(57)【要約】【課題】平坦性とめっき表面の平滑性に優れる低コストの磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法を提供する。【解決手段】心材の両面に皮材をクラッドした磁気ディスク用アルミニウム合金基板であって、皮材は、Ｍｇ：２．０〜８．０％（ｍａｓｓ％、以下同じ）、Ｃｕ：０．００５〜０．１５０％、Ｚｎ：０．０５〜０．６０％、Ｓｉ：０．００１〜０．０６０％、Ｆｅ：０．００１〜０．０６０％、を含有し、Ｃｒ：０．０１〜０．３０％、Ｍｎ：０．０１〜０．３０％、のうち１種又は２種を含有し、残部Ａｌ及び不可避的不純物からなり、心材は、Ｍｇ：２．０〜８．０％、を含有し、必要に応じてＣｕ：０．００５〜０．１５０％、Ｚｎ：０．０５〜０．６０％、Ｃｒ：０．０１〜０．３０％、Ｍｎ：０．０１〜０．５０％、含有量の合計が０．００１〜０．５００％のＴｉ及びＢ、のうち１種又は２種以上を含有し、残部Ａｌ及び不可避的不純物からなる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
心材の両面に皮材をクラッドした磁気ディスク用アルミニウム合金基板であって、
前記皮材は、Ｍｇ：２．０〜８．０ｍａｓｓ％、Ｃｕ：０．００５〜０．１５０ｍａｓｓ％、Ｚｎ：０．０５〜０．６０ｍａｓｓ％、Ｓｉ：０．００１〜０．０６０ｍａｓｓ％、Ｆｅ：０．００１〜０．０６０ｍａｓｓ％、を含有し、Ｃｒ：０．０１〜０．３０ｍａｓｓ％、Ｍｎ：０．０１〜０．３０ｍａｓｓ％、のうち１種又は２種を含有し、残部Ａｌ及び不可避的不純物からなり、
前記心材は、Ｍｇ：２．０〜８．０ｍａｓｓ％、を含有し、必要に応じてＣｕ：０．００５〜０．１５０ｍａｓｓ％、Ｚｎ：０．０５〜０．６０ｍａｓｓ％、Ｃｒ：０．０１〜０．３０ｍａｓｓ％、Ｍｎ：０．０１〜０．５０ｍａｓｓ％、含有量の合計が０．００１〜０．５００ｍａｓｓ％のＴｉ及びＢ、のうち１種又は２種以上を含有し、残部Ａｌ及び不可避的不純物からなり、
アルミニウム合金基板の表面と裏面とのクラッド率の平均値の比（表面のクラッド率／裏面のクラッド率）が２．０以下である、
ことを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金基板。
【請求項２】
前記皮材において、グロー放電質量分析法（ＧＤＭＳ）によって測定されたアルミニウム合金中のＣｌの含有量が０．００３００ｍａｓｓ％以下に規制される、
ことを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金基板。
【請求項３】
前記皮材と前記心材とに含まれるＦｅ量の比（前記皮材のＦｅ量／前記心材のＦｅ量）が０．３以下で、前記心材のＦｅ量が０．０５〜０．５０ｍａｓｓ％である、
ことを特徴とする請求項２又は３に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金基板。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法であって、
前記心材と前記皮材とから合わせ材を形成する合わせ工程と、
前記合わせ材を均質化処理する均質化処理工程と、
均質化処理材を熱間圧延する熱間圧延工程と、
熱間圧延材を冷間圧延する冷間圧延工程と、
冷間圧延板を円環状ディスクに加工する加工工程と、
円環状ディスクを加圧平坦化してディスクブランクとする加圧平坦化焼鈍工程と、
前記ディスクブランクの切削・研削工程と、を含み、
前記合わせ工程において、縦横二方向においてそれぞれ０．２〜１３ｍｍの間隔で配列された、厚さが０．２〜２．４ｍｍの多数の点状厚肉部と、隣接する前記点状厚肉部間をつなぐ、前記点状厚肉部よりも厚さの薄い連結部と、から、網目構造が形成されてなるアルミニウム又はアルミニウム合金からなる接合補助部材を用い、前記接合補助部材の一方又は両方の側に、５〜２００μｍの厚さを有し且つＭｇ含有量を０〜０．７ｍａｓｓ％としたアルミニウム又はアルミニウム合金のシート部材を配置した形態において、前記接合補助部材と前記シート部材とを、前記心材と前記皮材との接合界面に介在させて、前記合わせ材を構成する、
ことを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法。
【請求項５】
前記接合補助部材が、０．１〜１．２ｍｍの線径を有するアルミニウム又はアルミニウム合金の線材である、
ことを特徴とする請求項４に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法。
【請求項６】
前記線材が、１．５〜６．０ｍａｓｓ％のＭｇを含有するＡｌ−Ｍｇ系合金にて形成されている、
ことを特徴とする請求項４又は５に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平坦性とめっき表面の平滑性に優れる低コストの磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
コンピュータの記憶装置に用いられるアルミニウム合金製磁気ディスクは、良好なめっき性を有するとともに機械的特性や加工性が優れたＪＩＳ  ５０８６合金（３．５ｍａｓｓ％以上４．５ｍａｓｓ％以下のＭｇ、０．５０ｍａｓｓ％以下のＦｅ、０．４０ｍａｓｓ％以下のＳｉ、０．２０ｍａｓｓ％以上０．７０ｍａｓｓ％以下のＭｎ、０．０５ｍａｓｓ％以上０．２５ｍａｓｓ％以下のＣｒ、０．１０ｍａｓｓ％以下のＣｕ、０．１５ｍａｓｓ％以下のＴｉ、０．２５ｍａｓｓ％以下のＺｎ、残部Ａｌ及び不可避的不純物）のアルミニウム合金基板から製造されている。更に、アルミニウム合金製磁気ディスクは、めっき前処理工程における金属間化合物の抜け落ちによるピット不具合の改善を目的にＪＩＳ  ５０８６合金中の不純物であるＦｅ、Ｓｉ等の含有量を制限しマトリックス中の金属間化合物を小さくしたアルミニウム合金基板、或いは、めっき性改善を目的にＪＩＳ  ５０８６合金中のＣｕやＺｎを意識的に添加したアルミニウム合金基板等から製造されている。
【０００３】
一般的なアルミニウム合金製磁気ディスクは、まず、アルミニウム合金板を作製した後、円環状アルミニウム合金基板を作製し、加圧焼鈍によりディスクブランクとし、切削加工、研削加工を行った後に焼鈍を施しアルミニウム合金基板とする。次いで、このアルミニウム合金基板にめっきを施し、更にアルミニウム合金基板の表面に磁性体を付着させることにより製造されている。
【０００４】
例えば、前記ＪＩＳ  ５０８６合金を用いたアルミニウム合金製磁気ディスクは、以下の製造工程により製造される。まず、所望の化学成分としたアルミニウム合金を鋳造し、その鋳塊を熱間圧延し、次いで冷間圧延を施し、磁気ディスクとして必要な厚さを有する圧延材を作製する。この圧延材には、必要に応じて冷間圧延の途中等に焼鈍が施される。次に、この圧延材を円環状に打抜き、前記製造工程により生じた歪み等を除去するため、円環状のアルミニウム合金板を積層し、両面から加圧しつつ焼鈍を施して平坦化する加圧焼鈍を行うことにより、ディスクブランクが作製される。
【０００５】
このようにして作製されたディスクブランクに、前処理として切削加工、研削加工を施した後、加工工程により生じた歪み等を除去するために、ディスクブランクを加熱することによりアルミニウム合金基板が作製される。次に、めっき前処理として脱脂、エッチング、ジンケート処理（Ｚｎ置換処理）を施し、更に下地処理として硬質非磁性金属であるＮｉ−Ｐ無電解めっきを施す。最後に、Ｎｉ−Ｐ無電解めっき表面にポリッシングを施した後、磁性体をスパッタリングしてアルミニウム合金製磁気ディスクが製造される。
【０００６】
ところで、近年になって、磁気ディスクには、マルチメディア等のニーズから大容量化及び高密度化が求められている。更なる磁気ディスクの記録密度の向上には、磁気ディスクに対する磁気ヘッドの浮上量をより少なくし、かつ、両者の距離間をより安定させる必要がある。そのためには、磁気ディスク用アルミニウム合金基板の高い平坦性とＮｉ−Ｐめっき表面の高い平滑性が要求される。
【０００７】
このような実情から、近年ではアルミニウム合金基板の高い平坦性と高い平滑性が強く望まれ、様々な検討がなされている。
【０００８】
特許文献１には、アルミニウム合金心材の片面または両面に、高純度地金を用い製造された皮材がクラッドされた高容量磁気ディスク基板用アルミニウム合金クラッド板が記載されている。皮材にＳｉやＦｅなどの不純物元素の少ない高純度地金を用いることで、めっき表面の平滑性低下の原因となる金属間化合物を低減させている。また、高純度地金は、表面欠陥が問題となる皮材にのみ用いれば良く、心材には安価な低純度地金を用いることで、製造コストを低減している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開平１０−１２１１７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、特許文献１に開示されている方法では、心材又は皮材に含まれるＭｇの酸化の影響で、合わせ材の熱間圧延中に一部未接合部が発生し、その後の加熱でフクレが多数発生し、めっき表面の平滑性が劣るという問題があった。また、研削加工後の表面のクラッド率と裏面のクラッド率が大きく異なる場合に、平坦性が低下するという問題もあった。
【００１１】
本発明は、上述の従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、平坦性とめっき表面の平滑性に優れる低コストの磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するため、本発明の第１の観点に係る磁気ディスク用アルミニウム合金基板は、
心材の両面に皮材をクラッドした磁気ディスク用アルミニウム合金基板であって、
前記皮材は、Ｍｇ：２．０〜８．０ｍａｓｓ％、Ｃｕ：０．００５〜０．１５０ｍａｓｓ％、Ｚｎ：０．０５〜０．６０ｍａｓｓ％、Ｓｉ：０．００１〜０．０６０ｍａｓｓ％、Ｆｅ：０．００１〜０．０６０ｍａｓｓ％、を含有し、Ｃｒ：０．０１〜０．３０ｍａｓｓ％、Ｍｎ：０．０１〜０．３０ｍａｓｓ％、のうち１種又は２種を含有し、残部Ａｌ及び不可避的不純物からなり、
前記心材は、Ｍｇ：２．０〜８．０ｍａｓｓ％、を含有し、必要に応じてＣｕ：０．００５〜０．１５０ｍａｓｓ％、Ｚｎ：０．０５〜０．６０ｍａｓｓ％、Ｃｒ：０．０１〜０．３０ｍａｓｓ％、Ｍｎ：０．０１〜０．５０ｍａｓｓ％、含有量の合計が０．００１〜０．５００ｍａｓｓ％のＴｉ及びＢ、のうち１種又は２種以上を含有し、残部Ａｌ及び不可避的不純物からなり、
アルミニウム合金基板の表面と裏面とのクラッド率の平均値の比（表面のクラッド率／裏面のクラッド率）が２．０以下である、
ことを特徴とする。
【００１３】
前記皮材において、グロー放電質量分析法（ＧＤＭＳ）によって測定されたアルミニウム合金中のＣｌの含有量が０．００３００ｍａｓｓ％以下に規制される、
こととしてもよい。
【００１４】
前記皮材と前記心材とに含まれるＦｅ量の比（前記皮材のＦｅ量／前記心材のＦｅ量）が０．３以下で、前記心材のＦｅ量が０．０５〜０．５０ｍａｓｓ％である、
こととしてもよい。
【００１５】
上記目的を達成するため、本発明の第２の観点に係る磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法は、
上記のいずれかの磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法であって、
前記心材と前記皮材とから合わせ材を形成する合わせ工程と、
前記合わせ材を均質化処理する均質化処理工程と、
均質化処理材を熱間圧延する熱間圧延工程と、
熱間圧延材を冷間圧延する冷間圧延工程と、
冷間圧延板を円環状ディスクに加工する加工工程と、
円環状ディスクを加圧平坦化してディスクブランクとする加圧平坦化焼鈍工程と、
前記ディスクブランクの切削・研削工程と、を含み、
前記合わせ工程において、縦横二方向においてそれぞれ０．２〜１３ｍｍの間隔で配列された、厚さが０．２〜２．４ｍｍの多数の点状厚肉部と、隣接する前記点状厚肉部間をつなぐ、前記点状厚肉部よりも厚さの薄い連結部と、から、網目構造が形成されてなるアルミニウム又はアルミニウム合金からなる接合補助部材を用い、前記接合補助部材の一方又は両方の側に、５〜２００μｍの厚さを有し且つＭｇ含有量を０〜０．７ｍａｓｓ％としたアルミニウム又はアルミニウム合金のシート部材を配置した形態において、前記接合補助部材と前記シート部材とを、前記心材と前記皮材との接合界面に介在させて、前記合わせ材を構成する、
ことを特徴とする。
【００１６】
前記接合補助部材が、０．１〜１．２ｍｍの線径を有するアルミニウム又はアルミニウム合金の線材である、
こととしてもよい。
【００１７】
前記線材が、１．５〜６．０ｍａｓｓ％のＭｇを含有するＡｌ−Ｍｇ系合金にて形成されている、
こととしてもよい。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の磁気ディスク用アルミニウム合金基板は、平坦性とめっき表面の平滑性に優れるため、高容量化及び高密度化が可能な磁気ディスク用アルミニウム合金基板を提供することができる。また、クラッド材にすることで高純度地金の使用量を減らすことができるため、製造コストの低減が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明に係るアルミニウム合金基板の製造工程から磁気ディスクの製造に至る工程のフローチャート図である。
【図２】合わせ材の構造を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００２１】
本発明者らは、クラッド材の皮材と心材の成分や表面のフクレ発生数及び研削加工後のクラッド率の分布と、平坦性と平滑性の関係について鋭意調査研究した。その結果、不純物元素の含有量を極力抑えたＡｌ−Ｍｇ系合金を皮材に用い、低純度のＡｌ−Ｍｇ系合金を心材に用い、更に表面のフクレ発生と研削加工後の表面と裏面のクラッド率の比を制御することにより、高い平坦性とめっき表面の高い平滑性が得られることを見出した。
【００２２】
なお、本発明におけるクラッド材とは、異なる２つ以上の合金板を冶金的に接合した合金板のことで、ここでは３層クラッド材の中間材を心材とし、心材の両面にある材料を皮材とする。
【００２３】
〔心材〕
初めに、本発明に係る磁気ディスク用アルミニウム合金板の心材について説明する。
心材を構成するアルミニウム合金は、Ｍｇ：２．０〜８．０ｍａｓｓ％、を含有し、必要に応じてＣｕ：０．００５〜０．１５０ｍａｓｓ％、Ｚｎ：０．０５０〜０．６０ｍａｓｓ％、Ｃｒ：０．０１０〜０．３０ｍａｓｓ％、Ｍｎ：０．０１０〜０．５０ｍａｓｓ％、含有量の合計が０．００１〜０．５００ｍａｓｓ％のＴｉ及びＢ、のうち１種又は２種以上を含有し、残部Ａｌ及び不可避的不純物からなる。
【００２４】
Ｍｇ：２．０〜８．０ｍａｓｓ％
Ｍｇは、主としてアルミニウム合金基板の強度を向上させる効果を有する元素である。
Ｍｇの含有量が２．０ｍａｓｓ％未満ではその効果が十分に得られず、８．０ｍａｓｓ％を超えると粗大なＭｇ−Ｓｉ系化合物が生成し、エッチング時、ジンケート処理時等に基板側面の粗大なＭｇ−Ｓｉ系化合物が脱落して大きな窪みが発生する。それにより基板側面の心材と皮材の境界部にめっき剥離が生じてしまう。従って、Ｍｇの含有量は２．０〜８．０ｍａｓｓ％とする。Ｍｇの含有量は、強度及び製造の容易さの兼合いから３．０〜６．５ｍａｓｓ％とするのが好ましい。
【００２５】
心材には更にめっき性や強度を向上させるために、ＣｕやＺｎ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｔｉ及びＢの全て、又は一部を更に添加する。
【００２６】
Ｃｕ：０．００５〜０．１５０ｍａｓｓ％
Ｃｕは、ジンケート処理時のＡｌ溶解量を減少させ、またジンケート皮膜を均一に、薄く、緻密に付着させる効果を有する元素である。このような効果により、次工程のＮｉ−Ｐからなるめっきの平滑性や密着性を一層向上させることができる。０．００５ｍａｓｓ％未満では、上記効果が十分に得られない。一方、０．１５０ｍａｓｓ％を超えても上記効果は飽和し、それ以上の顕著な改善効果が得られない。好ましいＣｕ含有量は、０．００５〜０．１００ｍａｓｓ％である。
【００２７】
Ｚｎ：０．０５０〜０．６０ｍａｓｓ％
Ｚｎは、Ｃｕ同様、ジンケート処理時のＡｌ溶解量を減少させ、またジンケート皮膜を均一に、薄く、緻密に付着させる効果を有する元素である。このような効果により、次工程のＮｉ−Ｐからなるめっきの平滑性や密着性を一層向上させることができる。０．０５０ｍａｓｓ％未満では、上記効果が十分に得られない。一方、０．６０ｍａｓｓ％を超えても上記効果は飽和し、それ以上の顕著な改善効果が得られない。好ましいＺｎ含有量は、０．１０〜０．５０ｍａｓｓ％である。
【００２８】
Ｃｒ：０．０１０〜０．３０ｍａｓｓ％
Ｃｒは微細な金属間化合物として生成され、又はマトリックスに一部固溶して、加圧焼鈍時に再結晶粒の粗大化を抑制する効果を発揮し、強度などの機械的特性を向上させる元素である。また、めっきの密着性や平滑性を向上させる効果を発揮する。Ｃｒ含有量が０．０１０ｍａｓｓ％未満では、上記効果が十分に得られない。一方、Ｃｒ含有量が０．３０ｍａｓｓ％を超えても上記効果は飽和し、それ以上の顕著な改善効果が得られない。好ましいＣｒ含有量は、０．０３０〜０．２０ｍａｓｓ％である。
【００２９】
Ｍｎ：０．０１０〜０．５０ｍａｓｓ％
Ｍｎは、微細なＡｌ−Ｍｎ系金属間化合物として生成され、又は、マトリックスに一部固溶して、加圧焼鈍時に再結晶粒の粗大化を抑制する効果を発揮し、強度などの機械的特性を向上させる元素である。また、めっきの密着性や平滑性を向上させる効果を発揮する。Ｍｎ含有量が０．０１０ｍａｓｓ％未満では、上記効果が十分に得られない。一方、Ｍｎ含有量が０．５０ｍａｓｓ％を超えても上記効果は飽和し、それ以上の顕著な改善効果が得られない。好ましいＭｎ含有量は、０．０３０〜０．２０ｍａｓｓ％である。
【００３０】
Ｔｉ及びＢの含有量の合計：０．００１〜０．５００ｍａｓｓ％
Ｔｉ及びＢは、鋳造時の凝固過程において、ＴｉＢ２などのホウ化物を形成し、これらが結晶粒核となるため、結晶粒を微細化することが可能となる。これによりめっきの密着性や平滑性を向上させる効果を発揮する。但し、Ｔｉ及びＢの含有量の合計が０．００１ｍａｓｓ％未満では、上記の効果が得られない。一方、Ｔｉ及びＢの含有量の合計が０．５００ｍａｓｓ％を超過してもその効果は飽和し、それ以上の顕著な改善効果が得られない。好ましいＴｉ及びＢの含有量の合計は、０．００５ｍａｓｓ％〜０．１００ｍａｓｓ％である。
【００３１】
〔不可避的不純物〕
上記各元素の他は、Ａｌ及び不可避的不純物である。不可避的不純物としては、例えばＳｉ、Ｆｅ、Ｖ、Ｇａ等が挙げられる。ここで、ＳｉとＦｅが共に０．５０ｍａｓｓ％以下で、それ以外の元素がそれぞれ０．０５０ｍａｓｓ％以下であれば、本発明で得られるアルミニウム合金基板としてその特性を損なうことはない。
【００３２】
〔皮材〕
次に、本発明に係る磁気ディスク用アルミニウム合金板の皮材について説明する。
皮材を構成するアルミニウム合金は、Ｍｇ：２．０〜８．０ｍａｓｓ％、Ｃｕ：０．００５〜０．１５０ｍａｓｓ％、Ｚｎ：０．０５０〜０．６０ｍａｓｓ％、Ｓｉ：０．００１〜０．０６０ｍａｓｓ％、Ｆｅ：０．００１〜０．０６０ｍａｓｓ％を含有し、Ｃｒ：０．０１０〜０．３０ｍａｓｓ％、Ｍｎ：０．０１０〜０．３０ｍａｓｓ％、のうち１種又は２種以上を含有し、残部Ａｌと不可避的不純物からなる。
【００３３】
Ｍｇ：２．０〜８．０ｍａｓｓ％
Ｍｇは、主としてアルミニウム合金基板の強度を向上させる効果を有する。また、Ｍｇは、ジンケート処理時のジンケート皮膜を均一に、薄く、かつ、緻密に付着させる作用を奏するので、ジンケート処理工程の次工程である下地めっき処理工程において、Ｎｉ−Ｐからなるめっき表面の平滑性が向上する。Ｍｇの含有量は、２．０〜８．０ｍａｓｓ％である。Ｍｇの含有量が２．０ｍａｓｓ％未満ではめっき表面の平滑性が不十分であり、８．０ｍａｓｓ％を超えると粗大なＭｇ−Ｓｉ系化合物が生成し、エッチング時、ジンケート処理時、切削や研削加工時に粗大なＭｇ−Ｓｉ系化合物が脱落して、めっき表面にピットが発生する。その結果、めっき表面の平滑性が低下する。好ましいＭｇ含有量は、強度と製造の容易さの兼合いから３．０〜６．５０ｍａｓｓ％である。
【００３４】
Ｃｕ：０．００５〜０．１５０ｍａｓｓ％
Ｃｕはジンケート処理時のＡｌ溶解量を減少させ、またジンケート皮膜を均一に、薄く、緻密に付着させる効果を有する。その結果、次工程の下地めっき処理で形成されるＮｉ−Ｐからなるめっき表面の平滑性を向上させる。Ｃｕの含有量は、０．００５〜０．１５０ｍａｓｓ％とする。Ｃｕ含有量が０．００５ｍａｓｓ％未満では上記効果が十分に得られない。一方、Ｃｕ含有量が０．１５０ｍａｓｓ％を超えると粗大なＡｌ−Ｃｕ−Ｍｇ−Ｚｎ系金属間化合物が生成して、めっき処理後にピットが発生し平滑性が低下する。更に、材料自体の耐食性を低下させるため、ジンケート処理により生成するジンケート皮膜が不均一となり、めっきの密着性や平滑性が低下する。好ましいＣｕ含有量は、０．００５〜０．１００ｍａｓｓ％である。
【００３５】
Ｚｎ：０．０５０〜０．６０ｍａｓｓ％
Ｚｎは、Ｃｕ同様、ジンケート処理時のＡｌ溶解量を減少させ、またジンケート皮膜を均一に、薄く、緻密に付着させる効果を有する。その結果、次工程の下地めっき処理で形成されるＮｉ−Ｐからなるめっき表面の平滑性を向上させる。Ｚｎの含有量は、０．０５０〜０．６０ｍａｓｓ％とする。Ｚｎ含有量が０．０５０ｍａｓｓ％未満では上記効果が十分に得られない。一方、Ｚｎ含有量が０．６０ｍａｓｓ％を超えると粗大なＡｌ−Ｃｕ−Ｍｇ−Ｚｎ系金属間化合物が生成して、めっき処理後にピットが発生し平滑性が低下する。更に、材料自体の耐食性を低下させるため、ジンケート処理により生成するジンケート皮膜が不均一となり、めっきの密着性や平滑性が低下する。好ましいＺｎ含有量は、０．１０〜０．５０ｍａｓｓ％である。
【００３６】
Ｓｉ：０．００１〜０．０６０ｍａｓｓ％
Ｓｉは本発明の必須元素であるＭｇと結合し、めっき層において欠陥となる金属間化合物を生成するため、アルミニウム合金中にＳｉが含有されることは好ましくない。しかしながら、Ｓｉはアルミニウム地金に不可避的不純物として存在する元素である。アルミニウム合金の組成調整には純度の高い、例えば純度９９．９ｍａｓｓ％以上のアルミニウム地金を採用するが、このような地金にもＳｉが不可避的に含有する。アルミニウム地金からＳｉを０．００１ｍａｓｓ％未満まで取り除くことはアルミニウム地金を高純度に精錬することとなり、コスト高を招く。一方、Ｓｉの含有量が０．０６０ｍａｓｓ％を超えると粗大なＭｇ−Ｓｉ系金属間化合物が生成して、ピットなどの発生原因になる。従ってＳｉの含有量が０．００１〜０．０６０ｍａｓｓ％となるよう調整する。好ましいＳｉ含有量は、０．００１ｍａｓｓ％〜０．０２５ｍａｓｓ％未満である。
【００３７】
Ｆｅ：０．００１〜０．０６０ｍａｓｓ％
Ｆｅはアルミニウム中には殆ど固溶せず、Ａｌ−Ｆｅ系金属間化合物としてアルミニウム地金中に存在する。このアルミニウム地金中に存在するＦｅは、本発明の必須元素であるＡｌと結合し、めっき層において欠陥となる金属間化合物を生成するため、アルミニウム合金中にＦｅが含有されることは好ましくない。しかしながら、Ｆｅを０．００１ｍａｓｓ％未満まで取り除くのはアルミニウム地金を高純度に精錬することになりコスト高を招く。一方、Ｆｅ含有量が０．０６０ｍａｓｓ％を超えると粗大なＡｌ−Ｆｅ系金属間化合物が生成して、ピットなどの発生原因になる。好ましいＦｅ含有量は、０．００１〜０．０２５ｍａｓｓ％である。
【００３８】
皮材には更にめっき性や強度を向上させるために、Ｃｒ、Ｍｎの全て、又は一部を更に添加する。
Ｃｒ：０．０１０〜０．３００ｍａｓｓ％
Ｃｒは微細な金属間化合物として生成され、又はマトリックスに一部固溶して、加圧焼鈍時に再結晶粒の粗大化を抑制する効果を発揮し、強度などの機械的特性を向上させる元素である。また、めっきの密着性や平滑性を向上させる効果を発揮する。Ｃｒ含有量が０．０１０ｍａｓｓ％未満では、上記効果が十分に得られない。一方、Ｃｒ含有量が０．３０ｍａｓｓ％を超えても上記効果は飽和し、それ以上の顕著な改善効果が得られない。好ましいＣｒ含有量は、０．０３０〜０．２００ｍａｓｓ％である。
【００３９】
Ｍｎ：０．０１０〜０．３００ｍａｓｓ％
Ｍｎは、微細なＡｌ−Ｍｎ系金属間化合物として生成され、又は、マトリックスに一部固溶して、加圧焼鈍時に再結晶粒の粗大化を抑制する効果を発揮し、強度などの機械的特性を向上させる元素である。また、めっきの密着性や平滑性を向上させる効果を発揮する。Ｍｎ含有量が０．０１０ｍａｓｓ％未満では、上記効果が十分に得られない。一方、Ｍｎ含有量が０．３００ｍａｓｓ％を超えても上記効果は飽和し、それ以上の顕著な改善効果が得られない。好ましいＭｎ含有量は、０．０３０〜０．２００ｍａｓｓ％である。
【００４０】
皮材には更にめっき性を向上させるために、Ｃｌの含有量を規制してもよい。
Ｃｌ：０．００３００ｍａｓｓ％以下
Ｃｌの含有量が多いと本発明の必須元素であるＭｇと結合し、一部はＭｇ−Ｃｌ系化合物として存在し、めっき処理中にＣｌ系化合物がめっき処理液中に溶解し、Ａｌマトリックスに凹部が形成され、めっき表面にピットが発生することがある。従って、Ｃｌの含有量は０．００３００ｍａｓｓ％以下とすることが好ましい。なお、アルミニウム合金基板中のＣｌ含有量は、グロー放電質量分析法（ＧＤＭＳ）によって測定される。ＧＤＭＳ測定は、測定装置としてＶＧ・ＥＬＥＭＥＮＴＡＬ社のＶＧ９０００型を使用し、加速電圧８ｋＶの条件でアルゴンスパッタによって行った。
【００４１】
Ｂｅ：０．０００１〜０．００５０ｍａｓｓ％
Ｍｇを含有するアルミニウム合金は、一般にその鋳造時において、Ｍｇの溶湯酸化を抑制するため微量のＢｅを添加する。従って、本発明のアルミニウム合金においても、微量のＢｅを添加することは許容される。但し、Ｂｅ添加量が０．０００１ｍａｓｓ％未満では、上記効果が得られない。一方、Ｂｅ添加量が０．００５０ｍａｓｓ％を超えても上記効果は飽和し、それ以上の顕著な改善効果が得られない。従って、Ｂｅを添加する場合のＢｅ添加量は、０．０００１〜０．００５０ｍａｓｓ％とするのが好ましく、０．０００１〜０．００２５ｍａｓｓ％とするのが更に好ましい。
【００４２】
〔不可避的不純物〕
上記各元素の他は、Ａｌ及び不可避的不純物である。不可避的不純物としては、上記Ｓｉ、Ｆｅを除く、例えばＴｉ、Ｖ、Ｇａ、Ｂ等が挙げられる。ここで、これらの元素がそれぞれ０．０５０ｍａｓｓ％以下であれば、本発明で得られるアルミニウム合金基板としてその特性を損なうことはない。
【００４３】
皮材と心材の接合性を向上させるために、皮材と心材のＦｅ量の比を規制し、心材のＦｅ量を制御してもよい。
【００４４】
皮材と心材に含まれるＦｅ量の比（皮材のＦｅ量／心材のＦｅ量）：０．３０以下
皮材と心材に含まれるＦｅ量の比が０．３０を超えてくると、皮材と心材のＡｌ−Ｆｅ系化合物の個数の差が小さくなり、合わせ材の圧延時に化合物が接合を阻害し、未接合部が発生し、フクレが発生する可能性がある。従って、皮材と心材に含まれるＦｅ量の比は０．３０以下とすることが好ましい。
【００４５】
心材のＦｅ量：０．０５０〜０．５０ｍａｓｓ％
Ｆｅはアルミニウム中には殆ど固溶せず、Ａｌ−Ｆｅ系金属間化合物としてアルミニウム地金中に存在する。このアルミニウム地金中に存在するＦｅは、本発明の必須元素であるＡｌと結合し、金属間化合物を生成する。Ｆｅを０．０５０ｍａｓｓ％未満まで取り除くのはアルミニウム地金を高純度に精錬することになりコスト高を招く。一方、Ｆｅ含有量が０．５０ｍａｓｓ％を超えると粗大なＡｌ−Ｆｅ系金属間化合物が多数生成して、合わせ材の圧延時に化合物が接合を阻害し、未接合部が発生し、フクレが発生する可能性がある。好ましいＦｅ含有量は、０．０５０〜０．５０ｍａｓｓ％である。
【００４６】
〔ディスクブランク表面に存在するフクレ分布状態〕
次に、本発明に係るディスクブランクの表面におけるフクレの分布状態について説明する。
【００４７】
ディスクブランクの表面において、フクレの部分は皮材の未接合部であるため、フクレが多数存在すると基板の製造工程でその部分及びその周辺も皮材が剥離し、めっき処理後にピットやノジュールが多発し、めっき表面の平滑性が低下する。従って、ディスクブランク表面に存在するフクレの個数は１個／６０００ｍｍ２以下とすることが好ましい。さらに好ましいフクレの個数は０個／６０００ｍｍ２である。
【００４８】
〔研削工程後のアルミニウム合金基板の表面と裏面のクラッド率の平均値の比〕
研削工程後のアルミニウム合金基板の表面と裏面のクラッド率の平均値の比（表面のクラッド率／裏面のクラッド率）は２．０以下とする。表面と裏面のクラッド率の平均値の比が２．０を超えてくると、磁性体のスパッタリング等の加熱工程で、表面の皮材の熱応力が裏面の皮材の熱応力よりも大幅に大きくなり、モーメントのバランスが大きく崩れる。その結果、大きな変形が起こり、平坦性が悪化する。従って、研削工程後のアルミニウム合金基板の表面と裏面のクラッド率の平均値の比（表面のクラッド率／裏面のクラッド率）は２．０以下とする。好ましい表面と裏面のクラッド率の平均値の比は、１．５以下であり、更に好ましくは、１．０以下である。なお、表面と裏面の定義は、片面のクラッド率（片面の皮材厚さ／クラッド材の全厚さ）の平均値を両面で測定し決定している。値が大きい方の面を表面とし、その反対の面を裏面としている。
【００４９】
〔磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法〕
次に、クラッド材の磁気ディスク用アルミニウム合金基板を用いた磁気ディスクの製造工程を図１に示すフローを参照しながら説明する。ここで、アルミニウム合金成分の調整（ステップＳ１）〜冷間圧延（ステップＳ６）は、アルミニウム合金板を製造する工程であり、ディスクブランクの作製（ステップＳ７）〜磁性体の付着（ステップＳ１２）は、製造されたアルミニウム合金板を磁気ディスクとする工程である。
【００５０】
図１に示すように、まず、心材、皮材に対し、上述の成分組成に調整する。そして、その成分組成を有するアルミニウム合金の溶湯は、常法にしたがって地金や母合金を加熱・溶融することによって調製する（ステップＳ１）。次に、所望組成に配合されたアルミニウム合金の溶湯から半連続鋳造（ＤＣ鋳造）法や連続鋳造（ＣＣ）法等によりアルミニウム合金を鋳造する（ステップＳ２）。次に、皮材用鋳塊の均質化処理を行い、熱間圧延して所望の皮材とする工程と、心材用鋳塊を面削し所望の板厚とした心材とし、網目構造が形成されてなる接合補助部材を用い、この接合補助部材の一方の側に又はその両側に、Ａｌシートを配置した形態において、それら接合補助部材とＡｌシートとを、心材と皮材の間に介在させて合わせ材を作製する工程を行う（ステップＳ３）。
【００５１】
心材には、例えば、半連続鋳造（ＤＣ鋳造）法や連続鋳造（ＣＣ）法等で調製した鋳塊を用いる。鋳造後、面削や切削等の機械的除去やアルカリ洗浄等の化学的除去を行って酸化皮膜を除去しておくと、後の心材と皮材との圧接が良好になされる。
【００５２】
皮材はＤＣ鋳造法やＣＣ法等で得た鋳塊を面削し、熱間圧延して所定寸法の板材とする。熱間圧延前に均質化処理は実施してもしなくても良いが、実施する場合には３５０℃以上５５０℃以下で１時間以上等の条件で行うことが好ましい。皮材を所望の厚さとするための熱間圧延をするに当たっては、特にその条件は限定されるものではなく、熱間圧延開始温度を３５０℃以上５００℃以下とし、熱間圧延終了温度は２６０℃以上３８０℃以下とすることが好ましい。また、皮材を所望の厚さとするための熱間圧延後の素板を硝酸や苛性ソーダ等で素洗いすると、当該熱間圧延で生成した酸化皮膜が除去され、心材との圧接が良好になされる。
【００５３】
なお、皮材のＣｌ量低減のため、アルミニウム合金の溶湯を調製する段階において、原料（アルミニウム地金やＭｇ母合金等）中のＣｌ含有量は０．００３００ｍａｓｓ％以下とすることが好ましい。０．００３００ｍａｓｓ％を超えるとアルミニウム合金基板としたときにＣｌ含有量が０．００３００ｍａｓｓ％を超えてＭｇ−Ｃｌ系化合物が形成されることにより、めっき処理時に微細ピットが発生してめっき表面の平滑性が低下する可能性がある。より好ましいＣｌ含有量は、０．００２００ｍａｓｓ％以下であり、０ｍａｓｓ％が最も好ましい。
【００５４】
本発明の実施形態において、心材と皮材とをクラッドするにあたり、網目構造が形成されてなる接合補助部材を用い、この接合補助部材の一方の側に又はその両側に、Ａｌシートを配置した形態において、それら接合補助部材とＡｌシートとを、心材と皮材の間に介在させて合わせ材を作製する。なお、皮材のクラッド率（クラッド材全厚さに対する皮材厚さの比率）は特に限定されるものではないが、必要な製品板強度や平坦度、研削量に応じて適宜定められ、３．０ｍａｓｓ％以上３０ｍａｓｓ％以下とするのが好ましく、５．０ｍａｓｓ％以上２０ｍａｓｓ％以下とするのがより好ましい。例えば、熱間圧延して板厚２０ｍｍ程度の皮材とする工程と、心材用鋳塊を面削し板厚１６０ｍｍ程度の心材とし、厚さが０．５０ｍｍの接合補助部材と、５０μｍの厚さのＡｌシートを皮材と心材の間に配置し合わせ材とする。
【００５５】
図２に、合わせ材の構造を模式的に示す。合わせ材１００は、板状の心材１０の両側の主面上にそれぞれ、Ａｌシート２０、接合補助部材３０、Ａｌシート４０、及び、皮材５０が順に積層された構造を備える。
【００５６】
Ａｌシート２０及びＡｌシート４０は、アルミニウム又はアルミニウム合金から形成された薄い箔状の部材である。
【００５７】
接合補助部材３０は、アルミニウム又はアルミニウム合金から形成された複数のＡｌ線材を用いて網状に構成された部材である。接合補助部材３０は、網目構造の交差部において、Ａｌ線材の重なりによって形成された点状厚肉部を備える。なお、本実施形態の接合補助部材３０はいわゆる平織として構成されているが、上記の点状厚肉部が形成される織り方であれば例えば綾織などとしてもよい。
【００５８】
次に、合わせ材の均質化処理を実施する（ステップＳ４）。均質化処理の条件は特に限定されるものではなく、例えば、３５０℃以上５５０℃以下で１時間以上等の条件で行うことが好ましい。
【００５９】
心材と皮材との合わせ材を均質化処理する際には、心材と皮材の界面の酸化皮膜の生成を極力抑制する必要がある。そのためには、酸化皮膜が生成し易い組成を有するアルミニウム合金を均質化処理する場合には、例えば、窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガス、一酸化炭素などの還元性ガス、真空などの減圧ガスなどの非酸化性雰囲気中で行うのが好ましい。
【００６０】
次に、均質化処理をしたアルミニウム合金を熱間圧延し板材とする（ステップＳ５）。熱間圧延を行うことで、心材と皮材がクラッドされる。熱間圧延を行うにあたっては、特にその条件は限定されるものではなく、熱間圧延開始温度を３００℃以上５００℃以下が好ましく、熱間圧延終了温度は２６０℃以上４００℃以下が好ましい。なお、ここで熱間圧延終了板厚は３．０〜６．０ｍｍ程度とする。
【００６１】
熱間圧延によって得られたアルミニウム合金板は、冷間圧延によって所望の製品板厚に仕上げられる（ステップＳ６）。冷間圧延の条件は特に限定されるものではなく、必要な製品板強度や板厚に応じて定めれば良く、圧延率を１０ｍａｓｓ％以上９０ｍａｓｓ％以下が好ましい。なお、ここで冷延終了板厚は１．０ｍｍ程度とする。
【００６２】
冷間圧延の前あるいは冷間圧延の途中で、冷間圧延加工性を確保するために焼鈍処理を施してもよい。焼鈍処理を実施する場合には、例えばバッチ式の加熱ならば、３００℃以上４５０℃以下で０．１時間以上１０時間以下の条件で行うことが好ましい。
【００６３】
上述の各工程は何れもディスクブランク表面のフクレの個数や研削加工後のアルミニウム合金基板の表面と裏面のクラッド率の平均値の比に関係する。本発明者らは、ステップＳ３の網目構造が形成されてなる接合補助部材を用い、この接合補助部材の一方の側に又はその両側に、Ａｌシートを配置した形態において、それら接合補助部材とＡｌシートとを、心材と皮材の間に介在させて合わせ材を作製する工程に特に注目した。
【００６４】
本発明では、所定の点状厚肉部が網目構造の交差部に形成されてなる構成の接合補助部材の片側又は両側に、Ｍｇ含有量が０〜０．７０ｍａｓｓ％の所定厚さのＡｌシートを配置して、心材と皮材との界面に介在せしめてなる形態において、クラッド圧延が行われるようにすることによって、それら接合補助部材とＡｌシートの機能に基づいて、接合されるべき材料の表面に形成されている酸化皮膜の破壊を効果的に実現しつつ、Ａｌ心材とＡｌ皮材との界面接合を容易と為し、更に、その促進を有利に図り得ることとなる。
【００６５】
すなわち、所定の点状厚肉部が形成されてなる接合補助部材は、その両側に配される心材や皮材及びＡｌシートの表面に存在する酸化皮膜を効果的に破壊する機能を有し、また、そのような接合補助部材の片側又は両側に配されるＡｌシートは、酸化皮膜が破壊された後の心材と皮材との界面接合を促進する機能を有しているのである。そして、そのような構成によれば、クラッド圧延の初期において、接合補助部材の点状厚肉部とＡｌシートを介した皮材や心材との接触点に荷重が集中して、強烈な圧下力が加えられるようになるために、Ｍｇ含有量が多い皮材や心材の場合にあっても、かかる接触点において、皮材や心材の酸化皮膜が効果的に破壊され、更に当該接触点とそれ以外の部分との境界に生ずる剪断力によって、酸化皮膜の破壊が、そのような接触点を起点として、進展するようになるのである。また、これと同時に、接合補助部材の点状厚肉部は、強い荷重によって、Ａｌシートに食い込むようになるために、Ａｌシートは大きく変形し、そしてその変形に伴って、Ａｌシートを覆っている酸化皮膜が破壊されることとなるのである。更に、Ａｌシートは、Ｍｇ含有量を０〜０．７０ｍａｓｓ％とした柔らかいＡｌ材質にて構成されているところから、上述した酸化皮膜の破壊の進展により、露出したＡｌ皮材及びＡｌ心材とＡｌシートとの金属表面同士が直ちに強く押し当てられ、接合せしめられるようになるのである。加えて、接合補助部材とＡｌシートとの間においても、上記と同様に、それぞれの露出した金属表面同士が、直ちに強く押し当てられて、接合されることとなるのである。
【００６６】
本発明において用いられる、接合補助部材における点状厚肉部の厚さとしては、０．２０ｍｍ〜２．４ｍｍの範囲内において、主としてＡｌ皮材の積層時の厚さやＡｌ皮材及びＡｌ心材の材質に応じて、適宜に決定されることとなる。なお、かかる点状厚肉部の厚さが０．２０ｍｍ未満となると、前述の如き点状厚肉部の接触点において、皮材や心材の酸化皮膜、更にはＡｌシートの酸化皮膜を破壊する効果を充分に発揮させることが困難となるために、接合が充分に行われ得なくなる問題がある。また、かかる点状厚肉部の厚さが２．４ｍｍを超えるようになると、Ａｌ皮材への食い込みが大きくなり、クラッド率分布が悪化するという問題がある。
【００６７】
また、本発明に従う接合補助部材における点状厚肉部間の間隔は、主として、Ａｌ皮材の積層時の厚さやＡｌ皮材及びＡｌ心材の材質等に応じて、適宜に選定されることとなるが、それらによらず、平面上における縦横二方向において、それぞれ、０．２０ｍｍ〜１３ｍｍの間隔において、点状厚肉部が相互に連結されて、位置固定に保持されていることが望ましく、またその連結部の厚さは、前述した酸化皮膜を破壊する機能を有利に奏せしめる上において、点状厚肉部よりも薄くなるように構成されることとなる。なお、かかる点状厚肉部間の距離が０．２０ｍｍ未満であると、点状厚肉部への圧下力が弱くなるために、接触点での酸化皮膜の破壊が充分に惹起され得ず、接合が不十分となる。また、点状厚肉部間の距離が１３ｍｍを超えるようになると、酸化皮膜が破壊される起点が少なくなるために、未接合部が発生する。なお、そのような点状厚肉部が連結されずに独立して点在していると、接合補助部材及びＡｌシートの設置時や、圧延の初期段階において、かかる点状厚肉部の位置が移動し、本発明にて規定される範囲外の間隔となることによって、酸化皮膜の破壊が充分に行い難くなり、未接合部が発生して、皮材にフクレが生じたり、圧延途中において皮材が剥離する等の問題が惹起されるおそれがある。このため、接合補助部材の点状厚肉部は、互いに連結されている状態とされ、隣接する点状厚肉部間において、その間隔が容易に変化しないように、構成されている。
【００６８】
そして、本発明において、そのような点状厚肉部を有する接合補助部材は、純アルミニウム又はアルミニウム合金からなる限りにおいて、その組成は特に限定されるものではないが、前述した酸化皮膜を破壊する機能を有利に高める上において、接合補助部材の強度は、心材や皮材と同等以上であることが好ましい。一般的に、熱間クラッド圧延は４５０〜５００℃の温度で実施されることとなるところから、接合補助部材には、そのような４５０〜５００℃の温度領域において、心材や皮材に対して同等以上の強度が求められるのである。ここで、アルミニウムの高温強度を高める添加元素としては、Ｍｇが最も有効であるところから、本発明にあっては、接合補助部材の形成のための材質として、１．５〜６．０ｍａｓｓ％のＭｇを含有するアルミニウム合金が、好適に用いられることとなる。なお、このＭｇ含有量が１．５ｍａｓｓ％に満たない場合には、強度向上の効果が乏しく、また６．０ｍａｓｓ％を超えるようになると、接合補助部材の製造が困難となる問題を生じる可能性がある。また、接合補助部材を与えるアルミニウム合金には、その他の元素として、Ｓｉ：０．４０ｍａｓｓ％以下、Ｆｅ：０．６０ｍａｓｓ％以下、Ｃｕ：０．２０ｍａｓｓ％以下、Ｍｎ：１．０ｍａｓｓ％以下、Ｚｎ：０．２５ｍａｓｓ％以下が含有せしめられていても良い。更にまた、Ｍｇ以外の強度向上元素としてＣｕを添加したＪＩＳ  ２０００系アルミニウム合金やＺｎを添加したＪＩＳ  ７０００系アルミニウム合金を用いて、接合補助部材を形成することも出来る。
【００６９】
また、そのような本発明に従う点状厚肉部を有する接合補助部材の一つの具体的な形態として、アルミニウム若しくはアルミニウム合金からなるＡｌ線材を縦線及び横線として用いて、それらが碁盤目形態を形成するように交差して配置せしめることにより、構成されるものを挙げることが出来、そこでは、それら縦線と横線の交差部にて、上記の点状厚肉部が形成され、更に、その点状厚肉部が、縦横二方向において所定の間隔で配置されて、連結されてなる構造を呈するものである。ここで用いられるＡｌ線材の線径が０．１０ｍｍ未満となると、形成される点状厚肉部の厚さが０．２０ｍｍ未満となり、前述の如き酸化皮膜を破壊する効果が発揮され難くなるために、接合が充分に行われ難くなる問題を惹起するおそれがある。また、Ａｌ線材の線径が１．２ｍｍを超えるようになると、点状厚肉部の厚さが２．４ｍｍを超えるようになるため、先述の如く、点状厚肉部での皮材への食い込みが大きくなって、クラッド材表面の平滑性に問題を惹起するおそれがある。このため、Ａｌ線材の線径としては、０．１０ｍｍ〜１．６ｍｍの範囲において選定されることが好ましい。
【００７０】
ところで、このようなＡｌ線材を縦線及び横線として用いて構成される接合補助部材の更に具体的な形態としては、例えば、縦横に配するＡｌ線材の上下関係を交互に入れ替えることで形状固定したものや、縦横に配したＡｌ線材の交点を圧着等によって接合したもの等、多数の点状厚肉部をそれらの配設位置が自由に変化しないように、拘束乃至は固定した状態下において、縦方向及び横方向にそれぞれ所定間隔で分布せしめてなる構造のものを挙げることが出来るが、実用的には、アルミニウム線材又はアルミニウム合金線材を用いた平織金網や綾織金網等の織り金網が、有利に用いられることとなる。また、前述せるように、一般的なパンチングメタル構造は、圧下力を均等に受けるために、本発明においては採用の困難なものであるが、アルミニウムパンチングメタルの縦横接続部（縦横二方向において、隣接する四つの穴にて囲まれた部位）に、アルミニウム若しくはアルミニウム合金からなるアルミニウム材質に相当する素材で、所定厚さの肉盛りを設けた構造のものであれば、本発明においても採用することが出来、本発明の効果を発揮させることが可能である。
【００７１】
また、本発明の他の一つの特徴は、Ｍｇ含有量が０〜０．７０ｍａｓｓ％とされたアルミニウム材質からなるＡｌシートを、上記した接合補助部材の少なくとも一方の側に配置した形態において、皮材と心材との間に介在せしめて、熱間クラッド圧延を行うことにあり、そしてそのようなＡｌシートの存在によって、皮材と心材との間の界面接合が促進せしめられるようにしたことにある。なお、Ａｌシートの厚さが５．０μｍ未満であると、クラッド圧延の初期に、界面に敷いた接合補助部材とＡｌシートの厚みに相当する圧下量の圧延を行った段階で、接合補助部材における点状厚肉部が、Ａｌシートに食い込んだ際に破れてしまい、Ａｌシートがない領域が生じることによって、一部で未接合が発生する。また、その厚さが２００μｍを超えるようになると、接合補助部材における点状厚肉部による皮材や心材の酸化皮膜破壊の効果が乏しくなり、接合性が低下する。
【００７２】
そして、かかるＡｌシートを構成するアルミニウム材質のＭｇ含有量が０．７０ｍａｓｓ％を超えるようになると、Ａｌシートの強度が高くなることに加えて、Ａｌシートの酸化皮膜が強固となり、皮材や心材の接合の妨げとなる。このＡｌシートを与えるアルミニウム材質のその他の成分としては、特に限定されるものではないが、強度が低い材質の方が、上述の如く、皮材や心材、接合補助部材に対して、クラッド圧延時において直ちに強く押し当てられて、接合されることとなるところから、純アルミニウムや純度（アルミニウム含有量）が９９ｍａｓｓ％以上であるアルミニウム材質にて構成されていることが、より好ましいのである。
【００７３】
なお、かくの如き接合補助部材やＡｌシートの機能をより向上させるには、それら接合補助部材やＡｌシートの表面の酸化皮膜を、皮材、心材及びＡｌ中間材における酸化皮膜と共に、熱間クラッド圧延に先立って、酸溶液又はアルカリ溶液によって化学的に破壊、除去しておくことが有効である。この酸溶液又はアルカリ溶液による酸化皮膜の破壊・除去は、一般的に、エッチング処理と呼ばれているが、本発明における接合補助部材やＡｌシート等のエッチング処理には、フッ酸、硫酸、リン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の、酸やアルカリの水溶液が代表的に用いられ、またエッチングによって生ずるスマット除去のために、硝酸等も用いられることとなる。そして、このエッチング処理によって、酸化皮膜が破壊、除去された接合補助部材の表面には、そのようなエッチング処理後に、直ちに、自然酸化皮膜が形成されるようになるが、素材製造時に形成された酸化皮膜に比べて、薄く、脆いために、熱間クラッド圧延時の圧下力によって破壊され易く、それ故に、エッチング処理を施していないものに比べて、Ａｌシートとの接合性、更には心材や皮材との接合性を向上せしめることが可能となるのである。
【００７４】
そして、本発明に従って、上記した接合補助部材とＡｌシートとを用いて、所定の皮材と心材とのクラッド圧延を実施するに際しては、かかる接合補助部材の片側又は両側に、Ａｌシートを配置せしめた形態において、それら接合補助部材とＡｌシートとが、皮材と心材との接合界面に介在せしめられることとなるのであるが、そのための方法としては、例えば、心材の上に、Ａｌシート、接合補助部材、Ａｌシート及び皮材の順に順次積層せしめて、積層物を得る手法があり、また、接合補助部材の両側に、Ａｌシートを配置してなる予備積層物を予め準備しておき、この予備積層物を、Ａｌ皮材とＡｌ心材との間に敷いて、積層せしめた積層物を得る手法も、採用可能である。
【００７５】
そして、本発明に従って、接合補助部材の片側又は両側にＡｌシートを配してなる形態において、それらをＡｌ皮材とＡｌ心材との間に介在せしめて得られる積層物を、熱間クラッド圧延するに際しては、かかる積層物の重ね合わせ面、換言すれば、接合界面が外気中に連通されている状態となるように、それら皮材とＡｌシートと接合補助部材とＡｌシートとＡｌ心材とを、それらの外周部において部分的に固定した後、或いは固定することなく、熱間クラッド圧延が施されることが望ましい。
【００７６】
そこにおいて、例えば、そのような積層物を構成する皮材、Ａｌシート、接合補助部材、Ａｌシート及び心材を、それらの外周部において部分的に固定するための手段としては、一般に、溶接が有利に採用されるところであるが、これに限られるものではなく、ロウ付けやＦＳＷ（摩擦撹拌接合）による固定（接合）方式や、アルミ製金具による締結方式等も適宜に採用可能である。また、そのような外周部における部分的な固定は、皮材と心材の接合界面に接合補助部材及び２つのＡｌシートを介在せしめた状態下、それらの外周部の一部において接合界面の周縁部が位置する部位を少なくとも含む部分に対して実施され、これによって、接合界面は、かかる固定部位を除いて、外気中に連通されてなる形態とされている。
【００７７】
なお、本発明にあっては、上述の如き積層物における部分的な固定に代えて、例えば、かかる積層物を構成する皮材、Ａｌシート、接合補助部材、Ａｌシート及び心材を相互に固定することなく、それらの接合界面を大気に連通せしめてなる形態下において、積層物をクラッド圧延に供することも可能である。尤も、積層物を構成する各積層材料がバラバラの状態では、加熱工程等での取り扱い性に問題を生じるようになるところから、例えば、積層物を適当な締結バンドにて固定してなる形態において加熱を行い、そしてクラッド圧延の直前に、締結バンドを取り外して、無固定の状態において圧延ロールにセットして、クラッド圧延を開始するようにすることも可能である。
【００７８】
このように、本発明に従って、クラッド材たる皮材と心材との間に、所定の接合補助部材を、その片側又は両側に所定のＡｌシートを配してなる形態において、クラッド圧延することにより、圧延時のクラッド材の界面の接合性が、効果的に向上せしめられることとなるのであり、これによって、従来では製造が困難であったクラッド材の製造も可能となり、以て、強度、成型性、耐食性等、両立し難い特性を併せ持った材料の設計が可能となったのである。また、クラッド率分布の改善やフクレの発生の抑制といった品質改善効果も得られることから、クラッド材の歩留まり向上が有利に実現され得て、製造コストを低下せしめることが可能となったのである。
【００７９】
このようにして得たアルミニウム合金板を磁気ディスク用アルミニウム合金基板として加工するには、まず、アルミニウム合金板を円環状に打ち抜いて円環状アルミニウム合金板を作製する（ステップＳ７）。次に、円環状アルミニウム合金板に大気中で２５０〜４５０℃で３０分以上、好ましくは３００〜３８０℃で６０分以上の加圧平坦化焼鈍を施し、平坦化したディスクブランクを作製する（ステップＳ８）。処理温度が２５０℃未満の場合や処理時間が３０分未満では、平坦化の効果が得られない場合がある。処理温度が４５０℃を超える場合には、結晶粒が粗大化し、めっきの密着性が低下する場合がある。
【００８０】
次に、平坦化したディスクブランクに切削加工と研削加工を施し（ステップＳ９）、アルミニウム合金基板とする。
【００８１】
以上のようにして作製した磁気ディスク用アルミニウム合金基板に、めっき前処理として脱脂、エッチング、ジンケート処理（Ｚｎ置換処理）が施される（ステップＳ１０）。
【００８２】
脱脂は市販のＡＤ−６８Ｆ（上村工業製）脱脂液等を用い、温度４０〜７０℃、処理時間３〜１０分、濃度２００〜８００ｍＬ／Ｌの条件で脱脂を行うことが好ましく、温度４５〜６５℃、処理時間４〜８分、濃度３００〜７００ｍＬ／Ｌの条件で行うのがより好ましい。温度が４０℃未満の場合や処理時間が３分未満の場合、或いは、濃度が２００ｍＬ／Ｌ未満の場合には、十分な脱脂効果が得られないことがある。また、温度が７０℃を超える場合や処理時間が１０分を超える場合、或いは、濃度が８００ｍＬ／Ｌを超える場合は、基板表面の平滑性が低下し、めっき処理後にピットが発生し平滑性が低下することがある。
【００８３】
エッチングは市販のＡＤ−１０７Ｆ（上村工業製）エッチング液等を用い、温度５０〜７５℃、処理時間０．５〜５分、濃度２０〜１００ｍＬ／Ｌの条件でエッチングを行うことが好ましく、温度５５〜７０℃、処理時間０．５〜３分、濃度４０〜１００ｍＬ／Ｌの条件で行うのがより好ましい。温度が５０℃未満の場合や処理時間が０．５分未満の場合、或いは、濃度が２０ｍＬ／Ｌ未満の場合には、十分なエッチング効果が得られないことがある。また、温度が７５℃を超える場合や処理時間が５分を超える場合、或いは、濃度が１００ｍＬ／Ｌを超える場合は、基板表面の平滑性が低下し、めっき処理後にピットが発生し平滑性が低下することがある。なお、エッチング処理と後述のジンケート処理の間に、通常のデスマット処理を行なっても良い。
【００８４】
ジンケート処理は市販のＡＤ−３０１Ｆ−３Ｘ（上村工業製）のジンケート処理液等を用い、温度１０〜３５℃、処理時間０．１〜５分、濃度１００〜５００ｍＬ／Ｌの条件で行うことが好ましく、温度１５〜３０℃、処理時間０．１〜２分、濃度２００〜４００ｍＬ／Ｌの条件で行うのがより好ましい。温度が１０℃未満の場合や処理時間が０．１分未満の場合、或いは、濃度が１００ｍＬ／Ｌ未満の場合には、ジンケート皮膜が不均一となり、めっき処理後に従来ピットが発生し平滑性が低下することがある。また、温度が３５℃を超える場合や処理時間が５分を超える場合、或いは、濃度が５００ｍＬ／Ｌを超える場合も、ジンケート皮膜が不均一となり、めっき処理後に従来ピットが発生し平滑性が低下することがある。
【００８５】
更に、ジンケート処理したアルミニウム合金基板表面に下地処理として無電解でのＮｉ−Ｐめっき処理が施されたのち表面の研磨が行われる（ステップＳ１１）。無電解でのＮｉ−Ｐめっき処理は、市販のニムデンＨＤＸ（上村工業製）めっき液等を用い、温度８０〜９５℃、処理時間３０〜１８０分、Ｎｉ濃度３．０〜１０ｇ／Ｌの条件でめっき処理を行うことが好ましく、温度８５〜９５℃、処理時間６０〜１２０分、Ｎｉ濃度４．０〜９．０ｇ／Ｌの条件で行うのがより好ましい。温度が８０℃未満の場合やＮｉ濃度が３．０ｇ／Ｌ未満の場合にはめっきの成長速度が遅く、生産性の低下を招く場合がある。処理時間が３０分未満の場合にはめっき表面に欠陥が多数発生し、めっき表面の平滑性が低下することがある。温度が９５℃を超える場合やＮｉ濃度が１０ｇ／Ｌを超える場合にはめっきが不均一に成長するため、めっきの平滑性が低下する場合がある。処理時間が１８０分を超える場合には、生産性の低下を招くことがある。これらのめっき前処理、ならびに、Ｎｉ−Ｐめっき処理によって、本発明の下地処理した磁気ディスク用アルミニウム合金基板が得られる。
【００８６】
最後に、下地めっき処理とした表面にスパッタリングによって磁性体を付着させ磁気ディスクとする（ステップＳ１２）。
【実施例】
【００８７】
以下に、本発明例と比較例により本発明を詳細に説明する。まず、図１の各ステップについて下記に示す。
【００８８】
（１）ステップＳ１：表１に示す成分組成のアルミニウム合金溶湯（７５０℃）を調製した。
（２）ステップＳ２：アルミニウム合金溶湯をＤＣ鋳造法により厚さ２００ｍｍの鋳塊とした。
（３）ステップＳ３：心材は、鋳塊の両面を面削し表３〜表５に示す厚さとした。皮材は、鋳塊の両面１０ｍｍの面削を行い、大気中にて５１０℃で６時間の均質化処理をし、熱間圧延を行ない、表３〜表５に示す板厚の熱間圧延板とした。その後、熱間圧延板を苛性ソーダで素洗いし皮材とした。次に、表２に示す成分と表３〜表５に示すサイズのＡｌシートと点状厚肉部材を皮材と心材の間に挟み、心材の両面に皮材を設けた合わせ材を作製した。目標のクラッド率を表３〜表５に示す。
（４）ステップＳ４：５３０℃、６時間の条件で合わせ材の均質化処理を施した。
（５）ステップＳ５：開始温度４５０℃で熱間圧延を行ない、板厚３．０ｍｍの熱延板とした。
（６）ステップＳ６：冷間圧延により最終板厚の１．０ｍｍまで圧延し、圧延板とした。
（７）ステップＳ７：前記圧延板から外径９５ｍｍ、内径２６ｍｍの円環状に打抜き、円環状アルミニウム合金板を作製した。
（８）ステップＳ８：円環状アルミニウム合金板に３８０℃で３時間加圧焼鈍を施しディスクブランクとした。
（９）ステップＳ９：端面加工、研削加工（表面１０μｍ研削）を行い、アルミニウム合金基板とした。その後、ＡＤ−６８Ｆ（上村工業製）により６０℃で５分の脱脂を行った後、ＡＤ−１０７Ｆ（上村工業製）により６５℃で１分のエッチングを行い、更に３０ｍａｓｓ％ＨＮＯ３水溶液（室温）で２０秒間デスマットを行なった。
（１０）ステップＳ１０：アルミニウム合金基板表面に、ＡＤ−３０１Ｆ−３Ｘ（上村工業製）を用いてダブルジンケート処理を施した。
（１１）ステップＳ１１：ジンケート処理した表面に無電解Ｎｉ−Ｐめっき処理液（ニムデンＨＤＸ（上村工業製））を用いてＮｉ−Ｐを２０μｍ厚さに無電解めっきし、その後、羽布により仕上げ研磨（研磨量５μｍ））を行った。
【００８９】
【表１】
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【００９０】
【表２】
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【００９１】
【表３】
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【００９２】
【表４】
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【００９３】
【表５】
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【００９４】
上記加圧焼鈍（ステップＳ８）後、研削加工（ステップＳ９）後、ならびに、めっき処理（ステップＳ１１）後の磁気ディスク用アルミニウム合金基板について以下の評価を行った。なお、比較例１１は強度が低すぎたため、加工中に変形し、アルミニウム合金基板を作製できなかった。比較例１２は粗大なＭｇ−Ｓｉ系化合物が生成し、めっき剥離が生じてしまった。比較例２８〜３０は合わせ材の熱間圧延中に、皮材と心材が剥離してしまい、アルミニウム合金板を作製することができなかった。比較例３１は心材のＣｕ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｔｉ＋Ｂのいずれも含有量が少なかったため、めっき剥離が生じてしまった。比較例３２は心材のＣｒ、Ｍｎのいずれも含有量が少なかったため、めっき剥離が生じてしまった。そのため比較例１１、１２及び２８〜３２は下記評価を行っていない。
【００９５】
〔フクレの個数〕
フクレの個数は、加圧焼鈍後のディスクブランク表面を目視で検査し、幅０．５ｍｍ以上のフクレについて、各々の６５５７ｍｍ２当たりの個数を数えて存在密度（個／６０００ｍｍ２）に換算して求めた。
【００９６】
〔研削工程後のアルミニウム合金基板の表面と裏面のクラッド率の平均値の比（表面のクラッド率／裏面のクラッド率）〕
表面と裏面のクラッド率の平均値の比は、研削加工後のアルミニウム合金基板の断面を１０点観察し、両面のクラッド率を測定することで算出している。なお、表面と裏面の定義は、片面のクラッド率（片面の皮材厚さ／クラッド材の全厚さ×１００）の平均値を両面で測定し決定している。値が大きい方の面を表面とし、その反対の面を裏面としている。
【００９７】
〔平坦性〕
研削加工後のアルミニウム合金基板を赤外線加熱装置により６００℃／分で昇温し、２５０℃、１０ｓｅｃの条件で加熱し、３０枚の平坦度を平坦度測定器により測定し、平坦性の評価を行った。平坦度の最大値が５．０μｍ未満のものを優良（◎印）とし、平坦度の最大値が５．０μｍ以上のものを不良（×印）とした。なお、この平坦度はＺｙＧＯ非接触フラットネス測定機で測定した。
【００９８】
〔Ｎｉ−Ｐめっき表面平滑性〕
Ｎｉ−Ｐめっき処理後のアルミニウム合金基板の表面を光学顕微鏡にて観察（視野：１．０ｍｍ２）し、最長径１．０μｍ以上の大きさのピットの個数を数え、単位面積当たりの個数（個／ｍｍ２）を求めた。ピットが１個／ｍｍ２以下の場合を優良（◎印）とし、２〜４個／ｍｍ２の場合を良（○印）とし、５個／ｍｍ２以上の場合を不良（×印）とした。
【００９９】
【表６】
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【０１００】
表６に示すように、本発明例１〜１０では、平坦性とめっき表面の平滑性に優れた磁気ディスク用アルミニウム合金基板が得られた。
【０１０１】
これに対して、比較例では何れも本発明の限定条件を外れる要素を含んでいたため、平坦性、平滑性の少なくともいずれかが劣り、磁気ディスクの高容量化が可能な磁気ディスク用アルミニウム合金基板が得られなかった。
【０１０２】
比較例１３では、皮材のＭｇの含有量が少なかったためにジンケート皮膜が不均一となり、めっき表面の平滑性に劣った。
【０１０３】
比較例１４では、皮材のＭｇの含有量が多かったために粗大なＭｇ−Ｓｉ系金属間化合物が生成した。その結果、この金属間化合物がめっき前処理時に脱落し、めっき表面の平滑性に劣った。
【０１０４】
比較例１５では、皮材のＣｕの含有量が少なかったためにジンケート皮膜が不均一となり、めっき表面の平滑性に劣った。
【０１０５】
比較例１６では、皮材のＣｕの含有量が多かったために粗大なＡｌ−Ｃｕ−Ｍｇ−Ｚｎ系金属間化合物が生成した。その結果、この金属間化合物がめっき前処理時に脱落し、めっき表面の平滑性に劣った。
【０１０６】
比較例１７では、皮材のＺｎの含有量が少なかったためにジンケート皮膜が不均一となり、めっき表面の平滑性に劣った。
【０１０７】
比較例１８では、皮材のＺｎの含有量が多かったために粗大なＡｌ−Ｃｕ−Ｍｇ−Ｚｎ系金属間化合物が生成した。その結果、この金属間化合物がめっき前処理時に脱落し、めっき表面の平滑性に劣った。
【０１０８】
比較例１９では、皮材のＳｉの含有量が多かったために粗大なＭｇ−Ｓｉ系金属間化合物が生成した。その結果、この金属間化合物がめっき前処理時に脱落し、めっき表面の平滑性に劣った。
【０１０９】
比較例２０では、皮材のＦｅの含有量が多かったために粗大なＡｌ−Ｆｅ系金属間化合物が生成した。その結果、この金属間化合物がめっき前処理時に脱落し、めっき表面の平滑性に劣った。
【０１１０】
比較例２１では、ＡｌシートのＭｇの含有量が多かったために一部で接合不良が生じた。その結果、フクレが多発し、めっき表面の平滑性に劣った。
【０１１１】
比較例２２では、Ａｌシートの厚さが薄すぎたために一部で接合不良が生じた。その結果、フクレが多発し、めっき表面の平滑性に劣った。
【０１１２】
比較例２３では、Ａｌシートの厚さが厚すぎたために一部で接合不良が生じた。その結果、フクレが多発し、めっき表面の平滑性に劣った。
【０１１３】
比較例２４では、点状厚肉部の厚さが薄すぎたために一部で接合不良が生じた。その結果、フクレが多発し、めっき表面の平滑性に劣った。
【０１１４】
比較例２５では、点状厚肉部の厚さが厚すぎたためにクラッド率分布にバラつきが生じ、研削加工後の表面と裏面のクラッド率の平均値の比が大きくなった。その結果、平坦度が悪化し、平坦性に劣った。
【０１１５】
比較例２６では、点状厚肉部の間隔が狭すぎたために一部で接合不良が生じた。その結果、フクレが多発し、めっき表面の平滑性に劣った。
【０１１６】
比較例２７では、点状厚肉部の間隔が広すぎたために一部で接合不良が生じた。その結果、フクレが多発し、めっき表面の平滑性に劣った。
【０１１７】
上述したように、各比較例では、平坦性と平滑性のいずれかが劣っていたため、磁気ディスクの高容量化が可能な磁気ディスク用アルミニウム合金基板が得られなかった。
【産業上の利用可能性】
【０１１８】
本発明により、高容量化が可能な磁気ディスク用アルミニウム合金基板を低コストで提供することができる。
【符号の説明】
【０１１９】
１０  心材
２０  Ａｌシート
３０  接合補助部材
４０  Ａｌシート
５０  皮材
１００  合わせ材
【図１】
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【図２】
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