(57)【要約】【課題】カールの発生が抑制されたハードコートフィルムを製造することができるとともに、耐溶剤性の低い基材でも使用することが可能なハードコートフィルムの製造方法を提供する。【解決手段】工程基材１上に、活性エネルギー線硬化性組成物および溶剤を含む塗布液を塗布し、乾燥させて、塗膜２’を形成する塗膜形成工程、塗膜２’における工程基材１とは反対の面側に基材３を積層する基材積層工程、および基材３の積層後、塗膜２’に対して活性エネルギー線を照射することで塗膜２’を硬化させて、ハードコート層２を形成し、基材３とハードコート層２とが積層されてなるハードコートフィルム１０を得る硬化工程を備えるハードコートフィルムの製造方法。【選択図】図１
2018079412.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
工程基材上に、活性エネルギー線硬化性組成物および溶剤を含む塗布液を塗布し、乾燥させて、塗膜を形成する塗膜形成工程、
前記塗膜における前記工程基材とは反対の面側に基材を積層する基材積層工程、および
前記基材の積層後、前記塗膜に対して活性エネルギー線を照射することで前記塗膜を硬化させて、ハードコート層を形成し、前記基材と前記ハードコート層とが積層されてなるハードコートフィルムを得る硬化工程
を備えることを特徴とするハードコートフィルムの製造方法。
【請求項２】
前記ハードコート層から前記工程基材を剥離する剥離工程をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のハードコートフィルムの製造方法。
【請求項３】
前記ハードコート層は、厚さが１μｍ以上、１０μｍ以下であることを特徴とする請求項１または２に記載のハードコートフィルムの製造方法。
【請求項４】
前記工程基材の前記塗布液を塗布する面における、粗さ曲線の最大断面高さＲｔは、１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のハードコートフィルムの製造方法。
【請求項５】
前記工程基材の前記塗布液を塗布する面には、易接着処理が施されていないことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のハードコートフィルムの製造方法。
【請求項６】
前記工程基材の前記塗布液を塗布する面には、剥離処理が施されていないことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載のハードコートフィルムの製造方法。
【請求項７】
前記塗布液中における前記活性エネルギー線硬化性組成物の固形分濃度は、１０質量％以上、５０質量％以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載のハードコートフィルムの製造方法。
【請求項８】
前記工程基材は、樹脂フィルムであることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載のハードコートフィルムの製造方法。
【請求項９】
前記各工程は、ロール・トゥ・ロールにて行われることを特徴とする請求項１〜８に記載のハードコートフィルムの製造方法。
【請求項１０】
前記ハードコートフィルムは、光学用フィルムであることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載のハードコートフィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学用途等に使用されるハードコートフィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、各種電子機器において、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、有機ＥＬディスプレイ（ＯＥＬＤ）、さらにはタッチパネル等の各種ディスプレイが多く利用されている。これら各種ディスプレイの表面には、通常、傷付き防止のために、ハードコートフィルムが設けられる。
【０００３】
ハードコートフィルムは、一般的に、基材と、当該基材の片面側に積層されたハードコート層とを備える。このようなハードコートフィルムの製造方法としては、基材の片面にハードコート層の材料を塗布して、当該基材上においてハードコート層を形成することが一般的である（例えば特許文献１）。この場合、基材の片面側に、活性エネルギー線硬化性組成物と溶剤とを含む塗布液を塗布し、乾燥させて、塗膜を形成する。そして、当該塗膜に対して活性エネルギー線を照射することで、上記塗膜を硬化して、ハードコート層とする。これにより、基材とハードコート層とを備えるハードコートフィルムを得ることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１６−１１２８３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に開示されるような、基材上に塗膜を形成する方法では、基材上において塗膜を乾燥する際に、塗膜中の溶剤の揮発に起因して塗膜が収縮する結果、収縮しない基材と、収縮した塗膜とが積層された状態が生じる。これにより、得られるハードコートフィルムにはカールが生じる。また、当該方法では、塗布液が基材に直接塗布されるため、基材には塗布液に含まれる溶剤が接触することとなる。そのため、所定の耐溶剤性を有する基材を用いる必要がある。
【０００６】
本発明は、このような実状に鑑みてなされたものであり、カールの発生が抑制されたハードコートフィルムを製造することができるとともに、耐溶剤性の低い基材でも使用することが可能なハードコートフィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、第１に本発明は、工程基材上に、活性エネルギー線硬化性組成物および溶剤を含む塗布液を塗布し、乾燥させて、塗膜を形成する塗膜形成工程、前記塗膜における前記工程基材とは反対の面側に基材を積層する基材積層工程、および前記基材の積層後、前記塗膜に対して活性エネルギー線を照射することで前記塗膜を硬化させて、ハードコート層を形成し、前記基材と前記ハードコート層とが積層されてなるハードコートフィルムを得る硬化工程を備えることを特徴とするハードコートフィルムの製造方法を提供する（発明１）。
【０００８】
上記発明（発明１）に係るハードコートフィルムの製造方法では、上記のとおり、工程基材上において塗膜を乾燥した後、当該塗膜に対して基材を積層する。これにより、溶剤の揮発に伴う塗膜の収縮は、塗膜に基材を積層する前に殆ど完了した状態となる。そのため、基材の積層後における塗膜の収縮が生じることは殆どなく、結果として、ハードコートフィルムのカールの発生が抑制される。また、工程基材上に形成された塗膜では、工程基材に接する面側よりも、その反対の面側から溶剤がより揮発し易い。そのため、当該塗膜では、工程基材に接する面側よりも、その反対の面側の方が、わずかに収縮する場合がある。しかしながら、上記製造方法で得られたハードコートフィルムでは、工程基材が剥離された後において、塗膜における工程基材に接する面側から溶剤が揮発し、それにより、工程基材側においても収縮が生じる。その結果、工程基材側とその反対側との収縮の差が是正され、この点からもカールの発生が抑制される。さらに、上記製造方法では、溶剤が揮発した状態の塗膜に対して、基材が積層されるため、耐溶剤性の低い基材であっても使用することが可能となる。
【０００９】
上記発明（発明１）においては、前記ハードコート層から前記工程基材を剥離する剥離工程をさらに含むことが好ましい（発明２）。
【００１０】
上記発明（発明１，２）において、前記ハードコート層は、厚さが１μｍ以上、１０μｍ以下であることが好ましい（発明３）。
【００１１】
上記発明（発明１〜３）において、前記工程基材の前記塗布液を塗布する面における、粗さ曲線の最大断面高さＲｔは、１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であることが好ましい（発明４）。
【００１２】
上記発明（発明１〜４）においては、前記工程基材の前記塗布液を塗布する面には、易接着処理が施されていないことが好ましい（発明５）。
【００１３】
上記発明（発明１〜５）においては、前記工程基材の前記塗布液を塗布する面には、剥離処理が施されていないことが好ましい（発明６）。
【００１４】
上記発明（発明１〜６）において、前記塗布液中における前記活性エネルギー線硬化性組成物の固形分濃度は、１０質量％以上、５０質量％以下であることが好ましい（発明７）。
【００１５】
上記発明（発明１〜７）において、前記工程基材は、樹脂フィルムであることが好ましい（発明８）。
【００１６】
上記発明（発明１〜８）において、前記各工程は、ロール・トゥ・ロールにて行われることが好ましい（発明９）。
【００１７】
上記発明（発明１〜９）において、前記ハードコートフィルムは、光学用フィルムであることが好ましい（発明１０）。
【発明の効果】
【００１８】
本発明のハードコートフィルムの製造方法は、カールの発生が抑制されたハードコートフィルムを製造することができるとともに、耐溶剤性の低い基材でも使用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の一実施形態に係るハードコートフィルムの製造方法を説明する断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の実施形態について説明する。
〔ハードコートフィルムの製造方法〕
図１には、本実施形態に係るハードコートフィルムの製造方法の一例を説明する断面図が示されている。本実施形態に係るハードコートフィルムの製造方法は、塗膜形成工程、基材積層工程および硬化工程を含み、好ましくは剥離工程をさらに含む。
【００２１】
１．材料
最初に、本実施形態に係る製造方法に使用される材料を説明する。
（１）工程基材
本実施形態に係るハードコートフィルムの製造方法では、塗膜形成工程において、工程基材上に、活性エネルギー線硬化性組成物および溶剤を含む塗布液（以下「ハードコート層形成用塗布液」または単に「塗布液」という場合がある。）が塗布される。当該工程基材としては、塗膜を良好に形成可能であれば特に限定されないものの、塗布液に含まれる溶剤に対する耐溶剤性を有することが好ましい。
【００２２】
工程基材は、樹脂フィルムであってもよく、またはガラス板等の硬質体であってもよい。しかしながら、本実施形態に係るハードコートフィルムの製造方法の各工程をロール・トゥ・ロールで行うことが可能となり、優れた生産性を達成することができるという観点から、工程基材は樹脂フィルムであることが好ましい。
【００２３】
上記樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等のポリオレフィンフィルム、セロファン、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、アセチルセルロースブチレートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルぺンテンフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルフォンフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、アクリル樹脂フィルム、ポリウレタン樹脂フィルム、ノルボルネン系重合体フィルム、環状オレフィン系重合体フィルム、環状共役ジエン系重合体フィルム、ビニル脂環式炭化水素重合体フィルム等の樹脂フィルムまたはそれらの積層フィルムが挙げられる。中でも、耐溶剤性に優れるという観点から、ポリエチレンテレフタレートフィルムを使用することが好ましい。
【００２４】
本実施形態に係るハードコートフィルムの製造方法では、工程基材の塗布液を塗布する面における、粗さ曲線の最大断面高さＲｔが、１００ｎｍ以下であることが好ましく、特に８０ｎｍ以下であることが好ましく、さらには６０ｎｍ以下であることが好ましい。上記最大断面高さＲｔが１００ｎｍ以下であることで、工程基材とハードコート層との界面におけるアンカー効果が過度に高くなることが抑制され、後述する剥離工程において、工程基材とハードコート層とを良好に分離することが可能となる。上記最大断面高さＲｔの下限値については特に限定がないものの、通常、１０ｎｍ以上であることが好ましく、特に１５ｎｍ以上であることが好ましく、さらには２０ｎｍ以上であることが好ましい。なお、上記最大断面高さＲｔは、光干渉顕微鏡（Ｖｅｅｃｏ社製，製品名「ＮＴ１１００」）を用いて対物レンズ５０倍、ＰＳＩモードで測定した値である。
【００２５】
本実施形態に係るハードコートフィルムの製造方法では、工程基材の塗布液を塗布する面には、易接着処理が施されていないことが好ましい。これにより、後述する剥離工程において、工程基材における上記面からハードコート層を良好に分離することが可能となる。
【００２６】
本実施形態に係るハードコートフィルムの製造方法では、工程基材の塗布液を塗布する面には、剥離処理が施されていないことが好ましい。これにより、塗膜形成工程において、上記面に塗布液を塗布する際におけるハジキの発生が効果的に抑制され、欠点等のない塗膜を良好に形成することができる。
【００２７】
工程基材の厚さは、２３μｍ以上であることが好ましく、特に５０μｍ以上であることが好ましい。また、当該厚さは、２００μｍ以下であることが好ましく、特に１００μｍ以下であることが好ましい。工程基材の厚さが上記範囲であることで、ハンドリング性が優れたものとなる。
【００２８】
（２）ハードコート層形成用塗布液
本実施形態に係るハードコートフィルムの製造方法では、塗膜形成工程において、ハードコート層形成用塗布液が使用される。当該塗布液は、活性エネルギー線硬化性組成物および溶剤を含む。活性エネルギー線硬化性組成物は、活性エネルギー線硬化性成分を含み、さらに無機フィラー、光重合開始剤等を含んでもよい。
【００２９】
（２−１）活性エネルギー線硬化性成分
活性エネルギー線硬化性組成物は、活性エネルギー線硬化性成分を含む。活性エネルギー線硬化性成分としては、活性エネルギー線の照射により硬化して所望の硬度を発揮するものであれば特に限定されない。
【００３０】
具体的な活性エネルギー線硬化性成分としては、多官能性（メタ）アクリレート系モノマー、（メタ）アクリレート系プレポリマー、活性エネルギー線硬化性ポリマー等が挙げられるが、中でも多官能性（メタ）アクリレート系モノマーおよび／または（メタ）アクリレート系プレポリマーであることが好ましい。多官能性（メタ）アクリレート系モノマーおよび（メタ）アクリレート系プレポリマーは、それぞれ単独で使用してもよいし、両者を併用してもよい。なお、本明細書において、（メタ）アクリレートとは、アクリレートおよびメタクリレートの両方を意味する。他の類似用語も同様である。
【００３１】
多官能性（メタ）アクリレート系モノマーとしては、例えば、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、１,４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１,６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ（メタ）アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の多官能性（メタ）アクリレートが挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレートまたはジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートを使用することが好ましい。
【００３２】
一方、（メタ）アクリレート系プレポリマーとしては、例えば、ポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系等のプレポリマーが挙げられる。プレポリマーは、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３３】
活性エネルギー線硬化性ポリマーとしては、例えば、側鎖に活性エネルギー線硬化性基を有する（メタ）アクリル酸エステル重合体（以下「活性エネルギー線硬化性（メタ）アクリル酸エステル重合体（Ａ）」という。）を使用することができる。活性エネルギー線硬化性（メタ）アクリル酸エステル重合体（Ａ）は、官能基含有モノマー単位を有するアクリル系重合体（ａ１）と、その官能基に結合する置換基を有する不飽和基含有化合物（ａ２）とを反応させて得られるものが好ましい。上記不飽和基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基などが好ましく挙げられる。
【００３４】
なお、活性エネルギー線硬化性成分を２種以上使用する場合、それらの活性エネルギー線硬化性成分は、互いに相溶性に優れたものであることが好ましい。
【００３５】
（２−２）無機フィラー
活性エネルギー線硬化性組成物は、無機フィラーを含むことが好ましい。活性エネルギー線硬化性組成物が無機フィラーを含有することにより、形成されるハードコート層が所望の硬度を達成し易くなる。
【００３６】
無機フィラーとしては、シリカ、アルミナ、ベーマイト、タルク、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化鉄、炭化珪素、窒化ホウ素、酸化ジルコニウム等の粉末、これらを球形化したビーズ、単結晶繊維およびガラス繊維等が挙げられ、これらを単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。これらの中でも、シリカを使用することが好ましい。
【００３７】
また、無機フィラーは、表面修飾されていることが好ましい。表面修飾された無機フィラーの好ましい例としては、反応性シリカが挙げられる。
【００３８】
本明細書において「反応性シリカ」とは、活性エネルギー線硬化性不飽和基を有する有機化合物で表面修飾されたシリカ微粒子をいう。上記活性エネルギー線硬化性不飽和基を有する有機化合物で表面修飾されたシリカ微粒子（反応性シリカ）は、例えば、通常、平均粒径０.５〜５００ｎｍ程度、好ましくは平均粒径１〜２００ｎｍのシリカ微粒子表面のシラノール基に、当該シラノール基と反応し得る官能基（例えば、イソシアネート基、エポキシ基、カルボキシ基等）を有する活性エネルギー線硬化性不飽和基含有有機化合物を反応させることにより、得ることができる。なお、上記活性エネルギー線硬化性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基やビニル基を好ましく挙げることができる。
【００３９】
シラノール基と反応し得る官能基を有する活性エネルギー線硬化性不飽和基含有有機化合物としては、例えば一般式（Ｉ）
【化１】
2018079412.tif 000003
（式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基、Ｒ２はハロゲン原子、
【化２】
2018079412.tif 000004
で示される基である。）
で表される化合物等が好ましく用いられる。
【００４０】
このような化合物としては、例えば（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸クロリド、（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸２，３−イミノプロピル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリル酸誘導体を用いることができる。これらの（メタ）アクリル酸誘導体は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４１】
このような反応性シリカと、前述した多官能性（メタ）アクリレート系モノマーおよび／または（メタ）アクリレート系プレポリマーとを含有する有機無機ハイブリッド材料（オルガノシリカゾル）としては、例えば商品名「オプスターＺ７５３０」、「オプスターＺ７５２４」、「オプスターＴＵ４０８６」、「オプスターＺ７５３７」（以上、ＪＳＲ社製）等を使用することができる。
【００４２】
好ましい無機フィラーのその他の例としては、アルミナセラミックナノ粒子、シリカ表面のシラノール基がむき出しのままのシリカ微粒子が分散媒中にコロイド状態で懸濁しているシリカゾル、シリカ表面のシラノール基がシランカップリング剤等で表面処理されたオルガノシリカゾル等が挙げられる。
【００４３】
活性エネルギー線硬化性組成物中における無機フィラーの含有量は、活性エネルギー線硬化性成分１００質量部に対して、２０質量部以上であることが好ましく、特に４０質量部以上であることが好ましい。また、無機フィラーの含有量は、活性エネルギー線硬化性成分１００質量部に対して、２００質量部以下であることが好ましく、特に１６０質量部以下であることが好ましい。無機フィラーの含有量が上記範囲であることで、形成されるハードコート層が所望の硬度を達成し易くなる。
【００４４】
（２−３）光重合開始剤
活性エネルギー線として紫外線を用いる場合、活性エネルギー線硬化性組成物は、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤としては、使用する活性エネルギー線硬化性成分の光重合開始剤として機能するものであれば特に限定されないが、例えば、アシルホスフィンオキサイド系化合物、ベンゾイン化合物、アセトフェノン化合物、チタノセン化合物、チオキサントン化合物、パーオキサイド化合物等が挙げられる。具体的には、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジフェニルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサルファイド、アゾビスイソブチロニトリル、ジベンジル、ジアセチル、β−クロールアンスラキノンなどが例示できる。これらの中でも、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オンを使用することが好ましい。
【００４５】
活性エネルギー線硬化性組成物中における光重合開始剤の含有量は、活性エネルギー線硬化性成分１００質量部に対して、０．１質量部以上であることが好ましく、特に１質量部以上であることが好ましい。また、光重合開始剤の含有量は、活性エネルギー線硬化性成分１００質量部に対して、２０質量部以下であることが好ましく、特に５質量部以下であることが好ましい。
【００４６】
（２−４）その他の成分
活性エネルギー線硬化性組成物は、上述した成分以外に、各種添加剤を含有してもよい。各種添加剤としては、例えば、酸化防止剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、老化防止剤、熱重合禁止剤、着色剤、界面活性剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、消泡剤、有機系充填材等が挙げられる。
【００４７】
（２−５）溶剤
溶剤としては、活性エネルギー線硬化性組成物を溶解できるか、または当該組成物を均一に混合できるものであれば特に限定されず、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒；ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒；シクロペンタン、シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、１種を単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００４８】
上記の中でも、活性エネルギー線硬化性組成物を添加したときに、十分に溶解または均一に混合することが容易であるとともに、工程基材や基材に対して悪影響を与えにくいという観点から、メチルイソブチルケトンを使用することが好ましい。また、本実施形態に係るハードコートフィルムの製造方法では、溶剤が揮発した状態の塗膜に対して基材が積層されることにより、基材と溶剤とは殆ど接触しないため、トルエンといった基材に対して悪影響を与え易い溶剤であっても良好に使用することができる。
【００４９】
（２−６）固形分濃度
ハードコート層形成用塗布液中における活性エネルギー線硬化性組成物の固形分濃度は、１０質量％以上であることが好ましく、特に２０質量％以上であることが好ましく、さらには２５質量％以上であることが好ましい。また、当該固形分濃度は、５０質量％以下であることが好ましく、特に４５質量％以下であることが好ましく、さらには４０質量％以下であることが好ましい。当該固形分濃度が２５質量％以上であることで、塗膜を形成する際における、揮発する溶剤の量を比較的少なくすることができ、溶剤の揮発に伴う塗膜の収縮の程度も比較的小さいものとなる結果、得られるハードコートフィルムのカールの発生を効果的に抑制することができる。また、当該固形分濃度が４０質量％以下であることで、ハードコート層形成用塗布液の粘度が過度に高いものとならず、所望の厚さや所望の表面状態を有する塗膜を形成し易くなる。
【００５０】
（３）基材
本実施形態に係るハードコートフィルムの製造方法では、基材積層工程において、塗膜に対して基材が積層される。基材としては、ハードコートフィルムの機能を達成できる限り特に限定されないものの、樹脂フィルムを使用することが好ましい。当該樹脂フィルムとしては、工程基材のための樹脂フィルムとして前述したものを使用することができる。
【００５１】
なお、本実施形態に係るハードコートフィルムの製造方法では、溶剤が揮発した状態の塗膜に対して、基材が積層されるため、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）フィルム、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルムといった、耐溶剤性の低い基材であっても使用することが可能となる。
【００５２】
基材における、塗膜と貼合される面には、塗膜との密着性、または塗膜が硬化してなるハードコート層との密着性を向上させる目的で、プライマー処理、酸化法、凹凸化法等により表面処理を施してもよい。酸化法としては、例えばコロナ放電処理、クロム酸処理、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線処理等が挙げられ、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶剤処理法等が挙げられる。
【００５３】
基材の厚さは、５μｍ以上であることが好ましく、特に１０μｍ以上であることが好ましく、さらには２３μｍ以上であることが好ましい。また、当該厚さは、２００μｍ以下であることが好ましく、特に１００μｍ以下であることが好ましく、さらには５０μｍ以下であることが好ましい。基材の厚さが２３μｍ以上であることで、得られるハードコートフィルムにおけるカールの発生を効果的に抑制することができる。また、基材の厚さが５０μｍ以下であることで、得られるハードコートフィルムが、ロール状に巻き取り易くなるなど、取り扱い性に優れたものとなる。
【００５４】
２．製造方法
次に、本実施形態に係るハードコートフィルムの製造方法を、工程毎に説明する。図１は、本実施形態に係るハードコートフィルムの製造方法の一例を説明する断面図である。本実施形態に係るハードコートフィルムの製造方法は、塗膜形成工程（図１（ａ））、基材積層工程（図１（ｂ））および硬化工程（図１（ｃ））を含み、好ましくは剥離工程（図１（ｄ））をさらに含む。
【００５５】
ここで、上記各工程は、ロール・トゥ・ロールにて行われることが好ましい。この場合、工程基材は、ロール・トゥ・ロールによる処理が行い易いよう、樹脂フィルムであることが好ましい。上記各工程がロール・トゥ・ロールにて行われることより、本実施形態に係るハードコートフィルムの製造方法は、生産性により優れたものとなる。
【００５６】
また、上記各工程は、加熱や冷却といった温度管理を伴う処理を行うことなく、常温にて実施することができる。特に、基材積層工程において、塗膜や基材を加熱することなく、常温にてそれらを貼合し、十分に密着させることができる。
【００５７】
以下に、各工程について順に説明する。
（１）塗膜形成工程
最初に、図１（ａ）に示されるように、基材１上に、活性エネルギー線硬化性組成物および溶剤を含む塗布液（ハードコート層形成用塗布液）を塗布し、乾燥させて、塗膜２’を形成する。
【００５８】
上記塗布は、常法によって行えばよく、例えば、バーコート法、ナイフコート法、マイヤーバー法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法によって行うことができる。
【００５９】
また、上記乾燥条件は、塗膜中の溶剤が十分に揮発するよう適宜設定することができ、例えば、上記乾燥時の温度は、６０℃以上であることが好ましく、特に７０℃以上であることが好ましい。また、当該温度は、１５０℃以下であることが好ましく、特に１００℃以下であることが好ましい。さらに、上記乾燥の時間は、３０秒以上であることが好ましく、特に１分以上であることが好ましい。また、当該時間は、５分以下であることが好ましく、特に３分以下であることが好ましい。
【００６０】
得られる塗膜２’の厚さは、１μｍ以上であることが好ましく、特に２μｍ以上であることが好ましい。また、当該厚さは、１０μｍ以下であることが好ましく、特に７μｍ以下であることが好ましい。塗膜２’の厚さが上記範囲であることで、塗膜２’を硬化してなるハードコート層２の厚さを後述する範囲に調整し易くなる。
【００６１】
（２）基材積層工程
続いて、図１（ｂ）に示されるように、基材積層工程として、塗膜２’における工程基材１とは反対の面側に基材３を積層する。
【００６２】
本実施形態に係るハードコートフィルムの製造方法では、塗膜形成工程において、塗膜２’中の溶剤が、上記乾燥によって殆ど揮発したものとなっている。そのため、塗膜２’に含まれる溶剤の揮発に伴う塗膜２’の収縮は、基材積層工程において、塗膜２’に基材３を積層する前に殆ど完了している。その結果、基材３の積層後における塗膜２’の収縮が生じることは殆どなく、最終的に得られるハードコートフィルム１０のカールの発生が抑制される。
【００６３】
また、前述した塗膜形成工程において形成された塗膜２’では、工程基材１が積層されている側と比較して、その反対の側からの方が、溶剤が揮発し易い。このような、溶剤の揮発の程度の差に起因して、得られた塗膜２’、またはそれを硬化してなるハードコート層２では、工程基材１側よりも、それとは反対側の方がわずかに収縮している場合がある。しかしながら、得られた工程基材付きハードコートフィルム１０’から工程基材１を剥離した際に、ハードコート層２における工程基材１側の面が露出することで、当該面からの溶剤の揮発が進行する結果、ハードコート層２における一方の面側と他方の面側との間における収縮の差が是正される。この点からも、得られるハードコートフィルム１０のカールの発生が抑制される。
【００６４】
また、本実施形態に係るハードコートフィルムの製造方法では、塗膜２’に対して基材３を積層させる際には、塗膜２’中の溶剤は殆ど揮発した状態となっている。そのため、基材３に塗膜２’中の溶剤が接触することが殆どない。したがって、本実施形態に係るハードコートフィルムの製造方法では、基材３として耐溶剤性の低いものを使用した場合であっても、基材３にしわ等の欠陥のない良好なハードコートフィルムを製造することができる。
【００６５】
（３）硬化工程
続いて、図１（ｃ）に示されるように、硬化工程として、基材３の積層後、塗膜２’に対して活性エネルギー線を照射することで塗膜２’を硬化させて、ハードコート層２を形成する。これにより、工程基材１とハードコート層２と基材３とが順に積層されてなる工程基材付きハードコートフィルム１０’が得られる。なお、塗膜２’に対する活性エネルギー線の照射は、工程基材１と塗膜２’と基材３とを備える積層体において、工程基材１側から行ってもよく、または基材３側から行ってもよい。
【００６６】
活性エネルギー線としては、例えば、電磁波または荷電粒子線の中でエネルギー量子を有するものを使用でき、具体的には、紫外線や電子線などを使用することができる。特に、取扱いが容易な紫外線が好ましい。紫外線の照射は、高圧水銀ランプ、キセノンランプ等によって行うことができ、紫外線の照射量は、照度が５０ｍＷ／ｃｍ２以上、１０００ｍＷ／ｃｍ２以下であることが好ましい。また、積算光量は、５０ｍＪ／ｃｍ２以上であることが好ましく、特に８０ｍＪ／ｃｍ２以上であることが好ましく、さらには１００ｍＪ／ｃｍ２以上であることが好ましい。また、積算光量は、１００００ｍＪ／ｃｍ２以下であることが好ましく、特に５０００ｍＪ／ｃｍ２以下であることが好ましく、さらには２０００ｍＪ／ｃｍ２以下であることが好ましい。一方、電子線の照射は、電子線加速器等によって行うことができ、電子線の照射量は、１０ｋｒａｄ以上、１０００ｋｒａｄ以下であることが好ましい。
【００６７】
上記硬化によって形成されるハードコート層の厚さは、１μｍ以上であることが好ましく、特に１．５μｍ以上であることが好ましく、さらには２μｍ以上であることが好ましい。また、当該厚さは、１０μｍ以下であることが好ましく、特に９μｍ以下であることが好ましく、さらには７μｍ以下であることが好ましい。ハードコート層２の厚さが１μｍ以上であることで、ハードコートフィルム１０が所望の硬度を達成し易くなる。また、ハードコート層２の厚さが１０μｍ以下であることで、ハードコートフィルム１０におけるカールの発生が効果的に抑制される。
【００６８】
（４）剥離工程
最後に、本実施形態に係るハードコートフィルムの製造方法は、図１（ｄ）に示されるように、工程基材付きハードコートフィルム１０’から工程基材１を剥離して、ハードコート層２と基材３とが積層されてなるハードコートフィルム１０を得る剥離工程をさらに含んでもよい。
【００６９】
剥離工程において、工程基材付きハードコートフィルム１０’から工程基材１が剥離されることにより、ハードコート層２における、工程基材１が積層されていた面が露出し、当該面からの溶剤の揮発が進行する結果、前述したような、ハードコート層２における一方の面側と他方の面側との間における収縮の差が良好に是正され、基材１とハードコート層２とからなるハードコートフィルム１０のカールも効果的に抑制される。
【００７０】
３．ハードコートフィルム
本実施形態に係る製造方法により得られるハードコートフィルム１０は、種々の用途に使用することができる。特に、ハードコートフィルム１０は、光学用フィルムとして使用することが好ましい。光学用フィルムの具体例としては、保護フィルム、飛散防止フィルム、防眩性フィルム等が挙げられ、これらのフィルムは、例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、有機ＥＬディスプレイ（ＯＥＬＤ）、さらにはタッチパネル等の各種ディスプレイや、有機ＥＬ照明、有機太陽電池（ＯＰＶ）等に使用することができる。
【００７１】
以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。
【００７２】
例えば、基材３の片面または両面には、その他の層が設けられていてもよい。
【実施例】
【００７３】
以下、実施例および試験例等を示すことにより本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は下記の試験例等に何ら限定されるものではない。
【００７４】
〔ハードコート層形成用塗布液Ａの調製〕
活性エネルギー線硬化性成分としてのトリシクロデカンジメタノールジアクリレート（新中村化学社製，製品名「Ａ−ＤＣＰ」）２０質量部（固形分）を、溶剤としてのメチルイソブチルケトン８０質量部に添加し、十分に混合した後、光重合開始剤としての２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（ＢＡＳＦ社製，「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７」）３質量部（固形分）を添加し、さらに混合することで、ハードコート層形成用塗布液Ａ（固形分濃度２２．３質量％）を得た。
【００７５】
〔ハードコート層形成用塗布液Ａ’の調製〕
活性エネルギー線硬化性成分としてのトリシクロデカンジメタノールジアクリレート（新中村化学社製，製品名「Ａ−ＤＣＰ」）２０質量部（固形分）を、溶剤としてのトルエン８０質量部に添加し、十分に混合した後、光重合開始剤としての２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（ＢＡＳＦ社製，「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７」）３質量部（固形分）を添加し、さらに混合することで、ハードコート層形成用塗布液Ａ’（固形分濃度２２．３質量％）を得た。
【００７６】
〔ハードコート層形成用塗布液Ｂの調製〕
シリカフィラー含有紫外線硬化性樹脂（ＪＳＲ社製，製品名「オプスターＺ７５３０」，活性エネルギー線硬化性成分としてのジペンタエリスリトールヘキサアクリレート４０質量部（固形分）と、反応性シリカ６０質量部（固形分）と、光重合開始剤とを含有する）を、溶剤としてのメチルイソブチルケトンに添加し、十分に混合することで、ハードコート層形成用塗布液Ｂ（固形分濃度２０質量％）を得た。
【００７７】
〔実施例１〕
工程基材としての、一方の面が易接着処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡社製，製品名「ＰＥＴ５０Ａ４１００」，厚さ：５０μｍ）における、易接着処理されていない面（以下「非易接着面」という場合がある。）に、バーコータを用いてハードコート層形成用塗布液Ａを塗布した後、７０℃で１分間加熱することで塗布液中の溶剤を揮発させ、塗膜を形成した。なお、上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの非易接着面における、粗さ曲線の最大断面高さＲｔを、後述する測定方法により測定したところ、６０ｎｍであった。
【００７８】
続いて、塗膜における工程基材とは反対側の面に、基材としての、一方の面が易接着処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂社製，製品名「ＰＥＴ２５  Ｔ６００Ｅ」，厚さ：２５μｍ）における易接着処理された面をラミネート圧力０．３ＭＰａで貼り合わせ、工程基材と塗膜と基材とがこの順に積層された積層体を得た。
【００７９】
その後、コンベア型ＵＶ光照射装置（フュージョン社製，製品名「Ｆ６００Ｖ」）を用いて、以下の条件で、上記積層体における工程基材側の面から紫外線照射を２回行うことで上記塗膜を硬化させて、厚さ５μｍのハードコート層を形成した。これにより、ハードコートフィルムを得た。
ＵＶランプ：高圧水銀灯
ライン速度：２０ｍ／ｍｉｎ
積算光量：１２０ｍＪ／ｃｍ２
照度：２００ｍＷ／ｃｍ２
ランプ高さ：１０４ｍｍ
【００８０】
〔実施例２〕
工程基材上にハードコート層形成用塗布液Ａを塗布する量を調整して、ハードコート層の厚さを２．５μｍとしたこと以外は、実施例１と同様にハードコートフィルムを製造した。
【００８１】
〔実施例３〕
ハードコート層形成用塗布液Ｂを用いたこと以外は、実施例１と同様にハードコートフィルムを製造した。
【００８２】
〔実施例４〕
基材として、表面処理されていないポリカーボネートフィルム（帝人化成社製，製品名「ピュアエースＳ−１４８」，厚さ：５０μｍ）を使用し、当該ポリカーボネートフィルムの片面と、塗膜の工程基材とは反対側の面とを貼り合わせたこと以外は、実施例１と同様にハードコートフィルムを製造した。
【００８３】
〔実施例５〕
ハードコート層形成用塗布液Ａ’を用いるとともに、基材として、表面処理されていないポリカーボネートフィルム（帝人化成社製，製品名「ピュアエースＳ−１４８」，厚さ：５０μｍ）を使用し、当該ポリカーボネートフィルムの片面と、塗膜の工程基材とは反対側の面とを貼り合わせたこと以外は、実施例１と同様にハードコートフィルムを製造した。
【００８４】
〔実施例６〕
工程基材として、両面が易接着層処理されていないポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂社製，製品名「ＰＥＴ２５Ｔ１００」，厚さ：２５μｍ）を使用したこと以外は、実施例１と同様にハードコートフィルムを製造した。なお、上記ポリエチレンテレフタレートフィルムのそれぞれの面における、粗さ曲線の最大断面高さＲｔを、後述する測定方法により測定したところ、ともに１０００ｎｍであった。
【００８５】
〔比較例１〕
基材としての、両面が易接着処理された（以下、当該面を「易接着面」という場合がある。）ポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂社製，製品名「ＰＥＴ２５Ｔ６００Ｅ」，厚さ：２５μｍ）における片面に、バーコータを用いてハードコート層形成用塗布液Ａを塗布し、得られた塗膜を７０℃で１分間加熱することで、塗膜中の溶剤を乾燥させた。これにより、基材と塗膜とからなる積層体を得た。
【００８６】
その後、コンベア型ＵＶ光照射装置（フュージョン社製，製品名「Ｆ６００Ｖ」、）を用いて、以下の条件で、上記積層体における塗膜側の面から紫外線照射を２回行うことで上記塗膜を硬化させて、厚さ５μｍのハードコート層を形成した。これにより、ハードコートフィルムを得た。
ＵＶランプ：高圧水銀灯
ライン速度：２０ｍ／ｍｉｎ
積算光量：１２０ｍＪ／ｃｍ２
照度：２００ｍＷ／ｃｍ２
ランプ高さ：１０４ｍｍ
【００８７】
〔比較例２〕
工程基材上にハードコート層形成用塗布液Ａを塗布する量を調整して、ハードコート層の厚さを２．５μｍとしたこと以外は、比較例１と同様にハードコートフィルムを製造した。
【００８８】
〔比較例３〕
ハードコート層形成用塗布液Ａ’を用いるとともに、基材として、表面処理されていないポリカーボネートフィルム（帝人化成社製，製品名「ピュアエースＳ−１４８」，厚さ：５０μｍ）を使用し、当該ポリカーボネートフィルム片面に対して、ハードコート層形成用塗布液Ａ’を塗布したこと以外は、比較例１と同様にハードコートフィルムを製造した。
【００８９】
〔比較例４〕
一方の面が易接着処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡社製，製品名「ＰＥＴ５０Ａ４１００」，厚さ：５０μｍ）の易接着面を、シリコーン系剥離剤によって剥離処理し、工程基材を作製した。当該工程基材の剥離処理された面に対して、ハードコート層形成用塗布液Ａを塗布したものの、ハジキが発生した結果、良好な塗膜を形成することができなかった。なお、上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの剥離処理された面における、粗さ曲線の最大断面高さＲｔを、後述する測定方法により測定したところ、６０ｎｍであった。
【００９０】
ここで、前述した粗さ曲線の最大断面高さＲｔは、光干渉顕微鏡（Ｖｅｅｃｏ社製，製品名「ＮＴ１１００」）を用いて対物レンズ５０倍、ＰＳＩモードで測定した値である。
【００９１】
〔試験例１〕（工程基材の剥離性の評価）
実施例で製造したハードコートフィルムから、工程基材を剥離した。このとき、良好に剥離できたものを「○」、剥離の際にハードコートフィルムが損傷したり、剥離が不可能であったものを「×」として、工程基材の剥離性を評価した。結果を表１に示す。なお、工程基材を使用せずに製造された比較例１〜３については、表１に「−」と示した。また、工程基材上に塗膜を良好に形成できなかった比較例４についても、表１に「−」と示した。
【００９２】
〔試験例２〕（基材の外観の評価）
実施例１〜６および比較例１〜３で製造したハードコートフィルムにおいて、基材の外観を目視で評価した。具体的には、白化等の色味変化、しわ等の欠陥が発生していないものついて「○」、白化等の色味変化、しわ等の欠陥が発生しているものについて「×」と評価した。結果を表１に示す。なお、工程基材上に塗膜を良好に形成できなかった比較例４については、表１に「−」と示した。
【００９３】
〔試験例３〕（カール比の測定）
実施例１〜５で得られたハードコートフィルムについては、５０ｍｍ×５０ｍｍとなるように裁断し、工程基材を除去して試験片とした。また、比較例１および２で得られたハードコートフィルムについては、５０ｍｍ×５０ｍｍとなるように裁断し、これを試験片とした。
【００９４】
得られた試験片を水平テーブルに置き、２３℃、５０％ＲＨの雰囲気下で、試験片の四隅におけるテーブル面からの垂直距離（ｍｍ）をそれぞれ測定し、その平均値（ｍｍ）を算出した。
【００９５】
そして、下記式（１）
カール比＝垂直距離の平均値（ｍｍ）／ハードコート層の厚さ（ｍｍ）  …（１）
からカール比を算出した。結果を表１に示す。なお、実施例６、比較例３および比較例４については、本試験を行わず、表１には「−」と示した。
【００９６】
ここで、表１に示す略称の詳細は以下の通りである。
［工程基材］
ＰＥＴ５０Ａ４１００：一方の面が易接着処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡社製，製品名「ＰＥＴ５０Ａ４１００」，厚さ：５０μｍ，易接着処理されていない面における、粗さ曲線の最大断面高さＲｔ：６０ｎｍ）
ＰＥＴ２５Ｔ１００：両面が易接着層処理されていないポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂社製，製品名「ＰＥＴ２５Ｔ１００」，厚さ：２５μｍ，両面における、粗さ曲線の最大断面高さＲｔ：１０００ｎｍ）
［基材］
ＰＥＴ２５Ｔ６００Ｅ：一方の面が易接着処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂社製，製品名「ＰＥＴ２５Ｔ６００Ｅ」，厚さ：２５μｍ）
ＰＣ５０：表面処理されていないポリカーボネートフィルム（帝人化成社製，製品名「ピュアエースＳ−１４８」，厚さ：５０μｍ）
【００９７】
【表１】
2018079412.tif 000005
【００９８】
表１から分かるように、実施例に係るハードコートフィルムは、カールの発生が抑制された。さらに、実施例４および実施例５では、基材として、耐溶剤性の比較的低いポリカーボネートフィルムを使用しているものの、基材に欠陥のないハードコートフィルムを製造することができた。
【産業上の利用可能性】
【００９９】
本発明に係る製造方法により得られるハードコートフィルムは、例えば、光学用途に好適に利用することができる。
【符号の説明】
【０１００】
１…工程基材
２’…塗膜
２…ハードコート層
３…基材
１０’…工程基材付きハードコートフィルム
１０…ハードコートフィルム
【図１】
2018079412.tif 000006