(57)【要約】【課題】レコード盤の表面を手軽に、かつ、より適切に拭き掃除をすることが容易となるウェットクロスを提供する。【解決手段】不織布に洗浄液が含浸されており、レコード盤の拭き掃除に用いられるウェットクロスであって、前記洗浄液の成分の一つとして、イソプロピルアルコールを用いたウェットクロスとする。【選択図】図３
2018042957.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
不織布に洗浄液が含浸されており、レコード盤の拭き掃除に用いられるウェットクロスであって、
前記洗浄液の成分の一つとして、イソプロピルアルコールを用いたことを特徴とするウェットクロス。
【請求項２】
前記洗浄液におけるイソプロピルアルコールの濃度を、１０〜２０重量％としたことを特徴とする請求項１に記載のウェットクロス。
【請求項３】
前記洗浄液の成分の一つとして、エチレングリコールを用いたことを特徴とする請求項１または請求項２に記載のウェットクロス。
【請求項４】
請求項１から請求項３の何れかに記載のウェットクロスの複数枚が、包装体の内部において積層配置されており、
前記包装体に設けた取出口から、前記ウェットクロスを一枚ずつ取出し可能としたことを特徴とするクロスセット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レコード盤の拭き掃除に用いられるウェットクロス、およびこれを複数枚有するクロスセットに関する。
【背景技術】
【０００２】
現在の音楽再生メディアとしてはＣＤ等のデジタルメディアが主流であるが、ＬＰレコードなどのアナログのレコード盤も、音楽愛好家の間で根強い人気がある。このようなレコード盤の表面には音溝が設けられており、この音溝の形状により音楽のアナログ信号が提供される。すなわち、再生機側のレコード針が回転するレコード盤の表面に接し、再生機が上記アナログ信号を読取って音楽を再生することになる。
【０００３】
上述した原理により音楽が再生されるため、レコード盤の表面に脂や埃等の汚れが付着しているとアナログ信号の読取りに支障が生じ、再生品質の劣化が問題となる。そこで高品質な音楽再生を維持するためには、レコード盤の表面に付着した汚れを適宜除去することが重要である。
【０００４】
一方で上述したレコード盤は、一般的に塩化ビニル系の樹脂で形成されており、比較的軟らかく傷が付き易い。レコード盤の表面を傷付けてしまうと再生品質の劣化等を招くため、レコード盤の表面に付着した汚れを除去する際には、この点に特に注意する必要がある。特許文献１には、レコード盤の表面を傷付けずに洗浄できるよう配慮された装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特表2016-517608号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし特許文献１に開示されたような高度な装置は、普通の音楽愛好家にとって容易に準備できるものとは言えず、これを用いてレコード盤を手軽に洗浄することは難しい。一方、一般的なウェットティッシュ等でレコード盤を拭いてしまうと、その表面を傷付けてしまったり十分に汚れが取れなかったりすることが多く、適切に拭き掃除をすることが容易ではないという問題がある。
【０００７】
本発明は上述した問題点に鑑み、レコード盤の表面を手軽に、かつ、より適切に拭き掃除をすることが容易となるウェットクロス、およびクロスセットの提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係るウェットクロスは、不織布に洗浄液が含浸されており、レコード盤の拭き掃除に用いられるウェットクロスであって、前記洗浄液の成分の一つとして、イソプロピルアルコールを用いた構成とする。本構成によれば、レコード盤の表面を手軽に、かつ、より適切に拭き掃除をすることが容易となる。
【０００９】
また上記構成としてより具体的には、前記洗浄液におけるイソプロピルアルコールの濃度を、１０重量％〜１５重量％とした構成としてもよい。本構成によれば、ウェットクロスでレコード盤の表面を拭いた際、出来るだけその表面を傷めないようにしつつも、効果的に汚れを除去することが可能となる。
【００１０】
また上記構成としてより具体的には、前記洗浄液の成分の一つとして、エチレングリコールを用いた構成としてもよい。本構成によれば、拭き掃除をしてもレコード盤を極力帯電させないことが可能となる。
【００１１】
また本発明に係るクロスセットは、上記構成のウェットクロスの複数枚が、包装体の内部において積層配置されており、前記包装体に設けた取出口から、前記ウェットクロスを一枚ずつ取出し可能とした構成とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明に係るウェットクロスによれば、レコード盤の表面を手軽に、かつ、より適切に拭き掃除をすることが容易となる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本実施形態に係るクロスセットの概略的な外観図である。
【図２】本実施形態に係るウェットクロスの概略的な外観図である。
【図３】当該ウェットクロスを用いてレコード盤の表面を拭き掃除する様子の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明の実施形態について、各図面を参照しながら以下に説明する。
【００１５】
図１は、本実施形態に係るウェットクロス１を複数枚収容したクロスセット９の概略的な外観図である。本図に示すようにクロスセット２は、包装袋２（包装体の一形態）の内部に、複数枚のウェットクロス１が上下方向に積層配置された状態となっている。なお図１に点線枠で囲まれた部分は、包装袋２の内部の様子を理解容易とするため、包装袋２を透過して表示させている。
【００１６】
包装袋２は、内部のウェットクロス１を乾燥させないようにするため、非透水性の素材（例えば薄い樹脂や金属等）により形成されている。包装袋２の上側には、内部のウェットクロス１を一枚ずつ取出し可能とする取出口２１（開口部）が設けられている。また包装袋２の上側には、取出口２１を覆って封止するための封止シート２２が貼り付けられている。封止シート２２は、取出口２１周辺に接着するための粘着性を有しており、使用者が封止シート２２を捲り上げたり再度貼り付けるたりすることにより、取出口２１が開閉自在となっている。
【００１７】
使用者は、ウェットクロス１を使用する際に、封止シート２２を捲り上げてウェットクロス１を所望の枚数だけ取出すことができ、その後、封止シート２２を再度貼り付けることにより、包装袋２をほぼ密閉状態とすることができる。これにより、内部のウェットクロス１を極力乾燥させないすることが可能である。なおウェットクロス１を収容する包装体としては、本実施形態のような袋型の他、箱型など種々の形態のものが採用され得る。
【００１８】
また包装袋２内の各ウェットクロス１は、１枚のウェットクロス１が取出口２１から取出された際に次のウェットクロス１が取出口２１に導かれて保持されるように、隣り合うもの同士が一部重なるように積層されていても良い。このようにすれば、取出口２１からウェットクロス１を１枚ずつ順に取出すことがより容易となり、便利である。
【００１９】
図２は、１枚分のウェットクロス１の概略的な外観図を示し、図３は、ウェットクロス１を用いてレコード盤Ｒの表面を拭き掃除する様子を例示している。一般的にレコード盤は、塩化ビニル或いはこれに準じた樹脂によって円板状に形成されており、音楽のアナログ信号に応じた形状の音溝が刻まれている。ウェットクロス１は、不織布に洗浄液を含浸させてなり、このようなレコード盤の拭き掃除に最適となるよう形状や材質等が配慮されている。
【００２０】
まずウェットクロス１の形成には、非常にきめが細かく、かつ繊維の抜けが極力少ない不織布が用いられている。これにより、拭き掃除の際にレコード盤を出来るだけ傷付けないようにすることが出来るとともに、レコード盤に繊維が付着することを極力抑えることが可能である。
【００２１】
またウェットクロス１の形成に用いられる洗浄液の成分としては、洗浄効果を向上させる（汚れを除去し易くする）イソプロピルアルコール（イソプロパノール）に加え、エチレングリコールが添加剤として用いられている。当該洗浄液には、イソプロピルアルコールおよびエチレングリコールの他、レコード盤の拭き掃除に適した各種の成分が含まれるようにしても良い。
【００２２】
エチレングリコールは、拭き掃除によるレコード盤の帯電（静電気の発生）を抑える役割を果たす。レコード盤が帯電すると埃などが吸い付き易くなってしまうが、本実施形態ではエチレングリコールを用いているため、拭き掃除をしてもレコード盤を極力帯電させないようにすることが可能である。
【００２３】
なお本実施形態では、洗浄効果を向上させるための洗浄液の成分としてイソプロピルアルコールを用いているため、エタノールを用いる場合に比べてレコード盤の表面を傷め難く、更にレコード盤の帯電は低減される。また本実施形態のようにイソプロピルアルコールを用いる場合は、エタノールを用いる場合に比べて課税等の面でも有利であり、製造コストの削減を図ることも可能である。
【００２４】
また、当該洗浄液におけるイソプロピルアルコールの濃度は、低過ぎると所期の洗浄効果を得ることが難しくなり、高過ぎるとレコード盤の表面を傷めてしまう虞があるため、適度に設定されることが望ましい。本実施形態ではこの点を考慮して、当該洗浄液におけるイソプロピルアルコールの濃度を１０〜２０重量％としている。これにより、ウェットクロス１でレコード盤の表面を拭いた際、出来るだけその表面を傷めないようにしつつも、効果的に汚れを除去することが可能である。
【００２５】
なおウェットクロス１の製造工程としては、上述したレコード盤の拭き掃除に適した洗浄液や不織布を用いる点などを除き、一般的なウェットクロスやウェットティッシュの製造工程に準じたものを採用することが可能である。本実施形態の不織布に洗浄液を含浸させる工程としては、容器に溜めた洗浄液に不織布を浸す工程に限られず、例えば、不織布に洗浄液を吹き付ける工程が採用されても良い。
【００２６】
以上に説明したとおり、本実施形態に係るウェットクロス１は、不織布に洗浄液が含浸されており、レコード盤の拭き掃除に用いられるものであって、前記洗浄液の成分の一つとしてイソプロピルアルコールが用いられている。このようなウェットクロス１によれば、レコード盤の表面を手軽に、かつ、より適切に拭き掃除をすることが容易である。
【００２７】
なお本発明の構成は、上記実施形態のほか、発明の主旨を逸脱しない範囲で種々の変更を加えることが可能である。すなわち上記実施形態は、全ての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の技術的範囲は、上記実施形態の説明ではなく、特許請求の範囲によって示されるものであり、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内に属する全ての変更が含まれると理解されるべきである。
【産業上の利用可能性】
【００２８】
本発明は、レコード盤の拭き掃除に用いられるウェットクロスに利用可能である。
【符号の説明】
【００２９】
１      ウェットクロス
２      包装袋
２１    取出口
２２    封止シート
９      クロスセット
Ｒ      レコード盤
【図１】
2018042957.tif 000003
【図２】
2018042957.tif 000004
【図３】
2018042957.tif 000005