【事件の表示】
　特許第３１５５７８２号「シャドウマスク用原板」の請求項１、２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３１５５７８２号の請求項１ないし２に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続きの経緯
　特許第３１５５７８２号の請求項１ないし２に係る発明についての出願は、平成３年９月１８日に特許出願され、平成１３年２月２日にその発明について特許権の設定登録がなされた後、平成１３年１０月１５日付けで特許異議申立人西田良幸より請求項１ないし２に係る特許に対する特許異議の申立てがなされ、平成１４年１１月１９日付けで請求項１ないし２に係る特許に対する取消理由通知がなされたところ、その指定期間内である平成１５年１月１５日に訂正請求がなされたものである。
　
２．訂正の適否についての判断
　
（ア）訂正の内容
　
　特許権者が求めている訂正の内容は、以下のとおりである。
ａ．訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１および請求項２の「平均傾斜角△ｑ」を「二乗平均平方根傾斜角△ｑ」に訂正する。
　
ｂ．訂正事項ｂ
　明細書の【０００９】、【００１２】および【００２３】の「平均傾斜角△ｑ」を「二乗平均平方根傾斜角△ｑ」に訂正する。
　
ｃ．訂正事項ｃ
　明細書の【００１２】の「二乗平均傾斜角」を「二乗平均平方根傾斜角」に訂正する。
　
（イ）訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　
ａ．訂正事項ａについて、
　訂正事項ａは、特許請求の範囲の請求項１および請求項２に記載された「平均傾斜角△ｑ」を「二乗平均平方根傾斜角△ｑ」に訂正するものである。「平均傾斜角△ｑ」について、訂正前の本件明細書の段落［００１２］には「平均傾斜角△ｑ（粗さ曲線の二乗平均傾斜角）」との記載がなされているが、「二乗平均」では角度の次元とならず、この「△ｑ」は「二乗平均平方根傾斜角」とすべきものである（国際標準化機構の文献「ＩＳＯ４２８７／１−１９８４」の第２０頁「７．２　ｒｏｏｔ−ｍｅａｎ−ｓｑｕａｒｅ　ｓｌｏｐｅ　ｏｆ　ｔｈｅ　ｐｒｏｆｉｌｅ，△ｑ」参照。）から、当該訂正は、誤記の訂正を目的とするものであり、新規事項の追加にも該当しない。
　そして、上記の訂正は実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　
ｂ．訂正事項ｂについて、
　訂正事項ｂは、明細書の【０００９】、【００１２】および【００２３】の「平均傾斜角△ｑ」を「二乗平均平方根傾斜角△ｑ」に訂正するものであり、当該訂正は、上記のように、誤記の訂正を目的とするものであり、新規事項の追加にも該当しない。
　そして、上記の訂正は実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　
ｃ．訂正事項ｃについて、
　訂正事項ｃは、明細書の【００１２】の「二乗平均傾斜角」を「二乗平均平方根傾斜角」に訂正するものであり、当該訂正は、上記のように、誤記の訂正を目的とするものであり、新規事項の追加にも該当しない。
　そして、上記の訂正は実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　
（ウ）むすび
　
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書、第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
　
３．特許異議申立てについて
　
（ア）本件発明
　
　平成１５年１月１５日付けで提出された訂正明細書の請求項１ないし２に係る発明（以下、「本件発明１ないし２」という。）は、その特許請求の範囲の請求項１ないし２に記載された次のとおりのものである。
　
【請求項１】 電子ビーム透過孔が形成され、シャドウマスクを製造する際に用いられる金属原板において、
その表面は、中心線平均粗さＲa が０．３μｍを超えて１μｍ以下、表面粗さの凹凸の平均間隔Ｓm が７０μｍ未満、かつ表面粗さの凸部の二乗平均平方根傾斜角Δｑが２度以上１０度以下であることを特徴とするシャドウマスク用原板。
【請求項２】 電子ビーム透過孔が形成され、シャドウマスクを製造する際に用いられる金属原板において、
その表面は、中心線平均粗さＲa が０．３μｍを超えて１μｍ以下、表面粗さの凹凸の平均間隔Ｓm が１００μｍ以下、表面粗さの凸部の二乗平均平方根傾斜角Δｑが２度以上１０度以下、かつ表面粗さの相対性スキューネス（Ｒsk）の値が正であることを特徴とするシャドウマスク用原板。
　
（イ）申立ての理由の概要
　
（理由１）
　特許異議申立人は、特許明細書の発明の詳細な説明【００１２】に記載された「平均傾斜角Δｑ（粗さ曲線の二乗平均傾斜角）」、及び、訂正前の請求項１及び２に記載された「平均傾斜角Δｑ」は意味が不明であるから、訂正前の本件発明１ないし２は、特許法第３６条第４項及び第５項の規定により、特許を受けることができないものであり、特許を取り消すべきと主張している。
　
（理由２）
　特許異議申立人は、訂正前の本件発明１ないし２は、その出願前に日本国内において頒布された甲第１号証（特開昭６４−５６８２４号公報）、甲第２号証（「表面粗さの測定・評価法」昭和５８年１２月１５日、株式会社総合技術センター発行、ｐ３６〜ｐ３８）及び甲第３号証（特開平２−２５２０１号公報）に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができないものであるから、特許を取り消すべきと主張している。
　
（ウ）各甲号証に記載の発明
　
　甲第１号証には、
（１ａ）「表面粗さをＲａ０．２〜１．０μｍ、Ｓｍ１００μｍ以下にすることを特徴とするシャドウマスク素材の製造方法。」（第１頁左欄８〜１０行）
　
（１ｂ）「表面粗さＲａが０．２μｍより小さいとレジストの密着力が弱くなり、レジスト流れ等の不良の原因となりむらが発生する。
　またＲａが１．０μｍより大きいと脱脂不良が生じやすく、レジストの密着力も強くなるため現象不良やエッチング穿孔後の剥離不良の原因となり、またガサ孔の原因となる。よってＲａを０．２〜１．０μｍに制御することが必要である。」（第３頁左上欄１５行〜同右上欄２行）
　
（１ｃ）「Ｓｍは・・・断面曲線の凸凹の間隔の平均値・・・を表すものであり、・・・。このようにＳｍはレジストの密着性の重要な因子であり、１００μｍを超えると孔形状の乱れを生ずるので、本発明のようにＳｍを１００μｍ以下とする必要がある。」（第３頁右上欄５行〜同左下欄２行）
　
（１ｄ）「　　　　表面粗さ
　　　　　Ｒａ（μｍ）　Ｓｍ（μｍ）　　　　　
　　　　　　０．５５　　　　　３５　　　　　　
　　　　　　０．４２　　　　　５０　　　　　　
　　　　　　０．２３　　　　　６１　　　　　　
　　　　　　０．７２　　　　　８０　　　　」（第１表）
　
が記載されている。
　
　甲第２号証には、図２９とともに、
（２ａ）「ここでは粗さ曲線とその微分波形より得られるＲａと平均傾斜角θａを用いた表面粗さの２次元表示について述べる。
　触針式表面粗さ測定器の回路を一部改造することによって、Ｒａとθａを同時に求めることは容易である。
　試作したＲａ、θａ同時直続装置を用い、各種加工面を測定した結果の例を図２９に示す。」（第３６頁下から２行〜第３８頁６行）
　
が記載されている。
　
　甲第３号証には、第１図とともに、
（３ａ）「粗さ曲線の山の形が鋭角でありＲｓｋが正の値であるために接触面の接触面積が狭くなり焼鈍密着しにくくなる。
　つまり、粗さ曲線の山の形が鋭角であり、Ｒｓｋが正の方向に大きい値を有するシャドウマスク用金属板は焼鈍密着の軽減に大きな効果を発揮する。」（第２頁右下欄１８〜第３頁左上欄３行）
　
が記載されている。
　
（エ）判断
　
（理由１について）
　
　特許明細書の発明の詳細な説明【００１２】に記載された「平均傾斜角Δｑ（粗さ曲線の二乗平均傾斜角）」、及び、訂正前の請求項１及び２に記載された「平均傾斜角Δｑ」は、それぞれ、「二乗平均平方根傾斜角Δｑ（粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜角）」、及び、「二乗平均平方根傾斜角Δｑ」と訂正され、これによってこれらの意味は明確になったと認められるから、本件請求項１ないし２に係る特許が特許法第３６条第４項及び第５項に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものということはできない。
　
（理由２について）
　
　本件発明１ないし２と甲各号証に記載された発明とを比較すると、
　甲第１号証には、中心線平均粗さＲａに相当する、表面粗さＲａ、及び、表面粗さの凹凸の平均間隔Ｓｍに相当する、断面曲線の凸凹の間隔の平均値Ｓｍについての記載はあるが、二乗平均平方根傾斜角Δｑ、及び、表面粗さの相対的スキューネス（Ｒｓｋ）についての記載はなく、
　甲第２号証には、中心線平均粗さＲａに相当する、Ｒａ、及び、平均傾斜角θａについての記載はあるが、二乗平均平方根傾斜角Δｑ、及び、表面粗さの相対的スキューネス（Ｒｓｋ）についての記載はなく、
　甲第３号証には、表面粗さの相対的スキューネス（Ｒｓｋ）に相当する、Ｒｓｋについての記載はあるが、中心線平均粗さＲａ、表面粗さの凹凸の平均間隔Ｓｍ、及び、二乗平均平方根傾斜角Δｑについての記載はないため、
　結局のところ、どの甲号証にも、本件発明１ないし２の構成要件である二乗平均平方根傾斜角Δｑについては、記載されていないし示唆もされていない。
　したがって、二乗平均平方根傾斜角Δｑを２度以上１０度以下とすることは、各甲号証に記載された事項を組み合わせたとしても、当業者が容易になし得たものとはいえず、またそれにより、本件発明１ないし２は、明細書記載の顕著な効果を奏するものである。
　
　
４．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件発明１ないし２についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明１ないし２についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１５年２月１４日（２００３．２．１４）
【訂正の要旨】
訂正事項
▲１▼訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１および請求項２の「平均傾斜角Δｑ」を誤記の訂正を目的として「
二乗
平方根
▲２▼訂正事項ｂ
　【０００９】、【００１２】および【００２３】の「平均傾斜角Δｑ」を誤記の訂正を目的として「
二乗
平方根
▲３▼訂正事項ｃ
　【００１２】の「二乗平均傾斜角」を誤記の訂正を目的として「二乗平均
平方根
（５４）【発明の名称】
シャドウマスク用原板
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　電子ビーム透過孔が形成され、シャドウマスクを製造する際に用いられる金属原板において、
その表面は、中心線平均粗さＲａが０．３μｍを超えて１μｍ以下、表面粗さの凹凸の平均間隔Ｓｍが７０μｍ未満、かつ表面粗さの凸部の
二乗
平方根
　【請求項２】　電子ビーム透過孔が形成され、シャドウマスクを製造する際に用いられる金属原板において、
その表面は、中心線平均粗さＲａが０．３μｍを超えて１μｍ以下、表面粗さの凹凸の平均間隔Ｓｍが１００μｍ以下、表面粗さの凸部の
二乗
平方根
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は、カラー受像管のシャドウマスクを製造する際に用いる金属原板に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　一般に、カラー受像管の蛍光面の直前には、所定の設計基準に基づいてマトリックス状に穿設された、多数の開孔を有するシャドウマスクが配設されている。そして、カラー受像管に対する高精細度化の要求に伴い、このようなシャドウマスクにおいても高精密化が要求され、その要求は年々厳しさを増している。
　【０００３】
　通常、後方の電子銃から射出された電子ビームは、シャドウマスクの開孔を透過して蛍光面における所定位置の蛍光ドットを照射し、そこにカラー画像を現出させるが、このとき射出された電子ビームの全てが開孔を通過するわけではなく、開孔を通過する電子ビームは全体の約１／３以下であり、残りの電子ビームはシャドウマスクを直撃してこれを加熱する。その結果、シャドウマスクは熱膨脹して開孔の位置が設計基準からずれて変位するため、蛍光面における色ずれ現象を招くことがある。そのため最近では、低熱膨脹特性を備えたＮｉ−Ｆｅ系合金、例えば３６ｗｔ％Ｎｉ−Ｆｅ合金（アンバー合金）でシャドウマスク自体を構成し、色ずれ現象を防止することが試みられている。
　【０００４】
　ところで、このようなＮｉ−Ｆｅ系合金からシャドウマスクを製造する場合、まず所定の合金組成に調整され溶解鋳造された素材塊に、常法により鍛造、圧延、焼鈍等の各処理を施して所定の厚さにし、かつ必要な幅寸法にスリットして原板とする。次いで、この原板の開孔位置をエッチングして、所定形状の電子ビーム透過孔をマトリックス状に穿設する。エッチング方法としては、まず原板にフォトレジストを塗布、乾燥し、レジスト膜を形成した後、シャドウマスクのパターンを焼き付けたワーキングネガ（ネガ）を、レジスト膜を設けた板上に配置し、真空引きにより密着させる。次いで、水銀ランプ等により光（ＵＶ光）を照射してレジストを感光させた後、現像、乾燥、焼き付けを順に行ってから、エッチング液で腐食して穿孔する方法が採られている。さらに、こうしてエッチングが終了したシャドウマスクにおいては、プレス成形性を向上させるために、焼鈍が行われている。
　【０００５】
　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら、従来のＮｉ−Ｆｅ系合金等からなるシャドウマスク用原板では、エッチングにより形成された開孔（電子ビーム透過孔）の径や形状にばらつきが発生し易く、開孔部に光を透過させた際にむらが生じるといった難点があった。そのため、近年のカラー受像管における高精細度化の要求に充分に応えることができないという問題があった。
　【０００６】
　また、一般にエッチング後の焼鈍は、原板を複数枚重ねて行っているが、この焼鈍の際に原板に焼き付きが生じ易いという問題もあった。
　【０００７】
　本発明は、このような従来の課題に対処するためになされたもので、本発明の目的は、エッチング加工により開孔マトリックスを形成した際に、孔径や孔形状にばらつきが発生することを防止でき、かつエッチング後の焼鈍工程においても焼き付きを生じない高品位のシャドウマスク用原板を提供することにある。
　【０００８】
　【課題を解決するための手段と作用】
　本発明者らは、上記したエッチングむらの原因について検討を重ねた結果、原板の表面状態が大きく影響し、その表面状態が不適当な場合に、原板上に塗布形成されるレジスト膜の密着性が不充分となり、エッチング時のレジスト膜の剥離およびこれによるサイドエッチングが生じ、孔径や孔形状にばらつきが生じることを見出だした。また、原板の表面状態が不適当な場合には、原板の表面状態がその上のレジスト膜にまで影響するため、ネガを密着させるために行っている真空引きが不充分となり、ネガと原板との間に空隙が生じ、かつ、エッチング後の焼鈍工程で原板を複数枚重ねて行っているため焼き付きが生じ、これが開孔精度を低下させる原因となっているという知見を得た。
　【０００９】
　本発明のシャドウマスク用原板は、上記した知見に基づいてなされたものであり、電子ビーム透過孔が形成され、シャドウマスクを製造する際に用いられる金属原板において、その表面は、中心線平均粗さＲａが０．３μｍを超えて１μｍ以下、表面粗さの凹凸の平均間隔Ｓｍが７０μｍ未満、かつ表面粗さの凸部の
二乗
平方根
二乗
平方根
　【００１０】
　【００１１】
　本発明のシャドウマスク用原板を構成する素材は、特に限定されるものではなく、各種合金を適用することが可能であり、例えばＮｉ−Ｆｅ系合金、Ｎｉ−Ｃｒ−Ｆｅ系合金、Ｎｉ−Ｃｏ−Ｆｅ系合金、Ｎｉ−Ｃｏ−Ｃｒ−Ｆｅ系合金等が例示される。
　【００１２】
　本発明においては、このような合金からなる原板の表面粗さを、ＪＩＳ　Ｂ０６０１による中心線平均粗さＲａ、凹凸の平均間隔Ｓｍ（基準長さ内での断面曲線の平均線上に突出した凸部の間隔の平均値）、および凸部の
二乗
平方根
平方根
　【００１３】
　そして、中心線平均粗さＲａを０．３μｍを超えて１μｍ以下と限定したのは、以下に示す理由による。すなわち、Ｒａが０．３μｍ以下では、原板に対するレジスト膜の密着性が弱すぎるため、サイドエッチングが進み過ぎて、孔径および孔形状に乱れが生じ、逆にＲａが１μｍを超えた場合には、レジスト膜の密着性が強すぎるため、現像後、穿孔されるべき部分にもレジストが残存することがあるためである。
　【００１４】
　また、凹凸の平均間隔Ｓｍを１００μｍ以下に限定したのは、粗さのピッチがあまり大きくて、Ｓｍが１００μｍを超えた場合には、局部的にレジスト膜の密着性が弱くなり、その部分でサイドエッチングが過度に進むため、孔形状が乱れるためである。Ｓｍが適度に小さい場合には、レジスト膜の密着性が孔のどの部分でも均一となり、孔形状に乱れが生じない。このような凹凸の平均間隔Ｓｍを７０μｍ未満とすることで、さらにむらが少ない良好なシャドウマスクを作製することができる。特に、高温でエッチングする場合や孔径が小さい高精度マスクを製造する場合には、Ｓｍを５０μｍ以下とすることが望ましい。
　【００１５】
　さらに、凸部の傾斜角Δｑを２度〜１０度の範囲としたのは、Δｑが２度未満では、レジスト膜の密着性が弱すぎるため、サイドエッチングが進み過ぎて孔径および孔形状の乱れが生じ、逆にΔｑが１０度を超えた場合には、レジスト膜の密着性が強すぎるため、現像後、穿孔されるべき部分にもレジストが残存することがあるためである。また、本発明のシャドウマスク用原板においては、エッチング後の焼鈍工程における焼き付きをより効果的に防止するために、表面粗さを示すその他のパラメータである相対性（スキューネスＲｓｋ）の値が、正であることが好ましい。
　【００１６】
　本発明のシャドウマスク用原板は、例えば次のようにして製造することができる。すなわち、まず所望する組成のとなるように、Ｎｉ、Ｆｅ等の各成分金属を所定量配合してこれを溶解し、合金塊を鋳造する。次いで、得られた合金塊に鍛造、圧延、焼鈍等の各処理を施して所定の厚さ（通常０．１ｍｍ〜０．３ｍｍ）の原板とするが、最終圧延工程で、以下に示すようなダル加工を施す。すなわち、ロール表面が任意の表面状態とされた圧延ロールを使用して仕上げを行い、原板表面にロール表面の凹凸を転写する。これによって、ＲａやＳｍを本発明の範囲内とした上で、△ｑやＲｓｋを適正な値とすることができる。
　【００１７】
　【実施例】
以下、本発明の実施例について説明する。
　【００１８】
実施例１〜５
　まず、所定の成分からなる３６ｗｔ％Ｎｉ−Ｆｅ合金いわゆるアンバー合金を溶解し、鋳造した後、熱間圧延、冷間圧延、焼鈍等を順に行い、厚さ０．２５ｍｍの原板とし、最終圧延工程でダル仕上げ加工を行って、それぞれ表面粗さを表１に示すように調整した。
　【００１９】
　また、本発明との比較として、最終のダル仕上げ加工を省く以外は同様にして、シャドウマスク用原板を作製した。これらの表面粗さを併せて表１に示す。
　【００２０】
　次に、得られた各シャドウマスク用原板の表面の脱脂を行った後、両面に感光液を塗布してそれぞれレジスト膜を形成した。次いで、両面のレジスト膜上に大小の孔パターンを有するネガを配置し、真空引きにより密着させた後、ネガの後方から超高圧水銀ランプで露光することによりレジストを感光させた。その後、現像、乾燥、焼き付け硬化を経て、塩化第二鉄溶液を使用してエッチングを行って、電子ビーム透過孔を形成した。
　【００２１】
　このようにして製造されたシャドウマスクを、暗室内で透過光により観察し、むら品位を評価した。その結果を表１に示す。なお、むら品位は、むらが全くなく特に品位が良好なものをＡ、むらがほとんどなく品位が良好なものをＢ、むらが少しあるが実用上問題がないものをＣ、むらがあり実用できないものをＤと表した。
　【００２２】
　【表１】
　【００２３】
　表１から明らかなように、各実施例によるシャドウマスク用原板は、表面粗さＲａ、表面粗さの凹凸の平均間隔Ｓｍ、および凸部の
二乗
平方根
　【００２４】
　これに対して比較例の各原板は、Ｒａ、Ｓｍ、△ｑの中で、少なくとも１つのパラメータが本発明の範囲を外れているため、得られるシャドウマスクはむらが強く実用に供し得ないものであった。
　【００２５】
　【発明の効果】
以上説明したように、本発明のシャドウマスク用原板によれば、適度な表面粗さを有しているので、孔径や孔形状のばらつきが小さくなり、よってむらのない高品位のシャドウマスクを得ることができる。したがって、設計基準に適合し、性能の優れたシャドウマスクが得られ、近年のカラー受像管の高精細度化の要求を充分に満足させることができると共に、エッチング後の焼鈍工程で焼き付きが生じることもないので、工業的な価値は極めて大きい。
　【００２６】