【手続補正書】
【提出日】平成27年5月21日(2015.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
研磨監視システムを構成する方法であって、
基板の研磨の前に、多数のライブラリから複数のライブラリを選択するユーザ入力を受信するステップを含み、前記複数のライブラリの各ライブラリは基板の研磨中に測定されたスペクトルとの照合に用いるための複数の基準スペクトルを含み、前記複数の基準スペクトルの各基準スペクトルは関連した指標値を有し、
基板の研磨の前に、前記基板の第１のゾーンに対して、前記複数のライブラリからの１又は２以上のライブラリの第１のサブセットを選択するユーザ入力を受信するステップと、
基板の研磨の前に、前記基板の第２のゾーンに対して、前記複数のライブラリからの１又は２以上のライブラリの第２のサブセットを選択するユーザ入力を受信するステップと、
をさらに含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
研磨装置において前記基板を研磨するステップと、
その場監視システムを用いて、研磨中に前記基板の前記第１のゾーンからのスペクトルの第１のシーケンスを測定するステップと、
前記第１のゾーンからの前記スペクトルの第１のシーケンスにおける各々の測定されたスペクトルに対して、前記複数のライブラリからの１又は２以上のライブラリの前記第１のサブセットからの各ライブラリに対して、最も良く合致する基準スペクトルを判断するステップと、
前記複数のライブラリからの１又は２以上のライブラリの第１のサブセットからの各ライブラリに対して、前記基板の前記第１のゾーンについての各々の最も良く合致する基準スペクトルについて、ライブラリの前記第１のサブセットからの各ライブラリに対し、第１の指標値の第１のシーケンスを生成するために第１の指標値を判断するステップと、
を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記その場監視システムを用いて、研磨中に前記基板の前記第２のゾーンからのスペクトルの第２のシーケンスを測定するステップと、
前記第２のゾーンからの前記スペクトルの第２のシーケンスにおける各々の測定されたスペクトルについて、前記複数のライブラリからの１又は２以上のライブラリの前記第２のサブセットからの各々のライブラリについて、最も良く合致する基準スペクトルを判断するステップと、
前記複数のライブラリからの１又は２以上のライブラリの第２のサブセットからの各ライブラリに対して、前記基板の前記第２のゾーンについての各々の最も良く合致する基準スペクトルについて、ライブラリの前記第２のサブセットからの各ライブラリに対し、第２の指標値の第２のシーケンスを生成するために第２の指標値を判断するステップと、
を含むことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
１又は２以上のライブラリの前記第１のサブセットからの各ライブラリに対して、第１の関数を、第１の指標値の前記第１のシーケンスに適合させるステップと、１又は２以上のライブラリの前記第２のサブセットからの各ライブラリに対して、第２の関数を、第２の指標値の前記第２のシーケンスに適合させるステップとをさらに含むことを特徴とする、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
１又は２以上のライブラリの前記第１のサブセットからの各ライブラリに対する適合度を判断するステップと、１又は２以上のライブラリの前記第２のサブセットからの各ライブラリに対する適合度を判断するステップとをさらに含むことを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
１又は２以上のライブラリの前記第１のサブセットの前記最良の適合度を有する第１のライブラリを選択するステップと、１又は２以上のライブラリの前記第２のサブセットの前記最良の適合度を有する第２のライブラリを選択するステップとをさらに含むことを特徴とする、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記第１のゾーンについて、前記第１のライブラリのための前記第１の関数に基づいて、第１の目標指標値に到達するまでの計画終了時間を判断するステップと、前記第２のゾーンの研磨速度を調整するために、前記第２のゾーンが前記計画終了時間において調整なしに第２の目標指標値に近づくように、前記第２のゾーンのための研磨パラメータを前記第２のライブラリの前記第２の関数に基づいて調整するステップと、をさらに含むことを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記研磨パラメータは、研磨装置のキャリアヘッドの圧力であることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記第１の指標値の前記第１のシーケンス、及び、前記第１のライブラリのための前記第１の関数をディスプレイ上に表示するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
前記第１の指標値の第１のシーケンスの各々、及び、１又は２以上のライブラリの第１のサブセットの各々についての第１の関数の各々をディスプレイ上に表示するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項６に記載の方法。
【請求項１１】
前記複数のライブラリを選択するユーザ入力を受信するステップは、多数のライブラリをリスト表示するドロップダウン・リストを表示するステップを含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記複数のライブラリを選択するユーザ入力を受信するステップは、前記ドロップダウン・リストにおける前記多数のライブラリから前記複数のライブラリを選択するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
１又は２以上のライブラリの第１のサブセットを選択するユーザ入力を受信するステップは、前記複数のライブラリの各々についての第１のチェック・ボックスを有するユーザ・インターフェースを表示するステップと、１つ又は２以上の第１のチェック・ボックスを選択又は選択解除するユーザ入力を受信するステップとを含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
１又は２以上のライブラリの第２のサブセットを選択するユーザ入力を受信するステップは、前記複数のライブラリの各々についての第２のチェック・ボックスを有するユーザ・インターフェースを表示するステップと、１つ又は２以上の第２のチェック・ボックスを選択又は選択解除するユーザ入力を受信するステップとを含むことを特徴とする、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記複数のライブラリの各々についての前記第１のチェック・ボックスを有する前記ユーザ・インターフェース、及び、前記複数のライブラリの各々についての前記第２のチェック・ボックスを有する前記ユーザ・インターフェースが同時に表示されることを特徴とする、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記複数のライブラリの各々についての前記第１のチェック・ボックス、及び、前記複数のライブラリの各々についての前記第２のチェック・ボックスが同一のウィンドウ内に表示されることを特徴とする、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
研磨監視システムを構成するためのコンピュータ・プログラムであって、前記プログラムは機械可読媒体に有形に格納され、かつ、プロセッサに、
基板の研磨の前に、多数のライブラリから複数のライブラリを選択するユーザ入力を受信させ、前記複数のライブラリの各ライブラリは、基板の研磨中に測定されたスペクトルとの照合に用いるための複数の基準スペクトルを含み、前記複数の基準スペクトルの各基準スペクトルは関連した指標値を有し、
基板の研磨の前に、前記基板の第１のゾーンに対して、前記複数のライブラリからの１又は２以上のライブラリの第１のサブセットを選択するユーザ入力を受信させ、
基板の閻魔の前に、前記基板の第２のゾーンに対して、前記複数のライブラリからの１又は２以上のライブラリの第２のサブセットを選択するユーザ入力を受信させる、
ように動作可能な命令を含むことを特徴とするコンピュータ・プログラム。
【請求項１８】
１又は２以上のライブラリの第１のサブセットを選択するユーザ入力を受信するステップは、第１の複数のインターファイス要素を有するユーザ・インターフェースを表示するステップと、前記第１の複数のインターフェース要素の１又は２以上を選択又は選択解除するユーザ入力を受信するステップとを含み、１又は２以上のライブラリの第２のサブセットを選択するユーザ入力を受信するステップは、第２の複数のインターファイス要素を有するユーザ・インターフェースを表示するステップと、前記第２の複数のインターフェース要素の１又は２以上を選択又は選択解除するユーザ入力を受信するステップとを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
複数のライブラリの各ライブラリについて、前記複数の基準スペクトルは、予期される研磨の開始を表す初期スペクトルと、予期される研磨の終了を表す最終スペクトルと、前記予期される研磨の開始及び前記予期される研磨の終了との間の研磨の時間を表すスペクトルを含んでいることを特徴とする請求項１に記載の方法。