【事件の表示】
　特許第３３８３９４２号「ＷＤＭ光学フィルター用ガラス基板、ＷＤＭ光学フィルター、ＷＤＭ用光合分波器」の請求項１〜５、７〜９及び１１〜１７に係る発明の特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３３８３９４２号の請求項１、２、４〜６及び８〜１３に係る発明の特許を維持する。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本件特許第３３８３９４２号は、パリ条約による優先権主張（優先権主張番号：６０／１４６３５５、優先日：平成１１年８月２日、優先権主張国：米国）を伴って平成１２年７月３１日に特許出願され、平成１４年１２月２７日に特許の設定登録がなされたものであって、その請求項１〜５、７〜９及び１１〜１７に係る発明の特許につき、藤田希義及び山田隆生の二者より特許異議の申立がなされ、その特許異議申立の理由と証拠に基づき、平成１６年４月１９日付けで取消理由を通知したところ、権利者より平成１６年７月２７日付けで訂正請求がなされたが、再度、平成１７年５月２０日付けで取消理由を通知したところ、先の訂正請求が取り下げられ、新たに、平成１７年５月２５日付けで訂正請求がなされたものである。
　
II．訂正の適否
II−１．訂正事項
　平成１７年５月２５日付け訂正請求は、本件明細書につき、訂正請求書に添付された訂正明細書に記載されるとおりの、次の〈イ〉〜〈マ〉の訂正を求めるものである。
　以下、訂正前の明細書を「特許明細書」といい、訂正請求書に添付された訂正明細書を「訂正明細書」という。
〈イ〉特許明細書の請求項４の記載を、
「表面に密着固定するように光学多層膜を形成し、光の波長分割多重化のための光学フィルターとするためのガラス基板であって、
ＳｉＯ２　　　３８〜５８モル％
ＴｉＯ２　　　　７〜３０モル％
Ｒ２Ｏ　　　　１５〜４０モル％（但し、Ｒはアルカリ金属元素を示す）
Ａｌ２Ｏ３　　　０〜１２モル％
を含み、且つ、
温度範囲−３０℃から＋７０℃における平均線熱膨張係数が１００×１０−７〜１３０×１０−７／Ｋであるガラスからなることを特徴とするＷＤＭ光学フィルター用ガラス基板。」に訂正する。
〈ロ〉特許明細書の請求項１〜３及び１４を削除する。
〈ハ〉特許明細書の請求項４〜１７における請求項番号を、それぞれ、１〜１３に訂正する。
〈ニ〉特許明細書の請求項５における、
「・・・特徴とする請求項４に記載の・・・」を、
「・・・特徴とする請求項１に記載の・・・」に訂正する。
〈ホ〉特許明細書の請求項６における、
「・・・特徴とする請求項２又は３に記載の・・・」を、
「・・・特徴とする請求項１に記載の・・・」に訂正する。
〈ヘ〉特許明細書の請求項７における、
「・・・特徴とする請求項２〜６の何れか一項に記載の・・・」を、
「・・・特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の・・・」に訂正する。
〈ト〉特許明細書の請求項８における、
「・・・特徴とする請求項７に記載の・・・」を、
「・・・特徴とする請求項４に記載の・・・」に訂正する。
〈チ〉特許明細書の請求項９における、
「・・・特徴とする請求項７又は８に記載の・・・」を、
「・・・特徴とする請求項４又は５に記載の・・・」に訂正する。
〈リ〉特許明細書の請求項１０における、
「・・・特徴とする請求項７〜９の何れか一項に記載の・・・」を、
「・・・特徴とする請求項４〜６の何れか一項に記載の・・・」に訂正する。
〈ヌ〉特許明細書の請求項１１における、
「・・・特徴とする請求項２〜１０の何れか一項に記載の・・・」を、
「・・・特徴とする請求項１〜７の何れか一項に記載の・・・」に訂正する。
〈ル〉特許明細書の請求項１２における、
「・・・特徴とする請求項２〜１１の何れか一項に記載の・・・」を、
「・・・特徴とする請求項１〜８の何れか一項に記載の・・・」に訂正する。
〈ヲ〉特許明細書の請求項１３における、
「・・・特徴とする請求項１２に記載の・・・」を、
「・・・特徴とする請求項９に記載の・・・」に訂正する。
〈ワ〉特許明細書の請求項１５における、
「請求項１〜１４の何れか一項に記載の・・・」を、
「請求項１〜１０の何れか一項に記載の・・・」に訂正する。
〈カ〉特許明細書の請求項１６における、
「・・・特徴とする請求項１５に記載の・・・」を、
「・・・特徴とする請求項１１に記載の・・・」に訂正する。
〈ヨ〉特許明細書の請求項１７における、
「請求項１５又は１６に記載の・・・」を、
「請求項１１又は１２に記載の・・・」に訂正する。
〈タ〉特許明細書の段落００１３〜００１５、００２６、００３０及び００３１の記載を削除する。
〈レ〉特許明細書の段落００１６の記載を、
「第１の発明は、表面に密着固定するように光学多層膜を形成し、光の波長分割多重化のための光学フィルターとするためのガラス基板であって、
ＳｉＯ２　　　３８〜５８モル％
ＴｉＯ２　　　　７〜３０モル％
Ｒ２Ｏ　　　　１５〜４０モル％（但し、Ｒはアルカリ金属元素を示す）
Ａｌ２Ｏ３　　　０〜１２モル％
を含み、且つ、
温度範囲−３０℃から＋７０℃における平均線熱膨張係数が１００×１０−７〜１３０×１０−７／Ｋであるガラスからなることを特徴とするものである。」に訂正する。
〈ソ〉特許明細書の段落００１７における、「第５の発明は、第４の発明において、」を、「第２の発明は、第１の発明において、」に訂正する。
〈ツ〉特許明細書の段落００１８における、「第６の発明は、第２の発明、第３の発明において、」を、「第３の発明は、第１の発明において、」に訂正する。
〈ネ〉特許明細書の段落００１９における、「第７の発明は、第２〜６の発明において、」を、「第４の発明は、第１〜３の発明において、」に訂正する。
〈ナ〉特許明細書の段落００２０における、「第８の発明は、第７の発明において、」を、「第５の発明は、第４の発明において、」に訂正する。
〈ラ〉特許明細書の段落００２１における、「第９の発明は、第７の発明、第８の発明において、」を、「第６の発明は、第４の発明、第５の発明において、」に訂正する。
〈ム〉特許明細書の段落００２２における、「第１０の発明は、第７〜９の発明において、」を、「第７の発明は、第４〜６の発明において、」に訂正する。
〈ウ〉特許明細書の段落００２３における、「第１１の発明は、第２〜１０の発明において、」を、「第８の発明は、第１〜７の発明において、」に訂正する。
〈ノ〉特許明細書の段落００２４における、「第１２の発明は、第２〜１１の発明において、」を、「第９の発明は、第１〜８の発明において、」に訂正する。
〈オ〉特許明細書の段落００２５における、「第１３の発明は、第１２の発明において、」を、「第１０の発明は、第９の発明において、」に訂正する。
〈ク〉特許明細書の段落００２７における、「第１５の発明は、第１〜１４の発明の」を、「第１１の発明は、第１〜１０の発明の」に訂正する。
〈ヤ〉特許明細書の段落００２８における、「第１６の発明は、第１５の発明において、」を、「第１２の発明は、第１１の発明において、」に訂正する。
〈マ〉特許明細書の段落００２９における、「第１７の発明は、第１５の発明、第１６の発明の」を、「第１３の発明は、第１１の発明、第１２の発明の」に訂正する。
　
II−２．訂正の適否の判断
II−２−１．訂正の目的の適否
　上記〈イ〉の訂正は、具体的には、特許明細書の請求項４において、その記載方法を引用形式から独立形式に改め、また、ガラスにつき「温度範囲−３０℃から＋７０℃における平均線熱膨張係数が１００×１０−７〜１３０×１０−７／Ｋである」との事項を付加し、そのガラスの物性を限定するものであるから、これらの訂正は、明りょうでない記載の釈明又は特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　上記〈ロ〉の訂正は、請求項を削除するだけのものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　上記〈ハ〉、〈ニ〉及び〈ヘ〉〜〈ヨ〉の訂正は、上記〈ロ〉の訂正により請求項が削除され、不連続又は不明瞭となった後続の請求項番号ないしは引用する請求項の番号を揃え又は明瞭化するものであり、これらの訂正は、特許請求の範囲の項の明りょうでない記載の釈明を目的とするものに該当する。
　上記〈ホ〉の訂正は、上記〈ロ〉の訂正により引用していた請求項が削除され、引用する請求項が存在しなくなったところ、先に引用していた請求項に替えて更に限定された訂正後の請求項１を引用することとしたものであるので、この訂正は、明りょうでない記載の釈明及び特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　上記〈タ〉〜〈マ〉の訂正は、上記請求項の訂正に伴って、発明の詳細な説明の項の記載をこれに整合させるものであり、これらの訂正は、明りょうでない記載の釈明を目的とするものに該当する。
　したがって、上記〈イ〉〜〈マ〉の訂正の目的は、特許法第１２０の４第２項ただし書きの規定に適合する。
II−２−２．新規事項の有無
　上記〈イ〉の訂正における、ガラスが「温度範囲−３０℃から＋７０℃における平均線熱膨張係数が１００×１０−７〜１３０×１０−７／Ｋである」との事項は、特許明細書の段落００１３、００４５、００４６、００５０及び００５１の記載、等から自明なこととして導き出されるものであり、そして、上記〈イ〉の訂正における、ガラスが「ＳｉＯ２３８〜５８モル％　ＴｉＯ２７〜３０モル％　Ｒ２Ｏ１５〜４０モル％（但し、Ｒはアルカリ金属元素を示す）　Ａｌ２Ｏ３０〜１２モル％を含み」との事項は、特許明細書の請求項２及び４の記載、又は、段落００１４及び００１６の記載、等から自明なこととして導き出されるものである。
　上記〈ロ〉の訂正は、単に、請求項を削除するだけのものであって、特許明細書の記載に基づかないということはできない。
　上記〈ハ〉、〈ニ〉及び〈ヘ〉〜〈ヨ〉の訂正は、請求項の訂正に伴って不明瞭となった請求項の記載を明瞭にするだけのものであるから、特許明細書の記載に基づいてなされたものであることは明らかである。
　上記〈ホ〉の訂正における新たな請求項１を引用する事項は、特許明細書の段落００１３〜００１８及び００７５の記載、等、から自明なこととして導き出されるものである。
　上記〈タ〉〜〈マ〉の訂正は、上記請求項の訂正に伴って不明瞭となった発明の詳細な説明の項の記載を明瞭化させるものであるから、特許明細書の記載に基づいてなされたものであることは明らかである。
　したがって、上記〈イ〉〜〈マ〉の訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内でなされるものであり、新規事項の追加には当たらない。
　
II−２−３．拡張・変更の存否
　上記〈イ〉〜〈マ〉の訂正は、請求項に記載される発明を限定し、請求項を削除し、又は、明細書の記載を明瞭化するだけのものであり、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものには該当しない。
　
II−２−４．独立特許要件の有無
　特許明細書の請求項６は、特許異議の申立てがなされていない請求項であり、かつ、同請求項では、上記II−２−１．で説示したとおり、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正が請求されるものである。この場合、特許明細書の請求項６は、訂正後には請求項３となることは前記したとおりである。
　そこで、訂正後の請求項３により特定される発明について、規定により、独立特許要件の有無を検討する。
　訂正後の請求項３に係る発明は、その請求項の記載からみて明らかなとおり、訂正後の請求項１に記載される特定事項を全て具備するものである。したがって、訂正後の請求項１に係る発明に関し後述するVI．で説示した理由と同じ理由により、訂正後の請求項３に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定又は同法第２９条の２の規定により特許を受けることができないとはいえない。
　したがって、訂正後の請求項３に係る発明は、特許出願の際独立して特許を受けることができるものである。
　
II−２−５．訂正の適否の結論
　よって、上記訂正請求は、特許法第１２０条の４第２項、及び、同条第３項において準用する特許法第１２６条第２項〜４項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
III．本件発明
　本件明細書は、前記のとおり、平成１７年５月２５日付けで訂正請求がなされ、その請求どおり訂正されたものであって、訂正後の本件特許第３３８３９４２号の請求項１、２、４〜６及び８〜１３に係る発明（以下、それぞれ、必要に応じて、「本件発明１」〜「本件発明１３」という）は、訂正明細書の特許請求の範囲に記載されるとおりのものであり、その請求項１には次のことが記載されている。
【請求項１】表面に密着固定するように光学多層膜を形成し、光の波長分割多重化のための光学フィルターとするためのガラス基板であって、
ＳｉＯ２　　　３８〜５８モル％、
ＴｉＯ２　　　　７〜３０モル％、
Ｒ２Ｏ　　　　１５〜４０モル％（但し、Ｒはアルカリ金属元素を示す）
Ａｌ２Ｏ３　　　０〜１２モル％
を含み、且つ、
温度範囲−３０℃から＋７０℃における平均線熱膨張係数が１００×１０−７〜１３０×１０−７／Ｋであるガラスからなることを特徴とするＷＤＭ光学フィルター用ガラス基板。
　
IV．特許異議申立及び取消理由通知の概要
IV−１．特許異議申立の概要
IV−１−１．特許異議申立人：藤田希義（以下、「申立人Ａ」という」の主張
　申立人Ａは、以下の証拠を提示し、次のように主張する。
【理由−１】特許明細書の請求項１〜５、７〜９及び１１〜１７に係る発明（訂正後の本件発明１、２、４〜６及び８〜１３）は、甲第１〜３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、特許明細書の請求項１〜５、７〜９及び１１〜１７に係る発明の特許は取り消されるべきものである。
甲第１号証：特開平７−１９８９３５号公報（以下、「引用例１」という）
甲第２号証：特開昭６２−８７４３２号公報（以下、「引用例２」という）
甲第３号証：笠原一郎著、「光通信用フィルタ」、OPTRONICS（１９９８）、No．７、第１７２〜１７７頁（以下、「引用例３」という）
参考資料１：株式会社オハラのカタログ「ＢＡＬ２，５７１５０８」及び「ＢＳＬ７，５１６６４２」、１９９０年２月及び１９９０年１月（以下、「参考文献１」という）
参考資料２：「ガラス組成データブック１９９１」、社団法人日本硝子製品工業会、１９９１年３月２５日、第８３〜８６、８９、９５、及び９７頁（以下、「参考文献２」という）
参考資料３：「ガラス工学ハンドブック」、株式会社朝倉書店、１９９９年７月５日、第２９１頁（以下、「参考文献３」という）
参考資料４：特開平６−１０７４２５号公報（以下、「参考文献４」という）
参考資料５：特開平８−１７５８４１号公報（以下、「参考文献５」という）
IV−１−２．特許異議申立人：山田隆生（以下、「申立人Ｂ」という」の主張
　申立人Ｂは、以下の証拠を提示し、次のように主張する。
【理由−２】特許明細書の請求項１〜３、１２、１３及び１５〜１７に係る発明（訂正後の本件発明９〜１３）は、甲第１及び２号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
【理由−３】特許明細書の請求項２〜５、７〜９及び１１〜１５に係る発明（訂正後の本件発明１、２、４〜６、及び、８〜１１）は、甲第３号証に記載された発明と同一であり、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができない。
　したがって、特許明細書の請求項１〜５、７〜９及び１１〜１７に係る発明の特許は取り消されるべきものである。
甲第１号証：特開平７−１９８９３５号公報（前記したとおり、「引用例１」という） 
甲第２号証：特開平１０−１０１３６２号公報（以下、「引用例４」という）
甲第３号証：特願平１１−２４２９７３号の願書に最初に添付した明細書に替わる、特開２００１−６６４２５号公報（以下、「先願明細書」という）
参考資料１：「ガラス工学ハンドブック」、株式会社朝倉書店、１９９９年７月５日、第１１２、１１３、２９１、５３１頁（以下、「参考文献６」という）
参考資料２：株式会社住田光学ガラスのカタログ「５８７５９６　ＣＳＫ１２」（以下、「参考文献７」という）
参考資料３：Haruo　Takashashi「Temperature　stability　of　thin−film　narrow−bandpass　filters　produced　by　ion−assisted　deposition」、APPLIED　OPTICS、1February1995、Vol.34,No.4、ｐ６６７−６７５（以下、「参考文献８」という）
参考資料４：笠原一郎著、「光通信用フィルタ」、OPTRONICS（１９９８）、No．７、第１７２〜１７７頁（前記したとおり、「引用例３」という）
IV−２．取消理由通知の理由
IV−２−１．平成１６年４月１９日付け取消理由通知
　特許異議の申立と同じ理由及び証拠により、特許明細書の請求項１〜５、７〜９及び１１〜１７に係る発明の特許は取り消されるべきものであるというものである。
IV−２−２．平成１７年５月２０日付け取消理由通知
　特許明細書の請求項１〜３の記載が不明瞭であり、この点で、本件出願は、特許法第３６条第６甲第２号に規定する要件を満たしておらず、特許明細書の請求項１〜３に係る発明の特許は取り消されるべきものであるというものである。
　
Ｖ．証拠の記載内容
Ｖ−Ａ．引用例１（特開平７−１９８９３５号公報）には、以下のことが記載される。
（Ａ−１）「【請求項３】線膨張係数値が７５乃至１５０(／１０７) の範囲内にある基板上に，ＴｉＯ２とＳｉＯ２皮膜を交互に繰り返し積層してなる，波長シフト温度係数が略ゼロの多層膜フィルタ。」（特許請求の範囲第３項）
（Ａ−２）「本発明は光通信等に使用される多層膜フィルタの波長シフト温度係数選定方法に関する。」（第２欄第８〜９行）
（Ａ−３）「今日では稠密波長多重通信やコヒーレント光通信が採用される。イオン−プラズマプロセス法による狭帯域多層膜フィルタは，周囲温度の変動に応じて透過ピーク波長がシフトするため，波長シフト温度係数が略ゼロの多層膜フィルタへの要望が極めて強い。・・・。本発明者は基板の線膨張係数に着目し，基板から多層膜への体積歪みを考慮した波長シフト温度係数選定理論を確立することで，波長シフト温度係数が略ゼロの多層膜フィルタの提供を図る。」（第２欄第３１〜４１行）
（Ａ−４）「第１図は基板線膨張係数−波長シフト温度係数座標であり，各多層膜毎の温度係数シフト直線ａ〜ｄが描かれている。例えば, 直線ａの多層膜を波長シフト温度係数が略０の多層膜フィルタにするには，線膨張係数が１１０／１０７近傍をとる基板を採用すれば良い。」（第３欄第４〜８行）
（Ａ−５）「この多層膜は表１に記載された各基板にそれぞれ蒸着されて各多層膜フィルタが作製される。各多層膜フィルタを２０℃と６０℃の2 点で透過ピーク波長を測定し, その結果の波長シフト温度係数を同図にプロット( 〇印) する。」（第４欄第２２〜２６行）
（Ａ−６）「　表１
　硝子名　　　　　線膨張係数　　　　屈折率（ｎ）　　　メーカー
　　　　　　　　（１０−７／℃）   ５８７．５６ｎｍ
　クリストロン　　　〜０　　　　　　１，５４５９　　　ＨＯＹＡ
　石　英　　　　　　　４　　　　　　１，４５８５
　ＥＬ３０　　　　　３４　　　　　　１，５３２５　　　ＨＯＹＡ
　ＬＡＭ６０　　　　５４　　　　　　１，７４３３　　　ＯＨＡＲＡ
　ＢＫ７　　　　　　７４　　　　　　１，５１６８
　ＢＡＬ２　　　　１００　　　　　　１，５７１８　　　ＯＨＡＲＡ
　ＦＰＬ５１　　　１２７　　　　　　１，４９７８　　　ＯＨＡＲＡ
　ＦＰＬ５３　　　１４２　　　　　　１，４３９　　　　ＯＨＡＲＡ」
（第３及び４欄の中段）
　
Ｖ−Ｂ．引用例２（特開昭６２−８７４３２号公報）には、第２表が掲載され、以下のことが記載される。
（Ｂ−１）「ＳｉＯ２２３〜３４重量％　Ｂ２Ｏ３５〜１１重量％　ＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＰｂＯの二種以上２５〜５０重量％
　ただし　ＴｉＯ２０〜２０重量％　・・・　Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏの二種以上９〜１８％　・・・比較的低温（６２０℃以下）にて精密プレスすることを目的とした光学ガラス」（特許請求の範囲）
（Ｂ−２）「本発明は屈伏温度（Ａｔ）が５７０℃以下、屈折率（ｎｄ）が１．６９０〜１．７２５、比重が４．０以下の物理的性能を持ち、比較的低温（６２０℃以下）での精密プレスをし、球面及び非球面を持ち研磨工程を必要としない光学素子を作成することを目的とした光学ガラスに関するものである。」（第１頁右下欄第１０〜１６行）
（Ｂ−３）「本発明に関するＳｉＯ２はガラスの網目を構成する主成分であるが、２３重量％より少ないと失透傾向が大きくなり、３４重量％より多くなると、溶融時の粘性が大きくなるばかりでなく、屈伏温度（Ａｔ）の上昇をまねく。」（第２頁右下欄第１２〜１６行）
（Ｂ−４）「本発明による実施例を後記の第２表に示す。・・・。このように本発明の、ガラスは・・・工業的規模において良好に製造できるものである。」（第３頁左下欄第１０〜末行）
　
Ｖ−Ｃ．引用例３（「光通信用フィルタ」）には、以下のことが記載される。
（Ｃ−１）「通信需要の急激な増加に対処するために，光ファイバ通信システムでは波長分割多重（ＷＤＭ：Wavelength　Division　Multiplexing）方式による通信容量拡大が世界の大勢となっている。・・・。本稿ではシステム側から要求されているフィルタの仕様とそれを実現するための成膜方法について述べる。」（第１７２頁左欄第２〜１０行）
（Ｃ−２）「ＩＡＤ法で半値幅１ｎｍのＢＰＦを成膜し，このフィルターを−２０〜＋８０℃に変化させたときの中心波長を実時間で記録した。・・・。結果を図７に示す。この結果はＢＰＦ膜と基板材質の線膨張係数の差によって中心波長の温度依存性が生ずるという高橋の報告とよく一致する。システム側からの要求である温度安定度を０．００１ｎｍ／℃以下にするためには，基板材料の線膨張係数は１０〜１２×１０−６／℃でなければならない。もちいろん基板の研磨加工工程でヤケやキズが入りにくい硝材という条件も考慮しなければならない。」（第１７５頁右欄下から第２行〜第１７６頁左欄第１４行）
（Ｃ−３）「ＷＤＭシステムに使用する波長選択用フィルタは，できるだけ透過帯域が平坦でかつ隣接チャンネルとのクロストークが小さいことが要求される。・・・。このフィルタに対する光学的要求仕様は，・・・である。また耐環境特性として，中心波長の温度特性＜０．００１ｎｍ／℃，８５％ＲＨ８５℃５，０００時間のdump　heat試験後の中心波長変動＜０．０２ｎｍが要求されている。」（第１７６頁右欄下から第１６行〜下から第４行）
　
Ｖ−Ｄ．引用例４（特開平１０−１０１３６２号公報）には、表１が掲載され、以下のことが記載される。
（Ｄ−１）「【請求項１】珪酸、硼酸及びアルカリ金属酸化物を必須成分として、これら珪酸、硼酸及びアルカリ金属酸化物の合計含有量（ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３＋アルカリ金属酸化物）が３５〜６５重量％で、珪酸と硼酸との合計含有量に対するアルカリ金属酸化物の含有量の重量比率（アルカリ金属酸化物／ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３）が０．４〜０．７であり、１０４ｐｏｉｓｅの粘度になる温度が６３０℃以下である硼珪酸系ガラスをロッド状に形成してなるロッド状光学ガラス。」（特許請求の範囲第１項）
（Ｄ−２）「本発明の目的とするところは、硼珪酸系ガラスにおいて、射出用カートリッジを用いて射出成形を行うに当って、低い作業点温度を持ったロッド状光学ガラスを提供することにある。」（第４欄第１８〜２１行）
（Ｄ−３）「原料を、下記表１の実施例１に示した組成となるようにして・・・ロッド状ガラスを作成した。」（第５欄第３２行〜第６欄第６行）
（Ｄ−４）「次に、比較例として、ＣＳＫ１２（商品名：株式会社住田光学硝子製造所製造）及びＬａＦ８１（商品名：ホーヤ株式会社製造）の作業点温度を求めた。これらＣＳＫ１２及びＬａＦ８１の組成は表１の通りである。」（第６欄第２８〜３２行）
　
VI．当審の判断
VI−１．理由−１及び２について
VI−１−１．本件発明１
　引用例１には、その前記摘示（Ａ−１）によれば、「線膨張係数値が７５乃至１５０(／１０７) の範囲内にある基板上に、皮膜を積層してなる、多層膜フィルタ」に関する事項が記載されている。そして、当該多層膜フィルタは、前記摘示（Ａ−２）及び（Ａ−３）によれば、光通信に用いられるものであって、透過ピーク波長をシフトさせないものであるというのであるから、その多層膜フィルタは光学フィルタの用途に供されるものであり、かつ、その多層膜フィルタの多層膜は光学多層膜を形成しているということができるものである。また、当該多層フィルタの基板上の多層膜の皮膜は、前記摘示（Ａ−５）によれば、蒸着により基板に形成されるのであるから、基板の表面に密着固定するように形成されていえるといえるものであり、更に、当該多層フィルタの基板は、前記摘示（Ａ−６）によれば、品番ＢＡＬ２等からなるガラスからなるものである。
　以上の事項を、本件発明１の記載方法に従って整理すると、引用例１には、
「表面に密着固定するように光学多層膜を形成し、光フィルタとするための品番ＢＡＬ２等からなるガラス基板であって、線膨張係数値が７５乃至１５０(／１０７) である光学フィルター用ガラス基板」に関する発明（以下、必要に応じて、「引用例１の発明」という）が記載されているものである。
　そこで、本件発明１と引用例１の発明とを対比する。
　引用例１の発明の基板の膨張係数値は、７５乃至１５０(／１０７) は、７５〜１５０×１０−７と表すことができ、また、その単位は、前記摘示（Ａ−６）によれば／℃であることが明らかなものであるから、本件発明の熱膨張係数の数値である１００×１０−７〜１３０×１０−７／Ｋと重複・一致する。
　よって、両者は、
「表面に密着固定するように光学多層膜を形成し、光学フィルターとするためのガラス基板であって、線熱膨張係数が１００×１０−７〜１３０×１０−７／Ｋであるガラスからなる光学フィルター用ガラス基板」である点で一致し、次の点で相違する。
【相違点１】該光学フィルターが、本件発明１では、「光の波長分割多重化のための」ものであるとするのに対して、引用例１の発明ではそのことが明示されず、当該特定事項を具備しない点
【相違点２】該ガラス基板のガラスが、本件発明１では、「ＳｉＯ２３８〜５８モル％、ＴｉＯ２７〜３０モル％、Ｒ２Ｏ１５〜４０モル％（但し、Ｒはアルカリ金属元素を示す）　Ａｌ２Ｏ３０〜１２モル％を含み」とするのに対して、引用例１の発明ではそのことが示されず、当該特定事項を具備しない点
【相違点３】該熱膨張係数が、本件発明１では、「温度範囲−３０℃から＋７０℃における平均線熱膨張係数」であるとするのに対し、引用例１の発明ではそのことが示されず、当該特定事項を具備しない点
【相違点４】該光学フィルター用ガラス基板が、本件発明１では、「ＷＤＭ」用であるとするのに対して、引用例１の発明ではそのことが明示されず、当該特定事項を具備しない点
　以下、上記相違点のうち、相違点２にかかる構成が容易に想到できるか否かにつき検討する。
【相違点２について】
　本件明細書の記載（段落０００２〜００１１、００３６、００３８、００４５及び００８３等）によれば、ＷＤＭ光学フィルターにおいては、バンドパスの中心波長が温度変化によりドリフトし、所望のフィルター特性が得られず、また、ガラス基板は多層膜に比べ柔らかく、温度変化によりガラス基板上に形成された多層膜が剥離し、フィルターの高信頼性が得られ難いという問題があったところ、本件発明１においては、ＷＤＭ光学フィルター用ガラス基板において、そのガラス基板のガラスとして、「ＳｉＯ２３８〜５８モル％、ＴｉＯ２７〜３０モル％、Ｒ２Ｏ１５〜４０モル％（但し、Ｒはアルカリ金属元素を示す）　Ａｌ２Ｏ３０〜１２モル％を含み」という特定事項を採択することによって、その余の特定事項と相俟って、バンドパスの中心波長が温度変化によりドリフトすることを抑制することができただけでなく、ガラスの硬さを低下させないことからガラス基板上に形成された多層膜の剥離をも抑制することができたものであり、これにより、上記問題を解消することができたものである（更に、必要ならば、権利者の提出した平成１６年７月２７日付け特許異議意見書第１０頁第２〜１９行を参照）。
　このように、上記相違点２に関する特定事項を採択することにより、温度変化によるドリフトを抑制しただけでなく、ガラス基板上に形成された多層膜の剥離をも抑制することができたものである。
　これに対して、引用例１の発明では、前記摘示（Ａ−１）〜（Ａ−３）によれば上記温度変化のドリフトを抑制することを意図するものであるとしても、ガラス基板上に形成された多層膜の剥離を抑制することにつき配慮するものではなく、また、ガラス基板のガラスの組成を、「ＳｉＯ２３８〜５８モル％、ＴｉＯ２７〜３０モル％、Ｒ２Ｏ１５〜４０モル％、Ａｌ２Ｏ３０〜１２モル％」を含むものとすることにつき示唆するものは何もない。
　したがって、引用例１の発明において、上記相違点２に関する特定事項を採択することは当業者の容易に想到できるものではない。
　次に、当該相違点２にかかる特定事項につき、引用例２〜４及び参考文献１〜８の記載を順次みる。
　引用例２には、その前記摘示（Ｂ−１）によれば、「ＳｉＯ２２３〜３４重量％、Ｂ２Ｏ３５〜１１重量％、ＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＰｂＯの二種以上２５〜５０重量％、ただし　ＴｉＯ２０〜２０重量％、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏの二種以上９〜１８％」からなる光学ガラスが記載され、その具体例である表２のものでは、そのＮｏ．１、３及び４のものは、偶々、本件発明１のガラス組成の成分と配合割合（相違点２に関する特定事項）及び熱膨張係数の数値を満たすものである。しかし、引用例２に記載される発明は、前記摘示（Ｂ−２）によれば、研磨工程を必要としない精密プレスにより光学素子を製造することをその発明の目的とするものであって、ＷＤＭ光学フィルター用ガラス基板の製造を意図するものでないことはもとより、ＷＤＭ光学フィルターにおけるガラス基板上に形成された多層膜の剥離を抑制することにつき配慮するものではないものであり、したがって、引用例２に記載の発明で同一のガラス組成が示されているとしても、それを、引用例１の発明に適用するための動機付けがない。
　引用例３には、その前記摘示（Ｃ−１）〜（Ｃ−３）とその図７の記載からみると、そこでは、「表面に密着固定するように光学多層膜を形成し、光の波長分割多重化のための光学フィルターとするためのガラス基板であって、線熱膨張係数が１０〜１２×１０−６／℃であるガラスからなるＷＤＭ光学フィルター用ガラス基板」が記載されており、かつ、当該ガラス基板につき、前記摘示（Ｃ−２）によれば、「基板の研磨加工工程でヤケやキズが入りにくい硝材という条件も考慮しなければならない」とのことも教示されるものであるが、そこでは、ガラス基板上に形成された多層膜の剥離を抑制することについてまで配慮するものではなく、また、ガラス基板のガラスの組成を、「ＳｉＯ２３８〜５８モル％、ＴｉＯ２７〜３０モル％、Ｒ２Ｏ１５〜４０モル％、Ａｌ２Ｏ３０〜１２モル％」を含むものとすることにつき教示ないしは示唆するものは何もないものである。
〔なお、申立人Ａ及びＢは、引用例３の「基板の研磨加工工程でヤケやキズが入りにくい硝材という条件も考慮しなければならない」との記載を指摘するが、当業者といえども、そのヤケやキズから、当該多層膜の剥離の抑制を想定できるものではなく、また、仮に、その記載からＷＤＭ光学フィルター用ガラス基板からの多層膜の剥離を想定できたとしても、申立人Ａ及びＢの提出した証拠をみる限り、引用例１の発明に対して、その実現手段であるところの相違点２の特定事項を付加する動機付けがないものである。〕
　引用例４には、その前記摘示（Ｄ−１）によれば、珪酸、硼酸及びアルカリ金属酸化物を必須成分とするロッド状光学ガラスに関する発明が記載され、その具体例である表１のものでは硼珪酸系ガラスの組成が示されるが、そこでの発明は、前記摘示（Ｄ−２）によれば、射出用カートリッジを用いて射出成形を行うに当って、低い作業点温度を持ったロッド状光学ガラスを提供することをその発明の目的とするものであって、ガラス基板上に形成された多層膜の剥離を抑制することにつき配慮するものではなく、また、ガラス基板のガラスの組成を、「ＳｉＯ２３８〜５８モル％、ＴｉＯ２７〜３０モル％、Ｒ２Ｏ１５〜４０モル％、Ａｌ２Ｏ３０〜１２モル％」を含むものとすることにつき教示ないしは示唆するものは何もない。
　参考文献１では、ガラスの品番ＢａＬＦ２及びＢＫの熱膨張係数の数値とヌープ硬さの数値が示されるだけであって、相違点２に関する特定事項は示されず、また、参考文献２では、ＢａＬＦがＳｉＯ２−ＰｂＯ−ＢａＯ−Ｒ２Ｏ系のガラスであること等が示されるだけであって、相違点２に関する特定事項は示されない。
　参考文献３及び６では、ガラス成分のＴｉＯ２は化学的耐久性を向上させ熱膨張係数を低下させる効果があること、また、ガラスの熱膨張係数を組成に基づいて算出することが多くの研究者によって提案されており、ガラスの熱膨張係数αはΣＰｎαｎ（Ｐｎはガラス成分の分率、αｎはその熱膨張係数因子）と近似されることが示されるが、そこでは、本件発明１のようにガラス基板上に形成された多層膜の剥離を抑制することにつき配慮するものではなく、また、ガラス基板のガラスの組成を、「ＳｉＯ２３８〜５８モル％、ＴｉＯ２７〜３０モル％、Ｒ２Ｏ１５〜４０モル％、Ａｌ２Ｏ３０〜１２モル％」とすることまでが教示されない。
　参考文献４及び５では、光学ガラスにおいて、ＴｉＯ２成分は化学的耐久性を向上させる効果があることが示されるだけであって、相違点２に関する特定事項は示されず、参考文献７は、ガラスの品番ＣＳＫ１２の熱膨張係数の数値とヌープ硬さの数値が示されるだけであって、相違点２に関する特定事項は示されず、また、参考文献８は、各種ガラスの線膨張係数につき、−３０〜＋７０℃の温度域の数値と＋１００〜＋３００℃の温度域の数値が記載されているに過ぎず、ここでも、相違点２に関する特定事項は示されない。
　してみれば、引用例２〜３及び参考文献１〜８の記載を併せてみても、引用例１の発明において、上記相違点２に関する特定事項を採択することが容易に想到できない。
　したがって、他の相違点１、３及び４につき判断するまでもなく、本件発明１は、参考文献１〜８の記載を考慮したとしても、引用例１〜４に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるということはできない。
　
VI−１−２．本件発明２、４〜６及び８〜１３
　本件発明２、４〜６及び８〜１３は、訂正後の請求項１を直接又は間接的に引用するものであって、本件発明１の特定事項を全て具備するものである。
　したがって、上記VI−１−１．で説示した理由と同じ理由により、参考文献１〜８の記載を考慮したとしても、引用例１〜４に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるということはできない。
　
VI−２．理由−３について
　申立人Ｂのここでの主張は、要するに、本件出願はパリ条約に基づく優先権主張〔優先権主張番号：６０／１４６３５５、優先日：平成１１年８月２日、優先権主張国：米国〕を伴うものであるところ、特許明細書の請求項４（訂正後の請求項１）における「前記ガラスが、合量で１５〜４０モル％のＲ２Ｏを含む」との特定事項が、その優先権主張の基礎となる出願番号第６０／１４６，３５５号の米国出願の明細書に記載されておらず、したがって、特許明細書の請求項４（訂正後の請求項１）に係る発明は、優先権の利益を享受できず、特許明細書の請求項４（訂正後の請求項１）に係る発明及び、同請求項４を直接又は間接的に引用する特許明細書の請求項５、７〜９、１１〜１３及び１５（訂正後の請求項２、４〜６、８〜１１）に係る発明は、平成１１年８月３０日に出願された（平成１３年３月１６日に出願公開）特許出願にかかる先願明細書（申立人Ｂの甲第３号証）に記載された発明と同一であり、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができないというものである。
　以下、請求項の表示を訂正後のものに置き換えて説示する。
　そこで、訂正後の請求項１（特許明細書の請求項４）の「前記ガラスが、合量で１５〜４０モル％のＲ２Ｏを含む」との特定事項が、優先権主張の基礎となる出願番号第６０／１４６，３５５号の米国出願につき、その記載内容を証明する優先権証明書に添付された明細書（申立人Ｂの平成１６年２月２７日付け上申書に添付）中に記載されているか否かにつき検討する。
　上記優先権証明書に添付された明細書には、「ＷＤＭ用光学フィルターおよびＷＤＭ用光学フィルターに使用するガラス基板」（発明の名称の欄）につき記載され、そこでは、
「本発明の第３の態様は、ＳｉＯ２−Ｒ２Ｏ−ＴｉＯ２系〔Ｒ２Ｏはアルカリ金属酸化物〕であることを特徴とするＷＤＭ用光学フィルターに使用するガラス基板。
　本発明の第４の態様は、・・・。
　本発明の第５の態様は、ＳｉＯ２−Ｒ２Ｏ−ＴｉＯ２系〔Ｒ２Ｏはアルカリ金属酸化物〕は、モル％表示で、
　ＳｉＯ２　　　３８〜５８モル％
　Ｒ２Ｏ　　　１５〜４０モル％
　ＴｉＯ２　　　７〜３０モル％
　Ａｌ２Ｏ３　　０〜１２モル％
であることを特徴とする第３又は第４の態様に記載のＷＤＭ用光学フィルターに使用するガラス基板。
　本発明の第６の態様は、
　Ｒ２Ｏは、１０−２５モル％のＮａ２Ｏと、４−１５モル％のＫ２Ｏとからなることを特徴とする第５の態様に記載のＷＤＭ用光学フィルターに使用するガラス基板。」（第２頁下から第５行〜第３頁第１６行）と記載され、このように、当該優先権証明書に添付された明細書には、上記の「前記ガラスが、合量で１５〜４０モル％のＲ２Ｏを含む」との特定事項が明示されるものである。
　そして、訂正後の本件請求項１のその他の構成も、当該優先権証明書に添付された明細書の記載から自明なこととして導き出せるものである。
　そうすると、訂正後の請求項１の発明は、その優先権主張の基礎となる出願番号第６０／１４６，３５５号の米国出願の明細書に記載されているということができる。
　そうであれば、訂正後の本件請求項１に記載される発明は、優先日である平成１１年８月２日から実際の出願日である平成１２年７月３１日の間、優先権の利益を享受できるものであり、また、訂正後の本件請求項１を直接又は間接的に引用し、他の構成を付加ないしは他の構成により限定したただけの訂正後の本件請求項２、４〜６及び８〜１１に係る発明も、訂正後の請求項１を引用する範囲内で、優先日である平成１１年８月２日から実際の出願日である平成１２年７月３１日の間に優先権の利益を享受できることは明らかである。
　したがって、出願日が平成１１年８月３０日であって本件優先日以後の出願にかかる先願明細書（甲第３号証）を基に、訂正後の本件請求項１、２、４〜６及び８〜１１に係る発明が、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができないとはいえない。
　
VI−３．取消理由通知の理由について
　平成１６年４月１９日付け取消理由通知の理由の判断については、上記VI−１．及びVI−２．で説示したとおりであり、また、平成１７年５月２０日付け取消理由通知の理由については、前記訂正請求により、不明瞭であるとする特許明細書の請求項１〜３の記載が削除されたものであり、したがって、これら理由については、これ以上審及しない。
　
VII.　まとめ
　特許異議申立の理由及び証拠によっては、訂正後の本件請求項１、２、４〜６及び８〜１３に係る発明の特許を取り消すことができない。
　また、他に訂正後の本件請求項１、２、４〜６及び８〜１３に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１７年５月２６日（２００５．５．２６）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
ＷＤＭ光学フィルター用ガラス基板、ＷＤＭ光学フィルター、ＷＤＭ用光合分波器
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　表面に密着固定するように光学多層膜を形成し、光の波長分割多重化のための光学フィルターとするためのガラス基板であって、
ＳｉＯ２　　　　　　　　３８〜５８モル％、
ＴｉＯ２　　　　　　　　　７〜３０モル％、
Ｒ２Ｏ　　　　　　　　　１５〜４０モル％（但し、Ｒはアルカリ金属元素を示す）
Ａｌ２Ｏ３　　　　　　　　０〜１２モル％
を含み、且つ、
温度範囲−３０℃から＋７０℃における平均線熱膨張係数が１００ｘ１０−７〜１３０ｘ１０−７／Ｋであるガラスからなることを特徴とするＷＤＭ光学フィルター用ガラス基板。
　【請求項２】　Ｒ２Ｏとして、
　Ｎａ２Ｏ　　　　　　　１０〜２５モル％、
　Ｋ２Ｏ　　　　　　　　　４〜１５モル％、
を含むことを特徴とする請求項１に記載のＷＤＭ光学フィルター用ガラス基板。
　【請求項３】前記ガラスが、
　ＳｉＯ２　　　　　　　３８〜５５モル％、
　Ｎａ２Ｏ　　　　　　　１３〜２５モル％、
　Ｋ２Ｏ　　　　　　　　　２〜１５モル％、
　ＴｉＯ２　　　　　　　１０〜２５モル％、
　Ａｌ２Ｏ３　　　　　　０．５〜８モル％、
を含むことを特徴とする請求項１に記載のＷＤＭ光学フィルター用ガラス基板。
　【請求項４】前記ガラスが、アルカリ土類金属酸化物又は酸化亜鉛よりなる群より選ばれた一種又は複数種の酸化物Ｒ′Ｏを含むことを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載のＷＤＭ光学フィルター用ガラス基板。
　【請求項５】前記Ｒ′Ｏの合量が２〜１５モル％であることを特徴とする請求項４に記載のＷＤＭ光学フィルター用ガラス基板。
　【請求項６】前記Ｒ′Ｏとして、
　ＭｇＯ　　　　　　　　　０〜１３モル％、
　ＣａＯ　　　　　　　　　０〜１０モル％、
　ＳｒＯ　　　　　　　　　　０〜８モル％、
　ＢａＯ　　　　　　　　　　０〜６モル％、
　ＺｎＯ　　　　　　　　　０〜１０モル％、
　を含むことを特徴とする請求項４又は５に記載のＷＤＭ光学フィルター用ガラス基板。
　【請求項７】前記ガラスが、
　ＭｇＯ　　　　　　　　　１〜１３モル％、
　ＺｎＯ　　　　　　　０．５〜１０モル％、
　Ｓｂ２Ｏ３　　　　　　　　０〜１モル％、
を含むことを特徴とする請求項４〜６の何れか一項に記載のＷＤＭ光学フィルター用ガラス基板。
　【請求項８】前記ガラスが、
　ＺｒＯ２　　　　　　　　　０〜２モル％、
　ＨｆＯ２　　　　　　　　　０〜２モル％、
　Ｌａ２Ｏ３　　　　　　　　０〜２モル％、
　Ｙ２Ｏ３　　　　　　　　　０〜２モル％、
を含むことを特徴とする請求項１〜７の何れか一項に記載のＷＤＭ光学フィルター用ガラス基板。
　【請求項９】温度範囲−３０℃から＋７０℃における平均線熱膨張係数が１００ｘ１０−７〜１３０ｘ１０−７／Ｋであることを特徴とする請求項１〜８の何れか一項に記載のＷＤＭ光学フィルター用ガラス基板。
　【請求項１０】温度範囲−３０℃から＋７０℃における平均線熱膨張係数が１０５ｘ１０−７〜１２０ｘ１０−７／Ｋであることを特徴とする請求項９に記載のＷＤＭ光学フィルター用ガラス基板。
　【請求項１１】請求項１〜１０の何れか一項に記載のガラス基板と、前記基板上に形成された光学多層膜を備えた光合分波器用のＷＤＭ光学フィルター。
　【請求項１２】　バンドパス中心波長の温度ドリフトが±０．００２５ｎｍ／Ｋ以内であることを特徴とする請求項１１に記載の光合分波器用のＷＤＭ光学フィルター。
　【請求項１３】　請求項１１又は１２に記載のＷＤＭ光学フィルターを有する波長分割多重化用のＷＤＭ用光合分波器。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明は、光通信分野における光の波長分割多重化（ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ　ｄｉｖｉｓｉｏｎ　ｍｕｌｔｉｐｌｅｘｉｎｇ、略してＷＤＭ）に使用される光学フィルター用のガラス基板、光学フィルター、並びに波長分割多重化用の光合分波器に関する。又、上記光学フィルター用ガラス基板に用いられるガラスの製造方法に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　波長多重光通信では、波長が僅かに異なる光を合波したり、逆に、複数の波長成分を含んだ光から、特定波長光を選択的に取り出す（分波）ことが行われている。このような合分波に用いられる光学フィルターは、ＷＤＭ（ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ　ｄｉｖｉｓｉｏｎ　ｍｕｌｔｉｐｌｅｘｉｎｇ）用光学フィルターと呼ばれており、特開平１０−３３９８８２５号公報、特表平１０−５１２９７５号公報に記載されたものが知られている。
　【０００３】
　これらの公報に記載された光学フィルターは、ガラス基板上に、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５等の誘電体多層膜を形成した構成になっており、この誘電体多層膜に、特定波長の光を選択的に透過したり、反射したりする機能を付与することでバンドパスフィルターとしての機能を与えている。ここで、誘電体多層膜が形成されている基板には、石英等のガラス材料が使用されている。
　【０００４】
　【発明が解決しようとする課題】
ところで、近年、この種の光学フィルターにおいて、バンドパスの中心波長が、温度変化によりドリフトすることが報告されている。又、温度ドリフトは、ガラス基板と誘電体多層膜の各熱膨張係数に依存することも報告されている。（Ｈａｒｕｏ　Ｔａｋａｈａｓｈｉ，Ａｐｐｌｉｅｄ　Ｏｐｔｉｃｓ，ｖｏｌ．３４［４］，ｐｐ．６６７−６７５，１９９５）。
　【０００５】
　この文献では、ガラス基板の熱膨張係数が誘電体多層膜の熱膨張係数等によって決まる所定の範囲より小さい場合、単位温度あたりのバンドパス中心波長のドリフトは正方向（長波長方向）になること、一方、ガラス基板の熱膨張係数が誘電体多層膜の熱膨張係数等によって決まる所定の範囲より大き過ぎる場合、バンドパス中心波長のドリフトは負方向（短波長方向）となることが、報告されている。
　【０００６】
　ドリフトが大きい場合、使用温度の変動により、光学フィルターのフィルター特性、即ち、透過波長が変化してしまい、所望のフィルター特性が得られないと言う不都合が生じる。特に、光通信の波長多重伝送技術に用いられる光合分波器のように狭帯域のバンドパスフィルタとーして用いる場合には、ドリフトによるフィルター特性の変動が伝送密度を制限してしまい、影響が大きい。
　【０００７】
　波長多重の高密度化に伴い、より温度変動に対して安定な特性を有する光学フィルター、これを用いた光合分波器の要求が高い。
　【０００８】
　温度安定性を高めるには、光学フィルターに温度調整装置をとりつけ制御する手法があるが、構成が複雑になり、そのため長期信頼性確保の困難さが増し、更に高価な素子・機器にならざるを得ない問題点がある。
　【０００９】
　今日では、上述したようなバンドパスの中心波長の温度ドリフトが、光通信における高密度化を阻害する要因の一つになっている。
　【００１０】
　さらに、光学フィルターは、ガラス基板上に、誘電体多層膜を形成した構成を有しているが、温度変化により、ガラス基板上に形成された誘電体多層膜が剥離しやすいという問題もある。
　【００１１】
　このような背景の下、本発明は、バンドパスの中心波長の温度ドリフトを低減し、誘電体多層膜の剥離を防止するため、所定の線熱膨張係数、組成を有する新規のガラス基板、及び、バンドパスの中心波長の温度ドリフトを低減した信頼性の高い光学フィルター並びに光合分波器を提供することを目的とする。
　【００１２】
　又、本発明の他の目的は、特定のガラス成分の含有量を調整し、波長分割多重化用光学フィルターの基板材料として好適な線熱膨張係数を有するガラスを製造する方法を提供することを目的とする。
　【００１３】
　【００１４】
　【００１５】
　【００１６】
　【課題を解決するための手段】
　第１の発明は、表面に密着固定するように光学多層膜を形成し、光の波長分割多重化のための光学フィルターとするためのガラス基板であって、
ＳｉＯ２　　　　　　　　３８〜５８モル％、
ＴｉＯ２　　　　　　　　　７〜３０モル％、
Ｒ２Ｏ　　　　　　　　　１５〜４０モル％（但し、Ｒはアルカリ金属元素を示す）
Ａｌ２Ｏ３　　　　　　　　０〜１２モル％
を含み、且つ、
温度範囲−３０℃から＋７０℃における平均線熱膨張係数が１００ｘ１０−７〜１３０ｘ１０−７／Ｋであるガラスからなることを特徴とするものである。
　【００１７】
　第
２
１
Ｎａ２Ｏ　　　　　　　　１０〜２５モル％、
Ｋ２Ｏ　　　　　　　　　　４〜１５モル％、
を含むことを特徴とするものである。
　【００１８】
　第
３
１
ＳｉＯ２　　　　　　　　３８〜５５モル％、
Ｎａ２Ｏ　　　　　　　　１３〜２５モル％、
Ｋ２Ｏ　　　　　　　　　　２〜１５モル％、
ＴｉＯ２　　　　　　　　１０〜２５モル％、
Ａｌ２Ｏ３　　　　　　　０．５〜８モル％、
を含むことを特徴とするものである。
　【００１９】
　第
４
１〜３
　【００２０】
　第
５
４
　【００２１】
　第
６
４
５
ＭｇＯ　　　　　　　　　　０〜１３モル％、
ＣａＯ　　　　　　　　　　０〜１０モル％、
ＳｒＯ　　　　　　　　　　　０〜８モル％、
ＢａＯ　　　　　　　　　　　０〜６モル％、
ＺｎＯ　　　　　　　　　　０〜１０モル％、
を含むことを特徴とするものである。
　【００２２】
　第
７
４〜６
ＭｇＯ　　　　　　　　　　１〜１３モル％、
ＺｎＯ　　　　　　　　０．５〜１０モル％、
Ｓｂ２Ｏ３　　　　　　　　　０〜１モル％、
を含むことを特徴とするものである。
　【００２３】
　第
８
１〜７
ＺｒＯ２　　　　　　　　　　０〜２モル％、
ＨｆＯ２　　　　　　　　　　０〜２モル％、
Ｌａ２Ｏ３　　　　　　　　　０〜２モル％、
Ｙ２Ｏ３　　　　　　　　　　０〜２モル％、
を含むことを特徴とするものである。
　【００２４】
　第
９
１〜８
　【００２５】
　第
１０
９
　【００２６】
　【００２７】
　第
１１
１０
　【００２８】
　第
１２
１１
　【００２９】
　第
１３
１１
１２
　【００３０】
　【００３１】
　【００３２】
　【発明の実施の形態】
　最初に、ガラス基板の発明に関する実施の形態について説明する。
　【００３３】
　ガラス基板は、その表面に高屈折率を有する誘電体薄膜と低屈折率を有する誘電体薄膜を積層し、干渉によって入射光のうち特定波長の光を透過するバンドパス機能を有する光学多層膜を形成して光学フィルターにするために使用されるものである。
　【００３４】
　先に説明したように、波長分割多重化ではバンドパスの中心波長の温度ドリフトを低減する必要があるが、バンドパス機能は多層膜中における光の干渉を利用して得られるものなので、温度ドリフトを低減するには、温度変化に対する光学多層膜の光路長の変化を低減しなければならない。光路長の変化は、多層膜を構成する各薄膜の屈折率変化と膜厚変化によって生じるものと考えられる。
　【００３５】
　光学フィルターが温度変化に晒されると、光学多層膜だけでなく、ガラス基板も膨張あるいは収縮する。光学多層膜は、ガラス基板表面に密着固定されており、多層膜とガラス基板の線熱膨張係数に差があれば、ガラス基板の膨張、収縮によって、光学多層膜はガラス基板より応力を受けることになる。この応力により、光学多層膜の膜厚、屈折率が僅かに変化することになるが、この膜厚、屈折率の変化と、光学多層膜の膨張、収縮による膜厚変化などが相殺されれば、温度変化による光学多層膜中の光路長変化を低減できる。後述する実用的な光学多層膜を使用した場合、上記変化を相殺し、上記光路長変化を低減し、上記温度ドリフトを低減するには、−３０〜＋７０℃におけるガラス基板の平均線膨張係数を１００×１０−７〜１３０×１０−７／Ｋ、好ましくは１０５×１０−７〜１２０×１０−７／Ｋとすればよいことが、本発明者らによって見出された。
　【００３６】
　以上、説明したように、温度変化による光路長変化を低減するためには、ガラス基板と光学多層膜との密着固定された面で応力を発生させる必要があるものと考えられる。ガラス基板はガラス製であるがゆえに、誘電体薄膜を積層した光学多層膜よりも柔らかい。そのため、上記応力によって光学多層膜が密着固定されているガラス基板表面が、光学多層膜側にむしり取られるようにして光学多層膜が剥離してしまい、高信頼性が得られにくいという問題がある。
　【００３７】
　第１の態様は、温度範囲−３０℃から＋７０℃における平均線熱膨張係数が１００×１０−７〜１３０×１０−７／Ｋ、好ましくは１０５×１０−７〜１２０×１０−７／Ｋであり、ＳｉＯ２を含むガラス基板である。平均線熱膨張係数を上記範囲にすることにより、バンドパス中心波長の温度ドリフトを低減することができ、ＳｉＯ２を含有することにより、ガラスの硬さが増加し、光学多層膜が剥離しにくいガラス基板を提供することができる。
　【００３８】
　なお、第１の態様では、ＳｉＯ２がガラス網目形成材になっていることが好ましい。ＳｉＯ２がガラス網目形成材となっているかどうかは、次のようにして判別することができる。まずガラスがＢ２Ｏ３及びＰ２Ｏ５など、網目形成材となりうる他の成分を含まない場合、ＳｉＯ２はガラス網目形成材になっているものと見なすことができる。ガラスがＢ２Ｏ３又はＰ２Ｏ５などを含有している場合は、ＳｉＯ２の含有量がこれより充分多量（たとえば２倍以上）であれば、ＳｉＯ２がガラス網目形成材になっているものと見なすことができる。ＳｉＯ２がガラス網目形成材になることによって、ガラス基板の硬さは更に増加し、温度変化時の光学多層膜剥離の問題を防止することができる。ガラス基板の硬さは、ヌープ硬さで４５５ＭＰａ以上が好ましく、４６０ＭＰａ以上がより好ましく、５００ＭＰａ以上がさらに好ましい。
　【００３９】
　第２の態様は、基板の平均線熱膨張係数を温度範囲−３０℃から＋７０℃において１００×１０−７〜１３０×１０−７／Ｋ、好ましくは１０５×１０−７〜１２０×１０−７／Ｋにするとともに、十分な硬さを得るための組成を有するガラス基板であり、この基板を構成するガラスは、必須成分として、ＳｉＯ２、Ｒ２Ｏ（ただし、Ｒはアルカリ金属元素を示す。）、ＴｉＯ２を含み、これら必須成分の合計含有量が６０モル％以上のガラス、又は、必須成分として、ＳｉＯ２、Ｒ２Ｏ（ただし、Ｒはアルカリ金属元素を示す。）、ＴｉＯ２を含み、これら必須成分以外の各成分の含有量よりも前記各必須成分の含有量（ただし、Ｒ２Ｏの含有量とは、アルカリ金属酸化物の合計含有量を意味する。）が多いガラスである。以下、これらのガラスをＳｉＯ２−Ｒ２Ｏ−ＴｉＯ２系ガラスと呼ぶことにする。
　【００４０】
　第２の態様においても、ガラス基板の硬さは、ヌープ硬さで４５５ＭＰａ以上が好ましく、４６０ＭＰａ以上がより好ましく、５００ＭＰａ以上がさらに好ましい。
　【００４１】
　上記ＳｉＯ２−Ｒ２Ｏ−ＴｉＯ２系ガラスにおいて、ＳｉＯ２はガラスを硬くし、ガラスの耐候性を向上させる成分である。Ｒ２Ｏは、ＳｉＯ２含有ガラスの平均線熱膨張係数を上記所定範囲の平均線熱膨張係数に近づけるための成分であり、ＴｉＯ２は、上記所定範囲の平均線熱膨張係数を得るための成分であり、ＳｉＯ２と同様、優れた耐候性を得るための成分でもある。
　【００４２】
　ＳｉＯ２−Ｒ２Ｏ−ＴｉＯ２系ガラスでは、Ｒ２ＯとＴｉＯ２の置換の度合いを制御しながら、ガラスの−３０〜＋７０℃における平均線熱膨張係数を所定の範囲内で、基板表面に設けられる光学多層膜に応じて高精度に調整することができる。すなわち、使用温度域（例えば室温）において上記温度ドリフトが極小（最もゼロに近いことを意味する。）になるよう、Ｒ２ＯとＴｉＯ２の置換の度合いを調整して、ガラスの平均線熱膨張係数を好適な値に合わせ込むことができる。Ｒ２ＯとＴｉＯ２の置換の度合いは、各々の原料の量を調節し、ガラスの溶融を行うことにより制御することができる。
　【００４３】
　なお、ＳｉＯ２−Ｒ２Ｏ−ＴｉＯ２系ガラスは、光通信で使用される１．３〜１．６μｍの波長域で透明であり、光学ガラスとしても高品質なものである。
　【００４４】
　次に、ＳｉＯ２−Ｒ２Ｏ−ＴｉＯ２系ガラスにおけるガラス成分の含有量について説明する。
　【００４５】
　ＳｉＯ２については、その含有量が３８モル％未満になると、ガラスの耐候性が低下するとともに、ガラスの硬さが低下して光学多層膜の剥離が起こりやすく、５８モル％を超えると平均線熱膨張係数が上記所定の範囲よりも小さくなり、温度ドリフトが大きくなってしまう。したがって、ＳｉＯ２の含有量は、好ましくは３８〜５８モル％、より好ましくは３８〜５０モル％、さらに好ましくは３８〜４８モル％、特に好ましくは４２〜４８モル％である。
　【００４６】
　アルカリ金属酸化物Ｒ２Ｏについては、それらの合量が１５モル％未満になると、先に説明した効果が得にくくなり、４０モル％を超えるとガラスの耐候性が低下しやすくなる。よってアルカリ金属酸化物の合計含有量は、１５〜４０モル％が好ましく、２２〜３２モル％がより好ましい。
　【００４７】
　アルカリ金属酸化物としては、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏが好ましく、前記両成分を含むことがより好ましく、含有されるアルカリ金属酸化物が、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏからなることがさらに好ましい。
　【００４８】
　Ｎａ２Ｏの含有量は、１０〜２５モル％が好ましく、１３〜２５モル％がより好ましく、１５〜２２モル％がさらに好ましい。
　【００４９】
　Ｋ２Ｏの含有量は、２〜１５モル％が好ましく、４〜１５モル％がより好ましく、５〜１５モル％がさらに好ましく、６〜１５モル％が一段と好ましく、６〜１０モル％が特に好ましい。
　【００５０】
　ＴｉＯ２については、その含有量が７モル％未満になるとガラスの耐候性が低下しやすくなるとともに、上記所定範囲の平均線熱膨張係数が得にくくなり、３０モル％を超えても上記所定範囲の平均線熱膨張係数が得にくくなる。したがって、ＴｉＯ２の含有量は、７〜３０モル％が好ましく、１０〜２５モル％がより好ましく、１０〜２２モル％がさらに好ましく、１２〜２２モル％が一段と好ましく、１２〜２０モル％が特に好ましい。
　【００５１】
　Ａｌ２Ｏ３については、ＳｉＯ２−Ｒ２Ｏ−ＴｉＯ２系ガラスにおいて任意成分であり、ガラスの耐候性を向上させるとともに、ガラスを硬くする成分である。しかし、その含有量が１２モル％を超えると、上記所定範囲の平均線熱膨張係数が得にくくなる。したがって、Ａｌ２Ｏ３の含有量は、０〜１２モル％が好ましく、０．５〜１２モル％がより好ましく、０．５〜８モル％がさらに好ましく、１〜８モル％が一段と好ましく、２〜８モル％が一層好ましく、２〜６モル％が特に好ましい。
　【００５２】
　なお、Ａｌ２Ｏ３はＳｉＯ２とともに耐候性を向上させ、ガラスを硬くする成分であって、任意成分としては特別な成分なので、必須成分とすることが望ましく、その場合、上記各成分の含有量は、
ＳｉＯ２　　　　　　　　３８〜５８モル％、
Ｎａ２Ｏ　　　　　　　　１３〜２５モル％、
Ｋ２Ｏ　　　　　　　　　　２〜１５モル％、
ＴｉＯ２　　　　　　　　１０〜２５モル％、
Ａｌ２Ｏ３　　　　　　　０．５〜８モル％、
とすることがより好ましい。この組成で、特にＲ２Ｏの合量を規定する必要はないが、Ｒ２Ｏの合量を上記組成と同様、好ましくは１５〜４０モル％、より好ましくは２２〜３２モル％としてもよい。
　【００５３】
　第２の態様の基板を構成するガラスは、上記各成分に加えて、アルカリ土類金属酸化物、酸化亜鉛からなる酸化物の群より選ばれた一種又は複数種の酸化物を含むことが好ましく、なかでもＭｇＯ及びＺｎＯを含むことが好ましい。アルカリ土類酸化物及び酸化亜鉛は、化学的耐久性を大きく損なうことなく、耐失透性及び溶融性を向上させる成分である。これら２価成分を含有させることにより、ガラスの液相温度を下げ、ガラスの製造、成形を容易に行うことができる。またＭｇＯは、ガラスをより硬くし、光学多層膜剥離防止に効果のある成分でもある。アルカリ土類金属酸化物、酸化亜鉛の何れかを含む場合、これら２価成分の合量を、上記効果を得るために２モル％以上とすることが好ましく、耐候性を低下させないために１５モル％以下とすることが好ましい。
　【００５４】
　さらに、優れた耐失透性及び溶融性を得つつ、耐候性を低下させないという観点から、
ＺｎＯの含有量を０〜１０モル％、
ＭｇＯの含有量を０〜１３モル％、
ＣａＯの含有量を０〜１０モル％、
ＳｒＯの含有量を０〜８モル％、
ＢａＯの含有量を０〜６モル％、
とすることがより好ましく、さらに、
ＭｇＯの含有量を１〜１３モル％、
ＺｎＯの含有量を０．５〜１０モル％、
とすることが一層好ましい。
　【００５５】
　上記ＳｉＯ２−Ｒ２Ｏ−ＴｉＯ２系ガラスには、脱泡剤を加えてもよい。脱泡剤としては、Ｓｂ２Ｏ３などを例示することができ、その含有量としては、０〜０．１モル％が好ましい。
　【００５６】
　上記ＳｉＯ２−Ｒ２Ｏ−ＴｉＯ２系ガラスには、耐候性を向上させるために、ＺｒＯ２，ＨｆＯ２，Ｌａ２Ｏ３，Ｙ２Ｏ３からなる群より選ばれた一種又は複数種の酸化物を含有させることもできるが、上記所定範囲よりも平均線熱膨張係数が小さくならないために、ＺｒＯ２，ＨｆＯ２，Ｌａ２Ｏ３，Ｙ２Ｏ３の各成分の含有量は、０〜２モル％にすることが好ましく、０〜１．２モル％とすることがより好ましい。なお、これら各成分は、各々０．２モル％以上含有させることにより、耐候性向上の効果が顕著に現れる。
　【００５７】
　なお，本発明の目的から外れない限り、数％のＬｉ，ランタニド、Ｎｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｂ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｐ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｔｅの各酸化物を添加して、ガラスの屈折率、ガラス転移点、加工性等を調整することも可能である。又、本発明の目的から外れない限り、構成酸化物成分の内、数％をフッ化物に置換することも可能である。
　【００５８】
　しかし、耐候性、ガラスの硬さ、平均線熱膨張係数の諸性質から考え、ＳｉＯ２、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＺｎＯからなるガラス、又は、このガラスに脱泡剤としてＳｂ２Ｏ３を加えたガラスが最も好ましい。
　【００５９】
　第１、第２の態様のガラス基板は、一般的に使用されるガラスより、熱膨張係数が大きいため、炭素鋼（熱膨張係数　１２０×１０−７／Ｋ），ステンレス鋼［タイプ４１０］（同１１０×１０−７／Ｋ）など、工業的に広く用いられる金属材料をその固定材料に用いた場合でも、これら材料との熱膨張差が小さいために、温度変動により固定治具との間に生じる応力による光学的な歪みが軽微である。プラスチック材料についても、重合度・架橋剤を選ぶことによりポリエチレン，ポリスチレン，ポリメタクリル酸メチルなど工業的に広く用いられる材料でも熱膨張係数が９０〜１５０×１０−７／Ｋであるものを利用することができるので、同様の利点がある。
　【００６０】
　上記ＳｉＯ２−Ｒ２Ｏ−ＴｉＯ２系ガラスを光学要素に用い、上記のように炭素鋼，ステンレス鋼［タイプ４１０］、ポリエチレン，ポリスチレン，ポリメタクリル酸メチルなどの材料からなる固定部材に固定した光学素子を使用して構成された光学機器は、熱の変動に対する光学的歪みが小さく安定性が良好である。また、耐候性に優れるため広範な使用環境での利用が可能である利点を持つ。
　【００６１】
　次に、光学フィルターの実施の形態について説明する。
　【００６２】
　本発明の光学フィルターは、波長分割多重化するための光合分波器に用いられるものであり、上述のガラス基板上に、高屈折率の誘電体薄膜と低屈折率の誘電体薄膜を堆積、積層して多層化、光学多層膜とし、この光学多層膜に光の干渉によるバンドパス機能を付与したものである。光学多層膜は、その構造を変えたり、屈折率を変えたりすることによってバンドパス中心波長を適宜、変化、調整することができる。
　【００６３】
　上記高屈折率誘電体薄膜の材料としては、ＴｉＯ２，Ｔａ２Ｏ５，ＨｆＯ２，ＺｒＯ２，ＣｅＯ２，Ａｌ２Ｏ３，Ｙ２Ｏ３，ＺｎＳ，ＭｇＯ，Ｌａ２Ｏ３，ＣｄＳ，Ｓｉを上げることができ、他方、低屈折率誘電体薄膜材料としては、ＳｉＯ２，ＭｇＦ２，ＴｈＦ４をあげることができる。上記した高屈折率誘電体薄膜の材料のうち、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２がより好ましく、また、低屈折率誘電体薄膜の材料としては、ＳｉＯ２がより好ましい。
　【００６４】
　光学フィルターのバンドパス中心波長の温度ドリフトは、用いる基板材料の平均線熱膨張係数を適切に調整することで小さくすることが可能である。勿論、堆積する膜の特性・作成条件にも依存するが、およそ１００×１０−７〜１３０×１０−７／Ｋの範囲内で適切な平均線熱膨張係数を持つ基板を用いることでフィルターのバンドパス中心波長の温度ドリフトを、±０．００２５ｎｍ／Ｋ以内と非常に小さくすることが可能である。そのため、広範な温度範囲での使用が可能である。また、基板材料の耐候性が優れているため、研磨等加工時に表面劣化の問題が生じることがなく、広範な使用環境での利用が可能であるという利点を持つ。
　【００６５】
　波長１．５μｍ帯域の波長分割多重化において、合分波される波長成分の間隔が１００ＧＨｚ（波長間隔で０．８ｎｍ）の場合、温度ドリフトが２．５ｐｍ（０．００２５ｎｍ）／Ｋを超えると、光学フィルターの高透過率を示す帯域のバンド幅が０．２ｎｍ程度のために、１００℃（例えば−３０〜＋７０℃）程度の温度変化で信号光波長がフィルターの不透過帯に位置することになるので不都合である。
　【００６６】
　合分波される波長成分の間隔が５０ＧＨｚ（波長間隔で０．４ｎｍ）の場合、温度ドリフトが０．５ｐｍ（０．０００５ｎｍ）／Ｋを超えると、光学フィルターの高透過率を示す帯域のバンド幅が０．１ｎｍ程度のために、１００℃（例えば−３０〜＋７０℃）程度の温度変化で信号光波長がフィルターの不透過帯に位置する可能性が大きく、これもまた不都合である。
　【００６７】
　上記光学フィルターによれば、バンドパス中心波長の温度ドリフトを±０．００２５ｎｍ／Ｋ以内、好ましくは、±０．０００５ｎｍ／Ｋ以内に抑えることができ、通常の使用によって生じる可能性のある温度変化によって、信号光波長が光学フィルターの不透過帯に位置することを防止することができ、高い信頼性を得ることができる。
　【００６８】
　さらに、光学フィルターに使用されているガラス基板のヌープ硬さが４５５ＭＰａ以上なので、温度変化（例えば１００℃）に対しても、光学多層膜とガラス基板の熱膨張差による光学多層膜の剥離を防止することができ、温度ドリフトの低減とともに高い信頼性を有する光学フィルターを得ることができる。
　【００６９】
　このような光学フィルターを使用した光分波器は、光学フィルターに波長多重化された信号光を導光する出射端部を備えた光ファイバーと、光学フィルターから光学多層膜を透過した波長成分を受ける入射端部を備え、当該波長成分を伝送する光ファイバーとを有し、前述した光ファイバーの出射端部及び入射端部を光学フィルターに対して位置決め保持することによって構成されている。
　【００７０】
　また、光合波器は、光学フィルターに対して、光学多層膜を透過する波長成分と光学多層膜により反射される波長成分をそれぞれ導光する光ファイバーの出射端部を位置決め保持する一方、光学多層膜を透過した波長成分、及び、光学多層膜により反射した波長成分を合波できるように、光学フィルターに対して入射端部を位置決め保持された光ファイバーとを備え、合波された光は、光ファイバーの入射端部から当該光ファイバーを通して、伝送できるように構成されている。波長多重化の度合いに応じて、バンドパス中心波長が異なる光学フィルターを複数用いて、各光学フィルターによって、波長成分の合波、分波を行うようにしてもよい。
　【００７１】
　上記光分波器、光合波器（一括して光合分波器と呼ぶ。）は、上述したように信頼性の高い光学フィルターを備えているので、温度変化が著しい環境においても高い信頼性を有している。
　【００７２】
　【実施例】
　以下、本発明の実施例に係るガラス基板を更に詳しく説明する。
　【００７３】
　（実施例１〜２２）
　本発明のＷＤＭフィルター用ガラス基板に係る実施例１〜２２の各組成及び−３０〜＋７０℃における平均線熱膨張係数、ヌープ硬さを表１に示す。表の各成分の含有量は、モル％表示である。又、線熱膨張係数の単位は、１０−７／Ｋである。又、Ｒ′Ｏは、２価成分（アルカリ土類金属酸化物と酸化亜鉛）の合計含有量である。
　【００７４】
　本発明のガラスは、各成分の原料としてそれぞれ相当する酸化物，炭酸塩，硝酸塩等を使用し、表１に記載した組成になるように、所定の割合で秤量し十分に混合してガラス原料とする。この原料を白金製るつぼに投入して電気炉を用いて１２００〜１４５０℃で溶融し，攪拌・清澄・均質化の後，適当に予熱された型内に鋳込んで固化し、徐冷して作成された。
　【００７５】
　【表１】
　【００７６】
　すなわち実施例１の組成のガラスを例に取れば、上記手順に従い、秤量され十分に混合された原料は白金製るつぼに投入され、予め１３５０℃に保持された電気炉内で２時間溶融された。
　【００７７】
　何れの実施例でもバッチの溶融・均質化は容易に行うことができ、作成したガラスに失透は観察されなかった。
　【００７８】
　このように作製したガラスを、３０ｍｍφ−１ｍｍ厚に加工し両面に研磨を施し、ＷＤＭフィルター用ガラス基板を作成した。
　【００７９】
　各実施例のガラスとも、上記平均線熱膨張係数は１００×１０−７／Ｋを超える値を有している。なお、平均線熱膨張係数の測定には、レーザー光を用いた光干渉法による熱膨張計（ｌａｓｅｒ　ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｒｙ　ｔｙｐｅ　ｔｈｅｒｍａｌ　ｅｘｐａｎｓｉｏｎ　ｍｅｔｅｒ）を用いた。
　【００８０】
　又、これらのガラスを粉末にして白金製かごに入れ、フラスコ中の純水中に浸漬し沸騰水浴中で１時間処理後、その重量減を計測したところ、何れのガラスでも減量は０．１％以下であり，良好な化学的耐久性を有していることが確認された。
　【００８１】
　１ｍｍ厚の研磨ガラス基板試料にＴａ２Ｏ５とＳｉＯ２を交互に堆積させた誘電体多層膜をコートした．誘電体多層膜の形成方法は、通常の光学薄膜形成で用いられている方法を採用することができる。例えば、ＩＡＤ（Ｉｏｎ　Ａｓｓｉｓｔｅｄ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法などを用いてもよい。
　【００８２】
　この時，Ｔａ２Ｏ５をガラス基板表面と接触するよう配置し、多層膜の厚さは２４μｍとした。
　【００８３】
　上記多層膜を形成した面及び非コーティング面に対して，８５℃−８５％（相対湿度）で５００時間保持する高温高湿試験を施した．この高温／高湿試験の手法は、当該技術分野においては典型的な試験方法である．この試験の後，表面反応，劣化を評価するため，肉眼及び顕微鏡による観察を行った．ガラス基板試料の非コーティング面には曇りが観察されなかった．また、光学多層膜の膜下のガラスの表面反応も観察されなかった．また，ガラス表面からの光学多層膜の剥離も観察されなかった。
　【００８４】
　（参考例）
　フツリン酸塩ガラスとして２０モル％Ｐ２Ｏ５−２０モル％ＡｌＦ３−２４モル％ＣａＦ２−２０モル％ＳｒＦ２−１６モル％ＢａＯなる組成を有するガラス、及びアルカリシリケートガラスとして３０モル％Ｎａ２Ｏ−７０モル％ＳｉＯ２なる組成を有するガラスを作成した。手順は上記実施例１〜２２と同様であるが，溶融温度はフツリン酸塩ガラスでは１０５０℃，アルカリシリケートガラスでは１２５０℃で行った。平均線熱膨張係数はフツリン酸塩ガラスでは１２５×１０−７／Ｋ，アルカリシリケートガラスでは１１２×１０−７／Ｋであった。
　【００８５】
　これらのガラスを粉末にし白金製かごに入れ，フラスコ中の純水中に浸漬し沸騰水浴中で１時間処理後，その重量減を計測したところ、減量は前者では０．２５％、後者では５％であり、上述の各実施例のガラスに比べ、化学的耐久性が低いことが確認された。
　【００８６】
　（実験例２３）
　実施例５に示した組成を有する、バルク状のガラスを１×１×１ｃｍに加工し、対向する２面を研磨後、図３に示す固定ジグにはさんで固定した。固定部材はＳＵＳ４１０（平均線熱膨張係数１１０×１０−７／Ｋ）で作成した。部品１Ａ、Ｂ及び部品２Ａ，Ｂは貫通穴に通したボルトを用いて固定され、ガラスを狭持する構造である。部品１Ａ，Ｂの寸法は１×２×２．５ｃｍ，部品２Ａ，Ｂの寸法は１×１×１ｃｍである。
　【００８７】
　ガラスを治具に固定後、日本光学硝子工業会規格「ＪＯＧＩＳ１４−１９７５光学ガラスのひずみの測定方法」に従い，室温（２３℃）において内部歪みが生じていないことを確認した後、ガラス及び固定治具を−２５℃まで冷却した。この時のガラス内部に発生した歪みを同様に評価したところ、１ｎｍが得られ、ガラスと固定ジグとの熱膨張係数の差に起因する温度変化によって誘起された歪みが非常に小さいことが確認された。
　【００８８】
　（比較例１）
　ボロシリケート系光学ガラスＢＫ７（ＳｉＯ２が７４モル％、Ｂ２Ｏ３が９モル％、Ｎａ２Ｏが１１モル％、Ｋ２Ｏが６モル％）を１×１×１ｃｍに加工し、対向する２面を研磨後、実施例２３と同様に図３に示す固定治具にはさんで固定した。このガラスの平均線熱膨張係数は７５×１０−７／Ｋである。実施例２３と同様にガラス及び固定治具を冷却し、この時のガラス内部に発生した歪みを同様に評価したところ、８ｎｍが得られ、この温度変化によって大きな歪みが誘起されたことが確認された。
　【００８９】
　（実施例２４）
　表１に示した各組成のＷＤＭフィルター用ガラス基板の表面に、高屈折率材料にＴａ２Ｏ５、低屈折率材料にＳｉＯ２を用い、ファブリ−ペロー型の１．５５μｍバンドパスフィルタを作成した。膜構成はガラス基板／（ＨＬ）７Ｈ２Ｌ（ＨＬ）７Ｈ／空気とした（Ｈは高屈折率誘電体薄膜、Ｌは低屈折率誘電体薄膜を示している。）。
　【００９０】
　上記した膜構成は、ガラス基板表面側から高屈折率誘電体薄膜と低屈折率誘電体薄膜が交互に各７層ずつ、計１４層積層され、その上に、高屈折率誘電体薄膜が２層、低屈折率誘電体薄膜１層、さらに高屈折率誘電体薄膜と低屈折率誘電体薄膜が交互に各７層ずつ、計１４層積層、そしてその上に高屈折率誘電体薄膜が１層積層されることによって構成されていることを示す。
　【００９１】
　ここで、低屈折率誘電体薄膜の出発原料をＳｉＯ２，高屈折率誘電体薄膜の出発原料をＴａ２Ｏ５とし，基板温度は３５０℃とした。
　【００９２】
　−２０〜＋４０℃の間での光学フィルターのバンドパス中心波長の温度依存性を測定したところ、実施例１０の組成のガラスを例にとると、＋０．０００２ｎｍ／Ｋの値が得られ、温度安定性が非常に良好であることが確認された。その他の組成のガラスについても同様の評価を行ったところ、表１に示したとおり、−０．０００８ｎｍ／Ｋ〜＋０．００２０ｎｍ／Ｋの値が得られ、温度安定性が非常に良好であることが確認された。
　【００９３】
　なお、入射光に対する透過及び反射特性は，積層構造を形成する各層の屈折率及び厚さから求めることができ，入射光の波長及び偏光に依存する．光学多層膜を構成する各層は、通常、１／４波長（λ／４）、或いは、その整数倍の光学的厚さを有する。
　【００９４】
　高屈折率材料は典型的にはＴｉＯ２，Ｔａ２Ｏ５，ＨｆＯ２，ＺｒＯ２，ＣｅＯ２，Ａｌ２Ｏ３，Ｙ２Ｏ３，ＺｎＳ，ＭｇＯ，Ｌａ２Ｏ３，ＣｄＳ，Ｓｉである。低屈折率材料は典型的にはＳｉＯ２，ＭｇＦ２，ＴｈＦ４である。
　【００９５】
　この光学多層膜は、ファブリ−ペロー型の干渉フィルターであり、狭い波長範囲で高い透過性を有するとともに、その近接波長範囲の光を高反射で取り除く機能を有し、この光学多層膜を有する光学フィルターは、ＷＤＭ用光学フィルターとして好適に用いられる。
　【００９６】
　（実施例２５）
　この実施例２５では、４６．５モル％ＳｉＯ２−３．３モル％Ａｌ２Ｏ３−１９．６モル％Ｎａ２Ｏ−７．０モル％Ｋ２Ｏ−１６．６モル％ＴｉＯ２−５．２モル％ＭｇＯ−１．８モル％ＺｎＯの組成を有するガラスによって構成され、直径５０ｍｍ−厚さ１２ｍｍを備えた基板を用意した。当該基板の両面を研磨し，片面に波長１５４４ｎｍ、５０ＧＨｚ用（高透過帯域の間隔（透過中心周波数の間隔）が５０ＧＨｚ、０．４ｍｍ）のファブリ−ペロー型干渉フィルター構造を有する光学多層膜を施した．この多層膜は、Ｔａ２Ｏ５とＳｉＯ２の１００層以上の交互堆積からなり、全厚さが３０〜４０μｍである。
　【００９７】
　光学多層膜を形成した後，非コーティング面からガラス基板を１ｍｍ厚さまで薄化した。そして、光学多層膜が形成された面の裏面（光学研磨面）に、１５４４ｎｍの無反射コーティングを施した。この後、基板ガラスをこの応用分野で典型的なサイズである１．４ｍｍ×１．４ｍｍに切り出し、複数個の光学フィルターを得た。そして、各フィルターの透過中心波長の温度安定性を評価した。
　【００９８】
　図４は、０℃から６０℃における透過中心波長の変化を示している。この温度域は、フィルターの特性を評価する上で重要である．２５℃以下では負の温度ドリフト，３０℃以上では正の温度ドリフトが観察されが、その量は極めて小さく、この測定温度範囲における平均の温度ドリフトが非常に小さいことが確認された。
　【００９９】
　このように、温度ドリフトの符号が変化する付近の温度では、温度ドリフトを実質的にゼロと見なせる。この温度を主たる使用温度（室温）に設定することにより、実際の使用環境（特に過酷ではない通常の環境）で極めて安定した温度特性が得られる。上述したように、ガラス基板に含まれるＲ２ＯとＴｉＯ２の量を調整することにより、室温において光学フィルターの温度ドリフトを実質的にゼロにすることができる。
　【０１００】
　なお，図示した温度ドリフトは測定点近傍の狭い温度領域での値を示す。実施例２４と同様の評価による−２０℃〜＋４０℃の間での平均値としては，−０．０００４ｎｍ／Ｋの値が得られた。
　【０１０１】
　また，このガラスの−３０℃〜＋７０℃における平均線膨張係数は１１２．５×１０−７／Ｋであった。
　【０１０２】
　なお、図５は、ＷＤＭ用光学フィルターの構造を模式的に示した図であり、前述したガラス基板上に、Ｔａ２Ｏ５膜及びＳｉＯ２膜を交互に積層した構成を備えていることが判る。
　【０１０３】
　図６は、実施例１〜２２のガラス基板を用いて光学フィルターを作成した場合におけるガラス基板の平均線熱膨張係数とバンドパス中心波長の温度ドリフトの関係を示した図である。
　【０１０４】
　（比較例２）
　ボロシリケート系光学ガラスＢＫ７を基板ガラスに用い、実施例２４と同様にバンドパスフィルターを作成した。
　【０１０５】
　実施例２４と同様にバンドパスの中心波長の温度依存性を測定したところ、０．００５５ｎｍ／Ｋの値が得られ，本発明のフィルタに比べて温度安定性が劣ることが確認された。
　【０１０６】
　（実施例２６）
　次に、本発明の他の実施形態に係る光合分波器について説明する。図１は、光合分波器の機能を説明するための模式図である。
　【０１０７】
　実施例１〜２２のうち、任意のガラスを用いたガラス基板上に誘電体多層膜を形成して、透過波長λ１，λ２，λ３を有し、他波長を反射する光学フィルター（４Ａ，４Ｂ，４Ｃ）を作成する。これらの光学多層膜に波長λ１，λ２，λ３からなる信号光を入力すると、各フィルター通過後の信号光を波長λ１，λ２，λ３にそれぞれ分波することができる。すなわち、このような構成で複数の波長成分からなる光を波長ごとに分波する素子として機能する。光進行方向を図１と逆にすれば、波長λ１，λ２，λ３の信号を合波する素子として機能することもできる。
　【０１０８】
　図２は、４つの波長成分を含む信号光から各波長成分を分離して取り出す光合分波器の概略図である。
　【０１０９】
　実施例１〜２２のうち、任意のガラスを用いたガラス基板上に誘電体多層膜を形成して得られた光学フィルター（５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄ）を、信号光波長域で透明な基材６に図２のように固定して光分波器を構成する。各フィルターの透過波長はλ１，λ２，λ３，λ４とする。シングルモードファイバー９から出力される信号光（波長：λ１，λ２，λ３，λ４が合波されたもの）をレンズ８でコリメートした後、図２のように光分波器に入射させる。波長λ１光は光学フィルター５Ａを透過し、レンズ７Ａでシングルモードファイバー１０Ａに結合され、チャンネルＡから出力される。波長λ２，λ３，λ４光は、光学フィルター５Ａで反射され、図示のように光学フィルター５Ｂに入射する。光学フィルター５Ｂでは，上記同様に波長λ２光が分波されてチャンネルＢから出力される。以下同様にチャンネルＣ，Ｄからは波長λ３，λ４光が出力される。
　【０１１０】
　波長多重伝送において、本光合分波器のシングルモードファイバー９を送信側、シングルモードファイバー１０Ａ〜Ｄを受信側に配置すると、信号を波長に応じて分解する光分波器として機能する。また、光進行方向を図２と逆にすれば、多波長信号を合波する光合波器として機能することもできる。何れの場合においても、各波長成分に対して、温度ドリフトが±０．００２５ｎｍ／Ｋ以下という高い信頼性の光合分波器を得ることができる。上記光合分波器は、特に、波長成分が近接し、高密度化された波長多重通信において高い信頼性を発揮する。
　【０１１１】
　【発明の効果】
　以上のように、本発明によれば、硬く、耐候性に優れ、所定の平均線膨張係数を有し、波長分割多重化用光学フィルターの基板として好適なガラス基板、及び、バンドパス中心波長の温度ドリフトが小さく、温度変化に対して高い信頼性を有する波長分割多重化用の光学フィルター並びに光合分波器を得ることができる。
　【０１１２】
　さらに、本発明によれば、基板材料であるガラスの特定成分の量を調整してガラスを作ることにより、光学フィルターとして使用する温度域における上記温度ドリフトを極小にすることができる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　図１は、本発明に係る光学フィルターの使用状態を示す模式図である。
　【図２】
　図２は、本発明の応用例である光合分波器を示す模式図である。
　【図３】
　図３は、ガラスにおける歪みを測定する状態を示す図である。
　【図４】
　図４は、実施例２５の光学フィルターにおけるバンドパス中心波長の温度ドリフトと温度の関係を示した図である。
　【図５】
　図５は、実施例２４の光学フィルターの構造を示す模式図である。
　【図６】
　図６は、実施例１〜２２のガラス基板を用い、実施例２４で得られた光学フィルターのバンドパス中心波長の温度ドリフトと平均線熱膨張係数の関係を示す図である。