(57)【要約】【課題】  くすみなどがなく高透明であり、容易に製造することができる透明シリカガラスを提供する。【解決手段】  下記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分；  （Ａ）平均粒径が０．０１〜１５０μｍであり、かつアスペクト比が１．００〜１．５０である球状シリカ粒子：８０〜９９．９質量部  （Ｂ）２３℃における屈折率が１．４０〜１．５５であり、２３℃における粘度が０．１〜１０，０００ｍＰａ・ｓであり、ヒドロシリル化反応触媒を含むオルガノポリシロキサン組成物：０．１〜２０質量部を含む組成物の焼結体である透明シリカガラス。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分；
（Ａ）平均粒径が０．０１〜１５０μｍであり、かつアスペクト比が１．００〜１．５０である球状シリカ粒子：８０〜９９．９質量部
（Ｂ）２３℃における屈折率が１．４０〜１．５５であり、２３℃における粘度が０．１〜１０，０００ｍＰａ・ｓであり、ヒドロシリル化反応触媒を含むオルガノポリシロキサン組成物：０．１〜２０質量部
を含む組成物の焼結体であることを特徴とする透明シリカガラス。
【請求項２】
前記（Ｂ）成分が、下記（Ｂ１）成分、（Ｂ２）成分、及び（Ｂ３）成分；
（Ｂ１）１分子中に２個以上のケイ素原子に結合したアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン
（Ｂ２）１分子中に２個以上のケイ素原子に結合した水素原子を有するオルガノポリシロキサン：前記（Ｂ１）成分中のアルケニル基の総数に対して、前記（Ｂ２）成分中のケイ素原子に結合した水素原子の総数が０．５〜８．０であるような量
（Ｂ３）ヒドロシリル化反応触媒：触媒量
を含むオルガノポリシロキサン組成物であることを特徴とする請求項１に記載の透明シリカガラス。
【請求項３】
前記（Ｂ１）〜（Ｂ３）成分が、
（Ｂ１）下記式（１）
【化１】
2018203572.tif 000016
（式中、Ｒ１は独立して炭素数１〜１０の１価炭化水素基であり、Ｒ１のうち２個以上は炭素数２〜１０のアルケニル基であり、ａは０〜０．７、ｂは０〜０．９、ｃは０〜０．９９、ｄは０．０５〜０．７であり、但しａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１．０である。）
で示されるアルケニル基含有オルガノポリシロキサン
（Ｂ２）下記平均組成式（２）
【化２】
2018203572.tif 000017
（式中、Ｒ２は独立して炭素数１〜７の１価飽和炭化水素基及び炭素数６〜７の芳香族炭化水素基から選ばれる基であり、ｅは０．６〜２．０、ｆは０．４〜１．０の正数であり、但しｅ＋ｆ＝１．０〜２．５である。）
で示され、１分子中に２個以上のケイ素原子に結合した水素原子を有するハイドロジェンオルガノポリシロキサン
（Ｂ３）白金族金属系触媒
であることを特徴とする請求項２に記載の透明シリカガラス。
【請求項４】
前記（Ｂ）成分が、空気中で最高温度を１，０００℃にしてＪＩＳ  Ｋ  ７１２０：１９８７記載の方法で測定したＴＧＡ分析における残分率が４０％以上のものであることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の透明シリカガラス。
【請求項５】
下記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分；
（Ａ）平均粒径が０．０１〜１５０μｍであり、かつアスペクト比が１．００〜１．５０である球状シリカ粒子：８０〜９９．９質量部
（Ｂ）２３℃における屈折率が１．４０〜１．５５であり、２３℃における粘度が０．１〜１０，０００ｍＰａ・ｓであり、ヒドロシリル化反応触媒を含むオルガノポリシロキサン組成物：０．１〜２０質量部
を含む組成物を調製する工程の後に、該組成物を成形し、成形体を形成する工程、次いで、該成形体を４００〜１，２００℃で１０分間〜１２時間加熱し、脱脂する工程、さらに、該脱脂した成形体を１，４００〜１，８００℃で１〜６０分間加熱し、焼結する工程を有することを特徴とする透明シリカガラスの製造方法。
【請求項６】
前記（Ｂ）成分として、下記（Ｂ１）成分、（Ｂ２）成分、及び（Ｂ３）成分；
（Ｂ１）１分子中に２個以上のケイ素原子に結合したアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン
（Ｂ２）１分子中に２個以上のケイ素原子に結合した水素原子を有するオルガノポリシロキサン：前記（Ｂ１）成分中のアルケニル基の総数に対して、前記（Ｂ２）成分中のケイ素原子に結合した水素原子の総数が０．５〜８．０であるような量
（Ｂ３）ヒドロシリル化反応触媒：触媒量
を含むオルガノポリシロキサン組成物を用いることを特徴とする請求項５に記載の透明シリカガラスの製造方法。
【請求項７】
前記（Ｂ１）〜（Ｂ３）成分として、
（Ｂ１）下記式（１）
【化３】
2018203572.tif 000018
（式中、Ｒ１は独立して炭素数１〜１０の１価炭化水素基であり、Ｒ１のうち２個以上は炭素数２〜１０のアルケニル基であり、ａは０〜０．７、ｂは０〜０．９、ｃは０〜０．９９、ｄは０．０５〜０．７であり、但しａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１．０である。）
で示されるアルケニル基含有オルガノポリシロキサン
（Ｂ２）下記平均組成式（２）
【化４】
2018203572.tif 000019
（式中、Ｒ２は独立して炭素数１〜７の１価飽和炭化水素基及び炭素数６〜７の芳香族炭化水素基から選ばれる基であり、ｅは０．６〜２．０、ｆは０．４〜１．０の正数であり、但しｅ＋ｆ＝１．０〜２．５である。）
で示され、１分子中に２個以上のケイ素原子に結合した水素原子を有するハイドロジェンオルガノポリシロキサン
（Ｂ３）白金族金属系触媒
を用いることを特徴とする請求項６に記載の透明シリカガラスの製造方法。
【請求項８】
前記焼結工程の前に、塩化水素ガス雰囲気下で、前記成形体を１，０００〜１，５００℃で０．５〜５時間加熱し、純化する工程を含むことを特徴とする請求項５から請求項７のいずれか一項に記載の透明シリカガラスの製造方法。
【請求項９】
前記（Ｂ）成分として、空気中で最高温度を１，０００℃にしてＪＩＳ  Ｋ  ７１２０：１９８７記載の方法で測定したＴＧＡ分析における残分率が４０％以上のものを用いることを特徴とする請求項５から請求項８のいずれか一項に記載の透明シリカガラスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明シリカガラス及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、白色ＬＥＤ市場は大きな広がりを見せており、チップの高輝度化に伴い樹脂の高耐熱、高耐衝撃が要求され、現在は高輝度ＬＥＤにはシリコーンが主に用いられている。
【０００３】
また、最近では殺菌用途などでＵＶ  ＬＥＤが展開されるようになってきた。ＵＶ  ＬＥＤは波長が４００ｎｍの領域を主な発光波長としているため、非常に高い耐熱性、耐衝撃性、耐変色性が求められる。しかし、シリコーンはＵＶ領域になると分解が進み、クラックや変色といった問題が発生してきている。
【０００４】
そこで、現在では有機成分を入れずに、ＵＶ  ＬＥＤチップ直上にガラスなどがリフレクタとハーメチックシールされているＬＥＤの構造がほとんどである。しかしガラスに関しても短波長の吸収の少ないガラスを使用するとなると石英ガラスしかなく、価格としては非常に高価なものとなり、ガラスの構造についても平板構造しかできず多種多彩なレンズ構造やフレネル構造などを搭載することが困難であった。
【０００５】
無機粉体とバインダーの混練物を成形し、焼結することによって製造するガラス焼結体は以前から知られているが、高純度・高透明の成形物を得ることは困難であった（特許文献１）。また、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）をバインダーとする製造方法が開示されているが、ＰＶＡは炭素成分が多く、焼結体における短波長側の透明性が悪くなるだけでなく、炭素成分を除去する脱脂工程や焼結に時間が掛かるため、量産化するには困難が多かった（特許文献２）。これらの改良として、メチルセルロースやメチルヒドロキシエチルセルロースなどをバインダーとして、セラミック形成材料である無機粉体を成形し、焼結させて透明シリカガラスを製造する方法が見出されている（特許文献３、４）。しかしながら、これらのセルロース誘導体をバインダーとして用いた場合、成形性は良好だが焼結後に失透の原因となる不純物が多く、高透明性を有するガラス焼結体を得るには不十分であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００８−２６６０８７号公報
【特許文献２】特開２００９−００７１８５号公報
【特許文献３】特開２００９−１２０４４４号公報
【特許文献４】特開２０１３−５２５１５６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
そこで本発明は上記事情に鑑み、くすみなどがなく高透明であり、容易に製造することができる透明シリカガラスを提供することを目的とする。また、脱脂工程にかかる時間を短縮することで、高透明な透明シリカガラスを容易に製造することができる製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明では、
下記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分；
（Ａ）平均粒径が０．０１〜１５０μｍであり、かつアスペクト比が１．００〜１．５０である球状シリカ粒子：８０〜９９．９質量部
（Ｂ）２３℃における屈折率が１．４０〜１．５５であり、２３℃における粘度が０．１〜１０，０００ｍＰａ・ｓであり、ヒドロシリル化反応触媒を含むオルガノポリシロキサン組成物：０．１〜２０質量部
を含む組成物の焼結体である透明シリカガラスを提供する。
【０００９】
本発明のような透明シリカガラスであれば、くすみなどがなく高透明であり、容易に製造することができる透明シリカガラスとなる。
【００１０】
このとき、前記（Ｂ）成分が、下記（Ｂ１）成分、（Ｂ２）成分、及び（Ｂ３）成分；
（Ｂ１）１分子中に２個以上のケイ素原子に結合したアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン
（Ｂ２）１分子中に２個以上のケイ素原子に結合した水素原子を有するオルガノポリシロキサン：前記（Ｂ１）成分中のアルケニル基の総数に対して、前記（Ｂ２）成分中のケイ素原子に結合した水素原子の総数が０．５〜８．０であるような量
（Ｂ３）ヒドロシリル化反応触媒：触媒量
を含むオルガノポリシロキサン組成物であることが好ましい。
【００１１】
このような（Ｂ）成分であれば、バインダーとして好適であり、未反応の（Ｂ２）成分の揮発や、（Ｂ２）成分中のケイ素原子に結合した水素原子（ヒドロシリル基、ＳｉＨ基）が分解して水素ガスが発生する恐れがなく、これによるボイドやクラックが発生する恐れがない透明シリカガラスとなる。
【００１２】
また、前記（Ｂ１）〜（Ｂ３）成分が、
（Ｂ１）下記式（１）
【化１】
2018203572.tif 000002
（式中、Ｒ１は独立して炭素数１〜１０の１価炭化水素基であり、Ｒ１のうち２個以上は炭素数２〜１０のアルケニル基であり、ａは０〜０．７、ｂは０〜０．９、ｃは０〜０．９９、ｄは０．０５〜０．７であり、但しａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１．０である。）
で示されるアルケニル基含有オルガノポリシロキサン
（Ｂ２）下記平均組成式（２）
【化２】
2018203572.tif 000003
（式中、Ｒ２は独立して炭素数１〜７の１価飽和炭化水素基及び炭素数６〜７の芳香族炭化水素基から選ばれる基であり、ｅは０．６〜２．０、ｆは０．４〜１．０の正数であり、但しｅ＋ｆ＝１．０〜２．５である。）
で示され、１分子中に２個以上のケイ素原子に結合した水素原子を有するハイドロジェンオルガノポリシロキサン
（Ｂ３）白金族金属系触媒
であることが好ましい。
【００１３】
このような（Ｂ１）〜（Ｂ３）成分であれば、より確実かつ簡単にボイドやクラックのない透明シリカガラスとなる。
【００１４】
更に、前記（Ｂ）成分が、空気中で最高温度を１，０００℃にしてＪＩＳ  Ｋ  ７１２０：１９８７記載の方法で測定したＴＧＡ分析における残分率が４０％以上のものであることが好ましい。
【００１５】
上記のような（Ｂ）成分であれば、組成物の脱脂時及び焼結時に球状シリカ粒子間に大きな空隙が発生する恐れがなく、焼結後にクラックや失透が生じる恐れがない透明シリカガラスとなる。
【００１６】
また、本発明では、下記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分；
（Ａ）平均粒径が０．０１〜１５０μｍであり、かつアスペクト比が１．００〜１．５０である球状シリカ粒子：８０〜９９．９質量部
（Ｂ）２３℃における屈折率が１．４０〜１．５５であり、２３℃における粘度が０．１〜１０，０００ｍＰａ・ｓであり、ヒドロシリル化反応触媒を含むオルガノポリシロキサン組成物：０．１〜２０質量部
を含む組成物を調製する工程の後に、該組成物を成形し、成形体を形成する工程、次いで、該成形体を４００〜１，２００℃で１０分間〜１２時間加熱し、脱脂する工程、さらに、該脱脂した成形体を１，４００〜１，８００℃で１〜６０分間加熱し、焼結する工程を有する透明シリカガラスの製造方法を提供する。
【００１７】
本発明のような製造方法であれば、脱脂工程にかかる時間を短縮することができ、くすみなどがなく高透明な透明シリカガラスを容易に製造することができる。
【００１８】
このとき、前記（Ｂ）成分として、下記（Ｂ１）成分、（Ｂ２）成分、及び（Ｂ３）成分；
（Ｂ１）１分子中に２個以上のケイ素原子に結合したアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン
（Ｂ２）１分子中に２個以上のケイ素原子に結合した水素原子を有するオルガノポリシロキサン：前記（Ｂ１）成分中のアルケニル基の総数に対して、前記（Ｂ２）成分中のケイ素原子に結合した水素原子の総数が０．５〜８．０であるような量
（Ｂ３）ヒドロシリル化反応触媒：触媒量
を含むオルガノポリシロキサン組成物を用いることが好ましい。
【００１９】
このような（Ｂ）成分を用いた製造方法であれば、未反応の（Ｂ２）成分の揮発や、（Ｂ２）成分中のケイ素原子に結合した水素原子（ヒドロシリル基、ＳｉＨ基）が分解して水素ガスが発生する恐れがなく、これによるボイドやクラックが発生する恐れがない透明シリカガラスを容易に作製できる。
【００２０】
また、前記（Ｂ１）〜（Ｂ３）成分として、
（Ｂ１）下記式（１）
【化３】
2018203572.tif 000004
（式中、Ｒ１は独立して炭素数１〜１０の１価炭化水素基であり、Ｒ１のうち２個以上は炭素数２〜１０のアルケニル基であり、ａは０〜０．７、ｂは０〜０．９、ｃは０〜０．９９、ｄは０．０５〜０．７であり、但しａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１．０である。）
で示されるアルケニル基含有オルガノポリシロキサン
（Ｂ２）下記平均組成式（２）
【化４】
2018203572.tif 000005
（式中、Ｒ２は独立して炭素数１〜７の１価飽和炭化水素基及び炭素数６〜７の芳香族炭化水素基から選ばれる基であり、ｅは０．６〜２．０、ｆは０．４〜１．０の正数であり、但しｅ＋ｆ＝１．０〜２．５である。）
で示され、１分子中に２個以上のケイ素原子に結合した水素原子を有するハイドロジェンオルガノポリシロキサン
（Ｂ３）白金族金属系触媒
を用いることが好ましい。
【００２１】
このような（Ｂ）成分を用いた製造方法であれば、より確実にボイドやクラックのない高品質の透明シリカガラスを容易に製造できる。
【００２２】
更に、前記焼結工程の前に、塩化水素ガス雰囲気下で、前記成形体を１，０００〜１，５００℃で０．５〜５時間加熱し、純化する工程を含むことが好ましい。
【００２３】
このように純化する工程を含む製造方法であれば、焼結時に失透の原因となりうる不純物を除去することで失透の発生が更に抑制された透明シリカガラスを製造できる。
【００２４】
またこのとき、前記（Ｂ）成分として、空気中で最高温度を１，０００℃にしてＪＩＳ  Ｋ  ７１２０：１９８７記載の方法で測定したＴＧＡ分析における残分率が４０％以上のものを用いることが好ましい。
【００２５】
上記のような（Ｂ）成分を使用した製造方法であれば、組成物の脱脂時及び焼結時に球状シリカ粒子間に大きな空隙が発生する恐れがなく、焼結後にクラックや失透が生じる恐れがない透明シリカガラスを容易に製造することができる。
【発明の効果】
【００２６】
以上のように、本発明の透明シリカガラスであれば、バインダーとしてシリカの構成元素であるケイ素や酸素を含むオルガノポリシロキサン組成物を用いることで、内部にｐｐｍオーダーで残存する失透の原因となる不純物をできる限り減らすことができ、くすみなどがなく透明性が非常に高く、広い範囲の波長で透過率に優れた透明シリカガラスとなる。また、本発明の透明シリカガラスは、容易に製造することができ、ボイドやクラックが発生する恐れがない高精度の透明シリカガラスとなる。このような本発明の透明シリカガラスを用いれば、高価な石英ガラスを用いなくても、安価で高品質なＵＶ用パッケージを容易に作製することができる。また、本発明の透明シリカガラスの製造方法であれば、バインダーとしてオルガノポリシロキサン組成物を用いることで、有機基をできるだけ少なくすることができるため、バインダー中の炭素成分を燃焼させるための脱脂工程にかかる時間を短縮することができ、しかも高温時に反応が進むことによりバインダーがシリカとなるため、従来のバインダーとは異なり脱脂及び焼結時の体積収縮を極限まで減らすことができる。従って、ボイドやクラックが発生する恐れがなく、上記のような高透明かつ高精度の透明シリカガラスを容易に製造することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
上記のように、くすみなどがなく高透明であり、容易に製造することができる透明シリカガラス及びその製造方法の開発が求められていた。
【００２８】
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を行った結果、オルガノポリシロキサン組成物をバインダーとして用いることによって、脱脂工程の時間を短縮でき、更に、バインダーに起因する不純物量も減らすことができることから、高透明な透明シリカガラスを容易に製造できることを見出し、本発明を完成させた。
【００２９】
すなわち、本発明は、下記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分；
（Ａ）平均粒径が０．０１〜１５０μｍであり、かつアスペクト比が１．００〜１．５０である球状シリカ粒子：８０〜９９．９質量部
（Ｂ）２３℃における屈折率が１．４０〜１．５５であり、２３℃における粘度が０．１〜１０，０００ｍＰａ・ｓであり、ヒドロシリル化反応触媒を含むオルガノポリシロキサン組成物：０．１〜２０質量部
を含む組成物の焼結体である透明シリカガラスである。
【００３０】
以下、本発明について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
＜透明シリカガラス＞
（Ａ）球状シリカ粒子
本発明に使用する球状シリカ粒子は、その平均粒径が０．０１〜１５０μｍの範囲であり、かつ、そのアスペクト比が１．００〜１．５０のものである。平均粒径は、好ましくは０．０５〜１００μｍ、より好ましくは、０．１〜１０μｍである。なお、本発明において、球状シリカ粒子の平均粒径とは、動的光散乱法で測定した粒子の体積平均径の値を指す。また、球状シリカ粒子のアスペクト比は、好ましくは１．００〜１．４０、より好ましくは、１．００〜１．２０である。なお、本発明において、アスペクト比とは、ＳＥＭによる撮影画像によって長径（Ｄ）と短径（ｄ）との比、つまりＤ／ｄとして測定された値である。
【００３１】
また、本発明に用いられる球状シリカ粒子としては、天然のシリカから製造されたものよりも、ゾル−ゲル法や、クロロシランの加水分解によって合成し、金属除去精製によってアルミニウム、ナトリウム、鉄などの球状シリカ粒子によく含まれる不純物の量を極限まで減らしたものを用いることが好ましい。不純物量は、本発明では誘導結合プラズマ発光分光分析装置（ＩＣＰ−ＯＥＳ）で測定し、絶対検量線法で定量した元素含有量を指す。球状シリカ粒子中のアルミニウム含有量は０．１〜５０ｐｐｍが好ましく、０．１〜１０ｐｐｍが更に好ましい。アルミニウム含有量は少なければ少ないほどよいが、コスト等を勘案すれば、０．１ｐｐｍまで除去できれば十分であり、５０ｐｐｍ以下であれば、失透の原因となる焼結時のシリカの結晶化の進行を抑制できる。また、球状シリカ粒子中のナトリウム含有量は０．０１〜１ｐｐｍが好ましく、０．０５〜１ｐｐｍが更に好ましい。ナトリウム含有量は少なければ少ないほどよいが、コスト等を勘案すれば、０．０１ｐｐｍまで除去できれば十分であり、１ｐｐｍ以下であれば、焼結時の失透の発生を抑制できる。さらに、球状シリカ粒子中の鉄の含有量は０．１〜５ｐｐｍが好ましく、０．１〜２ｐｐｍが更に好ましい。鉄の含有量は少なければ少ないほどよいが、コスト等を勘案すれば、０．１ｐｐｍまで除去できれば十分であり、５ｐｐｍ以下であれば、焼結時の失透の発生を抑制できる。
【００３２】
また球状シリカ粒子の種類としては、シリカバルーン、メソポーラスシリカ、シリカゲル及びステショバイト、クリストバライトなどの結晶性シリカ、さらに石英などが挙げられる。
【００３３】
（Ａ）成分の含有量は焼結体用組成物１００質量部中、８０〜９９．９質量部であり、好ましくは８５〜９９．５質量部、更に好ましくは９０〜９９．５質量部である。
【００３４】
（Ｂ）オルガノポリシロキサン組成物
本発明に用いられるオルガノポリシロキサン組成物は、２３℃における屈折率が１．４０〜１．５５であり、２３℃における粘度が０．１〜１０，０００ｍＰａ・ｓのものであり、ヒドロシリル化反応触媒を含むものである。
【００３５】
本発明における（Ｂ）成分の屈折率とは、ＪＩＳ  Ｋ  ００６２：１９９２記載の方法でアッベ屈折率計によって測定された、測定波長５８９．３ｎｍ（ナトリウムＤ線）での値を指し、１．４０〜１．５５であり、好ましくは１．４０〜１．５０であり、より好ましくは１．４０〜１．４５である。この範囲外であると、脱脂時の体積収縮が多くなる。
【００３６】
本発明における（Ｂ）成分の粘度とは、ＪＩＳ  Ｋ  ７１１７−１：１９９９記載の方法で回転粘度計によって測定された２３℃における値を指し、０．１〜１０，０００ｍＰａ・ｓであり、好ましくは１〜８，０００ｍＰａ・ｓであり、より好ましくは１〜１，０００ｍＰａ・ｓである。この範囲外であると、（Ａ）成分の球状シリカ粒子を高充填した際にシリカ表面に（Ｂ）成分がなじまず、脱脂や焼結時に空隙が生じる。
【００３７】
本発明において（Ｂ）成分は、空気中で最高温度を１，０００℃にしてＪＩＳ  Ｋ  ７１２０：１９８７記載の方法で測定したＴＧＡ分析における残分率が４０％以上のものであることが好ましく、残分率が４０〜６０％のものであることが更に好ましい。残分率が４０％以上であれば、組成物の脱脂時及び焼結時に球状シリカ粒子間の大きな空隙の発生を抑制でき、焼結後のクラックや失透の発生を抑制できる。
【００３８】
なお、本発明における残分率は、例えば、ＴＧＡ装置（ＴＡインスツルメント製  Ｑ５００）で、サンプル１０ｍｇを秤量し、２５℃から１，０００℃まで昇温速度を２０℃／分で昇温して、１，０００℃で３０分間保持した後、サンプル質量を測定して下記式によって求めることができる。
【数１】
2018203572.tif 000006
【００３９】
本発明に用いられる（Ｂ）成分は、下記（Ｂ１）成分、（Ｂ２）成分、及び（Ｂ３）成分；
（Ｂ１）１分子中に２個以上のケイ素原子に結合したアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン
（Ｂ２）１分子中に２個以上のケイ素原子に結合した水素原子を有するオルガノポリシロキサン：（Ｂ１）成分中のアルケニル基の総数に対して、（Ｂ２）成分中のケイ素原子に結合した水素原子の総数が０．５〜８．０であるような量
（Ｂ３）ヒドロシリル化反応触媒：触媒量
を含むオルガノポリシロキサン組成物であることが好ましい。
【００４０】
（Ｂ）成分の含有量は、焼結体用組成物１００質量部中、０．１〜２０質量部であり、０．１〜１０質量部であることが好ましく、０．１〜５質量部であることがより好ましい。以下順に詳述する。
【００４１】
（Ｂ１）１分子中に２個以上のケイ素原子に結合したアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン
（Ｂ）成分を構成する１分子中に２個以上のケイ素原子に結合したアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン（Ｂ１）は、本発明の（Ｂ）成分を構成する主剤となるものである。（Ｂ１）成分に含まれるアルケニル基含有量は０．０００１〜０．４ｍｏｌ／１００ｇ、特に０．００５〜０．１ｍｏｌ／１００ｇであることが好ましい。（Ｂ１）成分としては下記式（１）で示されるアルケニル基含有オルガノポリシロキサンが好ましい。
【化５】
2018203572.tif 000007
【００４２】
上記式中、Ｒ１は独立して炭素数１〜１０、好ましくは１〜６の１価炭化水素基であり、そのうち少なくとも２個は炭素数２〜１０、好ましくは２〜８のアルケニル基である。Ｒ１の１価炭化水素基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基；ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基などが挙げられ、中でもメチル基、フェニル基が好ましく、アルケニル基の例としては、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、シクロヘキセニル基、オクテニル基等が挙げられ、中でもビニル基、アリル基が好ましい。ａは０〜０．７、ｂは０〜０．９、ｃは０〜０．９９、ｄは０．０５〜０．７であり、但しａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１．０である。
【００４３】
また、（Ｂ１）成分は、下記一般式（３）で表される分子鎖両末端のケイ素原子上に各１個以上のビニル基を有する直鎖状オルガノポリシロキサンであってもよく、少量の分岐状構造（三官能性シロキサン単位）を分子鎖中に含有してもよい。２３℃における粘度が０．１〜１０，０００ｍＰａ・ｓ、好ましくは０．１〜５，０００ｍＰａ・ｓの液状オルガノポリシロキサンであれば、（Ａ）成分である球状シリカ粒子を高充填化できるなど、作業性、硬化性等の観点から好ましい。なお、下記一般式（３）で表されるオルガノポリシロキサンの粘度は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１１７−１：１９９９記載の回転粘度計による方法で測定した値である。
【化６】
2018203572.tif 000008
【００４４】
上記式中、Ｒ１は上述した通りであり、具体例としては前記式（１）にて例示したものと同様の置換基が挙げられる。Ｒ３は独立に炭素数１〜１０、好ましくは１〜６の１価炭化水素基であり、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基であり、好ましくはメチル基、エチル基である。ｇは１、２又は３であり、好ましくは１であり、ｘは１≦ｘ≦１，０００、好ましくは５≦ｘ≦５００、より好ましくは３０≦ｘ≦５００を満足する数である。
【００４５】
このような上記式（３）で表されるオルガノポリシロキサンとしては、具体的に下記のものを挙げることができる。
【００４６】
【化７】
2018203572.tif 000009
【００４７】
上記式中、ｘは上記と同様であり、ｘ１は０≦ｘ１≦１，０００、ｘ２は０≦ｘ２≦１，０００であり、ｘ１＋ｘ２＝ｘであり、ｙ、ｚは２≦ｙ≦１，０００、２≦ｚ≦１，０００である。
【００４８】
（Ｂ２）１分子中に２個以上のケイ素原子に結合した水素原子を有するオルガノポリシロキサン
（Ｂ）成分を構成する１分子中に２個以上のケイ素原子に結合した水素原子を有するオルガノポリシロキサン（Ｂ２）は、本発明の（Ｂ）成分において、架橋剤として作用するものであり、（Ｂ２）成分中のケイ素原子に結合した水素原子（ヒドロシリル基、ＳｉＨ基）と（Ｂ１）成分中のアルケニル基とが付加反応することにより硬化物を形成する。（Ｂ２）成分は、下記平均組成式（２）で示され、１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を含有するものであることが好ましい。
【化８】
2018203572.tif 000010
【００４９】
上記式（２）において、Ｒ２は独立して炭素数１〜７、好ましくは１〜３の１価飽和炭化水素基及び炭素数６〜７の芳香族炭化水素基から選ばれる基であり、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などのアルキル基、フェニル基、トリル基、ベンジル基などの芳香族炭化水素基などが挙げられ、好ましくはメチル基又はフェニル基である。
【００５０】
また、ｅは０．６〜２．０、好ましくは０．６〜１．８、ｆは０．４〜１．０、好ましくは０．４〜０．８であり、但しｅ＋ｆ＝１．０〜２．５、好ましくは１．５〜２．４を満たす。分子中ＳｉＨ基の位置は特に制限されず、分子鎖の末端であっても途中であってもよい。
【００５１】
なお、（Ｂ２）成分におけるＳｉＨ基の含有量は、好ましくは０．００１〜０．５ｍｏｌ／ｇ、更に好ましくは０．０５〜０．４ｍｏｌ／ｇである。
【００５２】
この（Ｂ２）成分の配合量は、上記（Ｂ１）成分の硬化有効量であり、特に、（Ｂ２）成分中のＳｉＨ基が（Ｂ１）成分中のアルケニル基（たとえばビニル基）の合計量当たり０．５〜８．０、より好ましくは０．８〜６．０、特に好ましくは０．８〜５．０、更に好ましくは１．０〜５．０のモル比で使用されることが好ましい。上記下限値以上であれば、硬化反応が良好に進行する。上記上限値以下であれば、未反応のＳｉＨ基が硬化物中に多量に残存しないため、脱脂及び焼結時に未反応の（Ｂ２）成分が揮発したり、（Ｂ２）成分中のＳｉＨ基が分解して水素ガスが発生したりする恐れがなく、これらが原因のボイドやクラックを抑制できる。
【００５３】
（Ｂ３）ヒドロシリル化反応触媒
（Ｂ３）成分のヒドロシリル化反応触媒は、（Ｂ１）成分中のアルケニル基と（Ｂ２）成分中のヒドロシリル基との付加反応を促進するために配合され、白金系、パラジウム系、ロジウム系等の白金族金属系触媒などが使用できるが、コスト等の見地から白金系触媒であることがよい。白金系触媒としては、例えば、Ｈ２ＰｔＣｌ６・ｍＨ２Ｏ、Ｋ２ＰｔＣｌ６、ＫＨＰｔＣｌ６・ｍＨ２Ｏ、Ｋ２ＰｔＣｌ４、Ｋ２ＰｔＣｌ４・ｍＨ２Ｏ、ＰｔＯ２・ｍＨ２Ｏ（ｍは、正の整数）等が挙げられる。また、前記白金系触媒とオレフィン等の炭化水素、アルコール又はビニル基含有オルガノポリシロキサンとの錯体等を用いることができる。上記触媒は１種単独でも２種以上の組み合わせであってもよい。
【００５４】
ヒドロシリル化反応触媒は、いわゆる触媒量で配合すればよく、例えば白金族金属系触媒であれば、前記（Ｂ１）及び（Ｂ２）成分の合計量１００質量部に対し、白金族金属換算（質量）で、好ましくは０．０００１〜２質量部、より好ましくは０．０００１〜０．０５質量部となる量で使用される。
【００５５】
その他の成分
本発明の（Ｂ）成分には、上述した（Ｂ１）成分、（Ｂ２）成分、及び（Ｂ３）成分以外の成分も、必要に応じて配合することができる。なお、その他の成分の例としては、反応抑制剤等が挙げられる。
【００５６】
本発明の透明シリカガラスは、このような組成物の焼結体である。このような本発明の透明シリカガラスであれば、バインダーとしてシリカの構成元素であるケイ素や酸素を含むオルガノポリシロキサン組成物を用いることで、内部にｐｐｍオーダーで残存する失透の原因となる不純物をできる限り減らすことができ、くすみなどがなく透明性が非常に高く、どの波長でも透過率に優れた透明シリカガラスとなる。また、本発明の透明シリカガラスは、容易に製造することができ、ボイドやクラックが発生する恐れがない高精度の透明シリカガラスとなる。このような本発明の透明シリカガラスを用いれば、高価な石英ガラスを用いなくても、安価で高品質なＵＶ用パッケージを容易に作製することができる。
【００５７】
＜透明シリカガラスの製造方法＞
また、本発明では、下記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分；
（Ａ）平均粒径が０．０１〜１５０μｍであり、かつアスペクト比が１．００〜１．５０である球状シリカ粒子：８０〜９９．９質量部
（Ｂ）２３℃における屈折率が１．４０〜１．５５であり、２３℃における粘度が０．１〜１０，０００ｍＰａ・ｓであり、ヒドロシリル化反応触媒を含むオルガノポリシロキサン組成物：０．１〜２０質量部
を含む組成物を調製する工程の後に、該組成物を成形し、成形体を形成する工程、次いで、該成形体を４００〜１，２００℃で１０分間〜１２時間加熱し、脱脂する工程、さらに、該脱脂した成形体を１，４００〜１，８００℃で１〜６０分間加熱し、焼結する工程を有する透明シリカガラスの製造方法を提供する。以下、各工程について詳しく説明する。
【００５８】
組成物調製工程
本発明の透明シリカガラスの製造方法では、まず、（Ａ）成分と（Ｂ）成分を含む組成物を調製する。なお、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分については、上述の透明シリカガラスの説明で挙げたものと同様のものを使用することができる。組成物は、上述した各成分を同時に、又は別々に、必要により加熱処理を加えながら撹拌、溶解、混合及び分散させることにより調製することができるが、通常は、（Ｂ１）、（Ｂ２）及び（Ｂ３）成分を先に混合しオルガノポリシロキサン組成物（Ｂ）を調製した後に、球状シリカ粒子（Ａ）と混合することが好ましい。
【００５９】
調製したオルガノポリシロキサン組成物（Ｂ）に球状シリカ粒子（Ａ）を混合する際の撹拌等の操作に用いる装置は特に限定されないが、撹拌、加熱装置を備えたライカイ機、３本ロール、ボールミル、プラネタリーミキサー、自転公転式ミキサー等を用いることができる。また、これら装置を適宜組み合わせてもよい。
【００６０】
成形工程
本発明の透明シリカガラスの製造方法では、次に、上記のようにして調製した組成物を成形し、成形体を形成する。成形方法は特に限定されず、公知の方法で所望の形状に成形すればよい。
【００６１】
脱脂工程
本発明の透明シリカガラスの製造方法では、次に、上記のようにして形成した成形体を４００〜１，２００℃で１０分間〜１２時間加熱し、脱脂する。シリカ含有シリコーン樹脂組成物は、脱脂することにより徐々に炭素成分が除去される。脱脂工程がないと、焼結時に残存する炭素成分が炭化してしまい、失透の原因となる。脱脂工程は塩化水素ガス以外、例えばヘリウムガスや窒素ガスの雰囲気下で最高温度が４００〜１，２００℃、好ましくは５００〜１，０００℃で１０分〜１２時間、好ましくは１〜６時間処理する。４００℃未満では脱脂が十分に進まず、焼結時に失透する。１，２００℃を超えると、シリカの結晶化が進み失透する。
【００６２】
純化工程
本発明の透明シリカガラスの製造方法では、焼結工程前にＡｌ、Ｎａ及びＦｅなどを除去する工程である純化工程を取り入れてもよい。純化工程を行う場合は、塩化水素ガス雰囲気下で最高温度が１，０００〜１，５００℃、好ましくは１，０００〜１，３００℃、より好ましくは１，１００〜１，３００℃で０．５〜５時間、好ましくは０．５〜２時間の条件で処理する。
【００６３】
焼結工程
本発明の透明シリカガラスの製造方法では、次に、上記のようにして脱脂（必要に応じて純化）した成形体を１，４００〜１，８００℃で１〜６０分間加熱し、焼結することで透明シリカガラスを作製する。脱脂後の本発明のシリカ含有オルガノポリシロキサン樹脂組成物の焼結条件は特に制限されるものではないが、通常、不活性ガス、例えばヘリウムガスや窒素ガス等の雰囲気下で１，４００〜１，８００℃、好ましくは１，５００〜１，８００℃で焼結させることができる。１，４００℃未満ではシリカ同士の融着による焼結が進まず、失透する。１，８００℃以上ではシリカの結晶化が促進され、失透する。焼結時間は１分〜６０分、好ましくは１〜３０分程度で焼結させることができる。１分未満だとシリカ同士が十分に融着せず、失透する。６０分を超えてくるとシリカの結晶化が更に促進されるため失透する。
【００６４】
検査工程
本発明の透明シリカガラスの製造方法では、焼結工程後に検査工程として、紫外領域から可視領域での透過性を測定するために、ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５：１９８１記載の方法で厚さ１ｍｍの透明シリカガラスの透過率を測定する工程を追加することができる。波長が２５０〜３００ｎｍの範囲の光における透過率が９０％以上であれば好ましく、９２〜１００％であれば更に好ましい。このような光透過率であれば、輝度が良好なＵＶ用レンズ材料として好適に用いることができる。上記範囲の光透過性を有する透明シリカガラスを検査工程によって選別することで、高純度・高透明な透明ガラス成形体のみを得ることができる。
【００６５】
このような本発明の透明シリカガラスの製造方法であれば、バインダーとしてオルガノポリシロキサン組成物を用いることで、有機基をできるだけ少なくすることができるため、バインダー中の炭素成分を燃焼させるための脱脂工程にかかる時間を短縮することができ、しかも高温時に反応が進むことによりバインダーがシリカとなるため、従来のバインダーとは異なり脱脂及び焼結時の体積収縮を極限まで減らすことができる。従って、ボイドやクラックが発生する恐れがなく、上記のような高透明かつ高精度の透明シリカガラスを容易に製造することができる。
【実施例】
【００６６】
以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。また、以下の式において、Ｍｅはメチル基、Ｖｉはビニル基、Ｐｈはフェニル基である。
【００６７】
本発明の実施例及び比較例で用いた材料を示す。
（Ａ）球状シリカ粒子
球状シリカ粒子としては下記表１に記載したものを用いた。
平均粒径はレーザー回折式粒度分布測定装置（日機装（株）製「ＭｉｃｒｏｔｒａｃＨＲＡ（Ｘ−１００）」）による体積平均径の値を用いた。
【００６８】
アスペクト比はＳＥＭによって撮影されたＳＥＭ画像を、画像解析ソフト（三谷産業（株）製  ＷＩＮＲＯＯＦ２０１５）で求めた長径（Ｄ）と短径（ｄ）の比、Ｄ／ｄの値を用いた。
【００６９】
金属不純物量は、ＩＣＰ−ＯＥＳ（Ａｇｉｌｅｎｔ社製  ７３０−ＥＳ  ＩＣＰ−ＯＥＳ）で測定した。サンプル０．３ｇをフッ酸及び硝酸で溶解後、該溶液を加熱乾固させ、該乾固物に対して、濃硝酸０．５ｍＬ及び適量の水を加えて加熱濃縮し、再度水で２ｍＬに定容し測定用溶液を調製した。得られた測定値から、絶対検量線法によってＡｌ，Ｆｅ，Ｎａ量を定量した。
【００７０】
【表１】
2018203572.tif 000011
アドマファインＳＯ−Ｅ５、ＳＯ−Ｅ５高純度品、ＳＯ−Ｃ５：アドマテックス（株）製
ＥＭＩＸ−１００：（株）龍森製
ＧＢ−ＡＣ：マコー（株）製
ＭＫＣシリカ：日本化成（株）製
【００７１】
（Ｂ１）のアルケニル基含有オルガノポリシロキサンについては、
アルケニルオルガノポリシロキサンＡ
（ＳｉＯ４／２）単位  ４５ｍｏｌ％、
（Ｍｅ３ＳｉＯ１／２）単位  ４０ｍｏｌ％
（Ｍｅ２ＶｉＳｉＯ１／２）単位  １５ｍｏｌ％
ビニル基当量  ０．１０ｍｏｌ／１００ｇ
アルケニルオルガノポリシロキサンＢ
（ＰｈＳｉＯ３／２）単位  ７０ｍｏｌ％
（Ｍｅ２ＶｉＳｉＯ１／２）単位  ３０ｍｏｌ％
ビニル基当量  ０．２０ｍｏｌ／１００ｇ
アルケニルオルガノポリシロキサンＣ
（Ｍｅ２ＳｉＯ２／２）単位  ９０ｍｏｌ％
（Ｍｅ２ＶｉＳｉＯ１／２）単位  １０ｍｏｌ％
ビニル基当量  ０．１３ｍｏｌ／１００ｇ
アルケニルオルガノポリシロキサンＤ
（Ｍｅ２ＳｉＯ２／２）単位  ９５ｍｏｌ％
（Ｍｅ２ＶｉＳｉＯ１／２）単位  ５ｍｏｌ％
ビニル基当量  ０．０６７ｍｏｌ／１００ｇ
アルケニルオルガノポリシロキサンＥ
（ＭｅＰｈＳｉＯ2／2）単位  ９０ｍｏｌ%
（Ｍｅ２ＶｉＳｉＯ１／２）単位  １０ｍｏｌ％
ビニル基当量  ０．０７６ｍｏｌ／１００ｇ
アルケニルオルガノポリシロキサンＦ
（Ｍｅ２ＳｉＯ２／２）単位  ６３ｍｏｌ％
（Ｐｈ２ＳｉＯ２／２）単位  ３０ｍｏｌ％
（Ｍｅ２ＶｉＳｉＯ１／２）単位  ７ｍｏｌ％
ビニル基当量  ０．０５９ｍｏｌ／１００ｇ
を使用した。
【００７２】
（Ｂ２）ハイドロジェンオルガノポリシロキサンについては、
ハイドロジェンオルガノポリシロキサンＡ
（ＭｅＨＳｉＯ２／２）単位  ７５ｍｏｌ％
（Ｍｅ３ＳｉＯ１／２）単位  ２５ｍｏｌ％
ヒドロシリル基当量  ０．０１１４ｍｏｌ／ｇ
ハイドロジェンオルガノポリシロキサンＢ
（ＭｅＨＳｉＯ２／２）単位  ９５ｍｏｌ％
（Ｍｅ３ＳｉＯ１／２）単位  ５ｍｏｌ％
ヒドロシリル基当量  ０．０１５５ｍｏｌ／ｇ
ハイドロジェンオルガノポリシロキサンＣ
（ＭｅＨＳｉＯ２／２）単位  ６７ｍｏｌ％
（Ｐｈ２ＳｉＯ２／２）単位  ３０ｍｏｌ％
（Ｍｅ３ＳｉＯ１／２）単位  ３ｍｏｌ％
ヒドロシリル基当量  ０．００６５２ｍｏｌ／ｇ
ハイドロジェンオルガノポリシロキサンＤ
（Ｍｅ２ＨＳｉＯ１／２）単位  ５０ｍｏｌ％
（Ｐｈ２ＳｉＯ２／２）単位  ５０ｍｏｌ％
ヒドロシリル基当量  ０．００４０２ｍｏｌ／ｇ
ハイドロジェンオルガノポリシロキサンＥ
（Ｍｅ２ＨＳｉＯ１／２）単位  ６７ｍｏｌ％
（ＰｈＳｉＯ３／２）単位  ３３ｍｏｌ％
ヒドロシリル基当量  ０．００７５９ｍｏｌ／ｇ
を使用した。
【００７３】
（Ｂ３）のヒドロシリル化反応触媒については、塩化白金酸のビニルシリコーン変性溶液（白金濃度１質量％）を使用した。
【００７４】
これらの他に反応抑制剤として、エチニルシクロヘキサノールの５０質量％トルエン溶液を使用した。
【００７５】
（調製例１〜８、比較調製例１〜４）
まず、オルガノポリシロキサン組成物を下記表２に示す配合でプラネタリーミキサーを用いて調製した。また、調製したオルガノポリシロキサン組成物について、以下の配合時特性を評価し、その結果を表２に記載した。
【００７６】
［屈折率］
ＪＩＳ  Ｋ  ００６２：１９９２に準拠してサンプルの２３℃での屈折率（ｎＤ２３）を測定した。
【００７７】
［粘度］
ＪＩＳ  Ｋ  ７１１７−１：１９９９に準拠してサンプルの２３℃での粘度を、回転粘度計によって測定した。
【００７８】
［残分率］
ＴＧＡ装置（ＴＡインスツルメント製  Ｑ５００）で、サンプル１０ｍｇを秤量し、２５℃から１，０００℃まで昇温速度を２０℃／分で昇温して、１，０００℃で３０分間保持した後、サンプル質量を測定して下記式によって残分率を求めた。
【数２】
2018203572.tif 000012
【００７９】
【表２】
2018203572.tif 000013
【００８０】
（比較調製例５）
オルガノポリシロキサン組成物（Ｂ）の代わりにメチルセルロース（商品名：メトローズＳＭ−４０００、信越化学工業（株）製）を８ｇ、水を９２ｇ加えプラネタリーミキサーで混合し、メチルセルロースバインダー組成物を作製した。
【００８１】
（比較調製例６）
オルガノポリシロキサン組成物（Ｂ）の代わりにポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を８ｇ、純水を９２ｇ加え自転公転式ミキサーを用いて２，０００回転で１分間、次いで２，２００回転で１分間混合し、ＰＶＡバインダー組成物を作製した。
【００８２】
（実施例１〜１５、比較例１〜１１）
調製例１〜８及び比較調製例１〜６で調製したオルガノポリシロキサン組成物あるいはバインダー組成物と、各シリカ粒子を混合し、以下の特性を測定した。その結果を表３、表４に示す。
【００８３】
［成形性］
シリカ粒子混合後の組成物を３０×３０×１ｍｍの金型に注入し、圧縮成形機（ＴＯＷＡ株式会社製）を用いて成形圧力０．５ＭＰａで８０℃×５分間加熱して成形し、得られた成形体のフローマーク、未充填及びクラック発生の有無を確認した。
【００８４】
［透過率］
成形性の評価と同じ条件で成形したサンプルを１，０００℃×２時間加熱することで脱脂し、その後に焼成炉（島津アクセス社製  ＶＥＳＴＡ）を用いて１，６５０℃で１０分間加熱し、焼結した。焼結後のサンプルは、波長が２００〜８００ｎｍの範囲の光における透過率を紫外可視光分光光度計（日立テクノシステム社製  Ｕ−４１００）で、走査速度３００ｎｍ／分で測定し、波長が２５０ｎｍ及び３００ｎｍの光透過率を評価した。焼結物にクラックなどが生じ、測定できなかった場合は「測定不可」と記載した。
【００８５】
［外観］
透過率の評価で用いた焼結後のサンプルについて、外観を目視にて評価し、色調、透明性、クラックの有無などを評価した。無色透明でクラックがない場合は、「無色透明」と記載し、何か異常がある場合はその旨表３、４記載した。
【００８６】
［焼結後の不純物量］
焼結後の金属不純物量をＩＣＰ−ＯＥＳ（Ａｇｉｌｅｎｔ社  ７３０−ＥＳ  ＩＣＰ−ＯＥＳ）で測定した。サンプル０．３ｇをフッ酸及び硝酸で溶解後、該溶液を加熱乾固させ、該乾固物に対して、濃硝酸０．５ｍＬ及び適量の水を加えて加熱濃縮し、再度水で２ｍＬに定容し測定用溶液を調製した。得られた測定値から、絶対検量線法によってＡｌ，Ｆｅ，Ｎａ量を定量した。その結果を表３、表４に示す。
【００８７】
【表３】
2018203572.tif 000014
【００８８】
【表４】
2018203572.tif 000015
【００８９】
表３に示されるように、実施例１〜１５で作製した透明シリカガラスは、成形性がよく、くすみなどがなく高透明であり、容易に製造することができた。
【００９０】
表２、表４に示されるように、粘度が１０，０００ｍＰａ・ｓを超える比較例１〜７では、焼結時に樹脂とシリカが密に存在しないために透過率が低かったり、成形性が非常に悪く、クラックや未充填が発生したりした。また、メチルセルロースを使用した比較例８、及びＰＶＡを使用した比較例９〜１１では、透過率が低かった。
【００９１】
以上のことから、本発明であれば、このようなくすみなどがなく高透明な透明シリカガラスを容易に製造することができることが明らかになった。
【００９２】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。