(57)【要約】【課題】集光効率の高い固体撮像素子用マイクロレンズを得るために、隣り合うマイクロレンズ間の隙間を保持し、且つ最適なマイクロレンズ形状を任意に形成できる固体撮像素子用マイクロレンズの製造方法を提供する。【解決手段】本発明の固体撮像素子用マイクロレンズの製造方法は、複数の受光素子が形成された半導体基板１１上に、平坦化層１２と、面内に複数色のカラーフィルタが配列されたカラーフィルタ層１３と、をこの順に形成する第一工程と、カラーフィルタ層１３の上にマイクロレンズ材料層１４を形成する第二工程と、マイクロレンズ材料層１４を、グレートーンマスク１６を用いて露光した後に現像することによりマイクロレンズ層を形成する第三工程と、マイクロレンズ層に対して、ブリーチング露光とその後のポストベークを複数回に分けて異なる条件で行う第四工程と、を有する。【選択図】図１
2018092063.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の受光素子が形成された半導体基板上に、平坦化層と、面内に複数色のカラーフィルタが配列されたカラーフィルタ層と、をこの順に形成する第一工程と、
前記カラーフィルタ層の上にマイクロレンズ材料層を形成する第二工程と、
前記マイクロレンズ材料層を、グレートーンマスクを用いて露光した後に現像することによりマイクロレンズ層を形成する第三工程と、
前記マイクロレンズ層に対して、ブリーチング露光とその後のポストベークを複数回に分けて異なる条件で行う第四工程と、
を有する固体撮像素子用マイクロレンズの製造方法。
【請求項２】
前記第四工程のブリーチング露光は、１回目の露光量が１００Ｊ／ｍ2以下である請求項１記載の固体撮像素子用マイクロレンズの製造方法。
【請求項３】
前記第四工程の１回目のブリーチング露光後のポストベークは、複数回に分けて異なる温度で行い、前記温度は、前記マイクロレンズ材料層をなすマイクロレンズ材料のガラス転移温度よりも低い請求項１または２記載の固体撮像素子用マイクロレンズの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マイクロレンズアレイを有する固体撮像素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
固体撮像素子は、光を吸収して電荷を発生するＣＭＯＳタイプもしくはＣＣＤタイプの光電変換素子を２次元的に配列し、発生した電荷を外部へ電気信号として転送するものであって、テレビカメラ、デジタルスチルカメラなどに広く用いられている。
ＣＣＤなど固体撮像素子上の光電変換素子が光電変換に寄与する領域（開口部）は、固体撮像素子のサイズや画素数に依存するが、固体撮像素子の全面積に対し２０〜４０％程度に限られてしまう。開口部が小さいことは、そのまま感度低下につながるので、これを補うため光電変換素子上に集光用のマイクロレンズを形成することが一般的である。
【０００３】
マイクロレンズの製造方法としては、熱リフロー法が知られている。すなわち、先ず、ポジ型感光性樹脂を、パターン露光と現像を行う周知のフォトリソグラフィ法により、平面視略矩形状にパターン形成する。次いで、ホットプレート上にて温度を上昇してパターンを溶融する。その際の樹脂表面の表面張力にてレンズ形状を得る方法である。その後、樹脂は熱硬化する（特許文献１）。
別の方法としては、前記熱リフロー法で得たパターンをレンズ母型とし、レンズ母型をレンズ母型の下部に位置するレンズ材料に対するエッチングマスクとして用い、ドライエッチング法によって、レンズの下部に布設した透明樹脂層に、レンズ形状を削り移す転写法が開示されている（特許文献２）。
【０００４】
ドライエッチングによりレンズ母型の形状を透明樹脂層に転写するマイクロレンズの形成方法は、３μｍ〜１０μｍサイズの比較的大きめのマイクロレンズの形成に好適である。
５μｍより大きなマイクロレンズであれば、レンズ表面荒れは少なく、実用上満足し得るレベルと言える。しかし、近年、固体撮像素子モジュールの小型化への要求が強く、２．５μｍ以下、あるいは１．５μｍ近傍の画素サイズのマイクロレンズが必要となっている。２μｍサイズ以下のマイクロレンズをドライエッチングで転写により形成する場合には、マイクロレンズ表面が荒れる傾向にあり、集光効果の低下を招きやすいという問題がある。
【０００５】
熱リフロー法では、マイクロレンズアレイを得るため複数のマイクロレンズを一度に同時形成するにあたり、隣接レンズ間のギャップを狭くした場合、感光性樹脂パターンが溶融して体積が膨張し隣接するレンズ同士が接触する結果、隣りあうレンズ同士の境界部分で形状崩れが発生する。この状態のまま硬化すると、冷却過程でレンズの体積収縮が生じる。そうなると、平面視略矩形状の画素の対角方向と画素の辺に平行な方向とでレンズ形状の曲率が異なってくるため、収差が生じ、集光効率が低下するという問題がある。
また、熱リフロー法によるマイクロレンズ形成では、隣接するマイクロレンズの谷間の曲率半径を狭小化することは可能であるが、最適なマイクロレンズ形状を任意に形成する形状制御は困難である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１１−７２３５６号公報
【特許文献２】特開平１−１０６６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の課題は、集光効率の高い固体撮像素子用マイクロレンズを得るために、隣り合うマイクロレンズ間の隙間を保持し、且つ最適なマイクロレンズ形状を任意に形成できる固体撮像素子用マイクロレンズの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明の一態様である固体撮像素子用マイクロレンズの製造方法は、複数の受光素子が形成された半導体基板上に、平坦化層と、面内に複数色のカラーフィルタが配列されたカラーフィルタ層と、をこの順に形成する第一工程と、前記カラーフィルタ層の上にマイクロレンズ材料層を形成する第二工程と、前記マイクロレンズ材料層を、グレートーンマスクを用いて露光した後に現像することによりマイクロレンズ層を形成する第三工程と、前記マイクロレンズ層に対して、ブリーチング露光とその後のポストベークを複数回に分けて異なる条件で行う第四工程と、を有する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の一態様に係る固体撮像素子用マイクロレンズの製造方法によれば、グレートーンマスクを使用したフォトリソグラフィ法で形成したマイクロレンズ層に対して、複数回に分けてブリーチング露光とポストベークを行うことで、滑らかで最適なマイクロレンズを任意に形成できるため、隣り合うマイクロレンズ間の隙間を狭くしても、レンズ面同士が融着することが防止できる。その結果、集光効率の高い固体撮像素子用マイクロレンズを得ることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の一実施形態に係る固体撮像素子用マイクロレンズの製造方法を工程順に示す断面図（図３のａ−ａ断面図に対応）であり、(a)は第一工程後の状態を、(b)は第二工程後の状態を、(c)は第三工程を示す。
【図２】本発明の一実施形態に係る固体撮像素子用マイクロレンズの製造方法を工程順に示す断面図（図３のａ−ａ断面図に対応）であり、(a)は第三工程後の状態を、(b)は第四工程を示す。
【図３】図1(a)の平面図である。
【図４】実施例１で得られたマイクロレンズ層の形状を示すグラフ（原子間力顕微鏡で得られたデータによる作画）である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明の実施形態について説明する。以下に示す実施形態では、本発明を実施するために技術的に好ましい限定がなされているが、本発明は以下に示す実施形態に限定されない。
【００１２】
図１および図２を用いて、固体撮像素子用マイクロレンズの製造方法の一実施形態を説明する。
先ず、第一工程として、図１(a)に示すように、半導体基板１１上（受光素子は図示せず）に、凸凹を低減し平滑性を改善するため平坦化層１２を形成し、その上にカラーレジストを用い、複数回のフォトリソグラフィプロセスにより、ベイヤー配列に基づく所定の位置にカラーフィルタ層１３を形成する。
カラーフィルタ層１３は、緑色、赤色、青色からなる原色系フィルタ、或いは黄色、シアン色、マゼンタ色からなる補色系フィルタとすることができる。カラーフィルタ層の平面視での縦横の寸法は、例えば１.０μｍ〜１０.０μｍの範囲内にあり、典型的には１．０μｍ〜２．０μｍの範囲内にある。
【００１３】
次に、第二工程として、図１(b)に示すように、カラーフィルタ層１３上にマイクロレンズ材料層１４を形成する。このマイクロレンズ材料層１４は、ポジ型フォトレジストをスピンコート法にて塗布し、ホットプレート上で熱硬化して形成する。このとき、形成されるマイクロレンズ材料層１４の膜厚は、例えば０．５μｍ〜５．０μｍの範囲内にあり、典型的には０．５μｍ〜２.０μｍの範囲内にある。
マイクロレンズ材料層１４をなすマイクロレンズ材料としては、紫外線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）、エキシマー・レーザー等を含む遠紫外線、電子線、イオンビームおよびＸ線等の放射線に感応するポジ型フォトレジスト用に好適なポジ型レジスト樹脂が使用できる。本実施形態でもポジ型レジスト樹脂を採用する。例えばノボラック型フェノール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂などが例示できる。
マイクロレンズ材料層１４をなすマイクロレンズ材料には、必要に応じて添加剤をマイクロレンズとしての特性を損なわない程度に含有させることができる。添加剤としては、基板との密着性向上の為の密着助剤、塗布性向上の為の界面活性剤、レベリング剤、分散剤、硬化剤が挙げられる。
【００１４】
次に、第三工程の前段工程として、図１(c)に示すように、光源からの光１５とグレートーンマスク１６と集光光学系１７を使用して、マイクロレンズ材料層１４を露光する。
グレートーンマスク１６は、露光光の透過率分布を有する遮光膜が石英基板上に形成されたものである。マイクロレンズ材料層１４がポジ型レジスト樹脂の場合、遮光膜の露光光透過率は、単位マイクロレンズ領域における中央領域（マイクロレンズの凸部となるべき領域）で透過率が低く、周辺領域（凹部となるべき領域）で高く設定されている。
グレートーンマスク１６は、遮光膜に濃淡のグラデュエーション（階調）が付いたマスクと言うことができる。この階調の濃淡は、露光光では解像しない小さな径のドットの単位面積当たりの個数（粗密）に、部分的に差をつけることで設けられる。
【００１５】
つまり、グレートーンマスク１６は、マイクロレンズのパターンに応じた濃淡の遮光膜を有する。集光光学系１７は、グレートーンマスク１６を透過した光束を縮小する。これにより、光源からの光１５のうち、グレートーンマスク１６を透過したマイクロレンズのパターンに応じた光が、縮小されてマイクロレンズ材料層１４に照射される。
グレートーンマスク１６を用いた露光法により、所望のマイクロレンズの形状を制御することが容易となる。また、表面荒れを抑制し、レンズ表面の光散乱が少なく、滑らかなマイクロレンズを得ることが出来る。
マイクロレンズの形状としては、球面形状、放物線形状、ｓｉｎ形状、三角錐などが挙げられる。集光効率の観点からは放物線形状が好ましい。本実施形態でも放物線形状を採用する。また、マイクロレンズ材料層１４を露光する際には、一般的なステッパーと呼ばれる露光装置を用いる。露光波長は紫外光が用いられ、３６５ｎｍが好適である。
【００１６】
次に、第三工程の後段工程として、現像処理を行う。これにより、図２(a)に示すように、カラーフィルタ層１３上に放物線形状のマイクロレンズ層１８が形成される。これにより、隣接するマイクロレンズ間の谷間が狭小化したマイクロレンズ形成が可能となる。各固体撮像素子毎に最適なマイクロレンズ形状を選択し形成することが可能となることで、受光素子への集光効率が高められる効果がある。
次に、第四工程を構成する一工程として、図２(b)に示すように、光源からの光１５と集光光学系１７を使用して、マイクロレンズ層１８に対して１回目のブリーチング露光を行う。ブリーチング露光工程は、現像工程で形成したマイクロレンズ層１８の全体に光を照射して、光透過性を向上させる工程である。
【００１７】
ポジ型フォトレジスト樹脂からなるマイクロレンズ材料は感光剤（ジアゾナフトキノン類）を含有していることから、淡黄色または淡褐色に着色している。マイクロレンズ層１８に光を照射することにより、残存する未反応の感光剤（ジアゾナフトキノン類）が光分解して、可視光領域で吸収のないインデンカルボン酸に変化し、光透過率が向上する。また、インデンカルボン酸は、大気中の（Ｈ2Ｏ）と反応し、カルボン酸に変化する。カルボン酸は、ポジ型フォトレジスト樹脂と結合しないため、膜は硬化されない。
【００１８】
１回目のブリーチング露光工程の露光量が１００J／ｍ2を超えると大量のカルボン酸を発生させることになり、膜硬化が十分に進まず、次工程のポストベークでマイクロレンズ材料の形状が変形するおそれがある。
１回目のブリーチング露光工程の露光量が１００J／ｍ2以下であれば、ブリーチング露光効果が弱く、マイクロレンズ表面及び内部の光分解反応が抑制される為、次工程のポストベーク工程でもマイクロレンズ材料の形状を維持することが出来る。下限については特に制限されないが、少なくともブリーチング露光の露光量が０の場合は、マイクロレンズ内に未反応の感光剤が残存したままになり、膜が硬化されない。
また、光源からの光１５の波長は、可視光でも紫外光でも良く、特に限定されないが、露光工程と同じ波長であることが好ましい。
【００１９】
次に、第四工程の一工程として、１回目のブリーチング露光が行われたマイクロレンズ層１８を、複数回に分けて異なる温度でポストベークする。各回のポストベークの温度は、マイクロレンズ材料のガラス転移温度以下の温度であって、例えば１１０〜１６０℃の温度範囲で段階的に上昇させる。これにより、マイクロレンズ層１８を流動化することなく、膜硬化を進めることが出来る。段階的に上昇させる温度の最小値は、生産プロセスの許容値より約５℃である。ガラス転移温度を超えた温度でベーク処理するとマイクロレンズ層１８が流動化し、現像後に得られたマイクロレンズ形状を維持することが出来ない。
【００２０】
次に、第四工程の一工程として、マイクロレンズ層１８に対する２回目のブリーチング露光を、露光量を１００Ｊ／ｍ2を超える値とした以外は１回目と同じ方法で行う。露光量を１００Ｊ／ｍ2を超える値とした理由は、光透過率を向上させる為である。２回目のブリーチング露光は、より好ましくは１０００Ｊ／ｍ2以上の露光量で行う。３回以上に分けてブリーチ露光する場合は、２回目以降のいずれかで、露光量を１００Ｊ／ｍ2超えとしたブリーチング露光を実施すれば良い。
次に、第四工程の一工程として、２回目のブリーチング露光が行われたマイクロレンズ層１８をポストベークする。ポストベークの温度は、マイクロレンズ層１８の用途等に応じて適宜変更することができるが、例えば１１０〜３００℃でベーク処理することにより、マイクロレンズ層１８の形状を硬化および安定化させることができる。更に好ましくはガラス転移温度より５〜１０℃高い温度を始点として、複数回に分けて段階的にベーク処理させることである。
【００２１】
ブリーチング露光工程とポストベーク工程を複数回に分けて行うことで、カルボン酸の発生量を抑制し、現像後のマイクロレンズ形状を変化させることなく、滑らかで最適なマイクロレンズを任意に形成できるため、隣り合うマイクロレンズ間の隙間を狭くしても、レンズ面同士が融着することが防止できる。その結果、集光効率の高い固体撮像素子用マイクロレンズを得ることが可能になる。
【実施例】
【００２２】
以下、本発明の実施例を説明する。
（実施例１）
図１(a)に示すように、先ず、第一工程の前段工程として、半導体基板１１上にスピンコート法によって熱硬化型のアクリル樹脂溶液を塗布し、次いでホットプレート上で２００℃、５分の熱処理を施すことにより、０．１μｍの厚さの平坦化層１２を形成した。
次に、第一工程の後段工程として、以下の方法でカラーフィルタ層１３を形成した。先ず、平坦化層１２上に、スピンコート法によりアクリル系の感光性緑色着色レジストを塗布し、ホットプート上で８０℃、１分間のプリベーク処理を行った。次に、ｉ線ステッパー（Ｎｉｋｏｎ  ｉ１２、露光波長３６５ｎｍ）を使用してパターン露光した後、有機アルカリ現像液（ＴＭＡＨ濃度０．０５％）で１分間の現像処理を行い、さらに十分に純水でリンスし、水切り乾燥を行った。その後、２２０℃、６分間のポストベークを行い、Ｇ（緑）画素パターンを形成した。
【００２３】
次に、Ｒ（赤）画素、Ｂ（青）画素についても、Ｇ（緑）画素と同様に、フォトリソグラフィー法を用いてベイヤー配列に基づく所定の位置に形成し、画素サイズが２．０μｍのカラーフィルタ層１３を得た。Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のパターンを測定したところ、膜厚は各々１．０μｍであった。
なお、カラーフィルタ層１３を構成するＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の形成には、それぞれ以下の各顔料を、アクリル系樹脂、シクロヘキサノン溶剤とともに調製したアクリル系の感光性着色レジストを用いた。色材の添加量は、それぞれレジスト中の固形分比にて約５０％とした。
【００２４】
赤色用顔料：Ｃ．Ｉ．  Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ２５４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガーフォーレッド  Ｂ−ＣＦ」）およびＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  １７７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「クロモフタールレッド  Ａ２Ｂ」）。緑色用顔料：Ｃ．Ｉ．  Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ  ３６（東洋インキ製造製「リオノールグリーン  ６ＹＫ」）およびＣ．Ｉ．  Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １５０（バイエル社製「ファンチョンファーストイエロー  Ｙ−５６８８」）。青色用顔料：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １５（東洋インキ製造製「リオノールブルーＥＳ」）Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ２３（ＢＡＳＦ社製「パリオゲンバイオレット  ５８９０」）。
【００２５】
次に、第二工程として、図１(b)に示すように、カラーフィルタ層１３の上に、ポジ型フォトレジスト（ガラス転移温度１４０℃）をスピンコート法により塗布し、ホットプレート上で９０℃、１分間のプリベーク処理を行った。これにより、厚さ０．８μｍのマイクロレンズ材料層３４を形成した。
次に、第三工程の前段工程として、ｉ線ステッパー（Ｎｉｋｏｎ  ｉ１２、露光波長３６５ｎｍ）を用いて、図１(c)に示す、光源からの光１５とグレートーンマスク１６と集光光学系１７とによるマイクロレンズ材料層１４の露光工程を行った。グレートーンマスク１６からの透過光束は集光光学系１７で１／４に縮小された。
【００２６】
次に、第三工程の後段工程として、有機アルカリ現像液（ＴＭＡＨ濃度１．１９％）で１分間の現像処理を行い、さらに十分に純水でリンスし、水切り乾燥を行った。これにより、図２(a)に示すように、カラーフィルタ層１３上にマイクロレンズ層１８が形成された。
次に、第四工程の一工程として、ｉ線ステッパー（Ｎｉｋｏｎ  ｉ１２、露光波長３６５ｎｍ）を用いて、図２(b)に示す、光源からの光１５と集光光学系１７とによるマイクロレンズ層１８に対する１回目のブリーチング露光を行った。グレートーンマスク１６からの透過光束は集光光学系１７で１／４に縮小された。露光量は１０Ｊ／ｍ2とした。
【００２７】
次に、第四工程の一工程として、１回目のブリーチング露光が行われたマイクロレンズ層１８に対して、１１０℃で６分間のポストベークを行った後、温度を１２０℃に上げてさらに６分間のポストベークを行った。１２０℃はマイクロレンズ層１８のガラス転移温度以下の温度である。
次に、第四工程の一工程として、露光量を８０００Ｊ／ｍ2とした以外は１回目と同じ方法で、２回目のブリーチング露光を行った。
次に、第四工程の一工程として、２回目のブリーチング露光が行われたマイクロレンズ層１８に対して、１４８℃で６分間のポストベークを行った後、温度を１６０℃に上げてさらに６分間のポストベークを行った後、温度を１８３℃に上げてさらに６分間のポストベークを行った。１８３℃はマイクロレンズ層１８のガラス転移温度以下の温度である。
なお、得られたマイクロレンズ層１８の形状をＡＦＭ（原子間力顕微鏡）を使用して計測したところ、図４に示すように、レンズ高さが０．８μｍであるスムースな放物線形状であった。
【００２８】
（実施例２）
１回目のブリーチング露光の露光量を４０Ｊ／ｍ2に変更した点以外は、実施例１と同じ方法でマイクロレンズ層を形成した。
（実施例３）
１回目のブリーチング露光の露光量を１００Ｊ／ｍ2に変更した点以外は、実施例１と同じ方法でマイクロレンズ層を形成した。
（実施例４）
２回目のブリーチング露光の露光量を１０００Ｊ／ｍ2に変更した点以外は、実施例１と同じ方法でマイクロレンズ層を形成した。
（実施例５）
第四工程の一工程として、３回目のブリーチング露光（露光量は８０００Ｊ／ｍ2）と３回目のブリーチング露光後のポストベーク（温度を１２０℃、１４８℃、１６０℃、１８３℃に段階的に上昇させて各６分間行った）を追加実施した以外は、実施例４と同じ方法でマイクロレンズ層を形成した。
【００２９】
（比較例１）
以下の点以外は実施例１と同じ方法でマイクロレンズ層を形成した。
グレートーンマスクを使用せずにマイクロレンズ材料層の露光を行い、マイクロレンズ層を台形に形成した後、熱リフロー（温度を１４８℃、１６０℃、１８３℃に段階的に上昇させて行った）で球面状のマイクロレンズ層に変形させた。また、ブリーチング露光とポストベーク工程は１回のみ行い、ブリーチング露光の露光量は８０００Ｊ／ｍ2とした。つまり、いわゆる熱リフロー法でマイクロレンズ層を形成した。
【００３０】
（比較例２）
第四工程として、ブリーチング露光（露光量は８０００Ｊ／ｍ2）とその後のポストベークを一回だけ行った点以外は、実施例１と同じ方法でマイクロレンズを形成した。
（比較例３）
１回目のブリーチング露光の露光量を８０００Ｊ／ｍ2に変更した点以外は、実施例１と同じ方法でマイクロレンズ層を形成した。
（比較例４）
１回目のブリーチング露光の露光量を１００Ｊ／ｍ2に変更し、１回目のブリーチング露光後のポストベーク温度を１４５℃に変更した点以外は、実施例１と同じ方法でマイクロレンズ層を形成した。
（比較例５）
１回目のブリーチング露光の露光量を１００Ｊ／ｍ2に変更し、１回目のブリーチング露光後のポストベーク温度を１６０℃に変更した点以外は、実施例１と同じ方法でマイクロレンズ層を形成した。
【００３１】
実施例１〜５および比較例１〜５で形成されたマイクロレンズの形状観察とレンズ高さの測定を、以下の方法で行った。
〔形成されたマイクロレンズ形状測定について〕
形成されたマイクロレンズ形状を、測長ＳＥＭ（ＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ社製ｅＣＤ２−ＸＰ）で観察し評価した。マイクロレンズの形状が放物線形状となったものを「○」、放物線形状とならなかったものを「×」として評価した。
〔マイクロレンズ高さの測定について〕
マイクロレンズ高さは、東陽テクニカ製のＡＦＭ（原子間力顕微鏡）「ｉ−ｎａｎｏ」にて測定した。
〔感度評価〕
各例で得られたマイクロレンズ層を備えた固体撮像素子の感度を測定し、比較例１に示す従来の熱リフロー法によるものと感度比較を行った。その結果を表１に示す。
【００３２】
【表１】
2018092063.tif 000003
【００３３】
表１から明らかなように、実施例１〜５では放物線形状のマイクロレンズが得られ、その結果、従来の熱リフロー法で得られたマイクロレンズ（比較例１）と比較して集光感度が向上した。
比較例１〜５においては、所望のマイクロレンズ形状を形成することが出来ず、集光感度も、従来の熱リフロー法で得られたマイクロレンズ（比較例１）とほぼ同じであった。
【符号の説明】
【００３４】
１１  半導体基板
１２  平坦化層
１３  カラーフィルタ層
１４  マイクロレンズ材料層
１５  光源からの光
１６  グレートーンマスク
１７  集光光学系
１８  マイクロレンズ層
【図１】
2018092063.tif 000004
【図２】
2018092063.tif 000005
【図３】
2018092063.tif 000006
【図４】
2018092063.tif 000007