【事件の表示】
　平成　８年特許願第５１１０９３号「ペリクル用の保護マスク」拒絶査定に対する審判事件［平成　８年　３月２８日国際公開、ＷＯ９６／０９５７１、平成１０年　９月１４日国内公表、特表平１０−５０９５２４］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、１９９５年９月２２日（パリ条約による優先権主張１９９４年９月２２日）を国際出願日とする出願であって、その請求項１に係る発明（以下、本願発明という）は、平成１１年８月２日付で補正された明細書及び図面の記載からみて、本願の特許請求の範囲の請求項１に記載されたとおりの、
「ペリクルが第一の接着層によってペリクルフレームに装着されたペリクル膜を含み、前記ペリクル膜フレームは第二の接着層によってフォトマスクに装着されており、フォトマスクに指向される光源を使用して半導体ウェーハを製造する写真平版法工程の間前記フォトマスクに装着されるペリクルに使用される保護マスクにおいて、この保護マスクは波長の短い紫外線を反射することができる不透明材料からなり、前記光源と二つの接着層との間に配置されてこれらの接着層を前記光源から遮蔽するようにしたことを特徴とする保護マスク。」
にあるものと認める。
（なお、本願については、平成１２年８月２３日付けの手続補正がなされたが、本審決と同日付けの補正の却下の決定により却下された。）
２．引用刊行物記載の発明
　これに対して、原査定の拒絶の理由で引用された特開平３−２０９２５０号公報（以下、刊行物１という）には、次の事項が記載されている。
「本発明は、ペリクル膜とペリクルフレームとを接着する接着剤の劣化を防止する手段を具備するペリクルに関するものである。」（公報第１頁右下欄第７〜９行）
「以上説明した従来のペリクルにおいては、光源の波長がｉ線或いはエキシマレーザ等の短波長になると、ペリクル膜をペリクルフレームに貼付している接着剤の吸収率が上昇し、少量の照射を行った場合においてもこのアクリル樹脂系の接着剤が分解し、ペリクル膜がペリクルフレームから剥離し、・・問題点があった。」（公報第２頁右上欄第１０〜１８行）
「本発明のペリクルは、・・このペリクル膜のこのペリクルフレームに接着した面の反対面の周辺部に紫外線を全反射する層を形成するよう構成する。」（公報第２頁左下欄第５〜９行）
「図に示すような・・ペリクルフレーム２に、ニトロセルローズからなるペリクル膜１を、アクリル樹脂系の接着剤３により接着し、紫外線を全反射するアルミニウムからなる膜厚５０Åの全反射層５を、スパッタ法により周囲から２．５ｍｍの幅で形成する。このようなペリクルは、図において点線にて示すマスク６に図示のように接着剤４を用いて貼付して使用している。」（公報第２頁右下欄第９〜１８行）
「このようなペリクルを用いると、ｉ線（波長：３６５ｎｍ）以下の波長の紫外線を用いる場合においても、これらの紫外線が全反射層５によって完全に反射されるので、ペリクル膜１をペリクルフレーム２に貼付しているアクリル樹脂系の接着剤３の樹脂成分が分解することがなくなり、ペリクルを長期間使用することが可能となる。」（公報第３頁左上欄第６〜１２行）
　これらの記載事項から、刊行物１には、「ペリクルが接着剤３によってペリクルフレームに装着されたペリクル膜を含み、前記ペリクルフレームは接着剤４によってマスクに装着されており、マスクにフォトリソグラフィ技術において用いられる波長の短い紫外線を照射している間前記マスクに装着されるペリクルに使用される全反射層において、この全反射層は前記波長の短い紫外線を反射することができる材料からなり、前記ペリクル膜のペリクルフレームに接着した面と反対の面に形成し、接着剤３を前記波長の短い紫外線から遮蔽することを特徴とする全反射層。」なる発明（以下、引用発明という）が記載されていると認められる。
３．対比・判断
　引用発明の「接着剤３」、「接着剤４」、「マスク」、「マスクにフォトリソグラフィ技術において用いられる波長の短い紫外線を照射している間」、「全反射層」が、それぞれ、本願発明の「第一の接着層」、「第二の接着層」、「フォトマスク」、「フォトマスクに指向される光源を使用する写真平版法工程の間」、「保護マスク」に相当するから、引用発明と本願発明は、
「ペリクルが第一の接着層によってペリクルフレームに装着されたペリクル膜を含み、前記ペリクル膜フレームは第二の接着層によってフォトマスクに装着されており、フォトマスクに指向される光源を使用する写真平版法工程の間前記フォトマスクに装着されるペリクルに使用される保護マスクにおいて、この保護マスクは波長の短い紫外線を反射することができる材料からなり、第一の接着層を前記光源から遮蔽するようにしたことを特徴とする保護マスク。」で一致し、
（１）本願発明では、半導体ウェーハを製造すると限定されているのに対して、引用発明では、そのような限定がない点、
（２）本願発明では、保護マスクが不透明材料からなると限定されているのに対して、引用発明では、そのような限定がない点
（３）本願発明では、保護マスクが前記光源と二つの接着層との間に配置されてこれらの接着層（第一及び第二の接着層）を前記光源から遮蔽するのに対して、引用発明では、全反射層が、前記ペリクル膜のペリクルフレームに接着した面と反対の面に形成し、接着剤３を前記波長の短い紫外線から遮蔽する点
で相違する。
（１）について、一般にフォトリソグラフィ技術を半導体ウェーハの製造に使用することは当業者には周知であり、引用発明のフォトリソグラフィ技術を半導体ウェーハの製造に使用することは自明のことである。
（２）について、刊行物１の「紫外線を全反射するアルミニウムからなる膜厚５０Åの全反射層」という記載から、全反射層はアルミニウムという不透明材料からなるものであると認められる。
（３）について、刊行物１には、接着剤３を遮蔽すると明記され、接着剤４への紫外線の照射を防ぐとは明記されていないが、ペリクルフレームとマスクを、ペリクルフレームとペリクル膜を貼付する接着剤と同様の接着剤で接着することが周知であるから、刊行物１において、接着剤４も接着剤３と同様に紫外線照射から防ぐ必要が生じ得ることは、当業者には容易に推測し得ることである。
　ここで、刊行物１の記載から、ペリクル膜をペリクルフレームに貼付する接着剤を波長の短い紫外線から保護するには、その接着剤と、波長の短い紫外線を照射する光源との間に、全反射層を配置しなければならないことは、当業者には容易に理解し得ることと認められるから、２つの接着剤３及び４を波長の短い紫外線から保護するために、全反射層を２つの接着剤３及び４と光源との間に配置することは、当業者であれば容易に想到し得ることである。そして、２つの接着剤３及び４と光源との間のどの位置とするかは、設計上適宜選択し得ることであり、引用発明で、ペリクル膜のペリクルフレームに接着した面と反対の面とした点は、光源がマスクのペリクルのある側に配置されたときの、１つの設計例を示したものにすぎない。（なお、刊行物１の記載には、光源の配置は明記されていないが、光源がマスクのペリクルのある側に配置されていることは、当業者には容易に推測し得ることと認められる。）
　したがって、本願発明は、刊行物１に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
４．むすび
　以上のとおり、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。