【手続補正書】
【提出日】平成27年8月14日(2015.8.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のエレクトロクロミック領域及び第２のエレクトロクロミック領域であって、前記第１のエレクトロクロミック領域及び前記第２のエレクトロクロミック領域は、それぞれ、
ａ）陰極エレクトロクロミック層又は陽極対向電極層のうちの一方を含む、第１の電極と、
ｂ）前記陰極エレクトロクロミック層又は前記陽極対向電極層のうちの他方を含む、第２の電極と、
ｃ）前記第１の電極と前記第２の電極との間でイオンを伝導するイオン伝導体層と、
ｄ）第１の分離導電層領域と、
ｅ）第２の分離導電層領域とを含み、
前記第１の電極及び前記第２の電極と、前記イオン伝導体層とは、前記第１の分離導電層領域と前記第２の分離導電層領域との間に挟持される、第１のエレクトロクロミック領域及び前記第２のエレクトロクロミック領域と、
複数の導電性リンクであって、前記導電性リンクは第１の構成において配置される複数のリンクを含み、前記エレクトロクロミックデバイスを前記第１のエレクトロクロミック領域及び前記第２のエレクトロクロミック領域に分割し、前記第１の電極及び前記第２の電極と、前記イオン伝導体層とを貫通して延在し、前記第１のエレクトロクロミック領域に関連付けられる前記第１の分離導電層領域及び前記第２の分離導電層領域のうちの一方の少なくとも一部と、前記第２のエレクトロクロミック領域に関連付けられる前記第１の分離導電層領域及び前記第２の分離導電層領域のうちの一方の少なくとも一部とを相互接続している、複数の導電性リンクと
を含んでなる、エレクトロクロミックデバイス。
【請求項２】
前記第１の構成は弧状である、請求項１に記載のエレクトロクロミックデバイス。
【請求項３】
前記導電性リンクのうちの少なくとも幾つかは第２の構成に配置される、請求項１に記載のエレクトロクロミックデバイス。
【請求項４】
前記第２の構成は直線状である、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記第１の構成は、前記第１のエレクトロクロミック領域又は前記第２のエレクトロクロミック領域のうちの少なくとも一方の側面の湾曲に少なくとも部分的に一致している、請求項１〜４のいずれか一項に記載のエレクトロクロミックデバイス。
【請求項６】
第１のエレクトロクロミック領域及び第２のエレクトロクロミック領域であって、前記第１のエレクトロクロミック領域及び前記第２のエレクトロクロミック領域は、それぞれ、
ａ）陰極エレクトロクロミック層又は陽極対向電極層のうちの一方を含む、第１の電極と、
ｂ）前記陰極エレクトロクロミック層又は前記陽極対向電極層のうちの他方を含む、第２の電極と、
ｃ）前記第１の電極と前記第２の電極との間でイオンを伝導するイオン伝導体層と、
ｄ）第１の分離導電層領域と、
ｅ）第２の分離導電層領域とを含み、
前記第１の電極及び前記第２の電極と、前記イオン伝導体層とは、前記第１の分離導電層領域と前記第２の分離導電層領域との間に挟持され、
前記第１のエレクトロクロミック領域又は前記第２のエレクトロクロミック領域のうちの少なくとも一方は非平坦構成を有する、第１のエレクトロクロミック領域及び前記第２のエレクトロクロミック領域と、
複数の導電性リンクであって、前記エレクトロクロミックデバイスを前記第１のエレクトロクロミック領域及び前記第２のエレクトロクロミック領域に分割し、前記第１の電極及び前記第２の電極と、前記イオン伝導体層とを貫通して延在し、前記第１のエレクトロクロミック領域に関連付けられる前記第１の分離導電層領域及び前記第２の分離導電層領域のうちの一方の少なくとも一部と、前記第２のエレクトロクロミック領域に関連付けられる前記第１の分離導電層領域及び前記第２の分離導電層領域のうちの一方の少なくとも一部とを相互接続している、複数の導電性リンクと
を含んでなり、
前記複数の導電性リンクは、前記第１のエレクトロクロミック領域又は前記第２のエレクトロクロミック領域のうちの少なくとも一方の前記非平坦構成に一致している第１の構成において配置される、エレクトロクロミックデバイス。
【請求項７】
前記導電性リンクのうちの少なくとも幾つかは第２の構成において配置される、請求項６に記載のエレクトロクロミックデバイス。
【請求項８】
前記第２の構成は弧状である、請求項７に記載のエレクトロクロミックデバイス。
【請求項９】
前記導電性リンクのうちの少なくとも幾つかは第３の構成において配置される、請求項８に記載のエレクトロクロミックデバイス。
【請求項１０】
前記第３の構成は直線状である、請求項９に記載のエレクトロクロミックデバイス。
【請求項１１】
前記第２の構成は、前記第１のエレクトロクロミック領域又は前記第２のエレクトロクロミック領域のうちの少なくとも一方の側面の湾曲に少なくとも部分的に一致している、請求項７〜１０のいずれか一項に記載のエレクトロクロミックデバイス。
【請求項１２】
エレクトロクロミックデバイスを制御するシステムであって、
基板上にある複数の第１のエレクトロクロミック領域、及び複数のそれぞれ対応する第２のエレクトロクロミック領域であって、前記第１のエレクトロクロミック領域及び前記第２のエレクトロクロミック領域はそれぞれ、
ａ）陰極エレクトロクロミック層又は陽極対向電極層のうちの一方を含む、第１の電極と、
ｂ）前記陰極エレクトロクロミック層又は前記陽極対向電極層のうちの他方を含む、第２の電極と、
ｃ）前記第１の電極と前記第２の電極との間でイオンを伝導するイオン伝導体層と、
ｄ）第１の分離導電層領域と、
ｅ）第２の分離導電層領域とを含み、
前記第１の電極及び前記第２の電極と、前記イオン伝導体層とは、前記第１の分離導電層領域と前記第２の分離導電層領域との間に挟持される、複数の第１のエレクトロクロミック領域、及び複数のそれぞれ対応する第２のエレクトロクロミック領域と、
複数の導電性リンクであって、前記導電性リンクは第１の構成において配置される複数のリンクを含み、前記エレクトロクロミックデバイスを前記第１のエレクトロクロミック領域及び前記第２のエレクトロクロミック領域に分割し、前記第１の電極及び前記第２の電極と、前記イオン伝導体層とを貫通して延在し、前記第１のエレクトロクロミック領域に関連付けられる前記第１の分離導電層領域及び前記第２の分離導電層領域のうちの一方の少なくとも一部と、前記それぞれ対応する第２のエレクトロクロミック領域に関連付けられる前記第１の分離導電層領域及び前記第２の分離導電層領域のうちの一方の少なくとも一部とを相互接続する、複数の導電性リンクと、
前記第１のエレクトロクロミック領域に関連付けられる前記第１の分離導電層領域及び前記第２の分離導電層領域の他方とそれぞれ接触している第１のバスバー、及び前記それぞれ対応する第２のエレクトロクロミック領域に関連付けられる前記第１の分離導電層領域及び前記第２の分離導電層領域の他方と接触している第２のバスバーであって、相互接続される前記第１のエレクトロクロミック領域及び前記第２のエレクトロクロミック領域はそれぞれ、個々に制御可能なエレクトロクロミックサブデバイスである、第１のバスバー及び第２のバスバーと、
前記複数のエレクトロクロミックサブデバイスの前記第１のバスバーと前記第２のバスバーとの間にそれぞれ電位を選択的に供給する手段と
を含んでなる、エレクトロクロミックデバイスを制御するシステム。
【請求項１３】
前記第１の構成は弧状である、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
エレクトロクロミックデバイスを制御するシステムであって、
基板上にある複数の第１のエレクトロクロミック領域、及び複数のそれぞれ対応する第２のエレクトロクロミック領域であって、前記第１のエレクトロクロミック領域及び前記第２のエレクトロクロミック領域は、それぞれ、
ａ）陰極エレクトロクロミック層又は陽極対向電極層のうちの一方を含む、第１の電極と、
ｂ）前記陰極エレクトロクロミック層又は前記陽極対向電極層のうちの他方を含む、第２の電極と、
ｃ）前記第１の電極と前記第２の電極との間でイオンを伝導するイオン伝導体層と、
ｄ）第１の分離導電層領域と、
ｅ）第２の分離導電層領域とを含み、
前記第１の電極及び前記第２の電極と、前記イオン伝導体層とは、前記第１の分離導電層領域と前記第２の分離導電層領域との間に挟持され、
前記第１のエレクトロクロミック領域又は前記第２のエレクトロクロミック領域のうちの少なくとも一方は非平坦構成を有する、複数の第１のエレクトロクロミック領域、及び複数のそれぞれ対応する第２のエレクトロクロミック領域と、
複数の導電性リンクであって、前記エレクトロクロミックデバイスを前記第１のエレクトロクロミック領域及び前記第２のエレクトロクロミック領域に分割し、前記第１の電極及び前記第２の電極と、前記イオン伝導体層とを貫通して延在し、前記第１のエレクトロクロミック領域に関連付けられる前記第１の分離導電層領域及び前記第２の分離導電層領域のうちの一方の少なくとも一部と、前記複数のそれぞれ対応する第２のエレクトロクロミック領域に関連付けられる前記第１の分離導電層領域及び前記第２の分離導電層領域のうちの一方の少なくとも一部とを相互接続し、
前記複数の導電性リンクは、前記第１のエレクトロクロミック領域又は前記第２のエレクトロクロミック領域のうちの少なくとも一方の前記非平坦構成に一致している構成において配置される、複数の導電性リンクと、
前記第１のエレクトロクロミック領域に関連付けられる前記第１の分離導電層領域及び前記第２の分離導電層領域の他方とそれぞれ接触している第１のバスバー、及び前記それぞれ対応する第２のエレクトロクロミック領域に関連付けられる前記第１の分離導電層領域及び前記第２の分離導電層領域の他方と接触している第２のバスバーであって、前記相互接続される前記第１のエレクトロクロミック領域及び前記第２のエレクトロクロミック領域はそれぞれ、個々に制御可能なエレクトロクロミックサブデバイスである、第１のバスバー及び第２のバスバーと、
前記複数のエレクトロクロミックサブデバイスの前記第１のバスバーと前記第２のバスバーとの間にそれぞれ電位を選択的に供給する手段と
を含んでなる、エレクトロクロミックデバイスを制御するためのシステム。
【請求項１５】
前記導電性リンクのうちの少なくとも幾つかは第２の構成において配置され、前記第２の構成は弧状である、請求項１４に記載のシステム。