(57)【要約】【課題】  本発明は、医薬品として有用な光学活性イミダゾール化合物の新規な製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】  式（３）で表される化合物に、光学活性金属錯体触媒存在下、水素ガスを反応させることにより、高収率、高選択性で、式（４）で表される化合物を得る製造方法。【化１】2018039757.tif 000086（式中Ｒ１はアミノ保護基を表し、＊は不斉炭素原子を表す。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（４）
【化１】
2018039757.tif 000076
［式中、Ｒ１はアミノ保護基を表し、＊は不斉炭素原子を表す。］で表される光学活性なイミダゾール化合物を製造する方法であって、
式（３）
【化２】
2018039757.tif 000077
［式中、Ｒ１は前記と同じ意味を表す。］で表されるオレフィン化合物に、光学活性金属錯体触媒（該光学活性金属錯体触媒は、光学活性ロジウム錯体触媒、光学活性イリジウム錯体触媒及び光学活性コバルト触媒からなる群より選ばれる化合物である。）の存在下、水素ガスを反応させることを特徴とする製造方法。
【請求項２】
Ｒ１が、スルファモイル保護基、スルホニル保護基、アルコキシカルボニル保護基、アルキル保護基、シリル保護基、エーテル保護基、アシル保護基又はカルバモイル保護基である、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
Ｒ１が、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、メタンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、トリフェニルメチル基、ベンジル基、［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メチル基、２−メトキシメチル基又はアセチル基である、請求項２に記載の製造方法。
【請求項４】
光学活性金属錯体触媒が、光学活性ロジウム錯体触媒である、請求項１乃至３の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項５】
光学活性金属錯体触媒が、Ａ、Ｂ及びＣからなる群より選ばれる化合物であり、ここにおいて、Ａは式（７−１）、Ｂは式（７−２）、Ｃは式（７−３）
【化３】
2018039757.tif 000078
［式中、Ｌ３は、エチレン、１，５−シクロオクタジエン及びノルボルナ−２，５−ジエンからなる群より単独に選ばれる有機配位子であり、
Ｑ２は、塩化物イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオンからなる群より単独に選ばれるアニオンである。］で表されるロジウム錯体触媒の前駆体と、Ｊｏｓｉｐｈｏｓ配位子、ＭｅＯＢＩＰＨＥＰ配位子及びＭｏｎｏＰｈｏｓ配位子からなる群より選ばれる光学活性配位子Ｌ４より、反応系中で生成させた化合物である、請求項４に記載の製造方法。
【請求項６】
ロジウム錯体触媒の前駆体が、式（７−１）
【化４】
2018039757.tif 000079
［式中、Ｌ３はノルボルナ−２，５−ジエン及び１，５−シクロオクタジエンであり、Ｑ２はテトラフルオロホウ酸イオン及びトリフルオロメタンスルホン酸イオンである。］で表される化合物である、請求項５に記載の製造方法。
【請求項７】
Ｌ４が、式（ａ−１）から式（ａ−８）
【化５】
2018039757.tif 000080
の何れかで表される化合物である、請求項５又は６に記載の製造方法。
【請求項８】
有機溶媒中で反応を実施することを特徴とする、請求項１乃至７の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項９】
有機溶媒が、芳香族炭化水素溶媒、アルコール溶媒及び含ハロゲン炭化水素溶媒からなる群より選択される少なくとも一種の溶媒を含む、請求項８に記載の製造方法。
【請求項１０】
下記工程（ａ）及び（ｂ）を含む、式（８）で表される光学活性なイミダゾール化合物の製造方法。
（ａ）
請求項１乃至９の何れか１項に記載の方法により、
式（４）
【化６】
2018039757.tif 000081
［式中、Ｒ１はアミノ保護基を表し、＊は不斉炭素原子を表す。］で表される光学活性なイミダゾール化合物を得る工程。
（ｂ）
式（４）で表される光学活性なイミダゾール化合物を脱保護して、式（８）
【化７】
2018039757.tif 000082
［式中、＊は前期と同じ意味を表す。］で表される光学活性なイミダゾール化合物を得る工程。
【請求項１１】
式（４）
【化８】
2018039757.tif 000083
［式中、Ｒ１が、スルファモイル保護基、スルホニル保護基、アルコキシカルボニル保護基、アルキル保護基、シリル保護基、エーテル保護基、アシル保護基又はカルバモイル保護基を表し、＊は不斉炭素原子を表す。］で表される光学活性なイミダゾール化合物。
【請求項１２】
式（５）
【化９】
2018039757.tif 000084
［式中、Ｒ１は前記と同じ意味を表す。］で表される、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１３】
Ｒ１が、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、メタンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、トリフェニルメチル基、ベンジル基、［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メチル基、２−メトキシメチル基又はアセチル基である、請求項１２に記載の化合物。
【請求項１４】
式（６）
【化１０】
2018039757.tif 000085
［式中、Ｒ１は前記と同じ意味を表す。］で表される、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１５】
Ｒ１が、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、メタンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、トリフェニルメチル基、ベンジル基、［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メチル基、２−メトキシメチル基又はアセチル基である、請求項１４に記載の化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学活性なイミダゾール化合物の製造方法及びその中間体に関する。
【背景技術】
【０００２】
式（１）で表される光学活性なイミダゾール化合物（化合物（１））は、選択的なα２アドレナリン受容体作動薬であり、鎮静・鎮痛剤として有用である（特許文献１）。また、式（２）で表される光学活性なイミダゾール化合物（化合物（２））は、α２アドレナリン受容体の過剰発現または過感作に関連する状態の予防または治療に有用である（特許文献２）。
【０００３】
【化１】
2018039757.tif 000002
【０００４】
従来、化合物（１）及び（２）の製造方法としては、それらのラセミ体を光学活性な酸（例えばＬ−（＋）−酒石酸、又はＤ−（−）−酒石酸など）を使用して塩化し、再結晶により分割する方法が知られている（特許文献１乃至３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特公平６−２５１３８号
【特許文献２】特表２０００−５０３２９８号
【特許文献３】米国特許第８８７７９４１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、光学活性なイミダゾール化合物の新規な製造方法を提供する。また本発明は、その製造中間体である、新規の光学活性なイミダゾール化合物を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前述の方法では、初めにラセミ体の酸塩を合成し、その後再結晶を繰り返すことで化合物（１）又は（２）をそれぞれ分割するため、操作が煩雑であり、収率が低いという課題を有している。また、適切な光学活性な酸を選択することにより、再結晶の回数を削減する方法が知られているが、収率の改善には至っていない（米国特許第８８７７９４１号：特許文献３）。
本発明者らは、鋭意検討した結果、式（３）で表されるオレフィン化合物（化合物（３））に対して不斉還元反応を行うことにより、高い収率かつ簡便な操作で化合物（１）又は（２）の製造中間体を製造できること、さらに同中間体の脱保護反応により、化合物（１）又は（２）それぞれを製造できることを見出し、本発明を完成させた。すなわち本発明は、以下に関する。
【０００８】
［１］
式（４）
【化２】
2018039757.tif 000003
［式中、Ｒ１はアミノ保護基を表し、＊は不斉炭素原子を表す。］で表される光学活性なイミダゾール化合物を製造する方法であって、
式（３）
【化３】
2018039757.tif 000004
［式中、Ｒ１は前記と同じ意味を表す。］で表されるオレフィン化合物に、光学活性金属錯体触媒（該光学活性金属錯体触媒は、光学活性ロジウム錯体触媒、光学活性イリジウム錯体触媒及び光学活性コバルト触媒からなる群より選ばれる化合物である。）の存在下、水素ガスを反応させることを特徴とする製造方法。
［２］
Ｒ１が、スルファモイル保護基、スルホニル保護基、アルコキシカルボニル保護基、アルキル保護基、シリル保護基、エーテル保護基、アシル保護基又はカルバモイル保護基である、上記［１］に記載の製造方法。
［３］
Ｒ１が、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、メタンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、トリフェニルメチル基、ベンジル基、［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メチル基、２−メトキシメチル基又はアセチル基である、上記［２］に記載の製造方法。
［４］
光学活性金属錯体触媒が、光学活性ロジウム錯体触媒である、上記［１］乃至［３］の何れか１つに記載の製造方法。
［５］
光学活性金属錯体触媒が、Ａ、Ｂ及びＣからなる群より選ばれる化合物であり、ここにおいて、Ａは式（７−１）、Ｂは式（７−２）、Ｃは式（７−３）
【化４】
2018039757.tif 000005
［式中、Ｌ３は、エチレン、１，５−シクロオクタジエン及びノルボルナ−２，５−ジエンからなる群より単独に選ばれる有機配位子であり、
Ｑ２は、塩化物イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオンからなる群より単独に選ばれるアニオンである。］で表されるロジウム錯体触媒の前駆体と、Ｊｏｓｉｐｈｏｓ配位子、ＭｅＯＢＩＰＨＥＰ配位子及びＭｏｎｏＰｈｏｓ配位子からなる群より選ばれる光学活性配位子Ｌ４より、反応系中で生成させた化合物である、上記［４］に記載の製造方法。
［６］
ロジウム錯体触媒の前駆体が、式（７−１）
【化５】
2018039757.tif 000006
［式中、Ｌ３はノルボルナ−２，５−ジエン及び１，５−シクロオクタジエンであり、Ｑ２はテトラフルオロホウ酸イオン及びトリフルオロメタンスルホン酸イオンである。］で表される化合物である、上記［５］に記載の製造方法。
［７］
Ｌ４が、式（ａ−１）から式（ａ−８）
【化６】
2018039757.tif 000007
の何れかで表される化合物である、上記［５］又は［６］に記載の製造方法。
［８］
有機溶媒中で反応を実施することを特徴とする、上記［１］乃至［７］の何れか１つに記載の製造方法。
［９］
有機溶媒が、芳香族炭化水素溶媒、アルコール溶媒及び含ハロゲン炭化水素溶媒からなる群より選択される少なくとも一種の溶媒を含む、上記［８］に記載の製造方法。
［１０］
下記工程（ａ）及び（ｂ）を含む、式（８）で表される光学活性なイミダゾール化合物の製造方法。
（ａ）
上記［１］乃至［９］の何れか１つに記載の方法により、
式（４）
【化７】
2018039757.tif 000008
［式中、Ｒ１はアミノ保護基を表し、＊は不斉炭素原子を表す。］で表される光学活性なイミダゾール化合物を得る工程。
（ｂ）
式（４）で表される光学活性なイミダゾール化合物を脱保護して、式（８）
【化８】
2018039757.tif 000009
［式中、＊は前期と同じ意味を表す。］で表される光学活性なイミダゾール化合物を得る工程。
［１１］
式（４）
【化９】
2018039757.tif 000010
［式中、Ｒ１が、スルファモイル保護基、スルホニル保護基、アルコキシカルボニル保護基、アルキル保護基、シリル保護基、エーテル保護基、アシル保護基又はカルバモイル保護基を表し、＊は不斉炭素原子を表す。］で表される光学活性なイミダゾール化合物。
［１２］
式（５）
【化１０】
2018039757.tif 000011
［式中、Ｒ１は前記と同じ意味を表す。］で表される、上記［１１］に記載の化合物。
［１３］
Ｒ１が、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、メタンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、トリフェニルメチル基、ベンジル基、［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メチル基、２−メトキシメチル基又はアセチル基である、上記［１２］に記載の化合物。
［１４］
式（６）
【化１１】
2018039757.tif 000012
［式中、Ｒ１は前記と同じ意味を表す。］で表される、上記［１１］に記載の化合物。
［１５］
Ｒ１が、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、メタンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、トリフェニルメチル基、ベンジル基、［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メチル基、２−メトキシメチル基又はアセチル基である、上記［１４］に記載の化合物。
【発明の効果】
【０００９】
本発明により、医薬分野で有用な、光学活性なイミダゾール化合物の新規な製造方法が提供できた。また、本発明により、製造中間体である新規な光学活性イミダゾール化合物が提供できた。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明について、詳細に説明する。
【００１１】
本明細書における「ｎ−」はノルマル、「ｓ−」はセカンダリー、「ｔ−」及び「ｔｅｒｔ−」はターシャリー、「ｉ−」はイソ、「ｏ−」はオルト、「ｍ−」はメタ、「ｐ−」はパラ、「Ｅ」はトランス、「Ｚ」はシス、「Ｂｕ」はブチル、「Ｐｒ」はプロピル、「Ｐｈ」はフェニルを意味する。また、構造式中の不斉炭素原子への「＊」の付記は、当該炭素原子（及び当該炭素原子を含む分子）がキラルであることを意味する。
【００１２】
本明細書における化学構造の記載に用いる用語を説明する。本明細書における（Ｒ）及び（Ｓ）は、中心性キラリティー又は軸性キラリティーが存在するキラルな分子の立体配置を表す。
【００１３】
本明細書における化学構造の記載に用いる用語を説明する。本明細書における（＋）及び（−）は、中心性キラリティー又は軸性キラリティーが存在するキラルな分子の旋光度の右旋性及び左旋性を表す。
【００１４】
本明細書中、アミノ保護基とは、通常の有機合成反応に用いるアミノ基の保護基を意味する。アミノ保護基は、脱保護反応を行うことにより、除去することができる（例えば、プロテクティング・グループス・イン・オーガニック・シンセシス第４板（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｆｏｕｒｔｈ  ｅｄｉｔｉｏｎ），グリーン（Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｃｅ）著、ジョン・ワイリー・アンド・サンズ・インコーポレイテッド（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ  Ｉｎｃ．）（２００６年）など参照）。アミノ保護基の具体例としては、スルファモイル保護基（Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基等）、スルホニル保護基（メタンスルホニル基、メシチレンスルホニル基、ｐ−メトキシフェニルスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基等）、アルコキシカルボニル保護基（ベンジルオキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基、２−（４−トリフルオロメチルフェニルスルホニル）エトキシオキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、１−アダマンチルオキシカルボニル基、２−アダマンチルオキシカルボニル基、２，４−ジメチルペント−３−イルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、１，１−ジメチル−２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、１−クロロエトキシカルボニル基等）、アルキル保護基（ビニル基、２−クロロエチル基、ヒドロキシメチル基、２−メトキシエトキシメチル基、１−エトキシエチル基、２−（２’−ピリジル）エチル基、２−（４’−ピリジル）エチル基、２−（４−ニトロフェニル）エチル基、２−フェニルスルホニルエチル基、アリル基、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、３，４−ジメトキシベンジル基、３−メトキシベンジル基、３，５−ジメトキシベンジル基、２−ニトロベンジル基、２，４−ジニトロベンジル基、フェナシル基、トリフェニルメチル基、ジフェニルメチル基、ジフェニル−４−ピリジルメチル基、２−（２’−ピリジル）エチル基、２−（４’−ピリジル）エチル基、２−（４−ニトロフェニル）エチル基等）、シリル保護基（ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基等）、エーテル保護基（メトキシメチル基、ジエトキシメチル基、２−クロロエトキシメチル基、［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メチル基、ｔ−ブトキシメチル基、ｔ−ブチルジメチルシロキシメチル基、ピバロイルオキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、ジメチルアミノメチル基、２−テトラヒドロピラニル基等）、アシル保護基（ホルミル基、アセチル基、ジクロロメチルカルボニル基、ピバルロイル基等）、カルバモイル保護基（Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基等）等が挙げられる。好ましくは、スルファモイル保護基、スルホニル保護基、アルコキシカルボニル保護基、アルキル保護基、シリル保護基、エーテル保護基、アシル保護基又はカルバモイル保護基であり、より好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、メタンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、トリフェニルメチル基、ベンジル基、［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メチル基、２−メトキシメチル基又はアセチル基である。
【００１５】
本発明で使用する化合物の構造について、以下説明する。
【００１６】
化合物（３）の前駆体である化合物（９）には、イミダゾール環に結合している水素原子の結合位置が変わることで生成する互変異性体（化合物（９’））が存在する。
【化１２】
2018039757.tif 000013
［式中、Ｒ１及び＊は前記と同じ意味を表す。］
そのため、保護基Ｒ１を導入することにより、化合物（３）に対応する位置異性体として、化合物（３’）が生成する場合がある。同様に、次工程において、化合物（４）に対応する位置異性体として、化合物（４’）が生成する場合がある。
【００１７】
本発明の製造方法の実施にあたり、原料となる化合物に反応を妨害しない不純物が含まれていても問題ないことは言うまでもないが、念のために説明すると、本発明の製造方法では、化合物（３）を単独、又は化合物（３’）との混合物として用いてもよい。さらに、続く脱保護反応においても、化合物（４）を単独、又は化合物（４’）との混合物として用いてもよい。
【００１８】
以下、本発明の反応について詳細に説明する。
【００１９】
初めに、本発明で使用する出発原料の化合物（３）について説明する。
【化１３】
2018039757.tif 000014
【００２０】
化合物（３）は、前記の化合物（９）を原料として、当業者に良く知られた保護基導入反応により合成することができる。その具体的な反応としては、例えば、参考合成例１乃至１０に記載の方法で合成することができる。
【００２１】
次に、本発明の化合物（４）及び（８）の製造方法について説明する。本製造方法の概要を、下記スキームに示す。
【化１４】
2018039757.tif 000015
［式中、Ｒ１及び＊は前記と同じ意味を表す。］
本発明は、化合物（３）と水素ガスを反応させる工程を含むものであって、該反応の工程において、光学活性金属錯体触媒（該光学活性金属錯体触媒は、光学活性ロジウム錯体触媒、光学活性イリジウム錯体触媒及び光学活性コバルト触媒からなる群より選ばれる化合物である）を共存させることを特徴とするものである。なお以下に示す溶媒、反応試剤の添加順序については限定されず、順序を変更しても実施できる。化合物（４）は脱保護（Ｒ１の除去）により、化合物（８）へと誘導可能である。
【００２２】
本発明の製造方法に用いることができる光学活性金属錯体触媒は、光学活性ロジウム錯体触媒、光学活性イリジウム錯体触媒及び光学活性コバルト触媒からなる群より選ばれる化合物であり、好ましくは光学活性ロジウム錯体触媒である。
【００２３】
光学活性ロジウム錯体触媒は、ロジウム錯体触媒の前駆体と光学活性配位子Ｌ４を使用し、反応系中で生成させることにより調製できる。尚、本発明においては、単離した光学活性ロジウム錯体触媒を用いることもできる。
【００２４】
ロジウム錯体触媒の前駆体は、例えば、式（７−１）、式（７−２）又は式（７−３）
【化１５】
2018039757.tif 000016
で表される化合物等が挙げられる。好ましいロジウム錯体触媒の前駆体は、式（７−１）で表される化合物である。
Ｌ３は、有機配位子を意味し、例えば、エチレン、１，５−シクロオクタジエン、及びノルボルナ−２，５−ジエン等が挙げられる。好ましいＬ３は、ノルボルナ−２，５−ジエン及び１，５−シクロオクタジエンである。Ｑ２は、アニオンを意味し、例えば、塩化物イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン等が挙げられる。好ましいＱ２は、テトラフルオロホウ酸イオン及びトリフルオロメタンスルホン酸イオンである。
【００２５】
Ｌ４は、光学活性配位子を意味し、例えば、ＢＩＮＡＰ配位子、ＳＥＧＰＨＯＳ配位子、Ｊｏｓｉｐｈｏｓ配位子、ＭｅＯＢＩＰＨＥＰ配位子、Ｗａｌｐｈｏｓ配位子、Ｔａｎｉａｐｈｏｓ配位子、Ｍａｎｄｙｐｈｏｓ配位子、ＤｕＰｈｏｓ配位子、ｃａｔＡＳｉｕｍ配位子、Ｐ−Ｐｈｏｓ配位子、ＰｈａｎｅＰｈｏｓ配位子、ＢｏＰｈｏｚ配位子、、ＢＰＥ配位子、、ＭｏｎｏＰｈｏｓ配位子、Ｒｅｅｔｚ配位子、ＢＩＮＯＬ配位子、ＢＯＸ配位子、ＰＹＢＯＸ配位子、ＰＨＯＸ配位子、Ｓａｌｅｎ配位子、シンコナアルカロイド配位子、ＱｕｉｎｏｘＰ＊配位子、ＤＩＰＡＭＰ配位子、ＤＩＯＰ配位子、Ｔｒｏｓｔ配位子、Ｌａｎｄｉｓ配位子、Ａｍｉｎｏｐｈｏｓｐｈｉｎｅ配位子が挙げられる。
【００２６】
Ｊｏｓｉｐｈｏｓ配位子とは、キラルフェロセン構造を有するキラルリン配位子である（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＬＩＣＨ社の不斉還元反応  Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ（Ｃｈｅｍｆｉｌｅｓ  ｖｏｌ．８、Ｎｏ．２）など参照）。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
【化１６】
2018039757.tif 000017
【化１７】
2018039757.tif 000018
【化１８】
2018039757.tif 000019
【化１９】
2018039757.tif 000020
【００２７】
ＭｅＯＢＩＰＨＥＰ配位子とは、ジメトキシビフェニル構造を有するキラルリン配位子である（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＬＩＣＨ社の不斉還元反応  Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ（Ｃｈｅｍｆｉｌｅｓ  ｖｏｌ．８、Ｎｏ．２）など参照）。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
【化２０】
2018039757.tif 000021
【化２１】
2018039757.tif 000022
【００２８】
ＭｏｎｏＰｈｏｓ配位子とは、ホスホロアミダイト構造を有する単座キラルリン配位子である（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＬＩＣＨ社の不斉還元反応  Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ（Ｃｈｅｍｆｉｌｅｓ  ｖｏｌ．８、Ｎｏ．２）など参照）。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
【化２２】
2018039757.tif 000023
【００２９】
ＢＩＮＡＰ配位子とは、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル構造を有する配位子である（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＬＩＣＨ社の不斉還元反応  Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ（Ｃｈｅｍｆｉｌｅｓ  ｖｏｌ．８、Ｎｏ．２）など参照）。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
【化２３】
2018039757.tif 000024
【００３０】
ＳＥＧＰＨＯＳ配位子とは、５，５’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−４，４’−ビ−１，３−ベンゾジオキソール構造を有する配位子である（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＬＩＣＨ社の不斉還元反応  Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ（Ｃｈｅｍｆｉｌｅｓ  ｖｏｌ．８、Ｎｏ．２）など参照）。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
【化２４】
2018039757.tif 000025
【００３１】
Ｗａｌｐｈｏｓ配位子とは、キラルフェロセン構造を有するキラルリン配位子である（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＬＩＣＨ社の不斉還元反応  Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ（Ｃｈｅｍｆｉｌｅｓ  ｖｏｌ．８、Ｎｏ．２）など参照）。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
【化２５】
2018039757.tif 000026
【００３２】
Ｔａｎｉａｐｈｏｓ配位子とは、キラルフェロセン構造を有するキラルリン配位子である（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＬＩＣＨ社の不斉還元反応  Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ（Ｃｈｅｍｆｉｌｅｓ  ｖｏｌ．８、Ｎｏ．２）など参照）。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
【化２６】
2018039757.tif 000027
【００３３】
Ｍａｎｄｙｐｈｏｓ配位子とは、キラルフェロセン構造を有するキラルリン配位子である（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＬＩＣＨ社の不斉還元反応  Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ（Ｃｈｅｍｆｉｌｅｓ  ｖｏｌ．８、Ｎｏ．２）など参照）。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
【化２７】
2018039757.tif 000028
【００３４】
ＤｕＰｈｏｓ配位子とは、デュポン社により開発されたホスホラン構造を有する配位子である（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＬＩＣＨ社の不斉還元反応  Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ（Ｃｈｅｍｆｉｌｅｓ  ｖｏｌ．８、Ｎｏ．２）など参照）。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
【化２８】
2018039757.tif 000029
【００３５】
ＢＰＥ配位子とは、ホスホラン構造を有する配位子である（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＬＩＣＨ社の不斉還元反応  Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ（Ｃｈｅｍｆｉｌｅｓ  ｖｏｌ．８、Ｎｏ．２）など参照）。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
【化２９】
2018039757.tif 000030
【化３０】
2018039757.tif 000031
【００３６】
ｃａｔＡＳｉｕｍ配位子とは、Ｅｖｏｎｉｋ  Ｄｅｇｕｓｓａ社が開発し、ｃａｔＡＳｉｕｍの登録商標で市販されている配位子である（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＬＩＣＨ社の不斉還元反応  Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ（Ｃｈｅｍｆｉｌｅｓ  ｖｏｌ．８、Ｎｏ．２）など参照）。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
【化３１】
2018039757.tif 000032
【００３７】
Ｐ−Ｐｈｏｓ配位子とは、ビアリールビスホスフィン構造を有する配位子である（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＬＩＣＨ社の不斉還元反応  Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ（Ｃｈｅｍｆｉｌｅｓ  ｖｏｌ．８、Ｎｏ．２）など参照）。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
【化３２】
2018039757.tif 000033
【００３８】
ＰｈａｎｅＰｈｏｓ配位子とは、シクロファン構造を有するリン配位子である（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＬＩＣＨ社の不斉還元反応  Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ（Ｃｈｅｍｆｉｌｅｓ  ｖｏｌ．８、Ｎｏ．２）など参照）。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
【化３３】
2018039757.tif 000034
【００３９】
ＢｏＰｈｏｚ配位子とは、以下の何れかの化合物である。
【化３４】
2018039757.tif 000035
【００４０】
Ｒｅｅｔｚ配位子とは、１，１’−ビ−２−ナフトール由来のジホスホナイト構造を有するリン配位子である（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＬＩＣＨ社の不斉還元反応  Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ（Ｃｈｅｍｆｉｌｅｓ  ｖｏｌ．８、Ｎｏ．２）など参照）。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
【化３５】
2018039757.tif 000036
【００４１】
ＢＩＮＯＬ配位子とは、１，１’−ビ−２−ナフトール又はその誘導体の構造を有するリン配位子である（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＬＩＣＨ社の不斉還元反応  Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ（Ｃｈｅｍｆｉｌｅｓ  ｖｏｌ．８、Ｎｏ．２）など参照）。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
【化３６】
2018039757.tif 000037
【化３７】
2018039757.tif 000038
【化３８】
2018039757.tif 000039
【００４２】
ＢＯＸ配位子とは、Ｃ２対称キラルビスオキサゾリン構造を有する配位子である（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＬＩＣＨ社の不斉還元反応  Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ（Ｃｈｅｍｆｉｌｅｓ  ｖｏｌ．８、Ｎｏ．２）など参照）。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
【化３９】
2018039757.tif 000040
【００４３】
ＰＹＢＯＸ配位子とは、ピリジン環上に二つのオキサゾリン基を持つ構造を有する配位子である（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＬＩＣＨ社の不斉還元反応  Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ（Ｃｈｅｍｆｉｌｅｓ  ｖｏｌ．８、Ｎｏ．２）など参照）。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
【化４０】
2018039757.tif 000041
【００４４】
ＰＨＯＸ配位子とは、ホスフィノオキサゾリン構造を有する配位子である（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＬＩＣＨ社の不斉還元反応  Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ（Ｃｈｅｍｆｉｌｅｓ  ｖｏｌ．８、Ｎｏ．２）など参照）。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
【化４１】
2018039757.tif 000042
【００４５】
Ｓａｌｅｎ配位子とは、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシベンジリデン）エチレンジアミン構造を有する配位子である（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＬＩＣＨ社の不斉還元反応  Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ（Ｃｈｅｍｆｉｌｅｓ  ｖｏｌ．８、Ｎｏ．２）など参照）。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
【化４２】
2018039757.tif 000043
【００４６】
シンコナアルカロイド配位子とは、シンコナアルカロイド構造を有する配位子である（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＬＩＣＨ社の不斉還元反応  Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ（Ｃｈｅｍｆｉｌｅｓ  ｖｏｌ．８、Ｎｏ．２）など参照）。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
【化４３】
2018039757.tif 000044
【化４４】
2018039757.tif 000045
【化４５】
2018039757.tif 000046
【００４７】
ＱｕｉｎｏｘＰ＊配位子とは、電子吸引性キノキサリン構造を有する配位子である（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＬＩＣＨ社の不斉還元反応  Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ（Ｃｈｅｍｆｉｌｅｓ  ｖｏｌ．８、Ｎｏ．２）など参照）。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
【化４６】
2018039757.tif 000047
【００４８】
ＤＩＰＡＭＰ配位子とは、キラルなジホスフィンを有する配位子である（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＬＩＣＨ社の不斉還元反応  Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ（Ｃｈｅｍｆｉｌｅｓ  ｖｏｌ．８、Ｎｏ．２）など参照）。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
【化４７】
2018039757.tif 000048
【００４９】
ＤＩＯＰ配位子とは、以下の何れかの化合物である。
【化４８】
2018039757.tif 000049
【００５０】
Ｔｒｏｓｔ配位子とは、ジアミノシクロヘキシルを有する配位子である（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＬＩＣＨ社の不斉還元反応  Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ（Ｃｈｅｍｆｉｌｅｓ  ｖｏｌ．８、Ｎｏ．２）など参照）。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
【化４９】
2018039757.tif 000050
【００５１】
Ｌａｎｄｉｓ配位子とは、キラルな３，４−ジアザホウホラン構造を有する配位子である（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＬＩＣＨ社の不斉還元反応  Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ（Ｃｈｅｍｆｉｌｅｓ  ｖｏｌ．８、Ｎｏ．２）など参照）。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
【化５０】
2018039757.tif 000051
【００５２】
Ａｍｉｎｏｐｈｏｓｐｈｉｎｅ配位子とは、アミノホスフィン構造を有する配位子である（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＬＩＣＨ社の不斉還元反応  Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ（Ｃｈｅｍｆｉｌｅｓ  ｖｏｌ．８、Ｎｏ．２）など参照）。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
【化５１】
2018039757.tif 000052
【００５３】
本発明の製造方法で使用するＬ４は、好ましくは、ＢＩＮＡＰ配位子、ＳＥＧＰＨＯＳ配位子、Ｊｏｓｉｐｈｏｓ配位子、ＭｅＯＢＩＰＨＥＰ配位子、Ｗａｌｐｈｏｓ配位子、Ｔａｎｉａｐｈｏｓ配位子、Ｍａｎｄｙｐｈｏｓ誘導体、ＤｕＰｈｏｓ配位子、Ｐ−Ｐｈｏｓ配位子、ＰｈａｎｅＰｈｏｓ配位子、ＢｏＰｈｏｚ配位子、ＭｏｎｏＰｈｏｓ配位子、Ｒｅｅｔｚ配位子、ＢＯＸ配位子、ＰＹＢＯＸ配位子、ＰＨＯＸ配位子、ＱｕｉｎｏｘＰ＊配位子、ＤＩＰＡＭＰ配位子又はＤＩＯＰ配位子であり、より好ましくはＪｏｓｉｐｈｏｓ配位子、ＭｅＯＢＩＰＨＥＰ配位子又はＭｏｎｏＰｈｏｓ配位子であり、さらに好ましくは、式（ａ−１）から式（ａ−８）
【化５２】
2018039757.tif 000053
で表される化合物の何れかである。なお、それぞれの化合物名は、以下の通りである。
（ａ−１）：（Ｒ）−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイル）ビス［ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスフィン］
（ａ−２）：（Ｓ）−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイル）ビス［ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスフィン］
（ａ−３）：（２Ｒ）−１−［（１Ｒ）−１−［ビス（１，１−ジメチルエチル）ホスフィノ］エチル］−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセン
（ａ−４）：（２Ｓ）−１−［（１Ｓ）−１−［ビス（１，１−ジメチルエチル）ホスフィノ］エチル］−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセン
（ａ−５）：（２Ｒ）−１−［（１Ｒ）−１−［ビス（１，１−ジメチルエチル）ホスフィノ］エチル］−２−［ビス［４−（トリフルオロメチル）フェニル］ホスフィノ］フェロセン
（ａ−６）：（２Ｓ）−１−［（１Ｓ）−１−［ビス（１，１−ジメチルエチル）ホスフィノ］エチル］−２−［ビス［４−（トリフルオロメチル）フェニル］ホスフィノ］フェロセン
（ａ−７）：（Ｓ，Ｓ，Ｓ）−（＋）−（３，５−ジオキサ−４−ホスファシクロヘプタ［２，１−ａ：３，４−ａ’］ジナフタレン−４−イル）ビス（１−フェニルエチル）アミン
（ａ−８）：（Ｒ，Ｒ，Ｒ）−（＋）−（３，５−ジオキサ−４−ホスファシクロヘプタ［２，１−ａ：３，４−ａ’］ジナフタレン−４−イル）ビス（１−フェニルエチル）アミン
【００５４】
ロジウム錯体触媒の使用量は、１当量の化合物（３）に対して、０．００００１当量から１当量を用いることができる。好ましい使用量は、０．００１当量乃至０．５当量であり、より好ましい使用量は、０．０１当量乃至０．１当量である。
【００５５】
光学活性配位子は、１当量の化合物（３）に対して、１当量乃至３当量を用いることができる。好ましい使用量は、１当量乃至２当量であり、より好ましい使用量は、１当量乃至１．２当量である。
【００５６】
反応に使用する溶媒は、反応の進行を阻害しないものであれば特に制限はないが、例えば、アルコール溶媒（例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、エチレングリコール、ベンジルアルコール、２，２，２−トリフルオロエタノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロパノール等）、含ハロゲン炭化水素溶媒（例えば、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン等）、含ハロゲン芳香族炭化水素溶媒（例えば、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等）、芳香族炭化水素溶媒（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等）、脂肪族炭化水素溶媒（例えば、ヘキサン、ヘプタン等）、ピリジン系溶媒（例えば、ピリジン、ピコリン等）、エーテル溶媒（例えば、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、１−メトキシ−２−（２−メトキシエトキシ）エタン等）、ジメチルスルホキシド、スルホラン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、水等が挙げられる。これらの溶媒は単独で使用しても良いし、２種以上を混合して使用しても良い。好ましくは、芳香族炭化水素溶媒、アルコール溶媒、含ハロゲン炭化水素溶媒又はアルコール溶媒と含ハロゲン炭化水素溶媒の混合溶媒であり、より好ましくは、トルエン、エタノール、塩化メチレン、クロロホルム又はエタノールと塩化メチレンの混合溶媒であり、さらに好ましくは、塩化メチレン又はエタノールと塩化メチレンの混合溶媒である。
【００５７】
溶媒の使用量は、化合物（３）の質量に対して、好ましくは０．１質量倍乃至１０００質量倍であり、より好ましくは１質量倍乃至１００質量倍である。
【００５８】
反応温度は、特に制限は無いが、好ましくは−１０℃から９０℃であり、より好ましくは０℃から３０℃である。
【００５９】
水素ガスの圧力は、特に制限は無いが、好ましくは０．１ＭＰａ乃至１０ＭＰａであり、より好ましくは０．２ＭＰａ乃至１．０ＭＰａである。
【００６０】
化合物（４）は、脱保護反応（例えば、プロテクティング・グループス・イン・オーガニック・シンセシス第４板（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｆｏｕｒｔｈ  ｅｄｉｔｉｏｎ），グリーン（Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｃｅ）著、ジョン・ワイリー・アンド・サンズ・インコーポレイテッド（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ  Ｉｎｃ．）（２００６年）など参照）を行うことにより、Ｒ１を除去し、化合物（８）へ誘導することができる。
【００６１】
得られる化合物（８）の単離、精製は常法により実施することが出来る。例えば、溶媒による抽出、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー、結晶化など公知の方法によって、化合物（８）を単離、精製することができる。
【実施例】
【００６２】
以下に参考合成例、合成例を示し、本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００６３】
実施例のプロトン核磁気共鳴（１Ｈ  ＮＭＲ）は、日本電子（ＪＥＯＬ）社製ＪＮＭ−ＥＣＰ３００、又は日本電子（ＪＥＯＬ）社製ＪＮＭ−ＥＣＸ３００を用いて重溶媒中で測定した。化学シフトは、テトラメチルシランを内部標準（０．０ｐｐｍ）としたときのδ値（ｐｐｍ）で示した。
【００６４】
ＮＭＲスペクトルの記載において、「ｓ」はシングレット、「ｄ」はダブレット、「ｔ」はトリプレット、「ｑ」はカルテット、「ｍ」はマルチプレット、「ｂｒ」はブロード、「Ｊ」はカップリング定数、「Ｈｚ」はヘルツ、「ＣＤＣｌ３」は重クロロホルムを意味する。
【００６５】
参考合成例で使用する、４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−１Ｈ−イミダゾールは、欧州特許出願公開第１９１８２８２号に記載の方法に準じて合成した。
【００６６】
参考合成例１
４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−１−トリチル−１Ｈ−イミダゾール（化合物１０）の合成
【化５３】
2018039757.tif 000054
反応容器の内部を窒素ガスで置換した後、４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−１Ｈ−イミダゾール（１．００ｇ、５．０４ｍｍｏｌ）、クロロホルム（３０．２１ｇ）、トリエチルアミン（１．０４、１０．３ｍｍｏｌ）を順次、反応容器に加えた。その後、反応溶液に、トリフェニルメチルクロリド（２．１１ｇ、７．５７ｍｍｏｌ）のクロロホルム（１０．００ｇ）溶液を、２１℃から２６℃の範囲で５分かけて滴下した。室温下２時間撹拌後、反応容器に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加えた。３０分撹拌後分液し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で洗浄した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン）で精製し、表題化合物（２．２２ｇ、１００％）を白色固体として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．４４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．１Ｈｚ）、７．３２−７．２５（ｍ，９Ｈ）、７．１４−７．０９（ｍ，６Ｈ）、７．０７−７．００（ｍ，３Ｈ）、６．２５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）、６．０９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）、４．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）、２．１９（ｓ，３Ｈ）、１．９７（ｓ，３Ｈ）
【００６７】
参考合成例２
４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−１Ｈ−イミダゾール−１−スルホンアミド（化合物１１）の合成
【化５４】
2018039757.tif 000055
反応容器の内部を窒素ガスで置換した後、４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−１Ｈ−イミダゾール（５１．５ｍｇ、０．２６ｍｍｏｌ）、クロロホルム（１ｍＬ）、トリエチルアミン（７２．５μＬ、０．５２ｍｍｏｌ）、ジメチルスルファモイルクロリド（４１．５μＬ、０．３９ｍｍｏｌ）を順次、反応容器に加えた。室温下２３時間撹拌後、酢酸エチル、１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を順次、反応容器に加えた。３０分撹拌後分液し、有機層を５％炭酸水素ナトリウム水溶液、５％塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン）で精製し、表題化合物（５３．３ｍｇ、６７．２％）を淡桃色固体として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．９０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ）、７．１９−７．０４（ｍ，３Ｈ）、６．６３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ）、６．２３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、５．１６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、２．８２（ｓ，６Ｈ）、２．３３（ｓ，３Ｈ）、２．１２（ｓ，３Ｈ）
【００６８】
参考合成例３
４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−１−（メタンスルホニル）−１Ｈ−イミダゾール（化合物１２）の合成
【化５５】
2018039757.tif 000056
反応容器の内部を窒素ガスで置換した後、４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−１Ｈ−イミダゾール（２５７．３ｍｇ、１．３０ｍｍｏｌ）、塩化メチレン（３ｍＬ）、トリエチルアミン（３９４．０ｍｇ、３．８９ｍｍｏｌ）を順次、反応容器に加えた。反応液を０℃まで冷却後、メタンスルホニルクロリド（１５１μＬ、１．９５ｍｍｏｌ）を反応容器に加えた。室温下２時間撹拌後、酢酸エチル、飽和塩化アンモニウム水溶液を順次、反応容器に加えた。３０分撹拌後分液し、有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン）で精製し、表題化合物（３１５．８ｍｇ、８７．７％）を白色固体として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．９６（ｓ，１Ｈ）、７．１８−７．０４（ｍ，３Ｈ）、６．６８（ｓ，１Ｈ）、６．２６（ｓ，１Ｈ）、５．１９（ｓ，１Ｈ）、３．２２（ｓ，３Ｈ）、２．３２（ｓ，３Ｈ）、２，１１（ｓ，３Ｈ）
【００６９】
参考合成例４
４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−１−トシル−１Ｈ−イミダゾール（化合物１３）の合成
【化５６】
2018039757.tif 000057
反応容器の内部を窒素ガスで置換した後、４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−１Ｈ−イミダゾール（２５２．０ｍｇ、１．２７ｍｍｏｌ）、１、２−ジクロロエタン（３ｍＬ）、トリエチルアミン（３８５．８ｍｇ、３．８１ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（１５．６ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホニルクロリド（３６３．５ｍｇ、１．９１ｍｍｏｌ）を順次、反応容器に加えた。室温下２時間撹拌後、酢酸エチル、飽和塩化アンモニウム水溶液を順次、反応容器に加えた。３０分撹拌後分液し、有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン）で精製し、表題化合物（４３８．０ｍｇ、９７．６％）を白色固体として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ７．９８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）、７．７４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、７．３３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、７．１７−６．９８（ｍ，３Ｈ）、６．６６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．１Ｈｚ）、６．１７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）、５．１１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）、２．４３（ｓ，３Ｈ）、２．３１（ｓ，３Ｈ）、２．０３（Ｓ，３Ｈ）
【００７０】
参考合成例５
ｔｅｒｔ−ブチル−４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−１Ｈ−イミダゾール−１−カルボキシレート（化合物１４）の合成
【化５７】
2018039757.tif 000058
反応容器の内部を窒素ガスで置換した後、４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−１Ｈ−イミダゾール（２５１．７ｍｇ、１．２７ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３．２１ｇ）、トリエチルアミン（３８５．６ｍｇ、３．８１ｍｍｏｌ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジカルボネート（４１５．６ｍｇ、１．９０ｍｍｏｌ）を順次、反応容器に加えた。室温下１９時間撹拌後、酢酸エチル、飽和塩化アンモニウム水溶液を順次、反応容器に加えた。３０分撹拌後分液し、有機層を水で洗浄した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン）で精製し、表題化合物（３６８．０ｍｇ、９６．９％）を白色固体として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ８．０５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝０．７Ｈｚ）、７．１６−７．０４（ｍ，３Ｈ）、６．７４（ｓ，１Ｈ）、６．１９（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝１．８Ｈｚ）、５．１１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）、２．３１（ｓ，３Ｈ）、２．１２（ｓ，３Ｈ）、１．５８（ｓ，９Ｈ）
【００７１】
参考合成例６
ベンジル−４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−１Ｈ−イミダゾール−１−カルボキシレート（化合物１５）の合成
【化５８】
2018039757.tif 000059
反応容器の内部を窒素ガスで置換した後、４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−１Ｈ−イミダゾール（２５０．６ｍｇ、１．２６ｍｍｏｌ）、塩化メチレン（６．０１ｇ）、トリエチルアミン（３８６．１ｍｇ、３．８２ｍｍｏｌ）、クロロギ酸ベンジル（３２２．６ｍｇ、１．８９ｍｍｏｌ）を順次、反応容器に加えた。室温下２５時間撹拌後、酢酸エチル、飽和塩化アンモニウム水溶液を順次、反応容器に加えた。３０分撹拌後分液し、有機層を水で洗浄した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン）で精製し、表題化合物（４１４．５ｍｇ、９９．２％）を無色油状物として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ８．１３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．１Ｈｚ）、７．４２−７．３７（ｍ，５Ｈ）、７．１６−７．０２（ｍ，３Ｈ）、６．７９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．１Ｈｚ）、６．２１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）、５．３６（ｓ，２Ｈ）、５．１３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）、２．３１（ｓ，３Ｈ）、２．１０（ｓ，３Ｈ）
【００７２】
参考合成例７
１−ベンジル−４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−１Ｈ−イミダゾール（化合物１６）の合成
【化５９】
2018039757.tif 000060
反応容器の内部を窒素ガスで置換した後、４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−１Ｈ−イミダゾール（１０１．４ｍｇ、０．５１１ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２．０２ｇ）を順次、反応容器に加えた。反応液を０℃に冷却後、水素化ナトリウム（７４．５ｍｇ、純度５０％、１．５５ｍｍｏｌ）を反応容器に加えた。反応液を室温まで昇温し、室温下２時間撹拌した。その後、室温下ベンジルブロミド（９１μＬ、０．７７ｍｍｏｌ）を反応容器に加えた。室温下２時間３０分撹拌後、酢酸エチル、飽和塩化アンモニウム水溶液を順次、反応容器に加えた。３０分撹拌後分液し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン）で精製し、表題化合物（１１２．１ｍｇ、７６．１％）を白色固体として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．５２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．１Ｈｚ）、７．３６−７．２９（ｍ，３Ｈ）、７．１３−７．０４（ｍ，５Ｈ）、６．３４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．１Ｈｚ）、６．１２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）、５．０１（ｓ，２Ｈ）、４．９８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）、２．２８（ｓ，３Ｈ）、２．１１（ｓ，３Ｈ）
【００７３】
参考合成例８
４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−１−（メトキシメチル）１Ｈ−イミダゾール（化合物１７）の合成
【化６０】
2018039757.tif 000061
反応容器の内部を窒素ガスで置換した後、４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−１Ｈ−イミダゾール（５０１．８ｍｇ、２．５３ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５ｍＬ）を順次、反応容器に加えた。反応液を４℃に冷却後、水素化ナトリウム（３６６．０ｍｇ、純度５０％、７．６３ｍｍｏｌ）を反応容器に加えた。反応液を室温まで昇温し、室温下１時間撹拌した。その後、室温下メトキシメチルクロリド（３８１μＬ、５．０６ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍＬ）溶液を、２２℃から２８℃の範囲で８分かけて反応液に滴下した。室温下１時間撹拌後、酢酸エチル、１４％塩化アンモニウム水溶液を順次、反応容器に加えた。３０分程撹拌後分液し、有機層を５％食塩水で洗浄した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン）で精製し、表題化合物（３８９．１ｍｇ、６３．６％）を黄色油状物として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．６０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．６Ｈｚ）、７．１６−７．０８（ｍ，３Ｈ）、６．４６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ）、６．１５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、５．１２（ｓ，２Ｈ）、５．０３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、３．２５（ｓ，３Ｈ）、２．３２（ｓ，３Ｈ）、２．１４（ｓ，３Ｈ）
【００７４】
参考合成例９
１−（４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イル）エタン−１−オン（化合物１８）の合成
【化６１】
2018039757.tif 000062
反応容器の内部を窒素ガスで置換した後、４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−１Ｈ−イミダゾール（２５７．１ｍｇ、１．３０ｍｍｏｌ）、塩化メチレン（４ｍＬ）、トリエチルアミン（１３１．２ｍｇ、１．３０ｍｍｏｌ）を順次、反応容器に加えた。反応液を０℃に冷却後、塩化アセチル（９２μＬ、１．３０ｍｍｏｌ）を反応容器に加えた。反応液を室温まで昇温し、室温下３時間撹拌した。析出した固体をろ過し、塩化メチレン（１０ｍＬ）で洗浄した。得られたろ液を濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン）で精製し、表題化合物（１９７．１ｍｇ、６３．１％）を白色固体として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ８．１４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．１Ｈｚ）、７．１７−７．０３（ｍ，３Ｈ）、６．８１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．１Ｈｚ）、６．２４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）、５．１６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）、２．５１（ｓ，３Ｈ）、２．３２（ｓ，３Ｈ）、２．１１（ｓ，３Ｈ）
【００７５】
参考合成例１０
４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−１−（（２−（トリメチルシリル）エトキシ）メチル）−１Ｈ−イミダゾール（化合物１９）の合成
【化６２】
2018039757.tif 000063
反応容器の内部を窒素ガスで置換した後、４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−１Ｈ−イミダゾール（２０７．５ｍｇ、１．０５ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３ｍＬ）を順次、反応容器に加えた。反応液を０℃に冷却後、水素化ナトリウム（１５０．１ｍｇ、純度５０％、３．１３ｍｍｏｌ）を反応容器に加えた。反応液を室温まで昇温し、室温下１時間３０分撹拌した。その後、室温下２−（トリメチルシリル）エトキシメチルクロリド（２７５μＬ、１．５７ｍｍｏｌ）を反応容器に加えた。室温下１時間撹拌後、クロロホルム、飽和塩化アンモニウム水溶液を順次、反応容器に加えた。３０分程撹拌後分液し、有機層を水で洗浄した。得られた有機層を濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン）で精製し、表題化合物（１８５．９ｍｇ、５３．９％）を黄色油状物として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．８５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．１Ｈｚ）、７．１５−７．０７（ｍ，３Ｈ）、６．４３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．１Ｈｚ）、６．１３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）、５．１４（ｓ，２Ｈ）、５．０１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）、３．４６−３．４０（ｍ，２Ｈ）、２．３１（ｓ，３Ｈ）、２．１２（ｓ，３Ｈ）、０．８９−０．８４（ｍ，２Ｈ）、−０．０４（ｓ，９Ｈ）
【００７６】
合成例１
（Ｒ）−４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）エチル）−１−トリチル−１Ｈ−イミダゾール（化合物２０）の合成
【化６３】
2018039757.tif 000064
耐圧用の反応容器に、４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）１−トリチル−１Ｈ−イミダゾール（化合物（１０））（６６．２ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、（Ｒ）−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイル）ビス［ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスフィン］（１８．５ｍｇ、０．０１８ｍｍｏｌ）及びビス（２，５−ノルボルナジエン）ロジウム（Ｉ）テトラフルオロボレート（５．６ｍｇ、０．０１５ｍｍｏｌ）を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器に塩化メチレン（１．５ｍＬ）を加え、水素雰囲気下（０．８ＭＰａ）、２５℃で２４時間撹拌した。得られた溶液をＨＰＬＣ分析条件［１］で分析したところ、転化率は１００％、表題化合物の光学純度は７２．７％ｅｅ（Ｒ）であった。
【００７７】
ＨＰＬＣ分析条件［１］
カラム：ＹＭＣ−Ｐａｃｋ  ＳＩＬ（２５０×４．６ｍｍ、５μｍ）
→ダイセル製ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ  ＩＢ（２５０ｍｍ×４．６ｍｍ、５μｍ）
移動相：ｎ−ヘキサン／イソプロパノール＝９７／３（０−２５分）（ｖ／ｖ）
温度：４０℃
流量：２．０ｍＬ／分
検出波長：２３０ｎｍ
保持時間：（Ｓ）体  １１．２分、（Ｒ）体  ７．６分
【００７８】
合成例２
（Ｒ）−４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）エチル）−１−トリチル−１Ｈ−イミダゾール（化合物２０）の合成
耐圧用の反応容器に４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）１−トリチル−１Ｈ−イミダゾール（化合物（１０））（６５．８ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、（Ｒ）−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイル）ビス［ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスフィン］（１８．５ｍｇ、０．０１８ｍｍｏｌ）及びビス（２，５−ノルボルナジエン）ロジウム（Ｉ）テトラフルオロボレート（５．６ｍｇ、０．０１５ｍｍｏｌ）を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器にトルエン（１．５ｍＬ）を加え、水素雰囲気下（０．８ＭＰａ）、２５℃で２４時間撹拌した。得られた溶液をＨＰＬＣ分析条件［１］で分析したところ、転化率は９９．９％、表題化合物の光学純度は７３．４％ｅｅ（Ｒ）であった。
【００７９】
合成例３
（Ｒ）−４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）エチル）−１−トリチル−１Ｈ−イミダゾール（化合物２０）の合成
耐圧用の反応容器に４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）１−トリチル−１Ｈ−イミダゾール（化合物（１０））（６６．１ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、（Ｒ）−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイル）ビス［ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスフィン］（１８．８ｍｇ、０．０１８ｍｍｏｌ）及びビス（２，５−ノルボルナジエン）ロジウム（Ｉ）テトラフルオロボレート（５．６ｍｇ、０．０１５ｍｍｏｌ）を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器にクロロホルム（１．５ｍＬ）を加え、水素雰囲気下（０．８ＭＰａ）、２５℃で２４時間撹拌した。得られた溶液をＨＰＬＣ分析条件［１］で分析したところ、転化率は９９．６％、表題化合物の光学純度は７５．８％ｅｅ（Ｒ）であった。
【００８０】
合成例４（Ｒ）−４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）エチル）−１−トリチル−１Ｈ−イミダゾール（化合物２０）の合成
耐圧用の反応容器に４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）１−トリチル−１Ｈ−イミダゾール（化合物（１０））（６６．１ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、（２Ｒ）−１−［（１Ｒ）−１−［ビス（１，１−ジメチルエチル）ホスフィノ］エチル］−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（９．７ｍｇ、０．０１８ｍｍｏｌ）及びビス（２，５−ノルボルナジエン）ロジウム（Ｉ）テトラフルオロボレート（５．６ｍｇ、０．０１５ｍｍｏｌ）を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器に塩化メチレン（１．５ｍＬ）を加え、水素雰囲気下（０．８ＭＰａ）、２５℃で２４時間撹拌した。得られた溶液をＨＰＬＣ分析条件［１］で分析したところ、転化率は９９．９％、表題化合物の光学純度は９２．０％ｅｅ（Ｒ）であった。
【００８１】
合成例５
（Ｒ）−４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）エチル）−１−トリチル−１Ｈ−イミダゾール（化合物２０）の合成
耐圧用の反応容器に４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）１−トリチル−１Ｈ−イミダゾール（化合物（１０））（６６．０ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、（２Ｒ）−１−［（１Ｒ）−１−［ビス（１，１−ジメチルエチル）ホスフィノ］エチル］−２−［ビス［４−（トリフルオロメチル）フェニル］ホスフィノ］フェロセン（１２．２ｍｇ、０．０１８ｍｍｏｌ）及びビス（２，５−ノルボルナジエン）ロジウム（Ｉ）テトラフルオロボレート（５．５ｍｇ、０．０１５ｍｍｏｌ）を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器に塩化メチレン（１．５ｍＬ）を加え、水素雰囲気下（０．８ＭＰａ）、２５℃で２４時間撹拌した。得られた溶液をＨＰＬＣ分析条件［１］で分析したところ、転化率は１００％、表題化合物の光学純度は８７．９％ｅｅ（Ｒ）であった。
【００８２】
合成例６
（Ｓ）−４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）エチル）−１−トリチル−１Ｈ−イミダゾール（化合物２１）の合成
【化６４】
2018039757.tif 000065
耐圧用の反応容器に４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）１−トリチル−１Ｈ−イミダゾール（化合物（１０））（６６．５ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、（Ｓ，Ｓ，Ｓ）−（＋）−（３，５−ジオキサ−４−ホスファシクロヘプタ［２，１−ａ：３，４−ａ’］ジナフタレン−４−イル）ビス（１−フェニルエチル）アミン（９．８ｍｇ、０．０１８ｍｍｏｌ）及びビス（２，５−ノルボルナジエン）ロジウム（Ｉ）テトラフルオロボレート（５．６ｍｇ、０．０１５ｍｍｏｌ）を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器に塩化メチレン（１．５ｍＬ）を加え、水素雰囲気下（０．８ＭＰａ）、２５℃で２４時間撹拌した。得られた溶液をＨＰＬＣ分析条件［１］で分析したところ、転化率は８８．８％、表題化合物の光学純度は８９．２％ｅｅ（Ｓ）であった。
【００８３】
合成例７
（Ｓ）−４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）エチル）−１−トリチル−１Ｈ−イミダゾール（化合物２１）の合成
耐圧用の反応容器に４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）１−トリチル−１Ｈ−イミダゾール（化合物（１０））（６６．２ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、（２Ｓ）−１−［（１Ｓ）−１−［ビス（１，１−ジメチルエチル）ホスフィノ］エチル］−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（１．０ｍｇ、０．００１８ｍｍｏｌ）及びビス（２，５−ノルボルナジエン）ロジウム（Ｉ）テトラフルオロボレート（０．６ｍｇ、０．００１６ｍｍｏｌ）を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器に塩化メチレン（１．５ｍＬ）を加え、水素雰囲気下（０．８ＭＰａ）、２５℃で３時間撹拌した。得られた溶液をＨＰＬＣ分析条件［１］で分析したところ、転化率は９９．９％、表題化合物の光学純度は９１．７％ｅｅ（Ｓ）であった。
【００８４】
合成例８
（Ｓ）−４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）エチル）−１−トリチル−１Ｈ−イミダゾール（化合物２１）の合成
耐圧用の反応容器に４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）１−トリチル−１Ｈ−イミダゾール（化合物（１０））（３．００ｇ、６．８１ｍｍｏｌ）、（２Ｓ）−１−［（１Ｓ）−１−［ビス（１，１−ジメチルエチル）ホスフィノ］エチル］−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（４４．５ｍｇ、０．０８２ｍｍｏｌ）及びビス（２，５−ノルボルナジエン）ロジウム（Ｉ）テトラフルオロボレート（２５．４ｍｇ、０．０６８ｍｍｏｌ）を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器に塩化メチレン（２３ｍＬ）及びエタノール（４５ｍＬ）を加え、水素雰囲気下（０．８ＭＰａ）、０℃から２℃の範囲で１８時間撹拌した。得られた反応液を濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン）で精製し、表題化合物（２．７９ｇ、９２．７％）を白色固体として得た。得られた表題化合物をＨＰＬＣ分析条件［１］で分析したところ、光学純度は９４．８％ｅｅ（Ｓ）であった。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．３７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ）、７．３４−７．３０（ｍ，９Ｈ）、７．１７−７．１１（ｍ，６Ｈ）、７．０５−６．９５（ｍ，３Ｈ）、６．４４（ｓ，１Ｈ）、４．３６（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、２．２６（ｓ，３Ｈ）、２．２１（ｓ，３Ｈ）、１．５３（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）
【００８５】
合成例９
（Ｓ）−４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）エチル）−１−トリチル−１Ｈ−イミダゾール（化合物２１）の合成
耐圧用の反応容器に４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）１−トリチル−１Ｈ−イミダゾール（化合物（１０））（６６．２ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、（２Ｓ）−１−［（１Ｓ）−１−［ビス（１，１−ジメチルエチル）ホスフィノ］エチル］−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（１．０ｍｇ、０．００１８ｍｍｏｌ）及びビス（２，５−ノルボルナジエン）ロジウム（Ｉ）トリフルオロメタンスルホナート（０．７ｍｇ、０．００１６ｍｍｏｌ）を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器に塩化メチレン（１．５ｍＬ）を加え、水素雰囲気下（０．８ＭＰａ）、１０℃で３時間撹拌した。得られた溶液をＨＰＬＣ分析条件［１］で分析したところ、転化率は９９．０％、表題化合物の光学純度は９３．７％ｅｅ（Ｓ）であった。
【００８６】
合成例１０
（Ｓ）−４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）エチル）−１−トリチル−１Ｈ−イミダゾール（化合物２１）の合成
耐圧用の反応容器に４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）１−トリチル−１Ｈ−イミダゾール（化合物（１０））（６６．０ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、（２Ｓ）−１−［（１Ｓ）−１−［ビス（１，１−ジメチルエチル）ホスフィノ］エチル］−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（１．０ｍｇ、０．００１８ｍｍｏｌ）及びビス（１、５−シクロオクタジエン）ロジウム（Ｉ）テトラフルオロボレート（０．６ｍｇ、０．００１６ｍｍｏｌ）を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器に塩化メチレン（１．５ｍＬ）を加え、水素雰囲気下（０．８ＭＰａ）、３０℃で１９時間撹拌した。得られた溶液をＨＰＬＣ分析条件［１］で分析したところ、転化率は１００％、表題化合物の光学純度は９０．９％ｅｅ（Ｓ）であった。
【００８７】
合成例１１
（Ｒ）−４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）エチル）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−１Ｈ−イミダゾール−１−スルホンアミド（化合物２２）の合成
【化６５】
2018039757.tif 000066
耐圧用の反応容器に４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−１Ｈ−イミダゾール−１−スルホンアミド（化合物（１１））（４５．７ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、（Ｒ）−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイル）ビス［ビス（３．５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスフィン］（１８．７ｍｇ、０．０１８ｍｍｏｌ）及びビス（２，５−ノルボルナジエン）ロジウム（Ｉ）テトラフルオロボレート（５．７ｍｇ、０．０１５ｍｍｏｌ）を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器に塩化メチレン（１．５ｍＬ）を加え、水素雰囲気下（０．８ＭＰａ）、２５℃で２４時間撹拌した。得られた溶液をＨＰＬＣ分析条件［２］で分析したところ、転化率は１００％、表題化合物の光学純度は８５．７％ｅｅ（Ｒ）であった。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．８４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ）、７．１１−７．０１（ｍ，３Ｈ）、６．８１（ｓ，１Ｈ）、４．４０（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、２．８３（ｓ，６Ｈ）、２．３１（ｓ，３Ｈ）、２．２６（ｓ，３Ｈ）、１．６１（ｄ，３Ｈ，７．０Ｈｚ）
【００８８】
ＨＰＬＣ分析条件［２］  
カラム：ダイセル製ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ  ＩＡ（２５０ｍｍ×４．６ｍｍ、５μｍ）
移動相：ｎ−ヘキサン／イソプロパノール＝９７／３（０−１５分）（ｖ／ｖ）
温度：４０℃
流量：２．０ｍＬ／分
検出波長：２３０ｎｍ
保持時間：（Ｓ）体  ８．０分、（Ｒ）体  ９．３分
【００８９】
合成例１２
（Ｒ）−４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）エチル）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−１Ｈ−イミダゾール−１−スルホンアミド（化合物２２）の合成
耐圧用の反応容器に４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−１Ｈ−イミダゾール−１−スルホンアミド（化合物（１１））（４５．８ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、（２Ｒ）−１−［（１Ｒ）−１−［ビス（１，１−ジメチルエチル）ホスフィノ］エチル］−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（９．８ｍｇ、０．０１８ｍｍｏｌ）及びビス（２，５−ノルボルナジエン）ロジウム（Ｉ）テトラフルオロボレート（５．６ｍｇ、０．０１５ｍｍｏｌ）を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器に塩化メチレン（１．５ｍＬ）を加え、水素雰囲気下（０．８ＭＰａ）、２５℃で２４時間撹拌した。得られた溶液をＨＰＬＣ分析条件［２］で分析したところ、転化率は１００％、表題化合物の光学純度は９０．８％ｅｅ（Ｒ）であった。
【００９０】
合成例１３
４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）エチル）−１−メタンスルホニル−１Ｈ−イミダゾールの光学活性体（化合物２３）の合成
【化６６】
2018039757.tif 000067
耐圧用の反応容器に４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−１−（メタンスルホニル）−１Ｈ−イミダゾール（化合物（１２））（４１．３ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、（２Ｓ）−１−［（１Ｓ）−１−［ビス（１，１−ジメチルエチル）ホスフィノ］エチル］−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（１．０ｍｇ、０．００１８ｍｍｏｌ）及びビス（２，５−ノルボルナジエン）ロジウム（Ｉ）テトラフルオロボレート（０．６ｍｇ、０．００１６ｍｍｏｌ）を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器に塩化メチレン（１．５ｍＬ）を加え、水素雰囲気下（０．８ＭＰａ）、１０℃で２０時間撹拌した。得られた溶液をＨＰＬＣ分析条件［３］で分析したところ、転化率は１００％、表題化合物の光学純度は９６．７％ｅｅであった（不斉中心の絶対配置は未決定）。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．８９（ｓ，１Ｈ）、７．１０−７．０１（ｍ，３Ｈ）、６．８４（ｓ，１Ｈ）、４．３８（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．２２（ｓ，３Ｈ）、２．３０（ｓ，３Ｈ）、２．２４（ｓ，３Ｈ）、１．６０（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）
【００９１】
ＨＰＬＣ分析条件［３］
カラム：ダイセル製ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ  ＡＤ−Ｈ（２５０ｍｍ×４．６ｍｍ、５μｍ）
移動相：ｎ−ヘキサン／エタノール＝９０／１０（０−２０分）（ｖ／ｖ）
温度：４０℃
流量：２．０ｍＬ／分
検出波長：２３０ｎｍ
保持時間：５．６分、６．２分（それぞれ、（Ｒ）体又は（Ｓ）体）
【００９２】
合成例１４
４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）エチル）−１−トシル−１Ｈ−イミダゾールの光学活性体（化合物２４）の合成
【化６７】
2018039757.tif 000068
耐圧用の反応容器に４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−１−トシル−１Ｈ−イミダゾール（化合物（１３））（５２．９ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、（２Ｓ）−１−［（１Ｓ）−１−［ビス（１，１−ジメチルエチル）ホスフィノ］エチル］−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（１．０ｍｇ、０．００１８ｍｍｏｌ）及びビス（２，５−ノルボルナジエン）ロジウム（Ｉ）テトラフルオロボレート（０．６ｍｇ、０．００１６ｍｍｏｌ）を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器に塩化メチレン（１．５ｍＬ）を加え、水素雰囲気下（０．８ＭＰａ）、１０℃で２０時間撹拌した。得られた溶液をＨＰＬＣ分析条件［３］で分析したところ、転化率は９８．４％、表題化合物の光学純度は９５．３％ｅｅであった（不斉中心の絶対配置は未決定）。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝０．８Ｈｚ）、７．７９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、７．３５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、７．０７−６．９４（ｍ，３Ｈ）、６．８６（ｓ，１Ｈ）４．３２（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、２．４６（ｓ，３Ｈ）、２．２９（ｓ，３Ｈ）、２．１９（ｓ，３Ｈ）、１．５４（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）
【００９３】
ＨＰＬＣ分析条件［３］
保持時間：４．５分、５．４分（それぞれ、（Ｒ）体又は（Ｓ）体の何れか）
【００９４】
合成例１５
ｔｅｒｔ−ブチル−４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）エチル）−１Ｈ−イミダゾール−１−カルボキシレートの光学活性体（化合物２５）の合成
【化６８】
2018039757.tif 000069
耐圧用の反応容器にｔｅｒｔ−ブチル−４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−１Ｈ−イミダゾール−１−カルボキシレート（化合物（１４））（４４．７ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、（２Ｓ）−１−［（１Ｓ）−１−［ビス（１，１−ジメチルエチル）ホスフィノ］エチル］−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（１．０ｍｇ、０．００１８ｍｍｏｌ）及びビス（２，５−ノルボルナジエン）ロジウム（Ｉ）テトラフルオロボレート（０．６ｍｇ、０．００１６ｍｍｏｌ）を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器に塩化メチレン（１．５ｍＬ）を加え、水素雰囲気下（０．８ＭＰａ）、１０℃で１８時間撹拌した。得られた溶液をＨＰＬＣ分析条件［４］で分析したところ、転化率は５３．６％、表題化合物の光学純度は９４．２％ｅｅあった（不斉中心の絶対配置は未決定）。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．９７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ）、７．０６−６．９９（ｍ，３Ｈ）、６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ）、４．３９−４．３２（ｍ，１Ｈ）、２．２９（ｓ，３Ｈ）、２．２５（ｓ，３Ｈ）、１．５９（ｓ，９Ｈ）１．５７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）
【００９５】
ＨＰＬＣ分析条件［４］
カラム：ダイセル製ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ  ＩＢ（２５０ｍｍ×４．６ｍｍ、５μｍ）
→ダイセル製ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ  ＩＢ（２５０ｍｍ×４．６ｍｍ、５μｍ）
移動相：ｎ−ヘキサン／イソプロパノール＝９８．５／１．５（０−１０分）（ｖ／ｖ）
温度：４０℃
流量：２．０ｍＬ／分
検出波長：２３０ｎｍ
保持時間：５．５分、６．０分（それぞれ、（Ｒ）体又は（Ｓ）体の何れか）
【００９６】
合成例１６
ベンジル−４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）エチル）−１Ｈ−イミダゾール−１−カルボキシレートの光学活性体（化合物２６）の合成
【化６９】
2018039757.tif 000070
耐圧用の反応容器にベンジル−４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−１Ｈ−イミダゾール−１−カルボキシレート（化合物（１５））（４９．９ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、（２Ｓ）−１−［（１Ｓ）−１−［ビス（１，１−ジメチルエチル）ホスフィノ］エチル］−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（１．０ｍｇ、０．００１８ｍｍｏｌ）及びビス（２，５−ノルボルナジエン）ロジウム（Ｉ）テトラフルオロボレート（０．６ｍｇ、０．００１６ｍｍｏｌ）を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器に塩化メチレン（１．５ｍＬ）を加え、水素雰囲気下（０．８ＭＰａ）、１０℃で１８時間撹拌した。得られた溶液をＨＰＬＣ分析条件［１］で分析したところ、転化率は９９．３％、表題化合物の光学純度は９５．６％ｅｅであった（不斉中心の絶対配置は未決定）。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ８．０８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ）、７．４５−７．３７（ｍ，５Ｈ）、７．０９−６．９９（ｍ，４Ｈ）、５．３８（ｓ，２Ｈ）、４．４０−４．３３（ｍ，１Ｈ）、２．３０（ｓ，３Ｈ）、２．２５（ｓ，３Ｈ）、１．５８（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）
【００９７】
ＨＰＬＣ分析条件［１］
保持時間：８．８分、９．４分（それぞれ、（Ｒ）体又は（Ｓ）体の何れか）
【００９８】
合成例１７
１−ベンジル−４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）エチル）−１Ｈ−イミダゾールの光学活性体（化合物２７）の合成
【化７０】
2018039757.tif 000071
耐圧用の反応容器に１−ベンジル−４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−１Ｈ−イミダゾール（化合物（１６））（４３．３ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、（２Ｓ）−１−［（１Ｓ）−１−［ビス（１，１−ジメチルエチル）ホスフィノ］エチル］−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（１．０ｍｇ、０．００１８ｍｍｏｌ）及びビス（２，５−ノルボルナジエン）ロジウム（Ｉ）テトラフルオロボレート（０．７ｍｇ、０．００１６ｍｍｏｌ）を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器に塩化メチレン（１．５ｍＬ）を加え、水素雰囲気下（０．８ＭＰａ）、１０℃で１８時間撹拌した。得られた溶液をＨＰＬＣ分析条件［３］で分析したところ、転化率は９９．２％、表題化合物の光学純度は９２．３％ｅｅあった（不斉中心の絶対配置は未決定）。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．４６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ）、７．３８−７．２８（ｍ，３Ｈ）、７．１４−６．９９（ｍ，５Ｈ）、６．４６（ｓ，１Ｈ）、５．０２（ｓ，２Ｈ）、４．３９（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、２．２９（ｓ，３Ｈ）、２．２５（ｓ，３Ｈ）、１．５８（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）
【００９９】
ＨＰＬＣ分析条件［３］
保持時間：４．３分、７．３分（それぞれ、（Ｒ）体又は（Ｓ）体の何れか）
【０１００】
合成例１８
４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）エチル）−１−（メトキシメチル）１Ｈ−イミダゾールの光学活性体（化合物２８）の合成
【化７１】
2018039757.tif 000072
耐圧用の反応容器に４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−１−（メトキシメチル）１Ｈ−イミダゾール（化合物（１７））（３６．３ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、（２Ｓ）−１−［（１Ｓ）−１−［ビス（１，１−ジメチルエチル）ホスフィノ］エチル］−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（１．０ｍｇ、０．００１８ｍｍｏｌ）及びビス（２，５−ノルボルナジエン）ロジウム（Ｉ）テトラフルオロボレート（０．６ｍｇ、０．００１６ｍｍｏｌ）を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器に塩化メチレン（１．５ｍＬ）を加え、水素雰囲気下（０．８ＭＰａ）、２５℃で１９時間撹拌した。得られた溶液をＨＰＬＣ分析条件［５］で分析したところ、転化率は９９．３％、表題化合物の光学純度は８７．１％ｅｅあった（不斉中心の絶対配置は未決定）。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．５１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝０．８Ｈｚ）、７．０９−６．９９（ｍ，３Ｈ）６．５７（ｓ，１Ｈ）、５．１２（ｓ，２Ｈ）、４．３８（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．２４（ｓ，３Ｈ）、２．２９（ｓ，３Ｈ）、２．２４（ｓ，３Ｈ）、１．５９（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）
【０１０１】
ＨＰＬＣ分析条件［５］
カラム：ダイセル製ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ  ＡＤ−Ｈ（２５０ｍｍ×４．６ｍｍ、５μｍ）
移動相：ｎ−ヘキサン／エタノール＝９５／５（０−１５分）（ｖ／ｖ）
温度：４０℃
流量：２．０ｍＬ／分
検出波長：２３０ｎｍ
保持時間：５．０分、６．３分（それぞれ、（Ｒ）体又は（Ｓ）体の何れか）
【０１０２】
合成例１９
１−（４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）エチル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イル）エタン−１−オンの光学活性体（化合物２９）の合成
【化７２】
2018039757.tif 000073
耐圧用の反応容器に１−（４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イル）エタン−１−オン（化合物（１８））（３５．９ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、（２Ｓ）−１−［（１Ｓ）−１−［ビス（１，１−ジメチルエチル）ホスフィノ］エチル］−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（１．０ｍｇ、０．００１８ｍｍｏｌ）及びビス（２，５−ノルボルナジエン）ロジウム（Ｉ）テトラフルオロボレート（０．６ｍｇ、０．００１６ｍｍｏｌ）を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器に塩化メチレン（１．５ｍＬ）を加え、水素雰囲気下（０．８ＭＰａ）、２５℃で１９時間撹拌した。得られた溶液をＨＰＬＣ分析条件［６］で分析したところ、転化率は９８．１％、表題化合物の光学純度は９０．６％ｅｅであった（不斉中心の絶対配置は未決定）。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ８．０４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ）、７．０６−７．００（ｍ，４Ｈ）、４．４０−４．３３（ｍ，１Ｈ）、２．５２（ｓ，３Ｈ）、２．２９（ｓ，３Ｈ）、２．２４（ｓ，３Ｈ）、１．５９（ｄ，３Ｈ、Ｊ＝７．０Ｈｚ）
【０１０３】
ＨＰＬＣ分析条件［６］
カラム：ダイセル製ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ  ＩＡ（２５０ｍｍ×４．６ｍｍ、５μｍ）
→ダイセル製ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ  ＩＡ（２５０ｍｍ×４．６ｍｍ、５μｍ）
移動相：ｎ−ヘキサン／エタノール＝９７／３（０−２０分）（ｖ／ｖ）
温度：４０℃
流量：２．０ｍＬ／分
検出波長：２３０ｎｍ
保持時間：１７．２分、１８．０分（それぞれ、（Ｒ）体又は（Ｓ）体の何れか）
【０１０４】
合成例２０
４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）エチル）−１−（（２−（トリメチルシリル）エトキシ）メチル）−１−イミダゾールの光学活性体（化合物３０）の合成
【化７３】
2018039757.tif 000074
耐圧用の反応容器に４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−１−（（２−（トリメチルシリル）エトキシ）メチル）−１Ｈ−イミダゾール（化合物（１９））（４９．２ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、（２Ｓ）−１−［（１Ｓ）−１−［ビス（１，１−ジメチルエチル）ホスフィノ］エチル］−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（１．０ｍｇ、０．００１８ｍｍｏｌ）及びビス（２，５−ノルボルナジエン）ロジウム（Ｉ）テトラフルオロボレート（０．６ｍｇ、０．００１６ｍｍｏｌ）を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器に塩化メチレン（１．５ｍＬ）を加え、水素雰囲気下（０．８ＭＰａ）、４０℃で２４時間撹拌した。得られた溶液をＨＰＬＣ分析条件［７］で分析したところ、転化率は１００％、表題化合物の光学純度は７０．８％ｅｅであった（不斉中心の絶対配置は未決定）。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．５１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ）、７．０９−６．９９（ｍ，３Ｈ）、６．５７（ｓ，１Ｈ）、５．１６（ｓ，２Ｈ）、４．３９（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．４７−３．４２（ｍ，２Ｈ）、２．２９（ｓ，３Ｈ）、２．２５（ｓ，３Ｈ）、１．５９（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、０．９２−０．８４（ｍ，２Ｈ）、−０．０２（ｓ，９Ｈ）
【０１０５】
ＨＰＬＣ分析条件［７］
カラム：ダイセル製ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ  ＡＤ−Ｈ（２５０ｍｍ×４．６ｍｍ、５μｍ）
移動相：ｎ−ヘキサン／エタノール＝９８／２（０−１５分）（ｖ／ｖ）
温度：４０℃
流量：２．０ｍＬ／分
検出波長：２３０ｎｍ
保持時間：４．０分、４．７分（それぞれ、（Ｒ）体又は（Ｓ）体の何れか）
【０１０６】
合成例２１
（Ｓ）−４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）エチル）−１Ｈ−イミダゾール（化合物３１）の合成
【化７４】
2018039757.tif 000075
反応容器の内部を窒素ガスで置換した後、（Ｓ）−４−（１−（２，３−ジメチルフェニル）エチル）−１−トリチル−１Ｈ−イミダゾール（化合物（２１））（１６９．１ｍｇ、０．３８２ｍｍｏｌ、光学純度９４．８％ｅｅ（Ｓ））、トルエン（１．７０ｇ）、１０％塩酸（１．７０ｇ）を順次、反応容器に加えた。反応液を８４℃に昇温後、８０℃から８４℃の範囲で４時間撹拌した。室温まで冷却後、分液した。得られた水層をトルエン（５．０１ｇ）で洗浄した。得られた水層に、酢酸エチル（１０．２１ｇ）、１０％水酸化ナトリウム水溶液（２．２０ｇ）を順次加えた。３０分撹拌後分液し、得られた有機層を水で洗浄後、濃縮した。得られた残渣に酢酸エチル（１．３６ｇ）、ｎ−ヘプタン（３．４０ｇ）を順次加え、析出した固体をろ過した。得られた固体を減圧乾燥して、表題化合物（６０．１ｍｇ、７８．６％）を白色固体として得た。得られた表題化合物をＨＰＬＣ分析条件［８］で分析したところ、光学純度は９９．２％ｅｅ（Ｓ）であった。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．５０（ｂｒ，１Ｈ）、７．０８−６．９７（ｍ，３Ｈ）、６．７７（ｂｒ，１Ｈ）、４．４１（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、２．３０（ｓ，３Ｈ）、２．２４（ｓ，３Ｈ）、１．６０（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）
【０１０７】
ＨＰＬＣ分析条件［８］
カラム：ダイセル製ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ  ＯＤ−Ｈ（２５０ｍｍ×４．６ｍｍ、５μｍ）
→ダイセル製ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ  ＯＤ−Ｈ（２５０ｍｍ×４．６ｍｍ、５μｍ）
移動相：ｎ−ヘキサン／（メタノール／エタノール＝１／１（Ｖ／Ｖ））＝９５／５（０−２０分）（ｖ／ｖ）
温度：４０℃
流量：１．５ｍＬ／分
検出波長：２３０ｎｍ
保持時間：（Ｓ）体  １１．４分、（Ｒ）体  １４．２分
【産業上の利用可能性】
【０１０８】
本発明により、医薬品として有用な、光学活性なイミダゾール化合物の新規な製造方法を提供することができる。また、本発明により、製造中間体である新規の光学活性なイミダゾール化合物を提供することができる。