(57)【要約】【課題】ＩＰＳ／ＦＦＳ方式による調光フィルムに関して、透過率を均一化することができる調光フィルムを提供する。【解決手段】本発明の調光フィルム１０は、透明電極２２Ａ上に絶縁層を介して複数の線状電極２２Ｂが配置された第１の積層体１３と、前記第１の積層体１３に対して対向して配置された第２の積層体１２と、前記第１の積層体１３及び前記第２の積層体１２により挟持され、前記透明電極２２Ａと前記線状電極２２Ｂとの間の電界により配向が制御される液晶分子１４Ａを有する液晶層１４と、前記複数の線状電極２２Ｂの端部同士を接続され、前記線状電極２２Ｂに交流電圧を供給する電圧供給部２２ＡＡ、２２ＢＡと、前記電圧供給部２２ＡＡ、２２ＢＡに接続され、前記複数の線状電極２２Ｂを横切って延び、前記線状電極２２Ｂに比べて単位長さの抵抗値が小さい複数の線状の補助電圧供給部３０、５０と、を備える。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明電極上に絶縁層を介して複数の線状電極が配置された第１の積層体と、
前記第１の積層体に対して対向して配置された第２の積層体と、
前記第１の積層体及び前記第２の積層体により挟持され、前記透明電極と前記線状電極との間の電界により配向が制御される液晶分子を有する液晶層と、
前記複数の線状電極の端部同士を接続し、前記線状電極に交流電圧を供給する電圧供給部と、
前記電圧供給部に接続され、前記複数の線状電極を横切って延び、前記線状電極に比べて単位長さの抵抗値が小さい複数の線状の補助電圧供給部と、
を備える調光フィルム。
【請求項２】
前記補助電圧供給部が、金属材料である、
請求項１に記載の調光フィルム。
【請求項３】
前記補助電圧供給部が、前記線状電極と直交する、
請求項１又は２に記載の調光フィルム。
【請求項４】
前記補助電圧供給部が、前記線状電極を斜めに横切る、
請求項１又は２に記載の調光フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、調光フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば窓に貼り付けて外来光の透過を制御する調光フィルムに関する工夫が種々提案されている（特許文献１、２）。このような調光フィルムの１つに、液晶を利用したものがある。液晶を利用した調光フィルムは、透明電極を備えた透明フィルム材により液晶材料を挟持して液晶セルが製造され、その液晶セルを直線偏光板により挟持する。
この調光フィルムでは、液晶に印加する電界を変更して液晶の配向を変更することにより外来光の透過を制御する。
【０００３】
この液晶セルの駆動には、液晶表示パネルについて提案されている種々の駆動方法を適用することができる。具体的には、例えばＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｃｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＶＡ（Ｖｉｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式等の駆動方式を適用することができる。
【０００４】
ＴＮ方式は、電界の印加により、液晶分子の配向を垂直方向と水平ねじれ方向とで変化させ、光の旋光性を利用して透過光量を制御する方式である。
また、ＩＰＳ方式は、配向させた液晶分子を基板に対して横（水平）方向に回転させることにより透過光量を制御する方式である。
ＶＡ方式では、駆動電源の振幅が０Ｖの場合である無電界時、液晶層の液晶分子は垂直配向し、これにより調光フィルムは、入射光を遮光して遮光状態となる。また、この駆動電源の振幅を増大させて駆動電圧を立ち上げると、液晶層の液晶は水平配向し、調光フィルムは、入射光を透過させる。
【０００５】
しかしながら調光フィルムでは、例えば窓ガラスに貼り付けて種々の方向より見て取られる特長がある。これにより視野角依存性の少ないＩＰＳ方式により駆動することが好ましいと考えられる。
【０００６】
またＩＰＳ方式のうちの、ＦＦＳ（フリンジフィールドスイッチング）方式（ＩＰＳ／ＦＦＳ方式）によれば、透過率を高くすることができる。このＩＰＳ／ＦＦＳ方式は、液晶層を挟持する１対の基材のうちの一方の基材に駆動用の透明電極をまとめて製造する構成である。ＩＰＳ／ＦＦＳ方式では、一方の基材の全面に、透明電極を製造した後、絶縁層を間に挟んで一定のピッチにより線状電極を製造し、この全面の透明電極と線状電極との間で発生する基材表面の面内方向の電界であるいわゆる横電界により液晶の配向を制御する。
【０００７】
このようなＩＰＳ／ＦＦＳ方式による液晶表示パネルに関して、特許文献３には、線状電極を屈曲させてマルチドイン化し、一段と視野角特性を向上する構成が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平０３−４７３９２号公報
【特許文献２】特開平０８−１８４２７３号公報
【特許文献３】特開２００９−４７８１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ＩＰＳ／ＦＦＳ方式による調光フィルムでは、基材の全面に形成された透明電極に、絶縁層を間に挟んで線状電極が一定ピッチにより並列に繰り返し配置されている。この全面の透明電極と線状電極との間で作成される面内方向の電界により液晶分子の配向が制御されて透過光が制御される。
調光フィルムは窓等に貼り付けて大面積により使用される。このように調光フィルムが大型化すると、線状電極の電圧は、給電点から離れるにつれ低下する。その結果、線状電極及び透明電極間の電位差が、線状電圧の長手方向における各部で変化し、これにより透過率が不均一化する。
本発明は、ＩＰＳ／ＦＦＳ方式による調光フィルムに関して、透過率を均一化することができる調光フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。
【００１１】
（１）透明電極上に絶縁層を介して複数の線状電極が配置された第１の積層体と、前記第１の積層体に対して対向して配置された第２の積層体と、前記第１の積層体及び前記第２の積層体により挟持され、前記透明電極と前記線状電極との間の電界により配向が制御される液晶分子を有する液晶層と、前記線状電極の端部同士を接続し、前記線状電極に交流電圧を供給する電圧供給部と、前記電圧供給部に接続され、前記複数の線状電極を横切って延び、前記線状電極に比べて単位長さの抵抗値が小さい複数の線状の補助電圧供給部と、を備える調光フィルム。
【００１２】
（２）  （１）において、前記補助電圧供給部は、金属材料であることが好ましい。
【００１３】
（３）  （１）又は（２）において、前記補助電圧供給部は、前記線状電極と直交していてもよい。
【００１４】
（４）  （１）又は（２）において、前記補助電圧供給部が、前記線状電極を斜めに横切っていることが好ましい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、ＩＰＳ／ＦＦＳ方式による調光フィルムに関して、透過率を均一化することができる調光フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の第１実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。
【図２】図１の調光フィルムにおける電極の詳細構成を説明する図である。
【図３】マルチドメインを説明する図である。
【図４】補助電圧供給部の幅を０．１ｍｍ、ピッチを１００ｍｍとした場合の電極間電位差を説明する図である。
【図５】補助電圧供給部の幅を０．１ｍｍ、ピッチを５０ｍｍとした場合の電極間電位差を説明する図である。
【図６】補助電圧供給部の幅を０．２ｍｍ、ピッチを１００ｍｍとした場合の電極間電位差を説明する図である。
【図７】調光フィルムの製造工程を示すフローチャートである。
【図８】図７の製造工程における上側積層体製造工程を示すフローチャートである。
【図９】図７の製造工程における下側積層体製造工程を示すフローチャートである。
【図１０】下側積層体製造工程ＳＰ３を詳細に示す図である。
【図１１】本発明の第２実施形態に係る調光フィルムに関して、電極の詳細構成を説明する図である。
【図１２】電極間電位差を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
〔第１実施形態〕
図１は、本発明の第１実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。調光フィルム１０は、液晶を利用して透過光を制御する調光フィルムである。それぞれフィルム形状の第１及び第２の積層体である下側積層体１３及び上側積層体１２により液晶材料を挟持して液晶セル１５が作製される。そして、液晶セル１５は直線偏光板１６、１７により挟持される。
【００１８】
ここで液晶セル１５は、ＩＰＳ／ＦＦＳ方式により液晶層１４の液晶分子１４Ａを駆動する横電界方式の液晶セルである。直線偏光板１６、１７はクロスニコル配置により配置される。
下側積層体１３は、基材２１Ａの全面に、ＩＰＳ／ＦＦＳ方式に係る透明電極２２Ａが形成され、絶縁層２３を間に挟んで透明の線状電極２２Ｂが形成され、続いて配向層２４Ａが設けられる。
上側積層体１２には、基材２１Ｂに配向層２４Ｂが設けられる。
なお、第１積層体が下側積層体１３、第２積層体が上側積層体１２である構成に限定されず、第１の積層体が上側積層体１２を構成し、第２の積層体が下側積層体１３であってもよい。
【００１９】
調光フィルム１０には、液晶層１４の厚みを一定に保持するためのスペーサー２７が下側積層体１３に設けられる。ただし、スペーサー２７は上側積層体１２に設けられてもよく、上側積層体１２及び下側積層体１３の双方に設けられてもよい。
直線偏光板１６、１７は、それぞれ液晶セル１５側に光学補償に供する位相差フィルム１８、１９が設けられる。なお位相差フィルム１８、１９は、必要に応じて省略してもよい。
透明電極２２Ａと線状電極２２Ｂ間の印加電圧を変更することにより、液晶層１４に係る液晶分子１４Ａの配向方向を変更して入射光の透過を制御し、例えば透過状態と遮光状態とで状態を切り替える。
直線偏光板１６及び又は１７の液晶セル１５とは逆側の面に、ハードコート層等による保護層が設けられる。
【００２０】
〔基材〕
基材２１Ａ、２１Ｂは、液晶セル１５に適用可能な可撓性を有する各種の透明フィルム材を適用することができ、本実施形態では、両面にハードコート層が作製されたポリカーボネート等によるフィルム材が適用される。
【００２１】
〔電極〕
透明電極２２Ａ、線状電極２２Ｂは、透明と知覚される種々の構成を広く適用することができ、本実施形態では、透明電極材であるＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）による透明導電膜を基材２１Ａの全面に作製して透明電極２２Ａが作製される。また同様にして基材２１Ａの全面にＩＴＯによる透明導電膜を作製した後、パターニングして線状電極２２Ｂが作製される。
【００２２】
〔絶縁層〕
絶縁層２３は、この種の液晶セルに適用可能な各種の透明絶縁材料を適用することができ、各種の無機材料、有機材料を適用することができる。
【００２３】
〔配向層〕
配向層２４Ａ、２４Ｂは、光配向層により形成される。この光配向層に適用可能な光配向材料は、光配向の手法を適用可能な各種の材料を広く適用することができるが、本実施形態では、例えば光二量化型の材料を使用する。この光二量化型の材料については、「Ｍ．Ｓｃｈａｄｔ，  Ｋ．Ｓｃｈｍｉｔｔ，  Ｖ．  Ｋｏｚｉｎｋｏｖ  ａｎｄ  Ｖ．  Ｃｈｉｇｒｉｎｏｖ  ：  Ｊｐｎ．  Ｊ．  Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，  ３１，  ２１５５  （１９９２）」、「Ｍ．  Ｓｃｈａｄｔ，  Ｈ．  Ｓｅｉｂｅｒｌｅ  ａｎｄ  Ａ．  Ｓｃｈｕｓｔｅｒ  ：  Ｎａｔｕｒｅ，  ３８１，  ２１２（１９９６）」等に開示されている。なお光配向層に代えてラビング処理により配向層を作製してもよく、微細なライン状凹凸形状を賦型処理して配向層を作製してもよい。
【００２４】
〔液晶層〕
液晶層１４には、この種の調光フィルムに適用される各種の液晶材料を広く適用することができ、例えばメルク社製ＭＬＣ２１６６等の液晶材料を適用することができる。
【００２５】
〔スペーサー、シール材〕
スペーサー２７は、各種の樹脂材料を広く適用することができるが、本実施形態ではフォトレジストにより作製される。なお、いわゆるビーズスペーサを適用してもよい。
液晶セル１５は、液晶層１４を囲む枠形状によりシール材２５が配置され、このシール材２５により液晶層１４に係る液晶の漏出が防止され、さらには上側積層体１２及び下側積層体１３が一体に保持される。
シール材２５は、液晶の漏出を防止すると共に、上側積層体１２及び下側積層体１３を一体に保持可能な種々の材料を適用することができるものの、本実施形態では、例えばエポキシ樹脂剤による熱硬化型樹脂やアクリル樹脂剤による紫外線硬化樹脂、熱及び紫外線で硬化する硬化樹脂等が適用される。
【００２６】
〔直線偏光板〕
直線偏光板１６、１７は、いわゆるシート・ポラライザーであり、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）にヨウ素等を含浸させた後、延伸して偏光子としての光学的機能を果たす光学機能層が形成され、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルム材による基材により光学機能層を挟持して作製される。
【００２７】
〔電極の詳細〕
図２は、下側積層体１３の透明電極２２Ａ、線状電極２２Ｂを周辺構成と共に示す図である。本実施形態の調光フィルム１０（下側積層体１３）は、平面視で長方形形状である。下側積層体１３の基材２１Ａの略全面に透明電極２２Ａが形成され、基材２１Ａの長辺及び短辺のそれぞれに沿って延びるように、電圧供給部２２ＡＡが作成されている。
電圧供給部２２ＡＡは、基材２１Ａの外周部において枠形状に、透明電極２２Ａに比べてシート抵抗値が小さな材料層により作成される。
【００２８】
透明電極２２Ａは、外周部において電圧供給部２２ＡＡに積層され、電圧供給部２２ＡＡを介して駆動用の交流電圧が供給される。
電圧供給部２２ＡＡは、銅、銀、アルミニウム、ニッケル、クロム等による金属材料による薄膜、箔により形成され、透明電極２２Ａの基材２１Ａ側又は液晶層１４側に設けられる。
これにより調光フィルム１０は、電圧供給部２２ＡＡの何れの部位より駆動用の電圧を供給する場合であっても、少なくとも外周部では、透明電極２２Ａに均一な電圧が印加されるように構成される。なお、図２においては、矢印Ｘにより示す１つの角部に交流電圧が供給される。
【００２９】
下側積層体１３において、透明電極２２Ａ、電圧供給部２２ＡＡを備えた基材２１Ａの全面に絶縁層２３が設けられている。絶縁層２３上には、電圧供給部２２ＢＡ、線状電極２２Ｂが設けられる。
なお、ＩＴＯが全面に作製された透明電極２２Ａに関しては、ＶＡ方式と同様に、ＦＰＣなどを介して、何点か接続しても良い。金属配線を用いる場合には、後述するようにプロセスのステップ数を減らすため、ＩＴＯの線状電極２２Ｂへの供給部と同時に形成した方が良い。
ここで電圧供給部２２ＢＡは、電圧供給部２２ＡＡと同様の枠形状により基材２１Ａの外周部に沿って形成される。この電圧供給部２２ＢＡより、線状電極２２Ｂに交流電圧が供給可能である。
【００３０】
電圧供給部２２ＢＡは、線状電極２２Ｂの端部と接続された長辺側の部位と、この長辺側の部位の両端部を接続する短辺側の部位とにより、長方形形状の枠形状により形成される。電圧供給部２２ＢＡは、線状電極２２Ｂに比べてシート抵抗の小さな材料層である、例えば、銀、アルミニウム、ニッケル、クロム等による金属材料による薄膜、箔により形成される。
【００３１】
線状電極２２Ｂは、一定のピッチにより繰り返し設けられている。また、矢印Ｘにより示す角部より電圧供給部２２ＢＡに駆動用の交流電圧が供給される。なお、電圧供給部２２ＢＡは、線状電極２２Ｂに対して基材２１Ａ側に設けてもよく、液晶層１４側に設けてもよい。
【００３２】
図３は、線状電極２２Ｂの詳細構成を示す図である。調光フィルム１０では、線状電極２２Ｂが屈曲するように形成され、これによりマルチドメイン化することもできる。
【００３３】
すなわち線状電極２２Ｂは、線状電極２２Ｂの延びる方向に対して斜めに傾くようにして、この斜めに傾く方向が一定のピッチで交互に切り替わるように形成され、これにより三角波形状により蛇行するように形成される。
調光フィルム１０は、線状電極２２Ｂの駆動により、矢印Ａにより示すように、液晶分子１４Ａを反時計方向に回転させたり、矢印Ｂにより示すように、液晶分子１４Ａを時計方向に回転させたりし、電界の変化に対して液晶分子の挙動の異なる領域（ドメイン）を交互に作成する。
調光フィルム１０では、このように液晶分子１４Ａの回転方向が異なる２つのドメインにおける見え方が平均値化され、視野角の変化による色付きの現象が緩和される。
【００３４】
このように一定のピッチで傾きの向きを切り替えるようにして、傾きの切り替わりの１周期に係るピッチが、このピッチに係る１対のドメインの連続でランダムに変化するように形成される。
これにより調光フィルム１０ではマルチドメインの作製に係る線状電極の蛇行に係る規則性が緩和され、風景等が２重像により見て取られる現象を有効に回避する。
【００３５】
調光フィルム１０には、複数の線状の補助電圧供給部３０が設けられている（図２参照）。補助電圧供給部３０により、線状電極２２Ｂの延びる方向の各部における電圧が均一化され、透過率の均一化が図られる。
【００３６】
補助電圧供給部３０は、電圧供給部２２ＢＡの短辺側に両端が接続されている。補助電圧供給部３０は、基材２１Ａの長辺に沿って延びるように直線状に形成され、基材２１Ａの短辺に沿った方向に一定のピッチＰで繰り返して設けられる。
これにより線状電極２２Ｂの延びる方向の各部で、線状電極２２Ｂと直交し、連続する線状電極２２Ｂを補助電圧供給部３０が横切る。
また、補助電圧供給部３０の両端が電圧供給部２２ＢＡに接続されているので、補助電圧供給部３０を介して、線状電極２２Ｂの延びる方向の各部に、直接、駆動用の交流電圧が供給される。
【００３７】
補助電圧供給部３０は、線状電極２２Ｂに比べてシート抵抗値の小さな材料層により、例えば、銀、アルミニウム、ニッケル、クロム等による金属材料による薄膜、箔により形成されている。したがって線状電極２２Ｂに比べて単位長さの抵抗値が小さい。
例えば、線状電極２２Ｂの単位長さの抵抗値は、２×１０５Ω／ｃｍ〜×１０６Ω／ｃｍ程度で、補助電圧供給部３０の単位長さの抵抗値は２Ω／ｃｍ〜１００Ω／ｃｍ程度である。
補助電圧供給部３０は、線状電極２２Ｂのピッチに比べて大きなピッチにより繰り返し配置される。
【００３８】
本実施形態によると、補助電圧供給部３０を配置したことによって、線状電極２２Ｂの各部で交流電圧が均一化され、透過率が均一化される。
また、金属材料により電圧供給部を作成する場合、ＩＴＯを使用する場合に比べて、断面積を同一に設定して抵抗値を減少することができる。これにより線状電極２２Ｂに比べて単位長さの抵抗値を小さくすることができる。補助電圧供給部３０を配置したことによって、線状電極２２Ｂの各部で効率よく交流電圧を均一化することができる。
【００３９】
補助電圧供給部を設けることにより、線状電極２２Ｂの部分的な断線による動作不良個所の発生を有効に回避することができる。
【００４０】
補助電圧供給部３０は、線状電極２２Ｂに対して基材２１Ａ側に設けてもよく、液晶層１４側に設けてもよい。
【００４１】
〔シミュレーション結果〕
図４は、透明電極２２Ａ、線状電極２２Ｂ間における電極間電位差のシミュレーション結果を示す図である。
調光フィルム１０は、短辺の長さ８０ｃｍ、長辺の長さを１２０ｃｍとした。
線状電極２２Ｂは、ＩＴＯを用い、厚み０．１μｍ、幅６μｍ、ピッチ１２μｍとした。
透明電極２２Ａは、ＩＴＯを用い、厚み０．１μｍとした。
電圧供給部２２ＡＡ、２２ＢＡは、銅薄膜を用いた。
補助電圧供給部３０は、銅薄膜を用い、厚み０．３μｍ、幅０．１ｍｍ、ピッチ１００ｍｍとした。
【００４２】
図中、符号Ｌ６０、Ｌ１２０、Ｌ２４０、Ｌ４８０は、それぞれ周波数６０Ｈｚ、周波数１２０Ｈｚ、周波数２４０Ｈｚ、周波数４８０Ｈｚによる矩形波の交流電圧により調光フィルム１を駆動した場合の例である。
図４では、符号Ｘにより示した角部を給電位置として、この角部からの距離による、透明電極２２Ａと線状電極２２Ｂとの間の電位差を示す。
【００４３】
図５は、補助電圧供給部３０のピッチＰを５０ｍｍとした点を除いて、図４と同一の条件によるシミュレーション結果である。図４と図５とを比較すると、ピッチＰを１００ｍｍから５０ｍｍにしても、電極間電位差には殆ど差はないことが分かる。
【００４４】
ピッチＰを細かくすると、補助電圧供給部３０の占める面積が増大することによる透過率の低下が予測される。しかし、ピッチＰが大きすぎると、線状電極２２Ｂの延びる方向における透明電極２２Ａと線状電極２２Ｂとの間の電位差の変化を低減できなくなり、透過率を均一化することが困難になる。
これによりピッチＰは、１０ｍｍ以上１００ｍｍ以下であることが望ましく、さらに好ましくは２０ｍｍ以上５０ｍｍ以下であることが望ましい。
【００４５】
図６は、補助電圧供給部３０の幅を０．１ｍｍから０．２ｍｍとした点を除いて、図３と同一の条件によるシミュレーション結果である。図６によれば、補助電圧供給部３０の幅を２倍にしたことにより、補助電圧供給部３０の断面積が２倍となり、その結果、電極間電位差における変化が一段と低減していることが分かる。
ここで幅を広くすると、補助電圧供給部３０の占める面積が増大することにより透過率の低下が予測される。しかしながら幅が狭すぎると、線状電極２２Ｂの延びる方向における透明電極２２Ａと線状電極２２Ｂとの間の電位差の変化を十分に低減できなくなり、透過率を均一化することが困難になる。
これにより補助電圧供給部３０の幅は、５μｍ以上０．１ｍｍ以下であることが望ましく、さらに好ましくは１０μｍ以上５０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上２０μｍ以下であることが望ましい。
【００４６】
また補助電圧供給部３０は、厚みを厚くすると液晶層の厚み（セルギャップ）に影響を与える。しかしながら厚みが薄すぎると、線状電極２２Ｂの延びる方向における透明電極２２Ａと線状電極２２Ｂとの間の電位差の変化を十分に低減できなくなり、透過率を均一化することが困難になる。
これにより補助電圧供給部３０の厚みは、０．１μｍ以上１．０μｍ以下であることが望ましく、さらに好ましくは０．２μｍ以上０．５μｍ以下、より好ましくは０．２μｍ以上０．３μｍ以下であることが望ましい。
【００４７】
〔製造工程〕
図７は、調光フィルムの製造工程を説明するフローチャートである。調光フィルムの製造工程は、上側積層体製造工程ＳＰ２及び下側積層体製造工程ＳＰ３において、それぞれ上側積層体１２及び下側積層体１３が製造される。また積層工程ＳＰ４において、液晶層１４を間に挟んで、上側積層体１２及び下側積層体１３を積層した後、シール材２５により一体化して液晶セルが製造される。調光フィルムの製造工程は、このようにして作製した液晶セルを直線偏光板と積層一体化して調光フィルムが製造される。
【００４８】
図８は、上側積層体製造工程ＳＰ２を詳細に示すフローチャートである。この上側積層体製造工程ＳＰ２（ＳＰ１１）においては、配向層製造工程ＳＰ１２において、基材２１Ｂに配向層２４Ｂに係る塗工液が塗工されて乾燥、硬化されることにより、配向層２４Ｂが形成され、これにより上側積層体１２が作製される。
【００４９】
図９は、下側積層体製造工程ＳＰ３を詳細に示すフローチャートである。図１０は、下側積層体製造工程ＳＰ３を詳細に示す図である。下側積層体製造工程ＳＰ３（ＳＰ２１）においては、電極製造工程ＳＰ２２で、基材２１Ａの全面（図１０（ａ））に、スパッタリングによりＩＴＯによる透明電極２２Ａが作製される（図１０（ｂ））。ＩＴＯは全面よりパターニングされている方が好ましい。線状電極側を電源に接続するとき、下面にＩＴＯ電極があるとショートする可能性が高くなるためである。
また透明電極２２Ａの作成の前に、又は後に、スパッタリングにより金属薄膜を作成して電圧供給部２２ＡＡが作成される。なお、電圧供給部２２ＡＡは、電圧供給部２２ＢＡ２２ＢＡと同時に形成する事も可能である。
【００５０】
続いて絶縁層製造工程ＳＰ２３において、絶縁層２３が製造される（図１０（ｃ））。なお、絶縁層２３もパターニングされていた方が望ましい。ＩＴＯのベタ電極である透明電極２２Ａを露出させる事で、電源との接続が容易になり、露出したＩＴＯ上に電圧供給部２２ＡＡを形成することが出来る。
なおこの絶縁層製造工程は、絶縁層２３に適用する材料に応じて例えば塗工液の塗工、乾燥、硬化により絶縁層２３が製造される。
【００５１】
続いて、電極製造工程ＳＰ２４において、線状電極２２Ｂが製造される。より具体的に、この電極製造工程ＳＰ２４においては、マスク蒸着を行った後（図１０（ｄ））、スパッタリング装置を使用したスパッタリングにより、基材２１Ａの全面に、線状電極２２Ｂに係る金属材料を堆積してＩＴＯ膜を製造する。また続いてこのＩＴＯ膜のパターンニングにより、線状電極２２Ｂを製造する（図１０（ｅ））。
【００５２】
続く補助電圧供給部製造工程ＳＰ２５において、補助電圧供給部３０、電圧供給部２２ＢＡに係る金属膜を作成した後（図１０（ｆ））、パターニングし（図１０（ｇ））、これにより補助電圧供給部３０、電圧供給部２２ＢＡを製造する。
絶縁層２３をパターニングした場合、ベタＩＴＯである金属電極２２Ａの面を一部露出させ、全面に金属膜を製膜して、同時にパターニングする事ができる。これにより、補助電極部２２ＢＡは補助電極部２２ＡＡと同時に形成することができる。
なお補助電圧供給部製造工程ＳＰ２５は、電極製造工程ＳＰ２４の前に設けるようにしてもよい。また補助電圧供給部３０、電圧供給部２２ＢＡを個別に製造してもよい。
【００５３】
スペーサー製造工程ＳＰ２６において、全面にフォトレジストを塗工して乾燥させた後、マスクを使用した露光処理、現像処理によりスペーサー２７を製造する。
【００５４】
配向層製造工程ＳＰ２７において、配向層２４Ａに係る塗工液を塗工して乾燥、露光することにより、配向層２４Ａを製造し、これにより下側積層体１３が製造される。
【００５５】
（１）本実施形態によれば、連続する線状電極２２Ｂを横切って延びるように、線状電極２２Ｂに比べて体積長さの抵抗値の小さな補助電圧供給部３０を線状電極２２Ｂを配置した。
そして、補助電圧供給部３０からも交流電圧を供給することにより、ＩＰＳ／ＦＦＳ方式による調光フィルムに関して、透過率を均一化することができる調光フィルムを提供することができる。
さらに線状電極２２Ｂの部分的な断線による動作不良個所の発生を有効に回避することができる調光フィルムを提供することができる。
【００５６】
（２）補助電圧供給部３０を金属材料により作製することにより、透過率を損なわないようにして、線状電極２２Ｂの各部で効率よく交流電圧を均一化し、透過率を均一化することができる。
【００５７】
（３）水平方向及び垂直方向に線対称に補助電圧供給部を配置することにより、透過率の不均一さが目立たないようにすることができる。
【００５８】
（４）補助電圧供給部３０が、線状電極２２Ｂと直交するように作成されていることにより、簡易な構成によりＩＰＳ／ＦＦＳ方式による調光フィルムに関して、透過率を均一化することができる。
【００５９】
（５）連続する前記線状電極を横切って延び、線状電極に比べて単位長さの抵抗値の小さな補助電圧供給部を設ける補助電圧供給部製造工程を備えることにより、ＩＰＳ／ＦＦＳ方式による調光フィルムに関して、透過率を均一化することができる調光フィルムの製造方法を提供することができる。
さらに線状電極２２Ｂの部分的な断線による動作不良個所の発生を有効に回避することができる調光フィルムの製造方法を提供することができる。
【００６０】
（６）連続する線状電極を横切って延び、線状電極に比べて単位長さの抵抗値の小さな補助電圧供給部を配置した。
電圧供給部により線状電極に交流電圧を供給することにより、ＩＰＳ／ＦＦＳ方式による調光フィルムに関して、透過率を均一化することができる調光フィルムの駆動方法を提供することができる。
さらに線状電極２２Ｂの部分的な断線による動作不良個所の発生を有効に回避することができる調光フィルムの駆動方法を提供することができる。
【００６１】
〔第２実施形態〕
図１１は、本発明の第２実施形態に係る調光フィルムに適用される下側積層体４３を示す図である。本実施形態では、図２について説明した下側積層体１３に代えてこの図１１に示す下側積層体４３が適用される。
【００６２】
下側積層体４３は、補助電圧供給部５０が異なる点を除いて、下側積層体１３と同一に構成される。また補助電圧供給部５０は、配置が異なる点を除いて補助電圧供給部３０と同一である。
【００６３】
補助電圧供給部５０は、電圧供給部２２ＢＡに係る長方形形状を水平方向及び垂直方向に２等分する中心線ＯＨ及びＯＶをそれぞれ対称軸にして、この対称軸の両側が線対称により形成され、これにより透過率の不均一さが目立たないように配置される。
【００６４】
このように線対称形状により作製するようにして、補助電圧供給部５０は、線状電極２２Ｂを斜めに横切るように、例えば、線状電極２２Ｂと４５度の角度を成して交差するように作成される。
【００６５】
なお、補助電圧供給部５０の延びる方向は、この線状電極２２Ｂに対する４５度に限定されない。補助電圧供給部５０は、図１１に示す給電位置Ｘを基準としたときに、この給電位置Ｘから離れる方向に延びる他の方向に延びていてもよい。
他の方向とは、下側積層体４３において、給電位置Ｘに近い一点と、その一点よりも給電位置Ｘから遠い他の点とを考えたときに、その１点から他の点までの電力供給ルートが、補助電圧供給部５０を通った場合に、電圧供給部２２ＢＡと線状電極２２Ｂだけを通った場合と比べて短縮されるように、延びる方向である。
【００６６】
なお、中心線ＯＨ及びＯＶにおいて補助電圧供給部５０は、９０度の角度で折れ曲がった形状により作製される。
【００６７】
図１２は、第２実施形態に係る調光フィルムのシミュレーション結果である。図１２の例では、斜め４５度により補助電圧供給部５０を作成した点を除いて、図４の例と同一の条件によるものである。
【００６８】
（１）本実施形態によれば、補助電圧供給部を斜めに傾けることにより、図１２に示すように、第１実施例よりもさらに透過率を均一化することができる。
【００６９】
〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を組み合わせ、さらには上述の実施形態を種々に変更することができる。
【００７０】
すなわち上述の実施形態では、補助電圧供給部を一方向に延びるようにして、又は途中で折れ曲がって一方向に延びるようにして、直線的に作成する場合について述べた。しかし、本発明はこれに限らず、交差するように補助電圧供給部を配置して複数設ける場合等にも広く適用することができる。
【００７１】
上述の実施形態では、補助電圧供給部を直線的に作成する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、曲線により作製するようにしてもよい。
【００７２】
上述の実施形態では、補助電圧供給部を一定ピッチにより作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、ピッチを各部で可変するようにしてもよい。
【符号の説明】
【００７３】
１０  調光フィルム
１２  上側積層体
１３、４３  下側積層体
１４  液晶層
１４Ａ  液晶分子
１５  液晶セル
１６、１７  直線偏光板
１８、１９  位相差フィルム
２１Ａ、２１Ｂ  基材
２２Ａ  透明電極
２２Ｂ  線状電極
２２ＡＡ、２２ＢＡ  電圧供給部
２３  絶縁層
２４Ａ、２４Ｂ  配向層
２５  シール材
２７  スペーサー
３０、５０  補助電圧供給部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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