(57)【要約】【課題】ＵＶに対する耐久性を有する表面処理層の形成に適したパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を提供する。【解決手段】−ＰＦＰＥ−Ｘ−ＳｉＲａｋＲｂｌＲｃｍで表される構造を含むパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。例えば、ＰＦＰＥはパーフルオロ（ポリ）エーテル基、Ｘは炭素数２〜２０の置換または非置換のアルキレン基、ＲａはＳｉを含む官能基、Ｒｂは水酸基または加水分解可能な基、Ｒｃは水素原子または低級アルキル基を表し、ｋは１〜３の整数であり、ｌおよびｍはそれぞれ０〜２の整数であり、−ＳｉＲａｋＲｂｌＲｃｍ毎において、ｋ、ｌおよびｍの和は３である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ａ１）または式（Ａ２）：
【化１】
2018150519.tif 000009
［式中：
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
（ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｘは、各出現においてそれぞれ独立して、炭素数２〜２０の、置換または非置換のアルキレン基を表し；
Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ１ｐＲ２ｑＲ３ｒを表し；
Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ’を表し；
Ｒａ’は、Ｒａと同意義であり；
Ｒａ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、−Ｚ−ＳｉＲ１ｐＲ２ｑＲ３ｒ毎において、ｐ、ｑおよびｒの和は３であり、式（Ａ１）および（Ａ２）において、少なくとも１のＲ２を有するＳｉが２個以上存在し；
Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ただし、−ＳｉＲａｋＲｂｌＲｃｍ毎において、ｋ、ｌおよびｍの和は３である］
で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
【請求項２】
Ｘは、炭素数２〜１０の、非置換のアルキレン基を表す、請求項１に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
【請求項３】
ｋは、３である、請求項１または２に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
【請求項４】
Ｚは、アルキレン基である、請求項１〜３のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
【請求項５】
Ｒａ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは１個または２個である、請求項１〜４のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
【請求項６】
Ｒａ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは１個である、請求項１〜５のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
【請求項７】
Ｒｆが、炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基である、請求項１〜６のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
【請求項８】
ＰＦＰＥが下記式（ａ）、（ｂ）または（ｃ）：
−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−    （ａ）
［式中、ｄは１以上２００以下の整数である。］
−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−    （ｂ）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり；
ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり；
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０以上２００以下の整数であり；
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
−（Ｒ６−Ｒ７）ｊ−    （ｃ）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
ｊは、２〜１００の整数である。］
である、請求項１〜７のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
【請求項９】
Ｒｆが、炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基であり、
ＰＦＰＥが下記式（ａ）、（ｂ）または（ｃ）：
−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−    （ａ）
［式中、ｄは１以上２００以下の整数である。］
−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−    （ｂ）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり；
ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり；
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０以上２００以下の整数であり；
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
−（Ｒ６−Ｒ７）ｊ−    （ｃ）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
ｊは、２〜１００の整数である。］
であり、
Ｘが、炭素数２〜１０の、非置換の、直鎖状のアルキレン基であり、
ｋが３であり、
ｑが３である、
請求項１〜８のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載の式（Ａ１）および／または式（Ａ２）で表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含有する、表面処理剤。
【請求項１１】
含フッ素オイル、シリコーンオイル、アルコール、触媒、遷移金属、ハロゲン化物イオン、および分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項１０に記載の表面処理剤。
【請求項１２】
さらに溶媒を含有する、請求項１１に記載の表面処理剤。
【請求項１３】
防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、請求項１０〜１２のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項１４】
請求項１０〜１３のいずれかに記載の表面処理剤を含有するペレット。
【請求項１５】
基材と、該基材の表面に、請求項１〜９のいずれかに記載の化合物または請求項１０〜１３のいずれかに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
【請求項１６】
前記物品が光学部材である、請求項１５に記載の物品。
【請求項１７】
前記物品がディスプレイである、請求項１５または１６に記載の物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物に関する。また、本発明は、かかるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤等にも関する。
【背景技術】
【０００２】
ある種の含フッ素化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。そのような含フッ素シラン化合物として、パーフルオロポリエーテル基を分子主鎖に有し、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を分子末端または末端部に有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が知られている。例えば、特許文献１には、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を分子末端または末端部に有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が記載されている。
【０００３】
上記のような含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、ガラス等に施されている。特に、上記表面処理層は、上記のような機能を薄膜でも発揮し得ることから、光透過性ないし透明性が求められるメガネ、タッチパネル、携帯端末の操作画面などの光学部材に適用されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−１１７０１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記のような表面処理層には、さらに、紫外線（ＵＶ）に対する耐久性（耐ＵＶ性）が求められることがある。しかしながら、本発明者らの研究によれば、上記のようなパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を用いて形成される表面処理層では、充分な耐ＵＶ性を得られないことがあると分かった。
【０００６】
本発明は、耐ＵＶ性を有する表面処理層の形成に適したパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を提供することを目的とする。本発明の別の目的は、このような化合物を含む表面処理剤を提供することにある。本発明の更に別の目的は、このような表面処理剤を用いて形成された表面処理層を有する物品を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１の要旨によれば、
式（Ａ１）または式（Ａ２）：
【化１】
2018150519.tif 000002
［式中：
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
（ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｘは、各出現においてそれぞれ独立して、炭素数２〜２０の、置換または非置換のアルキレン基を表し；
Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ１ｐＲ２ｑＲ３ｒを表し；
Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ’を表し；
Ｒａ’は、Ｒａと同意義であり；
Ｒａ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、−Ｚ−ＳｉＲ１ｐＲ２ｑＲ３ｒ毎において、ｐ、ｑおよびｒの和は３であり、式（Ａ１）および（Ａ２）において、少なくとも１のＲ２を有するＳｉが２個以上存在し；
Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ただし、−ＳｉＲａｋＲｂｌＲｃｍ毎において、ｋ、ｌおよびｍの和は３である］
で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物が提供される。
【０００８】
本発明の第２の要旨によれば、上記の式（Ａ１）および／または式（Ａ２）で表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含有する、表面処理剤が提供される。
【０００９】
本発明の第３の要旨によれば、上記の表面処理剤を含有するペレットが提供される。
【００１０】
本発明の第４の要旨によれば、基材と、該基材の表面に、上記の化合物または表面処理剤より形成された層とを含む物品が提供される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、耐ＵＶ性が良好な表面処理層の形成に適したパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を提供することができる。また、本発明によれば、このような化合物を含む表面処理剤を提供することができる。更に、本発明によれば、このような化合物な表面処理剤を有する物品を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物について説明する。
【００１３】
本明細書において用いられる場合、「２価の有機基」とは、炭素を含有する２価の基を意味する。かかる２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。
【００１４】
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素数１〜２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。尚、かかる炭化水素基は、その末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。
【００１５】
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子；１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ３−１０シクロアルキル基、Ｃ３−１０不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ６−１０アリール基および５〜１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。
【００１６】
本発明は、式（Ａ１）または式（Ａ２）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基（以下、「ＰＦＰＥ」ともいう）含有シラン化合物を提供する（以下、「本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物」ともいう）。
【化２】
2018150519.tif 000003
【００１７】
上記式（Ａ１）および式（Ａ２）中、Ｒｆは、各出現において独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表す。
【００１８】
上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基における「炭素数１〜１６のアルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のアルキル基である。
【００１９】
上記Ｒｆは、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されている炭素数１〜１６のアルキル基であり、より好ましくはＣＦ２Ｈ−Ｃ１−１５パーフルオロアルキレン基またはＣ１−１６パーフルオロアルキル基であり、さらに好ましくはＣ１−１６パーフルオロアルキル基である。
【００２０】
該炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ３、または−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３である。
【００２１】
上記式中、ＰＦＰＥは、各出現において独立して、
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
で表される基である。式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０以上１００以下の整数である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は５以上であり、より好ましくは１０以上である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２００以下であり、より好ましくは１００以下であり、例えば１０以上２００以下であり、より具体的には１０以上１００以下である。また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
【００２２】
これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、−（ＯＣ６Ｆ１２）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ５Ｆ１０）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ４Ｆ８）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ３Ｆ６）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。また、−（ＯＣ２Ｆ４）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−である。
【００２３】
一の態様において、上記ＰＦＰＥは、−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。好ましくは、ＰＦＰＥは、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）または−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。より好ましくは、ＰＦＰＥは、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。
【００２４】
別の態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、少なくとも５以上、好ましくは１０以上であり、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）である。好ましくは、ＰＦＰＥは、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−である。一の態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−（式中、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）であってもよい。
【００２５】
さらに別の態様において、ＰＦＰＥは、−（Ｒ６−Ｒ７）ｊ−で表される基である。式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり、好ましくはＯＣ２Ｆ４である。式中、Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。好ましくは、Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、および−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−等が挙げられる。上記ｊは、２以上、好ましくは３以上、より好ましくは５以上であり、１００以下、好ましくは５０以下の整数である。上記ｊは、例えば２〜１００の整数、具体的には２〜５０の整数である。上記式中、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、ＰＦＰＥは、好ましくは、−（ＯＣ２Ｆ４−ＯＣ３Ｆ６）ｊ−または−（ＯＣ２Ｆ４−ＯＣ４Ｆ８）ｊ−である。
【００２６】
上記ＰＦＰＥにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」）は、０．１以上１０以下であり、好ましくは０．２以上５．０以下であり、より好ましくは０．２以上２．０以下であり、さらに好ましくは０．２以上１．５以下であり、特に好ましくは０．２以上０．８５以下である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。
【００２７】
上記式（Ａ１）および式（Ａ２）中、Ｘは、炭素数２〜２０の、置換または非置換のアルキレン基を表す。アルキレン基とは、−（ＣαＨ２α）−構造を有する基である。Ｘにおいて、αは２〜２０の整数である。上記アルキレン基は、直鎖状または分枝鎖状であってもよく、好ましくは直鎖状である。上記炭素数は２〜１０であることが好ましく、２〜５であることがより好ましい。アルキレン基は、例えばハロゲン原子等の置換基によって置換されていてもよい。アルキレン基は、好ましくは非置換である。上記アルキレン基の具体的な例としては、炭素数２〜１０（好ましくは炭素数２〜５）の、非置換のアルキレン基であり、特に炭素数２〜１０（好ましくは炭素数２〜５）の、非置換の、直鎖状のアルキレン基である。Ｘは、式（Ａ１）および式（Ａ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性を提供するパーフルオロポリエーテル部（Ｒｆ−ＰＦＰＥ部または−ＰＦＰＥ−部）と、加水分解して基材との結合能を提供するシラン部（−ＳｉＲａｋＲｂｌＲｃｍ部）とを連結するリンカーと解される。Ｘが上記のような構造を有することによって、リンカー部分がエーテル結合やアミド結合を有する場合よりもリンカー部分における結合エネルギーが大きくなり、その結果、形成される表面処理層の耐ＵＶ性が向上し得ると推測される。さらに、本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物は、ＵＶを繰り返し照射する場合であっても、良好な耐ＵＶ性を有する表面処理層の形成に寄与し得る。耐ＵＶ性は、例えば、後述するように、形成される表面処理層のＵＶ照射前後の物性（例えば接触角）の変化を測定することによって評価できる。
【００２８】
本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物は、上記のようなＸを有することによって、化学的な耐久性を有する（例えば、酸および／またはアルカリ環境下、より具体的には汗の付着し得る環境下においても劣化しにくい）表面処理層の形成に寄与し得る。また、本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物は、上記のようなＸを有することによって、摩擦耐久性の良好な表面処理層の形成に寄与し得、特に、酸および／またはアルカリ環境に曝されやすい環境においても耐摩擦性の向上した表面処理層の形成に寄与し得る。
【００２９】
上記式（Ａ１）および式（Ａ２）中、Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ１ｐＲ２ｑＲ３ｒを表す。
【００３０】
式中、Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。
【００３１】
上記Ｚは、好ましくは、２価の有機基であり、式（Ａ１）または式（Ａ２）における分子主鎖の末端のＳｉ原子（Ｒａが結合しているＳｉ原子）とシロキサン結合を形成するものを含まない。
【００３２】
上記Ｚは、好ましくは、アルキレン基、−（ＣＨ２）ｇ−Ｏ−（ＣＨ２）ｈ−（式中、ｇは、１〜６の整数であり、ｈは、１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ２）ｉ−（式中、ｉは、０〜６の整数である）ある。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。耐ＵＶ性が特に良好な観点からは、上記Ｚは、より好ましくは、直鎖状または分枝鎖状のアルキレン基であり、さらに好ましくは直鎖状のアルキレン基である。上記Ｚのアルキレン基を構成する炭素数は、好ましくは１〜８の範囲にあり、より好ましくは１〜６の範囲にあり、さらに好ましくは１〜３の範囲にある。なお、アルキレン基については上記のとおりである。
【００３３】
上記Ｚは、好ましくは、アルキレン基、−（ＣＨ２）ｇ−Ｏ−（ＣＨ２）ｈ−（式中、ｇは、１〜６の整数であり、ｈは、１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ２）ｉ−（式中、ｉは、０〜６の整数である）ある。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。耐ＵＶ性が特に良好な観点からは、上記Ｚは、より好ましくは、直鎖状または分枝鎖状のアルキレン基であり、さらに好ましくは直鎖状のアルキレン基である。上記Ｚのアルキレン基を構成する炭素数は、好ましくは１〜６の範囲にあり、より好ましくは１〜３の範囲にある。なお、アルキレン基については上記のとおりである。
【００３４】
式中、Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ’を表す。Ｒａ’は、Ｒａと同意義である。
【００３５】
Ｒａ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個である。即ち、上記Ｒａにおいて、Ｒ１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒａ中にＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｒａ中において直鎖状に連結される−Ｚ−Ｓｉ−の繰り返し数と等しくなる。
【００３６】
例えば、下記にＲａ中においてＺ基を介してＳｉ原子が連結された一例を示す。
【化３】
2018150519.tif 000004
【００３７】
上記式において、＊は、主鎖のＳｉに結合する部位を意味し、…は、ＺＳｉ以外の所定の基が結合していること、即ち、Ｓｉ原子の３本の結合手がすべて…である場合、ＺＳｉの繰り返しの終了箇所を意味する。また、Ｓｉの右肩の数字は、＊から数えたＺ基を介して直鎖状に連結されたＳｉの出現数を意味する。即ち、Ｓｉ２でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は「Ｒａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が２個であり、同様に、Ｓｉ３、Ｓｉ４およびＳｉ５でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は、それぞれ、「Ｒａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が３、４および５個である。なお、上記の式から明らかなように、Ｒａ中には、ＺＳｉ鎖が複数存在するが、これらはすべて同じ長さである必要はなく、それぞれ任意の長さであってもよい。
【００３８】
好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。
【化４】
2018150519.tif 000005
【００３９】
一の態様において、Ｒａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。
【００４０】
式中、Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。
【００４１】
上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ２、−ＮＲ２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは−ＯＲ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。
【００４２】
好ましくは、Ｒ２は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。
【００４３】
式中、Ｒ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【００４４】
式中、ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、−Ｚ−ＳｉＲ１ｐＲ２ｑＲ３ｒ毎において、ｐ、ｑおよびｒの和は３である。
【００４５】
好ましい態様において、Ｒａ中の末端のＲａ’（Ｒａ’が存在しない場合、Ｒａ）において、上記ｑは、好ましくは２以上、例えば２または３であり、より好ましくは３である。
【００４６】
好ましい態様において、Ｒａは、末端部に、少なくとも１つの、−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲ２ｑＲ３ｒ）２または−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲ２ｑＲ３ｒ）３、好ましくは−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲ２ｑＲ３ｒ）３を有し得る。式中、（−Ｚ−ＳｉＲ２ｑＲ３ｒ）の単位は、好ましくは（−Ｚ−ＳｉＲ２３）である。さらに好ましい態様において、Ｒａの末端部は、すべて−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲ２ｑＲ３ｒ）３、好ましくは−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲ２３）３であり得る。
【００４７】
上記式（Ａ１）および（Ａ２）においては、少なくとも１のＲ２を有するＳｉが２個以上存在する。このような構成を有することにより、本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物は、基材表面等に良好に結合可能な表面処理層を形成し得る。
【００４８】
上記式中、Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。
【００４９】
上記Ｒｂは、好ましくは、水酸基、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ）２、−Ｎ（Ｒ）２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）であり、好ましくは−ＯＲである。Ｒは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。より好ましくは、Ｒｃは、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。
【００５０】
上記式中、Ｒｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【００５１】
式中、ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数である。ただし、−ＳｉＲａｋＲｂｌＲｃｍ毎において、ｋ、ｌおよびｍの和は、３である。ｋは、３であることが好ましい。
【００５２】
上記式（Ａ１）または式（Ａ２）で表されるＰＦＰＥ含有シラン化合物において、Ｒｆ−ＰＦＰＥ−部分の平均分子量は、特に限定されるものではないが、５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。
【００５３】
別の態様において、Ｒｆ−ＰＦＰＥ部分の数平均分子量は、５００〜３０，０００、好ましくは１，０００〜２０，０００、より好ましくは２，０００〜１５，０００である。
【００５４】
別の態様において、Ｒｆ−ＰＦＰＥ−部分または−ＰＦＰＥ−部分の数平均分子量は、４，０００〜３０，０００、好ましくは５，０００〜１０，０００であり得る。
【００５５】
上記式（Ａ１）または式（Ａ２）で表される本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０２〜１×１０５の平均分子量を有し得る。かかる範囲のなかでも、２，０００〜３０，０００、より好ましくは２，５００〜１２，０００の平均分子量を有することが、摩擦耐久性の観点から好ましい。なお、本発明において「平均分子量」は数平均分子量を言い、「平均分子量」は、１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。
【００５６】
好ましい態様において、式（Ａ１）または式（Ａ２）で表される本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物は、
Ｒｆが、炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基であり；
ＰＦＰＥが下記式（ａ）、（ｂ）または（ｃ）：
−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−    （ａ）
［式中、ｄは１以上２００以下の整数である。］
−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−    （ｂ）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり；
ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり；
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０以上２００以下の整数であり；
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
−（Ｒ６−Ｒ７）ｊ−    （ｃ）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
ｊは、２〜１００の整数である。］
であり；
Ｘが、炭素数２〜１０の、非置換の、直鎖状のアルキレン基であり；
Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ１ｐＲ２ｑＲ３ｒを表し；
Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
ｑが３であり；
ｋが３である。
【００５７】
上記式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物は、例えば、Ｒｆ−ＰＦＰＥ−部分に対応するパーフルオロポリエーテル誘導体を原料として、末端に水酸基を導入した後、末端に不飽和結合を有する基を導入し、この不飽和結合を有する基とハロゲン原子を有するシリル誘導体とを反応させ、さらにこのシリル基に末端に水酸基を導入し、導入した不飽和結合を有する基とシリル誘導体とを反応させることにより得ることができる。例えば、国際公開第２０１４／０６９５９２号に記載のように合成することができる。
【００５８】
次に、本発明の表面処理剤について説明する。
【００５９】
本発明の表面処理剤は、式（Ａ１）および／または式（Ａ２）で表される少なくとも１種のＰＦＰＥ含有シラン化合物を含有する。ＰＦＰＥ含有シラン化合物については、上記したとおりである。
【００６０】
本発明の表面処理剤は、撥水性、撥油性、防汚性、摩擦耐久性、耐ＵＶ性を基材に対して付与することができ、特に限定されるものではないが、防汚性コーティング剤として好適に使用され得る。
【００６１】
本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されていてもよい。このような溶媒としては、特に限定するものではないが、例えば：
パーフルオロヘキサン、ＣＦ３ＣＦ２ＣＨＣｌ２、ＣＦ３ＣＨ２ＣＦ２ＣＨ３、ＣＦ３ＣＨＦＣＨＦＣ２Ｆ５、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロオクタン、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（（ゼオローラＨ（商品名）等）、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５、ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ２、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ＝ＣＨ２、キシレンヘキサフルオリド、パーフルオロベンゼン、メチルペンタデカフルオロヘプチルケトン、トリフルオロエタノール、ペンタフルオロプロパノール、ヘキサフルオロイソプロパノール、ＨＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ、メチルトリフルオロメタンスルホネート、トリフルオロ酢酸およびＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２Ｏ）ｎ１ＣＦ２ＣＦ３［式中、ｍ１およびｎ１は、それぞれ独立して０以上１０００以下の整数であり、ｍ１またはｎ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、但しｍ１およびｎ１の和は１以上である。］、１，1−ジクロロ−２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン、１，２−ジクロロ−１，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン、１，２−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１，２−トリクロロ―３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロ−２−ブテンからなる群から選択されるフッ素原子含有溶媒等が挙げられる。
【００６２】
上記溶媒中に含まれる水分含有量は、質量換算で２０ｐｐｍ以下であることが好ましい。上記水分含有量は、カールフィッシャー法を用いて測定することができる。このような水分含有量であることによって、表面処理剤の保存安定性が向上し得る。
【００６３】
本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物を含む表面処理剤は、ＰＦＰＥ含有シラン化合物に加え、他の成分を含んでいてもよい。かかる他の成分としては、特に限定されるものではないが、例えば、他の表面処理化合物、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、アルコール、触媒、遷移金属、ハロゲン化物イオン、分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物などが挙げられる。
【００６４】
他の表面処理化合物としては、特に限定されないが、例えば、下記一般式（１Ａ）、（２Ａ）、（１Ｂ）、（２Ｂ）、（１Ｃ）、（２Ｃ）、（１Ｄ）および（２Ｄ）：
【化５】
2018150519.tif 000006
［式中：
ＰＦＰＥ３は、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１−（ＯＣＦ２）ｆ１−
（式中、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１およびｆ１は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１およびｆ１の和は少なくとも１であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１またはｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり；
Ｒｆ３は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ２４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
Ｒ２１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
Ｒ２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｎ３は、（−ＳｉＲ２３ｎ３Ｒ２４３−ｎ３）単位毎に独立して、０〜３の整数であり；
ただし、式（１Ａ）、（２Ａ）、（１Ｂ）および（２Ｂ）において、少なくとも１つのｎ３が、１〜３の整数であり；
Ｘ４は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
Ｘ５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表し；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１０の整数であり；
α１は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
α１’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ６は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
β１は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
β１’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ７は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
γ１は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
γ１’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒａ３は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ３−ＳｉＲ７１ｐ１Ｒ７２ｑ１Ｒ７３ｒ１を表し；
Ｚ３は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ３’を表し；
Ｒａ３’は、Ｒａ３と同意義であり；
Ｒａ３中、Ｚ３基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、式（１Ｃ）および（２Ｃ）において、少なくとも１つのｑ１が１〜３の整数であり；
Ｒｂ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒｃ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
Ｘ９は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
δ１は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
δ１’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒｄ３は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ４−ＣＲ８１ｐ２Ｒ８２ｑ２Ｒ８３ｒ２を表し；
Ｚ４は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ８１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｄ３’を表し；
Ｒｄ３’は、Ｒｄ３と同意義であり；
Ｒｄ３中、Ｚ４基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個であり；
Ｒ８２は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｙ−ＳｉＲ８５ｎ２Ｒ８６３−ｎ２を表し；
Ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基を表し；
Ｒ８５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ８６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｎ２は、（−Ｙ−ＳｉＲ８５ｎ２Ｒ８６３−ｎ２）単位毎に独立して、１〜３の整数を表し；
ただし、式（１Ｄ）および（２Ｄ）において、少なくとも１つのｎ２は１〜３の整数であり；
Ｒ８３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒｅ３は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｙ−ＳｉＲ８５ｎ２Ｒ８６３−ｎ２を表し；
Ｒｆ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、式（１Ｄ）および（２Ｄ）において、少なくとも１つのｑ２は２または３であるか、あるいは、少なくとも１つのｌ２は２または３である。］
のいずれかで表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物が挙げられる。
【００６５】
上記含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒｆ５−（ＯＣ４Ｆ８）ａ’−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ’−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ’−（ＯＣＦ２）ｄ’−Ｒｆ６      ・・・（３）
式中、Ｒｆ５は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ６は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ１−１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒｆ５およびＲｆ６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ１−３パーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１〜３００、より好ましくは２０〜３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ４Ｆ８）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ３Ｆ６）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ２Ｆ４）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−である。
【００６６】
上記一般式（３）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）および（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種または２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒｆ５−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ’’−Ｒｆ６                  ・・・（３ａ）
Ｒｆ５−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ａ’’−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ’’−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ’’−（ＯＣＦ２）ｄ’’−Ｒｆ６              ・・・（３ｂ）
これら式中、Ｒｆ５およびＲｆ６は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ’’およびｂ’’は、それぞれ独立して１以上３０以下の整数であり、ｃ’’およびｄ’’はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’、ｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
【００６７】
上記含フッ素オイルは、１，０００〜３０，０００の平均分子量を有していてよい。これにより、高い表面滑り性を得ることができる。
【００６８】
本発明の表面処理剤中、含フッ素オイルは、上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物１００質量部（それぞれ、２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜５００質量部、好ましくは０〜４００質量部、より好ましくは５〜３００質量部で含まれ得る。
【００６９】
一般式（３ａ）で示される化合物および一般式（３ｂ）で示される化合物は、それぞれ単独で用いても、組み合わせて用いてもよい。一般式（３ａ）で示される化合物よりも、一般式（３ｂ）で示される化合物を用いるほうが、より高い表面滑り性が得られるので好ましい。これらを組み合わせて用いる場合、一般式（３ａ）で表される化合物と、一般式（３ｂ）で表される化合物との質量比は、１：１〜１：３０が好ましく、１：１〜１：１０がより好ましい。かかる質量比によれば、表面滑り性と摩擦耐久性のバランスに優れた表面処理層を得ることができる。
【００７０】
一の態様において、含フッ素オイルは、一般式（３ｂ）で表される１種またはそれ以上の化合物を含む。かかる態様において、表面処理剤中の上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の合計と、式（３ｂ）で表される化合物との質量比は、１０：１〜１：１０が好ましく、さらに４：１〜１：４であることがより好ましい。
【００７１】
一の態様において、式（３ａ）で表される化合物の平均分子量は、２，０００〜８，０００であることが好ましい。
【００７２】
一の態様において、式（３ｂ）で表される化合物の平均分子量は、８，０００〜３０，０００であることが好ましい。
【００７３】
別の態様において、式（３ｂ）で表される化合物の平均分子量は、３，０００〜８，０００であることが好ましい。
【００７４】
好ましい態様において、真空蒸着法により表面処理層を形成する場合には、上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を大きくしてもよい。例えば、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の数平均分子量よりも、含フッ素オイルの数平均分子量を、２，０００以上、好ましくは３，０００以上、より好ましくは５，０００以上大きくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、より優れた摩擦耐久性と表面滑り性を得ることができる。
【００７５】
また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ’−Ｆ（式中、Ｒｆ’はＣ５−１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。Ｒｆ’−Ｆで表される化合物およびクロロトリフルオロエチレンオリゴマーは、ＲｆがＣ１−１６パーフルオロアルキル基である上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と高い親和性が得られる点で好ましい。
【００７６】
含フッ素オイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
【００７７】
上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。
【００７８】
本発明の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物および上記カルボン酸エステル化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜３００質量部、好ましくは０〜２００質量部で含まれ得る。
【００７９】
シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
【００８０】
上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。
【００８１】
触媒は、上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、表面処理層の形成を促進する。
【００８２】
上記遷移金属としては、白金、ルテニウム、ロジウム等が挙げられる。
【００８３】
上記ハロゲン化物イオンとしては、塩化物イオン等が挙げられる。
【００８４】
上記分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物は、窒素原子、酸素原子、リン原子および硫黄原子からなる群より選ばれる少なくとも１つの原子を含むことが好ましく、硫黄原子、または窒素原子を含むことがより好ましい。
【００８５】
上記分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物は、分子構造内に、アミノ基、アミド基、スルフィニル基、Ｐ＝Ｏ基、Ｓ＝Ｏ基およびスルホニル基からなる群より選ばれる少なくとも１つの官能基を含むことが好ましく、Ｐ＝Ｏ基およびＳ＝Ｏ基からなる群より選ばれる少なくとも１つの官能基を含むことがより好ましい。
【００８６】
上記分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物は、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン化合物、リン酸アミド化合物、アミド化合物、尿素化合物およびスルホキシド化合物からなる群より選ばれる少なくとも１つの化合物であることが好ましく、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン類、リン酸アミド、尿素化合物およびスルホキシド化合物からなる群より選ばれる少なくとも１つの化合物であることがより好ましく、スルホキシド化合物、脂肪族アミン化合物および芳香族アミン化合物からなる群より選ばれる少なくとも１つの化合物であることが特に好ましく、スルホキシド化合物であることがさらに好ましい。
【００８７】
上記脂肪族アミン化合物としては、例えば、ジエチルアミン、トリエチルアミン等を挙げることができる。上記芳香族アミン化合物としては、例えば、アニリン、ピリジン等を挙げることができる。上記リン酸アミド化合物としては、例えば、ヘキサメチルホスホルアミド等を挙げることができる。上記アミド化合物としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。上記尿素化合物としては、テトラメチル尿素等を挙げることができる。上記スルホキシド化合物としては、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、テトラメチレンスルホキシド、メチルフェニルスルホキシド、ジフェニルスルホキシド等を挙げることができる。これらの化合物の中で、ジメチルスルホキシド、またはテトラメチレンスルホキシドを用いることが好ましい。
【００８８】
他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。
【００８９】
他の成分としては、上記以外に、例えば、炭素数１〜６のアルコール化合物が挙げられる。
【００９０】
本発明の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。
【００９１】
本発明の表面処理剤は、撥水性、撥油性、防汚性、防水性、高い摩擦耐久性および耐ＵＶ性を基材に対して付与することができることから、表面処理剤として好適に使用される。具体的には、本発明の表面処理剤は、特に限定されるものではないが、防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として好適に使用され得る。
【００９２】
次に、本発明の物品について説明する。
【００９３】
本発明の物品は、基材と、該基材の表面に本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物または表面処理剤（以下、これらを代表して単に「本発明の表面処理剤」と言う）より形成された層（表面処理層）とを含む。この物品は、例えば以下のようにして製造できる。
【００９４】
まず、基材を準備する。本発明に使用可能な基材は、例えばガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属（アルミニウム、銅、鉄等の金属単体または合金等の複合体であってよい）、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。
【００９５】
上記ガラスとしては、サファイアガラス、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、および化学結合したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。
樹脂としては、アクリル樹脂、ポリカーボネートが好ましい。
【００９６】
例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ２、ＳｉＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＴｉＯ、Ｔｉ２Ｏ３、Ｔｉ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＣｅＯ２、ＭｇＯ、Ｙ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｇＦ２、ＷＯ３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ−ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。
【００９７】
基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。
【００９８】
かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素−炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア−ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。
【００９９】
またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ−Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。
【０１００】
次に、かかる基材の表面に、上記の本発明の表面処理剤の膜を形成し、この膜を必要に応じて後処理し、これにより、本発明の表面処理剤から表面処理層を形成する。
【０１０１】
本発明の表面処理剤の膜形成は、本発明の表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。
【０１０２】
湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。
【０１０３】
乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ−ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。
【０１０４】
更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。
【０１０５】
湿潤被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本発明の表面処理剤の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：Ｃ５−１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ−６０００）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）（例えば、１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン（ＨＦＣ−３６５ｍｆｃ））；ハイドロクロロフルオロカーボン（例えば、ＨＣＦＣ−２２５（アサヒクリン（登録商標）ＡＫ２２５））；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ３Ｆ７ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ−３０００））、１，２−ジクロロ−１，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン（例えば、三井・デュポンフロロケミカル社製のバートレル（登録商標）サイオン）など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上を組み合わせて混合物として用いることができる。さらに、例えば、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の溶解性を調整する等のために、別の溶媒と混合することもできる。
【０１０６】
乾燥被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。
【０１０７】
膜形成は、膜中で本発明の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本発明の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本発明の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本発明の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本発明の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。
【０１０８】
触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。
【０１０９】
次に、必要に応じて、膜を後処理する。この後処理は、特に限定されないが、例えば、水分供給および乾燥加熱を逐次的に実施するものであってよく、より詳細には、以下のようにして実施してよい。
【０１１０】
上記のようにして基材表面に本発明の表面処理剤を膜形成した後、この膜（以下、「前駆体膜」とも言う）に水分を供給する。水分の供給方法は、特に限定されず、例えば、前駆体膜（および基材）と周囲雰囲気との温度差による結露や、水蒸気（スチーム）の吹付けなどの方法を使用してよい。
【０１１１】
水分の供給は、例えば０〜２５０℃、好ましくは６０℃以上、さらに好ましくは１００℃以上とし、好ましくは１８０℃以下、さらに好ましくは１５０℃以下の雰囲気下にて実施し得る。このような温度範囲において水分を供給することにより、加水分解を進行させることが可能である。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。
【０１１２】
次に、該前駆体膜を該基材の表面で、６０℃を超える乾燥雰囲気下にて加熱する。乾燥加熱方法は、特に限定されず、前駆体膜を基材と共に、６０℃を超え、好ましくは１００℃を超える温度であって、例えば２５０℃以下、好ましくは１８０℃以下の温度で、かつ不飽和水蒸気圧の雰囲気下に配置すればよい。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。
【０１１３】
このような雰囲気下では、本発明のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物間では、加水分解後のＳｉに結合した基同士が速やかに脱水縮合する。また、かかる化合物と基材との間では、当該化合物の加水分解後のＳｉに結合した基と、基材表面に存在する反応性基との間で速やかに反応し、基材表面に存在する反応性基が水酸基である場合には脱水縮合する。その結果、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と基材との間で結合が形成される。
【０１１４】
上記の水分供給および乾燥加熱は、過熱水蒸気を用いることにより連続的に実施してもよい。
【０１１５】
以上のようにして後処理が実施され得る。かかる後処理は、摩擦耐久性を一層向上させるために実施され得るが、本発明の物品を製造するのに必須でないことに留意されたい。例えば、本発明の表面処理剤を基材表面に適用した後、そのまま静置しておくだけでもよい。
【０１１６】
上記のようにして、基材の表面に、本発明の表面処理剤の膜に由来する表面処理層が形成され、本発明の物品が製造される。これにより得られる表面処理層は、良好な耐ＵＶ性を有する。また、この表面処理層は、良好な耐ＵＶ性に加えて、使用する組成物の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）、高い摩擦耐久性などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。
【０１１７】
すなわち本発明はさらに、前記硬化物（表面処理層）を最外層に有する光学材料にも関する。
【０１１８】
光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例、ＴＶ、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイまたはそれらのディスプレイの保護板、またはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。
【０１１９】
本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバーなど。
【０１２０】
また、本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、医療機器または医療材料であってもよい。
【０１２１】
また、本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、車載用の部品であってもよい。
【０１２２】
表面処理層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、表面処理層の厚さは、１〜５０ｎｍ、より好ましくは１〜３０ｎｍ、特に好ましくは１〜１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。
【０１２３】
別の形態としては、基材の表面に別途層を形成した後、その層の表面に本発明によって得られる表面処理層の膜を形成してもよい。
【０１２４】
以上、本発明の表面処理剤を使用して得られる物品について詳述した。なお、本発明の表面処理剤の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。
【実施例】
【０１２５】
本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物について、以下の実施例を通じてより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【０１２６】
（合成例１）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、平均組成ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２０ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２で表されるパーフルオロポリエーテル変性アリル体１０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１０ｇ、トリクロロシラン０．７ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０５ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）９ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）：
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2CH2CH2SiCl3
【０１２７】
（合成例２）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例１にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ａ）９ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１５ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、アリルマグネシウムブロマイドを０．７ｍｏｌ／Ｌ含むジエチルエーテル溶液を１４ｍｌ加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて１０時間撹拌した。その後、５℃まで冷却し、メタノールを３ｍｌ加えた後、パーフルオロヘキサンを加えて、３０分攪拌し、その後、分液ロートでパーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｂ）１０ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｂ）：
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH=CH2)3
【０１２８】
（合成例３）
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例２にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｂ）１０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１５ｇ、トリクロロシラン３．１５ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて２時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｃ）１１ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｃ）：
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH2CH2SiCl3)3
【０１２９】
（合成例４）
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例３にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｃ）１１ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１５ｇを加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノール０．３０ｇとオルソギ酸トリメチル５．４ｇの混合溶液を加えた後、５５℃まで昇温させ、この温度にて２時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｄ）１１ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｄ）：
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2CH2CH2Si[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
【０１３０】
（合成例５）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、平均組成ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２０（ＣＦ２Ｏ）１６ＣＦ２ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２で表されるパーフルオロポリエーテル変性アリル体１０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１４ｇ、トリクロロシラン１．１ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０８ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて４時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｅ）１０．１ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｅ）：
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2SiCl3
【０１３１】
（合成例６）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例５にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｅ）１０．１ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１４ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、アリルマグネシウムクロライドを１ｍｏｌ／Ｌ含むテトラヒドロフラン溶液を１５．７ｍｌ加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて１２時間撹拌した。その後、５℃まで冷却し、メタノールを４．６ｍｌ加えた後、パーフルオロヘキサン２０ｇを加えて、３０分撹拌し、その後、分液ロートでパーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｆ）１０．３ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｆ）：
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH=CH2)3
【０１３２】
（合成例７）
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例６にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｆ）５．５ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン８ｇ、トリクロロシラン１．２ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０６ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて２時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｇ）５．６ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｇ）：
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH2CH2SiCl3)3
【０１３３】
（合成例８）
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例７にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｇ）５．６ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン９ｇを加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノール０．２ｇとオルソギ酸トリメチル５．８ｇの混合溶液を加えた後、５５℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｈ）５．７ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｈ）：
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
【０１３４】
（合成例９）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例１にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）９ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１５ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、ビニルマグネシウムクロライドを１．６ｍｏｌ／Ｌ含むテトラヒドロフラン溶液を１０ｍｌ加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて１０時間撹拌した。その後、５℃まで冷却し、メタノールを５ｍｌ加えた後、パーフルオロヘキサンを加えて、３０分攪拌し、その後、分液ロートでパーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にビニル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有ビニル体（Ｉ）９．１ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有ビニル体（Ｉ）：
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2CH2CH2Si(CH=CH2)3
【０１３５】
（合成例１０）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例９にて合成した末端にビニル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有ビニル体（Ｉ）９．１ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１２ｇ、トリクロロシラン３．０ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｊ）９．２ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｊ）：
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH2SiCl3)3
【０１３６】
（合成例１１）
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例１０にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｊ）９．２ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１２ｇを加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノール０．４０ｇとオルソギ酸トリメチル１３．２ｇの混合溶液を加えた後、５５℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｋ）９．３ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｋ）：
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2CH2CH2Si[CH2CH2Si(OCH3)3]3
【０１３７】
（合成例１２）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例５にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｅ）１０．１ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１２ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、ビニルマグネシウムクロライドを１．６ｍｏｌ／Ｌ含むテトラヒドロフラン溶液を９．５ｍｌ加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて１２時間撹拌した。その後、５℃まで冷却し、メタノールを６ｍｌ加えた後、パーフルオロヘキサン２０ｇを加えて、３０分撹拌し、その後、分液ロートでパーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にビニル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有ビニル体（Ｌ）１０．２ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有ビニル体（Ｌ）：
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si(CH=CH2)3
【０１３８】
（合成例１３）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例１２にて合成した末端にビニル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有ビニル体（Ｌ）６．０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン９ｇ、トリクロロシラン１．５ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０６ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて２時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｍ）６．１ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｍ）：
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH2SiCl3)3
【０１３９】
（合成例１４）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例１３にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｍ）６．１ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン９ｇを加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノール０．２５ｇとオルソギ酸トリメチル８．３ｇの混合溶液を加えた後、５５℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｎ）６．２ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｎ）：
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si[CH2CH2Si(OCH3)3]3
【０１４０】
（合成例１５）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例５にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｅ）１０．０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１２ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、ブテニルマグネシウムブロマイドを１．０ｍｏｌ／Ｌ含むテトラヒドロフラン溶液を１６．５ｍｌ加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて１２時間撹拌した。その後、５℃まで冷却し、メタノールを６ｍｌ加えた後、パーフルオロヘキサン２０ｇを加えて、３０分撹拌し、その後、分液ロートでパーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にブテニル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有ブテニル体（Ｏ）１０．１ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有ブテニル体（Ｏ）：
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH2CH=CH2)3
【０１４１】
（合成例１６）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例１５にて合成した末端にブテニル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有ブテニル体（Ｏ）６．０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン９ｇ、トリクロロシラン１．５ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０６ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて２時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｐ）６．１ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｐ）：
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH2CH2CH2SiCl3)3
【０１４２】
（合成例１７）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例１６にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｐ）６．１ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン９ｇを加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノール０．２５ｇとオルソギ酸トリメチル８．３ｇの混合溶液を加えた後、５５℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｑ）６．２ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｑ）：
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si[CH2CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
【０１４３】
（合成例１８）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例５にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｅ）１０．０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１２ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、ヘキセニルマグネシウムブロマイドを１．０ｍｏｌ／Ｌ含むテトラヒドロフラン溶液を１６．５ｍｌ加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて１２時間撹拌した。その後、５℃まで冷却し、メタノールを６ｍｌ加えた後、パーフルオロヘキサン２０ｇを加えて、３０分撹拌し、その後、分液ロートでパーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にヘキセニル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有ヘキセニル体（Ｒ）１０．１ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有ヘキセニル体（Ｒ）：
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH2CH2CH2CH=CH2)3
【０１４４】
（合成例１９）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例１８にて合成した末端にヘキセニル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有ヘキセニル体（Ｒ）６．０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン９ｇ、トリクロロシラン１．５ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０６ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて２時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｓ）６．１ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｓ）：
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH2CH2CH2CH2CH2SiCl3)3
【０１４５】
（合成例２０）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例１９にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｓ）６．１ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン９ｇを加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノール０．２５ｇとオルソギ酸トリメチル８．３ｇの混合溶液を加えた後、５５℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｔ）６．２ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｔ）：
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si[CH2CH2CH2CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
【０１４６】
（合成例２１）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、平均組成ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２１（ＣＦ２Ｏ）２９ＣＦ２ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２で表されるパーフルオロポリエーテル変性アリル体１３ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１５．６ｇ、トリクロロシラン１．３ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１０ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて４時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｕ）１３．２ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｕ）：
CF3O(CF2CF2O)21(CF2O)29CF2CH2CH2CH2SiCl3
【０１４７】
（合成例２２）
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例２１にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｕ）１３．２ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１５．６ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、アリルマグネシウムクロライドを１ｍｏｌ／Ｌ含むテトラヒドロフラン溶液を１７．８ｍｌ加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて１２時間撹拌した。その後、５℃まで冷却し、メタノールを７．１ｍｌ加えた後、パーフルオロヘキサン３０ｇを加えて、３０分撹拌し、その後、分液ロートでパーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｖ）１３．０ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｖ）：
CF3O(CF2CF2O)21(CF2O)29CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH=CH2)3
【０１４８】
（合成例２３）
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例２２にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｖ）１２．５ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１７．３ｇ、トリクロロシラン２．５ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１７ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて２時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｗ）１２．６ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｗ）：
CF3O(CF2CF2O)21(CF2O)29CF2CH2CH2CH2Si(CH2CH2CH2SiCl3)3
【０１４９】
（合成例２４）
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例２３にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｗ）１２．６ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１７ｇを加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノール０．４ｇとオルソギ酸トリメチル１３．３ｇの混合溶液を加えた後、５５℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｘ）１２．７ｇを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｘ）：
CF3O(CF2CF2O)21(CF2O)29CF2CH2CH2CH2Si[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
【０１５０】
（実施例１）
上記合成例４で得た化合物（Ｄ）を、濃度２０ｗｔ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させて、表面処理剤１を調製した。
【０１５１】
上記で調製した表面処理剤１を化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。真空蒸着の処理条件は、圧力３．０×１０−３Ｐａとし、まず、二酸化ケイ素を７ｎｍの厚さで、この化学強化ガラスの表面に蒸着させて二酸化ケイ素膜を形成し、続いて、化学強化ガラス１枚（５５ｍｍ×１００ｍｍ）あたり、表面処理剤２ｍｇ（即ち、化合物（Ｄ）を０．４ｍｇ含有）を蒸着させた。その後、蒸着膜付き化学強化ガラスを、温度２０℃および湿度６５％の雰囲気下で２４時間静置した。これにより、蒸着膜が硬化して、表面処理層が形成された。
【０１５２】
（実施例２）
化合物（Ｄ）に代えて、化合物（Ｈ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
【０１５３】
（実施例３〜４）
化合物（Ｄ）に代えて、化合物（Ｋ）または化合物（Ｎ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
【０１５４】
（実施例５〜６）
化合物（Ｄ）に代えて、化合物（Ｑ）または化合物（Ｔ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
【０１５５】
（実施例７）
化合物（Ｄ）に代えて、化合物（Ｘ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
【０１５６】
（比較例１）
化合物（Ｄ）に代えて、下記対照化合物１を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
・対照化合物１ 
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2OCH2CH2CH2Si[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
【０１５７】
（比較例２）
化合物（Ｄ）に代えて、下記対照化合物２を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
・対照化合物２ 
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2OCH2CH2CH2Si[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
【０１５８】
（耐ＵＶ性評価）
上記の実施例および比較例にて形成された表面処理層について、ＵＶ照射前後の水の静的接触角をそれぞれ測定した。ＵＶ照射は、ＵＶＢ−３１３ランプ（Ｑ−Ｌａｂ社製、３１０ｎｍにおいて放射照度０．６３Ｗ／ｍ２）を用い、ランプと表面処理層との距離を５ｃｍとして行った。水の静的接触角の測定は、接触角測定装置（協和界面科学社製）を用いて、水１μＬにて実施した。
【０１５９】
まず、初期評価として、表面処理層形成後、ＵＶ照射前に水の静的接触角を測定した（ＵＶ照射時間０時間）。その後、所定の時間ＵＶを照射した後の表面処理層について、水の静的接触角をそれぞれ測定した。評価は、累積照射時間９６時間まで行った。結果を表１に示す。
【０１６０】
【表１】
2018150519.tif 000007
【０１６１】
（摩擦耐久性の評価）
上記の実施例１〜７および比較例１〜２で形成された表面処理層について、実使用耐久性の評価として、以下に示す摩擦耐久試験を実施した。
【０１６２】
初期評価として、表面処理層形成後、その表面に未だ何も触れていない状態で、水の静的接触角を測定した（摩擦回数  ゼロ回）。
【０１６３】
その後、表面処理層を形成したサンプル物品を水平配置し、以下の摩擦子を表面処理層の表面に接触（接触面は直径１ｃｍの円）させ、その上に５Ｎの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態で摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で往復させた。摩擦子を最大４０００回往復させ、往復回数（摩擦回数）１０００回毎に水の静的接触角（度）を測定した。水の静的接触角の測定値が６０度未満となった時点で試験を中止した。なお、水の静的接触角の測定方法は、上記の耐ＵＶ性評価と同様に行った。結果を表２に示す（表中、記号「−」は測定せず）。
・摩擦子
下記に示すシリコーンゴム加工品の表面（直径１ｃｍ）を、下記に示す組成の人工汗を浸漬したコットンで覆ったものを摩擦子として用いた。
・人工汗の組成
無水リン酸水素二ナトリウム：２ｇ
塩化ナトリウム：２０ｇ
８５％乳酸：２ｇ
ヒスチジン塩酸塩：５ｇ
蒸留水：１Ｋｇ
・シリコーンゴム加工品
タイガースポリマー製、シリコーンゴム栓ＳＲ−５１を、直径１ｃｍ、厚さ１ｃｍの円柱状に加工したもの。
【０１６４】
【表２】
2018150519.tif 000008
【０１６５】
表１の結果から理解されるように、実施例１〜７の表面処理層では、比較例１および２の表面処理層と比べて、ＵＶの照射に伴う接触角の低下が抑制された。これは、実施例１〜７で形成された表面処理層では、ＵＶ照射に起因する表面処理層の分解が抑制されているためと思われる。すなわち、アルキレン基のみからなるリンカーを有する本発明のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を用いると、形成される表面処理層の耐ＵＶ性が向上することが確認された。
【０１６６】
表２の結果から理解されるように、実施例１〜７の表面処理層は、接触角の低下が抑制され、優れた摩擦耐久性を有することが確認された。これは、実施例１〜７の表面処理層のケミカルによる劣化が抑制されており、更に、表面処理剤がリンカー（すなわち、Ｘ）としてアルキレン基を有する影響でＰＦＰＥ鎖が密に配向され、表面処理層の耐摩擦性が向上したためと思われる。すなわち、アルキレン基のみからなるリンカーを有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を用いると、形成される表面処理層の耐ケミカル性と耐摩耗性とが向上することが確認された。
【０１６７】
実施例２の表面処理剤に含まれる化合物（Ｈ）のｅ／ｆ比は１．２５であり、実施例７の表面処理剤に含まれる化合物（Ｘ）のｅ／ｆ比は０．７２である。実施例７の表面処理剤では、化合物（Ｘ）に含まれる（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ユニットの含有量が（ＣＦ２Ｏ）ユニットの含有量より少ないため、形成された表面処理層が滑りやすくなり、摩擦耐久性が更に向上したと考えられる。
【産業上の利用可能性】
【０１６８】
本発明は、種々多様な基材、特に透過性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。