(57)【要約】      （修正有）【課題】本発明は、導電性フィルムおよびその製造方法を提供する。【解決手段】導電性フィルムは、透明フィルムの表面に親水性基を有する多数の微細線を形成させ、次いでその多数の微細線上に表面が被覆された銅、銀または金のナノ粒子を付与し、次いで加熱処理を施してなる。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）疎水性表面を有する透明フィルムの表面に、フォトマスクを介して真空紫外
光を照射して、該透明フィルムの表面に親水性基を有する多数の微細線が形成
された紫外光照射フィルムを得る工程（紫外光照射工程）、
（２）得られた紫外光照射フィルムの多数の微細線上に表面が被覆された金属ナノ
粒子を付与する工程（金属ナノ粒子付与工程）および
（３）次いで得られた表面が被覆された金属ナノ粒子が付与された多数の微細線に
加熱処理を施す工程（加熱処理工程）よりなることを特徴とする導電性フィル
ムの製造方法。
【請求項２】
前期真空紫外光は１５０〜２００ｎｍの波長を有する請求項１記載の導電性フィ
ルムの製造方法。
【請求項３】
前記透明フィルムは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフ
タレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタアクリレート（Ｐ
ＭＭＡ）、ポリシクロオレフィン（ＰＣＯ）またはポリパラキシリレン（ＰＰＸ）よ
り形成されたフィルム、或いは複合フィルムである前記請求項１記載の導電性フィル
ムの製造方法。
【請求項４】
前記微細線は、１〜５０μｍの幅を有する前記請求項１記載の導電性フィルムの          
製造方法。
【請求項５】
前記多数の微細線は、ギャップ間隔（隣り合う２つの微細線の中心の間隔）が５〜
３０００μｍである前記請求項１記載の導電性フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記金属ナノ粒子は銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、または金（Ａｕ）より形成されたナ
ノ粒子である前記請求項１記載の導電性フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記金属ナノ粒子は、表面がアルキルアミン或いはアルキルアミンおよび脂肪酸を
含む膜により被覆されている金属ナノ粒子である前記請求項１記載の導電性フィル
ムの製造方法。
【請求項８】
前記金属ナノ粒子は、３ｎｍ〜３０ｎｍの平均粒径を有する前記請求項１記載の導
電性フィルムの製造方法。
【請求項９】
疎水性表面を有する透明フィルムであって、その表面には親水性基を有する多数の
微細線が形成されかつその微細線上には、金属ナノ粒子より形成されてなる導電性金
属膜が積層されていることを特徴とする導電性フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は導電性フィルムの製造方法および導電性フィルムに関する。さらに詳し
くは、透明フィルムの表面に親水性基を有する多数の微細線を形成させ、次いでそ
の多数の微細線上に表面が被覆された金属ナノ粒子を付与し、次いで加熱処理を施
してなる導電性フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、導電性フィルムとしては多くの種類のものが提案され、その一部は実用化
されている。その代表的なものは、透明フィルムの表面にインジウム・錫酸化物
（ＩＴＯ：Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）の膜をスパッタリング法などによ
り形成させたＩＴＯフィルムである。このＩＴＯフィルムは、透明性および導電性
に優れた特性を有したものであり、スマートフォンや携帯電話のタッチパネルなど
の広い分野で利用されている。ＩＴＯフィルムは、その製造方法が真空装置を用い
るＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法であること
およびＩＴＯ膜の電気抵抗の大きさに起因して、その用途は大型画面用には適せず
専ら小型画面であるスマートフォンや携帯電話のタッチパネルなどに限定されて
いる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
一方タッチパネルは、比較的大型画面用の需要が多いことから、それに対応した
大型サイズの導電性フィルムの開発が進められている。大型サイズの導電性フィル
ムを得る方法の１つは、透明フィルムの表面に導電性金属の微細線を多数形成させ
る方法である。この方法は、例えば透明フィルムの表面に、導電性金属（具体的に
はＣｕ、Ａｇ、Ａｕなど）の微粉末を含むインク（ドープ）を使用して、グラビア
オフセット印刷法などの印刷法により微細線を形成する方法、あるいは透明フィル
ム全面に形成した金属膜（具体的にはＣｕなど）をフォトリソグラフィ、エッチン
グ加工法により、導電性金属の微細線を形成させる方法である。
これらの加工法により形成された導電性金属の微細線は、１つの線の幅が細くて
数μｍ、通常細くて５μｍ程度である。また上記方法のうち、グラビアオフセット
印刷法などの印刷法では加工枚数が増えると線幅が広がる問題があり、フォトリソ
グラフィ、エッチング加工法では、加工公差が±２μｍ程度あり、さらに微細線化
すると断線する恐れがある。導電性金属の微細線は、その製造過程で断線した部分
が発生しないこと、また使用中に断線や破損が起らないことが要求される。現在の
グラビアオフセット印刷法などの印刷法、フォトリソグラフィ、エッチング加工法
では、断線のない導電性金属の微細線を形成させる方法、実用的使用において破断
や破損の起らない導電性金属の微細線を大型画面上に形成させる工業的方法とし
ては、技術的に限界があった。
下記特許文献１には、導電性金属線の断線や破損が一部で起ったとしても、全体
として導電性の特性を損失しない方法として、多数の導電性金属線を形成させる際
隣接する２〜６本、好ましくは３〜５本が一組の導電ラインを形成するように、網
状化したパターンを形成する方法および導電性金属線フィルムが提案されている。
このフィルムは、導電性金属線を或る程度細く形成させ、仮に一部断線や破断が起
こったとしても、網状化パターンにより導電性の損失を補填しようとするものであ
る。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
そこで本発明者は導電性金属の微細線を透明フィルムの表面に形成する手段と
して、グラビアオフセット印刷法などの印刷法、フォトリソグラフィ、エッチング
加工法以外の方法について研究を進めた。その１つの方法として、無電解メッキ法
に着目した。プラスチック表面に無電解メッキ法により金属メッキする方法はそれ
自体知られている方法である。この方法は、多くの場合プラスチック表面に金属メ
ッキにより膜を形成することを目的としており、金属微細線を精密に設計したパタ
ーンで形成させることを意図したものではない。
本発明者は、透明フィルムの表面は通常疎水性であり、この表面に親水性の微細
線のパターンを形成させ、さらにこの親水性微細線上に触媒を付着させることがで
きれば、この微細線上に導電性金属の微細線を施すことが可能であるとの推定のも
とに研究を重ねた結果、下記の知見が得られた。
（ｉ）疎水性表面を有する透明フィルムの表面に、フォトマスクを介して、一定波
長の紫外光を照射すると、親水性基を有する多数の微細線のパターンが形成される
こと
（ii）形成された微細線上に触媒を容易に付与することができること
（iii）触媒を付与された微細線パターン上に無電解メッキ処理すれば、多数の導
電性金属の微細線パターンが透明フィルム上に形成されること、および
（iv）かくして形成された導電性フィルムは、微細線が細くても断線や破損が極め
て少なく、精密な導電性金属の微細線パターンを有していること
【０００５】
本発明者は、前記知見に基づいて
『（１）疎水性表面を有する透明フィルムの表面に、フォトマスクを介して真
空紫外光を照射して、該透明フィルムの表面に親水性基を有する多数の微細
線が形成された紫外光照射フィルムを得る工程（紫外光照射工程）、
（２）得られた紫外光照射フィルムの多数の微細線上に触媒を付与する工程
（触媒付与工程）および
（３）次いで得られた触媒が付与された多数の微細線に導電性金属メッキ処
理を施す工程（メッキ処理工程）よりなることを特徴とする導電性フィルム
の製造方法。』
を見出し先に提案した（特願２０１６−０１５８３７号）。
本発明者は、前記した先に提案した方法において更なる改良について研究を進め
た。その結果前記方法における触媒付与工程において、“触媒”に替えて“表面が
被覆された金属ナノ粒子”を使用し、次いで加熱処理を施すと透明フィルムの表面
に、金属ナノ粒子より形成されてなる導電性金属膜が積層された多数の微細線が形
成されることを見出し本発明に到達した。
かくして本発明によれば、下記導電性フィルムの製造方法および導電性フィルム
が提供される。
１．（１）疎水性表面を有する透明フィルムの表面に、フォトマスクを介して真
空紫外光を照射して、該透明フィルムの表面に親水性基を有する多数の微細
線が形成された紫外光照射フィルムを得る工程（紫外光照射工程）、
（２）得られた紫外光照射フィルムの多数の微細線上に表面が被覆された金
属ナノ粒子を付与する工程（金属ナノ粒子付与工程）および
（３）次いで得られた表面が被覆された金属ナノ粒子が付与された多数の微
細線に加熱処理を施す工程（加熱処理工程）よりなることを特徴とする導電
性フィルムの製造方法。
２．前期真空紫外光は１５０〜２００ｎｍの波長を有する前記１記載の導電性フ
ィルムの製造方法。
３．前記透明フィルムは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレ
ンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタアク
リレート（ＰＭＭＡ）、ポリシクロオレフィン（ＰＣＯ）またはポリパラキシ
リレン（ＰＰＸ）より形成されたフィルム、或いは複合フィルムである前記１
記載の導電性フィルムの製造方法。
４．前記微細線は、１〜５０μｍの幅を有する前記１記載の導電性フィルムの製
造方法。
５．前記多数の微細線は、ギャップ間隔（隣り合う２つの微細線の中心の間隔）
が５〜３０００μｍである前記１記載の導電性フィルムの製造方法。
６．前記金属ナノ粒子は銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、または金（Ａｕ）より形成さ
れたナノ粒子である前記１記載の導電性フィルムの製造方法。
７．前記金属ナノ粒子は、表面がアルキルアミン或いはアルキルアミンおよび脂
肪酸を含む膜により被覆されている金属ナノ粒子である前記１記載の導電性
フィルムの製造方法。
８．前記金属ナノ粒子は、３ｎｍ〜３０ｎｍの平均粒径を有する前記１記載の導
電性フィルムの製造方法。
９．疎水性表面を有する透明フィルムであって、その表面には親水性基を有する
多数の微細線が形成されかつその微細線上には、金属ナノ粒子より形成されて
なる導電性金属膜が積層されていることを特徴とする導電性フィルム。
【発明の効果】
【０００６】
本発明により、金属ナノ粒子より形成されてなる多数の導電性金属膜の微細線の
パターンが形成された導電性フィルムが提供される。この導電性フィルムにおける
導電性金属膜の微細線は、表面が被覆された金属ナノ粒子が紫外光照射フィルムの
微細線の表面に付与され、さらに加熱処理されているので、導電性金属膜の微細線
が精密でかつ断線や破損が極めて少ない。従って、導電性フィルムとして有利に利
用できる。例えば、その特性を利用して大型画面のタッチパネル、ＥＬライト、電
磁波シールドフィルムや発熱体の材料として効果的に利用できる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１３−５４７０８号公報（特許第５７３４７９９号）
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本発明の導電性フィルムのベースフィルムである透明フィルムとしては、ポリエ
チレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカ
ーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリシクロオレ
フィン（ＰＣＯ）またはポリパラキシリレン（ＰＰＸ）より形成されたフィルムが
好適に利用できる。これらのうち、ＰＥＴ、ＰＥＮ、ＰＣＯまたはＰＣより形成さ
れたフィルムが特に好ましい。これらの透明フィルムは、１軸または２軸延伸され
たものであってもよく、その厚みは２５〜３００μｍ、望ましくは３８〜２５０
μｍが有利である。
前述した透明フィルムは、通常表面は疎水性を示すが、特性向上のため、前述し
た透明フィルムに、疎水性を有する層をコーティングしたものであってもよい。さ
らに前述した透明フィルムと他の透明基材とを積層したものであってもよい。本発
明において、透明フィルムの表面について疎水性であるとは、その表面のぬれ張力
の特性値が４０ｍＮ／ｍ以下、好ましくは３７ｍＮ／ｍ以下のものを云う。この
「ｍＮ／ｍ」単位は「ｄｙｎ／ｃｍ」で表わされることもある。
【０００９】
本発明方法によれば、疎水性表面を有する透明フィルムの表面に、フォトマスク
を介して真空紫外光を照射して、その表面に親水性基を有する多数の微細線を形成
させる。この際フォトマスクは、形成された親水性基を有する微細線の幅が１〜
５０μｍ、好ましくは１〜４０μｍ、特に好ましくは１〜３０μｍとなるように紫
外光照射の幅を設計すべきである。
真空紫外光の波長は、１５０〜２００ｎｍの範囲であればよい。またフォトマス
クは、多数の微細線のギャップ間隔（隣り合う微細線の中心線の間隔）が５〜
３０００μｍ、好ましくは１０〜２５００μｍとなるように設計されることが望ま
しい。
真空紫外光の照射は、形成された微細線の親水性基の割合が充分に親水性を有す
る量であることが肝要である。ここで親水性であるとは、ぬれ張力の特性値が５０
ｍＮ／ｍ以上、好ましくは５５ｍＮ／ｍ〜６５ｍＮ／ｍであることが望ましい。
親水性微細線を形成させるための真空紫外光の照射の割合は、照射する前の透明
フィルムの表面の疎水性の割合によっても好ましい値が変化する。すなわち、照射
前の疎水性フィルムのぬれ張力の特性の値に対して、照射後のフィルムの微細線の
親水性のぬれ張力の特性値が１０ｍＮ／ｍ以上、好ましくは１５ｍＮ／ｍ以上の差
が生じるように、真空紫外光を照射することが有利である。
【００１０】
本発明では、親水性微細線が形成された透明フィルムに対して、その微細線上に
金属ナノ粒子付与し、次いで加熱処理を施す。この金属ナノ粒子付与および加熱処
理は、微細線の表面に次の方法で金属ナノ粒子を付与し加熱する方法である。
紫外光照射フィルムの多数の微細線上に、金属ナノ粒子を付与するために使用す
る金属ナノ粒子は銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、または金（Ａｕ）より形成されたナノ
粒子であり、好ましくは銅または銀のナノ粒子であり、最も好ましくは銅のナノ粒
子である。金属ナノ粒子は、３ｎｍ〜３０ｎｍの平均粒径を有するものが適当であ
り、より好ましくは５ｎｍ〜２５ｎｍの平均粒径を有するものである。金属ナノ粒
子は、それ自体凝集し易いので、凝集を防ぐために表面が被覆されたものが使用さ
れる。その際被覆には被覆材として（ａ）炭素数３〜６の１級または２級のアルコ
ール、或いはこれらアルコールの誘導体、（ｂ）ポロビニルピロリドン、（ｃ）ア
ルキルアミン、（ｄ）アルキルアミンおよび脂肪酸の混合物などが使用される。こ
れらのうち、アルキルアミンもしくはアルキルアミンおよび脂肪酸の混合物が好ま
しい。
前記表面が被覆された金属ナノ粒子は、紫外光照射フィルムの多数の微細線上に
付与された後（金属ナノ粒子付与工程）、加熱処理工程により加熱されると、被覆
に使用された被覆材は分解または除去される。
【００１１】
かくして、線幅が１〜５０μｍの金属ナノ粒子より形成されてなる導電性金属膜
が積層された微細線が多数形成された透明フィルムが得られる。フィルム上に形成
される微細線は幅が１〜５０μｍ、好ましくは１〜３０μｍであるが、本発明によ
れば幅が１〜１０μｍ、殊に１〜５μｍという極めて細い金属ナノ粒子より形成さ
れてなる導電性金属膜の微細線が精密にかつ破断や破損なく、多数パターン化して
形成された導電性フィルムが得られる点に特徴を有している。
多数の金属ナノ粒子より形成されてなる導電性金属膜の微細線は直線状でもよ
く、波形状でもよく、また直線状と波形状との組合せであってもよい。ギャップ間
隔が５〜３０００μｍ、好ましくは１０〜２５００μｍであればよい。
前述したように本発明の導電性フィルムは、多数の金属ナノ粒子より形成されて
なる導電性金属膜の微細線が直線状および波形状にほぼ並列したパターンでフィ
ルム面に形成されたものである。しかし実際に導電性フィルムとして使用する場合
には、（ａ）金属ナノ粒子より形成されてなる導電性金属膜の微細線の多数を、そ
れぞれ独立した導電ラインと使用してもよく、また（ｂ）隣接する２〜６本、好ま
しくは３〜５本を一組の導電ラインとして使用してもよく、さらに（ｃ）隣接する
２〜６本、好ましくは３〜５本を一組の導電ラインとし、その際一組の導電ライン
において隣接する金属ナノ粒子より形成されてなる導電性金属膜の微細線が網状
化したパターンを形成してもよい。
【００１２】
本発明の導電性フィルムは、透明性に優れ、開口率は８５〜９９％、好ましくは
８７〜９９％の範囲である。ここで開口率とは、金属ナノ粒子より形成されてなる
導電性金属膜の微細線が形成された部分と形成されない部分を含む有効領域（フィ
ルム）の全面積を１００％とした時、金属ナノ粒子より形成されてなる導電性金属
膜の微細線が占める合計面積を除いた面積の割合を云う。
本発明によれば、大型画面用に適した大型サイズのフィルム上に多数の金属ナノ
粒子より形成されてなる導電性金属膜の微細線を容易に形成させることができ
る。つまり、大型サイズの導電性フィルムを支障なく提供することが可能となる。
本発明は、導電性フィルムを利用して、小型から大型の、好適には大型のタッチ
パネル、ＥＬライト、電磁波シールドフィルムまたは発熱体の用途に使用すること
ができる。
以下実施例を掲げて本発明を詳述する。
実施例１〜３および比較例１
［試験用フィルム］
帝人株式会社製「ピュアエース  Ｃ１１０−１００」の片面を実施例１の試験用フ
ィルム面として用いた。
グンゼ株式会社製「Ｆ１フィルム  Ｆ１−ＩＳＯ−１００−Ｔ−０」の片面を実施
例２の試験用フィルム面として用いた。
東洋包材株式会社製ハードコートフィルム「ＳＨ−６１８８−Ｈ２５Ａ／ＳＰ２」
の未処理面に、KISCO株式会社にて、ポリパラキシリレン樹脂コーティングを行っ
た。ポリパラキシリレン樹脂コーティング面を実施例３の試験用フィルム面として用
いた。
東レ株式会社製ポリプロピレンフィルム「トレファンＢＯ  ＃５０−２５００Ｈ」
の片面を比較例１の試験用フィルム面として用いた。
［真空紫外光の照射効果の評価］
真空紫外光（１５０−２００ｎｍ）を、合成石英ガラス（信越石英株式会社製ＳＵ
ＰＲＡＳＩＬ−Ｆ３１０、厚さ２．３ｍｍ）越しに、試験用フィルム面に、5分間照
射した。
試験用フィルム面の真空紫外光照射部の水の接触角を測定した。
また、ぬれ張力試験用混合液を用いて、試験用フィルム面の真空紫外光照射部のぬ
れ張力を測定した。
実施例１〜３および比較例１の真空紫外光の照射効果の評価結果を下表に示す。
2018181436.tif 000002
実施例１〜３の試験用フィルム面は、真空紫外光照射後、ぬれ張力が増加し、水接
触角が低下した。これは、真空紫外光照射により親水性基が導入され、ぬれ張力が増
加したことを示唆する。
一方、比較例１の試験用フィルム面は、真空紫外光照射前と照射後で、ぬれ張力、
水接触角ともに、ほとんど変化しなかった。
実施例４および比較例２
［銅ナノ粒子付与液］
銅ナノ粒子付与液を以下の手順で調整した。
酢酸銅（５．４６ｇ）をエチレングリコール（６０ｍＬ）に溶解させ、酢酸銅溶液を
調整した。また、１−アミノ−２−プロパノール（２３．２ｍＬ）をエチレングリコ
ール（６０ｍＬ）に溶解させ、１−アミノ−２−プロパノールの溶液を調整した。上
記酢酸銅溶液に、上記１−アミノ−２−プロパノールの溶液を加えると、錯形成に伴
い溶液は濃い青色に変化した。
以下のこれを「原料溶液」とする。
原料溶液を攪拌しながら空気雰囲気下で２５℃において、銅モル換算で約１５倍量
のヒドラジン（１４．５８ｍＬ）を添加した。ヒドラジンの添加直後に、原料溶液か
ら大量の気泡が発生して、瞬時に赤みのある黒色へと変化した。次いで、空気雰囲気
下で24時間放置し、銅ナノ粒子分散液を調整した。
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）５０ｍＬを別途用意した。ＤＭＡに対し
て銅ナノ粒子分散液２５ｍＬを液滴が見える程度にゆっくりと滴下して混合溶液を
調整した。当該混合溶液を、数分間大気中に放置して、空気にさらしたところ、懸濁
した。懸濁した混合溶液の遠心分離を行い、銅ナノ粒子を沈殿させた。溶液から上澄
みを除去し、銅ナノ粒子沈殿物を採取して、１４ｍＬのＤＭＡを添加した。次いで、
ボルテックスミキサーを用いて銅ナノ粒子沈殿物をＤＭＡ中に分散させて洗浄を行
った。銅ナノ粒子のＤＭＡ分散液の遠心分離を行い、銅ナノ粒子を沈殿させた。上澄
みを除去し、残った銅ナノ粒子沈殿物に対して、２０ｍＬのトルエンを添加して、ボ
ルテックスミキサーを用いて分散させて洗浄を行った。銅ナノ粒子のトルエン分散液
の遠心分離を行い、銅ナノ粒子を沈殿させた。上澄みを除去し残った銅ナノ粒子沈殿
物に対して、２０ｍＬのヘキサンを添加して、ボルテックスミキサーを用いて分散さ
せて洗浄を行った。銅ナノ粒子のヘキサン分散液の遠心分離を行い、銅ナノ粒子を沈
殿させた。上澄みを除去して銅ナノ粒子を分離し、洗浄を完了した。
銅ナノ粒子に対して、プロピレングリコールとグリセロールとの１：１（体積比）
の混合溶媒を、銅の含有量が４０重量％になるように添加した。混合溶媒添加後、上
層に浮上したヘキサンを除去した。ボルテックスミキサーを用いて銅ナノ粒子を分散
させ、銅ナノ粒子に残留していたヘキサンを分離除去した。次いで、減圧乾燥を３分
間行い、分散液中のヘキサンを全て除去した。以上の操作により、銅ナノ粒子付与液
を得た。
［試験用フィルム］
東洋包材株式会社製ハードコートフィルム「ＳＨ−６１８８−Ｈ２５Ａ／ＳＰ２」
の未処理面に、KISCO株式会社にて、ポリパラキシリレン樹脂コーティングを行っ
た。ポリパラキシリレン樹脂コーティング面を実施例４の試験用フィルム面として用
いた。
東レ株式会社製ポリプロピレンフィルム「トレファンＢＯ  ＃５０−２５００Ｈ」
の片面を比較例２の試験用フィルム面として用いた。
［紫外光照射、銅ナノ粒子付与、加熱処理］
実施例４および比較例２の試験用フィルム面に真空紫外光（１５０−２００ｎｍ）
を、フォトマスク（クロムマスク、基板：信越石英株式会社製ＳＵＰＲＡＳＩＬ−
Ｆ３１０、厚さ２．３ｍｍ）越しに、5分間照射した。
次に銅ナノ粒子付与液を用いて、バーコーターにより実施例４および比較例２の試
験用フィルム面に塗布した。
実施例４の試験用フィルム面は、いずれも真空紫外光の透過部のみ銅ナノ粒子が付
与されており、真空紫外光の遮蔽部には銅ナノ粒子が付与されていないことが確認さ
れた。
一方、比較例２の試験用フィルム面は、真空紫外光の透過部、遮蔽部にかかわらず
銅ナノ粒子が付与されなかった。
次に、実施例４の銅ナノ粒子を付与した試験用フィルムを、窒素の流量１ｍＬ／
ｍｉｎの条件下で、８５℃で１時間３０分乾燥させた。次いで、窒素の流量１ｍＬ／
ｍｉｎの条件下で、１５０℃で１５分間加熱処理し、銅ナノ粒子を焼結させて、銅膜
を形成した。銅膜の線幅は約５μm、銅膜の厚さは約０．１μmであった。
実施例５〜７及び比較例３
［銀ナノ粒子付与液］
銀ナノ粒子付与液を以下の手順で調整した。
ｎ−オクチルアミン４．３２ｇ、ｎ−ドデシルアミン１．２４８ｇを混合し、この混
合液にシュウ酸銀６．０８ｇを加え、１０分間攪拌し、シュウ酸イオン・アルキルア
ミン・銀錯化合物を調整した。これを１００℃で６０分間加熱攪拌すると、青色光沢
を呈する懸濁液へと変化した。これにメタノール１０ｍＬを加え、遠心分離により得
られた沈殿物を自然乾燥すると、青色光沢の銀ナノ粒子４．５０ｇが得られた。
銀ナノ粒子を、銀の含有量が４０重量％になるように、ｎ−ブタノールとｎ−オク
タンの混合溶媒に分散させ、銀ナノ粒子付与液を得た。
［試験用フィルム］
帝人株式会社製「ピュアエース  Ｃ１１０−１００」の片面を実施例５の試験用フ
ィルム面として用いた。
グンゼ株式会社製「Ｆ１フィルム  Ｆ１−ＩＳＯ−１００−Ｔ−０」の片面を実施
例６の試験用フィルム面として用いた。
東洋包材株式会社製ハードコートフィルム「ＳＨ−６１８８−Ｈ２５Ａ／ＳＰ２」
の未処理面に、KISCO株式会社にて、ポリパラキシリレン樹脂コーティングを行っ
た。ポリパラキシリレン樹脂コーティング面を実施例７の試験用フィルム面として用
いた。
東レ株式会社製ポリプロピレンフィルム「トレファンＢＯ  ＃５０−２５００Ｈ」
の片面を比較例３の試験用フィルム面として用いた。
［紫外光照射、銀ナノ粒子付与、加熱処理］
実施例５〜７および比較例３の試験用フィルム面に真空紫外光（１５０−２００
ｎｍ）を、フォトマスク（クロムマスク、基板：信越石英株式会社製ＳＵＰＲＡＳＩ
Ｌ−Ｆ３１０、厚さ２．３ｍｍ）越しに、5分間照射した。
次に銀ナノ粒子付与液を用いて、スピンコートにより実施例５〜７よび比較例３の
試験用フィルム面に塗布した。
実施例５〜７の試験用フィルム面は、いずれも真空紫外光の透過部のみ銀ナノ粒子
が付与されており、真空紫外光の遮蔽部には銀ナノ粒子が付与されていないことが確
認された。
一方、比較例３の試験用フィルム面は、真空紫外光の透過部、遮蔽部にかかわらず
銀ナノ粒子が付与されなかった。
次いで、実施例５〜７の銀ナノ粒子を付与した試験用フィルムを１２０℃で４０分
間加熱処理し、銀ナノ粒子を焼結させて、銀膜を形成した。銀膜の線幅は約５μm、
銀膜の厚さは約０．１μmであった。