【手続補正書】
【提出日】平成27年11月2日(2015.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくともニッケル−マグネシウム混合酸化物及びマグネシウムスピネル及び任意に酸化水酸化アルミニウムを含み、炭化水素含有化合物及び二酸化炭素を改質して合成ガスを生成する触媒であって、
前記ニッケル−マグネシウム混合酸化物の平均結晶子径が１００ｎｍ以下、好ましくは７０ｎｍ以下、より好ましくは４０ｎｍ以下であり、
前記マグネシウムスピネル相の平均結晶子径が１００ｎｍ以下、好ましくは７０ｎｍ以下、より好ましくは４０ｎｍ以下であり、
前記触媒中のニッケルの割合が約３０ｍｏｌ％であり、
前記触媒中のマグネシウムの割合は８ｍｏｌ％〜３８ｍｏｌ％、好ましくは２３ｍｏｌ％〜３５ｍｏｌ％であり、
前記触媒中のアルミニウムの割合は５０ｍｏｌ％〜７０ｍｏｌ％であり、
４３．０９°２θでの前記触媒の回折反射強度は、４４．８２°２θでの回折反射強度よりも小さいか又は等しく、４３．０８°２θでの回折反射強度はより好ましくは、４４．７２°２θでの反射強度より小さいことを特徴とする触媒。
【請求項２】
ＢＥＴ表面積が１０ｍ２／ｇ〜２００ｍ２／ｇ、好ましくは１５ｍ２／ｇ〜１５０ｍ２／ｇ、より好ましくは２０ｍ２／ｇ〜１００ｍ２／ｇ、さらにより好ましくは３０ｍ２／ｇ〜８０ｍ２／ｇ、非常に特に好ましくは３０ｍ２／ｇ〜７８ｍ２／ｇ、特に３０ｍ２／ｇ〜７６ｍ２／ｇであることを特徴とする請求項１に記載の触媒。
【請求項３】
メソ孔の平均直径は好ましくは４ｎｍ〜４０ｎｍ、マクロ孔の平均直径は好ましくは３０ｎｍ〜１２０ｎｍであるメソ孔及びマクロ孔を有する二峰性の多孔構造を有し、より好ましくは、さらに平均直径が１００ｎｍ〜２０００ｎｍであるマクロ孔を有する三峰性の構造を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の触媒。
【請求項４】
前記平均孔直径（平均孔サイズ）が１５ｎｍより大きく、より好ましくは１８ｎｍより大きく、特に２０ｎｍより大きいことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の触媒。
【請求項５】
前記触媒の特徴的な突き固め密度(tamped dencity)が１５００ｇ／ｌ未満、より好ましくは１３５０ｇ／ｌ未満、さらにより好ましくは１１００ｇ／ｌ以下であり、及び／又は前記触媒を製造するための出発材料がニッケル含有塩及びヒドロタルサイト含有化合物、好ましくは硝酸ニッケル及びヒドロタルサイト、より好ましくは硝酸ニッケル六水和物及びヒドロタルサイトを含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の触媒。
【請求項６】
炭化水素含有化合物及び二酸化炭素を改質して合成ガスを生成する触媒であって、
（Ｉ）ニッケル塩及び／又はコバルト塩、好ましくは六水和物の形態の、より好ましくはニッケル六水和物及び微細化ヒドロタルサイト含有出発材料であるニッケル塩及び／又はコバルト塩を含む可融性金属塩が接触する工程と、
（ＩＩ）前記金属塩と前記ヒドロタルサイト含有出発材料を均質混合する工程と、
（ＩＩＩ）前記可融性金属塩及び前記ヒドロタルサイト含有出発材料を熱処理し、そして、その混合物を前記金属塩が溶融物の状態で存在する条件下、好ましくは３０℃〜２５０℃の温度、より好ましくは５０℃〜１４０℃の温度の条件下で加熱する工程と、
（ＩＶ）低温か成の持続時間が、好ましくは０．１時間〜２４時間であり、５００℃未満の温度、好ましくは２５０℃〜５００℃の温度で前記混合物を低温か成する工程と、
（Ｖ）成型又は成形をする工程と、
（ＶＩ）前工程で得られる前記混合物を５００℃以上の温度、好ましくは５００℃〜１０００℃の温度で、か成持続時間を好ましくは０．１時間〜２４時間として高温か成して、４３．０８°２θでの回折反射強度が、４４．８２°２θでの回折反射強度よりも小さいか又は等しく、より好ましくは、４３．０８°２θでの回折反射強度が４４．８２°２θでの反射強度よりも小さくし、前記触媒のＢＥＴ表面積が１０ｍ２／ｇ〜２００ｍ２／ｇとする工程と、
により得られる触媒。
【請求項７】
出発材料と可融性金属塩の含浸によって合成ガスを生成するための、水と二酸化炭素の存在下における炭化水素の改質のための触媒の製造方法であって、前記製造方法が
（Ｉ）可融性金属塩及び微細化ヒドロタルサイト含有出発材料が接触する工程と、
（ＩＩ）前記可融性金属塩及び前記ヒドロタルサイト含有出発材料を均質混合する工程と、
（ＩＩＩ）前記可融性金属及び前記ヒドロタルサイト含有出発材料を熱処理し、そして、その混合物を前記金属塩が金属塩溶融物の状態で存在する条件下、好ましくは３０℃〜２５０℃の温度、より好ましくは５０℃〜１４０℃の温度の条件下で加熱する工程と、
（ＩＶ）低温か成の持続時間を、好ましくは０．１時間〜２４時間として、５００℃未満の温度、好ましくは２５０℃〜５００℃の温度で前記混合物を低温か成する工程と、
（Ｖ）成型又は成形をする工程と、
（ＶＩ）高温か成の持続時間が、好ましくは０．１時間〜２４時間であり、５００℃を超える温度、好ましくは５００℃〜１０００℃、より好ましくは７００℃〜１０００℃の温度で前記混合物を高温か成する工程
を含む触媒の製造方法。
【請求項８】
前記可融性金属塩がニッケル塩及び／又はコバルト塩、好ましくは六水和物の形態のを含み、前記可融性金属塩がより好ましくは硝酸ニッケル六水和物であることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
方法工程（ＩＩ）と工程（ＩＩＩ）とを同時に行うことを特徴とする請求項７又は８に記載の方法。
【請求項１０】
方法工程（ＩＩ）と工程（ＩＩＩ）とを同時に行うことを特徴とする請求項７〜９に記載の方法。
【請求項１１】
工程（ＩＩＩ）の熱処理と、方法工程（ＩＶ）における前記混合物の低温か成が、一つの一貫した工程で行われることを特徴とする請求項７〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
工程（Ｉ）を行うときに、前記可融性金属塩が金属溶融物の形態で存在することを特徴とする請求項７〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
合成ガスを生成するための炭化水素含有化合物及び二酸化炭素の改質方法であって、請求項１〜５のいずれか一項に記載の触媒又は請求項７〜１２のいずれか一項に記載の方法により製造する触媒を使用し、前記改質方法を５００℃〜１１００℃、好ましくは６５０℃〜１０００℃、より好ましくは７００℃〜９８０℃の温度で行うことを特徴とする改質方法。
【請求項１４】
前記方法を２．０×１０５Ｐａ〜７．０×１０４Ｐａ、好ましくは１．０×１０４Ｐａ〜４．０×１０４Ｐａ、より好ましくは２．０×１０４Ｐａ〜４．０×１０４Ｐａの圧力下で行うことを特徴とする請求項１３に記載の合成ガスを生成するための炭化水素含有化合物及び二酸化炭素の改質方法。
【請求項１５】
メタン含有量及び二酸化炭素含有量がそれぞれ２０体積％〜４５体積％、水含有量が０体積％〜４０体積％、任意に水素含有量が０体積％〜４０体積％である供給流体を使用することを特徴とする請求項１３と１４のうちいずれか一項に記載の炭化水素及び二酸化炭素の改質方法。
【請求項１６】
二酸化炭素／メタンのモル比が０〜１．５、好ましくは０．３〜１．４、より好ましくは０．５〜１．３、特に０．７〜１．２、及び／又は、水／メタンのモル比が２．０未満、より好ましくは１．５未満、さらにより好ましくは１．０未満、特に０．９未満であることを特徴とする請求項１３又は１４に記載の炭化水素及び二酸化炭素の改質方法。
【請求項１７】
水素／一酸化炭素のモル比が２未満、好ましくは１．５未満、より好ましくは１．２未満である合成ガスを製造することを特徴とする請求項１３〜１６のいずれか一項に記載の炭化水素及び二酸化炭素の改質方法。