(57)【要約】      （修正有）【課題】微粒子がフォトマスク及び搭載面の間に移動することの低減、或いは微粒子がフォトマスク上に移動し、汚染をする機会を低減する極紫外線フォトマスクポッドを提供する。【解決手段】ベース２１は、上表面２１０と枠縁２１５を有し、上表面は、複数個の凸出した定位部２１４を設け、フォトマスクを搭載する位置を定義している。枠縁は上表面と連接し、囲繞している。上表面は、搭載面２１１、スリット２１２、第一接面２１３を包含し、スリットは連続環状構造であり、スリットの底部は搭載面よりも低く、搭載面、スリット、第一接面の順で上表面の内側に枠縁に向かって設置される。【選択図】図２
2018120221.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外部ケースと内部ケースからなり、前記外部ケースは互いに対応するケース上部とケース下部を包括し、前記内部ケースを収容するために用いられる収容空間を定義し、前記内部ケースは、
上表面と枠縁とを有し、前記上表面にフォトマスク搭載位置を定義する凸出した複数の定位部を設け、前記枠縁が前記上表面と連接且つ囲繞しているベースと、
前記ベースと当接するために用いられ、並びに凹チャンバーと第二接面とを有し、前記凹チャンバーは、前記極紫外線フォトマスクを収容するために用いられ、前記第二接面と、前記第一接面とは互いに対応し、密閉状態を形成する上蓋と、を包括し、前記上表面は、
極紫外線フォトマスクをフォトマスク搭載位置に設置するために用いる搭載面と、
連続環状構造を有し、その底部が前記搭載面より低いスリットと、
前記第一接面と、を包含し、前記搭載面、前記スリット、前記第一接面の順で前記上表面の内側に前記枠縁に向かって配置されていることを特徴とする極紫外線フォトマスクポッド。
【請求項２】
前記スリットは完全連続的に前記搭載面を囲繞しており、前記第一接面は、完全連続的に前記スリットを囲繞していることを特徴とする請求項１に記載の極紫外線フォトマスクポッド。
【請求項３】
前記上表面にそれぞれ連続環状構造である複数の前記スリットを包含し、これらのスリットは、前記搭載面と前記第一接面との間に位置し、且つすべての前記スリットは個別で前記定位部を囲繞することを特徴とする請求項１に記載の極紫外線フォトマスクポッド。
【請求項４】
前記第一接面が、前記搭載面より低く、前記スリットの底部も、前記第一接面より低いことを特徴とする請求項１に記載の極紫外線フォトマスクポッド。
【請求項５】
前記上表面は、少なくとも１つの収容溝を包含し、前記スリットと連通し、前記収容溝の底部は前記スリットの底部より低いことを特徴とする請求項１に記載の極紫外線フォトマスクポッド。
【請求項６】
前記搭載面と平行であり、前記収容溝の横幅が、前記スリットよりも広いことを特徴とする請求項５に記載の極紫外線フォトマスクポッド。
【請求項７】
前記上蓋は、前記凹チャンバーと前記第二接面との間に位置する降格面を有し、前記降格面と前記第二接面は、異なる水平面上に位置し、前記ベースにある前記上表面と隙間を形成していることを特徴とする請求項１に記載の極紫外線フォトマスクポッド。
【請求項８】
前記上蓋に複数の弾性部を設け、前記定位部の位置に対応して配置され、前記上蓋と前記ベースが当接し、前記内部ケースが収容空間内に収容される際、前記極紫外線フォトマスクと当接並びに押し上げることを特徴とする請求項１に記載の極紫外線フォトマスクポッド。
【請求項９】
前記上蓋は、複数の導引ブロックを包含し、前記上蓋と前記ベースが当接する際、前記ベースに向かって延伸する方式で前記上蓋に設置され、前記ベースにある前記枠縁に弾性当接するために用いることを特徴とする請求項１に記載の極紫外線フォトマスクポッド。
【請求項１０】
前記ベースは、前記スリット内に仕切部を包含し、前記上蓋と前記ベースが当接する際、前記仕切り部の頂部が前記第二接面と隙間なく当接することを特徴とする請求項１に記載の極紫外線フォトマスクポッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願発明はフォトマスクポットであって、とりわけ二重収容構造を有する極紫外線フォトマスクポッド関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年半導体製造技術が飛躍的に進歩しており、その中でもフォトリソグラフィ技術が重要な役割を果たしている。フォトリソグラフィ技術は設計された回路を特定の形状でフォトマクスを透過できるようし製作し、フォトマクス上のパターンをウエハ上に光源投影した後、ウエハによって特定のパターンを露光する。
【０００３】
フォトリソグラフィ過程中において、例えば埃や粉塵或いは有機物などの、フォトマスクに付着した微粒子は投影画質を劣化させてしまう。特に近年の業界の傾向はより小型で高論理密度のチップの開発に向けられており、リソグラフィ装置によって使用される光波長は極紫外線（Extreme  Ultraviolet  Light,EUV）範囲にまで進んでおり、フォトマスク上の微粒子の数、粒子サイズ、更にはフォトマスクが収容されているフォトマスクポッドの清浄度など、これはより厳しい要求をされている。
【０００４】
一般的に、半導体制作過程では抗汚染フォトマスクポッドを使用してフォトマスクを保存及び搬送することで、フォトマスクの清浄度を維持しており、通常フォトマスク或いは他の半導体部品用の容器は、SMIF標準(Standard  Mechanical  Interface, SMIF)に適した清浄度を要求される。しかしながら従来のフォトマスクポッドでは、たとえ管理された環境下であっても、気圧の変化或いは、容器移動によって内部の空気を乱し、微粒子をフォトマスクと容器との間まで移動し、フォトマスク上へ付着させてしまい、フォトマスクへの微粒子及び汚染の防止を効果的に提供することが出来ない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記に鑑み、本願発明は、連続環状構造のスリットを利用し、微粒子を捕獲或いは収容することで、微粒子がフォトマスク及び搭載面の間に移動すること低減、或いは微粒子がフォトマスク上に移動し、汚染をする機会を低減している。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本願発明は、外部ケースと内部ケースを包含し、前記外部ケースは互いに対応するケース上部とケース下部を包有し、収容空間を定義しており、前記内部ケースを収容するために用いられる。前記内部ケースはベースと上蓋を有している。前記ベースは、上表面と枠縁を有し、前記上表面は、複数個の凸出した定位部を設け、フォトマスクを搭載する位置を定義している。前記枠縁は前記上表面と連接し、囲繞している。前記上表面は、搭載面、スリット、第一接面を包含している。前記極紫外線フォトマスクポッドは、フォトマスク搭載位置に設置するために用いられ、搭載面上に搭載される。前記スリットは連続環状構造であり、前記スリットの底部は前記搭載面よりも低い。前記搭載面、前記スリット、前記第一接面の順で前記上表面の内側に前記枠縁に向かって設置される。前記上蓋は、前記ベースと当接するために用いられ、凹チャンバーと第二接面を有している。前記凹チャンバーはフォトマスクを収容し、前記第二接面と前記第一接面は互いに対応することで、密閉状態を形成している。
【０００７】
実施例において、前記スリット連続的に前記搭載面を囲繞し、前記第一接面は前記スリットを完全に連続的に囲繞する。
【０００８】
その他の実施例において、前記上表面は複数の前記スリットを包含し、それぞれ連続環状構造であり、前記スリットは、前記第一接面と前記搭載面の間に位置し、それぞれ定位部を囲繞している。
【０００９】
その他実施例において、前記第一接面は前記搭載面より低く、前記スリット部の底部は第一接面よりも低い。
【００１０】
その他実施例において、前記上表面に前記スリットと連接する少なくとも一つの収容溝を包含し、前記収容溝の底部は前記スリットの底部より低く、前記搭載面に対して平行であり、前記収容溝の横幅は前記スリットより広い。
【００１１】
その他の実施例において、前記上蓋は更に降格面を包含し、前記凹チャンバーと前記第二接面との間に位置し、前記降格面と前記第二接面は異なる平面上にあり、前記ベースの前記上表面との間に隙間を形成するために用いられる。
【００１２】
その他の実施例において、前記上蓋は複数の弾性部を設け、前記定位部の位置に対応して設置され、前記上蓋と前記ベースが当接する際に、前記内部ケースを収容空間内に収容する際、前記極紫外線フォトマスクを当接並びに押し上げることで収容している。
【００１３】
その他の実施例において、前記上蓋は複数の導引ブロックを設け、前記上蓋と前記ベースが当接する際、前記ベースに向かって延伸する方式で前記上蓋に設置し、前記ベースの枠縁に弾性当接している。
【００１４】
その他の実施例において、前記ベースは仕切部を包含し、前記スリット内に設置され、前記上蓋と前記ベースが当接する際、仕切部の頂部が前記第二接面と隙間なく接触できる。
【発明の効果】
【００１５】
本願発明の極紫外線フォトマスクポッドは、前記ベースにある前記上表面の内側に、搭載面、スリット、第一接面の順で配置され、連続環状構造の前記スリットが前記搭載と前記第一接面との間に位置することで、微粒子を捕獲或いは収容でき、微粒子が前記搭載面と前記フォトマスクとの間に移動或いは、フォトマスク上に移動する機会を大きく低減しており、微粒子がフォトマスクを汚染させづらくしている。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本願発明に係る極紫外線フォトマスクポッドの分解立体図である。
【図２】本願発明に係る図１のベース立体図である。
【図３】本願発明に係る図１の内部ケース及び極紫外線フォトマスクの部分断面図である。
【図４】本願発明に係る図３のベース上に仕切り部を設けた場合の側面断面図である。
【図５】本願発明に係る図２のベースの側面断面図である。
【図６】本願発明に係る図１の上蓋立体図である。
【図７】本願発明に係る図１の上蓋の斜視立体図である。
【図８】本願発明に係る実施例における搭載面、スリット、第一接面指示図である。
【図９】本願発明に係るもう一つの実施例における搭載面、スリット、第一接面指示図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本願発明に係る極紫外線フォトマスクポッドの実施例は、ベースと上蓋を有し、前記ベース上に微粒子を捕獲或いは収容するために用いられる連続環状のスリットがあり、微粒子がスリットを離れ、容置された極紫外線フォトマスクと接触並びに汚染することを回避し、極紫外線フォトマスクが微粒子により汚染される確率の低減に助力している。その他に、本願発明に係る実施図では、本願発明をより明確に理解するため、実際の寸法比率に合わせて制作しておらず、省略或いは簡易化したユニットも含まれている。
【００１８】
図１を参照すると、本願発明に係る実施例における極紫外線フォトマスクポッドの分解立体図を示している。極紫外線フォトマスクポッド１は、極紫外線フォトマスクRを容置するために用いられ、前記極紫外線フォトマスクポッド１は、外部ケース１０と内部ケース２０とを包括し、前記外部ケース１０は、互いに対応するケース上部１１とケース下部１２とを包含し、収容空間１３を定義しており、前記内部ケース２０を収容するために用いられる。
【００１９】
実施例に係る前記外部ケース１０は、前記ケース上部１１と前記ケース下部１２とはおおよそ長方形であり、両者が当接する際、密閉状態を形成でき、前記外部ケース１０と収容空間１３を区別するために用いられる。前記ケース上部１１と前記ケース下部１２とは、一つ或いは複数のバルブ（図示していない）を包括することができ、且つ前記バルブの位置に対応して、濾紙などの濾過材を設置し、気体が収容空間１３を進入或いは退去する際、気体の清潔度を保つために用いられる。前記ケース上部１１は、前記ケース上部１１と前記ケース下部１２が当接する際、両者を対応する位置に、或いは前記内部ケース２０を正しい位置に導くために用いる複数の導引部（図示していない）を包含することもできる。前記ケース下部１２は、前記内部ケース２０を支持するために用いる複数個の支持部（図示していない）を包含することもできる。これらの部品は必要に応じて配置することができ、本願発明はこれに制限されない。
【００２０】
図１と図２を参照すると、図２は図１中のベース立体図を開示している。本願発明に係る実施例において、前記内部ケース２０は、ベース２１及び上蓋２２を包含している。前記ベースは上表面２１０と枠縁２１５とを有し、前記枠縁２１５は前記ベース２１の側壁であって、前記上表面２１０を連接且つ囲繞している。前記上表面２１０は前記ベース２１が前記上蓋２２に向かって上向きの表面であり、複数個の凸出する定位部２１４を設けている。
【００２１】
前記定位部２１４は、前記ベース２１と異なる素材からできており、例えば前記ベース２１をアルミ或いはその他の金属または合金から作成し、前記定位部２１４は耐摩プラスチック等の低微粒子材料から製作される。前記定位部２１４は例えば、固着する方法によって前記ベース２１上に固定することができ、且つ前記上表面２１０から突出している。その他に、前記定位部２１４は長方形の前記極紫外線フォトマスクRの四つ角に対応して配置し、前記極紫外線フォトマスクRの位置を導引するために各前記定位部２１４は導引斜面を有することができる。前記定位部２１４の位置により、前記ベース２１上に前記極紫外線フォトマスクRのフォトマスク搭載位置２３を定義することができる。しかしながら、前記定位部２１４の構造、数量、固定方式、配置方法は図２に開示している状態に限らず、前記ベース２１上に前記フォトマスク搭載位置２３を定義できるものであれば、本願発明に係る前記定位部２１４に属する。
【００２２】
前記ベース２１にある前記上表面２１０は、搭載面２１１と、スリット２１２と第一接面２１３とを包含し、本願発明に係る実施例において、前記搭載面２１１と、前記スリット２１２と、前記第一接面２１３は、前記上表面２１０の内側から前記枠縁２１５に向かって配置されている。つまり、前記上表面２１０の中心から外に向かって前記搭載面２１１、前記スリット２１２、前記第一接面２１３の順で設置される。前記極紫外線フォトマスクRは前記フォトマスク搭載位置２３に設置するために用いられ、前記搭載面２１１上に搭載される。前記スリット２１２は、連続環状構造であって、且つ前記スリット２１２の底部は前記搭載面２１１より低い。本願実施例において、前記搭載面２１１はおおよそ平面であり、前記スリット２１２は完全連続に前記搭載面２１１を囲繞して周りを囲うような前記スリット２１２を形成しており、図２を参照すると、前記第一接面２１３は完全連続に前記スリット２１２の外側を囲繞している。
【００２３】
図２と図３を参照すると、図３は図１に係る内部ケース及び極紫外線フォトマスクの部分断面図を開示している。図３は、内部ケース２０及び収納されている極紫外線フォトマスクRの部分断面図を示しており、図３の左側は前記搭載面２１１中央位置に近い側であり、図３の右側は前記内部ケース２０の縁（つまりは前記枠縁２１５の近い位置）としている。前記上表面２１０は中心から外（図３の左側から右側）へ前記搭載面２１１、前記スリット２１２、第一接面２１３の順に設置されている。前記第一接面２１３は前記搭載面２１１より低く、前記スリット２１２の底部は前記第一接面２１３よりも低い。前記スリット２１２は、下方に凹む構造であり、前記スリット２１２の底部からすると、前記スリット２１２と前記搭載面２１１とが連接する側壁の高さが、前記スリット２１２と前記第一接面２１３とが連接する側壁の高さより高い。その他に、前記スリット２１２の両側の側壁と底部の間はR角（丸角）設計ではなく、鋭角であり、実際応用する際も、R角（丸角）はあまり使用されない。
【００２４】
前記スリット２１２は、微粒子を捕獲或いは収容するために設計であり、更に詳細に言うと、前記スリット２１２内の微粒子が気体によって浮上した際、前記スリット２１２と前記搭載面２１１とが連接する側壁により阻まれ、前記搭載面２１１上に移動しづらいため、前記搭載面２１１と前記極紫外線フォトマスクRとの間に微粒子が入ることを防ぎ、前記搭載面２１１上が微粒子によって汚染させることを低減している。もう一つのメリットは、実際の製造において前記第一接面２１３と第二接面２２３の気密性が生産の問題（例えば表面処理のミス）により、気密性不足に至ることを考慮している点である。その為、上述の状況が発生した場合、実施例に係る前記スリット２１２の両側にある側壁に高低差がある特性に基づき、例えば前記第一接面２１３と前記第二接面２２３が要求されているチミ性に達し得なかった場合、前記第一接面２１３と前記第二接面２２３との間に極小な導引通路を形成し、微粒子を自ら前記スリット２１２内に引導して収容することで、前記搭載面２１１と前記極紫外線フォトマスクRの領域に進入することを防いでいる。
【００２５】
図４を参照すると、図３のベース上に仕切り部を設けた場合の側面断面図を示している。実施例において、前記ベース２１は、前記スリット２１２内に仕切り部２１７を設置することができ、より詳細に説明するのであれば、前記仕切り部２１７は、前記スリット２１２の底部上に設置される。前記仕切り部２１７の底部から前記仕切り部２１７の頂部までの高さは、前記スリット２１２と前記第一接面２１３とが連接する側壁の高さより少し高く、これにより、前記上蓋２２と前記ベース２１が当接する際、前記仕切り部２１７の頂部は前記第二接面２２３と隙間なく接触できる。これにより、微粒子が前記搭載面２１１と前記極紫外線フォトマスクRとの領域に進入するのを効率的に防ぐことができる。実施例において、前記仕切り部２１７は連続環状構造であり、前記スリット２１２に連続的に設置されている。
【００２６】
図２と図５を参照すると、図５は図２のベースの側面断面図を示している。より詳しく説明すると、図５は図２に開示されている前記ベース２１をA-A’面で切断した断面図である。実施例において、前記ベース２１の前記上表面２１０は少なくとも１つの収容溝２１６を包含し、前記スリット２１２と連通している。前記収容溝２１６の底部は前記スリット２１２の底部より低く、且つ前記搭載面２１１の方向上に平行であり、前記収容溝２１６の横幅は前記スリット２１２の横幅より大きい。つまり、前記収容溝２１６は更に一歩下へ凹む構造になっており、且つ比較的横幅の面積があり、微粒子を確保或いは収納するために用いられる。微粒子は前記スリット２１２内に留置される他、前記スリット２１２と連通する前記収容溝２１６内に移動することもできる。
【００２７】
続いて実施例における前記内部ケース２０にある前記上蓋２２について説明すると、図６と図７を参照すると、図６は、図１に係る上蓋の立体斜視図である。図７は、図１に係る上蓋のもう一つの斜視立体図である。前記上蓋２２は、前記ベース２１と当接するために用いられ、且つ凹チャンバー２２１と第二接面２２３を有している。前記凹チャンバー２２１は、前記極紫外線フォトマスクRを収容するために用いられ、前記第二接面２２３と前記第一接面２１３は互いに当接し、図３のように密閉状態を形成するために用いられる。本実施例において、前記第二接面２２３と前記第一接面２１３は水平であって、前記ベース２１と前記上蓋２２が当接する際、密閉状態にすることができる。
【００２８】
実施例において、前記上蓋２２は更に降格面２２２を有し、前記凹チャンバー２２１と前記第二当節面２２３との間に位置し、且つ前記降格面２２２と前記第二接面２２３は異なる平面上に位置し、前記ベース２１にある前記上表面２１０に隙間を形成するために用いられ、より詳しく説明すると、上述の前記降格面２２２と前記第二接面２２３とが異なる平面上に位置することを示しているが、両者はともに水平面であって、互いに平行である。また、図３に示すように、前記降格面２２２と前記搭載面２２１との間に隙間を形成し、前記ベース２１にある前記スリット２１２が、前記第二接面２２３によって完全に覆いかぶさらないようしている。前記ベース２１と前記上蓋２２が当接する際、前記スリット２１２が密閉していないため、前記凹チャンバー２２１内の微粒子は沈下、流動或いは気流によって前記スリット２１２或いは前記収容溝２１６内に進入し、微粒子は前記スリット２１２或いは前記収容溝２１６内に捕獲または収容される。
【００２９】
続いて図６と図７を参照すると、実施例における前記上蓋２２は、複数個導引ブロック２２４を包含し、これら導引ブロック２２４は、特定の方式で前記上蓋２２上に設置することで、前記上蓋２２と前記ベース２１が当接する際、前記導引ブロック２２４は前記ベース２１方面に向かって延伸できる。前記ベース２１に向かって延伸した前記導引ブロック２２４は前記ベース２１にある前記枠縁２１５と弾性当接（図３に示すように）している。前記ベース２１と前記上蓋２２が当接を進行する際、前記導引ブロック２２４は、前記ベース２１と前記上蓋２２の対応する位置に導くことができ、両者を正しく当接させることができる。実施例中には、前記導引ブロック２２４は前記上蓋２２の４つ角に分布するが、本願発明は配置方式及び数量を限定するものではなく、前記上蓋２２と前記ベース２１とが当接する際、前記ベース２１に向かって延伸し、前記枠縁２１５と弾性当接するものであれば、本願発明の導引ブロック２２４に属するものである。
【００３０】
実施例において、前記上蓋２２は複数この弾性部２２５を設けており、前記定位部２１４の位置に対応して配置される。前記上蓋２２と前記ベース２１とが当接する際、前記内部ケース２０が前記外部ケース１０にある収容空間１３に収容される際、前記弾性部２２５は前記極紫外線フォトマスクRに当接し、並びに垂直方向に前記極紫外線フォトマスクRを押し上げて固定し、位置ずれや微粒子の発生などの問題を防いでいる。実際の応用上、前記外部ケース１０にある前記ケース上部１１の内側が前記弾性部２２５に対応する位置に複数個の当接部（図示していない）を設け、前記内部ケース２０が前記収容空間１３に収容される際、前記弾性部２２５の一端を当接することで、前記弾性部２２５のもう一端が前記極紫外線フォトマスクRに当接並びに押し上げることができる。前記当接部の設計及び配置に関して、本願発明は制限をしない。
【００３１】
本実施例に係る前記上蓋２２は吸気口２２６を設け、且つ前記吸気口２２６に対応して濾過材を設けている。前記吸気口２２６は前記凹チャンバー２２１内に気体を入れるために用いられ、気体が前記凹チャンバー２２１に流入した際、前記搭載面２１１の外周にある前記スリット２１２に向かって微粒子を連動することができ、微粒子は前記スリット２１２或いは前記収容溝２１６内に捕獲または収容される。
【００３２】
図８を参照すると、本願発明の実施例に係る搭載面、スリット、第一接面の指示図である。実施例における前記極紫外線フォトマスクポッド１は、前記ベース２１にある前記上表面２１０の前記搭載面２１１、前記スリット２１２、前記第一接面２１３の順に前記上表面２１０の内側の前記枠縁２１５に向かって配置され、且つ前記スリット２１２は前記搭載面２１１を完全に連なって囲繞し、前記第一接面２１３は前記スリット２１２を完全に連なって囲繞し、全周囲繞式の前記スリット２１２を形成しているが、本願発明を制限するものではない。
【００３３】
図９を参照すると、本願発明の一つの実施例に係る搭載面、スリット、第一接面の指示図を示している。図９の実施例に係る極紫外線フォトマスクポッドの前記ベース３１は、上表面３１０にある搭載面３１１、スリット３１２と、第一接面３１３の順に前記上表面３１０の内側に枠縁３１５に向かって配置されている。前記上表面３１０は複数個のスリット３１２を有し、それぞれ連続環状構造である。前記スリット３１２は前記搭載面３１１と前記第一接面３１３との間に位置し、且つ前記スリット３１２は、個別で定位部３１４を囲繞している。本実施例の前記スリット３１２の底部は前記第一接面３１３及び前記搭載面３１１よりも低く、下向きに凹んでいる構造を形成している。各連続環状構造の前記スリット３１２は、前記定位部３１４を囲繞して配置されているため、微粒子の捕獲或いは収容がし易い。その他に、前記スリット３１２内の微粒子が気流によって上昇した際、前記スリット３１２の壁面によりは防がれ、前記搭載面３１１上に移動しづらくなっており、前記搭載面３１１が微粒子によって汚染されることを減少し、前記極紫外線フォトマスクRが微粒子によって汚染される機会を低減している。
【００３４】
本願発明に係る上述の実施例における極紫外線フォトマスクポッドは、極紫外線フォトマスクを収容するために用いられる。極紫外線フォトマスクポッドは、外部ケースと内部ケースとを包含し、前記外部ケースは、互いに対応するケース上部とケース下部と、を有し、前記内部ケースを収容するために用いられる収容空間を定義している。前記内部ケースは上蓋とベースとを包含している。前記ベースは上表面と枠縁を有し、前記上表面は、フォトマスク搭載位置を定義するために用いる凸出した複数の定位部を設けている。前記枠縁は前記上表面と連接且つ囲繞している。前記上表面は、搭載面、スリット、第一接面を包括している。前記極紫外線フォトマスクは、フォトマスク搭載位置に設置され、前記搭載面上に搭載される。前記スリットは連続環状構造を有しており、その底部は、前記搭載面より低い。前記搭載面、前記スリット、前記第一接面の順で前記上表面の内側に前記枠縁に向かって配置されている。前記上蓋と前記ベースが当接する際、凹チャンバーと第二面接とを有する。前記凹チャンバーはフォトマスクを収容するために用いられ、前記第二接面と前記第一接面は互いに対応し、密閉状態を形成するために用いられる。前記スリットは微粒子を捕獲或いは収容でき、極紫外線フォトマスクが微粒子によって汚染させる問題を低減している。
【００３５】
本願発明に属する技術分野において通常の知識を有する者であればさまざまな工夫と修飾が可能であるが、それらはいずれも本願発明の特許請求の範囲が求める保護を逸脱するものではない。
【符号の説明】
【００３６】
１              極紫外線フォトマスクポッド
１０            外部ケース
１１            ケース上部
１２            ケース下部
１３            収容空間
２０            内部ケース
２１            ベース
２２            上蓋
２３            フォトマスク搭載面
３１            ベース
２１０、３１０  上表面
２１１、３１１  搭載面
２１２、３１２  スリット
２１３、３１３  第一接面
２１４、３１４  定位部
２１５、３１５  枠縁
２１６          収容溝
２１７          仕切部
２２１          凹チャンバー
２２２          降格面
２２３          第二接面
２２４          導引ブロック
２２５          弾性部
２２６          吸気口
Ｒ              極紫外線フォトマスク
Ａ−Ａ’        断面線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【外国語明細書】
2018120221000001.pdf