(57)【要約】【課題】電気泳動装置において隔壁部の変形を抑制する。【解決手段】帯電粒子と分散媒とを含む電気泳動分散液を保持する第１基板および第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間隙を複数のセルに区画する隔壁部とを具備し、前記隔壁部は、隣合うセル同士を相互に連通させる連通部を有する電気泳動装置。【選択図】図５
2018120116.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
帯電粒子と分散媒とを含む電気泳動分散液を保持する第１基板および第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間隙を複数のセルに区画する隔壁部とを具備し、
前記隔壁部は、隣合うセル同士を相互に連通させる連通部を有する
電気泳動装置。
【請求項２】
前記連通部は、前記帯電粒子が通過できないサイズである
請求項１の電気泳動装置。
【請求項３】
前記隔壁部は、
第１方向に延在する第１部分と、
前記第１方向に交差する第２方向に延在する第２部分とを含み、
前記第１部分と前記第２部分とは、前記連通部を介して相互に離間して設けられている
請求項１または請求項２の電気泳動装置。
【請求項４】
前記隔壁部は、前記第１方向に延在する第３部分を含み、
前記第１部分と前記第２部分とは、前記連通部を介して前記第３部分から離間して設けられている
請求項３の電気泳動装置。
【請求項５】
前記隔壁部は、前記第２方向に延在する第４部分を含み、
前記第１部分と前記第２部分と前記第３部分とは、前記連通部を介して前記第４部分から離間して設けられている
請求項３または請求項４の電気泳動装置。
【請求項６】
前記隔壁部は、
第１方向に延在する第１部分と、
前記第１方向に交差する第２方向に延在する第２部分と、
前記第１方向に延在する第３部分とを含み、
前記第１部分と前記第３部分とは、前記第２部分を挟んで相互に反対側に位置し、
前記第１部分および前記第３部分の各々は、前記連通部を介して前記第２部分から離間して設けられている
請求項１の電気泳動装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６の何れかの電気泳動装置を具備する電子機器。
【請求項８】
帯電粒子と分散媒とを含む電気泳動分散液を保持する第１基板および第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間隙を複数のセルに区画する隔壁部とを具備する電気泳動装置の製造方法であって、
前記第１基板または前記第２基板の面上にポジ型の感光材料で形成された感光層を、照射光を透過させる透過領域が形成されたフォトマスクを利用して露光する露光工程と、
前記露光後の前記感光層を現像することで前記隔壁部を形成する現像工程とを含み、
前記フォトマスクの透過領域は、第１方向に延在する第１領域と、前記第１方向に交差する第２方向に延在する第２領域とを含み、前記第１領域と前記第２領域とは相互に離間している
電気泳動装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、帯電粒子を分散媒に分散した分散液（以下「電気泳動分散液」という）を利用して画像を表示する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、相互に対向する素子基板と対向基板との間隙に電気泳動分散液を保持した電気泳動装置が開示されている。素子基板と対向基板との間隙は、両基板間に形成された隔壁部により複数のセルに区画される。電気泳動分散液は各セルに収容される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−２２９９１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１の技術における各セルは密閉された空間である。したがって、例えば温度変化等に起因して電気泳動分散液の分散媒が膨張または収縮すると、隔壁部に応力が発生して変形する可能性がある。以上の事情を考慮して、本発明の好適な態様は、電気泳動装置において隔壁部の変形を抑制することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
以上の課題を解決するために、本発明の好適な態様に係る電気泳動装置は、帯電粒子と分散媒とを含む電気泳動分散液を保持する第１基板および第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間隙を複数のセルに区画する隔壁部とを具備し、前記隔壁部は、隣合うセル同士を相互に連通させる連通部を有する。以上の態様では、隣合うセル同士を相互に連通させる連通部を隔壁部が有するから、電気泳動分散液の分散媒が連通部を介してセル間を流動し得る。したがって、例えば温度変化に起因して分散媒が膨張または収縮した場合でも、隔壁部の変形を抑制できるという利点がある。
【０００６】
本発明の好適な態様において、前記連通部は、前記帯電粒子が通過できないサイズである。以上の態様では、帯電粒子が通過できないサイズの連通部が形成されるから、分散媒はセル間を流動する一方で、帯電粒子はセル間を移動しない。したがって、例えば帯電粒子の偏在に起因した表示品位を低下を抑制しながら、隔壁部の変形を抑制できるという利点がある。
【０００７】
本発明の好適な態様において、前記隔壁部は、第１方向に延在する第１部分と、前記第１方向に交差する第２方向に延在する第２部分とを含み、前記第１部分と前記第２部分とは、前記連通部を介して相互に離間して設けられている。以上の態様では、第１部分と第２部分との間の連通部を介してセル間で分散媒を流動させることが可能である。なお、第１部分と第２部分とが相互に交差する構成では、隔壁部のうち当該交差の部分の高さが他の部分と比較して高くなる可能性がある。第１部分と第２部分とが連通部を介して相互に離間して設けられた構成によれば、第１部分と第２部分とが交差する構成と比較して隔壁部の高さの相違（ばらつき）が低減される。したがって、第１基板または第２基板と隔壁部とを高精度に密着させることが可能である。
【０００８】
本発明の好適な態様において、前記隔壁部は、前記第１方向に延在する第３部分を含み、前記第１部分と前記第２部分とは、前記連通部を介して前記第３部分から離間して設けられている。以上の態様では、第１部分と第２部分と第３部分との相互間の連通部を介してセル間で分散媒を流動させることが可能である。なお、第１部分と第２部分と第３部分とが相互に連続する構成では、第１部分と第２部分と第３部分とが交差する部分において、隔壁部の高さが他の部分と比較して高くなるという前述の傾向が顕在化し得る。第１部分と前記第２部分と第３部分とが連通部を介して相互に離間して設けられている前述の態様によれば、隔壁部の高さの相違を有効に低減することが可能である。
【０００９】
本発明の好適な態様において、前記隔壁部は、前記第２方向に延在する第４部分を含み、前記第１部分と前記第２部分と前記第３部分とは、前記連通部を介して前記第４部分から離間して設けられている。以上の態様では、第１部分と第２部分と第３部分と第３部分との相互間の連通部を介してセル間で分散媒を流動させることが可能である。第１部分と第２部分と第３部分と第４部分とが相互に連続する構成では、第１部分と第２部分と第３部分と第４部分とが交差する部分において、隔壁部の高さが他の部分と比較して高くなるという前述の傾向が顕在化し得る。第１部分と第２部分と第３部分とが連通部を介して相互に離間して設けられている前述の態様によれば、隔壁部の高さの相違を有効に低減することが可能である。
【００１０】
本発明の好適な態様において、前記隔壁部は、第１方向に延在する第１部分と、前記第１方向に交差する第２方向に延在する第２部分と、前記第１方向に延在する第３部分とを含み、前記第１部分と前記第３部分とは、前記第２部分を挟んで相互に反対側に位置し、前記第１部分および前記第３部分の各々は、前記連通部を介して前記第２部分から離間して設けられている。以上の態様では、第１部分および第３部分の各々と第２部分との間の連通部を介してセル間で分散媒を流動させることが可能である。また、第１部分および第３部分の各々と第２部分とが連通部を介して相互に離間して設けられているから、隔壁部の高さの相違を有効に低減することが可能である。
【００１１】
本発明の好適な態様に係る電子機器は、前述の各態様に係る電気泳動装置を具備する。例えば、時計や電子ペーパー等が電子機器の好例であるが、本発明の適用範囲は以上の例示に限定されない。
【００１２】
本発明の好適な態様に係る電気泳動装置の製造方法は、帯電粒子と分散媒とを含む電気泳動分散液を保持する第１基板および第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間隙を複数のセルに区画する隔壁部とを具備する電気泳動装置の製造方法であって、前記第１基板または前記第２基板の面上にポジ型の感光材料で形成された感光層を、照射光を透過させる透過領域が形成されたフォトマスクを利用して露光する露光工程と、前記露光後の前記感光層を現像することで前記隔壁部を形成する現像工程とを含み、前記フォトマスクの透過領域は、第１方向に延在する第１領域と、前記第１方向に交差する第２方向に延在する第２領域とを含み、前記第１領域と前記第２領域とは相互に離間している。透過領域の第１領域と第２領域とが相互に連続するフォトマスクを感光層の露光に利用した場合、感光層のうち第１領域と第２領域との交差に対応した部分に対する露光量が他の部分に対する露光量よりも大きくなるため、隔壁部のうち当該交差に対応する部分の高さが他の部分と比較して高くなる可能性がある。第１領域と第２領域とが相互に離間したフォトマスクを感光層の露光に利用する前述の態様によれば、感光層のうち第１領域と第２領域との交差に対応した部分に対する露光量が低減される。したがって、隔壁部の高さの相違（ばらつき）が抑制され、第１基板または第２基板と隔壁部とを高精度に密着させることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の第１実施形態に係る電気泳動装置の平面図である。
【図２】電気泳動装置の断面図である。
【図３】単位回路の構成図である。
【図４】電気泳動装置を拡大した断面図である。
【図５】隔壁部の平面図である。
【図６】図５における領域αを拡大した平面図である。
【図７】電気泳動装置の製造方法における工程Ｐ1の説明図である。
【図８】電気泳動装置の製造方法における工程Ｐ2の説明図である。
【図９】電気泳動装置の製造方法における工程Ｐ3（露光）の説明図である。
【図１０】工程Ｐ3で使用されるフォトマスクの平面図である。
【図１１】電気泳動装置の製造方法における工程Ｐ4（現像）の説明図である。
【図１２】対比例における隔壁部の平面図および断面図である。
【図１３】対比例におけるフォトマスクの平面図である。
【図１４】第２実施形態における隔壁部の平面図である。
【図１５】図１４における領域αを拡大した平面図である。
【図１６】第３実施形態における隔壁部の平面図である。
【図１７】図１６における領域αを拡大した平面図である。
【図１８】電子機器の一例である腕時計の正面図である。
【図１９】電子機器の一例である電子ペーパーの斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
＜第１実施形態＞
図１は、本発明の第１実施形態に係る電気泳動装置１００の平面図である。第１実施形態の電気泳動装置１００は、複数の画素Ｐを利用して画像を表示する表示機器である。複数の画素Ｐは、相互に交差するＸ方向（第１方向の例示）とＹ方向（第２方向の例示）とにわたり画素領域Ａ内に行列状に配列される。図１に例示される通り、電気泳動装置１００は、相互に間隔をあけて接合された第１基板１０と第２基板２０とを具備する。第１基板１０は、表示画像を視認する利用者側に位置し、第２基板２０は利用者とは反対側（背面側）に位置する。
【００１５】
図２は、電気泳動装置１００の断面図である。図２に例示される通り、第１基板１０と第２基板２０との間隙には電気泳動分散液３０が保持される。電気泳動分散液３０は、複数の帯電粒子３２（３２B，３２W）の電気泳動を利用して階調を表示する表示媒体である。具体的には、電気泳動分散液３０は、相互に逆極性に帯電した白色の帯電粒子３２Wおよび黒色の帯電粒子３２Bと、複数の帯電粒子３２（３２W，３２B）が泳動可能に分散された分散媒３４とを含んで構成される。
【００１６】
図２に例示される通り、第１基板１０は、基材１１と共通電極１２と絶縁層１４とを含んで構成される。基材１１は、光透過性の板状部材である。基材１１のうち第２基板２０との対向面に共通電極１２と絶縁層１４とが形成される。共通電極１２は、画素領域Ａ内の複数の画素Ｐにわたり連続する電極であり、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）やＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）等の光透過性の導電材料で形成される。絶縁層１４は、共通電極１２を被覆する光透過性の被膜である。絶縁層１４の材料は任意であるが、例えば酸化珪素もしくは窒化珪素等の無機材料または各種の樹脂材料が好適である。
【００１７】
図２に例示される通り、第２基板２０は、基材２１と回路層２２と複数の画素電極２４とを含んで構成される。基材２１は、板状部材である。基材２１のうち第１基板１０との対向面には回路層２２が形成される。回路層２２は、導電層と絶縁層とを含む複数層の積層で構成され、複数の回路素子（例えばトランジスター）と複数の配線とを含む。複数の画素電極２４は、回路層２２の面上に形成される。複数の画素電極２４は、例えばＩＴＯやＩＺＯ等の光透過性の導電材料で形成される。各画素電極２４は、画素Ｐ毎に個別に形成された略矩形状の電極である。画素領域Ａの内側には、相互に間隔をあけてＸ方向およびＹ方向に複数の画素電極２４が行列状に配列する。
【００１８】
画素電極２４と共通電極１２との間の電圧に応じて複数の帯電粒子３２が泳動することで画素電極２４毎に階調（白色／黒色）が制御される。例えば、白色の帯電粒子３２Wが共通電極１２に接近することで白色が表示され、黒色の帯電粒子３２Bが共通電極１２に接近することで黒色が表示される。以上の説明から理解される通り、画素電極２４と共通電極１２とが電気泳動分散液３０を挟んで相互に対向する部分が画素Ｐとして機能する。
【００１９】
第１実施形態の回路層２２には、図３に例示される単位回路５０が画素Ｐ毎に形成される。各単位回路５０は、選択スイッチ５１と記憶回路５２と制御スイッチ５３とを含んで構成される。単位回路５０の各要素は、前述の通り、回路層２２内の回路素子（例えばトランジスター）および配線により構成される。
【００２０】
選択スイッチ５１は、Ｙ方向に延在する信号線５６と記憶回路５２との間に介在して両者間の電気的な接続（導通／絶縁）を制御するスイッチである。図３に例示される通り、選択スイッチ５１の制御端子は、Ｘ方向に延在する選択線５５に接続される。選択線５５に供給される信号に応じて選択スイッチ５１がオン状態に遷移すると、画素Ｐに指定された階調に応じた階調信号が信号線５６から単位回路５０に取込まれる。記憶回路５２は、信号線５６から選択スイッチ５１を介して取込まれた階調信号を保持する。例えばラッチ回路で構成されるＳＲＡＭ（Static Random Access Memory）や容量素子で構成されるＤＲＡＭ（Dynamic Random Access Memory）が記憶回路５２として好適である。制御スイッチ５３は、記憶回路５２に保持された階調信号に応じて電位ＶHおよび電位ＶLの何れかを画素電極２４に供給する。電位ＶHは電位ＶLを上回る。例えば、電位ＶHは高位側の電源電位であり、電位ＶLは接地電位である。
【００２１】
図４は、回路層２２に形成された１個のトランジスターＴrの近傍を拡大した断面図である。トランジスターＴrは、半導体層２２１とゲート電極２２３とソース電極２２５とドレイン電極２２６とを含んで構成される。半導体層２２１は、例えばポリシリコン等の半導体材料で基材２１の面上に形成される。ゲート電極２２３は、例えばモリブデン（Ｍｏ）等の導電材料で形成され、ゲート絶縁層２２２を挟んで半導体層２２１のチャネル領域に対向する。図４の絶縁層２２４は、半導体層２２１とゲート電極２２３とを覆う。ソース電極２２５およびドレイン電極２２６は、絶縁層２２４の表面に形成され、絶縁層２２４とゲート絶縁層２２２とを貫通する導通孔（コンタクトホール）を介して半導体層２２１に導通する。
【００２２】
絶縁層２２４の面上には絶縁層２２８が形成される。絶縁層２２８は、例えば酸化珪素または窒化珪素等の無機材料や各種の樹脂材料で形成された複数層の積層で構成される。絶縁層２２８の面上に複数の画素電極２４が形成される。画素電極２４は、絶縁層２２８を貫通する導通孔を介して画素回路のトランジスターＴr（例えばドレイン電極２２６）に電気的に接続される。
【００２３】
図２および図４に例示される通り、第１基板１０と第２基板２０との間には隔壁部４０が形成される。第１実施形態の隔壁部４０は、第２基板２０の面上（さらに詳細には絶縁層２２８の表面）に形成され、第１基板１０の表面（さらに詳細には絶縁層１４の表面）に頂上面が接触する。隔壁部４０は、画素領域Ａの内側に位置し、第１基板１０と第２基板２０との間隙を複数の空間（以下「セル」という）Ｃに区画する構造体である。隔壁部４０は、例えば２０μｍ以上（典型的には３０μｍ）の高さに形成される。第１実施形態では、第１基板１０と第２基板２０との間隙が隔壁部４０により画素Ｐ毎に区画され、Ｘ方向とＹ方向とに複数のセルＣが行列状に配列する。図２および図４に例示される通り、隔壁部４０で区画された複数のセルＣの各々に電気泳動分散液３０が収容される。隔壁部４０の材料は任意であるが、感光性の樹脂材料（感光材料）が好適である。
【００２４】
図５は、隔壁部４０の平面的な形状を例示する平面図である。図５に例示される通り、第１実施形態の隔壁部４０は、複数の部分４２xと複数の部分４２yとを含んで構成される。複数の部分４２xの各々は、Ｙ方向に相互に隣合う２個の画素Ｐ（画素電極２４）に挟まれた領域内でＸ方向に延在する長尺状の部分である。すなわち、Ｙ方向に相互に隣合う２個の部分４２xの間に画素Ｐが位置する。他方、複数の部分４２yの各々は、Ｘ方向に相互に隣合う２個の画素Ｐ（画素電極２４）に挟まれた領域内でＹ方向に延在する長尺状の部分である。すなわち、Ｘ方向に相互に隣合う２個の部分４２yの間に画素Ｐが位置する。図５に例示される通り、複数の部分４２xは、相互に間隔をあけてＸ方向に配列し、複数の部分４２yは、相互に間隔をあけてＹ方向に配列する。
【００２５】
Ｙ方向に相互に隣合う２個の部分４２xとＸ方向に相互に隣合う２個の部分４２yとで四方を包囲された矩形状の空間が１個のセルＣに相当する。図５から理解される通り、平面視で相互に隣合う複数のセルＣは、部分４２xと部分４２yとの間隙（以下「連通部」という）Ｑを介して相互に連通する。すなわち、連通部Ｑは、複数のセルＣを相互に連通させる流路である。図５から理解される通り、各連通部Ｑは、Ｘ方向に沿う複数の部分４２xの配列とＹ方向に沿う複数の部分４２yの配列とが相互に交差する地点に形成された空間である。Ｙ方向に隣合う各画素Ｐの間隙内でＸ方向に延在する直線と、Ｘ方向に隣合う各画素Ｐの間隙内でＹ方向に延在する直線とを組合わせた格子を想定すると、当該格子の各格子点（各直線の交差点）に連通部Ｑが形成される。
【００２６】
図６は、図５の領域αを拡大した平面図である。図６に例示される通り、隔壁部４０のうち、Ｘ方向に相互に隣合う２個の部分４２x（４２x1，４２x3）と、Ｙ方向に相互に隣合う２個の部分４２y（４２y2，４２y4）とに着目する。図６から理解される通り、部分４２x1（第１部分の例示）と部分４２y2（第２部分の例示）と部分４２x3（第３部分の例示）と部分４２y4（第４部分の例示）とは、連通部Ｑを介して相互に離間した位置に形成される。
【００２７】
以上に詳述した通り、隔壁部４０には、平面視で隣合うセルＣ同士を相互に連通させる連通部Ｑが形成される。したがって、各セルＣに収容された電気泳動分散液３０の分散媒３４は、連通部Ｑを介してセルＣ間で流動し得る。他方、帯電粒子３２は連通部Ｑを通過できないように各連通部Ｑのサイズが設定されている。具体的には、任意の１個のセルＣを画定する部分４２xと部分４２yとの間隔（すなわち連通部Ｑの流路幅）は、帯電粒子３２の粒径（例えば平均粒径）を下回る。例えば帯電粒子３２の粒径が３００ｎｍから４００ｎｍである場合、部分４２xと部分４２yとの間隔は３００ｎｍ以下に設定される。以上の構成によれば、帯電粒子３２は、セルＣ間で移動することなく１個のセルＣ内に保持される。すなわち、帯電粒子３２が特定のセルＣ内に偏在することはない。なお、実際には、複数の帯電粒子３２が凝集した状態で泳動する可能性がある。したがって、連通部Ｑの流路幅が１個の帯電粒子３２の粒径を上回る場合でも、帯電粒子３２は連通部Ｑを通過できない。
【００２８】
以上に説明した通り、第１実施形態では、隣合うセルＣ同士を相互に連通させる連通部Ｑが隔壁部４０に形成されるから、例えば温度変化に起因して分散媒３４が膨張または収縮した場合には、連通部Ｑを介して分散媒３４がセルＣ間を流動し得る。したがって、分散媒３４の膨張または収縮に起因した隔壁部４０の応力が低減され、結果的に隔壁部４０の変形を抑制することが可能である。第１実施形態では、帯電粒子３２が通過できないサイズの連通部Ｑが隔壁部４０に形成されるから、例えば帯電粒子３２の偏在に起因した表示品位を低下を抑制しながら、隔壁部４０の変形を抑制できるという利点もある。
【００２９】
＜電気泳動装置１００の製造方法＞
以上に例示した電気泳動装置１００の製造方法を説明する。図７に例示される通り、工程Ｐ1では、回路層２２と複数の画素電極２４とが基材２１の表面に形成された第２基板２０が用意される。回路層２２および各画素電極２４の形成には、例えば半導体製造技術等の各種の製造技術が任意に採用され得る。
【００３０】
工程Ｐ1の後の工程Ｐ2では、図８に例示される通り、回路層２２と複数の画素電極２４とを基材２１の表面に形成した第２基板２０の面上に感光層６０が形成される。具体的には、公知の塗布技術により第２基板２０の面上に感光材料を塗布し、例えば９０℃から１１０℃で２０分程度にわたり当該感光材料を焼成（プリベーク）することで、感光層６０が形成される。感光層６０の形成には、露光部分が現像後に残存するネガ型の感光材料が利用される。感光層６０の膜厚は、例えば２０μｍ以上（典型的には３０μｍ程度）である。
【００３１】
工程Ｐ2の後の工程Ｐ3（露光工程の例示）では、図９に例示される通り、フォトマスク７０を利用して感光層６０を露光する。フォトマスク７０には、光源からの照射光を透過させる透過領域７２と、照射光を遮光する遮光領域７４とが形成される。
【００３２】
図１０は、工程Ｐ3で使用されるフォトマスク７０の平面図である。図１０に例示される通り、第１実施形態におけるフォトマスク７０の透過領域７２は、複数の領域７２x（第１領域の例示）と複数の領域７２y（第２領域の例示）とを含む。複数の領域７２xと隔壁部４０の複数の部分４２xとは相互に１対１で対応し、複数の領域７２yと隔壁部４０の複数の部分４２yとは相互に１対１で対応する。図１０には、各画素Ｐに対応する領域Ｒが便宜的に図示されている。Ｘ方向およびＹ方向に複数の領域Ｒが行列状に配列する。フォトマスク７０の各領域７２xは、Ｙ方向に相互に隣合う２個の領域Ｒの間でＸ方向に延在する長尺状の領域である。他方、各領域７２yは、Ｘ方向に相互に隣合う２個の領域Ｒの間でＹ方向に延在する長尺状の領域である。複数の領域７２xは、相互に間隔をあけてＸ方向に配列し、複数の領域７２yは、相互に間隔をあけてＹ方向に配列する。
【００３３】
図１０に例示される通り、領域７２xと領域７２yとは相互に離間している。具体的には、フォトマスク７０のうち、Ｘ方向に沿う複数の領域７２xの配列とＹ方向に沿う複数の領域７２yの配列とが相互に交差する地点は、照射光を遮光する遮光領域７４である。
【００３４】
工程Ｐ3の後の工程Ｐ4（現像工程の例示）では、図１１に例示される通り、露光後の感光層６０を現像液により現像することで隔壁部４０が形成される。具体的には、感光層６０のうち工程Ｐ3で露光された部分（透過領域７２に重なる部分）が残り、感光層６０のうち工程Ｐ3で露光されていない部分が除去されることで、図５に例示した平面形状の隔壁部４０が形成される。
【００３５】
工程Ｐ4による隔壁部４０の形成後には、洗浄処理および乾燥処理が順次に実行される。洗浄処理には、例えばＩＰＡ（イソプロピルアルコール）置換と純水洗浄とが利用される。また、乾燥処理には例えばエアナイフが利用される。以上の工程を経て隔壁部４０が形成された第２基板２０と、別途の工程で共通電極１２および絶縁層１４が基材１１の表面に形成された第１基板１０とが相互に接合されることで、図２に例示した第１実施形態の電気泳動装置１００が製造される。
【００３６】
以上に説明した第１実施形態との対比例として、図１２に例示される通り、Ｘ方向に直線状に延在する複数の部分４７xとＹ方向に直線状に延在する複数の部分４７yとを相互に組合せた格子状の隔壁部４５を想定する。隔壁部４５の形成（感光層６０の露光）に使用されるフォトマスク７５には、図１３に例示される通り、Ｘ方向に直線状に延在する複数の領域７７xと、Ｙ方向に直線状に延在する複数の領域７７yとを相互に組合せた格子状の透過領域が形成される。
【００３７】
対比例のフォトマスク７５を利用した場合、感光層６０のうち領域７７xと領域７７yとの交差に対応した部分Ｚに対する露光量が他の部分に対する露光量よりも大きくなる。したがって、図１２の断面図に例示される通り、隔壁部４５のうち部分Ｚの高さが他の部分と比較して高くなる可能性がある。以上のように隔壁部４５の高さに相違（バラツキ）があると、隔壁部４５と第１基板１０（具体的には絶縁層１４の表面）とを高精度に密着させることができない可能性がある。
【００３８】
対比例とは対照的に、第１実施形態では、各領域７２xと各領域７２yとが相互に離間したフォトマスク７０を感光層６０の露光に利用する。したがって、感光層６０のうち複数の領域７２xの配列と複数の領域７２yの配列との交差に対応した部分Ｚに対する露光量は対比例よりも低減される。したがって、隔壁部４０の高さの相違（ばらつき）が抑制され、隔壁部４０と第１基板１０とを高精度に密着させることが可能である。
【００３９】
なお、図１３の隔壁部４５を形成する場合、セルＣが全周にわたり隔壁部４５により包囲されるから、現像液等の各種の処理液がセルＣの内部に残留し得る。第１実施形態では、セルＣ同士を連通させる連通部Ｑが隔壁部４０に形成されるから、製造工程で使用される処理液は連通部Ｑを通過してセルＣから流出する。したがって、第１実施形態によれば、セルＣの内側に処理液が残留する可能性を低減できるという利点もある。
【００４０】
＜第２実施形態＞
本発明の第２実施形態を説明する。なお、以下に例示する各構成において作用または機能が第１実施形態と同様である要素については、第１実施形態の説明で使用した符号を流用して各々の詳細な説明を適宜に省略する。
【００４１】
図１４は、第２実施形態における電気泳動装置１００の隔壁部４０の平面図であり、図１５は、図１４の領域αを拡大した平面図である。図１４および図１５に例示される通り、第２実施形態の隔壁部４０においては、Ｘ方向に隣合う２個の部分４２x（４２x1，４２x3）が、部分４２yを挟んで相互に反対側に位置する。具体的には、図１５に例示される通り、Ｘ方向に隣合う部分４２x1（第１部分の例示）と部分４２x3（第３部分の例示）とが、部分４２y2のうちＹ方向の正側の端部を挟むように、連通部Ｑを介して部分４２y2から離間した位置に形成される。他方、部分４２y4は、連通部Ｑを介して部分４２y2からＹ方向に離間した位置に形成され、部分４２x1と部分４２x3との間には位置しない。
【００４２】
なお、帯電粒子３２が連通部Ｑを通過できないように各連通部Ｑのサイズが設定された構成は第１実施形態と同様である。また、隔壁部４０となる感光層６０の露光（工程Ｐ3）には、隔壁部４０の形状に対応した平面形状の透過領域７２が形成されたフォトマスク７０が使用される。
【００４３】
第２実施形態においても、第１実施形態と同様に、隔壁部４０の連通部Ｑを介してセルＣ間で分散媒３４を流動させることが可能である。また、複数の部分４２xの配列と複数の部分４２yの配列とが相互に交差する部分に連通部Ｑが形成されるから、第１実施形態と同様に、露光量の相違に起因した隔壁部４０の高さの相違を抑制することが可能である。
【００４４】
＜第３実施形態＞
図１６は、第３実施形態における電気泳動装置１００の隔壁部４０の平面図であり、図１７は、図１６の領域αを拡大した平面図である。図１６および図１７に例示される通り、第３実施形態の隔壁部４０は、Ｘ方向に相互に間隔をあけて並列された複数の部分４２y（第２部分の例示）を含む。各部分４２yは、複数の画素Ｐ（画素電極２４）にわたりＹ方向に連続する長尺状の部分である。
【００４５】
また、第３実施形態の隔壁部４０においては、Ｘ方向に隣合う２個の部分４２x（４２x1，４２x3）が、部分４２yを挟んで相互に反対側に位置する。具体的には、Ｘ方向に隣合う部分４２x1（第１部分の例示）と部分４２x3（第３部分の例示）とが部分４２yを挟むように、連通部Ｑを介して部分４２yから離間した位置に形成される。なお、帯電粒子３２が連通部Ｑを通過できないように各連通部Ｑのサイズが設定された構成は第１実施形態と同様である。また、隔壁部４０となる感光層６０の露光（工程Ｐ3）には、隔壁部４０の形状に対応した平面形状の透過領域７２が形成されたフォトマスク７０が使用される。
【００４６】
第３実施形態においても、第１実施形態と同様に、隔壁部４０の連通部Ｑを介してセルＣ間で分散媒３４を流動させることが可能である。また、複数の部分４２xの配列と複数の部分４２yとが相互に交差する部分に連通部Ｑが形成されるから、第１実施形態と同様に、露光量の相違に起因した隔壁部４０の高さの相違を抑制することが可能である。
【００４７】
＜変形例＞
以上に例示した各態様は多様に変形され得る。具体的な変形の態様を以下に例示する。以下に例示する態様は、前述の各形態に適用され得る。また、以下の例示から任意に選択された２個以上の態様は、相互に矛盾しない範囲で適宜に併合され得る。
【００４８】
（１）前述の各形態で説明した通り、透過領域７２の領域７２xと領域７２yとが相互に離間したフォトマスク７０を感光層６０の露光に利用することで、露光量の偏在に起因した隔壁部４０の高さの相違を抑制することが可能である。以上の効果を実現するという観点からすると、隣合うセルＣ同士を相互に連通させる連通部Ｑが隔壁部４０に形成された構成は必ずしも必須ではない。すなわち、感光層６０のうち部分４２xと部分４２yとの間の部分が工程Ｐ4で完全には除去されない場合でも、前述の各形態で例示したフォトマスク７０を利用すれば、露光量の偏在に起因した隔壁部４０の高さの相違を抑制するという効果は実現される。
【００４９】
（２）前述の各形態では、感光層６０をネガ型の感光材料で形成した場合を例示したが、露光部分が現像後に除去されるポジ型の感光材料で感光層６０を形成することも可能である。感光層６０をポジ型の感光材料で形成する場合、透過領域７２と遮光領域７４とが前述の各形態とは反転した関係にあるフォトマスクが工程Ｐ3で利用される。
【００５０】
（３）前述の各形態では、隔壁部４０を第２基板２０に形成した構成を例示したが、隔壁部４０を第１基板１０に形成してもよい。第１基板１０と第２基板２０とを相互に接合することで、第１基板１０の面上の隔壁部４０が第２基板２０の表面（さらに詳細には回路層２２の表面）に接触する。
【００５１】
（４）前述の各形態では、画素Ｐ毎にセルＣを形成したが、画素ＰとセルＣとの対応関係は以上の例示に限定されない。例えば、相互に隣合う複数の画素Ｐを単位としてセルＣを形成することも可能である。
【００５２】
＜電子機器＞
以上に例示した電気泳動装置１００は、種々の電子機器に利用され得る。電気泳動装置１００を利用した電子機器の具体的な形態を以下に例示する。
【００５３】
図１８は、電気泳動装置１００を表示機器として利用した腕時計９２の正面図である。図１８に例示される通り、腕時計９２は、電気泳動装置１００を収容する筐体９２１と、筐体９２１に連結されたバンド９２２とを具備するウェアラブル機器である。利用者はバンド９２２を手首に巻回することで腕時計９２を装着可能である。電気泳動装置１００の画素領域Ａは筐体９２１の開口９２３から露出し、時刻等の各種の情報の表示に利用される。筐体９２１に設置された操作子９２４が操作されると、例えば画素領域Ａに表示される画像が変更される。
【００５４】
図１９は、電気泳動装置１００を利用した電子ペーパー９４の斜視図である。図１９に例示される通り、電子ペーパー９４は、弾性変形が可能なシートを基材１１および基材２１として利用した電気泳動装置１００を具備し、画素領域Ａ内に各種の画像を表示する。
【００５５】
本発明が適用される電子機器は以上の例示に限定されない。例えば、携帯電話機や電子書籍等の情報端末，携帯型の音響再生装置，タッチパネル搭載型の表示装置など、各種の電子機器に本発明の各態様に係る電気泳動装置を利用することが可能である。
【符号の説明】
【００５６】
１００…電気泳動装置、１０…第１基板、１１…基材、１２…共通電極、１４…絶縁層、２０…第２基板、２１…基材、２２…回路層、３０…電気泳動分散液、３２（３２B，３２W）…帯電粒子、３４…分散媒、２４…画素電極、４０…隔壁部、４２x，４２y…隔壁部の各部分、６０…感光層、７０…フォトマスク、７２…透過領域、７２x，７２y…透過領域の各部分。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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