Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月23日(2015.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
上記に鑑み、以上は、単に、本発明の原理を例解するものであって、よって、当業者は、本稿に明示的に記載されていなくても本発明の原理を具現するものであり、その精神および範囲内である数多くの代替的な構成を考案できるであろうことは理解されるであろう。たとえば、別個の機能要素のコンテキストで例解されていても、そうした機能要素は一つまたは複数の集積回路（IC）において具現されることができる。同様に、別個の要素として図示されていても、そうした要素の任意のものまたは全部が、たとえば図１に示されるステップの一つまたは複数に対応するなどの関連するソフトウェアを実行する記憶プログラム制御型プロセッサ、たとえばデジタル信号プロセッサにおいて実装されることができる。したがって、付属の請求項によって定義される本発明の精神および範囲から外れることなく、上記例示的な実施形態に対して数多くの修正をなすことができ、他の構成を考案することができることは理解しておくものとする。
いくつかの付記を記載しておく。
〔付記１〕
複数のスピーカーについてオーディオを較正する方法であって：
サンプル・オーディオ信号を受領する段階と；
前記サンプル・オーディオ信号を少なくとも一つのスピーカーに送信する段階と；
各スピーカーからの前記サンプル・オーディオ信号を個々に記録する段階と；
時間的およびボリューム的に、記録されたサンプル・オーディオ信号の前記サンプル・オーディオ信号との、高速フーリエ変換（FFT）比較を実行する段階と；
前記複数のスピーカーのそれぞれが同期されるよう、各スピーカーについての時間遅延をシフトする段階と；
各スピーカーの個々のボリュームを比較する段階と；
各スピーカーの個々のボリュームを、全体として一致するよう調整する段階とを含む、
方法。
〔付記２〕
前記少なくとも一つのスピーカーに送られる各サンプル・オーディオ信号についてFFTプロファイルが生成される、付記１記載の方法。
〔付記３〕
前記FFT比較を実行する段階は：
前記複数のスピーカーからの記録されたオーディオのFFTプロファイルを横断して個別のFFTプロファイルをスライドさせ；
前記複数のスピーカーからの記録されたオーディオの前記FFTプロファイルを横断して前記個別のFFTプロファイルがスライドする際に、相関係数を決定することを含む、
付記１記載の方法。
〔付記４〕
前記時間遅延は、前記相関係数に基づく、付記３記載の方法。
〔付記５〕
FFTプロファイルは、前記記録されたサンプル・オーディオ信号について生成される、付記１記載の方法。
〔付記６〕
前記時間遅延は、個別のFFTプロファイルおよび前記複数のスピーカーからの記録されたオーディオのFFTプロファイルとの間に存在する遅延差に対応する、付記１記載の方法。
〔付記７〕
前記時間遅延が所与の時間増分でシフトされる、付記１記載の方法。
〔付記８〕
複数のスピーカーを較正するオーディオ較正システムであって：
スピーカーから発するサンプル・オーディオ信号を記録するよう構成された記録装置と；
それぞれの記録されたサンプル・オーディオ信号の前記サンプル・オーディオ信号との、時間およびボリュームの面でのFFT比較を実行するよう構成されたオーディオ較正モジュールとを有しており、
前記オーディオ較正モジュールは、前記複数のスピーカーが同期されるよう、各スピーカーについての時間遅延をシフトさせるよう構成されており；
前記オーディオ較正モジュールは、各スピーカーの個々のボリュームを比較するよう構成されているまたは前記オーディオ較正モジュールは各スピーカーの個々のボリュームを、全体として一致するよう調整するよう構成されている、
オーディオ較正システム。
〔付記９〕
前記少なくとも一つのスピーカーに送られる各サンプル・オーディオ信号についてFFTプロファイルが生成される、付記８記載のオーディオ較正システム。
〔付記１０〕
前記オーディオ較正モジュールは、前記複数のスピーカーからの記録されたオーディオのFFTプロファイルを横断して個別のFFTプロファイルをスライドさせ、前記複数のスピーカーからの記録されたオーディオの前記FFTプロファイルを横断して前記個別のFFTプロファイルがスライドする際に、相関係数を決定するよう構成されている、付記８記載のオーディオ較正システム。
〔付記１１〕
前記時間遅延は、前記相関係数に基づく、付記１０記載のオーディオ較正システム。
〔付記１２〕
前記記録されたサンプル・オーディオ信号についてFFTプロファイルが生成される、付記８記載のオーディオ較正システム。
〔付記１３〕
前記時間遅延は、個別のFFTプロファイルと前記複数のスピーカーからの記録されたオーディオのFFTプロファイルとの間に存在する遅延差に対応する、付記８記載のオーディオ較正システム。
〔付記１４〕
前記時間遅延が所与の時間増分でシフトされる、付記８記載のオーディオ較正システム。
〔付記１５〕
複数のスピーカーを較正するオーディオ較正モジュールであって：
記録されたサンプル・オーディオ信号の、サンプル・オーディオ信号との、時間およびボリュームの面でのFFT比較を実行するよう構成されたオーディオ較正モジュールを有しており、
前記オーディオ較正モジュールは、前記複数のスピーカーが同期されるよう、各スピーカーについての時間遅延をシフトさせるよう構成されており；
前記オーディオ較正モジュールは、各スピーカーの個々のボリュームを比較するよう構成されており；
前記オーディオ較正モジュールは、各スピーカーの個々のボリュームを、全体として一致するよう調整するよう構成されている、
オーディオ較正モジュール。
〔付記１６〕
前記少なくとも一つのスピーカーに送られる各サンプル・オーディオ信号についてFFTプロファイルが生成される、付記１５記載のオーディオ較正モジュール。
〔付記１７〕
前記オーディオ較正モジュールは、前記複数のスピーカーからの記録されたオーディオのFFTプロファイルを横断して個別のFFTプロファイルをスライドさせ、前記複数のスピーカーからの記録されたオーディオの前記FFTプロファイルを横断して前記個別のFFTプロファイルがスライドする際に、相関係数を決定するよう構成されている、付記１５記載のオーディオ較正モジュール。
〔付記１８〕
前記時間遅延が前記相関係数に基づく、付記１５記載のオーディオ較正モジュール。
〔付記１９〕
前記記録されたサンプル・オーディオ信号についてFFTプロファイルが生成される、付記１５記載のオーディオ較正モジュール。
〔付記２０〕
前記時間遅延は、個別のFFTプロファイルと前記複数のスピーカーからの記録されたオーディオのFFTプロファイルとの間に存在する遅延差に対応する、付記１５記載のオーディオ較正システム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月12日(2015.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒトXCR1に結合する抗体であって、
下記の(g)-(i)の重鎖CDR1-3を含む重鎖可変領域と、(j)-(l)の軽鎖CDR1-3を含む軽鎖可変領域とを含む抗体；
(m)-(o)の重鎖CDR1-3を含む重鎖可変領域と、(p)-(r)の軽鎖CDR1-3を含む軽鎖可変領域とを含む抗体；又は
(a)-(c)の重鎖CDR1-3を含む重鎖可変領域と、(d)-(f)の軽鎖CDR1-3を含む軽鎖可変領域とを含む抗体：
(a)配列番号41に示されるアミノ酸配列からなる重鎖CDR1、
(b)配列番号42に示されるアミノ酸配列からなる重鎖CDR2、
(c)配列番号43に示されるアミノ酸配列からなる重鎖CDR3；
(d)配列番号44に示されるアミノ酸配列からなる軽鎖CDR1、
(e)配列番号45に示されるアミノ酸配列からなる軽鎖CDR2、
(f)配列番号46に示されるアミノ酸配列からなる軽鎖CDR3；
(g)配列番号17に示されるアミノ酸配列からなる重鎖CDR1、
(h)配列番号18に示されるアミノ酸配列からなる重鎖CDR2、
(i)配列番号19に示されるアミノ酸配列からなる重鎖CDR3；
(j)配列番号20に示されるアミノ酸配列からなる軽鎖CDR1、
(k)配列番号21に示されるアミノ酸配列からなる軽鎖CDR2、
(l)配列番号22に示されるアミノ酸配列からなる軽鎖CDR3；
(m)配列番号29に示されるアミノ酸配列からなる重鎖CDR1、
(n)配列番号30に示されるアミノ酸配列からなる重鎖CDR2、
(o)配列番号31に示されるアミノ酸配列からなる重鎖CDR3；
(p)配列番号32に示されるアミノ酸配列からなる軽鎖CDR1、
(q)配列番号33に示されるアミノ酸配列からなる軽鎖CDR2、
(r)配列番号34に示されるアミノ酸配列からなる軽鎖CDR3。
【請求項２】
請求項１に記載の抗体であって、
下記の(g)-(i)の重鎖CDR1-3を含む重鎖可変領域と、(j)-(l)の軽鎖CDR1-3を含む軽鎖可変領域とを含む抗体：
(g)配列番号17に示されるアミノ酸配列からなる重鎖CDR1、
(h)配列番号18に示されるアミノ酸配列からなる重鎖CDR2、
(i)配列番号19に示されるアミノ酸配列からなる重鎖CDR3；
(j)配列番号20に示されるアミノ酸配列からなる軽鎖CDR1、
(k)配列番号21に示されるアミノ酸配列からなる軽鎖CDR2、
(l)配列番号22に示されるアミノ酸配列からなる軽鎖CDR3。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の抗体であって、配列番号60又は64に示すアミノ酸配列を含む重鎖可変領域と、配列番号68又は72に示すアミノ酸配列を含む軽鎖可変領域とを含む抗体。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか１項に記載の抗体であって、配列番号60に示すアミノ酸配列を含む重鎖可変領域と、配列番号68に示すアミノ酸配列を含む軽鎖可変領域とを含む抗体。
【請求項５】
請求項１〜３の何れか１項に記載の抗体であって、配列番号64に示すアミノ酸配列を含む重鎖可変領域と、配列番号72に示すアミノ酸配列を含む軽鎖可変領域とを含む抗体。
【請求項６】
請求項１〜５の何れか１項に記載の抗体であって、ヒト定常領域を含有する抗体。
【請求項７】
請求項１〜６の何れか１項に記載の抗体であって、配列番号59に示すアミノ酸配列を含む重鎖と、配列番号67に示すアミノ酸配列を含む軽鎖とを含む抗体。
【請求項８】
請求項１〜６の何れか１項に記載の抗体であって、配列番号63に示すアミノ酸配列を含む重鎖と、配列番号71に示すアミノ酸配列を含む軽鎖とを含む抗体。
【請求項９】
Fc領域を有する上記項１〜８の何れか１項に記載の抗体であって、ADCC活性が変動するようにFc領域に変異が施されてなる抗体。
【請求項１０】
請求項９に記載の抗体であって、ADCC活性が下降するようにFc領域に変異が施されてなる抗体。
【請求項１１】
請求項１〜１０の何れか１項に記載の抗体であって、該抗体に細胞傷害性分子が結合した抗体。
【請求項１２】
請求項１〜１１の何れか１項に記載の抗体であって、ヒトXCR1とヒトXCL1との相互作用を阻害する作用を有する抗体。
【請求項１３】
請求項１〜１２の何れか１項に記載の抗体であって、樹状細胞の細胞遊走を阻害する作用を有する抗体。
【請求項１４】
請求項１〜１３の何れか１項に記載の抗体であって、細胞傷害性Tリンパ細胞の活性を抑制する抗体。
【請求項１５】
請求項１〜１４の何れか１項に記載の抗体、及び薬学的に許容可能な担体または添加物を含有する薬学的組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月22日(2015.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
癌に罹っている患者の化学療法治療に対する臨床応答を予測するためのインビトロでの方法であって、該患者からの試料におけるコリンキナーゼα（ＣｈｏＫα）遺伝子の発現レベルの測定を含んでなる、方法。
【請求項２】
ＣｈｏＫαの発現レベルを参照値と比較することを更に含んでなり、前記参照値に対する前記試料におけるＣｈｏＫα遺伝子の発現レベルに対する変化が前記化学療法治療に対する患者の臨床応答が不十分かまたは前記化学療法治療に対する患者の臨床応答が良好であることを示している、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ＣｈｏＫαの発現レベルの変化が、前記発現レベルの前記参照値に対する増加であり、前記発現レベルの増加が不十分な臨床応答を示しているか、またはＣｈｏＫαの発現レベルの変化が前記参照値に対する前記発現レベルの減少でありかつ前記発現レベルの減少が良好な臨床応答を示している、請求項２に記載のインビトロでの方法。
【請求項４】
癌に罹っている患者の個別的療法を設計するためのインビトロでの方法であって、患者由来の試料におけるコリンキナーゼα（ＣｈｏＫα）遺伝子の発現レベルを測定することを含んでなる、方法。
【請求項５】
ＣｈｏＫαの発現レベルの参照値との比較を更に含んでなり、
前記試料のＣｈｏＫα遺伝子の発現レベルの前記参照値に対する変化の減少または欠如が、患者が前記化学療法治療に基づいた療法の候補者であることを示しているか、または
前記試料のＣｈｏＫα遺伝子の発現レベルの前記参照値に対する増加が、患者が
（ｉ）  ＣｈｏＫα阻害剤、
（ｉｉ）  葉酸代謝拮抗薬、
（ｉｉｉ）  微小管阻害剤、
（ｉｖ）  ＥＧＦＲ標的薬、
（ｖ）  上記（ｉ）〜（ｉｖ）の１以上の組合せ
からなる群から選択される療法を用いる治療の候補者であることを示している、請求項４に記載のインビトロでの方法。
【請求項６】
化学療法治療が白金をベースとした化学療法治療である、請求項５に記載のインビトロでの方法。
【請求項７】
癌が非小細胞肺癌（ＮＳＣＬＣ）である、請求項１〜６のいずれか一項に記載のインビトロでの方法。
【請求項８】
ＮＳＣＬＣが、肺の扁平上皮癌、肺の大細胞癌および肺の腺癌から選択される、請求項７に記載のインビトロでの方法。
【請求項９】
ＮＳＣＬＣが進行期ＮＳＣＬＣであり、好ましくはＩＩＩＡ、ＩＩＩＢまたはＩＶ期である、請求項７または８に記載のインビトロでの方法。
【請求項１０】
試料が組織試料であり、好ましくは腫瘍組織試料であり、更に好ましくは肺腫瘍組織試料である、請求項１〜９のいずれか一項に記載のインビトロでの方法。
【請求項１１】
患者のＮＳＣＬＣの治療に使用するための白金をベースとした化学療法治療であって、前記患者の試料が、参照値に比較して参照値に比較してＣｈｏＫα遺伝子の低または同等発現レベルを示す、治療または、
ＮＳＣＬＣに罹っている患者の療法に使用するためのＣｈｏＫα阻害剤、葉酸代謝拮抗薬、ＥＧＦＲ標的薬または前記の１種類以上の組合せであって、前記患者の試料が、参照値に比較してＣｈｏＫα遺伝子の高発現レベルを示す、薬剤。
【請求項１２】
（ｉ）  コリンキナーゼα（ＣｈｏＫα）阻害剤、
（ｉｉ）  葉酸代謝拮抗薬、
（ｉｉｉ）  微小管阻害剤、
（ｉｖ）  ＥＧＦＲ標的薬、および
（ｖ）  上記（ｉ）〜（ｉｖ）の１以上の組合せ
からなる群から選択される療法に応答すると思われる患者を同定するためのインビトロでの方法であって、
前記患者の試料におけるＣｈｏＫα遺伝子の発現レベルを測定して、前記レベルを参照値と比較し、
前記試料のＣｈｏＫα遺伝子の発現レベルの前記参照値に対する増加が、患者が前記療法に応答すると思われることを示すか、または
前記試料のＣｈｏＫα遺伝子の発現レベルの前記参照値に対する変化の減少または欠如が、患者が前記療法に応答するとは思われない
ことを示す、方法。
【請求項１３】
療法が、ＣｈｏＫα阻害剤であり、かつ、患者が癌を患っている、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
試料が組織試料であり、好ましくは腫瘍組織試料であり、更に好ましくは肺腫瘍組織試料である、請求項１２または１３に記載の方法。
【請求項１５】
ＣｈｏＫα遺伝子の発現レベルを、ＣｈｏＫα遺伝子によってコードされたｍＲＮＡのレベルまたはＣｈｏＫαタンパク質またはその変異体のレベルを測定することによって決定する、請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月12日(2015.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンピュータにより実施される方法であって、
コンピューティングデバイスに関連付けられるディスプレイ上にコンテンツアイテムの一部を表示するステップと、
コンテンツアイテムに関連する第１のユーザ入力を受け取るステップであって、前記第１のユーザ入力は第１の方向を表す、ステップと、
前記第１のユーザ入力を受け取ったことに応答して、後続のユーザ入力のために、前記コンテンツアイテムを先の方向に進めるナビゲーションパターンとして前記第１の方向を割り当てるステップと
を含む、コンピュータにより実施される方法。
【請求項２】
前記第１のユーザ入力を受け取るステップは、タッチスクリーンを介して前記第１のユーザ入力を受け取ることを含む、請求項１に記載のコンピュータにより実施される方法。
【請求項３】
前記第１のユーザ入力は、タッチスクリーンを介して受け取られる、シミュレートされたページめくりの動きである、請求項２に記載のコンピュータにより実施される方法。
【請求項４】
前記コンテンツアイテムに関連する第２のユーザ入力を受け取るステップであって、前記第２のユーザ入力は前記第１の方向を表す、ステップと、
前記第２のユーザ入力を受け取ったことに応答して、前記コンテンツアイテムを前記先の方向へ進めるステップと、
を更に含み、前記第１のユーザ入力は、前記コンピューティングデバイスによって受け取られる、前記コンテンツアイテムをナビゲートする要求を表す最初のユーザ入力である、請求項２に記載のコンピュータにより実施される方法。
【請求項５】
前記コンテンツアイテムに関連する第３のユーザ入力であって、前記第３のユーザ入力は第２の方向を表す、ステップと、
前記第３のユーザ入力を受け取ったことに応答して、前記コンテンツアイテムを反対に移動させるステップと、
を更に含む、請求項１に記載のコンピュータにより実施される方法。
【請求項６】
マルチパートコンテンツアイテムをナビゲートする試みを伝達する、ユーザ開始ジェスチャを受信するように構成される、タッチベースのユーザ入力デバイスと；
前記マルチパートコンテンツアイテムの部分を表示するように構成される、ディスプレイと；
前記ディスプレイ上に前記マルチパートコンテンツアイテムの最初の部分が表示されている間に、第１の方向を表す第１のユーザ入力の指示を受け取り、
前記第１のユーザ入力の指示に応答して、ユーザ入力の後続の指示のために前記第１の方向を前記マルチパートコンテンツアイテムのナビゲーション方向として割り当てる
ように構成される、プロセッサと；
を備える、装置。
【請求項７】
前記プロセッサは、前記第１の方向を表す第２のユーザ入力の指示を受け取り、該第２のユーザ入力の指示に応答して、前記割り当てられたナビゲーション方向に、前記ディスプレイに表示されている前記マルチパートコンテンツアイテムの部分を変更するように更に構成される、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記プロセッサは、第２の方向を表す第３のユーザ入力の指示を受け取り、該第３のユーザ入力の指示に応答して、前記割り当てられたナビゲーション方向とは反対に、前記ディスプレイに表示されている前記マルチパートコンテンツアイテムの部分を変更するように更に構成される、請求項６に記載の装置。
【請求項９】
前記ディスプレイは、タッチスクリーンを備え、前記タッチベースのユーザ入力デバイスは、前記タッチスクリーンに一体的に実装される、請求項６に記載の装置。
【請求項１０】
プロセッサによって実行されると、該プロセッサに、
前記プロセッサによって実行可能なオペレーティングシステムの言語に対応する指向性を有するユーザインタフェースを提供するステップと、
前記ユーザインタフェースの方向とは異なる指向性を有するマルチページコンテンツを提示するステップと、
前記マルチページコンテンツ内を先へナビゲートする方法を示す、最初のタッチジェスチャを識別するステップと、
前記最初のタッチジェスチャによって示された方向に基づいて、前記最初のタッチジェスチャと同じ方向の前記マルチページコンテンツの後続のタッチジェスチャについて、ナビゲーション方向を割り当てるステップと、
前記最初のタッチジェスチャと同じ方向の後続のタッチジェスチャに応答して、マルチページコンテンツを先へ動かすステップと、
前記最初のタッチジェスチャと異なる方向の後続のタッチジェスチャに応答して、マルチページコンテンツを後ろへ動かすステップと、
を含む処理を実行させる、コンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月18日(2015.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの発光ダイオードを有する光源を有する照明器具であり、前記照明器具が、前記光源から第１方向に発される光を案内するための光導波路を更に有し、
前記光導波路が、前記光の大部分を第２方向に向けるよう構成され、前記第１方向が、前記第２方向と等しくなく、
前記光導波路が、円錐の形状を持つ円錐部を有し、前記円錐部の中心軸が、前記第１方向にあり、前記円錐部が、周囲面を持つ照明器具であって、
前記光源が、混合ボックスを更に有することを特徴とする照明器具。
【請求項２】
前記光源から発される光が、前記光が反射後に前記第２方向に向けられるように、前記円錐部の前記周囲面において反射されるよう構成される請求項１に記載の照明器具。
【請求項３】
前記周囲面が、反射性コーティングを有する請求項１乃至２のいずれか一項に記載の照明器具。
【請求項４】
前記反射性コーティングが、鏡面反射性のもの及び拡散反射性のもののグループからの少なくとも１つである請求項３に記載の照明器具。
【請求項５】
前記周囲面が、セグメント化されたもの及びファセット化されたもののグループからの少なくとも１つである請求項１乃至４のいずれか一項に記載の照明器具。
【請求項６】
前記光導波路が、前記光の少ない一部を前記第１方向に向けるよう構成される請求項１乃至５のいずれか一項に記載の照明器具。
【請求項７】
前記円錐部の中心部が、前記光源から前記円錐部の前記中心部に向けて発される光が、前記円錐部を通って前記第１方向に先へ進むような貫通開口部を有する請求項１乃至６のいずれか一項に記載の照明器具。
【請求項８】
前記円錐部が、円柱の形状の円柱部内に配設される請求項１乃至７のいずれか一項に記載の照明器具。
【請求項９】
前記円柱部が、全内部反射を供給するよう構成される請求項８に記載の照明器具。
【請求項１０】
前記光源が、拡散性出射窓を更に有する請求項１乃至９のいずれか一項に記載の照明器具。
【請求項１１】
反射器であって、前記反射器が、高輝度放電ランプ及びハロゲンランプのグループから選択される光源のために適応されている反射器を更に有する請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の照明器具。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月23日(2015.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材(102,402,404)の処理方法であって、
２つの離間した電極(e1/e2;212/214;412/414;452/454)を含む処理領域(124)にプラズマを生成するに、前記電極はローラ(212/214;412/414)として提供され、前記ローラ間に前記基材が供給されることを許容するように、当該ローラ間にギャップを伴って、一方のローラが他方のローラに対して平行して配置されており、
第１のエネルギー源とは異なる少なくとも１つの第２のエネルギー源を前記プラズマに仕向けて当該プラズマと相互作用させて、ハイブリッドプラズマを取得し、
前記ハイブリッドプラズマを、処理領域(124)における基材と相互作用させる、
方法。
【請求項２】
前記第１エネルギー源は高電圧交流（AC）を備え、
前記第２エネルギー源はレーザからの放射を備える、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記レーザは前記プラズマと相互作用し、また、処理されている材料に直接作用する、
請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記レーザは、以下の特徴の少なくとも１つを備えている：
前記レーザはエキシマレーザを備える；
前記レーザは、紫外線(UV)波長範囲で作動する；
前記レーザは、少なくとも２５ワットの出力パワーで作動する、
請求項２、３いずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記プラズマは大気圧プラズマ(AP)を備える、請求項１〜４いずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記基材を処理する前に、先駆物質(323,437)が基材上に供給(122,322,422)される、請求項１〜５いずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記基材を処理した後に、仕上げ物質(327,439)が基材上に供給(126,326,426)される、請求項１〜６いずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記プラズマは、高電圧(HV)大気圧(AP)プラズマを備える、請求項１〜７いずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記基材は、合成布材料、ポリエステル、有機材料、コットン、ウールからなる群から選択された材料である、請求項１〜８いずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
材料を処理する装置(100,400A,400B,400C,400D,400E,400F,400G)であって、
処理領域(124)にプラズマを生成する２つの離間した電極(e1/e2;212/214;412/414)と、
対応する１つあるいは複数のビーム(132)を前記処理領域に仕向け、前記プラズマ及び処理されている材料の少なくとも１つと相互作用させる、１つあるいは複数のレーザ(130)と、
を備え
前記２つの電極は、ローラ間に前記基材が供給されることを許容するように、当該ローラ間にギャップを伴って、一方のローラが他方のローラに対して平行して配置されている第１ローラ及び第２ローラである、装置。
【請求項１１】
さらに、前記第１ローラ及び第２ローラに近接して配置された第３ローラ、第４ローラ(416/418)を備え、第１ローラ、第２ローラ、第３ローラ、第４ローラ(412,414,416,418)の外側表面間に、処理領域(124)を規定し、プラズマを収容するセミエアタイトキャビティ(440)を形成する、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記第３ローラ及び第４ローラ(436, 438)の少なくとも１つは、金属外側層(437, 439)を備える、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
さらに、前記第１ローラ及び第２ローラ(412,414)を囲むように配置され、キャビティ(440)を規定するシールド(420)を備える、請求項１１、１２いずれか１項に記載の装置。
【請求項１４】
液体、あるいは固体、あるいは噴霧化された形式の先駆物質を吐出するノズル(322,422)と、
処理されている材料に仕上げ材料(327)を吐出するノズル(326)と、
の少なくとも１つを備える、請求項１０〜１３いずれか１項に記載の装置。
【請求項１５】
生地基材を処理するための請求項１０〜１４いずれか１項に記載の装置の使用であって、前記生地基材は、合成布材料、ポリエステル、有機材料、コットン、ウールからなる群から選択される。
【請求項１６】
請求項１〜９いずれか１項に記載の方法によって得られた生地材料。
【請求項１７】
材料処理のためにプラズマを生成する方法であって、
２つの電極(e1、e2)を提供するステップであって、前記電極は、ロッド、チューブ、あるいは他の回転可能な円筒状の電極材料の形状を備え、一方が他方に対して、処理される材料の厚さのクリアランスを許容する十分な距離で離間している、ステップと、
前記電極(e1、e2)間かつ前記電極(e1、e2)の直近の周囲の処理領域（124;プラズマ反応ゾーン）に、当該電極の長さに沿って大気圧プラズマ(AP)を生成する任意の適切な様式で前記電極(e1、e2)にエネルギーを付与するステップと、
前記処理領域に、前記電極(e1、e2)にほぼ平行にかつ前記電極(e1、e2)間にレーザビーム(132)を仕向け、前記２つの電極(e1、e2)によって生成されたプラズマと相互作用させるステップと、
を含む方法。
【請求項１８】
前記レーザビームは、前記２つの電極(e1、e2)により生成されたプラズマと同時に反応しながら、処理される基材に直接放射されるように十分なオフアングルで仕向けられる、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
さらに、前記電極をセラミックで被覆することを含む、請求項１７または１８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月23日(2015.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｐＨ値が３．０〜５．５の範囲であり、且つ
（Ａ）シリカ粒子と、
（Ｂ）少なくとも一種の酸化剤と、
（Ｃ）水性媒体と、を含む化学機械研磨（ＣＭＰ）組成物の存在下で、元素状ゲルマニウム及び／又はＳｉ１−ｘＧｅｘ（ただし、０．１≦ｘ＜１）製の材料を化学機械研磨することを含む半導体装置の製造方法。
【請求項２】
上記ＣＭＰ組成物に含まれる他の添加物の総量が、そのＣＭＰ組成物の総質量に対して１質量％以下であり、上記の他の添加物が、粒子（Ａ）、酸化剤（Ｂ）または水性媒体（Ｃ）以外の添加物であり、ｐＨ値の調整のみの目的でそのＣＭＰ組成物に加えられる添加物ではない請求項１に記載の方法。
【請求項３】
上記ＣＭＰ組成物中に含まれる他の添加物の総量が、そのＣＭＰ組成物の総質量に対して０．１質量％以下であり、上記の他の添加物が、粒子（Ａ）、酸化剤（Ｂ）または水性媒体（Ｃ）以外の添加物であり、ｐＨ値の調整のみの目的でそのＣＭＰ組成物に加えられる添加物ではない請求項１に記載の方法。
【請求項４】
元素状ゲルマニウムを化学機械研磨することを含む半導体装置の製造のための請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
上記の元素状ゲルマニウムが、二酸化ケイ素、ケイ素、または他の半導体産業で用いられる絶縁性および半導性材料の間の溝で充填または成長させられたものである請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
上記元素状ゲルマニウムが、層及び／又は過剰成長層の形状を持ち、そのゲルマニウム含量がその層及び／又は過剰成長層の総質量に対して９８％より大きい請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
酸化剤（Ｂ）が過酸化水素である請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
粒子（Ａ）の量が、そのＣＭＰ組成物の総質量に対して０．０１〜５質量％の範囲である請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
酸化剤（Ｂ）の量が、そのＣＭＰ組成物の総質量に対して０．４〜５質量％の範囲である請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
上記ＣＭＰ組成物のｐＨ値が３．７〜４．３の範囲である請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
上記ＣＭＰ組成物は、ｐＨ値が３．０〜５．５であり、
（Ａ）そのＣＭＰ組成物の総質量に対して０．０１〜５質量％の量のコロイダルシリカ粒子と、
（Ｂ）そのＣＭＰ組成物の総質量に対して０．４〜５質量％の量の過酸化水素と、
（Ｃ）水を含み、このＣＭＰ組成物に含まれる他の添加物の総量がそのＣＭＰ組成物の総質量に対して１質量％以下であり、上記の他の添加物が、粒子（Ａ）、酸化剤（Ｂ）または水性媒体（Ｃ）以外の添加物であり、ｐＨ値の調整のみの目的でそのＣＭＰ組成物に加えられる添加物ではない請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
ゲルマニウムの二酸化ケイ素に対する材料除去率選択性が４．５：１より大きい請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
ｐＨ値が３．５〜４．５の範囲であり、
（Ａ）シリカ粒子と、
（Ｂ）少なくとも一種の酸化剤と、
（Ｃ）水性媒体を含むＣＭＰ組成物の、元素状ゲルマニウム層及び／又は過剰成長層を含む基板の化学機械研磨への利用。
【請求項１４】
粒子（Ａ）がコロイダルシリカ粒子であり、酸化剤（Ｂ）が過酸化水素であり、このＣＭＰ組成物に含まれる他の添加物の総量がそのＣＭＰ組成物の総質量に対して１質量％以下であり、上記の他の添加物が、粒子（Ａ）、酸化剤（Ｂ）または水性媒体（Ｃ）以外の添加物であり、ｐＨ値の調整のみの目的でそのＣＭＰ組成物に加えられる添加物ではない請求項１３に記載の利用。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月26日(2015.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遠隔プラズマシステムであって、
イオンおよびラジカルを含むプラズマ種を生成するための第１の領域を画定する遠隔プラズマチャンバと、
半導体デバイスを処理するための第２の領域を画定するプロセスチャンバであって、側壁内に形成された入り口ポートを備え、前記入り口ポートが前記第２の領域と流体連通している、プロセスチャンバと、
前記遠隔プラズマチャンバと前記プロセスチャンバの間に配置された、前記遠隔プラズマチャンバから前記プロセスチャンバへプラズマ種を送出するための送出部材であって、取付けスリーブと前記取付けスリーブに接続された入り口部材とを備える、送出部材と
を備え、前記取付けスリーブが長手方向に延びるスリーブ通路を画定する中空本体を含み、前記入り口部材が長手方向に延びる入り口通路を画定する中空本体を含み、前記取付けスリーブが、前記第１の領域につながる前記遠隔プラズマチャンバのガス出口に接続された第１の端部および前記入り口通路が前記スリーブ通路に実質上位置合わせされるように入り口部材に接続された第２の端部を有し、前記第２の端部が前記第１の端部の反対側に位置し、前記取付けスリーブが前記入り口部材の直径と整合するように前記取付けスリーブの長手方向軸に沿って徐々に低減し、前記入り口通路の長手方向軸が前記入り口ポートの長手方向軸に対して約１０度から約７０度の間の角度で交差するように、前記入り口通路が前記プロセスチャンバの前記入り口ポートに結合される、システム。
【請求項２】
前記送出部材が、前記入り口部材の外面の周りに延びるフランジをさらに備え、前記フランジが、前記プロセスチャンバの前記側壁の表面と実質上同一平面の表面を有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記角度が約２０度から約４５度の間の範囲内である、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記スリーブ通路と前記入り口通路が併せて約５インチから約２５インチの間の長さを有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記スリーブ通路と前記入り口通路がそれぞれ約０．５インチから約２インチの間の範囲内の直径を有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
遠隔プラズマシステムであって、
イオンおよびラジカルを含むプラズマ種を生成するための第１の領域を画定する遠隔プラズマチャンバと、
半導体デバイスを処理するための第２の領域を画定するプロセスチャンバであって、側壁内に形成された入り口ポートを備え、前記入り口ポートが前記第２の領域と流体連通している、プロセスチャンバと、
前記遠隔プラズマチャンバと前記プロセスチャンバとの間に配置され、前記第１の領域および前記入り口ポートと流体連通している通路を有する送出部材であって、前記通路の長手方向軸が前記入り口ポートの長手方向軸に対して約２０度から約８０度の角度で交差するように構成される送出部材と
を備えるシステム。
【請求項７】
前記送出部材が、前記送出部材の外面の周りに延びるフランジをさらに備え、前記フランジが、前記側壁の表面と実質上同一平面の表面を有する、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
前記通路が約５インチから約２５インチの間の長さを有する、請求項６に記載のシステム。
【請求項９】
前記通路が約０．５インチから約２インチの間の範囲内の直径を有する、請求項６に記載のシステム。
【請求項１０】
前記遠隔プラズマチャンバと前記プロセスチャンバとの間に配置されたイオンフィルタ
をさらに備える、請求項６に記載のシステム。
【請求項１１】
プロセスチャンバの処理領域内で半導体デバイスを処理する方法であって、
プラズマ種を生成して、遠隔プラズマ源から、長手方向の通路を有する送出部材へ流すことと、
プラズマ種を前記通路から、前記プロセスチャンバの側壁内に形成された入り口ポートへ流すことと、前記プラズマ種は前記入り口ポート内へある角度で流され、前記プロセスチャンバの前記処理領域に入る前に前記プラズマ種からイオンが実質上除去されるように前記プラズマ種内の電子または荷電粒子とのイオンの衝突またはイオンの反応を促進し、
前記プラズマ種からの原子ラジカルを前記半導体デバイスのシリコンまたは多結晶シリコン領域内に選択的に組み込むことと
を含む方法。
【請求項１２】
前記送出部材が前記遠隔プラズマ源と前記プロセスチャンバとの間に配置される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記送出部材が、前記通路の長手方向軸が前記入り口ポートの長手方向軸に対して約２０度から約８０度の角度で交差するように構成される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記通路が約５インチから約２５インチの間の長さを有する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
前記通路が約０．５インチから約２インチの間の範囲内の直径を有する、請求項１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月30日(2015.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
哺乳類対象における統合失調症の処置のための医薬組成物であって、式(I)
【化１】
2014527048.tif 000001
［式中、
L、MおよびNは、水素、ヒドロキシ、ハロゲン、低級アルキル、ヒドロキシ(低級)アルキル、低級アルカノイルオキシまたはオキソであり、ここで、該5員環は少なくとも１つの二重結合を有してもよく;
Aは、-CH3または-CH2OH、-COCH2OH、-COOHまたはそれらの官能性誘導体であり；
Bは、単結合、-CH2-CH2-、-CH=CH-、-C≡C-、-CH2-CH2-CH2-、-CH=CH-CH2-、-CH2-CH=CH-、-C≡C-CH2-または-CH2-C≡C-であり；
Zは、
【化２】
2014527048.tif 000002
であり、ここで、
R4およびR5は、水素、ヒドロキシ、ハロゲン、低級アルキル、低級アルコキシまたはヒドロキシ(低級)アルキルであり、R4およびR5が同時にヒドロキシおよび低級アルコキシであることはなく；
Z1およびZ2は酸素、窒素または硫黄であり；
R6およびR7は置換されてよい低級アルキルであり、共に連結して低級アルキレンを形成してよく；
R1は、非置換であるか、またはハロゲン、低級アルキル、ヒドロキシ、オキソ、アリールまたは複素環基により置換された、二価の飽和または不飽和の低級または中級の脂肪族炭化水素残基であり、脂肪族炭化水素の少なくとも１つの炭素原子は酸素、窒素または硫黄により置換されてよく；そして
Raは、非置換であるか、またはハロゲン、オキソ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルカノイルオキシ、シクロ(低級)アルキル、シクロ(低級)アルキルオキシ、アリール、アリールオキシ、複素環基または複素環オキシ基によって置換された、飽和または不飽和の低級または中級の脂肪族炭化水素残基；低級アルコキシ；低級アルカノイルオキシ；シクロ(低級)アルキル；シクロ(低級)アルキルオキシ；アリール；アリールオキシ；複素環基；複素環オキシ基であり、脂肪族炭化水素の少なくとも１つの炭素原子は酸素、窒素または硫黄により置換されてよい。］
で表される脂肪酸誘導体を有効量含む、
医薬組成物。
【請求項２】
ZがC=Oである、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項３】
Bが-CH2-CH2-である、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項４】
Bが-CH2-CH2-であり、ZがC=Oである、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項５】
Lがヒドロキシまたはオキソであり、Mが水素またはヒドロキシであり、Nが水素であり、Bが-CH2-CH2-であり、ZがC=Oである、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項６】
脂肪酸誘導体が(-)-7-[(1R,2R)-2-(4,4-ジフルオロ-3-オキソオクチル)-5-オキソシクロペンチル]ヘプタン酸、(+)-イソプロピル (Z)-7-[(1R,2R,3R,5S)-3,5-ジヒドロキシ-2-(3-オキソデシル)シクロペンチル]ヘプタ-5-エノアートまたは(E)-7-[(1R,2R)-2-(4,4-ジフルオロ-3-オキソオクチル)-5-オキソシクロペンチル]ヘプタ-2-エン酸である、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項７】
7-[2-(4,4-ジフルオロ-3-オキソオクチル)-5-オキソシクロペンチル]ヘプタ-2-エン酸である化合物またはその官能性誘導体。
【請求項８】
7-[2-(4,4-ジフルオロ-3-オキソオクチル)-5-オキソシクロペンチル]ヘプタ-2-エン酸である、請求項７に記載の化合物。
【請求項９】
(E)-7-[(1R,2R)-2-(4,4-ジフルオロ-3-オキソオクチル)-5-オキソシクロペンチル]ヘプタ-2-エン酸である、請求項７に記載の化合物。
【請求項１０】
式(I)
【化３】
2014527048.tif 000003
［式中、
L、MおよびNは、水素、ヒドロキシ、ハロゲン、低級アルキル、ヒドロキシ(低級)アルキル、低級アルカノイルオキシまたはオキソであり、ここで、該5員環は少なくとも１つの二重結合を有してもよく; 
Aは、-CH3または-CH2OH、-COCH2OH、-COOHまたはそれらの官能性誘導体であり；
Bは、単結合、-CH2-CH2-、-CH=CH-、-C≡C-、-CH2-CH2-CH2-、-CH=CH-CH2-、-CH2-CH=CH-、-C≡C-CH2-または-CH2-C≡C-であり；
Zは、
【化４】
2014527048.tif 000004
であり、ここで、
R4およびR5は、水素、ヒドロキシ、ハロゲン、低級アルキル、低級アルコキシまたはヒドロキシ(低級)アルキルであり、R4およびR5が同時にヒドロキシおよび低級アルコキシであることはなく；
Z1およびZ2は酸素、窒素または硫黄であり；
R6およびR7は置換されてよい低級アルキルであり、共に連結して低級アルキレンを形成してよく；
R1は、非置換であるか、またはハロゲン、低級アルキル、ヒドロキシ、オキソ、アリールまたは複素環基により置換された、二価の飽和または不飽和の低級または中級の脂肪族炭化水素残基であり、脂肪族炭化水素の少なくとも１つの炭素原子は酸素、窒素または硫黄により置換されてよく；そして
Raは、非置換であるか、またはハロゲン、オキソ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルカノイルオキシ、シクロ(低級)アルキル、シクロ(低級)アルキルオキシ、アリール、アリールオキシ、複素環基または複素環オキシ基によって置換された、飽和または不飽和の低級または中級の脂肪族炭化水素残基；低級アルコキシ；低級アルカノイルオキシ；シクロ(低級)アルキル；シクロ(低級)アルキルオキシ；アリール；アリールオキシ；複素環基；複素環オキシ基であり、脂肪族炭化水素の少なくとも１つの炭素原子は酸素、窒素または硫黄により置換されてよい。］
で表される脂肪酸誘導体の、必要としている哺乳類対象における統合失調症を処置するための医薬の製造のための使用。
【請求項１１】
ZがC=Oである、請求項１０記載の使用。
【請求項１２】
Bが-CH2-CH2-である、請求項１０記載の使用。
【請求項１３】
Bが-CH2-CH2-でありZがC=Oである、請求項１０記載の使用。
【請求項１４】
Lがヒドロキシまたはオキソであり、Mが水素またはヒドロキシであり、Nが水素であり、Bが-CH2-CH2-であり、ZがC=Oである、請求項１０記載の使用。
【請求項１５】
脂肪酸誘導体が、(-)-7-[(1R,2R)-2-(4,4-ジフルオロ-3-オキソオクチル)-5-オキソシクロペンチル]ヘプタン酸、(+)-イソプロピル (Z)-7-[(1R,2R,3R,5S)-3,5-ジヒドロキシ-2-(3-オキソデシル)シクロペンチル]ヘプタ-5-エノアートまたは(E)-7-[(1R,2R)-2-(4,4-ジフルオロ-3-オキソオクチル)-5-オキソシクロペンチル]ヘプタ-2-エン酸である、請求項１０記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月29日(2015.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の構造の化合物：
【化１】
2014527042.tif 000001
またはその薬学的に許容される塩もしくは水和物。
【請求項２】
以下の構造の化合物：
【化２】
2014527042.tif 000002
またはその薬学的に許容される塩。
【請求項３】
請求項１に記載の化合物またはその薬学的に許容される塩もしくは水和物を、薬学的に許容される担体と共同して含む、医薬組成物。
【請求項４】
請求項１に記載の化合物またはその薬学的に許容される塩もしくは水和物を有効成分とする、Ｔ細胞急性リンパ性白血病、急性リンパ性白血病、急性骨髄性白血病、慢性骨髄性白血病、赤白血病、乳癌、卵巣癌、メラノーマ、肺癌、膵臓癌、神経膠芽腫、結腸直腸癌、頭頸部癌、子宮頸癌、前立腺癌、肝臓癌、扁平上皮癌（口腔）、皮膚癌または髄芽細胞腫である癌の治療剤。
【請求項５】
請求項１に記載の化合物またはその薬学的に許容される塩もしくは水和物を有効成分とする、Ｔ細胞急性リンパ性白血病、慢性骨髄性白血病、赤白血病、乳癌、卵巣癌、メラノーマ、膵臓癌、神経膠芽腫または結腸直腸癌である癌の治療剤。
【請求項６】
Ｔ細胞急性リンパ性白血病、急性リンパ性白血病、急性骨髄性白血病、慢性骨髄性白血病、赤白血病、乳癌、卵巣癌、メラノーマ、肺癌、膵臓癌、神経膠芽腫、結腸直腸癌、頭頸部癌、子宮頸癌、前立腺癌、肝臓癌、扁平上皮癌（口腔）、皮膚癌または髄芽細胞腫である癌の治療のための医薬品の製造のための、請求項１に記載の化合物またはその薬学的に許容される塩もしくは水和物の使用。
【請求項７】
Ｔ細胞急性リンパ性白血病、急性リンパ性白血病、慢性骨髄性白血病、赤白血病、乳癌、卵巣癌、メラノーマ、膵臓癌、神経膠芽腫または結腸直腸癌である癌の治療のための医薬品の製造のための、請求項１に記載の化合物またはその薬学的に許容される塩もしくは水和物の使用。
【請求項８】
ＣｕＫα放射線を用いたＸ線粉末回折パターンによって特徴づけられ、周囲温度および相対湿度にて１１．９６±０．２、１８．８１±０．２、２０．７８±０．２または２１．０７の±０．２度２θにおける１つまたは複数のピークとともに２２．９７±０．２度２θにおいてピークを有する結晶性水和物である、請求項１に記載の化合物。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月15日(2015.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光応答性ハイブリッド有機無機粒子を調製するためのプロセスであって、
（ａ）（１）水酸基、加水分解性基、及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも２つのケイ素結合した基を含む、少なくとも１つのオルガノシラン化合物と、（２）少なくとも１つの未希釈光活性材料と、を混合してセラミック前駆体組成物を形成すること、及び
（ｂ）前記加水分解性基の加水分解、及び前記オルガノシラン化合物の縮合を可能にするか又は誘発して、前記光活性材料を含むハイブリッド有機無機粒子を形成すること、
を含む、プロセス。
【請求項２】
前記オルガノシランが、未希釈セラミック前駆体組成物を提供するように、未希釈形態である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
前記オルガノシラン化合物が、次の一般式：
Ｓｉ（Ｒ）４−ｐ−（Ｘ）ｐ                  （Ｉ）
（式中、各Ｒは独立して、有機基又はヘテロ有機基であり、各Ｘは独立して、ハロゲン原子、水素原子、アシルオキシ、アルコキシ、ヒドロキシル、及びこれらの組み合わせから選択され、ｐは、２又は３の整数である）によって表されるものから選択される、
及び／又は、前記光活性材料が、光活性薬物、染料、希土類ドープ金属酸化物ナノ粒子、金属ナノ粒子、半導体ナノ粒子、及びその組み合わせから選択される、請求項１又は２に記載のプロセス。
【請求項４】
前記加水分解及び縮合が、前記セラミック前駆体組成物を、少なくとも１つの触媒を含む水性組成物と混合することによって達成される、
及び／又は、前記プロセスが、有機溶媒の不在下で行われる、請求項１〜３のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項５】
光応答性ハイブリッド有機無機粒子を調製するためのプロセスであって、
（ａ）（１）少なくとも２つのケイ素結合した加水分解性基を含む、少なくとも１つの未希釈オルガノシラン化合物と、（２）少なくとも１つの未希釈光活性染料と、を混合して未希釈セラミック前駆体組成物を形成すること、及び
（ｂ）前記未希釈セラミック前駆体組成物と、少なくとも１つの塩基、及び所望により、少なくとも１つの界面活性剤を含む水性組成物とを、有機溶媒の不在下で混合することによって、前記加水分解性基の加水分解及び前記オルガノシラン化合物の縮合を、可能にするか又は誘発して、前記光活性染料を含む有機的に改質されたシリカナノ粒子を形成すること、を含む、プロセス。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月13日(2015.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加水分解されたアルコキシシラン、加水分解されたオルガノシラン、および加水分解されたオルガノフルオロシランを含むゾルから形成された乾燥ゲルを含むコーティングであって、
該加水分解されたオルガノシランおよび該加水分解されたオルガノフルオロシランは、お互いにおよび該加水分解されたアルコキシシランまたは他の成分と混合する前に、それぞれ別々に調製され、
該乾燥ゲルが、反射防止性、耐摩耗性、かつ撥水性を備えることを特徴とする、コーティング。
【請求項２】
前記アルコキシシランがテトラメトキシシランを含み、前記オルガノシランがメチルトリメトキシシランを含み、かつ前記オルガノフルオロシランがトリフルオロプロピルトリメトキシシランを含む、請求項1記載のコーティング。
【請求項３】
前記アルコキシシランがテトラエトキシシランを含み、前記オルガノシランがメチルトリメトキシシランを含み、かつ前記オルガノフルオロシランがトリフルオロプロピルトリメトキシシランを含む、請求項1記載のコーティング。
【請求項４】
前記アルコキシシランがテトラメトキシシランを含み、前記オルガノシランがメチルトリメトキシシランを含み、かつ前記オルガノフルオロシランが(トリデカフルオロ-1,1,2,2-テトラヒドロオクチル)トリメトキシシランを含む、請求項1記載のコーティング。
【請求項５】
前記アルコキシシランがテトラエトキシシランを含み、前記オルガノシランがメチルトリメトキシシランを含み、かつ前記オルガノフルオロシランが(トリデカフルオロ-1,1,2,2-テトラヒドロオクチル)トリメトキシシランを含む、請求項1記載のコーティング。
【請求項６】
前記ゾルが、加水分解されたアルコキシシランを含む第一のゾルと、加水分解されたオルガノシランおよび加水分解されたオルガノフルオロシランの混合物を含有する第二のゾルとの混合物を含む、請求項1記載のコーティング。
【請求項７】
前記ゾルが、約0.2〜約2なる範囲の、前記テトラアルコキシシラン対前記オルガノシランおよび前記オルガノフルオロシランの総量の相対的質量％比を持つ、請求項1記載のコーティング。
【請求項８】
前記ゾルが、約0.5〜約1．5なる範囲の、前記オルガノシラン対前記オルガノフルオロシランの相対的質量％比を持つ、請求項1記載のコーティング。
【請求項９】
前記乾燥ゲルが、前記ゾル；アルコール、エステル、エーテル、アルデヒド、およびケトンからなる群から選択される有機溶媒；および水を含む混合物から形成され、該混合物における該溶媒および該水の量が、約50〜約99.5質量％なる範囲にある、請求項1記載のコーティング。
【請求項１０】
前記溶媒対前記水の比が、質量基準で約5〜約20なる範囲にある、請求項9記載のコーティング。
【請求項１１】
前記乾燥ゲルが、150℃未満の温度にて硬化した場合に、標準的EN 1096.2研摩テストに合格するのに十分な耐摩耗性を持つ、請求項9記載のコーティング。
【請求項１２】
前記ゾルが、約0.001〜約2質量％なる範囲の量で酸触媒を更に含み、かつ該ゾルが、約1〜約4なる範囲のpHを持つ、請求項1記載のコーティング。
【請求項１３】
前記ゾルが、約0.001〜約2質量％なる範囲の量で塩基触媒を更に含み、かつ該ゾルが、約7〜約10なる範囲のpHを持つ、請求項1記載のコーティング。
【請求項１４】
前記ゾルが、約0.1〜約10質量％なる範囲の量でバインダを更に含む、請求項1記載のコーティング。
【請求項１５】
前記ゾルが、約0.1〜約2質量％なる範囲の量で粒径調節添加剤を更に含み、かつ該粒径調節添加剤を含まない同様なコーティングと比較して、約0.5〜約2.0％なる範囲の透過率増加をもたらす、請求項1記載のコーティング。
【請求項１６】
前記ゾルが、架橋添加剤を更に含む、請求項1記載のコーティング。
【請求項１７】
前記ゾルが、疎水性の反応性薬剤と反応し得る官能基を持つアルコキシシランプリカーサを更に含み、かつ、該乾燥ゲルを該疎水性の反応性試薬に暴露して、前記乾燥ゲルが、該官能基を持つアルコキシシランプリカーサおよび該疎水性の反応性試薬を含まない同様なコーティングと比較して、約15度までの高い表面接触角を持つ、請求項1記載のコーティング。
【請求項１８】
前記乾燥ゲルが付着している表面を有する基板を更に含み、かつ該乾燥ゲルが、約80nm〜約1μmなる範囲の厚みを持つ、請求項1記載のコーティング。
【請求項１９】
前記乾燥ゲルが付着している表面を有するソーラーパネルを更に含む、請求項1記載のコーティング。
【請求項２０】
コーティングであって、
加水分解されたアルコキシシラン、加水分解されたオルガノシラン、および加水分解されたオルガノフルオロシランを含むゾルから形成された乾燥ゲルを含み、
該加水分解されたオルガノシランおよび該加水分解されたオルガノフルオロシランは、お互いにおよび該加水分解されたアルコキシシランまたは他の成分と混合する前に、それぞれ別々に調製され、
該コーティングが、約90〜約178度なる範囲の接触角、約2H〜約9Hなる範囲の鉛筆硬度、および該コーティングを持たない基板と比較して、コーティングされた基板について約1％〜約3.5％なる範囲で増大した透過率を持つことを特徴とする、前記コーティング。