Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月4日(2015.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子顕微鏡用の平面図を形成する方法であって、
試料の少なくとも一部分をミリングするために、前記試料の第１の表面に向かってイオン源から集束イオン・ビームを導くこと、および
前記集束イオン・ビームを使用して前記第１の表面をミリングして第２の表面を露出させること
を含み、前記第２の表面では、前記イオン源から見た前記第２の表面の遠位端が、前記イオン源から見た前記第１の表面の近位端よりも、基準深さに対してより深い深さまでミリングされており、前記方法がさらに、
前記第２の表面に電子源から電子ビームを導くこと、および
前記電子ビームと前記第２の表面との間の相互作用を検出することによって前記第２の表面の画像であって、対象とする特徴部分の少なくとも一部を含む前記画像を形成すること、
を含む方法。
【請求項２】
前記第２の表面の前記画像を解析して、前記第２の表面の特徴部分が欠陥を含むかどうかを判定することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記試料をミリングして第２の表面を露出させることが、前記イオン・ビームを１０度以下の角度で前記第１の表面に導くことをさらに含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記試料をミリングして第２の表面を露出させることが、前記イオン・ビームを５度以下の角度で前記第１の表面に導くことをさらに含む、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記試料をミリングして第２の表面を露出させることが、前記イオン・ビームを１度以下の角度で前記第１の表面に導くことをさらに含む、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記試料が上に搭載された試料ステージの傾斜を、前記ミリング・ステップと前記画像形成ステップの間で変化させる、請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記試料ステージと前記試料の間に４５度の台が配置される、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
電子顕微鏡用の断面図を形成する方法であって、
試料の少なくとも一部分をミリングするために、前記試料の第１の表面に向かってイオン源から集束イオン・ビームを導くこと、
前記集束イオン・ビームを使用して、前記第１の表面の少なくとも対象とする特徴部分の局所エリアをミリングして、前記第１の表面の少なくとも前記対象とする特徴部分の局所エリアを実質的に平らにすること、
前記第１の表面をミリングした後に、前記イオン・ビームを１０度以下の角度で前記第１の表面に導き、前記試料をミリングして、前記対象とする特徴部分の断面を含む第２の表面を露出させること、
前記第２の表面に電子源から電子ビームを導くこと、および
前記電子ビームと前記第２の表面との間の相互作用を検出することによって前記第２の表面の画像を形成すること
を含む方法。
【請求項９】
前記第２の表面の前記画像を解析して、前記第２の表面の特徴部分が欠陥を含むかどうかを判定することをさらに含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記イオン・ビームを５度以下の角度で前記第１の表面に導く、請求項８または９に記載の方法。
【請求項１１】
前記イオン・ビームを１度以下の角度で前記第１の表面に導く、請求項８から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記試料が上に搭載された試料ステージの傾斜を、前記ミリング・ステップと前記画像形成ステップの間で変化させる、請求項８から１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記試料ステージと前記試料の間に４５度の台が配置される、請求項８から１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
電子顕微鏡用の平面断面図を形成するシステムであって、
集束イオン・ビーム・カラムと、
電子顕微鏡と、
試料を保持する試料ステージと、
コンピュータ命令がコード化された非一時的コンピュータ可読媒体を含むコンピュータ・コントローラと
を備え、前記コンピュータ・コントローラによって前記コンピュータ命令が実行されたときに、前記コンピュータ命令によって、前記システムが、請求項８から１３のいずれか一項に記載の方法を実行する
システム。
【請求項１５】
電子顕微鏡用の断面図を形成するシステムであって、
集束イオン・ビーム・カラムと、
電子顕微鏡と、
試料を保持する試料ステージと、
コンピュータ命令がコード化された非一時的コンピュータ可読媒体を含むコンピュータ・コントローラと
を備え、前記コンピュータ・コントローラによって前記コンピュータ命令が実行されたときに、前記コンピュータ命令によって、前記システムが、請求項８から１３のいずれか一項に記載の方法を実行する
システム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月31日(2015.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ファイバにおいて、
屈折率プロファイルを有するコア、
前記コアを囲む環状クラッド層、
前記クラッド層に接して前記クラッド層を囲む一次被覆層であって、０.３５ＭＰａより小さいその場弾性率及び−３５℃より低いその場ガラス転移温度を有する一次被覆層、
及び
前記一次被覆層を囲む二次被覆層であって、１２００ＭＰａより大きいその場弾性率を有する二次被覆層、
を有し、
前記コアの前記屈折率プロファイルが、約２.０μｍより長いＬＰ１１モードの理論カットオフ波長及び１５５０ｎｍにおいて１１０μｍ２より大きいＬＰ０１有効面積を与えるように構成される、
ことを特徴とする光ファイバ。
【請求項２】
前記光ファイバがステップ型屈折率プロファイルを有し、前記コアがガラスコアであり、前記クラッド層がガラスクラッド層であって、
前記コアが、
約６μｍから約１５μｍの半径Ｒ１、
前記ガラスクラッド層に対して約０.２％から約０.５５％の最大相対屈折率Δ１最大、
約１１０μｍ２より大きく、約２１０μｍ２より小さい、ＬＰ０１有効面積、及び
約１８００ｎｍより短いＬＰ０２モードの理論カットオフ波長、
を有し、
前記ガラスクラッド層が、Δ１最大＞Δ４最大であるような、最大相対屈折率Δ４最大を有する、
ことを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ。
【請求項３】
以下の条件、
（ｉ）１５５０ｎｍの波長におけるＭＰＩが−３０ｄＢより小さい、及び／または１５５０ｎｍの波長におけるＭＰＩが−３５ｄＢより小さい
（ii）１５５０ｎｍの波長におけるＬＰ０１モードとＬＰ１１モードの間の遅延差が約０.５ｎｓ/ｋｍより小さい、
（iii）ＬＰ１１モードの理論カットオフ波長が２.１５μｍより長く、１５５０ｎｍの波長におけるＭＰＩが−３０ｄＢより小さい、
（iv）＜０.２２ｄＢ/ｋｍのＬＰ０１減衰、及び／または
（Ｖ）＜０.２５ｄＢ/ｋｍのＬＰ１１減衰、
の内の少なくとも１つを満たすことを特徴とする請求項２に記載の光ファイバ。
【請求項４】
前記光ファイバが分布屈折率型ガラスコアを有し、前記クラッド層がガラスクラッド層であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の光ファイバ。
【請求項５】
前記光ファイバの前記コアが１５５０ｎｍの波長において、２.３より大きく、約２.７より小さい、アルファ値を有することを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の光ファイバ。
【請求項６】
モード分割多重化（ＭＤＭ）光伝送システムにおいて、
ＬＰ１１モード及びＬＰ０１モードのそれぞれにおいて、第１の波長及び第２の波長をそれぞれが有する第１の導波光信号及び第２の導波光信号を送信するように構成された送信器、
前記第１の光信号及び前記第２の光信号を受信し、波長逆多重化するように構成された受信器、及び
前記送信器と前記受信器を光接続し、前記第１の導波光信号及び前記第２の導波光信号の前記伝送をサポートするように構成された、請求項１から５のいずれかに記載の数モード光ファイバ、
を備えることを特徴とするＭＤＭ光伝送システム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月16日(2015.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の群から選択される抗ＭＩＦ抗体：
ａ）プラスミド寄託として寄託された受託番号ＤＳＭ２５８５９の軽鎖配列とプラスミド寄託として寄託された受託番号ＤＳＭ２５８６０の重鎖配列とを特徴とする、ＲＡＭ９抗体、
ｂ）プラスミド寄託として寄託された受託番号ＤＳＭ２５８６１の軽鎖配列とプラスミド寄託として寄託された受託番号ＤＳＭ２５８６２の重鎖配列とを特徴とする、ＲＡＭ４抗体、
ｃ）プラスミド寄託として寄託された受託番号ＤＳＭ２５８６３の軽鎖配列とプラスミド寄託として寄託された受託番号ＤＳＭ２５８６４の重鎖配列とを特徴とする、ＲＡＭ０抗体、
ｄ）プラスミド寄託として寄託された受託番号ＤＳＭ２５１１０の軽鎖配列とプラスミド寄託として寄託された受託番号ＤＳＭ２５１１２の重鎖配列とを特徴とする、ＲＡＢ４抗体、
ｅ）プラスミド寄託として寄託された受託番号ＤＳＭ２５１１１の軽鎖配列とプラスミド寄託として寄託された受託番号ＤＳＭ２５１１３の重鎖配列とを特徴とする、ＲＡＢ９抗体、および／または
ｆ）プラスミド寄託として寄託された受託番号ＤＳＭ２５１１４の軽鎖配列とプラスミド寄託として寄託された受託番号ＤＳＭ２５１１５の重鎖配列とを特徴とする、ＲＡＢ０抗体。
【請求項２】
以下の群から選択される抗ＭＩＦ抗体：
ａ）配列番号１２の軽鎖アミノ酸配列と配列番号１１の重鎖アミノ酸配列とを特徴とする、ＲＡＭ９抗体、
ｂ）配列番号１４の軽鎖アミノ酸配列と配列番号１３の重鎖アミノ酸配列とを特徴とする、ＲＡＭ４抗体、
ｃ）配列番号１０の軽鎖アミノ酸配列と配列番号９の重鎖アミノ酸配列とを特徴とする、ＲＡＭ０抗体、
ｄ）配列番号２の軽鎖アミノ酸配列と配列番号６の重鎖アミノ酸配列とを特徴とする、ＲＡＢ４抗体、
ｅ）配列番号１の軽鎖アミノ酸配列と配列番号５の重鎖アミノ酸配列とを特徴とする、ＲＡＢ９抗体、
ｆ）配列番号３の軽鎖アミノ酸配列と配列番号７の重鎖アミノ酸配列とを特徴とする、ＲＡＢ０抗体、および／もしくは
ｇ）配列番号４の軽鎖アミノ酸配列と配列番号８の重鎖アミノ酸配列とを特徴とする、ＲＡＢ２抗体、
ｈ）または、上記抗体ａ）〜ｇ）のいずれか１つと同じエピトープへの結合を特徴とする、それらの機能的等価物。
【請求項３】
疾患の診断における、請求項１または２に記載の抗体の使用。
【請求項４】
疾患のインビトロ診断におけるマーカーとしてのｏｘＭＩＦの使用であって、ｏｘＭＩＦが抗体ＲＡＢ４、ＲＡＢ９および／またはＲＡＢ０に弁別的に結合するＭＩＦである、使用。
【請求項５】
該疾患の診断が、請求項４において定義したｏｘＭＩＦである診断マーカーに弁別的に結合する化合物の使用をさらに伴う、請求項４に記載の使用。
【請求項６】
化合物がｏｘＭＩＦに特異的に結合する抗体である、請求項５に記載の使用。
【請求項７】
抗体がｏｘＭＩＦには結合するが、ｒｅｄＭＩＦには結合しない、請求項６に記載の使用。
【請求項８】
弁別的結合が、１００ｎＭ未満のＫＤ値で起こるｏｘＭＩＦへの結合、および４００ｎＭを上回るＫＤを特徴とするｒｅｄＭＩＦへの非結合である、請求項７に記載の使用。
【請求項９】
該疾患がＭＩＦ関連疾患である、請求項３〜８のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１０】
ＭＩＦ関連疾患が、炎症性疾患および新生物疾患を含む群から選択される、請求項９に記載の使用。
【請求項１１】
ＭＩＦ関連疾患が、大腸がん、前立腺がん、膀胱がん、膵がん、卵巣がん、黒色腫、リンパ腫、肝細胞癌、喘息、ＡＲＤＳ、関節リウマチ、敗血症、ＩｇＡネフロパシー、糸球体腎炎、ループス腎炎（ＬＮ）、肝炎、急性肺傷害有りまたは無しの膵炎、クローン病、潰瘍性大腸炎、胃潰瘍、アルツハイマー病、多発性硬化症、ギラン・バレー症候群、心機能障害、血管形成術、アテローム性動脈硬化、心筋炎、１型糖尿病、糖尿病性網膜症、加齢性黄斑変性症、アトピー性皮膚炎、乾癬、子宮内膜症、神経障害性痛および／またはぶどう膜炎からなる群より選択される、請求項１０に記載の使用。
【請求項１２】
抗体がｏｘＭＩＦ結合剤からなる群より選択される、請求項６〜１１のいずれか一項以上に記載の使用。
【請求項１３】
診断が、疾患の存在の診断、疾患の進行の診断、疾患の状態の診断、および／または処置の有効性のモニタリングである、請求項４〜１２のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１４】
診断が対象の体液試料に対して行われる、請求項４〜１３のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１５】
診断が対象の細胞試料に対して行われる、請求項４〜１３のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１６】
対象の体液試料または細胞試料における、請求項４において定義したｏｘＭＩＦの検出による疾患のインビトロ診断のための診断アッセイであって、該試料中のｏｘＭＩＦへの化合物の結合をインビトロで決定するステップを含む、診断アッセイ。
【請求項１７】
ｏｘＭＩＦに結合する化合物が、請求項５〜８または１２のいずれか一項以上において定義したとおりであり、かつ疾患が、請求項９〜１１のいずれか一項以上において定義したとおりである、請求項１６に記載の診断アッセイ。
【請求項１８】
アッセイが、疾患の進行、寛解および／または処置中に１回または数回繰り返される、請求項１６または１７に記載の診断アッセイ。
【請求項１９】
診断キットがｏｘＭＩＦに結合する化合物を含む、請求項１６〜１８のいずれか一項以上に記載のアッセイにおける診断キットの使用。
【請求項２０】
キットが、緩衝液、対照、ポリクローナル抗ＭＩＦ抗体、および／またはコンジュゲート検出抗体をさらに含む、請求項１９に記載の使用。
【請求項２１】
該疾患がＭＩＦ関連疾患である、請求項１６〜１８のいずれか一項に記載の診断アッセイ。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月9日(2015.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
動的潤滑玉軸受であって、
一対の内側レース保持器ランド部間の内側レース溝を有する内側レースと、
それらの間に環状形状のキャビティを画定するように前記内側レースを囲み、一対の外側レース保持器ランド部間にあって前記内側レース溝に対向する外側レース溝を有する外側レースと、
前記内側レースと前記外側レースの間に配置され、前記内側レース溝及び前記外側レース溝と転がり接触する転動体と、
前記内側レースと前記外側レースの間に配置されて前記転動体間の分離を維持する保持器と、
を含み、
前記一対の内側レース保持器ランド又は前記一対の外側レース保持器ランドのいずれかが非機能的表面な一対の保持器ランドであり、
前記  動的潤滑玉軸受は、さらに、
前記内側レースと前記外側レースの間の前記キャビティに潤滑剤を導入する手段と、
前記一対の外側レース保持器ランド部の凹設された表面機構であって、前記外側レース保持器ランド部の周囲面に形成され、前記軸受の一対の軸方向端部のうちの少なくとも１つを囲む外部環境と前記キャビティを流体的に相互接続する連続チャネルを画定する凹設された表面機構と
を含み、
前記凹設された表面機構は、該凹設された表面機構を通って前記キャビティから前記潤滑剤を除去し該潤滑剤を該キャビティから排出させ前記外部環境に入るよう構成されている、
動的潤滑玉軸受。
【請求項２】
前記内側レース溝及び前記外側レース溝の少なくとも１つはゴシックアーチ形状を有する、請求項１に記載の動的潤滑玉軸受。
【請求項３】
前記内側レース溝及び前記外側レース溝の少なくとも１つは円形アーチ形状を有する、請求項１に記載の動的潤滑玉軸受。
【請求項４】
前記外側レース溝は前記転動体の曲率に対応する円形アーチ形状を有し、単一接触パッチにおいて各転動体と前記外側レース溝との転がり接触がある、請求項１に記載の動的潤滑玉軸受。
【請求項５】
前記内側レース溝はゴシックアーチ形状を有し、２つの接触パッチにおいて各転動体と前記内側レース溝との転がり接触がある、請求項４に記載の動的潤滑玉軸受。
【請求項６】
前記凹設された表面機構の数は転動体の数と少なくとも等しい、請求項１に記載の動的潤滑玉軸受。
【請求項７】
前記凹設された表面機構は直線である、請求項１に記載の動的潤滑玉軸受。
【請求項８】
前記凹設された表面機構は、前記転動体が前記内側レース溝及び前記外側レース溝内を移動する方向に対して鋭角で傾斜するように配向される、請求項１に記載の動的潤滑玉軸受。
【請求項９】
前記凹設された表面機構は、前記転動体が前記内側レース溝及び前記外側レース溝内を移動する方向に対して垂直になるように配向される、請求項１に記載の動的潤滑玉軸受。
【請求項１０】
前記潤滑剤導入手段は前記内側レースを通る少なくとも１つのオリフィスである、請求項１に記載の動的潤滑玉軸受。
【請求項１１】
動的潤滑玉軸受であって、
一対の内側レース保持器ランド部間の内側レース溝を有する内側レースと、
それらの間に環状形状のキャビティを画定するように前記内側レースを囲み、一対の外側レース保持器ランド部間にあって前記内側レース溝に対向する外側レース溝を有する外側レースと、
前記内側レースと前記外側レースの間に配置され、前記内側レース溝及び前記外側レース溝と転がり接触する転動体と、
前記内側レースと前記外側レースの間に配置されて前記転動体間の分離を維持する保持器と、
前記内側レースと前記外側レースの間の前記キャビティに潤滑剤を導入する手段と、
前記一対の外側レース保持器ランド部の凹設された表面機構であって、前記外側レース保持器ランド部の周囲面に形成され、前記軸受の少なくとも一対の軸方向端部を囲む外部環境と前記キャビティを流体的に相互接続する連続チャネルを画定する凹設された表面機構と
を含み、
前記凹設された表面機構は、該凹設された表面機構を通って前記キャビティから前記潤滑剤を除去し該潤滑剤を該キャビティから排出させ前記外部環境に入るよう構成されている、
動的潤滑玉軸受。
【請求項１２】
第１の前記外側レース保持器ランド部の前記凹設された表面機構は、第２の前記外側レース保持器ランド部の前記凹設された表面機構の鏡のような左右対称である、請求項１１に記載の動的潤滑玉軸受。
【請求項１３】
第１の前記外側レース保持器ランド部の前記凹設された表面機構は、前記転動体が前記内側レース溝及び前記外側レース溝内を移動する方向に対して鋭角で傾斜するように配向され、第２の前記外側レース保持器ランド部の前記凹設された表面機構は、前記転動体が前記内側レース溝及び前記外側レース溝内を移動する方向に対して鈍角で傾斜するように配向される、請求項１１に記載の動的潤滑玉軸受。
【請求項１４】
前記表面機構は前記キャビティ内の前記潤滑剤の取り込みを促進するための平坦な側壁を有する、請求項１１に記載の動的潤滑玉軸受。
【請求項１５】
請求項１に記載の動的潤滑玉軸受の動的潤滑方法であって、
ガスタービンエンジンの圧縮機とタービンを相互接続するシャフトを支持するように前記軸受を前記ガスタービンエンジンに設置するステップと、
前記内側レースと前記外側レースの間の前記キャビティに潤滑剤を導入するステップと、
前記潤滑剤が前記凹設された表面機構を通って前記キャビティを出て、前記軸受の前記一対の軸方向端部を囲む前記外部環境に入るようにするように、前記外側レースに対して前記内側レースを回転させるステップと
を含む、
方法。
【請求項１６】
前記凹設された表面機構は、前記転動体が前記内側レース溝及び前記外側レース溝内を移動する方向に対して鋭角で傾斜するように配向され、前記回転ステップによって、前記潤滑剤が前記キャビティから取り込まれ、前記キャビティから離れて前記鋭角で案内されるようになる、請求項１７に記載の方法。
【請求項１７】
一対の内側レース保持器ランド部間の内側レース溝を有する内側レースと、一対の外側レース保持器ランド部間にあって前記内側レース溝に対向する外側レース溝を有する外側レースと、前記内側レースと前記外側レースの間に配置され、前記内側レース溝及び前記外側レース溝と転がり接触する転動体と、前記内側レースと前記外側レースの間に配置されて前記転動体間の分離を維持する保持器とを含む玉軸受の動的潤滑方法であって、
前記内側レースと前記外側レースの間のキャビティに潤滑剤を導入するステップと、
前記潤滑剤が、前記一対の外側レース保持器ランド部の周囲面に形成された連続的チャネルを画定する凹設された表面機構を通って前記キャビティを出て、前記軸受の少なくとも１つの軸方向端部を囲む外部環境に入るようにするように前記外側レースに対して前記内側レースを回転させるステップと
を含む、
方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月9日(2015.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チェーンが、ガイド本体における前記チェーンの移動のたびにチェーンガイド面の表面と接触されるように、前記ガイド本体の長手方向に前記チェーンを摺動自在にガイドするための前記チェーンガイド面を有する前記ガイド本体を含むチェーンテンションガイドであって、前記ガイド本体が、前記チェーンガイド面の少なくとも一部上に非熱可塑性ポリイミドで作製された層を含むチェーンテンションガイド。
【請求項２】
前記ガイド本体全体が、前記非熱可塑性ポリイミドを含む、請求項１に記載のチェーンテンションガイド。
【請求項３】
前記非熱可塑性ポリイミドが、ポリ（ピロメリット酸二無水物−オキシジアニリン）、ポリ（３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物−ｐ−フェニレンジアミン）、およびポリ［３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物−（ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン）からなる群から選択される、請求項１に記載のチェーンテンションガイド。
【請求項４】
前記チェーンテンションガイドが、ほぼ一定のピッチで配置され、かつ内燃機関において互いに枢動可能につながれた連結されたリンクを有するチェーンのエンドレス動力伝達要素の張力を調整するためのものである、請求項１に記載のチェーンテンションガイド。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
広く知られ、認識されているように、車両の駆動および伝達システムにおいて生じる摩擦は、燃料消費を増加させ、エンジン効率に悪影響を与える。システムにおける上記のような著しく減少された摩擦は、燃料消費を改善する。
以下、本明細書に記載の主な発明につき列記する。
［１］
チェーンが、ガイド本体における前記チェーンの移動のたびにチェーンガイド面の表面と接触されるように、前記ガイド本体の長手方向に前記チェーンを摺動自在にガイドするための前記チェーンガイド面を有する前記ガイド本体を含むチェーンテンションガイドであって、前記ガイド本体が、前記チェーンガイド面の少なくとも一部上に非熱可塑性ポリイミドで作製された層を含むチェーンテンションガイド。
［２］
前記ガイド本体全体が、前記非熱可塑性ポリイミドを含む、前記［１］に記載のチェーンテンションガイド。
［３］
前記非熱可塑性ポリイミドが、全芳香族ポリイミドである、前記［１］に記載のチェーンテンションガイド。
［４］
前記非熱可塑性ポリイミドが、ジアミンおよび二無水物から誘導されるポリイミド系ポリマー（ＰＩ）を含む、前記［１］に記載のチェーンテンションガイド。
［５］
前記ジアミンが４，４’−オキシジアニリンであり、前記二無水物がピロメリット酸二無水物である、前記［４］に記載のチェーンテンションガイド。
［６］
前記非熱可塑性ポリイミドが、ポリ−４，４’−オキシジフェニレンピロメリット酸アミドである、前記［５］に記載のチェーンテンションガイド。
［７］
前記非熱可塑性ポリイミドが、ポリ（ピロメリット酸二無水物−オキシジアニリン）、ポリ（３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物−ｐ−フェニレンジアミン）、およびポリ［３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物−（ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン）からなる群から選択される、前記［１］に記載のチェーンテンションガイド。
［８］
前記チェーンテンションガイドが、ほぼ一定のピッチで配置され、かつ内燃機関において互いに枢動可能につながれた連結されたリンクを有するチェーンのエンドレス動力伝達要素の張力を調整するためのものである、前記［１］に記載のチェーンテンションガイド。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月26日(2015.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体ダイであって、
ドライバと、
前記ドライバに電気的に結合される空間配列トランスデューサとを備え、前記空間配列トランスデューサは前記半導体ダイの表面に近接し、前記ドライバは前記空間配列トランスデューサにおいて少なくとも１方向に空間変動電界分布を生成するよう構成され、それにより前記半導体ダイの表面と別の半導体ダイの表面との間の縦の間隔の決定を容易にする、半導体ダイ。
【請求項２】
前記ドライバは、前記空間配列トランスデューサにおいて、２つの方向に空間変動電荷分布を生成するよう構成されている、請求項１に記載の半導体ダイ。
【請求項３】
前記空間配列トランスデューサは信号線アレイを含み、
前記ドライバは信号線アレイに対して共通の時間周波数および異なる位相を有する電気信号を出力するよう構成されており、それにより空間変動電荷分布を生成する、請求項１または２に記載の半導体ダイ。
【請求項４】
前記半導体ダイはさらに、別の半導体ダイの表面近くにある別の空間配列トランスデューサによって生成された別の空間変動電荷分布に対応する電界を検出するよう構成されている空間配列センサを含み、それにより前記半導体ダイと前記別の半導体ダイとの間の縦の間隔の決定を容易にする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の半導体ダイ。
【請求項５】
前記空間配列センサは信号線アレイを含む、請求項４に記載の半導体ダイ。
【請求項６】
前記ドライバは時間区間の間、電気信号の時間シーケンスを提供するよう構成され、
前記時間シーケンスの各電気信号は持続時間を有し、
前記時間シーケンスの所与の電気信号は、他の電気信号に対応する時間周波数と異なる時間周波数を有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の半導体ダイ。
【請求項７】
前記ドライバは、前記時間区間の間、前記時間周波数を順次増加させるよう構成されている、請求項６に記載の半導体ダイ。
【請求項８】
前記ドライバは離散周波数増分を用いて、前記時間区間の間、前記時間周波数を順次増加させるよう構成されている、請求項７に記載の半導体ダイ。
【請求項９】
システムであって、
第１の半導体ダイを備え、前記第１の半導体ダイは：
ドライバと、
前記ドライバに電気的に結合される空間配列トランスデューサとを含み、前記空間配列トランスデューサは前記第１の半導体ダイの表面に近接し、前記ドライバは前記空間配列トランスデューサにおいて、少なくとも１方向に空間変動電荷分布を生成するよう構成され、さらに
第２の半導体ダイを備え、前記第２の半導体ダイは前記第２の半導体ダイの表面に近接する空間配列センサを含み、前記空間配列センサは空間変動電荷分布に対応する電界を検出するよう構成され、それにより前記第１の半導体ダイの表面と前記第２の半導体ダイの表面との間の縦の間隔の決定を容易にする、システム。
【請求項１０】
第１の半導体ダイの表面と第２の半導体ダイの表面との間の縦の間隔を決定するための方法であって、前記方法は：
前記第１の半導体ダイの表面に近接する空間配列トランスデューサにおいて少なくとも１つの方向に空間変動電荷分布を生成すること、および
第２の半導体ダイの表面に近接する空間配列センサを用いて、前記空間変動電荷分布に対応する電界を検出することを備え、それにより前記第１の半導体ダイの表面と前記第２の半導体ダイの表面との間の縦の間隔の決定を容易にする、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月10日(2015.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】疼痛を緩和するのに有効な鎮痛組成物並びに当該組成物を含む乾燥粉末及び乾燥粉末薬剤輸送システム
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２０個未満のアミノ酸を含むペプチドおよびジケトピペラジンを構成要素とする微粒子を含む、吸入可能な鎮痛組成物であって、疼痛を緩和するのに有効な鎮痛組成物。
【請求項２】
前記ペプチドは、アルギニン、フェニルアラニン、ロイシン、イソロイシン、ノルロイシン、チロシン、セリン、プロリン、およびトリプトファンから独立に選択される少なくとも３個のアミノ酸を含む、
請求項１に記載の鎮痛組成物。
【請求項３】
前記ペプチドは、オピオイド受容体アゴニストである、請求項１または２に記載の鎮痛組成物。
【請求項４】
前記ペプチドは、長さで３個から８個のアミノ酸からなるアミノ酸配列を有する、請求項１から３のいずれか一項に記載の鎮痛組成物。
【請求項５】
前記ペプチドは、４個のアミノ酸からなるアミノ酸配列を有する、経肺投与のための請求項１から４のいずれか一項に記載の鎮痛組成物。
【請求項６】
前記ペプチドは、（Ｄ）Ｐｈｅ−（Ｄ）Ｐｈｅ−（Ｄ）Ｉｌｅ−（Ｄ）Ａｒｇ−ＮＨ２（配列番号１）、（Ｄ）Ｐｈｅ−（Ｄ）Ｐｈｅ−（Ｄ）Ｎｌｅ−（Ｄ）Ａｒｇ−ＮＨ２（配列番号２）、Ｔｒｐ−（Ｄ）Ｐｒｏ−Ｓｅｒ−Ｐｈｅ−ＮＨ２（配列番号３）、Ｔｒｐ−（Ｄ）Ｓｅｒ−Ｓｅｒ−Ｐｈｅ−ＮＨ２（配列番号４）、Ｄｍｔ−Ｄ−Ａｒｇ−Ｐｈｅ−Ｌｙｓ−ＮＨ２（配列番号５）、Ａｃ−Ｈｉｓ−（Ｄ）Ｐｈｅ−Ａｒｇ−（Ｄ）Ｔｒｐ−Ｇｌｙ−ＮＨ２（配列番号６）、またはＡｃ−Ｎｌｅ−Ｇｌｎ−Ｈｉｓ−（Ｄ）Ｐｈｅ−Ａｒｇ−（Ｄ）Ｔｒｐ−Ｇｌｙ−ＮＨ２（配列番号７）を含む、請求項１から５のいずれか一項に記載の鎮痛組成物。
【請求項７】
前記鎮痛組成物は、オピエート受容体に結合するペプチドを含む乾燥粉末である、
請求項１から６のいずれか一項に記載の鎮痛組成物。
【請求項８】
前記ペプチドは、中枢または末梢神経系における細胞のμオピオイド受容体、δオピオイド受容体、もしくはκオピオイド受容体、またはその受容体の組み合わせに結合する、請求項１から７のいずれか一項に記載の鎮痛組成物。
【請求項９】
前記ペプチドは、κオピオイド受容体アゴニストである、請求項１から８のいずれか一項に記載の鎮痛組成物。
【請求項１０】
乾燥粉末であって、前記ペプチドの含有量は該組成物の重量の少なくとも０．２５％である、請求項１から９のいずれか一項に記載の鎮痛組成物。
【請求項１１】
吸入のための乾燥粉末であって、直径で６μｍ未満の容積平均幾何学的径を有する微粒子を含む、請求項１から１０のいずれか一項に記載の鎮痛組成物。
【請求項１２】
前記ジケトピペラジンは、Ｎ−置換−３，６−アミノアルキル−２，５−ジケトピペラジンである、請求項１から１１のいずれか一項に記載の鎮痛組成物。
【請求項１３】
前記ジケトピペラジンは、２，５−ジケト−３，６−ジ（４−Ｘ−アミノブチル）ピペラジンであって、Ｘは、フマリル、スクシニル、グルタリル、マレイル、マロニル、オキサリル、またはその医薬的に許容できる塩である、請求項１から１２のいずれか一項に記載の鎮痛組成物。
【請求項１４】
前記ジケトピペラジンは、ビス［３，６−（Ｎ−フマリル−４−アミノブチル）］−２，５，ジケトピペラジン、またはビス［３，６−（Ｎ−フマリル−４−アミノブチル）］−２，５−ジケトピペラジン二ナトリウム塩である、請求項１から１３のいずれか一項に記載の鎮痛組成物。
【請求項１５】
請求項１から１４のいずれか一項に記載の鎮痛組成物を含む経肺吸入のための乾燥粉末。
【請求項１６】
請求項１から１４のいずれか一項に記載の鎮痛組成物を含む、乾燥粉末薬剤輸送システム。
【請求項１７】
前記鎮痛組成物を閉じ込め形態および投与形態で保持するための容器で構成された乾燥粉末吸入器を備える、
請求項１６に記載の乾燥粉末薬剤輸送システム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月28日(2015.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
直鎖構造であり数平均分子量が２０，０００未満のポリエステル樹脂を有するエネルギー硬化平版印刷インクまたはコーティングであって、前記ポリエステル樹脂は、ジエポキシドモノマーと二酸モノマーとを含む、エネルギー硬化平版印刷インクまたはコーティング。
【請求項２】
ジエポキシドモノマーの二酸モノマーに対する、または二酸モノマーのジエポキシドモノマーに対する化学量論比が１：０．３０から１．０：０．９９、または１．０：０．３５から１．０：０．８０、または１．０：０．４２から１．０：０．６５の範囲である、請求項１に記載のエネルギー硬化平版印刷インクまたはコーティング。
【請求項３】
前記分子量が５，０００から１０，０００、または６，０００から８，０００の範囲である、請求項１から２のいずれか一項に記載のエネルギー硬化平版印刷インクまたはコーティング。
【請求項４】
ジエポキシドモノマーが、ビスフェノール−Ａジグリシジルエーテルまたはそのエトキシ化類似体、脂環式エポキシ、環状芳香族エポキシ、水素化ビスフェノール−Ａジグリシジルエーテルまたはそのエトキシ化類似体、およびそれらの混合物からなる群より選択される、請求項１から３のいずれか一項に記載のエネルギー硬化平版印刷インクまたはコーティング。
【請求項５】
二酸モノマーが、イソフタル酸、セバシン酸、フマル酸、マレイン酸、アジピン酸、ニトロイソフタル酸、テレフタル酸、ウンデカン酸、コハク酸、グルタル酸、ピメリン酸、アゼライン酸（azeliac  acid）、マロン酸、スベリン酸、およびそれらの混合物からなる群より選択される、請求項１から４のいずれか一項に記載のエネルギー硬化平版印刷インクまたはコーティング。
【請求項６】
ポリエステル樹脂にアクリレートが含まれない、請求項１から５のいずれか一項に記載のエネルギー硬化平版印刷インクまたはコーティング。
【請求項７】
前記ポリエステル樹脂が繰り返し単位当たり２つのペンダントヒドロキシル基を含む、請求項１から６のいずれか一項に記載のエネルギー硬化平版印刷インクまたはコーティング。
【請求項８】
酸価が１．０未満、または０．５未満、または０．２５未満である、請求項１から７のいずれか一項に記載のエネルギー硬化平版印刷インクまたはコーティング。
【請求項９】
フリーラジカル阻害剤をさらに含む、請求項１から８のいずれか一項に記載のエネルギー硬化平版印刷インクまたはコーティング。
【請求項１０】
前記フリーラジカル阻害剤が、ヒドロキノン、メチルヒドロキノン、ヒドロキノンのモノメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、フェノチアジン、トリフェニルアンチモン、シュウ酸およびそれらの混合物からなる群より選択される、請求項９に記載のエネルギー硬化平版印刷インクまたはコーティング。
【請求項１１】
前記ポリエステル樹脂がエネルギー硬化平版インクの１５〜３５重量％、または１８〜３２重量％である、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載のエネルギー硬化平版印刷インク。
【請求項１２】
４０％未満、または１５％未満、または３％未満の全体的ボディー変化を示す、請求項１乃至１１のいずれか一項に記載のエネルギー硬化平版印刷インク。
【請求項１３】
１５％よりも大きい、または３０％よりも大きい水窓を示す、請求項１〜１２のいずれか一項に記載のエネルギー硬化平版印刷インク。
【請求項１４】
印刷濃度が８％未満である、請求項１乃至１３のいずれか一項に記載のエネルギー硬化平版印刷インク。
【請求項１５】
重合可能な多官能性モノマーをさらに含む、請求項１乃至１４のいずれか一項に記載のエネルギー硬化平版印刷インク。
【請求項１６】
前記重合可能な多官能性モノマーがインクの３５重量％未満、またはインクの２５重量％未満である、請求項１５に記載のエネルギー硬化平版印刷インク。
【請求項１７】
放射線硬化オリゴマーおよび／またはポリマーをさらに含む、請求項１乃至１６のいずれか一項に記載のエネルギー硬化平版印刷インク。
【請求項１８】
前記放射線硬化オリゴマーおよび／またはポリマーが、（メタ）アクリル化ウレタン、（メタ）アクリル化エポキシ、（メタ）アクリル化ポリエステル、（メタ）アクリル化（メタ）アクリル、（メタ）アクリル化シリコン、（メタ）アクリル化ポリエステル、ビニル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル化油およびそれらの混合物からなる群より選択される、請求項１７に記載のエネルギー硬化平版印刷インク。
【請求項１９】
光開始剤をさらに含む、請求項１乃至１８のいずれか一項に記載のエネルギー硬化平版印刷インク。
【請求項２０】
請求項１乃至１９のいずれか一項に記載のエネルギー硬化平版印刷インクを作製する方法であって、ポリエステル樹脂を準備するステップと、該ポリエステル樹脂を溶媒と混合するステップとを含む、方法。
【請求項２１】
請求項１乃至１９のいずれか一項に記載のエネルギー硬化平版インクを含む、印刷物。
【請求項２２】
被印刷物上に印刷するための請求項１乃至１９のいずれか一項に記載のエネルギー硬化平版インクの使用。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月24日(2015.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｉ）粒子状固体と、液体媒体と、架橋性基および１０００から７００００の重量平均分子量を有する分散剤と、を含む分散体を提供する段階と、
ｉｉ）前記粒子状固体および前記液体媒体の存在下で前記分散剤を架橋し、それによって、被包された粒子状固体の分散体を作製する段階であって、前記架橋は、分散剤１ｇあたり、前記分散剤中の架橋性基の０．０１から０．５ミリモルが架橋されるように行われる段階と、
を含む、分散体を作製するためのプロセスであって、前記プロセスはさらに、
ｉｉｉ）金属キレート化剤を前記分散体に添加することと、
段階ｉｉｉ）の後に、
ｉｖ）前記金属キレート化剤の少なくとも一部を前記分散体から除去する段階と、
を任意の段階で含む、プロセス。
【請求項２】
前記段階が、ｉ）、ｉｉｉ）、ｉｖ）、ｉｉ）またはｉ）、ｉｉ）、ｉｉｉ）、ｉｖ）の順序で行われる、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
段階ｉ）が、
ｉａ）粒子状固体および液体媒体を含む分散体を提供する段階と、
ｉｂ）段階ｉａ）における前記分散体に、架橋性基および１０００から７００００の重量平均分子量を有する分散剤を添加する段階と、
を含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項４】
前記段階が、
ｉａ）、ｉｉｉ）、ｉｖ）、ｉｂ）、ｉｉ）、または
ｉａ）、ｉｂ）、ｉｉｉ）、ｉｖ）、ｉｉ）、または
ｉａ）、ｉｂ）、ｉｉ）、ｉｉｉ）、ｉｖ）、または
ｉａ）、ｉｉｉ）、ｉｖ）、ｉｂ）、ｉｉ）、ｉｉｉ）、ｉｖ）
の順序で行われる、請求項３に記載のプロセス。
【請求項５】
前記架橋が、分散剤１ｇあたり０．０１／Ｆから０．５／Ｆミリモルの架橋剤のモル量で架橋剤を添加することによって行われ、Ｆは、架橋剤１分子あたりの架橋基の平均数である、請求項１から４のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項６】
前記分散剤中の前記架橋性基が、その塩を含むカルボン酸基およびホスホン酸基から選択され、
架橋前の前記分散剤が、分散剤１ｇあたり０．５から４ミリモルの酸価を有し、
前記分散剤が、前記粒子状固体の１００重量部あたり１５から６０重量部で存在する、
請求項１から５のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項７】
前記分散剤が、少なくとも５０重量％のベンジル（メタ）アクリレートを含むエチレン性不飽和モノマーを重合することによって作製される、請求項１から６のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項８】
前記粒子状固体が、顔料である、請求項１から７のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか一項に記載のプロセスを含む、インクジェット印刷用インクを作製するためのプロセス。
【請求項１０】
請求項１から８のいずれか一項に記載のプロセスによって得られる、または得られ得る分散体。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月16日(2015.7.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非架橋ゴム及びその中に分散した架橋構造を有するゴム粒子を含むゴム組成物であって、架橋構造を有するゴム粒子が、２０〜５００nmの平均粒径及び少なくとも６０wt%のゲル分率を有する合成ゴム粒子及び／又は天然ゴム粒子であり、非架橋ゴムがスチレン−ブタジエンゴムであり、そして、架橋構造を有するゴム粒子と非架橋ゴムの重量比が、１：９９〜２０：８０である、ゴム組成物。
【請求項２】
架橋構造を有するゴム粒子が、天然ゴム粒子、スチレン−ブタジエンゴム粒子、カルボキシル化スチレン−ブタジエンゴム粒子、ニトリルブタジエンゴム粒子、カルボキシル化ニトリルブタジエンゴム粒子、クロロプレンゴム粒子、ポリブタジエンゴム粒子、シリコーンゴム粒子、アクリルゴム粒子、スチレン−ブタジエン−ビニルピリジンゴム粒子等からなる群より選択される１つ以上であり；好ましくは、ニトリルブタジエンゴム粒子、スチレン−ブタジエン−ビニルピリジンゴム粒子、スチレン−ブタジエンゴム粒子、カルボキシル化スチレン−ブタジエンゴム粒子からなる群より選択される１つ以上であり；より好ましくは、スチレン−ブタジエンゴム粒子、カルボキシル化スチレン−ブタジエンゴム粒子、ニトリルブタジエンゴム粒子からなる群より選択される１つ以上であり；最も好ましくは、ニトリルブタジエンゴム粒子であることを特徴とする、請求項１に記載のゴム組成物。
【請求項３】
架橋構造を有するゴム粒子が、均質構造であることを特徴とする、請求項１又は２に記載のゴム組成物。
【請求項４】
架橋構造を有するゴム粒子のゲル分率が、少なくとも７５wt%、好ましくは８０wt%以上であることを特徴とする、請求項１〜３の一項に記載のゴム組成物。
【請求項５】
架橋構造を有するゴム粒子の平均粒径が、５０〜３００nm、好ましくは５０〜２００nmであることを特徴とする、請求項１〜４の一項に記載のゴム組成物。
【請求項６】
架橋構造を有するゴム粒子と非架橋ゴムの重量比が、１：９９〜１０：９０であることを特徴とする、請求項１〜５の一項に記載のゴム組成物。
【請求項７】
架橋構造を有するゴム粒子と非架橋ゴムの重量比が、２：９８〜８：９２であることを特徴とする、請求項１〜６の一項に記載のゴム組成物。
【請求項８】
前記組成物が、非架橋ゴムラテックスを含む成分と架橋構造を有するゴム粒子のラテックスを含む成分を混合し、次に、これらを凝固することによって得られ、ここで、架橋構造を有するゴム粒子のラテックスが、放射線架橋によって得られるゴムラテックスであることを特徴とする、請求項１〜７の一項に記載のゴム組成物。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載のゴム組成物の調製方法であって、下記の工程：
（１）合成ゴムラテックス及び／又は天然ゴムラテックスを放射線架橋に供し、それによって、架橋構造、前記ゲル分率そして同時に前記の平均粒径範囲内で設定された平均粒径を有する、ラテックス中の合成ゴム粒子及び／又は天然ゴム粒子を提供する工程；
（２）架橋構造を有するゴム粒子と非架橋スチレン−ブタジエンゴムの前記重量比に従って、上記の放射線架橋した合成ゴムラテックス及び／又は天然ゴムラテックスと非架橋スチレン−ブタジエンゴムのラテックスとを均質になるまで混合する工程；
（３）上記の混合したラテックスを凝固して、前記ゴム組成物を得る工程
を含む調製方法。
【請求項１０】
合成ゴムラテックス及び／又は天然ゴムラテックスが、天然ゴムラテックス、スチレン−ブタジエンゴムラテックス、カルボキシル化スチレン−ブタジエンゴムラテックス、ニトリルブタジエンゴムラテックス、カルボキシル化ニトリルブタジエンゴムラテックス、クロロプレンゴムラテックス、ポリブタジエンゴムラテックス、シリコーンゴムラテックス又はアクリルゴムラテックス、スチレン−ブタジエン−ビニルピリジンゴムラテックス等からなる群より選択される１つ以上；好ましくは、ニトリルブタジエンゴムラテックス、スチレン−ブタジエン−ビニルピリジンゴムラテックス、スチレン−ブタジエンゴムラテックス、カルボキシル化スチレン−ブタジエンゴムラテックスからなる群より選択される１つ以上；より好ましくは、スチレン−ブタジエンゴムラテックス、カルボキシル化スチレン−ブタジエンゴムラテックス、ニトリルブタジエンゴムラテックスからなる群より選択される１つ以上；最も好ましくは、ニトリルブタジエンゴムラテックスであることを特徴とする、請求項９に記載の調製方法。
【請求項１１】
請求項１〜８のいずれか一項に記載のゴム組成物によって調製される加硫ゴムであって、前記重量比に従って、加硫スチレン−ブタジエンゴムマトリックス、及び加硫スチレン−ブタジエンゴムマトリックス中に前記平均粒径で分散した架橋構造を有するニトリルブタジエンゴム粒子を含む、加硫ゴム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月16日(2015.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アンダーカット掘削における連続コンクリート床を形成する方法であって、前記方法は、
ａ．床および側壁を有する第１のドリフトをその長さに沿って掘削する工程、
ｂ．メッシュ、鉄筋またはスクリーンの形の補強鉄筋のパターンであって、前記補強鉄筋の上に注がれるコンクリート床に十分な強度を提供するために、前記補強鉄筋のパターンを据え付ける工程、
ｃ．前記第１のドリフトの前記床の周辺まわりに据え付けられる型枠であって、前記第１のドリフトの前記側壁に対して据え付けられた前記型枠は、掘削されるときに隣接するドリフトに据え付けられるいかなる重なり合う補強鉄筋の長さにも等しい長さである、型枠を据え付ける工程、
ｄ．前記補強鉄筋がカバーされるように砂で前記型枠を満たす工程、
ｅ．次いで、ドリフトがきつく埋め戻されるときに、前記コンクリート床より上のセメント充填されたロックフィルまたはその等価物を支持するのに十分な厚みを有するドリフトのコンクリート床を形成するために、前記補強鉄筋および砂の上にコンクリートを注ぐかまたはポンプにより注ぎ込む工程、
ｆ．前記型枠を取り除く工程、
ｇ．床および側壁を有する第２のドリフトであって、掘削されない鉱石の第３のドリフトによって前記第１のドリフトから切り離される、第２のドリフトをその長さに沿って掘削する工程、
ｈ．工程ａ〜ｆの方法に続いて前記第２のドリフトの前記床上にコンクリート床を形成する工程、
ｉ．前記第１のドリフトおよび第２のドリフトがセメント充填されたロックフィルを用いて埋め戻された後、床およびセメント充填されたロックフィル側壁を有する第３のドリフトを、前記第１および第２のドリフト間で掘削する工程、
ｊ．前記第３のドリフトの周辺に隣接している前記第１および第２のドリフトの周辺の部分に沿って前記第１および第２のドリフトの前記コンクリート床の下から前記補強鉄筋の端部をカバーしている砂を取り除く工程、
ｋ．次いで、前記第１および第２のドリフトの前記補強鉄筋の端部に重なり合うように延びる前記第３のドリフトに補強鉄筋を提供する工程、
ｌ．前記第１、第２および第３のドリフトの連続した鉄筋補強コンクリート床を形成するために、前記第３のドリフトがきつく埋め戻されて、前記第１および第２のドリフトの周辺に沿って以前に砂を盛土された領域ならびに重なり合う前記補強鉄筋がコンクリートで満たされるときに、前記コンクリート床より上のセメント充填されたロックフィルまたはその等価物を支持するのに十分な厚みを有する前記第３のドリフトのコンクリート床を形成するために、前記第３のドリフトの前記補強鉄筋の上にコンクリートを注ぐかまたはポンプにより注ぎ込む工程、
を含む、アンダーカット掘削における連続コンクリート床を形成する方法。
【請求項２】
前記第１、第２および第３のドリフトの各々がそれらの長さに沿って掘削された後、前記第１、第２および第３のドリフトの各々の前記床は、壊れた鉱石を用いて埋め戻されて、等級分けされ、次いで、補強鉄筋の前記パターンを据え付ける前に、前記壊れた鉱石の上に薄いプラスチック層が提供される、追加的な工程をさらに含む、請求項１に記載のアンダーカット掘削における連続コンクリート床を形成する方法。
【請求項３】
前記第１または第２のドリフトのコンクリート床を形成した後、前記第１および第２のドリフト間の第３のドリフトを前記第１および第２のドリフトの前記コンクリート床のエッジまで掘削する前に、前記第１または第２のドリフトをセメント充填されたロックフィルまたはその等価物を用いてきつく埋め戻す工程、を含む、請求項１に記載のアンダーカット掘削における連続コンクリート床を形成する方法。
【請求項４】
前記第１または第２のドリフトのコンクリート床を形成した後、前記第１および第２のドリフト間の第３のドリフトを前記第１および第２のドリフトの前記コンクリート床のエッジまで掘削する前に、前記第１または第２のドリフトをセメント充填されたロックフィルまたはその等価物を用いてきつく埋め戻す工程、を含む、請求項２に記載のアンダーカット掘削における連続コンクリート床を形成する方法。
【請求項５】
各レベルの前記掘削上の追加的なドリフトの掘削は、工程ａ〜ｌにしたがって実行される、請求項１に記載のアンダーカット掘削における連続コンクリート床を形成する方法。
【請求項６】
追加の工程、
（ｉ）前記掘削のレベルで任意のドリフトの掘削の前に、前記ドリフトのレベルより上および下で地面に所定のサイズおよび長さの穴を開ける工程、
（ｉｉ）地盤移動に起因する衝撃エネルギーまたは過度な荷重を吸収できる弾性要素を各穴の底に配置する工程、
（ｉｉｉ）前記穴の中にコンクリートの柱を挿入する工程であって、これらの柱は、前記弾性要素上に存在するそれらの底端部を有し、そして前記地面のレベルまでのそれらの上端部を有し、前記柱は、それらの上端部上にコンクリートの天盤を支持できる、工程、
（ｉｖ）コンクリートの床を前記ドリフトより上の地面上に注いで、そして前記柱の上端部に入れる工程、および、
（ｖ）ここで前記掘削のための前記コンクリートの天盤として役立つ前記コンクリートの床の下に、次いで、請求項１の工程ａ〜ｌにしたがってドリフトを掘削する工程、
を含む、請求項１に記載のアンダーカット掘削における連続コンクリート床を形成する方法。
【請求項７】
前記コンクリートの床を注ぐのに先立って、各ドリフトに追加の支持柱セットを据え付ける追加の工程を含む、請求項６に記載のアンダーカット掘削における連続コンクリート床を形成する方法。
【請求項８】
前記コンクリートの床上の応力、引張荷重、および曲げを計測するために、計装器は、補強鉄筋に沿って据え付けられる、請求項１、６または７のいずれか１項に記載のアンダーカット掘削における連続コンクリート床を形成する方法。
【請求項９】
追加の計装器は、
ａ．柱より上および柱の間の位置、
ｂ．押しつぶされたそしてボルト留めされたロックフィルを通る前記天盤から、より上の前記コンクリートの床を支持する前記柱の上部まで、
ｃ．前記床のスラブの周囲まわり、
ｄ．柱の範囲内の、そして前記コンクリートの床のスラブに埋め込まれたコンジットを通る導管の範囲内、
ｅ．押しつぶされたロックフィルの範囲内、
から選択される１つ以上の位置に据え付けられる、請求項８に記載のアンダーカット掘削における連続コンクリート床を形成する方法。
【請求項１０】
セメント充填されてロックフィルされたドリフトへの岩の移動を計測するために、追加の計装器は、ロックルーフに開けられた穴内および壁の周囲において据え付けられる、請求項８または９に記載のアンダーカット掘削における連続コンクリート床を形成する方法。

【請求項１１】
荷重変動が分析し得るように、前記計装器の記録データは、連続的である、請求項８〜１０のいずれか１項に記載のアンダーカット掘削における連続コンクリート床を形成する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月20日(2015.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
ランナー１８の円錐台セクション４２は、ブレードの外側エッジの部分を取り囲むバンド１４２（図１参照）を含むことがある。円錐台セクション４２は、リング３８とブレードのリーディングエッジ３５の下部コーナーとの間にある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
図３に示されるランナー３０も、ブレード４４の環状列を支持するハブ又はクラウン２４２を有する。図３に示されるランナー３０は、図２に示されるランナー２８とは異なり、図２に示されるものよりボトムアップの視点から示されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
図６は、断面で示されるコンパクトブレード９６の概略図である。このブレードは、図４に示されるブレードと同一の形状及び寸法を有する。リーディングエッジ９８付近のブレードの厚さ（ｔ）は、フランシスタービンのランナーのための従来のブレードと比べて相対的に薄い。厚さ（ｔ）はブレードの最も厚い部分である。ブレードの最大厚さは、スロート直径の３パーセント（３％）と等しい（０．０３Ｄｔｈ）か又はそれ以上である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2014530977.tif 000001
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2014530977.tif 000002
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2014530977.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月17日(2015.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基材接着用の第一の感圧接着層と、少なくとも１個の第二の反対側の層と、を有する、多層感圧接着（ＰＳＡ）フィルムであって、前記第一の感圧接着層は、硬化性エチレン性不飽和基を有するモノマー又は部分的に予備重合されたモノマーを含む前駆体の重合反応生成物であり、一方、前記前駆体は少なくとも２個のＳｉ原子を有する有機官能性シランオリゴマーを更に含み、
前記硬化性エチレン性不飽和基を有するモノマーは、Ｚｅｒｅｗｉｔｉｎｏｗ法により活性なＨ原子を有するカップリング基を更に有し、かつ前記有機官能性シランオリゴマーは、前記硬化性エチレン性不飽和基を有するモノマーの前記カップリング基に対して反応性であるカップリング基を少なくとも１個有するか、
又は、
前記有機官能性シランオリゴマーは、Ｚｅｒｅｗｉｔｉｎｏｗ法により活性なＨ原子を有するカップリング基を少なくとも１個有し、かつ前記硬化性エチレン性不飽和基を有するモノマーは、前記有機官能性シランオリゴマーの前記カップリング基に対して反応性であるカップリング基を更に有しており、
但し、前記硬化性エチレン性不飽和基を有するモノマーが、−ＯＨとなるよう選択されるＺｅｒｅｗｉｔｉｎｏｗ法により活性なＨ原子を有するカップリング基を更に有する場合には、前記硬化性エチレン性不飽和基を有するモノマーの前記カップリング基に対して反応性である前記有機官能性シランオリゴマーの前記カップリング基が、アミノ基となるよう選択できないことを条件とする、多層感圧接着（ＰＳＡ）フィルム。