(57)【要約】【課題】静電チャックテーブルでウェーハを吸着保持する場合に、剥離帯電を要因とする静電チャックテーブルの静電吸着力の低下を防ぐ。【解決手段】電圧が印加されてウェーハＷを静電吸着した静電チャックテーブル３に対して電圧の印加を停止する電圧印加停止ステップと、電圧印加停止ステップを実施した後、ウェーハＷを静電吸着するために静電チャックテーブル３に流した電流と逆方向の電流を流し静電チャックテーブル３に剥離帯電を打ち消す除電電圧を印加する除電電圧印加ステップと、除電電圧印加ステップを実施した後、静電チャックテーブル３に除電電圧が印加されている状態でウェーハＷを静電チャックテーブル３上から離脱させる離脱ステップと、を備えたウェーハＷの搬出方法である。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
静電チャックテーブルで保持されたウェーハを該静電チャックテーブル上から搬出するウェーハの搬出方法であって、
電圧が印加されてウェーハを静電吸着した該静電チャックテーブルに対して該電圧の印加を停止する電圧印加停止ステップと、
該電圧印加停止ステップを実施した後、ウェーハを静電吸着するために該静電チャックテーブルに流した電流と逆方向の電流を流し該静電チャックテーブルに剥離帯電を打ち消す除電電圧を印加する除電電圧印加ステップと、
該除電電圧印加ステップを実施した後、該静電チャックテーブルに該除電電圧が印加されている状態でウェーハを該静電チャックテーブル上から離脱させる離脱ステップと、を備えたウェーハの搬出方法。
【請求項２】
前記静電チャックテーブルは、ウェーハを保持する保持面に開口するエア噴出口と、該エア噴出口に一端が連通するとともに他端がエア供給源に接続されたエア供給路とを有し、
前記除電電圧印加ステップを実施した後、前記離脱ステップを実施する前に該エア噴出口からエアを噴出させるエアブローステップを更に備えた、請求項１に記載のウェーハの搬出方法。
【請求項３】
前記除電電圧印加ステップを実施する前に、前記静電チャックテーブル上のウェーハに導電性ウェーハ保持パッドを接触させる保持パッド接触ステップと、
該保持パッド接触ステップを実施した後、前記エアブローステップを実施するまでに該導電性ウェーハ保持パッドでウェーハを保持する保持ステップと、を更に備えた、請求項１または２に記載のウェーハの搬出方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェーハを静電チャックテーブル上から搬出するウェーハの搬出方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ウェーハにエッチング加工を施すプラズマエッチング装置（例えば、特許文献１参照）では、減圧環境にしたチャンバ内でウェーハを保持するために静電チャックテーブルが利用されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−３５８０９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
静電吸着保持されたウェーハを静電チャックテーブル上から搬出させる際には、密着した状態の静電チャックテーブルとウェーハとの間で剥離帯電が生じる。そして、ウェーハ離脱後の静電チャックテーブルが帯電したままの状態だと次のウェーハを保持する際に静電吸着力が低下するおそれがある。
【０００５】
よって、静電チャックテーブルでウェーハを吸着保持する場合には、剥離帯電を要因とする静電チャックテーブルの静電吸着力の低下を防ぐという課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するための本発明は、静電チャックテーブルで保持されたウェーハを該静電チャックテーブル上から搬出するウェーハの搬出方法であって、電圧が印加されてウェーハを静電吸着した該静電チャックテーブルに対して該電圧の印加を停止する電圧印加停止ステップと、該電圧印加停止ステップを実施した後、ウェーハを静電吸着するために該静電チャックテーブルに流した電流と逆方向の電流を流し該静電チャックテーブルに剥離帯電を打ち消す除電電圧を印加する除電電圧印加ステップと、該除電電圧印加ステップを実施した後、該静電チャックテーブルに該除電電圧が印加されている状態でウェーハを該静電チャックテーブル上から離脱させる離脱ステップと、を備えたウェーハの搬出方法である。
【０００７】
前記静電チャックテーブルは、ウェーハを保持する保持面に開口するエア噴出口と、該エア噴出口に一端が連通するとともに他端がエア供給源に接続されたエア供給路とを有し、前記除電電圧印加ステップを実施した後、前記離脱ステップを実施する前に該エア噴出口からエアを噴出させるエアブローステップを更に備えるものとすると好ましい。
【０００８】
前記除電電圧印加ステップを実施する前に、前記静電チャックテーブル上のウェーハに導電性ウェーハ保持パッドを接触させる保持パッド接触ステップと、該保持パッド接触ステップを実施した後、前記エアブローステップを実施するまでに該導電性ウェーハ保持パッドでウェーハを保持する保持ステップと、を更に備えるものとするとより好ましい。
【発明の効果】
【０００９】
本発明に係るウェーハの搬出方法は、電圧が印加されてウェーハを静電吸着した静電チャックテーブルに対して電圧の印加を停止する電圧印加停止ステップと、電圧印加停止ステップを実施した後、ウェーハを静電吸着するために静電チャックテーブルに流した電流と逆方向の電流を流し静電チャックテーブルに剥離帯電を打ち消す除電電圧を印加する除電電圧印加ステップと、除電電圧印加ステップを実施した後、静電チャックテーブルに除電電圧が印加されている状態でウェーハを静電チャックテーブル上から離脱させる離脱ステップと、を備えているため、ウェーハを静電チャックテーブル上から離脱させる前に、静電チャックテーブルに剥離帯電を打ち消す除電電圧を印加することで、静電チャックテーブルを剥離帯電で生じる帯電とは逆の極に帯電するようにし、ウェーハ搬出時の剥離帯電の発生を防止し、ウェーハ離脱後の静電チャックテーブルが帯電したままの状態となることを防ぐことができる。そのため、次のウェーハを静電チャックテーブルで保持する際に、静電チャックテーブルの静電吸着力が低下してしまうといった事態が生じるのを防ぐことができる。
【００１０】
静電チャックテーブルは、ウェーハを保持する保持面に開口するエア噴出口と、エア噴出口に一端が連通するとともに他端がエア供給源に接続されたエア供給路とを有し、除電電圧印加ステップを実施した後、離脱ステップを実施する前にエア噴出口からエアを噴出させるエアブローステップを更に備えるものとすることで、ウェーハと静電チャックテーブルの保持面との間に働く真空吸着力を排除して、ウェーハが静電チャックテーブルからの離脱する際に破損してしまうことを防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】プラズマエッチング装置の一例を示す縦断面図である。
【図２】静電チャックテーブル上のウェーハに導電性ウェーハ保持パッドを接触させた状態で静電チャックテーブルに電圧を印加して静電吸着力を発生させている状態を示す説明図である。
【図３】静電チャックテーブル上のウェーハに導電性ウェーハ保持パッドを接触させた状態で静電チャックテーブルに除電電圧を印加している状態を示す説明図である。
【図４】静電チャックテーブルに除電電圧を印加している状態で静電チャックテーブル上からウェーハを離脱させている状態を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
減圧環境でウェーハＷにプラズマエッチング処理を施す図１に示すプラズマエッチング装置１は、例えば、ウェーハＷを保持する保持面３１ａを有する静電チャックテーブル３と、静電チャックテーブル３が配設された室内を減圧する減圧手段６４を備える減圧室６と、減圧室６にウェーハＷを搬入する、又は減圧室６からウェーハＷを搬出する搬送手段７とを備えている。
【００１３】
静電チャックテーブル３は、例えば、減圧室６の下部に軸受け３０ａを介して上下動可能に挿通されている基軸部３０と、アルミナ等のセラミック又は酸化チタン等の誘電体で形成されるウェーハ保持部３１とを備えており、その縦断面が略Ｔ字状になる。例えば円板状に形成されたウェーハ保持部３１は、基軸部３０の上端側に基軸部３０と一体的に形成されており、ウェーハ保持部３１の上面が誘電体からなりウェーハＷを保持する保持面３１ａとなる。なお、ウェーハ保持部３１は、セラミック等から構成された誘電体膜が別の基台上に配置されて構成されているものでもよい。
【００１４】
基軸部３０及びウェーハ保持部３１の内部には、冷却水が通水する破線で示す冷却水通水路３９ａが形成されており、冷却水通水路３９ａには、冷却水供給手段３９が連通している。冷却水供給手段３９は冷却水通水路３９ａへ冷却水を流入させ、この冷却水が、静電チャックテーブル３を内部から冷却する。例えば、処理対象のウェーハＷに図示しない保護テープ等が貼着されている場合には、プラズマエッチング処理中に、冷却水供給手段３９によって、静電チャックテーブル３の保持面３１ａの温度を保護テープからガスが発生しない温度以下に保つことができる。
【００１５】
静電チャックテーブル３の内部には、電圧が印加されることにより電荷を誘起する電極として金属板３４が埋設されている。金属板３４は、円形板状に形成されており、保持面３１ａと平行に配設されており、直流電源３６のプラス端子側に第１の配線３７を介して接続されている。直流電源３６から金属板３４に高圧の直流電圧が印加されることで、保持面３１ａに分極による電荷（静電気）が発生し、そのクーロン力によりウェーハＷは保持面３１ａに静電吸着される。
【００１６】
例えば、図１に示す第１の配線３７の接続点３７ａには、第３の配線３３の一端が接続されている。第３の配線３３上にはスイッチ３３ａが設けられており、また、第３の配線３３の他端は直流電源３２のマイナス端子側に接続されている。
【００１７】
基軸部３０からウェーハ保持部３１にかけては、図１に示すようにエア供給路３８ａが形成されており、エア供給路３８ａの一端（上端）はウェーハ保持部３１の内部で径方向外側に向かって放射状に分岐している。エア供給路３８ａの他端には、真空発生装置及びコンプレッサー等からなるエア供給源３８が連通している。
【００１８】
静電チャックテーブル３の保持面３１ａには複数のエア噴出口３１ｂが開口しており、各エア噴出口３１ｂは金属板３４を厚み方向（Ｚ軸方向）に向かって貫通しており、ウェーハ保持部３１内においてエア供給路３８ａに連通している。
【００１９】
減圧室６の上部には、反応ガスを噴出するガス噴出ヘッド２が、軸受け２０を介して昇降自在に配設されている。ガス噴出ヘッド２の内部には、ガス拡散空間２１が設けられており、ガス拡散空間２１の上部にはガス導入路２１ａが連通し、ガス拡散空間２１の下部にはガス吐出路２１ｂが連通している。ガス吐出路２１ｂの下端は、ガス噴出ヘッド２の下面において静電チャックテーブル３側に向かって開口している。
【００２０】
ガス噴出ヘッド２には、ガス噴出ヘッド２を上下動させるエアシリンダ２３が接続されている。エアシリンダ２３は、例えば、内部に図示しないピストンを備え基端側（−Ｚ方向側）に底があり減圧室６の上面に固定されたシリンダチューブ２３ａと、シリンダチューブ２３ａに挿入され下端がピストンに取り付けられたピストンロッド２３ｂと、ピストンロッド２３ｂの上端に固定されガス噴出ヘッド２を支持する連結部材２３ｃとを備える。シリンダチューブ２３ａにエアが供給（または、排出）されシリンダチューブ２３ａの内部の圧力が変化することで、ピストンロッド２３ｂがＺ軸方向に上下動することに伴って、ガス噴出ヘッド２が上下動する。
【００２１】
ガス噴出ヘッド２の内部に形成されたガス導入路２１ａには、反応ガス供給源２５が連通している。反応ガス供給源２５は、例えば、反応ガスであるＳＦ６、ＣＦ４、Ｃ２Ｆ６、Ｃ２Ｆ４等のフッ素系ガスを蓄えている。なお、ガス導入路２１ａには、反応ガス供給源２５の他に、プラズマエッチング反応を支援するガスが蓄えられた図示しない支援ガス供給源が連通していてもよい。この場合、支援ガス供給源には、支援ガスとして、Ａｒ、Ｈｅ等の希ガスが蓄えられている。
【００２２】
ガス噴出ヘッド２には、整合器２７を介して高周波電源２８が接続されている。高周波電源２８から整合器２７を介してガス噴出ヘッド２に高周波電力を供給することにより、ガス吐出路２１ｂから吐出されたガスをプラズマ化することができる。
【００２３】
減圧室６の側部には、ウェーハＷの搬入出を行うための搬入出口６２と、この搬入出口６２を開閉するシャッター６２ａとが設けられている。例えば、シャッター６２ａは、エアシリンダ等のシャッター可動手段６２ｂによって上下動可能になっている。
【００２４】
減圧室６の下部には排気口６４ａが形成されており、この排気口６４ａには減圧手段６４が接続されている。この減圧手段６４を作動させることにより、減圧室６の内部を所定の真空度まで減圧することができる。
【００２５】
図１に示す搬送手段７は導電性ウェーハ保持パッド７０を備えている。導電性ウェーハ保持パッド７０は、例えば、その外形が円形状であり、カーボンポーラス又はメタルポーラス等の導電体のポーラス部材からなりウェーハＷを吸着する吸着部７００と、吸着部７００を支持する枠体７０１とを備える。吸着部７００には、連通路７１ａの一端が連通しており、連通路７１ａのもう一端は、真空発生装置及びコンプレッサー等からなる吸引源７１に接続されている。そして、吸引源７１により生み出された吸引力が、吸着部７００の露出面であり枠体７０１の下面と面一に形成された保持面７００ａに伝達されることで、導電性ウェーハ保持パッド７０は保持面７００ａでウェーハＷを吸引保持できる。
【００２６】
例えば、導電性ウェーハ保持パッド７０の枠体７０１の上面には、連結部材７９０が固定されており、導電性ウェーハ保持パッド７０は、連結部材７９０を介してアーム部７９の一端の下面側に固定されている。アーム部７９は、水平面上において平行移動可能又は旋回移動可能であるとともにＺ軸方向に上下動可能である。
【００２７】
搬送手段７は、導電性ウェーハ保持パッド７０をアースに接続する第２の配線７２を備えている。第２の配線７２は、一端７２ｂがアースに接地されており、もう一端７２ａが導電性ウェーハ保持パッド７０の吸着部７００に接続されている。
【００２８】
例えば、図１に示すように、第２の配線７２には、抵抗８０と抵抗８１とが直列に接続されており、かつ、抵抗８１の両端の電圧を測定する電圧計８４が抵抗８１と並列に接続されている。この抵抗８０及び抵抗８１、並びに電圧計８４によって、電圧測定手段８が構成されている。
【００２９】
図１に示すように、プラズマエッチング装置１は、ＣＰＵ及びメモリ等の記憶素子等から構成される制御部９を備えており、制御部９による制御の下で、エッチングガスの吐出量や時間、高周波電力等の条件がコントロールされる。
【００３０】
以下に、図１に示す静電チャックテーブル３でウェーハＷを吸着保持した後、減圧環境下でウェーハＷにプラズマエッチング処理を施す場合について説明する。ウェーハＷは、例えば、外形が円形状の半導体ウェーハであり、ウェーハＷの表面Ｗａには、例えば、多数のデバイスが形成されている。ウェーハＷの表面Ｗａは、例えば図示しない保護テープが貼着されて保護されていてもよい。
【００３１】
導電性ウェーハ保持パッド７０が移動してウェーハＷの上方に位置付けられる。さらに、アーム部７９が−Ｚ方向へと降下し、導電性ウェーハ保持パッド７０の保持面７００ａとウェーハＷの裏面Ｗｂとが接触する。そして、吸引源７１が吸引を行うことで、図１に示すように導電性ウェーハ保持パッド７０が保持面７００ａでウェーハＷを吸引保持する。
【００３２】
次いで、搬送手段７がウェーハＷを減圧室６内の静電チャックテーブル３に搬入する。減圧室６のシャッター６２ａが開き、ウェーハＷを吸引保持している導電性ウェーハ保持パッド７０が、搬入出口６２を通り静電チャックテーブル３上へと移動する。そして、導電性ウェーハ保持パッド７０が降下し、ウェーハＷの表面Ｗａ側と静電チャックテーブル３の保持面３１ａとを接触させ、ウェーハＷを静電チャックテーブル３上に載置する。
【００３３】
図２に示すように直流電源３６の押しボタンスイッチ３６０をオン状態とし、直流電源３６から第１の配線３７を介して静電チャックテーブル３に電力を供給する。図２に示す矢印Ｒ１方向に電流が流れ、金属板３４に所定の直流電圧（例えば、５０００Ｖの直流電圧）が印加されることで、金属板３４上のウェーハ保持部３１の誘電体層とウェーハＷとの間に誘電分極現象が発生し、ウェーハ保持部３１の保持面３１ａ近傍には正（＋）電荷が集中する。また、ウェーハＷを介して静電チャックテーブル３と導電性ウェーハ保持パッド７０とが接続された状態になっているため、第２の配線７２及び導電体で形成される吸着部７００を介してウェーハＷに負（−）電荷が供給されることで、ウェーハＷは保持面３１ａとは逆極性のマイナスに帯電する。そのため、ウェーハＷと保持面３１ａとの間に働く静電気力によって、ウェーハＷは保持面３１ａ上に吸着保持される。なお、図２においては、減圧室６等の構成を省略して示している。
【００３４】
例えば、ウェーハＷに負（−）電荷が供給される際の電圧測定手段８の抵抗８１にかかる電圧（過度電圧）を、電圧計８４が抵抗８１の両端で測定する。電圧計８４で測定される抵抗８１にかかる電圧は、定常電圧から過度電圧近くまで急激に上昇した後、徐々に下がっていき定常電圧まで戻る。例えば、電圧計８４には制御部９が接続されており、電圧計８４はこの抵抗８１にかかる電圧の変化についての情報を制御部９に送信し、制御部９は該電圧の変化からウェーハＷの帯電量を計測する。制御部９は、計測するウェーハＷの帯電量の値から、充分にマイナスに帯電したウェーハＷが静電チャックテーブル３の保持面３１ａで確実に吸着保持された状態を判断して、該判断結果を外部に発報する。
【００３５】
静電チャックテーブル３がウェーハＷを充分に吸着していることが確認できた後、吸引源７１による吸引を停止し、ウェーハＷを導電性ウェーハ保持パッド７０の保持面７００ａから離間させる。そして、導電性ウェーハ保持パッド７０は、図１に示す減圧室６内から即時退避する。導電性ウェーハ保持パッド７０が退避することでウェーハＷはアースが取られていない状態になるが、ウェーハ保持部３１の保持面３１ａ近傍の電荷は直ちにはなくならず、また、ウェーハＷの帯電状態は直ちには解除されない。そのため、保持面３１ａとウェーハＷとの間には静電気力による吸着力が十分に残る。
減圧室６の搬入出口６２をシャッター６２ａで閉め、減圧手段６４によって減圧室６内を減圧排気し真空状態とする。そして、ガス噴出ヘッド２を下降させた後、反応ガス供給源２５からエッチングガスをガス噴出ヘッド２内のガス導入路２１ａへ供給して、各ガス吐出路２１ｂの開口から、静電チャックテーブル３に吸着保持されているウェーハＷの裏面Ｗｂ全面に向かって均一に噴出させる。
【００３６】
減圧室６内にエッチングガスを導入するとともに、高周波電源２８からガス噴出ヘッド２に高周波電力を印加して、ガス噴出ヘッド２と静電チャックテーブル３との間に高周波電界を生じさせ、エッチングガスをプラズマ化させる。プラズマ化したエッチングガスは、ウェーハＷの裏面Ｗｂをエッチングしていく。また、プラズマの発生により、再びウェーハＷはアースが取られている状態になるため、静電チャックテーブル３がウェーハＷを充分に吸着する状態が維持される。
【００３７】
ウェーハＷの裏面Ｗｂのプラズマエッチングを適宜行った後、ガス噴出ヘッド２に対する高周波電力の印加を止めて、減圧室６内のエッチングガスを排気口６４ａから減圧手段６４により排気し、減圧室６の内部にエッチングガスが存在しない状態とする。次いで、搬入出口６２のシャッター６２ａを開いて、搬送手段７によりウェーハＷを減圧室６内の静電チャックテーブル３から搬出する。ここで、以下に、本発明に係るウェーハの搬出方法を実施して、静電チャックテーブル３で保持されたウェーハＷを静電チャックテーブル３上から搬出する場合の各ステップについて説明する。
【００３８】
（１）電圧印加停止ステップ
まず、図３に示すように、ウェーハＷを静電吸着した静電チャックテーブル３に対する電圧の印加を停止する。すなわち、直流電源３６の押しボタンスイッチ３６０をオフ状態として、直流電源３６からの第１の配線３７を介した静電チャックテーブル３への電力の供給を停止する。静電チャックテーブル３に対する電圧の印加を止めても、ウェーハ保持部３１の保持面３１ａ近傍の正（＋）電荷は直ちにはなくならず、また、ウェーハＷの負電位の帯電状態は直ちには解除されない。
【００３９】
（２）保持パッド接触ステップ
導電性ウェーハ保持パッド７０を減圧室６内の（図３においては不図示）静電チャックテーブル３に吸着保持されているウェーハＷ上へと移動させ、導電性ウェーハ保持パッド７０とウェーハＷとの位置を合わせる。そして、導電性ウェーハ保持パッド７０を降下させ、ウェーハＷの裏面Ｗｂと導電性ウェーハ保持パッド７０の保持面７００ａとを接触させる。
【００４０】
（３）保持ステップ
例えば、ウェーハＷに導電性ウェーハ保持パッド７０を接触させた後、吸引源７１が吸引を行うことで、図３に示すように導電性ウェーハ保持パッド７０の保持面７００ａにウェーハＷが吸引保持される。
【００４１】
（４）除電電圧印加ステップ
導電性ウェーハ保持パッド７０を上昇させて、静電チャックテーブル３の保持面３１ａからウェーハＷを離脱させるときに帯電が生じることがある。いわゆる剥離帯電と呼ばれる現象で、これが生じてしまうと、ウェーハＷが離脱した後の静電チャックテーブル３が保持面３１ａの正（＋）電荷をもって帯電し、離脱したウェーハＷが負（−）電荷をもって帯電してしまう。そこで、本発明に係るウェーハの搬出方法においては、図３に示すようにスイッチ３３ａをオン状態とし、直流電源３２から第３の配線３３、接続点３７ａ、及び第１の配線３７を介して静電チャックテーブル３に電力を供給する。図２に示す矢印Ｒ２方向に電流を流れるとともに、静電チャックテーブル３内の金属板３４に所定の直流電圧（例えば、−５０００Ｖの直流電圧）される、即ち、先に静電チャックテーブル３でウェーハＷを吸着保持した際の印加電圧とは逆極性の電圧が剥離帯電を打ち消す除電電圧として印加されることで、静電チャックテーブル３の保持面３１ａ近傍の帯電電位が正電位から負電位へ変化する。また、これに伴って、ウェーハＷの除電速度も速められ、ウェーハＷから充分に負（−）電荷が除去されていく。なお、除電電圧の電圧値及び印加時間は、ウェーハＷ及び静電チャックテーブル３に残留する電荷の量に応じて調整される。
【００４２】
（５）エアブローステップ
例えば、除電電圧印加ステップを実施した後、図４に示すように、エア供給源３８がエア供給路３８ａを介して静電チャックテーブル３の保持面３１ａに対してエアの供給を行い、エア噴出口３１ｂからエアを噴出させる。このエアの噴射圧力によって、ウェーハＷを保持面３１ａから押し上げ、静電チャックテーブル３の保持面３１ａとウェーハＷとの間に残留している真空吸着力を排除することで、後述する離脱ステップにおいて静電チャックテーブル３からウェーハＷが離脱するに際に、ウェーハＷが破損してしまうことを防ぐことができる。
【００４３】
（６）離脱ステップ
次いで、ウェーハＷを吸引保持する導電性ウェーハ保持パッド７０を上昇させて、除電電圧が印加されている状態の静電チャックテーブル３からウェーハＷを搬出する。この際、除電電圧の印加によって静電チャックテーブル３の保持面３１ａ近傍の帯電電位は負電位に変化しているため、保持面３１ａと除電が十分になされたウェーハＷ又は負（−）電荷が残存しているウェーハＷとの間における剥離帯電の発生が抑制される。そして、ウェーハＷが保持面３１ａから離脱した後、直流電源３２のスイッチ３３ａをオフ状態にして静電チャックテーブル３に対する除電電圧の印加を停止する。
【００４４】
このように本発明に係るウェーハの搬出方法は、電圧が印加されてウェーハＷを静電吸着した静電チャックテーブル３に対して電圧の印加を停止する電圧印加停止ステップと、電圧印加停止ステップを実施した後、ウェーハＷを静電吸着するために静電チャックテーブル３に流した電流と逆方向の電流を流し静電チャックテーブル３に剥離帯電を打ち消す除電電圧を印加する除電電圧印加ステップと、除電電圧印加ステップを実施した後、静電チャックテーブル３に除電電圧が印加されている状態でウェーハＷを静電チャックテーブル３上から離脱させる離脱ステップと、を備えているため、ウェーハＷを静電チャックテーブル３上から離脱させる前に、静電チャックテーブル３に剥離帯電を打ち消す除電電圧を印加することで、静電チャックテーブル３を剥離帯電で生じる帯電とは逆の極に帯電するようにし、ウェーハ搬出時の剥離帯電の発生を防止し、ウェーハ離脱後の静電チャックテーブル３が帯電したままの状態となることを防ぐことができる。そのため、次のウェーハＷを静電チャックテーブル３で保持する際に、静電チャックテーブル３の静電吸着力が低下してしまうといった事態が生じるのを防ぐことができる。
【符号の説明】
【００４５】
１：プラズマエッチング装置
２：ガス噴出ヘッド  ２０：軸受け  ２１：ガス拡散空間  ２１ａ：ガス導入路  ２１ｂ：ガス吐出路  ２３：エアシリンダ  ２３ａ：シリンダチューブ  ２３ｂ：ピストンロッド  ２３ｃ：連結部材
２５：反応ガス供給源  ２７：整合器  ２８：高周波電源
３：静電チャックテーブル  ３０：基軸部  ３０ａ：軸受け  ３１：ウェーハ保持部  ３１ａ：保持面  ３４：金属板  ３６：直流電源  ３７：第１の配線  ３７ａ：接続点
３３：第３の配線  ３３ａ：スイッチ  ３２：直流電源
３８：エア供給源  ３８ａ：エア供給路
３９：冷却水供給手段  ３９ａ：冷却水通水路
６：減圧室  ６２：搬入出口  ６２ａ：シャッター  ６２ｂ：シャッター可動手段
６４：減圧手段  ６４ａ：排気口
７：搬送手段  ７０：導電性ウェーハ保持パッド  ７００：吸着部  ７００ａ：保持面  ７０１：枠体
７１：吸引源  ７１ａ：連通路  ７２：第２の配線
７９：アーム部  ７９０：連結部材
８：電圧測定手段  ８０、８１：抵抗  ８４：電圧計
９：制御部  
Ｗ：ウェーハ  Ｗａ：ウェーハの表面  Ｗｂ：ウェーハの裏面
【図１】
2018182094.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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