【事件の表示】
　平成　２年特許願第１５０８０４号「マスクパターンデータの処理方法」拒絶査定に対する審判事件（平成　４年　２月１３日出願公開、特開平　４−　４３４６６）について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続きの経緯・本願発明
　本願は、平成２年６月８日の出願であって、その発明の要旨は、平成８年８月１９日付け手続補正書により補正された明細書の特許請求の範囲に記載されたとおりのものにあると認められるところ、その請求項１に係る発明は次のとおりである。
　尚、平成８年１１月２１日付けの手続補正書でした補正は、平成１１年６月２１日付けの補正の却下の決定により却下され、この決定は確定している。
「マスクパターンデータの露光装置用データ又は検査装置用データへの変換処理を複数の処理装置を使用した並列処理で行うマスクパターンデータの処理方法において、
　前記マスクパターンデータを前記複数の処理装置の数よりも多くの１フィールドを単位としたデータ群に分割し、これらデータ群中、任意のデータ群を１個ずつ前記複数の処理装置に割り当てて並列処理を開始し、その後は、処理の終了した処理装置に対して順次、前記データ群中、未処理のデータ群を１個ずつ割り当てて前記マスクパターンデータを処理することを特徴とするマスクパターンデータの処理方法。」
２．引用例
　これに対して、当審における拒絶の理由に引用された（原審の拒絶の理由にも引用されている）、特開昭６０−２０９８７５号公報（以下、「引用例１」という。）には、
「ＬＳＩの配線パターン作成機能を実現するために安価なマイクロプロセッサを用いる。さらに、配線パターン作成機能を分解して、並列に処理できる機能をとり出し、並列処理できる機能にマイクロプロセッサを割当て、複数個のマイクロプロセッサで並列処理して高速処理を可能にする。」（引用例１の第１頁下右欄第２０行目〜第２頁上左欄第５行目）、
「統括プロセッサは、まず、配線領域全体を矩形の配線領域に分割する。分割された各配線領域はなるべく素子領域に挟まれた矩形形状にする。第２図の例に於いては、複数個の横長な配線領域６と３個の縦長な配線領域７に分割する。
　次に、統括プロセッサは分割された各配線領域相互の位置関係から各配線領域の処理順序を決め配線順序表に書込む。」（引用例１の第２頁上右欄第７〜１５行目）、
「統括プロセッサは配線順序表を調べて、処理できる配線領域があるかどうか調べる。第２図に於ては、最初、配線領域６すべてが処理可能である。統括プロセッサは、処理可能な配線領域の１つを取り出し、さらに、フロッピディスクから読み取ってある論理結線情報のうちこの配線領域に含まれる部分を切り出す。
　次に、統括プロセッサは配線プロセッサ管理表により空いた配線プロセッサ３があるかどうか調べる。最初はすべての配線プロセッサが空き状態である。空いた配線プロセッサに配線領域情報と配線領域内論理結線情報をバス線を通して転送する。他にも処理可能な配線領域と空いた配線プロセッサがあれば、バス線を通して転送する。統括プロセッサは、処理可能な配線領域と空いた配線プロセッサの両方がある間、次々に配線プロセッサに情報を転送して、複数個に配線プロセッサを並列動作させる。この並列動作が本発明の特徴点である。
　各配線プロセッサは、配線領域情報と配線領域内論理結合情報を受取ると、配線パターン作成処理を開始する。配線パターン作成を終えると、統括プロセッサに終了を通知する。統括プロセッサから転送許可を受取ったら作成した配線パターンのデータを統括プロセッサにバス線を通して転送し、配線プロセッサは動作を終了する。
　統括プロセッサは、配線プロセッサから終了通知を受取ったら、バス線を確保して配線パターンを受取る。そして、配線順序表にその配線領域の処理済を書込み、配線プロセッサ管理表に空きと書込む。
　以上のように、統括プロセッサは処理可能な配線領域があるかどうか、空いた配線プロセッサがあるかどうかを調べ、両方があれば配線プロセッサを動作させることを繰り返す。図２に於いては配線領域６すべてが処理済みになれば配線領域７が処理可能になる。
　すべての配線領域が処理済になれば、ＬＳＩの配線パターン作成は終了する。」（引用例１の第２頁下左欄第６行目〜第３頁上左欄第５行目）、
「本発明は、ＬＳＩの配線パターン作成機能を分解して、並行処理できる機能ごとにマイクロプロセッサを割当てる構成にすることにより、複数のマイクロプロセッサで並列処理して、高速な配線パターン作成ができる。」（引用例１の第３頁上左欄第１７行目〜同頁上右欄第２行目）と記載されている。
　これらの記載からみて引用例１には次のことが記載されているものと認められる。
「ＬＳＩの配線パターン作成機能を分解して、並行処理できる機能ごとにマイクロプロセッサを割当てる構成にすることにより、複数のマイクロプロセッサで並列処理して、配線パターンを作成する装置において、
　配線領域全体を矩形の配線領域に分割する、
　次に、統括プロセッサは配線プロセッサ管理表により空いた配線プロセッサ３があるかどうか調べ（最初はすべての配線プロセッサが空き状態である。）、空いた配線プロセッサに配線領域情報と配線領域内論理結線情報をバス線を通して転送する、
　各配線プロセッサは、配線領域情報と配線領域内論理結合情報を受取り、配線パターン作成処理を行い、配線パターン作成を終えると、作成した配線パターンのデータを統括プロセッサにバス線を通して転送し、配線プロセッサは動作を終了する、
　統括プロセッサは、配線パターンを受取り、そして、配線順序表にその配線領域の処理済を書込み、配線プロセッサ管理表に空きと書込む、
　さらに、統括プロセッサは処理可能な配線領域があるかどうか、空いた配線プロセッサがあるかどうかを調べ、両方があれば配線プロセッサを動作させることを繰り返し、処理可能な配線領域と空いた配線プロセッサの両方がある間、次々に配線プロセッサに情報を転送して、複数個に配線プロセッサを並列動作させる、
　すべての配線領域が処理済になれば、ＬＳＩの配線パターン作成は終了するように動作することを特徴とする配線装置。」
３．対比
　そこで、本願請求項１に係る発明と、引用例１のものとを対比すると、引用例１の「配線パターンのデータ」、「配線プロセッサ」、「領域」は、本願請求項１に係る発明の「パターンデータ」、「処理装置」、「単位」にそれぞれ相当すると認められ、
また、引用例１には「最初はすべての配線プロセッサが空き状態である。」、「以上のように、統括プロセッサは処理可能な配線領域があるかどうか、空いた配線プロセッサがあるかどうかを調べ両方があれば配線プロセッサを動作させることを繰り返す。」と記載されているから、配線プロセッサの数が領域の数より多い場合も含んでいると認められ、
さらに、引用例１は装置発明であるが、実施例には処理の手順が記載されているから、処理方法も記載されているものと認められるので、
両者は
「パターンデータの処理を複数の処理装置を使用した並列処理で行うパターンデータの処理方法において、
　前記パターンデータを前記複数の処理装置の数よりも多くの単位のデータ群に分割し、これらデータ群中、任意のデータ群を１個ずつ前記複数の処理装置に割り当てて並列処理を開始し、その後は、処理の終了した処理装置に対して順次、前記データ群中、未処理のデータ群を１個ずつ割り当てて前記パターンデータを処理することを特徴とするパターンデータの処理方法。」
である点において一致し、次の点で相違している。
（相違点）
（１）相違点１
　本願発明のものが、マスクパターンデータの露光装置用データ又は検査装置用データへの変換処理を行うものであるのに対して、引用例１のものは、ＬＳＩの配線パターンを作成するものである点。
（２）相違点２
　パターンデータのデータ群への分割が、本願発明のものは、マスクパターンデータを１フィールドを単位としたデータ群に分割しているのに対して、引用例１のものは、配線領域全体を矩形の配線領域に分割している点。
で相違している。
４．当審の判断
　上記相違点を検討すると、
（１）相違点１について、
　マスクパターンデータの露光装置用データへの変換処理を行うことは、例えば、当審の拒絶の理由で引用した時開平２−１２８０９号公報（公開日、平成２年１月１７日）の第２頁下左欄第５行目〜同頁下右欄第１５行目に
「（従来技術）
　近年、ＬＳＩのパターンは益々微細かつ複雑になっており、このようなパターンを形成する装置として電子ビーム描画装置が用いられている。
　この装置を用いて所望のパターンを描画する場合、ＣＡＤを始めとするＬＳＩのパターン設計ツールを用いて作成される設計パターンデータを、そのままの形式で上記描画装置の描画パターンデータとして供給することはできない。即ち、設計パターンデータは一般的に非常に自由度が高いデータ体系として作成されているため、電子ビーム描画装置に受容可能なデータ体系とするには以下に示すよな制限を満足させなければならない。
（１）電子ビーム描画装置で受容可能な台形や矩形等の基本図形群のみで構成される図形体系とすること。
（２）多重露光となってパターン精度を低下させてしまう図形の重なりを除去すること。
（３）電子ビーム描画装置の描画方式と密接に関係する単位描画領域に領域分割された図形体系とすること。
　従って、上記設計パターンデータを例えば輪郭化処理を施して多重露光領域の除去を行い、その後ビームの偏向領域により決定する固有の単位描画領域（フレーム領域、サブフィールド領域）毎に矩形・台形等の基本図形に分割することにより、電子ビーム描画装置にとって受容可能な図形データ体系にする。このような行程によって、集積回路に係わる描画パターンデータを生成し、磁気ディスク等の記録媒体に記憶させて描画に供している。」
と記載されているように周知のことであるから、引用例１の複数の処理装置を使用した並列処理で行う処理を、マスクパターンデータの露光装置用データへの変換処理に用いることは当業者が容易に推考することができることと認められる。
（２）相違点２について、
　上記周知例１に示されているように、マスクパターンデータの処理において、フレーム領域、サブフレーム領域を単位とすることが周知のことであるから、引用例１の処理領域を、マスクパターンデータの１フィールドを単位とすることは当業者が容易に考えられることと認められる。
　そして、本願請求項１に係る発明は、前記引用例１のものから予測できる作用効果以上の顕著な作用効果を奏するものとは認められない。
５．むすび
　従って、本願請求項１に係る発明は、前記引用例１に基づいて当業者が容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。