(57)【要約】【課題】簡単な構造で故障する虞がなく、あらゆる面でコストを低く抑えることができ、使用手順が単純であり、且つ十分な量の水素を発生させることができる、入浴用の水素発生装置を提供する。【解決手段】入浴効果の向上を目的として、浴槽内の湯水において水素を発生させる、入浴用の水素発生装置１０であって、入浴用の水素発生装置１０が載置される載置面に当接するベース体３０と、ベース体３０に取り付けられるマグネシウム板８０ａ、マグネシウム板８０ｂおよびマグネシウム板８０ｃとを備え、マグネシウム板８０ａ、マグネシウム板８０ｂおよびマグネシウム板８０ｃが湯水に含まれる水分子と化学反応することにより、水素を発生させることを特徴とする。【選択図】図１
2018042988.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入浴効果の向上を目的として、浴槽内の湯水において水素を発生させる、入浴用の水素発生装置であって、
前記入浴用の水素発生装置が載置される載置面に当接するベース体と、前記ベース体に取り付けられるマグネシウム板とを備え、
前記マグネシウム板が前記湯水に含まれる水分子と化学反応することにより、前記水素を発生させることを特徴とする、入浴用の水素発生装置。
【請求項２】
前記ベース体は、長さ方向を有する軸部材を含み、且つ前記マグネシウム板には、前記軸部材に対応して貫通孔が穿設され、
前記マグネシウム板は、前記貫通孔に前記軸部材が通されることにより、前記ベース体に取り付けられる、請求項１に記載の入浴用の水素発生装置。
【請求項３】
前記軸部材は、前記ベース体の天面から突設されて高さ方向に延びる、請求項２に記載の入浴用の水素発生装置。
【請求項４】
前記マグネシウム板を複数備え、前記複数のマグネシウム板それぞれは、前記貫通孔に前記軸部材が通され、且つ介在部材を介されることにより、互いに離間して高さ方向に積み重ねられ、前記ベース体に取り付けられる、請求項３に記載の入浴用の水素発生装置。
【請求項５】
前記ベース体の端縁から立ち上がるベース側板をさらに備え、前記マグネシウム板は、前記ベース体と前記ベース側板とを含むハウジングの内部に収容される、請求項１〜４のいずれかに記載の入浴用の水素発生装置。
【請求項６】
前記ハウジングに蓋をするための蓋体をさらに備え、前記蓋体には、前記ハウジングの内部で発生した水素を外部へと放出するための複数の孔が穿設される、請求項５に記載の入浴用の水素発生装置。
【請求項７】
前記蓋体は、前記軸部材を固定するための軸固定部を含む、請求項６に記載の入浴用の水素発生装置。
【請求項８】
前記軸部材の先端部分には雄螺子部が形成され、且つ前記軸固定部には、前記雄螺子部と螺合するための雌螺子部が形成される、請求項７に記載の入浴用の水素発生装置。
【請求項９】
前記ベース体に蓋をするための蓋体をさらに備え、前記蓋体は、前記ベース体まで至るように垂下された蓋側板を含み、前記マグネシウム板は、前記蓋体と前記ベース体とを含むハウジングの内部に収容され、前記蓋体には、前記ハウジングの内部で発生した水素を外部へと放出するための複数の孔が穿設される、請求項１〜４のいずれかに記載の入浴用の水素発生装置。
【請求項１０】
前記マグネシウム板と前記水分子とが化学反応することを促進するためのクエン酸溶液をさらに備える、請求項１〜９のいずれかに記載の入浴用の水素発生装置。
【請求項１１】
前記ベース体は、前記軸部材を１つ含み、前記１つの軸部材が前記ベース体の平面視略中央部分から突設され、且つ前記貫通孔が前記マグネシウム板の平面視略中央部分に穿設される、請求項３〜１０のいずれかに記載の入浴用の水素発生装置。
【請求項１２】
前記ベース体は、前記軸部材を複数含み、前記複数の軸部材に少なくとも１枚の前記マグネシウム板が取り付けられる、請求項３〜１０のいずれかに記載の入浴用の水素発生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、入浴用の水素発生装置に関し、特に、入浴効果の向上を目的として、浴槽内の湯水において水素を発生させる、入浴用の水素発生装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
アレルギーや癌などの病気および老化は、主として、活性酸素を原因に生じると考えられている。このように悪影響を及ぼし得る活性酸素から人体を守る方法として、体内に水素を取り込むことが提案されている。これは、例えば、抗酸化物質として知られるビタミンＥが、善玉の活性酸素であるスーパーオキシドなどを除去してしまうのに対し、水素は、悪質な活性酸素であるヒドロキシルラジカルのみを選択的に除去することができるためである。さらに、水素は、水と油の両方に溶けることができる唯一の抗酸化物質であるため、細胞内のミトコンドリアや核にまで達することができる。これにより、水素は、ＤＮＡなどを修復することができるという効果も奏し得る。水素を体内に取り込む方法としては、いわゆる水素水を飲用することや、水素を含む湯水が入れられた浴槽（以下、単に「水素風呂」という）に入浴することなどが挙げられる。特に、水素風呂に入浴することは、水素を皮膚から直接取り込むことができるため、吸収効率が良好である。さらに、皮膚トラブルの抑制や美容効果なども期待することができる。浴槽内の湯水において水素を発生させるための入浴用の水素発生装置として、例えば、特許文献１の水素ガス気泡浴槽装置、特許文献２の水改質装置、および特許文献３の風呂用の水素水発生装置などがある。
【０００３】
特許文献１の水素ガス気泡浴槽装置は、水素ガスを浴槽内の浴湯中に供給する水素ガス供給手段と、水素ガスが充填された大型の第１の水素ガス容器と、１回に浴槽内の浴湯中に供給する量の水素ガスを充填する小型の第２の水素ガス容器と、第１の水素ガス容器から第２の水素ガス容器に水素ガスを供給する第１の水素ガス供給配管であって管路中に電磁弁が設けられた第１の水素ガス供給配管と、第２の水素ガス容器から水素ガス供給手段に水素ガスを供給する第２の水素ガス供給配管であって管路中に電磁弁が設けられた第２の水素ガス供給配管とを備える。
【０００４】
特許文献２の水改質装置は、水道水が導入される電解槽と、この電解槽内に対向して配設される第１、第２電極、この第１、第２電極との間に配設される複数の中間電極、第１、第２電極間に直流電圧を印加する電圧印加手段である電圧印加回路とから構成される。第１電極間に電圧Ｖ0が印加されると、マグネシウム材からなる高電位側の中間電極からＭｇ2+イオンが溶解し、電解槽内の水道水がアルカリ性に改質される。また、一方の低電位側の中間電極および第２電極近傍では、水素イオン２Ｈ+が電子を受け取って水素ガスＨ2になる反応が起きている。この水素ガスＨ2は、水道水中に過飽和の状態となるまで溶存される。
【０００５】
特許文献３の風呂用の水素水発生装置は、略方形状のステンレス製の容器本体と、この容器本体に嵌合される蓋体と、容器本体の部屋に収容される水素水発生体とを主体として構成される。容器本体は、仕切板を介して区画されており、複数の部屋が形成される。仕切板には透孔が開設される。蓋体は、上面に多数の透孔を有する。水素水発生体は、不織布でなる袋と、この袋に収容されるマグネシウム、黒曜石、トルマリン、抗菌砂、風化サンゴ等の粒状素材の少なくとも１種又は数種を混合した粒子とで構成される。したがって、水は水素水発生体の粒子との接触で、水素水に変換される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００８−３６３３１号公報
【特許文献２】特開２００５−７４３０５号公報
【特許文献３】特開２００４−３３００１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１は、複数の水素ガスタンクなどが配管で繋がれた大掛かり且つ複雑な構造であるため、高価であると共に設置作業に手間が掛り、ランニングコストも高くなるという問題や、故障してしまう虞があるという問題もあった。また、特許文献２は、使用前に予め電源に繋ぐか、または充電してから浴槽に設置する必要があるため、使用手順が煩雑であるという問題があった。さらに、特許文献２は、特許文献１と同様に、ランニングコストが高くなってしまうという問題や、故障してしまう虞があるという問題もあった。そして、特許文献２は、十分な量の水素を発生させることができないという問題もあった。また、特許文献３は、水素水発生体の消耗が早いことにより、これを比較的短期間で交換する必要があるため、特許文献２と同様に、ランニングコストが高くなってしまうという問題があった。そして、特許文献３は、十分な量の水素を発生させることができないという問題もあった。
【０００８】
それゆえに、この発明の目的は、簡単な構造で故障する虞がなく、あらゆる面でコストを低く抑えることができ、使用手順が単純であり、且つ十分な量の水素を発生させることができる、入浴用の水素発生装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この発明に係る入浴用の水素発生装置は、入浴効果の向上を目的として、浴槽内の湯水において水素を発生させる、入浴用の水素発生装置であって、入浴用の水素発生装置が載置される載置面に当接するベース体と、ベース体に取り付けられるマグネシウム板とを備え、マグネシウム板が湯水に含まれる水分子と化学反応することにより、水素を発生させることを特徴とする。
好ましくは、ベース体は、長さ方向を有する軸部材を含み、且つマグネシウム板には、軸部材に対応して貫通孔が穿設され、マグネシウム板は、貫通孔に軸部材が通されることにより、ベース体に取り付けられる。
さらに好ましくは、軸部材は、ベース体の天面から突設されて高さ方向に延びる。
さらに好ましくは、マグネシウム板を複数備え、複数のマグネシウム板それぞれは、貫通孔に軸部材が通され、且つ介在部材を介されることにより、互いに離間して高さ方向に積み重ねられ、ベース体に取り付けられる。
好ましくは、ベース体の端縁から立ち上がるベース側板をさらに備え、マグネシウム板は、ベース体とベース側板とを含むハウジングの内部に収容される。
さらに好ましくは、ハウジングに蓋をするための蓋体をさらに備え、蓋体には、ハウジングの内部で発生した水素を外部へと放出するための複数の孔が穿設される。
さらに好ましくは、蓋体は、軸部材を固定するための軸固定部を含む。
さらに好ましくは、軸部材の先端部分には雄螺子部が形成され、且つ軸固定部には、雄螺子部と螺合するための雌螺子部が形成される。
好ましくは、ベース体に蓋をするための蓋体をさらに備え、蓋体は、ベース体まで至るように垂下された蓋側板を含み、マグネシウム板は、蓋体とベース体とを含むハウジングの内部に収容され、蓋体には、ハウジングの内部で発生した水素を外部へと放出するための複数の孔が穿設される。
好ましくは、マグネシウム板と水分子とが化学反応することを促進するためのクエン酸溶液をさらに備える。
好ましくは、ベース体は、軸部材を１つ含み、１つの軸部材がベース体の平面視略中央部分から突設され、且つ貫通孔がマグネシウム板の平面視略中央部分に穿設される。
好ましくは、ベース体は、軸部材を複数含み、複数の軸部材に少なくとも１枚のマグネシウム板が取り付けられる。
【発明の効果】
【００１０】
この発明によれば、簡単な構造で故障する虞がなく、あらゆる面でコストを低く抑えることができ、使用手順が単純であり、且つ十分な量の水素を発生させることができる、入浴用の水素発生装置を提供し得る。
【００１１】
この発明の上述の目的、その他の目的、特徴及び利点は、図面を参照して行う以下の発明を実施するための形態の説明から一層明らかとなろう。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】この発明の第１の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置を示す外観斜視図である。
【図２】この発明の第１の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置を示す平面図である。
【図３】この発明の第１の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置を示す蓋体を除いた状態の平面図である。
【図４】この発明の第１の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置を示す高さ方向に沿った断面図である。
【図５】この発明の第２の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置を示す外観斜視図である。
【図６】この発明の第２の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置を示す平面図である。
【図７】この発明の第２の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置を示す蓋体を除いた状態の平面図である。
【図８】この発明の第２の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置を示す高さ方向に沿った断面図である。
【図９】この発明の第３の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置を示す外観斜視図である。
【図１０】この発明の第３の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置を示す平面図である。
【図１１】この発明の第３の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置を示す蓋体を除いた状態の平面図である。
【図１２】この発明の第３の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置を示す高さ方向に沿った断面図である。
【図１３】この発明の第３の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置から蓋体を取り外した様子を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
１．第１の実施の形態
この発明の第１の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置について、図１〜４に基づいて説明する。図１は、この発明の第１の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置を示す外観斜視図である。図２は、この発明の第１の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置を示す平面図である。図３は、この発明の第１の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置を示す蓋体を除いた状態の平面図である。図４は、この発明の第１の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置を示す高さ方向に沿った断面図である。
【００１４】
この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、例えば、一般家庭の浴槽で用いられ、入浴効果（例えば、美容、健康およびアンチエイジングなど）の向上を目的として、浴槽内の湯水において水素を発生させるものである。
【００１５】
この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、ハウジング２０と、ハウジング２０の天面に蓋をするための蓋体６０と、ハウジング２０の内部に収容されるマグネシウム板８０ａ、マグネシウム板８０ｂおよびマグネシウム板８０ｃ（以下、単に「マグネシウム板８０ａ〜８０ｃ」という）とを備える。
【００１６】
（ハウジング２０）
この実施の形態に係るハウジング２０は、平面視略円形状のベース体３０と、ベース体３０の端縁から立ち上がるベース側板４０とを含む。すなわち、ハウジング２０は、その天面が開放された中空の略円柱形状である。ベース体３０は、その端縁および当該端縁の近傍部分のみ載置面と当接し、他の部分は載置面と当接しないように底上げして形成されることが好ましい。これにより、入浴用の水素発生装置１０は、良好な耐久性および美観を得ることができる。ベース側板４０の内径は、ベース体３０から離間するにしたがって、僅かに大きくなるように形成されることが好ましい。これにより、ハウジング２０の天面側からマグネシウム板８０ａ〜８０ｃを挿入し易くなる。ベース体３０およびベース側板４０は、ステンレスにより一体的に形成されることが好ましい。
【００１７】
ベース体３０は、その天面の平面視略中央部分から突設されて高さ方向に延びる軸部材５０を含む。軸部材５０の先端部分の高さ方向における位置は、ベース側板４０の上端縁のそれよりも低い。軸部材５０は、第１の雄螺子部材９６を用いてベース体３０に固定されてもよい。すなわち、第１の雄螺子部材９６は、ベース体３０の平面視略中央部分に穿設された小径の孔３８を通り抜け、軸部材５０の底面から凹むように形成された第１の雌螺子部５６に係合することにより、ベース体３０に軸部材５０を固定する。また、ベース体３０の底面から露出する第１の雄螺子部材９６の頭部を覆うように、ベース体３０の底面の略中央部分にシール部材１００を配設してもよい。なお、軸部材５０の根元部分は、ベース体３０の天面に溶接により接合されてもよい。
【００１８】
（蓋体６０）
蓋体６０は、平面視略円形状の蓋底板６２と、蓋底板６２の端縁から立ち上がる蓋側板６６とを含む。蓋体６０は、蓋底板６２の天面の平面視略中央部分から突設される摘み部７０をさらに含む。摘み部７０は、蓋底板６２の天面の平面視略中央部分から突設されて高さ方向に延びる略円柱状の摘み根元部７２と、摘み根元部７２の先端部分に形成される略円板状の摘み先端部７４とを有する。摘み先端部７４の外径寸法は、摘み根元部７２のそれよりも大きい。摘み部７０は、第２の雄螺子部材９８を用いて蓋底板６２に固定されてもよい。すなわち、第２の雄螺子部材９８は、蓋底板６２の平面視略中央部分に穿設された小径の孔６９を通り抜け、摘み根元部７２の底面から凹むように形成された第２の雌螺子部７８に係合することにより、蓋底板６２に摘み部７０を固定する。なお、摘み根元部７２は、蓋底板６２の天面に溶接により接合されてもよい。
【００１９】
蓋体６０は、蓋側板６６の上端縁に形成された端縁湾曲部６８をさらに含む。端縁湾曲部６８は、蓋側板６６の上端縁から外側へと円を描くように湾曲し、その先端部分が蓋側板６６の外面または外面の近傍まで至るように形成される。蓋側板６６の外径は、ハウジング２０の上端縁の内径よりも僅かに小さい。なお、蓋側板６６の外径は、ベース側板４０の内径に対応するように、蓋底板６２から離間するにしたがって、僅かに大きくなるように形成されることが好ましい。一方、端縁湾曲部６８の外径は、少なくとも、ベース側板４０の上端縁の内径よりも大きくなるように形成される。
【００２０】
蓋底板６２は、ハウジング２０の天面に蓋をした状態のとき、高さ方向において、ベース側板４０の上端縁と軸部材５０の先端部分との間に位置し、且つベース体３０と平行に延在する。さらに、蓋体６０の摘み部７０は、ハウジング２０の軸部材５０と互いの軸線が高さ方向に沿って直線状に並んだ状態となる。なお、ハウジング２０の内部で発生した水素は、蓋底板６２に穿設された複数の孔６４から外部へと放出される。当該複数の孔６４それぞれは、平面視略円形状である。また、当該複数の孔６４は、蓋底板６２の中心から放射状に広がるように配置される。
【００２１】
（マグネシウム板８０ａ〜８０ｃ）
マグネシウム板８０ａ〜８０ｃは、高さ方向に積み重ねられた状態で、ハウジング２０に収容される。ベース体３０の最も近くに位置するのがマグネシウム板８０ａであり、その次がマグネシウム板８０ｂであり、最も遠くに位置するのがマグネシウム板８０ｃである。マグネシウム板８０ａ〜８０ｃそれぞれは、略円板状に形成され、その平面視略中央部分には、平面視略円形状の貫通孔８２が穿設される。当該貫通孔８２の直径は、ハウジング２０の軸部材５０のそれよりも僅かに大きい。マグネシウム板８０ａ〜８０ｃそれぞれは、当該貫通孔８２に軸部材５０が通されることにより、ハウジング２０の内部において位置決めされる。マグネシウム板８０ａ〜８０ｃそれぞれは、純度の高いマグネシウムにより形成される。当該マグネシウムの純度は、例えば、９９．９５％程度であってもよい。
【００２２】
この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、マグネシウム板８０ａ〜８０ｃよりも十分に小さい外径を有した略円環形状の介在部材８４ａ、介在部材８４ｂおよび介在部材８４ｃ（以下、単に「介在部材８４ａ〜８４ｃ」という）をさらに備える。介在部材８４ａは、ベース体３０とマグネシウム板８０ａとの間に介在する。介在部材８４ｂは、マグネシウム板８０ａとマグネシウム板８０ｂとの間に介在する。介在部材８４ｃは、マグネシウム板８０ｂとマグネシウム板８０ｃとの間に介在する。
【００２３】
介在部材８４ａ〜８４ｃそれぞれの平面視略中央部分には、平面視略円形状の貫通孔８６が穿設される。当該貫通孔８６の直径は、ハウジング２０の軸部材５０のそれよりも僅かに大きい。介在部材８４ａ〜８４ｃそれぞれは、マグネシウム板８０ａ〜８０ｃと同様に、その貫通孔８６に軸部材５０が通されることにより、ハウジング２０の内部において位置決めされる。介在部材８４ａ〜８４ｃそれぞれは、例えば、弾性力を有するラバーなどにより形成される。
【００２４】
マグネシウム固定部材９０は、軸部材５０の先端部分に取り付けられ、マグネシウム板８０ａ〜８０ｃを高さ方向において固定する。マグネシウム固定部材９０は、介在部材８４ａ〜８４ｃそれぞれと同じかまたはほぼ同じ外径を有した略円環形状である。マグネシウム固定部材９０の平面視略中央部分には、平面視略円形状の貫通孔９２が穿設される。マグネシウム固定部材９０は、弾性力を有するラバーなどにより形成され、且つその貫通孔９２の直径がハウジング２０の軸部材５０のそれよりも僅かに小さく形成されることが好ましい。
【００２５】
（使用手順など）
この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、浴槽の底に載置するのみで使用可能である。なお、入浴用の水素発生装置１０は、浴槽に湯水を入れてから浴槽の底に載置してもよいし、その前に載置してもよい。入浴用の水素発生装置１０は、マグネシウム板８０ａ〜８０ｃが浴槽内の水分子と化学反応することにより、ハウジング２０の内部で水素を発生させる。ハウジング２０の内部で発生した水素は、蓋体６０に穿設された複数の孔６４から外部へと放出され、浴槽内の湯水にまで至る。マグネシウム板８０ａ〜８０ｃと浴槽内の水分子との化学反応を示す化学式は次の通りである。
【００２６】
2018042988.tif 000003
【００２７】
なお、入浴用の水素発生装置１０は、ハウジング２０の内部に注入することにより、マグネシウム板８０ａ〜８０ｃと水分子とが化学反応することを促進するためのクエン酸溶液をさらに備えてもよい。
【００２８】
（マグネシウム板８０ａ〜８０ｃの交換手順）
次に、浴槽内の水分子と化学反応することにより擦り減ったマグネシウム板８０ａ〜８０ｃを交換する手順の一例について説明する。
【００２９】
まず、浴槽内から湯水を排水する。
【００３０】
次に、蓋体６０を、摘み部７０を摘んで上方へと持ち上げ、ハウジング２０の天面に形成された開口をあらわにする。
【００３１】
また、平面視略中央に視認できる状態となったマグネシウム固定部材９０を軸部材５０から取り外す。
【００３２】
さらに、擦り減ったマグネシウム板８０ｃを上方へと持ち上げて軸部材５０から抜き取り、ハウジング２０の外部へと取り外す。これと同様に、介在部材８４ｃ、擦り減ったマグネシウム板８０ｂ、介在部材８４ｂ、擦り減ったマグネシウム板８４ａの順で軸部材５０から抜き取り、ハウジング２０の外部へと取り出す。
【００３３】
そして、軸部材５０にその貫通孔８２を差し込むことにより、新しいマグネシウム板８０ａをハウジング２０の内部で位置決めされた状態にする。これと同様に、介在部材８４ｂ、新しいマグネシウム板８０ｂ、介在部材８４ｃ、新しいマグネシウム板８４ｃの順で軸部材５０に差し込み、ハウジング２０の内部で位置決めされた状態にする。
【００３４】
次に、軸部材５０の先端部分にマグネシウム固定部材９０を取り付けることにより、マグネシウム板８０ａ〜８０ｃをハウジング２０の内部で固定された状態にする。なお、マグネシウム固定部材９０は、弾性力を有するラバーなどにより形成され、且つその貫通孔９２の直径がハウジング２０の軸部材５０のそれよりも僅かに小さく形成されることにより、その貫通孔９２に軸部材５０を圧入して取り付けることができる。これにより、マグネシウム固定部材９０は、マグネシウム板８０ａ〜８０ｃをより確実に固定することができる。上記のようにして、ベース体３０にマグネシウム板８０ａ〜８０ｃを取り付けることができる。
【００３５】
最後に、蓋体６０によりハウジング２０の天面に蓋をする。具体的には、蓋体６０を、摘み部７０を摘んで、蓋底板６２の側からハウジング２０に挿入していく。すると、蓋体６０の端縁湾曲部６８がベース側板４０の上端縁に載置されることにより位置決めされる。このようにして、ハウジング２０の天面に蓋をすることができる。
【００３６】
上記のようにして、浴槽内の水分子と化学反応することにより擦り減ったマグネシウム板８０ａ〜８０ｃを交換することができる。
【００３７】
なお、マグネシウム板８０ａ〜８０ｃの表面には、浴槽内の水分子と化学反応することで、酸化皮膜（黒ずみ）が形成され得る。当該酸化皮膜は、マグネシウム板８０ａ〜８０ｃと水分子とが化学反応することを妨げるため、水素の発生量を減少させてしまう。したがって、当該酸化皮膜は、上記したように擦り減ったマグネシウム板８０ａ〜８０ｃを交換するまでに、定期的に除去されることが好ましい。入浴用の水素発生装置１０は、当該酸化皮膜を除去するためのクエン酸溶液を備えることが好ましい。
【００３８】
（効果）
この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、載置面に当接するベース体３０と、ベース体３０に取り付けられるマグネシウム板８０ａ〜８０ｃとを備え、マグネシウム板８０ａ〜８０ｃが湯水に含まれる水分子と化学反応することにより、水素を発生させる。入浴用の水素発生装置１０は、このように、電気を使用しない簡単な構造であるため、故障する虞がない。また、浴槽の底に載置するのみでよいため、使用手順が単純である。さらに、製造や設置にコストが掛からず、ランニングコストも低く抑えることができ、且つ十分な量の水素を発生させることができる。以上の通りであるため、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、簡単な構造で故障する虞がなく、あらゆる面でコストを低く抑えることができ、使用手順が単純であり、且つ十分な量の水素を発生させることができる。
【００３９】
また、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、マグネシウム板８０ａ〜８０ｃが、その貫通孔８２に軸部材５０を通されることにより、ベース体３０に対して位置決めされる。これにより、マグネシウム板８０ａ〜８０ｃは、ベース体３０に安定した状態で収容され得る。また、マグネシウム板８０ａ〜８０ｃは、軸部材５０に抜差しすることにより、ベース体３０に対して取り付けたり、取り外したりすることができる。したがって、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、導入時の組み立て作業や、擦り減ったマグネシウム板８０ａ〜８０ｃの交換作業などを容易に行うことができる。
【００４０】
さらに、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、ベース体３０の天面から突設されて高さ方向に延びる。これにより、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、マグネシウム板８０ａ〜８０ｃそれぞれが水平方向に延在するようにベース体３０に取り付けられるため、浴槽の底に安定した状態で載置され得る。さらに、マグネシウム板８０ａ〜８０ｃそれぞれに穿設された貫通孔８２と、軸部材５０とが上方側から視認可能であるため、軸部材５０に対してマグネシウム板８０ａ〜８０ｃを抜差しすることが行い易い。これにより、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、導入時の組み立て作業や、擦り減ったマグネシウム板８０ａ〜８０ｃの交換作業を一層容易に行うことができる。
【００４１】
そして、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、３枚のマグネシウム板８０ａ〜８０ｃを備え、これらのマグネシウム板８０ａ〜８０ｃが、貫通孔８２に軸部材５０が通され、且つ介在部材８４ａ〜８４ｃを介されることにより、互いに離間して高さ方向に積み重ねられる。これにより、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、マグネシウム板８０ａ〜８０ｃそれぞれが水分子と接する十分に大きな面積を確保することができるため、より多くの量の水素を発生させることが可能となる。
【００４２】
また、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、ベース体３０の端縁から立ち上がるベース側板４０をさらに備え、マグネシウム板８０ａ〜８０ｃは、ベース体３０とベース側板４０とを含むハウジング２０の内部に収容される。これにより、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、良好な耐久性および美観を得ることができる。
【００４３】
さらに、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、ハウジング２０に蓋をするための蓋体６０をさらに備え、蓋体６０には、ハウジング２０の内部で発生した水素を外部へと放出するための複数の孔６４が穿設される。これにより、ハウジング２０の内部が見えない状態にしつつ、水素を外部へと放出することができる。したがって、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、良好な耐久性および美観を得ることができる。なお、良好な美観についての効果は、特に、マグネシウム板８０ａ〜８０ｃそれぞれが化学反応することにより擦り減った際に有効である。
【００４４】
そして、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、マグネシウム板８０ａ〜８０ｃと水分子とが化学反応することを促進するためのクエン酸溶液をさらに備える。クエン酸溶液は、水分子と化学反応することによりマグネシウム板８０ａ〜８０ｃそれぞれの表面に形成された酸化皮膜を除去することができ、これにより、上記した化学反応を促進することができる。その結果、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、浴槽内の湯水において発生させる水素の量を増加させることができる。
【００４５】
そして、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、ベース体３０の平面視略中央部分から１つの軸部材５０が突設され、且つマグネシウム板８０ａ〜８０ｃそれぞれには、当該軸部材５０に対応した貫通孔８２が穿設される。これにより、入浴用の水素発生装置１０は、マグネシウム板８０ａ〜８０ｃの重心が平面視略中央部分に位置するようになるため、ベース体３０に対してマグネシウム板８０ａ〜８０ｃを安定した状態で取り付けることが可能となる。
【００４６】
なお、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、ベース体３０が平面視略円形状であることにより、ハウジング２０の平面視したときの外形が略円形状である。これにより、入浴用の水素発生装置１０に足などをぶつけたときの怪我の虞が軽減される。特に、入浴用の水素発生装置１０は、湯水が入れられた浴槽内では、光の屈折により距離感をつかむことが難しい。したがって、上記したような形状とすることが合理的である。
【００４７】
なお、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、介在部材８４ａ〜８４ｃが軸部材５０により位置決めされるため、マグネシウム板８０ａ〜８０ｃが擦り減った状態になっても、マグネシウム板８０ａ〜８０ｃの互いに離間した状態が維持される。これにより、マグネシウム板８０ａ〜８０ｃは、それぞれ、擦り減った状態になっても表面全体で浴槽内の水分子と接することができる。その結果、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、十分な量の水素を一定して長期的に発生させることができる。
【００４８】
２．第２の実施の形態
この発明の第２の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置について、図１〜８に基づいて説明する。なお、上記した第１の実施の形態に係る構成要素と同一部分には同じ参照番号を付し、同様となる説明は繰り返さない。図５は、この発明の第２の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置を示す外観斜視図である。図６は、この発明の第２の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置を示す平面図である。図７は、この発明の第２の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置を示す蓋体を除いた状態の平面図である。図８は、この発明の第２の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置を示す高さ方向に沿った断面図である。
【００４９】
この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、例えば、銭湯などの比較的大きな浴槽で用いられ、入浴効果の向上を目的として、浴槽内の湯水において水素を発生させるものである。
【００５０】
この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、平面視略円形状のベース体３０と、ベース体３０に蓋をするための蓋体６０と、ベース体３０と蓋体６０とを含むハウジング２０の内部に収容される合計３０枚のマグネシウム板８０とを備える。
【００５１】
（ハウジング２０）
この実施の形態に係るハウジング２０は、平面視略円形状のベース体３０と、ベース体３０に蓋をするための蓋体６０とから構成される。
【００５２】
この実施の形態に係るベース体３０には、その内面から６本の軸部材５０が突設されて高さ方向に延びる。６本の軸部材５０それぞれは、平面視したとき、ベース体３０の端縁と同じ中心を有し、且つベース体３０の端縁の近傍の円周上に互いに等間隔で配設される。ベース体３０は、その端縁および当該端縁の近傍部分のみ載置面と当接し、他の部分は載置面と当接しないように底上げして形成されることが好ましい。これにより、入浴用の水素発生装置１０は、良好な耐久性および美観を得ることができる。なお、この実施の形態に係るベース体３０は、上記した第１の実施の形態に係るそれと異なり、ベース側板４０を含まない。
【００５３】
この実施の形態に係る蓋体６０は、平面視略円形状の蓋天板６３と、ベース体３０まで至るように蓋天板６３の端縁から垂下される蓋側板６６とを含む。すなわち、この実施の形態に係る蓋体６０は、その底面が開放された中空の略円柱形状である。蓋体６０は、蓋側板６６の下端縁に形成された端縁湾曲部６８をさらに含む。端縁湾曲部６８は、蓋側板６６の下端縁から外側へと円を描くように湾曲し、その先端部分が蓋側板６６の外面または外面の近傍まで至るように形成される。蓋側板６６の外径は、ベース体３０の直径よりも僅かに小さい。なお、蓋側板６６の外径は、蓋天板６３から離間するにしたがって、僅かに大きくなるように形成されることが好ましい。一方、端縁湾曲部６８の外径は、少なくとも、ベース体３０のうち底上げされた部分の外径よりも大きくなるように形成される。
【００５４】
蓋天板６３は、ベース体３０に蓋をした状態のとき、高さ方向において、軸部材５０の先端部分よりも僅かに上方に位置し、且つベース体３０と平行に延在する。なお、ハウジング２０の内部で発生した水素は、蓋天板６３および蓋側板６６に穿設された複数の孔６４から外部へと放出される。当該複数の孔６４それぞれは、平面視略円形状である。また、当該複数の孔６４は、蓋天板６３において６本の軸部材５０に対応した位置それぞれから放射状に配置され、且つ蓋側板６６において全体的に均一に配置される。なお、この実施の形態に係るベース体３０は、上記した第１の実施の形態に係るそれと異なり、摘み部７０を含まない。
【００５５】
（マグネシウム板８０ａ〜８０ｅ）
この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、５枚で１組のマグネシウム板８０ａ、マグネシウム板８０ｂ、マグネシウム板８０ｃ、マグネシウム板８０ｄおよびマグネシウム板８０ｅ（以下、単に「マグネシウム板８０ａ〜８０ｅ」という）を全部で６組備える。すなわち、入浴用の水素発生装置１０は、合計３０枚のマグネシウム板８０を備える。当該６組それぞれは、同じ構造であり且つ同じ態様でベース体３０に取り付けられるため、ここでは１組のマグネシウム板８０ａ〜８０ｅについてのみ説明し、他の組についての同様となる説明は繰り返さない。
【００５６】
マグネシウム板８０ａ〜８０ｅは、高さ方向に積み重ねられた状態で、ハウジング２０に収容される。ベース体３０の最も近くに位置するのがマグネシウム板８０ａであり、その次がマグネシウム板８０ｂであり、その次がマグネシウム板８０ｃであり、その次がマグネシウム板８０ｄであり、最も遠くに位置するのがマグネシウム板８０ｅである。マグネシウム板８０ａ〜８０ｅそれぞれは、略円板状に形成され、その平面視略中央部分には、平面視略円形状の貫通孔８２が穿設される。当該貫通孔８２の直径は、ハウジング２０の軸部材５０のそれよりも僅かに大きい。マグネシウム板８０ａ〜８０ｅそれぞれは、当該貫通孔８２に軸部材５０が通されることにより、ハウジング２０の内部において位置決めされる。マグネシウム板８０ａ〜８０ｅそれぞれは、純度の高いマグネシウムにより形成される。当該マグネシウムの純度は、例えば、９９．９５％程度であってもよい。
【００５７】
この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、マグネシウム板８０ａ〜８０ｅよりも十分に小さい外径を有した略円環形状の介在部材８４ａ、介在部材８４ｂ、介在部材８４ｃ、介在部材８４ｄおよび介在部材８４ｅ（以下、単に「介在部材８４ａ〜８４ｅ」という）をさらに備える。介在部材８４ａは、ベース体３０とマグネシウム板８０ａとの間に介在する。介在部材８４ｂは、マグネシウム板８０ａとマグネシウム板８０ｂとの間に介在する。介在部材８４ｃは、マグネシウム板８０ｂとマグネシウム板８０ｃとの間に介在する。介在部材８０ｄは、マグネシウム板８０ｃとマグネシウム板８０ｄとの間に介在する。介在部材８０ｅは、マグネシウム板８０ｄとマグネシウム板８０ｅとの間に介在する。
【００５８】
介在部材８４ａ〜８４ｅそれぞれの平面視略中央部分には、平面視略円形状の貫通孔８６が穿設される。当該貫通孔８６の直径は、ハウジング２０の軸部材５０のそれよりも僅かに大きい。介在部材８４ａ〜８４ｅそれぞれは、マグネシウム板８０ａ〜８０ｅと同様に、その貫通孔８６に軸部材５０が通されることにより、ハウジング２０の内部において位置決めされる。介在部材８４ａ〜８４ｅそれぞれは、例えば、弾性力を有するラバーなどにより形成される。
【００５９】
この実施の形態に係るマグネシウム固定部材９０は、上記した第１の実施の形態のそれと同様の構造であり、同じ態様でマグネシウム板８０ａ〜８０ｅを固定する。したがって、ここではその説明を繰り返さない。
【００６０】
（効果）
この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、載置面に当接するベース体３０と、ベース体３０に取り付けられる６組のマグネシウム板８０ａ〜８０ｅ（合計３０枚のマグネシウム板）とを備え、６組のマグネシウム板８０ａ〜８０ｅが湯水に含まれる水分子と化学反応することにより、水素を発生させる。入浴用の水素発生装置１０は、このように、電気を使用しない簡単な構造であるため、故障する虞がない。また、浴槽の底に載置するのみでよいため、使用手順が単純である。さらに、製造や設置にコストが掛からず、ランニングコストも低く抑えることができ、且つ十分な量の水素を発生させることができる。以上の通りであるため、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、簡単な構造で故障する虞がなく、あらゆる面でコストを低く抑えることができ、使用手順が単純であり、且つ十分な量の水素を発生させることができる。
【００６１】
この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、ハウジング２０が６本の軸部材５０を含み、６本の軸部材５０それぞれにマグネシウム板８０ａ〜８０ｅが通される。すなわち、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、上記した第１の実施の形態よりも多くのマグネシウム板８０を備えるため、さらに多くの量の水素を発生させることができる。したがって、この入浴用の水素発生装置１０は、特に、銭湯などの比較的大きな浴槽で有効に使用することができる。
【００６２】
また、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、その蓋体６０がベース体３０まで至るように垂下された蓋側板６６を含み、マグネシウム板８０ａ〜８０ｅは、蓋体６０とベース体３０とを含むハウジング２０の内部に収容される。これにより、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、良好な耐久性および美観を得ることができる。
【００６３】
なお、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、６本の軸部材５０それぞれが、平面視したとき、ベース体３０の端縁と同じ中心を有し、且つベース体３０の端縁の近傍の円周上に互いに等間隔で配設される。これにより、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、例えば、蓋天板６３がその外面から大きな外力を加えられることにより撓んだとしても、６本の軸部材５０により合理的に下支えすることができる。したがって、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、上記したような構造を有することにより、耐久性が向上し得る。
【００６４】
３．第３の実施の形態
この発明の第３の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置について、図９〜１３に基づいて説明する。なお、上記した第１の実施の形態及び第２の実施の形態に係る構成要素と同一部分には同じ参照番号を付し、同様となる説明は繰り返さない。図９は、この発明の第３の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置を示す外観斜視図である。図１０は、この発明の第３の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置を示す平面図である。図１１は、この発明の第３の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置を示す蓋体を除いた状態の平面図である。図１２は、この発明の第３の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置を示す高さ方向に沿った断面図である。図１３は、この発明の第３の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置から蓋体を取り外した様子を示す斜視図である。
【００６５】
この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、例えば、上記した第２の実施の形態と同じように、銭湯などの比較的大きな浴槽で用いられ、入浴効果の向上を目的として、浴槽内の湯水において水素を発生させるものである。
【００６６】
この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、ハウジング２０と、ハウジング２０の天面に蓋をするための蓋体６０と、ハウジング２０の内部に収容される合計２３枚のマグネシウム板８０（以下、単に「マグネシウム板８０ａ〜８０ｗ」という）とを備える。なお、見た目の煩雑さを避けるため、図１２では、マグネシウム板８０ａ〜８０ｃ、マグネシウム板８０ｋ〜８０ｍ及びマグネシウム板８０ｕ〜８０ｗについてのみ参照番号を付し、他のマグネシウム板（マグネシウム板８０ｄ〜８０ｊ及びマグネシウム板８０ｎ〜８０ｔ）については参照番号を省略してある。
【００６７】
（ハウジング２０）
この実施の形態に係るハウジング２０は、平面視略円形状のベース体３０と、ベース体３０の端縁から立ち上がるベース側板４０とを含む。すなわち、ハウジング２０は、その天面が開放された中空の略円柱形状である。ベース体３０は、その端縁（および当該端縁の近傍部分）のみ載置面と当接し、他の部分は載置面と当接しないように底上げして形成されることが好ましい。これにより、入浴用の水素発生装置１０は、良好な耐久性および美観を得ることができる。ベース側板４０の内径は、高さ方向における位置に依存せず一定である。ベース体３０およびベース側板４０は、ステンレスにより一体的に形成されることが好ましい。
【００６８】
ベース体３０は、その天面の平面視略中央部分から突設されて高さ方向に延びる軸部材５０を含む。軸部材５０の先端部分の高さ方向における位置は、ベース側板４０の上端縁のそれよりも僅かに高い。軸部材５０は、第１の雄螺子部材９６を用いてベース体３０に固定されてもよい。すなわち、第１の雄螺子部材９６は、ベース体３０の平面視略中央部分に穿設された小径の孔３８を通り抜け、軸部材５０の底面から凹むように形成された第１の雌螺子部５６に係合することにより、ベース体３０に軸部材５０を固定する。なお、軸部材５０の根元部分は、ベース体３０の天面に溶接により接合されてもよい。この実施の形態に係る軸部材５０の先端部分には、雄螺子部１５２が形成される。
【００６９】
この実施の形態に係る蓋体６０は、平面視略円形状の蓋天板６３と、蓋天板６３の端縁から垂下される蓋側板６６とを含む。
【００７０】
蓋天板６３は、側面視したとき、ベース体３０から蓋体６０に向かう高さ方向に膨れ出るように湾曲した形状を有する。具体的には、蓋天板６３は、その端縁の近傍部分においてベース体３０から蓋体６０に向かう高さ方向に膨れ出るように大きく湾曲し、且つその中心に向かうほど当該湾曲が次第に小さくなるように形成される。したがって、蓋天板６３の端縁の高さ方向の位置は、中心のそれと比較してベース体３０に近くなる。蓋天板６３の平面視略中央部分には、後述する軸固定部材２００を嵌合するための貫通孔１８０が穿設される。蓋天板６３の外径寸法は、ベース側板４０のそれと同じか又はほぼ同じに形成される。なお、ハウジング２０の内部で発生した水素は、蓋天板６３に穿設された複数の孔６４から外部へと放出される。当該複数の孔６４それぞれは、平面視略円形状である。また、当該複数の孔６４は、蓋底板６２の中心から放射状に広がるように配置される。
【００７１】
蓋側板６６は、蓋天板６３の端縁（すなわち、外径方向の端縁であり、且つ下端縁）から垂下される。蓋側板６６の直径（内径及び外径）は、高さ方向における位置に依存せず一定であり、且つ蓋天板６３のそれよりも僅かに小さい。したがって、蓋側板６６の上端縁には、蓋天板６３の下端縁が径方向の内側に屈曲するようにして接続される。蓋側板６６の外径寸法は、ベース側板４０の内径寸法と同じか又はほぼ同じに形成される。
【００７２】
この実施の形態に係る蓋体６０は、軸部材５０を固定するための軸固定部材２００を含む。軸固定部材２００は、蓋体６０の平面視略中央部分に穿設された貫通孔１８０に嵌合される嵌合部２１０と、軸部材５０を固定する際に把持される把持部２２０とを有する。
【００７３】
嵌合部２１０は、軸部材５０に取り付けられた状態において、高さ方向に沿った軸線を有する略円柱状に形成される。嵌合部２１０には、軸部材５０の雄螺子部１５２を螺合するための雌螺子部２１２が形成される。雌螺子部２１２は、嵌合部２１０の底面側から高さ方向に凹むように形成された凹部と、当該凹部の側壁に形成された螺子溝とを含む。嵌合部２１０の直径は、蓋体６０の平面視略中央部分に穿設された貫通孔１８０のそれよりも僅かに小さい。
【００７４】
把持部２２０は、軸部材５０に取付けられた状態において、高さ方向に沿った軸線を有する略６角柱形状に形成される。把持部２２０は、平面視したときの中心から端縁までの最短距離（すなわち、平面視したときの中心から６つの端辺それぞれの中央部までの距離）が、嵌合部２１０の直径よりも大きい。そして、把持部２２０の底面の略中央部分に嵌合部２１０の天面が一体的に形成される。したがって、把持部２２０の底面の略中央部分から嵌合部２１０が突き出るような態様となる。
【００７５】
軸固定部材２００が軸部材５０に取り付けられた状態において、軸固定部材２００の嵌合部２１０は、蓋天板６３に穿設された貫通孔１８０に嵌合される。また、このとき、軸部材２００の把持部２２０の底面の端縁及びその近傍部分は、蓋天板６３に穿設された貫通孔１８０の端縁及びその近傍部分の天面側に当接又はほぼ当接した状態になる。
【００７６】
（マグネシウム板８０ａ〜８０ｗ）
マグネシウム板８０ａ〜８０ｗは、高さ方向に積み重ねられた状態で、ハウジング２０に収容される。ベース体３０の最も近くに位置するのがマグネシウム板８０ａであり、その次がマグネシウム板８０ｂであり、その次がマグネシウム板８０ｃである。以下同様にアルファベット順で積み重ねられ、ベース体３０の最も遠くに位置するのがマグネシウム板８０ｗである。マグネシウム板８０ａ〜８０ｗそれぞれは、略円板状に形成され、その平面視略中央部分には、平面視略円形状の貫通孔８２が穿設される。当該貫通孔８２の直径は、ハウジング２０の軸部材５０のそれよりも僅かに大きい。マグネシウム板８０ａ〜８０ｗそれぞれは、当該貫通孔８２に軸部材５０が通されることにより、ハウジング２０の内部において位置決めされる。マグネシウム板８０ａ〜８０ｗそれぞれは、純度の高いマグネシウムにより形成される。当該マグネシウムの純度は、例えば、９９．９５％程度であってもよい。
【００７７】
この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、マグネシウム板８０ａ〜８０ｗよりも十分に小さい外径を有した略円環形状の介在部材８４ａ〜８４ｗ（すなわち、合計２３個の介在部材）をさらに備える。介在部材８４ａは、ベース体３０とマグネシウム板８０ａとの間に介在する。介在部材８４ｂは、マグネシウム板８０ａとマグネシウム板８０ｂとの間に介在する。以下同様にアルファベット順でマグネシウム板の間に介在し、ベース体３０の最も遠くに位置する介在部材８０ｗがマグネシウム板８０ｖとマグネシウム板８０ｗとの間に介在する。なお、ベース体３０とマグネシウム板８０ａとの間に介在する介在部材８４ａの厚さ寸法（すなわち、高さ方向に沿った寸法）は、他の介在部材８４ｂ〜８４ｗのそれと比較して大きい。これにより、最も荷重の掛る位置でマグネシウム板８０ａ〜８０ｗを好適に支持することが可能になる。なお、他の介在部材８４ｂ〜８４ｗは、互いに同じかほぼ同じ厚さ寸法に形成される。
【００７８】
介在部材８４ａ〜８４ｗそれぞれの平面視略中央部分には、平面視略円形状の貫通孔８６が穿設される。当該貫通孔８６の直径は、ハウジング２０の軸部材５０のそれよりも僅かに大きい。介在部材８４ａ〜８４ｗそれぞれは、マグネシウム板８０ａ〜８０ｗと同様に、その貫通孔８６に軸部材５０が通されることにより、ハウジング２０の内部において位置決めされる。介在部材８４ａ〜８４ｗそれぞれは、例えば、弾性力を有するラバーなどにより形成される。
【００７９】
マグネシウム固定部材９０は、軸部材５０に取り付けられ、マグネシウム板８０ａ〜８０ｗを高さ方向において固定する。マグネシウム固定部材９０は、介在部材８４ａ〜８４ｗそれぞれと同じかまたはほぼ同じ外径を有した略円環形状である。マグネシウム固定部材９０の平面視略中央部分には、平面視略円形状の貫通孔９２が穿設される。マグネシウム固定部材９０は、弾性力を有するラバーなどにより形成され、且つその貫通孔９２の直径がハウジング２０の軸部材５０のそれよりも僅かに小さく形成されることが好ましい。
【００８０】
（使用手順など）
この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、銭湯などの比較的大きな浴槽内に載置するのみで使用可能である。この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０の使用手順などは、上記した第１の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０と同様であるため、ここではその説明を繰り返さない。なお、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、ハウジング２０の内部に注入することにより、マグネシウム板８０ａ〜８０ｗと水分子とが化学反応することを促進するためのクエン酸溶液をさらに備えてもよい。
【００８１】
（マグネシウム板８０ａ〜８０ｗの交換手順）
次に、浴槽内の水分子と化学反応することにより擦り減ったマグネシウム板８０ａ〜８０ｗを交換する手順の一例について説明する。
【００８２】
まず、浴槽内から湯水を排水する。
【００８３】
次に、蓋体６０を取り除き、ハウジング２０の天面に形成された開口をあらわにする。具体的には、まず、蓋体６０の平面視略中央部分に位置する軸固定部材２００を把持し、平面視左回転（反時計回り）させることにより、軸固定部材２００に形成された雌螺子部２１２と軸部材５０の先端部分に形成された雄螺子部１５２との螺合を外し、軸固定部材２００を取り外す。そして、蓋体６０を略上方へと持ち上げて取り除くことにより、ハウジング２０の天面に形成された開口をあらわにする。
【００８４】
また、平面視略中央に視認できる状態となったマグネシウム固定部材９０を軸部材５０から取り外す。
【００８５】
さらに、擦り減ったマグネシウム板８０ｗを上方へと持ち上げて軸部材５０から抜き取り、ハウジング２０の外部へと取り外す。これと同様に、介在部材８４ｗ、擦り減ったマグネシウム板８０ｖ、介在部材８４ｖ、擦り減ったマグネシウム板８０ｕ、介在部材８４ｕのようにアルファベットとは逆の順序でマグネシウム板８０ａまでを軸部材５０から抜き取り、ハウジング２０の外部へと取り出す。
【００８６】
そして、軸部材５０にその貫通孔８２を差し込むことにより、新しいマグネシウム板８０ａをハウジング２０の内部で位置決めされた状態にする。これと同様に、介在部材８４ｂ、新しいマグネシウム板８０ｂ、介在部材８４ｃ、新しいマグネシウム板８０ｃのようにアルファベット順でマグネシウム板８０ｗまでを軸部材５０に差し込み、ハウジング２０の内部で位置決めされた状態にする。
【００８７】
次に、軸部材５０の先端部分にマグネシウム固定部材９０を取り付けることにより、マグネシウム板８０ａ〜８０ｗをハウジング２０の内部で固定された状態にする。なお、マグネシウム固定部材９０は、弾性力を有するラバーなどにより形成され、且つその貫通孔９２の直径がハウジング２０の軸部材５０のそれよりも僅かに小さく形成されることにより、その貫通孔９２に軸部材５０を圧入して取り付けることができる。これにより、マグネシウム固定部材９０は、マグネシウム板８０ａ〜８０ｗをより確実に固定することができる。上記のようにして、ベース体３０にマグネシウム板８０ａ〜８０ｗを取り付けることができる。
【００８８】
さらに、蓋体６０によりハウジング２０の天面に蓋をする。具体的には、蓋天板６３の径方向の端縁をベース側板４０の上端縁に載置することにより、ハウジング２０の天面に蓋をする。
【００８９】
最後に、軸固定部材２００により軸部材５０を固定する。具体的には、軸固定部材２００の把持部２２０を把持して平面視右回転（時計回り）させながら、軸固定部材２００の嵌合部２１０を蓋天板６３の平面視略中央部分に穿設された貫通孔１８０に嵌合する。これにより、軸固定部材２００に形成された雌螺子部２１２に軸部材５０の先端部分に形成された雄螺子部１５２を螺合させる。このようにして、軸固定部材２００により軸部材５０を固定する。このとき、蓋体６０の平面視略中央部分に穿設された貫通孔１８０に嵌合部２１０が嵌合され、且つ当該貫通孔１８０の端縁及びその近傍部分の天面側に把持部２２０の底面の端縁及びその近傍が当接又はほぼ当接した状態になる。
【００９０】
上記のようにして、浴槽内の水分子と化学反応することにより擦り減ったマグネシウム板８０ａ〜８０ｗを交換することができる。
【００９１】
なお、マグネシウム板８０ａ〜８０ｗの表面には、浴槽内の水分子と化学反応することで、酸化皮膜（黒ずみ）が形成され得る。当該酸化皮膜は、マグネシウム板８０ａ〜８０ｗと水分子とが化学反応することを妨げるため、水素の発生量を減少させてしまう。したがって、当該酸化皮膜は、上記したように擦り減ったマグネシウム板８０ａ〜８０ｗを交換するまでに、定期的に除去されることが好ましい。入浴用の水素発生装置１０は、当該酸化皮膜を除去するためのクエン酸溶液を備えることが好ましい。
【００９２】
（効果）
この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、載置面に当接するベース体３０と、ベース体３０に取り付けられるマグネシウム板８０ａ〜８０ｗとを備え、マグネシウム板８０ａ〜８０ｗが湯水に含まれる水分子と化学反応することにより、水素を発生させる。入浴用の水素発生装置１０は、このように、電気を使用しない簡単な構造であるため、故障する虞がない。また、浴槽の底に載置するのみでよいため、使用手順が単純である。さらに、製造や設置にコストが掛からず、ランニングコストも低く抑えることができ、且つ十分な量の水素を発生させることができる。以上の通りであるため、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、簡単な構造で故障する虞がなく、あらゆる面でコストを低く抑えることができ、使用手順が単純であり、且つ十分な量の水素を発生させることができる。
【００９３】
この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、ハウジング２０の軸部材５０に合計２３枚のマグネシウム板８０ａ〜８０ｗが通される。すなわち、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、上記した第１の実施の形態よりも多くのマグネシウム板８０を備えるため、さらに多くの量の水素を発生させることができる。したがって、この入浴用の水素発生装置１０は、特に、銭湯などの比較的大きな浴槽で有効に使用することができる。
【００９４】
また、この実施の形態に係る蓋体６０は、軸部材５０を固定するための軸固定部材２００をさらに備える。これにより、蓋体６０に軸部材５０が固定される。その結果、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、より安定した状態でハウジング２０の内部にマグネシウム板８０ａ〜８０ｗを収納することができる。
【００９５】
さらに、この実施の形態に係る軸部材５０の先端部分には雄螺子部１５２が形成され、且つ軸固定部材２００には、雄螺子部１５２と螺合するための雌螺子部２１２が形成される。その結果、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、簡単な構造で、且つより安定した状態でハウジング２０の内部にマグネシウム板８０ａ〜８０ｗを収納することができる。
【００９６】
そして、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、上記した第２の実施の形態の場合とは異なり、ハウジング２０の内部で発生した水素を外部へと放出するための複数の孔６４が蓋体６０にのみ穿設され、ベース側板４０には穿設されない。これにより、クエン酸溶液を用いて、浴槽内の水分子と化学反応することでマグネシウム板８０ａ〜８０ｗの表面に形成される酸化皮膜を除去することができる。これは、上記したように複数の孔６４がベース側板４０に穿設されないため、クエン酸溶液がハウジング２０の外部へと漏れ出ないためである。入浴用の水素発生装置１０は、マグネシウム板８０ａ〜８０ｗの表面に形成される酸化皮膜がクエン酸溶液を用いて除去されることにより、マグネシウム板８０ａ〜８０ｗと浴槽内の水分子とが化学反応することを促進させることができるため、水素の発生量を増加させることができる。
【００９７】
なお、この実施の形態では、軸固定部材２００が軸部材５０に取り付けられた状態において、軸固定部材２００の把持部２２０の底面の端縁及びその近傍部分が、蓋天板６３に穿設された貫通孔１８０の端縁及びその近傍部分の天面側に当接又はほぼ当接した状態になる。このような構造により、軸固定部材２００が蓋体６０の高さ方向への移動を妨げる。すなわち、軸固定部材２００は、軸部材５０を固定すると共に、蓋体６０もまた固定する。したがって、蓋体６０がハウジング２０から誤って外れてしまうことを防止することができる。その結果、この実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、安全性や美観などが向上し、銭湯などの比較的大きな浴場で好適に用いることができる。
【００９８】
４．変形例
上記した第１の実施の形態、第２の実施の形態および第３の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、高さ方向に延びる軸部材５０を備える場合について説明した。そして、第１の実施の形態に係るマグネシウム板８０ａ〜８０ｃと、第２の実施の形態に係るマグネシウム板８０ａ〜８０ｅと、第３の実施の形態に係るマグネシウム板８０ａ〜８０ｗとは、それぞれの貫通孔８２に当該軸部材５０が通されることにより、横置きされた状態で高さ方向に積み重ねられ、ハウジング２０に収容された。しかしながら、この場合に限定されず、入浴用の水素発生装置１０は、例えば、水平方向に延びる軸部材５０を備えてもよい。このような場合、第１の実施の形態に係るマグネシウム板８０ａ〜８０ｃと、第２の実施の形態に係るマグネシウム板８０ａ〜８０ｅと、第３の実施の形態に係るマグネシウム板８０ａ〜８０ｗとは、それぞれの貫通孔８２に当該軸部材５０が通されることにより、縦置きされた状態で水平方向に並べられ、ハウジング２０に収容される。
【００９９】
また、上記した第１の実施の形態および第３の実施の形態では、ハウジング２０の内部で発生した水素を外部へと放出するために蓋体６０に穿設される複数の孔６４が、平面視略円形状であり、且つ蓋底板６２の中心から放射状に広がるように配置される場合について説明した。しかしながら、この場合に限定されず、当該複数の孔６４は、例えば、平面視略四角形状などの他の形状であってもよいし、第１の実施の形態に係る蓋底板６２と、第３の実施の形態に係る蓋天板６３とにおいて全体的に均一に配置されてもよい。なお、ハウジング２０の内部にクエン酸溶液を注入する場合を考慮すると、ベース体３０やベース側板４０には当該複数の孔６４を穿設しないことが好ましい。
【０１００】
さらに、上記した第２の実施の形態では、当該複数の孔６４が、平面視略円形状であり、且つ蓋天板６３において６本の軸部材５０に対応した位置それぞれから放射状に配置され、且つ蓋側板６６において全体的に均一に配置される場合について説明した。しかしながら、この場合に限定されず、当該複数の孔６４は、例えば、平面視略四角形状などの他の形状であってもよいし、蓋天板６３においても蓋側板６６と同様に全体的に均一に配置されてもよい。また、当該複数の孔６４は、例えば、蓋天板６３のみに穿設され、蓋側板６６には穿設されなくてもよいし、あるいは、蓋天板６３、蓋側板６６およびベース体３０の全てに穿設されてもよい。
【０１０１】
上記したように、入浴用の水素発生装置１０は、ハウジング２０の内部で発生した水素を外部へと放出するための複数の孔６４の形状や配置を適宜調整することにより、水素による所望の泡立ちを作り出すことができる。
【０１０２】
また、上記した第１の実施の形態では、１本の軸部材５０に３枚のマグネシウム板８０ａ〜８０ｃが取り付けられる場合について説明した。また、上記した第３の実施の形態では、１本の軸部材５０に２３枚のマグネシウム板８０ａ〜８０ｗが取り付けられる場合について説明した。しかしながら、この場合に限定されず、軸部材５０には１枚のマグネシウム板８０のみが取り付けられてもよい。これにより、製造コストを低く抑えることができ、且つ擦り減ったマグネシウム板８０の交換作業を容易に行うことが可能となる。なお、マグネシウム板８０を１枚のみ備える入浴用の水素発生装置１０は、水素の発生量が比較的少なくて良く、且つ装置の全体的な寸法が比較的小さいことが好ましい洗顔用や足湯用として好適に用いることができる。また、軸部材５０には、２枚または４枚のマグネシウム板８０が取り付けられてもよいし、６枚以上のマグネシウム板８０が取り付けられてもよい。
【０１０３】
さらに、上記した第２の実施の形態では、ベース体３０から６本の軸部材５０が突設され、当該６本の軸部材５０それぞれに５枚のマグネシウム板８０ａ〜８０ｅが取り付けられる場合について説明した。しかしながら、この場合に限定されず、ベース体３０には２本以上５本以下の軸部材５０が突設されてもよいし、７本以上の軸部材５０が突設されてもよい。また、当該複数の軸部材５０全体として少なくとも１枚のマグネシウム板８０が取り付けられればよい。すなわち、当該複数の軸部材５０それぞれには、０枚以上４枚以下のマグネシウム板８０が取り付けられてもよいし、６枚以上のマグネシウム板８０が取り付けられてもよい。入浴用の水素発生装置１０は、このようにマグネシウム板８０の枚数を適宜変更することにより、様々な大きさの浴槽それぞれに適した量の水素を発生させることが可能となる。
【０１０４】
また、上記した第３の実施の形態に係る軸固定部材２００は、蓋天板６４および蓋側板６６とは別部材である場合について説明したが、この場合に限定されず、例えば、同じ部材として一体的に形成されてもよい。これにより、軸固定部材２００が紛失してしまうことを防止することができる。さらに、上記した第３の実施の形態に係る軸固定部材２００は、その雌螺子部２１２が軸部材５０の先端部分に形成された雄螺子部１５２と螺合することにより、軸部材５０を固定する場合について説明したが、これに限定されない。すなわち、軸固定部材５０は、例えば、軸部材５０を径方向において挟持するような態様や軸部材５０と互いに噛み合って係合するような態様など、他の態様により軸部材５０を固定するものであってもよい。
【０１０５】
そして、上記した第１の実施の形態に係るマグネシウム板８０ａ〜８０ｅそれぞれと、第２の実施の形態に係るマグネシウム板８０ａ〜８０ｅそれぞれと、第３の実施の形態に係るマグネシウム板８０ａ〜８０ｗそれぞれとは、平面視略中央部分に穿設された１つの貫通孔８６を含み、且つベース体３０は、当該貫通孔８６に通される軸部材５０を含む場合について説明した。しかしながら、この場合に限定されず、第１の実施の形態に係るマグネシウム板８０ａ〜８０ｃそれぞれと、第２の実施の形態に係るマグネシウム板８０ａ〜８０ｅそれぞれと、第３の実施の形態に係るマグネシウム板８０ａ〜８０ｗそれぞれとは、複数の貫通孔８６を含み、且つベース体３０は、当該複数の貫通孔８６に通される複数の軸部材５０を含んでもよい。入浴用の水素発生装置１０は、このような構造を備えることにより、マグネシウム板８０を一層安定した状態でベース体３０に取り付けることができる。
【０１０６】
また、上記した第１の実施の形態、第２の実施の形態および第３の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、平面視略円形状のベース体３０を備える場合について説明したが、この場合に限定されない。すなわち、入浴用の水素発生装置１０は、例えば、平面視略四角形状や他の形状であってもよい。
【０１０７】
さらに、上記した第１の実施の形態、第２の実施の形態および第３の実施の形態に係る入浴用の水素発生装置１０は、蓋体６０を備える場合について説明したが、この場合に限定されない。すなわち、入浴用の水素発生装置１０は、蓋体６０を備えず、マグネシウム板８０が露出した状態でベース体３０に取り付けられてもよい。これにより、入浴用の水素発生装置１０は、より簡単な構造とすることができ、且つ製造コストを一層低く抑えることができる。
【０１０８】
なお、この発明は、前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々に変形される。
【符号の説明】
【０１０９】
１０  入浴用の水素発生装置
２０  ハウジング
３０  ベース体
３８  孔
４０  ベース側板
５０  軸部材
５６  第１の雌螺子部
６０  蓋体
６２  蓋底板
６３  蓋天板
６４  孔
６６  蓋側板
６８  端縁湾曲部
６９  孔
７０  摘み部
７２  摘み根元部
７４  摘み先端部
７８  第２の雌螺子部
８０ａ〜８０ｅ  マグネシウム板
８２  貫通孔
８４ａ〜８４ｅ  介在部材
８６  貫通孔
９０  マグネシウム固定部材
９２  貫通孔
９６  第１の雄螺子部材
９８  第２の雄螺子部材
１００  シール部材
１５２  雄螺子部
１８０  貫通孔
２００  軸固定部材
２１０  嵌合部
２１２  雌螺子部
２２０  把持部
【図１】
2018042988.tif 000004
【図２】
2018042988.tif 000005
【図３】
2018042988.tif 000006
【図４】
2018042988.tif 000007
【図５】
2018042988.tif 000008
【図６】
2018042988.tif 000009
【図７】
2018042988.tif 000010
【図８】
2018042988.tif 000011
【図９】
2018042988.tif 000012
【図１０】
2018042988.tif 000013
【図１１】
2018042988.tif 000014
【図１２】
2018042988.tif 000015
【図１３】
2018042988.tif 000016