(57)【要約】      （修正有）【課題】高温に長期間曝された場合であっても、「骨見え故障」が抑制される、タッチパネル等に好適な、ポリアリレートを含むフィルムを提供する。【解決手段】ポリアリレートと、水酸基を表面に有する、水酸基含有無機粒子と、を含む、フィルムであって、前記フィルムの総質量に対して０質量％超１質量％以下の水素結合性溶媒を含み、１３０℃で３００分加熱した後における厚み方向位相差（Ｒｔｈ）が６０ｎｍ以下である、フィルム。水酸基含有無機粒子がシリカ、アルミナ、酸化チタン、又はセリアから選択される以上であり、その表面の少なくとも１部がベンゼン環を有する表面処理層を有する、フィルム。水素結合性溶媒がアルコールであることが好ましい、フィルム。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリアリレートと、
水酸基を表面に有する、水酸基含有無機粒子と、
を含む、フィルムであって、
前記フィルムの総質量に対して０質量％超１質量％以下の水素結合性溶媒を含み、
１３０℃で３００分加熱した後における厚み方向位相差（Ｒｔｈ）が６０ｎｍ以下である、フィルム。
【請求項２】
前記水素結合性溶媒が、アルコールである、請求項１に記載のフィルム。
【請求項３】
前記水酸基含有無機粒子が、シリカ、アルミナ、酸化チタンおよびセリアからなる群から選択される少なくとも１種である、請求項１または２に記載のフィルム。
【請求項４】
前記水酸基含有無機粒子の表面の少なくとも一部が、表面処理層を有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載のフィルム。
【請求項５】
前記表面処理層が、ベンゼン環を有する、請求項４に記載のフィルム。
【請求項６】
ポリアリレートと、水酸基を表面に有する水酸基含有無機粒子と、水素結合性溶媒とを混合することを有して、ドープを得る工程と；
前記ドープを流延することを有して、膜状物を得る工程と；
前記膜状物を乾燥することを有し、フィルム中の前記水素結合性溶媒が０質量％超１質量％以下となるように乾燥する、乾燥工程と；
を有する、フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記乾燥工程における乾燥温度が、７０〜１１０℃であり、かつ、乾燥時間が３〜２０分である、請求項６に記載の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜５のいずれか１項に記載のフィルムと、導電層とを含む、電極。
【請求項９】
請求項６または７に記載の製造方法によってフィルムを得、前記フィルム上に導電層を形成することを有する、電極の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
スマートフォンやタブレット端末のタッチパネル等には、フィルム上に導電層が形成された、電極が使用されうる。
【０００３】
ここでフィルムとしては、軽量化、薄膜化、割れ難さの観点等から、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）等が使用されることが一般的である（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１４−６７１８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、スマートフォンやタブレット端末には、夏場等の高温下で快適に使用できるようにするため、耐熱性が求められる。そこで、フィルムとして、耐熱性を有するポリアリレートの使用が期待される。
【０００６】
しかし、ポリアリレートを電極のフィルムとしてスマートフォンやタブレット端末に適用した場合、高温に曝される時間が長くなると、いわゆる「骨見え故障」が顕著になることが分かった。
【０００７】
そこで、本発明が解決しようとする課題は、高温に長期間曝された場合であっても、「骨見え故障」が抑制される、ポリアリレートを含むフィルムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は、上記の課題を解決すべく、鋭意研究を行った。その過程で、ポリアリレートを含むフィルムを基材として使用したときの「骨見え故障」の特徴について着目した。
【０００９】
「骨見え故障」は、フィルムの屈折率と、導電層の屈折率との差が大きくなると生じる現象と言われている。しかし、このポリアリレートを含むフィルムは、長期間高温で使用されると、フィルムに干渉ムラが発生し、それが「骨見え故障」を際立たせることが分かった。
【００１０】
この干渉ムラ発生の原因究明を行う過程で、フィルム中に通常含有されうるマット材に注目した。フィルム中に含有されるマット材は、普通、無機粒子であり、水酸基をその表面に有していることが多い。
【００１１】
本発明者は、推測ではあるが、この無機粒子の水酸基が、ポリアリレートのエステル部位における芳香族ジオール由来の酸素原子に作用し、これがポリアリレートの配向（結晶化）を促す結晶核剤として作用しているのではないかと考えた。そこで、フィルム中に少量の水素結合性溶媒を含有させて無機粒子を被覆すれば（つまり、無機粒子の水酸基に水素結合性溶媒を水素結合によって結合させれば）、無機粒子が結晶核剤として作用することを阻害させることができるのではないかと考えた。そこで試したところ、高温に長期間曝された場合であっても「骨見え故障」を抑制することに成功し、本発明が完成した。
【００１２】
すなわち、本発明は、ポリアリレートと、水酸基を表面に有する、水酸基含有無機粒子と、を含む、フィルムであって、前記フィルムの総質量に対して０質量％超１質量％以下の水素結合性溶媒を含み、１３０℃で３００分加熱した後における厚み方向位相差（Ｒｔｈ）が６０ｎｍ以下である、フィルムである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、高温に長期間曝された場合であっても、「骨見え故障」が抑制される、ポリアリレートを含むフィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】フィルムの製造装置の一例を示す模式図である。
【図２】透明導電フィルムの構成の一例を示す概略断面図である。
【図３】透明導電フィルムの構成の一例を含んだタッチパネル部材の概略断面図である。
【図４】タッチパネルの構成の一例を含んだ表示装置の概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明を説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態のみには限定されない。また、本明細書において、範囲を示す「Ｘ〜Ｙ」は「Ｘ以上Ｙ以下」を意味する。また、特記しない限り、操作および物性等の測定は室温（２０〜２５℃）／相対湿度４０〜５０％ＲＨの条件で測定する。
【００１６】
＜フィルム＞
本発明のフィルムは、ポリアリレートと、水酸基を表面に有する、水酸基含有無機粒子と、を含む、フィルムであって、前記フィルムの総質量に対して０質量％超１質量％以下の水素結合性溶媒を含み、１３０℃で３００分加熱した後における厚み方向位相差（Ｒｔｈ）が６０ｎｍ以下である。かかる構成によって、ポリアリレートフィルムが、高温に長期間曝された場合であっても、「骨見え故障」が抑制される。
【００１７】
なお、本願において「骨見え故障」とは、導電層が形成されたフィルム表面上には、電極が存在する領域と、電極が存在しない領域とがあり、それによって、導電層のパターン形状が見えてしまう現象を言う。
【００１８】
（ポリアリレート）
本発明のフィルムの主成分であるポリアリレートは、芳香族ジオール成分単位と、芳香族ジカルボン酸成分単位とを含む。
【００１９】
（芳香族ジオール成分単位）
芳香族ジオール成分単位を得るための芳香族ジオールは、好ましくは下記一般式（１）で表される構造を有するビスフェノール類、より好ましくは下記一般式（１’）で表される構造を有するビスフェノール類である。
【００２０】
【化１】
2018131483.tif 000002
【００２１】
一般式（１）及び一般式（１’）のＬは、二価の有機基を表す。二価の有機基は、好ましくは単結合、アルキレン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−、−ＣＲ１Ｒ２−（Ｒ１とＲ２は互いに結合して脂肪族環又は芳香族環を形成する）、または、アルキレン−アリーレン−アルキレン基である。好ましくは、機械特性の観点で、−ＣＲ１Ｒ２−（Ｒ１とＲ２は互いに結合して脂肪族環又は芳香族環を形成する）、または、アルキレン−アリーレン−アルキレン基である。
【００２２】
アルキレン基は、好ましくは炭素数１〜１０のアルキレン基であり、その例には、メチレン基、エチレン基、イソプロピレン基等が含まれる。なお、アルキレン基は、ハロゲン原子やアリール基等の置換基をさらに有してもよい。また、アリーレン基は、好ましくはフェニレン基、ナフタニレン基などが挙げられる。アリーレン基も同様に、ハロゲン原子やアリール基等の置換基をさらに有してもよい。
【００２３】
一般式（１）及び一般式（１’）のＲは、それぞれ独立して置換基を表す。ｎは、それぞれ独立して０〜４の整数を表し、好ましくは０〜３の整数である。Ｒは、それぞれ独立して炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数６〜１０のアリール基であることが好ましい。
【００２４】
一般式（１）及び一般式（１’）の−ＣＲ１Ｒ２−のＲ１及びＲ２が、脂肪族環を形成する場合、脂肪族環は、好ましくは炭素数５〜２０の脂肪族炭化水素環であり、好ましくは置換基を有してもよいシクロヘキサン環である。かかる置換基もＲと同様のものが好適である。ここで、−ＣＲ１Ｒ２−のＲ１及びＲ２が脂肪族環を形成する場合、一般式（２）で表される構造を有する化合物を含有していることが好ましい。
【００２５】
【化２】
2018131483.tif 000003
【００２６】
Ｒ及びｎは、一般式（１）と同義である。また、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１〜４のアルキル基であることを表し、水素原子又はメチル基であることがより好ましい。Ｒ３及びＲ４が炭素数４以下のアルキル基である場合、耐熱性が向上するので好ましい。Ｘは炭素原子を表す。ｍは４〜７の整数を表し、４、又は５であることが好ましく、５であることが更に好ましい。ｍが４以上の整数である場合、環のひずみが小さくなり、化合物として安定が向上するので好ましい。また、ｍが７以下の整数である場合、得られるポリアリレートフィルムの耐熱性が向上するので好ましい。
【００２７】
前記一般式（２）で表される構造を有する化合物としては、例えば、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン〔ＢｉｓＴＭＣ〕、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５，５−テトラメチルシクロヘキサン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，４−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５−エチルシクロヘキサン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロペンタン、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス−（３，５−ジフェニル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス−（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス−（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（３，５−ジフェニル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンが挙げられる。中でも、透明性の観点で、ＢｉｓＴＭＣが好ましい。
【００２８】
前記一般式（１）及び一般式（１’）の−ＣＲ１Ｒ２−のＲ１及びＲ２が、芳香族環を形成する場合、芳香族環は、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環であることが好ましい。より好ましくは置換基を有してもよいフルオレン環である。かかる置換基もＲと同様のものが好適である。
【００２９】
置換基を有してもよいフルオレン環を形成する−ＣＲ１Ｒ２−の例には、下記一般式（３）で表される構造を有するフルオレンジイル基が含まれる。
【００３０】
【化３】
2018131483.tif 000004
【００３１】
よって、より具体的には、芳香族ジオール（二価のフェノール成分）が、下記一般式（４）で表される構造を有する残基：
【００３２】
【化４】
2018131483.tif 000005
【００３３】
を含むと好ましい。
【００３４】
一般式（１）及び一般式（１’）のＬが、アルキレン−アリーレン−アルキレン基である場合、アルキレン−アリーレン−アルキレン基は、炭素数１〜５のアルキレン−炭素数５〜７のアリーレン−炭素数１〜５のアルキレンの形態であることが好ましく、アルキレンは、直鎖状でも、分岐状でもよいが、分岐状であることが好ましい。
【００３５】
よって、より具体的には、二価のフェノール成分が、下記一般式（５）で表される構造を有する残基：
【００３６】
【化５】
2018131483.tif 000006
【００３７】
Ｒは、一般式（１）と同義である、
を含むと好ましい。
【００３８】
一般式（１）及び一般式（１’）において、Ｌがアルキレン基であるビスフェノール類の例には、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−メチル−２−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルペンタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ＢＰＡ）、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ＢＰＣ）、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ＴＭＢＰＡ）等が含まれる。中でも、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ＢＰＡ）、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ＢＰＣ）、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ＴＭＢＰＡ）等のイソプロピリデン含有ビスフェノール類が好ましい。
【００３９】
Ｌが−Ｓ−、−ＳＯ−又は−ＳＯ２−であるビスフェノール類の例には、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（２−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン（ＴＭＢＰＳ）、ビス（３，５−ジエチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−エチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３，５−ジエチル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３−エチル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、２，４−ジヒドロキシジフェニルスルホン等が含まれる。
【００４０】
Ｌが−Ｏ−であるビスフェノール類の例には、４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテルが含まれる。
【００４１】
Ｌが−Ｃ（Ｏ）−であるビスフェノール類の例には、４，４’−ジヒドロキシジフェニルケトンが含まれる。
【００４２】
なお、芳香族ジオール成分は、１種で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよいが、特に、一般式（１）及び一般式（１’）のＬがアルキレン−アリーレン−アルキレン基である場合、Ｌが−ＣＲ１Ｒ２−（Ｒ１とＲ２は互いに結合して脂肪族環又は芳香族環を形成する）と組み合わせて用いることがよい。混合比としても制限はないが、一般式（１）及び一般式（１’）のＬがアルキレン−アリーレン−アルキレン基であるものが１００質量部である場合、Ｌが−ＣＲ１Ｒ２−（Ｒ１とＲ２は互いに結合して脂肪族環又は芳香族環を形成する）であるものは、好ましくは１０５〜２００質量部、より好ましくは１１０〜１５０質量部である。かかる範囲であると、所期の物性が担保される。
【００４３】
（芳香族ジカルボン酸成分単位）
芳香族ジカルボン酸成分単位を構成する芳香族ジカルボン酸は、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、オルトフタル酸、ｔ−ブチルイソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ビフェニルジカルボン酸、それらの任意の混合物でありうる。
【００４４】
耐熱性、フィルムの機械的特性を高める等の観点から、テレフタル酸とイソフタル酸との混合物が好ましい。テレフタル酸とイソフタル酸との含有比率は、好ましくはテレフタル酸／イソフタル酸＝９０／１０〜１０／９０（モル比）、より好ましくは７０／３０〜３０／７０、さらに好ましくは５０／５０である。テレフタル酸の含有比率が上記範囲であると、十分な重合度を有するポリアリレートが得られやすく、十分な耐熱性、機械的特性を有するフィルムが得られやすい。
【００４５】
本発明の好ましい形態においては、テレフタル酸、イソフタル酸の混合物の構成比率が、９５モル％以上であることが好ましい。
【００４６】
本発明のフィルムは、ポリアリレートを主成分として含有する。ポリアリレートを主成分として含有するとは、フィルム中のポリアリレートの総量が５０質量％以上であることを表す。好ましくは８０質量％以上であることである。フィルム中のポリアリレートの総量が５０質量％以上であると、折り曲げ耐性などの機械的強度、耐熱性、及び透明性が良い観点から好ましい。
【００４７】
本発明に用いられるポリアリレートの重量平均分子量は、１万〜５０万が好ましく、２万〜３０万がさらに好ましく、３万〜２０万が特に好ましい。かかる範囲であれば、フィルム成形が容易となりやすく、また力学特性が低下しない。また、合成上、分子量のコントロールも容易となり、また溶液の粘度が適度で取扱い性も向上する。
【００４８】
本発明に用いられるポリアリレートの合成方法としては、本願の実施例の方法や、あるいは、従来公知の合成方法が適用できる。従来公知の合成方法としては、特開２０１４−２１８６５９号公報、特開２０１３−１７３９２８号公報等に記載の合成方法を採用することができるがこれらに限られない。
【００４９】
なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定することができる。測定条件は以下のとおりである。
【００５０】
溶媒：ジクロロメタン
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ    Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用する）
カラム温度：２５℃
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：Ｌ６０００（株式会社  日立製作所  製）
流量：１．０ｍＬ／ｍｉｎ
校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝５００〜２８０００００の範囲内の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。
【００５１】
（水酸基含有無機粒子）
本発明のフィルムは、水酸基を表面に有する、水酸基含有無機粒子を含む。水酸基含有無機粒子を含むことによって、すべり性等が向上し、フィルムの製造の観点で好適である。
【００５２】
水酸基含有無機粒子としては、製造のしやすさの観点で、シリカ、アルミナ、酸化チタンおよびセリアが好適である。よって、本発明の好ましい実施形態によれば、前記水酸基含有無機粒子が、シリカ、アルミナ、酸化チタンおよびセリアからなる群から選択される少なくとも１種である。なお、ポリアリレートフィルムの製造にあたり、水酸基含有無機粒子は溶液中に分散しているものを用いてもよく、当該分散媒としては、エタノールなどのアルコール、ドープ（ポリマー溶液）を調製するための溶媒等が好適である。例えば、アルコールで水酸基含有無機粒子の分散を行い、ドープ（ポリマー溶液）を調製するための溶媒等に添加をすることができる。このように添加順番を工夫することによって凝集を抑制できる。
【００５３】
これらの水酸基含有無機粒子は、樹脂同士の凝集を抑制する観点で、０．００５〜３μｍの粒子径範囲の二次粒子を形成してポリアリレートフィルムに含まれることが好ましく、好ましい平均二次粒子径は０．００７〜２μｍの範囲内であり、更に好ましくは０．００８〜１μｍの範囲内である。なお、本発明に用いる水酸基含有無機粒子の平均二次粒子径の測定は、透過型電子顕微鏡（倍率５０万〜２００万倍）で粒子の観察を行い、粒子１００個を観察して粒子径を測定し、その平均値をもって、平均二次粒子径とする。
【００５４】
水酸基含有無機粒子は、ポリアリレート１００質量部に対して、例えば、０．０５〜１．０質量％の割合で含有させることができ、さらには、０．１〜０．５質量％の割合で含有させることが好ましく、０．１〜０．３質量％の割合で含有させることがより好ましい。かかる範囲であると、耐久試験後の位相差変化を抑制し、ヘイズの発生を抑制する技術的効果を有する。
【００５５】
本発明の好ましい実施形態によれば、前記水酸基含有無機粒子の表面の少なくとも一部が、表面処理層を有する。表面処理層を有することによって、水酸基含有無機粒子における水酸基が露出することを抑制することができる。つまり、露出した水酸基が、ポリアリレートのエステル部位における芳香族ジオール由来の酸素原子に作用することを抑制することができる。そしてひいては、ポリアリレートの配列（疑結晶化）を促す結晶核剤の様に作用することを抑制することができる。なお、前記水酸基含有無機粒子の表面の全体を表面処理層によって被覆することは現実には容易ではなく、表面被覆処理をしてもある程度の水酸基が露出することが実情である。そのため、本発明で、水素結合性溶媒を含ませることによって、表面処理層によっても覆いきれなかった水酸基を水素結合性溶媒によって覆い、無機粒子が結晶核剤的に作用することを阻害させることができる。よって、高温に長期間曝された場合であっても「骨見え故障」を抑制することができる。
【００５６】
表面の少なくとも一部に表面処理層を有する水酸基含有無機粒子（以下、「表面処理水酸基含有無機粒子」とも称する）は、水酸基含有無機粒子と、アルキルアルコキシシランまたはアリールアルコキシシランとをアミン系触媒の存在下で反応させ、アルキルアルコキシシランまたはアリールアルコキシシランの量、反応温度および時間を調整することによって得ることができる。
【００５７】
アルキルアルコキシシランにおけるアルキル基は、流動性の観点から、炭素数６以下であることが好ましい。アルキルアルコキシシランはモノメチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、モノエチルトリメトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシランが好ましい。また、アリールアルコキシシランは、フェニルアルコキシシラン、ナフタレニルアルコキシシランが好ましい。特に、フェニルアルコキシシランであると、骨見え故障の発現をより抑制することができる。よって、本発明の好ましい実施形態によれば、前記表面処理層が、ベンゼン環を有する。前記表面処理層がベンゼン環を有することによって当該効果を有するメカニズムは必ずしも明らかではないが、粒子表面がさらに疎水的で、かつ、嵩高いため樹脂の配列を抑制に効果的と考えられる。
【００５８】
表面処理水酸基含有無機粒子の原料となる水酸基含有無機粒子は、修飾点の観点から、ＢＥＴ比表面積２０〜３００ｍ２／ｇのものを用いるとよい。また、水酸基含有無機粒子は気相法で合成されたものを用いることが好ましい。
【００５９】
また、水酸基含有無機粒子１００質量部に対するアルキルアルコキシシランまたはアリールアルコキシシランの量は、凝集を防ぐ観点で、概ね５〜３０質量部が適当である。
【００６０】
表面処理は不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。例えば、窒素ガス等で系内を置換した後に、アルキルアルコキシシランまたはアリールアルコキシシランを水酸基含有無機粒子に噴霧する。噴霧後、必要に応じてエージングを行った後に、アルキルアルコキシシランまたはアリールアルコキシシランの沸点以上に加熱して一定時間保持する。アルコキシ基の残存量（付着量）は表面処理によって発生するアルコール量で検出することができる。アルコール検知に関しては、回収ガスラインにアルコール濃度計を導入して測定すればよい。反応温度は、概ね１２０〜１７０℃である。反応時間は概ね４０〜１２０分が適当である。
【００６１】
（水素結合性溶媒）
本発明においては、フィルムの総質量に対して０質量％超１質量％以下の水素結合性溶媒を含む。フィルム中に少量の水素結合性溶媒を含有させて無機粒子を被覆、つまり、無機粒子の水酸基に水素結合性溶媒を水素結合によって結合させることによって、フィルム中に含まれる無機粒子が結晶核剤として作用することを阻害させることができ、高温に長期間曝された場合であっても「骨見え故障」を抑制させることができる。
【００６２】
水素結合性溶媒としては、特に制限はないが、アルコール（例えば、エタノール等）、ケトン（例えば、アセトン等）、カルボン酸類（例えば、酢酸等）、エーテル類（例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン等）、ピロリドン類（例えば、Ｎ−メチルピロリドン等）、アミン類（例えば、トリメチルアミン、ピリジン等）、アンモニア等を例示することができる。これらのうち、本発明の所期の目的を効率よく達成する観点から、アルコールが好ましい。よって、本発明の好ましい実施形態によれば、前記水素結合性溶媒が、アルコールである。
【００６３】
アルコールとしても特に制限はないが、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキルアルコール等が好適である。当該置換基としては、ハロゲン原子やアリール基等の置換基が好適である。
【００６４】
水素結合性溶媒は、前記フィルムの総質量に対して０質量％超１質量％以下含まれる。１質量％を超えて含まれるとフィルムに白濁が生じる虞がある。他方、水素結合性溶媒が含まれないと、１３０℃で３００分加熱した後における厚み方向位相差（Ｒｔｈ）が６０ｎｍ以下とすることができず、骨見え故障が発生する。
【００６５】
水素結合性溶媒は、前記フィルムの総質量に対して０質量％超１質量％以下含まれればよいが、好ましくは０．００１〜１質量％、より好ましくは０．００８〜１質量％、さらに好ましくは０．０１〜０．８質量％であり、よりさらに好ましくは０．０６〜０．４質量％であり、特に好ましくは０．０８〜０．２質量％である。
【００６６】
なお、フィルム中に含まれる水素結合性溶媒の含有量は、従来公知の残留溶媒の測定方法等を適用することによって測定することができ、例えば、本発明の実施例の方法で測定することができる。
【００６７】
また、本発明のポリアリレートフィルムは、分子量又は化学構造が異なる２種類以上の脂肪族系化合物を含有してもよい。
【００６８】
＜その他の添加剤＞
本発明のポリアリレートフィルムは、紫外線吸収剤、剥離促進剤、位相差調整剤等のその他の添加剤を含んでもよい。
【００６９】
ここで「位相差調整剤」とは、フィルムの位相差の発現の程度を調整するという機能を有する添加剤の総称である。位相差調整剤としては、糖エステル化合物、ポリエステル、非リン酸エステル系の化合物、アクリル系化合物、ビニル系化合物のいずれでもよく、特にビニル系化合物としては、ポリスチレンなどのアリール基を構造に含むビニル系化合物であることが好ましい。
【００７０】
糖エステル化合物として、好ましい例には、下記一般式（６）で表される構造を有するスクロースエステルが含まれる。
【００７１】
【化６】
2018131483.tif 000007
【００７２】
上記一般式（６）のＲ１１〜Ｒ１８は、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは無置換のアルキルカルボニル基を表す。Ｒ１１〜Ｒ１８は、互いに同じであっても、異なってもよい。
【００７３】
前記一般式（６）のＲ１１〜Ｒ１８の置換若しくは無置換のアルキルカルボニル基は、炭素原子数２以上の置換若しくは無置換のアルキルカルボニル基であることが好ましい。置換若しくは無置換のアルキルカルボニル基の例には、メチルカルボニル基（アセチル基）が含まれる。
【００７４】
スクロースエステルのアシル基の平均置換度は、３．０〜７．５の範囲内であることが好ましい。アシル基の平均置換度がこの範囲内であると、フィルム基材であるセルロースエステルとの十分な相溶性が得られやすい。
【００７５】
糖エステル化合物の例には、特開昭６２−４２９９６号公報及び特開平１０−２３７０８４号公報に記載の化合物が含まれる。
【００７６】
ポリエステルとしては、下記一般式（７）で表される構造を有するポリエステルが、本発明の効果の観点からより好ましい。
【００７７】
一般式（７）  Ｂ−（Ｇ−Ａ）ｎ−Ｇ−Ｂ
（式中、Ｂはヒドロキシ基又はカルボン酸残基、Ｇは炭素数２〜１２のアルキレングリコール残基又は炭素数が４〜１２のオキシアルキレングリコール残基、Ａは炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸残基を表し、またｎは１以上の整数を表す。）
一般式（７）中、Ｂで示されるヒドロキシ基又はカルボン酸残基と、Ｇで示されるアルキレングリコール残基又はオキシアルキレングリコール残基、Ａで示されるアルキレンジカルボン酸残基とから構成されるものであり、通常のエステル系化合物と同様の反応により得られる。
【００７８】
一般式（７）で表される構造を有するポリエステルのカルボン酸成分としては、例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、脂肪族酸等があり、これらはそれぞれ１種又は２種以上の混合物として使用することができる。
【００７９】
一般式（７）で表される構造を有するポリエステルの炭素数２〜１２のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、１種又は２種以上の混合物として使用される。
【００８０】
特に炭素数２〜１２のアルキレングリコールがセルロースエステル樹脂との相溶性に優れているため、特に好ましい。
【００８１】
また、前記一般式（７）で表される構造を有するポリエステルの炭素数４〜１２のオキシアルキレングリコール成分としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等があり、これらのグリコールは、１種又は２種以上の混合物として使用できる。
【００８２】
前記一般式（７）で表される構造を有するポリエステルは、重量平均分子量が、好ましくは２２０〜１５００、より好ましくは４００〜１０００の範囲が好適である。また、その酸価は、０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、ヒドロキシ基価は２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは酸価０．３ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、ヒドロキシ基価は１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下のものである。
【００８３】
前記一般式（７）で表される構造を有する化合物の例としては、例えば下記に記載のものが挙げられる。
【００８４】
７−１：前記一般式（７）において、Ｂで表される構造の一価の基が２−エチルヘキサン酸から誘導され、Ｇで表される構造の二価の基が１，２−プロパンジオール、Ａで表される構造の二価の基がアジピン酸から誘導される重量平均分子量５６０のポリエステル。
【００８５】
７−２：前記一般式（７）において、Ｂで表される構造の一価の基が酢酸から誘導され、Ｇで表される構造の二価の基が１，２−プロパンジオール、Ａで表される構造の二価の基がアジピン酸から誘導される重量平均分子量４８９のポリエステル。
【００８６】
多価アルコールエステルは、多価アルコールと脂肪酸とから誘導されるエステルであり、ソルビタン脂肪酸エステル、プロピレングリコールエステル、ショ糖脂肪酸エステルなどが挙げられる。化合物例としては、トリメチロールプロパントリデカノエート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレイン酸エステルなどが挙げられる。
【００８７】
（１３０℃で３００分加熱した後における厚み方向位相差（Ｒｔｈ））
本発明のフィルムは、ポリアリレートと、水酸基を表面に有する、水酸基含有無機粒子と、を含む、フィルムであって、前記フィルムの総質量に対して０質量％超１質量％以下の水素結合性溶媒を含む。かかる構成によって、前記フィルムは、１３０℃で３００分加熱された後、厚み方向位相差（Ｒｔｈ）が６０ｎｍ以下となる。
【００８８】
本発明において、１３０℃で３００分加熱された後、厚み方向位相差（Ｒｔｈ）が６０ｎｍ以下となればよいが、好ましくは５０ｎｍ以下、より好ましくは４０ｎｍ以下、さらに好ましくは３０ｎｍ以下、よりさらに好ましくは２０ｎｍ以下、特に好ましくは５ｎｍ以下である。
【００８９】
なお、ポリアリレートフィルムの膜厚方向の位相差値Ｒｔｈの測定方法は、本発明の実施例の記載の方法による。
【００９０】
＜フィルムの製造方法＞
本発明のフィルムの製造方法としては、１３０℃で３００分加熱した後における厚み方向位相差（Ｒｔｈ）が６０ｎｍ以下となるように、０質量％超１質量％以下の水素結合性溶媒を含ませる以外は、従来公知の種々の方法を適用することができる。本発明においては、溶液流延法で製造されることが、薄膜化や大量生産適性に優れる観点から好ましい。
【００９１】
よって、本発明の好ましい実施形態によれば、（１）ポリアリレートと、水酸基を表面に有する水酸基含有無機粒子と、水素結合性溶媒とを混合することを有して、ドープを得る工程と；（２）前記ドープを流延することを有して、膜状物を得る工程と；（３）前記膜状物を乾燥することを有し、フィルム中の前記水素結合性溶媒が０質量％超１質量％以下となるように乾燥する、乾燥工程と；を有する、フィルムの製造方法である。かかる構成を有することによって、ポリアリレートと、水酸基を表面に有する、水酸基含有無機粒子と、を含む、フィルムであって、前記フィルムの総質量に対して０質量％超１質量％以下の水素結合性溶媒を含み、１３０℃で３００分加熱した後における厚み方向位相差（Ｒｔｈ）が６０ｎｍ以下である、フィルムを効率よく製造することができる。
【００９２】
ポリアリレートフィルムの製造工程は、例えば、図１に示される製造装置にて行うことができる。図１は、フィルムの製造装置の一例を示す模式図である。フィルム製造装置１０は、流延装置２０と、乾燥装置３０とを有しうる。
【００９３】
１）ドープを得る工程
ドープを得る工程は、ポリアリレートと、水酸基を表面に有する水酸基含有無機粒子と、水素結合性溶媒とを混合することを有する。
【００９４】
ドープを得る工程において、ポリアリレートと、水酸基を表面に有する水酸基含有無機粒子と、水素結合性溶媒と、必要に応じ添加する位相差調整剤とを混合する。この混合は、溶媒を使って行うことが好ましい。当該溶媒は、乾燥温度を低くする観点から、沸点が７０℃以下の溶媒（好ましくは良溶媒）であることが好ましい。沸点が７０℃以下である良溶媒の例には、ジクロロメタン（メチレンクロライド）（沸点４０．４℃）、クロロホルム（沸点６１．２℃）、テトラヒドロフラン（沸点６６℃）が含まれる。乾燥温度を低くする観点から、好ましくは沸点６０℃以下の良溶媒であり、より好ましくはジクロロメタン（メチレンクロライド）である。なお、ドープ（ポリマー溶液）におけるポリアリレートの濃度は、８質量％以上、好ましくは１０〜３０質量％程度であることが好ましい。なお、ポリマー溶液は、濾過により、不溶物や異物等を除去してもよい。
【００９５】
２）膜状物を得る工程
膜状物を得る工程は、前記ドープを流延することを有して、膜状物を得ることを有する。
【００９６】
例えば、上記で得られたドープを、図１に示す流延装置２０のダイス２１から金属支持体２３上に流延した後、流延膜を乾燥させて膜状物を得る。金属支持体２３は、ロール２３Ａで搬送される無端状のステンレスベルトでありうる。また、膜状物を、金属支持体２３から剥離ロール２５等で剥離するため、流延膜に対して乾燥を行うことが好ましい。流延膜の乾燥は、種々の方法で行うことができ、例えば金属支持体２３の表面温度を調整し、かつ流延膜に風を当てて行うことができる。金属支持体２３の表面温度の制御は、例えば金属支持体の裏側に温水を接触させる方法によって行うことができる。本発明では、ベルト上での流延膜の乾燥温度（金属支持体２３の表面温度や風Ｗの温度）を低くすることが好ましい。乾燥温度を低くすることで、引張弾性率が高い膜状物を得ることができる。流延膜の乾燥温度、具体的には金属支持体２３の表面温度及び流延膜に当てる風の温度は、それぞれ７０℃未満であることが好ましく、５〜６０℃であることが好ましく、１０〜５０℃であることがより好ましく、１５〜４０℃であることがさらに好ましい。乾燥は、一度に行ってもよいし、温度を変えて段階的に行ってもよい。乾燥後に得られる膜状物を、金属支持体２３から剥離ロール２５等で剥離する。
【００９７】
３）乾燥工程
乾燥工程は、前記膜状物を乾燥することを有し、フィルム中の前記水素結合性溶媒が０質量％超１質量％以下となるように乾燥する工程である。
【００９８】
ところで、溶液流延法にてあるフィルムを製造する乾燥工程においては、通常、フィルム中に残留する溶媒をできるだけ除去するようにせしめる。これに対して、本発明は、ドープ（ポリマー溶液）に意図的に水素結合性溶媒を添加しておき、フィルム中に水素結合性溶媒が０質量％超１質量％以下残留するようにせしめる点に特徴を有する。つまり、本発明における乾燥工程は、従来の乾燥工程より、低い温度および／または短時間で実施することで、フィルムの総質量に対して０質量％超１質量％以下の水素結合性溶媒を意図的に残留させる。
【００９９】
乾燥温度の上限としては、水素結合性溶媒が１質量％以下となる温度であればよいが、１５０℃未満が好ましく、１４０℃以下がより好ましく、１３０℃以下がよりさらに好ましく、１２０℃以下がよりさらに好ましく、１１０℃以下がよりさらに好ましく、１００℃以下がよりさらに好ましい。また、乾燥温度の下限としては、水素結合性溶媒が１質量％以下となる温度であればよいが、５０℃超であることが好ましく、６０℃以上であることがよりさらに好ましく、７０℃以上であることがよりさらに好ましく、８０℃以上であることがよりさらに好ましい。
【０１００】
また、乾燥時間の上限としては、前記フィルムの総質量に対して０質量％超１質量％以下の水素結合性溶媒となるような時間であれば特に制限はされないが、１２０分以下であることが好ましく、９０分以下であることが好ましく、６０分以下であることが好ましく、３０分以下であることが好ましく、２０分以下であることが好ましい。同様に、前記フィルムの総質量に対して０質量％超１質量％以下の水素結合性溶媒となるような時間であれば特に制限はされないが、下限としては、３０秒以上であることが好ましく、１分以上であることがより好ましく、３分以上であることがよりさらに好ましく、５分以上であることがよりさらに好ましく、７分以上であることがよりさらに好ましい。
【０１０１】
本発明の好ましい実施形態によれば、前記乾燥工程における乾燥温度が、７０〜１１０℃であり、かつ、乾燥時間が３〜２０分である。かかる乾燥条件によれば、より確実に、水素結合性溶媒の残留量を０質量％超１質量％以下とすることができる。
【０１０２】
＜電極＞
本発明のポリアリレートフィルムは、従来のポリアリレートフィルムと同様に、高い透明性と耐熱性とを有しつつ、高温環境下においても「骨見え故障」が抑制されている。したがって、本発明のポリアリレートフィルムは、それらの特性が要求される幅広い用途；例えば、フレキシブルパネルディスプレイ（有機ＥＬディスプレイ、液晶ディスプレイ、電子ペーパー等）や太陽電池等における透明基板又は透明電極基板（ガラス基板に代わる基板）；透明性が求められる用途のフレキシブルプリント基板（ＦＰＣ）の絶縁基材やカバーフィルム；タッチパネル等に用いられる透明導電性フィルム等に用いられる。
【０１０３】
したがって、本発明のフィルムは、電極の基材として使用されることが好ましい。よって、本発明においては、フィルムと、導電層とを含む、電極が提供される。導電層としては、ＩＴＯ等のいわゆる透明電極に用いられうる部材が好適である。また、本発明においては、上記の製造方法によってフィルムを得、前記フィルム上に導電層を形成することを有する、電極の製造方法も提供される。かかる構成によって、骨見え故障を抑制した電極を提供することができる。
【実施例】
【０１０４】
以下、本発明の代表的な実施形態を示し、本発明につきさらに説明するが、無論、本発明がこれらの実施形態に限定されるものではない。なお、実施例中において特に断りのない限り、「部」は「質量部」を、「％」は「質量％」を表す。また、特記しない限り、操作および物性等の測定は室温（２０〜２５℃）／相対湿度４０〜５０％ＲＨの条件で測定する。
【０１０５】
＜無機粒子の作製＞
（無機粒子Ａの作製）
気相法によって製造されたＢＥＴ比表面積５０ｍ２／ｇのシリカ微粉末（平均粒子径：１０ｎｍ）１００ｇを反応槽に入れ、窒素雰囲気下、撹拌しながら、水１．５ｇを噴霧した。これにジメチルジメトキシシラン１０ｇ、触媒としてジエチルアミン１．０ｇを噴霧し、１５０℃で１時間加熱撹拌し、その後冷却した。
【０１０６】
（無機粒子Ｂの作製）
気相法によって製造されたＢＥＴ比表面積３０ｍ２／ｇ（平均粒子径：１２ｎｍ）のシリカ微粉末１００ｇを反応槽に入れ、窒素雰囲気下、撹拌しながら水０．５ｇを噴霧した。これにメチルトリメトキシシラン１０ｇ、触媒としてジエチルアミン１．０ｇを噴霧し、１５０℃で１時間加熱撹拌し、その後冷却した。
【０１０７】
（無機粒子Ｃの作製）
気相法によって製造されたＢＥＴ比表面積３０ｍ２／ｇのシリカ微粉末（平均粒子径：２０ｎｍ）１００ｇを反応槽に入れ、窒素雰囲気下、撹拌しながら水０．５ｇを噴霧した。これにフェニルトリエトキシシラン１０ｇ、触媒としてジエチルアミン１．０ｇを噴霧し、１５０℃で１時間加熱撹拌し、その後冷却した。
【０１０８】
（無機粒子Ｏの作製）
気相法によって製造されたＢＥＴ比表面積３０ｍ２／ｇのシリカ微粉末（平均粒子径：７ｎｍ）を準備した。
【０１０９】
＜ポリアリレート（ＰＡＲ）の作製＞
（ポリアリレート１（ＰＡＲ１）の合成）
撹拌装置を備えた反応容器中に１，１’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ｍ−ジイソプロピルベンゼン３８３．３８質量部、１，１−Ｂｉｓ（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン（（ビスフェノールＴＭＣ））３１４．６９質量部、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール（以下、ＰＴＢＰと略す）９．９７質量部、水酸化ナトリウム２２８．５１質量部、ベンジル−トリ−ｎ−ブチルアンモニウムクロライド４．６７質量部を仕込み、水１７３７３．６質量部に溶解させて水相を調製した。これとは別に、塩化メチレン１３２８５．７質量部に、テレフタル酸／イソフタル酸＝（モル換算で）１／１混合物（以下、ＭＰＣと略す）４５６．０４質量部を溶解させて有機相を調製した。
【０１１０】
この有機相を先に調製した水相中に強撹拌下で添加し、１５℃で２時間重合反応を行った。この後酢酸４１．８質量部を添加して重合反応を停止させ、水相と有機相をデカンテーションして分離した。この有機相に対し、１回の洗浄につき２倍容のイオン交換水を用いて、有機相が中性になるまで洗浄と分離を繰り返した。その後、この洗浄後の有機相を、ホモミキサーで撹拌されている５０℃の温水中に投入して塩化メチレンを蒸発させることにより粉末状となし、これをさらに脱水し乾燥させて、ポリアリレート１を得た。このポリアリレート１の重量平均分子量は７万であった。
【０１１１】
（ポリアリレート２（ＰＡＲ２）の合成）
撹拌装置を備えた反応容器中に水２５１４質量部を添加した後、水酸化ナトリウム２２．７質量部、２価フェノールである９，９−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン５１．３質量部、分子量調節剤としてｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール（ＰＴＢＰ）０．１６２質量部を溶解させ、０．３４質量部の重合触媒（トリブチルベンジルアンモニウムクロライド）を添加し、激しく撹拌した。別に、ＭＰＣ２５．８質量部を秤り取り、９４５質量部のジクロロメタンに溶解させた。このジクロロメタン溶液を先に調製したアルカリ水溶液に撹拌下に添加し、重合を開始させた。重合反応温度は１５℃以上２０℃以下になるように調整した。重合は２時間行い、その後、系内に酢酸を添加して重合反応を停止させ、有機相と水相を分離した。この有機相に対し１回の洗浄に２倍容のイオン交換水で洗浄と分離を繰り返した。洗浄水の電気伝導度が５０μＳ／ｃｍよりも低くなったところで洗浄を終了とした。５０℃でホモミキサーを装着した温水槽中に洗浄後の有機相を投入してジクロロメタンを蒸発させ粉末状のポリマーを得た。さらに脱水・乾燥を行い、ポリアリレート２を得た。このポリアリレート２の重量平均分子量は９万であった。
【０１１２】
（ポリアリレート３（ＰＡＲ３）の合成）
パドル型二枚羽の撹拌装置を備えた２Ｌの反応容器中に、２価フェノール成分としてＢｉｓＴＭＣ（ビスフェノールＴＭＣ）６９．８質量部、末端封止剤としてＰＴＢＰ（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）０．７質量部、アルカリとして水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）３２．７質量部、重合触媒としてトリ−ｎ−ブチルベンジルアンモニウムクロライド〔ＴＢＢＡＣ〕の５０質量％水溶液を１．０質量部、酸化防止剤としてハイドロサルファイトナトリウム０．３質量部を仕込み、水１０４０質量部に溶解した（水相）。また、これとは別に、ジクロロメタン９１０質量部に、テレフタル酸クロライド（ＴＰＣ）２３．０質量部と、イソフタル酸クロライド（ＩＰＣ）２３．０質量部を溶解した（有機相）（ＢｉｓＴＭＣ：ＴＰＣ：ＩＰＣ：ＰＴＢＰ：ＴＢＢＡＣ：ＮａＯＨ＝９９．０：５０．０：５０．０：２．０：０．６８：３６０（モル比））。水相と有機相の合計量は、１Ｌであった。水相をあらかじめ４００ｒｐｍで撹拌しておき、回転数を維持しながら有機相を水相中に添加し、１５℃で２時間、界面重合法で重合をおこなった。この後、撹拌を停止し、水相と有機相をデカンテーションして分離した。水相を除去した後、ジクロロメタン５００質量部、純水２０００質量部と酢酸２質量部を添加して反応を停止し、１５℃で３０分間撹拌した。その後、有機相を純水で１０回洗浄し、有機相をメタノール中に添加してポリマーを沈殿させた。沈殿させたポリマーを濾過し、乾燥し、ポリアリレート３を得た。このポリアリレート３の重量平均分子量は８万であった。
【０１１３】
＜実施例１＞
（無機粒子添加液１の調製）
無機粒子Ａ    １１質量部
エタノール    ８９質量部
以上を、ディゾルバーで５０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行って、無機粒子分散液１を調製した。
【０１１４】
メチレンクロライドを入れた溶解タンクに十分撹拌しながら、上記無機粒子分散液１をゆっくりと添加した。メチレンクロライドと無機粒子分散液１との質量は、下記：
メチレンクロライド    ９９質量部
無機粒子分散液１      ５質量部
の通りである。
【０１１５】
さらに、二次粒子の粒子径が所定の大きさ（平均二次粒子径：０．０１μｍ）となるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過し、無機粒子添加液１を調製した。
【０１１６】
（ドープの調製）
下記組成のドープを調製した。
【０１１７】
メチレンクロライド                      ３９０質量部
水素結合性溶媒（メタノール）              １０質量部
ポリアリレート１（ＰＡＲ１）            １００質量部
添加剤Ａ                                  １０質量部
無機粒子添加液１（無機粒子固形分量）  ０．１５質量部
より具体的には、上記の成分を、密閉容器に入れ、撹拌しながら徐々に４５℃まで昇温し、完全に溶解させた。得られた溶液を、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過して、ドープを調製した。
【０１１８】
なお、添加剤Ａは、下記：
【０１１９】
【化７】
2018131483.tif 000008
【０１２０】
の構造を有するポリスチレンであり、位相差低減の目的で含有させている。
【０１２１】
なお、添加剤Ｂは、前記一般式（６）で表される構造を有する化合物であり、ただし、Ｒ１１〜Ｒ１８は、水素原子又はメチル基であり、８個の基のうちメチル基による平均置換度は５．５である（重量平均分子量４１９）。
【０１２２】
（製膜）
調製されたドープを、ベルト流延装置のステンレスベルト上に均一に流延した。ステンレスベルトの長さは２０ｍのものを用いた。ステンレスベルトの表面温度は３３℃とし、かつ流延膜に３３℃の風を当てて、残留溶媒量が３９％となるまで溶媒を蒸発させた後、ステンレスベルトから剥離して膜状物を得た。
【０１２３】
（乾燥）
得られた膜状物を、９０℃の乾燥装置内を多数のロールで搬送させながら１０分間乾燥させた後、膜厚１５μｍのポリアリレートフィルム１を得た。
【０１２４】
（ポリアリレートフィルム中の水素結合性溶媒の含有量）
１）検量線の作成
水素結合性溶媒の濃度が既知の試料を専用のバイアル瓶に入れ、セプタムとアルミキャップで密閉し、ヘッドスペースサンプラーにセットした。そして、バイアル瓶を、下記のヘッドスペース加熱条件にて加熱して揮発成分を生成させ、当該揮発成分を、ガスクロマトグラフィーにて測定した。
【０１２５】
（ヘッドスペースサンプラー）
機器：ヒューレット・パッカード社製ヘッドスペースサンプラーＨＰ７６９４型
ヘッドスペース加熱条件：１３０℃で３００分
（ガスクロマトグラフィー）
機器：ヒューレット・パッカード社製５９７１型
カラム：Ｊ＆Ｗ社製  ＤＢ−６２４
検出器：水素炎イオン化検出器（ＦＩＤ）
ＧＣ昇温条件：４５℃で３分保持した後、８℃／分で１００℃まで昇温
ＧＣ導入温度：１５０℃
水素結合性溶媒の濃度の異なる試料についても、同様の測定を行った。そして、各測定で得られたＧＣチャートにおける溶媒のピーク面積を算出し、溶媒濃度とピーク面積のプロットを作成し、水素結合性溶媒の検量線を得た。
【０１２６】
２）ポリアリレートフィルムの総質量に対する水素結合性溶媒の含有量の測定
１０ｃｍ角に切り出したポリアリレートフィルムを、５ｍｍ程度に細かく刻んで専用のバイアル瓶に封入した以外は前記１）と同様にしてヘッドスペース加熱条件にて加熱処理し、得られた揮発成分をガスクロマトグラフィーにて測定した。
【０１２７】
得られたチャートから、各溶媒のピーク面積を算出し、前記１）で得た検量線と照合して、ポリアリレートフィルムの総質量に対する水素結合性溶媒の含有量（質量％）を求めた。
【０１２８】
＜実施例２〜１４、比較例１〜４＞
ポリアリレートの種類、水素結合性溶媒の種類、乾燥条件、無機粒子の種類とその量を、表１に示すように変更した以外は、実施例１と同様にしてポリアリレートフィルム２〜１５を作製した。また、ポリアリレートフィルムの総質量に対する水素結合性溶媒の含有量（質量％）を求めた。
【０１２９】
＜評価＞
（加熱試験）
上記で作製した各ポリアリレートフィルムを恒温恒湿器（エスペック社製  ＰＬ−４）の中に入れ、１３０℃３００分耐久試験を実施した。その後取り出し、膜厚方向の位相差値Ｒｔｈ（ｎｍ）を測定した。
【０１３０】
（フィルム膜厚方向の位相差値Ｒｔｈ（ｎｍ））
各ポリアリレートフィルムの膜厚方向の位相差値Ｒｔｈは自動複屈折率計アクソスキャン（Ａｘｏ  Ｓｃａｎ  Ｍｕｅｌｌｅｒ  Ｍａｔｒｉｘ  Ｐｏｌａｒｉｍｅｔｅｒ：アクソメトリックス社製）を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下、５９０ｎｍの波長において、三次元屈折率測定を行い、得られた屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚから下記式を用いて算出した。
【０１３１】
式（１）Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
〔式中、Ｒｔは温度２３℃、相対湿度５５％の環境下で波長５９０ｎｍの光で測定した位相差値である。
【０１３２】
ｎｘは、ポリアリレートフィルム平面内の遅相軸方向の屈折率である、
ｎｙは、ポリアリレートフィルム平面内の遅相軸方向に直行する方向の屈折率である、
ｎｚは、ポリアリレートフィルム面に垂直な方向の屈折率である、
ｄは、ポリアリレートフィルムの厚さ（ｎｍ）である。
【０１３３】
＜デバイスの作製＞
（透明導電フィルム１の作製）
次いで、図２に示す構成の透明導電フィルム１を作製した。
【０１３４】
樹脂基材２（ポリアリレートフィルム）の片面の上に、アクリレート系樹脂を含む光反応性塗工液を塗布し、加熱乾燥後に紫外線を照射してハードコート層３を形成し、本発明のハードコート付き支持フィルムを得た。次いで、ハードコート層が形成されていない側のＰＡＲ基材２の上にハードコート層兼光学干渉層（高屈折率干渉層）３としてジルコニア粒子を含んだ厚さ４２ｎｍのアクリレート系樹脂からなる層（ｎＣ１＝１．６８）を形成し、さらにその上に光学干渉層（低屈折率干渉層）４として厚さの３３．５ｎｍの酸化ケイ素を含有するアクリレート系樹脂からなる層（ｎＣ２＝１．４９）を形成した。次いで、その上に密着性向上のためのＳｉＯｘ層を介して光透過性導電層として酸化インジウムスズからなる層（ｎＤ＝１．８７）を厚さ２６ｎｍとなるように成膜して、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。なお、ターゲット材として酸化インジウム：９７重量％及び酸化スズ：３重量％からなる焼結体材料を用いた。また、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により、ＳｉＯｘ層を形成し、その上に、酸化インジウムスズ層を形成した。
【０１３５】
（透明導電フィルム２〜１５の作製）
樹脂基材２としてポリアリレートフィルム２〜１５を使用した以外は、透明導電フィルム１と同様に、透明導電フィルム２〜１５を作製した。
【０１３６】
＜タッチパネル部材の作製＞
特表２０１０−５４１１０９号公報に記載のようにして、パターン化した前記透明導電フィルム１を用いてタッチパネル部材７を作製した。すなわち、粘着フィルム５を挟むようにして２つの透明導電フィルム１がＸ方向、Ｙ方向となるように積層し、図３に示すような、ポリアリレートフィルム１〜１５を用いた、タッチパネル部材７を作製した。なおＩＴＯエッチング液（関東化学社製、商品名「ＩＴＯ−０６Ｎ」）を使用し、Ｘ方向、Ｙ方向のパターンを形成している。
【０１３７】
＜タッチパネル付有機ＥＬ表示装置の作製＞
３ｍｍ厚の１２７ｃｍ用無アルカリガラスを用いて、特開２０１０−２０９２５号公報の実施例に記載されている方法に準じて、同公報の図８に記載された構成からなる有機ＥＬセルを作製した。
【０１３８】
そして、図４に示すように、上記の有機ＥＬセル１０８にガスバリアーフィルム１０９を設置した後、前記のタッチパネル部材７を設置した。さらに円偏光板１１０の表面に接着剤を塗工したフィルム（粘着フィルム）５を貼合した。最表面にカバーガラス１０６を設置して、図４に示す構成の、ポリアリレートフィルム１〜１５を用いた、タッチパネル付有機ＥＬ表示装置を作製した。
【０１３９】
上記のようにして作製した各タッチパネル付有機ＥＬ表示装置について、下記の評価を行った。
【０１４０】
＜評価＞
（加熱試験後の骨見え故障の評価）
上記で作製した各デバイス（各タッチパネル付有機ＥＬ表示装置）を恒温恒湿器（エスペック社製  ＰＬ−４）の中に入れ、８０℃３０日耐久試験を実施した。その後取り出し、デバイスの骨見え故障を、視認を行うことによって評価した。結果を表１に示す。
【０１４１】
◎：骨を確認することができない、
○：骨を若干確認することができる、
×：骨がくっきりと見える。
【０１４２】
なお、本願において、◎および○が合格である。
【０１４３】
【表１−１】
2018131483.tif 000009
【０１４４】
【表１−２】
2018131483.tif 000010
【符号の説明】
【０１４５】
１      透明導電フィルム、
２      ポリアリレートフィルム（樹脂基材）、
３      ハードコート（ハードコート層兼光学干渉層（高屈折率干渉層））、
４      光学干渉層（低屈折率干渉層）、
５      粘着フィルム、
７      タッチパネル部材、
１０    フィルム製造装置、
２０    流延装置、
２１    ダイス、
２３    金属支持体、
２３Ａ  ロール
ｗ      風、
２５    剥離ロール、
３０    乾燥装置
３１    ロール装置、
１０６  カバーガラス、
１０８  有機ＥＬ表示装置、
１０９  ガスバリアーフィルム、
１１０  円偏光板。
【図１】
2018131483.tif 000011
【図２】
2018131483.tif 000012
【図３】
2018131483.tif 000013
【図４】
2018131483.tif 000014