(57)【要約】      （修正有）【課題】測定高さ補正規則生成装置及びその方法、並びに高さ測定装置及びその方法を提供する。【解決手段】サンプル４０Ａ上の１以上の位置の基準面５０からの高さを含む第１データを獲得する段階と、１以上の位置のうち第１位置の高さと、基準高さとの相対的関係に基づいて決定される第１位置の高さに係わるスケールファクタを含む第１マスクを生成する段階と、第１位置の高さと、第１位置と隣接する１以上の第２位置の高さとの相対的関係に基づいて決定される第１位置の高さに係わる第１補正規則を含む第２マスクを生成する段階と、第１位置の高さと、第１位置と既設定の関係にある第３位置の高さとの比率を算出し、算出された比率と、平均比率との相対的関係に基づいて決定される第１位置の高さに係わる第２補正規則を含む第３マスクを生成する段階と、を含む測定高さ補正規則生成方法。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
サンプル上の１以上の位置の基準面からの高さを含む第１データを獲得する段階と、
前記１以上の位置のうちいずれか１つの位置である第１位置の高さと、基準高さとの相対的関係に基づいて決定される前記第１位置の高さに係わるスケールファクタを含む第１マスクを生成する段階と、
前記第１位置の高さと、前記第１位置と隣接する１以上の第２位置の高さとの相対的関係に基づいて決定される前記第１位置の高さに係わる第１補正規則を含む第２マスクを生成する段階と、
前記第１位置の高さと、前記第１位置と既設定の関係にある第３位置の高さとの比率を算出し、前記算出された比率と、平均比率との相対的関係に基づいて決定される前記第１位置の高さに係わる第２補正規則を含む第３マスクを生成する段階と、を含む測定高さ補正規則生成方法。
【請求項２】
前記第２マスクを生成する段階は、
前記第１データに前記第１マスクを適用した第２データに係わる第２マスクを生成することを特徴とする請求項１に記載の測定高さ補正規則生成方法。
【請求項３】
前記第３マスクを生成する段階は、
前記第２データに前記第２マスクを適用した第３データに係わる第３マスクを生成することを特徴とする請求項２に記載の測定高さ補正規則生成方法。
【請求項４】
前記基準高さは、
前記サンプルの基準面からの高さであり、
前記第１マスクを生成する段階は、
前記第１位置の高さと、前記スケールファクタとの積が、前記基準高さに対応するように、前記第１位置のスケールファクタを決定する段階と、
前記１以上の位置それぞれのスケールファクタを含む前記第１マスクを生成する段階と、を含むことを特徴とする請求項１に記載の測定高さ補正規則生成方法。
【請求項５】
前記第２マスクを生成する段階は、
前記１以上の第２位置の高さの平均である平均高さを算出する段階と、
前記第１位置の高さと、前記平均高さとの差が臨界差以上である場合、前記第１位置の高さを前記平均高さで置き換える第１補正規則を生成する段階と、
前記１以上の位置それぞれの第１補正規則を含む前記第２マスクを生成する段階と、を含むことを特徴とする請求項１に記載の測定高さ補正規則生成方法。
【請求項６】
前記第２位置は、
前記第１位置と、第１方向、及び前記第１方向の逆方向に隣接する２つの位置と、
前記第１位置と、第２方向、及び前記第２方向の逆方向に隣接する２つの位置と、を含み、
前記平均高さを算出する段階は、
前記第２位置に含まれる４つの位置の高さの平均を、前記平均高さとして算出し、
前記第１方向及び前記第２方向は、互いに垂直であることを特徴とする請求項５に記載の測定高さ補正規則生成方法。
【請求項７】
前記第３マスクを生成する段階は、
前記サンプル上の、第１方向または第２方向の基準線を基準に、前記第１位置の高さと、前記第１位置と線対称となる位置である第３位置の高さとの比率を算出する段階と、
前記算出された比率と前記平均比率との差が臨界差以上である場合、前記平均比率及び前記第３位置の高さに基づいて、補正高さを算出する段階と、
前記算出された比率と前記平均比率との差が臨界差以上である場合、前記第１位置の高さを前記補正高さで置き換える前記第２補正規則を生成する段階と、
前記１以上の位置それぞれの第２補正規則を含む前記第３マスクを生成する段階と、を含むことを特徴とする請求項１に記載の測定高さ補正規則生成方法。
【請求項８】
前記平均比率は、
前記サンプル上の、第１方向または第２方向の基準線を基準に対称となる複数の対称対の高さの比率に係わる平均であることを特徴とする請求項７に記載の測定高さ補正規則生成方法。
【請求項９】
判断対象客体上の１以上の位置の基準面からの高さを含む第４データを獲得する段階と、
前記第４データに、第１マスク、第２マスク及び第３マスクのうち少なくとも１つのマスクを適用した第５データを生成する段階と、
前記第５データに基づいて、前記１以上の位置の前記基準面からの高さを決定する段階と、を含み、
前記第１マスクは、
前記１以上の位置のうちいずれか１つの位置である第１位置の高さと、基準高さとの相対的関係に基づいて決定される前記第１位置の高さに係わるスケールファクタを含み、
前記第２マスクは、
前記第１位置の高さと、前記第１位置と隣接する１以上の第２位置の高さとの相対的関係に基づいて決定される前記第１位置の高さに係わる第１補正規則を含み、
前記第３マスクは、
前記第１位置の高さと、前記第１位置と既設定の関係にある第３位置の高さとの比率を算出し、前記算出された比率と、平均比率との相対的関係に基づいて決定される前記第１位置の高さに係わる第２補正規則を含む高さ測定方法。
【請求項１０】
前記第５データを生成する段階は、
前記第４データに、前記第１マスク、前記第２マスク及び前記第３マスクを順次に適用し、前記第５データを生成することを特徴とする請求項９に記載の高さ測定方法。
【請求項１１】
前記判断対象客体は、
１以上の部品が装着された印刷回路配線板であり、
前記１以上の位置は、前記１以上の部品が実装された位置であることを特徴とする請求項９に記載の高さ測定方法。
【請求項１２】
サンプル上の１以上の位置の基準面からの高さを含む第１データ及び基準高さに基づいて、少なくとも１つのマスクを生成する制御部を含み、
前記制御部は、
前記第１データを獲得し、
前記１以上の位置のうちいずれか１つの位置である第１位置の高さと、前記基準高さとの相対的関係に基づいて決定される前記第１位置の高さに係わるスケールファクタを含む第１マスクを生成し、
前記第１位置の高さと、前記第１位置と隣接する１以上の第２位置の高さとの相対的関係に基づいて決定される前記第１位置の高さに係わる第１補正規則を含む第２マスクを生成し、
前記第１位置の高さと、前記第１位置と既設定の関係にある第３位置の高さとの比率を算出し、前記算出された比率と、平均比率との相対的関係に基づいて決定される前記第１位置の高さに係わる第２補正規則を含む第３マスクを生成する測定高さ補正規則生成装置。
【請求項１３】
前記制御部は、
前記第１データに前記第１マスクを適用した第２データに係わる第２マスクを生成し、
前記第２データに前記第２マスクを適用した第３データに係わる第３マスクを生成することを特徴とする請求項１２に記載の測定高さ補正規則生成装置。
【請求項１４】
前記基準高さは、
前記サンプルの基準面からの高さであり、
前記制御部は、
前記第１位置の高さと、前記スケールファクタとの積が、前記基準高さに対応するように、前記第１位置のスケールファクタを決定し、
前記１以上の位置それぞれのスケールファクタを含む前記第１マスクを生成することを特徴とする請求項１２に記載の測定高さ補正規則生成装置。
【請求項１５】
前記制御部は、
前記１以上の第２位置の高さの平均である平均高さを算出し、
前記第１位置の高さと、前記平均高さとの差が臨界差以上である場合、前記第１位置の高さを前記平均高さで置き換える第１補正規則を生成し、
前記１以上の位置それぞれの第１補正規則を含む前記第２マスクを生成することを特徴とする請求項１２に記載の測定高さ補正規則生成装置。
【請求項１６】
前記第２位置は、
前記第１位置と、第１方向、及び前記第１方向の逆方向に隣接する２つの位置と、
前記第１位置と、第２方向、及び前記第２方向の逆方向に隣接する２つの位置と、を含み、
前記制御部は、
前記第２位置に含まれる４つの位置の高さの平均を、前記平均高さとして算出し、
前記第１方向及び前記第２方向は、互いに垂直であることを特徴とする請求項１５に記載の測定高さ補正規則生成装置。
【請求項１７】
前記制御部は、
前記サンプル上の、第１方向または第２方向の基準線を基準に、前記第１位置の高さと、前記第１位置と線対称となる位置である第３位置の高さとの比率を算出し、
前記算出された比率と前記平均比率との差が臨界差以上である場合、前記平均比率及び前記第３位置の高さに基づいて、補正高さを算出し、
前記算出された比率と前記平均比率との差が臨界差以上である場合、前記第１位置の高さを前記補正高さで置き換える前記第２補正規則を生成し、
前記１以上の位置それぞれの第２補正規則を含む前記第３マスクを生成することを特徴とする請求項１２に記載の測定高さ補正規則生成装置。
【請求項１８】
前記平均比率は、
前記サンプル上の、第１方向または第２方向の基準線を基準に対称となる複数の対称対の高さの比率に係わる平均であることを特徴とする請求項１７に記載の測定高さ補正規則生成装置。
【請求項１９】
判断対象客体上の１以上の位置の基準面からの高さを含む第４データを獲得し、
前記第４データに、第１マスク、第２マスク及び第３マスクのうち少なくとも１つのマスクを適用した第５データを生成し、
前記第５データに基づいて、前記１以上の位置の前記基準面からの高さを決定する制御部を含み、
前記第１マスクは、
前記１以上の位置のうちいずれか１つの位置である第１位置の高さと、基準高さとの相対的関係に基づいて決定される前記第１位置の高さに係わるスケールファクタを含み、
前記第２マスクは、
前記第１位置の高さと、前記第１位置と隣接する１以上の第２位置の高さとの相対的関係に基づいて決定される前記第１位置の高さに係わる第１補正規則を含み、
前記第３マスクは、
前記第１位置の高さと、前記第１位置と既設定の関係にある第３位置の高さとの比率を算出し、前記算出された比率と、平均比率との相対的関係に基づいて決定される前記第１位置の高さに係わる第２補正規則を含む高さ測定装置。
【請求項２０】
前記制御部は、
前記第４データに、前記第１マスク、前記第２マスク及び前記第３マスクを順次に適用し、前記第５データを生成することを特徴とする請求項１９に記載の高さ測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、測定高さ補正規則生成装置及びその方法、並びに高さ測定装置及びその方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
チップマウンタシステムは、印刷回路配線板上に、表面実装型部品を自動的に装着するシステムであり、印刷回路配線板上に装着する部品を供給する部品供給部、部品を実際に印刷回路配線板上に位置させる駆動部などを含んで構成される。
【０００３】
かようなチップマウンタシステムは、部品が正しく実装されているか否かということを判断する目的のために、部品の実装高さを測定するが、測定装置の誤差によって、高さ測定の正確度が高くないという問題点があった。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明が解決しようとする課題は、測定高さに対する比率補正を行うことにより、さらに正確な高さ測定結果を獲得させる測定高さ補正規則生成装置及びその方法を提供することである。
【０００５】
本発明が解決しようとする課題はまた、測定高さに対して、隣接位置及び対称位置の高さとの相対的な関係による補正を行うことにより、さらに正確度を向上させる測定高さ補正規則生成装置及びその方法を提供することである。
【０００６】
本発明が解決しようとする課題はまた、測定高さに対する１以上の補正を行い、さらに正確な高さを測定することができる高さ測定装置及びその方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一実施形態による測定高さ補正規則生成方法は、サンプル上の１以上の位置の基準面からの高さを含む第１データを獲得する段階と、前記１以上の位置のうちいずれか１つの位置である第１位置の高さと、基準高さとの相対的関係に基づいて決定される前記第１位置の高さに係わるスケールファクタ（scale factor）を含む第１マスクを生成する段階と、前記第１位置の高さと、前記第１位置と隣接する１以上の第２位置の高さとの相対的関係に基づいて決定される前記第１位置の高さに対する第１補正規則を含む第２マスクを生成する段階と、前記第１位置の高さと、前記第１位置と既設定の関係にある第３位置の高さとの比率を算出し、前記算出された比率と、平均比率との相対的関係に基づいて決定される前記第１位置の高さに対する第２補正規則を含む第３マスクを生成する段階と、を含んでもよい。
【０００８】
前記第２マスクを生成する段階は、前記第１データに前記第１マスクを適用した第２データに係わる第２マスクを生成することができる。
【０００９】
前記第３マスクを生成する段階は、前記第２データに前記第２マスクを適用した第３データに係わる第３マスクを生成することができる。
【００１０】
前記基準高さは、前記サンプルの基準面からの高さであり、前記第１マスクを生成する段階は、前記第１位置の高さと、前記スケールファクタとの積が、前記基準高さに対応するように、前記第１位置のスケールファクタを決定する段階と、前記１以上の位置それぞれのスケールファクタを含む前記第１マスクを生成する段階と、を含んでもよい。
【００１１】
前記第２マスクを生成する段階は、前記１以上の第２位置の高さの平均である平均高さを算出する段階と、前記第１位置の高さと、前記平均高さとの差が臨界差以上である場合、前記第１位置の高さを前記平均高さで置き換える第１補正規則を生成する段階と、前記１以上の位置それぞれの第１補正規則を含む前記第２マスクを生成する段階と、を含んでもよい。
【００１２】
前記第２位置は、前記第１位置と、第１方向、及び前記第１方向の逆方向に隣接する２つの位置、並びに前記第１位置と、第２方向、及び前記第２方向の逆方向に隣接する２つの位置を含み、前記平均高さを算出する段階は、前記第２位置に含まれる４つの位置の高さの平均を、前記平均高さとして算出することができる。このとき、前記第１方向及び前記第２方向は、互いに垂直である。
【００１３】
前記第３マスクを生成する段階は、前記サンプル上の、第１方向または第２方向の基準線を基準に、前記第１位置の高さと、前記第１位置と線対称となる位置である第３位置の高さとの比率を算出する段階と、前記算出された比率と前記平均比率との差が臨界差以上である場合、前記平均比率及び前記第３位置の高さに基づいて、補正高さを算出する段階と、前記算出された比率と前記平均比率との差が臨界差以上である場合、前記第１位置の高さを前記補正高さで置き換える前記第２補正規則を生成する段階と、前記１以上の位置それぞれの第２補正規則を含む前記第３マスクを生成する段階と、を含んでもよい。
【００１４】
前記平均比率は、前記サンプル上の、第１方向または第２方向の基準線を基準に対称となる複数の対称対の高さの比率に係わる平均でもある。
【００１５】
本発明の一実施形態による高さ測定方法は、判断対象客体上の１以上の位置の基準面からの高さを含む第４データを獲得する段階と、前記第４データに、第１マスク、第２マスク及び第３マスクのうち少なくとも１つのマスクを適用した第５データを生成する段階と、前記第５データに基づいて、前記１以上の位置の前記基準面からの高さを決定する段階と、を含んでもよい。このとき、前記第１マスクは、前記１以上の位置のうちいずれか１つの位置である第１位置の高さと、基準高さとの相対的関係に基づいて決定される前記第１位置の高さに係わるスケールファクタを含み、前記第２マスクは、前記第１位置の高さと、前記第１位置と隣接する１以上の第２位置の高さとの相対的関係に基づいて決定される前記第１位置の高さに係わる第１補正規則を含み、前記第３マスクは、前記第１位置の高さと、前記第１位置と既設定の関係にある第３位置の高さとの比率を算出し、前記算出された比率と、平均比率との相対的関係に基づいて決定される前記第１位置の高さに係わる第２補正規則を含んでもよい。
【００１６】
前記第５データを生成する段階は、前記第４データに、前記第１マスク、前記第２マスク及び前記第３マスクを順次に適用し、前記第５データを生成することができる。
【００１７】
前記判断対象客体は、１以上の部品が装着された印刷回路配線板であり、前記１以上の位置は、前記１以上の部品が実装された位置でもある。
【００１８】
本発明の一実施形態による測定高さ補正規則生成装置は、サンプル上の１以上の位置の基準面からの高さを含む第１データ及び基準高さに基づいて、少なくとも１つのマスクを生成する制御部を含み、前記制御部は、前記第１データを獲得し、前記１以上の位置のうちいずれか１つの位置である第１位置の高さと、前記基準高さとの相対的関係に基づいて決定される前記第１位置の高さに係わるスケールファクタを含む第１マスクを生成し、前記第１位置の高さと、前記第１位置と隣接する１以上の第２位置の高さとの相対的関係に基づいて決定される前記第１位置の高さに係わる第１補正規則を含む第２マスクを生成し、前記第１位置の高さと、前記第１位置と既設定の関係にある第３位置の高さとの比率を算出し、前記算出された比率と、平均比率との相対的関係に基づいて決定される前記第１位置の高さに係わる第２補正規則を含む第３マスクを生成することができる。
【００１９】
前記制御部は、前記第１データに前記第１マスクを適用した第２データに係わる第２マスクを生成し、前記第２データに前記第２マスクを適用した第３データに係わる第３マスクを生成することができる。
【００２０】
前記基準高さは、前記サンプルの基準面からの高さであり、前記制御部は、前記第１位置の高さと、前記スケールファクタとの積が、前記基準高さに対応するように、前記第１位置のスケールファクタを決定し、前記１以上の位置それぞれのスケールファクタを含む前記第１マスクを生成することができる。
【００２１】
前記制御部は、前記１以上の第２位置の高さの平均である平均高さを算出し、前記第１位置の高さと、前記平均高さとの差が臨界差以上である場合、前記第１位置の高さを前記平均高さで置き換える第１補正規則を生成し、前記１以上の位置それぞれの第１補正規則を含む前記第２マスクを生成することができる。
【００２２】
前記第２位置は、前記第１位置と、第１方向、及び前記第１方向の逆方向に隣接する２つの位置、並びに前記第１位置と、第２方向、及び前記第２方向の逆方向に隣接する２つの位置を含み、前記制御部は、前記第２位置に含まれる４つの位置の高さの平均を、前記平均高さとして算出し、前記第１方向及び前記第２方向は、互いに垂直である。
【００２３】
前記制御部は、前記サンプル上の、第１方向または第２方向の基準線を基準に、前記第１位置の高さと、前記第１位置と線対称となる位置である第３位置の高さとの比率を算出し、前記算出された比率と前記平均比率との差が臨界差以上である場合、前記平均比率及び前記第３位置の高さに基づいて、補正高さを算出し、前記算出された比率と前記平均比率との差が臨界差以上である場合、前記第１位置の高さを前記補正高さで置き換える前記第２補正規則を生成し、前記１以上の位置それぞれの第２補正規則を含む前記第３マスクを生成することができる。
【００２４】
前記平均比率は、前記サンプル上の、第１方向または第２方向の基準線を基準に対称となる複数の対称対の高さの比率に係わる平均でもある。
【００２５】
本発明の一実施形態による高さ測定装置は、判断対象客体上の１以上の位置の基準面からの高さを含む第４データを獲得し、前記第４データに、第１マスク、第２マスク及び第３マスクのうち少なくとも１つのマスクを適用した第５データを生成し、前記第５データに基づいて、前記１以上の位置の前記基準面からの高さを決定する制御部を含み、前記第１マスクは、前記１以上の位置のうちいずれか１つの位置である第１位置の高さと、基準高さとの相対的関係に基づいて決定される前記第１位置の高さに係わるスケールファクタを含み、前記第２マスクは、前記第１位置の高さと、前記第１位置と隣接する１以上の第２位置の高さとの相対的関係に基づいて決定される前記第１位置の高さに係わる第１補正規則を含み、前記第３マスクは、前記第１位置の高さと、前記第１位置と既設定の関係にある第３位置の高さとの比率を算出し、前記算出された比率と、平均比率との相対的関係に基づいて決定される前記第１位置の高さに係わる第２補正規則を含んでもよい。
【００２６】
前記制御部は、前記第４データに、前記第１マスク、前記第２マスク及び前記第３マスクを順次に適用し、前記第５データを生成することができる。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、測定高さに対する比率補正を行うことにより、さらに正確な高さ測定結果を獲得させる測定高さ補正規則生成装置及びその方法を具現することができる。
【００２８】
本発明はまた、測定高さに対して、隣接位置及び対称位置の高さとの相対的な関係による補正を行うことにより、さらに正確度を向上させる測定距離補正規則生成装置及びその方法を具現することができる。
【００２９】
本発明はまた、測定高さに対する１以上の補正を行い、さらに正確な高さを測定することができる高さ測定装置及びその方法を具現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の一実施形態による測定高さ補正規則生成装置が具備されたチップマウンタシステムを図示した図面である。
【図２】本発明の一実施形態によるチップマウンタシステムにおいて、補正規則生成のために、サンプルの高さを測定する構成を概略的に図示する図面である。
【図３】高さ測定装置が生成した第１データの例示である。
【図４】本発明の一実施形態による第１制御部が、第１マスク、及び第１データに第１マスクが適用された第２データを生成する過程を概略的に図示する図面である。
【図５】本発明の一実施形態による第１制御部が、第２マスク、及び第２データに第２マスクが適用された第３データを生成する過程を概略的に図示する図面である。
【図６】本発明の一実施形態による第１制御部が、第３マスク、及び第３データに第３マスクが適用された第４データを生成する過程を概略的に図示する図面である。
【図７】測定高さ補正規則生成装置によって遂行される測定高さ補正規則生成方法について説明するためのフローチャートである。
【図８】本発明の一実施形態による高さ測定装置が印刷回路配線板の高さを測定する過程について説明するための図面である。
【図９】高さ測定装置が測定した高さ値を、補正規則生成装置が生成した第１マスクないし第３マスクを利用して補正する過程について説明するための図面である。
【図１０】高さ測定装置によって遂行される高さ測定方法について説明するためのフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
本発明は、多様な変換を加えることができ、さまざまな実施形態を持つことができるところ、特定の実施形態を図面に例示し、詳細な説明によって詳細に説明する。本発明の効果、特徴、及びそれらを達成する方法は、図面と共に詳細に説明する実施形態を参照すれば、明確になるであろう。しかし、本発明は、以下で開示される実施形態に限定されるものではなく、多様な形態に具現されることができるのである。
【００３２】
以下、添付された図面を参照し、本発明の実施形態について詳細に説明するが、図面を参照して説明するとき、同一であるか、あるいは対応する構成要素は、同一の符号を付し、それに係わる重複説明は省略する。
【００３３】
以下の実施形態において、第１、第２のような用語は、限定的な意味ではなく、１つの構成要素を他の構成要素と区別する目的に使用されている。以下の実施形態において、単数の表現は、文脈上明白に異なって意味しない限り、複数の表現を含む。以下の実施形態において、「含む」または「有する」というような用語は、明細書上に記載された特徴または構成要素が存在するということを意味するものであり、１以上の他の特徴または構成要素が付加される可能性をあらかじめ排除することではない。図面においては、説明の便宜のために、構成要素がその大きさが誇張されていたり縮小されていたりする。例えば、図面に示された各構成の大きさ及び形態は、説明の便宜のために任意に示されており、本発明は、必ずしも図示されたところに限定されるものではない。
【００３４】
＜第１実施形態＞：測定高さ補正規則生成装置及びその方法
図１は、本発明の一実施形態による測定高さ補正規則生成装置１０が具備されたチップマウンタシステムを図示した図面である。
【００３５】
本発明において、チップマウンタシステム（chip mounter system）は、印刷回路配線板上に表面実装型部品を自動的に装着する多様なシステムを意味する。これにより、本発明によるチップマウンタシステムは、印刷回路配線板上に装着する部品を供給する部品供給部（図示せず）、及び部品を実際に印刷回路配線板上に位置させる駆動部（図示せず）のような一般的な構成を含んでもよい。ただし、本発明は、チップマウンタシステムに具備される測定高さ補正規則生成装置１０に係わるものであるので、前述の一般的な構成についての詳細な説明は省略する。
【００３６】
本発明の一実施形態によるチップマウンタシステムは、測定高さ補正規則生成装置１０、高さ測定装置２０、映像獲得装置３０、判断対象客体４０及び基準面５０を含んでもよい。
【００３７】
本発明の一実施形態による映像獲得装置３０は、判断対象客体４０に係わる距離情報を含む映像を獲得する多様な手段でもある。例えば、映像獲得装置３０は、図１に図示されているように２つの映像獲得手段を含むステレオカメラ（stereo camera）でもある。かような場合、映像獲得装置３０は、２つの映像獲得手段が獲得した映像に基づいて、判断対象客体４０の特定位置までの距離情報を出力することができる。このとき、映像獲得装置３０の２つの映像獲得手段は、平行式、直交式、水平式、交差式、水平移動式のうちいずれか１つの方式によって配置される。
【００３８】
一方、映像獲得装置３０は、カメラから撮影されている場面の全ての地点までの距離を出力する距離カメラ（depth camera）でもある。かような場合、映像獲得装置３０は、各画素（pixel）ごとに撮影されている対象までの距離である距離情報を出力することができる。
【００３９】
ただし、前述の２つの映像獲得装置３０は、例示的なものであり、本発明の思想は、それに制限されるものではなく、判断対象客体４０上の複数の位置に係わる距離情報を出力することができる手段であるならば、制限なしに使用される。
【００４０】
本発明の一実施形態による高さ測定装置２０は、映像獲得装置３０が獲得した距離情報に基づいて、判断対象客体４０の高さ情報を生成することができる。
【００４１】
例えば、高さ測定装置２０は、基準面５０から映像獲得装置３０までの距離と、映像獲得装置３０から判断対象客体４０までの距離との差を算出することにより、判断対象客体４０の高さ情報を生成することができる。
【００４２】
また、高さ測定装置２０は、映像獲得装置３０が獲得した距離情報のうち、判断が必要な領域に係わる距離情報のみを抽出し、後述する測定高さ補正規則生成装置１０に提供することができる。
【００４３】
このように、高さ測定装置２０は、映像獲得装置３０が獲得した距離情報に基づいて判断対象客体４０の高さ情報を生成し、これを補正規則生成装置１０に提供することができる。
【００４４】
また、高さ測定装置２０は、後述する測定高さ補正規則生成装置１０が生成した１以上の補正規則によって高さ情報を補正し、判断対象客体４０に係わる補正された高さ情報を生成することができる。これについては、下記第２実施形態でさらに詳細に説明する。
【００４５】
本発明の一実施形態において、判断対象客体４０は、高さ情報の獲得が必要な多様な客体でもある。例えば、判断対象客体４０は、部品が装着された印刷回路配線板でもある。また、判断対象客体４０は、測定高さ補正規則生成装置１０が、補正規則を生成させるための高さを知っているサンプルでもある。一方、基準面５０は、判断対象客体４０が置かれる面であり、判断対象客体４０の高さ測定の基準面にもなる。
【００４６】
図２は、本発明の一実施形態によるチップマウンタシステムにおいて、補正規則生成のために、サンプル４０Ａの高さを測定する構成を概略的に図示している。
【００４７】
本発明においてサンプル４０Ａは、前述のように、基準面５０を基準にした高さｈ１をすでに知っている判断対象客体を意味する。例えば、サンプル４０Ａは、高さが４０μｍであり、均一なシート状の客体でもある。また、サンプル４０Ａは、部品が実装される位置と対応する位置の高さが８０μｍと同一であり、部品が実装されていない残りの位置は、一般的なシート状である客体でもある。
【００４８】
一方、図２の場合、測定高さ補正規則生成装置１０が補正規則を生成させるために、高さ測定装置２０がサンプル４０Ａの高さを測定するものに過ぎず、サンプル４０Ａの高さ測定それ自体を目的にするものではない。
【００４９】
本発明の一実施形態による測定高さ補正規則生成装置１０は、判断対象客体の高さ情報に係わる補正規則を生成するための第１制御部１１０及び第１メモリ１２０を含んでもよい。
【００５０】
一実施形態による第１制御部１１０は、プロセッサ（processor）のように、データを処理することができる全種の装置を含んでもよい。ここで、「プロセッサ」は、例えば、プログラム内に含まれたコードまたは命令によって表現された機能を遂行するために、物理的に構造化された回路を有する、ハードウェアに内蔵されたデータ処理装置を意味する。このように、ハードウェアに内蔵されたデータ処理装置の一例として、マイクロプロセッサ（microprocessor）、中央処理装置（ＣＰＵ：central processing unit）、プロセッサコア（processor core）、マルチプロセッサ（multiprocessor）、ＡＳＩＣ（application-specific integrated circuit）、ＦＰＧＡ（field programmable gate array）などの処理装置を網羅することができるが、本発明の範囲は、それらに限定されるものではない。
【００５１】
一実施形態による第１メモリ１２０は、第１制御部１１０が処理するデータ、命令言語（instructions）、プログラム、プログラムコード、またはそれらの結合などを、一時的または永久に保存する機能を遂行する。また、第１メモリ１２０は、高さ測定装置２０から獲得した判断対象客体の高さ情報を、一時的及び／または永久に保存することができる。また、第１メモリ１２０は、生成された第１マスクないし第３マスクを、一時的及び／または永久に保存することができる。第１メモリ１２０は、磁気記録媒体（magnetic storage media）またはフラッシュ記録媒体（flash storage media）を含んでもよいが、本発明の範囲は、それらに限定されるものではない。
【００５２】
一方、図１、図２及び図８において、測定高さ補正規則生成装置１０は、高さ測定装置２０と別途に具備されるように図示されているが、それは、説明の便宜のためのものであり、測定高さ補正規則生成装置１０と高さ測定装置２０は、統合されて１つの高さ測定装置としても構成される。以下では、サンプル４０Ａの測定高さを利用して、本発明の一実施形態による測定高さ補正規則生成装置１０が、補正規則を生成する過程について説明する。
【００５３】
本発明の一実施形態による第１制御部１１０は、高さ測定装置２０からサンプルの１以上の位置の基準面からの高さを含む第１データを獲得することができる。
【００５４】
図３は、高さ測定装置２０が生成した第１データの例示である。
【００５５】
図３を参照すれば、高さ測定装置２０は、サンプル４０Ａの１以上の位置に係わる基準面からの高さを測定することができる。ここで、基準面５０は、底面でもある。例えば、高さ測定装置２０は、サンプル４０Ａの１６個位置に係わる高さを測定することができる。
【００５６】
一方、高さ測定装置２０は、測定された複数個の位置に係わる高さについて、各高さと対応する位置を考慮し、テーブル（table）または行列（matrix）の形式で、第１データ１１１を生成することができる。例えば、ある位置４１に係わる高さは、テーブルにおいて、当該位置４１に対応する位置１１２に保存される。
【００５７】
一方、本発明において「位置」は、高さ測定装置２０の高さ測定の対象になる地点であり、三次元空間上のある一点を意味する。例えば、サンプル４０Ａが、Ｘ−Ｙ平面上に置かれている場合、ある位置は、（Ｘ，Ｙ，Ｚ）と示すことができる三次元空間上の一点でもある。このとき、当該位置の高さは、Ｚにもなる。
【００５８】
本発明の一実施形態による第１制御部１１０は、第１位置の高さと、基準高さとの相対的関係に基づいて決定される第１位置の高さに係わるスケールファクタ（scale factor）を含む第１マスクを生成することができる。このとき、第１位置は、サンプル４０Ａの１以上の位置のうちいずれか１つの位置でもある。
【００５９】
本発明において「基準高さ」は、サンプル４０Ａの厚みが一定であり、上部表面の高さが均一なシート状の理想的な客体である場合、基準面５０から上部表面までの高さを意味する。前述のように、サンプル４０Ａは、基準面５０を基準にした高さｈ１（図２）をすでに知っている判断対象客体を意味するので、サンプル４０Ａの基準高さと、測定された高さとを比較することにより、測定された高さが、いかほどの誤差を含むか判断することができる。かような基準高さは、サンプル４０Ａが、高さが均一なシート状の客体である場合、全ての位置について同一値でもあり、一部位置の高さが異なる客体である場合、各位置別に異なる値でもある。
【００６０】
図４は、本発明の一実施形態による第１制御部１１０が、第１マスク２１０、及び第１データ１１１Ａに第１マスク２１０が適用された第２データ２２０を生成する過程を概略的に図示している。
【００６１】
図４を参照すれば、第１制御部１１０は、第１位置の高さと、スケールファクタとの積が基準高さに対応するように、第１位置のスケールファクタを決定することができる。このときにも、第１位置は、サンプル４０Ａ（図３）上の１以上の位置のうちいずれか１つの位置でもある。
【００６２】
例えば、基準高さが１．０であり、第１位置の高さ１１２Ａが１．５である場合、第１制御部１１０は、第１位置の高さ１１２Ａである１．５と、スケールファクタ２１１との積が基準高さである１．０になるように、スケールファクタ２１１を０．６に決定することができる。このとき、高さの単位は、μｍ、ｎｍなどでもある。
【００６３】
第１制御部１１０は、１以上の位置それぞれのスケールファクタを含む第１マスク２１０を生成することができる。言い換えれば、第１制御部１１０は、それぞれの位置に係わるスケールファクタを決定し、決定された複数のスケールファクタを含む第１マスク２１０を生成することができる。
【００６４】
一方、第１制御部１１０は、第１データ１１１Ａに生成された第１マスク２１０を適用することにより、さらに正確な高さを含む第２データ２２０を得ることができる。例えば、第１データに含まれた第１位置の高さ１１２Ａは、１．５である一方、第２データ２２０に含まれた第１位置の高さ２２１は、０．９であり、サンプル４０Ａ（図３）の基準高さである１．０にさらに近接していると確認することができる。
【００６５】
本発明において、「ＡデータにＢマスクを適用」するということは、Ａデータに、Ｂマスクに位置別に含まれている演算規則を適用することを意味する。例えば、前述の第１マスクの場合、各位置別スケールファクタを含むので、第１マスクの適用は、各位置の高さに対して、当該スケールファクタを乗じることを意味する。また、後述する第２マスクの適用及び第３マスクの適用も、各マスクに位置別に含まれている演算規則を各位置の高さ値に適用することを意味する。
【００６６】
このように、本発明は、測定高さに対する比率補正を行うことにより、さらに正確な高さ測定結果を獲得することができる。一般的に、高さ測定装置２０は、同一位置について、同一誤差を示す傾向がある。従って、かような誤差の傾向を反映させた第１マスクを生成し、それを測定データに適用することにより、さらに正確な高さ測定が可能である。
【００６７】
本発明の一実施形態による第１制御部１１０は、第１位置の高さと、第１位置と隣接する１以上の第２位置の高さとの相対的関係に基づいて決定される第１位置の高さに係わる第１補正規則を含む第２マスクを生成することが可能である。
【００６８】
本発明において第２位置は、第１位置と隣接する多様な位置を意味する。例えば、第２位置は、第１位置と、第１方向、及び第１方向の逆方向に隣接する２つの位置、並びに第１位置と、第２方向、及び第２方向の逆方向に隣接する２つの位置を含んでもよい。このとき、第１方向及び第２方向は、互いに直交する方向でもある。
【００６９】
一方、本発明において「補正規則」は、ある高さ値に係わる演算規則を意味する。例えば、該補正規則は、既設定の値で当該位置の高さ値を置き換える規則でもある。
【００７０】
図５は、本発明の一実施形態による第１制御部１１０が、第２マスク３１０、及び第２データ２２０Ａに第２マスク３１０が適用された第３データ３２０を生成する過程を概略的に図示している。
【００７１】
まず、第１制御部１１０は、１以上の第２位置２２２Ａ，２２３Ａ，２２４Ａ，２２５Ａの高さの平均である平均高さを算出する。例えば、前述のように、第２位置２２２Ａ，２２３Ａ，２２４Ａ，２２５Ａが、第１位置２２１Ａと十字形に隣接する４つの位置を意味する場合、第１制御部１１０は、４つの位置の高さの平均を平均高さとして算出する。図５の第１位置２２１Ａの場合、平均高さは、１．０でもある。
【００７２】
その後、第１制御部１１０は、第１位置２２１Ａの高さと、平均高さとの差が臨界差以上である場合、第１位置の高さを平均高さで置き換える第１補正規則を生成することが可能である。例えば、前述の例示のように、第１位置２２１Ａの平均高さが１．０であり、第１位置２２１Ａの高さが７．０であり、臨界差が３．０である場合、第１位置２２１Ａの高さと、平均高さとの差が臨界差以上である場合に該当する。かような場合、第１制御部１１０は、第１位置２２１Ａの高さを平均高さで置き換える第１補正規則３１２を生成することが可能である。
【００７３】
一方、第１制御部１１０は、１以上の位置それぞれの第１補正規則を含む第２マスク３１０を生成することが可能である。言い換えれば、第１制御部１１０は、それぞれの位置に係わる第１補正規則を生成し、それぞれの位置に対して生成された第１補正規則を含む第２マスク３１０を生成することが可能である。
【００７４】
一方、第１制御部１１０は、第２データ２２０Ａに生成された第２マスク３１０を適用することにより、さらに正確な高さを含む第３データ３２０を得ることができる。例えば、第２データ２２０Ａに含まれた第１位置２２１Ａの高さが７．０である一方、第３データ３２０に含まれた第１位置の高さ３２２が１．０であり、サンプル４０Ａの基準高さである１．０にさらに近接するということを確認することができる。
【００７５】
このように、本発明は、測定高さに対して、隣接位置の高さとの相対的な関係による補正を行うことにより、さらに正確な高さ測定結果を獲得することができる。
【００７６】
本発明の一実施形態による第１制御部１１０は、第１位置の高さと、第１位置と既設定の関係にある第３位置の高さとの比率を算出し、算出された比率と平均比率との相対的関係に基づいて決定される前記第１位置の高さに係わる第２補正規則を含む第３マスクを生成することができる。
【００７７】
図６は、本発明の一実施形態による第１制御部１１０が、第３マスク４１０、及び第３データ３２０Ａに第３マスク４１０が適用された第４データ４２０を生成する過程を概略的に図示している。
【００７８】
まず、第１制御部１１０は、第１位置３２１Ａの高さと、第１位置３２１Ａと既設定の関係にある位置である第３位置３２２Ａの高さとの比率を算出することができる。このとき、第３位置３２２Ａは、サンプル上の、第１方向または第２方向の基準線３５０を基準に、第１位置３２１Ａと線対称となる位置でもある。例えば、図６の場合、第１位置３２１Ａの高さと、第３位置３２２Ａの高さとの比率は、３でもある（３．０／１．０＝３）。
【００７９】
その後、第１制御部１１０は、算出された比率と平均比率との差が臨界差以上である場合、平均比率及び第３位置の高さに基づいて、補正高さを算出することができる。
【００８０】
このとき、該平均比率は、サンプル上の、第１方向または第２方向の基準線３５０を基準に対称となる複数の対称対の高さの比率に係わる平均でもある。例えば、図６の場合、基準線３５０を基準に、総８個の対称対があり、それらの比率の平均が１．２５である（（１×７＋３）／８）。言い換えれば、図６の場合、平均比率が１．２５でもある。このとき、臨界差が１であると仮定すれば、第１位置３２１Ａの高さと、第３位置３２２Ａの高さとの比率が３であり、平均比率が１．２５であり、両者の差が臨界差以上に該当する。かような場合、第１制御部１１０は、平均比率、すなわち、１．２５と、第３位置３２２Ａの高さである１．０との積である１．２５を補正高さとして算出することができる（１．２５×１．０）。
【００８１】
一方、第１制御部１１０は、算出された比率、すなわち、第１位置３２１Ａの高さと、第３位置３２２Ａの高さとの比率と、平均比率との差が臨界差以上である場合、第１位置の高さを、算出された補正高さで置き換える前記第２補正規則を生成することができる。すなわち、図６の場合、第１制御部１１０は、第１位置３２１Ａの高さである３．０を、補正高さである１．２５で置き換える第２補正規則を生成することができる。
【００８２】
最後に第１制御部１１０は、１以上の位置それぞれの第２補正規則を含む第３マスク４１０を生成することができる。言い換えれば、第１制御部１１０は、それぞれの位置に係わる第２補正規則を生成し、それぞれの位置に対して生成された第２補正規則を含む第３マスク４１０を生成することができる。
【００８３】
さらには、第１制御部１１０は、第３データ３２０Ａに生成された第３マスク４１０を適用することにより、さらに正確な高さを含む第４データ４２０を得ることができる。例えば、第３データ３２０Ａに含まれた第１位置３２１Ａの高さが３．０である一方、第４データ４２０に含まれた第１位置の高さ４２１が１．２５であり、サンプル４０Ａの基準高さである１．０にさらに近接するということを確認することができる。
【００８４】
このように、本発明は、測定高さに対して、対称位置の高さとの相対的な関係による補正を行うことにより、さらに正確な高さ測定結果を獲得することができる。
【００８５】
一方、前述のところは、補正規則を生成するためのものであり、前述の過程によって補正規則が生成された場合、測定高さ補正規則生成装置１０がサンプル４０Ａ以外にも、印刷回路配線板のような多様な客体の高さを測定することが可能であるということは、自明である。
【００８６】
図７は、測定高さ補正規則生成装置１０によって遂行される測定高さ補正規則生成方法について説明するためのフローチャートである。以下では、図１ないし図６で説明した内容と重複する内容の詳細な説明は省略する。
【００８７】
本発明の一実施形態による第１制御部１１０は、高さ測定装置２０から、サンプル上の１以上の位置の基準面からの高さを含む第１データを獲得することができる（Ｓ７１０）。
【００８８】
本発明において「位置」は、高さ測定装置２０の高さ測定の対象になる地点であり、三次元空間上のある一点を意味する。例えば、サンプル４０ＡがＸ−Ｙ平面上に置かれている場合、ある位置は、（Ｘ，Ｙ，Ｚ）で示すことができる三次元空間上の一点でもある。このとき、当該位置の高さは、Ｚにもなる。
【００８９】
本発明の一実施形態による第１制御部１１０は、第１位置の高さと、基準高さとの相対的関係に基づいて決定される第１位置の高さに係わるスケールファクタを含む第１マスクを生成することができる（Ｓ７２０）。このとき、第１位置は、サンプル４０Ａ上の１以上の位置のうちいずれか１つの位置でもある。一方、本発明において「基準高さ」は、サンプル４０Ａの基準面５０からの高さを意味する。前述のように、サンプル４０Ａは、基準面５０を基準にした高さをすでに知っている判断対象客体を意味するので、サンプル４０Ａの基準高さと、測定された高さとを比較することにより、測定された高さがいかほどの誤差を含むかということを判断することができる。
【００９０】
第１制御部１１０は、第１位置の高さと、スケールファクタとの積が基準高さに対応するように、第１位置のスケールファクタを決定することができる。例えば、基準高さが１であり、第１位置の高さが１．５である場合、第１制御部１１０は、第１位置の高さである１．５と、スケールファクタとの積が基準高さである１になるように、スケールファクタを０．６に決定することができる。また、第１制御部１１０は、１以上の位置それぞれのスケールファクタを含む第１マスクを生成することができる。
【００９１】
一方、第１制御部１１０は、第１データに生成された第１マスクを適用することにより、さらに正確な高さを含む第２データを得ることができる。このように、本発明は、測定高さに対する比率補正を行うことにより、さらに正確な高さ測定結果を獲得することができる。一般的に、高さ測定装置２０は、同一位置に対して同一誤差を示す傾向がある。従って、かような誤差の傾向を反映した第１マスクを生成し、それを測定データに適用することにより、さらに正確な高さ測定が可能である。
【００９２】
本発明の一実施形態による第１制御部１１０は、第１位置の高さと、第１位置と隣接する１以上の第２位置の高さとの相対的関係に基づいて決定される第１位置の高さに係わる第１補正規則を含む第２マスクを生成することができる（Ｓ７３０）。詳細には、第１制御部１１０は、１以上の第２位置の高さの平均である平均高さを算出することができる。例えば、前述のように、第２位置は、第１位置と十字形に隣接する４つの位置を意味し、かような場合、第１制御部１１０は、４つの位置の高さの平均を平均高さとして算出することができる。
【００９３】
その後、第１制御部１１０は、第１位置の高さと、平均高さとの差が臨界差以上である場合、第１位置の高さを平均高さで置き換える第１補正規則を生成することができる。一方、第１制御部１１０は、１以上の位置それぞれの第１補正規則を含む第２マスクを生成することができる。言い換えれば、第１制御部１１０は、それぞれの位置に係わる第１補正規則を生成し、それぞれの位置に対して生成された第１補正規則を含む第２マスク３１０を生成することができる。
【００９４】
一方、第１制御部１１０は、第２データに生成された第２マスクを適用することにより、さらに正確な高さを含む第３データを得ることができる。このように、本発明は、測定高さに対して、隣接位置の高さとの相対的な関係による補正を行うことにより、さらに正確な高さ測定結果を獲得することができる。
【００９５】
本発明の一実施形態による第１制御部１１０は、第１位置の高さと、第１位置と既設定の関係にある第３位置の高さとの比率を算出し、算出された比率と平均比率との相対的関係に基づいて決定される前記第１位置の高さに係わる第２補正規則を含む第３マスクを生成することができる（Ｓ７４０）。
【００９６】
まず、第１制御部１１０は、第１位置の高さと、第３位置の高さとの比率を算出することができる。このとき、第３位置は、サンプル４０Ａ上の、第１方向または第２方向の基準線を基準に、第１位置と線対称となる位置でもある。
【００９７】
その後、第１制御部１１０は、算出された比率と平均比率との差が臨界差以上である場合、平均比率及び第３位置の高さに基づいて、補正高さを算出することができる。このとき、平均比率は、サンプル４０Ａ上の、第１方向または第２方向の基準線を基準に対称となる複数の対称対の高さの比率に係わる平均でもある。
【００９８】
さらには、第１制御部１１０は、算出された比率と平均比率との差が臨界差以上である場合、第１位置の高さを、算出された補正高さで置き換える前記第２補正規則を生成することができる。
【００９９】
最後に、第１制御部１１０は、１以上の位置それぞれの第２補正規則を含む第３マスクを生成することができる。言い換えれば、第１制御部１１０は、それぞれの位置に係わる第２補正規則を生成し、それぞれの位置に対して生成された第２補正規則を含む第３マスクを生成することができる。
【０１００】
一方、第１制御部１１０は、第３データに生成された第３マスクを適用することにより、さらに正確な高さを含む第４データを得ることができる。このように、本発明は、測定高さに対して、対称位置の高さとの相対的な関係による補正を行うことにより、さらに正確な高さ測定結果を獲得することができる。
【０１０１】
＜第２実施形態＞：高さ測定装置及びその方法
前述の第１実施形態は、測定高さ補正規則生成装置１０が、高さを知っているサンプルの高さを測定して補正規則を生成する方法について説明した。
【０１０２】
本実施形態においては、高さ測定装置２０が、補正規則生成装置１０によって生成された補正規則に基づいて補正された高さ情報を生成する方法について説明する。
【０１０３】
図８は、本発明の一実施形態による高さ測定装置２０が、印刷回路配線板４０Ｂの高さを測定する過程について説明するための図面である。
【０１０４】
本発明の一実施形態による高さ測定装置２０は、印刷回路配線板４０Ｂの高さ情報、及び印刷回路配線板４０Ｂの補正された高さ情報を生成するための第２制御部２５０、並びに第２メモリ２６０を含んでもよい。
【０１０５】
一実施形態による第２制御部２５０は、プロセッサのように、データを処理することが可能である全種の装置を含んでもよい。ここで、「プロセッサ」は、例えば、プログラム内に含まれたコードまたは命令によって表現された機能を遂行するために、物理的に構造化された回路を有する、ハードウェアに内蔵されたデータ処理装置を意味する。このように、ハードウェアに内蔵されたデータ処理装置の一例として、マイクロプロセッサ、中央処理装置（ＣＰＵ）、プロセッサコア、マルチプロセッサ、ＡＳＩＣ（application-specific integrated circuit）、ＦＰＧＡ（field programmable gate array）などの処理装置を網羅することができるが、本発明の範囲は、それらに限定されるものではない。
【０１０６】
一実施形態による第２メモリ２６０は、第２制御部２５０が処理するデータ、命令言語（instructions）、プログラム、プログラムコード、またはそれらの結合などを、一時的または永久に保存する機能を遂行する。また、第２メモリ２６０は、印刷回路配線板４０Ｂの高さ情報を、一時的及び／または永久に保存することができる。また、第２メモリ２６０は、測定高さ補正規則生成装置１０が生成した第１マスクないし第３マスクを、一時的及び／または永久に保存することができる。第２メモリ２６０は、磁気記録媒体またはフラッシュ記録媒体を含んでもよいが、本発明の範囲は、それらに限定されるものではない。
【０１０７】
本発明の一実施形態による第２制御部２５０は、印刷回路配線板４０Ｂ上の１以上の部品４２の、基準面５０からの高さｈ２を含む第４データを獲得することができる。
【０１０８】
また、本発明の一実施形態による第２制御部２５０は、獲得した第４データに、測定高さ補正規則生成装置１０が生成した第１マスク、第２マスク及び第３マスクのうち少なくとも１つのマスクを適用した第５データを生成することができる。例えば、第２制御部２５０は、第４データに、第１マスク、第２マスク及び第３マスクを順次に適用し、第５データを生成することができる。
【０１０９】
第２制御部２５０は、生成された第５データに基づいて、１以上の部品４２の基準面５０からの高さｈ２を決定することができる。
【０１１０】
従来技術によれば、チップマウンタシステムは、高さ測定装置２０のみを具備し、高さ測定装置２０が測定した部品４２の高さに誤差が存在する場合にも、補正することができないという問題点があった。それによって、チップマウンタシステムは、部品が正しく実装されているか否かということを判断する目的を忠実に達成することができなかった。
【０１１１】
本発明は、サンプル４０Ａ（図２）に係わる高さ測定値に対して、測定高さ補正規則生成装置１０が生成した第１マスクないし第３マスクを適用し、高さ測定装置２０が測定した高さ値を補正することにより、さらに正確な高さ測定結果を獲得することができる。
【０１１２】
図９は、高さ測定装置２０が測定した高さ値を、測定高さ補正規則生成装置１０が生成した第１マスク（ＭＡＳＫ  １）、第２マスク（ＭＡＳＫ  ２）及び第３マスク（ＭＡＳＫ  ３）を利用して補正する過程について説明するための図面である。
【０１１３】
図９を参照すれば、印刷回路配線板４０Ｂに総１６個の部品４３が付着しており、高さ測定装置２０は、１６個の部品４３の基準面５０からの高さを測定すると仮定する。また、第１実施形態で説明した方法によって、測定高さ補正規則生成装置１０が、第１マスク２１０、第２マスク３１０及び第３マスク４１０を生成すると仮定する。
【０１１４】
かような仮定の下、高さ測定装置２０は、測定データ５００に、第１マスク２１０、第２マスク３１０及び第３マスク４１０を順次に適用し、最終データ６００を生成することができる。生成された最終データ６００は、チップマウンタシステムの特性による誤差に対する補償処理が反映されたデータであるので、測定データ５００より高い正確度を有することができる。
【０１１５】
図１０は、高さ測定装置２０によって遂行される高さ測定方法について説明するためのフローチャートである。以下では、図８及び図９で説明した内容と重複する内容の詳細な説明は省略する。
【０１１６】
本発明の一実施形態による高さ測定装置２０は、判断対象客体上の１以上の位置の基準面からの高さを含む第４データを獲得することができる（Ｓ９１０）。
【０１１７】
また、本発明の一実施形態による高さ測定装置２０は、獲得した第４データに、測定高さ補正規則生成装置１０が生成した第１マスク、第２マスク及び第３マスクのうち少なくとも１つのマスクを適用した第５データを生成することができる（Ｓ９２０）。例えば、高さ測定装置２０は、図示されているように、第４データに、第１マスク、第２マスク及び第３マスクを順次に適用し、第５データを生成することができる。
【０１１８】
高さ測定装置２０は、生成された第５データに基づいて、１以上の位置の基準面からの高さを決定することができる（Ｓ９３０）。
【０１１９】
従来技術によれば、チップマウンタシステムは、高さ測定装置２０のみを具備し、高さ測定装置２０が測定した部品の高さに誤差が存在する場合にも、補正することができないという問題点があった。それによって、チップマウンタシステムは、部品が正しく実装されているか否かということを判断する目的を忠実に果たすことができなかった。
【０１２０】
本発明は、サンプル４０Ａ（図２）に係わる高さ測定値に対して、測定高さ補正規則生成装置１０が生成した第１マスクないし第３マスクを適用し、高さ測定装置２０が測定した高さ値を補正することにより、さらに正確な高さ測定結果を獲得することができる。
【０１２１】
以上で説明した本発明による実施形態は、コンピュータ上で、多様な構成要素を介して実行されるコンピュータプログラムの形態に具現され、かようなコンピュータプログラムは、コンピュータで判読可能な媒体に記録される。このとき、該媒体は、ハードディスク、フロッピィーディスク及び磁気テープのような磁気媒体；ＣＤ−ＲＯＭ（compact disc read only memory）及びＤＶＤ（digital versatile disc）のような光記録媒体；フロプティカルディスク（floptical disk）のような磁気・光媒体（magneto-optical medium）；及びＲＯＭ（read only memory）、ＲＡＭ（random access memory）、フラッシュメモリのような、プログラム命令言語を保存して実行するように特別に構成されたハードウェア装置を含んでもよい。さらに、該媒体は、ネットワーク上で伝送可能な形態に具現される無形の媒体を含んでもよく、例えば、ソフトウェア形態またはアプリケーション形態に具現され、ネットワークを介して、伝送及び流通が可能な形態の媒体でもある。
【０１２２】
一方、前記コンピュータプログラムは、本発明のために特別に設計されて構成されたものでもあり、コンピュータソフトウェア分野の当業者に公知されて使用可能なものでもある。該コンピュータプログラムの例としては、コンパイラによって使われるような機械語コードだけではなく、インタープリタなどを使用し、コンピュータによって実行される高級言語コードも含まれる。
【０１２３】
本発明で説明する特定の実行は、一実施形態であり、いかなる方法によっても、本発明の範囲を限定するものではない。明細書の簡潔さのために、従来の電子的な構成、制御システム、ソフトウェア、前記システムの他の機能的な側面の記載は省略する。また、図面に図示された構成要素間の線の連結または連結部材は、機能的な連結及び／または物理的または回路的な連結を例示的に示したものであり、実際の装置においては、代替可能であったり追加されたりする多様な機能的な連結、物理的な連結または回路の連結として示される。また、「必須な」、「重要に」のような具体的な言及がなければ、本発明の適用のために、必ずしも必要な構成要素ではないこともある。
【０１２４】
従って、本発明の思想は、前述の実施形態に限って決められるものではなく、特許請求の範囲だけではなく、該特許請求の範囲と均等であるか、あるいはそれらから等価的に変更された全ての範囲は、本発明の思想の範疇に属するものとするのである。
【産業上の利用可能性】
【０１２５】
本発明の、測定高さ補正規則生成装置及びその方法、並びに高さ測定装置及びその方法は、例えば、印刷回路関連の技術分野に効果的に適用可能である。
【符号の説明】
【０１２６】
１０  測定高さ補正規則生成装置
２０  高さ測定装置
３０  映像獲得装置
４０  判断対象客体
４０Ａ  サンプル
４０Ｂ  印刷回路配線板
５０  基準面
１１０  第１制御部
１２０  第１メモリ
２５０  第２制御部
２６０  第２メモリ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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