【手続補正書】
【提出日】平成27年3月24日(2015.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チャック（１３）上のターゲット（２３）を処理するためのターゲット処理システムを動作させる方法であって、
前記チャック（１３）上に少なくとも第１のチャック位置マーク（２７）と第２のチャック位置マーク（２８）とを与えることと、
それぞれ、前記第１及び第２のチャック位置マーク（２７，２８）を検出するために配置された少なくとも第１のアライメントセンサ（６１）と第２のアライメントセンサ（６２）とを有するアライメント感知システム（１７）を与えることと、
前記アライメント感知システム（１７）の少なくとも１回の測定に基づいて前記チャック（１３）を第１の位置に移動させることと、
前記チャックの前記第１の位置と関連付けられた少なくとも１つの値を測定することとを具備し、
少なくとも２つの干渉計（１５）を有するチャック位置測定システムを与えることをさらに具備し、前記チャックの前記第１の位置と関連付けられた少なくとも１つの値を測定することは、前記干渉計の出力を測定することを含む方法。
【請求項２】
前記第２のチャック位置マーク（２８）に対する前記第１のチャック位置マーク（２７）の相対位置は、前記第２のアライメントセンサ（６２）に対する前記第１のアライメントセンサ（６１）の相対位置とほぼ同じである請求項１の方法。
【請求項３】
前記ターゲット（２３）上にパターニングビーム（１８）を投影するために配置される最終投影システム（１１）を与えることをさらに具備し、
前記第１のアライメントセンサ（６１）は、第１の方向（ｙ軸）に前記最終投影システム（１１）から間隔を空けて配置され、前記第２のアライメントセンサ（６２）は、第２の方向（ｘ軸）に前記最終投影システム（１１）から間隔を空けて配置される請求項１又は２の方法。
【請求項４】
前記ターゲット上にビームグリッド（６０）を形成するために、前記ターゲット上にパターニングビーム（１８）を投影することをさらに具備し、
前記第１のアライメントセンサ（６１）は、第１の方向（ｙ軸）で前記ビームグリッド（６０）から間隔を空けた位置マークを検出するために配置され、前記第２のアライメントセンサ（６２）は、第２の方向（ｘ軸）で前記ビームグリッド（６０）から間隔を空けた位置マーク（７７）を検出するために配置される請求項１ないし３のいずれか１の方法。
【請求項５】
前記チャックの前記第１の位置と関連付けられた少なくとも１つの値を測定することは、前記第１及び第２のチャック位置マーク（２７，２８）を前記第１及び第２のアライメントセンサ（６１，６２）とアライメントするために前記チャック（１３）を移動させることと、前記チャック（１３）の現在位置と関連付けられた少なくとも１つの値を測定することとを含む請求項１ないし４のいずれか１の方法。
【請求項６】
前記第１及び第２のチャック位置マーク（２７，２８）を前記第１及び第２のアライメントセンサ（６１，６２）とアライメントするために前記チャック（１３）を移動させることは、前記アライメントを達成するために、必要に応じて、２つの水平軸（ｘ，ｙ軸）に前記チャックを移動させることと、垂直軸（Ｒｚ方向）のまわりに前記チャックを回転させることとを含む請求項５の方法。
【請求項７】
前記第１の位置に位置された前記チャック（１３）に対して前記干渉計（１５）を初期化することをさらに具備する請求項１ないし６のいずれか１の方法。
【請求項８】
複数のレベルセンサ（５７，５８，５９）を有するレベル感知システム（１９）を与えることと、
前記チャック（１３）上に基準面（２６）を与えて、前記レベルセンサに対して前記基準面（２６）の向きと関連付けられた少なくとも１つの値を測定することとをさらに具備する請求項１ないし７のいずれか１の方法。
【請求項９】
前記ビームグリッド（６０）の向きに関連付けて少なくとも１つの値を測定する前に、前記レベルセンサ（５７，５８，５９）の前記基準面（２６）をレベルセンサ平面とアライメントするために前記チャック（１３）を移動させることをさらに具備する請求項８の方法。
【請求項１０】
前記レベル感知システム（１９）は、少なくとも、第１の方向（ｙ軸）に前記最終投影システム（１１）から間隔を空けて配置される第１のレベルセンサ（５７）と、第２の方向（ｘ軸）に前記最終投影システム（１１）から間隔を空けて配置される第２のレベルセンサ（５８）とを有する請求項８又は９の方法。
【請求項１１】
チャック（１３）上のターゲット（２３）を処理するためのターゲット処理システムであって、
少なくとも第１のチャック位置マーク（２７）と第２のチャック位置マーク（２８）とを含む移動可能なチャック（１３）と、
それぞれ、前記第１及び第２のチャック位置マーク（２７，２８）を検出するために配置された少なくとも第１のアライメントセンサ（６１）と第２のアライメントセンサ（６２）とを有するアライメント感知システム（１７）と、
前記アライメント感知システム（１７）の少なくとも１回の測定に基づいて前記チャック（１３）を第１の位置に移動させるために配置されたアクチュエータシステムと、
前記チャック（１３）の前記第１の位置と関連付けられた少なくとも１つの値を測定するために配置された測定システム（１０）とを具備し、
このシステムは、少なくとも２つの干渉計（１５）を有するチャック位置測定システムをさらに具備し、前記チャックの前記第１の位置と関連付けられた少なくとも１つの値を測定することは、前記干渉計の出力を測定することを含むシステム。
【請求項１２】
前記第２のチャック位置マーク（２８）に対する前記第１のチャック位置マーク（２７）の相対位置は、前記第２のアライメントセンサ（６２）に対する前記第１のアライメントセンサ（６１）の相対位置とほぼ同じである請求項１１のシステム。
【請求項１３】
前記ターゲット（２３）上にパターニングビーム（１８）を投影するために配置された最終投影システム（１１）をさらに具備し、
前記第１のアライメントセンサ（６１）は、第１の方向（ｙ軸）に前記最終投影システム（１１）から間隔を空けて配置され、前記第２のアライメントセンサ（６２）は、第２の方向（ｘ軸）に前記最終投影システム（１１）から間隔を空けて配置されている請求項１１又は１２のシステム。
【請求項１４】
前記ターゲット上にビームグリッド（６０）を形成するために、前記ターゲット上にパターニングビーム（１８）を投影するための最終投影システム（１１）をさらに具備し、
前記第１のアライメントセンサ（６１）は、第１の方向（ｙ軸）で前記ビームグリッド（６０）から間隔を空けた位置マークを検出するために配置され、前記第２のアライメントセンサ（６２）は、第２の方向（ｘ軸）で前記ビームグリッド（６０）から間隔を空けた位置マーク（７７）を検出するために配置されている請求項１１ないし１３のいずれか１のシステム。
【請求項１５】
前記チャックの前記第１の位置と関連付けられた少なくとも１つの値を測定するために、前記アクチュエータシステムは、前記第１及び第２のチャック位置マーク（２７，２８）を前記第１及び第２のアライメントセンサ（６１，６２）とアライメントするために前記チャック（１３）を移動させるために配置され、前記測定システム（１０）は、前記チャック（１３）の現在位置と関連付けられた少なくとも１つの値を測定するために配置されている請求項１１ないし１４のいずれか１のシステム。
【請求項１６】
前記ターゲット（２３）上にパターニングビーム（１８）を投影するために配置された最終投影システム（１１）と、
複数のレベルセンサ（５７，５８，５９）を有するレベル感知システム（１９）と、
前記チャック（１３）上の基準面（２６）とをさらに具備し、
前記レベル感知システム（１９）は、少なくとも、第１の方向（ｙ軸）に前記最終投影システム（１１）から間隔を空けて配置される第１のレベルセンサ（５７）と、第２の方向（ｘ軸）に前記最終投影システム（１１）から間隔を空けて配置される第２のレベルセンサ（５８）とを有する請求項１１ないし１５のいずれか１のシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１５】
ターゲットをパターニングするために電子ビームを使用するリソグラフィシステムの説明された実施の形態はまた、ターゲットをパターニングするために光ビームを使用するリソグラフィシステムに準用して適用されてもよいことが理解されることができる。上の説明は、好ましい実施の形態の動作を示すためにされており、本発明の範囲を限定することを意図していないことが理解されるべきである。上の説明から、本発明の意図及び範囲内で、添付の特許請求の範囲に包含される多くの変形が当業者に明らかである。
出願当初の特許請求の範囲に記載された発明を以下に付記する。
［１］チャック（１３）上のターゲット（２３）を処理するためのターゲット処理システムを動作させる方法であって、前記チャック（１３）上に少なくとも第１のチャック位置マーク（２７）と第２のチャック位置マーク（２８）とを与えることと、前記第１及び第２のチャック位置マーク（２７，２８）を検出するために配置され、少なくとも第１のアライメントセンサ（６１）と第２のアライメントセンサ（６２）とを有するアライメント感知システム（１７）を与えることと、前記アライメント感知システム（１７）の少なくとも１回の測定に基づいて前記チャック（１３）を第１の位置に移動させることと、前記チャックの前記第１の位置と関連付けられた少なくとも１つの値を測定することとを具備する方法。
［２］前記第２のチャック位置マーク（２８）に対する前記第１のチャック位置マーク（２７）の相対位置は、前記第２のアライメントセンサ（６２）に対する前記第１のアライメントセンサ（６１）の相対位置とほぼ同じである［１］の方法。
［３］前記アライメント感知システム（１７）は、ほぼ水平方向（ｘ，ｙ方向）で前記チャック位置マークを測定するために配置される［１］又は［２］の方法。
［４］前記ターゲット（２３）上にパターニングビーム（１８）を投影するために配置される最終投影システム（１１）を与えることをさらに具備し、前記第１のアライメントセンサ（６１）は、第１の方向（ｙ軸）に前記最終投影システム（１１）から間隔を空けて配置され、前記第２のアライメントセンサ（６２）は、第２の方向（ｘ軸）に前記最終投影システム（１１）から間隔を空けて配置される［１］ないし［３］のいずれか１の方法。
［５］前記ターゲット上にビームグリッド（６０）を形成するために、前記ターゲット上にパターニングビーム（１８）を投影することをさらに具備し、前記第１のアライメントセンサ（６１）は、前記第１の方向（ｙ軸）で前記ビームグリッド（６０）から間隔を空けた位置マークを検出するために配置され、前記第２のアライメントセンサ（６２）は、前記第２の方向（ｘ軸）で前記ビームグリッド（６０）から間隔を空けた位置マーク（７７）を検出するために配置される［１］ないし［４］のいずれか１の方法。
［６］前記ターゲット上にビームグリッド（６０）を形成するために、前記ターゲット上にパターニングビーム（１８）を投影することをさらに具備し、前記アライメント感知システム（１７）は、前記ビームグリッド（６０）から間隔を空けた位置マークを検出するために配置される１以上のアライメントセンサ（６１，６２）を有し、この方法は、前記１以上のアライメントセンサと前記ビームグリッド（６０）との空間的関係を決定することをさらに具備する［１］ないし［５］のいずれか１の方法。
［７］前記アライメント感知システム（１７）は、前記ターゲットと前記チャックとの少なくとも一方の表面上の位置マークを検出するための少なくとも１つのアライメントセンサを有し、前記アライメントセンサは、アライメント光ビームを与えるために配置される光源と、前記表面による前記アライメント光ビームの反射によって発生された反射アライメント光ビームの光強度を決定するために配置される光強度検出器と、前記表面上に前記アライメント光ビームを合焦させるために、及び、前記反射アライメント光ビームを前記光強度検出器にガイドするために配置される光学系とを有する［１］ないし［６］のいずれか１の方法。
［８］前記チャックの前記第１の位置と関連付けられた少なくとも１つの値を測定することは、前記チャック位置マーク（２７，２８）を前記アライメントセンサ（６１，６２）とアライメントするために前記チャック（１３）を移動させることと、前記チャック（１３）の現在位置と関連付けられた少なくとも１つの値を測定することとを含む［１］ないし［７］のいずれか１の方法。
［９］前記チャック位置マーク（２７，２８）を前記アライメントセンサ（６１，６２）とアライメントすることは、前記第１のチャック位置マーク（２７）を前記第１のアライメントセンサ（６１）とアライメントすることと、前記第２のチャック位置マーク（２８）を前記第２のアライメントセンサ（６２）とアライメントすることとを含む［８］の方法。
［１０］前記チャック位置マーク（２７，２８）を前記アライメントセンサ（６１，６２）とアライメントすることは、第１のアライメントセンサと第１のチャック位置マークとを、及び第２のアライメントセンサと第２のチャック位置マークとをアライメントするための最小二乗法を実行することを含む［９］の方法。
［１１］前記チャック位置マーク（２７，２８）を前記アライメントセンサ（６１，６２）とアライメントするために前記チャック（１３）を移動させることは、前記アライメントを達成するために、必要に応じて、２つの水平軸（ｘ，ｙ軸）に前記チャックを移動させることと、垂直軸（Ｒｚ方向）のまわりに前記チャックを回転させることとを含む［９］又は［１０］の方法。
［１２］少なくとも２つの干渉計（１５）を有するチャック位置測定システムを与えることをさらに具備し、前記チャックの前記第１の位置と関連付けられた少なくとも１つの値を測定することは、前記干渉計の出力を測定することを含む［１］ないし［１１］のいずれか１の方法。
［１３］前記第１の位置に位置された前記チャック（１３）に対して前記干渉計（１５）を初期化することをさらに具備する［１２］の方法。
［１４］複数のレベルセンサ（５７，５８，５９）を有するレベル感知システム（１９）を与えることと、前記チャック（１３）上に基準面（２６）を与えて、前記レベルセンサに対して前記基準面（２６）の向きと関連付けられた少なくとも１つの値を測定することとをさらに具備する［１］ないし［１３］のいずれか１の方法。
［１５］前記ビームグリッド（６０）の向きに関連付けて少なくとも１つの値を測定する前に、前記レベルセンサ（５７，５８，５９）の前記基準面（２６）をレベルセンサ平面とアライメントするために前記チャック（１３）を移動させることをさらに具備する［１４］の方法。
［１６］前記基準面（２６）を前記レベルセンサ（５７，５８，５９）のレベルセンサ平面とアライメントするために前記チャック（１３）を移動させることは、前記第１のレベルセンサ（５７）から前記基準面（２６）までの距離を測定して、前記第２のレベルセンサ（５８）から前記基準面（２６）までの距離を測定することと、前記基準面（２６）が前記レベルセンサ平面と一致するように、必要に応じて前記チャックを移動させることとを具備する［１５］の方法。
［１７］前記レベル感知システム（１９）は、少なくとも、第１の方向（ｙ軸）に前記最終投影システム（１１）から間隔を空けて配置される第１のレベルセンサ（５７）と、第２の方向（ｘ軸）に前記最終投影システム（１１）から間隔を空けて配置される第２のレベルセンサ（５８）とを有する［１４］ないし［１６］のいずれか１の方法。
［１８］前記アライメントセンサの少なくとも１つは、第１の点で前記表面（１２）上の位置マークを検出するために配置され、前記レベルセンサの少なくとも１つは、前記第１の点で、又は前記第１の点の近くで、前記表面（１２）への距離を測定するために配置される［１４］ないし［１７］のいずれか１の方法。
［１９］前記アライメント感知システム（１７）に対して前記チャック（１３）に直接又は間接的に載置されたターゲットに対する公称ターゲット中心位置を測定することをさらに具備する［１］ないし［１８］のいずれか１の方法。
［２０］前記チャックの前記第１の位置と関連付けられた測定値に少なくとも部分的に基づいて第２の位置に前記チャック（１３）を移動させることと、前記チャックの前記第２の位置と関連付けられた少なくとも１つの値を測定することとをさらに具備する［１］ないし［１９］のいずれか１の方法。
［２１］中心位置にターゲット位置マーク（８１）を有する基準ターゲット（８０）を与えることと、前記中心位置を前記アライメントセンサ（６１，６２）の少なくとも１つとアライメントするために前記チャック（１３）を移動させることと、前記チャック（１３）の現在位置を測定することとを具備する［１］ないし［２０］のいずれか１の方法。
［２２］前記アライメントセンサ（６１，６２）の各々に対して前記基準ターゲットの前記中心位置の相対位置を決定することをさらに具備する［２１］の方法。
［２３］チャック（１３）上のターゲット（２３）を処理するためのターゲット処理システムであって、少なくとも第１のチャック位置マーク（２７）と第２のチャック位置マーク（２８）とを含む移動可能なチャック（１３）と、前記第１及び第２のチャック位置マーク（２７，２８）を検出するために配置され、少なくとも第１のアライメントセンサ（６１）と第２のアライメントセンサ（６２）とを有するアライメント感知システム（１７）と、前記アライメント感知システム（１７）の少なくとも１回の測定に基づいて前記チャック（１３）を第１の位置に移動させるために配置されたアクチュエータシステムと、前記チャック（１３）の前記第１の位置と関連付けられた少なくとも１つの値を測定するために配置された測定システム（１０）とを具備するシステム。
［２４］前記第２のチャック位置マーク（２８）に対する前記第１のチャック位置マーク（２７）の相対位置は、前記第２のアライメントセンサ（６２）に対する前記第１のアライメントセンサ（６１）の相対位置とほぼ同じである［２３］のシステム。
［２５］前記アライメント感知システム（１７）は、ほぼ水平方向（ｘ，ｙ方向）で前記チャック位置マークを測定するために配置されている［２３］又は［２４］のシステム。
［２６］前記ターゲット（２３）上にパターニングビーム（１８）を投影するために配置された最終投影システム（１１）をさらに具備し、前記第１のアライメントセンサ（６１）は、第１の方向（ｙ軸）に前記最終投影システム（１１）から間隔を空けて配置され、前記第２のアライメントセンサ（６２）は、第２の方向（ｘ軸）に前記最終投影システム（１１）から間隔を空けて配置されている［２３］ないし［２５］のいずれか１のシステム。
［２７］前記ターゲット上にビームグリッド（６０）を形成するために、前記ターゲット上にパターニングビーム（１８）を投影するための最終投影システム（１１）をさらに具備し、前記第１のアライメントセンサ（６１）は、前記第１の方向（ｙ軸）で前記ビームグリッド（６０）から間隔を空けた位置マークを検出するために配置され、前記第２のアライメントセンサ（６２）は、前記第２の方向（ｘ軸）で前記ビームグリッド（６０）から間隔を空けた位置マーク（７７）を検出するために配置されている［２３］ないし［２６］のいずれか１のシステム。
［２８］前記ターゲット上にビームグリッド（６０）を形成するために、前記ターゲット上にパターニングビーム（１８）を投影するための最終投影システム（１１）をさらに具備し、前記アライメント感知システム（１７）は、前記ビームグリッド（６０）から間隔を空けた位置マークを検出するために配置された１以上のアライメントセンサ（６１，６２）を有し、このシステムは、前記１以上のアライメントセンサと前記ビームグリッド（６０）との空間的関係を決定するための測定システム（１０）をさらに具備する［２３］ないし［２７］のいずれか１のシステム。
［２９］前記測定システム（１０）は、ほぼ水平方向（ｘ，ｙ方向）で前記ビームグリッド（６０）に対する前記アライメントセンサの位置を記述する各アライメントセンサに対するベクトルを決定することによって、前記１以上のアライメントセンサと前記ビームグリッド（６０）との間の空間的関係を決定するために配置されている［２８］のシステム。
［３０］前記アライメント感知システム（１７）は、前記ターゲットと前記チャックとの少なくとも一方の表面上の位置マークを検出するための少なくとも１つのアライメントセンサを有し、前記アライメントセンサは、アライメント光ビームを与えるために配置された光源と、前記表面による前記アライメント光ビームの反射によって発生された反射アライメント光ビームの光強度を決定するために配置された光強度検出器と、前記表面上に前記アライメント光ビームを合焦させるために、及び、前記反射アライメント光ビームを前記光強度検出器にガイドするために配置された光学系とを有する［２３］ないし［２９］のいずれか１のシステム。
［３１］前記チャックの前記第１の位置と関連付けられた少なくとも１つの値を測定するために、前記アクチュエータシステムは、前記チャック位置マーク（２７，２８）を前記アライメントセンサ（６１，６２）とアライメントするために前記チャック（１３）を移動させるために配置され、前記測定システム（１０）は、前記チャック（１３）の現在位置と関連付けられた少なくとも１つの値を測定するために配置されている［２３］ないし［３０］のいずれか１のシステム。
［３２］前記チャック位置マーク（２７，２８）を前記アライメントセンサ（６１，６２）とアライメントするために前記チャック（１３）を移動させるために、前記アクチュエータシステムは、アライメントを達成するために、必要に応じて、２つの水平軸（ｘ，ｙ軸）に前記チャックを移動させるために、及び垂直軸（Ｒｚ方向）のまわりに前記チャックを回転させるために配置されている［３１］のシステム。
［３３］前記チャック位置マーク（２７，２８）を前記アライメントセンサ（６１，６２）とアライメントするために、前記測定システム（１０）は、第１のアライメントセンサと第１のチャック位置を、及び第２のアライメントセンサと第２のチャック位置マークをアライメントするための最小二乗法を実行するために配置されている［３２］のシステム。
［３４］少なくとも２つの干渉計（１５）を有するチャック位置測定システムをさらに具備し、前記チャックの前記第１の位置と関連付けられた少なくとも１つの値を測定することは、前記干渉計の出力を測定することを含む［２３］ないし［３３］のいずれか１のシステム。
［３５］複数のレベルセンサ（５７，５８，５９）を有するレベル感知システム（１９）と、前記チャック（１３）上の基準面（２６）とを具備し、前記レベルセンサに対して前記基準面（２６）の向きと関連付けられた少なくとも１つの値を測定する［２３］ないし［３４］のいずれか１のシステム。