(57)【要約】【課題】還元力が大きく、還元効果の安定性が高い還元液の製法を提供する。【解決手段】本発明に係る還元液の製法は、少なくとも、炭水化物に酵母菌などを加えるステップを含む。この還元液の酸化還元電位２は、従来の還元剤である亜硫酸ナトリウム水溶液（濃度１mol／リットル）の酸化還元電位１より低く、水に溶けた状態で還元効果の安定性が高く、還元力が大きいことが分かる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、炭水化物に酵母菌などを加えるステップを含む、ことを特徴とする還元液の製法。
【請求項２】
前記炭水化物には、穀類、イモ・でん粉類、砂糖・甘味類、及び豆類の少なくとも１つが含まれる、ことを特徴とする請求項１記載の還元液の製法。
【請求項３】
前記還元液は、化粧品、化粧水、洗浄剤、保湿剤又は入浴剤に配合される、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の還元液の製法。
【請求項４】
前記請求項１乃至３のいずれか一項に記載の還元液の製法によって製造される、ことを特徴とする還元液。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、肌に直接使用される化粧品などに配合される還元液の製法、及び当該製法により製造された還元液に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
我々の肌は、紫外線や水道水の塩素などの化学物質により日々「酸化ストレス」というマイナス要因にさらされており、それにより、健やかな肌の状態に保つことが難しくなっている。例えば、この紫外線は、酸素を角質層内で老化の原因と言われる活性酸素に変えて、コラーゲン繊維層を切断し、肌にたるみ、シミ、ソバカス、しわを生じさせて老化を早める原因となっている。
【０００３】
このような肌の酸化ストレスへの対策として、還元系の化粧品を肌に用いることが従来より知られている。この還元系の化粧品では、例えば、還元剤として殺菌力を有する亜硫酸塩などが含有され、この還元力により肌の酸化を防止することで肌の酸化トラブルを低減する手法が用いられている。また、例えば、紫外線に基因する肌のトラブルを解決するために還元水を用いた化粧品または化粧水が開示されている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−３４８２０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述した還元系の化粧品は、肌に直接触れるものであるために、肌を荒らすことなく、また肌にその他の悪影響を与えることがないように、その成分を十分に吟味する必要性がある。この際、化粧品に使用される還元液の性質は極めて重要である。還元液が良くないと、化粧品が肌を荒らしたり、長期間の保存時に腐敗したりして役に立たなくなる。
【０００６】
しかしながら、上述した亜硫酸塩などを水などに溶かした含有する還元液は、成分安定性が低く、その還元力が非常に低下しやすく、時間の経過に伴って肌の酸化トラブルを適切に防止できないという問題がある。また、亜硫酸ナトリウムなどの亜硫酸塩を用いた還元液は、肌を還元する過程を通じて自身は硫酸塩などに酸化され、こうした副生成物の肌に対する安全性も懸念されている。
【０００７】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、肌に悪影響を与えることがなく、その還元力が大きく、且つ還元効果の安定性が高い還元液の製法、及び当該製法により製造された還元液を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、本発明は、少なくとも、炭水化物に酵母菌などを加えるステップを含む、ことを特徴とする還元液の製法である。
【０００９】
この還元液の製法において、前記炭水化物には、穀類、イモ・でん粉類、砂糖・甘味類、及び豆類の少なくとも１つが含まれることが好ましい。
【００１０】
この還元液の製法において、前記還元液は、化粧品、化粧水、洗浄剤、保湿剤又は入浴剤に配合されることが好ましい。
【００１１】
また、上記課題を解決するために、上記還元液の製法により製造された還元液であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明は、少なくとも、炭水化物に酵母菌などを加えるステップを含む、ことを特徴とする還元液の製法である。この製法により製造された還元液は、原料が無添加であるために化粧品に配合されたとしても肌へ悪影響を与えることがない。また、当該還元液は、還元力が大きく、且つ従来より還元効果の安定性が高い。このため、この還元液を化粧品などに配合した場合、電子や美容成分を肌に届け、肌の酸化ストレスによるトラブル、例えば、たるみ、シミ、ソバカス、しわ、老化などを長期且つ有効に防止し、酸化状態の肌を還元状態にリセットし、肌の真の改善に繋げることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】従来の亜硫酸ナトリウム水溶液（濃度１mol／リットル）の酸化還元遠位と、本発明の実施の形態に係る還元液の酸化還元電位との比較データを示す参考図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明の実施の形態に係る還元液の製法について説明する。本実施の形態に係る還元液の製法は、少なくとも、炭水化物に酵母菌などを加えるステップを含む。また、当該炭水化物には、例えば、穀類、イモ・でん粉類、砂糖・甘味類（黒糖も含む）、及び豆類の少なくとも１つが含まれている。
【００１５】
そして、この還元液は、化粧品、化粧水、洗浄剤、保湿剤、又は入浴剤などに配合される。より具体的には、この還元液が使用されるのは、例えば、肌の汚れやファンデーションを落とすクレンジング、肌を水道水の刺激から守りながら洗浄して清潔に保つパウダー洗浄剤、肌を洗う固形石鹸、肌を保湿する化粧水、肌の水分保持力をアップさせるクリーム、肌本来のハリと潤いを取り戻すためのゲル、紫外線対策クリーム、美容液ファンデーション、洗浄料、肌が持っている還元力を取り戻すための入浴剤などである。
【００１６】
図１は、従来の亜硫酸ナトリウム水溶液（濃度１mol／リットル）の酸化還元電位１(ORP:Oxidation-Reduction Potential)と、本実施の形態に係る還元液（原液）の酸化還元電位２との比較データを示す参考図である。本図に示すように、従来の亜硫酸ナトリウム水溶液の酸化還元電位１の測定値は−１４５ｍｖ、本発明に係る還元液の酸化還元電位２の測定値は−７５０ｍｖである。酸化還元電位は値がマイナスであるほど還元性が高いことを示しているため、本実施の形態に係る還元液は、従来品より水に溶けた状態で還元効果の安定性が高く、還元力が非常に大きいことが分かる。また、この還元液の還元力維持・殺菌力維持の効果により、水で約１０００倍程度に希釈したとしても、少なくとも１年程度の無変質保持が可能となる。
【００１７】
このようにして製造された本実施の形態に係る還元液は、原料が炭水化物と酵母菌とであるため無添加で、化粧品に配合されたとしても肌へ悪影響を与えることがない。また、この還元液は天然由来の成分を多量に含有するので、保湿性が高く、よって化粧品への適用に優れている。
【００１８】
さらに、この還元液を配合した化粧品は、酸化された状態の肌に、電子を供給し、酸化された肌を元の状態に戻すことができる。すなわち、肌の酸化ストレスによるトラブル、例えば、たるみ、シミ、ソバカス、しわ、老化などを有効に防止或いは回復して、酸化状態の肌の角質を還元状態にリセットし、肌の真の改善に繋げることができる。また、環境や薬物（パーマ剤、カラー剤など）のダメージから、フェイス、ヘアー、ボディをできる限り守り、ケアすることができる。また、この還元液を配合した化粧品は、水道水からの塩素を中和できる能力（塩素中和能力）など、生体環境の電位を少しでも低く保つことができる。
【００１９】
さらに、この還元液に加えて、生体の水分保持力をなくすようなパラジンやシリコン、エタノール、合成香料、合成着色料などを使用しないことで完全無添加の化粧品を提供できる。この結果、アトピー等の皮膚疾患に適用できる化粧品などを得ることができる。
【００２０】
またさらに、この還元液を配合した化粧品は、低電位であり、プラス化してしまった細胞に、直接電子や美容成分をその角質層まで届けることができ、肌細胞本来の機能を取り戻し、潤ったハリのある肌へと導くことができる。
【００２１】
また、この還元液を配合した化粧品は、水分子にマイナスイオンを付与でき、水分子の塊が小さくなり、活性化してゆき、その結果、電子が肌に浸透しやすくなる。すなわち、水分子の塊が小さいため、水が活性化された状態になり、浸透圧も高まる。よって、肌の水分保持能力をアップさせることができる。さらに、浸透圧の高まりにより、栄養、薬剤成分が肌に吸収されやすくなる。
【００２２】
さらに、当該還元液は洗浄能力においても優れているため、洗顔クリーム、石けん等で容易に落ちない肌や頭髪についた汚れでも極めて簡単に落とせる。
【００２３】
以上説明したように本発明に係る還元液の製法によれば、当該製法により製造された還元液を化粧品などに配合することで、肌の酸化トラブルの解消、無添加、水分保持力、殺菌能力の向上などの様々な効果を奏し、その利用価値は極めて高い。
【００２４】
なお、本発明は、上記実施の形態の構成に限られず、発明の趣旨を変更しない範囲で種々の変形が可能である。また、本発明に係る還元液は化粧品に限らず、医薬部外品や医薬品などその他、人の肌や頭皮、頭髪に触れたり、人が摂取するものにまで応用できるものである。
【符号の説明】
【００２５】
１  亜硫酸ナトリウム水溶液（濃度１mol／リットル）の酸化還元電位
２  本発明に係る還元液の酸化還元電位
【図１】
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