【事件の表示】
　特願２００９−２３２５２４「基板搬送装置、及び磁気記録媒体の製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２２年　６月１７日出願公開、特開２０１０−１３５０４９、請求項の数（１）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１．手続の経緯
　
　本願は、平成２１年１０月６日（優先権主張　平成２０年１０月２８日）の出願であって、平成２５年５月１０日付け拒絶理由通知に対する応答時、同年７月９日付けで手続補正がなされたが、同年９月２４日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年１２月１７日付けで拒絶査定不服審判の請求がなされたものである。
　
第２．本願発明
　
　本願の請求項１に係る発明は、平成２５年７月９日付けの手続補正で補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、次のとおりのものである。
「【請求項１】
　ゲートバルブを介して互いに連結された第１チャンバおよび第２チャンバと、
　前記ゲートバルブが開かれた状態で前記第１チャンバから前記第２チャンバに搬送路に沿ってキャリアを搬送する搬送機構と、
　前記第２チャンバの中の停止位置に前記キャリアが停止したときに前記キャリアの先端を検知するための第１停止位置センサと、
　前記停止位置に前記キャリアが停止したときに前記キャリアの後端を検知するための第２停止位置センサと、
　前記第１停止位置センサと前記第２停止位置センサとの間に配置され、前記キャリアが前記停止位置に到達する前に前記キャリアを検知するセンサと、
　前記センサからの検知信号に基づいて、前記キャリアが前記停止位置に到達する前に前記ゲートバルブに閉動作を開始させ、前記第１停止位置センサおよび前記第２停止位置センサの検知信号に基づいて、前記第２チャンバの中で所定の処理が行われるように制御を行う制御部と、
　を備えることを特徴とする基板搬送装置。」
　
第３．原査定の理由の概要
　
「１．この出願の下記の請求項に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
　　　　　　　　　　　　　　　　 記
＜引用文献等一覧＞
１.特表２００２−５１６２４０号公報
２.特開２００５−０６６７５３号公報
３.特開２００５−１３８０１０号公報
４.特開２００４−０１８９２２号公報
　
［理由１］
・請求項　：１−６
・引用文献：１−４
・備考
　引用文献１（特に、段落００９６、００９７、図９、１０）には、基板搬送装置の発明であって、基板を各処理チャンバに搬送するためのシャトルを有し、シャトルが目標位置に達しない処理チャンバの中間位置に達したことを検出するセンサを備えた発明が記載されている。さらに、引用文献１には、上記の点に加えて、レーザーを用いて基板の前縁を感知させてもよいことが記載されている。
　ここで、引用文献２（特に、段落０００４−０００６）には、ワーク搬送システムの発明において、高スループット化のために、チャンバのゲートが閉動作をしている途中で、ワークをゲートに接触させないようにゲート位置を通過させる点が記載されている。
　また、チャンバのシャッターの開閉制御を行う際に、基材が搬送される処理室内に基材感知センサを設け、該センサの感知信号により行うものや、基板搬送の動作時間に基づいて行うものは、引用文献３（特に、段落００２４）や引用文献４（特に、段落００４５）に記載されているように、周知技術に過ぎない。
　してみると、引用文献１に記載された発明において、チャンバーのゲートが閉動作をしている途中で、ワークをゲートに接触させないようにゲート位置を通過させ、また、シャッターの開閉制御を、センサや基板搬送の動作時間に基づいて行うことは、当業者であれば容易に想到し得るものである。そして、センサの配置については、設計的な事項に過ぎない。
　したがって、請求項１−６に係る発明は、引用文献１−４に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明することができるものである。」
　
第４．当審の判断
　
１．刊行物の記載事項
（１）引用例１
  原査定の拒絶の理由に引用された特表２００２−５１６２４０号公報（以下、「引用例１」という。）には、「基板搬送・処理装置」について、図面とともに以下の各記載がある（なお、下線は当審で付与した。）。
　ア．「【請求項２４】  動き方向に対して前縁を有する基板を処理する装置であって、前記装置は：
  
第１のチャンバと
  
前記第１のチャンバと連通する第２のチャンバであって、前記第２のチャンバ内の目標位置で基板にプロセスを実行するように構成され、目標位置で基板を支持するリフトメカニズムを含む第２のチャンバと
  上部に画定される基板保持位置で
基板を保持し、
前記第１のチャンバと前記第２のチャンバ間のシャトル経路に沿って可動の基板搬送シャトルであって、目標位置にあるとき、前記基板搬送シャトルとリフトメカニズム間で基板が交換されるように構成および配設された基板搬送シャトルと
  
シャトル経路に沿って配置され、基板搬送シャトルの前方縁
が前記所定距離だけ目標位置から離れた中間位置に達する時を検出するように構成されたセンサと
  
シャトル経路に沿って基板搬送シャトルの動きを制御し、基板搬送シャトルの前方縁
が中間位置に達したことを示すセンサからの入力を受信するように構成され、基板搬送シャトルが中間位置を超えて所定距離移動するとき、前記基板搬送シャトルの動きを終了させる、制御システムと
を具備する、基板処理装置
　
　イ．「【請求項３１】  
前記基板搬送シャトルが、その下側に歯形ラックを有し、前記第１および第２のチャンバの周囲に沿って配置された複数のガイドローラにより支持され、各駆動メカニズムが、モータとピニオンギヤを有し、前記ピニオンギヤを前記歯型ラックに機械的に結合可能にして、前記基板搬送シャトルを移動させる
　
　ウ．「ロードロックチャンバ５０および５２の間には、ロードロックチャンバ間で直列に接続された複数の処理チャンバ５４Ａから５４Ｃがある。
各処理チャンバ５４Ａから５４Ｃは、各処理チャンバの第１および第２の端部でそれぞれ、第１および第２の仕切弁５６Ａから５６Ｃおよび５８Ａから５８Ｃを含む（図３も参照）。仕切弁５６Ａは、閉鎖時に処理チャンバ５４Ａからロードロックチャンバ５０を選択的に密封し、開放時に仕切弁５６Ａを通して基板を搬送させる
　
　エ．「【００５０】
  処理区域の両側に沿って（図１、３、５、７Ａから７Ｃ）、
各ロードロックチャンバおよび各処理チャンバは、シャトルがチャンバを通るさいに、片方または両方のシャトルを支持および案内するように配置された複数のガイドローラ対９８（例えば、処理チャンバの側面には２つローラおよびロードロックの側面には３つのローラ）を含む
　　　　　　　・・・・・（中　略）・・・・・
　　　【００５２】
  図３を参照すると、処理チャンバ５４Ａから５４Ｃのそれぞれとロードロックチャンバとの間に、ハウジングがそれぞれシャトル駆動メカニズム１００を含むチャンバ遮断弁がある。図１、３、９に示されているように、
チャンバ５０および５４Ａ間には、駆動メカニズム１００があり、チャンバ５４Ａおよび５４Ｂ間には、駆動メカニズム１００’があり、チャンバ５４Ｂおよび５４Ｃ間には、駆動メカニズム１００’’があり、さらにチャンバ５４Ｃおよび５２間には、駆動メカニズム１００’’’がある
各駆動メカニズム１００は、シャトルのラックを係合して、作業流れ経路の関連部分に沿ってシャトルを移動させるピニオンギヤ１０６と関連付けしたものである
　　　【００５３】
  駆動メカニズムが弁ハウジング内に配置される上記のような構造により、例えば、ＴＦＴ形成時には要求されることが多い処理チャンバ内の微粒子の汚染が低減される。また、このような処理区域のレイアウトにより、各チャンバが同様の構造をもち、相互に交換可能であるため、高度な基準寸法が容易になる。
各遮断弁のハウジング内には１つの駆動メカニズムがある状態では、使用するシャトルの長さは、以下にさらに詳細に記載するように、駆動メカニズム間の関連する距離よりも一般に長いものである。さらに、使用するシャトルの全長は、シャトルが通過する任意の処理チャンバよりも一般に長いものである
　
　オ．「【００６３】
  基板１２６の任意の加熱およびロードロックチャンバ５０および第１の処理チャンバ５４Ａのポンプダウン後、
基板１２６がロードロックチャンバ５０にあるシャトル７０上に支持されると、弁５６Ａは、ロードロックチャンバ５０および処理チャンバ５４Ａ間を連通するように開かれてよい
駆動メカニズム１００のピニオンギヤが、シャトルのレールの下流の端部に隣接するシャトル７０のラックに係合される。基板を処理チャンバに移動させるために、駆動メカニズム１００のモータに動力を供給して、弁５６Ａを介して、第１の処理チャンバへとシャトルを下流に移動させる。シャトルが第１の処理チャンバ５４Ａの目標位置に到達すると、その動きが停止し、シャトルと基板が目標位置に留まる
　
　カ．「【００６８】
  
基板１２６を支持するシャトル７０が処理チャンバ５４Ａに入る
基板１２６およびシャトル７０が、サセプタ１３０のすぐ上側の目標位置で停止すると、サセプタ１３０および／またはリフトピン１３４が上昇する。リフトピンプレート１３８、リフトピン１３４および／またはサセプタ１３０が上昇すると、ピン（延長位置で静止）は、基板１２６（図８Ａ）の下側と接触し、シャトル７０との係合を解除して基板１２６を上昇させる（図８Ｂ）。このような中間位置に基板１２６を設けた状態で、シャトル７０は、処理チャンバ５４Ａから引き抜かれ
シャトル７０は、ロードロックチャンバ５０に引かれてもよいし、第２の処理チャンバ５４Ｂまたはそれを超えた場所に運ばれ
シャトル７０がチャンバ５４Ａから出ると、チャンバ５４Ａは、弁５６Ａ（および、弁５８Ａおよび５６Ｂが開いていればこれらの弁も）を閉めることにより、密閉されてよい
　　　【００６９】
  
この点で、処理が開始されてよい。処理が終了し、任意の処理ガスが排気されると（必要であれば）、弁５６Ａを開いて、ロードロックチャンバ５０と処理チャンバ５４Ａを連通させてもよい
基板１２６を処理チャンバ５４Ａに配送する場合と同様の方法で、シャトル７０は処理チャンバ５４Ａに戻される
　
　キ．「【００９６】
  図１０を参照すると、各チャンバは、横断中央平面３０４を有する。各横断中央平面３０４は、関連するチャンバを通るシャトルの経路と交差して延び、このような基板がチャンバ内で処理を行うために所望の位置に配置されるとき、基板の横断中央線により画定される目標位置と一致する。
各処理チャンバは、このようなチャンバの横断中央平面３０４内に略配置されたセンサ３０６を含む。チャンバの中央の位置は、チャンバの外部の位置が熱膨張により変化しても、温度に対して略不変である。したがって、センサ３０６の位置は、基板をチャンバに配置するために、目標位置に対して温度に略不変である
　　　【００９７】
  
センサ３０６は、シャトル経路に沿ってセンサ３０６のそばを通るシャトルのトリガ特徴と相互作用する構造をもつ。図１０Ａに図示した実施形態では、センサ３０６は、フォトディテクタ３０７Ｂの方向に光ビームを向けるフォトエミッタ３０７Ａからなるものであってよい。光ビームは、センサ３０６を隣接して通るシャトルレール７４Ａの前縁により分裂される。光ビームが分裂すると、シャトルが、目標位置に達しない位置である処理チャンバの中間位置に達したことを表す入力信号を制御システム１１１に送信する
図１０に示されているように、レールの前縁は、シャトル７０上の所望の位置に保持された基板１２６の横断中央線３０９で規定されるシャトル７０上の基板保持位置から所定距離Ｄだけ前方に位置する。センサから入力信号を受信すると、制御システムにより、中間位置からさらに前方にシャトル７０が運ばれ、シャトル７０が同じ距離Ｄだけ前方に移動して、基板をチャンバに搬送するための所望の位置上にシャトル７０が到達すると、シャトル７０の移動が終了する
　
　・上記引用例１に記載の「基板搬送・処理装置」は、上記「ア．」の記載事項によれば、第１のチャンバと、第１のチャンバと連通する第２のチャンバであって、当該第２のチャンバ内の目標位置で基板にプロセスを実行するように構成され、目標位置で基板を支持するリフトメカニズムを含む第２のチャンバ（処理チャンバ）と、基板を保持し、第１のチャンバと第２のチャンバ間のシャトル経路に沿って可動の基板搬送シャトルであって、目標位置にあるとき、当該基板搬送シャトルとリフトメカニズム間で基板が交換されるように構成および配設された基板搬送シャトルとを具備する基板搬送・処理装置に関するものである。
　・上記「イ．」、「エ．」の記載事項、及び図３等によれば、基板搬送シャトルは、その下側に歯形ラックを有し、第１および第２のチャンバの周囲に沿って配置された複数のガイドローラにより支持され、２つのチャンバ間にはモータとピニオンギヤを有する駆動メカニズムが設けられ、ピニオンギヤを基板搬送シャトルの歯型ラックに機械的に結合して当該基板搬送シャトルを移動させるようにしたものである。
　・上記「ウ．」、「オ．」、「カ．」の記載事項、及び図３等によれば、２つのチャンバ間には仕切弁が設けられ、基板搬送シャトルによって基板を処理チャンバに搬送する際には仕切弁を開き、処理チャンバ内で基板に対してプロセスを実行する際には仕切弁を閉じるようになされるものである。
　・上記「ア．」、「オ．」、「キ．」の記載事項、及び図１０によれば、シャトル経路に沿ったチャンバの中央位置に配置され、基板搬送シャトルの前方縁が所定距離だけ目標位置から離れた中間位置に達する時を検出するように構成されたセンサと、シャトル経路に沿って基板搬送シャトルの動きを制御し、基板搬送シャトルの前方縁が中間位置に達したことを示すセンサからの入力を受信するように構成され、基板搬送シャトルが中間位置を超えて所定距離だけ移動して目標位置に到達すると、基板搬送シャトルの動きを終了させる制御システムとを備えるものである。
　・そして、上記「エ．」の段落【００５３】に記載のように、基板搬送シャトルの全長は、処理チャンバのよりも長く、そのため、上記「カ．」に記載のように、基板を支持する基板搬送シャトルが処理チャンバに入った後、処理チャンバ内で基板に対してプロセスを実行するために仕切弁を閉じるには、まず、基板を基板搬送シャトルからリフトメカニズム（リフトピン）に受け渡し、基板搬送シャトルを処理チャンバから引き抜く（退避させる）必要がある。
　
　したがって、上記記載事項及び図面を総合勘案すると、引用例１には、次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
「第１のチャンバと、
　前記第１のチャンバと仕切弁を介して連通する第２のチャンバであって、当該第２のチャンバ内の目標位置で基板にプロセスを実行するように構成され、目標位置で基板を支持するリフトメカニズムを含む第２のチャンバと、
　基板を保持し、前記第１のチャンバと前記第２のチャンバ間のシャトル経路に沿って可動し、前記第２のチャンバ内の目標位置にあるとき、前記基板搬送シャトルとリフトメカニズム間で基板が交換されるように構成および配設された基板搬送シャトルであって、その下側には歯形ラックを有し、前記第１および第２のチャンバの周囲に沿って配置された複数のガイドローラにより支持された基板搬送シャトルと、
　前記第１および第２のチャンバ間に設けられ、モータとピニオンギヤを有し、当該ピニオンギヤを前記基板搬送シャトルの前記歯形ラックに機械的に結合して当該基板搬送シャトルを移動させる駆動メカニズムと、
　シャトル経路に沿った前記第２のチャンバの中央位置に配置され、前記基板搬送シャトルの前方縁が所定距離だけ目標位置から離れた中間位置に達する時を検出するように構成されたセンサと、
　シャトル経路に沿って前記基板搬送シャトルの動きを制御し、当該基板搬送シャトルの前方縁が前記中間位置に達したことを示す前記センサからの入力を受信するように構成され、前記基板搬送シャトルが前記中間位置を超えて前記所定距離だけ移動して目標位置に到達すると、前記基板搬送シャトルの動きを終了させる制御システムと、を備え、
　前記基板搬送シャトルによって基板を前記第２のチャンバに搬送する際には前記仕切弁を開き、前記第２のチャンバ内で基板に対してプロセスを実行する際には前記仕切弁を閉じるようになされ、その際、前記基板搬送シャトルの全長は前記第２のチャンバのよりも長いため、基板を支持する前記基板搬送シャトルが前記第２のチャンバに入った後、当該第２のチャンバ内で基板に対してプロセスを実行するには、まず、基板を前記基板搬送シャトルから前記リフトメカニズムに受け渡し、前記基板搬送シャトルを前記第２のチャンバから退避させ、その後に前記仕切弁を閉じるようにした基板搬送・処理装置。」
　
（２）引用例２
　同じく原査定の拒絶の理由に引用された特開２００５−６６７５３号公報（以下、「引用例２」という。）には、「ワーク搬送システムの制御方法」について、図面とともに以下の各記載がある（なお、下線は当審で付与した。）。
　ア．「【請求項１】
それぞれゲートをそなえた複数のチャンバと、前記チャンバ相互間にワークを搬入および搬出させる搬送ロボットをそなえたワーク搬送システムにおいて
搬送軌跡に沿って搬送されるワークが、チャンバのゲートが開閉動作中に、このゲートに接触しない程度に近接してゲート位置を通過する搬送速度を演算し、速度制御することを特徴とするワーク搬送システムの制御方法
【請求項２】
前記搬送軌跡に、搬入されるワークを搬送先チャンバのゲートに接触しないように停止させることができる距離にある第１の点と、ワーク先端が前記ゲートに機械的に干渉する直前の第２の点を設定し、第１の点において、搬送ロボットの速度パターンにより第２の点に到達する時間と、ゲートがワークと接触しない開度になる時間とを演算し、２つの時間によって第２の点までの速度を算出する
【請求項３】
前記搬送軌跡に、搬出されるワークの後端が搬出元チャンバのゲートに機械的に干渉しない位置である第２の点を設定し、前記搬送軌跡によるワークの搬出時に、ワークが第２の点に搬出される時間と、ゲートがワークと接触しない開度に閉じる時間とを演算し、２つの時間によって、搬出開始とゲートの閉動作の開始との時間を算出し、搬送のタイミングと速度を制御する
　
　イ．「【０００４】
　しかるに、このような従来の搬送制御方法では、ワークＷが搬送元のチャンバ３１から完全に搬出されるまではゲート３２を閉じる操作が行われず、ゲートの閉動作が遅れ、このゲート３２が完全に閉じてからでないと搬送先のチャンバ３３のゲート３４を開くことができないので、ゲート３４の開動作が遅れることになる。また、搬送先のチャンバ３３のゲート３４が完全に開くまではワークＷの搬入を行わないため、ゲート３４が完全に開いた状態のときに、ワークＷはゲート前の点Ｐ１５までしか搬送できない。このため、ゲートの開閉やワークの搬出搬入に実質的な待ち時間を生じている。
　
本発明は、ゲートの開閉動作中であっても、ワークをゲート位置に搬送させて、高スループット化を実現させる
　
　ウ．「【０００９】
　図２のトランスチャンバ２０からプロセスチャンバ２３に、ワークＷを搬入する場合について、搬送制御方法を説明する。
　
まずワークＷがアーム２２に保持され搬送を開始すると、速度パターンＢ生成処理（ステップ１）で点Ｐ３を最終位置とした速度パターンＢを生成し、この速度パターンによって搬送ロボット２１がワークＷを搬送軌跡Ａに沿って搬送させる。ワークＷが点Ｐ１に到達した時点（ステップ２）で、ゲート２４の開度検出器２５よりゲートの開閉情報２６を入手してゲートの開度状態をチェックする（ステップ３）。ゲート２４が既に開いている場合は（ステップ８）でそのまま速度パターンＢの速度を継続し
ゲートが開動作の途中であれば、速度パターンＢの速度を維持して搬送した場合にワークがゲートと接触するかどうかを（ステップ４）で演算し判断する
【００１０】
　たとえば、ゲート開閉情報２６が、
図３のゲート開度Ｇ１であれば、ゲートの開速度は決まっているので、ワークＷがゲート位置に到達するまでの時間（Ｐ１からＰ２への搬送時間）と、その時間でゲートがワークに接触しない位置Ｇ２まで開くか否かにより、ワークとゲートが接触するかどうかが判断される
　
この判断結果で、接触しない場合は（ステップ８）によりそのまま速度を継続する。接触すると判断された場合は、（ステップ５）で接触しない速度を算出し、変更した速度パターンＣを生成し（ステップ６）連続して搬送する。なお、速度パターンＢは、搬送時間を小さくするため、できるだけ高速にしているため、速度パターンＣは速度パターンＢより通常は減速される
　ワークが点Ｐ２を通過（ステップ７）した後は、ゲート２４はワークと接触しないよう十分に開いているので、（ステップ８）で速度パターンＢに戻して搬送終点点Ｐ３で停止させる。」
　
　エ．「【００１２】
　ワークＷをプロセスチャンバ２３から搬出する時は、搬出速度と点Ｐ３から点Ｐ２までの距離によってワークＷを点Ｐ２まで搬出する時間と、ゲートがワークと接触しない開度Ｇ２まで閉まる時間を演算し、この２つの時間によって、搬出開始とゲートの閉動作の開始との時間を算出する。
　点Ｐ３と点Ｐ２の距離が小さく、搬出時間がゲートの閉動作時間より長いときは、搬出を開始して前記２つの時間の時間差に応じたタイミングでゲートの閉動作を行わせ、
搬出時間がゲートの閉動作時間より小さいときは、先にゲートを動作させ、時間差で搬出を開始する。これにより搬出開始からゲートが完全に閉まるまでの時間を短縮できる
　なお、点Ｐ３と点Ｐ２の距離が十分に大きければ、点Ｐ３とＰ２の間にＰ１に相当する点を設け、速度パターンを変えるようにすることができる。」
　
　・上記引用例２に記載の「ワーク搬送システムの制御方法」は、上記「ア．」の【請求項１】、「イ．」の記載事項によれば、それぞれゲートをそなえた複数のチャンバと、前記チャンバ相互間にワークを搬入および搬出させる搬送ロボットをそなえたワーク搬送システムにおいて、チャンバのゲートが開閉動作中であっても、ワークをゲートに接触しない程度に近接してゲート位置を通過させることにより、高スループット化を実現させるようにしたワーク搬送システムの制御方法に関するものである。
　・具体的には、上記「ア．」の【請求項２】、「ウ．」の記載事項によれば、チャンバへのワークの搬入時には、搬入されるワークをチャンバのゲートに接触しないように停止させることができる距離にある第１の点と、ワーク先端が前記ゲートに機械的に干渉する直前の第２の点を設定し、第１の点において、搬送ロボットの速度パターンＢにより第２の点に到達する時間と、ゲートがワークと接触しない開度になる時間とを演算し、２つの時間を比較することによって、ワークとゲートが接触するかどうかを判断し、接触しないと判断した場合には、そのままの速度を継続し、接触すると判断した場合には、接触しなくなるような減速した速度を算出し、第２の点までその算出した速度パターンＣに変更してワークを搬送するように制御するものである。
　・また、上記「ア．」の【請求項３】、「エ．」の記載事項によれば、チャンバからのワークの搬出時には、ワーク後端がゲートに機械的に干渉しない位置である第２の点を設定し、ワークが第２の点に搬出される時間と、ゲートがワークと接触しない開度に閉じる時間とを演算して、２つの時間を比較し、搬出時間がゲートの閉動作時間より小さいときは、先にゲートを動作させ、時間差で搬出を開始するように制御するものである。
　
　したがって、上記記載事項及び図面を総合勘案すると、引用例２には、次の技術事項が記載されている。
「それぞれゲートをそなえた複数のチャンバと、前記チャンバ相互間にワークを搬入および搬出させる搬送ロボットをそなえたワーク搬送システムにおいて、チャンバのゲートが開閉動作中であっても、ワークをゲートに接触しない程度に近接してゲート位置を通過させることにより、高スループット化を実現させるようにしたワーク搬送システムの制御方法であって、
　チャンバへのワークの搬入時には、搬入されるワークをチャンバのゲートに接触しないように停止させることができる距離にある第１の点と、ワーク先端が前記ゲートに機械的に干渉する直前の第２の点を設定し、第１の点において、搬送ロボットの速度パターンＢにより第２の点に到達する時間と、ゲートがワークと接触しない開度になる時間とを演算して２つの時間を比較することによって、ワークとゲートが接触するかどうかを判断し、接触しないと判断した場合には、そのままの速度を継続し、接触すると判断した場合には、接触しなくなるような減速した速度を算出し、第２の点までその算出した速度パターンＣに変更してワークを搬送するように制御し、
　チャンバからのワークの搬出時には、ワーク後端がゲートに機械的に干渉しない位置である第２の点を設定し、ワークが第２の点に搬出される時間と、ゲートがワークと接触しない開度に閉じる時間とを演算して、２つの時間を比較し、搬出時間がゲートの閉動作時間より小さいときは、先にゲートを動作させ、時間差で搬出を開始するように制御すること。」
　
（３）引用例３
　同じく原査定の拒絶の理由に引用された特開２００５−１３８０１０号公報（以下、「引用例３」という。）には、「常圧プラズマ処理装置」について、図面とともに以下の各記載がある（なお、下線は当審で付与した。）。
　ア．「【００２２】
　次に、搬送ライン前段のプラズマ処理装置２について説明する。
　図２に示すように、
プラズマ処理装置２は、ハウジング２０
を備えている
　ハウジング２０は、搬送ラインに沿う前後細長状をなしている。ハウジング２０の後端部は、前記浸漬洗浄装置３のハウジング３０の前端部と一体に連なっている。ハウジング２０の内部に、コンベア１の前半部が収容されている。
　　　　　　　　　　・・・・・（中　略）・・・・・
【００２４】
　
ハウジング２０の前端の壁２１と、隔壁２２，２３と、ハウジング２０の後端の壁（浸漬洗浄ハウジング３０との隔壁）２４には、それぞれ基材９０のための搬入出口２１ａ，２２ａ，２３ａ，２４ａが形成されている。各搬入出口２１ａ，２２ａ，２３ａ，２４ａには、それを開閉するシャッター（扉）４１，４２，４３，４４が設けられている。これらシャッター４１，４２，４３，４４は、通常、閉じられている。そして、基材９０を出し入れするときのみ、開くようになっている
各搬入出口２１ａ，２２ａ，２３ａ，２４ａの近傍には、そこに基材９０が位置しているか否かを感知する基材感知センサがそれぞれ設けられている。各基材感知センサの感知信号は、装置Ｍ全体の動作を統括するコントローラ（制御手段）１００に入力される。コントローラ１００は、この入力信号に基づいてシャッター４１〜４４の開閉制御を行なう
　
　上記記載事項及び図面を総合勘案すると、引用例３には、次の技術事項が記載されている。
「プラズマ処理装置のハウジングに形成された基材のための各搬入出口には、基材を出し入れするときのみ開くシャッターが設けられるとともに、各搬入出口の近傍には、そこに基材が位置しているか否かを感知する基材感知センサがそれぞれ設けられ、コントローラ（制御手段）が、各基材感知センサの感知信号に基づいて各シャッターの開閉制御を行うこと。」
　
（４）引用例４
　同じく原査定の拒絶の理由に引用された特開２００４−１８９２２号公報（以下、「引用例４」という。）には、「基板処理装置」について、図面とともに以下の各記載がある（なお、下線は当審で付与した。）。
　ア．「【請求項８】　
請求項７記載の基板処理装置であって、
前記
制御手段は、前記第１の処理容器内が前記第１の圧力から前記第２の圧力となった時点で前記第１の処理容器と前記搬送室との間のゲートバルブを開き、基板交換作業が終了した時点で該ゲートバルブを閉じる
　
　イ．「【００３７】
真空ポンプ８の回転数が最大回転数の３．２×１０５ｒｐｍに達すると、
第１の処理容器４内の圧力は１０−４Ｐａに到達し（ステップＳ３）、搬送室６内の圧力に等しくなる。この時点でゲートバルブ７Ｄを開き（ステップＳ４）、第１の処理容器４に搬送室６の基板搬送機構６ａのアームが進入できる
【００３８】
ゲートバルブ７Ｄが開いたら、第１の処理容器４内の処理が終了した基板を搬基板搬送機構６ａにより保持して搬出し
次に処理を行う基板の搬入作業入が終了したら（ステップＳ５）、ゲートバルブ７Ｄを閉じる
　
　ウ．「【００４５】
なお、真空ポンプ８の回転数制御部９を含む
基板処理装置全体の動作は、制御部１０（制御手段）により制御される。したがって、基板搬送機構６ａの制御、各ゲートバルブ７Ａ〜７Ｅの開閉動作、第１の処理容器への原料ガス及びパージガスの供給用バルブの開閉動作も、制御部１０により行われる。これらの制御は、例えば処理容器の圧力や基板搬送機構の動作を検出するセンサからの信号に基づいて行われてもよく
　
　上記記載事項及び図面を総合勘案すると、引用例４には、次の技術事項が記載されている。
「基板処理装置において、基板搬送機構の制御、各ゲートバルブの開閉動作、第１の処理容器への原料ガスなどの供給用バルブの開閉動作等、基板処理装置全体の動作を制御する制御部を有し、これらの制御は、例えば処理容器の圧力や基板搬送機構の動作を検出するセンサからの信号に基づいて行われてもよく、
　前記制御部は、各ゲートバルブの開閉動作について、第１の処理容器内が第１の圧力から搬送室内の圧力に等しい第２の圧力となった時点で前記第１の処理容器と前記搬送室との間のゲートバルブを開き、基板交換作業が終了した時点で当該ゲートバルブを閉じるように制御すること。」
　
２．対比
　そこで、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）と引用発明とを対比すると、
（１）引用発明における「第１のチャンバ」、「第２のチャンバ」、「仕切弁」は、それぞれ本願発明における「第１チャンバ」、「第２チャンバ」、「ゲートバルブ」に相当し、
　引用発明における「第１のチャンバと、前記第１のチャンバと仕切弁を介して連通する第２のチャンバであって、当該第２のチャンバ内の目標位置で基板にプロセスを実行するように構成され、目標位置で基板を支持するリフトメカニズムを含む第２のチャンバと」によれば、
　本願発明と引用発明とは、「ゲートバルブを介して互いに連結された第１チャンバおよび第２チャンバと」を備える点で一致する。
　
（２）引用発明における「シャトル経路」、「基板搬送シャトル」、「駆動メカニズム」は、それぞれ本願発明における「搬送路」、「キャリア」、「搬送機構」に相当し、
　引用発明における「基板を保持し、前記第１のチャンバと前記第２のチャンバ間のシャトル経路に沿って可動し、前記第２のチャンバ内の目標位置にあるとき、前記基板搬送シャトルとリフトメカニズム間で基板が交換されるように構成および配設された基板搬送シャトルであって、その下側には歯形ラックを有し、前記第１および第２のチャンバの周囲に沿って配置された複数のガイドローラにより支持された基板搬送シャトルと、前記第１および第２のチャンバ間に設けられ、モータとピニオンギヤを有し、当該ピニオンギヤを前記基板搬送シャトルの前記歯形ラックに機械的に結合して当該基板搬送シャトルを移動させる駆動メカニズムと」、「前記基板搬送シャトルによって基板を前記第２のチャンバに搬送する際には前記仕切弁を開き・・」によれば、
　本願発明と引用発明とは、「前記ゲートバルブが開かれた状態で前記第１チャンバから前記第２チャンバに搬送路に沿ってキャリアを搬送する搬送機構と」を備える点で一致することは明らかである。
　
（３）引用発明における「目標位置」、「センサ」、「制御システム」は、それぞれ本願発明における「停止位置」、「センサ」、「制御部」に相当し、
　引用発明における「シャトル経路に沿った前記第２のチャンバの中央位置に配置され、前記基板搬送シャトルの前方縁が所定距離だけ目標位置から離れた中間位置に達する時を検出するように構成されたセンサと、シャトル経路に沿って前記基板搬送シャトルの動きを制御し、当該基板搬送シャトルの前方縁が前記中間位置に達したことを示す前記センサからの入力を受信するように構成され、前記基板搬送シャトルが前記中間位置を超えて前記所定距離だけ移動して目標位置に到達すると、前記基板搬送シャトルの動きを終了させる制御システムと」によれば、
　センサは、目標位置に到達する前の中間位置にて基板搬送シャトルを検出しており、制御システムは、センサからの検出信号である入力に基づいて所定の制御を行っている（具体的には、基板搬送シャトルが中間位置を超えて所定距離だけ移動して目標位置に到達するように、当該基板搬送シャトルの動きを制御している）ことから、
　本願発明と引用発明とは、後述の相違点を除いて「前記キャリアが前記停止位置に到達する前に前記キャリアを検知するセンサと、前記センサからの検知信号に基づいて、所定の制御を行う制御部と」を備える点で共通するということができる。
　　
（４）そして、引用発明における「基板搬送・処理装置」は、本願発明における「基板搬送装置」に相当する。
　
　よって、本願発明と引用発明とは、
「ゲートバルブを介して互いに連結された第１チャンバおよび第２チャンバと、
　前記ゲートバルブが開かれた状態で前記第１チャンバから前記第２チャンバに搬送路に沿ってキャリアを搬送する搬送機構と、
　前記キャリアが前記停止位置に到達する前に前記キャリアを検知するセンサと、
　前記センサからの検知信号に基づいて、所定の制御を行う制御部と、
　を備えることを特徴とする基板搬送装置。」
である点で一致し、以下の点で相違する。
　
［相違点１］
　本願発明では、「前記第２チャンバの中の停止位置に前記キャリアが停止したときに前記キャリアの先端を検知するための第１停止位置センサと、前記停止位置に前記キャリアが停止したときに前記キャリアの後端を検知するための第２停止位置センサと」を備え、制御部が「前記第１停止位置センサおよび前記第２停止位置センサの検知信号に基づいて、前記第２チャンバの中で所定の処理が行われる」ように制御する旨特定するのに対し、引用発明では、そのような特定がない点。
　
［相違点２］
　本願発明では、キャリアが停止位置に到達する前に当該キャリアを検知するセンサが、「前記第１停止位置センサと前記第２停止位置センサとの間に配置され」るものであり、そのセンサからの検知信号に基づいて制御部が、「前記キャリアが前記停止位置に到達する前に前記ゲートバルブに閉動作を開始させ」るように制御する旨特定するのに対し、引用発明では、そのような特定がない点。
　
３．判断
　まず、上記［相違点２］について検討する。
 (a)引用発明においても、キャリア（基板搬送シャトル）が停止位置に到達する前に当該キャリアを検知するセンサが設けられているものの、当該センサの検知信号に基づいて制御部（制御システム）は、キャリアがさらに所定距離だけ移動して停止位置に到達するように、当該キャリアの動きを制御するものであって（前記「２．（３）」を参照）、ゲートバブル（仕切弁）の閉動作を制御することについては、引用例１に記載も示唆もない。
　しかも、第２のチャンバ内で基板に対してプロセスを実行する際には当然、ゲートバブルを閉じるようになされるが、引用発明は、「前記
基板搬送シャトルの全長は前記第２のチャンバのよりも長い
　そしてさらに言えば、
 (b)引用例２では具体的には、チャンバへのワークの「搬入時」には、ワークとゲートが接触するかどうかを判断し、接触しないと判断した場合には、そのままの速度を継続し、接触すると判断した場合には、接触しなくなるような減速した速度を算出し、その算出した速度に変更してワークを搬送するように制御し、一方、チャンバからワークの「搬出時」には、搬出時間がゲートの閉動作時間より小さいときは、先にゲートを動作させ、時間差で搬出を開始するように制御することは記載されているが、本願発明のように、第２チャンバへのキャリアの「搬入時」において、「前記キャリアが前記停止位置に到達する前に前記ゲートバブルに閉動作を開始させ」るように制御を行うことの記載まではなく、キャリアが停止位置に到達する前に当該キャリアを検知するための「センサ」を有することの記載もない。
 (c)引用例３（前記「１．（３）」を参照）についても、搬入出口の近傍に、そこに基材が位置しているか否かを感知する基材感知センサを設け、コントローラが基材検知センサの感知信号に基づいてシャッターの開閉制御を行うと漠然とした記載がなされているのみであり、引用例４（前記「１．（４）」を参照）についても、基板搬送機構の制御、各ゲートバルブの開閉動作、第１の処理容器への原料ガスなどの供給用バルブの開閉動作等、基板処理装置全体の動作を制御する制御部を有し、これらの制御は、例えば処理容器の圧力や基板搬送機構の動作を検出するセンサからの信号に基づいて行われてもよいことが漠然として記載されているのみであって、本願発明のように、「前記キャリアが前記停止位置に到達する前に前記キャリアを検知するセンサ」を設け、「前記センサからの検知信号に基づいて、前記キャリアが前記停止位置に到達する前に前記ゲートバルブに閉動作を開始させ」る制御を行うことが記載あるいは示唆されているということはできない。
 (d)また、引用例１〜４のいずれにも、停止位置にキャリアが停止したときに、当該キャリアの先端を検知する「第１の停止位置センサ」、及び当該キャリアの後端を検知する「第２の停止位置センサ」とを設けることについて、記載も示唆なされていない。
　
　したがって以上のことから、少なくとも本願発明における、キャリアを検知するセンサを「前記第１停止位置センサと前記第２停止位置センサとの間に配置」し、当該センサからの検知信号に基づいて、制御部が「前記キャリアが前記停止位置に到達する前に前記ゲートバルブに閉動作を開始させ」るように制御を行うという発明特定事項については、引用発明及び引用例２〜４に記載の技術事項に基づいて当業者であれば容易に想到し得たものとすることはできない。
　そして、本願発明は、上記発明特定事項を有することにより、「処理チャンバでの処理時間を短縮でき、スループット及び生産性を向上させることができる」という効果を奏するものである（特に、本願明細書の段落【０００９】、【００５０】を参照）。
　
　よって、他の相違点（相違点１）について検討するまでもなく、本願発明は、引用発明及び引用例２〜４に記載の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたとはいえない。
　
第４．むすび
　
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、引用発明及び引用例２〜４に記載の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることができないから、原査定の理由によっては、本願を拒絶することはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。