【事件の表示】
　特許第３４３８５５５号「高透明酸化珪素蒸着フィルム」の請求項１、２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第３４３８５５５号の請求項１ないし２に係る特許を維持する。
【理　由】
１．本件発明
　本件特許第３４３８５５５号の請求項１ないし２に係る発明についての出願は、平成９年１１月２８日に特許出願され、平成１５年６月１３日にその発明について特許権の設定登録がなされたものであって、その請求項１ないし２に係る発明は、それぞれ本件請求項１ないし２に記載されたとおりの以下のものと認める。
「【請求項１】プラスチックフィルムからなる基材の少なくとも片面に、ドライコーティング法によって、厚さ１００〜５００Åで、酸化度１．８以上の高酸化度酸化珪素層を施し、該高酸化度酸化珪素層上に厚さ１０〜５０Åで、酸化度１．０〜１．６の低酸化度酸化珪素層を積層してなることを特徴とする高透明酸化珪素蒸着フィルム。
 【請求項２】前記低酸化度酸化珪素層上に、ゾル・ゲル法によって酸化珪素塗膜を形成してなることを特徴とする請求項１記載の高透明酸化珪素蒸着フィルム。」
　
２．特許異議申立ての理由の概要
（１）特許異議申立人の水野由起子（以下、「申立人１」という。）は、証拠方法として甲第１ないし２号証を提示し、本件請求項１ないし２に係る発明は、甲第１ないし２号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、その特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであって、本件請求項１ないし２に係る特許は取り消されるべきものである旨主張している。
　甲第１号証：特開平４−１１５９４０号公報（以下、「引用例１」という。）
　甲第２号証：特開平６−１５８２８０号公報（以下、「引用例２」という。）
　
（２）特許異議申立人の長谷川三冶子（以下、「申立人２」という。）は、証拠方法として甲第１ないし３号証を提示し、本件請求項１ないし２に係る発明は、甲第１ないし３号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、その特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであって、本件請求項１ないし２に係る特許は取り消されるべきものである旨主張している。
　甲第１号証：特開平８−４８３６９号公報（以下、「引用例３」という。）
　甲第２号証：特開平４−８９２３６号公報（以下、「引用例４」という。）
　甲第３号証：特開平９−３９１５０号公報（以下、「引用例５」という。）
　
３．異議申立人の提示した甲各号証の記載事項
　引用例１には、以下の（ア）〜（オ）の記載が認められる。
（ア）「（１）フレキシブルプラスチックフィルムからなる基材の少なくとも片面に、ＳｉＯＸ層（０≦Ｘ＜２）、ＳｉＯ２膜が順次積層されてなる包装用フィルム。
　（２）前記ＳｉＯＸ層が基材組織と混在していることを特徴とする請求項（１）記載の包装用フィルム。」（特許請求の範囲）
（イ）「本発明に係わる包装用フィルムは、基材のフレキシブルプラスチックフィルムの少なくとも片面に、基材側からＳｉＯＸ層（０≦Ｘ＜２）、ＳｉＯ２膜が順次積層されており、前記ＳｉＯＸ層は、基材組織とＳｉＯＸ組織が相互に混在した状態となっている。
　これにより基材とＳｉＯＸ層の界面にＳｉ−Ｓｉ結合が形成されるので、優れたガスバリア性と、基材の可撓性を失うことなく、高い密着強度を発現する。」（公報第２頁右上欄下から３行〜同左下欄第７行）
（ウ）「ＳｉＯＸ層の厚さは、所望のガスバリア性を発現するためには、最低１０Å程度必要である。また、ＳｉＯＸ層の厚さが厚いと無色透明性が失われるので５０〜１００Åの範囲で設定することが好ましい。」（公報第３頁左上欄第３〜７行）
（エ）「このＳｉＯＸ層の上に作成するＳｉＯ２膜は、ＳｉＯを原料として真空蒸着法で成膜する場合、通常酸化度を上げるために、雰囲気中にＯ２ガスを導入する。・・・Ｏ／Ｓｉ比が２であれば、無色透明な膜になるため、このような組成の膜が作成可能な方法であれば、特に限定されるものではない。・・・本発明における包装用フィルムでは、ＳｉＯ２膜の膜厚が１５００Å以下でも良好なガスバリア性を有するが、好ましいＳｉＯ２膜の厚さは５００〜１２００Åの範囲である。」（公報第３頁左上欄第８行〜同右上欄第５行）
（オ）「本発明における包装用フィルムは、フレキシブルプラスチックからなる基材表面に、無色透明であるＳｉＯ２薄膜をまず成膜し、その後、ＳｉＯ２薄膜表面から膜と基材の界面にＳｉイオンを注入することにより作成することも可能である。この場合も薄膜作成方法はＣＶＤ法、スパッタリング法、真空蒸着法などどのような方法でもよい。」（公報第３頁右上欄第６〜１３行）
　
　引用例２には、以下の（カ）の記載が認められる。
（カ）「【請求項１】　プラスチックフィルムの少なくとも片面に珪素酸化物または珪素酸化物を主成分とした蒸着薄膜層を設けてなる蒸着フィルムの蒸着面に、有機金属化合物を１種または２種以上混合した溶液または該混合溶液をアルコールなどの有機溶媒に溶かして加水分解し部分縮合させたゾル溶液をコーティングし、熱処理を施すことでガラス質被膜を形成してなる蒸着フィルム。
　　　【請求項２】　有機金属化合物が、分子中に２個以上の炭素数１〜４のアルコキシル基を有し、Si,Ti,Al,B,Zr,W,Taから選ばれる１種の金属元素を含む化合物である請求項１記載の蒸着フィルム。」（特許請求の範囲）
　
　引用例３には、以下の（キ）〜（コ）の記載が認められる。
（キ）「【請求項１】透明高分子からなる基材の少なくとも片面に、無機化合物からなる透明ガスバリア層を有する透明ガスバリア材において、透明ガスバリア層が酸化珪素単独からなる第一層と炭素を含む酸化珪素からなる第二層を順次形成した積層構成であることを特徴とする透明ガスバリア材。」（特許請求の範囲請求項１）
（ク）「基材上に第一層３として設ける酸化珪素層とは、酸素と珪素との種々の化合物（ＳｉＯ、Ｓｉ2 Ｏ3 、Ｓｉ3 Ｏ4 、ＳｉＯ2 等）のいずれか１つ、あるいは２つ以上からなるものである。・・・酸化珪素層を透明高分子基材上に設ける手段としては、通常の真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等・・・が用いられる。」（段落【００２４】〜【００２５】抜粋）
（ケ）「酸化珪素単独からなる第一層３の上に形成する炭素を含む酸化珪素からなる第二層４について説明する。この炭素を含む酸化珪素層は基材フィルムや接着剤層との密着性において前記酸化珪素単独層には劣る。しかし引張りや屈曲などのストレスに対する耐性の点では優れ、後工程や実際の使用時においてガスバリア層として機能するものである。・・・この第二層の厚さは３０〜２００ｎｍの範囲にあることが好ましい。この層の厚さが３０ｎｍ以下であるとガスバリア性が不十分であり、逆に２００ｎｍ以上であると柔軟性が悪くなるためである。」（段落【００２８】〜【００３１】抜粋）
（コ）「基材の透明高分子として、厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを使用し、まずその片面にＴＭＤＳＯ、Ｏ2 、およびＨｅの混合ガスを原料として誘導結合式のＲＦプラズマによるＰＥＣＶＤによって約２０ｎｍのＳｉＯ2からなる第一層を形成した。次いでその上にＴＭＤＳＯの量を２倍にし、同様の条件によって約５０ｎｍの第二層を設け、透明ガスバリア材を得た。」（段落【００３９】）
　
　引用例４には、以下の（サ）〜（ス）の記載が認められる。
（サ）「１　プラスチック基材上に、蒸着工程の２回以上のくり返しにより、ケイ素酸化物の蒸着膜が２層以上積層された積層蒸着膜層が設けられてなることを特徴とする高バリヤー性を有する包装用材料。」（特許請求の範囲第１項）
（シ）「本発明の包装用材料におけるケイ素酸化物の積層蒸着膜層において、１回の蒸着工程で蒸着されるケイ素酸化物蒸着膜の厚さは１０〜５０ｎｍ、好ましくは２０〜４０ｎｍである。前記範囲未満の蒸着膜を積層してもバリヤー性が劣り、一方前記範囲を超える厚さの蒸着膜を積層しても効果に格別の上昇が認められないばかりか、全体が厚くなりコストも上昇する。」（公報第２頁右下欄第１〜８行）
（ス）「積層蒸着膜層におけるケイ素酸化物の組成は、ケイ素原子と酸素原子の比の平均値が１：１〜１．８、なかんずく１：１．３〜１．７であるのが好ましい。酸素原子の割合が前記範囲より多いと、バリヤー性が低下し、酸素原子の割合が前記範囲より少ないとバリヤー性は良いが、透明性がわるくなる。とくにケイ素原子と酸素原子との比の平均値は約１：１．５〜１：１．７のものが好ましい。」（公報第２頁右下欄下から４行〜同第３頁左上欄第５行）
　
　引用例５には、以下の（セ）の記載が認められる。
（セ）「【請求項１】　プラスチックフィルムの両面にケイ素の低次酸化物を主成分とした蒸着膜が設けられており、その少なくとも一方の蒸着膜の上に導電性膜が形成されているとともに、その導電性膜の上に、ケイ素アルコキシドと金属錯体との混合溶液を固体超強酸の存在下で加水分解して得られるゲル溶液の加熱処理で生成する二酸化ケイ素を主成分とする酸化物薄膜が積層されていることを特徴とする、シリカ系被膜を有する積層フィルム。」（特許請求の範囲請求項１）
　
４．当審の判断
（１）本件請求項１に係る発明（以下、「本件発明１」という。）について
（対比１）
　本件発明１と引用例１に記載された発明とを対比する。　
　引用例１には、上記摘示（ア）より「フレキシブルプラスチックフィルムからなる基材の少なくとも片面に、ＳｉＯＸ層（０≦Ｘ＜２）、ＳｉＯ２膜が順次積層されてなる包装用フィルム。」の発明（以下、「引用例発明１」という。）が記載されている。そして、引用例発明１のフレキシブルプラスチックフィルムからなる基材は、本件発明１のプラスチックフィルムからなる基材に相当し、引用例発明１のＳｉＯＸ層（０≦Ｘ＜２）は、上記摘示（ウ）より所望のガスバリア性を発現するものであって、本件発明１の低酸化度酸化珪素層に相当し、引用例発明１のＳｉＯ２膜は、上記摘示（エ）より真空蒸着法による酸化度２の無色透明な膜であって、本件発明１のドライコーティング法による酸化度１．８以上の高酸化度酸化珪素層に相当するから、
　本件発明１と引用例発明１とは、
「プラスチックフィルムからなる基材の少なくとも片面に、ドライコーティング法による酸化度１．８以上の高酸化度酸化珪素層、低酸化度酸化珪素層を施し、積層してなる透明酸化珪素蒸着フィルム」である点で一致し、
　少なくとも以下の点で相違している。
相違点１−１：
　本件発明１は、高酸化度酸化珪素層上に低酸化度酸化珪素層を積層してなるものであるのに対し、引用例発明１は、基材の少なくとも片面に、ＳｉＯＸ層（０≦Ｘ＜２）、ＳｉＯ２膜が順次積層されてなるもの（上記摘示（ア））であることから、低酸化度酸化珪素層上に高酸化度酸化珪素層を積層してなるものである点。
相違点１−２：
　高酸化度酸化珪素層は、本件発明１では、厚さ１００〜５００Åであるのに対し、引用例発明１では、上記摘示（エ）より、厚さ５００〜１２００Åが好ましいとされている点。
相違点１−３：
　低酸化度酸化珪素層は、本件発明１では、厚さ１０〜５０Åで、酸化度１．０〜１．６であるのに対し、引用例発明１では、上記摘示（ウ）より、厚さ５０〜１００Åが好ましく、ＳｉＯＸ層（０≦Ｘ＜２）であることから酸化度０〜２に相当するものである点。
相違点１−４：
　本件発明１は、高透明酸化珪素蒸着フィルムであるのに対し、引用例発明１は、透明なものではあるが、高透明であるかは不明である点。
　
（相違点について）
　まず、相違点１−１について検討する。
　引用例発明１において、基材にＳｉＯＸ層、ＳｉＯ２膜がこの順に積層されているのは、引用例１の特に上記摘示（イ）において示されているように、ＳｉＯＸ層を基材組織とＳｉＯＸ組織が相互に混在した状態とすることにより、基材とＳｉＯＸ層の界面にＳｉ−Ｓｉ結合を形成し、優れたガスバリア性を発揮させ、基材の可撓性を失うことなく、高い密着強度を発現することを目的としているからである。してみれば、引用例発明１における、基材に対するＳｉＯＸ層、ＳｉＯ２膜の積層順序は、その目的の達成のためには欠くことができない重要な構成要件となるから、引用例発明１においてこれらの積層順序を入れ替えた工夫を行うことには阻害要因があり、当業者であれば容易に想到し得ないことである。
　そこで、引用例発明１におけるこの積層順序の入れ替えに関し、上記した阻害要因を超えて当業者の動機付けとなる要因があるか、以下に引用例２〜５の記載を検討していく。
　引用例２には、上記摘示（カ）にあるように、蒸着フィルムの蒸着面にゾル溶液をコーティングすることについての発明が記載されているだけであって、相違点１−１に係る記載も示唆も認められない。
　引用例３には、上記摘示（ク）に酸素と珪素との種々の化合物のいずれかを基材の第一層とする記載が認められ、その酸化珪素層としてＳｉＯ２層も例示されているものの、上記した阻害要因を超えて、第一層を敢えてＳｉＯ２層とする動機付けとなるような記載は認められない。なお、引用例３に記載された発明と本件発明１との対比は後に詳述する。
　引用例４には、上記摘示（サ）〜（ス）に、基材上に蒸着膜が２層以上積層されたものに係る発明が記載されているものの、積層蒸着膜層を形成している２層のケイ素酸化物の組成が異なるものは記載も示唆もされていないから、相違点１−１に係るものではない。
　引用例５には、上記摘示（セ）にあるように、ケイ素の低次酸化物を主成分とした蒸着膜の上に導電性膜、酸化物薄膜が積層されたフィルムについての発明が記載されているだけであって、相違点１−１に係る記載も示唆も認められない。
　そして、本件発明１は、発明を特定するための事項として、相違点１−１に係るものを含め有することによって、高酸化度酸化珪素層により基材の凹凸を埋める（明細書の段落【００１２】）等、本件特許明細書に記載の優れた効果を奏することは明らかである。 
　以上のことから、相違点１−１は、引用例発明１に基づき、引用例１〜５の記載を参酌しても当業者が容易に想到し得ないものである。
　
（まとめ１）　
　よって、相違点１−２〜１−４について検討するまでもなく、本件発明１は、引用例１〜５に記載された事項を考慮しても、引用例１に記載された発明から当業者が容易に発明できたものであるとはいえない。
　したがって、本件発明１が引用例１、２に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるとの申立人１の主張も理由がない。
　
（対比２）
　本件発明１と引用例３に記載された発明とを対比する。　
　引用例３には、上記摘示（キ）より「透明高分子からなる基材の少なくとも片面に、無機化合物からなる透明ガスバリア層を有する透明ガスバリア材において、透明ガスバリア層が酸化珪素単独からなる第一層と炭素を含む酸化珪素からなる第二層を順次形成した積層構成であることを特徴とする透明ガスバリア材。」の発明（以下、「引用例発明３」という。）が記載されている。そして、引用例発明３の透明高分子からなる基材は、上記摘示（コ）よりポリエチレンテレフタレートフィルムを使用できるものであって、本件発明１のプラスチックフィルムからなる基材に相当し、引用例発明３の酸化珪素単独からなる第一層は、上記摘示（ク）よりドライコーティング法によるものであって、上記摘示（ケ）より第一層の上に形成する炭素を含む酸化珪素からなる第二層とで層を構成する順序から見れば、引用例発明３の第一層及び第二層は、それぞれ本件発明１の高酸化度酸化珪素層及び低酸化度酸化珪素層に対応するから、
　本件発明１と引用例発明３とは、
「プラスチックフィルムからなる基材の少なくとも片面に、ドライコーティング法によって、第一層を施し、第一層上に第二層を積層してなる透明酸化珪素蒸着フィルム」である点で一致し、
　少なくとも以下の点で相違している。
相違点２−１：
　第一層について、本件発明１は、厚さ１００〜５００Åで、酸化度１．８以上の高酸化度酸化珪素層であるのに対し、引用例発明３は、酸化珪素層であるが、酸化度についての規定がされてなく、厚さについても規定がされてない点。
相違点２−２：
　第二層について、本件発明１は、厚さ１０〜５０Åで、酸化度１．０〜１．６の低酸化度酸化珪素層であるのに対し、引用例発明３は、炭素を含む酸化珪素からなるものであって、酸化度についての規定がされてなく、ガスバリア層として厚さは３０〜２００ｎｍが好ましい（上記摘示（ケ））とされている点。
相違点２−３：
　本件発明１は、高透明酸化珪素蒸着フィルムであるのに対し、引用例発明３のものは、高透明であるかは不明である点。
　
（相違点について）
　まず、相違点２−２について検討する。
　引用例発明３において、第二層に炭素を含む酸化珪素を用いたのは、上記摘示（ケ）によれば、密着性には劣るものの引張りや屈曲などのストレスに対する耐性の点で優れ、ガスバリア層として機能させるためであると認められ、その目的の達成のためには、引用例発明３においてこの要件を欠いたものとすることは、当業者であれば容易に想到し得ないことである。
　そこで、引用例発明３において、相違点２−２に係る発明を特定するための事項の置換に想到するために、当業者の動機付けとなる要因があるか、以下に引用例４、５の記載、さらには引用例１、２の記載を検討していく。
　引用例４には、上記摘示（サ）〜（ス）に、基材上に蒸着膜が２層以上積層されたものに係る発明が記載されており、積層蒸着膜層を形成している２層のケイ素酸化物の組成について、本件発明１における酸化度に相当するケイ素原子と酸素原子の比の平均値を所定の範囲とすることが好ましい旨記載されている。しかしながら、引用例４には、該２層の酸化度を異ならせることについては記載も示唆もされておらず、また、引用例４に記載された発明における蒸着膜層の厚さも、上記摘示（シ）によれば好ましい範囲は２０〜４０ｎｍであって２００〜４００Åに相当し、当業者において、引用例発明３における相違点２−２に係る発明を特定するための事項の置換を動機付けるものであるとは到底いえない。
　引用例５には、上記摘示（セ）にあるように、ケイ素の低次酸化物を主成分とした蒸着膜の上に導電性膜、酸化物薄膜が積層されたフィルムについての発明が記載されているだけであって、相違点２−２に係る記載も示唆も認められない。
　引用例１は、上記摘示（イ）によれば、基材とＳｉＯＸ層の界面にＳｉ−Ｓｉ結合を形成し、優れたガスバリア性を発揮させるものであって、相違点２−２に係る発明を特定するための事項の置換を動機付ける記載も示唆も認められず、また、引用例２には、上記摘示（カ）にあるように、蒸着フィルムの蒸着面にゾル溶液をコーティングすることについての発明が記載されているだけであって、相違点２−２に係る記載も示唆も認められない。
　以上のことから、相違点２−２は、引用例発明３に基づき、引用例１〜５の記載を参酌しても当業者が容易に想到し得ないものである。
　
（まとめ２）　
　よって、相違点２−１、２−３について検討するまでもなく、本件発明１は、引用例１〜５に記載された事項を考慮しても、引用例３に記載された発明から当業者が容易に発明できたものであるとはいえない。
　したがって、本件発明１が引用例３〜５に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるとの申立人２の主張も理由がない。
　
（２）本件請求項２に係る発明について
　本件請求項２に係る発明を特定するための事項は、本件発明１を技術的に限定するものであるから、本件発明１が、引用例１〜５に記載された発明から当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない以上、本件請求項２に係る発明は、引用例１〜５に記載された発明から当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。
　したがって、本件請求項２に係る発明が引用例１、２に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるとの申立人１の主張、並びに、本件請求項２に係る発明が引用例３〜５に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるとの申立人２の主張も、理由がない。
　　
５．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては本件請求項１ないし２に係る発明についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１ないし２に係る発明についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１６年１２月２２日（２００４．１２．２２）