(57)【要約】      （修正有）【課題】内径の小さい原料チューブの内周面を薄く、均一に金属被覆し、内腔の閉塞を防止できる医療用管状体の製造方法の提供。【解決手段】内周面に金属膜を有する医療用管状体の製造方法であって、原料チューブ１０の内腔の遠位端側に、前記原料チューブ１０の内腔を軸方向に移動可能なスパッタターゲット２０を配置する工程と、前記スパッタターゲット２０の近位端側にイオンビーム源３０を配置する工程と、前記原料チューブ１０の内腔に不活性ガスを導入する工程と、前記スパッタターゲットを、前記原料チューブの内腔で近位端方向に前記原料チューブに対して相対的に移動させつつ、前記イオンビーム源から前記スパッタターゲットに向けてイオンビーム３１を照射し、前記原料チューブの内周面に金属膜１１を形成するスパッタリング工程とを含む。【選択図】図１
2018159106.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内周面に金属膜を有する医療用管状体の製造方法であって、
原料チューブの内腔の遠位端側に、前記原料チューブの内腔を軸方向に移動可能なスパッタターゲットを配置する工程と、
前記スパッタターゲットの近位端側にイオンビーム源を配置する工程と、
前記原料チューブの内腔に不活性ガスを導入する工程と、
前記スパッタターゲットを、前記原料チューブの内腔で近位端方向に前記原料チューブに対して相対的に移動させつつ、前記イオンビーム源から前記スパッタターゲットに向けてイオンビームを照射し、前記原料チューブの内周面に金属膜を形成するスパッタリング工程と、を含む医療用管状体の製造方法。
【請求項２】
前記スパッタリング工程において、前記イオンビーム源が、前記原料チューブの近位端側に固定されている、請求項１に記載の医療用管状体の製造方法。
【請求項３】
前記スパッタリング工程において、前記イオンビーム源が、前記原料チューブの内腔で、前記スパッタターゲットと共に、前記原料チューブの近位端方向に前記原料チューブに対して相対的に移動する、請求項１に記載の医療用管状体の製造方法。
【請求項４】
前記スパッタターゲットを構成する金属材料が、銅、銀、金、鉛、白金、ニッケル、アルミ、スズ、亜鉛およびチタンから選択される少なくとも一つである、請求項１〜３のいずれかに記載の医療用管状体の製造方法。
【請求項５】
前記スパッタターゲットの形状は、前記原料チューブの軸方向に対して垂直な面で切断した断面積が、前記原料チューブの近位端側に向けて小さくなる形状である請求項１〜４のいずれかに記載の医療用管状体の製造方法。
【請求項６】
前記スパッタターゲットが前記原料チューブの周方向に回転可能である請求項１〜５のいずれかに記載の医療用管状体の製造方法。
【請求項７】
前記スパッタリング工程において、前記原料チューブを重力方向に沿って配置し、重力方向の上部側を前記原料チューブの遠位端側、重力方向の下側を前記原料チューブの近位端側とする請求項１〜６のいずれかに記載の医療用管状体の製造方法。
【請求項８】
前記スパッタリング工程において対向スパッタ法を用いる請求項１〜７のいずれかに記載の医療用管状体の製造方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載された医療用管状体の製造方法により得られるドレナージチューブ。
【請求項１０】
内径が０．５〜１０ｍｍであり、内周面が銀からなる金属膜により被覆され、前記金属膜の厚みが６０〜１０００ｎｍであるドレナージチューブ。
【請求項１１】
原料チューブの内周面に金属膜を形成するためのスパッタリング装置であって、
前記原料チューブの内腔の遠位端側に配置され、前記原料チューブの内腔を軸方向に移動可能なスパッタターゲット保持部材と、
前記スパッタターゲットの近位端側に配置されるイオンビーム源と、
前記原料チューブの内腔に不活性ガスを供給するガス供給源と、
前記原料チューブの内周面に金属膜を形成する際に、前記スパッタターゲット保持部材を前記原料チューブの近位端側に移動するように駆動する駆動制御部と、を有するスパッタリング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、医療用管状体の製造方法とスパッタリング装置に関する。さらに詳しくは、内周面が均一に金属被覆され、ドレナージチューブ等として好適に用いることができる医療用管状体の製造方法に関する。また、当該医療用管状体の製造方法に適したスパッタリング装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に医療用管状体と称される医療器具は、細い生体管路を通して目的部位まで挿入される細径のチューブである。医療用管状体としては、ドレナージチューブ、カテーテル、ステント等が挙げられる。
【０００３】
近年、患者の肉体的、時間的負担を軽減させるために、検査及び治療に医療用管状体を使用する例が多くなっている。このような医療用管状体は体内に数週間から数か月間留置されることがある。しかしながら、医療用管状体を体内に留置した後、バクテリアの付着に起因して、医療用管状体の内腔が閉塞することが問題となっている。
【０００４】
非特許文献１には、バクテリアの付着に起因して形成されたバイオフィルムによるプラスチックステント内腔の閉塞を防止するために、その外表面に銀ベースの抗菌剤をコーティングしたプラスチックステントが記載されている。しかしながら、このような技術によってもステント内腔の閉塞を十分に防止することができなかった。特に、医療用管状体の内径が小さくなるほど、内腔の閉塞に関する問題は顕著である。
【０００５】
また、非特許文献２では、反応性ガスとして窒素を用いた反応性スパッタリング法を用い、比較的大径（内径１６ｍｍ）の原料チューブの内周面に窒化チタンからなる被膜を形成している。非特許文献２の反応性スパッタリング法では、原料チューブの内腔の一端側に配置されたイオンビーム源から離間するように、スパッタターゲットが原料チューブの他端方向に移動しながらスパッタリングを行っている。
【０００６】
しかしながら、非特許文献２に記載の反応性スパッタリング法では、イオンビーム源とスパッタターゲットとの距離が大きくなるにしたがい、原料チューブの内周面に付着する被膜の量が低下するという問題があった。そのため、薄く、均一な被膜の形成が困難であった。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】Application of a silver coating on plastic biliary stents to prevent biofilm formation: an experimental study using electron microscopy, Akane Yamabe, Atsushi Irisawa, Ikuo Wada, et al, Published online: 2016
【０００８】
【非特許文献２】Coating The Inner Walls Of Tubes With TiN Films By Reactive Sputtering, T. Kraus, J. Keckes, et al, 17. international conference on the application of accelerators in research and industry; Denton, TX (United States); 12-16 Nov 2002; (c) 2003 American Institute of Physics; Country of input: International Atomic Energy Agency (IAEA)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、このような実情に鑑みてなされ、その目的は、内径の小さい原料チューブの内周面を薄く、均一に金属で被覆し、内腔の閉塞を防止できる医療用管状体の製造方法を提供することである。また、内径の小さい原料チューブの内周面に、薄く、均一な金属膜を形成できるスパッタリング装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題の解決を目的とした本発明の要旨は以下の通りである。
〔１〕内周面に金属膜を有する医療用管状体の製造方法であって、
原料チューブの内腔の遠位端側に、前記原料チューブの内腔を軸方向に移動可能なスパッタターゲットを配置する工程と、
前記スパッタターゲットの近位端側にイオンビーム源を配置する工程と、
前記原料チューブの内腔に不活性ガスを導入する工程と、
前記スパッタターゲットを、前記原料チューブの内腔で近位端方向に前記原料チューブに対して相対的に移動させつつ、前記イオンビーム源から前記スパッタターゲットに向けてイオンビームを照射し、前記原料チューブの内周面に金属膜を形成するスパッタリング工程と、を含む医療用管状体の製造方法。
【００１１】
〔２〕前記スパッタリング工程において、前記イオンビーム源が、前記原料チューブの近位端側に固定されている、〔１〕に記載の医療用管状体の製造方法。
【００１２】
〔３〕前記スパッタリング工程において、前記イオンビーム源が、前記原料チューブの内腔で、前記スパッタターゲットと共に、前記原料チューブの近位端方向に前記原料チューブに対して相対的に移動する、〔１〕に記載の医療用管状体の製造方法。
【００１３】
〔４〕前記スパッタターゲットを構成する金属材料が、銅、銀、金、鉛、白金、ニッケル、アルミ、スズ、亜鉛およびチタンから選択される少なくとも一つである、〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の医療用管状体の製造方法。
【００１４】
〔５〕前記スパッタターゲットの形状は、前記原料チューブの軸方向に対して垂直な面で切断した断面積が、前記原料チューブの近位端側に向けて小さくなる形状である〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載の医療用管状体の製造方法。
【００１５】
〔６〕前記スパッタターゲットが前記原料チューブの周方向に回転可能である〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載の医療用管状体の製造方法。
【００１６】
〔７〕前記スパッタリング工程において、前記原料チューブを重力方向に沿って配置し、重力方向の上部側を前記原料チューブの遠位端側、重力方向の下側を前記原料チューブの近位端側とする〔１〕〜〔６〕のいずれかに記載の医療用管状体の製造方法。
【００１７】
〔８〕前記スパッタリング工程において対向スパッタ法を用いる〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載の医療用管状体の製造方法。
【００１８】
〔９〕上記〔１〕〜〔８〕のいずれかに記載された医療用管状体の製造方法により得られるドレナージチューブ。
【００１９】
〔１０〕内径が０．５〜１０ｍｍであり、内周面が銀からなる金属膜により被覆され、前記金属膜の厚みが６０〜１０００ｎｍであるドレナージチューブ。
【００２０】
〔１１〕原料チューブの内周面に金属膜を形成するためのスパッタリング装置であって、
前記原料チューブの内腔の遠位端側に配置され、前記原料チューブの内腔を軸方向に移動可能なスパッタターゲット保持部材と、
前記スパッタターゲットの近位端側に配置されるイオンビーム源と、
前記原料チューブの内腔に不活性ガスを供給するガス供給源と、
前記原料チューブの内周面に金属膜を形成する際に、前記スパッタターゲット保持部材を前記原料チューブの近位端側に移動するように駆動する駆動制御部と、を有するスパッタリング装置。
【発明の効果】
【００２１】
本発明に係る医療用管状体の製造方法によれば、原料チューブの内周面に薄く均一な金属膜を成膜した医療用管状体を製造できる。また、イオンビーム源から照射されるイオンビームのエネルギーを低くすることができるため、原料チューブの内周面へのダメージを抑制できる。その結果、原料チューブの内周面に平滑な金属膜を成膜できる。
また、本発明に係る製造方法により得られた医療用管状体は、内周面に薄い金属膜を有するため、体内に長期間留置された場合であっても、バクテリアの増殖を抑制し、内腔の閉塞を防止できる。
また、本発明に係るスパッタリング装置によれば、原料チューブの内周面に薄く均一な金属膜を成膜できる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】図１は、本発明におけるスパッタリング工程を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
図１に示すように、スパッタターゲット２０は、スパッタリング装置のスパッタターゲット保持部材２１に保持された状態で、原料チューブ１０の内腔の遠位端側に配置される。スパッタターゲット保持部材２１は、駆動制御部２２に接続され、駆動制御部２２の駆動制御によって、原料チューブ１０の内腔を軸方向に移動可能に構成されている。したがって、スパッタターゲット２０も原料チューブ１０の内腔を軸方向に移動可能である。
【００２４】
駆動制御部２２としては、モーター、その他のアクチュエータ等が挙げられる。原料チューブ１０の内周面に金属膜１１を形成するスパッタリング工程において、駆動制御部２２は、スパッタターゲット保持部材２１を原料チューブ１０の近位端側に移動させる。
【００２５】
また、スパッタリング装置は、図１に示すように、スパッタターゲット２０の近位端側にイオンビーム源３０を有する。つまり、イオンビーム源３０は、スパッタターゲット２０に対して、原料チューブ１０の近位端側に配置される。
不活性ガス４１を供給するガス供給源４０を配置する位置は特に限定されない。
イオンビーム源３０とガス供給源４０は、原料チューブ１０の内腔に不活性ガス４１を導入し、スパッタターゲット２０にイオンビーム３１を照射することができれば、原料チューブの内腔に配置されてもよいし、原料チューブの外に配置されてもよい。
【００２６】
以下において、本発明の実施形態に係る医療用管状体の製造方法における各工程を説明する。
なお、「原料チューブの内腔の遠位端側に、前記原料チューブの内腔を軸方向に移動可能なスパッタターゲットを配置する工程」を工程（１）と、「前記スパッタターゲットの近位端側にイオンビーム源を配置する工程」を工程（２）と、「前記原料チューブの内腔に不活性ガスを導入する工程」を工程（３）と、「前記スパッタターゲットを、前記原料チューブの内腔で近位端方向に前記原料チューブに対して相対的に移動させつつ、前記イオンビーム源から前記スパッタターゲットに向けてイオンビームを照射し、前記原料チューブの内周面に金属膜を形成するスパッタリング工程」を工程（４）と記載することがある。
【００２７】
工程（１）
工程（１）では、原料チューブ１０の内腔の遠位端側に、原料チューブ１０の内腔を軸方向に移動可能なスパッタターゲット２０を配置する。
【００２８】
原料チューブ１０の材質は特に限定されず、ドレナージチューブやカテーテル等で用いられる公知の材料を用いることができる。また、原料チューブ１０として、ベアーステントを樹脂膜でカバーしたカバードステントを用いることもできる。
【００２９】
本実施形態に係る製造方法は、長尺で、且つ、内径の小さい原料チューブ１０の内周面に、薄く、均一な金属膜１１を形成することに適している。このような観点から、原料チューブ１０の内径は、好ましくは１５ｍｍ以下、より好ましくは０．５〜１５ｍｍ、さらに好ましくは０．５〜１０ｍｍ、特に好ましくは０．５〜３ｍｍである。原料チューブ１０の長さは、好ましくは５ｃｍ以上、より好ましくは２０ｃｍ以上である。原料チューブ１０の長さの上限は、スパッタリング工程を行うための真空チャンバー内に原料チューブ１０を収納できれば特に限定されず、通常３０ｃｍ程度である。
【００３０】
本実施形態においては、原料チューブ１０の内周面に金属膜１１を形成するため、スパッタターゲット２０は金属材料で構成される。スパッタターゲット２０を構成する金属材料は銅、銀、金、鉛、白金、ニッケル、アルミ、スズ、亜鉛およびチタンから選択される少なくとも一つであることが好ましい。これらの中でも、人体に対して安全であり、耐腐食性が高く、変質するおそれが少ないという観点から、金、銀及び白金等の貴金属から選択される少なくとも一種であることがより好ましい。また、これらの中でも、銀イオンはバクテリア等に対して強い殺菌力を示すことから、銀が特に好ましい。
【００３１】
スパッタターゲット２０の形状は、原料チューブ１０の内腔に配置できるものであれば特に限定されない。例えば、スパッタターゲット２０の形状は、スパッタターゲット２０を原料チューブ１０の軸方向に対して垂直な面で切断した断面積が、原料チューブ１０の近位端側に向けて小さくなる形状とすることが好ましい。また、スパッタターゲット２０の形状は、原料チューブ１０の軸に対して対称形であることが好ましい。このような形状の具体例としては、例えば、円錐形状や弾丸形状等が挙げられる。また、スパッタターゲット２０は原料チューブ１０と同心円状に配置されることが好ましい。スパッタターゲット２０が原料チューブ１０と同心円状に配置される場合、スパッタターゲット２０の頂点は原料チューブ１０の軸上に位置する。上記形状のスパッタターゲット２０を原料チューブ１０の内腔に配置し、後述するスパッタリング工程を行うことで、原料チューブ１０の内周面に、薄く、均一で、平滑な金属膜１１を形成できる。
【００３２】
薄く、均一で、平滑な金属膜を形成するという観点から、スパッタターゲット２０の形状は、円錐形状が特に好ましい。円錐の頂角は、好ましくは２０〜１４０°、より好ましくは６０〜１００°である。円錐の頂角とは、円錐を展開した扇形状の中心角をいう。
【００３３】
また、スパッタターゲット２０は、原料チューブ１０の周方向に回転可能であることが好ましい。スパッタターゲット２０を原料チューブ１０の周方向に回転可能とすることで、原料チューブ１０の内周面により均一な金属膜１１を形成することができる。
【００３４】
工程（２）
工程（２）では、スパッタターゲット２０の近位端側に、イオンビーム源３０を配置する。つまり、イオンビーム源３０は、スパッタターゲット２０に対して、原料チューブ１０の近位端側に配置される。イオンビーム源３０は、原料チューブ１０の内腔に配置されたスパッタターゲット２０にイオンビーム３１を照射することができれば、原料チューブ１０の内腔に配置されてもよいし、原料チューブ１０の外に配置されてもよい。スパッタターゲット２０に対してイオンビーム３１を照射しやすいという観点から、図１に示すように、イオンビーム源３０は、原料チューブ１０の内腔で近位端側に配置されることが好ましい。
【００３５】
イオンビーム源３０の形状は特に限定されず、例えば、イオンビーム源３０を原料チューブ１０の内腔に配置する場合には、原料チューブ１０の内径や長さに合わせて従来公知のイオンビーム源から選択する。
また、イオンビーム源３０は駆動制御部に接続されていてもよい。この場合、イオンビーム源３０は原料チューブ１０に対して軸方向に相対的に移動可能となる。なお、イオンビーム源が接続される駆動制御部は、スパッタターゲット保持部材２１に接続される駆動制御部２２と同じでもよいし、スパッタリング装置に別の駆動制御部を設けてもよい。
【００３６】
工程（３）
工程（３）では、原料チューブ１０の内腔に不活性ガス４１を導入する。不活性ガスの導入方法は特に限定されない。不活性ガス４１はガス供給源４０により供給される。
例えば、スパッタリング工程を行うための真空チャンバー内に原料チューブ１０を配置し、ガス供給源４０により不活性ガス４１を真空チャンバー内に供給すれば、原料チューブ１０の内腔に不活性ガス４１が導入される。また、原料チューブ１０の内腔にガス供給源４０を配置してもよい。原料チューブ１０の内腔に不活性ガス４１を導入しやすく、後述するスパッタリング工程を行いやすいという観点から、図１に示すように、ガス供給手段４０は、原料チューブ１０の内腔で近位端側に配置されることが好ましい。
【００３７】
ガス供給源４０の形状は特に限定されず、例えば、ガス供給源４０を原料チューブ１０の内腔に配置する場合には、原料チューブ１０の内径や長さに合わせて従来公知のガス供給源から選択する。
また、ガス供給源４０は駆動制御部に接続されていてもよい。この場合、ガス供給源４０は原料チューブ１０に対して軸方向に相対的に移動可能となる。なお、ガス供給源が接続される駆動制御部は、スパッタターゲット保持部材２１に接続される駆動制御部２２やイオン供給源に接続される駆動制御部と同じでもよいし、スパッタリング装置に別の駆動制御部を設けてもよい。
【００３８】
不活性ガス４１は特に限定されず、例えば、ヘリウムガス、アルゴンガス、クリプトンガスまたはキセノンガスを用いることができる。後述するスパッタリング工程において不活性ガスはイオン化され、不活性ガスのイオンからそのイオンビーム３１が生成される。不活性ガスのイオンはスパッタターゲット２０や原料チューブ１０に対する反応性が実質的にないため、スパッタターゲット２０を構成する金属材料の粒子（原子または分子）を効率よく弾き出すことができ、原料チューブ１０の内周面に、安定して緻密で強い金属膜１１を成膜できる。
なお、本実施形態においては、窒素や酸素などの反応性ガスを使用することは好ましくない。スパッタリング工程において、例えば窒素ガスを用いると、原料チューブの内周面が窒化物で被覆されることになる。内周面が窒化物により被覆された医療用管状体を体内に留置した時に、窒化物が医療用管状体の内周面から剥離し、人体内に取り込まれると、人体に悪影響を及ぼすおそれがある。
【００３９】
なお、上述した工程（１）〜工程（３）の順序は特に限定されない。工程（１）〜工程（３）を同時に行うこともできる。
【００４０】
工程（４）
工程（４）のスパッタリング工程では、図１に示すように、スパッタターゲット２０を、原料チューブ１０の内腔で近位端方向に原料チューブ１０に対して相対的に移動させつつ、イオンビーム源３０からスパッタターゲット２０に向けてイオンビーム３１を照射し、原料チューブ１０の内周面に金属膜１１を形成する。なお、工程（４）は、工程（１）〜工程（３）の後に行われることが好ましい。
【００４１】
ガス供給源４０から供給された不活性ガス４１は、スパッタリング工程においてイオン化される。そして、イオン化された不活性ガスからイオンビーム３１が生成され、イオンビーム３１はスパッタターゲット２０に向けてイオンビーム源３０から発射される。イオンビーム３１がスパッタターゲット２０に衝突すると、スパッタターゲット２０を構成する金属材料の粒子（原子または分子）が弾き出され、原料チューブ１０の内周面に付着・堆積し、内周面が金属材料の粒子により被覆される。
【００４２】
スパッタリング工程において、原料チューブ１０の内腔の遠位端側に配置されたスパッタターゲット２０は、スパッタターゲット保持部材２１に保持された状態で、原料チューブ１０の内腔を軸方向の近位端側に、原料チューブ１０に対して相対的に移動する。つまり、図１に示すように、原料チューブ１０の軸方向に移動可能なスパッタターゲット２０が、固定された原料チューブ１０に対して、その内腔を軸方向の近位端側に移動する。また、固定されたスパッタターゲット２０に対して原料チューブ１０がスパッタターゲット２０の遠位端側に移動してもよい。
【００４３】
原料チューブ１０の内腔の遠位端側に配置されたスパッタターゲット２０を、原料チューブ１０の内腔の近位端方向に原料チューブ１０に対して相対的に移動させながら、イオンビーム源３０からスパッタターゲット２０に向けてイオンビーム３１を照射しスパッタリング工程を行うことで、原料チューブ１０の内周面に、薄く、均一で、平滑な金属膜１１を形成できる。
なお、イオンビーム源を原料チューブの内腔でスパッタターゲットと共に、原料チューブの遠位端方向に原料チューブに対して相対的に移動させることもできる。つまり、イオンビーム源とスパッタターゲットとの距離を一定にして、イオンビーム源とスパッタターゲットの両方を原料チューブの遠位端方向に原料チューブに対して相対的に移動させてもよい。
【００４４】
一方、スパッタターゲットを原料チューブの近位端側から遠位端側に原料チューブに対して相対的に移動させると、イオンビーム源とスパッタターゲットとの距離が大きくなるに従い、内周面に付着する金属粒子の量が低下し、均一な金属膜を形成することが困難になる。ここで、内周面に付着する金属粒子の量を多くするために、イオンビーム源とスパッタターゲットとの距離が大きくなるに従い、イオンビームのエネルギーを高くする方法やスパッタターゲットの移動速度を小さくする方法が考えられる。しかし、イオンビームのエネルギーを高くする方法では、原料チューブの内周面へのイオンビームによるダメージが大きくなり、原料チューブの内周面に凹凸が形成されるおそれがある。その結果、平滑な金属膜を形成することが困難になる。また、スパッタターゲットの移動速度を小さくする方法では、医療用管状体の生産性が低下し、製造コストの増大につながる。
【００４５】
また、スパッタリング工程において、イオンビーム源３０は、原料チューブ１０の近位端側に固定された構成とすることが好ましい。
この場合、例えば図１に示すように、イオンビーム源３０を原料チューブ１０の内腔の近位端側に固定し、イオンビーム源３０とスパッタターゲット２０との距離が徐々に小さくなるようにスパッタターゲット２０を原料チューブ１０の近位端側に移動させてスパッタリング工程を行う。
【００４６】
このような構成におけるスパッタターゲット２０の移動速度は特に限定されない。原料チューブ１０の遠位端側から近位端側までスパッタターゲット２０の移動速度を一定にしてもよいし、スパッタターゲット２０が原料チューブ１０の近位端側に移動するに従ってスパッタターゲット２０の移動速度を大きくしてもよい。イオンビーム源３０とスパッタターゲット２０との距離に応じて、原料チューブ１０の内周面にダメージを与えない範囲で、イオンビーム３１のエネルギーを制御することで、原料チューブ１０の内周面に薄く、均一で平滑な金属膜１１を形成することができる。
医療用管状体の生産性を向上させる観点からは、スパッタターゲット２０が原料チューブ１０の近位端側に移動するに従ってスパッタターゲット２０の移動速度を大きくすることが好ましい。
また、製造工程の容易さや、原料チューブ１０の内周面に付着・堆積する金属材料の粒子の量を制御しやすいという観点からは、原料チューブ１０の遠位端側から近位端側までスパッタターゲット２０の移動速度を一定にすることが好ましい。
【００４７】
また、スパッタリング工程において、イオンビーム源３０は、原料チューブ１０の内腔で、スパッタターゲット２０と共に、原料チューブ１０の近位端方向に原料チューブ１０に対して相対的に移動する構成としてもよい。
このような構成におけるイオンビーム源３０の移動速度とスパッタターゲット２０の移動速度は特に限定されない。医療用管状体の内周面に薄く、均一で平滑な金属膜１１を形成する観点、及び製造工程を容易にする観点からは、イオンビーム源３０の移動速度とスパッタターゲット２０の移動速度とを同じにすることが好ましい。イオンビーム源３０の移動速度とスパッタターゲット２０の移動速度とを同じにすることで、イオンビーム源３０とスパッタターゲット２０との距離が一定に保たれ、イオンビーム３１のエネルギーを一定にしたままスパッタリング工程を行うことができる。その結果、簡便に、原料チューブ１０の内周面に薄く、均一で平滑な金属膜１１を形成することができる。
なお、イオンビーム源３０の移動速度とスパッタターゲット２０の移動速度とを変える場合には、イオンビーム源３０とスパッタターゲット２０との距離に応じて、原料チューブ１０の内周面にダメージを与えない範囲で、イオンビーム３１のエネルギーを制御する。このようにすることで、原料チューブ１０の内周面に薄く、均一で平滑な金属膜１１を形成することができる。
【００４８】
なお、スパッタターゲット２０やイオンビーム源３０の移動速度は原料チューブ１０の内径及び長さに応じて適宜設定することができる。
【００４９】
本実施形態に係る医療用管状体の内周面に成膜される金属膜１１の厚みは、薄く且つ均一である。医療用管状体の内周面に成膜された金属膜１１の厚みは、好ましくは６０〜１０００ｎｍ、より好ましくは１００〜５００ｎｍ、さらに好ましくは１５０〜３００ｎｍである。金属膜１１の厚みを上記範囲とすることで、医療用管状体の製造コストを低減できる。また、医療用管状体を湾曲させても金属膜１１の割れや剥離を防止できる。
金属膜１１の厚みは、医療用管状体の周方向の断面における任意の５点の膜厚、及び、医療用管状体の軸断面における任意の５点の膜厚を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて測定し、その平均値とする。なお、医療用管状体の軸断面における任意の各点同士は、少なくとも２０ｍｍ離間する。
【００５０】
金属膜１１の表面粗さＲａは、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０４μｍ以下、さらに好ましくは０．０１μｍ以下である。金属膜１１の表面粗さＲａを上記範囲とすることで、内周面におけるバクテリアの付着がより抑制され、内腔の閉塞を防止できる。
金属膜１１の表面粗さＲａは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１（２０１３年）に準拠して、例えばナノスケールハイブリッド顕微鏡（ＶＮ−８０１０、キーエンス社製）を用いて、粗さ曲線を描き、以下に示す式（１）より算出できる。式（１）において、Ｌは測定長さ、ｘは平均線から測定曲線までの偏差である。
【数１】
2018159106.tif 000003
【００５１】
また、本実施形態におけるスパッタリング工程においては、原料チューブ１０を重力方向に沿って配置し、重力方向の上部側を前記原料チューブ１０の遠位端側、重力方向の下側を前記原料チューブ１０の近位端側とする、いわゆるスパッタダウン方式を採用することが好ましい。このようにすることで、原料チューブ１０の内周面に金属材料を付着・堆積させやすくなる。
【００５２】
また、本実施形態におけるスパッタリング工程においては、対向スパッタ法を採用することが好ましい。対向スパッタ法とは、原料チューブ１０の内腔の遠位端側に配置されるスパッタターゲット２０に対向するように、原料チューブの近位端側に別のスパッタターゲット（図示しない）を配置し、スパッタリング工程を行う方法をいう。対向スパッタ法によれば、二つのスパッタターゲットの間に垂直な直流磁界が印加されるため、イオンビームに直進性が付与される。その結果、スパッタターゲットを構成する金属材料が効率よく弾き出されるため、原料チューブの内周面を短時間で金属被覆できる。したがって、医療用管状体の生産性がより向上する。
【００５３】
なお、対向スパッタ法に用いる、原料チューブ１０の近位端側に配置されるスパッタターゲット（上記「別のスパッタターゲット」）の材質、形状は特に限定されず、上述したスパッタターゲット２０と同様のものを用いることができる。また、別のスパッタターゲットは、原料チューブ１０の内腔の近位端側に配置しても、原料チューブ１０の外の近位端側に配置してもよい。
【００５４】
以下において、上記の製造方法で得られる医療用管状体としてドレナージチューブを例に挙げ、具体的に説明する。
【００５５】
本実施形態に係るドレナージチューブは、内径が０．５〜１０ｍｍであり、内周面が銀からなる金属膜により被覆され、金属膜の厚みは６０〜１０００ｎｍ、好ましくは１００〜５００ｎｍ、より好ましくは１５０〜３００ｎｍである。また、金属膜の表面粗さＲａは、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０４μｍ以下、さらに好ましくは０．０１μｍ以下である。金属膜の厚みや表面粗さＲａは上述した測定法により測定できる。このようなドレナージチューブによれば、体内に数か月留置された場合であっても、内腔におけるバクテリアの増殖が抑制され、内腔の閉塞を防止できる。
【００５６】
なお、本願発明に係るドレナージチューブの内周面に形成される金属膜の厚みは、原料チューブの厚みに対して小さいため、内周面に金属膜の形成されたドレナージチューブの内径と、原料チューブの内径とは実質的に同一である。
【００５７】
ドレナージチューブは、例えば胆管または膵管に挿入して留置され、胆汁などの体液を排出する際に用いられる。ドレナージチューブは可撓性のチューブである。また、ドレナージチューブは生体組織を貫通できるように柔軟で且つ強度のあるものであり、好適には、胆汁、膵液などの体液により変質しないものである。
【００５８】
ドレナージチューブは通常、樹脂から形成される。樹脂の具体例としては、ポリウレタン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリエステル、シリコーンゴム、天然ゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴムなどが挙げられる。なお、ドレナージチューブには、Ｘ線で留置場所を確認できるようにするために硫酸バリウム、酸化チタン、酸化ビスマス、硫化モリブデン等のＸ線不透過性物質（造影剤）を、チューブの表面に付着し又はチューブを構成する樹脂に混練して形成したものを使用することもできる。ドレナージチューブの外径は、好ましくは１．５〜１０ｍｍ、より好ましくは１．８〜９ｍｍである。ドレナージチューブの内径は、好ましくは０．５〜９．５ｍｍ、より好ましくは１〜８．５ｍｍである。
【００５９】
ドレナージチューブの端部には、通常、ドレナージチューブのルーメンと連結する末端孔または側孔が設けられている。側孔または末端孔の直径は、通常０．５〜２ｍｍである。側孔の数は、通常２〜１０個であり、末端孔の数は、通常１個である。
【００６０】
以上説明したドレナージチューブは、医療用管状体の一例である。本実施形態に係る製造方法により得られる医療用管状体としては、ドレナージチューブの他に、チューブステントやカバードステント等が挙げられる。
【符号の説明】
【００６１】
１０・・・原料チューブ
１１・・・金属膜
２０・・・スパッタターゲット
２１・・・スパッタターゲット保持部材
２２・・・駆動制御部
３０・・・イオンビーム源
３１・・・イオンビーム
４０・・・ガス供給源
４１・・・不活性ガス
【図１】
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