【事件の表示】
　特願２００８−２１７９１５「多数個取り配線基板および配線基板ならびに電子装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２２年　３月１１日出願公開、特開２０１０−　５６２０４、請求項の数（３）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１．手続の経緯 
　本願は、平成２０年８月２７日の出願であって、平成２４年１０月３１日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成２５年２月６日に拒絶査定不服審判の請求がなされるとともに、その請求と同時に手続補正がなされたものである。
　そして、当審において、平成２５年４月２６日付けで審査官により作成された前置報告書について、平成２５年６月６日付けで審尋を行ったところ、審判請求人は平成２５年８月８日に回答書を提出した。
　　 　 
第２．平成２５年２月６日付けの手続補正（以下、本件補正という。）の適否 
１．補正の内容 
　本件補正は、特許請求の範囲の請求項１について、
「【請求項１】
　複数の配線基板領域が縦横に配列された母基板の一方主面に、前記配線基板領域の境界に分割溝が形成された多数個取り配線基板において、前記分割溝は、一方主面からの深さが不連続に異なる、第１の領域と該第１の領域よりも深さの深い第２の領域とを備え、
断面において、前記第１の領域は、前記一方主面に対して傾斜した第１の斜面で構成されたＶ字型であり、
断面において、前記第２の領域は、前記一方主面において前記第１の領域と同じ開口幅を有しているとともに前記第１の斜面と同じ傾斜角度を有している第１の斜面を前記一方主面側に備え、前記第１の斜面よりも小さい傾斜角度を有する第２の斜面を底部側に備えた、Ｖ字状であることを特徴とする多数個取り配線基板。」
　とあったものを
「【請求項１】
　複数の配線基板領域が縦横に配列された母基板の一方主面に
おける
複数の
設けられた
前記境界の一部分に跨るように前記複数の配線基板領域のそれぞれに対応して配置された凹部とを有する
前記分割溝は、前記一方主面からの深さが不連続に異なる、第１の領域と該第１の領域よりも深さの深い第２の領域とを備え、
縦
視
縦
視
り、
平面視において、前記第２の領域は前記凹部を横切るように設けられており、前記複数の配線基板領域のそれぞれに対応して前記第１の領域と前記第２の領域とによる深さの不連続部が前記凹部を挟むように配置されており、
前記分割溝の前記第１の領域における深さは前記凹部の深さよりも浅く、前記分割溝の前記第２の領域における深さは前記凹部の深さよりも深い
　とする補正を含むものである。（下線は補正箇所を示すために審判請求人が付したものである。）
　
２．補正の適否
　本件補正は、「複数の配線基板領域が縦横に配列された母基板の一方主面に、前記配線基板領域の境界に分割溝が形成された」を「複数の配線基板領域が縦横に配列された母基板の一方主面における前記複数の配線基板領域の境界に設けられた分割溝と前記境界の一部分に跨るように前記複数の配線基板領域のそれぞれに対応して配置された凹部とを有する」と補正し、実質的に、多数個取り配線基板の配線基板領域のそれぞれの境界に凹部が配置されることを限定するとともに、分割溝と当該凹部の関係を「平面視において、前記第２の領域は前記凹部を横切るように設けられており、前記複数の配線基板領域のそれぞれに対応して前記第１の領域と前記第２の領域とによる深さの不連続部が前記凹部を挟むように配置されており、前記分割溝の前記第１の領域における深さは前記凹部の深さよりも浅く、前記分割溝の前記第２の領域における深さは前記凹部の深さよりも深い」と限定するものであって、補正前の請求項１に記載された発明と補正後の請求項１に記載される発明の産業上の利用分野及び解決しようとする課題が同一であるから、特許法第１７条の２第５項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　
ところで、各補正事項についてみると、
・請求項１の「前記境界の一部分に跨るように前記複数の配線基板領域のそれぞれに対応して配置された凹部とを有する」との補正事項は、本願の出願当初の明細書（以下、当初明細書という。）の段落【００２２】の「２つの配線基板領域１ａ，１ａを跨るような凹部５が形成され」との記載、および本願の出願当初の図面（以下、当初図面という。）の【図３】（ａ）および【図５】（ａ）の図示内容から自明な事項である。
　 
・請求項１の「平面視において、前記第２の領域は前記凹部を横切るように設けられており、前記複数の配線基板領域のそれぞれに対応して前記第１の領域と前記第２の領域とによる深さの不連続部が前記凹部を挟むように配置されており」との補正事項は、当初明細書の段落【００２２】の「凹部５を横切るように分割溝２ｘが形成される」との記載、同段落【００３１】の「深さｄ１の第１の領域２ｘ１と、深さｄ１よりも深い深さｄ２の第２の領域２ｘ２とが、分割溝２ｘの長さ方向で隣接している」との記載、および当初図面の【図３】（ａ）および【図５】（ａ）の図示内容から自明な事項である。
　 
・請求項１の「前記分割溝の前記第１の領域における深さは前記凹部の深さよりも浅く、前記分割溝の前記第２の領域における深さは前記凹部の深さよりも深い」との補正事項は、当初明細書の段落【００２２】の「凹部５を横切る部分（第２の領域２ｘ２）の深さｄ２は凹部５より深く、それ以外の部分（第１の領域２ｘ１）の深さｄ１は凹部５より浅くする」との記載、および当初図面の【図５】（ｂ）及び（ｃ）の図示内容から自明な事項である。　　
 　
　また、上記各補正により、第２の領域の開口幅は、【図５】（ａ）に示されるように、凹部の上面、すなわち、一方主面において「第１の領域」よりも広い開口幅を有することとなり、請求項１の「縦断面視において、前記第２の領域は、前記一方主面において前記第１の領域と同じ開口幅を有している」構成とはいえず、請求項１に係る構成は、当初明細書及び図面に記載されていない旨の指摘が前置審査報告書においてなされているが、【図５】（ａ）及び（ｂ）には、凹部を横切るように設けられた第２の領域が、凹部の外側において第１の領域と前記第２の領域とによる深さの不連続部として存在する点、【図６】には、Ａ部（第１の領域と前記第２の領域とによる深さの不連続部）において、第１の領域（２ｘ１）の一方主面における開口幅はｗ１であり、第２の領域（２ｘ２）の一方主面における開口幅もまたｗ１となっており、「（縦）断面（視）において、前記第２の領域は、前記一方主面において前記第１の領域と同じ開口幅を有」することが示されている点を考慮すると、この図面に示された実施例は、第２の領域として、特定された「縦断面視において、前記第２の領域は、前記一方主面において前記第１の領域と同じ開口幅を有している」との構成を有しており、請求項１に記載された発明といえる。 
　してみると、本件補正は願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものであって、特許法１７条の２第３項に違反するところはない。
　また、４項に違反するところもない。
　
　そこで、本件補正後の前記請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　 
（１）引用文献の記載事項 
（ア）原査定の拒絶の理由に引用された、本願の出願前に頒布された刊行物である特開２００６−１７３３６８号公報（以下、「引用文献１」という。）の【請求項１】、段落【００１７】ないし段落【００２０】の記載事項、及び【図１】，【図２】の図示内容を総合し、本願補正発明の記載ぶりに倣って整理すると、引用文献１には、次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。 　
　
「複数の小割り基板１７が縦横に配列されたセラミック基板１００の表裏面における前記複数の小割り基板１７の境界に設けられた分割溝１１を有する多数個取り配線基板において、
前記分割溝１１は、前記表裏面から深さが不連続に異なる、周辺除去溝１３と該周辺除去溝１３よりも深さの深い基板作成溝１５とを備え、
縦断面視において、前記周辺除去溝１３は、前記表裏面に対して傾斜した斜面で構成されたＶ字型であり、
縦断面視において、前記基板作成溝１５は、前記表裏面において斜面を備えた、Ｖ字型である多数個取り配線基板。」 
　　
（イ）原査定の拒絶の理由に引用された、本願の出願前に頒布された刊行物である特開２００３−４６２４１号公報（以下、「引用文献２」という。）の段落【００３８】ないし【００４０】及び段落【００５５】の記載事項、【図３】，【図４】の図示内容を総合すると、引用文献２には、次の事項（以下、「引用文献２に記載されている事項」という。）が記載されている。
　
「多数個取り配線基板において、傾斜面７で構成された分割溝と、傾斜面７と第２の傾斜面９で構成された前記分割溝より深い分割溝を大型回路基板の表面に備えること。」
　
（２）対比 
　本願補正発明と引用発明とを対比すると、その意味、機能または構造からみて、後者の「小割り基板１７」は前者の「配線基板領域」に、以下同様に、「セラミック基板１００」は「母基板」に、「表裏面における前記複数の小割り基板１７の境界に設けられた分割溝１１」は「一方主面における前記複数の配線基板領域の境界に設けられた分割溝」に、「周辺除去溝１３」は「第１の領域」に、「基板作成溝１５」は「第２の領域」に、それぞれ相当する。
　後者の「縦断面視において、前記周辺除去溝１３は、前記表裏面に対して傾斜した斜面で構成されたＶ字型であり、縦断面視において、前記基板作成溝１５は、前記表裏面において斜面を備えた、Ｖ字型である」と、前者の「縦断面視において、前記第１の領域は、前記一方主面に対して傾斜した第１の斜面で構成されたＶ字型であり、縦断面視において、前記第２の領域は、前記一方主面において前記第１の領域と同じ開口幅を有しているとともに前記第１の斜面と同じ傾斜角度を有している第１の斜面を前記一方主面側に備え、前記第１の斜面よりも小さい傾斜角度を有する第２の斜面を底部側に備えた、Ｖ字状であり」とは、「縦断面視において、前記第１の領域は、前記一方主面に対して傾斜した斜面で構成されたＶ字型であり、縦断面視において、前記第２の領域は、前記一方主面において斜面を備えた、Ｖ字状である」という限りにおいて共通する。
　
　そうすると、両者は、本願補正発明の用語を用いて表現すると、次の点で一致する。 
[一致点] 
「複数の配線基板領域が縦横に配列された母基板の一方主面における前記複数の配線基板領域の境界に設けられた分割溝を有する多数個取り配線基板において、
前記分割溝は、前記一方主面からの深さが不連続に異なる、第１の領域と該第１の領域よりも深さの深い第２の領域とを備え、
縦断面視において、前記第１の領域は、前記一方主面に対して傾斜した斜面で構成されたＶ字型であり、
縦断面視において、前記第２の領域は、前記一方主面において斜面を備えた、Ｖ字状である多数個取り配線基板。」
　
　そして、両者は次の点で相違する。 
[相違点] 
　本願補正発明は、「境界の一部分に跨るように前記複数の配線基板領域のそれぞれに対応して配置された凹部とを有」し、「第２の領域は、前記一方主面において前記第１の領域と同じ開口幅を有しているとともに前記第１の斜面と同じ傾斜角度を有している第１の斜面を前記一方主面側に備え、前記第１の斜面よりも小さい傾斜角度を有する第２の斜面を底部側に備えた、Ｖ字状であり、平面視において、前記第２の領域は前記凹部を横切るように設けられており、前記複数の配線基板領域のそれぞれに対応して前記第１の領域と前記第２の領域とによる深さの不連続部が前記凹部を挟むように配置されており、前記分割溝の前記第１の領域における深さは前記凹部の深さよりも浅く、前記分割溝の前記第２の領域における深さは前記凹部の深さよりも深い」のに対して、
　引用発明は、かかる構造を備えていない点。
　　
（３）判断 
　[相違点]について検討する。
　引用文献２には、上記のとおり、「多数個取り配線基板において、傾斜面７で構成された分割溝と、傾斜面７と第２の傾斜面９で構成された前記分割溝より深い分割溝を大型回路基板の表面に備えること。」が記載されているが、引用発明の「基板作成溝１５」に、引用文献２に記載されている事項の「傾斜面７と第２の傾斜面９で構成された深い分割溝」を適用しても、「境界の一部分に跨るように前記複数の配線基板領域のそれぞれに対応して配置された凹部とを有」するとの構成、及び「第２の領域は、前記一方主面において前記第１の領域と同じ開口幅を有しているとともに平面視において、前記第２の領域は前記凹部を横切るように設けられており、前記複数の配線基板領域のそれぞれに対応して前記第１の領域と前記第２の領域とによる深さの不連続部が前記凹部を挟むように配置されており、前記分割溝の前記第１の領域における深さは前記凹部の深さよりも浅く、前記分割溝の前記第２の領域における深さは前記凹部の深さよりも深い」との構成は、引用発明及び引用文献２に記載されている事項の両者に開示されておらず、また、引用文献１及び２の記載に基づいて当業者が導き出せる設計的事項ともいえないので、本願補正発明は、引用発明及び引用文献２に記載されている事項に基づいて容易に発明をすることができたとはいえない。
　したがって、本願補正発明は、特許法１７条の２第６項の規定に適合する。
　
３．結び
　以上のとおりであるから、本件補正は、特許法１７条の２第３項ないし６項の規定に適合する。
　
第３．本願発明
　本件補正は上記のとおり、特許法１７条の２第３項ないし６項の規定に適合するから、本願の請求項１ないし３に係る発明は、本件補正により補正された特許請求の範囲の請求項１ないし３に記載された事項により特定されるとおりのものである。
　そして、本願については、原査定の拒絶理由を検討してもその理由によって拒絶すべきものとすることはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。