(57)【要約】【課題】ブロワ12とプレフィルタ11とＨＥＰＡフィルタ13とを有するガス浄化空間部２を形成する密閉筐体22から、ガス流入口・ガス流路口を省略し、かつ、ワークの除塵を確実に行うことのできる除塵構造を提供する。【解決手段】ＨＥＰＡフィルタ13にて浄化されて送り出されるガス全流量Ｖ0 から、２％〜20％の流量（ΔＶ）を分流させて、ガス浄化空間部２内へ放出する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
連通路（Ｋ）を介して相互に連通連結された作業空間部（１）とガス浄化空間部（２）とを有する封止空間部（10）を具備し、
上記作業空間部（１）内には、ワーク（Ｗ）の被除塵面（３）に対してガスを吹き付ける吐出孔（５）・プレッシャヘッド部（６）、及び、該被除塵面（３）から遊離した粉塵（８）を吸込む吸引孔（７）・バキュームヘッド部（９）を、有するクリーナヘッド（４）が設けられ、
上記ガス浄化空間部（２）内には、プレフィルタ（11）とブロワ（12）とＨＥＰＡフィルタ（13）が設けられ、
上記プレフィルタ（11）を介して上記バキュームヘッド部（９）と上記ブロワ（12）の吸込部（12Ａ）とを連結する吸込配管（14）を設け、
上記ＨＥＰＡフィルタ（13）を介して上記プレッシャヘッド部（６）と上記ブロワ（12）の吐出部（12Ｂ）とを連結する吐出配管（15）を設け、
さらに、上記ＨＥＰＡフィルタ（13）にて浄化されて送り出されるガス全流量（Ｖ0 ）から、一定割合の流量（ΔＶ）を分流させて、上記ガス浄化空間部（２）内へ放出するバルブ（20）を、備えていることを特徴とする除塵構造。
【請求項２】
上記ガス浄化空間部（２）は、上記連通路（Ｋ）以外はガス流入口・ガス流出口が省略された密閉筐体（22）にて閉鎖されている請求項１記載の除塵構造。
【請求項３】
上記一定割合を、２％〜20％の範囲内に設定した請求項１又は２記載の除塵構造。
【請求項４】
上記作業空間部（１）には、ガス流入口（16）及びガス流出口（17）が設けられている請求項１，２又は３記載の除塵構造。
【請求項５】
上記連通路（Ｋ）は、配管（18）（19）をもって構成されている請求項１，２，３又は４記載の除塵構造。
【請求項６】
上記連通路（Ｋ）は、上記ガス浄化空間部（２）と上記作業空間部（１）とを連結する第１配管部（19Ｂ）と第２配管部（19Ｃ）を備え、
さらに、上記ＨＥＰＡフィルタ（13）とは別のＨＥＰＡフィルタ（23）を、上記第１配管部（19Ｂ）に対応して設け、
かつ、交互に、上記第１配管部（19Ｂ）と第２配管部（19Ｃ）を、開閉切換自在な切換弁手段（25）を有する
請求項１，２，３又は４記載の除塵構造。
【請求項７】
上記作業空間部（１）とガス浄化空間部（２）とは、区画壁（26）にて区画され、しかも、該区画壁（26）に窓部（27）を貫設して上記連通路（Ｋ）とした請求項１，２，３又は４記載の除塵構造。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、除塵構造に係り、特に、不活性ガスを使用する有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（以下、「有機ＥＬディスプレイ」と略す）等の製造ラインに好適な除塵装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、図６に示すように、有機ＥＬディスプレイ製造ラインに於て、単に不活性ガス（窒素ガス）を浄化するガス浄化装置が知られている（特許文献１参照）。
即ち、図６に示すように、有機ＥＬディスプレイ製造ラインから流入するクリーニング対象ガス40に含まれる異物（粉塵）を除去するプレフィルタ42と、プレフィルタ42から流入するガス41を圧送するブロワ44と、ブロワ44から流入するガス45に含まれる異物（粉塵）を除去するＨＥＰＡフィルタ46と、プレフィルタ42とブロワ44とを密封状に包囲する筐体49とを、具備し、ＨＥＰＡフィルタ46から製造ラインへ浄化したガス47を送り出すガス浄化装置である。しかも、筺体49には、上記クリーニング対象ガス40，41，45，47と同系統のガス50を筐体49内に満たすために、筺体49には、ガス流入口60及びガス流出口61が貫設され、（図外の）大型のガス浄化設備からの清浄ガス62，63が供給・排出される構成であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第５８９６４５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、図６に示す従来のガス浄化装置には、次のような問題点があった。つまり、 (ｉ) 製造ラインへ清浄ガス47を送り出すことは可能ではあるが、製造ラインに於て、如何にして有機ＥＬディスプレイ等の製造ライン上のワーク（有機ＥＬ素子）から粉塵（異物）を除去するか、及び、その粉塵の一部が製造ラインの存在する洗浄空間に飛散することを防止するのか、については未解決である点、 (ii) 筐体49内へ常に清浄ガス62をガス流入口・流出口60，61を通して供給せねばならず、（図外の）大型の高度ガス浄化設備に負担を掛けるという問題、(iii) 筐体49を設置するに際して、ガス流入口60・ガス流出口61と大型の上記高度ガス浄化設備とを接続する面倒な工事を必要とする点。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、連通路を介して相互に連通連結された作業空間部とガス浄化空間部とを有する封止空間部を具備し、上記作業空間部内には、ワークの被除塵面に対してガスを吹き付ける吐出孔・プレッシャヘッド部、及び、該被除塵面から遊離した粉塵を吸込む吸引孔・バキュームヘッド部を、有するクリーナヘッドが設けられ、上記ガス浄化空間部内には、プレフィルタとブロワとＨＥＰＡフィルタが設けられ、上記プレフィルタを介して上記バキュームヘッド部と上記ブロワの吸込部とを連結する吸込配管を設け、上記ＨＥＰＡフィルタを介して上記プレッシャヘッド部と上記ブロワの吐出部とを連結する吐出配管を設け、さらに、上記ＨＥＰＡフィルタにて浄化されて送り出されるガス全流量から、一定割合の流量を分流させて、上記ガス浄化空間部内へ放出するバルブを、備えているものである。
【０００６】
また、上記ガス浄化空間部は、上記連通路以外はガス流入口・ガス流出口が省略された密閉筐体にて閉鎖されている。
また、上記一定割合を、２％〜20％の範囲内に設定した。
また、上記作業空間部には、ガス流入口及びガス流出口が設けられている。
【０００７】
また、上記連通路は、配管をもって構成されている。
また、上記連通路は、上記ガス浄化空間部と上記作業空間部とを連結する第１配管部と第２配管部を備え、さらに、上記ＨＥＰＡフィルタとは別のＨＥＰＡフィルタを、上記第１配管部に対応して設け、かつ、交互に、上記第１配管部と第２配管部を、開閉切換自在な切換弁手段を有する。
また、上記作業空間部とガス浄化空間部とは、区画壁にて区画され、しかも、該区画壁に窓部を貫設して上記連通路とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明に係る除塵構造によれば、クリーナヘッドの吐出孔から被除塵面に吹き付けるガスの流量よりも、吸引孔から吸込む流量が多目となるので、被除塵面から遊離した粉塵が清浄な作業空間部を汚すことが減少乃至無くなり、しかも、ガス浄化空間部内へは、ＨＥＰＡフィルタを経た清浄ガスが一定割合の流量をもって放出して、ガス浄化空間部内を清浄に維持できる。
さらに、ガス浄化空間部へは、ＨＥＰＡフィルタを経た後の清浄ガスが放出されるので、ガス浄化空間部には、（図６に示したような）ガス流入口とガス流出口を省略できる。これに伴って、大型の高度ガス浄化設備に負担が掛らず、しかも、このガス浄化設備との接続工事も不要となる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の実施の一形態を示す構成説明図であって、（Ａ）は全体の構成説明図、（Ｂ）は要部の構成説明図である。
【図２】本発明の他の実施の形態を示す構成説明図であって、（Ａ）は全体構成説明図、（Ｂ）はその変形例を示した構成説明図である。
【図３】本発明の別の実施の形態を示す構成説明図である。
【図４】ワークの被除塵面に対してガスを吹き付け、かつ、粉塵を吸込む状態を説明すると共に、クリーナヘッドの一例を断面にて説明する模式図である。
【図５】比較例を示した構成説明図である。
【図６】従来例を示す構成説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、図示の実施の形態に基づき本発明を詳説する。
図１又は図２若しくは図３に示す各実施の形態に於て、連通路Ｋを介して相互に連通連結された作業空間部１とガス浄化空間部２とを有する密封状の封止空間部10を、具備している。つまり、封止空間部10は、作業空間部１と連通路Ｋとガス浄化空間部２から構成されている。
【００１１】
作業空間部１内には、図４に例示するように、ワークＷの被除塵面３に対して、ガスを矢印Ｕ方向に吹き付ける吐出孔５・プレッシャヘッド部６を有すると共に、被除塵面３から遊離した粉塵８を吸込む吸引孔７・バキュームヘッド部９を有するクリーナヘッド４が、設けられている。図４に於て、矢印Ｖ方向に粉塵８が吸引孔７、続いてバキュームヘッド部９へと、吸込まれてゆく。なお、図１，図２，図３では、（図４に示した）ワークＷの図示を省略している。ワークＷは、図４では、矢印Ｂ方向に送りが与えられている。
他方、ガス浄化空間部２内には、プレフィルタ（ＰＲＥフィルタ）11と（電機モータ内蔵の）ブロワ12とＨＥＰＡフィルタ13が、設けられている。
上記作業空間部１内には、ワークＷに送りを与える搬送手段、及び、被除塵面３から粉塵（異物という）８を除去するクリーナヘッド４等を有する少なくともワーク除塵・清浄化ラインが、配設されている。
【００１２】
そして、図１，図２又は図３に於て、14は、上記プレフィルタ11を介して、クリーナヘッド４のバキュームヘッド部９（図４参照）とブロワ12の吸込部12Ａとを連結する吸込配管である。
また、ＨＥＰＡフィルタ13を介して、クリーナヘッド４のプレッシャヘッド部６（図４参照）とブロワ12の吐出部12Ｂとを連結する吐出配管15が設けられている。
作業空間部１はいわゆるクリーンルームとして密閉壁面体21にて包囲形成されると共に、ガス浄化空間部２は密閉筐体22にて包囲形成されている。
【００１３】
ところで、有機ＥＬディスプレイの有機材は、大気（酸素）や水に触れて劣化しやすいため、窒素ガスやアルゴンガス等の不活性ガス雰囲気のもとにて、ＲＧＢ発光層等や金属電極材を基板に、真空蒸着で成膜したり、封止ガラスの接着（封止）を行う必要があり、図４に示すワークＷはこのように大気（酸素）に触れて劣化する材質のものであり、作業空間部１及びガス浄化空間部２は上記不活性ガス雰囲気である。
【００１４】
図１，図２又は図３に於て、20は放出用バルブであって、ＨＥＰＡフィルタ13にて浄化されて送り出される（清浄）ガス全流量Ｖ0 から、一定割合の流量ΔＶを分流させて、ガス浄化空間部２内へ放出する。具体的には、ＨＥＰＡフィルタ13の吐出部よりも下流側位置で、吐出配管15に上記バルブ20を付設する。この一定割合とは、２％〜20％の範囲に設定され、好ましくは、５％〜15％とし、望ましくは、７％〜12％である。
数式で表せば、0.02・Ｖ0 ≦ΔＶ≦0.20・Ｖ0 であり、好ましくは、0.05・Ｖ0 ≦ΔＶ≦0.15・Ｖ0 、望ましくは、0.07・Ｖ0 ≦ΔＶ≦0.12・Ｖ0 となる。バルブ20としては、流量制御弁、リリーフ弁、あるいは、絞り弁等が用い得る。
【００１５】
上記ガス浄化空間部２は、連通路Ｋ以外には、図６に示したガス流入口60・ガス流出口61が省略されている。即ち、ガス浄化空間部２は、密閉筐体22にて閉鎖され、ガス流入口60・ガス流出口61が無く、連通路Ｋのみによって、密閉筐体22の外部の作業空間部１と連通連結されて、ガスが流通可能である。
これに対し、作業空間部１には、ガス流入口16及びガス流出口17が設けられ、このガス流入口16・ガス流出口17を介して、（図外の）大型の高度ガス浄化設備に連結されて、作業空間部１は、いわゆる「クリーンルーム」となっている。例えば、クラス1000以上の清浄空間に維持される。
【００１６】
そして、図１，図２の各実施形態では、連通路Ｋが、配管18，19をもって構成されいる。図１では、１本の配管18をもって、連通路Ｋを構成し、さらに、その連通路Ｋが作業空間部１へ開口する開口部位近傍に、前記ＨＥＰＡフィルタ13とは別のＨＥＰＡフィルタ23が設けられている。具体的な、小さな包囲壁24を密閉壁面体21の内部に設けて、その包囲壁24内にＨＥＰＡフィルタ23を内有させている。図１では、ＰＲＥフィルタ11やブロワ12から僅かな粉塵（異物）がガス浄化空間部２へ洩れることがあり、ガス浄化空間部２は（作業空間部１内のガスよりも清浄度が低い）準清浄ガスが存在している。バルブ20を介して、ＨＥＰＡフィルタ13にて浄化された清浄ガスが吐出しているので、ガス浄化空間部２内の清浄度は改善されてはいるが、このようなガスを（連通路Ｋを介して）別のＨＥＰＡフィルタ23を通過させ、清浄度を一層高めてから、作業空間部１へ流入させる。
【００１７】
次に、図２（Ａ）に於ては、連通路Ｋは、ガス浄化空間部２と作業空間部１とを連結する配管19が、１本の幹配管部19Ａと、この幹配管部19Ａの下流端から分岐した第１配管部19Ｂ・第２配管部19Ｃとから、構成される。
そして、上述の別の（小型）ＨＥＰＡフィルタ23を、第１配管部19Ｂに対応して設ける。即ち、図２（Ａ）は図１（Ａ）と同様に、作業空間部１内にＨＥＰＡフィルタ23を配設して、第１配管部19Ｂの開口端から流出するガスを、このＨＥＰＡフィルタ23にて浄化しつつ作業空間部１内へ流入させる。
さらに、幹配管部19Ａからのガス流を、交互に、第１配管部19Ｂと第２配管部19Ｃに、（開閉）切換自在な切換弁手段25を備えている。
【００１８】
図２（Ａ）にあっては、交互にＯＮ−ＯＦＦする２個の切換弁25Ａ，25Ｂを、各配管部19Ｂ，19Ｃに配設して、切換弁手段25を構成する。なお、（図示省略したが、）連通路Ｋを２本の配管をもって構成し、２本の配管の各々に、切換弁25Ａ，25Ｂを配設して、これを交互にＯＮ−ＯＦＦさせて構成し、切換弁手段25としても良い。
また、図２（Ｂ）に示したように、幹配管部19Ａと、第１，第２配管部19Ｂ，19Ｃとの分岐部に、１個の切換弁25Ｃを設けて、前記切換弁手段25とするも望ましい。なお、この図２（Ｂ）に示すように、第１配管部19Ｂの途中にＨＥＰＡフィルタ23を設けるも好ましい。図12（Ａ）又は（Ｂ）のように、ＨＥＰＡフィルタ23は、第１配管部19Ｂの開口端の外であっても、開口端自身であっても、あるいは、第１配管部19Ｂの途中であっても、良い。要するに、第１配管部19Ｂに対応して、ＨＥＰＡフィルタ23を設ける。
【００１９】
そして、ガス浄化空間部２から作業空間部１へガスが流れるときは、第１配管部19ＢとＨＥＰＡフィルタ23の存在する流路を流れて、準清浄ガスから粉塵を除去しつつ作業空間部１へ流入させる。他方、ブロワ12が停止した際には、連通路Ｋを介してガスが逆流し、図２（Ａ）（Ｂ）のＨＥＰＡフィルタ23で捕集していた粉塵（異物）が、ガス浄化空間部２内へ排出する虞があるが、図２（Ａ）（Ｂ）に示した切換弁手段25を切換えて、第２配管部19Ｃを介して、ガスの逆流を可能として、ＨＥＰＡフィルタ23の捕集していた粉塵（異物）がガス浄化空間部２内へ排出することを、防止する。
【００２０】
次に、図３に示す実施の形態では、作業空間部１とガス浄化空間部２とは、区画壁26にて区画され、この区画壁26に窓部27を貫設して、この窓部27をもって連通路Ｋとしている。
図３に示すように、密閉筐体22と密閉壁面体21とを一体構造に組付けて、その区画壁26に貫設した窓部27をもって、連通路Ｋを構成している。
図３に於ては、窓部27によって、作業空間部１とガス浄化空間部２とが連通連結状態であり、両空間部１，２は、共通した（クリーン度がコントロールされた例えばクラス1000以下の）清浄ガスが満たされていることとなる。
【００２１】
ここで追加説明すれば、図１〜図３のいずれの実施の形態に於ても、図４のバキュームヘッド部９から吸入された粉塵８は、プレフィルタ11にて殆ど除去されて準清浄ガスとなって、ブロワ12にてＨＥＰＡフィルタ13に送られて、十分に清浄なガスとして、クリーナヘッド４のプレッシャヘッド部６へ送られて、図４の矢印Ｕのように噴出し、ワークＷ上の粉塵を遊離させて矢印Ｖ方向に吸引する。
ところが、矢印Ｖ方向に吸引されるガスの流量Ｖ0 は、図１，図２，図３に示す密閉筐体22内でバルブ20から２〜20％等の一定割合の流量ΔＶが放出されて減少してクリーナヘッド４へ還流してくる。従って、図４のプレッシャヘッド部６から矢印Ｕ方向に吹き出す流量は、（Ｖ0 −ΔＶ）となる。このことは、粉塵がクリーン度の高い（清浄な）作業空間部１に粉塵を散らさないという効果が得られる。つまり、噴出した流量よりも多目の流量を吸込むのであるから、クリーナヘッド４近傍から補充のためのガスも吸込まれ、粉塵８も全てが吸引孔７から吸込まれる。
【００２２】
ところで、本発明では、密閉筐体22のガス浄化空間部２は、図６に示す従来例におけるクリーン度をコントロールした清浄ガスの流入口60・ガス流出口61が存在しないので、クリーン度（清浄度）をコントロールしていない環境にあるが、バルブ20から清浄な（ＨＥＰＡフィルタ13にて浄化された）ガスの一定割合ΔＶだけ、供給され、ガス浄化空間部２を準清浄ガスの環境に保ち得る。
このように、図４のクリーナヘッド４のワークＷへのガス噴出・吸引の際の粉塵８の飛散を防止する効果、及び、（図６の従来の）ガス流入口・流出口60，61が省略されたガス浄化空間部２内を準清浄ガスまで浄化させる効果の、一石二鳥の効果が発揮できる。
【００２３】
特に、本発明では、ブロワ12とクリーナヘッド４間で、不活性ガスを循環させる閉ループを形成しているのが特徴であると、言うこともできる。バルブ20が、ブロワ12の内有されたガス浄化空間部２に配設され、不活性ガスの一定割合の流量ΔＶを排出し続け、密閉筐体22内に不活性ガスが充填されるが、連通路Ｋを別途付設することによって、これを「リターン路」として、作業空間部１へ不活性ガスが還流する。このようにして、ガス浄化空間部２が準清浄ガス充填状態に維持されると共に、外部から不活性ガスを供給する、従来の図６に示したようなガス流入口・流出口60，61が省略できる。しかも、ガス浄化空間部２への不活性ガスの供給は迅速に行われる利点もある。
【００２４】
図５は比較例を示す。即ち、本発明における（前述した）バルブ20をガス浄化空間部２に設けずに、作業空間部１内に設け、また、本発明の連通路Ｋを省略した構成である。この比較例からも判るように、図６の従来例と同様に、ガス流入口60とガス流出口61を、ガス浄化空間部２に付加せねばならない。
【００２５】
なお、本発明は、有機ＥＬディスプレイの製造に好適であって、窒素ガスやアルゴンガス等が用いられるが、これ以外に、他の不活性ガス（例えばＣＯ2 ガス）を用いる他の製造設備にも使用可能であり、用途は限定されない。
【００２６】
本発明は、以上詳述したように、連通路Ｋを介して相互に連通連結された作業空間部１とガス浄化空間部２とを有する封止空間部10を具備し、上記作業空間部１内には、ワークＷの被除塵面３に対してガスを吹き付ける吐出孔５・プレッシャヘッド部６、及び、該被除塵面３から遊離した粉塵８を吸込む吸引孔７・バキュームヘッド部９を、有するクリーナヘッド４が設けられ、上記ガス浄化空間部２内には、プレフィルタ11とブロワ12とＨＥＰＡフィルタ13が設けられ、上記プレフィルタ11を介して上記バキュームヘッド部９と上記ブロワ12の吸込部12Ａとを連結する吸込配管14を設け、上記ＨＥＰＡフィルタ13を介して上記プレッシャヘッド部６と上記ブロワ12の吐出部12Ｂとを連結する吐出配管15を設け、さらに、上記ＨＥＰＡフィルタ13にて浄化されて送り出されるガス全流量Ｖ0 から、一定割合の流量ΔＶを分流させて、上記ガス浄化空間部２内へ放出するバルブ20を、備えている構成であるので、クリーナヘッド４における粉塵（異物）の飛散を防止して作業空間部１の清浄ガス環境を全く汚染せず、かつ、ガス浄化空間部２には、従来のガス流入口60・ガス流出口61（図６参照）を省略できて、大型ガス浄化設備を無駄に使用せずに済み、大掛りな配管工事も省略できる。しかも、ガス浄化空間部２内に迅速に、作業空間部１からの清浄ガスを供給できる。
【００２７】
また、上記一定割合を、２％〜20％の範囲内に設定したので、効率的にガス浄化空間部２に準清浄ガスを充填できる。下限値未満であると、その充填に時間が掛り、あるいは、十分な準清浄ガスの状態に維持することが困難となる。また、クリーナヘッド４に於て、粉塵８が飛散する虞が生ずる。逆に、上限値を越すと、ガス浄化空間部２を過分に（不必要に）清浄化してしまう。また、クリーナヘッド４に於て、不必要に多くのガスを吸引する結果となる。
また、上記作業空間部１には、ガス流入口16及びガス流出口17が設けられているので、作業空間部１の清浄度を安定して高く維持できる。これに伴って、ガス浄化空間部２も（バルブ20等の付加によって）準清浄ガスが安定して維持される。
【００２８】
また、上記連通路Ｋは、配管18，19をもって構成されているので、連通路Ｋの工事が容易・安価となる。
また、上記連通路Ｋは、上記ガス浄化空間部２と上記作業空間部１とを連結する第１配管部19Ｂと第２配管部19Ｃを備え、さらに、上記ＨＥＰＡフィルタ13とは別のＨＥＰＡフィルタ23を、上記第１配管部19Ｂに対応して設け、かつ、交互に、上記第１配管部19Ｂと第２配管部19Ｃを、開閉切換自在な切換弁手段25を有するので、ブロワ12の停止した際に、不活性ガスが逆流して、ＨＥＰＡフィルタ23にて捕集されていた粉塵が、ガス浄化空間部２を汚染することを、防止できる。
また、上記作業空間部１とガス浄化空間部２とは、区画壁26にて区画され、しかも、該区画壁26に窓部27を貫設して上記連通路Ｋとしたので、除塵構造全体がコンパクト化を図り得ると共に、製作も容易となり、構造も簡素化できる。
【符号の説明】
【００２９】
１  作業空間部
２  ガス浄化空間部
３  被除塵面
４  クリーナヘッド
５  吐出孔
６  プレッシャヘッド部
７  吸引孔
８  粉塵
９  バキュームヘッド部
10  封止空間部
11  プレフィルタ
12  ブロワ
12Ａ  吸込部
12Ｂ  吐出部
13  ＨＥＰＡフィルタ
14  吸込配管
15  吐出配管
16  ガス流入口
17  ガス流出口
18  配管
19  配管
19Ｂ  第１配管部
19Ｃ  第２配管部
20  バルブ
22  密閉筐体
25  切換弁手段
26  区画壁
27  窓部
Ｋ  連通路
Ｖ0   全流量
ΔＶ  一定割合の流量
Ｗ  ワーク
【図１】
2018071868.tif 000003
【図２】
2018071868.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
2018071868.tif 000007
【図６】
2018071868.tif 000008