(57)【要約】【課題】  高純度かつ高透明な透明シリカガラスを提供する。【解決手段】  下記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分；  （Ａ）平均粒径が０．０１〜１５０μｍであり、かつアスペクト比が１．００〜１．５０である球状シリカ粒子：８０〜９９．９質量部  （Ｂ）１個以上のヒドロシリル基及び１個以上のアルコキシシリル基を有する有機ケイ素系バインダー：０．１〜２０質量部を含む組成物の焼結体である透明シリカガラス。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分；
（Ａ）平均粒径が０．０１〜１５０μｍであり、かつアスペクト比が１．００〜１．５０である球状シリカ粒子：８０〜９９．９質量部
（Ｂ）１個以上のヒドロシリル基及び１個以上のアルコキシシリル基を有する有機ケイ素系バインダー：０．１〜２０質量部
を含む組成物の焼結体であることを特徴とする透明シリカガラス。
【請求項２】
前記（Ｂ）成分が、下記（Ｂ１）成分及び（Ｂ２）成分；
（Ｂ１）下記式（１）
【化１】
2018203573.tif 000016
（式中、Ｒは炭素数１〜１０の１価の有機基であり、Ｘはヒドロキシ基又は炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、Ｘのうち、１つ以上はアルコキシ基であり、ｘ及びｙは、それぞれ０＜ｘ≦１、０≦ｙ≦３であり、かつ０＜ｘ＋ｙ＜４である。）
で示される有機ケイ素化合物、
（Ｂ２）下記式（２）
【化２】
2018203573.tif 000017
（式中、Ｒ’は独立して水素原子又は前記Ｒで示される基であり、Ｒ’のうち、１つ以上は水素原子であり、Ｘは前記と同じであり、Ｘのうち、１つ以上はアルコキシ基であり、ａは０〜０．７、ｂは０〜０．９、ｃは０．０１〜０．９９、ｄは０〜０．５０、ｅは０．００１〜０．２５であり、但しａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＝１．０である。）
で示されるオルガノポリシロキサン、
から選ばれる１種以上の化合物を含むものであることを特徴とする請求項１に記載の透明シリカガラス。
【請求項３】
前記（Ｂ）成分が、水素原子と炭素数１〜１０のアルコキシ基とをそれぞれ１個以上ずつ有するケイ素原子を１分子中に１個以上含むものであることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の透明シリカガラス。
【請求項４】
前記（Ｂ）成分の２３℃における粘度が、０．１〜１０，０００ｍＰａ・ｓであることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の透明シリカガラス。
【請求項５】
前記（Ｂ）成分が、少なくとも前記（Ｂ２）成分を含み、該（Ｂ２）成分が空気中で最高温度を１，０００℃にしてＪＩＳ  Ｋ  ７１２０：１９８７記載の方法で測定したＴＧＡ分析における残分率が４０％以上のものであることを特徴とする請求項２から請求項４のいずれか一項に記載の透明シリカガラス。
【請求項６】
下記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分；
（Ａ）平均粒径が０．０１〜１５０μｍであり、かつアスペクト比が１．００〜１．５０である球状シリカ粒子：８０〜９９．９質量部
（Ｂ）１個以上のヒドロシリル基及び１個以上のアルコキシシリル基を有する有機ケイ素系バインダー：０．１〜２０質量部
を含む組成物を調製する工程の後に、該組成物を成形し、成形体を形成する工程、次いで、該成形体を４００〜１，２００℃で１０分間〜１２時間加熱し、脱脂する工程、さらに、該脱脂した成形体を１，４００〜１，８００℃で１〜６０分間加熱し、焼結する工程を有することを特徴とする透明シリカガラスの製造方法。
【請求項７】
前記（Ｂ）成分として、下記（Ｂ１）成分及び（Ｂ２）成分；
（Ｂ１）下記式（１）
【化３】
2018203573.tif 000018
（式中、Ｒは炭素数１〜１０の１価の有機基であり、Ｘはヒドロキシ基又は炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、Ｘのうち、１つ以上はアルコキシ基であり、ｘ及びｙは、それぞれ０＜ｘ≦１、０≦ｙ≦３であり、かつ０＜ｘ＋ｙ＜４である。）
で示される有機ケイ素化合物、
（Ｂ２）下記式（２）
【化４】
2018203573.tif 000019
（式中、Ｒ’は独立して水素原子又は前記Ｒで示される基であり、Ｒ’のうち、１つ以上は水素原子であり、Ｘは前記と同じであり、Ｘのうち、１つ以上はアルコキシ基であり、ａは０〜０．７、ｂは０〜０．９、ｃは０．０１〜０．９９、ｄは０〜０．５０、ｅは０．００１〜０．２５であり、但しａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＝１．０である。）
で示されるオルガノポリシロキサン、
から選ばれる１種以上の化合物を含むものを用いることを特徴とする請求項６に記載の透明シリカガラスの製造方法。
【請求項８】
前記（Ｂ）成分として、水素原子と炭素数１〜１０のアルコキシ基とをそれぞれ１個以上ずつ有するケイ素原子を１分子中に１個以上含む有機ケイ素系バインダーを用いることを特徴とする請求項６又は請求項７に記載の透明シリカガラスの製造方法。
【請求項９】
前記（Ｂ）成分として、２３℃における粘度が０．１〜１０，０００ｍＰａ・ｓであるものを用いることを特徴とする請求項６から請求項８のいずれか一項に記載の透明シリカガラスの製造方法。
【請求項１０】
前記焼結工程の前に、塩化水素ガス雰囲気下で、前記形成体を１，０００〜１，５００℃で０．５〜５時間加熱し、純化する工程を含むことを特徴とする請求項６から請求項９のいずれか一項に記載の透明シリカガラスの製造方法。
【請求項１１】
前記（Ｂ）成分として、少なくとも前記（Ｂ２）成分を含み、該（Ｂ２）成分が空気中で最高温度を１，０００℃にしてＪＩＳ  Ｋ  ７１２０：１９８７記載の方法で測定したＴＧＡ分析における残分率が４０％以上であるものを用いることを特徴とする請求項７から請求項１０のいずれか一項に記載の透明シリカガラスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明シリカガラス及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、白色ＬＥＤ市場は大きな広がりを見せており、チップの高輝度化に伴い樹脂の高耐熱、高耐衝撃が要求され、現在は高輝度ＬＥＤにはシリコーンが主に用いられている。
【０００３】
また、最近では殺菌用途などでＵＶ  ＬＥＤが展開されるようになってきた。ＵＶ  ＬＥＤは波長が４００ｎｍの領域を主な発光波長としているため、非常に高い耐熱性、耐衝撃性、耐変色性が求められる。しかし、シリコーンはＵＶ領域になると分解が進み、クラックや変色といった問題が発生してきている。
【０００４】
そこで、現在では有機成分を入れずに、ＵＶ  ＬＥＤチップ直上にガラスなどがリフレクタとハーメチックシールされているＬＥＤの構造がほとんどである。しかしガラスに関しても短波長の吸収の少ないガラスを使用するとなると石英ガラスしかなく、価格としては非常に高価なものとなり、ガラスの構造についても平板構造しかできず多種多彩なレンズ構造やフレネル構造などを搭載することが困難であった。
【０００５】
従来から、無機粉体とバインダーの混練物を成形し、焼結することによって製造するガラス焼結体は知られているが、高純度・高透明の成形物を得ることは困難であった（特許文献１）。また、メチルセルロースやメチルヒドロキシエチルセルロース等のセルロース誘導体（特許文献２、３）やポリビニルアルコール（ＰＶＡ）（特許文献４）などで成形し、焼結させて透明シリカガラスを製造する方法が見出されている。しかし、セルロース誘導体をバインダーとして用いた場合では成形性は良好だがセルロース誘導体内の不純物が残存して高透明性を発揮することが困難であった。また、ＰＶＡをバインダーとして用いた場合も同様にＰＶＡの可塑剤などが不純物として混入することで焼結後の透明性に問題があり、量産化するには困難が多かった。更に、従来から、ゾル−ゲル法でｐＨを調整したシリカ含有ゲルを焼結する方法は知られているが（特許文献５、６）、この製造方法は手順が煩雑であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００８−２６６０８７号公報
【特許文献２】特開２００９−１２０４４４号公報
【特許文献３】特開２０１３−５２５１５６号公報
【特許文献４】特開２００９−００７１８５号公報
【特許文献５】特表２０１１−５３０４６８号公報
【特許文献６】特表２０１０−５０２５５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
そこで本発明では上記事情に鑑み、高純度かつ高透明な透明シリカガラスを提供することを目的とする。また、高純度かつ高透明な透明シリカガラスを効率よく量産できる製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明では、
下記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分；
（Ａ）平均粒径が０．０１〜１５０μｍであり、かつアスペクト比が１．００〜１．５０である球状シリカ粒子：８０〜９９．９質量部
（Ｂ）１個以上のヒドロシリル基及び１個以上のアルコキシシリル基を有する有機ケイ素系バインダー：０．１〜２０質量部
を含む組成物の焼結体である透明シリカガラスを提供する。
【０００９】
本発明のような透明シリカガラスであれば、高純度かつ高透明な透明シリカガラスとなる。
【００１０】
このとき、前記（Ｂ）成分が、下記（Ｂ１）成分及び（Ｂ２）成分；
（Ｂ１）下記式（１）
【化１】
2018203573.tif 000002
（式中、Ｒは炭素数１〜１０の１価の有機基であり、Ｘはヒドロキシ基又は炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、Ｘのうち、１つ以上はアルコキシ基であり、ｘ及びｙは、それぞれ０＜ｘ≦１、０≦ｙ≦３であり、かつ０＜ｘ＋ｙ＜４である。）
で示される有機ケイ素化合物、
（Ｂ２）下記式（２）
【化２】
2018203573.tif 000003
（式中、Ｒ’は独立して水素原子又は前記Ｒで示される基であり、Ｒ’のうち、１つ以上は水素原子であり、Ｘは前記と同じであり、Ｘのうち、１つ以上はアルコキシ基であり、ａは０〜０．７、ｂは０〜０．９、ｃは０．０１〜０．９９、ｄは０〜０．５０、ｅは０．００１〜０．２５であり、但しａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＝１．０である。）
で示されるオルガノポリシロキサン、
から選ばれる１種以上の化合物を含むものであることが好ましい。
【００１１】
このような（Ｂ）成分であれば、バインダーとして好適であり、より透明性に優れた透明シリカガラスとなる。
【００１２】
また、前記（Ｂ）成分が、水素原子と炭素数１〜１０のアルコキシ基とをそれぞれ１個以上ずつ有するケイ素原子を１分子中に１個以上含むものであることが好ましい。
【００１３】
このような（Ｂ）成分であれば、より確実かつ簡単にボイドやクラックのない透明シリカガラスとなる。
【００１４】
更に、前記（Ｂ）成分の２３℃における粘度が、０．１〜１０，０００ｍＰａ・ｓであることが好ましい。
【００１５】
このような（Ｂ）成分であれば、脱脂や焼結時に空隙が発生する恐れがない透明シリカガラスとなる。
【００１６】
またこのとき、前記（Ｂ）成分が、少なくとも前記（Ｂ２）成分を含み、該（Ｂ２）成分が空気中で最高温度を１，０００℃にしてＪＩＳ  Ｋ  ７１２０：１９８７記載の方法で測定したＴＧＡ分析における残分率が４０％以上のものであることが好ましい。
【００１７】
上記のような（Ｂ）成分であれば、組成物の脱脂時及び焼結時に球状シリカ粒子間に大きな空隙が発生する恐れがなく、焼結後にクラックや失透が生じる恐れがない透明シリカガラスとなる。
【００１８】
また、本発明では、下記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分；
（Ａ）平均粒径が０．０１〜１５０μｍであり、かつアスペクト比が１．００〜１．５０である球状シリカ粒子：８０〜９９．９質量部
（Ｂ）１個以上のヒドロシリル基及び１個以上のアルコキシシリル基を有する有機ケイ素系バインダー：０．１〜２０質量部
を含む組成物を調製する工程の後に、該組成物を成形し、成形体を形成する工程、次いで、該成形体を４００〜１，２００℃で１０分間〜１２時間加熱し、脱脂する工程、さらに、該脱脂した成形体を１，４００〜１，８００℃で１〜６０分間加熱し、焼結する工程を有する透明シリカガラスの製造方法を提供する。
【００１９】
本発明のような製造方法であれば、高純度かつ高透明な透明シリカガラスを効率よく量産できる。
【００２０】
このとき、前記（Ｂ）成分として、下記（Ｂ１）成分及び（Ｂ２）成分；
（Ｂ１）下記式（１）
【化３】
2018203573.tif 000004
（式中、Ｒは炭素数１〜１０の１価の有機基であり、Ｘはヒドロキシ基又は炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、Ｘのうち、１つ以上はアルコキシ基であり、ｘ及びｙは、それぞれ０＜ｘ≦１、０≦ｙ≦３であり、かつ０＜ｘ＋ｙ＜４である。）
で示される有機ケイ素化合物、
（Ｂ２）下記式（２）
【化４】
2018203573.tif 000005
（式中、Ｒ’は独立して水素原子又は前記Ｒで示される基であり、Ｒ’のうち、１つ以上は水素原子であり、Ｘは前記と同じであり、Ｘのうち、１つ以上はアルコキシ基であり、ａは０〜０．７、ｂは０〜０．９、ｃは０．０１〜０．９９、ｄは０〜０．５０、ｅは０．００１〜０．２５であり、但しａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＝１．０である。）
で示されるオルガノポリシロキサン、
から選ばれる１種以上の化合物を含むものを用いることが好ましい。
【００２１】
このような（Ｂ）成分を用いた製造方法であれば、より透明性に優れた透明シリカガラスを容易に作製できる。
【００２２】
また、前記（Ｂ）成分として、水素原子と炭素数１〜１０のアルコキシ基とをそれぞれ１個以上ずつ有するケイ素原子を１分子中に１個以上含む有機ケイ素系バインダーを用いることが好ましい。
【００２３】
このような（Ｂ）成分を用いた製造方法であれば、より確実にボイドやクラックのない高品質の透明シリカガラスを容易に作製できる。
【００２４】
更に、前記（Ｂ）成分として、２３℃における粘度が０．１〜１０，０００ｍＰａ・ｓであるものを用いることが好ましい。
【００２５】
このような（Ｂ）成分を用いた製造方法であれば、脱脂や焼結時の空隙の発生が抑制された透明シリカガラスを容易に作製できる。
【００２６】
またこのとき、前記焼結工程の前に、塩化水素ガス雰囲気下で、前記形成体を１，０００〜１，５００℃で０．５〜５時間加熱し、純化する工程を含むことが好ましい。
【００２７】
このように純化する工程を含む製造方法であれば、焼結時に失透の原因となりうる不純物を除去することで失透の発生が更に抑制された透明シリカガラスを製造できる。
【００２８】
更に、前記（Ｂ）成分として、少なくとも前記（Ｂ２）成分を含み、該（Ｂ２）成分が空気中で最高温度を１，０００℃にしてＪＩＳ  Ｋ  ７１２０：１９８７記載の方法で測定したＴＧＡ分析における残分率が４０％以上であるものを用いることが好ましい。
【００２９】
このような（Ｂ）成分を使用した製造方法であれば、組成物の脱脂時及び焼結時にシリカ間に大きな空隙を発生させる恐れがなく、焼結後にクラックや失透が生じる恐れがない透明シリカガラスを容易に製造することができる。
【発明の効果】
【００３０】
以上のように、本発明の透明シリカガラスであれば、バインダーとしてシリカ組成に近い有機ケイ素系バインダー（シラン又は縮合型シロキサン）を用いることで、シリカとの親和性を高めてクラックやボイド、くすみの発生を抑制し、高透明を実現することができる。更に、内部にｐｐｍオーダーで残存する失透の原因となる不純物をできる限り減らすことができるため、高純度を実現することができる。また、バインダーに含まれる、アルコキシ基やシラノール基がシリカとの結合、脱脂、及び焼結時の化学的結合の形成を促進することで、透明性が非常に高く、広い波長で透過率に優れた透明シリカガラスとなる。また、本発明の透明シリカガラスの製造方法であれば、バインダーとして有機ケイ素系バインダーを用いることで、脱脂及び焼結後の変色を極限まで減らすことができ、しかも有機基をできるだけ少なくすることができることから、高温時に反応が進むことによりバインダーがシリカとなるため、従来のバインダーとは異なり脱脂及び焼結時の体積収縮を極限まで減らすことができる。更に、バインダーに起因する触媒や、不要元素を減らすことができるため高品質な透明シリカガラスを安価かつ容易に製造することができ、更に、量産時に工程を合理化できる。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
上記のように、高純度かつ高透明な透明シリカガラス、及びこのような透明シリカガラスを効率よく量産できる製造方法の開発が求められていた。
【００３２】
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を行った結果、バインダーとして有機ケイ素系バインダーを用いることによって、高純度かつ高透明な透明シリカガラスを安価かつ容易に製造できることを見出し、本発明を完成させた。
【００３３】
すなわち、本発明は、下記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分；
（Ａ）平均粒径が０．０１〜１５０μｍであり、かつアスペクト比が１．００〜１．５０である球状シリカ粒子：８０〜９９．９質量部
（Ｂ）１個以上のヒドロシリル基及び１個以上のアルコキシシリル基を有する有機ケイ素系バインダー：０．１〜２０質量部
を含む組成物の焼結体である透明シリカガラスである。
【００３４】
以下、本発明について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
＜透明シリカガラス＞
（Ａ）球状シリカ粒子
本発明に使用する球状シリカ粒子は、その平均粒径が０．０１〜１５０μｍの範囲であり、かつ、そのアスペクト比が１．００〜１．５０のものである。平均粒径は、好ましくは０．０５〜１００μｍ、より好ましくは、０．１〜１０μｍである。なお、本発明において、球状シリカ粒子の平均粒径とは、動的光散乱法で測定した粒子の体積平均径の値を指す。また、球状シリカ粒子のアスペクト比は、好ましくは１．００〜１．４０、より好ましくは、１．００〜１．２０である。なお、本発明において、アスペクト比とは、ＳＥＭによる撮影画像によって長径（Ｄ）と短径（ｄ）との比、つまりＤ／ｄとして測定された値である。
【００３５】
また、本発明に用いられる球状シリカ粒子としては、天然のシリカから製造されたものよりも、ゾル−ゲル法や、クロロシランの加水分解によって合成し、金属除去精製によってアルミニウム、ナトリウム、鉄などの球状シリカ粒子によく含まれる不純物の量を極限まで減らしたものを用いることが好ましい。不純物量は、本発明では誘導結合プラズマ発光分光分析装置（ＩＣＰ−ＯＥＳ）で測定し、絶対検量線法で定量した元素含有量を指す。球状シリカ粒子中のアルミニウム含有量は０．１〜５０ｐｐｍが好ましく、０．１〜１０ｐｐｍが更に好ましい。アルミニウム含有量は少なければ少ないほどよいが、コスト等を勘案すれば、０．１ｐｐｍまで除去できれば十分であり、５０ｐｐｍ以下であれば、失透の原因となる焼結時のシリカの結晶化の進行を抑制できる。また、球状シリカ粒子中のナトリウム含有量は０．０１〜１ｐｐｍが好ましく、０．０５〜１ｐｐｍが更に好ましい。ナトリウム含有量は少なければ少ないほどよいが、コスト等を勘案すれば、０．０１ｐｐｍまで除去できれば十分であり、１ｐｐｍ以下であれば、焼結時の失透の発生を抑制できる。さらに、球状シリカ粒子中の鉄の含有量は０．１〜５ｐｐｍが好ましく、０．１〜２ｐｐｍが更に好ましい。鉄の含有量は少なければ少ないほどよいが、コスト等を勘案すれば、０．１ｐｐｍまで除去できれば十分であり、５ｐｐｍ以下であれば、焼結時の失透の発生を抑制できる。
【００３６】
また球状シリカ粒子の種類としては、シリカバルーン、メソポーラスシリカ、シリカゲル及びステショバイト、クリストバライトなどの結晶性シリカ、さらに石英などが挙げられる。
【００３７】
（Ａ）成分の含有量は焼結体用組成物１００質量部中、８０〜９９．９質量部であり、好ましくは８５〜９９．５質量部、更に好ましくは９０〜９９．５質量部である。
【００３８】
（Ｂ）有機ケイ素系バインダー
本発明の（Ｂ）成分として用いられる有機ケイ素系バインダーは、（Ａ）成分の球状シリカ粒子同士を密に結着させて、焼結時の空隙をできる限り減らすために添加するものである。（Ｂ）成分は、１個以上のヒドロシリル基及び１個以上のアルコキシシリル基を有するものであり、好ましくは、水素原子と炭素数１〜１０のアルコキシ基とをそれぞれ１個以上ずつ有するケイ素原子を１分子中に１個以上含むものである。
【００３９】
また、本発明において、（Ｂ）成分の粘度は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１１７−１：１９９９記載の回転粘度計によって測定された２３℃における値で、好ましくは０．１〜１０，０００ｍＰａ・ｓであり、より好ましくは１〜８，０００ｍＰａ・ｓであり、更に好ましくは１〜１，０００ｍＰａ・ｓである。この範囲内であれば、（Ａ）成分の球状シリカ粒子を高充填した際にシリカ表面に（Ｂ）成分がきれいになじみ、脱脂や焼結時に空隙をほとんど作らないため好ましい。
【００４０】
本発明に用いられる（Ｂ）成分は、下記（Ｂ１）成分及び（Ｂ２）成分；
（Ｂ１）下記式（１）
【化５】
2018203573.tif 000006
（式中、Ｒは炭素数１〜１０の１価の有機基であり、Ｘはヒドロキシ基又は炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、Ｘのうち、１つ以上はアルコキシ基であり、ｘ及びｙは、それぞれ０＜ｘ≦１、０≦ｙ≦３の正数であり、かつ０＜ｘ＋ｙ＜４である。）
で示される有機ケイ素化合物、
（Ｂ２）下記式（２）
【化６】
2018203573.tif 000007
（式中、Ｒ’は独立して水素原子又は前記Ｒで示される基であり、Ｒ’のうち、１つ以上は水素原子であり、Ｘは前記と同じであり、Ｘのうち、１つ以上はアルコキシ基であり、ａは０〜０．７、ｂは０〜０．９、ｃは０．０１〜０．９９、ｄは０〜０．５０、ｅは０．００１〜０．２５であり、但しａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＝１．０である。）
で示されるオルガノポリシロキサン、
から選ばれる１種以上の化合物を含むものであることが好ましい。
【００４１】
なお、（Ｂ１）成分及び（Ｂ２）成分は、いずれもヒドロシリル基とアルコキシシリル基をそれぞれ１個以上ずつ有するものであり、ヒドロシリル基及びアルコキシシリル基を、好ましくはそれぞれ１〜１００個、より好ましくはそれぞれ１〜２０個有するものである。また、（Ｂ１）成分と（Ｂ２）成分はそれぞれ単独で使用しても併用してもよいが、少なくとも（Ｂ２）成分が含まれていることが好ましい。
【００４２】
本発明において（Ｂ）成分は、少なくとも（Ｂ２）成分を含み、該（Ｂ２）成分が空気中で最高温度を１，０００℃にしてＪＩＳ  Ｋ  ７１２０：１９８７記載の方法で測定したＴＧＡ分析における残分率が４０％以上のものであることが好ましく、残分率が４０〜６０％のものであることが更に好ましい。残分率が４０％以上であれば、組成物の脱脂時及び焼結時に球状シリカ粒子間の大きな空隙の発生を抑制でき、焼結後のクラックや失透の発生を抑制できる。
【００４３】
なお、本発明における残分率は、例えば、ＴＧＡ装置（ＴＡインスツルメント製  Ｑ５００）で、サンプル１０ｍｇを秤量し、２５℃から１，０００℃まで昇温速度を２０℃／分で昇温して、１，０００℃で３０分間保持した後、サンプル質量を測定して下記式によって求めることができる。
【数１】
2018203573.tif 000008
【００４４】
（Ｂ）成分の含有量は、焼結体用組成物１００質量部中、０．１〜２０質量部であり、０．１〜１０質量部であることが好ましく、０．１〜５質量部であることがより好ましい。以下それぞれについて順に詳述する。
【００４５】
（Ｂ１）有機ケイ素化合物
本発明に用いられる（Ｂ１）成分は、下記式（１）
【化７】
2018203573.tif 000009
で示される有機ケイ素化合物（オルガノハイドロジェンシラン）である。
【００４６】
上記式中、Ｒは、炭素数１〜１０の１価の有機基であり、アルコキシ基ではなく、例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基、ビニル基、アリル基などのアルケニル基、２−（３，４エポキシシクロヘキシル）エチル基、３−グリシドキシプロピル基、３−メタクリロキシプロピル基、Ｎ−２（アミノエチル）γ―アミノプロピル基、３−アミノプロピル基、Ｎ−フェニル―３−アミノプロピル基、３−メルカプトプロピル基、２−シアノエチル基、３−シアノプロピル基、カルビノール基などが挙げられる。
【００４７】
上記式中、Ｘはヒドロキシ基又は炭素数１〜１０、好ましくは１〜３のアルコキシ基であり、好ましい例としてはヒドロキシ基、メトキシ基、エトキシ基、プロピル基、イソプロピル基などが挙げられる。また、Ｘのうち、１つ以上はアルコキシ基である。
【００４８】
ｘは０＜ｘ≦１．０であり、好ましくは０＜ｘ≦０．５、更に好ましくは０＜ｘ≦０．３である。ｙは０≦ｙ≦３であり、好ましくは、０〜２．０、更に好ましくは０〜１．５である。なお、０＜ｘ＋ｙ＜４である。
【００４９】
（Ｂ１）成分の有機ケイ素化合物の具体例としては、トリメトキシシラン、トリエトキシシランなどのトリアルコキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシランなどのアルキルアルコキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシランなどのアルコキシシラン化合物が挙げられ、好ましくはトリメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチルジエトキシシランが挙げられる。なお、これらのアルコキシシランは１種あるいは２種以上混合して使用しても良い。また、これらに限定するものではない。
【００５０】
（Ｂ２）オルガノポリシロキサン
本発明に用いられる（Ｂ２）成分は下記式（２）
【化８】
2018203573.tif 000010
で示されるオルガノポリシロキサンである。
【００５１】
上記式中、Ｒ’は独立して水素原子又は前記Ｒで示される基であり、Ｒ’のうち、１つ以上は水素原子である。Ｘは前記と同じであり、Ｘのうち、１つ以上はアルコキシ基である。Ｒ’、Ｘの例としては（Ｂ１）成分で挙げたものと同様の基が挙げられる。ａは０〜０．７であり、好ましくは０〜０．６５であり、より好ましくは０〜０．６０である。ｂは０〜０．９であり、より好ましくは０〜０．８０、更に好ましくは０〜０．７５である。ｃは０．０１〜０．９９であり、好ましくは０．０１〜０．９８、より好ましくは０．２〜０．９５である。ｄは０〜０．５０であり、好ましくは０〜０．３であり、より好ましくは０〜０．２５である。ｅは０．００１〜０．２５であり、好ましくは０．０１〜０．２５、より好ましくは０．１５〜０．２５である。但しａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＝１．０である
【００５２】
（Ｂ２）成分は直鎖、分岐、環状、及び網目状構造のいずれを有していてもよく、Ｒ’３ＳｉＯ１／２単位（Ｍ単位）、Ｒ’２ＳｉＯ２／２単位（Ｄ単位）、Ｒ’ＳｉＯ３／２単位（Ｔ単位）、及びＳｉＯ４／２単位（Ｑ単位）のいずれから構成されていてもよいが、必ずＤ単位を含む。（Ｂ２）成分を使用する場合、Ｄ単位を有していないと、（Ｂ）成分を２３℃で０．１〜１０，０００ｍＰａ・ｓを有するものとすることができない。また、ケイ素原子に結合するアルコキシ基を有していれば、（Ｂ）成分同士の縮合反応が円滑に進むため好ましい。特にＤ単位、Ｍ単位から成り、直鎖構造（連続するＤ単位）を有するシリコーンオイルなどが好ましい。このシリコーンオイルはＱ単位を含んでいてもよい。また、（Ｂ２）成分は、（Ｂ１）成分のアルコキシシランの部分加水分解縮合物であってもよい。この場合、メチルトリメトキシシラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランなどの部分加水分解縮合物が好ましい。
【００５３】
（Ｃ）（Ｂ）成分以外の有機ケイ素系バインダー
本発明に用いられる焼結体用組成物には、（Ｃ）成分として、（Ｂ）成分以外の有機ケイ素系バインダーを、必要に応じて配合することもできる。このような（Ｃ）成分としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどのテトラアルコキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、１，６−ビス（トリメトキシシリル）ヘキサンなどのアルキルアルコキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメチルジエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシランなどのアリールアルコキシシラン、ヒドロキシトリメトキシシラン、ヒドロキシトリエトキシシランなどのヒドロキシトリアルコキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリメトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、３−（２−ヒドロキシエチル）プロピルトリメトキシシランなどのカルビノール基含有シラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３、４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどのエポキシ基含有アルコキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アリルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（Ｎ−ビニルベンジル）−２−アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、などのアミノ基含有アルコキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、トリス−（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートなどのイソシアネートアルコキシシラン、２−シアノエチルトリメトキシシラン、３−シアノプロピルトリエトキシシランなどのシアノ基含有シラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス（トリスエトキシシリルプロピル）テトラスルフィドなどのアルコキシシラン化合物等が挙げられ、好ましくはテトラメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシランが挙げられる。なお、これらのアルコキシシランは１種あるいは２種以上混合して使用しても良い。また、これらに限定するものではない。
【００５４】
なお、（Ｃ）成分を添加する場合、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を混合した有機ケイ素系バインダー組成物は、上述の（Ｂ）成分の好ましい粘度範囲、好ましい残分率、及び好ましい含有量などを満たすことが好ましい。
【００５５】
本発明の透明シリカガラスは、このような組成物（焼結体用組成物）の焼結体である。このような本発明の透明シリカガラスであれば、バインダーとしてシリカ組成に近い有機ケイ素系バインダーを用いることで、シリカとの親和性を高めてクラックやボイド、くすみの発生を抑制し、高透明を実現することができる。更に、内部にｐｐｍオーダーで残存する失透の原因となる不純物をできる限り減らすことができるため、高純度を実現することができる。また、バインダーに含まれる、アルコキシ基やシラノール基がシリカとの結合、脱脂、及び焼結時の化学的結合の形成を促進することで、透明性が非常に高く、広い波長で透過率に優れた透明シリカガラスとなる。
【００５６】
＜透明シリカガラスの製造方法＞
また、本発明では、下記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分；
（Ａ）平均粒径が０．０１〜１５０μｍであり、かつアスペクト比が１．００〜１．５０である球状シリカ粒子：８０〜９９．９質量部
（Ｂ）１個以上のヒドロシリル基及び１個以上のアルコキシシリル基を有する有機ケイ素系バインダー：０．１〜２０質量部
を含む組成物を調製する工程の後に、該組成物を成形し、成形体を形成する工程、次いで、該成形体を４００〜１，２００℃で１０分間〜１２時間加熱し、脱脂する工程、さらに、該脱脂した成形体を１，４００〜１，８００℃で１〜６０分間加熱し、焼結する工程を有する透明シリカガラスの製造方法を提供する。以下、各工程について詳しく説明する。
【００５７】
組成物調製方法
本発明の透明シリカガラスの製造方法では、まず、（Ａ）成分と（Ｂ）成分を含む組成物（焼結体用組成物）を調製する。なお、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分については、上述の透明シリカガラスの説明で挙げたものと同様のものを使用することができる。また、この組成物には、上述の（Ｃ）成分（即ち、（Ｂ）成分以外の有機ケイ素系バインダー）を配合してもよい。組成物は、上述した各成分を同時に、又は別々に、必要により加熱処理を加えながら撹拌、溶解、混合及び分散させることにより調製することができるが、通常は、（Ｂ１）成分と（Ｂ２）成分、更には必要に応じて（Ｃ）成分を先に混合し有機ケイ素系バインダー組成物を調製した後に、球状シリカ粒子（Ａ）と混合することが好ましい。
【００５８】
調製した有機ケイ素系バインダー組成物に球状シリカ粒子（Ａ）を混合する際の撹拌等の操作に用いる装置は特に限定されないが、撹拌、加熱装置を備えたライカイ機、３本ロール、ボールミル、プラネタリーミキサー、自転公転式ミキサー等を用いることができる。また、これら装置を適宜組み合わせてもよい。
【００５９】
成形工程
本発明の透明シリカガラスの製造方法では、次に、上記のようにして調製した焼結体用組成物を成形し、成形体を形成する。成形方法は特に限定されず、公知の方法で所望の形状に成形すればよい。
【００６０】
脱脂工程
本発明の透明シリカガラスの製造方法では、次に、上記のようにして形成した成形体を４００〜１，２００℃で１０分間〜１２時間加熱し、脱脂する。焼結体用組成物は、脱脂することにより徐々に炭素成分が除去される。脱脂工程がないと、焼結時に残存する炭素成分が炭化してしまい、失透の原因となる。脱脂工程は塩化水素ガス以外、例えばヘリウムガスや窒素ガスの雰囲気下で最高温度が４００〜１，２００℃、好ましくは５００〜１，０００℃で１０分〜１２時間、好ましくは１〜６時間処理する。４００℃未満では脱脂が十分に進まず、焼結時に失透する。１，２００℃を超えると、シリカの結晶化が進み失透する。
【００６１】
純化工程
本発明の透明シリカガラスの製造方法では、焼結工程前にＡｌ、Ｎａ及びＦｅなどを除去する工程である純化工程を取り入れてもよい。純化工程を行う場合は、塩化水素ガス雰囲気下で最高温度が１，０００〜１，５００℃、好ましくは１，０００〜１，３００℃、より好ましくは１，１００〜１，３００℃で０．５〜５時間、好ましくは０．５〜２時間の条件で処理する。
【００６２】
焼結工程
本発明の透明シリカガラスの製造方法では、次に、上記のようにして脱脂（必要に応じて純化）した成形体を１，４００〜１，８００℃で１〜６０分間加熱し、焼結することで透明シリカガラスを作製する。脱脂後の本発明の組成物の焼結条件は特に制限されるものではないが、通常、不活性ガス、例えばヘリウムガスや窒素ガス等の雰囲気下で１，４００〜１，８００℃、好ましくは１，５００〜１，８００℃で焼結させることができる。１，４００℃未満ではシリカ同士の融着による焼結が進まず、失透する。１，８００℃以上ではシリカの結晶化が促進され、失透する。焼結時間は１分〜６０分、好ましくは１〜３０分程度で焼結させることができる。１分未満だとシリカ同士が十分に融着せず、失透する。６０分を超えてくるとシリカの結晶化が更に促進されるため失透する。
【００６３】
検査工程
本発明の透明シリカガラスの製造方法では、焼結工程後に検査工程として、紫外領域から可視領域での透過性を測定するために、ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５：１９８１記載の方法で厚さ１ｍｍの透明シリカガラスの透過率を測定する工程を追加することができる。波長が２５０〜３００ｎｍの範囲の光における透過率が９０％以上であれば好ましく、９２〜１００％であれば更に好ましい。このような光透過率であれば、輝度が良好なＵＶ用レンズ材料として好適に用いることができる。上記範囲の光透過性を有する透明シリカガラスを検査工程によって選別することで、高純度・高透明な透明ガラス成形体のみを得ることができる。
【００６４】
このような本発明の透明シリカガラスの製造方法であれば、バインダーとして有機ケイ素系バインダーを用いることで、脱脂及び焼結後の変色を極限まで減らすことができ、しかも有機基をできるだけ少なくすることができることから、高温時に反応が進むことによりバインダーがシリカとなるため、従来のバインダーとは異なり脱脂及び焼結時の体積収縮を極限まで減らすことができる。更に、バインダーに起因する触媒や、不要元素を減らすことができるため高品質な透明シリカガラスを安価かつ容易に製造することができ、更に、量産時に工程を合理化できる。
【実施例】
【００６５】
以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。また、以下の式において、Ｍｅはメチル基、Ｐｈはフェニル基である。
【００６６】
本発明の実施例及び比較例で用いた材料を示す。
（Ａ）球状シリカ粒子
球状シリカ粒子としては下記表１に記載したものを用いた。
平均粒径はレーザー回折式粒度分布測定装置（日機装（株）製「ＭｉｃｒｏｔｒａｃＨＲＡ（Ｘ−１００）」）による体積平均径の値を用いた。
【００６７】
アスペクト比はＳＥＭによって撮影されたＳＥＭ画像を、画像解析ソフト（三谷産業（株）製  ＷＩＮＲＯＯＦ２０１５）で求めた長径（Ｄ）と短径（ｄ）の比、Ｄ／ｄの値を用いた。
【００６８】
金属不純物量は、ＩＣＰ−ＯＥＳ（Ａｇｉｌｅｎｔ社製  ７３０−ＥＳ  ＩＣＰ−ＯＥＳ）で測定した。サンプル０．３ｇをフッ酸及び硝酸で溶解後、該溶液を加熱乾固させ、該乾固物に対して、濃硝酸０．５ｍＬ及び適量の水を加えて加熱濃縮し、再度水で２ｍＬに定容し測定用溶液を調製した。得られた測定値から、絶対検量線法によってＡｌ，Ｆｅ，Ｎａ量を定量した。
【００６９】
【表１】
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アドマファインＳＯ−Ｅ５、ＳＯ−Ｅ５高純度品、ＳＯ−Ｃ５：アドマテックス（株）製
ＥＭＩＸ−１００：（株）龍森製
ＧＢ−ＡＣ：マコー（株）製
ＭＫＣシリカ：日本化成（株）製
【００７０】
（Ｂ１）の有機ケイ素化合物については、以下のものを用いた。
有機ケイ素化合物Ａ：トリメトキシシラン（信越化学工業（株）製  ＫＢＭ−０３）
有機ケイ素化合物Ｂ：メチルジエトキシシラン（信越化学工業（株）製）
【００７１】
（Ｂ２）オルガノポリシロキサンについては、以下のものを用いた。
オルガノポリシロキサンＡ：
（ＨＳｉＯ３／２）０．９２６（ＯＭｅ）０．０５６（ＯＨ）０．０１８
【００７２】
（Ｃ）（Ｂ）成分以外の有機ケイ素系バインダーについては、以下のものを用いた。なお、以下略記「ＧＰ」は、３−グリシドキシプロピル基を表し、略記「ＡＰ」は３−アミノプロピル基を表す。
（Ｂ）成分以外の有機ケイ素系バインダーＡ：
３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
（信越化学工業（株）製  ＫＢＭ−４０３）
（Ｂ）成分以外の有機ケイ素系バインダーＢ：
２−（３，４エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製  ＫＢＭ−３０３）
（Ｂ）成分以外の有機ケイ素系バインダーＣ：
ジフェニルジメトキシシラン（信越化学工業（株）製  ＫＢＭ−２０２）
（Ｂ）成分以外の有機ケイ素系バインダーＤ：
３−アミノプロピルトリメトキシシラン
（信越化学工業（株）製  ＫＢＭ−９０３）
（Ｂ）成分以外の有機ケイ素系バインダーＥ：
（Ｍｅ２ＳｉＯ２／２）０．８３３（ＯＨ）０．１６７
（Ｂ）成分以外の有機ケイ素系バインダーＦ：
（Ｍｅ２ＳｉＯ３／２）０．５４６（Ｍｅ２ＳｉＯ２／２）０．３６４（ＯＭｅ）０．０４（ＯＨ）０．０６
（Ｂ）成分以外の有機ケイ素系バインダーＧ：
（Ｐｈ２ＳｉＯ２／２）０．５０［Ｍｅ２（ＨＯ）Ｓｉ１／２］０．５０
（Ｂ）成分以外の有機ケイ素系バインダーＨ：
（ＧＰＳｉＯ３／２）０．９０１（ＯＭｅ）０．０３６（ＯＨ）０．０６３
（Ｂ）成分以外の有機ケイ素系バインダーＩ：
（ＡＰＳｉＯ３／２）０．９２６（ＯＭｅ）０．０３７（ＯＨ）０．０３７
（Ｂ）成分以外の有機ケイ素系バインダーＪ：
（Ｍｅ２ＳｉＯ２／２）０．９９６［Ｍｅ２（ＨＯ）Ｓｉ１／２］０．００４
（Ｂ）成分以外の有機ケイ素系バインダーＫ：
（Ｐｈ２ＳｉＯ２／２）０．５０（Ｍｅ３ＳｉＯ１／２）０．５０
【００７３】
（調製例１〜８、比較調製例１〜５）
まず、有機ケイ素系バインダー組成物を下記表２に示す配合でプラネタリーミキサーを用いて調製した。また、調製した有機ケイ素系バインダー組成物について、以下の配合時特性を評価し、その結果を表２に記載した。
【００７４】
［粘度］
ＪＩＳ  Ｋ  ７１１７−１：１９９９に準拠してサンプルの２３℃での粘度を、回転粘度計によって測定した。
【００７５】
［残分率］
ＴＧＡ装置（ＴＡインスツルメント製  Ｑ５００）で、サンプル１０ｍｇを秤量し、２５℃から１，０００℃まで昇温速度を２０℃／分で昇温して、１，０００℃で３０分間保持した後、サンプル質量を測定して下記式によって残分率を求めた。
【数２】
2018203573.tif 000012
【００７６】
【表２】
2018203573.tif 000013
【００７７】
（比較調製例６）
有機ケイ素系バインダー（Ｂ）の代わりにメチルセルロース（商品名：メトローズＳＭ−４０００、信越化学工業（株）製）を８ｇ、水を９２ｇ加えプラネタリーミキサーで混合し、メチルセルロースバインダー組成物を作製した。
【００７８】
（比較調製例７）
有機ケイ素系バインダー（Ｂ）の代わりにポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を８ｇ、純水を９２ｇ加え自転公転式ミキサーを用いて２，０００回転で１分間、次いで２，２００回転で１分間混合し、ＰＶＡバインダー組成物を作製した。
【００７９】
（実施例１〜１５、比較例１〜１１）
調製例１〜８及び比較調製例１〜７で調製した有機ケイ素系バインダー組成物あるいはそれ以外のバインダー組成物と、各シリカ粒子を混合し、以下の特性を測定した。その結果を表３、表４に示す。
【００８０】
［成形性］
シリカ粒子混合後の組成物を３０×３０×１ｍｍの金型に注入し、圧縮成形機（ＴＯＷＡ株式会社製）を用いて成形圧力０．５ＭＰａで８０℃×５分間加熱して成形し、得られた成形体のフローマーク、未充填及びクラック発生の有無を確認した。
【００８１】
［透過率］
成形性の評価と同じ条件で成形したサンプルを１，０００℃×２時間加熱することで脱脂し、その後に焼成炉（島津アクセス社製  ＶＥＳＴＡ）を用いて１，６５０℃で１０分間加熱し、焼結した。焼結後のサンプルは、波長が２００〜８００ｎｍの範囲の光における透過率を紫外可視光分光光度計（日立テクノシステム社製  Ｕ−４１００）で、走査速度３００ｎｍ／分で測定し、波長が２５０ｎｍ及び３００ｎｍの光透過率を評価した。焼結物にクラックなどが生じ、測定できなかった場合は「測定不可」と記載した。
【００８２】
［外観］
透過率の評価で用いた焼結後のサンプルについて、外観を目視にて評価し、色調、透明性、クラックの有無などを評価した。無色透明でクラックがない場合は、「無色透明」と記載し、何か異常がある場合はその旨表３、４記載した。
【００８３】
［焼結後の不純物量］
焼結後の金属不純物量をＩＣＰ−ＯＥＳ（Ａｇｉｌｅｎｔ社  ７３０−ＥＳ  ＩＣＰ−ＯＥＳ）で測定した。サンプル０．３ｇをフッ酸及び硝酸で溶解後、該溶液を加熱乾固させ、該乾固物に対して、濃硝酸０．５ｍＬ及び適量の水を加えて加熱濃縮し、再度水で２ｍＬに定容し測定用溶液を調製した。得られた測定値から、絶対検量線法によってＡｌ，Ｆｅ，Ｎａ量を定量した。その結果を表３、表４に示す。
【００８４】
【表３】
2018203573.tif 000014
【００８５】
【表４】
2018203573.tif 000015
【００８６】
表３に示されるように、実施例１〜１５で作製した透明シリカガラスは、成形性がよく、くすみなどがなく高透明かつ高純度であり、容易に製造することができた。
【００８７】
表２、表４で示されるように、アルコキシ基及びヒドロシリル基のいずれか又は両方を含まない化合物を有機ケイ素系バインダーとして使用した比較例１〜８では、クラックや成形時に未硬化が発生し、成形性が非常に悪く、焼結時にバインダーとシリカが密に存在しないために、クラックが発生した。また、（Ｂ）成分の代わりにメチルセルロースを使用した比較例９、及びＰＶＡを使用した比較例１０は不純物が多く、比較例１１では、透過率が低かった。
【００８８】
以上のことから、本発明であれば、高純度かつ高透明な透明シリカガラスを容易に製造することができることが明らかになった。
【００８９】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。