(57)【要約】【課題】マイクロ波を照射中の庫内をカメラ等の撮像装置により撮影可能であり、かつマイクロ波に起因する撮像装置の不具合を抑制する。【解決手段】マイクロ波遮蔽基板（７０）は、透明基材（３０）の第一主面上に、透明セラミック層（４１，４２）と金属層（４５）との積層体からなるマイクロ波遮蔽層（４０）を備える。マイクロ波遮蔽基板は、可視光線透過率が３０％以上であることが好ましく、周波数２．４５ＧＨｚのマイクロ波に対する電磁波シールド性能が２０ｄＢ以上であることが好ましい。マイクロ波照射装置（１００）では、庫内に照射されたマイクロ波の撮像装置（８）への到達を遮蔽するようにマイクロ波遮蔽基板（７０）が配置されている。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の第一主面上に、透明セラミック層と金属層との積層体からなるマイクロ波遮蔽層を備え、
可視光線透過率が３０％以上であり、周波数２．４５ＧＨｚのマイクロ波に対する電磁波シールド性能が２０ｄＢ以上である、マイクロ波遮蔽基板。
【請求項２】
前記マイクロ波遮蔽層は、透明セラミック層と金属層との交互積層体である、請求項１に記載のマイクロ波遮蔽基板。
【請求項３】
前記金属層が、銀、金または鉄を主成分とする、請求項１または２に記載のマイクロ波遮蔽基板。
【請求項４】
さらに前記マイクロ波遮蔽層上に透明保護層を備える、請求項１〜３のいずれか１項に記載のマイクロ波遮蔽基板。
【請求項５】
前記透明保護層の厚みが、３０ｎｍ〜１０００ｎｍである、請求項１〜４のいずれか１項に記載のマイクロ波遮蔽基板。
【請求項６】
前記透明保護層が硬化樹脂層である、請求項５に記載のマイクロ波遮蔽基板。
【請求項７】
マイクロ波発振器から発振されたマイクロ波を庫内に照射するマイクロ波照射装置であって、
庫内を撮影可能な撮像装置、および請求項１〜６のいずれか１項に記載のマイクロ波遮蔽基板を備え、
庫内に照射されたマイクロ波の前記撮像装置への到達を遮蔽するように前記マイクロ波遮蔽基板が配置されている、マイクロ波照射装置。
【請求項８】
前記マイクロ波遮蔽基板が、庫内の壁面に設けられている、請求項７に記載のマイクロ波照射装置。
【請求項９】
前記マイクロ波遮蔽基板は、透明基板側の面が前記撮像装置に面するように配置されている、請求項７または８に記載のマイクロ波照射装置。
【請求項１０】
受光素子を収容する筐体と、筐体の開口に設けられ受光素子に光を結像するレンズとを備え、
前記レンズの前面、前記筐体の外面、および前記筐体の内面の少なくともいずれかに、請求項１〜６のいずれか１項に記載のマイクロ波遮蔽基板を備える、撮像装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マイクロ波照射装置に設けられる透光性のマイクロ波遮蔽基板に関する。さらに、本発明はマイクロ波遮蔽基板とカメラ等の撮像装置とを備えるマイクロ波照射装置、およびマイクロ波照射装置内を撮影するための撮像装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
食品の加熱や材料の乾燥等に用いられる加熱装置として、マイクロ波加熱装置が普及している。マイクロ波加熱装置では、加熱対象にマイクロ波を照射することにより加熱が行われ、一般に、産業科学医療用バンド（ＩＭＳバンド）の２．４５ＧＨｚのマイクロ波（波長約１２ｃｍ）が利用されている。家庭用電子レンジでは、被加熱物を出し入れするための前面扉にメッシュ状の電磁波シールドが設けられており、庫外へのマイクロ波の漏出を防止するとともに、外部から庫内の様子が視認できるようになっている。
【０００３】
庫内を撮影可能なカメラを備えるマイクロ波照射装置が提案されている。例えば、特許文献１には、庫内に設けられたカメラで撮影した画像を庫外に設けられたディスプレイに表示することにより、庫内の様子を視認可能としたマイクロ波加熱装置が開示されている。特許文献２のマイクロ波加熱装置では、庫外にカメラを設け、電磁波シールドを備える前面扉を介して庫内を撮影することにより、熱等に起因するカメラの故障を防止している。
【０００４】
特許文献３では、カメラにより撮影された画像から、庫内に投入された被加熱物の包装に付されたコード情報（バーコード等）を抽出し、被加熱物に対応した加熱制御内容を呼び出し、適切な加熱を行う方法が提案されている。特許文献３のマイクロ波加熱装置では、庫内の凹部にカメラが収容されており、凹部の開口面に開閉可能なシャッターが設けられている。庫内に被加熱物を投入してカメラによりコード情報を抽出後、シャッターを閉じた状態で被加熱物にマイクロ波を照射することにより、被加熱物から発生する蒸気等からカメラを保護できる。
【０００５】
特許文献４に記載の加熱装置では、庫内に収容された被加熱物をカメラで撮影し、画像認識により被加熱対象を特定すると共に、被加熱物の画像データと加熱制御内容とを関連付けて、使用者の好みに応じた加熱制御を実現可能としている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１１−５４２６５号公報
【特許文献２】特開平２００８−２８６４６６号公報
【特許文献３】特開平９−１８０８７６号公報
【特許文献４】ＷＯ２０１５／０５９９３１号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
庫内に設けられたカメラへのマイクロ波の照射により、カメラの誤作動やノイズによる画質の低下を生じる場合がある。また、度重なるマイクロ波の照射により、カメラのレンズや筐体等を構成する樹脂材料が劣化する場合がある。
【０００８】
特許文献３に記載されているように、加熱庫内にマイクロ波を照射している間は加熱庫からカメラを隔離すれば、マイクロ波に起因するカメラの誤作動や劣化を防止できるが、加熱時の庫内の様子をカメラにより撮影することはできない。特許文献２に記載されているように、前面扉の前にカメラが設けられている場合は、前面扉に設けられた電磁波シールドにより、庫内からのマイクロ波に起因するカメラの誤作動や劣化を防止できる。一方で、メッシュ状の電磁波シールドを介して庫内を撮影するため、十分に鮮明な画像を得ることは容易ではなく、画像認識により庫内に収容された被加熱物の特定や加熱状態の判定を行うためには、画像の精細さや色精度が十分ではない場合がある。
【０００９】
上記に鑑み、本発明は、マイクロ波を照射中の庫内をカメラ等の撮像装置により撮影可能であり、かつマイクロ波に起因する撮像装置の誤作動、ノイズの発生、およびレンズ等の撮像装置構成部品の劣化を防止可能なマイクロ波照射装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一態様は、マイクロ波照射装置に設けられるマイクロ波遮蔽基板である。マイクロ波遮蔽基板は、透明基材の第一主面上に、金属層とセラミック層とを含むマイクロ波遮蔽層を備える。マイクロ波遮蔽基板の可視光線透過率は３０％以上であり、好ましくは５０％以上、さらに好ましくは６０％以上である。マイクロ波遮蔽基板の周波数２．４５ＧＨｚのマイクロ波に対する電磁波シールド性能は、２０ｄＢ以上好ましく、２５ｄＢ以上がより好ましく、３０ｄＢ以上がさらに好ましい。
【００１１】
マイクロ波照射装置は、庫内を撮影可能な撮像装置、および上記マイクロ波遮蔽基板を備える。マイクロ波遮蔽基板は、庫内に照射されたマイクロ波の撮像装置への到達を遮蔽するように配置される。撮像装置のレンズの前面、筐体の外面または内面にマイクロ波遮蔽基板が設けられていてもよい。
【発明の効果】
【００１２】
マイクロ波遮蔽基板は、可視光を透過し、かつマイクロ波を遮蔽する。そのため、撮像装置の前面に波遮蔽基板を設けることにより、マイクロ波照射中に撮像装置動作させた場合でも鮮明な画像をえることが可能であり、かつマイクロ波に起因する撮像装置への不具合の発生を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】一実施形態のマイクロ波加熱装置の構成図である。
【図２】マイクロ波遮蔽基板の構成例を示す模式的断面図である。
【図３】マイクロ波遮蔽基板の構成例を示す模式的断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
［マイクロ波照射装置の構成例］
図１はマイクロ波照射装置の一形態であるマイクロ波加熱装置の構成図である。マイクロ波加熱装置１００は、前面に開口を有する本体１と、本体１の開口を閉鎖可能な前面扉２とからなる。前面扉２は、本体１に開閉可能に取り付けられている。本体１の内部には、底面板１１、上面板１２および側面板１３に囲まれた空間１０が存在し、この空間１０内に食品等の被加熱物９を収容できるようになっている。
【００１５】
前面扉２を閉じた状態では、底面板１１、上面板１２、側面板１３および前面扉２に囲まれた空間１０が加熱庫となる。本体１内の加熱庫１０の外部には、マイクロ波発振手段としてのマグネトロン６が設けられている。マグネトロン６が発振するマイクロ波の周波数は、例えば２．４５ＧＨｚ（２．４〜２．５ＧｚのＩＭＳバンド）である。マグネトロン６からのマイクロ波は、導波管７により加熱庫１０内に導かれる。
【００１６】
加熱庫１０内に導かれたマイクロ波の照射により、被加熱物９が加熱される。底面板１１、上面板１２および側面板１３は例えば金属により構成されており、加熱庫内でマイクロ波を反射させて、被加熱物９にマイクロ波を到達させ、マイクロ波による加熱効率を高めている。前面扉２には、パンチメタル等のマイクロ波シールド２３が設けられており、庫外へのマイクロ波の漏出を防止している。
【００１７】
加熱庫の壁面を構成する上面板１２には開口１８が設けられており、開口１８を塞ぐようにマイクロ波遮蔽基板７０が設けられている。撮像装置としてのカメラ８は開口１８に設けられたマイクロ波遮蔽基板７０を介して加熱庫内を撮影可能となっている。側面板１３には照明５が取り付けられており、前面扉２を閉じた状態においては、照明５から被加熱物９に光を照射して、撮像装置８による被加熱物撮影を可能としている。前面扉２に設けられたマイクロ波シールド２３がパンチメタル等からなり可視光透過性を有する場合は、庫内に照明５が設けられることにより、庫外から庫内の様子を確認できる。
【００１８】
［マイクロ波遮蔽基板］
図２は、マイクロ波照射装置に設けられるマイクロ波遮蔽基板７０の構成例を示す模式的断面図である。マイクロ波遮蔽基板７０は、透明基材３０の一主面上に、マイクロ波遮蔽層４０を備える。
【００１９】
＜透明基材＞
透明基材３０としては、ガラス板、透明樹脂板、透明樹脂フィルム等の可視光線透過率の高い材料が用いられる。透明基材３０の厚みは、例えば１０μｍ〜１０ｍｍ程度である。マイクロ波遮蔽基板の生産性向上等の観点から、透明基材３０としては可撓性の透明樹脂フィルムが好適に用いられる。
【００２０】
透明基材として透明樹脂フィルムが用いられる場合、その厚みは１０μｍ〜３００μｍ程度の範囲が好適である。透明フィルム基材上に金属層やセラミック層を形成する際に、高温での加工が行われる場合があるため、透明フィルム基材を構成する樹脂材料は、耐熱性に優れるものが好ましい。透明フィルム基材を構成する樹脂材料としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、環状ポリオレフィン等が挙げられる。マイクロ波遮蔽基板の機械的強度向上等を目的として、透明フィルム基材の一方または両方の主面には、ハードコート層等が設けられていてもよい。
【００２１】
透明基材は、ガラス板や樹脂板等の剛性の透明板と可撓性の透明フィルムとを貼り合わせたものでもよい。例えば、可撓性の透明フィルムの第一主面上にマイクロ波遮蔽層および必要に応じて透明保護層を形成した後に、透明フィルムの第二主面に剛性の透明板を貼り合わせてもよい。透明基材が剛性であれば、マイクロ波照射装置へのマイクロ波遮蔽層基板の着脱等の取り扱いにおける利便性が向上する。
【００２２】
＜マイクロ波遮蔽層＞
透明基材３０の主面上に設けられるマイクロ波遮蔽層４０は、金属層と透明セラミック層との積層体である。マイクロ波遮蔽層４０は、少なくとも１層の金属層４５および少なくとも２層の透明セラミック層４１，４２を含む交互積層体であることが好ましい。
【００２３】
マイクロ波遮蔽層４０は、第一透明セラミック層４１／金属層４５／第二透明セラミック層４２の３層からなるものでもよく、これら以外の層を含んでいてもよい。例えば、金属層４５と透明セラミック層４１，４２との密着性の向上や、金属層４５への耐久性の付与等を目的として、両者の間に他の金属層やセラミック層等を有していてもよい。また、金属層および透明セラミック層の交互積層数を増大させ、５層構成、７層構成…とすることにより、可視光線透過率およびマイクロ波遮蔽性をさらに向上することもできる。
【００２４】
金属層４５は、マイクロ波を反射可能な金属材料からなる。周波数１〜１０ＧＨｚのマイクロ波の反射性が高いことから、金属としては、銀、金、銅、鉄、アルミニウム等を主成分とするものが用いられ、中でも、銀、金、または鉄を主成分とする金属または合金が好ましい。高い可視光線透過率と、マイクロ波反射性を両立可能であることから、金、銀、金合金または銀合金が特に好ましい。金属層４５は、主成分（金または銀）の含有量が７０重量％以上であることが好ましく、８０重量％以上であることがより好ましく、９０重量％であることがさらに好ましい。金属層４５が銀合金である場合、銀に高い耐久性を付与する観点から、銀以外の金属として、銅，金，パラジウム，ビスマス，ゲルマニウム，ガリウム，チタン，ニッケル，スズ等が好ましく用いられる。
【００２５】
透明セラミック層４１，４２は、金属層２５を保護して被加熱物から発生する水蒸気や揮発成分による金属層の劣化を防止する作用を有する。また、金属層の両面に透明セラミック層が設けられることにより、光の透過と反射の波長選択性を調整し、可視光線透過率を向上できる。
【００２６】
透明セラミック層４１，４２の材料としては、例えば、Ｓｉ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎｂ，Ｚｎ，Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｔｌ，Ｓｎ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｗ等の金属の酸化物、窒化物、酸窒化物、炭化物、水酸化物が挙げられる。中でも、高い可視光線透過率と金属層４５に対する高い保護生徒を両立する観点から、屈折率が１．５以上の金属酸化物が好ましく用いられる。
【００２７】
金属酸化物としては、Ｓｎ，Ｉｎ，Ｚｎ，ＴｉおよびＮｂからなる群から選択される１種以上の金属の酸化物が好ましい。中でも、金属層に対する高い耐久性を付与できることから、酸化亜鉛と酸化錫とを含む複合金属酸化物が用いられることが好ましい。酸化亜鉛および酸化錫を含む金属酸化物は、化学的安定性に優れるため、金属層の劣化抑制効果が高い。
【００２８】
透明セラミック層４１，４２は非晶質膜であることが好ましい。非晶質膜は、結晶質膜に比べて膜密度が高く、水分やガスの遮断性に優れるため、金属層に対する保護性能が高められる。
【００２９】
上記金属層４５および透明セラミック層４１，４２の厚みは、マイクロ波遮蔽層４０が必要とされるマイクロ波遮蔽性を有し、かつ可視光線を透過するように、材料の屈折率等を勘案して適宜に設定される。金属層４５の厚みが大きいほど、マイクロ波遮蔽性が向上する傾向がある。高いマイクロ波遮蔽性と可視光線透過率とを両立する観点から、金属層２５の厚みは、例えば、５ｎｍ〜５０ｎｍ、好ましくは７ｎｍ〜２５ｎｍ、より好ましくは１０〜２０ｎｍの範囲で調整され得る。透明セラミック層４１，４２の厚みは、例えば、３ｎｍ〜８０ｎｍ、好ましくは３ｎｍ〜５０ｎｍ、より好ましくは３〜３５ｎｍの範囲で調整され得る。
【００３０】
マイクロ波遮蔽層４０を構成する金属層および透明セラミック層の成膜方法は特に限定されないが、スパッタ法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、電子線蒸着法等のドライプロセスによる成膜が好ましい。透明基材３０として可撓性の樹脂フィルムが用いられる場合、ロールトゥーロール法により、基材上に連続してマイクロ波遮蔽層を成膜できるため、マイクロ波遮蔽基板の生産性を向上できる。
【００３１】
透明セラミック層４２によるマイクロ波吸収量は、樹脂フィルム等によるマイクロ波吸収量に比べて小さい。そのため、図１に示すように、マイクロ波遮蔽層４０が加熱庫１０側、透明基材３０が撮像装置８側となるようにマイクロ波遮蔽基板７０が配置される場合、加熱庫内のマイクロ波は、金属層４５に到達し、加熱庫側に反射される。すなわち、マイクロ波遮蔽層４０が加熱庫側に面するように配置されたマイクロ波遮蔽基板７０は、マイクロ波反射基板として作用する。そのため、可視光を選択的に透過してカメラ８による撮像を可能にするとともに、金属等からなる上面板１２と同様にマイクロ波を反射して被加熱物９に到達させることが可能であり、加熱効率の向上にも寄与する。
【００３２】
＜透明保護層＞
図３に示すように、マイクロ波反射基板は、マイクロ波遮蔽層４０上に透明保護層５０を備えていてもよい。透明保護層５０が設けられることにより、マイクロ波遮蔽層４０の擦傷や劣化を防止できる。マイクロ波遮蔽層に対する保護性を高めるために、透明保護層５０は、マイクロ波遮蔽層４０の透明セラミック層４２上に接して設けられることが好ましい。
【００３３】
透明保護層５０は、可視光線透過率が高く、機械的強度および化学的強度に優れるものが好ましい。透明保護層の材料としては硬化樹脂が好ましく用いられる。硬化樹脂としては、フッ素系、アクリル系、ウレタン系、エステル系、エポキシ系等の活性光線硬化性あるいは熱硬化性の材料や、有機成分と無機成分が化学結合した有機・無機ハイブリッド材料が挙げられる。中でも、透明性、機械的強度、化学的強度、および柔軟性に優れることから、アクリル系樹脂を主成分とする硬化樹脂が好ましい。
【００３４】
透明保護層の硬化樹脂は、架橋構造を有することが好ましい。特に、酸性官能基と重合性官能基とを同一分子中に有する化合物（架橋剤）に由来する架橋構造が導入されることが好ましい。架橋構造の導入により、透明保護層の機械的強度および化学的強度が高められると共に、透明保護層５０とマイクロ波遮蔽層４０表面の透明セラミック層との密着性が高められるため、耐久性を向上できる。
【００３５】
上記架橋剤における酸性官能基としては、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基等が挙げられる。上記架橋剤における重合性官能基としては、エチレン性不飽和基、シラノール基、エポキシ基等が挙げられる。中でも、エチレン性不飽和基が好ましく、（メタ）アクリロイル基が特に好ましい。
【００３６】
透明保護層５０は、上記の硬化性樹脂以外に、シランカップリング剤、チタンカップリング剤等のカップリング剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、熱安定剤滑剤、可塑剤、着色防止剤、難燃剤、帯電防止剤等の添加剤を含んでいてもよい。これらの添加剤の含有量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜に調整され得る。
【００３７】
図１に示すように、マイクロ波遮蔽基板７１の透明基材３０がカメラ８側に面して配置される場合、マイクロ波遮蔽基板７１の透明保護層５０が庫内に面する最表面層となる。この場合、透明保護層５０は、高い可視光線透過率に加えて、マイクロ波の吸収が小さいことが好ましい。透明保護層５０によるマイクロ波の吸収が小さければ、庫内からのマイクロ波は透明保護層５０および透明セラミック層４２を透過してマイクロ波遮蔽層４０に到達し、金属層４５により庫内側に反射される。そのため、マイクロ波遮蔽基板７１は、透明保護層５０が設けられていないマイクロ波遮蔽基板７０と同様に、加熱効率の向上に寄与する。
【００３８】
有機樹脂のＣ＝Ｃ結合、Ｃ＝Ｏ結合、Ｃ−Ｏ結合、芳香族環等はマイクロ波の吸吸が大きいため、透明保護層５０によるマイクロ波の吸収を低減するためには透明保護層の厚みを小さくする必要がある。そのため、透明保護層５０の厚みは、１０００ｎｍ以下が好ましく、５００ｎｍ以下がより好ましく、３００ｎｍ以下がさらに好ましい。
【００３９】
前述の様に、透明保護層を構成する樹脂材料が架橋構造を有することにより、機械的強度や化学的強度が高められるため、透明保護層の厚みが小さい場合でも、高い耐久性を保持できる。一方、透明保護層の厚みが過度に小さいと、樹脂保護層の強度が不十分となったり、マイクロ波遮蔽層の表面から樹脂保護層が剥離しやすくなる傾向がある。そのため、透明保護層の厚みは、２０ｎｍ以上が好ましく、３０ｎｍ以上がより好ましく、４０ｎｍ以上がさらに好ましい。
【００４０】
＜マイクロ波遮蔽基板の特性＞
マイクロ波遮蔽基板の可視光線透過率は、３０％以上が好ましく、５０％以上がより好ましく、６０％以上がさらに好ましい。カメラ８による撮影像を画像認識に用いる場合、撮影像の鮮明度や色精度が高いことが求められるため、マイクロ波遮蔽基板の可視光線透過率は高いほど好ましい。前述のように、マイクロ波反射性を有する金属層の両面に透明セラミック層を設けることにより、可視光線透過率を向上できる。
【００４１】
マイクロ波遮蔽基板の２．４５ＧＨｚのマイクロ波に対する電磁波シールド性能は２０ｄＢ以上が好ましく、２５ｄＢ以上がより好ましく、３０ｄＢ以上がさらに好ましい。マイクロ波遮蔽基板は、１〜１０ＧＨｚの帯域のマイクロ波に対する電磁波シールド性能が上記範囲であることが好ましい。電磁波シールド性能は、ＫＥＣ（関西電子工業振興センター）法に基づいて測定される。上述のように、マイクロ波遮蔽層を構成する金属層の材料の選択や厚みを調整することにより、マイクロ波のシールド性を向上できる。
【００４２】
［マイクロ波照射装置の動作例］
マイクロ波加熱装置１００は、加熱庫１０内を撮影可能なカメラ８を備えるため、庫内に収容された被加熱物９を撮影できる。例えば、カメラ８により撮影された映像から画像認識により、被加熱物９を識別して、マイクロ波の強度やマイクロ波照射時間等の加熱メニューを設定できる。マイクロ波照射による加熱中もカメラ８により被加熱物９を撮影できるため、加熱状態に応じてマイクロ波強度や照射時間を調整することも可能である。
【００４３】
カメラ８の前面にはマイクロ波遮蔽基板７０が設けられているため、加熱庫内からのマイクロ波はカメラ８にはほとんど照射されない。そのため、マイクロ波に起因するカメラ８の誤作動、ノイズの発生、劣化等を抑制できる。
【００４４】
カメラへのマイクロ波等の電磁波の入射を防止するために、レンズに電子波遮蔽コーティングを施す方法が知られている（例えば、特開平３−９５９９８号公報）。レンズに電磁波遮蔽コーティングを施すことにより、カメラ内部への電磁波の侵入を抑制できるが、被加熱物９から発生する水蒸気や揮発成分のカメラ８への到達を防止することはできない。被加熱物９から発生する揮発成分がカメラのレンズに汚れとして付着すると、撮影像が不鮮明となるため、レンズの拭き掃除が必要となる。しかし、加熱庫の外部に設けられたカメラの拭き掃除は容易ではない。
【００４５】
これに対して、図１に示すように、加熱庫壁面の開口１８をマイクロ波遮蔽基板７０により覆って塞いでおけば、マイクロ波遮蔽基板７０が、被加熱物９から発生する水蒸気や揮発成分のカメラ８への到達を防止し、水蒸気によるレンズの曇りやカメラへの揮発物の付着を抑制できる。マイクロ波遮蔽基板７０の表面には、被加熱物９から発生する水蒸気や揮発成分が付着した場合でも、庫内の拭き掃除と同様に掃除が可能であるため、メンテナンスも容易である。また、マイクロ波遮蔽基板７０を加熱庫壁面から取り外し可能としておけば、マイクロ波遮蔽基板を庫外に取り出して拭き掃除を実施できるため、メンテナンス性がさらに向上する。
【００４６】
マイクロ波遮蔽基板が表面に透明保護層５０を備えることにより、拭き掃除等による傷付きを防止できる。仮に、傷付きや汚れの付着が生じた場合でも、マイクロ波遮蔽基板は取り換えが容易であり、カメラのレンズ等に比べて安価であるため経済性にも優れる。
【００４７】
マイクロ波遮蔽層４０を構成する銀等の金属層は、マイクロ波に加えて、近赤外線や遠赤外線等の熱線も反射する。そのため、加熱庫壁面の開口１８を覆うようにマイクロ波遮蔽基板７０を配置すれば、加熱庫内が高温となった場合でも、カメラ８に到達する熱を低減し、カメラの温度上昇を防止できる。
【００４８】
図１に示す形態では、加熱庫の上面に撮像装置としてのカメラ８が設けられているが、庫内を撮影可能であれば、撮像装置の配置は特に限定されない。マイクロ波照射装置には複数の撮像装置が設けられていてもよい。撮像装置の構成は特に限定されず、受光素子を収容する筐体と、筐体の開口に設けられ受光素子に光を結像するレンズとを備える各種の撮像装置を使用できる。画像認識により被加熱物の識別を行う場合、撮像装置は可視光を撮影するものが好ましいが、近赤外線や紫外線等の非可視光線を撮影するものでもよい。
【００４９】
マイクロ波遮蔽基板は、加熱庫内に照射されたマイクロ波のカメラへの到達を遮蔽可能であればよく、加熱庫壁面の開口に設けられている必要はない。例えば、撮像装置のレンズの前面や筐体の外面または内面にマイクロ波遮蔽基板を設けることにより、カメラへのマイクロ波の侵入を防止してもよい。
【００５０】
以上、マイクロ波加熱装置を例として説明したが、本発明は、マイクロ波を利用する各種のマイクロ波照射射装置に適用可能であり、マイクロ波遮蔽基板を用いることにより、装置内を撮影する撮像装置へのマイクロ波の侵入を抑制できる。
【符号の説明】
【００５１】
７０，７１：    マイクロ波遮蔽基板
３０：    透明基材
４０：    マイクロ波遮蔽層
４１，４２：  透明セラミック層
４５：    金属層
５０：    透明保護層
１００：    マイクロ波加熱装置（マイクロ波照射装置）
１：    本体
２：    前面扉
２３：    マイクロ波シールド（パンチメタル）
５：    照明
６：    マグネトロン
７：    導波管
８：    撮像装置（カメラ）
【図１】
2018120779.tif 000003
【図２】
2018120779.tif 000004
【図３】
2018120779.tif 000005