(57)【要約】      （修正有）【課題】干渉縞が発生しにくい折り畳み可能な光学フィルム、これを備えた画像表示装置を提供する。【解決手段】画像表示装置に用いられる折り畳み可能な光学フィルム１０であって、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、およびポリエステル系樹脂からなる群から選択される１種以上の樹脂からなる樹脂基材１１と、樹脂基材１１の第１の面１１Ａ側に設けられた機能層１２と、樹脂基材１１と機能層１２の間に設けられ、かつ機能層１２に隣接した第１の光学調整層１３と、を備える、光学フィルム１０が提供される。【選択図】図１
2018159913.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像表示装置に用いられる折り畳み可能な光学フィルムであって、
ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、およびポリエステル系樹脂からなる群から選択される１種以上の樹脂からなる樹脂基材と、
前記樹脂基材の第１の面側に設けられた機能層と、
前記樹脂基材と前記機能層の間に設けられ、かつ前記機能層に隣接した第１の光学調整層と、
を備える、光学フィルム。
【請求項２】
前記第１の光学調整層の屈折率が、前記樹脂基材の屈折率よりも低く、かつ前記機能層の屈折率よりも高い、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記第１の光学調整層の膜厚が、３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項４】
前記樹脂基材と前記第１の光学調整層の間に設けられ、かつ前記樹脂基材に隣接した第２の光学調整層をさらに備える、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項５】
前記第２の光学調整層の膜厚が、３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項６】
前記樹脂基材における前記第１の面側とは反対側の第２の面側に設けられた膜厚が５０μｍ以上３００μｍ以下の樹脂層をさらに備え、前記光学フィルムにおける２５℃、５００Ｈｚ以上１０００Ｈｚ以下の周波数域での剪断貯蔵弾性率Ｇ´が、２００ＭＰａを超え１２００ＭＰａ以下であり、かつ前記光学フィルムにおける２５℃、５００Ｈｚ以上１０００Ｈｚ以下の周波数域での剪断損失弾性率Ｇ´´が、３ＭＰａ以上１５０ＭＰａ以下である、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項７】
前記樹脂基材における前記第１の面とは反対側の第２の面に設けられた第３の光学調整層をさらに備える、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項８】
前記樹脂基材と前記樹脂層との間に設けられ、かつ前記樹脂基材に隣接した第３の光学調整層をさらに備える、請求項６に記載の光学フィルム。
【請求項９】
前記光学フィルムのイエローインデックスが、１５以下である、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項１０】
前記光学フィルムにおいて、前記機能層が内側となり、かつ前記光学フィルムの対向する辺部の間隔が１０ｍｍとなるように１８０°折り畳む試験を１万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じない、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項１１】
前記光学フィルムにおいて、前記機能層が外側となり、かつ前記光学フィルムの対向する辺部の間隔が３０ｍｍとなるように１８０°折り畳む試験を１万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じない、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項１２】
画像表示装置に用いられる折り畳み可能な光学フィルムであって、
光透過性基材と、
前記光透過性基材の第１の面側に設けられた第１の帯電防止層と、
前記光透過性基材の前記第１の面とは反対側の第２の面側に設けられた第２の帯電防止層と、
を備える、光学フィルム。
【請求項１３】
前記光学フィルムのイエローインデックスが、１５以下である、請求項１２に記載の光学フィルム。
【請求項１４】
前記第１の帯電防止層が、帯電防止性ハードコート層である、請求項１２に記載の光学フィルム。
【請求項１５】
前記第１の帯電防止層における前記光透過性基材側とは反対側に設けられた光学調整層をさらに備える、請求項１２に記載の光学フィルム。
【請求項１６】
前記光透過性基材と前記第１の帯電防止層との間に設けられたハードコート層をさらに備える、請求項１２に記載の光学フィルム。
【請求項１７】
２３℃、相対湿度５０％の環境下で、前記光学フィルムの表面より５０ｍｍの距離から１０ｋＶの電圧を印加したときの前記光学フィルムの前記表面における飽和帯電圧の絶対値が、０ｋＶを越える、請求項１２に記載の光学フィルム。
【請求項１８】
前記光学フィルムにおいて、前記光学フィルムの対向する辺部の間隔が３ｍｍとなるように１８０°折り畳む試験を１０万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じない、請求項１２に記載の光学フィルム。
【請求項１９】
前記光透過性基材が、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、またはこれらの混合物からなる基材である、請求項１２に記載の光学フィルム。
【請求項２０】
表示素子と、
前記表示素子よりも観察者側に配置された請求項１または１２に記載の光学フィルムと、
を備えることを特徴とする、折り畳み可能な画像表示装置。
【請求項２１】
前記表示素子が、有機発光ダイオード素子である、請求項２０に記載の画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルムおよび画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、スマートフォンやタブレット端末等の画像表示装置が知られているが、現在、折り畳み可能な画像表示装置の開発が行われている。通常、スマートフォンやタブレット端末等はカバーガラスで覆われているが、ガラスは、一般的に、硬度は優れるものの、曲がらないので、画像表示装置にカバーガラスを用いた場合には、折り畳もうとすると割れてしまうおそれが高い。このため、折り畳み可能な画像表示装置には、カバーガラスの代わりに、曲げられる樹脂基材とハードコート層とを備える折り畳み可能な光学フィルムを用いることが検討されている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１６−１２５０６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このような折り畳み可能な光学フィルムにおいて、一般的に曲げられる樹脂基材を構成する樹脂は屈折率が高いので、樹脂基材とハードコート層の屈折率差が大きくなる。このため、樹脂基材とハードコート層との屈折率差に起因して、虹色状のムラである干渉縞が発生するおそれがある。
【０００５】
干渉縞の発生を抑制するためには、ハードコート層の膜厚を厚くするという方法もあるが、ハードコート層の膜厚を厚くすると、折り畳み時にハードコート層が割れてしまうという問題がある。このため、折り畳み可能であり、かつ干渉縞が発生しにくい光学フィルムは得られていないのが現状である。
【０００６】
一方で、このような光学フィルムにおいては、画像表示装置に組み込む組立工程中に埃が付着し、また傷が付くことがあり、歩留まりが低下することがある。折り畳み可能な光学フィルムに用いられる基材は、非常に高価であるため、歩留まりを向上させることが望まれている。このようなことから、保護フィルムを光学フィルムの両面に貼り付けることがあるが、光学フィルムから保護フィルムを剥がす際に、光学フィルムの両面が帯電してしまうので、歩留まりを向上させることができないのが、現状である。
【０００７】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものである。すなわち、干渉縞が発生しにくい折り畳み可能な光学フィルム、これを備えた画像表示装置を提供することを目的とする。また、画像表示装置の組立工程の歩留まりを向上させることが可能な折り畳み可能な光学フィルム、これを備えた画像表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一の態様によれば、画像表示装置に用いられる折り畳み可能な光学フィルムであって、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、およびポリエステル系樹脂からなる群から選択される１種以上の樹脂からなる樹脂基材と、前記樹脂基材の第１の面側に設けられた機能層と、前記樹脂基材と前記機能層の間に設けられ、かつ前記機能層に隣接した第１の光学調整層と、を備える、光学フィルムが提供される。
【０００９】
上記光学フィルムにおいて、前記第１の光学調整層の屈折率が、前記樹脂基材の屈折率よりも低く、かつ前記機能層の屈折率よりも高くてもよい。
【００１０】
上記光学フィルムにおいて、前記第１の光学調整層の膜厚が、３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であってもよい。
【００１１】
上記光学フィルムにおいて、前記樹脂基材と前記第１の光学調整層の間に設けられ、かつ前記樹脂基材に隣接した第２の光学調整層をさらに備えていてもよい。
【００１２】
上記光学フィルムにおいて、前記第２の光学調整層の膜厚が、３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であってもよい。
【００１３】
上記光学フィルムにおいて、前記樹脂基材における前記第１の面側とは反対側の第２の面側に設けられた膜厚が５０μｍ以上３００μｍ以下の樹脂層をさらに備え、前記光学フィルムにおける２５℃、５００Ｈｚ以上１０００Ｈｚ以下の周波数域での剪断貯蔵弾性率Ｇ´が、２００ＭＰａを超え１２００ＭＰａ以下であり、かつ前記光学フィルムにおける２５℃、５００Ｈｚ以上１０００Ｈｚ以下の周波数域での剪断損失弾性率Ｇ´´が、３ＭＰａ以上１５０ＭＰａ以下であってもよい。
【００１４】
上記光学フィルムにおいて、前記樹脂基材における前記第１の面とは反対側の第２の面に設けられた第３の光学調整層をさらに備えていてもよい。
【００１５】
上記光学フィルムにおいて、前記樹脂基材と前記樹脂層との間に設けられ、かつ前記樹脂基材に隣接した第３の光学調整層をさらに備えていてもよい。
【００１６】
上記光学フィルムにおいて、前記光学フィルムのイエローインデックスが、１５以下であってもよい。
【００１７】
上記光学フィルムにおいて、前記機能層が内側となり、かつ前記光学フィルムの対向する辺部の間隔が１０ｍｍとなるように１８０°折り畳む試験を１万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことが好ましい。
【００１８】
上記光学フィルムにおいて、前記機能層が外側となり、かつ前記光学フィルムの対向する辺部の間隔が３０ｍｍとなるように１８０°折り畳む試験を１万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことが好ましい。
【００１９】
本発明の他の態様によれば、画像表示装置に用いられる折り畳み可能な光学フィルムであって、光透過性基材と、前記光透過性基材の第１の面側に設けられた第１の帯電防止層と、前記光透過性基材の前記第１の面とは反対側の第２の面側に設けられた第２の帯電防止層と、を備える、光学フィルムが提供される。
【００２０】
上記光学フィルムにおいて、前記光学フィルムのイエローインデックスが、１５以下であってもよい。
【００２１】
上記光学フィルムにおいて、前記第１の帯電防止層が、帯電防止性ハードコート層であってもよい。
【００２２】
上記光学フィルムにおいて、前記第１の帯電防止層における前記光透過性基材側とは反対側に設けられた光学調整層をさらに備えていてもよい。
【００２３】
上記光学フィルムにおいて、前記光透過性基材と前記第１の帯電防止層との間に設けられたハードコート層をさらに備えていてもよい。
【００２４】
上記光学フィルムにおいて、２３℃、相対湿度５０％の環境下で、前記光学フィルムの表面より５０ｍｍの距離から１０ｋＶの電圧を印加したときの前記光学フィルムの前記表面における飽和帯電圧の絶対値が、０ｋＶを越えていてもよい。
【００２５】
前記光学フィルムにおいて、前記光学フィルムの対向する辺部の間隔が３ｍｍとなるように１８０°折り畳む試験を１０万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことが好ましい。
【００２６】
前記光学フィルムにおいて、前記光透過性基材が、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、またはこれらの混合物からなる基材であってもよい。
【００２７】
本発明の他の態様によれば、表示素子と、前記表示素子よりも観察者側に配置された上記の光学フィルムと、を備えることを特徴とする、折り畳み可能な画像表示装置が提供される。
【００２８】
上記画像表示装置において、前記表示素子が、有機発光ダイオード素子であってもよい。
【発明の効果】
【００２９】
本発明の一の態様によれば、干渉縞が発生しにくい折り畳み可能な光学フィルムを提供できる。また、本発明の他の態様によれば、画像表示装置の組立工程の歩留まりを向上させることが可能な折り畳み可能な光学フィルムを提供できる。さらに、本発明の他の態様によれば、このような光学フィルムを備える画像表示装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】図１は第１の実施形態に係る光学フィルムの概略構成図である。
【図２】図２は連続折り畳み試験の様子を模式的に示した図である。
【図３】図３は折り畳み静置試験の様子を模式的に示した図である。
【図４】図４は第１の実施形態に係る他の光学フィルムの概略構成図である。
【図５】図５は第１の実施形態に係る他の光学フィルムの概略構成図である。
【図６】図６は第１の実施形態に係る他の光学フィルムの概略構成図である。
【図７】図７は第１の実施形態に係る他の光学フィルムの概略構成図である。
【図８】図８は剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´を測定する際に用いる固体剪断用治具の概略構成図である。
【図９】第１の実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。
【図１０】第２の実施形態に係る光学フィルムの概略構成図である。
【図１１】第２の実施形態に係る他の光学フィルムの概略構成図である。
【図１２】第２の実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
［第１の実施形態］
以下、本発明の第１の実施形態に係る光学フィルムおよび画像表示装置について、図面を参照しながら説明する。本明細書において、「フィルム」、「シート」等の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。したがって、例えば、「フィルム」はシートとも呼ばれるような部材も含む意味で用いられる。図１は本実施形態に係る光学フィルムの概略構成図であり、図２（Ａ）〜図２（Ｃ）は連続折り畳み試験の様子を模式的に示した図であり、図３（Ａ）および図３（Ｂ）は折り畳み静置試験の様子を模式的に示した図である。図４〜図７は実施形態に係る他の光学フィルムの概略構成図であり、図８は剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´を測定する際に用いる固体剪断用治具の概略構成図である。
【００３２】
＜＜＜光学フィルム＞＞＞
図１に示される光学フィルム１０は、画像表示装置に用いられるものであり、折り畳み可能となっている。
【００３３】
光学フィルム１０は、樹脂基材１１と、樹脂基材１１の一方の面である第１の面１１Ａ側に設けられた機能層１２と、樹脂基材１１と機能層１２の間に設けられ、機能層１２に隣接した第１の光学調整層１３（以下、単に「光学調整層１３」と称することもある。）とを備えるものである。図１に示される光学フィルム１０においては、樹脂基材１１と第１の光学調整層１３の間に設けられ、かつ樹脂基材１１に隣接した第２の光学調整層１４（以下、単に「光学調整層１４」と称することもある。）と、樹脂基材１１の第１の面１１Ａとは反対側の面である第２の面１１Ｂに設けられた第３の光学調整層１５（以下、単に「光学調整層１５」と称することもある。）とをさらに備えている。第２の光学調整層１４および／または第３の光学調整層１５は備えられていなくともよい。また、光学フィルム１０は、後述する光学フィルム４０のように、樹脂基材１１の第２の面１１Ｂ側に樹脂層をさらに備えていてもよい。本明細書における「機能層」とは、光学フィルムにおいて、何らかの機能を発揮することを意図された層である。具体的には、機能層としては、例えば、ハードコート層、帯電防止層、防汚層等が挙げられる。機能層１２は、ハードコート層として機能するものである。また、機能層１２は単層構造となっているが、機能層は単層構造のみならず、２層以上の多層構造であってもよい。また、本明細書における各「光学調整層」は、単層構造であり、２層以上の多層構造ではない。なお、図１においては、樹脂基材１１と機能層１２との間に、第１の光学調整層１３および第２の光学調整層１４の２層の光学調整層が設けられているが、第１の光学調整層１３と第２の光学調整層１４との間に、他の光学調整層等をさらに設けて、３層以上の構造としてもよい。
【００３４】
図１においては、光学フィルム１０の表面１０Ａは、機能層１２の表面１２Ａとなっている。なお、本明細書においては、光学フィルムの表面は光学フィルムの片側の表面を意味するものとして用いるので、光学フィルムの表面とは反対側の面は、光学フィルムの表面と区別するために裏面と称するものとする。光学フィルム１０の裏面１０Ｂは、光学調整層１５における樹脂基材１１側の面とは反対側の面１５Ａとなっている。
【００３５】
光学フィルム１０は、折り畳み可能となっている。具体的には、機能層１２が内側となり、かつ光学フィルム１０の対向する辺部の間隔が１０ｍｍとなるように光学フィルム１０を連続的に折り畳む試験（連続折り畳み試験）を１万回繰り返し行った場合であっても、光学フィルム１０に割れまたは破断が生じないことが好ましく、連続折り畳み試験を２万回繰り返し行った場合であっても、光学フィルム１０に割れまたは破断が生じないことがより好ましく、１０万回繰り返し行った場合であっても、光学フィルム１０に割れまたは破断が生じないことがさらに好ましい。光学フィルム１０に対し連続折り畳み試験を１万回繰り返し行った場合に、光学フィルム１０に割れ等が生じると、光学フィルム１０の折り畳み性が不充分となる。また、機能層１２が外側となり、かつ光学フィルム１０の対向する辺部の間隔が３０ｍｍとなるように光学フィルム１０を連続的に折り畳む試験（連続折り畳み試験）を１万回繰り返し行った場合であっても、光学フィルム１０に割れまたは破断が生じないことが好ましく、連続折り畳み試験を２万回繰り返し行った場合であっても、光学フィルム１０に割れまたは破断が生じないことがより好ましく、１０万回繰り返し行った場合であっても、光学フィルム１０に割れまたは破断が生じないことがさらに好ましい。
【００３６】
機能層１２が内側となるように光学フィルム１０を連続的に折り畳む連続折り畳み試験は、以下のようにして行われる。図２（Ａ）に示すように連続折り畳み試験においては、まず、光学フィルム１０の辺部１０Ｃと、辺部１０Ｃと対向する辺部１０Ｄとを、平行に配置された固定部２０でそれぞれ固定する。なお、光学フィルム１０は、任意の形状であってよいが、連続折り畳み試験における光学フィルム１０は、矩形（例えば、３０ｍｍ×１００ｍｍの矩形）であることが好ましい。また、図２（Ａ）に示すように、固定部２０は水平方向にスライド移動可能になっている。
【００３７】
次に、図２（Ｂ）に示すように、固定部２０を互いに近接するように移動させることで、機能層１２が内側となるように、すなわち光学フィルム１０の表面１０Ａが内側となるように、かつ光学フィルム１０を折り畳むように変形させ、更に、図２（Ｃ）に示すように、光学フィルム１０の固定部２０で固定された対向する２つの辺部の間隔が１０ｍｍとなる位置まで固定部２０を移動させた後、固定部２０を逆方向に移動させて光学フィルム１０の変形を解消させる。
【００３８】
図２（Ａ）〜（Ｃ）に示すように固定部２０を移動させることで、光学フィルム１０を１８０°折り畳むことができる。また、光学フィルム１０の屈曲部１０Ｅが固定部２０の下端からはみ出さないように連続折り畳み試験を行い、かつ固定部２０が最接近したときの間隔を１０ｍｍに制御することで、光学フィルム１０の対向する２つの辺部の間隔を１０ｍｍにできる。この場合、屈曲部１０Ｅの外径を１０ｍｍとみなす。なお、光学フィルム１０の厚みは、固定部２０の間隔（１０ｍｍ）と比較して充分に小さな値であるため、光学フィルム１０の連続折り畳み試験の結果は、光学フィルム１０の厚みの違いによる影響は受けないとみなすことができる。光学フィルム１０においては、機能層１２が内側となり、かつ光学フィルム１０の対向する辺部の間隔が１０ｍｍとなるように１８０°折り畳む連続折り畳み試験を１万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことがさらに好ましく、機能層１２が内側となり、かつ光学フィルム１０の対向する辺部の間隔が２ｍｍとなるように１８０°折り畳む連続折り畳み試験を１万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことが最も好ましい。
【００３９】
光学フィルム１０においては、図３（Ａ）に示されるように、光学フィルム１０の辺部１０Ｃと、辺部１０Ｃと対向する辺部１０Ｄとを、辺部１０Ｃと辺部１０Ｄの間隔が１０ｍｍとなるように平行に配置された固定部２５でそれぞれ固定して、光学フィルム１０を折り畳んだ状態で、７０℃で１２時間静置する折り畳み静置試験を行い、図３（Ｂ）に示されるように、折り畳み静置試験後に辺部１０Ｄから固定部２５を外すことによって、折り畳み状態を開放して、室温で３０分後に光学フィルム１０において光学フィルム１０が自然に開く角度である開き角θを測定した場合に、光学フィルム１０の開き角θが１００°以上であることが好ましい。なお、開き角θは、大きいほど復元性が良好であることを意味し、最大で１８０°である。折り畳み静置試験は、機能層１２が内側となるように光学フィルム１０を折り畳むように行われてもよく、また機能層１２が外側となるように光学フィルム１０を折り畳むように行われてもよいが、いずれの場合であっても、開き角θが１００°以上であることが好ましい。
【００４０】
光学フィルム１０の表面１０Ａ（機能層１２の表面１２Ａ）は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４：１９９９で規定される鉛筆硬度試験で測定されたときの硬度（鉛筆硬度）が、３Ｈ以上であることが好ましく、４Ｈ以上であることがより好ましい。鉛筆硬度試験は、３０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した光学フィルム１０をガラス板上に折れやシワがないようニチバン株式会社製のセロテープ（登録商標）で固定し、光学フィルムの表面に対し鉛筆硬度試験機（製品名「鉛筆引っかき塗膜硬さ試験機（電動式）」、株式会社東洋精機製作所製）を用いて、鉛筆（製品名「ユニ」、三菱鉛筆株式会社製）に７５０ｇの荷重を加えながら鉛筆を１ｍｍ／秒の移動速度で移動させることにより行うものとする。鉛筆硬度は、鉛筆硬度試験において光学フィルムの表面に傷が付かなかった最も高い硬度とする。なお、鉛筆硬度の測定の際には、硬度が異なる鉛筆を複数本用いて行うが、鉛筆１本につき５回鉛筆硬度試験を行い、５回のうち４回以上光学フィルムの表面に傷が付かなかった場合には、この硬度の鉛筆においては光学フィルムの表面に傷が付かなかったと判断する。上記傷は、鉛筆硬度試験を行った光学フィルムの表面を蛍光灯下で透過観察して視認されるものを指す。
【００４１】
光学フィルム１０の表面１０Ａの表面抵抗値は、１０１２Ω／□以下であることが好ましい。表面抵抗値は、ＪＩＳ  Ｋ６９１１：２００６に準拠して、抵抗率計（製品名「ハイレスタ−ＵＰ  ＭＣＰ−ＨＴ４５０」、三菱化学アナリテック社製、プローブ：ＵＲＳ）を用いて、測定することができる。光学フィルム１０の表面１０Ａの表面抵抗値は、５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切り出した光学フィルム１０の表面１０Ａの表面抵抗値をランダムに１０箇所測定し、測定した１０箇所の表面抵抗値の算術平均値とする。
【００４２】
光学フィルム１０においては、２３℃、相対湿度５０％の環境下で、光学フィルム１０の表面１０Ａより５０ｍｍの距離から１０ｋＶの電圧を印加したときの光学フィルム１０の表面１０Ａにおける飽和帯電圧が、０ｋＶを越えていることが好ましい。また、同様に、２３℃、相対湿度５０％の環境下で、光学フィルム１０の裏面１０Ｂより２０ｍｍの距離から１０ｋＶの電圧を印加したときの光学フィルム１０の裏面１０Ｂにおける飽和帯電圧が、０ｋＶを越えていることが好ましい。飽和帯電圧とは、光学フィルムが蓄積できる最大電圧である。タッチセンサよりも観察者側に帯電防止ハードコート層を備える光学フィルムを配置した場合、帯電防止ハードコート層によってはタッチセンサによる指等の位置検出ができなくなるおそれがあるが、光学フィルム１０の表面１０Ａにおける飽和帯電圧が、０ｋＶを超えていれば、タッチセンサよりも観察者側に光学フィルム１０を配置した場合であっても、タッチセンサによる指等の位置検出ができる。飽和帯電圧は、帯電電荷減衰度測定器（製品名「Ｈ−０１１０」、シシド静電気社製）を用いて測定することができる。飽和帯電圧は、１００ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムに対して３回測定して得られた値の算術平均値とする。上記飽和帯電圧の下限は、０．１ｋＶ以上であることがより好ましく、上記飽和帯電圧の上限は、３ｋＶ以下であることがより好ましい。
【００４３】
光学フィルム１０は、イエローインデックス（ＹＩ）が１５以下であることが好ましい。光学フィルム１０のＹＩが１５以下であれば、光学フィルムの黄色味を抑制でき、透明性が求められる用途に適用できる。光学フィルム１０のイエローインデックス（ＹＩ）の上限は、１０以下であることがより好ましい。イエローインデックス（ＹＩ）は、分光光度計（製品名「ＵＶ−２４５０」、島津製作所社製、光源：タングステンランプおよび重水素ランプ）内に５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムの裏面側が光源側となるように配置した状態で測定した光学フィルムの波長３００ｎｍ〜７８０ｎｍの透過率からＪＩＳ  Ｚ８７２２：２００９に記載された演算式に従って色度三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを計算し、三刺激値Ｘ、Ｙ、ＺからＡＳＴＭ  Ｄ１９２５：１９６２に記載された演算式に従って算出された値である。光学フィルム１０のイエローインデックス（ＹＩ）の上限は、１０以下であることがより好ましい。上記イエローインデックス（ＹＩ）は、光学フィルム１枚に対して３回測定し、３回測定して得られた値の算術平均値とする。なお、ＵＶ−２４５０においては、イエローインデックスは、ＵＶ−２４５０に接続されたモニター上で、上記透過率の測定データを読み込み、計算項目にて「ＹＩ」の項目にチェックを入れることによって算出される。波長３００ｎｍ〜７８０ｎｍの透過率の測定は、以下の条件で、波長３００ｎｍ〜７８０ｎｍにおいてそれぞれ前後１ｎｍの間で最低５ポイント分の透過率を測定し、その平均値を算出することによって求めるものとする。また、分光透過率のスペクトルにうねりが出るようであれば、デルタ５．０ｎｍでスムージング処理を行ってもよい。
（測定条件）
・波長域：３００ｎｍ〜７８０ｎｍ
・スキャン速度：高速
・スリット幅：２．０
・サンプリング間隔：オート（０．５ｎｍ間隔）
・照明：Ｃ
・光源：Ｄ２およびＷＩ
・視野：２°
・光源切替波長：３６０ｎｍ
・Ｓ／Ｒ切替：標準
・検出器：ＰＭ
・オートゼロ：ベースラインのスキャン後５５０ｎｍにて実施
【００４４】
光学フィルム１０のイエローインデックス（ＹＩ）を調整するために、例えば、樹脂基材１１、機能層１２、光学調整層１３、１４の少なくともいずれかに、黄色の補色となる青色の色素を含有させてもよい。樹脂基材として、ポリイミド系基材を用いたことで、黄色味が問題となるような場合であったとしても、樹脂基材１１等に青色の色素を含ませることで、光学フィルムのイエローインデックス（ＹＩ）を低下させることができる。
【００４５】
上記青色の色素としては、顔料または染料のいずれであってもよいが、例えば、光学フィルム１０が有機発光ダイオード表示装置に用いる場合、耐光性や耐熱性を兼ね備えたものが好ましい。上記青色の色素として、多環系有機顔料や金属錯体有機顔料等は、染料の分子分散に比べて紫外線による分子裂断の度合いが少なく耐光性が格段に優れるため、耐光性等が求められる用途に好ましく、より具体的には、フタロシアニン系の有機顔料等が好適に挙げられる。ただし、顔料は溶媒に対して粒子分散するため、粒子散乱による透明性阻害は存在するため、顔料分散体の粒度をレイリー散乱域に入れることが好ましい。一方、光学フィルムの透明性が重要視される場合には、上記青色の色素としては、溶媒に対して分子分散する染料を用いることが好ましい。また、上記青色の色素として、コバルトブルー等の無機顔料を用いてもよい。
【００４６】
光学フィルム１０に向けて光学調整層１５側から波長３００ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の領域において連続スペクトルを有する光を入射角度０°で照射し、光学フィルム１０を透過した光（透過光）におけるＬ*ａ*ｂ*表色系の色座標ａ*、ｂ*を求めたとき、ａ*が−３．０以上２．０以下であり、ｂ*が−２．０以上８．０以下であることが好ましい。ａ*およびｂ*がそれぞれ前記範囲内にあれば、イエローインデックスを１５以下にすることができる。ａ*およびｂ*の測定は、分光光度計（製品名「ＵＶ−２４５０」、島津製作所社製）を用いて行うことができる。光源としては、タングステンハロゲン（ＷＩ）ランプ単体、または重水素（Ｄ２）ランプとタングステンハロゲン（ＷＩ）ランプとの併用が挙げられる。本明細書において、「入射角度０°の光」とは、光学フィルムの第１の面の法線方向を０°としたときの前記法線方向の光を意味する。「Ｌ*ａ*ｂ*表色系」、「ａ*」、および「ｂ*」は、ＪＩＳ  Ｚ８７２９：２００４に準拠するものである。
【００４７】
光学フィルム１０の波長３８０ｎｍの分光透過率は８％以下であることが好ましい。光学フィルムの上記分光透過率が８％を超えると、光学フィルムをモバイル端末に用いた場合、偏光子が紫外線に晒されて、劣化しやすくなるおそれがある。上記透過率は、分光光度計（製品名「ＵＶ−２４５０」、島津製作所社製）を用いて測定することができる。上記分光透過率の測定条件は、上記波長３００ｎｍ〜７８０ｎｍにおける分光透過率の測定条件と同様である。上記透過率は、５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムに対して３回測定し、３回測定して得られた値の算術平均値とする。光学フィルム１０の上記透過率の上限は５％であることがより好ましい。なお、光学フィルム１０の上記透過率は、後述する紫外線吸収剤の添加量を調整すること等によって達成することができる。
【００４８】
光学フィルム１０の全光線透過率は、８５％以上であることが好ましい。光学フィルム１０の全光線透過率が８５％以上であれば、光学フィルム１０をモバイル端末に用いた場合に充分な画像視認性を得ることができる。光学フィルム１０の全光線透過率は、８７％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが最も好ましい。
【００４９】
上記全光線透過率は、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、株式会社村上色彩技術研究所製）を用いてＪＩＳ  Ｋ７３６１−１：１９９７に準拠した方法により測定することができる。上記全光線透過率は、光学フィルムを５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した後、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態で設置し、光学フィルム１枚に対して３回測定し、３回測定して得られた値の算術平均値とする。本明細書における「３回測定する」とは、同じ場所を３回測定するのではなく、異なる３箇所を測定することを意味するものとする。光学フィルム１０においては、目視した表面１０Ａは平坦であり、かつ機能層１２等の積層する層も平坦であり、また膜厚のばらつきも±１０％の範囲内に収まる。したがって、切り出した光学フィルムの異なる３箇所で全光線透過率を測定することで、おおよその光学フィルムの面内全体の全光線透過率の平均値が得られると考えられる。全光線透過率のばらつきは、測定対象が１ｍ×３０００ｍと長尺であっても、５インチのスマートフォン程度の大きさであっても、±１０％以内である。なお、光学フィルムを上記大きさに切り出せない場合には、例えば、ＨＭ−１５０は測定する際の入口開口が２０ｍｍφであるので、直径２１ｍｍ以上となるようなサンプル大きさが必要になる。このため、２２ｍｍ×２２ｍｍ以上の大きさに光学フィルムを適宜切り出してもよい。光学フィルムの大きさが小さい場合は、光源スポットが外れない範囲で少しずつずらす、または角度を変えるなどして測定点を３箇所にする。
【００５０】
光学フィルム１０のヘイズ値（全ヘイズ値）は２．５％以下であることが好ましい。光学フィルムの上記ヘイズ値が２．５％以下であれば、光学フィルムをモバイル端末に用いた場合、画像表示面の白化を抑制できる。上記ヘイズ値は、１．５％以下であることがより好ましく、１．０％以下であることがより好ましい。
【００５１】
上記ヘイズ値は、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、株式会社村上色彩技術研究所製）を用いてＪＩＳ  Ｋ７１３６：２０００に準拠した方法により測定することができる。上記ヘイズ値は、光学フィルムを５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した後、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態で設置し、光学フィルム１枚に対して３回測定し、３回測定して得られた値の算術平均値とする。光学フィルム１０においては、目視した表面１０Ａは平坦であり、かつ機能層１２等の積層する層も平坦であり、また膜厚のばらつきも±１０％の範囲内に収まる。したがって、切り出した光学フィルムの異なる３箇所でヘイズ値を測定することで、おおよその光学フィルムの面内全体のヘイズ値の平均値が得られると考えられる。ヘイズ値のばらつきは、測定対象が１ｍ×３０００ｍと長尺であっても、５インチのスマートフォン程度の大きさであっても、±１０％以内である。なお、光学フィルムを上記大きさに切り出せない場合には、例えば、ＨＭ−１５０は測定する際の入口開口が２０ｍｍφであるので、直径２１ｍｍ以上となるようなサンプル大きさが必要になる。このため、２２ｍｍ×２２ｍｍ以上の大きさに光学フィルムを適宜切り出してもよい。光学フィルムの大きさが小さい場合は、光源スポットが外れない範囲で少しずつずらす、または角度を変えるなどして測定点を３箇所にする。
【００５２】
光学フィルム１０の第１の面側に粘着層や接着層を介して偏光板等の他のフィルムが設けられている場合には、粘着層や接着層とともに他のフィルムを剥離してから、折り畳み試験、折り畳み静置試験、イエローインデックス測定、全光線透過率測定、ヘイズ値測定を行うものとする。他のフィルムの剥離は、例えば、以下のようにして行うことができる。まず、光学フィルムに粘着層や接着層を介して他のフィルムが付いた積層体をドライヤーで加熱し、光学フィルムと他のフィルムの界面と思われる部位にカッターの刃先を入れて、ゆっくりと剥離していく。このような加熱と剥離を繰り返すことで、粘着層や接着層および他のフィルムを剥離することができる。なお、このような剥離工程があったとしても、これらの試験やこれらの測定には大きな影響はない。ヘイズ値の測定は、粘着層や接着層の剥離後、さらに粘着層または接着層の汚れをアルコールで良く拭き取ってから行うものとする。
【００５３】
近年、パーソナルコンピュータやタブレット端末等の画像表示装置のバックライトの光源として発光ダイオード（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）が積極的に採用されているが、この発光ダイオードは、ブルーライトと呼ばれる光を強く発している。このブルーライトは、波長３８０ｎｍ〜４９５ｎｍの光で紫外線に近い性質を持っており、強いエネルギーを有しているため、角膜や水晶体で吸収されずに網膜に到達することで、網膜の損傷、眼精疲労、睡眠への悪影響等の原因になると言われている。このため、光学フィルムを、画像表示装置に適用した場合に、表示画面の色味に影響を与えることなく、ブルーライト遮蔽性に優れたものとなることが好ましい。このため、ブルーライトを遮光する観点から、光学フィルム１０は、波長３８０ｎｍにおける分光透過率が１％未満であり、波長４１０ｎｍにおける分光透過率が１０％未満であり、波長４４０ｎｍにおける分光透過率が７０％以上であることが好ましい。上記波長３８０ｎｍにおける分光透過率が１％以上であったり、波長４１０ｎｍにおける分光透過率が１０％以上であったりすると、ブルーライトによる問題を解消できないことがあり、波長４４０ｎｍにおける分光透過率が７０％未満であると、光学フィルムを用いた画像表示装置の表示画面の色味に影響を及ぼしてしまうことがあるからである。光学フィルム１０は、ブルーライトの波長のうち、波長４１０ｎｍ以下の波長領域の光を充分に吸収させる一方で、波長４４０ｎｍ以上の光を充分に透過させ、表示画面の色味に影響を与えることなくブルーライトの遮蔽性を優れたものとすることができる。また、このようなブルーライトの遮蔽性に優れる光学フィルム１０を画像表示装置として有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）表示装置に適用した場合、有機発光ダイオード素子の劣化抑制にも効果的である。
【００５４】
光学フィルム１０の光の透過率は、波長３８０ｎｍまでは殆ど０％であり、波長４１０ｎｍから徐々に光の透過が大きくなり、波長４４０ｎｍ付近で急激に光の透過が大きくなっていることが好ましい。具体的には、例えば、波長４１０ｎｍから４４０ｎｍの間で分光透過率がシグモイド型の曲線を描くように変化することが好ましい。上記波長３８０ｎｍにおける分光透過率は、より好ましくは０．５％未満、更に好ましくは０．２％未満であり、波長４１０ｎｍにおける分光透過率がより好ましくは７％未満、より好ましくは５％未満であり、波長４４０ｎｍにおける分光透過率がより好ましくは７５％以上、更に好ましくは８０％以上である。なお、光学フィルム１０は、波長４２０ｎｍにおける分光透過率が５０％未満であることが好ましい。このような分光透過率の関係を満たすことで、光学フィルム１０は、波長４４０ｎｍ付近で急激に透過率が向上するものとなり、表示画面の色味に影響を及ぼすことなく極めて優れたブルーライト遮蔽性を得ることができる。
【００５５】
光学フィルム１０における波長３８０ｎｍにおける分光透過率は０．１％未満であることがより好ましく、波長４１０ｎｍにおける分光透過率は７％未満であることがより好ましく、波長４４０ｎｍにおける分光透過率は８０％以上であることがより好ましい。
【００５６】
光学フィルム１０は、最小二乗法を用いて得られた波長４１５〜４３５ｎｍの範囲の透過スペクトルの傾きが２．０より大きいことが好ましい。上記傾きが２．０以下であると、ブルーライトの光波長領域、例えば、波長４１５〜４３５ｎｍの波長領域において充分に光がカットできずブルーライトカット効果が弱くなることがある。また、ブルーライトの光波長領域（波長４１５〜４３５ｎｍ）をカットしすぎている可能性も考えられ、その場合、画像表示装置のバックライトや発光波長領域（例えば、ＯＬＥＤの波長４３０ｎｍからの発光）に干渉してしまい、色味が悪くなるといった不具合が発生する可能性が大きくなることがある。上記傾きは、例えば、０．５ｎｍ刻みにて測定可能の分光光度計（製品名「ＵＶ−２４５０」、島津製作所社製）を用い、前後１ｎｍの間で最低５ポイント分の透過率のデータを４１５〜４３５ｎｍ間で測定することで算出することができる。
【００５７】
光学フィルム１０は、ブルーライトの遮蔽率が４０％以上であることが好ましい。ブルーライトの遮蔽率が４０％未満であると、上述したブルーライトに起因した問題が充分に解消できないことがある。上記ブルーライトの遮蔽率は、例えば、ＪＩＳ  Ｔ７３３３：２００５により算出される値である。なお、このようなブルーライト遮蔽率は、例えば、機能層１２が後述するセサモール型ベンゾトリアゾール系単量体を含むことで、達成することができる。
【００５８】
光学フィルム１０の用途は、特に限定されないが、光学フィルム１０の用途としては、例えば、スマートフォン、タブレット端末、パーソナルコンピュータ（ＰＣ）、ウェアラブル端末、デジタルサイネージ、テレビジョン、カーナビゲーション等の画像表示装置が挙げられる。また、光学フィルム１０は、車載用途にも適している。上記各画像表示装置の形態としては、フォールダブル、ローラブルといったフレキシブル性を必要とする用途にも好ましい。
【００５９】
光学フィルム１０は、所望の大きさにカットされていてもよいが、ロール状であってもよい。光学フィルム１０が所望の大きさにカットされている場合、光学フィルムの大きさは、特に制限されず、画像表示装置の表示面の大きさに応じて適宜決定される。具体的には、光学フィルム１０の大きさは、例えば、２．８インチ以上５００インチ以下となっていてもよい。本明細書における「インチ」とは、光学フィルムが四角形状である場合には対角線の長さを意味し、円形状である場合には直径を意味し、楕円形状である場合には、短径と長径の和の平均値を意味するものとする。ここで、光学フィルムが四角形状である場合、上記インチを求める際の光学フィルムの縦横比は、画像表示装置の表示画面として問題がなければ特に限定されない。例えば、縦：横＝１：１、４：３、１６：１０、１６：９、２：１等が挙げられる。ただし、特に、デザイン性に富む車載用途やデジタルサイネージにおいては、このような縦横比に限定されない。また、光学フィルム１０の大きさが大きい場合には、任意の位置からＡ５サイズ（１４８ｍｍ×２１０ｍｍ）に切り出した後、各測定項目の大きさに切り出すものとする。
【００６０】
画像表示装置における光学フィルム１０の配置箇所は、画像表示装置の内部であってもよいが、画像表示装置の表面付近であることが好ましい。画像表示装置の表面付近に用いられる場合、光学フィルム１０は、カバーガラスの代わりに用いられるカバーフィルムとして機能する。
【００６１】
＜＜樹脂基材＞＞
樹脂基材１１は、光透過性を有している。本明細書における「光透過性」とは、光を透過させる性質を意味し、例えば、全光線透過率が５０％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上、特に好ましくは９０％以上であることを含む。光透過性とは、必ずしも透明である必要はなく、半透明であってもよい。
【００６２】
樹脂基材１１は、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、およびポリエステル系樹脂（例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂やポリエチレンナフタレート樹脂）からなる群から選択される１種以上の樹脂からなる基材である。
【００６３】
これらの樹脂の中でも、連続折り畳み試験において割れ又は破断が発生しにくいだけでなく、優れた硬度及び透明性をも有し、また、耐熱性にも優れ、焼成することにより、更に優れた硬度及び透明性を付与することもできる観点から、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、またはこれらの混合物が好ましい。
【００６４】
ポリイミド系樹脂は、テトラカルボン酸成分とジアミン成分とを反応させて得られるものである。ポリイミド系樹脂としては、特に限定されないが、例えば、優れた光透過性および優れた剛性を有する点から、下記一般式（１）および下記一般式（３）で表される構造からなる群から選ばれる少なくとも１種の構造を有することが好ましい。
【００６５】
【化１】
2018159913.tif 000003
【００６６】
上記一般式（１）において、Ｒ１はテトラカルボン酸残基である４価の基、Ｒ２は、ｔｒａｎｓ−シクロヘキサンジアミン残基、ｔｒａｎｓ−１，４−ビスメチレンシクロヘキサンジアミン残基、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン残基、３，４’−ジアミノジフェニルスルホン残基、および下記一般式（２）で表される２価の基からなる群から選ばれる少なくとも１種の２価の基を表す。ｎは繰り返し単位数を表し、１以上である。本明細書において、「テトラカルボン酸残基」とは、テトラカルボン酸から、４つのカルボキシル基を除いた残基をいい、テトラカルボン酸二無水物から酸二無水物構造を除いた残基と同じ構造を表す。また、「ジアミン残基」とは、ジアミンから２つのアミノ基を除いた残基をいう。
【００６７】
【化２】
2018159913.tif 000004
上記一般式（２）において、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、またはパーフルオロアルキル基を表す。
【００６８】
【化３】
2018159913.tif 000005
【００６９】
上記一般式（３）において、Ｒ５はシクロヘキサンテトラカルボン酸残基、シクロペンタンテトラカルボン酸残基、ジシクロヘキサン−３，４，３’，４’−テトラカルボン酸残基、および４，４'−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸残基からなる群から選ばれる少なくとも１種の４価の基、Ｒ６は、ジアミン残基である２価の基を表す。ｎ’は繰り返し単位数を表し、１以上である。
【００７０】
上記一般式（１）における、Ｒ１はテトラカルボン酸残基であり、前記例示されたようなテトラカルボン酸二無水物から酸二無水物構造を除いた残基とすることができる。上記一般式（１）におけるＲ１としては、中でも、光透過性を向上し、かつ剛性を向上する点から、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸残基、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸残基、ピロメリット酸残基、２，３’，３，４’−ビフェニルテトラカルボン酸残基、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸残基、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸残基、４，４'-オキシジフタル酸残基、シクロヘキサンテトラカルボン酸残基、およびシクロペンタンテトラカルボン酸残基からなる群から選択される少なくとも１種を含むことが好ましく、さらに、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸残基、４，４’−オキシジフタル酸残基、および３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸残基からなる群から選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。
【００７１】
Ｒ１において、これらの好適な残基を合計で、５０モル％以上含むことが好ましく、更に７０モル％以上含むことが好ましく、より更に９０モル％以上含むことが好ましい。
【００７２】
また、Ｒ１として、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸残基、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸残基、およびピロメリット酸残基からなる群から選択される少なくとも１種のような剛直性を向上するのに適したテトラカルボン酸残基群（グループＡ）と、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸残基、２，３’，３，４’−ビフェニルテトラカルボン酸残基、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸残基、４，４'−オキシジフタル酸残基、シクロヘキサンテトラカルボン酸残基、およびシクロペンタンテトラカルボン酸残基からなる群から選択される少なくとも１種のような透明性を向上するのに適したテトラカルボン酸残基群（グループＢ）とを混合して用いることも好ましい。
【００７３】
この場合、前記剛直性を向上するのに適したテトラカルボン酸残基群（グループＡ）と、透明性を向上するのに適したテトラカルボン酸残基群（グループＢ）との含有比率は、透明性を向上するのに適したテトラカルボン酸残基群（グループＢ）１モルに対して、前記剛直性を向上するのに適したテトラカルボン酸残基群（グループＡ）が０．０５モル以上９モル以下であることが好ましく、更に０．１モル以上５モル以下であることが好ましく、より更に０．３モル以上４モル以下であることが好ましい。
【００７４】
上記一般式（１）におけるＲ２としては、中でも、光透過性を向上し、かつ剛性を向上する点から、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン残基、３，４’−ジアミノジフェニルスルホン残基、および上記一般式（２）で表される２価の基からなる群から選ばれる少なくとも１種の２価の基であることが好ましく、更に、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン残基、３，４’−ジアミノジフェニルスルホン残基、ならびに、Ｒ３およびＲ４がパーフルオロアルキル基である上記一般式（２）で表される２価の基からなる群から選ばれる少なくとも１種の２価の基であることが好ましい。
【００７５】
上記一般式（３）におけるＲ５としては、中でも、光透過性を向上し、かつ剛性を向上する点から、４，４'−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸残基、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸残基、及びオキシジフタル酸残基を含むことが好ましい。
【００７６】
Ｒ５において、これらの好適な残基を、５０モル％以上含むことが好ましく、更に７０モル％以上含むことが好ましく、より更に９０モル％以上含むことが好ましい。
【００７７】
上記一般式（３）におけるＲ６はジアミン残基であり、前記例示されたようなジアミンから２つのアミノ基を除いた残基とすることができる。上記一般式（３）におけるＲ６としては、中でも、光透過性を向上し、かつ剛性を向上する点から、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン残基、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン残基、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン残基、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン残基、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン残基、４，４’−ジアミノ−２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ジフェニルエーテル残基、１，４−ビス［４−アミノ−２−（トリフルオロメチル）フェノキシ］ベンゼン残基、２，２−ビス［４−（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン残基、４，４’−ジアミノ−２−（トリフルオロメチル）ジフェニルエーテル残基、４，４’−ジアミノベンズアニリド残基、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−アミノフェニル）テレフタルアミド残基、及び９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン残基からなる群から選ばれる少なくとも１種の２価の基を含むことが好ましく、更に、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン残基、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン残基、及び４，４’−ジアミノジフェニルスルホン残基からなる群から選ばれる少なくとも１種の２価の基を含むことが好ましい。
【００７８】
Ｒ６において、これらの好適な残基を合計で、５０モル％以上含むことが好ましく、更に７０モル％以上含むことが好ましく、より更に９０モル％以上含むことが好ましい。
【００７９】
また、Ｒ６として、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン残基、４，４’−ジアミノベンズアニリド残基、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−アミノフェニル）テレフタルアミド残基、パラフェニレンジアミン残基、メタフェニレンジアミン残基、および４，４’−ジアミノジフェニルメタン残基からなる群から選択される少なくとも１種のような剛直性を向上するのに適したジアミン残基群（グループＣ）と、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン残基、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン残基、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン残基、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン残基、４，４’−ジアミノ−２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ジフェニルエーテル残基、１，４−ビス［４−アミノ−２−（トリフルオロメチル）フェノキシ］ベンゼン残基、２，２−ビス［４−（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン残基、４，４’−ジアミノ−２−（トリフルオロメチル）ジフェニルエーテル残基、及び９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン残基からなる群から選択される少なくとも１種のような透明性を向上するのに適したジアミン残基群（グループＤ）とを混合して用いることも好ましい。
【００８０】
この場合、前記剛直性を向上するのに適したジアミン残基群（グループＣ）と、透明性を向上するのに適したジアミン残基群（グループＤ）との含有比率は、透明性を向上するのに適したジアミン残基群（グループＤ）１モルに対して、前記剛直性を向上するのに適したジアミン残基群（グループＣ）が０．０５モル以上９モル以下であることが好ましく、更に０．１モル以上５モル以下であることが好ましく、０．３モル以上４モル以下であることがより好ましい。
【００８１】
上記一般式（１）および上記一般式（３）で表される構造において、ｎおよびｎ’はそれぞれ独立に、繰り返し単位数を表し、１以上である。ポリイミドにおける繰り返し単位数ｎは、後述する好ましいガラス転移温度を示すように、構造に応じて適宜選択されれば良く、特に限定されない。平均繰り返し単位数は、通常１０〜２０００であり、更に１５〜１０００であることが好ましい。
【００８２】
また、ポリイミド系樹脂は、その一部にポリアミド構造を含んでいても良い。含んでいても良いポリアミド構造としては、例えば、トリメリット酸無水物のようなトリカルボン酸残基を含むポリアミドイミド構造や、テレフタル酸のようなジカルボン酸残基を含むポリアミド構造が挙げられる。
【００８３】
ポリイミド系樹脂は、耐熱性の点から、ガラス転移温度が２５０℃以上であることが好ましく、更に、２７０℃以上であることが好ましい。一方、延伸の容易さやベーク温度低減の点から、ガラス転移温度が４００℃以下であることが好ましく、更に、３８０℃以下であることが好ましい。
【００８４】
ポリイミド系樹脂としては、例えば、下記式で表される構造を有する化合物が挙げられる。下記式中、ｎは、繰り返し単位であり、２以上の整数を表す。
【化４】
2018159913.tif 000006
【００８５】
【化５】
2018159913.tif 000007
【００８６】
【化６】
2018159913.tif 000008
【００８７】
【化７】
2018159913.tif 000009
【００８８】
【化８】
2018159913.tif 000010
【００８９】
【化９】
2018159913.tif 000011
【００９０】
【化１０】
2018159913.tif 000012
【００９１】
【化１１】
2018159913.tif 000013
【００９２】
【化１２】
2018159913.tif 000014
【００９３】
【化１３】
2018159913.tif 000015
【００９４】
【化１４】
2018159913.tif 000016
【００９５】
【化１５】
2018159913.tif 000017
【００９６】
【化１６】
2018159913.tif 000018
【００９７】
【化１７】
2018159913.tif 000019
【００９８】
【化１８】
2018159913.tif 000020
【００９９】
【化１９】
2018159913.tif 000021
【０１００】
【化２０】
2018159913.tif 000022
【０１０１】
上記ポリイミド系樹脂の中でも、優れた透明性を有することから、分子内又は分子間の電荷移動が起こりにくい構造を有するポリイミド系樹脂またはポリアミド系樹脂が好ましく、具体的には、上記式（４）〜（１１）等のフッ素化ポリイミド系樹脂、上記式（１３）〜（１６）等の脂環構造を有するポリイミド系樹脂が挙げられる。
【０１０２】
また、上記式（４）〜（１１）等のフッ素化ポリイミド系樹脂では、フッ素化された構造を有するため、高い耐熱性を有しており、ポリイミド系樹脂からなるポリイミドフィルムの製造時の熱によって着色されることもないので、優れた透明性を有する。
【０１０３】
ポリアミド系樹脂は、脂肪族ポリアミドのみならず、芳香族ポリアミド（アラミド）を含む概念である。ポリアミド系樹脂としては、例えば、下記式（２１）〜（２３）で表される骨格を有する化合物が挙げられる。なお、下記式中、ｎは、繰り返し単位であり、２以上の整数を表す。
【０１０４】
【化２１】
2018159913.tif 000023
【０１０５】
【化２２】
2018159913.tif 000024
【０１０６】
【化２３】
2018159913.tif 000025
【０１０７】
上記式（４）〜（２０）および（２３）で表されるポリイミド系樹脂またはポリアミド系樹脂からなる基材は、市販のものを用いても良い。上記ポリイミド系樹脂からなる基材の市販品としては、例えば、三菱ガス化学社製のネオプリム等が挙げられ、上記ポリアミド系樹脂からなる基材の市販品としては、例えば、東レ社製のミクトロン等が挙げられる。
【０１０８】
また、上記式（４）〜（２０）および（２３）で表されるポリイミド系樹脂またはポリアミド系樹脂は、公知の方法により合成したものを用いても良い。例えば、上記式（４）で表されるポリイミド系樹脂の合成方法は、特開２００９−１３２０９１に記載されており、具体的には、下記式（２４）で表される４，４’−ヘキサフルオロプロピリデンビスフタル酸二無水物（ＦＰＡ）と２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル（ＴＦＤＢ）とを反応させることにより得ることができる。
【化２４】
2018159913.tif 000026
【０１０９】
上記ポリイミド系樹脂またはポリアミド系樹脂の重量平均分子量は、３０００以上５０万以下の範囲であることが好ましく、５０００〜３０万の範囲であることがより好ましく、１万以上２０万以下の範囲であることが更に好ましい。重量平均分子量が３０００未満であると、充分な強度が得られないことがあり、５０万を超えると粘度が上昇し、溶解性が低下するため、表面が平滑で膜厚が均一な基材が得られないことがある。なお、本明細書において、「重量平均分子量」とは、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値である。
【０１１０】
樹脂基材１１は、硬度を向上させることが可能な観点から、上記式（４）〜（１１）等で表されるフッ素化ポリイミド系樹脂または上記式（２３）等のハロゲン基を有するポリアミド系樹脂からなる基材を用いることが好ましい。なかでも、硬度をより向上させることができる観点から、上記式（４）で表されるポリイミド系樹脂からなる基材を用いることがより好ましい。
【０１１１】
ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートの少なくとも１種を構成成分とする樹脂等が挙げられる。
【０１１２】
樹脂基材１１の屈折率は、機能層１２の屈折率よりも高い。樹脂基材１１の屈折率は、例えば、ベッケ法によって測定することができる。樹脂基材１１の屈折率をベッケ法を用いて測定する場合、樹脂基材１１の欠片を１０個切り出し、切り出した１０個の欠片において、屈折率標準液を用いて、ベッケ法により屈折率をそれぞれ測定し、測定した欠片の屈折率の１０個の平均値を樹脂基材１１の屈折率とする。樹脂基材１１の屈折率は、１．５００以上１．８００以下となっていてもよい。また、樹脂基材１１の屈折率は、分光光度計（製品名「ＵＶ−２４５０」、島津製作所社製）を用いて、波長３８０〜７８０ｎｍの平均反射率を測定し、得られた平均反射率を用いて、以下の式（１）によって求めてもよい。樹脂基材１１の平均反射率（Ｒ）は、裏面反射を防止するために測定スポット面積よりも大きな幅の黒色ビニールテープ（例えば、製品名「ヤマトビニールテープＮＯ２００−３８−２１」、ヤマト社製、３８ｍｍ幅）を樹脂基材１１の裏面に貼り付けてから測定するものとする。
Ｒ１＝（１−ｎ１）２／（１＋ｎ１）２    …（１）
上記式（１）中、Ｒ１は波長３８０〜７８０ｎｍにおける樹脂基材の平均反射率（％）を表し、ｎ１は樹脂基材の屈折率を表す。
【０１１３】
樹脂基材１１の厚みは、１０μｍ以上１００μｍ以下となっていることが好ましい。樹脂基材の厚みが１０μｍ以上であれば、光学フィルムのカールを抑制でき、また充分な硬度を得ることができ、更に、光学フィルムをＲｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌで製造する場合であっても、シワが発生しにくくなり、外観の悪化を招くおそれがない。一方、樹脂基材の厚みが１００μｍ以下であれば、光学フィルムの折り畳み性能が良好であり、連続折り畳み試験の要件を満足させることができ、また、光学フィルムの軽量化の面で好ましい。樹脂基材１１の厚みは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、樹脂基材１１の断面を撮影し、その断面の画像において樹脂基材１１の膜厚を１０箇所測定し、その１０箇所の膜厚の算術平均値とする。樹脂基材１１の下限は２５μｍ以上であることがより好ましく、樹脂基材１１の上限は８０μｍ以下であることがより好ましい。
【０１１４】
＜＜機能層＞＞
機能層１２は、ハードコート層として機能する層である。機能層１２は、ハードコート性の他、ハードコート性以外の機能を有していてもよい。機能層１２は、ハードコート性の他、帯電防止性を有している。すなわち、機能層１２は、帯電防止ハードコート層となっている。本明細書における「ハードコート層」とは、ハードコート層の断面中央におけるマルテンス硬度が３７５ＭＰａ以上の層を意味するものとする。本明細書において、「マルテンス硬度」とは、ナノインデンテーション法による硬度測定により、圧子を５００ｎｍ押込んだときの硬度である。上記ナノインデンテーション法によるマルテンス硬度の測定は、測定サンプルについてＨＹＳＩＴＲＯＮ（ハイジトロン）社製の「ＴＩ９５０ ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒ」を用いて行うものとする。具体的には、まず、１ｍｍ×１０ｍｍに切り出した光学フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作製し、このブロックから一般的な切片作製方法によって穴等がない均一な、厚さ７０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の切片を切り出す。切片の作製には、「ウルトラミクロトーム  ＥＭ ＵＣ７」（ライカ マイクロシステムズ株式会社）等を用いることができる。そして、この穴等がない均一な切片が切り出された残りのブロックを測定サンプルとする。次いで、このような測定サンプルにおける上記切片が切り出されることによって得られた断面において、以下の測定条件で、上記圧子としてＢｅｒｋｏｖｉｃｈ圧子（三角錐）を機能層の断面中央に５００ｎｍ押し込み、一定保持して残留応力の緩和を行った後、除荷させて、緩和後の最大荷重を計測し、該最大荷重Ｐｍａｘ（μＮ）と深さ５００ｎｍのくぼみ面積Ａ（ｎｍ２）とを用い、Ｐｍａｘ／Ａにより、マルテンス硬度を算出する。マルテンス硬度は、１０箇所測定して得られた値の算術平均値とする。
（測定条件）
・荷重速度：１０ｎｍ／秒
・保持時間：５秒
・荷重除荷速度：１０ｎｍ／秒
・測定温度：２５℃
【０１１５】
機能層１２は、機能層１２の断面中央におけるマルテンス硬度が５００ＭＰａ以上２０００ＭＰａ以下であることが好ましい。機能層１２のマルテンス硬度が、５００ＭＰａ以上であれば、ハードコート層として十分な硬度を得ることができ、また２０００ＭＰａ以下であれば、良好な光学フィルムの折り畳み性能を得ることができる。機能層１２の断面中央におけるマルテンス硬度の下限は６００ＭＰａ以上であることが好ましく、上限は１５００ＭＰａ以下であることが好ましい。
【０１１６】
機能層１２の屈折率は、１．４００以上１．８００以下となっていてもよい。機能層１２の屈折率は、分光光度計（製品名「ＵＶ−２４５０」、島津製作所社製）を用いて、波長３８０〜７８０ｎｍの平均反射率を測定し、得られた平均反射率を用いて、以下の式（２）によって求めることができる。機能層１２の平均反射率は、易接着処理が施されていない厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基材上に機能層用組成物を塗布し、硬化させて１〜１０μｍの厚さの機能層を形成し、ＰＥＴ基材における機能層側の面とは反対側の面（裏面）に、裏面反射を防止するために測定スポット面積よりも大きな幅の黒色ビニールテープ（例えば、製品名「ヤマトビニールテープＮＯ２００−３８−２１」、ヤマト社製、３８ｍｍ幅）を貼り付けてから測定するものとする。
Ｒ２＝（１−ｎ２）２／（１＋ｎ２）２    …（２）
上記式（２）中、Ｒ２は波長３８０〜７８０ｎｍにおける機能層の平均反射率（％）を表し、ｎ２は機能層の屈折率を表す。
【０１１７】
機能層１２の膜厚は、２μｍ以上４０μｍ以下となっていることが好ましい。機能層１２の膜厚が、２μｍ以上であれば、ハードコート層として十分な硬度を得ることができ、また４０μｍ以下であれば、加工性の悪化を抑制できる。本明細書における「機能層の膜厚」とは、機能層が多層構造となっている場合には、各機能層の膜厚を合計した膜厚（総厚）を意味するものとする。機能層１２の上限は３０μｍ以下であることがより好ましく、２０μｍ以下であることがさらに好ましい。
【０１１８】
機能層１２の膜厚は、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）、または透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて、機能層１２の断面を撮影し、その断面の画像において機能層１２の膜厚を２０箇所測定し、その２０箇所の膜厚の算術平均値とする。具体的な断面写真の撮影方法を以下に記載する。まず、１ｍｍ×１０ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作製し、このブロックから一般的な切片作製方法によって穴等がない均一な、厚さ７０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の切片を切り出す。切片の作製には、「ウルトラミクロトーム  ＥＭ ＵＣ７」（ライカ マイクロシステムズ株式会社）等を用いることができる。そして、この穴等がない均一な切片を測定サンプルとする。その後、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）（製品名「Ｓ−４８００」、株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、測定サンプルの断面写真を撮影する。上記Ｓ−４８００を用いて断面写真を撮影する際には、検出器を「ＴＥ」、加速電圧を「３０ｋＶ」、エミッション電流を「１０μＡ」にして断面観察を行う。倍率については、フォーカスを調節しコントラストおよび明るさを各層が見分けられるか観察しながら５０００倍〜２０万倍で適宜調節する。好ましい倍率は、１万倍〜１０万倍、更に好ましい倍率は１万倍〜５万倍であり、最も好ましい倍率は２．５万倍〜５万倍である。なお、上記Ｓ−４８００を用いて断面写真を撮影する際には、さらに、アパーチャーを「ビームモニタ絞り３」にし、対物レンズ絞りを「３」にし、またＷ．Ｄ．を「８ｍｍ」にしてもよい。ハードコート層の膜厚を測定する際には、断面観察した折に、機能層と他の層（例えば、樹脂基材）との界面コントラストが可能な限り明確に観察できることが重要となる。仮に、コントラスト不足でこの界面が見え難い場合には、四酸化オスミウム、四酸化ルテニウム、リンタングステン酸など染色処理を施すと、有機層間の界面が見やすくなるので、染色処理を行ってもよい。また、界面のコントラストは高倍率である方が分かりにくい場合がある。その場合には、低倍率も同時に観察する。例えば、２．５万倍と５万倍や、５万倍と１０万倍など、高低の２つの倍率で観察し、両倍率で上記した算術平均値を求め、さらにその平均値を機能層の膜厚の値とする。
【０１１９】
機能層１２は、帯電防止ハードコート層となっているので、バインダ樹脂と、バインダ樹脂中に存在する帯電防止剤とを含んでいる。なお、機能層１２が、帯電防止性を有しないハードコート層である場合には、帯電防止剤を含んでいなくともよい。また、機能層１２は、バインダ樹脂等の他、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、例えば、無機粒子や有機粒子等の粒子、紫外線吸収剤、接着性向上剤、レベリング剤、チクソ性付与剤、カップリング剤、可塑剤、消泡剤、充填剤、着色剤、フィラー等の添加剤を含んでいてもよい。
【０１２０】
＜バインダ樹脂＞
バインダ樹脂は、重合性化合物（硬化性化合物）の重合体（硬化物）を含む。重合性化合物は、分子内に重合性官能基を少なくとも１つ有するものである。重合性官能基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和基が挙げられる。なお、「（メタ）アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」および「メタクリロイル基」の両方を含む意味である。
【０１２１】
重合性化合物としては、多官能（メタ）アクリレートが好ましい。上記多官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエステルトリ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールジ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、アダマンチルジ（メタ）アクリレート、イソボロニルジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートや、これらをＰＯ、ＥＯ、カプロラクトン等で変性したものが挙げられる。
【０１２２】
これらの中でも上述したマルテンス硬度を好適に満たし得ることから、３〜６官能のものが好ましく、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート等が好ましい。なお、本明細書において、「（メタ）アクリレート」とは、「アクリレート」および「メタクリレート」を意味する。
【０１２３】
なお、硬度や組成物の粘度調整、密着性の改善等のために、更に単官能（メタ）アクリレートモノマーを含んでいてもよい。上記単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、例えば、ヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）、グリシジルメタクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、２−アクリロイルオキシエチルサクシネート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、及び、アダマンチルアクリレート等が挙げられる。
【０１２４】
上記モノマーの重量平均分子量は、機能層の硬度を向上させる観点から、１０００未満が好ましく、２００以上８００以下がより好ましい。また、上記重合性オリゴマーの重量平均分子量は、１０００以上２万以下であることが好ましく、１０００以上１万以下であることがより好ましく、２０００以上７０００以下であることが更に好ましい。
【０１２５】
＜帯電防止剤＞
機能層１２に用いられる帯電防止剤は、バインダ樹脂との相溶性が良好であるものであれば、特に限定されない。帯電防止剤としては、イオン伝導型帯電防止剤と電子伝導型帯電防止剤があり、バインダ樹脂との相溶性の観点から、イオン伝導型帯電防止剤が好ましい。
【０１２６】
上記イオン伝導型帯電防止剤としては、例えば、第４級アンモニウム塩、ピリジウム塩等のカチオン性帯電防止剤、スルホン酸、リン酸、カルボン酸等のアルカリ金属塩（例えば、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩等）等のアニオン性帯電防止剤、アミノ酸系、アミノ酸硫酸エステル系等の両性帯電防止剤、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性帯電防止剤等が挙げられる。これらの中でも、バインダ樹脂に対して優れた相溶性を示すことから、第４級アンモニウム塩やリチウム塩が好ましい。
【０１２７】
上記電子伝導型帯電防止剤としては、例えば、ポリアセチレン系、ポリチオフェン系等の導電性ポリマー、金属粒子、金属酸化物粒子等の導電性粒子が挙げられる。これらの中でも、ポリアセチレン、ポリチオフェン等の導電性ポリマーにドーパントを組み合わせた帯電防止剤、金属粒子、金属酸化物粒子が好ましい。また、上記導電性ポリマーに導電性粒子を含有させることもできる。
【０１２８】
上記導電性ポリマーからなる帯電防止剤としては、具体的には、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンサルファイド、ポリ（１，６−ヘプタジイン）、ポリビフェニレン（ポリパラフェニレン）、ポリパラフィニレンスルフィド、ポリフェニルアセチレン、ポリ（２，５−チエニレン）、又は、これらの誘導体等の導電性高分子が挙げられ、好ましくは、ポリチオフェン系の導電性有機ポリマー（例えば、３，４−エチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等）が挙げられる。
【０１２９】
上記導電性有機ポリマーからなる帯電防止剤を用いることで、湿度依存性が少なく長期間にわたって帯電防止性が維持でき、また、高い透明性、低いヘイズを有し、更に、高いハードコート性、特に鉛筆硬度、スチールウール等に対する耐擦傷性を著しく向上できる。
【０１３０】
上記金属粒子を構成する金属としては特に限定されず、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ等の単独、或いはこれら金属の合金が挙げられる。また、上記金属酸化物粒子を構成する金属酸化物としては特に限定されず、例えば、酸化錫（ＳｎＯ２）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等が挙げられる。
【０１３１】
帯電防止剤の含有量としては、特に限定されないが、機能層用組成物の重合性化合物１００質量部に対して１質量部以上５０質量部以下であることが好ましい。１質量部以上であれば、上述した帯電防止性を充分に得ることができ、５０質量部以下であればヘイズ値が小さく、全光線透過率が良好な高透明の膜を得ることができる。上記帯電防止剤の含有量の下限は、１０質量部以上であることがより好ましく、上限は４０質量部以下であることがより好ましい。
【０１３２】
機能層１２は、紫外線吸収剤、分光透過率調整剤、および／または防汚剤をさらに含んでいてもよい。
【０１３３】
＜紫外線吸収剤＞
光学フィルムは、折り畳み可能なスマートフォンやタブレット端末のようなモバイル端末に特に好適に用いられるが、このようなモバイル端末は屋外で使用されることが多く、そのため、光学フィルムより表示素子側に配置された偏光子が紫外線に晒されて劣化しやすいという問題がある。しかしながら、機能層１２は、偏光子の観察者側に配置されるため、機能層１２に紫外線吸収剤が含有されていると、偏光子が紫外線に晒されることによる劣化を好適に防止することができる。なお、上記紫外線吸収剤（ＵＶＡ）は、機能層１２ではなく、樹脂基材１１に含有されていてもよい。
【０１３４】
紫外線吸収剤としては、例えば、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、及び、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤等が挙げられる。
【０１３５】
上記トリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２−ヒドロキシ−４−［１−オクチルオキシカルボニルエトキシ］フェニル）−４，６−ビス（４−フェニルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル］−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、および２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−（２’−エチル）ヘキシル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。市販されているトリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、ＴＩＮＵＶＩＮ４６０、ＴＩＮＵＶＩＮ４７７（いずれも、ＢＡＳＦ社製）、ＬＡ−４６（ＡＤＥＫＡ社製）等が挙げられる。
【０１３６】
上記ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、２−ヒドロキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸及びその三水塩、ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸ナトリウム等が挙げられる。市販されているベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、ＣＨＭＡＳＳＯＲＢ８１／ＦＬ（ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。
【０１３７】
上記ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネート、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、２−〔５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル〕−４−メチル−６−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェノール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−（３’’，４’’，５’’，６’’−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、及び、２−（２’−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール等が挙げられる。市販されているベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、ＫＥＭＩＳＯＲＢ７１Ｄ、ＫＥＭＩＳＯＲＢ７９（いずれも、ケミプロ化成社製）、ＪＦ−８０、ＪＡＳＴ−５００（いずれも、城北化学社製）、ＵＬＳ−１９３３Ｄ（一方社製）、ＲＵＶＡ−９３（大塚化学社製）等が挙げられる。
【０１３８】
紫外線吸収剤は、なかでも、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が好適に用いられる。紫外線吸収剤は、機能層を構成する樹脂成分との溶解性が高いほうが好ましく、また、上述した連続折り畳み試験後のブリードアウトが少ないほうが好ましい。紫外線吸収剤は、ポリマー化又はオリゴマー化されていることが好ましい。紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール、トリアジン、ベンゾフェノン骨格を有するポリマー又はオリゴマーが好ましく、具体的には、ベンゾトリアゾールやベンゾフェノン骨格を有する（メタ）アクリレートと、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）とを任意の比率で熱共重合したものであることが好ましい。なお、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）表示装置に光学フィルムを適用する場合、紫外線吸収剤は、ＯＬＥＤを紫外線から保護する役割も果たすことができる。
【０１３９】
紫外線吸収剤の含有量としては特に限定されないが、機能層用組成物の固形分１００質量部に対して１質量部以上６質量部以下であることが好ましい。１質量部以上であれば、上述した紫外線吸収剤を機能層に含有させる効果を充分に得ることができ、６質量部以下であれば、機能層に著しい着色や強度低下が生じることもない。上記紫外線吸収剤の含有量の下限は２質量部以上であることがより好ましく、上限は５質量部以下であることがより好ましい。
【０１４０】
＜分光透過率調整剤＞
分光透過率調整剤は、光学フィルムの分光透過率を調整するものである。機能層１２に、例えば、下記一般式（２５）で表されるセサモール型ベンゾトリアゾール系単量体を含ませた場合には、上述した分光透過率を好適に満たすことができる。
【化２５】
2018159913.tif 000027
式中、Ｒ７は水素原子又はメチル基を表す。Ｒ８は炭素数１〜６の直鎖状又は枝分かれ鎖状のアルキレン基又は炭素数１〜６の直鎖状または分岐鎖状のオキシアルキレン基を表す。
【０１４１】
上記のセサモール型ベンゾトリアゾール系単量体としては特に制限されないが、具体的な物質名としては、２−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］エチルメタクリレート、２−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］エチルアクリレート、３−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］プロピルメタクリレート、３−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］プロピルアクリレート、４−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］ブチルメタクリレート、４−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］ブチルアクリレート、２−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルメタクリレート、２−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルアクリレート、２−［３−{２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］エチルメタクリレート、２−［３−{２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］エチルアクリレート、４−［３−{２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］ブチルメタクリレート、４−［３−{ ２ −（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］ブチルアクリレート、２−［３−{２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］エチルメタクリレート、２−［３−{２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］エチルアクリレート、２−（メタクリロイルオキシ）エチル２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５カルボキシレート、２−（アクリロイルオキシ）エチル２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシレート、４−（メタクリロイルオキシ）ブチル２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシレート、４−（アクリロイルオキシ）ブチル２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシレート等を挙げることができる。また、これらセサモール型ベンゾトリアゾール系単量体は１種類で用いてもよいし、また２種類以上用いてもよい。
【０１４２】
＜防汚剤＞
防汚剤としては、特に限定されず、例えば、シリコーン系防汚剤、フッ素系防汚剤、シリコーン系かつフッ素系防汚剤が挙げられ、それぞれ単独で使用してもよく、混合して使用してもよい。また、防汚剤としては、アクリル系防汚剤であってもよい。
【０１４３】
防汚剤の含有量としては、上述した重合性化合物１００質量部に対して、０．０１〜３．０質量部であることが好ましい。０．０１質量部以上であれば、機能層に充分な防汚性能を付与でき、また、３．０質量部以下であれば、機能層の硬度が低下するおそれもない。
【０１４４】
防汚剤は、重量平均分子量が５０００以下であることが好ましく、防汚性能の耐久性を改善するために、反応性官能基を好ましくは１以上、より好ましくは２以上有する化合物である。なかでも、２以上の反応性官能基を有する防汚剤を用いることにより、優れた耐擦傷性を付与することができる。
【０１４５】
防汚剤が反応性官能基を有さない場合、光学フィルムがロール状の場合でも、シート状の場合でも、重ねたときに光学フィルムの裏面に防汚剤が転移してしまい、光学フィルムの裏面に他の層を貼り付けまたは塗布しようとすると、他の層の剥がれ発生することがあり、更に、複数回の連続折り畳み試験を行うことで容易に剥がれる場合がある。
【０１４６】
更に、上記反応性官能基を有する防汚剤は、防汚性能の性能持続性（耐久性）が良好となり、なかでも、上述したフッ素系防汚剤を含む機能層は、指紋が付きにくく（目立ちにくく）、拭き取り性も良好である。更に、機能層用組成物の塗工時の表面張力を下げることができるので、レベリング性がよく、形成する機能層の外観が良好なものとなる。
【０１４７】
シリコーン系防汚剤を含む機能層は、滑り性がよく、耐スチールウール性が良好である。機能層にこのようなシリコーン系防汚剤を含む光学フィルムを搭載したタッチセンサは、指やペンなどで接触したときの滑りがよくなるため、触感がよくなる。また、機能層に指紋も付きにくく（目立ちにくく）、拭き取り性も良好となる。更に、機能層用組成物の塗工時の表面張力を下げることができるので、レベリング性がよく、形成する機能層の外観が良好なものとなる。
【０１４８】
シリコーン系防汚剤の市販品としては、例えば、ＳＵＡ１９００Ｌ１０（新中村化学社製）、ＳＵＡ１９００Ｌ６（新中村化学社製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ１３６０（ダイセルサイテック社製）、ＵＴ３９７１（日本合成社製）、ＢＹＫＵＶ３５００（ビックケミー社製）、ＢＹＫＵＶ３５１０（ビックケミー社製）、ＢＹＫＵＶ３５７０（ビックケミー社製）、Ｘ２２−１６４Ｅ、Ｘ２２−１７４ＢＸ、Ｘ２２−２４２６、ＫＢＭ５０３、ＫＢＭ５１０３（信越化学社製）、ＴＥＧＯ−ＲＡＤ２２５０、ＴＥＧＯ−ＲＡＤ２３００、ＴＥＧＯ−ＲＡＤ２２００Ｎ、ＴＥＧＯ−ＲＡＤ２０１０、ＴＥＧＯ−ＲＡＤ２５００、ＴＥＧＯ−ＲＡＤ２６００、ＴＥＧＯ−ＲＡＤ２７００（エボニックジャパン社製）、メガファックＲＳ８５４（ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
【０１４９】
フッ素系防汚剤の市販品としては、例えば、オプツールＤＡＣ、オプツールＤＳＸ（ダイキン工業社製）、メガファックＲＳ７１、メガファックＲＳ７４（ＤＩＣ社製）、ＬＩＮＣ１５２ＥＰＡ、ＬＩＮＣ１５１ＥＰＡ、ＬＩＮＣ１８２ＵＡ（共栄社化学社製）、フタージェント６５０Ａ、フタージェント６０１ＡＤ、フタージェント６０２等が挙げられる。
【０１５０】
フッ素系かつシリコーン系で反応性官能基を有する防汚剤の市販品としては、例えば、メガファックＲＳ８５１、メガファックＲＳ８５２、メガファックＲＳ８５３、メガファックＲＳ８５４（ＤＩＣ社製）、オプスターＴＵ２２２５、オプスターＴＵ２２２４（ＪＳＲ社製）、Ｘ７１−１２０３Ｍ（信越化学社製）等が挙げられる。
【０１５１】
＜＜第１の光学調整層＞＞
光学調整層１３は、干渉縞の発生を抑制するための層である。光学調整層１３の屈折率は、干渉縞の発生を抑制する観点から、樹脂基材１１の屈折率よりも低く、かつ機能層１２の屈折率よりも高いことが好ましい。光学調整層１３の屈折率は、上記機能層の屈折率と同様の方法によって測定することができるので、ここでは説明を省略するものとする。
【０１５２】
光学調整層１３と機能層１２との屈折率差（光学調整層の屈折率−機能層の屈折率）は、０．００５以上０．１００以下であることが好ましい。この屈折率差が、０．００５以上であれば、光学調整層１３と機能層１２における界面反射は生じるが干渉縞が視認できないレベルにすることができ、また０．１００以下であれば、干渉縞は若干確認されるが、実使用上問題ないレベルにすることができる。この屈折率差の下限は、０．００７以上であることがより好ましく、上限は０．０９０以下であることがより好ましい。光学調整層１３の屈折率は、０．０１０以上０．０８０以下であってもよい。
【０１５３】
光学調整層１３の膜厚は、３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下となっていることが好ましい。光学調整層１３の膜厚が、３０ｎｍ以上であれば、機能層１２と光学調整層１３の充分な密着性を確保でき、また２００ｎｍ以下であれば、干渉縞をより抑制することができるとともに折り畳み性を向上させることができる。光学調整層１３の膜厚は、機能層１２と同様の方法によって求めるものとする。光学調整層１３の下限は５０ｎｍ以上であることがより好ましく、上限は１５０ｎｍ以下であることがより好ましい。
【０１５４】
光学調整層１３は、樹脂のみから構成されていてもよいが、バインダ樹脂および屈折率を調整するための粒子を含んでいることが好ましい。光学調整層１３のバインダ樹脂は、（メタ）アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン、およびＡＢＳ樹脂からなる群より選択される少なくとも１種の樹脂であることが好ましい。光学調整層１３の粒子は、シリカやフッ化マグネシウム等の低屈折率粒子、酸化チタンや酸化ジルコニウム等の金属酸化物粒子、コバルトブルー等の無機顔料等からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。これらの中でも、密着性と屈折率差調整の観点から、ポリエステル系樹脂と、酸化チタンや酸化ジルコニウム等の金属酸化物粒子との組み合わせがより好ましい。
【０１５５】
また、光学調整層１３は、帯電防止性を得るために、帯電防止剤を含んでいてもよい。光学調整層１３が、帯電防止剤を含んでいる場合、光学調整層１３は、帯電防止層としても機能する。光学調整層１３が、帯電防止剤を含むことにより、光学フィルム１０の表面１０Ａにおける表面抵抗値をより安定化させることができる。光学調整層１３に帯電防止剤を含ませる場合、機能層１２にも帯電防止剤を含ませると、光学フィルム１０の表面１０Ａにおける表面抵抗値をさらに安定化させることができる。光学調整層１３に含ませる帯電防止剤としては、機能層１２の欄で説明した帯電防止剤と同様のものを用いることができるので、ここでは説明を省略するものとする。
【０１５６】
＜＜第２の光学調整層＞＞
光学調整層１４は、主に干渉縞を発生させずに樹脂基材１１と光学調整層１３との間の密着性を向上させるための層である。樹脂基材１１と光学調整層１３の間に光学調整層１４を設けることにより、樹脂基材１１と光学調整層１３が直接接している場合よりも、密着性を向上させることができる。
【０１５７】
光学調整層１４の屈折率は、干渉縞の観点から、樹脂基材１１の屈折率よりも低く、かつ光学調整層１３の屈折率よりも高いことが好ましい。光学調整層１４の屈折率は機能層１２と同様の方法によって測定することができるので、ここでは説明省略するものとする。
【０１５８】
光学調整層１４と光学調整層１３との屈折率差（第２の光学調整層の屈折率−第１の光学調整層の屈折率）は、０．００５以上０．１００以下であることが好ましい。この屈折率差が、０．００５以上であれば、光学調整層１４と光学調整層１３における界面反射は生じるが干渉縞が視認できないレベルにすることができ、また０．１００以下であれば、干渉縞は若干確認されるが、実使用上問題ないレベルにすることができる。この屈折率差の下限は、０．００７以上であることがより好ましく、上限は０．０９０以下であることがより好ましい。光学調整層１３の屈折率は、０．０１０以上０．０８０以下であってもよい。
【０１５９】
光学調整層１４の膜厚は、３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下となっていることが好ましい。光学調整層１４の膜厚が、３０ｎｍ以上であれば、光学調整層１３と光学調整層１４および樹脂基材１１と光学調整層１４の充分な密着性を確保でき、また２００ｎｍ以下であれば、光学調整層１４と光学調整層１３との屈折率差に起因して、干渉縞が発生することもなく、また折り畳み性を向上させることができる。光学調整層１４の膜厚は、機能層１２と同様の方法によって求めるものとする。光学調整層１４の下限は５０ｎｍ以上であることがより好ましく、上限は１５０ｎｍ以下であることがより好ましい。
【０１６０】
光学調整層１４は、樹脂のみから構成されていてもよいが、バインダ樹脂および屈折率を調整するための粒子を含んでいることが好ましい。光学調整層１４の樹脂は、（メタ）アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン、およびＡＢＳ樹脂からなる群より選択される少なくとも１種の樹脂であることが好ましい。光学調整層１３の粒子は、シリカやフッ化マグネシウム等の低屈折率粒子、酸化チタンや酸化ジルコニウム等の金属酸化物粒子、コバルトブルー等の無機顔料等からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。これらの中でも、密着性と屈折率差調整の観点から、ポリエステル系樹脂と、酸化チタンや酸化ジルコニウム等の金属酸化物粒子との組み合わせがより好ましい。
【０１６１】
また、光学調整層１４は、帯電防止性を得るために、帯電防止剤を含んでいてもよい。光学調整層１４が、帯電防止剤を含んでいる場合、光学調整層１４は、帯電防止層としても機能する。光学調整層１４が、帯電防止剤を含むことにより、光学フィルム１０の表面１０Ａにおける表面抵抗値をより安定化させることができる。光学調整層１４に帯電防止剤を含ませる場合、機能層１２にも帯電防止剤を含ませると、光学フィルム１０の表面１０Ａにおける表面抵抗値をさらに安定化させることができる。光学調整層１４に含ませる帯電防止剤としては、機能層１２の欄で説明した帯電防止剤と同様のものを用いることができるので、ここでは説明を省略するものとする。
【０１６２】
＜＜第３の光学調整層＞＞
光学調整層１５は、光学フィルム１０の光透過率を向上させる層である。光学調整層１５の屈折率は、空気の屈折率である１．０００より高く、かつ樹脂基材１１の屈折率よりも低くなっている。光学調整層１５の屈折率は、上記機能層１２の屈折率と同様の方法によって測定することができるので、ここでは説明を省略するものとする。
【０１６３】
樹脂基材１１と光学調整層１５との屈折率差（樹脂基材の屈折率−第３の光学調整層の屈折率）は、０．００５以上０．７００以下であることが好ましい。この屈折率差が、０．００５以上であれば、光学フィルム１０の光透過率を向上させることができ、また０．７００以下であれば、光学フィルム１０の透明性を損なわない。この屈折率差の下限は、０．０１０以上であることがより好ましく、上限は０．６００以下であることがより好ましい。光学調整層１５の屈折率は、０．０５０以上０．５００以下であってもよい。
【０１６４】
光学調整層１５の膜厚は、３０ｎｍ以上１μｍ以下となっていることが好ましい。光学調整層１５の膜厚が、３０ｎｍ以上であれば、光学フィルム１０の光透過率をより向上させることができ、また１μｍ以下であれば、加工性の悪化を抑制できる。光学調整層１５の膜厚は、機能層１２と同様の方法によって求めることができる。光学調整層１５の下限は５０ｎｍ以上であることがより好ましく、上限は７００ｎｍ以下であることがより好ましく、５００ｎｍ以下がさらに好ましい。
【０１６５】
光学調整層１５の構成は、屈折率が、１．０００より高く、かつ樹脂基材１１の屈折率よりも低い層であれば、特に限定されない。光学調整層１５は、樹脂から構成することが可能である。光学調整層１５は、樹脂の他、さらに屈折率を低下させるために、この樹脂よりも低い屈折率を有する低屈折率粒子を含んでいてもよい。また、光学調整層１５は、帯電防止性を得るために、帯電防止剤を含んでいてもよい。光学調整層１５が、帯電防止剤を含んでいる場合、光学調整層１５は、帯電防止層としても機能する。さらに、光学調整層１５は、光学フィルム１０の色味を調整するために、上記分光透過率調整剤等の色味調整剤を含んでいてもよい。
【０１６６】
＜樹脂＞
樹脂は、（メタ）アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン、およびＡＢＳ樹脂からなる群より選択される少なくとも１種の樹脂であることが好ましい。これらの中でも、樹脂基材１１との密着性の観点から、（メタ）アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂等が好ましい。
【０１６７】
上記（メタ）アクリル系樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート等が挙げられる。また、上記セルロース系樹脂としては、例えば、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ）等が挙げられる。上記ウレタン系樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂等が挙げられる。
【０１６８】
上記塩化ビニル系樹脂としては、例えば、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。また、上記ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート等が挙げられる。また、上記ポリオレフィン系樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙げられる。
【０１６９】
＜低屈折率粒子＞
低屈折率粒子としては、例えば、シリカ、またはフッ化マグネシウムからなる中実または中空粒子等が挙げられる。これらの中でも、中空シリカ粒子が好ましく、このような中空シリカ粒子は、例えば、特開２００５−０９９７７８号公報の実施例に記載の製造方法にて作製できる。
【０１７０】
低屈折率粒子の平均粒子径（平均一次粒子径）は、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。低屈折率粒子の平均粒径が上記範囲内であれば、光学調整層１５の透明性を損なうことがなく、良好な粒子の分散状態が得られる。低屈折率粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）又は走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した光学調整層１５の断面の画像から２０個の低屈折率粒子の粒子径を測定し、２０個の低屈折率粒子の粒子径の算術平均値とする。低屈折率粒子の平均粒子径の下限は１０ｎｍ以上であることがより好ましく、上限は８０ｎｍ以下がより好ましく、７０ｎｍ以下がさらに好ましい。
【０１７１】
低屈折率粒子としては、表面に反応基を有するシリカ粒子（反応性シリカ粒子）を用いることが好ましく、反応性中空シリカ粒子が特に好ましい。このような表面に反応基を有するシリカ粒子は、シランカップリング剤等によってシリカ粒子を表面処理することによって作成することができる。シリカ粒子の表面をシランカップリング剤で処理する方法としては、シリカ粒子にシランカップリング剤をスプレーする乾式法や、シリカ粒子を溶媒に分散させてからシランカップリング剤を加えて反応させる湿式法等が挙げられる。
【０１７２】
＜帯電防止剤＞
光学調整層１５に含有させる帯電防止剤としては、機能層１２の欄で説明した帯電防止剤と同様のものを用いることができるので、ここでは説明を省略するものとする。
【０１７３】
＜＜光学フィルムの製造方法＞＞
光学フィルム１０は、例えば、以下のようにして作製することができる。まず、樹脂基材１１の第１の面１１Ａ上に、バーコーター等の塗布装置によって、光学調整層１４を形成するための第２の光学調整層用組成物を塗布して、第２の光学調整層用組成物の塗膜を形成する。
【０１７４】
＜第２の光学調整層用組成物＞
第２の光学調整層用組成物は、バインダ樹脂前駆体、金属酸化物等の粒子および溶媒を含んでいる。本明細書における「バインダ樹脂前駆体」とは、溶媒を除去することによって、または熱や電離放射線で硬化させることによって、バインダ樹脂となる成分である。バインダ樹脂前駆体としては、溶剤乾燥型樹脂および熱や電離放射線で硬化する重合性化合物が挙げられる。本明細書における電離放射線としては、可視光線、並びに紫外線、Ｘ線、電子線、α線、β線、およびγ線が挙げられる。第２の光学調整層用組成物は、その他、必要に応じて、シリカやフッ化マグネシウム等の低屈折率粒子、コバルトブルー等の無機顔料、レベリング剤、および重合開始剤の少なくともいずれかを含んでいてもよい。また、バインダ樹脂前駆体として、ポリエステル系樹脂を用いた場合には、第２の光学調整層用組成物は、その他、必要に応じて、（メタ）アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂からなる群より選択される１種以上の樹脂を含んでいてもよい。
【０１７５】
第２の光学調整層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法で塗膜を、例えば４０℃以上２００℃以下の温度で１０秒間〜１２０秒間加熱することにより乾燥させ、溶媒を蒸発させて、または硬化させて、また必要に応じて塗膜に紫外線等の電離放射線を照射して、樹脂基材１１に隣接した光学調整層１４を形成する。
【０１７６】
次いで、光学調整層１４上に、バーコーター等の塗布装置によって、光学調整層１３を形成するための第１の光学調整層用組成物を塗布して、第１の光学調整層用組成物の塗膜を形成する。
【０１７７】
＜第１の光学調整層用組成物＞
第１の光学調整層用組成物は、バインダ樹脂前駆体、金属酸化物等の粒子および溶媒を含んでいる。第１の光学調整層用組成物は、その他、必要に応じて、シリカやフッ化マグネシウム等の低屈折率粒子、コバルトブルー等の無機顔料、レベリング剤、および重合開始剤の少なくともいずれかを含んでいてもよい。また、バインダ樹脂前駆体として、ポリエステル系樹脂を用いた場合には、第１の光学調整層用組成物は、その他、必要に応じて、（メタ）アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂からなる群より選択される１種以上の樹脂を含んでいてもよい。
【０１７８】
第１の光学調整層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法で塗膜を、例えば４０℃以上２００℃以下の温度で１０秒間〜１２０秒間加熱することにより乾燥させ、溶媒を蒸発させて、または硬化させて、また必要に応じて塗膜に紫外線等の電離放射線を照射して、光学調整層１３を形成する。
【０１７９】
光学調整層１３を形成した後、光学調整層１３上に、バーコーター等の塗布装置によって、機能層１２を形成するための機能層用組成物を塗布して、機能層用組成物の塗膜を形成する。
【０１８０】
＜機能層用組成物＞
機能層用組成物は、硬化後バインダ樹脂となる重合性化合物を含んでいる。機能層用組成物は、その他、必要に応じて、帯電防止剤、紫外線吸収剤、分光透過率調整剤、防汚剤、無機粒子、レベリング剤、溶媒、重合開始剤を含んでいてもよい。
【０１８１】
（溶媒）
上記溶媒としては、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ、エチレングリコール、ジアセトンアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ヘプタノン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン、ジアセトンアルコール）、エステル（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、蟻酸メチル、ＰＧＭＥＡ）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）、カーボネート（炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸エチルメチル）、等が挙げられる。これらの溶媒、単独で用いられてもよく、２種類以上が併用されてもよい。なかでも、上記溶媒としては、ウレタン（メタ）アクリレート等の成分、並びに、他の添加剤を溶解或いは分散させ、機能層用組成物を好適に塗工できる点で、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンが好ましい。
【０１８２】
（重合開始剤）
重合開始剤は、電離放射線照射より分解されて、ラジカルを発生して重合性化合物の重合（架橋）を開始または進行させる成分である。
【０１８３】
重合開始剤は、電離放射線照射によりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であれば特に限定されない。重合開始剤としては、特に限定されず、公知のものを用いることができ、具体例には、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。
【０１８４】
機能層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法で塗膜を、例えば３０℃以上１２０℃以下の温度で１０秒間〜１２０秒間加熱することにより乾燥させ、溶媒を蒸発させる。
【０１８５】
塗膜を乾燥させた後、塗膜に紫外線等の電離放射線を照射して、塗膜を硬化させる。これにより、光学調整層１３に隣接した機能層１２が形成される。
【０１８６】
機能層１２を形成した後、樹脂基材１１の第２の面１１Ｂ上に、バーコーター等の塗布装置によって、光学調整層１５を形成するための第３の光学調整層用組成物を塗布して、第３の光学調整層用組成物の塗膜を形成する。
【０１８７】
＜第３の光学調整層用組成物＞
第３の光学調整層用組成物は、樹脂前駆体および溶媒を含んでいる。第３の光学調整層用組成物は、その他、必要に応じて、低屈折率粒子、帯電防止剤、コバルトブルー等の無機顔料、レベリング剤、および重合開始剤の少なくともいずれかを含んでいてもよい。また、樹脂前駆体として、ポリエステル系樹脂を用いた場合には、第３の光学調整層用組成物は、その他、必要に応じて、（メタ）アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂からなる群より選択される１種以上の樹脂を含んでいてもよい。溶媒は、機能層用組成物の欄で説明した溶媒と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。
【０１８８】
第３の光学調整層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法で塗膜を、例えば４０℃以上２００℃以下の温度で１０秒間〜１２０秒間加熱することにより乾燥させ、溶剤を蒸発させて、または硬化させて、また必要に応じて塗膜に紫外線等の電離放射線を照射して、光学調整層１５を形成する。これにより、図１に示される光学フィルム１０が得られる。
【０１８９】
＜＜＜他の光学フィルム＞＞＞
光学フィルムは、図４〜図７に示される光学フィルム３０、４０、５０、６０であってもよい。図４〜図７に示される光学フィルム３０、４０、５０、６０も、画像表示装置に用いられるものであり、折り畳み可能となっている。
【０１９０】
図４に示される光学フィルム３０は、樹脂基材１１と、樹脂基材１１の第１の面１１Ａ側に設けられた機能層１２と、樹脂基材１１と機能層１２の間に設けられ、機能層１２に隣接した光学調整層１３とを備えるものである。なお、図４に示される光学フィルム３０は、光学調整層１４は設けられておらず、光学調整層１３は機能層１２および樹脂基材１１に隣接している。光学フィルム３０の物性等は光学フィルム１０の物性等と同様であるので、ここでは、説明を省略するものとする。光学フィルム３０の表面３０Ａは、機能層１２の表面１２Ａとなっており、光学フィルム３０の裏面３０Ｂは、光学調整層１５における樹脂基材１１側の面とは反対側の面１５Ａとなっている。
【０１９１】
図５に示される光学フィルム４０は、樹脂基材１１と、樹脂基材１１の第１の面１１Ａ側に設けられた機能層１２と、樹脂基材１１と機能層１２の間に設けられ、機能層１２に隣接した光学調整層１３と、樹脂基材１１の第２の面１１Ｂに設けられた樹脂層４１とを備えるものである。なお、図５に示される光学フィルム４０は、光学調整層１４は設けられておらず、光学調整層１３は機能層１２および樹脂基材１１に隣接している。光学フィルム４０の表面４０Ａは、機能層１２の表面１２Ａとなっており、光学フィルム４０の裏面３０Ｂは、樹脂層４１における樹脂基材１１側の面とは反対側の面４１Ａとなっている。
【０１９２】
図６に示される光学フィルム５０は、樹脂基材１１と、樹脂基材１１の第１の面１１Ａ側に設けられた機能層１２と、樹脂基材１１と機能層１２の間に設けられ、機能層１２に隣接した光学調整層１３と、樹脂基材１１の第２の面１１Ｂ側に設けられた樹脂層４１と、樹脂基材１１と樹脂層４１の間に設けられ、樹脂基材１１に隣接した光学調整層１５とを備えるものである。なお、図６に示される光学フィルム５０は、光学調整層１４は設けられておらず、光学調整層１３は機能層１２および樹脂基材１１に隣接している。光学フィルム５０の表面５０Ａは、機能層１２の表面１２Ａとなっており、光学フィルム５０の裏面５０Ｂは、樹脂層４１における樹脂基材１１側の面とは反対側の面４１Ａとなっている。
【０１９３】
図７に示される光学フィルム６０は、樹脂基材１１と、樹脂基材１１の第１の面１１Ａ側に設けられた機能層１２と、樹脂基材１１と機能層１２の間に設けられ、機能層１２に隣接した光学調整層１３と、樹脂基材１１と光学調整層１３の間に設けられ、かつ樹脂基材１１に隣接した光学調整層１４と、樹脂基材１１の第２の面１１Ｂ側に設けられた樹脂層４１と、樹脂基材１１と樹脂層４１の間に設けられ、樹脂基材１１に隣接した光学調整層１５とを備えるものである。なお、光学フィルム６０の表面６０Ａは、機能層１２の表面１２Ａとなっており、光学フィルム６０の裏面６０Ｂは、樹脂層４１における樹脂基材１１側の面とは反対側の面４１Ａとなっている。
【０１９４】
光学フィルム４０、５０、６０においては、２５℃、５００Ｈｚ以上１０００Ｈｚ以下の周波数域での剪断貯蔵弾性率Ｇ´が、２００ＭＰａを超え１２００ＭＰａ以下となっている。フィルムの剪断貯蔵弾性率Ｇ´が２００ＭＰａを越えれば、光学フィルムの表面に衝撃が加わった際に、光学フィルム自体の変形のみならず、光学フィルムよりも画像表示装置の内部に粘着層が配置されている場合であっても粘着層の塑性変形を抑制することができる。また、光学フィルム４０、５０、６０の剪断貯蔵弾性率Ｇ´が１２００ＭＰａ以下であれば、折り畳みの際の光学フィルム４０の割れを抑制できる。光学フィルム４０、５０、６０の剪断貯蔵弾性率Ｇ´の下限は、４００ＭＰａ以上となっていることが好ましく、５００ＭＰａ以上となっていることがより好ましい。このような下限とすることで、より優れた耐衝撃性を得ることができる。光学フィルム４０、５０、６０の剪断貯蔵弾性率Ｇ´の上限は、８００ＭＰａ未満となっていることが好ましい。このような上限とすることで、折り畳んで静置し、再び開いた際に、良好な復元性を得ることができる。
【０１９５】
光学フィルム４０、５０、６０においては、２５℃、５００Ｈｚ以上１０００Ｈｚ以下の周波数域での剪断損失弾性率Ｇ´´が、３ＭＰａ以上１５０ＭＰａ以下となっている。光学フィルムの剪断損失弾性率Ｇ´´が３ＭＰａ以上であれば、衝撃吸収性能の低下を抑制できる。また、光学フィルム４０、５０、６０の剪断損失弾性率Ｇ´´が１５０ＭＰａ以下であれば、樹脂層４１の硬度低下を抑制できる。光学フィルム４０の剪断損失弾性率Ｇ´´の下限は、２０ＭＰａ以上となっていることが好ましく、また光学フィルム４０の剪断損失弾性率Ｇ´´の上限は、光学フィルム４０、５０、６０の薄型化の観点から、１３０ＭＰａ以下となっていることが好ましく、１００ＭＰａ以下となっていることがより好ましい。
【０１９６】
剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´は、動的粘弾性測定装置（ＤＭＡ）によって測定することができる。動的粘弾性測定装置（ＤＭＡ）によって、光学フィルム４０の剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´を測定する際には、まず、光学フィルム４０を１０ｍｍ×５ｍｍの長方形状に打ち抜いて、サンプルを得る。そして、このサンプルを２枚準備し、動的粘弾性測定装置（製品名「Rheogel-E4000」、株式会社ユービーエム社製）のオプションである固体剪断用治具に取り付ける。具体的には、図８に示されるように固体剪断用治具７０は、厚さ１ｍｍの１枚の金属製の固体剪断板（中板）と、この固体剪断板７１の両側に配置された２つのＬ型金具７２（外板）を備えており、この固体剪断板７１と一方のＬ型金具７２との間で一方のサンプルを挟み、かつ固体剪断板７１と他方のＬ型金具７２で他方のサンプルを挟む。この場合、樹脂層が固体剪断板５１側となり、機能層がＬ型金具７２側となるようにサンプルＳを挟む。そして、ビス５３でＬ型金具７２間を締めて、サンプルＳを固定する。次いで、動的粘弾性測定装置（製品名「Rheogel-E4000」、株式会社ユービーエム社製）に上部チャックおよび下部チャックからなる引張り試験用チャックを取り付けた後、上部チャックと下部チャックの間に固体剪断用治具をチャック間距離２０ｍｍで取り付ける。チャック間距離は、上部チャックと下部チャックの間の距離である。そして、設定温度を２５℃とし２℃／ｍｉｎで昇温させる。この状態で、固体剪断板７１を固定しながら２つのＬ型金具７２に歪み量１％かつ周波数５００Ｈｚ以上１０００Ｈｚ以下の範囲の縦振動を与えながら、２５℃での固体の動的粘弾性測定を行い、光学フィルム４０、５０、６０の剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´を測定する。ここで、光学フィルムにおける５００Ｈｚ以上１０００Ｈｚ以下の周波数域での剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´は、Ｌ型金具に周波数５００Ｈｚ、７５０Ｈｚ、９５０Ｈｚの縦振動をそれぞれ与えて、それぞれの周波数において光学フィルムの剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´を測定し、これらの剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´の算術平均値を求め、さらに、この測定を３回繰り返し、それぞれ得られた３つの算術平均値をさらに算術平均した値とする。なお、上記において、５００Ｈｚ以上１０００Ｈｚ以下の周波数域としたのは、この周波数域の周波数が、数ｃｍの高さから物体を自由落下させたときに、光学フィルムの表面が数ミクロンから数十ミクロン変形する周波数であり、かつ光学フィルムより画像表示装置の内部に存在する表示パネル等に損傷を与える周波数であるからである。
【０１９７】
光学フィルム４０、５０、６０の物性等は、上記以外は、光学フィルム１０の物性等と同様であるので、ここでは、説明を省略するものとする。
【０１９８】
＜＜樹脂層＞＞
樹脂層４１は、光透過性を有する樹脂からなる層である。樹脂層４１は、衝撃吸収性を有する層である。樹脂層は、２以上の樹脂層からなる多層構造となっていてもよい。
【０１９９】
樹脂層４１の膜厚は、５０μｍ以上３００μｍ以下となっている。樹脂層４１の膜厚が、５０μｍ以上であれば、樹脂層４１の硬度低下を抑制することができ、また３００μｍ以下であれば、薄型化を図ることができ、かつ加工性が悪化することもない。樹脂層４１の膜厚は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、樹脂層４１の断面を撮影し、その断面の画像において樹脂層４１の膜厚を２０箇所測定し、その２０箇所の膜厚の算術平均値とする。樹脂層４１の下限は６０μｍ以上であることがより好ましく、樹脂層４１の上限は１５０μｍ以下であることがより好ましく、１００μｍ以下であることがさらに好ましい。
【０２００】
樹脂層４１を構成する樹脂は、光学フィルム４０における２５℃、５００ＨｚＨｚ以上１０００Ｈｚ以下の周波数域の剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´が上記範囲内となるような樹脂であれば、特に限定されない。このような樹脂としては、アクリル系ゲル、ウレタン系ゲル、シリコーン系ゲル、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂等が挙げられる。これらの中でも、アクリル系ゲルが好ましい。「ゲル」とは、一般に、高粘度で流動性を失った分散系をいう。なお、樹脂層４１は、アクリル系ゲルやウレタン系樹脂等の他、ゴムや熱可塑性エラストマーを含有していてもよい。
【０２０１】
（アクリル系ゲル）
アクリル系ゲルとしては、粘着剤などに用いられている、アクリル酸エステルを含むモノマーを重合してなるポリマーであれば種々のものを使用することができる。具体的には、アクリル系ゲルとしては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−アミル（メタ）アクリレート、ｉ−アミル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ｉ−オクチル（メタ）アクリレート、ｉ−ミリスチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、ｉ−ノニル（メタ）アクリレート、ｉ−デシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ｉ−ステアリル（メタ）アクリレート等のアクリル系モノマーを重合または共重合したものを用いることができる。本明細書において、「（メタ）アクリレート」とは、「アクリレート」および「メタクリレート」の両方を含む意味である。なお、上記（共）重合する際に使用するアクリル酸エステルは、単独で用いる他、２種類以上併用してもよい。
【０２０２】
（ウレタン系樹脂）
ウレタン系樹脂は、ウレタン結合を有する樹脂である。ウレタン系樹脂としては、電離放射線硬化性ウレタン系樹脂組成物の硬化物や熱硬化性ウレタン系樹脂組成物の硬化物等が挙げられる。これらの中でも、高硬度が得られ、硬化速度も早く量産性に優れる観点から、電離放射線硬化性ウレタン系樹脂組成物の硬化物であることが好ましい。
【０２０３】
電離放射線硬化性ウレタン系樹脂組成物は、ウレタン（メタ）アクリレートを含んでおり、熱硬化性ウレタン系樹脂は、ポリオール化合物と、イソシアネート化合物とを含んでいる。ウレタン（メタ）アクリレート、ポリオール化合物、およびイソシアネート化合物は、モノマー、オリゴマー、およびプレポリマーのいずれであってもよい。
【０２０４】
ウレタン（メタ）アクリレート中の（メタ）アクリロイル基の数（官能基数）は、２以上４以下であることが好ましい。ウレタン（メタ）アクリレート中の（メタ）アクリロイル基の数が、２未満であると、鉛筆硬度が低くなるおそれがあり、また４を超えると、硬化収縮が大きくなり、光学フィルムがカールしてしまい、また折り曲げ時に樹脂層にクラックが入るおそれがある。ウレタン（メタ）アクリレート中の（メタ）アクリロイル基の数の上限は、３以下であることがより好ましい。なお、「（メタ）アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」および「メタクリロイル基」の両方を含む意味である。
【０２０５】
ウレタン（メタ）アクリレートの重量平均分子量は、１５００以上２００００以下であることが好ましい。ウレタン（メタ）アクリレートの重量平均分子量が、１５００未満であると、耐衝撃性が低下するおそれがあり、また２００００を超えると、電離放射線硬化性ウレタン系樹脂組成物の粘度が上昇し、塗工性が悪化するおそれがある。ウレタン（メタ）アクリレートの重量平均分子量の下限は２０００以上であることがより好ましく、上限は１５０００以下であることがより好ましい。
【０２０６】
また、ウレタン（メタ）アクリレート由来の構造を有する繰り返し単位としては、例えば、下記一般式（２６）、（２７）、（２８）または（２９）で表される構造等が挙げられる。
【化２６】
2018159913.tif 000028
上記一般式（２６）中、Ｒ９は分岐鎖状アルキル基を示し、Ｒ１０は分岐鎖状アルキル基又は飽和環状脂肪族基を示し、Ｒ１１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ１２は、水素原子、メチル基又はエチル基を示し、ｍは０以上の整数を示し、ｘは０〜３の整数を示す。
【０２０７】
【化２７】
2018159913.tif 000029
上記一般式（２７）中、Ｒ９は分岐鎖状アルキル基を示し、Ｒ１０は分岐鎖状アルキル基又は飽和環状脂肪族基を示し、Ｒ１１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ１２は、水素原子、メチル基又はエチル基を示し、ｎは１以上の整数を示し、ｘは０〜３の整数を示す。
【０２０８】
【化２８】
2018159913.tif 000030
上記一般式（２８）中、Ｒ９は分岐鎖状アルキル基を示し、Ｒ１０は分岐鎖状アルキル基又は飽和環状脂肪族基を示し、Ｒ１１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ１２は、水素原子、メチル基又はエチル基を示し、ｍは０以上の整数を示し、ｘは０〜３の整数を示す。
【０２０９】
【化２９】
2018159913.tif 000031
上記一般式（２９）中、Ｒ９は分岐鎖状アルキル基を示し、Ｒ１０は分岐鎖状アルキル基又は飽和環状脂肪族基を示し、Ｒ１１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ１２は、水素原子、メチル基又はエチル基を示し、ｎは１以上の整数を示し、ｘは０〜３の整数を示す。
【０２１０】
なお、樹脂層４１を構成する樹脂が、どのような構造の高分子鎖（繰り返し単位）によって形成されているかは、例えば、熱分解ＧＣ−ＭＳ及びＦＴ−ＩＲによって樹脂層４１を分析することによって判断可能である。特に、熱分解ＧＣ−ＭＳは、樹脂層４１に含まれる単量体単位をモノマー成分として検知できるため有用である。
【０２１１】
樹脂層４１は、光学フィルム４０、５０、６０における２５℃、５００ＨｚＨｚ以上１０００Ｈｚ以下の周波数域の剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´が上記範囲内となっていれば、紫外線吸収剤、分光透過率調整剤、防汚剤、無機粒子および／または有機粒子等を含んでいてもよい。紫外線吸収剤等は、機能層１２の欄で説明した紫外線吸収剤等と同様のものが使用できるので、ここでは説明を省略するものとする。
【０２１２】
＜＜＜画像表示装置＞＞＞
光学フィルム１０、３０、４０、５０、６０は、折り畳み可能な画像表示装置に組み込んで使用することが可能である。図９は、本実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。図９に示されるように、画像表示装置８０は、観察者側に向けて、主に、電池等が収納された筐体８１、保護フィルム８２、表示素子８３、円偏光板８４、タッチセンサ８５、および光学フィルム１０がこの順で積層されている。表示素子８３と円偏光板８４との間、円偏光板８４とタッチセンサ８５との間、タッチセンサ８５と光学フィルム１０との間には、光透過性を有する粘着層８６が配置されており、これら部材は粘着層８６によって互いに固定されている。なお、粘着層８６は、表示素子８３と円偏光板８４との間、円偏光板８４とタッチセンサ８５との間、タッチセンサ８５と光学フィルム１０との間に配置されているが、粘着層の配置箇所は、光学フィルムと表示素子との間であれば、特に限定されない。
【０２１３】
光学フィルム１０は、機能層１２が樹脂基材１１よりも観察者側となるように配置されている。画像表示装置８０においては、光学フィルム１０の表面１０Ａ（機能層１２の表面１２Ａ）が、画像表示装置８０の表面８０Ａを構成している。
【０２１４】
画像表示装置８０においては、表示素子８３は、有機発光ダイオード等を含む有機発光ダイオード素子となっている。タッチセンサ８５は、円偏光板８４よりも観察者側に配置されているが、表示素子８３と円偏光板８４との間に配置されていてもよい。また、タッチセンサ８５は、オンセル方式やインセル方式であってもよい。粘着層８６としては、例えば、ＯＣＡ(Optical Clear Adhesive)を用いることができる。
【０２１５】
本実施形態によれば、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、およびポリエステル系樹脂からなる群から選択される１種以上の樹脂からなる樹脂基材１１を用い、かつ樹脂基材１１と機能層１２の間に、機能層１２に隣接した光学調整層１３を設けているので、折り畳み可能でありながら、干渉縞の発生を抑制することができる。
【０２１６】
光学フィルムの裏面が樹脂基材となっている場合、樹脂基材は空気層と接することになるので、樹脂基材と空気層との界面での反射が大きくなり、これにより光透過率が低下してしまうおそれがある。特に樹脂基材として、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、およびポリエステル系樹脂からなる群から選択される１種以上の樹脂からなる樹脂基材を用いた場合には、これらの樹脂基材の屈折率は比較的高いので、界面反射が生じやすい。これに対し、本実施形態においては、樹脂基材１１の第２の面１１Ｂに、屈折率が１．０００より高く、かつ樹脂基材１１の屈折率よりも低い光学調整層１５を設けているので、樹脂基材が空気層と接しているときと比べて、界面反射を低減させることができ、光反射率を低下させることができる。これにより、光学フィルム１０、３０の光透過率を向上させることができる。
【０２１７】
また、光学調整層１５が帯電防止剤を含んでいる場合には、光学フィルム１０、３０、５０、６０は、樹脂基材１１の第１の面１１Ａ側に帯電防止ハードコート層である機能層１２を備えており、樹脂基材１１の第２の面１１Ｂ側に帯電防止剤を含む光学調整層１５を備えているので、光学フィルム１０、３０、５０、６０に埃等が付着することが抑制できる。また、この場合には、光学フィルム１０、３０、５０、６０の両面に保護フィルム（図示せず）を貼り付けた状態で、光学フィルム１０、３０、５０、６０から保護フィルムを剥離したとしても、光学フィルム１０、３０、５０、６０の帯電を抑制できる。これにより、画像表示装置の組立工程の歩留まりを向上させることができる。
【０２１８】
折り畳み可能な画像表示装置に用いられる光学フィルムには、光学フィルムの表面に衝撃が加わることがあるので、耐衝撃性が求められることがある。ここで、光学フィルムの表面に衝撃が加わったときには、光学フィルムの表面が凹むことがあり、また画像表示装置において光学フィルムよりも内部に存在する表示パネル（例えば、有機発光ダイオードパネル）等の部材が損傷を受けることがある。光学フィルムの表面の凹みに関しては、光学フィルム自体に起因する凹みと、光学フィルムよりも画像表示装置の内部に配置された粘着層のような柔らかい層に起因する凹みがある。「光学フィルム自体に起因する凹み」とは、光学フィルムの表面に衝撃が加わったとき、その衝撃によって光学フィルム自体が変形することによって生じる凹みを意味し、「柔らかい層に起因する凹み」とは、この層が柔らかいために、光学フィルムの表面に衝撃が加わったとき、光学フィルムよりも画像表示装置の内部に配置された柔らかい層が塑性変形を起こし、光学フィルムが柔らかい層の塑性変形に追従することによって生じる凹みを意味する。このため、現在、光学フィルムにおいては、光学フィルムの表面に衝撃が加わったときに、光学フィルム自体に起因する凹みおよび柔らかい層に起因する凹みが抑制され、かつ光学フィルムよりも画像表示装置の内部に存在する部材が損傷を受けないような優れた耐衝撃性が得られることが好ましい。ここで、衝撃吸収性能を表す指標としては、従来から剪断損失正接ｔａｎδが知られている。したがって、樹脂基材の第１の面側に機能層および第２の面側に樹脂層を備える構造の光学フィルムにおける耐衝撃性を剪断損失正接ｔａｎδで表すことも考えられるが、剪断損失正接ｔａｎδでは、光学フィルムの表面（機能層の表面）に衝撃を加えたときに、光学フィルム自体に起因する光学フィルムの表面の凹みおよび柔らかい層に起因する光学フィルムの表面の凹みと、光学フィルムよりも画像表示装置の内部に位置する部材の損傷とを抑制することはできなかった。これは、剪断損失正接ｔａｎδが、剪断損失弾性率Ｇ´´と剪断貯蔵弾性率Ｇ´との比（Ｇ´´／Ｇ´）であるためであると考えられる。本発明者らが鋭意研究をさらに重ねたところ、光学フィルムの表面に衝撃を加えたときの光学フィルム自体に起因する表面の凹みおよび柔らかい層に起因する表面の凹みと、光学フィルムよりも画像表示装置の内部に位置する部材の損傷とを抑制するためには、樹脂層の膜厚、剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´のバランスが重要であることを見出した。本実施形態によれば、樹脂基材１１の第１の面１１Ａ側に機能層１２および第２の面１１Ｂ側に樹脂層４１を備える構造の光学フィルム４０、５０、６０において、樹脂層４１の膜厚が５０μｍ以上３００μｍ以下と薄くなっており、光学フィルム４０における上記剪断貯蔵弾性率Ｇ´が、２００ＭＰａを超え１２００ＭＰａ以下となっており、かつ光学フィルム４０における上記剪損失弾性率Ｇ´´が、３ＭＰａ以上１５０ＭＰａ以下となっているので、折り畳み可能でありながら、光学フィルム４０の表面４０Ａに衝撃を加えた場合に、光学フィルム４０、５０、６０自体に起因する表面４０Ａ、５０Ａ、６０Ａの凹みおよび光学フィルム４０、５０、６０よりも画像表示装置の内部に存在する柔らかい層に起因する光学フィルム４０、５０、６０の表面４０Ａ、５０Ａ、６０Ａの凹みを抑制することができるとともに、画像表示装置の内部に位置する表示素子８３等の部材の損傷を抑制できる。これにより、優れた耐衝撃性を得ることができる。
【０２１９】
［第２の実施形態］
以下、本発明の第２の実施形態に係る光学フィルムおよび画像表示装置について、図面を参照しながら説明する。図１０は本実施形態に係る光学フィルムの概略構成図であり、図１１は本実施形態に係る他の光学フィルムの概略構成図であり、図１２は本実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。
【０２２０】
＜＜＜光学フィルム＞＞＞
図１０に示される光学フィルム９０は、画像表示装置に用いられるものであり、折り畳み可能となっている。
【０２２１】
光学フィルム９０は、光透過性基材９１と、光透過性基材９１の一方の面である第１の９１Ａ側に設けられた第１の帯電防止層９２（以下、単に帯電防止層９２と称することもある。）と、光透過性基材９１の第１の面９１Ａとは反対側の面である第２の面９１Ｂ側に設けられた第２の帯電防止層９３（以下、単に帯電防止層９３と称することもある。）とを備えるものである。なお、光透過性基材９１と帯電防止層９２との間および光透過性基材９１と帯電防止層９３との間の少なくともいずれかに機能層を備えていてもよい。
【０２２２】
帯電防止層９２、９３における光透過性基材９１側の面とは反対側の面には、保護フィルムが貼り付けられていてもよい。ただし、保護フィルムは使用時に剥離されるものであるので、保護フィルムは、光学フィルムの一部を構成しないものとする。なお、本明細書における光学フィルム９０の物性値等は、保護フィルムが設けられていない状態での値である。
【０２２３】
図１０においては、光学フィルム９０の表面９０Ａは、帯電防止層９２の表面９２Ａとなっている。光学フィルム９０の裏面９０Ｂは、帯電防止層９３における光透過性基材９１側の面とは反対側の面９３Ａとなっている。
【０２２４】
光学フィルム９０は、折り畳み可能となっているが、具体的には、光学フィルム９０に対し次に説明する折り畳み試験（連続折り畳み試験）を１０万回繰り返し行った場合であっても、光学フィルム９０に割れまたは破断が生じないことが好ましく、連続折り畳み試験を２０万回繰り返し行った場合であっても、光学フィルム９０に割れまたは破断が生じないことがより好ましく、１００万回繰り返し行った場合であっても、光学フィルム９０に割れまたは破断が生じないことがさらに好ましい。光学フィルム９０に対し連続折り畳み試験を１０万回繰り返し行った場合に、光学フィルム９０に割れ等が生じると、光学フィルム９０の折り畳み性が不充分となる。連続折り畳み試験は、帯電防止層９２が内側となるように光学フィルム９０を折り畳むように行われてもよく、また帯電防止層９２が外側となるように光学フィルム９０を折り畳むように行われてもよいが、いずれの場合であっても、光学フィルムに割れまたは破断が生じないことが好ましい。連続折り畳み試験は、第１実施形態と同様の方法によって行われるが、本実施形態の連続折り畳み試験では、辺部の間隔を３ｍｍとした状態で行うものとする。
【０２２５】
第１実施形態と同様の方法によって、光学フィルム９０に対し７０℃で２４０時間静置する折り畳み静置試験を行った後に折り畳み状態を開放して、室温で３０分後に光学フィルム９０において開き角θを測定した場合に、光学フィルム９０の開き角θが１００°以上であることが好ましい。折り畳み静置試験は、帯電防止層９２が内側となるように光学フィルム９０を折り畳むように行われてもよく、また帯電防止層９２が外側となるように光学フィルム９０を折り畳むように行われてもよいが、いずれの場合であっても、開き角θが１００°以上であることが好ましい。
【０２２６】
光学フィルム９０の表面９０Ａおよび裏面９０Ｂの表面抵抗値は、１０１２Ω／□以下であることが好ましい。表面抵抗値は、第１実施形態に記載された方法と同様の方法によって測定するものとする。
【０２２７】
光学フィルム９０の表面９０Ａ（帯電防止層９２の表面９２Ａ）は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４：１９９９で規定される鉛筆硬度試験で測定されたときの硬度（鉛筆硬度）が、Ｆ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましい。鉛筆硬度試験は、第１実施形態に記載された方法と同様の方法によって測定するものとする。
【０２２８】
光学フィルム９０においては、第１実施形態で記載した理由と同様の理由から、２３℃、相対湿度５０％の環境下で、光学フィルム９０の表面９０Ａより５０ｍｍの距離から１０ｋＶの電圧を印加したときの光学フィルム９０の表面９０Ａにおける飽和帯電圧が、０ｋＶを越えていることが好ましい。飽和帯電圧は、第１実施形態に記載された方法と同様の方法によって測定するものとする。上記飽和帯電圧の絶対値の下限は、０．１ｋＶ以上であることがより好ましく、上記飽和帯電圧の絶対値の上限は、１．０ｋＶ以下であることがより好ましい。
【０２２９】
光学フィルム９０は、第１実施形態で記載した理由と同様の理由から、イエローインデックス（ＹＩ）が１５以下であることが好ましい。イエローインデックスは、第１実施形態に記載された方法と同様の方法によって測定するものとする。光学フィルム９０のイエローインデックス（ＹＩ）の上限は、１０未満であることがより好ましく、１．５未満であることが最も好ましい。
【０２３０】
光学フィルム９０に向けて帯電防止層９３側から波長３００ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の領域において連続スペクトルを有する光を入射角度０°で照射し、光学フィルム９０を透過した光（透過光）におけるＬ*ａ*ｂ*表色系の色座標ａ*、ｂ*を求めたとき、ａ*が−５以上＋５以下であり、ｂ*が−５以上＋５以下であることが好ましい。ａ*およびｂ*がそれぞれ前記範囲内にあれば、光学フィルムをモバイル端末に用いた場合、画像の黄色味が気にならなくなる。ａ*およびｂ*は、第１実施形態に記載された方法と同様の方法によって測定するものとする。
【０２３１】
光学フィルム９０のヘイズ値（全ヘイズ値）は、第１実施形態で記載した理由と同様の理由から、２．５％以下であることが好ましい。上記ヘイズ値は、第１実施形態に記載された方法と同様の方法によって測定するものとする。上記ヘイズ値は、１．５％以下であることがより好ましく、１．０％以下であることがより好ましい。
【０２３２】
光学フィルム９０の波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの光の視感反射率（反射Ｙ値）は１５％以下であることが好ましい。光学フィルムの上記視感反射率が８％以下であれば、光学フィルムをモバイル端末に用いた場合に反射光が少なく視認が容易となる。上記視感反射率は、分光光度計（製品名「ＵＶ−２４５０」、島津製作所社製、光源：タングステンランプおよび重水素ランプ）を用いて、光学フィルムの表面側から波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの光を照射し、光学フィルムから反射する波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの光から測定する。具体的には、５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムの表面側から入射角度５度の光を照射し、光学フィルムで反射された正反射方向の反射光を受光して、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長範囲の反射率を測定し、その後、人間が目で感じる明度として換算するソフトウェア（例えば、ＵＶ−２４５０に内蔵されたソフトウェア）によって視感反射率を算出する。上記視感反射率は、１０％以下であることがより好ましく、３％以下であることがさらに好ましい。
【０２３３】
光学フィルム９０におけるその他の物性、用途、および大きさも、光学フィルム１０と同様であるので、ここでは、説明を省略するものとする。
【０２３４】
＜＜光透過性基材＞＞
光透過性基材９１は、光透過性を有する樹脂からなる基材である。光透過性基材９１の厚みは、第１実施形態に記載した理由と同様の理由から、１０μｍ以上１００μｍ以下となっていることが好ましい。光透過性基材９１の厚みは、樹脂基材１１の厚みと同様の方法によって測定するものとする。光透過性基材７１の下限は２５μｍ以上であることがより好ましく、光透過性基材９１の上限は８０μｍ以下であることがより好ましい。
【０２３５】
光透過性基材９１は、樹脂基材であることが好ましい。樹脂基材を構成する樹脂としては、樹脂基材１１と同様の樹脂を用いることができるので、ここでは説明を省略するものとする。
【０２３６】
＜＜第１の帯電防止層＞＞
帯電防止層９２は、光学フィルム９０の表面９０Ａに帯電防止性を付与する層である。帯電防止層９２は、帯電防止性の他、帯電防止性以外の機能を有していてもよい。帯電防止層９２は、帯電防止性の他、ハードコート性を有している。すなわち、帯電防止層９２は、帯電防止ハードコート層となっている。帯電防止ハードコート層は、帯電防止性を有するハードコート層である。
【０２３７】
帯電防止層９２は、帯電防止層９２の断面中央におけるマルテンス硬度が５００ＭＰａ以上２０００ＭＰａ以下であることが好ましい。帯電防止層９２のマルテンス硬度が、５００ＭＰａ以上であれば、帯電防止ハードコート層として十分な硬度を得ることができ、また２０００ＭＰａ以下であれば、良好な光学フィルムの折り畳み性能を得ることができる。帯電防止層９２の断面中央におけるマルテンス硬度の下限は６００ＭＰａ以上であることが好ましく、上限は１５００ＭＰａ以下であることが好ましい。帯電防止層９２のマルテンス硬度は、第１実施形態に記載された方法と同様の方法によって測定するものとする。
【０２３８】
帯電防止層９２の膜厚は、１μｍ以上５０μｍ以下となっていることが好ましい。帯電防止層９２の膜厚が、１μｍ以上であれば、帯電防止ハードコート層として十分な硬度を得ることができ、また５０μｍ以下であれば、加工性の悪化を抑制できる。本明細書における「帯電防止層の膜厚」とは、帯電防止層が多層構造となっている場合には、各帯電防止層の膜厚を合計した膜厚（総厚）を意味するものとする。帯電防止層９２の膜厚は、機能層１２の膜厚と同様の方法によって測定するものとする。帯電防止層９２の上限は４０μｍ以下であることがより好ましく、３０μｍ以下であることがさらに好ましい。
【０２３９】
帯電防止層９２は、バインダ樹脂と、バインダ樹脂中に存在する帯電防止剤とを含んでいる。帯電防止層９２は、バインダ樹脂等の他、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、例えば、無機粒子や有機粒子等の粒子、紫外線吸収剤、接着性向上剤、レベリング剤、チクソ性付与剤、カップリング剤、可塑剤、消泡剤、充填剤、着色剤、フィラー等の添加剤を含んでいてもよい。
【０２４０】
＜バインダ樹脂＞
バインダ樹脂は、機能層１２の欄で説明したバインダ樹脂と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。
【０２４１】
＜帯電防止剤＞
帯電防止剤は、機能層１２の欄で説明した帯電防止剤と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。
【０２４２】
帯電防止層９２は、紫外線吸収剤、分光透過率調整剤、および／または防汚剤をさらに含んでいてもよい。紫外線吸収剤、分光透過率調整剤および防汚剤は、機能層１２の欄で説明した紫外線吸収剤、分光透過率調整剤および防汚剤と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。
【０２４３】
＜＜第２の帯電防止層＞＞
帯電防止層９３は、光学フィルム９０の裏面９０Ｂに帯電防止性を付与する層である。帯電防止層９３の膜厚は、１ｎｍ以上０．５μｍ以下となっていることが好ましい。帯電防止層９３の膜厚が、１ｎｍ以上であれば、十分な帯電防止性能を得ることができ、また０．５μｍ以下であれば、加工性の悪化を抑制できる。帯電防止層９３の膜厚は、機能層１２の膜厚と同様の方法によって測定するものとする。
【０２４４】
帯電防止層９３の膜厚を４０ｎｍ以上９０ｎｍ以下とすると、光学フィルム７０のイエローインデックスを低下させることができるので、色味調整の観点から、帯電防止層９３の膜厚は４０ｎｍ以上９０ｎｍ以下であることが好ましい。
【０２４５】
帯電防止層９３は、帯電防止剤を含んでいる。帯電防止層９３は、帯電防止剤の他、バインダ樹脂を含んでいてもよい。
【０２４６】
＜帯電防止剤＞
帯電防止層９３に含有させる帯電防止剤としては、機能層１２の欄で説明した帯電防止剤と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。
【０２４７】
＜バインダ樹脂＞
バインダ樹脂は、（メタ）アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン、およびＡＢＳ樹脂からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。これらの中でも、バインダ樹脂の硬度や透明性の観点から、（メタ）アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂等が好ましい。
【０２４８】
上記（メタ）アクリル系樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート等が挙げられる。また、上記セルロース系樹脂としては、例えば、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ）等が挙げられる。上記ウレタン系樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂等が挙げられる。
【０２４９】
上記塩化ビニル系樹脂としては、例えば、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。また、上記ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート等が挙げられる。また、上記ポリオレフィン系樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙げられる。
【０２５０】
＜＜光学フィルムの製造方法＞＞
光学フィルム９０は、例えば、以下のようにして作製することができる。まず、光透過性基材９１の第１の面９１Ａ上に、バーコーター等の塗布装置によって、帯電防止層９２を得るための第１の帯電防止層用組成物を塗布して、第１の帯電防止層用組成物の塗膜を形成する。
【０２５１】
＜第１の帯電防止層用組成物＞
第１の帯電防止層用組成物は、硬化後バインダ樹脂となる重合性化合物および帯電防止剤を含んでいる。第１の帯電防止層用組成物は、その他、必要に応じて、紫外線吸収剤、分光透過率調整剤、防汚剤、無機粒子、レベリング剤、溶媒、重合開始剤を含んでいてもよい。溶媒および重合開始剤は、機能層用組成物の欄で説明した溶媒および重合開始剤と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。
【０２５２】
第１の帯電防止層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法で塗膜を、例えば３０℃以上１２０℃以下の温度で１０秒間〜１２０秒間加熱することにより乾燥させ、溶媒を蒸発させる。
【０２５３】
塗膜を乾燥させた後、塗膜に紫外線等の電離放射線を照射して、塗膜を硬化させる。これにより、帯電防止層９２が形成される。
【０２５４】
帯電防止層９２を形成した後、光透過性基材９１の第２の面９１Ｂ上に、バーコーター等の塗布装置によって、帯電防止層９３を形成するための第２の帯電防止層用組成物を塗布して、第２の帯電防止層用組成物の塗膜を形成する。
【０２５５】
＜第２の帯電防止層用組成物＞
第２の帯電防止層用組成物は、帯電防止剤、および溶媒を含んでいる。第２の帯電防止層は、その他、バインダ樹脂を含んでいてもよい。溶媒は、機能層用組成物の欄で説明した溶剤と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。
【０２５６】
第２の帯電防止層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法で塗膜を例えば３０℃以上１２０℃以下の温度で１０秒間〜１２０秒間加熱することにより乾燥させ、溶媒を蒸発させる。これにより、帯電防止層９３を形成することができ、図１０に示される光学フィルム９０が得られる。
【０２５７】
＜＜＜他の光学フィルム＞＞＞
光学フィルムは、図１１に示される光学フィルム１００であってもよい。図１１に示される光学フィルム１００も、画像表示装置に用いられるものであり、折り畳み可能となっている。
【０２５８】
光学フィルム１００は、光透過性基材１０１と、光透過性基材１０１の第１の面１０１Ａ側に設けられた機能層としてのハードコート層１０２と、ハードコート層１０２における光透過性基材１０１側とは反対側に設けられた第１の帯電防止層１０３（以下、単に帯電防止層１０３と称することもある。）と、帯電防止層１０３におけるハードコート層１０２側とは反対側に設けられた光学調整層１０４と、光透過性基材１０１の第１の面１０１Ａとは反対側の面である第２の面１０１Ｂ側に設けられた第２の帯電防止層１０５（以下、単に帯電防止層１０５と称することもある。）とを備えている。光学フィルム１００の物性等は、光学フィルム１００の物性等と同様であるので、ここでは、説明を省略するものとする。
【０２５９】
光学フィルム１００の表面１００Ａは、光学調整層１０４の表面１０４Ａとなっている。光学フィルム１００の裏面１００Ｂは、帯電防止層１０５における光透過性基材１０１側の面とは反対側の面１０５Ａとなっている。
【０２６０】
＜＜光透過性基材およびハードコート層＞＞
光透過性基材１０１は、光透過性基材９１と同様のものであるので、ここでは説明を省略するものとする。ハードコート層１０２は、帯電防止剤を含まない以外は、帯電防止層９２と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。
【０２６１】
＜＜第１の帯電防止層および第２の帯電防止層＞＞
帯電防止層１０３、１０５は、帯電防止層９３と同様のものであるので、ここでは説明を省略するものとする。すなわち、帯電防止層１０３は、ハードコート性を有していない。
【０２６２】
＜＜光学調整層＞＞
光学調整層１０４は、光学フィルム１００の色味や反射率等の光学物性を調整するための層である。光透過性基材としてポリイミド系樹脂を含む基材を用いると、光透過性基材が黄色味を呈するので、光学調整層１０４は、光透過性基材９１としてポリイミド系樹脂を含む基材を用いたときに特に有効である。
【０２６３】
光学調整層１０４の膜厚は、３０ｎｍ以上５００ｎｍ以下となっていることが好ましい。光学調整層１０４の膜厚が、３０ｎｍ以上であれば、光学特性(透過率・反射率・色相)の調整をすることができ、また５００ｎｍ以下であれば、加工の悪化を抑制できる。光学調整層１０４の膜厚は、機能層１２の膜厚と同様の方法によって測定するものとする。光学調整層１０４の上限は４００ｎｍ以下であることがより好ましく、２００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
【０２６４】
光学調整層１０４の膜厚が３０ｎｍ以上３００ｎｍ以下である場合において、光学調整層１０４の屈折率は、帯電防止層１０３の屈折率よりも低いことが好ましい。このような構成とすることにより、光学調整層１０４が低屈折率層として機能するので、外光の反射率を低下させることができる。この場合、光学調整層１０４の屈折率は、１．３８以上１．６０以下であることが好ましい。光学調整層１０４や帯電防止層１０３の屈折率は、３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の波長領域における屈折率は一定とし、分光光度計により測定した反射スペクトルと、フレネルの式を用いた薄膜の光学モデルから算出したスペクトルとをフィッティングさせることによって求めることができる。また、光学調整層１０４や帯電防止層１０３の屈折率は、単独の層を形成した後、アッベ屈折率計（製品名「ＮＡＲ−４Ｔ」、アタゴ社製）やエリプソメータによって測定して求めてもよい。また、光学フィルム１００となった後に屈折率を測定する方法としては、光学調整層１０４や帯電防止層１０３をカッターなどで削り取り、粉状態のサンプルを作製し、ＪＩＳ  Ｋ７１４２：２００８のＢ法（粉体または粒状の透明材料用）に従ったベッケ線法（屈折率が既知のカーギル試薬を用い、前記粉状態のサンプルをスライドガラスなどに置き、そのサンプル上に試薬を滴下し、試薬でサンプルを浸漬する。その様子を顕微鏡観察によって観察し、サンプルと試薬の屈折率が異なることによってサンプル輪郭に生じる輝線（ベッケ線）が目視で観察できなくなる試薬の屈折率を、サンプルの屈折率とする方法）を用いることができる。帯電防止層１０３と光学調整層１０４との屈折率差の絶対値は、０．００５以上であることが好ましい。帯電防止層１０３と光学調整層１０４との屈折率差の絶対値の上限は、０．３以下であることが好ましい。
【０２６５】
光学調整層１０４は、例えば、酸化ケイ素や酸化アルミニウム等の無機酸化物から構成されている。光学調整層１０４は、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理気相成長（ＰＶＤ）法や化学気相成長（ＣＶＤ）法等の蒸着法で形成することができる。
【０２６６】
光学調整層１０４は、防汚剤を含有していてもよい。防汚剤は、機能層１２の欄で説明した防汚剤と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。
【０２６７】
＜＜＜画像表示装置＞＞＞
光学フィルム９０、１００は、折り畳み可能な画像表示装置に組み込んで使用することが可能である。図１２は、本実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。図１２に示されるように、画像表示装置１１０は、観察者側に向けて、主に、電池等が収納された筐体８１、保護フィルム８２、表示素子８３、円偏光板８４、タッチセンサ８５、および光学フィルム９０がこの順で積層されている。表示素子８３と円偏光板８４との間、円偏光板８４とタッチセンサ８５との間、タッチセンサ８５と光学フィルム９０との間には、光透過性を有する粘着層８６が配置されており、これら部材は粘着層８６によって互いに固定されている。なお、図１２において、図９と同じ符号が付されている部材は、図９で示した部材と同じものであるので、説明を省略するものとする。
【０２６８】
光学フィルム９０は、帯電防止層９２が光透過性基材９１よりも観察者側となるように配置されている。画像表示装置１１０においては、光学フィルム９０の表面９０Ａ（帯電防止層９２の表面９２Ａ）が、画像表示装置１１０の表面１１０Ａを構成している。
【０２６９】
本実施形態によれば、光学フィルム９０は光透過性基材９１の両面側に帯電防止層９２、９３を備えており、光学フィルム１００は光透過性基材１０１の両面側に帯電防止層１０３、１０５を備えているので、光学フィルム９０、１００に埃等が付着することが抑制できる。また、光学フィルム９０、１００の両面に保護フィルム（図示せず）を貼り付けた状態で、光学フィルム９０、１００から保護フィルムを剥離したとしても、光学フィルム９０、１００の帯電を抑制できる。これにより、画像表示装置の組立工程の歩留まりを向上させることができる。
【０２７０】
光学調整層は薄膜であるため、光学調整層を設けない方が光学フィルムの耐擦傷性を向上させることができる。光学フィルム９０は帯電防止層９２上に光学調整層を備えていないので、帯電防止層１０３上に光学調整層１０４を備える光学フィルム１００よりも耐擦傷性に優れている。
【０２７１】
折り畳み可能な光学フィルムにおいては、折り畳み可能となるようにハードコート層のバインダ樹脂を選定しなければならない。加えて、光学フィルム９０のようにハードコート層中に帯電防止剤を練り込むと、選定されたバインダ樹脂と良好な相溶性を示す帯電防止剤を用いることが必要であるので、帯電防止剤の選択肢が少なくなってしまう。これに対し、光学フィルム１００においては、帯電防止層１０３をハードコート層１０２とは異なる層としているので、帯電防止剤の選択肢を広げることができる。
【実施例】
【０２７２】
本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの記載に限定されない。なお、下記の「固形分１００％換算値」とは、溶剤希釈品中の固形分を１００％としたときの値である。
【０２７３】
＜光学調整層用組成物の調製＞
まず、下記に示す組成となるように各成分を配合して、光学調整層用組成物を得た。
（光学調整層用組成物１）
・ウレタン変性ポリエステル系樹脂（製品名「ＵＲ−３２００」、東洋紡社製）：８５質量部（固形分１００％換算値）
・酸化ジルコニウム（平均粒子径２０ｎｍ、ＣＩＫナノテック社製）：１５質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１７０質量部
【０２７４】
（光学調整層用組成物２）
・ウレタン変性ポリエステル系樹脂（製品名「ＵＲ−１７００」、東洋紡社製）：７０質量部（固形分１００％換算値）
・酸化ジルコニウム（平均粒子径２０ｎｍ、ＣＩＫナノテック社製）：３０質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１７０質量部
【０２７５】
（光学調整層用組成物３）
・第４級アンモニウム基塩含有帯電防止剤（製品名「１ＳＸ−３０００」、大成ファインケミカル社製）：１００質量部（固形分１００％換算値）
・光重合開始剤（製品名「Ｉｒｇ１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１５０質量部
【０２７６】
（光学調整層用組成物４）
・ウレタン変性ポリエステル系樹脂（製品名「ＵＲ−３２００」、東洋紡社製）：７０質量部（固形分１００％換算値）
・酸化ジルコニウム（平均粒子径２０ｎｍ、ＣＩＫナノテック社製）：１５質量部（固形分１００％換算値）
・コバルトブルー（平均粒子径４０ｎｍ、ＣＩＫナノテック社製）：１５質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１７０質量部
【０２７７】
（光学調整層用組成物５）
・ポリオレフィン系樹脂（製品名「Ｐ−９０１」、三井化学社製）：７０質量部（固形分１００％換算値）
・酸化ジルコニウム（平均粒子径２０ｎｍ、ＣＩＫナノテック社製）：３０質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１７０質量部
【０２７８】
＜帯電防止層用組成物の調製＞
まず、下記に示す組成となるように各成分を配合して、帯電防止層用組成物を得た。
【０２７９】
（帯電防止層用組成物１）
・ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０」、日本化薬社製）：９０質量部
・４級アンモニウム塩含有帯電防止ポリマー（製品名「ＵＶ−ＡＳＨＣ−０１」、日本化成社製）：１０質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦ社製）：２質量部
【０２８０】
（帯電防止層用組成物２）
・４級アンモニウム塩含有帯電防止ポリマー（製品名「ＵＶ−ＡＳＨＣ−０１」、日本化成社製）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦ社製）：０．５質量部
【０２８１】
＜ハードコート層用組成物＞
下記に示す組成となるように各成分を配合して、ハードコート層用組成物を得た。
（ハードコート層用組成物１）
・ウレタン系樹脂（製品名「Ｕ−６ＬＰＡ」、新中村化学社製）：７０質量部
・ウレタン系樹脂（製品名「ＵＶ２７５０Ｂ」、日本合成化学社製）：２０質量部
・第４級アンモニウム基塩含有帯電防止剤（製品名「１ＳＸ−３０００」、大成ファインケミカル社製）：１０質量部（固形分１００％換算値）
・光重合開始剤（製品名「Ｉｒｇ１８４」、ＢＡＳＦ社製）：４質量部
・紫外線吸収剤（製品名「ＴＩＮＵＶＩＮ４７７」、ＢＡＳＦ社製）：５質量部（固形分１００％換算値）
・防汚剤（製品名「ＢＹＫＵＶ３５００」、ビックケミー社製）：１．５質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１５０質量部
【０２８２】
（ハードコート層用組成物２）
・ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０」、日本化薬社製）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦ社製）：２質量部
【０２８３】
＜樹脂層用組成物の調製＞
下記に示す組成となるように各成分を配合して、樹脂層用組成物を得た。
（樹脂層用組成物１）
・ウレタンアクリレート（製品名「ＵＶ３３１０Ｂ」、日本合成化学社製、２官能）：８５質量部
・フェノキシエチルアクリレート（製品名「ビスコート＃１９２」、大阪有機化学工業社製）：５質量部
・トリペンタエリスリトールアクリレート、モノおよびジペンタエリスリトールアクリレート、ならびにポリメンタエリスリトールアクリレートの混合物（製品名「ビスコート＃８０２」、大阪有機化学工業社製）：１０質量部
・重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：５質量部
・メチルイソブチルケトン：１０質量部
【０２８４】
（樹脂層用組成物２）
・ウレタンアクリレート（製品名「ＵＶ３３１０Ｂ」、日本合成化学社製、２官能）：８５質量部
・フェノキシエチルアクリレート（製品名「ビスコート＃１９２」、大阪有機化学工業社製）：１５質量部
・重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：５質量部
・メチルイソブチルケトン：１０質量部
【０２８５】
（樹脂層用組成物３）
・ウレタンアクリレート（製品名「ＵＶ３３１０Ｂ」、日本合成化学社製、２官能）：８０質量部
・フェノキシエチルアクリレート（製品名「ビスコート＃１９２」、大阪有機化学工業社製）：５質量部
・トリペンタエリスリトールアクリレート、モノおよびジペンタエリスリトールアクリレート、ならびにポリメンタエリスリトールアクリレートの混合物（製品名「ビスコート＃８０２」、大阪有機化学工業社製）：１０質量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ」、日本化薬株式会社製）：５質量部
・重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：５質量部
・メチルイソブチルケトン：１０質量部
【０２８６】
（樹脂層用組成物４）
・ウレタンアクリレート（製品名「ＵＶ３３１０Ｂ」、日本合成化学社製、２官能）：９５質量部
・フェノキシエチルアクリレート（製品名「ビスコート＃１９２」、大阪有機化学工業社製）：５質量部
・重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：５質量部
・メチルイソブチルケトン：１０質量部
【０２８７】
（樹脂層用組成物５）
・ウレタンアクリレート（製品名「ＵＶ３３１０Ｂ」、日本合成化学社製、２官能）：８５質量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ」、日本化薬株式会社製）：１５質量部
・重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：５質量部
・メチルイソブチルケトン：１０質量部
【０２８８】
＜＜実施例Ａおよび比較例Ａ＞＞
＜実施例Ａ１＞
樹脂基材として、屈折率１．６３０および厚さ３０μｍのポリイミド系基材（製品名「ネオプリム」、三菱ガス化学社製）を準備し、ポリイミド系基材の一方の面である第１の面に、バーコーターで光学調整層用組成物２を塗布し、塗膜を形成した。その後、形成した塗膜に対して、９０℃で１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させて、屈折率１．５６２および膜厚１００ｎｍの第２の光学調整層を形成した。第２の光学調整層を形成した後、第２の光学調整層の表面に、バーコーターで光学調整層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。その後、形成した塗膜に対して、９０℃で１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させて、屈折率１．５４４および膜厚１００ｎｍの第１の光学調整層を形成した。第１の光学調整層を形成した後、第１の光学調整層の表面に、バーコーターでハードコート層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。その後、形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を空気中にて積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させて、屈折率１．５３１および膜厚１０μｍのハードコート層を形成した。これにより、第１の光学調整層がハードコート層に隣接し、かつ第２の光学調整層がポリイミド系基材に隣接した光学フィルムを得た。なお、実施例Ａ１に係る光学フィルムの表面はハードコート層の表面であり、裏面はポリイミド系基材の第１の面とは反対側の第２の面であった。
【０２８９】
ハードコート層および光学調整層の屈折率は、易接着処理のない厚さ５０μｍのＰＥＴ上にハードコート層用組成物および光学調整層用組成物をそれぞれ塗布し、１〜１０μｍの厚さの硬化膜にし、ＰＥＴにおけるハードコート層用組成物や光学調整層用組成物を塗布しなかった面（裏面）に、裏面反射を防止するために測定スポット面積よりも大きな幅の黒ビニールテープ（例えば、ヤマトビニールテープＮＯ２００−３８−２１ ３８ｍｍ幅）を貼り、分光光度計（製品名「ＵＶ−２４５０」、島津製作所社製）を用いて、波長３８０〜７８０ｎｍの平均反射率を測定し、得られた平均反射率を用いて上記式（２）に基づいて求められた。実施例Ａ２〜Ａ１２および比較例Ａ１およびＡ２においても、実施例Ａ１と同様の手法によって各層の屈折率を測定した。
【０２９０】
また、各層の膜厚は、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）（製品名「Ｓ−４８００」、株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、光学フィルムの断面を撮影し、その断面の画像において各層の膜厚を２０箇所測定し、その２０箇所の膜厚の算術平均値とした。光学フィルムの断面写真は、以下のようにして撮影した。まず、１ｍｍ×１０ｍｍに切り出した光学フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作製し、このブロックから一般的な切片作製方法によって穴等がない均一な、厚さ７０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の切片を切り出した。切片の作製には、「ウルトラミクロトーム  ＥＭ ＵＣ７」（ライカ マイクロシステムズ株式会社）等を用いた。そして、この穴等がない均一な切片を測定サンプルとした。その後、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて、測定サンプルの断面写真を撮影した。この断面写真の撮影の際には、検出器を「ＴＥ」、加速電圧を「３０ｋＶ」、エミッション電流を「１０μＡ」にしてＳＴＥＭ観察を行った。倍率については、フォーカスを調節しコントラストおよび明るさを各層が見分けられるか観察しながら５０００倍〜２０万倍で適宜調節した。なお、断面写真の撮影の際には、さらに、アパーチャーを「ビームモニタ絞り３」にし、対物レンズ絞りを「３」にし、またＷ．Ｄ．を「８ｍｍ」にした。実施例Ａ２〜Ａ１２および比較例Ａ１およびＡ２においても、実施例Ａ１と同様の手法によって各層の屈折率および膜厚を測定した。
【０２９１】
＜実施例Ａ２＞
実施例Ａ２においては、ポリイミド系基材における第２の光学調整層側の面とは反対側の面に、屈折率１．５３６および膜厚１００ｎｍの第３の光学調整層を形成したこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。第３の光学調整層は、ポリイミド系基材における第２の面に、バーコーターで光学調整層用組成物３を塗布し、塗膜を形成し、形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を空気中にて積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることによって形成された。なお、実施例Ａ２に係る光学フィルムの表面はハードコート層の表面であり、裏面は第３の光学調整層の表面であった。
【０２９２】
＜実施例Ａ３＞
実施例Ａ３においては、第１の光学調整層の膜厚を２００ｎｍとしたこと以外は、実施例Ａ１と同様にして、光学フィルムを得た。
【０２９３】
＜実施例Ａ４＞
実施例Ａ４においては、第２の光学調整層の膜厚を２００ｎｍとしたこと以外は、実施例Ａ１と同様にして、光学フィルムを得た。
【０２９４】
＜実施例Ａ５＞
実施例Ａ５においては、光学調整層用組成物１に代わりに光学調整層用組成物４を用いたこと以外は、実施例Ａ１と同様にして、光学フィルムを得た。なお、光学調整層用組成物４を用いて形成した第１の光学調整層の屈折率は１．５４７であった。
【０２９５】
＜実施例Ａ６＞
実施例Ａ６においては、光学調整層用組成物２に代わりに光学調整層用組成物５を用いたこと以外は、実施例Ａ１と同様にして、光学フィルムを得た。なお、光学調整層用組成物５を用いて形成した第２の光学調整層の屈折率は１．５６３であった。
【０２９６】
＜実施例Ａ７＞
実施例Ａ７においては、ハードコート層の膜厚を２０μｍにしたこと以外は、実施例Ａ１と同様にして、光学フィルムを得た。
【０２９７】
＜実施例Ａ８＞
実施例Ａ８においては、ハードコート層の膜厚を４０μｍにしたこと以外は、実施例Ａ１と同様にして、光学フィルムを得た。
【０２９８】
＜実施例Ａ９＞
実施例Ａ９においては、ポリイミド系基材の代わりに、屈折率１．６６２および厚さ３０μｍのポリアミドイミド系基材（製品名「ＴＨＤ−３０」、コーロン社製）を用いたこと以外は、実施例Ａ１と同様にして、光学フィルムを得た。
【０２９９】
＜実施例Ａ１０＞
実施例Ａ１０においては、ポリイミド系基材の代わりに、屈折率１．７０１および厚さ３０μｍのポリアミド系基材（製品名「アラミド」、東レ社製）を用いたこと以外は、実施例Ａ１と同様にして、光学フィルムを得た。
【０３００】
＜実施例Ａ１１＞
実施例Ａ１１においては、ポリイミド系基材の代わりに、屈折率１．６５４および厚さ２３μｍのポリエステル系基材（製品名「Ｕ４０３」、東レ社製）を用いたこと以外は、実施例Ａ１と同様にして、光学フィルムを得た。
【０３０１】
＜実施例Ａ１２＞
樹脂基材として、屈折率１．６３０および厚さ３０μｍのポリイミド系基材（製品名「ネオプリム」、三菱ガス化学社製）を準備し、ポリイミド系基材の一方の面である第１の面に、バーコーターで光学調整層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。その後、形成した塗膜に対して、９０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させて、ポリイミド系基材に隣接した屈折率１．５４４および膜厚１００ｎｍの第１の光学調整層を形成した。第１の光学調整層を形成した後、第１の光学調整層の表面に、バーコーターでハードコート層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。その後、形成した塗膜に対して、９０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を空気中にて積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させて、屈折率１．５３１および膜厚１０μｍのハードコート層を形成した。これにより、第１の光学調整層がハードコート層およびポリイミド系基材に隣接した光学フィルムを得た。なお、実施例Ａ１に係る光学フィルムの表面はハードコート層の表面であり、裏面はポリイミド系基材の第１の面とは反対側の第２の面であった。
【０３０２】
＜実施例Ａ１３＞
実施例Ａ１３においては、ポリイミド系基材の代わりに、屈折率１．６６２および厚さ３０μｍのポリアミドイミド系基材（製品名「ＴＨＤ−３０」、コーロン社製）を用いたこと以外は、実施例Ａ１２と同様にして、光学フィルムを得た。
【０３０３】
＜実施例Ａ１４＞
実施例１４においては、ポリイミド系基材の代わりに、屈折率１．７０１および厚さ３０μｍのポリアミド系基材（製品名「アラミド」、東レ社製）を用いたこと以外は、実施例Ａ１２と同様にして、光学フィルムを得た。
【０３０４】
＜実施例Ａ１５＞
実施例Ａ１５においては、ポリイミド系基材の代わりに、屈折率１．６５４および厚さ２３μｍのポリエステル系基材（製品名「Ｕ４０３」、東レ社製）を用いたこと以外は、実施例Ａ１２と同様にして、光学フィルムを得た。
【０３０５】
＜実施例Ａ１６＞
実施例Ａ１６においては、ポリイミド系基材における第１の光学調整層側の面とは反対側の面に、以下のようにして、樹脂層を形成したこと以外は、実施例Ａ１２と同様にして、光学フィルムを得た。樹脂層を形成する際には、まず、ポリイミド系基材における第１の光学調整層側の面とは反対側の面にバーコーターで樹脂層用組成物１を塗布して、塗膜を形成した。そして、形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を空気中にて積算光量が１２００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させて、屈折率１．５０４および膜厚２００μｍのウレタン系樹脂からなる樹脂層を形成した。
【０３０６】
＜実施例Ａ１７＞
実施例Ａ１７においては、樹脂層の膜厚を５０μｍとしたこと以外は、実施例Ａ１６と同様にして、光学フィルムを得た。
【０３０７】
＜実施例１８＞
実施例Ａ１８においては、樹脂層の膜厚を３００μｍとしたこと以外は、実施例Ａ１６と同様にして、光学フィルムを得た。
【０３０８】
＜実施例Ａ１９＞
実施例Ａ１９においては、樹脂層用組成物１の代わりに樹脂層用組成物２を用いたこと以外は、実施例Ａ１６と同様にして、光学フィルムを得た。なお、樹脂層用組成物２を用いて形成した樹脂層の屈折率は１．５０９であった。
【０３０９】
＜実施例Ａ２０＞
実施例Ａ２０においては、樹脂層用組成物１の代わりに樹脂層用組成物３を用いたこと以外は、実施例Ａ１６と同様にして、光学フィルムを得た。なお、樹脂層用組成物３を用いて形成した樹脂層の屈折率は１．５０７であった。
【０３１０】
＜実施例Ａ２１＞
実施例２１においては、樹脂層の膜厚を５０μｍとしたこと以外は、実施例Ａ２０と同様にして、光学フィルムを得た。
【０３１１】
＜実施例Ａ２２＞
実施例Ａ２２においては、樹脂層の膜厚を３００μｍとしたこと以外は、実施例Ａ２０と同様にして、光学フィルムを得た。
【０３１２】
＜実施例Ａ２３＞
実施例Ａ２３においては、ポリイミド系基材と樹脂層との間に、屈折率１．５３６および膜厚１００ｎｍの第３の光学調整層を形成したこと以外は、実施例Ａ１６と同様にして、光学フィルムを得た。第３の光学調整層は、樹脂層を形成する前に、ポリイミド系基材における第２の面に、バーコーターで光学調整層用組成物３を塗布し、塗膜を形成し、形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を空気中にて積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることによって形成された。樹脂層は、第３の光学調整層を形成した後、第３の光学調整層の表面に、実施例Ａ１６と同様にして形成された。なお、実施例Ａ２３に係る光学フィルムの表面はハードコート層の表面であり、裏面は樹脂層の表面であった。
【０３１３】
＜実施例Ａ２４＞
実施例Ａ２４においては、第３の光学調整層におけるポリイミド系基材側の面とは反対側の面に、屈折率１．５０４および膜厚２００μｍのウレタン系樹脂からなる樹脂層を形成したこと以外は、実施例Ａ２と同様にして、光学フィルムを得た。樹脂層は、第３の光学調整層の表面に、実施例Ａ１６と同様にして形成された。
【０３１４】
＜比較例Ａ１＞
樹脂基材として、屈折率１．６３０および厚さ３０μｍのポリイミド系基材（製品名「ネオプリム」、三菱ガス化学社製）を準備し、ポリイミド系基材の一方の面である第１の面に、バーコーターでハードコート層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。その後、形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を空気中にて積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させて、膜厚が１０μｍのハードコート層を形成し、ポリイミド系基材にハードコート層が隣接した光学フィルムを得た。なお、比較例Ａ１に係る光学フィルムの表面はハードコート層の表面であり、裏面はポリイミド系基材の第１の面とは反対側の面であった。
【０３１５】
＜比較例Ａ２＞
比較例Ａ２においては、ハードコート層の膜厚を５０μｍにしたこと以外は、比較例Ａ１と同様にして、光学フィルムを得た。
【０３１６】
＜比較例Ａ３＞
比較例Ａ３においては、ポリイミド系基材におけるハードコート層側の面とは反対側の面に、以下のようにして、樹脂層を形成したこと以外は、比較例Ａ１と同様にして、光学フィルムを得た。樹脂層を形成する際には、まず、ポリイミド系基材におけるハードコート層側の面とは反対側の面にバーコーターで樹脂層用組成物１を塗布して、塗膜を形成した。そして、形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を空気中にて積算光量が１２００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させて、屈折率１．５０４および膜厚３０μｍのウレタン系樹脂からなる樹脂層を形成した。
【０３１７】
＜比較例Ａ４＞
比較例Ａ４においては、樹脂層の膜厚を３５０μｍとしたこと以外は、比較例Ａ３と同様にして、光学フィルムを得た。
【０３１８】
＜比較例Ａ５＞
比較例Ａ５においては、樹脂層用組成物１の代わりに樹脂層用組成物４を用いて膜厚２００μｍの樹脂層を形成したこと以外は、比較例Ａ３と同様にして、光学フィルムを得た。なお、樹脂層用組成物４を用いて形成した樹脂層の屈折率は１．５０６であった。
【０３１９】
＜比較例Ａ６＞
比較例Ａ６においては、樹脂層用組成物１の代わりに樹脂層用組成物５を用いて膜厚２００μｍの樹脂層を形成したこと以外は、比較例Ａ３と同様にして、光学フィルムを得た。なお、樹脂層用組成物５を用いて形成した樹脂層の屈折率は１．５０９であった。
【０３２０】
＜比較例Ａ７＞
比較例Ａ７においては、第１の光学調整層の膜厚を３μｍ（３０００ｎｍ）としたこと以外は、実施例Ａ１と同様にして、光学フィルムを得た。
【０３２１】
＜干渉縞評価＞
実施例Ａ１〜Ａ２４および比較例Ａ１〜Ａ７に係る光学フィルムにおいて、干渉縞が観察されるか評価した。具体的には、光学フィルムの裏面に透明粘着剤を介して、裏面反射を防止するための黒色アクリル板を貼り、光学フィルムの表面側から各光学フィルムに光を照射し、干渉縞が確認されるか目視で観察した。光源としては、三波長管蛍光灯を使用した。干渉縞の発生を以下の基準により評価した。
◎：干渉縞は確認されなかった。
○：干渉縞は若干確認されたが、実使用上問題ないレベルであった。
×：干渉縞が明確に確認された。
【０３２２】
＜耐久性試験前の連続折り畳み性および密着性＞
実施例Ａ１〜Ａ２４および比較例Ａ１〜Ａ７に係る光学フィルムを３０ｍｍ×１００ｍｍの長方形にカットして、サンプルを作製し、このサンプルを、耐久試験機（製品名「ＤＬＤＭＬＨ−ＦＳ」、ユアサシステム機器社製）に、サンプルの短辺（３０ｍｍ）側を固定部でそれぞれ固定し、図２（Ｃ）に示したように対向する２つの辺部の最小の間隔が１０ｍｍとなるようにして取り付け、サンプルの表面側を１８０°折り畳む連続折り畳み試験（ハードコート層が内側となり、基材、第３の光学調整層または樹脂層が外側となるように折り畳む試験）を１万回行い、基材とハードコート層との間に浮き（隙間）が生じていないか調べるとともに、屈曲部に割れ又は破断が生じていないか調べた。連続折り畳み試験の結果を、連続折り畳み性および密着性に分けて、以下の基準で評価した。なお、連続折り畳み試験に用いたサンプルは、後述する耐久性試験を行う前の光学フィルムからカットしたものであった。
（連続折り畳み性）
◎：連続折り畳み試験において、屈曲部に割れ又は破断が生じていなかった。
○：連続折り畳み試験において、屈曲部に割れ又は破断が若干生じていたが、実使用上問題ないレベルであった。
×：連続折り畳み試験において、屈曲部に割れ又は破断が明らかに生じていた。
（密着性）
◎：連続折り畳み試験において、基材とハードコート層の間に浮きが生じていなかった。
○：連続折り畳み試験において、基材とハードコート層の間に浮きが若干生じていたが、実使用上問題ないレベルであった。
×：連続折り畳み試験において、基材とハードコート層の間に明らかに浮きが生じていた。
【０３２３】
＜耐久性試験後の連続折り畳み性および密着性＞
実施例Ａ１〜Ａ２４および比較例Ａ１〜Ａ７に係る光学フィルムに対し、光学フィルムを６０℃、相対湿度９０％の環境下に１２時間放置する耐久性試験を行い、耐久性試験後の光学フィルムを３０ｍｍ×１００ｍｍの長方形にカットしてサンプルを作製し、このサンプルを、耐久試験機（製品名「ＤＬＤＭＬＨ−ＦＳ」、ユアサシステム機器社製）に、サンプルの短辺（３０ｍｍ）側を固定部でそれぞれ固定し、図２（Ｃ）に示したように対向する２つの辺部の最小の間隔が１０ｍｍとなるようにして取り付け、サンプルの表面側を１８０°折り畳む連続折り畳み試験（ハードコート層が内側となり、基材、第３の光学調整層または樹脂層が外側となるように折り畳む試験）を１万回行い、基材とハードコート層との間に浮き（隙間）が生じていないか調べるとともに、屈曲部に割れ又は破断が生じていないか調べた。連続折り畳み試験の結果を、連続折り畳み性および密着性に分けて、以下の基準で評価した。
（連続折り畳み性）
◎：連続折り畳み試験において、屈曲部に割れ又は破断が生じていなかった。
○：連続折り畳み試験において、屈曲部に割れ又は破断が若干生じていたが、実使用上問題ないレベルであった。
×：連続折り畳み試験において、屈曲部に割れ又は破断が明らかに生じていた。
（密着性）
◎：連続折り畳み試験において、基材とハードコート層の間に浮きが生じていなかった。
○：連続折り畳み試験において、基材とハードコート層の間に浮きが若干生じていたが、実使用上問題ないレベルであった。
×：連続折り畳み試験において、基材とハードコート層の間に明らかに浮きが生じていた。
【０３２４】
＜鉛筆硬度＞
実施例Ａ１〜Ａ２４および比較例Ａ１〜Ａ７に係る光学フィルムの表面における鉛筆硬度を、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４：１９９９に基づいてそれぞれ測定した。鉛筆硬度試験は、３０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムをガラス板上に折れやシワがないようニチバン株式会社製のセロテープ（登録商標）で固定し、光学フィルムの表面に対し鉛筆硬度試験機（製品名「鉛筆引っかき塗膜硬さ試験機（電動式）」、株式会社東洋精機製作所製）を用いて、鉛筆（製品名「ユニ」、三菱鉛筆株式会社製）に７５０ｇの荷重を加えながら鉛筆を１ｍｍ／秒の移動速度で移動させることにより行った。鉛筆硬度は、鉛筆硬度試験において光学フィルムの表面に傷が付かなかった最も高い硬度とする。なお、鉛筆硬度の測定の際には、硬度が異なる鉛筆を複数本用いて行うが、鉛筆１本につき５回鉛筆硬度試験を行い、５回のうち４回以上蛍光灯下で光学フィルムの表面を透過観察した際に光学フィルムの表面に傷が視認されなかった場合には、この硬度の鉛筆においては光学フィルムの表面に傷が付かなかったと判断する。なお、光学フィルムとしては、上記耐久性試験前の光学フィルムを用いた。
【０３２５】
＜剥離帯電防止性＞
実施例Ａ１〜Ａ２４および比較例Ａ１〜Ａ７に係る光学フィルムの表面に保護フィルムを貼り合わせて、光学フィルムの表面から保護フィルムを剥離させたときの剥離帯電量を測定して、剥離帯電量の大きさを評価した。具体的には、光学フィルムの表面に粘着層付き保護フィルム（製品名「ＳＡＴ２０３８Ｔ−ＪＳＬ」、サンエー化研社製）を貼り合わせて、２３℃、相対湿度５０％の環境下で、光学フィルムの表面から剥離速度３００ｍｍ／分で保護フィルムを１８０°剥離したときの光学フィルムの表面の電位を、静電気測定器（製品名「ＫＳＤ−０１０３」、春日電機社製）を用いて、表面より５０ｍｍの距離から測定し、剥離帯電量を測定した。剥離帯電量は、光学フィルムの表面において、それぞれ１０回測定し、１０回測定した剥離帯電量の算術平均値とした。評価基準は以下の通りとした。なお、光学フィルムとしては、上記耐久性試験前の光学フィルムを用いた。
○：光学フィルムの表面における剥離帯電量が−１０ｋＶ〜１０ｋＶの範囲内であった。
×：光学フィルムの表面における剥離帯電量が±１０ｋＶを超えていた。
【０３２６】
＜飽和帯電圧＞
実施例Ａ１〜Ａ２４および比較例Ａ１〜Ａ７に係る光学フィルムの表面における飽和帯電圧をそれぞれ測定した。具体的には、２３℃、相対湿度５０％の環境下で、１００ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムの表面より５０ｍｍの距離から１０ｋＶの電圧を印加し、帯電電荷減衰度測定器（製品名「Ｈ−０１１０」、シシド静電気社製）を用いて、光学フィルムの表面の飽和耐電圧を測定した。飽和帯電圧は、３回測定して得られた値の算術平均値とした。なお、光学フィルムとしては、上記耐久性試験前の光学フィルムを用いた。
【０３２７】
＜表面抵抗値＞
実施例Ａ１〜Ａ２４および比較例Ａ１〜Ａ７に係る光学フィルムにおいて、抵抗率計（製品名「ハイレスタ−ＵＰ  ＭＣＰ−ＨＴ４５０」、三菱化学アナリテック社製、プローブ：ＵＲＳ）を用いて、表面の抵抗値を測定した。表面抵抗値は、５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムの表面の表面抵抗値をランダムにそれぞれ１０箇所測定し、測定した１０箇所の表面抵抗値の算術平均値とした。なお、光学フィルムとしては、上記耐久性試験前の光学フィルムを用いた。
【０３２８】
＜イエローインデックス（ＹＩ）＞
実施例Ａ１〜Ａ２４および比較例Ａ１〜Ａ７に係る光学フィルムにおいて、イエローインデックスをそれぞれ測定した。具体的には、まず、５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムを、分光光度計（製品名「ＵＶ−２４５０」、株式会社島津製作所製、光源：タングステンランプおよび重水素ランプ）内に光学フィルムの基材側が光源側となるように配置した。光学フィルムは、欠点（異物の混入）がなく、クラックがなく、皺がなく、汚れがないものであり、また、カールのない平坦な状態で分光光度計に保持された。この状態で、以下の測定条件で、波長３００ｎｍ〜７８０ｎｍにおいてそれぞれ前後１ｎｍの間で最低５ポイント分の透過率を測定し、その平均値を算出することによって求めた。そして、ＵＶ−２４５０に接続されたモニター上で、上記透過率の測定データを読み込み、計算項目にて「ＹＩ」にチェックを入れることによってＹＩを得た。なお、光学フィルムとしては、上記耐久性試験前の光学フィルムを用いた。
（測定条件）
・波長域：３００ｎｍ〜７８０ｎｍ
・スキャン速度：高速
・スリット幅：２．０
・サンプリング間隔：オート（０．５ｎｍ間隔）
・照明：Ｃ
・光源：Ｄ２およびＷＩ
・視野：２°
・光源切替波長：３６０ｎｍ
・Ｓ／Ｒ切替：標準
・検出器：ＰＭ
・オートゼロ：ベースラインのスキャン後５５０ｎｍにて実施
【０３２９】
＜全光線透過率測定＞
実施例Ａ１〜Ａ２４および比較例Ａ１〜Ａ７に係る光学フィルムについて、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、株式会社村上色彩技術研究所製）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１：１９９７に従って全光線透過率を測定した。上記全光線透過率は、上記全光線透過率は、５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した後、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態でハードコート層側が非光源側となるように設置し、光学フィルム１枚に対して３回測定し、３回測定して得られた値の算術平均値とした。なお、光学フィルムとしては、上記耐久性試験前の光学フィルムを用いた。
【０３３０】
＜Ｇ´、Ｇ´´、ｔａｎδの測定＞
実施例Ａ１６〜Ａ２４および比較例Ａ３〜Ａ６に係る光学フィルムの剪断貯蔵弾性率Ｇ´、剪断損失弾性率Ｇ´´、および剪断損失正接ｔａｎδを測定した。具体的には、まず、光学フィルムを１０ｍｍ×５ｍｍの長方形状に打ち抜いて、サンプルとした。そして、このサンプルを２枚準備し、動的粘弾性測定装置（製品名「Rheogel-E4000」、株式会社ユービーエム社製）の測定治具に取り付けた。具体的には、固体剪断用治具は、厚みが１ｍｍの１枚の金属製の固体剪断板と、この固体剪断板の両側に配置された２つのＬ型金具を備えており、固体剪断板とＬ型金具との間で一方のサンプルを挟み、かつ固体剪断板と他方のＬ型金具で他方のサンプルを挟んだ。この場合、樹脂層が固体剪断板側となり、ハードコート層がＬ型金具側となるようにサンプルを挟んだ。そして、ビスでＬ型金具間を締めて、サンプルを固定した。次いで、動的粘弾性測定装置（製品名「Rheogel-E4000」、株式会社ユービーエム社製）に上部チャックおよび下部チャックからなる引張り試験用チャックを取り付けた後、上部チャックと下部チャックの間に固体剪断用治具をチャック間距離２０ｍｍで設置した。そして、設定温度を２５℃とし２℃／ｍｉｎで昇温させた。この状態で、固体剪断板を固定しながら２つのＬ型金具に歪み量１％かつ周波数５００Ｈｚ以上１０００Ｈｚ以下の範囲の縦振動を与えながら、２５℃で固体の動的粘弾性測定を行い、光学フィルムの剪断貯蔵弾性率Ｇ´、剪断損失弾性率Ｇ´´および剪断損失正接ｔａｎδを測定した。ここで、光学フィルムにおける５００Ｈｚ以上１０００Ｈｚ以下の周波数域での剪断貯蔵弾性率Ｇ´、剪断損失弾性率Ｇ´´および剪断損失正接ｔａｎδは、Ｌ型金具に周波数５００Ｈｚ、７５０Ｈｚ、９５０Ｈｚの縦振動をそれぞれ与えて、それぞれの周波数において光学フィルムの剪断貯蔵弾性率Ｇ´、剪断損失弾性率Ｇ´´および剪断損失正接ｔａｎδを測定し、これらの剪断貯蔵弾性率Ｇ´、剪断損失弾性率Ｇ´´および剪断損失正接ｔａｎδの算術平均値を求め、さらに、この測定を３回繰り返し、それぞれ得られた３つの算術平均値をさらに算術平均した値とした。なお、光学フィルムとしては、上記耐久性試験前の光学フィルムを用いた。
【０３３１】
＜耐衝撃性試験＞
厚さ０．７ｍｍのソーダガラスの表面に、ソーダガラス側が樹脂層側となるように実施例Ａ１６〜Ａ２４および比較例Ａ３〜Ａ６に係る光学フィルムを直接置き、高さ３０ｃｍの位置から重さ１００ｇ、直径３０ｍｍの鉄球を光学フィルムのハードコート層の表面に落下させる耐衝撃性試験Ａを各３回行った。また、厚さ０．７ｍｍのソーダガラス上に、ソーダガラス側が樹脂層側となるように実施例Ａ１６〜Ａ２４および比較例Ａ３〜Ａ６に係る光学フィルムを、厚み２００μｍの粘着シート（製品名「高透明性両面テープ ８１４６−２」、スリーエム社製）を介して置き、高さ３０ｃｍの位置から重さ１００ｇ、直径３０ｍｍの鉄球を光学フィルムのハードコート層の表面に落下させる耐衝撃性試験Ｂを各３回行った。なお、耐衝撃性試験Ａ、Ｂにおいて、鉄球を落下させる位置はその都度変えるものとした。そして、耐衝撃性試験Ａ後の光学フィルムにおいて、目視によってハードコート層の表面に凹みが生じているかを評価するとともに、ソーダガラスに割れが生じているか評価した。また、耐衝撃性試験Ｂ後の光学フィルムにおいて、目視によってハードコート層の表面に凹みが生じているかを評価した。評価結果は、以下の通りとした。
（ハードコート層の表面の凹み評価）
○：ハードコート層を正面および斜めから観察した場合の両方において、ハードコート層の表面に凹みが確認されなかった。
△：ハードコート層を正面から観察した場合にはハードコート層の表面に凹みが観察されなかったが、斜め観察した場合にはハードコート層の表面に凹みが確認された。
×：ハードコート層を正面および斜めから観察した場合の両方において、ハードコート層の表面に明らかな凹みが観察された。
（ソーダガラスの割れ評価）
◎：ソーダガラスが割れなかった。
○：ソーダガラスに傷が入ったが割れなかった。
△：１〜２回ソーダガラスに割れが生じた。
×：３回ともソーダガラスに割れが生じた。
【０３３２】
以下、結果を表１〜３に示す。
【表１】
2018159913.tif 000032
【０３３３】
【表２】
2018159913.tif 000033
【０３３４】
【表３】
2018159913.tif 000034
【０３３５】
以下、結果について述べる。比較例Ａ１、Ａ３〜Ａ６に係る光学フィルムにおいては、ポリイミド系基材とハードコート層との間に、ハードコート層に隣接する光学調整層が設けられていなかったので、干渉縞が明確に観察された。また、比較例Ａ２に係る光学フィルムにおいては、ハードコート層の膜厚が厚かったので、干渉縞の発生が抑制されたが、連続折り畳み性に劣っていた。また、比較例Ａ７に係る光学フィルムにおいては、ポリイミド系基材とハードコート層との間に、ハードコート層に隣接する第１の光学調整層が設けられていたが、第１の光学調整層の膜厚が厚かったので、連続折り畳み性に劣っていた。これに対し、実施例Ａ１〜Ａ２４に係る光学フィルムにおいては、各種基材とハードコート層との間に、ハードコート層に隣接する第１の光学調整層が設けられていたので、干渉縞の発生が抑制され、かつ連続折り畳み性にも優れていた。なお、実施例Ａ１〜Ａ２４に係る光学フィルムにおいては、比較例Ａ７に係る光学フィルムよりも第１の光学調整層の膜厚が薄かったので、比較例Ａ７に係る光学フィルムよりも干渉縞は抑制されていた。また、耐熱性試験後の密着性評価から分かるように、実施例Ａ１〜Ａ１１に係る光学フィルムにおいては、第２の光学調整層を備えていたので、第２の光学調整層を備えていない実施例Ａ１２〜Ａ２４に係る光学フィルムよりも基材と第１の光学調整層との密着性が向上していた。
【０３３６】
また、実施例Ａ１およびＡ８に係る光学フィルムにおいて、３０ｍｍ×１００ｍｍの長方形にカットして作製したサンプルの短辺（３０ｍｍ）側を、サンプルの対向する辺部の間隔が１０ｍｍとなるように平行に配置された固定部にそれぞれ固定し、光学フィルムを折り畳んだ状態で、７０℃で１２時間静置する折り畳み静置試験を行った。そして、折り畳み静置試験後に片方の辺部から固定部を外すことによって、折り畳み状態を開放して、室温で３０分後に光学フィルムが自然に開く角度である開き角（図３（Ｂ）参照）を測定したところ、実施例Ａ１に係る光学フィルムの開き角は１００°以上であり、実施例Ａ８に係る光学フィルムの開き角よりも大きかった。なお、開き角としては、ハードコート層が内側となるように折り畳む場合と、ハードコート層が外側となるように折り畳む場合との両方で折り畳み静置試験をし、角度が小さい方を採用した。
【０３３７】
さらに、比較例Ａ３に係る光学フィルムにおいては、樹脂層の膜厚が薄すぎるので、衝撃を吸収できず、耐衝撃性試験Ａにおいてソーダガラスに割れが生じてしまい、また耐衝撃性試験Ｂにおいて粘着シートの塑性変形に追従してしまうことによりハードコート層の表面の凹み量が大きかった。比較例Ａ４に係る光学フィルムにおいては、樹脂層の膜厚が厚すぎるので、折り畳み性に劣っていた。比較例Ａ５に係る光学フィルムにおいては、剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´が小さすぎるので、衝撃を吸収できず、耐衝撃性試験Ａにおいてソーダガラスに若干割れが生じてしまった。比較例Ａ６に係る光学フィルムにおいては、剪断貯蔵弾性率Ｇ´が大きすぎるとともに剪断損失弾性率Ｇ´´が小さすぎるので、衝撃を吸収できず、耐衝撃性試験Ａにおいてソーダガラスに割れが生じることもあり、また折り畳み性にも劣っていた。これに対し、実施例Ａ１６〜Ａ２４に係る光学フィルムにおいては、樹脂層の膜厚、剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´のバランスが良いので、耐衝撃性試験Ａ、Ｂ後のハードコート層の表面の凹みが確認されず、またソーダガラスにも割れが生じなかった。
【０３３８】
また、上記耐久性試験前後における実施例Ａ１〜Ａ２４に係る光学フィルムをそれぞれ用いて、上記と同様の大きさのサンプルを作製し、このサンプルの対向する２つの辺部の最小の間隔が３ｍｍとなるように上記と同様にサンプルを耐久試験機（製品名「ＤＬＤＭＬＨ−ＦＳ」、ユアサシステム機器社製）に取り付け、サンプルの表面側を１８０°折り畳む連続折り畳み試験（ハードコート層が内側となり、基材、第３の光学調整層または樹脂層が内側となるように折り畳む試験）を１万回行い、上記耐久性試験前における連続折り畳み性および密着性ならびに上記耐久性試験後における連続折り畳み性および密着性をそれぞれ上記と同様の評価基準によって評価したところ、実施例Ａ１〜Ａ１５に係る光学フィルムにおいては、上記耐久性試験前における連続折り畳み性および密着性ならびに上記耐久性試験後における連続折り畳み性および密着性が良好であった。
【０３３９】
また、上記耐久性試験前後における実施例Ａ１〜Ａ２４および比較例Ａ１〜Ａ６に係る光学フィルムをそれぞれ用いて、上記と同様の大きさのサンプルを作製し、このサンプルの対向する２つの辺部の最小の間隔が３０ｍｍとなるように上記と同様にサンプルを耐久試験機（製品名「ＤＬＤＭＬＨ−ＦＳ」、ユアサシステム機器社製）に取り付け、サンプルの裏面側を１８０°折り畳む連続折り畳み試験（ハードコート層が外側となり、基材、第３の光学調整層または樹脂層が内側となるように折り畳む試験）を１万回行い、上記耐久性試験前における連続折り畳み性および密着性ならびに上記耐久性試験後における連続折り畳み性および密着性をそれぞれ上記と同様の評価基準によって評価したところ、表１と同様の結果が得られた。
【０３４０】
また、実施例Ａ１〜Ａ２４に係る光学フィルムに係る光学フィルムのハードコート層のマルテンス硬度を用いて測定したところ、ハードコート層のマルテンス硬度は６５０ＭＰａであった。マルテンス硬度は、ＨＹＳＩＴＲＯＮ（ハイジトロン）社製の「ＴＩ９５０ ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒ」を用いて、以下の測定条件で、ハードコート層の断面中央においてそれぞれＢｅｒｋｏｖｉｃｈ圧子（三角錐）を５００ｎｍ押し込み、一定保持して残留応力の緩和を行った後、除荷させて、緩和後の最大荷重を計測し、該最大荷重Ｐｍａｘ（μＮ）と深さ５００ｎｍのくぼみ面積Ａ（ｎｍ２）とを用い、Ｐｍａｘ／Ａにより算出した。マルテンス硬度は、１０箇所測定して得られた値の算術平均値とした。
（測定条件）
・荷重速度：１０ｎｍ／秒
・保持時間：５秒
・荷重除荷速度：１０ｎｍ／秒
・測定温度：２５℃
【０３４１】
実施例Ａ１に係るポリイミド系基材における第１の光学調整層側の面とは反対側の面に、第４級アンモニウム基塩含有帯電防止剤（製品名「１ＳＸ−３０００」、大成ファインケミカル社製）１００質量部（固形分１００％換算値）、光重合開始剤（製品名「Ｉｒｇ１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）４質量部、溶媒（ＭＩＢＫ）１５０質量部を含む帯電防止層用組成物を塗布し、バーコーターで帯電防止用層用組成物を塗布し、塗膜を形成した。そして、形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶媒を蒸発させて、膜厚１００ｎｍの帯電防止層を形成して、光学フィルムを得た。なお、この光学フィルムの表面はハードコート層の表面であり、裏面は帯電防止層の表面であった。そして、この光学フィルムの表面および裏面に保護フィルムを貼り合わせて、光学フィルムの表面および裏面から保護フィルムを剥離させたときの剥離帯電量を測定したところ、光学フィルムの表面および裏面における剥離帯電量がそれぞれ−１０ｋＶ〜１０ｋＶの範囲内であった。
【０３４２】
＜＜実施例Ｂおよび比較例Ｂ＞＞
＜実施例Ｂ１＞
光透過性基材として、厚さ５０μｍのポリイミド基材（製品名「ネオプリム」、三菱ガス化学社製）を準備し、ポリイミド基材の一方の面である第１の面に、バーコーターで帯電防止層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。その後、形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を空気中にて積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させて、帯電防止ハードコート層である膜厚が２０μｍの第１の帯電防止層を形成した。次いで、ポリイミド基材における前記第１の面とは反対側の第２の面に、バーコーターで帯電防止層用組成物２を塗布し、塗膜を形成した。形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させて、膜厚が１００ｎｍの第２の帯電防止層を形成し、ポリイミド基材の両面に帯電防止層を有する光学フィルムを形成した。なお、実施例Ｂ１に係る光学フィルムの表面は第１の帯電防止層の表面であり、裏面は第２の帯電防止層の表面であった。また、帯電防止層の膜厚は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、帯電防止層の断面を撮影し、その断面の画像において帯電防止層の膜厚をそれぞれ２０箇所測定し、その２０箇所の膜厚の算術平均値とした。実施例Ｂ２、Ｂ３および比較例Ｂ１〜Ｂ３においても、実施例Ｂ１と同様の手法によって帯電防止層の膜厚を測定した。
【０３４３】
＜実施例Ｂ２＞
実施例Ｂ２においては、第２の帯電防止層の膜厚を１０μｍとしたこと以外は、実施例Ｂ１と同様にして、光学フィルムを得た。なお、実施例Ｂ２に係る光学フィルムの表面は第１の帯電防止層の表面であり、裏面は第２の帯電防止層の表面であった。
【０３４４】
＜実施例Ｂ３＞
光透過性基材として、厚さ５０μｍのポリイミド基材（製品名「ネオプリム」、三菱ガス化学社製）を準備し、ポリイミド基材の一方の面である第１の面に、バーコーターでハードコート層用組成物２を塗布し、塗膜を形成した。その後、形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を空気中にて積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させて、膜厚が２０μｍのハードコート層を形成した。次いで、ハードコート層の表面にバーコーターで帯電防止層用組成物２を塗布し、塗膜を形成した。形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させて、膜厚が８０ｎｍの第１の帯電防止層を形成した。その後、高周波スパッタリング装置において、電極に周波数１３．５６ＭＨｚ、電力５ｋＷの高周波電力を印加することにより、チャンバー内で放電を生じさせて、第１の帯電防止層の表面に、膜厚が１００ｎｍであり、かつ屈折率が１．４６である光学調整層としてのシリカ蒸着層を形成した。その後、ポリイミド基材における前記第１の面とは反対側の第２の面に、バーコーターで帯電防止層用組成物２を塗布し、塗膜を形成した。形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させて、膜厚が８０ｎｍの第２の帯電防止層を形成し、ポリイミド基材の両面側に帯電防止層を備える光学フィルムを形成した。なお、実施例Ｂ３に係る光学フィルムの表面はシリカ蒸着層の表面であり、裏面は第２の帯電防止層の表面であった。
【０３４５】
＜比較例Ｂ１＞
光透過性基材として、厚さ５０μｍのポリイミド基材（製品名「ネオプリム」、三菱ガス化学社製）を準備し、ポリイミド基材の一方の面である第１の面に、バーコーターでハードコート層用組成物２を塗布し、塗膜を形成した。その後、形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を空気中にて積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させて、膜厚が２０μｍのハードコート層を形成し、光学フィルムを得た。なお、比較例Ｂ１に係る光学フィルムの表面はハードコート層の表面であり、裏面はポリイミド基材の一方の面である第１の面とは反対側の面であった。
【０３４６】
＜比較例Ｂ２＞
比較例Ｂ２においては、第２の帯電防止層を形成しなかったこと以外は、実施例Ｂ１と同様にして、光学フィルムを得た。なお、比較例Ｂ２に係る光学フィルムの表面は第１の帯電防止層の表面であり、裏面はポリイミド基材の第１の面とは反対側の面であった。
【０３４７】
＜比較例Ｂ３＞
比較例Ｂ３においては、第２の帯電防止層およびシリカ蒸着層を形成しなかったこと以外は、実施例Ｂ３と同様にして、光学フィルムを得た。なお、比較例Ｂ３に係る光学フィルムの表面は第１の帯電防止層の表面であり、裏面はポリイミド基材の第１の面とは反対側の面であった。
【０３４８】
＜剥離帯電防止性＞
実施例Ｂ１〜Ｂ３および比較例Ｂ１〜Ｂ３に係る光学フィルムの表面および裏面に保護フィルムを貼り合わせて、光学フィルムの表面および裏面から保護フィルムを剥離させたときの剥離帯電量を測定して、剥離帯電量の大きさを評価した。具体的には、光学フィルムの表面および裏面に粘着層付き保護フィルム（製品名「サニテクトシリーズ」、サンエー化研社製）を貼り合わせて、２３℃、相対湿度５０％の環境下で、光学フィルムの表面および裏面から剥離速度１０ｍｍ／秒で保護フィルムを１８０°剥離したときの光学フィルムの表面および裏面の電位を、静電電位測定器（製品名「ＫＳＤ−０１０３」、春日電機社製）を用いて、表面および裏面より５０ｍｍの距離から測定し、剥離帯電量を測定した。剥離帯電量は、光学フィルムの両面において、それぞれ１０回測定し、１０回測定した剥離帯電量の算術平均値とした。評価基準は以下の通りとした。
○：光学フィルムの表面および裏面における剥離帯電量がいずれも０ｋＶ〜５ｋＶの範囲内であった。
×：光学フィルムの表面および裏面における剥離帯電量のいずれかが５ｋＶを超えていた。
【０３４９】
＜表面抵抗値＞
実施例Ｂ１〜Ｂ３および比較例Ｂ１〜Ｂ３に係る光学フィルムにおいて、実施例Ａと同様の測定条件で、表面および裏面の表面抵抗値をそれぞれ測定した。
【０３５０】
＜連続折り畳み性＞
実施例Ｂ１〜Ｂ３および比較例Ｂ１〜Ｂ３に係る光学フィルムを、３０ｍｍ×１００ｍｍの長方形にカットして作製したサンプルを、耐久試験機（製品名「ＤＬＤＭＬＨ−ＦＳ」、ユアサシステム機器社製）に、サンプルの短辺（３０ｍｍ）側を固定部でそれぞれ固定し、対向する２つの辺部の最小の間隔が３ｍｍとなるようにして取り付け、サンプルの表面側を１８０°折り畳む連続折り畳み試験（第１の帯電防止層、光学調整層またはハードコート層が内側となり、第２の帯電防止層またはポリイミド基材が外側となるように折り畳む試験）を１０万回行い、屈曲部に割れ又は破断が生じていないか調べた。また、実施例Ｂ１〜Ｂ３および比較例Ｂ１〜Ｂ３に係る光学フィルムで上記同様に作製した新しいサンプルを、上記の耐久試験機に、上記と同様に取り付け、サンプルの裏面側を１８０°折り畳む連続折り畳み試験（第１の帯電防止層、光学調整層またはハードコート層が外側となり、第２の帯電防止層またはポリイミド基材が内側となるように折り畳む試験）を１０万回行い、屈曲部に割れ又は破断が生じていないか調べた。連続折り畳み試験の結果を、以下の基準で評価した。
○：いずれの連続折り畳み試験においても、屈曲部に割れ又は破断が生じていなかった。
×：いずれかの連続折り畳み試験において、屈曲部に割れ又は破断が生じていた。
【０３５１】
＜鉛筆硬度＞
実施例Ｂ１〜Ｂ３および比較例Ｂ１〜Ｂ３に係る光学フィルムの表面に対し、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４：１９９９に基づいて鉛筆硬度試験を行い、評価した。鉛筆硬度試験は、２Ｈの鉛筆を用い、５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムをガラス板上に折れやシワがないようニチバン社製のセロテープ（登録商標）で固定した状態で、鉛筆に１ｋｇの荷重をかけながら、鉛筆を速度１ｍｍ／秒で移動させることによって行った。鉛筆硬度試験は５回を行い、鉛筆硬度試験後の光学フィルムの表面を蛍光灯下で透過観察して、５回のうち何回、表面に傷が視認されないか調べた。評価基準は、以下の通りとした。
○：２Ｈの鉛筆において、表面に傷が視認されなかった。
×：２Ｈの鉛筆において、表面に傷が視認された。
【０３５２】
＜飽和帯電圧＞
実施例Ｂ１〜Ｂ３および比較例Ｂ１〜Ｂ３に係る光学フィルムの表面および裏面における飽和帯電圧を、実施例Ａと同様の測定条件で、それぞれ測定した。
【０３５３】
＜イエローインデックス（ＹＩ）＞
実施例Ｂ１〜Ｂ３および比較例Ｂ１〜Ｂ３に係る光学フィルムにおいて、実施例Ａと同様の条件で、イエローインデックスを測定し、評価した。評価基準は、以下の通りとした。
◎：ＹＩが１．５未満であった。
○：ＹＩが１．５以上１０．０未満であった。
△：ＹＩが１０．０以上１５．０以下であった。
×：ＹＩが１５．０を越えていた。
【０３５４】
＜視感反射率＞
実施例Ｂ１〜Ｂ３および比較例Ｂ１〜Ｂ３に係る光学フィルムにおいて、波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの光の視感反射率を測定し、評価した。視感反射率は、分光光度計（製品名「ＵＶ−２４５０」、島津製作所社製、光源：タングステンランプおよび重水素ランプ）を用いて、５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムの表面側から波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの光を照射し、光学フィルムから反射する波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの光から測定した。具体的には、各光学フィルムの表面側から入射角度５度の光を照射し、各光学フィルムで反射された正反射方向の反射光を受光して、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長範囲の反射率を測定し、その後、人間が目で感じる明度として換算するソフトウェア（例えば、ＵＶ−２４５０に内蔵されたソフトウェア）によって視感反射率を算出した。評価基準は、以下の通りとした。
◎：視感反射率が３％以下であった。
○：視感反射率が３％を超え、かつ１０％以下であった。
△：視感反射率が１０％を超え、かつ１５％以下であった。
×：視感反射率が１５％を超えていた。
【０３５５】
以下、結果を表４に示す。
【表４】
2018159913.tif 000035
【０３５６】
以下、結果について述べる。比較例Ｂ１〜Ｂ３に係る光学フィルムにおいては、第１の帯電防止層および／または第２の帯電防止層が設けられていなかったので、保護フィルムを剥離したときの剥離帯電防止性に劣っていた。これに対し、実施例Ｂ１〜Ｂ３に係る光学フィルムにおいては、第１の帯電防止層および第２の帯電防止層が設けられたので、保護フィルムを剥離したときの剥離帯電防止性に優れていた。
【０３５７】
また、実施例Ｂ１〜Ｂ３に係る光学フィルムにおいて、３０ｍｍ×１００ｍｍの長方形にカットして作製したサンプルの短辺（３０ｍｍ）側を、サンプルの対向する辺部の間隔が３ｍｍとなるように平行に配置された固定部にそれぞれ固定し、光学フィルムを折り畳んだ状態で、７０℃で２４０時間静置する折り畳み静置試験を行った。そして、折り畳み静置試験後に片方の辺部から固定部を外すことによって、折り畳み状態を開放して、室温で３０分後に光学フィルムが自然に開く角度である開き角を測定したところ、実施例Ｂ２に係る光学フィルムの開き角は１００°以上であり、実施例Ｂ１、Ｂ３に係る光学フィルムの開き角よりも大きかった。なお、開き角としては、第１の帯電防止層が内側となるように折り畳む場合と、第１の帯電防止層が外側となるように折り畳む場合との両方で折り畳み静置試験をし、角度が小さい方を採用した。
【０３５８】
また、実施例Ｂ１、Ｂ２に係る光学フィルムの第１の帯電防止層および第３に係る光学フィルムのハードコート層のマルテンス硬度を、実施例Ａと同様の条件で、測定したところ、第１の帯電防止層およびハードコート層のマルテンス硬度は６１２ＭＰａであった。
【符号の説明】
【０３５９】
１０、３０、４０、５０、６０、９０、１００…光学フィルム
１０Ａ、１２Ａ、３０Ａ、４０Ａ、５０Ａ、６０Ａ、９０Ａ、９２Ａ、１００Ａ、１０４Ａ…表面
１１…樹脂基材
１１Ａ…第１の面
１１Ｂ…第２の面
１２…機能層
１３…第１の光学調整層
１４…第２の光学調整層
１５…第３の光学調整層
８０、１１０…画像表示装置
８３…表示素子
９２、１０３…第１の帯電防止層
９３、１０５…第２の帯電防止層
１０２…ハードコート層
１０４…光学調整層
【図１】
2018159913.tif 000036
【図２】
2018159913.tif 000037
【図３】
2018159913.tif 000038
【図４】
2018159913.tif 000039
【図５】
2018159913.tif 000040
【図６】
2018159913.tif 000041
【図７】
2018159913.tif 000042
【図８】
2018159913.tif 000043
【図９】
2018159913.tif 000044
【図１０】
2018159913.tif 000045
【図１１】
2018159913.tif 000046
【図１２】
2018159913.tif 000047