(57)【要約】      （修正有）【課題】ユーザ満足度を高め、かつ使用時の違和感ないし不快感を軽減すること。【解決手段】眉描き補助マスク１００は、少なくとも裏側が特定ユーザの顔面の両眉、両眼及び鼻根を含む所定範囲の起伏に略一致した立体形状を有する本体部１と、少なくとも裏側が特定ユーザの顔面の両側のこめかみを含む所定範囲の起伏に略一致した立体形状を有しており、本体部の左右それぞれにおいて本体部から湾曲して設けられた側方部２を備える。本体部は、両眉に対応して配置される２つの第１開口部１１と、両眼に対応して配置される２つの第２開口部１２と、眉間位置決め部１３と、鼻根位置決め部１４と、２つの下瞼位置決め部１５を有し、側方部は、２つのこめかみ位置決め部２１を有する。【選択図】図１
2018117834.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
顔面に眉を描くために用いられる眉描き補助マスクであって、
少なくとも裏側が特定ユーザの顔面の両眉、両眼及び鼻根を含む所定範囲の起伏に略一致した立体形状を有する本体部と、
少なくとも裏側が前記特定ユーザの顔面の両側のこめかみを含む所定範囲の起伏に略一致した立体形状を有しており、前記本体部の左右それぞれにおいて当該本体部から湾曲して設けられた側方部と、
を含み、
前記本体部は、
予め前記特定ユーザによって選ばれる形状パターンに基づいた開口形状を有しており、前記特定ユーザの両眉に対応して配置される２つの第１開口部と、
前記特定ユーザの両眼に対応して配置される２つの第２開口部と、
前記２つの第１開口部の相互間に配置されており、前記特定ユーザの眉間を覆うための眉間位置決め部と、
前記２つの第２開口部の相互間かつ前記眉間位置決め部の下方に配置されており、前記特定ユーザの鼻全体を覆わずに鼻根周辺のみを覆うための鼻根位置決め部と、
前記２つの第２開口部の下方において前記鼻根位置決め部を挟んで配置されており、前記特定ユーザの各下瞼を覆うための２つの下瞼位置決め部と、
を有しており、
前記側方部は、
前記特定ユーザのこめかみの各々を覆うための２つのこめかみ位置決め部、
を有している、
眉描き補助マスク。
【請求項２】
前記本体部は、前記２つの第１開口部の各々と前記２つの第２開口部の各々との間に配置されており、前記特定ユーザの上瞼を覆うための２つの上瞼位置決め部を更に有する、
請求項１に記載の眉描き補助マスク。
【請求項３】
前記本体部及び前記側方部が透光性を有する、
請求項１又は２に記載の眉描き補助マスク。
【請求項４】
前記２つの第１開口部の各々は、前記本体部の表側へ面して設けられたテーパを有する、
請求項１〜３の何れか１項に記載の眉描き補助マスク。
【請求項５】
前記本体部及び前記側方部の各々は、裏側に微細な凹凸からなるシボ面を有する、
請求項１〜４の何れか１項に記載の眉描き補助マスク。
【請求項６】
前記シボ面は、平面視における凸部の占有面積が凹部の占有面積よりも少ない、
請求項５に記載の眉描き補助マスク。
【請求項７】
顔面に眉を描くために用いられる眉描き補助マスクの製造方法であって、
特定ユーザの顔面の少なくとも両眉、両眼、鼻根及びこめかみを含む所定範囲の起伏を示す顔面データを得る第１ステップと、
前記顔面データを用いて、前記両眉に対応する位置に２つの第１開口部を設けるとともに前記両眼に対応する位置に２つの第２開口部を設けて立体成型用データを生成する第２ステップと、
前記立体成型用データに基づいて三次元成型機によって前記眉描き補助マスクを成形する第３ステップと、
を含む、眉描き補助マスクの製造方法。
【請求項８】
前記第１ステップは、前記特定ユーザの顔面の略全体の起伏を得た後に前記少なくとも両眉、両眼、鼻根及びこめかみを含む所定範囲の起伏を抽出することによって前記顔面データを得る、
請求項７に記載の眉描き補助マスクの製造方法。
【請求項９】
前記第２ステップは、予め用意された複数の眉形状パターンから選択される１つの眉形状パターンに基づいて前記２つの第１開口部を設けて前記立体成形用データを生成する、
請求項７又は８に記載の眉描き補助マスクの製造方法。
【請求項１０】
前記第２ステップは、前記１つの眉形状パターンを前記特定ユーザの前記両眉に対応する位置に適合させるために前記眉形状パターンの拡大、縮小、傾き調整のうち少なくとも１つを行う、
請求項９記載の眉描き補助マスクの製造方法。
【請求項１１】
前記第２ステップは、前記顔面データを用いて、予め前記特定ユーザの顔面に描かれた眉の形状を抽出し、当該抽出した眉の形状に基づいて前記２つの第１開口部を設けて前記立体成形用データを生成する、
請求項７又は８に記載の眉描き補助マスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、眉を描く際の補助に用いるマスクとその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
特開２０１１−１５２３１７号公報（特許文献１）には、鼻骨側面の曲線を額に向けて滑らかに延長した仮想曲線上に眉頭を位置決めする眉頭位置決め手段と、アイホールと眉弓の間または眉弓近傍に該眉頭を含む眉全体を位置決めする眉全体位置決め手段を有するものであって、被施術者の少なくとも鼻および眉に相当する部分を模った樹脂マスクであり、眉全体が開口された眉描き補助ツールが記載されている。
【０００３】
上記特許文献１の眉描き補助ツールは、病気その他の何らかの理由で眉がなくなったり眉の痕跡に乏しくなったりした被施術者をサポートすることを課題としており、その解決手段として上記した眉頭位置決め手段と眉全体位置決め手段を採用したものである。そして、眉頭位置決め手段は、眉描き補助ツールの一部に、被施術者の鼻筋と小鼻を含む鼻全体を模ったマスク部分を設けることによって実現することが記載されている。また、眉全体位置決め手段は、被施術者の１つ又は２つの眉に相当する部分を模ったマスク部分を設けることによって実現することが記載されている。そして、眉描き補助ツールの全体としては、被施術者の鼻全体を覆い、かつ眉を覆うようにしたマスク状のツールとなっている。
【０００４】
ところで、上記の眉頭位置決め手段は、眉がない又は眉の痕跡に乏しい被施術者における眉頭の位置決めという観点では、被施術者の鼻骨側面の曲線に確実にフィットさせてその曲線の延長上に眉頭の位置を定めることが可能であるため、非常に有益なものであると考えられる。しかしながら、上記のような特別な事情を有しないユーザにとっては、眉描き補助ツールの使用時には自身の鼻全体が覆われることになり、違和感ないし不快感を与える場合がある。また、眉頭の位置は、時代毎の流行やユーザの好みなども反映して決定されるのが好ましいところ、上記の眉頭位置決め手段では、眉頭の位置は常に鼻骨側面の曲線を額に向けて滑らかに延長した仮想曲線上に置かれることになり、ユーザの満足度を向上するという点で改良の余地がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−１５２３１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明に係る具体的態様は、ユーザ満足度を高めることが可能であり、かつ使用時の違和感ないし不快感を軽減可能な眉描き補助マスクを得るための技術を提供することを目的の１つとする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
［１］本発明に係る一態様の眉描き補助マスクは、（ａ）顔面に眉を描くために用いられる眉描き補助マスクであって、（ｂ）少なくとも裏側が特定ユーザの顔面の両眉、両眼及び鼻根を含む所定範囲の起伏に略一致した立体形状を有する本体部と、（ｃ）少なくとも裏側が前記特定ユーザの顔面の両側のこめかみを含む所定範囲の起伏に略一致した立体形状を有しており、前記本体部の左右それぞれにおいて当該本体部から湾曲して設けられた側方部と、を含み、（ｄ）前記本体部は、予め前記特定ユーザによって選ばれる形状パターンに基づいた開口形状を有しており、前記特定ユーザの両眉に対応して配置される２つの第１開口部と、前記特定ユーザの両眼に対応して配置される２つの第２開口部と、前記２つの第１開口部の相互間に配置されており、前記特定ユーザの眉間を覆うための眉間位置決め部と、前記２つの第２開口部の相互間かつ前記眉間位置決め部の下方に配置されており、前記特定ユーザの鼻全体を覆わずに鼻根周辺のみを覆うための鼻根位置決め部と、前記２つの第２開口部の下方において前記鼻根位置決め部を挟んで配置されており、前記特定ユーザの各下瞼を覆うための２つの下瞼位置決め部と、を有しており、（ｅ）前記側方部は、前記特定ユーザのこめかみの各々を覆うための２つのこめかみ位置決め部を有している、眉描き補助マスクである。
［２］本発明に係る一態様の眉描き補助マスクの製造方法は、顔面に眉を描くために用いられる眉描き補助マスクの製造方法であって、（ａ）特定ユーザの顔面の少なくとも両眉、両眼、鼻根及びこめかみを含む所定範囲の起伏を示す顔面データを得る第１ステップと、（ｂ）前記顔面データを用いて、前記両眉に対応する位置に２つの第１開口部を設けるとともに、前記両眼に対応する位置に２つの第２開口部を設けて立体成型用データを生成する第２ステップと、（ｃ）前記立体成型用データに基づいて三次元成型機によって前記眉描き補助マスクを成形する第３ステップと、を含む眉描き補助マスクの製造方法である。
【０００８】
上記構成によれば、ユーザ満足度を高めることが可能であり、かつ使用時の違和感ないし不快感を軽減可能な眉描き補助マスクを得るための技術が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、一実施形態の眉描き補助マスクの構成を示す斜視図である。
【図２】図２は、この眉描き補助マスクの側面図である。
【図３】図３は、この眉描き補助マスクの上面図である。
【図４】図４は、この眉描き補助マスクの下面図である。
【図５】図５は、この眉描き補助マスクの使用状態を示す斜視図である。
【図６】図６は、第１開口部の詳細構造を説明するための部分的な拡大断面図である。
【図７】図７は、眉描き補助マスクの本体部及び側方部の各々の裏側の詳細構造を説明するための部分的な拡大断面図である。
【図８】図８は、眉描き補助マスクの各第１開口部の変形例について説明するための図である。
【図９】図９は、実施形態の眉描き補助マスクの製造方法について説明するための流れ図である。
【図１０】図１０は、眉描き補助マスクの製造方法における各工程の内容を補助的に説明するための概念図である。
【図１１】図１１は、眉描き補助マスクの製造方法における各工程の内容を補助的に説明するための概念図である。
【図１２】図１２は、眉描き補助マスクの製造方法における各工程の内容を補助的に説明するための概念図である。
【図１３】図１３は、眉描き補助マスクの製造方法における各工程の内容を補助的に説明するための概念図である。
【図１４】図１４は、眉描き補助マスクの製造に用いられるシステム構成の一例を示すブロック図である。
【図１５】図１５は、変形実施例の眉描き補助マスクの製造方法について説明するための流れ図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
図１は、一実施形態の眉描き補助マスクの構成を示す斜視図である。また、図２は、この眉描き補助マスクの側面図（右側面図）である。図３は、この眉描き補助マスクの上面図である。図４は、この眉描き補助マスクの下面図である。図５は、この眉描き補助マスクの使用状態を示す斜視図である。なお、各図において眉描き補助マスク１００の表面に付された模様は、表面の立体形状を表現するための陰影である。
【００１１】
各図に示す眉描き補助マスク１００は、本体部１と、この本体部１の左右それぞれにおいて本体部１から湾曲して設けられた側方部２を備えている。本実施形態の眉描き補助マスク１００は、図５に示すように、ユーザの顔面に着用し、眉に対応して設けられた開口部を介してユーザの顔面に眉を描くために用いられる。この眉描き補助マスク１００は、任意の色が施されていてもよいし適宜の模様が付されてもよいが、透明材料ないし半透明材料を用いて透光性を有するように構成されていることも好ましい。そのような材料としては、例えば種々の樹脂材料が挙げられる。後述するように、眉描き補助マスク１００を三次元プリンタによって成型する場合があれば、三次元プリンタでの使用に適合し、かつ人体への生体適合性を備えた材料を適宜選択することが好ましい。また、眉描き補助マスク１００は、各部の角が面取りされていることが好ましい。
【００１２】
本体部１は、予め決められる１人のユーザ（利用者）である特定ユーザの顔面の起伏を三次元計測し、その起伏に応じた立体形状を有するように形成されている。詳細には、本体部１は、特定ユーザの顔面の両眉、両眼及び鼻根を含む所定範囲の起伏に略一致した立体形状を有しており、この所定範囲を覆うに必要十分な大きさに形成されている。また、本体部１の厚みについては適宜設定することができ、例えば１〜２ｍｍ程度にすることができる。
【００１３】
なお、本明細書において「鼻根」とは、鼻の上側部分、すなわち、概ね両眼に挟まれた中央であって眉間の下側に位置する部分をいう。本明細書における「鼻根」については、概ね、人体の頭蓋骨における鼻骨（軟骨を除く）に対応する部分と定義することもできる。
【００１４】
側方部２は、本体部１と同様に、予め決められる１人のユーザである特定ユーザの顔面の起伏を三次元計測し、その起伏に応じた立体形状を有するように形成されている。詳細には、側方部２は、特定ユーザの顔面の両側のこめかみを含む所定範囲の起伏に略一致した立体形状を有しており、この所定範囲を覆うに必要十分な大きさに形成されている。また、側方部２の厚みについては本体部１と同様に適宜設定することができ、例えば１〜２ｍｍ程度にすることができる。
【００１５】
なお、図示の例では、本体部１と側方部２のそれぞれは、表側と裏側のいずれも特定ユーザの顔面の所定範囲の起伏に略一致した立体形状を有しているが、原理的には、それぞれの少なくとも裏側が特定ユーザの顔面の所定範囲の起伏に略一致した立体形状を有していれば足りる。なお、「表側」とは使用時に特定ユーザの顔面と接しない側をいい、「裏側」とは使用時に特定ユーザの顔面と接する側をいう（以下同様）。
【００１６】
上記した本体部１は、２つの第１開口部１１、２つの第２開口部１２、眉間位置決め部１３、鼻根位置決め部１４、２つの下瞼位置決め部１５、２つの上瞼位置決め部１６を有している。また、上記した側方部２は、２つのこめかみ位置決め部２１を有している。
【００１７】
各第１開口部１１は、例えば予め特定ユーザによって選ばれる眉形状パターンに基づいて設定される開口形状を有しており、特定ユーザの両眉に対応して配置される。ここで、各第１開口部１１の位置は、特定ユーザの両眉が存在する位置に厳密に対応している必要はなく、概ね、一致していればよい。特定ユーザに選ばれた眉形状パターンによっては、特定ユーザの両眉の本来の位置、大きさ、範囲から若干ずれた状態で眉形状パターンが配置される場合があり得るからである。
【００１８】
各第２開口部１２は、例えば特定ユーザの両眼の形状に基づいて設定される開口形状を有しており、特定ユーザの両眼に対応して配置される。なお、各第２開口部１２の主たる機能は特定ユーザが各第２開口部１２を介して外界を見られるようにすることであるので、適度な大きさで貫通した孔であれば必要十分であり、各第２開口部１２の開口形状は必ずしも特定ユーザの両眼の形状に対応していなくてもよい。ただし、各第２開口部１２の開口形状を特定ユーザの両眼の形状に略一致させた場合には、特定ユーザが外界をより見やすくなる効果が得られるとも考えられる。
【００１９】
眉間位置決め部１３は、２つの第１開口部１１の相互間に配置されている。この眉間位置決め部１３は、特定ユーザの眉間を覆うための部分であり、少なくとも裏側が特定ユーザの眉間の起伏に応じた立体形状を有している。
【００２０】
鼻根位置決め部１４は、２つの第２開口部１２の相互間であって、眉間位置決め部１３の下方に配置されている。この鼻根位置決め部１４は、特定ユーザの鼻全体を覆わずに鼻根周辺のみを覆うための部分であり、少なくとも裏側が特定ユーザの鼻根周辺の起伏に応じた立体形状を有している。図示のように、鼻根位置決め部１４は、その下端が２つの下瞼位置決め部１５の下端よりも相対的に高い位置となるように設けられている。すなわち、鼻根位置決め部１４は、眉描き補助マスク１００の使用時において特定ユーザの鼻全体のうち鼻根周辺のみが覆われて鼻根よりも下の部分は覆われずに露出するように設けられている。このような構成によれば、眉描き補助マスク１００の使用時に特定ユーザの鼻全体が覆われることがなく、不快感や違和感を軽減できる。
【００２１】
各下瞼位置決め部１５は、各第２開口部１２の下方において鼻根位置決め部１４を挟んで配置されている。これらの下瞼位置決め部１５は、特定ユーザの各下瞼を覆うための部分であり、少なくとも裏側が特定ユーザの各下瞼の起伏に応じた立体形状を有している。各下瞼位置決め部１５は、特定ユーザの頬骨にかかる位置までの幅を有することが好ましいが、あまり幅を大きくすると特定ユーザのほほを覆う範囲が多くなりすぎて違和感ないし不快感を与える可能性もある。これらを考慮すると、各下瞼位置決め部１５は、例えば各第２開口部１２の下側エッジから１ｃｍ程度の幅で設けられることが好ましい。
【００２２】
各上瞼位置決め部１６は、各第１開口部１１と各第２開口部１２との間にそれぞれ配置されている。これらの上瞼位置決め部１６は、特定ユーザの各上瞼を覆うための部分であり、少なくとも裏側が特定ユーザの各上瞼の起伏に応じた立体形状を有している。
【００２３】
各こめかみ位置決め部２１は、特定ユーザのこめかみの各々を覆うための部分であり、それぞれ側方部２に設けられている。これらのこめかみ位置決め部２１によって特定ユーザの頭部を挟むようにして位置決めすることにより、眉描き補助マスク１００の使用時における位置決め精度が高まる。
【００２４】
図６は、第１開口部の詳細構造を説明するための部分的な拡大断面図である。図示のように、各第１開口部１１は、本体部１の表側へ面して設けられたテーパを有していることが好ましい。別言すれば、各第１開口部１１は、本体部１１の裏側から表側へ向かって断面積が広がるようにして設けられたテーパ面を有していることが好ましい。このような構成によれば、眉描き補助マスク１００の使用時において眉描きのための化粧材料を塗布するのがより容易になる。
【００２５】
図７は、眉描き補助マスクの本体部及び側方部の各々の裏側の詳細構造を説明するための部分的な拡大断面図である。図示のように、本体部１および側方部２の裏側には、微細な凹凸からなるシボ面３０を設けることが好ましい。このシボ面３０は、微細な複数の凸部３１と凹部３２を含んでいる。そして、全体として、平面視における凸部３１の占有面積が凹部３２の占有面積よりも少ないことが好ましい。ここでいう占有面積とは、例えば図示のように、凸部３１と凹部３２の間の深さの中心ｏを基準として凸部３１と凹部３２の境界を定め、各凸部３１の占有する範囲ａ１の面積と各凹部３２の占有する範囲ａ２との割合として求めることができる。このような構成によれば、本体部１と側方部２の裏側が特定ユーザの顔面に直接的に接触する面積を低減することができるので、不快感や違和感を軽減することができる。また、眉メイクに先立って顔面にファンデーション等のメイクを行っていた場合には、その顔面へのメイクが本体部１や側方部２との接触によって悪影響を受ける度合いをより軽減することができる。
【００２６】
図８は、眉描き補助マスクの各第１開口部の変形例について説明するための図である。図示のように、眉描き補助マスクの各第１開口部１１において、眉頭に近い側に対応した一部分にメッシュ部１１ａを設けてもよい。メッシュ部１１ａとは、網目状となっている部分である。このようなメッシュ部１１ａを設けることで、このメッシュ部１１ａを通して描かれる眉頭を薄くぼかして、より自然な印象を与える眉を描くことができる。さらに、薄く描かれた部分は、その後に特定ユーザ本人または施術者が眉頭の部分をぼかす処理をする際の目安ともなり便利である。
【００２７】
図９は、上記した実施形態の眉描き補助マスクの製造方法について説明するための流れ図である。また、図１０〜図１３は、眉描き補助マスクの製造方法における各工程の内容を補助的に説明するための概念図である。また、図１４は、眉描き補助マスクの製造に用いられるシステム構成の一例を示すブロック図である。以下、これらの図を参照しながら補助マスクの製造方法の好適な一例について詳細に説明する。
【００２８】
まず、三次元スキャナ（３Ｄスキャナ）２０１を用いて、特定ユーザの顔面の所定範囲の起伏を示す顔面データが生成される（ステップＳ１１）。生成されたデータはコンピュータ（情報処理装置）２００に取り込まれる。ここでいう三次元スキャナ２０１とは、対象物の表面形状を三次元計測することが可能な装置をいい、公知の種々のものを用いることができる。また、コンピュータ２００とは、予め与えられる動作プログラムに基づいて種々の情報処理を実行可能な装置をいい、公知の種々のものを用いることができる。
【００２９】
顔面の所定範囲とは、上記のように両眉、両眼、鼻根およびこめかみを含む範囲である。このような顔面データは、例えば特定ユーザの顔面の所定範囲のみをスキャンすることによって生成されてもよい。また、顔面データは、例えば特定ユーザの顔面のほぼ全体をスキャンした後に、図１０（Ａ）に示すように両眉ｍ１、ｍ２、両眼ｅ１、ｅ２、鼻根ｂ１およびこめかみｋ１、ｋ２を含む所定範囲だけを抽出することによって生成されてもよい。所定範囲を抽出する処理は三次元スキャナ２０１側で行われてもよいしコンピュータ２００側で行われてもよい。
【００３０】
コンピュータ２００は、所定の動作プログラムを実行することにより、顔面データ上における両眉と両眼の位置を検出する（ステップＳ１２）。両眉と両眼の位置の検出アルゴリズムについては公知の種々の方法を用いることができる。例えば、図１０（Ｂ）に示すように、両眉については左右それぞれの眉頭の位置ＭＬ１、ＭＲ１、眉山の位置ＭＬ２、ＭＲ２、眉尻の位置ＭＬ３、ＭＲ３の各特徴点を眉の位置として検出することができる。なお、眉の特徴点はこれに限られず、さらに多くの特徴点を設定してもよいし、眉頭と眉山の２つだけを検出してもよいし、いずれか１つ（例えば眉山）のみを検出してもよい。また、両眼の位置については、例えば両眼のそれぞれの黒目部分の中心位置ＥＬ１、ＥＲ１を両眼の位置として検出することができる。
【００３１】
なお、両眉と両眼の各位置については、例えば、それぞれの輪郭を抽出することによって特定してもよい。また、両眉と両眼の各位置が検出された後に、それらの位置情報に基づいて上記した顔面の所定範囲を特定し、抽出してもよい。例えば、両眼の側方に向かって数ｃｍ分の範囲をこめかみｋ１、ｋ２の位置とし、両眼の間の中央を鼻根ｂ１の位置として特定し、それらの位置を含むように顔面の所定範囲を特定し抽出することができる。
【００３２】
次に、コンピュータ２００は、図示しない入力装置を用いた操作指示に基づいて、予め用意された複数の眉形状パターン（テンプレート）の中から１つの眉形状パターンを選択する（ステップＳ１３）。
【００３３】
図１１に例示するように、複数の眉形状パターンは、例えば美容専門家の監修、指導に基づいて作成されるものであり、例えば画像データとして用意され、コンピュータ２００の図示しない記憶装置に格納されている。詳細には、例示の眉形状パターンは、１つの眉形状パターンごとにその眉形状パターンと相似の関係にある複数の眉形状パターンが用意されている。このように、ある１つの眉形状パターンについて、その大きさの異なる複数の相似形の眉形状パターンを用意しておくことで、特定ユーザの顔面の幅などに対応して眉形状パターンを選択させることができる。そして、これらの眉形状パターンは、例えばコンピュータ２００の図示しないディスプレイに表示され、特定ユーザの要望を反映していずれか１つが選択される。このとき、ディスプレイ上に特定ユーザの顔面の画像を表示させ、その上に眉形状パターンを重ねて表示することで、選択した眉形状パターンを特定ユーザに適用した場合の見栄えを簡易的に確認させることも好ましい。
【００３４】
次に、コンピュータ２００は、選択された１つの眉形状パターンを特定ユーザの顔面データ上に配置する（ステップＳ１４）。図１２（Ａ）に示すように、例えば、それぞれの眉形状パターン２１０には、ステップＳ１２において検出される顔面上の特徴点と一対一に対応する特徴点が設定されている。図示の例では、右眉に対応する眉形状パターン２１０において、眉頭、眉山、眉尻の各位置ｍｒ１、ｍｒ２、ｍｒ３が設定されている。これらの眉形状パターン２１０の各位置を特定ユーザの顔面上で検出された眉の特徴点である眉頭、眉山、眉尻の各位置ＭＲ１、ＭＲ２、ＭＲ３に対して三次元的にマッピングする。
【００３５】
上記の際に、必ずしも眉形状パターン２１０がそのままマッピングできるとは限らないので、眉形状パターン２１０を適宜拡大あるいは縮小し、または回転させて適切な状態にマッピングする。このマッピング処理は、プログラム処理で自動的に行うことが好ましく、そのアルゴリズムとしては、例えば、各位置ＭＲ１、ＭＲ２、ＭＲ３と各位置ｍｒ１、ｍｒ２、ｍｒ３の位置ずれ量（相互間距離）が最小となるようにしてもよい。このとき、３つの特徴点のうち、例えば相対的に重要性の高いもの（例えば眉頭や眉山）の各位置について重み付けをして、これらの各位置の一致性がより高くなるようにしてマッピングを行ってもよい。また、例えば、眉頭と眉山の各位置だけを用い、眉尻については無視してマッピングを行ってもよい（図１２（Ｂ）参照）。また、眉形状パターン２１０のマッピングについては、１つの特徴点だけを用いて行ってもよい。具体的には、眉形状パターン２１０には、少なくとも１つの特徴点（例えば眉山に対応する位置ｍｒ２）を設定しておき、特定ユーザの顔面の眉についてもそれに対応する特徴点（例えば眉山に対応する位置ＭＲ２）を抽出して、それらを位置合わせすることで、マッピング処理がより容易になる。このときに用いる特徴点としては、処理の容易さという点では眉山に設定することが特に好ましい。
【００３６】
なお、上記アルゴリズムによるプログラム処理で仮にマッピングした後にその状態をコンピュータ２００のディスプレイに表示し、コンピュータ２００の入力装置を用いた施術者等による操作指示に応じて適宜、拡大・縮小や回転などの微調整が施されてもよい。
【００３７】
次に、コンピュータ２００は、マッピングされた眉形状パターンに対応する２つの開口部と両眼の位置に対応する２つの開口部を設けた立体成型用データを生成する（ステップＳ１５）。図１３に模式的に示すように、立体成型用データ２２０は、眉描き補助マスク１００の本体部１および側方部２に対応する形状を定義するデータであり、具体的には、２つの第１開口部１１、２つの第２開口部１２、眉間位置決め部１３、鼻根位置決め部１４、２つの下瞼位置決め部１５、２つの上瞼位置決め部１６、２のこめかみ位置決め部２１の各形状を定義するデータである。なお、図１３では簡素化して示しているが実際の立体成型用データ２２０は紙面の奥行き方向に所定の厚み（例えば１〜２ｍｍ程度）を有する。
【００３８】
ここで、立体成型用データ２２０において、各第１開口部１１に対応する形状データ２２１は、マッピングされた眉形状パターン２１０の輪郭と同じ形状が与えられている。また、立体成型用データ２２０において、各第２開口部１２に対応する形状データ２２２は、必ずしも特定ユーザの両眼の輪郭に対応している必要はなく、両眼を外部へ露出させるに足りる形状（位置、範囲、大きさ）の開口部が与えられていれば足りる。図示の例では、適度な大きさの楕円形によって形状データ２２２が定義されている。
【００３９】
次に、コンピュータ２００は、生成した立体成型用データ２２０を三次元プリンタ（三次元成型機）２０２へ送る。三次元プリンタ２０２は、その立体成型用データ２２０に基づいて眉描き補助マスク１００を成型する（ステップＳ１６）。なお、三次元プリンタ２０２とは、予め与えられる立体成型用データに基づいて三次元構造物を製造可能な立体成型機をいい、公知の種々のものを用いることができる。以上により、上記した実施形態の眉描き補助マスク１００が完成する（図１等参照）。
【００４０】
以上のような実施形態によれば、特定ユーザのそれぞれに対応して眉形状などの立体形状がカスタマイズされた使い勝手のよい眉描き補助マスクを得ることができるので、ユーザ満足度を高めることが可能となる。また、少なくとも眉間位置決め部、鼻根位置決め部、下瞼位置決め部及びこめかみ位置決め部を設けることで位置決め精度を確保しており、鼻全体を覆うことなく位置決めすることができるので、使用時の違和感ないし不快感を軽減することが可能になる。
【００４１】
なお、本発明は上記した実施形態の内容に限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内において種々に変形して実施をすることが可能である。例えば、眉描き補助マスクの全体形状については、図示の例に限られるものではなく、本発明において定義される構成を満たす限りにおいて種々に変形することができる。また、眉描き補助マスクの製造方法については好適な一例として３次元スキャナと３次元プリンタを用いる場合を説明したが、製造方法はこれに限定されない。
【００４２】
また、上記した実施形態では予め用意した複数の眉形状パターンから１つの眉形状パターンを選択することで眉描き補助マスクの各第１開口部の形状を設定していたが、専門技術を有する施術者によって特定ユーザの顔面に描かれた眉の形状を画像認識処理によって検出し、その検出した形状に基づいて眉描き補助マスクの各第１開口部の形状を設定してもよい。
【００４３】
図１５は、上記の変形実施例における眉描き補助マスクの製造方法について説明するための流れ図である。なお、システム構成（図１４参照）などについては上記した実施形態と同様である。まず、三次元スキャナ２０１によって特定ユーザの顔面の所定範囲の起伏を示す顔面データが生成される（ステップＳ２１）。また、コンピュータ２００は、所定の動作プログラムを実行することにより、顔面データ上における両眉と両眼の位置を検出する（ステップＳ２２）。なお、本変形実施例では両眉の位置検出（特徴点抽出）を省略してもよい。
【００４４】
次いで、コンピュータ２００は、ステップＳ２１で生成された顔面データを用いて所定の画像処理を行うことにより特定ユーザの両眉の形状（輪郭）を抽出する（ステップＳ２３）。ここで抽出される両眉の形状は、予め特定ユーザの顔面に対して施術者（あるいは特定ユーザ本人）によって描かれた眉の形状である。
【００４５】
次いで、コンピュータ２００は、ステップＳ２３で抽出された眉形状パターンに対応する２つの開口部と両眼の位置に対応する２つの開口部を設けた立体成型用データを生成する（ステップＳ２４）。その後、コンピュータ２００は、生成した立体成型用データ２２０を三次元プリンタ（三次元成型機）２０２へ送る。三次元プリンタ２０２は、その立体成型用データ２２０に基づいて眉描き補助マスク１００を成型する（ステップＳ２５）。
【００４６】
このような変形実施例によっても、上記実施形態の眉描き補助マスクを得ることができる。専門技術を有する施術者によって予め描かれた眉形状に基づいているため、より満足度の高い眉形状を得られる。
【符号の説明】
【００４７】
１：本体部
２：側方部
１１：第１開口部
１１ａ：メッシュ部
１２：第２開口部
１３：眉間位置決め部
１４：鼻根位置決め部
１５：下瞼位置決め部
１６：上瞼位置決め部
２１：こめかみ位置決め部
３０：シボ面
３１：凸部
３２：凹部
１００：眉描き補助マスク
２００：コンピュータ
２０１：三次元スキャナ
２０２：三次元プリンタ
２１０：眉形状パターン
２２０：立体成型用データ
２２１、２２２：形状データ
ｍ１、ｍ２：両眉
ｅ１、ｅ２：両眼
ｂ１：鼻根
ｋ１、ｋ２：：こめかみ
ＭＬ１、ＭＲ１：特定ユーザの顔面における眉頭の位置
ＭＬ２、ＭＲ２：特定ユーザの顔面における眉山の位置
ＭＬ３、ＭＲ３：特定ユーザの顔面における眉尻の位置
ＥＬ１、ＥＲ１：特定ユーザの顔面における両眼の位置
ｍｒ１、ｍｒ２、ｍｒ３：眉形状パターンにおける眉頭、眉山、眉尻の各位置
【図１】
2018117834.tif 000003
【図２】
2018117834.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【手続補正書】
【提出日】平成29年7月12日(2017.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
顔面に眉を描くために用いられる眉描き補助マスクであって、
少なくとも裏側が特定ユーザの顔面の両眉、両眼及び鼻根を含む所定範囲の起伏に略一致した立体形状を有する本体部と、
少なくとも裏側が前記特定ユーザの顔面の両側のこめかみを含む所定範囲の起伏に略一致した立体形状を有しており、前記本体部の左右それぞれにおいて当該本体部から湾曲して設けられた側方部と、
を含み、
前記本体部は、
予め前記特定ユーザによって選ばれる形状パターンに基づいた開口形状を有しており、前記特定ユーザの両眉に対応して配置される２つの第１開口部と、
前記特定ユーザの両眼に対応して配置される２つの第２開口部と、
前記２つの第１開口部の相互間に配置されており、前記特定ユーザの眉間を覆うための眉間位置決め部と、
前記２つの第２開口部の相互間かつ前記眉間位置決め部の下方に配置されており、前記特定ユーザの鼻全体を覆わずに当該特定ユーザの鼻の上側部分であって人体の頭蓋骨における軟骨を除いた鼻骨に対応する部分である鼻根周辺のみを覆うための鼻根位置決め部と、
前記２つの第２開口部の下方において前記鼻根位置決め部を挟んで配置されており、前記特定ユーザの各下瞼を覆うための２つの下瞼位置決め部と、
を有しており、
前記側方部は、
前記特定ユーザのこめかみの各々を覆い前記特定ユーザの頭部を挟むようにして位置決めするための２つのこめかみ位置決め部、
を有しており、
前記本体部の前記鼻根位置決め部は、その下端が前記２つの下瞼位置決め部の下端よりも相対的に高い位置となるように設けられている、
眉描き補助マスク。
【請求項２】
前記本体部は、前記２つの第１開口部の各々と前記２つの第２開口部の各々との間に配置されており、前記特定ユーザの上瞼を覆うための２つの上瞼位置決め部を更に有する、
請求項１に記載の眉描き補助マスク。
【請求項３】
前記本体部及び前記側方部が透光性を有する、
請求項１又は２に記載の眉描き補助マスク。
【請求項４】
前記２つの第１開口部の各々は、前記本体部の表側へ面して設けられたテーパを有する、
請求項１〜３の何れか１項に記載の眉描き補助マスク。
【請求項５】
前記本体部及び前記側方部の各々は、裏側に微細な凹凸からなるシボ面を有する、
請求項１〜４の何れか１項に記載の眉描き補助マスク。
【請求項６】
前記シボ面は、平面視における凸部の占有面積が凹部の占有面積よりも少ない、
請求項５に記載の眉描き補助マスク。
【請求項７】
前記２つの第１開口部は、各々、眉頭に近い側の一部分に網目状となったメッシュ部を有する、
請求項１〜６の何れか１項に記載の眉描き補助マスク。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係る一態様の眉描き補助マスクは、（ａ）顔面に眉を描くために用いられる眉描き補助マスクであって、（ｂ）少なくとも裏側が特定ユーザの顔面の両眉、両眼及び鼻根を含む所定範囲の起伏に略一致した立体形状を有する本体部と、（ｃ）少なくとも裏側が前記特定ユーザの顔面の両側のこめかみを含む所定範囲の起伏に略一致した立体形状を有しており、前記本体部の左右それぞれにおいて当該本体部から湾曲して設けられた側方部と、を含み、（ｄ）前記本体部は、予め前記特定ユーザによって選ばれる形状パターンに基づいた開口形状を有しており、前記特定ユーザの両眉に対応して配置される２つの第１開口部と、前記特定ユーザの両眼に対応して配置される２つの第２開口部と、前記２つの第１開口部の相互間に配置されており、前記特定ユーザの眉間を覆うための眉間位置決め部と、前記２つの第２開口部の相互間かつ前記眉間位置決め部の下方に配置されており、前記特定ユーザの鼻全体を覆わずに当該特定ユーザの鼻の上側部分であって人体の頭蓋骨における軟骨を除いた鼻骨に対応する部分である鼻根周辺のみを覆うための鼻根位置決め部と、前記２つの第２開口部の下方において前記鼻根位置決め部を挟んで配置されており、前記特定ユーザの各下瞼を覆うための２つの下瞼位置決め部と、を有しており、（ｅ）前記側方部は、前記特定ユーザのこめかみの各々を覆い前記特定ユーザの頭部を挟むようにして位置決めするための２つのこめかみ位置決め部を有しており、（ｆ）前記本体部の前記鼻根位置決め部は、その下端が前記２つの下瞼位置決め部の下端よりも相対的に高い位置となるように設けられている、眉描き補助マスクである。