(57)【要約】【課題】データの取り扱いを容易にすることができるマスクデータ処理方法、マスクデータ処理プログラムを提供する。【解決手段】マスクデータ処理方法は、合成処理部１１４が、複数のメインデータ領域のパターン配置を含むメインデータと、メインデータ領域に隣接して配置されるフレームデータ領域のパターン配置を含むフレームデータと、を合成して合成データを生成する合成ステップと、補正処理部１１５が、合成データに対してパターンの補正を行って補正後合成データを生成する補正ステップと、分割処理部１１６が、補正後合成データを分割して複数の補正後分割データを生成する分割ステップと、を備える。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクデータを取り扱うマスクデータ処理方法であって、
合成処理部が、複数のメインデータ領域のパターン配置を含むメインデータと、前記メインデータ領域に隣接して配置されるフレームデータ領域のパターン配置を含むフレームデータと、を合成して合成データを生成する合成ステップと、
補正処理部が、前記合成データに対してパターンの補正を行って補正後合成データを生成する補正ステップと、
分割処理部が、前記補正後合成データを分割して複数の補正後分割データを生成する分割ステップと、
を備えるマスクデータ処理方法。
【請求項２】
請求項１に記載のマスクデータ処理方法において、
前記分割ステップでは、前記補正後合成データを、前記メインデータ領域及び前記フレームデータ領域に対応する領域毎に分割すること、
を特徴とするマスクデータ処理方法。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載のマスクデータ処理方法において、
複数の前記メインデータ領域には、互いに同一のパターン配置を有したメインデータ領域である共通メインデータ領域が２領域以上含まれており、
前記分割ステップでは、
前記共通メインデータ領域については、前記補正後合成データから、前記フレームデータ領域から特定の距離以上離れており前記フレームデータ領域に隣接しない非隣接領域のデータを前記共通メインデータ領域からさらに分割すること、
を特徴とするマスクデータ処理方法。
【請求項４】
請求項３に記載のマスクデータ処理方法において、
前記特定の距離は、前記メインデータ領域と前記フレームデータ領域との境界から、前記補正ステップにおいて前記フレームデータ領域のパターンの影響を反映した補正演算を行わずに前記共通メインデータ領域内のパターンのみを用いて補正演算を行う領域までの距離であること、
を特徴とするマスクデータ処理方法。
【請求項５】
請求項３又は請求項４に記載のマスクデータ処理方法において、
前記分割処理部は、前記非隣接領域に対応する分割後のデータに関して、１つのデータを前記共通メインデータ領域で共通のデータとすること、
を特徴とするマスクデータ処理方法。
【請求項６】
請求項３から請求項５までのいずれかに記載のマスクデータ処理方法において、
前記補正処理部は、複数存在する前記非隣接領域については、そのうちの１つについてのみ補正を行うこと、
を特徴とするマスクデータ処理方法。
【請求項７】
請求項１から請求項６までのいずれかに記載のマスクデータ処理方法において、
結合部が、前記分割ステップにより分割された複数の補正後分割データを結合して前記補正後合成データを復元する結合ステップをさらに備えること、
を特徴とするマスクデータ処理方法。
【請求項８】
請求項１から請求項６までのいずれかに記載のマスクデータ処理方法をコンピュータに実行させるためのマスクデータ処理プログラムであって、
前記合成ステップと、
前記補正ステップと、
前記分割ステップと、
をコンピュータに実行させるマスクデータ処理プログラム。
【請求項９】
請求項８に記載のマスクデータ処理プログラムを記憶する記憶部と、
前記記憶部に記憶されたマスクデータ処理プログラムを実行することにより、マスクデータを生成する制御部と、
を備えるマスクデータ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マスクデータを取り扱うマスクデータ処理方法、マスクデータ処理プログラム、マスクデータ処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体集積回路等の回路パターン形成に用いるマスクは、マスクデータと呼ばれる描画用のデータに基づいて、電子ビームやレーザを用いてマスク基板上に描画することにより製造される。
マスクデータは、一般に、そのデータ量が膨大なものとなり、データの生成に多大な時間がかかっていた。また、その取り扱いにおいても、例えば、データの送信に多くの時間がかかったり、途中で通信障害があれば全てのデータを再送信する必要があったりして、取り扱いにくく、データ量の低減が要求されている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、データ量を減らすことができるマスク作成用データの形成方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１０−２２１８３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の課題は、データの取り扱いを容易にすることができるマスクデータ処理方法、マスクデータ処理プログラム、マスクデータ処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、以下のような解決手段により、前記課題を解決する。なお、理解を容易にするために、本発明の実施形態に対応する符号を付して説明するが、これに限定されるものではない。
【０００７】
第１の発明は、マスクデータを取り扱うマスクデータ処理方法であって、合成処理部（１１４，１２４）が、複数のメインデータ領域のパターン配置を含むメインデータと、前記メインデータ領域に隣接して配置されるフレームデータ領域のパターン配置を含むフレームデータと、を合成して合成データを生成する合成ステップと、補正処理部（１１５，１２５）が、前記合成データに対してパターンの補正を行って補正後合成データを生成する補正ステップと、分割処理部（１１６，１２６）が、前記補正後合成データを分割して複数の補正後分割データを生成する分割ステップと、を備えるマスクデータ処理方法である。
【０００８】
第２の発明は、第１の発明に記載のマスクデータ処理方法において、前記分割ステップでは、前記補正後合成データを、前記メインデータ領域及び前記フレームデータ領域に対応する領域毎に分割すること、を特徴とするマスクデータ処理方法である。
【０００９】
第３の発明は、第１の発明又は第２の発明に記載のマスクデータ処理方法において、複数の前記メインデータ領域には、互いに同一のパターン配置を有したメインデータ領域である共通メインデータ領域が２領域以上含まれており、前記分割ステップでは、前記共通メインデータ領域については、前記補正後合成データから、前記フレームデータ領域から特定の距離（Ｌ）以上離れており前記フレームデータ領域に隣接しない非隣接領域のデータを前記共通メインデータ領域からさらに分割すること、を特徴とするマスクデータ処理方法である。
【００１０】
第４の発明は、第３の発明に記載のマスクデータ処理方法において、前記特定の距離（Ｌ）は、前記メインデータ領域と前記フレームデータ領域との境界から、前記補正ステップにおいて前記フレームデータ領域のパターンの影響を反映した補正演算を行わずに前記共通メインデータ領域内のパターンのみを用いて補正演算を行う領域までの距離であること、を特徴とするマスクデータ処理方法である。
【００１１】
第５の発明は、第３の発明又は第４の発明に記載のマスクデータ処理方法において、前記分割処理部（１１６，１２６）は、前記非隣接領域に対応する分割後のデータに関して、１つのデータを前記共通メインデータ領域で共通のデータとすること、を特徴とするマスクデータ処理方法である。
【００１２】
第６の発明は、第３の発明から第５の発明までのいずれかに記載のマスクデータ処理方法において、前記補正処理部（１１５，１２５）は、複数存在する前記非隣接領域については、そのうちの１つについてのみ補正を行うこと、を特徴とするマスクデータ処理方法である。
【００１３】
第７の発明は、第１の発明から第６の発明までのいずれかに記載のマスクデータ処理方法において、結合部（１１７，１２７）が、前記分割ステップにより分割された複数の補正後分割データを結合して前記補正後合成データを復元する結合ステップをさらに備えること、を特徴とするマスクデータ処理方法である。
【００１４】
第８の発明は、第１の発明から第６の発明までのいずれかに記載のマスクデータ処理方法をコンピュータに実行させるためのマスクデータ処理プログラムであって、前記合成ステップと、前記補正ステップと、前記分割ステップと、をコンピュータに実行させるマスクデータ処理プログラムである。
【００１５】
第９の発明は、第８の発明に記載のマスクデータ処理プログラムを記憶する記憶部（１１１，１２１）と、前記記憶部（１１１，１２１）に記憶されたマスクデータ処理プログラムを実行することにより、マスクデータを生成する制御部（１１２，１２２）と、を備えるマスクデータ処理装置（１１０，１２０）である。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、データの取り扱いを容易にすることができるマスクデータ処理方法、マスクデータ処理プログラム、マスクデータ処理装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明によるマスクデータ処理装置を含むマスクデータ処理システムの第１実施形態の構成を示すブロック図である。
【図２】第１実施形態におけるマスク処理の流れを示すフローチャートである。
【図３】Ｓ１１０からＳ１３０までの処理を説明する図である。
【図４】Ｓ１４０からＳ１６０までの処理を説明する図である。
【図５】分割された補正後分割データから、補正後合成データを復元する処理を説明する図である。
【図６】第２実施形態におけるマスク処理の流れを示すフローチャートである。
【図７】Ｓ２１０からＳ２３０の処理を説明する図である。
【図８】領域Ｍ１及び領域Ｍ２の説明、及び、Ｓ２４０からＳ２９０の処理を説明する図である。
【図９】分割された補正後分割データから、補正後合成データを復元する処理を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明を実施するための最良の形態について図面等を参照して説明する。
【００１９】
（第１実施形態）
図１は、本発明によるマスクデータ処理装置を含むマスクデータ処理システムの第１実施形態の構成を示すブロック図である。
マスクデータ処理システム１００は、例えば、マスクデータ処理装置１１０と、描画装置１２０とを備えて構成されている。図示は省略するが、マスクデータ処理装置１１０と、描画装置１２０とは、それぞれ送受信部（通信インターフェース等）を備えており、ＬＡＮ、インターネット等の通信網を介して、情報（マスクデータ等）を送受信できる。また、これらの情報は、記憶媒体（ハードディスク等）を利用することにより、装置間を移動してもよい。
【００２０】
なお、本明細書中において、コンピュータとは、記憶装置（ハードディスク等）、制御装置（ＣＰＵ等）等を備えた情報処理装置をいい、マスクデータ処理装置１１０と、描画装置１２０とは、記憶部１１１，１２１、制御部１１２，１２１を備えた情報処理装置としての機能を備えており、コンピュータの概念に含まれる。
【００２１】
マスクデータ処理装置１１０は、不図示のＣＡＤ等を利用して設計されたマスクの設計データが入力されて、実際に描画装置１２０においてマスクの描画に用いるマスクデータを生成する装置である。
マスクデータ処理装置１１０は、記憶部１１１と、制御部１１２とを備えている。
記憶部１１１は、制御部１１２における後述する各部の処理を実行させるためのマスクデータ処理プログラムを記憶している。
制御部１１２は、記憶部１１１に記憶されたマスクデータ処理プログラムを実行することにより、入力部１１３、合成処理部１１４、補正処理部１１５、分割処理部１１６、結合部１１７、出力部１１８として機能する。以下、これら各処理部について説明するが、より具体的な説明は、後述する動作の説明において行う。
【００２２】
入力部１１３は、不図示のＣＡＤ等を利用して設計されたマスクの設計データの入力を受け付ける。入力部１１３は、例えば、通信によりデータを受け付けてもよいし、記憶媒体を介してデータを受け付けてもよい。
【００２３】
合成処理部１１４は、入力部１１３を介して入力された設計データに含まれるメインデータと、フレームデータとを合成して合成データを生成する。なお、メインデータは、ＩＣチップ等の回路を構成するパターンに関する情報からなるデータであり、フレームデータは、マスクを用いて半導体ウェハー上に露光を行うときやその後の工程で必要なパターンに関する情報からなるデータである。
【００２４】
補正処理部１１５は、合成処理部１１４が生成した合成データに対してパターンの補正を行って補正後合成データを生成する。
【００２５】
分割処理部１１６は、補正処理部１１５が補正を行った補正後合成データを、メインデータ領域及びフレームデータ領域に対応する領域毎に分割して複数の補正後分割データを生成する。
分割処理部１１６が分割した補正後分割データは、例えば、それぞれを別データファイルとして通信回路等を利用して他の場所へ送信可能である。
【００２６】
結合部１１７は、分割処理部１１６により分割された複数の補正後分割データを結合して補正後合成データを復元する。結合部１１７が結合し手復元した補正後合成データは、そのまま描画装置１２０によって描画に用いることができる。
【００２７】
出力部１１８は、分割処理部１１６が分割した補正後分割データ、又は、結合部１１７が結合し手復元した補正後合成データを記憶部１１１又は不図示の通信回路や記憶媒体等へ出力する。
【００２８】
描画装置１２０は、不図示の描画機構を備えている。また、描画装置１２０は、記憶部１２１と、制御部１２２とを備えており、マスクデータ処理プログラムを実行することにより、マスクデータ処理装置１１０と同等の機能を実現することができる。すなわち、描画装置１２０の制御部１２２は、制御部１１２の入力部１１３、合成処理部１１４、補正処理部１１５、分割処理部１１６、結合部１１７、出力部１１８と同様に、入力部１２３、合成処理部１２４、補正処理部１２５、分割処理部１２６、結合部１２７、出力部１２８として機能することができる。よって、描画装置１２０は、マスクデータ処理装置１１０の機能を包含している。
【００２９】
描画装置１２０は、自ら単独で描画用のマスクデータ（補正後合成データ）を生成してもよい。また、マスクデータ処理装置１１０から分割された状態で送信された補正後分割データを結合部１２７により結合して補正後合成データを復元して、これを描画用のマスクデータとすることができる。
【００３０】
次に、第１実施形態のマスクデータ処理方法について、その処理の流れについてより詳しく説明する。
図２は、第１実施形態におけるマスク処理の流れを示すフローチャートである。
ステップ（以下、Ｓとする）１１０では、入力部１１３が設計データの入力を受け付ける。入力部１１３によって入力された設計データは、合成処理部１１４においてスマッシュイメージ（合成データ）が作成される。このとき、配置情報（ＪＯＢＤＥＣＫ：ジョブデック）が生成され、この配置情報にしたがって各データが配置されて、合成データが形成される。
【００３１】
図３は、Ｓ１１０からＳ１３０までの処理を説明する図である。
第１実施形態は、メインデータが全て異なるパターンを備えている場合に適合する処理方法である。すなわち、図３に示す様にメインデータＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄの全てのパターンが異なった形状のパターンとなっている。Ｓ１１０では、これらのデータを配置情報（ＪＯＢＤＥＣＫ）にしたがって、配置を行い、図３の下方に示したような合成データを作成する。
【００３２】
Ｓ１２０では、合成処理部１１４は、スマッシュデータ（合成データ）内における各メインデータ領域の情報を作成する。すなわち、合成データ内においてどの位置がメインデータであり、どの位置がフレームデータ領域であるのかを特定する情報を生成する。
【００３３】
Ｓ１３０では、補正処理部１１５は、スマッシュイメージ（合成データ）で補正演算を進める。ここで、補正演算は、露光される状態において近接しているパターンの影響を受けることを補正するが、本実施形態では、スマッシュイメージ（合成データ）で補正演算を行うので、正確な補正が可能である。図３中の破線で示した円は、補正を順次行っていくことを模式的に示したものである。
【００３４】
Ｓ１４０では、分割処理部１１６は、補正後合成データについて、パターンがメインデータ領域Ａ〜Ｄに存在するか否かを判断する。パターンがメインデータ領域Ａ〜Ｄに存在する場合は、Ｓ１５０へ進む。パターンがメインデータ領域Ａ〜Ｄに存在しない場合は、Ｓ１６０へ進む。
【００３５】
Ｓ１５０では、分割処理部１１６は、パターンを該当するメインデータと同じ座標系にしたがった別データとして分割し、出力部１１８がデータ出力する。
なお、このＳ１５０の処理は、各メインデータ領域の全てについて行う。すなわち、ここで説明している例では、メインデータ領域Ａ〜Ｄの４カ所についてそれぞれ、分割して出力する。
【００３６】
図４は、Ｓ１４０からＳ１６０までの処理を説明する図である。
図４の右下に示す様に、分割後の各メインデータ領域Ａ〜Ｄに相当する補正後分割データは、左下の角部分を原点（０，０）としたデータになっている。
【００３７】
Ｓ１６０では、分割処理部１１６は、メイン部以外のデータ、すなわち、Ｓ１５０で分割出力されずに残った領域、すなわち、フレームデータ領域を出力部１１８がデータ出力する。
【００３８】
Ｓ１７０では、全パターンの処理が終了したか否かを判断する。全パターンの処理が終了した場合には、Ｓ１８０へ進む。全パターンの処理が終了していない場合には、Ｓ１４０へ戻る。
【００３９】
Ｓ１８０では、補正後分割データについて、元のメインデータが配置される位置に新しい補正演算後のデータを配置する配置情報（ＪＯＢＤＥＣＫ）を作成する。なお、本実施形態の場合、分割後のデータの座標を最初の設計データの座標と一致させているので、合成時に用いた配置情報と同じ配置情報を用いることが可能である。したがって、このＳ１７０は、省略が可能である。
【００４０】
なお、上記Ｓ１５０からＳ１７０で出力された分割後補正データ及び配置情報は、例えば、記憶部１１１に一時保存されたり、不図示の通信回線等を利用して描画装置１２０へ送信されたりする。
ここで、本実施形態では、合成された膨大なデータ量のデータを取り扱わずに、各メインデータ領域Ａ〜Ｄに相当するデータと、フレーム領域に相当するデータとに分割された補正後分割データを取り扱うことができる。したがって、データの送信中にエラーが生じても、その場合の被害を最小限に抑えることができる。
【００４１】
次に、分割された補正後分割データから、補正後合成データを復元する処理について説明する。
図５は、分割された補正後分割データから、補正後合成データを復元する処理を説明する図である。
分割後補正データは、図５の上方に示す様に、フレームデータ領域に相当するデータと、各メインデータ領域Ａ〜Ｄに相当するデータとに分かれている。これらを配置するための配置情報にしたがって、結合部１２７（１１７）は、各データを配置して１つの補正後合成データとして復元する。この復元後の補正後合成データは、Ｓ１３０において、合成データに対して補正を行った補正後合成データと全く同じものとなる。したがって、この結合して復元された補正後合成データは、そのままマスク描画用のデータとして用いることができる。
なお、この図５の結合処理は、例えば描画装置１２０側の結合部で行われてもよいし、必要に応じて、マスクデータ処理装置１１０の結合部１１７で行われてもよい。
【００４２】
以上説明したように、第１実施形態によれば、メインデータ領域Ａ〜Ｄの４カ所全てのパターンが異なる場合において、補正後合成データを複数領域に分割するので、データの取り扱いを容易にすることができる。また、分割をメインデータ領域Ａ〜Ｄ毎に行うので、結合用の配置情報として合成時と同じものを利用できる。
【００４３】
（第２実施形態）
第２実施形態は、メインデータ領域Ａ１，Ａ２，Ａ３の３カ所全てのパターンが同じであり、メインデータ領域Ｂのみがメインデータ領域Ａ１，Ａ２，Ａ３とは異なっている場合の処理である他は、第１実施形態と同様である。よって、前述した第１実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号を付して、重複する説明を適宜省略する。
図６は、第２実施形態におけるマスク処理の流れを示すフローチャートである。
【００４４】
Ｓ２１０では、入力部１１３が設計データの入力を受け付ける。入力部１１３によって入力された設計データは、合成処理部１１４においてスマッシュイメージ（合成データ）が作成される。このとき、配置情報（ＪＯＢＤＥＣＫ）が生成され、この配置情報にしたがって各データが配置されて、合成データが形成される。
【００４５】
図７は、Ｓ２１０からＳ２３０の処理を説明する図である。
ここで、第２実施形態は、メインデータ領域Ａ１，Ａ２，Ａ３の３カ所全てのパターンが同じであり、メインデータ領域Ｂのみがメインデータ領域Ａ１，Ａ２，Ａ３とは異なっている。よって、メインデータ領域Ａ１，Ａ２，Ａ３のデータとして入力されるデータは、図７におけるデータＡのみであり、それに加えてデータＢ及びデータＣが入力される。
Ｓ１１０では、これらのデータを配置情報（ＪＯＢＤＥＣＫ）にしたがって、配置を行い、図７の下方に示したような合成データを作成する。
【００４６】
Ｓ２２０では、合成データ（スマッシュ）内における各メインデータ領域Ｍ１を作成する。また、複数カ所に配置されるメインデータ領域Ｍ１に対して、メインデータ領域Ｍ１外の影響を受けない領域Ｍ２を作成する。領域Ｍ１及び領域Ｍ２の詳細については、後述する。
【００４７】
Ｓ２３０では、補正処理部１１５は、スマッシュイメージ（合成データ）で補正演算を進める。ここで、補正演算は、露光される状態において近接しているパターンの影響を受けることを補正するが、本実施形態では、スマッシュイメージ（合成データ）で補正演算を行うので、正確な補正が可能である。図７中の破線で示した円は、補正を順次行っていくことを模式的に示したものである。
【００４８】
ここで、領域Ｍ１及び領域Ｍ２について説明する。
図８は、領域Ｍ１及び領域Ｍ２の説明、及び、Ｓ２４０からＳ２９０の処理を説明する図である。
上述したように、第２実施形態では、メインデータ領域Ａ１，Ａ２，Ａ３の３カ所全てのパターンが同じであり、これらは共通メインデータ領域として扱うことができる。そして、この共通メインデータ領域であるメインデータ領域Ａ１，Ａ２，Ａ３については、さらにその領域内に領域Ｍ２を設定する。
【００４９】
この領域Ｍ２は、フレームデータ領域Ｃから特定の距離Ｌ以上離れておりフレームデータ領域Ｃに隣接しない非隣接領域である。ここで、特定の距離Ｌは、メインデータ領域Ｍ１（Ａ１，Ａ２，Ａ３）とフレームデータ領域Ｃとの境界から、補正演算においてフレームデータ領域Ｃのパターンの影響を反映した補正演算を行わずに共通メインデータ領域内（すなわち、メインデータ領域Ａ１，Ａ２，Ａ３内）のパターンのみを用いて補正演算を行う領域までの距離である。この距離Ｌとしては、一般に補正演算（バイアス演算）を行う補正プログラムにおいて、演算エリア等と呼ばれている値を用いることができる。この数値は、マスク生成及びその後の半導体製造に用いる装置によって具体的な値は異なるが、一例としては、演算エリアが８μｍ×８μｍであれば、Ｌ＝８μｍとすることができる。
【００５０】
この補正演算の演算エリアは、補正するパターンの近くに存在する他のパターンの影響を考慮して演算が行われる範囲である。したがって、この距離Ｌ以上、フレームデータ領域Ｃから離れた領域は、フレームデータ領域Ｃに存在するパターンの影響を受けずに、メインデータ領域Ａ１，Ａ２，Ａ３内のパターンのみの影響を考慮した補正演算を行えばよい領域である。本実施形態では、この領域を領域Ｍ２（非隣接領域）として設定している。
【００５１】
そして、本実施形態では、補正後合成データから、非隣接領域である領域Ｍ２のデータを共通メインデータ領域からさらに分割する。領域Ｍ２は、フレームデータ領域Ｃの影響を考慮せずに補正演算が行われる領域である。したがって、メインデータ領域Ａ１，Ａ２，Ａ３内に存在する各領域Ｍ２のいずれも、補正後のパターンデータは同じになる。
そこで、本実施形態では、先に説明したＳ２３０で行う補正演算において、領域Ｍ２については、メインデータ領域Ａ１，Ａ２，Ａ３の何れかの領域Ｍ２だけについて演算を行い、他のメインデータ領域の領域Ｍ２については、演算を省略する。これにより、演算速度を従来と比べて非常に短時間で終了させることができる。例えば、メインデータ領域Ａ１内の領域Ｍ２について補正演算を行うこととした場合には、他のメインデータ領域Ａ２，Ａ３については、メインデータ領域Ａ１内の領域Ｍ２について補正演算を行ったパターンデータを共通のデータとして用いることとする。
【００５２】
また、補正演算後の補正後合成データからは、図８に示すように、フレームデータ領域Ｃと、メインデータ領域Ａ１，Ａ２，Ａ３から領域Ｍ２に相当する領域のパターンデータを除いたメインデータ領域Ａ１’＿Ｍ１，Ａ２’＿Ｍ１，Ａ３’＿Ｍ１と、メインデータ領域Ｂ’＿Ｍ１と、領域Ｍ２に相当する領域Ａ’＿Ｍ２との合計５つのデータが分割されて出力される。
【００５３】
上述した処理の流れを、図６にしたがってさらに説明する。
Ｓ２４０では、分割処理部１１６は、補正後合成データについて、パターンがメインデータ領域Ｍ１に存在するか否かを判断する。パターンがメインデータ領域Ｍ１に存在する場合は、Ｓ２５０へ進む。パターンがメインデータ領域Ｍ１に存在しない場合は、Ｓ２９０へ進む。
【００５４】
Ｓ２５０では、分割処理部１１６は、メインデータ領域Ｍ１内のデータが複数の同一データ領域として存在しているか否かを判断する。すなわち、図８の例では、メインデータ領域Ａ１，Ａ２，Ａ３に対応する各領域のデータが同一であるか否かを判断する。複数の同一データ領域がある場合には、Ｓ２６０へ進み、同一データ領域がない場合には、Ｓ２８０へ進む。
【００５５】
Ｓ２６０では、分割処理部１１６は、パターンが領域Ｍ２内にあるか否かを判断する。パターンが領域Ｍ２内にある場合には、Ｓ２７０へ進み、パターンが領域Ｍ２内にない場合には、Ｓ２８０へ進む。
【００５６】
Ｓ２７０では、分割処理部１１６は、領域Ｍ２に関して、パターンを該当するメインデータと同じ座標系にしたがった別データとして分割し、出力部１１８がデータ出力する。
【００５７】
Ｓ２８０では、分割処理部１１６は、領域Ｍ２が分割されて残った領域Ｍ１に関して、パターンを該当するメインデータと同じ座標系にしたがった別データとして分割し、出力部１１８がデータ出力する。
【００５８】
なお、このＳ２５０からＳ２８０の処理は、各メインデータ領域の全てについて行う。すなわち、ここで説明している例では、メインデータ領域Ａ１〜Ａ３及びメインデータ領域Ｂの４カ所についてそれぞれ、分割して出力する。
【００５９】
Ｓ２９０では、分割処理部１１６は、メイン部以外のデータ、すなわち、Ｓ２７０，Ｓ２８０で分割出力されずに残った領域、すなわち、フレームデータ領域を出力部１１８がデータ出力する。
【００６０】
Ｓ３００では、全パターンの処理が終了したか否かを判断する。全パターンの処理が終了した場合には、Ｓ３１０へ進む。全パターンの処理が終了していない場合には、Ｓ２４０へ戻る。
【００６１】
Ｓ３１０では、補正後分割データについて、元のメインデータが配置される位置に新しい補正演算後の領域Ｍ１，Ｍ２のデータを配置する配置情報（ＪＯＢＤＥＣＫ）を作成する。
【００６２】
以上の処理により、図８の例では、パターンがメインデータ領域Ｍ１に存在した場合、オリジナルのデータサイズでバイアス処理後のパターンが出力される。その際、メインデータ領域Ｍ１より外側のパターン（フレーム領域Ｃ）の影響を受けるパターンは、領域Ｍ２を除いた領域Ｍ１として出力される。また、領域Ｍ１より外側のパターンの影響を受けないパターンは、領域Ｍ２として分割されて出力される。領域Ｍ２は、各メインデータ領域Ａ１，Ａ２，Ａ３に対して共通で使用可能である。領域Ｍ１より外側のパターンはフレームデータ領域Ｃ（スクライブ）として出力される。なお、領域Ｍ２の補正演算は、メインデータ領域Ａ１，Ａ２，Ａ３のいずれかの領域一箇所のみ行うことで足りるため、補正演算時間を短縮可能である。
【００６３】
図９は、分割された補正後分割データから、補正後合成データを復元する処理を説明する図である。
分割後補正データは、図９の上方に示す様に、フレームデータ領域に相当するデータと、各メインデータ領域Ａ１〜Ａ３に相当するデータと、領域Ｍ２に相当するデータと、メインデータ領域Ｂに相当するデータとに分かれている。これらを配置するための配置情報にしたがって、結合部１２７（１１７）は、各データを配置して１つの補正後合成データとして復元する。この復元後の補正後合成データは、Ｓ２３０において、合成データに対して補正を行った補正後合成データと全く同じものとなる。したがって、この結合して復元された補正後合成データは、そのままマスク描画用のデータとして用いることができる。
なお、この図９の結合処理は、例えば描画装置１２０側の結合部で行われてもよいし、必要に応じて、マスクデータ処理装置１１０の結合部１１７で行われてもよい。
【００６４】
以上説明したように、第２実施形態では、フレームデータ領域Ｃの影響を受けない共通する領域Ｍ２を設定し、これを分割し、かつ、共用する。したがって、補正演算の時間を飛躍的に短くすることができ、また、データが分割されていることから、データの取り扱いを容易にすることができる。
【００６５】
（変形形態）
以上説明した実施形態に限定されることなく、種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の範囲内である。
【００６６】
各実施形態において、メインデータ領域が４つの例を挙げて説明した。これに限らず、これらの領域の数や配置は、適宜変更可能である。
【００６７】
第２実施形態において、距離Ｌは、演算エリアに基づいて決めている例を挙げて説明した。これに限らず、例えば、距離Ｌは、演算エリアに余裕を付けた距離として設定してもよく、適宜変更可能である。
【００６８】
なお、実施形態及び変形形態は、適宜組み合わせて用いることもできるが、詳細な説明は省略する。また、本発明は、以上説明した各実施形態によって限定されることはない。
【符号の説明】
【００６９】
１００  マスクデータ処理システム
１１０  マスクデータ処理装置
１１１  記憶部
１１２  制御部
１１３  入力部
１１４  合成処理部
１１５  補正処理部
１１６  分割処理部
１１７  結合部
１１８  出力部
１２０  描画装置
１２１  記憶部
１２２  制御部
１２３  入力部
１２４  合成処理部
１２５  補正処理部
１２６  分割処理部
１２７  結合部
１２８  出力部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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