【事件の表示】
　特願２００８−１２７１６６「誘導結合プラズマ処理装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２１年１１月２６日出願公開、特開２００９−２７７８５９、請求項の数（５）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１．手続の経緯
　本願は、平成２０年５月１４日の出願であって、平成２５年２月１４日付けで拒絶理由が通知され、同年４月４日付けで意見書と手続補正書が提出され、同年同月２２日付けで拒絶査定がなされ、同年７月１２日付けで拒絶査定不服審判が請求されたものである。
　本願の請求項１〜５に係る発明（以下、「本願発明１〜５」という。）は、平成２５年４月４日付けの手続補正によって補正された特許請求の範囲の請求項１〜５に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
　
　【請求項１】
　被処理体を収容してプラズマ処理を施す処理室と、
　前記処理室内で被処理体が載置される載置台と、
　前記処理室内に処理ガスを供給する処理ガス供給系と、
　前記処理室内を排気する排気系と、
　前記処理室の外部に誘電体部材を介して配置され、高周波電力が供給されることにより前記処理室内に誘導電界を形成する同心状に設けられた３以上のアンテナ部を有する高周波アンテナと、
　前記各アンテナ部を含むアンテナ回路のうち少なくとも一つのインピーダンスを調節し、これにより前記アンテナ部の電流値を制御するインピーダンス調節手段と
を具備し、
　前記各アンテナ部は、複数のアンテナ線が渦巻き状に配置されてなる多重アンテナを構成し、かつその配置領域において均一な電界が形成されるようにその巻き方が設定され、各アンテナ部の配置領域間で電界が均一化されるようにその巻き数が設定され、
　被処理体は矩形状をなし、前記アンテナ部は略矩形状になるようにアンテナ線を配置してなり、
　前記アンテナ部は、略矩形状の各辺の中央部において、他の部分よりも巻き数が少なくなるように巻き方の形態が設定されていることを特徴とする誘導結合プラズマ処理装置。
　【請求項２】
　前記高周波アンテナは、内側のアンテナ部から外側のアンテナ部に向かって巻き数が少なくなるように各アンテナ部の巻き数が設定されていることを特徴とする請求項１に記載の誘導結合プラズマ処理装置。
　【請求項３】
　前記インピーダンス調節手段は、前記各アンテナ部を含むアンテナ回路のうち少なくとも一つに接続され、その接続されたアンテナ回路のインピーダンスを調節することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の誘導結合プラズマ処理装置。
　【請求項４】
　前記インピーダンス調節手段は、可変コンデンサを有することを特徴とする請求項３に記載の誘導結合プラズマ処理装置。
　【請求項５】
　アプリケーションごとに最適なプラズマ密度分布が得られる前記インピーダンス調節手段の調節パラメータが予め設定され、所定のアプリケーションが選択された際にそのアプリケーションに対応する前記インピーダンス調節手段の調節パラメータが予め設定された最適な値になるように前記インピーダンス調節手段を制御する制御手段をさらに有することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の誘導結合プラズマ処理装置。
　
第２．原査定の拒絶の理由の検討
１．原査定の拒絶の理由の概要
　原査定の拒絶の理由の概要は、「本願発明１〜５は、特開２００７−３１１１８２号公報に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。」というものである。
　
２．引用例の記載
　原査定の拒絶の理由に引用された特開２００７−３１１１８２号公報（以下、「引用例」という。）には、次の事項が記載され、視認される。
（ア）「【請求項１】
　被処理基板を収容してプラズマ処理を施す処理室と、
　前記処理室内で被処理基板が載置される載置台と、
　前記処理室内に処理ガスを供給する処理ガス供給系と、
　前記処理室内を排気する排気系と、
　前記処理室の外部に誘電体部材を介して配置され、高周波電力が供給されることにより前記処理室内にそれぞれ異なる電界強度分布を有する誘導電界を形成する複数のアンテナ部を有する高周波アンテナと、
　前記各アンテナ部を含むアンテナ回路のうち少なくとも一つに接続され、その接続されたアンテナ回路のインピーダンスを調節するインピーダンス調節手段と
を具備し、
　前記インピーダンス調節手段によるインピーダンス調節により、前記複数のアンテナ部の電流値を制御し、前記処理室内に形成される誘導結合プラズマのプラズマ密度分布を制御することを特徴とする誘導結合プラズマ処理装置。」（特許請求の範囲の請求項１）
（イ）「【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
　本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであって、アンテナを交換することなく、装置コストおよび電力コストを高くすることなく、かつ高精度のプラズマ密度分布制御を行うことができる誘導結合プラズマ処理装置および誘導結合プラズマ処理方法を提供することを目的とする。」
（ウ）「【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
　以下、添付図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図１は本発明の一実施形態に係る誘導結合プラズマ処理装置を示す断面図、図２はこの誘導結合プラズマ処理装置に用いられる高周波アンテナを示す平面図である。この装置は、例えばＦＰＤ用ガラス基板上に薄膜トランジスターを形成する際のメタル膜、ＩＴＯ膜、酸化膜等のエッチングや、レジスト膜のアッシング処理に用いられる。ここで、ＦＰＤとしては、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）ディスプレイ、エレクトロルミネセンス（Electro Luminescence；ＥＬ）ディスプレイ、蛍光表示管（Vacuum Fluorescent Display；ＶＦＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等が例示される。
・・・
【００２５】
　アンテナ室３内には誘電体壁２の上に誘電体壁２に面するように高周波（ＲＦ）アンテナ１３が配設されている。この高周波アンテナ１３は絶縁部材からなるスペーサ１７により誘電体壁２から離間している。高周波アンテナ１３は、外側部分においてアンテナ線を密に配置してなる外側アンテナ部１３ａと、内側部分においてアンテナ線を密に配置してなる内側アンテナ部１３ｂとを有している。これら外側アンテナ部１３ａおよび内側アンテナ部１３ｂは、図２に示すように渦巻状の多重（四重）アンテナを構成している。なお、多重アンテナの構成は、内側外側とも二重の構成、あるいは内側二重外側四重の構成でもよい。
・・・
【００５３】
　また、高周波アンテナの構造は上記構造に限るものではなく、同様の機能を持つ他の種々のパターンのものを採用することができる。また、上記実施形態では、高周波アンテナを外側にプラズマを形成する外側アンテナ部と内側にプラズマを形成する内側アンテナ部に分けたが、必ずしも外側と内側に分ける必要はなく、種々の分け方を採用することが可能である。さらに、プラズマを形成する位置が異なるアンテナ部に分ける場合に限らず、プラズマ分布特性の異なるアンテナ部に分けるようにしてもよい。さらにまた、上記実施形態では、高周波アンテナを外側と内側の２つに分けた場合について示したが、３つ以上に分けるようにしてもよい。例えば、外側部分と中央部分とこれらの中間部分の３つに分けることを挙げることができる。」
（エ）「本発明の一実施形態に係る誘導結合プラズマ処理装置を示す断面図」である図１の「誘導結合プラズマ処理装置に用いられる高周波アンテナを示す平面図」である図２を見ると、上記（ウ）の【００２５】に記載された事項、及び、外側アンテナ部１３ａと内側アンテナ部１３ｂは略矩形状であり同心状であって、複数のアンテナ線が渦巻き状に配置されていることが見て取れる。
　
３．引用例に記載された発明
ア　引用例の（ア）には、「　被処理基板を収容してプラズマ処理を施す処理室と、
　前記処理室内で被処理基板が載置される載置台と、
　前記処理室内に処理ガスを供給する処理ガス供給系と、
　前記処理室内を排気する排気系と、
　前記処理室の外部に誘電体部材を介して配置され、高周波電力が供給されることにより前記処理室内にそれぞれ異なる電界強度分布を有する誘導電界を形成する複数のアンテナ部を有する高周波アンテナと、
　前記各アンテナ部を含むアンテナ回路のうち少なくとも一つに接続され、その接続されたアンテナ回路のインピーダンスを調節するインピーダンス調節手段と
を具備し、
　前記インピーダンス調節手段によるインピーダンス調節により、前記複数のアンテナ部の電流値を制御し、前記処理室内に形成される誘導結合プラズマのプラズマ密度分布を制御する・・・誘導結合プラズマ処理装置」が記載され、この「誘導結合プラズマ処理装置」の「複数のアンテナ部」は、同（ウ）の【００５３】によれば、「外側部分と中央部分とこれらの中間部分の３つに分けること」が挙げられている。
イ　そうすると、引用例１には、
「　被処理基板を収容してプラズマ処理を施す処理室と、
　前記処理室内で被処理基板が載置される載置台と、
　前記処理室内に処理ガスを供給する処理ガス供給系と、
　前記処理室内を排気する排気系と、
　前記処理室の外部に誘電体部材を介して配置され、高周波電力が供給されることにより前記処理室内にそれぞれ異なる電界強度分布を有する誘導電界を形成する外側部分と中央部分とこれらの中間部分の３つのアンテナ部を有する高周波アンテナと、
　前記各アンテナ部を含むアンテナ回路のうち少なくとも一つに接続され、その接続されたアンテナ回路のインピーダンスを調節するインピーダンス調節手段と
を具備し、
　前記インピーダンス調節手段によるインピーダンス調節により、前記複数のアンテナ部の電流値を制御し、前記処理室内に形成される誘導結合プラズマのプラズマ密度分布を制御する誘導結合プラズマ処理装置」の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
　
４．対比・判断
４−１．本願発明１について
ア　本願発明１と引用発明とを対比する。
イ　引用発明の「被処理基板」について、引用例の（ウ）の【００２０】の記載には、「薄膜トランジスターを形成する際のメタル膜、ＩＴＯ膜、酸化膜等のエッチングや、レジスト膜のアッシング処理」をする「ＦＰＤ用ガラス基板」が例示され、「ＦＰＤ」として「液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）ディスプレイ、エレクトロルミネセンス（Electro Luminescence；ＥＬ）ディスプレイ、蛍光表示管（Vacuum Fluorescent Display；ＶＦＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等が例示され」ている。
　一方、本願明細書の【００１４】に「本発明の一実施形態に係る誘導結合プラズマ処理装置を示す断面図・・・である。この装置は、例えばＦＰＤ用ガラス基板上に薄膜トランジスターを形成する際のメタル膜、ＩＴＯ膜、酸化膜等のエッチングや、レジスト膜のアッシング処理に用いられる。ここで、ＦＰＤとしては、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、エレクトロルミネセンス（Electro Luminescence；ＥＬ）ディスプレイ、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等が例示される。」と記載されているから、引用発明の「被処理基板」は、本願発明１の「被処理体」に相当する。
ウ　引用発明の「アンテナ部」は「外側部分と中央部分とこれらの中間部分の３つ」であるから、引用発明の「アンテナ部」は、本願発明１の「３以上のアンテナ部」と「３つのアンテナ部」である点で一致している。
エ　引用発明の「インピーダンス調節手段」は、「前記各アンテナ部を含むアンテナ回路のうち少なくとも一つに接続され、その接続されたアンテナ回路のインピーダンスを調節する」ものであって、「前記インピーダンス調節手段によるインピーダンス調節により、前記複数のアンテナ部の電流値を制御」するものであるから、「前記各アンテナ部を含むアンテナ回路のうち少なくとも一つのインピーダンスを調節し、これにより前記アンテナ部の電流値を制御する」ものと言い換えることができるから、引用発明の「インピーダンス調節手段」は本願発明１の「インピーダンス調整手段」に他ならない。
オ　そうすると、両者は、
「　被処理体を収容してプラズマ処理を施す処理室と、
　前記処理室内で被処理体が載置される載置台と、
　前記処理室内に処理ガスを供給する処理ガス供給系と、
　前記処理室内を排気する排気系と、
　前記処理室の外部に誘電体部材を介して配置され、高周波電力が供給されることにより前記処理室内に誘導電界を形成する３つのアンテナ部を有する高周波アンテナと、
　前記各アンテナ部を含むアンテナ回路のうち少なくとも一つのインピーダンスを調節し、これにより前記アンテナ部の電流値を制御するインピーダンス調節手段と
を具備した、
誘導結合プラズマ処理装置」である点で一致し、次の点で相違している。
相違点１：被処理体について、本願発明１では、「矩形状」であるのに対し、引用発明では、形状が不明である点。
相違点２：本願発明１が「前記各アンテナ部は、同心状に設けられ、複数のアンテナ線が渦巻き状に配置されてなる多重アンテナを構成し、かつその配置領域において均一な電界が形成されるようにその巻き方が設定され、各アンテナ部の配置領域間で電界が均一化されるようにその巻き数が設定され、
　前記アンテナ部は略矩形状になるようにアンテナ線を配置してなり、
　前記アンテナ部は、略矩形状の各辺の中央部において、他の部分よりも巻き数が少なくなるように巻き方の形態が設定されている」のに対し、引用発明では、「アンテナ部のそれぞれに異なる電界強度分布を有する誘導電界を形成し、前記処理室内に形成される誘導結合プラズマのプラズマ密度分布を制御」しているものの、かかる事項を有しているか不明である点。
カ　次に、この相違点について検討する。
カ−１　相違点１について
　上記イで検討したように、引用例の（ウ）の【００２０】の記載によれば、引用発明の「被処理体」である「処理基板」には、「液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）用ガラス基板」が含まれ、この「液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）用ガラス基板」は矩形状をしているから、引用発明において被処理体は矩形状の場合を含むということができ、相違点１は実質的なものではない。仮にそうでなくても、被処理体の形状は適宜選択できるものである。
カ−２　相違点２について
カ−２−１　引用例の（ウ）の【００２０】の記載および図２の視認事項によれば、引用例には、アンテナ部は略矩形状であり同心状であって複数のアンテナ線は渦巻き状であるものが開示されているということができる。そして、引用例ではアンテナ部に関し「外側部分と中央部分とこれらの中間部分の３つに分けることを挙げることができる」のであるから、引用発明の「外側部分と中央部分とこれらの中間部分の３つのアンテナ部」は「略矩形状であり同心状に設けられ、複数のアンテナ線が渦巻き状である多重アンテナを構成し、前記アンテナ部は略矩形状になるようにアンテナ線を配置している」ということができる。
カ−２−２　しかし、引用例の（イ）に「アンテナを交換することなく、装置コストおよび電力コストを高くすることなく、かつ高精度のプラズマ密度分布制御を行うことができる誘導結合プラズマ処理装置・・・を提供することを目的とする。」と記載されているように、引用例は、「高精度のプラズマ密度分布制御を行う」ため「アンテナ部のそれぞれに異なる電界強度分布を有する誘導電界を形成し、前記処理室内に形成される誘導結合プラズマのプラズマ密度分布を制御」することは開示しているものの、上記相違点２に係る本願発明１の「多重アンテナを構成し、かつその配置領域において均一な電界が形成されるようにその巻き方が設定され、各アンテナ部の配置領域間で電界が均一化されるようにその巻き数が設定され、
　前記アンテナ部は、略矩形状の各辺の中央部において、他の部分よりも巻き数が少なくなるように巻き方の形態が設定されている」という発明特定事項について、この事項を導出する記載はなされていない。
カ−２−３　そして、上記発明特定事項により、本願発明１は、本願明細書の【０００９】に記載された「大型基板に対しても、均一なプラズマ分布を得ることができる誘導結合プラズマ処理装置を提供する」という目的を達成し、同【００１３】に記載された「電界強度の不均一にともなうプラズマの不均一を生じ難くすることができる」という、引用例の記載からは予想できない顕著な効果を奏するものである。
カ−２−４　よって、相違点２は実質的な相違点であり、しかも、同相違点に係る本願発明１の発明特定事項をなすことは当業者であっても困難なくなし得ることではない。
キ　そうすると、本願発明１は引用例に記載された発明から、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
４−２．本願発明２〜５について
　本願発明２〜５は、本願発明１の発明特定事項を有するものであるから、上記４−１．で述べたものと同じ理由により、本願発明２〜５も引用例に記載された発明から、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
　
第３．むすび
　本願については、原査定の拒絶理由を検討してもその理由によって拒絶すべきものとすることはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。