【事件の表示】
　特許第３１２６６３５号「アルミナセラミックス焼結体」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３１２６６３５号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
 １.手続の経緯
　特許第３１２６６３５号の請求項１に係る発明は、平成７年７月６日に特許出願（国内優先平成６年７月１１日）され、平成１２年１１月２日に特許の設定登録がなされたものである。
その後、特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１３年１２月２５日に訂正請求がなされたものである。
２.訂正の適否についての判断
ア.訂正の内容
訂正事項Ａ
　特許請求の範囲の請求項１に、
「９９.２重量％以上、９９.９９重量％以下の酸化アルミニウムと残部がアルミニウム以外の金属の酸化物からなり、平均粒子径が０.５μｍ以上、１５μｍ以下で、かつ密度が３.８８ｇ／ｃｍ３以上、３.９７ｇ／ｃｍ３以下である焼結体に、研削加工を施した後、１０００℃以上、１５５０℃以下の温度で０.１時間以上、６時間以下にわたり加熱処理したことを特徴とするアルミナセラミックス焼結体。」とあるを、
「平均粒子径が０.１μｍ〜１０μｍ以下のアルミナ原料粉を用い、焼結体が、９９.２重量％以上、９９.９９重量％以下の酸化アルミニウムと、残部がアルミニウム以外の金属の酸化物とからなり、平均粒子径が０.５μｍ以上、１５μｍ以下で、かつ密度が３.８８ｇ／ｃｍ３以上、３.９７ｇ／ｃｍ３以下である焼結体に、粗さが最大高さで１５μｍになるように研削加工を施した後、１０００℃以上、１５５０℃以下の温度で０.１時間以上、６時間以下にわたり加熱処理して形成した、ウェハドライエッチング処理室内に設けられるドライエッチング装置用アルミナセラミックス部品。」と訂正する。
訂正事項Ｂ
（１）段落  【０００１】を「【発明の属する技術分野】
本発明はアルミナセラミックス部品に関する。さらに詳しくは、アルミナセラミックスの成形体を焼結した後、熱処理を施した、ウェハドライエッチング処理室内に設けられるドライエッチング装置用アルミナセラミックス部品に関する。」と訂正する。
（２）段落【０００４】の「本発明のアルミナセラミックス焼結体」を「本発明のアルミナセラミックス部品」と訂正する。
（３）段落【０００５】の「すなわち、・・・特徴とする。」を「すなわち、本発明のウェハドライエッチング処理室内に設けられるドライエッチング装置用アルミナセラミックス部品は、平均粒子径が０.１μｍ〜１０μｍ以下のアルミナ原料粉を用い、焼結体が、９９.２重量％以上、９９.９９重量％以下の酸化アルミニウムと、残部がアルミニウム以外の金属の酸化物とからなり、平均粒子径が０.５μｍ以上、１５μｍ以下で、かつ密度が３.８８ｇ／ｃｍ３以上、３.９７ｇ／ｃｍ３以下である焼結体に、粗さが最大高さで１５μｍになるように研削加工を施した後、１０００℃以上、１５５０℃以下の温度で０.１時間以上、６時間以下にわたり加熱処理して形成したものであることを特徴とする。」と訂正する。
（４）段落【００２３】の「焼結体」を「部品」と訂正する。
（５）発明の名称の「アルミナセラミックス焼結体」を「アルミナセラミックス部品」と訂正する。　                                       
イ.訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　訂正事項Ａの「平均粒子径が０.１μｍ〜１０μｍ以下のアルミナ原料粉を用い、」、「粗さが最大高さで１５μｍになるように」及び「ウェハドライエッチング処理室内に設けられるドライエッチング装置用アルミナセラミックス部品」は、本件特許明細書段落【００１３】、【００１４】及び【００１９】に記載され「アルミナセラミックス焼結体」をより限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正に該当し、新規事項の追加に該当せず、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
　訂正事項Ｂは上記訂正事Ａに伴って、発明の詳細な説明の記載及び発明の名称を該訂正に整合させるための訂正であるから、明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正であって、新規事項の追加に該当せず、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものでもない。
ウ．むすび　
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び第３項において準用する特許法第１２６条第２項から３項までの規定に適合するので、当該訂正を認める。 
 ３.特許異議申立について
（１）本件発明
　訂正後の請求項１は以下のとおりである。
「【請求項１】平均粒子径が０.１μｍ〜１０μｍ以下のアルミナ原料粉を用い、焼結体が、９９.２重量％以上、９９.９９重量％以下の酸化アルミニウムと、残部がアルミニウム以外の金属の酸化物とからなり、平均粒子径が０.５μｍ以上、１５μｍ以下で、かつ密度が３.８８ｇ／ｃｍ３以上、３.９７ｇ／ｃｍ３以下である焼結体に、粗さが最大高さで１５μｍになるように研削加工を施した後、１０００℃以上、１５５０℃以下の温度で０.１時間以上、６時間以下にわたり加熱処理して形成した、ウェハドライエッチング処理室内に設けられるドライエッチング装置用アルミナセラミックス部品。」
（２）特許異議申立ての理由の概要
　異議申立人は、甲第１〜３号証を提出して、請求項１に係る発明は、甲第１号証に記載された発明と同一であり、又、甲第１〜３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第１項第３号及び同法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであると主張している。
（３）証拠の記載内容
　甲第１〜３号証には、以下の事項が記載されている。
甲第１号証（特開昭６０−１６８６１号公報）：
ａ.「Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２−ＭｇＯ　３成分系からなり、Ａｌ２Ｏ３９９．７〜９９．９重量％，ＳｉＯ２とＭｇＯがＳｉＯ２/ＭｇＯ＝１〜０．２の範囲で含有することを特徴とした高周波誘電損失の小さい高アルミナ磁器組成物。」（特許請求の範囲）                      
ｂ.実施例試料Ｎｏ.３には、Ａｌ２Ｏ３９９．７％、ＳｉＯ２０．１５％，ＭｇＯ０．１５％、平均粒径１．８μｍ、比重３．９４ｇ/ｃｍ３の性状を有するアルミナ焼結体が記載されている。
ｃ.「本発明の高アルミナ磁器は・・・高周波電子回路の導波体として優れた誘電正接を示し、」（第２頁右下欄下６〜８行）
ｄ．「次にこの焼結品をセンターレス外径研磨機及びダイヤモンドカッターによって・・・試験片を得た。最後にこの試験片を・・・電気炉にて１２００℃、１時間空焼処理し、」（第２頁右上欄３〜８行）
甲第２号証（特開平４−３５６９２２号公報）：
ｅ.「本発明はマイクロ波を透過させる性質を持ち、かつプラズマ放電雰囲気中において使用される放電部材において、高純度多結晶アルミナまたは高純度単結晶アルミナで作られていることを特徴とするプラズマ放電部材であるため、前記条件下にて化学的耐食性に優れたプラズマ放電部材を得ることができる。」（第３頁第４欄２８〜３３行）
ｆ．「本発明においてもかさ密度３．９５（ｇ/ｃｍ３）以上にすることが望ましい。」（第２頁第２欄４４〜４５行）
甲第３号証（日本セラミックス協会学術論文誌、Ｖｏｌ.９９、Ｎｏ．５，３８４〜第３８９頁、日本セラミックス協会、平成３年発行）：
ｇ．「（１）研削加工損傷により強度が低下したアルミナに対し、条件をうまく選んで焼鈍処理を行うことによって、研削加工傷が修復され、強度を加工前の状態に回復することができた。」（第３８９頁右欄１３〜１６行）
（４）当審の判断
　訂正後の請求項１に係る発明（以下、本件発明１という。）と甲第１号証に記載された発明(以下、「甲１号証発明」という。」）とを比較する。
　本件発明１の記載振りにしたがって、甲１号証発明を表現すると、刊行物１には、「焼結体が、９９.２重量％以上、９９.９９重量％以下の酸化アルミニウムと、残部がアルミニウム以外の金属の酸化物とからなり、平均粒子径が０.５μｍ以上、１５μｍ以下で、かつ密度が３.８８ｇ／ｃｍ３以上、３.９７ｇ／ｃｍ３以下である焼結体に、研削加工を施した後、１０００℃以上、１５５０℃以下の温度で０.１時間以上、６時間以下にわたり加熱処理して形成した、焼結体」が記載されているということができるから、両者は、この点で一致し、以下の点で相違する。　
相違点１：本件発明１では、原料粉の平均粒子径を０.１μｍ〜１０μｍ以下に限定しているのに対し、甲１号証発明では、原料粉の平均粒子径については限定がなされていない点。
相違点２：研削加工を施す際、本件発明では粗さが最大高さで１５μｍになるようにするのに対し、甲１号証発明では粗さに関する限定はない点。
相違点３：本件発明では、焼結体が、ウェハドライエッチング処理室内に設けられるドライエッチング装置用部品に使用されるものであるのに対し、甲１号証発明では、焼結体は高周波電子回路の導波体として用いられるものである点。
　これら相違点１〜３につき他の証拠を参照して検討すると、甲第２号証には、高純度多結晶アルミナまたは高純度単結晶アルミナが化学的耐食性に優れたプラズマ放電部材として使用されることが、また甲第３号証には、アルミナ研削加工損傷に及ぼす焼鈍処理の影響が記載されているにとどまり、前記相違点については記載もなければ示唆もない。
　なお、特許異議申立人は、上記相違点３について、「甲第２号証によって知られた用途から、用途を想定することはきわめて容易である」と主張 （平成１４年３月２６日付回答書第３頁（２）−３要件（ｃ）について）しているが、甲１号証発明は高周波誘電損失の小さいことを意図したものであって、耐エッチング性に優れる本件発明と技術思想が全く相違している以上、甲第２号証にプラズマ放電部材の用途がたとえ開示されているとしても、そのことから甲１発明の用途をドライエッチング装置用の用途を想起することは容易であるとすることはできない。
　そして、本件発明は、これら相違点により、プラズマイオンの照射を受けた場合のセラミックス表面からのセラミックス粒子の脱落飛散が抑止され、そのために、ウェハの生産歩留まりを向上させることができるという効果を奏するものである。
　してみると、本件発明は甲第１号証に記載の発明と同一でもなければ、甲第１〜３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものでもない。
４むすび
　以上のとおり、本件請求項１に係る発明の特許は、特許異議申立の理由によっては、取り消すことができない。
　また、他に本件発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
   したがって、本件発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。
　よって、特許法等の一部を改正する法律(平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令(平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年１１月２１日（２００２．１１．２１）
【訂正の要旨】
訂正事項Ａ
　特許請求の範囲の請求項１に、
「９９．２重量％以上〜９９．９９重量％以下の酸化アルミニウムと残部がアルミニウム以外の金属の酸化物からなり、平均粒子径が０．５μｍ以上、１５μｍ以下で，かつ密度が３．８８ｇ／ｃｍ３以上、３．９７ｇ／ｃｍ３以下である焼結体に、研削加工を施した後、１０００℃以上「１５５０℃以下の温度で０．１時闇以上、６時間以下にわたり加熱処理したことを特徴とするアルミナセラミックス焼結体。」とあるを，
「平均粒子径が０．１μｍ〜１０μｍ以下のアルミナ原料粉を用い、焼結体が、９９．２重量％以上、９９．９９重量％以下の酸化アルミニウムと、残部がアルミニウム以外の金属の酸化物とからなり、平均粒子径が０．５μｍ以上，１５μｍ以下で、かつ密度が３．８８ｇ／ｃｍ３以上、３．９７ｇ／ｃｍ３以下である焼結体に，粗さが最大高さで１５μｍになるように研削加工を施した後、１Ｏ０Ｏ℃以上、１５５０℃以下の温度で０．１時間以上、６時間以下にわたり加熱処理して形成した、ウェハドライエッチング処理室内に設けられるドライエッチング装置用アルミナセラミックス部品。」と訂正する
訂正事項Ｂ
（１）段落【０００１】を「【発明の属する技術分野】
　本発明はアルミナセラミックス部品に関する。さらに詳しくは、アルミナセラミックスの成形体を焼結した後、熱処理を施した、ウェハドライエッチング処理室内に設けられるドライエッチング装置用アルミナセラミックス部品に関する。」と訂正する。
（２）段落【０００４】の「本発明のアルミナセラミックス焼結体」を「本発明のアルミナセラミックス部品」と訂正する。
（３）段落【０００５】の「すなわち、・・・特徴とする。」を「すなわち、本発明のウェハドライエッチング処理室内に設けられるドライエッチング装置用アルミナセラミックス部品は、平均粒子径が０．５μｍ〜１０μｍ以下のアルミナ原料粉を用い焼結体が、９９．２重量％以上、９９．９９重量％以下の酸化アルミニウムと、残部がアルミニウム以外の金属の酸化物とからなり、平均粒子径が０．５μｍ以上，１５μｍ以下で、かつ密度が３．８８ｇ／ｃｍ３以上、３．９７ｇ／ｃｍ３以下である焼結体に、粗さが最大高さで１５μｍになるように研削加工を施した後、１０００℃以上、１５５０℃以下の温度で０．１時間以上、６時間以下にわたり加熱処理して形成したものであることを特徴とする。」と訂正する。
（４）段落【００２３】の「焼結体」を「部品」と訂正する。
（５）発明の名称の「アルミナセラミックス焼結体」を「アルミナセラミックス部品」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
アルミナセラミックス
部品
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
平均粒子径が０．１ｍ〜１０μｍ以下のアルミナ原料粉を用い、
焼結体が、９９．２重量％以上、９９．９９重量％以下の酸化アルミニウムと、残部がアルミニウム以外の金属の酸化物とからなり、
平均粒子径が０．５μｍ以上、１５μｍ以下で、
かつ密度が３．８８ｇ／ｃｍ３以上、３．９７ｇ／ｃｍ３以下である焼結体に、
粗さが最大高さで１５μｍになるように
ウェハドライエッチング処理室内に設けられるドライエッチング装置用
部品
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明はアルミナセラミックス
部品
ウェハドライエッチング処理室内に設けられるドライエッチング装置用
　【０００２】
　【従来の技術】
　セラミックス焼結体は、耐食性、耐熱性、強度、電気絶縁性、および耐摩耗性に優れている特性を利用して、極微細なパターンの形成が必須である超高密度大規模集積回路の製造分野で用いられているウェットエッチングに代わる手段としてのプラズマを利用したドライエッチング装置に組込まれる。ドライエッチング装置としては（１）プラズマ中に発生するラジカルを活用した、ケミカルドライエッチング装置、（２）イオンの直進性を利用した反応イオンエッチング装置、（３）マイクロ波マグネトロン放電によるプラズマを利用したエッチング装置などがある。特に電子サイクロトロンプラズマエッチング装置は、高いイオンエネルギーと高いイオン密度のプラズマを発生させるため、照射面の温度が高くなり、イオンによる衝撃力も高い。
　【０００３】
　本来セラミックス焼結体は電気絶縁性と耐イオンスパッタ性に優れているが、実際にはドライエッチング装置のウエハを支持するサセプタなどの部品として用いられてプラズマイオン照射を受けた場合に、焼結体表面からセラミックスが蒸発したり、イオンの衝撃およびエッチング作用とによりセラミックス粒子が脱落飛散する。特に、脱落飛散したセラミックス粒子はウエハ上に再付着し、ウエハの生産歩留まりを低下させるという問題を有していた。
　【０００４】
　【発明が解決しようとする課題】
　本発明のアルミナセラミックス
部品
　【０００５】
　【課題を解決するための手段】
　そこで、セラミックス粒子の脱落飛散のないセラミックス焼結体を開発すべく研究を行っていたところ、所望の形状に成形したアルミナセラミックス成形体を焼結した後、またはさらに焼結体を研削加工した後加熱処理を施すことにより、真空中または０．０１〜５パスカルのエッチングガス存在下でプラズマイオンの照射を受けてもアルミナセラミックス粒子の脱落飛散を防止することが可能であることを見出したものである。
　すなわち、本発明の
ウェハドライエッチング処理室内に設けられるドライエッチング装置用
平均粒子径が０．１μｍ〜１０μｍ以下のアルミナ原料粉を用い、
粗さが最大高さで１５μｍになるように
　【０００６】
　【発明の実施の形態】
　セラミックス焼結体は、常圧焼結法、ホットプレス法あるいは熱間静水圧プレス法のいずれの方法でも製造可能である。これらの方法においてセラミックス成形体は加熱、または加熱と同時に固化された後冷却される工程を経る。特に高温で固化されたセラミックス焼結体が冷却される際は、セラミックス焼結体の表面部に比べ芯部の温度が高いために表面に引張応力が発生する。引張応力がその温度における引張強度を越えた時に粒界にマイクロクラックが発生する。このようにして発生したマイクロクラックの先端部は極端に鋭角であるために、割れ感受性も高くなっている。
　【０００７】
　このような状態にあるセラミックス焼結体にプラズマイオンを照射した場合、セラミックス表面のごく表面層が加熱されるためにクラックの開口部が閉鎖され圧縮応力が発生する。この加熱と冷却が繰り返されると、引張−圧縮が繰り返されることになり、マイクロクラックが徐々に伸長し、最終的にプラズマイオンにたたき出されてセラミックス粒子として飛散する。このようなセラミックス焼結体であっても、後加熱処理を施すことによりマイクロクラックの先端部が丸みを帯びるようになり割れ感受性が低下し、プラズマイオンの照射を受けてもセラミックス粒子の飛散を抑止することが可能であることを見出した。
　【０００８】
　さらに、セラミックス焼結体はダイヤモンド砥石などを用いて研削加工が施された後に使用されることが多い。この場合研削加工面にはクラックを生じるが、加工による加熱と研削液による冷却とにより生じるクラックと、研削加工歪みにより生じるクラックの二通りのクラックがある。これらのクラックの単位面積当りの本数、および表面層からの深さ方向へのクラックの長さは材料特性および研削加工条件によっても差異があるものの、数十μｍにもおよぶ。研削加工時の応力によって発生したクラックの先端部は鋭角であり、割れ感受性も高い。特に、セラミックス焼結体の研削加工面にプラズマイオンを照射すると表面温度が上昇し、クラックの長さが長いこともあって、クラックの伸長が研削加工の施されていない焼結体の場合より著しい。その結果、セラミックス粒子のプラズマイオンにたたき出されて飛散する量が研削加工していない場合よりも多い傾向にある。
　【０００９】
　研削加工面を有するセラミックス焼結体であっても後加熱処理を施すことにより、研削加工歪みはほぼ消滅する。またマイクロクラックの先端部が丸みを帯びるようになり割れ感受性が低下し、プラズマイオンの照射を受けてもセラミックス粒子の飛散を抑止することが可能であることが明らかになった。さらに、後加熱処理を施すことにより超音波洗浄によっても除去不可能であった研削面に付着した研削屑も、研削面に固着させることが可能となることも明らかになった。
　【００１０】
　以上で述べた方法によりセラミックス焼結体を製造する場合に、特にセラミックスが酸化アルミニウム（以下アルミナという）基焼結体はアルミナの蒸気圧が低く、プラズマイオンの照射を受けても蒸発する量が少ないために耐ドライエッチング性に優れているため、ドライエッチング装置用セラミックス製部品の素材として用いた場合に、特に好ましい結果が得られる。以下アルミナ基焼結体を用いてドライエッチング用セラミックス部品を製造する場合を例として本発明を説明する。
　【００１１】
　本発明のセラミックス製部品に用いられるアルミナの純度を９９．２重量％以上としたのは以下に述べる理由による。すなわち、残部のアルミニウム以外の金属の酸化物は複合酸化物としてアルミナの粒界にあたかもアルミナ粒を覆うような形で存在しているが、これらの複合酸化物はアルミナに比べて蒸気圧が高く、プラズマイオンの照射を受けると蒸発し、アルミナ粒が孤立した状態を生じる。アルミナの粒子径が大きく、アルミナ以外の酸化物の量が多いほどアルミナ粒を覆っている複合酸化物の膜厚または粒界層の厚さが厚くなり、粒界部分の蒸発が著しい。
　【００１２】
　アルミナの純度が９９．２重量％以下で、粒子径が１５μｍ以上である場合、複合酸化物の膜厚もしくは粒界層の厚さが厚く、後加熱処理を施してもアルミナ粒子の脱落飛散防止効果が認められなくなる。よって、アルミナの純度を９９．２重量％以上、粒子径を１５μｍ以下とする。粒子径の下限を０．５μｍとしたのはアルミナ焼結体を製造する際に入手可能な原料粉のアルミナ粒子径が０．１μｍ以下であり、焼結体製造工程で０．５μｍまで成長するからである。なお、純度の高いアルミナほど粒界に存在する蒸気圧の高い複合酸化物の量が少なくなるために、より安定したアルミナ焼結体が得られる。その場合の好ましいアルミナの純度は９９．５重量％以上、９９．９９重量％以下の範囲である。また、アルミナの粒子径は細かいものほど粒界の厚さは薄くなるが、アルミナ焼結体として製造しやすい粒子径は２μｍ以上、６μｍ以下である。よってアルミナの粒子径は２μｍ以上、６μｍ以下であることがより好ましい。
　【００１３】
　上記のアルミナ粉末を用いる、常圧焼結法によるアルミナ焼結体の製造方法の例を以下に述べる。純度９９．９重量％の酸化アルミニウムと残部がナトリウム、カルシウム、マグネシウム、珪素、鉄などの金属酸化物からなり、平均粒子径０．１〜１０μｍのアルミナ粉を用い、水を溶媒とし、結合剤としてポリカルボン酸、ステアリン酸、ポリビニルアルコールを少量添加した後、ポットミルで粉砕混合する。粉砕混合して得られるスラリーをスプレードライヤーで乾燥し流動性に富む顆粒とした後、機械プレスまたは静水圧プレスを用いて０．８〜１．５ｔ／ｃｍ２で加圧成形する。次に圧粉体は大気中で１４５０〜１６５０℃で０．５〜６時間焼成され、焼結体となる。成形圧力、焼成温度および焼成時間の最適条件は、使用する原料の性状により異なる。
　【００１４】
　また、焼結体の粒子径および密度も原料の性状により異なる。焼結体の密度を３．８８ｇ／ｃｍ３以上、３．９７ｇ／ｃｍ３以下とするのは３．８８ｇ／ｃｍ３以下では機械的強度が低いためであり、上限は３．９７ｇ／ｃｍ３以上のものが得られないからである。次に、焼結体は最終の製品形状の寸法とするため、かつ表面を平滑な面とするために研削加工が施されることもある。研削加工はダイヤモンド砥石などを用いて、加工後の粗さが最大高さ（Ｒｍａｘ：粗面の最高部と最低部の差）で１５μｍとなるように行うことが好ましい。
　【００１５】
　最後に、焼結体、もしくは研削加工が施された焼結体に後加熱処理を施すことは、本発明において不可欠である。後加熱は１０００℃以上、１５５０℃以下の温度で０．１時間以上、６時間以下にわたって実施される。加熱温度を１０００℃以上、１５５０℃以下とした理由は、１０００℃以下では粒子内に残存する歪みの除去、クラック部分の割れ感受性の改善、および粒界に存在する複合酸化物の除去が不十分であり、１５５０℃以上に加熱すると焼結体の熱によるクリープ現象が著しくなり、変形量が大きくなること、および結晶粒の粗大化を生じるためである。
　【００１６】
　後加熱処理の加熱時間を０．１時間以上、６時間以下とした理由は、０．１時間以下では、粒子内に残存する歪みの除去、クラック部分の割れ感受性の改善、および粒界部分に存在する複合酸化物の除去が不十分であり、６時間以上加熱しても効果の改善が認められなくなるからである。なお、後加熱処理はセラミックスが変質しない限り、真空、大気、および特定のガスのいずれの雰囲気中で実施しても差し支えない。
　【００１７】
　この後加熱処理の効果は走査型電子顕微鏡で観察することにより、極めて容易に確認することができる。すなわち、後加熱を施すことにより焼結体の表面、もしくは焼結後切削加工を施した表面に粒界層が出現するのが観察される。また、研削加工時に生じたクラックが、後加熱によって消滅することも走査型電子顕微鏡による観察で容易に確認することができる。
　【００１８】
　以上で述べたセラミックス焼結体は、ドライエッチング装置用の部品への適用のみに限定されるものではなく、アルカリ、酸、あるいは特にフッ酸を含む酸性溶液が存在する環境下で使用される、高耐食性が要求されるセラミックス部品にも適用可能である。
　【００１９】
　【実施例】
　以下、実施例に基づき、本発明をさらに詳細に説明する。
（実施例１）アルミナ焼結体の純度：９９．２重量％、平均結晶粒径：１２．０μｍ、密度：３．８９ｇ／ｃｍ３の焼結体を常圧法により、電子サイクロトロンプラズマを用いる６インチウエハ用ドライエッチング装置のセラミックス部品として製作した。この部品は電極のカバーとウエハを支持するサセプタ、ウエハを押さえるウェイトおよびウェイト上に置かれるリングの３点から構成される。上記の３点の構成部品のうちリング以外のものに研削加工を施して所定の寸法に仕上げ、それぞれの３点の構成部品の後加熱を大気中において１５００℃で１時間実施した。なお比較のため、後加熱を実施しない以外は実施例１と同一の部品も製作した。これらの部品を上記の６インチウエハ用ドライエッチング装置に装着し、実際にウエハのエッチングを実施した結果、本発明の部品から発生する０．３μｍ以上の径を有する粒子が６インチウエハ上に３ないし５個付着しているのが認められた。一方、後加熱を実施しない比較部品を用いた場合は２５ないし４２個の付着が認められた。すなわち、本発明のセラミックス部品を用いることにより０．３μｍ以上の径を有する粒子の６インチウエハ上への付着が従来の１／８に減少することが判明した。
　【００２０】
（実施例２）
　アルミナ焼結体の純度：９９．８重量％、平均結晶粒径：４．０μｍ、密度：３．９２ｇ／ｃｍ３の焼結体である以外は実施例１と同一の焼結体を実施例１と同一のセラミックス部品として製作した。さらに、これらのセラミックス部品に実施例１と同一の後加熱を実施したものと、比較のため後加熱を実施しないものを準備し、実施例１におけるのと同一のエッチングを実施した。その結果、後加熱を実施した場合はウエハ上に付着する０．３μｍ以上の径を有する粒子の数は０ないし１個、後加熱を実施しなかった場合は２０ないし３５個であった。
　【００２１】
（実施例３）
　実施例１、および実施例２のアルミナ焼結体に種々の時間と温度で後加熱を施した後、プレーナマグネトロンスパッタ装置を用いて３．０Ｐａのアルゴン雰囲気中で２００Ｖ−１０Ｗで３時間アルゴンイオンにより焼結体をエッチングし、エッチング減量を測定し、結果を表１に示した。焼結体の純度が高く、後加熱温度が高いほど耐エッチング性に優れており、純度の低い焼結体を用いた場合でも高温度で後加熱処理することにより、耐エッチング性を改善することが可能である。
　【００２２】
　【表１】
　【００２３】
　【発明の効果】
　本発明のアルミナセラミックス
部品