(57)【要約】【課題】EUVマスクを安全に取り出して保持することができるマスク取り出し装置及びマスク取り出し方法を実現する。【解決手段】本発明によるマスク取り出し装置は、デュアルポッドが載置される上下動可能なステージを有するエレベータ装置（４０）と、デュアルポッドが配置される第１のレベル位置において、ステージの降下と協働してデュアルポッドからアウターポッドのカバーを取り外す手段（４２）と、第１のレベル位置よりも下側の第２のレベル位置において、インナーポッドのカバーを側方から把持するカバー把持手段（５０）と、第２のレベル位置よりも下側の第３のレベル位置において、EUVマスクの互いに対向する側面の下側エッジをそれぞれ下方から支持するマスク支持手段（６０）とを有する。EUVマスクは、第１のレベル位置から第２及び第３のレベル位置を経て第３のレベル位置よりも下側の第４のレベル位置まで順次降下することによりハンドにより取り出すことができる。【選択図】図４
2018120000.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
EUVマスクが収納されるインナーポッドと、インナーポッドが収納されるアウターポッドとを有するデュアルポッドからEUVマスクを取り出すマスク取り出し方法であって、
EUVマスクが収納されているデュアルポッドをエレベータ装置の上下動可能なステージ上に配置する工程と、
前記ステージを降下させることにより、デュアルポッドからアウターポッドのカバーを取り外してインナーポッドを露出させる工程と、
インナーポッドのカバーの互いに対向する２つの側面に対して、互いに対向する２方向からグリップ手段をそれぞれ押し当て、インナーポッドのカバーを側方から把持する工程と、
ステージを降下させることによりインナーポッドからカバーを取り外してEUVマスクを露出させる工程と、
EUVマスクの互いに対向する２つの側面の側から、インナーポッドのベースプレートの表面に形成されている凹部を介して、ベースプレートとEUVマスクとの間の空間内に支持部材をそれぞれ差し込み、EUVマスクの前記互いに対向する２つの側面の下側エッジを下方から支持する工程と、
ステージを降下させることによりEUVマスクのパターン形成面と、インナーポッドのベースプレートの表面との間に空間を形成する工程とを有することを特徴とするマスク取り出し方法。
【請求項２】
EUVマスクが収納されるインナーポッドと、インナーポッドが収納されるアウターポッドとを有するデュアルポッドからEUVマスクを取り出すマスク取り出し方法であって、
EUVマスクが収納されているデュアルポッドを昇降装置の上下動可能なステージ上に配置する工程と、
前記ステージを降下させることにより、デュアルポッドからアウターポッドのカバーを取り外してインナーポッドを露出させる工程と、
インナーポッドのカバーの互いに対向する２つの側面に対して、互いに対向する２方向からグリップ手段をそれぞれ押し当て、インナーカバーを側方から把持する工程と、
ステージを降下させることによりインナーポッドからカバーを取り外してEUVマスクを露出させる工程と、
EUVマスクの互いに対向する２つの側面に対して、互いに対向する２方向からグリップ手段を押し当ててEUVマスクを側方から把持しながらステージを降下させることによりEUVマスクとインナーポッドのベースプレートの表面との間に空間を形成する工程と、
EUVマスクの互いに対向する２つの側面の側から、ベースプレートとEUVマスクとの間に形成された空間内にマスク支持部材を差し込み、EUVマスクの前記互いに対向する２つの側面の下側エッジを下方からそれぞれ支持する工程とを有することを特徴とするマスク取り出し方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のマスク取り出し方法において、さらに、前記EUVマスクとベースプレートの表面との間に形成された空間にハンドを挿入し、ハンドによりEUVマスクを保持する工程を含むことを特徴とするマスク取り出し方法。
【請求項４】
請求項１、２又は３に記載のマスク取り出し方法において、前記マスク支持部材は、インナーポッドのベースプレートとEUVマスクとの間の空間内にインナーポッドのベースプレートの表面に対して斜めの角度で進入することを特徴とするマスク取り出し方法。
【請求項５】
デュアルポッドからEUVマスクを取り出すマスク取り出し装置であって、
デュアルポッドが載置される上下動可能なステージを有するエレベータ装置と、
デュアルポッドが配置される第１のレベル位置において、ステージの降下と協働してデュアルポッドからアウターポッドのカバーを取り外す手段と、
第１のレベル位置よりも下側の第２のレベル位置において、インナーポッドのカバーを側方から把持するカバー把持手段と、
第２のレベル位置よりも下側の第３のレベル位置において、EUVマスクの互いに対向する側面の下側エッジをそれぞれ下方から支持するマスク支持手段とを有し、
デュアルポッドが載置されたステージが第１のレベル位置から第２及び第３のレベル位置を経て第３のレベル位置よりも下側の第４のレベル位置まで順次降下することにより、EUVマスクがインナーポッドのベースプレートから取り外されることを特徴とするマスク取り出し装置。
【請求項６】
請求項５に記載のマスク取り出し装置において、前記マスク支持手段は、EUVマスクの互いに対向する２つの側面の側にそれぞれ設けられ、インナーポッドのベースプレートのEUVマスクと対向する表面に形成されている凹部を介してEUVマスクとベースプレートとの間に進入することを特徴とするマスク取り出し装置。
【請求項７】
デュアルポッドからEUVマスクを取り出すマスク取り出し装置であって、
デュアルポッドが載置される上下動可能なステージを有するエレベータ装置と、
デュアルポッドが配置される第１のレベル位置において、ステージの降下と協働してデュアルポッドからアウターポッドのカバーを取り外す手段と、
第１のレベル位置よりも下側の第２のレベル位置において、インナーポッドのカバーを側方から把持するカバー把持手段と、
第２のレベル位置よりも下側の第３のレベル位置において、EUVマスクの互いに対向する２つの側面の側にそれぞれ設けられ、EUVマスクの互いに対向する側面を側方からそれぞれ押圧するマスク押圧手段と、
第３のレベル位置よりも下側の第４のレベル位置において、EUVマスクの互いに対向する側面の下側エッジをそれぞれ下方から支持するマスク支持手段とを有し、
デュアルポッドが載置されたステージが第１のレベル位置から第２及び第３の位置を経て第４のレベル位置まで順次降下することにより、EUVマスクがインナーポッドのベースプレートから取り外されることを特徴とするマスク取り出し装置。
【請求項８】
請求項５、６又は７に記載のマスク取り出し装置において、前記マスク支持手段は、EUVマスクの表面に対して斜めの角度で進入し、EUVマスクの側面の下側エッジを支持することを特徴とするマスク取り出し装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、デュアルポッドからEUVマスクを取り出すマスク取り出し方法及びマスク取り出し装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
LSIの微細化に伴い、EUVマスク（レチクル）に形成されたパターンをEUV光を用いて転写するEUV露光装置の開発が進展している。このEUV露光装置では、EUVマスクを保管及び搬送するためにデュアルポッドが用いられる。すなわち、デュアルポッドはインナーポッドとアウターポッドとの二重構造により構成され、EUVマスクはインナーポッド内に収納され、インナーポッドはアウターポッド内に収納されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
インナーポッドは、電解研磨されたステンレスのベースプレートとカバーとにより構成され、EUVマスクは、そのパターン形成面がベースプレートの表面と対向するように下向きにベースプレート上に配置される。また、外部に存在するゴミや埃等の異物がEUVマスクのパターン形成面に付着するのを防止するため、EUVマスクのパターン形成面とベースプレート表面との間の間隔は０．１〜０．３ｍｍ程度に設定されている。
【０００４】
EUVマスクに欠陥が存在すると、製造されるLSIの歩留りが低下するため、EUVマスクについて欠陥検査が行われる。欠陥検査に際し、EUVマスクが収納されているデュアルポッドはマスク取り出し装置まで移送され、このマスク取り出し装置においてデュアルポッドからEUVマスクが取り出される。取り出されたEUVマスクは、移送ロボットのハンドにより保持され、検査装置のステージまで移送されて欠陥検査が行われる。また、欠陥検査が終了したEUVマスクは、移送ロボットのハンドにより保持され、マスク取り出し装置に戻され、インナーポッド内に収納され、インナーポッドはアウターポッド内に収納される。
【０００５】
また、EUVマスクを用いてパターン露光が行われる場合、デュアルポッドはハンドラーにより保持されて、露光装置のロードロック室に搬入され、真空状態に維持される。そして、マスク取り出し装置によりアウターポッドが開かれてインナーポッドが取り出され、インナーポッドからEUVマスクが取り出され、露光装置のステージ上に配置される。
【０００６】
ポッドやカセットからEUVマスクを取り出す方法として、昇降装置のステージ上にポッドを配置し、ポッドカバーの対向する２つの側面に押圧手段を押し当て、摩擦力によりポッドのカバーを把持し、ステージを降下させてカバーを取り外す方法が既知である（特許文献２参照）。この既知の方法では、カバーを取り出した後、別の押圧手段を用いてEUVマスクを側方から把持し、その状態でステージを降下させることによりポッドのベースからEUVマスクが取り外されている。
【特許文献１】特開２００７−１４１９２４号公報
【特許文献２】特開２００９−２６５２５６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
EUV露光技術では、EUVマスクをデュアルポッドから良好に取り出せることが強く要請されている。しかしながら、インナーポッドのベースプレートに対するEUVマスクの現在の配置構成では、EUVマスクのパターン面とベースプレート表面との間隔は０．１〜０．３ｍｍ程度に設定され、極めて微小な間隔である。よって、デュアルポッドからEUVマスクを取り出す際、EUVマスクとインナーポッドのベースプレートとの間にハンドないしフォークを直接挿入することができず、EUVマスクをスムースに取り出すことが困難となる課題が提起されている。
【０００８】
一方、特許文献２に記載されたマスク取り出し方法では、マスクの互いに対向する２つの側面に対して押圧手段を押し当て、押圧手段とマスク表面との摩擦力によりによりマスクを側方から把持している。しかしながら、この方法では、マスク表面に生じる摩擦力に限界があり、長時間把持する場合時間経過に伴い、保持しきれずマスクが落下するおそれがある。また、マスク側面に汚れ等が存在する場合、EUVマスク側面の摩擦力は僅かな汚れによって低下するため、同様にマスクを保持しきれなくなり、落下する危険性があった。
【０００９】
本発明の目的は、上述した欠点を解消し、EUVマスクを安全に取り出して保持することができるマスク取り出し装置及びマスク取り出し方法を実現することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明によるマスク取り出し方法は、EUVマスクが収納されるインナーポッドと、インナーポッドが収納されるアウターポッドとを有するデュアルポッドからEUVマスクを取り出すマスク取り出し方法であって、
EUVマスクが収納されているデュアルポッドをエレベータ装置の上下動可能なステージ上に配置する工程と、
前記ステージを降下させることにより、デュアルポッドからアウターポッドのカバーを取り外してインナーポッドを露出させる工程と、
インナーポッドのカバーの互いに対向する２つの側面に対して、互いに対向する２方向からグリップ手段をそれぞれ押し当て、インナーポッドのカバーを側方から把持する工程と、
ステージを降下させることによりインナーポッドからカバーを取り外してEUVマスクを露出させる工程と、
EUVマスクの互いに対向する２つの側面の側から、インナーポッドのベースプレートの表面に形成されている凹部を介して、ベースプレートとEUVマスクとの間の空間内に支持部材をそれぞれ差し込み、EUVマスクの前記互いに対向する２つの側面の下側エッジを下方から支持する工程と、
ステージを降下させることによりEUVマスクのパターン形成面と、インナーポッドのベースプレートの表面との間に空間を形成する工程とを有することを特徴とする。
【００１１】
本発明では、マスク支持手段を用いてEUVマスクの側面の下側エッジを下側から支持しているため、EUVマスクが支持手段から外れて落下する危険性が解消する。特に、側面の下側エッジを下側方向から支持しているため、たとえマスク側面等に汚れ等が付着しても、EUVマスクの取り出し工程中に落下する危険性は解消される。特に重要なことは、本発明では、EUVマスクの下向き面（パターン形成面）を支持するのではなく、EUVマスクの両サイドの側面のエッジを支持するので、マスク支持部材を僅かな量だけ進入させるだけでEUVマスクを安定して保持することができる。従って、ベースプレートに形成される凹部の深さは数ｍｍ程度で十分である。
【００１２】
本発明による別のマスク取り出し方法は、EUVマスクが収納されるインナーポッドと、インナーポッドが収納されるアウターポッドとを有するデュアルポッドからEUVマスクを取り出すマスク取り出し方法であって、
EUVマスクが収納されているデュアルポッドを昇降装置の上下動可能なステージ上に配置する工程と、
前記ステージを降下させることにより、デュアルポッドからアウターポッドのカバーを取り外してインナーポッドを露出させる工程と、
インナーポッドのカバーの互いに対向する２つの側面に対して、互いに対向する２方向からグリップ手段をそれぞれ押し当て、インナーカバーを側方から把持する工程と、
ステージを降下させることによりインナーポッドからカバーを取り外してEUVマスクを露出させる工程と、
EUVマスクの互いに対向する２つの側面に対して、互いに対向する２方向からグリップ手段を押し当ててEUVマスクを側方から把持しながらステージを降下させることによりEUVマスクとインナーポッドのベースプレートの表面との間に空間を形成する工程と、
EUVマスクの互いに対向する２つの側面の側から、ベースプレートとEUVマスクとの間に形成された空間内にマスク支持部材を差し込み、EUVマスクの前記互いに対向する２つの側面の下側エッジを下側からそれぞれ支持する工程とを有することを特徴とする。
【００１３】
インナーポッドのベースプレートに凹部又は彫り込みが形成されていない場合、上述した方法をそのまま適用することはできない。そこで、ベースプレートに凹部が形成されていないインナーポッドに対応するため、EUVマスクの互いに対向する側面をグリップ手段を押し当てて、EUVマスクを一時的に把持し、EUVマスクとベースプレートとの間に空間を形成する。続いて、形成された空間内にマスク支持手段を進入させ、EUVマスクの側面の下側エッジを下側から支える。このように、ベースプレートに凹部又は彫り込みが形成されていないEUVマスクであっても、EUVマスクとベースプレートとの間に空間を形成した後直ちにマスク支持部材を斜めに進入させることにより、EUVマスクの下側エッジを下側から支持することができる。
【００１４】
本発明によるマスク取り出し装置は、デュアルポッドからEUVマスクを取り出すマスク取り出し装置であって、
デュアルポッドが載置される上下動可能なステージを有するエレベータ装置と、
デュアルポッドが配置される第１のレベル位置において、ステージの降下と協働してデュアルポッドからアウターポッドのカバーを取り外す手段と、
第１のレベル位置よりも下側の第２のレベル位置において、インナーポッドのカバーを側方から把持するカバー把持手段と、
第２のレベル位置よりも下側の第３のレベル位置において、EUVマスクの互いに対向する側面の下側エッジをそれぞれ下方から支持するマスク支持手段とを有し、
デュアルポッドが載置されたステージが第１のレベル位置から第２及び第３のレベル位置を経て第３のレベル位置よりも下側の第４のレベル位置まで順次降下することにより、EUVマスクがインナーポッドのベースプレートから取り外されることを特徴とする。
【００１５】
本発明による別のマスク取り出し装置は、デュアルポッドからEUVマスクを取り出すマスク取り出し装置であって、
デュアルポッドが載置される上下動可能なステージを有するエレベータ装置と、
デュアルポッドが配置される第１のレベル位置において、ステージの降下と協働してデュアルポッドからアウターポッドのカバーを取り外す手段と、
第１のレベル位置よりも下側の第２のレベル位置において、インナーポッドのカバーを側方から把持するカバー把持手段と、
第２のレベル位置よりも下側の第３のレベル位置において、EUVマスクの互いに対向する２つの側面の側にそれぞれ設けられ、EUVマスクの互いに対向する側面を側方からそれぞれ押圧する第１及び第２のマスク押圧手段と、
第３のレベル位置よりも下側の第４のレベル位置において、EUVマスクの互いに対向する側面の下側エッジをそれぞれ下方から支持するマスク支持手段とを有し、
デュアルポッドが載置されたステージが第１のレベル位置から第２及び第３の位置を経て第４のレベル位置まで順次降下することにより、EUVマスクがインナーポッドのベースプレートから取り外されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
本発明では、EUVマスクの側面の下側エッジを下側から支持しているので、EUVマスクが落下する危険性が解消し、EUVマスクの側面の状態による影響を受けることなくEUVマスクの取り出し作業を安定して行うことができる。さらに、本発明では、EUVマスクの側面の下側エッジを支持しているので、パターン面側から支持しても、マスク支持部材はマスクのパターン形成エリアと接触せず、従って、EUVマスクのパターン面に損傷を与えることなく支持することが可能である。
さらに、本発明では、互いに対向する両サイドの側面の下側エッジを下側から支える構成としているので、EUVマスクを直接支持するベースプレートに形成される凹部の深さを浅くすることができる。
インナーポッドのベースプレートにマスク支持手段の先端が進入できる凹部が形成されていない場合であっても、EUVマスクの側面を側方から把持する把持手段と、側面の下側エッジを支持するマスク支持手段との両方を有するので、把持手段による把持した後にステージを降下させることによりEUVマスクとベースプレートとの間に空間が形成されるので、形成された空間内にマスク支持手段を進入させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明によるデュアルポッドの全体構成を示す分解斜視図である。
【図２】EUVマスクのインナーポッドに対する収納状態を示す図である。
【図３】デュアルポッドの配置形態の一例を示す線図的断面図である。
【図４】本発明によるマスク取り出し装置の一例を示す図である。
【図５】EUVマスクが取り出された際の状態を示す線図的斜視図である。
【図６】マスク支持装置の一例を示す図である。
【図７】本発明によるマスク支持装置の一例を示す図である。
【図８】マスク支持装置の変形例を示す図である。
【発明の実施するための形態】
【００１８】
図１は本発明によるデュアルポッドの一例を示す分解斜視図である。デュアルポッドは、EUVマスク１を収納するインナーポッド１０と、インナーポッド１０を収納するアウターポッド２０と有する。インナーポッド１０は、レチクルを異物汚染から保護する作用を果たし、レチクル収納容器として機能する。アウターポッド２０はインナーポッド１０を隔離して保護する作用を果たし、搬送及び保管中にインナーポッドを保持する。
【００１９】
インナーポッド１０は、ベースプレート１１と、ベースプレートを覆うようにベースプレートに装着されるインナーカバー１２とにより構成される。ベースプレート１１の表面１１ａとインナーカバー１２の周縁部とが係合し、レチクル１は、ベースプレート１１とインナーカバー１２とにより形成される空間内にパターン形成面がベースプレートの表面１１ａと対向するように下向きに配置される。
【００２０】
アウターポッド２０は、ベースプレート２１とアウターカバー２２とを有し、ベースプレート上にアウターカバーが配置され、ベースプレートとアウターカバーとの間に形成される空間内にインナーポッド１０が配置される。ベースプレート２１は、インナーポッド１０を位置決めして保持する作用を果たす。アウターカバー２２は、互いに対向する２つの側面にフランジ２２ａ及び２２ｂを有する。尚、図面上フランジ２２ａだけを図示する。このフランジ２２ａ及び２２ｂは、アウターカバー２２を取り外す際に用いられる。
【００２１】
図２はインナーポッドのベースプレート１１上にEUVマスク１が配置された状態の一例を示し、図２（Ａ）は線図的平面図、図２（Ｂ）は図２（Ａ）のＡ−Ａ線断面図である。尚、図２（Ａ）において、EUVマスク１は破線で示す。ベースプレート１１は、EUVマスク１と直接対向しEUVマスクを支持するマスク支持面１１ａを有し、マスク支持面１１ａにEUVマスクを位置決め支持する位置決め手段を設ける。マスク支持面１１ａの４つの角部には、EUVマスク１をパターン形成面と平行な面内で位置決めする２つのピンの組１３ａ及び１３ｂ、１４ａ及び１４ｂ、１５ａ及び１５ｂ、１６ａ及び１６ｂを設ける。ピン１３ａ、１４ａ、１５ａ、及び１６ａはEUVマスクをパターン形成面のＸ方向の位置決めを行い、ピン１３ｂ、１４ｂ、１５ｂ、及び１６ｂはＹ方向の位置決めを行う。また、ベースプレート１１の４つの角部には、ピン１３ｃ、１４ｃ、１５ｃ、及び１６ｃを設け、これら４つのピンによりEUVマスク１１のパターン形成面１ａと直交する方向の位置決めが行われる。また、これら４つのピンは、ベースプレートのマスク支持面１１ａとEUVマスクのパターン形成面１１ａとの間の間隔を規定する機能を有し、これらのピンの高さは、一例として０．１〜０．３ｍｍとすることができる。
【００２２】
ベースプレート１１には、４つの凹部１７ａ〜１７ｄを形成する。これら凹部は、EUVマスクが載置された際、マスク側面のエッジが凹部上に部分的に位置するように形成する。よって、EUVマスクをベースプレート１１から取り外す際、マスクを保持する支持部材が凹部内に進入し、マスクの側面のエッジを下側から支持することができる。
【００２３】
図３はEUVマスクが収納されたデュアルポッド３０の一列を示す断面図である。尚、移送ロボットのハンドないしフォークは紙面と直交する方向に移動してデュアルポッドを支持し又はEUVマスクを支持する。アウターポッドのベースプレート２１上にアウターカバー２２が載置され、ベースプレート２１とアウターカバー２２との間の空間内にインナーポッドが収納される。従って、ベースプレート２１とアウターカバー２２とを上下方向（紙面内における上下方向が対応する）に相対移動させることにより、例えばアウターカバー２２を静止状態に維持してベースプレート２１を下方に移動することによりベースプレート２１からアウターカバー２２が取り外され、デュアルポッド３０からアウターカバーを取り外すことができる。
【００２４】
また、インナーポッドに関して、ベースプレート１１上にインナーカバー１２が載置され、ベースプレート１１とインナーカバー１２との空間内にEUVマスク１が収納される。従って、アウターカバー２１が取り外された状態において、ベースプレート１１とインナーカバー１２とを上下方向に相対移動させることにより、例えばインナーカバーの２つの側面１２ａ及び１２ｂに対して側方から押圧力を作用して静止状態に維持し、ベースプレート２１を下方に移動させることにより、インナーカバー１２が取り外され、EUVマスクが露出する。
【００２５】
さらに、EUVマスク１は、インナーポッドのベースプレート１１上に載置されているだけであるである。従って、EUVマスク１とベースプレート１１とを上下方向に相対移動させることにより、例えばEUVマスクを側方から支持して静止状態に維持しベースプレート１１を下方に相対移動させることにより、ベースプレート１１とEUVマスク１との間に大きな空間を形成することができる。そして、形成される空間内にハンドないしフォークを挿入することによりEUVマスクを所望の位置に移送することができる。
【００２６】
従って、デュアルポッド３０をエレベータ装置のステージ上に配置し、ステージを順次下方に移動させることにより、アウターポッドのカバー２２が取り外され、続いてインナーポッドのカバー１２が取り外され、さらにEUVマスクをベースプレート１１から取り外すことができる。
【００２７】
図４は本発明によるマスク取り出し装置の一例を示す線図であり、エレベータ装置の昇降方向（デュアルポッドが載置されるテーブルの昇降方向）と平行な方向に切って示す線図的断面図である。また、図５は、最終的にEUVマスクがベースプレートから取り外された時の状態を示す。本発明においては、エレベータ装置４０を用い、デュアルポッドを順次降下させ、その間にアウターポッドのカバー及びインナーポッドのカバーを順次取り外し、デュアルポッドからEUVマスクを取り出す。エレベータ装置４０のステージ４１上にデュアルポッド３０を配置する。ステージ４１のデュアルポッドが配置される高さ位置を第１のレベル位置とする。エレベータ装置４０は、第１のレベル位置から順次下降し、第２及び第３のレベル位置を経て第４のレベル位置まで下降する。
【００２８】
マスク取り出し装置はテーブル４２を有し、テーブル４２には開口部４２ａを形成する。この開口部４２ａの大きさは、アウターポッドのベースプレートが通過するがカバー２２は係止されるサイズに設定する。
【００２９】
デュアルポッド３０が配置されたステージ４１は、第１のレベル位置から下降して第２のレベル位置に到達する。この降下中に、デュアルポッド３０のアウターポッドのベースプレート及びインナーポッドは開口部４２ａを通過するが、アウターカバー２２はテーブル４２により係止され、デュアルポッドからアウターカバー２２が取り外され、インナーポッドが露出する。
【００３０】
第２のレベル位置において、アウターカバーが取り外されたデュアルポッドは、カバー把持装置５０により挟まれる。カバー把持装置５０は、２対のグリップピン５１ａ〜５１ｄを有する。これらグリップピンは、第２のレベル位置において、インナーポッドのカバーと対向するように位置する。グリップピン５１ａ及び５１ｂと５１ｃ及び５１ｄとはインナーポッドを挟んで互いに対向するように配置する。これらグリップピンは互いに同期して水平方向に往復移動し、インナーカバー１２に近づく方向及び離れる方向に移動する。すなわち、図４において、グリップピン５１ａ及び５１ｂがカバーに近づく方向（右方向）に移動する場合反対側に設けたグリップピン５１ｃ及び５１ｄも同様に近づく方向（左方向）に移動し、グリップピン５１ａ及び５１ｂが離れる方向に移動する場合反対側のグリップピン５１ｃ及び５１ｄも離れる方向に移動する。よって、ステージが第２のレベル位置に到達すると、４本のグリップピンがカバーに近づく方向に移動してインナーカバー１２を側方から把持し、カバー１２は把持された静止状態に維持される。
【００３１】
続いて、インナーカバー１２が把持された状態で、ステージ４１は第３のレベル位置まで降下する。この降下によりインナーカバーが取り外され、アウターポッドのベースプレート、その上に配置されたインナーポッドのベースプレート、及びその上に配置されたEUVマスク１が第３のレベル位置に到達する。第３のレベル位置において、EUVマスク１はマスク支持装置６０により挟まれる。
【００３２】
図６はマスク支持装置の一例を示す図であり、図６（Ａ）は線図的平面図、図６（Ｂ）は支持機構がベースプレートの凹部内に進入してEUVマスクを支持する状態を示す線図的側面図、及び図６（Ｃ）はEUVマスクが支持された後にステージが下方の第４のレベル位置まで降下してEUVマスクとベースプレートとの間に空間が形成され、この空間内にハンドが進入した状態を示す側面図である。
【００３３】
マスク支持装置６０は、EUVマスク１を挟んで互いに対向する側に配置した同一構造の４つの支持ユニット６１ａ〜６１ｄを有し、これら支持ユニットによりマスク側面の下側エッジを下側から支持する。第１の側（図面の左側）に配置された２つの支持ユニット６１ａ及び６１ｂは第１の駆動装置６２に連結され、EUVマスク１に近づく方向及び遠ざかる方向に往復移動する。反対側（図面の右側）に配置した支持ユニット６１ｃ及び６１ｄは第２の駆動装置６３に連結され、EUVマスクに近づく方向及び遠ざかる方向に往復移動する。すなわち、支持ユニット６１ａ及び６１ｂがマスクに近づく方向に移動する場合、反対側に配置した支持ユニット６１ｃ及び６１ｄも同期してマスクに近づく方向に移動する。遠ざかる方向に移動する場合も同様に同期して互いに反対方向に移動する。
【００３４】
各支持ユニットは、EUVマスクの表面に対して斜め下方向に往復移動する支持機構６４ａ〜６４ｄを有し、各支持機構はインナーポッドのベースプレート１１に形成された凹部１７ａ〜１７ｄにそれぞれ進入し、側面の下側エッジを側面の両サイド側から支持する。すなわち、図６（Ｂ）に示すように、支持ユニットがEUVマスク１に近づく方向に移動すると、支持機構がベースプレートの凹部１７ａ〜１７ｄ内にそれぞれ進入し、EUVマスクの側面の下側エッジをそれぞれ支持する。
【００３５】
図６（Ｃ）に示すように、EUVマスク１を４つの支持機構６４ａ〜６４ｄにより支持した後、ステージを下方の第４のレベル位置まで降下させることにより、EUVマスク１とインナーポッドのベースプレート１１との間に空間が形成される。従って、この空間にハンド７０ａ及び７０ｂを挿入することにより、EUVマスクをハンドにより保持することができる。本発明では、EUVマスクの両側面の下側エッジを４つの支持機構により両サイドの下側から支持しているので、EUVマスクを安定して支持することができ、マスクが落下する等の危険性が解消される。
【００３６】
図７は支持ユニットに収納されている支持機構の詳細を示す図である。図７（Ａ）及び（Ｂ）はハウジングの内部を示す線図的平面図であり、図７（Ａ）は可動ピンの先端がEUVマスク１の側面１ａに当接した時の構造形態を示し、図７（Ｂ）は支持機構によりEUVマスクが支持されたときの構造形態を示す。また、図７（Ｃ）及び（Ｄ）は支持機構の変化する状態を側方から見た図であり、図７（Ｃ）は図７（Ａ）の状態を側方から見た図であり、図７（Ｄ）は図７（Ｂ）の状態を側方から見た図である。
【００３７】
支持ユニットは、ハウジング８０を有し、ハウジング内に支持機構を収納する。ハウジング８０は矢印方向に往復移動可能に設定され、駆動装置６２によりEUVマスクに近づく方向及び遠ざかる方向に往復移動する。EUVマスク支持機構は、可動ピン８１を有する。この可動ピン８１は、矢印方向に往復移動可能に装着され、圧縮バネ８２によりEUVマスク１に近づく方向に弾圧される。従って、支持ユニット６１がEUVマスクに近づく方向に移動して可動ピン８１の先端がEUVマスクの側面１ａに当接すると、圧縮バネが変位すると共に可動ピンはその位置にとどまる。
【００３８】
可動ピン８１には係止ピン８３を固定する。この係止ピン８３は、垂直方向（紙面と直交する方向）に延在する。係止ピン８３には回動レバー８４の一端を係止する。回動バー８４の中間位置には回転軸８５が固定され、この回転軸の両端は軸受を介してハウジングに固定する。尚、回転軸は垂直方向に対して傾いた角度に設定し、回動レバーが回転した際回動レバー８４が水平方向に対して斜め下向きに回動するように設定する。また、回動レバー８４の他端には支持ピン８７を固定する。この支持ピンはEUVマスクの下側エッジと直接接触するため、導電性の樹脂材料で構成する。これにより、摩擦帯電の発生が防止される。
【００３９】
ステージが第３レベル位置に到達すると、４つの支持ユニットがEUVマスクに近づく方向に移動する。この移動により回動レバーが回動を開始し、先端に設けた支持ピン８７は下向きに回動してベースプレートに形成された凹部に進入し、EUVマスクの側面の下側エッジと当接する。この状態において、EUVマスクの下側エッジは４つの支持ピンにより支持される。この状態でステージを降下させると、EUVマスクは静止状態に維持されるので、ステージ上のベースプレートとEUVマスクとの間に空間が形成され、ハンドが進入できる状態が形成される。  
【００４０】
図８はマスク支持装置の変形例を示す図であり、図８（Ａ）は図４と同様にエレベータ装置の昇降方向と平行な方向に切って示す線図的断面図であり、図８（Ｂ）は支持装置を示す線図的平面図である。本例では、EUVマスクに凹部（彫り込み部）が形成されていないEUVマスクを安全に支持するのに好適な支持装置を示す。本例のマスク支持装置８０は、マスクを側面方向から押圧支持するマスク押圧手段８１と、図７に示すマスクの側面下側エッジを下側から支持するマスク支持手段８２との２つの支持手段を用いる。マスク押圧手段８１は、EUVマスク１の側面を両側から押圧把持する４つの押圧手段８１ａ〜８１ｄを有する。マスク支持手段８２は、押圧手段８１から所定の距離だけ降下した第４レベル位置に配置され、EUVマスク１の側面の下側エッジを下側から支持する４つの支持手段８２ａ〜８２ｄを有する。
【００４１】
ステージが第３のレベル位置に到達すると、マスク押圧手段８１が作動してEUVマスクの対向する側面を両側から押圧支持する。続いて、ステージは第４のレベル位置に到達する。この降下により、EUVマスクは静止した状態でステージ及びその上に配置された部材が降下するため、EUVマスクとステージ上のベースプレート１１との間に空間が形成される。形成された空間内にマスク支持手段８１を差し込んでEUVマスクを下側から支持する。このように、EUVマスクの側面を押圧支持する押圧手段と、マスクの下側エッジを支持するマスク支持手段の両方を用いることにより、ベースプレートに凹部が形成されていない場合であっても、EUVマスクを安全に支持することができる。
【符号の説明】
【００４２】
１  EUVマスク
１ａ  マスク側面
１０  インナーポッド
１１  ベースプレート
１２  インナーカバー
１３ａ〜１６ｃ  位置決めピン  
１７ａ〜１７ｄ  凹部
２０  アウターポッド
２１  ベースプレート
２２  アウターカバー
３０  デュアルポッド
４０  エレベータ装置
４１  ステージ
４２  テーブル
５０  カバー把持装置
６０，８０  マスク支持装置
７０ａ，７０ｂ  ハンド
８１  マスク押圧手段
８２  マスク支持手段
【図１】
2018120000.tif 000003
【図２】
2018120000.tif 000004
【図３】
2018120000.tif 000005
【図４】
2018120000.tif 000006
【図５】
2018120000.tif 000007
【図６】
2018120000.tif 000008
【図７】
2018120000.tif 000009
【図８】
2018120000.tif 000010