【事件の表示】
　平成　４年特許願第　８４９７４号「多重加速度フィードバック付き位置決め装置」拒絶査定に対する審判事件［平成　５年　９月２８日出願公開、特開平　５−２５００４１］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成４年３月９日の出願であって、その発明は特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものである。
「除振装置としての定盤と、前記定盤に搭載される粗動ステージと、前記粗動ステージに搭載される微動ステージを有する位置決め装置において、前記粗動ステージの加速度を検出して前記微動ステージの駆動力に加算する粗動ステージ加速度フィードバック手段と、前記定盤の加速度を検出して前記粗動ステージの駆動力に加算する定盤加速度フィードバック手段を備え、前記粗動ステージ加速度フィードバック手段には前記微動ステージの可動質量に応じたフィードバック量を設定し、前記定盤加速度フィードバック手段には前記粗動ステージと微動ステージ両方の可動質量に応じたフィードバック量を設定することを特徴とする多重加速度フィードバック付き位置決め装置。」（以下、本願発明という。）
２．引用例
　当審での拒絶の理由に引用した「精密工学会誌「空気浮上式高速ＸＹステージの試作（ＪＳＰＥー５２−１０，’８６ー１０−１７１３）４９頁乃至５０頁」」（以下引用例という。）に、図４とともに「２．３　定盤の加速度フィードバック回路の付加　床からの振動等の外乱を防ぐために、ステージは空気ばねを用いた除振台の上に載せているが、通常の除振台は縦方向の振動吸収に対して横方向の振動吸収は十分とはいえない。したがって、ステージの移動体が横方向に高速移動することにより、定盤の横振れが起こる。空気浮上ステージは摩擦力がないために制動力が十分でなく、定盤の横振れにより案内面（レーザ測長器はこれと同一体とみなせる）と浮上体との間に位置ずれが生じる。移動体の急激な速度変化ではこの値が大きくなり、位置決めの整定時間を長くする原因となる。定盤の横振れ量は、横方向の加速度と密接な関係にあり、定盤の横方向にハンマでインパクトを加えると、その応答は定盤固有の振動周波数で振動減衰する。ステージの急激な移動はインパクト信号とみなすことができ、その加速度をａｓｉｎωｔとすれば、定盤の変動量はー（ａ／ω２）ｓｉｎωｔとなり、両者はー（１／ω２）を比例定数とし比例た関係にある。したがって、定盤の振動による相対的な位置ずれも加速度と比例関係にあることから、定盤の横方向の変動を加速度計で検出し、制御系にフィードバックすれば性能向上が図れると考え、その回路を付加した。」と記載されていることが認められ、これらの記載によれば引用例には、「除振装置としての定盤と、前記定盤に搭載されるステージと、前記定盤の加速度を検出して前記ステージの駆動力に加算する定盤加速度フィードバック手段を備えた加速度フィードバック付き位置決め装置」との発明（以下、引用例発明という。）が開示されていると認めることができる。
３．対比・判断
　本願発明と引用例発明とを対比するに、引用例発明の「ステージ」は、本願発明の「粗動 ステージ」に相当するから、両者は「除振装置としての定盤と、前記定盤に搭載される粗動ステージと、前記定盤の加速度を検出して前記粗動ステージの駆動力に加算する定盤加速度フィードバック手段を備えた加速度フィードバック付き位置決め装置」の点で一致し、本願発明においては粗動ステージに微動ステージを搭載し粗動ステージの加速度を検出して微動ステージの駆動力に加算する粗動ステージ加速度フィードバック手段を備え、該手段には微動ステージの可動質量に応じたフィードバック量を設定し、定盤加速度フィードバック手段には粗動ステージと微動ステージ両方の可動質量に応じたフィードバック量を設定しているのに対し、引用例発明はそのような構成を備えていない点で相違する。
　そこで、前記相違点について検討するに、本願明細書の「本発明は、例えばレチクルやマスクのパターンを基板に焼付ける半導体露光装置や液晶基板製造装置あるいは電子顕微鏡等で用いられる位置決め装置に関し、特に除振装置である定盤と、それに搭載される粗動ステージと、更にその粗動ステージ上に搭載される微動ステージとからなる位置決め装置において、外乱からの応答を著しく抑圧して高速高精度位置決めを実現可能とするための改良に関するものである。」（段落【０００１】）、「つまり、粗動ステージ自身の高速移動によって生じる反力は除振装置を揺らせることになり、この振動は粗動ステージの高速高精度位置決めを阻害する外乱になる。また、微動ステージ自身の高速移動に対する反力は粗動ステージを揺らせこの揺れが除振装置にも伝達されることになり、この振動は微動ステージの高速高精度位置決めを阻害する外乱要因になる」（２頁１行乃至６行）との記載によれば、本願発明は定盤と粗動ステージとの関係では、粗動ステージの高速移動によって生じる反力を高速高精度位置決めを阻害する外乱と考え、これを抑圧するため定盤の加速度を検出して粗動ステージの駆動力に加算する定盤加速度フィードバック手段を設け、フィードバック量として可動質量を設定したものと認められるところ、引用例の前示記載によれば引用例発明も定盤と粗動ステージとの関係においては本願発明と同様な課題を解決するために定盤の加速度を検出して粗動ステージの駆動力に加算する定盤加速度フィードバック手段を設けているものである。
 もっとも、引用例発明は定盤の加速度を検出してフィードバックするのにどのような量を設定するかについて記載するところはないが、しかし、定盤の横振れは粗動ステージの高速移動による反力に起因すること、この場合の反力は粗動ステージの可動質量と加速度の積によって表されることは技術常識であるから、この反力による外乱からの応答を抑圧するにはフィードバック量として粗動ステージの可動質量を設定することは当業者が容易に認識できることである。
　ところで、当審の拒絶の理由で指摘したように、定盤、粗動ステージ及び微動ステージから構成される位置決め装置は周知のものであり（例えば、特開平３−１１０４９４号公報）、かかる位置決め装置において定盤と粗動ステージとの関係と同様に、微動ステージの高速移動に対する反力が粗動ステージを揺らせ、これが高速高精度の位置決めを阻害する外乱となることは当業者が容易に予測できることであり、このことを解決するためには定盤と粗動ステージとの関係と同様に粗動ステージの加速度を検出して微動ステージの駆動力に加算する粗動ステージ加速度フィードバック手段を設けそのフィードバック量として微動ステージの可動質量に応じたフィードバック量として足りることは前記技術常識に基づけば当業者が容易に理解できることということができる。
　また、定盤には粗動ステージと微動ステージが搭載されているのであるから、定盤加速度フィードバック手段には粗動ステージと微動ステージの両方の可動質量に応じたフィードバック量を設定しなければならないことは当然のことである。
　そうすると、本願発明の前記相違点に係る構成は引用例発明を前記周知の定盤、粗動ステージ及び微動ステージから構成される位置決め装置に適用することにより当業者が容易に想到できたものということができる。
　そして、本願発明が奏する「以上説明したように、本発明によれば、３種の可動機構からなる位置決め装置において定盤に印加される外乱から最上段に存在する微動ステージの位置決め特性への影響と、中間段にある粗動ステージの位置決め特性への影響とを同時に軽減できるという効果がある。したがって、本位置決め装置が例えばステッパである場合、ＩＣウエハに対する焼付け精度を高めることにつながり生産性と歩留り向上が図られ、また、これにより、ＩＣチップのコスト低減が図られる。」（段落【００６５】）との作用効果は引用例発明及び周知技術から当業者が予測できる範囲のものである。
　したがって、本願発明は引用例発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
４．むすび
　以上のとおりであるから、本願発明は特許法２９条２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。