(57)【要約】【課題】耐光性及び光学特性に優れた、金属繊維を含む導電層を備える透明導電体を提供する。【解決手段】金属繊維１２１を含む導電層１２を備える透明導電体１０において、導電層１２はルテニウム錯体をさらに含むことを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属繊維を含む導電層を備える透明導電体において、
前記導電層はルテニウム錯体をさらに含むことを特徴とする透明導電体。
【請求項２】
前記金属繊維は金属ナノワイヤであることを特徴とする請求項１に記載の透明導電体。
【請求項３】
前記ルテニウム錯体はトリス(２,４−ペンタンジオナト）ルテニウム（ＩＩＩ）であることを特徴とする請求項１又は２に記載の透明導電体。
【請求項４】
金属繊維と溶媒とを含む金属繊維インクにおいて、
ルテニウム錯体をさらに含むことを特徴とする金属繊維インク。
【請求項５】
硬化性樹脂と溶剤とを含み、金属繊維を含む膜に塗工されるオーバーコート剤において、
ルテニウム錯体をさらに含むことを特徴とするオーバーコート剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属繊維を含む導電層を備える透明導電体、金属繊維と溶媒とを含む金属繊維インク及び硬化性樹脂と溶剤とを含み、金属繊維を含む層に塗工されるオーバーコート剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
透明導電体はディスプレイ、タッチパネル、エレクトロルミネッセンスデバイス、太陽電池などの電子機器のセンサ電極として広く用いられている。一般的な透明導電体としては、透明基材上に酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）膜が形成されたものが知られているが、ＩＴＯ膜はフレキシブル性に乏しく、またインジウムは高価なレアメタルであるなどの理由から代替品の開発が盛んに行われている。
【０００３】
これらの問題を解決する代替品として、例えば特許文献１に記載される、金属ナノワイヤなどの金属繊維を含む導電層を備える透明導電体が注目されている。しかしながら、この透明導電体にセンサ電極(パターニング)を形成して、タッチパネルなどの電子機器に用いた場合、蛍光灯や太陽光の光に長時間照らされると電子機器が正常に作動しなくなるという耐光性の問題があった。この原因としては、紫外線や可視光線による金属繊維の劣化又は断線が考えられており、これを解決する手段として、例えば特許文献２及び特許文献３においては、導電層に添加剤として鉄、コバルト、マンガン、チタンなどの遷移金属錯体を含ませることが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特表２００９−５０５３５８号公報
【特許文献２】国際公開ＷＯ２０１５／１４３３８３号公報
【特許文献３】国際公開ＷＯ２０１５／０５６４４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところが、特許文献２及び特許文献３のように導電層に添加剤を含ませると、その添加剤の存在により透明導電体の光学特性が損なわれるおそれがあった。
【０００６】
そこで本発明は、耐光性及び光学特性に優れた、金属繊維を含む導電層を備える透明導電体の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、金属繊維を含む導電層を備える透明導電体において、導電層はルテニウム錯体をさらに含むことを特徴とする。
【０００８】
この構成によれば、導電層がルテニウム錯体を含むため、透明導電体の耐光性を良好にすることができる。さらに、光学特性の一つであるヘイズの上昇を抑える（ヘイズを、遷移金属錯体を含まないものと同程度にする）ことができる。ヘイズの低さは、透明さを表し、透明導電体の用途から視認性が要求されるため、特に重要である。
【０００９】
本発明においては、金属繊維として金属ナノワイヤを選択することができる。
【００１０】
そして、本発明においては、ルテニウム錯体としてトリス(２,４−ペンタンジオナト）ルテニウム（ＩＩＩ）を選択することができる。
【００１１】
また、本発明は、金属繊維と溶媒とを含む金属繊維インクにおいて、ルテニウム錯体をさらに含むことを特徴とする。
【００１２】
さらに、本発明は、硬化性樹脂と溶剤とを含み、金属繊維を含む層に塗工されるオーバーコート剤において、ルテニウム錯体をさらに含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、耐光性に優れ、ヘイズの上昇を抑えた金属繊維を含む導電層を備える透明導電体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の一実施形態に係る透明導電体１０の断面模式図である。
【図２】耐光性試験のために準備した評価用サンプル５０を示す断面模式図である。
【図３】耐光性試験のために準備した評価用サンプル５０を示す平面図である。
【図４】本発明の一実施形態に係る透明導電体１０の耐光性試験の結果を示すグラフである。
【図５】本発明の一実施形態に係る透明導電体１０の耐光性試験の結果を示すグラフである。
【図６】本発明の一実施形態に係る透明導電体１０の耐光性試験の結果を示すグラフである。
【図７】本発明の一実施形態に係る透明導電体１０の耐光性試験の結果を示すグラフである。
【図８】本発明の一実施形態に係る透明導電体１０のヘイズ測定の結果を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の一実施形態に係る透明導電体１０について、図面を参照しながら説明する。図１は、透明導電体１０の断面模式図である。図１に示すように、透明導電体１０は、透明基材１１と、透明基材１１上に位置し、複数の金属繊維１２１とルテニウム錯体（図示せず）と硬化性樹脂１２２とを含む導電層１２とを備える。導電層１２は、透明基材１１上に金属繊維インクを塗工して金属繊維１２１を含む膜（以下「金属繊維膜」、図示せず）を形成して、さらにその上に硬化性樹脂１２２を含むオーバーコート剤を塗工して形成したものである。各構成要素について、順に説明する。
【００１６】
＜透明基材＞
透明基材１１は、可視光に対して透過性を有する材料で構成されたもので、例えば、無機材料又はプラスチック材料で構成される。
【００１７】
透明基材１１を構成する無機材料としては、例えば、石英、サファイア、ガラスなどが挙げられる。また、透明基材１１を構成するプラスチック材料としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ジアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、ポリアクリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、などが挙げられる。
【００１８】
透明基材１１は、長尺のフィルム状又はシート状のものが使用され、透明基材１１の厚みは、生産性の観点から、例えば１０〜２００μｍであることが好ましい。透明基材１１には、例えば易接着層などの機能層をあらかじめ設けておくことができる。
【００１９】
＜金属繊維インク＞
金属繊維インクは、例えば、金属繊維１２１と添加剤と溶媒とを含む。
【００２０】
＜金属繊維＞
金属繊維１２１は、金属から構成され、繊維長が繊維径に比べて十分に長い形状を持つものであり、例えば中空チューブ状の金属ナノチューブ、ワイヤ状の金属ナノワイヤ、ファイバー状の金属ナノファイバが挙げられる。金属繊維１２１が互いに接触し合うことによりネットワークが形成されて、良好な導電性が得られる。また、金属繊維１２１が存在しない部分を光が透過するため、良好な透明性が得られる。透明性及び導電性の観点から、金属繊維１２１は、金属ナノワイヤが好ましい。金属繊維１２１の製造方法としては、特に限定されるものではなく、公知のものが用いられる。
【００２１】
＜金属ナノワイヤ＞
金属ナノワイヤは金属から構成されたものであって、構成元素としては、例えばＡｇ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｌ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｉｎ、Ｆｅ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｓｎ、Ｔｉなどが挙げられる。透明性及び導電性の観点から、銀ナノワイヤが好ましい。
【００２２】
金属ナノワイヤの平均繊維径としては、透明性及び導電性の観点から、例えば２００ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以下であることがより好ましく、５０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。また平均繊維長としては、透明性及び導電性の観点から、例えば１〜１００μｍであることが好ましく、１〜５０μｍであることがより好ましく、３〜５０μｍであることがさらに好ましい。
【００２３】
＜添加剤＞
添加剤は、金属繊維インクの粘性、金属繊維１２１の分散性や結合性を調整したり、腐食を防止したりするものであって、例えば、粘度調整剤、分散剤、腐食防止剤などが挙げられる。粘度調整剤としては、例えばカルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）、２−ヒドロキシエチルセルロース（ＨＥＣ）、ヒドロキシプロピルメチルセルロース（ＨＰＭＣ）、メチルセルロース（ＭＣ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、トリプロピレングリコール（ＴＰＧ）及びキサンタンゴム（ＸＧ）が挙げられ、その中でもヒドロキシプロピルメチルセルロースが好ましい。分散剤としては、例えばフッ素系、ノニオン系、カチオン系の界面活性剤が挙げられ、その中でもフッ素系界面活性剤が好ましい。腐食防止剤としては、例えば芳香族トリアゾール、イミダゾール、チアゾール、チオールなどの特定の窒素含有有機化合物及び硫黄含有有機化合物が挙げられる。
【００２４】
＜溶媒＞
溶媒は、金属繊維１２１を分散させるものであって、例えば水、アルコール（エタノールなど）、ケトン、エーテル、炭化水素、芳香族溶剤（ベンゼン、トルエン、キシレンなど）及びこれらを組み合わせたものが挙げられる。溶媒としては、金属繊維１２１の均一分散性の観点から、５０重量％以上の水で構成される水系溶媒が好ましい。
【００２５】
金属繊維インクにおいては、例えば、金属ナノワイヤを０．０５〜１．４重量％、添加剤を０．０２５〜４．１重量％、溶媒を９４．５〜９９．０重量％含むように構成することができる。
【００２６】
＜オーバーコート剤＞
オーバーコート剤は、ルテニウム錯体と、硬化性樹脂１２２と、溶剤とを含む。オーバーコート剤において、ルテニウム錯体は、硬化剤１２２と溶剤の合計に対して、０．０１〜０．２０重量％含むように構成することができ、好ましくは０．０１〜０．１０重量％含むように構成することができ、より好ましくは０．０２〜０．０８重量％含むように構成することができる。オーバーコート剤を金属繊維膜上に塗工し、硬化性樹脂１２２を硬化させることで、金属繊維膜を保護することができる。また、オーバーコート剤には、紫外線吸収剤などの公知の添加剤をさらに含ませることができる。
【００２７】
＜ルテニウム錯体＞
ルテニウム錯体は、遷移金属のルテニウムに化合物が配位した錯体であって、例えば、トリス（１，１０−フェナントロリン）ルテニウム（ＩＩ）ビス（ヘキサフルオロホスファート）、カルボニルジヒドリドトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム（ＩＩ）、トリス(２,４−ペンタンジオナト）ルテニウム（ＩＩＩ）、ビス（イソチオシアナト）ビス（２，２−ビピリジル−４，４−ジカルボキシラト）ルテニウム（ＩＩ）などが挙げられ、その中でもルテニウム（ＩＩＩ）錯体が好ましく、トリス(２,４−ペンタンジオナト）ルテニウム（ＩＩＩ）がより好ましい。
【００２８】
＜硬化性樹脂＞
硬化性樹脂１２２としては、例えば、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂（紫外線硬化性樹脂、可視光硬化性樹脂）、電子線硬化性樹脂などが挙げられ、作業性の観点から、紫外線硬化性樹脂が好ましい。熱硬化性樹脂は、例えば、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂などのいずれかと、必要に応じて硬化剤によって構成される。光硬化性樹脂及び電子線硬化性樹脂は、例えば、単官能アクリレート、多官能アクリレートなどの重合性モノマーと、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ポリウレタンアクリレートなどの重合性プレポリマーと、必要に応じて光開始剤によって構成される。
【００２９】
＜溶剤＞
溶剤は、ルテニウム錯体を溶解し、また、硬化性樹脂１２２を溶解又は分散させるものであって、例えば、水、アルコール類（イソプロピルアルコール、ジアセトンアルコールなど）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレンなど）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、ケトン類（メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロなど）、グリコールエーテル類（エチレングリコール、メトキシプロパノール）などの公知のものが挙げられ、溶解性の観点から、メチルイソブチルケトンが好ましい。
【００３０】
次に、本発明の一実施形態に係る透明導電体１０の製造方法について説明する。透明導電体１０の製造方法は、塗工装置により透明基材１１上に金属繊維インクを塗工し、金属繊維インクのウェット膜を形成する第１の塗工工程と、乾燥炉により金属繊維インクのウェット膜を乾燥させて、金属繊維膜を形成する乾燥工程と、塗工装置により金属繊維膜にオーバーコート剤を塗工し、オーバーコート剤のウェット膜を形成する第２の塗工工程と、硬化装置によりオーバーコート剤のウェット膜を硬化させて導電層１２を形成する硬化工程とを備える。各工程について、順に説明する。
【００３１】
＜第１の塗工工程＞
第１の塗工工程は、塗工装置により、透明基材１１に金属繊維１２１と溶媒とを含む金属繊維インクを塗工して、ウェット膜を形成する工程である。塗工装置としては、例えばスロットダイコータ、ロールコータ、バーコータ、ナイフコータ、スクイズコータ、キスコータなどが挙げられる。塗工性の観点から、スロットダイコータが好ましい。金属繊維インクの塗布量は、例えば５〜４０ｇ／ｍ２に設定される。
【００３２】
＜乾燥工程＞
乾燥工程は、乾燥炉により、金属繊維インクのウェット膜を乾燥させて、金属繊維膜を形成する工程である。乾燥炉は公知のものが用いられ、乾燥温度は例えば３０〜１２０℃に設定される。
【００３３】
＜第２の塗工工程＞
第２の塗工工程は、塗工装置により、金属繊維膜上にルテニウム錯体と硬化性樹脂１２２と溶剤とを含むオーバーコート剤を塗工して、オーバーコート剤のウェット膜を形成する工程である。塗工装置としては、金属繊維インクの塗工装置で挙げたものが用いられる。オーバーコート剤の塗布量は、例えば３〜３０ｇ／ｍ２に設定される。
【００３４】
＜硬化工程＞
硬化工程は、硬化装置により、オーバーコート剤のウェット膜を乾燥し、硬化性樹脂１２２を硬化させて、金属繊維１２１とルテニウム錯体と硬化性樹脂１２２とを含む導電層１２を形成する工程である。硬化装置としては、硬化性樹脂１２２が熱硬化性樹脂の場合は、公知のヒータが用いられる。また、硬化性樹脂１２２が紫外線硬化性樹脂の場合は、公知の紫外線照射装置が用いられる。また、硬化性樹脂１２２が電子線硬化型樹脂の場合は、公知の電子線照射装置が用いられる。硬化後の硬化性樹脂１２２の厚みとしては、例えば５０〜２００ｎｍに設定される。
【００３５】
以上、本発明の一実施形態に係る透明導電体１０について説明したが、本発明の具体的な態様はこれに限定されるものではない。例えば、上記実施形態においては、ルテニウム錯体をオーバーコート剤に含ませたが、ルテニウム錯体をオーバーコート剤に含ませずに金属繊維インクに含ませて、導電層１２を形成することができる。
【００３６】
そしてこの場合において、第２の塗工工程（オーバーコート剤の塗工）を省略して、金属繊維膜単体で導電層１２とすることができる。
【００３７】
また、上記実施形態においては、透明基材１１上に導電層１２を直接形成したが、離型性基材に導電層１２を形成して、透明基材１１に接着性樹脂を介して導電層１２を貼合し、さらに離型性基材を剥離することによって、透明導電体１０を形成することもできる。
【実施例】
【００３８】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれによって限定されるものではない。
【００３９】
（実施例１）
透明基材として、厚みが１２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ株式会社製）を準備した。また、金属繊維インクとして、銀ナノワイヤ（繊維長１０〜３０μｍ、繊維径３０〜５０ｎｍ）を０．１重量％、粘度調整剤及び分散剤などの添加剤を３％、水系溶媒を９６．９重量％（イソプロピルアルコールが１０重量％、超純水が８６．９重量％）含むものを準備した。そして、塗工装置としてスロットダイコータを用いて、１７ｇ／ｍ２の塗布量で、透明基材上に銀ナノワイヤインクを塗工した。このウェット膜を乾燥炉により、９０℃の乾燥温度で乾燥させて、銀ナノワイヤ膜を形成した。一方、オーバーコート剤として、ルテニウム錯体であるトリス(２,４−ペンタンジオナト）ルテニウム（ＩＩＩ）（東京化成工業株式会社製）を０．２ｇ、硬化性樹脂である紫外線硬化性樹脂を３０ｇ、溶剤であるメチルイソブチルケトンを２２０ｇ含むもの（ルテニウム錯体を、硬化性樹脂と溶剤の合計に対して０．０８重量％）を準備した。そして、塗工装置としてスロットダイコータを用いて、銀ナノワイヤ膜上に塗工した。このウェット膜を乾燥炉により、８０℃の乾燥温度で乾燥し、さらに紫外線照射装置により表面における積算光量が４５０ｍＪ／ｃｍ２となるように紫外線を照射して硬化性樹脂を硬化させ、透明導電体を作製した。
【００４０】
（実施例１−１）
実施例１において、ルテニウム錯体を０．０５ｇ（ルテニウム錯体を、硬化性樹脂と溶剤の合計に対して０．０２重量％）含むオーバーコート剤を準備して、その他は実施例１と同様にして透明導電体を作製した。
【００４１】
（実施例１−２）
実施例１において、ルテニウム錯体を０．１ｇ（ルテニウム錯体を、硬化性樹脂と溶剤の合計に対して０．０４重量％）含むオーバーコート剤を準備して、その他は実施例１と同様にして透明導電体を作製した。
【００４２】
（比較例１）
実施例１においてルテニウム錯体を含まないオーバーコート剤を準備して、その他は実施例１と同様にして透明導電体を作製した。
【００４３】
（比較例２）
実施例１においてルテニウム錯体の代わりに、鉄錯体であるトリス(２,４−ペンタンジオナト）鉄（ＩＩＩ）（東京化成工業株式会社製）を０．２ｇ（鉄錯体を、硬化性樹脂と溶剤の合計に対して０．０８重量％）含むオーバーコート剤を準備して、その他は実施例１と同様にして透明導電体を作製した。
【００４４】
（比較例２−１）
実施例１においてルテニウム錯体の代わりに、鉄錯体であるトリス(２,４−ペンタンジオナト）鉄（ＩＩＩ）（東京化成工業株式会社製）を０．０５ｇ（鉄錯体を、硬化性樹脂と溶剤の合計に対して０．０２重量％）含むオーバーコート剤を準備して、その他は実施例１と同様にして透明導電体を作製した。
【００４５】
（比較例２−２）
実施例１においてルテニウム錯体の代わりに、鉄錯体としてトリス(２,４−ペンタンジオナト）鉄（ＩＩＩ）（東京化成工業株式会社製）を０．１ｇ（鉄錯体を、硬化性樹脂と溶剤の合計に対して０．０４重量％含む）オーバーコート剤を準備して、その他は実施例１と同様にして透明導電体を作製した。
【００４６】
（比較例３）
実施例１においてルテニウム錯体の代わりに、コバルト錯体であるトリス(２,４−ペンタンジオナト）コバルト（ＩＩＩ）（東京化成工業株式会社製）を０．２ｇ（コバルト錯体を、硬化性樹脂と溶剤の合計に対して０．０８重量％）含むオーバーコート剤を準備して、その他は実施例１と同様にして透明導電体を作製した。
【００４７】
（比較例４）
実施例１においてルテニウム錯体の代わりに、マンガン錯体であるトリス(２,４−ペンタンジオナト）マンガン（ＩＩＩ）（東京化成工業株式会社製）を０．２ｇ（マンガン錯体を、硬化性樹脂と溶剤の合計に対して０．０８重量％）含むオーバーコート剤を準備して、その他は実施例１と同様にして透明導電体を作製した。
【００４８】
＜耐光性試験＞
耐光性を評価するために、図２及び図３で示すような評価用サンプル５０を準備した、図２及び図３に示すように、まず、作製した比較例１〜４及び実施例１の透明導電体１０をたて７ｃｍ×よこ１０ｃｍにカットして、導電層１２側に、厚みが５０μｍの光学透明粘着フィルム２０（積水化学工業株式会社製ＯＣＡ＃５４０５Ｘ）を介して、厚みが１．１ｍｍのガラス３０（平岡特殊硝子製作株式会社製ソーダガラス）を貼合した。そして、ガラス３０上面の半面（たて７ｃｍ×よこ５ｃｍ）に黒色テープ４０（日東電工株式会社製ビニルテープＮｏ．２１Ｒ−５０−ＢＫ）を貼合した。これにより評価用サンプル５０は、導電層１２側から光が照射されると、導電層１２に光が照射される部分と、黒色テープ４０に遮られて光が照射されない部分が形成される。
【００４９】
＜光源が三波長蛍光灯の場合＞
設定温度２５℃、設定湿度５０％のクリーンルーム内で、評価用サンプル５０の導電層１２側から、光源である三波長蛍光灯（パナソニック株式会社製ＦＨＦ３２ＥＸ−Ｎ−Ｈ）からの光を、評価用サンプル５０表面において２０ｋｌｕｘの照度となるように照射した（照度は、タスコジャパン製デジタル照度計ＴＭＳ８７０を用いて測定した）。
【００５０】
＜光源がサンシャインカーボンアークの場合＞
ブラックパネル温度６３℃、設定湿度５０％のサンシャインウェザーメータ（スガ試験機株式会社Ｓ８０）内で、評価用サンプル５０の導電層１２側から、光源であるサンシャインカーボンアークからの光を、評価用サンプル５０表面において、３００〜４００ｎｍの範囲で７８Ｗ／ｍ２の放射照度となるように照射した（放射照度は、スガ試験機株式会社製放射照度計ＲＡを用いて測定した）。
【００５１】
＜表面抵抗測定＞
一定時間光を照射した後、評価用サンプル５０を取り出して、抵抗測定器（ナプソン株式会社製ＥＣ−８０）を用いて、図３で示す、光が照射された部分（ライト部５１）と、光が照射された部分と照射されなかった部分の境界部分（エッジ部５２）における表面抵抗値（Ω／□）を測定した。表面抵抗値の変化の割合を見るために、それぞれの表面抵抗値の変化率（％）を（光照射後の表面抵抗値−光照射前の表面抵抗値）／（光照射前の表面抵抗値）として求めた。
【００５２】
＜ヘイズ測定＞
作製した比較例１、比較例２、比較例２−１及び比較例２−２、実施例１、実施例１−１及び実施例１−２の透明導電体１０（耐光性試験を行っていないもの）について、ヘイズ計（スガ試験機株式会社製ＨＺ−２）を用いてヘイズ（％）を測定した。
【００５３】
耐光性試験の結果を図４〜図７に示す。図４は三波長蛍光灯の光によるライト部における表面抵抗値の変化率の経時変化を示したものであり、図５はエッジ部におけるものである。そして、図６はサンシャインカーボンアークの光によるライト部における表面抵抗値の変化率の経時変化を示したものであり、図７はエッジ部におけるものである。
【００５４】
図４に示すように、遷移金属錯体を含まない比較例１では、三波長蛍光灯の光により、ライト部における表面抵抗値が時間とともに上昇し、６００時間照射後においては、ほぼ１００％の変化率となった（表面抵抗値はほぼ２倍となった）。これに対し、比較例２（鉄錯体）、比較例３（コバルト錯体）、比較例４（マンガン錯体）及び実施例１（ルテニウム錯体）では、１０００時間照射後においてもほぼ変化しなかった。また、図５に示すように、比較例１では、三波長蛍光灯の光により、エッジ部における表面抵抗値が時間とともに上昇し、１０００時間照射後においては４０％の変化率となった。これに対して、比較例２〜４及び実施例１では、１０００時間照射後においてもほぼ変化しなかった。図４及び図５の結果から、三波長蛍光灯の光に対しては、鉄錯体、コバルト錯体、マンガン錯体及びルテニウム錯体が有用であることがわかる。
【００５５】
そして、図６に示すように、遷移金属錯体を含まない比較例１では、サンシャインカーボンアークの光により、ライト部における表面抵抗値が時間とともに上昇し、２００時間照射後においては、１００％を超える変化率となった。また、比較例３（コバルト錯体）、比較例４（マンガン錯体）についても、２００時間照射後においては、１００％を超える変化率となった。これに対して、比較例２（鉄錯体）及び実施例１（ルテニウム錯体）では、３００時間照射後においてもほぼ変化しなかった。また、図７に示すように、比較例１では、サンシャインカーボンアークの光の照射により、エッジ部の表面抵抗値が時間とともに上昇し、３００時間照射後において１００％を超える変化率となった。また、比較例３では３００時間照射後において１００％を超える変化率となり、比較例４では３００時間照射後においてほぼ２０％の変化率まで上昇した。これに対して、比較例２及び実施例１では、３００時間照射後においてもほぼ変化しなかった。図６及び図７の結果から、サンシャインカーボンアークの光に対しては、鉄錯体及びルテニウム錯体が有用であることがわかる。以上より、図４〜図７の結果から、耐光性の観点においては、鉄錯体及びルテニウム錯体が有用であることがわかる。
【００５６】
一方、ヘイズ測定の結果を図８に示す。図８に示すように、比較例２−１（鉄錯体０．０２重量％）、比較例２−２（鉄錯体０．０４重量％）及び比較例２（鉄錯体０．０８重量％）においてはいずれの場合も、遷移金属錯体を含まない比較例１と比べてヘイズが高くなった。これに対して、実施例１−１（ルテニウム錯体０．０２重量％）、実施例１−２（ルテニウム錯体０．０４重量％）及び実施例１（ルテニウム錯体０．０８重量％）においてはいずれの場合も、比較例２−１、比較例２−２及び比較例２のそれぞれと比べてヘイズが低くなり、また比較例１のヘイズと同程度となった。これにより、透明性の観点においては、鉄錯体よりもルテニウム錯体が有用であることがわかる。
【００５７】
以上のことから、導電層にルテニウム錯体を含ませることにより、耐光性が良好となり、さらにはヘイズの上昇を抑えることができる。
【符号の説明】
【００５８】
１０      透明導電体
１１      透明基材
１２      導電層
２０      光学透明粘着フィルム
３０      ガラス
４０      黒色テープ
５０      評価用サンプル
５１      ライト部
５２      エッジ部
１２１    金属繊維
１２２    硬化性樹脂
【図１】
2018101564.tif 000003
【図２】
2018101564.tif 000004
【図３】
2018101564.tif 000005
【図４】
2018101564.tif 000006
【図５】
2018101564.tif 000007
【図６】
2018101564.tif 000008
【図７】
2018101564.tif 000009
【図８】
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