(57)【要約】【課題】粒界拡散処理において重希土類元素RHを磁石全体にできるだけ均等に侵入させることにより全体として均質な磁石を製造するとともに、重希土類元素RHを無駄に消費することなく磁石を製造することができるRFeB系磁石の製造方法を提供する。【解決手段】本発明に係るRFeB系磁石の製造方法は、希土類元素R、Fe及びBを含有するRFeB系焼結磁石又はRFeB系熱間塑性加工磁石から成る基材１１の表面に、Dy, Tb及びHoのうちの少なくとも1種から成る重希土類元素RHを含有するRH含有粉末１２１と有機溶剤１２２を混合したRH含有スラリー１２を点状又は線状に吹き付けることによりRH含有物１３を付着させるRH含有物付着工程と、RH含有物１３を付着させた基材１１を、RH含有物１３内の重希土類元素RHが基材１１の粒界を通して基材１１内に拡散する所定温度に加熱する加熱工程とを有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
希土類元素R、Fe及びBを含有するRFeB系焼結磁石又はRFeB系熱間塑性加工磁石から成る基材の表面に、Dy, Tb及びHoのうちの少なくとも1種から成る重希土類元素RHを含有するRH含有粉末と有機溶剤を混合したRH含有スラリーを点状又は線状に吹き付けることによりRH含有物を付着させるRH含有物付着工程と、
前記RH含有物を付着させた前記基材を、該RH含有物内の重希土類元素RHが該基材の粒界を通して該基材内に拡散する所定温度に加熱する加熱工程と
を有することを特徴とするRFeB系磁石の製造方法。
【請求項２】
前記基材表面に点状又は線状の複数個の前記RH含有物を互いに分離した状態で付着させることを特徴とする請求項１に記載のRFeB系磁石の製造方法。
【請求項３】
前記RH含有物を付着させた前記基材表面のうち前記RH含有物が占める面積の割合である面積率が31.4％以上であることを特徴とする請求項１又は２に記載のRFeB系磁石の製造方法。
【請求項４】
前記基材表面に前記RH含有物を点状に付着させることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のRFeB系磁石の製造方法。
【請求項５】
前記基材表面に付着させた点状の前記RH含有物が直線状に並ぶことを特徴とする請求項４に記載のRFeB系磁石の製造方法。
【請求項６】
前記RH含有物を付着させる基材表面が曲面であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のRFeB系磁石の製造方法。
【請求項７】
前記曲面が凹面であることを特徴とする請求項６に記載のRFeB系磁石の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、R（希土類元素）、Fe（鉄）及びB（硼素）を含有するRFeB系磁石の製造方法に関する。特に、RFeB系合金の粉末から成る原料粉末を磁界中で配向した後に焼結したRFeB系焼結磁石や、同様の原料粉末に対して熱間プレス加工を行った後に熱間塑性加工を行うことで結晶粒を配向したRFeB系熱間塑性加工磁石（非特許文献１参照）内の結晶粒の表面付近に、該結晶粒の粒界を通して、Dy（ジスプロシウム）, Tb（テルビウム）及びHo（ホルミウム）のうちの少なくとも1種の希土類元素（以下、Dy, Tb及びHoを「重希土類元素RH」と呼ぶ）を拡散させる処理（粒界拡散処理）を伴うRFeB系磁石の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
RFeB系磁石は、1982年に佐川眞人らによって見出されたものであり、残留磁束密度等の多くの磁気特性がそれまでの永久磁石よりもはるかに高いという特長を有する。そのため、RFeB系磁石はハイブリッド自動車や電気自動車の駆動用モータ、電動補助型自転車用モータ、産業用モータ、ハードディスク等のボイスコイルモータ、スピーカー、ヘッドホン、永久磁石式磁気共鳴診断装置等、様々な製品に使用されている。
【０００３】
初期のRFeB系磁石は種々の磁気特性のうち保磁力HcJが比較的低いという欠点を有していたが、その後、RFeB系磁石の内部に重希土類元素RHを存在させることにより、保磁力が向上することが明らかになった。保磁力は磁化の向きとは逆向きの磁界が磁石に印加されたときに磁化が反転することに耐える力であるが、重希土類元素RHはこの磁化反転を妨げることにより、保磁力を増大させる効果を持つと考えられている。
【０００４】
一方、RFeB系磁石中の重希土類元素RHの含有量が増加すると、残留磁束密度Brが低下し、それにより最大エネルギー積(BH)maxも低下する、という問題が生じる。また、重希土類元素RHが資源として高価・希少であり、且つ産出される地域が偏在していることから、RFeB系磁石を安価且つ安定的に市場に供給するという点からも、重希土類元素RHの含有量を増加させることは望ましくない。
【０００５】
そこで、重希土類元素RHの含有量を抑えつつ、保磁力を高くするために、粒界拡散処理が行われている（例えば特許文献１参照）。粒界拡散処理では、重希土類元素RHを含有するRH含有物をRFeB系焼結磁石又はRFeB系熱間塑性加工磁石の表面に付着させたうえで加熱することにより、粒界を通して重希土類元素RHを磁石の内部まで侵入させ、各結晶粒の表面近傍のみに重希土類元素RHを拡散させる。以下、粒界拡散処理を行う前のRFeB系焼結磁石又はRFeB系熱間塑性加工磁石を「基材」と呼ぶ。保磁力の低下は、磁化反転が結晶粒の表面近傍で生じた後に結晶粒全体に拡がってゆくことで生じることから、このように結晶粒の表面近傍における重希土類元素RHの濃度を高くすることによって磁化反転を抑え、保磁力を高くすることができる。一方、重希土類元素RHは各結晶粒の表面（粒界）近傍のみに偏在するため、全体としての含有量を抑えることができ、それにより残留磁束密度及び最大エネルギー積の低下を防ぐことができると共に、RFeB系磁石を安価且つ安定的に市場に供給することができる。
【０００６】
粒界拡散処理を行う際に基材表面にRH含有物を付着させる方法には様々なものがある。例えば特許文献１には、重希土類元素RHを含有する粉末と有機溶剤の混合物から成るRH含有スラリーをノズルから基材表面に向けて吐出することにより、基材表面にRH含有物を付着させることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開2015-065218号公報
【特許文献２】特開2006-019521号公報
【特許文献３】国際公開WO2011/136223号
【非特許文献】
【０００８】
【非特許文献１】日置敬子、服部篤  著、「超急冷粉末を原料とした省Dy型Nd−Fe−B系熱間加工磁石の開発」、素形材  第52巻第8号第19〜24頁、一般財団法人素形材センター、平成23年8月発行
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
特許文献１では、必要な量を超えて無駄に重希土類元素RHを消費しないために、基材表面に対向して多数のノズルを配置することにより、必要以上に厚い部分が生じることなく均一にRH含有物を基材表面に付着させることが望ましい、とされている。しかしながら、実際には、各ノズルから同じ速度（単位時間当たりの供給量）でRH含有物を吐出させることは難しく、ノズル毎にRH含有物の供給量にばらつきが生じてしまうため、部分的には必要以上に多くのRH含有物が付着する。その結果、その部分においては粒界近傍のみならず結晶粒内にもRHが侵入し、磁気特性を低下させる。従って、磁石全体として均一な磁気特性が得られないことになる。また、重希土類元素RHを無駄に消費してしまうことにもなる。
【００１０】
本発明が解決しようとする課題は、粒界拡散処理において重希土類元素RHを基材（磁石）全体にできるだけ均等に侵入させることにより全体として均質な磁石を製造するとともに、重希土類元素RHを無駄に消費することなく磁石を製造することができるRFeB系磁石の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するために成された本発明に係るRFeB系磁石の製造方法は、
希土類元素R、Fe及びBを含有するRFeB系焼結磁石又はRFeB系熱間塑性加工磁石から成る基材の表面に、Dy, Tb及びHoのうちの少なくとも1種から成る重希土類元素RHを含有するRH含有粉末と有機溶剤を混合したRH含有スラリーを点状又は線状に吹き付けることによりRH含有物を付着させるRH含有物付着工程と、
前記RH含有物を付着させた前記基材を、該RH含有物内の重希土類元素RHが該基材の粒界を通して該基材内に拡散する所定温度に加熱する加熱工程と
を有することを特徴とする。
【００１２】
本発明に係るRFeB系磁石の製造方法では、RH含有スラリーを基材表面に点状又は線状に吹き付けることにより、基材表面にはRH含有スラリーから成るRH含有物が点状又は線状の形状で付着する。基材表面に付着した点状又は線状のRH含有物同士は互いに分離していて（RH含有物間にRH含有物が付着していない部分があって）もよいし、点状又は線状のRH含有物同士が繋がって点状又は線状の濃淡模様（点状又は線状の部分の間にRH含有スラリーの量が少ない部分が存在する状態）を形成していてもよい。重希土類元素RHの使用量を抑えるという点で、RH含有物同士は互いに分離している方が望ましい。
【００１３】
RFeB系焼結磁石及びRFeB系熱間塑性加工磁石は、R、Fe及びBを主な構成元素として含有するが、Co, Ni, Al, Cu等の他の元素を含有していてもよい。
【００１４】
本発明者が実験を行ったところ、RH含有スラリーを基材表面の全体ではなく、点状又は線状に吹き付けることでRH含有物を基材表面に付着させたうえで粒界拡散処理を行ったRFeB系磁石の保磁力は、粒界拡散処理前の基材の保磁力よりも高くなった。これは、加熱工程において、基材表面に点状又は線状に付着させたRH含有物から重希土類元素RHが基材表面に平行な方向にも拡散してゆくことによる。これにより、基材よりも保磁力を高くしつつ、必要以上に多くのRH含有スラリーを使用することがないため、重希土類元素RHを無駄に消費することを防ぐことができる。
【００１５】
また、本発明者の実験によれば、前記RH含有物を付着させた前記基材表面のうち前記RH含有物が占める面積の割合である面積率を31.4％以上とすることにより、基材表面の全体にRH含有物を付着させた場合と同等の保磁力を得ることができる。これは、面積率をこのような値にすることにより、基材表面に平行な方向の全体に（RH含有物が付着していないところにも）重希土類元素RHが行き亘り、基材表面の全体にRH含有物を付着させた場合と同等の効果が得られることによると考えられる。なお、RH含有物を点状又は線状に付着させる領域は、基材の全ての表面である必要はなく、例えば板状（直方体状）の基材では、1つの表面又は対向する2つの表面にのみRH含有物を付着させることが従来より一般的に行われている。このような場合、1つ又は2つの表面にRH含有物を点状又は線状に31.4％以上の面積率で付着させた場合には、それら1つ又は2つの表面の全体にRH含有物を付着させた場合と同等の効果が得られる。
【００１６】
基材表面におけるRH含有物の付着形態は、重希土類元素RHの使用量をより一層抑えることができるという点で、線状よりも点状の方が望ましい。
【００１７】
RH含有物を点状に付着させる場合、それら点状のRH含有物が直線状に並ぶようにすることが望ましい。このようなRH含有物の配置は、基板表面に対向するノズルを該表面に対して相対的に該表面に平行に直線状に移動させながら、該ノズルからRH含有スラリーを間歇的に吐出することにより、容易に形成することができる。
【００１８】
特許文献３には、スクリーン印刷の手法を用いてRH含有スラリーを基材表面に塗布することが記載されている。この方法では、スクリーンを基材表面上に張設し、スクリーン上にRH含有スラリーを供給したうえで、スクリーン表面をスキージで擦ることにより、スクリーン中のRH含有スラリーが透過可能な透過部を通して該RH含有スラリーを基材表面に塗布する。しかし、この特許文献３の方法は、基材の表面が平面である場合を前提としており、曲面である基材の表面にRH含有スラリーを塗布することは困難である。それに対して本発明に係るRFeB系磁石の製造方法では、RH含有スラリーを点状又は線状に吹き付けることにより、基板の表面が平面、曲面のいずれの場合であっても該表面にRH含有物を付着させることができる。特に、本発明に係るRFeB系磁石の製造方法は、特許文献３の方法では塗布が困難であった基材表面が曲面である場合に好適にRH含有物を付着させることができる。RH含有物を付着させる曲面は、凸面、凹面のいずれであってもよい。基材の表面が凸面と凹面の双方を有する場合には、それら双方にRH含有物を付着させてもよいし、いずれか一方のみにRH含有物を付着させてもよい。
【発明の効果】
【００１９】
本発明に係るRFeB系磁石の製造方法によれば、粒界拡散処理において重希土類元素RHを基材（磁石）全体にできるだけ均等に侵入させることにより全体として均質な磁石を製造するとともに、重希土類元素RHを無駄に消費することなく磁石を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明に係るRFeB系磁石の製造方法の一実施形態を示す概略図。
【図２】本発明に係るRFeB系磁石の製造方法の実施形態において用いるRH含有スラリー供給装置の概略構成図。
【図３】RH含有物を基材の表面に配置するパターンの例を示す上面図。
【図４】RH含有物を基材の表面に配置するパターンの例を示す上面図。
【図５】基材の表面にRH含有物を付着させた例を示す写真。
【図６】実施例９で用いた、RH含有物を基材の表面に配置するパターンを示す上面図。
【図７】実施例９において基材の(a)凸面及び(b)凹面にRH含有物を付着させた状態を示す写真。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
図１〜図７を用いて、本発明に係るRFeB系磁石の製造方法の実施形態を説明する。
図１は、本実施形態のRFeB系磁石の製造方法の工程を示す概略図である。まず、公知の方法により、RFeB系焼結磁石又はRFeB系熱間塑性加工磁石から成る基材１１を用意する(a)。RFeB系焼結磁石は、原料のRFeB系合金粉末を磁界により配向させながらプレス成形を行った後に焼結するプレス法で作製してもよいし、特許文献２に記載のようにRFeB系合金粉末をプレス成形することなくモールド中で磁界により配向させたうえでそのまま焼結するPLP（Press-less process）法で作製してもよい。RFeB系熱間塑性加工磁石は、非特許文献１に記載の方法で作製することができる。基材１１の形状は、図１に示すように、直方体状（符号１１１）、全体が弓形状のもの（符号１１２）、直方体の１つの面のみを上に凸の弓形状の曲面に変更した形状を有するもの（符号１１３、以下では「１面弓形形状」と呼ぶ）等、種々の形状を取り得る。符号１１２及び１１３を付した基材のように曲面を有する形状の基材は、それらの形状に対応したモールドを用いてPLP法により作製することにより、それらの形状を形成するための機械加工を行う必要がない（表面の仕上げ加工のみで済む）という点で望ましい。
【００２２】
次に、RH含有スラリー１２を用意する(b)。RH含有スラリーは、重希土類元素RHを含有するRH合金粉末１２１と、有機溶剤１２２を混合することにより作製する。RH合金粉末１２１には、後述の実施例ではTb、Ni及びAlを質量比で92:4:4で含有するTbNiAl合金の粉末を用いた。ここでTbの代わりにDy又はHoを用いてもよいし、Dy, Tb及びHoのうちの2種以上を用いてもよい。また、Ni及びAlは合金の融点を低下させる役割を有するが本発明では必須ではない。従って、RH合金粉末１２１には、重希土類元素RHのみから成る金属や、Ni及び/又はAl以外の元素を含有するものを用いてもよい。有機溶剤１２２では、後述の実施例では粘性の異なる2種類のシリコーン（いわゆるシリコーングリースとシリコーンオイル）を混合して粘性を調整したものを用いた。有機溶剤１２２の粘性は、RH含有スラリー１２が、次に述べるノズル２１から射出可能であって、且つ基材１１の表面に点状又は線状に吹き付けた際に隣接する点又は線同士が結合するように該表面上を流れることが無いように調整した。また、シリコーン以外の有機溶剤を用いてもよい。
【００２３】
次に、図２に示すRH含有スラリー供給装置２０により、RH含有スラリー１２を基材１１の表面に点状又は線状に吹き付ける（図１(c)）。RH含有スラリー供給装置２０は、1本のノズル２１と、RH含有スラリーを貯留する貯留タンク２２と、RH含有スラリー１２を貯留タンク２２から吸引して間欠的にノズル２１に送出するRH含有スラリー送出装置２３と、ノズル２１に対向するように基材１１を保持する基材保持部２４と、ノズル２１と基材保持部２４の水平方向の相対的な位置を移動させる移動部２５とを備える。
【００２４】
RH含有スラリー送出装置２３は空気式又は電磁ソレノイド式アクチュエータを有しており、RH含有スラリー送出装置２３のコントローラからアクチュエータに信号が送信されたときに、弁要素又はピストンが移動することで、RH含有スラリーをノズル２１に押し出す。なお、アクチュエータには、ピエゾ素子（圧電素子）を用いることもできる。これらの例はいずれもRH含有スラリー１２を基材１１の表面に点状に吹き付けるものであるが、例えばRH含有スラリー送出装置２３として弁を開放することによってRH含有スラリーをノズル２１から連続的に送出するものを用いることにより、RH含有スラリー１２を基材１１の表面に線状に吹き付けることもできる。
【００２５】
移動部２５は、本実施形態では基材保持部２４を移動させるものを用いるが、ノズル２１を移動させるものや、ノズル２１と基材保持部２４の双方を移動させるものであってもよい。以下では、「ノズル２１を移動させる」との記載は、基材保持部２４に保持された基材１１に対する相対的なノズル２１の位置を移動させることを意味し、ノズル２１と基材保持部２４のいずれを移動させる場合も含むものとする。ここで例示した移動部２５は、基材保持部２４を水平な１方向であるＸ方向と、水平であってＸ方向に垂直なＹ方向の２方向に移動させる機構を有しており、それにより、基材保持部２４を所定の平面状の範囲内で任意の位置に移動させることができる。
【００２６】
RH含有スラリー１２を付着させる基材１１の表面は、平面であってもよいし、曲面であってもよい。
【００２７】
基材１１の表面に吹き付けたRH含有スラリー１２は、有機溶剤１２２が揮発性のものであれば該有機溶剤１２２が蒸発して固体状のものが基材１１の表面に残り、有機溶剤１２２が不揮発性のものであればRH含有スラリーのまま基材１１の表面に残る。いずれにせよ、基材１１の表面には重希土類元素RHを含有するRH含有物１３が点状又は線状に付着した状態となる。RH含有スラリーを基材１１の表面に点状又は線状に吹き付ける際に、点又は線同士をある程度離しておくと、基材１１の表面に付着したRH含有物１３の点又は線も互いに分離して、間隔が空いた状態で配置される。
【００２８】
このようにRH含有物１３が付着した基材１１を、RH含有物１３ごと、所定温度に加熱する(d)。この所定温度は、RH含有物１３内の重希土類元素RHが基材１１の粒界を通して基材１１内に拡散する温度であって、典型的には700〜1000℃である。このように重希土類元素RHを粒界を通して基材１１内に拡散させた後、必要に応じて時効処理（500℃程度の比較的低温で加熱する処理）や基材１１の表面に残留したRH含有物１３の残渣を除去するための研削処理、磁石の成形処理を行うことにより、最終製品であるRFeB系磁石が得られる。
【００２９】
図３及び図４に、RH含有物１３を基材１１の表面に配置するパターンの例を示す。図３はいずれも、RH含有物１３が平面視で円形である点状のものである例を示している。RH含有物１３は、図３(a)の例では正方格子状に配置されている。正方格子状の代わりに長方格子状にRH含有物１３を配置してもよい。このような配置は、図の縦方向又は横方向にノズル２１を移動させながらRH含有スラリー１２を間欠的に且つ周期的に基材１１の表面に吹き付けることによってRH含有物１３の列を1列分形成したうえで、列に垂直な方向にノズル２１を移動させ、同様の操作を繰り返すことにより形成することができる。一方、図３(b)の例では、RH含有物１３は、図の縦方向に等間隔に1列で並び、横方向で隣接する列同士では位置が1/2周期分だけずれるように設けられている。この配置を、以下では「千鳥状」の配置と呼ぶ。このような配置は、基本的には(a)と同様の方法で形成するが、2列目以降の列にRH含有スラリー１２を吹き付ける際に、位置を列方向に1/2周期ずらすことにより形成することができる。
【００３０】
図３(c)の例は(a)を変形したものであり、同一列内のRH含有物１３の間隔が列同士の間隔よりも短くなっている。このような配置は、線状の配置に近いが、同一列内でRH含有物１３間に隙間が存在することから、線状の場合よりも重希土類元素RHの使用量を少なくすることができる。図３(d)の例は、RH含有物１３を、縦方向及び横方向に3個並んでいる距離と同じ間隔で、図の縦方向及び横方向にそれぞれ列を形成したものである。これらの列の間隔は、RH含有物１３の3個分以外の大きさとしてもよい。
【００３１】
図３(e)の例は、RH含有物１３を無秩序（ランダム）に配置したものである。図３(f)の例では、点状のRH含有物１３が他の例よりも密に基材１１の表面に形成されており、RH含有物１３同士が接触している。
【００３２】
図４には、平面視で円形以外のRH含有物１３を用いる例を示す。図４(a)では正方形のRH含有物１３を示す。RH含有物１３は、ノズル２１の形状に応じて、正方形以外にも、長方形やその他の四角形、三角形や六角形等の四角形以外の多角形、楕円形等の種々の平面形状を取り得る。図４(b)の例では、RH含有物１３の平面視での形状は線状であり、該線状のRH含有物１３が平行に多数配置されている。
【００３３】
図５に、基材１１の表面にRH含有物１３を付着させた例を写真で示す。この例では、内径が0.12mmのノズル２１を使用した。使用したRH合金粉末１２１は前述のTb、Ni及びAlを質量比で92:4:4で含有するTbNiAl合金の粉末であって、有機溶剤１２２はシリコーングリースとシリコーンオイルを質量比で10:15で混合したものであり、RH含有スラリー１２はこれらRH合金粉末１２１と有機溶剤１２２を質量比で75:25で混合したものである。基材１１の表面に付着した多数のRH含有物１３は、いずれも径がほぼ同じであり、その径の値は0.68mmである。基材１１の表面全体では、単位面積当たり16mg/cm2のRH含有物１３を付着させた。基材１１の表面全体のうち、RH含有物１３が占める割合である面積率は31.4％である。
【００３４】
次に、本実施形態において複数の条件で作製した実施例及び参考例の試料につき、磁気特性を測定した結果を示す。この実験では、各試料は同一ロットで作製した同一の大きさを有する１面弓形形状（図１の符号１１３）の基材を用いて作製した。実施例の各試料では、基材の弓形の曲面に平面視で円形のRH含有物を点状に付着させた。参考例では、特許文献３に記載のスクリーン印刷法を用いて、弓形の曲面に対向する平面にRH含有スラリーを塗布することにより、該平面全体にRH含有物を均一に付着させた。なお、参考例で平面にRH含有スラリーを塗布したのは、スクリーン印刷法では曲面にRH含有スラリーを塗布することが困難であるためである。粒界拡散処理の際の加熱温度は900℃である。その他の作製条件は試料により相違するため、以下で説明する。
【００３５】
表１に、各試料につき、試料毎に異なる作製条件の内容、及び室温での磁気特性を示す。ここで表中のドット間隔c及び隙間dは、RH含有物１３の配置が正方格子状の場合には図３(a)に、千鳥状の場合には図３(b)に示すように、1個のRH含有物１３とそれに再隣接のRH含有物１３の間隔及び隙間（RH含有物１３が存在しない部分）の大きさで定義される。塗布量は、RH含有物１３を塗布した面の単位面積当たりの塗布量をいう。面積率は、RH含有物が付着した基材表面のうちRH含有物が占める面積の割合をいう。
【表１】
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【００３６】
この実験結果から、いずれの実施例においても、基材の保磁力13kOeよりも高い保磁力が得られているといえる。また、面積率が31.4％よりも大きい実施例１〜４、７、８では、参考例１よりも高い保磁力が得られていると共に、それら実施例よりも塗布量が多い参考例２と同等の保磁力が得られている。特に、実施例１〜４は、ドット間に隙間が設けられているにも関わらず、基材表面に均一にRH含有物１３を塗布した参考例と同等又はそれ以上の保磁力が得られている点が特筆される。
【００３７】
次に、全体の形状が弓形状である基材（図１(a)に符号１１２を付したもの）を用いた実施例９について説明する。実施例９では、弓形状の基材１１２が有する2つの曲面のうち、凸面１１２１と凹面１１２２（図１(a)参照）の双方に、平面視で図６に示すパターンとなるようにRH含有物１３を付着させた。このパターンでは、RH含有物１３のドットを図６の縦方向（y方向）に間隔c（ドット間の隙間d）で一列に配置し、このRH含有物１３のドットの列を図６の横方向（x方向）に間隔aで配置している。y方向のドットの基本的な位置は、隣接するドットの列の間で(c/8)だけずれている。従って、x方向に8周期分離れた列同士では、ドットはy方向の同じ位置に配置されている。但し、RH含有物１３のドットは、4列毎に（図６中に一点鎖線で示した列のみ）、前記基本的な位置からy方向に(c/2)ずれた位置に配置されている。これにより、基本的な位置のみにドットを配置した場合に形成されるx方向からarctan(1/8)（約7°）傾斜した方向に延びるドットの列を乱し、ドットが分散するように配置することができる。
【００３８】
実施例９では、ノズル２１の径は0.21mmとし、それにより、基材１１２の表面に形成されるRH含有物１３のドットの径を0.8mmとした。y方向のドットの間隔は2mm、y方向のドット間の隙間dは1.2mm、x方向に延びるドットの列の間隔aは0.6mmとした。基材１１２の表面におけるRH含有物１３の塗布量は16mg/cm2、基材１１２の表面のうちRH含有物１３が占める面積率は31.6％である。使用したRH含有物１３は実施例１〜８と同様である。
【００３９】
図７に、基材１１２の(a)凸面１１２１及び(b)凹面１１２２にRH含有物１３のドットを付着させた状態を写真で示す。このように凸面１１２１と凹面１１２２の双方にRH含有物１３のドットを付着させた後、実施例１〜８と同様に温度900℃に加熱することにより、実施例９の試料が得られた。得られた試料の磁気特性を測定したところ、残留磁束密度Brは13.9kG、保磁力Hcjは22.3kOeという、他の実施例と同程度の値が得られた。
【００４０】
なお、実施例９では弓形状である基材１１２の凸面１１２１と凹面１１２２の双方にRH含有物１３を付着させたが、凸面１１２１のみ、又は凹面１１２２のみにRH含有物１３を付着させてもよい。また、凸面１１２１や凹面１１２２に付着させるRH含有物１３のドットのパターンは図６に示した例には限られず、図３や図４に示した例などの種々の形態を取ることができる。あるいは、図６に示したRH含有物１３のドットのパターンを、平板状の基材や１面弓形形状の基材等、他の形状の基材に適用してもよい。さらには、図６に示したもの以外のパターンで、種々の形状の基材における凸面及び／又は凹面にRH含有物１３のドットを付着させることもできる。
【符号の説明】
【００４１】
１１、１１１、１１２、１１３…基材
１１２１…凸面
１１２２…凹面
１２…RH含有スラリー
１２１…RH合金粉末
１２２…有機溶剤
１３…RH含有物
２０…RH含有スラリー供給装置
２１…ノズル
２２…貯留タンク
２３…RH含有スラリー送出装置
２４…基材保持部
２５…移動部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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