(57)【要約】      （修正有）【課題】制御可能なビームパラメータ積を伴うレーザシステムおよび方法を提供する。【解決手段】放射ビーム１０５−１、１０５−２のそれぞれを複数の空間的に変位させられた出力ビームに分割するための第１の光学要素１１１０と、出力ビームを光ファイバ端面上に組み合わせるための集束光学部１１０と、放射ビームのうちの少なくとも１つ、および／または集束光学部による複数の出力ビームの組み合わせ前の各複数の出力ビームのうちの少なくとも１つの偏光状態を変更するための第２の光学要素１１０５であって、それによって、組み合わせられた出力ビームは、放射ビームの空間分布と異なる出力空間分布を有し、出力分布は、偏光に基づいた分割によって決定される、システム１１００。【選択図】図１１Ａ
2018072854.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
本明細書に記載の発明。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
（関連出願）
本願は、２０１４年２月２６日に出願された米国仮特許出願第６１／９４４，９８９号、２０１４年４月３０日に出願された米国仮特許出願第６１／９８６，２３７号の利益および優先権を主張し、これにより、それらの各々の開示全体は、参照によって本明細書に援用される。
【０００２】
（技術分野）
種々の実施形態では、本発明は、レーザシステムに関し、具体的には、制御可能なビームパラメータ積を伴うレーザシステムに関する。
【背景技術】
【０００３】
（背景）
高出力レーザシステムは、溶接、切断、穿孔、および材料処理等の異なる用途のホストに利用される。そのようなレーザシステムは、典型的には、レーザエミッタと、光学システムとを含み、レーザエミッタからのレーザ光が光ファイバ（または単純に「ファイバ」）の中へ結合され、光学システムは、処理される加工対象物上にファイバからレーザ光を集束させる。光学システムは、典型的には、高品質レーザビーム、または同等に、最低ビームパラメータ積（ＢＰＰ）を伴うビームを生成するように設計される。ＢＰＰは、レーザビームの発散角度（半角）とビームの最も狭い点（すなわち、ビームウェスト、最小スポットサイズ）におけるビームの半径との積である。ＢＰＰは、レーザビームの品質と、ビームがどれだけ良好に小さいスポットに集束させられることができるかとを定量化し、典型的には、ミリメートル・ミリラジアン（ｍｍ−ｍｒａｄ）の単位で表される。ガウスビームは、可能な限り最も低いＢＰＰを有し、これは、パイによって除算されるレーザ光の波長によって求められる。同一の波長における理想ガウスビームのＢＰＰに対する実際のビームのＢＰＰの比は、ビーム品質の波長非依存性尺度である、Ｍ２と表される。
【０００４】
多くのレーザ処理用途では、所望のビームスポットサイズ、発散、およびビーム品質は、例えば、処理のタイプおよび／または処理されている材料のタイプに応じて変動し得る。レーザシステムのＢＰＰにそのような変更を行うため、頻繁に、出力光学システムまたは光ファイバは、他の構成要素と交換され、かつ／または再整合させられなければならず、これは、レーザシステムの壊れやすい光学構成要素の不慮の損傷にさえつながり得る、時間がかかる高価なプロセスである。したがって、光ファイバの出力において、レーザビームまたは光学システムへのそのような調節を伴わない、レーザシステムのＢＰＰを変動させるための代替的技術の必要性がある。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００５】
（概要）
本発明の種々の実施形態は、レーザシステムを提供し、システムにおいて、システムの（すなわち、その出力レーザビームの）ＢＰＰが、ファイバから出射する出力ビームの操作を介するのではなく、光ファイバの中へ結合される１つまたは複数の入力レーザビームの操作を介して変動させられる。制御可能に可変のＢＰＰを伴う本出力ビームは、溶接、切断、穿孔等の用途において加工対象物を処理するために利用されてもよい。本発明の実施形態は、レーザシステムの出力において制御可能に可変のＢＰＰを可能にするために、入力レーザビーム（単数または複数）の焦点スポットおよび／またはビーム品質を変動させる。（本明細書で入力レーザビームという言及は、別様に指示されない限り、「１つまたは複数の入力レーザビーム」、すなわち、複数の入力レーザビームの可能性を含むことを意味すると理解される）。例えば、入力レーザビームの焦点スポットが、入力ビームが固定ビーム品質を有する状態て変動させられてもよく、または入力ビームのビーム品質（例えば、ビーム発散、ビームサイズ、および／またはパワー）が変動させられてもよく、もしくはそのような技法の組み合わせが利用されてもよい。
【０００６】
本発明の実施形態は、１つまたは複数の入力レーザビームを光ファイバの中へ結合する。種々の実施形態では、光ファイバは、単一のコアを取り囲む複数のクラッド層、単一のクラッド層内の複数の別個のコア領域（もしくは「コア」）、または複数のクラッド層によって取り囲まれる複数のコアを有する。
【０００７】
本明細書で、「光学要素」とは、電磁放射を再指向し、反射し、屈曲させ、または任意の他の様式で光学的に操作する、レンズ、鏡、プリズム、グレーティング、および同等物のうちのいずれかを指し得る。本明細書で、ビームエミッタ、エミッタ、またはレーザエミッタ、もしくはレーザは、半導体要素等の任意の電磁ビーム生成デバイスを含み、任意の電磁ビーム生成デバイスは、電磁ビームを生成するが、自己共振である場合もあり、そうではない場合もある。これらはまた、ファイバレーザ、ディスクレーザ、非ソリッドステートレーザ等も含む。概して、各エミッタは、後反射表面と、少なくとも１つの光学利得媒体と、前反射表面とを含む。光学利得媒体は、電磁スペクトルの任意の特定の部分に限定されないが、可視光、赤外光、および／または紫外光であり得る電磁放射の利得を増加させる。エミッタは、複数のビームを放出するように構成されるダイオードバー等の複数のビームエミッタを含んでもよい、または本質的にそれらから成ってもよい。本明細書の実施形態で受け取られる入力ビームは、当技術分野で公知である種々の技法を使用して組み合わせられる、単波長ビームまたは複数波長ビームであってもよい。
【０００８】
本発明の実施形態は、複数波長ビームを形成するように分散要素を使用して組み合わせられる、１つまたは複数のダイオードバー等の複数のエミッタを含む、波長ビーム結合（ＷＢＣ）システムとともに利用されてもよい。ＷＢＣシステム内の各エミッタは、個別に共振し、ビーム結合次元に沿って分散要素によってフィルタにかけられる一般的部分反射出力結合器から、波長特異的フィードバックを通して安定させられる。例示的ＷＢＣシステムは、２０００年２月４日に出願された米国特許第６，１９２，０６２号、１９９８年９月８日に出願された米国特許第６，２０８，６７９号、２０１１年８月２５日に出願された米国特許第８，６７０，１８０号、および２０１１年３月７日に出願された米国特許第８，５５９，１０７号で詳述され、それぞれの開示全体が参照することによって本明細書に組み込まれる。
【０００９】
一側面では、本発明の実施形態は、複数のビーム源から複数の放射ビームの空間分布を受け取って変更し、変更された空間分布を伴う放射を光ファイバの端面上に集束させるためのビームパラメータ調節システムおよび集束システムを特色とする。空間分布および変更された空間分布は、空間パワー分布であってもよい。放射ビームはそれぞれ、偏光状態を有し、かつ集合的に空間分布（例えば、空間パワー分布）を有する。本システムは、放射ビームのそれぞれを複数の空間的に変位させられた出力ビームに分割するための第１の光学要素であって、分割は、偏光状態に基づく、第１の光学要素と、出力ビームを光ファイバ端面上に組み合わせるための集束光学部（例えば、１つまたは複数のレンズ、鏡、および／または他の光学要素）と、（ｉ）放射ビームのうちの少なくとも１つ、および／または（ｉｉ）集束光学部による出力ビームの組み合わせの前に各複数の出力ビームのうちの少なくとも１つの偏光状態を変更するための第２の光学要素であって、それによって、組み合わせられた出力ビームは、放射ビームの空間分布と異なる出力空間分布を有し、出力分布は、偏光に基づいた分割によって決定される、第２の光学要素とを含む、または本質的にそれらから成る。
【００１０】
本発明の実施形態は、種々の組み合わせのうちのいずれかにおいて、以下のうちの１つまたは複数のものを含んでもよい。第２の光学要素は、半波長板を含んでもよい、または本質的にそれから成ってもよい。第１の光学要素は、放射ビームの偏光状態に従って、放射ビームを出力ビームに分割するための偏光ビームスプリッタを含んでもよい、または本質的にそれから成ってもよい。半波長板は、偏光ビームスプリッタの光学的上流にあってもよい（すなわち、入射光が偏光ビームスプリッタの前の半波長板に衝打するように位置付けられる）。偏光ビームスプリッタは、出力ビームが放射ビームの光路に対して平行外角度で伝搬するように角度付けられる上部反射表面を有してもよい。出力ビームの偏光状態を無作為化するための偏光ランダマイザは、集束光学部の光学的上流にあってもよい。偏光ランダマイザは、４分の１波長板および／または偏光スクランブラを含んでもよい、または本質的にそれから成ってもよい。第１の光学要素は、放射ビームの偏光状態に基づいて、放射ビームのうちの少なくともいくつかを空間的に変位させるための複屈折ビームディスプレーサを含んでもよい、または本質的にそれから成ってもよい。ビームディスプレーサは、複屈折性（例えば、一軸複屈折性）であり得、それによって、放射ビームのそれぞれは、ビームディスプレーサの光軸に沿って伝搬する通常ビームと、光軸から離れて伝搬する異常ビームとに分割される。通常ビームおよび異常ビームのそれぞれの間のパワー分布は、対応する放射ビームの偏光成分に依存してもよい。ビームディスプレーサは、出力ビームが放射ビームの光路に対して平行外角度で伝搬するように楔状にされてもよい。
【００１１】
第１の光学要素は、第１および第２の偏光ビームスプリッタを含んでもよい、または本質的にそれらから成ってもよい。第２の光学要素は、その光軸に沿って第１および第２の偏光ビームスプリッタの間に配置される半波長板を含んでもよい、または本質的にそれから成ってもよい。第１の偏光ビームスプリッタは、放射ビームの偏光状態に従って、放射ビームを複数の空間的に変位させられた中間ビームに分割してもよい。中間ビームの全てではないがいくつかは、放射ビームの光路に沿って伝搬してもよく、中間ビームのうちのいくつかは、放射ビームの光路と平行であるが、そこから空間的に変位させられて伝搬してもよい。第２の光学要素は、変位させられた中間ビームのうちの少なくともいくつかの偏光状態を妨害して変更してもよい。第２の偏光ビームスプリッタは、第２の光学要素によって妨害される変位させられた中間ビームの変更された偏光状態に基づいて、変位させられた中間ビームのうちの少なくともいくつかを変位させられていない中間ビームと組み合わせてもよい。本システムは、放射ビームの偏光状態を確立するための、第１の偏光ビームスプリッタの光学的上流にある４分の１波長板を含んでもよい。半波長板の光軸まわりの半波長板の回転角度は、放射ビームの最大開口数と放射ビームの最小開口数との間のビーム出力の割付を決定してもよい。
【００１２】
第１の光学要素は、第１および第２の複屈折ビームディスプレーサを含んでもよい、または本質的にそれらから成ってもよい。第２の光学要素は、その光軸に沿って第１および第２のビームディスプレーサの間に配置される半波長板を含んでもよい、または本質的にそれから成ってもよい。第１のビームディスプレーサは、放射ビームの偏光状態に基づいて、放射ビームのそれぞれを、ビームディスプレーサの光軸に沿って伝搬する通常中間ビームと、光軸から離れて伝搬する異常中間ビームとに変位させてもよい。第２の光学要素は、中間ビームの偏光状態を妨害して変更してもよい。第２のビームディスプレーサは、中間ビームの変更した偏光状態に基づいて中間ビームを変位させてもよい。本システムは、放射ビームの偏光状態を確立するための、第１の偏光ビームスプリッタの光学的上流にある４分の１波長板を含んでもよい。
【００１３】
第１の光学要素は、第１および第２の離間した実質的に光学的に透明な板を含んでもよい、または本質的にそれらから成ってもよい。板は、相互と平行に配向されてもよいが、放射ビームの光路に対して角度付けられてもよい。第２の光学要素は、第１および第２の板の間に介在する半波長板を含んでもよい、または本質的にそれから成ってもよい。第１および第２の板のそれぞれは、第２の光学要素に対面する複屈折表面と、複屈折表面と反対側の高度反射表面とを有してもよい。半波長板の光軸まわりの半波長板の回転角度は、放射ビームの最大開口数と放射ビームの最小開口数との間のビーム出力の割付を決定してもよい。
【００１４】
第１の光学要素は、少なくとも１つの反射体と、第１および第２の離間した実質的に光学的に透明な板とを含んでもよい、または本質的にそれらから成ってもよい。板は、放射ビームの光路に対して反対角度で配向されてもよい。第２の光学要素は、半波長板を含んでもよい、または本質的にそれから成ってもよい。第１および第２の板のそれぞれは、第２の光学要素に対面する複屈折表面と、複屈折表面と反対側の高度反射表面とを有してもよい。第１および第２の板は、放射ビームの光路に沿って配置されてもよい。反射体は、放射ビームの光路から離間されてもよい。半波長板は、第１の板と反射体との間に配置されてもよい。第１および第２の光学要素は、第１の板からの中間ビームが、半波長板を通って進行し、反射体によって第２の板に反射され、第２の板から集束光学部を通って伝搬するように、配列されてもよい。第１および第２の板は、放射ビームの光路に沿って配置されてもよい。第１および第２の反射体は、放射ビームの光路から離間され、相互に対して反対角度で配向されてもよい。半波長板は、反射体間に配置されてもよい。第１および第２の光学要素は、第１の板からの中間ビームが、第１の反射体によって半波長板を通るように指向され、第２の反射体によって第２の板に指向されることにより集束光学部を通って伝搬するように、配列されてもよい。
【００１５】
別の側面では、本発明の実施形態は、複数のビーム源から複数の放射ビームの空間分布を受け取って変更し、変更された空間分布を伴う放射を光ファイバの端面上に集束させるためのビームパラメータ調節システムおよび集束システムを特色とする。空間分布および変更された空間分布は、空間パワー分布であってもよい。本システムは、変形可能鏡と、集束光学部と、コントローラとを含む、または本質的にそれらから成る。変形可能鏡は、反射表面を有し、コントローラは、反射表面の構造（例えば、形状）を変更する。変形可能鏡および集束光学部は、変形可能鏡が放射ビームを受け取り、集束光学部を通して端面上にそれらを指向するように配列される。コントローラは、標的放射パワー分布に応答し、標的放射パワー分布を伴って放射ビームを端面に衝打させる鏡構造を生成するように構成される。
【００１６】
さらに別の側面では、本発明の実施形態は、ビーム源から放射ビームの空間パワー分布を受け取って変更し、変更された空間パワー分布を伴う放射を光ファイバの端面上に集束させるためのビームパラメータ調節システムおよび集束システムを特色とする。本システムは、グラディエントインデックスレンズであって、レンズの光軸を通して一定であるが、光軸と垂直な方向で変動する屈折率を有するグラディエントインデックスレンズと、レンズから生じるビームのウェスト、スポットサイズ、ビーム品質、（ファイバの中への）入射角度、および／またはビームの発散を変動させるように、レンズに歪みを導入するための手段と、端面上で標的変更空間パワー分布を達成するように、歪み導入手段を制御するためのコントローラとを含む、または本質的にそれらから成る。歪み導入手段は、局所加熱器、レンズの中へ指向される放射源、レンズの光学性質を変更する音響光学変調器および／または変換器、もしくはレンズの光学性質を変更する電気光学変調器および／または変換器のうちの少なくとも１つであってもよい。反射表面は、制御可能な位相誤差を有してもよく、位相誤差は、標的放射パワー分布を生成する。
【００１７】
別の側面では、本発明の実施形態は、ビーム源から放射ビームの空間パワー分布を受け取って変更し、変更された空間パワー分布を伴う放射を光ファイバの端面上に集束させるためのビームパラメータ調節システムおよび集束システムを特色とする。本システムは、集束光学部と、集束光学部から生じるビームのウェスト、スポットサイズ、ビーム品質、（ファイバの中への）入射角度、および／またはビームの発散を変動させるように、集束光学部に熱依存性歪みを導入するための加熱源と、端面上で標的変更空間パワー分布を達成するように、加熱源を制御するためのコントローラとを含む、または本質的にそれらから成る。
【００１８】
さらに別の側面では、本発明の実施形態は、ビーム源から放射ビームの空間パワー分布を受け取って変更し、変更された空間パワー分布を伴う放射を光ファイバの端面上に集束させるためのビームパラメータ調節システムおよび集束システムを特色とする。本システムは、集束光学部と、（例えば、ファイバ端面に突き合わせ結合され、例えば、間隙なく突き合わせ結合され得る、）集束光学部からファイバ端面の中へ放射を光学的に結合するファイバ端部キャップと、集束光学部（および／または端部キャップ）から生じるビームのウェスト、スポットサイズ、ビーム品質、（ファイバの中への）入射角度、および／またはビームの発散を変動させるように、ファイバ端部キャップに歪みを導入するための手段と、端面上で標的変更空間パワー分布を達成するように、歪み導入手段を制御するためのコントローラとを含む、または本質的にそれらから成る。歪み導入手段は、局所加熱器、端部キャップの中へ指向される放射源、端部キャップの光学性質を変更する音響光学変調器および／または変換器、もしくは端部キャップの光学性質を変更する電気光学変調器および／または変換器のうちの少なくとも１つを含んでもよい、または本質的にそれから成ってもよい。
【００１９】
別の側面では、本発明の実施形態は、ビーム源から放射ビームを受け取り、放射を光ファイバの端面上に集束させるためのビームパラメータ調節システムおよび集束システムを特色とする。本システムは、集束光学部と、変更された空間パワー分布を伴って集束光学部からファイバ端面の中へ放射を光学的に結合するためのグラディエントインデックスファイバのセグメントとを含んでもよい、または本質的にそれらから成ってもよい。グラディエントインデックスファイバのセグメントは、端面に突き合わせ結合されてもよい。
【００２０】
さらに別の側面では、本発明の実施形態は、複数の放射ビームの空間パワー分布を変更するためのビームパラメータ調節システムおよび集束システムを特色とする。本システムは、放射ビーム（例えば、レーザビーム）を放出するための複数のビーム源と、ビーム源からの放射を光ファイバの端面上に集束させるための集束光学部（例えば、少なくとも１つの集束レンズ）と、端面上で標的空間パワー分布を達成するように、ビームを偏移させるためのビーム経路調節器とを含んでもよい、または本質的にそれから成ってもよい。ビーム経路調節器は、標的空間パワー分布を達成するように、ビーム源からのビーム間の間隔を変更してもよい。ビーム経路調節器は、標的空間パワー分布を達成するように、集束光学部に対してビームのうちの少なくともいくつかを偏移させてもよい。本システムは、標的空間パワー分布を達成するように、ビームのうちの少なくともいくつかのパワーを選択的に変更するための手段（例えば、少なくとも１つのビームエミッタの中および／または外へのパワーを変調するためのコントローラ）を含んでもよい。
【００２１】
これらおよび他の目的は、本明細書に開示される本発明の利点および特徴とともに、以下の説明、添付図面、および特許請求の範囲の参照を通して、より明白となる。さらに、本明細書に説明される種々の実施形態の特徴は、相互排他的ではなく、種々の組み合わせおよび順列で存在し得ることを理解されたい。本明細書で使用される場合、「実質的に」という用語は、±１０％、いくつかの実施形態では、±５％を意味する。「本質的に〜から成る」という用語は、本明細書で別様に定義されない限り、機能に寄与する他の材料を除外することを意味する。それでもなお、そのような他の材料が、集合的または個別に、微量で存在し得る。本明細書では、「放射」および「光」という用語は、別様に指示されない限り、同義的に利用される。
本発明は、例えば、以下を提供する。
（項目１）
複数のビーム源から複数の放射ビームの空間分布を受け取って変更し、前記変更された空間分布を伴う前記放射を光ファイバの端面上に集束させるためのビームパラメータ調節システムおよび集束システムであって、前記放射ビームはそれぞれ、偏光状態を有し、かつ集合的に空間分布を有し、前記システムは、
前記放射ビームのそれぞれを複数の空間的に変位させられた出力ビームに分割するための第１の光学要素であって、前記分割は、前記偏光状態に基づく、第１の光学要素と、
前記出力ビームを前記光ファイバ端面上に組み合わせるための集束光学部と、
（ｉ）前記放射ビームのうちの少なくとも１つ、および／または（ｉｉ）前記集束光学部による複数の出力ビームの組み合わせ前の各複数の出力ビームのうちの少なくとも１つの偏光状態を変更するための第２の光学要素であって、それによって、前記組み合わせられた出力ビームは、前記放射ビームの前記空間分布と異なる出力空間分布を有し、前記出力分布は、前記偏光に基づいた分割によって決定される、第２の光学要素と
を備える、システム。
（項目２）
前記第２の光学要素は、半波長板である、項目１に記載のシステム。
（項目３）
前記第１の光学要素は、前記放射ビームの前記偏光状態に従って、前記放射ビームを前記出力ビームに分割するための偏光ビームスプリッタである、項目２に記載のシステム。
（項目４）
前記半波長板は、前記偏光ビームスプリッタの光学的上流にある、項目２に記載のシステム。
（項目５）
前記出力ビームの偏光状態を無作為化するための、前記集束光学部の光学的上流にある偏光ランダマイザをさらに備える、項目３に記載のシステム。
（項目６）
前記偏光ランダマイザは、４分の１波長板である、項目５に記載のシステム。
（項目７）
前記偏光ランダマイザは、偏光スクランブラである、項目５に記載のシステム。
（項目８）
前記第１の光学要素は、前記放射ビームのうちの少なくともいくつかの前記偏光状態に基づいて、前記放射ビームのうちの少なくともいくつかを空間的に変位させるための複屈折ビームディスプレーサである、項目２に記載のシステム。
（項目９）
前記ビームディスプレーサは、一軸複屈折性であり、それによって、前記放射ビームのそれぞれは、前記ビームディスプレーサの光軸に沿って伝搬する通常ビームと、前記光軸から離れて伝搬する異常ビームとに分割される、項目８に記載のシステム。
（項目１０）
前記通常ビームおよび異常ビームのそれぞれの間のパワー分布は、対応する放射ビームの偏光成分に依存する、項目９に記載のシステム。
（項目１１）
前記第１の光学要素は、第１の偏光ビームスプリッタおよび第２の偏光ビームスプリッタを備え、前記第２の光学要素は、半波長板を備え、半波長板は、その光軸に沿って前記第１の偏光ビームスプリッタと第２の偏光ビームスプリッタとの間に配置され、（ｉ）前記第１の偏光ビームスプリッタは、前記放射ビームの前記偏光状態に従って、前記放射ビームを複数の空間的に変位させられた中間ビームに分割し、前記中間ビームの全てではないがいくつかは、前記放射ビームの光路に沿って伝搬し、前記中間ビームのうちのいくつかは、前記放射ビームの前記光路と平行であるが、そこから空間的に変位させられて伝搬し、（ｉｉ）前記第２の光学要素は、前記変位させられた中間ビームのうちの少なくともいくつかの偏光状態を妨害して変更し、（ｉｉｉ）前記第２の偏光ビームスプリッタは、前記第２の光学要素によって妨害された前記変位させられた中間ビームの前記変更された偏光状態に基づいて、前記変位させられた中間ビームのうちの少なくともいくつかを変位させられていない前記中間ビームと組み合わせる、項目１に記載のシステム。
（項目１２）
前記放射ビームの前記偏光状態を確立するための、前記第１の偏光ビームスプリッタの光学的上流にある４分の１波長板をさらに備える、項目１１に記載のシステム。
（項目１３）
前記第１の光学要素は、第１の複屈折ビームディスプレーサおよび第２の複屈折ビームディスプレーサを備え、前記第２の光学要素は、半波長板を備え、半波長板は、その光軸に沿って前記第１のビームディスプレーサと第２のビームディスプレーサとの間に配置され、（ｉ）前記第１のビームディスプレーサは、前記放射ビームの前記偏光状態に基づいて、前記放射ビームのそれぞれを、前記ビームディスプレーサの光軸に沿って伝搬する通常中間ビームと、前記光軸から離れて伝搬する異常中間ビームとに変位させ、（ｉｉ）前記第２の光学要素は、前記中間ビームの前記偏光状態を妨害して変更し、（ｉｉｉ）前記第２のビームディスプレーサは、前記中間ビームの前記変更された偏光状態に基づいて前記中間ビームを変位させる、項目１に記載のシステム。
（項目１４）
前記放射ビームの前記偏光状態を確立するための、前記第１の偏光ビームスプリッタの光学的上流にある４分の１波長板をさらに備える、項目１３に記載のシステム。
（項目１５）
前記半波長板の光軸まわりの前記半波長板の回転角度は、前記放射ビームの最大開口数と前記放射ビームの最小開口数との間のビームパワーの割付を決定する、項目１２に記載のシステム。
（項目１６）
前記偏光ビームスプリッタは、前記出力ビームが前記放射ビームの光路に対して平行外角度で伝搬するように角度付けられた上部反射表面を有する、項目３に記載のシステム。
（項目１７）
前記ビームディスプレーサは、前記出力ビームが前記放射ビームの光路に対して平行外角度で伝搬するように楔状にされている、項目８に記載のシステム。
（項目１８）
前記第１の光学要素は、第１および第２の離間した実質的に光学的に透明な板を備え、前記第１の板および第２の板は、相互に平行に配向されるが、前記放射ビームの光路に対して角度付けられ、前記第２の光学要素は、前記第１の板と第２の板との間に介在する半波長板であり、前記第１の板および第２の板のそれぞれは、前記第２の光学要素に対面する複屈折表面と、前記複屈折表面と反対側の高度反射表面とを有する、項目１に記載のシステム。
（項目１９）
前記半波長板の光軸まわりの前記半波長板の回転角度は、前記放射ビームの最大開口数と前記放射ビームの最小開口数との間のビームパワーの割付を決定する、項目１８に記載のシステム。
（項目２０）
前記第１の光学要素は、少なくとも１つの反射体と、第１および第２の離間した実質的に光学的に透明な板とを備え、前記第１の板および第２の板は、前記放射ビームの光路に対して反対角度で配向され、前記第２の光学要素は、半波長板であり、前記第１の板および第２の板のそれぞれは、前記第２の光学要素に対面する複屈折表面と、前記複屈折表面と反対側の高度反射表面とを備える、項目１に記載のシステム。
（項目２１）
前記第１の板および第２の板は、前記放射ビームの前記光路に沿って配置され、前記反射体は、前記放射ビームの前記光路から離間され、前記半波長板は、前記第１の板と前記反射体との間に配置され、前記第１の光学要素および第２の光学要素は、前記第１の板からの中間ビームが、前記半波長板を通って進行し、前記反射体によって前記第２の板に反射され、前記第２の板から前記集束光学部を通って伝搬するように、配列されている、項目２０に記載のシステム。
（項目２２）
前記第１の板および第２の板は、前記放射ビームの前記光路に沿って配置され、第１の反射体および第２の反射体は、前記放射ビームの前記光路から離間され、相互に対して反対角度で配向され、前記半波長板は、前記反射体間に配置され、前記第１の光学要素および第２の光学要素は、前記第１の板からの中間ビームが、前記第１の反射体によって前記半波長板を通るように指向され、前記第２の反射体によって前記第２の板に指向されることにより、前記集束光学部を通って伝搬するように、配列されている、項目２０に記載のシステム。
（項目２３）
複数のビーム源から複数の放射ビームの空間分布を受け取って変更し、前記変更された空間分布を伴う前記放射を光ファイバの端面上に集束させるためのビームパラメータ調節システムおよび集束システムであって、前記システムは、
反射表面と、前記反射表面の構造を変更するためのコントローラとを備える変形可能鏡と、
集束光学部と
を備え、前記変形可能鏡および前記集束光学部は、前記変形可能鏡が前記放射ビームを受け取り、前記集束光学部を通して前記端面上に前記放射ビームを指向するように配列され、前記コントローラは、標的放射パワー分布に応答し、前記標的放射パワー分布を伴って前記放射ビームを前記端面に衝打させる鏡構造を生成するように構成されている、システム。
（項目２４）
ビーム源から放射ビームの空間パワー分布を受け取って変更し、前記変更された空間パワー分布を伴う前記放射を光ファイバの端面上に集束させるためのビームパラメータ調節システムおよび集束システムであって、前記システムは、
グラディエントインデックスレンズであって、前記レンズの光軸を通して一定であるが、前記光軸と垂直な方向で変動する屈折率を有するグラディエントインデックスレンズと、
前記レンズから生じるビームのウェストを変動させるように、前記レンズに歪みを導入するための手段と、
前記端面上で標的変更空間パワー分布を達成するように、前記歪み導入手段を制御するためのコントローラと
を備える、システム。
（項目２５）
前記歪み導入手段は、局所加熱器、前記レンズの中へ指向される放射源、前記レンズの光学性質を変更する音響光学変調器、または前記レンズの光学性質を変更する電気光学変調器のうちの少なくとも１つである、項目２４に記載のシステム。
（項目２６）
前記反射表面は、制御可能な位相誤差を有し、前記位相誤差は、前記標的放射パワー分布を生成する、項目２４に記載のシステム。
（項目２７）
ビーム源から放射ビームの空間パワー分布を受け取って変更し、前記変更された空間パワー分布を伴う前記放射を光ファイバの端面上に集束させるためのビームパラメータ調節システムおよび集束システムであって、前記システムは、
集束光学部と、
前記集束光学部から生じるビームのウェストを変動させるように、前記集束光学部に熱依存性歪みを導入するための加熱源と、
前記端面上で標的変更空間パワー分布を達成するように、前記加熱源を制御するためのコントローラと
を備える、システム。
（項目２８）
ビーム源から放射ビームの空間パワー分布を受け取って変更し、前記変更された空間パワー分布を伴う前記放射を光ファイバの端面上に集束させるためのビームパラメータ調節システムおよび集束システムであって、前記システムは、
集束光学部と、
前記集束光学部から前記ファイバ端面の中へ放射を光学的に結合するファイバ端部キャップと、
前記集束光学部から生じるビームのウェストを変動させるように、前記ファイバ端部キャップに歪みを導入するための手段と、
前記端面上で標的変更空間パワー分布を達成するように、前記歪み導入手段を制御するためのコントローラと
を備える、システム。
（項目２９）
前記歪み導入手段は、局所加熱器、前記端部キャップの中へ指向される放射源、前記端部キャップの光学性質を変更する音響光学変調器、または前記端部キャップの光学性質を変更する電気光学変調器のうちの少なくとも１つである、項目２８に記載のシステム。
（項目３０）
ビーム源から放射ビームを受け取り、前記放射を光ファイバの端面上に集束させるためのビームパラメータ調節システムおよび集束システムであって、前記システムは、
集束光学部と、
変更された空間パワー分布を伴って前記集束光学部から前記ファイバ端面の中へ放射を光学的に結合するためのグラディエントインデックスファイバのセグメントと
を備える、システム。
（項目３１）
複数の放射ビームの空間パワー分布を変更するためのビームパラメータ調節システムおよび集束システムであって、前記システムは、
放射ビームを放出するための複数のビーム源と、
前記ビーム源からの放射を光ファイバの端面上に集束させるための集束光学部と、
前記端面上で標的空間パワー分布を達成するように、前記ビームを偏移させるためのビーム経路調節器と
を備える、システム。
（項目３２）
前記ビーム経路調節器は、前記標的空間パワー分布を達成するように、前記ビーム源からの前記ビーム間の間隔を変更する、項目３１に記載のシステム。
（項目３３）
前記ビーム経路調節器は、前記標的空間パワー分布を達成するように、前記集束光学部に対して前記ビームのうちの少なくともいくつかを偏移させる、項目３１に記載のシステム。
（項目３４）
前記標的空間パワー分布を達成するように、前記ビームのうちの少なくともいくつかのパワーを選択的に変更するための手段をさらに備える、項目３１に記載のシステム。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
図面中、同様の参照文字は、概して、異なる図全体を通して、同一の部品を指す。また、図面は、必ずしも、正確な縮尺ではなく、代わりに、概して、本発明の原理を図示する際に強調される。以下の説明では、本発明の種々の実施形態が、以下の図面を参照して説明される。
【図１】図１は、本発明の種々の実施形態による、レーザシステムの概略図である。
【図２Ａ】図２Ａ−２Ｃは、本発明の種々の実施形態による、変形可能鏡を組み込むレーザシステムの概略図である。
【図２Ｂ】図２Ａ−２Ｃは、本発明の種々の実施形態による、変形可能鏡を組み込むレーザシステムの概略図である。
【図２Ｃ】図２Ａ−２Ｃは、本発明の種々の実施形態による、変形可能鏡を組み込むレーザシステムの概略図である。
【図３】図３Ａおよび図３Ｂは、本発明の種々の実施形態による、グレーデッドインデックスレンズを組み込むレーザシステムの概略図である。
【図４】図４Ａおよび図４Ｂは、本発明の種々の実施形態による、調節可能レンズを組み込むレーザシステムの概略図である。
【図５】図５Ａおよび図５Ｂは、本発明の種々の実施形態による、調節可能端部キャップを組み込むレーザシステムの概略図である。
【図６】図６Ａおよび図６Ｂは、本発明の種々の実施形態による、グレーデッドインデックス内部結合ファイバを組み込むレーザシステムの概略図である。
【図７】図７Ａおよび図７Ｂは、本発明の種々の実施形態による、変形可能鏡を組み込むレーザシステムの概略図である。
【図８】図８Ａおよび図８Ｂは、本発明の種々の実施形態による、変形可能鏡および複数の入力ビームを組み込むレーザシステムの概略図である。
【図９Ａ】図９Ａおよび図９Ｂは、本発明の種々の実施形態による、調節可能間隔を伴う複数の入力ビームを組み込むレーザシステムの概略図である。
【図９Ｂ】図９Ａおよび図９Ｂは、本発明の種々の実施形態による、調節可能間隔を伴う複数の入力ビームを組み込むレーザシステムの概略図である。
【図９Ｃ】図９Ｃは、図９Ａのレーザシステムの集束レンズにおける入力ビームの概略図である。
【図９Ｄ】図９Ｄは、図９Ａのレーザシステムの出力ビームの概略プロファイルである。
【図９Ｅ】図９Ｅは、図９Ｂのレーザシステムの集束レンズにおける入力ビームの概略図である。
【図９Ｆ】図９Ｆは、図９Ｂのレーザシステムの出力ビームの概略プロファイルである。
【図９Ｇ】図９Ｇは、本発明の種々の実施形態による、再指向要素を組み込むレーザシステムの概略図である。
【図９Ｈ】図９Ｈ−９Ｊは、本発明の種々の実施形態による、経路調節器を組み込むレーザシステムの概略図である。
【図９Ｉ】図９Ｈ−９Ｊは、本発明の種々の実施形態による、経路調節器を組み込むレーザシステムの概略図である。
【図９Ｊ】図９Ｈ−９Ｊは、本発明の種々の実施形態による、経路調節器を組み込むレーザシステムの概略図である。
【図１０】図１０Ａおよび図１０Ｂは、本発明の種々の実施形態による、複数の可変パワー入力ビームを組み込むレーザシステムの概略図である。
【図１１Ａ】図１１Ａは、本発明の種々の実施形態による、入力ビーム品質が偏光に基づいて調節される、レーザシステムの概略図である。
【図１１Ｂ】図１１Ｂは、図１１Ａのレーザシステムの入力開口数の関数としてのパワー分布の概略プロットである。
【図１１Ｃ】図１１Ｃは、本発明の種々の実施形態による、入力ビーム品質が偏光に基づいて調節される、レーザシステムの概略図である。
【図１１Ｄ】図１１Ｄは、図１１Ｃのレーザシステムの入力開口数の関数としてのパワー分布の概略プロットである。
【図１１Ｅ】図１１Ｅ−１１Ｈは、本発明の種々の実施形態による、入力ビーム品質が偏光に基づいて調節される、レーザシステムの概略図である。
【図１１Ｆ】図１１Ｅ−１１Ｈは、本発明の種々の実施形態による、入力ビーム品質が偏光に基づいて調節される、レーザシステムの概略図である。
【図１１Ｇ】図１１Ｅ−１１Ｈは、本発明の種々の実施形態による、入力ビーム品質が偏光に基づいて調節される、レーザシステムの概略図である。
【図１１Ｈ】図１１Ｅ−１１Ｈは、本発明の種々の実施形態による、入力ビーム品質が偏光に基づいて調節される、レーザシステムの概略図である。
【図１１Ｉ】図１１Ｉおよび図１１Ｊは、本発明の種々の実施形態による、入力ビーム品質が偏光に基づいて調節され、マルチクラッド光ファイバとともに利用される、レーザシステムの概略図である。
【図１１Ｊ】図１１Ｉおよび図１１Ｊは、本発明の種々の実施形態による、入力ビーム品質が偏光に基づいて調節され、マルチクラッド光ファイバとともに利用される、レーザシステムの概略図である。
【図１１Ｋ】図１１Ｋは、図１１Ｉまたは図１１Ｊのレーザシステムとともに利用されるマルチクラッド光ファイバ内の空間パワー分布の概略プロットである。
【図１２Ａ】図１２Ａ−１２Ｃは、本発明の種々の実施形態による、入力ビーム品質が偏光に基づいて調節される、レーザシステムの概略図である。
【図１２Ｂ】図１２Ａ−１２Ｃは、本発明の種々の実施形態による、入力ビーム品質が偏光に基づいて調節される、レーザシステムの概略図である。
【図１２Ｃ】図１２Ａ−１２Ｃは、本発明の種々の実施形態による、入力ビーム品質が偏光に基づいて調節される、レーザシステムの概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
（詳細な説明）
図１は、本発明の種々の実施形態による、レーザシステム１００の概略図である。レーザシステム１００では、１つまたは複数の入力ビーム１０５は、集束レンズ１１０を介して、ファイバ端部キャップ１２０を有する光ファイバ１１５の中へ集束させられる。端部キャップ１２０は、例えば、「コアレス」（すなわち、実質的に均質）またはグレーデッドインデックス（すなわち、段階的な屈折率を有する）ガラスの片であってもよく、端部キャップ１２０は、有利なこととして、所与の光学力のためにガラス・空気界面における光学強度を低減させ、かつ／または環境損傷（例えば、湿気）からファイバ１１５を保護してもよい。示されるように、光ファイバ１１５は、１つまたは複数のクラッド層１３０によって取り囲まれる１つまたは複数のコア１２５を有してもよい。レーザシステム１００に関して、入力ビーム（単数または複数）１０５のＢＰＰは、（ｘ／２）×θ＝（ｘ×ｄ）／（４×ｆ）として定義され、ｘは、入力ビーム１０５の直径（または「ビームサイズ」）であり、θは、入力ビーム１０５のレーザビーム発散（または「ビーム発散」）であり、ｄは、集束された入力ビーム１０５の集束直径であり、ｆは、集束レンズ１１０の焦点距離である。ビームサイズは、典型的には、「二次モーメント幅」または「Ｄ４σ幅」に関して計算され、水平または垂直方向でのビームのＤ４σ幅は、４×σであり、σは、それぞれ、水平周辺分布または垂直周辺分布の標準偏差である。単一のコア１２５および単一のクラッド層１３０を有する光ファイバ１１０は、ｄ’のコア直径およびＤ’のクラッド直径を有すると仮定されてもよい。
【００２４】
いったん１つまたは複数の入力ビーム１０５が光ファイバ１１５の中へ結合されると、ファイバ１１５は、出力ビーム１３５を出力する。出力ビーム１３５のＢＰＰ（または「出力ＢＰＰ」）は、（ｄ”／２）×ＮＡ”として定義されてもよく、ＮＡ”は、ファイバ１１５の開口数であり、ｄ”は、出力ビームサイズである。出力ビームサイズｄ”は、クラッド１３０内およびコア１２５内で伝搬するビームの相対量（または同等に、コア１２５に対するクラッド１３０の「パワー含有比」）に依存する。例えば、出力ＢＰＰは、クラッド１３０内のビームの量を最小限にすることによって最小限にされてもよく、出力ＢＰＰは、コア１２５内のビームの量を最小限にすることによって最大限にされてもよい。したがって、出力ＢＰＰは、ファイバ１１５の異なる領域内で入力ビーム（単数または複数）の異なる量を集束させることによって所望の値に調節されてもよい。一般に、ファイバ１１５は、出力ビーム内で入力光の入射角度（または発散もしくは開口数）を維持し、したがって、出力ＢＰＰは、有利なこととして、入力ビーム品質（またはＢＰＰ）の変動を介して変動させられ得る。
【００２５】
図２Ａおよび２Ｂを参照すると、本発明の種々の実施形態による例示的レーザシステム２００では、１つまたは複数の入力ビーム１０５が光ファイバ１１５の中へ集束させられる点を変更するために、変形可能鏡２１０が利用される。図２Ａに示されるように、公称条件では、入力ビーム（単数または複数）１０５は、変形可能鏡２１０および集束レンズ１１０によってファイバ１１５のコア１２５の中へ集束させられ、したがって、出力ＢＰＰを最小限にする。図２Ｂに示されるように、変形可能鏡２１０は、光の一部がクラッド１３０の中へ波及するように入力ビーム１０５が集束させられ、出力ＢＰＰを増加させるように、（例えば、変形可能鏡２１０の表面上の１つまたは複数の点の角度を変更することによって）操作されてもよい。同様に、変形可能鏡２１０は、ファイバ１１５がマルチコア光ファイバであるときに、集束された入力ビーム１０５の全体または一部をコア１２５以外のコアの中へ集束させるために利用されてもよい。当技術分野で公知であるように、変形可能鏡２１０は、例えば、独立平面鏡セグメントによって形成されるセグメント鏡を含んでもよい、または本質的にそれから成ってもよい。各セグメントは、入射光の波面を変更するように、アクチュエータに応答して、前後にわずかな距離で移動し、かつ／または１つまたは複数の方向に傾転してもよい。他の例示的変形可能鏡２１０は、連続面板鏡を含み、連続面板鏡は、膜の裏面に位置するアクチュエータのアレイのうちのいずれかによって変形可能である連続膜を含む、または本質的にそれから成る。
【００２６】
図２Ａおよび図２Ｂに示されるように、変形可能鏡２１０および／またはその部分を変形させるアクチュエータのアレイは、コントローラ２２０に応答し、それによって、コントローラ２２０は、変形可能鏡２１０の反射表面の構造を変更する。コントローラ２２０は、（例えば、ユーザによって入力される）所望の標的放射パワー分布に応答し、標的放射パワー分布を伴って放射ビームをファイバ１１５の端面に衝打させる鏡構造を生成するように構成される。コントローラ２２０は、当業者による必要以上の実験を伴わずに、特定の鏡面構造を介して所望のパワー分布（したがって、所望の出力ＢＰＰ）を達成するようにプログラムされてもよい。コントローラ２２０は、ソフトウェア、ハードウェア、またはそれらのある組み合わせとして提供されてもよい。例えば、システムは、Ｉｎｔｅｌ
Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｓａｎｔａ  Ｃｌａｒａ，  Ｃａｌｉｆ．）製Ｐｅｎｔｉｕｍ（登録商標）またはＣｅｌｅｒｏｎファミリーのプロセッサ、Ｍｏｔｏｒｏｌａ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｓｃｈａｕｍｂｕｒｇ，  Ｉｌｌ．）製６８０ｘ０およびＰＯＷＥＲ  ＰＣファミリーのプロセッサ、ならびに／またはＡｄｖａｎｃｅｄ  Ｍｉｃｒｏ  Ｄｅｖｉｃｅｓ，  Ｉｎｃ．（Ｓｕｎｎｙｖａｌｅ，  Ｃａｌｉｆ．）製ＡＴＨＬＯＮラインのプロセッサ等の１つまたは複数のプロセッサを含むＣＰＵ基板を有するＰＣ等の１つまたは複数の従来のサーバクラスコンピュータ上で実装されてもよい。プロセッサはまた、前述の方法に関連するプログラムおよび／またはデータを記憶するためのメインメモリユニットを含んでもよい。メモリは、１つまたは複数の特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）、フィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ）、電気的に消去可能なプログラマブル読取専用メモリ（ＥＥＰＲＯＭ）、プログラマブル読取専用メモリ（ＰＲＯＭ）、プログラマブル論理デバイス（ＰＬＤ）、もしくは読取専用メモリデバイス（ＲＯＭ）等の一般に利用可能なハードウェア上に存在するランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）、読取専用メモリ（ＲＯＭ）、および／またはフラッシュメモリを含んでもよい。いくつかの実施形態では、プログラムは、光ディスク、磁気ディスク、ならびに他の一般的に使用される記憶デバイス等の外部ＲＡＭおよび／またはＲＯＭを使用して提供されてもよい。機能が１つまたは複数のソフトウェアプログラムとして提供される実施形態に関して、プログラムは、ＦＯＲＴＲＡＮ、ＰＡＳＣＡＬ、ＪＡＶＡ（登録商標）、Ｃ、Ｃ＋＋、Ｃ＃、ＢＡＳＩＣ、種々のスクリプト言語、および／またはＨＴＭＬ等のいくつかの高水準言語のうちのいずれかにおいて書かれてもよい。加えて、ソフトウェアは、標的コンピュータ上に存在するマイクロプロセッサに向けられるアセンブリ言語において実装されてもよく、例えば、ソフトウェアは、ＩＢＭ  ＰＣまたはＰＣクローン上において作動するように構成される場合、Ｉｎｔｅｌ  ８０ｘ８６アセンブリ言語において実装されてもよい。ソフトウェアは、フロッピー（登録商標）ディスク、ジャンプドライブ、ハードディスク、光ディスク、磁気テープ、ＰＲＯＭ、ＥＰＲＯＭ、ＥＥＰＲＯＭ、フィールドプログラマブルゲートアレイ、またはＣＤ−ＲＯＭを含むが、それらに限定されない、製造品上に組み込まれてもよい。
【００２７】
図２Ｃに示されるように、変形可能鏡２１０は、放物線状であり得（すなわち、全体または一部が実質的に放物線状である反射表面を有する）、そのような変形可能鏡自体は、（別個の集束レンズ１１０を用いることさえなしに）レーザシステム２００の所望の出力ＢＰＰに応じて、１つまたは複数の入力ビーム１０５（入力ビーム１０５のそれぞれの全体または部分が変形可能鏡２１０の表面の変更を介して操作され得る）をファイバ１１５の種々の領域に集束してもよい。
【００２８】
図３Ａおよび図３Ｂを参照すると、本発明の種々の実施形態による例示的レーザシステム３００では、１つまたは複数の入力ビーム１０５（単数または複数）が光ファイバ１１５の中へ集束させられる点および／または集束ビームのスポットサイズを変更するために、グレーデッドインデックス（つまり「ＧＲＩＮ」）レンズ３１０が利用される。図３Ａに示されるように、公称条件では、入力ビーム１０５（単数または複数）は、ＧＲＩＮレンズ３１０によってファイバ１１５のコア１２５の中へ集束させられ、したがって、出力ＢＰＰを最小限にする。示されるような図３Ａの公称条件では、入力ビーム１０５（単数または複数）は、ＧＲＩＮレンズ３１０とファイバ１１５との間の界面における入力ビーム１０５（単数または複数）のスポットサイズが最小限化されてコア１２５の中へ指向されるように、ＧＲＩＮレンズ３１０内で伝搬する。図３Ｂに示されるように、ＧＲＩＮレンズ３１０は、ＧＲＩＮレンズ３１０とファイバ１１５との間の界面における入力ビーム１０５（単数または複数）のスポットサイズが変更される（例えば、より大きい）ように、操作（または、矢印３２０によって示される「妨害」もしくは「摂動」）されてもよい。示されるように、図３Ｂで描写される条件では、入射光の一部が、クラッド１３０の中へ（またはマルチコアおよび／またはマルチクラッドファイバ内の別のコアおよび／またはクラッドの中へ）結合され、それによって出力ＢＰＰが増加する。種々の実施形態では、ＧＲＩＮレンズ３１０が妨害されるとき、１つまたは複数の光学性質（例えば、屈折率）が、ＧＲＩＮレンズ３１０の少なくとも一部において変化する。例えば、ＧＲＩＮレンズ３１０は、レンズの一部の局所加熱および／またはレンズの一部内の放射の局所吸収を介して妨害されてもよい。いくつかの実施形態では、ＧＲＩＮレンズ３１０の全体または一部は、音響光学効果を呈する材料を含み、またはそれから成り、音響変換器が、ＧＲＩＮレンズ３１０の光学性質を変更するために利用されてもよい。例えば、ＧＲＩＮレンズ３１０は、溶融シリカ、ニオブ酸リチウム、三硫化ヒ素、二酸化テルル、テルライトガラス、ケイ酸鉛、および／または別の音響光学材料を含んでもよい、またはそれらから成ってもよい。同様に、電場が、音響光学効果を呈するＧＲＩＮレンズ３１０に、その屈折率を変更するように印加されてもよく、それによって、出力ＢＰＰを変更するようにレンズを十分に妨害する。
【００２９】
図３Ｂに示されるように、ＧＲＩＮレンズ３１０に歪みを導入する手段（例えば、局所加熱器、レンズの中へ指向される放射源、レンズの光学性質を変更する音響光学変調器および／または変換器、またはレンズの光学性質を変更する電気光学変調器および／または変換器のうちの少なくとも１つ）は、コントローラ２２０に応答する。コントローラ２２０は、従来的であり得、必要以上の実験を伴わずに、所望の出力ＢＰＰに応答して歪み導入手段を導入および／または制御するように構成されてもよい。
【００３０】
図４Ａおよび図４Ｂを参照すると、本発明の種々の実施形態による例示的レーザシステム４００では、調節可能集束レンズ４１０が利用されることにより、例えば、レンズ４１０の焦点を変更するためのレンズ４１０の操作を介して、１つまたは複数の入力ビーム１０５が光ファイバ１１５の中へ集束させられる点および／または集束させられたビーム（単数または複数）のスポットサイズを変更する。図４Ａに示されるように、公称条件では、入力ビーム（単数または複数）１０５は、調節可能レンズ４１０によってファイバ１１５のコア１２５の中へ集束させられ、したがって、出力ＢＰＰを最小限にする。示されるような図４Ａの公称条件では、入力ビーム１０５（単数または複数）は、焦点が端部キャップ１２０とファイバ１１５との間の界面に配置されるように集束させられ、したがって、入力ビーム（単数または複数）のスポットサイズが最小限にされてコア１２５の中へ指向される。図４Ｂに示されるように、調節可能レンズ４１０は、レンズ４１０の焦点距離が変化するように操作（または「妨害」もしくは「摂動」）されてもよい。例えば、図４Ｂに示されるように、焦点距離は、入力ビームが端部キャップ１２０の大部分内の点で集束させられるように減少させられてもよく、それによって、端部キャップ１２０とファイバ１１５との間の界面におけるスポットサイズを増大させる。したがって、図４Ｂで描写される条件では、入射光の一部が、クラッド１３０の中へ（またはマルチコアおよび／またはマルチクラッドファイバ内の別のコアおよび／またはクラッドの中へ）結合され、それによって、出力ＢＰＰを増加させる。調節可能レンズ４１０は、例えば、加熱源４２０からレンズ４１０への熱の印加によって摂動されてもよい。示されるように、加熱源４２０は、コントローラ２２０に応答する。コントローラ２２０は、従来的であり得、必要以上の実験を伴わずに、所望の出力ＢＰＰに応答して、熱を導入し、かつ／または加熱源４２０によって提供される加熱レベルを制御するように構成されてもよい。
【００３１】
図５Ａおよび図５Ｂを参照すると、本発明の種々の実施形態による例示的レーザシステム５００では、調節可能端部キャップ５１０が利用されることにより、例えば、端部キャップ５１０の光学性質（例えば、屈折率）を変更するための端部キャップ５１０の操作を介して、１つまたは複数の入力ビーム１０５が光ファイバ１１５の中へ集束させられる点および／または集束されたビーム（単数または複数）のスポットサイズを変更する。図５Ａに示されるように、公称条件では、入力ビーム（単数または複数）１０５は、レンズ（図示せず）によって、端部キャップ５１０の中およびファイバ１１５のコア１２５の中へ集束させられ、したがって、出力ＢＰＰを最小限にする。示されるような図５Ａの公称条件では、入力ビーム（単数または複数）１０５は、焦点が端部キャップ１２０とファイバ１１５との間の界面に配置されるように集束させられ、したがって、入力ビーム（単数または複数）のスポットサイズが最小限にされてコア１２５の中へ指向される。図５Ｂに示されるように、調節可能端部キャップ５１０は、入力ビーム（単数または複数）の焦点が変化するように操作（または「妨害」もしくは「摂動」）されてもよい。例えば、図５Ｂに示されるように、焦点は、光ファイバ１１５内の点まで移動させられてもよく、それによって、端部キャップ５１０とファイバ１１５との間の界面におけるスポットサイズを増大させる。したがって、図５Ｂで描写される条件では、入射光の一部が、クラッド１３０の中へ（またはマルチコアおよび／またはマルチクラッドファイバ内の別のコアおよび／またはクラッドの中へ）結合され、それによって、出力ＢＰＰを増加させる。調節可能端部キャップ５１０は、例えば、端部キャップ５１０への熱および／または圧力の印加によって摂動されてもよい。
【００３２】
図５Ｂに示されるように、ファイバ端部キャップ５１０に歪みを導入する手段５２０（例えば、局所加熱器、端部キャップの中へ指向される放射源、端部キャップの光学性質を変更する音響光学変調器および／または変換器、または端部キャップの光学性質を変更する電気光学変調器および／または変換器のうちの少なくとも１つ）は、コントローラ２２０に応答する。コントローラ２２０は、従来的であり得、必要以上の実験を伴わずに、所望の出力ＢＰＰに応答して歪み導入手段を導入および／または制御するように構成されてもよい。
【００３３】
図６Ａおよび図６Ｂを参照すると、本発明の種々の実施形態による例示的レーザシステム６００では、光ファイバ１１５の入口における入力ビーム（単数または複数）１０５のスポットサイズを変更するために、グレーデッドインデックス（または「グラディエントインデックス」もしくは「グラディエント」）光ファイバが利用される。当技術分野で公知であるように、グラディエントインデックスファイバは、コアがファイバの光軸からの半径方向距離が増加するにつれて減少する屈折率を有する光ファイバである。ファイバ軸により近いコアの部分がクラッドの付近の部分よりも高い屈折率を有するため、光線は、グラディエントインデックスファイバを下って正弦曲線経路を辿る。グレーデッドインデックスファイバ６１０内の屈折率プロファイルは、例えば、実質的に放物線状であり得る。したがって、グラディエントインデックスファイバ６１０を通して伝搬されるビームのスポットサイズは、例えば、本明細書に説明される開口数変更技法のうちの１つを使用して、グラディエントインデックスファイバ６１０の中へ結合される入力ビームの開口数の制御を介して制御されてもよい。図６Ａに示されるように、小さい開口数（すなわち、小さい発散）を有する１つまたは複数の入力ビーム１０５は、グラディエントファイバ６１０を通って伝搬し、ビームの実質的に全体がファイバ１１５のコア１２５の中へ結合されるように集束させられる小さいスポットサイズを生成する。図６Ｂに示されるように、より大きい開口数（すなわち、より大きい発散）を有する１つまたは複数の入力ビーム１０５は、グラディエントファイバ６１０を通って伝搬し、ビームの一部がファイバ１１５のクラッド１３０の中へ結合されるように集束させられるより大きいスポットサイズを生成し、それによって、出力ＢＰＰを変更する（ここでは増加させる）。グラディエントファイバ６１０は、例えば、約１００ｍｍ未満の長さを有してもよい。
【００３４】
本発明の種々の実施形態によると、レーザシステムの出力ＢＰＰは、光ファイバの中へ結合される光の少なくとも一部が、ファイバのコアではなく、１つまたは複数のクラッド層内で（かつ／または複数のコアを有するファイバについてはファイバの別のコア内で）伝搬するよう誘導されるように、入力波面分布（すなわち、入力ビーム品質）の制御を介して、可変的に制御されてもよい。例えば、図７Ａおよび図７Ｂは、１つまたは複数の入力ビーム１０５が光ファイバ１１５の中へ集束させられる点を変更するために変形可能鏡２１０が利用される、本発明の種々の実施形態による例示的レーザシステム７００を描写する。図７Ａに示されるように、公称条件では、入力ビーム（単数または複数）１０５は、変形可能鏡２１０および集束レンズ１１０によってファイバ１１５のコア１２５の中へ集束させられ、したがって、出力ＢＰＰを最小限にする。図７Ｂに示されるように、変形可能鏡２１０は、位相誤差が入力ビーム１０５に導入されるように、（例えば、変形可能鏡２１０の表面上の１つまたは複数の点の角度および／または高さを変更することによって）操作されてもよい。位相誤差は、入力ビーム１０５のビーム品質を変化させ、したがって、光の一部がクラッド１３０の中へ波及し、出力ＢＰＰを増加させる。
【００３５】
図７Ａおよび図７Ｂに示されるように、変形可能鏡２１０および／またはその部分を変形させるアクチュエータのアレイは、コントローラ２２０に応答し、それによって、位相誤差を入力ビームに導入するように、変形可能鏡２１０の反射表面の構造を変更する。コントローラ２２０は、当業者による必要以上の実験を伴わずに、特定の鏡面構造を介して、所望の位相誤差（したがって、所望の出力ＢＰＰ）を達成するようにプログラムされてもよい。
【００３６】
上記で説明されるレーザシステム（および別様に指示されない限り本明細書に説明される全てのレーザシステム）は、単一の入力ビームまたは複数の入力ビームとともに利用されてもよいが、本発明の種々の実施形態は、有利なこととして、レーザシステムの出力ＢＰＰを制御可能に変動させるために複数の入力ビームを利用する。図８Ａおよび図８Ｂは、変形可能鏡２１０が複数の入力ビームと併せて利用される例示的レーザシステム８００を描写する。図８Ａおよび図８Ｂは、３つの入力ビーム１０５−１、１０５−２、１０５−３の使用を描写するが、本発明の実施形態は、所望に応じて、２つの入力ビームまたは３つよりも多い入力ビームを利用してもよい。レーザシステム８００では、変形可能鏡２１０は、入力ビーム１０５のうちの１つまたは複数のものが光ファイバ１１５の中へ集束させられる点を変更するために利用される。図８Ａに示されるように、公称条件では、入力ビーム１０５−１、１０５−２、１０５−３は、変形可能鏡２１０および集束レンズ１１０によって、単一の焦点に、かつファイバ１１５のコア１２５の中へ集束させられ、したがって、出力ＢＰＰを最小限にする。図８Ｂに示されるように、変形可能鏡２１０は、位相誤差が入力ビーム１０５−３に導入されるように、（例えば、変形可能鏡２１０の表面上の１つまたは複数の点の角度および／または高さを変更することによって）操作されてもよい。位相誤差は、入力ビーム１０５−３が集束レンズ１１０に伝播し、集束レンズ１１０を通るにつれて、入力ビーム１０５−３の軌道を変化させ、したがって、入力ビーム１０５−３は、入力ビーム１０５−１、１０５−２の焦点と異なる点に集束させられる。したがって、入力ビーム１０５−３の光の少なくとも一部は、入力ビーム１０５−１、１０５−２からの光がファイバに入射する場所と異なる点で光ファイバ１１５に入射し、それによって、複合出力ビームのＢＰＰを増加させる。例えば、図８Ｂに示されるように、入力ビーム１０５−３の光が、クラッド層１３０（またはマルチクラッドファイバについては１つまたは複数のクラッド層、および／またはマルチコアファイバについては１つまたは複数の他のコア）上に集束させられてもよい一方で、入力ビーム１０５−１、１０５−２の光は、コア１２５上に集束させられてもよい。
【００３７】
図８Ａおよび図８Ｂに示されるように、変形可能鏡２１０および／またはその部分を変形させるアクチュエータのアレイは、コントローラ２２０に応答し、それによって、入力ビームのうちの１つまたは複数のものに位相誤差を導入するように、変形可能鏡２１０の反射表面の構造を変更する。コントローラ２２０は、当業者による必要以上の実験を伴わずに、特定の鏡面構造を介して、所望の位相誤差（したがって、所望の出力ＢＰＰ）を達成するようにプログラムされてもよい。
【００３８】
入力ビームのビーム品質もまた、種々の入力ビームの間の間隔の変更を介して変化させられてもよい（それによって、出力ＢＰＰの制御可能な変動を可能にする）。図９Ａおよび図９Ｂは、入力ビーム１０５−１、１０５−２、１０５−３の間の間隔が、光ファイバ１１５の中へ結合される入力ビーム品質（すなわち、発散）を変化させるように変動させられる、例示的レーザシステム９００を描写する。図９Ａは、比較的狭い間隔９１０−１によって分離されている入力ビーム１０５−１、１０５−２、１０５−３を描写し、これは、比較的小さい発散角度９２０−１で集束レンズ１１０によってファイバ１１５の中へ集束させられる入力ビームをもたらす。ファイバ１１５の中への比較的小さい入射角度は、より小さい出力ＢＰＰをもたらす。図９Ｂは、間隔９１０−１より大きい間隔９１０−２によって分離されている入力ビーム１０５−１、１０５−２、１０５−３を描写し、これは、発散角度９２０−１より大きい発散角度９２０−２で集束レンズ１１０によってファイバ１１５の中へ集束させられる入力ビームをもたらす。ファイバ１１５の中へのより大きい入射角度は、より大きい出力ＢＰＰをもたらす。このようにして、レーザシステム９００の出力ＢＰＰは、ファイバ１１５の中へ結合される入力ビーム間の間隔を変動させることによって、変動させられてもよい。一般に、入力ビーム間の間隔は、ファイバに入射する集束ビームの発散角度がファイバ１１５の受光角度を超えないように変動させられてもよい。種々の実施形態では、ファイバ１１５の受光角度θａｃｃｅｐｔは、方程式
【００３９】
【数１】
2018072854.tif 000003
【００４０】
によって計算されてもよく、式中、ｎは、光ビームがファイバに入射している媒体の屈折率（例えば、空気または端部キャップ１２０の屈折率）であり、ｎｃｏｒｅは、ファイバのコア（または中心光軸）の屈折率であり、ｎｃｌａｄは、ファイバのクラッドの屈折率である。
【００４１】
図９Ｃは、入力ビーム１０５−１、１０５−２、１０５−３が最初により小さい間隔９１０−１によって分離される、図９Ａのレーザシステム９００の集束レンズにおける３つの入力ビームの概略図である。示されるように、ファイバ１１５に入射するとき、３つの入力ビームは、ともに比較的近くに離間され、レーザシステムの出力ＢＰＰを低減させる（または最小限にしさえする）。図９Ｄは、図９Ａのレーザシステム９００の出力ビームの１つの例示的プロファイルを示す。
【００４２】
対照的に、図９Ｅは、入力ビーム１０５−１、１０５−２、１０５−３が最初により大きい間隔９１０−２によって分離される、図９Ｂのレーザシステム９００の集束レンズにおける３つの入力ビームの概略図である。示されるように、ファイバ１１５に入射するとき、３つの入力ビームは、比較的遠くに離れ、レーザシステムの出力ＢＰＰを増加させる。図９Ｆは、図９Ｂのレーザシステム９００の出力ビームの１つの例示的プロファイルを示す。
【００４３】
図９Ｇは、レーザシステム９００の入力ビームの間隔を変動させるための例示的技法を概略的に描写する。図９Ｇでは、複数の個々のエミッタ９３０はそれぞれ、入力ビーム１０５を放出し、複数の入力ビーム１０５は、最初にその間に間隔９４０を伴って伝搬している。入力ビーム１０５は、１つまたは複数の再指向要素（例えば、鏡、レンズ等）９５０によって再指向され、再指向後に、入力ビーム１０５は、間隔９４０と異なる（図９Ｇではそれより小さい）間隔９１０で離間される。再指向要素９５０は、入力ビーム１０５のうちの２つまたはそれより多いものの間に所望の間隔９１０を生成するように、個別的または集合的に平行移動および／または回転させられてもよい。上記で詳述されるように、間隔９１０は、レーザシステム９００の出力ＢＰＰに直接影響を及ぼす入射角度９２０をもたらす。再指向要素９５０は、個々の別個の要素であってもよく、または鏡（例えば、変形可能鏡）もしくはレンズ等のより大きい再指向要素の個々の部分またはセグメントであってもよい。加えて、入力ビーム１０５が、再指向要素９５０による再指向の前および後に実質的に平行なように示されているが、本発明の種々の実施形態では、入力ビームの間の伝搬角度も変動させられてもよく、それによって、個々のビームがファイバ１１５に向かって集束するために集束レンズ９１０に衝打する点を変動させる。図８Ｂに示されるように、そのような配列は、ファイバ１１５の異なる領域（例えば、１つまたは複数のクラッド層および／または１つまたは複数のコア）上への１つまたは複数の入力ビーム（もしくはそれらの部分）の選択的集束を可能にしてもよい。
【００４４】
図９Ｈおよび図９Ｉに示されるように、光ファイバの中への入力ビームの入射角度は、入力ビームの間の間隔が実質的に不変であるときでさえも変動させられてもよい。示されるように、経路調節器９６０は、１つまたは複数の入力ビーム１０５の伝搬経路を調節するために利用されてもよい。経路調節器９６０は、例えば、プリズム、グレーティング、レンズ等を含んでもよい、または本質的にそれらから成ってもよい。経路調節器９６０は、単一の物体として図９Ｈおよび図９Ｉで描写されているが、種々の実施形態では、経路調節器９６０は、（例えば、図９Ｊに示されるように）それぞれが１つまたは複数の入力ビームを受け取る個別に制御可能（例えば、回転可能および／または平行移動可能）な経路調節器の集合を含む、または本質的にそれから成る。図９Ｈに示されるように、公称上の場合、経路調節器９６０は、入力ビーム１０５の伝搬経路を変更せず、入力ビーム１０５は、後にレンズ１１０によって入射角度９２０−３でファイバ１１５の中へ集束させられる。図９Ｉでは、経路調節器９６０は、入力ビーム１０５が経路調節器９６０を通過するときに、入力ビーム１０５が経路調節器９６０内の経路９７０に沿って伝搬し、それらの伝搬経路を変更させた経路調節器９６０から出射するように回転させられる。示されるように、入力ビーム１０５は、後に異なる空間場所で集束レンズ１１０に衝打し、角度９２０−３と異なる入射角度９２０−４で光ファイバ１１５の中への入力ビーム１０５の内部結合をもたらし、それによって、レーザシステム９００の出力ＢＰＰを変更する。
【００４５】
図９Ｊは、入力ビーム間の間隔および個々の入力ビームの伝搬経路が両方とも変動させられ得る例示的レーザシステム９００を描写する。示されるように、各入力ビーム１０５は、その伝搬経路を経路調節器９６０によって調節され、それによって、種々の入力ビーム１０５間の間隔および／または入力ビームが光ファイバ１１５の中へ集束するために集束レンズ１１０に衝打する場所を変化させる。図９Ｊに示される実施例では、経路を調節された入力ビーム１０５が、鎖線として現われる一方で、調節されていない入力ビーム１０５は、実線として現れる。いったん入力ビーム１０５が集束レンズ１１０に衝打すると、それらは、どの（および／またはいくつの）入力ビームがそれらの経路を調節されているか、および／またはどの程度それらが調節されているかに応じて変動し得る入射角度９２０−５で、ファイバ１１５の中へ集束させられる。
【００４６】
本発明の実施形態によるレーザシステムの出力ビームのビーム品質（したがって、ＢＰＰ）はまた、入力ビームのうちの１つまたは複数のもののパワー特性（パワー特性は、光ファイバの中へ内部結合される入力ビームのビーム品質に影響を及ぼす）を調節することによって、制御可能に変動させられてもよい。図１０Ａは、図９Ｂのレーザシステム９００に類似する、本発明の実施形態による例示的レーザシステム１０００を描写する。示されるように、入力ビーム１０５−１、１０５−２、１０５−３は、特定の間隔で離間され、集束レンズ１１０を介してファイバ１１５の中へ集束させられる。図１０Ｂでは、入力ビーム１０５−３のパワー特性（例えば、出力パワー）が低減させられており、ファイバ１１５の中へ内部結合される複合ビームへのその寄与を低減させている。これは、ファイバ１１５の他方の端部において放出される、結果として生じる出力ビームのビーム品質（したがって、出力ＢＰＰ）を変更する。いくつかの実施形態では、入力ビームのうちの１つまたは複数のものは、出力パワーが変動させられ、または完全に遮断さえされ、内部結合ビーム品質、したがって、レーザシステムの出力ＢＰＰの変化をもたらす。
【００４７】
入力ビームのパワー特性は、入力ビームのそれぞれの種々のエミッタを制御するコントローラ２２０によって制御されてもよい。コントローラ２２０は、当業者による必要以上の実験を伴わずに、入力ビームのうちの１つまたは複数のもののパワー変調を介して、所望のビーム構造（したがって、所望の出力ＢＰＰ）を達成するようにプログラムされてもよい。
【００４８】
本発明の種々の実施形態では、入力ビーム品質は、入力ビームの偏光状態に基づいて変動させられる（出力ＢＰＰの変動につながる）。具体的には、入力ビームは、異なる偏光状態を有する成分に分離され、所望のパワーレベルを有する入力ビームに再結合される。次いで、再結合ビームのうちの１つまたは複数のものが、光ファイバの１つの領域（例えば、コア）上に集束させられてもよい一方で、１つまたは複数の他の再結合ビームは、光ファイバの異なる領域（例えば、クラッド）上に集束させられてもよく、２つの再結合ビームのパワーレベルの比に基づいて調節可能なＢＰＰを有する出力ビームをもたらす。図１１Ａは、２つの直線偏光入力ビーム１０５−１、１０５−２が偏光に基づいて操作される、例示的レーザシステム１１００を描写する。示されるように、２つの入力ビームは、入力ビームの光の偏光方向を変更する半波長板１１０５を通過する。具体的には、半波長板１１０５の回転は、入力ビームのそれぞれのパワーを、２つの異なる偏光状態、例えば、ｓ偏光（または単純に「Ｓ」）およびｐ偏光（または単純に「Ｐ」）に割り付ける。従来技術で公知であるように、ｐ偏光が、入射面（すなわち、伝搬方向および反射表面の平面と垂直なベクトルによって得られる平面）に沿ってその電場を有する一方で、ｓ偏光は、入射面に垂直なその電場を有する。半波長板１１０５は、複屈折材料（シリカまたは雲母等）を含む、または本質的にそれから成り、複屈折材料の屈折率は、典型的には、複屈折材料を通過する光の異なる配向について異なる。半波長板１１０５を通過した後、入力ビームは、偏光子ビームスプリッタ１１１０（例えば、薄膜偏光子またはウォラストンプリズム）によって、Ｓ成分およびＰ成分、すなわち、その相対パワーが半波長板１１０５の回転によって選択された成分に分割される。（ＳおよびＰは、このように選択可能である任意の２つの偏光状態の指定であることに留意されたい。）示されるように、Ｐ光が、偏光子ビームスプリッタ１１１０をまっすぐに通過する一方で、Ｓ光は、分割されて反射体１１１５に向かって指向される。次いで、Ｓ光およびＰ光は両方とも、光ファイバの中へ集束するために集束レンズ１１０に指向される（光ファイバ１１５は明確にするために図１１Ａおよび後続の図に描写されていない）。Ｐ光が、小さい開口数（または発散もしくは入射角度）１１２０で光ファイバの中へ（例えば、そのコアの中へ）集束させられてもよい一方で、Ｐ光から空間的に分離されるＳ光は、より大きい開口数１１２５で光ファイバの中へ（例えば、そのクラッドの中へ）集束させられてもよい。このようにして、複合出力ビーム（したがって、そのＢＰＰ）へのＳ光およびＰ光の寄与は、単純に、半波長板１１０５を介してパワーを入力ビームに割り付けることによって変動させられてもよい。いくつかの実施形態では、Ｓ光が、ファイバコア上に集束させられる一方で、Ｐ光は、ファイバクラッド上に集束させられる。他の実施形態では、入力ビームが偏光に基づいて分離され、それらの相対パワーが半波長板１１０５を介して割り付けられた後、Ｓ光およびＰ光は、ファイバの異なる場所の中へ集束させられる前に、異なる光ビームを偏光解消する（例えば、ビームにランダム偏光またはＳ偏光およびＰ偏光の両方を付与する）偏光スクランブラ１１３０を通して指向されてもよい。偏光スクランブラは、例えば、４分の１波長板を含んでもよい、または本質的にそれから成ってもよい。図１１Ｂは、図１１Ａのレーザシステム１１００のための開口数１１２０、１１２５内の入力ビームパワーの概略プロットを描写する。
【００４９】
図１１Ａのレーザシステム１１００は、偏光状態によって、入力ビームを、実質的に空間的重複を含まない光ファイバの中へ内部結合されるビームに分離するが、ビームはまた、図１１Ｃに示されるように、空間的に重複させられてもよい。図１１Ｃでは、入力ビーム１０５−１、１０５−２のパワーは、再度、半波長板１１０５の所望の回転を介して、Ｓ偏光およびＰ偏光の間で割り付けられ、結果として生じるビームは、ビームディスプレーサ１１３５によってＳ成分およびＰ成分に分割される。一般に、直交偏光を有しかつ異なる角度で伝搬する偏光ビームに非偏光を分割するビームディスプレーサ１１３５は、バナジウム酸イットリウム（ＹＶＯ４）、ホウ酸バリウム（α−ＢＢＯ）、方解石結晶、またはルチル等の物質の一軸結晶を含んでもよい、または本質的にそれから成ってもよい。入力ビームのＳ成分およびＰ成分は、集束レンズ１１０によって、光ファイバの異なるが重複する領域上に集束させられ、Ｓ光が、小さい開口数（または発散もしくは入射角度）１１２０で光ファイバの中へ（例えば、そのコアの中へ）集束させられる一方で、Ｐ光は、より大きい開口数１１２５で光ファイバの中へ（例えば、クラッドおよびコアの一部の中へ）集束させられ、Ｐ光は、ファイバの中への入射時にＳ光に重複する。図１１Ｄは、２つのビーム成分の間の重複を示す、開口数１１２０、１１２５間のパワー分布を概略的に描写する。図１１Ａのレーザシステム１１００のように、出力ＢＰＰは、半波長板１１０５によるＳ成分およびＰ成分の中への入力ビームパワーの相対的割付を介して、可変的に選択されてもよい。
【００５０】
図１１Ｅは、入力ビーム１０５−１、１０５−２の総パワーの最大５０％が光ファイバのより大きい開口数１１２５に割り付けられ得、残りの部分がより小さい開口数１１２０に割り付けられる、本発明の実施形態による例示的レーザシステム１１００を描写する。図１１Ｅでは、入力ビーム１０５−１、１０５−２は、最初に無作為に偏光され、および／または随意の偏光ランダマイザ１１４０（例えば、４分の１波長板）を通過させられる。図１１Ａのように、次いで、入力ビームは、偏光ビームスプリッタ１１１０によってＳ成分およびＰ成分に分割され、Ｓ成分は、反射体１１１５に向かって指向される。次いで、反射したＳ成分は、半波長板１１４５によって、ＳおよびＰ偏光を両方とも有する光ビームに再偏光され、半波長板１１４５は、結果として生じる光ビームにおけるＳ偏光およびＰ偏光の相対量を選択するように回転させられる。再偏光されたビームは、より大きい開口数１１２５の中へ集束するために光ビームのＰ成分を集束レンズ１１０に渡す第２の偏光ビームスプリッタ１１５０に指向される。このようにして、元の入力ビーム１５０−１、１５０−２のパワーの最大５０％（すなわち、偏光ビームスプリッタ１１１０によってＳ偏光に最初に分割されるパワーの最大１００％）が、より大きい開口数１１２５に割り付けられてもよい。半波長板１１４５からのＳ光は、偏光ビームスプリッタ１１５０から別の偏光ビームスプリッタ１１５５に指向され、そこで最初の偏光ビームスプリッタ１１１０から出射するＰ光と再結合される。示されるように、再結合光は、より小さい開口数１１２０の中へ集束させられる。
【００５１】
図１１Ｃと同様に、無作為に偏光された入力ビームを有するレーザシステム１１００はまた、光の重複を伴って２つの開口数間に光パワーを割り付けてもよい。図１１Ｆは、そのような例示的レーザシステム１１００を描写し、そのシステム１１００において、入力ビーム１０５−１、１０５−２が最初に無作為に偏光され、および／または随意の偏光ランダマイザ１１４０（例えば、４分の１波長板）を通過させられる。図１１Ｃのように、ビームは、入力ビームをＳ成分およびＰ成分に分割するビームディスプレーサ１１３５に指向される。これらの成分は、半波長板１１６０を通過し、次いで、ビーム結合器１１６５に伝搬する。典型的には、反対の様式で利用されるに過ぎない、ビームディスプレーサ１１３５と同一の光学成分を含む、または本質的にそれから成るビーム結合器１１６５は、その出力においてＳ成分およびＰ成分を再結合する。示されるように、半波長板１１６０の回転は、（いったん光が集束レンズ１１０によって集束させられると）入力ビーム１０５−１、１０５−２の初期パワーを、完全または部分的に、より小さい開口数１１２０およびより大きい開口数１１２５のそれぞれに割り付ける。
【００５２】
図１１Ｇおよび図１１Ｈは、図１１Ｆで描写されるレーザシステム１１００の２つの極端な場合を概略的に描写する。図１１Ｇでは、半波長板１１６０は、例えば、０度または９０度で回転させられ、したがって、入力ビーム１０５−１、１０５−２の初期パワーの全ては、より小さい開口数１１２０に割り付けられる。図１１Ｈでは、半波長板１１６０は、例えば、４５度で回転させられ、したがって、入力ビーム１０５−１、１０５−２の初期パワーの全ては、より大きい開口数１１２５に割り付けられる。
【００５３】
本発明の種々の実施形態によると、入力ビーム光は、マルチクラッド光ファイバの異なるクラッド層の間のパワー割付のために、偏光に基づいて分離されてもよい。図１１Ｉは、分離したＳ成分およびＰ成分が（相互と平行に伝搬するよりもむしろ）その間のゼロではない角度１１７０で集束レンズ１１０に向かって伝搬するように、反射体１１１５が傾転させられることを除いて、図１１Ａのものに類似する例示的レーザシステム１１００を描写する。上記で説明されるように、半波長板１１０５の回転は、入力ビーム１０５−１、１０５−２の総パワーを２つの偏光状態の間で割り付け、その一方は、点１１７５に（例えば、光ファイバのコアに）集束させられ、その他方は、（角度１１７０により）点１１７５と異なる点１１８０に（例えば、光ファイバのクラッド層、例えば、内側クラッド層を取り囲む外側クラッド層に）集束させられる。同様に、図１１Ｊは、分離されたＳ成分およびＰ成分が（相互と平行に伝搬するよりもむしろ）その間のゼロではない角度１１７０で集束レンズ１１０に向かって伝搬するように、ビームディスプレーサの表面１１８５がある角度で切断される（または「楔状にされる」）ことを除いて、図１１Ｃのものに類似する例示的レーザシステム１１００を描写する。上記で説明されるように、半波長板１１０５の回転は、入力ビーム１０５−１、１０５−２の総パワーを２つの偏光状態の間で割り付け、その一方は、点１１７５に（例えば、光ファイバのコアに）集束させられ、その他方は、（角度１１７０により）点１１７５と異なる点１１８０に集束させられる。図１１Ｋは、図１１Ｉおよび１１Ｊで描写されるレーザシステム１１００に対するファイバ１１５内の空間領域中のパワー分布の例示的プロットを描写する。示されるように、点１１７５に指向される光が、ファイバのコア１２５の中へ内部結合される一方で、点１１８０に指向される光は、第１のクラッド層１３０−１を取り囲む第２のクラッド層１３０−２の中へ結合される。他の実施形態では、点１１８０に指向される光は、マルチコア／マルチクラッドファイバの第２のコアまたは異なるクラッドの中へ結合されてもよい。これらの実施例は、直線偏光入力光を利用する図１１Ａおよび図１１Ｃのレーザシステムの変形例であるが、同一の原理は、無作為偏光入力光を利用する図１１Ｅおよび図１１Ｆのシステムに適用されてもよい。
【００５４】
図１２Ａは、半波長板１１４５の回転が、入力ビーム１０５−１、１０５−２の総パワーを、完全または部分的に、より小さい開口数１１２０またはより大きい開口数１１２５に割り付ける、図１１Ｅで描写されるレーザシステム１１００に機能的に類似する例示的レーザシステム１２００を描写する。図１２Ａのレーザシステム１２００では、無作為に偏光されるか、または４分の１波長板（図示せず）等の偏光ランダマイザを最初に通過するかのいずれかであり得る入力ビームが、偏光ビーム分割表面１２１０と、高度反射表面１２１５とを有する実質的に光学的に透明な板１２０５に伝搬する。示されるように、偏光ビーム分割表面１２１０は、入力ビームをＳ成分およびＰ成分に分割し、Ｓ成分は、偏光ビーム分割表面１２１０から半波長板１１４５に向かって反射し、Ｐ成分は、板１２０５を通って伝搬し、反射表面１２１５によって半波長板１１４５に向かって反射される。本明細書に説明されるように、半波長板１１４５の回転は、総パワーをＳ成分およびＰ成分に割り付け、それらは次いで、偏光ビーム分割表面１２２５と、高度反射表面１２３０とを有する第２の実質的に光学的に透明な板１２２０に伝搬する。示されるように、板１２２０（および／またはその反射表面および／または偏光ビーム分割表面）は、板１２０５（および／またはその反射表面および／または偏光ビーム分割表面）と略平行である。板１２２０の表面１２２５、１２３０との光の相互作用は、半波長板１１４５を介して割り付けられる光を、集束レンズ１１０によってより小さい開口数１１２０およびより大きい開口数１１２５の中へ集束させられる成分に再分配する。
【００５５】
図１２Ｂは、図１２Ａのレーザシステム１２００に類似する、本発明の実施形態による例示的レーザシステム１２００を描写する。図１２Ｂのレーザシステム１２００では、実質的に光学的に透明な板１２０５、１２２０（および／またはそれらの反射表面および／または偏光ビーム分割表面）は、反対角度、すなわち、ゼロ度から同一の回転距離であるが反対方向の角度で配列される。そのような配列は、板を相互に対してより容易に構成させ、集束レンズ１１０に入射する光は、概して、元の入力ビーム１０５−１、１０５−２のものと同一の経路に沿って伝搬する。図１２Ａのレーザシステム１２００のように、入力ビーム１０５−１、１０５−２は、板１２０５に伝搬し、Ｓ成分およびＰ成分に分割され、半波長板１１４５に向かって反射する。半波長板１１４５の回転は、パワーをＳ成分およびＰ成分の間で割り付け、それらは次いで、反射体１２３５によって板１２２５に向かって反射される。図１２Ａのレーザシステム１２００のように、割り付けられたビームは、集束レンズ１１０によって、より小さい開口数１１２０およびより大きい開口数１１２５の中へ集束させられる。
【００５６】
図１２Ｃは、本発明の種々の実施形態による、類似レーザシステム１２００を描写する。示されるように、入力ビーム１０５は、板１２０５に向かって指向され、Ｓ成分およびＰ成分に分割され、Ｓ成分およびＰ成分は、反射体１２４０に反射され、そこから半波長板１１４５に反射される。半波長板１１４５の回転は、パワーをＳ成分およびＰ成分の間で割り付け、それらは次いで、反射体１２４５によって板１２２５に向かって反射される。図１２Ｃのレーザシステム１２００では、板１２０５、１２２０および／または反射体１２４０、１２４５は、反対角度で配置される。図１２Ａのレーザシステム１２００のように、割り付けられたビームは、集束レンズ１１０によって、より小さい開口数１１２０およびより大きい開口数１１２５の中へ集束させられる。
【００５７】
本明細書で採用される用語および表現は、限定ではなく、説明の観点として使用され、そのような用語および表現の使用において、図示および説明される特徴またはその一部の均等物のいずれかを除外する意図はなく、種々の修正が、請求される本発明の範囲内で可能であることを認識されたい。
【図１】
2018072854.tif 000004
【図２Ａ】
2018072854.tif 000005
【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2018072854.tif 000011
【図７】
2018072854.tif 000012
【図８】
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【図９Ａ】
2018072854.tif 000014
【図９Ｂ】
2018072854.tif 000015
【図９Ｃ】
2018072854.tif 000016
【図９Ｄ】
2018072854.tif 000017
【図９Ｅ】
2018072854.tif 000018
【図９Ｆ】
2018072854.tif 000019
【図９Ｇ】
2018072854.tif 000020
【図９Ｈ】
2018072854.tif 000021
【図９Ｉ】
2018072854.tif 000022
【図９Ｊ】
2018072854.tif 000023
【図１０】
2018072854.tif 000024
【図１１Ａ】
2018072854.tif 000025
【図１１Ｂ】
2018072854.tif 000026
【図１１Ｃ】
2018072854.tif 000027
【図１１Ｄ】
2018072854.tif 000028
【図１１Ｅ】
2018072854.tif 000029
【図１１Ｆ】
2018072854.tif 000030
【図１１Ｇ】
2018072854.tif 000031
【図１１Ｈ】
2018072854.tif 000032
【図１１Ｉ】
2018072854.tif 000033
【図１１Ｊ】
2018072854.tif 000034
【図１１Ｋ】
2018072854.tif 000035
【図１２Ａ】
2018072854.tif 000036
【図１２Ｂ】
2018072854.tif 000037
【図１２Ｃ】
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【手続補正書】
【提出日】平成30年2月13日(2018.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のビーム源から複数の放射ビームの空間分布を受け取って変更し、前記変更された空間分布を伴う前記放射ビームを光ファイバの端面上に集束させるためのビームパラメータ調節および集束システムであって、前記システムは、
反射表面と、前記反射表面の構造を変更するためのコントローラとを備える変形可能鏡と、
集束光学部と
を備え、前記変形可能鏡および前記集束光学部は、前記変形可能鏡が前記放射ビームを受け取り、前記集束光学部を通して前記端面上に前記放射ビームを指向するように配列され、前記コントローラは、標的放射パワー分布に応答し、前記標的放射パワー分布を伴って前記放射ビームを前記端面に集束させる鏡構造を生成するように構成されており、
前記変形可能鏡は、前記放射ビームの一部が前記光ファイバのクラッドの中へ集束するように操作される、システム。
【請求項２】
ビーム源から放射ビームの空間パワー分布を受け取って変更し、前記変更された空間パワー分布を伴う前記放射ビームを光ファイバの端面上に集束させるためのビームパラメータ調節および集束システムであって、前記システムは、
グラディエントインデックスレンズであって、前記レンズの光軸を通して一定であるが、前記光軸と垂直な方向で変動する屈折率を有するグラディエントインデックスレンズと、
前記レンズから生じるビームのウェストを変動させるように、前記レンズに歪みを導入するための手段と、
前記端面上で標的変更空間パワー分布を達成するように、前記歪み導入手段を制御するためのコントローラと
を備え、前記放射ビームの一部は、前記光ファイバのクラッドの中へ集束する、システム。
【請求項３】
前記歪み導入手段は、局所加熱器、前記レンズの中へ指向される放射源、前記レンズの光学性質を変更する音響光学変調器、または前記レンズの光学性質を変更する電気光学変調器のうちの少なくとも１つである、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記反射表面は、制御可能な位相誤差を前記放射ビームに導入し、前記位相誤差は、前記標的放射パワー分布を生成する、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
ビーム源から放射ビームの空間パワー分布を受け取って変更し、前記変更された空間パワー分布を伴う前記放射ビームを光ファイバの端面上に集束させるためのビームパラメータ調節および集束システムであって、前記システムは、
集束光学部と、
前記集束光学部から生じるビームのウェストを変動させるように、前記集束光学部に熱依存性歪みを導入するための加熱源と、
前記端面上で標的変更空間パワー分布を達成するように、前記加熱源を制御するためのコントローラと
を備え、前記放射ビームの一部は、前記光ファイバのクラッドの中へ集束する、システム。
【請求項６】
ビーム源から放射ビームの空間パワー分布を受け取って変更し、前記変更された空間パワー分布を伴う前記放射ビームを光ファイバの端面上に集束させるためのビームパラメータ調節および集束システムであって、前記システムは、
集束光学部と、
前記集束光学部から前記ファイバ端面の中へ放射を光学的に結合するファイバ端部キャップと、
前記集束光学部から生じるビームのウェストを変動させるように、前記ファイバ端部キャップに歪みを導入するための手段と、
前記端面上で標的変更空間パワー分布を達成するように、前記歪み導入手段を制御するためのコントローラと
を備え、前記放射ビームの一部は、前記光ファイバのクラッドの中へ集束する、システム。
【請求項７】
前記歪み導入手段は、局所加熱器、前記端部キャップの中へ指向される放射源、前記端部キャップの光学性質を変更する音響光学変調器、または前記端部キャップの光学性質を変更する電気光学変調器のうちの少なくとも１つである、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
ビーム源から放射ビームを受け取り、前記放射ビームを光ファイバの端面上に集束させるためのビームパラメータ調節および集束システムであって、前記システムは、
集束光学部と、
変更された空間パワー分布を伴って前記集束光学部から前記ファイバ端面の中へ放射を光学的に結合するためのグラディエントインデックスファイバのセグメントと
を備え、前記放射ビームの一部は、前記光ファイバのクラッドの中へ集束する、システム。
【請求項９】
複数の放射ビームの空間パワー分布を変更するためのビームパラメータ調節および集束システムであって、前記システムは、
放射ビームを放出するための複数のビーム源と、
前記ビーム源からの放射ビームを光ファイバの端面上に集束させるための集束光学部と、
前記端面上で標的空間パワー分布を達成するように、前記ビームの伝播経路を調節するためのビーム経路調節器と
を備え、前記ビーム経路調節器は、前記複数のビーム源と前記集束光学部との間に配置され、前記ビーム経路調節器は、前記ビームが前記集束光学部上に集束する空間位置を調節し、これにより、前記端面上に集束させられる前記ビームの入射角度を変動させる、システム。
【請求項１０】
前記ビームの前記伝播経路間の間隔は、前記ビームが前記集束光学部に入射する前に不変である、請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
前記ビーム経路調節器は、前記標的空間パワー分布を達成するように、前記ビーム源からの前記ビーム間の間隔を変更する、請求項９に記載のシステム。
【請求項１２】
前記ビーム経路調節器は、前記標的空間パワー分布を達成するように、前記集束光学部に対して前記ビームのうちの少なくともいくつかの伝播経路を調節する、請求項９に記載のシステム。
【請求項１３】
前記標的空間パワー分布を達成するように、前記ビームのうちの少なくとも１つのパワーを選択的に変更するための手段をさらに備える、請求項９に記載のシステム。
【外国語明細書】
2018072854000001.pdf