(57)【要約】【課題】加熱調理器用のトッププレートに関し、被加熱物からの熱が伝導しにくいトッププレートを提供する。【解決手段】  トッププレート１２は加熱調理器１０の上面に配置される。トッププレート１２は、被加熱物が載置される少なくとも１つ以上の加熱領域１４を備えている。トッププレート１２は加熱領域１４に対応する領域に凹部１８および凸部２０を有している。凹部１８はトッププレート１２の主面よりも窪んだ領域である。凸部２０は、凹部１８内部の中心部において被加熱物を支持するように構成される凸状の領域である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
加熱調理器の上面に配置されるトッププレートであって、
被加熱物が載置される少なくとも１つ以上の加熱領域を備え、
前記加熱領域は凹部を有しており、前記凹部の内部に前記被加熱物を支持する凸部を有することを特徴とする加熱調理器用トッププレート。
【請求項２】
前記凸部は、先端部に向けて先細りするテーパ形状を有することを特徴とする請求項１に記載の加熱調理器用トッププレート。
【請求項３】
前記凹部の底面が中心部または周縁部のいずれか一方向に向かって深くなるように傾斜していることを特徴とする請求項１または２に記載の加熱調理器用トッププレート。
【請求項４】
単一のガラス材によって構成されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の加熱調理器用トッププレート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、加熱調理器用のトッププレートに関し、特に、被加熱物からの熱が伝導しにくいトッププレートに関する。
【背景技術】
【０００２】
誘導加熱式調理器は、調理容器等の被加熱物に対して誘導電流を用いて加熱するため、ガス等の直火を用いる調理器具と比較しても安全性が高く、熱効率も良い。
【０００３】
誘導加熱式調理器は、その上面に平坦形状なトッププレートが配置されることが多い。トッププレートは、結晶ガラス等の耐熱性を有する保護板である。トッププレートは、平坦形状であるため、デザイン性も高く、清掃も容易である。しかし、平坦なトッププレートは、載置される被加熱物の形状が限定され、中華鍋のような底面が湾曲形状の調理容器を安定して載置することが難しい。
【０００４】
そこで、トッププレートに凹部を形成して、湾曲形状の被加熱物も安定して載置可能なトッププレートが存在する（例えば、特許文献１参照。）。加熱領域に凹部を形成することによって、中華鍋のような被加熱物を安定して載置することが可能になる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１２-０４２０７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、誘導加熱調理器の課題の１つとして、被加熱物の熱がトッププレートに伝達してしまうという問題がある。誘導加熱調理器は、被加熱物を直接加熱しているため、トッププレート自体が発熱することはないが、加熱された被加熱物からの熱がトッププレートに伝達してしまう。このため、高温になっているトッププレートに使用者が気づかずに触れてしまい、火傷等の怪我をするおそれもある。
【０００７】
また、トッププレートからの熱により加熱装置や制御基板等がダメージを受けてしまうおそれがある。そのため、排熱ファン等を設けているが、排熱ファンによる装置の大型化や排熱ファンの動作音が煩わしいといった問題がある。特に、主面に凹部を有するトッププレートは、被加熱物との接触面積が大きくなるため、被加熱物からのトッププレートに熱伝導が起こりやすい。
【０００８】
本発明の目的は、誘導加熱式の調理器において、被加熱物からの熱が伝達しにくいトッププレートを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、加熱調理器の上面に配置されるトッププレートである。トッププレートは、被加熱物が載置される少なくとも１つ以上の加熱領域を備えている。加熱領域は凹部を有しており、凹部の内部に被加熱物を支持する凸部を有することを特徴としている。
【００１０】
トッププレートに凹部を形成することによって、加熱領域が分かりやすくなる。さらに、凹部内に設けられた凸部によって被加熱物を支持することにより、トッププレートに被加熱物を載置する場合と比較して、被加熱物とトッププレートの接触面積が減少するので、トッププレートへの熱伝導が抑制することが可能になる。さらに、凸部によって湾曲形状を有する被加熱物等も安定して支持することが可能となる。
【００１１】
また、凸部は先端部に向けて先細りするテーパ形状を有していることが好ましい。このような形状を有することによって、被加熱物とトッププレートとの接触面積をより減らすことが可能となる。また、テーパ形状により凸部の表面積が増加するので、加熱された凸部も冷めやすくなる。
【００１２】
また、凹部の底面が中心部または周縁部のいずれか一方向に向かって深くなるように傾斜していることが好ましい。傾斜をつけることによって、被加熱物から吹きこぼれ発生した際にも、吹きこぼれた水分が中心部または周縁部に移動するため、清掃が容易になる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、誘導加熱式の調理器において、被加熱物からの熱が伝達しにくいトッププレートを提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の一実施形態に係る加熱調理器を示す図である。
【図２】本発明の別の実施形態に係るトッププレートを示す図である。
【図３】トッププレートの製造方法を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
図１（Ａ）は、本実施形態に係るトッププレート１２が配置された加熱調理器１０を示す図である。加熱調理器１０は、誘導加熱式の調理器であり、２つの加熱領域１４を有している。２つの加熱領域１４は実質的に同一の構成である。鍋やフライパン等の調理容器が加熱領域１４上に載置されることによって加熱される。加熱調理器１０を操作する際は、周縁部に設けられた操作スイッチ１６を使用する。操作スイッチ１６は、加熱のオンオフや加熱温度の調節等を行う。操作スイッチ１６は、メンブレム式の押ボタンスイッチやタッチパネル等のインタフェースを適用することができる。
【００１６】
トッププレート１２は、加熱調理器１０の上面に配置された平坦形状を呈するガラス基板である。本実施形態では、トッププレート１２に結晶化ガラスを使用しているが、強化ガラス、セラミックス、耐熱性樹脂等も使用することができる。トッププレート１２の板厚は特に限定されないが、３〜８ｍｍのものを使用することが好ましい。トッププレート１２は、加熱領域１４に凹部１８および凸部２０を備えている。
【００１７】
加熱領域１４の下部には図１（Ｂ）に示すように、加熱コイル２２およびセンサ２４が配置されている。加熱コイル２２は、加熱領域１４に対応する位置に備えられており、交流電流を流すことによって発生する磁界によって調理容器を加熱するように構成される。
【００１８】
センサ２４は、被加熱物の温度や加熱領域１４上の被加熱物の有無を検知するように構成される。温度センサとしては、被加熱物からの赤外線を検知する赤外線センサを使用することが可能である。なお、センサ２４は凸部２０の下部に配置することが好ましい。凹部１８は、調理容器から吹きこぼれた水分等が溜まり、センサ２４が正確に作動しないおそれがある。凸部２０の下部領域にセンサ２４を配置することによってセンサ２４の誤作動を防止したり、温度検知の精度を向上させたりすることができる。
【００１９】
制御部２６は、センサ２４からのデータをもとに、温度制御等を行うように構成される。被加熱物の温度が設定温度から所定以上乖離すると、加熱コイル２４へ供給する電流を調整し、設定温度に近づけるように構成される。また、加熱領域１４上に被加熱物が一定時間検知されなくなると、加熱を停止するように構成される。
【００２０】
凹部１８は、トッププレート１２の主面より窪んだ領域である。凹部１８は、加熱コイル２２に対応する領域に形成されており、使用者は凹部１８によって加熱領域１４を視覚的に認識することが可能となる。また、調理容器から吹きこぼれ等が発生しても、吹きこぼれた水分は凹部１８の内部に留まるので、清掃が容易になる。凹部１８の深さとしては、１〜６ｍｍが好ましい。
【００２１】
凸部２０は凹部１８の内部に配置されており、調理容器を支持するように構成される。凸部２０は五徳形状を呈しており、環状部２０１および爪状部２０２を有している。環状部２０１は、ドーナツ状に形成された凸状領域である。環状部２０１の直径は、１００〜２５０ｍｍが好ましい。
【００２２】
爪状部２０２は、環状部２０１から内部に延出した直線状の凸状領域である。本実施形態では、環状部２０１の内部に等間隔に４つの爪状部２０２が形成されているが、爪状部２０２の数や配置は適宜変更することが可能である。爪状部２０２によって、大きさの異なる調理容器や底面に湾曲形状を有する調理容器を好適に支持することが可能である。また、爪状部２０２は、環状部２０１の内部ではなく、外部に延出してもよい。爪状部２０２の長さは３０〜１５０ｍｍが好ましい。
【００２３】
環状部２０１および爪状部２０２は、上方に向かうほど先細りするテーパ形状を有している。テーパ形状によって被加熱物との接触面積が小さくなるため、被加熱物からの熱伝導が小さくなる。また、テーパ形状によって、凸部２０の表面積も増加するため、トッププレート２０の表面温度の上昇を抑制することができる。また、凸部２０の高さは０．５〜６ｍｍに調整されることが好ましい。凸部２０の高さが０．５ｍｍ以上あることによって、トッププレート１２への熱伝導を効果的に抑制することができる。凸部２０が６ｍｍより高くなると、強度が低下してしまい、破損するおそれがある。また、凸部２０の高さをこの範囲に設定することによって、調理容器からの吹きこぼれがあっても、その水分が調理容器に付着するおそれが少なくなり、効率よく調理を行うことができる。なお、このような形状は後述するエッチング処理によって形成することが可能である。
【００２４】
ここから凸部２０の別の実施形態について説明する。図２（Ａ）は、加熱調理器１０の別の実施形態の平面図である。トッププレート１２は加熱領域１４を２つ備えている。加熱領域１４は、凹部１８の内部に環状の凸部２０３を備えている。凸部２０３は、溝部２８を有している。
【００２５】
溝部２８は、凸部２０３を断面方向に貫通するように設けられた溝状の領域である。凸部２０３上に被加熱物が載置された際に、凸部２０３と被加熱物によって凸部２０３の内部空間の空気が温められることで膨張することがある。溝部２８を配置することによって、凸部２０３の内部の空気を逃がすことができる。本実施形態では、溝部２８は凸部２０３を断面方向に分断するように構成されるが、空気が通過する最低限の深さであれば所望の深さの凹部を形成してもよい。また、効果的に内部の空気を逃がすためには、溝部２８を複数形成することが好ましい。さらに、溝部２８を複数形成する際は、それぞれの溝部２８が対向する位置に形成されることがさらに好ましい。
【００２６】
また、図２（Ｂ）に示すように凸部２０３の上端は湾曲形状を有している。湾曲形状により、調理容器との接触面積をさらに減少させることが可能になる。
【００２７】
凹部１８の底面は、中心部から周縁部に向かって（または、周縁部から中心部に向かって）深くなるように傾斜している。特に、凸部２０よりも外側の領域から傾斜していることが好ましい。このような傾斜をつけることによって、調理容器からの吹きこぼれた水分が周縁部（または、中心部）まで移動するので清掃が容易になる。なお、凹部１８の底面の傾斜角度は、０．５〜５度が好ましい。
【００２８】
ここから、図３（Ａ）〜図３（Ｄ）を用いて、単一のガラス材からトッププレート１２を製造する方法を説明する。本実施形態におけるトッププレート１２の製造方法は、保護部材形成工程、パターニング工程、エッチング工程および剥離工程を含んでいる。
【００２９】
保護部材形成工程では、図３（Ａ）に示すように、ガラス基板３０の主面に耐酸性を有する保護部材を被覆する。本実施形態では、ガラス基板３０として結晶化ガラスを使用しているが、使用するガラス基板は特に限定されない。ガラス基板３０の板厚は２〜８ｍｍであることが好ましい。本実施形態では、耐酸性保護部材として保護フィルム３２を使用している。保護フィルム３２は、後述のエッチング処理において、ガラス基板３０の主表面を保護するように構成されており、少なくともフッ酸に対する耐性を有している。また、保護フィルム以外にも感光性レジスト材等も使用することも可能である。
【００３０】
パターニング工程では、図３（Ｂ）に示すように凹部を形成すべき領域に対応する一方の主面から保護フィルム３２を除去し、開口部を形成する。パターニング手段は、エッチングすべき領域から耐酸性部材を除去することができれば、どのような手段を用いても構わない。本実施形態では、レーザ装置を利用してパターニングを行っている。耐酸性部材として感光性レジストを使用する場合は、フォトリソグラフィを利用して、パターニングを行うことも可能である。
【００３１】
エッチング工程では、ガラス基板３０をエッチング液と接触させることによって開口部が形成された領域をエッチングする。ガラス基板３０をエッチングする場合は、所望の搬送機構によって搬送されているガラス基板３０に対してエッチング液を噴射する枚葉タイプのエッチング装置やガラス基板３０をエッチング液が収容されたエッチング槽に浸漬するバッチタイプのエッチング装置等を使用することも可能である。エッチング液としては、少なくともフッ酸が含まれたエッチング液を使用することが好ましく、フッ酸の他にも塩酸等の無機酸や界面活性剤を添加しても良い。エッチング処理によって、保護フィルム３２で保護されていない領域がエッチングされ、図３（Ｃ）に示すように凹部１８および凸部２０が形成される。エッチング処理は、凹部１８の深さが少なくとも１ｍｍ以下になるまでエッチングすることが好ましい。
【００３２】
なお、凹部１８の底面に傾斜をつける際には、例えば枚葉タイプのエッチング装置において、噴射圧力の調整等を行うことが好ましい。凹部１８の周縁部に向かうにつれてエッチング液の噴射圧力を強くすることによって、噴射圧力が強い領域はエッチング量が増加するため、凹部１８の底面を傾斜させることが可能になる。また、エッチング処理時に凸部２０上の保護フィルム３２を除去することで、凸部２０の高さを調整することが可能である。このような処理を行わない場合、凸部２０の高さは、トッププレート１２の主面と同じ高さになる。
【００３３】
剥離工程では、エッチング処理後のガラス基板３０から保護フィルム３２を除去する（図３（Ｄ）参照。）。保護フィルム３２を除去する際は、物理的な力を保護フィルム３２に与えることで剥離することが可能である。このあと、ガラス基板３０は適宜後工程にて処理された後に、トッププレート１２として加熱調理器１０に組み込まれる。
【００３４】
本実施形態では、エッチング処理を行っているため、凹部１８および凸部２０の表面に存在する傷はエッチング処理によって除去され、強度が向上する。また、パターニング処理によって、凹部１８や凸部２０の形状も自在に調整することが可能となる。さらに、エッチング処理によって、凸部２０はテーパ形状を有するため、被加熱物からの熱伝導による影響を抑制することができる。
【００３５】
また、トッププレート１２にセラミックスや耐熱性樹脂を使用する場合は、プレス加工によって凹部および凸部を形成することも可能である。プレス加工をする場合は、加熱した被加工物に所望の形状に形成した金型をプレスすればよい。
【００３６】
上述の実施形態の説明は、すべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上述の実施形態ではなく、特許請求の範囲によって示される。さらに、本発明の範囲には、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【符号の説明】
【００３７】
１０‐加熱調理器
１２‐トッププレート
１４-加熱領域
１６‐操作スイッチ
１８-凹部
２０‐凸部
２２-加熱コイル
２４‐センサ
２６‐制御部
２８‐溝部
３０-ガラス基板
３２‐保護フィルム
【図１】
2018004185.tif 000003
【図２】
2018004185.tif 000004
【図３】
2018004185.tif 000005