(57)【要約】      （修正有）【課題】第２の光学層に光硬化性樹脂組成物の硬化物を用いた場合に、前記第２の光学層に接する粘着層の黄変を防止できる光学体の提供。【解決手段】凹凸面を有する第１の光学層２と、前記第１の光学層２の凹凸面上に配置された無機層１と、前記無機層１側に他の凹凸面を有し、該他の凹凸面における凹凸が埋没するように配置された第２の光学層３と、を有し、前記第２の光学層３が、粘着層と接して使用され、前記第２の光学層３が、光ラジカル発生剤を含有する光硬化性樹脂組成物の硬化物であり、前記第１の光学層２、前記無機層、及び前記第２の光学層３の積層体について、８５℃で１５分間のパージ＆トラップ分析を行った際の、アウトガス中の前記光ラジカル発生剤の含有量が、前記積層体に対して１５質量ｐｐｍ以下である、光学体である。【選択図】図１
2018101012.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
凹凸面を有する第１の光学層と、
前記第１の光学層の凹凸面上に配置された無機層と、
前記無機層側に他の凹凸面を有し、該他の凹凸面における凹凸が埋没するように配置された第２の光学層と、
を有し、
前記第２の光学層が、粘着層と接して使用され、
前記第２の光学層が、光ラジカル発生剤を含有する光硬化性樹脂組成物の硬化物であり、
前記第１の光学層、前記無機層、及び前記第２の光学層の積層体について、８５℃で１５分間のパージ＆トラップ分析を行った際の、アウトガス中の前記光ラジカル発生剤の含有量が、前記積層体に対して１５質量ｐｐｍ以下である、ことを特徴とする光学体。
【請求項２】
凹凸面を有する第１の光学層と、
前記第１の光学層の凹凸面上に配置された無機層と、
前記無機層側に他の凹凸面を有し、該他の凹凸面における凹凸が埋没するように配置された第２の光学層と、
前記第２の光学層に接する粘着層と、
を有し、
前記第２の光学層が、光ラジカル発生剤を含有する光硬化性樹脂組成物の硬化物であり、
前記第１の光学層、前記無機層、及び前記第２の光学層の積層体について、８５℃で１５分間のパージ＆トラップ分析を行った際の、アウトガス中の前記光ラジカル発生剤の含有量が、前記積層体に対して１５質量ｐｐｍ以下である、ことを特徴とする光学体。
【請求項３】
引張破断伸び率が、６０％以上である請求項１から２のいずれかに記載の光学体。
【請求項４】
前記光硬化性樹脂組成物が、多官能（メタ）アクリレートモノマーを含有する請求項１から３のいずれかに記載の光学体。
【請求項５】
前記光硬化性樹脂組成物における前記多官能（メタ）アクリレートモノマーの含有量が、５０質量以上７５質量％以下である請求項１から４のいずれかに記載の光学体。
【請求項６】
前記第２の光学層の厚みの最小値が、２μｍ以上４０μｍ以下である請求項１から５のいずれかに記載の光学体。
【請求項７】
前記粘着層が、アクリル系粘着層である請求項１から６のいずれかに記載の光学体。
【請求項８】
ＪＩＳ  Ｋ−７３７４：２００７に準拠して測定した２．０ｍｍの光学くしの透過像鮮明度が、６０％以上である請求項１から７のいずれかに記載の光学体。
【請求項９】
ＪＩＳ  Ｋ−７３７４：２００７に準拠して測定した０．５ｍｍの光学くしの透過像鮮明度が、６０％以上である請求項１から８のいずれかに記載の光学体。
【請求項１０】
前記第１の光学層の２５℃での貯蔵弾性率が、１．０×１０９Ｐａ以下である請求項１から９のいずれかに記載の光学体。
【請求項１１】
前記第２の光学層の２５℃での貯蔵弾性率が、１．０×１０９Ｐａ以下である請求項１から１０のいずれかに記載の光学体。
【請求項１２】
前記光ラジカル発生剤が、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、並びにオキシフェニル酢酸２−［２−オキソ−２−フェニルアセトキシエトキシ］エチルエステル及びオキシフェニル酢酸２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチルエステルの混合物の少なくともいずれかである請求項１から１１のいずれかに記載の光学体。
【請求項１３】
前記光硬化性樹脂組成物における前記光ラジカル発生剤の含有量が、０．００質量％超１．０質量％以下である請求項１から１２のいずれかに記載の光学体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学体に関する。
【背景技術】
【０００２】
窓ガラス、壁等の被着体に貼り付けることにより、所定の角度で入射する太陽光のうち、可視光領域の波長は室内に入射させつつ、赤外線等の高波長域光線は入射してきた方向に跳ね返すことができる、熱線再帰性を有する光学体が開発されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
特許文献１に記載の光学体は、図１０に示すように、窓ガラス、壁等の被着体（外部支持体１０７）に貼り付けられる光学体１００であって、無機層１０１と、無機層１０１の一方の表面（外部支持体１０７とは反対側の表面）に形成された第１の光学層１０２と、無機層１０１の他方の表面（外部支持体１０７側の表面）に形成された第２の光学層１０３と、第１の光学層１０２の一方の表面（外部支持体１０７とは反対側の表面）に形成された第１の基材１０４と、第２の光学層１０３の一方の表面（外部支持体１０７側の表面）に形成された第２の基材１０５と備える構成になっている。そして、光学体１００は、粘着層１０６を介して外部支持体１０７に貼り付けられる。光学体１００は、十分な透明性を有する。
【０００４】
光学体の薄型化、及び製造プロセス低減の観点から、窓ガラス、壁等の外部支持体１０７と第２の光学層１０３との間に形成される第２の基材１０５を省略する検討がなされている（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−１２８５１２号公報
【特許文献２】特開２０１１−２１２８９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明らは、図１０の光学体において、外部支持体１０７と第２の光学層１０３との間に形成された第２の基材１０５を省略すると、第２の光学層１０３に光硬化性樹脂組成物の硬化物を用いた場合に、粘着層１０６が黄変しやすくなる問題があることを知見した。
【０００７】
本発明は、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、第２の光学層に光硬化性樹脂組成物の硬化物を用いた場合に、前記第２の光学層に接する粘着層の黄変を防止できる光学体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を解決するための手段としては以下の通りである。即ち、
＜１＞  凹凸面を有する第１の光学層と、
前記第１の光学層の凹凸面上に配置された無機層と、
前記無機層側に他の凹凸面を有し、該他の凹凸面における凹凸が埋没するように配置された第２の光学層と、
を有し、
前記第２の光学層が、粘着層と接して使用され、
前記第２の光学層が、光ラジカル発生剤を含有する光硬化性樹脂組成物の硬化物であり、
前記第１の光学層、前記無機層、及び前記第２の光学層の積層体について、８５℃で１５分間のパージ＆トラップ分析を行った際の、アウトガス中の前記光ラジカル発生剤の含有量が、前記積層体に対して１５質量ｐｐｍ以下である、ことを特徴とする光学体である。
＜２＞  凹凸面を有する第１の光学層と、
前記第１の光学層の凹凸面上に配置された無機層と、
前記無機層側に他の凹凸面を有し、該他の凹凸面における凹凸が埋没するように配置された第２の光学層と、
前記第２の光学層に接する粘着層と、
を有し、
前記第２の光学層が、光ラジカル発生剤を含有する光硬化性樹脂組成物の硬化物であり、
前記第１の光学層、前記無機層、及び前記第２の光学層の積層体について、８５℃で１５分間のパージ＆トラップ分析を行った際の、アウトガス中の前記光ラジカル発生剤の含有量が、前記積層体に対して１５質量ｐｐｍ以下である、ことを特徴とする光学体である。
＜３＞  引張破断伸び率が、６０％以上である前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の光学体である。
＜４＞  前記光硬化性樹脂組成物が、多官能（メタ）アクリレートモノマーを含有する前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の光学体である。
＜５＞  前記光硬化性樹脂組成物における前記多官能（メタ）アクリレートモノマーの含有量が、５０質量以上７５質量％以下である前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の光学体である。
＜６＞  前記第２の光学層の厚みの最小値が、２μｍ以上４０μｍ以下である前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の光学体である。
＜７＞  前記粘着層が、アクリル系粘着層である前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の光学体である。
＜８＞  ＪＩＳ  Ｋ−７３７４：２００７に準拠して測定した２．０ｍｍの光学くしの透過像鮮明度が、６０％以上である前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の光学体である。
＜９＞  ＪＩＳ  Ｋ−７３７４：２００７に準拠して測定した０．５ｍｍの光学くしの透過像鮮明度が、６０％以上である前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の光学体である。
＜１０＞  前記第１の光学層の２５℃での貯蔵弾性率が、１．０×１０９Ｐａ以下である前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の光学体である。
＜１１＞  前記第２の光学層の２５℃での貯蔵弾性率が、１．０×１０９Ｐａ以下である前記＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載の光学体である。
＜１２＞  前記光ラジカル発生剤が、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、並びにオキシフェニル酢酸２−［２−オキソ−２−フェニルアセトキシエトキシ］エチルエステル及びオキシフェニル酢酸２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチルエステルの混合物の少なくともいずれかである前記＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の光学体である。
＜１３＞  前記光硬化性樹脂組成物における前記光ラジカル発生剤の含有量が、０．００質量％超１．０質量％以下である前記＜１＞から＜１２＞のいずれかに記載の光学体である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、第２の光学層に光硬化性樹脂組成物の硬化物を用いた場合に、前記第２の光学層に接する粘着層の黄変を防止できる光学体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、本発明の第１の実施形態に係る光学体の一例の断面図である。
【図２】図２は、本発明の第２の実施形態に係る光学体の一例の断面図である。
【図３】図３は、第２の光学層の厚みの最小値を説明するための図である。
【図４】図４は、波長選択反射性を有する光学体に対して入射する入射光と、光学体により反射された反射光との関係を示す斜視図である。
【図５Ａ】図５Ａは、第１の光学層に形成された構造体の形状例を示す斜視図である。
【図５Ｂ】図５Ｂは、図５Ａに示す構造体が形成された第１の光学層を備える光学体の一構成例を示す部分断面図である。
【図６Ａ】図６Ａは、本発明の一実施形態に係る光学体における第１の光学層の構成例を示す平面図である。
【図６Ｂ】図６Ｂは、図６Ａに示した第１の光学層のＢ−Ｂ線に沿った断面図である。
【図７Ａ】図７Ａは、本発明の一実施形態に係る光学体の製造方法の一例を説明するための工程図である（その１）。
【図７Ｂ】図７Ｂは、本発明の一実施形態に係る光学体の製造方法の一例を説明するための工程図である（その２）。
【図７Ｃ】図７Ｃは、本発明の一実施形態に係る光学体の製造方法の一例を説明するための工程図である（その３）。
【図８Ａ】図８Ａは、本発明の一実施形態に係る光学体の製造方法の一例を説明するための工程図である（その４）。
【図８Ｂ】図８Ｂは、本発明の一実施形態に係る光学体の製造方法の一例を説明するための工程図である（その５）。
【図８Ｃ】図８Ｃは、本発明の一実施形態に係る光学体の製造方法の一例を説明するための工程図である（その６）。
【図９Ａ】図９Ａは、本発明の一実施形態に係る光学体の製造方法の一例を説明するための工程図である（その７）。
【図９Ｂ】図９Ｂは、本発明の一実施形態に係る光学体の製造方法の一例を説明するための工程図である（その８）。
【図９Ｃ】図９Ｃは、本発明の一実施形態に係る光学体の製造方法の一例を説明するための工程図である（その９）。
【図９Ｄ】図９Ｄは、本発明の一実施形態に係る光学体の製造方法の一例を説明するための工程図である（その１０）。
【図１０】図１０は、従来の光学体を被着体（外部支持体）に貼り合わせた例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートから選択される１種または２種を意味する。
また、本明細書において、「単官能（メタ）アクリレート」とは、「官能基を１個有する（メタ）アクリレート」を意味し、「多官能（メタ）アクリレート」とは、「官能基を複数個有する（メタ）アクリレート」を意味する。
【００１２】
（光学体）
本発明の第１の実施形態に係る光学体は、少なくとも、無機層と、第１の光学層と、第２の光学層とを有し、更に必要に応じて、その他の部材を有する。係る光学体は、第２の光学層が、粘着層と接して使用される。
本発明の第２の実施形態に係る光学体は、少なくとも、無機層と、第１の光学層と、第２の光学層と、粘着層とを有し、更に必要に応じて、その他の部材を有する。
【００１３】
本発明の光学体において、前記第１の光学層、前記無機層、及び前記第２の光学層の積層体について、８５℃で１５分間のパージ＆トラップ分析を行った際の、アウトガス中の前記光ラジカル発生剤の含有量は、前記積層体に対して１５質量ｐｐｍ以下である。
【００１４】
本発明者らは、光学体において、外部支持体と第２の光学層との間に形成された第２の基材を省略すると、第２の光学層に光硬化性樹脂組成物の硬化物を用いた場合に、外部支持体に光学体を貼り付けるために使用され、第２の光学層に接する粘着層が、黄変しやすくなる問題があることを知見した。
そこで、本発明者らは、前記問題を解決するために鋭意検討を行った。そのところ、第２の光学層に残存する光ラジカル発生剤が粘着層を黄変させる一因であることを見出した。
従来の光学体では、第２の光学層と粘着層との間には、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルムが介在する。そのため、第２の光学層に光ラジカル発生剤が残存していても、前記光ラジカル発生剤は、粘着層に移行しないため、前記光ラジカル発生剤に起因して粘着層が黄変することはない。
しかし、外部支持体と第２の光学層との間に形成された第２の基材を省略すると、第２の光学層と粘着層とが接するため、第２の光学層に残存する光ラジカル発生剤が粘着層に移行し得る。
その結果、第２の光学層に接する粘着層が黄変しやすくなる。
そのところ、本発明の光学体においては、第２の光学層に残存する前記光ラジカル発生剤の量を低減させているため、粘着層の黄変を防止することができる。
なお、第２の光学層に残存する前記光ラジカル発生剤の量を低減させる方法としては、第２の光学層を作製する際に使用する前記光ラジカル発生剤の量を少なくする方法、残存しにくい前記光ラジカル発生剤を使用する方法、第２の光学層を作製する際に（メタ）アクリレートの官能基数の調整により反応性を高める方法などが挙げられる。
【００１５】
図１は、本発明の第１の実施形態に係る光学体の一例の断面図である。
図１において、光学体１１は、凹凸面２ａを有する第１の光学層２と、第１の光学層２の凹凸面２ａ上に配置された無機層１と、無機層１側に他の凹凸面３ａを有し、他の凹凸面３ａにおける凹凸が埋没するように配置された第２の光学層３と、第１の光学層２の凹凸面２ａと対向する面２ｂ上に配置された第１の基材４とを備える。光学体１１は、第２の光学層３の他の凹凸面３ａと対向する面３ｂ上（外部支持体側）に配置される第２の基材（図１０における第２の基材１０５）を有さず、第２の光学層３が粘着層に接して使用される。
【００１６】
図２は、本発明の第２の実施形態に係る光学体の一例の断面図である。
図２において、光学体１１は、凹凸面２ａを有する第１の光学層２と、第１の光学層２の凹凸面２ａ上に配置された無機層１と、無機層１側に他の凹凸面３ａを有し、他の凹凸面３ａにおける凹凸が埋没するように配置された第２の光学層３と、第１の光学層２の凹凸面２ａと対向する面２ｂ上に配置された第１の基材４と、第２の光学層３と接する粘着層５とを備える。光学体１１は、第２の光学層３の他の凹凸面３ａと対向する面３ｂ上（外部支持体側）に配置される第２の基材（図１０における符号１０５）を有さない。
【００１７】
＜光ラジカル発生剤検出量＞
前記第１の光学層、前記無機層、及び前記第２の光学層の積層体について、８５℃で１５分間のパージ＆トラップ分析を行った際の、アウトガス中の光ラジカル発生剤の含有量（検出量）は、前記積層体に対して１５質量ｐｐｍ以下であり、９．０質量ｐｐｍ以下が好ましく、８．０質量ｐｐｍ以下がより好ましい。なお、係る検出量を以下、「光ラジカル発生剤検出量」と称することがある。
前記光ラジカル発生剤検出量は、前記第２の光学層に残存する前記光ラジカル発生剤の前記粘着層への移行量と相関している。
【００１８】
前記光ラジカル発生剤検出量は、揮発成分の測定方法である、ＧＣ／ＭＳ（ガスクロマトグラフ／質量分析法）・パージ＆トラップ法により求めることができる。具体的には以下の方法で求めることができる。
試料１０ｍｇをパージ＆トラップ装置の試料管に入れ、流速５０ｍｌ／分のヘリウムガスでパージしながら、８５℃で１５分間で加熱する。発生した揮発分（アウトガス）を−６０℃でトラップし、試料加熱終了後トラップした成分を高周波誘導加熱法により急速加熱してＧＣ／ＭＳに導入する。検出揮発分の同定及び定量を行う。
そして、光学体における積層体（第１の光学層、無機層、及び第２の光学層）の質量に対する光ラジカル発生剤の検出質量を、光ラジカル発生剤検出量（質量ｐｐｍ）とする。
【００１９】
＜第１の光学層＞
前記第１の光学層は、凹凸面を有する。
前記第１の光学層は、該凹凸面上に形成された無機層を支持し、かつ保護する。
前記第１の光学層は、光学体に可撓性を付与する観点から、例えば、樹脂を主成分とする層からなる。前記第１の光学層の両主面のうち、例えば、一方の面は平滑面であり、他方の面は凹凸面（第１の面）である。無機層は該凹凸面（第１の面）上に配される。
【００２０】
前記第１の光学層の厚みの最小値としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【００２１】
前記第１の光学層は、例えば、光硬化性樹脂組成物の硬化物である。
前記第１の光学層を形成するための前記光硬化性樹脂組成物の組成は、後述する前記第２の光学層を形成するための光硬化性樹脂組成物の組成と同じであってもよいし、異なっていてもよいが、通常、光学特性等を考慮しつつ、異なる組成が選択される。
【００２２】
＜＜貯蔵弾性率＞＞
前記第１の光学層の２５℃での貯蔵弾性率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１×１０９Ｐａ以下が好ましく、８．０×１０８Ｐａ以下がより好ましい。前記貯蔵弾性率が、好ましい範囲であることにより、第１の光学層が伸びやすくなり、その結果、前記光学体が伸びやすくなる。
【００２３】
前記第１の光学層は、前記第２の光学層よりも、貯蔵弾性率が大きくて硬いことが好ましい。なお、これは、前記第１の光学層を構成する樹脂に多官能（メタ）アクリレートモノマーが含有されていることにより、達成される。
【００２４】
＜無機層＞
前記無機層は、前記第１の光学層の凹凸面上に配置された層である。
前記無機層としては、少なくとも近赤外線を反射する反射層が好ましい。前記反射層としては、例えば、下記積層膜などが挙げられる。前記反射層の一例の詳細については、図４を用いて後述する。
【００２５】
前記無機層の前記第２の光学層側の表面は酸化物からなることが好ましい。
前記酸化物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＺｎＯを主成分とした酸化物、Ｎｂ２Ｏ５を主成分とした酸化物、などが挙げられる。
【００２６】
前記無機層の平均膜厚としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、１μｍ以下がさらに好ましい。前記平均膜厚が２０μｍ以下であると、透過光が屈折する光路が短くなり、透過像が歪んで見えるのを防止することができる。
【００２７】
前記無機層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スパッタ法、蒸着法、ディップコーティング法、ダイコーティング法などを用いることができる。
【００２８】
前記無機層の種類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、積層膜、透明導電層、機能層、半透過層などが挙げられる。これらは、１種単独でもよいし、２種以上でもよい。
【００２９】
＜＜積層膜＞＞
前記積層膜としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（ｉ）屈折率の異なる低屈折率層及び高屈折率層を交互に積層してなる積層膜、（ｉｉ）赤外領域において反射率の高い金属層と、可視領域において屈折率が高く反射防止層として機能する光学透明層、または透明導電層とを交互に積層してなる積層膜、などが挙げられる。
【００３０】
−金属層−
前記金属層には、赤外領域において反射率の高い金属が使用される。
赤外領域において反射率の高い金属としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｃｏ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｇｅなどの単体、これらの単体を２種以上含む合金、などが挙げられる。これらの中でも、実用性の点で、Ａｇ系、Ｃｕ系、Ａｌ系、Ｓｉ系、Ｇｅ系が好ましい。
前記合金としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ＡｌＣｕ、ＡｌＴｉ、ＡｌＣｒ、ＡｌＣｏ、ＡｌＮｄＣｕ、ＡｌＭｇＳｉ、ＡｇＰｄＣｕ、ＡｇＰｄＴｉ、ＡｇＣｕＴｉ、ＡｇＰｄＣａ、ＡｇＰｄＭｇ、ＡｇＰｄＦｅ、Ａｇ、ＳｉＢ、などが好ましい。
前記金属層の腐食を抑えるために、金属層に対してＴｉ、Ｎｄなどの材料を添加することが好ましい。特に、金属層の材料としてＡｇを用いる場合には、上記材料を添加することが好ましい。
【００３１】
−光学透明層−
前記光学透明層は、可視領域において屈折率が高く反射防止層として機能する光学透明層である。
前記光学透明層の材質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化チタン等の高誘電体、などが挙げられる。
【００３２】
前記光学透明層成膜時の下層金属の酸化劣化を防ぐ目的で、成膜する光学透明層の界面に数ｎｍ程度のＴｉなどの薄いバッファー層を設けてもよい。ここで、バッファー層とは、上層成膜時に、自らが酸化することで下層である金属層などの酸化を抑制するための層である。
【００３３】
＜＜透明導電層＞＞
前記透明導電層は、可視領域において透明性を有する導電性材料を主成分とする透明導電層である。
前記透明導電層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、アンチモンドープ酸化錫、カーボンナノチューブ含有体等の透明導電物質、などが挙げられる。
また、前記透明導電層として、前記透明導電物質のナノ粒子や金属などの導電性を持つ材料のナノ粒子、ナノロッド、ナノワイヤーを樹脂中に高濃度に分散させた層を用いてもよい。
【００３４】
＜＜機能層＞＞
前記機能層は、外部刺激により反射性能などが可逆的に変化するクロミック材料を主成分とする層である。
前記クロミック材料は、例えば、熱、光、侵入分子などの外部刺激により構造を可逆的に変化させる材料である。
前記クロミック材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フォトクロミック材料、サーモクロミック材料、ガスクロミック材料、エレクトロクロミック材料、などが挙げられる。
【００３５】
前記フォトクロミック材料は、光の作用により構造を可逆的に変化させる材料である。
前記フォトクロミック材料は、紫外線等の光照射により、反射率、色等の物性を可逆的に変化させることができる材料である。
前記フォトクロミック材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ｃｒ、Ｆｅ、ＮｉなどをドープしたＴｉＯ２、ＷＯ３、ＭｏＯ３、Ｎｂ２Ｏ５等の遷移金属酸化物、などを挙げることができる。また、これらの層と屈折率の異なる層を積層することで波長選択性を向上させることもできる。
【００３６】
前記サーモクロミック材料とは、熱の作用により構造を可逆的に変化させる材料である。
前記サーモクロミック材料は、加熱により、反射率や色などの様々な物性を可逆的に変化させることができる。
前記サーモクロミック材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＶＯ２、などが挙げられる。また、転移温度や転移カーブを制御する目的で、Ｗ、Ｍｏ、Ｆなどの元素を添加することもできる。
また、ＶＯ２などのサーモクロミック材料を主成分とする薄膜を、ＴｉＯ２やＩＴＯなどの高屈折率体を主成分とする反射防止層で挟んだ積層構造としてもよい。
【００３７】
または、コレステリック液晶などのフォトニックラティスを用いることもできる。前記コレステリック液晶は層間隔に応じた波長の光を選択的に反射することができ、この層間隔は温度によって変化するため、加熱により、反射率や色などの物性を可逆的に変化させることができる。この時、層間隔の異なるいくつかのコレステリック液晶層を用いて反射帯域を広げることも可能である。
【００３８】
エレクトロクロミック材料とは、電気により、反射率や色などの様々な物性を可逆的に変化させることができる材料である。
前記エレクトロクロミック材料としては、例えば、電圧の印加により構造を可逆的に変化させる材料を用いることができる。前記エレクトロクロミック材料の具体例としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、プロトンなどのドープまたは脱ドープにより、反射特性が変わる反射型調光材料、などが挙げられる。
前記反射型調光材料とは、具体的には、外部刺激により、光学的な性質を透明な状態と、鏡の状態、及び／又はその中間状態に制御することができる材料である。前記反射型調光材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、マグネシウム及びニッケルの合金材料、マグネシウム及びチタンの合金材料を主成分とする合金材料、ＷＯ３やマイクロカプセル中に選択反射性を有する針状結晶を閉じ込めた材料、などが挙げられる。
【００３９】
前記機能層の具体的構成としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（ｉ）第２の光学層上に、上記合金層、Ｐｄなどを含む触媒層、薄いＡｌなどのバッファー層、Ｔａ２Ｏ５などの電解質層、プロトンを含むＷＯ３などのイオン貯蔵層、透明導電層が積層された構成、（ｉｉ）第２の光学層上に透明導電層、電解質層、ＷＯ３などのエレクトロクロミック層、透明導電層が積層された構成、などが挙げられる。
これらの構成では、透明導電層と対向電極の間に電圧を印加することにより、電解質層に含まれるプロトンが合金層にドープまたは脱ドープされる。これにより、合金層の透過率が変化する。また、波長選択性を高めるために、エレクトロクロミック材料をＴｉＯ２やＩＴＯなどの高屈折率体と積層することが望ましい。
また、その他の構成として、第２の光学層上に透明導電層、マイクロカプセルを分散した光学透明層、透明電極が積層された構成、が挙げられる。この構成では、両透明電極間に電圧を印加することにより、マイクロカプセル中の針状結晶が配向した透過状態にしたり、電圧を除くことで針状結晶が四方八方を向き、波長選択反射状態にすることができる。
【００４０】
＜＜半透過層＞＞
前記半透過層は、例えば、単層または複数層の金属層からなり、半透過性を有するものである。
前記金属層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、上述の積層膜の金属層と同様のものを用いることができる。
【００４１】
＜第２の光学層＞
前記第２の光学層は、前記無機層側に他の凹凸面（第２の面）を有し、該他の凹凸面（第２の面）における凹凸が埋没するように配置（形成）され、前記無機層を保護する。
前記第２の光学層は、光硬化性樹脂組成物の硬化物である。
【００４２】
前記第２の光学層の両主面のうち、例えば、一方の面は平滑面であり、他方の面は他の凹凸面（第２の面）である。第１の光学層の凹凸面と第２の光学層の他の凹凸面とは、互いに凹凸を反転した関係にある。
【００４３】
＜＜光硬化性樹脂組成物＞＞
前記光硬化性樹脂組成物は、光ラジカル発生剤を少なくとも含有し、好ましくはラジカル硬化性材料を含有し、更に必要に応じて、その他の成分を含有する。
【００４４】
＜＜＜ラジカル硬化性材料＞＞＞
前記ラジカル硬化性材料としては、例えば、単官能（メタ）アクリレート化合物、多官能（メタ）アクリレートモノマー、リン酸基含有アクリレートなどが挙げられる。
【００４５】
前記第１の光学層及び前記第２の光学層は、例えば、それぞれ異なる光硬化性樹脂組成物の硬化物からなるが、屈折率の観点から、ベース樹脂（即ち、２官能ウレタン（メタ）アクリレート及び単官能（メタ）アクリレート化合物）の種類が同じであることが好ましい。
【００４６】
−単官能（メタ）アクリレート化合物−
前記単官能（メタ）アクリレート化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、脂環式単官能アクリレートモノマー、含窒素複素環を有する単官能アクリレートモノマー、直鎖式単官能アクリレートモノマー、水酸基を有するアクリレートモノマー、アルキレンオキサイド鎖を有する単官能アクリレートモノマーなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、硬さ調整の点で、脂環式単官能アクリレートモノマー、含窒素複素環を有する単官能アクリレートモノマー等の環状構造を有する単官能アクリレートモノマー、特に、ガラス転移温度Ｔｇが８０℃以上の環状構造を有する単官能アクリレートモノマーが好ましい。
【００４７】
−−脂環式単官能アクリレートモノマー−−
前記脂環式単官能アクリレートモノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、イソボルニルアクリレート（ガラス転移温度Ｔｇ：９７℃）、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート（ガラス転移温度Ｔｇ：１２０℃）、ジシクロペンタニルアクリレート（ガラス転移温度Ｔｇ：１２０℃）などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００４８】
−−含窒素複素環を有する単官能アクリレートモノマー−−
前記含窒素複素環を有する単官能アクリレートモノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリロイルモルホリン、イソプロピルアクリルアミド、ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、ペンタメチルピペリジルメタクリレ−トなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、アクリロイルモルホリン（ガラス転移温度Ｔｇ：１４５℃）が好ましい。
【００４９】
−−直鎖式単官能アクリレートモノマー−−
前記直鎖式単官能アクリレートモノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ｎ−オクチルアクリレート（ガラス転移温度Ｔｇ：−６５℃）、ステアリルアクリレート（ガラス転移温度Ｔｇ：３０℃）、ラウリルアクリレート（ガラス転移温度Ｔｇ：１５℃）などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００５０】
−−水酸基を有するアクリレートモノマー−−
前記水酸基を有するアクリレートモノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート（ガラス転移温度Ｔｇ：１８℃）、４−ヒドロキシブチルアクリレート、フェニルグリシジルエーテルアクリレート（ガラス転移温度Ｔｇ：−３２℃）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート（ガラス転移温度Ｔｇ：−７℃）などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００５１】
−−アルキレンオキサイド鎖を有する単官能アクリレートモノマー−−
前記アルキレンオキサイド鎖を有する単官能アクリレートモノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フェノキシエチルアクリレート（ガラス転移温度Ｔｇ：−２２℃）、エトキシ化ｏ−フェニルフェノールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレートなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、フェノキシエチルアクリレート（ガラス転移温度Ｔｇ：−２２℃）、エトキシ化ｏ−フェニルフェノールアクリレートが好ましい。
【００５２】
−多官能（メタ）アクリレートモノマー−
前記多官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、環状の架橋剤がより好ましい。
前記多官能（メタ）アクリレートモノマーを用いることで、室温での貯蔵弾性率を大きく変化させることなく、硬化物を耐熱化することができるからである。室温での貯蔵弾性率が大きく変化すると、光学体が脆くなり、ロール・ツー・ロール工程などによる光学体の作製が困難となる。
前記環状の架橋剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジオキサングリコールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸ジアクリレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸トリアクリレート（エトキシ化イソシアヌ―ル酸トリアクリレート）、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレートなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、可撓性の点で、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸トリアクリレート（エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート）が好ましい。
【００５３】
−−２官能ウレタン(メタ)アクリレート−−
前記多官能（メタ）アクリレートモノマーの一例としての前記２官能ウレタン(メタ)アクリレートとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＥＢＥＣＲＹＬ８８０４、ＥＢＥＣＲＹＬ８８０７、ＥＢＥＣＲＹＬ８４０２、ＫＲＭ８２９６（以上ダイセル・オルネクス(株)製）、ＣＮ９００１、ＣＮ９７８、ＣＮ９６２（以上サートマー社製）、紫光ＵＶ６６４０Ｂ、紫光ＵＶ３３００Ｂ、ＵＶ３２００Ｂ（以上日本合成化学工業(株)製）、ＴＥＡＩ−２０００、ＴＥ−２０００（以上、日本曹達株式会社製）などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、柔軟性及び耐候性の点で、脂肪族２官能アクリレート（例えば、ＥＢＥＣＲＹＬ８８０７）が好ましい。
【００５４】
前記２官能ウレタン(メタ)アクリレートのガラス転移温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、−３０℃以上４５℃以下が好ましい。前記ガラス転移温度が−３０℃以上４５℃以下であると、引張破断伸び率と柔軟性を向上させることができる。なお、ここで言うガラス転移温度は、前記(メタ)アクリレートの単独重合物の値を指す。
【００５５】
−リン酸基含有アクリレート−
前記リン酸基含有アクリレートを添加剤として、含有させることにより、無機層との密着性を向上させることができる。
前記リン酸基含有アクリレートとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、２−メタクロイロキシエチルアシッドホスフェート、２−アクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート、ジ−２−メタクリロキシエチルフォスフェート、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００５６】
＜＜＜光ラジカル発生剤＞＞＞
前記光ラジカル発生剤としては、光によってラジカルを発生する有機物質であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、
・１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（イルガキュア１８４）
・２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（イルガキュア６５１）  ・２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（ダロキュア１１７３）
・２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（イルガキュア１２７）
・２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン（イルガキュア９０７）
・ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド（イルガキュア８１９）
・オキシフェニル酢酸２−［２−オキソ−２−フェニルアセトキシエトキシ］エチルエステル及びオキシフェニル酢酸、２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチルエステルの混合物（イルガキュア７５４）
、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
なお、これらは、光重合開始剤、光ラジカル重合開始剤などと称されることもある。
【００５７】
前記光硬化性樹脂組成物における前記光ラジカル発生剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．００質量％超５．０質量％以下が好ましく、０．０１質量％超５．０質量％以下がより好ましく、０．１質量％以上超３．０質量％以下が更により好ましく、０．１質量％超１．０質量％以下が特に好ましい。
【００５８】
＜＜＜その他の成分＞＞＞
前記その他の成分としては、例えば、シランカップリング剤などが挙げられる。
【００５９】
−シランカップリング剤−
前記シランカップリング剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００６０】
＜＜第２の光学層の厚みの最小値＞＞
前記第２の光学層の厚みの最小値としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２μｍ以上が好ましく、２μｍ以上４０μｍ以下がより好ましく、２μｍ以上２５μｍ以下が更により好ましく、２μｍ以上１０μｍ以下が特に好ましい。前記第２の光学層の厚みの最小値が２μｍ以上であることにより、プリズム効果を低減させて、十分な透明性が得ることができる。
前記第２の光学層の厚みの最小値とは、例えば、図３においては「Ａ」で表され、「第１の光学層の厚みが最大であるときの第２の光学層の厚み」を意味する。
【００６１】
＜＜貯蔵弾性率＞＞
前記第２の光学層の２５℃での貯蔵弾性率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１×１０９Ｐａ以下が好ましく、８．０×１０８Ｐａ以下がより好ましい。前記貯蔵弾性率が、好ましい範囲であることにより、第２の光学層が伸びやすくなり、その結果、前記光学体が伸びやすくなる。
【００６２】
前記第１の光学層及び前記第２の光学層の少なくともいずれかが、２５℃での貯蔵弾性率が３×１０９Ｐａ以下である樹脂を含んでいることが好ましい。室温２５℃において光学体に可撓性を付与することができるので、ロール・ツー・ロールでの光学体の製造が可能となるからである。
【００６３】
貯蔵弾性率は、例えば、以下のようにして確認することができる。第１の光学層の表面が露出している場合には、その露出面の貯蔵弾性率を微小硬度計を用いて測定することにより確認することができる。また、第１の光学層の表面に第１の基材などが形成されている場合には、第１の基材などを剥離して、第１の光学層の表面を露出させた後、その露出面の貯蔵弾性率を微小硬度計を用いて測定することにより確認することができる。
また、第１の光学層、及び第２の光学層に相当する試験片を作製し、その試験片について、貯蔵弾性率を測定してよい。
【００６４】
＜粘着層＞
前記粘着層の材質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル系、ゴム系、ポリエステル系、シリコン系などが挙げられるが、前記粘着層は、光学特性や耐候性の観点から、アクリル系粘着層であることが好ましい。
前記アクリル系粘着層は、アクリル系ポリマーを含有する粘着層である。
また、耐候性を向上させるために、粘着層にはＵＶ吸収剤を含有しても良い。
【００６５】
前記粘着層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５μｍ以上３０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以上２０μｍ以下がより好ましい。
【００６６】
＜その他の部材＞
前記その他の部材としては、例えば、基材などが挙げられる。
【００６７】
＜＜基材＞＞
前記基材は、前記第１の光学層の凹凸面と対向する面上に配置され、通常、透明性を有する。
前記基材は、エネルギー線透過性を有することが好ましい。これにより、前記基材と前記無機層との間に介在させた光硬化性樹脂組成物に対して、前記基材側からエネルギー線を照射し、前記光硬化性樹脂組成物を硬化させることができるからである。
前記基材の形状としては、光学体に可撓性を付与する観点から、フィルム状を有することが好ましいが、特にこの形状に限定されるものではない。
前記基材の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエステル（ＴＰＥＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリアミド（ＰＡ）、アラミド、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリアクリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ジアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、エポキシ樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、などが挙げられる。
前記基材の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、生産性の観点から、３８μｍ以上１００μｍ以下が好ましい。
【００６８】
＜引張破断伸び率＞
前記光学体の引張破断伸び率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、６０％以上が好ましく、６０％以上１，０００％以下がより好ましく、６０％以上５００％以下が特に好ましい。
前記光学体の引張破断伸び率が６０％以上であることにより、ＪＩＳ−Ａ５７５９に規定される「ガラス飛散防止フィルム」に適合することができる。
【００６９】
従来の光学体では、第２の光学層が第２の基材に接し、第１の光学層、無機層、及び第２の光学層からなる積層体は、２枚の基材（第１の基材、第２の基材）により挟持されていた。そのため、光学体の引張破断伸び率は、２枚の基材が好影響を与える結果、第１の光学層、及び第２の光学層の柔軟性についてはそれほど考慮しなくても、光学体の引張破断伸び率６０％以上を達成できた。
しかし、本発明の光学体では、前記第２の基材が存在しないため、前記第１の光学層、及び前記第２の光学層の柔軟性を考慮しないと、光学体の引張破断伸び率６０％以上を達成できない。
更に、前記第２の光学層において、柔軟性を付与するために架橋密度を下げる手法を採用すると、残存する光ラジカル発生剤が、前記粘着層に移行しやすくなり、前記粘着層の黄変が生じやすくなる。ここで、残存する光ラジカル発生剤の前記粘着層への移行量は、パージ＆トラップ分析による光ラジカル発生剤検出量と相関する。即ち、光学体の引張破断伸び率を高くすることと、光ラジカル発生剤検出量を少なくすることとは、相反し、一方のみを考慮すると、他方を満たさなくなる。
そのため、前記光学体の引張破断伸び率を６０％以上にする際には、光ラジカル発生剤検出量も考慮しつつ、光硬化性樹脂組成物の組成（例えば、多官能（メタ）アクリレートモノマーの量と、光ラジカル発生剤の量）を十分に検討する必要がある。
【００７０】
前記光学体の引張破断伸び率は、例えば、以下の方法で測定される。
ＪＩＳ  Ａ５７５９  ２００８に従い測定を行う。試験長さ１００ｍｍ×幅２５ｍｍの試験片を作製し、試験速度３００ｍｍ／ｍｉｎで引張り試験を３回行い、その破断時のひずみの平均値を測定する。
【００７１】
＜透過像鮮明度＞
前記光学体において、透過性を持つ波長帯に対する透過像鮮明度に関し、２．０ｍｍの光学くしを用いたときの値としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、６０％以上が好ましく、７５％以上がより好ましい。
更に、前記光学体において、透過性を持つ波長帯に対する透過像鮮明度に関し、０．５ｍｍの光学くしを用いたときの値としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、６０％以上が好ましく、７５％以上がより好ましい。透過像鮮明度の値が６０％以上７５％未満であると、光源のように非常に明るい物体のみ回折パターンが気になるが、外の景色を鮮明に見ることができる。透過像鮮明度の値が７５％以上であれば、回折パターンは殆ど気にならない。
ここで、透過像鮮明度の値は、スガ試験機製ＩＣＭ−１Ｔを用いて、ＪＩＳ  Ｋ−７３７４：２００７に準じて測定したものである。ただし、透過させたい波長がＤ６５光源波長と異なる場合は、透過したい波長のフィルターを用いて校正した後に測定することが好ましい。
【００７２】
＜波長選択反射性＞
図４は、波長選択反射性を有する光学体１１に対して入射する入射光と、光学体１１により反射された反射光との関係を示す斜視図である。光学体１１は、光Ｌが入射する入射面Ｓ１を有する。光学体１１は、入射角（θ、φ）で入射面Ｓ１に入射した光Ｌのうち、特定波長帯の光Ｌ１を選択的に正反射（−θ、φ＋１８０°）以外の方向に指向反射するのに対して、特定波長帯以外の光Ｌ２を透過する。また、光学体１１は、上記特定波長帯以外の光に対して透明性を有する。透明性としては、後述する透過像鮮明度の範囲を有するものであることが好ましい。但し、θ：入射面Ｓ１に対する垂線ｌ１と、入射光Ｌまたは反射光Ｌ１とのなす角である。φ：入射面Ｓ１内の特定の直線ｌ２と、入射光Ｌまたは反射光Ｌ１を入射面Ｓ１に射影した成分とのなす角である。ここで、入射面内の特定の直線ｌ２とは、入射角（θ、φ）を固定し、光学体１１の入射面Ｓ１に対する垂線ｌ１を軸として光学体１１を回転したときに、φ方向への反射強度が最大になる軸である。但し、反射強度が最大となる軸（方向）が複数ある場合、そのうちの１つを直線ｌ２として選択するものとする。なお、垂線ｌ１を基準にして時計回りに回転した角度θを「＋θ」とし、反時計回りに回転した角度θを「−θ」とする。直線ｌ２を基準にして時計回りに回転した角度φを「＋φ」とし、反時計回りに回転した角度φを「−φ」とする。
【００７３】
選択的に指向反射する特定の波長帯の光、及び透過させる特定の光は、光学体１１の用途により異なる。例えば、外部支持体としての窓材に対して光学体１１を適用する場合、選択的に指向反射する特定の波長帯の光は近赤外光であり、透過させる特定の波長帯の光は可視光であることが好ましい。具体的には、選択的に指向反射する特定の波長帯の光が、主に波長帯域７８０ｎｍ以上２１００ｎｍ以下の近赤外線であることが好ましい。近赤外線を反射することで、光学体をガラス窓などの窓材に貼り合わせた場合に、建物内の温度上昇を抑制することができる。したがって、冷房負荷を軽減し、省エネルギー化を図ることができる。ここで、指向反射とは、正反射以外のある特定の方向への反射光強度が、正反射光強度より強く、かつ、指向性を持たない拡散反射強度よりも十分に強いことを意味する。ここで、反射するとは、特定の波長帯域、例えば近赤外域における反射率が好ましくは３０％以上、より好ましくは５０％以上、さらに好ましくは８０％以上であることを示す。透過するとは、特定の波長帯域、例えば可視光域における透過率が好ましくは３０％以上、より好ましくは５０％以上、さらに好ましくは７０％以上であることを示す。
【００７４】
波長選択反射性を有する光学体１１において、指向反射する方向φｏが−９０°以上、９０°以下であることが好ましい。光学体１１を外部支持体に貼った場合、上空から入射する光のうち、特定波長帯の光を上空方向に戻すことができるからである。周辺に高い建物がない場合にはこの範囲の光学体１１が有用である。また、指向反射する方向が（θ、−φ）近傍であることが好ましい。近傍とは、好ましく（θ、−φ）から５度以内、より好ましくは３度以内であり、さらに好ましくは２度以内の範囲内のずれのことをいう。この範囲にすることで、光学体１１を外部支持体に貼った場合、同程度の高さが立ち並ぶ建物の上空から入射する光のうち、特定波長帯の光を他の建物の上空に効率良く戻すことができるからである。このような指向反射を実現するためには、例えば球面や双曲面の一部や三角錐、四角錘、円錐などの３次元構造体を用いることが好ましい。（θ、φ）方向（−９０°＜φ＜９０°）から入射した光は、その形状に基づいて（θｏ、φｏ）方向（０°＜θｏ＜９０°、−９０°＜φｏ＜９０°）に反射させることができる。または、一方向に伸びた柱状体にすることが好ましい。（θ、φ）方向（−９０°＜φ＜９０°）から入射した光は、柱状体の傾斜角に基づいて（θｏ、−φ）方向（０°＜θｏ＜９０°）に反射させることができる。
【００７５】
波長選択反射性を有する光学体１１において、特定波長帯の光の指向反射が、再帰反射近傍方向、すなわち、入射角（θ、φ）で入射面Ｓ１に入射した光に対する、特定波長帯の光の反射方向が、（θ、φ）近傍であることが好ましい。光学体１１を外部支持体に貼った場合、上空から入射する光のうち、特定波長帯の光を上空に戻すことができるからである。ここで近傍とは５度以内が好ましく、より好ましくは３度以内であり、さらに好ましくは２度以内である。この範囲にすることで、光学体１１を外部支持体に貼った場合、上空から入射する光のうち、特定波長帯の光を上空に効率良く戻すことができるからである。また、赤外線センサーや赤外線撮像のように、赤外光照射部と受光部が隣接している場合は、再帰反射方向は入射方向と等しくなければならないが、特定の方向からセンシングする必要がない場合は、厳密に同一方向とする必要はない。
【００７６】
＜凹凸形状＞
図５Ａに示すように、第１の光学層２を構成する構造体２ｃの形状を、光学体１１の入射面Ｓ１または出射面Ｓ２に垂直な垂線ｌ１に対して非対称な形状としてもよい。この場合、構造体２ｃの主軸ｌｍが、垂線ｌ１を基準にして構造体２ｃの配列方向ａに傾くことになる。ここで、構造体２ｃの主軸ｌｍとは、構造体断面の底辺の中点と構造体の頂点とを通る直線を意味する。地面に対して略垂直に配置された外部支持体としての窓材に光学体１１を貼る場合には、図５Ｂに示すように、構造体２ｃの主軸ｌｍが、垂線ｌ１を基準にして外部支持体としての窓材の下方（地面側）に傾いていることが好ましい。一般に窓を介した熱の流入が多いのは昼過ぎ頃の時間帯であり、太陽の高度が４５°より高いことが多いため、上記形状を採用することで、これら高角度から入射する光を効率的に上方に反射できるからである。図５Ａ及び図５Ｂでは、プリズム形状の構造体２ｃを垂線ｌ１に対して非対称な形状とした例が示されている。なお、プリズム形状以外の構造体２ｃを垂線ｌ１に対して非対称な形状としてもよい。例えば、コーナーキューブ体を垂線ｌ１に対して非対称な形状としてもよい。
【００７７】
構造体２ｃをプリズム形状とする場合、プリズム形状の構造体２ｃの傾斜角度α（図１）は、例えば４５°である。構造体２ｃは、窓材に適用した場合に、上空から入射した光を反射して上空に多く戻す観点からは、傾斜角がなるべく４５°以上傾斜した平面または曲面を有することが好ましい。このような形状にすることで、入射光はほぼ１回の反射で上空へ戻るため、波長選択反射膜の反射率がそれ程高く無くとも効率的に上空方向へ入射光を反射できると共に、波長選択反射膜における光の吸収を低減できるからである。
【００７８】
図６Ａは、本発明の一実施形態に係る光学体における第１の光学層の構成例を示す平面図である。図６Ｂは、図６Ａに示した第１の光学層のＢ−Ｂ線に沿った断面図である。
【００７９】
第１の光学層２の一主面には、構造体２ｃが２次元的に配列されている。この配列は、最稠密充填状態での配列であることが好ましい。例えば、第１の光学層２の一主面には、構造体２ｃを最稠密充填状態で２次元配列することによりデルタ稠密アレイなどの稠密アレイが形成されている。デルタ稠密アレイは、例えば図６Ａ〜図６Ｂに示すように、三角形状の底面を有する構造体２ｃ（例えば三角錐）を最稠密充填状態で配列させたものである。
【００８０】
また、第１の光学層２の表面に形成される構造体２ｃの形状は１種類に限定されるものではなく、複数種類の形状の構造体２ｃを第１の光学層の表面に形成するようにしてもよい。複数種類の形状の構造体２ｃを表面に設ける場合、複数種類の形状の構造体２ｃからなる所定のパターンが周期的に繰り返されるようにしてもよい。また、所望とする特性によっては、複数種類の構造体２ｃがランダム（非周期的）に形成されるようにしてもよい。
【００８１】
＜光学体の製造方法＞
以下、図７Ａ〜図７Ｃ、図８Ａ〜図８Ｃ、及び図９Ａ〜図９Ｄを参照して、本発明の一実施形態に係る光学体の製造方法の一例について説明する。なお、以下に示す製造プロセスの一部または全部は、生産性を考慮して、ロール・ツー・ロールにより行われることが好ましい。但し、金型の作製工程は除くものとする。
【００８２】
まず、図７Ａに示すように、例えばバイト加工またはレーザー加工などにより、第１の光学層２を構成する構造体２ｃと同一の凹凸形状の金型２１、またはその金型２１の反転形状を有する金型（レプリカ）を形成する。次に、図７Ｂに示すように、例えば溶融押し出し法または転写法などを用いて、金型２１の凹凸形状をフィルム状の樹脂材料に転写する。転写法としては、型に光硬化性樹脂組成物を流し込み、エネルギー線を照射して硬化させる方法、樹脂に熱や圧力を加え、形状を転写する方法、または樹脂フィルムをロールから供給し、熱を加えながら型の形状を転写する方法（ラミネート転写法）などが挙げられる。これにより、図７Ｃに示すように、一主面に構造体２ｃを有する第１の光学層２が形成される。
【００８３】
また、図７Ｃに示すように、第１の基材４上に、第１の光学層２を形成するようにしてもよい。この場合には、例えば、フィルム状の第１の基材４をロールから供給し、該第１の基材４上に光硬化性樹脂組成物を塗布した後に型に押し当て、型の形状を転写し、紫外線等のエネルギー線を照射して光硬化性樹脂組成物を硬化させる方法が用いられる。
【００８４】
次に、図８Ａに示すように、その第１の光学層２の一主面上に無機層１としての波長選択反射層（機能性層）を成膜する。無機層１としての波長選択反射層の成膜方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スパッタリング法、蒸着法、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、ディップコーティング法、ダイコーティング法、ウェットコーティング法、スプレーコーティング法などが挙げられ、これらの成膜方法から、構造体２ｃの形状などに応じて適宜選択することが好ましい。次に、図８Ｂに示すように、必要に応じて、無機層１としての波長選択反射層に対してアニール処理３１を施す。アニール処理の温度は、例えば１００℃以上２５０℃以下の範囲内である。
【００８５】
次に、図８Ｃに示すように、光硬化性樹脂組成物２２を、無機層１としての波長選択反射層上に塗布する。
次に、図９Ａのように、コーター等で光硬化性樹脂組成物２２を所定厚みに塗り広げて凹凸構造を埋めることにより、積層体を形成する。
次に、図９Ｂに示すように、例えばエネルギー線３２により光硬化性樹脂組成物２２を硬化させるとともに、積層体に対して圧力３３を加える。前記エネルギー線としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電子線、紫外線、可視光線、ガンマ線、電子線などが挙げられる。これらの中でも、生産設備の観点から、紫外線が好ましい。積算照射量としては、特に制限はなく、樹脂の硬化特性、樹脂や基材４の黄変抑制などを考慮して、適宜選択することができる。積層体に加える圧力としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０１ＭＰａ以上１ＭＰａ以下が好ましい。積層体に加える圧力が、０．０１ＭＰａ未満であると、フィルムの走行性に問題が生じ、一方、１ＭＰａを超えると、ニップロールとして金属ロールを用いる必要があり、圧力ムラが生じ易い。
以上により、図９Ｃに示すように、無機層１としての波長選択反射層上に第２の光学層３が形成され、光学体１１が得られる。
更に、本発明の光学体は、第２の光学層３の無機層１側と反対側に粘着層５が形成されていてもよい。粘着層５の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、第２の光学層３上に粘着剤組成物を塗布して形成してもよいし、第２の光学層３と粘着層５とをラミネート加工により貼り合わせることで形成してもよい。
なお、第２の光学層３の他の凹凸面３ａと対向する面３ｂの平坦度は、コーターヘッド等の平坦度、及び、樹脂の厚さ（凹凸の埋まり具合）に起因する。
【実施例】
【００８６】
次に、実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるものではない。
【００８７】
（実施例１）
＜光学体の作製＞
二次元平行溝を有する転写金型を用いて、ＰＥＴ基材Ａ４３００（東洋紡株式会社製、厚み５０μｍ）上に、下記光硬化性樹脂組成物Ａ１を用いて、図５Ａに示す第１の光学層を形成した。形成した第１の光学層上に、下記構成の無機層を真空スパッタ法により形成した。形成した無機層上に、下記光硬化性樹脂組成物Ｂ１を塗布し、紫外線を照射して硬化させて第２の光学層を形成した。以上により、光学体を得た。硬化後の第２の光学層の最薄部の厚みは２０μｍであった。光学体の厚みは、８５μｍであった。
【００８８】
＜＜光硬化性樹脂組成物Ａ１＞＞
以下の表１に記載の材料を混合して、光硬化性樹脂組成物Ａ１を得た。
【００８９】
【表１】
2018101012.tif 000003
【００９０】
表１中の材料の詳細は以下のとおりである。
・ＥＢＥＣＲＹＬ８８０７：２官能ウレタンアクリレート、ダイセル・オルネクス株式会社製
・ＡＣＭＯ：含窒素複素環を有する単官能アクリレートモノマーとしてのアクリロイルモルホリン、ＫＪケミカルズ株式会社製、ガラス転移温度Ｔｇ：１４５℃
・Ａ−ＮＯＤ−Ｎ：多官能アクリレートモノマーとしての１，９−ノナンジオールジアクリレート、新中村化学工業株式会社製、ガラス転移温度Ｔｇ：６７℃
・ＮＫエステルＡ９３００：多官能アクリレートモノマーとしてのエトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート、新中村化学工業株式会社製
・イルガキュア１２７：光ラジカル発生剤（光重合開始剤）、ＢＡＳＦジャパン株式会社製
【００９１】
＜＜無機層の構成＞＞
（第１の光学層）／Ｎｂ２Ｏ５（３２ｎｍ）／ＡｇＰｄＣｕ（１１ｎｍ）／Ａｌ２Ｏ３−ＺｎＯ（８ｎｍ）／Ｎｂ２Ｏ５（７０ｎｍ）／ＡｇＰｄＣｕ（１１ｎｍ）／ＡＺＯ（３２ｎｍ）／（第２の光学層）
【００９２】
＜＜光硬化性樹脂組成物Ｂ１＞＞
２官能ウレタンアクリレート（ＥＢＥＣＲＹＬ８８０７、ダイセル・オルネクス株式会社製）４５．９質量部と、含窒素複素環を有する単官能アクリレートモノマーとしてのアクリロイルモルホリン（ＡＣＭＯ、ＫＪケミカルズ株式会社製、ガラス転移温度Ｔｇ：１４５℃）３４質量部と、多官能アクリレートモノマーとしてのポリエチレングリコールジアクリレート(ＰＥＧＤＡ、アロニックスＭ−２６０、東亞合成株式会社製）２０質量部と、リン酸含有アクリレートとしての２−メタクロイロキシエチルアシッドホスフェート（ライトエステルＰ−２Ｍ、共栄社化学株式会社製）０．１質量部とを含むモノマー含有組成物（樹脂組成物）に、光ラジカル発生剤（光重合開始剤）としてのイルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）０．６質量部を添加した。
【００９３】
得られた光学体を以下の試験・測定に供した。結果を表３−１に示す。
【００９４】
＜貯蔵弾性率の測定＞
試験片は、光硬化性樹脂組成物Ａ１又はＢ１の硬化物（短冊状：長さ１０ｍｍ、幅４ｍｍ、厚み１００μｍ）を用いた。
動的粘弾性測定装置ＲＳＡ３（ＴＡインスツルメント社製）により、昇温速度５℃／ｍｉｎ、周波数１Ｈｚで、２５℃における弾性率を測定した。
【００９５】
＜光ラジカル発生剤検出量＞
光ラジカル発生剤の検出量については、揮発成分の測定方法である、ＧＣ／ＭＳ（ガスクロマトグラフ／質量分析法）・パージ＆トラップ法により求めた。具体的には以下の方法で求めた。
試料１０ｍｇをパージ＆トラップ装置の試料管に入れ、流速５０ｍｌ／分のヘリウムガスでパージしながら、８５℃で１５分間で加熱した。発生した揮発分を−６０℃でトラップし、試料加熱終了後トラップした成分を高周波誘導加熱法により急速加熱してＧＣ／ＭＳに導入した。検出揮発分の同定及び定量を行った。
そして、光学体における積層体（第１の光学層、無機層、及び第２の光学層）の質量に対する光ラジカル発生剤の検出質量を、光ラジカル発生剤の検出量（質量ｐｐｍ）とする。
【００９６】
＜光学体の引張破断伸び率の測定＞
ＪＩＳ  Ａ５７５９  ２００８に従い測定を行った。即ち、第１の光学層に形成された二次元平行溝の平行方向に引っ張り試験ができるように、試験片（試験長さ１００ｍｍ×幅２５ｍｍ）を作製した。試験速度３００ｍｍ／ｍｉｎで引張り試験を３回行い、その破断時のひずみの平均値を測定した。
【００９７】
＜耐光性＞
作製した光学体の第２の光学層に、粘着層Ｘ（平均厚み１６μｍ、ＭＦ５８ＵＶ０４５５、巴川製紙所製）を貼り付けた。それを、厚み３ｍｍのガラスに貼合し、ガラス側から、メタルハライドランプ光源からの光を１７０時間照射した。照射前後の透過光のイエローインデックス（ＹＩ）を分光光度計Ｖ−５６０（日本分光株式会社製）により測定した。イエローインデックスの照射前後の変化（黄変度：ΔＹＩ）を以下の評価基準で評価した。
〔評価基準〕
○：ΔＹＩが５．００以下
△：ΔＹＩが５．００超６．００未満
×：ΔＹＩが６．００以上
なお、ΔＹＩ＝ＹＩ１７０−ＹＩ０で求められる。
ΔＹＩ：黄変度
ＹＩ１７０：暴露後の黄色度
ＹＩ０：試験片の初期の黄色度
【００９８】
＜透過像鮮明度の測定＞
ＪＩＳ  Ｋ−７３７４：２００７に従い、くし幅０．５ｍｍ又は２．０ｍｍの光学くしを用いて透過像鮮明度を評価した。評価に使用した測定装置はスガ試験機株式会社製の写像性測定器（ＩＣＭ−１Ｔ型）である。なお、測定は、第２の光学層の側から光を入射することにより行った。
【００９９】
（実施例２）
実施例１において、光硬化性樹脂組成物Ａ１を、下記表２に記載の光硬化性樹脂組成物Ａ２に変え、光硬化性樹脂組成物Ｂ１を、表３−１に記載の光硬化性樹脂組成物Ｂ２に変更した以外は、実施例１と同様にして、光学体を作製した。
作製した光学体について、実施例１と同様の評価を行った。結果を表３−１に示した。
【０１００】
【表２】
2018101012.tif 000004
表２中の材料の詳細は以下のとおりである。なお、表１に記載の材料と重複する材料の紹介は、省略する。
・ＮＫ−エステルＡＭＰ−１０Ｇ：アルキレンオキサイド鎖を有する単官能アクリレートモノマーとしてのフェノキシエチルアクリレート、新中村化学工業株式会社製、ガラス転移温度Ｔｇ：−２２℃
・イルガキュア１８４：光ラジカル発生剤（光重合開始剤）、ＢＡＳＦジャパン株式会社製
【０１０１】
（実施例３〜４）
実施例１において、光硬化性樹脂組成物Ａ及び光硬化性樹脂組成物Ｂを、表３−１に記載の光硬化性樹脂組成物Ａ及び光硬化性樹脂組成物Ｂにそれぞれ変更した以外は、実施例１と同様にして、光学体を作製した。
作製した光学体について、実施例１と同様の評価を行った。結果を表３−１に示した。
【０１０２】
（実施例５〜７）
実施例４において、第２の光学層の最薄部の厚みを、表３−２に記載の厚みに変更した以外は、実施例４と同様にして、光学体を作製した。
作製した光学体について、実施例１と同様の評価を行った。結果を表３−２に示した。
【０１０３】
（実施例８）
実施例２と同じ光学体を用いた。
＜耐光性＞
以下のようにして耐光性評価を行った。
光学体の第２の光学層に、粘着層Ｙ（平均厚み２５μｍ、ＴＤ０６ＵＶ０１４５、株式会社巴川製紙所製）を貼り付けた。それ以外は、前述の耐光性評価と同様にして、ΔＹＩを測定した。結果を表３−２に示した。
【０１０４】
（比較例１〜２）
実施例１において、光硬化性樹脂組成物Ａ及び光硬化性樹脂組成物Ｂを、表３−３に記載の光硬化性樹脂組成物Ａ及び光硬化性樹脂組成物Ｂにそれぞれ変更した以外は、実施例１と同様にして、光学体を作製した。
作製した光学体について、実施例１と同様の評価を行った。結果を表３−３に示した。
【０１０５】
（比較例３）
比較例１と同じ光学体を用いた。
＜耐光性＞
以下のようにして耐光性評価を行った。
作製した光学体の第２の光学層に、粘着層Ｙ（平均厚み２５μｍ、ＴＤ０６ＵＶ０１４５、株式会社巴川製紙所製）を貼り付けた。それ以外は、前述の耐光性評価と同様にして、ΔＹＩを測定した。結果を表３−３に示した。
【０１０６】
（比較例４）
実施例１において、光硬化性樹脂組成物Ａ及び光硬化性樹脂組成物Ｂを、表３−３に記載の光硬化性樹脂組成物Ａ及び光硬化性樹脂組成物Ｂにそれぞれ変更した以外は、実施例１と同様にして、光学体を作製した。
作製した光学体について、実施例１と同様の評価を行った。結果を表３−３に示した。
【０１０７】
（参考例１）
＜光学体の作製＞
二次元平行溝を有する転写金型を用いて、ＰＥＴ基材Ａ４３００（東洋紡株式会社製、厚み５０μｍ）上に、光硬化性樹脂組成物Ａ２を用いて、図５Ａに示す第１の光学層を形成した。形成した第１の光学層上に、実施例１に記載の無機層を真空スパッタ法により形成した。形成した無機層上に、光硬化性樹脂組成物Ｂ５を塗布し、ＰＥＴ基材Ａ４３００（東洋紡株式会社製、厚み５０μｍ）を載せた上から、紫外線を照射して硬化させて第２の光学層を形成した。以上により、光学体を得た。
光学体の層構成は、ＰＥＴ／第１の光学層／無機層／第２の光学層／ＰＥＴ、である。
得られた光学体について、実施例１と同様の評価を行った。結果を表３−３に示した。
【０１０８】
（参考例２）
＜光学体の作製＞
二次元平行溝を有する転写金型を用いて、ＰＥＴ基材Ａ４３００（東洋紡株式会社製、厚み５０μｍ）上に、光硬化性樹脂組成物Ａ１を用いて、図５Ａに示す第１の光学層を形成した。形成した第１の光学層上に、実施例１に記載の無機層を真空スパッタ法により形成した。形成した無機層上に、光硬化性樹脂組成物Ｂ４を塗布し、ＰＥＴ基材Ａ４３００（東洋紡株式会社製、厚み５０μｍ）を載せた上から、紫外線を照射して硬化させて第２の光学層を形成した。以上により、光学体を得た。
光学体の層構成は、ＰＥＴ／第１の光学層／無機層／第２の光学層／ＰＥＴ、である。
得られた光学体について、実施例１と同様の評価を行った。結果を表３−３に示した。
【０１０９】
【表３−１】
2018101012.tif 000005
【０１１０】
【表３−２】
2018101012.tif 000006
【０１１１】
【表３−３】
2018101012.tif 000007
【０１１２】
表３−１〜表３−３において、「Ｅ」は、１０のべき乗を意味する。即ち、「１．０Ｅ＋０８」は「１．０×１０８」を意味する。
【０１１３】
表３−１〜表３−３中の材料の詳細は以下のとおりである。
・ＥＢＥＣＲＹＬ８８０７：２官能ウレタンアクリレート、ダイセル・オルネクス株式会社製
・ＡＣＭＯ：含窒素複素環を有する単官能アクリレートモノマーとしてのアクリロイルモルホリン、ＫＪケミカルズ株式会社製、ガラス転移温度Ｔｇ：１４５℃
・ＮＫ−エステルＡＭＰ−１０Ｇ：アルキレンオキサイド鎖を有する単官能アクリレートモノマーとしてのフェノキシエチルアクリレート、新中村化学工業株式会社製、ガラス転移温度Ｔｇ：−２２℃
・Ａ−ＬＥＮ−１０：アルキレンオキサイド鎖を有する単官能アクリレートモノマーとしてのエトキシ化ｏ−フェニルフェノールアクリレート、新中村化学工業株式会社製
・ライトエステルＰ−２Ｍ：リン酸含有アクリレートモノマーとしての２−メタクロイロキシエチルアシッドホスフェート、共栄社化学株式会社製
・アロニックスＭ−２６０：多官能アクリレートモノマーとしてのポリエチレングリコールジアクリレート、ＰＥＧＤＡ、東亞合成株式会社製
・アロニックスＭ−２１１Ｂ：多官能アクリレートモノマーとしてのビスフェノールＡ  ＥＯ変性（ｎ≒２）ジアクリレート、東亞合成株式会社製
・イルガキュア１８４：光ラジカル発生剤（光重合開始剤）、ＢＡＳＦジャパン株式会社製
・イルガキュア７４５：光ラジカル発生剤（光重合開始剤）、ＢＡＳＦジャパン株式会社製
・イルガキュア１２７：光ラジカル発生剤（光重合開始剤）、ＢＡＳＦジャパン株式会社製
【０１１４】
以上より、第１の光学層と、無機層と、第２の光学層とを備え、第２の光学層が、粘着層と接して使用される光学体において、光ラジカル発生剤検出量を１５質量ｐｐｍ以下にすることにより、粘着層の黄変を防止できることがわかった。
【産業上の利用可能性】
【０１１５】
本発明の光学体は、フィルムとして、多岐に亘って適用可能であるが、特に、窓ガラス、壁等に貼り付ける熱線再帰フィルムとして好適に用いることができる。
【符号の説明】
【０１１６】
１        無機層
２        第１の光学層
２ａ      凹凸面
２ｂ      面
３ａ      凹凸面
３        第２の光学層
４        第１の基材
５        粘着層
１１      光学体
２２      光硬化性樹脂組成物
１００    光学体
１０１    無機層
１０２    第１の光学層
１０３    第２の光学層
１０４    第１の基材
１０５    第２の基材
１０６    粘着層
１０７    外部支持体
【図１】
2018101012.tif 000008
【図２】
2018101012.tif 000009
【図３】
2018101012.tif 000010
【図４】
2018101012.tif 000011
【図５Ａ】
2018101012.tif 000012
【図５Ｂ】
2018101012.tif 000013
【図６Ａ】
2018101012.tif 000014
【図６Ｂ】
2018101012.tif 000015
【図７Ａ】
2018101012.tif 000016
【図７Ｂ】
2018101012.tif 000017
【図７Ｃ】
2018101012.tif 000018
【図８Ａ】
2018101012.tif 000019
【図８Ｂ】
2018101012.tif 000020
【図８Ｃ】
2018101012.tif 000021
【図９Ａ】
2018101012.tif 000022
【図９Ｂ】
2018101012.tif 000023
【図９Ｃ】
2018101012.tif 000024
【図９Ｄ】
2018101012.tif 000025
【図１０】
2018101012.tif 000026