【事件の表示】
　特願２００８−１６６３１８「リソグラフィのための複数のアクチュエータおよび照明装置を制御する方法および装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２１年　４月　９日出願公開、特開２００９−　７５５５７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成２０年６月２５日（パリ条約による優先権主張２００７年６月２６日、ドイツ及び米国）の出願であって、平成２４年９月２４日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成２５年２月４日に拒絶査定に対する審判請求がなされたものである。
　
第２　本願発明の特許性
１．本願発明
　本願の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。
　
「コントローラ（３０，３１）により複数のアクチュエータ（２１）を制御するための装置を備えており、前記複数のアクチュエータ（２１）が、前記コントローラによって制御可能であり、該コントローラによって少なくとも幾つかのアクチュエータグループを個別に制御することができる、マイクロリソグラフィのための投影露出システムにおいて、第１組のアクチュエータの各アクチュエータまたは各アクチュエータグループに、少なくとも１つの記憶素子（２４）が割り当てられており、該記憶素子（２４）が、１つ以上のアクチュエータを制御するための少なくとも１つのパラメータを記憶することができ、これにより、少なくとも２つのパラメータが、各アクチュエータまたは各アクチュエータグループに割り当てられ、アクチュエータの１つの位置がそれぞれのパラメータに割り当てられることを特徴とする、マイクロリソグラフィのための投影露出システム。」
　
２．引用刊行物及び該刊行物に記載の発明
　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物である、韓国公開特許第１０−２００７−００６５８４９号公報（以下「引用文献１」という。）には、以下の事項が記載されている。
　なお、以下の摘記事項は、引用文献１のファミリー文献である特開２００７−１９４６０８号公報の記載を援用した。
　
（１）「【０００１】
　本発明は露光装置及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
　露光装置は、所望のパターンを基板または基板の一部に転写する機械である。露光装置は例えばフラットパネルディスプレイや集積回路（ＩＣ）、微細構造を有する他のデバイスの製造に用いられる。通常例えばマスクまたはレチクルと称されるパターニング用デバイスを使用して、フラットパネルディスプレイ（または他のデバイス）の各層に対応した回路パターンを形成する。このパターンは、基板に塗布された照射感応材料（レジスト）層への像形成により基板（例えばガラスプレート）の全体または一部に転写される。」
（２）「【００１８】
　図１は本発明の一実施形態に係る露光装置を模式的に示す図である。この装置は、照明光学系ＩＬ、パターニング用デバイスＰＤ、基板テーブルＷＴ、及び投影光学系ＰＳを備える。照明光学系（照明器）ＩＬは放射ビームＢ（例えばＵＶ放射）を調整するよう構成されている。
【００１９】
　パターニング用デバイスＰＤ（例えばレチクル、マスク、または個別制御可能素子アレイ）はビームを変調する。普通は個別制御可能素子アレイは投影光学系ＰＳに対して位置が固定されるが、あるパラメタに従って正確に位置決めする位置決め装置に接続されていてもよい。」
（３）「【００２５】
　通常、基板のターゲット部分に生成されるパターンは、そのターゲット部分に生成されるデバイス例えば集積回路やフラットパネルディスプレイの特定の機能層に対応する（例えばフラットパネルディスプレイのカラーフィルタ層や薄膜トランジスタ層）。パターニング用デバイスの例としては、レチクル、プログラマブルミラーアレイ、レーザダイオードアレイ、ＬＥＤアレイ、グレーティングライトバルブ、及びＬＣＤアレイなどがある。」
（４）「【００３０】
　プログラマブルミラーアレイの他の例においては、マトリックス状の微小ミラーの配列が用いられ、各微小ミラーは局所的に電界を適宜付与されることによりまたは圧電駆動手段を使用することにより各々が独立に軸周りに傾斜しうる。繰り返しになるが、ミラーはマトリックス状にアドレス指定可能に構成されており、アドレス指定されたミラーは入射する放射ビームをアドレス指定されていないミラーとは異なる方向に反射する。このようにしてマトリックス状のアドレス指定可能なミラーにより形成されるパターンに従って反射ビームにパターンが付与されうる。必要とされるマトリックス状アドレス指定は、適宜の電子的手段を使用して実行することができる。」
（５）「【０１１１】
［本発明の第３の態様］
［第６の実施例］
　図１２は、本発明の第３の態様に係る第１の実施例を示す図である。図１２は、上述のいずれの実施例にも適用可能である個別制御可能素子８０のアレイ８１を示す図である。図においては個別制御可能素子アレイが４つの個別制御可能素子だけを含むように描かれているが、実際にはアレイ８０は更に多数の個別制御可能素子を含みうる。個別制御可能素子アレイ８０は、制御信号または制御信号に相当するデータを記憶するメモリ８２を備える。この制御信号は、所望の繰り返しパターンに放射ビームを変調するのに必要な状態に個別制御可能素子アレイ８０を設定するために必要となる制御信号である。露光装置はパターン制御部８３を備える。パターン制御部８３は必要に応じて、メモリに記憶されたデータにより規定される状態にアレイ８０の各個別可能制御素子８１を設定するよう構成されている。
【０１１２】
　個別制御可能素子アレイ８０のメモリ８２は、繰り返しパターンの１つの周期構造を実現するのに必要な状態に、複数の個別制御可能素子８１からなる１つの個別制御素子群を設定するために必要な制御信号に相当するデータを記憶してもよい。この制御信号は、アレイ８０全体にわたって繰り返しパターンが繰り返されるように複数の個別制御素子群に供給される。」
（６）「【０１１４】
　個別制御可能素子アレイ８０は、複数の異なるパターンの１つに簡便に設定可能に構成されていてもよい。例えば、メモリ８２は複数のパターンに必要なデータを含んでいてもよい。この場合、個別制御可能素子アレイ８０はパターン選択ユニット８４を含んでもよい。パターン選択ユニット８４は、メモリ８２に記憶されている複数の繰り返しパターンからの所望のパターンの選択指示をパターン制御部８３から受け取る。そして、パターン選択ユニット８４は、メモリ８２から適切なデータを選択して、各個別制御可能素子８１に適切な制御信号を与える。」
（７）「【図１２】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
　これらの記載事項を含む引用文献１全体の記載及び当業者の技術常識を総合すれば、引用文献１には、以下の発明が記載されている。
　
「微細構造を有するデバイスの製造に用いられる、照明光学系（ＩＬ）、パターニング用デバイス（ＰＤ）、基板テーブル（ＷＴ）、及び投影光学系（ＰＳ）を備える露光装置であって、
　パターニング用デバイスは、微小ミラーがマトリックス状に配列され、各微小ミラーは圧電駆動手段を使用することにより各々が独立に軸周りに傾斜し、ミラーにより形成されるパターンに従って反射ビームにパターンが付与されうる個別制御可能素子アレイ（８０）から構成され、
　個別制御可能素子アレイは所望の繰り返しパターンに放射ビームを変調するのに必要な状態に個別制御可能素子アレイを設定するために必要となる制御信号に相当するデータを記憶するメモリ（８２）を備え、
　露光装置はパターン制御部（８３）を備え、パターン制御部は必要に応じて、メモリに記憶されたデータにより規定される状態にアレイの各個別可能制御素子（８１）を設定するよう構成されており、
　メモリは複数のパターンに必要なデータを含んでいて、複数の異なるパターンの１つに簡便に設定可能なように、個別制御可能素子アレイはパターン選択ユニット（８４）を含んでおり、パターン選択ユニットは、メモリに記憶されている複数の繰り返しパターンからの所望のパターンの選択指示をパターン制御部から受け取り、パターン選択ユニットは、メモリから適切なデータを選択して、各個別制御可能素子に適切な制御信号を与えるように構成された、
露光装置。」（以下「引用発明」という。）
　
３．対比
　本願発明と引用発明を対比する。
（１）引用発明の「圧電駆動手段」は本願発明の「アクチュエータ」に相当する。引用発明が該アクチュエータを制御するために、本願発明の「コントローラ」に相当する構成を有することは自明である。
（２）引用発明の「微細構造を有するデバイスの製造に用いられる、・・投影光学系を備える露光装置」は、本願発明の「マイクロリソグラフィのための投影露出システム」に相当する
（３）引用発明の「メモリ」は本願発明の「記憶素子」に相当する。
　引用発明は「メモリに記憶されたデータにより規定される状態にアレイの各個別可能制御素子を設定するよう構成されており、」各個別可能制御素子は本願発明のアクチュエータに相当する圧電駆動手段を含み、しかも個別制御可能素子アレイは各個別可能制御素子をメモリに記憶されたデータにより規定された状態に設定することによって所望の繰り返しパターンに放射ビームを変調するから、引用発明のメモリが個別制御可能素子アレイの全個別可能制御素子のそれぞれに対応する設定データを記憶する領域を備えていることは明らかである。そして、このメモリの領域のそれぞれが本願発明の「１つの記憶素子」に相当する。
　すると、引用発明の「個別制御可能素子アレイは所望の繰り返しパターンに放射ビームを変調するのに必要な状態に個別制御可能素子アレイを設定するために必要となる制御信号に相当するデータを記憶するメモリを備え」ることは、本願発明の「各アクチュエータに、少なくとも１つの記憶素子が割り当てられて」いることに相当する。
（４）引用発明の「メモリに記憶されたデータ」は本願発明の「記憶素子に記憶されるパラメータ」に相当し、引用発明は「メモリは複数のパターンに必要なデータを含んでい」るから、引用発明は本願発明の「少なくとも２つのパラメータが、各アクチュエータに割り当てられ」る構成に相当する構成を有する。
（５）引用発明のパターンは各ミラーの位置、ひいては当該ミラーを駆動する圧電駆動手段の位置によって付与されるから、メモリに記憶されたデータに当該位置に関する情報が含まれていることは明らかである。
　してみると、引用発明は本願発明の「アクチュエータの１つの位置がそれぞれのパラメータに割り当てられること」に相当する構成を有する。
　
　そうすると、両者は、
「コントローラにより複数のアクチュエータを制御するための装置を備えており、前記複数のアクチュエータが、前記コントローラによって制御可能である、マイクロリソグラフィのための投影露出システムにおいて、１組のアクチュエータの各アクチュエータに、少なくとも１つの記憶素子が割り当てられており、該記憶素子が、１つ以上のアクチュエータを制御するための少なくとも１つのパラメータを記憶することができ、これにより、少なくとも２つのパラメータが、各アクチュエータに割り当てられ、アクチュエータの１つの位置がそれぞれのパラメータに割り当てられる、マイクロリソグラフィのための投影露出システム。」
の点で一致し、次の点で相違している。
　
（相違点）
　本願発明が「コントローラによって少なくとも幾つかのアクチュエータグループを個別に制御することができる」のに対して、引用発明がそのような構成を有するかどうか不明な点。
　
４．判断 
　上記相違点について検討する。
　同じ構成の素子をマトリックス状に複数配置した装置を制御する際に、当該複数の素子を例えば行毎に駆動する等、グループ化して制御することは、装置の構成や制御の内容等に応じて、ごく普通に行われる周知技術である。
　引用発明に当該周知技術を適用することに格別の技術的困難性も、阻害要因もない。
　してみると、引用発明に上記相違点に係る構成を採用することは、当業者がその必要に応じて、適宜なし得る事項である。
　
　また、本願発明全体の効果も、引用発明及び周知技術から当業者が予測し得る範囲のものであって格別なものではない。
　
　したがって、本願発明は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
第３　むすび 
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、本願は、拒絶されるべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。