(57)【要約】【課題】多重露光動作を行うマスクレス露光装置において、パターンエッジの解像度を向上させる。【解決手段】所定の露光ピッチ多重露光動作をＤＭＤ２２によって行う露光装置１０において、マイクロミラーの動作期間中に消灯期間Ｆ２を設け、それ以外を点灯期間Ｆ１とするパルス光を光源２１から発光させる。また、マイクロミラー駆動遅延時間ＤＴ１と、光源２１の発光遅延時間ＤＴ２とを測定し、その差に応じて露光タイミングと発光タイミングとを同期させる。【選択図】図４
2018036544.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パルス光を発光可能な光源と、
複数の光変調素子をマトリクス状に配列した光変調素子アレイと、
前記光変調素子アレイによって変調された光が結像する露光エリアを、露光対象物に対して走査方向に相対移動させる走査部と、
前記光変調素子アレイおよび前記光源を制御し、所定の露光ピッチで前記露光対象物に多重露光する露光制御部とを備え、
前記露光制御部が、露光ピッチに応じてパルス光を周期的に発光させるとともに、光変調素子の動作過渡期間に前記光変調素子アレイへパルス光が入射しないように、パルス光を発光させることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記露光制御部が、露光ピッチに従う前記光変調素子アレイの露光データ切り替えタイミングに合わせて周期的に発光ＯＦＦ期間を設けたパルス光を、発光させることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記露光制御部が、光変調素子駆動タイミングとパルス光の発光タイミングそれぞれの遅延特性とを比較して、光変調素子駆動タイミングおよびパルス光の発光タイミングの少なくともいずれか一方を調整することを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記露光制御部が、光変調素子駆動タイミング信号出力から光変調素子駆動までの駆動遅延時間と、発光タイミング信号出力から前記光源の発光までの発光遅延時間との差に応じて、光変調素子駆動タイミングもしくはパルス光の発光タイミングいずれかを遅延させることを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】
露光対象物を搭載する走査機構に設けられるフォトセンサをさらに備え、
前記露光制御部が、前記光源の連続点灯中に前記光変調素子アレイを所定のタイミングで駆動させたとき前記フォトセンサから出力される信号に基づいて駆動遅延時間を検出することを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
露光対象物を搭載する走査機構に設けられるフォトセンサをさらに備え、
前記露光制御部が、前記光変調素子をＯＮ状態にしている間に前記光源をパルス発光させたとき前記フォトセンサから出力される信号に基づいて発光遅延時間を検出することを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項７】
所定の露光ピッチに応じて、パルス光を光源から周期的に発光させ、
複数の光変調素子をマトリクス状に配列した光変調素子アレイを制御して、露光対象物を該露光ピッチで多重露光する露光方法であって、
光変調素子の動作過渡期間に前記光変調素子アレイへパルス光が入射しないように、パルス光を発光させることを特徴とする露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光変調素子アレイを用いてパターンを形成するマスクレス露光装置に関し、特に、ＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）などの光変調素子アレイの駆動タイミングと光源の発光タイミングの制御に関する。
【背景技術】
【０００２】
マスクレス露光装置では、基板が搭載されるステージを走査方向に沿って連続移動させながら、ＤＭＤなどの光変調素子アレイによってパターン光を基板に投影する。そこでは、ステージに載せられた基板上における投影エリア（露光エリア）の位置を検出し、その位置に応じたパターン光を投影するように、マトリクス配列させたマイクロミラーなどの光変調素子を制御する。露光装置の光源としては、放電ランプなど連続的に光を放射する光源とともに、レーザダイオードなどパルス点灯可能な光源も使用される（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
また、スループット、解像度などの観点から、露光動作時のショット領域をオーバラップさせる多重露光を行う（例えば、特許文献２参照）。基板が一定速度で移動している間パターン光を連続的に投影することにより、マイクロミラーがＯＮに切り替わってから積算光量が徐々に増加し、積算光量が閾値を超える範囲で基板が感光する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−２３２６１７号公報
【特許文献２】特開２００３−５７８３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
マイクロミラーのＯＮ／ＯＦＦを切り替えるとき、マイクロミラーの動作（姿勢変化）の過程で光がマイクロミラーに入射すると、ミラー反射光の進行方向が投影光学系の中で変化し、投影像の位置は変わらないものの光量が低下する。
【０００６】
上述したように積算光量が閾値を超えたときに感光することから、積算光量が変化している区間でパターンエッジが形成される。したがって、マイクロミラー動作期間も光を掃引する期間（１回の露光動作にて光を露光面に照射したまま移動する期間）に含めると、積算光量の増加区間の変化が緩やかになる。その結果、パターンエッジ部分の解像度を上げることが困難になる。特に、ミクロンオーダーにおいてそのパターンエッジ部分の解像度に影響を及ぼす。
【０００７】
したがって、マスクレス露光装置において、マイクロミラーなどの光変調素子の動作に影響されることなく、パターンエッジ部分の解像能を向上させる多重露光を行うことが必要とされる。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の露光装置は、パルス光を発光可能な光源と、複数の光変調素子をマトリクス状に配列した光変調素子アレイと、光変調素子アレイの露光エリアを、露光対象物に対して走査方向に相対移動させる走査部と、光変調素子アレイおよび光源を制御し、所定の露光ピッチで露光対象物に多重露光する露光制御部とを備える。そして露光制御部は、露光ピッチに応じて、パルス光を周期的に発光させるとともに、光変調素子の動作過渡期間に光変調素子アレイへパルス光が入射しないように、パルス光を発光させる。
【０００９】
ここで、「露光ピッチ」とは、露光動作を繰り返し行うときの露光対象物上での動作間隔を表し、露光動作の時間間隔、言い換えれば、光変調素子アレイに対する露光データの切り替え時間間隔に対応している。また、「光変調素子の動作過渡期間」は、光変調素子が所定の状態（例えばＯＦＦ状態の姿勢）から他の状態（例えばＯＮ状態の姿勢）へ移行する期間を示す。光変調素子動作過渡期間以外はすべて発光期間（ＯＮ期間）とするパルス光を発光することが可能であり、連続光とほぼ同等の露光量を得ながら露光長を短くし、パターンエッジ解像度を向上させることができる。なお、光変調素子の動作過渡期間よりも長く照明ＯＦＦ期間を設けてもよい。
【００１０】
例えば光変調素子アレイに送る露光データは、アレイ全体に対する露光データであり、露光ピッチ移動期間経過すると順次切り替わる。したがって、露光制御部は、露光ピッチに従う光変調素子アレイの露光データ切り替えタイミングに合わせて発光ＯＦＦ期間を設けたパルス光を、発光させることが可能である。
【００１１】
光変調素子の動作過渡期間といった極めて短時間レベルのタイミング調整を行う場合、光変調素子アレイおよび光源の制御指令から動作するまでの遅延特性が問題となる恐れがある。そこで露光制御部は、光変調素子駆動タイミングとパルス光の発光タイミングそれぞれの遅延特性とを比較して、光変調素子駆動タイミングおよびパルス光の発光タイミングの少なくともいずれか一方を調整すればよい。ただし、ここでの発光タイミングは、照明ＯＦＦからＯＮに切り替わる（切り替え開始する）タイミングを示し、光変調素子駆動タイミングは、光変調素子が所定の状態から他の状態へ切り替え開始するタイミングを示す。
【００１２】
このようなタイミング調整は、上記パルス光以外の照明方法を前提とした露光装置にも有効であり、適用することができる。すなわち、パルス光などの間欠的な発光が可能な光源と、複数の光変調素子をマトリクス状に配列した光変調素子アレイと、光変調素子駆動タイミングと発光タイミングそれぞれの遅延特性とを比較して、光変調素子駆動タイミングおよびパルス光の発光タイミングの少なくともいずれか一方を調整するタイミング調整部とを備えた露光装置、あるいはその露光方法を提供することができる。これによって、照度不足、照明ムラなどを解消することができる。
【００１３】
また、本発明の露光装置は、露光制御部が、光変調素子駆動タイミング信号出力から光変調素子駆動までの駆動遅延時間と、発光タイミング信号出力から光源の発光までの発光遅延時間との差に応じて、光変調素子駆動タイミングもしくはパルス光の発光タイミングいずれかを遅延させることができる。
【００１４】
例えば、露光対象物を搭載する走査機構に設けられたフォトセンサによって、遅延特性を検出することが可能である。露光制御部は、光源の連続点灯期間中に光変調素子アレイを所定のタイミングで駆動させたとき受光部から出力される信号に基づいて駆動遅延時間を検出することができる。
【００１５】
あるいは、露光制御部は、光変調素子をＯＮ状態にしている間に光源をパルス発光させたとき受光部から出力される信号に基づいて発光遅延時間を検出することができる。このような検出方法は、上記パルス光以外の照明方法を前提とした露光装置にも有効であり、適用することができる。すなわち、パルス光などの間欠的な発光を可能な光源と、複数の光変調素子をマトリクス状に配列した光変調素子アレイと、露光対象物を搭載する走査機構に設けられるフォトセンサと、光変調素子をＯＮ状態にしている間に光源をパルス発光させたとき受光部から出力される信号に基づいて発光遅延時間を検出する検出部とを備えた露光装置、あるいはその露光方法を提供することができる。
【００１６】
本発明の露光方法は、所定の露光ピッチに応じて、パルス光を光源から周期的に発光させ、複数の光変調素子をマトリクス状に配列した光変調素子アレイを制御して、露光対象物を該露光ピッチで多重露光する露光方法であって、光変調素子の動作過渡期間に光変調素子アレイへパルス光が入射しないように、パルス光を発光させる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、多重露光動作を行うマスクレス露光装置において、パターンエッジの解像度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本実施形態である露光装置のブロック図である。
【図２】露光動作時の積算光量変化を示した図である。
【図３】マイクロミラー動作時の反射光の光路変化を示した図である。
【図４】パルス光とマイクロミラー動作のタイミングを示した図である。
【図５】遅延量を算出、設定するフローチャートである。
【図６】ＤＭＤ駆動タイミングの遅延を示したタイミングチャートである。
【図７】発光タイミングの遅延を示したタイミングチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下では、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
【００２０】
図１は、本実施形態である露光装置のブロック図である。
【００２１】
露光装置（描画装置）１０は、フォトレジストなどの感光材料を塗布、あるいは貼り付けた基板Ｗへ光を照射することによってパターンを形成するマスクレス露光装置であり、基板Ｗを搭載するステージ１２が、主走査方向Ｘ、副走査方向Ｙに沿って移動可能に設置されている。
【００２２】
露光装置１０は、パターン光を投影する複数の露光ヘッドを備え、ここでは１つの露光ヘッド１８を図示している。露光ヘッド１８は、照明光学系２０、ＤＭＤ２２、結像光学系２５とを備え、他の露光ヘッドも同様に構成されている。光源２１は、パルス点灯可能な光源であり、ここではレーザダイオードによって構成され、光源駆動部２３によって駆動される。
【００２３】
ベクタデータなどで構成されるＣＡＤ／ＣＡＭデータが露光装置１０へ入力されると、ベクタデータがラスタ変換回路（ラスタ変換器）２６に送られ、ベクタデータがラスタデータに変換される。生成されたラスタデータは、バッファメモリ（図示せず）に一時的に格納された後、ＤＭＤ駆動回路２４へ送られる。ＤＭＤ２２は、微小のマイクロミラーを２次元配列させた光変調素子アレイであり、各マイクロミラーは、姿勢を変化させることによって光の反射方向を選択的に切り替える。
【００２４】
ステージ駆動機構１５は、コントローラ３０からの制御信号に従い、ステージ１２を移動させる。位置検出部（図示せず）は、ステージ１２の端部に配列した複数のフォトセンサを備え、位置検出部（図示せず）から送られてくる信号に基づき、露光位置、すなわち基板Ｗの位置座標が算出される。
【００２５】
露光動作中、ステージ１２は、主走査方向Ｘに沿って一定速度で移動する。ＤＭＤ２２全体による投影エリア（以下、露光エリアという）は、基板Ｗの移動方向（主走査方向Ｘ）に伴って基板Ｗ上を相対移動する。なお、ＤＭＤ２２はＸ−Ｙ方向に垂直なＺ軸に沿って微小角度回転して設置されており、露光動作時、ＤＭＤ２２の投影像である露光エリアは主走査方向Ｘに対して微小傾斜した状態で移動する。
【００２６】
ＤＭＤ駆動回路２４は、露光ピッチに従った時間間隔で露光データ（ラスタデータ）をＤＭＤ２２へ出力する。ＤＭＤ２２では、露光データに応じて各マイクロミラーがＯＮ／ＯＦＦ制御される。各マイクロミラーは、光を基板Ｗへ導く第１姿勢（ＯＮ姿勢）もしくは光を基板外（不図示の消光部）へ導くＯＦＦ姿勢（第２姿勢）いずれかに位置決めされる。ＯＮ姿勢を示す露光データに従って駆動されるマイクロミラーの反射光が結像光学系２５を通って基板Ｗに結像することにより、パターン光が投影される。
【００２７】
コントローラ３０は、同期制御部４６、ステージ駆動機構１５などへ制御信号を出力し、多重露光動作を実行する。Ｘ−Ｙ方向に平行な露光エリアが基板Ｗに形成される一方、上述したように露光エリアは主走査方向Ｘに対し微小傾斜した状態で移動していく。
【００２８】
これにより、露光エリアが相対移動していく中で各マイクロミラーのショット位置（マイクロミラーの露光動作時の微小投影領域中心）は分散し、セルサイズよりも小さい解像度でパターン形成が可能となる。露光エリアの位置に応じたパターン光が露光ピッチに従って順次投影され、複数の露光ヘッドにより基板Ｗ全体を描画することによって、基板Ｗ全体にパターンが形成される。
【００２９】
本実施形態では、ＤＭＤ２２の駆動タイミングと光源２１のパルス発光タイミングとを同期させるため、ステージ１２の基板Ｗの露光面に沿って設けられたフォトダイオード（ＰＤ）４９が設けられている。信号検出器４４は、ＰＤ４９からの出力信号をコントローラ３０へ送る。コントローラ３０は、検出信号に基づいて露光タイミングあるいは発光タイミングを調整する。同期制御部４６は、光源駆動部２３、ＤＭＤ駆動回路２４へ同期信号を出力する。
【００３０】
図２は、露光動作時の積算光量変化を示した図である。図３は、マイクロミラー動作時の反射光の光路変化を示した図である。図２、３を用いて、ミラー動作に起因するパターンエッジ解像度低下について説明する。
【００３１】
図２では、基板Ｗが露光ピッチだけ移動する間、光を連続的に投影したときの積算光量を示している。マイクロミラーＯＮ状態が続く区間Ｔ０に沿って積算光量は単調増加から一定となり、そして単調減少と変化する。１回の露光動作で光を掃引する区間（露光長）は、ここでは主走査方向Ｘに沿ったセル幅に対応している。基板Ｗは所定の閾値Ｔ以上の積算光量によって感光するため、パターンエッジは、積算光量の単調増加区間Ｋ１、あるいは単調減少区間Ｋ２で生じる。
【００３２】
図３には、マイクロミラー２２ＭがＯＮ状態の姿勢からＯＦＦ状態の姿勢へ変化するときの結像光学系２５を含む露光ヘッド１８内での反射光の進路変化を示している。このような光の進路変化が生じると、結像位置に変化は生じないが、光量が低下する。その結果、積算光量の単調増加区間Ｋ１、単調減少区間Ｋ２の光量変化が緩やかになる。
【００３３】
緩やかな光量変化はパターンエッジの解像度に影響を及ぼす。特に、ミクロンオーダーにおいて解像度を向上させるのが困難となる。そこで本実施形態では、露光長の区間の開始あるいは終了時のミラー動作期間では、光源２１からの光をＤＭＤ２２に照射させないようにパルス点灯を行う。
【００３４】
図４は、パルス光の発光とマイクロミラー動作のタイミングを示した図である。
【００３５】
ＬＤ制御信号は、光源駆動部２３から光源２１への入力（入力電圧）信号を示し、ＤＭＤ制御信号は、ＤＭＤ駆動回路２４からＤＭＤ２２へ出力されるミラー駆動信号（露光データ）を示す。ＬＤ制御信号、ＤＭＤ制御信号のＯＮ／ＯＦＦ切替に応じて、照明光のＯＮ／ＯＦＦ、マイクロミラーのＯＮ／ＯＦＦが切り替えられる。ここでは、マイクロミラーが最初の露光動作時にＯＮ状態であり、２回目露光動作時がＯＦＦ状態、３回目および４回目の露光動作時がＯＦＦ状態になっている。
【００３６】
光源２１からのパルス光は、相対的に長い点灯期間Ｆ１と相対的に短い消灯期間Ｆ２を交互に繰り返す周期的な照明光となる。点灯期間Ｆ１は、１回の露光動作において基板Ｗを移動させながら光を照射する期間であり、１回の露光動作における光の掃引区間（露光長）に対応する。
【００３７】
一方、消灯期間Ｆ２は、マイクロミラーがＯＦＦ状態からＯＮ状態に切り替わる期間Ｌ１が含まれる期間であり、光源２１からの光は、ミラー姿勢変化中にマクロミラーへ入射しない。マイクロミラーがＯＮからＯＦＦに切り替わる期間Ｌ２も、同様に消灯期間Ｆ２に含まれる。
【００３８】
連続光と同じような露光量を与えて光利用効率を最大化することを考慮すれば、つまり露光処理スピードを上げるためには露光量が問題となる場合は、１回の露光動作における露光長ＯＬを定める点灯期間Ｆ１は、露光ピッチ移動期間ＰＩにより近い期間となるのが望ましい。したがって、点灯期間Ｆ１は消灯期間Ｆ２よりも十分長く設定される。消灯期間Ｆ２は、あくまでもミラー姿勢変化期間の光照射を避けるためだけに設けられている。なお、データ処理スピードが露光処理速度向上のために問題となる場合、点灯期間Ｆ１は、感材感度に合わせた長さに調整される。
【００３９】
このような露光ピッチに合わせた周期をもつパルス光を照射することで、連続光と比べて露光長ＯＬが結果的に短く設定されることになり、図２に示す単調増加区間Ｋ１、単調減少区間Ｋ２の積算光量変化率が大きくなって、パターンエッジ部分の解像度を上げることができる。
【００４０】
ＤＭＤ２２の各マイクロミラーは、露光データによってＯＮ／ＯＦＦが切り替わるものであって、どのタイミングでＯＮ〜ＯＦＦあるいはＯＦＦ〜ＯＮに切り替わるかはパターンによって様々であり、マイクロミラー毎に異なる。しかしながら、所定のマイクロミラーにとってＯＮ状態が続く場合でも、露光ピッチに従う露光データの切り替え時に合わせて消灯期間を設けたパルス点灯を行うため、全体の多重露光動作を通じて、各マイクロミラーの姿勢変化時期と点灯期間が重なることはない。なお、マイクロミラーＯＮ状態時に消灯することによる光量低下については、閾値以上の積算光量が十分得られるためにパターンに影響はない。
【００４１】
ところで、ＤＭＤ２２へ駆動信号を発信してから実際にミラーが駆動するまで物理的な遅延が存在する。また、光源２１の場合、発光を指令してから実際に発光するまで伝達遅延が存在する。図４では、ＬＤ制御信号、ＤＭＤ制御信号の出力タイミングと、発光タイミング（発光ＯＦＦから発光ＯＮへの切り替え開始タイミング）、駆動タイミング（ミラーＯＦＦ状態からＯＮ状態への切り替え開始タイミング）とを同タイミングにしているが、実際には、遅延時間分だけ発光タイミング、駆動タイミングが遅れている。
【００４２】
ＤＭＤ２２、光源２１いずれも遅延時間が生じるが、この遅延時間は経年変化に起因するため、一定にならない。また、光源２１の遅延時間の方がＤＭＤ２２の遅延時間より長くなる場合もある。
【００４３】
このような遅延時間の存在を無視して、図４のようなパルス点灯、ＤＭＤ２２の駆動を行った場合、消灯期間Ｆ２とマイクロミラーの姿勢移行期間Ｌ１が重なる事態が生じ、パターンエッジ部分の解像度に影響を及ぼす。
【００４４】
そこで本実施形態では、ＤＭＤ２２の遅延時間（駆動遅延時間）と光源２１の遅延時間（発光遅延時間）をあらかじめ測定し、ＤＭＤ２２の駆動（露光）タイミング、光源２１の発光タイミングを調整する。具体的には、遅延時間の差に基づき、駆動タイミングもしくは発光タイミングいずれかを相対的に遅らせる。
【００４５】
図５は、遅延量を算出、設定するフローチャートである。図６は、ＤＭＤ駆動タイミングの遅延を示したタイミングチャートである。図７は、発光タイミングの遅延を示したタイミングチャートである。遅延時間の算出、設定処理は、例えば、ロット変更時、メンテナンス時などに実行される。ステージ１２は、ＤＭＤ２２からの反射光がＰＤ４９に入射する位置にあらかじめ位置決めされている。
【００４６】
始めに発光タイミングの遅延時間を測定するため、光源２１から所定期間に渡る測定用の連続光を発光させ（Ｓ１０１）、その発光期間中にＤＭＤ２２のマイクロミラーすべてをＯＦＦ状態からＯＮ状態に切り替えるように、同期制御部４６が駆動タイミング信号（ＤＭＤ制御信号）を出力する（Ｓ１０２）。ＤＭＤ２２を反射した光はＰＤ４９に入射し、信号検出器４４によって光量信号が検出される。コントローラ３０は、光検出時間と、駆動タイミング信号の出力時間との差を駆動遅延時間ＤＴ１として検出する（Ｓ１０３）。
【００４７】
次に、ＤＭＤ２２を計測用に所定期間に渡ってＯＮ状態に設定し（Ｓ１０４）、その期間中にパルス光を光源２１から発光させるため、同期制御部４６が光源駆動部２３へ発光タイミング信号（ＬＤ制御信号）を出力する（Ｓ１０５）。パルス光がＤＭＤ２２で反射することで、ＰＤ４９は反射光を検出する。コントローラ３０は、光検出時間と発光タイミング信号の出力時間との差を発光遅延時間ＤＴ２として検出する（Ｓ１０６）。
【００４８】
コントローラ３０は、駆動遅延時間ＤＴ１と発光遅延時間ＤＴ２との差ΔＤＴ（＝ＤＴ１−ＤＴ２）を算出し、ＤＭＤ駆動タイミングもしくは発光タイミングのいずれかをその差ΔＤＴに基づいて遅延させる（Ｓ１０７）。差ΔＤＴが正の場合、ＤＭＤ駆動タイミングの方が発光タイミングよりも遅れていることから、コントローラ３０は、差ΔＤＴの遅延時間を遅延回路ＤＬ１に設定し、遅延回路ＤＬ２に対して遅延時間ゼロを設定する。その結果、発光タイミングがΔＤＴ時間分だけ遅れる。具体的には、光源２１への入力信号（電圧信号）と、遅延回路ＤＬ１から送られてくるタイミング信号とに基づいた発光タイミングで照明ＯＦＦから照明ＯＮへの切り替えが行われる。
【００４９】
一方、差ΔＤＴが負の場合、発光タイミングの方が駆動タイミングよりも遅れていることから、コントローラ３０は、差ΔＤＴの遅延時間を遅延回路ＤＬ２に設定し、遅延回路ＤＬ１に対して遅延時間ゼロを設定する。その結果、ＤＭＤ駆動タイミングがΔＤＴ時間分だけ遅れる。具体的には、ＤＭＤ２２へ入力される露光データと遅延回路ＤＬ２からのタイミング信号とに基づいた駆動タイミングで、ミラーＯＦＦ状態からＯＮ状態の切り替えが行われる。
【００５０】
なお、専用のＰＤ４９を使用する代わりに、露光装置にあらかじめ設けられた照度測定用フォトセンサ（図示せず）を用いて、遅延時間の算出、設定を行ってもよい。また、ＤＭＤ駆動遅延時間を検出する場合、複数のパルス信号を出力し、平均値などを採用することで測定精度を向上させることができる。
【００５１】
このように本実施形態によれば、所定の露光ピッチ多重露光動作をＤＭＤ２２によって行う露光装置１０において、露光長ＯＬの開始あるいは終了時のマイクロミラーの動作期間中に消灯期間Ｆ２を設け、それ以外を点灯期間Ｆ１とするパルス光を光源２１から発光させる。また、マイクロミラー駆動遅延時間ＤＴ１と、光源２１の発光遅延時間ＤＴ２とを測定し、その差に応じて露光タイミングもしくは発光タイミングを調整する。
【００５２】
光源としては、レーザダイオード以外のパルス光（断続光）を発光する光源を用いることが可能であり、例えば発光ダイオード（ＬＥＤ）、疑似ＣＷレーザ、シャッタでオンオフ制御されるＣＷ光源などを適用することが可能である。また、ＤＭＤ以外の空間光変調素子アレイを適用することが可能であり、光変調素子の姿勢変化、移動、動作などがＯＮ／ＯＦＦ切り替え時に伴うものであればよい。
【００５３】
なお、図５〜７に示したＤＭＤ駆動タイミングと発光タイミングとの同期調整は、図４に示すようなパルス点灯による多重露光以外の露光動作にも適用することが可能である。例えば、マイクロミラーＯＮ状態を一定期間保持している間に複数回露光動作（パルス発光）するような多重露光に適用可能である。ＤＭＤ駆動の遅延特性、光源の発光遅延特定の経年変化はいずれの露光装置にも生じる問題であり、使用経過に応じて同期調整を行う必要がある。ＤＭＤ駆動遅延時間および発光遅延時間の測定を行って同期調整することにより、パターンエッジ部分の解像度向上のみならず、線幅ムラなども解消することができる。
【符号の説明】
【００５４】
１０  露光装置
２１  光源
２２  ＤＭＤ（光変調素子アレイ）
３０  コントローラ（露光制御部）
４６  同期制御部（露光制御部）
４７、４８  遅延回路（露光制御部）
【図１】
2018036544.tif 000003
【図２】
2018036544.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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