【事件の表示】
　特願２００９−２８４４３０「２つのサイドシールドを有する垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２２年１２月　９日出願公開、特開２０１０−２７７６７６、請求項の数（９）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１．手続の経緯
　
　本願は、平成２１年１２月５日（パリ条約に基づく優先権主張　平成２１年６月１日　米国（ＵＳ））の出願であって、平成２４年９月２８日付け拒絶理由通知に対する応答時、同年１２月２１日付けで手続補正がなされたが、平成２５年７月４日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年９月２４日付けで拒絶査定不服審判の請求がなされたものである。
　
第２．本願発明
　
　本願の請求項１ないし９に係る発明は、平成２４年１２月２１日付けの手続補正で補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項、及び出願当初の特許請求の範囲の請求項２ないし９に記載された事項により特定される、次のとおりのものである。
「【請求項１】
　記録媒体に対向する媒体対向面と、
　前記記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、
　前記媒体対向面に配置された端面を有し、前記コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって前記情報を前記記録媒体に記録するための記録磁界を発生する磁極層と、
　磁性材料よりなり、前記媒体対向面において前記磁極層の前記端面に対して記録媒体の進行方向の前側に配置された端面を有する上部シールドと、
　非磁性材料よりなり、前記媒体対向面に配置された端面を有し、前記磁極層と前記上部シールドとの間に配置されたギャップ層と、
　磁性材料よりなり、それぞれ前記媒体対向面に配置された端面を有し、前記磁極層のトラック幅方向の両側に配置された第１および第２のサイドシールドと、
　非磁性材料よりなり、前記磁極層を収容する第１の溝部、前記第１のサイドシールドを収容する第２の溝部、および前記第２のサイドシールドを収容する第３の溝部を有する収容層とを備えた垂直磁気記録用磁気ヘッドを製造する方法であって、
　後に前記第１ないし第３の溝部が形成されることによって前記収容層となる非磁性層を形成する工程と、
　前記非磁性層の上に、後に形成される前記第１ないし第３の溝部の平面形状に対応した形状の第１ないし第３の開口部を有するエッチングマスク層を形成する工程と、
　前記非磁性層が前記収容層となるように、前記エッチングマスク層を用いて、エッチングによって前記非磁性層に前記第１ないし第３の溝部を形成する工程と、
　前記磁極層を形成する工程と、
　前記第１および第２のサイドシールドを形成する工程と、
　前記ギャップ層を形成する工程と、
　前記上部シールドを形成する工程と、
　前記コイルを形成する工程とを備え、
　前記第１ないし第３の溝部を形成する工程は、
　前記第２および第３の開口部を第１のマスクで覆った状態で、前記第１の開口部を用いて前記非磁性層をエッチングして前記第１の溝部を形成する工程と、
　前記第１の開口部を第２のマスクで覆った状態で、前記第２および第３の開口部を用いて前記非磁性層をエッチングして前記第２および第３の溝部を形成する工程とを含み、
　前記第１のマスクは、前記第１の開口部の幅よりも大きい幅を有して前記第１の開口部を露出させる開口部を有することを特徴とする垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
【請求項２】
　前記垂直磁気記録用磁気ヘッドは、更に、上面を有し、前記コイル、収容層、磁極層、第１および第２のサイドシールド、ギャップ層および上部シールドが積層される基板を備え、
　前記媒体対向面に配置された前記磁極層の端面のトラック幅方向の幅は、前記基板の上面に近づくに従って小さくなることを特徴とする請求項１記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
【請求項３】
　前記垂直磁気記録用磁気ヘッドは、更に、上面を有し、前記コイル、収容層、磁極層、第１および第２のサイドシールド、ギャップ層および上部シールドが積層される基板を備え、
　前記磁極層は、前記媒体対向面に配置された第１の端縁とその反対側の第２の端縁とを有する第１の部分と、前記第１の部分よりも前記媒体対向面から遠い位置に配置され、前記第２の端縁において前記第１の部分に接続された第２の部分とを含む上面を有し、前記第１の部分における任意の位置の前記基板の上面からの距離は、前記任意の位置が前記媒体対向面に近づくに従って小さくなり、
　前記磁極層を形成する工程は、前記第１の溝部を埋めるように、後に前記磁極層となる磁性層を形成する工程と、前記磁極層の上面における前記第１の部分が形成されて前記磁性層が前記磁極層となるように、前記磁性層の一部をエッチングする工程とを含むことを特徴とする請求項１記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
【請求項４】
　前記エッチングマスク層を形成する工程は、
　前記非磁性層の上に、非磁性金属材料よりなり、後に前記第１ないし第３の開口部が形成されることによって前記エッチングマスク層となる非磁性金属層を形成する工程と、
　前記非磁性金属層の上に、後に前記非磁性金属層をエッチングする際に用いられるフォトレジストマスクを形成する工程と、
　前記非磁性金属層が前記エッチングマスク層となるように、前記フォトレジストマスクを用いて、エッチングによって前記非磁性金属層に前記第１ないし第３開口部を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項１記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
【請求項５】
　前記フォトレジストマスクを形成する工程では、光近接効果補正を伴うフォトリソグラフィによって前記フォトレジストマスクを形成することを特徴とする請求項４記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
【請求項６】
　前記磁極層を形成する工程と前記第１および第２のサイドシールドを形成する工程は、前記第１の溝部を形成する工程と前記第２および第３の溝部を形成する工程の後に行われることを特徴とする請求項１記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
【請求項７】
　前記磁極層を形成する工程は、前記第１の溝部を形成する工程の後に行われ、
　前記第２および第３の溝部を形成する工程は、前記磁極層を形成する工程の後に行われ、
　前記第１および第２のサイドシールドを形成する工程は、前記第２および第３の溝部を形成する工程の後に行われ、
　前記第２および第３の溝部を形成する工程において、前記第２のマスクは、前記第１の開口部と共に前記磁極層を覆うことを特徴とする請求項１記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
【請求項８】
　前記ギャップ層を形成する工程は、前記第２および第３の溝部を形成する工程と前記第１および第２のサイドシールドを形成する工程との間に行われることを特徴とする請求項７記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
【請求項９】
　前記第１および第２のサイドシールドと前記上部シールドは同じ材料よりなり、前記上部シールドを形成する工程は、前記第１および第２のサイドシールドを形成する工程と同時に行われることを特徴とする請求項８記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。」
　
第３．原査定の理由の概要
　
「この出願の下記の請求項に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
　　　　　記　　　（引用文献等については引用文献等一覧参照）
　
・請求項１，２，４，６−９
・引用文献等：１，２
・備考
　引用文献１には、磁極層１２と、第１および第２のサイドシールド層１３Ｅ，１３Ｆと、非磁性材料よりなり、磁極層１２を収容する溝部２５ａ及びサイドシールド層１３Ｅ，１３Ｆを収容する溝部２５ｂ，２５ｃを有する収容層２５とを備えた垂直磁気記録用磁気ヘッドおよびその製造方法であって、
溝部２５ａ，２５ｂ，２５ｃに対応した位置に開口部２６ａ，２６ｂ，２６ｃを有した非磁性金属層２６（本願の「エッチングマスク層」に相当）を用いてエッチングによって非磁性材料に溝部２５ａ，２５ｂ，２５ｃを形成することが記載されている（【０１３６】−【０１４９】段落、図２４−図３０参照）。
　引用文献２にも、主磁極３２及びサイドシールド３６，３６を有した垂直記録磁気ヘッドの製造方法であって、非磁性絶縁膜３７に主磁極３２用の開口部（本願の「溝部」に相当）を形成し、その後、主磁極部をレジストパターン５０でマスクし、サイドシールド用の開口部を形成することが記載されている（【００３０】−【００３５】段落、図６参照）。
　そして、引用文献１の溝部２５ａ，２５ｂ，２５ｃを形成する際に、引用文献２のように、溝部２５ａと溝部２５ｂ，２５ｃとを別工程で形成することは、当業者が容易に想到し得ることである。
　したがって、請求項１，２，４，６−９に係る発明は、引用文献１及び引用文献２に基づき、当業者が容易に想到し得ることである。
　
・請求項３
・引用文献等：１−３
・備考
　引用文献３には、磁性層１６０Ｐの一部をエッチングして、面ＡＢＳに向かって傾斜した第１の部分１６０Ｔ１を有する磁性層１６０（本願の「磁極層」に相当）とすることが記載されている（【０１１０】−【０１１１】段落、図１９−図２０参照）。
　そして、引用文献１の磁極層１２の媒体対向面側端部を、引用文献３のように、傾斜部を有するように形成することは、当業者が容易に想到し得ることである。
　
・請求項５
・引用文献等：１，２，４
・備考
　微小寸法の処理をフォトリソグラフィで行う際に、光近接効果補正を適用したマスクを用いることは周知技術である（例えば、引用文献４の【０００５】段落、図８、図９参照）。
　
　　　　　　　　　　　引　用　文　献　等　一　覧
１．特開２００８−０３４０７７号公報
２．特開２００７−２５７７１１号公報
３．特開２００９−０６４５３９号公報
４．特開２００８−３０５５１２号公報」
　
第４．当審の判断
　
１．刊行物の記載事項
　
（１）引用例１
  原査定の拒絶の理由に引用された特開２００８−３４０７７号公報（以下、「引用例１」という。）には、「垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法」について、図面とともに以下の各記載がある（なお、下線は当審で付与した。）。
　ア．「【請求項１８】
  
記録媒体に対向する媒体対向面と
  
前記記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと
  
前記媒体対向面に配置された端面を有し、前記コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって前記情報を前記記録媒体に記録するための記録磁界を発生する磁極層と
  
シールドとを備え
  
前記シールドは、前記媒体対向面において前記磁極層の前記端面に対して記録媒体の進行方向の前側に配置された第１の面
を有する第１層
を有し
  更に、
非磁性材料よりなり、前記磁極層と前記第１層との間に設けられたギャップ層を備え
  
前記媒体対向面において、前記第１層の前記第１の面は、前記磁極層の前記端面に対して、前記ギャップ層の厚みによる所定の間隔を開けて配置され
  前記磁極層の前記端面は、前記ギャップ層に隣接する辺を有し、この辺はトラック幅を規定し、
  前記コイルの一部は、前記磁極層、第３層、第１の連結部および第２の連結部によって囲まれた空間を通過してい
る垂直磁気記録用磁気ヘッドを製造する方法であって
  前記第３層を形成する工程と、
  
前記コイルを形成する工程と
  前記第１および第２の連結部を形成する工程と、
  
前記磁極層を形成する工程と
  
前記磁極層の上に前記ギャップ層を形成する工程と
  
前記ギャップ層の上に前記第１層を形成する工程と
  前記第１層の上に前記第２層を形成する工程と
を備えたことを特徴とする垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法
　
　イ．「【請求項２６】
  
前記シールドは、更に、前記磁極層のトラック幅方向の両側に配置され、前記第１層に接続された第１および第２のサイドシールド層を有し、前記第１および第２のサイドシールド層は、それぞれ、前記媒体対向面に配置された端面を有し
  
垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法は、更に、前記第３層を形成する工程と前記ギャップ層を形成する工程との間において前記第１および第２のサイドシールド層を形成する工程を備えた
　
　ウ．「【０１３６】
［第３の実施の形態］
  次に、本発明の第３の実施の形態に係る磁気ヘッドおよびその製造方法について説明する。始めに、図２４および図２５を参照して、本実施の形態に係る磁気ヘッドの構成について説明する。図２４は本実施の形態に係る磁気ヘッドの媒体対向面を示す正面図である。図２５は本実施の形態に係る磁気ヘッドにおける磁極層とシールドを示す平面図である。
【０１３７】
  図２４および図２５に示したように、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおける
シールド１３は、第１層１３Ａ１
に加え、第１のサイドシールド層１３Ｅと第２のサイドシールド層１３Ｆを有している。このサイドシールド層１３Ｅ，１３Ｆは、磁極層１２のトラック幅方向の両側に配置され、第１層１３Ａ１に接続されている
サイドシールド層１３Ｅ，１３Ｆは、それぞれ、媒体対向面３０に配置された端面を有している。サイドシールド層１３Ｅ，１３Ｆは、いずれも磁性材料によって形成されている
【０１３８】
  本実施の形態では、
収容層２５は、溝部２５ａの他に、それぞれ上面で開口し、サイドシールド層１３Ｅ，１３Ｆを収容する溝部２５ｂ，２５ｃを有している
非磁性金属層２６は、開口部２６ａの他に、開口部２６ｂ，２６ｃを有している。開口部２６ｂ，２６ｃの縁は、それぞれ、収容層２５の上面における溝部２５ｂ，２５ｃの縁の真上に配置されている
【０１３９】
  次に、図２６ないし図３０を参照して、本実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法について説明する。図２６ないし図３０は、それぞれ、磁気ヘッドの製造過程における積層体の断面図である。なお、図２６ないし図３０は、媒体対向面の近傍における媒体対向面に平行な断面を示している。また、図２６ないし図３０では、上部シールド層７よりも基板１側の部分を省略している。
【０１４０】
  本実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法では、
図９に示したように
非磁性層２５Ｐの上面を平坦化する工程までは、第１の実施の形態と同様
【０１４１】
  図２６は、次の工程を示す。この工程では、まず、第１の実施の形態と同様に、例えばスパッタ法によって、第１の部分１３Ｃ１、第２の部分１３Ｃ２および
非磁性層２５Ｐの上に非磁性金属層２６を形成する。次に、非磁性金属層２６の上に
フォトレジスト層をパターニングして、収容層２５に溝部２５ａ，２５ｂ，２５ｃを形成するためのマスク３１を形成する。このマスク３１は、それぞれ溝部２５ａ，２５ｂ，２５ｃに対応した形状の３つの開口部を有している
【０１４２】
  次に、マ
スク３１を用いて、非磁性金属層２６を選択的にエッチングする。これにより、非磁性金属層２６に、貫通した開口部２６ａ，２６ｂ，２６ｃが形成される。開口部２６ａ，２６ｂ，２６ｃは、それぞれ後に形成される磁極層１２、サイドシールド層１３Ｅ，１３Ｆの平面形状に対応した形状をなしている。更に、非磁性層２５Ｐのうち非磁性金属層２６の開口部２６ａ，２６ｂ，２６ｃから露出する部分を選択的にエッチングすることによって、非磁性層２５Ｐに溝部２５ａ，２５ｂ，２５ｃを形成する
溝部２５ａ，２５ｂ，２５ｃが形成されることにより、非磁性層２５Ｐは収容層２５となる
【０１４３】
  図２７は、次の工程を示す。この工程では、まず、積層体の上面全体の上に、非磁性膜２７を形成する。非磁性膜２７は、収容層２５の溝部２５ａ，２５ｂ，２５ｃ内にも形成される。次に、積層体の上面全体の上に研磨停止層２８を形成する。研磨停止層２８は、収容層２５の溝部２５ａ，２５ｂ，２５ｃ内にも形成される。研磨停止層２８は、後に行われる研磨工程における研磨の停止位置を示す。非磁性膜２７および研磨停止層２８の形成方法は、第１の実施の形態と同様である。次に、非磁性膜２７および研磨停止層２８のうち、第２の連結部１３Ｄの上に配置された部分を選択的にエッチングして、非磁性膜２７および研磨停止層２８にコンタクトホールを形成する。
【０１４４】
  次に、
積層体の上面全体の上に、後に磁極層１２となる磁性層１２Ｐを形成する
【０１４５】
  図２８は、次の工程を示す。この工程では、まず、例えば
ＣＭＰによって
磁性層１２Ｐを研磨して
磁性層１２Ｐの上面を平坦化する
これにより、磁性層１２Ｐは、磁極層１２およびサイドシールド層１３Ｅ，１３Ｆとなる
【０１４６】
  図２９は、次の工程を示す。この工程では、まず、
積層体の上面全体の上に、ギャップ層１４を形成する
【０１４７】
  図３０は、次の工程を示す。この工程では、まず、第１の実施の形態における図１６に示した工程と同様に、第１の部分１３Ｃ１、第２の部分１３Ｃ２および
ギャップ層１４の上に第１層１３Ａ１を形成する
【０１４８】
  次に、第１の実施の形態における図１７に示した工程と同様に、第１層１３Ａ１および非磁性層１６の上に第２層１３Ａ２を形成すると共に、第１の上部ヨーク層１５Ａの上に第２の上部ヨーク層１５Ｂを形成する。次に、積層体の上面全体の上に、非磁性層１７を形成する。次に、例えばＣＭＰによって、第２層１３Ａ２および第２の上部ヨーク層１５Ｂが露出するまで非磁性層１７を研磨して、第２層１３Ａ２、第２の上部ヨーク層１５Ｂおよび非磁性層１７の上面を平坦化する。次に、積層体の上面全体を覆うように保護層１８を形成する。次に、保護層１８の上に配線や端子等を形成し、スライダ単位で基板を切断し、媒体対向面３０の研磨、浮上用レールの作製等を行って、磁気ヘッドが完成する。
【０１４９】
  本実施の形態における
シールド１３は、サイドシールド層１３Ｅ，１３Ｆを有している。これにより、本実施の形態によれば、磁極層１２の端面に対してトラック幅方向の両側において、磁束の広がりをより抑制することができると共に、漏れ磁束が記録媒体に達することをより抑制することができる。従って、本実施の形態によれば、広範囲隣接トラック消去の発生をより抑制することができる
　
　・上記引用例１に記載の「垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法」は、上記「ア．」の記載事項によれば、記録媒体に対向する媒体対向面と、記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、媒体対向面に配置された端面を有し、コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって情報を記録媒体に記録するための記録磁界を発生する磁極層と、シールドと、非磁性材料よりなり、磁極層とシールドの第１層との間に設けられたギャップ層を備えた垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
　なお、ギャップ層１４は、上記「ア．」の記載事項、及び図２４から明らかなように、媒体対向面に配置された端面を有するものである。
　・上記「ア．」、「イ．」、「ウ．」の段落【０１３７】の記載事項、及び図２４、図２５によれば、シールド１３は、いずれも磁性材料よりなり、媒体対向面３０において磁極層１２の端面に対して記録媒体の進行方向の前側に配置された端面（第１の面）を有する第１層１３Ａ１と、磁極層１２のトラック幅方向の両側に配置され、それぞれ、媒体対向面に配置された端面を有する第１および第２のサイドシールド層１３Ｅ，１３Ｆを有するものである。
　・上記「ウ．」の段落【０１３８】の記載事項、及び図２４によれば、垂直磁気記録用磁気ヘッドは、さらに、磁極層１２を収容する溝部２５ａと、第１および第２のサイドシールド層１３Ｅ，１３Ｆをそれぞれ収容する溝部２５ｂ，２５ｃを有する収容層２５を備え、上記「ウ．」の段落【０１４０】〜【０１４２】の記載事項によれば、当該収容層２５は、非磁性層２５Ｐを選択的にエッチングすることによって得られるものであるから、非磁性材料よりなるものである。
　・そして、上記「ア．」〜「ウ．」の記載事項、及び図２６〜３０によれば、この垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法は、以下の各工程を有するものである。
 (a)コイルを形成する工程、
 (b)後に溝部２５ａ，２５ｂ，２５ｃが形成されることにより収容層２５となる非磁性層２５Ｐを形成する工程、
 (c)非磁性層２５Ｐの上に非磁性金属層２６を形成し、当該非磁性金属層２６の上にフォトレジスト層をパターニングして、溝部２５ａ，２５ｂ，２５ｃを形成するためのマスク３１を形成し、当該マスク３１を用いて非磁性金属層２６を選択的にエッチングすることにより、非磁性金属層２６に、後に形成される地極層１２、第１および第２のサイドシールド層１３Ｅ，１３Ｆの平面形状にそれぞれ対応した形状、すなわち溝部２５ａ，２５ｂ，２５ｃの平面形状にそれぞれ対応した形状の開口部２６ａ，２６ｂ，２６ｃを形成する工程、
 (d)非磁性層２５Ｐのうち非磁性金属層２６の開口部２６ａ，２６ｂ，２６ｃから露出する部分を選択的にエッチングすることによって、当該非磁性層２５Ｐに溝部２５ａ，２５ｂ，２５ｃを形成し、これによって非磁性層２５Ｐを収容層２５とする工程、
 (e)これら積層体の上面全体の上に磁性層１２Ｐを形成し、当該磁性層１２Ｐの上面をＣＭＰにより研磨して平坦化することにより、磁性層１２Ｐからそれぞれ磁極層１２および第１および第２のサイドシールド１３Ｅ，１３Ｆを分離形成する工程、
 (f)磁極層１２の上にギャップ層１４を形成する工程、
 (g)ギャップ層１４の上にシールド１３の一部である第１層１３Ａ１を形成する工程。
　　
　したがって、特に第３の実施の形態に係るものに着目し、上記記載事項及び図面を総合勘案すると、引用例１には、次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
「記録媒体に対向する媒体対向面と、
　前記記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、
　前記媒体対向面に配置された端面を有し、前記コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって前記情報を前記記録媒体に記録するための記録磁界を発生する磁極層と、
　磁性材料よりなり、前記媒体対向面において前記磁極層の端面に対して前記記録媒体の進行方向の前側に配置された端面を有する第１層と、前記磁極層のトラック幅方向の両側に配置され、それぞれ、前記媒体対向面に配置された端面を有する第１および第２のサイドシールド層を有するシールドと、
　非磁性材料よりなり、前記磁極層と前記第１層との間に設けられ、前記媒体対向面に配置された端面を有するギャップ層と、
　非磁性材料よりなり、前記磁極層を収容する溝部、前記第１のサイドシールド層を収容する溝部、および第２のサイドシールド層を収容する溝部を有する収容層を備えた垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法であって、
　前記コイルを形成する工程と、
　後に３つの前記溝部が形成されることにより前記収容層となる非磁性層を形成する工程と、
　前記非磁性層の上に非磁性金属層を形成し、当該非磁性金属層の上にフォトレジスト層をパターニングして、３つの前記溝部を形成するためのマスクを形成し、当該マスクを用いて前記非磁性金属層を選択的にエッチングすることにより、当該非磁性金属層に、後に形成される３つの前記溝部の平面形状にそれぞれ対応した形状の３つの開口部を形成する工程と、
　前記非磁性層のうち前記非磁性金属層の３つの前記開口部から露出する部分を選択的にエッチングすることによって、当該非磁性層に３つの前記溝部を形成し、これによって当該非磁性層を前記収容層とする工程と、
　これら積層体の上面全体の上に磁性層を形成し、当該磁性層の上面をＣＭＰにより研磨して平坦化することにより、当該磁性層からそれぞれ前記磁極層および前記第１および第２のサイドシールド層を分離形成する工程と、
　前記磁極層の上に前記ギャップ層を形成する工程と、
　前記ギャップ層の上に前記シールドの一部である前記第１層を形成する工程とを備える垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。」
　
（２）引用例２
　同じく原査定の拒絶の理由に引用された特開２００７−２５７７１１号公報（以下、「引用例２」という。）には、「垂直記録磁気ヘッドの製造方法」について、図面とともに以下の各記載がある（なお、下線は当審で付与した。）。
　ア．「【請求項５】
  基板上に再生素子を形成するステップと、
  前記再生素子の上部にヨークと浮上面絶縁膜を形成するステップと、
  前記浮上面絶縁膜とヨークの上部に、めっき下地膜と
非磁性絶縁膜とエッチングストッパ膜を形成するステップと
  
前記エッチングストッパ膜の上部に主磁極を形成する部分に開口部を有するレジストパターンを形成するステップと
  
前記レジストパターンをマスクとして前記エッチングストッパ膜と非磁性絶縁膜をエッチングして前記非磁性絶縁膜に開口部を形成するステップと
  
前記非磁性絶縁膜の開口部に主磁極となる磁性膜を形成するステップと
  
前記磁性膜の上部を研磨して平坦化することにより主磁極の高さを規定するステップと
  
前記主磁極の両側の前記非磁性絶縁膜に、反応性イオンエッチングによりサイドシールドを形成するための開口部を形成するステップと
  
前記非磁性絶縁膜の開口部と前記主磁極の上部にめっき下地膜を形成し
該めっき下地膜の上にサイドシールド及びトレーリングシールドとなる磁性膜を形成するステップと
  前記ヨークの上部にコイルと、層間絶縁膜と、副磁極を形成するステップと、
  
を含むことを特徴とする垂直記録磁気ヘッドの製造方法
【請求項６】
  
前記非磁性絶縁膜にサイドシールドを形成するための開口部を形成するステップは
前記平坦化した面に、サイドシールドを形成する部分に開口部を有するレジストパターンを形成するステップと、該レジストパターンをマスクとして反応性イオンエッチングを行うステップを含む
　
　イ．「【００１２】
  本発明の他の目的は、生産性が高い垂直記録磁気ヘッドを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
  本発明は、再生素子と記録素子とを有し、記録素子が
浮上面に露出する主磁極と、浮上面と反対側において主磁極と磁気的に接続された副磁極と、主磁極の両脇に非磁性絶縁膜を介して設けられたサイドシールドと、主磁極のトレーリング側に設けられたトレーリングシールドと、主磁極と副磁極とを磁気的に励起するコイルとを有する垂直記録磁気ヘッドの製造方法
  前記記録素子の浮上面絶縁膜とヨークの上部に、めっき下地膜と非磁性絶縁膜とエッチングストッパ膜を形成するステップと、
  前記エッチングストッパ膜の上部に主磁極とサイドシールドを形成する部分に開口部を有するレジストパターンを形成するステップと、
  前記レジストパターンをマスクとして前記エッチングストッパ膜をエッチングするステップと、
  前記エッチングストッパ膜をエッチングした後、反応性イオンエッチングにより前記非磁性絶縁膜に開口部を形成するステップと、
  前記非磁性絶縁膜の開口部に、主磁極とサイドシールドとなる磁性膜を形成するステップと、
  前記磁性膜の上部を研磨して平坦化することにより主磁極とサイドシールドの高さを規定するステップと、
  前記平坦化した面にめっき下地膜を形成し、このめっき下地膜の上にトレーリングシールドとなる磁性膜を形成するステップと、を含むものである。
【００１４】
  また、本発明の
垂直記録磁気ヘッドの製造方法における、主磁極とサイドシールドとトレーリングシールドを形成するステップは
  記録素子の浮上面絶縁膜とヨークの上部に、めっき下地膜と
非磁性絶縁膜とエッチングストッパ膜を形成するステップと
  
前記エッチングストッパ膜の上部に主磁極を形成する部分に開口部を有するレジストパターンを形成するステップと
  
前記レジストパターンをマスクとして前記エッチングストッパ膜と非磁性絶縁膜をエッチングして前記非磁性絶縁膜に開口部を形成するステップと
  
前記非磁性絶縁膜の開口部に主磁極となる磁性膜を形成するステップと
  
前記磁性膜の上部を研磨して平坦化することにより主磁極の高さを規定するステップと
  
前記主磁極の両側の前記非磁性絶縁膜に、反応性イオンエッチングによりサイドシールドを形成するための開口部を形成するステップと
  
前記非磁性絶縁膜の開口部と前記主磁極の上部にめっき下地膜を形成し、このめっき下地膜の上にサイドシールド及びトレーリングシールドとなる磁性膜を形成するステップと、を含む
　
　ウ．「【００３０】
  次に図６を用いて第２の実施例による磁気ヘッドの製造方法を説明する。第１の実施例と同様に、再生素子と、記録素子の浮上面絶縁膜２０及びヨーク２６を形成した後の工程について説明する。図６（a）に示すように、浮上面絶縁膜２０及びヨーク２６上に、めっき下地膜３８、
非磁性絶縁膜３７、エッチングストッパ膜６０を形成するところまでは、第１の実施例と同じである
【００３１】
  続いて図６（ｂ）に示すように、
主磁極３２となる部分に開口部を有するにレジストパターン４０を形成する
  続いて図６（ｃ）に示すように、
レジストパターン４０の開口部の部分のエッチングストッパ膜６０及び非磁性絶縁膜３７を、Ｏ２やＣＯ２を用いたエッチングにより除去する
  次に図６（ｄ）に示すように、
主磁極３２となる磁性膜のめっきを行い、図６（ｅ）に示すようにエッチングストッパ膜６０の面までＣＭＰにより平坦化加工を行う
エッチングストッパ膜６０を除去した後、主磁極３２の両脇にサイドシールド３６を形成するための開口部を有するレジストパターン５０を形成する
【００３２】
  次に図６（ｇ）に示すように、
レジストパターン５０をマスクとして、ＳＦ６，ＣＦ４，ＣＨＦ３等のガスを用いた反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）を行い非磁性絶縁膜３７に開口部を形成する
エッチング終了後、残存するレジストパターン５０を除去する
【００３３】
  次に図６（ｈ）に示すように、めっき下地膜３９を製膜した後、図示しないレジストフレームを形成し、その開口部の部分にめっきにより
磁性膜を形成して、サイドシールド３６とトレーリングシールド３５とを同時に形成する
【００３４】
  さらに、ヨーク２６の上部に、コイル２４、層間絶縁膜２３、後部ヨーク２５、副磁極２１を、第１の実施例と同様に、スパッタリングやめっき及びエッチング等の薄膜形成プロセスにて形成する。」
　
　・上記引用例２に記載の「垂直記録磁気ヘッドの製造方法」は、上記「イ．」の記載事項、及び図１〜４によれば、浮上面に露出する主磁極と、浮上面と反対側において主磁極と磁気的に接続された副磁極と、主磁極の両脇に非磁性絶縁膜を介して設けられたサイドシールドと、主磁極のトレーリング側に設けられたトレーリングシールドと、主磁極と副磁極とを磁気的に励起するコイルとを有する垂直記録磁気ヘッドの製造方法であって、特に、主磁極とサイドシールドとトレーリングシールドを形成するステップに関するものである。
　・上記「ア．」の【請求項５】、「イ．」、「ウ．」の記載事項、及び図６によれば、主磁極３２とサイドシールド３６とトレーリングシールド３５を形成するステップは、以下のステップを含むものである。
 (a)後に３つの開口部が形成される非磁性絶縁膜３７と、エッチングストッパ膜６０とを順次形成するステップ、
 (b)エッチングストッパ膜６０の上部に主磁極３２を形成する部分に開口部を有するレジストパターン４０（以下、「第１のレジストパターン」という。）を形成するステップ、
 (c)第１のレジストパターンをマスクとしてエッチングストッパ膜６０と非磁性絶縁膜３７をエッチングして当該非磁性絶縁膜３７に開口部を形成するステップ、
 (d)非磁性絶縁膜３７の開口部に主磁極３２となる磁性膜を形成し、当該磁性膜の上部をエッチングストッパ膜６０の面まで研磨して平坦化することにより主磁極３２の高さを規定するステップ、
 (e)エッチングストッパ膜６０を除去した後、主磁極３２の両側の非磁性絶縁膜３７に、サイドシールド３６を形成するための開口部を形成するステップ、
 (f)残存するレジストパターン５０（以下、「第２のレジストパターン」という。）を除去し、非磁性絶縁膜３７の開口部と主磁極３２の上部にサイドシールド３６及びトレーリングシールド３５となる磁性膜を形成するステップ。
　・上記「ア．」の【請求項６】、「ウ．」の記載事項、及び図６によれば、非磁性絶縁膜３７にサイドシールド３６を形成するための開口部を形成するステップ（上記(e)のステップ）は、磁性膜の上部を平坦化した面に、サイドシールド３６を形成する部分に開口部を有する第２のレジストパターンを形成するステップと、当該第２のレジストパターンをマスクとして反応性イオンエッチングを行うステップを含むものであり、図６（ｆ）から明らかなように、第２のレジストパターンは、主磁極３２および当該主磁極３２が形成された非磁性絶縁膜３７の開口部を覆うように形成されるものである。
　
　したがって、特に図６に示される第２の実施例に係るものに着目し、上記記載事項及び図面を総合勘案すると、引用例２には、次の技術事項が記載されている。
「浮上面に露出する主磁極と、前記浮上面と反対側において前記主磁極と磁気的に接続された副磁極と、前記主磁極の両脇に非磁性絶縁膜を介して設けられたサイドシールドと、前記主磁極のトレーリング側に設けられたトレーリングシールドと、前記主磁極と前記副磁極とを磁気的に励起するコイルとを有する垂直記録磁気ヘッドの製造方法において、
　前記主磁極と前記サイドシールドと前記トレーリングシールドを形成するステップが、
　後に３つの開口部が形成される非磁性絶縁膜と、エッチングストッパ膜とを順次形成するステップと、
　前記エッチングストッパ膜の上部に前記主磁極を形成する部分に開口部を有する第１のレジストパターンを形成するステップと、
　前記第１のレジストパターンをマスクとして前記エッチングストッパ膜と前記非磁性絶縁膜をエッチングして当該非磁性絶縁膜に開口部を形成するステップと、
　前記非磁性絶縁膜の開口部に前記主磁極となる磁性膜を形成し、当該磁性膜の上部を前記エッチングストッパ膜の面まで研磨して平坦化することにより前記主磁極の高さを規定するステップと、
　前記エッチングストッパ膜を除去した後、前記主磁極の両側の前記非磁性絶縁膜に、前記サイドシールドを形成するための開口部を形成するステップであって、前記平坦化した面に、前記サイドシールドを形成する部分に開口部を有するとともに、前記主磁極および当該主磁極が形成された前記非磁性絶縁膜の開口部を覆う第２のレジストパターンを形成し、当該第２のレジストパターンをマスクとして反応性イオンエッチングを行うステップと、
　残存する前記第２のレジストパターンを除去し、前記非磁性絶縁膜の開口部と前記主磁極の上部に前記サイドシールド及び前記トレーリングシールドとなる磁性膜を形成するステップと、を含むようにしたこと。」
　
２．対比
　
　そこで、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明１」という。）と引用発明とを対比すると、
（１）引用発明における「媒体対向面」、「コイル」、「磁極層」は、それぞれ本願発明１における「媒体対向面」、「コイル」、「磁極層」に相当し、
　本願発明１と引用発明とはともに、「記録媒体に対向する媒体対向面と、前記記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、前記媒体対向面に配置された端面を有し、前記コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって前記情報を前記記録媒体に記録するための記録磁界を発生する磁極層と」を備えるものである点で一致する。
　
（２）引用発明における「磁性材料よりなり、前記媒体対向面において前記磁極層の端面に対して前記記録媒体の進行方向の前側に配置された端面を有する第１層と、前記磁極層のトラック幅方向の両側に配置され、それぞれ、前記媒体対向面に配置された端面を有する第１および第２のサイドシールド層を有するシールドと」によれば、
　磁性材料からなるシールドが有する「第１層」は、媒体対向面において磁極層の端面に対して記録媒体の進行方向の前側に配置された端面を有するものであることから、本願発明１における「上部シールド」に相当し、また、同じくシールドが有する「第１および第２のサイドシールド層」は、磁極層のトラック幅方向の両側に配置され、それぞれが媒体対向面に配置された端面を有するものであるから、本願発明１における「第１および第２のサイドシールド」に相当するものである。
　したがって、本願発明１と引用発明とは、「磁性材料よりなり、前記媒体対向面において前記磁極層の前記端面に対して記録媒体の進行方向の前側に配置された端面を有する上部シールドと」を備えるものである点、及び「磁性材料よりなり、それぞれ前記媒体対向面に配置された端面を有し、前記磁極層のトラック幅方向の両側に配置された第１および第２のサイドシールドと」を備えるものである点で一致する。
　
（３）引用発明における「ギャップ層」は、本願発明１における「ギャップ層」に相当し、
　引用発明における「非磁性材料よりなり、前記磁極層と前記第１層との間に設けられ、前記媒体対向面に配置された端面を有するギャップ層と」は、本願発明１における「非磁性材料よりなり、前記媒体対向面に配置された端面を有し、前記磁極層と前記上部シールドとの間に配置されたギャップ層と」に相当する。
　　
（４）引用発明における、磁極層を収容する「溝部」、第１のサイドシールド層を収容する「溝部」、第２のサイドシールド層を収容する「溝部」、「収容層」、「垂直磁気記録用磁気ヘッド」は、それぞれ本願発明１における、磁極層を収容する「第１の溝部」、第１のサイドシールドを収容する「第２の溝部」、第２のサイドシールドを収容する「第３の溝部」、「収容層」、「垂直磁気記録用磁気ヘッド」に相当し、
　引用発明における「非磁性材料よりなり、前記磁極層を収容する溝部、前記第１のサイドシールド層を収容する溝部、および第２のサイドシールド層を収容する溝部を有する収容層を備えた垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法であって」は、本願発明１における「非磁性材料よりなり、前記磁極層を収容する第１の溝部、前記第１のサイドシールドを収容する第２の溝部、および前記第２のサイドシールドを収容する第３の溝部を有する収容層とを備えた垂直磁気記録用磁気ヘッドを製造する方法であって」に相当する。
　
（５）本願発明１と引用発明とはともに、「前記コイルを形成する工程と」を備えるものである点で一致する。
　
（６）引用発明における「非磁性層」は、本願発明１における「非磁性層」に相当し、
　引用発明における「後に３つの前記溝部が形成されることにより前記収容層となる非磁性層を形成する工程と」は、本願発明１における「後に前記第１ないし第３の溝部が形成されることによって前記収容層となる非磁性層を形成する工程と」に相当する。
　
（７）引用発明における「前記非磁性層の上に非磁性金属層を形成し、当該非磁性金属層の上にフォトレジスト層をパターニングして、３つの前記溝部を形成するためのマスクを形成し、当該マスクを用いて前記非磁性金属層を選択的にエッチングすることにより、当該非磁性金属層に、後に形成される３つの前記溝部の平面形状にそれぞれ対応した形状の３つの開口部を形成する工程と」によれば、
　後に形成される３つの溝部の平面形状にそれぞれ対応した形状の「３つの開口部」は、本願発明１における「第１ないし第３の開口部」に相当し、当該３つの開口部が形成される「非磁性金属層」は、本願発明１における「エッチングマスク層」に相当するということができる。
　したがって、本願発明１と引用発明とは、「前記非磁性層の上に、後に形成される前記第１ないし第３の溝部の平面形状に対応した形状の第１ないし第３の開口部を有するエッチングマスク層を形成する工程と」を備えるものである点で一致する。
　
（８）引用発明における「前記非磁性層のうち前記非磁性金属層の３つの前記開口部から露出する部分を選択的にエッチングすることによって、当該非磁性層に３つの前記溝部を形成し、これによって当該非磁性層を前記収容層とする工程と」は、本願発明１における「前記非磁性層が前記収容層となるように、前記エッチングマスク層を用いて、エッチングによって前記非磁性層に前記第１ないし第３の溝部を形成する工程と」に相当する。
　
（９）引用発明における「これら積層体の上面全体の上に磁性層を形成し、当該磁性層の上面をＣＭＰにより研磨して平坦化することにより、当該磁性層からそれぞれ前記磁極層および前記第１および第２のサイドシールド層を分離形成する工程と」によれば、
　磁極層を形成する工程と、第１および第２のサイドシールド層を形成する工程とが同時に行われるものであるといえるものの、
　本願発明１と引用発明とは、「前記磁極層を形成する工程と、前記第１および第２のサイドシールドを形成する工程と」を備えるものである点では一致するということができる。
　
（10）引用発明における「前記磁極層の上に前記ギャップ層を形成する工程と」は、本願発明１における「前記ギャップ層を形成する工程と」に相当する。
　
（11）そして、引用発明における「前記ギャップ層の上に前記シールドの一部である前記第１層を形成する工程と」は、本願発明１における「前記上部シールドを形成する工程と」に相当する。
　
　よって、本願発明１と引用発明とは、
「記録媒体に対向する媒体対向面と、
　前記記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、
　前記媒体対向面に配置された端面を有し、前記コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって前記情報を前記記録媒体に記録するための記録磁界を発生する磁極層と、
　磁性材料よりなり、前記媒体対向面において前記磁極層の前記端面に対して記録媒体の進行方向の前側に配置された端面を有する上部シールドと、
　非磁性材料よりなり、前記媒体対向面に配置された端面を有し、前記磁極層と前記上部シールドとの間に配置されたギャップ層と、
　磁性材料よりなり、それぞれ前記媒体対向面に配置された端面を有し、前記磁極層のトラック幅方向の両側に配置された第１および第２のサイドシールドと、
　非磁性材料よりなり、前記磁極層を収容する第１の溝部、前記第１のサイドシールドを収容する第２の溝部、および前記第２のサイドシールドを収容する第３の溝部を有する収容層とを備えた垂直磁気記録用磁気ヘッドを製造する方法であって、
　後に前記第１ないし第３の溝部が形成されることによって前記収容層となる非磁性層を形成する工程と、
　前記非磁性層の上に、後に形成される前記第１ないし第３の溝部の平面形状に対応した形状の第１ないし第３の開口部を有するエッチングマスク層を形成する工程と、
　前記非磁性層が前記収容層となるように、前記エッチングマスク層を用いて、エッチングによって前記非磁性層に前記第１ないし第３の溝部を形成する工程と、
　前記磁極層を形成する工程と、
　前記第１および第２のサイドシールドを形成する工程と、
　前記ギャップ層を形成する工程と、
　前記上部シールドを形成する工程と、
　前記コイルを形成する工程とを備えることを特徴とする垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。」
である点で一致し、以下の点で相違する。
　
［相違点］
　第１ないし第３の溝部を形成する工程について、本願発明１では、「前記第２および第３の開口部を第１のマスクで覆った状態で、前記第１の開口部を用いて前記非磁性層をエッチングして前記第１の溝部を形成する工程と、前記第１の開口部を第２のマスクで覆った状態で、前記第２および第３の開口部を用いて前記非磁性層をエッチングして前記第２および第３の溝部を形成する工程とを含み、前記第１のマスクは、前記第１の開口部の幅よりも大きい幅を有して前記第１の開口部を露出させる開口部を有する」と特定するのに対し、引用発明では、そのような特定を有していない点。
　
３．判断
　
　上記相違点について検討する。
　まず、本願発明１の技術的特徴として、第１のマスクや第２のマスクを使用しているものの、あくまでも第１ないし第３の溝部の形成は、第１ないし第３の開口部を有する
１つの
　そしてこの点については、引用発明においても、３つの溝部の形成を、３つの開口部が形成される
１つの
　これに対して、引用例２に記載の技術事項（前記「１．（２）」を参照）では、３つの溝部の形成を、
１つの
２つの別々の
　したがって、引用発明に対して引用例２に記載の技術事項を組み合わる動機付けや論理付けを見出すことはできない。
　
　よって、本願発明１における、第１ないし第３の開口部を有するエッチングマスク層を用いて第１ないし第３の溝部を形成する工程が、「前記第２および第３の開口部を第１のマスクで覆った状態で、前記第１の開口部を用いて前記非磁性層をエッチングして前記第１の溝部を形成する工程と、前記第１の開口部を第２のマスクで覆った状態で、前記第２および第３の開口部を用いて前記非磁性層をエッチングして前記第２および第３の溝部を形成する工程とを含み、前記第１のマスクは、前記第１の開口部の幅よりも大きい幅を有して前記第１の開口部を露出させる開口部を有する」という発明特定事項については、引用発明及び引用例２に記載の技術事項から導き出すことはできない。
　
　なお、原査定の拒絶の理由で提示された他の引用例（特開２００９−６４５３９号公報、特開２００８−３０５５１２号公報）のいずれにも、上記発明特定事項については記載も示唆もされていない。
　
　そして、本願発明１は、上記発明特定事項を有することにより、磁極層と２つのサイドシールドの精度のよい位置合わせを行うことができるとともに、磁極層と２つのサイドシールドの各々の形状を制御することができるという格別の効果を奏するものである（特に、本願明細書の段落【００２２】を参照）。
　
　したがって、本願発明１は、引用発明及び引用例２に記載の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたとはいえない。
　
４．本願の請求項２ないし９に係る発明について
　
　請求項２ないし９は、請求項１に従属する請求項であり、請求項２ないし９に係る発明は、本願発明１の発明特定事項をすべて含みさらに発明特定事項を追加して限定したものであるから、上記「３．」と同じ理由により、引用発明及び引用例２に記載の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたとはいえない。
　
第５．むすび
　
　以上のとおり、本願の請求項１ないし９に係る発明は、引用発明及び引用例２に記載の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることができないから、原査定の理由によっては、本願を拒絶することはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。