【事件の表示】
　特許第３２１３２４２号「反射板、反射型液晶表示装置およびその製造方法」の請求項１ないし６に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３２１３２４２号の請求項１ないし４に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第３２１３２４２号に係る発明についての出願は、平成８年１０月２３日に特許出願され、平成１３年７月１９日にその発明について特許の設定登録がなされ、その後、その特許について、異議申立人斉藤忠より特許異議の申立てがなされ、取消理由が通知され、その指定期間内である平成１４年８月６日に訂正請求がなされたものである。
　　　
２．訂正の適否についての判断
ア．訂正の内容
ａ．特許請求の範囲に
　「【請求項１】　マトリクス状に配列された複数の画素を有する光反射型の表示装置に用いられる反射板において、
該反射板表面の各画素に対応する領域は凹凸状であり、
１画素分の凹凸パターンは複数種類あり、その複数種類のうち少なくとも１種類の凹凸パタ−ンは複数個あり、
複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、反射板表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係であり、かつ不規則的に配置されていることを特徴とする反射板。
【請求項２】　液晶層を介在して配置される一対の絶縁性基板を有し、いずれか一方絶縁性基板の液晶層側には、光反射性を有する複数の画素電極がマトリクス状に配列して配置され、透光性を有する他方絶縁性基板側から入射した光を画素電極で反射して出射する反射型液晶表示装置において、
前記画素電極の表面は凹凸状であり、１画素分の凹凸パターンは複数種類ありその複数種類のうちの少なくとも１種類の凹凸パターンは複数個あり、
複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、画素電極表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係であり、かつ不規則的に配置されていることを特徴とする反射型液晶表示装置。
【請求項３】　マトリクス状に配列された複数の画素を有する光反射型の表示装置に用いられる反射板の製造方法であって、予め定められる基板上に感光性樹脂膜を形成した後、所定のパターンを有するマスクを介して、感光性樹脂膜を露光する工程を含む反射板の製造方法において、
前記マスクは，１画素分のパターンを複数種類有し、該マスクまたは前記基板を移動して、前誠感光性樹脂膜を露光する工程を所定回数繰返した後、現像する工程を含むことを特徴とする反射坂の製造方法。
【請求項４】　前記マスクの少なくとも１種類の凹凸パターンは複数個あり、複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、マスク表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係であり、かつ不規則的に配置されていることを特徴とする請求項３記載の反射坂の製造方法。
【請求項５】　液晶層を介在して配置される一対の絶縁性基板を有し、いずれか一方絶縁性基板の液晶層側には光反射性を有する複数の画素電極がマトリクス状に配列して配置され、透光性を有する他方絶縁性基板側から入射した光を画素電極で反射して出射する反射型液晶表示装置の製造方法であって、一方絶縁性基板上に形成されたスイッチング素子の少なくとも一部を覆って該一方絶縁性基板上に感光性樹脂膜を形成した後に、所定のパターンを有するマスクを介して、感光性樹脂膜を露光する工程を含む反射板型液晶表示装置の製造方法において、
前記マスクは、１画素分のパターンを複数種類有し、該マスクまたは前記一方絶縁性基板を移動して，前記感光性樹脂膜を露光する工程を所定回数繰返した後、現像する工程を含むことを特徴とする反射型液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】　前記マスクの少なくとも１種類の凹凸パターンは複数個あり、複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、マスク表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係であり、かつ不規則的に配置されていることを特徴とする請求項５記載の反射型液晶表示装置の製造方法。」
とあるのを、
 　「【請求項１】　マトリクス状に配列された複数の画素を有する光反射型の表示装置に用いられる反射板において、
　該反射板表面の各画素に対応する領域は凹凸状であり、これらの凹凸は複数の露光面によって形成されており、複数の露光面におけるそれぞれの露光面では、１画素分の凹凸パターンは複数種類あり、その複数種類のうち少なくとも１種類の凹凸パターンは複数個あり、複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、反射板表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係であり、かつ不規則的に配置されていることを特徴とする反射板。
【請求項２】　液晶層を介在して配置される一対の絶縁性基板を有し、いずれか一方絶縁性基板の液晶層側には、光反射性を有する複数の画素電極がマトリクス状に配列して配置され、透光性を有する他方絶縁性基板側から入射した光を画素電極で反射して出射する反射型液晶表示装置において、
　前記画素電極の表面は凹凸状であり、これらの凹凸は複数の露光面によって形成されており、複数の露光面におけるそれぞれの露光面では．１画素分の凹凸パターンは複数種類ありその複数種類のうちの少なくとも１種類の凹凸パターンは複数個あり、
　複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、画素電極表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係であり、かつ不規則的に配置されていることを特徴とする反射型液晶表示装置。
【請求項３】　マトリクス状に配列された複数の画素を有する光反射型の表示装置に用いられる反射板の製造方法であって、予め定められる基板上に感光性樹脂膜を形成した後、所定のパターンを有するマスクを介して、感光性樹脂膜を露光する工程を含む反射板の製造方法において、
　前記マスクは、１画素分のパターンを複数種類有し、
　前記マスクの少なくとも１種類の凹凸パターンは複数個あり、複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、マスク表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係であり、かつ不規則的に配置されており、
　該マスクまたは前記基板を移動して、前記感光性樹脂膜を露光する工程を複数回繰返した後、現像する工程を含むことを特徴とする反射板の製造方法。
【請求項４】　液晶層を介在して配置される一対の絶縁性基板を有し、いずれか一方絶縁性基板の液晶層側には、光反射性を有する複数の画素電極がマトリクス状に配列して配置され、透光性を有する他方絶縁性基板側から入射した光を画素電極で反射して出射する反射型液晶表示装置の製造方法であって、一方絶縁性基板上に形成されたスイッチング素子の少なくとも一部を覆って該一方絶縁性基板上に感光性樹脂膜を形成した後に、所定のパターンを有するマスクを介して、感光性樹脂膜を露光する工程を含む反射板型液晶表示装置の製造方法において、
　前記マスクは、１画素分のパターンを複数種類有し，
　前記マスクの少なくとも１種類の凹凸パターンは複数個あり、複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、マスク表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係であり、かつ不規則的に配置されており、該マスクまたは前記一方絶縁性基板を移動して、前記感光性樹脂膜を露光する工程を複数回繰返した後、現像する工程を含むことを特徴とする反射型液晶表示装置の製造方法。」
と訂正し、請求項５及び請求項６を削除する。
ｂ．発明の詳細な説明の段落【００１６】に
　「 【００１６】
【課題を解決するための手段】本発明は、マトリクス状に配列された複数の画素を有する光反射型の表示装置に用いられる反射仮において、該反射坂表面の各画素に対応する領域は凹凸状であり、１画素分の凹凸バタ−ンは複数種類あり、その複数種類のうち少なくとも１種類の凹凸パターンは複数個あり、複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいすれか２パターンは、反射坂表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係で、かつ不規則的に配置されていることを特徴とする。本発明に従えば、反射板はマトリクス状に配列された複数の画素を有する光反射型の表示装置に用いられ、各画素に対応する表面が凹凸状に形成されることによって、入射光に対して、観測者の方向へ散乱する光の強度を増加させることができる。また１画素の凹凸パターンが、複数種類あり、その複数種類のうち少なくとも一種類の凹凸パターンは複数個あり上述のような関係を有することによって、反射特性の急激な変化を防止することができ継ぎ目が発生しなく、また入射光の平行度が高い場合でも、各画素の反射特性が異なり、同期的な反射特性の変化が生じないので、反射光の干渉を防止することができ、良好な反射特性を得ることができ、近隣付近の画素同士が反射特性の異なる凹凸パターンを有するので、表示ムラが生じない。反射型の表示装置に用いた場合、干渉や継ぎ目による表示品位の低下を防止することができる。」
とあるのを、
　「【００１６】
【課題を解決するための手段】
　本発明は、マトリクス状に配列された複数の画素を有する光反射型の表示装置に用いられる反射板において、
　該反射板表面の各画素に対応する領域は凹凸状であり、これらの凹凸は複数の露光面によって形成されており、複数の露光面におけるそれぞれの露光面では、１画素分の凹凸パターンは複数種類あり、その複数種類のうち少なくとも１種類の凹凸パターンは複数個あり、複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、反射板表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係で、かつ不規則的に配置されていることを特徴とする。
　本発明に従えば、反射板はマトリクス状に配列された複数の画素を有する光反射型の表示装置に用いられ、各画素に対応する表面が凹凸状に形成されることによって、入射光に対して、観測者の方向へ散乱する光の強度を増加させることができる。また、反射板表面の凹凸は複数の露光面によって形成されており、複数の露光面におけるそれぞれの露光面では、１画素の凹凸パターンが、複数種類あり、その複数種類のうち少なくとも一種類の凹凸パターンは複数個あり上述のような関係を有することによって、反射特性の急激な変化を防止することができ、露光面間の継ぎ目が発生しなく、また入射光の平行度が高い場合でも、各画素の反射特性が異なり、同期的な反射特性の変化が生じないので、反射光の干渉を防止することができ、良好な反射特性を得ることができ、近隣付近の画素同士が反射特性の異なる凹凸パターンを有するので、表示ムラが生じない。反射型の表示装置に用いた場合、干渉や継ぎ目による表示品位の低下を防止することができる。」
と訂正する。
ｃ．発明の詳細な説明の段落【００１８】に
　「【００１８】また本発明は、液晶届を介在して配置される一対の絶縁性基板を有し、いずれか一方絶縁性基板の液晶層側には、光反射性を有する複数の画素電極がマトリクス状に配列して配置され、透光性を有する他方絶縁性基板側から入射した光を画素電極で反射して出射する反射型液晶表示装置において、前記画素電極の表面は凹凸状であり、１画素分の凹凸パターンは複数種類あり、その複数種類のうち、少なくとも１種類の凹凸パタ−ンは複数個あり、複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、画素電極表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係で、かつ不規則的に配置されていることを特徴とする。本発明に従えば、反射型液晶表示装置は、マトリクス状に配列された光反射性を有する複数の画素電極が配置され、各画素電極が凹凸状の表面を有することによって、入射光に対して、観測者の方向へ散乱する光の強度を増加させることができるので、明るくペーパホワイトな表示を得ることができる。また１画素分の凹凸パターンが複数種類あり、その複数種類のうち、少なくとも１種類の凹凸パターンは複数個あり、上述のような関係を有することによって、反射特性の急激な変化を防止することができ継ぎ目が発生しなく、さらに近隣付近の画素電極同士が反射特性の異なる凹凸パターンを有するので、表示ムラが生じることがなく、また入射光の平行度が高い場合でも、各画素の反射特性が異なり、周期的な反射特性の変化が生じないので、反射光の干渉を確実に防止することができ、表示品位は向上する。」
とあるのを、
　「【００１８】
　また本発明は、液晶層を介在して配置される一対の絶縁性基板を有し、いずれか一方絶縁性基板の液晶層側には、光反射性を有する複数の画素電極がマトリクス状に配列して配置され、透光性を有する他方絶縁性基板側から入射した光を画素電極で反射して出射する反射型液晶表示装置において、
　前記画素電極の表面は凹凸状であり、これらの凹凸は複数の露光面によって形成されており、複数の露光面におけるそれぞれの露光面では，１画素分の凹凸パターンは複数種類あり、その複数種類のうち、少なくとも１種類の凹凸パターンは複数個あり、
　複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、画素電極表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係で、かつ不規則的に配置されていることを特徴とする。
　本発明に従えば、反射型液晶表示装置は、マトリクス状に配列された光反射性を有する複数の画素電極が配置され、各画素電極が凹凸状の表面を有することによって、入射光に対して、観測者の方向へ散乱する光の強度を増加させることができるので、明るくペ一パホワイトな表示を得ることができる。また、反射板表面の凹凸は複数の露光面によって形成されており、複数の露光面におけるそれぞれの露光面では、１画素分の凹凸パターンが複数種類あり、その複数種類のうち、少なくとも１種類の凹凸パターンは複数個あり、上述のような関係を有することによって、反射特性の急激な変化を防止することができ、露光面間の継ぎ目が発生しなく、さらに近隣付近の画素電極同士が反射特性の異なる凹凸パターンを有するので、表示ムラが生じることがなく、また入射光の平行度が高い場合でも、各画素の反射特性が異なり、周期的な反射特性の変化が生じないので、反射光の干渉を確実に防止することができ、表示品位は向上する。」
と訂正する。
ｄ．発明の詳細な説明の段落【００２１】に
　「【００２１】また本発明は、マトリクス状に配列された複数の画素を有する光反射型の表示装置に用いられる反射板の製造方法であって、予め定められる基板上に感光性樹脂膜を形成した後、所定のパターンを有するマスクを介して、感光性樹脂膜を露光する工程を含む反射板の製造新法において、前記マスクは、１画素分のパターンを複数種類有し、該マスクまたは前記基板を移動して、前記感光性樹脂膜を露光する工程を所定回数繰返した後、現像する工程を含むことを特徴とする反射板の製造方法である。本発明に従えは、継ぎ目のない反射板を、凹凸バタ−ンを複数種類有するマスクを用いて複数回の露光を行って作成することができる。」
とあるのを、
　「【００２１】
　また本発明は、マトリクス状に配列された複数の画素を有する光反射型の表示装置に用いられる反射板の製造方法であって、予め定められる基板上に感光性樹脂膜を形成した後、所定のパターンを有するマスクを介して、感光性樹脂膜を露光する工程を含む反射板の製造方法において、
　前記マスクは、１画素分のパターンを複数種類有し、
　前記マスクの少なくとも１種類の凹凸パターンは複数個あり、複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、マスク表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係であり、かつ不規則的に配置されており、
　該マスクまたは前記基板を移動して、前記感光性樹脂膜を露光する工程を複数回繰返した後、現像する工程を含むことを特徴とする反射板の製造方法である。
　本発明に従えば、露光面間の継ぎ目のない反射板を、凹凸パターンを複数種類有するマスクを用いて複数回の露光を行って作成することができる。また、マスクは少なくとも１種類の凹凸パターンを複数個有するので、マスクの設計を簡略化することができる。さらに、そのうちのいずれか２パターンの関係は、上述したような関係を有することによって、反射特性の異なる凹凸パターンを容易にかつ確実に多数形成することができ、良好な反射特性を有する反射板を得ることができる。」
と訂正する。
ｅ．発明の詳細な説明の段落【００２２】を削除する。
ｆ．発明の詳細な説明の段落【００２３】に
　「【００２３】また本発明は、液晶層を介在して配置される一対の絶縁性基板を有し、いずれか一方絶縁性基板の液晶層側には、光反射性を有する複数の画素電極がマトリクス状に配列して配置され、透光性を有する他方絶縁性基板側から入射した光を画素電極で反射して出射する反射型液晶表示装置の製造方法であって、一方絶縁性基板上に形成されたスイッチング素子の少なくとも一部を覆って該一方絶縁性基坂上に感光性樹脂膜を形成した後に、所定のパターンを有するマスクを介して、感光性樹脂膜を露光する工程を含む反射板型液晶表示装置の製造方法において、前記マスクは、１画素分のパターンを複数種類有し、該マスクまたは前記一方絶縁性基板を移動して、前記感光性樹脂膜を露光する工程を所定回数繰返した後、現像する工程を含むことを特徴とする反射型液晶表示装置の製造方法である。
本発明に従えば、継ぎ目の発生がなく、表示品位の向上した反射型液晶表示装置を、凹凸パターンを複数種類有するマスクを用いて、複数回の露光を行って作成することができる。」
とあるのを、
　「【００２３】
　また本発明は、液晶層を介在して配置される一対の絶縁性基板を有し、いずれか一方絶縁性基板の液晶層側には、光反射性を有する複数の画素電極がマトリクス状に配列して配置され、透光性を有する他方絶縁性基板側から入射した光を画素電極で反射して出射する反射型液晶表示装置の製造方法であって、一方絶縁性基板上に形成されたスイッチング素子の少なくとも一部を覆って該一方絶縁性基板上に感光性樹脂膜を形成した後に、所定のパターンを有するマスクを介して、感光性樹脂膜を露光する工程を含む反射板型液晶表示装置の製造方法において、
　前記マスクは、１画素分のパターンを複数種類有し、
　前記マスクの少なくとも１種類の凹凸パターンは複数個あり、複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、マスク表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係であり、かつ不規則的に配置されており、該マスクまたは前記一方絶縁性基板を移動して、前記感光性樹脂膜を露光する工程を複数回繰返した後、現像する工程を含むことを特徴とする反射型液晶表示装置の製造方法である。
　本発明に従えば、露光面間の継ぎ目の発生がなく、表示品位の向上した反射型液晶表示装置を、凹凸パターンを複数種類有するマスクを用いて、複数回の露光を行って作成することができる。また、マスクは少なくとも１種類の凹凸パターンを複数個有するので、マスクの設計を簡略化することができる。さらに、そのうちのいずれか２パターンの関係は、上述したような関係を有することによって、反射特性の異なる凹凸パターンを容易にかつ確実に多数形成することができ、表示品位の向上した反射型液晶表示装置を得ることができる。」
と訂正する。
ｇ．発明の詳細な説明の段落【００２４】を削除する。
イ．訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の有無
　訂正事項ａのうち、請求項１についての訂正は、明細書の段落【００３６】、【００３７】及び図５の記載に基づいて、請求項１の記載における反射板表面の凹凸が複数の露光面によって形成されたものであるように限定するものであり、請求項２についての訂正は、明細書の段落【００３６】、【００３７】及び図５の記載に基づいて、請求項２における画素電極の表面の凹凸が複数の露光面によって形成されたものであるように限定するものであり、訂正後の請求項３についての訂正は、訂正前の請求項３におけるマスクのパターン及びその配置の形態を訂正前の請求項４の記載のように限定するものであり、訂正後の請求項４についての訂正は、訂正前の請求項５におけるマスクのパターン及びその配置の形態を訂正前の請求項６の記載のように限定するものであり、訂正前の請求項１〜６を訂正後の請求項１〜４としたので、結果として請求項５及び６が削除されたものである。したがって、各請求項の訂正は、いずれも特許請求の範囲の減縮に該当するものであり、新規事項の追加に該当せず、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　訂正事項ｂ〜ｇは、それぞれ特許請求の範囲の訂正前の請求項１〜６が訂正後の請求項１〜４に訂正されたこととの整合を図るために、発明の詳細な説明の段落【００３６】、【００３７】及び図５の記載に基づいて、段落【００１６】、【００１８】、【００２１】及び【００２３】を訂正し、段落【００２２】及び【００２４】を削除するものであるから、明りょうでない記載の釈明に該当するものであり、新規事項の追加に該当せず、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
ウ．結論
　したがって、上記訂正は特許法第１２０条の４第２項の規定及び同条第３項において準用する特許法第１２６条第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　　　　
３．特許異議申立てについて
ア．本件発明
　特許第３２１３２４２号の請求項１〜４に係る発明（以下、それぞれ本件発明１〜４という）は、平成１４年８月６日付けで提出された訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１〜４に各々記載された事項により特定されるとおりのものである。
イ．申立ての理由の概要
　特許異議申立人斉藤忠は、甲第１〜２号証刊行物及び参考資料１〜４を提出して、本件の訂正前の請求項１〜６に係る発明は、いずれも甲第１〜２号証刊行物に各々記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２甲の規定により特許を受けることができず、取り消されるべきものである旨主張する。
ウ．各刊行物に記載の発明
　上記提出された各刊行物には、次のように記載されている。
甲第１号証刊行物：特開平８−９５０７１号公報（以下、刊行物１という）
　「【００２２】本発明の目的は、明るく、かつ反射電極の剥離による表示品位の低下のない反射型液晶表示装置を提供することである。
【００２３】
【課題を解決するための手段】本発明は、液晶層を介在して対向配置され、少なくともいずれか一方が透光性を有する一対の基板のうちの一方基板の液晶層側表面は、透光性を有する他方基板側からの入射光を反射する反射電極を有し、他方基板の液晶層側表面は、透光性の電極を有する反射型液晶表示装置において、前記反射電極は凹凸状の表面を有し、前記反射電極の周縁部では、当該周線部領域に対する凹凸状の表面の凹所または凸部を除く領域の占める割合が６０％以上１００％以下の範囲に選ばれることを特徴とする反射型液晶表示装置である。また本発明は、液晶層を介在して対向配置され、少なくともいずれか一方が透光性を有する一対の基板のうちの一方基板の液晶層側表面は、透光性を有する他方基板側からの入射光を反射する表示絵素である複数の反射電極と、各反射電極に印加される表示のための電圧が供給される引回電極と、前記引回電極からの電圧を複数の反射電極に個別的に供給／遮断する複数のスイッチング素子とを有し、他方基板の液晶層側表面は、当該液晶層側表面のほぼ全面を覆う透光性を有する共通電極を有する反射型液晶表示装置において、前記反射電極は凹凸状の表面を有し、前記反射電極の周縁部では、当該周縁部領域に対する凹凸状の表面の凹所または凸部を除く領域の占める割合が６０％以上１００％以下の範囲に選ばれることを特徴とする反射型液晶表示装置である。・・・・また本発明の１つの反射電極における凹所または凸部は、不規則に配列されることを特徴とする。さらにまた本発明の前記凹所または凸部は、１種類または大きさの異なる２種類以上の形状からなることを特徴とする。また本発明の前記凹所または凸部の配列パターンは、隣接する反射電極間において互いに反転するように選ばれることを特徴とする。・・・・」（段落【００２２】〜【００２３】）
　「【００５７】図５は、凹凸状の表面を有する有機絶縁膜６６を作成する際に用いられるマスク８２を示す平面図である。当該マスク８２を用いて、前述したようにレジスト材料から成る複数の凸部８４が形成され、この凸部８４を覆ってレジスト材料を塗布することによって有機絶縁膜６６が形成される。マスク８２が有する透光領域８２ａと遮光領域８２ｂとによって、凸部８４の形状及び配列パターンが決定され、これによって有機絶縁膜６６上の凹所６０ａ，６０ｂの形状及び配列パターンも決定される。マスク８２の透光領域８２ａの配列パターンは、たとえば図示されるように各絵素７６ｃ〜７６ｆにおいて同一に配置される。
【００５８】図６は、他のマスク８５を示す平面図である。マスク８５では、図示されるように隣接する絵素間において互いに反転して配置される。すなわち、絵素７６ｃにおいては、絵素７６ｃと絵素７６ｄ，７６ｅの配列パターンは線対称の関係となり、他の絵素７６ｄ〜７６ｆについても同様である。」（段落【００５７】〜【００５８】）
　「・・・・反射光の干渉を解消するために、互いに重なり合った凹所６０を形成するためのマスクが用いられる。
【００６２】図９は、さらに他のマスク８６〜９０を示す平面図である。図９（１）に示されるマスク８６には、１種類の大きさの透光領域８６ａが形成されており、透光領域８６ａの重なる領域を有する。その他の額（−城は遮光領域８６ｂである。図９（２）に示されるマスク８７には、２種類の大きさの透光領域８７ａ，８７ｂが形成されており、当該透光領域８７ａ，８７ｂの重なる領域を有する。その他の領域は遮光領域８７ｃである。図９（３）に示されるマスク８８には、３種類の大さきさの透光領域８８ａ，８８ｂ，８８ｃが形成されており、その他の領域は遮光領域８８ｄである。図９（４）に示されるマスク８９には、３種類の大きさの透光領域８９ａ，８９ｂ，８９ｃが形成されており、当該透光領８９ａ，８９ｂ，８９ｃの重なる領域を有する。その他の領域は遮光領域８９ｄである。図９（５）に示されるマスク９０には、２種類の大きさの透光領域９０ａ，９０ｂが形成されており、その他の領域は遮光領域９０ｃである。
【００６３】上述したいずれのマスク８２，８５〜９０を用いても、本発明に基づく凹凸状の表面を反射電極５４に形成することが可能である。なお、マスク８２，８５〜９０に形成される透光および遮光領域は、用いるレジスト材料の感光性（ネガ型あるいはポジ型）に対応して透光／遮光部分が選ばれる。上述したような反射光の干渉を解消するためには、図９（１），（２），（４）に示されるようなマスク８６，８７，８９が用いられる。」
　また、図５及び６には、凹凸状の表面を作成する際に用いられるマスクが示され、図５では、各絵素について同一のパターンが配置され、図６では、各絵素のパターンが隣接する絵素間において互いに反転して配置されている。
甲第２号証刊行物：特開平６−７５２３８号公報（以下、刊行物２という）
「【００７３】図９は、本発明の他の実施例を示す基板３１の平面図である。反射電極３８上には、有機絶縁膜４０に形成される凸部４２ａを介して凸部３８ａが不規則に形成されている。しかしながら、反射電極３８の凸部３８ａの不規則さは、どの反射電極３８をとっても同様である。これは、有機絶縁膜４２上に凸部４２ａを形成する際に用いられるホトマスク５１の各反射電極３８に対応する領域に、同じ配列パターンで遮光領域５１ａを形成しているためである。
【００７４】凸部４２ａを形成するためのホトマスク５１の各反射電極３８に対応する領域に、それぞれ異なる配列パターンの遮光領域５１ａを設計することもできるけれども、このような方法を採ると、配列パターンの形成に必要とされるデータ量が増大し、ホトマスク５１の作成が困難となる。しかしながら本実施例によれば、各反射電極３８に対応する領域のホトマスク５１上には、それぞれ同じ配列パターンで遮光領域５１ａが形成されるため、１反射電極３８に対応する配列パターンを形成するだけでよく、ホトマスク５１の作成が容易となる。」（段落【００７３】〜【００７４】）
　「【００７６】なお、反射型液晶表示装置３０の構成、凸部４２ａの作成方法、表示モードなどは前述の実施例と同様である。全面点灯させたときの表示は、隣の絵素との干渉による色は見えず、良好な白色が得られた。
【００７７】反射電極３８の数が多くなり、反射電極３９のピッチが小さくなったときに、特に隣の反射電極３８が形成する絵素との干渉色が間題となる場合には、２種類以上の配列パターンを組合せてホトマスク５１を形成すればよい。」（段落【００７６】〜【００７７】）
参考資料１：特開昭５８−２８２１号公報（以下、刊行物３という）
　反射型液晶表示装置の液晶駆動電極表面に形成される穴あるいは突起の寸法、形状及び配置に関し、隣り合う駆動電極同士は異なる、不規則な配置形態にして、干渉縞や干渉色の発生を抑制することが記載されている。
参考資料２：特開昭６２−１３０６４号公報（以下、刊行物４という）
　半導体装置の製造において、全般の微細化に伴いセルも小型化され、微細パターンの形成に適した縮小繰り返し露光のステッパー（縮小露光装置）を用いないと、その作成が困難となってきたことについて記載されている。
参考資料３：「フラットパネル・ディスプレイ１９９０」（１９８９年１１月１日、日経ＢＰ社発行、第１５６〜１６０頁、以下、刊行物５という）
　アクティブマトリクス用パネルの製造において、ステッパにより大型基板を分割露光して一画面に合成することについて記載されている。
参考資料４：「液晶デバイスハンドブック」（日本学術振興会第１４２委員会編、１９９０年１０月３０日、日刊工業新聞社発行、第５５６〜５５９頁、以下、刊行物６という）
　ステッパ装置を用いてアクティブマトリクス表示用の基板を分割露光により形成することについて示されている。
エ．対比、判断
　本件発明１と刊行物１に記載のものとを対比すると、本件発明１において、反射板表面の各画素に対応する領域の凹凸が複数の露光面によって形成されており、複数の露光面におけるそれぞれの露光面では、１画素分の凹凸パターンは複数種類あり、その複数種類のうち少なくとも１種類の凹凸パターンは複数個あり、複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、反射板表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係であり、かつ不規則的に配置されているのに対して、刊行物１に記載のものにおいて、各絵素に対応する反射電極の表面の凹凸は、同一のパターンが各絵素において同一に配置されるか、あるいは隣接する絵素間において互いに反転して線対称の関係に配置されており、また、反射電極の表面の凹凸が特に複数の露光面によって形成されるものではない点において相違し、他の点においては一致する。
　そこで、この相違点について検討する。
　刊行物２において、反射型液晶表示装置の反射電極の表面の凹凸を形成する際に、２種類以上の配列パターンを組合せてホトマスクを形成することにより、隣の絵素との干渉が避けられることが記載され、また、刊行物３において、液晶駆動電極表面に形成される穴あるいは突起の寸法、形状及び配置を隣り合う駆動電極同士異なる、不規則な配置形態にすることが記載されており、この２種類以上の配列パターンを組合せること、不規則な配置形態にすることを刊行物１に記載のものに適用することにより、複数個の凹凸パターンを反転移動を含む複数の関係となるように不規則に配置することは容易に考慮し得るところであるが、反射板表面の各画素に対応する領域の凹凸が複数の露光面によって形成されることについては、刊行物１〜３のいずれにも記載されていず、また示唆するとこもない。
　刊行物４〜６において、半導体装置あるいはアクティブマトリクス用パネルをステッパを用いて分割露光により形成することが記載されているが、反射型液晶表示装置の画素電極表面の凹凸を形成する際の分割露光と凹凸パターンの配置との関係については記載されていない。
　しかるに、本件発明１は、上記相違点の構成を有することにより、光反射型の表示装置に用いられる反射板の表面の凹凸パターンを不規則に配置し、複数の露光面を有するものにおいて、露光面間の継ぎ目が目立たなくなるという格別な作用効果を奏するものである。
　それゆえ、本件発明１は、刊行物１〜６に各々記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではない。
　次に、本件発明２と刊行物１に記載のものとを対比すると、両者には、本件発明１の場合と同じ相違点があるので、本件発明２は、刊行物１〜６に各々記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではない。
　また、本件発明３は、光反射型の表示装置に用いられる反射板の製造方法に関するものであるが、反射板の表面の凹凸パターンの形成に際して、マスクまたは基板を移動して露光する工程を複数回繰返すものであるから、本件発明３と刊行物１に記載のものとは、本件発明１の場合と同じ相違点があるので、本件発明３は、刊行物１〜６に各々記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではない。
　さらに、本件発明４は、本件発明３と同様に、反射板の表面の凹凸パターンの形成に際して、マスクまたは基板を移動して露光する工程を複数回繰返すものであるから、本件発明４と刊行物１に記載のものとは、本件発明１の場合と同じ相違点があるので、本件発明４は、刊行物１〜６に各々記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではない。
　　　　
４．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては本件発明１〜４についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明１〜４についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年９月９日（２００２．９．９）
【訂正の要旨】
訂正の内容
　（２−１）明細書の特許請求の範囲の欄を以下のとおりに訂正する。
　（２−１−１）特許請求の範囲請求項１〜４を次のとおりに訂正する。
　「【請求項１】　マトリクス状に配列された複数の画素を有する光反射型の表示装置に用いられる反射板において、
　該反射板表面の各画素に対応する領域は凹凸状であり、
これらの凹凸は複数の露光面によって形成されており、複数の露光面におけるそれぞれの露光面では、
　【請求項２】　液晶層を介在して配置される一対の絶縁性基板を有し、いずれか一方絶縁性基板の液晶層側には、光反射性を有する複数の画素電極がマトリクス状に配列して配置され、透光性を有する他方絶縁性基板側から入射した光を画素電極で反射して出射する反射型液晶表示装置において、
　前記画素電極の表面は凹凸状であり、
これらの凹凸は複数の露光面によって形成されており、複数の露光面におけるそれぞれの露光面では、
　複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、画素電極表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係であり、かつ不規則的に配置されていることを特徴とする反射型液晶表示装置。
　【請求項３】　マトリクス状に配列された複数の画素を有する光反射型の表示装置に用いられる反射板の製造方法であって、予め定められる基板上に感光性樹脂膜を形成した後、所定のパターンを有するマスクを介して、感光性樹脂膜を露光する工程を含む反射板の製造方法において、
　前記マスクは、１画素分のパターンを複数種類有し、
　
前記マスクの少なくとも１種類の凹凸パターンは複数個あり、複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、マスク表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係であり、かつ不規則的に配置されており、
　該マスクまたは前記基板を移動して、前記感光性樹脂膜を露光する工程を
複数回
　【請求項４】　
液晶層を介在して配置される一対の絶縁性基板を有し、いずれか一方絶縁性基板の液晶層側には、光反射性を有する複数の画素電極がマトリクス状に配列して配置され、透光性を有する他方絶縁性基板側から入射した光を画素電極で反射して出射する反射型液晶表示装置の製造方法であって、一方絶縁性基板上に形成されたスイッチング素子の少なくとも一部を覆って該一方絶縁性基板上に感光性樹脂膜を形成した後に、所定のパターンを有するマスクを介して、感光性樹脂膜を露光する工程を含む反射板型液晶表示装置の製造方法において、
　前記マスクは、１画素分のパターンを複数種類有し、
　前記マスクの少なくとも１種類の凹凸パターンは複数個あり、複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、マスク表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係であり、かつ不規則的に配置されており、該マスクまたは前記一方絶縁性基板を移動して、前記感光性樹脂膜を露光する工程を複数回繰返した後、現像する工程を含むことを特徴とする反射型液晶表示装置の製造方法。
　（２−１−２）特許請求の範囲請求項５および請求項６を削除する。
　（２−２）明細書の発明の詳細な説明の欄を次のとおりに訂正する。
　（２−２−１）明細書段落番号【００１６】を次のとおりに訂正する。
　「【００１６】
　【課題を解決するための手段】
　本発明は、マトリクス状に配列された複数の画素を有する光反射型の表示装置に用いられる反射板において、
　該反射板表面の各画素に対応する領域は凹凸状であり、
これらの凹凸は複数の露光面によって形成されており、複数の露光面におけるそれぞれの露光面では、
　本発明に従えば、反射板はマトリクス状に配列された複数の画素を有する光反射型の表示装置に用いられ、各画素に対応する表面が凹凸状に形成されることによって、入射光に対して、観測者の方向へ散乱する光の強度を増加させることができる。また
、反射板表面の凹凸は複数の露光面によって形成されており、複数の露光面におけるそれぞれの露光面では、
、露光面間の
　（２−２−２）明細書段落番号【００１８】を次のとおりに訂正する。
　「【００１８】
　また本発明は、液晶層を介在して配置される一対の絶縁性基板を有し、いずれか一方絶縁性基板の液晶層側には、光反射性を有する複数の画素電極がマトリクス状に配列して配置され、透光性を有する他方絶縁性基板側から入射した光を画素電極で反射して出射する反射型液晶表示装置において、
　前記画素電極の表面は凹凸状であり、
これらの凹凸は複数の露光面によって形成されており、複数の露光面におけるそれぞれの露光面では、
　複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、画素電極表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係で、かつ不規則的に配置されていることを特徴とする。
　本発明に従えば、反射型液晶表示装置は、マトリクス状に配列された光反射性を有する複数の画素電極が配置され、各画素電極が凹凸状の表面を有することによって、入射光に対して、観測者の方向へ散乱する光の強度を増加させることができるので、明るくペーパホワイトな表示を得ることができる。また
、反射板表面の凹凸は複数の露光面によって形成されており、複数の露光面におけるそれぞれの露光面では、
、露光面間の
　（２−２−３）明細書段落番号【００２１】を次のとおりに訂正する。
　「【００２１】また本発明は、マトリクス状に配列された複数の画素を有する光反射型の表示装置に用いられる反射板の製造方法であって、予め定められる基板上に感光性樹脂膜を形成した後、所定のパターンを有するマスクを介して、感光性樹脂膜を露光する工程を含む反射板の製造方法において、
　前記マスクは、１画素分のパターンを複数種類有し、
　
前記マスクの少なくとも１種類の凹凸パターンは複数個あり、複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、マスク表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係であり、かつ不規則的に配置されており、
　該マスクまたは前記基板を移動して、前記感光性樹脂膜を露光する工程を
複数回
　本発明に従えば、
露光面間の
また、マスクは少なくとも１種類の凹凸パターンを複数個有するので、マスクの設計を簡略化することができる。さらに、そのうちのいずれか２パターンの関係は、上述したような関係を有することによって、反射特性の異なる凹凸パターンを容易にかつ確実に多数形成することができ、良好な反射特性を有する反射板を得ることができる。
　（２−２−４）明細書段落番号【００２２】を削除する。
　（２−２−５）明細書段落番号【００２３】を次のとおりに訂正する。
　「【００２３】
　また本発明は、液晶層を介在して配置される一対の絶縁性基板を有し、いずれか一方絶縁性基板の液晶層側には、光反射性を有する複数の画素電極がマトリクス状に配列して配置され、透光性を有する他方絶縁性基板側から入射した光を画素電極で反射して出射する反射型液晶表示装置の製造方法であって、一方絶縁性基板上に形成されたスイッチング素子の少なくとも一部を覆って該一方絶縁性基板上に感光性樹脂膜を形成した後に、所定のパターンを有するマスクを介して、感光性樹脂膜を露光する工程を含む反射板型液晶表示装置の製造方法において、
　前記マスクは、１画素分のパターンを複数種類有し、
　前記マスクの少なくとも１種の凹凸パターンは複数個あり、複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、マスク表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係であり、かつ不規則的に配置されており、
複数回
　本発明に従えば、
露光面間の
また、マスクは少なくとも１種類の凹凸パターンを複数個有するので、マスクの設計を簡略化することができる。さらに、そのうちのいずれか２パターンの関係は、上述したような関係を有することによって、反射特性の異なる凹凸パターンを容易にかつ確実に多数形成することができ、表示品位の向上した反射型液晶表示装置を得ることができる。
　（２−２−６）明細書段落番号【００２４】を削除する。
（５４）【発明の名称】
反射板、反射型液晶表示装置およびその製造方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　マトリクス状に配列された複数の画素を有する光反射型の表示装置に用いられる反射板において、
　該反射板表面の各画素に対応する領域は凹凸状であり、
これらの凹凸は複数の露光面によって形成されており、複数の露光面におけるそれぞれの露光面では、
　【請求項２】　液晶層を介在して配置される一対の絶縁性基板を有し、いずれか一方絶縁性基板の液晶層側には、光反射性を有する複数の画素電極がマトリクス状に配列して配置され、透光性を有する他方絶縁性基板側から入射した光を画素電極で反射して出射する反射型液晶表示装置において、
　前記画素電極の表面は凹凸状であり、
これらの凹凸は複数の露光面によって形成されており、複数の露光面におけるそれぞれの露光面では、
　複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、画素電極表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係であり、かつ不規則的に配置されていることを特徴とする反射型液晶表示装置。
　【請求項３】　マトリクス状に配列された複数の画素を有する光反射型の表示装置に用いられる反射板の製造方法であって、予め定められる基板上に感光性樹脂膜を形成した後、所定のパターンを有するマスクを介して、感光性樹脂膜を露光する工程を含む反射板の製造方法において、
　前記マスクは、１画素分のパターンを複数種類有し、
　
前記マスクの少なくとも１種類の凹凸パターンは複数個あり、複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、マスク表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係であり、かつ不規則的に配置されており、
　該マスクまたは前記基板を移動して、前記感光性樹脂膜を露光する工程を
複数回
　【請求項４】　
液晶層を介在して配置される一対の絶縁性基板を有し、いずれか一方絶縁性基板の液晶層側には、光反射性を有する複数の画素電極がマトリクス状に配列して配置され、透光性を有する他方絶縁性基板側から入射した光を画素電極で反射して出射する反射型液晶表示装置の製造方法であって、一方絶縁性基板上に形成されたスイッチング素子の少なくとも一部を覆って該一方絶縁性基板上に感光性樹脂膜を形成した後に、所定のパターンを有するマスクを介して、感光性樹脂膜を露光する工程を含む反射板型液晶表示装置の製造方法において、
　前記マスクは、１画素分のパターンを複数種類有し、
　前記マスクの少なくとも１種類の凹凸パターンは複数個あり、複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、マスク表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係であり、かつ不規則的に配置されており、該マスクまたは前記一方絶縁性基板を移動して、前記感光性樹脂膜を露光する工程を複数回繰返した後、現像する工程を含むことを特徴とする反射型液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明は、マトリクス型の表示装置に用いられ、入射光を反射するための反射板およびその製造方法に関し、また入射光を画素電極表面で反射することによって表示を行うバックライトを使用しない反射型液晶表示装置およびその製造方法に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　液晶表示装置の中でも外部から入射した光を反射させて表示を行う反射型液晶表示装置は、光源であるバックライトが不要であるので消費電力が低く、薄型であり軽量化が可能となることで注目されている。反射型液晶表示装置でさらに明るい表示を得るためには、入射光に対して、観測者の方向へ散乱する光の強度を増加させることのできる、最適な反射特性を有する反射板を作成する必要があり、ペーパホワイトが実現できるような表面に凹凸を有する反射板の形成技術が重要となっている。
　【０００３】
　特開平５−３２３３７１には、フォトプロセスによって感光性樹脂で反射板の表面に凹凸を形成する技術が開示されている。図９は、反射板の表面に凹凸を形成するために用いられる従来技術のマスク１ｂの形状を示す平面図である。図９（ａ）は、マスク１ｂの１画素６１を示す平面図である。図９（ｂ）は、マスク１ｂの単位パターンの配置関係を示す図である。
　【０００４】
　マスク１ｂの１画素６１の形状は、反射光の干渉を抑制するための凹凸を形成するために、たとえば約２００個の円形領域６２が不規則的（ランダム）な配置となるように設計される。１画素６１は、各辺の長さ６３がたとえば１００μｍ〜１０００μｍの方形であり、その単位パターンを記号６４で表す。マスク１ｂは、記号６４で表される単位パターンを鏡面反転を利用して繰返すことによって、全体の凹凸の配置を決めて設計される。
　【０００５】
　次にマスク１ｂを用いて、凹凸を有する反射板の製造工程について説明する。図４は、一般的な反射板の製造方法の中の露光工程を説明するための斜視図である。予め定められた基板１０の上に感光性樹脂膜１７が形成されている。基板１０の感光性樹脂膜１７側上部にステッパ装置の球状の露光ランプ１８が配置され、マスク１を介して感光性樹脂膜１７が露光される。１回の露光によって照射できる面積は露光ランプ１８の大きさに依存し、現状では最大で対角長が約１２．７ｃｍ以下の場合なので、対角長が約１２．７ｃｍ以上の反射板を作成する場合は、マスク１または基板１０の位置を移動して露光工程を所定回数繰返す。たとえば基板１０では、１回の露光によって露光面Ａのみが露光される。その後、マスク１または基板１０を移動することによって、異なる露光面Ｂ〜Ｈが順次的にそれぞれ露光される。マスクとして用いられる従来技術のマスク１ｂが有する円形領域６２を、たとえば光遮光部とすることによって、円形領域６２以外に対応する感光性樹脂膜１７の領域が露光される。
　【０００６】
　露光後の感光性樹脂膜１７を現像剤を用いて現像すると、円形領域６２に対応する領域に円柱部が形成される。該円柱部は、１２０℃〜２５０℃で熱処理されることによって角がとれ、表面が滑らかな凸部となる。さらに凸部を覆って基板１０の全面に、金属薄膜から成る光反射膜が形成される。光反射膜は、凸部によって、連続的な曲面を有し、円錐状の緩やかな起伏の凹凸形状に形成される。このようにして形成された凹凸形状を有する反射板は、観測者へ向かう光の強度が増加し、反射型液晶表示装置に用いたときにはペーパホワイトの明るい表示が得られる。
　【０００７】
　【発明が解決しようとする課題】従来技術のマスク１ｂは、上述したように円形領域６２を有する１画素６１を単位パターンとし、該単位パターンを鏡面反転して繰返すことによって設計される。このようなマスク１ｂによって反射板に凸部が形成され、該反射板を利用した反射型液晶表示装置は、ペーパホワイトで明るい表示が得られる。しかしながら、反射板が大型の場合に露光を複数回行うことによって、反射特性が低下し、表示装置では表示品位が低下する。以下にその詳細を説明する。
　【０００８】
　図１０は、ステッパ装置の露光ランプ１８による露光強度分布を示す図である。露光可能領域２３の露光強度の等しい点を曲線で結ぶことによって、露光強度の強い部分と弱い部分とは、なだらかな山の起伏を表す等高線２４によって表されている。露光強度は、矢印２５が領域２６側に進むほど強く、領域２７側に進むほど弱くなる。このような露光強度の差によって約３％の露光強度のばらつきが露光可能領域２３に存在するので、露光ムラが生じる。
　【０００９】
　図１１は、位置をかえて複数回露光を行った場合の光強度分布を示す図である。たとえば露光面Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの順にそれぞれ露光を行う。面Ａのみの露光では、露光強度はなだらかに変化するが、位置を変えて２回以上の露光を行った場合は、面と面との各継ぎ目２８の露光強度が急激に変化してしまう。露光強度の急激な変化は、露光ムラとして観察される。
　【００１０】
　図１２は、露光強度による凸部２１の形状の違いを示す斜視図である。図１２（ａ）は露光強度が強い場合を示し、図１２（ｂ）は露光強度が弱い場合を示す。基板１０の表面に形成される各円柱部２０は、露光強度が強いほど細くなる。円柱部２０の熱処理を行うことによって、角がとれて表面の滑らかな突部２１が形成される。各凸部２１の高さｄは同じとすると、凸部２１の形状は、露光強度が強いほど勾配が急であり、露光強度が弱いほど勾配がなだらかである。このように露光ムラによって、凸部２１の形状は異なる。
　【００１１】
　図１３は、露光強度による凸部２１の反射特性の違いを示すグラフである。図１３（ａ）は露光強度が強い場合を示し、図１３（ｂ）は露光強度が弱い場合を示す。横軸は方位角度を表し、縦軸は反射強度を表している。露光強度の強い所と弱い所とでは、凸部２１の形状が変化するので反射強度が異なる。具体的には、露光強度の強い所は広い視角範囲にわたって反射強度の変化が小さく、露光強度の弱い所は視角範囲内での反射強度の変化が大きくなっている。
　【００１２】
　図１４は、従来のマスク１ｂを用い、位置をかえて複数回の露光を行った場合の反射板７１の反射特性の変化を示す図である。図１４（ａ）は反射特性のパターンを示し、図１４（ｂ）は露光面Ａと露光面Ｂとの反射特性を示している。符号６５は反射強度の変化が最も小さい状態であり、符号６６，６７，６８に進むに従って、反射強度の変化が徐々に大きくなる状態を表している。露光面Ａ，Ｂは、符号６５〜６８で示されるような反射特性を有する複数の画素６１によって形成される。破線６９は、前記露光ランプ１８による露光強度分布を表す等高線である。領域６９ａは、露光量の強い領域であり、領域６９ｂ，６９ｃに進むに従って露光量は弱くなる。１回目の露光によって、たとえば面Ａが露光される。１回の露光では、破線６９で示す露光ムラに対応して、凹凸形状が連続的になだらかに変化し、それに伴い反射特性も同様になだらかに変化するので、干渉色による表示ムラは観測されない。
　【００１３】
　しかしながら、たとえば面Ａと面Ｂとなど、複数回の露光を行った場合、面Ａと面Ｂとの継ぎ目７０では、露光強度の急激な変化によって凹凸の形状も急激に変化する。この結果、継ぎ目７０では反射特性が急激に変化するので、反射分布特性の差が明るさのムラとなって観察され、表示を行った場合には、継ぎ目７０の部分が線となって観察され、表示品位が低下する。
　【００１４】
　図１５は、従来の反射板７１において入射光の平行度が高い場合の反射特性を示す図である。反射板７１の各画素６１は、マスク１ｂの同一な単位パターンの繰返しによって、凹凸形状７２および反射特性が同一なパターンの繰返しとなるので、入射光の平行度が高い場合には反射光の平行度も高くなり、該反射光による干渉色が観察され、表示品位は著しく低下する。
　【００１５】
　本発明の目的は、上述の問題を解決し、良好な反射特性を有する反射板を提供すること、また該反射板の製造方法を提供すること、さらに表示品位が向上する反射型液晶表示装置および該反射型液晶表示装置の製造方法を提供することである。
　【００１６】
　【課題を解決するための手段】
　本発明は、マトリクス状に配列された複数の画素を有する光反射型の表示装置に用いられる反射板において、
　該反射板表面の各画素に対応する領域は凹凸状であり、
これらの凹凸は複数の露光面によって形成されており、複数の露光面におけるそれぞれの露光面では、
　本発明に従えば、反射板はマトリクス状に配列された複数の画素を有する光反射型の表示装置に用いられ、各画素に対応する表面が凹凸状に形成されることによって、入射光に対して、観測者の方向へ散乱する光の強度を増加させることができる。また
、反射板表面の凹凸は複数の露光面によって形成されており、複数の露光面におけるそれぞれの露光面では、
、露光面間の
　【００１７】
　【００１８】
　また本発明は、液晶層を介在して配置される一対の絶縁性基板を有し、いずれか一方絶縁性基板の液晶層側には、光反射性を有する複数の画素電極がマトリクス状に配列して配置され、透光性を有する他方絶縁性基板側から入射した光を画素電極で反射して出射する反射型液晶表示装置において、
　前記画素電極の表面は凹凸状であり、
これらの凹凸は複数の露光面によって形成されており、複数の露光面におけるそれぞれの露光面では、
　複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、画素電極表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係で、かつ不規則的に配置されていることを特徴とする。
　本発明に従えば、反射型液晶表示装置は、マトリクス状に配列された光反射性を有する複数の画素電極が配置され、各画素電極が凹凸状の表面を有することによって、入射光に対して、観測者の方向へ散乱する光の強度を増加させることができるので、明るくペーパホワイトな表示を得ることができる。また
、反射板表面の凹凸は複数の露光面によって形成されており、複数の露光面におけるそれぞれの露光面では、
、露光面間の
　【００１９】
　【００２０】
　また好ましくは、前記一方絶縁性基板の液晶層側表面には、互いに絶縁性を保持しかつ直交する複数の配線と、該配線が交差することによって形成される矩形の画素領域にそれぞれ配置されて前記配線に接続されるスイッチング素子とが形成され、さらに該配線およびスイッチング素子の少なくとも一部を覆って凹凸状の表面を有する絶縁層が形成され、前記画素電極は該絶縁層に形成されたスルーホールを介して各スイッチング素子と個別的に接続されて絶縁層上に形成され、前記他方絶縁性基板の液晶層側表面には、前記画素電極に対向する透光性を有する対向電極が形成されることを特徴とし、反射型液晶表示装置は、複数の配線およびスイッチング素子の少なくとも一部を覆って凹凸状の表面を有する絶縁層が形成され、絶縁層上の画素領域毎に画素電極が形成されるので、表面が凹凸状の画素電極が形成される。画素電極によって、広い領域にわたって入射光に対して、観測者の方向へ散乱する光の強度を増加させることができる。画素電極は、スルーホールを介してスイッチング素子と接続され、反射液晶表示装置は明るくペーパホワイトな表示を得ることができる。
　【００２１】
　また本発明は、マトリクス状に配列された複数の画素を有する光反射型の表示装置に用いられる反射板の製造方法であって、予め定められる基板上に感光性樹脂膜を形成した後、所定のパターンを有するマスクを介して、感光性樹脂膜を露光する工程を含む反射板の製造方法において、
　前記マスクは、１画素分のパターンを複数種類有し、
　
前記マスクの少なくとも１種類の凹凸パターンは複数個あり、複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、マスク表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係であり、かつ不規則的に配置されており、
　該マスクまたは前記基板を移動して、前記感光性樹脂膜を露光する工程を
複数回
　本発明に従えば、
露光面間の
また、マスクは少なくとも１種類の凹凸パターンを複数個有するので、マスクの設計を簡略化することができる。さらに、そのうちのいずれか２パターンの関係は、上述したような関係を有することによって、反射特性の異なる凹凸パターンを容易にかつ確実に多数形成することができ、良好な反射特性を有する反射板を得ることができる。
　【００２２】
　【００２３】
　また本発明は、液晶層を介在して配置される一対の絶縁性基板を有し、いずれか一方絶縁性基板の液晶層側には、光反射性を有する複数の画素電極がマトリクス状に配列して配置され、透光性を有する他方絶縁性基板側から入射した光を画素電極で反射して出射する反射型液晶表示装置の製造方法であって、一方絶縁性基板上に形成されたスイッチング素子の少なくとも一部を覆って該一方絶縁性基板上に感光性樹脂膜を形成した後に、所定のパターンを有するマスクを介して、感光性樹脂膜を露光する工程を含む反射板型液晶表示装置の製造方法において、
　前記マスクは、１画素分のパターンを複数種類有し、
　前記マスクの少なくとも１種類の凹凸パターンは複数個あり、複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、マスク表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係であり、かつ不規則的に配置されており
複数回
　本発明に従えば、
露光面間の
また、マスクは少なくとも１種類の凹凸パターンを複数個有するので、マスクの設計を簡略化することができる。さらに、そのうちのいずれか２パターンの関係は、上述したような関係を有することによって、反射特性の異なる凹凸パターンを容易にかつ確実に多数形成することができ、表示品位の向上した反射型液晶表示装置を得ることができる。
　【００２４】
　【００２５】
　【発明の実施の形態】
　図１は、本発明の一実施形態である反射板および反射型液晶表示装置の作成に用いられるマスク１ａを示す平面図である。図２は、前記マスク１ａの凹凸パターンの関係を示す図である。反射板は、マトリクス状に配列された複数の画素を有する表示装置に用いられる。また反射型液晶表示装置は、マトリクス状に配列された複数の画素を有する。マスク１ａは、各画素２の凹凸パターンを複数種類有する。たとえば各画素２ａ〜２ｃは、それぞれ異なった種類の凹凸パターン３，４，５を有する。
　【００２６】
　各凹凸パターン３〜５の有する円形領域６は、たとえば光遮光部であり、反射板および表示装置を構成する基板上に形成される円柱の凸部に対応する。それ以外の他の領域は光透過部である。円形領域６の大きさや配置は、基板上の各画素２の凸部の配置がランダムになるように、たとえばＣＡＤ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ　Ａｉｄｅｄ　Ｄｅｓｉｇｎ）を使用して設計される。たとえば円形領域６は、凸部を形成したときに隣合う凸部同士の連結を防ぐため最小２μｍの間隔を有し、１画素２に形成される凸部底面の総面積が、１画素２の全面積の約８０％を占めるように設計される。なお、本形態では３種類の凹凸パターン３〜５の例について説明するが、複数種類であればいくらでもよい。ただし、３〜５種類程度が製造する上で好ましい。
　【００２７】
　前記マスク１ａの凹凸パターンの説明を容易にするため、凹凸パターン３〜５をそれぞれ記号７〜９で表す。マスク１ａは、各凹凸パターン３〜５をそれぞれ複数個有する。また、複数個ある同一種類の凹凸パターンのうちのいずれか２つの凹凸パターンは、マスク１ａの表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係で、かつランダムに配置されている。
　【００２８】
　たとえば画素２ｄの凹凸パターンは画素２ａの記号７の凹凸パターンを表裏反転かつ平行移動させたものであり、画素２ｅの凹凸パターンは画素２ｂの記号８の凹凸パターンを回転移動かつ平行移動させたものであり、画素２ｆの凹凸パターンは画素２ｃの記号９の凹凸パターンを表裏反転かつ回転移動かつ平行移動させたものであり、画素２ｇの凹凸パターンは画素２ａの記号７の凹凸パターンを平行移動させたものである。
　【００２９】
　このように、数種類のランダムに配置されている凹凸パターン３〜５をＣＡＤで設計し、該凹凸パターン３〜５を平行移動、回転移動および表裏反転操作などをすることによって、全ての画素２について凸部の配置を割当て、マスク１ａを作成する。数種類のランダムな凹凸パターン３〜５を複数回用いることによって、反射特性の異なる凹凸パターンを容易に多数形成することができ、マスク１ａの設計を簡略化することができる。なお、本形態では３種類の凹凸パターン３〜５が全て複数個ある例について説明したが、少なくとも１種類の凹凸パターンが複数個あり、上述したような関係にあればどのようなものであってもかまわない。
　【００３０】
　図３は、本発明の第１実施形態である反射板１３の製造方法を段階的に示す断面図である。反射板１３は、基板１０、凸部２１および光反射膜２２を含んで構成される。基板１０は、たとえば横の長さが３２０ｍｍであり、縦の長さが４００ｍｍである、コーニング社製商品名７０５９から成る厚さ１．１ｍｍのガラス基板が使用される。基板１０の一方表面に、感光性樹脂膜１７として、たとえば東京応化社製商品名ＯＦＰＲ−８００から成るレジスト材料をスピンコートして作成する。スピンコートは、５００ｒｐｍ〜３０００ｒｐｍの回転数で行うことが好ましく、たとえば１０００ｒｐｍで３０秒間のスピンコートを行い、厚さ１．２μｍに成膜される。その後、たとえば１００℃の温度で３０秒間の熱処理を行う。これによって、図３（ａ）に示されるように、基板１０上に感光性樹脂膜１７が形成される。
　【００３１】
　次に露光工程について説明する。一般的な反射板の製造方法の中の露光工程を説明するための斜視図である図４を参照して、基板１０は、対角長がたとえば２１．４ｃｍの８．４型の反射板を２枚並列に並べるための各配置領域１１ａ，１２ａを一方表面に有する。１回の露光によって照射できる面積には限度があるので、１回に照射できる面積を超える基板１０の露光を行う場合には、たとえば各配置領域１１ａ，１２ａをそれぞれ４等分して露光面Ａ〜Ｄ，Ｅ〜Ｈとし、順番に露光する。
　【００３２】
　感光性樹脂膜１７が形成された基板１０上に、マスク１として前記マスク１ａが、たとえば露光面Ａに対向して配置される。マスク１ａの基板１０とは反対側に、ステッパ装置の球状の露光ランプ１８が配置される。露光ランプ１８は、マスク１ａを介して光１９を照射し、感光性樹脂膜１７を露光する。面Ａの露光後、マスク１ａまたは基板１０を移動させることによって、露光面Ｂ〜Ｄ，Ｅ〜Ｈがそれぞれ順番に露光される。マスク１ａは、平行に移動するだけでもよいし、たとえば表裏を変えて移動しても構わない。
　【００３３】
　図３（ｂ）は、図４の感光性樹脂膜１７が形成された基板１０とマスク１とを拡大した断面図である。マスク１ａの有する円形領域６は、光遮光部であり、前記露光ランプ１８からの光１９が円形領域６以外の領域を透過することによって、感光性樹脂膜１７は露光される。現像剤として、たとえば東京応化社製商品名ＮＭＤ−３の２．３８％溶液を用いて現像を行うと、図３（ｃ）に示されるように基板１０の表面に微細な円柱部２０が形成される。円柱部２０の有する円の形状は、マスク１ａの円形領域６に対応する。
　【００３４】
　形成された円柱部２０は、１２０℃〜２５０℃の温度で熱処理される。たとえば１８０℃で３０分間の熱処理を行うと、図３（ｄ）に示されるように円柱部２０の角がとれて、表面が滑らかな凸部２１が形成される。凸部２１を覆って基板１０の全面に、図３（ｅ）に示されるように金属薄膜から成る光反射膜２２を形成する。光反射膜２２は、たとえばＡｌを真空蒸着することによって、０．０１μｍ〜１．０μｍの膜厚に形成される。光反射膜２２は、反射率が高く薄膜形成が行いやすいＮｉ，Ｃｒ，Ａｇなどの金属を用いて形成しても構わない。
　【００３５】
　上述したような工程によって、反射板１３が製造される。反射板１３の光反射膜２２は、凸部２１によって連続な曲面を有し、円錐状の緩やかな起伏の凹凸形状に形成される。光反射膜２２によって反射板１３は、入射光に対して、観測者の方向へ散乱する光の強度を増加させることができる。またマスク１ａによって反射板１３は、隣合う各画素２が異なった凹凸パターンを有するので、各画素２の反射特性が異なり、良好な反射特性を得ることができる。
　【００３６】
　図５は、前記マスク１ａを用い、位置をかえて複数回の露光を行った場合の反射板１３の反射特性の変化を示す図である。図５（ａ）は反射特性のパターンを示し、図５（ｂ）は露光面Ａと露光面Ｂとの反射特性の変化を示している。符号２９は、反射強度の変化が最も小さい状態であり、符号３０，３１，３２に進むに従って、反射強度の変化が徐々に大きくなる状態を表している。
　【００３７】
　反射板１３の露光面Ａ，Ｂは、符号２９〜３２で示されるような反射特性を有する複数の画素２によって構成される。破線３３は、露光ランプ１８による露光強度分布を表す等高線である。領域３３ａは露光強度の強い部分であり、領域３３ｂ，３３ｃに進むに従って露光強度は弱くなる。破線３３で示されるような露光ムラが生じても、近隣付近の画素２同士の凹凸形状が異なるように配置されているので、符号２９〜３２で表される反射特性の差が連続的ではない。したがって反射特性は露光ムラに対応しないので、面Ａと面Ｂとの継ぎ目２８には反射特性の急激な変化が生じない。その結果、反射板１３を表示装置に用いた場合、従来の表示に現れたような継ぎ目２８上の線は目立たなくなり、表示品位は向上する。
　【００３８】
　図６は、入射光の平行度が高い場合の反射板１３の反射特性を示す図である。反射板１３は、近隣付近の画素２同士の凹凸形状が異なるように配置されているので、反射特性に差が生じる。したがって、たとえば太陽光などの入射光の平行度が高い場合であっても、光３４には、周期的な反射特性の変化が生じない。光３４は、異なる反射特性によって様々な方向へ反射されるので、反射板１３を表示装置に用いた場合でも、干渉色は観察されず表示品位は向上する。
　【００３９】
　なお、前記反射板１３の感光性樹脂膜１７に使用する材料は、本実施形態ではポジタイプのものについて説明したが、ネガタイプやポジタイプにかかわらず少なくともフォトリソグラフィ工程を用いてパターニングできるものであればどのような材料であってもよい。たとえば東京応化社製商品名ＯＭＲ−８３，ＯＭＲ−８５０，ＮＮＲ−２０，ＯＦＰＲ−２，ＯＦＰＲ−８３０，ＯＦＰＲ−５０００、Ｓｈｉｐｌｅｙ社製商品名ＴＦ−２０，１３００−２７，１４００−２７、東レ社製商品名フォトニース、積水ファインケミカル社製商品名ＲＷ１０１および日本化薬社製商品名Ｒ１０１，Ｒ６３３などを用いることができる。また感光性樹脂膜１７が、ポジタイプあるいはネガタイプのどちらのタイプであるかに応じて、作成するマスク１ａのパターン形状の光透過部が対応して形成される。
　【００４０】
　また、基板１０と液晶パネル配置領域１１ａ，１２ａとは、本形態で示した大きさに限らず、たとえば液晶パネルとして対角長１２．７ｃｍの５型を得るための大きさとしてもよいし、基板１０上に液晶パネルを１つだけ作成するための大きさとしても構わない。そのような場合であっても同様の効果を得ることができる。
　【００４１】
　図７は、本発明の第２実施形態である反射型液晶表示装置３５を示す断面図である。図８は、反射型液晶表示装置３５を構成する基板３９ａとなる基板３９と、２枚の液晶パネル１１，１２とを示す平面図である。第１実施形態では凹凸形状の表面を有する反射板１３について説明したが、第２実施形態では凹凸形状の表面を有する反射画素電極４８を含むゲストホストモードの反射型液晶表示装置３５について説明する。
　【００４２】
　反射型液晶表示装置３５は、一方基板部材３６、他方基板部材３７および液晶層３８を含んで構成される。一方基板部材３６が有する基板３９ａのための基板３９は、たとえば横の長さ１４が３２０ｍｍであり、縦の長さ１５が４００ｍｍであり、表示対角長１６が２１４ｍｍの８．４型の液晶パネルを２枚並列に並べて配置可能であり、１つの液晶パネルが反射型液晶表示装置３５に相当する。１回の露光によって照射できる基板３９の面積は、対角長が１２．７ｃｍ以下であるので、基板３９上の液晶パネルに相当する領域１１，１２をそれぞれ４等分して露光面Ａ〜Ｄ，Ｅ〜Ｈとし、各露光面Ａ〜Ｄ，Ｅ〜Ｈが順番に露光される。
　【００４３】　一方基板部材３６は、たとえばコーニング社製商品名７０５９から成る厚さ１．１ｍｍの絶縁性を有するガラス製の基板３９ａ上に、互いに絶縁性を保持しかつ直交する複数の配線が配置され、該配線が交差することによって形成される矩形の各画素領域に、前記配線に接続されるスイッチング素子として薄膜トランジスタ素子（以下、「ＴＦＴ素子」と記す）４０がそれぞれ形成される。ＴＦＴ素子４０は、ゲート電極４１、ゲート絶縁膜４２、半導体層４３、ソース電極４４、ドレイン電極４５および接続部材４６を含んで構成される。
　【００４４】
　基板３９ａ上に複数の配線およびＴＦＴ素子４０の少なくとも一部を覆って、前記マスク１ａを用いた第１実施形態と同様の露光によって、凹凸形状の表面を有する絶縁層４７が形成される。絶縁層４７上には、凹凸形状の表面を有する複数の反射画素電極４８がマトリクス状に配置される。反射画素電極４８は、絶縁層４７に形成された各スルーホール４９を介して接続部材４６と接続され、接続部材４６を通してさらにドレイン電極４５に接続される。反射画素電極４８を覆って絶縁層４７上に、たとえば日産化学社製、商品名ＳＥ−１５０のポリイミド樹脂から成る配向膜材料がスピンコート法によって塗布される。
　【００４５】
　他方基板部材３７は、透光性を有する絶縁性基板５１上にカラーフィルタ５２が形成される。カラーフィルタ５２は、画素毎に配置される赤色フィルタ５２ａ、緑色フィルタ５２ｂおよび青色フィルタ５２ｃを含んで形成される。カラーフィルタ５２上に平坦膜５３が形成され、その上に反射画素電極４８に対向する透光性を有する対向電極５４が形成される。さらにその上に配向膜材料が、スピンコート法によって塗布される。
　【００４６】
　前記基板３９ａ，５１は、配向膜材料を塗布後、１８０℃の温度で焼成され、ラビング処理が施され、基板部材３６，３７間での液晶分子のツイスト角が２４０°になるようにして配置される。基板３９ａと基板５１とは、各反射画素電極４８と各フィルタ５２ａ〜５２ｃとがそれぞれ一致するように対向して配置され、４．５μｍのスペーサを混入した接着剤を使用して貼合わせられる。液晶層３８の液晶材料には、たとえばメルク社製、商品名ＺＬＩ４７９２から成るネマティック液晶に、黒色の２色性色素とメルク社製、商品名Ｓ−８１１から成る１．３％のカイラル剤とが混入されたゲストホスト型液晶を使用する。該カイラル剤を使用することによって、セル厚ｄｏと液晶分子の自然ピッチＰｏとの比ｄｏ／Ｐｏは０．９となる。
　【００４７】
　反射画素電極４８の表面がマスク１ａによる凹凸形状を有することによって、位置をかえて複数回の露光を行った場合でも、各反射画素電極４８の反射特性の差が連続的ではないので、第１実施形態と同様に各露光面Ａ〜Ｄ，Ｅ〜Ｈの継ぎ目には反射特性の急激な変化が生じない。したがって継ぎ目上の線は目立たなくなり、良好な反射特性によって表示品位は向上する。
　【００４８】
　また入射光の平行度が高い場合でも、マスク１ａによって近隣付近の各反射画素電極４８の凹凸形状が異なるように配置されているので、周期的な反射特性の変化が生じず、異なる反射特性によって様々な方向へ光が反射されるので、干渉色は観察されず表示品位は向上する。
　【００４９】
　なお、基板３９，３９ａは、同様の効果が発揮されるたとえばＳｉ基板のような不透明基板でも構わない。不透明基板を用いた場合は、基板３９，３９ａ上に回路を容易に集積することができる。また、絶縁層４７上に形成される反射画素電極４８は、ＴＦＴ素子４０の上または配線上に形成しても構わない。その場合、開口率が向上し、明るい表示を得ることができる。
　【００５０】
　また、反射型液晶表示装置はゲストホストモードに限るものではない。さらに、ＴＦＴ素子以外のスイッチング素子を用いたアクティブマトリクス型であってもよく、またスイッチング素子を有さない単純マトリクス型であっても構わない。
　【００５１】
　【発明の効果】
　以上のように本発明によれば、反射板は各画素に対応する表面が凹凸形状に形成されることによって、あらゆる角度からの入射光に対して、観測者の方向へ散乱する光の強度を増加させることができ、また１画素分の凹凸パターンが複数種類あることによって、反射特性の急激な変化を防止することができる。また入射光の平行度が高い場合でも、各画素の反射特性が異なるので反射光の干渉を防止することができ、反射特性の良好な反射板を得ることができる。光反射型の表示装置に用いた場合、干渉や継ぎ目による表示品位の低下を防止することができる。
　【００５２】
　また本発明によれば、反射板は少なくとも１種類の凹凸パターンを複数個有し、複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、反射板表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係で、かつ不規則的に配置され、近隣付近の画素同士が反射特性の異なる凹凸パターンを確実に有することによって、表示ムラが生じない。また入射光の平行度が高い場合でも、周期的な反射特性の変化が生じないので、反射光の干渉を確実に防止することができる。
　【００５３】
　また本発明によれば、上述したような反射特性を有する反射型液晶表示装置が実現でき、明るくペーパホワイトであって継ぎ目がなくて干渉色のない優れた表示品位を得ることができる。
　【００５４】
　また本発明によれば、上述したような凹凸パターンによって、反射型液晶表示装置の干渉色をさらに防止して表示品位を高めることができる。
　【００５５】
　また、反射型液晶表示装置は、複数の配線およびスイッチング素子の少なくとも一部を覆って凹凸状の表面を有する絶縁層を形成することによって、絶縁層上の画素領域毎に凹凸状の画素電極を形成することができ、広い領域にわたって入射光に対して、観測者の方向へ散乱する光の強度を増加させることができる。
　【００５６】
　また本発明によれば、上述したような反射板および反射型液晶表示装置を確実かつ容易に作成することができる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明の一実施形態である反射板および反射型液晶表示装置の作成に用いられるマスク１ａを示す平面図である。
　【図２】
　前記マスク１ａの凹凸パターンの関係を示す図である。
　【図３】
　本発明の第１実施形態である反射板１３の製造方法を段階的に示す断面図である。
　【図４】
　一般的な反射板の製造方法の中の露光工程を説明するための斜視図である。
　【図５】
　前記マスク１ａを用い、位置をかえて複数回の露光を行った場合の反射板１３の反射特性の変化を示す図である。
　【図６】
　入射光の平行度が高い場合の反射板１３の反射特性を示す図である。
　【図７】
　本発明の第２実施形態である反射型液晶表示装置３５を示す断面図である。
　【図８】
　反射型液晶表示装置３５を構成する基板３９ａとなる基板３９と液晶パネル１１，１２を示す平面図である。
　【図９】
　反射板の表面に凹凸を形成するために用いられる従来技術のマスク１ｂの形状を示す平面図である。
　【図１０】
　ステッパ装置の露光ランプ１８による露光強度分布を示す図である。
　【図１１】
　位置をかえて複数回露光を行った場合の光強度分布を示す図である。
　【図１２】
　露光強度による凸部２１の形状の違いを示す斜視図である。
　【図１３】
　露光強度による凸部２１の反射特性の違いを示すグラフである。
　【図１４】
　従来のマスク１ｂを用い、位置をかえて複数回の露光を行った場合の反射板７１の反射特性の変化を示す図である。
　【図１５】
　従来の反射板７１において、入射光の平行度が高い場合の反射特性を示す図である。
　【符号の説明】
　１ａ　マスク
　２，２ａ〜２ｇ　画素
　３〜５　凹凸パターン
　７〜９　記号
　１０，３９，３９ａ，５１　基板
　１３　反射板
　１７　感光性樹脂膜
　２１　凸部
　２２　光反射膜
　３５　反射型液晶表示装置
　３６　一方基板部材
　３７　他方基板部材
　３８　液晶層
　４０　ＴＦＴ素子
　４１　ゲート電極
　４２　ゲート絶縁膜
　４３　半導体層
　４４　ソース電極
　４５　ドレイン電極
　４６　接続部材
　４７　絶縁層
　４８　反射画素電極
　４９　スルーホール
　５４　対向電極
　Ａ〜Ｄ，Ｅ〜Ｈ　露光面