Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月9日(2015.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料中の標的ヌクレオチド配列の決定方法であって、以下の工程：
（a） 各標的ヌクレオチド配列（T）について、第1のプローブ（P1）及び第2のプローブ（P2）を提供する工程；
ここで、前記第1のプローブは、第1の標的特異的セクション（TS1）及び標的ヌクレオチド配列に非相補的であり、第1のプライマー結合配列（PBS1）を含んでいてもよい、第1のタグセクション（TAG1）を含み、ここで、前記第1のタグセクションは第1の制限酵素のための第1の認識配列（RE1）を含み、
ここで、前記第2のプローブは、第2の標的特異的セクション（TS2）及び標的ヌクレオチド配列に非相補的であり、第2のプライマー結合配列（PBS2）を含んでいてもよい、第2のタグセクション（TAG2）を含み、ここで、前記第2のタグセクションは第2の制限酵素のための第2の認識配列（RE2）を含み、
（b） 第1及び第2のプローブの第1及び第2の標的特異的セクションをそれぞれ標的配列にハイブリダイズさせる工程；
（c） 標的配列の基本的に隣接するセクションにプローブのそれぞれの標的特異的セクションがハイブリダイズした場合に、第1及び第2のプローブをライゲーションしてライゲーションされたプローブ（LP）を提供する工程；
（d） 任意の第１及び／又は任意の第２のプライマーで、ライゲーションされたプローブを任意に増幅してアンプリコン（A）を提供する工程；
（e） 第１及び／又は第２の制限酵素でライゲーションされたプローブ又はアンプリコンを制限して制限されたライゲーションされたプローブ（RLP）又は制限されたアンプリコン（RA）を提供し、アダプターベースの識別子（AD ID1, AD ID2）を含む第１及び第２のアダプターを、制限されたライゲーションされたプローブ（RLP）又は制限されたアンプリコン（RA）にライゲーションする工程；
（f） アダプターがライゲーションされた、制限されたライゲーションされたプローブ（RLP）又は、アダプターがライゲーションされた、制限されたアンプリコン（RA）をハイスループットシーケンシング技術に供して、制限されたライゲーションされたプローブ又は制限されたアンプリコンのヌクレオチド配列の少なくとも一部を決定する工程；
（g） 試料中の標的ヌクレオチド配列の存在、不存在又は量を同定する工程；
を含む方法。
【請求項２】
第１の標的特異的セクションが第１のプローブの３´末端に位置し、第２の標的特異的セクションが第２のプローブの５´末端に位置する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
第１のプローブベースの識別子配列（ID1）が第１のタグセクション中に位置する、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
第２のプローブベースの識別子（ID2）が第２のタグセクション中に位置する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
第１のプローブベースの識別子が、制限酵素の第１の認識配列と、第１の標的特異的セクションとの間に位置する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
第２のプローブベースの識別子が、任意の制限酵素の第２の認識配列と、第２の標的特異的セクションとの間に位置する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
第１及び第２のタグセクションがいずれも制限酵素の認識部位を有する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
ハイブリダイゼーション、ライゲーション及び任意のギャップ充填が結合された工程において行われる、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
第１のタグセクションのための制限酵素の認識部位が、第２のタグセクションのための制限酵素の認識部位に比べて異なるヌクレオチド配列を有する、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
ハイスループットシーケンシングが合成によるシーケンシングを含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
ハイスループットシーケンシングがブリッジ増幅又はエマルション増幅を含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
ハイスループットシーケンシングが一方向単一読み取りシーケンシングを含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
ハイスループットシーケンシングが一方向単一読み取りダブルプライミングシーケンシングを含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
ハイスループットシーケンシングが双方向（ペアエンド）シーケンシングを含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
ハイスループットシーケンシングがメイトペアシーケンシングを含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
一つの試料中で複数の標的配列が決定される、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
複数の試料中で一つの標的配列が決定される、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
複数の試料中で複数の標的配列が決定される、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】
プローブが環状化可能プローブ、キーロックプローブおよび／または化合物プローブである、請求項１〜１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】
少なくとも二つのプローブを含むオリゴヌクレオチド・ライゲーション・アッセイを用いた、試料中の標的配列の存在、不存在又は量について、生物学的試料をジェノタイピングする方法であって、プローブの少なくとも一つが標的セクションに加えて制限酵素の認識配列を含み、該方法が、ライゲーションされたプローブを提供するライゲーション工程をさらに含み、ライゲーション後、ライゲーションされたプローブは制限され、もしくは増幅されてから制限されて、制限されたライゲーションされたプローブ（RLP)もしくは制限されたアンプリコン（RA）が提供され、得られたRLP/RAに対し、一つ以上の識別子を含む一つまたは二つのアダプターがライゲーションされ、得られたアダプターがライゲーションされたRLP/RAがシーケンスされる、
方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月9日(2015.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
動物向けの食用のおしゃぶりタイプの噛み物を形成する方法において、
（ａ）  食用組成物を押し出す工程、およびそれに引き続き
（ｂ）  押し出された押出物を複数の二次成形ローラと接触させる工程、
を有してなり、
前記二次成形ローラの少なくとも１つが、波状表面を示し、該波状表面で前記押出物と接触するものであり、前記波状表面が、前記押出物の表面上に波状起伏を与えるための複数のこぶ状体を備え、該こぶ状体の少なくともいくつかが、細長い形状を有しており、前記二次成形ローラの回転方向に対してある角度でずれており、前記細長い形状が２つ以上の異なる方向に向けられている、方法。
【請求項２】
前記食用組成物が、二部からなる組成物であり、内側部分と外側部分に共押出しされる、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記押出物が、前記複数の二次成形ローラと接触する前に、湾曲部分を含む不規則な断面形状を有する、請求項１または２記載の方法。
【請求項４】
前記二次成形ローラと接触した後に、前記押出物を各部分に、押出方向に対して実質的に垂直に切断する追加の工程を含む、請求項１から３いずれか１項記載の方法。
【請求項５】
前記波状表面を有する各二次成形ローラが、押出物の部分当たりで２つの波状起伏を与える、請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記こぶ状体の大半が、細長い形状を有し、前記二次成形ローラの回転方向に対してある角度でずれている、請求項１から５いずれか１項記載の方法。
【請求項７】
前記複数の二次成形ローラが２つの二次成形ローラである、請求項１から６いずれか１項記載の方法。
【請求項８】
前記２つの二次成形ローラの各々が、前記押出物と接触する波状表面を示す、請求項７記載の方法。
【請求項９】
前記２つの二次成形ローラが垂直面に向けられている、請求項７または８記載の方法。
【請求項１０】
前記こぶ状体の細長いものが、２ｃｍから２．５ｃｍの長さである、請求項１から９いずれか１項記載の方法。
【請求項１１】
前記複数のこぶ状体が、形状が円形であるこぶ状体を含む、請求項１から１０いずれか１項記載の方法。
【請求項１２】
前記こぶ状体が、前記二次成形ローラの表面から１ｃｍから１．５ｃｍの距離だけ突出している、請求項１から１１いずれか１項記載の方法。
【請求項１３】
前記二次成形ローラの各々が、ディスクの形態にある、請求項１から１２いずれか１項記載の方法。
【請求項１４】
前記二次成形ローラの波状表面が、前記ディスクの周囲表面である、請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
複数の二次成形ローラを備えた、押出物の表面を変更するための装置であって、前記二次成形ローラの少なくとも１つが波状表面を示し、該二次成形ローラが押出方向に延在する中心軸の周りに配置され、前記波状表面が、前記押出物の表面に波状起伏を与えるための複数のこぶ状体を備え、該こぶ状体の少なくともいくつかが、細長い形状を有し、前記二次成形ローラの回転方向に対してある角度でずれており、前記細長い形状が２つ以上の異なる方向に向けられている、装置。
【請求項１６】
前記こぶ状体の大半が、細長い形状を有し、前記二次成形ローラの回転方向に対してある角度でずれている、請求項１５記載の装置。
【請求項１７】
前記複数の二次成形ローラが２つの二次成形ローラである、請求項１５または１６記載の装置。
【請求項１８】
前記２つの二次成形ローラの各々が、前記押出物と接触する波状表面を示す、請求項１７記載の装置。
【請求項１９】
前記２つの二次成形ローラが垂直面に向けられている、請求項１７または１８記載の装置。
【請求項２０】
前記こぶ状体の細長いものが、２ｃｍから２．５ｃｍの長さである、請求項１５から１９いずれか１項記載の装置。
【請求項２１】
前記複数のこぶ状体が、形状が円形であるこぶ状体を含む、請求項１５から２０いずれか１項記載の装置。
【請求項２２】
前記こぶ状体が、前記二次成形ローラの表面から１ｃｍから１．５ｃｍの距離だけ突出している、請求項１５から２１いずれか１項記載の装置。
【請求項２３】
前記二次成形ローラの各々が、ディスクの形態にある、請求項１５から２２いずれか１項記載の装置。
【請求項２４】
前記二次成形ローラの波状表面が、前記ディスクの周囲表面である、請求項２３記載の装置。
【請求項２５】
縦軸および縦方向に延在する外面を備えた動物向けの食用のおしゃぶりタイプの噛み物であって、前記外面は複数の窪みを備え、該窪みの少なくともいくつかは、細長い形状を有し、前記噛み物の縦軸に対してある角度でずれるように向けられており、該窪みの細長いものは、少なくとも２つの異なる方向に角度でずれており、前記外面が、前記噛み物の縦方向に沿って測定した１５ｍｍの長さ当たり１つ以下の窪みを有する、食用の噛み物。
【請求項２６】
前記窪みにより、人工的ではなく、むしろ自然な外観を有する噛み物がもたらされる、請求項２５記載の食用の噛み物。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月8日(2015.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
統合発光体粒子を有するポリマー製品を製造する方法であって、前記ポリマー製品は、少なくとも１種の液相モノマー及び少なくとも１種の発光体の粒子の粉末から製造され、ポリエチレンテレフタレート又はポリエチレンテレフタレートのコポリマーを含み、重合前に前記モノマーに前記発光体を添加する工程を含むポリマー製品を製造する方法。
【請求項２】
前記少なくとも１種の液相モノマーは、テレフタル酸、エチレングリコールからなる群に含まれるモノマーの１種又は組み合わせである請求項１に記載のポリマー製品を製造する方法。
【請求項３】
前記発光体は、放射の吸収後に燐光を発する燐光物質である請求項１又は２に記載のポリマー製品を製造する方法。
【請求項４】
前記発光体は、放射の吸収後に蛍光を発する蛍光物質である請求項１乃至３のいずれか一項に記載のポリマー製品を製造する方法。
【請求項５】
前記粉末中の前記発光体の粒子は、１０ｎｍ〜１ｍｍの範囲のメジアン径を有する請求項１乃至４のいずれか一項に記載のポリマー製品を製造する方法。
【請求項６】
前記粉末中の前記発光体の粒子は、１μｍ〜２０μｍの範囲のメジアン径を有する請求項１乃至５のいずれか一項に記載のポリマー製品を製造する方法。
【請求項７】
前記発光体の粒子は、
ＹＡＧ：Ｃｅ、ＬｕＡＧ：Ｃｅ、Lumogen F Red 305、Lumogen F Yellow 083、又はこれらの組み合わせからなる群に含まれる１種又は数種の材料である請求項１乃至６のいずれか一項に記載のポリマー製品を製造する方法。
【請求項８】
統合発光体粒子を有するポリマー製品から作られたペレットであって、前記統合発光体粒子は、保護ポリマー層を有し、前記ポリマー製品は、ポリエチレンテレフタレート又はポリエチレンテレフタレートのコポリマーを含むペレット。
【請求項９】
請求項１乃至７のいずれか一項に記載のポリマー製品を製造する方法により製造されたポリマー製品から作られた光変換用プラスチック部品。
【請求項１０】
統合発光体粒子を有するポリマー製品から作られた光変換用プラスチック部品であって、前記統合発光体粒子は、保護ポリマー層を有し、前記ポリマー製品は、ポリエチレンテレフタレート又はポリエチレンテレフタレートのコポリマーを含む光変換用プラスチック部品。
【請求項１１】
請求項９又は１０のプラスチック部品を含む発光装置。
【請求項１２】
光源がＬＥＤである請求項１１に記載の発光装置。
【請求項１３】
請求項１乃至７のいずれか一項に記載のポリマー製品を製造する方法により製造されたポリマー製品の照明装置における使用。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月22日(2015.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
改良された四球式耐摩耗特性を有する潤滑剤組成物であって、
前記潤滑剤組成物１００質量部当たり、８５質量部を超える量において存在する基油；
式：
【化１】
2014520927.tif 000001
［式中、Ｒは、直鎖状または分枝鎖状のＣ6〜Ｃ18アルキル基であり、ならびにｎは、０〜５の数である］を有する１種以上のアルキルエーテルカルボン酸腐食防止剤；および
リンを含む無灰耐摩耗添加剤
を含む、潤滑剤組成物において、
四球式耐摩耗特性が、ＡＳＴＭ  Ｄ４１７に従って摩耗痕の平均直径として報告され、
該摩耗痕の該平均直径が、該基油および該無灰耐摩耗添加剤を含むが該１種以上のアルキルエーテルカルボン酸腐食防止剤を含有しない標準材料から結果として生じる摩耗痕の平均直径より少なくとも５％小さく、
前記潤滑剤組成物は、１質量パーセント未満の水を含み、
前記潤滑剤組成物は、０．０１質量パーセントから０．１質量パーセント未満までの前記１種以上のアルキルエーテルカルボン酸腐食防止剤を含み、かつ
前記潤滑剤組成物は、酸化防止剤を含む、潤滑剤組成物。
【請求項２】
前記腐食防止剤が、前記潤滑剤組成物の総質量パーセントに対して、０．０３質量パーセントから０．１質量パーセント未満までの量において存在する、請求項１に記載の潤滑剤組成物。
【請求項３】
前記耐摩耗添加剤が、前記潤滑剤組成物の総質量パーセントに対して、０．０１〜０．０５質量パーセントの量において存在する、請求項１または２に記載の潤滑剤組成物。
【請求項４】
ＲがＣ12アルキル基を含み、かつｎが約３である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の潤滑剤組成物。
【請求項５】
前記潤滑剤組成物から結果として生じる摩耗痕の平均直径が、前記標準材料から結果として生じる摩耗痕の平均直径より少なくとも１０％小さい、請求項１〜４のいずれか一項に記載の潤滑剤組成物。
【請求項６】
水を含有しない、請求項１〜５のいずれか一項に記載の潤滑剤組成物。
【請求項７】
前記基油、前記１種以上のアルキルエーテルカルボン酸腐食防止剤、および前記無灰耐摩耗添加剤を組み合わせる工程を含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の潤滑剤組成物を形成する方法。
【請求項８】
潤滑剤組成物を使用して、金属の摩耗を低減する方法であって、前記潤滑剤組成物が、前記潤滑剤組成物１００質量部当たり、８５質量部を超える量において存在する基油、式：
【化２】
2014520927.tif 000002
「式中、Ｒは、直鎖状または分枝鎖状のＣ6〜Ｃ18アルキル基であり、かつｎは０〜５の数である］を有する１種以上のアルキルエーテルカルボン酸腐食防止剤、およびリンを含む無灰耐摩耗添加剤を含む、金属の摩耗を低減する方法において、
以下の工程：
Ａ．該金属を提供する工程；および
Ｂ．該金属に該潤滑剤組成物を適用する工程
を含み、
該金属が、ＡＳＴＭ  Ｄ４１７２に従って摩耗痕の平均直径として報告される四球式耐摩耗特性を有し、ならびに、
該潤滑剤組成物を金属に適用した後に生じる該摩耗痕の該平均直径が、該金属に標準材料を適用した後に生じる摩耗痕の平均直径よりも少なくとも５％小さく、該標準材料が、該基油および該耐摩耗添加剤を含むが該１種以上のアルキルエーテルカルボン酸腐食防止剤を含有せず、
前記潤滑剤組成物は、１質量パーセント未満の水を含み、
前記潤滑剤組成物は、０．０１質量パーセントから０．１質量パーセント未満までの前記１種以上のアルキルエーテルカルボン酸腐食防止剤を含み、かつ
前記潤滑剤組成物は、酸化防止剤を含む、方法。
【請求項９】
前記腐食防止剤が、前記潤滑剤組成物の総質量パーセントに対して、０．０３質量パーセントから０．１質量パーセント未満までの量において存在する、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記耐摩耗添加剤が、前記潤滑剤組成物の総質量パーセントに対して、０．０１〜０．０５質量パーセントの量において存在する、請求項８または９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月9日(2015.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
脂質に共有的に抱合された多糖Ａ（ＰＳＡ）を含む脂質付加ＰＳＡ、および、薬学的に受容可能なキャリアを含む、医薬組成物。
【請求項２】
ヒトに投与するための、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】
脂質が、脂質付加ＰＳＡの０．１〜２％（ｗ／ｗ）である、請求項１または２に記載の医薬組成物。
【請求項４】
脂質が、脂質付加ＰＳＡの０．１〜１％（ｗ／ｗ）である、請求項１または２に記載の医薬組成物。
【請求項５】
０．５％（ｗ／ｗ）またはそれより少ないＬＰＳを含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項６】
薬学的に受容可能なキャリアが経口投与可能であって、経口投与用処方物である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項７】
経口投与用処方物が、カプセル、錠剤またはロゼンジである、請求項６に記載の医薬組成物。
【請求項８】
非経口投与用処方物である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項９】
薬学的に受容可能なキャリアが、緩衝化剤および／または保存剤を含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
穏和な加水分解の後、１６．５％のＴｒｉｓ−トリシンＳＤＳ−ＰＡＧＥゲル上で流され、硫酸亜鉛およびイミダゾールを用いてリバース染色された場合に、脂質付加ＰＳＡが、６０ｋＤより上におけるＰＳＡのバンドおよび約５ｋＤにおけるＬＰＳ脂質のバンドを示す、請求項１〜９のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
脂質およびＰＳＡが、ヘビ毒ホスホジエステラーゼによる切断に対して感受性ではない結合によって共有的に抱合されている、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１２】
脂質付加ＰＳＡが、９９％（ｗ／ｗ）のＰＳＡおよび０．５％（ｗ／ｗ）の脂質を含む、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１３】
単位投与形態で提供される、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１４】
緩衝化剤を含む、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１５】
脂質付加ＰＳＡの無菌の水性調製物を含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１６】
血液と等張である、請求項１５に記載の医薬組成物。
【請求項１７】
５０〜１００マイクログラムの脂質付加ＰＳＡを含む、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１８】
脂質に共有的に抱合された多糖Ａ（ＰＳＡ）を含む脂質付加ＰＳＡ、および、薬学的に受容可能なキャリアを含み、脂質付加ＰＳＡが、ＰＳＡを過剰発現するBacteroides fragilis細胞から、ＰＳＡに抱合された脂質を維持する条件下で単離される、医薬組成物。
【請求項１９】
脂質に共有的に抱合された多糖Ａ（ＰＳＡ）を含む凍結乾燥形態の脂質付加ＰＳＡを含む、医薬組成物。
【請求項２０】
ＰＳＡが、
【化１】
2014520932.tif 000001
で表される反復四糖単位によって特徴付けられる構造を有する、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項２１】
脂質付加多糖Ａ（ＰＳＡ）を製造する方法であって、
ＰＳＡを過剰発現するBacteroides fragilis細胞から、ＰＳＡに抱合された脂質を維持する条件下で、脂質付加ＰＳＡを単離することを含み、ここで、脂質付加ＰＳＡが脂質に共有的に抱合されたＰＳＡを含む、前記方法。
【請求項２２】
単離するステップが、デオキシコール酸ナトリウムの不在下において行われる、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
単離するステップが、９と等しいかまたはこれより低いｐＨで行われる、請求項２１または２２に記載の方法。
【請求項２４】
単離するステップが、細胞の莢膜画分から脂質付加ＰＳＡを沈降させることを含む、請求項２１〜２３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５】
沈降させるステップが、エタノール沈殿を含む、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
さらに、穏和な酸による沈殿の処理のステップを含む、請求項２４または２５に記載の方法。
【請求項２７】
沈殿が、４〜５の範囲のｐＨ、８０〜１００℃、１〜３時間までの間で処理される、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
さらに、サイズ排除により脂質付加ＰＳＡを沈殿から生成することを含む、請求項２４〜２７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２９】
サイズ排除が、中性の緩衝液中で、デオキシコール酸ナトリウムの不在下において行われる、請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
サイズ排除が、分子ふるいクロマトグラフィーを用いて行われる、請求項２８または２９に記載の方法。
【請求項３１】
脂質に共有的に抱合された多糖Ａ（ＰＳＡ）を含む脂質付加ＰＳＡと薬学的に受容可能なキャリアとを組み合わせ、医薬組成物を形成することを含む、医薬組成物の製造方法。
【請求項３２】
医薬組成物がヒトに投与するためのものである、請求項３１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月10日(2015.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数本のナノファイバーを含むナノウェブであって、ここでナノファイバーがポリイミドを含み、かつナノウェブが坪量のグラム毎平方メートル単位当たり１.０ｋｇ／ｃｍ2以上の坪量限界の単位ｇｓｍ当たり靱性を有し；ポリイミドが全芳香族であり、かつモノマー単位ＰＭＤＡおよびＯＤＡ、またはＢＰＤＡおよびＲＯＤＡを含み；そしてポリイミドが晶化度（ＣＩ）およびイミド化度（ＤＯＩ）を有することにより特徴付けられ、ここでＤＯＩとＣＩの積が０.０８〜０.２５の間にある、上記ナノウェブ。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月16日(2015.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
入口区分１２は、大きな供給材料粒子を破壊し、供給材料を外側区分１４の溝に案内する互い違いのバーを含む。外側区分１４の内側リファイニングゾーン４４は、供給材料を入口区分から受け取る。内側リファイニングゾーン４４におけるバー３７は、バーへの入口におけるバーに対応する半径ラインと位置合わせされ、これは０度のホールドバック角
又は供給角である。内側リファイニングゾーン４４は、木材チップをリファイニングし、部分的にリファイニングされた木材チップを、外側リファイニングゾーン４６への入口に供給する。木材チップの部分的なリファイニングは、木材チップを、細かいバー３６及び狭い溝を有する外側リファイニングゾーン４６に供給することを補助する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
図１３は、平滑なトレイリング側壁１３０及び不規則な表面、例えばリーディング側壁１２８上の一連の「７」を有するバー１２０を断面で示す。図１４は、図１３に示されるようなバーのリーディング側壁上の同一の不規則な表面特徴を正面図で示す。不規則な表面の特徴は、ほとんどのリファイニングが起こるバーのリッジ１２６の付近のバー側壁上でより顕著である。不規則な表面の特徴は、バー側壁上において、プレート基板１２２の方向に次第により顕著でなくなる。不規則な表面の突起１７６は、溝を通る供給材料の移動を遅滞させる傾向があり、それによってプレートのリファイニングゾーンにおける供給材料の保持時間を増大させる。突起１７６は、リッジ１２６から基板１２２までテーパー状になる。プレートの基板１２２の付近において、突起は、リーディング側壁１２８の平滑な下部表面１７８に一体化する。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月15日(2015.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の少なくとも１つの実施形態は、紙製品を柔軟化する方法を対象とする。本方法は、有効な量の組成物をセルロース繊維を含有する密集体に添加することを含む。この組成物は、少なくとも１つの非イオン性界面活性剤および少なくとも１つのカチオン性高分子電解質ポリマー凝固剤を含む。高分子電解質ポリマー凝固剤は、全体としてカチオン性の特性を有することを特徴とし、非イオン性界面活性剤を用いて安定したエマルジョンを形成することができる。組成物は、セルロース繊維を効果的に剥離する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
高分子電解質ポリマー凝固剤は、全体としてカチオン性のポリマー内にアニオン領域を有し得る。少なくとも１つのカチオン性ポリマーは、ポリ（ＤＡＤＭＡＣ）であり得る。少なくとも１つのポリマーは、ｅｐｉ−ＤＭＡポリマーであり得る。カチオン性ポリマーは、低分子量または高分子量を有し得る。組成物は、セルロース繊維間の結合相互作用を阻止する複合体を作成し得る。組成物は、表面柔軟性を向上させ得る。紙製品は、ティッシュペーパーであり得る。密集体は、紙スラリーであり得る。組成物は、紙スラリーに添加される水溶液であり得る。組成物は、密集体の表面上に噴霧され得る。組成物は、非毒性であり得る。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
少なくとも１つの実施形態において、非イオン性界面活性剤は、非イオン性の任意の界面活性剤であり、ティッシュペーパーまたは他の紙製品の作製時に使用されるセルロース繊維を効果的に剥離するように十分に疎水性である。少なくとも１つの実施形態において、カチオン性ポリマーは、高分子電解質であり、アニオン領域を有し得るが、全体としてカチオン性の特性を有し、かつ非イオン性界面活性剤を用いて安定したエマルジョンを形成することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
これで、本発明の好ましい実施形態および代替の実施形態の説明を終了する。当業者であれば、本明細書に記載の特定の実施形態に対する他の等価物を認識することができ、それらの等価物は、本明細書に添付される特許請求の範囲によって包含されるよう意図されている。
本発明の実施態様の一部を以下の項目１−１２に列記する。
[１]
紙製品を柔軟化する方法であって、
有効な量の組成物をセルロース繊維を含有する密集体に添加することを含み、
前記組成物が、少なくとも１つの非イオン性界面活性剤と、少なくとも１つのカチオン性高分子電解質ポリマー凝固剤と、を含み、前記高分子電解質ポリマー凝固剤が、全体としてカチオン性の特性を有し、かつ前記非イオン性界面活性剤とともに安定したエマルジョンを形成することができ、
前記組成物が、前記セルロース繊維を効果的に剥離する、方法。
[２]
少なくとも１つのカチオン性ポリマーが、ｅｐｉ−ＤＭＡである、項目１に記載の方法。
[３]
少なくとも１つのカチオン性ポリマーが、ポリ（ＤＡＤＭＡＣ）である、項目１に記載の方法。
[４]
前記組成物が、前記セルロース繊維間の結合相互作用を阻止する複合体を作成する、項目１に記載の方法。
[５]
前記組成物が、表面柔軟性を改善する、項目１に記載の方法。
[６]
前記紙製品が、ティッシュペーパーである、項目１に記載の方法。
[７]
前記密集体が、紙スラリーである、項目１に記載の方法。
[８]
組成物が、紙スラリーに添加される水溶液である、項目１に記載の方法。
[９]
組成物が、前記密集体の表面に噴霧される、項目１に記載の方法。
[１０]
組成物が、非毒性である、項目１に記載の方法。
[１１]
前記高分子電解質ポリマー凝固剤が、アニオン領域を有することを特徴とするが、全体としてカチオン性の特性を有する、項目１に記載の方法。
[１２]
前記カチオン性ポリマーが、低分子量または高分子量である、項目１に記載の方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
紙製品を柔軟化する方法であって、
有効な量の組成物をセルロース繊維を含有する密集体に添加することを含み、
前記組成物が、少なくとも１つの非イオン性界面活性剤と、少なくとも１つのカチオン性高分子電解質ポリマー凝固剤と、を含み、前記高分子電解質ポリマー凝固剤が、全体としてカチオン性の特性を有し、かつ前記非イオン性界面活性剤とともに安定したエマルジョンを形成し、
前記組成物が、前記セルロース繊維を効果的に剥離する、方法。
【請求項２】
少なくとも１つのカチオン性ポリマーが、ｅｐｉ−ＤＭＡである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
少なくとも１つのカチオン性ポリマーが、ポリ（ＤＡＤＭＡＣ）である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記組成物が、前記セルロース繊維間の結合相互作用を阻止する複合体を作成する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記組成物が、表面柔軟性を改善する、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記紙製品が、ティッシュペーパーである、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記密集体が、紙スラリーである、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
組成物が、紙スラリーに添加される水溶液である、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
組成物が、前記密集体の表面に噴霧される、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
組成物が、非毒性である、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月6日(2015.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラクチドモノマー又は乳酸の塊状重合によって得られたホモポリマー、又は、ラクチドモノマー又は乳酸と、環が開いたもしくは閉じた形態のグリコリドモノマー、グリコール酸及び／又はヒドロキシ酸との共重合によって得られたコポリマーであって、
前記重合又は共重合は、少なくとも２つの連鎖調節剤の存在下で、又は、任意選択で１以上の連鎖調節剤と組み合わせて、少なくとも１つの官能化されたナノ粒子の存在下で、行われるものであり、
重合の間に得られる物質中における該ホモポリマーまたは該コポリマーの重量が少なくとも８０％であり、
前記連鎖調節剤が、
ａ）官能基を有する少なくとも２つの連鎖調節剤であって、それらの一つが他の前記調節剤もしくは前記モノマー又はこれらの両方の官能基と反応することができる少なくとも２つの官能基を有するもの、
ｂ）前記成長するポリマーと反応することができる反応性基を含有するシラン類及び少なくとも１つの連鎖調節剤によって官能化された、少なくとも１つのシリカ又は少なくとも１つのモンモリロナイト（但し、該連鎖調節剤は、前記モノマー又はシラン類によって官能化された該シリカもしくは該モンモリロナイト又はこれらの両方の官能基と反応することができる少なくとも一つの官能基を有する。）、及び、
ｃ）前記成長するポリマーと反応することができる反応性基を含有する、シラン類によって官能化された、少なくとも１つのシリカ又は少なくとも１つのモンモリロナイト、
から選択される
ホモポリマーまたはコポリマー。
【請求項２】
前記連鎖調節剤及び／又は前記シリカ又は前記モンモリロナイトは、前記モノマーの重量中０．０１％から２０％の間の量で存在している、請求項１に記載のホモポリマー又はコポリマー。
【請求項３】
官能基を有する２つの連鎖調節剤を用いて前記モノマーが重合された請求項１に記載のホモポリマー又は／コポリマーであって、
該連鎖調節剤の一方が、他方の連鎖調節剤及び／又は前記モノマー又はこれらの両方の官能基と反応することができる少なくとも２つの官能基を有する、ホモポリマー又はコポリマー。
【請求項４】
シラン類及び少なくとも１つの連鎖調節剤によって官能化された、少なくとも１つのシリカ又は少なくとも１つのモンモリロナイトの存在下で、前記モノマーが重合された請求項１に記載のホモポリマー又はコポリマーであって、
該連鎖調節剤は、前記モノマー又はシラン類によって官能化された該シリカもしくは該モンモリロナイト又はこれらの両方の官能基と反応することができる少なくとも一つの官能基を有するホモポリマー又はコポリマー。
【請求項５】
成長する該ポリマーと反応することができる反応性基を含有する、シラン類によって官能化された、少なくとも１つのシリカ又は少なくとも１つのモンモリロナイトの存在下で前記モノマーが重合された請求項１に記載のホモポリマー又はコポリマー。
【請求項６】
前記連鎖調節剤の前記官能基が、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、イソシアネート基、又は、これらの基のエステル、エポキシド、アミド、ブロックイソシアネート等の誘導体である、請求項１から５のいずれかの一項に記載されたホモポリマー又はコポリマー。
【請求項７】
前記連鎖調節剤は、ポリオール、ヒドロキシ酸、ポリ酸、ポリカルボン酸無水物、ポリアミン、アミノ酸、ポリイソシアネート及びポリエポキシドから選択される、請求項１から４のいずれかの一項に記載のホモポリマー又はコポリマー。
【請求項８】
前記連鎖調節剤の一つは、ジオール、ポリエチレングリコール、ヒドロキシ末端、酸、エステル、アミド基を有するパーフルオロポリエーテル、又はポリオールであり、前記連鎖調節剤の他方は、二酸又はポリ酸又はこれらの無水物である、請求項１から４のいずれかの一項に記載のホモポリマー又はコポリマー。
【請求項９】
前記連鎖調節剤の一つは、エチレングリコール、１，３−又は１，２−プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール、エチレンオキシド、プロピレンオキシド及びＴＨＦのオリゴマー化／共重合に由来するジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、シクロデキストリン及び糖から由来するポリオール、１，４−、１，２−又は１，３−ベンゼンジメタノール、１，４−、１，２−または１，３−シクロヘキサンジメタノール、ポリエチレングリコール、ヒドロキシ末端、酸、エステル、アミド基を有するパーフルオロポリエーテルであり、前記連鎖調節剤の他方は、メリト酸無水物、無水フマル酸、無水コハク酸、又は無水フタル酸、無水マレイン酸、１，２，４，５−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物（ピロメリット酸無水物）である、請求項１から４のいずれかの一項に記載のホモポリマー又はコポリマー。
【請求項１０】
前記シリカ又は前記モンモリロナイトが、式
【化１】
2014520908.tif 000001
の１種類以上のシラン類［但し、Ｒ及びＲ１は、−ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ３、又はｉ−プロピルであり、ｎは１〜３であり、ｍは３−ｎであり、Ｒ２は、−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）３−であり、及びＸは、エポキシド、−ＮＨ２、Ｃ５〜Ｃ１５の脂肪族鎖、−ＮＣＯ、−ＮＨ−（ＣＨ２）ｘ−ＮＨ２、アリール基である。］、または、任意選択で式（ＣＨ３）ｘ−Ｓｉ−（ＯＲ）４−ｘのシラン類［但し、ｘは４以下であり、該シラン類の量は全シラン類中５０モル％以下である。］との混合物によって、官能化されている、請求項４または５に記載のホモポリマー又はコポリマー。
【請求項１１】
前記シリカ又はモンモリロナイト上に存在するシランの量が、該鉱物の０．０１重量％から８０重量％の範囲である、請求項１０に記載のホモポリマー又はコポリマー。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月3日(2015.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空チャンバー（１）の中で移動される基板の上に少なくとも１つのマグネトロンスパッタリング装置（２、３、４）によって少粒子層を形成させる方法であって、
少なくとも１つのマグネトロン電極（５、６、７）からなる円筒形の原料物質から当該層が形成され、下記の工程：
−  回転台（１０）の上で基板ホルダー（９）によって基板を固定する工程；
−  少なくとも１つのマグネトロンスパッタリング装置（２、３、４）の中でスパッタリングガス（１１）を用いて基板の上に原料物質（５、６、７）からなる少なくとも１つの層を堆積させる工程；
が行われ、ここで、回転台（１０）を回転させることによって、マグネトロンスパッタリング装置（２、３、４）を制御することができ、マグネトロン電極（５、６、７）からなる円筒形の原料物質が重力に逆らって上向きに基板上に堆積させられ、
マグネトロンスパッタリング装置（２、３、４）における加工圧力が、３×１０−４ミリバール〜５×１０−２ミリバールまでの範囲であり、
マグネトロンスパッタリング装置（２、３、４）の中のスパッタリングガス（１１）および／または反応性ガス（８）の分圧が発生器によって調整および／または安定化される、上記方法。
【請求項２】
少なくとも１つのプラズマ源（１２）が用いられることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
少なくとも１つのプラズマ源（１２）によるプラズマの効果によって基板の表面を予備処理し、場合によりこれを反応性ガス（８）とともに行う、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
少なくとも１つのプラズマ源（１２）によるプラズマの効果のもとに層の構造および／または化学量論組成を調整する、請求項２または３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
少なくとも１つのプラズマ源（１２）が回転台（１０）によって制御される、請求項２〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
マグネトロンスパッタリング装置（２、３、４）の中のスパッタリングガス（１１）および／または反応性ガス（８）の分圧が、発生器の出力、発生器の電圧および／または発生器の電流を調整することによって行われることを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
マグネトロンスパッタリング装置が、直流電力の供給（ＤＣ）、パルス化した直流電力の供給（ＤＣパルスド）、ＨＩＰＩＭＳ、中程度周波数または高周波放電を用いて操作されることを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
プロセスを制御するために、
ａ）光透過率のモニタリング；
ｂ）光反射率のモニタリング；
ｃ）光吸収量のモニタリング； 
ｄ）単波長偏光解析またはスペクトル偏光解析；および／または
ｅ）結晶石英測定；
によって基板上の層の厚さがモニタリングされることを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
カバー（１３）における加熱可能な要素の温度が、製造すべき層に応じて設定され、および／または、その温度が被覆工程を行う間に調整される、請求項１〜８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
真空中で移動される少なくとも１つの基板の上にマグネトロン噴霧によって少粒子層を形成するための装置であって、この装置は、
ａ）円筒形の原料物質からなる少なくとも１つのマグネトロン電極（５、６、７）、発生器、スパッタリングガス（１１）を有する少なくとも１つのマグネトロンスパッタリング装置（２、３、４）；
ｂ）カバー（１３）；および
ｃ）少なくとも１つの基板ホルダー（９）を有する回転台（１０）；
を含み、カバー（１３）は装置を気密式に塞ぎ、そして回転台（１０）はマグネトロンスパッタリング装置（２、３、４）を気密式に塞ぐものであり、
かかる構成において、マグネトロンスパッタリング装置（２、３、４）はマグネトロン電極（５、６、７）の物質を重力に逆らって基板の方向に堆積させるように配置され、
マグネトロンスパッタリング装置（２、３、４）における加工圧力が、３×１０−４ミリバール〜５×１０−２ミリバールまでの範囲である、上記装置。
【請求項１１】
前記装置が少なくとも１つのプラズマ源（１２）を含む、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
回転台（１０）が、マグネトロンスパッタリング装置（２、３、４）の上に配置されていることを特徴とする、請求項１０または１１に記載の装置。
【請求項１３】
マグネトロン電極（５、６、７）が、
ａ）セラミック材料またはセラミック材料の混合物；
ｂ）溶射材料または溶射材料の混合物；
ｃ）結晶質材料；
ｄ）金属材料または金属材料の混合物；および／または
ｅ）酸化物を含む材料；
またはこれらの混合物；
を含むかまたはこれらからなるターゲットを有するか、または、そのようなターゲットからなることを特徴とする、請求項１０〜１２のいずれかに記載の装置。
【請求項１４】
基板がマグネトロン電極（５、６、７）から２〜１０ｃｍの間隔を有する、および／または、マグネトロンスパッタリング装置（２、３、４）の回転台（１０）と境界壁（１４、１５）の間の間隔が０．１〜５ｍｍである、請求項１０〜１３のいずれかに記載の装置。
【請求項１５】
マグネトロンスパッタリング装置（２、３、４）が、単一のマグネトロンの配置（２）または二重のマグネトロンの配置（３、４）で構成されていることを特徴とする、請求項１０〜１４のいずれかに記載の装置。
【請求項１６】
直流電力の供給器（ＤＣ）、パルス化した直流電力の供給器（ＤＣパルスド）、またはＨＩＰＩＭＳ、中程度周波数または高周波放電を生成するための装置を有することを特徴とする、請求項１０〜１５のいずれかに記載の装置。
【請求項１７】
二つまたは三つのマグネトロンスパッタリング装置（２、３、４）を有することを特徴とする、請求項１０〜１６のいずれかに記載の装置。
【請求項１８】
マグネトロンスパッタリング装置（２、３、４）が、真空中での１：２５のガスに対しての有効なガスの区画分離を有することを特徴とする、請求項１０〜１７のいずれかに記載の装置。
【請求項１９】
スパッタリングガス（１１）が、希ガスを含むか、および／または、希ガスからなり、および／または、
反応性ガス（８）が、酸素、窒素、テトラフルオロメタン、オクタフルオロシクロブタン、二酸化炭素およびフッ化水素からなる群のガスを含むか、またはこれらのガスからなることを特徴とする、請求項１０〜１８のいずれかに記載の装置。
【請求項２０】
光度計（１６）、偏光測定用フランジ（１７）および／または偏光の効果を用いる要素を含むことを特徴とする、請求項１０〜１９のいずれかに記載の装置。
【請求項２１】
回転台（１０）の基板ホルダー（９）が、ポリエーテルエーテルケトンを含むか、またはポリエーテルエーテルケトンからなることを特徴とする、請求項１０〜２０のいずれかに記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月21日(2015.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
歪んだ一時的な形状及び固有形状と第１及び第２の対向する表面とを有し、それぞれがその内部に幅を有する複数のスリットのうちの少なくとも１つを含む領域、を有する形状記憶ポリマーシートであって、前記複数のスリットが全スリット長を画定し、そして転移温度範囲以上に加熱される場合は、形状記憶シートがその歪んだ一時的な形状から固有形状に少なくとも部分的に変換する、形状記憶ポリマーシートと、
第１の厚さ、並びに第１及び第２の対向する表面を有する第１接着剤層であって、前記第１接着剤層が感圧接着剤を含み、そして、前記第１接着剤層の第１の対向する表面の大部分が、歪んだ一時的な形状にある前記形状記憶ポリマーシートの第１の対向する表面の大部分上に配置される、第１接着剤層と、
第２の厚さ、第１及び第２の対向する面を有する第２接着剤層であって、前記第２接着剤層の第１の対向する面の大部分が、歪んだ一時的な形状にある前記形状記憶ポリマーの第２の対向する面の大部分上に配置される、第２接着剤層と、
を備え、
前記接着剤層の少なくとも一つが発泡接着剤を含むものである、熱剥離可能な接着剤物品。
【請求項２】
歪んだ一時的な形状及び固有形状と第１及び第２の対向する面とを有し、それぞれがその内部に幅を有する複数のスリット含み、転移温度以上に加熱される場合には、その歪んだ一時的な形状から固有形状に少なくとも部分的に変換する、形状記憶ポリマーシートであって、第１及び第２の対向する面を有する第１接着剤層が、形状記憶ポリマーの第１の対向する面の大部分上に配置されている形状記憶ポリマーシート、を準備することと、
前記第１接着剤層の第２の対向する面を第１基材に適用することと、
を含む、剥離可能な接着剤物品の調製方法。
【請求項３】
歪んだ一時的な形状及び固有形状、転移温度、第１及び第２の対向する表面を有し、その内部に複数のスリットを含む領域を備える形状記憶ポリマーシートと、
第１の厚さ、並びに第１及び第２の対向する表面を有し、第１接着剤層の第１の対向する表面が、歪んだ一時的な形状にある前記形状記憶ポリマーシートの第１の対向する表面の大部分上に配置される、第１接着剤層と、
前記第１接着剤層の第２の対向する表面の大部分と接する面を有する第１基材と、
を備える、第１及び第２の対向する面を有する第１基材を備える物品を準備することと、
第１転移温度を超える第１温度まで前記物品を加熱し、前記第１の形状記憶ポリマーシートをその歪んだ一時的な形状から固有形状に変換することと、
前記第１基材を剥離することと、
前記第１接着剤層を前記第１基材上に位置したままにしておくことと、
を含む、接着剤物品の剥離方法。
【請求項４】
前記物品が、
第２接着剤層の第２の対向する面の大部分と接する第２基材を更に備え、前記第２接着剤層は剥離工程の後に前記第２基材上に位置したまま残る、請求項３に記載の接着剤物品の剥離方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月20日(2015.3.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）アルカリ金属触媒を用いるエステル交換プロセスにより形成される、アルカリ金属触媒残留物を含有するポリエーテルポリオールの水溶液を準備するステップ；
（ｂ）ステップ（ａ）のポリエーテルポリオール水溶液を、前記アルカリ金属触媒残留物の量に基づいて化学量論的に過剰の硫酸マグネシウム、亜硫酸マグネシウム又はこれらの組合せに接触させて、第２水溶液を形成するステップ；
（ｃ）ステップ（ｂ）の前記第２水溶液から、水を、１２５℃〜１４５℃の範囲の温度で除去して、１ｐｐｍ未満の残留アルカリ金属含有量を有するポリエーテルポリオール相と、アルカリ金属触媒の硫酸塩及び／又は亜硫酸塩、水酸化マグネシウム、並びに過剰の硫酸マグネシウム及び／又は亜硫酸マグネシウムを含む沈殿固体相とを含有する、脱水されたスラリーを生成するステップであって、前記沈殿固体相の粒径分布が、その中の３ミクロンより小さい粒子の量を最小化するように制御され、前記沈殿固体相における３ミクロンより小さい粒子の量が、１５体積％未満であるステップ；
（ｄ）ステップ（ｃ）の脱水されたスラリーを、濾過システムに通して、ポリエーテルポリオール相を沈殿固体相から分離するステップ；並びに
（ｅ）分離されたポリエーテルポリオール相から、ポリエーテルポリオールを回収するステップ；
を含み、前記ポリエーテルポリオールはポリ（テトラメチレンエーテル）グリコール又はそのコポリマーであり、ステップ（ｂ）の前記第２水溶液から水を除去することが、乾燥器再循環システムにおいて成し遂げられ、ステップ（ｃ）の沈殿固体相の粒径分布を制御することが、乾燥器再循環システムにおける圧力降下を制御することによって成し遂げられ、且つステップ（ｄ）の濾過システムを通るフィード速度が粒径分布によって決められる、精製されたポリエーテルポリオールを回収するための濾過方法。
【請求項２】
乾燥器再循環システムにおける圧力降下が、前記沈殿固体相における３ミクロンより小さくなる粒子の量を最小化するように最適化される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
（ａ）アルカリ金属触媒を用いるエステル交換プロセスにより形成される、アルカリ金属触媒残留物を含有するポリエーテルポリオールの水溶液を準備するステップ；
（ｂ）ステップ（ａ）のポリエーテルポリオール水溶液を、前記アルカリ金属触媒残留物の量に基づいて化学量論的に過剰の硫酸マグネシウム、亜硫酸マグネシウム又はこれらの組合せに接触させて、第２水溶液を形成するステップ；
（ｃ）ステップ（ｂ）の前記第２水溶液から、水を、１２５℃〜１４５℃の範囲の温度で除去して、１ｐｐｍ未満の残留アルカリ金属含有量を有するポリエーテルポリオール相と、アルカリ金属触媒の硫酸塩及び／又は亜硫酸塩、水酸化マグネシウム、並びに過剰の硫酸マグネシウム及び／又は亜硫酸マグネシウムを含む沈殿固体相とを含有する、脱水されたスラリーを生成するステップであって、前記沈殿固体相の粒径分布が、その中の３ミクロンより小さい粒子の量を最小化するように制御され、前記沈殿固体相における３ミクロンより小さい粒子の量が、１５体積％未満であるステップ；
（ｄ）ステップ（ｃ）の脱水されたスラリーを、濾過システムに通して、ポリエーテルポリオール相を沈殿固体相から分離するステップ；並びに
（ｅ）分離されたポリエーテルポリオール相から、ポリエーテルポリオールを回収するステップ；
を含み、前記ポリエーテルポリオールはポリ（テトラメチレンエーテル）グリコール又はそのコポリマーであり、ステップ（ｂ）の前記第２水溶液から水を除去することが、乾燥器再循環システムにおいて成し遂げられ、ステップ（ｃ）の沈殿固体相の粒径分布を制御することが、乾燥器再循環システムにおける圧力降下を制御することによって成し遂げられ、且つステップ（ｄ）の濾過システムを通るフィード速度が粒径分布によって決められ、
乾燥器再循環システムにおける圧力降下が、前記沈殿固体相における３ミクロンより小さくなる粒子の量を最小化するように最適化され、
前記の乾燥器再循環システムが再循環バルブを含み、前記再循環バルブの位置が、乾燥器再循環システムにおける圧力降下を制御するために調節可能である、精製されたポリエーテルポリオールを回収するための濾過方法。
【請求項４】
前記再循環バルブの位置が、ステップ（ａ）によるポリエーテルポリオールの分子量に基づいて決められる、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記アルカリ金属触媒が、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属アルコキシド、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ土類金属アルコキシド、及びこれらの組合せからなる群から選択され、前記沈殿固体相が、水酸化マグネシウム、前記アルカリ金属触媒の硫酸塩、及び過剰の硫酸マグネシウム、亜硫酸マグネシウム又はこれらの混合物を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記アルカリ金属触媒が、ナトリウムメチラートであり、前記沈殿固体相が、水酸化マグネシウム及び硫酸ナトリウムを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記ポリエーテルポリオールが、６５０〜３０００ダルトンの範囲の分子量を有する、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月26日(2015.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ．顔料を含んでいる植物の搾汁を、前記搾汁から非顔料化合物の少なくとも一部を除去することによって精製して、精製された顔料を抽出する工程、および
ｂ．リフラクティブウィンドウ乾燥によって前記精製された顔料を乾燥して、精製された結晶質の製品を製造する工程であって、前記製品が、前記搾汁よりも乾燥重量基準で増加した色強度および減少した糖含有量を有する工程
を含む、方法。
【請求項２】
前記顔料が、アントシアニン、カロテノイド、ベタレイン、クルクミン、カルミン酸、カルミン酸誘導体、クロロフィルおよびクロロフィル誘導体から成る群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記精製工程が、ポリマー膜装置を通す限外ろ過および透析ろ過を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ポリマー膜装置が、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）スパイラル限外ろ過膜を含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記ＰＥＳスパイラル限外ろ過膜が、約５０００ダルトンの名目分画分子量を有する、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記精製工程が、膜装置を通して前記搾汁を循環させる工程を含み、当該膜装置を通して前記搾汁を循環させる工程が、
ａ．膜装置を通して前記搾汁をろ過する工程、
ｂ．ろ過残分を回収する工程、
ｃ．前記ろ過残分を再構成する工程、および
ｄ．前記ろ過残分が乾燥重量基準で所望の色強度に達するまで工程（ａ）〜（ｂ）を繰り返す工程、
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記精製工程が吸着/脱着クロマトグラフィーを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記精製工程が発酵プロセスを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記精製工程が亜臨界または超臨界流体抽出プロセスを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
乾燥された製品を粉砕する工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記精製された顔料を乾燥する工程が凍結乾燥を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
乾燥された製品を粉砕する工程をさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
請求項１の方法によって形成されたものである組成物。