(57)【要約】【課題】白黒画像用表示パネルを含む表示装置において基板間のギャップを均一化する。【解決手段】表示装置は、画像を表示する表示領域である画素部と、画素部の周囲を囲う非表示領域である額縁部と、が規定され、第１の表示パネルを備える表示装置であって、第１の表示パネルは、第１基板と、第１基板に対向配置され、遮光層を含む第２基板と、第１基板と第２基板との間に形成された複数のスペーサと、を含み、第２基板のうち額縁部に配置された部分をなす第１額縁エリアは、遮光層が形成された遮光層形成領域と、遮光層が形成されていない遮光層非形成領域とを含み、複数のスペーサのうち額縁部に配置されたスペーサは、第２基板の第１額縁エリアにおける遮光層形成領域上に形成されており、遮光層形成領域上に配置されたスペーサの周りに遮光層非形成領域が配置されている。【選択図】図２
2018004872.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を表示する表示領域である画素部と、前記画素部の周囲を囲う非表示領域である額縁部と、が規定され、第１の表示パネルを備える表示装置であって、
前記第１の表示パネルは、
第１基板と、
前記第１基板に対向配置され、遮光層を含む第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に形成された複数のスペーサと、
を含み、
前記第２基板のうち前記額縁部に配置された部分をなす第１額縁エリアは、前記遮光層が形成された遮光層形成領域と、前記遮光層が形成されていない遮光層非形成領域とを含み、
前記複数のスペーサのうち前記額縁部に配置されたスペーサは、前記第２基板の前記第１額縁エリアにおける前記遮光層形成領域上に形成されており、前記遮光層形成領域上に配置されたスペーサの周りに前記遮光層非形成領域が配置されている、
ことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記第２基板の前記第１額縁エリアにおいて、平面視で、前記遮光層非形成領域は前記遮光層形成領域の間に形成されている、
ことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記第２基板の前記第１額縁エリアにおいて、前記遮光層形成領域には、平面視で、前記画素部の周囲を囲う枠状の第１枠状遮光層と、前記第１枠状遮光層より外側に位置し前記第１枠状遮光層を取り囲む枠状の第２枠状遮光層とが形成されており、
前記第１枠状遮光層と前記第２枠状遮光層との間に前記遮光層非形成領域が配置されている、
ことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記第２基板の前記第１額縁エリアにおいて、前記遮光層形成領域は、平面視で島状に複数個形成されており、前記遮光層非形成領域は前記遮光層形成領域の周囲に形成されている、
ことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項５】
前記第２基板のうち前記画素部に配置された部分をなす第１画素エリアに位置する前記遮光層の幅と、前記第２基板の前記第１額縁エリアに位置する前記遮光層の幅とは互いに同一である、
ことを特徴とする請求項３または４に記載の表示装置。
【請求項６】
前記第２基板の前記第１画素エリアに形成された隣り合う前記遮光層の間隔と、前記第２基板の前記第１額縁エリアに形成された隣り合う前記遮光層の間隔とは互いに同一である、
ことを特徴とする請求項３または４に記載の表示装置。
【請求項７】
前記第２基板の前記第１額縁エリアにおいて、平面視で、前記遮光層非形成領域は、前記遮光層形成領域に配置されたスペーサの周囲を囲うように枠状に配置されている、
ことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項８】
前記第２基板の前記第１画素エリアにおいて、平面視で、前記遮光層は島状に複数個形成されている、
ことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項９】
前記第１の表示パネルは白黒画像を表示する、
ことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記第１の表示パネルに重ね合わされて配置されカラー画像を表示する第２の表示パネルをさらに備える、
ことを特徴とする請求項９に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記第２の表示パネルのうち前記額縁部に配置された部分をなす第２額縁エリアには、第２遮光層が形成されており、
前記第１の表示パネルの前記第１額縁エリアに配置された前記遮光層非形成領域が、前記第２遮光層に平面視で重なっている、
ことを特徴とする請求項１０に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、表示装置を構成するカラーフィルタ基板（対向基板）は、遮光層と、遮光層間に形成された色材層と、遮光層及び色材層上に形成され、表面を平坦化するためのオーバーコート層と、オーバーコート層上に形成されたスペーサと、を含んでいる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−１６３７５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に開示されているように、カラー画像用表示パネルと異なり、白黒画像用表示パネルの表示領域である画素部では、隣接する遮光層間に形成される開口領域は色材層によって埋められていない。そのため、白黒画像用表示パネルの画素部では遮光層の膜厚に起因する段差が形成される。さらに、表示領域の外側を囲う非表示領域である額縁部では全体に遮光層が形成されるため、画素部と額縁部との間で遮光層形成面積が大きく異なる。このような白黒画像用表示パネルを含む表示装置において、スペーサ形成用の樹脂材料を塗布すると、額縁部に多くの樹脂材料が積層される一方で、画素部には段差や遮光層形成面積が少ない影響で相対的に少ない樹脂材料が積層される。その後、レジストを塗布してエッチングを行いスペーサを形成するとスペーサの高さが画素部と額縁部とで不均一となる。これにより、第１基板と第２基板との間のギャップに不均一が生じる。
【０００５】
本発明は、上記課題に鑑みて為されたものであって、その目的の一つは、白黒画像用表示パネルを含む表示装置において基板間のギャップを均一化することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明に係る表示装置は、画像を表示する表示領域である画素部と、前記画素部の周囲を囲う非表示領域である額縁部と、が規定され、第１の表示パネルを備える表示装置であって、前記第１の表示パネルは、第１基板と、前記第１基板に対向配置され、遮光層を含む第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に形成された複数のスペーサと、を含み、前記第２基板のうち前記額縁部に配置された部分をなす第１額縁エリアは、前記遮光層が形成された遮光層形成領域と、前記遮光層が形成されていない遮光層非形成領域とを含み、前記複数のスペーサのうち前記額縁部に配置されたスペーサは、前記第２基板の前記第１額縁エリアにおける前記遮光層形成領域上に形成されており、前記遮光層形成領域上に配置されたスペーサの周りに前記遮光層非形成領域が配置されている、ことを特徴とする。
【０００７】
本発明に係る表示装置は、前記第２基板の前記第１額縁エリアにおいて、平面視で、前記遮光層非形成領域は前記遮光層形成領域の間に形成されていてもよい。
【０００８】
本発明に係る表示装置は、前記第２基板の前記第１額縁エリアにおいて、前記遮光層形成領域には、平面視で、前記画素部の周囲を囲う枠状の第１枠状遮光層と、前記第１枠状遮光層より外側に位置し前記第１枠状遮光層を取り囲む枠状の第２枠状遮光層とが形成されており、前記第１枠状遮光層と前記第２枠状遮光層との間に前記遮光層非形成領域が配置されていてもよい。
【０００９】
本発明に係る表示装置は、前記第２基板の前記第１額縁エリアにおいて、前記遮光層形成領域は、平面視で島状に複数個形成されており、前記遮光層非形成領域は前記遮光層形成領域の周囲に形成されていてもよい。
【００１０】
本発明に係る表示装置は、前記第２基板のうち前記画素部に配置された部分をなす第１画素エリアに位置する前記遮光層の幅と、前記第２基板の前記第１額縁エリアに位置する前記遮光層の幅とは互いに同一であってもよい。
【００１１】
本発明に係る表示装置は、前記第２基板の前記第１画素エリアに形成された隣り合う前記遮光層の間隔と、前記第２基板の前記第１額縁エリアに形成された隣り合う前記遮光層の間隔とは互いに同一であってもよい。
【００１２】
本発明に係る表示装置は、前記第２基板の前記第１額縁エリアにおいて、平面視で、前記遮光層非形成領域は、前記遮光層形成領域に配置されたスペーサの周囲を囲うように枠状に配置されていてもよい。
【００１３】
本発明に係る表示装置は、前記第２基板の前記第１画素エリアにおいて、平面視で、前記遮光層は島状に複数個形成されていてもよい。
【００１４】
本発明に係る表示装置は、前記第１の表示パネルは白黒画像を表示してもよい。
【００１５】
本発明に係る表示装置は、前記第１の表示パネルに重ね合わされて配置されカラー画像を表示する第２の表示パネルをさらに備えていてもよい。
【００１６】
本発明に係る表示装置は、前記第２の表示パネルのうち前記額縁部に配置された部分をなす第２額縁エリアには、第２遮光層が形成されており、前記第１の表示パネルの前記第１額縁エリアに配置された前記遮光層非形成領域が、前記第２遮光層に平面視で重なって
いてもよい。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、白黒画像用表示パネルを含む表示装置において基板間のギャップを均一化することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本実施形態に係る液晶表示装置の全体構成の概略を示す分解斜視図である。
【図２】本実施形態に係る表示パネルの部分断面図である。
【図３】比較例に係る液晶表示装置に含まれる表示パネルの部分断面図である。
【図４】第１実施形態に係る第１の表示パネルの対向基板の平面図である。
【図５】第２実施形態に係る第１の表示パネルの対向基板の平面図である。
【図６】第３実施形態に係る第１の表示パネルの対向基板の平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
［第１実施形態］
以下、本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。
【００２０】
図１は、本実施形態に係る液晶表示装置１の全体構成の概略を示す分解斜視図である。液晶表示装置１は、画像を表示する表示パネル２と、表示パネル２の背面側から光を照射するバックライトユニット３と、これらの周囲に配置されるフレーム（上フレーム４、下フレーム５）とを含んで構成されている。
【００２１】
表示パネル２は、第１の表示パネル２１と、第１の表示パネル２１の表示面側に配置される第２の表示パネル２２とを含み、第１の表示パネル２１と第２の表示パネル２２とが互いに重ね合わされて構成されている。第１の表示パネル２１は、白黒画像表示用の表示パネルであり、第２の表示パネル２２は、カラー画像表示用の表示パネルである。
【００２２】
図２は、本実施形態に係る表示パネル２の部分断面図である。
【００２３】
図２に示すように、第１の表示パネル２１は、背面側に配置されるＴＦＴ（薄膜トランジスタ）基板３１（第１基板）と、第２の表示パネル２２側となる表示面側に配置される対向基板３２（第２基板）と、ＴＦＴ基板３１及び対向基板３２の間に挟持される液晶層３３と、ＴＦＴ基板３１の背面側に配置される下偏光板３４と、対向基板３２の表示面側に配置される上偏光板３５とを含んで構成されている。
【００２４】
ＴＦＴ基板３１には、ガラス基板３６上に行方向に延在する複数のゲート線ＧＬ１と、列方向に延在する複数のデータ線ＤＬ１と、が形成され、複数のゲート線ＧＬ１と複数のデータ線ＤＬ１とのそれぞれの交差部近傍に薄膜トランジスタが形成されている。
【００２５】
対向基板３２には、ガラス基板３７上に光の透過を遮断する遮光層３８（第１遮光層）が形成され、これを覆うようにオーバーコート層３９が形成されている。また、対向基板３２には、ＴＦＴ基板３１及び対向基板３２の間に配置され両基板間のギャップを保持する複数のスペーサ１３０（１３０ａ、１３０ｂ）が形成されている。複数のスペーサ１３０は、平面視で、遮光層３８に重なるように配置されている。第１の表示パネル２１を平面的に見て、隣り合う２本のゲート線ＧＬ１と隣り合う２本のデータ線ＤＬ１とにより囲まれる領域が１つの画素として規定され、当該画素がマトリクス状に複数配置されている。
【００２６】
第２の表示パネル２２は、第１の表示パネル２１側となる背面側に配置されるＴＦＴ基板４１と、表示面側に配置される対向基板４２と、ＴＦＴ基板４１及び対向基板４２の間に挟持される液晶層４３と、ＴＦＴ基板４１の背面側に配置される下偏光板４４と、対向基板４２の表示面側に配置される上偏光板４５とを含んで構成されている。
【００２７】
ＴＦＴ基板４１には、ガラス基板４６上に行方向に延在する複数のゲート線ＧＬ２と、列方向に延在する複数のデータ線ＤＬ２と、が形成され、複数のゲート線ＧＬ２と複数のデータ線ＤＬ２とのそれぞれの交差部近傍に薄膜トランジスタが形成されている。
【００２８】
対向基板４２には、ガラス基板４７上に光の透過を遮断する遮光層４８（第２遮光層）と色材層４９（例えば、赤色層、緑色層、青色層）とが形成され、これらを覆うようにオーバーコート層５０が形成されている。また、対向基板４２には、ＴＦＴ基板４１及び対向基板４２の間に配置され両基板間のギャップを保持する複数のスペーサ１４０が形成されている。複数のスペーサ１４０は、遮光層４８上に（言い換えれば、平面視で、遮光層４８に重なるように）配置されている。第２の表示パネル２２を平面的に見て、隣り合う２本のゲート線ＧＬ２と隣り合う２本のデータ線ＤＬ２とにより囲まれる領域が１つの画素として規定され、当該画素がマトリクス状に複数配置されている。
【００２９】
表示パネル２は、画像を表示する表示領域である画素部１０１と、画素部１０１の周囲を囲う非表示領域である額縁部１０２と、を含んで構成されている。第１の表示パネル２１の対向基板３２は、画素部１０１に配置された部分としての第１画素エリア３２ａと、額縁部１０２に配置された部分としての第１額縁エリア３２ｂと、を含んでいる。すなわち、第１の表示パネル２１の対向基板３２は、第１画素エリア３２ａと、第１額縁エリア３２ｂと、に区画され、第１額縁エリア３２ｂは、第１画素エリア３２ａの周囲を囲んでいる。第２の表示パネル２２の対向基板４２は、画素部１０１に配置された部分をなす第２画素エリア４２ａと、額縁部１０２に配置された部分をなす第２額縁エリア４２ｂと、を含んでいる。すなわち、第２の表示パネル２２の対向基板４２は、第２画素エリア４２ａと、第２額縁エリア４２ａと、に区画され、第２額縁エリア４２ｂは、第２画素エリア４２ａの周囲を囲んでいる。第２の表示パネル２２の対向基板４２の第２額縁エリア４２ｂには、平面的に見て当該第２額縁エリア４２ｂ全体に遮光層４８が形成されている。一方、第１の表示パネル２１の対向基板３２の第１額縁エリア３２ｂは、遮光層３８が形成された遮光層形成領域１３８と、遮光層３８が形成されていない遮光層非形成領域１３９とを含んで構成されている。尚、第１画素エリア３２ａ及び第２画素エリア４２ａでは、遮光層３８，４８はそれぞれ、平面的に見て、隣り合う画素の境界部分に形成されている。
【００３０】
ここで、図３を用いて比較例に係る液晶表示装置１００について説明する。図３は、比較例に係る液晶表示装置１００に含まれる表示パネル２００の部分断面図である。以下では主に、図２に示す表示パネル２との相違点について説明する。
【００３１】
図３に示すように、比較例に係る表示パネル２００は、第１の表示パネル２２１と、第１の表示パネル２２１の表示面側に配置される第２の表示パネル２２２とを含んで構成されている。第１の表示パネル２２１は、背面側に配置されるＴＦＴ基板２３１と、表示面側に配置される対向基板２３２と、ＴＦＴ基板２３１及び対向基板２３２の間に挟持される液晶層２３３と、ＴＦＴ基板２３１の背面側に配置される下偏光板２３４と、対向基板２３２の表示面側に配置される上偏光板２３５とを含んで構成されている。第２の表示パネル２２２は、背面側に配置されるＴＦＴ基板２４１と、表示面側に配置される対向基板２４２と、ＴＦＴ基板２４１及び対向基板２４２の間に挟持される液晶層２４３と、ＴＦＴ基板２４１の背面側に配置される下偏光板２４４と、対向基板２４２の表示面側に配置される上偏光板２４５とを含んで構成されている。
【００３２】
比較例に係る液晶表示装置１００では、第１の表示パネル２２１における対向基板２３２において、画素部１１１では、遮光層２３８が、隣り合う画素の境界部分に形成され、かつ、隣り合う遮光層２３８の間に色材層が形成されていない。これに対して、額縁部１１２では、遮光層２３８が、平面的に見て額縁部１１２全体に重なるように形成されている。このため、画素部１１１では、遮光層２３８による段差が形成されている上、額縁部１１２と比較して遮光層２３８の形成面積が小さくなる。また、額縁部１１２では、遮光層２３８による段差が形成されていない上、画素部１１１と比較して遮光層２３８の形成面積が大きくなる。これにより、遮光層２３８上にオーバーコート層２３９を形成すると、オーバーコート層２３９には、遮光層２３８に応じた凸状の領域が形成される。例えば図３に示すように、画素部１１１において、オーバーコート層２３９は、画素部１１１において凸状の領域が複数形成されている。また、額縁部１１２において、オーバーコート層２３９は、額縁部１１２全体に平坦に形成されており、額縁部１１２全体が凸状の領域に含まれるように形成されている。したがって、額縁部１１２におけるオーバーコート層２３９の凸状の領域の形成面積も、画素部１１１と比較して大きくなる。そして、オーバーコート層２３９の凸状の領域にスペーサ形成用樹脂材料をスピンコート法等により塗布すると、画素部１１１では、オーバーコート層２３９の各凸状の領域の形成面積が小さいためスペーサ形成用樹脂膜の膜厚が薄くなり、額縁部１１２では、オーバーコート層２３９の凸状の領域が平坦且つ広範囲に亘って形成されているためスペーサ形成用樹脂膜の膜厚が厚くなる。このため、額縁部１１２に形成されるスペーサ１５０の高さは、画素部１１１に形成されるスペーサ１５０の高さより高くなってしまう。その結果、比較例に係る液晶表示装置１００ではＴＦＴ基板２３１と第２基板２３２との間のギャップに不均一が生じる。
【００３３】
そこで、本実施形態では、図２に示すように、第１の表示パネル２１の対向基板３２の第１額縁エリア３２ｂは、遮光層３８が形成された遮光層形成領域１３８と、遮光層３８が形成されていない遮光層非形成領域１３９とを含んで構成されることとする。さらに、複数のスペーサ１３０のうち額縁部１０２に配置されたスペーサ１３０ｂは、平面視で、遮光層形成領域１３８に重なるように形成され、当該遮光層形成領域１３８の周りに遮光層非形成領域１３９が配置されることとする。上記構成により、本実施形態では、額縁部１０２に遮光層３８による段差が形成される上、額縁部１０２における遮光層３８の形成面積、及びオーバーコート層２３９の凸状の領域の形成面積が小さくなる。その結果、画素部１０１と額縁部１０２とでスペーサ形成用樹脂膜の膜厚が均一化され、さらにはスペーサ１３０の高さが画素部１０１と額縁部１０２とで均一化される。これにより、液晶表示装置１のＴＦＴ基板３１と対向基板３２との間のギャップを均一化することが可能となる。
【００３４】
以下、本実施形態に係る第１の表示パネル２１の具体的な構成について説明する。図４は、第１実施形態に係る第１の表示パネル２１の対向基板３２の平面図である。なお、図４は、第１実施形態に係る第１の表示パネル２１の対向基板３２の一部を切り出した図である。
【００３５】
図４に示すように、第１実施形態に係る対向基板３２の第１画素エリア３２ａにおいて、平面視で、遮光層３８が島状に複数個形成されている。各遮光層３８は、平面視で、例えば第１の表示パネル２１のＴＦＴ基板３１に形成されている薄膜トランジスタに重なるように形成されている。ここでは、各遮光層３８は矩形状に形成されているが、この例に限定されずその他の形状に形成されていてもよい。そして、複数のスペーサ１３０のうち画素部１０１に配置されたスペーサ１３０ａは、平面視で、島状に形成された遮光層３８に重なるように配置されている。なお、第１画素エリア３２ａにおいては、遮光層３８が島状に複数個形成される例に限定されず、例えば、遮光層３８が格子状やストライプ状に形成されていてもよい。
【００３６】
第１実施形態に係る対向基板３２の第１額縁エリア３２ｂにおいて、平面視で、遮光層非形成領域１３９は遮光層３８の間に形成されている。具体的には、対向基板３２の第１額縁エリア３２ｂにおいて、平面視で、画素部１０１（第１画素エリア３２ａ）の周囲を囲う枠状の第１枠状遮光層３８ａと、第１枠状遮光層３８ａより外側に位置し第１枠状遮光層３８ａを取り囲む枠状の第２枠状遮光層３８ｂとが形成されている。第１枠状遮光層３８ａと、第２枠状遮光層３８ｂとにより遮光層形成領域１３８が構成されている。そして、第１枠状遮光層３８ａと第２枠状遮光層３８ｂとの間に遮光層非形成領域１３９が配置されている。また、額縁部１０２に配置された複数のスペーサ１３０ｂは、平面視で、第１枠状遮光層３８ａまたは第２枠状遮光層３８ｂに重なるように配置されている。
【００３７】
このように、第１実施形態によれば、対向基板３２の第１額縁エリア３２ｂにおいて、遮光層非形成領域１３９が遮光層３８の間に形成されていることで、遮光層３８による段差が形成される上、第１額縁エリア３２ｂにおける遮光層３８の形成面積、及びオーバーコート層２３９の凸状の領域の形成面積が小さくなる。その結果、画素部１０１と額縁部１０２とでスペーサ形成用樹脂膜の膜厚が均一化され、さらにはスペーサ１３０の高さが画素部１０１と額縁部１０２とで均一化される。これにより、液晶表示装置１のＴＦＴ基板３１と対向基板３２との間のギャップを均一化することが可能となる。
【００３８】
また、対向基板３２の第１画素エリア３２ａに形成されている各遮光層３８の行方向または列方向の幅Ｗ０と、第１枠状遮光層３８ａの幅Ｗ１と、第２枠状遮光層３８ｂの幅Ｗ２とはそれぞれ同一としてもよい。また、対向基板３２の第１画素エリア３２ａに配置された隣り合う遮光層３８の間隔Ｇ０と、第１枠状遮光層３８ａと第２枠状遮光層３８ｂとの間隔Ｇ１とは互いに同一としてもよい。これにより、画素部１０１と額縁部１０２とで、遮光層３８の形成面積、及びオーバーコート層２３９の凸状の領域の形成面積を均一化することができる。その結果、画素部１０１と額縁部１０２とでスペーサ形成用樹脂膜の膜厚が均一化され、さらにはスペーサ１３０の高さが画素部１０１と額縁部１０２とで均一化される。これにより、液晶表示装置１のＴＦＴ基板３１と対向基板３２との間のギャップを均一化することが可能となる。
【００３９】
また、図２に示すように、平面視で、第１の表示パネル２１の第１額縁エリア３２ｂに含まれる遮光層非形成領域１３９は、第２の表示パネル２２の第２額縁エリア４２ｂに含まれる遮光層４８に重なっていてもよい。これにより、第１の表示パネル２１の額縁部１０２に含まれる遮光層非形成領域１３９を透過する光を、第２の表示パネル２２の額縁部１０２に含まれる遮光層４８により遮光することができる。
【００４０】
また、図２に示すように、平面視で、第１の表示パネル２１の第１額縁エリア３２ｂに含まれる遮光層形成領域１３８は、第２の表示パネル２２の第２額縁エリア４２ｂに含まれる遮光層４８に重なっていてもよい。
【００４１】
［第２実施形態］
図５は、第２実施形態に係る第１の表示パネル２１の対向基板３２の平面図である。なお、図５は、第２実施形態に係る第１の表示パネル２１の対向基板３２の一部を切り出した図である。第２実施形態に係る画素部１０１における遮光層３８の形状は、第１実施形態と同様であるので、ここでは重複する説明は省略する。
【００４２】
第２実施形態に係る対向基板３２の第１額縁エリア３２ｂにおいて、平面視で、遮光層３８が島状に複数個形成されている。島状に形成された複数の遮光層３８により遮光層形成領域１３８が構成されている。そして、島状に形成された複数の遮光層３８の間に遮光層非形成領域１３９が配置されている。ここでは、各遮光層３８は、矩形状に形成されているが、この例に限定されずその他の形状に形成されていてもよい。また、額縁部１０２に配置された複数のスペーサ１３０ｂは、平面視で、島状に形成された遮光層３８に重なるように配置されている。
【００４３】
このように、第２実施形態によれば、対向基板３２全体において、遮光層３８が島状に複数個形成されることとなるので、遮光層３８による段差が形成される上、画素部１０１と額縁部１０２とで、遮光層３８の形成面積、及びオーバーコート層２３９の凸状の領域の形成面積を均一化することができる。その結果、画素部１０１と額縁部１０２とでスペーサ形成用樹脂膜の膜厚が均一化され、さらにはスペーサ１３０の高さが画素部１０１と額縁部１０２とで均一化される。これにより、液晶表示装置１のＴＦＴ基板３１と対向基板３２との間のギャップを均一化することが可能となる。
【００４４】
また、対向基板３２の第１画素エリア３２ａに形成されている各遮光層３８の行方向または列方向の幅Ｗ０と、対向基板３２の第１額縁エリア３２ｂに形成されている各遮光層３８の行方向または列方向の幅Ｗ３とは互いに同一としてもよい。また、対向基板３２の第１画素エリア３２ａに配置された隣り合う遮光層３８の間隔Ｇ０と、対向基板３２の第１額縁エリア３２ｂに配置された隣り合う遮光層３８の間隔Ｇ２とは互いに同一としてもよい。これにより、対向基板３２全体において、同一面積の複数の遮光層３８が等間隔で島状に形成されることとなるので、画素部１０１と額縁部１０２とで遮光層３８の形成面積、及びオーバーコート層２３９の凸状の領域の形成面積をより均一化することができる。その結果、画素部１０１と額縁部１０２とでスペーサ形成用樹脂膜の膜厚が均一化され、さらにはスペーサ１３０の高さが画素部１０１と額縁部１０２とで均一化される。これにより、液晶表示装置１のＴＦＴ基板３１と対向基板３２との間のギャップを均一化することが可能となる。
【００４５】
［第３実施形態］
図６は、第３実施形態に係る第１の表示パネル２１の対向基板３２の平面図である。なお、図６は、第３実施形態に係る第１の表示パネル２１の対向基板３２の一部を切り出した図である。第３実施形態に係る画素部１０１における遮光層３８の形状は、第１実施形態と同様であるので、ここでは重複する説明は省略する。
【００４６】
第３実施形態に係る対向基板３２の第１額縁エリア３２ｂにおいて、平面視で、各遮光層非形成領域１３９は、各々に対応する遮光層非形成領域１３９に配置されたスペーサ１３０の周囲を囲うように枠状に形成されている。そして、遮光層形成領域は、枠状の遮光層非形成領域１３９に囲まれる島状の遮光層３８と、枠状の遮光層非形成領域１３９の外側に配置される遮光層３８とにより構成されている。
【００４７】
このように、第３実施形態によれば、対向基板３２の第１額縁エリア３２ｂにおいて、遮光層非形成領域１３９がスペーサ１３０の周囲を囲うように枠状に形成されていることで、遮光層３８による段差が形成される上、額縁部１０２におけるスペーサ１３０周辺の遮光層３８の形成面積、及びオーバーコート層２３９の凸状の領域の形成面積が小さくなる。その結果、画素部１０１と額縁部１０２とでスペーサ形成用樹脂膜の膜厚が均一化され、さらにはスペーサ１３０の高さが画素部１０１と額縁部１０２とで均一化される。これにより、液晶表示装置１のＴＦＴ基板３１と対向基板３２との間のギャップを均一化することが可能となる。
【００４８】
また、対向基板３２の第１画素エリア３２ａに形成されている各遮光層３８の行方向または列方向の幅Ｗ０と、対向基板３２の第１額縁エリア３２ｂにおいて枠状の遮光層非形成領域１３９に囲まれる島状の遮光層３８の行方向または列方向の幅Ｗ４とは互いに同一としてもよい。また、対向基板３２の第１画素エリア３２ａに配置された隣り合う遮光層３８の行方向または列方向の間隔Ｇ０と、対向基板３２の第１額縁エリア３２ｂに配置された枠状の遮光層非形成領域１３９の行方向または列方向の幅（言い換えれば、対向基板３２の第１額縁エリア３２ｂにおける島状の遮光層３８から隣り合う遮光層３８までの行方向または列方向の距離）Ｇ３とは互いに同一としてもよい。これにより、スペーサ１３０周辺において、画素部１０１と額縁部１０２とで遮光層３８の形成面積、及びオーバーコート層２３９の凸状の領域の形成面積を均一化することができる。その結果、画素部１０１と額縁部１０２とでスペーサ形成用樹脂膜の膜厚が均一化され、さらにはスペーサ１３０の高さが画素部１０１と額縁部１０２とで均一化される。これにより、液晶表示装置１のＴＦＴ基板３１と対向基板３２との間のギャップを均一化することが可能となる。
【００４９】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記各実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で上記各実施形態から当業者が適宜変更した形態も本発明の技術的範囲に含まれることは言うまでもない。
【符号の説明】
【００５０】
１，１００  液晶表示装置、２，２００  表示パネル、３  バックライトユニット、４  上フレーム、５  下フレーム、２１，２２１  第１の表示パネル、２２，２２２  第２の表示パネル、３１，４１，２３１，２４１  ＴＦＴ基板、３２，４２，２３２，２４２  対向基板、３２ａ  第１画素エリア、３２ｂ  第１額縁エリア、４２ａ  第２画素エリア、４２ｂ  第２額縁エリア、３３，４３，２３３，２４３  液晶層、３４，４４，２３４，２４４  下偏光板、３５，４５，２３５，２４５  上偏光板、３６，３７，４６，４７，２３６，２３７，２４６，２４７  ガラス基板、３８，４８，２３８，２４８  遮光層、３８ａ  第１枠状遮光層、３８ｂ  第２枠状遮光層、３９，５０，２３９，２５０  オーバーコート層、４９，２４９  色材層、１０１，１１１  画素部、１０２，１１２  額縁部、１３０，１３０ａ，１３０ｂ，１４０，１５０，１６０  スペーサ、１３８  遮光層形成領域、１３９  遮光層非形成領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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