(57)【要約】【課題】紫外線ランプを使用して汚染水から有害物質を好適に除去する汚染水処理装置、汚染水処理システム及び汚染水処理方法を提供する。【解決手段】汚染水処理装置４は、汚染水を収納する遮光性を有する密閉容器４２と、容器４２の内部に配置される紫外線ランプ４３と、を備える。容器４２の内部の汚染水が対流するように対流板４４１、４４２を備える構成としてもよい。また、容器４２に汚染水を供給する配管の外周に、配管を挟んで対面する磁石相互の極性が異なるように配置された永久磁石からなる磁気処理器４１を備える構成としてもよい。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
汚染水を収納する遮光性を有する密閉容器と、
前記容器の内部に配置される紫外線ランプと、
を備えたことを特徴とする汚染水処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の汚染水処理装置において、前記容器の内部に対流板を備えたことを特徴とする汚染水処理装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の汚染水処理装置において、前記容器に汚染水を供給する配管の外周に、前記配管を挟んで対面する磁石相互の極性が異なるように配置された永久磁石からなる磁気処理器を備えたことを特徴とする汚染水処理装置。
【請求項４】
汚染水を貯える貯水タンクと、
請求項１〜３のいずれかに記載の汚染水処理装置と、
前記汚染水処理装置を通過した処理水を保管する保管タンクと、
前記汚染水処理装置又は前記保管タンクを通過した後の処理水を保管して放流する回収タンクと、
を備えたことを特徴とする汚染水処理システム。
【請求項５】
汚染水を収納する遮光性を有する密閉容器と、前記容器の内部に配置される紫外線ランプを用いた汚染水処理方法であって、前記密閉容器を揺動又は紫外線ランプを揺動して前記汚染水を対流させながら、前記紫外線ランプを前記汚染水に照射することを特徴とする汚染水処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、汚染水処理装置、汚染水処理システム及び汚染水処理方法に関する。特に汚染水から、紫外線ランプを使用して有害物質を好適に処理する汚染水処理装置、汚染水処理システム、汚染水処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
福島第一原子力発電所において、放射性物質であるトリチウム（三重水素）を含んだ汚染水の処理が問題となっている。トリチウムは水素の同位体として多くは水（ＨＴＯ，Ｔ２Ｏ）の形態で存在するため、汚染水からトリチウムを分離することが困難とされている。トリチウムの半減期は１２．３２年であり、長く環境中に残り、また、放射性物質であるため、被爆することで細胞内のＤＮＡを傷つけ、皮膚や臓器等に様々な異常が起こり得る。そこで、多くの大学、研究所等でトリチウムを処理する方法や装置が研究されている。今までに、蒸発や電気分解、深い地層に注入する方法などが候補に挙げられているが、実用化できる技術は確認されていない。
【０００３】
特許文献１には、トリチウム水を吸着する吸着材を充填した複数の吸着塔を備えたトリチウム除去設備が開示されている。その発明によると、トリチウム水を含む軽水からトリチウムを簡単に除去することができ、また、トリチウム水を含む軽水に不揮発性の溶質が含まれている場合であっても、その水からトリチウムを効率良く除去できるとされている。
【０００４】
特許文献２には、トリチウムで汚染された機器を紫外線により除染するトリチウム除染装置が開示されている。この発明によると、紫外線照射により炭化水素や水の化学結合が切断され、トリチウムで汚染された機器を除染することができるとされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１５−１６４７０９号公報
【特許文献２】特開２００６−１０５７０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１のトリチウム除去設備は、トリチウム水を吸着する吸着材を充填した複数の吸着塔を備えているが、大量のトリチウムを除去するためには、トリチウムをより効率よく吸着する材料の開発が必要である。また、そのような材料を備えた除去設備は高価になり得るため、より安価で簡単な構成のトリチウム除去設備が望まれる。また、特許文献２のトリチウム除染装置は、トリチウムで汚染された機器を紫外線レーザにより除染することが記載されているが、トリチウム含有水からトリチウムを分離することについて開示や示唆がない。
【０００７】
さらに、汚染水に含まれる有害物質は上記の放射性汚染物質に限らず、有害な有機物質等も含む。温泉施設等では、有害な有機物質等を除去し、脱臭効果や殺菌効果のある汚染水処理装置が望まれている。
【０００８】
本発明の目的は、上記課題に鑑み、紫外線ランプを使用して汚染水から有害物質を好適に除去する汚染水処理装置、汚染水処理システム及び汚染水処理方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するため、請求項１に記載の発明は、汚染水を収納する遮光性を有する密閉容器と、前記容器の内部に配置される紫外線ランプと、を備えたことを特徴とする汚染水処理装置である。
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の汚染水処理装置において、前記容器の内部に対流板を備えたことを特徴とする。
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の汚染水処理装置において、前記容器に汚染水を供給する配管の外周に、前記配管を挟んで対面する磁石相互の極性が異なるように配置された永久磁石からなる磁気処理器を備えたことを特徴とする。
請求項４に記載の発明は、汚染水を貯える貯水タンクと、請求項１〜３のいずれかに記載の汚染水処理装置と、前記汚染水処理装置を通過した処理水を保管する保管タンクと、前記汚染水処理装置又は前記保管タンクを通過した後の処理水を保管して放流する回収タンクと、を備えたことを特徴とする汚染水処理システムである。
請求項５に記載の発明は、汚染水を収納する遮光性を有する密閉容器と、前記容器の内部に配置される紫外線ランプを用いた汚染水処理方法であって、前記密閉容器を揺動又は紫外線ランプを揺動して前記汚染水を対流させながら、前記紫外線ランプを前記汚染水に照射することを特徴とする汚染水処理方法である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の汚染水処理装置、汚染水処理システム及び汚染水処理方法によると、紫外線ランプを使用して有害物質を好適に除去することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の一実施例である汚染水処理装置を示す模式図である。
【図２】本発明の一実施例である汚染水処理システムの全体構成を示す概略図である。
【図３】本発明の一実施例である汚染水処理システムの流れを示す説明図である。
【図４】本発明の一実施例である汚染水処理方法を示す説明図である。
【図５】本発明の一実施例である汚染水処理方法を使用した実験の測定結果を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の実施の形態（以下実施例と記す）を、図面に基づいて説明する。なお、以下の図において、共通する部分には同一の符号を付しており、同一符号の部分に対して重複した説明を省略する。
【００１３】
［汚染水処理装置］
まず、本発明の一実施例に係る汚染水処理装置の構成について、図１を参照して説明する。図１は、汚染水処理装置を示す模式図である。
【００１４】
汚染水処理装置４は、汚染水を収納し、遮光性を有する密閉容器４２と、その内部に配置される紫外線ランプ４３から構成される。図１に示すように更に、磁気処理器４１と対流板４４１、４４２を備えてもよい。本実施例では、磁気処理器４１と対流板４４１、４４２を備えた汚染水処理装置４について説明する。以下、各構成部について説明する。
【００１５】
容器４２には、汚染水が所定量だけ入れられており、開閉弁（図示せず）により密閉されている。また、紫外線ランプ４３以外の光が入らないよう、遮光性を有する素材で構成される。汚染水処理装置４を構成する容器４２は１個でもよいが、図１に示すように、２個、または３個以上であってもよい。本実施例では、容器４２を２個備えた汚染水処理装置４を用いる。
【００１６】
容器４２の形状や大きさは、特に限定されないが、内部の汚染水が紫外線ランプ４３の光に充分に当たるような形状及び大きさで構成されることが好ましい。容器４２は、例えば、円筒状で直径が３００ｍｍ、その直径部分の長手方向の長さが３００ｍｍで構成され、左右の配管（直径が５０ｍｍ）と滑らかに結合するような形状とすることができる。また、複数の容器４２を繋げる配管の直径も同様に５０ｍｍとする。
【００１７】
容器４２の内部に配置される紫外線ランプ４３は、２００ｎｍ〜４００ｎｍ程の波長の紫外線を照射できるランプを使用する。紫外線ランプ４３の光が汚染水にできるだけ当たるようにするため、表面積が広いＵ字型の紫外線ランプ４３を使用することが好ましい。また、１個の容器４２内に複数本の紫外線ランプ４３を設置することが更に好ましい。それにより、紫外線を汚染水に万遍なく当てやすくなる。本実施例では、１個の容器４２内に２本以上の紫外線ランプ４３を使用する。
【００１８】
制御装置（制御盤）４４は、上記の紫外線ランプ４３を調整する。紫外線の照射時間や、電源のオン、オフを自動で行うように制御することができる。例えば、容器４２内に汚染水が入り、密閉された後に紫外線ランプ４３の電源がオンになり、容器４２から排出した後に、電源がオフになるように自動制御してもよい。
【００１９】
また、図１に示すように容器４２の内部に、汚染水が対流するように対流板４４１、４４２を備えてもよい。対流板４４１、４４２は、それぞれ１枚の平板を捩じることで構成される。汚染水はポンプから汲み上げられた後に、矢印で示すように容器４２の長手方向に流れるが、対流板４４１、４４２の凹凸部に当たることで、左右、上下に流動し、繰り返し紫外線ランプ４３の紫外線に当たるようになる。それにより、汚染水を紫外線ランプ４３の紫外線に充分に当てることができ、汚染水の汚染物質に作用する。
【００２０】
汚染水処理装置４は、更に磁気処理器４１を備えてもよい。磁気処理器４１は、容器４３に汚染水を供給する配管の外周に、配管を挟んで対面する磁石相互の極性が異なるように配置された永久磁石で構成される。永久磁石は１対（Ｎ極とＳ極）でもよいが、複数あることが好ましい。このように構成することで、配管を通る汚染水に金属粉末が混合している場合でも有効に除去できる。また、容器４２を繋げる配管にも磁気処理器４１を備えてもよい。
【００２１】
［汚染水処理システム］
次に汚染水処理装置４を備えた汚染水処理システム１の構成について、図２と図３を参照して説明する。図２は汚染水処理システム１の全体構成を示す概略図であり、図３は、汚染水処理システム１の除去方法を示す説明図である。
【００２２】
図２に示すように、汚染水処理システム１は、汚染水を貯える貯水タンク（汚染タンク）２と、前述の汚染水処理装置４と、これを通過した後の処理水を保管する保管タンク５と、保管タンク５を通過した後の液体を保管して放流する回収タンク７から構成される。また、図２に示すように、汚染水処理システム１は、更に液体シンチレーションカウンタ６と、ガスクロマトグラフ８を備えてもよい。本実施例では、それらを備えた汚染水処理システム１について説明する。
【００２３】
貯水タンク（汚染水タンク）２には、汚染水が蓄えられており、密閉されている。貯水タンク２の汚染水はポンプ３の駆動により、配管を通って汚染水処理装置４に所定量、供給される（図３のＳ１１）。汚染水処理装置４の入口部付近と出口部付近の配管には開閉弁１０、１１が設けられており、汚染水が汚染水処理装置４に供給されるとき、開閉弁１０は開いており、供給が終わった後に閉じられる。このとき、開閉弁１１は閉じた状態である。
【００２４】
汚染水処理装置４に供給された汚染水は、磁気処理器４１が備わった配管（Ｓ１２）を通過し、容器４２内の紫外線ランプ４３の紫外線に万遍なく照射される（Ｓ１３）。所定時間経過した後、汚染水は保管タンク５に供給される（Ｓ１４）。保管タンク５の入口付近には、開閉弁１１が配管に設けられており、汚染水処理装置４を通過した処理水が供給される際に開閉弁１１が開けられる。保管タンク５は密閉されており、所定量の処理水が一時的に保管される。
【００２５】
保管タンク５は、液体検査用（又は測定用）の配管と繋がる構成としてもよい。その配管の開閉弁を開くことにより、所定量の処理水を取り出すことができる。取り出した処理水は、密閉容器に入れられ、例えば液体シンチレーションカウンタ６で検査する（Ｓ１５）。質量計を用いて処理水の質量を量ることもできる。また、保管タンク５は、回収タンク７にも配管を介して繋がっている。それぞれの配管には開閉弁１２、１３が設けられており、必要に応じて開閉される。処理水を検査する際には、開閉弁１２が開けられ、開閉弁１３は閉じており、回収タンク７に処理水を供給する際には、開閉弁１３が開けられ、開閉弁１２は閉じている。
【００２６】
回収タンク７は、保管タンク５と配管を介して繋がっており、開閉弁１３又は１６を開けることにより、保管タンク５に保管された処理水が供給される（Ｓ１６）。回収タンク７は密閉されており、保管タンク５で検査済の処理水が保管される。検査の結果、汚染物質の除去が好適になされていた場合には、開閉弁１４が開けられ、放流用の配管を介して処理水が海等に放流される。
【００２７】
また、汚染物質の除去が好適になされていた場合には、次の処理水は保管タンク５を介さず、汚染水処理装置４から直接、回収タンク７に供給するようにしてもよい。その場合には、汚染水処理装置４と回収タンク７を繋ぐ配管と開閉弁が設けられ（図示せず）、開閉弁を開けることにより、処理水が回収タンク７に供給される。
【００２８】
さらに、回収タンク７は、気体検査用の配管と繋がる構成としてもよい。その配管の開閉弁１５を開くことにより、所定量の気体を取り出すことができる。取り出した気体は、密閉容器に入れられ、例えばガスクロマトグラフ８で検査する（Ｓ１７）。ガスクロマトグラフ８で検査した結果、気体が水素の場合にはタンクに回収し、燃料として使用することもできる。
【００２９】
以上のように、汚染水処理システム１が構成される。なお、本実施例は一例であり、本発明はこの構成に限定されるものではない。例えば、保管タンク５と回収タンク７をまとめて１つのタンクとしてもよいし、保管タンク５で検査した処理水の処理が充分でない場合には、再度、汚染水処理装置４に処理水を供給する構成としてもよい。
【００３０】
〔重水素水（Ｄ２Ｏ）を用いた実験〕
トリチウム（３Ｈ）は、時間が経つと、以下の式のように弱いβ線を放射しながら崩壊を起こしてヘリウム（３Ｈｅ）に変わる放射性同位体である。
【００３１】
【化１】
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【００３２】
トリチウムはヘリウム（３Ｈｅ）と電子（ｅ−）と、反電子ニュートリノに崩壊される。トリチウムの原子核は、陽子１つと中性子２つであるが、ヘリウム（３Ｈｅ）の原子核は、陽子２つと中性子１つからなる。β崩壊により、トリチウムの中性子の１つが陽子１つに変わる。陽子の質量（約１．６７３×１０−２７ｋｇ）と中性子の質量（約１．６７５×１０−２７ｋｇ）は異なるため、崩壊により全体の質量は、非常に微量ではあるが変化する。トリチウム水に本発明の汚染水処理装置の紫外線を照射した後、全体の質量が変化していれば、崩壊が起きたことが確認できる。ただし、自然に崩壊した分や密閉状態を充分に考慮しなければならない。
【００３３】
トリチウム水を使用した実験は困難であるため、本実施例では二重水素（Ｄ２）を遮光した密閉容器に入れて、紫外線を充分に当てる実験を行なった。二重水素においてもトリチウムのように、中性子の１つが陽子１つに変わるような変化が起きれば、全体の質量が非常に微量ではあるが変化し、それにより崩壊が起きたことが確認できる。
【００３４】
本実施例では、重水素水（Ｄ２Ｏ）として、市販の重水（関東化学株式会社製、９９．８％Ｄ）を用いた。この重水素水（Ｄ２Ｏ）１００ｇと、軽水（Ｈ２０）９００ｇを混合した液体を遮光した密閉容器に入れて、容器内の紫外線ランプで照射する。５分間照射した後に、密閉容器の液体を安定同位体比測定装置で検査（ＳＩサイエンス株式会社による検査）した結果、重水素水（Ｄ２Ｏ）の割合が全体の９．０４％となっていた。照射前の重水素水（Ｄ２Ｏ）の割合は、１００g(重水素)／（１００＋９００）g（全体）であるから、１０．０％である。実際には、軽水（Ｈ２０）中にも０．０１５％の割合で重水素が含まれているため、１０．０％よりも多くなる。従って、紫外線ランプの照射により、重水素水（Ｄ２Ｏ）の割合が減ったことが確認できた。
【００３５】
また、全体の質量を計量したところ、紫外線ランプで照射する前と比較して、微量ではあるが減少が確認された。前述のように、中性子の質量は陽子の質量よりもわずかに少ないため、重水素の中性子の１つが陽子１つに変わることがあれば、全体の質量は非常に微量ではあるが減少する。
【００３６】
本実験で確認できたことは、紫外線ランプを重水素水（Ｄ２Ｏ）と軽水の混合液に５分間照射することで、重水素水（Ｄ２Ｏ）の割合が減った。同様な現象はトリチウム水でも起こり得ると思われるが、厳密にはβ線を計測し、崩壊を確かめる必要がある。
【００３７】
〔汚染水処理方法〕
次に、本発明の汚染水処理方法について説明する。本実施例の汚染水処理方法には、福島原発付近の汚沼を使用する。この汚沼には、トリチウム、ストロンチウム、セシウムが含有されていると推測される。これらを含む汚沼の保管には、特許第５８３２０１９号に記載の「放射線遮蔽容器」を使用する。また、放射線量の測定には、環境放射線モニタ（ＨＯＲＩＢＡ  ＰＡ１０００）を使用する。
【００３８】
まず、準備として上記の汚沼が運び込まれる前の実験室内の放射線量、すなわち自然放射線量を測定した。測定は実験開始前に５回、実験終了後に５回測定し、それぞれの平均値を算出した後、全体の平均値を算出した。実験開始前の平均値は、0.0626マイクロシーベルト（以下、μｓｖ）、実験終了後の平均値は、0.0648μｓｖであり、全体の平均値は、0.0637μｓｖであった。また、保管容器から汚沼２０ｇを取り出し、水１．１リットルを加えて、実験に使用する汚染水を作成した。この汚染水の放射線量は、0.149μｓｖであり、この値から実験室内の平均放射線量0.0637μｓｖを差し引いた実質的な放射線量（以下、汚染水濃度）は、0.0853μｓｖであった。
【００３９】
図４は、本発明の一実施例である汚染水処理方法を示す説明図である。図４（Ａ）に示すように、実験用の放射線遮蔽容器５０（遮光性を有する密閉容器）を実験台５３に置き、放射線遮蔽容器５０の円筒状の中心部５１（空洞）内に汚染水が入った容器５２を入れる。放射線遮蔽容器５０は、例えば、直径２００ｍｍ、高さ５００ｍｍの円筒形である。また、中心部５１の直径は１４０ｍｍであり、放射線遮蔽容器５０の外壁の厚さは３０ｍｍである。環境放射線モニタを実験台５３上の放射線遮蔽容器５０付近の測定位置Ａに設置し、放射線量を５回測定したところ、平均値は、0.0876μｓｖであった。この値から実験室内の平均放射線量0.0637μｓｖを差し引いた実質的な汚染水濃度は、0.0239μｓｖである。実質的な汚染水濃度0.0853μｓｖと比べて測定位置Ａの汚染水濃度が低いのは、放射線遮蔽容器５０の影響である。以下の実験では、この測定位置Ａの汚染水濃度を基準値として汚染水濃度の増減を調べる。
【００４０】
次に紫外線ランプ４３を汚染水が入った容器５２に入れる。図４（Ｂ）に示すように、本実施例では汚染水が入った容器５２内に紫外線ランプ４３を直接入れるのではなく、紫外線を通す石英ガラス管５４を容器５２内に入れ、紫外線ランプ４３をその中に入れて紫外線を汚染水に照射する構成とする。容器５２内に紫外線ランプ４３を直接入れる構成としてもよい。紫外線ランプ４３は、２００ｎｍ〜４００ｎｍ程の波長の紫外線を照射できるランプであれば、いかなるランプを使用してもよいが、本実施例では２５４ｎｍの波長の紫外線（１００Ｖ、２００Ｗ）を照射できる紫外線ランプ４３を使用する。また、紫外線ランプ４３の光が汚染水にできるだけ当たるようにするため、表面積が広いＵ字型の紫外線ランプ４３を使用する。なお、紫外線ランプ４３の照度は、点灯から４分後に６３００ｌｘ、８分後に１０５００ｌｘ、１３分後に１４４００ｌｘ、１４分後に１４３００ｌｘとなり、それ以降、照度の値は変わらず安定した。
【００４１】
紫外線ランプ４３を汚染水に照射する際には、汚染水が万遍なく紫外線に照射されるように、放射線遮蔽容器５０を揺動又は紫外線ランプ４３を揺動して汚染水を対流させる。放射線遮蔽容器５０を揺動する代わりに、汚染水が入った容器５２又はその中の石英ガラス管５４を揺動させてもよい。また、これらの揺動は手動でもよいし、前述の汚染水処理装置４と同様にポンプと対流板を使用して揺動させてもよい。
【００４２】
汚染水を対流させて、紫外線ランプ４３を照射し、３分〜３０分経過後の実験台５３の測定位置Ａにおける放射線量を５回測定した結果を表１に示す。また、表１には、５回の平均放射線量と、その値から実験室内の平均放射線量0.0637μｓｖを差し引いた実質的な汚染水濃度も示す。
【００４３】
【表１】
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【００４４】
表１の値から、放射線量の多少の増減はあるものの、時間の経過と共に実質的な汚染水濃度は少しずつ減少し、３０分経過後には実質的な汚染水濃度（平均値）は0.0165μｓｖとなり、紫外線ランプ４３を照射する前の実質的な汚染水濃度（平均値）0.0239μｓｖと比べて減少していることがわかる。
【００４５】
また、表１から３〜３０分経過後の実質的な汚染水濃度の平均値は、0.0194μｓｖと算出される。紫外線ランプ４３を照射する前の実質的な汚染水濃度（平均値）0.0239μｓｖと比較し、減少率を計算すると以下のようになる。
【００４６】
【数１】
2018017728.tif 000005
【００４７】
数１より、３〜３０分経過後の放射線量の減少率は、１８．８２％であることがわかる。さらに、３０分経過後の実質的な汚染水濃度の平均値は、0.0165μｓｖと紫外線ランプ４３を照射する前の実質的な汚染水濃度（平均値）0.0239μｓｖを比較して減少率を計算すると以下のようになる。
【００４８】
【数２】
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【００４９】
数２より、３０分経過後の放射線量の減少率は、３０．９６％となった。従って、３０分経過後は、それ以前よりも放射線量の減少率が高くなることがわかる。また、本実施例では、１００Ｖ、２００Ｗの紫外線ランプ４３を使用したが、よりワット数の高い紫外線ランプを使用することで、放射線量の減少率が高くなることが推測される。
【００５０】
図５は、上記の汚染水処理方法を使用した実験の測定結果を示すグラフである。縦軸は実質的な汚染水濃度（μｓｖ）、横軸は経過時間（分）を表す。一番上の折線グラフは、１００Ｖ、２００Ｗの紫外線ランプ４３を使用した場合、上記の表１で示した結果である。グラフには、参考のため前述の照度（ｌｘ）も示す。上記の表１では、３０分経過までしか載せていないが、４５分経過まで測定すると、図５に示すように更に放射線量が減少することがわかる。また、紫外線ランプ４３が４００Ｗ、６００Ｗ、８００Ｗ、１０００Ｗの場合には、更に放射線量が減少することがわかり、紫外線ランプ４３の電力が高くなる程、より効果的に減少することがわかる。
【００５１】
以上、説明してきた様に、本発明の汚染水処理装置と汚染水処理システム、汚染水処理方法は、強力な紫外線を万遍なく汚染水に照射するため、汚染水に含まれる有害物質を好適に除去し得る構成となっている。また、強力な紫外線を使用しているため、汚染水の脱臭効果や殺菌効果、有機物分解の効果等も期待できる。
【００５２】
なお、上述した実施例の汚染水処理装置と汚染水処理システム、及び汚染水処理方法は、一例であり、その構成は、発明の趣旨を逸脱しない範囲で、適宜変更可能である。例えば、本実施例の汚染水処理方法は、図４に示す装置を使用したものであるが、汚染水処理装置を使用して実施してもよく、その他の装置を使用して実施することもできる。
【符号の説明】
【００５３】
１…汚染水処理システム、２…汚染水タンク、３…ポンプ、４…汚染水処理装置、５…保管タンク、６…液体シンチレーションカウンタ、７…回収タンク、８…ガスクロマトグラフ、１０〜１５…開閉弁、４１…磁気処理器、４２…容器、４３…紫外線ランプ、４４…制御装置（制御盤）、５０…放射線遮蔽容器、５１…放射線遮蔽容器の中心部、５２…容器、５３…実験台、５４…石英ガラス管、４４１，４４２…対流板。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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