(57)【要約】【課題】画像のぎらつき抑止、防眩性、耐スクラッチ性および画質のそれぞれについて良好な性能を得ることができる、ガラス物品の提供。【解決手段】外光を拡散反射する凹凸面を少なくとも一方の主表面に有するガラス板と、前記凹凸面上に形成される所定の機能膜とを有するガラス物品であって、前記ガラス物品の透過ヘイズが２８％以下であり、前記機能膜の前記ガラス板とは反対側の表面は、レーザ顕微鏡で見たときの視野面積が６００００μｍ２の範囲において、ポア代表径が１２μｍ未満であり、且つ、視野面積に対する表面積Ａ（μｍ２）の面積比（Ａ／６００００）が１．０２以上１．０７以下である、ガラス物品。【選択図】図２
2018197183.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外光を拡散反射する凹凸面を少なくとも一方の主表面に有するガラス板と、前記凹凸面上に形成される所定の機能膜とを有するガラス物品であって、
前記ガラス物品の透過ヘイズが２８％以下であり、
前記機能膜の前記ガラス板とは反対側の表面は、レーザ顕微鏡で見たときの視野面積が６００００μｍ２の範囲において、ポア代表径が１２μｍ未満であり、且つ、視野面積に対する表面積Ａ（μｍ２）の面積比（Ａ／６００００）が１．０２以上１．０７以下である、ガラス物品。
【請求項２】
前記面積比（Ａ／６００００）が１．０２以上１．０６以下である、請求項１に記載のガラス物品。
【請求項３】
前記ガラス物品の前記透過ヘイズが２０％以下である、請求項１または２に記載のガラス物品。
【請求項４】
前記ガラス物品のマルテンス硬さが２．０ＧＰａ以上である、請求項１〜３のいずれか１項に記載のガラス物品。
【請求項５】
前記機能膜は、少なくとも、外光の反射を抑制する低反射膜を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載のガラス物品。
【請求項６】
前記機能膜は、少なくとも、前記低反射膜と、前記ガラス物品の汚れを抑制する防汚膜とを含み、
前記防汚膜は、前記低反射膜を基準として、前記ガラス板とは反対側に形成される、請求項５に記載のガラス物品。
【請求項７】
前記ガラス板は、ソーダライムガラスまたはアルミノシリケートガラスで形成される、請求項１〜６のいずれか１項に記載のガラス物品。
【請求項８】
前記ガラス板は、前記主表面に圧縮応力層を有し、
前記圧縮応力層の表面圧縮応力が６００ＭＰａ以上である、請求項１〜７のいずれか１項に記載のガラス物品。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載のガラス物品を備える、表示装置。
【請求項１０】
車載用機器である、請求項９に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス物品、および表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年特に携帯デバイスや、車載用機器において液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）等の各種画像表示装置が多く用いられるようになってきている。このような画像表示装置においては、そのカバー部材として従来からガラス板を配置した構成がとられている。また、透明電極つきタッチパネルとカバーガラスとが一体化した基板構成も知られている。
【０００３】
このような画像表示装置においては、ガラス板表面に人の指等が触れる機会が多く、人の指等が触れた場合に、ガラス板表面に脂等が付着し易い。そして、脂等が付着した場合には視認性に影響を及ぼすことから、ガラス板の表面に防汚処理が施されたものが用いられている。
【０００４】
例えば特許文献１に記載の防汚膜付きガラス板は、ガラス板と、ガラス板の主表面に設けられた防汚膜であるフッ素含有有機ケイ素化合物皮膜とを有する。ガラス板の防汚膜が形成される主表面は、防眩加工が施されている。防眩加工によって凹凸面が形成される。凹凸面は、太陽光や照明光などの外光を拡散反射し、外光の映り込みを防止する防眩性を向上できる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１６−５２９９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ガラス板と、ガラス板上に形成される防汚膜などの機能膜とを有するガラス物品が開発、検討されている。このガラス物品は、例えば、液晶ディスプレイや有機ＥＬ（Electro Luminescence）ディスプレイなどの画像表示装置のカバーガラスとして用いられる。
【０００７】
ガラス板は、少なくとも一方の主表面に、外光を拡散反射する凹凸面を有する。この凹凸面上に機能膜が形成される。機能膜は十分に薄いため、機能膜のガラス板とは反対側の表面の凹凸形状と、ガラス板の凹凸面の凹凸形状とは略等しい。
【０００８】
近年、画像表示装置の解像度の向上に伴い、画素の幅が小さくなっている。そのため、画素の幅がガラス板の凹凸面のポア代表径よりも小さくなる恐れがある。ここで、画素とは、例えば赤色画素、青色画素、緑色画素などの単色の画素（所謂、サブピクセル）のことである。
【０００９】
図１は、従来例によるガラス板の凹凸面のポア径と、画素（赤色画素１０１Ｒ、緑色画素１０１Ｇ、青色画素１０１Ｂ）の大きさとの関係を示す図である。ガラス板の凹凸面１２１は複数のポアを有し、各ポアはレンズになる。各ポアの境界は特に鋭利なリッジと呼称される突起形状となる。例えば、図１に示すように緑色画素１０１Ｇの幅Ａ１０１が凹凸面１２１のポア径Ａ１０２よりも十分に小さくなると、同じ色（同じ波長）の光を発する複数の画素１０１Ｇからの光が同じ１つのレンズ１２２を透過して互いに干渉する。そうすると、輝度ムラが生じ、ユーザの目１０２には画像がぎらついて見える。なお、図１では画素の並びが、赤色画素１０１Ｒ、緑色画素１０１Ｇ、青色画素１０１Ｂであるが、これに限られない。
【００１０】
画像のぎらつきを抑制するには、凹凸面１２１のポア径Ａ１０２を画素の幅Ａ１０１の４倍よりも小さくすればよい。これは、画素（赤色画素１０１Ｒ、緑色画素１０１Ｇ、青色画素１０１Ｂ）と隙間１０１Ｉとで形成される表示領域１０１の幅が、凹凸面１２１のポア径Ａ１０２より大きくなり、同じ色（同じ波長）の複数の光線が同じ１つのレンズ１２２を透過するのを防ぐことができるためである。また、ポア径Ａ１０２が小さいと、ポアを囲むリッジが多くて鋭いため、リッジで外光が拡散反射されやすく、良好な防眩性が得られる。
【００１１】
但し、ポア径Ａ１０２が小さ過ぎると、リッジの数が多過ぎ、リッジの鋭さが鋭過ぎる。そのため、引っ掻き傷が付きやすくなり、耐スクラッチ性が低下してしまう。また、表示領域１０１からの光が凹凸面１２１を透過する際に散乱されやすく、画像がぼやけて見えやすく、画質が低下してしまう。
【００１２】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、画像のぎらつき抑止、防眩性、耐スクラッチ性および画質のそれぞれについて良好な性能を得ることができる、ガラス物品の提供を主な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題を解決するため、本発明の一態様によれば、
外光を拡散反射する凹凸面を少なくとも一方の主表面に有するガラス板と、前記凹凸面上に形成される所定の機能膜とを有するガラス物品であって、
前記ガラス物品の透過ヘイズが２８％以下であり、
前記機能膜の前記ガラス板とは反対側の表面は、レーザ顕微鏡で見たときの視野面積が６００００μｍ２の範囲において、ポア代表径が１２μｍ未満であり、且つ、視野面積に対する表面積Ａ（μｍ２）の面積比（Ａ／６００００）が１．０２以上１．０７以下である、ガラス物品が提供される。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の一態様によれば、画像のぎらつき抑止、防眩性、耐スクラッチ性および画質のそれぞれについて良好な性能を得ることができる、ガラス物品が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】従来例によるガラス板の凹凸面のポア径と、画素の大きさとの関係を示す図である。
【図２】一実施形態によるガラス物品を示す図である。
【図３】一実施形態によるガラス板の凹凸面のポア径と、画素の大きさとの関係を示す図である。
【図４】一実施形態によるフロスト処理で得られたガラス表面を示す顕微鏡写真である。
【図５】従来例によるフロスト処理で得られたガラス表面を示す顕微鏡写真である。
【図６】図４のフロスト処理に続く２次エッチング処理で得られたガラス表面を示す顕微鏡写真である。
【図７】図５のフロスト処理に続く２次エッチング処理で得られたガラス表面を示す顕微鏡写真である。
【図８】例１〜例１５で製造したガラス物品の特性を測定する測定点を示す平面図である。
【図９】例１〜例１５で製造したガラス物品の面積比（Ａ／６００００）と鉛筆硬度との関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。各図面において、同一の又は対応する構成には、同一の又は対応する符号を付して説明を省略する。
【００１７】
＜ガラス物品＞
図２は、本実施形態のガラス物品を示す側面図である。尚、図２において、ガラス板２０の凹凸面２１の凹凸は、微小であるので、図示を省略する。同様に、機能膜３０の表面３１の凹凸は、微小であるので、図示を省略する。
【００１８】
ガラス物品１０は、例えば、液晶ディスプレイや有機ＥＬ（Electro Luminescence）ディスプレイなどの画像表示装置のカバーガラスとして用いられる。カバーガラスはタッチセンサを含むものでもよい。タッチセンサは、画面に対する指などの物体の接触または接近を検出する。画像表示装置は、車載用機器であってよい。
【００１９】
ガラス物品１０は、ガラス板２０と、ガラス板２０上に形成される所定の機能膜３０とを有する。以下、ガラス板２０や機能膜３０の構成について説明する。
【００２０】
＜ガラス板＞
ガラス板２０は、少なくとも一方の主表面に、太陽光や照明光などの外光を拡散反射する凹凸面２１を有する。凹凸面２１は、外光を拡散反射することにより、外光の映り込みを防止する防眩性を向上する。これにより、画像表示装置で表示される画像の視認性を向上できる。尚、凹凸面２１を形成するための凹凸加工処理については、後述する。
【００２１】
ガラス板２０は、無アルカリガラス、ソーダライムガラス、アルミノシリケートガラスなどで形成される。ガラス板２０は、後述の化学強化ガラスである場合、アルカリ金属を含むガラス、具体的には、ソーダライムガラス、アルミノシリケートガラスなどで形成される。
【００２２】
ガラス板２０の組成は、例えば、以下の（ｉ）〜（ｖｉｉ）のいずれか一つの要件を満たすガラスが挙げられる。なお、以下の（ｉ）〜（ｖ）のガラス組成は、酸化物基準のモル％で表示した組成であり、（ｖｉ）〜（ｖｉｉ）のガラス組成は、酸化物基準の質量％で表示した組成である。ガラス板２０の組成は、ガラスの板厚方向中央の組成をＥＤＸ、ＩＣＰ等の公知の方法で分析すればよい。
（ｉ）ＳｉＯ２を５０〜８０％、Ａｌ２Ｏ３を２〜２５％、Ｌｉ２Ｏを０〜１０％、Ｎａ２Ｏを０〜１８％、Ｋ２Ｏを０〜１０％、ＭｇＯを０〜１５％、ＣａＯを０〜５％およびＺｒＯ２を０〜５％を含むガラス。
（ｉｉ）ＳｉＯ２を５０〜７４％、Ａｌ２Ｏ３を１〜１０％、Ｎａ２Ｏを６〜１４％、Ｋ２Ｏを３〜１１％、ＭｇＯを２〜１５％、ＣａＯを０〜６％およびＺｒＯ２を０〜５％含有し、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３の含有量の合計が７５％以下、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計が１２〜２５％、ＭｇＯおよびＣａＯの含有量の合計が７〜１５％であるガラス。
（ｉｉｉ）ＳｉＯ２を６８〜８０％、Ａｌ２Ｏ３を４〜１０％、Ｎａ２Ｏを５〜１５％、Ｋ２Ｏを０〜１％、ＭｇＯを４〜１５％およびＺｒＯ２を０〜１％含有し、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３の含有量の合計が８０％以下であるガラス。
（ｉｖ）ＳｉＯ２を６７〜７５％、Ａｌ２Ｏ３を０〜４％、Ｎａ２Ｏを７〜１５％、Ｋ２Ｏを１〜９％、ＭｇＯを６〜１４％、ＣａＯを０〜１％およびＺｒＯ２を０〜１．５％含有し、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３の含有量の合計が７１〜７５％、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計が１２〜２０％であるガラス。
（ｖ）ＳｉＯ２を６０〜７５％、Ａｌ２Ｏ３を０．５〜８％、Ｎａ２Ｏを１０〜１８％、Ｋ２Ｏを０〜５％、ＭｇＯを６〜１５％、ＣａＯを０〜８％含むガラス。
（ｖｉ）ＳｉＯ２を６３〜７５％、Ａｌ２Ｏ３を３〜１２％、ＭｇＯを３〜１０％、ＣａＯを０．５〜１０％、ＳｒＯを０〜３％、ＢａＯを０〜３％、Ｎａ２Ｏを１０〜１８％、Ｋ２Ｏを０〜８％、ＺｒＯ２を０〜３％、Ｆｅ２Ｏ３を０．００５〜０．２５％含有し、Ｒ２Ｏ／Ａｌ２Ｏ３（式中、Ｒ２ＯはＮａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏである）が２．０以上４．６以下であるガラス。
（ｖｉｉ）ＳｉＯ２を６６〜７５％、Ａｌ２Ｏ３を０〜３％、ＭｇＯを１〜９％、ＣａＯを１〜１２％、Ｎａ２Ｏを１０〜１６％、Ｋ２Ｏを０〜５％含有するガラス。
【００２３】
ガラス板２０は、強度向上の観点から、好ましくは、化学強化処理した化学強化ガラスである。化学強化処理は、凹凸面２１を形成するための凹凸加工処理の後に行われる。化学強化処理とは、ガラスの表面のイオン半径が小さいアルカリ金属イオン（例えばＮａイオン）をイオン半径の大きなアルカリ金属イオン（例えばＫイオン）に置換する処理をいう。この処理によって、表面に圧縮応力層が形成される。
【００２４】
化学強化ガラスは、凹凸面２１などの表面に圧縮応力層を有する。圧縮応力層の表面圧縮応力は、例えば６００ＭＰａ以上であってよい。圧縮応力層の組成は化学強化処理前の組成と若干異なるが、圧縮応力層よりも深い部分の組成は化学強化処理前の組成とほぼ同じである。
【００２５】
化学強化処理は、イオン半径が小さいアルカリ金属イオン（例えばＮａイオン）を含むガラス板２０を、イオン半径が大きいアルカリ金属イオン（例えばＫイオン）を含む溶融塩に浸漬して行われる。溶融塩としては、ガラス板２０のガラスの種類に応じて選択される。例えば、硝酸カリウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、塩化ナトリウムおよび塩化カリウム等のアルカリ硫酸塩およびアルカリ塩化塩などが挙げられる。これらの溶融塩は単独で用いてもよいし、複数種を組み合わせて用いてもよい。
【００２６】
溶融塩の加熱温度は、３５０℃以上が好ましく、３８０℃以上がより好ましい。また、５００℃以下が好ましく、４８０℃以下がより好ましい。溶融塩の加熱温度を３５０℃以上とすることにより、イオン交換速度の低下により化学強化が入りにくくなるのを防ぐ。また、５００℃以下とすることにより溶融塩の分解・劣化を抑制できる。
【００２７】
ガラス板２０を溶融塩に接触させる時間は、十分な圧縮応力を付与するためには、１時間以上が好ましく、２時間以上がより好ましい。また、長時間のイオン交換では、生産性が落ちるとともに、緩和により圧縮応力値が低下するため、２４時間以下が好ましく、２０時間以下がより好ましい。
【００２８】
尚、化学強化処理の条件は、特に限定されるものではなく、化学強化処理に供するガラスの種類、求められる表面圧縮応力等に応じて選択できる。
【００２９】
ガラス板２０は、図２では平板状であるが、湾曲板状などでもよい。ガラス板２０の形状は、特に限定されない。
【００３０】
＜機能膜＞
機能膜３０は、ガラス板２０の凹凸面２１に形成される。機能膜３０の合計厚さは１００〜５００ｎｍであり、機能膜３０は十分薄いため、機能膜３０のガラス板２０とは反対側の表面３１（以下、単に「機能膜３０の表面３１」とも呼ぶ。）の凹凸形状と、凹凸面２１の凹凸形状とは略等しい。尚、機能膜３０の表面３１の凹凸形状については後述する。
【００３１】
機能膜３０は、少なくとも、外光の反射を抑制する低反射膜４０を有してよい。これにより、ガラス板表面の反射率を低減でき、外光の映り込みを防止する防眩性をより向上でき、画像の視認性をより向上できる。
【００３２】
機能膜３０は、低反射膜４０に加えて、ガラス物品１０の表面の汚れを防止する防汚膜５０を有してよい。画像表示装置がタッチパネルである場合、画面をタッチする指の指紋の付着を防止できる。
【００３３】
＜低反射膜＞
低反射膜４０は、特に限定されないが、例えば高屈折率層と低屈折率層とを積層した構造を有してよい。高屈折率層と低屈折率層とは、それぞれ１層ずつ設けられてもよいが、それぞれ２層以上ずつ設けられてもよい。後者の場合、高屈折率層と低屈折率層とが交互に積層されてよい。
【００３４】
低反射膜４０は、十分な反射防止性能を得るため、複数の層が積層された多層構造を有することが好ましい。低反射膜４０を構成する層の数は、例えば２以上６以下であり、好ましくは２以上４以下である。
【００３５】
高屈折率層、低屈折率層の材料は特に限定されるものではなく、要求される反射防止の程度や生産性等を考慮して選択できる。高屈折率層を構成する材料としては、例えば酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、窒化ケイ素（ＳｉＮ）、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）から選択された１種以上を好ましく利用できる。一方、低屈折率層を構成する材料としては、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を好ましく利用できる。
【００３６】
高屈折率層としては生産性や、屈折率の程度から、特に酸化ニオブを好ましく利用できる。このため、低反射膜４０は、酸化ニオブ層と酸化ケイ素層との積層体がより好ましい。
【００３７】
尚、低反射膜４０とガラス板２０との密着性を高めるため、低反射膜４０とガラス板２０との間に、ガラス板２０の表面を改質する表面改質層が形成されてもよい。
【００３８】
＜防汚膜＞
防汚膜５０は、ガラス物品１０の表面に汚れが付くことを防止する。防汚膜５０は、低反射膜４０を基準として、ガラス板２０とは反対側に設けられる。防汚膜５０は、例えばフッ素含有有機ケイ素化合物により形成される。
【００３９】
ここで、フッ素含有有機ケイ素化合物について説明する。本実施形態で用いるフッ素含有有機ケイ素化合物としては、防汚性、撥水性、撥油性を付与するものであれば特に限定されず使用できる。
【００４０】
このようなフッ素含有有機ケイ素化合物としては例えば、ポリフルオロポリエーテル基、ポリフルオロアルキレン基及びポリフルオロアルキル基からなる群から選ばれる１つ以上の基を有するフッ素含有有機ケイ素化合物が挙げられる。なお、ポリフルオロポリエーテル基とは、ポリフルオロアルキレン基とエーテル性酸素原子とが交互に結合した構造を有する２価の基のことである。
【００４１】
このポリフルオロポリエーテル基、ポリフルオロアルキレン基及びポリフルオロアルキル基からなる群から選ばれる１つ以上の基を有するフッ素含有有機ケイ素化合物の具体例としては、下記一般式（I）〜（V）で表される化合物等が挙げられる。
【００４２】
【化１】
2018197183.tif 000003
式（I）中、Ｒｆは炭素数１〜１６の直鎖状のポリフルオロアルキル基（アルキル基として、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基等）、Ｘは水素原子又は炭素数１〜５の低級アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基等）、Ｒ１は加水分解可能な基（例えば、アミノ基、アルコキシ基等）又はハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等）、ｍは１〜５０、好ましくは１〜３０の整数、ｎは０〜２、好ましくは１〜２の整数、ｐは１〜１０、好ましくは１〜８の整数である。
【００４３】
【化２】
2018197183.tif 000004
式（II）中、ｑは１以上、好ましくは２〜２０の整数である。
【００４４】
一般式（ＩＩ）で表される化合物としては例えば、ｎ−トリフロロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）プロピルシラザン（ｎ−ＣＦ３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＮＨ２）３）、ｎ−ヘプタフロロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）ペンチルシラザン（ｎ−Ｃ３Ｆ７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＮＨ２）３）等を例示できる。
【００４５】
【化３】
2018197183.tif 000005
式（III）中、ｑは１以上、好ましくは１〜２０の整数である。
【００４６】
一般式（III）で表される化合物としては、２−（パーフルオロオクチル）エチルトリメトキシシラン（ｎ−Ｃ８Ｆ１７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）等を例示できる。
【００４７】
【化４】
2018197183.tif 000006
式（IV）中、Ｒｆ２は、−（ＯＣ３Ｆ６）ｓ−（ＯＣ２Ｆ４）ｔ−（ＯＣＦ２）ｕ−（ｓ、ｔ、ｕはそれぞれ独立に０〜２００の整数）で表わされる２価の直鎖状ポリフルオロポリエーテル基であり、Ｒ２、Ｒ３は、それぞれ独立に炭素原子数１〜８の一価炭化水素基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基等）である。Ｘ２、Ｘ３は独立に加水分解可能な基（例えば、アミノ基、アルコキシ基、アシロキシ基、アルケニルオキシ基、イソシアネート基等）またはハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）であり、ｄ、ｅは独立に１〜２の整数であり、ｃ、ｆは独立に１〜５（好ましくは１〜２）の整数であり、ａ、ｂは独立に２〜３である。
【００４８】
式（IV）のＲｆ２においてｓ＋ｔ＋ｕは、２０〜３００が好ましく、２５〜１００がより好ましい。また、Ｒ２、Ｒ３としては、メチル基、エチル基、ブチル基がより好ましい。Ｘ２、Ｘ３で示される加水分解性基としては、炭素数１〜６のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基、エトキシ基が特に好ましい。また、ａおよびｂはそれぞれ３が好ましい。
【００４９】
【化５】
2018197183.tif 000007
式（V）中、ｖは１〜３の整数であり、ｗ、ｙ、ｚはそれぞれ独立に０〜２００の整数であり、ｈは１または２であり、ｉは２〜２０の整数であり、Ｘ４は加水分解性基であり、Ｒ４は炭素数１〜２２の直鎖または分岐の炭化水素基であり、ｋは０〜２の整数である。ｗ＋ｙ＋ｚは、２０〜３００が好ましく、２５〜１００がより好ましい。また、ｉは２〜１０がより好ましい。Ｘ４は、炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基がより好ましい。Ｒ４としては、炭素数１〜１０のアルキル基がより好ましい。
【００５０】
また、市販されているポリフルオロポリエーテル基、ポリフルオロアルキレン基及びポリフルオロアルキル基からなる群から選ばれる１つ以上の基を有するフッ素含有有機ケイ素化合物として、ＫＰ−８０１（商品名、信越化学社製）、ＫＹ１７８（商品名、信越化学社製）、ＫＹ−１３０（商品名、信越化学社製）、ＫＹ−１８５（商品名、信越化学社製）オプツール（登録商標）ＤＳＸおよびオプツールＡＥＳ（いずれも商品名、ダイキン社製）などが好ましく使用できる。
【００５１】
なお、フッ素含有有機ケイ素化合物は、大気中の水分との反応による劣化抑制などのためにフッ素系溶媒等の溶媒と混合して保存されているのが一般的であるが、これらの溶媒を含んだまま成膜工程に供すると、得られた薄膜の耐久性等に悪影響を及ぼすことがある。
【００５２】
このため、本実施形態においては、加熱容器で加熱を行う前に予め溶媒除去処理を行ったフッ素含有有機ケイ素化合物、または、溶媒で希釈されていない（溶媒を添加していない）フッ素含有有機ケイ素化合物を用いることが好ましい。例えば、フッ素含有有機ケイ素化合物溶液中に含まれる溶媒の濃度として１ｍｏｌ％以下が好ましく、０．２ｍｏｌ％以下がより好ましい。溶媒を含まないフッ素含有有機ケイ素化合物が特に好ましい。
【００５３】
なお、上記フッ素含有有機ケイ素化合物を保存する際に用いられている溶媒としては、例えば、パーフルオロヘキサン、メタキシレンヘキサフルオライド（Ｃ６Ｈ４（ＣＦ３）２）、ハイドロフロオロポリエーテル、ＨＦＥ７２００／７１００（商品名、住友スリーエム社製、ＨＦＥ７２００はＣ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５、ＨＦＥ７１００はＣ４Ｆ９ＯＣＨ３で表わされる）等が挙げられる。
【００５４】
フッ素系溶媒を含むフッ素含有有機ケイ素化合物溶液からの溶媒（溶剤）の除去処理は、例えばフッ素含有有機ケイ素化合物溶液を入れた容器を真空排気により実施できる。
【００５５】
真空排気を行う時間については、排気ライン、真空ポンプ等の排気能力、溶液の量等により変化するため限定されるものではないが、例えば１０時間程度以上でもよい。
【００５６】
防汚膜５０の成膜方法は、特に限定されるものではないが、上記のような材料を用いて真空蒸着により成膜することが好ましい。
【００５７】
また、上記溶媒の除去処理は、防汚膜５０を成膜する成膜装置の加熱容器にフッ素含有有機ケイ素化合物溶液を導入後、昇温する前に室温で加熱容器内を真空排気で実施できる。また、加熱容器に導入する前に予めエバポレーター等により溶媒除去を実施してもよい。
【００５８】
ただし、前述の通り溶媒含有量が少ない、または含まないフッ素含有有機ケイ素化合物は溶媒を含んでいるものと比較して、大気と接触することにより劣化しやすい。
【００５９】
このため、溶媒含有量の少ない（または含まない）フッ素含有有機ケイ素化合物の保管容器は容器中を窒素等の不活性ガスで置換、密閉したものを使用し、取り扱う際には大気への暴露、接触時間が短くなるようにすることが好ましい。
【００６０】
具体的には、保管容器を開封後は直ちに防汚膜５０を成膜する成膜装置の加熱容器にフッ素含有有機ケイ素化合物を導入することが好ましい。そして、導入後は、加熱容器内を真空にするか、窒素、希ガス等の不活性ガスにより置換することにより、加熱容器内に含まれる大気（空気）を除去することが好ましい。大気と接触することなく保管容器（貯蔵容器）から本製造装置の加熱容器に導入できるように、例えば貯蔵容器と加熱容器とが、バルブ付きの配管により接続されていることがより好ましい。
【００６１】
そして、加熱容器にフッ素含有有機ケイ素化合物を導入後、容器内を真空または不活性ガスで置換した後には、直ちに成膜のための加熱を開始することが好ましい。
【００６２】
防汚膜５０の成膜方法として、本実施形態の説明では溶液または原液のフッ素含有有機ケイ素化合物を用いた例を述べたが、これには限定されない。他の方法として例えば、予めポーラスな金属（例えば、錫や銅）や繊維状金属（例えば、ステンレススチール）にフッ素含有有機ケイ素化合物を一定量含侵させた、いわゆる蒸着用ペレットが、市販されており（一例として、キャノンオプトロン社製のサーフクリア）、これを使用する方法がある。この場合、蒸着装置の容量や必要膜厚に応じた量のペレットを蒸着源として、簡便に防汚膜５０を成膜できる。
【００６３】
＜ガラス物品の特性＞
ガラス物品１０のマルテンス硬さは、ガラス物品１０の機能膜３０を上に向け、ガラス物品１０の上方から圧子を機能膜３０に押し込んで測定する。ガラス物品１０のマルテンス硬さは、ＩＳＯ１４５７７−１：２００２に準拠して測定する。
【００６４】
ガラス物品１０のマルテンス硬さは、好ましくは２．０ＧＰａ以上である。ガラス物品１０のマルテンス硬さが２．０ＧＰａ以上であると、十分な耐擦傷性が得られ、機能膜３０に擦り傷が付きにくい。
【００６５】
ガラス物品１０の鉛筆硬度は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４：１９９９（ＩＳＯ  １５１８４：１９９６）「引っかき硬度（鉛筆法）」に準じて測定する。
【００６６】
ガラス物品１０の鉛筆硬度は、好ましくは７Ｈ以上であり、より好ましくは８Ｈ以上であり、さらに好ましくは１０Ｈである。ガラス物品１０の鉛筆硬度が７Ｈ以上であると、十分な耐スクラッチ性（耐ひっかき性）が得られ、機能膜３０が破れにくい。なお、使用する鉛筆は、特に制限なく、例えば、三菱鉛筆株式会社製ユニ（登録商標）シリーズを使用できる。
【００６７】
ガラス物品１０の透過ヘイズは、ガラス物品１０をガラス板２０から機能膜３０に向けて透過する透過光のうち、前方散乱によって入射光から０．０４４ｒａｄ（２．５°）以上それた透過光の割合（百分率）である。透過ヘイズは、ＪＩＳ  Ｋ  ７１３６：２０００（ＩＳＯ  １４７８２：１９９９）に準拠して測定される。
【００６８】
ガラス物品１０の透過ヘイズは、２８％以下である。ガラス物品１０の透過ヘイズが２８％以下であると、表示領域１を構成する画素（赤色画素１Ｒ、緑色画素１Ｇ、青色画素１Ｂ）（図３参照）からの光が凹凸面２１を透過する際に凹凸面２１での散乱を抑制でき、画像のぼやけを抑制でき、画質の良好な画像を見ることができる。ガラス物品１０の透過ヘイズは、好ましくは２５％以下であり、より好ましくは２０％以下である。なお、図３では画素の並びが、赤色画素１Ｒ、緑色画素１Ｇ、青色画素１Ｂであるが、これに限られない。
【００６９】
機能膜３０の表面３１の凹凸形状は、レーザ顕微鏡を用いて測定する。測定する範囲は、視野面積が６００００μｍ２（３００μｍ×２００μｍ）の範囲である。ここで、視野面積とは、機能膜３０の表面３１を、その表面３１の最小二乗平面（最小二乗法で近似した平面）の法線に直交する平面に投影したときの投影面積を意味する。
【００７０】
機能膜３０の表面３１のポア代表径は、レーザ顕微鏡の測定結果に基づき、以下の手順で算出する。先ず、表面３１の各測定点の基準面からの高さを求める。基準面は、傾き補正がなされたものであり、表面３１の最小二乗平面に対し平行なものである。次いで、高さの累積分布（数基準）において累積数９０％に対応する高さを基準高さとする。基準高さは、測定点を高さの順番で並べ、高さの低いものから高さの高いものへ順番に測定点の累積数を数えたときに、その累積数が測定点の総数の９０％になるときの高さのことである。
【００７１】
次いで、レーザ顕微鏡の画像を、高さが基準高さを超える部分と、高さが基準高さ以下である部分とに二値化する。そうして、高さが基準高さ以下である部分をポアとする。ボアごとに、長手方向寸法（長径）および長手方向寸法に直交する方向の寸法（短径）を求め、長径および短径の二乗平均平方根（長径の二乗と短径の二乗との平均値の平方根）を算出する。算出した二乗平均平方根を、各ポアのポア径とする。
【００７２】
次いで、ポア径の累積分布（数基準）において累積数９０％に対応するポア径をポア代表径とする。ポア代表径は、ポアをポア径の順番で並べ、ポア径の小さいものからポア径の大きいものへ順番にポアの累積数を数えたときに、その累積数がポアの総数の９０％になるときのポア径のことである。
【００７３】
図３は、一実施形態によるガラス板の凹凸面のポア径と、画素の大きさとの関係を示す図である。図３に示すように、凹凸面２１のポア径Ａ２が画素（例えば緑色画素１Ｇ）の幅Ａ１の４倍よりも小さくなるように、凹凸面２１が形成される。この凹凸面２１上に機能膜３０が形成される。機能膜３０は十分に薄いため、機能膜３０の表面３１の凹凸形状とガラス板２０の凹凸面２１の凹凸形状とは略等しい。
【００７４】
機能膜３０の表面３１のポア代表径は、１２μｍ未満である。機能膜３０の表面のポア代表径が１２μｍ未満であると、画素（例えば緑色画素１Ｇ）の幅Ａ１が３μｍ以上である場合に、つまり、表示領域１の幅が１２μｍ以上である場合に、画像のぎらつきを抑制できる。機能膜３０の表面のポア代表径の下限値は特に制限はないが、例えば、３μｍ以上が好ましく、６μｍ以上がより好ましい。
【００７５】
尚、機能膜３０の表面３１のポア代表径は、画素（例えば緑色画素１Ｇ）の幅Ａ１の４倍よりも小さければよく、表示領域１の幅よりも小さければよい。
【００７６】
機能膜３０の表面３１のポア代表径は、ガラス板２０の凹凸面２１の加工性の観点から、例えば５μｍ以上であってよい。
【００７７】
機能膜３０の表面３１は、視野面積に対する表面積Ａ（μｍ２）の面積比（Ａ／６００００）が１．０２以上１．０７以下である。表面積Ａは表面の凹凸形状を加味した面積のことであり、面積比（Ａ／６００００）はポアを囲むリッジの数や鋭さを表す。面積比（Ａ／６００００）が大きいほど、リッジが多く鋭くなる。
【００７８】
機能膜３０の表面３１の面積比（Ａ／６００００）が１．０７以下であると、表面３１のリッジの数や鋭さが緩和され、引っ掻き傷の発生が抑制でき、鉛筆硬度で７Ｈ以上の耐スクラッチ性が得られる。
【００７９】
機能膜３０の表面３１の面積比（Ａ／６００００）が１．０６以下であると、表面３１のリッジの数や鋭さがさらに緩和され、引っ掻き傷の発生がさらに抑制でき、鉛筆硬度で９Ｈ以上の耐スクラッチ性が得られる。
【００８０】
一方、機能膜３０の表面３１の面積比（Ａ／６００００）が１．０２以上であると、表面３１のリッジによって、外光が十分に拡散反射される。よって、外光の映り込みを抑制でき、画像の視認性を向上できる。
【００８１】
機能膜３０の表面３１は、上述の如く、ポア代表径が１２μｍ未満であって、且つ、面積比（Ａ／６００００）が１．０２以上１．０７以下である。また、上述の如く、機能膜３０の表面３１の凹凸形状と、ガラス板２０の凹凸面２１の凹凸形状とは略等しい。従って、ガラス板２０の凹凸面２１は、ポア代表径が１２μｍ未満であって、且つ、面積比（Ａ／６００００）が１．０２以上１．０７以下である。
【００８２】
ガラス板２０の凹凸面２１は、凹凸加工処理によって形成される。凹凸加工処理としては、例えば、１次エッチング処理（以下、「フロスト処理」とも呼ぶ。）と、２次エッチング処理とが行われる。
【００８３】
フロスト処理では、特許文献１とは異なり、フッ化水素とフッ化カリウムの混合溶液を、ガラス板２０のエッチング液として用いる。
【００８４】
フッ化水素は、下記反応式（VI）に示すように、ガラスのＳｉＯ２成分と反応し、エッチング液中にＳｉＦ６イオンを溶出させる。
【００８５】
【化６】
2018197183.tif 000008
一方、フッ化カリウムは、下記反応式（VII）に示すように、エッチング液中に溶出したＳｉＦ６イオンと結合し、ガラス表面にＫ２ＳｉＦ６を析出させる。
【００８６】
【化７】
2018197183.tif 000009
ガラス表面に析出したＫ２ＳｉＦ６は、フッ化水素に対し難溶性であるため、フッ化水素によるエッチングからガラスを保護するマスクとして機能する。マスクで覆われていない部分のガラス表面が選択的にエッチングされる。結果としてガラス表面には凹凸形状が形成される。
【００８７】
尚、特許文献１では、フロスト処理において、フッ化水素とフッ化アンモニウムの混合溶液を、ガラス板のエッチング液として用いる。
【００８８】
フッ化アンモニウムは、下記反応式（VIII）に示すように、エッチング液中に溶出したＳｉＦ６イオンと結合し、ガラス表面に（ＮＨ４）２ＳｉＦ６を析出させる。
【００８９】
【化８】
2018197183.tif 000010
ガラス表面に析出した（ＮＨ４）２ＳｉＦ６は、フッ化水素に対し難溶性であるため、フッ化水素によるエッチングからガラスを保護するマスクとして機能する。マスクで覆われていない部分のガラス表面が選択的にエッチングされる。結果としてガラス表面には凹凸形状が形成される。
【００９０】
本実施形態のようにフッ化カリウムをマスク剤として用いる場合、特許文献１のようにフッ化アンモニウムをマスク剤として用いる場合に比べて、マスクの析出速度が速い。そのため、マスクがガラス表面を素早く覆うため、ガラス表面に微細なポアが形成されやすい。
【００９１】
図４は、一実施形態によるフロスト処理で得られたガラス表面を示す顕微鏡写真である。図４のフロスト処理には、フッ化カリウムをマスク剤として含むエッチング液を用いた。図５は、従来例によるフロスト処理で得られたガラス表面を示す顕微鏡写真である。図５のフロスト処理には、フッ化アンモニウムをマスク剤として含むエッチング液を用いた。
【００９２】
図４および図５を対比すれば明らかなように、フッ化カリウムをマスク剤として用いることで、フッ化アンモニウムをマスク剤として用いる場合に比べて、フロスト処理で得られるポアを微細化できることがわかる。
【００９３】
尚、析出物の析出速度は、フッ化カリウムとフッ化水素の濃度比でも調整可能である。
【００９４】
２次エッチングでは、特許文献１と同様に、フッ化水素を主成分とする溶液を、ガラス板２０のエッチング液として用いる。このエッチング液は、フッ化水素以外の成分として、塩酸・硝酸・クエン酸などを含有してもよい。これらの酸を含有することで、ガラス板２０のアルカリ成分とフッ化水素とが反応して析出反応が局所的におきることを抑えることができ、エッチングを面内で均一に進行させることができる。
【００９５】
図６は、図４のフロスト処理に続く２次エッチング処理で得られたガラス表面を示す顕微鏡写真である。図７は、図５のフロスト処理に続く２次エッチング処理で得られたガラス表面を示す顕微鏡写真である。図６の２次エッチング処理と図７の２次エッチング処理とでは、同じエッチング液を用いた。
【００９６】
図６および図７を対比すれば明らかなように、２次エッチング処理で得られるガラス表面の凹凸形状は、フロスト処理で得られるガラス表面の凹凸形状に大きく依存することがわかる。
【００９７】
本実施形態では、フロスト処理においてフッ化カリウムをマスク剤として含むエッチング液を用いることで、フロスト処理で得られるポアを微細化できる。そのポア代表径は緑色画素１Ｇの幅Ａ１の４倍よりも小さいため、良好な画像のぎらつき抑止性が得られる。また、ポアを囲むリッジが多くて鋭いため、リッジで外光が拡散反射され、良好な防眩性が得られる。
【００９８】
フロスト処理で得られたガラス表面は、ポア代表径が緑色画素１Ｇの幅Ａ１の４倍よりも十分に小さく、ポア代表径はもう少し大きくても問題ない。一方で、フロスト処理で得られたガラス表面は、リッジが多過ぎたり鋭過ぎたりする。そこで、フロスト処理に続いて、２次エッチング処理が行われる。
【００９９】
２次エッチング処理では、リッジの数が減ったりリッジの鋭さが鈍くなったりするため、緑色画素１Ｇの光が凹凸面２１を透過するときの散乱（透過ヘイズ）を低減でき、画像のぼやけを低減でき、良好な画質が得られる。また、リッジの数が減ったりリッジの鋭さが鈍くなったりすることで、良好な耐スクラッチ性が得られる。
【０１００】
このようにして、透過ヘイズが２８％以下であり、ポア代表径が１２μｍ未満であり、且つ面積比（Ａ／６００００）が１．０２以上１．０７以下である凹凸面２１が形成される。これにより、画像のぎらつき抑止、防眩性、耐スクラッチ性および画質のそれぞれについて良好な性能を得ることができる。
【実施例】
【０１０１】
例１〜例１５では、フロスト処理の条件、２次エッチング処理の処理時間、化学強化処理の有無、防汚膜の有無以外、同じ条件で、ガラス板と機能膜とからなるガラス物品を製造し、評価を行った。例１〜例８は実施例、例９〜例１５は比較例である。
【０１０２】
（１）ガラス物品の製造
［例１］アルミノシリケートガラスで形成されるガラス板の一方の主表面に、フロスト処理および２次エッチング処理によって凹凸面を形成した。フロスト処理では、フッ化水素とフッ化カリウムを１：１．２５の質量比で混合した混合水溶液に、ガラス板の全体を浸漬した。続く２次エッチング処理では、フッ化水素を主成分とする水溶液にガラス板の全体を浸漬した。ガラス板のフロスト処理および２次エッチング処理を施さない部分には、予め保護フィルムで被覆した。その後、保護フィルムの剥離や洗浄を行い、化学強化処理にガラス板を供した。
【０１０３】
化学強化処理は、ガラス板の全体を、Ｋイオンを含む溶融塩に４５０℃で８０分間浸漬することにより行った。化学強化処理の後、ガラス板の凹凸面には、機能膜として、低反射膜と防汚膜をこの順で成膜した。
【０１０４】
低反射膜は、ガラス板の凹凸面に以下のように形成した。まず、アルゴンガスに１０体積％の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、酸化ニオブターゲット（ＡＧＣセラミックス社製、商品名ＮＢＯターゲット）を用いて、圧力０．３Ｐａ、周波数２０ｋＨｚ、電力密度３．８Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅５μｓｅｃの条件でパルススパッタリングを行い、ガラス板の凹凸面上に、厚さ１３ｎｍの酸化ニオブ（ニオビア）からなる高屈折率層を形成した。
【０１０５】
次いで、アルゴンガスに４０体積％の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、シリコンターゲットを用いて、圧力０．３Ｐａ、周波数２０ｋＨｚ、電力密度３．８Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅５μｓｅｃの条件でパルス幅５μｓｅｃの条件でパルススパッタリングを行い、前記高屈折率層上に厚さ３０ｎｍの酸化ケイ素（シリカ）からなる低屈折率層を形成した。
【０１０６】
次いでアルゴンガスに１０体積％の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、酸化ニオブターゲット（ＡＧＣセラミックス社製、商品名ＮＢＯターゲット）を用いて、圧力０．３Ｐａ、周波数２０ｋＨｚ、電力密度３．８Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅５μｓｅｃの条件でパルススパッタリングを行い、前記低屈折率層上に厚さ１１０ｎｍの酸化ニオブ（ニオビア）からなる高屈折率層を形成した。
【０１０７】
次いで、アルゴンガスに４０体積％の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、シリコンターゲットを用いて、圧力０．３Ｐａ、周波数２０ｋＨｚ、電力密度３．８Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅５μｓｅｃの条件でパルス幅５μｓｅｃの条件でパルススパッタリングを行い、厚さ９０ｎｍの酸化ケイ素（シリカ）からなる低屈折率層を形成した。
【０１０８】
このようにして、酸化ニオブ（ニオビア）と酸化ケイ素（シリカ）が総計４層積層された低反射膜を形成した。
【０１０９】
防汚膜は、低反射膜上に以下のように形成した。まず、蒸着材料として、フッ素含有有機ケイ素化合物（信越化学社製、商品名：ＫＹ−１８５）を加熱容器内に導入した。その後、加熱容器内を真空ポンプで１０時間以上脱気して溶液中の溶媒除去を行ってフッ素含有有機ケイ素化合物被膜形成用の組成物とした。
【０１１０】
次いで、上記フッ素含有有機ケイ素化合物膜形成用の組成物が入った加熱容器を２７０℃まで加熱した。２７０℃に到達した後、温度が安定するまで１０分間その状態を保持した。
【０１１１】
そして、真空チャンバ内に設置したガラス板の凹凸面に対して、前記フッ素含有有機ケイ素化合物膜形成用の組成物が入った加熱容器と接続されたノズルから、フッ素含有有機ケイ素化合物膜形成用の組成物を供給し、成膜を行った。
【０１１２】
成膜の際には、真空チャンバ内に設置した水晶振動子モニタにより膜厚を測定しながら行い、ガラス板上に形成したフッ素含有有機ケイ素化合物膜の膜厚が１０ｎｍになるまで成膜を行った。
【０１１３】
フッ素含有有機ケイ素化合物膜が１０ｎｍになった時点でノズルから原料の供給を停止し、真空チャンバからフッ素含有有機ケイ素化合物膜が形成されたガラス板を取り出した。
【０１１４】
取り出されたフッ素含有有機ケイ素化合物膜が形成されたガラス板は、ホットプレートに膜面を上向きにして設置し、大気中で１５０℃、６０分間熱処理を行った。
【０１１５】
［例２］
機能膜として、低反射膜のみを形成し、防汚膜を形成しなかった以外、例１と同様にして、ガラス物品を製造した。
【０１１６】
［例３］
凹凸加工処理後に、化学強化処理を行わずに、機能膜を形成した以外、例１と同様にしてガラス物品を製造した。
【０１１７】
［例４］
フロスト処理においてマスク剤（フッ化カリウム）とフッ化水素の質量比（マスク剤／フッ化水素）を１．２０に低下させた以外、例１と同様にしてガラス物品を製造した。
【０１１８】
［例５］
フロスト処理においてマスク剤（フッ化カリウム）とフッ化水素の質量比（マスク剤／フッ化水素）を１．１５に低下させた以外、例１と同様にしてガラス物品を製造した。
【０１１９】
［例６］
ガラス物品の透過ヘイズが１６．９に下がるように、２次エッチング処理の処理時間を長くした以外、例１と同様にしてガラス物品を製造した。
【０１２０】
［例７］
ガラス物品の透過ヘイズが５．４にさらに下がるように、２次エッチング処理の処理時間をさらに長くした以外、例６と同様にしてガラス物品を製造した。
【０１２１】
［例８］
ガラス物品の透過ヘイズが２．２にさらに下がるように、２次エッチング処理の処理時間をさらに長くした以外、例７と同様にしてガラス物品を製造した。
【０１２２】
［例９］
フロスト処理においてマスク剤として、フッ化カリウムではなく、フッ化アンモニウムを用いた以外、例１と同様にしてガラス物品を製造した。
【０１２３】
［例１０］
機能膜として、低反射膜のみを形成し、防汚膜を形成しなかった以外、例９と同様にして、ガラス物品を製造した。
【０１２４】
［例１１］
ガラス物品の透過ヘイズが３．７に上がるように、２次エッチング処理の処理時間を短くした以外、例９と同様にしてガラス物品を製造した。
【０１２５】
［例１２］
フロスト処理においてマスク剤（フッ化カリウム）とフッ化水素の質量比（マスク剤／フッ化水素）を２．００に上昇させた以外、例１と同様にしてガラス物品を製造した。
【０１２６】
［例１３］
ガラス物品の透過ヘイズが３９．７に上がるように、２次エッチング処理の処理時間を短くした以外、例１２と同様にしてガラス物品を製造した。
【０１２７】
［例１４］
ガラス物品の透過ヘイズが５４．３に上がるように、２次エッチング処理の処理時間をさらに短くした以外、例１３と同様にしてガラス物品を製造した。
【０１２８】
［例１５］
ガラス物品の透過ヘイズが７４．１に上がるように、２次エッチング処理の処理時間をさらに短くした以外、例１４と同様にしてガラス物品を製造した。
【０１２９】
［例１６］
ガラス板にフロスト処理および２次エッチング処理をせず、それ以外は例１と同様にしてガラス物品を製造した。
【０１３０】
（２）評価方法
例１〜例１６で製造したガラス物品の特性の評価方法について説明する。
【０１３１】
［測定点］
図８は、例１〜例１６で製造したガラス物品の特性を測定する測定点を示す平面図である。図８に示すように、ガラス物品の特性は、機能膜の表面上の４つの測定点Ｐ１〜Ｐ４で測定し、それらの測定値の平均値を表１に示した。４つの測定点Ｐ１〜Ｐ４は、ガラス物品を長手方向（Ｘ方向）に３等分する２つの線と、ガラス物品を長手方向に直交する幅方向（Ｙ方向）に３等分する２つの線との交点とした。
【０１３２】
［透過ヘイズ］
透過へイズは、ヘイズメーター（スガ試験機株式会社製、型式：ＨＺ−Ｖ３）を用いてＪＩＳ  Ｋ  ７１３６：２０００（ＩＳＯ  １４７８２：１９９９）に準拠して測定した。
【０１３３】
［機能膜の表面の凹凸形状の測定］
機能膜の表面の凹凸形状は、レーザ顕微鏡（キーエンス社製、商品名：ＶＫ−９７００）を用いて５０倍の倍率で測定した。測定結果に基づき、ポア代表径と、面積比（Ａ／６００００）とを算出した。
【０１３４】
［画像のぎらつき］
画像のぎらつきは、画面全体を緑色表示させた画像表示装置の上にガラス物品を設置し、目視で評価した。画像表示装置としては、ピクセル解像度が２６４ｐｐｉのＬＣＤを用いた。緑色画素の幅は３．２μｍであった。
【０１３５】
尚、評価結果を示す下記の表１において、「少」とは画像のぎらつきが少ないと目視で認められたことを意味し、「多」とは画像のぎらつきが多いと目視で認められたことを意味する。
【０１３６】
［画質（画像のぼやけ）］
画質は、水平に配置したバーチャート（大日本印刷社製、高精細度解像度チャートＩ型）の上面に厚さ３ｃｍのスペーサを介して測定対象のガラス物品を水平に設置し、ガラス物品を介してバーチャートのパターンを観察し、２０００ＴＶ本の黒色線が個々に判別可能かどうかで評価した。尚、評価結果を示す下記の表１において、「良」とは黒色線が個々に判別可能であったことを意味し、「可」とは黒色線が個々に判別可能ではあったが、輪郭が不明瞭であったことを意味し、「不可」とは黒色線が個々に判別不可能であったことを意味する。
【０１３７】
［防眩性］
防眩性は、水平に配置したピクセル解像度が２６４ｐｐｉのＬＣＤの上にガラス物品を水平に設置し、ガラス物品の上方に設置した蛍光灯から１５００ｌｘの強さの光をガラス物品に照射した際に、ＬＣＤに表示された画像をガラス物品を介して認識可能かで評価した。尚、評価結果を示す下記の表１において、「可」とは表示された画像が認識可能であったことを意味し、「不可」とは表示された画像を認識するのが難しかったことを意味する。
【０１３８】
［鉛筆硬度］
鉛筆硬度は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４：１９９９（ＩＳＯ  １５１８４：１９９６）「引っかき硬度（鉛筆法）」に準じて測定した。
【０１３９】
［マルテンス硬さ］
マルテンス硬さは、ピコデンター（フィッシャーインストルメンツ社製、型式：Ｈｍ５００）を用いて測定した。ガラス物品は機能膜を上に向けてセットし、圧子はガラス物品の上方から押し込んだ。測定荷重は０．０３ｍＮ／５ｓｅｃとした。つまり、５秒かけて測定荷重をゼロから０．０３ｍＮまで増加させ、次いで測定荷重を０．０３ｍＮで５秒間保持し、最後に測定荷重を０．０３ｍＮからゼロまで減少させた。
【０１４０】
（３）評価結果
例１〜例１６で製造したガラス物品の評価結果を、製造条件と共に表１に示す。また、例１〜例１５で製造したガラス物品の面積比（Ａ／６００００）と鉛筆硬度との関係を図９に示す。
【０１４１】
【表１】
2018197183.tif 000011
表１に示すように、例１〜例８では、フロスト処理のマスク剤としてフッ化カリウムを用いることでフロスト処理によって得られるポアの微細化を図り、その後、２次エッチング処理でリッジの数や鋭さを適正化した。その結果、透過ヘイズは２８％以下であり、画像のぼやけを抑止でき、画質が良好であった。ポア代表径は１２μｍ未満であって緑色画素の幅３．２μｍの４倍よりも小さく、画像ぎらつきが少なかった。また、面積比（Ａ／６００００）は１．０２以上であって、防眩性が良好であった。さらに、面積比（Ａ／６００００）は１．０７以下であっため、鉛筆硬度が７Ｈ以上であり、耐スクラッチ性が良好であった。
【０１４２】
一方、例９〜例１１では、例１〜例８とは異なり、フロスト処理のマスク剤としてフッ化アンモニウムを用いた。その結果、ポア代表径は１２μｍ以上であって緑色画素の幅３．２μｍの４倍よりも大きく、画像ぎらつきが多かった。また、面積比（Ａ／６００００）は１．０２未満であって、防眩性が不良であった。
【０１４３】
一方、例１２〜例１５では、例１〜例８と同様にフロスト処理のマスク剤としてフッ化カリウムを用いたが、２次エッチング処理でリッジの数や鋭さを適正化が十分でなかった。その結果、透過ヘイズは２８％を超え、画像が例１〜例８に比較してぼやけており、画質が不良であった。また、面積比（Ａ／６００００）は１．０７を超え、鉛筆硬度が７Ｈ未満であり、耐スクラッチ性が不良であった。
【０１４４】
また、例１６では、ガラス板にフロスト処理および２次エッチング処理をしていないので、蛍光灯の光が映り込み、ＬＣＤに表示された画像を認識することが困難であり、防眩性が不良であった。
【０１４５】
以上、ガラス物品の実施形態などを説明したが、本発明は上記実施形態などに限定されず、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形、改良が可能である。
【符号の説明】
【０１４６】
１０  ガラス物品
２０  ガラス板
２１  凹凸面
３０  機能膜
３１  表面
４０  低反射膜
５０  防汚膜
【図１】
2018197183.tif 000012
【図２】
2018197183.tif 000013
【図３】
2018197183.tif 000014
【図４】
2018197183.tif 000015
【図５】
2018197183.tif 000016
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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