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３２５１２３２号の請求項１ないし７に係る特許を維持する。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
（１）特許第３２５１２３２号の請求項１ないし請求項７に係る発明についての出願は、平成１０年５月１３日に特許出願され、平成１３年１１月１６日にその発明について特許権の設定登録がなされた。
（２）その後、その特許について、異議申立人高橋友之輔より特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１５年１月１４日に訂正請求がなされたものである。
　
II．訂正の適否についての判断
（１）訂正の内容
　ア．訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１の記載について、「少なくとも一度用いられた薬液」とあるのを、「一度用いられた薬液」と訂正する。
　イ．訂正事項ｂ
　特許請求の範囲の請求項４の記載について、「少なくとも一度用いられた薬液」とあるのを、「一度用いられた薬液」と訂正する。
　ウ．訂正事項ｃ
　明細書の段落【００１５】、【００１６】、【００３２】及び【００９０】の記載について、「少なくとも一度用いられた薬液」とあるのを、「一度用いられた薬液」と訂正する。
　エ．訂正事項ｄ
　明細書の段落【００２２】及び【００９１】の記載について、「少なくとも一度用いられた薬液」とあるのを、「一度用いられた薬液」と訂正する。
（２）訂正の目的の適否、新規事項の有無、及び特許請求の範囲の拡張・変更の存否
　上記訂正事項ａは、発明を特定する事項である「少なくとも一度用いられた薬液」をこれに含まれる事項である「一度用いられた薬液」に変更し、しかも、「一度用いられた薬液」については、選択肢の一部を削除したに過ぎないから、特許請求の範囲の減縮を目的とした明細書の訂正に該当し、また、上記訂正事項ｃは上記訂正事項ａと整合を図るものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とした明細書の訂正に該当し、いずれも、新規事項の追加に該当せず、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
　上記訂正事項ｂは、発明を特定する事項である「少なくとも一度用いられた薬液」をこれに含まれる事項である「一度用いられた薬液」に変更し、しかも、「一度用いられた薬液」については、選択肢の一部を削除したに過ぎないから、特許請求の範囲の減縮を目的とした明細書の訂正に該当し、また、上記訂正事項ｄは上記訂正事項ｂと整合を図るものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とした明細書の訂正に該当し、いずれも、新規事項の追加に該当せず、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
（３）むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項において準用する特許法第１２６条第２項から第４項までの規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
III．特許異議の申立てについての判断
（１）申立ての理由の概要
　異議申立人高橋友之輔は、「請求項１ないし請求項７に係る発明は、甲第１号証（特開平８−３１７８９号公報）の発明と実質的に同一であるから、特許法第２９条第１項第３号に規定する発明に該当し、その特許は、同法第１１３条第２号の規定により、取り消されるべきものである。また、請求項１ないし請求項７に係る発明は、甲第１号証（特開平８−３１７８９号公報）及び甲第２号証（特開平７−１３０６９４号公報）に基づいて、当業者であれば容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、その特許は、同法第１１３条第２号の規定により、取り消されるべきものである」旨主張している。
（２）訂正明細書の請求項１ないし請求項７に係る発明
　上記「II．訂正の適否」で示したように上記訂正が認められるから、本件の請求項１ないし７に係る発明は、上記訂正請求に係る訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１ないし７に記載された次の事項により特定されるとおりのものである（II．訂正の適否（１）訂正の内容ア．訂正事項ａ及びイ．訂正事項ｂ参照。）。
「【請求項１】基板に薬液を吐出する薬液吐出手段と、上記基板を回転させる基板回転手段と、上記基板から除去された上記薬液を廃棄する廃棄手段と、上記基板から除去された上記薬液を循環タンクに回収する薬液回収手段とを用い、上記基板回転手段により上記基板を回転させるとともに、上記基板に上記薬液を吐出して湿式処理を行うようにした回転式湿式処理方法であって、少なくとも最初に、上記薬液吐出手段により、上記循環タンクから供給され、上記湿式処理に一度用いられた薬液を上記基板に吐出して湿式処理を行い、次いで、上記一度用いられた薬液を、上記基板回転手段によって上記基板を回転させることにより上記基板から除去した後、上記廃棄手段により、上記一度用いられた薬液を廃棄するようにした第１の工程と、上記薬液吐出手段により、上記循環タンクから供給され、上記一度用いられた薬液を上記基板に吐出して湿式処理を行い、上記一度用いられた薬液を、上記基板回転手段によって上記基板を回転させることにより上記基板から除去した後、上記薬液回収手段により、上記一度用いられた薬液を上記循環タンクに回収するようにした第２の工程と、少なくとも最後に、上記薬液吐出手段により、上記湿式処理に一度も用いられていない薬液を、上記基板に吐出して湿式処理を行い、次いで、上記一度も用いられていない薬液を、上記基板回転手段によって上記基板を回転させることにより上記基板から除去した後、上記薬液回収手段により、上記一度も用いられていない薬液を上記循環タンクに回収するようにした第３の工程とを有することを特徴とする回転式湿式処理方法。
【請求項２】上記一度も用いられていない薬液を回収した後、上記基板に純水を吐出するようにしたことを特徴とする請求項１記載の回転式湿式処理方法。
【請求項３】上記湿式処理が枚葉式に行われることを特徴とする請求項１記載の回転式湿式処理方法。
【請求項４】基板に薬液を吐出する薬液吐出手段と、上記基板を回転可能に構成された基板回転手段とを有し、上記基板回転手段により上記基板を回転させるとともに、上記薬液吐出手段により上記基板に上記薬液を吐出して湿式処理を行うようにした回転式湿式処理装置であって、上記基板から除去された上記薬液を、廃棄する廃棄手段と、上記基板から除去された上記薬液を、循環タンクに回収する薬液回収手段とを有し、少なくとも最初に、上記薬液吐出手段により、上記循環タンクから供給され、上記湿式処理に一度用いられた薬液を吐出して上記湿式処理を行い、上記基板回転手段によって上記基板を回転させることにより上記一度用いられた薬液を上記基板から除去した後、上記廃棄手段により上記一度用いられた薬液を廃棄し、上記薬液吐出手段により、上記循環タンクから供給され、上記一度用いられた薬液を上記基板に吐出して湿式処理を行い、上記基板回転手段によって上記基板を回転させることにより上記基板から上記一度用いられた薬液を除去した後、上記薬液回収手段により上記一度用いられた薬液を上記循環タンクに回収し、少なくとも最後に、上記薬液吐出手段により、上記湿式処理に一度も用いられていない薬液を上記基板に吐出して上記湿式処理を行い、上記基板回転手段によって上記基板を回転させることにより上記一度も用いられていない薬液を上記基板から除去した後、上記薬液回収手段により上記一度も用いられていない薬液を上記循環タンクに回収するように構成されていることを特徴とする回転式湿式処理装置。
【請求項５】上記基板から除去された上記薬液を所定の経路で上記薬液吐出手段にまで循環させる薬液循環手段を有することを特徴とする請求項４記載の回転式湿式処理装置。
【請求項６】上記基板に純水を吐出する純水吐出手段を有することを特徴とする請求項４記載の回転式湿式処理装置。
【請求項７】上記回転式湿式処理装置が枚葉式であることを特徴とする請求項４記載の回転式湿式処理装置。」
（３）甲号証記載の発明
　甲第１号証（特開平８−３１７８９号公報）には、
・「また、図６の（Ｃ）に概略構成を示した基板の洗浄処理装置は、基板の搬入口１６６及び搬出口１６８を有し密閉可能な処理槽１６４の内部に、基板Ｗを水平姿勢に保持する基板保持台１７０、及び、この基板保持台１７０に保持された基板Ｗの上・下両面にそれぞれ対向するスプレイノズル１７２、１７２を配設し、基板保持台１７０を鉛直軸回りに回転駆動させる駆動機構１７４を設けて構成されている。そして、図６の（Ｂ）と同様の構成の洗浄用薬液供給系によって処理槽１６４内のスプレイノズル１７２、１７２へ洗浄用薬液を供給し、両スプレイノズル１７２、１７２から基板Ｗの上・下両面に対して洗浄用薬液を吹き付けることにより、基板Ｗの表面を洗浄するようになっている。スプレイノズル１７２から基板Ｗの表面に吹き付けられて基板Ｗの洗浄に使用された後基板Ｗの表面から流下した使用済み薬液は、図６の（Ｂ）に示した装置と同様に、排気管路１７６を通ってそのまま排出される。」（第３頁第３欄第４３行〜同頁第４欄第８行）
・「図１は、この発明の１実施例を示し、バッチ式浸漬処理方式の基板の洗浄処理装置の概略構成図である。この装置は、図６の（Ａ）、（Ｂ）に示した装置と同様に、洗浄用薬液１０を収容してその洗浄用薬液１０中に基板Ｗが浸漬される浸漬処理部１４と、この浸漬処理部１４から溢れ出た使用済み薬液１６を貯留する溢流貯留部１８とから構成された処理槽１０を有している。また、新鮮な薬液を調製して処理槽１０の浸漬処理部１４へ供給するための新液供給系は、図６の（Ｂ）、（Ｃ）に示した装置と同様に、薬液１が貯留された第１の薬液タンク２２に流路接続されポンプ２６、フィルタ２８及び開閉制御弁３０が介挿された薬液１の供給管路２４、薬液２が貯留された第２の薬液タンク３２に流路接続されポンプ３６、フィルタ３８及び開閉制御弁４０が介挿された薬液２の供給管路３４、並びに、純水供給源に流路接続され開閉制御弁４４が介挿された純水供給管路４２をそれぞれ混合器２０に連通接続し、混合器２０において薬液１と薬液２と純水とを混合し或いは薬液１又は薬液２と純水とを混合して洗浄用薬液を希釈調製し、その洗浄用薬液を混合器２０から処理槽１２へ供給するように構成されている。図中の４６は、それぞれ開閉制御弁である。
【００１７】一方、処理槽１２の溢流留部１８に連通接続された流出管路４８は、排出・回収切換器５０の導入口に連通接続されており、その排出・回収切換器５０の導出口の１つに、開閉制御弁５４が介挿された排液管路５２が連通接続されている。また、排出・回収切換器５０の別の導出口は、開閉制御弁５８が介挿された第１の回収管路５６を介して第１の回収用タンク６０に接続されており、さらに別の導出口は、開閉制御弁６６が介挿された第２の回収管路６４を介して第２の回収用タンク６８に接続されている。第１の回収用タンク６０には、後述するように、処理槽１２において基板の洗浄処理に１回使用された後回収された回収薬液６２が貯留され、また、第２の回収用タンク６８には、処理槽１２において基板の洗浄処理に２回繰り返して使用された後回収された回収薬液７０が貯留される。」（第５頁第７欄第１１〜４５行）
・「図４の（ａ）に示したように、第１の回収用タンク６０内及び第２の回収用タンク６８内にそれぞれ回収薬液６２、７０が収容された状態において、処理槽１２内へ洗浄処理しようとする複数枚の基板Ｗが搬入されると、まず、開閉制御弁８８、５４を開放するとともに開閉御弁７８、９２、５８、６６を閉塞することにより、図４の（ａ）に実線矢印で示したように、第２の回収用タンク６８から処理槽１２へ、処理槽１２において基板の洗浄処理に２回繰り返して使用された後回収された回収薬液７０を供給するとともに、処理槽１２から流出した使用済み薬液を流出管路４８及び排液管路５２を通して装置外へ排出する。このようにして、２回使用の回収薬液７０を使用して基板Ｗを洗浄処理する。次に、開閉制御弁７８、６６を開放するとともに開閉御弁８８、９２、５４、５８を閉塞することにより、図４の（ｂ）に実線矢印で示したように、第１の回収用タンク６０から処理糟１２へ、処理槽１２において基板の洗浄処理に１回だけ使用されて回収された回収薬液６２を供給するとともに、処理槽１２から流出した使用済み薬液を流出管路４８及び第２の回収管路６４を通して第２の回収用タンク６８内へ回収する。このようにして、１回使用の回収薬液６２を使用して基板Ｗを洗浄処理する。そして、最後に、開閉制御弁９２、５８を開放するとともに開閉御弁７８、８８、５４、６６を閉塞することにより、図４の（ｃ）に実線矢印で示したように、混合器２０から処理槽１２へ、汚染物質を全く含まない新鮮な薬液を供給するとともに、処理槽１２から流出した使用済み薬液を流出管路４８及び第１の回収管路５６を通して第１の回収用タンク６０内へ回収する。このようにして、新鮮な洗浄用薬液を使用して基板Ｗを洗浄処理する。」（第５頁第８欄第２４行〜第６頁第９欄第２行）
・「上記実施例においては、使用済み薬液を回収する回収用タンクを２個設けるようにしたが、回収用タンクを１個だけ設けるようにしてもよく、その場合には、処理槽内へ基板が搬入された後、回収用タンクから処理槽へ１回使用の回収薬液を供給するとともに、処理槽から使用済み薬液を排出し、次に、新鮮な薬液を処理槽へ供給するとともに、処理槽から流出する使用済み薬液を回収用タンク内へ回収するようにする。」（第６頁第９欄第１５〜２２行）
・「また、上記実施例では、バッチ式浸漬処理方式の基板の洗浄処理装置について説明したが、枚様式浸漬処理方式或いは図６の（Ｃ）に示したような枚様式スプレイ処理方式の各種の基板表面処理装置についても、この発明は同様に適用し得る。」（第６頁第９欄第３８〜４２行）
と記載されている。
　上記各記載、並びに図１、図４、及び図６の記載からみて、刊行物１には、
　基板Ｗに薬液を吐出するスプレイノズル１７２と、上記基板Ｗを回転させる基板保持台１７０、駆動機構１７４と、上記基板Ｗから除去された上記薬液を廃棄する排気管路１７６と、上記基板保持台１７０、駆動機構１７４により上記基板Ｗを回転させるとともに、上記基板Ｗに上記薬液を吐出して湿式処理を行うようにした回転式湿式処理方法であって、上記スプレイノズル１７２により、上記薬液を上記基板Ｗに吐出して湿式処理を行い、次いで、上記薬液を、上記基板保持台１７０、駆動機構１７４によって上記基板Ｗを回転させることにより上記基板Ｗから除去した後、上記排気管路１７６により、上記薬液を廃棄するようにした工程を有する回転式湿式処理方法（段落【０００５】及び図６（Ｃ）に記載されており、段落【００２５】で「図６の（Ｃ）に示したような枚様式スプレイ処理方式」とされる方法）
　「基板Ｗから除去された薬液を廃棄する廃液管路５２と、上記基板Ｗから除去された上記薬液を第１の回収用タンク６０、第２の回収用タンク６８に回収する薬液回収手段とを用い、上記基板Ｗに上記薬液を供給して湿式処理を行うようにした湿式処理方法であって、少なくとも最初に、上記第２の回収用タンク６８から供給され、上記湿式処理に二度用いられた薬液を上記基板Ｗに供給して湿式処理を行い、次いで、上記二度用いられた薬液を、上記基板Ｗから除去した後、上記廃液管路５２により、上記二度用いられた薬液を廃棄するようにした第１の工程と、上記第１の回収用タンク６０から供給され、一度用いられた薬液を上記基板Ｗに供給して湿式処理を行い、上記一度用いられた薬液を、上記基板Ｗから除去した後、上記薬液回収手段により、上記一度用いられた薬液を上記第２の回収用タンク６８に回収するようにした第２の工程と、少なくとも最後に、上記湿式処理に一度も用いられていない薬液を、上記基板Ｗに供給して湿式処理を行い、次いで、上記一度も用いられていない薬液を、上記基板Ｗから除去した後、上記薬液回収手段により、上記一度も用いられていない薬液を上記第１の回収用タンク６０に回収するようにした第３の工程とを有する湿式処理方法。」という発明、及び「回収用タンクを１個だけ設けるようにしてもよく、その場合には、処理槽内へ基板が搬入された後、回収用タンクから処理槽へ１回使用の回収薬液を供給するとともに、処理槽から使用済み薬液を排出し、次に、新鮮な薬液を処理槽へ供給するとともに、処理槽から流出する使用済み薬液を回収用タンク内へ回収するようにする」という発明、並びに「図６の（Ｃ）に示したような枚様式スプレイ処理方式の各種の基板表面処理装置についても、この発明は同様に適用し得ること」
及び
　湿式処理方法が枚葉式に行われる回転式湿式処理方法
が記載されているものと認められ、さらに、
　基板Ｗに薬液を吐出するスプレイノズル１７２と、上記基板Ｗを回転可能に構成された基板保持台１７０、駆動機構１７４とを有し、上記基板保持台１７０、駆動機構１７４により上記基板Ｗを回転させるとともに、上記スプレイノズル１７２により上記基板Ｗに上記薬液を吐出して湿式処理を行うようにした回転式湿式処理装置であって、上記基板Ｗから除去された上記薬液を、廃棄する排気管路１７６と、上記スプレイノズル１７２により上記薬液を吐出して上記湿式処理を行い、上記基板保持台１７０、駆動機構１７４によって上記基板Ｗを回転させることにより上記薬液を上記基板Ｗから除去した後、上記排気管路１７６により上記薬液を廃棄するように構成されている回転式湿式処理装置（段落【０００５】及び図６（Ｃ）に記載されており、段落【００２５】で「図６の（Ｃ）に示したような枚様式スプレイ処理方式」とされる装置）
　「基板Ｗに薬液を供給して湿式処理を行うようにした湿式処理装置であって、上記基板Ｗから除去された上記薬液を、廃棄する廃液管路５２と、上記基板Ｗから除去された上記薬液を、第１の回収用タンク６０、第２の回収用タンク６８に回収する薬液回収手段とを有し、少なくとも最初に、上記第２の回収用タンク６８から供給され、上記湿式処理に二度用いられた薬液を供給して上記湿式処理を行い、上記二度用いられた薬液を上記基板Ｗから除去した後、上記廃液管路５２により上記二度用いられた薬液を廃棄し、上記第１の回収用タンク６０から供給され、一度用いられた薬液を上記基板Ｗに供給して湿式処理を行い、上記基板Ｗから上記一度用いられた薬液を除去した後、上記薬液回収手段により上記一度用いられた薬液を上記第２の回収用タンク６８に回収し、少なくとも最後に、上記湿式処理に一度も用いられていない薬液を上記基板Ｗに供給して上記湿式処理を行い、上記一度も用いられていない薬液を上記基板Ｗから除去した後、上記薬液回収手段により上記一度も用いられていない薬液を上記第１の回収用タンク６０に回収するように構成されている湿式処理装置」という発明、及び「回収用タンクを１個だけ設けるようにしてもよく、その場合には、処理槽内へ基板が搬入された後、回収用タンクから処理槽へ１回使用の回収薬液を供給するとともに、処理槽から使用済み薬液を排出し、次に、新鮮な薬液を処理槽へ供給するとともに、処理槽から流出する使用済み薬液を回収用タンク内へ回収するようにする」という発明、並びに「図６の（Ｃ）に示したような枚様式スプレイ処理方式の各種の基板表面処理装置についても、この発明は同様に適用し得ること」
並びに
　上記回転式湿式処理装置が枚葉式である回転式湿式処理装置
が記載されているものと認められる。
　また、甲第２号証（特開平７−１３０６９４号公報）には、
・「【課題を解決するための手段】本発明に係る基板洗浄装置は、基板に洗浄液を供給して基板表面を洗浄する装置であり、基板保持部と第１洗浄液供給手段と第２洗浄液供給手段と制御手段とを備えている。基板保持部は基板を保持する。第１洗浄液供給手段は、基板保持部に保持された基板の表面に、未使用の新鮮洗浄液を供給する。第２洗浄液供給手段は、基板保持部に保持された基板の表面に、以前に基板に供給されて回収された洗浄液を供給する。制御手段は、同一の基板に対して、第２洗浄液供給手段を動作させ、その後に第１洗浄液供給手段を動作させる。」（第２頁第１欄第３４〜４４行）
・「基板保持部１は、矩形のガラス基板Ｐを水平に吸着保持しうる真空チャック５と、真空チャック５を回転させ得るモータ機構６と、真空チャック５の周囲に配置され回転時の現像液や洗浄液（純水）の飛散を防止するためのカップ７とを備えている。
【０００８】第１洗浄機構２（第２洗浄液供給手段）は、主に、再利用洗浄液タンク９と、再利用洗浄液供給配管１０とから構成されている。再利用洗浄液タンク９内には、洗浄液再利用機構４から回収された使用後の洗浄液が貯溜されている。再利用洗浄液供給配管１０は、一端が再利用洗浄液タンク９に接続され、他端がホースノズル１１に接続されている。再利用洗浄液供給配管１０のホースノズル１１側は基板保持部１の中央に延びるアーム２１に固定されている。アーム２１は基軸がアーム回転用モータ２２に接続されており、アーム回転用モータ２２の回転によりホースノズル１１が基板Ｐ上で円弧状に揺動可能である。再利用洗浄液供給配管１０の途中には、再利用洗浄液タンク９側からポンプ１２と再利用洗浄液供給弁１３とが配置されている。
【０００９】第２洗浄機構３（第１洗浄液供給手段）は、新鮮洗浄液タンク１５と新鮮洗浄液供給配管１６とから構成されている。新鮮洗浄液タンク１５内には、未使用の洗浄液（純水）が貯溜されている。新鮮洗浄液供給配管１６は、一端が新鮮洗浄液タンク１５に接続され、他端が高圧スプレーノズル１７に接続されている。再利用洗浄液供給配管１０の高圧スプレーノズル１７側はアーム２１に固定されており、高圧スプレーノズル１７はホースノズル１１の近傍に配置されている。
【００１０】洗浄液再利用機構４は、上端がカップ７の底面に接続され下端が再利用洗浄液タンク９に接続された洗浄液排出配管２４と、洗浄液排出配管２４の途中に配置された三方弁２５、ポンプ２６及び排出弁２７とから構成されている。三方弁２５は、カップ７から排出された洗浄液を再利用洗浄液タンク９及び回収タンク２９のいずれかに選択的に供給するためのものである。回収タンク２９の下端には排出弁３１が設けられており、排出弁３１が開けられると回収タンク２９内の洗浄液は排出される。」（第２頁第２欄第１２〜４９行）
・「現像工程が完了すれば、ステップＳ５で洗浄処理を行う。図４に示す洗浄処理では、始めにステップＳ１１で真空チャック５の回転速度を現像処理時より高くする。続いて、ステップＳＩ２でアーム回転用モータ２２を駆動してホースノズル１１を基板Ｐの中心に移動させる。ステップＳ１３では、一度洗浄に使用された後の再利用洗浄液をホースノズル１１から基板Ｐの中心に供給する。この供給処理は、再利用洗浄液供給弁１３を開きポンプ１２を駆動することで行う。ステップＳ１４では、カップ７内に飛び散った洗浄液を回収する。この回収は、排出弁２７を開きポンプ２６を駆動することで行われる。このとき、三方弁２５を回収タンク２９側にセットし、カップ７内の洗浄液を回収タンク２９内に回収する。そして、ステップＳ１５で一定時間経過するのを待った後、ステップＳ１６で再利用洗浄液の吐出を停止する。すなわち、ポンプ１２を停止させ再利用洗浄液供給弁１３を閉じる。ステップＳ１７では、排出弁２７を閉じポンプ２６を停止させる。以上で、再利用洗浄液による１次リンスは終了する。
【００１４】ステップＳ１８に移行すると、高圧スプレーノズル１７から基板Ｐに対して新鮮な洗浄液の供給を開始する。そのためには、新鮮水洗浄液供給弁１９を開き、ポンプ１８を駆動する。ステップＳ１９では、アーム回転用モータ２２を駆動することにより、高圧スプレーノズル１７を基板Ｐ上で揺動させる。すると、図５に示すように、高圧スプレーノズル１７は、基板Ｐの上方で円弧状に往復を繰り返しながら新鮮な洗浄液を基板Ｐ上に供給する。ステップＳ２０に移行すると、カップ７内に飛ばされた洗浄液の再利用洗浄液タンク９への回収を開始する。このときは、排出弁２７を開き、ポンプ２６を駆動する。このとき三方弁２５を再利用洗浄液タンク９側にセットする。そして、ステップＳ２１で一定時間が経過するのを待った後、ステップＳ２２に移行して新鮮な洗浄液の吐出を停止する。これにより、高圧スプレーノズル１７から吐出される新鮮な洗浄液による２次リンスは終了する。２次リンスに用いられる洗浄液には再利用洗浄液が混入していないため、２次リンスの洗浄力は高い。しかも、基板Ｐは１次リンスによって予め洗浄されているために、新鮮な洗浄液の消費量が抑えられ、費用が低下する。」（第３頁第３欄第２２行〜同頁第４欄第１１行）
と記載されている。
　上記各記載、並びに図１、図２及び図４の記載からみて、刊行物２には、
　基板Ｐに洗浄液を吐出するホースノズル１１、スプレーノズル１７と、上記基板Ｐを回転させる真空チャック５、モータ機構６と、上記基板Ｐから除去された上記洗浄液を廃棄する回収タンク２９と、上記基板Ｐから除去された上記洗浄液を再利用洗浄液タンク９に回収する洗浄液回収手段とを用い、上記真空チャック５、モータ機構６により上記基板Ｐを回転させるとともに、上記基板Ｐに上記洗浄液を吐出して湿式処理を行うようにした回転式湿式処理方法であって、少なくとも最初に、上記ホースノズル１１により、上記再利用洗浄液タンク９から供給され、上記湿式処理に一度用いられた洗浄液を上記基板Ｐに吐出して湿式処理を行い、次いで、上記一度用いられた洗浄液を、上記真空チャック５、モータ機構６によって上記基板Ｐを回転させることにより上記基板Ｐから除去した後、上記回収タンク２９により、上記一度用いられた洗浄液を廃棄するようにした第１の工程と、少なくとも最後に、上記スプレーノズル１７により、上記湿式処理に一度も用いられていない洗浄液を、上記基板Ｐに吐出して湿式処理を行い、次いで、上記一度も用いられていない洗浄液を、上記真空チャック５、モータ機構６によって上記基板Ｐを回転させることにより上記基板Ｐから除去した後、上記洗浄液回収手段により、上記一度も用いられていない洗浄液を上記再利用洗浄液タンク９に回収するようにした第２の工程とを有する回転式湿式処理方法
及び
　湿式処理方法が枚葉式に行われる回転式湿式処理方法
が記載されているものと認められ、さらに
　基板Ｐに洗浄液を吐出するホースノズル１１、スプレーノズル１７と、上記基板Ｐを回転可能に構成された真空チャック５、モータ機構６とを有し、上記真空チャック５、モータ機構６により上記基板Ｐを回転させるとともに、上記ホースノズル１１、スプレーノズル１７により上記基板Ｐに上記洗浄液を吐出して湿式処理を行うようにした回転式湿式処理装置であって、上記基板Ｐから除去された上記洗浄液を、廃棄する回収タンク２９と、上記基板Ｐから除去された上記洗浄液を、再利用洗浄液タンク９に回収する洗浄液回収手段とを有し、少なくとも最初に、上記ホースノズル１１により、上記再利用洗浄液タンク９から供給され、上記湿式処理に一度用いられた洗浄液を吐出して上記湿式処理を行い、上記真空チャック５、モータ機構６によって上記基板Ｐを回転させることにより上記一度用いられた洗浄液を上記基板Ｐから除去した後、上記回収タンク２９により上記一度用いられた洗浄液を廃棄し、少なくとも最後に、上記スプレーノズル１７により、上記湿式処理に一度も用いられていない洗浄液を上記基板Ｐに吐出して上記湿式処理を行い、上記真空チャック５、モータ機構６によって上記基板Ｐを回転させることにより上記一度も用いられていない洗浄液を上記基板Ｐから除去した後、上記洗浄液回収手段により上記一度も用いられていない洗浄液を上記再利用洗浄液タンク９に回収するように構成されている回転式湿式処理装置
　上記基板Ｐから除去された上記洗浄液を所定の経路で上記スプレーノズル１７にまで循環させる薬液循環手段を有する回転式湿式処理装置
　上記基板Ｐに純水を吐出するスプレーノズル１７を有する回転式湿式処理装置
及び
　上記回転式湿式処理装置が枚葉式である回転式湿式処理装置
が記載されているものと認められる。
（４） 請求項１ないし請求項７に係る発明と甲号証記載の発明との対比・判断
〈請求項１に係る発明について〉
　請求項１に係る発明と異議申立人が提示した甲第１号証に記載された発明とを対比すると、甲第１号証に記載された発明の「基板Ｗ」、「スプレイノズル１７２」、「基板保持台１７０、駆動機構１７４」、「排気管路１７６」、「廃液管路５２」、「回収用タンク」は、それぞれ、請求項１に係る発明の「基板」、「薬液吐出手段」、「基板回転手段」、「廃棄手段」、「廃棄手段」、「循環タンク」に相当するので、甲第１号証には、
　基板に薬液を吐出する薬液吐出手段と、上記基板を回転させる基板回転手段と、上記基板から除去された上記薬液を廃棄する廃棄手段と、上記基板回転手段により上記基板を回転させるとともに、上記基板に上記薬液を吐出して湿式処理を行うようにした回転式湿式処理方法であって、上記薬液吐出手段により、上記薬液を上記基板に吐出して湿式処理を行い、次いで、上記薬液を、上記基板回転手段によって上記基板を回転させることにより上記基板から除去した後、上記廃棄手段により、上記薬液を廃棄するようにした工程を有する回転式湿式処理方法
及び
　基板から除去された薬液を廃棄する廃棄手段と、上記基板から除却された上記薬液を循環タンクに回収する薬液回収手段とを用い、上記基板に上記薬液を供給して湿式処理を行うようにした湿式処理方法であって、少なくとも最初に、上記第２の循環タンクから供給され、上記湿式処理に二度用いられた薬液を上記基板に供給して湿式処理を行い、次いで、上記二度用いられた薬液を、上記基板から除去した後、上記廃棄手段により、上記二度用いられた薬液を廃棄するようにした第１の工程と、上記第１の循環タンクから供給され、一度用いられた薬液を上記基板に供給して湿式処理を行い、上記一度用いられた薬液を、上記基板から除去した後、上記薬液回収手段により、上記一度用いられた薬液を上記第２の循環タンクに回収するようにした第２の工程と、少なくとも最後に、上記湿式処理に一度も用いられていない薬液を、上記基板に供給して湿式処理を行い、次いで、上記一度も用いられていない薬液を、上記基板から除去した後、上記薬液回収手段により、上記一度も用いられていない薬液を上記第１の循環タンクに回収するようにした第３の工程とを有する湿式処理方法
が記載されていると認められ、
「回収用タンクを１個だけ設けるようにしてもよく、その場合には、処理槽内へ基板が搬入された後、回収用タンクから処理槽へ１回使用の回収薬液を供給するとともに、処理槽から使用済み薬液を排出し、次に、新鮮な薬液を処理槽へ供給するとともに、処理槽から流出する使用済み薬液を回収用タンク内へ回収するようにすること」との記載からして、循環タンクから供給され、湿式処理に一度用いられた薬液を上記基板に供給して湿式処理を行い、次いで、上記一度用いられた薬液を、上記基板から除去した後、上記廃棄手段により、上記一度用いられた薬液を廃棄するようにした第１の工程と、上記湿式処理に一度も用いられていない薬液を、上記基板に供給して湿式処理を行い、次いで、上記一度も用いられていない薬液を、上記基板から除去した後、上記薬液回収手段により、上記一度も用いられていない薬液を上記循環タンクに回収するようにした第２の工程とを有する湿式処理方法
が記載されていると認められ、
　更に「図６の（Ｃ）に示したような枚様式スプレイ処理方式の各種の基板表面処理装置についても、この発明は同様に適用し得ること」との記載からして、
　前記二つの湿式処理方法は前記回転式湿式処理方法に適用しうること
が記載されていると認められる。
　次に、請求項１に係る発明と異議申立人が提示した甲第２号証に記載された発明とを対比すると、甲第２号証に記載された発明の「基板Ｐ」、「真空チャック５、モータ機構６」、「回収タンク２９」、「再利用洗浄液タンク９」は、それぞれ、請求項１に係る発明の「基板」、「基板回転手段」、「廃棄手段」、「循環タンク」に相当するので、甲第２号証には、
　基板に洗浄液を吐出する洗浄液吐出手段と、上記基板を回転させる基板回転手段と、上記基板から除去された上記洗浄液を廃棄する廃棄手段と、上記基板から除去された上記洗浄液を循環タンクに回収する洗浄液回収手段とを用い、上記基板回転手段により上記基板を回転させるとともに、上記基板に上記洗浄液を吐出して湿式処理を行うようにした回転式湿式処理方法であって、少なくとも最初に、上記洗浄液吐出手段により、上記循環タンクから供給され、上記湿式処理に一度用いられた洗浄液を上記基板に吐出して湿式処理を行い、次いで、上記一度用いられた洗浄液を、上記基板回転手段によって上記基板を回転させることにより上記基板から除去した後、上記廃棄手段により、上記一度用いられた洗浄液を廃棄するようにした第１の工程と、少なくとも最後に、上記洗浄液吐出手段により、上記湿式処理に一度も用いられていない洗浄液を、上記基板に吐出して湿式処理を行い、次いで、上記一度も用いられていない洗浄液を、上記基板回転手段によって上記基板を回転させることにより上記基板から除去した後、上記洗浄液回収手段により、上記一度も用いられていない洗浄液を上記循環タンクに回収するようにした第２の工程とを有する回転式湿式処理方法
が記載されていると認められる。
　したがって、請求項１に係る発明と異議申立人が提示した甲第１号証及び甲第２号証記載の発明とを対比すると、当該第１号証及び甲第２号証のいずれにも、「少なくとも最初に、上記薬液吐出手段により、上記循環タンクから供給され、上記湿式処理に一度用いられた薬液を上記基板に吐出して湿式処理を行い、次いで、上記一度用いられた薬液を、上記基板回転手段によって上記基板を回転させることにより上記基板から除去した後、上記廃棄手段により、上記一度用いられた薬液を廃棄するようにした第１の工程と、上記薬液吐出手段により、上記循環タンクから供給され、上記一度用いられた薬液を上記基板に吐出して湿式処理を行い、上記一度用いられた薬液を、上記基板回転手段によって上記基板を回転させることにより上記基板から除去した後、上記薬液回収手段により、上記一度用いられた薬液を上記循環タンクに回収するようにした第２の工程と」を有することが記載されていない。
　しかも、「少なくとも最初に、上記薬液吐出手段により、上記循環タンクから供給され、上記湿式処理に一度用いられた薬液を上記基板に吐出して湿式処理を行い、次いで、上記一度用いられた薬液を、上記基板回転手段によって上記基板を回転させることにより上記基板から除去した後、上記廃棄手段により、上記一度用いられた薬液を廃棄するようにした第１の工程と、上記薬液吐出手段により、上記循環タンクから供給され、上記一度用いられた薬液を上記基板に吐出して湿式処理を行い、上記一度用いられた薬液を、上記基板回転手段によって上記基板を回転させることにより上記基板から除去した後、上記薬液回収手段により、上記一度用いられた薬液を上記循環タンクに回収するようにした第２の工程と」を有すること、即ち、特に、「循環タンクから供給され、湿式処理に一度用いられた薬液を吐出して湿式処理を行い、第１の工程で、廃棄するようにし、第２の工程で、上記循環タンクに回収するようにした」ことにより、請求項１に係る発明は、明細書記載の「湿式処理における薬液の使用量を低減し、必要最小限に抑えることができる。」（訂正明細書段落【００９０】参照。）及び平成１５年１月１４日付け特許異議意見書に記載された「循環タンクに貯蔵されている薬液を長時間、高品質に維持することができ、しかも循環タンクが一つで済むとともに、第１の工程において最初の湿式処理に用いられ、汚染の度合いが高い一度用いられた薬液のみ廃棄するため薬液の使用量の低減を図ることができる」（第３頁第５〜９行）といった作用効果を奏するものと認められる。
　してみると、本件請求項１に係る発明は、甲第１号証に記載された発明と同一であるとすることはできず、甲第１号証及び甲第２号証に記載の発明から当業者が容易に発明をすることができたものとすることもできない。
〈請求項４に係る発明について〉
　請求項４に係る発明と異議申立人が提示した甲第１号証に記載された発明とを対比すると、甲第１号証に記載された発明の「基板Ｗ」、「スプレイノズル１７２」、「基板保持台１７０、駆動機構１７４」、「排気管路１７６」、「廃液管路５２」、「回収用タンク」は、それぞれ、請求項４に係る発明の「基板」、「薬液吐出手段」、「基板回転手段」、「廃棄手段」、「廃棄手段」、「循環タンク」に相当するので、甲第１号証には、
　基板に薬液を吐出する薬液吐出手段と、上記基板を回転可能に構成された基板回転手段とを有し、上記基板回転手段により上記基板を回転させるとともに、上記薬液吐出手段により上記基板に上記薬液を吐出して湿式処理を行うようにした回転式湿式処理装置であって、上記基板から除去された上記薬液を、廃棄する廃棄手段と、上記薬液吐出手段により上記薬液を吐出して上記湿式処理を行い、上記基板回転手段によって上記基板を回転させることにより上記薬液を上記基板から除去した後、上記廃棄手段により上記薬液を廃棄するように構成されている回転式湿式処理装置
及び
　基板に薬液を供給して湿式処理を行うようにした湿式処理装置であって、上記基板から除去された上記薬液を、廃棄する廃棄手段と、上記基板から除去された上記薬液を、第１の循環タンク、第２の循環タンクに回収する薬液回収手段とを有し、少なくとも最初に、上記第２の循環タンクから供給され、上記湿式処理に二度用いられた薬液を供給して上記湿式処理を行い、上記二度用いられた薬液を上記基板から除去した後、上記廃棄手段により上記二度用いられた薬液を廃棄し、上記第１の循環タンクから供給され、一度用いられた薬液を上記基板に供給して湿式処理を行い、上記基板から上記一度用いられた薬液を除去した後、上記薬液回収手段により上記一度用いられた薬液を上記第２の循環タンクに回収し、少なくとも最後に、上記湿式処理に一度も用いられていない薬液を上記基板に供給して上記湿式処理を行い、上記一度も用いられていない薬液を上記基板から除去した後、上記薬液回収手段により上記一度も用いられていない薬液を上記第１の循環タンクに回収するように構成されている湿式処理装置
が記載されていると認められ、
「回収用タンクを１個だけ設けるようにしてもよく、その場合には、処理槽内へ基板が搬入された後、回収用タンクから処理槽へ１回使用の回収薬液を供給するとともに、処理槽から使用済み薬液を排出し、次に、新鮮な薬液を処理槽へ供給するとともに、処理槽から流出する使用済み薬液を回収用タンク内へ回収するようにすること」との記載からして、循環タンクから供給され、上記湿式処理に一度用いられた薬液を供給して上記湿式処理を行い、上記一度用いられた薬液を上記基板から除去した後、上記廃棄手段により上記一度用いられた薬液を廃棄し、上記湿式処理に一度も用いられていない薬液を上記基板に供給して上記湿式処理を行い、上記一度も用いられていない薬液を上記基板から除去した後、上記薬液回収手段により上記一度も用いられていない洗浄液を上記循環タンクに回収するように構成されている回転式湿式処理装置
が記載されているものと認められ、
更に、「図６の（Ｃ）に示したような枚様式スプレイ処理方式の各種の基板表面処理装置についても、この発明は同様に適用し得ること」との記載からして、
　前記二つの湿式処理装置は前記回転式湿式処理装置に適用しうること
が記載されていると認められる。
　次に、請求項４に係る発明と異議申立人が提示した甲第２号証に記載された発明とを対比すると、甲第２号証に記載された発明の「基板Ｐ」、「真空チャック５、モータ機構６」、「回収タンク２９」、「再利用洗浄液タンク９」は、それぞれ、請求項４に係る発明の「基板」、「基板回転手段」、「廃棄手段」、「循環タンク」に相当するので、甲第２号証には、
　基板に洗浄液を吐出する洗浄液吐出手段と、上記基板を回転可能に構成された基板回転手段とを有し、上記基板回転手段により上記基板を回転させるとともに、上記洗浄液吐出手段により上記基板に上記洗浄液を吐出して湿式処理を行うようにした回転式湿式処理装置であって、上記基板から除去された上記洗浄液を、廃棄する廃棄手段と、上記基板から除去された上記洗浄液を、循環タンクに回収する洗浄液回収手段とを有し、少なくとも最初に、上記洗浄液吐出手段により、上記循環タンクから供給され、上記湿式処理に一度用いられた洗浄液を吐出して上記湿式処理を行い、上記基板回転手段によって上記基板を回転させることにより上記一度用いられた洗浄液を上記基板から除去した後、上記廃棄手段により上記一度用いられた洗浄液を廃棄し、少なくとも最後に、上記洗浄液吐出手段により、上記湿式処理に一度も用いられていない洗浄液を上記基板に吐出して上記湿式処理を行い、上記基板回転手段によって上記基板を回転させることにより上記一度も用いられていない洗浄液を上記基板から除去した後、上記洗浄液回収手段により上記一度も用いられていない洗浄液を上記循環タンクに回収するように構成されている回転式湿式処理装置
が記載されていると認められる。
　したがって、請求項４に係る発明と異議申立人が提示した甲第１号証及び甲第２号証記載の発明とを対比すると、甲第１号証及び甲第２号証のいずれにも、「少なくとも最初に、上記薬液吐出手段により、上記循環タンクから供給され、上記湿式処理に一度用いられた薬液を吐出して上記湿式処理を行い、上記基板回転手段によって上記基板を回転させることにより上記一度用いられた薬液を上記基板から除去した後、上記廃棄手段により上記一度用いられた薬液を廃棄し、上記薬液吐出手段により、上記循環タンクから供給され、上記一度用いられた薬液を上記基板に吐出して湿式処理を行い、上記基板回転手段によって上記基板を回転させることにより上記基板から上記一度用いられた薬液を除去した後、上記薬液回収手段により上記一度用いられた薬液を上記循環タンクに回収」することが記載されていない。
　しかも、「少なくとも最初に、上記薬液吐出手段により、上記循環タンクから供給され、上記湿式処理に一度用いられた薬液を吐出して上記湿式処理を行い、上記基板回転手段によって上記基板を回転させることにより上記一度用いられた薬液を上記基板から除去した後、上記廃棄手段により上記一度用いられた薬液を廃棄し、上記薬液吐出手段により、上記循環タンクから供給され、上記少なくとも一度用いられた薬液を上記基板に吐出して湿式処理を行い、上記基板回転手段によって上記基板を回転させることにより上記基板から上記一度用いられた薬液を除去した後、上記薬液回収手段により上記一度用いられた薬液を上記循環タンクに回収」すること、即ち、特に「循環タンクから供給され、湿式処理に一度用いられた薬液を吐出して湿式処理を行い、廃棄し、次に、上記循環タンクに回収」することにより、請求項４に係る発明は、明細書記載の「薬液の使用量を必要最小限に抑えることができるとともに、占有面積を最小限に抑えることができ、クリーンルームなどにかかるコストを低減することができる回転式湿式処理装置を得ることができる。」（訂正明細書段落【００９１】参照。）及び平成１５年１月１４日付け特許異議意見書に記載された「循環タンクに貯蔵されている薬液を長時間、高品質に維持することができ、しかも循環タンクが一つで済むとともに、第１の工程において最初の湿式処理に用いられ、汚染の度合いが高い一度用いられた薬液のみ廃棄するため薬液の使用量の低減を図ることができる」（第３頁第５〜９行）といった作用効果を奏するものと認められる。
　してみると、本件請求項４に係る発明は、甲第１号証に記載された発明と同一であるとすることはできず、甲第１号証及び甲第２号証に記載の発明から当業者が容易に発明をすることができたものとすることもできない。
〈請求項２ないし請求項３、及び請求項５ないし請求項７に係る発明について〉
　請求項２ないし請求項３に係る発明は、請求項１に係る発明の構成要件を全て含み、さらに他の構成要件を付加したものに相当するから、上記〈請求項１に係る発明について〉で説示したと同様の理由により、甲第１号証に記載された発明と同一であるとすることはできず、甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明から当業者が容易に発明をすることができたものとすることもできない。
　また、請求項５ないし請求項７に係る発明は、請求項４に係る発明の構成要件を全て含み、さらに他の構成要件を付加したものに相当するから、上記〈請求項４に係る発明について〉で説示したと同様の理由により、甲第１号証に記載された発明と同一であるとすることはできず、甲第１号証及び甲第２号証に記載の発明から当業者が容易に発明をすることができたものとすることもできない。
　
IV． むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては請求項１ないし請求項７に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に請求項１ないし請求項７に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。　
【異議決定日】
平成１５年２月５日（２００３．２．５）
【訂正の要旨】
訂正事項
　ａ．特許請求の範囲の請求項１中の「少なくとも一度用いられた薬液」を、特許請求の範囲の減縮を目的として、「一度用いられた薬液」と訂正する。
　ｂ．特許請求の範囲の請求項４中の「少なくとも一度用いられた薬液」を、特許請求の範囲の減縮を目的として、「一度用いられた薬液」と訂正する。
　ｃ．上記訂正事項ａに対応し、特許請求の範囲と発明の詳細な説明との整合を図るために、明りょうでない記載の釈明を目的として、明細書【００１５】【００１６】【００３２】【００９０】の「少なくとも一度用いられた薬液」を、「一度用いられた薬液」と訂正する。
　ｄ．上記訂正事項ｂに対応し、特許請求の範囲と発明の詳細な説明との整合を図るために、明りょうでない記載の釈明を目的として、明細書【００２２】【００９１】の「少なくとも一度用いられた薬液」を、「一度用いられた薬液」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
回転式湿式処理方法および回転式湿式処理装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　基板に薬液を吐出する薬液吐出手段と、
　上記基板を回転させる基板回転手段と、
　上記基板から除去された上記薬液を廃棄する廃棄手段と、
　上記基板から除去された上記薬液を循環タンクに回収する薬液回収手段とを用い、
　上記基板回転手段により上記基板を回転させるとともに、上記基板に上記薬液を吐出して湿式処理を行うようにした回転式湿式処理方法であって、
　少なくとも最初に、上記薬液吐出手段により、上記循環タンクから供給され、上記湿式処理に
一度
一度
一度
　上記薬液吐出手段により、上記循環タンクから供給され、上記
一度
一度
一度
　少なくとも最後に、上記薬液吐出手段により、上記湿式処理に一度も用いられていない薬液を、上記基板に吐出して湿式処理を行い、次いで、上記一度も用いられていない薬液を、上記基板回転手段によって上記基板を回転させることにより上記基板から除去した後、上記薬液回収手段により、上記一度も用いられていない薬液を上記循環タンクに回収するようにした第３の工程とを有する
　ことを特徴とする回転式湿式処理方法。
　【請求項２】　上記一度も用いられていない薬液を回収した後、上記基板に純水を吐出するようにしたことを特徴とする請求項１記載の回転式湿式処理方法。
　【請求項３】　上記湿式処理が枚葉式に行われることを特徴とする請求項１記載の回転式湿式処理方法。
　【請求項４】　基板に薬液を吐出する薬液吐出手段と、
　上記基板を回転可能に構成された基板回転手段とを有し、
　上記基板回転手段により上記基板を回転させるとともに、上記薬液吐出手段により上記基板に上記薬液を吐出して湿式処理を行うようにした回転式湿式処理装置であって、
　上記基板から除去された上記薬液を、廃棄する廃棄手段と、
　上記基板から除去された上記薬液を、循環タンクに回収する薬液回収手段とを有し、
　少なくとも最初に、上記薬液吐出手段により、上記循環タンクから供給され、上記湿式処理に
一度
一度
一度
　上記薬液吐出手段により、上記循環タンクから供給され、上記
一度
一度
一度
　少なくとも最後に、上記薬液吐出手段により、上記湿式処理に一度も用いられていない薬液を上記基板に吐出して上記湿式処理を行い、上記基板回転手段によって上記基板を回転させることにより上記一度も用いられていない薬液を上記基板から除去した後、上記薬液回収手段により上記一度も用いられていない薬液を上記循環タンクに回収するように構成されている
　ことを特徴とする回転式湿式処理装置。
　【請求項５】　上記基板から除去された上記薬液を所定の経路で上記薬液吐出手段にまで循環させる薬液循環手段を有することを特徴とする請求項４記載の回転式湿式処理装置。
　【請求項６】　上記基板に純水を吐出する純水吐出手段を有することを特徴とする請求項４記載の回転式湿式処理装置。
　【請求項７】　上記回転式湿式処理装置が枚葉式であることを特徴とする請求項４記載の回転式湿式処理装置。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　この発明は、回転式湿式処理方法および回転式湿式処理装置に関し、特に、基板を回転させるとともに、基板に薬液を吐出して行う湿式処理に適用して好適なものである。
　【０００２】
　【従来の技術】
　近年、液晶ディスプレイをはじめプラズマディスプレイなど、いわゆるフラットパネルディスプレイはブラウン管方式に一部取って代わりつつあり、パーソナルコンピューター用モニターとして、あるいは壁掛けのテレビジョン受像機として、実用化が図られつつある。これに伴い、パネルサイズは大型化する傾向にある。このことを生産の観点から見ると、大きなサイズのパネルをより安く供給するためには、１枚の基板からとれるパネル数（理論収率）を上げることが最も効果的である。したがって、基板のサイズは大型化する一方である。
　【０００３】
　さて、パネルの製造工程においては、配線や電極などを形成する際、いずれの場合においても、基板上にフォトレジストを塗布し、フォトマスクを介して紫外光を照射しパターンを転写し、現像、エッチングおよびレジスト剥離を行う、いわゆるフォトリソグラフィーの技術が用いられる。また、シリコン（Ｓｉ）を用いたアクティブマトリクス方式の液晶ディスプレイの製造工程においては、金属膜とＳｉ膜と間の良好な電気的接触を確保すべく、希フッ酸（ＨＦ）を用いた自然酸化膜の除去（ライトエッチング）が行われる。
　【０００４】
　上述のような現像、湿式エッチング、レジスト剥離およびライトエッチングなどの湿式処理は、基板サイズの拡大の変遷の中で、基板をロット単位で薬液に浸漬するバッチ式から、基板を一定のタクトで槽から槽へ１枚ずつ搬送して、薬液に浸漬する処理や薬液をシャワー状に吐出する処理などを行う、枚葉式へと移り変わってきた。
　【０００５】
　ここで、この枚葉式の湿式処理装置の一例とその湿式処理装置を用いた基板の湿式処理の一例とについて説明する。
　【０００６】
　すなわち、従来の枚葉式の湿式処理装置は、図４に示すように、基板１０１の湿式処理を行う第１の処理槽１０２と第２の処理槽１０３とを有する。
　【０００７】
　この湿式処理装置の第１の処理槽１０２においては、循環タンク１０４の内部の薬液を、薬液ライン１０５に設けられたポンプ１０６によって、薬液ライン１０５を通じて薬液ノズル１０７に供給し、そこから吐出するとともに、循環タンク１０４の内部の薬液を、薬液ライン１０８に設けられたポンプ１０９によって、薬液ライン１０８を通じてアップフローさせ、第１の処理槽１０２の内部に供給する。これにより、基板１０１の湿式処理を行う。なお、第１の処理槽１０２の内部の薬液は、基板１０１が浸漬する程度に保たれている。一方、第１の処理槽１０２の内部において基板１０１の湿式処理に用いられる薬液は、回収ライン１１０を通じて循環タンク１０４に戻される。第１の処理槽１０２における湿式処理が終了した後、搬送機構１１１により基板１０１は第１の処理槽１０２から搬出され、続いて第２の処理槽１０３に搬入される。
　【０００８】
　第２の処理槽１０３においては、第１の処理槽１０２における基板１０１の湿式処理と同様にして、循環タンク１１２の内部の薬液を、薬液ライン１１３に設けられたポンプ１１４によって、薬液ライン１１３を通じて薬液ノズル１１５に供給し、そこから吐出するとともに、循環タンク１１２の内部の薬液を、薬液ライン１１６に設けられたポンプ１１７によって、薬液ライン１１６を通じて第２の処理槽１０３の内部にアップフローさせ、第２の処理槽１０３の内部に供給することにより、基板１０１の湿式処理を行う。なお、第２の処理槽１０３の内部の薬液は、基板１０１が浸漬する程度に保たれている。一方、第２の処理槽１０３の内部において基板１０１の湿式処理に用いられる薬液は、回収ライン１１８を通じて、循環タンク１１２に戻される。第２の処理槽１０３における湿式処理が終了した後、搬送機構１１１により基板１０１は第２の処理槽１０３から搬出される。
　【０００９】
　以上のようにして枚葉式の湿式処理装置による基板１０１の湿式処理が行われる。
　【００１０】
　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら、上述の従来の湿式処理方法および湿式処理装置においては、次のような問題があった。
　【００１１】
　すなわち、枚葉式の湿式処理装置を用いて、基板の湿式処理を行う場合、１枚の基板を処理するのに必要な薬液の量はその基板の面積に比例する。さらに、所定のタクトで次々に湿式処理を行うためには、基板の１枚あたりの湿式処理に必要な時間を、タクト時間で割った値だけの処理槽が必要となる。いまや、基板の大きさはメートル角級に迫りつつあり、上述の、基板１０１を１枚ずつ第１の処理槽１０２から第２の処理槽１０３に順次搬送するなどといった、いわゆる平流し式の湿式処理装置では、薬液の使用量が指数的に増大してしまい、コストや廃液処理の面で破綻をきたすことになる。また、湿式処理装置の占有面積は処理槽の数が増加するに伴って大きくなるため、この占有面積の増加によって湿式処理装置が配置されるクリーンルームの維持費などのコストが増加してしまう。
　【００１２】
　そのため、湿式処理においては、薬液の使用量を必要最小限に抑えつつ、湿式処理装置の占有面積を最小限に抑える技術が強く望まれていた。
　【００１３】
　したがって、この発明の目的は、湿式処理に用いられる薬液の使用量を低減し、その使用量を必要最小限に抑えることができる回転式湿式処理方法を提供することにある。
　【００１４】
　また、この発明の他の目的は、薬液の使用量を必要最小限に抑えることができるとともに、占有面積を最小限に抑えることができ、クリーンルームなどにかかるコストを低減することができる回転式湿式処理装置を提供することにある。
　【００１５】
　【課題を解決するための手段】
　目的を達成するために、この発明の第１の発明は、
　基板に薬液を吐出する薬液吐出手段と、
　基板を回転させる基板回転手段と、
　基板から除去された薬液を廃棄する廃棄手段と、
　基板から除去された薬液を循環タンクに回収する薬液回収手段とを用い、
　基板回転手段により基板を回転させるとともに、基板に薬液を吐出して湿式処理を行うようにした回転式湿式処理方法であって、
　少なくとも最初に、薬液吐出手段により、循環タンクから供給され、湿式処理に
一度
一度
一度
　薬液吐出手段により、循環タンクから供給され、
一度
一度
一度
　少なくとも最後に、薬液吐出手段により、湿式処理に一度も用いられていない薬液を、基板に吐出して湿式処理を行い、次いで、一度も用いられていない薬液を、基板回転手段によって基板を回転させることにより基板から除去した後、薬液回収手段により、一度も用いられていない薬液を循環タンクに回収するようにした第３の工程とを有する
　ことを特徴とするものである。
　【００１６】
　この第１の発明において、好適には、一度も用いられていない薬液を回収した後、基板の洗浄を行うために、基板に純水を吐出する。なお、洗浄を行った後の基板に付着した純水の廃棄は、好適には、
一度
　【００１７】
　【００１８】
　この第１の発明において、基板の回転は、好適には、その基板の面に対して法線方向を軸とした回転であり、より好適には、基板の面に対する法線方向のうち、基板の中心を通るものを軸とした回転である。
　【００１９】
　【００２０】
　この第１の発明において、好適には、第１の薬液および／または第２の薬液を基板に吐出して湿式処理を行った後、これらの湿式処理に用いられた薬液を濾過して清浄化し、第１の薬液として基板の湿式処理に用いる。
　【００２１】
　この第１の発明において、典型的には、湿式処理は枚葉式に行われる。
　【００２２】
　この発明の第２の発明は、
　基板に薬液を吐出する薬液吐出手段と、
　基板を回転可能に構成された基板回転手段とを有し、
　基板回転手段により基板を回転させるとともに、薬液吐出手段により基板に薬液を吐出して湿式処理を行うようにした回転式湿式処理装置であって、
　基板から除去された薬液を、廃棄する廃棄手段と、
　基板から除去された薬液を、循環タンクに回収する薬液回収手段とを有し、
　少なくとも最初に、薬液吐出手段により、循環タンクから供給され、湿式処理に
一度
一度
一度
　薬液吐出手段により、循環タンクから供給され、
一度
一度
一度
　少なくとも最後に、薬液吐出手段により、湿式処理に一度も用いられていない薬液を基板に吐出して湿式処理を行い、基板回転手段によって基板を回転させることにより一度も用いられていない薬液を基板から除去した後、薬液回収手段により一度も用いられていない薬液を循環タンクに回収するように構成されている
　ことを特徴とするものである。
　【００２３】
　この第２の発明において、湿式処理装置は、典型的には、基板を回転させる基板回転手段を有し、基板回転手段により基板を回転させるとともに、薬液吐出手段により基板に薬液を吐出するように構成されている。
　【００２４】
　この第２の発明において、好適には、除去手段は、基板を回転させることにより、基板から薬液を除去するように構成されている。
　【００２５】
　【００２６】
　この第２の発明において、典型的には、薬液吐出手段により基板に吐出された第１の薬液のうち、少なくとも最初に基板に吐出された第１の薬液を、基板から除去した後、廃棄手段により廃棄するように構成されている。なお、廃棄手段は、純水などの液体を廃棄することも可能である。
　【００２７】
　【００２８】
　この第２の発明において、湿式処理装置は、典型的には、薬液吐出手段により基板に吐出された薬液を基板から除去する除去手段と、除去手段により基板から除去された薬液を所定の経路で薬液吐出手段にまで循環させる薬液循環手段とを有する。
　【００２９】
　この第２の発明において、好適には、基板の純水リンスを行うために、基板に純水を吐出するようにした純水吐出手段を有する。なお、基板に吐出され付着した純水は、基板を回転させることにより、基板から除去するようにする。
　【００３０】
　この第２の発明において、より好適には、基板の湿式処理に用いられた第１の薬液および／または第２の薬液を濾過し、清浄化するようにした薬液清浄化手段を有する。
　【００３１】
　この第２の発明において、典型的には、湿式処理装置は枚葉式であるが、必要に応じて、例外的に、湿式処理装置として、バッチ式の湿式処理装置を用いてもよい。
　【００３２】
　上述のように構成されたこの発明の第１および第２の発明によれば、少なくとも最初に、薬液吐出手段により、循環タンクから供給され、湿式処理に
一度
一度
一度
一度
一度
一度
　【００３３】
　【発明の実施の形態】
　以下、この発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、以下の実施形態の全図においては、同一または対応する部分には同一の符号を付す。
　【００３４】
　まず、この発明の第１の実施形態による湿式処理装置について説明する。図１はこの第１の実施形態による湿式処理装置を示す。
　【００３５】
　この第１の実施形態による湿式処理装置においては、図１に示すように、新液タンク１、循環タンク２および湿式処理部３から構成されている。新液タンク１は、基板４の湿式処理に一度も用いられていない薬液、いわゆる未使用薬液を貯蔵するためのものであり、その容量は例えば４０１である。循環タンク２は、湿式処理装置内の後述する所定の経路を循環し、基板４の湿式処理に少なくとも一度用いられた薬液、いわゆる循環薬液を貯蔵するためのものであり、その容量は例えば６０１である。湿式処理部３は、基板４に対して、例えばレジストパターンの剥離の処理などの湿式処理を行うためのものである。
　【００３６】
　新液タンク１には薬液ライン５が接続されており、薬液ライン５にはポンプ６が設けられている。また、薬液ライン５は途中で薬液ライン５ａおよび薬液ライン５ｂに分岐されている。新液タンク１は、薬液ライン５および薬液ライン５ａを通じて湿式処理部３における薬液吐出部７に接続されているとともに、薬液ライン５および薬液ライン５ｂを通じて、後述する薬液ライン８ｂに接続されこれを通じてテーブル中央ノズル１０に接続されている。ポンプ６は、新液タンク１の内部に貯蔵されている未使用薬液を、薬液ライン５ａを通じて薬液吐出部７に供給するためのものであるとともに、薬液ライン５ｂおよび後述する薬液ライン８ｂを通じてテーブル中央ノズル１０に供給するためのものである。
　【００３７】
　また、循環タンク２には薬液ライン８が接続されている。この薬液ライン８には、ポンプ９が設けられている。また、薬液ライン８は途中で分岐されており、一方の薬液ライン８ａが薬液ライン５ａの途中に接続されているとともに、他方の薬液ライン８ｂが後述するカップ内回転テーブルの中心軸の内部を通じて、テーブル中央ノズル１０に接続されている。ポンプ９は、循環タンク２内の循環薬液を、薬液ライン８ａおよび薬液ライン５ａを通じて薬液吐出部７に供給するためのものであるとともに、薬液ライン８ｂを通じて、テーブル中央ノズル１０に供給するためのものである。
　【００３８】
　また、湿式処理部３は、カップ１１、カップ内回転テーブル１２、薬液吐出部７および廃液部１３から構成されている。
　【００３９】
　カップ１１は、基板４に吐出され基板４から除去された薬液を回収または廃棄するためのものであり、その底面は中央部が高く周辺部が中央部と比較して低い形状、いわゆる山状に形成されているとともに、その側壁面は円筒状の部分とその上方の内側に向けてつば状にせり出した部分とから構成されている。また、カップ１１の底面の周辺部には回収ライン１４が接続されており、この回収ライン１４によってカップ１１と循環タンク２とが接続されている。回収ライン１４は、基板４から除去された薬液をカップ１１内から循環タンク２に戻すためのものである。
　【００４０】
　カップ１１の内部には、円筒状の側壁１１ａがさらに設けられており、この円筒状の側壁１１ａとカップ１１の側壁面とにより、廃液部１３が構成されている。また、廃液部１３においては、カップ１１の側壁面のつば状にせり出した部分の上端と円筒状の側壁１１ａの上端とにより、分離孔１３ａが構成されている。廃液部１３の底面には廃液ライン１５が接続されており、分離孔１３ａを通じて廃液部１３の内部に入った薬液を、廃液ライン１５を通じて廃棄可能に構成され、これらの廃液部１３と廃液ライン１５とにより薬液の廃棄手段が構成されている。また、分離孔１３ａを覆うようにして上下に移動可能な分離シャッター１６が設けられている。分離シャッター１６は分離孔１３ａの開閉を行うためのものであり、分離シャッター１６を上方に移動することにより分離孔１３ａを開けることができるようになっている。なお、点線は、分離シャッター１６を上方に移動させ、分離孔１３ａを開けたときの分離シャッター１６の位置を示す。
　【００４１】
　カップ内回転テーブル１２は、その中心軸がカップ１１の中央部に位置して設けられている。また、カップ内回転テーブル１２の上部は例えばガラス基板や半導体ウェーハなどの基板４を保持することができるようになっている。また、カップ内回転テーブル１２は、基板４をその面の中心の法線方向を軸として回転させることができるようになっている。
　【００４２】
　薬液吐出部７は、カップ内回転テーブル１２の上方に設けられている。この薬液吐出部７は、カップ内回転テーブル１２上に基板４を載置したときに、その上面から例えば１５ｃｍの高さの位置に設けられている。また、薬液吐出部７は薬液ノズル７ａ、７ｂを有する。薬液ノズル７ａは基板４のほぼ中心の上方、すなわちカップ内回転テーブル１２のほぼ中心の上方に設けられている。また、薬液ノズル７ｂは薬液ノズル７ａと同じ高さで、かつ、薬液ノズル７ａから例えば２７ｃｍ程度離れた位置に設けられている。
　【００４３】
　次に、上述のように構成された湿式処理装置を用いた基板上のレジストパターンの剥離の工程について説明する。
　【００４４】
　まず、縦横の寸法が例えば５５０ｍｍ×６５０ｍｍ、厚さが例えば０．７ｍｍの角型のガラス基板からなる基板４上に露光テスト用のレジストパターン（図示せず）を形成した後、例えば１１０℃の温度でポストベーキング処理を行う。このレジストパターンの膜厚は例えば１．６μｍである。次に、図１に示すように、この基板４をカップ内回転テーブル１２上に載置するとともに、分離シャッター１６を上方に移動させることにより、分離孔１３ａが開けられた状態にする。
　【００４５】
　次に、カップ内回転テーブル１２をその中心軸のまわりに例えば６０ｒｐｍの回転数で回転させることにより、基板４を同様の回転数で回転させる。カップ内回転テーブル１２および基板４の回転が安定した後、ポンプ９を作動させることにより、循環タンク２に貯蔵されている、レジストパターンの剥離の工程に少なくとも一度用いられたシンナー（以下、循環シンナー）を、薬液ライン８ａ、８ｂを通じてそれぞれ薬液吐出部７およびテーブル中央ノズル１０に供給し、それぞれ薬液ノズル７ａ、７ｂおよびテーブル中央ノズル１０から基板４に吐出する。ここで、薬液ノズル７ａ、７ｂおよびテーブル中央ノズル１０から吐出される循環シンナーの量は合計で例えば１００ｃｃである。
　【００４６】
　基板４に吐出された循環シンナーには基板４の回転による遠心力が作用する。これによって、循環シンナーは基板４に対して放射状に広がる。そして、この広がった循環シンナーと基板４上のレジストとが反応し、レジストパターンが除去される。その後、基板４上のレジストとの反応が終了した循環シンナーは、基板４から放射状に除去され、分離孔１３ａを通じて廃液部１３に回収される。ここで、基板４に吐出された循環シンナーのうち、その９５％以上は分離孔１３ａを通じて廃液部１３に回収され、廃液ライン１５を通じて廃棄される。その後、分離シャッター１６を下方に移動させることにより分離孔１３ａを閉じる。
　【００４７】
　続いて、ポンプ９を再び作動させることにより、循環タンク２内の循環シンナーを、薬液ノズル７ａ、７ｂおよびテーブル中央ノズル１０から基板４に吐出する。基板４に吐出された循環シンナーは、上述と同様にして、基板４に対して放射状に広がり、基板４上のレジストと反応する。その後、レジストとの反応が終了した循環シンナーは基板４から放射状に除去され、カップ１１の底面に流れ落ちる。カップ１１の底面に流れ落ちた循環シンナーは回収ライン１４を通じて循環タンク２に回収される。ここで、薬液ノズル７ａ、７ｂおよびテーブル中央ノズル１０から吐出される循環シンナーの量は合計で例えば２ｌ（２０００ｃｃ）である。
　【００４８】
　薬液ノズル７ａ、７ｂおよびテーブル中央ノズル１０からの循環シンナーの吐出が終了した後、カップ内回転テーブル１２および基板４の回転数を６０ｒｐｍに保ったままの状態でポンプ６を作動させる。これにより、新液タンク１内に貯蔵された、レジストパターンの剥離の工程に一度も用いられていないシンナー（以下、未使用シンナー）を、薬液ライン５および薬液ライン５ａを通じて薬液吐出部７に供給し薬液ノズル７ａ、７ｂから吐出するとともに、薬液ライン５および薬液ライン５ｂを通じてテーブル中央ノズル１０から吐出する。ここで、薬液ノズル７ａ、７ｂおよびテーブル中央ノズル１０から吐出される未使用シンナーの量は、廃棄された循環シンナーの量とほぼ同量とし、合計で例えば１００ｃｃとする。
　【００４９】
　未使用シンナーの吐出が終了した後、カップ内回転テーブル１２の回転数を例えば８００ｒｐｍに上昇させることにより、基板４を同様の回転数で回転させ、この状態を例えば約２０秒間保持する。このとき、基板４に付着した未使用シンナーには遠心力が作用し、未使用シンナーは基板４から除去される。これによって、基板４の乾燥が行われる。また、基板４から除去された未使用シンナーは、カップ１１の底面に流れ落ちた後、回収ライン１４を通じて循環タンク２に回収される。なお、この回収された未使用シンナーは、後に行われる別の基板上のレジストパターンの剥離の工程において循環シンナーとして用いられる。
　【００５０】
　その後、所定の搬出装置（図示せず）により基板４を湿式処理装置の外部に搬出し、基板４上のレジストパターンの剥離の工程を終了する。
　【００５１】
　上述した基板４上のレジストパターンの剥離の工程においては、基板４の１枚あたりの処理時間は約９０秒間であり、未使用シンナーの使用量は１００ｃｃ程度である。これに対し、例えば、薬液に基板を浸漬する槽や基板にシャワー状に薬液を吐出する槽といった、２つの槽を有する標準的な構成の従来の平流し式の湿式処理装置を用いて、基板上のレジストパターンの剥離を行う場合、２つの槽におけるシンナーが貯蔵されているタンクの容量は合計で２００ｌである。ここで、この従来の平流し式の湿式処理装置において、レジストパターンの剥離が行われた後、基板に付着したシンナーが完全に除去されて別の処理槽に搬送されると仮定しても、すなわち、２つの槽の２番目の槽から別の処理を行う槽へのシンナーの持ち出しが０ｃｃであると仮定しても、タンクに貯蔵されたシンナーを、２０００枚の基板にわたってレジストパターンの剥離を行うごとに交換するといった交換頻度にしない限り、基板１枚あたりのシンナーの使用量はこの第１の実施形態によるシンナーの使用量（１００ｃｃ）より多くなってしまう。ところが、このように、シンナーの交換を２０００枚の基板を処理したごとに行おうとすると、２０００枚もの基板にわたってそれらの基板上のレジストパターンの剥離に用いられたシンナーは、レジストの固形分などを多量に含んでいるため、レジストパターンの剥離を行った基板にしみや残渣などが残ってしまい、その基板の品質が損なわれてしまう。そのため、従来の平流し式の湿式処理装置において、シンナーの交換は、２０００枚の基板を処理するごとに行われることはなく、実際には、より少ない枚数で行われる。したがって、従来の平流し式の湿式処理装置における基板１枚あたりのシンナーの使用量に対して、この第１の実施形態による湿式処理装置における基板１枚あたりのシンナーの使用量は少なくなる。また、従来の平流し式の湿式処理装置のタンクの容量が２００ｌであるのに対し、この第１の実施形態による湿式処理装置の新液タンク１の容量が４０ｌ、循環タンク２の容量が６０ｌであり、これらを合わせてもタンクの容量を格段に少なくすることができる。
　【００５２】
　以上説明したように、この第１の実施形態によれば、基板４に循環シンナーを吐出して基板４上のレジストパターンの剥離を行い、この最初のレジストパターンの剥離に用いられた循環シンナーを廃棄し、最後に、この廃棄された循環シンナーとほぼ同量の未使用シンナーを吐出して、レジストパターンの剥離の仕上げの処理を行っていることにより、シンナーの使用量を、基板に吐出される未使用シンナーの量、すなわち、廃棄された循環シンナーの量のみとすることができる。そのため、レジストパターンの剥離に用いられるシンナーの量を低減することができるので、貯蔵するシンナーの量を低減することができる。また、レジストパターンの剥離の工程において、レジストの含有率が最も大きいシンナーが廃棄され、レジストの含有率が最も小さいシンナーが回収、循環されて再度用いられるため、循環タンク２内のシンナーの品質の劣化を最小限に抑えることができ、シンナーを高品質の状態で長時間維持することができるので、従来と比較して貯蔵されているシンナーの交換頻度を格段に少なくすることができる。また、基板４を高い回転数で回転させていることにより、基板４に付着したシンナーをほぼ完全に除去することができるので、純水による置換を行う槽を別に設ける必要がなく、湿式処理装置の占有面積を最小限に抑えることができる。
　【００５３】
　次に、この発明の第２の実施形態による湿式処理装置について説明する。図２はこの第２の実施形態による湿式処理装置を示す。
　【００５４】
　図２に示すように、この第２の実施形態による湿式処理装置においては、第１の実施形態と同様に、新液タンク１、循環タンク２および基板処理部３を有する。ここで、新液タンク１および循環タンク２については第１の実施形態と同様であるので、説明は省略する。
　【００５５】
　この第２の実施形態による湿式処理装置の基板処理部３は、基板４に対して湿式処理を行うためのものであり、カップ１１、カップ内回転テーブル１２、薬液吐出部７および純水吐出部２１からなる。
　【００５６】
　カップ１１は、基板４に吐出され基板４から除去された薬液を回収または廃棄するためのものであり、その底面は中央部が高く周辺部が中央部と比較して低い形状、いわゆる山状に形成されているとともに、その側壁面は円筒状の部分とその上部に内側に向けてつば状にせり出した部分とから構成されている。また、カップ１１の内部にはさらに円筒状の側壁１１ａが設けられており、この円筒状の側壁１１ａとカップ１１の側壁面とにより、薬液回収部２２が構成されている。薬液回収部２２はその底面で回収ライン２３に接続されており、薬液回収部２２はこの回収ライン２３を通じて循環タンク２に接続されている。また、カップ１１の側壁面における内側にせり出した部分の上端と、側壁１１ａの上端とにより分離孔２２ａが構成されている。また、カップ１１は、壁面１１ａの内側における底面の周辺部において廃液ライン２４に接続されている。また、このカップ１１は全体が上下に移動可能に構成されており、点線はカップ１１を下降させたときのカップ１１の位置を示す。
　【００５７】
　カップ内回転テーブル１２は、その中心軸がカップ１１の中央部に位置して設けられている。また、カップ内回転テーブル１２の上部は基板を保持することができるようになっている。また、カップ内回転テーブル１２は、基板４をその面の中心の法線方向を軸として回転させることができるようになっている。
　【００５８】
　カップ内回転テーブル１２の中心軸の内部には純水ライン２５ａが接続されており、その中心軸の上部の純水ライン２５ａの一端にはテーブル中央純水ノズル２６が設けられている。なお、純水ライン２５ａは後述する純水ライン２５の分岐された一方のラインである。また、カップ内回転テーブル１２の上方には、カップ内回転テーブル１２上に基板４を載置したときに基板４の上面から例えば１５ｃｍの高さの位置に薬液吐出部７が設けられている。薬液吐出部７は、例えば５°〜１０°の範囲内で回転可能に構成された薬液供給バー２７に設けられている。薬液吐出部７における薬液ノズル７ａは薬液供給バー２７の一端の近傍に設けられており、薬液供給バー２７を必要な角度だけ回転させることにより、薬液ノズル７ａがほぼカップ内回転テーブル１２の中心軸の上方、すなわち基板４のほぼ中心の上方に位置することができるようになっている。また、薬液ノズル７ｂ、７ｃは薬液ノズル７ａから薬液供給バー２７に沿ってそれぞれ例えば１２ｃｍ、２７ｃｍの位置に設けられている。
　【００５９】
　また、薬液供給バー２７は薬液ライン５、８に接続されている。すなわち、薬液供給バー２７は、薬液ライン５を通じて新液タンク１に接続されているとともに、薬液ライン５に接続された薬液ライン８を通じて循環タンク２に接続されている。ここで、薬液ライン５、８にはそれぞれ第１の実施形態におけると同様のポンプ６、９が設けられている。
　【００６０】
　また、カップ内回転テーブル１２の上方にはさらに純水吐出部２１が設けられている。この純水吐出部２１は基板４にリンス用の純水を吐出するためのものであり、純水ライン２５ｂに接続されている。なお、純水ライン２５ｂは純水ライン２５の分岐した一方のラインであり、他方のラインは上述した純水ライン２５ａであり、これらの純水ライン２５ａ、２５ｂは純水ライン２５を通じて例えば純水供給装置（図示せず）などに接続されている。
　【００６１】
　また、純水ノズル２１ａは純水ライン２５ｂの一端の近傍に設けられており、純水ノズル２１ｂ、２１ｃはそれぞれ純水ノズル２１ａから純水供給ライン２５ｂに沿って例えば１２ｃｍ、２７ｃｍの位置に設けられている。
　【００６２】
　次に、上述のように構成された第２の実施形態による湿式処理装置を用いた基板上のレジストパターンの剥離の工程について説明する。
　【００６３】
　まず、第１の実施形態と同様にして基板４上にレジストパターンを形成した後、この基板４をカップ内回転テーブル１２上に載置する。このとき、カップ１１は上方に移動されており、薬液回収部２２の分離孔２２ａの下端の高さが基板４の面の高さより高くなる状態とする。次に、カップ内回転テーブル１２をその中心軸のまわりに回転させることにより基板４を回転させる。ここで、カップ内回転テーブル１２および基板４の回転数は例えば６０ｒｐｍである。これらのカップ内回転テーブル１２および基板４の回転が安定した後、ポンプ９を作動させることにより、循環タンク２から、レジストパターンの剥離の工程に少なくとも一度用いられた有機アルカリ系剥離液などの剥離液（以下、循環剥離液）を、薬液ライン８および薬液供給バー２７を通じて薬液吐出部７に供給し、薬液ノズル７ａ、７ｂ、７ｃから吐出する。ここで、薬液ノズル７ａ、７ｂ、７ｃから吐出される循環剥離液の量は合計で例えば２００ｃｃである。基板４に吐出された循環剥離液には基板４の回転による遠心力が作用し、循環剥離液は基板４上で放射状に広がる。そして、この放射状に広がった循環剥離液と、基板４上のレジストとが反応する。その後、レジストを含んだ循環剥離液は基板４から放射状に除去され、側壁１１ａの内壁面に沿って流れ落ち、廃液ライン２４を通じて廃棄される。このとき、基板４上のレジストパターンはほとんど剥離されている。
　【００６４】
　次に、カップ１１を下降させ、分離孔２２ａの中央の高さと基板４の上面の高さとをほぼ同じ高さにする。その後、ポンプ９を再び作動させることにより、循環剥離液を循環タンク２から薬液ライン８および薬液供給バー２７を通じて薬液吐出部７に供給し、薬液ノズル７ａ、７ｂ、７ｃから吐出させる。この薬液ノズル７ａ、７ｂ、７ｃからの循環剥離液の吐出は例えば９０秒間行う。このとき、基板４上の循環剥離液には基板４の回転による遠心力が作用し、循環剥離液は基板４から放射状に除去される。この除去された循環剥離液のうち、その９５％以上は分離孔２２ａを通じて薬液回収部２２に回収され、その底面に流れ落ち、回収ライン２３を通じて、循環タンク２に戻される。
　【００６５】
　循環剥離液の吐出が終了した後、続いて、ポンプ６を作動させることにより、レジストパターンの剥離の工程に一度も用いられていない剥離液（以下、未使用剥離液）を、新液タンク１から薬液ライン５および薬液供給バー２７を通じて薬液吐出部７に供給し、薬液ノズル７ａ、７ｂ、７ｃから吐出する。ここで、薬液ノズル７ａ、７ｂ、７ｃから吐出される未使用剥離液の量は、廃棄された循環剥離液の量とほぼ同量とし、合計で例えば２００ｃｃである。基板４に吐出された未使用剥離液には基板４の回転による遠心力が作用し、未使用剥離液は基板４上を放射状に広がる。この未使用剥離液によって、基板４上において、レジストパターンの剥離の仕上げの処理が行われる。その後、未使用剥離液は基板４上から放射状に除去され、分離孔２２ａを通じて薬液回収部２２に入り、回収ライン２３を通じて循環タンク２に供給され、回収される。なお、この回収された未使用剥離液は、他の基板上のレジストパターンの剥離において、循環剥離液として再利用される。
　【００６６】
　次に、カップ内回転テーブル１２の回転数を例えば５００ｒｐｍに上昇させることにより、基板４を同様の回転数で回転させる。これにより、基板４に残留した未使用剥離液はほぼ完全に除去される。これとともに、カップ１１を所定の高さ分上昇させ、最初の状態（図２において実線で示す状態）とする。
　【００６７】
　次に、カップ内回転テーブル１２の回転数を例えば６０ｒｐｍに戻し、基板４も同様の回転数とした後、純水ノズル２１ａ、２１ｂ、２１ｃおよびテーブル中央純水ノズル２６から基板４の両面に純水を吐出することにより、基板４の純水リンスを行う。この純水ノズル２１ａ、２１ｂ、２１ｃおよびテーブル中央純水ノズル２６からの純水の吐出は例えば約９０秒間行う。
　【００６８】
　次に、カップ内回転テーブル１２の回転数を例えば１０００ｒｐｍに上昇させることにより基板４を同様の回転数で回転させ、この状態を約２０秒間保持する。これにより、基板４の乾燥処理が行われる。その後、カップ内回転テーブル１２を停止させ、基板４を停止させる。
　【００６９】
　その後、所定の搬出装置（図示せず）により基板４を湿式処理装置の外部に搬出し、基板４上のレジストパターンの剥離の工程を終了する。
　【００７０】
　この第２の実施形態による湿式処理装置を用いた基板４上のレジストパターンの剥離における未使用剥離液の使用量は、廃棄された循環剥離液の量とほぼ同量であり、基板４の１枚あたり約２００ｃｃである。これに対し、レジストパターンの剥離の処理を行う２つの槽を有する標準的な構成の従来の平流し式の湿式処理装置においては、剥離液が貯蔵されるタンクの容量が合計３００ｌであり、さらにレジストパターンの剥離の処理を行う２つ目の槽から別の処理を行う槽への剥離液の持ち出しが約２００ｃｃ程度であるため、２０００枚の基板上のレジストパターンの剥離を行うごとにタンク内の剥離液を交換すると仮定しても、剥離液の使用量は基板１枚当たり３５０ｃｃとなり、この第２の実施形態による湿式処理装置における基板４の１枚あたりの剥離液の使用量（２００ｃｃ）より多い。すなわち、第２の実施形態による湿式処理装置を用いて基板４上のレジストパターンの剥離を行う場合は、従来の平流し式の湿式処理装置を用いて基板上のレジストパターンの剥離を行う場合より、その剥離液の使用量を低減することができる。
　【００７１】
　以上説明したように、この第２の実施形態によれば、基板４上に最初に吐出される循環剥離液を、基板４上から除去した後に廃棄し、最後に未使用剥離液を基板４に吐出して基板４上のレジストパターンの剥離を行っていることにより、第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。また、この第２の実施形態による湿式処理装置が、基板４のレジストパターンの剥離および純水リンスを同一のカップ１１内で行うことができるように構成されていることにより、純水リンスを行う槽を別に設ける必要がないため、湿式処理装置の占有面積を減少させることができ、クリーンルームにかかるコストの低減を図ることができる。
　【００７２】
　次に、この発明の第３の実施形態による湿式処理装置について説明する。図３はこの第３の実施形態による湿式処理装置を示す。
　【００７３】
　図３に示すように、この第３の実施形態による湿式処理装置においては、第１の実施形態と同様に新液タンク１、循環タンク２および基板処理部３を有する。ここで、新液タンク１および循環タンク２については第１の実施形態と同様であるので、説明は省略する。
　【００７４】
　この第３の実施形態による湿式処理装置の基板処理部３は、基板４に対して湿式処理を行うためのものであり、カップ１１、カップ内回転テーブル１２、薬液吐出部７および純水吐出部２１からなる。
　【００７５】
　カップ１１は、基板４に吐出され基板４から除去された薬液を回収または廃棄するためのものであり、その底面は中央部が高く周辺部が中央部に対して低い形状、いわゆる山状に形成されているとともに、その側壁面は円筒状の部分とその上部に内側に向けてつば状にせり出した部分とから構成されている。また、カップ１１の底面における周辺部には、廃液／回収ライン３１が接続されている。廃液／回収ライン３１はその途中で分岐されている。この分岐された廃液／回収ライン３１のうち、一方の回収ライン３２は循環タンク２に接続され、他方の廃液ライン３３は分離バルブ３４を介して、所定の廃液処理装置（図示せず）に接続されている。この第３の実施形態における湿式処理装置のその他の構成は第２の実施形態と同様であるので、説明は省略する。
　【００７６】
　次に、上述のように構成されたこの第３の実施形態による湿式処理装置を用いた自然酸化膜の除去の工程について説明する。
　【００７７】
　まず、第１の実施形態と同様の基板４上に、例えばプラズマ化学気相成長法により酸化シリコン（ＳｉＯ２）膜および非晶質シリコン（アモルファスＳｉ、ａ−Ｓｉ）膜（いずれも図示せず）を順次形成する。これらのＳｉＯ２膜およびａ−Ｓｉ膜の膜厚はそれぞれ例えば５００ｎｍおよび４０ｎｍである。その後、この基板４を大気中に１日間放置する。これによって、ａ−Ｓｉ膜表面に自然酸化膜が形成される。
　【００７８】
　次に、図３に示すように、この基板４を、湿式処理装置のカップ内回転テーブル１２上に載置する。次に、カップ内回転テーブル１２をその中心軸のまわりに例えば６０ｒｐｍの回転数で回転させることにより、基板４を同様の回転数で回転させるとともに、廃液ライン３３に設けられた分離バルブ３４を開ける。カップ内回転テーブル１２および基板４の回転が安定した後、薬液ライン８のポンプ９を作動させる。これにより、循環タンク２内の自然酸化膜の除去の工程に少なくとも一度用いられた例えば５％濃度の希フッ酸（ＨＦ）液（以下、循環ＨＦ液）を、薬液ライン８および薬液供給バー２７を順次通じて薬液吐出部７に供給し、薬液ノズル７ａ、７ｂ、７ｃから吐出する。この循環ＨＦ液の吐出は例えば約５秒間行われる。この基板４に吐出された循環ＨＦ液には基板４の回転による遠心力が作用し、循環ＨＦ液は基板４上を放射状に広がる。これによって、基板４の上方のａ−Ｓｉ膜表面に形成された自然酸化膜が除去される。また、自然酸化膜を除去した循環ＨＦ液は基板４上から放射状に除去される。その後、この循環ＨＦ液はカップｌｌの周辺部の底面に接続された回収／廃液ライン３１に入り、廃液ライン３３を通じて廃棄される。この循環ＨＦ液の廃棄が終了した後、廃液ライン３３の分離バルブ３４を閉じる。
　【００７９】
　次に、ポンプ９を作動させることにより、上述と同様にして、薬液ノズル７ａ、７ｂ、７ｃから循環ＨＦ液を基板４上に吐出する。この循環ＨＦ液の吐出は約１５秒間行われる。基板４上の循環ＨＦ液には基板４の回転による遠心力が作用して基板４上を放射状に広がり、ａ−Ｓｉ膜表面に残留していた自然酸化膜を除去する。また、循環ＨＦ液は基板４から放射状に除去され、カップ１１の側壁面に沿って底面に流れ落ち、回収／廃液ライン３１および回収ライン３２を通じて循環タンク２に戻される。
　【００８０】
　次に、薬液ライン５のポンプ６を作動させることにより、新液タンク１内の、自然酸化膜の除去の工程に一度も用いられていないＨＦ液（以下、未使用ＨＦ液）を薬液ライン５および薬液供給バー２７を通じて、薬液ノズル７ａ、７ｂ、７ｃから基板４に吐出する。この未使用ＨＦ液の吐出は約５秒間行われ、薬液ノズル７ａ、７ｂ、７ｃから吐出される未使用ＨＦ液の量は合計で例えば約１５０ｃｃである。基板４上に吐出された未使用ＨＦ液には基板４の回転による遠心力が作用し、未使用ＨＦ液は基板４上で放射状に広がる。これによって、自然酸化膜の除去の工程における仕上げの処理が行われる。また、未使用ＨＦ液は基板４上から放射状に除去され、カップ１１の底面に流れ落ち、回収／廃液ライン３１および回収ライン３２を通じて、循環タンク２に供給され、回収される。なお、この回収された未使用ＨＦ液は、他の基板における自然酸化膜の除去の工程において循環ＨＦ液として再利用される。
　【００８１】
　次に、廃液ライン３３に設けられた分離バルブ３４を開けた後、第２の実施形態と同様にして、純水を、純水ライン２５ｂを通じて純水吐出部２１に供給し、純水ノズル２１ａ、２１ｂ、２１ｃから吐出させるとともに、純水ライン２５ａを通じてテーブル中央純水ノズル２６から吐出させる。これによって、基板４の両面の純水リンスが行われる。この純水リンスは約６０秒間行われる。また、基板４の両面に吐出された純水には基板４の回転による遠心力が作用し、基板４に対して放射状に広がり除去される。基板４から除去された純水はカップ１１の底面に流れ落ち、回収／廃液ライン３１および廃液ライン３３を通じて廃棄される。
　【００８２】
　次に、カップ内回転テーブル１２の回転数を例えば１０００ｒｐｍに上昇させることにより、基板４を同様の回転数で回転させ、この状態を約２０秒間保持する。その後、カップ内回転テーブル１２および基板４を停止させる。これにより、基板４の乾燥処理が行われる。
　【００８３】
　その後、所定の搬出装置（図示せず）により基板４を湿式処理装置の外部に搬出し、ａ−Ｓｉ膜表面の自然酸化膜の除去の工程を終了する。
　【００８４】
　以上説明したように、この第３の実施形態によれば、最初に吐出した循環ＨＦ液を基板４から除去した後、廃棄し、最後に基板４に未使用ＨＦ液を吐出して自然酸化膜の除去の工程における仕上げの処理を行い、その未使用ＨＦ液を回収し、循環させ、循環ＨＦ液として再び使用するようにしていることにより、また、カップ１１内において基板４上のａ−Ｓｉ膜に形成された自然酸化膜を除去した後、さらに、同一のカップ１１内においてａ−Ｓｉ膜表面の自然酸化膜の除去と基板４の純水リンスとを行うようにしていることにより、第２の実施形態と同様の効果を得ることができる。また、ａ−Ｓｉ膜表面に最後に吐出されるＨＦ液が、自然酸化膜除去に一度も用いられていないものであることにより、ａ−Ｓｉ膜の表面を不純物のない清浄な表面にすることができる。
　【００８５】
　以上、この発明の実施形態について具体的に説明したが、この発明は、上述の実施形態に限定されるものではなく、この発明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
　【００８６】
　例えば、上述の実施形態において挙げた数値、材料、循環された薬液と廃棄される薬液とを分離する手段はあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる数値、材料、手段を用いてもよい。
　【００８７】
　また、例えば、上述の第３の実施形態においては、ＨＦを用いて基板４の上方のａ−Ｓｉ膜表面の自然酸化膜の除去を行っているが、例えば塩酸溶液によってＩＴＯ膜をエッチングするようにしてもよく、例えばリン酸、酢酸および硝酸の混合溶液によってアルミニウムをエッチングするようにしてもよい。
　【００８８】
　また、例えば、上述の第３の実施形態においては、分離バルブ３４が廃液ライン３３の途中に設けられているが、分離バルブ３４を回収ライン３２の途中に設けるようにしてもよく、また、分離バルブを廃液ライン３３および回収ライン３２のそれぞれに設けるようにしてもよい。そして、分離バルブが回収ライン３２および／または廃液ライン３３に設けられた場合には、分離バルブは、薬液の排出や回収に応じて、適時開閉可能に構成される。
　【００８９】
　また、例えば、上述の第１〜第３の実施形態においては、基板４としてガラス基板を用いているが、例えば液晶基板やプリント基板などであってもよい。
　【００９０】
　【発明の効果】
　以上説明したように、この発明の第１の発明による回転式湿式処理方法によれば、少なくとも最初に、薬液吐出手段により、循環タンクから供給され、湿式処理に
一度
一度
一度
一度
一度
一度
　【００９１】
　この発明の第２の発明による回転式湿式処理装置によれば、基板に薬液を吐出する薬液吐出手段と、この基板を回転可能に構成された基板回転手段とを有し、基板回転手段により基板を回転させるとともに、薬液吐出手段により基板に薬液を吐出して湿式処理を行う装置であり、基板から除去された薬液を、廃棄する廃棄手段と、基板から除去された薬液を、循環タンクに回収する薬液回収手段とをさらに有し、少なくとも最初に、薬液吐出手段により、循環タンクから供給され、湿式処理に
一度
一度
一度
一度
一度
一度
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　この発明の第１の実施形態による湿式処理装置を示す断面図である。
　【図２】
　この発明の第２の実施形態による湿式処理装置を示す断面図である。
　【図３】
　この発明の第３の実施形態による湿式処理装置を示す断面図である。
　【図４】
　従来技術による平流し式の湿式処理装置を示す断面図である。
　【符号の説明】
　１・・・新液タンク、２・・・循環液タンク、３・・・湿式処理部、４・・・基板、７・・・薬液吐出部、７ａ、７ｂ、７ｃ・・・薬液ノズル、１１・・・カップ、１１ａ・・・側壁、１２・・・カップ内回転テーブル、１６・・・分離シャッター