(57)【要約】【課題】透明性、引張弾性率などの他の特性を低下させずに、低温条件下での高い耐衝撃性を達成できる成形体（低温用成形体）を製造するための樹脂組成物、およびこの樹脂組成物を成形することにより得られる成形体を提供する。【解決手段】ＭＦＲ並びに共役ジエンの割合が所定の範囲を有し、特定の粘弾性挙動を示す２種類以上のブロック共重合体含有樹脂組成物、分子量が所定の範囲を有するポリスチレン、ゴム状分散粒子の体積中位粒子径並びにゲル分が所定の範囲を有するゴム変性ビニル芳香族炭化水素系重合体、を含有する樹脂組成物を成形することにより得られる低温用成形体を得る。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記（Ａ）、（Ｂ）の総量１００質量部に対する含有割合が、（Ａ）／（Ｂ）＝３０／７０〜８５／１５（質量比）であり、下記（Ａ）、（Ｂ）の総量１００質量部に対する下記（Ｃ）の含有割合が０．３〜７質量部である樹脂組成物であって、低温条件下での高い耐衝撃性を達成できる成形体を製造するための樹脂組成物。
（Ａ）；下記（ａ−１）〜（ａ−４）を満たすビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとのブロック共重合体含有樹脂組成物。
（ａ−１）；ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンのブロック共重合体を２種類以上含有する。
（ａ−２）；２００℃、４９Ｎ荷重の条件にて測定したメルトマスフローレート（ＭＦＲ）が１０ｇ／１０分〜３０ｇ／１０分である。
（ａ−３）；ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）の総量１００質量％における共役ジエンの含有割合が、１９〜３３質量％である。
（ａ−４）；動的粘弾性測定で得られる損失正接（ｔａｎδ）が−１００〜−３０℃の温度範囲に一つの極大値（ｔａｎδ（ｍａｘ）値）を有し、前記極大値の温度（ｔａｎδピーク温度）より３０℃高温のときのｔａｎδ値（ｔａｎδ（ｍａｘ＋３０℃）値）を、前記極大値（ｔａｎδ（ｍａｘ）値）で除した値が０．６以上である。
（Ｂ）；下記（ｂ−１）を満たすポリスチレン。
（ｂ−１）；ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で得られるピークトップ分子量（Ｍｐ）が、２３０，０００〜４００，０００である。
（Ｃ）；下記（ｃ−１）、（ｃ−２）を満たす、共役ジエン系ゴム状重合体にビニル芳香族炭化水素をグラフト重合して得られるゴム変性ビニル芳香族炭化水素系重合体。
（ｃ−１）；ゴム状分散粒子の体積中位粒子径が１〜４μｍである。
（ｃ−２）；ゴム状分散粒子のゲル分が１２〜２０質量％である。
【請求項２】
ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）が下記（ａ−５）、（ａ−６）を満たし、ポリスチレン（Ｂ）が下記（ｂ−２）を満たし、ゴム変性ビニル芳香族炭化水素系重合体（Ｃ）が下記（ｃ−３）を満たす、請求項１に記載の樹脂組成物。
ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）
（ａ−５）；ビニル芳香族炭化水素のブロック率が、８５〜１００質量％である。
（ａ−６）；ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で得られるＭｗ／Ｍｎが１．１〜３．５である（但し、Ｍｗ：重量平均分子量、Ｍｎ：数平均分子量）。
ポリスチレン（Ｂ）
（ｂ−２）；ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で得られるＭｗ／Ｍｎが１．９〜２．４である（但し、Ｍｗ：重量平均分子量、Ｍｎ：数平均分子量）。
ゴム変性ビニル芳香族炭化水素系重合体（Ｃ）
（ｃ−３）；ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で得られるＭｗ／Ｍｎが２．３〜２．６である（但し、Ｍｗ：重量平均分子量、Ｍｎ：数平均分子量）。
【請求項３】
ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）が、下記（ｉ−１）を満たすビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとのブロック共重合体（ｉ）と、下記（ｉｉ−１）を満たすビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとのブロック共重合体（ｉｉ）を含有する、請求項１又は２に記載の樹脂組成物。
（ｉ−１）；ゲルパーミエーションクロマトグラムにおいて、ピークトップ分子量（Ｍｐ）が１０５，０００〜２５０，０００の範囲に、少なくとも１つのピークを有する。
（ｉｉ−１）；ゲルパーミエーションクロマトグラムにおいて、ピークトップ分子量（Ｍｐ）が４０，０００〜１４０，０００の範囲に、少なくとも１つのピークを有する。
【請求項４】
ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）を構成する、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとのブロック共重合体（ｉ）が下記（ｉ−２）を満たし、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとのブロック共重合体（ｉｉ）が下記（ｉｉ−２）を満たす、請求項３に記載の樹脂組成物。  
（ｉ−２）；ブロック共重合体（ｉ）１００質量％に対して、共役ジエンの含有比率が１０〜２０質量％である。
（ｉｉ−２）；ブロック共重合体（ｉｉ）１００質量％に対して、共役ジエンの含有比率が２７〜６０質量％である。
【請求項５】
ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）を構成する、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとのブロック共重合体（ｉ）と（ｉｉ）が、（ｉ）／（ｉｉ）＝１５／８５〜６０／４０（質量比）を満たす、請求項３または４に記載の樹脂組成物。
【請求項６】
前記ビニル芳香族炭化水素がスチレンであり、共役ジエンが１，３−ブタジエンである請求項１〜５の何れか一項に記載の樹脂組成物。
【請求項７】
請求項１〜６の何れか一項に記載の樹脂組成物を成形することにより得られる、低温条件下での高い耐衝撃性を達成できる成形体。
【請求項８】
シート又は容器である、請求項７に記載の低温条件下での高い耐衝撃性を達成できる成形体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低温条件下での高い耐衝撃性を達成できる成形体（低温用成形体）を製造するための樹脂組成物、およびこの樹脂組成物を成形することにより得られる成形体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ビニル芳香族炭化水素及び共役ジエンからなり、ビニル芳香族炭化水素の含有量が比較的高いブロック共重合体を含有する樹脂組成物が、包装分野で多く用いられている。とりわけ、スチレン及びブタジエンからなるブロック共重合体と汎用ポリスチレン（ＧＰＰＳ、Ｇｅｎｅｒａｌ  Ｐｕｒｐｏｓｅ  Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ）とを混合した樹脂組成物を用いたポリスチレン系シートは、その成形体が優れた耐衝撃性等の特性を有することから、食品や雑貨等の包装用容器として幅広く使用されている。これらのシート及び容器については、耐衝撃性等における更なる特性の向上を目指して種々の提案がなされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−２９８６８号公報
【特許文献２】特開２０１３−１４４５７５号公報
【特許文献３】特開平８−１９３１６１号公報
【特許文献４】特開平６−１８４４００号公報
【特許文献５】特開２００３−１８３４７４号公報
【特許文献６】特開２００３−５５５２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、透明性、引張弾性率などの他の特性を低下させずに、低温条件下での高い耐衝撃性を達成できる成形体（低温用成形体）を製造するための樹脂組成物、およびこの樹脂組成物を成形することにより得られる成形体を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
すなわち、本発明は以下の通りである。
（１）下記（Ａ）、（Ｂ）の総量１００質量部に対する含有割合が、（Ａ）／（Ｂ）＝３０／７０〜８５／１５（質量比）であり、下記（Ａ）、（Ｂ）の総量１００質量部に対する下記（Ｃ）の含有割合が０．３〜７質量部である樹脂組成物であって、低温条件下での高い耐衝撃性を達成できる成形体を製造するための樹脂組成物。
（Ａ）；下記（ａ−１）〜（ａ−４）を満たすビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとのブロック共重合体含有樹脂組成物。
（ａ−１）；ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンのブロック共重合体を２種類以上含有する。
（ａ−２）；２００℃、４９Ｎ荷重の条件にて測定したメルトマスフローレート（ＭＦＲ）が１０ｇ／１０分〜３０ｇ／１０分である。
（ａ−３）；ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）の総量１００質量％における共役ジエンの含有割合が、１９〜３３質量％である。
（ａ−４）；動的粘弾性測定で得られる損失正接（ｔａｎδ）が−１００〜−３０℃の温度範囲に一つの極大値（ｔａｎδ（ｍａｘ）値）を有し、前記極大値の温度（ｔａｎδピーク温度）より３０℃高温のときのｔａｎδ値（ｔａｎδ（ｍａｘ＋３０℃）値）を、前記極大値（ｔａｎδ（ｍａｘ）値）で除した値が０．６以上である。
（Ｂ）；下記（ｂ−１）を満たすポリスチレン。
（ｂ−１）；ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で得られるピークトップ分子量（Ｍｐ）が、２３０，０００〜４００，０００である。
（Ｃ）；下記（ｃ−１）、（ｃ−２）を満たす、共役ジエン系ゴム状重合体にビニル芳香族炭化水素をグラフト重合して得られるゴム変性ビニル芳香族炭化水素系重合体。
（ｃ−１）；ゴム状分散粒子の体積中位粒子径が１〜４μｍである。
（ｃ−２）；ゴム状分散粒子のゲル分が１２〜２０質量％である。
（２）ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）が下記（ａ−５）、（ａ−６）を満たし、ポリスチレン（Ｂ）が下記（ｂ−２）を満たし、ゴム変性ビニル芳香族炭化水素系重合体（Ｃ）が下記（ｃ−３）を満たす、（１）に記載の樹脂組成物。
ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）
（ａ−５）；ビニル芳香族炭化水素のブロック率が、８５〜１００質量％である。
（ａ−６）；ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で得られるＭｗ／Ｍｎが１．１〜３．５である（但し、Ｍｗ：重量平均分子量、Ｍｎ：数平均分子量）。
ポリスチレン（Ｂ）
（ｂ−２）；ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で得られるＭｗ／Ｍｎが１．９〜２．４である（但し、Ｍｗ：重量平均分子量、Ｍｎ：数平均分子量）。
ゴム変性ビニル芳香族炭化水素系重合体（Ｃ）
（ｃ−３）；ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で得られるＭｗ／Ｍｎが２．３〜２．６である（但し、Ｍｗ：重量平均分子量、Ｍｎ：数平均分子量）。
（３）ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）が、下記（ｉ−１）を満たすビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとのブロック共重合体（ｉ）と、下記（ｉｉ−１）を満たすビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとのブロック共重合体（ｉｉ）を含有する、（１）又は（２）に記載の樹脂組成物。
（ｉ−１）；ゲルパーミエーションクロマトグラムにおいて、ピークトップ分子量（Ｍｐ）が１０５，０００〜２５０，０００の範囲に、少なくとも１つのピークを有する。
（ｉｉ−１）；ゲルパーミエーションクロマトグラムにおいて、ピークトップ分子量（Ｍｐ）が４０，０００〜１４０，０００の範囲に、少なくとも１つのピークを有する。
（４）ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）を構成する、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとのブロック共重合体（ｉ）が下記（ｉ−２）を満たし、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとのブロック共重合体（ｉｉ）が下記（ｉｉ−２）を満たす、（３）に記載の樹脂組成物。  
（ｉ−２）；ブロック共重合体（ｉ）１００質量％に対して、共役ジエンの含有比率が１０〜２０質量％である。
（ｉｉ−２）；ブロック共重合体（ｉｉ）１００質量％に対して、共役ジエンの含有比率が２７〜６０質量％である。
（５）ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）を構成する、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとのブロック共重合体（ｉ）と（ｉｉ）が、（ｉ）／（ｉｉ）＝１５／８５〜６０／４０（質量比）を満たす、（３）または（４）に記載の樹脂組成物。
（６）前記ビニル芳香族炭化水素がスチレンであり、共役ジエンが１，３−ブタジエンである（１）〜（５）の何れかに記載の樹脂組成物。
（７）１〜６の何れかに記載の樹脂組成物を成形することにより得られる、低温条件下での高い耐衝撃性を達成できる成形体。
（８）シート又は容器である、（７）に記載の低温条件下での高い耐衝撃性を達成できる成形体。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、透明性、引張弾性率などの他の特性を低下させずに、低温条件下での高い耐衝撃性を達成できる低温用成形体を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、本発明の一実施形態について詳細に説明する。本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の効果を阻害しない範囲で適宜変更を加えて実施することができる。
【０００８】
［樹脂組成物］
本発明の低温用成形体は、以下に述べる特徴をそれぞれ有するブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）、ポリスチレン（Ｂ）、及びゴム変性ビニル芳香族炭化水素系重合体（Ｃ）を含有する樹脂組成物を成形することにより得られる。
【０００９】
＜ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）＞
ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）は、ビニル芳香族炭化水素及び共役ジエンからなるブロック共重合体を２種類以上含有する。すなわち、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとのブロック共重合体の２種類以上からなる混合物である。ブロック共重合体が１種類の場合、成形体としてのシート、及び容器などの衝撃強度が低下するため好ましくない。また、本願発明の効果を妨げない範囲で、添加剤や他の樹脂を併用しても良い。
【００１０】
ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）に含有される２種類以上のブロック共重合体は、いずれも、ビニル芳香族炭化水素からなるポリビニル芳香族炭化水素ブロック、共役ジエンからなるポリ共役ジエンブロック、及びビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとからなるランダムブロックを、任意に組み合わせた構造が好ましい。ランダムブロックは、ビニル芳香族炭化水素および共役ジエンを一定流量で反応容器に添加し、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンをランダムに重合することで得られる構造である。ランダムブロック部分のランダム化状態はビニル芳香族炭化水素と共役ジエンの添加速度、重合温度およびランダム化剤の濃度で調整することができる。
【００１１】
ビニル芳香族炭化水素としては、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、２，５−ジメチルスチレン、α−メチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン等が挙げられる。特に、スチレンが好ましい。ビニル芳香族炭化水素は、１種のみならず２種以上用いてもよい。
【００１２】
共役ジエンとしては、１，３−ブタジエン，２−メチル−１，３−ブタジエン（イソプレン）、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、１，３−ペンタジエン、１，３−ヘキサジエン等が挙げられる。特に、好ましくは１，３−ブタジエン又はイソプレンが好ましい。共役ジエンは、１種のみならず２種以上用いてもよい。
【００１３】
ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）は、分子量の異なる少なくとも２種以上のブロック共重合体を含有する。かかるブロック共重合体の化学構造は、好ましくは、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＶ）で表され、分子量の異なる少なくとも２種のビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとのブロック共重合体を含有することが好ましい。
Ｓ−（Ｒ−Ｓ）ｎ−Ｒ−Ｓ （Ｉ）
（Ｓ−（Ｒ−Ｓ）ｎ−Ｒ−Ｓ）ｍ−Ｘ （ＩＩ）
Ｓ−（Ｂ−Ｓ）ｎ−Ｂ−Ｓ （ＩＩＩ）
（Ｓ−（Ｂ−Ｓ）ｎ−Ｂ−Ｓ）ｍ−Ｘ （ＩＶ）
【００１４】
前記一般式（Ｉ）〜（ＩＶ）において、Ｓはビニル芳香族炭化水素を単量体単位とする重合体ブロックであり、Ｒはビニル芳香族炭化水素と共役ジエンを単量体単位とするランダム共重合体ブロックであり、Ｂは共役ジエンを単量体単位とする重合体ブロックである。ｍはカップリング剤残基と結合した高分子鎖の個数を表す。ｍは１以上の整数であり、好ましくは２〜１０、より好ましくは２〜５である。ｎは繰り返し単位の個数を表し、１以上の整数である。重合操作の簡便性から、ｎは１〜５が好ましく、１〜３がより好ましい。Ｘはカップリング剤の残基を表す。
【００１５】
ブロック共重合体がこのような化学構造を有することにより、低温用成形体の耐衝撃性がより優れるようになる。
【００１６】
前記一般式（Ｉ）〜（ＩＶ）において、ＲもしくはＢに挟まれたＳの分子量に特に制限はないが、好ましくは６００以上、より好ましくは６００〜２０，０００である。ＲもしくはＢに挟まれたＳの分子量が６００以上の場合、ブロック率測定時にランダムブロックや共役ジエン重合体ブロックの区別がより明確になり、ブロック率の測定を正確かつ容易に行うことができる。つまりＲもしくはＢとＳの境界は明瞭に区別されることが好ましく、ＲもしくはＢに挟まれたＳの重合度は６以上が好ましいと考えられる。また、ＲもしくはＢに挟まれたＳの分子量が、２０，０００以下の場合、一般的なポリスチレンの絡み合い点間分子量（Ｍｅ）を超えることがない。そのため、ソフトセグメントブロックＲもしくはＢに挟まれたハードセグメントブロックＳがソフトセグメントブロックＲもしくはＢに取り込まれて、ＲもしくはＢに挟まれたＳを見かけ上、ソフトセグメントブロックとみなすことができるので、衝撃強度などの物性がより発現しやすくなる。
【００１７】
前記一般式（Ｉ）〜（ＩＶ）で表されるビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとのブロック共重合体は、後述するようなリビングアニオン重合で得ることができる。
【００１８】
ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）は、特に、下記（ｉ−１）を満たすビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとのブロック共重合体（ｉ）と、下記（ｉｉ−１）を満たすビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとのブロック共重合体（ｉｉ）とを含有することが好ましい。
（ｉ−１）；ゲルパーミエーションクロマトグラムにおいて、ピークトップ分子量（Ｍｐ）が１０５，０００〜２５０，０００の範囲に、少なくとも１つのピークを有する。
（ｉｉ−１）；ゲルパーミエーションクロマトグラムにおいて、ピークトップ分子量（Ｍｐ）が４０，０００〜１４０，０００の範囲に、少なくとも１つのピークを有する。
【００１９】
上記（ｉ−１）、（ｉｉ−１）において、ピークトップ分子量（Ｍｐ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で得られる分子量分布のピークの頂点の位置から求められるものである。ＧＰＣにおいて、複数のピークを有する場合には、最も大きい面積比を有するピークに相当するピークについての分子量である。またカップリングを実施した場合、カップリング前のピークトップ分子量を意味する。
【００２０】
ブロック共重合体（ｉ）のピークトップ分子量（Ｍｐ）が１０５，０００以上の場合、耐衝撃性の低下をより抑制することができる。ブロック共重合体（ｉ）のピークトップ分子量（Ｍｐ）が２５０，０００以下の場合、透明性の低下をより抑制することができる。特に、ピークトップ分子量（Ｍｐ）が１０５，０００〜２２０，０００が好ましく、特に、１２０，０００〜２２０，０００が好ましい。
【００２１】
また、ブロック共重合体（ｉｉ）のピークトップ分子量（Ｍｐ）が４０，０００以上の場合、剛性や透明性の低下をより抑制することができる。また、ブロック共重合体（ｉｉ）のピークトップ分子量（Ｍｐ）が１４０，０００以下の場合、衝撃強度の低下をより抑制することができる。特に、ピークトップ分子量（Ｍｐ）が４０，０００〜１２０，０００が好ましく、特に、６０，０００〜１２０，０００が好ましい。
【００２２】
ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）は、特に、下記（ｉ−２）を満たすビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとのブロック共重合体（ｉ）と、下記（ｉｉ−２）を満たすビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとのブロック共重合体（ｉｉ）とを含有することが好ましい。
（ｉ−２）；共役ジエンの含有比率（質量）が１０〜２０質量％である。
（ｉｉ−２）；共役ジエンの含有比率（質量）が２７〜６０質量％である。
【００２３】
前記（ｉ−２）において、ブロック共重合体（ｉ）の共役ジエンの含有比率（質量）が１０質量％以上の場合、耐衝撃性の低下をより抑制することができる。ブロック共重合体（ｉ）の共役ジエンの含有比率（質量）が２０質量％以下の場合、剛性の低下をより抑制することができる。特に、ブロック共重合体（ｉ）の共役ジエンの含有比率（質量）は、１０〜１８質量％が好ましく、１１〜１８質量％が特に好ましい。
【００２４】
上記、（ｉｉ−２）において、ブロック共重合体（ｉｉ）の共役ジエンの含有比率（質量）が２７質量％以上の場合、耐衝撃性の低下をより抑制することができる。ブロック共重合体（ｉｉ）の共役ジエンの含有比率（質量）が６０質量％以下の場合、剛性の低下をより抑制することができる。特に、ブロック共重合体（ｉｉ）の共役ジエンの含有比率（質量）は、２７〜４０質量％が好ましく、２７〜３８質量％がより好ましく、２９〜３７質量％が特に好ましい。
【００２５】
ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）におけるブロック共重合体（ｉ）とブロック共重合体（ｉｉ）との含有量は、（ｉ）／（ｉｉ）＝１５／８５〜６０／４０（質量比）であるのが好ましい。つまり、１５／８５以上６０／４０以下が好ましい。（ｉ）を１５質量％以上、（ｉｉ）を８５質量％以下とすることで、剛性や透明性の低下をより抑制することができる。一方、（ｉ）を６０質量％以下、（ｉｉ）を４０質量％以上とすることで、耐衝撃性の低下をより抑制することができる。（ｉ）／（ｉｉ）は、１５／８５〜５０／５０がより好ましく、２５／７５〜５０／５０が特に好ましい。つまり、１５／８５以上５０／５０以下がより好ましく、２５／７５以上５０／５０以下が特に好ましい。
【００２６】
ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）においては、２００℃、４９Ｎ荷重の条件にて測定したメルトマスフローレート（ＭＦＲ）が１０ｇ／１０分〜３０ｇ／１０分である。ＭＦＲが１０ｇ／１０分未満では、シート、及び容器の衝撃強度が低下するため好ましくない。一方、ＭＦＲが３０ｇ／１０分を超える場合には、剛性が低下するため好ましくない。特に、ＭＦＲは、好ましくは１５ｇ／１０分〜２５ｇ／１０分、より好ましくは１５ｇ／１０分〜２３ｇ／１０分、さらに好ましくは１６ｇ／１０分〜２３ｇ／１０分である。
【００２７】
ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）においては、ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）全体における共役ジエンの割合が、１９〜３３質量％である。共役ジエンの含有比率が１９質量％未満では樹脂組成物の衝撃強度が低下するため好ましくない。一方、共役ジエンの含有比率が３３質量％を超える場合には、剛性及び透明性が低下するため好ましくない。                                      
【００２８】
共役ジエン含有比率（質量）は、合成に使用した全モノマー量に対する共役ジエン量の使用割合および配合比から算出することができる。なお、モノマー使用量が不明な樹脂組成物から、樹脂組成物中の共役ジエン含有比率（質量）を分析する方法としては、例えば、以下の方法がある。
（１）試料０．１ｇをクロロホルム５０ｍＬに溶解させる。
（２）一塩化よう素／四塩化炭素溶液２５ｍＬを添加し、十分混合した後、１時間暗所で放置する。
（３）２．５％よう化カリウム溶液を７５ｍＬ加え、十分混合する。
（４）２０％チオ硫酸ナトリウム／エタノール溶液を十分に攪拌しながら、液の色が淡黄色程度となるまで、添加する。
（５）１％デンプン指示薬を約０．５ｍＬ加え、再度、２０％チオ硫酸ナトリウム／エタノール溶液で無色になるまで滴定する。
（６）滴定完了後、消費したチオ硫酸ナトリウム／エタノール溶液量ａ［ｍＬ］を計測する。
ブランクの測定による補正を実施すべく、（１）〜（６）の操作をクロロホルム単味にも実施し、消費したチオ硫酸ナトリウム／エタノール溶液量ｂ［ｍＬ］を測定する。
共役ジエンの含有率は下記の式に従い、測定値より算出することができる。
共役ジエンの含有率（％）＝〔［｛（ｂ−ａ）×０．１×ｃ×２７｝／１０００］／Ｗ〕×１００
ｃ：２０％チオ硫酸ナトリウム／エタノール溶液の力価
Ｗ：試料量［ｇ］
【００２９】
ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）においては、動的粘弾性測定で得られる損失正接（ｔａｎδ）が、−１００℃〜−３０℃の温度範囲に一つの極大値（ｔａｎδ（ｍａｘ）値）を有し、該極大値の温度（ｔａｎδピーク温度）より３０℃高温のときのｔａｎδ値（ｔａｎδ（ｍａｘ＋３０℃）値）を、前記極大値（ｔａｎδ（ｍａｘ）値）で除した値が０．６以上である。
すなわち、（ｔａｎδ（ｍａｘ＋３０℃）値／ｔａｎδ（ｍａｘ）値）が、０．６以上である。（ｔａｎδ（ｍａｘ＋３０℃）値／ｔａｎδ（ｍａｘ）値）は、より好ましくは０．６５以上、さらに好ましくは０．７０以上である。この範囲とすることで、得られる低温用成形体の耐衝撃性と透明性を、他の特性を損なうことなく、よりバランス良く向上させることができる。なお、本発明において、上記の（ｔａｎδ（ｍａｘ＋３０℃）値／ｔａｎδ（ｍａｘ）値）の比率の上限はなく、大きい方が好ましいが、通常は１未満である。
【００３０】
なお、ｔａｎδピーク温度及び（ｔａｎδ（ｍａｘ＋３０℃）値／ｔａｎδ（ｍａｘ）値）は、動的粘弾性測定（チャート）から求めることができる。測定から損失正接（ｔａｎδ）を求め、−１００℃〜−３０℃の温度範囲におけるｔａｎδ極大値を「ｔａｎδ（ｍａｘ）値」とし、その温度を「ｔａｎδピーク温度」とし、次にｔａｎδピーク温度から３０℃高い温度でのｔａｎδ値を「ｔａｎδ（ｍａｘ＋３０℃）値」とし、（ｔａｎδ（ｍａｘ＋３０℃）値／ｔａｎδ（ｍａｘ）値）を算出すればよい。
【００３１】
また、動的粘弾性測定は、下記の装置を用い、被検サンプルに周波数１Ｈｚの引っ張り方向の応力、および歪みを加え、４℃／分の割合で温度を上げながら、貯蔵弾性率（Ｅ’）、損失弾性率（Ｅ”）、及び損失正接（ｔａｎδ）を測定することができる（なおｔａｎδ＝Ｅ”／Ｅ’である）。動的粘弾性測定用の樹脂組成物のサンプルは、加熱プレスにより２００〜２２０℃の条件下で２分間加圧保持して配向を緩和させた後、急冷することにより、無配向状態の０．６ｍｍ厚シートとする。その後、温度２３℃、相対湿度５０％ＲＨに調整された室内にて２４時間以上保管して使用する。
動的粘弾性測定装置：ティー・エイ・インスツルメント社製ＲＳＡ３、
設定温度範囲：−１２０〜１３０℃、設定昇温速度：４℃／分、
測定周波数：１Ｈｚ
【００３２】
ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）においては、樹脂組成物中のビニル芳香族炭化水素のブロック率が、８５〜１００質量％であることが好ましい。ブロック率が８５質量％未満では、衝撃強度が低下するため好ましくない。特に、ブロック率は、９０〜１００質量％であることがより好ましい。ブロック率の上限は１００質量％であり、これを超えることはない。
【００３３】
ここにおける、ビニル芳香族炭化水素のブロック率は、ブロック共重合体中のポリビニル芳香族炭化水素ブロックの質量割合であって、次のようにして求めたものをいう。
「ビニル芳香族炭化水素のブロック率」（質量％）
＝（共重合体中にブロック状ホモ重合セグメントとして存在しているビニル芳香族炭化水素の質量／共重合体中に含有されているビニル芳香族炭化水素の質量）×１００
【００３４】
ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）においては、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定で得られる分子量分布、すなわち重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）が１．１〜３．５であることが好ましい。更に、Ｍｗ／Ｍｎが、１．１〜２．５であることが好ましい。Ｍｗ／Ｍｎが前記範囲であることで、得られる低温用成形体の耐衝撃性を、他の特性を損なうことなく、よりバランス良く向上させることができる。
【００３５】
（ブロック共重合体の製造方法）
ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）を構成するブロック共重合体の製造について説明する。ブロック共重合体は、有機溶媒中、有機リチウム化合物を重合開始剤としてビニル芳香族炭化水素及び共役ジエンのモノマーをアニオン重合することにより製造できる。有機溶媒は、ブタン、ペンタン、ヘキサン、イソペンタン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン等の脂肪族炭化水素、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素、又はエチルベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素などが使用できる。ブロック共重合体の溶解性の点で、有機溶媒としてはシクロヘキサンが好ましい。
【００３６】
有機リチウム化合物は、分子中に１個以上のリチウム原子が結合した化合物であり、例えばエチルリチウム、ｎ−プロピルリチウム、イソプロピルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウムのような単官能有機リチウム化合物、ヘキサメチレンジリチウム、ブタジエニルジリチウム、イソプレニルジリチウムのような多官能有機リチウム化合物等が使用できる。
【００３７】
ビニル芳香族炭化水素および共役ジエンは、前記したものを使用することができ、それぞれ１種又は２種以上を選んで重合に用いることができる。そして、前記の有機リチウム化合物を重合開始剤とするリビングアニオン重合において、重合反応に供したビニル芳香族炭化水素及び共役ジエンは、ほぼ全量が重合体に転化する。
【００３８】
ブロック共重合体の分子量は、モノマーの全添加量に対する重合開始剤の添加量により制御できる。また、ビニル芳香族炭化水素のブロック率は、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンを重合し、ブロック共重合体を作製する際のビニル芳香族炭化水素と共役ジエンの供給速度やランダム化剤の添加量により制御できる。
【００３９】
ランダム化剤は、反応中でルイス塩基として作用する化合物であり、アミン類やエーテル類、チオエーテル類、およびホスホルアミド、アルキルベンゼンスルホン酸塩、その他にカリウムまたはナトリウムのアルコキシドなどが使用可能である。アミン類としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミンなどの第三級アミンや環状第三級アミンなどが挙げられる。エーテル類としては、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジフェニルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）などが挙げられる。その他にトリフェニルフォスフィン、ヘキサメチルホスホルアミド、アルキルベンゼンスルホン酸カリウムまたはアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、カリウム、ナトリウム等のブトキシドなどを挙げることができる。ランダム化剤は、好ましくはテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）である。
【００４０】
ランダム化剤は、１種、または複数の種類を使用することができる。その添加濃度としては、原料とするモノマー１００質量部あたり０．００１〜１０質量部とすることが好ましい。添加時期は重合反応の開始前でも良いし、共重合鎖の重合前でも良い。また、必要に応じて追加添加することもできる。
【００４１】
ブロック共重合体は、全モノマーを添加し、重合が完了した後、カップリング剤を添加しカップリングを実施してもよい。カップリングとは、ポリマー鎖の片末端に位置するリビング活性部位とカップリング剤分子中の反応部位との間に共有結合が生じ、それにより２本以上のポリマー鎖同士が１つのカップリング剤分子を介して結合することをいう。カップリング剤は、リビング活性部位が攻撃しうる反応部位を１分子当たり２個以上有する化合物である。
【００４２】
カップリング剤は、限定されないが、ジメチルジクロロシラン、四塩化ケイ素、１，２−ビス（メチルジクロロシリル）エタン等のクロロシラン系化合物、ジメチルジメトキシシラン、テトラメトキシシランやテトラフェノキシシラン等のアルコキシシラン系化合物、四塩化スズ、ポリハロゲン化炭化水素、カルボン酸エステル、ポリビニル化合物、エポキシ化大豆油やエポキシ化亜麻仁油等のエポキシ化油脂などが挙げられる。カップリング剤としては、好ましくはエポキシ化油脂、さらに好ましくはエポキシ化大豆油が挙げられる。
【００４３】
カップリング剤は、１分子当たり２個の反応部位を有する二官能性カップリング剤、１分子当たり３個の反応部位を有する三官能性カップリング剤、又は１分子当たり４個の反応部位を有する四官能性カップリング剤等の多官能性のカップリング剤を用いることもできる。二官能性カップリング剤としては、ジメチルジクロロシラン、ジメチルジメトキシシラン等が挙げられる。三官能性カップリング剤としては、メチルトリクロロシラン、メチルトリメトキシシラン等が挙げられる。四官能性カップリング剤としては、テトラクロロシラン、テトラメトキシシラン、テトラフェノキシシラン等が挙げられる。また、エポキシ化油脂は、１分子当たり３個のエステル基を有する他、３個の長鎖アルキル基側には長鎖アルキル基１個あたり０〜３個のエポキシ基を有することから、多官能性のカップリング剤となる。
【００４４】
カップリング剤は１種単独で用いてもよいし、２種以上の多官能性カップリング剤を併用してもよい。また、１種以上の二官能性カップリング剤と１種以上の多官能性カップリング剤の併用も可能である。好ましくは多官能性カップリング剤を１種単独で用いるのがよい。
【００４５】
カップリング剤におけるリビング活性部位が攻撃しうる反応部位は、必ずしも完全に反応する必要はなく、一部は反応せずに残ってもよい。さらに全てのリビング活性部位を片末端に持つポリマー鎖がカップリング剤の反応部位と全て反応している必要はなく、反応せずに残ったポリマー鎖が最終的に生成したブロック共重合体に残ってもよい。そして、使用したカップリング剤の反応部位が完全に反応した際に見込まれる分岐数よりも、少ない分岐数を有するブロック共重合体が、最終的に生成したブロック共重合体に混在していても構わないし、リビング活性部位にカップリング剤が置き換わっただけの、片末端にカップリング剤のみが結合したポリマー鎖が最終生成ブロック共重合体に混在していても構わない。むしろ最終生成ブロック共重合体が、使用したカップリング剤の反応サイトが完全に反応した際に見込まれる分岐数に等しい分岐数を持つブロック共重合体、使用したカップリング剤の反応サイトが完全に反応した際に見込まれる分岐数よりも少ない分岐数を有するブロック共重合体、リビング活性部位にカップリング剤が置き換わって結合しただけのポリマー鎖、及びカップリング剤の反応サイトと反応せずに残ったポリマー鎖のいずれか２種以上が混在したものであるほうが、良好な成形加工性を得る点で好ましい。
【００４６】
カップリング剤の添加量は、任意でよいが、好ましくはリビング活性末端に対してカップリング剤の反応部位が化学量論量以上で存在するように設定される。具体的には、カップリング工程前の重合液中に存在するリビング活性末端のモル数に対して１〜２当量の反応部位が存在するようにカップリング剤の添加量を設定するのが好ましい。
【００４７】
このようにして得られたブロック共重合体は、水、アルコール、二酸化炭素などの重合停止剤を活性末端が不活性化するのに充分な量を添加することで不活性化できる。得られたブロック共重合体の有機溶媒溶液から共重合体を回収する方法としては、メタノール等の貧溶媒により析出させる方法、加熱ロール等により溶媒を蒸発させて析出させる方法（ドラムドライヤー法）、濃縮器により溶液を濃縮した後にベント式押出機で溶媒を除去する方法、溶液を水に分散させ、水蒸気を吹き込んで溶媒を加熱除去して共重合体を回収する方法（スチームストリッピング法）等、任意の方法が採用できる。
【００４８】
＜ポリスチレン（Ｂ）＞
ポリスチレン（Ｂ）（以下、「ＧＰＰＳ（Ｂ）」と示すことがある。）は、一般的なラジカル重合により製造された汎用ポリスチレン（ＧＰＰＳ）を用いることができ、重合方法としては公知の方法により製造することができる。スチレン系モノマーとしては、スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン等の単独または混合物を用いることができ、好ましくはスチレンである。また、これらのスチレン系モノマーに共重合可能なモノマー、例えばアクリロニトリル、メタクリル酸エステル、メタクリル酸、アクリル酸エステル等の単量体も本発明の効果を損なわない程度であれば共重合することができる。例えば、東洋スチレン製「トーヨースチロールＧＰ」、Ｉｎｅｏｓ  Ｓｔｙｒｏｌｕｔｉｏｎ製「Ｓｔｙｒｏｌｕｔｉｏｎ  ＰＳ」、ＫＵＭＨＯ  ＰＥＴＲＯＣＨＥＭＩＣＡＬ製「ＫＵＭＨＯ  ＧＰＰＳ」、ＰＳジャパン製「ＰＳＪ−ポリスチレン  ＧＰＰＳ」等が挙げられる。
【００４９】
ＧＰＰＳ（Ｂ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で得られるピークトップ分子量（Ｍｐ）が、２３０，０００〜４００，０００である。ＧＰＰＳのピークトップ分子量（Ｍｐ）が２３０，０００未満の場合、および４００，０００を超える場合は共に、耐衝撃性が低下する。特に、ピークトップ分子量（Ｍｐ）が２６０，０００〜３７０，０００であることが好ましい。
【００５０】
ＧＰＰＳ（Ｂ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で得られる分子量分布、すなわち重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）が１．９〜２．４であることが好ましい。Ｍｗ／Ｍｎが１．９以上の場合、成形加工性の低下をより抑制することができる。Ｍｗ／Ｍｎが２．４以下の場合、耐衝撃性の低下をより抑制することができる。
【００５１】
ＧＰＰＳ（Ｂ）は、残存スチレンモノマー及び重合溶媒の総量が、７００μｇ／ｇ以下であることが好ましい。残存スチレンモノマー及び重合溶媒の総量を、７００μｇ／ｇを超えた場合、成形加工時、ダイスからの押出時に残存スチレンモノマー及び重合溶媒が揮発しダイスに凝集して低温用成形体に付着し、外観不良や欠点となる場合がある。前記の現象を防止するためには、残存スチレンモノマー及び重合溶媒を極力低減することが有効である。特に、残存スチレンモノマー及び重合溶媒の総量が５００μｇ／ｇ以下であることがより好ましい。
【００５２】
ＧＰＰＳ（Ｂ）中の残存スチレンモノマー及び重合溶媒の量は、汎用ポリスチレン（ＧＰＰＳ）５００ｍｇを、内部標準物質としてシクロペンタノールを含むＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）１０ｍＬに溶解し、ガスクロマトグラフィーを用いて以下の条件で測定することができる。
ガスクロマトグラフィー：ＨＰ−５８９０（ヒューレットパッカード社製）
カラム：ＨＰ−ＷＡＸ（ヒューレットパッカード社製、０．２５ｍｍ×３０ｍ、膜厚０．５μｍ）
インジェクション温度：２２０℃
カラム温度：６０℃〜１５０℃、１０℃／ｍｉｎ
ディテクター温度：２２０℃
スプリット比：３０／１
【００５３】
＜ゴム変性ビニル芳香族炭化水素系重合体（Ｃ）＞
共役ジエン系ゴム状重合体にビニル芳香族炭化水素をグラフト重合して得られるゴム変性ビニル芳香族炭化水素系重合体（Ｃ）（以下、「ＨＩＰＳ（Ｃ）、Ｈｉｇｈ  Ｉｍｐａｃｔ  Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ  （Ｃ）」と示すことがある。）は、ポリ共役ジエンの存在下、スチレン系単量体をグラフト重合して得られるものであり、重合方法としては公知の方法、例えば、塊状重合法、塊状・懸濁二段重合法、溶液重合法等により製造することができる。スチレン系単量体としては、スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン等の単独または混合物が挙げられ、好ましくはスチレンである。また、これらのスチレン系単量体に共重合可能な単量体、例えばアクリロニトリル、メタクリル酸エステル、メタクリル酸、アクリル酸エステル等の単量体も本発明の効果を損なわない程度であれば共重合することができる。例えば、東洋スチレン製「トーヨースチロールＨＩ」、Ｉｎｅｏｓ  Ｓｔｙｒｏｌｕｔｉｏｎ製「Ｓｔｙｒｏｌｕｔｉｏｎ  ＰＳ」、ＰＳジャパン製「ＰＳＪ−ポリスチレン  ＨＩＰＳ」等が挙げられる。
【００５４】
ＨＩＰＳ（Ｃ）に用いるポリ共役ジエンとしては、１，４−シス構造が９０モル％以上、１，２−ビニル構造が４モル％以下であるハイシスポリブタジエン、１，４−シス構造が６５〜９５モル％、１，２−ビニル構造が４〜３０モル％であるハイシス−ハイビニルポリブタジエン、１，４−シス構造が１５〜４０モル％のローシスポリブタジエン、スチレン−ブタジエンブロック共重合体のいずれを用いてもよく、また混合物であっても良い。特に好ましくはローシスポリブタジエンであり、ローシスポリブタジエンを用いた場合、耐衝撃性の低下をより抑制することができる。
【００５５】
ＨＩＰＳ（Ｃ）のゴム状分散粒子の体積中位粒子径は、１〜４μｍであり、好ましくは１．４〜４．０μｍであり、より好ましくは２．０〜４．０μｍであり、特に好ましくは２．５〜４．０μｍである。体積中位粒子径が１μｍ未満、４μｍを超える場合は共に、耐衝撃性が低下する。
【００５６】
粒子径を調整する方法としては、重合工程においてゴム粒子の相転域での攪拌速度を調整する方法や、原料液中の連鎖移動剤の量を調整する方法などが挙げられる。
【００５７】
ＨＩＰＳ（Ｃ）のゴム状分散粒子の体積中位粒子径としては、例えば、ゴム変性スチレン系樹脂を電解液（３％テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム／９７％ジメチルホルムアミド溶液）に溶解させ、コールターマルチサイザー法（コールター社製マルチサイザーＩＩ；アパチャーチューブのオリフィス径３０μｍ）により測定して求めた体積基準の粒径分布曲線の５０体積％粒子径を用いる。
【００５８】
ＨＩＰＳ（Ｃ）のゴム状分散粒子のゲル分は、１２〜２０質量％であり、好ましくは１５〜２０質量％であり、より好ましくは１７〜２０質量％であり、特に好ましくは１７〜１９質量％である。ゲル分が１２質量％未満、２０質量％を超える場合は共に、耐衝撃性が低下する。
【００５９】
ゲル分を調整する方法としては、重合工程においてゴム含有量を調整する方法、開始剤量を調整する方法の他、重合後にスチレンのホモポリマーとのブレンドにより調整する方法などが挙げられる。ゲル分はＨＩＰＳ（Ｃ）中のゴム状分散粒子の割合であり、以下の手順により算出される。質量１．００ｇのゴム変性スチレン系樹脂を精秤し（Ｗ）、５０％メチルエチルケトン／５０％アセトン混合溶液３５ｍＬを加えて溶解し、その溶液を遠心分離機（コクサン社製Ｈ−２０００Ｂ（ローター：Ｈ））にて、１０，０００ｒｐｍで３０分間遠心分離して不溶分を沈降させ、デカンテーションにより上澄み液を除去して不溶分を得る。その不溶分を９０℃のセーフティーオーブンにて２時間予備乾燥し、更に１２０℃の真空乾燥機にて１時間減圧乾燥し、デシケーター中で２０分間冷却した後、乾燥した不溶分の質量（Ｇ）を測定して次式から算出する。
ゲル分（ゴム状分散粒子量）（質量％）＝（Ｇ／Ｗ）×１００
【００６０】
ＨＩＰＳ（Ｃ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で得られる分子量分布、すなわち重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）が２．３〜２．６であることが好ましい。Ｍｗ／Ｍｎが２．３以上、２．６以下の場合は共に、耐衝撃性の低下をより抑制することができる。
【００６１】
＜（Ａ）／（Ｂ）／（Ｃ）の配合組成＞
ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）、ＧＰＰＳ（Ｂ）、及びＨＩＰＳ（Ｃ）の含有割合は、ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）及びＧＰＰＳ（Ｂ）の総量１００質量％に対して、（Ａ）／（Ｂ）＝３０／７０〜８５／１５（質量比）であることが必要である。（Ａ）の含有割合が３０質量％未満、（Ｂ）の含有割合が７０質量％を超えた場合は、衝撃強度が低下するため好ましくない。一方、（Ｂ）の含有割合が１５質量％未満、（Ａ）の含有割合が８５質量％を超える場合は、剛性が低下するため好ましくない。（Ａ）／（Ｂ）の含有比（質量比）は、２５／７５〜７０／３０が好ましく、４０／６０〜６０／４０が特に好ましい。
【００６２】
ＨＩＰＳ（Ｃ）の含有割合は、ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）及びＧＰＰＳ（Ｂ）の総量１００質量部に対して、０．３〜７質量部であることが必要である。（Ｃ）の含有割合が０．３質量部未満である場合、衝撃強度が低下するため好ましくない。一方、（Ｃ）の含有割合が７質量部を超える場合は、透明性が低下するため好ましくない。特に、（Ｃ）の含有割合は、ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）及びＧＰＰＳ（Ｂ）の総量１００質量部に対して、１〜７質量部が好ましく、１．５〜５．０質量部が特に好ましい。
【００６３】
＜添加剤＞
樹脂組成物は、必要に応じて、さらに各種の添加剤を含有することができる。すなわち、前記ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）、ポリスチレン（Ｂ）、及び共役ジエン系ゴム状重合体にビニル芳香族炭化水素をグラフト重合して得られるゴム変性ビニル芳香族炭化水素系重合体（Ｃ）を含む樹脂組成物を製造する際や、シート及び容器への成形加工時に、各種の加熱処理を受ける場合、及び低温用成形体が酸化性雰囲気や紫外線などの照射下にて使用される場合等に、物性が劣化することに対処するため、あるいは、使用目的に適した物性をさらに付与するため、例えば、安定剤、滑剤、加工助剤、ブロッキング防止剤、帯電防止剤、防曇剤、耐候性向上剤、軟化剤、可塑剤、顔料、鉱油、フィラー、難燃剤、着色剤、顔料、消臭剤等などの添加剤を添加できる。
【００６４】
安定剤としては、例えば２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニルアクリレート、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレートや、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールなどのフェノール系酸化防止剤、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルフォスファイト、トリスノニルフェニルフォスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ‐フォスファイトなどのリン系酸化防止剤などが挙げられる。
【００６５】
滑剤、加工助剤、ブロッキング防止剤、帯電防止剤、防曇剤としては、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘニン酸などの飽和脂肪酸、パルミチン酸オクチル、ステアリン酸オクチルなどの脂肪酸エステルやペンタエリスリトール脂肪酸エステル、さらにエルカ酸アミド、オレイン酸アミド、ステアリン酸アミド、ベヘン酸アミドなどの脂肪酸アミドや、エチレンビスステアリン酸アミド、またグリセリン−モノ−脂肪酸エステル、グリセリン−ジ−脂肪酸エステル、その他にソルビタン−モノ−パルミチン酸エステル、ソルビタン−モノ−ステアリン酸エステルなどのソルビタン脂肪酸エステル、ミリスチルアルコール、セチルアルコール、ステアリルアルコールなどに代表される高級アルコールなどが挙げられる。
【００６６】
耐候性向上剤としては、２−（２'−ヒドロキシ−３'−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールなどのベンゾトリアゾール系や２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−３'，５'−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４'−ヒドロキシベンゾエートなどのサリシレート系、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系紫外線吸収剤、また、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレートなどのヒンダードアミン型耐候性向上剤が例として挙げられる。さらに流動パラフィン、シリコーンオイル、マイクロクリスタリンワックスなども加えることができる。
【００６７】
これらの添加剤は、本発明の樹脂組成物中、好ましくは７質量％以下、より好ましくは５質量％以下、特に好ましくは３質量％以下で使用することが望ましい。
【００６８】
ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）、ＧＰＰＳ（Ｂ）、及びＨＩＰＳ（Ｃ）を得る場合や、（Ａ）〜（Ｃ）を混合する場合、さらに添加剤を混合する場合等における各成分の混合方法は、特に制限はない。例えば、ヘンシェルミキサー、リボンブレンダー、Ｖブレンダー等でドライブレンドしてもよく、更に押出機で溶融してペレット化してもよい。あるいは、各重合体の製造時、重合開始前、重合反応途中、重合体の後処理等の段階で、添加してもよい。
【００６９】
＜低温用成形体＞
低温用成形体は、従来既知の任意の成形加工方法で製造することができる。例えば、上記した樹脂組成物を、押出成形、射出成形、中空成形、圧縮成形して得ることができる。つまり、低温用成形体は、各種形状の押出し成形品、射出成形品、中空成形品、圧空成形品、真空成形品、二軸延伸成形品等として、極めて多種多様にわたる実用上有用な製品とすることができる。また、これらの成形加工方法を一次加工、二次加工、三次加工のように組み合わせても良い。
【００７０】
低温用成形体の複屈折の絶対値｜△Ｎｘｙ｜は、８．０×１０−４以下であることが好ましい。｜△Ｎｘｙ｜が、８．０×１０−４以下の場合、耐衝撃性の低下をより抑制することができる。複屈折は、位相差測定装置を用いて、傾斜中心軸が遅相軸、偏光板透過軸とサンプルの遅相軸とのなす角θが３０°での標準測定方法による面内位相差測定により、複屈折△Ｎｘｙを測定し、その絶対値｜△Ｎｘｙ｜として求めることができる。
【００７１】
複屈折は、モノマー単位の構造に起因するが、完全に無定形なポリマーのバルク状態では、構造単位がランダムに配列しているため、マクロ的には等方性であり、複屈折を示さない。しかし、一般的なプラスチック材料は成形加工を通じて製品化されるため、賦形の段階でせん断力が加わり、流動配向が起こり、複屈折が生じる。
一方、流動配向により、流れ方向（ＭＤ、Ｍａｃｈｉｎｅ  Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）に分子が配向すると、流れ方向（ＭＤ）の強度は大きくなるが、ＭＤに対して垂直となる方向（ＴＤ、Ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ  Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）の強度は小さくなり、強度の異方性が生じる。これはおそらく分子が配向した状態では、エントロピーが小さく、不安定であるため、異方性を緩和するべく、ランダム状態に戻ろうとするエネルギー（分子配向エネルギー）が生じると考えられる。ＭＤは分子配向エネルギーと平行方向、つまり同一方向となるため、衝撃を加えた場合、分子配向エネルギーは衝撃エネルギーを緩和する（打ち消す）方向に働き、強度が向上すると考えられる。一方、ＴＤは分子配向エネルギーと垂直方向となるため、衝撃を加えた場合、分子配向エネルギーは衝撃エネルギーを増加する（加算する）方向に働き、強度が低下すると考えられる。つまり複屈折と強度の異方性には相関があると考えられる。
複屈折が大きい、つまり強度の異方性が大きい低温用成形体に衝撃を加えた場合、衝撃エネルギーはＭＤ／ＴＤの区別なく、均等にかかるため、強度の低い方向に亀裂（クラック）が生じやすくなる。その結果、低温用成形体全体としての強度が低下すると考えられる。つまり、複屈折が低く、よりゼロに近いほど強度の異方性を抑制でき、低温用成形体全体としての強度は向上すると考えられる。
【００７２】
低温用成形体は、流れ方向（ＭＤ）が流動配向、つまり分子の配向方向であり、スチレン系樹脂を用いているため、複屈折はマイナスの値となる。また複屈折はシート成形時のＭＤ分子配向度を表す。
【００７３】
複屈折は、成形加工条件の調整でも制御可能であるが、低温用成形体で用いるブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）のメルトマスフローレート（ＭＦＲ）でも制御が可能である。高流動なブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）を用いることにより、成形加工時の材料を高流動化することで、加工条件の調整を行うことなく、複屈折を制御することが可能となる。
【００７４】
複屈折は、位相差測定装置「ＫＯＢＲＡ−ＷＲ」（王子計測機器社製）等を用いて測定することができる。傾斜中心軸が遅相軸、偏光板透過軸とサンプルの遅相軸とのなす角θが３０°での標準測定方法による面内位相差測定により、複屈折ΔＮｘｙを測定し、試験回数１０回中、明らかな異常値を排除した平均値を用いる。測定に必要なサンプルの屈折率ＮＤは計算理論値を用いる。また位相差顕微鏡で観察することで、複屈折の符号が負となることを確認する必要がある。これらの測定により、シート成形時のＭＤ分子配向度を確認することができる。
【００７５】
＜用途＞
低温用成形体は、シート及び容器とすることができる。すなわち、容器の作製に適したポリスチレン系シート、及び該シートからなる容器とすることができる。このシート及び容器は、優れた耐衝撃性及び透明性を有する。シート及び容器は、非発泡体でも発泡体であっても良い。シート及び容器の形状は、特に限定はされず、用途により種々の形状を採り得る。例えば、弁当容器、勘合容器、大皿、プレート、トレー、ボウル、カップ、蓋、まな板、筆箱、下敷き、クリアファイル、クリアケースなどを挙げることができる。
【００７６】
シート及び容器の厚みは、特に限定はされず、用途により種々の厚みを採り得る。一般的な厚みとして、０．０５〜５ｍｍが好ましい。厚みを０．０５ｍｍ以上とすることで、シート及び容器の剛性を維持することができる。一方、厚みを５ｍｍ以下とすることで、成形加工を容易に行うことができる。特に、厚みは０．１〜１．５ｍｍが好ましい。
【実施例】
【００７７】
以下に実施例を示して本発明を更に具体的に説明するが、これらの実施例により本発明の解釈が限定されるものではない。
【００７８】
＜重合例１＞
以下の（１）〜（１２）の操作により、スチレンと１，３−ブタジエンのブロック共重合体を製造した。
（１）反応容器中にシクロヘキサン５００．０ｋｇ、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）７５．０ｇを入れた。
（２）この中に重合開始剤溶液としてｎ−ブチルリチウムの１０質量％シクロヘキサン溶液１，０６０ｍＬを加え、３０℃に保った。
（３）スチレン１０．０ｋｇを加え、内温を８０℃まで上昇させ、スチレンをアニオン重合させた。
（４）スチレンが完全に消費された後、反応系の内温を８０℃に保ちながら、総量２．０ｋｇのスチレン、および総量８．０ｋｇの１，３−ブタジエンを、それぞれ２５．０ｋｇ／ｈ（時間）、１００．０ｋｇ／ｈの一定添加速度で両者を同時に添加した。
（５）スチレンと１，３−ブタジエンが完全に消費された後、反応系の内温を８０℃に保ちながら、４．８ｋｇのスチレンを加え、スチレンをアニオン重合させた。
（６）スチレンが完全に消費された後、反応系の内温を８０℃に保ちながら、総量２．０ｋｇのスチレン、および総量８．０ｋｇの１，３−ブタジエンを、それぞれ２５．０ｋｇ／ｈ、１００．０ｋｇ／ｈの一定添加速度で両者を同時に添加した。
（７）スチレンと１，３−ブタジエンが完全に消費された後、反応系の内温を８０℃に保ちながら、４．８ｋｇのスチレンを加え、スチレンをアニオン重合させた。
（８）スチレンが完全に消費された後、反応系の内温を８０℃に保ちながら、総量２．０ｋｇのスチレン、および総量８．０ｋｇの１，３−ブタジエンを、それぞれ２５．０ｋｇ／ｈ、１００．０ｋｇ／ｈの一定添加速度で両者を同時に添加した。
（９）スチレンと１，３−ブタジエンが完全に消費された後、反応系の内温を５５℃に下げ、７５．２ｋｇのスチレンを加え、スチレンをアニオン重合させた。内温は９０℃まで上昇した。
（１０）スチレンが完全に消費された後、反応系の内温を５５℃に下げ、７５．２ｋｇのスチレンを一括添加し、重合を完結させた。
（１１）最後に全ての重合活性末端を水により失活させて、ポリスチレンブロック、スチレンとブタジエンのランダムブロックを持つＳ−（Ｒ−Ｓ）２−Ｒ−Ｓ構造の重合体を含む重合液を得た。（上記一般式中、Ｓはポリスチレンブロックを表し、Ｒはスチレンとブタジエンのランダムブロックを表す。）
（１２）この重合液を脱揮して、重合例１のブロック共重合体を得た。ピークトップ分子量（Ｍｐ）は２２１，０００、Ｍｗ／Ｍｎは１．０４であった。上記重合例１についてその要点を表１に示す。
【００７９】
＜重合例２〜８＞
上記重合例１において、上記（３）〜（１０）で使用するモノマーの量を調整することでブロック共重合体の組成を決定することができ、上記（２）で使用するｎ−ブチルリチウムの量を調整することで分子量を決定することができる。したがって、下記の表１に示した条件以外は、重合例１と同様に実施することにより、重合例２〜８のブロック共重合体を得た。上記重合例２〜８についてその要点を表１にまとめて示す。
【００８０】
＜重合例９＞
以下の（１）〜（１１）の操作により、スチレンと１，３−ブタジエンのブロック共重合体を製造した。
（１）反応容器中にシクロヘキサン５００．０ｋｇ、ＴＨＦ７５．０ｇを入れた。
（２）この中に重合開始剤溶液としてｎ−ブチルリチウムの１０質量％シクロヘキサン溶液２，０３０ｍＬを加え、３０℃に保った。
（３）スチレン１０．０ｋｇを加え、内温を８０℃まで上昇させ、スチレンをアニオン重合させた。
（４）スチレンが完全に消費された後、反応系の内温を８０℃に保ちながら、総量４．７ｋｇのスチレン、および総量１８．７ｋｇの１，３−ブタジエンを、それぞれ２５．０ｋｇ／ｈ、１００．０ｋｇ／ｈの一定添加速度で両者を同時に添加した。
（５）スチレンと１，３−ブタジエンが完全に消費された後、反応系の内温を８０℃に保ちながら、５．０ｋｇのスチレンを加え、スチレンをアニオン重合させた。
（６）スチレンが完全に消費された後、反応系の内温を８０℃に保ちながら、総量４．６ｋｇのスチレン、および総量１８．６ｋｇの１，３−ブタジエンを、それぞれ２５．０ｋｇ／ｈ、１００．０ｋｇ／ｈの一定添加速度で両者を同時に添加した。
（７）スチレンと１，３−ブタジエンが完全に消費された後、反応系の内温を８０℃に保ちながら、５．０ｋｇのスチレンを加え、スチレンをアニオン重合させた。
（８）スチレンが完全に消費された後、反応系の内温を８０℃に保ちながら、総量４．７ｋｇのスチレン、および総量１８．７ｋｇの１，３−ブタジエンを、それぞれ２５．０ｋｇ／ｈ、１００．０ｋｇ／ｈの一定添加速度で両者を同時に添加した。
（９）スチレンと１，３−ブタジエンが完全に消費された後、反応系の内温を５０℃に下げ、１１０．０ｋｇのスチレンを一括添加し、重合を完結させた。
（１０）最後に全ての重合活性末端を水により失活させて、ポリスチレンブロック、スチレンとブタジエンのランダムブロックを持つＳ−（Ｒ−Ｓ）２−Ｒ−Ｓ構造の重合体を含む重合液を得た。
（１１）この重合液を脱揮して、重合例９のブロック共重合体を得た。ピークトップ分子量（Ｍｐ）は１２１，０００、Ｍｗ／Ｍｎは１．０２であった。上記重合例９について、その要点を表２に示す。
【００８１】
＜重合例１０〜１６＞
上記重合例９において、上記（３）〜（９）で使用するモノマーの量を調整することでブロック共重合体の組成を決定することができ、また、（２）で使用するｎ−ブチルリチウム量を調整することで分子量を決定することができる。したがって、下記の表２に示した条件以外は、重合例９と同様に実施することにより、重合例１０〜１６のブロック共重合体を得た。上記重合例１０〜１６について、その要点を表２にまとめて示す。
【００８２】
＜重合例１７＞
以下の（１）〜（６）の操作により、スチレンと１，３−ブタジエンのブロック共重合体を製造した。
（１）反応容器中にシクロヘキサン５００．０ｋｇ、ＴＨＦ７５．０ｇを入れた。
（２）この中に重合開始剤溶液としてｎ−ブチルリチウムの１０質量％シクロヘキサン溶液４，２３０ｍＬを加え、３０℃に保った。
（３）スチレン４４．０ｋｇを加え、スチレンをアニオン重合させた。内温は４５℃まで上昇した。
（４）スチレンが完全に消費された後、反応系の内温を４０℃に下げ、１，３−ブタジエン９０．０ｋｇとスチレン６６．０ｋｇを同時に添加し、重合を完結させた。内温は１２５℃まで上昇した。
（５）最後に全ての重合活性末端を水により失活させて、ポリスチレンブロック、スチレンとブタジエンのテーパードブロックを有する、Ｓ−Ｔ構造（式中、Ｓはポリスチレンブロックを表し、Ｔはスチレンとブタジエンのテーパードブロックを表す）の重合体を含む重合液を得た。
（６）この重合液を脱揮して、重合例１７のブロック共重合体を得た。ピークトップ分子量（Ｍｐ）は６６，０００、Ｍｗ／Ｍｎは１．０７であった。上記重合例１７についてその要点を表３にまとめて示す。
【００８３】
＜重合例１８＞
上記重合例１７において、上記（３）、（４）で使用するモノマーの量を調整することでブロック共重合体の組成を決定することができ、また、（２）で使用するｎ−ブチルリチウム量を調整することで分子量を決定することができる。したがって、下記の表３に示した条件以外は、重合例１７と同様に実施することにより、重合例１８のブロック共重合体を得た。上記重合例１８について、その要点を表３にまとめて示す。
【００８４】
＜配合例＞
＜配合例１〜１６＞
重合例１〜１８で得られたブロック共重合体を表４に示した配合比率で混ぜ、ブロック共重合体含有樹脂組成物を製造した。かかるブロック共重合体含有樹脂組成物を、単軸押出機「ＨＶ−４０−３０」（田端機械工業社製、φ４０ｍｍ）を用い、押出温度２００℃、スクリュー回転数１００ｒｐｍで溶融混練し、ストランド状に押し出し、冷却後、ペレタイザーにてペレット化した。配合例１〜１６におけるブロック共重合体含有樹脂組成物のメルトマスフローレート（ＭＦＲ）、共役ジエン含有質量比、ｔａｎδピーク温度、（ｔａｎδ（ｍａｘ＋３０℃）値）／（ｔａｎδ（ｍａｘ）値）を表４にまとめて示した。
【００８５】
＜分子量、分散度Ｍｗ／Ｍｎの測定＞
ゲルパーミエーションクロマトグラフ（ＧＰＣ）を用いて、重量平均分子量Ｍｗ、及び数平均分子量Ｍｎ及びピークトップ分子量（Ｍｐ）を測定した。本明細書において、特に断りが無い場合、分子量はピークトップ分子量（Ｍｐ）であり、カップリングを実施した場合はカップリング前のＭｐである。また、分散度は重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）であり、カップリングを実施した場合はカップリング後のＭｗ／Ｍｎである。
ＧＰＣ装置名：「ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ」（東ソー社製）
使用カラム：「ＳｈｏｄｅｘＧＰＣＫＦ−４０４」（昭和電工社製）を直列に４本接続
カラム温度：４０℃
検出方法：示差屈折率法、移動相：テトラヒドロフラン、
サンプル濃度：２質量％
検量線：標準ポリスチレン（ＶＡＲＩＡＮ社製、ピークトップ分子量Ｍｐ＝２，５６０，０００、８４１，７００、２８０，５００、１４３，４００、６３，３５０、３１，４２０、９，９２０、２，９３０）を用いて作成した。
【００８６】
＜メルトマスフローレート（ＭＦＲ）の測定＞
フルオートマチックメルトフローインデックステスター「ＬＡＢＯＴ−ＭＩ」（安田精機製作所社製）を用い、ＪＩＳ  Ｋ７２１０（ＩＳＯ１１３３）に準拠して、２００℃、４９Ｎ荷重の条件で、メルトマスフローレート（ＭＦＲ）を測定した。
【００８７】
＜樹脂組成物のブタジエン含有比率（質量）＞
上記重合例で使用した全モノマー量に対する１，３−ブタジエン量の使用割合および配合比から、ブロック共重合体、及びブロック共重合体含有樹脂組成物中の共役ジエン含有比率をそれぞれ算出した。
【００８８】
＜樹脂組成物におけるスチレンのブロック率＞
核磁気共鳴（ＮＭＲ）を用いて１Ｈ−ＮＭＲを測定し、算出した。ポリスチレンの芳香族環に付加したプロトン５つの内、オルト位に付加した２つのプロトンとして帰属される６．２〜６．８ｐｐｍのピーク強度積分値から、プロトン５つに換算した値をブロック状スチレン量Ｗとした。
【００８９】
また、パラ位とメタ位に付加した３つのプロトンとして帰属される６．８〜７．６ｐｐｍのピーク強度の積分値を含む、６．２〜７．６ｐｐｍのピーク強度の積分値から重クロロホルムのピーク強度の積分値を除算した値を全スチレン量（全ビニル芳香族炭化水素量）Ｗ０とした。かかるＷ、Ｗ０を下記の定義式に代入することにより、ブロック率を算出した。なお、ブロック状スチレン量（ブロック状ビニル芳香族炭化水素量）Ｗは装置の感度上の理由から、５個以上のモノマー単位からなる連鎖である。
【００９０】
スチレンのブロック率（％）＝（Ｗ／Ｗ０）×１００
核磁気共鳴装置名：ブルカー・バイオスピン社製ＡＶＡＮＣＥ−３００
測定核種：１Ｈ、共鳴周波数：３００ＭＨｚ（１Ｈ）、測定溶媒：ＣＤＣｌ３
【００９１】
＜ｔａｎδピーク温度及び（ｔａｎδ（ｍａｘ＋３０℃）値／ｔａｎδ（ｍａｘ）値）＞
動的粘弾性測定（チャート）から求めた。測定から損失正接（ｔａｎδ）を求め、−１００〜−３０℃の温度範囲におけるｔａｎδ極大値の内、最大値を「ｔａｎδ（ｍａｘ）値」とし、その温度を「ｔａｎδピーク温度」とした。次にｔａｎδピーク温度から３０℃高い温度でのｔａｎδ値を「ｔａｎδ（ｍａｘ＋３０℃）値」とし、（ｔａｎδ（ｍａｘ＋３０℃）値／ｔａｎδ（ｍａｘ）値）を算出した。
【００９２】
＜動的粘弾性測定＞
下記の装置を用い、被検サンプルに周波数１Ｈｚの引っ張り方向の応力、および歪みを加え、４℃／分の割合で温度を上げながら、貯蔵弾性率（Ｅ’）、損失弾性率（Ｅ”）、及び損失正接（ｔａｎδ）を測定した（なおｔａｎδ＝Ｅ”／Ｅ’である）。動的粘弾性測定用の樹脂組成物のサンプルは、加熱プレスにより２００〜２２０℃の条件下で２分間加圧保持して配向を緩和させた後、急冷することにより、無配向状態の０．６ｍｍ厚シートとした。その後、温度２３℃、相対湿度５０％ＲＨに調整された室内にて２４時間以上保管して使用した。
動的粘弾性測定装置：ティー・エイ・インスツルメント社製ＲＳＡ３、
設定温度範囲：−１２０〜１３０℃、設定昇温速度：４℃／分、
測定周波数：１Ｈｚ
【００９３】
＜実施例１〜２７、及び比較例１〜１７＞
（シートの作製）
ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）、ＧＰＰＳ（Ｂ）、及びＨＩＰＳ（Ｃ）を表５、６に示した配合比率で混ぜて樹脂組成物とした。この樹脂組成物を用いて以下の手順でシート成形した。先端に幅４０ｃｍのＴダイを取り付けた田辺プラスチックス社製φ４０ｍｍ単軸押出機「ＶＳ４０−２６」を用い、押出温度２００℃、Ｔダイ温度２００℃、スクリュー回転数６０ｒｐｍにて、配合例の樹脂を用いてシート押出を実施し、田辺プラスチックス社製「４８０型シーティング装置」を用い、冷却ロール温度５０℃でシート厚０．６ｍｍの単層シートを作製した。シートの厚みはダイのリップ開度で調整し、シートの引き取り速度は１．３ｍ／分一定とした。使用した樹脂について表５、６に示す。
【００９４】
使用したＧＰＰＳ（Ｂ）について、ピークトップ分子量Ｍｐ、Ｍｗ／Ｍｎをまとめて表７に示す。
【００９５】
使用したＨＩＰＳ（Ｃ）について、ピークトップ分子量Ｍｐ、Ｍｗ／Ｍｎ、ゴム状分散粒子の体積中位粒子径、ゲル分をまとめて表８に示す。
【００９６】
（容器の作製）
上記で成形したシートを用い、容器成形した。「研究開発用圧空真空成形機」（浅野研究所社製）に、深さ１９ｍｍの部品トレー用金型をセットし、１１０℃で真空成形することで、容器を成形した。実施例、比較例共に問題なく成形可能であった。しかし比較例ではシート同様に、強度不足や透明性不足などが発生した。
【００９７】
（シートインパクト）
「インパクトテスター」（テスター産業社製）を用い、先端の直径が１２．７ｍｍの撃芯を使用して測定した。その他の測定条件はＡＳＴＭ  Ｄ３４２０に準拠した。打ち抜けない場合は「＞４．５」と記載した。
【００９８】
（デュポン衝撃強度）
デュポン衝撃試験機「Ｈ−１００」（東洋精機製作所社製）を用い、シートから切り出した６０ｍｍ四方の試験片２０枚を、受け台の上に置き、先端の直径が６．３５ｍｍの撃芯を試験片上に乗せ、撃芯上端に１００ｇの錘を落下させ、目視により、シートに生じた割れの有無を調べ、エネルギー値に換算して求めた。なお、本測定の前に別の予備試験片２〜３枚を用いて、シートが破壊するおおよその落錘高さを求め、１枚目は予備測定の結果から定めた落錘高さで測定し、２枚目以降は直前の測定結果を基に、シートが割れなかった場合は落錘高さを５ｃｍ上げ、割れた場合は落錘高さを５ｃｍ下げ、同様に測定した。この操作を連続して２０回行い、各回での落錘高さと割れの有無の記録から、以下に示した式によりデュポン衝撃強度を求めた。
Ｘ＝Ａに対する落錘高さの合計／Ａの枚数（ｍ）  Ａ：割れが生じないシート
Ｙ＝Ｂに対する落錘高さの合計／Ｂの枚数（ｍ）  Ｂ：割れが生じたシート
Ｚ＝（Ｘ＋Ｙ）／２（ｍ）
デュポン衝撃強度（Ｊ）＝０．１（ｋｇ）×９．８（ｍ／ｓ２）×Ｚ（ｍ）
【００９９】
（５℃、及び−２０℃条件下での測定）
「インパクトテスター」（テスター産業社製）、デュポン衝撃試験機「Ｈ−１００」（東洋精機製作所社製）、測定用サンプルを恒温恒湿室「ＴＢＥ−３Ｎ１ＡＤ＋ＨＳ」（タバイエスペック社製）の室内に設置し、室内温度を５℃、及び−２０℃へ調節した後に測定を実施した。
【０１００】
（引張弾性率）
テンシロン万能試験機「ＲＴＣ−１２１０Ａ」（エー・アンド・デイ社製）を用い、シートからＪＩＳ  Ｋ６７３２に準拠したダンベル型試験片をＭＤが長手となるように切削し、初期チャック間隔５０ｍｍ、引張速度１０ｍｍ／ｍｉｎ、２３℃環境下でＭＤへ引っ張ることで測定を行い、試験回数７回の平均を測定値とした。
【０１０１】
（透明性）
濁度計「ＮＤＨ２０００」（日本電色工業社製）を用い、ＪＩＳ  Ｋ７１３６に準じて測定し、そのＨＡＺＥ値を記載した。 
【０１０２】
実施例１〜７、比較例１の比較から明らかなように、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンのブロック共重合体が２種類の場合は、点衝撃強度の指標であるデュポン衝撃強度を維持することができるが、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンのブロック共重合体が１種類（比較例１）の場合、点衝撃強度の指標であるデュポン衝撃強度が低下した。
【０１０３】
実施例１〜７、比較例２、３の比較から明らかなように、ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）の２００℃、４９Ｎ荷重の条件にて測定したメルトマスフローレート（ＭＦＲ）が、１０ｇ／１０分未満であると、面衝撃強度の指標であるシートインパクトの−２０℃測定値や、点衝撃強度の指標であるデュポン衝撃強度が低下し、３０ｇ／１０分を超えると、面衝撃強度の指標であるシートインパクトの−２０℃測定値が低下した。
【０１０４】
実施例８〜１１、及び比較例４、５の比較から明らかなように、ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）全体における共役ジエンの含有割合が、１９質量％未満であると、面衝撃強度の指標であるシートインパクトの測定値や、点衝撃強度の指標であるデュポン衝撃強度が低下し、３３質量％を超えると、剛性や透明性が低下した。
【０１０５】
実施例１１、及び比較例６の比較から明らかなように、ｔａｎδ（ｍａｘ＋３０℃）値／ｔａｎδ（ｍａｘ）値が０．６未満であると、面衝撃強度の指標であるシートインパクトの測定値や、点衝撃強度の指標であるデュポン衝撃強度が低下した。
【０１０６】
実施例１１〜１５、及び比較例７、８の比較から明らかなように、ＧＰＰＳ（Ｂ）のピークトップ分子量（Ｍｐ）が、２３０，０００未満では、面衝撃強度の指標であるシートインパクトの測定値や、点衝撃強度の指標であるデュポン衝撃強度が低下し、４００，０００を超えると、点衝撃強度の指標であるデュポン衝撃強度が低下した。
【０１０７】
実施例３、１６〜１８、及び比較例９、１０の比較から明らかなように、ＨＩＰＳ（Ｃ）のゴム状分散粒子の体積中位粒子径が、１μｍ未満では、点衝撃強度の指標であるデュポン衝撃強度が低下し、４μｍを超えると、面衝撃強度の指標であるシートインパクトの−２０℃測定値が低下した。
【０１０８】
実施例３、１６〜１８、及び比較例１１、１２の比較から明らかなように、ＨＩＰＳ（Ｃ）のゴム状分散粒子のゲル分が、１２質量％未満では、点衝撃強度の指標であるデュポン衝撃強度が低下し、２０質量％を超えると、面衝撃強度の指標であるシートインパクトの測定値や、−２０℃における点衝撃強度の指標であるデュポン衝撃強度が低下した。
【０１０９】
実施例３、１１、１９〜２３、及び比較例１３の比較から明らかなように、ＨＩＰＳ（Ｃ）を含有した場合は、衝撃強度を維持することができるが、含有しない場合（比較例１３）は、面衝撃強度の指標であるシートインパクトの測定値や、−２０℃における点衝撃強度の指標であるデュポン衝撃強度が低下した。
【０１１０】
実施例３、１１、１９〜２３、及び比較例１４、１５の比較から明らかなように、ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）、ＧＰＰＳ（Ｂ）の総量１００質量％に対するＨＩＰＳ（Ｃ）の含有割合が０．３質量％未満の場合、面衝撃強度の指標であるシートインパクトの測定値や、−２０℃における点衝撃強度の指標であるデュポン衝撃強度が低下し、７．０質量％を超える場合、透明性が低下した。
【０１１１】
実施例３、２４〜２７、及び比較例１６、１７の比較から明らかなように、ブロック共重合体含有樹脂組成物（Ａ）、ＧＰＰＳ（Ｂ）の総量１００質量％に対する（Ａ）の含有割合が、３０質量％未満、（Ｂ）の含有割合が、７０質量％を超えた場合、面衝撃強度の指標であるシートインパクトの測定値や、点衝撃強度の指標であるデュポン衝撃強度が低下し、（Ａ）の含有割合が、８５質量％を超え、（Ｂ）の含有割合が、１５質量％未満の場合、剛性が低下した。
【０１１２】
【表１】
2018127543.tif 000002
【０１１３】
【表２】
2018127543.tif 000003
【０１１４】
【表３】
2018127543.tif 000004
【０１１５】
【表４】
2018127543.tif 000005
【０１１６】
【表５】
2018127543.tif 000006
【０１１７】
【表６】
2018127543.tif 000007
【０１１８】
【表７】
2018127543.tif 000008
【０１１９】
【表８】
2018127543.tif 000009
【産業上の利用可能性】
【０１２０】
本発明の低温用成形体は、その優れた耐衝撃性、透明性，及び機械的特性を生かし、冷蔵、冷凍食品の移送や保管中に割れの心配がなく、内容物の視認が可能な食品包装容器や飲料容器、特に氷菓子や冷蔵、冷凍食品用の容器、蓋として利用できる。また電子部品搬送用の工業用容器やトレー、日用雑貨包装容器、ブリスターパック等として広く利用できる。