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【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年10月28日(2015.10.28)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８２】
表１
2013523932.tif 000001
(1) SBR溶液 (乾燥SBRとして表す含有量)：40%のスチレン、12％の1,2‐ポリブタジエン単位および48％の1,4‐ポリブタジエン単位 (Tg = −28℃)；
(2) ポリ(酢酸ビニル‐コ‐ヘキサン酸ビニル) (Tg = −25℃)、80モル％のヘキサン酸ビニルモノマーおよび20モル％の酢酸ビニルモノマー；
(3) シリカ：Rhodia社からの“Zeosil 1165MP”“HD”タイプ (BETおよびCTAB：およそ160m2/g)；
(4) カーボンブラック：N234 (ASTM級)；
(5) カップリング剤TESPT (Degussa社からの“Si69”)；
(6) 高TgのC5/C9樹脂 (Exxon社からの“Escorez”)とオレイン酸ヒマワリ油 (Novance社からの“Lubrirob Tod 1880”)との混合物；
(7) Stearin (Uniquema社からの“Pristerene”)；
(8) 酸化亜鉛 (工業級；Umicore社から)；
(9) イオウ；
(10) N‐シクロヘキシル‐2‐ベンゾチアゾールスルフェンアミド (Flexsys社からのSantocure CBS)；
(11) ジフェニルグアニジン (Flexsys社からの“Perkacit DPG”)；
(12) N‐(1,3‐ジメチルブチル)‐N‐フェニル‐パラ‐フェニレンジアミン (Flexsys社からのSantoflex 6‐PPD)。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年8月31日(2015.8.31)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００７】
実施態様として、本開示は、ガス化装置において炭素質材料をガス化して、合成ガスを生成する方法であって; 前記ガス化装置が第1の反応ゾーンと第2の反応ゾーンを備え; 前記方法が: 前記ガス化装置の第1の反応ゾーンに1つ以上の炭素質材料を添加する工程; 前記ガス化装置の第1の反応ゾーンと第2の反応ゾーンの一方または双方に酸素分子含有ガスを添加し、更に必要により水または水蒸気を添加してもよい工程を含み; ここで、前記ガス化装置に添加される全酸素の量が前記ガス化装置に添加される全炭素のポンド当たりのポンドで約1.25よりも多い量を含む、前記方法を提供する。一実施態様において、前記ガス化装置の第1の反応ゾーンに添加される全酸素の量が前記ガス化装置に添加される全炭素のポンド当たりのポンドで約1.25〜約3.5を含んでいる。
本開示は、更に: 前記生合成ガスを冷却および洗浄に供して、清浄な合成ガスを生成する工程; 前記清浄合成ガスと生体触媒とを発酵容器内で接触させて、アルコール生成混合物を作る工程を含む方法を提供する。
一実施態様において、前記炭素質材料の1つ以上において水素に対する炭素の質量比は1〜20を含んでいる。一実施態様において、前記炭素質材料の1つ以上の酸素に対する炭素の質量比は1〜200を含んでいる。
本開示は、ガス化装置において炭素質材料をガス化して、部分酸化法を用いて合成ガスを生成する方法であって; 前記ガス化装置が、第1の反応ゾーン、第2の反応ゾーンおよび第1の反応ゾーンを第2の反応ゾーンに接続するチャンバを備え; 前記方法が: 1つ以上の炭素質材料を前記ガス化装置の第1の反応ゾーンに添加する工程; 前記ガス化装置の第1の反応ゾーンおよび第2の反応ゾーンの一方または双方に分子酸素含有ガスを添加し、更に必要により水または水蒸気を添加してもよい工程を含み; 前記ガス化装置の第1の反応ゾーンと第2の反応ゾーンとを接続する前記チャンバに分子酸素含有ガスを添加する工程を含む、前記方法を提供する。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１６】
一実施態様において、前記炭素質材料は、炭素質物質、炭素質液体製品、産業炭素質液体リサイクル、炭素質都市固形廃棄物(MSWまたはmsw)、炭素質一般廃棄物、炭素質農業材料、炭素質森林材料、炭素質木屑、炭素質建設材料、炭素質植物材料、炭素質石油化学副産物、炭素質石炭、プラスチック、廃プラスチック、コークス炉タール、ファイバソフト、タイヤ、リグニン、黒液、ポリマー、廃ポリマー、ポリエチレンテレフタレート(PETA)、ポリスチレン(PS)、下水汚泥、動物の排泄物、作物残渣、エネルギー作物、森林加工残渣、木材加工残渣、畜産廃棄物、家禽廃棄物、食料加工残渣、発酵プロセス廃棄物、炭素質産業廃棄物、アルコール生成廃棄物、エタノール副産物、使用済み穀粒、使用済み微生物またはこれらのいずれかの組み合わせより選ばれる複数の炭素質材料を含んでいる。
実施態様において、ガス化装置は灰分-炭素を含有する灰分を生成し、前記灰分は約10%未満の灰分-炭素を含んでいる。実施態様において、ガス化装置は灰分-炭素を含有する灰分を生成し、前記灰分は約5%未満の灰分-炭素を含んでいる。
実施態様において、本開示は、分子酸素の存在下に約1750oF〜約3500oF(約954℃〜約1927℃)の温度で前記生成ガスを処理して、一酸化炭素、水素および合成ガス-炭素を含む生合成ガスを生成する方法を提供する。種々の実施態様において、生合成ガスはまた、二酸化炭素を含んでいる。
実施態様において、前記炭素質材料の1つ以上における水素に対する炭素の質量比は1〜20を含んでいる。一実施態様において、前記炭素質材料の1つ以上における酸素に対する炭素の質量比は1〜200を含んでいる。
実施態様として、前記生合成ガスは、生成される生合成ガスの1000SCF(28立方メートル)当たり約0.5ポンド(約0.23キログラム)未満の合成ガス-炭素を含んでいる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
本開示は、更に: 前記生合成ガスを冷却および洗浄に供して、清浄な合成ガスを生成する工程; 発酵容器内で前記清浄な合成ガスと生体触媒とを接触させて、アルコール製品混合物を生成する工程を含む前記方法を提供する。一実施態様において、前記炭素質材料の1つ以上における水素に対する炭素の質量比は1〜20を含んでいる。一実施態様において、前記炭素質材料の1つ以上における酸素に対する炭素の質量比は1〜200を含んでいる。
本開示は、部分酸化法を用いて合成ガスを生成するガス化装置において炭素質材料をガス化する方法であって; 前記ガス化装置が、第1の反応ゾーン、第2の反応ゾーンおよび第1の反応ゾーンを第2の反応ゾーンに接続するチャンバを備え; 前記方法が: 1つ以上の炭素質材料をガス化装置の前記第1の反応ゾーンに添加する工程; 前記ガス化装置の前記第1の反応ゾーンと第2の反応ゾーンの一方または双方に分子酸素含有ガスを添加し、更に必要により水または水蒸気を添加してもよい工程を含み; 前記ガス化装置の前記第1の反応ゾーンと前記第2の反応ゾーンとを接続する前記チャンバに分子酸素含有ガスを添加する工程を含む、前記方法を提供する。
本開示は、部分酸化方法を用いて合成ガスを生成するガス化装置であって; 前記ガス化装置が第1の反応ゾーン、第2の反応ゾーンおよび第1の反応ゾーンを第2の反応ゾーンに接続するチャンバを備え; 前記方法が: ガス化装置の前記第1の反応ゾーンに1つ以上の炭素質材料を添加する工程; 前記ガス化装置の前記第1の反応ゾーンと第2の反応ゾーンの一方または双方に分子酸素含有ガスを添加し、必要により水または水蒸気を添加してもよい工程を含み; 前記ガス化装置の前記第1の反応ゾーンと前記第2の反応ゾーンとを接続する前記チャンバに分子酸素含有ガスを添加する工程を含む、前記方法を提供する。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年8月21日(2015.8.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４３】
｛式中、
ＲＸ４は、限定されないが、分岐鎖又は直鎖の低級アルキル（Ｃ１−Ｃ２０）；ハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）；ニトリル（ＣＮ）；ボロン酸（ＢＯ２Ｈ２）；カルボン酸（ＣＯＯＨ）；カルボン酸エステル（ＣＯＯＲＸ２）；一級アミド（ＣＯＮＨ２）；二級アミド（ＣＯＮＨＲＸ２）；三級アミド（ＣＯＮＲＸ２ＲＸ３）；スルホンアミド（ＳＯ２ＮＨ２）；及びＮ−アルキルスルホンアミド（ＳＯＮＨＲＸ２）が含まれる群より選択され；
ここでＲＸ２、ＲＸ３は、限定されないが、分岐鎖又は直鎖の低級アルキル（Ｃ１−Ｃ２０）；フェニル（Ｃ６Ｈ５）；ＲＸ４置換フェニル環（ＲＸ４Ｃ６Ｈ４）（ここでＲＸ４は、上記に定義される）；カルボン酸（ＣＯＯＨ）；カルボン酸エステル（ＣＯＯＲＸ５）（ここでＲＸ５は、分岐鎖又は直鎖の低級アルキル（Ｃ１−Ｃ２０）である）；及びシクロアルキル（ここでＲＸ２＝ＲＸ３＝（ＣＨ２）ｎである）が含まれる群より独立して選択される｝からなる群より選択され；
ここで、ｎ＝０〜１０であり；
式中、
Ｘは、限定されないが、−Ｈ、−ＯＨ、−ＯＭｅ、−Ｏ−アリル、−Ｆ、−ＯＥｔ、−ＯＰｒ、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ３、及び−アジドが含まれる群より選択され；
式中、
Ｒ’は、限定されないが、−ＯＨ、−ＯＡｃ；−ＯＢｚ、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＯＣＨ３、及び−ＯＳｉＭｅ２ｔＢｕが含まれる群より選択され；
式中、
Ｒ”は、限定されないが、−Ｈ、４，４−ジメトキシトリチル（ＤＭＴ）、及び三リン酸（−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）−Ｏ−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）−Ｏ−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）２）又はその塩が含まれる群より選択され；そしてここで、
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年6月23日(2015.6.23)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
０.４５〜０.５５mgエストラジオール及び０.２０〜０.３０mgドロスピレノン、及び少なくとも１種の薬学的に許容される賦形剤を含む固体投与製剤。
【請求項２】
該投与製剤が錠剤である請求項１に記載の投与製剤。
【請求項３】
該エストラジオールがエストラジオール半水和物の形態である請求項１又は２に記載の投与製剤。
【請求項４】
該エストラジオールがエストラジオールの薬学的に許容されるエステルの形態である請求項１−３のいずれかに記載の投与製剤。
【請求項５】
数個の個別に包装され、個々に分離できる、請求項１−４のいずれかに定義される固体投与製剤から成り、少なくとも２１日間の経口投与を意図する包装ユニット。
【請求項６】
該経口投与が２８日間である請求項５に記載の包装ユニット。
【請求項７】
投与製剤の数が２８個又は２８個の倍数である請求項５又は６に記載の包装ユニット。
【請求項８】
投与製剤の数が２〜１２×２８個である請求項６又は７に記載の包装ユニット。
【請求項９】
該包装ユニットがブリスター包装である請求項５−８のいずれかに記載の包装ユニット。
【請求項１０】
医薬として用いるための請求項１−４のいずれかに記載の投与製剤。
【請求項１１】
女性における血管運動症状の予防、処置又は緩和のための請求項１−４のいずれかに記載の投与製剤。
【請求項１２】
該血管運動症状が中度ないし重度の血管運動症状である請求項１１に記載の投与製剤。
【請求項１３】
該血管運動症状がほてりである請求項１１又は１２に記載の投与製剤。
【請求項１４】
女性における不正出血の頻度を低下させ、又は無月経の発生率を上昇させる、請求項１−４のいずれかに記載の投与製剤。
【請求項１５】
該女性が閉経後の女性である請求項１１−１４のいずれかに記載の投与製剤。
【請求項１６】
女性における血管運動症状の予防、治療又は緩和のための医薬の製造における、請求項１−４のいずれかに記載の投与製剤の使用。
【請求項１７】
女性における不正出血の頻度を低下させ、又は無月経の発生率を上昇させるための医薬の製造における、請求項１−４のいずれかに記載の投与製剤の使用。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５６】
実施例１−臨床試験
治験デザイン
本臨床試験は、１２週の処置期間にわたり、閉経後女性における中度ないし重度の血管運動症状の緩和のための経口投与E２の最低有効用量の決定のための多施設、二重盲検、無作為、プラセボコントロール試験であった。
プラセボ群は、１２週にわたり毎日０ mg E２（及びDRSPなし）を含有する錠剤を一錠受領した。
第１処置群は、１２週にわたり毎日０.３ mg E２（及びDRSPなし）を含有する錠剤を一錠受領した。
第２処置群は、１２週にわたり毎日０.５ mg E２及び０.２５ mg DRSPを含有する錠剤を一錠受領した。
３群全て、中度ないし重度のほてりの頻度について、ベースラインで同等な平均及び中央値を有していた。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年6月16日(2015.6.16)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
i)ジベンゾイルメタン誘導体；
ii)0.1乃至30重量%のテアフラビン；及び
iii)化粧品として許容されるベース；
を含み、前記化粧品として許容されるベースが油中水型エマルションである、パーソナルケア組成物。
【請求項２】
0.3乃至10重量%のテアフラビンを含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記ジベンゾイルメタン誘導体が、４-t-ブチル-4’-メトキシジベンゾイルメタンである、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記組成物の重量に対して0.1乃至10重量%のジベンゾイルメタン誘導体を含む、請求項２に記載の組成物。
【請求項５】
前記テアフラビンが、テアフラビン、テアフラビン-3-ガレート、テアフラビン-3’-ガレート、テアフラビン-3及び3’-ジガレートからなる群より選択される、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】
テアフラビンを含むカメリアシネンシス種の紅茶の水性抽出物を含む、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項７】
前記紅茶の水性抽出物が、2乃至15重量%のテアフラビンを含む、請求項６に記載の組成物。
【請求項８】
カメリアシネンシス種の紅茶の水性抽出物を0.1乃至40重量%含む、請求項６または７に記載の組成物。
【請求項９】
ジベンゾイルメタン誘導体のテアフラビンに対する重量比が、10：1乃至1：5である、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１０】
パラ-メトキシ桂皮酸またはその誘導体をさらに含む、請求項１乃至９のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１１】
0.1乃至10重量%のパラ-メトキシ桂皮酸またはその誘導体を含む、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１２】
前記油中水型エマルションが、架橋シリコーンエラストマーブレンドを含む、請求項１に記載の組成物。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３２】
以下の表は、R1及びR2に関して様々なタイプのテアフラビンを示す。
【表１】
2013523793.tif 000001
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年3月17日(2015.3.17)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
本発明は、1-(2-メチル-4-(2,3,4,5-テトラヒドロ-1-ベンズアゼピン-1-イルカルボニル)ベンジルカルバモイル)-L-プロリン-N,N-ジメチルアミドの結晶形態の溶媒和物(例えば水和物)を包含する。
実施態様において、本発明の化合物は、結晶特性を有し、好ましくは少なくとも50%、60%、70%、80%または90%結晶性である。他の実施態様において、本発明の化合物は、＞95%結晶性である。結晶化度は、通例のX線回折技術または示差走査熱量測定技術によって推定され得る。
これまでに本発明の化合物の1つの結晶多形体が分離および確認され、本明細書において『形態1』と呼ぶ。
本明細書において、X線粉末回折ピーク(2θ度で表される)は、1.5406オングストローム(アルファ1)と1.5444オングストローム(アルファ2)の波長を有する銅X線を用いて測定される。
本発明は、少なくとも下記の特徴的（特性）X線粉末回折ピーク(Cu Kα放射線、2θ度で表される)を約:
(1) 5.5、10.9、14.2、21.9および24.0または
(2) 5.5、10.6、10.9、14.2、18.8、21.9および24.0または
(3) 5.5、10.6、10.9、14.2、15.1、15.6、18.8、21.9および24.0
において示す1-(2-メチル-4-(2,3,4,5-テトラヒドロ-1-ベンズアゼピン-1-イルカルボニル)ベンジルカルバモイル)-L-プロリン-N,N-ジメチルアミドの結晶形態(形態1)を提供する。
これに関連して、用語「約」は、2θの測定において±0.2度(2θ度で表される)の不確実性があることを意味する。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
本発明は、また、個々のピーク(2θ度で表される)を約5.5、10.6、10.9、14.2、15.1、15.6、18.8、21.9、24.0、26.0、26.4および26.8において含むX線粉末回折パターンを有する1-(2-メチル-4-(2,3,4,5-テトラヒドロ-1-ベンズアゼピン-1-イルカルボニル)ベンジルカルバモイル)-L-プロリン-N,N-ジメチルアミドの結晶形態(形態1)を提供する。
本発明は、また、少なくとも下記の特徴的面間隔値(オングストローム)を約:
(1) 16.14、8.11、6.25、4.72、4.06および3.71または
(2) 16.14、8.37、8.11、6.25、4.72、4.06および3.71または
(3) 16.14、8.37、8.11、6.25、5.86、5.69、4.72、4.06および3.71
において示すX線粉末回折パターンを有する1-(2-メチル-4-(2,3,4,5-テトラヒドロ-1-ベンズアゼピン-1-イルカルボニル)ベンジルカルバモイル)-L-プロリン-N,N-ジメチルアミドの結晶形態(形態1)を提供する。
図1は、1-(2-メチル-4-(2,3,4,5-テトラヒドロ-1-ベンズアゼピン-1-イルカルボニル)ベンジルカルバモイル)-L-プロリン-N,N-ジメチルアミドの形態1を示すX線粉末回折パターンである。本発明は、また、図1に示されるのと実質的に同じX線粉末回折パターンを有する1-(2-メチル-4-(2,3,4,5-テトラヒドロ-1-ベンズアゼピン-1-イルカルボニル)ベンジルカルバモイル)-L-プロリン-N,N-ジメチルアミドの結晶形態(形態1)を提供する。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年3月16日(2015.3.16)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸気治療システムにおいて、
ハンドルと、
前記ハンドルに連結され、男性の尿道に挿入されるように構成されたシャフトと、
蒸気出口ポートを含む、前記シャフト内に配置された蒸気送出ニードルと、
前記ニードルのチップを前記シャフトに対して横方向に前記シャフトから１５ｍｍ以下の距離だけ移動させるように構成された蒸気ニードル展開機構と、
水蒸気源と、
前記ハンドル上に配置され、水蒸気を前記水蒸気源から前記蒸気送出ニードル内に入れ、前記蒸気出口ポートから出すために１つまたはそれ以上の弁を作動するように構成された蒸気送出アクチュエータとを含む、システム。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムにおいて、
前記蒸気ニードル展開機構は、前記ニードルを展開するため、前記ニードルに作動力を加えるように構成されたアクチュエータを含む、システム。
【請求項３】
請求項１に記載のシステムにおいて、
前記蒸気ニードル展開機構は、更に、ニードル展開ばねを含む、システム。
【請求項４】
請求項１に記載のシステムにおいて、更に、
前記ニードルが展開されない限り、水蒸気が前記蒸気送出ニードルから送出されないようにする蒸気送出相互係止体を含む、システム。
【請求項５】
請求項１に記載のシステムにおいて、
前記ニードル展開機構は、更に、前記ニードルの展開距離を制限するようになった制限ストップを含む、システム。
【請求項６】
請求項１に記載のシステムにおいて、更に、
前記ニードルを前記シャフト内に引っ込めるニードル引っ込めアクチュエータを含む、システム。
【請求項７】
請求項１に記載のシステムにおいて、更に、
内視鏡を受け入れる大きさの内視鏡ボアが前記シャフトに設けられており、前記内視鏡ボアは、使用者が前記内視鏡を通して前記蒸気送出ニードルの遠位チップ部分を見ることができるように配向されている開口部を有する、システム。
【請求項８】
請求項７に記載のシステムにおいて、更に、
前記蒸気送出ニードルの前記遠位チップ部分に設けられたマークを含む、システム。
【請求項９】
請求項８に記載のシステムにおいて、
前記マークは、前記ニードルが延ばされた位置にある場合には、前記内視鏡を通して見ることができるが、前記ニードルが延ばされない位置にある場合には、前記内視鏡を通して見ることができない、システム。
【請求項１０】
請求項１に記載のシステムにおいて、
前記ニードルは、尖ったチップを持つ可撓性ポリマー製チューブである、システム。
【請求項１１】
請求項１に記載のシステムにおいて、
前記ニードルは断熱されている、システム。
【請求項１２】
請求項１１に記載のシステムにおいて、
前記断熱ニードルは、断熱空隙及び外スリーブによって取り囲まれた中央ボアを含む、システム。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年2月27日(2015.2.27)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
本発明のブラキセラピーテンプレートアダプターは、ブラキセラピーテンプレートによって画成される複数の貫通路と一意的に流体整合して位置するように配列した複数のアダプター貫通路を画成するブラキセラピーテンプレートアダプター本体を含み、アダプター貫通路の少なくとも一部分がブラキセラピーテンプレートの貫通路より短い横断距離を有する。望ましくは、本発明の貫通路には、アダプター本体の第１の主表面に画成される相対的に大きな直径の開口からアダプター貫通路の相対的に小さな直径へと移行する面取り面が画成される。面取り面は、切頭円錐形又は丸い環状縁の形状を有することができる。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
テンプレートの問題に対処するために、１８ゲージ標準シードテンプレートの現在のユーザーが、２０ゲージ針を必要な精度及び公差で埋め込むことができるように、テンプレートアダプターが設計され、開発されてきた。テンプレートアダプターは、１８ゲージ針テンプレートの後面に機械的に嵌まる。アダプターは、既存の１８ゲージテンプレートのＸＹ座標系を反映するが、先端の面取り部及び２０ゲージ針のための適切なサイズの貫通路を有する。アダプターは、現在のテンプレートの（患者に向かって）後面と患者の会陰との間の利用可能な領域へと嵌まる。アダプターは放射性シードの臨床的な埋め込み時に現在の空隙へと嵌まるので、追加される全体的な厚さは、線量計画又は針が患者へと延在できることには影響しない。ＸＹ座標系、及び機械的締結ピンしか必要としないので、テンプレートは、現在のテンプレートの約１／５の費用で製造することができる。さらに、医師が使用する基準は、既存の１８ゲージの前側の針テンプレートにあるので、座標系にはラベリングが必要でない。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
テンプレートアダプターは、埋め込み格子のＸＹ部分、及び小さいプローブ切込み（シードのＺ軸配置のために使用される超音波プローブ）のみを複製するように設計されている。アダプターは、望ましくは、既存のテンプレートに精密な嵌合で機械的に固定されるように、ＸＹ格子の４隅の孔を使用する（シードの埋め込み中には使用されない）。アダプターは、ＸＹ制御された針をアダプターへと通しやすくするための面取り部を有し、次いで針を患者へと最適に導くサイズの貫通路へと小さくなる。アダプターの面取り部及び貫通路は、既存のテンプレートに比例して等しい（より小径の針に比例して小さくなる）ことに留意されたい。アダプターは、アダプターの製造後に決定された検査項目に応じて、滅菌中又は滅菌後に既存のテンプレート上に配置することができる（正しいサイズの面取り部、孔、ガイドピン、プローブ切込みなどが使用されることを確認するための、多くの検査がある）。アダプターを、既存のテンプレート、線量計画ソフトウエア、手術準備などと共に設定し、使用するための方法を説明する一式の文書がある。アダプターは、１８から２０ゲージ用のアダプターとして明確に識別するように、上面にのみラベリングされる。アダプターは、滅菌又は針の使用交換のために必要な場合は簡単に取り外せるように、側面に設計された手持ち部を有する。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
ここで図２〜４を参照すると、本発明は、アダプター本体１２を有するテンプレートアダプター１０を提供する。本体１２は、対向する平坦な主表面１４及び１６を含む。第１の主表面１４は多数の入口開口１８を画成し、第２の主表面１６は等しい数の会陰開口２０を画成し、本体１２は、関連付けられた入口開口と会陰開口との間を流体連通して延びる、等しい数の細長い貫通路２２を画成する。各貫通路２２は、細長い通路壁２４によってさらに画成される。各通路壁２４は、望ましくは、細長い円筒面２６及び面取り面２８によって画成される。面取り面２８は、第１の主表面１４から円筒面２６へと延び、円筒面２６は面取り面２８から第２の主表面１６へと延びる。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
面取り面２８は、入口開口１８の第１の直径から、円筒面２６と接続する第２のより小さい直径へと先細状になる切頭円錐形を有することが示されている。従って、面取り面２８は、テンプレート１のより大径の貫通路から、本発明のより小径の貫通路２２へと、移行部を形成する。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３２】
１  会陰テンプレート
２  患者固定取付具
３  患者
４  穿刺針
５  ルアーハブ
７  針本体
８  開口端部
９  開口端部
１０  テンプレートアダプター
１２  アダプター本体
１４  第１の主表面
１６  第２の主表面
１８  入口開口
２０  会陰開口
２２  貫通路
２４  通路壁
２５  下縁部
２６  円筒面
２７  上縁部
２８  面取り面
２９  表示
３０  格子ピン
３２  ピン本体
３４  第１の部分
３５  切欠き
３６  第２の部分
４０  アセンブリ
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年4月6日(2015.4.6)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
照射によって医療デバイスを滅菌する方法であって、
医療デバイスの公称線量レベルへの曝露に基づいて、前記医療デバイスの第１の線量マップ及び第２の線量マップを取得するステップであって、前記第１の線量マップを取得するために前記医療デバイスを放射線源に対して第１の向きで配置するサブステップと、前記第２の線量マップを取得するために前記医療デバイスを放射線源に対して第２の向きで配置するサブステップと、を含む、当該医療デバイスの第１の線量マップ及び第２の線量マップを取得するステップと、
前記第１の線量マップ及び前記第２の線量マップのそれぞれによって説明される密度プロファイルに基づいて、前記放射線源からの放射線の大きさである前記第１の線量レベル及び前記第２の線量レベルを選択するステップであって、前記第２の線量レベルが前記第１の線量レベルと異なっている、当該選択するステップと、
前記医療デバイスを滅菌するステップであって、前記医療デバイスを前記第１の向きで配置するサブステップと、次いで前記医療デバイスを前記第１の線量レベルに曝露するサブステップと、前記医療デバイスを前記第２の向きで配置するサブステップと、次いで前記医療デバイスを前記第２の線量レベルに曝露するサブステップと、を含む、当該医療デバイスを滅菌するステップと、
を備え、
前記医療デバイス上のある位置で受ける総放射線量は、前記第１の線量レベル及び前記第２の線量レベルへの曝露後に前記ある位置で受ける放射線の総計であり、
前記選択するステップは、前記医療デバイス上の第１の位置で受ける前記総放射線量と前記医療デバイス上の第２の位置で受ける前記総放射線量との違いを減らすように、前記第１の線量レベル及び前記第２の線量レベルを決定することを含む、当該方法。
【請求項２】
前記医療デバイスが、生体吸収性ポリマーステント、又は、ポリマーコーティング内に含まれる治療薬、を含むカテーテルである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ｅ−ビーム放射線が使用される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記医療デバイスが、薬剤溶出生体吸収性ポリマーを含むカテーテルである、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記医療デバイスを滅菌するステップでは、所望される線量レベルに基づいて、あらかじめ定められた速度でコンベヤに沿って前記医療デバイスを移動させ、
前記第１の線量レベルが第１のパス中に照射され、前記医療デバイスが向きを変えられ、次いで前記第２の線量レベルが第２のパス中に照射される、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記取得するステップは、第３の線量マップを取得するために、前記医療デバイスを前記放射線源に対して第３の向きで配置することをさらに含み、
前記選択するステップは、前記第１の線量マップ、前記第２の線量マップ、及び前記第３の線量マップのそれぞれによって説明される密度プロファイルに基づいて、前記第１の線量レベル、前記第２の線量レベル、及び第３の線量レベルを選択することを含み、
前記滅菌するステップは、前記医療デバイスを前記第１の向きで配置するサブステップと、次いで前記医療デバイスを前記第１の線量レベルに曝露するサブステップと、前記医療デバイスを前記第２の向きで配置するサブステップと、次いで前記医療デバイスを前記第２の線量レベルに曝露するサブステップと、前記医療デバイスを前記第３の向きで配置するサブステップと、次いで前記医療デバイスを前記第３の線量レベルに曝露するサブステップとを含み、
前記医療デバイス上のある位置で受ける総放射線量は、前記第１の線量レベル、前記第２の線量レベル、及び前記第３の線量レベルへの曝露後に前記ある位置で受ける放射線の総計であり、
前記選択するステップは、前記第１の線量レベル、前記第２の線量レベル、及び前記第３の線量レベルの全ての組合せによって、高密度のエリアで受ける線量と低密度のエリアで受ける線量との違いを減らすように、前記第１の線量レベル、前記第２の線量レベル、及び前記第３の線量レベルを決定することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記滅菌するステップは、所望される線量レベルに基づいて、あらかじめ定めれれた速度でコンベヤに沿って前記医療デバイスを移動させることを含み、
前記第１の線量レベルが第１のパス中に照射され、前記医療デバイスが向きを変えられ、次いで前記第２の線量レベルが第２のパス中に照射され、次いで前記医療デバイスが前記第３の向きで配置され、次いで前記第３の線量レベルが第３のパス中に照射される、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記第１及び第２の線量レベルの総計は、前記医療デバイスの無菌性保証レベルを得るために選択される、請求項１〜５のいずれか一項記載の方法。
【請求項９】
前記第１、第２、及び第３の線量レベルの総計は、前記医療デバイスの無菌性保証レベルを得るために選択される、請求項６又は７記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年5月7日(2015.5.7)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リーンバーン内燃エンジンと排気システムを備えてなる装置であって、
前記排気システムが、一以上の触媒後処理構成材を備え、
前記一以上の触媒後処理構成材がハニカムフロースルー基質モノリス及び触媒組成物を備え、
前記触媒組成物は、
第一金属酸化物担体と、前記第一金属酸化物担体上に、パラジウムと金とからなる合金とを含んでなる第一触媒層と、
前記第一触媒層下に配置され、第二金属酸化物担体と、前記第二金属酸化物担体上に白金とを備える第二触媒層と、
を備え、触媒組成物におけるＡｕ：Ｐｄの原子比率が９：１〜１：９である、装置。
【請求項２】
前記触媒組成物におけるＡｕ：Ｐｄの原子比率が５：１〜１：５である、請求項１に記載された装置。
【請求項３】
前記触媒組成物においてＡｕ：Ｐｄの原子比率が２：１〜１：２である、請求項１又は２に記載された装置。
【請求項４】
前記触媒組成物に存在する貴金属の重量％が０．５〜１０．０である、請求項１〜３の何れか一項に記載された装置。
【請求項５】
前記触媒組成物において存在する貴金属の重量％が１．０〜５．０である、請求項４に記載された装置。
【請求項６】
前記第一触媒層はパラジウムを含む、請求項１から５のいずれか一項に記載された装置。
【請求項７】
前記第一触媒層と前記第二触媒層とは、ゼオライトをも含む、請求項６に記載された装置。
【請求項８】
前記一以上の触媒後処理構成材の少なくとも一つが、酸化触媒、リーンＮＯｘ触媒又はＮＯｘ吸収材を備えてなる、請求項１から７の何れか一項に記載された装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
次に、Ｐｄ：Ａｕ合金の上層、Ｐｔ又はＰｔＰｄの下層の配置は、処理が少なくて済み、そのため製造するのに少量のエネルギーしか消費しない。例えば、基材モノリス上に好適な金属塩及び金属酸化物担体を含むウオッシュコートをコーティングし、コートされた部分を乾燥し次に焼成し、次に、そのＰｔ：Ｐｄの下層を、Ｐｄ：Ａｕ合金のウオッシュコート上層で、ウオッシュコーティングすることにより、Ｐｔ：Ｐｄ触媒を準備し得る；ここで、そのＰｄ：Ａｕ合金は、ウオッシュコートの適切な金属酸化物担体上に前もって固定されている。そのＰｄ：Ａｕ合金は、当業者によって理解されるように、正しい量で金属酸化物担体上に金成分（構成材）を配置する化学的性質のため、前もって固定される。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年10月2日(2015.10.2)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
活性薬剤および担体を含み、少なくとも2つの分離した相を有する医薬製剤であって、担体が、1〜500mg/lの遊離塩素含量および+150〜+1350mVの酸化還元電位を有する次亜塩素酸のアルカリ金属塩の水溶液を含み、活性薬剤が次亜塩素酸のアルカリ金属塩の水溶液を含む担体とは別の相中に存在する、医薬製剤。
【請求項２】
前記遊離塩素含量が、10〜400mg/lである、請求項1に記載の製剤。
【請求項３】
前記酸化還元電位が、+650〜+950mVである、請求項1または2に記載の製剤。
【請求項４】
前記次亜塩素酸のアルカリ金属塩の水溶液が、次亜塩素酸ナトリウム水溶液である、請求項1から3までのいずれか一項に記載の製剤。
【請求項５】
前記次亜塩素酸のアルカリ金属塩の水溶液が2〜8のpHを有する、請求項1から4までのいずれか一項に記載の製剤。
【請求項６】
塩素酸塩含量および亜塩素酸塩含量が、10mg/l未満である、請求項1から5までのいずれか一項に記載の製剤。
【請求項７】
前記活性薬剤が、プロスタグランジン、ベータブロッカー、または増大した眼内圧低下剤から選択される、請求項1から6までのいずれか一項に記載の製剤。
【請求項８】
多数回適用用である、請求項1から7までのいずれか一項に記載の製剤。
【請求項９】
局所または全身投与用である、請求項1から8までのいずれか一項に記載の製剤。
【請求項１０】
眼、鼻、耳、局所、肺、粘膜、経口または腹腔内投与用である、請求項1から9までのいずれか一項に記載の製剤。
【請求項１１】
前記活性薬剤が、液体疎水性相、または前記次亜塩素酸のアルカリ金属塩の水溶液に対して障壁を有する液体相中に存在する、請求項1から10までのいずれか一項に記載の製剤。
【請求項１２】
乳化液または分散液である、請求項1から11までのいずれか一項に記載の製剤。
【請求項１３】
ヒト用の医薬における請求項1から12までのいずれか一項に記載の医薬製剤の製造のための担体としての、1〜500mg/lの遊離塩素含量および+150〜+1350mVの酸化還元電位を有する次亜塩素酸のアルカリ金属塩の水溶液の使用。
【請求項１４】
コンタクトレンズの洗浄のための、請求項13に記載の次亜塩素酸のアルカリ金属塩の水溶液の使用。
【請求項１５】
鼻、眼または耳に施用する体腔洗浄ための、請求項1から12までのいずれか一項に記載の次亜塩素酸のアルカリ金属塩の水溶液を含む医薬製剤。
【請求項１６】
活性薬剤および/または防腐剤がさらには存在しない、請求項1から12および15のいずれか一項に記載の製剤。
【請求項１７】
ドライアイ症候群の治療および/または予防のための、請求項1から12、15および16のいずれか一項に記載の製剤。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００４】
国際公開第2005/065383号パンフレットは、酸化的還元電位の水溶液および消毒薬としてのまたは傷の治療のためのその使用について開示している。この文献の内容は、参照により本明細書に組み込まれる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
塩素酸塩含量および/または亜塩素酸塩含量は、好ましくは、毒性を与える水準より低く、例えば、10mg/lより低い。さらに、溶液は、好ましくは、OHラジカルおよびオゾンからなどのラジカルを、検出し得る量では含まない。その上、溶液は、好ましくは、重金属イオン、例えば、Moイオンを含まない。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年2月9日(2015.2.9)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
クロストリジウム・ディフィシルの検出及び／又は同定方法であって、該方法は
ａ）試験される生物試料を培養培地に播種するステップであって、該培養培地はクロストリジウム・ディフィシルの増殖を可能にするものであり、クロストリジウム・ディフィシルを同定することが可能である少なくとも一のβ−グルコシダーゼ基質を含有するものであるステップ、
ｂ）播種された培養培地を嫌気性条件下でインキュベーションするステップ、及び
ｃ）クロストリジウム・ディフィシルが生物試料に存在する場合にβ−グルコシダーゼ基質の加水分解を検出するステップ
を含む方法。
【請求項２】
前記β−グルコシダーゼ基質が、アリザリン−β−グルコシド、マゼンタ−β−グルコシド（５−ブロモ−６−クロロ−３−インドキシル−β−グルコシド）及びＣＨＥ−β−グルコシド（３，４−シクロヘキセノエスクレチン−β−グルコシド）から選択される、請求項１に記載のクロストリジウム・ディフィシルの検出及び／又は同定方法。
【請求項３】
前記β−グルコシダーゼ基質は、濃度２５〜１０００ｍｇ／ｌである、請求項１又は２に記載のクロストリジウム・ディフィシルの検出及び／又は同定方法。
【請求項４】
前記β−グルコシダーゼ基質は、濃度５０〜４００ｍｇ／ｌである、請求項１又は２に記載のクロストリジウム・ディフィシルの検出及び／又は同定方法。
【請求項５】
前記培養培地がエスクリンを更に含む、請求項１から４のいずれか一項に記載のクロストリジウム・ディフィシルの検出及び／又は同定方法。
【請求項６】
前記エスクリンは、濃度５〜５００ｍｇ／ｌである、請求項５に記載のクロストリジウム・ディフィシルの検出及び／又は同定方法。
【請求項７】
前記エスクリンは、濃度１０〜１００ｍｇ／ｌである、請求項５に記載のクロストリジウム・ディフィシルの検出及び／又は同定方法。
【請求項８】
前記培養培地がβ−グルコシダーゼ誘導因子を更に含む、請求項１から７のいずれか一項に記載のクロストリジウム・ディフィシルの検出及び／又は同定方法。
【請求項９】
前記培養培地が、クロストリジウム・ディフィシル菌株のための少なくとも一の増殖活性化因子を更に含む、請求項１から８のいずれか一項に記載のクロストリジウム・ディフィシルの検出及び／又は同定方法。
【請求項１０】
前記培養培地が、少なくとも一のクロストリジウム・ディフィシル胞子発芽誘導因子を更に含む、請求項１から９のいずれか一項に記載のクロストリジウム・ディフィシルの検出及び／又は同定方法。
【請求項１１】
前記培養培地が少なくとも一の選択剤を更に含む、請求項１から１０のいずれか一項に記載のクロストリジウム・ディフィシルの検出及び／又は同定方法。
【請求項１２】
前記培養培地が、少なくとも一の第二の酵素基質を更に含む、請求項１から１１のいずれか一項に記載のクロストリジウム・ディフィシルの検出及び／又は同定方法。
【請求項１３】
前記培養培地が少なくとも一の還元剤を更に含む、請求項１から１２のいずれか一項に記載のクロストリジウム・ディフィシルの検出及び／又は同定方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００４】
診断はＥＬＩＳＡアッセイにより免疫学によっても実施され得る。しかし、クロストリジウム・ディフィシル株を分離するために毒素を検出するために用いられる免疫学的技法と細菌培養とを組み合わせることが推奨される。この培養ステップは本出願人によって販売されているクロストリジウム・ディフィシル寒天上で実施され得、そしてクロストリジウム・ディフィシルコロニーはアピ２０Ａギャラリー又はラピッドＩＤ  ３２Ａギャラリーのような化学的方法によって同定される。しかし、ギャラリーを用いた同定は十分な生物量（３〜４Ｍｃ  Ｆａｒｌａｎｄ）を得るためには好適な増殖培地での同定される細菌の純粋培養を必要とし、これはせいぜい４８時間を要する（推定的検出を与える試料から開始して２４〜７２時間の分離のための培養と十分な生物量を生じさせるための２４〜７２時間の培養）。そして、ギャラリーはラピッドＩＤ  ３２Ａでは４時間、２０Ａギャラリーでは２４〜４８時間、インキュベーション後に読み取られる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００５】
最後に、診断は分子生物学技法によって実施され得る。しかし、これらの技法はこのときにルーチンには用いられない。驚くべきことに、本発明者らは、１つ以上のβ−グルコシダーゼ酵素基質の使用がクロストリジウム・ディフィシルの容易且つ迅速な同定を可能にすることを示した。ラピッドＩＤ  ３２Ａギャラリーのβ−グルコシダーゼ試験はこの種には陰性であるため、この結果は全く予想外である。本発明による培地は２４時間以降の試料からの検出及び明確な同定を可能にする。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年10月14日(2015.10.14)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
含水量が８．６〜３０％（重量比）であり、非結晶水形式で存在することを特徴とする、安定な６−メトキシ−２’、３’−ジデオキシグアノシン。
【請求項２】
含水量が１５〜２５％（重量比）であることを特徴とする、請求項１に記載の安定な６−メトキシ−２’、３’−ジデオキシグアノシン。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の安定な６−メトキシ−２’、３’−ジデオキシグアノシンの製造方法であって、
環境温度０〜１０℃で、水分が８．６％（重量比）以下の固体６−メトキシ−２’、３’−ジデオキシグアノシンを吸水させて得られることを特徴とする、６−メトキシ−２’、３’−ジデオキシグアノシンの製造方法。
【請求項４】
吸水の際の環境湿度が２０〜１００％であることを特徴とする、請求項３に記載の安定な６−メトキシ−２’、３’−ジデオキシグアノシンの製造方法。
【請求項５】
吸水の際の環境湿度が４０〜９０％であることを特徴とする、請求項４に記載の安定な６−メトキシ−２’、３’−ジデオキシグアノシンの製造方法。
【請求項６】
請求項１又は２に記載の安定な６−メトキシ−２’、３’−ジデオキシグアノシンの製造方法であって、
水分が３０％（重量比）以上の固体６−メトキシ−２’、３’−ジデオキシグアノシンを、乾燥剤として無水塩化カルシウムの存在下、真空乾燥の温度が２５℃の条件で真空乾燥により得られることを特徴とする、６−メトキシ−２’、３’−ジデオキシグアノシンの製造方法。
【請求項７】
請求項１又は２に記載の安定な６−メトキシ−２’、３’−ジデオキシグアノシンの製造方法であって、
水分が３０％（重量比）以上の固体６−メトキシ−２’、３’−ジデオキシグアノシンを、乾燥剤として五酸化リンの存在下、真空乾燥の温度が１５℃の条件で真空乾燥により得られることを特徴とする、６−メトキシ−２’、３’−ジデオキシグアノシンの製造方法。
【請求項８】
活性成分としての請求項１又は２に記載の安定な６−メトキシ−２’、３’−ジデオキシグアノシン及び一種又は多種の薬学上受入れられる医薬品添加剤を含み、剤形が錠剤、シュガーコ―テイング錠剤、カプセル、又はトローチである、医薬品組成物。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３２】
図形への対比を通して、上記二種類の方法で製造獲得した安定な６−メトキシ−２’、３’−ジデオキシグアノシンが非結晶水形式で存在していることを明らかにしたものである
【事件の表示】
　平成　８年特許願第１４２０５５号「音声信号中継装置」拒絶査定に対する審判事件〔平成　９年１２月１６日出願公開、特開平　９−３２６８０２、請求項の数（５）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
本願は、平成８年６月５日の出願であって、その発明の要旨は、平成１０年９月１４日付の手続補正書による補正明細書と図面の記載からみて、特許請求の範囲に記載されたとおりのものであると認める。
　なお、審判請求時にした平成１１年７月８日付手続補正は、当該補正により補正された発明が特許請求の範囲を実質上拡張するものであって特許請求の範囲の減縮を目的としたものに該当せず、特許法第１７条の２第４項の規定に違反するという理由により、本日付けで決定をもって却下された。
　そして、本願については、原査定の拒絶理由を検討してもその理由によって拒絶すべきものとすることはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。
【事件の表示】
　平成　４年特許願第１９３３７４号「半導体装置」拒絶査定に対する審判事件［平成　６年　１月２１日出願公開、特開平　６−　１３４４８］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
（出願の経緯・発明の要旨）
　本願は、平成４年６月２６に出願したものであって、その発明の要旨は、平成１０年４月２７日付及び平成１０年１２月２５日付手続補正書によって補正された明細書及び図面の記載よりみて、その特許請求の範囲請求項１に記載された下記のとおりものと認められる。
　「本体回路と、ウェハテスト時に前記本体回路を試験するために使用される試験専用回路と、前記本体回路と前期試験専用回路とに電源を供給する共通の電源端子とを有する半導体装置において、前記電源端子と前記試験専用回路との間に接続されたスイッチング素子と、前記電源端子と前記スイッチング素子の制御端子との間に接続されたヒューズ素子とを有し、該スイッチング素子はその制御端子へ印加される電圧を前記ヒューズ素子を切断することにより遮断可能に構成されていることを特徴とする半導体装置。」
（引用例）
  原審における拒絶の理由において引用された特開昭６１−１３９０４５号公報（以下、引用例という。）には、「［発明の目的］
　本発明の目的は、ＬＳＩの非診断状態である実際の使用状態において消費電力を低減することを可能とする半導体装置を提供することである。」（第１頁右欄第６〜９行）及び「［実施例２］
　第２図は本発明の第２実施例のゲートアレイチップのレイアウトの一部を示す。図において、符号１０は同一半導体基板よりなるチップ、符号１２はボンディングパッド、符号１３は通常ゲート、符号１４は診断専用ゲート、符号１５は通常ゲート１３用の電源ライン、そして、符号１６は診断専用ゲート１４用の電源ラインである。
　第２図から明らかなように、第２実施例においては、電源ライン１５，１６が個別に各々の通常ゲート１３と診断専用ゲート１４とに対して形成されているが、電源ライン１６は電源ライン１５と同一のボンディングパッド１２に接続されている。しかしながら、電源ライン１６には切断が容易な切断部１７が形成されている。この切断部１７はたとえば熱溶断、レーザー等による切断等が可能である。
　従って第２実施例においても、診断終了後切断部１７を切断することにより、診断専用ゲート１４への電源供給を遮断することができる。」（第２頁右上欄第１２行〜左下欄第１３行）が第２図と共に記載されている。してみると、上記引用例には、通常ゲートと、通常ゲートを診断するための診断専用ゲートと、通常ゲートと診断専用ゲートとに電源を供給するボンディングパッドとを有するＬＳＩにおいて、ＬＳＩの非診断時である実際の使用状態において診断専用ゲートへの電源を遮断することにより消費電力を低減することを目的として、ボンディングパッドと診断専用ゲートとの間に接続され、診断終了後切断することによって通常使用時に診断専用ゲートの電源を遮断するようにした切断部を有するＬＳＩが記載されているものと認められる。
　（対比）
  次に、本願発明と上記引用例記載の発明とを対比すると、上記引用例記載の発明の「通常ゲート」、「診断専用ゲート」、「ボンディングパッド」、「切断部」及び「ＬＳＩ」は本願発明の「本体回路」、「試験専用回路」、「電源端子」、「ヒューズ素子」及び「半導体装置」に相当するから、本願発明と上記引用例記載の発明とは「本体回路と、テスト時に前記本体回路を試験するために使用される試験専用回路と、前記本体回路と前期試験専用回路とに電源を供給する共通の電源端子とを有する半導体装置」の点で一致するが、以下の点で相違するものと認められる。
　(1)試験を、本願発明はウェハの段階で行うのに対して、上記引用例記載の発明は、どの段階で行うのか不明である点。
　(2)本願発明が電源端子と試験専用回路との間に接続されたスイッチング素子と、前記電源端子と前記スイッチング素子の制御端子との間に接続されたヒューズ素子とを有し、該スイッチング素子はその制御端子へ印加される電圧を前記ヒューズ素子を切断することにより遮断可能に構成されているのに対して、上記引用例記載の発明が電源端子と試験専用回路との間に接続されたヒューズ素子を切断可能に構成している点。
　（検討）
  そこで、上記相違点につき以下検討する。
  相違点(1)については、何れの段階で試験を行うかは当業者が必要に応じて任意になし得る設計的事項にすぎず、本願発明がウェハの段階で試験を行うことに格別の意義も認められないから、上記相違点は当業者が任意になし得たことと認められる。
　相違点(2)については、ヒューズ素子の切断により電源供給の遮断を行う手段として、スイッチング素子とそのオフ制御にヒューズ素子の切断を利用する手段は当業者にとって慣用手段にすぎず、上記引用例記載の発明においてヒューズ素子の切断により電源供給の遮断を行う手段としてヒューズ素子の切断のみにより行う手段に替えてスイッチング素子とそのオフ制御にヒューズ素子の切断を利用する手段を採用することに格別の創意工夫を必要としない。審判請求人は審判請求理由書のおいて「本願発明は小容量のヒューズ素子を使用しても電源端子より大電流を供給できる。」旨主張するが、本願発明のスイッチング素子が単なるスイッチング素子である以上、その制御端子に小電流を加えたとき大電流を流し得るとは必ずしもいえないから、上記審判請求人の主張は採用できない。よって、上記相違点は当業者が容易に想到し得たことと認められる。
　（むすび）
  本願発明は、上記引用例記載の発明に基づいて当業者が容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。