【手続補正書】
【提出日】平成26年12月2日(2014.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリルヒドリドと少なくとも一つの不飽和基を含有する化合物とを含有する反応混合物をヒドロシリル化するプロセスであって、そのプロセスが、
（ｉ）式（Ｉ）、式（ＩＩ）または式（ＩＩＩ）の構造式を持つ錯体である触媒前駆体を提供するステップ；
（ｉｉ）触媒前駆体と活性化剤とを溶媒、シリルヒドリド、少なくとも一つの不飽和基を含有する化合物およびそれらの組み合わせからなる群より選択される少なくとも一つの成分を含む液体媒体の存在下で接触させて触媒前駆体を活性化させることによって活性触媒を提供するステップ；
（ｉｉｉ）シリルヒドリドと少なくとも一つの不飽和基を含有する化合物とを活性触媒の存在下で反応させることによって活性触媒またはその誘導体を含むヒドロシリル化産物を製造するステップ、
ここでステップ（ｉｉ）はステップ（ｉｉｉ）の直前または同時に行う；  および
（ｉｖ）活性触媒またはその誘導体を任意に除去するステップ
を含有し、
式（Ｉ）、式（ＩＩ）および式（ＩＩＩ）は、
2013544824.tif 000001
2013544824.tif 000002
であり、
式中、
ＧがＭｎ、Ｆｅ、ＮｉまたはＣｏであり；
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３およびＲ２４の各々が独立してＨ、Ｃ１−Ｃ１８アルキル、Ｃ１−Ｃ１８置換アルキル、アリール、置換アリールまたは不活性な基であり、互いに隣接するＲ１〜Ｒ３、Ｒ３〜Ｒ７、Ｒ３〜Ｒ９、Ｒ１４〜Ｒ１５、およびＲ１７〜Ｒ１８のいずれか２つが一緒になって、置換または非置換の、飽和または不飽和の環構造である環を形成してもよく、水素以外のＲ２〜Ｒ９およびＲ１１〜Ｒ２４は少なくとも一つのヘテロ原子を有していてもよく；
Ｒ１０の各々がＣ１−Ｃ１８アルキルまたはＣ１−Ｃ１８置換アルキル、アリールまたは置換アリールであり、ここでＲ１０は少なくとも一つのヘテロ原子を有していてもよく；
Ｘがアニオンである。
【請求項２】
活性化剤が、窒素の存在下でフェロセンに対して＞−０．６ｖである還元電位を持つ還元剤である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
前記還元剤がナトリウムナフタレニド、Ｍｇ（ブタジエン）・２ＴＨＦ、ＮａＥｔ３ＢＨ、ＬｉＥｔ３ＢＨ，Ｍｇ（アントラセニド）・３ＴＨＦ、水素化ジイソブチルアルミニウムおよびそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項２に記載のプロセス。
【請求項４】
ＸがＦ−、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−、ＣＦ３Ｒ４０ＳＯ３−またはＲ５０ＣＯＯ−であり、ここでＲ４０が共有結合またはＣ１−Ｃ６アルキル基であり、Ｒ５０がＣ１−Ｃ１０ヒドロカルビル基である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項５】
式（Ｉ）、式（ＩＩ）または式（ＩＩＩ）の錯体が支持体上に固定されている、請求項１に記載のプロセス。
【請求項６】
前記支持体が、カーボン、シリカ、アルミナ、ＭｇＣｌ２、ジルコニア、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ（アミノスチレン）、デンドリマーおよびそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項５に記載のプロセス。
【請求項７】
Ｒ１〜Ｒ９またはＲ１１〜Ｒ２４の少なくとも一つが前記支持体と共有結合する官能基を含有する、請求項５に記載のプロセス。
【請求項８】
前記シリルヒドリドがＲａＳｉＨ４−ａ、（ＲＯ）ａＳｉＨ４−ａ、ＨＳｉＲａ（ＯＲ）３−ａ、Ｒ３Ｓｉ（ＣＨ２）ｆ（ＳｉＲ２Ｏ）ｋＳｉＲ２Ｈ、（ＲＯ）３Ｓｉ（ＣＨ２）ｆ（ＳｉＲ２Ｏ）ｋＳｉＲ２Ｈ、ＱｕＴｖＴｐＨＤｗＤＨｘＭＨｙＭｚ、およびそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項１に記載のプロセスであって、ここでＱがＳｉＯ４／２であり、ＴがＲ’ＳｉＯ３／２であり、ＴＨがＨＳｉＯ３／２であり、ＤがＲ’２ＳｉＯ２／２であり、ＤＨがＲ’ＨＳｉＯ２／２であり、ＭＨがＨｇＲ’３−ｇＳｉＯ１／２であり、ＭがＲ’３ＳｉＯ１／２であり、ＲおよびＲ’の各々が独立してＣ１−Ｃ１８アルキル、Ｃ１−Ｃ１８置換アルキル、アリールまたは置換アリールであり、ＲおよびＲ’は少なくとも一つのヘテロ原子を有していてもよく、ａの各々が独立して１〜３の値を持ち、ｆが１〜８の値を持ち、ｋが１〜１１の値を持ち、ｇが１〜３の値を持ち、ｐが０〜２０であり、ｕが０〜２０であり、ｖが０〜２０であり、ｗが０〜１０００であり、ｘが０〜１０００であり、ｙが０〜２０であり、そしてｚが０〜２０であり、但し、ｐ＋ｘ＋ｙ＝１〜３０００であり、シリルヒドリド内のすべての元素の原子価が飽和している。
【請求項９】
ｐ、ｕ、ｖ、ｙおよびｚが０〜１０であり、ｗおよびｘが０〜１００であり、ここでｐ＋ｘ＋ｙ＝１〜１００である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１０】
前記不飽和基を含有する化合物がアルキルキャップアリルポリエーテル、ビニル官能化アルキルキャップアリルまたはメタリルポリエーテル、末端不飽和アミン、アルキン、Ｃ２−Ｃ４０オレフィン、不飽和シクロアルキルエポキシド、末端不飽和アクリレートまたはメチルアクリレート、不飽和アリールエーテル、不飽和芳香族炭化水素、不飽和シクロアルカン、ビニル官能化ポリマー、ビニル官能化シラン、ビニル官能化シリコーンおよびそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１１】
前記不飽和基を含有する化合物が一般式：
Ｒ１（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｚ（ＯＣＨ２ＣＨＲ３）ｗ−ＯＲ２  （式ＩＶ）、
Ｒ２Ｏ（ＣＨＲ３ＣＨ２Ｏ）ｗ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｚ−ＣＲ４２−Ｃ≡Ｃ−ＣＲ４２−（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｚ（ＯＣＨ２ＣＨＲ３）ｗＲ５  （式Ｖ）  または
Ｈ２Ｃ＝ＣＲ４ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２ＯＣＨ２）ｚ（ＣＨ２ＯＣＨＲ３）ｗＣＨ２ＣＲ４＝ＣＨ２  （式ＶＩ）
を持つポリオキシアルキレンであり、
式中、Ｒ１の各々が２〜１０個の炭素原子を含有する不飽和の有機基であり、Ｒ２の各々が独立して水素、ビニルまたは１〜８個の炭素原子のポリエーテルキャップ基であり、Ｒ３およびＲ４の各々が独立して一価の炭化水素基であり、Ｒ５の各々がビニルまたは１〜８個の炭素原子のポリエーテルキャップ基であり、ｚの各々が０から１００以下であり、そしてｗの各々が０から１００以下である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１２】
請求項１に記載のプロセスによって製造される組成物であって、不飽和基を含有する化合物がアルキルキャップアリルポリエーテルであり、組成物が式（Ｉ）、（ＩＩ）または（ＩＩＩ）の錯体またはその誘導体を含み、組成物が未反応のアルキルキャップアリルポリエーテルおよびその異性化産物は基本的に含まない。
【請求項１３】
請求項１に記載のプロセスによって製造される組成物であって、不飽和基を含有する化合物が末端不飽和アミンであり、組成物が式（Ｉ）、（ＩＩ）または（ＩＩＩ）の錯体またはその誘導体を含み、組成物が未反応の末端不飽和アミンおよびその異性化産物を含まず、そして生成物が内部付加産物を基本的に含まない。
【請求項１４】
請求項１に記載のプロセスによって製造される組成物であって、少なくとも一つの不飽和基を含有する化合物がビニル官能化シリコーンであり、組成物が式（Ｉ）、（ＩＩ）または（ＩＩＩ）の錯体またはその誘導体を含む。
【請求項１５】
シリルヒドリドと多価不飽和化合物とを含有する反応混合物からモノヒドロシリル化産物を選択的に製造するプロセスであって、そのプロセスが：
（ｉ）式（Ｉ）、式（ＩＩ）または式（ＩＩＩ）の構造式を持つ錯体である触媒前駆体を提供するステップ；
（ｉｉ）触媒前駆体と活性化剤とを溶媒、シリルヒドリド、多価不飽和化合物およびそれらの組み合わせからなる群より選択される少なくとも一つの成分を含む液体媒体の存在下で接触させて触媒前駆体を活性化させることによって活性触媒を提供するステップ；
（ｉｉｉ）シリルヒドリドと多価不飽和化合物とを多価不飽和化合物の一つの不飽和基に選択的にヒドロシリル化が起きるような活性触媒の存在下で反応させることによって活性触媒またはその誘導体を含むモノヒドロシリル化産物を製造するステップ、
ここでステップ（ｉｉ）はステップ（ｉｉｉ）の直前または同時に行う；  および
（ｉｖ）活性触媒またはその誘導体を任意に除去するステップ
を含有し、
式（Ｉ）、式（ＩＩ）および式（ＩＩＩ）は、
2013544824.tif 000003
2013544824.tif 000004
であり、
式中、
ＧがＭｎ、Ｆｅ、ＮｉまたはＣｏであり；
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３およびＲ２４の各々が独立してＨ、Ｃ１−Ｃ１８アルキル、Ｃ１−Ｃ１８置換アルキル、アリール、置換アリールまたは不活性な基であり、互いに隣接するＲ１〜Ｒ３、Ｒ３〜Ｒ７、Ｒ３〜Ｒ９、Ｒ１４〜Ｒ１５、およびＲ１７〜Ｒ１８のいずれか２つが一緒になって、置換または非置換の、飽和または不飽和の環構造である環を形成してもよく、水素以外のＲ２〜Ｒ９およびＲ１１〜Ｒ２４は少なくとも一つのヘテロ原子を有していてもよく；
Ｒ１０の各々がＣ１−Ｃ１８アルキルまたはＣ１−Ｃ１８置換アルキル、アリールまたは置換アリールであり、ここでＲ１０は少なくとも一つのヘテロ原子を有していてもよく；
Ｘがアニオンであり；
多価不飽和化合物は式（Ｘ）または式（ＸＩ）：
Ｅ１［（ＣＨ２）βＣＲ１＝ＣＨ２］α  （式Ｘ）
Ｒ２γＥ２［（ＣＨ２）βＣＲ１＝ＣＨ２］α  （式ＸＩ）
で表され、
式中、
Ｅ１が３から２５の炭素原子を含む二価または多価脂肪族または芳香族環状炭化水素基、または３から２５の炭素原子を含む二価または多価脂肪族または芳香族複素環式炭化水素基であり、ここでヘテロ原子は酸素、窒素、ケイ素および硫黄からなる群より選択され；
Ｅ２が３から８のケイ素原子および３〜８の酸素原子を含む二価または多価環状シリコーン基であり；
Ｒ１およびＲ２の各々が独立して水素または１〜８の炭素原子を含む炭化水素基であり；
α、βおよびγの各々が独立して整数であり、αが２〜６、βが０〜６、そしてγが０〜４であり；  そして
不飽和化合物中のアルケニル官能基に対するシリルヒドリド中のＳｉ−Ｈ官能基のモル比はおよそ（０．５／α）〜およそ（１．１／α）の間である。
【請求項１６】
不飽和化合物中のアルケニル官能基に対するシリルヒドリド中のＳｉ−Ｈ官能基のモル比がおよそ１／αである、請求項１５に記載のプロセス。
【請求項１７】
不飽和化合物がトリビニルシクロヘキサン、テトラビニルシクロブタン、トリビニルトリメチルシクロトリシロキサン、テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン、トリアリルシアヌレートおよびトリアリルイソシアヌレートからなる群より選択される、請求項１５に記載のプロセス。
【請求項１８】
不飽和化合物がトリビニルシクロヘキサンである、請求項１５に記載のプロセス。
【請求項１９】
シリルヒドリドが下記構造の一つを持つ、請求項１５に記載のプロセス。
2013544824.tif 000005
式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９の各々が独立してＣ１−Ｃ１８アルキル、Ｃ１−Ｃ１８置換アルキル、アリールまたは置換アリールであり、Ｒ６が水素原子、Ｃ１−Ｃ１８アルキル、Ｃ１−Ｃ１８置換アルキル、アリールまたは置換アリールであり、ｘおよびｗが独立して０以上であり、ａおよびｂが０〜３の整数であり、但し、ａ＋ｂ＝３である。
【請求項２０】
シリルヒドリドが（ＣＨ３Ｏ）３ＳｉＨ、（Ｃ２Ｈ５Ｏ）３ＳｉＨ、（ＣＨ３）３ＳｉＯＳｉ（ＣＨ３）２Ｈ、［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］２ＳｉＨ（ＣＨ３）、［（ＣＨ３）２ＳｉＯ］３ＯＳｉＨ（ＣＨ３）および［（ＣＨ３）２ＳｉＯ］４ＯＳｉＨ（ＣＨ３）からなる群より選択される、請求項１５に記載のプロセス。
【請求項２１】
活性化剤が、窒素の存在下でフェロセンに対して＞−０．６ｖである還元電位を持つ還元剤である、請求項１５に記載のプロセス。
【請求項２２】
前記還元剤がナトリウムナフタレニド、Ｍｇ（ブタジエン）・２ＴＨＦ、ＮａＥｔ３ＢＨ、ＬｉＥｔ３ＢＨ，Ｍｇ（アントラセニド）・３ＴＨＦ、水素化ジイソブチルアルミニウムおよびそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項２１に記載のプロセス。
【請求項２３】
ＸがＦ−、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−、ＣＦ３Ｒ４０ＳＯ３−またはＲ５０ＣＯＯ−であり、ここでＲ４０が共有結合またはＣ１−Ｃ６アルキル基であり、Ｒ５０がＣ１−Ｃ１０ヒドロカルビル基である、請求項１５に記載のプロセス。
【請求項２４】
式（Ｉ）、式（ＩＩ）または式（ＩＩＩ）の錯体が支持体上に固定されている、請求項１５に記載のプロセス。
【請求項２５】
請求項１５に記載のプロセスで製造される、モノヒドロシリル化産物とビスヒドロシリル化産物からなる組成物あって、ビスヒドロシリル化産物に対するモノヒドロシリル化産物の重量比がおよそ１．７を超え、そして組成物が式（Ｉ）、式（ＩＩ）または式（ＩＩＩ）の錯体またはそれらの誘導体を含む。
【請求項２６】
ビスヒドロシリル化産物に対するモノヒドロシリル化産物の重量比がおよそ３を超える、請求項２５に記載の組成物。
【請求項２７】
ビスヒドロシリル化産物に対するモノヒドロシリル化産物の重量比がおよそ４を超える、請求項２５に記載の組成物。
【請求項２８】
下記一般式の一つを持つモノシリル化ジビニルシクロヘキサンを含む、請求項２５に記載の組成物。
式  ＸＩＩ：  （Ｈ２Ｃ＝ＣＨ）２Ｃ６Ｈ９ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＲ）３
式  ＸＩＩＩ：  （Ｈ２Ｃ＝ＣＨ）２Ｃ６Ｈ９ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＲ３
式  ＸＩＶ：  （Ｈ２Ｃ＝ＣＨ）２Ｃ６Ｈ９ＣＨ２ＣＨ２−Ｙ
式中、Ｒの各々が独立してＣ１−Ｃ２０アルキル、Ｃ３−Ｃ２０脂肪族または芳香族環状炭化水素基であり、Ｙが一般式（ＸＶ）、（ＸＶＩ）または（ＸＶＩＩ）の一価のシロキサニル基であり、
2013544824.tif 000006
式中、Ｒの各々が独立してＣ１−Ｃ２０アルキル、Ｃ３−Ｃ２０脂肪族または芳香族環状炭化水素基であり、そしてｘが０以上である。
【請求項２９】
シリルヒドリドと１，２，４−トリビニルシクロヘキサンとを含有する反応混合物からモノヒドロシリル化産物を選択的に製造するプロセスであって、プロセスが：
（ｉ）式（Ｉ）、式（ＩＩ）または式（ＩＩＩ）の構造を持つ錯体である触媒前駆体を提供するステップ；
（ｉｉ）触媒前駆体と活性化剤とを溶媒、シリルヒドリド、１，２，４−トリビニルシクロヘキサンおよびそれらの組み合わせからなる群より選択される少なくとも一つの成分を含む液体媒体の存在下で接触させて触媒前駆体を活性化させることによって活性触媒を提供するステップ；
（ｉｉｉ）シリルヒドリドと１，２，４−トリビニルシクロヘキサンとを、１，２，４−トリビニルシクロヘキサンの４位に選択的にヒドロシリル化が起きるような活性触媒の存在下で反応させることによってモノヒドロシリル化産物を製造するステップを含有し、
ここでステップ（ｉｉ）はステップ（ｉｉｉ）の直前または同時に行われ；  そして、
式（Ｉ）、式（ＩＩ）および式（ＩＩＩ）は、
2013544824.tif 000007
2013544824.tif 000008
であり、
式中、
ＧがＭｎ、Ｆｅ、ＮｉまたはＣｏであり；
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３およびＲ２４の各々が独立してＨ、Ｃ１−Ｃ１８アルキル、Ｃ１−Ｃ１８置換アルキル、アリール、置換アリールまたは不活性な基であり、互いに隣接するＲ１〜Ｒ３、Ｒ３〜Ｒ７、Ｒ３〜Ｒ９、Ｒ１４〜Ｒ１５、およびＲ１７〜Ｒ１８のいずれか２つが一緒になって、置換または非置換の、飽和または不飽和の環構造である環を形成してもよく、水素以外のＲ２〜Ｒ９およびＲ１１〜Ｒ２４は少なくとも一つのヘテロ原子を有していてもよく；
Ｒ１０の各々がＣ１−Ｃ１８アルキルまたはＣ１−Ｃ１８置換アルキル、アリールまたは置換アリールであり、ここでＲ１０は少なくとも一つのヘテロ原子を有していてもよく；
Ｘがアニオンであり；
１，２，４−トリビニルシクロヘキサン中のアルケニル官能基に対するシリルヒドリド中のＳｉ−Ｈ官能基のモル比がおよそ（０．５／３）〜およそ（１．１／３）の間である。
【請求項３０】
シリルヒドリドが、トリエトキシシランである、請求項２９に記載のプロセス。
【請求項３１】
シリルヒドリドが、ビス（トリメチルシロキシ）メチルシランである、請求項２９に記載のプロセス。
【請求項３２】
１，２，４−トリビニルシクロヘキサンが、１，２，４−トリビニルシクロヘキサン立体異性体の混合物である、請求項２９に記載のプロセス。
【請求項３３】
１，２，４−トリビニルシクロヘキサンが、１，２，４−トリビニルシクロヘキサン異性体Ａおよび／または１，２，４−トリビニルシクロヘキサン異性体Ｂであり、異性体Ａおよび異性体Ｂは式（ＸＩＸ）および（ＸＸ）の構造を持つ、請求項２９に記載のプロセス。
2013544824.tif 000009
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３およびＲ２４の各々が独立してＨ、Ｃ１−Ｃ１８アルキル、Ｃ１−Ｃ１８置換アルキル、アリール、置換アリールまたは不活性な基であり、互いに隣接するＲ１〜Ｒ３、Ｒ３〜Ｒ７、Ｒ３〜Ｒ９、Ｒ１４〜Ｒ１５、およびＲ１７〜Ｒ１８のいずれか２つが一緒になって、置換または非置換の、飽和または不飽和の環構造である環を形成してもよく、水素以外のＲ２〜Ｒ９およびＲ１１〜Ｒ２４は少なくとも一つのヘテロ原子を有していてもよく；
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
Ｅ２が３から８のケイ素原子および３〜８の酸素原子を含む二価または多価環状シリコーン基であり；
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３およびＲ２４の各々が独立してＨ、Ｃ１−Ｃ１８アルキル、具体的にはＣ１−Ｃ１０アルキル、さらに具体的にはＣ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ１８置換アルキル、好ましくはＣ１−Ｃ１０置換アルキル、さらに好ましくはＣ１−Ｃ６置換アルキル、アリール、置換アリールまたは不活性な基である。ある実施態様において、互いに隣接するＲ１〜Ｒ３、Ｒ３〜Ｒ７、Ｒ３〜Ｒ９、Ｒ１４〜Ｒ１５、およびＲ１７〜Ｒ１８のいずれか２つが一緒になって、置換または非置換の、飽和または不飽和の環構造である環を形成してもよい。水素以外のＲ２〜Ｒ９およびＲ１１〜Ｒ２４は少なくとも一つのヘテロ原子を有していてもよく、例えば、酸素原子、ケイ素原子またはハロゲン化物である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
ヒドロシリル化反応において使用されるシリルヒドリドは特に限定されない。ＲａＳｉＨ４−ａ、（ＲＯ）ａＳｉＨ４−ａ、ＨＳｉＲａ（ＯＲ）３−ａ、ＱｕＴｖＴｐＨＤｗＤＨｘＭＨｙＭｚ、Ｒ３Ｓｉ（ＣＨ２）ｆ（ＳｉＲ２Ｏ）ｅＳｉＲ２Ｈ、（ＲＯ）３Ｓｉ（ＣＨ２）ｆ（ＳｉＲ２Ｏ）ｅＳｉＲ２Ｈおよびそれらの組み合わせからなる群より選択されるいずれの化合物でもよい。シリルヒドリドは、直鎖、分岐または環状の構造、またはそれらの組み合わせを含んでよい。ここで、Ｒの各々が独立してＣ１−Ｃ１８アルキル、具体的にはＣ１−Ｃ１０アルキル、さらに具体的にはＣ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ１８置換アルキル、具体的にはＣ１−Ｃ１０置換アルキル、さらに具体的にはＣ１−Ｃ６置換アルキル、アリールおよび置換アリールであり、Ｒは少なくとも一つのヘテロ原子を有していてよい。ａの各々が独立して１〜３の値を持ち、ｆが１〜８の値を持ち、ｅが１〜１１の値を持ち、ｐ，ｕ，ｖ，ｙおよびｚの各々が独立して０〜２０の値を持ち、ｗおよびｘは０〜１０００であり、但し、ｐ＋ｘ＋ｙ＝１〜３０００であり、シリルヒドリド内のすべての元素の原子価が飽和している。好ましくは、ｆが２〜４であり、ｅが１〜３であり、ｐ，ｕ，ｖ，ｙおよびｚが０〜１０であり、ｗおよびｘが０〜１００であり、ここでｐ＋ｘ＋ｙ＝１〜１００である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８１】
ビニル官能化シリコーンはＱｕＴｖＴｐｖｉＤｗＤｖｉｘＭｖｉｙＭｚであり、ここで、ＱはＳｉＯ４／２、ＴはＲ’ＳｉＯ３／２、ＴｖｉはＲ１２ＳｉＯ３／２、Ｄは式Ｒ’２ＳｉＯ２／２、ＤｖｉはＲ’Ｒ１２ＳｉＯ２／２、ＭｖｉはＲ１２ｇＲ’３−ｇＳｉＯ１／２、Ｍは式Ｒ’３ＳｉＯ１／２であり；Ｒ１２はビニルであり；Ｒ’の各々が独立してＣ１−Ｃ１８アルキル、Ｃ１−Ｃ１８置換アルキル、アリール、置換アリールであり、Ｒ’は少なくとも一つのヘテロ原子を有していてもよく；ｇの各々が１〜３の値を持ち、ｐは０〜２０であり、ｕは０〜２０であり、ｖは０〜２０であり、ｗは０〜５０００であり、ｘは０〜５０００であり、ｙは０〜２０であり、そしてｚは０〜２０である。但し、ｖ＋ｐ＋ｗ＋ｘ＋ｙ＝１〜１００００であり、少なくとも一つの不飽和基を含む化合物内のすべての元素の原子価は飽和している。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
式（ＸＩ）に関して、Ｅ２が３から８のケイ素原子および３〜８の酸素原子を含む二価または多価環状シリコーン基である。Ｅ２の例示はシクロトリシロキサンおよびシクロテトラシロキサン環を含む。