【事件の表示】
　特許第３１４００９６号「熱処理装置」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３１４００９６号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
（１）手続きの経緯
　本件特許第３１４００９６号の請求項１に係る発明についての出願は、平成３年７月１１日になされ、平成１２年１２月１５日にその特許の設定登録がなされ、その後、泉和武より特許異議の申立てがなされ、平成１４年１０月１１日付けで取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１４年１２月１３日に訂正請求がなされたものである。
　
（２）訂正の適否についての判断
ア．訂正の内容
＊訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１における、「前記上下動機構の支持フレーム上に前記回転軸を中心にし、所定の角度間隔を設けて立設した複数の支持軸及びスプリングを備えて前記キャップを前記上下動機構上に弾性的に支持する弾性支持機構」を、「前記上下動機構の支持フレーム上に前記回転軸を中心に所定の角度間隔を設けて立設した複数の支持軸を備え、且つ各支持軸に支持させたスプリングを前記キャップと前記支持フレームとの間に備えて前記キャップを前記支持フレーム上に弾性的に支持させ、前記キャップに前記スプリングを防護する防護筒を設けた弾性支持機構」と訂正する。
＊訂正事項ｂ
　段落００１２における「前記上下動機構の支持フレーム（３６）上に前記回転軸を中心にし、所定の角度間隔を設けて立設した複数の支持軸（４０）及びスプリング（４６）を備えて前記キャップを前記上下動機構上に弾性的に支持する弾性支持機構」を「前記上下動機構の支持フレーム（３６）上に前記回転軸を中心に所定の角度間隔を設けて立設した複数の支持軸（４０）を備え、且つ各支持軸に支持させたスプリング（コイルスプリング４６）を前記キャップと前記支持フレームとの間に備えて前記キャップを前記支持フレーム上に弾性的に支持させ、前記キャップに前記スプリングを防護する防護筒（４８）を設けた弾性支持機構」と訂正する。
＊訂正事項ｃ
　段落００１５における「そして、キャップが支持機構を以て弾性的に支持されているので、」を「そして、キャップが弾性支持機構を以て、即ち、上下動機構の支持フレーム上に回転軸を中心に所定の角度間隔を設けて立設した複数の支持軸を備え、且つ各支持軸に支持させたスプリングをキャップと支持フレームとの間に備えてキャップを支持フレーム上に弾性的に支持させているので、」と訂正する。
＊訂正事項ｄ
　段落００１６の末尾に「しかも、スプリングは防護筒によって防護されている。」を挿入する。
イ．訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　上記訂正事項ａは、特許請求の範囲の請求項１において、弾性支持機構について「前記上下動機構の支持フレーム上に前記回転軸を中心にし、所定の角度間隔を設けて立設した複数の支持軸及びスプリングを備えて前記キャップを前記上下動機構上に弾性的に支持する弾性支持機構」とあるのを、「前記上下動機構の支持フレーム上に前記回転軸を中心に所定の角度間隔を設けて立設した複数の支持軸を備え、且つ各支持軸に支持させたスプリングを前記キャップと前記支持フレームとの間に備えて前記キャップを前記支持フレーム上に弾性的に支持させ、前記キャップに前記スプリングを防護する防護筒を設けた弾性支持機構」と、弾性支持機構の構造を更に限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的としたものである。そしてこの訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
　上記訂正事項ｂ〜ｄは、請求項１が訂正されたことに伴い特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載との整合を図るための訂正で、明りょうでない記載の釈明を目的としたものであり、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
ウ．むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項で準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書、第２項乃至第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
（３）特許異議申立てについての判断
ア．特許異議申立ての理由の概要
　特許異議申立人は、証拠として、甲第１号証（実願平１−１０１３８３号（実開平３−３９８３４号）のマイクロフィルム）、甲第２号証（実願平１−１１０１３０号（実開平３−５０３３１号）のマイクロフィルム）、甲第３号証（実願昭６２−１７０１８７号（実開平１−７３９３０号）のマイクロフィルム）及び甲第４号証（特開昭６３−２９９１１６号公報）を提示して次のように主張している。
　本件請求項１記載の発明は、甲第１号証乃至甲第４号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件請求項１に係る発明についての特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものである旨主張している。
　
イ．本件発明
　訂正明細書の本件発明は、特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものである。
「プロセスチューブに被処理体を収容し、この被処理体に熱処理を行う熱処理装置であって、
　前記プロセスチューブの開口部側に設置されているマニホルドの開口部外に設置され、前記プロセスチューブに挿入される保温筒を回転軸を介在させて回転可能に支持するとともに、前記保温筒を上下方向に移動させる上下動機構と、
　前記回転軸を貫通させて前記プロセスチューブの開口部側に設置され、前記マニホルドの開口部を気密保持部材を介在させて開閉するキャップと、
　前記上下動機構の支持フレーム上に前記回転軸を中心に所定の角度間隔を設けて立設した複数の支持軸を備え、且つ各支持軸に支持させたスプリングを前記キャップと前記支持フレームとの間に備えて前記キャップを前記支持フレーム上に弾性的に支持させ、前記キャップに前記スプリングを防護する防護筒を設けた弾性支持機構と、
　前記上下動機構と前記キャップとの間に伸縮可能に設置されて前記回転軸を包囲し、前記キャップ側の気密性を保持する気密保持手段と、
　を備えたことを特徴とする熱処理装置。（以下、「本件発明」という。）。」
　
ウ．引用例
　異議申立人が提出した甲第１号証には、縦型ＣＶＤ装置が図面とともに開示されている。そして同号証には、次のように記載されている。
「先ず、前記したエレベータ機構８について略述すると、垂直方向に２本の平行なガイド軸１５及びガイド軸１５，１５の間にスクリュー軸１６が設けられ、スライドロック１７は該ガイド軸１５に摺動自在に嵌合すると共に該スクリュー軸１６に螺合している。又、該スクリュー軸１６はロードロック室２の上面に設けた駆動モータ１８と連結してある。
　前記スライドブロック１７には反応室１の軸心位置迄延出するアーム１９が突設され、該アーム１９の先端にボート１０を載設する為の台座２０が固着されている。
　次に、台座２０の円周方向に所要箇所に配設したピン２１を介してシールフランジ２２を近接離反自在に連結し、該シールフランジ２２と前記台座２０との間に圧縮スプリング２４を介在させ、シールフランジ２２を台座２０に対して離反方向に付勢させる。該台座２０の軸心に合致させ、連結ピン２４を上方に向けて突設し、該連結ピン２４を前記シールフランジ２２に貫通させ前記遮熱台９に連結する。又、シールフランジ２２と連結ピン２４との間にはベローズ２５を設けて、連結ピン２４の貫通箇所を気密とし、該シールフランジ２２は後述する環胴２６の下面に密着可能とする。」（明細書６頁１７行〜７頁２０行）
「前記シールフランジ２２と当接する環胴２６の下面には同心２重にＯリング３３，３４を埋設し、該Ｏリング３３と３４との間より真空引する様にし、シールフランジ２２による環胴２６、即ち反応室１の気密密閉を完全にする。」（明細書８頁１８行〜９頁２行）
「スライドブロック１７の上死点位置では、前記シールフランジ２２が環胴２６に当接し且圧縮スプリング２３が若干撓んだ状態となっており、圧縮スプリング２３の付勢力によりシールフランジ２２は環胴２６に密着される。」（明細書９頁１４行〜１８行）
　異議申立人が提出した甲第２乃至４号証には、縦型ＣＶＤ装置或いは縦型炉において、保温筒を回転軸を介在させて回転可能に支持する技術が開示されている。
　
エ．対比・判断
　本件発明と甲第１乃至第４号証に記載の発明とを対比すると、甲第１乃至第４号証には、本件発明の必須の構成要件である、「前記上下動機構の支持フレーム上に前記回転軸を中心に所定の角度間隔を設けて立設した複数の支持軸を備え、且つ各支持軸に支持させたスプリングを前記キャップと前記支持フレームとの間に備えて前記キャップを前記支持フレーム上に弾性的に支持させ、前記キャップに前記スプリングを防護する防護筒を設けた弾性支持機構」の点について記載も示唆もされていない。
　そして、本件発明は、上記の点を備えることにより、明細書記載の効果を奏するものである。
  したがって、本件発明が、甲第１号証乃至甲第４号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるとは認めることはできない。
　
（４）まとめ
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件請求項１に係る発明についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１に係る発明についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１５年３月３日（２００３．３．３）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
熱処理装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　プロセスチューブに被処理体を収容し、この被処理体に熱処理を行う熱処理装置であって、
　前記プロセスチューブの開口部側に設置されているマニホルドの開口部外に設置され、前記プロセスチューブに挿入される保温筒を回転軸を介在させて回転可能に支持するとともに、前記保温筒を上下方向に移動させる上下動機構と、
　前記回転軸を貫通させて前記プロセスチューブの開口部側に設置され、前記マニホルドの開口部を気密保持部材を介在させて開閉するキャップと、
　前記上下動機構の支持フレーム上に前記回転軸を中心
に所
を備え、且つ各支持軸に支持させたスプリングを前記キャップと前記支持フレームとの間に
前記支持フレーム上に弾性的に支持させ、前記キャップに前記スプリングを防護する防護筒を設けた
　前記上下動機構と前記キャップとの間に伸縮可能に設置されて前記回転軸を包囲し、前記キャップ側の気密性を保持する気密保持手段と、
　を備えたことを特徴とする熱処理装置。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　この発明は、半導体ウエハ等の被処理体の加熱等の処理に用いられる熱処理装置に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　図６は、半導体ウエハの熱処理による酸化、ＣＶＤ処理等、半導体の製造に用いられる一般的な熱処理装置の一部を示す。この熱処理装置には、被処理体としてのウエハ２に加熱等の所定の処理を施す処理室としてのプロセスチューブ４が設けられ、このプロセスチューブ４の下側にはマニホルド６を介してロードロック室８が設けられている。マニホルド６はプロセスチューブ４とロードロック室８とを結合するための空間部であり、ロードロック室８は、プロセスチューブ４での被処理前又は被処理後のウエハ２を外気と遮断する遮断空間である。
　【０００３】
　プロセスチューブ４は、石英等、被処理物に対して影響を与えない耐熱材料で一端を閉塞した円筒状筒体であって、ロードロック室８の上部に垂直に設置されている。このように垂直にプロセスチューブ４を設置した処理炉は縦型炉と称されている。このプロセスチューブ４の周囲には、ウエハ２に対して必要な加熱等の処理を行うため、ヒータ１０が設置されている。このヒータ１０には電気的な加熱制御を行うため、加熱制御装置が接続されており、プロセスチューブ４の処理温度は、ＣＶＤ処理では５００〜１０００℃、酸化処理や拡散処理では８００〜１２００℃に設定される。
　【０００４】
　このプロセスチューブ４の下端側に設置されたマニホルド６には、処理に応じた処理ガスＧ１をプロセスチューブ４内に導入するガス導入管１２が設けられ、このガス導入管１２には図示しないガス源が制御弁等を介して接続されている。例えば、ＣＶＤ処理の処理ガスとして、ポリシリコン膜を形成する場合にはＳｉＨ４、シリコン窒化膜を形成する場合にはＮＨ４、ＳｉＨ２Ｃｌ２がガス導入管１２を通して導入され、また、パージのための処理ガスとして例えば、Ｎ２ガス等が導入される。
　【０００５】
　このプロセスチューブ４内には石英等の耐熱材料で形成された円筒状の隔壁１４が設けられており、処理ガスはマニホルド６側からプロセスチューブ４を下方から上方に移動した後、隔壁１４の外側に移動して再びマニホルド６に戻る。即ち、隔壁１４の外面部におけるマニホルド６には循環させた処理ガスＧ１又は初期状態の空気を排出するための排気部として排気管１６が連結されており、この排気管１６には図示していない真空装置が接続されている。処理ガスＧ１や空気は、この真空装置を通して強制的に排出される。
　【０００６】
　また、このプロセスチューブ４には、ロードロック室８側から被処理体としてのウエハ２がウエハボート１８によって搬出入される。また、マニホルド６のロードロック室８側の開口部１９にはロードロック室８との遮断手段としてシャッタ２０が設置されている。このシャッタ２０は、プロセスチューブ４からウエハボート１８がアンローディングされたとき、そのアンローディングに連動してマニホルド６の開口部１９を閉塞する。
　【０００７】
　そして、ロードロック室８には、ウエハボート１８を昇降させ、プロセスチューブ４にウエハ２をロード、アンロードさせるための上下動機構としてボートエレベータ２２が設置されている。このボートエレベータ２２の上面にはウエハボート１８を支持して均熱領域を形成するための保温筒２４が載置されており、この保温筒２４にはローディング時、マニホルド６の開口面を閉塞するためのキヤップ２６が形成されている。即ち、ローディング時、シャッタ２０が開き、マニホルド６はキャップ２６によって閉塞されてロードロック室８と遮断される。
　【０００８】
　また、このロードロック室８には、その壁面部に処理前又は処理後のウエハ２の搬入又は搬出を行うためのゲート２８が設けられ、このゲート２８には図示しないゲートバルブが設置されている。そして、このロードロック室８には、その壁面部にガス導入管３０及び排気管３２が設けられており、ガス導入管３０にはロードロック室８を非酸化雰囲気とするための不活性ガスのパージガスＧ２等のガス源に接続され、また、排気管３２には真空装置が接続されている。即ち、ロードロック室８は、排気管３２を通して真空引きされるとともに、ガス導入管３０を通して供給されたガスＧ２又は空気の排出が行われる。
　【０００９】
　【発明が解決しようとする課題】
　ところで、このような熱処理装置において、プロセスチューブ４に対して処理すべきウエハ２の搬出入をするとともに、マニホルド６の開口部１９を開閉する手段としてボートエレベータ２２が設置されている。そして、このボートエレベータ２２には上下動を行うためのボールねじ等によって構成される駆動機構３４が設けられている。このボートエレベータ２２は、数十枚のウエハ２とともにウエハボート１８を載せ、かつ、マニホルド６の開口部１９を閉塞するキャップ２６を支持しており、マニホルド６の開口部１９の閉塞時には、このキャップ２６をマニホルド６の開口部１９に緩やかに当接する必要がある。マニホルド６はステンレススチールで形成される場合もあるが、石英等で形成される場合には、閉塞時、マニホルド６側に衝撃が加わると、破壊するおそれがある。また、マニホルド６の開口部１９とキャップ２６とは、マニホルド６側の気密性保持等の要請から、一定の密着度を以て密着させて置く必要がある。
　【００１０】
　また、プロセスチューブ４やマニホルド６の垂直度が高精度に設定されていても、キャップ２６の水平度と保温筒２４上に載置されたウエハボート１８の垂直度を両立させることは困難であり、キャップ２６の水平度とウエハボート１８の垂直度が両立して得られない状態でキャップ２６をマニホルド６に密着させると、キャップ２６の上部に載置されているウエハボート１８が傾斜した状態でプロセスチューブ４内に収容されることになる。このような状態でウエハ２に成膜処理等を施した場合、ウエハボート１８のウエハ２に対する処理ガスの循環密度が偏るとともに、ヒータ１０と間隔変化から均熱性も損なわれることから、ウエハ２に対する処理が不均一になり、不良率が高くなるおそれがある。
　【００１１】
　そこで、この発明は、マニホルドの開口部とキャップとの密着性を高めるとともに、プロセスチューブに対して被処理体が傾斜状態で収容されるのを防止した熱処理装置の提供を目的とする。
　【００１２】
　【課題を解決するための手段】
　この発明の熱処理装置は、プロセスチューブ（４）に被処理体（ウエハ２）を収容し、この被処理体に熱処理を行う熱処理装置であって、前記プロセスチューブの開口部側に設置されているマニホルド（６）の開口部（１９）外に設置され、前記プロセスチューブに挿入される保温筒（２４）を回転軸（５２）を介在させて回転可能に支持するとともに、前記保温筒を上下方向に移動させる上下動機構（ボートエレベータ２２）と、前記回転軸を貫通させて前記プロセスチューブの開口部側に設置され、前記マニホルドの開口部を気密保持部材（Ｏリング３４）を介在させて開閉するキャップ（２６）と、前記上下動機構の支持フレーム（３６）上に前記回転軸を中心
に所
を備え、且つ各支持軸に支持させたスプリング（コイルスプリング４６）を前記キャップと前記支持フレームとの間に
前記支持フレーム上に弾性的に支持させ、前記キャップに前記スプリングを防護する防護筒（４８）を設けた
　【００１３】
　【００１４】
　【作用】
　この熱処理装置では、マニホルドを開閉すべきキャップが支持機構に弾性的に支持されており、支持機構を通してキャップはマニホルドに緩やかに当接されて閉塞されるとともに、弾性的なキャップの支持によってマニホルドとキャップとが密着状態となる。そして、支持機構とキャップとの間には伸縮可能な気密保持手段が設置されており、支持機構に対するキャップの弾性的な支持と協働し、キャップとマニホルドとの間の気密保持が行われる。
　【００１５】
　そして、キャップが
弾性
、即ち、上下動機構の支持フレーム上に回転軸を中心に所定の角度間隔を設けて立設した複数の支持軸を備え、且つ各支持軸に支持させたスプリングをキャップと支持フレームとの間に備えてキャップを支持フレーム上に弾性的に支持させ
　【００１６】
　また、支持機構に対するキャップの支持は、キャップの所定角度だけ変位した複数箇所を支持位置に設定し、この支持位置にスプリングを介在させた支持軸を以て行うようにしたので、キャップは支持機構及びマニホルドの開口部との間に変位を生じることなく、安定した弾性的な支持状態が得られる。そして、弾性的な支持状態により、キャップをマニホルドに対して弾性的に当接させることができる。仮に、支持機構を急激に移動させてキャップをマニホルドに移動させても、マニホルドとキャップと
の
しかも、スプリングは防護筒によって防護されている。
　【００１７】
　【実施例】
　図１及び図２は、この発明の熱処理装置の一実施例を示し、図２は図１のＡ−Ａ線断面図であり、図６に示した熱処理装置と同一部分には同一符号が付してある。プロセスチューブ４の開口部側に設置されたマニホルド６には真円を成す開口部１９が形成されている。この開口部１９を開閉するための開閉手段として板状のキャップ２６が設置されている。キャップ２６は、マニホルド６の開口部１９の形状に対応した閉塞可能な面を持つ板状を成し、開口部１９の端面部に対応する位置にはゴム等の弾性材料で形成された気密保持手段としてＯリング３４が設置されている。
　【００１８】
　キャップ２６は、上下動機構としてのボートエレベータ２２の支持フレーム３６の上に弾性的な複数の支持機構３８を以て支持されている。各支持機構３８は、キャップ２６の中心角度を等分した角度位置、この実施例では、１２０°ずつ偏倚させた位置に設定されている。即ち、キャップ２６には、支持フレーム３６を摺動可能に貫通させた支持軸４０が固定されており、支持フレーム３６を貫通した支持軸４０の下端部にはフランジ部４２がボルト４４を以て固定され、フランジ部４２によってキャップ２６の移動範囲が設定されている。そして、キャップ２６と支持フレーム３６の間には弾性手段としてコイルスプリング４６が設置されており、このコイルスプリング４６は支持軸４０によって支持されているとともに、キャップ２６側に取り付けられた円筒形を成す防護筒４８で防護されている。
　【００１９】
　また、支持フレーム３６の下面側には、回転駆動手段としてのモータ５０が取り付けられており、その回転軸５２はキャップ２６の中心部に設けられた貫通孔５４を貫通して、キャップ２６の上面にその端部が突出している。このキャップ２６の端部にはキャップ２６から一定の間隔を以て円板状を成す保温筒受５６が取り付けられており、この保温筒受５６には保温筒２４が設置され、図６に示すように、その上にウエハボート１８が設置される。したがって、保温筒受５６及び保温筒２４は、支持フレーム３６に取り付けられているモータ５０を以て回転する。
　【００２０】
　そして、キャップ２６の貫通孔５４を外気と遮断するため、キャップ２６の下面部と支持フレーム３６の上面部との間には、回転軸５２を包囲して気密性を保持する伸縮可能な気密保持手段としてベローズ５８が取り付けられている。即ち、ベローズ５８は支持機構３８によるキャップ２６の上下動に対応して伸縮し、キャップ２６の上下動に無関係に貫通孔５４を閉塞してマニホルド６の気密性を保持する。
　【００２１】
　以上の構成において、動作を説明する。図３の（Ａ）に示すように、ボートエレベータ２２を矢印Ｃで示す方向に上昇させると、このボートエレベータ２２とともにキャップ２６はマニホルド６の開口部１９に向かって上昇する。このとき、保温筒２４はマニホルド６の内部を上昇し、その上のウエハボート１８はプロセスチューブ４の内部に移送される。
　【００２２】
　図３の（Ｂ）に示すように、ボートエレベータ２２を上昇させると、キャップ２６はマニホルド６の開口部１９に当接するとともに、ボートエレベータ２２の上昇に伴う加圧力が支持機構３８のコイルスプリング４６に作用して圧縮される。この圧縮によってボートエレベータ２２による加圧力は吸収され、キャップ２６はマニホルド６の開口部１９に弾性的に圧接されることになる。この結果、キャップ２６とマニホルド６の開口部１９との密接状態が安定した状態で保持されることになる。同時に、ベローズ５８は圧縮状態となるが、このベローズ５８によってキャップ２６の貫通孔５４が閉塞され、マニホルド６の気密性が保持される。
　【００２３】
　そして、支持機構３８によるマニホルド６とキャップ２６との弾性的な圧接の結果、プロセスチューブ４の内部中央に被処理体としてのウエハ２が設置されることになるので、処理ガスの回り込みや熱伝導が均等化されてプロセスチューブ４内での処理の均一性が高められることになる。
　【００２４】
　次に、図４及び図５は、この発明の熱処理装置の他の実施例を示す。前記実施例では、ボートエレベータ２２の支持フレーム３６の下面部側にモータ５０を設置した場合について説明したが、この実施例では、モータ５０を設置していない場合を示す。このような熱処理装置においても、同様に支持機構３８を設置してキャップ２６とマニホルド６との間の密接状態を弾性的に保持させることができ、しかも、キャップ２６の貫通孔５４はベローズ５８を以て閉塞され、貫通孔５４における気密性が保持されている。したがって、このような実施例によっても前記実施例と同様な作用効果が得られる。
　【００２５】
　【発明の効果】
　以上説明したように、この発明によれば、次の効果が得られる。
　ａ．プロセスチューブの開口部側に設置されたマニホルドを支持機構に弾性的に支持されたキャップを以て弾性的に閉じることができるとともに、マニホルドに対してキャップを弾性的に密着保持させることができ、閉塞に伴うマニホルド側への振動や衝撃を与えてマニホルドを損傷等の不都合が生じることがなく、しかも、安定した閉塞状態を維持することができ、マニホルドの破壊の防止とともに信頼性のある処理を実現できる。
　ｂ．キャップの水平度と保温筒上に載置された被処理体の垂直度とが両立していない場合にも、キャップを弾性的にマニホルドに密着させることができ、その場合に被処理体の垂直度を損なうことがないので、キャップの上部に載置されている被処理体が傾斜した状態でプロセスチューブ内に収容されることはなく、被処理体に対する処理ガスの循環密度の偏りや均熱性の低下等を防止でき、処理の均一性を高め、被処理体の不良率の低下を防止できる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　この発明の熱処理装置の一実施例を示す一部を切り欠いた平面図である。
　【図２】
　図１に示した熱処理装置にマニホルド及び保温筒を付加した場合のＡ−Ａ線に係る断面図である。
　【図３】
　図１に示した熱処理装置の動作を示す縦断面図である。
　【図４】
　この発明の熱処理装置の他の実施例を示す一部を切り欠いた平面図である。
　【図５】
　図４に示した熱処理装置にマニホルド及び保温筒を付加した場合のＢ−Ｂ線に係る断面図である。
　【図６】
　従来の熱処理装置の示す縦断面図である。
　【符号の説明】
　２　　ウエハ（被処理体）
　４　　プロセスチューブ
　６　　マニホルド
　１９　開口部
　２２　ボートエレベータ（上下動機構）
　２６　キャップ
　３８　支持機構
　４６　コイルスプリング
　５８　ベローズ（気密保持手段）