(57)【要約】      （修正有）【課題】形成体の軸方向において局所的に大きいうねりを検出する精度を高める。【解決手段】以下の工程により評価を行う。（１）回転装置でロールを９０度で間欠回転させながら、４回撮像する。（２）撮像した画像を画像処理して、ロールにおける軸方向の形状プロファイルを生成する（３）４つの形状プロファイルを螺旋ピッチの１／４ずつずらすことにより位相を合わせ、合成して１つの合成波形１６０を形成する。（４）合成波形１６０を螺旋ピッチ毎に複数に分割した分割波形毎にうねりを評価する。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に螺旋状の凹凸が形成された形成体における軸方向の波形を測定する測定工程と、
該波形を螺旋ピッチ毎に複数に分割した分割波形毎にうねりを評価する評価工程と、
を備える形成体の評価方法。
【請求項２】
前記測定工程は、前記形成体における前記軸方向の前記波形を、前記形成体の周方向における複数の異なる位置で複数測定し、
前記評価工程は、全ての前記波形を螺旋ピッチ毎に複数に分割した分割波形毎にうねりを評価する
請求項１に記載の形成体の評価方法。
【請求項３】
前記測定工程で測定された複数の波形の軸方向の位相を合わせた状態で、前記複数の波形を合成して１つの波形を形成する形成工程を有し、
前記評価工程は、前記１つの波形を螺旋ピッチ毎に複数に分割した分割波形毎にうねりを評価する
請求項２に記載の形成体の評価方法。
【請求項４】
回転する軸体の表面に液体を塗布すると共に、該表面に塗布された該液体に、該軸体の軸方向に移動する板を接触させた後、該液体を硬化させて表面に螺旋状の凹凸が形成された形成体を製造する製造工程と、
表面に螺旋状の凹凸が形成された形成体における軸方向の波形を測定する測定工程と、
該波形を螺旋ピッチ毎に複数に分割した分割波形毎にうねりを評価する評価工程と、
前記うねりの評価が不良であった場合に、該うねりが小さくなるように前記製造工程における塗布条件を変更する変更工程と、
を備える形成体の製造方法。
【請求項５】
前記測定工程は、前記形成体における前記軸方向の前記波形を、前記形成体の周方向における複数の異なる位置で複数測定し、
前記評価工程は、全ての前記波形を螺旋ピッチ毎に複数に分割した分割波形毎にうねりを評価する
請求項４に記載の形成体の製造方法。
【請求項６】
前記測定工程で測定された複数の波形の軸方向の位相を合わせた状態で、前記複数の波形を合成して１つの波形を形成する形成工程を有し、
前記評価工程は、前記１つの波形を螺旋ピッチ毎に複数に分割した分割波形毎にうねりを評価する
請求項５に記載の形成体の製造方法。
【請求項７】
表面に螺旋状の凹凸が形成された形成体における軸方向の波形を測定する測定部と、
該波形を螺旋ピッチ毎に複数に分割した分割波形毎にうねりを評価する評価部と、
を備える評価装置。
【請求項８】
前記測定部は、前記形成体における前記軸方向の前記波形を、前記形成体の周方向における複数の異なる位置で複数測定し、
前記評価部は、全ての前記波形を螺旋ピッチ毎に複数に分割した分割波形毎にうねりを評価する
請求項７に記載の評価装置。
【請求項９】
前記測定部で測定された複数の波形の軸方向の位相を合わせた状態で、前記複数の波形を合成して１つの波形を形成する形成部を有し、
前記評価部は、前記１つの波形を螺旋ピッチ毎に複数に分割した分割波形毎にうねりを評価する
請求項８に記載の評価装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、形成体の評価方法、形成体の製造方法、評価装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、自己の移動距離を測定するための距離測定車輪と、その回転量を検出するロータリーエンコーダと、距離測定車輪をレールの中心線上に保持するガイドローラと、距離測定車輪の接地点上に設置されたヨー角速度センサと、距離測定車輪の回転軸上に設置されたピッチ角速度センサと、ロータリーエンコーダの出力パルスを計数するパルスカウンタと、角速度センサの出力及びパルスカウンタの出力から自己の位置を計算して結果を記憶し、測定終了後に表示機構へ結果を出力する計算機とを備え、被測定レール上を移動することによりレールのうねりと高低差を測定する測定装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平５−２６４２６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
軸体の表面（外周面）に塗布液を螺旋状に塗布することで、表層が形成された形成体を製造する方法では、形成体の表面に螺旋状の凹凸が生じ、形成体の表面にうねりが発生する場合がある。
【０００５】
本発明は、分割波形を用いずにうねりを評価する場合に比べ、形成体の軸方向において局所的に大きいうねりを検出する精度を高めることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１の発明は、表面に螺旋状の凹凸が形成された形成体における軸方向の波形を測定する測定工程と、該波形を螺旋ピッチ毎に複数に分割した分割波形毎にうねりを評価する評価工程と、を備える。
【０００７】
請求項２の発明では、前記測定工程は、前記形成体における前記軸方向の前記波形を、前記形成体の周方向における複数の異なる位置で複数測定し、前記評価工程は、全ての前記波形を螺旋ピッチ毎に複数に分割した分割波形毎にうねりを評価する。
【０００８】
請求項３の発明は、前記測定工程で測定された複数の波形の軸方向の位相を合わせた状態で、前記複数の波形を合成して１つの波形を形成する形成工程を有し、前記評価工程は、前記１つの波形を螺旋ピッチ毎に複数に分割した分割波形毎にうねりを評価する。
【０００９】
請求項４の発明は、回転する軸体の表面に液体を塗布すると共に、該表面に塗布された該液体に、該軸体の軸方向に移動する板を接触させた後、該液体を硬化させて表面に螺旋状の凹凸が形成された形成体を製造する製造工程と、表面に螺旋状の凹凸が形成された形成体における軸方向の波形を測定する測定工程と、該波形を螺旋ピッチ毎に複数に分割した分割波形毎にうねりを評価する評価工程と、前記うねりの評価が不良であった場合に、該うねりが小さくなるように前記製造工程における塗布条件を変更する変更工程と、を備える。
【００１０】
請求項５の発明では、前記測定工程は、前記形成体における前記軸方向の前記波形を、前記形成体の周方向における複数の異なる位置で複数測定し、前記評価工程は、全ての前記波形を螺旋ピッチ毎に複数に分割した分割波形毎にうねりを評価する。
【００１１】
請求項６の発明は、前記測定工程で測定された複数の波形の軸方向の位相を合わせた状態で、前記複数の波形を合成して１つの波形を形成する形成工程を有し、前記評価工程は、前記１つの波形を螺旋ピッチ毎に複数に分割した分割波形毎にうねりを評価する。
【００１２】
請求項７の発明は、表面に螺旋状の凹凸が形成された形成体における軸方向の波形を測定する測定部と、該波形を螺旋ピッチ毎に複数に分割した分割波形毎にうねりを評価する評価部と、を備える。
【００１３】
請求項８の発明では、前記測定部は、前記形成体における前記軸方向の前記波形を、前記形成体の周方向における複数の異なる位置で複数測定し、前記評価部は、全ての前記波形を螺旋ピッチ毎に複数に分割した分割波形毎にうねりを評価する。
【００１４】
請求項９の発明は、前記測定部で測定された複数の波形の軸方向の位相を合わせた状態で、前記複数の波形を合成して１つの波形を形成する形成部を有し、前記評価部は、前記１つの波形を螺旋ピッチ毎に複数に分割した分割波形毎にうねりを評価する。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の請求項１の評価方法によれば、分割波形を用いずにうねりを評価する場合に比べ、形成体の軸方向において局所的に大きいうねりを検出する精度を高めることができる。
【００１６】
本発明の請求項２の評価方法によれば、形成体の周方向の一か所で測定された波形の分割波形を用いてうねりを評価する場合に比べ、形成体の軸方向において局所的に大きいうねりを検出する精度を高めることができる。
【００１７】
本発明の請求項３の評価方法によれば、複数の波形を合成せずに個々の波形を評価する場合に比べ、形成体の軸方向において局所的に大きいうねりを検出する精度を高めることができる。
【００１８】
本発明の請求項４の製造方法によれば、分割波形を用いずにうねりを評価した結果に基づいて塗布条件を変更する場合に比べ、うねりの小さい形成体を製造できる。
【００１９】
本発明の請求項５の製造方法によれば、形成体の周方向の一か所で測定された波形の分割波形を用いてうねりを評価した結果に基づいて塗布条件を変更する場合に比べ、うねりの小さい形成体を製造できる。
【００２０】
本発明の請求項６の製造方法によれば、複数の波形を合成せずに個々の波形を評価した結果に基づいて塗布条件を変更する場合に比べ、うねりの小さい形成体を製造できる。
【００２１】
本発明の請求項７の構成によれば、分割波形を用いずにうねりを評価する構成に比べ、形成体の軸方向において局所的に大きいうねりを検出する精度を高めることができる。
【００２２】
本発明の請求項８の構成によれば、形成体の周方向の一か所で測定された波形の分割波形を用いてうねりを評価する構成に比べ、形成体の軸方向において局所的に大きいうねりを検出する精度を高めることができる。
【００２３】
本発明の請求項９の構成によれば、複数の波形を合成せずに個々の波形を評価する構成に比べ、形成体の軸方向において局所的に大きいうねりを検出する精度を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本実施形態に係る塗布装置の構成を示す概略正面図である。
【図２】本実施形態に係る塗布装置の構成を示す概略側面図である。
【図３】本実施形態に係る評価装置の構成を示す概略図である。
【図４】本実施形態に係る評価装置における制御装置の構成を示すブロック図である。
【図５】本実施形態に係る評価装置で測定された４つの波形を示す図である。
【図６】図５に示す４つの波形の位相を合わせた状態を示す図である。
【図７】図６に示す４つの波形を合成することで形成された合成波形を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下に、本発明に係る実施形態の一例を図面に基づき説明する。
【００２６】
（製造装置１００）
まず、本実施形態に係る製造装置１００の構成を説明する。
【００２７】
製造装置１００は、表層１２６が形成されたロール１２０（形成体の一例）を製造する装置である（図３参照）。具体的には、製造装置１００は、塗布装置１０（図１及び図２参照）と、評価装置５０（図３参照）と、を有している。
【００２８】
（ロール１２０）
ロール１２０としては、例えば、電子写真式の画像形成装置に用いられる帯電ロールなどが挙げられる。具体的には、ロール１２０は、図３に示されるように、一例として、芯材１２２と、ロール層１２４と、表層１２６と、を有している。
【００２９】
芯材１２２としては、一例として、金属材料を用いて円柱状又は円筒状に形成された芯材が挙げられる。ロール層１２４は、芯材１２２の表面（外周面）に円筒状（ロール状）に形成されている。このロール層１２４は、一例として、カーボンブラック等の導電剤を含むゴム材料で形成されている。本実施形態では、ロール層１２４が形成された芯材１２２が、軸体の一例として機能する。
【００３０】
表層１２６は、一例として、カーボンブラック等の導電剤を含む樹脂材料で形成されている。この表層１２６は、一例として、ロール層１２４の表面（外周面）に塗布装置１０によって後述するように塗布液１４が螺旋状に塗布されること（図１参照）で形成される。このように、表層１２６は、塗布液１４が螺旋状に塗布されることで形成されるので、少なくとも微小な螺旋状の凹凸を表面に有している。
【００３１】
（塗布装置１０）
塗布装置１０は、図１に示されるように、芯材１２２の表面（外周面）に形成されたロール層１２４の表面（外周面）に塗布液（液体の一例）を塗布する装置である。具体的には、塗布装置１０は、回転装置２０と、吐出装置３０と、ブレード４０（板の一例）と、を有している。
【００３２】
（回転装置２０）
回転装置２０は、ロール層１２４が形成された芯材１２２を回転させる装置である。具体的には、回転装置２０は、一例として、芯材１２２の軸方向（Ｘ方向）の両端部を支持し、芯材１２２の一端部に配置されたモータ２４により芯材１２２を回転させる。なお、本実施形態では、回転装置２０は、芯材１２２の回転軸を水平にした状態で、芯材１２２を支持すると共に、一方向（矢印Ｂ方向）へ回転させる。
【００３３】
（吐出装置３０）
吐出装置３０は、回転装置２０によって回転する芯材１２２に形成されたロール層１２４の表面に塗布液１４を吐出する装置である。具体的には、吐出装置３０は、図１及び図２に示されるように、塗布液１４を貯留する貯留部３２と、ノズル３４からロール層１２４の表面に向けて塗布液１４を吐出する吐出部３６と、貯留部３２に貯留された塗布液１４を吐出部３６に供給する供給部３８と、を有している。
【００３４】
供給部３８は、貯留部３２と吐出部３６とに接続された供給管３８Ａと、供給管３８Ａを通じて貯留部３２の塗布液１４を吐出部３６に向けて送液する送液部としてのポンプ３８Ｂと、を有している。
【００３５】
吐出装置３０では、貯留部３２に貯留された塗布液１４が、ポンプ３８Ｂによって吐出部３６へ送られ、吐出部３６へ送られた塗布液１４が吐出部３６のノズル３４からロール層１２４の表面に向けて吐出されるようになっている。
【００３６】
そして、吐出部３６が、回転装置２０によって回転する芯材１２２の軸方向に沿って移動しながら、ロール層１２４の表面に塗布液１４を吐出することで、塗布液１４が螺旋状に塗布される。
【００３７】
（塗布液１４）
図１及び図２に示されるように、塗布液１４は、ロール層１２４の表面に塗布されて表層１２６（図３参照）を形成する液体である。具体的には、塗布液１４は、一例として、表層１２６を構成する樹脂材料が有機溶媒に溶解された溶液で構成される。
【００３８】
（ブレード４０）
ブレード４０（板の一例）は、図１及び図２に示されるように、板状に形成されており、例えば、ステンレス鋼（ＳＵＳ）等の金属や樹脂等で構成されている。
【００３９】
そして、ブレード４０が、回転装置２０によって回転する芯材１２２の軸方向へ沿って移動しながら、ロール層１２４の表面に螺旋状に塗布された塗布液１４に接触して塗布液１４を均す。そして、この塗布液１４が、乾燥や加熱により硬化されることで表層１２６が形成されて、ロール１２０が製造される。なお、ロール層１２４に螺旋状に塗布された塗布液１４はブレード４０で均されるが、塗布液１４によって形成される表層１２６には、少なくとも微小な螺旋状の凹凸が残る。
【００４０】
（評価装置５０）
評価装置５０は、ロール１２０の外周面に形成されたうねりを評価する装置である。具体的には、評価装置５０は、図３（Ａ）（Ｂ）に示されるように、回転装置６０と、照明装置７０と、カメラ８０と、制御装置９０（図４参照）と、を有している。
【００４１】
（回転装置６０）
回転装置６０は、ロール１２０を回転させる装置である。具体的には、回転装置６０は、一例として、ロール１２０の芯材１２２の軸方向両端部を支持し、芯材１２２の軸方向一端部に配置されたモータ６４によりロール１２０を回転させる。本実施形態では、回転装置６０は、ロール１２０の回転軸を水平にした状態でロール１２０を支持すると共に、ロール１２０を一方向（矢印Ｃ方向）へ９０度の回転角度で間欠的に回転させる。
【００４２】
（照明装置７０）
照明装置７０は、回転装置６０によって支持されたロール１２０の下側に配置されている。この照明装置７０は、ロール１２０の軸方向に沿って長さを有しており、ロール層１２４の軸方向の全域に光を当てて、ロール層１２４を照明する。照明装置７０は、一例として、ＬＥＤがロール１２０の軸方向に沿って列状に並べられて構成されている。
【００４３】
（カメラ８０）
カメラ８０は、回転装置６０によって支持されたロール１２０の上側に配置されている。すなわち、カメラ８０は、ロール１２０に対する照明装置７０とは反対側に配置されている。そして、カメラ８０は、ロール１２０の軸方向へ沿って移動しながら、下側から照明されたロール１２０の表層１２６を投影して撮像する。具体的には、カメラ８０は、平面視にて回転中心から最も遠い縁１２６Ａを含む領域を撮像する。
【００４４】
さらに、本実施形態では、カメラ８０は、回転装置６０によってロール１２０が９０度回転するごとに、ロール１２０の停止状態において、ロール層１２４を撮像する。すなわち、カメラ８０は、一つのロール１２０に対して、撮像動作を４回行う。
【００４５】
（制御装置９０）
制御装置９０は、図４に示されるように、画像処理部９２と、合成部９４（形成部の一例）と、評価部９６と、制御部９８と、を有している。制御部９８は、回転装置６０、照明装置７０及びカメラ８０含む評価装置５０の各部の駆動を制御する。
【００４６】
（画像処理部９２）
画像処理部９２は、カメラ８０が撮像した画像を画像処理して、図５に示されるように、ロール１２０における軸方向の波形１５０（形状プロファイル）を生成する。したがって、一つのロール１２０に対して、波形１５０が４つ生成される。
【００４７】
このように、カメラ８０が撮像した画像を画像処理部９２が画像処理することで、ロール１２０における軸方向の波形１５０が測定される。すなわち、本実施形態では、カメラ８０及び画像処理部９２が、ロール１２０における軸方向の波形１５０を測定する測定部の一例として機能する。
【００４８】
（合成部９４）
合成部９４は、図６に示されるように、画像処理部９２によって測定された４つの波形１５０の軸方向の位相を合わせた状態で、図７に示されるように、当該４つ全ての波形１５０を合成して１つの合成波形１６０を形成する。ロール１２０の回転角度９０度毎に測定された４つの波形１５０の場合では、螺旋ピッチの１／４ずつずらすことで、位相が合わせられる。
【００４９】
なお、螺旋ピッチは、各図において、符号Ｐにて示されている。また、螺旋ピッチを四等分した範囲（螺旋ピッチの１／４の範囲）を符号１／４Ｐにて示している。
【００５０】
ここで、螺旋ピッチとは、ロール１２０を軸方向に見て、螺旋状の凹凸が周方向に１周（３６０度）巻かれたときにおける周方向の一端から他端の軸方向に沿った長さをいう。すなわち、塗布装置１０で塗布液１４を塗布する際に、軸周りに回転する芯材１２２の０度の位置から芯材１２２の軸方向にノズル３４を移動させて塗布を開始した場合において、次に０度（３６０度）の位置にノズル３４が位置するまでにノズル３４が軸方向に移動した距離に相当する。
【００５１】
（評価部９６）
評価部９６は、合成部９４で形成された合成波形１６０を螺旋ピッチ毎に複数に分割した分割波形毎にうねりを評価する。具体的には、評価部９６では、分割波形毎に、波形の最大値と最小値の差（振幅）をうねり量として算出し、このうねり量が基準値以上である場合に不良と評価する。当該うねり量が基準値未満である場合に良好と評価する。なお、複数の分割波形の１か所でもうねり量が基準値以上である場合に、不良と評価する。
【００５２】
（製造方法）
次に、製造装置１００を用いて、表層１２６が形成されたロール１２０（形成体の一例）を製造する製造方法について説明する。本製造方法は、製造工程と、測定工程と、形成工程と、評価工程と、変更工程と、を有している。
【００５３】
（製造工程）
製造工程では、まず、図１及び図２に示されるように、吐出部３６が、回転装置２０によって回転する芯材１２２の軸方向に沿って移動しながら、ロール層１２４の表面に塗布液１４を吐出することで、塗布液１４を螺旋状に塗布する。ロール層１２４の表面に塗布された塗布液１４に、芯材１２２の軸方向に移動するブレード４０を接触させて、塗布液１４を均した後に、塗布液１４を乾燥や加熱により硬化させてロール１２０を製造する。
【００５４】
なお、ロール層１２４に螺旋状に塗布された塗布液１４はブレード４０で均されるが、塗布液１４によって形成される表層１２６には、少なくとも微小な螺旋状の凹凸が残る。すなわち、製造工程では、表面に螺旋状の凹凸が形成されたロール１２０が製造される。
【００５５】
（測定工程）
測定工程では、表面に螺旋状の凹凸が形成されたロール１２０における軸方向の波形１５０を、ロール１２０の周方向における複数の異なる位置で複数測定する。
【００５６】
具体的には、測定工程では、まず、図３（Ａ）（Ｂ）に示されるように、評価装置５０において、カメラ８０をロール１２０の軸方向へ沿って移動させながら、照明装置７０によって下側から照明されたロール１２０の表層１２６を当該カメラ８０で投影して撮像する。当該撮像は、回転装置６０でロール１２０を９０度で間欠回転させながら、ロール１２０の停止状態において、４回行われる。
【００５７】
そして、画像処理部９２で、カメラ８０が撮像した画像を画像処理して、図５に示されるように、ロール１２０における軸方向の波形１５０（形状プロファイル）を４つ生成する。このように、波形１５０を生成することで、測定工程では、波形１５０を測定する。
【００５８】
（形成工程）
形成工程では、測定工程で測定された４つの波形１５０の軸方向の位相を合わせた状態で（図６参照）、４つの波形を合成して１つの合成波形１６０を形成する（図７参照）。具体的には、形成工程では、４つの波形１５０を螺旋ピッチの１／４ずつずらすことで、４つの波形１５０の位相を合わせた状態で、４つ全ての波形１５０を合成して１つの合成波形１６０を形成する。
【００５９】
（評価工程）
評価工程では、形成工程で形成された合成波形１６０を螺旋ピッチ毎に複数に分割した分割波形毎にうねりを評価する。具体的には、評価工程では、分割波形毎に、波形の最大値と最小値の差（振幅）をうねり量として算出し、このうねり量が基準値以上である場合に不良と評価する。当該うねり量が基準値未満である場合に良好と評価する。なお、複数の分割波形の１か所でもうねり量が基準値以上である場合に、不良と評価する。
【００６０】
この評価工程と前述の形成工程によって、ロール１２０のうねりを評価する評価方法が構成される。
【００６１】
（変更工程）
変更工程では、評価工程でうねりの評価が不良であった場合に、該うねりが小さくなるように製造工程における塗布条件を変更する。
【００６２】
具体的な塗布条件としては、例えば、ブレード４０のロール層１２４に対する位置（ブレード４０のロール層１２４に対する当て方）ノズル３４のロール層１２４に対する位置や、ブレード４０及びノズル３４の移動速度や、芯材１２２の回転速度などがある。
【００６３】
このように塗布条件を変更することで、次回に製造されるロール１２０のうねりが小さくなる。なお、うねりの評価が不良であったロール１２０は廃棄される。
【００６４】
（作用）
本実施形態では、前述のように、評価工程において、合成波形１６０を螺旋ピッチ毎に複数に分割した分割波形毎にうねりを評価する。このように、ロール１２０の軸方向に螺旋ピッチ毎で分割された各範囲において、個々にうねり評価するので、うねりがロール１２０の軸方向において局所的に大きい場合でも、分割波形を用いずにうねりを評価する場合に比べ、その局所的に大きいうねりを検出する精度が高まる。したがって、分割波形を用いずにうねりを評価する場合に比べ、高精度にうねりが評価される。
【００６５】
このように高精度にうねりが評価された結果に基づいて、製造工程における塗布条件が変更されるので、分割波形を用いずにうねりを評価した結果に基づいて塗布条件を変更する場合に比べ、うねりの小さいロール１２０が製造される。
【００６６】
また、本実施形態では、前述のように、測定工程において、表面に螺旋状の凹凸が形成されたロール１２０における軸方向の波形を、ロール１２０の周方向における複数（具体的には四カ所）の異なる位置で複数測定する。このため、ロール１２０の周方向の一か所で測定された波形の分割波形を用いてうねりを評価する場合に比べ、ロール１２０の軸方向において局所的に大きいうねりを検出する精度が高まる。したがって、ロール１２０の周方向の一か所で測定された波形の分割波形を用いてうねりを評価する場合に比べ、高精度にうねりが評価される。
【００６７】
このように高精度にうねりが評価された結果に基づいて、製造工程における塗布条件が変更されるので、ロール１２０の周方向の一か所で測定された波形の分割波形を用いてうねりを評価した結果に基づいて塗布条件を変更する場合に比べ、うねりの小さいロール１２０が製造される。
【００６８】
また、本実施形態では、前述のように、形成工程において、４つの波形の軸方向の位相を合わせた状態で、４つの波形を合成して１つの合成波形を形成する。このため、複数の波形を合成せずに個々の波形を評価する場合に比べ、うねりの最大値と最小値が大きくなり、うねりが明確に表れる。これにより、複数の波形を合成せずに個々の波形を評価する場合に比べ、ロール１２０の軸方向において局所的に大きいうねりを検出する精度が高まる。したがって、複数の波形を合成せずに個々の波形を評価する場合に比べ、高精度にうねりが評価される。
【００６９】
このように高精度にうねりが評価された結果に基づいて、製造工程における塗布条件が変更されるので、複数の波形を合成せずに個々の波形を評価した結果に基づいて塗布条件を変更する場合に比べ、うねりの小さいロール１２０が製造される。
【００７０】
（第一変形例）
本実施形態では、４つの波形の軸方向の位相を合わせた状態で、４つの波形を合成して１つの合成波形を形成し、当該合成波形を螺旋ピッチ毎に複数に分割した分割波形毎にうねりを評価していたが、これに限られない。
【００７１】
例えば、４つの波形を合成せず、４つ全ての各波形を螺旋ピッチ毎に複数に分割した分割波形毎にうねりを評価してもよい。この場合においても、例えば、前述の評価工程と同様に評価が行われる。
【００７２】
第一変形例によれば、ロール１２０の周方向の一か所で測定された波形の分割波形を用いてうねりを評価する場合に比べ、ロール１２０の軸方向において局所的に大きいうねりを検出する精度が高まる。
【００７３】
（第二変形例）
本実施形態では、表面に螺旋状の凹凸が形成されたロール１２０における軸方向の波形を、ロール１２０の周方向における複数（具体的には四カ所）の異なる位置で複数測定していたが、これに限られない。
【００７４】
例えば、ロール１２０の周方向の一か所で測定された波形の分割波形を用いてうねりを評価してもよい。この場合においても、例えば、前述の評価工程と同様に評価が行われる。
【００７５】
第二変形例によれば、ロール１２０の軸方向に螺旋ピッチ毎で分割された各範囲において、個々にうねり評価するので、うねりがロール１２０の軸方向において局所的に大きい場合でも、分割波形を用いずにうねりを評価する場合に比べ、その局所的に大きいうねりを検出する精度が高まる。
【００７６】
（他の変形例）
ロール１２０の周方向における複数の異なる位置で波形を複数測定する構成として、本実施形態では、ロール１２０の周方向において、９０度毎に４つの波形を測定していたが、これに限られない。
【００７７】
例えば、波形は、２つ又は３つ測定してもよいし、５つ以上測定してもよい。この場合、ロール１２０の周方向において等角度間隔で測定してもよいし、異なる角度間隔で測定してもよい。
【００７８】
本発明は、上記の実施形態に限るものではなく、その主旨を逸脱しない範囲内において種々の変形、変更、改良が可能である。例えば、上記に示した変形例は、適宜、複数を組み合わせて構成してもよい。
【符号の説明】
【００７９】
１４   塗布液（液体の一例）
４０   ブレード（板の一例）
５０   評価装置
８０   カメラ（測定部の一例）
９２   画像処理部（測定部の一例）
９４   合成部
９６   評価部
１２０ ロール（形成体の一例）
１２２ 芯材（軸体の一例）
１２４ ロール層（軸体の一例）
１５０ 波形
１６０ 合成波形
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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