【事件の表示】
　特許第３０１６７０３号「被覆硬質部材」の請求項１、２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３０１６７０３号の請求項１ないし２に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続きの経緯
　本件特許第３０１６７０３号発明は、平成７年１月３１日に特許出願され、平成１１年１２月２４日にその特許の設定登録がなされたものである。
　これに対して、特許異議申立人エムエムシーコベルコツール（株）及び東芝タンガロイ（株）より特許異議申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１３年４月５日付けで訂正請求がなされたが、この訂正請求に対し訂正拒絶理由通知がなされ、（なお、この間、特許権者から平成１４年５月１４日付け訂正請求書が提出されたが、この訂正請求は不適法なものであるから、平成１４年７月２５日付けで特許法第１２０条の６第１項で準用する特許法第１３３条の２第１項の規定により手続却下の決定がなされている）、その後、再度取消理由通知がなされ、平成１４年１０月１７日付け訂正請求書が提出されたものである。
２．訂正の適否についての判断
（１）訂正事項
　平成１４年１０月１７日付け訂正請求は、特許請求の範囲の減縮と明りょうでない記載の釈明を目的として、訂正請求書に添付した全文訂正明細書のとおり、すなわち次の訂正事項ａ乃至訂正事項ｆのとおり訂正するものである。
（イ）訂正事項ａ：請求項１を次のとおり訂正する。
「【請求項１】基体表面にＰＶＤ法によってＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる２元系、ないし３元系の炭化物、窒化物、炭窒化物を被覆してなる被覆硬質部材において、前記ＰＶＤ法はアークイオンプレーティングで、皮膜のＸ線回折パターンにおける（２００）面のピーク強度をＩ（２００）、（１１１）面のピーク強度をＩ（１１１）としたときに、次式
　　Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）
で表されるＩａ値が２．３以上であることを特徴とする被覆硬質部材。」
（ロ）訂正事項ｂ：特許明細書の段落【０００６】の「すなわち、本発明の被覆硬質部材は基体表面にＰＶＤまたはＣＶＤ法によってＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる２元系、ないし３元系の炭化物、窒化物、炭窒化物を被覆してなる被覆硬質部材において、皮膜のＸ線回折パターンにおける（２００）面のピーク強度をＩ（２００）、（１１１）面のピーク強度をＩ（１１１）としたときに、
　　Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）
で表されるＩａ値が１．５以上であることを特徴としている。」を、
「すなわち、本発明の被覆硬質部材は、基体表面にＰＶＤ法によってＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる２元系、ないし３元系の炭化物、窒化物、炭窒化物を被覆してなる被覆硬質部材において、前記ＰＶＤ法はアークイオンプレーティングで、皮膜のＸ線回折パターンにおける（２００）面のピーク強度をＩ（２００）、（１１１）面のピーク強度をＩ（１１１）としたときに、次式
　　Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）
で表されるＩａ値が２．３以上であることを特徴としている。」と訂正する。
（ハ）訂正事項ｃ：特許明細書の段落【００１０】の「Ｉａの値は１．５以上」を「Ｉａの値は２．３以上」と、段落【００１５】の「１．５以上」を「２．３以上」とそれぞれ訂正する。
（ニ）訂正事項ｄ：特許明細書の表１の本発明例８及び本発明例１２を削除し、表１中の本発明例９、１０、１１をそれぞれ本発明例８、９、１０と訂正する。
（ホ）訂正事項ｅ：特許明細書の表２の本発明例８及び本発明例１２を削除し、表２中の本発明例９、１０、１１をそれぞれ本発明例８、９、１０と訂正する。
（ヘ）訂正事項ｆ：特許明細書の段落【００１４】の「本発明材７〜１２」を「本発明材７〜１０」と訂正する。
（２）訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　訂正事項ａは、請求項１の記載の「１．５以上」を「２．３以上」とし、「ＰＶＤまたはＣＶＤ法」を「ＰＶＤ法」とすると共にこの「ＰＶＤ法」を特定するものであるから、特許請求の範囲の減縮に該当し、しかも特許明細書に記載した事項の範囲内でなされたものであるから新規事項の追加に該当せず、また当該訂正によって実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
　また、訂正事項ｂ乃至訂正事項ｆは、請求項１の減縮に伴って、請求項１の記載と発明の詳細な説明との整合性を図るものであるから、明りょうでない記載の釈明に該当し、しかも特許明細書に記載した事項の範囲内でなされたものであるから新規事項の追加に該当せず、また当該訂正によって実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
（３）むすび
　したがって、上記訂正は、平成６年改正法附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年改正法による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書、第２項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
３．本件訂正発明
　上記訂正は、これを認容することができるから、訂正後の請求項１及び２に係る発明（以下、それぞれ「本件訂正発明１及び２」という）は、特許請求の範囲の請求項１及び２に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
「【請求項１】基体表面にＰＶＤ法によってＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる２元系、ないし３元系の炭化物、窒化物、炭窒化物を被覆してなる被覆硬質部材において、前記ＰＶＤ法はアークイオンプレーティングで、皮膜のＸ線回折パターンにおける（２００）面のピーク強度をＩ（２００）、（１１１）面のピーク強度をＩ（１１１）としたときに、次式
　　Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）
で表されるＩａ値が２．３以上であることを特徴とする被覆硬質部材。
【請求項２】前記皮膜の層とＡｌＮ、周期律表４ａ、５ａ、６ａ族の炭化物、窒化物、炭窒化物、のうち１つから選ばれる層を２層以上の多層としたことを特徴とする請求項１記載の被覆硬質部材。」
４．特許異議申立てについて
４−１．特許異議申立人エムエムシーコベルコツール（株）について
（１）特許異議申立ての理由の概要
　特許異議申立人は、証拠方法として甲第１号証乃至甲第４号証を提出して、本件請求項１及び２に係る発明は、甲第１号証及び甲第３、４号証に記載された発明と構成を同じくするものであるから、特許法第２９条第１項第３号の規定により特許を受けることができないものであると主張している。
（２）証拠及びその記載内容
　特許異議申立人が提出した甲第１号証乃至甲第４号証には、それぞれ次の事項が記載されている。
甲第１号証：特公平５−６７７０５号公報
（ａ）「基材表面に耐摩耗性皮膜を形成するに当たり、
　（ＡｌｘＴｉ1-ｘ）（ＮｙＣ1-ｙ）
　　　但し　0.56≦ｘ≦0.75
　　　　　　0.6　≦ｙ≦1
で示される化学組成からなり、膜厚が0.8〜10μｍの耐摩耗性皮膜を、蒸発源としてカソードを用いるアーク放電方式によって形成することを特徴とする耐摩耗性皮膜形成方法。」（特許請求の範囲）
（ｂ）「本発明は、フライス加工工具等の表面に、密着性の優れた耐摩耗性皮膜を効率良く形成する方法に関するものである。」（第1頁第1欄第14〜16行）
（ｃ）「実施例１
・・・成膜に当たっては、ヒータによって基材温度を400℃に加熱保持したまま、基材に−70Ｖのバイアス電圧を印加すると共に、装置内に高純度Ｎ２ガスを7×１０−３ｔｏｒｒまで導入し、アーク放電を開始して基材表面に膜厚4μｍの皮膜を形成した。（中略）
実施例２
　Ａｌ0.7Ｔｉ0.3カソードを用いた以外は、実施例１と同一条件で成膜を行なった。成膜した膜厚は3．8μｍであり、膜組成は（Ａｌ0.7Ｔｉ0.33）Ｎであった。」（第3頁第6欄第6行〜第32行）
甲第２号証：「神戸製鋼技報」１９９１年発行、第４１巻第３号、ｐ．９−１３
（ａ）「膜形成は、蒸発源としてＴｉまたはＴｉ1-ｘＡｌｘ（ｘ＝0.25〜0.85）合金をカソードとしたアーク放電によりカソード物質を蒸発させ、Ｎ2ガスとの反応性イオンプレーティング法によりおこなった。カソードアークイオンプレーティング法の原理を第１図に示す。」（第9頁右欄第11〜15行）
（ｂ）「1.2　（Ｔｉ１−ｘＡｌｘ）Ｎ系膜
　第5図は、Ｎ2分圧を4×10-1Ｐａとした時の（Ｔｉ１−ｘＡｌｘ）Ｎ（ｘ＝0〜0.85）膜のＸ線回折結果を示す。この結果から、ＴｉＮへのＡｌ固溶度の増加にしたがって、0＜ｘ＜0.7間では、ＴｉＮと同一のＢ1型結晶構造（立方晶）であることがわかる。」（第10頁右欄第3〜8行）
（ｃ）「第5図（Ｔｉ１−ｘＡｌｘ）Ｎ膜（ｘ＝0〜0.85）のＸ線回折結果」には、（Ｔｉ0.3Ａｌ0.7）Ｎ皮膜の「Ｉ（200）／Ｉ（111）」が「約1.9」である回折パターンが開示されている。
（ｄ）「ＴｉＮへＡｌを添加したときの耐摩耗性に与える影響をＴｉ−Ｎ系膜と比較して調べた。各種コーティング超硬チップの切削性能を切削時間に対するフランク摩耗幅で評価した結果を第9図に示す。・・・第9図にみられるように（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎは優れた耐摩耗性を有することがわかった。これは、高硬度であることのほかに、切削中に発生する高温状態で膜最表面に形成されるアモルファスＡｌ酸化物の保護膜が（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎの酸化の進行を抑制しているためと考えられる。」（第11頁左欄第14〜25行）
甲第３号証：特開平３−１７２５１号公報
(ａ)「（1）ＴｉＣｘＮ1-ｘ（但し0≦ｘ≦0.6）で示される化学組成からなり、膜厚が0.3〜6μｍの皮膜層が基材表面に形成されると共に、（ＡｌｙＴｉ1-ｙ）（ＮｚＣ1-ｚ）（但し0.05≦ｙ≦0.75、0.8≦ｚ≦1）で示される化学組成からなり、膜厚が0.6〜8μｍの皮膜層が最上層に形成され、少なくとも2層からなることを特徴とする耐摩耗性皮膜。」（特許請求の範囲の請求項1）
（ｂ）「Ｔｉカソード電極およびＡｌｙＴｉ1-ｙ（ｙ＝0.05〜0.175）の組成のカソード電極を用い、カソードアーク方式イオンプレーティング装置の基板ホルダーに超硬合金製チップ（ＷＣ−10％Ｃｏを主成分とする）を取り付けた。（第4頁右下欄第9〜13行）・・・装置内に高純度Ｎ2ガスを5×10-2Ｔｏｒｒまで導入し、アーク放電を開始し、基板表面にＴｉ（ＣｘＮ1-ｘ）系皮膜層（第1皮膜層）、中間層および（ＡｌｙＴｉ1-ｙ）（ＮｚＣ1-ｚ）系皮膜層（表面層）の順に積層して各種の皮膜を形成した。（第4頁右下欄第18行〜第5頁第3行）・・・第1表より明らかな様に、比較例に比べて本発明例はいずれも耐摩耗性に優れていた。」（第5頁右下欄第1〜2行実施例1参照）
（ｃ）「本発明は以上の様に構成されているので、ＴｉＮを基本としたＴｉ（Ｃ，Ｎ）系皮膜元来の良好な基材密着性を有すると共に、表面層が、ＩＩＩｂ族の窒化物であるＡｌＮにＴｉが固溶した皮膜層である為、耐熱性、熱伝導性等に関し、ＡｌＮに近似した優れた特性が発揮される。」（第6頁右下欄第5〜10行）
甲第４号証：特開平１−２５２３０４号公報
（ａ）「炭化タングステン基超硬合金、炭窒化チタン基サーメット、および高速度鋼のうちのいずれかで構成された硬質材料基体の表面に、炭化チタン、炭窒化チタン、および窒化チタンのうちの1種の単層または2種以上の複層からなる平均層厚：0.5〜10μｍの付着強化層を介して、ＴｉとＡｌの複合炭化物、複合炭窒化物、および複合窒化物のうちの1層の単層または2種以上の複層からなる平均膜厚：0.5〜5μｍの硬質被覆層を形成してなる表面被覆硬質材料製切削工具。」（特許請求の範囲）
（ｂ）「基体として、重量％で、ＷＣ−9％Ｃｏ−8％ＴｉＣ−10％ＴａＣからなる組成を有するＷＣ基超硬合金で構成され、かつＪＩＳ・ＳＮＧ432の形状をもった切削チップを用意し、この切削チップの表面に、まず、化学蒸着装置（第1表にはＣＶＤで示す）および物理蒸着装置の1つであるイオンプレーティング装置（第1表にはＰＶＤで示す）を用い、通常の条件で、それぞれ第1表に示される組成および平均層厚を有する付着強化層を形成し、引続いて別途用意したイオンプレーティング装置にて、同じく第1表に示される組成および平均層厚の硬質被覆層を形成することによって本発明表面被覆硬質材料製切削工具（以下、本発明被覆切削工具という）1〜10をそれぞれ製造した。」（第2頁左下欄第18行〜同頁右下欄第12行）
（ｃ）第3頁第1表には、ＴｉＮ，ＴｉＣ，ＴｉＣＮ等の付着強化層と、（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ，（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃ，（Ｔｉ，Ａｌ）ＣＮ等の硬質被覆層を積層した切削工具が記載されている。
（ｄ）「第1表に示される結果から、本発明被覆切削工具1〜10は、いずれもすぐれた耐摩耗性を有し、かつ硬質被覆層の付着性がすぐれているので、欠けやチッピングの発生がなく、すぐれた切削性能を示す。」（第3頁左下欄第10〜14行）
（３）当審の判断
（３−１）本件訂正発明１について
　甲第１号証乃至甲第４号証の証拠のうち、本件訂正発明１のＩａ値である「Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）」について示唆する証拠は、甲第２号証のみであり、他の証拠には、このＩａ値に関する何らの示唆も見当たらないから、甲第２号証について検討する。
　甲第２号証の上記（ａ）及び（ｂ）によれば、甲第２号証に記載の「（Ｔｉ１−ｘＡｌｘ）Ｎ系膜」は、基材ＷＣ上にアークイオンプレーティング法によって形成されているから、甲第２号証には、「基体表面にＰＶＤ法によってＴｉとＡｌの窒化物である（Ｔｉ１−ｘＡｌｘ）Ｎ系膜を被覆してなる被覆硬質部材」が記載されていると云うことができる。また、甲第２号証の上記（ｃ）によれば、（Ｔｉ１−ｘＡｌｘ）Ｎ系膜の一具体例が（Ｔｉ0.3Ａｌ0.7）Ｎ皮膜であり、そしてこの皮膜の回折パターンによれば「Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）」が「約１．９」であると云うことができる。
　そうすると、甲第２号証には、本件訂正発明１の記載ぶりに則って整理すると、「基体表面にＰＶＤ法によってＴｉとＡｌの窒化物である（Ｔｉ0.3Ａｌ0.7）Ｎ皮膜を被覆してなる被覆硬質部材において、皮膜のＸ線回折パターンにおける（２００）面のピーク強度をＩ（２００）、（１１１）面のピーク強度をＩ（１１１）としたときに、Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）で表されるＩａ値が約１．９である被覆硬質部材」の発明（以下、「甲２発明」という）が記載されていると云える。
　そこで、本件訂正発明１と甲２発明とを対比すると、本件訂正発明１は、そのＩａ値が「２．３以上」であるから、甲２発明とＩａ値の点で相違していることは明らかである。
　次に、この相違点について検討すると、甲第２号証には、Ｉ（２００）とＩ（１１１）が示された「回折パターン」が数種類図示され、その中にＩ（２００）とＩ（１１１）の比が「約１．９」を示すパターンが偶々１例図示されているだけであり、したがって、この証拠には、Ｉａ値を「２．３以上」とすることで硬質皮膜の密着性を改善するという本件訂正発明１の知見について示唆する何らの記載もないから、Ｉａ値自体を操作することは当業者といえど容易に思い付くことではなく、したがって「約１．９」を偶々示すだけの具体例のＩａ値を「２．３以上」とすることは当業者といえど容易に想到することができないと云うべきである。
　してみると、本件訂正発明１は、甲第１号証及び甲第３、４号証に記載された発明であるとすることができないし、また、甲第１号証乃至甲第４号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるともすることができない。
（３−２）本件訂正発明２について
　本件訂正発明２は、請求項１を引用してなるものであるから、本件訂正発明１と同様の理由により、甲第１号証及び甲第３、４号証に記載された発明であるとすることができないし、また、甲第１号証乃至甲第４号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるともすることができない。
４−２．特許異議申立人東芝タンガロイ（株）について
（１）特許異議申立ての理由の概要
　特許異議申立人は、証拠方法として甲第１号証乃至甲第３号証を提出して、本件請求項１及び２に係る発明は、甲第１号証乃至甲第３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項により特許を受けることができないものであると主張している。
（２）証拠及びその記載内容
　特許異議申立人が提出した甲第１号証乃至甲第３号証には、それぞれ次の事項が記載されている。
甲第１号証：特開平２−１９４１５９号公報
（ａ）「基材表面に耐摩耗性皮膜を形成するに当たり、
　（ＡｌｘＴｉ1-ｘ）（ＮｙＣ1-ｙ）
　　　但し　0.56≦ｘ≦0.75
　　　　　　0.6　≦ｙ≦1
で示される化学組成からなり、膜厚が0.8〜10μｍの耐摩耗性皮膜を、蒸発源としてカソードを用いるアーク放電方式によって形成することを特徴とする耐摩耗性皮膜形成方法。」（特許請求の範囲）
（ｂ）「本発明は、フライス加工工具等の表面に、密着性の優れた耐摩耗性皮膜を効率良く形成する方法に関するものである。」（第1頁左下欄第15〜17行）
（ｃ）「実施例１
・・・成膜に当たっては、ヒータによって基材温度を400℃に加熱保持したまま、基材に−70Ｖのバイアス電圧を印加すると共に、装置内に高純度Ｎ２ガスを7×１０−３ｔｏｒｒまで導入し、アーク放電を開始して基材表面に膜厚4μｍの皮膜を形成した。（中略）
実施例２
　Ａｌ0.7Ｔｉ0.3カソードを用いた以外は、実施例１と同一条件で成膜を行なった。成膜した膜厚は3．8μｍであり、膜組成は（Ａｌ0.7Ｔｉ0.33）Ｎであった。」（第3頁右下欄第10行〜第4頁左上欄第16行）
甲第２号証：「神戸製鋼技報」１９９３年発行、第４３巻第３号、ｐ．２３−２６
（ａ）「1.1 （Ｔｉ1-ｘＡｌｘ）Ｎ系膜の形成
　膜形成にもちいた陰極アークイオンプレーティング装置の概略を第1図に示す。・・・アーク放電を発生させ、蒸発粒子とＮ2との反応蒸着法により（Ｔｉ1-ｘＡｌｘ）Ｎ膜を形成した。（Ｔｉ1-ｘＡｌｘ）Ｎ膜の形成条件を第1表に示す。」（第23頁左欄下から6行〜右欄6行）
（ｂ）第23頁第1表には、形成条件として、
「バイアス電圧　−１００Ｖ」、「Ｎ2ガス圧　4×10-1Ｐａ」、「基板　Ｐｔ、ＷＣ」などが開示されている。
（ｃ）「Ｎ2ガス圧力4×10-1Ｐａで合成した（Ｔｉ1-ｘＡｌｘ）Ｎ膜（ｘ＝0〜0.85）のＸ線回折パターンを第2図に示す。各回折線にみられるとおり、この結晶はＡｌ固溶度0≦ｘ≦0.7の広い範囲にわたってＴｉＮと同一の立方晶Ｂ1構造を示すことがわかった。しかしｘ＝0.7で少量のウルツ鉱（Wrutzite）型に近い未同定相が検出され、さらにＡｌの増加によりｘ＝0.85でウルツ鉱構造を示した。ただし回折強度の変化は膜形成時の結晶方位の配向によるものである。金属成分Ｔｉ1-ｘＡｌｘに対するＮ組成比はＸＰＳ測定からほぼ1であることが確認できた。」（第24頁左欄第15〜24行）
（ｄ）「第2図（Ｔｉ１−ｘＡｌｘ）Ｎ膜（ｘ＝0〜0.85）のＸ線回折パターン」には、（Ｔｉ0.3Ａｌ0.7）Ｎ皮膜の「Ｉ（200）／Ｉ（111）」が「約1.7」である回折パターンが開示されている。
（ｅ）「ＴｉＮにＡｌＮを固溶させることによる耐摩耗性に与える影響をコーティング超硬チップをもちいた切削試験から調べた。・・・この結果から純ＴｉＮコーティングにくらべて、（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎは優れた摩耗状態を示すことがわかった。」（第26頁左欄第14〜24行）
甲第３号証：特開平６−１３６５１４号公報
「【請求項１】工具母材表面に形成される耐摩耗性多層型硬質皮膜構造であって、ＴｉＣx Ｎ1-x （但し０≦ｘ≦0.6 ）で示される化学組成からなる皮膜層と、（Ａｌy Ｔｉ1-y)( Ｎz Ｃ1-z ）（但し0.56≦ｙ≦0.75，0.6 ≦ｚ≦１）で示される化学組成からなる皮膜層が交互に隣接して４層以上積層され、且つ全皮膜層厚が0.6 〜１２μｍであることを特徴とする耐摩耗性多層型硬質皮膜構造。」（第２頁【請求項１】参照）
（３）当審の判断
（３−１）本件訂正発明１及び２について
　甲第１号証乃至甲第３号証の証拠のうち、本件訂正発明１のＩａ値である「Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）」について示唆する証拠は、甲第２号証のみであり、他の証拠には、このＩａ値に関する何らの示唆も見当たらない。
　そして、この甲第２号証は、特許異議申立人エムエムシーコベルコツール（株）が提出した上記甲第２号証とその内容が殆ど同じものであるから、本件訂正発明１及び２は、上記「４−１．（３）」の項で述べたと同様の理由により、甲第１号証乃至甲第３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることができない。
５．むすび
　したがって、特許異議申立ての理由及び証拠方法によっては、本件訂正発明１及び２についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件訂正発明１及び２についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、上記のとおり決定する。  
【異議決定日】
平成１４年１０月１８日（２００２．１０．１８）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　本件訂正の要旨は、本件特許第３０１６７０３号発明の特許明細書を平成１４年１０月１７日付け訂正請求書に添付された訂正明細書のとおり、すなわち、特許請求の範囲の減縮及び明りょうでない記載の釈明を目的として、次の訂正事項（ａ）乃至（ｆ）とおりに訂正するものである。
（イ）訂正事項ａ：請求項１を次のとおり訂正する。
「【請求項１】基体表面にＰＶＤ法によってＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる２元系、ないし３元系の炭化物、窒化物、炭窒化物を被覆してなる被覆硬質部材において、前記ＰＶＤ法はアークイオンプレーティングで、皮膜のＸ線回折パターンにおける（２００）面のピーク強度をＩ（２００）、（１１１）面のピーク強度をＩ（１１１）としたときに、次式
　　Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）
で表されるＩａ値が２．３以上であることを特徴とする被覆硬質部材。」
（ロ）訂正事項ｂ：特許明細書の段落【０００６】の「すなわち、本発明の被覆硬質部材は基体表面にＰＶＤまたはＣＶＤ法によってＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる２元系、ないし３元系の炭化物、窒化物、炭窒化物を被覆してなる被覆硬質部材において、皮膜のＸ線回折パターンにおける（２００）面のピーク強度をＩ（２００）、（１１１）面のピーク強度をＩ（１１１）としたときに、
　　Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）
で表されるＩａ値が１．５以上であることを特徴としている。」を、
「すなわち、本発明の被覆硬質部材は、基体表面にＰＶＤ法によってＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる２元系、ないし３元系の炭化物、窒化物、炭窒化物を被覆してなる被覆硬質部材において、前記ＰＶＤ法はアークイオンプレーティングで、皮膜のＸ線回折パターンにおける（２００）面のピーク強度をＩ（２００）、（１１１）面のピーク強度をＩ（１１１）としたときに、次式
　　Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）
で表されるＩａ値が２．３以上であることを特徴としている。」と訂正する。
（ハ）訂正事項ｃ：特許明細書の段落【００１０】の「Ｉａの値は１．５以上」を「Ｉａの値は２．３以上」と、段落【００１５】の「１．５以上」を「２．３以上」とそれぞれ訂正する。
（ニ）訂正事項ｄ：特許明細書の表１の本発明例８及び本発明例１２を削除し、表１中の本発明例９、１０、１１をそれぞれ本発明例８、９、１０と訂正する。
（ホ）訂正事項ｅ：特許明細書の表２の本発明例８及び本発明例１２を削除し、表２中の本発明例９、１０、１１をそれぞれ本発明例８、９、１０と訂正する。
（ヘ）訂正事項ｆ：特許明細書の段落【００１４】の「本発明材７〜１２」を「本発明材７〜１０」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
被覆硬質部材
（５７）【特許請求範囲】
　【請求項１】　
基体表面にＰＶＤ法によって
前記ＰＶＤ法はアークイオンプレーティングで、
　　Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）
で表されるＩａ値が
２．３
　【請求項２】　前記皮膜の層とＡｌＮ、周期律表４ａ、５ａ、６ａ族の炭化物、窒化物、炭窒化物、のうち１つから選ばれる層を２層以上の多層としたことを特徴とする請求項１記載の被覆硬質部材。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用範囲】
　本発明は耐摩耗性、耐欠損性に優れた切削工具、及び耐摩工具として用いられる被覆硬質部材に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　切削工具や耐摩工具の耐摩耗性、耐欠損性向上のために基体表面に物理蒸着法（以下、ＰＶＤと称する。）や化学蒸着法（以下、ＣＶＤと称する。）によりＴｉ、Ｚｒ等の炭化物、窒化物、炭窒化物の硬質膜を利用した被覆硬質部材が多く用いられている。特にＰＶＤ法で作製された被覆硬質部材は成膜温度が５００℃以下と低いため、皮膜と母材の反応が殆どなく母材強度を活かすことができる。そのため現在ではフライス切削用スローアウエイチップ、エンドミルなどに多く用いられている。
　【０００３】
　しかしながら、最近では高硬度材の切削や切削速度の高速化が進んでおり、前記Ｔｉ、Ｚｒ等の炭化物、窒化物、炭窒化物では耐熱性が劣るため刃先が高温になると皮膜が劣化して切削寿命が短い。そこで耐酸化性に優れている（Ｔｉ、Ａｌ）Ｎ膜が注目されるようになり開発が進められている。この膜は前記硬質膜よりも耐熱性に優れており刃先が高温になる高速切削の領域でも優れた性能を発揮し、さらにビッカース硬度も２３００〜３０００と硬く耐摩耗性にも優れている。また、改善案としてＴｉ／Ａｌの比率を限定した特公平５−５７７０５号や（Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ）Ｎ、（Ｔｉ、Ａｌ、Ｖ）Ｎといったさらに多次元化した皮膜に関する特許（米国特許４８７１４３４号）も提案されている。
　【０００４】
　更に、ＰＶＤ、ＣＶＤ法などで基体上にＴｉ、Ｚｒ等の炭化物、窒化物を形成した場合、基体表面の結晶性、及び成膜装置でのガス雰囲気、条件により特定の面に配向した皮膜を得ることができる。特開昭５６−１５６７６７号公報には、超硬合金またはサーメットの基体表面に被覆されたＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆの炭化物、窒化物、炭窒化物の皮膜の結晶性が（２００）面に強く配向されてなる被覆硬質合金について記載されている。
　このようにして形成される皮膜の結晶配向性を制御することにより膜特性を向上させることが出来、被覆硬質合金の耐摩耗性、耐欠損性は改善される。
　【０００５】
　【発明が解決しようとしている課題】
　よって、前記（Ｔｉ、Ａｌ）Ｎ膜についてはＴｉ／Ａｌ比により皮膜の特性も変わるため、高硬度の膜を得ることが難しい。さらに皮膜の結晶配向性について検討されたことはなく、皮膜と基体との密着性に問題がある。本発明は、前記問題点を解決したものであり硬質部材上にＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる２元系、ないし３元系の炭化物、窒化物、炭窒化物を被覆させる場合に、皮膜の結晶配向性を最適にすることにより密着性を向上させ耐摩耗性、耐欠損性に優れた被覆硬質部材の提供を目的とする。
　【０００６】
　【課題を解決するための手段】
　本発明者は、超硬部材表面にＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる２元系の窒化物を被覆して皮膜の結晶配向性と基体との密着性について検討を行った結果、最適な結晶配向面があることを見い出した。すなわち、本発明の被覆硬質部材は、
基体表面にＰＶＤ法によって
前記ＰＶＤ法はアークイオンプレーティングで、
　　Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）
で表されるＩａ値が
２．３
　また、前記皮膜の層とＡｌＮ、周期律表４ａ、５ａ、６ａ族の炭化物、窒化物、炭窒化物のうち１つから選ばれる層を２層以上の多層としたことを特徴としている。
　【０００７】
　【作用】
　表１に、各種合金ターゲットを用意してアークイオンプレーティング法により、バイアス電圧値を中電圧（５０〜１００Ｖ）、高電圧（１５０〜２００Ｖ）、反応ガス（窒素）圧力１０‐１Ｐａの条件で各種皮膜を３μｍ作製し、前記Ｉａ値が異なる場合のスクラッチ試験機による臨界荷重値の評価結果を示す。尚、成膜に用いた基体は８４ＷＣ−３ＴｉＣ−１ＴｉＮ−３ＴａＣ−９ｖｏｌ％Ｃｏ組成の超硬工具である。
　【０００８】
　【表１】
　【０００９】
　ところで、表１より、Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）の値はバイアス電圧値により調節することが可能である。中電圧と低バイアス電圧値では適当なイオン衝撃のために残留圧縮応力も小さく密着性に優れているが、高バイアス電圧値にするとイオン衝撃が大きくなって残留圧縮応力も大きくなり膜は剥離し易くなる。しかしながら逆に５０Ｖ未満の低バイアス電圧値では充分なイオン衝撃が得られないために膜は剥離してしまう。そのため、本検討に用いたアークイオンプレーティング装置では、中電圧を最適バイアス電圧値とした。
　【００１０】
　これから、どの皮膜においてもＩａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）が１．５を越えると臨界荷重値が大きくなり密着性が向上することがわかる。このことから、Ｉａの値は
２．３
　【００１１】
　【実施例】
　８４ＷＣ−３ＴｉＣ−１ＴｉＮ−３ＴａＣ−９ｖｏｌ％Ｃｏの組成になるように市販の平均粒径２．５μｍのＷＣ粉末、同１．５μｍのＴｉＣ粉末、同ＴｉＮ粉末、同１．２μｍのＴａＣ粉末をボールミルにて９６時間混合し、乾燥造粒の後、ＳＥＥ４２ＴＮのスローアウェイチップをプレスし、焼結後、所定の工具形状に加工した。
　【００１２】
　このチップ上にアークイオンプレーティング法により各種合金ターゲットを用意して、表２に示すような皮膜を形成した。そしてこれらの被覆超硬工具を以下の切削条件によりフライス切削試験を行い最大摩耗量が０．２ｍｍに達するまでの切削長を求めた。その結果を表２に併記する。
　　被削材　　ＳＫＤ６１
　　切削速度　２５０ｍ／ｍｉｎ
　　送り　　　０．２ｍｍ／刃
　　切り込み　２．０ｍｍ
　　切削油　　なし
　　工具形状　ＳＥＥ４２ＴＮ−Ｇ９Ｙ
　【００１３】
　【表２】
　【００１４】
　表２より、
本発明材７〜１０
　【００１５】
　【発明の効果】
　本発明の被覆硬質部材はＸ線回折パターンの強度比Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）が
２．３