(57)【要約】【課題】露光領域を制限する可変アパーチャ機構の近傍に、少なくとも３個のエアマイクロプローブを該露光領域に接近配置することが可能な投影露光装置を得る。【解決手段】基板（ＳＢ）の表面（被露光面）の高さ位置を検出するためのエアマイクロゲージの少なくとも３個のプローブ（３３Ａ、３３Ｂ、３３Ｃ）と、互いに直交する方向に移動制御され、それぞれの開口エッジにより投影光学系（１５）による露光領域（ＥＡ）を制限する二対のアパーチャブレード（４１と５１）と、を有する投影露光装置において、上記二対のアパーチャブレード（４１と５１）のいずれか一方の対をなすアパーチャブレードの少なくとも一方が、少なくとも３個の上記プローブ中の第１、第２のプローブの間を進退するように配置されている投影露光装置。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被露光面の高さ位置を検出するためのエアマイクロゲージの少なくとも３個のプローブと、
互いに直交する方向に移動制御され、それぞれの開口エッジにより投影光学系による露光領域を制限する二対のアパーチャブレードと、を有する投影露光装置において、
上記二対のアパーチャブレードのいずれか一方の対をなすアパーチャブレードの少なくとも一方が、少なくとも３個の上記プローブ中の第１、第２のプローブの間を進退するように配置されていることを特徴とする投影露光装置。
【請求項２】
請求項１記載の投影露光装置において、少なくとも３個の上記プローブ中の第３のプローブは、上記露光領域を挟んで、上記第１、第２のプローブの反対側に配置されている投影露光装置。
【請求項３】
請求項１記載の投影露光装置において、上記エアロマイクロゲージは二対のプローブを有しており、上記二対のプローブは、上記二対のアパーチャブレードの一方の対をなすアパーチャブレードの進退方向の両側部に、その進退方向に離間させて配置されており、かつ上記二対のプローブの間にそれぞれ、上記他方の対をなすアパーチャブレードがそれぞれ進退するように配置されている投影露光装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１項記載の投影露光装置において、少なくとも３個のエアマイクロゲージのプローブは、露光開口を有する単一のエアマイクロゲージブロック上に配置されている投影露光装置。
【請求項５】
請求項４記載の投影露光装置において、上記全てのエアマイクロゲージのプローブは、上記露光開口の平面的な中心から露光開口内壁の最大距離の２倍の半径の円内に配置されている投影露光装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか１項記載の投影露光装置において、上記アパーチャブレードはそれぞれ、直進アクチュエータを備え、上記プローブは、上記直進アクチュエータと上記露光領域の間に位置している投影露光装置。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか１項記載の投影露光装置において、上記二対のアパーチャブレードの進退平面の光軸方向の位置は異なっており、上記プローブの先端は、上記二対のアパーチャブレードの進退平面より上記基板側に位置している投影露光装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれか１項記載の投影露光装置において、上記投影光学系がダイソン光学系である投影露光装置。
【請求項９】
被露光面の高さ位置を検出するためのエアマイクロゲージの少なくとも２つのプローブと、
開口エッジにより投影光学系による露光領域を制限する少なくとも１つの進退可能なアパーチャブレードと、を有する投影露光装置において、
上記アパーチャブレードの１つが２つの上記プローブ間を進退するように配置されていることを特徴とする投影露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板（ウエハ、ワーク）の表面の高さと傾きを測定する高さ検知（測定）手段と、露光領域（基板の表面（焦点面）上にレチクルのパターンが投影される範囲）を制限する可変アパーチャ（アパーチャブレード）機構とを備える投影露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
投影光学系による露光装置は、投影光学系の焦点面と基板表面とが正確に一致した状態で露光することにより、精細なパターンを露光することが可能となる。そのため、投影露光装置は一般に、基板表面の高さ（Ｚ方向、光軸方向の位置）と傾きとを測定する高さ検知手段と、高さ検知手段の出力によって基板の高さと傾きを制御する制御手段とを備えている。
【０００３】
高さ検知手段としては従来、エアマイクロゲージ、レーザ変位計、磁気センサ等が知られている。特に、エアマイクロゲージは、周知のように、プローブ先端から気体を噴出することで基板との距離を測定するので、基板に塗布されたフォトレジストの光学的特性を問わず、安定して高さを測定できるため、高さ検知手段として好適であり、一般的に用いられている（特許文献１のエアセンサノズル（２１）、特許文献２のセンサ（２１０）参照）。
【０００４】
一方、投影光学系のレンズ反射等に起因する迷光、すなわちフレアによって、基板の露光領域の外側に、結像に関与しない光が照射されることが知られており、このフレアにより露光ムラや解像力の低下が起きるため、露光領域を制限する可変アパーチャ機構を設けてフレアを遮断することが一般的に行われている（特許文献３の補助絞り機構（１１）、特許文献４のシャッター（２６ａ、２６ｂ））。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開昭６１−１９６５３２号
【特許文献２】特開２００７−４９１６５号
【特許文献３】特開平４-７７７４４号
【特許文献４】特開平１１-１２１３３０号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１は、エアマイクロプローブの間隔を離して設置することで基板全体の傾きを検出するという思想を開示しているが、露光領域という狭い範囲の傾きを検知することはできなかった。ステップ露光では、単一の基板上に多数の露光領域を設定して順番に露光するため、基板全体の傾きを検知しても、個々の露光領域の傾きに精確に対応することができない。また、特許文献２は、エアマイクロプローブを露光領域に近接（Ｚ方向だけでなく、ＸＹ方向に関しても近接）して設けることで、露光領域に対しての基板のＺ方向精度を高めることを提案しているが、露光領域を可変アパーチャ機構によって制限するものではなく、可変アパーチャ機構とエアマイクロプローブとの関係は開示していない。いずれにしても、従来装置では、露光領域を制限する可変アパーチャ機構の近傍に少なくとも３個のエアマイクロプローブを配置することはできないのが実情であった。
【発明の目的】
【０００７】
本発明は、基板全体の高さ位置や傾きを検出するのではなく、基板全体の平面的な大きさからすれば遙かに小さい露光領域の高さ位置と傾きを検出してその露光領域の高さと傾きを制御することで、より精密な露出制御が可能となるとの着眼に基づき、露光領域を制限する可変アパーチャ機構の近傍に、少なくとも３個のエアマイクロプローブを該露光領域に接近配置することが可能な投影露光装置を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、可変アパーチャ機構として、直交二方向に移動制御され、それぞれの開口エッジにより（矩形の）露光領域を決定する二対のアパーチャブレード（可変アパーチャ機構）を用いる投影露光装置において、アパーチャブレードとエアマイクロプローブの配置位置について考察した結果、少なくとも３個のエアマイクロプローブを露光領域に近接して配置することを可能としたものである。
【０００９】
本発明の投影露光装置は、基板の表面（被露光面）の高さ位置を検出するためのエアマイクロゲージの少なくとも３個のプローブと、互いに直交する方向に移動制御され、それぞれの開口エッジにより投影光学系による露光領域を制限する二対のアパーチャブレードと、を有する投影露光装置において、上記二対のアパーチャブレードのいずれか一方の対をなすアパーチャブレードの少なくとも一方が、少なくとも３個の上記プローブ中の第１、第２のプローブの間を進退するように配置されていることを特徴とする。
【００１０】
少なくとも３個の上記プローブ中の第３のプローブは、上記露光領域を挟んで、上記第１、第２のプローブの反対側に配置することが好ましい。
【００１１】
上記エアロマイクロゲージは二対のプローブを有しており、上記二対のプローブは、上記二対のアパーチャブレードの一方の対をなすアパーチャブレードの進退方向の両側部に、その進退方向に離間させて配置し、かつ上記二対のプローブの間にそれぞれ、上記他方の対をなすアパーチャブレードがそれぞれ進退するように配置することが好ましい。
【００１２】
少なくとも３個のエアマイクロゲージのプローブは、露光開口を有する単一のエアマイクロゲージブロック上に配置することができる。
【００１３】
上記全てのエアマイクロゲージのプローブは、上記露光開口の平面的な中心から露光開口内壁の最大距離の２倍の半径の円内、好ましくは１.５倍、より好ましくは１.２５倍の円内に配置する。
【００１４】
上記アパーチャブレードはそれぞれ、直進アクチュエータを備え、上記プローブは、上記直進アクチュエータと上記露光領域の間に位置させることができる。
【００１５】
上記二対のアパーチャブレードの進退平面の光軸方向の位置は異なっており、上記プローブの先端は、上記二対のアパーチャブレードの進退平面より上記基板側に位置することが実際的である。
【００１６】
上記投影光学系は、ダイソン光学系を使用することができる。
【００１７】
本発明の投影露光装置は、別の態様では、基板の表面（被露光面）の高さ位置を検出するためのエアマイクロゲージの少なくとも２つのプローブと、開口エッジにより投影光学系による露光領域を制限する少なくとも１つの進退可能なアパーチャブレードと、を有する投影露光装置において、上記アパーチャブレードの１つが２つの上記プローブ間を進退するように配置されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の投影露光装置によれば、直交二方向に移動制御される二対のアパーチャブレード（可変アパーチャ機構）によって定まる露光領域の近傍に位置させて、少なくとも３個のエアマイクロプローブを配置することができる。このため、基板上の小さい露光領域の高さと傾きに応じて、該露光領域の高さと傾きを調整しながら露光領域毎に露光し、同時にフレアによる露光不良の発生を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明による投影露光装置の一実施形態を示す、投影露光装置全体の側面透視図である。
【図２】図１の投影露光装置中のアパーチャユニットの拡大側面図である。
【図３Ａ】図２のIII-III線に沿う、可変アパーチャ機構による最小露光領域を示す底面図である。
【図３Ｂ】図２のIII-III線に沿う、可変アパーチャ機構による最大露光領域を示す底面図である。
【図４】エアマイクロゲージブロック単体の底面図である。
【図５】一つの基板上への複数（多数）の露光領域の設定例を示す平面図である。
【図６】本発明による投影露光装置の別の実施形態を示す、図３Ｂに対応する底面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下図面について本発明に係る投影露光装置の一実施形態を説明する。本実施形態はダイソン型として知られる投影光学系を備えた投影露光装置１０に本発明を適用したものである。図１に示す投影露光装置１０は、例えば特許文献５によって知られており、シリコンウェハなどの基板ＳＢの表面（被露光面）にレチクルＲなどのフォトマスクに描かれた所定のパターンを投影・露光する装置である。基板ＳＢは、架台１１に設けられた基板ステージ１２上に載置される。
【００２１】
基板ステージ１２は、図１の上から順に、基板ＳＢを載置して真空吸着などの手段を用いて保持する基板載置部１２Ｗと、投影露光装置１０の出射光軸Ｏに対して傾動するθ移動部（傾動部）１２θと、出射光軸Ｏと平行な方向に移動するＺ移動部１２Ｚと、出射光軸Ｏと直交するＸＹ平面上を移動するＸＹ移動部１２ＸＹとを有する周知の機構である。
【００２２】
基板ＳＢの表面（被露光面）には、照明光学系１３からの光を用いて、レチクルＲに形成されたパターンが投影光学系１５を介して投影される。なお、レチクルＲは、照明光学系１３の光軸１３Ｏに垂直な方向および平行な方向へ移動可能なレチクルステージ１４に真空吸着手段などを用いて保持されている。
【００２３】
照明光学系１３は、ショートアークランプなどを用いた光源１６からの光をフライアイインテグレータ１７、コリメートレンズ１８などを通して均一な平行光としてレチクルＲに照射し、照射された平行光をレチクルＲを透過して投影光学系１５へと導く。なお、光源１６から照射される光には、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｈ線（同４０５ｎｍ）及びｉ線（３６５ｎｍ）の光が含まれ、照明光学系１３は、図示しない波長フィルタやダイクロイックミラーを用いて光源１６から放射された光のうち、所定の波長の光のみを投影光学系１５へと供給する。また、その光量は、図示しないシャッター等により制御される。
【００２４】
投影光学系１５は、集光パワーを有する凹面鏡（反射光学素子）Ｍ０と、複数のレンズ（屈折光学素子）からなる屈折光学系１９から構成されている。この屈折光学系１９は、レチクル（物体面）Ｒからの露光光を屈折光学系１９に向けて偏向する第１平面鏡Ｍ１と、屈折光学系１９からの露光光を基板ＳＢに向けて偏向し、出射光軸Ｏ上に出射する第２平面鏡Ｍ２を含んでいる。レチクルＲを透過した露光光は、第１平面鏡Ｍ１により屈折光学系１９に向けて反射され、屈折光学系１９を通った露光光は凹面鏡Ｍ０で反射されて再び屈折光学系１９に入射される。その後、露光光は第２平面鏡Ｍ２によって反射されて出射光軸Ｏ上を基板ステージ１２方向に投影され、投影光学系１５の像面に対応する基板ＳＢの表面（被露光面）においてレチクルＲを結像する。
【００２５】
投影光学系１５の露光光射出部には、図示しないフレーム等を介して第２平面鏡Ｍ２の基部および投影光学系鏡筒にアパーチャユニット２０が固定されている（図１）。このアパーチャユニット２０は、図２に示すように、投影光学系１５側から順に、ユニットベース２１とエアマイクロゲージブロック３１を有している。ユニットベース２１には投影光学系１５の出射光軸Ｏ上に位置するＸ方向に長い平面矩形の開口（露光光を通すための開口）２２が形成されている。
【００２６】
エアマイクロゲージブロック３１には、ユニットベース２１の開口２２より小径の同じくＸ方向に長い平面矩形の露光開口３２が形成されている。この露光開口３２のＺ方向の上端部には、薄肉エッジ３２ａが形成されていて、そのＸ方向の両端のＹ方向を向く縁部には、マーカ露見凹部３２ｂが形成されている。以下の説明では、露光開口３２の平面中心を通る出射光軸Ｏと平行な方向をＺ軸（方向）、Ｚと直交し、露光開口３２の短手方向と長手方向と平行な方向をＸ軸（方向）とＹ軸（方向）とする直交座標系ＸＹＺを想定する。
【００２７】
エアマイクロゲージブロック３１には、露光開口３２を取り囲んで、エアマイクロゲージの３個のエアマイクロプローブ（以下、単にプローブ）３３（３３Ａ、３３Ｂ、３３Ｃ）が形成されて（取り付けられて）いる。このプローブ３３の方向は、プローブ３３から吐出される空気（流体）が正しくＺ軸と平行な方向に向くように（図２参照）設定されている。エアマイクロゲージブロック３１には、プローブ３３への配管３３ａが形成されており、配管３３ａは、外部配管３３ｂを介して制御手段３４（図４）中のエアマイクロゲージ（エアマイクロ測定部）３４Ａに接続されている。エアマイクロゲージ３４Ａは図示しない気体供給源に接続されている。
【００２８】
エアマイクロゲージ３４Ａは、全てのプローブ３３から圧力制御された空気（流体）を噴出し、その圧力変化により、基板ＳＢとの距離を検出する。３個のプローブ３３から噴出される空気（流体）の圧力を検出することにより、各プローブ３３の位置での基板ＳＢとの距離と、３個のプローブ３３で規定される平面の傾きを検出することができる。
【００２９】
制御手段３４にはまた、図４に示すように、エアマイクロゲージ３４Ａの出力によって検出される基板ＳＢの高さに応じ基板ステージ１２のＺ移動部１２Ｚを介して基板載置部１２Ｗを昇降させるＺ駆動系３４Ｚ、基板ＳＢの表面（被露光面）の傾きに応じθ移動部１２θを介して基板載置部１２Ｗを傾動させるθ駆動系３４θ、及びＸＹ移動部１２ＸＹを介して基板ＳＢのＸＹ平面内の位置を制御するＸＹ駆動系３４ＸＹが備えられている。
【００３０】
３個のプローブ３３のうちの２つである第１のプローブ３３Ａ、第２のプローブ３３Ｂは、露光開口３２の長手方向と平行なＹ方向の直線上に、Ｘ軸に関する対称位置に配置され、残りの１つである第３のプローブ３３Ｃは、第１のプローブ３３Ａ、第２のプローブ３３Ｂの露光開口３２を挟んだ反対側に位置させて、第１のプローブ３３Ａ及び第２のプローブ３３Ｂと、ＸＹ平面と平行な面内に位置する正三角形をなすように、Ｘ軸上に配置されている。本実施形態は、基板ＳＢの全体の高さと傾きを検知するのではなく、基板ＳＢ上（表面、被露光面）に設定される露光領域毎に基板ＳＢの表面（被露光面）の高さと傾きを検知する。このため、基板ＳＢ上の最大露光領域とほぼ同等の大きさ（最大露光領域より若干大）の露光開口３２の周囲近傍に、３個のプローブ３３（３３Ａ、３３Ｂ、及び３３Ｃ）を配置している。露光領域ＥＡの高さと傾きを検知するためには、例えば、露光開口３２の平面的な中心から露光開口３２内壁の最大距離の２倍の半径、好ましくは１．５倍の半径、より好ましくは１．２５倍の半径の円内に全てのプローブ３３を配置する。図４に示した実施形態では、最大距離の１．２５倍の半径で描いた円内に３個のプローブ３３Ａ、３３Ｂ、及び３３Ｃを配置してある。円の半径（露光開口３２の中心からの距離）は大きい程傾き検出の精度は高くなるが、円の半径が最大距離の２倍を超えると、プローブ３３Ａ、３３Ｂ、及び３３Ｃを露光領域ＥＡに十分接近させることができなくなる。
【００３１】
以上のユニットベース２１は、露光開口３２を挟んで一対のプローブ３３Ａ、３３Ｂの反対側に位置しＸ方向に並んだ一対の固定部３５と、露光開口３２を挟んでプローブ３３Ｃと反対側のＹ軸上に位置する１つの固定部３５とによって、ユニットベース２１に固定される。
【００３２】
ユニットベース２１上には、エアマイクロゲージブロック３１の露光開口３２を制限して露光領域ＥＡを制限する二対の可変アパーチャ機構４０と５０が備えられている。可変アパーチャ機構４０は、露光開口３２を開閉するようにＸ方向に進退する一対のＸアパーチャブレード（Ｘ遮光板）４１と、そのリニアアクチュエータ４２とを有しており、可変アパーチャ機構５０は、露光開口３２を開閉するようにＹ方向に進退する一対のＹアパーチャブレード（Ｙ遮光板）５１と、そのリニアアクチュエータ５２とを有している。Ｘアパーチャブレード４１とＹアパーチャブレード５１は、両者が干渉することがないように、その高さ位置（進退平面、Ｚ軸と平行な方向の高さ位置）を異ならせている（図示例では、図２に示すように、Ｙアパーチャブレード５１の方が高い）。
【００３３】
Ｘアパーチャブレード４１とＹアパーチャブレード５１は、その露光開口３２側のエッジが、それぞれＹ方向、Ｘ方向と平行な開口エッジ４１ｄと５１ｄを構成しており、これらの開口エッジ４１ｄと５１ｄにより露光領域ＥＡ（図３Ａ、図３Ｂにハッチングを付した）が形成される。露光領域ＥＡの大きさは、Ｘアパーチャブレード４１とＹアパーチャブレード５１をリニアアクチュエータ４２と５２によって進退させることにより調節（制御）することができる。図３Ａは最小露光領域ＥＡ、図３Ｂは、一対のＹアパーチャブレード５１により、露光開口３２のマーカ露見凹部３２ｂを露出させた状態（最大露光領域ＥＡ）を示している。
【００３４】
以上のプローブ３３、Ｘアパーチャブレード４１及びＹアパーチャブレード５１の位置関係を平面的に見ると（Ｚ軸と平行な方向から見ると）、一対の可変アパーチャ機構４０と５０のうちの一方の可変アパーチャ機構５０の一対のＹアパーチャブレード５１の一側部に、その進退方向に離間させて、３個のプローブ３３中の一対のプローブ３３Ａと３３Ｂ）が配置されており、かつ、その一対のプローブ３３Ａと３３Ｂの間を（プローブ３３Ａと３３Ｂ）を結ぶ仮想直線を横切って）他方の可変アパーチャ機構４０の一方のＸアパーチャブレード４１が進退するように配置されている。このように、プローブ３３、Ｘアパーチャブレード４１及びＹアパーチャブレード５１を配置することにより、基板ＳＢの面積に比して小さい露光領域ＥＡの高さと傾きを検知して、その高さと傾きを調整し、個々の露光領域ＥＡに正しく露光することができる。
【００３５】
図５は、基板ＳＢ上に設定する小面積の露光領域ＥＡ及びステップ露光の例を示している。図５では、アパーチャユニット２０の可変アパーチャ機構４０（Ｘアパーチャブレード４１）と可変アパーチャ機構５０（Ｙアパーチャブレード５１）によって形成されている露光領域ＥＡを実線のハッチングを付して示し、アパーチャユニット２０に対してＸＹ移動部１２ＸＹによりＸＹ平面内で移動させて露光する多数の露光領域ＥＡの輪郭を二点鎖線で示している。
【００３６】
本実施形態による投影露光装置１０によれば、基板ＳＢ上の露光領域ＥＡの周囲が可変アパーチャ機構４０、５０のＸ、Ｙアパーチャブレード４１、５１に覆われているので、投影光学系１５から射出した露光光の内、露光に寄与しない不用光はＸ、Ｙアパーチャブレード４１、５１によって確実に遮光され、基板ＳＢに届かない。また、この不要光の遮断効果は、光束が往復することから収差が打ち消される反射屈折光学系として知られているダイソン光学系においても、同様に得られる。
【００３７】
なお、図３Ｂの状態は、可変アパーチャ機構５０のＹアパーチャブレード５１により露光開口３２のマーカ露見凹部３２ｂを露出させた状態を示している。実際のステップ露光では、この状態で、基板ＳＢ上に形成されているアライメントマーク（図示せず）を観察して露光領域を定め、その後にＹアパーチャブレード５１（Ｘアパーチャブレード４１）を定めた露光領域の大きさに対応する位置に移動させる。
【００３８】
エアマイクロゲージ３４Ａは、原理的には、上述の実施形態のように、３個のプローブ３３によって基板ＳＢの露光領域ＥＡの高さと傾きを検出することができる。しかし、４個以上のプローブ３３を用いる（あるいは４個以上のプローブ３３を配置して、その中の３個のプローブ３３の出力を用いる）ことも可能である。図６は、二対計４個のプローブ３３を配置した本発明による投影露光装置の別の実施形態を示している。
【００３９】
この実施形態では、可変アパーチャ機構５０の一対のＹアパーチャブレード５１の両側部に２個ずつ、その進退方向に離間させて、プローブ３３（３３Ａと３３Ｂ、及び３３Ｃと３３Ｄ）が配置されており、かつ、プローブ３３（３３Ａと３３Ｂ、及び３３Ｃと３３Ｄ）を結ぶ仮想直線を横切って、可変アパーチャ機構４０の一対のＸアパーチャブレード４１が進退するように配置されている。別言すると、２個のプローブ３３Ａと３３Ｂ、及び２個のプローブ３３Ｃと３３Ｄは、Ｙ軸に関し対称に配置されている。
上述のように、この二対（４個）のプローブ３３（３３Ａと３３Ｂ、及び３３Ｃと３３Ｄ）の出力は全てを用いても、選択的に３個を用いてもよい。
エアマイクロプローブの代わりに、レーザ変位計や磁気センサ等の距離測定用のセンサプローブ等を用いてもよい。
【符号の説明】
【００４０】
ＳＢ  基板
１０  投影露光装置
１１  架台
１２  基板ステージ
１２Ｚ  Ｚ移動部
１２ＸＹ  ＸＹ移動部
１２Ｗ  基板載置部
１２θ  θ移動部
１３  照明光学系
１４  レチクルステージ
１５  投影光学系
１６  光源
１７  フライアイインテグレータ
１８  コリメートレンズ
１９  屈折光学系
２０  アパーチャユニット
２１  ユニットベース
２２  開口
３１  エアマイクロゲージブロック
３２  露光開口
３２ａ  薄肉エッジ
３２ｂ  マーカ露見凹部
３３ｂ  外部配管
３３  エアマイクロプローブ（エアマイクロゲージ、プローブ）
３３Ａ、３３Ｂ、３３Ｃ  エアマイクロプローブ（第１、第２、第３のプローブ）
３３ａ  配管
３４  制御手段
３４Ａ  エアマイクロゲージ
３４ＸＹ  ＸＹ駆動系
３４Ｚ  Ｚ駆動系
３４θ  θ駆動系
３５  固定ボス
４０  可変アパーチャ機構
４１  Ｘアパーチャブレード（一対のアパーチャブレード）
４１ｄ  開口エッジ
４２  リニアアクチュエータ
５０  可変アパーチャ機構
５１  Ｙアパーチャブレード（一対のアパーチャブレード）
５１ｄ  開口エッジ
５２  リニアアクチュエータ
ＥＡ  露光領域
【図１】
2018159812.tif 000003
【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
2018159812.tif 000006
【図４】
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【図５】
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【図６】
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