(57)【要約】【課題】処理対象体を加湿することなく、オゾンを利用して効率よく殺菌処理や脱臭処理を行うことのできる処理方法を提供すること。【解決手段】本発明の処理方法は、オゾンを分解する波長域の光を含まず、かつ波長２００ｎｍ以下の光であるオゾン生成用光を、オゾン原料気体に対して照射することによってオゾン含有気体を得、得られたオゾン含有気体に処理対象体を相対湿度が５５％以下の低湿度条件で曝露することにより、当該処理対象物を処理することを特徴とする。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
オゾンを分解する波長域の光を含まず、かつ波長２００ｎｍ以下の光であるオゾン生成用光を、オゾン原料気体に対して照射することによってオゾン含有気体を得、得られたオゾン含有気体に処理対象体を相対湿度が５５％以下の低湿度条件で曝露することにより、当該処理対象体を処理することを特徴とする処理方法。
【請求項２】
前記オゾン生成用光は、キセノンエキシマランプから放射された光であることを特徴とする請求項１に記載の処理方法。
【請求項３】
前記オゾン含有気体の相対湿度が５５％以下であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の処理方法。
【請求項４】
前記オゾン含有気体の相対湿度が３０％以下であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の処理方法。
【請求項５】
前記オゾン含有気体の相対湿度が２０％以下であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の処理方法。
【請求項６】
前記処理対象体が存在する処理対象体存在空間の雰囲気を構成する環境気体の相対湿度が５５％以下であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の処理方法。
【請求項７】
前記処理対象体が存在する処理対象体存在空間の雰囲気を構成する環境気体の相対湿度が３０％以下であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の処理方法。
【請求項８】
前記処理対象体が存在する処理対象体存在空間の雰囲気を構成する環境気体の相対湿度が２０％以下であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の処理方法。
【請求項９】
前記処理対象体が搬送される搬送路によって構成されてなる処理対象体存在空間に対して、オゾン含有気体が供給されることにより、当該搬送路において、オゾン含有気体に処理対象体が曝露されることを特徴とする請求項２〜請求項５のいずれかに記載の処理方法。
【請求項１０】
前記処理対象体存在空間に対して、オゾン含有気体が供給されることにより、当該処理対象体存在空間内において、当該オゾン含有気体に処理対象体が曝露されることを特徴とする請求項６〜請求項８のいずれかに記載の処理方法。
【請求項１１】
前記処理対象体が嫌湿性物品であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、オゾンを含むオゾン含有気体を利用して殺菌処理や脱臭処理を行う処理方法に関する。さらに詳しくは、嫌湿性物品を処理するために好適に用いられる処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、殺菌処理や脱臭処理を行う処理方法（以下、「殺菌脱臭処理方法」ともいう。）の一つとして、強い酸化力を有するオゾン（Ｏ3 ）を利用する手法が知られている。
そして、オゾンの生成方法としては、オゾン原料気体（具体的には、例えば空気などの、酸素（Ｏ2 ）を含有する酸素含有気体）の雰囲気下において、沿面放電などの無声放電を生じさせることによってオゾンを生成させる放電方式、およびオゾン原料気体に対して紫外線を照射することによってオゾンを生成させる光化学反応方式などが知られている。
殺菌脱臭処理方法においては、放電方式のオゾン生成方法が広く利用されている。
【０００３】
具体的に、放電方式のオゾン生成方法によって得られたオゾンを利用する殺菌脱臭処理方法の或る種のものとしては、室内雰囲気を構成する空気や室内に配置してある室内配置物を処理対象体とし、当該処理対象体を、オゾン含有気体（具体的には、オゾンを含有するオゾン含有空気）と霧（水分）との混合体に曝露する手法が開示されている（特許文献１参照。）。
この特許文献１に記載の殺菌脱臭処理方法においては、ダクト内に、室内の雰囲気を構成する空気を取り込み、当該ダクト内において、沿面放電を生じさせることによってオゾンを生成し、その生成されたオゾンを含有するオゾン含有空気と、噴霧ノズルで生成された霧（水分）とを混合する。そして、ダクトから、オゾン含有空気と霧との混合体を、室内に供給することにより、その室内の雰囲気を構成する空気および当該室内に配置してある室内配置物の処理（殺菌処理および脱臭処理）を行う。この殺菌脱臭処理方法においては、処理効率の観点から、オゾン含有空気と霧との混合体が供給された室内、すなわち処理中の室内が、高湿度、具体的には湿度が８０％以上であることが好ましいとされている。
【０００４】
また、オゾンを利用する殺菌脱臭処理方法としては、放電方式以外のオゾン生成方法によって生成されたオゾンを利用する種々の手法が提案されている（例えば、特許文献２および特許文献３参照。）。
具体的には、特許文献２には、光化学反応方式のオゾン生成方法によってオゾンを生成するオゾン生成手段を備えた脱臭処理装置を用いて殺菌処理や脱臭処理を行う手法が開示されている。この手法は、脱臭処理装置の周囲雰囲気を構成する空気を処理対象体とし、当該処理対象体を、オゾン生成手段によって生成されたオゾンを含有するオゾン含有空気に曝露することによって脱臭処理を行うものである。この手法においては、波長１８５ｎｍの紫外線をオゾン原料気体（酸素含有気体）に照射することによってオゾンを生成する。そして、オゾン生成方法に供される、オゾン原料気体に水分が多く含まれている場合にはオゾン生成率が低下するとされている。
また、特許文献３には、光化学反応方式などのオゾン生成方法によって生成されたオゾンと水とを混合し、得られたオゾン混合水に処理対象体を曝露することによって殺菌処理を行う手法が開示されている。この手法においては、オゾン生成効率の観点から、オゾン生成方法に供される、オゾン原料気体（酸素含有気体）の湿度を６０％以下とすることが好ましいとされている。
【０００５】
このように、従来において、オゾンを利用する殺菌脱臭処理方法においては、オゾン生成効率が、オゾン原料気体（酸素含有気体）の湿度、処理対象体が気体である場合にはその気体の湿度、処理対象体が気体以外のものである場合には処理対象体の周囲雰囲気を構成する空気の湿度などに依存することが知られているものの、処理に利用するオゾンの生成方法が処理効率に及ぼす影響については、明らかにされていない。すなわち、従来において、オゾンを利用する殺菌脱臭処理方法においては、オゾンの生成方法と処理効率との関係性については考慮されていない。
【０００６】
また、殺菌処理を行う方法としては、活性酸素を利用する手法も提案されている（例えば、特許文献４参照。）。
具体的に、特許文献４には、処理対象体を収容するチャンバー内に酸素含有気体を供給する酸素供給手段と、当該チャンバー内を減圧する減圧手段と、当該チャンバーに配設された紫外線ランプとを備えた殺菌処理装置を用いて殺菌処理を行う方法が開示されている。この殺菌処理装置において、紫外線ランプとしては、真空紫外域の紫外線を放射する活性酸素発生用ランプと、真空紫外域以外の紫外線を放射する活性酸素分解用ランプとの２種類のランプが必要とされている。そして、活性酸素発生用ランプとしては、真空紫外域の紫外線と真空紫外域以外の紫外線の両方を放射するものを用いてもよいとされており、具体的には、主な出力光が、波長１８５ｎｍ、波長２５４ｎｍ、波長３１３ｎｍおよび波長３６６ｎｍ等の低圧水銀ランプが用いられている。なお、活性酸素分解用ランプとしては、波長２００ｎｍより長い波長の紫外線のみが外部に放射される構成の低圧水銀ランプが用いられている。
この手法は、種々の分野、具体的には、例えば医療分野で用いられる器具を処理対象体とするものである。そして、この方法においては、処理対象体が収容されたチャンバー内を減圧した後、当該チャンバー内に酸素含有気体を供給すると共に活性酸素発生用ランプを所定時間にわたって点灯させ、その後、さらに活性酸素分解用ランプを点灯させることによって殺菌処理が行われる。このような殺菌処理の過程においては、真空紫外域の紫外線（具体的には、波長１８５ｎｍの紫外線）が酸素含有気体中の酸素（Ｏ2 ）に吸収されることによって活性酸素（Ｏ・）が生成される。そして、活性酸素（Ｏ・）が不安定なものであることに起因して、活性酸素（Ｏ・）と活性酸素（Ｏ・）とが結合して再び酸素（Ｏ2 ）に戻ったり、活性酸素（Ｏ・）と酸素分子（Ｏ2 ）とが反応することによってオゾン（Ｏ3 ）が発生したりする場合があるとされている。また、活性酸素分解用ランプからの波長２６０ｎｍ以下の紫外線（具体的には、波長２５４ｎｍの紫外線）がオゾン（Ｏ3 ）に吸収されることによれば、そのオゾン（Ｏ3 ）が分解することによって酸素（Ｏ2 ）と活性酸素（Ｏ・）とが生成されるとされている。また、殺菌処理中のチャンバー内の湿度は、活性酸素（Ｏ・）の濃度の観点から、２０〜５０％であることが好ましいとされている。
さらに、特許文献４においては、純酸素が供給された、湿度が２０〜５０％のチャンバー内において低圧水銀ランプを点灯し、当該低圧水銀ランプからの光を処理対象体に照射しながら殺菌処理を行うことにより、良好な殺菌効果が得られることが実験により明らかにされたことが示されている。
【０００７】
然るに、特許文献４に開示されている殺菌処理方法においては、活性酸素（Ｏ・）の濃度が、処理対象体の周囲雰囲気を構成する酸素含有気体の湿度に依存することが示されているものの、殺菌処理の過程において生じるオゾン（Ｏ3 ）が殺菌処理に及ぼす影響については、明らかにされていない。
【０００８】
また、近年においては、食品などの製造販売に関する衛生管理の重要性が高まっており、特に輸入加工食品においては殺菌処理の必要性が高まってきている。然るに、粉末食品や乾燥食品においては、加湿を必要とするような高湿度条件で処理（具体的には、蒸気殺菌処理等）を行うことによっては風味や香味が損なわれるおそれがある、という問題がある。そのため、例えば風味や香味などを損なうなどの品質劣化が生じるという弊害を伴うことなく粉末食品や乾燥食品などの嫌湿性物品を殺菌処理するための手法が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特許第４６９７６２５号明細書
【特許文献２】特開２００９−１３１３５４号公報
【特許文献３】特開２０００−０７０９５３号公報
【特許文献４】特開２００６−０２０６６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
而して、本発明の発明者らは、オゾンを利用する処理方法について鋭意研究を重ね、処理に利用するオゾンの生成方法によって処理の様相が異なることを見出した。すなわち、オゾンを利用する処理方法において、オゾンの生成方法として、光化学反応方式を選択する場合と放電方式を選択する場合において、湿度条件によって処理効率、具体的はオゾンへの曝露量との関係における処理効率に大きな差が生じることが判明した。ここに、「オゾンへの曝露量」とは、処理対象体が曝露されている雰囲気におけるオゾンの濃度と、当該曝露の通算時間との積算値で示される値である。
【００１１】
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、その目的は、処理対象体を加湿することなく、オゾンを利用して効率よく殺菌処理や脱臭処理を行うことのできる処理方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の処理方法は、オゾンを分解する波長域の光を含まず、かつ波長２００ｎｍ以下の光であるオゾン生成用光を、オゾン原料気体に対して照射することによってオゾン含有気体を得、得られたオゾン含有気体に処理対象体を相対湿度が５５％以下の低湿度条件で曝露することにより、当該処理対象体を処理することを特徴とする。
【００１３】
本発明の処理方法においては、前記オゾン生成用光は、キセノンエキシマランプから放射された光であることが好ましい。
【００１４】
本発明の処理方法においては、前記オゾン含有気体の相対湿度が５５％以下であることが好ましい。また、本発明の処理方法において、前記オゾン含有気体の相対湿度は、３０％以下であることがさらに好ましく、２０％以下であることが特に好ましい。
【００１５】
本発明の処理方法においては、前記処理対象体が存在する処理対象体存在空間の雰囲気を構成する環境気体の相対湿度が５５％以下であることが好ましい。また、本発明の処理方法において、前記処理対象体が存在する処理対象体存在空間の雰囲気を構成する環境気体の相対湿度は、３０％以下であることがさらに好ましく、２０％以下であることが特に好ましい。
【００１６】
本発明の処理方法においては、前記処理対象体が搬送される搬送路によって構成されてなる処理対象体存在空間に対して、オゾン含有気体が供給されることにより、当該搬送路において、オゾン含有気体に処理対象体が曝露されることが好ましい。
【００１７】
本発明の処理方法においては、前記処理対象体存在空間に対して、オゾン含有気体が供給されることにより、当該処理対象体存在空間内において、当該オゾン含有気体に処理対象体が曝露されることが好ましい。
【００１８】
本発明の処理方法においては、前記処理対象体が嫌湿性物品であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の処理方法においては、オゾンを分解する波長域の光を含まず、かつ波長２００ｎｍ以下の光であるオゾン生成用光を、オゾン原料気体に対して照射することによって得られたオゾン含有気体に、処理対象体を曝露する。そのため、オゾン生成用光が照射されることに起因して、生成されたオゾンが分解されることがなく、また処理効率が湿度条件に大きく影響されることがない。
従って、本発明の処理方法によれば、処理対象体を加湿することなく、オゾンを利用して効率よく殺菌処理や脱臭処理を行うことができる。その結果、本発明の処理方法においては、処理過程において品質劣化が生じるという弊害を伴うことなく、嫌湿性物品を高い処理効率で処理することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の処理方法に用いられるエキシマランプの構成の一例を、ベース部材および高周波電源と共に示す説明図である。
【図２】本発明の処理方法を実施するために用いられる処理機構の構成の一例を示す説明図である。
【図３】図２の処理機構におけるオゾン発生器の構成の一例の概略を示す説明図である。
【図４】本発明の処理方法を実施するために用いられる処理機構の構成の他の例を示す説明図である。
【図５】本発明の処理方法を実施するために用いられる処理機構の構成の更に他の例を示す説明図である。
【図６】実験例１に用いた処理機構の構成の概略を示す説明図である。
【図７】実験例１に用いた比較実験用処理機構を構成するオゾン発生器の要部を示す説明図である。
【図８】実験例１において、実験用処理機構を用いることによって得られた、相対湿度と殺菌率との関係を示すグラフである。
【図９】実験例１において、比較実験用処理機構を用いることによって得られた、相対湿度と殺菌率との関係を示すグラフである。
【図１０】実験例１において得られた、相対湿度と、比較用実験用処理機構における殺菌率を基準としたときの、実験用処理機構における殺菌率の比との関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明の処理方法の実施の形態について説明する。
本発明の処理方法は、オゾン（Ｏ3 ）を利用して処理対象体を処理する方法であって、具体的には、処理対象体の殺菌処理や脱臭処理などに用いられるものである。すなわち、本発明の処理方法は、処理対象体に対して殺菌処理や脱臭処理を行うための処理方法（殺菌脱臭処理方法）である。
この本発明の処理方法は、物品を処理対象体とするものであり、処理対象体の好ましい具体例としては、嫌湿性物品が挙げられる。ここに、嫌湿性物品の具体例としては、例えば、粉末食品（具体的には、青汁粉末等）、乾燥食品（具体的には、乾燥ネギおよび切干大根等）、香辛料、粉末状の医薬品（具体的には、葛根湯等の漢方剤等）などが挙げられる。
【００２２】
この本発明の処理方法は、オゾン生成用光を、オゾン原料気体に対して照射することによってオゾン含有気体を得、得られたオゾン含有気体に処理対象体を曝露する、すなわち処理対象体をオゾン含有気体（オゾン）に接触させることにより、当該処理対象体を処理する方法である。すなわち、光化学反応方式のオゾン生成方法によって生成されたオゾンを利用する処理方法（殺菌脱臭処理方法）である。そして、オゾン生成用光が、オゾンを分解する波長域の光を含まず、かつ波長２００ｎｍ以下の光（紫外線）であること、および、オゾン含有気体の曝露が、相対湿度が５５％以下の低湿度条件で行われることを特徴とする。
ここに、「オゾン原料気体」とは、少なくとも酸素を含有する気体を示し、オゾン原料気体の具体例としては、空気が挙げられる。また、「オゾンを分解するオゾン分解波長域の光」とは、波長２４０〜２８０ｎｍの光（紫外線）を示す。
【００２３】
本発明の処理方法において、オゾン生成用光の波長域は、２００ｎｍ以下とされ、好ましくは１７２ｎｍを含む波長域である。
オゾン生成用光が波長２００ｎｍ以下の光であることにより、オゾン原料気体に含有されている酸素が分解されることによってオゾンが生成される。具体的に説明すると、酸素分子にオゾン生成用光が照射されることにより、当該酸素分子が分解（解離）して酸素原子が生じ、その酸素原子と他の酸素分子が結合することによってオゾンが生成される。しかも、オゾン生成用光が波長２００ｎｍ以下の光であることによれば、オゾン原料気体に対して、オゾン分解波長域の光が照射されることがないことから、オゾン生成用光が照射されることに起因して、生成されたオゾンが分解されることがない。
また、オゾン生成用光が波長１７２ｎｍの光を含むことによれば、オゾン生成用光をオゾン原料気体に照射することによって、活性酸素の一種である過酸化水素（Ｈ2 Ｏ2 ）を高い効率で生成させることができる。そのため、高い処理効率（具体的には、殺菌率や脱臭率）を得ることができる。
【００２４】
また、本発明の処理方法において、処理対象体に対するオゾン含有気体の曝露は、相対湿度が５５％以下の低湿度条件、具体的には処理雰囲気、すなわち処理対象体の近傍周囲雰囲気を構成する気体の相対湿度が５５％以下の湿度条件で行われる。
処理対象体に対するオゾン含有気体の曝露を低湿度条件によって行うための具体的な方法としては、下記の（１）および（２）の手法が挙げられる。
ここに、下記の（１）の手法は、例えば処理機構がライン式である場合などに用いられ、また下記の（２）の手法は、例えば処理機構がバッチ式である場合などに用いられる。
【００２５】
（１）オゾン含有気体の相対湿度を５５％以下とし、そのオゾン含有気体に処理対象体を曝露する手法（以下、「供給気体制御方法」ともいう。）
（２）オゾン含有気体が供給された処理対象体存在空間の雰囲気を構成する環境気体（以下、「処理環境気体」ともいう。）の相対湿度を５５％以下とすることにより、オゾン含有気体に処理対象体を曝露する手法（以下、「雰囲気気体制御方法」ともいう。）
【００２６】
ここに、雰囲気気体制御方法において、オゾン含有気体が供給された処理対象体存在空間の雰囲気を構成する環境気体（処理環境気体）の相対湿度を５５％以下とするための具体的な手法の一例について説明する。
先ず、オゾン含有気体が供給されていない状態の処理対象体存在空間とされる空間または処理対象体存在空間の雰囲気を構成する環境気体、具体的には空気（以下、「処理前環境空気」ともいう。）の相対湿度を５５％以下とする。次いで、処理前環境空気が供給される、独立的に区画されたオゾン生成空間において、処理前環境空気にオゾン生成光を照射することによってオゾン含有気体（オゾン含有空気）を得、そのオゾン含有気体を、処理対象体存在空間とされる空間または処理対象体存在空間に供給する。そして、必要に応じて、オゾン含有気体が供給された空間に、処理対象体を配置する。以って、処理環境気体の相対湿度を５５％以下とすることができる。
また、雰囲気気体制御方法において、処理環境気体の相対湿度を５５％以下とするための具体的な手法の他の例としては、オゾン含有気体が供給された状態の処理対象体存在空間とされる空間または処理対象体存在空間の雰囲気を構成する環境気体の相対湿度を適宜の湿度調整手段によって制御する手法が挙げられる。
【００２７】
供給気体制御方法におけるオゾン含有気体の相対湿度および雰囲気気体制御方法における処理環境気体の相対湿度（以下、これらをまとめて「曝露相対湿度」ともいう。）は、いずれも、５５％以下とされ、好ましくは３０％以下であり、特に好ましくは２０％以下である。
曝露相対湿度が５５％以下であることによれば、後述の実験例から明らかなように、処理対象体に対するオゾン含有気体の曝露時間（処理時間）、および、オゾン含有気体におけるオゾン濃度が小さい場合であっても、高い処理効率（具体的には、殺菌率や脱臭率）が得られる。具体的に説明すると、処理対象体に対するオゾン含有気体の曝露時間（処理時間）とオゾン含有気体におけるオゾン濃度との積の値で表されるオゾンへの曝露量、すなわちＣＴ値と称される値が４０以下である場合でも、放電方式のオゾン生成方法によって生成されたオゾンを利用する処理方法（殺菌脱臭処理方法）に比して高い処理効率が得られる。
また、曝露相対湿度が３０％以下であることによれば、後述の実験例から明らかなように、処理対象体に対するオゾン含有気体の曝露時間（処理時間）やオゾン含有気体におけるオゾン濃度によらず、放電方式のオゾン生成方法によって生成されたオゾンを利用する処理方法（殺菌脱臭処理方法）に比して高い処理効率が得られる。特に、曝露相対湿度が２０％以下であることによれば、放電方式のオゾン生成方法によって生成されたオゾンを利用する処理方法（殺菌脱臭処理方法）に比して極めて高い処理効率が得られる。
ここに、「ＣＴ値」とは、殺菌・不活性効果を示す指標であり、そのＣＴ値が高い程、殺菌・不活性効果が大きいことを示すものである。
【００２８】
また、オゾン原料気体としては、処理対象体存在空間の外部雰囲気を構成する空気、処理対象体存在空間を構成する空気、またはボンベなどから供給される圧縮空気や酸素が好適に用いられる。具体的には、供給気体制御方法によって処理を行う場合には、処理対象体存在空間の外部雰囲気を構成する空気、またはボンベなどから供給される圧縮空気や酸素が好適に用いられ、一方、雰囲気気体制御方法によって処理を行う場合には、処理対象体存在空間を構成する空気が好適に用いられる。
【００２９】
また、本発明の処理方法において、オゾン原料気体に対するオゾン生成用光の照射条件は、処理対象体の種類などを考慮して適宜に定められる。
オゾン原料気体に対するオゾン生成用光の照射条件の一例として、放射強度は、例えば２３．３〔ｍＷ／ｃｍ2 〕であり、照射時間は、例えば１４．６〔ｍｓｅｃ〕である。
【００３０】
また、本発明の処理方法においては、処理効率（具体的には、殺菌率や脱臭率）の観点から、オゾン原料気体にオゾン生成用光が照射されることによって得られたオゾン含有気体は、直ちに処理に供されることが好ましい。
【００３１】
また、本発明の処理方法において、処理対象体に対するオゾン含有気体の曝露時間（処理時間）は、オゾン含有気体におけるオゾン濃度に応じ、処理対象体の種類および処理対象体において必要とされる処理などを考慮して適宜に定められる。
具体的には、処理対象体に必要とされる処理が大腸菌の殺菌処理である場合には、オゾン含有気体におけるオゾン濃度との関係において、当該オゾン濃度〔ｐｐｍ〕と処理対象体に対するオゾン含有気体の曝露時間〔ｍｉｎ〕との積の値（ＣＴ値）が、６０以上であることが好ましい。
【００３２】
本発明の処理方法において、オゾン生成用光を放射するオゾン生成光源としては、オゾン分解波長域の光を放射することがなく、かつ波長２００ｎｍ以下の光を放射するもの、具体的には、エキシマランプおよび希ガス蛍光ランプ等の放電ランプ、並びにＬＥＤ素子およびＬＤ素子等の発光素子などが用いられる。
オゾン生成光源がエキシマランプまたは希ガス蛍光ランプよりなるものである場合には、大きなオゾン発生量を得るために、水銀ランプに比して大きな投入電力が必要とされることがない。そのため、高い効率でオゾンを生成することができる。また、エキシマランプおよび希ガス蛍光ランプは、水銀ランプに比して発熱量が少ないものであることから、ランプからの熱によって、生成されたオゾンが分解（熱分解）されることが抑制され、またランプからの熱に起因するオゾン生成空間の温度上昇を抑制するための冷却手段を設ける必要がない。さらに、エキシマランプおよび希ガス蛍光ランプは、環境温度によらず一定の発光効率が得られることから、オゾン発生器の配設環境によらず、所期の発光効率を得ることができる。
また、オゾン生成光源がＬＥＤ素子よりなるものである場合には、当該オゾン生成光源は、例えば、複数のＬＥＤ素子が、放熱基板上に適宜に配列されてなる構成を有するものとされる。
ここに、本発明において、「エキシマランプ」とは、Ｋｏｇｅｌｓｃｈａｔｚ，Ｐｕｒｅ＆Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．Ｖｏｌ．６２，Ｎｏ．９，１９９０，ｐ１６６７−１６７４に示されているように、誘電体を介して５０Ｈｚ〜数ＭＨｚの高周波電圧が印加されることによって生じる放電（誘電体バリア放電）を利用するランプである。
また、「希ガス蛍光ランプ」とは、例えば、両端に封止部が形成された、石英ガラスなどの透光性を有する誘電体材料よりなる筒状の発光管を有し、この発光管の内部に、キセノン、アルゴンおよびクリプトンなどの希ガスが封入され、当該発光管の内周面に蛍光体層が形成されたものである。そして、発光管には、一対の外部電極が、当該発光管の管軸方向に沿って互いに離間して設けられている。このような希ガス蛍光ランプにおいては、一対の外部電極に対して高周波電圧を印加することにより、誘電体（石英ガラスよりなる発光管の管壁）が介在された状態の一対の外部電極の間において放電が形成される。その結果、発光管の内部において希ガスエキシマ分子が形成され、この希ガスエキシマ分子が基底状態に遷移する際、エキシマ光が放出される。このエキシマ光により蛍光体層を構成する蛍光体が励起され、当該蛍光体層から紫外線が発生し、その光が発光管の外部に向かって放射される。
【００３３】
オゾン生成光源の好ましい具体例としては、中心波長１７２ｎｍの光を放射するキセノンエキシマランプが挙げられる。
【００３４】
エキシマランプ１０は、図１に示すように、例えば石英ガラスなどの紫外線透過材料によって構成され、一端（図１における右端）が封止され、他端（図１における左端）にピンチシール法によって形成された扁平状の封止部１１Ａが形成された直円筒状の発光管１１を備えている。この発光管１１の内部には、キセノンガスなどの希ガスが封入されていると共に、コイル状の内部電極１４が、発光管１１の管軸に沿って伸びるように配設されている。この内部電極１４は、内部リード１５を介して封止部１１Ａに埋設された金属箔１６に電気的に接続されており、金属箔１６には、封止部１１Ａの外端面から外方に突出する内部電極用外部リード１７の一端部が電気的に接続されている。また、発光管１１の外周面には、網状の外部電極１８が設けられており、外部電極１８には、封止部１１Ａに沿って伸びる外部電極用外部リード１９の一端部が電気的に接続されている。そして、内部電極１４と外部電極１８とが、発光管１１の内部空間および発光管１１の管壁を介して対向する領域において、発光領域が形成されている。このようにして、発光管１１の内部に放電空間が形成されている。
また、エキシマランプ１０の封止部１１Ａには、セラミック製のベース部材２１が装着されている。このベース部材２１には、給電線２２，２３が配設されており、この給電線２２，２３には、それぞれ外部電極用外部リード１９の他端部および内部電極用外部リード１７の他端部が接続されている。
そして、エキシマランプ１０は、内部電極１４が、金属箔１６、内部電極用外部リード１７およびベース部材２１の給電線２２を介して高周波電源２４に接続され、外部電極１８が、外部電極用外部リード１９およびベース部材２１の給電線２３を介して接地されている。
この図の例において、発光管１１は、一端に排気管残部１１Ｂを有するものである。
【００３５】
本発明の処理方法の具体例としては、後述する、種々の処理機構を用いる手法が挙げられる。
いずれの処理機構を利用するかは、処理対象体の種類などを考慮して、適宜に選択される。
【００３６】
（第１の処理機構）
図２は、本発明の処理方法を実施するために用いられる処理機構の構成の一例を示す説明図である。また、図３は、図２の処理機構におけるオゾン発生器の構成の一例の概略を示す説明図である。
第１の処理機構３０は、粉末状の嫌湿性物品を処理対象体とするものであり、処理対象体を収容して処理するための処理容器３１と、当該処理容器３１の内部にオゾン含有気体を供給する、オゾン生成光源を具備したオゾン発生器４０とを備えたバッチ式の処理機構である。この第１の処理機構３０において、処理容器３１は、上方に開口する開口部を有する容器本体３２と、当該開口部を開閉する蓋部材３３とよりなるものであり、容器本体３２に形成された気体供給用開口３４を介してオゾン発生器４０に接続されている。また、処理容器３１の内部空間によって処理空間Ｓ１が構成されている。すなわち、処理空間Ｓ１によって、処理対象体が存在する処理対象体存在空間が構成される。そして、第１の処理機構３０においては、処理対象体存在空間が閉塞空間とされた状態、すなわち処理容器３１の内部空間（処理空間Ｓ１）と外部（処理容器３１の外部）とを連通する開口部が蓋部材３３によって閉じられた状態で処理が行われる。
この図の例において、処理容器３１内には、粉末状の嫌湿性物品（処理対象体）を撹拌する撹拌翼３９が配設されている。また、処理容器３１内には、当該処理容器３１の内部空間（処理空間Ｓ１）の湿度（具体的には、処理空間Ｓ１の雰囲気を構成する環境気体の相対湿度）を測定する湿度測定手段（図示省略）と、その湿度測定手段によって測定された湿度（相対湿度）の値に基づいて処理容器３１の内部空間の湿度（処理空間Ｓ１の雰囲気を構成する環境気体の相対湿度）が５５％以下となるように制御する湿度調整手段（図示省略）とが配設されている。
図２においては、撹拌翼３９の回転方向が実線矢印によって示されている。
【００３７】
オゾン発生器４０は、オゾン原料気体Ｇ１にオゾン生成用光を照射することによって、当該オゾン原料気体Ｇ１中の酸素にオゾン生成用光を吸収させてオゾンを生成し、生成されたオゾンを含有するオゾン含有気体Ｇ２を、当該オゾン発生器４０の外部に排出するものである。
このオゾン発生器４０は、長尺な直円筒状の流路形成部材４１を備えており、この流路形成部材４１における円柱状の内部空間によってオゾン生成空間Ｓ２が構成されている。この流路形成部材４１においては、一端に導入口４１Ａが形成され、他端に導出口４１Ｂが形成されている。この導入口４１Ａには、直円筒状の導入路形成部材４２によるオゾン原料気体導入路を介してオゾン原料気体供給手段（図示省略）が接続されている。また、導出口４１Ｂには、直円筒状の導出路形成部材４３が接続されている。この導出路形成部材４３は、容器本体３２に形成された気体供給用開口３４に気密に挿設されている。また、流路形成部材４１の内部（オゾン生成空間Ｓ２）には、図１に示すような構成のエキシマランプ１０よりなるオゾン生成光源が、給電線２２を介して高周波電源２４に接続され、給電線２３を介して接地された状態で、発光領域の全域が当該内部に位置するように配置されている。このエキシマランプ１０は、流路形成部材４１の内径よりも小さい外径を有すると共に、当該流路形成部材４１の全長よりも短い発光長（発光領域の長さ）を有するものである。また、エキシマランプ１０は、流路形成部材４１の内部において、当該エキシマランプ１０の管軸（ランプ中心軸）が流路形成部材４１の管軸と略一致するように支持部材（図示省略）によって支持されている。すなわち、エキシマランプ１０は、管軸（ランプ中心軸）が流路形成部材４１の管軸と略一致し、当該エキシマランプ１０の外周面が全周にわたって流路形成部材４１の内周面と離間し、当該外周面と当該内周面との間に環状空間が形成されるように配設されている。このようにして、流路形成部材４１の内部、すなわちオゾン生成空間Ｓ２には、オゾン原料気体供給手段から導入口４１Ａを介して供給されたオゾン原料気体Ｇ１が導出口４１Ｂに向かって流動するオゾン原料気体流路が形成されている。
【００３８】
流路形成部材４１においては、内周面の全面がオゾンに対する耐性を有しており、また必要に応じてオゾン生成光源（エキシマランプ１０）からの光に対する遮光性を有している。この流路形成部材４１は、フッ素樹脂およびステンレス鋼などの耐オゾン性材料よりなることが好ましい。
また、流路形成部材４１は、内周面における、少なくともオゾン生成光源（エキシマランプ１０）からの光が照射される領域が、オゾン生成用光に対する光反射機能を有するものであることが好ましい。
流路形成部材４１が、オゾン生成光源（エキシマランプ１０）からの光が照射される領域において光反射能を有するものであることにより、オゾン生成光源からの光（オゾン生成用光）を有効に利用することができるため、より高い効率でオゾンを生成することができる。
この図の例において、流路形成部材４１は、金属（具体的には、ＳＵＳ３１６）よりなることにより、内周面の全面がオゾンに対する耐性を有すると共に光反射能を有するものとされており、またエキシマランプ１０からの光に対する遮光性を有するものとされている。
【００３９】
オゾン原料気体供給手段としては、第１の処理機構３０の環境雰囲気（具体的には、処理容器３１およびオゾン発生器４０の外部雰囲気）を構成する空気（周囲空気）を導入し、その環境雰囲気を構成する空気を、流路形成部材４１の内部（オゾン生成空間Ｓ２）に供給して流動させることのできる送風手段が用いられる。
【００４０】
オゾン原料気体供給手段によるオゾン原料気体Ｇ１の供給条件は、流路形成部材４１の内部（オゾン生成空間Ｓ２）において、オゾン原料気体Ｇ１に対して所期の照射条件でオゾン生成用光が照射されるように、流路形成部材４１の内径やエキシマランプ１０の外径などを考慮して適宜に定められる。
【００４１】
このような構成の第１の処理機構３０においては、処理空間Ｓ１（処理対象体存在空間）に存在する処理対象体（粉末状の嫌湿性物品）に対して、本発明の処理方法における雰囲気気体制御方法によって殺菌処理が行われる。
具体的に説明すると、オゾン発生器４０において、オゾン原料気体供給手段により、第１の処理機構３０の環境雰囲気を構成する空気（周囲空気）が、オゾン原料気体Ｇ１として、導入路形成部材４２（オゾン原料気体導入路）から導入口４１Ａを介して流路形成部材４１の内部（オゾン生成空間Ｓ２）に供給される。この流路形成部材４１の内部に供給されたオゾン原料気体Ｇ１は、導出口４１Ｂに向かってオゾン原料気体流路を流動し、そのオゾン原料気体Ｇ１に対して、エキシマランプ１０（オゾン生成光源）からの光（オゾン生成用光）が照射される。これにより、オゾン原料気体Ｇ１中の酸素がオゾン生成用光（紫外線）を吸収することによってオゾン生成反応が生じてオゾンが生成される。このようにしてオゾン原料気体Ｇ１にオゾン生成用光が照射されることによって生成されたオゾンを含有するオゾン含有気体Ｇ２が、導出口４１Ｂを介して導出路形成部材４３によるオゾン含有気体導出路からオゾン発生器４０の外部に排出される。
そして、このようにしてオゾン含有気体Ｇ２が供給される処理容器３１の内部空間（処理空間Ｓ１）、すなわち処理対象体存在空間においては、撹拌翼３９によって粉末状の嫌湿性物品が撹拌された状態とされており、また、湿度調整手段によって処理対象体存在空間の雰囲気を構成する環境気体（処理環境気体）の相対湿度が５５％以下とされている。
このようにして、オゾン発生器４０（オゾン生成空間Ｓ２）から処理対象体存在空間に供給されたオゾン含有気体Ｇ２に、当該処理対象体存在空間に存在する処理対象体が低湿度条件で曝露されることにより、処理対象体が殺菌処理される。この処理中においては、粉末状の嫌湿性物品が撹拌翼３９によって撹拌された状態が維持されると共に、処理対象体存在空間にオゾン含有気体Ｇ２が連続的に供給された状態とされる。
【００４２】
（第２の処理機構）
図４は、本発明の処理方法を実施するために用いられる処理機構の構成の他の例を示す説明図である。
第２の処理機構５０は、粉末状の嫌湿性物品を処理対象体とするものであり、処理対象体を搬送する搬送路を形成する搬送路形成部材５１と、当該搬送路にオゾン含有気体を供給する、オゾン生成光源を具備したオゾン発生器５５とを備えたライン式の処理機構である。この第２の処理機構５０において、搬送路形成部材５１は、水平方向に伸びるように配設されており、その一端に形成された気体供給用開口５３を介してオゾン発生器５５に接続されている。また、搬送路形成部材５１の一端側には、当該搬送路形成部材５１によって形成された搬送路に供給するための処理対象体を貯蔵するホッパ５２が設けられている。このホッパ５２は、上方に開口する開口部５２Ａを有するものである。そして、第２の処理機構５０においては、搬送路形成部材５１の内部空間、すなわち搬送路によって、処理対象体存在空間が構成されており、この搬送路においては、ホッパ５２の開口部５２Ａを介して、搬送路（搬送路形成部材５１の内部空間）と外部（搬送路形成部材５１の外部）とが連通した状態で処理が行われる。
この図の例において、搬送路形成部材５１内には、粉末状の嫌湿性物品（処理対象体）を撹拌しながら水平方向（図４における右方向）に搬送するスクリュ（図示省略）が配設されている。
【００４３】
オゾン発生器５５は、図２に係る第１の処理機構３０を構成するオゾン発生器４０において、湿度測定手段（図示省略）と、湿度調整手段（図示省略）とが設けられていること以外は、当該第１の処理機構３０を構成するオゾン発生器４０と同様の構成を有するものである。このオゾン発生器５５において、温度測定手段は、第２の処理機構５０の環境雰囲気を構成する環境気体の湿度（相対湿度）を測定するものである。また、湿度調整手段は、当該湿度測定手段によって測定された湿度（相対湿度）の値に基づいてオゾン発生器５５から排出される気体（オゾン含有気体Ｇ２）の湿度（相対湿度）が５５％以下になるように制御するものである。
この図の例において、湿度測定手段および湿度調整手段は、導入路形成部材４２内（オゾン原料気体導入路）に配設されている。湿度調整手段は、オゾン有効利用性の観点から、導入路形成部材４２内に設けられていることが好ましいが、オゾン原料気体導入路を流動する気体（第２の処理機構５０の環境雰囲気を構成する環境気体）が低湿度のものであって湿度調整手段による除湿処理が必要とされない場合には、導出路形成部材４３内（オゾン含有気体導出路）に配置されていてもよい。
【００４４】
このような構成の第２の処理機構５０においては、搬送路（処理対象体存在空間）に存在する処理対象体（粉末状の嫌湿性物品）に対して、本発明の処理方法における供給気体制御方法によって殺菌処理が行われる。
具体的に説明すると、オゾン発生器５５において、オゾン原料気体供給手段により、第２の処理機構５０の環境雰囲気を構成する空気（周囲空気）が、オゾン原料気体Ｇ１として、導入路形成部材４２（オゾン原料気体導入路）から導入口４１Ａを介して流路形成部材４１の内部（オゾン生成空間Ｓ２）に供給される。この流路形成部材４１の内部に供給されたオゾン原料気体Ｇ１は、導出口４１Ｂに向かってオゾン原料気体流路を流動し、そのオゾン原料気体Ｇ１に対して、エキシマランプ１０（オゾン生成光源）からの光（オゾン生成用光）が照射される。これにより、オゾン原料気体Ｇ１中の酸素がオゾン生成用光（紫外線）を吸収することによってオゾン生成反応が生じてオゾンが生成される。このようにしてオゾン原料気体Ｇ１にオゾン生成用光が照射されることによって生成されたオゾンを含有するオゾン含有気体Ｇ２が、導出口４１Ｂを介して導出路形成部材４３（オゾン含有気体導出路）からオゾン発生器５５の外部に排出される。このオゾン発生器５５から排出されるオゾン含有気体Ｇ２は、湿度調整手段によって相対湿度が５５％以下とされている。
そして、このようにしてオゾン含有気体Ｇ２が供給される搬送路（搬送路形成部材５１の内部空間）、すなわち処理対象体存在空間においては、粉末状の嫌湿性物品が搬送された状態とされている。
このようにして、オゾン発生器５５から搬送路に供給されたオゾン含有気体Ｇ２に、当該搬送路に存在する処理対象体が低湿度条件で曝露されることにより、処理対象体が殺菌処理される。この処理中においては、粉末状の嫌湿性物品が搬送路を搬送された状態が維持されると共に、搬送路にオゾン含有気体Ｇ２が連続的に供給された状態とされる。
【００４５】
このような処理機構によって実施される本発明の処理方法においては、オゾン生成用光を、オゾン原料気体に対して照射することによって得られたオゾン含有気体に、処理対象体を曝露する。そのため、オゾン生成用光が照射されることに起因して、生成されたオゾンが分解されることがない。また、後述の実験例から明らかなように、放電方式のオゾン生成方法によって生成されたオゾンを利用する処理方法（殺菌脱臭処理方法）のように、処理雰囲気を構成する気体（処理環境気体）の湿度（曝露相対湿度）に大きく影響されることがない。具体的には、放電方式のオゾン生成方法によって生成されたオゾンを利用する処理方法（殺菌脱臭処理方法）においては高い処理効率を得ることができない、曝露相対湿度が５５％以下の湿度条件、特に処理効果（具体的には、殺菌効果や脱臭効果）を得ることができない曝露相対湿度２０％以下の湿度条件であっても、高い処理効率を得ることができる。
従って、本発明の処理方法においては、処理対象体を加湿することなく、オゾンを利用して効率よく殺菌処理や脱臭処理を行うことができる。その結果、本発明の処理方法によれば、できるだけ高い乾燥状態（具体的には、相対湿度が０〜５０％程度の低湿度状態）が必要とされる、粉末食品、乾燥食品、香辛料、粉状の医薬品などの嫌湿性物品を、処理過程において、風味や香味や性能特性を損なうなどの品質劣化が生じるという弊害を伴うことなく処理（具体的には、殺菌処理や脱臭処理）することができる。
【００４６】
また、本発明の処理方法においては、オゾン原料気体に対するオゾン生成用光の照射時間などを調整することにより、オゾン含有気体におけるオゾン濃度を容易に制御することができる。
本発明の処理方法において、オゾン含有気体におけるオゾン濃度は、例えば５０ｐｐｍ以下とされる。
【００４７】
また、第１の処理機構および第２の処理機構によって実施される本発明の処理方法においては、オゾン発生器４０，５５が処理対象体存在空間の外部に配設されており、オゾン発生器４０，５５における流路形成部材４１がオゾン発生光源（エキシマランプ１０）からの光に対する遮光性を有するものである。そのため、オゾン発生光源（エキシマランプ１０）からの光が処理対象体に照射されないことから、処理対象体において、オゾン発生光源からの光（紫外線）が照射されることに起因する劣化が生じることがない。
【００４８】
以上、本発明の処理方法について具体的に説明したが、本発明は以上の例に限定されるものではなく、種々の変更を加えることができる。
例えば、本発明の処理方法を実施するために用いられる処理機構は、上記の構成（具体的には、第１の処理機構３０および第２の処理機構５０）に限定されるものではない。具体的には、例えば、本発明の処理方法を実施するための処理機構は、図５に示すように、処理対象体存在空間とされる処理空間Ｓ１の雰囲気を構成する環境気体（具体的には、空気）が、オゾン原料気体Ｇ１としてオゾン発生器５８（流路形成部材４１の内部）に供給される構成のものであってもよい。この図の例において、処理機構は、処理空間Ｓ１を区画する筐体５７の内部に、オゾン生成光源を具備したオゾン発生器５８が配設されたものである。このオゾン発生器５８は、図２に係る第１の処理機構３０を構成するオゾン発生器４０において、オゾン原料気体供給手段５９として、処理空間Ｓ１（処理対象体存在空間）の雰囲気を構成する環境気体（空気）を循環する構成のものが用いられていること以外は、当該オゾン発生器４０と同様の構成を有するものである。具体的に説明すると、オゾン原料気体供給手段５９としては、処理空間Ｓ１の雰囲気を構成する環境気体を導入し、その環境気体を、オゾン原料気体Ｇ１として、流路形成部材４１の内部（オゾン生成空間Ｓ２）に供給して流動させることのできるものが用いられる。そして、このような構成の処理機構においては、筐体５７内に存在する処理対象体（粉末状の嫌湿性物品）に対して、本発明の処理方法における雰囲気気体制御方法によって処理が行われる。
この処理機構によって実施される本発明の処理方法においても、第１の処理機構および第２の処理機構によって実施される本発明の処理方法と同様に、処理対象体を加湿することなく、オゾンを利用して効率よく殺菌処理や脱臭処理を行うことができる。また、オゾン発生器５８が、処理対象体が収容される筐体５７内に配設されていても、当該オゾン発生器５８における流路形成部材４１がオゾン発生光源からの光に対する遮光性を有するものであることから、処理対象体に対してオゾン生成光源からの光が照射されることがない。そのため、処理対象体において、オゾン発生光源からの光（紫外線）が照射されることに起因する劣化が生じることがない。
【００４９】
以下、本発明の実験例について説明する。
【００５０】
図６に示すように、容積２８８Ｌの環境試験機６１と、当該環境試験機６１の内部に配設されたオゾン発生器６３と、循環路形成部材６６を介して環境試験機６１に接続されたオゾンモニタ６５とを備えた実験用処理機構（以下、「実験用処理機構（１）」ともいう。）を作製した。オゾン発生器６３は、ステンレス鋼（ＳＵＳ３１６）よりなる直円筒状の流路形成部材内に、入力電力が２０Ｗ、紫外線出力が４Ｗであって中心波長が１７２ｎｍの光を放射するキセノンエキシマランプ（ウシオ電機株式会社製）が、当該流路形成部材の管軸に沿って配置されたものである（図３参照）。このオゾン発生器６３においては、流路形成部材がステンレス鋼よりなり、遮光性を有するものであることから、キセノンエキシマランプからの光が当該オゾン発生器６３の外部に出射されることはない。また、オゾンモニタ６５としては、紫外線吸収式オゾンモニタ「ＥＧ−３０００Ｄ」（荏原実業株式会社製）を用いた。この実験用処理機構（１）においては、循環路形成部材６６による循環路を介して環境試験機６１の内部雰囲気を構成するガス（空気）を循環し、オゾンモニタ６５によって当該内部雰囲気を構成する空気のオゾン濃度が測定される。
この実験用処理機構（１）は、本発明の処理方法によって殺菌処理を行うものである。
【００５１】
また、実験用処理機構（１）において、オゾン発生器６３として、入力電力（消費電力）が４５Ｗの放電式オゾン発生器「剛腕１０００Ｔ（型番：ＧＷＤ−１０００Ｔ）」（オーニット株式会社製）を用いた比較実験用処理機構（以下、「実験用処理機構（２）」ともいう。）を作製した。
この実験用処理機構（２）は、オゾン生成方法として、オゾン原料気体（具体的には、空気）の雰囲気下において、沿面放電などの無声放電を生じさせることによってオゾンを生成させる放電方式を利用するものである。以下において、実験用処理機構（２）によって行われる、放電方式のオゾンの生成方法によって得られたオゾン含有気体を利用する処理方法を、「放電方式利用処理方法」ともいう。
ここに、放電方式のオゾンの生成方法において用いられるオゾン発生器は、例えば、図７に示すように、石英ガラスなどの誘電体材料よりなる直円筒状の流路形成部材７１を備えており、この流路形成部材７１の内周面によって区画される円柱状空間により、一方の端部７１Ａから他方の端部７１Ｂに向かって空気が流動すると共に、放電（無声放電）が生じる空気流路が形成されたものである。この流路形成部材７１には、外周面に、管軸に沿って螺旋状に伸びる一方の電極７２が設けられ、また内周面に、管軸に沿って螺旋状に伸びる一方の電極７３が設けられており、これらの一方の電極７２および他方の電極７３は、給電線７４，７５を介して高周波電源７６に接続されている。
【００５２】
一方、寒天培地が充填されており、その寒天培地上に、大腸菌Ｋ１２株（ＮＢＲＣ１０６３７３）を植菌した試験区用シャーレと対照区用シャーレとを、それぞれ複数用意した。ここに、複数の試験区用シャーレおよび複数の対照区用シャーレにおいて、植菌した大腸菌Ｋ１２株（ＮＢＲＣ１０６３７３）の数（コロニー形成単位数）は、１０００ＣＦＵ以上であって１２００ＣＦＵ以下である。
【００５３】
作製した実験用処理機構（１）および実験用処理機構（２）において、環境試験機６１の内部の相対湿度が、５％、１０％、２０％、３０％、４０％、５０％、５５％、６０％、７０％または８０％となる条件下において、当該環境試験機６１におけるオゾン濃度が４０ｐｐｍとなるように、オゾン発生器６３を連続駆動した。ここに、環境試験機６１の内部は、温度が２０℃であって、気圧が大気圧と同等である。そして、環境試験機６１の扉（図示省略）を開けて、当該環境試験機６１の内部に、試験区用シャーレを配置した後、直ちに扉を閉めた。この環境試験機６１の扉の開閉に伴って、環境試験機６１の内部におけるオゾン濃度が３０ｐｐｍに低下した。その後、オゾン発生器６３の駆動を制御（ＯＮ／ＯＦＦ制御）することにより、環境試験機６１におけるオゾン濃度を３０±２ｐｐｍに維持した。このオゾン濃度が３０±２ｐｐｍに維持された状態の環境試験機６１の内部において、温度および気圧は一定であった。このようにして、オゾン濃度３０±２ｐｐｍのオゾン含有空気に、大腸菌Ｋ１２株（ＮＢＲＣ１０６３７３）を曝露した。
その後、ＣＴ値が４０、６０、８０または１００となる曝露時間が経過したところで、環境試験機６１から試験区用シャーレを取り出し、この試験区用シャーレを、対照区用シャーレと共に、温度３７℃の条件下において２４時間放置することによって培養した。
【００５４】
そして、２４時間培養後の試験区用シャーレおよび対照区用シャーレを確認し、コロニー数が１０００ＣＦＵ未満であった試験区用シャーレについて、そのコロニー数（コロニー形成単位数）から大腸菌Ｋ１２株（ＮＢＲＣ１０６３７３）の殺菌率を算出した。結果を表１および表２並びに図８および図９に示す。この図８および図９においては、ＣＴ値が４０である場合の結果が菱形プロット（◆）で示されており、ＣＴ値が６０である場合の結果が四角プロット（■）で示されており、ＣＴ値が８０である場合の結果が三角プロット（▲）で示されており、ＣＴ値が１００である場合の結果がクロスプロット（×）で示されている。
なお、いずれの対照区用シャーレにおいても、コロニー数（コロニー形成単位数）は１０００ＣＦＵ以上であった。
【００５５】
【表１】
2018153238.tif 000003
【００５６】
【表２】
2018153238.tif 000004
【００５７】
また、表１および表２並びに図８および図９に示した結果に基づいて、ＣＴ値が４０、６０、８０および１００である各場合において、実験用処理機構（２）における殺菌率を基準としたときの、実験用処理機構（１）における殺菌率の比（図１０のグラフにおいては、「ＵＶ殺菌率／放電殺菌率」と示す。）を算出した。結果を表３および図１０に示す。この図１０においては、ＣＴ値が４０である場合の結果が菱形プロット（◆）で示されており、ＣＴ値が６０である場合の結果が四角プロット（■）で示されており、ＣＴ値が８０である場合の結果が三角プロット（▲）で示されており、および、ＣＴ値が１００である場合の結果がクロスプロット（×）で示されている。
【００５８】
【表３】
2018153238.tif 000005
【００５９】
以上の実験例の結果から、実験用処理機構（１）によれば、オゾン原料気体として、相対湿度が５％、１０％、２０％、３０％、４０％、５０％、５５％、６０％、７０％および８０％の空気のいずれを用いた場合であっても、６０％以上の高い殺菌率が得られることが明らかである。特に、実験用処理機構（２）においては殺菌効果または高い殺菌率が得られることのなかった、オゾン原料気体として、相対湿度が５５％以下の空気を用いた場合であっても、高い殺菌率が得られることが明らかである。
従って、本発明に係る実験用処理機構（１）、すなわち本発明の処理方法によれば、処理雰囲気を構成する気体の相対湿度が５５％以下の低湿度条件において、効率よく処理対象体の処理を行うことができることが確認された。すなわち、処理対象体を加湿することなく、処理対象体を効率的に処理できることが確認された。
【００６０】
また、上述の実験例において、試験区用シャーレに植菌した大腸菌Ｋ１２株（ＮＢＲＣ１０６３７３）をオゾン含有空気に曝露する曝露時間を一定時間とし、当該オゾン含有空気におけるオゾン濃度を変更することによって、ＣＴ値が４０、６０、８０または１００となるようにしたこと以外は、上述の実験例と同様の実験を行った。この実験においても、上述の実験例と同様の結果が得られた。
【００６１】
上述の実験例において、環境試験機内の温度は２０℃で一定であったが、当該環境試験機内の温度を変更した場合、例えば当該環境試験機内の温度を５℃、１０℃、３０℃、４０℃等に変更した場合においても、上述の実験例と同様の結果が得られる。
【００６２】
以上において、本発明の処理方法によって殺菌処理を行った場合において得られる効果について確認したが、本発明の処理方法によって脱臭処理を行った場合においても、効率的に処理を行うことができるものと考えられる。
その理由は、殺菌処理において菌の不活性化に寄与するオゾンやラジカルは、脱臭処理において悪臭物質の分解に対しても寄与するからである。
【符号の説明】
【００６３】
１０    エキシマランプ
１１    発光管
１１Ａ    封止部
１１Ｂ    排気管残部
１４    内部電極
１５    内部リード
１６    金属箔
１７    内部電極用外部リード
１８    外部電極
１９    外部電極用外部リード
２１    ベース部材
２２，２３    給電線
２４    高周波電源
３０    第１の処理機構
３１    処理容器
３２    容器本体
３３    蓋部材
３４    気体供給用開口
３９    撹拌翼
４０    オゾン発生器
４１    流路形成部材
４１Ａ    導入口
４１Ｂ    導出口
４２    導入路形成部材
４３    導出路形成部材
５０    第２の処理機構
５１    搬送路形成部材
５２    ホッパ
５２Ａ    開口部
５３    気体供給用開口
５５    オゾン発生器
５７    筐体
５８    オゾン発生器
５９    オゾン原料気体供給手段
６１    環境試験機
６３    オゾン発生器
６５    オゾンモニタ
６６    循環路形成部材
７１    流路形成部材
７１Ａ    一方の端部
７１Ｂ    他方の端部
７２，７３    電極
７４，７５    給電線
７６    高周波電源
Ｓ１    処理空間
Ｓ２    オゾン生成空間
Ｇ１    オゾン原料気体
Ｇ２    オゾン含有気体
【図１】
2018153238.tif 000006
【図２】
2018153238.tif 000007
【図３】
2018153238.tif 000008
【図４】
2018153238.tif 000009
【図５】
2018153238.tif 000010
【図６】
2018153238.tif 000011
【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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