(57)【要約】      （修正有）【課題】移動防止壁によってカラムスペーサーの移動範囲が制限されることで、カラムスペーサーの移動によって液晶層の配向方向が変更されないようにして輝点不良を防止することができる液晶表示装置を提供する。【解決手段】第１基板と第２基板、前記第１基板上で複数の画素それぞれに備えられた画素電極６００、前記第１基板上に備えられた共通電極４００、共通電極４００に接続された補助ライン５００、前記第１基板と前記第２基板との間に備えられ、セルギャップを維持するカラムスペーサー８００、及びカラムスペーサー８００の移動範囲を制限するために、前記第１基板上に備えられ、前記補助ラインと離隔されている移動防止壁５５０ａ．５５０ｂを含む液晶表示装置を提供する。【選択図】図２
2018072824.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と第２基板;
前記第１基板上に備えられ、複数の画素を定義するように互いに交差配列されたゲートラインとデータライン;
前記第１基板上で前記複数の画素それぞれに備えられた画素電極;
前記第１基板上に備えられ、前記画素電極と共に電界を形成する共通電極;
前記共通電極の抵抗を減らすために、前記共通電極に接続された補助ライン;
前記第１基板と前記第２基板との間に備えられ、セルギャップを維持するカラムスペーサー;および
前記カラムスペーサーの移動範囲を制限するために、前記第１基板上に備えられた移動防止壁を備え、
前記移動防止壁は前記補助ラインと離隔されている液晶表示装置。
【請求項２】
前記移動防止壁が、前記補助ラインと同じ層上に備えられ、かつ、前記補助ラインと同じ材料で作られる請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記移動防止壁が、前記共通電極と連結されている請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記移動防止壁が、第１方向に延長され、互いに離隔されている第１移動防止壁および第２移動防止壁を含む請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記カラムスペーサーが、前記第１移動防止壁と前記第２移動防止壁の間に備えられている請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記第１基板上に備えられ、前記ゲートラインから延長されたゲート電極をさらに備え、
前記第１移動防止壁が前記ゲート電極と重畳し、前記第２移動防止壁は前記ゲートラインと重畳している請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記第１移動防止壁および第２移動防止壁が、前記ゲートラインと同じ方向に延長されていて、前記補助ラインは、前記データラインと同じ方向に延長されている請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記移動防止壁が、第２方向に延長される第３移動防止壁および第４移動防止壁をさらに含み、
前記第３移動防止壁が、前記第１移動防止壁の一端と前記第２移動防止壁の一端を連結し、前記第４移動防止壁は、前記第１移動防止壁の他端と前記第２移動防止壁の他端を連結する請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記第３移動防止壁と前記第４移動防止壁が、前記データラインと重畳しながら、前記データラインと同じ方向に延長されている請求項８に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記カラムスペーサーが、前記第１移動防止壁、前記第２移動防止壁、第３移動防止壁および第４移動防止壁の組み合わせによって供給された四角形構造内に備えられている請求項８に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記移動防止壁が備えられているそれぞれの画素が、前記移動防止壁が備えられていないそれぞれの画素よりも小さい開口率を有する請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記カラムスペーサーと隣接するそれぞれの画素が、前記カラムスペーサーと隣接していない画素よりも小さい開口率よりを有する請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記補助ラインが、前記ゲートライン及び前記データラインとそれぞれ重畳するよう備えられる請求項１に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関するものであり、より詳細には、液晶表示装置のセルギャップ（ｃｅｌｌ  ｇａｐ）を維持するためのカラムスペーサーに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、動作電圧が低く、消費電力が少なく、携帯用に用いることができるなどの利点から、ノートパソコン、モニター、宇宙船、および航空機などに至るまで、応用分野が広く多様である。
【０００３】
液晶表示装置は、薄膜トランジスタが形成された下部基板、カラーフィルタが形成された上部基板、及び前記下部基板と上部基板との間に形成された液晶層を含む。また、前記下部基板と上部基板との間のセルギャップ（ｃｅｌｌ  ｇａｐ）を維持するために前記下部基板と上部基板との間には、カラムスペーサーが形成される。
【０００４】
以下、図を参照して、従来の液晶表示装置について説明する。
【０００５】
図１は、従来の液晶表示装置の概略的な断面図である。
【０００６】
図１に示すように、従来の液晶表示装置は、下部基板１０、上部基板２０、液晶層３０、およびカラムスペーサー４０ａ、４０ｂを含む。
【０００７】
図示しないが、前記下部基板１０上には、薄膜トランジスタと画素電極が形成され、前記上部基板２０上には、カラーフィルタが形成される。
【０００８】
前記液晶層３０は、前記下部基板１０と、上部基板２０との間に形成されている。
【０００９】
前記カラムスペーサー４０ａ、４０ｂは、前記下部基板１０と、上部基板２０との間に形成され、前記下部基板１０と、上部基板２０との間のセルギャップ（ｃｅｌｌ  ｇａｐ）を維持する。
【００１０】
前記カラムスペーサー４０ａ、４０ｂは、メインカラムスペーサー４０ａと補助カラムスペーサー４０ｂを含む。
【００１１】
前記メインカラムスペーサー４０ａは、前記下部基板１０と前記上部基板２０のそれぞれに接触し、前記補助カラムスペーサー４０ｂは、前記上部基板２０にのみ接触する。前記メインカラムスペーサー４０ａは、セルギャップの高さに形成される一方で、前記補助カラムスペーサー４０ｂは、セルギャップより小さい高さに形成される。
【００１２】
液晶表示装置を製造するためには、セルギャップ（ｃｅｌｌ  ｇａｐ）を考慮して、前記液晶層３０を構成する液晶量を設定することになるが、場合によっては、設定した液晶量に微差が発生して前記液晶層３０の未充填または過充填が発生することがある。
【００１３】
前記補助カラムスペーサー４０ｂは、前記セルギャップより低い高さに形成されているので、前記液晶層３０の未充填または過充填が発生した場合に、前記セルギャップをより効果的に調節することができる。また、前記補助カラムスペーサー４０ｂは、液晶表示装置に圧力が加えられたときに、前記メインカラムスペーサー４０ａを補助してセルギャップが崩れるのを防止する役割も果たしている。
【００１４】
このような従来の液晶表示装置は、次のような欠点がある。
【００１５】
前記カラムスペーサー４０ａ、４０ｂは、前記上部基板２０には、固定されているが、前記下部基板１０には、固定されていない。したがって、外部の力が、前記液晶表示装置に加わると、前記カラムスペーサー４０ａ、４０ｂが、外部の力によって移動することになり、カラムスペーサー４０ａ、４０ｂの移動によって液晶層３０の配向が破損することが起こり得る。結局、前記液晶層３０の配向方向が調整されなくなって輝点不良などの問題が発生する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
本発明は、前述した従来の問題点を解決するために考案されたものであり、本発明は、外部の力によってカラムスペーサーが移動するときに、前記カラムスペーサーの移動範囲を制限することにより、前記液晶層３０の配向方向が変更されないようにして輝点不良を防止することができる液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明は、前記目的を達成するために、第１基板と第２基板、前記第１基板上で複数の画素それぞれに備えられた画素電極、前記第１基板上に備えられた共通電極、前記共通電極に接続された補助ライン、前記第１基板と前記第２基板との間に備えられ、セルギャップを維持するカラムスペーサー、及び前記カラムスペーサーの移動範囲を制限するために、前記第１基板上に備えられ、前記補助ラインと離隔されている移動防止壁を備える液晶表示装置を提供する。
【発明の効果】
【００１８】
以上のような本発明によれば、次のような効果がある。
【００１９】
本発明の一実施例によると、移動防止壁が備えられることで、カラムスペーサーの移動範囲が制限され得る。したがって、前記カラムスペーサの移動によって液晶層の配向方向が変更されず、それによって、液晶表示装置の輝点不良を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】従来の液晶表示装置の概略的な断面図である。
【図２】本発明の一実施例に係る液晶表示装置の平面図である。
【図３】本発明の一実施例に係る液晶表示装置の断面図であって、これは、図２のＡ−Ｂラインの断面に対応するものである。
【図４】本発明の一実施例に係る液晶表示装置の断面図であって、これは、図２のＣ−Ｄラインの断面に対応するものである。
【図５】本発明の他の実施例に係る液晶表示装置の平面図である。
【図６】本発明のまた他の実施例に係る液晶表示装置の平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本発明の利点および特徴、そしてそれらを達成する方法は、添付の図と共に詳細に後述されている実施例を参照すると明確になるだろう。しかし、本発明は、以下で開示される実施例に限定されるものではなく、異なる多様な形態で具現され得るものであり、単に本実施例は、本発明の開示が完全になるようにして、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供されるものであり、本発明は、請求項の範疇によって定義されるだけである。
【００２２】
本発明の実施例を説明するための図で開示された形状、大きさ、比率、角度、個数などは例示的なものなので、本発明は、図示された事項に限定されるものではない。明細書全体にわたって同一参照符号は同一の構成要素を指す。また、本発明を説明するにおいて、関連する公知技術に対する具体的な説明が本発明の要旨を不必要に曖昧にすると判断された場合は、その詳細な説明は省略する。本明細書で言及した「〜からなる」、「有する」、「含む」などが使用されている場合は、「〜だけ」が使用されていない限り、他の部分が追加され得る。構成要素を単数で表現した場合に特に明示的な記載事項がない限り、複数を含む場合を含む。
【００２３】
構成要素を解釈するにおいて、別個の明示的な記載がなくても誤差の範囲を含むものと解釈する。
【００２４】
位置関係の説明である場合には、例えば、「〜の上に」、「〜の上部に」、「〜の下部に」、「〜の隣に」など２つの部分の位置関係が説明されている場合は、「すぐ」または「直接」が使用されていない限り、二つの部分の間に１つ以上の他の部分が位置することもできる。
【００２５】
時間の関係に対する説明である場合には、例えば、「〜の後に」、「〜に続いて 」、「〜の次に」、「〜の前に」などで時間的前後関係が説明されている場合は、「すぐ」または「直接」が使用されていない以上、連続していない場合も含むことができる。
【００２６】
第１、第２などが多様な構成要素を叙述するために使用されるが、これらの構成要素はこれらの用語によって制限されない。これらの用語は、ただ一つの構成要素を他の構成要素と区別するために使用されるものである。したがって、以下で言及されている第１構成要素は、本発明の技術的思想内で第２構成要素であることもある。
【００２７】
本発明のいくつかの実施例のそれぞれの特徴が、部分的または全体的に互いに結合または組み合わせが可能で、技術的に様々な連動および駆動が可能であり、各実施例が互いに独立して実施可能であることもあり、関連関係で一緒に実施することもできる。
【００２８】
以下、図を参照して、本発明の好ましい実施例について詳細に説明する。
【００２９】
図２は、本発明の一実施例に係る液晶表示装置の平面図である。
【００３０】
図２に示すように、本発明の一実施例に係る液晶表示装置は、ゲートライン２００、データライン３００、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、共通電極４００、補助ライン５００、移動防止壁５５０ａ、５５０ｂ、画素電極６００、およびカラムスペーサー８００を含む。便宜上、前記薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）と画素電極６００を一つの画素（Ｐ）のみを示した。
【００３１】
前記ゲートライン２００は、第１方向、例として横方向に配列されていて、前記データライン３００は、前記第１方向と異なる第２方向、例として、縦方向に配列されている。前記ゲートライン２００と、前記データライン３００が互いに交差配列された複数個の画素（Ｐ）が定義される。図には、前記データライン３００がまっすぐ直線に配列された様子を示したが、必ずしもそれに限定されるものではなく、ジグザグ形態のように曲がった直線で配列することもできる。
【００３２】
前記薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）は、スイッチング素子として前記複数個の画素（Ｐ）のそれぞれに形成されている。前記薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）は、ゲート電極２１０、半導体層（図示せず）、ソース電極３００ａ、及びドレイン電極３２０を含む。
【００３３】
前記ゲート電極２１０は、前記ゲートライン２００から突出している。ただし、必ずしもそれに限定されるものではなく、別途の突出構造が形成されず、前記ゲートライン２００の一部が、ゲート電極２１０として機能するように構成することもできる。
【００３４】
前記半導体層（図示せず）は、電子が移動するチャネルとして機能するものであり、前記ゲート電極２１０と、前記ソース電極３００ａ／ドレイン電極３２０の間の層に形成される。
【００３５】
前記ソース電極３００ａは、前記データライン３００の一部として構成されている。ただし、必ずしもそれに限定されるものではなく、前記のソース電極３００ａは、前記データライン３００から突出するように構成することもできる。
【００３６】
前記ドレイン電極３２０は、前記ソース電極３００ａと向かい合いながら、前記のソース電極３００ａと離隔されている。
【００３７】
前記共通電極４００は、コンタクトホール（ＣＨ）領域を除いて、基板上に全体的に形成することができる。ただし、必ずしもそれに限定されるものではなく、前記共通電極４００は、使用者のタッチをセンシングするためのセンシング電極として機能するように構成され得、その場合には、複数の共通電極４００のそれぞれが所定数の画素（Ｐ）に対応するサイズを有しながら互いに離隔するようにパターン形成することができる。このような共通電極４００は、前記画素電極６００とともに電界を形成して液晶層の配向方向を調節することができる。
【００３８】
前記補助ライン５００は、前記共通電極４００と接するように形成され、前記共通電極４００の抵抗を減らす役割をする。前記共通電極４００は、画素（Ｐ）の領域に形成されるので、抵抗が大きい透明な導電性物質を用いて形成することになり、前述したように、基板上に全体的に形成されるため、抵抗を減らす必要がある。したがって、前記補助ライン５００を、前記共通電極４００に接続して、前記共通電極４００の抵抗を減らすことになる。このような補助ライン５００は、抵抗が小さい金属材料で作られる。前記補助ライン５００によって開口率が低下することを防止するために前記補助ライン５００は、前記データライン３００と重畳するように形成される。より詳細には、前記補助ライン５００は、前記データライン３００と、重畳しながら、前記データライン３００と同様に、第２方向に配列されている。
【００３９】
また、前記共通電極４００が、前述したように、センシング電極として機能するように構成された場合、前記補助ライン５００は、前記共通電極４００とセンシング部との間を接続するためのセンシングラインとして機能するように構成することができる。
【００４０】
前記移動防止壁５５０ａ、５５０ｂは、前記カラムスペーサー８００の移動を防止する役割をする。使用者の指等により外部の力が加わると、前記カラムスペーサー８００が移動することがあり得るが、ここで、前記移動防止壁５５０ａ、５５０ｂによって、前記カラムスペーサー８００の移動範囲が制限される。このように、前記カラムスペーサー８００の移動範囲が制限されることで、液晶層の配向方向が変更されず、それによって、液晶表示装置の輝点不良を防止することができる。
【００４１】
前記移動防止壁５５０ａ、５５０ｂは、互いに向かい合って延長された第１移動防止壁５５０ａ及び第２移動防止壁５５０ｂを含む。
【００４２】
前記第１移動防止壁５５０ａと前記第２移動防止壁５５０ｂは、前記ゲートライン２００と同じ第１方向に延長されている。特に、前記第１移動防止壁５５０ａは、相対的に上方から前記ゲート電極２１０と重畳されており、前記第２移動防止壁５５０ｂは、相対的に下方から前記ゲートライン２００と重畳されている。したがって、前記カラムスペーサー８００が、前記第１移動防止壁５５０ａと前記第２移動防止壁５５０ｂとの間に位置するようになり、前記カラムスペーサー８００が上下に移動する場合、前記第１移動防止壁５５０ａまたは前記第２移動防止壁５５０ｂにより、その移動範囲が制限され得る。
【００４３】
前記移動防止壁５５０ａ、５５０ｂは、前記補助ライン５００と同一の材料で、同じ工程を通じて同一層上に形成することができる。すなわち、前記移動防止壁５５０ａ、５５０ｂは、抵抗が低い金属材料で作られ、前記共通電極４００と接触している。したがって、前記移動防止壁５５０ａ、５５０ｂは、前記共通電極４００の抵抗を下げる役割もある。前記移動防止壁５５０ａ、５５０ｂが、前記補助ライン５００と同じ工程を通じて形成され得るので、前記移動防止壁５５０ａ、５５０ｂのために、別途の追加工程を必要としない。
【００４４】
前記移動防止壁５５０ａ、５５０ｂは、前記補助ライン５００と接しないように形成される。前記移動防止壁５５０ａ、５５０ｂは、前記カラムスペーサー８００に重畳されるいずれか一つのデータライン３００、及び、前記いずれか一つのデータライン３００と隣接する左右のデータライン３００と重畳するよう形成することができ、したがって、前記移動防止壁５５０ａ、５５０ｂは、３つのデータライン３００と重畳するように形成され得るが、必ずしもそれに限定されるものではない。また、前記補助ライン５００は、前記移動防止壁５５０ａ、５５０ｂと重畳するデータライン３００とは、重畳しないように形成され、そのため、前記補助ライン５００は、前記移動防止壁５５０ａ、５５０ｂと接しない。
【００４５】
このように、前記移動防止壁５５０ａ、５５０ｂが、前記補助ライン５００と接することなく、島（ｉｓｌａｎｄ）構造に形成されることで、前記移動防止壁５５０ａ、５５０ｂによって開口率が減少する問題を軽減することができる。詳細に説明すると、前記移動防止壁５５０ａ、５５０ｂが形成されている画素（Ｐ）は、前記移動防止壁５５０ａ、５５０ｂによって開口率が減少し得る。すなわち、前記移動防止壁５５０ａ、５５０ｂが形成されている画素（Ｐ）の開口率は、前記の移動防止壁５５０ａ、５５０ｂが形成されていない画素（Ｐ）の開口率よりも小さい。本明細書で画素（Ｐ）の開口率というのは、画素（Ｐ）の全体領域の中で光が透過する領域の割合を意味する。したがって、前記の移動防止壁５５０ａ、５５０ｂの長さを減らして、前記移動防止壁５５０ａ、５５０ｂが形成されない画素（Ｐ）を増加させる場合、開口率を向上させることができる。このように開口率を向上させるために、前記の移動防止壁５５０ａ、５５０ｂは、３つ以下のデータライン３００と重畳するように形成することが好ましい。
【００４６】
前記画素電極６００は、前記複数の画素（Ｐ）のそれぞれに形成されている。前記画素電極６００は、前記薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）のドレイン電極３２０と接続されている。前記画素電極６００は、複数のスリットを備えたフィンガー（ｆｉｎｇｅｒ）構造で形成することができる。この場合は、フィンガー構造の画素電極６００と板（ｐｌａｔｅ）構造の前記共通電極４００との間で生成されるフリンジフィールド（ｆｒｉｎｇｅ  ｆｉｅｌｄ）によって液晶層の配向方向を制御することができる。
【００４７】
前記カラムスペーサー８００は、第１基板と第２基板との間のセルギャップ（ｃｅｌｌ  ｇａｐ）を維持する役割をする。前記カラムスペーサー８００によって開口率が減少することを防止するために、前記カラムスペーサー８００を、前記データライン３００と重畳するように形成する。また、前記カラムスペーサー８００を、図に示されたように、ゲート電極２１０と重畳するように形成することができる。ただし、場合に応じて、前記カラムスペーサー８００をゲートライン２００と重畳するように形成することもできる。
【００４８】
前記カラムスペーサー８００の上側と下側には、移動防止壁５５０ａ、５５０ｂが形成されていて、前記カラムスペーサー８００の移動範囲を制限することができる。前記カラムスペーサー８００と隣接する画素（Ｐ）、より詳細には、前記カラムスペーサー８００を中心に上側の左右２つの画素（Ｐ）と下側の左右２つの画素（Ｐ）のそれぞれの開口率は、前記カラムスペーサー８００と隣接していない画素（Ｐ）の開口率よりも小さくなるが、これは前記の移動防止壁５５０ａ、５５０ｂによるものであることは前述した通りである。
【００４９】
前記第１移動防止壁５５０ａと前記第２移動防止壁５５０ｂとの間に位置するカラムスペーサー８００は、メインカラムスペーサーからなることもあり補助カラムスペーサーからなることもある。
【００５０】
前記メインカラムスペーサーは、下部の第１基板と上部の第２基板のそれぞれに接触するように形成され、前記補助カラムスペーサーは下部の第１基板とは接触せず、上部の第２基板のみに接触する。前記メインカラムスペーサーは、セルギャップの高さに形成してセルギャップを維持する役割をし、前記補助カラムスペーサーはセルギャップよりも小さい高さに形成し、液晶層の未充填や過充填が発生した場合に、前記セルギャップをより効果的に調節できるようにし、また、液晶表示装置に過度の圧力がかかると、前記メインカラムスペーサーを補助してセルギャップが崩れるのを防止する。
【００５１】
図３は、本発明の一実施例に係る液晶表示装置の断面図であって、これは、図２のＡ−Ｂラインの断面に対応するものである。すなわち、図３は、カラムスペーサー８００と重畳しているデータライン３００領域の断面図である。
【００５２】
図３に示すように、本発明の一実施例に係る液晶表示装置は、第１基板１００、第２基板７００、及び前記第１基板１００と第２基板７００の間に形成されたカラムスペーサー８００と液晶層９００を含む。
【００５３】
前記第２基板７００と向き合う前記第１基板１００の一面上には、ゲート電極２１０および前記ゲート電極２１０と一体に備えられたゲートライン２００が形成されている。
【００５４】
前記ゲート電極２１０および前記ゲートライン２００上には、ゲート絶縁膜２２０が形成されていて、前記ゲート絶縁膜２２０上には、半導体層２３０が形成されている。前記ゲート絶縁膜２２０は、シリコン酸化物またはシリコン窒化物などの無機絶縁材料で作られることができ、前記半導体層２３０は、シリコン系半導体材料または酸化物半導体材料で作られることができる。
【００５５】
前記半導体層２３０上には、ソース電極３００ａ及び前記ソース電極３００ａと一体に備えられたデータライン３００が形成されている。
【００５６】
前記ソース電極３００ａおよびデータライン３００上には、パッシベーション層３５０が形成されていて、前記パッシベーション層３５０上には、平坦化層３８０が形成されている。
【００５７】
前記パッシベーション層３５０は、シリコン酸化物またはシリコン窒化物などの無機絶縁材料で作られることができ、前記平坦化層３８０は、アクリルのような有機絶縁材料で作られることができる。
【００５８】
前記平坦化層３８０上には、共通電極４００が形成されていて、前記共通電極４００上には、移動防止壁５５０ａ、５５０ｂが形成されている。前記移動防止壁５５０ａ、５５０ｂは、互いに離隔している第１移動防止壁５５０ａ及び第２移動防止壁５５０ｂからなる。前記第１移動防止壁５５０ａは、前記ゲート電極２１０と重畳し、前記第２移動防止壁５５０ｂは、前記ゲートライン２００と重畳している。
【００５９】
前記移動防止壁５５０ａ、５５０ｂ上には、層間絶縁膜５８０が形成されている。前記層間絶縁膜５８０は、シリコン酸化物またはシリコン窒化物などの無機絶縁材料で作られることができる。図に示されていないが、前記層間絶縁膜５８０上には、画素電極が形成され、これは後述する図４を参照すると分かる。
【００６０】
前記第１基板１００と向き合う前記第２基板７００の一面上には、遮光層７１０が形成されていて、前記遮光層７１０上には、オーバーコート層７３０が形成されている。図に示されていないが、前記遮光層７１０と、前記オーバーコート層７３０との間には、カラーフィルタが形成され、これは後述する図４を参照すると分かる。
【００６１】
前記カラムスペーサー８００は、前記第１基板１００と第２基板７００との間に形成されている。前記カラムスペーサー８００は、前記第１基板１００上の層間絶縁膜５８０及び前記第２基板７００のオーバーコート層７３０と接している。特に、前記カラムスペーサー８００は、前記第２基板７００のオーバーコート層７３０に固定されていて、前記第１基板１００上の層間絶縁膜５８０には、固定されていない。したがって、外力によって前記カラムスペーサー８００の下端は動くことができる。一方、前記第１基板１００と第２の基板７００のそれぞれには、液晶の初期配向のための配向膜が形成され、その結果、より正確には、前記カラムスペーサー８００は、前記配向膜と接する。
【００６２】
前記カラムスペーサー８００は、前記第１移動防止壁５５０ａ及び前記第２移動防止壁５５０ｂとの間の領域に形成されている。すなわち、前記カラムスペーサー８００の一つの側に前記第１移動防止壁５５０ａが形成され、前記カラムスペーサー８００の他の側に前記第２移動防止壁５５０ｂが形成される。したがって、前記第１移動防止壁５５０ａ及び前記第２移動防止壁５５０ｂによって前記カラムスペーサー８００の動きが制限され得る。
【００６３】
前記液晶層９００は、第１基板１００と第２基板７００との間に形成され、図に示されていないシーラントによって密封されている。
【００６４】
図４は、本発明の一実施例に係る液晶表示装置の断面図であって、これは、図２のＣ−Ｄラインの断面に対応するものである。すなわち、図４は、薄膜トランジスタ（Ｔ）を含む画素（Ｐ）の領域の断面を示している。
【００６５】
図４に示すように、本発明の一実施例に係る液晶表示装置は、第１基板１００、第２基板７００、及び前記第１基板１００と第２基板７００の間に形成されたカラムスペーサー８００と液晶層９００を含む。
【００６６】
前記第２基板７００と向き合う前記第１基板１００の一面上には、ゲート電極２１０が形成されていて、前記ゲート電極２１０上には、ゲート絶縁膜２２０が形成されていて、前記ゲート絶縁膜２２０上には、半導体層２３０が形成されている。
【００６７】
前記半導体層２３０上には、ソース電極３００ａおよびドレイン電極３２０が互いに離隔するように形成されている。また、前記半導体層２３０が形成されていない画素（Ｐ）の内部の前記ゲート絶縁膜２２０上には、データライン３００が形成されている。
【００６８】
前記ソース電極３００ａ、ドレイン電極３２０、及び前記データライン３００上には、パッシベーション層３５０が形成されていて、前記パッシベーション層３５０上には、平坦化層３８０が形成されている。
【００６９】
前記平坦化層３８０上には、共通電極４００が形成されていて、前記共通電極４００上には、移動防止壁５５０ａが形成されている。また、前記共通電極４００上には、前記移動防止壁５５０ａと離隔するように補助ライン５００が形成されている。前記補助ライン５００は、前記データライン３００と重畳するように形成される。
【００７０】
前記移動防止壁５５０ａおよび前記補助ライン５００上には、層間絶縁膜５８０が形成されていて、前記層間絶縁膜５８０上には画素電極６００が形成されている。
【００７１】
前記パッシベーション層３５０、前記平坦化層３８０及び前記層間絶縁膜５８０には、コンタクトホール（ＣＨ）が形成されていて、前記コンタクトホール（ＣＨ）を介してドレイン電極３２０が露出し、前記画素電極６００は、前記コンタクトホール（ＣＨ）を介して前記ドレイン電極３２０と接続される。前記画素電極６００が、前記コンタクトホール（ＣＨ）の内部に延長されたとき、前記共通電極４００とショートが発生することを防止するために、前記共通電極４００は、前記コンタクトホール（ＣＨ）領域で、前記コンタクトホール（ＣＨ）よりも大きいサイズのホールを備えている。
【００７２】
前記画素電極６００は、複数のスリット（ｓｌｉｔ）を備え、パターン形成されている。したがって、前記スリットを介して画素電極６００と、前記共通電極４００との間にフリンジフィールドが形成される。
【００７３】
前記第１基板１００と向き合う前記第２基板７００の一面上には、遮光層７１０がパターン形成されていて、前記遮光層７１０上には、カラーフィルタ７２０がパターン形成されていて、前記カラーフィルタ７２０上には、オーバーコート層７３０が形成されている。
【００７４】
前記カラムスペーサー８００は、前記第１基板１００と第２基板７００との間に形成されている。特に、前記カラムスペーサー８００は、前記第１基板１００上のソース電極３００ａとオーバーラップするように形成される。
【００７５】
前記液晶層９００は、第１基板１００と第２基板７００との間に形成され、前記画素電極６００と、前記共通電極４００との間に形成されたフリンジフィールドによって、その配向方向が調整される。
【００７６】
図５は、本発明の他の実施例による液晶表示装置の平面図であり、これは移動防止壁５５０ａ、５５０ｂ、５５０ｃ、５５０ｄの構成が変更されたことを除いて、前述した図２による液晶表示装置と同一である。したがって、同一の構成に対して同一の符号を付与し、以下では、異なる構成に対してのみ説明する。
【００７７】
図２によると、移動防止壁５５０ａ、５５０ｂがゲートライン２００と平行に第１方向に配列され、互いに離隔した第１移動防止壁５５０ａ及び第２移動防止壁５５０ｂで構成されている。
【００７８】
それに対して、図５によると、移動防止壁５５０ａ、５５０ｂが、前記第１移動防止壁５５０ａと第２移動防止壁５５０ｂに加えて、データライン３００と平行に第２方向に配列された第３移動防止壁５５０ｃと第４移動防止壁５５０ｄをさらに含んでいる。
【００７９】
前記第３移動防止壁５５０ｃと第４移動防止壁５５０ｄは、前記データライン３００と重畳するように形成され、したがって、前記第３移動防止壁５５０ｃと第４移動防止壁５５０ｄによる開口率の低下を軽減することができる。前記第３移動防止壁５５０ｃは、前記第１移動防止壁５５０ａの一端と前記第２移動防止壁５５０ｂの一端を連結し、前記第４移動防止壁５５０ｄは、前記第１移動防止壁５５０ａの他端と前記第２移動防止壁５５０ｂの他端を連結する。
【００８０】
したがって、前記第１移動防止壁５５０ａ、第２移動防止壁５５０ｂ、第３移動防止壁５５０ｃ、及び前記第４移動防止壁５５０ｄの組み合わせによって、四角形構造の移動防止壁５５０ａ、５５０ｂ、５５０ｃ、５５０ｄが構成される。結局、カラムスペーサー８００が、前記長方形構造の移動防止壁５５０ａ、５５０ｂ、５５０ｃ、５５０ｄの内部に閉じ込められ、上下方向と左右方向への動きが制限され得る。この場合に、前記移動防止壁５５０ａ、５５０ｂ、５５０ｃ、５５０ｄは、補助ライン５００とは離隔している。
【００８１】
図６は、本発明のまた他の実施例に係る液晶表示装置の平面図であり、これは補助ライン５００の構成が変更されたことを除いて、前述した図２による液晶表示装置と同一である。したがって、同一の構成に対して同一の符号を付与し、以下では、異なる構成に対してのみ説明する。
【００８２】
図２によると、補助ライン５００が、データライン３００と、重畳しながらデータライン３００と平行に第２方向に配列されている。
【００８３】
それに対して、図６によると、補助ライン５００が、データライン３００およびゲートライン２００と重畳しながら、第１方向及び第２方向に配列されていて、それにより、共通電極４００の抵抗をさらに減らすことができる。この場合にも、前記補助ライン５００は、移動防止壁５５０ａ、５５０ｂとは離隔している。
【００８４】
また、図に示していないが、図６の構造に図５による移動防止壁５５０ａ、５５０ｂ、５５０ｃ、５５０ｄを備えることも可能である。
【００８５】
以上、添付の図を参照して、本発明の実施例をさらに詳細に説明したが、本発明は、必ずしもこのような実施例に限定されるものではなく、本発明の技術思想を逸脱しない範囲内で多様に変形実施することができる。したがって、本発明に開示された実施例は、本発明の技術思想を限定するためのものではなく説明するためのものであり、このような実施例により、本発明の技術思想の範囲が限定されるものではない。したがって、以上で記述した実施例は、すべての面で例示的なものであり限定的ではないと理解されなければならない。本発明の保護範囲は、特許請求の範囲によって解釈されなければならず、その同等の範囲内にあるすべての技術思想は、本発明の権利範囲に含まれるものと解釈されなければならない。
【符号の説明】
【００８６】
１００：第１基板
２００：ゲートライン
２１０：ゲート電極
３００：データライン
３００ａ：ソース電極
３２０：ドレイン電極
４００：共通電極
５５０ａ、５５０ｂ、５５０ｃ、５５０ｄ：移動防止壁
６００：画素電極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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