(57)【要約】【課題】樹脂製基材の表面に被覆層を直接設けた場合に比べて、当該被覆層が剥がれにくいクリーニングブレードを提供すること。【解決手段】本発明のクリーニングブレードは、板状の樹脂基材と、前記樹脂基材の少なくとも一つの辺部を覆う被覆層であって、前記樹脂基材との界面側に形成され、ダイヤモンドライクカーボンと、窒化チタン、炭化チタン及び炭窒化チタンから成る群から選ばれる少なくとも一つとを含有する繋ぎ層と、前記繋ぎ層を覆いダイヤモンドライクカーボンからなる表面層と、を有する前記被覆層と、を具えている。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状の樹脂基材と、
前記樹脂基材の少なくとも一つの辺部を覆う被覆層であって、前記樹脂基材との界面側に形成され、ダイヤモンドライクカーボンと、窒化チタン、シリコンチタン、タングステンチタン、炭化チタン及び炭窒化チタンから成る群から選ばれる少なくとも一つとを含有する繋ぎ層と、前記繋ぎ層を覆いダイヤモンドライクカーボンからなる表面層と、を有する前記被覆層と、
を具えたクリーニングブレード。
【請求項２】
前記樹脂基材が、ウレタン系ゴム、ポリイミド系ゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム、プロロピレンゴム、ブタジエンゴムから成る群から選ばれるいずれかである請求項１記載のクリーニングブレード。
【請求項３】
前記樹脂基材と前記被覆層との界面においては、前記樹脂基材及び前記被覆層の構成材料が混在した領域が形成されている、請求項１又は２記載のクリーニングブレード。
【請求項４】
前記表面層の厚みが、０．０５μｍ以上０．３μｍ以下である、請求項１から３記載のクリーニングブレード。
【請求項５】
前記表面層のビッカース硬度が、１５００Ｈｖ以上である、請求項１から４記載のクリーニングブレード。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか記載のクリーニングブレードと、
像担持体と、
前記像担持体表面に当接して前記像担持体から被転写体にトナー像を転写する転写装置と、を具えた画像形成装置。
【請求項７】
前記転写装置と前記クリーニングブレードとの設置角度が、２４度以上３０度以下である、請求項６記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記クリーニングブレードの前記転写装置への当接圧が、０．８ｇｆ／ｍｍ以上４．０ｇｆ／ｍｍ以下である、請求項６又は７記載の画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、クリーニングブレード及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
下記特許文献１には、所定の極性に帯電された顕像剤を担持する顕像剤担持部材と、該顕像剤担持部材に対向する位置に設けられた背面電極部材と、前記顕像剤担持部材と背面電極部材との間に位置し、顕像剤を飛翔制御させるための制御電極部材とを備えた画像形成装置において、前記制御電極部材と背面電極部材との間に顕像剤の飛翔エネルギーを吸収し顕像剤を一時的に保持する表面を有する中間転写部材と、該中間転写部材に接し当該中間転写部材の表面に残留した顕像剤を取り除くために該顕像剤の帯電極性と逆極性の電圧が印加されたクリーニング部材とを具備したことを特徴とする画像形成装置が開示されている。
【０００３】
下記非特許文献２には、像担持体と、該像担持体表面に当接して該像担持体を帯電する帯電ローラと、該像担持体を露光して潜像を形成する露光装置と、該像担持体上の潜像を現像してトナー像化する現像装置と、該像担持体上のトナー像を被転写体上に転写する転写装置と、転写後の該像担持体表面にエッジ部を当接させて該像担持体上の付着物を除去するクリーニングブレードとを備え、該帯電ローラは表面に周方向に沿って延びる凹凸を有する画像形成装置において、上記クリーニングブレードは、上記帯電ローラの表面の周方向に沿って延びる凹凸によって上記像担持体表面に形成された凹凸にならって弾性変形して該像担持体上の付着物を除去することを特徴とする画像形成装置が開示されている。
【０００４】
下記非特許文献３には、電子写真感光体上に静電潜像を形成する工程及び現像、転写クリーニングの各工程を有する画像形成方法において、電子写真感光体が有機光導電性感光体であり、現像工程が数平均ドメイン径０．１〜１．１μｍの離型剤を含有するトナーを用いて現像を行なう工程であり、クリーニング工程が反発弾性３５〜７５％のクリーニングブレード部材を電子写真感光体の回転方向に対してカウンター方向１０〜４５度の角度で、かつ荷重５〜４０ｇ／ｃｍで電子写真感光体表面に当接させてクリーニングを行なう工程であると共に、クリーニングブレード部材に対する電子写真感光体表面の静止摩擦係数が１．０以下となるように電子写真感光体表面が加工されていることを特徴とする画像形成方法が開示されている。
【０００５】
下記非特許文献４には、静電式電子写真感光体及びクリーニング手段を備える電子写真装置において、該電子写真感光体が導電性支持体上に感光層及び表面保護層を有し、該表面保護層が、その全質量に対して２０．０〜４０．０質量％のフッ素原子含有樹脂粒子を有し、表面粗さが１０点平均粗さで０．１〜５．０μｍであり、表面硬度がテーバー摩耗試験法で０．１〜４．５であり、かつ表面摩擦係数が０．００１〜１．２のものであり、該クリーニング手段の弾性ブレードの該電子写真感光体に対する線圧が１７．５〜２７．５ｇ／ｃｍであり、該弾性ブレードのゴム硬度が７５°〜８５°（ＪＩＳ−Ａ）であり、かつ該弾性ブレードが該電子写真感光体との静止時当接角度が１０°〜２０°の範囲にあることを特徴とする電子写真装置が開示されている。
【０００６】
下記非特許文献５には、トナー像を担持するトナー像担持体と、前記トナー像担持体によって担持されたトナー像を転写材に転写し、当該転写材を搬送する転写搬送ベルトと、前記転写搬送ベルトにカウンタ当接して、当該転写搬送ベルトの表面に付着した付着物を掻き取るクリーニング部材とを備え、前記クリーニング部材は、前記転写搬送ベルトとの当接角が２１°以上、かつ２６°以下に設定されるとともに、当該転写搬送ベルトへの当接圧が１．５ｇ／ｍｍ以上、かつ４．０ｇ／ｍｍ以下に設定されたことを特徴とする画像形成装置が開示されている。
【０００７】
下記特許文献６には、少なくとも画像形成装置において被接触部材に接触しながら摺擦されるよう配置される摺擦部材であって、樹脂を全体に含み、前記被接触部材との接触側に更にｓｐ３結合を有する炭素を含む炭素含有領域を有し、且つ前記炭素含有領域以外の領域は同じ材質で構成される基材を備え、（Ａ）前記炭素含有領域が前記被接触部材との接触部を構成する、または、（Ｂ）前記炭素含有領域の更に前記被接触部材との接触側表面に、樹脂を含まず且つｓｐ３結合を有する炭素を含む炭素層を備え、該炭素層が前記被接触部材との接触部を構成する、の何れかの要件を満たす画像形成用摺擦部材、が開示されている。
【０００８】
下記特許文献７には、少なくとも像担持体と像担持体上の現像剤をクリーニングする手段としてクリーニングブレードを有する画像形成装置において、クリーニングブレードはポリウレタンゴム基材部からなり、基材部は、像担持体と接するエッジ部分を中心にイソシアネート化合物とポリウレタン樹脂の反応による硬化処理がなされており、基材部の硬化処理がなされた部分上にパルスプラズマイオン注入・成膜法によって成膜した化学蒸着潤滑膜が設けられていることを特徴とする画像形成装置、が開示されている。
【０００９】
下記特許文献８には、像搬送体上に残留する作像粒子を清掃するクリーニング装置において、像搬送体に接触し且つ像搬送体との接触部形状が像搬送体の移動停止に拘わらず非変形状態に保たれるクリーニング部材を有し、このクリーニング部材は、板状のＳＵＳ製ベース基材と、このベース基材のうち少なくとも像搬送体との接触部に対応する部分を被覆する被覆層とを備え、前記被覆層は、前記ベース基材上にクロム膜、クロムとタングステンカーボンの混合膜、タングステンカーボンとダイヤモンドライクカーボンの混合膜の三層構成の中間層を形成し、この中間層上にダイヤモンドライクカーボン膜（ＤＬＣ膜）からなる表面層を形成したビッカース硬度が１５００Ｈｖ以上のものであることを特徴とするクリーニング装置、が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開平１０−２６０５８９号公報
【特許文献２】特開２０１４−  ８５５９５号公報
【特許文献３】特開平  ９−２９２７２２号公報
【特許文献４】特開２００２−  ８２４６７号公報
【特許文献５】特開２００６−  ９１０８７号公報
【特許文献６】特開２０１５−１６９８４６号公報
【特許文献７】特開２０１３−    ８００７号公報
【特許文献８】特開２００５−２７４９５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、樹脂製基材の表面に被覆層を直接設けた場合に比べて、当該被覆層が剥がれにくいクリーニングブレードの提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
［クリーニングブレード］
請求項１に係る本発明は、板状の樹脂基材と、
前記樹脂基材の少なくとも一つの辺部を覆う被覆層であって、前記樹脂基材との界面側に形成され、ダイヤモンドライクカーボンと、窒化チタン、シリコンチタン、タングステンチタン、炭化チタン及び炭窒化チタンから成る群から選ばれる少なくとも一つとを含有する繋ぎ層と、前記繋ぎ層を覆いダイヤモンドライクカーボンからなる表面層と、を有する前記被覆層と、
を具えたクリーニングブレードである。
【００１３】
請求項２に係る本発明は、前記樹脂基材が、ウレタン系ゴム、ポリイミド系ゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム、プロロピレンゴム、ブタジエンゴムから成る群から選ばれるいずれかである請求項１記載のクリーニングブレードである。
【００１４】
請求項３に係る本発明は、前記樹脂基材と前記被覆層との界面においては、前記樹脂基材及び前記被覆層の構成材料が混在した領域が形成されている、請求項１又は２記載のクリーニングブレードである。
【００１５】
請求項４に係る本発明は、前記表面層の厚みが、０．０５μｍ以上０．３μｍ以下である、請求項１から３記載のクリーニングブレードである。
【００１６】
請求項５に係る本発明は、前記表面層のビッカース硬度が１５００Ｈｖ以上である、請求項１から４記載のクリーニングブレードである。
【００１７】
［画像形成装置］
請求項６に係る本発明は、請求項１〜５のいずれか記載のクリーニングブレードと、
像担持体と、
前記像担持体表面に当接して前記像担持体から被転写体にトナー像を転写する転写装置と、を具えた画像形成装置である。
【００１８】
請求項７に係る本発明は、前記転写装置と前記クリーニングブレードとの設置角度が、２４度以上３０度以下である、請求項６記載の画像形成装置である。
【００１９】
請求項８に係る本発明は、前記クリーニングブレードの前記転写装置への当接圧が、０．８ｇｆ／ｍｍ以上４．０ｇｆ／ｍｍ以下である、請求項６又は７記載の画像形成装置である。
【発明の効果】
【００２０】
請求項１に係る本発明よれば、ダイヤモンドライクカーボンから成る膜を直接基材表面に設けた場合に比べて、ダイヤモンドライクカーボンから成る膜が剥がれにくいクリーニングブレードが得られる。
【００２１】
請求項２に係る本発明よれば、請求項１の効果に加えてウレタン系ゴム、ポリイミド系ゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム、プロロピレンゴム、ブタジエンゴムから成る群から選ばれるいずれかである場合に適用可能となる。
【００２２】
請求項３に係る本発明よれば、請求項１又は２の効果に加えて、樹脂基材と被覆層の構成材料との混在領域を設けない場合と比べて被覆層が更に剥がれにくいクリーニングブレードが得られる。
【００２３】
請求項４に係る本発明よれば、請求項１から３いずれかの効果に加えて、被覆層の剥がれにくさと耐摩耗性が両立されたクリーニングブレードが得られる。
【００２４】
請求項５に係る本発明によれば、請求項１から４いずれかの効果に加えて、表面層のビッカース硬度が１５００Ｈｖ未満である場合と比べて、耐摩耗性の高いクリーニングブレードが得られる。
【００２５】
請求項６に係る本発明によれば、ダイヤモンドライクカーボンから成る膜を直接基材表面に設けた場合に比べて、ダイヤモンドライクカーボンから成る膜が剥がれにくいクリーニングブレードを具えた、画像形成装置が得られる。
【００２６】
請求項７に係る本発明によれば、転写装置とクリーニングブレードとの設置角度が、２４度未満又は３０度より大きい場合よりも、請求項１から５いずれか記載のクリーニングブレードによって齎される効果がより顕著な、画像形成装置が得られる。
【００２７】
請求項８に係る本発明よれば、クリーニングブレードと転写装置の当接圧が０．８ｇｆ／ｍｍ未満又は４．０ｇｆ／ｍｍより大きい場合よりも、請求項１から５いずれか記載のクリーニングブレードによって齎される効果がより顕著な、画像形成装置が得られる。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
画像形成装置においては、像保持体や中間転写ベルト等に残留した現像剤を清掃するためにクリーニング装置が設けられている。このクリーニング装置の例として、基材としてポリウレタンゴム等の樹脂を用いた弾性を有するクリーニングブレードがある。
【００２９】
このようなクリーニングブレードは、被接触部材に角部（エッジ）が接触するよう設置され、摺擦によりエッジで現像剤を掻き落とすことで、クリーニング装置として機能する。
【００３０】
以下、本実施形態に係るクリーニングブレードについて説明する。本実施形態に係るクリーニングブレードは、ブレード基材とその表面を覆う被覆層と、を具えている。
【００３１】
ブレード基材は板状の樹脂基材から成り、ダイヤモンドライクカーボンを主成分とする被覆層によって、少なくとも一辺を覆うように被覆されている。この被覆された一辺は、画像形成装置内に設置される際に、クリーニング対象であるベルトと当接することになる部分に相当する。
【００３２】
被覆層で被覆されていないブレード基材単体は、従来型の弾性ブレードに相当し、この被覆層は、その硬さと低摩擦係数から、クリーニング対象との接触部における耐摩耗性及び低摩擦性を向上させるものである。すなわち、ブレード基材が直接ベルトと接する態様と比べて、ベルトとの摺動によって生じる摩耗への耐性が向上し、かつ、ベルトとの摩擦の軽減化が図られる。
【００３３】
耐摩耗性の向上はクリーニングブレードの長寿命化に寄与するものであり、低摩擦性の向上は、クリーニング性能の向上に寄与する。
【００３４】
ブレード基材を構成する樹脂基材としては、非金属製のクリーニングブレードとして一般的に用いられている各種弾性基材を採用可能であり、例えば、ポリウレタンゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム、プロロピレンゴム、ブタジエンゴム等の、可撓性及び形状復元性を有することが知られている、いわゆるゴム材が挙げられる。
【００３５】
ゴム材の物性としては、ＪＩＳ−Ａの硬度７０〜８５程度であることが好ましい。
【００３６】
被覆層は、板状である樹脂基材の少なくとも一辺を覆うように形成されており、主としてダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜から成るが、基材との界面側には、樹脂基材と被覆層との密着性をより強固にするための繋ぎ層を有している。
【００３７】
繋ぎ層は、被覆層の主成分であるＤＬＣに加えて、アンカー材として窒化チタン、炭化チタン、炭窒化チタン、シリコンチタン、窒化クロム、炭化タングステン、炭化ケイ素、タングステンチタンの少なくともいずれかを含んでいる。
【００３８】
繋ぎ層を覆うことになるＤＬＣから成る表面層は、その厚みを０．０５μｍ以上０．３μｍ以下とすること好ましい。膜厚が厚くなる程、被覆膜が弾性変形する基材の動きに追従しきれず、膜剥がれが生じやすくなってしまう。また、膜厚が薄すぎると、ブレード材の表面の摩擦係数を低減させるという、ＤＬＣ膜を設けることの目的である効果が十分に得られない。
【００３９】
被覆膜の形成方法としてはＤＬＣを基材表面に成膜する方法として一般的な手法である、各種蒸着法（ＰＶＤ：物理気相成長法、ＣＶＤ：化学気相成長法）を用いることができる。
【００４０】
例えば、マイクロ波プラズマＣＶＤ法、直流プラズマＣＶＤ法、高周波プラズマＣＶＤ法、有磁場プラズマＣＶＤ法、イオンビーム・スパッタ法、イオンビーム蒸着法、反応性プラズマ・スパッタ法、アンバランスドマグネトロンスパッタ法等により形成される。
【００４１】
このとき用いることができる原料ガスは、含炭素ガスであり、例えば、メタン、エタン、プロパン、エチレン、ベンゼン、アセチレン等の炭化水素ガス、塩化メチレン、四塩化炭素、クロロホルム、トリクロルエタン等のハロゲン化炭素、メチルアルコール、エチルアルコール等のアルコール類、アセトン、ジフェニルケトン等のケトン類、一酸化炭素、二酸化炭素等のガス、及び、これらのガスにＮ2、Ｈ2、Ｏ2、Ｈ2Ｏ、Ａｒ等を混合したものが挙げられる。
【００４２】
なお、各種蒸着法の中でも、アークプラズマ源を用いたイオンビーム蒸着法である、フィルター型カソーディック真空アーク（ＦＣＶＡ：Filtered Cathodic Vacuum Arc）方式を用いて、形成することが好ましい。
【００４３】
ＰＶＤ法の一種であるＦＣＶＡでは、固体の炭素源から直接的に炭素を取り出すため、炭素源として炭化水素ガスを用いるプラズマＣＶＤ法等と比較し、水素含有量の少ないＤＬＣ膜が得られる。そのため、ＦＣＶＡ法によって形成されたＤＬＣ膜は、より耐摩耗性に優れ、かつ、摩擦係数が低い物性が得られる。
【００４４】
繋ぎ層は、炭素とアンカー材が一定の比率で分散した状態とするよりも、被覆層の成長方向（基材との界面側から表面層に向かう方向）に進むにつれて、アンカー材の割合が徐々に下がっていくように形成されていることが好ましい。なお、アンカー材の比率がゼロになって以降のアンカー材を含まない部分が、被覆層の表面層に相当し、ダイヤモンドライクカーボンから成る表面層のビッカース硬度は１５００Ｈｖ以上となる。
【００４５】
従って、特に繋ぎ層については、ＦＣＶＡ方式を用いて形成することが好ましい。ＦＣＶＡ方式を用いることで、炭素源のガスと、各イオン源（チタン源・クロム源・タングステン源・ケイ素源）となるガスの混合比率の調整を精密に行いながら成膜することができる。
【００４６】
イオン源ガスを注入することにより、基材成分（窒素やケイ素）、あるいは、炭素と各イオンが結合することで、繋ぎ層の構成成分として上述した、窒化チタン、炭化チタン、炭窒化チタン、シリコンチタン、窒化クロム、炭化ケイ素、タングステンチタン、炭化タングステン、等が形成される。
【００４７】
ブレード基材の樹脂とＤＬＣ膜とでは、材質の違いに起因するモジュラス硬度の差がある。モジュラス硬度の差が大きい程、弾性変形を繰り返すことによる被覆層の剥がれやすさつながると考えられることから、ブレード基材と被覆層（繋ぎ層）との界面には、窒化チタンやシリコンチタン、炭窒化チタン、または、タングステンチタン、が形成されてブレード基材の樹脂成分（窒素やケイ素）とチタンやタングステンが混在した状態となっている混在領域が存在していることが好ましい。混在領域が存在することで、樹脂から被覆層にかけてのモジュラス硬度の段差が緩やかなものとなり、被覆層がブレード基材からより剥がれにくくなる。
【実施例１】
【００４８】
［基材］
まず、まず、ポリカプロラクトンポリオール（ダイセル化学工業(株)製、プラクセル２０５、平均分子量５２９、水酸基価２１２ＫＯＨｍｇ／ｇ）およびポリカプロラクトンポリオール（ダイセル化学工業(株)製、プラクセル２４０、平均分子量４１５５、水酸基価２７ＫＯＨｍｇ／ｇ）と、をポリオール成分のソフトセグメント材料として用いた。また、２つ以上のヒドロキシル基を含むアクリル樹脂（綜研化学社製、アクトフローＵＭＢ−２００５Ｂ）をハードセグメント材料として用い、上記ソフトセグメント材料およびハードセグメント材料を８：２（質量比）の割合で混合した。
【００４９】
次に、このソフトセグメント材料とハードセグメント材料との混合物１００部に対して、イソシアネート化合物として４，４'−ジフェニルメタンジイソシアネート（日本ポリウレタン工業(株)製、ミリオネートＭＴ）を６．２６部加えて、窒素雰囲気下で７０℃で３時間反応させた。尚、この反応で使用したイソシアネート化合物量は、反応系に含まれる水酸基に対するイソシアネート基の比（イソシアネート基／水酸基）が０．５となるよう選択したものである。
【００５０】
続いて、上記イソシアネート化合物を更に３４．３部加え、窒素雰囲気下で７０℃で３時間反応させて、プレポリマーを得た。尚、プレポリマーの使用に際して利用したイソシアネート化合物の全量は４０．５６部であった。
【００５１】
次に、このプレポリマーを１００℃に昇温し、減圧下で１時間脱泡した。その後、プレポリマー１００部に対して、１，４−ブタンジオールとトリメチロールプロパンとの混合物（質量比＝６０／４０）を７．１４部加え、３分間泡を巻きこまないよう混合し、基材形成用組成物を調製した。
【００５２】
次いで、１４０℃に金型を調整した遠心成形機に上記基材形成用組成物を流し込み、１時間硬化反応させた。次いで、１１０℃で２４時間熟成加熱し、冷却した後切断して、長さ３２０ｍｍ、幅１２ｍｍ、厚さ２ｍｍのウレタンゴムである基材Ａを得た。
【００５３】
［被覆層の形成］
被覆層としてのＤＬＣ膜は、ＦＣＶＡ方式により形成した。元素源として炭素のみを用いた場合は炭素のみから成る純粋なＤＬＣ膜となるが、本実施例においては、成膜処理の初期に、アンカー材としてのチタン源となるガスを炭素の気化ガスに混合することで、基材と繋ぎ層との界面に混在領域が存在する繋ぎ層を形成した。
【００５４】
繋ぎ層の組成について、Ｘ線光電子分光分析器で確認したところ、表面層の厚みは２００ｎｍ、繋ぎ層の厚みは１３３ｎｍであった。また、基材と被覆層との界面領域において、基材成分である窒素とチタン及び炭素とが混在しており、チタン及び窒素の原子数濃度のピークはそれぞれ、７％、２．５％であること、が確認された。
【００５５】
以上の様にして実施例１に係るクリーニングブレードを作製した。
【実施例２】
【００５６】
基材をシリコーンゴムとし、チタン及びケイ素の原子数濃度のピークをそれぞれ、５８％、３０％となるようにした点以外は、実施例１と同様にして実施例２に係るクリーニングブレードを作製した。
【実施例３】
【００５７】
繋ぎ層に基材成分由来の窒素が混在しないようにした（なお、繋ぎ層におけるチタンの原子数濃度のピークは１０％であった）点以外は、実施例１と同様にして実施例３に係るクリーニングブレードを作製した。
【比較例１】
【００５８】
被覆層形成時にチタン源ガスを加えず、基材Ａに直接ＤＬＣ膜を成膜した点以外は、実施例１と同様にして、比較例１に係るクリーニングブレードを作製した。
【比較例２】
【００５９】
比較例２は、被覆層を形成していない基材Ａをそのままブレードとして用いた。
【００６０】
［低密着性試験］
上記各実施例および比較例
上記の様にして得られた各実施例及び比較例に係るクリーニングブレードを、ポリイミド製ゴムを敷いたターンテーブルに当接させた状態で、ターンテーブルを規定回数回転させた後、ブレードの当接面側の端部からの被覆膜の剥がれ度合いを、電子顕微鏡を用いて確認した。ターンテーブルとクリーニングブレードとの設置角度は３２°、当接圧は４．０ｇｆ／ｍｍとした。
【００６１】
繋ぎ層を有する実施例１〜３の被覆膜の剥がれ量は、１００回転後において、被覆層を有さない比較例１の半分以下であった。また、３００回転後の剥がれ量について、実施例１と実施例３とを比較したところ、実施例１は実施例３の４０％〜６０程度であり、混在領域を形成することで、被覆層の剥がれがより低減されることが確認された。
【００６２】
また、このことから、各実施例に係るクリーニングブレードであれば、当接圧４．０ｇｆ／ｍｍ、かつ、設置角度３２°であっても、良好に摺擦可能であることがわかる。
【００６３】
なお、被覆層を形成せず、基材Ａをそのままブレードとして用いた比較例２では、クリーニングブレードとターンテーブルとの摩擦抵抗が強すぎることにより、クリーニングブレードが摺動せず、ターンテーブルを適切に回転させること自体が不可能であった。
【００６４】
［表面粗さＲｚ６．０μｍのベルトに対する実用性試験］
清掃対象であるベルトの表面粗さが大きくなるほど、小粒径トナーが凹部に陥没し、クリーニングブレードによる清掃性能が発揮されにくくなる。清掃性能を維持するために、一般的にはベルトに対するクリーニングブレードの設置角度を高くすることが行われているが、この設置角度を大きくするほど、クリーニングブレードがベルトとの摩擦によりベルト進行方向に巻き込まれてブレードが跳ねたり、ブレードメクレが生じてしまう。
【００６５】
このようにクリーニングブレードでは、実用上設置角度の上限が存在するため、実施例１に係るクリーニングブレードと従来型のクリーニングブレードに相当する比較例２とを比較し、実施例１の実用上の設置角度上限について検証した。
【００６６】
清掃対象となるベルトとしては、表面粗さＲｚが６．０μｍのベルトを用いた。この表面粗さＲｚが６．０μｍのベルトは、一般的な設置角度として知られている設置角度２０°程度とした場合に、従来型クリーニングブレードである比較例２で十分なクリーニング性能を発揮できないベルトである。結果を表１に示す。
【００６７】
【表１】
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【００６８】
比較例２では、設置角度が２０°を超えるとブレードメクレが発生するのに対して、実施例１では、設置角度を３４°まで上げてもブレードメクレは生じないことが分かった。
【００６９】
なお、表１には示していないが、比較例２では設置角度２０°において、また、実施例１においては、設置角度３０°から３４°において、ブレード跳ねが生じることがあった。また、設置角度２０°〜２３°では、実施例１において清掃性能が若干低下した。
【００７０】
従って、実施例１の設置角度としては、２４°から３０°の範囲がより好ましいことがわかる。
【産業上の利用可能性】
【００７１】
以上で説明をしたように、本発明はクリーニングブレード及び画像形成装置に適用することができる。