(57)【要約】【課題】塗布装置を取り巻く温度変化の影響により、塗布器とビーム部とがそれぞれ異なる変形量で変形した場合であっても、塗布膜を均一に形成することができる塗布装置を提供する。【解決手段】基板を載置するステージと、前記ステージに載置された基板に対し塗布液を吐出する塗布ユニットと、を備え、前記基板と前記塗布ユニットとを相対的に移動させつつ、前記塗布ユニットから塗布液を吐出させることにより基板上に塗布膜を形成する塗布装置であって、前記塗布ユニットは、一方向に延びる形状を有し塗布液が吐出される塗布器と、一方向に延びる形状を有し前記塗布器を支持するビーム部とを有しており、前記塗布器と前記ビーム部とは、それぞれ互いに長手方向に沿って並んで配置されており、かつ、これらが長手方向に相対的に変位するのを許容する連結部によって連結する構成とする。【選択図】図２
2018130660.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を載置するステージと、
前記ステージに載置された基板に対し塗布液を吐出する塗布ユニットと、
を備え、前記基板と前記塗布ユニットとを相対的に移動させつつ、前記塗布ユニットから塗布液を吐出させることにより基板上に塗布膜を形成する塗布装置であって、
前記塗布ユニットは、一方向に延びる形状を有し塗布液が吐出される塗布器と、一方向に延びる形状を有し前記塗布器を支持するビーム部とを有しており、
前記塗布器と前記ビーム部とは、それぞれ互いに対向する状態でほぼ平行に配置されており、かつ、これらが長手方向に相対的に変位するのを許容する連結部によって連結されていることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記連結部は、前記塗布器と前記ビーム部とは別体に形成されたガイド部材であり、このガイド部材により塗布器及びビーム部それぞれの長手方向に変位するのが許容されることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記塗布器と前記ビーム部とが互いに固定される基準固定部を有しており、前記基準固定部は、前記塗布器及び前記ビーム部の長手方向中央位置に設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記塗布ユニットは、前記塗布器の長手方向に沿って延びるステー部を有しており、前記ステー部は、前記塗布器が塗布動作の際に移動する塗布方向に並べて配置され、前記ステー部と前記塗布器は、前記塗布器が長手方向に相対的に変位することが許容され、前記塗布器が塗布方向に相対的に変位することが制限される振動抑制保持部で連結されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布液を吐出する塗布ユニットと基板とを相対的に移動させて、基板上に塗布膜を形成する塗布装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイには、ガラス等の基板上にレジスト液等の塗布液が塗布されたもの（塗布基板という）が使用されている。この塗布基板は、塗布膜が均一に形成されている必要があり、塗布液を均一に塗布する塗布装置によって形成されている。このような塗布装置は、基板を載置するステージと、塗布液を吐出する塗布ユニットとを有しており、塗布ユニットの塗布器から塗布液を吐出させながら、基板と塗布ユニットとを相対的に移動させることにより、基板上に塗布膜が形成されるようになっている。
【０００３】
ここで、図６は、従来の塗布器１００とビーム部１０１を示す図である。塗布ユニットの塗布器は、一方向に延びる長尺物であるため、少なからず撓みが生じる虞がある。仮に撓みが生じている場合には、端部と中央部分とでは基板との高さ寸法に差が生じていることにより、塗布膜の均一性が損なわれ塗布品質を下げてしまう結果となる。そのため、図６（ａ）に示すように、塗布器１００は、一方向に延びるビーム部１０１（ノズル支持部）にボルト１０２等により強固に連結固定されることにより、塗布器１００の撓みの影響を軽減させ、塗布器１００と基板１０との高さ寸法が長手方向に亘って一定（＝ｔ）に保たれている。これにより、塗布器１００から塗布液を吐出することにより、塗布液と基板１０との吐出状態が塗布器１００の長手方向に亘って均一になり、均一厚さの塗布膜が形成されるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−１４４３７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、上記塗布装置では、塗布膜が均一厚さに形成されない虞があるという問題があった。すなわち、塗布装置を稼働させて塗布基板を生産すると、外気温の影響や塗布装置自身が発する熱などにより、時間が経つにつれて塗布装置を取り巻く周囲の温度が変化する。それにともなって、塗布器１００やビーム部１０１も周囲の温度の影響を受け、塗布器１００とビーム部１０１は、それぞれ熱膨張することにより、特に長手方向に大きく変形する。ところが、塗布器１００は、内部に塗布液を貯留できる部分を有しているがほぼ中実に近い構造である一方で、ビーム部１０１は、中空に形成されていることから、塗布器１００とビーム部１０１とは、熱による変形の割合がそれぞれ異なっている。すなわち、塗布器１００は、ビーム部１０１に比べて熱容量が大きいため、熱の影響による変形量が小さい。しかしながら、塗布器１００とビーム部１０１とは、塗布品質を維持するためにボルト１０２で強固に固定されている。その結果、それぞれが熱の影響を受けて変形すると、塗布器１００の変形量は、ビーム部１０１の変形量に比べて小さいため、塗布器１００がビーム部１０１によりその長手方向に引張られることにより、塗布器１００が撓み変形を生じる（図６（ｂ））。したがって、塗布装置を稼働させる時間の経過とともに塗布装置を取り巻く温度の変化が生じると塗布器１００とビーム部１０１とが熱の影響で変形することにより、塗布器１００と基板１０との高さ方向寸法が、長手方向中央部（ｔ２）と端部（ｔ１）とで差が生じ、塗布膜を均一に形成することが困難であるという問題があった。
【０００６】
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、塗布装置を取り巻く温度変化の影響により、塗布器とビーム部とがそれぞれ異なる変形量で変形した場合であっても、塗布膜を均一に形成することができる塗布装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために本発明の塗布装置は、基板を載置するステージと、前記ステージに載置された基板に対し塗布液を吐出する塗布ユニットと、を備え、前記基板と前記塗布ユニットとを相対的に移動させつつ、前記塗布ユニットから塗布液を吐出させることにより基板上に塗布膜を形成する塗布装置であって、前記塗布ユニットは、一方向に延びる形状を有し塗布液が吐出される塗布器と、一方向に延びる形状を有し前記塗布器を支持するビーム部とを有しており、前記塗布器と前記ビーム部とは、それぞれ互いに対向する状態でほぼ平行に配置されており、かつ、これらが長手方向に相対的に変位するのを許容する連結部によって連結されていることを特徴としている。
【０００８】
上記塗布装置によれば、上記塗布器と上記ビーム部とがそれぞれ長手方向に相対的に変位するのを許容する上記連結部により連結されているため、塗布装置を取り巻く温度の変化が生じることにより上記塗布器と上記ビーム部とが温度変化による変形を生じた場合であっても、塗布膜を均一に形成することができる。具体的には、塗布装置を取り巻く温度が上昇すると、上記塗布器と上記ビーム部とはそれぞれ熱膨張する。すなわち、上記塗布器は、上記ビーム部に比べて熱容量が大きいため、上記ビーム部の方が上記塗布器に比べて長手方向に大きく変形する。しかし、上記塗布器と上記ビーム部とが上記連結部で連結されているため、上記ビーム部が上記塗布器に比べて大きく変形するのが許容され、ビーム部は、塗布器の変形に関わらず自由に長手方向に変形することができる。すなわち、ビーム部が塗布器より変形量に差が生じても、連結部によりビーム部と塗布器との長手方向への変位が許容されるため、ビーム部材の変形が塗布器に歪みとして影響するのを抑えることができる。これにより、ビーム部と塗布器との変形量の差が生じた場合であっても、従来のように、ビーム部と塗布器とが固定されることにより連結される構造に比べて、変形量の差から生じる塗布器の撓み変形を抑えることができる。したがって、塗布器が撓み変形することにより塗布器と基板との距離が不均一になるのを長手方向に亘って抑えることができるため、塗布膜を均一に形成することができる。
【０００９】
また、前記連結部は、前記塗布器と前記ビーム部とは別体に形成されたガイド部材であり、このガイド部材が塗布器及びビーム部それぞれの長手方向に変位する構成としてもよい。
【００１０】
この構成によれば、連結部材としてＬＭガイドを使用し、容易に構成することができる。
【００１１】
また、前記塗布器と前記ビーム部とが互いに固定される基準固定部を有しており、前記基準固定部は、前記塗布器及び前記ビーム部の長手方向中央位置に設けられている構成としてもよい。
【００１２】
この構成によれば、連結部材で連結される塗布器とビーム部とが基準固定部で固定されるため、熱膨張の影響により塗布器とビーム部とに変位量に差が生じても、長手方向にずれることがなく、長手方向における基準位置を維持することができる。また、基準固定部が長手方向中央位置に設けられていることにより、熱膨張の影響による基板と塗布器との相対位置関係のずれを最小限に抑えることができる。
【００１３】
また、前記塗布ユニットは、前記塗布器の長手方向に沿って延びるステー部を有しており、前記ステー部は、前記塗布器が塗布動作の際に移動する塗布方向に並べて配置され、前記ステー部と前記塗布器は、前記塗布器が長手方向に相対的に変位することが許容され、前記塗布器が塗布方向に相対的に変位することが制限される振動抑制保持部で連結されている構成としてもよい。
【００１４】
この構成によれば、塗布方向から塗布器に沿って配置されるステー部と、塗布器とが振動抑制保持部で連結されるため、塗布動作の際、塗布方向への移動に伴って塗布器に発生する振動を抑えることができる。すなわち、塗布器とビーム部とが上述の連結部により連結されると、塗布器とビーム部とが完全に固定される場合に比べて拘束力が低下する。そのため、塗布動作の際の塗布方向への移動に伴って塗布器に振動が発生しやすくなるが、ステー部と、塗布器とが前記塗布器が長手方向に相対的に変位することが許容され、前記塗布器が塗布方向に相対的に変位することが制限される振動抑制保持部で連結されることにより塗布器に発生する振動を効果的に抑えることができる。なお、塗布器とステー部とは、長手方向に相対的変位が許容される状態で連結されるため、連結部による長手方向の変位を妨げることなく、振動を抑えることができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の塗布装置によれば、塗布装置を取り巻く温度変化の影響により、塗布器とビーム部とがそれぞれ異なる変形量で変形した場合であっても、塗布膜を均一に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の塗布装置を示す斜視図である。
【図２】塗布ユニットの脚部付近を示す図である。
【図３】塗布ユニットの要部を側面側から見た概略図である。
【図４】塗布器とビーム部を塗布方向側から見た概略図であり、（ａ）は熱の影響を受ける前の状態を示す図であり、（ｂ）は熱の影響を受けた後の状態を示す図である。
【図５】塗布器とステー部を上側から見た概略図であり、（ａ）は熱の影響を受ける前の状態を示す図であり、（ｂ）は熱の影響を受けた後の状態を示す図である。
【図６】従来の塗布器とビーム部を塗布方向側から見た概略図であり、（ａ）は熱の影響を受ける前状態を示す図であり、（ｂ）は熱の影響を受けた後の状態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
次に、本発明の塗布装置について詳細に説明する。図１は、本発明の一実施形態における塗布装置を概略的に示す斜視図であり、図２は、塗布ユニットの脚部付近を示す図であり、図３は、塗布ユニットの要部を側面側から見た概略図である。
【００１８】
図１〜図３に示すように、塗布装置は、基板１０上に薬液やレジスト液等の液状物（以下、塗布液と称す）の塗布膜を形成するものであり、基台２と、基板１０を載置するためのステージ２１と、このステージ２１に対し特定方向に移動可能に構成される塗布ユニット３０とを備えている。
【００１９】
なお、以下の説明では、塗布ユニット３０が移動する方向（塗布方向）をＸ軸方向、これと水平面上で直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸およびＹ軸方向の双方に直交する方向をＺ軸方向として説明を進めることとする。
【００２０】
前記基台２には、その中央部分にステージ２１が配置されている。このステージ２１は、搬入された基板１０を載置するものである。このステージ２１には、基板保持手段が設けられており、この基板保持手段により基板１０が保持されるようになっている。具体的には、ステージ２１の表面には、複数の吸引孔が形成されており、この吸引孔に吸引力を発生させることにより基板１０をステージ２１の表面に吸着させて保持できるようになっている。
【００２１】
また、ステージ２１には、基板１０を昇降動作させる基板昇降機構が設けられている。具体的には、ステージ２１の表面には上記吸引孔とは別に複数のピン孔が形成されており、このピン孔にはＺ軸方向に昇降動作可能なリフトピン（不図示）が埋設されている。すなわち、ステージ２１の表面からリフトピンを突出させた状態で基板１０が搬入されるとリフトピンの先端部分に基板１０を当接させて基板１０を保持することができる。そして、その状態からリフトピンを下降させてピン孔に収容させることにより、基板１０をステージ２１の表面に載置することができるようになっている。
【００２２】
また、塗布ユニット３０は、基板１０上に塗布液を吐出するものである。具体的には、後述する塗布器３４から塗布液を吐出することにより、基板１０上に均一厚さの塗布膜が形成できるようになっている。すなわち、基板１０に所定量の塗布液を吐出し、基板１０と塗布器３４のスリットノズル３４ａとが塗布液で連結される状態を形成し、その後、塗布器３４を一定速度で走行させることにより、基板１０上に一定膜厚の塗布膜を形成することができる。
【００２３】
この塗布ユニット３０は、図２、図３に示すように、脚部３１と塗布器３４を支持するビーム部３９を有しており、これらが門型形状を有するように基台２に取付けられている。すなわち、両脚部３１にビーム部３９がステージ２１をＹ軸方向に跨ぐ状態で取付けられている。そして、脚部３１は、Ｘ軸方向に移動可能に取り付けられており、脚部３１が移動することにより、ビーム部３９がステージ２１上を走査できるようになっている。具体的には、基台２のＹ軸方向両端部分にはそれぞれＸ軸方向に延びるレール２２が設置されており、脚部３１がこのレール２２にスライド自在に取り付けられている。そして、脚部３１にはリニアモータ３３が取り付けられており、このリニアモータ３３を駆動制御することにより、ビーム部３９は塗布器３４がステージ２１と対向する状態でＸ軸方向に移動し、任意の位置で停止できるようになっている。なお、塗布装置には、リニアモータやサーボモータなどの駆動装置を統括的に制御する制御装置を有しており、これらの駆動装置が制御装置を通じて駆動制御されるようになっている。
【００２４】
また、ビーム部３９は、塗布器３４が撓み変形を生じるのを抑えることにより、塗布器３４のスリットと基板との距離が長手方向において一定となるように支持するものである。このビーム部３９は、塗布器３４に対して互いに対向する状態でほぼ平行に配置されて連結されている。具体的には、ビーム部３９と塗布器３４との間には、基準固定部４２（図４、図５参照）と、連結部４０が配置されており、後述するようにこれら基準固定部４２と連結部４０とによって塗布器３４が水平な姿勢を維持する状態で連結されている。そして、このビーム部３９は、金属製の角パイプ形状で形成されており、塗布器３４を一方向に延びる姿勢を維持するのに十分な支持強度を有しつつ、軽量化が図られている。
【００２５】
また、ビーム部３９の長手方向端部は、Ｙ軸方向両端部に配置された両脚部３１にそれぞれ取付けられており、取付けられた状態では塗布器３４が長手方向に亘って同一高さとなるように配置されている。すなわち、ビーム部３９に支持される塗布器３４とステージ２１との距離が長手方向に亘って同一になるように配置されている。
【００２６】
また、ビーム部３９は、脚部３１に昇降動作可能に取付けられている。具体的には、この脚部３１にはＺ軸方向に延びるレール３７と、このレール３７に沿ってスライドするスライダ３５が設けられており、これらのスライダ３５とビーム部３９とが連結されている。そして、スライダ３５にはサーボモータにより駆動されるボールねじ機構が取り付けられており、このサーボモータを駆動制御することにより、スライダ３５がＺ軸方向に移動するとともに、任意の位置で停止できるようになっている。すなわち、塗布器３４が、ステージ２１に保持された基板１０に対して接離可能に支持されている。
【００２７】
また、塗布器３４は、塗布液を吐出して基板１０上に塗布膜を形成するものである。この塗布器３４は、一方向に延びる形状を有する柱状部材であり、長手方向がＹ軸方向に沿う状態で設けられている。この塗布器３４には、長手方向に延びるスリットノズル３４ａが形成されており、塗布器３４に供給された塗布液がスリットノズル３４ａから長手方向に亘って一様に吐出されるようになっている。したがって、このスリットノズル３４ａから塗布液を吐出させた状態で塗布ユニット３０をＸ軸方向に走行させることにより、スリットノズル３４ａの長手方向に亘って基板１０上に一定厚さの塗布膜が形成されるようになっている。
【００２８】
ここで、塗布器３４とビーム部３９は、塗布器３４とビーム部３９を互いに固定する基準固定部４２と、これらを長手方向に相対的に変位するのを許容した状態で連結する連結部４０によって固定されている。
【００２９】
基準固定部４２は、塗布器３４とビーム部３９との間に配置されるスペーサ４２ａとビーム部３９と塗布器３４とを連結するボルト４２ｂとで構成されており、ボルト４２ｂで締結することにより塗布器３４とビーム部３９とが所定の間隔を維持した状態で固定されるようになっている。すなわち、この基準固定部４２により、塗布器３４とビーム部３９とがＹ軸方向に対して位置決めされるようになっている。
【００３０】
また、連結部４０は、塗布器３４とビーム部３９とが長手方向に相対的に変位するのを許容した状態で連結するものである。本実施形態の連結部４０はＬＭガイド４１であり、塗布器３４とビーム部３９との間に複数個のＬＭガイド４１が介在されることによって連結されている。具体的には、図２、図３に示すように、塗布器３４とビーム部３９との間には、基準固定部４２を基準として長手方向に沿って等間隔に配置された複数個のＬＭガイド４１が２列配置されている。そして、これらのＬＭガイド４１のスライド方向が塗布器３４及びビーム部３９の長手方向に沿った状態で配列されている。これにより、塗布器３４とビーム部３９とが長手方向に相対的に変位しようとすると、ＬＭガイド４１が長手方向にスライドすることにより、塗布器３４とビーム部３９とが相対的に長手方向に相対的に変位することが許容されるようになっている。
【００３１】
これにより、本実施形態の塗布装置では、塗布装置を取り巻く周囲の温度に変化が生じた場合であっても、塗布ムラを抑えることができる。ここで、図４は、塗布器３４とビーム部４９を塗布方向側（Ｘ軸方向側）から見た概略図であり、（ａ）は熱の影響を受ける前の状態を示す図であり、（ｂ）は熱の影響を受けた後の状態を示す図である。
【００３２】
この塗布装置を稼働させる前の状態では、図４（ａ）に示すように、塗布器３４とビーム部３９とがほぼ平行に配置されており、塗布器３４と基板１０との距離は、長手方向に亘って一定（＝ｔ）に保たれている。そして、塗布装置を稼働させて基板１０上に塗布膜が形成された塗布基板が形成されると、外気温の影響や塗布装置自身が発する熱などにより、塗布装置を取り巻く周囲の温度が上昇する。周囲の温度が上昇すると、塗布装置全体が熱の影響を受けることにより、塗布器３４とビーム部３９とが熱膨張し、塗布器３４とビーム部３９とは共に長手方向寸法が大きく変化する。具体的には、塗布器３４とビーム部３９とは、熱容量の違いから熱膨張率が異なっており、熱容量の大きい塗布器３４に比べて熱容量の小さいビーム部３９の方が長手方向に大きく変位する。すなわち、塗布器３４とビーム部３９とは、相対的に長手方向への変位量が異なるように変形する（図４（ｂ））。ところが、塗布器３４とビーム部３９は、長手方向中央位置で基準固定部４２で連結されているため、この基準固定部４２を基準にそれぞれ変位量が異なるように変形する。すなわち、ビーム部３９は、基準固定部４２を基準にＹ軸方向に大きく伸び、塗布器３４は、基準固定部４２を基準にＹ軸方向にビーム部３９の伸び量よりも小さく伸びる。ここで、塗布器３４とビーム部３９との間にＬＭガイド４１（連結部４０）が設けられているため、塗布器３４とビーム部３９の長手方向への相対的な変位が許容され、ビーム部３９は、塗布器３４に対して相対的に負荷なく変形することができる。すなわち、ビーム部３９が塗布器３４よりも長手方向に大きく変形しても、塗布器３４は、ビーム部３９の相対的な変形の影響を受けず、塗布器３４と基板との距離は長手方向に亘って一定（＝ｔ）に保たれる。したがって、塗布装置の周囲の温度変化が生じた場合であっても、塗布器３４と基板との距離が長手方向に亘って一定に維持されるため、塗布液の吐出が安定して行われ、塗布器３４の撓みの影響による塗布ムラを防止することができる。
【００３３】
なお、上記実施形態では、連結部４０にＬＭガイド４１を使用する実施形態について説明したが、ＬＭガイド４１によらず、塗布器３４とビーム部３９とが相対的に変位するのを許容するガイド部材を使用するものであってもよい。
【００３４】
また、塗布ユニット３０には、振動抑制保持ユニット５０が設けられている。この振動抑制保持ユニット５０は、塗布器３４が振動するのを抑えるためのものである。すなわち、上述の通り、塗布器３４がビーム部３９と長手方向中央位置で基準固定部４２で固定されており、それ以外の部分でＬＭガイド４１で連結されているため、塗布動作の際に塗布ユニット３０が塗布方向（Ｘ軸方向）に走行すると、塗布器３４に基準固定部４２を基準として振動が発生しやすくなる。すなわち、塗布ユニット３０が走行することにより、塗布器３４は、基準固定部４２を基準として、Ｙ軸方向両端部分で振幅が大きくなることによりＸ軸方向に振動しやすくなる。振動抑制保持ユニット５０は、この振動を抑えるためのものである。具体的には、振動抑制保持ユニット５０は、ステー部５１と、このステー部５１に取り付けられる振動抑制保持部５２とで形成されている。
【００３５】
ステー部５１は、振動抑制保持部５２を支持するものであり、図２、図３に示すように、剛性をもった一方向に延びる平板部材である。ステー部５１は、その長手方向端部が脚部３１に取り付けられており、ビーム部３９と同様にステージ２１をＹ軸方向に跨ぐ状態で取り付けられている。本実施形態では、図３に示すように、塗布器３４に対して塗布方向に隣り合う位置にＹ軸方向に延びるように取り付けられている。すなわち、ステー部５１は、塗布器３４と平行に並んだ状態で脚部３１の間に配置されている。したがって、脚部３１が移動することにより、ステー部５１も塗布器３４との位置関係を維持した状態でＸ軸方向に移動できるようになっている。
【００３６】
また、ステー部５１は、昇降動作可能に取り付けられている。本実施形態では、ビーム部３９が連結されるスライダ３５に連結されている。したがって、サーボモータを駆動制御することにより、ビーム部３９と同調して昇降動作し、塗布器３４との位置関係を維持した状態で昇降動作できるようになっている。
【００３７】
また、ステー部５１には、その長手方向両端部に振動抑制保持部５２が取り付けられている。この振動抑制保持部５２は、図３、図５に示すように、ステー部５１に取り付けられるＬＭガイド５２ａと、このＬＭガイド５２ａに連結され塗布器３４に固定されるブラケット部５２ｂとで形成されている。
【００３８】
ＬＭガイド５２ａは、ステー部５１の両端部分にそれぞれ取り付けられており、Ｙ軸方向に延びるように取り付けられている。具体的には、一方向に延びるレール部５２ａ１がＹ軸方向に延びる姿勢で取り付けられており、このレール部５２ａ１上をスライド部５２ａ２が移動するように取り付けられている。
【００３９】
ブラケット部５２ｂは、Ｌ字型の形状を有しており、一方端部がスライド部５２ａ２に固定されている。具体的には、図５に示すように、ブラケット部５２ｂは、ブラケット部５２ｂの一方端部がＹ軸方向に延びる状態でスライド部５２ａ２に固定され、他方端部がスライド部５２ａ２に連結された部分からＸ軸方向に延びる姿勢で取り付けられている。すなわち、ブラケット部５２ｂは、スライド部５２ａ２と共にＹ軸方向に移動可能に取り付けられている。そして、ブラケット部５２ｂの他方端部は、塗布器３４の長手方向に直交する側面部３４ｂに当接し、ブラケット部５２ｂと塗布器３４とがボルト５３で締結されて固定されている。そのため、ブラケット部５２ｂは、塗布器３４が長手方向に変位しようとすると、ブラケット部５２ｂがレール部５２ａ１上を移動することにより塗布器３４の長手方向変位を許容する。一方、塗布器がＸ軸方向（塗布方向）に変位しようとしてもＬＭガイド５２ａの移動方向と直交する方向に変位することになり塗布器３４のＸ軸方向変位を制限する。すなわち、本実施形態では、塗布器３４が基準固定部４２でビーム部３９に固定されているため、ブラケット部５２ｂは、塗布器３４がビーム部３９に対して長手方向に相対的に変位することを許容し、前記塗布器がビーム部３９に対して塗布方向に相対的に変位することを制限することができる。
【００４０】
この振動抑制保持ユニット５０により、塗布器３４の振動が抑制される。すなわち、塗布工程において塗布ユニット３０が塗布方向に走行すると、塗布器３４がビーム部３９に対して基準固定部４２で固定されているため、塗布器３４は、その長手方向両端部が走行に伴って振動しようとする。ところが、振動抑制保持部５２のブラケット部５２ｂと塗布器３４の側面部３４ｂとがボルト５３で締結されていることにより、塗布器３４の振動（Ｘ軸方向の振動）が振動抑制保持ユニット５０により抑えられる（図５（ａ）参照）。一方、上述の通り、塗布装置全体が熱の影響を受けることにより、塗布器３４とビーム部３９とが熱膨張することにより、ビーム部３９及び塗布器３４は、熱容量の違いから異なる変位量で長手方向に相対的に変位するが、塗布器３４と振動抑制保持部５２とがＬＭガイド５２ａで連結されているため、塗布器３４とビーム部３９とが長手方向に相対的に変位することが許容される（図５（ｂ）参照）。したがって、塗布装置全体が熱の影響を受けた場合であっても、塗布器３４とビーム部３９との連結部４０による長手方向の相対的変位を妨げることなく、振動を抑えることができる。
【００４１】
なお、上記実施形態では、連結部４０が塗布器３４とビーム部３９とを連結する別部材を使用する例について説明したが、塗布器３４又はビーム部３９に他方を嵌合する嵌合溝を設けるものであってもよい。具体的には、塗布器３４又はビーム部３９の一方側に、Ｙ軸方向に延びる溝を形成し、他方側に当該溝に嵌合する突起部を形成する。すなわち、溝と突起部とが嵌合した状態では、それぞれＹ軸方向にスライド可能に固定される。このような構成であっても、周囲の温度が変化することにより、塗布器３４とビーム部３９とが長手方向に相対的に変位してもＹ軸方向（長手方向）に変形するのが許容される。
【符号の説明】
【００４２】
１０  基板
２１  ステージ
３０  塗布ユニット
３４  塗布器
３４ａ  スリットノズル
３９  ビーム部
４２  基準固定部
５０  振動抑制保持ユニット
５１  ステー部
５２  振動抑制保持部
９０  制御装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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