(57)【要約】【課題】印字媒体などの搬送物を均一に乾燥させることができる高周波乾燥装置を提供する。【解決手段】媒体（搬送物）を、媒体の搬送方向と直交する方向に沿って設けた、高周波電界を印加する複数の電極と、電極よりも搬送方向の下流側に、電極とそれぞれ対応する位置に設けた、媒体の乾燥度合を測定する複数のセンサと、を備えた搬送部が搬送する際に、電力制御部が、複数のセンサの各測定結果に応じて、複数のセンサとそれぞれ対応する位置に設けた複数の電極にそれぞれ印加する高周波電界の電力を個別に制御する。【選択図】図２
2018009754.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送物に高周波電界を印加することによって、当該搬送物を乾燥させる高周波乾燥装置であって、
前記搬送物を搬送する搬送部と、
前記搬送部に、前記搬送物の搬送方向と直交する方向に沿って設けた、前記高周波電界を印加する複数の電極と、
前記複数の電極よりも前記搬送部の下流側に、前記複数の電極とそれぞれ対応する位置に設けた、前記搬送物の乾燥度合を測定する複数のセンサと、
前記複数のセンサの各測定結果に応じて、前記複数のセンサとそれぞれ対応する位置に設けた前記複数の電極にそれぞれ印加する前記高周波電界の電力を個別に制御する電力制御部と、を備える、
ことを特徴とする高周波乾燥装置。
【請求項２】
前記電力制御部は、前記複数のセンサの各測定結果に応じて、
前記搬送物の前記乾燥度合が所定値よりも低いことを条件として、前記複数のセンサとそれぞれ対応する位置に設けた前記複数の電極にそれぞれ印加する前記高周波電界の電力を増加させて、
前記搬送物の前記乾燥度合が前記所定値よりも高いことを条件として、前記複数のセンサとそれぞれ対応する位置に設けた前記複数の電極にそれぞれ印加する前記高周波電界の電力を減少させる、
ことを特徴とする請求項１に記載の高周波乾燥装置。
【請求項３】
前記センサは、水分率計である、
ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の高周波乾燥装置。
【請求項４】
前記搬送物は、シート状の印字媒体である、
ことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の高周波乾燥装置。
【請求項５】
請求項４に記載の高周波乾燥装置を備えて、
前記印字媒体に塗布された前処理用アンダーコート液を乾燥させる、
ことを特徴とする画像形成装置。
【請求項６】
搬送部を搬送される搬送物に高周波電界を印加することによって、当該搬送物を乾燥させる高周波乾燥方法であって、
前記搬送物の搬送方向に直交する方向に沿って設けた複数のセンサによって、前記搬送物の乾燥度合を測定するステップと、
前記複数のセンサの測定結果に応じて、当該複数のセンサよりも前記搬送部の上流側の、前記複数のセンサとそれぞれ対応する位置に設けた電極に印加する前記高周波電界の電力を個別に制御するステップと、を有する、
ことを特徴とする高周波乾燥方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高周波乾燥装置、画像形成装置および高周波乾燥方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、インクジェットプリンタにおいて、様々な印字媒体（メディア）に対して安定して良好な印字画質を確保するため、インク印字を行う前に、メディアである、例えば印刷用紙への前処理としてアンダーコート液（以下ＵＣ液）を塗布することが知られている。ＵＣ液を塗布することにより、メディアのインク受容性を高め、顔料の凝集性を上げることにより、メディア上でのビーディング低減や色境界にじみを抑制することが可能となる。ＵＣ液は水分を含んでいるため、メディアへ一様に塗布した後に、乾燥させてからインク印字を行う。印刷速度の上昇に伴い、塗布したＵＣ液をより高速に乾燥することが求められている。従来は、高温ドラムにメディアを巻きつけて乾燥させる方法や、温風乾燥などを組み合わせることによって高速乾燥させていた。しかし、ヒーターなどが必要であるため、サイズが大型になる、起動時間がかかる、消費電力が大きい等の問題があった。さらに、ＵＣ液の乾燥工程の後でメディアの温度が上昇してインク印字に影響するため、インク印字前にメディアを冷却する必要があるという問題があった。そのため、誘電体であるＵＣ液を直接加熱することによってメディアへの影響を低減し、なおかつ、高速乾燥時における消費電力を削減する方法として、高周波誘電加熱方式が既に知られている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、シート状の記録媒体（メディア）の表面及び裏面のいずれかにインクを吐出する吐出手段と、吐出手段からインクを吐出されたメディアが通過できるように構成された導波管と、導波管内に電磁波を供給する電磁波供給手段と、導波管内を通過したメディアの乾燥度合に関連するパラメータを検出する検出手段と、検出手段が検出したパラメータに応じて、電磁波供給手段が供給する電磁波の強度を制御する制御手段と、を備えたインクジェットプリンタが開示されている。この構成によれば、検出手段が検出したメディアの乾燥度合に関連するパラメータに応じて、制御手段が電磁波の強度を制御するため、メディアの乾燥度合が均一となるように電磁波供給手段を制御することができる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１によると、メディアの搬送速度の高速化に伴ってＵＣ液の塗布量にむらが生じたとき、または高周波乾燥装置内において、電極とメディアとの距離にばらつきが生じて加熱効率がメディアの場所によって変化したときには、メディアが均一に乾燥しないおそれがあった。
【０００５】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、印字媒体などの搬送物を均一に乾燥させることができる高周波乾燥装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明は、搬送物に高周波電界を印加することによって、当該搬送物を乾燥させる高周波乾燥装置であって、前記搬送物を搬送する搬送部と、前記搬送部に、前記搬送物の搬送方向と直交する方向に沿って設けた、前記高周波電界を印加する複数の電極と、前記複数の電極よりも前記搬送部の下流側に、前記複数の電極とそれぞれ対応する位置に設けた、前記搬送物の乾燥度合を測定する複数のセンサと、前記複数のセンサの各測定結果に応じて、前記複数のセンサとそれぞれ対応する位置に設けた前記複数の電極にそれぞれ印加する前記高周波電界の電力を個別に制御する電力制御部と、を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、印字媒体などの搬送物を均一に乾燥させることができる高周波乾燥装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】図１は、実施形態に係る高周波乾燥装置を備えたインクジェット記録装置の概略構成を示すブロック図である。
【図２】図２は、高周波乾燥装置の概略構成を示すブロック図である。
【図３】図３は、高周波乾燥装置の機能構成を示す機能ブロック図である。
【図４】図４は、整合器の回路構成の一例を示す図である。
【図５】図５は、電極の構成の一例を示す図である。
【図６】図６は、高周波乾燥機における電極の配置の一例を示す図である。
【図７】図７は、電圧検出器の回路構成の一例を示す図である。
【図８】図８は、高周波乾燥装置が行う電力制御処理の制御構成を示すブロック線図である。
【図９】図９は、高周波乾燥装置が行う電力制御処理の流れを示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、添付図面を参照して、本発明の実施形態に係る高周波乾燥装置を備えたインクジェット記録装置について詳細に説明する。
【００１０】
（インクジェット記録装置の構成の説明）
図１は、高周波乾燥装置２０を備えたインクジェット記録装置１の概略構成を示すブロック図である。なお、インクジェット記録装置１は、本発明における画像形成装置の一例である。図１に示すように、インクジェット記録装置１は、液体塗布機１０と、高周波乾燥装置２０と、画像形成部３０と、搬送部４０と、を備えており、記録媒体（メディア）である媒体Ｐ上に画像形成を行う。媒体Ｐは、搬送物の一例である。媒体Ｐはシート状をなして、例えば、紙、布、透明フィルム等の素材で形成されている。媒体Ｐは、ロール状の形態（連続媒体）であってもよいし、所定のサイズにカットされた形態（カット媒体）であってもよい。
【００１１】
図１において、液体塗布機１０と、高周波乾燥装置２０と、が本発明の要点であり、その他の部分（画像形成部３０、搬送部４０）は説明のために記載したものであって、図１の構成に限定されるものではない。
【００１２】
液体塗布機１０は、媒体Ｐに前処理用アンダーコート液（以下、ＵＣ液）を塗布する。液体塗布機１０は、ＵＣ液の中に媒体Ｐを浸す構成であってもよいし、媒体ＰにＵＣ液を噴霧する構成であってもよい。
【００１３】
高周波乾燥装置２０は、ＵＣ液が塗布された媒体Ｐを高周波加熱することによって乾燥させる。高周波乾燥装置２０は、高周波乾燥機１２と、センサ１４と、を備える。
【００１４】
高周波乾燥機１２は、後述する電極５８（図２）に高周波電界を印加することにより、高周波誘電加熱方式によって、搬送物である媒体Ｐを加熱し乾燥させる。
【００１５】
センサ１４は、媒体Ｐの表面に近赤外光を照射して、その反射光の強さを測定する。そして、測定された反射光の強さに基づいて、媒体Ｐの水分量（乾燥度合）を算出する。センサ１４は、原理的には様々な形態で実現することができる（媒体Ｐに直流の電気を流して、電気抵抗値を測定することによって水分率を測定する。媒体Ｐに交流の電気を流して、電気容量の変化を測定する。媒体Ｐにマイクロ波を印加して、マイクロ波の減衰度合から水分率を測定する。媒体Ｐに照射した近赤外光の反射率を測定することによって水分率を測定する。）が、媒体Ｐに非接触で測定できるのが望ましい。そのため、本実施形態では、近赤外光の反射率を測定する光学的な測定手法を用いるものとして説明する。
【００１６】
なお、詳しくは後述するが、センサ１４は、媒体Ｐの搬送方向Ｑに対して直交する方向に沿って、同一のセンサ１４ａ，１４ｂ，１４ｃが複数（図１の例では３組）設けられている。各センサ１４ａ，１４ｂ，１４ｃの測定結果に応じた高周波電界を、高周波乾燥機１２の各センサ１４ａ，１４ｂ，１４ｃに対応する位置に設けられた電極５８ａ，５８ｂ，５８ｃ（図２参照）に印加することによって、媒体Ｐを加熱し乾燥させる。
【００１７】
画像形成部３０は、有色ラインヘッドユニット３１を備えている。有色ラインヘッドユニット３１は、ブラック（Ｂｋ）、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）各色のラインヘッドユニット３１Ｂｋ，３１Ｃ，３１Ｍ，３１Ｙが、媒体Ｐの搬送方向（矢印Ｑ）に沿って順次並んで配設されている。各色のラインヘッドユニット３１Ｂｋ，３１Ｃ，３１Ｍ，３１Ｙの媒体Ｐ側の面には、各色のインク吐出ノズルが主走査方向に複数個並んで設けられている。各色のインク吐出ノズルは、それぞれ、各色のインクを、搬送部４０によって搬送される媒体Ｐに向かって吐出する。
【００１８】
各色のラインヘッドユニット３１Ｂｋ，３１Ｃ，３１Ｍ，３１Ｙは、搬送部４０による媒体Ｐの搬送タイミングに合わせて、対応する色のインクを順次同じドット上に重ね合わせて吐出する。これにより、インクジェット記録装置１は、画像データに応じた色のドット画像を形成する。
【００１９】
各色のラインヘッドユニット３１Ｂｋ，３１Ｃ，３１Ｍ，３１Ｙから吐出される各色のインクは、顔料等の色剤を溶剤に溶け込ませたものが主に用いられる。なお、インクの構成はこのような構成に限るものではなく、例えば、色剤として染料を用いたものであってもよい。
【００２０】
なお、有色ラインヘッドユニット３１が有するラインヘッドユニットは、上述したブラック（Ｂｋ）、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）の各色のラインヘッドユニット３１Ｂｋ，３１Ｃ，３１Ｍ，３１Ｙに限るものではない。例えば、インクジェット記録装置１は、有色ラインヘッドユニット３１として、ライトグレー、ライトシアン、ライトマゼンタ等の薄色、あるいは、その他の特色を吐出するラインヘッドユニットを備えてもよい。また、ラインヘッドユニット３１Ｂｋ，３１Ｃ，３１Ｍ，３１Ｙの搬送方向Ｑに対する並び順は、前述した並び順に限定されない。
【００２１】
さらに、各色のラインヘッドユニット３１Ｂｋ，３１Ｃ，３１Ｍ，３１Ｙの駆動方式は特に限定されるものではなく、適宜、各種駆動方式を用いるとしてよい。例えば、駆動方式として、ＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）等の圧電素子を用いた圧電方式、熱エネルギーを作用させる熱エネルギー方式等を用いることができる。あるいは、駆動方式として、静電気力を利用した静電方式等のアクチュエータを利用したオンデマンド型ヘッド、連続噴射型荷電制御ヘッド等を用いることができる。
【００２２】
搬送部４０は、給紙ローラ３２と、搬送ローラ対３４ａ，３４ｂ，３４ｃと、複数の搬送ローラ３６と、巻取ローラ３８と、を備えて、搬送物である媒体Ｐを搬送する。
【００２３】
給紙ローラ３２は、所定の長さの媒体Ｐが巻き付けられたロール紙束を回転可能に支持している。媒体Ｐの先端は、給紙ローラ３２の近傍に配設されている搬送ローラ対３４ａのローラ間に挿入される。
【００２４】
搬送ローラ対３４ａは、図示しない駆動モータによって回転駆動されることによって、媒体Ｐを、図１に矢印で示す搬送方向Ｑに送り出す。複数の搬送ローラ３６は、媒体Ｐの搬送方向Ｑに沿って水平に配設されている。複数の搬送ローラ３６は、搬送ローラ対３４ａから送り出された媒体Ｐを、水平状態を保って搬送方向Ｑに搬送する。
【００２５】
搬送ローラ対３４ｂ，３４ｃは、複数の搬送ローラ３６によって搬送された媒体Ｐを、巻取ローラ３８へガイドする。巻取ローラ３８は、図示しない駆動モータによって回転駆動されて、給紙ローラ３２から送り出された媒体Ｐを巻き取る。
【００２６】
なお、図１には、給紙ローラ３２と巻取ローラ３８との間に媒体Ｐを張架する構成例を示したが、実施形態はこれに限定されない。例えば、その他の構成例として、給紙ローラ３２および巻取ローラ３８に替えて、無端状の搬送ベルトを張架する２つのローラを設けてもよい。そして、インクジェット記録装置１は当該ローラ対を駆動モータによって回転駆動し、搬送ベルトを搬送方向Ｑに搬送することによって、搬送ベルト上のカット媒体を搬送してもよい。
【００２７】
（高周波乾燥装置の構成の説明）
次に、図２を用いて高周波乾燥装置２０の構成について説明する。図２は、高周波乾燥装置２０の概略構成図である。高周波乾燥装置２０は、センサ１４と、高周波乾燥機１２と、電力制御部１３と、を備えている。センサ１４は、前述したように３組の同一のセンサ１４ａ，１４ｂ，１４ｃを備えている。各センサ１４ａ，１４ｂ，１４ｃは、それぞれ同一の構造を有する高周波乾燥機１２ａ，１２ｂ，１２ｃに対して、媒体Ｐの搬送方向Ｑの下流側に、高周波乾燥機１２ａ，１２ｂ，１２ｃとそれぞれ対応する位置に設置されている。
【００２８】
高周波乾燥機１２ａ，１２ｂ，１２ｃは、それぞれ媒体Ｐの幅方向（搬送方向Ｑと直交する方向Ｄ）に沿って配設されて、媒体Ｐの搬送方向Ｑと直交する方向Ｄに対して、センサ１４ａと同じ位置に高周波乾燥機１２ａを備え、センサ１４ｂと同じ位置に高周波乾燥機１２ｂを備え、センサ１４ｃと同じ位置に高周波乾燥機１２ｃを備えている。
【００２９】
高周波乾燥機１２ａ，１２ｂ，１２ｃは、それぞれ、電極５８ａ，５８ｂ，５８ｃと、電源６０ａ，６０ｂ，６０ｃと、を備えている。そして、電極５８ａ，５８ｂ，５８ｃは、それぞれ、センサ１４ａ，１４ｂ，１４ｃに対して、媒体Ｐの搬送方向Ｑの上流側に設置されている。
【００３０】
電極５８ａ，５８ｂ，５８ｃは、搬送方向Ｑに沿って搬送される媒体Ｐに対して高周波電界を印加する。媒体Ｐである紙やプラスチック、布などは、一般的には電気的に絶縁物であり、極めて熱伝導の悪い物質である。これらの物質に高周波電界を与えると、物質を構成する分子が激しく運動して摩擦熱が発生する。この摩擦熱の発生により、物質は内部・外部ともに均一に発熱する。この発熱によって、媒体Ｐに塗布されたＵＣ液を乾燥させることができる。なお、電極５８ａ，５８ｂ，５８ｃの詳細な構成については後述する。
【００３１】
電源６０ａ，６０ｂ，６０ｃは、電極５８ａ，５８ｂ，５８ｃに対して高周波電界を供給する。電源６０ａ，６０ｂ，６０ｃの詳細な構成については後述する。
【００３２】
電力制御部１３は、センサ１４ａ，１４ｂ，１４ｃの出力に基づいて、電極５８ａ，５８ｂ，５８ｃにそれぞれ印加する高周波電界が有する電力を個別に制御する。電力制御部１３の詳細な構成については後述する。
【００３３】
（高周波乾燥装置の機能構成の説明）
図３を用いて、高周波乾燥装置２０の機能構成について説明する。図３は、高周波乾燥装置２０の機能構成を示す機能ブロック図である。なお、前述したように、高周波乾燥装置２０（高周波乾燥機１２）は、同一の構造を有する３組の高周波乾燥機１２ａ，１２ｂ，１２ｃと、同一の構造を有する３組のセンサ１４ａ，１４ｂ，１４ｃ（いずれも図２）と、を備えている。説明を簡単にするため、図３には、代表して、センサ１４ａと、高周波乾燥機１２ａと、を含む機能構成を示す。
【００３４】
図３に示すように、高周波乾燥装置２０は、センサ１４ａと、高周波乾燥機１２ａと、電力制御部１３と、を備えている。
【００３５】
高周波乾燥機１２ａは、電源６０ａと、電極５８ａと、を備えている。また、電力制御部１３は、電圧検出器４５と、コントローラ４６と、を備えている。
【００３６】
電源６０ａは、高周波発生回路４１と、パワーアンプ４２と、整合器４３と、を備えている。高周波発生回路４１は、コントローラ４６が出力した制御信号ＣＴＲＬ＿ＲＦに基づく周波数、振幅、位相の高周波信号（高周波電界）を生成する。なお、生成される高周波の周波数帯域は、概ね数ＭＨｚ〜数百ＭＨｚの範囲である。
【００３７】
パワーアンプ４２は、コントローラ４６が出力した制御信号ＣＴＲＬ＿ＰＡに基づいて、高周波発生回路４１からの入力を増幅して整合器４３へ出力する。
【００３８】
整合器４３は、パワーアンプ４２が出力した高周波信号を効率よく電極５８ａに供給するために、パワーアンプ４２から整合器４３へ進行する進行波の位相と、整合器４３からパワーアンプ４２へ反射する反射波の位相とが同相となるようにインピーダンス整合を行う。整合器４３の具体的な構成については後述する。
【００３９】
電圧検出器４５は、電極５８ａのプラス電極端子Ｖｐとマイナス電極端子Ｖｍとの間に印加される電極間電圧Ｖｏを検出して、検出結果ＯＵＴ＿Ｖをコントローラ４６に出力する。電極５８ａのプラス電極端子Ｖｐには整合器４３の出力電圧Ｖが入力されて、マイナス電極端子Ｖｍは整合器４３を介してグラウンドＧＮＤに接地される。従って、電極間電圧Ｖｏは、Ｖｏ＝Ｖｐ−Ｖｍ＝Ｖとなる。電圧検出器４５は、電極間電圧Ｖｏの各種成分、即ち振幅および位相等を含む波形データを、検出結果ＯＵＴ＿Ｖとしてコントローラ４６に出力する。電圧検出器４５の具体的な構成については後述する。
【００４０】
コントローラ４６は、高周波乾燥装置２０の各種動作を制御する制御手段として機能する。コントローラ４６は、ＣＰＵ５０と、メモリ５１と、入力インターフェース部５２と、出力インターフェース部５３と、が内部バス５４で接続された構成を備えている。
【００４１】
ＣＰＵ５０は、後述するメモリ５１に格納されたプログラムを読み出して実行することによって、高周波乾燥装置２０の各種動作の制御を司る。
【００４２】
メモリ５１は、ＣＰＵ５０を動作させるプログラム、および高周波乾燥装置２０を動作させるための種々のデータを記憶する。
【００４３】
入力インターフェース部５２は、センサ１４ａの出力を受け取る。また、入力インターフェース部５２は、電圧検出器４５の検出結果ＯＵＴ＿Ｖを受け取る。さらに、入力インターフェース部５２は、整合器４３から後述する検出結果ＯＵＴ＿ＭＡＴＣＨを受け取る。なお、入力インターフェース部５２は、図示しないＡＤ変換器を備えており、受け取った各信号をデジタル信号に変換する。
【００４４】
出力インターフェース部５３は、ＣＰＵ５０の演算結果を電源６０ａに送信する。具体的には、出力インターフェース部５３は、制御信号ＣＴＲＬ＿ＲＦを高周波発生回路４１に送信する。また、出力インターフェース部５３は、制御信号ＣＴＲＬ＿ＰＡをパワーアンプ４２に送信する。さらに、出力インターフェース部５３は、後述する制御信号ＣＴＲＬ＿ＭＡＴＣＨを整合器４３に送信する。
【００４５】
コントローラ４６は、高周波発生回路４１に対して制御信号ＣＴＲＬ＿ＲＦを出力して、高周波発生回路４１のスリープ／アクティブ制御、周波数制御、振幅制御、位相制御等を行う。また、コントローラ４６は、パワーアンプ４２に対して制御信号ＣＴＲＬ＿ＰＡを出力して、パワーアンプ４２のスリープ／アクティブ制御、増幅率の変更等を行う。
【００４６】
このように、コントローラ４６は、高周波発生回路４１によって電極間電圧を制御してもよいし、あるいは、パワーアンプ４２によって電極間電圧を制御してもよい。また、高周波発生回路４１およびパワーアンプ４２の双方を制御することにより、電極間電圧Ｖｏを制御してもよい。
【００４７】
また、コントローラ４６は、整合器４３が出力した進行波、反射波に関する検出結果ＯＵＴ＿ＭＡＴＣＨ（図４参照）を受信して、進行波と反射波のインピーダンス整合状態を検出する。ここで、進行波とは、パワーアンプ４２から整合器４３へ進行する高周波のことであり、反射波とは、整合器４３からパワーアンプ４２へ反射する高周波のことである。
【００４８】
コントローラ４６は、整合器４３からパワーアンプ４２へ反射する反射波をゼロにして、整合器４３と電極５８ａとの間のインピーダンスを整合させる。即ち、コントローラ４６は、整合器４３を構成する可変コンデンサＣ１、Ｃ２、および可変インダクタＬ１（ともに図４参照）のコンダクタンスおよびインダクタンスを制御する。具体的には、コントローラ４６は、前述したコンダクタンスおよびインダクタンスの制御値を制御信号ＣＴＲＬ＿ＭＡＴＣＨに含めて整合器４３に出力する。
【００４９】
このように、コントローラ４６は、整合器４３の検出結果ＯＵＴ＿ＭＡＴＣＨにより進行波および反射波の振幅と位相とをモニタしながら、整合器４３の容量やインダクタンスを変化させて、反射波がゼロとなるように調整する。これによりコントローラ４６は、進行波と反射波のインピーダンス整合を行う。
【００５０】
（整合器の回路構成の説明）
次に、図４を用いて整合器４３の具体的な回路構成について説明する。図４は、整合器４３の回路構成の一例を示す図である。
【００５１】
整合器４３は、方向性結合器５５と、整合回路５６とを備えている。整合回路５６は、可変コンデンサＣ１、Ｃ２と、可変インダクタＬ１と、電極間容量Ｃと、を備えている。可変コンデンサＣ１はアドミッタンスの虚数成分を調整するための容量である。また、可変コンデンサＣ２はインピーダンスの虚数成分を調整するための容量である。電極間容量Ｃは、プラス電極端子Ｖｐとマイナス電極端子Ｖｍとの間に発生する静電容量成分である。整合回路５６は、インピーダンス整合された高周波電界を、電極５８ａ（図３）のプラス電極端子Ｖｐに印加する。なお、図４に示した整合回路５６の構成例は、一般的に用いられている整合回路の構成である。整合器４３および整合回路５６の回路構成は、図４に示した例に限定されるものではなく、同様の作用が得られる回路であれば、図４と異なる回路構成を用いてもよい。
【００５２】
方向性結合器５５は、パワーアンプ４２から整合器４３へ進行する進行波、および、整合器４３からパワーアンプ４２へ反射する反射波を、それぞれ所定の減衰率で減衰する。また、方向性結合器５５は、進行波および反射波について、その振幅や位相、互いの高周波位相の位相差などを検出し、その検出結果ＯＵＴ＿ＭＡＴＣＨ（図３）をコントローラ４６に出力する。
【００５３】
（電極の構成の説明）
次に、図５を用いて電極５８ａの具体的な構成について説明する。図５は、電極５８ａの構成の一例を示す図である。なお、他の電極５８ｂ，５８ｃも同様の構成を有している。
【００５４】
電極５８ａは、媒体Ｐの搬送方向Ｑに沿って、プラス電極とマイナス電極が所定間隔をおいて交互に設けられている。それぞれの棒状電極（プラス電極およびマイナス電極）は、媒体Ｐに対してわずかに離間しており、棒状電極と媒体Ｐとは接触していない状態を保っている。プラス電極同士は互いに接続されており、プラス電極端子Ｖｐには、整合器４３の出力電圧が入力される。また、マイナス電極同士は互いに接続されており、マイナス電極端子Ｖｍは接地される。
【００５５】
各棒状電極は、媒体Ｐの幅方向（搬送方向Ｑと直交する方向Ｄ）に沿った円柱形状をしており、各円柱の長さは、媒体Ｐの幅あるいは媒体Ｐの印字領域の幅よりも長く形成されている。
【００５６】
なお、図５の例では、各棒状電極の形状を円柱状としたが、棒状電極の形状はこれに限定されない。棒状電極の形状は、角柱状であってもよいし、その他の断面形状を有し、媒体Ｐの幅方向に長い柱状としてもよい。また、図５の例では、各棒状電極を、搬送方向Ｑと直交する方向に沿って配置した例を示したが、各棒状電極は搬送方向に対して斜めに傾けて配置してもよい。但し、各棒状電極は互いに平行に配置されることが好ましい。また、棒状電極同士の間隔はすべて等しく設けておくとよい。このようにすることにより、プラス電極とマイナス電極間に発生する高周波電界を均等にすることができ、加熱対象である媒体Ｐを、より効率的に加熱することができる。
【００５７】
図６は、高周波乾燥機１２における電極５８の配置の一例を示す図である。図６に示すように、前述した電極５８ａと同じ構成を有する電極５８ｂ，５８ｃが、それぞれ、媒体Ｐの搬送方向Ｑと直交する方向に沿って配置される。各電極５８ａ，５８ｂ，５８ｃには、媒体Ｐの乾燥度合に応じて電源６０（６０ａ，６０ｂ，６０ｃ）で独立して生成された高周波電界が、それぞれ印加される。なお、設置する電極５８および電源６０の数は３つに限定されるものではなく、より多くの電極５８を設置すれば、媒体Ｐの乾燥度合をより細かい領域で制御することができる。
【００５８】
（電圧検出器の回路構成の説明）
次に、図７を用いて電圧検出器４５の具体的な回路構成について説明する。図７は、電圧検出器４５の回路構成の一例を示す図である。
【００５９】
電圧検出器４５は抵抗素子Ｒ１、Ｒ２を直列に配した回路で構成される。電圧検出器４５は、電極５８ａのプラス電極端子Ｖｐとマイナス電極端子Ｖｍとの間に抵抗素子Ｒ１、Ｒ２を配置して、電極間電圧Ｖｏ、即ち整合器４３の出力電圧Ｖを分圧することによって、電極間電圧ＯＵＴ＿Ｖを取り出してコントローラ４６に出力する。
【００６０】
一般的に高周波乾燥機１２では、電極間電圧Ｖｏは数ｋＶレベルの高電圧となるため、電極間電圧Ｖｏをそのままコントローラ４６に入力してモニタリングすることは困難である。例えば、電圧検出器４５において、抵抗素子Ｒ１を例えば１ＭΩとし、抵抗素子Ｒ２を例えば１ｋΩとすることで、コントローラ４６はおおよそ１／１０００に降圧した高周波電界を取り出すことができる。コントローラ４６はこの高周波電界をアナログデジタル変換器（ＡＤＣ）等でデジタル変換することにより、波形データを取得して、電極間電圧Ｖｏを検出する。
【００６１】
（高周波乾燥装置が行う電力制御処理の説明）
次に、図８を用いて高周波乾燥装置２０が行う電力制御処理について説明する。図８は、高周波乾燥装置２０が行う電力制御処理の制御構成を示すブロック線図である。
【００６２】
図８に示すように、高周波乾燥装置２０は、コントローラ４６と、電源６０ａと、電極５８ａと、センサ１４ａと、を備えたフィードバック制御ループＬ１を有する。そして、同様のフィードバック制御ループＬ２，Ｌ３が電極毎に構成されている。
【００６３】
フィードバック制御ループＬ１の作用について説明する。媒体Ｐの乾燥度合の目標値として、水分率の所定値（例えば５％）が設定されると、コントローラ４６は、水分率計（センサ１４ａ）の出力が所定値に近づくように、電源６０ａが電極５８ａに印加する高周波電界を制御する。このとき、コントローラ４６は、センサ１４ａの出力を読み取って、電源６０ａにおいて、センサ１４ａの出力と、目標値と、の差分量に応じた高周波電界を生成させる。生成された高周波電界は、電極５８ａに印加されて、媒体Ｐを加熱、乾燥させる。
【００６４】
このようなフィードバック制御を行うことによって、例えば、ＵＣ液の塗布量が媒体Ｐの場所によってばらついた場合や、高周波乾燥装置２０内における媒体Ｐのばたつきによって加熱特性のばらつきが生じた場合であっても、センサ１４ａの出力である媒体Ｐの水分率が所定値（この場合５％）に近づくように制御されるため、媒体Ｐの場所による乾燥度合のばらつきを小さくすることができる。
【００６５】
（高周波乾燥装置が行う電力制御処理の流れの説明）
次に、図９を用いて高周波乾燥装置２０が行う電力制御処理の流れについて説明する。図９は、高周波乾燥装置２０が行う電力制御処理の流れを示すフローチャートである。
【００６６】
コントローラ４６は、媒体Ｐの水分率の目標値を設定する（ステップＳ１０）。
【００６７】
コントローラ４６は、センサ１４ａが測定した媒体Ｐの水分率を読み取る（ステップＳ１２）。
【００６８】
コントローラ４６は、媒体Ｐの水分率が目標値と等しいかを判断する（ステップＳ１４）。媒体Ｐの水分率が目標値と等しいとき（ステップＳ１４；Ｙｅｓ）は図９の処理を終了し、それ以外のとき（ステップＳ１４；Ｎｏ）はステップＳ１６に進む。
【００６９】
電源６０ａは、センサ１４ａが測定した媒体Ｐの水分率と目標値の差分量に応じた高周波電界を生成する（ステップＳ１６）。
【００７０】
電源６０ａは、生成した高周波電界を電極５８ａに印加する（ステップＳ１８）。その後、ステップＳ１２に戻る。
【００７１】
以上説明したように、本実施形態に係る高周波乾燥装置２０は、媒体Ｐ（搬送物）を、媒体Ｐの搬送方向Ｑと直交する方向に沿って設けた、高周波電界を印加する複数の電極５８（５８ａ，５８ｂ，５８ｃ）と、電極５８よりも搬送方向Ｑの下流側に、電極５８とそれぞれ対応する位置に設けた、媒体Ｐの乾燥度合を測定する複数のセンサ１４（１４ａ，１４ｂ，１４ｃ）と、を備えた搬送部４０が搬送する際に、電力制御部１３が、複数のセンサ１４（１４ａ，１４ｂ，１４ｃ）の各測定結果に応じて、複数のセンサ１４とそれぞれ対応する位置に設けた複数の電極５８にそれぞれ印加する高周波電界の電力を個別に制御する。したがって、媒体Ｐを均一に乾燥させることができる。
【００７２】
また、本実施形態に係る高周波乾燥装置２０は、電力制御部１３が、複数のセンサ１４（１４ａ，１４ｂ，１４ｃ）の各測定結果に応じて、媒体Ｐ（搬送物）の乾燥度合が所定値よりも低いことを条件として、複数のセンサ１４とそれぞれ対応する位置に設けた複数の電極５８にそれぞれ印加する高周波電界の電力を増加させて、媒体Ｐの乾燥度合が前記所定値よりも高いことを条件として、複数のセンサ１４とそれぞれ対応する位置に設けた複数の電極５８にそれぞれ印加する高周波電界の電力を減少させる。したがって、媒体Ｐの乾燥度合を、場所によらずに均一にすることができる。
【００７３】
そして、本実施形態に係る高周波乾燥装置２０は、センサ１４として水分率計を用いる。したがって、搬送物である媒体Ｐの乾燥度合を簡便かつ確実に測定することができる。
【００７４】
また、本実施形態に係る高周波乾燥装置２０は、搬送物であるシート状の印字媒体である媒体Ｐを乾燥対象物とする。したがって、媒体Ｐを均一に乾燥させることができるため、媒体Ｐに印字した際に、均一な印字画質を得ることができる。
【００７５】
特に、本実施形態に係るインクジェット記録装置１（画像形成装置）は、高周波乾燥装置２０を備えて、媒体Ｐに塗布された前処理用アンダーコート液（ＵＣ液）を乾燥させる。したがって、ＵＣ液の塗布量にむらが生じたとき、あるいは電極５８と媒体Ｐとの距離にばらつきが生じたとき、であってもＵＣ液が均一に乾燥するため、インクジェット記録装置１による出力画像の画質を均一なものとすることができる。
【００７６】
以上、実施形態について説明したが、その各部の具体的な構成、処理の内容等は、実施形態で説明したものに限るものではない。
【００７７】
例えば、上記実施形態では、本発明の高周波乾燥装置２０を、インクジェット記録装置１に適用した例を説明したが、高周波乾燥装置２０の適用例はこれに限定されない。すなわち、本実施形態の高周波乾燥装置２０をレーザプリンタに適用してもよい。また、本実施形態の高周波乾燥装置２０を、プリンタ機能の他に、コピー機能、スキャナ機能またはファクシミリ機能の少なくともいずれか１つの機能を有する複合機に適用してもよい。あるいは、本実施形態の高周波乾燥装置２０を、複写機、ファクシミリ装置等の画像形成装置に適用してもよい。
【００７８】
さらに、上記実施形態では、記録媒体（メディア）である媒体Ｐを搬送物として説明したが、搬送物は記録媒体に限定されるものではない。例えば、強化プラスチックの材料になるプリプレグを製造する際に、洗浄後の乾燥工程において高周波乾燥装置２０を使用することもできる。
【符号の説明】
【００７９】
１      インクジェット記録装置（画像形成装置）
１０    液体塗布機
１２    高周波乾燥機
１３    電力制御部
１４，１４ａ，１４ｂ，１４ｃ    センサ
２０    高周波乾燥装置
３０    画像形成部
４０    搬送部
５８，５８ａ，５８ｂ，５８ｃ    電極
Ｐ      媒体（搬送物）
【先行技術文献】
【特許文献】
【００８０】
【特許文献１】特開２０１０−１２７５２号公報
【図１】
2018009754.tif 000003
【図２】
2018009754.tif 000004
【図３】
2018009754.tif 000005
【図４】
2018009754.tif 000006
【図５】
2018009754.tif 000007
【図６】
2018009754.tif 000008
【図７】
2018009754.tif 000009
【図８】
2018009754.tif 000010
【図９】
2018009754.tif 000011