【事件の表示】
　特許第３３３３１７８号「半導体素子ＣＭＰ用金属酸化物スラリーの製造方法」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第３３３３１７８号の請求項１に係る特許を取り消す。
【理　由】
１．手続の経緯
　平成１２年　６月２２日　　特許出願　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（優先権主張１９９９年８月２０日、大韓民国）
　平成１４年　７月２６日　　特許権設定登録（請求項の数１１）
　平成１５年　４月　７日　　特許異議申立て
　　　　　　　　　　　　（申立人村野親、請求項１に係る特許に対して）
　平成１５年　５月２３日　　審尋（申立人に対して）
　平成１５年　７月１５日　　回答書
　平成１５年　９月　３日　　取消理由通知
　平成１５年１２月１２日　　訂正請求・意見書
　平成１６年　７月１６日　　訂正請求取下書
　
２．本件発明
　本件特許第３３３３１７８号の請求項１に係る発明（以下、「本件発明１」という。）は、特許明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された次の事項により特定されるものである。
「金属酸化物と水をプレミキシングした後、水溶液状の金属酸化物を分散チャンバー内のオリフィスで高圧で加速させて分散させる方法において、高圧ポンプを２台使用して、分散チャンバーにかかる圧力を一定に維持させることを特徴とする半導体素子ＣＭＰ用金属酸化物スラリーの製造方法。」
　
３．引用刊行物記載の発明等
　先の取消理由通知において引用した刊行物１［特開平１０−３１０４１６号公報；申立人の提示した甲第３号証］には、次の事項が記載されている。
ア．「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はシリカ分散液の製造方法に関する。さらに詳しくは、各種のシリカを原料に、研磨剤やコート剤の原料として有用な、安定性の高い新規のシリカ分散液の製造方法を提供するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、シリコンに代表される半導体ウエハーを研磨するときやＩＣ製造行程中で絶縁層などを研磨するために、研磨剤としてシリカ分散液が使われている。」（第２頁第１欄第１７〜２７行）
イ．「【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意研究を重ねた。その結果、シリカと水よりなるシリカスラリーを、絞り機構の入口側と出口側との差圧が４００〜３５００ｋｇｆ／ｃｍ２となる条件で、該絞り機構を通過せしめることによって、長期間の保存においてゲル化しない（保存安定性）、シリカ粒子の沈降が起こらない（沈降安定性）（以下、これらを単に安定性ともいう）に優れていることを見い出し、本発明を完成するに至った。
【００１４】即ち、本発明は、シリカと極性溶媒よりなるシリカスラリーを、絞り機構の入口側と出口側との差圧が４００〜３５００ｋｇｆ／ｃｍ２となる条件で、該絞り機構を通過せしめて粉砕することを特徴とするシリカ分散液の製造方法である。」（第２頁第２欄第３５〜４９行）
ウ．「【００３８】上記のような絞り機構を有した装置としては、一般に、高圧ホモジナイザーと呼ばれている市販の装置が好適に使用できる。
【００３９】高圧ホモジナイザーの基本的な構成は、シリカスラリーを加圧する高圧発生部と絞り機構よりなる。高圧発生部としては、一般にプランジャーポンプと呼ばれている高圧ポンプが好適に採用される。高圧ポンプには、一連式、二連式、三連式などの各種の形式があり、また動力としては、空圧、電動、油圧などの形式があるが、絞り機構の入口側と出口側との差圧が４００〜３５００ｋｇｆ／ｃｍ２の範囲に維持できるものであれば特に制限なく採用できる。」（第４頁第６欄第２５〜３６行）
エ．「【００４３】高圧ホモジナイザーの代表例を具体的に例示すると、・・・スギノマシン製のアルティマイザー・・・などを挙げることができる。」（第５頁第７欄第６〜１０行）
オ．「【００５５】実施例１〜３
５リットルのポリ容器に所定量のイオン交換水とアンモニア水を混合した。次に、比表面積が１３８ｍ２／ｇのヒュームドシリカを上記アルカリ水溶液に投入し、棒でかき混ぜることによって予備混合を行った。・・・。
【００５６】できたシリカスラリーを高圧ホモジナイザー（ナノマイザー社製；ナノマイザー、ＰＥＮ）を用いて、表に示す処理圧力にて、それぞれ３回処理してシリカ分散液を得た。ただし、このときに使用した絞り機構は、細管により形成された流路が分岐し合流した構造を成した対向衝突式のものを用いた。」（第５頁第８欄第１０〜２２行）
　上記記載事項ア〜オによると、刊行物１には、
「シリカと水を予備混合した後、高圧ポンプを使用して、シリカスラリーを絞り機構で高圧で加速させて分散させる半導体ウエハー・ＩＣ研磨用シリカ分散液の製造方法。」
の発明（以下、「刊行物１記載の発明」という。）が記載されていると認められる。
　
　同じく引用した刊行物２［雑誌「食品機械装置」 平成６年１２月１日 株式会社ビジネスセンター社発行 第８１〜８８頁；申立人の提示した甲第１号証］には、次の事項が記載されている。
カ．「アルティマイザーシステムは，超高圧に加圧した混相流体を非球面曲線を持つオリフィス内の微小領域にジェット噴射・加速して対向衝突させ，強力な衝撃力と専断力を発生させてサブサブミクロン単位の粒子の破砕・分散・乳化を，瞬間的に且つ連続して実施する装置です。」（第８３頁中程の「機能」の欄）
キ．「油圧ポンプにて加圧された一次圧（１９０〜２１０ｋｇｆ／ｃｍ２）を増圧機構原理にてプランジャーを作動させタンデム式に交互に往復運動をおこないます。
原料のスラリーは独自の自動制御回路により、加圧検知流量コントロールを増幅させて圧力の脈動を防止し、連続加圧をおこない吐出します。」（第８７頁中程の「機能概要」の欄）
ク．「無脈動化対策については，油圧増圧方式の双筒式としたため（図８参照）左右独立したプランジャーに各油圧回路を持たせると共に吐出圧力を吐出口直近で検知し，組込まれたコンピューターにこの情報をフィードバックし，常に吐出圧力が設定圧力±２％以内に納まる様コントロール致します。」（第８８頁左欄第２〜８行）
　
　同じく引用した刊行物３［パンフレット「アルティマイザーシステム ＵＬＴＩＭＡＩＺＥＲ ＳＹＳＴＥＭ」 １９９６年 伊藤忠産機株式会社発行（１９９６年１０月１４日 錦明印刷株式会社印刷）；申立人の提示した甲第２号証］には、次の事項が記載されている。
サ．「アルティマイザーシステムとは
液体に圧力エネルギーを与え、途中で２流路に分岐させ、再度合流する部分で対向衝突をさせ超微粒化・乳化・分散を行う湿式粉砕システムです。」（第１頁第１〜３行）
シ．「アルティマイザーシステムにおいて、スラリー対応双筒型無脈動ポンプを使用する。」（第３頁中程の「基本フロー」の欄、「フルスペックフロー」の欄）
　
　同じく引用した刊行物４［特開平９−２６４２６１号公報；申立人の提示した甲第４号証］には、次の事項が記載されている。
タ．「【００４８】この実施形態によれば、系内の計測圧力によって高圧液体の吐出を制御するため、脈流が使用状況に影響のない程度となるように液体加圧装置を設計することができる。また、この方式によると、圧力降下のタイミングが事前に予測できるため、吐出行程中の一方のプランジャポンプのプランジャが前進端に到達する少し手前で、待機行程にあるもう一方のプランジャポンプのサーボモータを作動させてプランジャを前進させることにより、脈動の圧力降下量を一層少なくすることができる。このように、実質的に連続した噴射が可能であり、かつ、脈流はないかあってもきわめて小さいものである。したがって、脈動の殆どない高圧噴射が可能となり、例えば、乳化・微粒子製造分野においても均質な製品の完成等が可能となる。」（第６頁第９欄第３４〜４７行）
　
４．対比・判断
　本件発明１と刊行物１記載の発明とを対比する。
　刊行物１記載の発明の「シリカ」は、その技術的意義からみて、本件発明１の「金属酸化物」に相当し、以下同様に、「予備混合」は「プレミキシング」に、「シリカスラリー」は「水溶液状の金属酸化物」に、「絞り機構」は「分散チャンバー内のオリフィス」に、「半導体ウエハー・ＩＣ研磨用シリカ分散液」は「半導体素子ＣＭＰ用金属酸化物スラリー」に、それぞれ、相当する。
　してみると、両者は、
「金属酸化物と水をプレミキシングした後、水溶液状の金属酸化物を分散チャンバー内のオリフィスで高圧で加速させて分散させる半導体素子ＣＭＰ用金属酸化物スラリーの製造方法。」
の点で一致し、次の点で相違する。
［相違点］
　本件発明１においては、高圧ポンプを２台使用して、分散チャンバーにかかる圧力を一定に維持させるのに対し、刊行物１記載の発明においては、高圧ポンプを使用しているが、高圧ポンプを２台使用して、分散チャンバーにかかる圧力を一定に維持させるものでない点。
　
　上記［相違点］について検討する。
　刊行物２には、上記記載事項カ〜クによると、超高圧に加圧した混相流体を非球面曲線を持つオリフィス内の微小領域にジェット噴射・加速して対向衝突させ，強力な衝撃力と剪断力を発生させてサブサブミクロン単位の破砕・分散・乳化を，瞬間的に且つ連続して実施するアルティマイザーシステムにおいて、「油圧ポンプにて加圧された一次圧（１９０〜２１０ｋｇｆ／ｃｍ２）を増圧機構原理にてプランジャーを作動させタンデム式に交互に往復運動を行い、圧力の脈動を防止する」技術が開示されている。
　刊行物３には、上記記載事項サ，シによると、液体に圧力エネルギーを与え、途中で２流路に分岐させ、再度合流する部分で対向衝突をさせ超微粒化・乳化・分散を行うアルティマイザーシステムにおいて、「スラリー対応双筒型無脈動ポンプを使用する」技術が開示されている。
　刊行物４には、上記記載事項タによると、乳化・微粒子製造分野において使用されるプランジャポンプにおいて、「プランジャポンプを２台使用して、脈動の殆どない高圧噴射を行う」技術が開示されている。
　そうすると、刊行物１記載の発明において、刊行物２〜４記載の上記技術を勘案して、「高圧ポンプを２台使用して、分散チャンバーにかかる圧力を一定に維持させる」ように構成することは、当業者が格別困難なく想到し得るものと認められる。
　
　また、本件発明１の効果も、刊行物１記載の発明、及び刊行物２〜４記載の技術から当業者が予測し得る程度のものである。
　
５．むすび
　以上のとおりであるから、本件発明１は、刊行物１記載の発明、及び刊行物２〜４記載の技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明１についての特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。
　したがって、本件発明１についての特許は、特許法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。
　よって、結論のとおり決定する。　
【異議決定日】
平成１６年８月２日（２００４．８．２）