【事件の表示】
　特許第３４４１４４３号「ポリプロピレン系重合体の製造法」の請求項１ないし６に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３４４１４４３号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
【Ｉ】手続きの経緯
　本件は、平成３年８月２０日に特許出願された特願平３−２０８２１３号の分割出願であり、特許第３４４１４４３号の請求項１〜６に係る発明は、、平成１５年６月２０日にその発明について特許権の設定登録がなされ、その後、金子しの（以下、「特許異議申立人」という。）より特許異議の申立てがなされ、平成１６年１１月３０日付けで取消理由が通知され、その指定期間内である平成１７年２月８日付けで特許異議意見書とともに訂正請求書が提出され、平成１７年３月１６日付けで取消理由が通知され、その指定期間内である平成１７年３月１７日付けで先の訂正請求書が取り下げられるとともに新たな訂正請求書が提出されたものである。
　
【II】訂正請求について
１．訂正の内容
（訂正事項ａ）
　特許請求の範囲の【請求項１】中の
「成分（Ａ）　下記の一般式〔Ｉ〕で表される遷移金属化合物、
【化１】
　
［Ｉ］
（式中、Ｍはチタン、ジルコニウムおよびハフニウムからなる群から選ばれた遷移金属であり、２個存在するＲ1は同一でも異なっていてもよくて、炭素数１〜６の、１価の、炭化水素残基またはケイ素を含む炭化水素残基であり、２個存在するＲ2は同一でも異なっていてもよくて、五員環配位子の２個の隣接する炭素原子に結合する炭素数４〜２０の、２価の、炭化水素残基またはケイ素を含む炭化水素残基であり（ただし、Ｒ2がブチレン基または無置換の１，３−ブタジエニレン基である場合を除く）、Ｒ3は炭素数１〜３０の、２価の、炭化水素残基またはケイ素を含む炭化水素残基であり、ＸおよびＹはそれぞれ独立して水素もしくはハロゲン、または炭素数１〜２０の、１価の、炭化水素残基または窒素、酸素もしくはケイ素を含む炭化水素残基である（ただし、置換基Ｒ1およびＲ2を有する２個の五員環配位子は、基Ｒ3を介しての相対位置の観点において、Ｍを含む平面に関して非対称である）。」を、
「成分（Ａ）　下記の一般式〔Ｉ〕で表される遷移金属化合物
（ただし、ジメチルシランジイルビス（２−メチルベンツインデニル）ジルコニウムジクロリドを除く
【化１】
　
［Ｉ］
（式中、Ｍはチタン、ジルコニウムおよびハフニウムからなる群から選ばれた遷移金属であり、２個存在するＲ1は同一でも異なっていてもよくて、炭素数１〜６の、１価の、炭化水素残基またはケイ素を含む炭化水素残基であり、２個存在するＲ2は同一でも異なっていてもよくて、五員環配位子の２個の隣接する炭素原子に結合する炭素数４〜２０の、２価の、炭化水素残基またはケイ素を含む炭化水素残基であり（ただし、Ｒ2がブチレン基または無置換の１，３−ブタジエニレン基である場合を除く）
かつ五員環と結合してインデニル構造を形成するものであり
　
（訂正事項ｂ）
　特許請求の範囲の請求項２ないし６を削除する。
　
（訂正事項ｃ）
　明細書の段落【０００６】中の
「成分（Ａ）　下記の一般式〔Ｉ〕で表される遷移金属化合物、
【化３】
　
［Ｉ]
（式中、Ｍはチタン、ジルコニウムおよびハフニウムからなる群から選ばれた遷移金属であり、２個存在するＲ１は同一でも異なっていてもよくて、炭素数１〜６の、１価の、炭化水素残基またはケイ素を含む炭化水素残基であり、２個存在するＲ２は同一でも異なっていてもよくて、五員環配位子の２個の隣接する炭素原子に結合する炭素数４〜２０の、２価の、炭化水素残基またはケイ素を含む炭化水素残基であり、Ｒ３は炭素数１〜３０の、２価の、炭化水素残基またはケイ素もしくはゲルマニウムを含む炭化水素残基であり、ＸおよびＹはそれぞれ独立して水素もしくはハロゲン、または炭素数１〜２０の、１価の、炭化水素残基または窒素、酸素もしくはケイ素を含む炭化水素残基である。ただし、置換基Ｒ１およびＲ２を有する２個の五員環配位子は、基Ｒ３を介しての相対位置の観点において、Ｍを含む平面に関して非対称である。）」を、
「成分（Ａ）　下記の一般式〔Ｉ〕で表される遷移金属化合物（
ただし、ジメチルシランジイルビス（２−メチルベンツインデニル）ジルコニウムジクロリドを除く
【化３】
　
［Ｉ]
（式中、Ｍはチタン、ジルコニウムおよびハフニウムからなる群から選ばれた遷移金属であり、２個存在するＲ１は同一でも異なっていてもよくて、炭素数１〜６の、１価の、炭化水素残基またはケイ素を含む炭化水素残基であり、２個存在するＲ２は同一でも異なっていてもよくて、五員環配位子の２個の隣接する炭素原子に結合する炭素数４〜２０の、２価の、炭化水素残基またはケイ素を含む炭化水素残基であり
（ただし、Ｒ
2
がブチレン基または無置換の１，３−ブタジエニレン基である場合を除く）かつ五員環と結合してインデニル構造を形成するものであり
　
（訂正事項ｄ）
　明細書の段落【０００９】中の
「＜成分（Ａ）＞（１）　本発明において使用される１つの触媒成分（Ａ）は、下記の一般式〔Ｉ〕で表される遷移金属化合物である。」を、
「＜成分（Ａ）＞（１）　本発明において使用される１つの触媒成分（Ａ）は、下記の一般式〔Ｉ〕で表される遷移金属化合物
（ただし、ジメチルシランジイルビス（２−メチルベンツインデニル）ジルコニウムジクロリドを除く
　
（訂正事項ｅ）
　明細書の段落【００１０】中の
「（式中、Ｍはチタン、ジルコニウムおよびハフニウムからなる群から選ばれた遷移金属であり、２個存在するＲ１は同一でも異なっていてもよくて、炭素数１〜６の、好ましくは１〜４の、１価の、炭化水素残基またはケイ素を含む炭化水素残基であり、２個存在するＲ２は同一でも異なっていてもよくて、五員環配位子の２個の隣接する炭素原子に結合する炭素数４〜２０の、好ましくは４〜８の、２価の、炭化水素残基またはケイ素を含む炭化水素残基であり、Ｒ３は炭素数１〜３０の、好ましくは炭素数２〜２０の、２価の、炭化水素残基またはケイ素もしくはゲルマニウムを含む炭化水素残基であり、ＸおよびＹはそれぞれ独立して水素もしくはハロゲン、または炭素数１〜２０の、好ましくは炭素数１〜７の、１価の、炭化水素残基または窒素、酸素もしくはケイ素を含む炭化水素残基である。）」を、
「（式中、Ｍはチタン、ジルコニウムおよびハフニウムからなる群から選ばれた遷移金属であり、２個存在するＲ１は同一でも異なっていてもよくて、炭素数１〜６の、好ましくは１〜４の、１価の、炭化水素残基またはケイ素を含む炭化水素残基であり、２個存在するＲ２は同一でも異なっていてもよくて、五員環配位子の２個の隣接する炭素原子に結合する炭素数４〜２０の、好ましくは４〜８の、２価の、炭化水素残基またはケイ素を含む炭化水素残基であり
（ただし、Ｒ
2
がブチレン基または無置換の１，３−ブタジエニレン基である場合を除く）かつ五員環と結合してインデニル構造を形成するものであり
　
２．訂正の目的の適否、訂正の範囲の適否及び特許請求の範囲の拡張・変更の存否
　訂正事項ａのうち「ただし、ジメチルシランジイルビス（２−メチルベンツインデニル）ジルコニウムジクロリドを除く」ことを追加する訂正は、特許法第２９条の２に係る先願１［特願平４−１５８０４８号（特開平５−２０９０１４号公報参照）：特許異議申立人が提出した甲第５号証］、及び、先願２［特願平４−１３４６２１号（特開平５−１５５９２９号公報参照）：同甲４号証]の願書に最初に添付した明細書に記載された発明を除くためのものであり、また、訂正事項ａのうちＲ2を「かつ五員環と結合してインデニル構造を形成するものであり」と限定する訂正は、特許明細書の段落【００２０】〜【００２２】、【００３７】〜【００４４】の記載に基づくものであるから、訂正事項ａは、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであり、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものである。
　訂正事項ｂは、請求項の削除であるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　訂正事項ｃ〜ｅは、訂正事項ａに伴い、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載の整合を図るためのものであり、明りょうでない記載の釈明を目的とするものである。
　そして、上記訂正事項ａ〜ｅは、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
　
３．むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書、第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
【III】特許異議申立てについて
１．訂正後の請求項１に係る発明
　訂正後の請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という。）は、訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、次のとおりのものである。
「【請求項１】下記の成分（Ａ）および成分（Ｂ）からなるオレフィン重合用触媒を用いて、プロピレン系重合体を製造する方法。
成分（Ａ）　下記の一般式〔Ｉ〕で表される遷移金属化合物（ただし、ジメチルシランジイルビス（２−メチルベンツインデニル）ジルコニウムジクロリドを除く）、
 【化１】
　
［Ｉ］
（式中、Ｍはチタン、ジルコニウムおよびハフニウムからなる群から選ばれた遷移金属であり、２個存在するＲ1は同一でも異なっていてもよくて、炭素数１〜６の、１価の、炭化水素残基またはケイ素を含む炭化水素残基であり、２個存在するＲ2は同一でも異なっていてもよくて、五員環配位子の２個の隣接する炭素原子に結合する炭素数４〜２０の、２価の、炭化水素残基またはケイ素を含む炭化水素残基であり（ただし、Ｒ2がブチレン基または無置換の１，３−ブタジエニレン基である場合を除く）かつ五員環と結合してインデニル構造を形成するものであり、Ｒ3は炭素数１〜３０の、２価の、炭化水素残基またはケイ素を含む炭化水素残基であり、ＸおよびＹはそれぞれ独立して水素もしくはハロゲン、または炭素数１〜２０の、１価の、炭化水素残基または窒素、酸素もしくはケイ素を含む炭化水素残基である（ただし、置換基Ｒ1およびＲ2を有する２個の五員環配位子は、基Ｒ3を介しての相対位置の観点において、Ｍを含む平面に関して非対称である）。」
　
２．特許異議申立ての概要
　特許異議申立人は、甲第１〜８号証を提出し、訂正前の請求項１〜６に係る特許は、下記の理由により取り消されるべきである旨を主張している。
１）訂正前の請求項１〜６に係る発明は、甲第１〜２号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、訂正後の請求項１〜６に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。
２）訂正前の請求項１〜６に係る発明は、本件出願の日前の他の特許出願であって、本件出願後に出願公開された甲第３〜４号証の願書に最初に添付した明細書に記載された発明と同一であり、訂正前の請求項１〜６に係る特許は、特許法第２９条の２の規定に違反してされたものである。
３）明細書の記載が不備であり、訂正前の請求項２、５及び６に係る特許は、特許法第３６条第４項の規定を満たしていない特許出願に対してされたものである
４）平成１５年４月２８日付け手続補正書において実施例１を追加する補正は、明細書の要旨を変更するものであるから、本件特許の出願日は平成１５年４月２８日であるとみなされ、訂正前の請求項１〜６に係る発明は、その時点で頒布された刊行物となっている甲第６、７または８号証に記載された発明であるか、または甲第６〜８号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、訂正前の請求項１〜６に係る特許は、特許法第２９条第１項第３号または第２９条第２項の規定に違反してされたものである。
　
３．取消理由通知の概要　
　平成１６年１１月３０日付けの取消理由通知の概要は、下記の理由１〜４により、訂正前の請求項１〜６に係る特許は取り消されるべきものである、というものである。
（理由１）訂正前の請求項１に係る発明は、本件出願の日前の他の特許出願であって、本件出願後に出願公開された先願１［特願平４−１５８０４８号（特開平５−２０９０１４号公報参照）：同甲第５号証]及び先願２［特願平４−１３４６２１号（特開平５−１５５９２９号公報参照）：同甲第４号証］の願書に最初に添付した明細書に記載された発明と同一であるから、訂正前の請求項１に係る特許は、特許法第２９条の２の規定に違反してされたものである。
（理由２）明細書の記載が不備であり、訂正前の請求項１，２，５及び６に係る特許は、特許法第３６条第４項の規定を満たしていない特許出願に対してされたものである。
（理由３）訂正前の請求項１〜６に係る発明は、刊行物３［特開平２−１１５２０４号公報：同甲第１号証］及び刊行物４［特開平２−２２１２８５号公報：同甲第２号証］に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、訂正前の請求項１〜６に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。
（理由４）平成１５年４月２８日付け（取消理由通知書中の「２５日付け」は誤記である）手続補正書において実施例１を追加する補正は、明細書の要旨を変更するものであるから、本件特許の出願日は平成１５年４月２８日であるとみなされ、訂正前の請求項１〜６に係る発明は、その時点で頒布された刊行物となっている本件出願の公開公報［特開平５−４３６１６号公報：同甲第８号証］に記載された発明であり、また、当該刊行物に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、訂正前の請求項１〜６に係る特許は、特許法第２９条第１項第３号及び第２９条第２項の規定に違反してされたものである。
　　　　　　　　　　　　　　　　　
４．先願明細書１〜２及び刊行物３〜４に記載された事項
（１）先願明細書１：特願平４−１５８０４８号（特開平５−２０９０１４号公報参照、優先日１９９１年６月１８日　ドイツ）
「【請求項１】Ｃ2 −乃至Ｃ10−アルケン−１の重合のための触媒組成物が
ａ）一般式Ｉにおいて、
【化１】
式中、Ｍはチタン、ジルコニユウム、ハフニウム、バナジユウム、ニオブ、タンタルの各原子を、Ｘはハロゲン原子またはＣ1 −乃至Ｃ8 −アルキルを、Ｙは炭素、燐、硫黄、珪素、またはゲルマニユウムの各原子を、ＺはＣ1 −乃至Ｃ8 −アルキル、Ｃ3 −乃至Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ6 −乃至Ｃ10−アリールを、Ｒ1 、Ｒ2 はＣ1 −乃至Ｃ4 −アルキルを（Ｒ1 とＲ2 は同じでも異なっていても良く）、Ｒ3 乃至Ｒ6 は水素原子、Ｃ1 −乃至Ｃ8 −アルキルを（Ｒ3 とＲ6 は同じでも異なっていても良く、あるいは２個の隣接基Ｒ3 とＲ4 並びにＲ5 とＲ6 は場合により一緒になって４乃至１５の炭素原子で示される炭化水素環式組成物を示してもよく）、ｎが０、１または２を、それぞれ示すメタロセン錯塩、
ｂ）並びに、一般式ＩＩもしくはＩＩＩにおいて、
【化２】
式中、Ｒ7 はＣ1 −Ｃ4 −アルキル基を示し、ｍが５乃至３０の数を示す開放鎖の、または環状のアルモオキサン化合物を活性な成分として有することを特徴とする触媒組成物。」
「【００１６】更に本発明に従って、一般式Ｉに組込まれた金属錯塩の重要な構成成分はシクロペンタジエニル基である。・・・更にシクロペンタジエニル基の置換基Ｒ3 乃至Ｒ6 は水素原子またはＣ1 −乃至Ｃ8 −アルキルを表し、かつ互いに同じでも異なっても良く或は２個の隣接基Ｒ3 およびＲ4 並びにＲ5 およびＲ6 は４乃至１５の炭素原子を示す炭化水素環状組成物と一緒に存在しても良い。ここでＲ3 およびＲ5 がＣ1 −乃至Ｃ4 −アルキルを、Ｒ4 およびＲ6 が水素原子を表すか、または４乃至１２の炭素原子を示す炭化水素環状組成物、例えば１個のインデニル組成物と一緒に存在しても良いＲ3 およびＲ6 置換基で置換されたシクロペンタジエニル基を組み込まれた一般式Ｉの金属錯塩が好ましい。炭化水素環状組成物の炭素数については、ここでＲ3 乃至Ｒ6 の結合位置の役をするシクロペンタジエニル組成物の２つの炭素原子は一緒に数えられ、従って例えばＲ3 およびＲ4 並びにＲ5 およびＲ6 がシクロヘキシル基を示す場合、２つの炭化水素環状組成物は全体として６個の炭素原子となる。
【００１７】例えば特に好ましいメタロセン錯塩としは特に次のものがある。
【００１８】ジメチルシランジイルビス（−２−メチルインデニル）−ジルコニウムジクロライド、・・・、ジメチルシランジイルビス（−２−メチルベンツインデニル）−ジルコニウムジクロライドおよびジメチルシランジイルビス（−２−メチルインデニル）−ハフニウムジクロライドである。」
「【００２６】・・・本発明による触媒組成物は、特にポリプロピレン・・・の製造に適している。」
　　　
（２）先願明細書２：特願平４−１３４６２１号（特開平５−１５５９２９号公報参照、優先日１９９１年６月１８日ドイツ）
「【請求項１】活性成分として周期律表のＩＶおよびＶ亜族からの金属によるメタロセン錯体およびオリゴマー酸化アルミニウム化合物を含み、周期律表のＩＶおよびＶ亜族からの金属による１種類以上のメタロセン錯体を不活性炭化水素中のオリゴマー酸化アルミニウム化合物溶液と５から１２０分間混合することで得られ、続いてこのようにして活性化された触媒組成物を添加物として粘度改良剤を含む不活性な液状炭化水素により沈殿させて懸濁液とし、続いて得られた触媒組成物を使って−６０乃至２０℃の温度で簡単にＣ2 −乃至Ｃ10−アルケン−１の予備重合することを特徴とするＣ2 −乃至Ｃ10−アルケン−１の重合のための触媒組成物。」
「【００１１】本発明による触媒組成物に特に好適な錯体化合物は式Ｉを有しており：
【００１２】
【化１】
【００１３】ここでＲ1 乃至Ｒ3 およびＲ5 乃至Ｒ7 は、水素、Ｃ1 −乃至Ｃ10−アルキル、５−乃至７−員環のシクロアルキルであり、これらはそれ自身でＣ1 −乃至Ｃ6 −アルキル置換基、Ｃ6 −乃至Ｃ15−アリールまたはアリールアルキル基を有することができ、また２個の隣接置換基Ｒ1 およびＲ2 、Ｒ2 およびＲ3 、Ｒ5 およびＲ6またはＲ6 およびＲ7 が一緒になって４乃至１５個の炭素原子を含む不飽和環状基となることができ、
Ｒ4 およびＲ8 は、水素またはＣ1 −乃至Ｃ4 −アルキル、
Ｒ9 は、Ｃ1 −乃至Ｃ8 −であり、
Ｍが、チタニウム、ジルコニウム、ハフニウムまたはバナジウムであり、
Ｙが、ケイ素、ゲルマニウム、錫、硫黄または炭酸であり、
Ｘが、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素またはＣ1 −乃至Ｃ8 −アルキルであり、およびｎが、０、１または２、特に２であることを特徴としている。
【００１４】特に好適な錯体化合物の例としては、とりわけ以下の化合物である：・・・ジメチルシランジイルビス（２−メチルベンズインデニル）ジルコニウム　ジクロリドおよび・・・である。」
「【００１７】錯体化合物に加えて、本発明による触媒組成物はまた式IIまたはIII のオリゴマー酸化アルミニウム化合物を含んでおり、
【００１８】
【化２】
【００１９】ここでＲ10は好適にはメチルまたはエチルであり、ｍは好適には１０から２５までとまっている。このタイプのオリゴマー酸化アルミニウム化合物は、またアルミノキサンとして知られている。」
「【００２６】・・・本発明の各種目的のためには、これらの触媒はＣ2 −乃至Ｃ10−アルケン−１のホモポリマーおよびコポリマーの製造に用いられ、用いられるモノマーは好適にはエチレン、プロピレン、・・・である。・・・」
　
（３）刊行物３：特開平２−１１５２０４号公報
「（i）（Ａ）周期律表第IVＢ族の液状遷移金属化合物及び
（Ｂ）アルミノキサン
を成分とする均一系触媒を用いてオレフィンを重合する方法において（Ａ）（Ｂ）両成分からなる触媒をオレフィンと接触させて重合を行い、
（ii）かくして得られたオレフィン重合体と（Ａ）（Ｂ）両成分からなる触媒を分離し
(iii)再び分離した（Ａ）（Ｂ）両成分からなる触媒をオレフィンと接触させて重合を行うことにより
オレフィンの重合において（Ａ）（Ｂ）両成分からなる触媒を繰り返し使用することを特徴とするオレフィン重合体の製造法。」（特許請求の範囲）
「本発明の方法において使用される触媒構成成分の周期律表第IVＢ族の液状遷移金属化合物（Ａ）は、インデニル基及びその部分水素化物から選ばれた２個の基が低級アルキル基を介して結合した橋架け構造型化合物を２座配位子として有する遷移金属化合物、・・・で示される有機遷移金属化合物である。
　上記ジルコニウム化合物の例としては、・・・・エチレンビス（4,5,6,7−テトラヒドロ−1−インデニル）ジルコニウムジクロリド、エチレンビス（4,5,6,7−テトラヒドロ−1−インデニル）ジルコニウムジメチル、エチレンビス（4−メチル−1−インデニル）ジルコニウムジクロリド、エチレンビス（5−メチル−1−インデニル）ジルコニウムジクロリド、エチレンビス（2,3−ジメチル−1−インデニル）ジルコニウムジクロリド、エチレンビス（4,7−ジメチル−1−インデニル）ジルコニウムジクロリド、・・・などを挙げることができる。」（２頁左下欄下から２行〜３頁右上欄最下行）
「本発明の方法において使用されるもう１つの触媒構成成分のアルミノキサン（Ｂ）は、下記一般式［Ｉ］または［II］、
で表わされる有機アルミニウム化合物である。」（３頁左下欄１行〜下から１０行）
「本発明の方法において、重合反応に用いられるオレフィンとしては、エチレン、プロピレン、・・・などのα−オレフィンであり、」（３頁右下欄３〜８行）
　
（４）刊行物４：特開平２−２２１２８５号公報
「１）式（Ｉ）
［式中、Ｍ1は珪素またはゲルマニウムであり、ｍは０または１であり、ｎはｍ＝０の時に０でありそしてｍ＝１の時に０または１であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4が同一であるかまたは異なり、水素原子、炭素原子数１〜３０のアルキル基、炭素原子数２〜１０のアルケニル基、炭素原子数６〜１０のアリール基、炭素原子数７〜４０のアリールアルキル基、炭素原子数７〜４０のアルキルアリール基、炭素原子数８〜４０のアリールアルケニル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数６〜１０のアリールオキシ基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素原子数６〜１０のハロゲン化アリール基またはハロゲン原子を意味するかまたは
Ｒ1とＲ2またはＲ3とＲ4とはそれらが結合している原子と一緒に成って環を形成し、
Ｒ5は炭素原子数１〜８のアルキレン基、炭素原子数６〜１０のアリーレン基、炭素原子数７〜４０のアリールアルキレン基、炭素原子数７〜４０のアルキルアリーレン基、−Ｏ［Ｓｉ（ＣＨ3）2−Ｏ］ｐ−　［式中、ｐは１〜５の整数を意味する。］で表される基またはカルコゲン原子でありそして
Ｒ6およびＲ7は同一であるかまたは異なっており、無置換−または置換インデニル基を意味する。］
で表される、1,1'−（ジメチルシランジイル）−ビスインデニルの他のビスインデニル誘導体。」（特許請求の範囲第１項）
「３）オレフィン重合の為のメタロセン触媒を製造するために式（Ｉ）の化合物を用いる方法。」（特許請求の範囲第３項）
「この種の化合物は、対掌性の立体剛性メタロセン錯塩を構成するための配位子系として使用できる。ジルコニウム−およびハフニウム−ジクロライド錯塩は特に、高いアイソタクチック−ポリプロピレンを製造する為の高い活性の立体特異触媒として使用できる」（２頁左下欄下から５行〜右下欄１行）
「Ｒ6およびＲ7は同一であるかまたは異なっており、殊に同一であり、無置換−または置換インデニル基を意味する。置換インデニル類の例には1−（トリメチルシリル）インデン、1−フェニルインデン、1−、2−、4−または5−メトキシインデン、1−、2−、4−または5−メチルインデン及び4−、5−、5−または7−フルオロインデンがある。インデンまたは1−メチルインデンを用いるのが有利である。」（３頁右下欄１２〜２０行）
　
５．取消理由通知の理由及び特許異議申立ての理由に対する判断
（取消理由通知の理由１：特許法第２９条の２違反について）
　　先願明細書１には、ａ）一般式Ｉにおいて、
［式中、Ｍはチタン、ジルコニユウム、ハフニウム、バナジユウム、ニオブ、タンタルの各原子を、Ｘはハロゲン原子またはＣ1 −乃至Ｃ8 −アルキルを、Ｙは炭素、燐、硫黄、珪素、またはゲルマニユウムの各原子を、ＺはＣ1 −乃至Ｃ8 −アルキル、Ｃ3 −乃至Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ6 −乃至Ｃ10−アリールを、Ｒ1 、Ｒ2 はＣ1 −乃至Ｃ4 −アルキルを（Ｒ1 とＲ2 は同じでも異なっていても良く）、Ｒ3 乃至Ｒ6 は水素原子、Ｃ1 −乃至Ｃ8 −アルキルを（Ｒ3 とＲ6 は同じでも異なっていても良く、あるいは２個の隣接基Ｒ3 とＲ4 並びにＲ5 とＲ6 は場合により一緒になって４乃至１５の炭素原子で示される炭化水素環式組成物を示してもよく）、ｎが０、１または２を、それぞれ示すメタロセン錯塩］、ｂ）並びに、一般式IIもしくはIIIにおいて、
　
式中、Ｒ7 はＣ1 −Ｃ4 −アルキル基を示し、ｍが５乃至３０の数を示す開放鎖の、または環状のアルモオキサン化合物を活性な成分として有するＣ2 −乃至Ｃ10−アルケン−１の重合のための触媒組成物を用いて、ポリプロピレンを製造する方法が記載され、特に好ましいメタロセン錯塩としてジメチルシランジイルビス（−２−メチルベンツインデニル）−ジルコニウムジクロライドが記載されている。
　しかしながら、本件発明の成分（Ａ）は、先願明細書１で具体的に記載されたジメチルシランジイルビス（−２−メチルベンツインデニル）−ジルコニウムジクロライドを除いている。
　また、本件発明の成分（Ａ）において、Ｒ2は五員環と結合してインデニル構造を形成するものであるから１，３−ブタジエニレン基に限定されるが、Ｒ2が無置換の１，３−ブタジエニレン基である場合を除いているので、Ｒ2は何らかの置換基を有する１，３−ブタジエニレン基となる。しかし、先願明細書１の一般式Ｉで示されたメタロセン錯塩が、ジメチルシランジイルビス（−２−メチルベンツインデニル）−ジルコニウムジクロライド以外の、インデニル基の２位に加えて何らかの置換基を有する１，３−ブタジエニレン基を有するメタロセン錯塩、すなわち、２位と共に、４位，５位，６位または７位のいずれかに置換基を有するインデニル基を有するメタロセン錯塩を具体的に示唆するものとはいえない。
　したがって、本件発明は、先願明細書１に記載された発明と同一とはいえない。　
　
　先願明細書２には、下記式Ｉで表されるタロセン錯体と、
［Ｒ1 乃至Ｒ3 およびＲ5 乃至Ｒ7 は、水素、Ｃ1 −乃至Ｃ10−アルキル、５−乃至７−員環のシクロアルキルであり、これらはそれ自身でＣ1 −乃至Ｃ6 −アルキル置換基、Ｃ6 −乃至Ｃ15−アリールまたはアリールアルキル基を有することができ、また２個の隣接置換基Ｒ1 およびＲ2 、Ｒ2 およびＲ3 、Ｒ5 およびＲ6またはＲ6 およびＲ7 が一緒になって４乃至１５個の炭素原子を含む不飽和環状基となることができ、Ｒ4 およびＲ8 は、水素またはＣ1 −乃至Ｃ4 −アルキル、Ｒ9 は、Ｃ1 −乃至Ｃ8 −であり、Ｍが、チタニウム、ジルコニウム、ハフニウムまたはバナジウムであり、Ｙが、ケイ素、ゲルマニウム、錫、硫黄または炭酸であり、Ｘが、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素またはＣ1 −乃至Ｃ8 −アルキルであり、およびｎが、０、１または２、特に２であることを特徴としている。］
下記式IIまたはIIIのオリゴマー酸化アルミニウム化合物を含む、
Ｃ2 −乃至Ｃ10−アルケン−１の重合のための触媒組成物を用いて、プロピレンなどのモノマーを使用してＣ2 −乃至Ｃ10−アルケン−１ホモポリマーを製造する方法が記載され、当該メタロセン錯体としてジメチルシランジイルビス（２−メチルベンツインデニル）ジルコニウムジクロリドが具体的に記載されている。
　しかしながら、本件発明の成分（Ａ）は、先願明細書２で具体的に記載されたジメチルシランジイルビス（２−メチルベンツインデニル）ジルコニウムジクロリドを除いている。
　また、本件発明の成分（Ａ）において、Ｒ2は五員環と結合してインデニル構造を形成するものであるから１，３−ブタジエニレン基に限定されるが、Ｒ2が無置換の１，３−ブタジエニレン基である場合を除いているので、Ｒ2は何らかの置換基を有する１，３−ブタジエニレン基となる。しかし、先願明細書２の式Ｉで示されたメタロセン錯体が、ジメチルシランジイルビス（２−メチルベンツインデニル）ジルコニウムジクロリド以外の、インデニル基の２位に加えて何らかの置換基を有する１，３−ブタジエニレン基を有するメタロセン錯体、すなわち、２位と共に、４位，５位，６位または７位のいずれかに置換基を有するインデニル基を有するメタロセン錯体を具体的に示唆するものとはいえない。
　したがって、本件発明は、先願明細書２に記載された発明と同一とはいえない。
　
　なお、特許異議申立人が提出した甲第３号証に係る先願である特願平３−２９４６８９号（特開平４−２６８３０８号公報参照）に最初に添付された明細書には、下記式Ｉで表されるメタロセンと、
［式中、Ｍ1 は、周期律表の第ＩＶｂ、ＶｂまたはＶＩｂ族の金属であり、Ｒ1 およびＲ2 は同一または相異なって、水素原子、Ｃ1 〜Ｃ10−アルキル基、　Ｃ1 〜Ｃ10−アルコキシ基、Ｃ6 〜Ｃ10−アリール基、Ｃ6 〜Ｃ10−アリールオキシ基、Ｃ2 〜Ｃ10−アルケニル基、Ｃ7 〜Ｃ40−アリールアルキル基、Ｃ7 〜Ｃ40−アルキルアリール基、Ｃ8 〜Ｃ40−アリールアルケニル基またはハロゲン原子であり、Ｒ3 およびＲ4 は同一または相異なって、水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン化されてもよいＣ1 〜Ｃ10−アルキル基、Ｃ6 〜Ｃ10−アリール基、−ＮＲ2 15　、−ＳＲ15、−ＯＳｉＲ3 15、−ＳｉＲ3 15または−ＰＲ2 15残基（但し、Ｒ15はハロゲン原子、Ｃ1 〜Ｃ10−アルキル基またはＣ6 〜Ｃ10−アリール基である）であり、Ｒ5 およびＲ6 は同一または相異なって、Ｒ5 およびＲ6 が水素原子でないという条件でＲ3 およびＲ4 について記載された意義を有しており、Ｒ7 は、
＝ＢＲ11、＝ＡｌＲ11、−Ｇｅ−、−Ｓｎ−、−Ｏ−、−Ｓ−、＝ＳＯ、＝ＳＯ2 、＝ＮＲ11、＝ＣＯ、−ＰＲ11、または＝Ｐ（Ｏ）Ｒ11　（但し、　Ｒ11、Ｒ12およびＲ13は同一または相異なって、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ1 〜Ｃ10−アルキル基、Ｃ1 〜Ｃ10−フルオロアルキル基、Ｃ6 〜Ｃ10−アリール基、Ｃ6 〜Ｃ10−フルオロアリール基、Ｃ1 〜Ｃ10−アルコキシ基、Ｃ2 〜Ｃ10−アルケニル基、Ｃ7 〜Ｃ40−アリールアルキル基、Ｃ8 〜Ｃ40−アリールアルケニル基であるかあるいはＲ11およびＲ12またはＲ11およびＲ13はこれらを結合する原子と一緒になって各々環を形成し、Ｍ2 は珪素、ゲルマニウムまたは錫である）であり、Ｒ8 およびＲ9 は同一または相異なって、Ｒ11について記載された意義を有しており、ｍおよびｎは同一または相異なって、０、１または２であり（ｍプラスｎは０、１または２である）、そして残基Ｒ10は同一または相異なって、Ｒ11、Ｒ12およびＲ13について記載された意義を有している〕
 下記式IIまたはIIIであらわされるアルミノキサン
  
［〔式（ＩＩ）および（ＩＩＩ）において、残基Ｒ14は同一でも異なってもよく、Ｃ1 〜Ｃ6 −アルキル基、Ｃ6 〜Ｃ18−アリール基または水素原子であり、そしてｐは２〜５０の整数である〕
から構成された触媒の存在下で、プロピレンポリマーを製造する方法が記載されている（特許請求の範囲、段落【００５３】）。
　そして、上記式１で表される化合物は、本件発明の成分（Ａ）で除かれているＲ2がブチレン基である化合物に相当するので、本件発明は上記先願明細書に記載された発明と同一であるとはいえない。
　　
（取消理由通知の理由２：特許法第３６条第４項違反について）
　本件発明は、訂正により実施例に相当するインデニル構造を有する遷移金属化合物に限定され、また、訂正前の請求項２，５，６は削除された。
　したがって、訂正明細書の発明の詳細な説明には、本件発明について、当業者が容易に実施し得る程度に発明の目的、構成及び効果が記載されていないとはいえず、訂正明細書に記載の不備があるとすることはできない。
　
（取消理由通知の理由３：特許法第２９条第２項違反について）
　刊行物３には、エチレンビス（4,5,6,7−テトラヒドロ−1−インデニル）ジルコニウムジクロリド、エチレンビス（4,5,6,7−テトラヒドロ−1−インデニル）ジルコニウムジメチル、エチレンビス（4−メチル−1−インデニル）ジルコニウムジクロリド、エチレンビス（5−メチル−1−インデニル）ジルコニウムジクロリド、エチレンビス（2,3−ジメチル−1−インデニル）ジルコニウムジクロリド、エチレンビス（4,7−ジメチル−1−インデニル）ジルコニウムジクロリド等の有機遷移金属化合物、及び、アルミノキサンを成分とする均一系触媒を用いてプロピレンを重合する方法が記載されている。
　しかしながら、本件発明のように、２位に置換基を有し、３位には置換基がなく、かつ、インデニル環の１，３−ブタジエニレン基部分（インデニル基の４，５，６または７位）に置換基を有するインデニル基を有する化合物は記載されておらず、また、本件発明の成分（Ａ）の化合物の構造を採用することが、刊行物３に記載された発明に基づいて当業者が容易になし得たとする根拠も見いだせない。
　そして、本件発明は、成分（Ａ）と成分（Ｂ）を用いることにより、訂正明細書に記載の分子量の高い立体規則性ポリオレフィンを高収率で製造することが可能となるという効果を奏する。
　したがって、本件発明は、刊行物３に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたということはできない。
　
　刊行物４には、1−（トリメチルシリル）インデン、1−フェニルインデン、1−、2−、4−または5−メトキシインデン、1−、2−、4−または5−メチルインデン及び4−、5−、5−または7−フルオロインデン等の置換インデニル基をＲ6またはＲ7として用いた  式（Ｉ）
［式中、Ｍ1は珪素またはゲルマニウムであり、ｍは０または１であり、ｎはｍ＝０の時に０でありそしてｍ＝１の時に０または１であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4が同一であるかまたは異なり、水素原子、炭素原子数１〜３０のアルキル基、炭素原子数２〜１０のアルケニル基、炭素原子数６〜１０のアリール基、炭素原子数７〜４０のアリールアルキル基、炭素原子数７〜４０のアルキルアリール基、炭素原子数８〜４０のアリールアルケニル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数６〜１０のアリールオキシ基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素原子数６〜１０のハロゲン化アリール基またはハロゲン原子を意味するかまたは
Ｒ1とＲ2またはＲ3とＲ4とはそれらが結合している原子と一緒に成って環を形成し、
Ｒ5は炭素原子数１〜８のアルキレン基、炭素原子数６〜１０のアリーレン基、炭素原子数７〜４０のアリールアルキレン基、炭素原子数７〜４０のアルキルアリーレン基、−Ｏ［Ｓｉ（ＣＨ3）2−Ｏ］ｐ−　［式中、ｐは１〜５の整数を意味する。］で表される基またはカルコゲン原子でありそして
Ｒ6およびＲ7は同一であるかまたは異なっており、無置換−または置換インデニル基を意味する。］
で表される、1,1'−（ジメチルシランジイル）−ビスインデニルの他のビスインデニル誘導体からなるオレフィン重合の為のメタロセン触媒成分を用いてポリプロピレンを製造する方法が記載されている。
　しかしながら、本件発明のように、２位に置換基を有し、３位には置換基がなく、かつ、インデニル環の１，３−ブタジエニレン基部分（インデニル基の４，５，６または７位）に置換基を有しているインデニル基を有する化合物は記載されておらず、また、本件発明の成分（Ａ）の化合物の構造を採用することが、刊行物４に記載された発明に基づいて当業者が容易になし得たとする根拠も見いだせない。
　そして、本件発明は、成分（Ａ）と成分（Ｂ）を用いることにより、訂正明細書に記載の分子量の高い立体規則性ポリオレフィンを高収率で製造することが可能となるという効果を奏する。
　したがって、本件発明は、刊行物４に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたということはできない。
　
（取消理由通知の理由４：特許法第２９条第１項第３号及び第２項違反について）
　平成１６年１１月３０日付けの取消理由通知において、平成１５年４月２８日付け手続補正書の実施例１を追加する補正は明細書の要旨を変更するものであるから、本件特許出願は平成１５年４月２８日にされたものとみなされ、訂正前の請求項１〜６に係る特許は、本件特許出願の公開公報である特開平５−４３６１６号公報により特許法第２９条第１項及び第２項の規定を満たさない出願に対してされたものである旨が通知された。
　しかしながら、特許異議意見書において、参考資料５を提示して、本件特許明細書の段落【０００４】にも記載するように、ジルコニウムの代わりにハフニウムを使用すると触媒活性は下がるもののより高分子量のポリマーが製造可能であることは本件出願時において当業者にとって自明であり、出願当初に実施例として示されていたジルコニウムを用いた参考例１〜２よりも、ハフニウムを用いた実施例１の分子量が高いことは、本件出願当時の周知技術から当業者にとって自明の範囲のものであり、触媒活性と分子量のバランスとしてみれば実施例１と参考例１〜２とは格別な効果の差異があるとはいえないことが示されたので、実施例１を追加する補正は明細書の要旨を変更するものであるとはいえない。
　したがって、本件出願の出願日は原出願の出願日である平成３年８月２０日であると認められ、本件発明は、本件出願後に頒布された刊行物である本件出願の公開公報によっては新規性及び進歩性は否定されない。
　なお、本件出願日が平成３年８月２０日であると認められる以上、特許異議申立人が提出した、本件出願後に頒布された刊行物である甲第６号証（特開平６−１００５７９号公報：優先日１９９２年６月２７日）及び甲第７号証（ANGEWANDTE，１９９２，Ｖｏｌ．３１，Ｎｏ．１０，ｐ．１３４７−１３５０）によっても、本件発明の新規性及び進歩性は否定されない。
　
６．むすび
　以上のとおりであるから、取消理由通知の理由及び特許異議申立ての理由、証拠によって、本件発明に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１７年３月２３日（２００５．３．２３）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
ポリプロピレン系重合体の製造法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】下記の成分（Ａ）および成分（Ｂ）からなるオレフィン重合用触媒を用いて、プロピレン系重合体を製造する方法。
成分（Ａ）　下記の一般式〔Ｉ〕で表される遷移金属化合物
（ただし、ジメチルシランジイルビス（２−メチルベンツインデニル）ジルコニウムジクロリドを除く）
　【化１】
（式中、Ｍはチタン、ジルコニウムおよびハフニウムからなる群から選ばれた遷移金属であり、２個存在するＲ１は同一でも異なっていてもよくて、炭素数１〜６の、１価の、炭化水素残基またはケイ素を含む炭化水素残基であり、２個存在するＲ２は同一でも異なっていてもよくて、五員環配位子の２個の隣接する炭素原子に結合する炭素数４〜２０の、２価の、炭化水素残基またはケイ素を含む炭化水素残基であり（ただし、Ｒ２がブチレン基または無置換の１，３−ブタジエニレン基である場合を除く）
かつ五員環と結合してインデニル構造を形成するものであり
成分（Ｂ）　下記の一般式〔ＩＩ〕または〔ＩＩＩ〕で表されるアルモキサン。
　【化２】
（ここで、ｍは４〜３０の数であり、Ｒ４は１価の炭化水素残基を示す）。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】〔発明の背景〕
　【産業上の利用分野】
　本発明は、立体規則性ポリオレフィンを製造する方法に関する。具体的には、本発明は、特定のメタロセン化合物、すなわち橋かけ構造を持つビス置換シクロペンタジエニルブリッジ型二座配位子を有する非対称な新規な遷移金属化合物とアルモキサンからなるオレフィン重合用触媒を用いて、立体規則性ポリオレフィンを製造する方法に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　オレフィン重合用の均一系触媒としては、いわゆるカミンスキー触媒がよく知られている。この触媒は非常に重合活性が高く、分子量分布が狭い重合体が得られるという特徴がある。
　【０００３】
　アイソタクチックポリオレフィンを製造する遷移金属化合物としては、エチレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロリドやエチレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリド（特開昭６１−１３０３１４号公報）が知られているが、製造したポリオレフィンの分子量が小さく、また、低温で製造すると高分子量体が得られるが重合活性が低い等の問題点がある。
　【０００４】
　また、ジルコニウムの代わりにハフニウム化合物を使用すると、高分子量体が製造可能であることが知られているが（Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ　Ｃａｔａｌｙｓｉｓ，５６（１９８９）ｐ．２３７〜２４７）、この方法には重合活性が低いという問題点がある。さらに、ジメチルシリルビス置換シクロペンタジエニルジルコニウムジクロリドなどが特開平１−３０１７０４号公報、Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ，Ｊａｐａｎ　ｖｏｌ．３９，Ｎｏ．６ｐ．１６１４〜１６１６（１９９０）などで公知であるが、高重合活性と高分子量化を同時に満足する様な触媒の報告例はない。
　【０００５】
　【発明が解決しようとする課題】
　本発明は、押出成形、射出成形が可能な高分子量（数平均分子量７００００以上）のポリプロピレン系重合体を高収率で得る重合法を提供しようとするものである。
　【０００６】
　【課題を解決するための手段】〔発明の概要〕
　＜要旨＞本発明は、上記問題点を解消すべく検討を行った結果なされたものである。すなわち、本発明は、下記の成分（Ａ）および成分（Ｂ）からなるオレフィン重合用触媒を用いて、プロピレン系重合体を製造する方法に関する。
成分（Ａ）　下記の一般式〔Ｉ〕で表される遷移金属化合物
（ただし、ジメチルシランジイルビス（２−メチルベンツインデニル）ジルコニウムジクロリドを除く）
　【化３】
（式中、Ｍはチタン、ジルコニウムおよびハフニウムからなる群から選ばれた遷移金属であり、２個存在するＲ１は同一でも異なっていてもよくて、炭素数１〜６の、１価の、炭化水素残基またはケイ素を含む炭化水素残基であり、２個存在するＲ２は同一でも異なっていてもよくて、五員環配位子の２個の隣接する炭素原子に結合する炭素数４〜２０の、２価の、炭化水素残基またはケイ素を含む炭化水素残基であり
（ただし、Ｒ２がブチレン基または無置換の１，３−ブタジエニレン基である場合を除く）かつ五員環と結合してインデニル構造を形成するものであり
成分（Ｂ）　下記の一般式〔ＩＩ〕または〔ＩＩＩ〕で表わされるアルモキサン。
　【化４】
（ここで、ｍは４〜３０の数であり、Ｒ４は１価の炭化水素残基を示す）
　【０００７】
　＜効果＞本発明の触媒によれば、分子量の高い立体規則性ポリオレフィンを高収率で製造することが可能となる。本来拮抗的な高重合活性と高分子量化とが両立しえたということは、本発明触媒の特徴、たとえば非対称メタロセン化合物の使用、によるものであるが、思いがけなかったことと解される。
　【０００８】〔発明の具体的説明〕
　＜触媒＞本発明は、下記の成分（Ａ）および成分（Ｂ）からなるオレフィン重合用触媒を用いて、分子量の高い立体規則性ポリオレフィンを高収率で製造する方法に関するものである。ここで「からなる」とは、本発明の効果を損わない限りにおいては、（Ａ）および（Ｂ）以外の第三成分を使用することが可能であることを意味する。
　【０００９】
　＜成分（Ａ）＞（１）　本発明において使用される１つの触媒成分（Ａ）は、下記の一般式〔Ｉ〕で表される遷移金属化合物
（ただし、ジメチルシランジイルビス（２−メチルベンツインデニル）ジルコニウムジクロリドを除く）
　【００１０】
　【化５】
（式中、Ｍはチタン、ジルコニウムおよびハフニウムからなる群から選ばれた遷移金属であり、２個存在するＲ１は同一でも異なっていてもよくて、炭素数１〜６の、好ましくは１〜４の、１価の、炭化水素残基またはケイ素を含む炭化水素残基であり、２個存在するＲ２は同一でも異なっていてもよくて、五員環配位子の２個の隣接する炭素原子に結合する炭素数４〜２０の、好ましくは４〜８の、２価の、炭化水素残基またはケイ素を含む炭化水素残基であり
（ただし、Ｒ２がブチレン基または無置換の１，３−ブタジエニレン基である場合を除く）かつ五員環と結合してインデニル構造を形成するものであり
　【００１１】
　この発明で使用する式〔Ｉ〕のメタロセン化合物は、置換基Ｒ１およびＲ２を有する２個の五員環配位子が、基Ｒ３を介しての相対位置の観点において、Ｍを含む平面に関して非対称であるということを大きな特徴とするものである。
　【００１２】
　ここで、「基Ｒ３を介して相対位置の観点において、Ｍを含む平面に関して非対称である」ということは、
　【化６】
を挾んで対向するこの２個の置換五員環がＭを含む平面に関して実体と鏡像の関係にない、ということを示すものである。
　【００１３】
　その場合の非対称の状態は、大別すれば２種類ありうる。すなわち、その一つは、両置換五員環配位子はＭ，Ｘ及びＹを含む平面に対して、置換基Ｒ１およびＲ２の位置が実体と鏡像の関係にない場合である。そのときは、Ｒ１およびＲ２は両置換五員環配位子間でそれぞれ同一であっても、両置換配位子は実体と鏡像の関係にはない。非対称の他の一つは、両置換配位子が置換基Ｒ１およびＲ２の位置に関して実体と鏡像の関係にあっても、Ｒ１およびＲ２の少なくとも一方が両置換五員環配位子間で同じでない場合である。その場合にも、たとえばＲ１の位置が実体と鏡像の関係にあっても、その種類が異なっているので両置換五員環配位子は実体と鏡像の関係にはない。しかし、本発明でいう非対称の状態は前者のみを意味する。
　【００１４】
　Ｒ１は、上記したように炭素数１〜６の、１価の、炭化水素残基またはケイ素を含む炭化水素残基である。さらに詳しくは、Ｒ１は、アルキル、シクロアルキル等の飽和炭化水素基、アルケニル等の不飽和炭化水素基、または、アルキルシリル等のケイ素を含む炭化水素基である。具体例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−アミル、ｉ−アミル、ｎ−ヘキシル、シクロプロパン、アリル、トリメチルシリル、ジメチルエチルシリル基等が例示される。これらのうち好ましいのは、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル等のアルキル基である。
　【００１５】
　Ｒ２は、さらに詳しくは、アルキレン、シクロアルキレン等の飽和炭化水素基、アルカジエニレン、アリーレン等の不飽和炭化水素基、またはアルキルシリルアルキレン、アルキルシリルアルケニレン等のケイ素を含む炭化水素基である。具体例としては、ブチレン、メチルブチレン、２−メチルブチレン、１，２−ジメチルブチレン、シクロプロピルブチレン、１，３−ブタジエニレン、メチル−１，３−ブタジエニレン、フェニルブチレン、フェニル−１，３−ブタジエニレン、トリメチルシリルブチレン、トリメチルシリル−１，３−ブタジエニレン、ジメチルエチルシリルブチレン、ジメチルエチルシリル−１，３−ブタジエニレン基等が例示される。これらのうち好ましいのは、ブチレン、メチルブチレン等のアルキレン基、１，３−ブタジエニレン、メチル−１，３−ブタジエニレン等のアルカジエニレン基である。
　【００１６】
　Ｒ３は、さらに詳しくは、アルキレン、シクロアルキレン等の飽和炭化水素残基、アリーレン等の不飽和炭化水素残基、アルキルシリレン、アルキルゲルミレン等のケイ素もしくはゲルマニウムを含む炭化水素残基である。好ましくは、アルキレン、シクロアルキレン、アリーレン、アルキルシリレン基である。
　【００１７】
　ＸおよびＹは、さらに詳しくは、それぞれ独立して水素もしくはハロゲン（例えばフッ素、塩素、臭素、沃素、好ましくは塩素）、または炭素数１〜２０の、１価の、炭化水素残基またはケイ素もしくはゲルマニウムを含む炭化水素残基（好ましくはＲ１として前記したもの、特に好ましくはメチル）である。
　【００１８】
　本発明の化合物〔Ｉ〕の代表的な合成経路は、下記の通りである。なお、ＨＲａは
　【００１９】
　【化７】
を示すものである。
　　Ｈ２Ｒａ＋ｎ−Ｃ４Ｈ９Ｌｉ→ＨＲａＬｉ＋ｎ−Ｃ４Ｈ９
　　２ＨＲａＬｉ＋Ｒ３Ｃｌ２→Ｒ３（ＨＲａ）２＋２ＬｉＣｌ
　　Ｒ３（ＨＲａ）２＋２・ｎ−Ｃ４Ｈ９Ｌｉ→Ｒ３（ＲａＬｉ）２＋２・ｎ−Ｃ４Ｈ９
　　Ｒ３（ＲａＬｉ）２＋ＺｒＣｌ４→Ｒ３（Ｒａ）２ＺｒＣｌ２＋２ＬｉＣｌ
　【００２０】
　上記遷移金属化合物の非限定的な例として、下記のものを挙げることができる。なお、これらの化合物は、単に化学的名称のみで指称されているが、その立体構造が本発明でいう非対称性をもつものであることはいうまでもない。
（１）エチレンビス−（２−メチルインデニル）ジルコウニムジクロリド、
（２）１，１，２，２−テトラフェニルエチレンビス−（２−メチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、
（３）ジメチルシリレンビス−（２−メチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、
（４）ジフェニルシリレンビス−（２−メチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、
（５）ジメチルゲルミレンビス−（２−メチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、
（６）エチレンビス−（２−メチルテトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリド、
（７）１，１，２，２−テトラフェニレンエチレンビス−（２−メチルテトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリド、
（８）ジメチルシリレンビス−（２−メチルテトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリド、
（９）ジフェニルシリレンビス−（２−メチルテトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリド、
（１０）ジメチルゲルミレンビス−（２−メチルテトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリド、
　【００２１】
（１１）エチレンビス−（２−エチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、
（１２）１，１，２，２−テトラフェニルエチレンビス−（２−エチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、
（１３）ジメチルシリレンビス−（２−エチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、
（１４）ジフェニルシリレンビス−（２−エチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、
（１５）エチレンビス−（２−エチルテトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリド、
（１６）エチレンビス−（２−ｎ−プロピルインデニル）チタニウムジクロリド、
（１７）エチレンビス−（２−メチルインデニル）ジルコニウムジメチル、
（１８）１，１，２，２−テトラフェニルエチレンビス−（２−メチルインデニル）ジルコニウムジメチル、
（１９）ジメチルシリレンビス−（２−メチルインデニル）チタニウムジメチル、
（２０）エチレン（２−メチルインデニル）（２−エチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、
　【００２２】
（２１）エチレン（２−メチルテトラヒドロインデニル）（２−エチルテトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリド、
（２２）エチレンビス−（２−トリメチルシリルインデニル）ジルコニウムジクロリド、
（２３）ジメチルシリレンビス−（２−シクロプロピルテトラヒドロインデニル）ハフニウムジクロリド、
（２４）エチレンビス−（２−メチル−４−メチルインデニル）ハフニウムジクロリド、
（２５）エチレンビス−（２−メチル−５−メチルインデニルジルコニウムジクロリド、
（２６）ジメチルシリレンビス−（２−メチルインデニル）ジルコニウムメチル（メチルフェニルアミン）、
（２７）ジメチルシリレンビス−（２−メチルインデニル）ジルコニウムブトキシクロリド、
（２８）ジメチルシリレンビス−（２−メチルインデニル）ジルコニウムビス（トリメチルシリル）、
（２９）ジメチルシリレンビス−（２−メチルインデニル）ジルコニウムトリメチルシリルクロリド、
（３０）ジメチルシリレンビス−（２−メチルインデニル）ジルコニウムビス（トリメチルシリル）メチルクロリド、を挙げることができる。
　【００２３】
　＜成分（Ｂ）＞本発明において使用されるもう一つの成分（成分（Ｂ））は、下記の一般式〔ＩＩ〕または〔ＩＩＩ〕で表わされるアルモキサンである。
　【００２４】
　【化８】
（ここで、ｍは４〜３０、好ましくは１０〜２５、の数であり、Ｒ４は炭化水素残基、好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜４、のもの、を示す。）
　【００２５】
　この成分（Ｂ）は、一種類のトリアルキルアルミニウム、または二種類以上のトリアルキルアルミニウムと水との反応により得られる生成物である。具体的には、（イ）一種類のトリアルキルアルミニウムから得られるメチルアルモキサン、エチルアルモキサン、プロピルアルモキサン、ブチルアルモキサン、イソブチルアルモキサン、（ロ）二種類のトリアルキルアルミニウムと水から得られるメチルエチルアルモキサン、メチルブチルアルモキサン、メチルイソブチルアルモキサン等が例示される。これらの中で、特に好ましいのはメチルアルモキサンである。
　【００２６】
　これらのアルモキサンは、各群内および各群間で複数種併用することも可能であり、また、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、ジメチルアルミニウムクロリド等の他のアルキルアルミニウム化合物と併用することも可能である。
　【００２７】
　これらのアルモキサンは公知の様々な条件下に調製することができる。具体的には以下の様な方法が例示できる。
（イ）　トリアルキルアルミニウムをトルエン、ベンゼン、エーテル等の適当な有機溶剤を用いて直接水と反応させる方法、（ロ）　トリアルキルアルミニウムと結晶水を有する塩水和物、例えば硫酸銅、硫酸アルミニウムの水和物と反応させる方法、（ハ）　トリアルキルアルミニウムとシリカゲル等に含浸させた水分とを反応させる方法、（ニ）　トリメチルアルミニウムとトリイソブチルアルミニウムを混合し、トルエン、ベンゼン、エーテル等の適当な有機溶剤を用いて直接水と反応させる方法、（ホ）　トリメチルアルミニウムとトリイソブチルアルミニウムを混合し、結晶水を有する塩水和物、例えば硫酸銅、硫酸アルミニウムの水和物、と加熱反応させる方法、
　【００２８】
（へ）シリカゲル等に水分を含浸させ、トリイソブチルアルミニウムで処理した後、トリメチルアルミニウムで追加処理する方法、（ト）　メチルアルモキサンおよびイソブチルアルモキサンを公知の方法で合成し、これら二成分を所定量混合し、加熱反応させる方法。（チ）　ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素溶媒に硫酸銅５水塩などの結晶水を有する塩を入れ、−４０〜４０℃位の温度条件下トリメチルアルミニウムと反応させる方法。この場合、使用される水の量は、トリメチルアルミニウムに対してモル比で通常０．５〜１．５である。このようにして得られたメチルアルモキサンは、線状または環状の有機アルミニウムの重合体である。
　【００２９】
　＜触媒の形成＞本発明の触媒は、上記の成分（Ａ）及び成分（Ｂ）を、重合槽内であるいは重合槽外で、重合させるべきモノマーの存在下あるいは非存在下に接触させることにより得ることができる。
　【００３０】
　本発明で使用する成分（Ａ）および成分（Ｂ）の使用量は任意である。例えば溶媒重合の場合、成分（Ａ）の使用量は遷移金属原子として１０−７〜１０２ミリモル／リットルの範囲内が好ましい。Ａｌ／遷移金属のモル比は１００以上、特に１０００以上の範囲が好んで用いられる。
　【００３１】
　本発明の触媒は、成分（Ａ）および（Ｂ）以外に、他の成分を包みうるものであることは前記した通りであるが、成分（Ａ）および（Ｂ）に加えることが可能な第三成分（任意成分）としては、例えばＨ２Ｏ、メタノール、エタノール、ブタノール等の活性水素含有化合物、エーテル、エステル、アミン等の電子供与性化合物、ホウ酸フェニル、ジメチルメトキシアルミニウム、亜リン酸フェニル、テトラエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン等のアルコキシ含有化合物を例示することができる。
　【００３２】
　オレフィンの重合にこれらの触媒系を使用するときには、成分（Ａ）および（Ｂ）は反応槽に別々に導入してもよいし、成分（Ａ）および（Ｂ）に予め接触させたものを反応槽に導入してもよい。
　【００３３】
　＜触媒の使用／オレフィンの重合＞本発明の触媒は、溶媒を用いる溶媒重合に適用されるのはもちろんであるが、実質的に溶媒を用いない液相無溶媒重合、気相重合、溶融重合にも適用される。また連続重合、回分式重合に適用される。溶媒重合の場合の溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、ペンタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン等の飽和脂肪族または芳香族炭化水素の単独あるいは混合物が用いられる。
　【００３４】
　重合温度は−７８〜２００℃程度、好ましくは−２０〜１００℃、である。反応系のオレフィン圧には特に制限がないが、好ましくは常圧〜５０ｋｇ／ｃｍ２−Ｇの範囲である。また、重合に際しては公知の手段、例えば温度、圧力の選定あるいは水素の導入により分子量調節を行うことができる。
　【００３５】
　本発明の触媒により重合するオレフィン、即ち本発明の方法において重合反応に用いられるオレフィンは、炭素数２〜２０、好ましくは２〜１０、のα−オレフィンである。具体的には、例えばプロピレン、１−ブテン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、１−エイコセンなど、特に好ましくは、プロピレン、がある。これらのα−オレフィン類は、二種以上混合して重合に供することもできる。
　【００３６】
　また、本発明の触媒は、上記α−オレフィン類とエチレンとの共重合も可能である。さらには、上記α−オレフィンと共重合可能な他の単量体、例えばブタジエン、１，４−ヘキサジエン、１，８−ノナジエン、１，９−デカジエンなどのような共役および非共役ジエン類、または、シクロプロパン、シクロブテン、シクロヘキセン、ノルボルネン、ジシクロペンタジエンなどの様な環状オレフィンの共重合にも有効である。
　【００３７】
　【実施例】
　次の実施例は、本発明をさらに具体的に説明するためのものである。
＜参考例−１＞
〔エチレンビス−２−メチルインデニルジルコニウムジクロリドの合成〕
　反応はすべて不活性ガス雰囲気下でおこなった。また反応溶媒はあらかじめ乾燥したものを使用した。５００ｍｌガラス製反応容器中で、２−メチルインデン５．０ｇ（３３ｍｍｏｌ）を８０ｍｌのテトラヒドロフランに溶解し、冷却下、ｎ−ブチルリチウムの１．６Ｍヘキサン溶液２１ｍｌをゆっくりと反応容器内に滴下した。室温で１時間撹拌後、再び冷却し、１，２−ジブロモエタン３．１ｇをゆっくりと滴下し、室温で１２時間撹拌後、５０ｍｌの水を添加し、有機相を分別、乾燥した。さらに、ヘプタンで数回洗浄し乾燥して、ビス−（２−メチルインデニル）エタン２．９ｇを得た。
　【００３８】
　上記方法で得たビス−（２−メチルインデニル）エタン２．１ｇ（７．３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン７０ｍｌに溶解し、冷却下、ｎ−ブチルリチウムの１．６Ｍヘキサン溶液９．２ｍｌをゆっくりと滴下した。室温で３時間攪拌後、四塩化ジルコニウム１．６ｇ（７．０ｍｍｏｌ）／テトラヒドロフラン６０ｍｌ溶液にゆっくりと滴下し、５時間攪拌後、塩化水素ガスを吹き込んだ後、乾燥させた。続いて、トルエンを加え可溶部を分別し、低温にて結晶化させて、０．９５ｇの黄色粉末を得た。
　【００３９】
　得られた化合物がエチレンビス−（２−メチルインデニル）ジルコニウムジクロリドであって、しかも両２−メチルインデニル基が非対称であること、すなわちジルコニウム原子を含む平面に関して実体と鏡像の関係にないこと、は１ＨＮＭＲによって確認した。
　【００４０】
〔アルモキサンの合成〕反応容器内でトリメチルアルミニウム４８．２ｇを含むトルエン溶液５６５ｍｌを、攪拌下硫酸銅５水塩５０ｇを０℃で、５ｇづつ５分間隔で容器内に投入した。終了後、ゆっくりと２５℃に昇温し、２５℃で２時間、さらに３５℃に昇温して２日間反応させた。残存する硫酸銅の固体を濾過により分離し、アルモキサンのトルエン溶液を得た。メチルアルモキサンの濃度は２７．３ｍｇ／ｍｌ（２．７ｗ／ｖ％）であった。
　【００４１】
〔重合〕内容積１．５リットルの攪拌式オートクレーブ内をプロピレンで充分置換した後、充分に脱水および脱酸素したトルエンを５００ｍｌ導入し、実施例１で合成したメチルアルモキサンをＡｌ原子換算で１０ｍｍｏｌ、エチレンビス−（２−メチルインデニル）ジルコニウムジクロリドを１．０ｍｍｏｌ導入した後、プロピレンを導入し、２０℃で１５分間重合した。さらにプロピレンを導入してオートクレーブ内圧が７ｋｇ／ｃｍ２−Ｇにおいて４０℃で２時間重合した。反応終了後、得られたポリマースラリーを濾過により分離し、ポリマーを乾燥した。この結果、５６．２ｇのポリマーが得られた。触媒活性は３０８ｋｇ／ｇ−Ｚｒ・時であった。ポリマーの数平均分子量は９．６０×１０４、分子量分布は２．０２、融点（ＤＳＣ曲線ピーク温度）は約１３４．３℃であった。
　【００４２】
＜比較例−１＞
　エチレンビス−（２−メチルインデニル）ジルコニウムジクロリドの代わりに、エチレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロリドを用いた以外は参考例−１と同様に重合を行った。その結果、８０．９ｇのポリマーが得られた。触媒活性は４４５ｋｇ／ｇ・Ｚｒ・時であった。ポリマーの数平均分子量は２．１３×１０４、分子量分布は２．０４、融点は約１３５．２℃であった。このものは、押出成形、射出成形が不可能であった。
　【００４３】
　＜実施例−１＞
　参考例−１で用いた２−メチルインデン５．０グラムのかわりに、関東化学（株）社製２，４−ジメチルインデンを４．７６グラム（３３ｍｍｏｌ）用いること、および参考例−１で四塩化ジルコニウム１．６ｇ（７．０ｍｍｍｏｌ）を四塩化ハフニウム７．０ｍｍｏｌに変更した以外は、すべて参考例−１の方法に従ってエチレンビス（２−メチル−４−メチルインデニル）ハフニウムジクロリドを合成した。さらに、そのうちの１μｍｏｌを用いて参考例−１と同−条件でプロピレンの重合を行った。その結果、触媒活性５４．３（ｋｇ／ｇ−Ｈｆ・時）、数平均分子量が１４．８×１０４であった。
　＜比較例−２＞
　エチレンビス−（２−メチルインデニル）ジルコニウムジクロリドの代わりにエチレンビス（インデニル）ハフニウムジクロリドを用いた以外は参考例−１と同様に行った。その結果、１２．１ｇのポリマーが得られた。触媒活性は３３．６ｋｇ／ｇ−Ｈｆ・時、数平均分子量は１．２０×１０５、分子量分布は２．６３、融点は１３４．８℃であった。
　【００４４】
＜参考例−２＞
　エチレンビス−（２−メチルインデニル）ジルコニウムジクロリドを導入する前に、１−ヘキセン５ｍｌを加える以外は参考例−１と同様に行った。その結果、５１．２ｇのポリマーが得られた。触媒活性は２８１ｋｇ／ｇ−Ｚｒ・時であった。ポリマーの数平均分子量は７．８９×１０４、分子量分布は１．９０、ポリマー中のヘキセン含量は０．５９ｍｏｌ％、融点は１３１．４℃であった。
　【００４５】
　【発明の効果】
　本発明によれば、分子量の高い立体規則性ポリオレフィンを高収率で製造することが可能であることは、「課題を解決するための手段」の項において前記したところである。