【手続補正書】
【提出日】平成27年3月20日(2015.3.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
主表面を有する単一基板；
主表面の第１表面セグメントに適用されている第１コーティング；および
主表面の第２表面セグメントに適用されている第２コーティング；
を有して成る被覆基板であって、
第１コーティングが、第２コーティングとは異なる、被覆基板。
【請求項２】
第１コーティングが、複数の層を有して成る第１積層系を有して成り、第２コーティングが、複数の層を有して成る第２積層系を有して成る、請求項１に記載の被覆基板。
【請求項３】
第１コーティングと第２コーティングのどちらかまたは両方が、低放射率コーティングである、請求項２に記載の被覆基板。
【請求項４】
第１コーティングと第２コーティングの両方が、低放射率コーティングである、請求項３に記載の被覆基板。
【請求項５】
第１および第２の積層系の複数の層が、実質的に同じであり、１以上の層の違いが、第２積層系と比べて第１積層系にある、請求項４に記載の被覆基板。
【請求項６】
１以上の層の違いが、１以上の追加的な層、１以上のより少ない層、より大きい厚さを有する１以上の層、より小さい厚さを有する１以上の層および／または異なる材料の１以上の層を有する、請求項５に記載の被覆基板。
【請求項７】
１以上の層の違いが、主表面の遷移セグメントにおいて徐々に生じる、請求項６に記載の被覆基板。
【請求項８】
第１表面セグメントが、約６０％以上の可視光透過率を有し、第２表面セグメントが、第１表面セグメントの可視光透過率より少ない可視光透過率を有する、請求項３に記載の被覆基板。
【請求項９】
第２表面セグメントが、約４０％以下の可視光透過率を有する、請求項８に記載の被覆基板。
【請求項１０】
第２表面セグメントが、第１表面セグメントの日射熱取得率よりも小さい日射熱取得率を有する、請求項８に記載の被覆基板。
【請求項１１】
第１表面セグメントが、主表面の合計表面積の約１０％〜約４０％の間である、請求項９に記載の被覆基板。
【請求項１２】
第１表面セグメントが、主表面の合計表面積の約１０％〜約４０％の間である、請求項１０に記載の被覆基板。
【請求項１３】
基板が、透明な、実質的に透明な、または光透過性の材料から形成されている、請求項１に記載の被覆基板。
【請求項１４】
基板が、フロートガラスである、請求項１３に記載の被覆基板。
【請求項１５】
被覆基板の製造方法であって、当該方法が：
ａ)主表面を有する基板を準備すること；
ｂ)前記主表面の第１表面セグメント上に第１コーティングを堆積すること；および
ｃ)前記主表面の第２表面セグメント上に第２コーティングを堆積すること；
を有して成り、第１コーティングが、第２コーティングとは異なる、被覆基板の製造方法。
【請求項１６】
第１セグメント上に堆積する工程が、複数の層を有して成る第１積層系を有して成る第１コーティングを堆積することを更に有して成り、第２表面セグメント上に堆積する工程が、複数の層を有して成る第２積層系を堆積することを更に有して成る、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
第１コーティングと第２コーティングのどちらかまたは両方が、低放射率コーティングである、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
第１コーティングと第２コーティングの両方が、低放射率コーティングである、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
第１および第２の積層系の複数の層が、実質的に同じであり、１以上の層の違いが、第２積層系と比べて第１積層系にある、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
１以上の層の違いが、１以上の追加的な層、１以上のより少ない層、より大きい厚さを有する１以上の層、より小さい厚さを有する１以上の層および／または異なる材料の１以上の層を有する、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
１以上の層の違いが主表面の遷移セグメントにおいて徐々に生じる、請求項２０に記載の方法。 
【請求項２２】
第１表面セグメントが、約６０％以上の可視光透過率を有し、第２表面セグメントが、第１表面セグメントの可視光透過率よりも少ない可視光透過率を有する、請求項２０に記載の方法。
【請求項２３】
第２表面セグメントが、約４０％以下の可視光透過率を有する、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
第２表面セグメントが、第１表面セグメントの日射熱取得率よりも小さい日射熱取得率を有する、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
第１表面セグメントが、主表面の合計表面積の約１０％〜約４０％の間である、請求項２３に記載の方法。
【請求項２６】
第１表面セグメントが、主表面の合計表面積の約１０％〜約４０％の間である、請求項２４に記載の方法。
【請求項２７】
基板が、透明な、実質的に透明な、または光透過性の材料から形成されている、請求項１６に記載の方法。
【請求項２８】
基板が、フロートガラスである、請求項１６に記載の方法。
【請求項２９】
第１および第２コーティングを、マグネトロンスパッタリングによって堆積する、請求項１６に記載の方法。
【請求項３０】
スパッタリングターゲットと主表面の間に１以上の物体を選択的に配置することによって、１以上の層の違いを達成する、請求項に記載２０の方法。
【請求項３１】
スパッタリングチャンバー内の反応性ガスおよび／または不活性ガスの種類、容量、方向および／または源の位置を操作することによって、１以上の層の違いを達成する、請求項に記載２０の方法。
【請求項３２】
絶縁ガラスユニットが：
少なくとも２つの実質的に平行な分離ガラスシートであって、前記２つのガラスシートが、それらの周囲縁で一体に封止されて、その間で絶縁チャンバーを規定している、ガラスシート
を有して成る絶縁ガラスユニットであって；
シートの１つが、主表面を有して成り；
第１コーティングが、主表面の第１表面セグメント上に適用されており、
第２コーティングが、主表面の第２表面セグメント上に適用されており、および
第１コーティングが、第２コーティングと異なる、絶縁ガラスユニット。
【請求項３３】
主表面が、絶縁チャンバーと向かい合っている、請求項３２に記載の絶縁ガラスユニット。
【請求項３４】
第１コーティングが、複数の層を有して成る第１積層系を有して成り、第２コーティングが、複数の層を有して成る第２積層系を有して成る、請求項３３に記載の絶縁ガラスユニット。
【請求項３５】
第１コーティングと第２コーティングのどちらかまたは両方が、低放射率コーティングである、請求項３４に記載の絶縁ガラスユニット。
【請求項３６】
第１コーティングと第２コーティングの両方が、低放射率コーティングである、請求項３５に記載の絶縁ガラスユニット。
【請求項３７】
第１および第２の積層系の複数の層が、実質的に同じであり、１以上の層の違いが、第２積層系と比べて第１積層系にある、請求項３６に記載の絶縁ガラスユニット。
【請求項３８】
１以上の層の違いが、１以上の追加的な層、１以上のより少ない層、より大きい厚さを有する１以上の層、より小さい厚さを有する１以上の層、および／または異なる材料の１以上の層を有する、請求項３７に記載の絶縁ガラスユニット。
【請求項３９】
１以上の層の違いが、主表面の遷移セグメントにおいて徐々に生じる、請求項３８に記載の絶縁ガラスユニット。 
【請求項４０】
第１表面セグメントが、約６０％以上の可視光透過率を有し、第２表面セグメントが、第１表面セグメントの可視光透過率よりも少ない可視光透過率を有する、請求項３４に記載の絶縁ガラスユニット。
【請求項４１】
第２表面セグメントが、約４０％以下の可視光透過率を有する、請求項４０に記載の絶縁ガラスユニット。
【請求項４２】
第２表面セグメントが、第１表面セグメントの日射熱取得率よりも小さい日射熱取得率を有する、請求項４１に記載の絶縁ガラスユニット。
【請求項４３】
第１表面セグメントが、主表面の合計表面積の約１０％〜約４０％の間である、請求項４１に記載の絶縁ガラスユニット。
【請求項４４】
第１表面セグメントが、主表面の合計表面積の約１０％〜約４０％の間である、請求項４２に記載の絶縁ガラスユニット。