(57)【要約】      （修正有）【課題】基板に処理液を吐出して処理を行う液処理装置において、処理液の基板への吐出量を安全、且つ精度高く測定することができる技術を提供すること。【解決手段】基板を基板載置部に搬送する基板搬送機構により、処理液を収納する容器本体６１を当該基板載置部に搬送する工程と、次いで、処理液吐出部から処理液を前記容器本体６１に吐出する工程と、続いて、容器本体６１に収容された処理液を覆う蓋７を、蓋搬送機構により当該容器本体６１に搬送して容器６を形成する工程と、然る後、基板搬送機構により容器６を、当該容器６内に収納された処理液の量を測定するための測定器へ搬送する工程と、を行う【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板載置部に載置された基板の表面に処理液吐出部から処理液を吐出して液処理を行う液処理装置についての前記処理液の吐出量の測定方法において、
前記基板を前記基板載置部に搬送する基板搬送機構により、前記処理液を収納する容器本体を当該基板載置部に搬送する工程と、
次いで、前記処理液吐出部から前記処理液を前記容器本体に吐出する工程と、
続いて、前記容器本体に収容された前記処理液を覆う蓋を、蓋搬送機構により当該容器本体に搬送して容器を形成する工程と、
然る後、前記基板搬送機構により前記容器を、当該容器内に収納された前記処理液の量を測定するための測定器へ搬送する工程と、
を備えることを特徴とする処理液の吐出量の測定方法。
【請求項２】
前記容器を前記測定器へ搬送した後、前記蓋搬送機構により前記蓋を前記容器本体から取り外す工程と、
続いて、前記容器本体から処理液を除去する除去工程と、
を備えることを特徴とする請求項１記載の処理液の吐出量の測定方法。
【請求項３】
前記除去工程は、洗浄液を前記容器本体に供給する工程を含むことを特徴とする請求項２記載の処理液の吐出量の測定方法。
【請求項４】
前記除去工程は、前記容器本体を回転させ、遠心力により前記処理液を振り切る工程を含むことを特徴とする請求項２または３記載の処理液の吐出量の測定方法。
【請求項５】
前記容器を形成する工程は、
前記蓋を保持した状態の前記蓋搬送機構を前記容器本体に対して相対的に下降させる工程と、
続いて、前記蓋搬送機構により前記蓋が保持される状態を解除し、当該蓋を前記容器本体に受け渡す工程と、
を含むことを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一つに記載の処理液の吐出量の測定方法。
【請求項６】
前記蓋搬送機構による前記蓋が保持される状態の解除は、
当該蓋を吸着するために当該蓋搬送機構に設けられる蓋保持用吸引孔からの吸引量を低下させる工程を含むことを特徴とする請求項５記載の処理液の吐出量の測定方法。
【請求項７】
前記基板搬送機構は、前記基板を吸引して保持するために上方に向けて開口する基板保持用吸引孔を備える保持部を含み、
前記蓋搬送機構は、前記保持部と、当該保持部に設けられる蓋保持用冶具と、により構成され、
前記蓋保持用冶具は、
下方に向けて開口する前記蓋保持用吸引孔と、
当該蓋保持用吸引孔と前記基板保持用吸引孔とを接続する流路と、を備え、
前記蓋保持用吸引孔からの吸引量を低下させる工程は、前記基板保持用吸引孔からの吸引量を低下させる工程を含むことを特徴とする請求項６記載の処理液の吐出量の測定方法。
【請求項８】
前記測定器により前記処理液が収納された前記容器の重量を測定する工程と、
前記容器の重量に基づいて前記容器内に収納された処理液の量を測定する工程と、
を含むことを特徴とする請求項１ないし７のいずれか一つに記載の処理液の吐出量の測定方法。
【請求項９】
測定された前記処理液の吐出量に基づいて、前記処理液吐出部を構成するポンプの動作のパラメータを補正する工程を含むことを特徴とする請求項１ないし８のいずれか一つに記載の処理液の吐出量の測定方法。
【請求項１０】
前記処理液吐出部は、前記基板に吐出される前記処理液の吐出量を検出するための吐出部を備え、
前記測定器により測定された処理液の吐出量に基づいて、前記吐出量検出部により前記吐出量を検出するためのパラメータを補正する工程を含むことを特徴とする請求項１ないし９のいずれか一つに記載の処理液の吐出量の測定方法。
【請求項１１】
請求項１に記載の処理液の吐出量の測定方法に用いられる容器において、
前記処理液を貯留するための第１の凹部を備える容器本体と、
前記容器本体に対して着脱自在な蓋と、
を備えることを特徴とする容器。
【請求項１２】
前記第１の凹部の側壁をなし、当該第１の凹部の中心部へ向けて下降する傾斜面が前記容器本体に設けられ、
当該容器本体は皿状に形成されたことを特徴とする請求項１１記載の容器。
【請求項１３】
前記容器本体は、前記第１の凹部の全周を囲むように形成され、前記蓋の下面と接して当該第１の凹部内を密閉するための平坦部を備えることを特徴とする請求項１１または１２記載の容器。
【請求項１４】
前記蓋には、前記容器本体に対しての横方向における位置ずれを防ぐための位置規制部が設けられ、
当該位置規制部は、前記蓋の下面から突出して設けられ、前記容器本体の端面に沿って形成された側面を備えることを特徴とする請求項１１ないし１３のいずれか一つに記載の容器。
【請求項１５】
前記蓋の下面には第２の凹部が形成され、第２の凹部に開口するように当該蓋の上下を貫通する貫通孔が形成されることを特徴とする請求項１１ないし１４のいずれか一つに記載の容器。
【請求項１６】
請求項１に記載の処理液の吐出量の測定方法に用いられる蓋保持用冶具において、
前記基板搬送機構に設けられ、前記基板を吸引して保持するために上方に向けて開口する基板保持用吸引孔を備える基板の保持部に対して着脱自在に構成され、
前記蓋を保持するために下方に開口する蓋保持用吸引孔と、
当該蓋保持用吸引孔と前記基板保持用吸引孔とを接続する流路と、
を備えることを特徴とする蓋保持用冶具。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板に処理液を吐出して処理を行う液処理装置における処理液の吐出量を測定する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスを製造するための半導体製造装置においては、基板である半導体ウエハ（以下、ウエハと記載する）にレジストなどの様々な処理液を吐出して処理を行う液処理モジュールが設けられる。この液処理モジュールにおいてノズルから吐出される処理液の吐出量を精度高く制御することが求められている。そこで、処理液の吐出量の測定と、測定結果に基づいた吐出量の調整とが、作業者によって行われている。
【０００３】
上記の処理液の吐出量の測定について説明すると、半導体製造装置にてウエハに処理が行われていないときに作業者が容器を液処理モジュールに配置し、液処理モジュールのノズルから当該容器内に処理液を吐出させる。その後、作業者が処理液の揮発を防止するための蓋を容器に被せ、当該容器を半導体製造装置の外部に置かれた電子天秤へ運び、処理液の重量を測定し、測定された重量から吐出量を算出している。この測定後は、容器から処理液を除去し、容器の洗浄及び洗浄液の拭き取り作業を実施する。そして、再度の重量測定を行う場合には、容器を再び液処理モジュールに配置する。また、処理液の吐出量の調整は、測定された吐出量に基づいて、作業者が液処理モジュールのパラメータを変更することで行われる。この処理液の吐出量の測定とパラメータの変更とが繰り返し行われ、それによって吐出量が許容範囲内に収まるように調整される。
【０００４】
上記のように吐出量の測定は人手を介した作業であるため、例えば容器に処理液を吐出してから蓋を被せるまでの作業時間にばらつきが発生することで、処理液の揮発量がばらつき、結果として処理液の吐出量の測定値に誤差が生じることが懸念される。また、作業員が被液してしまうリスクが存在する。その他、作業員の熟練度によっては吐出量の測定とパラメータの変更とを繰り返し行う回数が多くなってしまい、吐出量が許容範囲に収まるまでに比較的多くの工数を要してしまう懸念が有る。
【０００５】
特許文献１においては、液処理モジュールに搬送された冶具に吐出された処理液を撮像し、取得された画像に基づいて、吐出量を測定する手法が示されている。また、特許文献２ではポンプを構成し、処理液を圧送するために設けられる隔壁の位置を検出することで、吐出量を測定する手法が示されている。しかし、より精度高く吐出量を測定するために、上記のように吐出された処理液の重量を測定することで吐出量を取得することが求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第５９５４２３９号公報
【特許文献２】特開２０１５−２２０４２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明はこのような事情に基づいてなされたものであり、その目的は、基板に処理液を吐出して処理を行う液処理装置において、処理液の基板への吐出量を安全、且つ精度高く測定することができる技術を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明における液処理装置の処理液の吐出量の測定方法は、
基板載置部に載置された基板の表面に処理液吐出部から処理液を吐出して液処理を行う液処理装置についての前記処理液の吐出量の測定方法において、
前記基板を前記基板載置部に搬送する基板搬送機構により、前記処理液を収納する容器本体を当該基板載置部に搬送する工程と、
次いで、前記処理液吐出部から前記処理液を前記容器本体に吐出する工程と、
続いて、前記容器本体に収容された前記処理液を覆う蓋を、蓋搬送機構により当該容器本体に搬送して容器を形成する工程と、
然る後、前記基板搬送機構により前記容器を、当該容器内に収納された前記処理液の量を測定するための測定器へ搬送する工程と、
を備えることを特徴とする。
【０００９】
本発明の容器は、本発明の処理液の吐出量の測定方法に用いられる容器において、
前記処理液を貯留するための第１の凹部を備える容器本体と、
前記容器本体に対して着脱自在な蓋と、
を備えることを特徴とする。
【００１０】
本発明の蓋保持用冶具は、本発明の処理液の吐出量の測定方法に用いられる蓋保持用冶具において、
前記基板搬送機構に設けられ、前記基板を吸引して保持するために上方に向けて開口する基板保持用吸引孔を備える保持部に対して着脱自在に構成され、
前記蓋を保持するために下方に開口する蓋保持用吸引孔と、
当該蓋保持用吸引孔と前記基板保持用吸引孔とを接続する流路と、
を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、処理液を基板載置部に載置された容器本体に吐出し、蓋を蓋搬送機構により前記容器本体に搬送して容器を形成した後、基板搬送機構により当該容器を測定器へ搬送する。従って、作業者が容器本体に蓋を取り付ける必要や、容器を測定器へ搬送する必要が無いので、安全に処理液の吐出量を測定することができる。また、処理液は密閉された容器に収納された状態で測定器へ搬送されるので、搬送中に当該処理液が揮発することが抑制される。従って、精度高く吐出量を測定することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明が適用される塗布、現像装置の平面図である。
【図２】前記塗布、現像装置の縦断側面図である。
【図３】前記塗布、現像装置に設けられる搬送アームの斜視図である。
【図４】前記搬送アームの平面図である。
【図５】前記塗布、現像装置に設けられるレジスト膜形成モジュールの縦断側面図である。
【図６】前記搬送アーム及び当該搬送アームによって搬送される容器の斜視図である。
【図７】前記容器を構成する受け皿及び蓋の上部側斜視図である。
【図８】前記蓋の下部側斜視図である。
【図９】前記容器、前記搬送アーム及び前記搬送アームに装着される蓋保持用冶具の縦断側面図である。
【図１０】前記蓋保持用冶具を装着した搬送アームの斜視図である。
【図１１】前記蓋保持用冶具の下面図である。
【図１２】前記蓋保持用冶具の縦断側面図である。
【図１３】前記レジスト膜形成モジュールに装着される重量測定部の側面図である。
【図１４】前記重量測定部の斜視図である。
【図１５】前記搬送アームによる容器の搬送を説明するための説明図である。
【図１６】前記搬送アームによる容器の搬送を説明するための説明図である。
【図１７】前記搬送アームによる容器の搬送を説明するための説明図である。
【図１８】前記搬送アームによる容器の搬送を説明するための説明図である。
【図１９】前記搬送アームによる容器の搬送を説明するための説明図である。
【図２０】前記搬送アームによる容器の搬送を説明するための説明図である。
【図２１】前記搬送アームによる容器の搬送を説明するための説明図である。
【図２２】前記搬送アームによる容器の搬送を説明するための説明図である。
【図２３】前記搬送アームによる容器の搬送を説明するための説明図である。
【図２４】前記搬送アームによる容器の搬送を説明するための説明図である。
【図２５】前記搬送アームによる容器の搬送を説明するための説明図である。
【図２６】前記レジスト膜形成モジュールのメンテナンスの工程を示すフロー図である。
【図２７】前記メンテナンスによりレジストの吐出量が調整される様子を示すためのグラフ図である。
【図２８】前記容器及び蓋保持用冶具を格納する格納モジュールの側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
［塗布、現像装置１の構成］
本発明が適用される塗布、現像装置１について、図１の平面図及び図２の概略縦断側面図を参照して説明する。この塗布、現像装置１はキャリアブロックＤ１と、処理ブロックＤ２と、インターフェイスブロックＤ３と、を直線状に接続して構成されている。インターフェイスブロックＤ３には、露光機Ｄ４が接続されている。以下、各ブロックＤについて説明するにあたり、キャリアブロックＤ１側を前方側、インターフェイスブロックＤ３側を後方側として説明する。キャリアブロックＤ１には、塗布、現像装置１の外部からウエハＷを格納するキャリアＣが搬送される。当該キャリアブロックＤ１は、キャリアＣの載置台１１と、開閉部１２と、開閉部１２を介してキャリアＣに対してウエハＷを搬送するための搬送アーム１３とを備えている。
【００１４】
処理ブロックＤ２は、ウエハＷに液処理を行う第１〜第６の単位ブロックＥ１〜Ｅ６が下から順に積層されて構成されている。Ｅ１とＥ２とが互いに同じ単位ブロックであり、Ｅ３とＥ４とが互いに同じ単位ブロックであり、Ｅ５とＥ６とが互いに同じ単位ブロックである。２つの同じ単位ブロックのうち、ウエハＷは一方の単位ブロックに搬送される。
【００１５】
ここでは単位ブロックのうち代表して、図１に示す単位ブロックＥ３を説明する。前後方向に伸びるようにウエハＷの搬送領域１４が形成されており、搬送領域１４の左右の一方側には、ウエハＷに薬液としてレジストを吐出し、レジスト膜を形成するレジスト膜形成モジュール４が２つ、前後方向に配置されている。レジスト膜形成モジュール４については、後に詳しく説明する。搬送領域１４の左右の他方側には、載置されたウエハＷが加熱される熱板を備える加熱モジュール１５が、搬送領域１４に沿って前後に複数設けられている。また、上記の搬送領域１４には、単位ブロックＥ３内でウエハＷを搬送する搬送アームＦ３が設けられている。
【００１６】
単位ブロックＥ１、Ｅ２、Ｅ５、Ｅ６について、単位ブロックＥ３、Ｅ４との差異点を説明すると、単位ブロックＥ１、Ｅ２は、レジスト膜形成モジュール４の代わりに反射防止膜形成モジュールを備えている。反射防止膜形成モジュールは、ウエハＷに反射防止膜を形成するためにレジストの代わりに反射防止膜形成用の薬液をノズルからウエハＷに吐出して反射防止膜を形成する。単位ブロックＥ５、Ｅ６は、レジスト膜形成モジュール４の代わりに現像モジュールを備えている。現像モジュールは、ウエハＷに薬液として現像液を吐出する。このように薬液の吐出を行うモジュールについて、当該薬液の種類が異なることを除いて、単位ブロックＥ１〜Ｅ６は互いに同様に構成されている。図２では、搬送アームＦ３に相当する各単位ブロックＥ１、Ｅ２、Ｅ４〜Ｅ６の搬送アームについて、Ｆ１、Ｆ２、Ｆ４〜Ｆ６として示しており、Ｆ１〜Ｆ６は互いに同様に構成されている。
【００１７】
処理ブロックＤ２におけるキャリアブロックＤ１側には、各単位ブロックＥ１〜Ｅ６に跨って上下に伸び、互いに積層された多数のモジュールからなるタワーＴ１と、タワーＴ１を構成する各モジュール間で基板の受け渡しを行うための搬送アーム１６と、が設けられている。タワーＴ１において、例えば単位ブロックＥ１〜Ｅ６が設けられる各高さにはウエハＷが載置される受け渡しモジュールＴＲＳが設けられている。
【００１８】
インターフェイスブロックＤ３は、単位ブロックＥ１〜Ｅ６に跨って上下に伸びるタワーＴ２、Ｔ３、Ｔ４を備えており、タワーＴ２とタワーＴ３とに対してウエハＷの受け渡しを行うための搬送アーム１７と、タワーＴ２とタワーＴ４とに対してウエハＷの受け渡しを行うための搬送アーム１８と、タワーＴ２と露光機Ｄ４との間でウエハＷの受け渡しを行うための搬送アーム１９と、が設けられている。タワーＴ２は、各単位ブロックに対してウエハＷを受け渡すための受け渡しモジュールＴＲＳが積層されて設けられている。タワーＴ３、Ｔ４にもモジュールが設けられているが、このモジュールについては説明を省略する。
【００１９】
［塗布、現像装置１における搬送経路］
上記の塗布、現像装置１におけるウエハＷの搬送経路について説明すると、ウエハＷは、キャリアＣから搬送アーム１３によってタワーＴ１の受け渡しモジュールＴＲＳ０に搬送され、搬送アーム１６によって、単位ブロックＥ１、Ｅ２に振り分けられて搬送される。例えばウエハＷを単位ブロックＥ１に受け渡す場合には、タワーＴ１の受け渡しモジュールＴＲＳのうち、単位ブロックＥ１に対応する受け渡しモジュールＴＲＳ１（搬送アームＦ１によりウエハＷの受け渡しが可能な受け渡しモジュール）に対してウエハＷが受け渡される。また、ウエハＷを単位ブロックＥ２に受け渡す場合には、タワーＴ１の受け渡しモジュールＴＲＳのうち、単位ブロックＥ２に対応する受け渡しモジュールＴＲＳ２に対して、ウエハＷが受け渡される。これらのウエハＷの受け渡しは、搬送アーム１６により行われる。
【００２０】
このように振り分けられたウエハＷは搬送アームＦ１（Ｆ２）によって、ＴＲＳ１（ＴＲＳ２）→反射防止膜形成モジュール→加熱モジュール１５→ＴＲＳ１（ＴＲＳ２）の順に搬送され、搬送アーム１６により単位ブロックＥ３に対応する受け渡しモジュールＴＲＳ３と、単位ブロックＥ４に対応する受け渡しモジュールＴＲＳ４とに振り分けられる。このようにＴＲＳ３、ＴＲＳ４に振り分けられたウエハＷは搬送アームＦ３（Ｆ４）によって、ＴＲＳ３（ＴＲＳ４）→レジスト膜形成モジュール４→加熱モジュール１５→タワーＴ２の受け渡しモジュールＴＲＳ３１（ＴＲＳ４１）の順で搬送される。然る後、このウエハＷは、搬送アーム１７、１９により露光機Ｄ４へ搬送され、ウエハＷの表面に形成されたレジスト膜が所定のパターンに沿って露光される。
【００２１】
露光後のウエハＷは、搬送アーム１８、１９によりタワーＴ２、Ｔ４間を搬送されて、単位ブロックＥ５、Ｅ６に対応するタワーＴ２の受け渡しモジュールＴＲＳ５１、ＴＲＳ６１に夫々搬送される。然る後、ウエハＷは加熱モジュール１５→現像モジュールの順で搬送され、露光機Ｄ４で露光されたパターンに沿ってレジスト膜が溶解し、ウエハＷにレジストパターンが形成される。然る後、ウエハＷは、タワーＴ１の受け渡しモジュールＴＲＳ５（ＴＲＳ６）に搬送された後、搬送アーム１３を介してキャリアＣに戻される。
【００２２】
［搬送アームの構成］
上記の単位ブロックＥ３に設けられる搬送アームＦ３について、図３の斜視図と、図４の平面図を参照して説明する。搬送アームＦ３は、水平移動機構２１、フレーム２２、昇降台２３、基台２４、上側保持部２５及び下側保持部２６を備えている。水平移動機構２１は、加熱モジュール１５群の下方において、搬送領域１４の長さ方向に沿って設けられており、フレーム２２を当該長さ方向に沿って水平移動させる。フレーム２２は昇降台２３を囲むように起立して設けられ、昇降台２３を垂直に昇降させる。基台２４は昇降台２３上に設けられ、昇降台２３によって鉛直軸回りに回転する。ウエハＷを各々保持する上側保持部２５、下側保持部２６は基台２４上に上下に重なるように設けられ、基台２４は、上側保持部２５、下側保持部２６を互いに独立して当該基台２４上における後退位置と前進位置との間で進退させることができる。図４では、上側保持部２５が後退位置に、下側保持部２６が前進位置に位置する状態を示している。上記のウエハＷの搬送時には、上側保持部２５及び下側保持部２６のうちの一方のウエハＷを保持していない保持部によってモジュールからウエハＷを受け取り、他方の保持部が保持しているウエハＷを当該モジュールに受け渡すように、各保持部が動作する。
【００２３】
続いて、上側保持部２５について説明する。上側保持部２５は、ウエハＷの側周を囲むように前進方向側が二股に分かれて延出されると共に、水平な板状に形成された保持部本体２７を備えている。この保持部本体２７の内周縁部には、周方向に間隔を空けて４つの爪部２８が設けられている。爪部２８の上部側には、上方に向けて開口した吸引孔２９をその中心部に備えた円形のパッド２０が設けられており、ウエハＷの裏面の周縁部は当該パッド２０上に、吸引孔２９を塞ぐように載置される。そして、そのようにウエハＷがパッド２０上に載置されている間、吸引孔２９からの吸引が行われることによって、ウエハＷが爪部２８に水平に吸着保持される。
【００２４】
また、上側保持部２５には図中に点線で示す排気路３１が設けられている。排気路３１の上流側は分岐して各吸引孔２９に接続されており、排気路３１の下流側は上側保持部２５に接続される排気管３２内に連通している。排気管３２の下流側は、例えばバルブや排気ブロアなどを含む排気機構３３に接続されており、この排気機構３３によって、吸引孔２９からの吸引が行われる状態と、吸引孔２９からの吸引が行われない状態とを切り替えることができる。なお、この切り替えは、制御部１０からの制御信号に基づいて、上側保持部２５と、下側保持部２６とで独立して行われる。
【００２５】
また、上記の保持部本体２７の基端側の上面には、凹部３４が形成されている。凹部３４は保持部本体２７の進退方向とは直交する方向に、２つ互いに離れて設けられている。この凹部３４の底面には孔３５が形成されている。これらの凹部３４及び孔３５は、上側保持部２５によって後述する蓋保持用冶具８を保持するために用いられる。
【００２６】
搬送アームＦ３の下側保持部２６は、上側保持部２５と同様に構成されている。また、上記の搬送アームＦ１、Ｆ２、Ｆ４〜Ｆ６は、搬送アームＦ３と同様に構成されている。他の搬送アーム１３などの他の搬送アームについては、保持部本体２７の形状が搬送アームＦ３と異なることを除いて搬送アームＦ３と同様に構成されている。
【００２７】
［レジスト膜形成モジュールの構成］
液処理装置であるレジスト膜形成モジュール４について、図５の縦断側面図を用いて説明する。レジスト膜形成モジュール４は、処理部４１、４２を備えており、処理部４１、４２に各々ウエハＷが搬送されて処理される。処理部４１、４２は互いに同様に構成されており、ここでは代表して処理部４１について説明する。処理部４１は、スピンチャック４３、回転機構４４及びカップ４５を備えている。
【００２８】
基板載置部であるスピンチャック４３は、ウエハＷの裏面中央部を吸着して当該ウエハＷを水平に保持する。回転機構４４によってスピンチャック４３が回転し、当該スピンチャック４３に保持されたウエハＷが鉛直軸回りに回転する。カップ４５は、スピンチャック４３に保持されたウエハＷを囲む。図中４６はカップ４５内を排気するための排気管であり、図中４７は、ウエハＷからカップ４５内に落下した液を除去するための排液口である。図中４８は、スピンチャック４３の回転方向に沿って配置された３本の昇降ピンである。ただし、図では２本の昇降ピン４８のみ表示している。昇降機構４９によって昇降ピン４８が昇降することで、搬送アームＦ３またはＦ４と、スピンチャック４３との間でウエハＷの受け渡しが行われる。
【００２９】
レジスト膜形成モジュール４は、処理部４１、４２に共用されるレジスト吐出ノズル５１及びシンナー吐出ノズル５２を備えている。これらのノズル５１、５２はアーム５０を介して図示しない移動機構に接続されており、処理部４１のスピンチャック４３に載置されたウエハＷの中心部上と、処理部４２のスピンチャック４３に載置されたウエハＷの中心部上と、各処理部４１、４２のカップ４５の外側との間で移動することができる。レジスト吐出ノズル５１は、鉛直下方に向けてレジストを吐出する。レジスト吐出ノズル５１には、配管５３の下流端が接続されており、配管５３の上流端は、流量計５４、ポンプ５５をこの順に介してレジストの供給源５６に接続されている。これらレジスト吐出ノズル５１、配管５３、流量計５４及びポンプ５５は、処理液吐出部を構成する。
【００３０】
ポンプ５５は、制御部１０から送信される制御信号に従って、予め設定された吐出圧でレジスト供給源５６から供給されたレジストをレジスト吐出ノズル５１に圧送し、レジスト吐出ノズル５１は鉛直下方に当該レジストを吐出する。この吐出圧に応じてウエハＷに吐出されるレジストの流量が変化する。吐出量検出部を構成する流量計５４は、このように圧送されるレジストの流量に相当する検出信号を後述の制御部１０に送信する。後述の制御部１０は、この検出信号に相当する流量に、予め設定された流量の校正値を乗算して、ノズル５１からウエハＷに吐出されるレジストの吐出量を検出し、当該吐出量について異常が有るか否かを監視する。なお、このように流量計５４の検出値と流量の校正値とに基づいて取得されるレジストの吐出量は、後述のようにレジストの重量に基づいて取得されるレジストの吐出量と区別するために、これ以降は校正吐出量と記載する。また、シンナー吐出ノズル５２には配管５７の下流端が接続されており、配管５７の上流端はポンプ５８を介してシンナー供給源５９に接続される。ポンプ５８によりシンナー供給源５９から供給されたシンナーがシンナー吐出ノズル５２に圧送され、シンナー吐出ノズル５２から鉛直下方に吐出される。
【００３１】
［レジスト膜形成モジュール４におけるウエハＷの処理］
塗布、現像装置１に複数設けられるレジスト膜形成モジュール４のうち、代表して単位ブロックＥ３に設けられるモジュール４についての動作を説明する。処理部４１または処理部４２のスピンチャック４３に単位ブロックＥ３の搬送アームＦ３によりウエハＷが搬送されて載置されると、シンナー吐出ノズル５２からシンナーが当該ウエハＷの中心部に吐出される。続いてウエハＷが回転する一方でシンナーの吐出が停止する。ウエハＷの表面においては、ウエハＷの回転の遠心力によってシンナーがウエハＷの周縁部に展伸される、いわゆるスピンコートが行われ、シンナーがウエハＷの表面全体に供給される。このシンナーにより、ウエハＷのレジストに対する濡れ性が向上する。
【００３２】
続いて、予め設定された吐出圧でポンプ５５がレジストの吐出動作を行い、レジスト吐出ノズル５１からレジストが回転するウエハＷの中心部に吐出されて、スピンコートされる。つまり、遠心力によってレジストがウエハＷの周縁部へ展伸され、ウエハＷの表面全体にレジスト膜が形成される。そして、レジストの吐出が停止し、ウエハＷの回転が停止して、ウエハＷがスピンチャック４３から搬送アームＦ３に受け渡されると、レジスト膜形成モジュール４から搬出される。
【００３３】
［レジスト膜形成モジュール４のメンテナンスの概要］
上記のようにウエハＷに吐出されるレジストの流量が許容範囲からずれていると、形成されるレジスト膜の膜厚が設定値からずれてしまう。そのような不具合を防ぐために、レジスト膜形成モジュール４のメンテナンスとして、処理部４１、４２のうちの一方で後述する容器６に対して、上記のウエハＷにレジスト膜を形成する場合と同様に、レジスト吐出ノズル５１からレジストを吐出する。そして、容器６を処理部４１、４２のうちの他方へ取り付けておいた重量測定部９に搬送して容器６の重量を測定し、測定された重量から吐出されたレジストの重量を検出し、さらに当該レジストの重量に基づいてレジストの吐出量を算出する。この吐出量に基づいてポンプ５５の吐出圧の設定値を補正し、ウエハＷの処理時に所定の吐出量でレジストがウエハＷに吐出されるように調整する。また、このように重量から算出されたレジストの吐出量に基づいて、上記の流量計５４による校正吐出量の算出に用いられる流量の校正値を補正する。これらのレジストの吐出量の算出、ポンプ５５の吐出圧の設定値の補正及び流量の校正値の補正は、塗布、現像装置１に設けられる制御部１０により自動で行われる。
【００３４】
また、このメンテナンスにおいては、容器６と重量測定部９との間における容器の搬送を搬送アームＦ３により行う。容器６へレジストが吐出されてから、重量測定部９にて測定が行われるまでにレジストが揮発することを防ぐため、容器６は、容器本体である受け皿６１と、当該受け皿６１に対になると共に当該受け皿６１に対して着脱自在な蓋７とを備え、蓋７を装着することによって容器６内が密閉されるように構成されている。なお、この蓋７は、受け皿６１から揮発したレジストが、容器６が搬送されるウエハＷの搬送領域１４を汚染することを防ぐ役割も有する。
【００３５】
また、受け皿６１に対して蓋７の着脱を行うために、上側保持部２５には蓋保持用冶具８を取り付けておくことで、この蓋保持用冶具８によって蓋７を保持できるようにしておき、受け皿６１の搬送は下側保持部２６によって行う。また、重量測定を行った後の受け皿６１は、処理部４１、４２のうちの一方で、シンナー吐出ノズル５２から吐出されるシンナーにより洗浄される。処理部４１、４２のうちのいずれで容器６にレジスト及びシンナーを吐出してもよいが、以下の説明では処理部４１でこれらの薬液の吐出を行うものとする。従って重量測定部９は、処理部４２に取り付けるものとする。
【００３６】
［容器６の構成］
続いて容器６について、図６〜図９を参照しながら説明する。図６は容器６の上部側斜視図であり、受け皿６１に蓋７を取り付けた状態を示している。図７は容器６の上部側斜視図であり、受け皿６１から蓋７を取り外した状態を示している。図８は蓋７の下部側斜視図である。図９は容器６の縦断側面図である。受け皿６１は、各種の薬液に耐性を有し、適切な重量及び適切な剛性を備え、運用中のパーティクルの発生を抑制することができるように、例えばＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）樹脂により構成されている。受け皿６１は、平面で見てウエハＷと同じ大きさの円板状に形成されている。従って、搬送アームＦ３により、ウエハＷと同様に裏面が吸着されることで水平に保持される。図９では、蓋７が取り付けられた受け皿６１が、そのように下側保持部２６に保持された状態を示している。
【００３７】
図７、図９に示すように、受け皿６１の表面の中央部にはレジスト７０が吐出されて貯留される円形の凹部６２が形成されている。受け皿６１を水平面に載置した状態において、この凹部６２の側面は、受け皿６１の中心部に向かうに従って比較的緩やかに下降する傾斜面６３として形成されており、凹部６２の外側は傾斜面６３に連続する水平面６４として構成されている。平坦部である水平面６４は、受け皿６１の周縁部をなすように、当該受け皿６１の全周に亘り形成されている。上記の傾斜面６３を備えることにより、後述の受け皿６１の洗浄時において、受け皿６１の回転による遠心力の作用で、凹部６２からレジスト及びシンナーを確実に排出することができる。
【００３８】
続いて、蓋７について説明する。蓋７は、受け皿６１より直径が小さい円板部７１の一端部及び他端部が互いに逆方向に円板部７１の外側に引き出され、各々延伸部７２を形成している。そして、この延伸部７２の端部は、下方へと突出するように形成され、平面視円弧状の位置規制部７３を形成している。この位置規制部７３の蓋７の中心部へと向かう側面は、蓋７を受け皿６１に取り付けたときに、受け皿６１の側端面に沿うように形成されている。この位置規制部７３によって、受け皿６１に対して蓋７がずれ落ちることが防止される。
【００３９】
円板部７１の裏面には円形の凹部７４が形成されており、この凹部７４の外側はリング状の突出面７５をなしている。また、この凹部７４の中心部には円板部７１の表裏を貫通する貫通孔７６が開口している。この貫通孔７６は、受け皿６１の凹部６２に貯留されるレジストの雰囲気が外部に漏れないような、微小な大きさを持つように形成されている。
【００４０】
また、各延伸部７２の裏面には凹部７７が形成されており、それによって延伸部７２の周縁に沿って突出した突出面７８が形成されている。なお、突出面７８は、円板部７１寄りの位置で、突出面７５に連続している。この延伸部７２に形成された凹部７７の中心部には、延伸部７２の表裏を貫通する貫通孔７９が開口している。貫通孔７９も貫通孔７６と同様に、微小な大きさに形成されている。
【００４１】
この蓋７は、後述するように受け皿６１に対して昇降されることで当該受け皿６１に対して着脱される上蓋である。蓋７が受け皿６１に装着されたときには、突出面７５、７８は、上記の受け皿の水平面６４に対向するように接触する。このように面同士が互いに接触することで、レジストが貯留される凹部６２内の密閉性を十分に確保し、当該レジストの揮発をより確実に抑制することができる。また、受け皿６１の表面においては、周縁部である水平面６４のみが蓋７に接し、凹部６２内は蓋７と接触しない。そのように凹部６２と蓋７との接触を防ぐ構成とすることによって、凹部６２に貯留されたレジストが蓋７に付着して測定誤差の要因になってしまうことを抑制することができる。また、上記のように貫通孔７６、７９を設けることで、蓋７の外部から凹部７４、７７へ空気が流入するので蓋７を容易に取り外すことができる。それ故に、蓋７の取り外し時において、蓋７が受け皿６１に貼り付くことによって、当該蓋７が蓋保持用冶具８に対して滑ってしまい、蓋保持用冶具８による蓋７の保持が異常になってしまうことが抑制される。
【００４２】
［蓋保持用冶具８の構成］
続いて蓋保持用冶具８について、縦断側面図である上記の図９と、斜視図である図１０、下面図である図１１を参照しながら説明する。この蓋保持用冶具８は、上側保持部２５に対して着脱自在に構成され、扁平な円形のリング部８１と、リング部８１の周方向の互いに離間した４つの位置から各々伸び出した腕部８２と、リング部８１の後方側に設けられた支持部８３とを備えている。支持部８３は下方へ突出する２つのピン８４を備えている。支持部８３は、上記の上側保持部２５に設けられる凹部３４に載置され、このときに凹部３４の孔３５にピン８４が差し込まれて係合することで、蓋保持用冶具８の上側保持部２５に対する位置が固定されて、蓋保持用冶具８が上側保持部２５に装着される。
【００４３】
上記の４つの腕部８２は、リング部８１から互いに放射状に伸びるように形成されている。各腕部８２の下面の先端部８５と基端部との間には段差が形成されることで、腕部８２における先端部８５の厚さは、基端部の厚さよりも厚さが小さい。この先端部８５には、Ｏリング８６が設けられている。そして、Ｏリング８６に囲まれる領域には開口部８７が形成されている。腕部８２内にはその長さ方向に沿って気体の流路８８が形成され、流路８８の一端がこの開口部８７に連通する。流路８８の他端は、リング部８１の下面から突出するように設けられたパッド８９の中心部に形成された蓋保持用吸引孔８０に接続される。
【００４４】
上記のように蓋保持用冶具８が上側保持部２５に装着されて蓋搬送機構として構成されたとき、図９に示すように上側保持部２５の爪部２８のパッド２０上には、蓋保持用冶具８の腕部８２の先端部８５が支持される。そして、パッド２０の吸引孔２９と腕部８２の開口部８７とが重なると共に、これらの周囲がＯリング８６に囲まれ、これら吸引孔２９及び開口部８７が外部からシールされた状態となる。このような構成により、上側保持部２５の吸引孔２９（基板保持用吸引孔）から吸引が行われると、開口部８７及び流路８８を介してパッド８９の蓋保持用吸引孔８０から吸引を行うことができる。
【００４５】
そして、上記のように蓋保持用冶具８の腕部８２の先端部８５は基端部よりも薄く形成されているので、パッド８９は、上側保持部２５の下面よりも下方に位置する。このように構成されることで、上側保持部２５が基台２４上の前進位置に位置するとき、当該上側保持部２５が干渉することなくパッド８９は蓋７の円板部７１の上面に接触することができる。このように接触した状態で蓋保持用吸引孔８０からの吸引、即ち上側保持部２５の吸引孔２９からの吸引を行うことで、パッド８９に蓋７の円板部７１の上面を吸着して保持することができる。図１２は、そのように蓋７を保持した状態の蓋保持用冶具８を示している。蓋７を保持する状態を解除するときには、蓋保持用吸引孔８０からの吸引量、即ち上側保持部２５の吸引孔２９からの吸引量を低下させる。具体的には、例えば吸引を停止させる。このような蓋保持用吸引孔８０からの吸引状態の切り替えと、上側保持部２５の昇降動作との協働により、蓋７を受け皿６１に対して受け渡すことができる。
【００４６】
［重量測定部９の構成］
続いて、測定器をなす重量測定部９について説明する。重量測定部９は、処理部４１、４２に対して着脱自在に構成されている。図１３は処理部４２に取り付けられた状態の重量測定部９の側面図であり、図１４は重量測定部９の斜視図である。図中９１はカップ４５内に進入し、スピンチャック４３上に載置される載置部である。載置部９１上には、カップ４５の上端に支持される水平な下側支持板９２が設けられている。図中９３は、下側支持板９２の上方に、当該下側支持板９２から離れて設けられる水平な上側支持板である。図中９４は支柱であり、下側支持板９２上に上側支持板９３を支持する。上側支持板９３には電子天秤９５が設けられている。電子天秤９５上には起立した角型のフレーム９６の上部が支持されている。当該フレーム９６の側部は上側支持板９３を貫通し、フレーム９６の下部は上側支持板９３と下側支持板９２との間に位置して、横方向に互いに離間して設けられた垂直な３本のピン９７を備えている。
【００４７】
３本のピン９７上に容器６が載置され、当該容器６の重量に応じてフレーム９６が下降し、電子天秤９５は、容器６の重量に相当する検出信号を制御部１０に送信する。なお、上側支持板９３上において、電子天秤９５の周囲には、気流の影響を防ぐための風防が設けられるが、図示は省略している。
【００４８】
［制御部１０の構成］
図１、図５に示すように塗布、現像装置１には、コンピュータである制御部１０が設けられている。制御部１０は、プログラムを備えている。このプログラムは、上記の搬送経路に沿ったウエハＷの搬送、各モジュールでのウエハＷの処理、容器６の搬送、レジストの吐出量の算出、ポンプ５５の吐出圧の設定値の補正、流量の校正値の補正などの各動作を行うことができるように命令（ステップ群）が組まれて構成されている。このプログラムによって塗布、現像装置１の各部に制御信号が送信されることで、当該塗布、現像装置１の各部の動作が制御されて、上記の各動作及び後述の各動作が行われる。このプログラムは、例えばハードディスク、コンパクトディスク、マグネットオプティカルディスクまたはメモリーカードなどの記憶媒体に収納された状態で、制御部１０に設けられる図示しないプログラム格納部にインストールされて実行される。
【００４９】
図５に示すように制御部１０にはメモリ６６が設けられている。このメモリ６６にはポンプ５５の吐出圧の設定値が記憶され、上記のように当該設定値でポンプ５５が動作してレジストが吐出される。また、メモリ６６には上記の校正値が記憶されている。レジスト膜形成モジュール４のメンテナンスにより、これらの吐出圧の設定値及び校正値が更新される。
【００５０】
さらに、制御部５は図示しないモニターなどの表示部や、スピーカーなどの音声出力部を備えている。これらの表示部及び音声出力部からはメンテナンスの結果に応じた表示や音声が出力されることで、後述するようにユーザーに対して当該メンテナンスの結果が報知される。
【００５１】
［レジストの吐出量の測定及び容器６の搬送］
続いて、レジスト膜形成モジュール４のメンテナンス時における搬送アームＦ３による容器６の搬送について、図１５〜図２５を参照しながら説明する。これらの図１５〜図２５では、図の煩雑化を防ぐために、搬送アームＦ３の上側保持部２５、下側保持部２６、容器６及び蓋保持用冶具８について、既述の各図に比べて形状を簡略化して示している。メンテナンスを行うために、塗布、現像装置１のユーザーは、予め既述したようにレジスト膜形成モジュール４の処理部４２に重量測定部９を、搬送アームＦ３の上側保持部２５に蓋保持用冶具８を夫々取り付けておく。また、搬送アームＦ３の下側保持部２６の爪部２８上に、蓋７が装着された状態の容器６を載置しておく。
【００５２】
制御部１０に対してユーザーが所定の操作を行うことでメンテナンスが開始されると、容器６は下側保持部２６の爪部２８から吸引されることで当該爪部２８に保持される。そして、上側保持部２５、下側保持部２６が共に後退位置に位置した状態で搬送アームＦ３の基台２４がレジスト膜形成モジュール４の処理部４１へ向かって移動する（図１５）。下側保持部２６が前進位置に移動し、下側保持部２６による容器６の吸引が停止して、処理部４１の昇降ピン４８が上昇して容器６を突き上げ、容器６が昇降ピン４８に支持される。下側保持部２６が後退位置へ移動し（図１６）、続いて上側保持部２５が前進位置に移動する。その後、基台２４が下降し、蓋保持用冶具８のパッド８９が蓋７に接すると基台２４の下降が停止し、パッド８９からの吸引が行われて蓋７が当該パッド８９に保持される（図１７）。
【００５３】
そして、基台２４が上昇して蓋７が容器６の受け皿６１から取り外され（図１８）、上側保持部２５は後退位置に移動し、昇降ピン４８が下降して、受け皿６１の裏面中央部がスピンチャック４３に吸着保持される。受け皿６１の中心部上にレジスト吐出ノズル５１が移動し、設定値の吐出圧でポンプ５５が動作し、受け皿６１の凹部６２にレジスト７０が吐出されて貯留される（図１９）。その一方で、流量計５４から、レジスト吐出ノズル５１に供給されたレジストの流量に相当する検出信号が出力される。制御部１０により、この検出信号に相当する流量に校正値が乗算され、校正吐出量として取得される。
【００５４】
その後、レジスト吐出ノズル５１が受け皿６１上から退避し、昇降ピン４８が上昇してスピンチャック４３から受け皿６１を突き上げる。上側保持部２５が前進位置に移動した後、基台２４が下降して蓋７が受け皿６１に被さり、凹部６２内が密閉されると（図２０）、パッド８９の吸引が停止して蓋７が受け皿６１に受け渡され、基台２４が上昇し（図２１）、上側保持部２５が後退位置に移動する。然る後、基台２４の昇降動作及び下側保持部２６の進退動作の協働により、容器６が下側保持部２６に受け渡され、下側保持部２６が当該容器６を吸引して保持する。
【００５５】
上側保持部２５及び下側保持部２６が後退位置に位置する状態で、基台２４が処理部４２へ向けて移動する。そして、下側保持部２６の前進位置への移動、下側保持部２６による容器６の吸引の停止、基台２４の下降が順に行われ、下側保持部２６から離れた状態で容器６が重量測定部９のピン９７上に載置される（図２２）。電子天秤９５により、レジスト７０を含んだ容器６の重量に相当する検出信号が制御部１０に送信される。制御部１０により、検出信号に対応する重量から所定の容器６の重量が減算されて、この減算値が容器６内のレジスト７０の重量として取得される。さらに、このレジスト７０の重量と、予め設定されたレジストの重量とレジストの液量との対応関係と、に基づいて容器６内のレジストの液量、即ちレジストの吐出量が算出される。
【００５６】
然る後、基台２４が上昇して下側保持部２６に容器６が受け渡され、下側保持部２６が容器６を吸引して保持する。そして、下側保持部２６が後退位置へ移動し、基台２４が処理部４１へ移動し、図１５〜図１８で説明したように搬送アームＦ３の各部及び処理部４１の昇降ピン４８が動作することで、上昇した昇降ピン４８に容器６が受け渡され、蓋保持用冶具８によって蓋７が取り外される（図２３）。続いて、上側保持部２５は後退位置に移動すると共に、昇降ピン４８が下降して昇降ピン４８が下降して、受け皿６１の裏面中央部がスピンチャック４３に吸着保持される。その後、受け皿６１の中心部上にシンナー吐出ノズル５２が移動し、凹部６２にシンナー６０が吐出され、スピンチャック４３が回転する。シンナー６０によりレジスト７０の流動性が低下し、回転による遠心力で当該レジスト７０はシンナー６０と共に受け皿６１の周縁部へ流れ、受け皿６１から振り切られて除去される（図２４）。
【００５７】
その後、シンナー６０の吐出が停止し、シンナー吐出ノズル５２が受け皿６１上から退避する。受け皿６１の回転が続けられることによってシンナー６０が受け皿６１から振り切られ（図２５）、受け皿６１が乾燥すると当該受け皿６１の回転が停止する。その後は、図２０、図２１で説明したように昇降ピン４８と搬送アームＦ３の各部との協働により、受け皿６１に蓋７が取り付けられ、容器６が下側保持部２６に保持されて、図１５に示した状態となる。
【００５８】
［メンテナンスのフロー］
続いて、レジスト膜形成モジュール４のメンテナンスについて、フローチャートである図２６を参照しながら説明する。このメンテナンスは、図１５〜図２５で説明した搬送アームＦ３による一連の動作及びレジストの吐出量が検出されることによって行われる。上記のように、塗布、現像装置１のユーザーが所定の操作を行うことでメンテナンスが開始され、容器６の処理部４１への搬送、受け皿６１へのレジスト７０の吐出、レジストの校正吐出量の算出が行われ（ステップＳ１）、続いて容器６に貯留されたレジスト７０の重量の測定、及び当該重量に基づいたレジスト７０の吐出量の算出が行われる（ステップＳ２）。つまり、このステップＳ１、Ｓ２としては、図１５〜図２２で説明した動作が行われる。
【００５９】
次に、ステップＳ２で取得されたレジスト７０の吐出量について、許容範囲に含まれているか否かが判定される（ステップＳ３）。続いて、メンテナンスを開始してから、直近の５回のステップＳ２の判定結果が、全て許容範囲に含まれているとされたか否かが判定される（ステップＳ４）。メンテナンス開始後にステップＳ２が５回行われておらず、このステップＳ４の判定が行うことができない場合には、ステップＳ２が５回行われるまで、ステップＳ１〜Ｓ３が繰り返し行われる。ステップＳ１、Ｓ２が１回行われると、次のステップＳ１、Ｓ２が行われるまでに図２３〜図２５で説明した動作が行われる。つまり、容器６の重量測定部９への搬送及び受け皿６１の洗浄が行われる。
【００６０】
ステップＳ４において、直近５回の判定結果のすべてが許容範囲に含まれたと判定された場合、例えばその５回分の各吐出量がメモリ６６に記憶され、メンテナンスが正常に終了した旨がユーザーに報知される。具体的に、制御部１０を構成する表示部にてその旨を示す表示が行われたり、制御部１０を構成する音声出力部からその旨を示す音声が出力されたりする（ステップＳ５）。この報知を受けたユーザーは、搬送アームＦ３から容器６及び蓋保持用冶具８を除去すると共に、処理部４２から重量測定部９を除去し、塗布、現像装置１によるウエハＷの処理を再開するように制御部１０から指示を行う。
【００６１】
ステップＳ４において、直近５回の判定結果の少なくともいずれかが許容範囲に含まれていないと判定された場合、メンテナンスを開始してからステップＳ３で許容範囲に含まれていないと判定された回数（異常と判定された回数）が規定回数を越えたか否かが判定される（ステップＳ６）。ステップＳ６で異常と判定された回数が規定回数を越えていないと判定された場合、直近に行われたステップＳ３についてレジストの吐出量が許容範囲に含まれているという判定であったか否かについて判定される（ステップＳ７）。
【００６２】
ステップＳ７において許容範囲に含まれていないという判定である場合、吐出圧の設定値についての補正が行われ（ステップＳ８）、続いて流量の校正値についての補正が行われる（ステップＳ９）。このステップＳ８、Ｓ９の動作は後に詳しく述べる。これらのパラメータの補正後は、電子天秤９５のゼロ点調整が行われる（ステップＳ１０）。このゼロ点調整は、レジスト７０が収納されていない状態の容器６を重量測定部９に搬送し、図２２で説明したようにピン９７に支持させる。そして、このときに電子天秤９５から出力される検出信号が、重量が０ｇに相当するものとして設定することで行う。つまり、容器６のみがピン９７に支持されているときの重さを０ｇとして設定する。このステップＳ１０が行われた後は、ステップＳ１以降のステップが再度行われる。
【００６３】
ステップＳ７において許容範囲に含まれているという判定である場合には、ステップＳ８、Ｓ９は行われず、ステップＳ１０が行われる。ステップＳ６で異常と判定された回数が規定回数を越えたと判定された場合、表示部にてその旨を示すアラーム表示が行われたり、制御部１０を校正する音声出力部からその旨を示すアラーム音声が出力されたりする。つまり、メンテナンスが異常に終了した旨がユーザーに報知される（ステップＳ１１）。
【００６４】
［パラメータの更新］
上記のステップＳ８で行われる吐出圧の設定値の補正方法の一例について説明する。ステップＳ８では、先ず、目標吐出量差分＝予め設定されたレジストの吐出量の目標値−直近のステップＳ２で取得されたレジストの吐出量の測定値が算出される。そして、この目標吐出量差分について、所定の基準範囲内に収まるか否かが判定される。目標吐出量差分が基準範囲に収まっていないと判定された場合、下記の式１によって算出された値になるようにメモリ６６に記憶される吐出圧の設定値が更新される。なお、式１中の現在の吐出圧の設定値とは、より詳しくは直近のステップＳ１を実行したときのレジストの吐出圧の設定値である。目標吐出量差分が基準範囲に収まっていると判定された場合は、レジストの吐出量と目標吐出量との乖離が抑制されるように、現在の吐出圧の設定値から例えば０．１ｋＰａ変更した値となるように、吐出圧の設定値を更新する。
現在の吐出圧の設定値×（レジストの吐出量の目標値に相当するレジストの重量／直近のステップＳ２で取得されたレジストの重量）＝吐出圧の設定値（更新値）・・・式１
【００６５】
図２５のメンテナンスのフローに示したように、ステップＳ１〜Ｓ４のレジストの吐出量の測定及び吐出量が許容範囲に含まれるか否かの判定と、このステップＳ８の吐出圧の設定値の補正と、が繰り返し行われる場合が有る。図２６のグラフは、そのような場合にステップＳ８で取得される目標吐出圧差分が変移する様子の一例を示すグラフである。グラフの縦軸は目標吐出量差分を示し、グラフの横軸はこの目標吐出量差分が取得されたときに設定されているポンプ５５の吐出圧を示している。横軸の隣接する目盛りの間隔は０．１ｋＰａである。グラフ中のプロットを指す矢印の基端の文字は、当該プロットが何回目のステップＳ８で取得されたプロットであるかを示しており、ｎは整数である。ｎ−５回目〜ｎ−３回目のステップＳ８ではプロットが取得された後、上記式１により吐出圧の設定値を更新しており、ｎ−２回目〜ｎ回目のステップＳ８ではプロットが取得された後、吐出圧の設定値を０．１ｋＰａずらす更新を行っている。
【００６６】
上記のように目標吐出量差分が比較的小さい場合には、０．１ｋＰａと微小に吐出圧の設定値を変更するので、目標吐出量差分はステップＳ８が行われるたびに次第に減少する。そして、新たに取得された目標吐出量差分が前回取得された目標吐出量差分よりも大きい場合には、既述のようにレジストの吐出量と目標吐出量との乖離が抑制されるように吐出圧の設定値が０．１ｋＰａ調整されるので、吐出圧の設定値は、直近の更新が行われる直前の値に戻されることになる。グラフに示す例では、ｎ−２回目〜ｎ回目までに取得された目標吐出量差分は、新しい回のものほど低下しているが、ｎ＋１回目の目標吐出量差分は、ｎ回目の目標吐出量差分より上昇した。従って、このｎ＋１回目のステップＳ８では、吐出圧の設定値が、ｎ回目のステップＳ８の目標吐出量差分が得られたときの吐出圧となるように更新される。このように、ステップＳ８を繰り返す度に目標吐出量差分の値が小さくなり、極小値となった後はその極小値からずれることが抑制されるように、吐出圧の設定値が補正される。
【００６７】
次に、上記のステップＳ９で行われる流量の校正値の補正方法の一例について説明する。先ず、下記の式２で、吐出量比が算出される。続いて、この吐出量比が所定の基準範囲に含まれるか否かが判定される。
直近のステップＳ２で取得された吐出量／直近のステップＳ１で取得された校正吐出量＝吐出量比・・・式２
【００６８】
吐出量比が基準範囲に含まれないと判定された場合は、下記の式３によって算出された値になるように流量の校正値が更新される。なお、現在の流量の校正値は、直近のステップＳ１で校正吐出量の算出に用いた校正値である。吐出量比が基準範囲に含まれると判定された場合は、直近のステップＳ１で取得された校正吐出量と、直近のステップＳ２で取得された吐出量との間の乖離が抑えられるように、現在の流量の校正値から例えば０．０００１ずらした値に、当該校正値を更新する。このように校正値を更新することで、上記の目標吐出量差分を極小値に近づけたように、吐出量比を１に近づけることができる。
現在の流量の校正値×吐出量比＝流量の校正値（更新値）・・・式３
【００６９】
上記の塗布、現像装置１によれば、レジスト膜形成モジュール４の処理部４１で受け皿６１にレジストを吐出した後、当該受け皿６１に蓋７を被せて密閉された容器６を形成し、搬送アームＦ３により重量測定部９へ搬送する。そして容器６の重量を測定し、その重量に基づいてレジストの吐出量を算出する。そのように蓋７を被せることにより、受け皿６１に吐出されたレジストの揮発を防ぐことができる。従って、レジストの吐出量を精度高く検出することができる。また、蓋７の受け皿６１への着脱、及び容器６の重量測定部９へ搬送は自動で行われるので、塗布、現像装置１のユーザーがレジストに被液することが無く、安全に吐出量の検出を行うことができる。また、容器６が重量測定部９へ搬送された後、搬送アームＦ３によって、容器６は処理部４１へ戻され、蓋７が取り外された後、洗浄液としてシンナーが供給されて洗浄されてから、再使用される。つまり、容器６の重量測定後の容器６の洗浄についてもユーザーが関わる必要が無いので、この点からもユーザーの安全が担保される。
【００７０】
さらに、容器６はウエハＷを搬送する搬送アームＦ３によって搬送されるため、容器６を、レジスト膜形成モジュール４の処理部４１のスピンチャック４３から処理部４２に取り付けた重量測定部９へ搬送する専用の搬送機構を設ける必要が無い。従って塗布、現像装置１の製造コストの上昇を抑制することができる。さらに、搬送アームＦ３の上側保持部２５に蓋保持用冶具８を取り付け、ウエハＷの保持に用いられる上側保持部２５の爪部２８の吸引孔２９からの吸引を利用することで蓋保持用冶具８における蓋７の吸着と吸着の解除とが行われ、それによって受け皿６１に対する蓋７の着脱が行われる。このように蓋７の着脱には上側保持部２５が利用され、蓋７を着脱するための専用の動作機構を設ける必要が無い。従って、この点からも塗布、現像装置１の製造コストの上昇を抑制することができる。
【００７１】
また、測定されたレジストの吐出量に基づいて、ポンプ５５の吐出圧が自動で調整されるため、塗布、現像装置１のユーザーの手間が軽減される。なお、レジストの吐出量が測定されると、その測定結果が制御部１０を構成するモニターに表示され、その表示を見たユーザーがポンプ５５の吐出圧の更新値を、制御部１０を構成する入力部から入力することで、メモリ６６に記憶されるデータが更新されるようにしてもよい。つまり、ポンプ５５の吐出圧はユーザーにより手動で変更されるようにしてもよい。同様に、流量の校正値についても手動で変更されるようにしてもよい。
【００７２】
ところで、ポンプ５５がレジストの吐出動作を行ったときに、吐出圧に相当する検出信号が制御部１０に出力される。制御部１０は、この検出信号に相当する吐出圧に圧力校正値を乗算することで、ポンプ５５の吐出圧を検出し、設定された吐出圧でポンプ５５が動作しているか否かを確認することができる。上記のフローのステップＳ８において、パラメータとしてポンプ５５の吐出圧の設定値を補正する代わりに、このポンプ５５の圧力校正値を補正してもよい。例えば下記の式４により圧力校正値を算出し、算出された値に更新する。
現在の圧力校正値×（レジストの吐出量の目標値に相当するレジストの重量／直近のステップＳ２で取得されたレジストの重量）＝圧力校正値（更新値）・・・式４
【００７３】
ところで、例えば単位ブロックＥ１でウエハＷに吐出される反射防止膜形成用の薬液についても単位ブロックＥ３のレジストと同様に吐出量を測定することができる。その場合、例えば単位ブロックＥ１の搬送アームＦ１の上側保持部２５にも、搬送アームＦ３の上側保持部２５と同様に蓋保持用冶具８を取り付けておく。重量測定部９については、単位ブロックＥ１の反射防止膜形成モジュールを構成する処理部に取り付けておいてもよいが、容器６はウエハＷと同様に搬送することができるので、レジスト膜形成モジュール４の処理部４２に取り付けた重量測定部９に容器６を搬送してもよい。
【００７４】
具体的に、当該反射防止膜形成モジュールにて受け皿６１に薬液を吐出した後、蓋７を被せた容器６を、例えばタワーＴ１の受け渡しモジュール及び搬送アーム１６を介して、レジスト膜形成モジュール４に取り付けた重量測定部９に搬送して重量を測定することができる。このように容器６を異なる層間で搬送することによって、モジュールのメンテナンスを行うことができる。従って、上記のフローに従ってレジスト膜形成モジュール４のメンテナンスを行った後、引き続き、反射防止膜形成モジュールについて、レジスト膜形成モジュール４に行ったものと同様のメンテナンスを行うことができる。
【００７５】
なお、単位ブロックＥ１、Ｅ３以外の単位ブロックＥに容器６を搬送し、モジュールのメンテナンスを行うこともできる。従って、この吐出量を測定する処理液としては、レジスト及び反射防止膜形成用の薬液に限られず、現像液であってもよい。なお、半導体製造装置が絶縁膜形成用の薬液、複数のウエハＷを互いに貼り付けるための接着剤などを吐出するモジュールを備えている場合、これらの薬液や接着剤の吐出量についても測定することができる。
【００７６】
ところで、図２８に示すように、上記の容器６及び蓋保持用冶具８を格納する格納部１０１を搬送アームＦがアクセス可能な位置、例えばタワーＴ１に設けてもよい。図中１０２は筐体であり、側面が開放されるように形成され、内部に搬送アームＦの上側保持部２５、下側保持部２６が進入可能に構成されている。図中１０３は、筐体１０２内を上下に仕切る仕切り板である。図中１０４は筐体１０２の底部に設けられる３本の支持ピンである。図中１０５は、仕切り板１０３に設けられる３本の支持ピンである。支持ピン１０４上に容器６が、支持ピン１０５上に蓋保持用冶具８が、夫々支持されている。
【００７７】
前進位置に位置した上側保持部２５が支持ピン１０５に対して昇降することで、蓋保持用冶具８のピン８４について上側保持部２５の孔３５に対する進入及び離脱がなされる、つまり上側保持部２５と蓋保持用冶具８との間の係合の形成による上側保持部２５への蓋保持用冶具８の装着、及び当該係合の解除による上側保持部２５からの蓋保持用冶具８の取り外しが行われる。上記のメンテナンスが開始されると、上側保持部２５が当該格納部１０１にアクセスして蓋保持用冶具８が装着され、下側保持部２６も格納部１０１にアクセスして容器６を受け取る。メンテナンスが終了すると、蓋保持用冶具８及び容器６が、当該格納部１０１に戻される。このような格納部１０１を設け、搬送アームＦに対する蓋保持用冶具８の装着及び取り外しと、容器６の保持及び解放とが自動で行われるようにすることで、メンテナンスを行う際のユーザーの負担を、より確実に軽減することができる。
【００７８】
ところで、容器６の重量を測定してレジストの吐出量を算出することには限られない。例えば、重量測定部９の代わりにレジスト膜形成モジュール４の処理部４２の昇降ピン４８に載置された容器６を真上から撮像できるように、当該処理部４２に測定器としてカメラを設けておく。レジスト膜形成モジュール４の処理部４１において、上記のようにレジストが収納された容器６が、当該レジスト膜形成モジュール４の処理部４２の昇降ピン４８に支持される。そして、このように昇降ピン４８に支持された状態で、蓋７が取り外され、カメラによって受け皿６１の表面が撮像される。制御部１０はカメラから出力された画像データを取得し、この画像データにおけるレジストの液溜まりの面積を算出し、この面積からさらにレジストの量の算出を行う。つまり、測定器としては、重量に基づいてレジストの吐出量を算出することには限られない。
【００７９】
また、受け皿６１に対して比較的付着性が低い処理液について吐出量の測定を行う場合、受け皿６１から当該処理液を除去するにあたり、洗浄液の供給を行わず、受け皿６１の回転による振り切りのみを行うようにしてもよい。逆に、受け皿６１の回転を行わず、洗浄液の供給のみを行うことで受け皿６１からの処理液の除去を行うようにしてもよい。また、上記の例では昇降ピンに４８に支持された受け皿６１に対して搬送アームＦ３の基台２４を昇降させることで蓋７の着脱を行っているが、基台２４の代わりに昇降ピン４８を昇降させて着脱を行うようにしてもよい。
【００８０】
ところで、受け皿６１においてレジストが収容された凹部６２を蓋が覆うことで、凹部６２からのレジストの揮発による周囲への拡散や、受け皿６１の搬送中に凹部６２からレジストが飛散して受け皿６１からこぼれることを抑制することができるので、レジストの吐出量について正確性高い測定を行うことができる。従って、受け皿６１に対する蓋としてはそのようにレジストを覆うものであればよく、容器６内のレジストを収容する空間が密閉されるように構成されることには限られない。具体的には、例えば容器本体６１に接触する裏面に凹凸が形成され、受け皿６１に取り付けられたときに当該受け皿６１との間に若干の隙間が形成されるような板状部材やブロック状の部材であっても蓋として用いることができる。
【００８１】
また、上記のように蓋を受け皿６１にフィットさせるための位置規制部７３のような部位が設けられていない、単なる平板を蓋として用いるようにしてもよい。そのような蓋を用いる場合であっても、搬送する際の速度を適切に設定することで、当該蓋を受け皿６１から落下させずに搬送を行うことができる。従って、蓋と受け皿とは互いに対となるように構成されることにも限られない。なお、容器本体としては皿状にすることに限られず、薬液を収容する凹部の深さが比較的大きい椀状のものを用いてもよい。なお、本発明は、既述した実施形態に限られるものでは無く、上記の実施形態は適宜変更したり、組み合わせることができる。
【符号の説明】
【００８２】
Ｆ３          搬送アーム
Ｗ            ウエハ
１          塗布、現像装置
２４        基台
２５        上側保持部
２６        下側保持部
４          レジスト膜形成モジュール
６          容器
６１        受け皿
７          蓋
８          蓋保持用冶具
９          重量測定部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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