(57)【要約】【課題】  高い生産性で製造されるセルを提供する。【解決手段】  硬質脆性材料を用いて形成され、対向配置された第１基板及び第２基板と、第１基板と第２基板の間に配置された第１シール材及び第２シール材と、第１シール材に囲まれた領域内に配置され、電気光学的作用を有する媒体とを備え、第２シール材は、平面視上、第１基板の輪郭線と第２基板の輪郭線が一致する輪郭線部分に接触するように配置され、輪郭線部分の側面においては、第１基板、第２基板の双方について、第１シール材が配置された面とは反対側の面から、それぞれ第１基板、第２基板の厚さ方向に、それぞれ第１基板、第２基板の厚さの１／２超の深さまで鏡面が形成されているセルを提供する。【選択図】  図１−４
2018101062.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
硬質脆性材料を用いて形成され、対向配置された第１基板及び第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板の間に配置された第１シール材及び第２シール材と、
前記第１シール材に囲まれた領域内に配置され、電気光学的作用を有する媒体と
を備え、
前記第２シール材は、平面視上、前記第１基板の輪郭線と前記第２基板の輪郭線が一致する輪郭線部分に接触するように配置され、
前記輪郭線部分の側面においては、前記第１基板、前記第２基板の双方について、前記第１シール材が配置された面とは反対側の面から、それぞれ前記第１基板、前記第２基板の厚さ方向に、それぞれ前記第１基板、前記第２基板の厚さの１／２超の深さまで鏡面が形成されているセル。
【請求項２】
前記第２シール材は、平面視上、前記第１シール材から、前記第１基板の輪郭線と前記第２基板の輪郭線が一致する輪郭線部分まで配置される請求項１に記載のセル。
【請求項３】
前記第２シール材は、前記第１基板の輪郭線と前記第２基板の輪郭線が一致する輪郭線部分の直角方向に延在する請求項１または２に記載のセル。
【請求項４】
前記第２シール材は、前記第１基板、前記第２基板間に連続的に配置されている請求項１〜３のいずれか１項に記載のセル。
【請求項５】
前記第２シール材が複数配置されている請求項１〜４のいずれか１項に記載のセル。
【請求項６】
長方形以外の外形を有する請求項１〜５のいずれか１項に記載のセル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、硬質脆性材料を用いて形成される基板を有するセルに関する。
【背景技術】
【０００２】
図１１Ａは、公知の液晶セルを示す概略的な平面図である。液晶セルは、それぞれ電極を備える表側、裏側基板５０、６０、及び、両基板５０、６０間に配置される液晶層５５を含んで構成される。
【０００３】
表側基板５０と裏側基板６０は、メインシール材５４を介して対向配置され、液晶層５５は、表側、裏側基板５０、６０間のメインシール材５４に囲まれた領域内に配置される。メインシール材５４は、表側基板５０の輪郭線に沿い、その内側に枠状に形成される。本図においては、メインシール材５４の配置位置を二点鎖線で示した。
【０００４】
本図に示す液晶セルは長方形状の外形を有する。長方形の一辺側において、裏側基板６０が表側基板５０よりも外側に張り出し、張り出した領域に、外部取り出し端子部５７が画定される。外部取り出し端子部５７は、外部取り出し電極が配置される領域である。
【０００５】
液晶層５５は液晶注入口５４ａから液晶材料等を、メインシール材５４に囲まれた領域内に注入することで形成される。液晶注入口５４ａは、外部取り出し端子部５７が配置される辺とは異なる辺側に形成される。なお、液晶注入口５４ａは、たとえばエンドシール材で封止されている。
【０００６】
図１１Ａに示す液晶セルは、液晶セルの外形サイズよりサイズが大きいマザー基板を用い、公知の多面取り手法によって製造される。多面取りを行うことによって、生産効率を向上させることができる。
【０００７】
図１１Ｂは、多面取りされる液晶セルを示す概念的な平面図である。本図に示す範囲からは、Ｘ軸方向に６個、Ｙ軸方向に３個、合計１８個の液晶セルが得られる。個々の液晶セルに分離する際には、スクライブ装置を使用し、マザー基板にスクライブ線を形成する。
【０００８】
図１１Ｃ、図１１Ｄに、それぞれ表側のマザー基板、裏側のマザー基板に形成されるスクライブ線を点線で示す。表側のマザー基板には、表側基板５０における液晶セルの輪郭線に沿ってスクライブ線を形成し、裏側のマザー基板には、裏側基板６０における液晶セルの輪郭線に沿ってスクライブ線を形成する。形成されたスクライブ線に沿い、たとえばマザー基板の法線方向から衝撃を与えることにより、基板をスクライブ線の形成位置で分断（ブレイク）することができる。
【０００９】
ブレイキングは、短冊ブレイキング、小割ブレイキングの順に行う。短冊ブレイキングは、Ｘ軸方向（液晶注入口５４ａが配置される辺に平行な方向）に延在するスクライブ線に沿って行う。
【００１０】
図１１Ｅに、短冊ブレイキング工程を経て作製された短冊（短冊状基板）を示す。短冊には、本図に示す範囲において、長さ方向（Ｘ軸方向）に沿い、６個の空セル（相互に分断されない状態の空セル）が配列している。
【００１１】
短冊の状態で、各空セルに液晶注入を行う。たとえば真空注入法を用い、表側、裏側マザー基板間のメインシール材５４に囲まれた空間に、液晶材料を注入する。注入後、液晶注入口５４ａをエンドシール材で封止する。
【００１２】
短冊の幅方向（Ｙ軸方向）に延在するスクライブ線に沿って小割ブレイキングを行い、個々の液晶セル（図１１Ａ参照）に小割する。なお、外部取り出し端子部５７は、小割時に露出される。
【００１３】
小割後に液晶注入を行うと、液晶セルのハンドリングが煩雑になり、タクトタイムが増加するだけでなく、液晶セルの端面が欠けること等による歩留まりの低下が生じる。短冊ブレイキング後、小割ブレイキング前に液晶材料の注入を行うことにより、生産効率を高めることができる。
【００１４】
図１２Ａ〜図１２Ｆは、スクライブについて説明する概略的な基板断面図である。
【００１５】
図１２Ａを参照する。マザー基板は、たとえばガラス基板などの硬質脆性基板７１である。硬質脆性基板７１にスクライブ線を形成する場合、一例として、ダイヤモンドが外周端部にコーティングされたダイヤモンドホイール７５を用いる。ダイヤモンドホイール７５を、一定圧力で基板７１に押し付けた状態で、基板７１またはホイール７５を移動させることにより、スクライブ線が形成される。
【００１６】
図１２Ｂを参照する。たとえばホイール外周の突起部の角度が１２０°前後であるダイヤモンドホイールを基板７１上で移動させた場合、本図に示すように、基板７１断面には、スクライブ面から、内部の深くない位置までＶ字状の溝やクラックが生じる。ホイール外周が鋭角形状で、一定圧力で基板に当てた状態でスクライブするホイールは低浸透刃と呼ばれる。また、たとえばこれを用い、基板内部の深くない位置までＶ字状の溝やクラックを生じさせるスクライブ方法は、低浸透スクライブと称される。
【００１７】
図１２Ｃに示すように、スクライブ面から、ガラス基板（硬質脆性基板）７２内部の深い位置までＶ字状の溝やクラックを生じさせるスクライブ方法（高浸透スクライブ）が知られている（たとえば特許文献１及び２参照）。
【００１８】
特許文献１には、低浸透刃ホイールを基板上で移動させる際、ホイールに振動を与えることにより、高浸透スクライブを実現する方法が記載されている。
【００１９】
特許文献２には、刃先に所定ピッチで突起が形成されたガラスカッターホイールが開示されている。ホイールの転動時、突起により基板に打点衝撃が与えられるため、及び、突起が基板に深く食い込むため、高浸透スクライブが実現される。
【００２０】
図１２Ｄは、低浸透スクライブが行われた基板７１を、スクライブ線に沿って分断したときの分断面を示す概略図である。スクライブを行った側の基板７１表面（本図においては基板７１上面）から基板７１の厚さ方向に、基板７１の厚さの１／２以下の深さまで鏡面７１ａが得られ、それより深い領域に粗面７１ｂが得られる。
【００２１】
図１２Ｅは、高浸透スクライブが行われた基板７２を、スクライブ線に沿って分断したときの分断面を示す概略図である。スクライブを行った側の基板７２表面（本図においては基板７２上面）から基板７２の厚さ方向に、基板７２の厚さの１／２超の深さまで鏡面７２ａが得られ、それより深い領域に粗面７２ｂが得られる。
【００２２】
鏡面７１ａ、７２ａの形成深さは、スクライブ線形成後、分断前までに、Ｖ字状の溝やクラックが基板７１、７２の厚さ方向に、どの位置まで浸透したかを示す。このため、たとえばスクライブを行った側の基板７１、７２表面からの鏡面７１ａ、７１ｂ形成深さによってスクライブ方法を判定することができる。
【００２３】
本明細書においては、スクライブを行った側の基板表面から基板の厚さ方向に、基板の厚さの１／２以下の深さまでクラックが形成されるスクライブを低浸透スクライブと呼ぶ。また、スクライブを行った側の基板表面から基板の厚さ方向に、基板の厚さの１／２超の深さまでクラックが形成されるスクライブを高浸透スクライブと呼ぶ。
【００２４】
図１２Ｆを参照する。液晶セルにおいては、たとえば２枚のガラス基板（硬質脆性基板）７３、７４がメインシール材を介して接着される。スクライブ線は、各基板７３、７４の外側表面（メインシール材が配置される面とは反対側の面）から形成されるため、たとえば液晶セルの側面（分断面）においては、鏡面７３ａ、７４ａ、及び、粗面７３ｂ、７４ｂは、本図に示すように配置される。すなわち、両基板７３、７４の粗面７３ｂ、７４ｂが近接する配置となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００２５】
【特許文献１】特開平１１−２６３６３１号公報
【特許文献２】特開平９−１８８５３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２６】
図１３Ａは、輪郭（外形）が六角形である液晶セルを示す概略的な平面図であり、図１３Ｂは、輪郭線に曲線が用いられた液晶セルを示す概略的な平面図である。たとえば両図に示すような、長方形以外の外形形状を有する液晶セルを使用することによって、液晶表示器（液晶表示装置）の形状の自由度を向上させ、様々なレイアウトを実現することができる。なお、図１３Ａ及び図１３Ｂに示す例においては、裏側基板６０の輪郭線が液晶セルの外形となる。
【００２７】
長方形以外の外形形状を有する液晶セルの製造においても、多面取りの手法が用いられる。
【００２８】
図１４Ａは、多面取りされる液晶セルを示す概念的な平面図である。本図には、図１３Ａに示す液晶セルを製造する場合を示した。セルの分離にはスクライブ装置を使用し、マザー基板にスクライブ線を形成する。
【００２９】
液晶セルの製造における分断（ブレイク）工程では、たとえばスクライブ線が形成された基板面とは反対側の基板面に、一例としてウレタンで形成された、柔軟性のある棒状樹脂ヘッドを、直線状スクライブ線が配置された基板面の対向基板面上の同位置に押し当てた状態で、基板に衝撃を与える。外形形状が長方形でない液晶セルの製造においては、様々な方向に、様々な長さのスクライブ線を形成することになるため、分断を行う装置の柔軟性が必要となるが、高浸透スクライブを行うと、基板を湾曲させるだけで分断が可能となるので、たとえばセルの外形にあわせた押し当てヘッドを有する分断装置が不要となり、生産工程が容易となる。
【００３０】
図１４Ｂ、図１４Ｃに、それぞれ表側のマザー基板、裏側のマザー基板に形成されるスクライブ線を示す。表側のマザー基板には、表側基板５０におけるセルの輪郭線に沿ってスクライブ線５０ａ、５０ｂを形成し、裏側のマザー基板には、裏側基板６０におけるセルの輪郭線に沿ってスクライブ線６０ａ、６０ｂを形成する。
【００３１】
本図に示す例においては、低浸透スクライブと高浸透スクライブの双方を用いる。具体的には、Ｘ軸方向（液晶注入口５４ａが配置される辺に平行な方向）に延在する輪郭線に沿い、低浸透スクライブを用いて低浸透スクライブ線５０ａ、６０ａを形成し、それ以外の輪郭線に沿い、高浸透スクライブを用いて高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂを形成する。なお、両側のマザー基板には、Ｘ軸方向に沿うセルの輪郭線の延長線上にも低浸透スクライブ線５０ａ、６０ａを形成する。
【００３２】
図１４Ｄは、図１４Ｂ及び図１４Ｃの１４Ｄ−１４Ｄ線に沿う概略的な断面図である。
【００３３】
本図に示すように、表側基板５０は、表側透明基板５１、表側透明基板５１上に配置された表側透明電極５２、及び、表側透明電極５２上に配置された表側配向膜５３を備える。同様に、裏側基板６０は、裏側透明基板６１、裏側透明基板６１上に配置された裏側透明電極６２、及び、裏側透明電極６２上に配置された裏側配向膜６３を備える。透明基板５１、６１は、たとえばガラス基板であり、透明電極５２、６２は、たとえばＩＴＯ電極である。
【００３４】
なお、表側のマザー基板は、複数のセルの表側基板５０が未分離の状態で配置された基板であり、裏側のマザー基板は、複数のセルの裏側基板６０が未分離の状態で配置された基板である。
【００３５】
表側基板５０と裏側基板６０は、メインシール材５４を介して略平行に対向配置される。基板５０、６０間のメインシール材５４に囲まれた領域内には空間が確保され、各空間に対応して単個のセル（空セル）が規定される。透明電極５２、６２、及び、配向膜５３、６３は、セル単位で形成されている。メインシール材５４によって画定される空間には、後に液晶材料が注入される。なお、各セルにおいて、メインシール材５４は、平面視上（基板５０、６０の法線方向から見たとき）、表側基板５０（外部取り出し端子部５７が配置される基板とは異なる基板）の輪郭線に沿い、その内側に枠状に形成されている（図１３Ａの二点鎖線参照）。
【００３６】
スクライブは、基板５０、６０（透明基板５１、６１）の外側（基板５０についてはＺ軸正方向側、基板６０についてはＺ軸負方向側）から行われるため、スクライブ線（クラック）５０ａ、５０ｂ、６０ａ、６０ｂは、基板５０、６０の外側表面から基板５０、６０の厚さ方向に向かって、たとえば所定の深さ（スクライブ線５０ａ、６０ａは、それぞれ透明基板５１、６１の厚さの１／２以下の深さ、スクライブ線５０ｂ、６０ｂは、それぞれ透明基板５１、６１の厚さの１／２超の深さ）まで形成される。図１４Ｄには、各空セルの輪郭線に沿って形成された高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂが現れる。なお、本願図面においては、基板６０（透明基板６１）から基板５０（透明基板５１）に向かう基板法線方向をＺ軸正方向と規定する。
【００３７】
図１３Ａに示す液晶セルの製造においては、形成された低浸透スクライブ線５０ａ、６０ａのうち、平面視上、相互に重なる低浸透スクライブ線５０ａ、６０ａに沿い、たとえばマザー基板の法線方向から衝撃を与えることにより、当該低浸透スクライブ線５０ａ、６０ａの形成位置で、基板５０、６０を分断する（短冊ブレイキング）。
【００３８】
図１４Ｅに、短冊ブレイキング工程を経て作製された短冊（短冊状基板）を示す。短冊には、本図に示す範囲において、長さ方向（Ｘ軸方向）に沿い、５個の空セル（相互に分断されない状態の空セル）が配列している。
【００３９】
図１４Ｅに示す短冊は、長方形状液晶セルの短冊（図１１Ｅ参照）と異なり、長さ方向（Ｘ軸方向）と斜めに交差する方向に高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂが形成されている。高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂが形成された基板５０、６０位置は、衝撃や変形により容易に分断されうる。すなわち、図１４Ｅに示す短冊においては、隣接する空セルどうしの連結状態が確実に保持されるというわけではない。このため短冊の状態で、複数の空セルの各々に対し、安定的に液晶注入やその後の注入口封止を行うのは困難であり、液晶注入は小割ブレイキング後に行う。したがって、タクトタイムの増加や歩留まりの低下が生じる。
【００４０】
本発明の目的は、高い生産性で製造されるセルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００４１】
本発明の一観点によれば、硬質脆性材料を用いて形成され、対向配置された第１基板及び第２基板と、前記第１基板と前記第２基板の間に配置された第１シール材及び第２シール材と、前記第１シール材に囲まれた領域内に配置され、電気光学的作用を有する媒体とを備え、前記第２シール材は、平面視上、前記第１基板の輪郭線と前記第２基板の輪郭線が一致する輪郭線部分に接触するように配置され、前記輪郭線部分の側面においては、前記第１基板、前記第２基板の双方について、前記第１シール材が配置された面とは反対側の面から、それぞれ前記第１基板、前記第２基板の厚さ方向に、それぞれ前記第１基板、前記第２基板の厚さの１／２超の深さまで鏡面が形成されているセルが提供される。
【発明の効果】
【００４２】
本発明によれば、高い生産性で製造されるセルを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１−１】図１Ａは、実施例による液晶セルを示す概略的な平面図であり、図１Ｂは、実施例による液晶セルを多面取りする場合を示す概念的な平面図である。
【図１−２】図１Ｃ、図１Ｄは、それぞれ表側のマザー基板、裏側のマザー基板に形成されるスクライブ線を示す概略的な平面図であり、図１Ｅは、図１Ｃ及び図１Ｄの楕円で囲んだ領域を拡大して示す概略的な平面図である。
【図１−３】図１Ｆは、図１Ｃ及び図１Ｄの１Ｆ−１Ｆ線に沿う概略的な断面図であり、図１Ｇは、短冊ブレイキング工程を経て作製された短冊（短冊状基板）を示す概略的な平面図である。
【図１−４】図１Ｈ及び図１Ｉは、実施例による液晶セルを示す概略的な平面図であり、  図１Ｊは、図１Ｈの１Ｊ−１Ｊ線に沿う概略的な断面図であり、図１Ｋは、図１Ｈの１Ｋ側面を示す概略図である。
【図２】図２Ａ、図２Ｂは、それぞれ第１変形例による液晶セルの製造に用いられるマザー基板の角状シール材５４ｘ配置位置を示す概略的な平面図、断面図であり、図２Ｃ、図２Ｄは、それぞれ第１変形例による液晶セルの角状シール材５４ｘ配置位置を示す概略的な平面図、断面図である。
【図３】図３Ａ、図３Ｂは、それぞれ第２変形例による液晶セルの製造に用いられるマザー基板の角状シール材５４ｘ配置位置を示す概略的な平面図、断面図であり、図３Ｃ、図３Ｄは、それぞれ第２変形例による液晶セルの角状シール材５４ｘ配置位置を示す概略的な平面図、断面図である。
【図４】図４Ａ、図４Ｂは、それぞれ第３変形例による液晶セルの製造に用いられるマザー基板の角状シール材５４ｘ配置位置を示す概略的な平面図、断面図であり、図４Ｃ、図４Ｄは、それぞれ第３変形例による液晶セルの角状シール材５４ｘ配置位置を示す概略的な平面図、断面図である。
【図５】図５Ａ、図５Ｂは、それぞれ第４変形例による液晶セルの製造に用いられるマザー基板の角状シール材５４ｘ配置位置を示す概略的な平面図、断面図であり、図５Ｃ、図５Ｄは、それぞれ第４変形例による液晶セルの角状シール材５４ｘ配置位置を示す概略的な平面図、断面図である。
【図６】図６Ａ、図６Ｂは、それぞれ第５変形例による液晶セルの製造に用いられるマザー基板の角状シール材５４ｘ配置位置を示す概略的な平面図、断面図であり、図６Ｃ、図６Ｄは、それぞれ第５変形例による液晶セルの角状シール材５４ｘ配置位置を示す概略的な平面図、断面図である。
【図７−１】図７Ａ〜図７Ｃは、第６変形例による液晶セルの製造に用いられるマザー基板の角状シール材５４ｘ、５４ｙ配置位置を示す概略的な平面図である。
【図７−２】図７Ｄは、第６変形例による液晶セルにおける角状シール材５４ｘ、５４ｙ配置位置近傍を示す概略的な平面図であり、図７Ｅは、応用例による液晶セルの製造に用いられるマザー基板の角状シール材５４ｘ、５４ｙ配置位置を示す概略的な平面図であり、図７Ｆは、応用例による液晶セルにおける角状シール材５４ｘ、５４ｙ配置位置近傍を示す概略的な平面図である。
【図７−３】図７Ｇ及び図７Ｈは、角状シール材５４ｚが配置されたマザー基板の例を示す概略的な平面図である。
【図７−４】図７Ｉは、角状シール材５４ｚが配置されたマザー基板の例を示す概略的な平面図であり、図７Ｊは、製造される液晶セルにおける角状シール材５４ｘ、５４ｙ、５４ｚ配置位置近傍を示す概略的な平面図である。
【図８】図８Ａは、第７変形例による液晶セルの製造に用いられるマザー基板における空セルの配置位置、及び、角状シール材５４ｘの配置位置を示す概略的な平面図であり、図８Ｂは、図８Ａにおいて楕円で囲んだ領域の拡大図であり、図８Ｃは、第７変形例による液晶セルの、Ｘ軸方向に平行でない２つの隣接する輪郭線が結合する、右の頂角部近傍を示す概略的な平面図である。
【図９−１】図９Ａは、第８変形例による液晶セルの製造に用いられるマザー基板における空セルの配置位置、及び、角状シール材５４ｘの配置位置を示す概略的な平面図であり、図９Ｂは、図９Ａにおいて楕円で囲んだ領域の拡大図であり、図９Ｃは、第８変形例による液晶セルの右側輪郭線の一部（接点部近傍）を示す概略的な平面図である。
【図９−２】図９Ｄは、角状シール材５４ｘに加え、角状シール材５４ｙ、５４ｚが配置されたマザー基板の例を示す概略的な平面図であり、図９Ｅは、図９Ｄにおいて楕円で囲んだ領域の拡大図であり、図９Ｆは、製造される液晶セルにおける角状シール材５４ｘ、５４ｙ、５４ｚ配置位置近傍を示す概略的な平面図である。
【図１０】図１０は、第１〜第８変形例等による液晶セルの側面を示す概略図をまとめた表である。
【図１１−１】図１１Ａは、公知の液晶セルを示す概略的な平面図であり、図１１Ｂは、多面取りされる液晶セルを示す概念的な平面図である。
【図１１−２】図１１Ｃ、図１１Ｄは、それぞれ表側のマザー基板、裏側のマザー基板に形成されるスクライブ線を示す概略的な平面図であり、図１１Ｅは、短冊ブレイキング工程を経て作製された短冊（短冊状基板）を示す概略的な平面図である。
【図１２】図１２Ａ〜図１２Ｆは、スクライブについて説明する概略的な基板断面図である。
【図１３】図１３Ａは、輪郭（外形）が六角形である液晶セルを示す概略的な平面図であり、図１３Ｂは、輪郭線に曲線が用いられた液晶セルを示す概略的な平面図である。
【図１４−１】図１４Ａは、多面取りされる液晶セルを示す概念的な平面図であり、図１４Ｂ、図１４Ｃは、それぞれ表側のマザー基板、裏側のマザー基板に形成されるスクライブ線を示す概略的な平面図である。
【図１４−２】図１４Ｄは、図１４Ｂ及び図１４Ｃの１４Ｄ−１４Ｄ線に沿う概略的な断面図であり、図１４Ｅは、短冊ブレイキング工程を経て作製された短冊（短冊状基板）を示す概略的な平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００４４】
図１Ａは、実施例による液晶セルを示す概略的な平面図である。実施例による液晶セルは、メインシール材５４から輪郭線（外形線）までのびる角状シール材５４ｘを有する点において、図１３Ａに示す液晶セルと相違する。角状シール材５４ｘが接触している輪郭線部分は、平面視上、表側基板５０の輪郭線と裏側基板６０の輪郭線が一致する輪郭線部分である。なお、実施例においては、角状シール材５４ｘは、六角形の外形を形成する輪郭線のうち、Ｘ軸方向に平行でない２つの隣接する輪郭線が結合する頂角部に配置される。実施例による液晶セルの他の構成は、図１３Ａに示す液晶セルと等しい。実施例による液晶セルは、多面取りの手法を用いて製造される。
【００４５】
図１Ｂは、実施例による液晶セルを多面取りする場合を示す概念的な平面図である。セルの分離にはスクライブ装置を使用し、マザー基板にスクライブ線を形成する。
【００４６】
図１Ｃ、図１Ｄに、それぞれ表側のマザー基板、裏側のマザー基板に形成されるスクライブ線を示す。表側のマザー基板には、表側基板５０におけるセルの輪郭線に沿ってスクライブ線５０ａ、５０ｂを形成し、裏側のマザー基板には、裏側基板６０におけるセルの輪郭線に沿ってスクライブ線６０ａ、６０ｂを形成する。
【００４７】
スクライブ線は、図１４Ｂ、図１４Ｃに示す位置と等しい位置に形成される。すなわち、Ｘ軸方向（液晶注入口５４ａが配置される辺に平行な方向）に延在する輪郭線に沿い、低浸透スクライブにより低浸透スクライブ線５０ａ、６０ａが形成され、それ以外の輪郭線に沿い、高浸透スクライブにより高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂが形成される。Ｘ軸方向に沿うセルの輪郭線の延長線上にも低浸透スクライブ線５０ａ、６０ａが形成される。
【００４８】
図１Ｅに、図１Ｃ及び図１Ｄの楕円で囲んだ領域を拡大して示す。
【００４９】
実施例による液晶セルの製造時に準備されるマザー基板（シール材を介して接合された表側及び裏側のマザー基板）には、各空セルのメインシール材５４間を、その外側領域においてＸ軸方向に連結する角状シール材５４ｘが配置されている。角状シール材５４ｘの配置位置は、１つの空セルの輪郭を画定する高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂのうち隣接する２つが結合する（高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂが屈曲する）頂角部である。実施例においては、当該頂角部は、Ｘ軸方向に隣接する他の空セルの輪郭を画定する高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂのうち隣接する２つが結合する（高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂが屈曲する）頂角部と重なる。すなわち、当該頂角部においては、基板５０、６０の各々において、４本の高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂが結合する。なお、当該頂角部においては、平面視上、表側基板５０のスクライブ線５０ｂと裏側基板６０のスクライブ線６０ｂが一致する。角状シール材５４ｘは、平面視上、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂをまたぐように（高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂと交差するように）、両側のマザー基板上に配置されている。
【００５０】
角状シール材５４ｘは、たとえば公知のマザー基板作製工程において、一例として、一方のマザー基板上にメインシール材５４を配置する工程と同じ工程で、メインシール材５４と等しい材料を用い、メインシール材５４を配置する方法と等しい方法で、メインシール材５４を配置する基板面と同じ基板面上に配置することができる。
【００５１】
公知のマザー基板作製工程においては、たとえばＩＴＯなどの透明導電性材料を用いて透明電極が形成された透明基板（ガラスなどの硬質脆性材料で形成された基板）を２枚準備し、これらを洗浄、乾燥する。両基板の透明電極上に、透明電極を覆うように配向膜材料を塗布し、配向膜材料を塗布した透明基板の焼成を行って、透明電極を覆う配向膜を形成する。配向膜にラビング等の配向処理を施す。
【００５２】
一方の基板面上にメインシール材５４を配置し、他方の基板面上にギャップコントロール材を散布する。メインシール材５４には、たとえばガラスファイバを含んだ熱硬化性のシール材を使用する。メインシール材５４は、スクリーン印刷またはディスペンサを用いて一方の基板面上に配置する。２枚の透明基板を所定の位置で重ね合わせ、熱処理を施してシール材を硬化することにより、複数の空セルが未分離の状態で形成されたマザー基板が作製される。
【００５３】
実施例による液晶セルの製造時に準備されるマザー基板の作製においては、メインシール材５４の配置工程において、メインシール材５４と等しい材料を用い、スクリーン印刷またはディスペンサを使用して、メインシール材５４を配置する一方の基板面上に、角状シール材５４ｘを線状に配置する。角状シール材５４ｘの配置位置は、基板の重ね合わせ及びシール材（メインシール材５４、角状シール材５４ｘ）の硬化後に、角状シール材５４ｘが、平面視上、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂの形成予定位置（空セルの輪郭線）をまたぐ位置である。実施例による液晶セルの製造に使用されるマザー基板は、その他の点は、公知のマザー基板の作製と同様に作製することができる。
【００５４】
図１Ｃ及び図１Ｄに示すスクライブ線５０ａ、５０ｂ、６０ａ、６０ｂの形成は、たとえばこのようにして準備されたマザー基板（複数の空セルが未分離の状態で形成された表裏２枚のマザー基板）に対して行われる。高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂは、平面視上、前記頂角部において、角状シール材５４ｘ上を通過するように描画される。
【００５５】
図１Ｆは、図１Ｃ及び図１Ｄの１Ｆ−１Ｆ線に沿う概略的な断面図である。Ｘ軸方向に隣接する２つの空セルのメインシール材５４間を連結する角状シール材５４ｘが配置されている点において、図１４Ｄに示す断面図と異なる。角状シール材５４ｘは、平面視上、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂをまたぐように、更に、実施例においては表側、裏側基板５０、６０間に連続的に（つながって）配置されている。角状シール材５４ｘ以外の構成は、図１４Ｄに示す断面図と等しい。
【００５６】
すなわち、表側基板５０は、表側透明基板５１、表側透明基板５１上に配置された表側透明電極５２、及び、表側透明電極５２上に配置された表側配向膜５３を備え、裏側基板６０は、裏側透明基板６１、裏側透明基板６１上に配置された裏側透明電極６２、及び、裏側透明電極６２上に配置された裏側配向膜６３を備える。透明基板５１、６１は、硬質脆性材料、一例としてガラスで形成された基板であり、透明電極５２、６２は、透明導電性材料、たとえばＩＴＯで形成された電極である。
【００５７】
表側基板５０と裏側基板６０は、メインシール材５４を介して略平行に対向配置され、基板５０、６０間のメインシール材５４に囲まれた領域内には空間が確保される。各空間に対応して単個の空セルが規定される。透明電極５２、６２、及び、配向膜５３、６３は、セル単位で形成されている。各セルにおいて、メインシール材５４は、平面視上、表側基板５０（外部取り出し端子部５７が配置される基板とは異なる基板）の輪郭線に沿い、その内側に枠状に形成されている（図１Ａの二点鎖線参照）。
【００５８】
スクライブ線（クラック）５０ａ、５０ｂ、６０ａ、６０ｂは、基板５０、６０の外側表面から基板５０、６０の厚さ方向に向かって、たとえば所定の深さ（スクライブ線５０ａ、６０ａは、それぞれ透明基板５１、６１の厚さの１／２以下の深さ、スクライブ線５０ｂ、６０ｂは、それぞれ透明基板５１、６１の厚さの１／２超の深さ）まで形成される。図１Ｆには、各空セルの輪郭線に沿って形成された高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂが現れる。
【００５９】
角状シール材５４ｘは、Ｘ軸方向に隣接する２つの空セルのメインシール材５４間を連結し、平面視上、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂをまたぐ。また、両側基板５０、６０間に連続的に（つながって）配置されている。角状シール材５４ｘとメインシール材５４を構成する材料は、たとえば等しい。
【００６０】
実施例による液晶セルの製造においては、形成された低浸透スクライブ線５０ａ、６０ａのうち、平面視上相互に重なる低浸透スクライブ線５０ａ、６０ａに沿い、たとえばマザー基板の法線方向から衝撃を与えることにより、平面視上相互に重なる低浸透スクライブ線５０ａ、６０ａの形成位置で、基板５０、６０を分断する（短冊ブレイキング）。
【００６１】
図１Ｇに、短冊ブレイキング工程を経て作製された短冊（短冊状基板）を示す。短冊には、本図に示す範囲において、長さ方向（Ｘ軸方向）に沿い、５個の空セル（相互に分断されない状態の空セル）が配列している。
【００６２】
実施例による液晶セルの製造においては、図１Ｇに示す短冊の状態で、各空セルのメインシール材５４の内側に画定される空間に、たとえば真空注入法を用い、液晶の注入を行う。
【００６３】
注入後、液晶注入口５４ａをエンドシール材で封止する。
【００６４】
図１４Ｅに示す短冊と同様に、図１Ｇに示す短冊においても、長さ方向（Ｘ軸方向）と斜めに交差する方向に高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂが形成されている。高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂが形成された基板５０、６０位置は、衝撃や変形により容易に分断されうるが、図１Ｇに示す短冊においては、基板５０、６０上に、平面視上、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂをまたぐ角状シール材５４ｘが、Ｘ軸方向に隣接する２つの空セルのメインシール材５４間を連結する態様で配置されている。このため、図１Ｇに示す短冊においては、隣接する空セルの連結状態を保持することができる。したがって短冊の状態で、複数の空セルの各々に対し、安定的に液晶注入やその後の注入口封止を行うことができる。
【００６５】
短冊のＸ軸方向と斜めに交差する方向に形成された高浸透クライブ線５０ｂ、６０ｂに沿って小割ブレイキングを行い、個々の液晶セル（図１Ａ参照）に小割する。なお、たとえば小割時に、短冊に形成された低浸透スクライブ線５０ａに沿っても分断（ブレイク）を行い、外部取り出し端子部５７を露出させる。
【００６６】
図１Ｈ及び図１Ｉに、こうして製造された、実施例による液晶セルの概略的な平面図を示す。
【００６７】
図１Ｈを参照する。
【００６８】
実施例による液晶セルは、表側基板５０、裏側基板６０、及び、両基板５０、６０間に配置される液晶層５５を含んで構成される。
【００６９】
表側基板５０と裏側基板６０は、メインシール材５４を介して略平行に対向配置され、液晶層５５は、表側、裏側基板５０、６０間のメインシール材５４に囲まれた領域内に配置される。メインシール材５４は、表側基板５０の輪郭線に沿い、その内側に枠状に形成される。なお、図１Ｈにおいては、メインシール材５４の配置位置を二点鎖線で示してある。
【００７０】
実施例による液晶セルは六角形状（非長方形状）の外形を有する。六角形の一辺側において、裏側基板６０が表側基板５０よりも外側に張り出し、張り出した領域に、外部取り出し端子部５７が画定されている。液晶注入口５４ａは、外部取り出し端子部５７が配置される辺とは異なる辺側に配置される。液晶注入口５４ａは、たとえばエンドシール材で封止されている。
【００７１】
図１Ｉを参照する。図１Ｉは、図１Ｈに示す液晶セルの右側の２辺が結合する頂角部近傍を示す概略的な平面図である。
【００７２】
実施例による液晶セルにおいては、角状シール材５４ｘが、メインシール材５４から液晶セルの輪郭線（外形線）までＸ軸方向に延在するように配置されている。角状シール材５４ｘが接触している輪郭線部分は、平面視上、表側基板５０の輪郭線と裏側基板６０の輪郭線が一致する輪郭線部分である。この輪郭線部分は、高浸透スクライブを用いて分断されている。実施例においては、角状シール材５４ｘは、液晶セルの六角形の輪郭線のうち、Ｘ軸方向に平行でない２つの隣接する輪郭線が結合する頂角部に配置されている。
【００７３】
図１Ｊは、図１Ｈの１Ｊ−１Ｊ線に沿う概略的な断面図であり、図１Ｋは、図１Ｈの１Ｋ側面（液晶セルの一側面）を示す概略図である。
【００７４】
図１Ｊを参照する。
【００７５】
実施例による液晶セルの表側基板５０は、表側透明基板５１、表側透明基板５１上に配置された表側透明電極５２、及び、表側透明電極５２上に配置された表側配向膜５３を備え、裏側基板６０は、裏側透明基板６１、裏側透明基板６１上に配置された裏側透明電極６２、及び、裏側透明電極６２上に配置された裏側配向膜６３を備える。透明基板５１、６１は、硬質脆性材料、一例としてガラスで形成された基板であり、透明電極５２、６２は、透明導電性材料、たとえばＩＴＯで形成された電極である。
【００７６】
角状シール材５４ｘは、表側、裏側基板５０、６０間に連続的に（つながって）配置されている。
【００７７】
図１Ｋを参照する。本図に示す側面には、対向配置された表側基板５０（表側透明基板５１）、裏側基板６０（裏側透明基板６１）、及び、両基板５０、６０（５１、６１）間に配置され、これらを接着するメインシール材５４が現れる。更に、メインシール材５４から基板５０、６０（５１、６１）の端部（液晶セルの輪郭線）まで配置された角状シール材５４ｘが存在する。
【００７８】
また、本図に示す側面（輪郭線部分）は高浸透スクライブを行い、基板５０、６０（５１、６１）の外側表面（メインシール材５４が配置される面とは反対側の面）にスクライブ線５０ｂ、６０ｂを配置して形成された側面である。このため、基板５１、６１の本側面においては、基板５１、６１の外側表面からそれぞれ基板５１、６１の厚さ方向に、それぞれ基板５１、６１の厚さの１／２超の深さまで鏡面５１ａ、６１ａが形成されている。基板５１、６１の内側表面（メインシール材５４が配置される面）まで鏡面５１ａ、６１ａが形成されない場合は、内側表面側に粗面５１ｂ、６１ｂが現れる。この場合、基板５１、６１は、粗面５１ｂ、６１ｂが近接する態様で対向配置される。角状シール材５４ｘは、メインシール材５４から基板５１、６１の、このような面まで延在して配置されている。実施例による液晶セルは、本図に示すような側面を備える液晶セルである。
【００７９】
なお、液晶注入口５４ａが配置された側面、及び、外部取り出し端子部５７が配置された側面（Ｘ軸方向に平行な側面）は、低浸透スクライブ線５０ａ、６０ａを形成して分断するため、基板５１、６１の外側表面からそれぞれ基板５１、６１の厚さ方向に、それぞれ基板５１、６１の厚さの１／２以下の深さまで鏡面５１ａ、６１ａが形成され、それより深い位置に粗面５１ｂ、６１ｂが形成されている。
【００８０】
たとえば図１３Ａに示す液晶セルの製造過程で形成される短冊（図１４Ｅ参照）においては、時間の経過とともに高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂの浸透が進行し、基板搬送時のわずかな衝撃でも容易に分断されうる。このため、長さ方向（Ｘ軸方向）に隣接する面付け空セルどうしの連結状態が安定的に保持されず、短冊状態での液晶注入やその後の注入口封止が困難であることから小割後に液晶の注入を行う。したがって、タクトタイムの増加や歩留まりの低下が生じる。
【００８１】
実施例による液晶セルの製造においては、マザー基板の作製において、平面視上、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂの形成予定位置（空セルの輪郭線）をまたぐ位置に、角状シール材５４ｘを配置する。また、スクライブ工程において、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂを、平面視上、角状シール材５４ｘ上を通過するように描画する。
【００８２】
このため、短冊状態の高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂの形成位置の一部において、個々の面付け空セルは、角状シール材５４ｘにより、短冊の他の領域と接合されている。したがって、たとえ高浸透スクライブ線（クラック）５０ｂ、６０ｂが、基板５１、６１の表側から裏側まで完全に浸透したとしても、角状シール材５４ｘにより、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂ形成位置におけるマザー基板としての分断が抑制され、個々の面付け空セルの連結状態が保持される。これにより、短冊状態における液晶注入及びその後の注入口封止が安定的に実現され、生産効率を高めることができる。
【００８３】
このように、実施例による液晶セルは、高い生産性で製造されるセルである。
【００８４】
図２Ａ〜図２Ｄを参照し、第１変形例による液晶セルについて説明する。
【００８５】
実施例による液晶セルおいては、角状シール材５４ｘが、メインシール材５４から液晶セルの輪郭線（外形線）まで配置されていたが、角状シール材５４ｘはメインシール材５４と連結されていなくてもよい。
【００８６】
図２Ａ、図２Ｂは、それぞれ第１変形例による液晶セルの製造に用いられるマザー基板の角状シール材５４ｘ配置位置を示す概略的な平面図、断面図である。図２Ａ、図２Ｂの示す範囲は、それぞれ実施例における図１Ｅ、図１Ｆの示す範囲に対応する。
【００８７】
図２Ｃ、図２Ｄは、それぞれ第１変形例による液晶セルの角状シール材５４ｘ配置位置を示す概略的な平面図、断面図である。図２Ｃ、図２Ｄの示す範囲は、それぞれ実施例における図１Ｉ、図１Ｊの示す範囲に対応する。
【００８８】
図２Ａ〜図２Ｄに示すように、第１変形例においては、角状シール材５４ｘとメインシール材５４は、離間されて配置されている。他の構成は実施例と等しい。
【００８９】
第１変形例による液晶セルの製造工程においても、角状シール材５４ｘは、平面視上、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂをまたぐように配置される。角状シール材５４ｘにより、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂ形成位置における各空セルの連結状態が保持されるため、短冊状態における液晶注入及び注入口封止が安定的に実現され、生産効率を高めることができる。したがって、第１変形例による液晶セルも、高い生産性で製造される。
【００９０】
図３Ａ〜図３Ｄを参照し、第２変形例による液晶セルについて説明する。
【００９１】
実施例による液晶セルおいては、角状シール材５４ｘが、表側、裏側基板５０、６０の双方上に配置されていたが、角状シール材５４ｘは、基板５０、６０のいずれか一方上に配置されていてもよい。
【００９２】
図３Ａ、図３Ｂは、それぞれ第２変形例による液晶セルの製造に用いられるマザー基板の角状シール材５４ｘ配置位置を示す概略的な平面図、断面図である。図３Ａ、図３Ｂの示す範囲は、それぞれ実施例における図１Ｅ、図１Ｆの示す範囲に対応する。
【００９３】
図３Ｃ、図３Ｄは、それぞれ第２変形例による液晶セルの角状シール材５４ｘ配置位置を示す概略的な平面図、断面図である。図３Ｃ、図３Ｄの示す範囲は、それぞれ実施例における図１Ｉ、図１Ｊの示す範囲に対応する。
【００９４】
図３Ａ〜図３Ｄに示すように、第２変形例においては、角状シール材５４ｘは、裏側基板６０上に配置され、表側基板５０上には配置されない。他の構成は実施例と等しい。
【００９５】
第２変形例による液晶セルの製造工程において、角状シール材５４ｘは、平面視上、高浸透スクライブ線６０ｂをまたぐように配置される。角状シール材５４ｘにより、高浸透スクライブ線６０ｂ形成位置における各空セルの連結状態が保持されるため、短冊状態における液晶注入及び注入口封止が安定的に実現され、生産効率を高めることができる。したがって、第２変形例による液晶セルも、高い生産性で製造される。
【００９６】
図４Ａ〜図４Ｄを参照し、第３変形例による液晶セルについて説明する。
【００９７】
第２変形例による液晶セル（図３Ａ〜図３Ｄ参照）においては、角状シール材５４ｘが、メインシール材５４から液晶セルの輪郭線（外形線）まで配置されているが、角状シール材５４ｘをメインシール材５４と連結しなくてもよい。
【００９８】
図４Ａ、図４Ｂは、それぞれ第３変形例による液晶セルの製造に用いられるマザー基板の角状シール材５４ｘ配置位置を示す概略的な平面図、断面図である。図４Ａ、図４Ｂの示す範囲は、それぞれ第２変形例における図３Ａ、図３Ｂの示す範囲に対応する。
【００９９】
図４Ｃ、図４Ｄは、それぞれ第３変形例による液晶セルの角状シール材５４ｘ配置位置を示す概略的な平面図、断面図である。図４Ｃ、図４Ｄの示す範囲は、それぞれ第２変形例における図３Ｃ、図３Ｄの示す範囲に対応する。
【０１００】
図４Ａ〜図４Ｄに示すように、第３変形例においては、角状シール材５４ｘとメインシール材５４は、離間されて配置されている。他の構成は第２変形例と等しい。
【０１０１】
第３変形例による液晶セルの製造工程においても、角状シール材５４ｘは、平面視上、高浸透スクライブ線６０ｂをまたぐように配置される。角状シール材５４ｘにより、高浸透スクライブ線６０ｂ形成位置における各空セルの連結状態が保持されるため、短冊状態における液晶注入及び注入口封止が安定的に実現され、生産効率を高めることができる。したがって、第３変形例による液晶セルも、高い生産性で製造される。
【０１０２】
図５Ａ〜図５Ｄを参照し、第４変形例による液晶セルについて説明する。
【０１０３】
実施例による液晶セルおいては、角状シール材５４ｘが、表側、裏側基板５０、６０間に連続的に（つながって）配置されていたが、角状シール材５４ｘは、両基板５０、６０間に連続しない態様で、各基板５０、６０上に配置されていてもよい。
【０１０４】
図５Ａ、図５Ｂは、それぞれ第４変形例による液晶セルの製造に用いられるマザー基板の角状シール材５４ｘ配置位置を示す概略的な平面図、断面図である。図５Ａ、図５Ｂの示す範囲は、それぞれ実施例における図１Ｅ、図１Ｆの示す範囲に対応する。
【０１０５】
図５Ｃ、図５Ｄは、それぞれ第４変形例による液晶セルの角状シール材５４ｘ配置位置を示す概略的な平面図、断面図である。図５Ｃ、図５Ｄの示す範囲は、それぞれ実施例における図１Ｉ、図１Ｊの示す範囲に対応する。
【０１０６】
図５Ａ〜図５Ｄに示すように、第４変形例においては、角状シール材５４ｘは、両基板５０、６０間に連続しない態様で、各基板５０、６０上に配置されている。他の構成は実施例と等しい。
【０１０７】
第４変形例による液晶セルの製造工程においても、角状シール材５４ｘは、平面視上、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂをまたぐように配置される。角状シール材５４ｘにより、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂ形成位置における各空セルの連結状態が保持されるため、短冊状態における液晶注入及び注入口封止が安定的に実現され、生産効率を高めることができる。したがって、第４変形例による液晶セルも、高い生産性で製造される。
【０１０８】
図６Ａ〜図６Ｄを参照し、第５変形例による液晶セルについて説明する。
【０１０９】
第４変形例による液晶セル（図５Ａ〜図５Ｄ参照）においては、角状シール材５４ｘが、メインシール材５４から液晶セルの輪郭線（外形線）まで配置されているが、角状シール材５４ｘをメインシール材５４と連結しなくてもよい。
【０１１０】
図６Ａ、図６Ｂは、それぞれ第５変形例による液晶セルの製造に用いられるマザー基板の角状シール材５４ｘ配置位置を示す概略的な平面図、断面図である。図６Ａ、図６Ｂの示す範囲は、それぞれ第４変形例における図５Ａ、図５Ｂの示す範囲に対応する。
【０１１１】
図６Ｃ、図６Ｄは、それぞれ第５変形例による液晶セルの角状シール材５４ｘ配置位置を示す概略的な平面図、断面図である。図６Ｃ、図６Ｄの示す範囲は、それぞれ第４変形例における図５Ｃ、図５Ｄの示す範囲に対応する。
【０１１２】
図６Ａ〜図６Ｄに示すように、第５変形例においては、角状シール材５４ｘとメインシール材５４は、離間されて配置されている。他の構成は第４変形例と等しい。
【０１１３】
第５変形例による液晶セルの製造工程においても、角状シール材５４ｘは、平面視上、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂをまたぐように配置される。角状シール材５４ｘにより、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂ形成位置における各空セルの連結状態が保持されるため、短冊状態における液晶注入及び注入口封止が安定的に実現され、生産効率を高めることができる。したがって、第５変形例による液晶セルも、高い生産性で製造される。
【０１１４】
図７Ａ〜図７Ｊを参照し、第６変形例による液晶セルについて説明する。
【０１１５】
実施例による液晶セルの製造に用いられるマザー基板においては、角状シール材５４ｘがセルの頂角部において、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂをまたぐように配置されていたが、角状シール材は、平面視上、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂをまたぐ他の位置に配置することもできる。
【０１１６】
図７Ａ〜図７Ｃは、第６変形例による液晶セルの製造に用いられるマザー基板の角状シール材５４ｘ、５４ｙ配置位置を示す概略的な平面図である。図７Ａには、角状シール材５４ｘ、５４ｙ配置位置を、表側基板５０に形成されるスクライブ線５０ａ、５０ｂとともに示し、図７Ｂには、角状シール材５４ｘ、５４ｙ配置位置を、裏側基板６０に形成されるスクライブ線６０ａ、６０ｂとともに示す。図７Ｃは、図７Ａ及び図７Ｂにおいて楕円で囲んだ領域の拡大図である。
【０１１７】
第６変形例による液晶セルの製造に用いられるマザー基板は、表側、裏側基板５０、６０間に、シール材として、メインシール材５４、角状シール材５４ｘに加え、角状シール材５４ｙを備える。角状シール材５４ｙ以外の構成は実施例に用いられるマザー基板と等しい。第６変形例による液晶セルの製造に用いられるマザー基板には、実施例と等しい位置にスクライブ線５０ａ、５０ｂ、６０ａ、６０ｂが形成される。
【０１１８】
角状シール材５４ｙは、Ｘ軸方向と斜めに交差する六角形の空セルの一辺側に、メインシール材５４から、平面視上、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂをまたぐ位置まで、すなわち空セル領域から、隣接する非空セル領域まで配置されている。平面視上、角状シール材５４ｙが高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂと交差する位置においては、角状シール材５４ｘの場合と同様に、表側基板５０のスクライブ線５０ｂと裏側基板６０のスクライブ線６０ｂが一致する。図７Ａ〜図７Ｃに示す例においては、角状シール材５４ｙは、メインシール材５４から、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂ（メインシール材５４）と直交する方向に延在している。
【０１１９】
角状シール材５４ｙは、たとえば角状シール材５４ｘを配置する工程と同じ工程で、角状シール材５４ｘと等しい材料を用い、角状シール材５４ｘを配置する方法と等しい方法で、角状シール材５４ｘを配置する基板面と同じ基板面上に配置することができる。
【０１２０】
図７Ｄは、第６変形例による液晶セルにおける角状シール材５４ｘ、５４ｙ配置位置近傍を示す概略的な平面図である。第６変形例による液晶セルは、メインシール材５４から輪郭線（外形線）までのびる角状シール材５４ｙを備える点において、実施例による液晶セルと相違する。他の構成は等しい。角状シール材５４ｙが接触している輪郭線部分は、角状シール材５４ｘが接触しているそれと同様に、高浸透スクライブを用いて分断された、平面視上、表側基板５０の輪郭線と裏側基板６０の輪郭線が一致する輪郭線部分である。なお、角状シール材５４ｙは、輪郭線の直角方向に延在する。
【０１２１】
第６変形例による液晶セルの製造工程において、角状シール材５４ｘ、５４ｙは、平面視上、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂをまたぐように配置される。角状シール材５４ｘ、５４ｙにより、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂ形成位置における各空セルの連結状態が保持されるため、短冊状態における液晶注入及び注入口封止が安定的に実現され、生産効率を高めることができる。第６変形例においては、角状シール材５４ｘに加え、角状シール材５４ｙを備えるため、各空セルの連結状態をより安定させ、より安定したハンドリングを実現することが可能となる。
【０１２２】
第６変形例による液晶セルも、高い生産性で製造される。
【０１２３】
なお、角状シール材５４ｙと高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂを非直交方向（斜め方向）に交差させてもよい。
【０１２４】
たとえば図７Ｅに示すように、マザー基板において、角状シール材５４ｙを、メインシール材５４から、平面視上、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂをまたぐ位置まで、Ｘ軸方向に沿って配置する。
【０１２５】
この場合、製造される液晶セルの角状シール５４ｙは、図７Ｆに示すように、メインシール材５４からＸ軸方向に、液晶セルの輪郭線まで延在する。図７Ｆに示す液晶セルも、高い生産性で製造される。
【０１２６】
更に、他の角状シール材５４ｚを付加することもできる。
【０１２７】
図７Ｇ〜図７Ｉに、角状シール材５４ｚが配置されたマザー基板の例を示す。図７Ｇには、角状シール材５４ｘ、５４ｙ、５４ｚの配置位置を、表側基板５０に形成されるスクライブ線５０ａ、５０ｂとともに示し、図７Ｈには、角状シール材５４ｘ、５４ｙ、５４ｚの配置位置を、裏側基板６０に形成されるスクライブ線６０ａ、６０ｂとともに示す。図７Ｉは、図７Ｇ及び図７Ｈにおいて楕円で囲んだ領域の拡大図である。
【０１２８】
角状シール材５４ｚは、Ｘ軸方向と斜めに交差する六角形の空セルの辺のうち、角状シール材５４ｙが配置される辺とは異なる辺側に、メインシール材５４から、平面視上、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂをまたぐ位置まで、すなわち空セル領域から、隣接する非空セル領域まで配置されている。平面視上、角状シール材５４ｚが高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂと交差する位置においては、角状シール材５４ｘ、５４ｙの場合と同様に、表側基板５０のスクライブ線５０ｂと裏側基板６０のスクライブ線６０ｂが一致する。図７Ｇ〜図７Ｉに示す例においては、角状シール材５４ｚは、メインシール材５４から、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂ（メインシール材５４）と直交する方向に延在している。
【０１２９】
角状シール材５４ｚは、たとえば角状シール材５４ｘ、５４ｙを配置する工程と同じ工程で、角状シール材５４ｘ、５４ｙと等しい材料を用い、角状シール材５４ｘ、５４ｙを配置する方法と等しい方法で、角状シール材５４ｘ、５４ｙを配置する基板面と同じ基板面上に配置することができる。
【０１３０】
図７Ｊは、製造される液晶セルにおける角状シール材５４ｘ、５４ｙ、５４ｚ配置位置近傍を示す概略的な平面図である。角状シール材５４ｚは、メインシール材５４から、角状シール材５４ｙが配置される辺とは異なる辺の輪郭線（外形線）までのびる。角状シール材５４ｚが接触している輪郭線部分は、角状シール材５４ｘ、５４ｙが接触しているそれと同様に、高浸透スクライブを用いて分断された、平面視上、表側基板５０の輪郭線と裏側基板６０の輪郭線が一致する輪郭線部分である。なお、角状シール材５４ｚは、輪郭線の直角方向に延在する。
【０１３１】
角状シール材５４ｘ、５４ｙに加え、角状シール材５４ｚを備えるため、各空セルの連結状態を一層安定させ、一層安定したハンドリングを実現することが可能となる。なお、角状シール材５４ｙ、更には角状シール材５４ｚを配置することにより、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂ形成位置で分断（ブレイク）する際には、実施例より強い外力が必要となる。
【０１３２】
この液晶セルも、高い生産性で製造される。
【０１３３】
図７Ｊに示す液晶セルにおいて、少なくとも一つの角状シール材５４ｘ、５４ｙ、５４ｚを備える構成とすることができる。少なくとも一つの角状シール材５４ｘ、５４ｙ、５４ｚを備えれば、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂ形成位置における各空セルの連結状態が保持される。このため、短冊状態における液晶注入及び注入口封止が安定的に実現され、生産効率を高めることができる。したがって、液晶セルは、高い生産性で製造される。
【０１３４】
図８Ａ〜図８Ｃを参照し、第７変形例による液晶セルについて説明する。
【０１３５】
実施例では、準備されるマザー基板において、空セルの辺（頂角部）が、Ｘ軸方向に隣接する他の空セルの辺（頂角部）と接触していたが、空セルが離間して配置されるマザー基板を用いてもよい。
【０１３６】
図８Ａは、第７変形例による液晶セルの製造に用いられるマザー基板における空セルの配置位置、及び、角状シール材５４ｘの配置位置を示す概略的な平面図である。なお、図８Ａには、低浸透スクライブ線を形成してＸ軸方向に分断（ブレイク）した後の短冊（短冊状基板）を示した。各空セルの輪郭線は、短冊の上下辺（長さ方向に延在する辺）及び高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂによって規定される。図８Ａに示す例においては、４個の空セルがマザー基板上に、Ｘ軸方向に離間して配置されている。他の点は実施例と同様である。図８Ｂは、図８Ａにおいて楕円で囲んだ領域の拡大図である。
【０１３７】
角状シール材５４ｘは、六角形の液晶セル外形を形成する輪郭線のうち、Ｘ軸方向に平行でない２つの隣接する輪郭線が結合する、左右の頂角部に配置される。また、Ｘ軸方向に沿い、メインシール材５４から、平面視上、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂをまたぐ位置まで、すなわち空セル領域から、隣接する非空セル領域まで配置される。平面視上、角状シール材５４ｘが高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂと交差する位置においては、表側基板５０のスクライブ線５０ｂと裏側基板６０のスクライブ線６０ｂが一致している。
【０１３８】
図８Ｃは、第７変形例による液晶セルの、Ｘ軸方向に平行でない２つの隣接する輪郭線が結合する、右の頂角部近傍を示す概略的な平面図である。実施例による液晶セルと同様に、角状シール材５４ｘが、メインシール材５４から液晶セルの輪郭線（外形線）までＸ軸方向に延在するように配置されている。角状シール材５４ｘが接触している輪郭線部分は、平面視上、表側基板５０の輪郭線と裏側基板６０の輪郭線が一致する輪郭線部分である。この輪郭線部分は、高浸透スクライブを用いて分断されている。
【０１３９】
第７変形例による液晶セルの製造工程において、角状シール材５４ｘは、平面視上、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂをまたぐように配置される。角状シール材５４ｘにより、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂ形成位置における各空セルの連結状態が保持されるため、短冊状態における液晶注入及び注入口封止が安定的に実現され、生産効率を高めることができる。したがって、第７変形例による液晶セルも、高い生産性で製造される。
【０１４０】
図９Ａ〜図９Ｆを参照し、第８変形例による液晶セルについて説明する。実施例による液晶セルは、輪郭（外形）が六角形である液晶セルであったが、液晶セルの形状は特に制限されない。たとえば長方形以外の外形形状を有する液晶セルとすることができる。一例として、輪郭線に曲線が用いられる形状の液晶セルとすることも可能である。
【０１４１】
図９Ａは、第８変形例による液晶セルの製造に用いられるマザー基板における空セルの配置位置、及び、角状シール材５４ｘの配置位置を示す概略的な平面図である。なお、図９Ａには、低浸透スクライブ線を形成してＸ軸方向に分断（ブレイク）した後の短冊（短冊状基板）を示した。各空セルの輪郭線は、短冊の上下辺（長さ方向に延在する辺）及び高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂによって規定される。図９Ａに示す例においては、空セルの左右の輪郭線に曲線が用いられている。セル形状以外の点は実施例と同様である。図９Ｂは、図９Ａにおいて楕円で囲んだ領域の拡大図である。
【０１４２】
第８変形例による液晶セルの製造に用いられるマザー基板には、実施例におけるそれと同様に、各空セルのメインシール材５４間を、その外側領域においてＸ軸方向に連結する角状シール材５４ｘが配置されている。角状シール材５４ｘは、Ｘ軸方向に隣接する空セルの左右の輪郭線（曲線部分）が接する接点部に配置される。角状シール材５４ｘは、平面視上、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂをまたぐ。平面視上、角状シール材５４ｘと高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂとが交差する位置において、表側基板５０のスクライブ線５０ｂと裏側基板６０のスクライブ線６０ｂとは一致している。
【０１４３】
図９Ｃは、第８変形例による液晶セルの右側輪郭線の一部（接点部近傍）を示す概略的な平面図である。角状シール材５４ｘが、メインシール材５４から液晶セルの曲線状輪郭線（外形線）までＸ軸方向に延在するように配置されている。角状シール材５４ｘが接触している輪郭線部分は、平面視上、表側基板５０の輪郭線と裏側基板６０の輪郭線が一致する輪郭線部分である。この輪郭線部分は、高浸透スクライブを用いて分断されている。
【０１４４】
第８変形例による液晶セルの製造工程において、角状シール材５４ｘは、平面視上、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂをまたぐように配置される。角状シール材５４ｘにより、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂ形成位置における各空セルの連結状態が保持されるため、短冊状態における液晶注入及び注入口封止が安定的に実現され、生産効率を高めることができる。したがって、第８変形例による液晶セルも、高い生産性で製造される。
【０１４５】
第８変形例による液晶セルの製造に用いられるマザー基板においては、角状シール材５４ｘがセルの接点部において、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂをまたぐように配置されるが、角状シール材は、平面視上、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂをまたぐ他の位置に配置することもできる。
【０１４６】
図９Ｄに、角状シール材５４ｘに加え、角状シール材５４ｙ、５４ｚが配置されたマザー基板の例を示す。図９Ｅは、図９Ｄにおいて楕円で囲んだ領域の拡大図である。
【０１４７】
角状シール材５４ｙは、左右の曲線状輪郭線（外形線）において、接点部の下側（Ｙ軸負方向側）に配置され、角状シール材５４ｚは、接点部の上側（Ｙ軸正方向側）に配置される。
【０１４８】
角状シール材５４ｙ、５４ｚは、メインシール材５４から、平面視上、高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂをまたぐ位置まで、すなわち空セル領域から、隣接する非空セル領域まで配置される。平面視上、角状シール材５４ｙ、５４ｚが高浸透スクライブ線５０ｂ、６０ｂと交差する位置においては、角状シール材５４ｘの場合と同様に、表側基板５０のスクライブ線５０ｂと裏側基板６０のスクライブ線６０ｂが一致する。なお、図９Ｄ、図９Ｅに示す例においては、角状シール材５４ｙ、５４ｚは、メインシール材５４からＸ軸方向に延在している。
【０１４９】
角状シール材５４ｙ、５４ｚは、たとえば角状シール材５４ｘを配置する工程と同じ工程で、角状シール材５４ｘと等しい材料を用い、角状シール材５４ｘを配置する方法と等しい方法で、角状シール材５４ｘを配置する基板面と同じ基板面上に配置することができる。
【０１５０】
図９Ｆは、製造される液晶セルにおける角状シール材５４ｘ、５４ｙ、５４ｚ配置位置近傍を示す概略的な平面図である。角状シール材５４ｘ、５４ｙ、５４ｚは、メインシール材５４から、曲線状の輪郭線（外形線）までのびる。角状シール材５４ｘ、５４ｙ、５４ｚが接触している輪郭線部分は、高浸透スクライブを用いて分断された、平面視上、表側基板５０の輪郭線と裏側基板６０の輪郭線が一致する輪郭線部分である。角状シール材５４ｘに加え、角状シール材５４ｙ、５４ｚを備えるため、各空セルの連結状態を一層安定させ、一層安定したハンドリングを実現することが可能となる。この液晶セルも、高い生産性で製造される。
【０１５１】
なお、少なくとも一つの角状シール材５４ｘ、５４ｙ、５４ｚを備える構成とすることができる。
【０１５２】
図１０は、第１〜第８変形例等による液晶セルの側面（各図に矢印で示した側面）を示す概略図をまとめた表である。
【０１５３】
実施例の１Ｋ側面（図１Ｋ参照）と同様、図示したすべての側面に、対向配置された表側基板５０（表側透明基板５１）、裏側基板６０（裏側透明基板６１）、及び、両基板５０、６０（５１、６１）間に配置され、これらを接着するメインシール材５４が現れる。更に、基板５０、６０（５１、６１）の端部（液晶セルの輪郭線）まで配置された角状シール材５４ｘ等が存在する。角状シール材５４ｘ等が接触している輪郭線部分は、平面視上、表側基板５０（表側透明基板５１）の輪郭線と裏側基板６０（裏側透明基板６１）の輪郭線が一致する輪郭線部分である。
【０１５４】
また、図示したすべての側面（輪郭線部分）は高浸透スクライブを行い、基板５０、６０（５１、６１）の外側表面（メインシール材５４が配置される面とは反対側の面）にスクライブ線５０ｂ、６０ｂを配置して形成される側面である。このため、図示する基板５１、６１の側面においては、それぞれ基板５１、６１の外側表面から基板５１、６１の厚さ方向に、基板５１、６１の厚さの１／２超の深さまで鏡面５１ａ、６１ａが形成されている。基板５１、６１の内側表面（メインシール材５４が配置される面）まで鏡面５１ａ、６１ａが形成されない場合は、内側表面側に粗面５１ｂ、６１ｂが現れる。この場合、基板５１、６１は、粗面５１ｂ、６１ｂが近接する態様で対向配置される。角状シール材５４ｘ等は、基板５１、６１の、このような面まで延在して配置されている。第１〜第８変形例等による液晶セルは、本図に示すような側面を備える液晶セルである。
【０１５５】
なお、第１〜第８変形例等による液晶セルにおいても、液晶注入口５４ａが配置された側面、及び、外部取り出し端子部５７が配置された側面（Ｘ軸方向に平行な側面）は、低浸透スクライブ線５０ａ、６０ａを形成して分断するため、基板５１、６１の外側表面からそれぞれ基板５１、６１の厚さ方向に、それぞれ基板５１、６１の厚さの１／２以下の深さまで鏡面５１ａ、６１ａが形成され、それより深い位置に粗面５１ｂ、６１ｂが形成されている。
【０１５６】
以上、実施例、変形例等に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されない。
【０１５７】
たとえば実施例、変形例等においては液晶セルについて説明したが、液晶セルに限られない。
【０１５８】
ガラスなどの硬質脆性材料を用いて形成され、たとえば略平行に対向配置された２枚の基板、その間に配置されたメインシール材、及び、メインシール材に囲まれた領域内に配置された、電気光学的作用を有する媒体を備えるセルについて、角状シール材を備える構成とすることが可能である。電気光学的作用を有するとは、たとえば電気的刺激を与えると光学的性質（屈折率等）が変化することを意味する。媒体は、液体、固体等を問わない。具体的には、角状シール材を備える液晶セルの他、角状シール材を備えるＥＬ(electroluminescence)セル、ＥＣＬ(electrochemicalluminescence)セル、ＥＣ (electrochromic)セル、蛍光表示管(fluorescent vacuum display)等とすることができる。なお、たとえばＥＣセルはＥＤ(electrodeposition)セルを含む。
【０１５９】
それらのセルにおいて、角状シール材は、実施例や変形例等と同様に、平面視上、２枚の基板の輪郭線が一致する輪郭線部分（２枚の基板の端部）に接触するように配置される。一例として、角状シール材は、メインシール材からセルの輪郭線（２枚の基板の端部）まで配置される。外形を構成する複数の辺に１つの角状シール材が配置されていてもよいし（たとえば図７Ｊにおいて角状シール材５４ｘのみの構成）、１つの辺に１つの角状シール材が配置されていてもよい（たとえば図７Ｊにおいて角状シール材５４ｙのみの構成）。複数の角状シール材を、複数の辺に配置することもできる（たとえば図７Ｊにおいて角状シール材５４ｘ、５４ｙのみの構成、角状シール材５４ｙ、５４ｚのみの構成、あるいは角状シール材５４ｘ、５４ｙ、５４ｚをすべて備える構成）。
【０１６０】
それらのセルにおいては、実施例や変形例等と同様に、角状シール材が接触している輪郭線部分の側面において、双方の基板につき、基板の外側表面（メインシール材が配置された面とは反対側の面）から、それぞれの基板の厚さ方向に、それぞれの基板の厚さの１／２超の深さまで鏡面が形成されている。
【０１６１】
なお、セルは２枚以上の基板を備えればよく、３枚以上の基板を含む構成とすることもできる。
【０１６２】
実施例や第１〜第８変形例等の組み合わせも可能である。
【０１６３】
その他、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。
【産業上の利用可能性】
【０１６４】
２枚以上の硬質脆性基板を用いて構成されるセルを含む種々の製品、たとえば表示装置等に利用可能である。
【符号の説明】
【０１６５】
５０  表側基板
５０ａ  低浸透スクライブ線
５０ｂ  高浸透スクライブ線
５１  表側透明基板
５１ａ  鏡面
５１ｂ  粗面
５２  表側透明電極
５３  表側配向膜
５４  メインシール材
５４ａ  液晶注入口
５４ｘ、５４ｙ、５４ｚ  角状シール材
５５  液晶層
５７  外部取り出し端子部
６０  裏側基板
６０ａ  低浸透スクライブ線
６０ｂ  高浸透スクライブ線
６１  裏側透明基板
６１ａ  鏡面
６１ｂ  粗面
６２  裏側透明電極
６３  裏側配向膜
７１、７２  基板
７１ａ、７２ａ  鏡面
７１ｂ、７２ｂ  粗面
７３、７４  基板
７３ａ、７４ａ  鏡面
７３ｂ、７４ｂ  粗面
７５  ダイヤモンドホイール
【図１−１】
2018101062.tif 000003
【図１−２】
2018101062.tif 000004
【図１−３】
2018101062.tif 000005
【図１−４】
2018101062.tif 000006
【図２】
2018101062.tif 000007
【図３】
2018101062.tif 000008
【図４】
2018101062.tif 000009
【図５】
2018101062.tif 000010
【図６】
2018101062.tif 000011
【図７−１】
2018101062.tif 000012
【図７−２】
2018101062.tif 000013
【図７−３】
2018101062.tif 000014
【図７−４】
2018101062.tif 000015
【図８】
2018101062.tif 000016
【図９−１】
2018101062.tif 000017
【図９−２】
2018101062.tif 000018
【図１０】
2018101062.tif 000019
【図１１−１】
2018101062.tif 000020
【図１１−２】
2018101062.tif 000021
【図１２】
2018101062.tif 000022
【図１３】
2018101062.tif 000023
【図１４−１】
2018101062.tif 000024
【図１４−２】
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