(57)【要約】【課題】本発明は高温高湿下において、優れた屈曲耐久性を有する有機ＥＬ表示装置を提供することを主目的とする。【解決手段】本発明は、第１基材、および上記第１基材の一方の面に配置された第１層を有する第１積層体と、第２基材、ならびに上記第２基材の一方の面に配置された有機ＥＬ層を備えた有機ＥＬ素子基材、および上記有機ＥＬ層の上記第２基材とは反対側の面に配置された第２層を有する第２積層体と、上記第１積層体および上記第２積層体に挟持された粘着層とを有し、上記第１層の厚みは４５０ｎｍ以上６００ｎｍ以下であり、上記第１積層体の上記第１層側の面、および上記第２積層体の上記第２層側の面が、上記粘着層を介して対向し、上記第１層は、無機層、および上記無機層の一方の面に配置された有機層を有することを特徴とする有機ＥＬ表示装置を提供することにより、上記課題を解決する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基材、および前記第１基材の一方の面に配置された第１層を有する第１積層体と、
第２基材、ならびに前記第２基材の一方の面に配置された有機エレクトロルミネッセンス層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子基材、および前記有機エレクトロルミネッセンス層の前記第２基材とは反対側の面に配置された第２層を有する第２積層体と、
前記第１積層体および前記第２積層体に挟持された粘着層と
を有し、
前記第１層の厚みは４５０ｎｍ以上６００ｎｍ以下であり、
前記第１積層体の前記第１層側の面、および前記第２積層体の前記第２層側の面が、前記粘着層を介して対向し、
前記第１層は、無機層、および前記無機層の一方の面に配置された有機層を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項２】
前記第１層は、前記無機層および前記有機層が複数回繰り返し積層され、
前記無機層の厚みは１１ｎｍ以上２００ｎｍ未満であることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項３】
第１基材、および前記第１基材の一方の面に配置された第１層を有する第１積層体と、
第２基材、ならびに前記第２基材の一方の面に配置された有機エレクトロルミネッセンス層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子基材、および前記有機エレクトロルミネッセンス層の前記第２基材とは反対側の面に配置された第２層を有する第２積層体と、
前記第１積層体および前記第２積層体に挟持された粘着層と
を有し、
前記第１層の厚みは４５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、
前記第１積層体の前記第１層側の面、および前記第２積層体の前記第２層側の面が、前記粘着層を介して対向し、
前記第１層は、無機層、および前記無機層の一方の面に配置された有機層を有し、
前記無機層の厚みは１１ｎｍ以上２００ｎｍ未満であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項４】
前記第１積層体の水蒸気透過率が、９．０×１０−２ｇ／ｍ２ｄａｙ以下であることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項５】
基材と、
前記基材の一方の面に配置された第１層と
を有し、
前記第１層は、無機層、および前記無機層の一方の面に配置された有機層を有し、
前記第１層の厚みは４５０ｎｍ以上６００ｎｍ以下であり、
有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置用積層体。
【請求項６】
水蒸気透過率が、９．０×１０−２ｇ／ｍ２ｄａｙ以下であることを特徴とする請求項５に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置用積層体。
【請求項７】
第１基材、および前記第１基材の一方の面に配置された第１層を有する第１積層体を準備する第１積層体準備工程と、
第２基材、ならびに前記第２基材の一方の面に配置された有機エレクトロルミネッセンス層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子基材、および前記有機エレクトロルミネッセンス層の前記第２基材とは反対側の面に配置された第２層を有する第２積層体を準備する第２積層体準備工程と、
前記第１積層体の前記第１層側の面、および前記第２積層体の前記第２層側の面が対向するように、粘着層を介して貼合する貼合工程と
を有し、
前記第１層は、無機層、および前記無機層の一方の面に配置された有機層を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、バリア性を有する第１層を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置、有機ＥＬ表示装置用積層体、および有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、パーソナルコンピューター、特に携帯用のパーソナルコンピューターの発達に伴い、表示装置の需要が増している。また、最近では、家庭用の液晶テレビの普及率も高まっており、スマートフォン、タブレット端末も広く普及しつつあることから、益々表示装置の市場は拡大する状況にある。
【０００３】
このような表示装置には、例えば、有機エレクトロルミネッセンス表示装置がある。有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、幅広い分野での普及に伴い、信頼性の向上が求められている。以下、有機エレクトロルミネッセンスを有機ＥＬと略して説明する場合がある。
【０００４】
ところで、有機ＥＬ表示装置は、例えば、次のような構成を有する。図９は従来の有機ＥＬ表示装置の一例を示す概略断面図である。図９に示すように、従来の有機ＥＬ表示装置１００’は、例えば、第１基材１０ａと、第２基材１０ｂならびに有機ＥＬ層５０（ここでは、赤色発光層５０Ｒ、緑色発光層５０Ｇおよび青色発光層５０Ｂ）を備えた有機ＥＬ素子基材４０およびバリア層３０を有する積層体２０とが、粘着層６０を介して貼合された構成を有する。このような構成を有する有機ＥＬ表示装置は、粘着層を介して２つの部材または積層体を貼合することで製造することができるため、例えば、図９における第１基材１０ａまたは第２基材１０ｂの一方から、各部材を順に積層して製造する場合に比べて、歩留まりの高い有機ＥＬ表示装置とすることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−２０６２４１号公報
【特許文献２】特許第４８９７３４１号
【特許文献３】特許第４８３２８８７号
【特許文献４】特許第４８７８８２５号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の発明者等は、図９に示すような構成を有する有機ＥＬ表示装置の信頼性について検討を行った。具体的には、有機ＥＬ表示装置に対して、温度６０℃および湿度９０％の環境下にて、曲げ半径３ｍｍの屈曲耐久試験を２０万回以上実施し、有機ＥＬ表示装置の高温高湿下での屈曲耐久性について検討を行った。その結果、例えば、図９に示すような構成を有する有機ＥＬ表示装置では、粘着層６０が剥がれてしまうという不具合が生じた。すなわち、従来の構成を有する有機ＥＬ表示装置においては、高温高湿下における屈曲耐久性に課題がある。
【０００７】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、高温高湿下において、優れた屈曲耐久性を有する有機ＥＬ表示装置を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の発明者等は、上記課題を解決するために鋭意研究を行った。具体的には、従来の有機ＥＬ表示装置に対して、高温高湿下にて上述した屈曲耐久試験を行った際に、粘着層が剥がれるという不具合が生じる原因について検討を重ねた。その結果、本発明の発明者等は、粘着層に水分が入り込むことにより、粘着層に含まれる粘着材料に対して、水分が何らかの影響を与えているという知見を得た。本発明の発明者等は、このような知見に基づいて、本発明を完成させるに至った。
【０００９】
すなわち、本発明は、第１基材、および上記第１基材の一方の面に配置された第１層を有する第１積層体と、第２基材、ならびに上記第２基材の一方の面に配置された有機ＥＬ層を備えた有機ＥＬ素子基材、および上記有機ＥＬ層の上記第２基材とは反対側の面に配置された第２層を有する第２積層体と、上記第１積層体および上記第２積層体に挟持された粘着層とを有し、上記第１層の厚みは４５０ｎｍ以上６００ｎｍ以下であり、上記第１積層体の上記第１層側の面、および上記第２積層体の上記第２層側の面が、上記粘着層を介して対向し、上記第１層は、無機層、および上記無機層の一方の面に配置された有機層を有することを特徴とする有機ＥＬ表示装置を提供する。
【００１０】
本発明によれば、第１積層体および第２積層体が粘着層を介して貼合された構成を有する有機ＥＬ表示装置において、有機ＥＬ素子基材とは反対側の第１積層体が、所定の厚みを有する第１層を有することにより、粘着層を、当該第１層および第２積層体における第２層によって挟持することができる。したがって、高温高湿下において、有機ＥＬ表示装置に対して屈曲耐久性試験を行った際に、粘着層への水分の侵入による剥がれを抑制することができ、優れた屈曲耐久性を有する有機ＥＬ表示装置とすることができる。
【００１１】
本発明においては、上記第１層は、上記無機層および上記有機層が複数回繰り返し積層され、上記無機層の厚みは１１ｎｍ以上２００ｎｍ未満であることが好ましい。第１層が、無機層および有機層が複数回繰り返し積層された構成であり、無機層が所定の厚みであることにより、高温高湿下において、有機ＥＬ表示装置に対して屈曲耐久性試験を行った際に、粘着層への水分の侵入による剥がれを効果的に抑制することができ、より優れた屈曲耐久性を有する有機ＥＬ表示装置とすることができる。
【００１２】
また、本発明は、第１基材、および上記第１基材の一方の面に配置された第１層を有する第１積層体と、第２基材、ならびに上記第２基材の一方の面に配置された有機ＥＬ層を備えた有機ＥＬ素子基材、および上記有機ＥＬ層の上記第２基材とは反対側の面に配置された第２層を有する第２積層体と、上記第１積層体および上記第２積層体に挟持された粘着層とを有し、上記第１層の厚みは４５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、上記第１積層体の上記第１層側の面、および上記第２積層体の上記第２層側の面が、上記粘着層を介して対向し、上記第１層は、無機層、および上記無機層の一方の面に配置された有機層を有し、上記無機層の厚みは１１ｎｍ以上２００ｎｍ未満であることを特徴とする有機ＥＬ表示装置を提供する。
【００１３】
本発明によれば、第１積層体および第２積層体が粘着層を介して貼合された構成を有する有機ＥＬ表示装置において、有機ＥＬ素子基材とは反対側の第１積層体が、所定の厚みを有し、かつ所定の厚みの無機層を含む第１層を有することにより、粘着層を、当該第１層および第２積層体における第２層によって挟持することができる。したがって、高温高湿下において、有機ＥＬ表示装置に対して屈曲耐久性試験を行った際に、粘着層への水分の侵入による剥がれを抑制することができ、優れた屈曲耐久性を有する有機ＥＬ表示装置とすることができる。
【００１４】
本発明においては、上記第１積層体の水蒸気透過率が、９．０×１０−２ｇ／ｍ２ｄａｙ以下であることが好ましい。第１積層体の水蒸気透過率が所定の範囲内であることにより、第１積層体側からの粘着層への水分の侵入を効果的に抑制することができる。したがって、より優れた屈曲耐久性を有する有機ＥＬ表示装置とすることができる。
【００１５】
また、本発明は、基材と、上記基材の一方の面に配置された第１層とを有し、上記第１層は、無機層、および上記無機層の一方の面に配置された有機層を有し、上記第１層の厚みは４５０ｎｍ以上６００ｎｍ以下であり、有機ＥＬ表示装置に用いられることを特徴とする有機ＥＬ表示装置用積層体を提供する。
【００１６】
本発明によれば、本発明の有機ＥＬ表示装置用積層体と、有機ＥＬ素子基材を有する他の積層体とを粘着層を介して貼合させて有機ＥＬ表示装置を形成した際、有機ＥＬ表示装置用積層体が所定の厚みを有する第１層を有することにより、高温高湿下において、有機ＥＬ表示装置に対して屈曲耐久性試験を行った場合であっても、粘着層への水分の侵入による剥がれを抑制することができ、優れた屈曲耐久性を有する有機ＥＬ表示装置を得ることが可能な有機ＥＬ表示装置用積層体とすることができる。
【００１７】
本発明においては、水蒸気透過率が、９．０×１０−２ｇ／ｍ２ｄａｙ以下であることが好ましい。本発明の有機ＥＬ表示装置用積層体と、有機ＥＬ素子基材を有する他の積層体とを粘着層を介して貼合させて有機ＥＬ表示装置を形成した際、本発明の有機ＥＬ表示装置用積層体の水蒸気透過率が所定の範囲内であることにより、高温高湿下において、有機ＥＬ表示装置に対して屈曲耐久試験を行った場合であっても、有機ＥＬ表示装置用積層体側からの粘着層への水分の侵入を効果的に抑制することができる。したがって、より優れた屈曲耐久性を有する有機ＥＬ表示装置を得ることが可能な有機ＥＬ表示装置用積層体とすることができる。
【００１８】
さらに、本発明は、第１基材、および上記第１基材の一方の面に配置された第１層を有する第１積層体を準備する第１積層体準備工程と、第２基材、ならびに上記第２基材の一方の面に配置された有機ＥＬ層を備えた有機ＥＬ素子基材、および上記有機ＥＬ層の上記第２基材とは反対側の面に配置された第２層を有する第２積層体を準備する第２積層体準備工程と、上記第１積層体の上記第１層側の面、および上記第２積層体の上記第２層側の面が対向するように、粘着層を介して貼合する貼合工程とを有し、上記第１層は、無機層、および上記無機層の一方の面に配置された有機層を有することを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供する。
【００１９】
本発明によれば、第１積層体および第２積層体が粘着層を介して貼合された構成を有する有機ＥＬ表示装置において、有機ＥＬ素子基材とは反対側の第１積層体が第１層を有することにより、粘着層を、第１層および第２積層体における第２層によって挟持することができる。したがって、高温高湿下において、有機ＥＬ表示装置に対して屈曲耐久性試験を行った際に、粘着層への水分の侵入による剥がれを抑制することができ、優れた屈曲耐久性を有する有機ＥＬ表示装置を得ることができる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明は、高温高湿下において、優れた屈曲耐久性を有する有機ＥＬ表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の有機ＥＬ表示装置の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明における第１層の一例を示す概略断面図である。
【図３】本発明における第１層の他の例を示す概略断面図である。
【図４】本発明における第１積層体の一例を示す概略断面図である。
【図５】本発明における第１積層体の他の例を示す概略断面図である。
【図６】本発明における第２積層体の一例を示す概略断面図である。
【図７】本発明における第２積層体の他の例を示す概略断面図である。
【図８】本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法の一例を示す概略工程図である。
【図９】従来の有機ＥＬ表示装置の一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、有機ＥＬ表示装置、有機ＥＬ表示装置用積層体、および有機ＥＬ表示装置の製造方法について説明する。
【００２３】
Ａ．有機ＥＬ表示装置
本発明の有機ＥＬ表示装置は、第１基材、および上記第１基材の一方の面に配置された第１層を有する第１積層体と、第２基材、ならびに上記第２基材の一方の面に配置された有機ＥＬ層を備えた有機ＥＬ素子基材、および上記有機ＥＬ層の上記第２基材とは反対側の面に配置された第２層を有する第２積層体と、上記第１積層体および上記第２積層体に挟持された粘着層とを有し、上記第１層の厚みは４５０ｎｍ以上６００ｎｍ以下であり、上記第１積層体の上記第１層側の面、および上記第２積層体の上記第２層側の面が、上記粘着層を介して対向し、上記第１層は、無機層、および上記無機層の一方の面に配置された有機層を有することを特徴とする装置である。
【００２４】
また、本発明の有機ＥＬ表示装置は、第１基材、および上記第１基材の一方の面に配置された第１層を有する第１積層体と、第２基材、ならびに上記第２基材の一方の面に配置された有機ＥＬ層を備えた有機ＥＬ素子基材、および上記有機ＥＬ層の上記第２基材とは反対側の面に配置された第２層を有する第２積層体と、上記第１積層体および上記第２積層体に挟持された粘着層とを有し、上記第１層の厚みは４５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、上記第１積層体の上記第１層側の面、および上記第２積層体の上記第２層側の面が、上記粘着層を介して対向し、上記第１層は、無機層、および上記無機層の一方の面に配置された有機層を有し、上記無機層の厚みは１１ｎｍ以上２００ｎｍ未満であることを特徴とする装置である。
【００２５】
以下、無機層および有機層について、第１無機層、第１有機層、第２無機層、第２有機層等と番号を付して説明する場合がある。
【００２６】
本発明の位相差調整基材について、図を参照しながら説明する。
図１は、本発明の有機ＥＬ表示装置の一例を示す概略断面図である。図１に示す有機ＥＬ表示装置１００は、第１基材１０ａ、および第１基材１０ａの一方の面に配置された第１層３０ａを有する第１積層体２０ａと、第２基材１０ｂおよび有機ＥＬ層５０（ここでは、赤色発光層５０Ｒ、緑色発光層５０Ｇ、青色発光層５０Ｂ）を備えた有機ＥＬ素子基材４０、ならびに有機ＥＬ素子基材４０の有機ＥＬ層５０側の面に配置された第２層３０ｂを有する第２積層体２０ｂと、第１積層体２０ａおよび第２積層体２０ｂに挟持された粘着層６０とを有する。なお、本発明の有機ＥＬ表示装置１００は、図１に示すように、第１積層体２０ａの第１層３０ａ側の面、および第２積層体２０ｂの第２層３０ｂ側の面が、粘着層６０を介して対向するような構成を有する。
【００２７】
図２は、本発明の有機ＥＬ表示装置における第１層の一例を示す概略断面図である。図２に示すように、本発明における第１層３０ａは、第１無機層３１ａ、および第１無機層３１ａの一方の面に配置された第１有機層３１ｂを有する。
【００２８】
本発明によれば、第１積層体および第２積層体が粘着層を介して貼合された構成を有する有機ＥＬ表示装置において、有機ＥＬ素子基材とは反対側の第１積層体が第１層を有することにより、粘着層を、第１層および第２積層体における第２層によって挟持することができる。したがって、高温高湿下において、有機ＥＬ表示装置に対して屈曲耐久性試験を行った際に、粘着層への水分の侵入による剥がれを抑制することができ、優れた屈曲耐久性を有する有機ＥＬ表示装置とすることができる。
【００２９】
このような効果が得られる理由について、以下、具体的に説明する。
まず、従来の有機ＥＬ表示装置は、例えば、図９に示すように、粘着層６０の一方の面、すなわち、有機ＥＬ素子基材４０側の面にのみ、第１層３０を備えている。そのため、例えば、高温高湿下において、有機ＥＬ表示装置に対して屈曲耐久試験を行った際には、第１層を有する面側からの粘着層への水分の侵入を抑制できたとしても、第１層を有しない面側からの粘着層への水分の侵入を抑制することは困難であった。また、従来の有機ＥＬ表示装置における第１層は、有機ＥＬ素子基材の表面に配置され、本来、有機ＥＬ素子基材への水分や酸素の侵入を抑制することを目的とした部材であり、粘着層への水分の侵入を想定して配置された部材ではない。
これに対し、本発明においては、粘着層が、第１層および第２層により挟持された構成とすることにより、例えば、高温高湿下において、有機ＥＬ表示装置に対して屈曲耐久試験を行った際に、粘着層への水分の侵入を抑制し、粘着層が剥がれるといった不具合の発生を抑制することができると考えられる。
【００３０】
また、本発明においては、第１層が、第１無機層および第１有機層の積層構造を有することにより、所望のバリア性を有する第１層とすることができる。具体的には、例えば第１無機層にピンホール等の欠陥が生じた場合であっても、当該ピンホールを第１有機層によって埋めることができるため、第１無機層の欠陥によるバリア性の低下を抑制することができ、所望のバリア性を達成することができる。
また、第１層において、第１基材とは反対側の面となる層、すなわち、第１層の第１基材とは反対側の最外層を第１有機層とすることにより、第１層の第１基材とは反対側の面で接触する部材、特に有機材料を含有する有機層との密着性が向上するという効果が得られる。
さらに、第１層における第１有機層がクッション性を有するため、第１層に所定の屈曲性を付与することができ、フレキシブル性を有する有機ＥＬ表示装置に良好に用いることができるという効果が得られる。
【００３１】
以下、本発明の有機ＥＬ表示装置について詳細に説明する。
【００３２】
本発明の有機ＥＬ表示装置は、フレキシブル性を有する装置である。ここで、「フレキシブル性を有する」とは、有機ＥＬ表示装置を設置した面に追従させることができる程度のフレキシブル性を有することを指し、有機ＥＬ表示装置の用途に応じて適宜変更されるため、数値等によって特に規定されない。
【００３３】
以下、本発明の有機ＥＬ表示装置を構成する各部材について詳細に説明する。
【００３４】
１．第１積層体
本発明における第１積層体は、第１基材、および第１基材の一方の面に配置された第１層を有する部材である。
【００３５】
本発明における第１積層体は、第１層を有することにより、第１積層体側から粘着層への水分の侵入を抑制することができる。すなわち、第１積層体に所定のバリア性を付与することができ、結果として、有機ＥＬ表示装置に対して高温高湿下にて屈曲耐久試験を行った際に、粘着層から剥がれるといった不具合の発生を抑制し、信頼性の高い有機ＥＬ表示装置とすることができる。したがって、本発明における第１層は、バリア層として機能することができる。
【００３６】
ここで、第１積層体に付与される「所定のバリア性」とは、第１積層体側から粘着層への水分の侵入を抑制することができ、信頼性の高い有機ＥＬ表示装置とすることができる程度のバリア性であることが好ましい。具体的には、第１積層体の水蒸気透過率が、９．０×１０−２ｇ／ｍ２ｄａｙ以下であることが好ましく、中でも３．０×１０−２ｇ／ｍ２ｄａｙ以下、特に１．０×１０−２ｇ／ｍ２ｄａｙ以下であることが好ましい。第１積層体の水蒸気透過率が上記範囲内であることにより、第１積層体側から粘着層への水分の侵入を効果的に抑制することができる。また、第１積層体の水蒸気透過率は、主に、第１積層体を構成する第１層の構成に応じて適宜調整することができる。
なお、水蒸気透過率は、定温度６０℃、湿度９０Ｒｈの条件下で、水蒸気透過率測定装置（Ｔｅｃｈｎｏｌｏｘ社製  ＤＥＬＴＡＰＡＲＭ）を用いて測定した値である。
【００３７】
本発明における第１積層体の厚みは、第１積層体を構成する各部材の厚みに応じて適宜調整することができ、特に限定されない。本発明においては、第１積層体が上述した所定のバリア性を有する程度の厚みであることが好ましく、例えば、１０μｍ以上８０μｍ以下であることが好ましく、中でも２０μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、特に２５μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましい。
以下、本発明における第１積層体を構成する第１層、第１基材について、詳細に説明する。
【００３８】
（１）第１層
本発明における第１層は、無機層、および無機層の一方の面に配置された有機層を有する部材である。また、第１層の厚みは４５０ｎｍ以上６００ｎｍ以下とすることができる。さらに、第１層における無機層の厚みを１１ｎｍ以上２００ｎｍ未満とし、第１層の厚みを４５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下とすることができる。
【００３９】
本発明における第１層は、第１無機層および第１有機層を有する部材であり、通常は、第１基材から順に、第１無機層および第１有機層が積層される。本発明における第１層は、例えば、図２に示すように、第１無機層３１ａおよび第１有機層３１ｂが積層された２層構造であっても良く、例えば、図３（ａ）に示すように、第１無機層３１ａ、第１有機層３１ｂ、第２無機層３２ａおよび第２有機層３２ｂが順に積層された４層構造であっても良く、さらに図３（ｂ）に示すように、第３無機層３３ａおよび第３有機層３３ｂが順に積層された６層構造等であっても良い。中でも、図３（ａ）に示すように、第１無機層３１ａ、第１有機層３１ｂ、第２無機層３２ａおよび第２有機層３２ｂが順に積層された４層構造であることが好ましい。なお、図３（ａ）、（ｂ）において説明していない符号については、図１と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【００４０】
本発明においては、第１層が、所定の積層構造を有することにより、所望のバリア性を有する第１層とすることができる。また、本発明における第１層は、無機層および有機層が積層された積層構造を有することにより、例えば無機層にピンホール等の欠陥が生じた場合であっても、当該ピンホールを有機層によって埋めることができるといった効果を奏する。さらに、第１層が、無機層および有機層が積層された構造を有することにより、有機層が平坦化層としての機能を発揮するため、無機層を良好に成膜することができる。したがって、無機層の成膜過程において、無機層にピンホール等の欠陥が生じにくくなり、優れたバリア性を発揮することができる。さらにまた、第１層において、第１基材とは反対側の面となる層、すなわち、第１層の第１基材とは反対側の最外層が有機層である場合には、第１層の第１基材とは反対側の面で接触する部材、特に有機材料を含む有機層との密着性が向上するという効果が得られる。また、第１層における有機層がクッション性を有することにより、第１層に所定の屈曲性を付与することが可能となる。
【００４１】
本発明における第１層は、有機ＥＬ表示装置に用いることができる程度の所定の光透過性を有することが好ましい。ここで、「所定の光透過性」とは、特段の断りがない限り、本発明の有機ＥＬ表示装置の操作者の、操作面からの視認を妨げない程度の透明性をいう。したがって、「所定の光透過性」は、無色透明、および視認性を妨げない程度の有色透明を含み、本発明の有機ＥＬ表示装置の用途等に応じて光透過性の度合いを決定することができる。本発明における第１層の光透過性としては、例えば、可視光線透過率で、８０．０％以上であることが好ましく、中でも８５．０％以上であることが好ましく、特に８７．０％以上であることが好ましい。なお、可視光線透過率は、例えば、分光光度計（（株）島津製作所製  ＵＶ−２４５０）を用いて、測定波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内で測定することにより測定することができる。
【００４２】
本発明における第１層の厚みは、第１層を構成する無機層および有機層の積層数や、各層の厚み等に応じて適宜調整することができ、特に限定されない。本発明においては、例えば、第１層の厚みが、４５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることが好ましく、中でも４５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下であることが好ましく、特に４５０ｎｍ以上６００ｎｍ以下であることが好ましい。第１層の厚みが上記範囲内であることにより、第１層に所定のバリア性を付与することができるとともに、所定の屈曲性を有する第１層とすることができる。
【００４３】
以下、第１層を構成する第１無機層および第１有機層について説明する。
【００４４】
（ａ）第１無機層
本発明における第１無機層は、第１層を構成する部材であり、通常、第１層の第１基材側の面に配置される部材である。
【００４５】
本発明における第１無機層は、水蒸気に対する所定のバリア性を有する無機物から構成されることが好ましい。第１無機層を構成する無機物としては、例えば、金属酸化物が挙げられ、具体的には、ＳｉＯｘで表わされるＳｉ酸化物や、ＢｘＯｙで表わされるＢ酸化物等が挙げられる。本発明において第１無機層を構成する無機物としては、中でも、Ｓｉ酸化物を用いることが好ましく、特にＳｉＯｘＮｙで表わされるＳｉ酸化窒化物を用いることが好ましい。第１無機層を構成する無機物としてＳｉＯｘＮｙを用いる場合には、水蒸気に対するバリア性、屈曲性、および光透過性に優れた第１層を得ることができる。すなわち、第１積層体が、上述したような所定の水蒸気透過率を有する程度のバリア性を有し、また、第１積層体に対して、温度６０℃および湿度９０％の環境下にて、曲げ半径３ｍｍの屈曲耐久試験を２０万回以上実施した際に、第１層に剥がれや割れ等の不具合が生じない程度の屈曲性を有し、さらに、第１層が上述のような所定の光透過性を有する第１層を得ることができる。
【００４６】
第１無機層を構成する無機物としてＳｉＯｘＮｙを用いる場合、ＳｉＯｘＮｙにおける酸素の量ｘおよび窒素の量ｙの比率は特に限定されず、適宜調整することができる。本発明においては、ＳｉＯｘＮｙにおける酸素の量ｘと窒素の量ｙとの比率は、例えば、ｘ：ｙ＝３：７、５：５または７：３であることが好ましく、中でもｘ：ｙ＝５：５であることが好ましい。ＳｉＯｘＮｙにおける酸素の量ｘと窒素の量ｙとが、上記比率であることにより、特に優れたバリア性、屈曲性および光透過性を有する第１層とすることができる。なお、ＳｉＯｘＮｙにおける酸素の量ｘおよび窒素の量ｙは、Ｘ線光電子分光分析装置（Ｋｒａｔｏｓ社製  ＥＳＣＡ−３４００）を用いて、膜表面を測定することで組成分析可能である。測定条件は、入射Ｘ線Ｍｇ  Ｋα、Ｘ線出力２００Ｗ、光電子取り込み角０度（試料法線を０度）とする。
【００４７】
このように、第１無機層を構成する無機物として用いられるＳｉＯｘＮｙのｘは、例えば３以上７以下とすることができ、中でも４以上６以下であることが好ましい。また、ＳｉＯｘＮｙのｙは、例えば３以上７以下とすることができ、中でも４以上６以下であることが好ましい。
【００４８】
本発明における第１無機層の厚みは、第１無機層を構成する無機物の種類や、第１層の層構成等に応じて適宜調整することができ、特に限定されない。本発明においては、例えば、第１無機層の厚みが、例えば１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましく、中でも２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましく、特に２０ｎｍ以上４０ｎｍ以下であることが好ましい。本発明においては、特に、第１無機層の厚みが１１ｎｍ以上２００ｎｍ未満であることが好ましい。第１無機層の厚みが上記範囲内であることにより、第１無機層に所定のバリア性を付与することができるとともに、所定の屈曲性を有する第１層を構成することができる。
【００４９】
本発明における第１無機層の形成方法としては、所望の第１無機層を形成することができる方法であれば良く、特に限定されない。第１無機層の形成方法としては、例えば、蒸着法が挙げられ、中でも、スパッタリング法や真空蒸着法等の物理的気相成長法を用いることが好ましい。
【００５０】
（ｂ）第１有機層
本発明における第１有機層は、第１層を構成する部材であり、通常、上述した第１無機層の第１基材とは反対側の面に配置される部材である。
【００５１】
本発明における第１有機層は、上述した第１無機層と積層して形成することができ、平坦化層としての機能を発揮することができる有機物から構成されることが好ましい。第１有機層を構成する有機物としては、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂およびポリイミド樹脂等が挙げられる。
【００５２】
本発明における第１有機層の厚みは、第１有機層を構成する有機物の種類や、第１層の層構成等に応じて適宜調整することができ、特に限定されない。本発明においては、例えば、第１有機層の厚みが、５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましく、中でも１００ｎｍ以上４００ｎｍ以下であることが好ましく、特に２００ｎｍ以上４００ｎｍ以下であることが好ましい。第１有機層の厚みが上記範囲内であることにより、第１有機層に平坦化層としての機能を発揮することができ、また、所定のクッション性を発揮することにより第１層の屈曲性を向上することができる。
【００５３】
本発明における第１有機層の形成方法としては、所望の第１有機層を形成することができる方法であれば良く、特に限定されない。第１有機層の形成方法としては、例えば、ロールコート、リバースコート、コンマコート、ナイフコート、ダイコート、グラビアコート等の塗布法が挙げられる。
【００５４】
（ｃ）その他の層
本発明における第１層は、第１無機層および第１有機層を有していれば良く、必要に応じてその他の層を有していても良い。その他の層としては、上述した図３（ａ）、（ｂ）に示すように、第２無機層３２ａ、第２有機層３２ｂ、第３無機層３３ａ、第３有機層３３ｂ等が挙げられ、第１層３０ａの層構造に応じて適宜選択することができる。なお、図３（ａ）、（ｂ）では、第２無機層３２ａ、第２有機層３２ｂ、第３無機層３３ａ、第３有機層３３ｂを有する例について説明したが、その他にも、第４無機層、第４有機層、第５無機層、第５有機層等を有していても良い。
【００５５】
本発明における第１層が、複数の無機層および有機層を有する場合、すなわち、第１層が第１無機層、第１有機層、第２無機層および第２有機層を有する４層構造である場合や、さらに第３無機層および第３有機層を有する６層構造である場合には、各無機層および各有機層の材料は同じであっても良く、各無機層および各有機層の各層毎に材料が異なっていても良いが、生産性の観点から、各無機層および各有機層の材料は同じであることが好ましい。また、各無機層および各有機層の材料は同じであっても良く、各無機層および各有機層の各層毎に厚みが異なっていても良いが、生産性の観点から、各無機層および各有機層の厚みは同じであることが好ましい。
【００５６】
本発明における第２無機層、第３無機層等の各無機層については、上述した「（ａ）第１無機層」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。また、本発明における第２有機層、第３有機層等の各有機層については、上述した「（ｂ）第１有機層」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【００５７】
（２）第１基材
本発明における第１基材は、上述した第１層を支持する部材である。
【００５８】
本発明における第１基材は、所定の光透過性を有することが好ましい。ここで、「所定の光透過性」とは、特段の断りがない限り、本発明の有機ＥＬ表示装置の操作者の、操作面からの視認を妨げない程度の透明性をいう。したがって、「所定の光透過性」は、無色透明、および視認性を妨げない程度の有色透明を含み、また厳密な透過率で定義されず、本発明の有機ＥＬ表示装置の用途等に応じて光透過性の度合いを決定することができる。
【００５９】
本発明における第１基材は、所定のバリア性を有することが好ましい。ここで、「所定のバリア性」とは、第１積層体の第１基材側から粘着層への水分の侵入を抑制することができ、信頼性の高い有機ＥＬ表示装置とすることができる程度のバリア性であることが好ましい。具体的には、第１基材の水蒸気透過率が、９．１×１０−２ｇ／ｍ２ｄａｙ以下であることが好ましく、中でも５．０×１０−２ｇ／ｍ２ｄａｙ以下であることが好ましく、特に、３．０×１０−２ｇ／ｍ２ｄａｙ以下であることが好ましい。なお、第１基材の水蒸気透過率は、第１基材の材料や厚みにより適宜調整することができる。また、第１基材の水蒸気透過率の測定方法は、上述した第１積層体の水蒸気透過率の測定方法と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【００６０】
本発明における第１基材の材料は、フレキシブル性を有する一般的な有機ＥＬ表示装置に用いられる基材と同様の材料を用いることができ、中でも所定の光透過性を有する材料であることが好ましい。このような第１基材の材料としては、例えば、樹脂材料が挙げられ、具体的には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリイミド（ＰＩ）またはトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリアクリレート、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）等が挙げられる。
【００６１】
本発明における第１基材の厚みとしては、少なくとも上述した第１層を支持できる程度の厚みであれば特に限定されず、本発明の有機ＥＬ表示装置の用途等に応じて適宜設計が可能である。中でも、本発明の有機ＥＬ表示装置に付与しようとするフレキシブル性や、バリア性等に応じて適宜調整することが好ましい。なお、第１基材の具体的な厚みは、フレキシブル性を有する一般的な有機ＥＬ表示装置に用いられる基材の厚みと同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【００６２】
（３）第１機能層
本発明においては、第１積層体が第１機能層を有していても良い。具体的には、図４（ａ）に示すように、第１基材１０ａと第１層３０ａとの間に第１機能層７１ａを有していても良く、あるいは、図４（ｂ）に示すように、第１層３０ａの第１基材１０ａとは反対側の面に第１機能層７１ａを有していても良く、さらには、図４（ｃ）に示すように、そのいずれにも第１機能層７１ａ、７２ａを有していても良い。
【００６３】
本発明における第１積層体が、第１機能層を有する例について図を参照しながら説明する。図５（ａ）〜図５（ｄ）は、本発明における第１積層体が第１機能層を有する一例を示す概略断面図である。本発明における第１積層体は、図５（ａ）に示すように、第１基材１０ａと第１層３０ａとの間に、第１機能層７１ａとして、加飾部８１および平坦化層８２を有する加飾部材８０を備えていても良い。また、本発明における第１積層体は、図５（ｂ）に示すように、第１基材１０ａと第１層３０ａとの間に、第１機能層７１ａとして、加飾部８１および平坦化層８２を有する加飾部材８０、ならびに光学機能部材９０を備えていても良い。さらに、本発明における第１積層体は、図５（ｃ）に示すように、第１層３０ａの第１基材１０ａとは反対側の面に、第１機能層７１ａとして光学機能部材９０を備えていても良い。さらにまた、本発明における第１積層体は、図５（ｄ）に示すように、第１基材１０ａと第１層３０ａとの間に、第１機能層７１ａとして、加飾部８１および平坦化層８２を有する加飾部材８０を備え、さらに第１層３０ａの第１基材１０ａとは反対側の面に、第１機能層７２ａとして光学機能部材９０を備えていても良い。
なお、図５（ａ）〜図５（ｄ）では、第１機能層として加飾部材、光学機能部材を備えた例について説明したが、必要に応じてその他の第１機能層を備えていても良い。
【００６４】
以下、本発明における第１機能層の一例として、加飾部材および光学機能部材について説明する。
【００６５】
（ａ）加飾部材
本発明における加飾部材は、例えば有機ＥＬ表示装置の額縁部に相当する領域に加飾部を有する部材である。
【００６６】
本発明における加飾部の厚みは、本発明の有機ＥＬ表示装置の用途等に応じて適宜調整することができ、一般的な加飾部と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【００６７】
本発明における加飾部が呈する色は、有機ＥＬ表示装置のデザイン等に応じて適宜選択することができる。加飾部が黒色を呈する黒色加飾部である場合、黒色加飾部の構成材料は、後述する遮光部の構成材料と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。また、加飾部が白色を呈する白色加飾部である場合、白色加飾部の構成材料としては、例えば、酸化チタン、シリカ、タルク、カオリン、クレイ、硫酸バリウム、水酸化カルシウム等が挙げられる。
【００６８】
本発明における加飾部材は、上述した加飾部の他にも、加飾部が形成された領域と、加飾部が形成されていない領域との段差を平坦化するための平坦化層を有していても良い。
【００６９】
本発明における平坦化層を構成する材料には、所定の光透過性を有し、またフレキシブル性を有する有機ＥＬ表示装置とすることができる程度の所定の屈曲性を有する材料を用いることが好ましい。具体的には、樹脂材料を用いることができる。なお、平坦化層に用いられる樹脂材料については、上述した第１基材に用いられる樹脂材料と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【００７０】
平坦化層の厚みは、平坦化層を設けることにより、加飾部が形成された領域と、加飾部が形成されていない領域との段差を平坦化することができる程度の厚みであることが好ましい。具体的には、上述した加飾部の厚みと同等であるか、あるいは加飾部の厚みよりも薄いことが好ましい。
【００７１】
本発明における加飾部材の形成方法は、一般的な加飾部材の形成方法と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【００７２】
（ｂ）光学機能部材
本発明における光学機能部材は、光学機能層の他に配向層を有していても良い。
【００７３】
本発明における光学機能部材は、少なくとも１層の位相差層を有していれば良く、位相差層および後述する配向層が複数層積層された構成を有していても良い。なお、光学機能部材が、位相差層および配向層が複数層積層された構成である場合、各層を、粘着層を介して積層することができる。
以下、光学機能部材を構成する位相差層および配向層について説明する。
【００７４】
（ｉ）位相差層
本発明における位相差層は、光学機能部材を構成する部材であり、液晶材料を固定した部材である。
【００７５】
本発明における位相差層は、液晶材料を含む部材であり、当該液晶材料は光学機能部材に所望の光学特性を付与することが可能な配列状態であることが好ましい。液晶材料の具体的な配列状態としては、例えば、位相差層の長さ方向に液晶材料が配向した状態や、位相差層の厚さ方向に液晶材料が配向した状態が挙げられる。前者の液晶構造はホモジニアス構造（平行配向構造）と称され、このような構造を有することにより、光学機能部材に光学的にＡプレートとしての性質を付与することができる。また、後者の液晶構造はホメオトロピック構造（垂直配向構造）と称され、このような構造を有することにより、光学機能部材に光学的に正のＣプレートとしての性質を付与することができる。さらに、液晶材料の配列状態としては、液晶材料が規則的な螺旋構造を示すコレステリック配列状態であっても良い。このような配列状態を有することにより、光学機能部材に光学的に負のＣプレートとしての性質を付与することができる。
【００７６】
光学機能部材を構成する位相差層の厚みは、液晶材料の種類や光学機能部材に付与しようとする光学特性に応じて適宜調整することができ、特に限定されない。例えば、位相差層の面内レターデーションがλ／４に相当するような範囲内で形成されることが好ましい。位相差層の面内レターデーション値は、例えば、１００ｎｍ以上１６０ｎｍ以下であることが好ましく、１１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であることがより好ましく、１２０ｎｍ以上１４０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。位相差層の厚みを位相差層の面内レターデーションがλ／４分に相当するような範囲内の距離にする場合、具体的にどの程度の距離にするかは、後述する位相差層に含まれる液晶材料の種類に応じて適宜決定することができる。例えば、一般的な液晶材料を用いる場合には、位相差層の厚みは０．５μｍ以上２μｍ以下とすることができる。
【００７７】
光学機能部材を構成する位相差層は、例えば有機ＥＬ表示装置において、光源から照射された光を透過する部材となる。したがって、本発明における位相差層は、所定の光透過性を有することが好ましい。ここで、「所定の光透過性」とは、特段の断りがない限り、光源から照射された光を透過する程度に透明であることをいう。なお、位相差層の具体的な透過率については、一般的な光学機能部材に用いられる位相差層と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【００７８】
位相差層に含まれる液晶材料は、位相差層に所望の光学機能性を付与することができる材料であれば良く、特に限定されない。中でも、感光性を示す液晶材料であることが好ましく、特に、ネマチック相を示す液晶材料が好適に用いられる。ネマチック液晶は、他の液晶相を示す液晶材料と比較して規則的に配列させることが容易だからである。なお、位相差層に用いられる具体的な材料については、一般的な位相差層に用いられる材料と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【００７９】
本発明における位相差層の形成方法は、一般的な位相差層の形成方法と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【００８０】
（ii）配向層
本発明における光学機能部材は、配向層を有していても良く、配向層を有さなくても良い。本発明においては、光透過性の観点から、配向層を有しないことが好ましい。配向層は、配向機能を有する部材である。配向機能は、例えば、光配向法やラビング法により付与される機能であり、光配向法を用いる場合には、配向層は光配向材料を含むことが好ましい。
以下、配向層の一例として、光配向法により配向機能が付与された配向層について説明する。なお、ラビング法により配向機能が付与された配向層については、一般的なものと同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【００８１】
ここで、配向層に含まれる「光配向材料」は、光配向法により配向規制力を発現できる材料を指す。また、「光配向法」とは、任意の偏光状態を有する光（偏光）を配向層に照射することにより配向層の配向規制力（異方性）を発現させる方法である。したがって、本発明における光配向材料は、偏光を照射することにより配向規制力を発現できる材料ということができる。さらに、「配向規制力」とは、上述した光学機能部材に含まれる液晶性化合物を配列させる相互作用を意味する。
【００８２】
本発明における配向層は、構成材料に応じて厚みを調整することができる。本発明における配向層の厚みは、例えば、０．０１μｍ以上０．５μｍ以下であることが好ましく、中でも０．０２μｍ以上０．１μｍ以下であることが好ましく、特に０．０３μｍ以上０．０５μｍ以下であることが好ましい。本発明における配向層の厚みが上記範囲内であることにより、上述した光学機能部材に含まれる液晶性化合物に対して所望の配向規制力を発現することができる。
なお、本発明における配向層の厚みは、例えば、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて断面を観察することにより測定することができる。
【００８３】
本発明における配向層は、本発明の有機ＥＬ表示装置において、光源から照射された光を透過する部材となる。したがって、本発明における配向層は、所定の光透過性を有することが好ましい。ここで、「所定の光透過性」とは、特段の断りがない限り、光源から照射された光を透過する程度に透明であることをいう。なお、配向層の具体的な透過率については、一般的な配向層と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【００８４】
配向層に含まれる配向材料は、偏光を照射することにより配向規制力を発現することができる材料であれば特に限定されない。このような光配向材料は、シス−トランス変化によって分子形状のみを変化させて配向規制力を可逆的に変化させる光異性化材料と、偏光を照射することにより、分子そのものを変化させる光反応材料とに大別することができる。本発明においては、光異性化材料および光反応材料のいずれであっても好適に用いることができるが、光反応材料を用いることがより好ましい。
光反応材料は、偏光が照射されることによって分子が反応して配向規制力を発現するものであるため、不可逆的に配向規制力を発現することが可能になる。したがって、光反応材料の方が配向規制力に経時安定性において優れている。
【００８５】
光反応材料は、偏光照射によって生じる反応の種類によってさらに分別することができる。具体的には、光二量化反応を生じることによって配向規制力を発現する光二量化型材料、光分解反応を生じることによって配向規制力を発現する光結合型材料、および光分解反応と光結合反応とを生じることによって配向規制力を発現する光分解−結合型材料等に分けることができる。本発明においては、上述した光反応材料のいずれであっても好適に用いることができるが、中でも安定性および反応性（感度）等の観点から光二量化型材料を用いることが好ましい。
【００８６】
本発明において用いられる光配向材料は、１種類のみであっても良く、２種類以上であっても良い。
【００８７】
本発明における配向層の形成方法は、一般的な配向層の形成方法と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【００８８】
（ｃ）その他の部材
本発明における第１機能層は、上述した加飾部材や光学機能部材以外に、必要に応じてその他の部材を有していても良い。その他の部材としては、例えば、加飾部材の第１基材側の面に配置される反射防止層や保護層、さらには、加飾部材や光学機能部材を積層する際に用いられる粘着層等が挙げられる。
以下、反射防止層、保護層および粘着層について説明する。
【００８９】
（ｉ）反射防止層
本発明における反射防止層は、例えば、第１機能層として用いられる加飾部材の第１基材側の面に配置することができる。反射防止層が配置されていることにより、本発明の有機ＥＬ表示装置の表面への外光の反射を抑制することができ、視認性を高めることが可能となる。
【００９０】
本発明における反射防止層を構成する材料には、所定の光透過性を有し、また所定のフレキシブル性を有する材料を用いることが好ましい。具体的には、一般的な反射防止層に用いることができる材料が挙げられるため、ここでの記載は省略する。
【００９１】
反射防止層の厚みは、例えば反射防止層としての反射防止機能を発揮することができ、また本発明の有機ＥＬ表示装置に用いることができる程度の厚みであることが好ましい。なお、具体的な反射防止層の厚みについては、反射防止層を構成する材料等に応じて適宜調整することができるため、ここでの記載は省略する。
【００９２】
本発明における反射防止層の形成方法は、一般的な反射防止層の形成方法と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【００９３】
（ii）保護層
本発明における保護層は、例えば、第１機能層として用いられる加飾部材の第１基材とは反対側の面を覆うように配置することができる。保護層が配置されていることにより、本発明における第１機能層の保護機能を高めることが可能となる。
【００９４】
本発明における保護層を構成する材料には、所定の光透過性を有し、また所定のフレキシブル性を有する材料を用いることが好ましい。例えば、一般的な保護層に用いることができる樹脂材料が挙げられ、中でも耐熱性や耐擦傷性を有する樹脂材料であることが好ましい。具体的には、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等が挙げられる。
【００９５】
保護層の厚みは、例えば保護層としての保護機能を発揮することができる程度の厚みであることが好ましい。具体的には、例えば１μｍ以上５μｍ以下であることが好ましい。
【００９６】
本発明における保護層の形成方法は、一般的な保護層の形成方法と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【００９７】
（iii）粘着層
本発明における粘着層は、第１機能層として加飾部材を積層する場合に、加飾部材を貼り付けるための部材として用いることができる。また、第１機能層として光学機能部材を積層する場合に、光学機能部材を貼り付けるための部材や、または光学機能部材を構成する位相差層や配向層等を貼り付けるための部材として用いることができる。
【００９８】
なお、本発明における粘着層については、後述する「３．粘着層」の項で説明するため、ここでの記載は省略する。
【００９９】
２．第２積層体
本発明における第２積層体は、第２基材、ならびに上記第２基材の一方の面に配置された有機ＥＬ層を備えた有機ＥＬ素子基材、および上記有機ＥＬ素子層の上記第２基材とは反対側の面に配置された第２層を有する部材である。
【０１００】
本発明における第２積層体は、有機ＥＬ素子層の第２基材とは反対側の面に第２層が配置されていることにより、粘着層への水分の侵入を抑制することができる。すなわち、第２積層体に所定のバリア性を付与することができ、結果として、有機ＥＬ表示装置に対して高温高湿下にて屈曲耐久試験を行った際に、粘着層から剥がれるといった不具合の発生を抑制し、信頼性の高い有機ＥＬ表示装置とすることができる。ここで、第２積層体が有する「所定のバリア性」とは、第２層側の面から有機ＥＬ素子基材への水分の侵入を抑制することができる程度のバリア性であることが好ましい。具体的には、第２積層体の水蒸気透過率が、９．１×１０−２ｇ／ｍ２ｄａｙ以下であることが好ましく、中でも５．９×１０−２ｇ／ｍ２ｄａｙ以下であることが好ましく、特に３．０×１０−２ｇ／ｍ２ｄａｙ以下であることが好ましい。第２積層体の水蒸気透過率が上記範囲内であることにより、第２積層体側から粘着層への水分の侵入を効果的に抑制することができる。また、第２積層体の水蒸気透過率は、第２積層体および第２基材の構成に応じて適宜調整することができる。
なお、水蒸気透過率の測定方法については、上述した第１積層体の水蒸気透過率の測定方法と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【０１０１】
本発明における第２積層体の厚みは、第２積層体を構成する各部材の厚みに応じて適宜調整することができ、特に限定されない。
以下、本発明における第２積層体を構成する第２層、有機ＥＬ素子基材について、詳細に説明する。
【０１０２】
（１）第２層
本発明における第２層は、後述する有機ＥＬ層の第２基材とは反対側の面に配置される部材である。
【０１０３】
本発明における第２層は、第２積層体側から粘着層への水分の侵入を抑制することができ程度の所定のバリア性を有することが好ましい。また、有機ＥＬ素子基材への水分や酸素の侵入を抑制する程度の所定のバリア性を有することが好ましい。第２層は、単層であっても良く、多層であっても良い。第２層が単層である場合には、所定のバリア性を有する無機物から構成される無機層を用いることが好ましい。また、第２層が多層である場合には、無機層上に有機層を積層して用いることが好ましい。なお、第２層については、一般的な第１層と同様としても良く、あるいは、上述した「１．第１積層体  （１）第１層」の項に記載した第１層と同様としても良いため、ここでの記載は省略する。
【０１０４】
本発明における第２層は、有機ＥＬ表示装置に用いることができる程度の所定の光透過性を有することが好ましい。ここで、「所定の光透過性」とは、特段の断りがない限り、本発明の有機ＥＬ表示装置の操作者の、操作面からの視認を妨げない程度の透明性をいう。したがって、「所定の光透過性」は、無色透明、および視認性を妨げない程度の有色透明を含み、本発明の有機ＥＬ表示装置の用途等に応じて光透過性の度合いを決定することができる。なお、第２層の具体的な光透過性については、上述した「１．第１積層体  （１）第１層」の項に記載した第１層の光透過性と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【０１０５】
本発明における第２層の厚みは、第２層が単層であるか、または多層であるか等に応じて適宜調整することができ、特に限定されない。本発明においては、例えば、第２層の厚みが、４５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることが好ましく、中でも４５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下であることが好ましく、特に４５０ｎｍ以上６００ｎｍ以下であることが好ましい。第２層の厚みが上記範囲内であることにより、第２層に所定のバリア性を付与することができるとともに、所定の屈曲性を有する第２層とすることができる。
【０１０６】
（２）有機ＥＬ素子基材
本発明における有機ＥＬ素子基材は、第２基材および上記第２基材の一方の面に配置された有機ＥＬ層を備えた部材であり、本発明の有機ＥＬ表示装置において、画像表示を行うための部材である。
【０１０７】
本発明における有機ＥＬ素子基材は、一般的な有機ＥＬ素子基材と同様の構成とすることができるが、例えば、第２基材上に有機ＥＬ層が配置された構成を有する。なお、有機ＥＬ素子基材が備える第２基材については、上述した「１．第１積層体  （２）第１基材」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。また、有機ＥＬ素子基材が備える有機ＥＬ層や、その他の部材については、例えば、特開２０１６−０２１０３９号公報に記載されているような一般的な有機ＥＬ素子基材に用いられる部材と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【０１０８】
（３）第２機能層
本発明においては、第２積層体が第２機能層を有していても良い。具体的には、図６に示すように、第２層３０ｂの第２基材１０ｂとは反対側の面に第２機能層７１ｂを有していても良い。
【０１０９】
本発明における第２積層体が、第２機能層を有する例について図を参照しながら説明する。図７は、本発明における第２積層体が第２機能層を有する一例を示す概略断面図である。本発明における第２積層体は、図７に示すように、第２層３０ｂの第２基材１０ｂとは反対側の面に、第２機能層７１ｂを有していても良い。図７においては、第２積層体２０ｂが、開口部を有する遮光部１１２と、当該開口部に配置された各色の着色層１１１（ここでは、赤色着色層１１１Ｒ、緑色着色層１１１Ｇおよび青色着色層１１１Ｂ）と、着色層１１１を覆うように配置された保護層１１３とを有するカラーフィルタ１１０、ならびに、タッチパネル１２０が積層された第２機能層７１ｂが、粘着層１３０により第２層３０ｂに貼合された例である。
なお、図７で説明していない符号については、図１と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。また、図７では、第２機能層としてカラーフィルタおよびタッチパネルを備えた例について説明したが、必要に応じてその他の第２機能層を備えていても良い。
【０１１０】
以下、本発明における第２機能層の一例として、カラーフィルタおよびタッチパネルについて説明する。
【０１１１】
（ａ）カラーフィルタ
本発明におけるカラーフィルタは、複数の開口部を有する遮光部、および開口部に配置された着色層を有する。
以下、カラーフィルタを構成する各部材について説明する。
【０１１２】
（ｉ）遮光部
本発明における遮光部は、基材上に配置され複数の開口部を有する部材である。
【０１１３】
本発明における遮光部は、第１の方向および第１の方向に交差する第２の方向に延伸するように並列に配置され、開口部を画定する部材である。開口部の平面視形状としては、例えば、矩形形状が挙げられる。また、遮光部における開口部の幅としては、一般的なカラーフィルタにおける遮光部の開口部の幅と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【０１１４】
本発明における遮光部の線幅としては、本発明のカラーフィルタ基材の用途等に応じて適宜選択することができ、特に限定されないが、例えば、１μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましく、中でも１．５μｍ以上２８μｍ以下であることが好ましく、特に２μｍ以上２５μｍ以下であることが好ましい。遮光部の線幅が上記範囲内であることにより、十分に開口部を画定することができ、高精細なカラーフィルタ基材を得ることができる。なお、遮光部の線幅が一定でない場合には、遮光部の線幅が、全て上記範囲内であることが好ましい。
【０１１５】
本発明における遮光部の厚みとしては、所望の遮光性を示すことができる程度の厚みであれば特に限定されず、遮光部に用いられる材料に応じて適宜調整される。本発明における遮光部の具体的な厚みとしては、例えば、０．５μｍ以上３．０μｍ以下とすることができる。
【０１１６】
本発明における遮光部の構成材料は、所望の遮光性を発揮することができるような材料であれば良く、特に限定されない。具体的には、遮光部は、通常、バインダ樹脂に黒色色材を含有した硬化物であるが、黒色色材の他にも必要に応じて有色色材を含有していても良い。なお、遮光部の具体的な構成材料については、一般的なカラーフィルタに用いられる遮光部と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【０１１７】
本発明における遮光部は、上述した構成材料の他にも、必要に応じてその他の材料を含有していても良い。その他の材料としては、例えば、光重合開始剤、増感剤、塗布性改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等が挙げられる。
【０１１８】
本発明における遮光部の形成方法については、一般的なカラーフィルタに用いられる遮光部の形成方法と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【０１１９】
（ii）着色層
本発明における着色層は、遮光部により形成された開口部に配置される部材である。
【０１２０】
本発明においては、例えば赤、緑、青の３色の着色層を有する。着色層の色としては、赤、緑、青の３色を少なくとも含むものであれば良く、例えば、赤、緑、青の３色、赤、緑、青、黄の４色、または、赤、緑、青、黄、シアンの５色等とすることもできる。
【０１２１】
本発明における着色層の厚みとしては、一般的なカラーフィルタに用いられる着色層の厚みと同様とすることができ、例えば１μｍ以上５μｍ以下で設定することができる。
【０１２２】
着色層としては、例えば色材をバインダ樹脂中に分散させたものを用いることができる。着色層に用いられる色材としては、各色の顔料や染料等が挙げられる。例えば、赤色着色層に用いられる色材としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。また、緑色着色層に用いられる色材としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。さらに、青色着色層に用いられる色材としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料や染料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。着色層に用いられるバインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が挙げられる。
【０１２３】
着色層には、上述した材料の他にも、必要に応じて、光重合開始剤、増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を含有させることができる。
【０１２４】
また、着色層が形成されている同一平面上には、上述した色材を含有せず、バインダ樹脂を含有する白色層が形成されていても良い。
【０１２５】
本発明における着色層の形成方法としては、一般的なカラーフィルタにおける着色層の形成方法と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【０１２６】
（ｂ）タッチパネル
本発明におけるタッチパネルは、少なくともセンサ電極を有する。また、タッチパネルは通常、センサ電極を覆うように配置された絶縁層を有する。
【０１２７】
本発明におけるタッチパネルには、例えば、抵抗膜方式、静電容量方式、光学方式、電磁誘導方式、超音波方式等のものを用いることができる。
【０１２８】
（ｉ）センサ電極
本発明におけるセンサ電極は、タッチパネルの位置検知を行うために用いられる部材である。
【０１２９】
本発明におけるセンサ電極は、透明性を有する透明導電層であっても良く、細線によるメッシュ状のメッシュ電極であっても良い。本発明においては、センサ電極が細線によるメッシュ状のメッシュ電極である場合、センサ電極に用いられる材料が不透明な金属材料であったとしても、見かけ上透明なセンサ電極とすることが可能である。
【０１３０】
本発明におけるセンサ電極が透明導電層である場合、センサ電極の厚み等については、本発明の有機ＥＬ表示装置の用途に応じて適宜調整することができ、一般的なセンサ電極と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
また、本発明におけるセンサ電極がメッシュ電極である場合、センサ電極の厚み、線幅、ピッチおよび開口率等については、本発明の有機ＥＬ表示装置の用途に応じて適宜調整することができ、一般的なセンサ電極と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【０１３１】
本発明におけるセンサ電極の構成材料は、センサ電極が透明電極層である場合、例えば、酸化スズ、ＩＴＯと称される酸化インジウムスズ、ＩＺＯと称される酸化インジウム亜鉛等の透明導電材料等を用いることができる。
また、本発明におけるセンサ電極が不透明な金属材料により構成されたメッシュ電極である場合、金属材料には、例えば、銀、金、銅、クロム、プラチナ、アルミニウムの単体、あるいはこれらのいずれかを主体とする合金等が挙げられる。金属合金としては、ＡＰＣと称される銀、パラジウム、銅の合金等を用いることができる。さらに、金属の複合体としては、ＭＡＭと称されるモリブデン、アルミニウム、モリブデンの３層構造体等も適用可能である。さらに、例えばＰＥＤＯＴ等の樹脂層形成用組成物に上記金属を加えた導電性高分子を用いることもできる。
【０１３２】
本発明におけるセンサ電極の形成方法としては、一般的なタッチパネルに用いられるセンサ電極の形成方法と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【０１３３】
（ii）絶縁層
本発明における絶縁層は、上述したセンサ電極を絶縁する際に用いることができる部材である。
【０１３４】
本発明における絶縁層は、通常、センサ電極を覆うように配置される。絶縁層の厚みは、センサ電極を絶縁して短絡を防止することができる程度の厚みであることが好ましく、センサ電極の設計に応じて適宜調整することができる。例えば、絶縁層の厚みは、０．５μｍ以上３μｍ以下とすることができる。
【０１３５】
本発明における絶縁層の構成材料は、所望の絶縁性を有する材料であることが好ましく、タッチパネルに一般的に用いられるものを使用することができる。具体的には、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、カルド樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂等の絶縁性樹脂材料等や、ガラス等の無機材料等が挙げられる。なお、絶縁層に用いられる構成材料は、１種を単独で用いても良く、２種以上を組み合わせて用いても良い。また、絶縁層の層構造は、１層であっても良く、２層以上を含む多層であっても良い。
【０１３６】
本発明における絶縁層の形成方法は、一般的なタッチパネルに用いられる絶縁層の形成方法と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【０１３７】
（iii）透明基材
本発明におけるタッチパネルは、必要に応じて、センサ電極を支持すると透明基材を有していても良い。なお、本発明における透明基材については、上述した「（３）第２基材」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【０１３８】
（ｃ）その他の部材
本発明における第２機能層は、上述したカラーフィルタやタッチパネルの他にも、必要に応じてその他の部材を有していても良い。その他の部材としては、例えば、カラーフィルタの第２基材とは反対側の面に配置される反射防止層や保護層、さらには、カラーフィルタやタッチパネルを積層する際に用いられる粘着層等が挙げられる。なお、その他の部材については、上述した「１．第１積層体  （３）第１機能層  （ｃ）その他の部材」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【０１３９】
３．粘着層
本発明における粘着層は、第１積層体および第２積層体に挟持された部材である。
【０１４０】
本発明における粘着層は、有機ＥＬ表示装置に用いることができる程度の所定の光透過性を有することが好ましい。ここで、「所定の光透過性」とは、特段の断りがない限り、本発明の有機ＥＬ表示装置の操作者の、操作面からの視認を妨げない程度の透明性をいう。したがって、「所定の光透過性」は、無色透明、および視認性を妨げない程度の有色透明を含み、具体的な透過率では規定されず、本発明の有機ＥＬ表示装置の用途等に応じて光透過性の度合いを決定することができる。
【０１４１】
本発明における粘着層の材料としては、第１積層体および第２積層体を貼り合せることができる程度の粘着性を有していれば良く、一般的な有機ＥＬ表示装置に用いられる粘着層の材料と同様とすることができる。具体的な粘着層の材料としては、例えば、熱硬化型樹脂材料や紫外線硬化型樹脂材料が挙げられる。なお、本発明においては、粘着層に熱硬化型樹脂材料を用いることにより、有機ＥＬ表示装置に対して高温高湿下にて屈曲耐久試験を行った際に、粘着層から剥がれるといった不具合の発生を抑制することができるという効果が顕著となる。
【０１４２】
粘着層に用いられる紫外線硬化型樹脂材料は、例えば、波長１００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の範囲の紫外線を照射することにより硬化させることが可能な材料であることが好ましい。紫外線硬化型樹脂材料としては、例えば、反応性エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリエチレン（ポリプロピレン）グリコール（メタ）ジアクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジアクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ビスフェノールフルオレン誘導体、ビスフェノキシエタノールフルオレンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールフルオレンジエポキキ（メタ）アクリレート等が挙げられる。なお、ここで（メタ）アクリレートとは、アクリレートまたはメタクリレートを意味する表記である。
本発明においては、これらの紫外線硬化型樹脂材料を１種類のみ用いても良く、または、２種類以上を混合して用いても良い。
【０１４３】
粘着層に用いられる熱硬化型樹脂材料としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ユリア樹脂等が挙げられる。
本発明においては、これらの熱硬化型樹脂材料を１種類のみ用いても良く、または、２種類以上を混合して用いても良い。
【０１４４】
本発明における粘着層の厚みとしては、第１積層体および第２積層体を貼り合せることができ、さらに、本発明の有機ＥＬ表示装置に所定のフレキシブル性を付与することができる程度の厚みであることが好ましい。具体的な粘着層の厚みについては、一般的な有機ＥＬ表示装置に用いられる粘着層の厚みと同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【０１４５】
本発明における粘着層の形成方法は、一般的な粘着層の形成方法と同様とすることができる。具体的な粘着層の形成方法としては、例えば、ロールコート、リバースコート、コンマコート、ナイフコート、ダイコート、グラビアコート等の塗布法が挙げられる。
【０１４６】
４．その他の部材
本発明の有機ＥＬ表示装置は、上述した第１積層体、第２積層体および粘着層を有していれば良く、必要に応じてその他の部材を有していても良い。その他の部材としては、例えば、第３層や各種機能層等が挙げられる。なお、本発明の有機ＥＬ表示装置が第３層を有する場合には、有機ＥＬ表示装置に対して高温高湿下にて屈曲耐久試験を行った際に、粘着層から剥がれるといった不具合の発生をより効果的に抑制することができる。
【０１４７】
なお、第３層については、上述した「１．第１積層体  （１）第１層」および「２．第２積層体  （１）第２層」の項に記載した第１層および第２層と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。また、各種機能層については、上述した「１．第１積層体  （３）第１機能層」および「２．第２積層体  （３）第２機能層」の項に記載した第１機能層および第２機能層と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【０１４８】
Ｂ．有機ＥＬ表示装置用積層体
本発明の有機ＥＬ表示装置用積層体は、基材と、上記基材の一方の面に配置された第１層とを有し、上記第１層は、無機層、および上記無機層の一方の面に配置された有機層を有し、上記第１層の厚みは４５０ｎｍ以上６００ｎｍ以下であり、有機ＥＬ表示装置に用いられることを特徴とする部材である。
【０１４９】
本発明によれば、本発明の有機ＥＬ表示装置用積層体と、有機ＥＬ素子基材を有する他の積層体とを粘着層を介して貼合させて有機ＥＬ表示装置を形成した際、積層体が所定の厚みの第１層を有することにより、高温高湿下において、有機ＥＬ表示装置に対して屈曲耐久性試験を行った場合であっても、粘着層への水分の侵入による剥がれを抑制することができ、優れた屈曲耐久性を有する有機ＥＬ表示装置を得ることが可能な有機ＥＬ表示装置用積層体とすることができる。
【０１５０】
本発明の有機ＥＬ表示装置用積層体については、上述した「Ａ．有機ＥＬ表示装置  １．第１積層体」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【０１５１】
Ｃ．有機ＥＬ表示装置の製造方法
本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、第１基材、および上記第１基材の一方の面に配置された第１層を有する第１積層体を準備する第１積層体準備工程と、第２基材、ならびに上記第２基材の一方の面に配置された有機ＥＬ層を備えた有機ＥＬ素子基材、および上記有機ＥＬ層の上記第２基材とは反対側の面に配置された第２層を有する第２積層体を準備する第２積層体準備工程と、上記第１積層体の上記第１層側の面、および上記第２積層体の上記第２層側の面が対向するように、粘着層を介して貼合する貼合工程とを有し、上記第１層は、第１無機層、および上記第１無機層の一方の面に配置された第１有機層を有することを特徴とする製造方法である。
【０１５２】
本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法については、図を参照しながら説明する。図８（ａ）〜図８（ｃ）は、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法の一例を示す概略工程図である。本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、図８（ａ）に示すように、第１基材１０ａ、および第１基材１０ａの一方の面に配置された第１層３０ａを有する第１積層体２０ａを準備する第１積層体準備工程と、図８（ｂ）に示すように、第２基材１０ｂを備えた有機ＥＬ層５０、および有機ＥＬ層５０の第２基材１０ｂとは反対側の面に配置された第２層３０ｂを有する第２積層体２０ｂを準備する第２積層体準備工程と、図８（ｃ）に示すように、第１積層体２０ａの第１層３０ａ側の面、および第２積層体２０ｂの第２層３０ｂ側の面が対向するように、粘着層６０を介して貼合する貼合工程とを有する。なお、図２に示すように、本発明における第１層３０ａは、第１無機層３１ａおよび第１有機層３１ｂを有する。
【０１５３】
本発明によれば、第１積層体および第２積層体が粘着層を介して貼合された構成を有する有機ＥＬ表示装置において、有機ＥＬ素子基材とは反対側の第１積層体が第１層を有することにより、粘着層を、第１層および第２積層体における第２層によって挟持することができる。したがって、高温高湿下において、有機ＥＬ表示装置に対して屈曲耐久性試験を行った際に、粘着層への水分の侵入による剥がれを抑制することができ、優れた屈曲耐久性を有する有機ＥＬ表示装置を得ることができる。
【０１５４】
以下、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法が有する各工程について説明する。
【０１５５】
１．第１積層体準備工程
本発明における第１積層体準備工程は、第１基材、および第１基材の一方の面に配置された第１層を有する第１積層体を準備する工程である。
【０１５６】
本発明における第１積層体準備工程は、上述した所定の構成を有する第１積層体を得ることができる工程であれば良く、特に限定されない。なお、第１積層体を構成する各部材およびその形成方法については、上述した「Ａ．有機ＥＬ表示装置  １．第１積層体」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【０１５７】
本発明における第１積層体準備工程は、上述した第１基材および第１層の他にも、例えば、第１機能層を有していても良い。なお、第１機能層およびその形成方法については、上述した「Ａ．有機ＥＬ表示装置  １．第１積層体  （３）第１機能層」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【０１５８】
２．第２積層体準備工程
本発明における第２積層体準備工程は、第２基材、ならびに上記第２基材の一方の面に配置された有機ＥＬ層を備えた有機ＥＬ素子基材、および有機ＥＬ層の第２基材とは反対側の面に配置された第２層を有する第２積層体を準備する工程である。
【０１５９】
本発明における第２積層体準備工程は、上述した所定の構成を有する第２積層体を得ることができる工程であれば良く、特に限定されない。なお、第２積層体を構成する各部材およびその形成方法については、上述した「Ａ．有機ＥＬ表示装置  ２．第２積層体」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【０１６０】
本発明における第２積層体準備工程は、上述した第２基材を有する有機ＥＬ素子基材、および第２層の他にも、例えば、第２機能層を有していても良い。なお、第２機能層およびその形成方法については、上述した「Ａ．有機ＥＬ表示装置  ２．第２積層体  （３）第２機能層」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【０１６１】
３．貼合工程
本発明における貼合工程は、第１積層体の第１層側の面、および第２積層体の第２層側の面が対向するように、粘着層を介して貼合する工程である。
【０１６２】
ここで、粘着層を介して第１積層体および第２積層体を貼合する方法としては、例えば、第１積層体、粘着層、第２積層体の順に各部材を積層し、第１積層体および第２積層体が粘着層を介して接着するように所定の力で押圧し、第１積層体および第２積層体を圧着する方法が挙げられる。
【０１６３】
第１積層体および第２積層体を貼合する際には、本発明により得られる有機ＥＬ表示装置の品質の向上を目的として、第１積層体および第２積層体の位置合わせを行うことが好ましい。第１積層体および第２積層体の位置合わせをする場合には、予め第１積層体および第２積層体にアライメントマークを形成し、当該アライメントマークに基づいて位置合わせすることが好ましい。なお、アライメントマークおよびその形成方法については、一般的な有機ＥＬ表示装置に用いられるアライメントマークおよびその形成方法と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【０１６４】
本発明における貼合工程については、一般的な有機ＥＬ表示装置の製造方法において行われる貼合工程と同様とすることができるため、ここでの具体的な記載は省略する。
【０１６５】
４．その他の工程
本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、上述した第１積層体準備工程、第２積層体準備工程および貼合工程の他にも、必要に応じてその他の工程を有していても良い。その他の工程としては、例えば、第３層を形成する第３層形成工程や、各種機能層を形成する機能層形成工程等が挙げられる。なお、第３層形成工程や機能層形成工程については、上述した「Ａ．有機ＥＬ表示装置  ４．その他の部材」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【０１６６】
Ｄ．有機ＥＬ表示装置用バリア層
本発明の有機ＥＬ表示装置用バリア層は、無機層と、上記無機層の一方の面に配置された有機層とを有し、有機ＥＬ表示装置に用いられることを特徴とする部材である。
【０１６７】
本発明によれば、無機層および有機層を有する構成であることにより、水蒸気に対して優れたバリア性を示し、かつ優れた屈曲性を有するバリア層とすることができる。
【０１６８】
本発明の有機ＥＬ表示装置用バリア層については、上述した「Ａ．有機ＥＬ表示装置  １．第１積層体  （１）第１層」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
【０１６９】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【０１７０】
[実施例１]
（第１積層体準備工程）
第１基材として、大きさ１０ｃｍ×１０ｃｍのシート状のポリイミドフィルム（ＩＳＴ社製、トーメッド）を準備し、バッチ式スパッタリング装置（アネルバ（株）製  ＳＰＦ−５３０Ｈ）のチャンバー内に載置した。ターゲット材は珪素を用い、第１基材との距離（ＴＳ距離）は５０ｍｍに設定した。
【０１７１】
次に、成膜時の添加ガスとして酸素ガス（大陽日酸株式会社製（純度９９．９９９５％以上））、アルゴンガス（大陽日酸株式会社製（９９．９９９９％以上））、窒素ガス(太陽日酸株式会社製(９９．９９９９％以上))を準備した。次に、チャンバー内を、油回転ポンプおよびクライオポンプにより到達真空度２．５×１０-4Ｐａまで減圧した。次いで、チャンバー内にアルゴンガスを流量３０ｓｃｃｍ、酸素ガス６ｓｃｃｍで導入し、真空ポンプとチャンバーとの間にあるバルブの開閉度を制御することにより、チャンバー内圧力を０．２５Ｐａに保ち、ＲＦマグネトロンスパッタリング法により、投入電力１．２ｋＷで第１基材上に厚み３０ｎｍの酸化珪素膜からなる第１無機層を形成した。なお、ｓｃｃｍとはｓｔａｎｄａｒｄ  ｃｕｂｉｃ  ｃｅｎｔｉｍｅｔｅｒ  ｐｅｒ  ｍｉｎｕｔｅの略であり、以下においても同様である。
【０１７２】
得られた第１無機層上に、オーバーコート材（日立化成社製 ヒタロイド７９２７）を膜厚２００ｎｍとなるようにスピンコートした後、１５０℃で３０分間熱処理をし、第１有機層を得た。
【０１７３】
上述した第１無機層の成膜工程と、第１有機層形成工程とをそれぞれ順に２回繰り返して、第１無機層、第１有機層、第２無機層および第２有機層により構成された第１層を形成した。このようにして、第１基材および第１層を有する第１積層体を得た。
【０１７４】
（第２積層体の準備工程）
第２基材および第２層の間に有機ＥＬ層を形成したこと以外は、第１積層体と同様の方法により第２積層体を得た。
【０１７５】
（貼合工程）
厚み０．７ｍｍの強化ガラス基板（旭硝子（株）  Ｄｒａｇｏｎｔｒａｉｌ）に両面テープ(ニッタ（株)  ＣＳ２３２５ＮＡ２）を介して第２積層体を貼り合わせた。次に、第２積層体上に、粘着材料（ＪＮＣ社製 ＰＩＧ７４２４）を膜厚２．０μｍとなるようにスピンコートした後、ハンドローラーを用いて第１積層体と貼り合わせ、１５０℃で３０分間熱処理をすることで、第１積層体および第２積層体を貼合した。次いで、−３０℃の条件下で冷却し、強化ガラス基板を剥離した。このようにして、本発明の有機ＥＬ表示装置を得た。
【０１７６】
[実施例２]
第１無機層および第２無機層をスパッタリング法により成膜する際のターゲット材として、ホウ素を用いたこと以外は実施例１と同様にして有機ＥＬ表示装置を得た。
【０１７７】
[実施例３]
第１無機層および第２無機層をスパッタリング法により成膜する際に、チャンバー内へアルゴンガスを流量３０ｓｃｃｍ、酸素ガス１．８ｓｃｃｍ、窒素ガス４．２ｓｃｃｍ導入したこと以外は実施例１と同様にして有機ＥＬ表示装置を得た。
【０１７８】
[実施例４]
第１無機層および第２無機層をスパッタリング法により成膜する際に、チャンバー内へアルゴンガスを流量３０ｓｃｃｍ、酸素ガス３ｓｃｃｍ、窒素ガス３ｓｃｃｍ導入したこと以外は実施例１と同様にして有機ＥＬ表示装置を得た。
【０１７９】
[実施例５]
第１無機層および第２無機層をスパッタリング法により成膜する際に、チャンバー内へアルゴンガスを流量３０ｓｃｃｍ、酸素ガス４．２ｓｃｃｍ、窒素ガス１．８ｓｃｃｍ導入したこと以外は実施例１と同様にして有機ＥＬ表示装置を得た。
【０１８０】
[実施例６]
無機層の成膜工程と、有機層形成工程とをそれぞれ順に３回繰り返して、第１無機層、第１有機層、第２無機層、第２有機層、第３無機層および第３有機層により構成された第１層を形成したこと以外は実施例１と同様にして有機ＥＬ表示装置を得た。
【０１８１】
[比較例１]
第１層形成工程において、スパッタリング法による無機層の形成を行わなかったこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬ表示装置を得た。
【０１８２】
[比較例２]
第１層形成工程において、有機層の形成を行わなかったこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬ表示装置を得た。
【０１８３】
【表１】
2018181752.tif 000003
【０１８４】
[実施例７]
実施例１と同様にして有機ＥＬ表示装置を得た。
【０１８５】
[実施例８]
第１有機層および第２有機層の厚みを４００ｎｍにしたこと以外は、実施例７と同様にして有機ＥＬ表示装置を得た。
【０１８６】
[実施例９]
第１無機層および第２無機層の厚みを１００ｎｍにしたこと以外は、実施例７と同様にして有機ＥＬ表示装置を得た。
【０１８７】
[実施例１０]
第１無機層および第２無機層の厚みを１００ｎｍにし、第１有機層および第２有機層の厚みを４００ｎｍにしたこと以外は、実施例７と同様にして有機ＥＬ表示装置を得た。
【０１８８】
[比較例３]
第１無機層および第２無機層の厚みを１０ｎｍにしたこと以外は、実施例７と同様にして有機ＥＬ表示装置を得た。
【０１８９】
[比較例４]
第１無機層および第２無機層の厚みを１０ｎｍにし、第１有機層および第２有機層の厚みを４００ｎｍにしたこと以外は、実施例７と同様にして有機ＥＬ表示装置を得た。
【０１９０】
[比較例５]
第１無機層および第２無機層の厚みを２００ｎｍにしたこと以外は、実施例７と同様にして有機ＥＬ表示装置を得た。
【０１９１】
[比較例６]
第１無機層および第２無機層の厚みを２００ｎｍにし、第１有機層および第２有機層の厚みを４００ｎｍにしたこと以外は、実施例７と同様にして有機ＥＬ表示装置を得た。
【０１９２】
【表２】
2018181752.tif 000004
【０１９３】
[評価]
（粘着層の剥がれ）
得られた有機ＥＬ表示装置に対して、屈曲耐久試験を行った際の粘着層からの剥がれの有無について、下記のように評価した。なお、屈曲耐久試験は、温度６０℃および湿度９０％の環境下にて、曲げ半径３ｍｍの屈曲耐久試験を２０万回以上実施することにより行った。結果は、表３、表４に示す。
○：粘着層の剥がれがなかった。
×：粘着層の剥がれが生じた。
【０１９４】
（可視光線透過率）
分光光度計（（株）島津製作所製  ＵＶ−２４５０）を用いて、測定波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下で測定し、５００ｎｍ以上６００ｎｍ以下における透過率の平均値を算出した。ここでの透過率は、第１層の可視光線透過率となる。
結果は、表３に示す。
【０１９５】
（バリア性）
得られた第１積層体の水蒸気透過率を測定した。なお、水蒸気透過率の測定は、水蒸気透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ社製  ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ  ３／３１）を用いて、温度４０℃、湿度１００％ＲＨで測定した。
結果は、表３、表４に示す。
【０１９６】
（屈曲性）
得られた有機ＥＬ表示装置に対して、屈曲耐久試験を行った際の第１層の屈曲性について、下記のように評価した。なお、屈曲耐久試験は、温度６０℃および湿度９０％の環境下にて、曲げ半径３ｍｍの屈曲耐久試験を２０万回以上実施することにより行った。
○：第１層に特に不具合は生じなかった。
×：第１層を構成する無機層に割れが生じた。
結果は、表３、表４に示す。
【０１９７】
【表３】
2018181752.tif 000005
【０１９８】
【表４】
2018181752.tif 000006
【符号の説明】
【０１９９】
１０ａ…  第１基材
１０ｂ…  第２基材
２０ａ…第１積層体
２０ｂ…第２積層体
３０ａ…第１層
３０ｂ…第２層
６０  …粘着層
１００…有機ＥＬ表示装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
2018181752.tif 000009
【図４】
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【図５】
2018181752.tif 000011
【図６】
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【図７】
2018181752.tif 000013
【図８】
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【図９】
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