(57)【要約】【課題】スルホン酸基を有する紫外線吸収剤による水相の着色とグリチルリチン酸等の光劣化とを抑制した、経時安定性の良好な日焼け止め化粧料の提供。【解決手段】下記成分(A)〜(E)を含有し、成分(D)に対する成分(A)の含有量比〔(A)／(D)〕が、0.3以上90以下である日焼け止め化粧料。  (A) スルホン酸基を有する紫外線吸収剤  (B) 塩基性物質  (C) 下記一般式(1)で表される化合物  (D) グリチルリチン酸、グリチルレチン酸又はこれらの塩  (E) 水2018002628.tif 000008【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記成分(A)〜(E)を含有し、成分(D)に対する成分(A)の含有量比〔(A)／(D)〕が、0.3以上90以下である日焼け止め化粧料。
(A) スルホン酸基を有する紫外線吸収剤
(B) 塩基性物質
(C) 下記一般式(1)で表される化合物
【化１】
2018002628.tif 000006
(D) グリチルリチン酸、グリチルレチン酸又はこれらの塩
(E) 水
【請求項２】
成分(A)に対する成分(C)の含有質量比〔(C)／(A)〕が、0.15以上15以下である請求項１に記載の日焼け止め化粧料。
【請求項３】
pHが6.0以上9.0以下である請求項１又は２に記載の日焼け止め化粧料。
【請求項４】
成分(A)、(B)及び(E)を含有する化粧料に成分(C)を含有させることによる、当該化粧料の着色抑制方法。
(A) スルホン酸基を有する紫外線吸収剤
(B) 塩基性物質
(C) 下記一般式(1)で表される化合物
【化２】
2018002628.tif 000007
(E) 水
【請求項５】
成分(A)、(B)及び(E)を含有する化粧料が、更に成分(D)を含有し、成分(D)に対する成分(A)の含有量比〔(A)／(D)〕が、90以下である請求項４に記載の着色抑制方法。
(D) グリチルリチン酸、グリチルレチン酸又はこれらの塩
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、日焼け止め化粧料に関する。
【背景技術】
【０００２】
グリチルリチン酸、グリチルレチン酸又はその塩（以下、グリチルリチン酸等ということがある）は、抗炎症作用を有することが知られており、日焼け止め化粧料、美白化粧料等においては、グリチルリチン酸等と共に紫外線吸収剤を併用することにより、炎症抑制効果を高めることが行われている（特許文献１、２参照）。また、グリチルリチン酸等は、経時で光劣化が生じることが知られており、このような併用によりその光劣化が抑制されることが期待される。
【０００３】
一方、スルホン酸基を有する紫外線吸収剤は経時で変色を生じることが大きな問題となっている。そこで、スルホン酸基を有する紫外線吸収剤に由来する変色を防止するために、スルホン酸基を有する紫外線吸収剤と、特定のキレート剤を併用することが提案されている（特許文献３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開2000-136122号公報
【特許文献２】特開平6-256140号公報
【特許文献３】特表2011-528022号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１のように、油相に油溶性紫外線吸収剤を配合している場合、水相に存在するグリチルリチン酸等の光劣化を効果的に防ぐことはできない。また、特許文献２に記載のスルホン酸基を有する紫外線吸収剤は、水相に配合することができ、グリチルリチン酸等の光劣化をある程度抑制することができるが、光照射により当該紫外線吸収剤自体に変色が発生し、水相の着色を十分抑制することができていない。また、特許文献３に記載の技術によるスルホン酸基を有する紫外線吸収剤の着色抑制効果は、特定のキレート剤を使用した場合に限定されており、一般に汎用されているEDTA等の成分では効果が得られないことが示されている。
【０００６】
したがって、本発明は、スルホン酸基を有する紫外線吸収剤による水相の着色とグリチルリチン酸等の光劣化とを抑制した、経時安定性の良好な日焼け止め化粧料に関する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、グリチルリチン酸等の光劣化と、スルホン酸基を有する紫外線吸収剤の変色の両方を抑制する組合せを種々検討したところ、グリチルリチン酸等とスルホン酸基を有する紫外線吸収剤とを特定比率で化粧料中に含有すると共に、ニコチン酸又はニコチン酸アミドを更に含有することにより、経時安定性に優れた製剤が得られることを見出し、本発明を完成させた。
【０００８】
すなわち本発明は、下記成分(A)〜(E)を含有し、成分(D)に対する成分(A)の含有量比〔(A)／(D)〕が、0.3以上90以下である日焼け止め化粧料を提供するものである。
(A) スルホン酸基を有する紫外線吸収剤
(B) 塩基性物質
(C) 下記一般式(1)で表される化合物
【０００９】
【化１】
2018002628.tif 000002
【００１０】
(D) グリチルリチン酸、グリチルレチン酸又はこれらの塩
(E) 水
【００１１】
更に本発明は、成分(A)、(B)及び(E)を含有する化粧料に成分(C)を含有させることによる、当該化粧料の着色抑制方法を提供するものである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の日焼け止め化粧料は、スルホン酸基を有する紫外線吸収剤による水相の着色とグリチルリチン酸、グリチルレチン酸又はその塩の光劣化が抑制され、経時安定性に優れる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
〔成分(A)：スルホン酸基を有する紫外線吸収剤〕
成分(A)は、スルホン酸基を有する紫外線吸収剤である。成分(A)のスルホン酸基を有する紫外線吸収剤は、未中和の状態で水への溶解性が低い紫外線吸収剤であるが、成分(B)によって中和されることにより水溶性の高いものとなる。具体的には、ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸、フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸、テレフタリリデンジカンフルスルホン酸等が挙げられる。これらは市販されており、ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸としては、ユビナールMS40（BASF社製）、フェニルベンズイミダゾールスルホン酸としては、Eusolex 232（Merck社製）、Neo Heliopan Hydro（Symrise社製）、フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸としては、Neo Heliopan AP（Symrise社製）、テレフタリリデンジカンフルスルホン酸としては、Mexoryl SX（Chimex社製）等が挙げられる。これらのうち、生体安全性に優れ、良好な紫外線防御効果が得られる観点から、フェニルベンズイミダゾールスルホン酸及び／又はフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸を含むことが好ましく、フェニルベンズイミダゾールスルホン酸を含むことがより好ましい。
【００１４】
本発明の日焼け止め化粧料中における成分(A)の含有量は、成分(D)の光安定性を向上させ、べたつき感を抑制する観点から、好ましくは0.1質量％以上、より好ましくは0.3質量％以上、更に好ましくは0.5質量％以上であり、また好ましくは８質量％以下、より好ましくは６質量％以下、更に好ましくは４質量％以下である。本発明の日焼け止め化粧料中における成分(A)の含有量の具体的範囲は、好ましくは0.1〜８質量％、より好ましくは0.3〜６質量％であり、更に好ましくは0.5〜４質量％である。ここで、成分(A)の含有量は、スルホン酸基が未中和の状態のもの、すなわちスルホン酸基がＳＯ3Ｈのままの状態の化合物の含有量である。
【００１５】
〔成分(B)：塩基性物質〕
成分(B)の塩基性物質は、前記成分(A)を中和させる成分である。成分(B)としては、具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属水酸化物；トリエタノールアミン、モノエタノールアミン、トリエチルアミン、アミノメチルプロパノール、トリスヒドロキシメチルアミノメタン等の有機アミン；アンモニア；アルギニン、リジン等の塩基性アミノ酸が好ましく例示できる。
【００１６】
これらのうち、水への溶解性を良好にする観点から、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエタノールアミン、アルギニン、トリスヒドロキシメチルアミノメタンから選択される１種又は２種以上を含むことが好ましく、水酸化ナトリウム、トリエタノールアミン及びトリスヒドロキシメチルアミノメタンから選択される１種又は２種以上を含むことがより好ましく、水酸化ナトリウム及び／又はトリエタノールアミンを含むことが更に好ましい。
【００１７】
本発明の日焼け止め化粧料中における成分(B)の含有量は、成分(A)の紫外線防御能、成分(A)の安定性を向上させる観点から、日焼け止め化粧料の水相のpH値を、好ましくは6.0以上、より好ましくは6.2以上、更に好ましくは6.5以上、更に好ましくは6.7以上とし、また、好ましくは9.0以下、より好ましくは8.0以下、更に好ましくは7.5以下、更に好ましくは7.2以下とする量である。日焼け止め化粧料中における成分(B)の含有量の具体的範囲は、日焼け止め化粧料の水相のpH値を、好ましくは6.0〜9.0とする量、より好ましくは6.2〜8.0とする量、更に好ましくは6.5〜7.5とする量、更に好ましくは6.7〜7.2とする量である。
なお、本発明の日焼け止め化粧料の水相のpH値は、25℃にて、pHメーター（堀場製作所製、型番F-22）を用いて測定することができる。
【００１８】
すなわち、成分(A)は成分(B)に中和された状態で、本発明の化粧料中に存在すると考えられる。
【００１９】
〔成分(C)：一般式(1)で表される化合物〕
成分(C)は、下記一般式(1)で表される化合物であり、成分(A)による水相の着色を抑制する機能を有する。
【００２０】
【化２】
2018002628.tif 000003
【００２１】
具体的には、成分(C)は、ニコチン酸及びニコチン酸アミドから選択される１種又は２種からなるものであり、成分(A)に由来する水相の着色を抑制する観点から、ニコチン酸アミドを含むことが好ましい。
【００２２】
本発明の日焼け止め化粧料中における成分(C)の含有量は、成分(A)に由来する水相の着色を抑制し、塗布時のべたつきを抑制する観点から、好ましくは0.1質量％以上、より好ましくは0.5質量％以上、更に好ましくは0.8質量％以上であり、また、好ましくは10質量％以下、より好ましくは８質量％以下、更に好ましくは６質量％以下である。
【００２３】
成分(A)に対する成分(C)の含有質量比〔(C)／(A)〕は、着色を抑制する観点から、好ましくは0.15以上、より好ましくは0.22以上、更に好ましくは0.27以上であり、また、成分(D)の光安定性を向上させる観点から、好ましくは15以下、より好ましくは９以下、更に好ましくは７以下である。なお、上記質量比は、成分(A)のスルホン酸基が未中和の状態のもの、すなわちスルホン酸基がＳＯ3Ｈのままの状態の化合物に対する成分(C)の質量比である。
【００２４】
〔成分(D)：グリチルリチン酸、グリチルレチン酸又はこれらの塩〕
成分(D)のグリチルリチン酸、グリチルレチン酸及びこれらの塩は、光照射により分解又は変質しやすい水溶性成分である。これら成分(C)は、いずれか１種を単独で使用することもでき、また２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【００２５】
グリチルリチン酸及びグリチルレチン酸の塩としては、周期表１族の金属（アルカリ金属）の塩、周期表２族の金属の塩等が挙げられ、具体的には、ナトリウム塩、カリウム塩、マグネシウム塩、カルシウム塩等が挙げられる。
【００２６】
これらのうち、肌荒れ改善効果、抗炎症効果が良好できしみ感を抑える観点から、グリチルリチン酸ジカリウム、グリチルリチン酸モノアンモニウムが好ましく用いられる。また、上記成分(D)に該当する化合物を含有する植物抽出物、例えばグリチルリチン酸塩を含有する甘草抽出末、甘草抽出液等を含有することもできる。
【００２７】
本発明の日焼け止め化粧料中における成分(D)の含有量は、肌荒れ改善効果、抗炎症効果を良好にし、きしみ感を抑える観点から、好ましくは0.01質量％以上、より好ましくは0.05質量％以上、更に好ましくは0.1質量％以上であり、また、好ましくは２質量％以下、より好ましくは１質量％以下、更に好ましくは0.5質量％以下である。ただし、甘草抽出末、甘草抽出液等の植物抽出物を用いる場合は、グリチルリチン酸塩等、成分(D)の化合物に換算して含有量を決定する。
【００２８】
成分(D)に対する成分(A)の含有質量比〔(A)／(D)〕は、成分(D)の光安定性を向上させる観点から、0.3以上であって、好ましくは0.8以上、より好ましくは1.5以上、更に好ましくは２以上であり、また、着色を抑制する観点から、90以下であって、好ましくは70以下、より好ましくは65以下、更に好ましくは40以下である。なお、上記質量比は、成分(D)に対する、成分(A)のスルホン酸基が未中和の状態のもの、すなわちスルホン酸基がＳＯ3Ｈのままの状態の化合物の質量比である。
【００２９】
〔成分(E)：水〕
本発明の日焼け止め化粧料中における成分(E)の水の含有量は、成分(A)の溶解性を向上させ、さっぱりとした使用感を付与する観点から、好ましくは50質量％以上、より好ましくは60質量％以上、更に好ましくは70質量％以上であり、また、好ましくは98質量％以下である。
【００３０】
〔成分(F)：水溶性高分子〕
本発明の日焼け止め化粧料は、経時安定性を向上させ、使用時のたれ落ちを低減させる観点から、更に(F)水溶性高分子を含有することができる。水溶性高分子は、通常化粧料に用いられるものであれば特に限定されない。具体的には、カチオン性高分子、アニオン性高分子、非イオン性高分子、両性高分子、双極性高分子等が挙げられる。
【００３１】
より具体的には、ポリ（ジメチルジアリルアンモニウムハライド）型カチオン性ポリマー、ジメチルジアリルアンモニウムハライドとアクリルアミドの共重合体カチオン性ポリマー、第４級窒素含有セルロースエーテル、ビニルピロリドン・ジメチルアミノエチルメタクリレート共重合体カチオン化物、カルボキシビニルポリマー、カルボキシメチルセルロース、カラゲーナン、キサンタンガム、ポリスチレンスルホネート、寒天、ガッチガム、カラヤガム、ペクチン、アルギネート塩、ポリアクリル酸、（メタ）アクリル酸のアルカリ金属塩、アンモニウム塩等の（メタ）アクリル酸誘導体の重合体、セルロースエーテル(ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシブチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロール、エチルヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース等)、プロピレングリコールアルギネート、ポリアクリルアミド、（アクリル酸Na/アクリロイルジメチルタウリンNa）コポリマー、ポリ(エチレンオキシド)、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシプロピルグアーゴム、ローカストビーンゴム、アミロース、ヒドロキシエチルアミロース、ヒアルロン酸又はそのアルカリ金属塩、澱粉、澱粉誘導体及びこれらの混合物、オクチルアクリルアミド／アクリレート／ブチルアミノエチルメタクリレートコポリマー、アクリル酸・塩化メタクリルアミドプロピルアンモニウム・アクリル酸メチル共重合体、アクリルアミド・アクリルアミドプロピルトリモニウムクロリド・2-アミドプロピルアクリルアミドスルホン酸・ジメチルアミンプロピルアミン共重合体等が挙げられる。
【００３２】
これらのうち、塗布時の肌馴染みの良さ、塗布後のべたつきのなさを向上させる観点から、カルボキシビニルポリマー、キサンタンガム、セルロースエーテル（ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシブチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロール、エチルヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース等）、ポリ（エチレンオキシド）、及び、ヒアルロン酸又はそのアルカリ金属塩から選択される１種又は２種以上を含むことが好ましく、カルボキシビニルポリマー、キサンタンガム、ヒドロキシメチルセルロース、アクリル酸又はメタクリル酸ポリマー、及び、ヒアルロン酸又はそのアルカリ金属塩から選択される１種又は２種以上を含むことがより好ましい。
【００３３】
これらは、市販品を使用することができ、例えば、カルボキシビニルポリマーとしては、シンタレンＫ、シンタレンＬ（共に和光純薬工業社製）、キサンタンガムとしては、サンエースＣ（三栄源エフ・エフ・アイ社製）、ヒドロキシプロピルメチルセルロースとしては、メトローズ60SH-4000（信越化学工業社製）、アルキル変性カルボキシビニルポリマーとしては、PEMULEN TR-1 POLYMER（日本ルーブリゾール社製）、ヒアルロン酸ナトリウムとしては、ヒアルロン酸FCH(FCH-120)（キッコーマンバイオケミファ社製）等を使用することができる。
【００３４】
これら成分(F)は、いずれかを単独で、又は２種以上を組み合わせて使用することができる。本発明の日焼け止め化粧料中における成分(F)の含有量は、塗布時の肌馴染みを良好にし、塗布後のべたつきを抑制し、経時安定性を向上させる観点から、好ましくは0.001質量％以上、より好ましくは0.01質量％以上、更に好ましくは0.05質量％以上であり、また、好ましくは２質量％以下、より好ましくは１質量％以下、更に好ましくは0.5質量％以下である。
【００３５】
〔他の任意成分〕
本発明の日焼け止め化粧料には、界面活性剤、多価アルコール、成分(A)以外の紫外線吸収剤、金属イオン封鎖剤、成分(B)以外のpH調整剤、酸化防止剤、抗菌剤、防腐剤、制汗剤、薬剤、香料、各種の抽出液等の通常化粧料に用いられる各種の原料を含有することができる。なお、これらの各剤は、各剤としての用途に限られず、目的に応じて他の用途として転用、例えば、制汗剤を香料として使用したり、他の用途との兼用、例えば、制汗剤と香料としての効果を奏するものとして使用したりすることもできる。
【００３６】
〔剤形〕
本発明の日焼け止め化粧料は、水溶性機能成分の経時安定性に優れ、べたつき感やぬるつき感がないため、皮膚化粧料として好適に使用することができ、好ましくは頭皮を除く皮膚、より好ましくは顔、身体、手足等のいずれかに塗布して使用することができる。本発明の日焼け止め化粧料の剤形は任意であり、液状、エマルション、ジェル状、スプレー状、ムース状等のものとして調製されるが、みずみずしい感触を与え、塗布時の伸びが良好な点から、液状又はジェル状の日焼け止め化粧料とすることが好ましく、ジェル状水性日焼け止め化粧料とすることがより好ましい。
【００３７】
〔成分(A)に由来する着色の抑制方法〕
成分(A)は、光照射を受けることで光劣化を生ずる。その結果、成分(A)、(B)及び(E)を含有する化粧料において、経時で成分(A)に由来する着色が生じてしまう。本発明においては、成分(A)、(B)及び(E)を含有する化粧料に、更に成分(C)を含有させることで、当該化粧料の成分(A)に由来する着色を抑制することができる。
【００３８】
この場合における成分(A)に対する成分(C)の含有質量比〔(C)／(A)〕は、本発明の日焼け止め化粧料の着色を抑制する観点から、好ましくは0.15以上、より好ましくは0.22以上、更に好ましくは0.27以上である。
【００３９】
また、成分(A)、(B)、(D)及び(E)を含有する化粧料中においては、成分(D)に対する成分(A)の含有量比〔(A)／(D)〕を90以下としたものに対して、更に成分(C)を含有させることで、当該化粧料の成分(A)に由来する着色を抑制することができる。
【００４０】
この場合における成分(D)に対する成分(A)の含有質量比〔(A)／(D)〕は、成分(D)の光安定性を向上させる観点から、好ましくは0.3以上、より好ましくは0.8以上、更に好ましくは1.5以上、更に好ましくは２以上であり、また、着色を抑制する観点から、好ましくは70以下、より好ましくは65以下、更に好ましくは40以下である。
【００４１】
また、成分(A)に対する成分(C)の含有質量比〔(C)／(A)〕は、着色を抑制する観点等から、好ましくは0.15以上、より好ましくは0.22以上、更に好ましくは0.27以上であり、また、成分(D)の光安定性を向上させる観点から、好ましくは15以下、より好ましくは９以下、更に好ましくは７以下である。
【００４２】
〔製造方法〕
本発明の日焼け止め化粧料は、形態に応じて任意の手順により製造することができる。例えば、本発明の日焼け止め化粧料は、成分(A)〜(E)、必要により更に成分(F)及びその他の任意成分を共に混合する工程を含む方法により製造することができる。
【００４３】
混合状態を均一な状態に維持する観点から、
あらかじめ成分(A)及び(B)を成分(E)に添加し、成分(A)、(B)及び(E)を均一になるように攪拌する工程1a、
成分(C)、成分(D)、必要により成分(F)及びその他の任意の水性成分を更に調製物に添加する工程2a、
工程2aの調製物を攪拌する工程3a
を含むことが好ましい。
【００４４】
水相成分を十分に溶解させる観点から、工程3aにおいて、加熱下で攪拌する工程を含んでもよく、加熱温度は好ましくは30℃以上、より好ましくは35℃以上であり、また、好ましくは60℃以下、より好ましくは50℃以下である。
【００４５】
また、本発明の日焼け止め化粧料中に油性成分を含有させる場合、本発明の日焼け止め化粧料は、成分(A)〜(E)、必要により更に成分(F)及びその他の任意の水性成分を含む水相を加熱し、撹拌して調製物を得る工程1bと、
油性成分を含有する油相を加熱し、撹拌して調製物を得る工程2bと、
工程1bで得られた調製物と、工程2bで得られた調製物とを混合させる工程3bを含む方法により製造することができる。
【００４６】
工程1bにおける加熱温度は、水を沸騰させないで、水相成分を十分に溶解させる観点から、好ましくは50℃以上、より好ましくは55℃以上であり、また、好ましくは90℃以下、より好ましくは85℃以下である。
【００４７】
工程2bにおける加熱温度は、油相成分を十分に溶解させる観点から、好ましくは50℃以上、より好ましくは55℃以上であり、また、好ましくは90℃以下、より好ましくは85℃以下である
【００４８】
また、工程1bにおいて、混合状態を均一な状態に維持する観点から、あらかじめ成分(A)及び(B)を成分(E)に添加し、成分(A)、(B)及び(E)を均一になるように攪拌した後、成分(C)〜(E)、必要により成分(F)及びその他の任意の水性成分を更に添加し、攪拌することが好ましい。
【実施例】
【００４９】
実施例１〜６、比較例１〜13
表１及び２に示す処方に従い、日焼け止め化粧料を調製した。
【００５０】
（製造方法）
・実施例１〜６、比較例１〜３、６〜８
１．成分１〜10を25℃にて混合し、ホモミキサー（3500rpm、２分）で均一に分散して溶解させる。
・比較例４、５
１．成分１、４〜10を混合し、80℃の加熱下にて均一になるように混合して調製物Ｉを得る。
２．成分２、３を混合し、80℃の加熱下にて均一になるように混合して調製物IIを得る。
３．調製物Ｉを80℃の加熱下にて攪拌しながら、調製物IIを添加し、その後、ホモミキサー（3500rpm、２分）で均一に分散する
・比較例９〜13
１．成分１〜10を25℃にて混合し、ホモミキサー（3500rpm、２分）で均一に分散して溶解させる。
【００５１】
表１及び２に記載の試料を100mLガラス瓶に80mL入れて密封したものを試料ごとに２つずつ作製し、一方の試料を20℃の条件下、キセノンウェザーメーターにて、２万KJ/m2の光を照射し、もう一方の試料は20℃の暗所にて保管した。各試料につき、（１）(A)及び(D)の定量試験、（２）着色性評価試験を実施し、それぞれ評価した。表２に記載の試料については、成分(D)の定量試験のみ行った。結果は表１及び２に併せて示した。
【００５２】
（１）成分(A)及び(D)の定量試験
表１及び２に記載の試料につき、光照射したものと暗所保管したものをHPLCを用いて絶対検量線法により成分(A)及び(D)の定量を実施した。測定用試料は、光照射後の試料0.4ｇを量り、水を加えて100mLとしたものを超音波分散し、孔径0.45μmのメンブランフィルターで濾過したものを試料溶液とした。成分(A)及び(D)の残存性（％）は、（光照射した試料中の定量値／暗所保管した試料の定量値）×100により算出し、数値が高いほど残存性に優れることを示す。なお、表２については成分(D)の定量のみ行った。
【００５３】
＜分析条件＞
・移動相：0.25m/v%リン酸含有0.05mol/Lリン酸二水素カリウム溶液
・カラム：CAPCELLPAK C18 AQ（内径4.6mm、長さ25cm、粒子径５μm）
・カラム温度：40℃
・流量：1.0mL/min
・注入量：10μm
【００５４】
（２）着色性評価試験
表１に記載の試料につき、光照射後の試料及び暗所保管後の試料を目視にて比較し、以下の評価基準により、着色の有無を評価した。
〔評価基準〕
○：着色なし
△：わずかな着色あり
×：着色あり
【００５５】
【表１】
2018002628.tif 000004
【００５６】
【表２】
2018002628.tif 000005
【００５７】
表１から、スルホン酸基を有する紫外線吸収剤（成分(A)が成分(B)で中和されたもの）の共存によって成分(D)の光安定性が顕著に向上し、成分(C)は成分(A)による水相の着色を抑制することがわかる（実施例１〜６、比較例１〜３）。
また、油溶性紫外線吸収剤を使用した場合は、成分(D)の光安定性を向上することができないのみならず、油溶性紫外線吸収剤自体の光安定性も低く、更には着色も抑制できなかった（比較例４及び５）。
また、［(A)／(D)］が低すぎると成分(D)の光安定性が劣り、［(A)／(D)］が高すぎると（相対的に成分(D)が少ないと）着色を抑制することができない。
更に、成分(C)の代わりに汎用のキレート剤であるエデト酸二ナトリウムでは着色抑制効果は得られなかった（比較例８）。
【００５８】
表２は、スルホン酸基を有する紫外線吸収剤（成分(A)を成分(B)で中和したもの）の有無が、各種の抗酸化物質の光安定性に与える影響を比較したものである。
成分(D)はスルホン酸基を有する紫外線吸収剤が共存することによって顕著に光安定性が向上するのに対し、アスコルビン酸リン酸マグネシウム、アスコルビン酸グルコシド及びアルブチンの場合、スルホン酸基を有する紫外線吸収剤の有無に関わらず光安定性はあまり変化がなく、これらの光安定性は良好であった。またトラネキサム酸及びアラントインの場合には、スルホン酸基を有する紫外線吸収剤を併用することによって、かえってその光安定性が低下してしまった。
【００５９】
以下、本発明の処方例を示す。いずれも実施例と同等の効果を奏するものである。
【００６０】
処方例１（日焼け止め化粧料）
（成分）                                                      含有量（質量％）
１．オクチルトリエトキシシラン表面処理微粒子酸化亜鉛粉末              8.0 
２．メチルハイドロジェンポリシロキサン表面処理微粒子酸化亜鉛粉末      7.0
３．ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（*３）         2.0
４．パラメトキシケイ皮酸2-エチルヘキシル（*４）                      10.0
５．ミリスチン酸オクチルドデシル                                      2.0
６．ステアリン酸ソルビタン（*５）                                     0.3
７．スクワラン                                                        3.0
８．ジメチコン（*６）                                                 3.0
９．フェニルベンズイミダゾールスルホン酸（*１）                       2.0
10. トリエタノールアミン                                              1.3
11．ニコチン酸アミド                                                  1.0
12．エタノール                                                       10.0
13．（アクリル酸Na／アクリロイルジメチルタウリン）コポリマー（*７）   2.5
14．グリセリン                                                        5.0
15．1,3-ブチレングリコール                                            5.0
16．グリチルリチン酸ジカリウム                                        0.1
17．ヒアルロン酸（*８）                                               0.1
18．香料                                                              0.1
19．フェノキシエタノール                                              0.3
20．エデト酸二ナトリウム                                              0.02
21．精製水                                                            残部
*１：前記実施例と同様
*３：ユビナール A Plus（BASF社製）
*４：ユビナール MC80（BASF社製）
*５：NIKKOL SS-10MV（日光ケミカル社製）
*６：KF-96A-6cs（信越化学工業社製）
*７：SIMULGEL EG（SEPPIC社製）
*８：ヒアルロン酸FCH-120（キッコーマンバイオケミファ社製）
【００６１】
（製造方法）
１．成分１〜８及び18を混合し、80℃の加熱下で攪拌して調製物Ｉを得る。
２．成分９、20及び21を混合して調製物IIを得る。
３．調製物IIに成分11〜17、19及び20を混合し、80℃の加熱下で攪拌して調製物IIIを得る。
４．調製物IIIを80℃の加熱下で攪拌しながら、調製物Ｉを混合し、更に攪拌して調製物
IVを得る。
５．調製物IVを自然冷却し、30℃まで冷却する。
【００６２】
処方例２（日焼け止め化粧料）
（成分）                                                      含有量（質量％）
１．パラメトキシケイヒ酸2-エチルヘキシル（*４）                       7.5
２．ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルエステル（*３） 2.0
３．2,4-ビス-[[4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]-フェニル]-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン（*９）                                     1.0
４．ミリスチン酸オクチルドデシル                                      5.0
５．ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油（60E.O）（*10）                    1.0
６．ポリオキシエチレンモノラウリン酸ソルビタン（20E.O）（*11）        1.0
７．グリセリン                                                        3.0
８．1,3-ブチレングリコール                                            3.0
９．ジプロピレングリコール                                            3.0
10．エタノール                                                        5.0
11．キサンタンガム                                                    0.5
12．アルキル変性カルボキシビニルポリマー（*２）                       0.5
13．フェニルベンズイミダゾールスルホン酸（*１）                       2.0
14．トリエタノールアミン                                              1.3
15．ニコチン酸アミド                                                  1.0
16．グリチルリチン酸ジカリウム                                        0.1
17．エデト酸二ナトリウム                                              0.05
18．香料                                                              0.1
19．精製水                                                            残部
*１〜*４：前記実施例及び処方例１と同様
*９：チノソーブ S （BASF社製）
*10：NIKKOL HCO-60（日光ケミカル社製）
*11：NIKKOL TL-10（日光ケミカル社製）
【００６３】
（製造方法）
１．成分１〜４及び18を混合し、80℃の加熱下で攪拌して調製物Ｉを得る。
２．成分13〜17及び19を混合し、80℃の加熱下で攪拌して調製物IIを得る。
３．調製物IIを80℃の加熱下で攪拌しながら、調製物Ｉを混合し、攪拌して調製物IIIを得る。
４．調製物IIIを自然冷却し、30℃まで冷却する。
【００６４】
なお、以上の処方例で用いた香料は、以下のフローラル系調合香料処方である。なお、成分名中に記載される１％DPG、５％DPG、10％DPGとは、香料の有効成分含量がそれぞれ１質量％、５質量％、10質量％のジプロピレングリコール溶液であることを示す。
【００６５】
フローラル系調合香料処方
ベルガモットオイル（天然香料）                                          2.0
リナリールアセテート                                                    1.5
メチルアンスラニレート                                                  0.2
ペチグレインオイル（天然香料）                                          0.5
オーランチオール 10％DPG（別名：ヒドロキシシトロネラールとメチルアンスラニレートとのシッフ塩基）                                                        1.0
アミルアリルグリコレート １％DPG                                        0.5
ガルバナムオイル １％DPG（天然香料）                                    0.1
ブラックカラントバズアブソリュート 10％DPG（天然香料）                  1.5
タジェットオイル 10％DPG（天然香料）                                    0.8
イランイランオイルエキストラ（天然香料）                                2.0
ベンジールアセテート                                                    5.0
メチルジヒドロジャスモネート                                           13.0
シスジャスモン 10％DPG                                                  1.0
ジャスミンアブソリュート（天然香料）                                    0.5
インドール ５％DPG                                                      0.5
アルファヘキシルシンナミックアルデヒド                                  1.5
L-シトロネロール                                                        0.5
ローズオイル（天然香料）                                                0.5
ローズアブソリュート（天然香料）                                        0.5
ダマセノン １％DPG                                                      0.5
L-ローズオキサイド １％DPG                                              0.5
ジメチルベンジルカーボニルアセテート                                    1.0
ヒドロキシシトロネラール                                                3.0
リラール（別名：4-(4-ヒドロキシ-4-メチルペンチル)-3-シクロヘキセン-1-カーボキシアルデヒド）                                                            3.5
シクラメンアルデヒド（別名：2-メチル-3-(4-イソプロピルフェニル)-プロパナール）                                                                          0.5
アルファイソメチルヨノン（別名：5-(2,2,6-トリメチル-2-シクロヘキセニル)-3-メチル-3-ブテン-2-オン）                                                      4.0
オリスコンクリート 10％DPG（天然香料）                                  0.8
メチルオイゲノール                                                      0.5
イソＥスーパー（別名：7-アセチル-1,2,3,4,5,6,7,8-オクタハイドロ-1,1,6,7-テトラメチルナフタレン）                                                        2.5
ベルトフィックスクール（別名：4-アセチル-トリメチル-6,8α-エタノ-1,2,3,5,6,7,8,8α-オクタヒドロナフタレノン）                                           4.0
ベチバーアセテート                                                      2.0
サンダルウッドオイル（天然香料）                                        1.5
バグダノール 10％DPG（別名：2-エチル-4-(2,2,3-トリメチル-3-シクロペンテン-1-イル)-2-ブテン-1-オール）                                                   1.0
パチュリーオイル 10％DPG（天然香料）                                    0.2
エベルニール 10％DPG（別名：メチル-2,4-ジヒドロキシ-3,6-ジメチルベンゾエート）                                                                          1.5
ガラクソリッド 50％ベンジールベンゾエート（別名：4,6,6,7,8,8-ヘキサメチル-1,3,4,6,7,8-ヘキサヒドロシクロペンタベンゾピラン）                           10.0
シクロペンタデカノリッド                                                4.0
ヘリオトロピン                                                          0.5
クマリン                                                                0.5
バニリン 10％DPG                                                        0.5
エチルバニリン 10％DPG                                                  2.5
ラズベリーケトン 10％DPG（別名：4-(4-ヒドロキシフェニル)-2-ブタノン）   0.5
ガンマウンデカラクトン 10％DPG                                          1.5
ガンマデカラクトン 10％DPG                                              1.5
ラブダナム アブソリュート 10％DPG（天然香料）                           0.5
ジプロピレングリコール                                                  残量