【事件の表示】
　昭和６２年特許願第４２１４号「ネガフオトレジスト組成物およびネガ画像の形成方法」拒絶査定に対する審判事件〔昭和６２年７月２０日出願公開、特開昭６２−１６４０４５、平成８年１月１７日出願公告、特公平８−３６３５、特許請求の範囲に記載された発明の数（２）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、昭和６２年１月１３日（パリ条約による優先権主張１９８６年１月１３日、米国）の出願であって、平成８年１月１７日に出願公告され、その後平成９年４月３０日付けの手続補正書は、平成１０年１２月１８日付けで補正の却下の決定がなされ、その発明の要旨は、出願公告後の平成１３年５月１０日付け、及び平成１３年７月１７日付けの手続補正書により補正された明細書の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１、６（以下、「本願発明１」、「本願発明２」という）に記載された、次のとおりのものと認める。
「【請求項１】　アルカリ可溶性フェノール樹脂、アミノプラスト及びハロゲン化有機フォト酸発生化合物を含む酸硬化性樹脂系からなるネガフォトレジスト組成物であって、該ハロゲン化有機フォト酸発生化合物は、該フォトレジスト組成物中に０．１〜１０重量％含有され、２１０〜２９９ｎｍの範囲の化学線を選択的に吸収するものであり、該酸硬化性樹脂系に相溶性であり、塩基性水性溶液中で現像可能であり、かつ昇温下で熱安定性ネガ画像を形成するよう酸硬化性樹脂系を架橋させるために遠紫外線で照射した際ハロゲン酸を発生できるものである、前記ネガフォトレジスト組成物。
　【請求項６】　アルカリ可溶性フェノール樹脂、アミノプラスト酸硬化性樹脂及びハロゲン化有機フォト酸発生化合物からなるネガフォトレジスト組成物であって、ハロゲン化有機フォト酸発生化合物は該フォトレジスト組成物中に１０〜５０重量％含有され、Ｘ線領域の化学線を吸収するものであり、該酸硬化性樹脂系に相溶性であり、塩基性水性溶液で除去可能であり、かつ昇温下で熱安定性ネガ画像を形成するよう、酸硬化性樹脂系を架橋させるためにＸ線に照射した際酸を発生できるものである、前記ネガフォトレジスト組成物。」
　
２．原査定の理由
　これに対して、原査定の拒絶の理由となった特許異議の決定に記載した理由の概要は、本願各発明は、甲第５号証（四臭化炭素の吸光スペクトル）を参酌すれば、本願出願前に頒布された甲第１号証（特開昭６０−２６３１４３号公報、以下、「引用例１」という）、甲第２号証（米国特許第３６９２５６０号明細書、以下、「引用例２」という）、甲第３号証（米国特許第３６９７２７４号明細書、以下、「引用例３」という）、及び甲第４号証（「ケミカル・アブストラクツ（Ｃｈｅｍ．Ａｂｓｔｓ）」第１０１巻（１９８４年）第２３５頁、以下、「引用例４」という）に記載された発明に基いて当業者が容易に発明することができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない、というにある。
　
３．引用例の記載
（１）引用例１には、「熱安定性重合体像及びその形成方法」に関し、
ａ．「１）適当な溶媒中に溶解された酸硬化型樹脂系及び光感応型酸発生剤とから成る水性現像可能な、二重作用性、熱安定性、感光性塗工用組成物から形成される表面上の像で、該像は架橋されており、２００℃を超える温度に対して熱安定性であることを特徴とする像。
３）（ａ）適当な溶媒中に溶解された酸硬化型樹脂系及び光感応型酸発生剤とから成る感光性塗工液を調製し、
（ｂ）表面上に前記塗工液を付着し、
（ｃ）前記被覆表面を乾燥して、表面上に指触乾燥の感光性皮膜を形成し、
（ｄ）前記皮膜を化学線源で露光して前記皮膜中に酸性潜像を形成し、
（ｅ）前記皮膜中の酸性潜像を約７０〜約１２０℃に加熱し、前記皮膜を化学線源で再露光し、そして再露光した皮膜を水性溶液で現像することによって表面上にネガ像を形成し、
（ｆ）工程（ｃ）で形成した皮膜中の酸性潜像を水性溶液で除去し、表面上に残留している皮膜をそのまま残し、前記残留皮膜を化学線源で再露光して残像皮膜中に第二の酸性潜像を形成し、そして前記残留皮膜中の第二の酸性潜像を約７０〜約１２０℃に加熱することによって表面上にポジ像を形成することから成る表面上に熱安定性ポジ及びネガ像を形成する方法。」
（特許請求の範囲１）、３））であり、
ｂ．酸硬化型樹脂系は、アミノプラスト樹脂とフェノールノボラックのアルカリ可溶性樹脂との混合物から成ること（特許請求の範囲４）、７））。
ｃ．光感応型酸発生剤は、塗膜を化学線で露光するとカルボン酸に転化する中性化合物又はそれらの混合物で、塗工剤の全固体量に基づいて約５〜５０重量％の範囲の濃度で使用された場合有用であり、ｏ−ナフトキノンジアジド類が好ましい光感応型酸発生剤であること（第８頁右下欄１１〜２０行）。
ｄ．光感応型酸発生剤及び酸硬化型樹脂系は、溶媒系で均一溶液を形成すること（第６頁右上欄１３〜１８行）。
ｅ．ネガ像の形成は、高圧水銀灯を用いて３６５ｎｍの波長の化学線で露光したこと（第１３頁左下欄５〜１５行、実施例）、が記載されている。
　　
（２）引用例２には、「紫外線で硬化する酸硬化性樹脂」に関し、
ｆ． 酸の存在下で硬化しうるフェノール樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、メラミンホルムアルデヒド樹脂又はエポキシ樹脂に、ハロゲン含有ベンゾフェノン化合物を、樹脂の重量に基づき約０．１〜１０重量％の割合で、紫外光により活性化される硬化触媒として配合した組成物（第３欄第４０〜５６行）。
ｇ．先行技術の説明として例えばブロモホルム、ヨードホルム、四臭化炭素、ヘキサブロモエタン、ブロマール、２，５‐ジメチル‐ω‐トリブロモアセトフェノン及び９，１０‐ジブロモアントラセンのようなハロゲン含有有機化合物を酸硬化性樹脂に加えたものに紫外線を照射すると、この添加物から酸が遊離し、これにより樹脂の硬化がおこること（第１欄第２５〜３２行）。
ｈ．実施例１には、ブタノール中のアルキッド樹脂液６０重量部、尿素−フォルムアミド縮合物のブタノール中６０％溶液４０重量部からなるワニスに、開始剤としてのハロゲン含有ベンゾフェノン化合物（表（１）〜（５））を添加し、照射は高圧灯を用いたこと、実施例２には、ポリエステル樹脂８０重量部、ヘキサ−ビス−（メトキシメチル）−メラミン１２重量部に、ｐ−ベンゾイルベンゾトリクロリド３重量部を５００重量部の塩化メチレンに溶解しワニスとし、水銀高圧灯（タイプ　フィリップス社製ＨＰＫ−１２５Ｗ）の光を照射し、１２０℃に２０分間加熱し、光のあたらなかった部分を塩化メチレンで溶解せしめたこと、が記載されている。
　
（３）引用例３には、
ｉ．「本発明は、溶剤可溶な、酸により硬化可能なアミノ−フォルムアルデヒド樹脂と、塩素、臭素、沃素原子が炭素原子に結合した構造の感光性有機ハロゲン化合物とからなる印刷原版に関する。」（要約）、が記載され、
ｊ．尿素−ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン−ホルムアルデヒド樹脂の中から選ばれた溶媒可溶性、酸硬化性樹脂と、ハロゲン原子が炭素原子に結合した構造の感光性有機ハロゲン化合物と、開始剤とからなる感光層を基体に担持させ、これに露光して潜像を形成させたのち、約６０〜２００℃の温度で４分間以内加熱し、次いで未露光部分を除去することにより印刷版を製造する方法（第７欄第３０行〜第８欄第４行）。
ｋ．実施例２として、６０％尿素樹脂溶液２０容量部と、融点１０８〜１１８℃を持つノボラック樹脂１０重量部とＣＢｒ４２０重量部とをアセトン１５０容量部に溶解し、アルミニウムはく上に塗布し、４０℃に乾燥後、ネガフィルムを通して炭素アーク燈を用いて露光し、１４０℃で１分間加熱したのち、アセトン及びナトリウムメタシリケート水溶液で現像することにより平版印刷版を製造したこと（第３欄第４０〜５１行）、が記載されている。
　
（４）引用例４には、ＤＤＴに波長２３７．５ｎｍの紫外線を照射すると塩素イオン（Ｃｌ−）が分離してくること、が記載されている。
　
（５）甲第５号証（四臭化炭素の吸光スペクトル）には、和光純薬製ＣＢｒ４及びアルドリッヒ（Ａｌｄｒｉｃｈ）社製ＣＢｒ４について波長を変化させて測定した吸光度のグラフが示されており、これによるとＣＢｒ４は波長２２６．０〜２２６．５ｎｍの化学線を選択的に吸収するものであること、がわかる。
　
４．当審の判断
　引用例１には、上記摘記事項ａ〜ｅによれば、「アルカリ可溶性フェノール樹脂、アミノプラスト樹脂、及び光感応型酸発生剤を含む、酸硬化性樹脂系からなるネガフォトレジスト組成物であって、
　該光感応型酸発生剤は、該フォトレジスト組成物中に約５〜５０重量％含有され、高圧水銀灯を用いた３６５ｎｍの範囲の化学線を選択的に吸収するものであり、該酸硬化性樹脂系に相溶性であり、水性現像可能であり、かつ昇温下で熱安定性ネガ画像を形成するよう酸硬化性樹脂系を架橋させるために３６５ｎｍの範囲の化学線を照射した際酸を発生できるものである、前記ネガフォトレジスト組成物」が記載されていることになるから、
　本願発明１と対比すると、「アルカリ可溶性フェノール樹脂、アミノプラスト及び有機フォト酸発生化合物を含む酸硬化性樹脂系からなるネガフォトレジスト組成物であって、該有機フォト酸発生化合物は、該フォトレジスト組成物中に５〜１０重量％含有され、化学線を選択的に吸収するものであり、該酸硬化性樹脂系に相溶性であり、塩基性水性溶液中で現像可能であり、かつ昇温下で熱安定性ネガ画像を形成するよう酸硬化性樹脂系を架橋させるために化学線で照射した際酸を発生できるものである、前記ネガフォトレジスト組成物」で一致しているが、
　酸発生化合物として、本願発明１が、ハロゲン化有機フォト酸発生化合物を用い、これが２１０〜２９９ｎｍの範囲の化学線を選択的に吸収するものであり、昇温下で熱安定性ネガ画像を形成するよう酸硬化性樹脂系を架橋させるために遠紫外線で照射した際ハロゲン酸を発生できるものであるとしているのに対して、引用例１では、ハロゲン化物の限定がない酸発生剤を用い、３６５ｎｍの範囲の化学線を選択的に吸収するものであり、昇温下で熱安定性ネガ画像を形成するよう酸硬化性樹脂系を架橋させるために３６５ｎｍの範囲の化学線を照射した際酸を発生できるものであるとしている点で相違している。　
　そこで、上記相違点について検討する。
　引用例２の記載は、酸硬化ワニスに関し、酸発生剤はハロゲン含有物を用いているが、光源として水銀高圧灯を用いているから、３５０ｎｍ程度の波長で露光するものであって、本願発明１の遠紫外線、即ち２１０〜２９９ｎｍの範囲の化学線を選択的に吸収し、ハロゲン酸を発生するものとは異なり、また、有機溶剤で現像するものであって、本願発明１の塩基性水性溶液中で現像するものとも異なる。
　引用例３の記載は、印刷原版製造用感光層に関し、酸発生剤はハロゲン含有物を用いているが、光源として炭素アーク燈、水銀高圧灯を用いているから、３００〜１１００ｎｍ程度の波長で露光するものであって、本願発明１の遠紫外線、即ち２１０〜２９９ｎｍの範囲の化学線を選択的に吸収し、ハロゲン酸を発生するものとは異なり、また、有機溶剤で現像するものであって、本願発明１の塩基性水性溶液中で現像するものとも異なる。
  さらに、引用例４の記載は、化合物ＤＤＡが、２１０〜２９９ｎｍの範囲の化学線を選択的に吸収することを示しているに過ぎないし、甲第５号証（四臭化炭素の吸光スペクトル）も単に、四臭化炭素の吸収特性、即ち２１０〜２９９ｎｍの範囲の化学線を選択的に吸収することを示しているに過ぎないものである。
　これら引用例２、３の記載は、酸発生化合物はハロゲン含有物ではあるが、本願発明１の遠紫外線でハロゲン化有機酸を発生する化合物ではなく、基本的に酸発生機構が本願発明１とは異なるものであって、更に有機溶剤型現像方式のものであって、本願発明１の水性現像方式とも基本的に異なるものであるから、上記相違点を導き出すことはできない。また、単に化合物の吸収特性を示すのみで、フォトレジスト組成物については無論、何の用途についても示唆する記載のない引用例４、甲第５号証からも上記相違点を導き出すことはできない。よって、本願発明１は、引用例１〜４の記載、及び甲第５号証である「四臭化炭素の吸光スペクトル」に基づいて当業者が容易に想到し得たものとすることはできない。
　
　次に、本願発明２は、本願発明１のハロゲン化有機フォト酸発生化合物として、「Ｘ線領域の化学線を吸収するものであり、昇温下で熱安定性ネガ画像を形成するよう、酸硬化性樹脂系を架橋させるためにＸ線に照射した際酸を発生できるもの」である、即ち遠紫外線ではなく、Ｘ線対応にした点を特徴とするものであるが、上記本願発明１で述べたと同様に、Ｘ線に照射した際酸を発生できるものの示唆が何らない引用例１〜４の記載からは、容易に想到することができたとすることはできない。
　そして、本願発明１、２は、上記構成により、明細書に記載された、マイクロ電子工学的用途に使用するのに適した水性現像可能な、熱安定性のすぐれた、高分解能のネガ画像製造用の、酸硬化性樹脂系との組合せで使用することのできる、遠紫外線やＸ線のような短波長放射線に対して感光性を示すフォト酸発生剤に関するものであるという、各引用例からは予測することのできない格別な効果を奏しているものである。
　　
　よって、本願発明１、２は、甲第５号証（四臭化炭素の吸光スペクトル）を参酌しても、各引用例に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　　　　
５．むすび
　以上のとおりであるから、本願発明１、２は、甲第５号証（四臭化炭素の吸光スペクトル）を参酌しても、引用例１〜４に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとすることができないから、本願発明１、２は特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないとした原審の判断は妥当でない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。