【事件の表示】
　特許第３２６５９０１号「集束イオンビーム装置及び集束イオンビーム照射方法」の請求項１ないし１０に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第３２６５９０１号の請求項１ないし１０に係る特許を維持する。
【理　由】
（１）手続きの経緯
　特許第３２６５９０１号に係る発明についての出願は、平成７年３月２４日の出願であって、平成１４年１月１１日にその発明について特許権の設定登録がなされた後、その特許について、特許異議申立人片岡大介より特許異議の申立てがなされたものである。
　
（２）特許異議申立てについて
　ア．本件発明
　特許第３２６５９０１号の請求項１ないし１０に係る発明は、その特許請求の範囲の請求項１ないし１０に記載された次の事項により特定されるとおりのものである。
【請求項１】イオン源と、前記イオン源からのイオンビームを集束させる集束レンズ及び対物レンズを有し、前記集束レンズ及び対物レンズを通過したイオンビームを試料に照射する集束イオンビーム装置において、前記イオン源から前記試料までの光学長が３００mmから４５０mmの範囲にあり、前記対物レンズの中心から前記試料までの距離が４０mm以下であることを特徴とした集束イオンビーム装置。
【請求項２】イオン源、前記イオン源からの放出イオンを集束させる集束レンズと対物レンズ、前記集束したイオンビームを前記試料上で走査させる偏向器、前記集束イオンビームを制限するビーム制限絞りから構成される集束イオンビーム装置において、前記イオン源のエミッタ先端から前記試料までの光学長が３００mmから450mmの範囲にあり、かつ前記対物レンズの中心から前記試料までの距離が４０mm以下であることを特徴とした集束イオンビーム装置。
【請求項３】前記イオン源のエミッタ先端から前記集束レンズの中心までの光学長が４５mm以下であることを特徴とした請求項２記載の集束イオンビーム装置。
【請求項４】前記ビーム制限絞りが前記集束レンズと前記対物レンズの間の光軸上にあり、かつ、前記エミッタ先端から５５mm以上離れた位置にあることを特徴とした請求項２および３記載の集束イオンビーム装置。
【請求項５】イオン源、前記イオン源からの放出イオンを試料上に加速して集束させる集束レンズと対物レンズ、前記集束したイオンビームを前記試料上で走査させる偏向器、および前記集束イオンビームのビーム電流、あるいはビーム径を制限するビーム制限絞りから構成される集束イオンビーム装置において、前記イオン源のエミッタ先端から前記集束レンズの中心までの光学長が４５mm以下、前記対物レンズから前記試料までの距離が４０mm以下、および前記ビーム制限絞りが前記集束レンズと前記対物レンズの間の光軸上にあり、かつ、前記エミッタ先端から５５mm以上離れた位置にあることを特徴とした集束イオンビーム装置。
【請求項６】前記偏向器が前記対物レンズの前段にあることを特徴とした請求項１から請求項５記載の集束イオンビーム装置。
【請求項７】前記イオン源が液体金属イオン源であることを特徴とした請求項１から請求項６記載の集束イオンビーム装置。
【請求項８】イオン源と、前記イオン源からのイオンビームを集束させるレンズと、前記レンズを通過したイオンビームを試料に照射する集束イオンビーム装置において、最大電流密度Ｊmax≧１５Ａ／cm２、加工モードではＩｐ≧数１０ｐＡでＤｐ≦４０ｎｍ、また、観察モードでＩｐ≧数ｐＡでＤｐ≦１５ｎｍであることを特徴とする集束イオンビーム装置。
【請求項９】イオン源からイオンをイオンビームとして取り出し、集束レンズ及び対物レンズで集束させ、試料に照射する集束イオンビーム照射方法において、前記イオン源のエミッタ先端から前記試料までの光学長が３００mmから４５０mmの範囲にあり、かつ前記対物レンズの中心から前記試料までの距離が４０mm以下であるようにそれらを配置したことを特徴とした集束イオンビーム照射方法。
【請求項１０】イオン源からイオンビームを取り出し、レンズで集束させて、試料に照射する集束イオンビーム照射方法において、最大電流密度Ｊmax≧１５Ａ／cm２、加工モードではＩｐ＝数１０ｐＡでＤｐ≦４０ｎｍ、また、観察モードではＩｐ≧数ｐＡでＤｐ≦１５ｎｍであることを特徴とする集束イオンビーム照射方法。
　
　イ．特許異議申立ての理由の概要  　
　特許異議申立人は、証拠として甲第１号証（「荷電粒子ビームの工業への応用第１３２委員会第１２５回研究会資料」、日本学術振興会、平５．１２．９〜１０、ｐ．１６４〜１６９）、甲第２号証（「荷電粒子ビームの工業への応用第１３２委員会第１２８回研究会資料」、日本学術振興会、平６．１２．８〜９、ｐ．４５〜５０）、甲第３号証（特開平５−８２４７９号公報）、甲第４号証（「Ｊ．Ｖａｃ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．Ｂ」、Ｖｏｌ．８、Ｎｏ．６、Ｎｏｖ／Ｄｅｃ　１９９０、ｐ．１６７３−１６７５）、甲第５号証（特開昭６３−１１６４４３号公報）を提出し、請求項１ないし７及び請求項９に係る発明の特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであり、請求項８及び請求項１０に係る発明の特許は、特許法第２９条第１項の規定に違反してなされたものであるから、請求項１ないし１０に係る発明についての特許を取り消すべき旨主張している。
　
　ウ．特許異議申立人が提出した甲各号証の記載事項
　
　特許異議申立人が提出した甲第１号証には、次の事項が図１とともに記載されている。
（１−１）「ＦＩＢ装置の最近の進歩」（第１６４頁１行）
（１−２）「２．　イオン光学系
　主の設計目標は、（１）最小ビーム径１０ｎｍ、（２）ビーム電流密度１０Ａ／ｃｍ２（数１００ｐＡ〜数ｎＡ）、・・・、とした。」（第１６４頁２１行〜同２４行）　
（１−３）「ｉＴ＝２μＡとすると、ｉｐ＝２００ｐＡ〜３ｎＡの間で１０Ａ／ｃｍ２以上の高い電流が得られる。」（第１６５頁１６行〜同１７行）
（１−４）図１によれば、ビーム電流ｉｐ＝２０ｐＡ以上で、ビーム径ｄ＝約４５ｎｍ以上、ビーム電流ｉｐ＝１ｐＡ〜１５ｐＡで、ビーム径ｄ＝約１０ｎｍ〜約５５ｎｍが読みとれる。
　
　特許異議申立人が提出した甲第２号証には、次の事項が図４とともに記載されている。
（２−１）「イオン源　　　    Ｇａ液体金属イオン源
           ビーム電流　　　　１ｐＡ〜６ｎＡ
　　　　　 最大電流密度　　　１０Ａ／ｃｍ２」　　　（表１）
（２−２）「２．３　イオン光学系
　ＦＩＢの性能アップを図るため新型イオン光学系の開発を行った。２段の静電レンズ、・・・、可動絞り、・・・より構成される。その特性を図４．に示す。図中の番号は絞りに対応している。ビーム電流２００ｐＡ〜２ｎＡの範囲では電流密度１０Ａ／ｃｍ２以上となる。ＨＲモードでは光学系倍率を縮小系にしている。このモードで１０ｎｍ程度のビーム径が得られる。」（第４７頁３行〜同１３行）　
（２−３）図４．によれば、ビーム電流ｉｐ＝２０ｐＡ以上で、ビーム径ｄ＝約４０ｎｍ以上、ビーム電流ｉｐ＝１ｐＡ〜１５ｐＡで、ビーム径ｄ＝約１０ｎｍ〜約５０ｎｍが読みとれる。
　
　特許異議申立人が提出した甲第３号証には、次の事項が図１とともに記載されている。
（３−１）「【実施例】以下、本発明の実施例を図１を用いて説明する。
【０００８】イオン源のエミッタ１００に引出し電極１０１に対し負の高電圧を印加すると、イオンはエミッタ１００から放出され集束レンズ１３０（引出し電極１０１，レンズ電極１０２、及び接地電極で構成）で集束される。集束されたイオンビームはビーム開角を決めるアパチャ３００、さらに集束ビームを対物レンズ１０６の中心に通すための８極の静電アライナー１０３を通す。アライナー１０３の電極には、アライナー電圧にＦＩＢのレンズ非点収差を補正するためのスティグマ機能のスティグマ電圧を重畳してある。ブランカー１０４は試料２００上でのＦＩＢ１２０の照射をオン，オフし、２段の８極静電偏向器１０５は試料２００上でのＦＩＢ１２０の照射点を制御するものである。２次電子検出器１０７はＦＩＢ１２０照射による試料２００からの放出２次電子の検出用であり、デポ用ノズル１０８は金属などのＦＩＢ誘起デポジション用の金属ガスを試料に吹き付けるためのノズル部であり、その金属ガス材料の溜め部１１０もある。」（第２頁右欄１８行〜同３７行）
　
　特許異議申立人が提出した甲第４号証には、次の事項がＦｉｇ２．とともに記載されている。
（４−１）「The system has a theoreticai current density of 1-10A/cm2 for a 30-keV beam energy at 20mm working distance in a wide range of beam diameters of 0.04-2μm.」（第１６７５頁右欄１４行〜同１７行）
（システムは、理論的電流密度１−１０Ａ／ｃｍ２ 、ビームエネルギ３０−ｋｅＶ、ワーキングディスタンス２０ｍｍ、ビーム径０．０４−２μｍ（４０ｎｍ−２μｍ）を有する。）
（４−２）Ｆｉｇ２．によれば、ＦＩＢ（集束イオンビーム装置）は、ＬＭＩＳ（液体金属イオン源）からＳＡＭＰＬＥ（試料）までの光学長が、５＋３０＋２００＋２０＋２０＝２７５ｍｍ、ＥＩＮＺＥＬ　ＬＥＮＳ（対物レンズ）の中心からＳＡＭＰＬＥ（試料）までの距離が、２０／２＋２０＝３０ｍｍであり、ＥＩＮＺＥＬ　ＬＥＮＳ（対物レンズ）の前段にあるＭＡＩＮ　ＤＥＦＬＥＣＴＯＲＳ（偏向器）、ＢＥＡＭ　ＤＥＦＩＮＩＮＧ　ＡＰＥＲＴＵＲＥ（ビーム制限絞り）を有し、ＬＭＩＳ（液体金属イオン源）からＴＥＴＲＯＤＥ　ＬＥＮＳ（集束レンズ）の中心までの光学長が、５＋３０／２＝２０ｍｍであることが読みとれる。
　
　特許異議申立人が提出した甲第５号証には、次の事項が図面とともに記載されている。
（５−１）「１はイオンビームを発生させるイオン源である。例としてはガリウム液体金属イオン源が用いられる。２はコンデンサレンズであってイオン源１から放出されたイオンビームを集光する。３は上部偏向板であって電圧印加によりコンデンサレンズ２を通過したイオンビームを大きく屈折させる。これによりイオンビームをチョッピングしパルス化してストロボ照射を実行する。チョッピングは数百ピコ秒の時間分解能とする。２は絞りであってイオンビームを絞り所定のイオン電流を得るためのものである。絞り４はイオンビームスポット径を規定する。マイクロオーダの微細加工を行うためイオンビームを絞る必要がある。５は非点補正レンズであって絞り４を通ったイオンビーム非点補正を行い真円イオンビームスポットを得るためのレンズである。６はイオン光学系対物レンズであって非点補正されたイオンビームのスポットを試料９の表面上に結像するためのものである。７は走査電極であってＸ及びＹ２組の電極よりなる。イオンビームスポットを試料９のＸＹ平面上でラスタスキャンし試料の目的配線部分で切断、接続の加工を行う。８はガス銃であって、ヘキサカルボニル金属蒸気が試料９の表面に吹き付けられる。イオンビームが照射された領域でヘキサカルボニル金属が分解されて一酸化炭素ガスが真空中に放出され、金属がデポジションされる。連続して前記ガスを吹き付けながらイオンビームの走査を繰り返すことにより走査回数に比例した膜厚を持つ金属パターン膜が形成される。」（第２頁右上欄１３行〜同右下欄１行）
　
（３）対比・判断
　
【請求項１】に係る発明について
　
　【請求項１】に係る発明と甲第４号証に記載の発明とを対比すると、甲第４号証に記載の発明では、イオン源から試料までの光学長が２７５ｍｍであり、【請求項１】に係る発明が具備する「イオン源から前記試料までの光学長が３００ｍｍから４５０ｍｍの範囲」を具備していない。また、かかる点は、甲第１，２，３，５号証のいずれにも記載されていない。
　そして、【請求項１】に係る発明は、かかる点により、明細書記載の効果を奏するものと認められる。
　したがって、【請求項１】に係る発明は、甲第１〜５号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明できたものではない。
　
【請求項２】に係る発明について
　
　【請求項２】に係る発明と甲第４号証に記載の発明とを対比すると、甲第４号証に記載の発明では、イオン源から試料までの光学長が２７５ｍｍであり、【請求項２】に係る発明が具備する「イオン源から前記試料までの光学長が３００ｍｍから４５０ｍｍの範囲」を具備していない。また、かかる点は、甲第１，２，３，５号証のいずれにも記載されていない。
　そして、【請求項２】に係る発明は、かかる点により、明細書記載の効果を奏するものと認められる。
　したがって、【請求項２】に係る発明は、甲第１〜５号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明できたものではない。
　
【請求項３】に係る発明について
　
　【請求項３】に係る発明と甲第４号証に記載の発明とを対比すると、甲第４号証に記載の発明では、イオン源から試料までの光学長が２７５ｍｍであり、【請求項３】に係る発明が具備する「イオン源から前記試料までの光学長が３００ｍｍから４５０ｍｍの範囲」を具備していない。また、かかる点は、甲第１，２，３，５号証のいずれにも記載されていない。
　そして、【請求項３】に係る発明は、かかる点により、明細書記載の効果を奏するものと認められる。
　したがって、【請求項３】に係る発明は、甲第１〜５号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明できたものではない。
　
【請求項４】に係る発明について
　
　【請求項４】に係る発明と甲第４号証に記載の発明とを対比すると、甲第４号証に記載の発明では、イオン源から試料までの光学長が２７５ｍｍであり、ビーム制限絞りがエミッタから何ｍｍ離れた位置にあるかは不明であり、【請求項４】に係る発明が具備する「イオン源から前記試料までの光学長が３００ｍｍから４５０ｍｍの範囲」及びビーム制限絞りが「エミッタ先端から５５ｍｍ以上離れた位置にある」ことを具備していない。また、かかる点は、甲第１，２，３，５号証のいずれにも記載されていない。
　そして、【請求項４】に係る発明は、かかる点により、明細書記載の効果を奏するものと認められる。
　したがって、【請求項４】に係る発明は、甲第１〜５号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明できたものではない。
　
【請求項５】に係る発明について
　
　【請求項５】に係る発明と甲第４号証に記載の発明とを対比すると、甲第４号証に記載の発明では、ビーム制限絞りがエミッタから何ｍｍ離れた位置にあるかは不明であり、【請求項５】に係る発明が具備するビーム制限絞りが「エミッタ先端から５５ｍｍ以上離れた位置にある」ことを具備していない。また、かかる点は、甲第１，２，３，５号証のいずれにも記載されていない。
　そして、【請求項５】に係る発明は、かかる点により、明細書記載の効果を奏するものと認められる。
　したがって、【請求項５】に係る発明は、甲第１〜５号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明できたものではない。
　
【請求項６】に係る発明について
　
　請求項１から請求項３を引用した【請求項６】に係る発明と甲第４号証に記載の発明とを対比すると、甲第４号証に記載の発明では、イオン源から試料までの光学長が２７５ｍｍであり、請求項１から請求項３を引用した【請求項６】に係る発明が具備する「イオン源から前記試料までの光学長が３００ｍｍから４５０ｍｍの範囲」を具備していない。また、かかる点は、甲第１，２，３，５号証のいずれにも記載されていない。
　そして、請求項１から請求項３を引用した【請求項６】に係る発明は、かかる点により、明細書記載の効果を奏するものと認められる。
　請求項４を引用した【請求項６】に係る発明と甲第４号証に記載の発明とを対比すると、甲第４号証に記載の発明では、イオン源から試料までの光学長が２７５ｍｍであり、ビーム制限絞りがエミッタから何ｍｍ離れた位置にあるかは不明であり、請求項４を引用した【請求項６】に係る発明が具備する「イオン源から前記試料までの光学長が３００ｍｍから４５０ｍｍの範囲」及びビーム制限絞りが「エミッタ先端から５５ｍｍ以上離れた位置にある」ことを具備していない。また、かかる点は、甲第１，２，３，５号証のいずれにも記載されていない。
　そして、請求項４を引用した【請求項６】に係る発明は、かかる点により、明細書記載の効果を奏するものと認められる。
　請求項５を引用した【請求項６】に係る発明と甲第４号証に記載の発明とを対比すると、甲第４号証に記載の発明では、ビーム制限絞りがエミッタから何ｍｍ離れた位置にあるかは不明であり、請求項５を引用した【請求項６】に係る発明が具備するビーム制限絞りが「エミッタ先端から５５ｍｍ以上離れた位置にある」ことを具備していない。また、かかる点は、甲第１，２，３，５号証のいずれにも記載されていない。
　そして、請求項５を引用した【請求項６】に係る発明は、かかる点により、明細書記載の効果を奏するものと認められる。
　したがって、【請求項６】に係る発明は、甲第１〜５号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明できたものではない。
　
【請求項７】に係る発明について
　
　請求項１から請求項３を引用した【請求項７】に係る発明と甲第４号証に記載の発明とを対比すると、甲第４号証に記載の発明では、イオン源から試料までの光学長が２７５ｍｍであり、請求項１から請求項３を引用した【請求項７】に係る発明が具備する「イオン源から前記試料までの光学長が３００ｍｍから４５０ｍｍの範囲」を具備していない。また、かかる点は、甲第１，２，３，５号証のいずれにも記載されていない。
　そして、請求項１から請求項３を引用した【請求項７】に係る発明は、かかる点により、明細書記載の効果を奏するものと認められる。
　請求項４を引用した【請求項７】に係る発明と甲第４号証に記載の発明とを対比すると、甲第４号証に記載の発明では、イオン源から試料までの光学長が２７５ｍｍであり、ビーム制限絞りがエミッタから何ｍｍ離れた位置にあるかは不明であり、請求項４を引用した【請求項７】に係る発明が具備する「イオン源から前記試料までの光学長が３００ｍｍから４５０ｍｍの範囲」及びビーム制限絞りが「エミッタ先端から５５ｍｍ以上離れた位置にある」ことを具備していない。また、かかる点は、甲第１，２，３，５号証のいずれにも記載されていない。
　そして、請求項４を引用した【請求項７】に係る発明は、かかる点により、明細書記載の効果を奏するものと認められる。
　請求項５を引用した【請求項７】に係る発明と甲第４号証に記載の発明とを対比すると、甲第４号証に記載の発明では、ビーム制限絞りがエミッタから何ｍｍ離れた位置にあるかは不明であり、請求項５を引用した【請求項６】に係る発明が具備するビーム制限絞りが「エミッタ先端から５５ｍｍ以上離れた位置にある」ことを具備していない。また、かかる点は、甲第１，２，３，５号証のいずれにも記載されていない。
　そして、請求項５を引用した【請求項７】に係る発明は、かかる点により、明細書記載の効果を奏するものと認められる。
　
　請求項６を引用した【請求項７】に係る発明と甲第４号証に記載の発明とを対比すると、甲第４号証に記載の発明では、イオン源から試料までの光学長が２７５ｍｍであり、ビーム制限絞りがエミッタから何ｍｍ離れた位置にあるかは不明であり、請求項１〜５を引用した【請求項７】に係る発明の判断と同様に、請求項６を引用した【請求項７】に係る発明が具備する「イオン源から前記試料までの光学長が３００ｍｍから４５０ｍｍの範囲」あるいはビーム制限絞りが「エミッタ先端から５５ｍｍ以上離れた位置にある」ことを具備していない。また、かかる点は、甲第１，２，３，５号証のいずれにも記載されていない。
　そして、請求項６を引用した【請求項７】に係る発明は、かかる点により、明細書記載の効果を奏するものと認められる。
　したがって、【請求項７】に係る発明は、甲第１〜５号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明できたものではない。
　
【請求項８】に係る発明について
　
　【請求項８】に係る発明と甲第１号証または甲第２号証に記載の発明とを対比すると、甲第１号証または甲第２号証に記載の発明では、ビーム電流密度が１０Ａ／ｃｍ２程度であり、【請求項８】に係る発明が具備する「最大電流密度Ｊmax≧１５Ａ／ｃｍ２」を具備していない。
　そして、【請求項８】に係る発明は、かかる点により、明細書記載の効果を奏するものと認められる。
　したがって、【請求項８】に係る発明は、甲第１号証または甲第２号証に記載の発明でも、甲第１、２号証に記載の発明に基いて当業者が容易に発明できたものでもない。
　
【請求項９】に係る発明について
　
　【請求項９】に係る発明と甲第４号証に記載の発明とを対比すると、甲第４号証に記載の発明では、イオン源から試料までの光学長が２７５ｍｍであり、【請求項９】に係る発明が具備する「イオン源から前記試料までの光学長が３００ｍｍから４５０ｍｍの範囲」を具備していない。また、かかる点は、甲第１，２，３，５号証のいずれにも記載されていない。
　そして、【請求項９】に係る発明は、かかる点により、明細書記載の効果を奏するものと認められる。
　したがって、【請求項９】に係る発明は、甲第１〜５号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明できたものではない。
　
【請求項１０】に係る発明について
　
　【請求項１０】に係る発明と甲第１号証または甲第２号証に記載の発明とを対比すると、甲第１号証または甲第２号証に記載の発明では、ビーム電流密度が１０Ａ／ｃｍ２程度であり、【請求項１０】に係る発明が具備する「最大電流密度Ｊmax≧１５Ａ／ｃｍ２」を具備していない。
　そして、【請求項１０】に係る発明は、かかる点により、明細書記載の効果を奏するものと認められる。
　したがって、【請求項１０】に係る発明は、甲第１号証または甲第２号証に記載の発明でも、甲第１、２号証に記載の発明に基いて当業者が容易に発明できたものでもない。
　
　また、異議申立人は、【請求項８】および【請求項１０】は、単に発見した数値を記載しているだけであるから、発明に該当しないと主張しているが、記載された数値には明細書記載の効果を認めることができ、【請求項８】および【請求項１０】に係る発明が特許法第２９条第１項柱書きに規定する発明に該当しないとすることはできない。
　
（４）むすび
　したがって、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、請求項１ないし１０に係る発明についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に請求項１ないし１０に係る発明についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１５年２月２５日（２００３．２．２５）