【事件の表示】
　特願２０１１−１９４２７３「カラーフィルタの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２３年１２月　１日出願公開、特開２０１１−２４２８１１、請求項の数（２）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続の経緯　
　本願は、平成１７年１２月２７日に出願した特願２００５−３７６６２４号の一部を平成２３年９月６日に新たな特許出願としたものであって、平成２５年１月１５日付けで拒絶理由が通知され、同年３月２１日付けで手続補正がなされ、同年４月５日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年７月３日に拒絶査定不服審判が請求されたものである。
　
第２　本願発明
　本願の請求項１及び２に係る発明は、平成２５年３月２１日付けの手続補正で補正された特許請求の範囲の請求項１及び２に記載された事項により特定される、次のとおりのものである。
「【請求項１】
　基板上にネガ型感光性樹脂からなる感光性樹脂からなる感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、前記感光性樹脂層を、階調マスクを用いて露光し、現像して、前記感光性樹脂からなる高さの異なるスペーサを形成するスペーサ形成工程と、を有するカラーフィルタの製造方法であって、
　前記階調マスクは、透明基板と、遮光膜と、透過率調整機能を有する半透明膜とが順不同に積層され、前記透明基板上に前記遮光膜が設けられた遮光領域と、前記透明基板上に前記半透明膜のみが設けられた半透明領域と、前記透明基板上に前記遮光膜および前記半透明膜のいずれも設けられていない透過領域とを有し、
前記半透明膜は、波長３００ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲内における透過率分布が７％以下であり、
前記半透明膜は、波長３００ｎｍでの透過率が２０％〜５０％の範囲内であり、
　前記スペーサ形成工程では、３００ｎｍ〜３５０ｎｍの範囲内、および３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲内の光を有する露光光が用いられることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
　前記半透明膜および前記遮光膜がクロム系膜であることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。」（以下、本願の請求項１に係る発明を「本願発明１」、本願の請求項２に係る発明を「本願発明２」、両者をまとめて「本願発明」という。）
　
第３　原査定の理由の概要
　本願発明は、その出願前に日本国内又は外国において頒布された下記の刊行物に記載された発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　記
刊行物１：特開２００３−２０７７８８号公報
刊行物２：特開２００３−７５８０８号公報
刊行物３：特開２００２−１８９２８０号公報
刊行物４：特開平６−３４２２０５号公報
刊行物５：特開２００３−２１５３２２号公報（拒絶査定で周知例として追加された刊行物）
　
第４　当審の判断
１　刊行物１の記載事項
　刊行物１には、図とともに次の事項が記載されている。
（１）「【請求項１】  基板にアクティブ領域とダミー領域を定義した後、前記アクティブ領域の外側領域にブラックマトリックスを形成する段階と、
前記アクティブ領域に選択的にＲＧＢレジンを形成すると同時にダミー領域に選択的にＲＧＢレジンを形成する段階と、
前記結果物の上部に保護膜を形成する段階と、
前記保護膜上に感光性レジンを形成し、前記感光性レジン上にハーフトーンマスクパターンを形成する段階と、
前記ハーフトーンマスクパターンを利用して前記感光性レジンを選択的に蝕刻して、高さの異なる柱状スペーサーを形成する段階を含むことを特徴とする液晶表示装置の柱状スペーサー形成方法。」
（２）「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置の柱状スペーサー形成方法に関するものであり、特にハーフトーンマスク（Ｈａｌｆ  Ｔｏｎｅ  Ｍａｓｋ）を利用して、セルギャップを均一にできる液晶表示装置の柱状スペーサー形成方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】・・・（中略）・・・
【０００９】図１は一般的なカラーフィルターを示した概略図であり、図２は図１のＡ領域の拡大図である。そして、図３は図２のＢ領域の拡大図である。
【００１０】図１、図２、及び、図３に示したようにカラーフィルター基板１にアクティブ領域１０とダミー領域２０を定義した後、前記アクティブ領域１０の外側領域に光遮断の目的でブラックマトリックス１１を形成し、前記アクティブ領域１０に選択的にカラーピクセル（１２ａ，１２ｂ，１２ｃ）を形成すると同時に、前記カラーピクセル１２ａ，１２ｂ，１２ｃの安定的なパターニングとセル工程でラビング等のプロセスマージン確保のために、ダミーカラーピクセル（１２ａ’，１２ｂ’，１２ｃ’）を形成する。そして、前記カラーフィルター基板１内に一定の密度で均一に柱状スペーサー１３ａを形成する。この時、前記ブラックマトリックス１１の幅は２〜５ｍｍであり、前記ダミーカラーピクセル１２ａ’，１２ｂ’，１２ｃ’は０．５〜３ピクセルの間隔で形成される。
【００１１】一方、前記柱状スペーサー１３ａを適用したカラーフィルター基板１で支柱密度を一定に形成するためにアクティブ領域１０だけでなくブラックマトリックス１１上のカラーピクセル１２ａ，１２ｂ，１２ｃ上にも柱状スペーサー１３が配置される。その結果、図４に図示したようにアクティブ領域とブラックマトリックス領域で柱状スペーサー１３ａの高さに差が生ずる。
【００１２】ここで、ｈ１はレッドピクセル１２ｃ上に保護膜１４の形成する際に、ブラックマトリックス１１の幅が異なることに起因して発生する段差で、樹脂ブラックマトリックス１１を適用した場合は概略０．２〜０．５μｍであり、ｈ２は異なる幅にパターニングされた下地に起因して、柱状スペーサー１３ａのパターニング時に発生する段差で、０．１〜０．４μｍ程度である。ｈ３は工程が完了した時の２つの領域間の全体段差で、最大１μｍまでの段差が発生する可能性がある。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】即ち、前記のような従来の液晶表示装置の柱状スペーサー形成方法においては次のような課題がある。
【００１４】アクティブ領域とその外側のブラックマトリックス上に形成された柱状スペーサーの高さの差によって、カラーフィルター基板とアレイ基板を合着した時に、図５のようにアクティブ領域とブラックマトリスとの間にセルギャップの差が生ずる。この時、ｄ１はアクティブ領域内のセルギャップであり、ｄ２はブラックマトリックス上のＲＧＢダミーパターン部のセルギャップである。このセルギャップの差により、液晶表示装置の輝度が不均一となる。
【００１５】本発明は前記のような課題を解決するためになしたものであり、カラーフィルター基板全体に均一なセルギャップが形成され、均一な輝度特性を有する液晶表示装置を製造できる、ハーフトーンマスクを使用した柱状スペーサー形成方法を提供することにその目的がある。
【００１６】
【課題を解決するための手段】前記の課題を解決するための本発明の液晶表示装置の柱状スペーサー形成方法は、基板にアクティブ領域とダミー領域とを定義した後、前記アクティブ領域外側の領域にブラックマトリックスを形成する段階と、前記アクティブ領域に選択的にＲＧＢレジンを形成すると同時に、ダミー領域に選択的にＲＧＢレジンを形成する段階と、前記結果物の上部に保護膜を形成する段階と、前記保護膜上に感光性レジンを形成し、前記感光性レジン上にハーフトーンマスクパターンを形成する段階と、前記ハーフトーンマスクパターンを利用して前記感光性レジンを選択的に蝕刻して、
アクティブ領域とブラックマトリックス領域で異なる
高さを有する柱状スペーサーを形成
（３）「【００２３】
【発明の実施の形態】以下、添付した図面を参照して本発明の液晶表示装置の柱状スペーサー形成方法を、より詳細に説明する。図６は本発明のカラーフィルターを示した概略図であり、図７は図６のＡ領域の拡大図である。そして、図８は図７のＢ領域の拡大図である。
【００２４】図６に図示したように
カラーフィルター基板
にアクティブ領域１０１とダミー領域２００とを定義した後、全面に金属層を蒸着し、フォトリソグラフィ工程を利用して前記金属層を選択的に蝕刻除去して一定間隔に並んだ複数個のブラックマトリックス１１１を形成
【００２５】次に、前記
結果物の上部にカラーレジンを全面塗布した後、選択的に蝕刻除去して、前記ブラックマトリックス１１１の領域にも広がる所定の位置にカラーピクセル１１２ａ，１１２ｂ，１１２ｃを形成
【００２６】次に、前記
結果物の上部に保護層１１４を塗布して平坦化した後、前記保護層１１４上にセルギャップ維持のための感光性樹脂層１１３
を塗布
アクリル系、エポキシ系、配向剤、フォトレジストなどの高分子物質
【００２７】次に、
前記感光性樹脂層１１３上にハーフトーンレジストを積層した後、選択的にパターニングして前記ダミーカラーピクセル１１２ａ’，１１２ｂ’，１１２ｃ’上にハーフトーンマスクパターン１１５を形成し、前記アクティブ領域にマスクパターン１１６を形成
ハーフトーンマスクパターン１１５の形状は
四角ドット型、円ドット型、横線型、縦線型
【００２８】ここで、前記ハーフトーンマスクパターン１１５はパターンの大きさが一定に維持されている場合には、高さが異なるようにするために、一部光を遮断する。即ち、この
ハーフトーンマスクパターン１１５の領域で
光干渉と回折が起こり、強度が低い光が照射される
【００２９】次に、
前記ハーフトーンマスクパターン１１５とマスクパターン１１６を利用して前記感光性樹脂層１１３を選択的に蝕刻して柱状スペーサー１１３ａを形成した後、前記ハーフトーンマスクパターン１１５及びマスクパターン１１６を除去し、洗浄工程を実施
【００３０】この時、前記柱状スペーサー１１３ａが配置される領域に於ける配置密度（支柱密度）は１ＰＳ／３ピクセルであり、形状は１５×２０μｍ程度の長方形である。
【００３１】また、図１０に示すように、幅が広いブラックマトリックス１１１上のダミーカラーピクセル１１２ａ’，１１２ｂ’，１１２ｃ’上にはハーフトーンマスクパターン１１５を用い、それに対して幅が狭いアクティブ領域内のブラックマトリックス１１１上にはマスクパターン１１６を利用する。
【００３２】次いで、図面には示していないが、前記
結果物の上部にフォトリソグラフィ工程を利用して共通電極を形成
【００３３】ここで、図１１はアレイ基板４００と
カラーフィルター基板３００
（４）「【００３４】
【発明の効果】以上で説明したように本発明の液晶表示装置の柱状スペーサー形成方法によると、パネル全体に均一なセルギャップが形成され、これによって高品位で、均一な輝度特性を有する液晶表示装置を製作することができる。」
　
　上記（１）ないし（４）から、刊行物１には、
「カラーフィルター基板にアクティブ領域１０１とダミー領域２００とを定義した後、全面に金属層を蒸着し、フォトリソグラフィ工程を利用して前記金属層を選択的に蝕刻除去して一定間隔に並んだ複数個のブラックマトリックス１１１を形成し、その結果物の上部にカラーレジンを全面塗布した後、選択的に蝕刻除去して、前記ブラックマトリックス１１１の領域にも広がる所定の位置にカラーピクセル１１２ａ，１１２ｂ，１１２ｃを形成し、その結果物の上部に保護層１１４を塗布して平坦化した後、
　前記保護層１１４上にアクリル系、エポキシ系、配向剤、フォトレジストなどの高分子物質からなるセルギャップ維持のための感光性樹脂層１１３を塗布し、
　前記感光性樹脂層１１３上にハーフトーンレジストを積層した後、選択的にパターニングして、前記ダミーカラーピクセル１１２ａ’，１１２ｂ’，１１２ｃ’上には、四角ドット型、円ドット型、横線型又は縦線型の形状を有し、光干渉と回折によって強度が低い光が照射されるように構成されたハーフトーンマスクパターン１１５を形成し、前記アクティブ領域にはマスクパターン１１６を形成し、
　前記ハーフトーンマスクパターン１１５と前記マスクパターン１１６を利用して前記感光性樹脂層１１３を選択的に蝕刻して柱状スペーサー１１３ａを形成した後、前記ハーフトーンマスクパターン１１５及びマスクパターン１１６を除去し、洗浄工程を実施し、
　その結果物の上部にフォトリソグラフィ工程を利用して共通電極を形成して、
　アクティブ領域とブラックマトリックス領域で異なる高さを有する柱状スペーサー１１３ａが形成されたカラーフィルター基板３００を製造する方法。」（以下「引用発明」という。）
が記載されていると認められる。
　
２　対比
　本願発明１と引用発明とを対比する。
（１）引用発明の「カラーフィルター基板にアクティブ領域１０１とダミー領域２００とを定義した後、全面に金属層を蒸着し、フォトリソグラフィ工程を利用して前記金属層を選択的に蝕刻除去して一定間隔に並んだ複数個のブラックマトリックス１１１を形成し、その結果物の上部にカラーレジンを全面塗布した後、選択的に蝕刻除去して、前記ブラックマトリックス１１１の領域にも広がる所定の位置にカラーピクセル１１２ａ，１１２ｂ，１１２ｃを形成し、その結果物の上部に保護層１１４を塗布して平坦化」して得られるもの、「アクリル系、エポキシ系、配向剤、フォトレジストなどの高分子物質」からなる「感光性樹脂層１１３」、「柱状スペーサー１１３ａ」及び「カラーフィルター基板３００を製造する方法」は、それぞれ、本願発明１の「基板」、「感光性樹脂からなる感光性樹脂層」、「スペーサ」及び「カラーフィルタの製造方法」に相当する。
（２）引用発明の「前記保護層１１４上にアクリル系、エポキシ系、配向剤、フォトレジストなどの高分子物質からなるセルギャップ維持のための感光性樹脂層１１３を塗布し」という工程と、本願発明１の「基板上にネガ型感光性樹脂からなる感光性樹脂からなる感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程」とは、「基板上に感光性樹脂からなる感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程」である点で一致する。
（３）刊行物１の【００２４】の「フォトリソグラフィ工程を利用して前記金属層を選択的に蝕刻除去して」との記載（上記１（３）参照。）からみて、刊行物１において「選択的に蝕刻」なる表現がフォトリソグラフィー工程によりパターニングすることを意味することが明らかであるから、引用発明の「前記ハーフトーンマスクパターン１１５と前記マスクパターン１１６を利用して前記感光性樹脂層１１３を選択的に蝕刻して柱状スペーサー１１３ａを形成した後、前記ハーフトーンマスクパターン１１５及びマスクパターン１１６を除去し、洗浄工程を実施して、アクティブ領域とブラックマトリックス領域で異なる高さを有する柱状スペーサー１１３ａを形成し」という工程は、ハーフトーンマスクパターン１１５及びマスクパターン１１６を形成したハーフトーンレジストをハーフトーンマスクとして感光性樹脂層１１３に対して露光、現像を行って、異なる高さを有する柱状スペーサー１１３ａを形成する工程であると認められる。
　したがって、引用発明の「前記ハーフトーンマスクパターン１１５と前記マスクパターン１１６を利用して前記感光性樹脂層１１３を選択的に蝕刻して柱状スペーサー１１３ａを形成した後、前記ハーフトーンマスクパターン１１５及びマスクパターン１１６を除去し、洗浄工程を実施して、アクティブ領域とブラックマトリックス領域で異なる高さを有する柱状スペーサー１１３ａを形成し」という工程と、本願発明１の「前記感光性樹脂層を、階調マスクを用いて露光し、現像して、前記感光性樹脂からなる高さの異なるスペーサを形成するスペーサ形成工程」とは、「感光性樹脂層を、マスクを用いて露光し、現像して、前記感光性樹脂からなる高さの異なるスペーサを形成するスペーサ形成工程」である点で一致する。
（４）上記（１）ないし（３）から、本願発明１と引用発明とは、
「基板上に感光性樹脂からなる感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、前記感光性樹脂層を、マスクを用いて露光し、現像して、前記感光性樹脂からなる高さの異なるスペーサを形成するスペーサ形成工程と、を有するカラーフィルタの製造方法。」
である点で一致し、次の点で相違する。
　
相違点１：感光性樹脂層を構成する感光性樹脂が、本願発明１では「ネガ型感光性樹脂」であるのに対して、引用発明ではネガ型感光性樹脂であるのかポジ型感光性樹脂であるのか不明な点。
　
相違点２：感光性樹脂層の露光時に用いるマスクが、本願発明１では、「透明基板と、遮光膜と、透過率調整機能を有する半透明膜とが順不同に積層され、前記透明基板上に前記遮光膜が設けられた遮光領域と、前記透明基板上に前記半透明膜のみが設けられた半透明領域と、前記透明基板上に前記遮光膜および前記半透明膜のいずれも設けられていない透過領域とを有し、前記半透明膜は、波長３００ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲内における透過率分布が７％以下であり、前記半透明膜は、波長３００ｎｍでの透過率が２０％〜５０％の範囲内であり」という構成の「階調マスク」であるのに対して、引用発明では、「ハーフトーンレジスト」を選択的にパターニングして、「四角ドット型、円ドット型、横線型又は縦線型の形状を有し、光干渉と回折によって強度が低い光が照射されるように構成されたハーフトーンマスクパターン１１５」と「マスクパターン１１６」とを形成した構成のハーフトーンマスクである点。
　
相違点３：スペーサ形成工程における露光に用いる露光光が、本願発明１では、「３００ｎｍ〜３５０ｎｍの範囲内、および３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲内の光を有する」のに対して、引用発明では、どのような波長の光を有するのか不明である点。
　
３　判断
　まず、相違点２及び相違点３について検討する。
（１）刊行物２の記載事項及び当該記載事項に基づく容易想到性
　刊行物２には、次の事項が記載されている。
　ア　カラー表示用の表示用着色層３を備える対向基板２に、アレイ基板との間隔保持用として機能する突起高さの高い第１の突起部２０と、液晶の配向制御用として機能する突起高さの低い第２の突起部２１とを設けること（【００２９】）。
　イ　上記第１の突起部２０及び第２の突起部２１は、照射光が全く通過しない領域ａ、照射光が一部通過する領域ｂ及び照射光が完全に通過する領域ｃを有するフォトマスク２５を使用してネガティブ型の感光性樹脂からなる突起用樹脂膜２４を露光し、現像を行うことによって、同一工程により形成することができること（【００３５】、【００３６】）。
　当該刊行物２記載の「照射光が全く通過しない領域ａ」、「照射光が一部通過する領域ｂ」、「照射光が完全に通過する領域ｃ」及び「フォトマスク２５」は、それぞれ、本願発明１の「遮光領域」、「半透明領域」、「透過領域」及び「階調マスク」に相当するものと認められる。
　しかしながら、刊行物２には、「フォトマスク２５」の層構成や、「照射光が一部通過する領域ｂ」における波長３００ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲内での分光透過率や、突起用樹脂膜２４を露光する露光光の波長分布等については記載も示唆もないから、刊行物２に、相違点２及び相違点３に係る本願発明１の発明特定事項が記載されているとはいえない。
　したがって、引用発明において、相違点２及び相違点３に係る本願発明１の発明特定事項のように構成することが、刊行物２に記載された技術的事項に基づいて、当業者が容易に想到できたこととすることはできない。
（２）刊行物３の記載事項及び当該記載事項に基づく容易想到性
　刊行物３には、次の事項が記載されている。
　ア　近年、大型ＬＣＤ用マスクの分野において、遮光部１と透光部２とグレートーン部３とを有するグレートーンマスクを用いてマスク枚数を削減する試みがなされていたこと（【０００２】）。
　イ　上記グレート−ンマスクとして、遮光部を構成する膜が、透明基板側から主にグレートーン部における透過率を制御する透過率制御膜と遮光部における透過率を低減する透過率低減膜とにより構成され、前記透過率制御膜と前記透過率低減膜とが同一の金属を含む膜からなり、前記グレートーン部が、前記遮光部を構成する膜がその厚さ方向に一部除去されてなるものを用いると、膜厚を透過率低減膜単層膜（例えば従来のクロム単層膜）に比べて厚く、透過率制御膜単層膜（例えば従来のクロム化合物単層膜）に比べて薄くすることができるため、ハーフエッチングによるグレートーン部の膜厚制御が可能であり、かつ、エッチング時間の短縮が図れると共に、アスペクト比が低くその結果遮光部のパターン形状やパターン精度が良好となること（【０００７】、【００１４】）。
　ウ　上記透過率制御膜を、酸化クロム、窒化クロム、酸窒化クロム、フッ化クロムや、これらの膜に炭素や水素を含むクロム化合物からなるものとし、上記透過率低減膜をクロムからなるものとすることによって、透過率を制御した均一な膜厚の透過率制御膜が得られやすく、透過率低減膜を薄く構成できること（【０００９】、【００１６】）。
　エ　上記グレートーンマスクの具体例が、石英基板などの透明基板上に、透過率が２０％〜５０％となるように膜厚が６５０〜１４００オングストロームのＣｒＯからなる透過率制御膜が成膜され、この透過率制御膜上に、膜厚が５００オングストローム以上のＣｒからなる透過率低減膜が成膜され、かつ、透過率低減膜が除去されて透明基板上に透過率制御膜が設けられたエリアＡをグレートーン部とし、透過率低減膜及び透過率制御膜が除去されて透明基板のみの領域であるエリアＣを透光部とし、透明基板上に透過率制御膜及び透過率低減膜が設けられたエリアＢを遮光部としたものとするであること（【００２６】、【００２８】ないし【００３０】）。
　オ　ＣｒＯ透過率制御膜の膜厚と透過率の関係（図４）。
　当該刊行物３記載の「透明基板」、「透過率低減膜」、「透過率制御膜」、「透明基板上に透過率制御膜及び透過率低減膜が設けられたエリアＢ」、「透過率低減膜が除去されて透明基板上に透過率制御膜が設けられたエリアＡ」及び「透過率低減膜及び透過率制御膜が除去されて透明基板のみの領域であるエリアＣ」は、それぞれ、本願発明１の「透明基板」、「遮光膜」、「半透明膜」、「基板上に遮光膜が設けられた遮光領域」、「透明基板上に半透明膜のみが設けられた半透明領域」及び「透明基板上に遮光膜および半透明膜のいずれも設けられていない透過領域」に相当するものと認められる。
　しかしながら、刊行物３に記載の上記「膜厚が６５０〜１４００オングストロームのＣｒＯからなる透過率制御膜」については、透過率が２０％〜５０％となるような膜厚であり（上記エ）、図４として、膜厚と透過率との関係が示されている（上記オ）ものの、所定の波長の範囲における透過率分布あるいは波長毎の透過率は記載されていない。また、刊行物３に例示された、ＣｒＯ以外のクロム化合物（窒化クロム等）からなる透過率制御膜についても、所定の波長の範囲における透過率分布あるいは波長毎の透過率は記載されていない。
　さらに、刊行物３には、露光時間を短縮するために、露光光の長波長域（３５０ｎｍ〜４５０ｎｍ）ばかりでなく、露光光の短波長域（３００ｎｍ〜３５０ｎｍ）も感光性樹脂の光反応に利用したいという課題は説明されておらず、「３００ｎｍ〜３５０ｎｍの範囲内、および３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲内の光を有する露光光」を用いるとともに、「透過率制御膜」の「波長３００ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲内における透過率分布」を所定値以下とすることで当該課題を解決できることについて記載も示唆もない。
　したがって、引用発明において、相違点２及び相違点３に係る本願発明１の発明特定事項のように構成することが、刊行物３に記載された技術的事項に基づいて、当業者が容易に想到できたこととすることはできない。
（３）刊行物４の記載事項及び当該記載事項に基づく容易想到性
　刊行物４には、次の事項が記載されている。
　ア　ＬＳＩ、超ＬＳＩ等の高密度集積回路等の製造に用いられるハーフトーン位相シフトフォトマスクにおいて、露光光に対して半透明な領域を構成する位相シフターを金属酸化物の単相で構成すると、露光波長での透過率コントロールは可能であるが、長波長側での透過率が上昇してしまい、波長５４６ｎｍでの透過率が３０％を超えると、当該波長を用いたフォトマスクの検査、寸法測定ができない等の問題があったこと（【０００１】、【０００５】、【０００９】）。
　イ　上記位相シフター（半透明膜）を多層構造、特に、窒化クロムと酸化窒化炭化クロムの２層あるいは３層構造にすることにより、長波長側での透過率を低くできる等の効果を得ることができること（【００１３】、【００４５】）。
　ウ　膜厚１４ｎｍの窒化クロムの２００〜８００ｎｍの分光透過率は次の図５のようになり、窒化クロムを用いることにより、長波長側の透過率を低く抑えることができること（【００１９】）。
　　【図５】
　エ　窒化クロム、酸化クロムの２層膜からなる位相シフターの２００〜８００ｎｍの分光透過率が次の図４のようになること（【００２０】）。
　　【図４】
　オ　実施例１の位相シフターは、膜厚が１２５ｎｍのＣｒＯｘＮｙＣｚと、膜厚が９ｎｍのＣｒＮとからなる２層構造のものであり、ｉ線（３６５ｎｍ）での透過率が１０％であること（【００３３】、【００３６】）。
　カ　実施例２の位相シフターは、膜厚が７０ｎｍの酸化窒化炭化クロムの膜７と、膜厚が５ｎｍの窒化クロムの膜８と、膜厚が５４．９ｎｍの酸化窒化炭化クロムの膜９とからなる３層構造のものであり、露光波長が３６５ｎｍであり、膜形成部と未形成部の位相差が１７１°となるようなものであること（【００３７】）。
　キ　実施例３の位相シフターは、膜厚が８ｎｍの酸化窒化炭化クロムの膜７と、膜厚が１０ｎｍの窒化クロムの膜８と、膜厚が１２０ｎｍの酸化窒化炭化クロムの膜９とからなる３層構造のものであり、露光波長が３６５ｎｍであり、膜形成部と未形成部の位相差が１８１°となるようなものであること（【００３７】）。
　ク　実施例４の位相シフターは、膜厚が１１６ｎｍの酸化窒化炭化クロムと、膜厚が１０ｎｍの窒化クロムからなる２層構造のものであり、ｉ線（３６５ｎｍ）での透過率が７％であること（【００４０】）。
　刊行物４の図５に示された分光透過率からみて、上記ウの「膜厚１４ｎｍの窒化クロム」の膜は、「波長３００ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲内における透過率分布が７％以下」であり、「波長３００ｎｍでの透過率が２０％〜５０％の範囲内」であると認められる。
　しかしながら、刊行物４に記載のハーフトーン位相シフトフォトマスクにおいて、窒化クロムの膜は、半透明膜の長波長側の透過率を低く抑えることを目的として（上記ウを参照。）、半透明膜（位相シフター）の２層構造あるいは３層構造のうちの一層として用いるのであって（上記イを参照。）、ハーフトーン位相シフトフォトマスクにおける半透明膜全体の分光透過率は、その課題（【０００９】）を解決するために、意図的に、例えば図４のようなものとするものであり、当該半透明膜は、「波長３００ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲内における透過率分布が７％以下」ではなく、「波長３００ｎｍでの透過率が２０％〜５０％の範囲内」にはない。
　そもそも、一般に、ハーフトーン位相シフトフォトマスクとは、特開平４−１３６８５４号公報に記載されているように、完全に遮光する遮光膜の代わりに、露光光の位相を１８０°ずらす半透明膜（位相シフター）を用いることで、当該半透明膜を通過した露光光と透明な領域を通過した露光光とを干渉させ、パターニングの解像力及び焦点深度を向上させるという「位相シフト露光法」に用いるフォトマスクであって、刊行物４に記載の「ハーフトーン位相シフトフォトマスク」もこのような「位相シフト露光法」に用いるフォトマスクであることは、当該刊行物４の【０００４】に「位相シフト露光法」が説明されていることや、【０００５】に上記特開平４−１３６８５４号公報が従来の技術として例示されていることからみて明らかである。
　してみると、刊行物４に記載の「ハーフトーン位相シフトフォトマスク」が、引用発明の、異なる高さを有する柱状スペーサー１１３ａを「ハーフトーン露光」により形成する際に用いる「ハーフトーンマスク」とは、全く異なる作用、機能を有するものであることは明らかであるから、引用発明の「ハーフトーンマスク」に代えて、刊行物４に記載の「ハーフトーン位相シフトフォトマスク」を用いることには動機がない。
　仮に、引用発明の「ハーフトーンマスク」に代えて、刊行物４に記載の「ハーフトーン位相シフトフォトマスク」を用いたとしても、その場合の「半透明膜」は、上記のとおり「波長３００ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲内における透過率分布が７％以下」ではなく、「波長３００ｎｍでの透過率が２０％〜５０％の範囲内」にはないから、そのような構成の変更を行った引用発明が、相違点２に係る本願発明１の構成を具備することとなるわけでもない。
　以上のとおりであるから、引用発明において、相違点２及び相違点３に係る本願発明１の発明特定事項のように構成することが、刊行物４に記載された技術的事項に基づいて、当業者が容易に想到できたこととすることはできない。
（４）刊行物５の記載事項及び当該記載事項に基づく容易想到性
　刊行物５には、硬化性樹脂組成物の塗布膜をフォトマスクを用いて露光し、カラーフィルターのブラックマトリックス上のスペーサーを形成する際に、露光光源として超高圧水銀ランプを用いること（【０１２３】）等が記載されているが、相違点２に係る本願発明１の発明特定事項については記載も示唆もない。
　したがって、引用発明において、相違点２に係る本願発明１の発明特定事項のように構成することが、刊行物５に記載された技術的事項に基づいて、当業者が容易に想到できたこととすることはできない。
（５）まとめ
　上記（１）ないし（４）のとおりであって、引用発明において、相違点２及び相違点３に係る本願発明１の発明特定事項のように構成することが、刊行物２ないし刊行物５に記載された技術的事項に基づいて、当業者が容易に想到できたこととすることはできない。
　そして、本願発明１は、相違点２及び相違点３に係る発明特定事項をともに具備することによって、「露光光の短波長域も感光性樹脂の光反応に利用することができ、露光時間の短縮化が図れる」（本願の発明の詳細な説明の【００１２】）という、引用発明にはない効果を奏するものと認められる。
　引用発明において、相違点２及び相違点３に係る本願発明１の発明特定事項のように構成することが、当業者が容易に想到し得たことといえない以上、相違点１について検討するまでもなく、本願発明１は、引用発明及び刊行物２ないし刊行物５に記載された技術的事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
　また、本願発明２は、本願発明１の発明特定事項に加えてさらなる発明特定事項を追加して限定を付したものであるから、上記と同様の理由により、引用発明及び刊行物２ないし刊行物５に記載された技術的事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
　
第５　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び刊行物２ないし刊行物５に記載された技術的事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとすることができないから、原査定の理由によっては、本願を拒絶することはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。