(57)【要約】【課題】剥離工程において水系溶媒を用いて光学部材上に処理パターンを形成することが可能な光学部材の製造方法に関する。【解決手段】本発明の一実施例である処理パターンが形成された光学部材の製造方法は、  レンズ基材上に、水溶性ポリマーを含むレジストパターンを形成する、レジストパターン形成工程と、  レジストパターンが形成されたレンズ基材に非水溶性層を形成する、非水溶性層形成工程と、  レジストパターンを水系溶媒により除去することで、レジストパターン上に形成された非水溶性層を剥離し、処理パターンを形成する、剥離工程と、を備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理パターンが形成された光学部材の製造方法であって、
レンズ基材上に、水溶性ポリマーを含むレジストパターンを形成する、レジストパターン形成工程と、
前記レジストパターンが形成された前記レンズ基材に非水溶性層を形成する、非水溶性層形成工程と、
前記レジストパターンを水系溶媒により除去することで、前記レジストパターン上に形成された非水溶性層を剥離し、処理パターンを形成する、剥離工程と、
を備える、光学部材の製造方法。
【請求項２】
前記水溶性ポリマーが、ポリビニルピロリドンである、請求項１に記載の光学部材の製造方法。
【請求項３】
前記水溶性ポリマーが、重量平均分子量１００以上３０，０００以下である、請求項１又は２に記載の光学部材の製造方法。
【請求項４】
前記レジストパターン形成工程において、水溶性ポリマーを含むインクを硬化させてレジストパターンを形成する、請求項１〜３のいずれかに記載の光学部材の製造方法。
【請求項５】
前記インクが、水溶性ポリマーと、（メタ）アクリルモノマーとを含有する、請求項４に記載の光学部材の製造方法。
【請求項６】
前記インクが、光重合開始剤を更に含み、
前記レジストパターン形成工程において、レジストパターン形成後、光照射する、請求項４又は５に記載の光学部材の製造方法。
【請求項７】
前記レジストパターン形成工程において、インクジェット記録法によりレジストパターンを形成する、請求項４〜６のいずれかに記載の光学部材の製造方法。
【請求項８】
前記インクが、高沸点溶媒を更に含む、請求項４〜７のいずれかに記載の光学部材の製造方法。
【請求項９】
前記インクのレジストパターン形成表面に対する接触角が、２５°以上６５°以下である、請求項４〜８のいずれかに記載の光学部材の製造方法。
【請求項１０】
前記非水溶性層が、金属層である、請求項１〜９のいずれかに記載の光学部材の製造方法。
【請求項１１】
前記非水溶性層形成工程は、非水溶性層を蒸着により形成する、請求項１〜１０のいずれかに記載の光学部材の製造方法。
【請求項１２】
前記レジストパターンが、等方的に均一に配置された複数のドット部を有する、請求項１〜１１のいずれかに記載の光学部材の製造方法。
【請求項１３】
前記ドット部の中心から隣接するドット部の中心との間隔が、０．１ｍｍ以上５．０ｍｍ以下である、請求項１２に記載の光学部材の製造方法。
【請求項１４】
前記レンズ基材上に、ハードコート層を形成する、ハードコート形成工程を、レジストパターン形成工程前に更に有する、請求項１〜１３のいずれかに記載の光学部材の製造方法。
【請求項１５】
前記剥離工程後、機能層を形成する、機能層形成工程を更に有する、請求項１〜１４のいずれかに記載の光学部材の製造方法。
【請求項１６】
前記光学部材が眼鏡レンズである、請求項１〜１５のいずれかに記載の光学部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、処理パターンが形成された光学部材の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
眼鏡レンズは、レンズ基材の表面を覆う様々な層を備えている。例えば、レンズ基材に対して傷が入ることを防止するためのハードコート層、レンズ表面での光反射を防止するための反射防止層、さらにはレンズの水ヤケを防止するための撥水層等である。また近年では、光学部材に所定の模様を形成するためのコーティング方法が提案されている（例えば特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−５５２５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１の処理パターンの形成方法によれば、レジストパターンとなる印刷された模様を除去する（剥離工程）際に有機溶媒が用いられている。有機溶媒の使用により、排水の処理において特別な処理を施す必要がある、或いは、有機溶媒とハードコート層材料との相性でハードコート層材料の種類の選択肢が限定的になる等の課題を有していた。
そこで、本開示は、剥離工程において水系溶媒を用いて光学部材上に処理パターンを形成することが可能な光学部材の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本開示の一実施例である処理パターンが形成された光学部材の製造方法は、
レンズ基材上に、水溶性ポリマーを含むレジストパターンを形成する、レジストパターン形成工程と、
レジストパターンが形成されたレンズ基材に非水溶性層を形成する、非水溶性層形成工程と、
レジストパターンを水系溶媒により除去することで、レジストパターン上に形成された非水溶性層を剥離し、処理パターンを形成する、剥離工程と、
を備える。
上述の水溶性ポリマーを含むレジストパターン形成を用い、剥離工程において水系溶媒により除去することで、処理パターンが形成された光学部材を得ることができる。
【０００６】
本開示の一実施例である処理パターンが形成された光学部材の製造方法は、
レジストパターン形成工程において、水溶性ポリマーを含むインクを硬化させてレジストパターンを形成し、
更に、インクが水溶性ポリマーと、（メタ）アクリルモノマーとを含有する。
上述の構成により、インクを硬化させた場合であっても、インク中に水溶性ポリマーが含まれることで、剥離工程において、優れた剥離性を発揮する。
【発明の効果】
【０００７】
本開示の一実施例である光学部材の製造方法によれば、剥離工程において水系溶媒を用いて光学部材上に処理パターンを形成することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】図１は、眼鏡レンズ１の平面図である。
【図２】図２は、眼鏡レンズ１のＡ−Ａ’断面図の一部である。
【図３】図３は、眼鏡レンズ１の製造方法を示すフロー図である。
【図４】図４は、レジストパターン形成工程（Ｓ２）の工程図である。
【図５】図５は、非水溶性層形成工程（Ｓ３）の模式図である。
【図６】図６は、剥離工程（Ｓ４）後の眼鏡レンズ１の断面図の一部である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本明細書における用語の定義を以下に示す。
「レジストパターン」とは、処理パターンを形成する領域に露出部を有する被覆材料を意味する。レジストパターンは、マスクパターンともいう。
「水溶性」とは、２５℃の水１００ｇに対して、１ｇ以上溶解する性質を意味し、「非水溶性」とは、２５℃の水１００ｇに対して、溶解量が１ｇ未満である性質を意味する。
「処理パターン」とは、レジストパターンが除去されて残存した非水溶性層部分を意味する。
【００１０】
以下に、本開示の実施の形態及び実施例について説明する。同一又は相当する部分に同一の参照符号を付し、その説明を繰返さない場合がある。以下に説明する実施の形態及び実施例において、個数、量等に言及する場合、特に記載がある場合を除き、本開示の範囲は必ずしもその個数、量等に限定されない。以下の実施の形態において、各々の構成要素は、特に記載がある場合を除き、本開示の実施の形態及び実施例にとって必ずしも必須のものではない。
【００１１】
［眼鏡レンズ１の構成］
図１は、眼鏡レンズ１の平面図である。眼鏡レンズ１の構成について、図１を参照して、説明する。また、非水溶性層として、後から説明する金属層を用いる場合を例にとり説明する。
眼鏡レンズ１は、複数の微細なドットＤが等方的に均一に配置されており、当該ドットＤにより、透かしマークＭが形成されている。本実施形態においては、透かしマークＭを形成した例を示したが、複数の微細なドットは、全面に形成されていてもよい。
「等方的に均一に配置された」とは、一方向に一定間隔で配置されていることを意味する。「一定間隔」とは、ドットを構成する、ドット中心から隣接するドット中心までの距離が、例えば、平均値±４０％以内に含まれる配列であることを意味する。  
【００１２】
図２は、眼鏡レンズ１のＡ−Ａ’断面図の一部である。図２に示すように、眼鏡レンズ１は、眼鏡用レンズ基材１１（以下単に「レンズ基材」ともいう）を有し、レンズ基材１１の第一主面上に、ハードコート層１３と、金属層１５と、反射防止層１７、及び撥水層１９とをこの順に有する。
【００１３】
＜処理パターン１５ｂ＞
眼鏡レンズ１には、金属を含有する処理パターン１５ｂが形成されている。
処理パターン１５ｂには、複数の微細なドット形状の開口部１５ａが形成されている。当該開口部１５ａにより、眼鏡レンズ１のドットＤが形成される。開口部１５ａは、等方的に均一に配置されている。開口部１５ａは、集合して、ロゴ等の透かしマークを形成する。このように、複数の微細なドット形状の開口部１５ａを等方的に均一なピッチで配置することで、視認可能な透かしマークを形成しつつも、眼鏡レンズ１の装用者の視野に与える違和感を緩和することができる。
処理パターン１５ｂの材質である、金属としては、例えば、Ｃｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｕ、Ａｇ、及びＡｌの中から選ばれる少なくとも一種の金属を含み、好ましくはＣｒである。なお、処理パターン１５ｂの材質を金属とすることで帯電防止の効果も発揮される。
【００１４】
＜レンズ基材１１＞
さらに、図２を参照してレンズ基材１１を説明する。レンズ基材１１は、第一主面１１１、第二主面１１２、及びコバ面（図示せず）を有する。
レンズ基材１１の材質としては、プラスチックであっても、無機ガラスであってもよい。基材の材質は、例えば、ポリチオウレタン樹脂、ポリウレタン樹脂等のポリウレタン系材料、ポリスルフィド樹脂等のエピチオ系材料、ポリカーボネート系材料、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート系材料、等が挙げられる。
レンズ基材１１としては、通常無色のものが使用されるが、透明性を損なわない範囲で着色したものを使用することもできる。
レンズ基材１１の屈折率は、例えば、１．５０以上１．７４以下である。
レンズ基材１１として、フィニッシュレンズ、セミフィニッシュレンズのいずれであってもよい。
レンズ基材１１の表面形状は特に限定されず、平面、凸面、凹面等のいずれであってもよい。
本開示の眼鏡レンズは、単焦点レンズ、多焦点レンズ、累進屈折力レンズ等のいずれであってもよい。累進屈折力レンズについては、通常、近用部領域（近用部）及び累進部領域（中間領域）が、前述の下方領域に含まれ、遠用部領域（遠用部）が上方領域に含まれる。
【００１５】
＜ハードコート層１３＞
ハードコート層１３は、例えば、無機酸化物粒子とケイ素化合物とを含む硬化性組成物を硬化して得られる。ハードコート層１３は、レンズ基材１１の材質に応じて組成が選択される。なお、ハードコート層１３の屈折率（ｎＤ）は、例えば、１．５０以上１．７４以下である。
【００１６】
＜反射防止層１７＞
反射防止層１７は、屈折率の異なる膜を積層させた多層構造を有し、干渉作用によって光の反射を防止する膜である。このような反射防止層１７は、一例として低屈折率層１７Ｌと高屈折率層１７Ｈとを多層積層してなる多層構造が挙げられる。低屈折率層１７Ｌの屈折率は、波長５００〜５５０ｎｍで例えば、１．３５〜１．８０である。高屈折率層１７Ｈの屈折率は、波長５００〜５５０ｎｍで例えば、１．９０〜２．６０である。
低屈折率層１７Ｌは、例えば、屈折率１．４３〜１．４７程度の二酸化珪素（ＳｉＯ２）からなる。また高屈折率層１７Ｈは、低屈折率層１７Ｌよりも高い屈折率を有する材料からなり、例えば、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）等の金属酸化物を、適宜の割合で用いて構成される。
【００１７】
＜撥水層１９＞
撥水層１９は、例えば、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を含有する。この撥水層１９は、反射防止層１７と合わせて反射防止機能を奏するように設定された膜厚を有している。
【００１８】
［光学部材の製造方法］
次に、図３を参照して、本実施の形態に係る光学部材の製造方法について説明する。図３は、眼鏡レンズ１の製造方法を示すフロー図である。図４〜図６は、上述の構成を有する実施の形態に係る眼鏡レンズ１の製造方法を示す工程図である。
【００１９】
ハードコート層形成工程（Ｓ１）において、レンズ基材１１上にハードコート層１３を形成する。ハードコート層１３の形成は、例えば、無機酸化物粒子とケイ素化合物とを含む硬化性組成物を溶解させた溶液を用いた浸漬法（Dipping method）によって成膜し、硬化させることで形成する。
【００２０】
レジストパターン形成工程（Ｓ２）において、レンズ基材１１上のハードコート層１３上に、水溶性ポリマーを含むレジストパターン２１を形成する。例えば、インクジェット装置５を用いてインクジェット記録法（Inkjet Recording Method）によりレジストパターン２１を形成する。インクジェット記録法を用いてレジストパターン形成することで、工程を簡略化し、且つ微細な処理パターンを形成することができる。レジストパターンは、ハードコート層又はレンズ基材の非水溶性層を形成する領域を露出させる。レジストパターン２１の形成後には、レジストパターン２１に対して紫外線（ＵＶ）照射を行うことにより、レジストパターン２１を形成するインクを硬化させる。紫外線照射による硬化は、加熱による硬化と比べて、硬化時間が短くなる。
図４は、レジストパターン形成工程（Ｓ２）の工程図である。図４の（Ａ）に示されるように、レジストパターン形成工程（Ｓ２）では、インクジェットノズル５１から複数の液滴ｄを吐出する。続いて、図４の（Ｂ）に示されるように、吐出された液滴は、眼鏡レンズ１の表面で他の液滴ｄと結合し、１つのドット部２１ａを形成する。このように複数の液滴ｄが集合したドット部２１ａが配列し、レジストパターンを形成する。続いて、図４の（Ｃ）に示されるように、レジストパターン形成後には、レジストパターン２１に対して紫外線照射装置６を用いて紫外線（ＵＶ）等の光照射により、レジストパターン２１を硬化させる。
レジストパターン２１の形成により、眼鏡レンズ１上に、ドット部２１ａの集合体による文字及び図形等のマークが形成される。
眼鏡レンズ１上に、円状のドットを形成する観点から、形成面は疎水性が高い方が好ましく、例えば、プラズマ処理、イオン照射処理、コロナ放電処理、アルカリ処理等の親水化処理が行われていない表面にレジストパターン形成することが好ましい。
【００２１】
＜インク＞
インクジェット記録法に用いられるインクは、後述の剥離工程（Ｓ４）において水系溶媒による優れた剥離性を得る観点から、及び、インクの吐出安定性の観点から、好ましくは水溶性ポリマーを含み、水系溶媒による優れた剥離性と、硬化性とを得る観点から、より好ましくは水溶性ポリマーと（メタ）アクリルモノマーとを含む。
【００２２】
水溶性ポリマーとしては、例えば、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸等が挙げられる。これらの中でも、水系溶媒による優れた剥離性を得る観点から、ポリビニルピロリドンが好ましい。
水溶性ポリマーの重量平均分子量は、水系溶媒による優れた剥離性を得る観点から、好ましくは１００以上、より好ましくは３００以上、更に好ましくは４００以上、更に好ましくは１，０００以上、更に好ましくは５，０００以上であり、そして、好ましくは１００，０００以下、インクジェット記録法におけるインクの吐出安定性の観点から、より好ましくは３０，０００以下、更に好ましくは１５，０００以下である。
水溶性ポリマーの含有量は、インク中、水系溶媒による優れた剥離性を得る観点から、好ましくは１質量％以上、より好ましくは２質量％以上、更に好ましくは３質量％以上であり、そして、好ましくは３０質量％以下、より好ましくは２０質量％以下、更に好ましくは１０質量％以下、更に好ましくは８質量％以下、優れた硬化性を得る観点から、更に好ましくは５質量％以下、更に好ましくは４質量％以下である。
【００２３】
（メタ）アクリルモノマーとしては、例えば、単官能（メタ）アクリレート、多官能（メタ）アクリレートが挙げられる。これらの中でも、レジストパターン形成後の硬化性の観点から、単官能（メタ）アクリレート、及び多官能（メタ）アクリレートの組み合わせが好ましい。
（メタ）アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートから選ばれる少なくとも１種を意味する。
【００２４】
単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、アルコキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートが挙げられる。
アルコキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートのアルコキシ基の炭素数は、好ましくは１〜４であり、より好ましくは１〜３であり、更に好ましくは１又は２である。
ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとしては、例えば、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートが挙げられる。アルコキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとしては、例えば、メトキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートが挙げられる。メトキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとしては、例えば、メトキシジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートが挙げられる。エトキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとしては、例えば、エトキシジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エトキシトリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートが挙げられる。
これらの中でも、インクジェット記録法におけるインクの吐出安定性の観点から、アルコキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートが好ましく、メトキシポリエチレングリコールモノアクリレートがより好ましく、メトキシトリエチレングリコールモノアクリレートが更に好ましい。
【００２５】
多官能（メタ）アクリレートは、好ましくは二官能（メタ）アクリレートである。二官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。これらの中でも、レジストパターン形成後の硬化性の観点から、及び、インクジェット記録法におけるインクの吐出安定性の観点から、ポリエチレングリコールジアクリレートが好ましい。ポリエチレングリコールジアクリレートのポリエチレングリコール部位の平均付加モル数は、好ましくは３以上、より好ましくは６以上、更に好ましくは９以上であり、そして、好ましくは３０以下、より好ましくは２５以下、更に好ましくは１８以下である。
【００２６】
（メタ）アクリレートの含有量は、インク中、好ましくは１０質量％以上、より好ましくは２０質量％以上、更に好ましくは３０質量％以上であり、そして、好ましくは７０質量％以下、より好ましくは６０質量％以下、更に好ましくは５０質量％以下である。
単官能（メタ）アクリレートの含有量は、インク中、好ましくは１０質量％以上、より好ましくは２０質量％以上、更に好ましくは３０質量％以上であり、そして、好ましくは７０質量％以下、より好ましくは６０質量％以下、更に好ましくは５０質量％以下である。
多官能（メタ）アクリレートの含有量は、インク中、好ましくは１質量％以上、より好ましくは３質量％以上、更に好ましくは５質量％以上であり、そして、好ましくは３０質量％以下、より好ましくは２０質量％以下、更に好ましくは１０質量％以下である。
多官能（メタ）アクリレート／単官能（メタ）アクリレートの質量比は、硬化性の観点から、好ましくは５／９５以上、より好ましくは８／９２以上、更に好ましくは１０／９０以上であり、そして、好ましくは４０／６０以下、より好ましくは３０／７０以下、更に好ましくは２０／８０以下である。
【００２７】
光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤を使用することができるが、水酸基を２以上有する光重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］―２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オンが挙げられる。
光重合開始剤の含有量は、インク中、硬化性を高める観点から、好ましくは１質量％以上、より好ましくは３質量％以上、更に好ましくは５質量％以上であり、そして、好ましくは３０質量％以下、より好ましくは２０質量％以下、更に好ましくは１０質量％以下である。
光重合開始剤の含有量は、（メタ）アクリレートの合計量の１００質量部に対して、硬化性の観点から、好ましくは５質量部以上、より好ましくは８質量部以上、更に好ましくは１０質量部以上であり、そして、好ましくは４０質量部以下、より好ましくは３０質量部以下、更に好ましくは２０質量部以下である。
【００２８】
インクは、レジストパターンの形成性を向上させる観点から、高沸点溶媒を含むことが好ましい。
高沸点溶媒の沸点は、好ましくは１５０℃以上、より好ましくは１６０℃以上、更に好ましくは１７０℃以上、更に好ましくは１８０℃以上であり、そして、好ましくは３５０℃以下、より好ましくは３３０℃以下、更に好ましくは３００℃以下である。
高沸点溶媒としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、トリプロピレングリコール等のオキシエチレン又はオキシプロピレン付加重合体；プロピレングリコール等のジオール類；グリセリン等のトリオール類；チオジグリコール；トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル等の低級アルキルグリコールエーテル類；トリエチレングリコールジエチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジエチルエーテル等の低級ジアルキルグリコールエーテル類等が挙げられる。これらは単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、プロピレングリコールが好ましい。
高沸点溶媒の含有量は、インク中、好ましくは５質量％以上、より好ましくは１０質量％以上、更に好ましくは１５質量％以上であり、そして、好ましくは４０質量％以下、より好ましくは３０質量％以下、更に好ましくは２０質量％以下である。
【００２９】
インクは、粘度調整の観点から、水を含むことが好ましい。
水としては、例えば、水道水、純水、イオン交換水等が挙げられる。
水の含有量は、インク中、好ましくは１０質量％以上、より好ましくは２０質量％以上、更に好ましくは３０質量％以上であり、そして、好ましくは８０質量％以下、より好ましくは７０質量％以下、更に好ましくは６０質量％以下である。
【００３０】
インクの粘度は、インクジェット記録法によってインクを配置する観点から、好ましくは１ｍＰａ・ｓ以上、より好ましくは５ｍＰａ・ｓ以上、更に好ましくは８ｍＰａ・ｓ以上であり、そして、好ましくは４０ｍＰａ・ｓ以下、より好ましくは３０ｍＰａ・ｓ以下、更に好ましくは２０ｍＰａ・ｓ以下、更に好ましくは１５ｍＰａ・ｓ以下である。
【００３１】
インクのｐＨは、好ましくは３．０以上、より好ましくは３．５以上、更に好ましくは４．０以上であり、そして、好ましくは１２以下、より好ましくは１１以下、更に好ましくは１０以下である。
【００３２】
インクのレジストパターン形成表面に対する接触角が、レジストパターンのドット形状をより真円に近づける観点から、好ましくは２５°以上、より好ましくは３０°以上、更に好ましくは４５°以上であり、そして、好ましくは６５°以下、より好ましくは６０°以下、更に好ましくは５５°以下、更に好ましくは５３°以下である。接触角は、ＪＩＳ  Ｒ  ３２５７：１９９０の静滴法により測定される値である。ここで、「レジストパターン形成表面」とは、インクが配置されるレジストパターンが形成される表面を意味する。
【００３３】
ここで適用されるインクジェット記録法は、型式や方式が限定されることはなく、連続型であってもオンデマンド型であってもよく、オンデマンド型であればピエゾ方式であってもサーマル方式であってもよい。
印刷条件としては、印刷ヘッドに対するレンズ基材の移動速度、移動方向の解像度、移動方向に垂直な幅方向の解像度、インク液滴のサイズ、インク液滴のドロップ周波数、同一着弾点に滴下するインク液滴数などである。これらの印刷条件は、相互に関連性を有しているため、適宜調整することによって、レジストパターン２１の形成を行う。
【００３４】
レジストパターン２１は、光学部材に形成する開口部１５ａに対応するドット部２１ａを有している。レジストパターン２１は、等方的に均一に配置された複数のドット部２１ａを有する。複数のドット部２１ａは、例えば、格子状に配置される。複数のドット部２１ａはレンズ基材又はハードコート層を有するレンズ基材の一つの主面上全体に形成されていてもよい。
ドット部２１ａの中心から隣接するドット部２１ａの中心の間隔ＡＤは、例えば、０．１ｍｍ以上、好ましくは０．２ｍｍ以上、より好ましくは０．３ｍｍ以上であり、そして、例えば、５．０ｍｍ以下、好ましくは３．０ｍｍ以下、より好ましくは１．０ｍｍ以下である。
ドットの直径ＤＤは、例えば、０．０１ｍｍ以上、より好ましくは０．０５ｍｍ以上、更に好ましくは０．１ｍｍ以上であり、そして、例えば、５．０ｍｍ以下、好ましくは２．０ｍｍ以下、より好ましくは１．０ｍｍ以下、更に好ましくは０．５ｍｍ以下である。
間隔ＡＤ／直径ＤＤは、好ましくは１．０超、より好ましくは１．１以上、更に好ましくは１．２以上であり、そして、好ましくは２．０以下、より好ましくは１．８以下、更に好ましくは１．５以下である。
【００３５】
インクジェット記録法におけるドット密度は、レジストパターン形成性を向上させる観点から、好ましくは３００ｄｐｉ（dots per inch）以上、より好ましくは４００ｄｐｉ以上、更に好ましくは５００ｄｐｉ以上であり、そして、好ましくは１０００ｄｐｉ以下、より好ましくは９００ｄｐｉ以下、更に好ましくは８００ｄｐｉ以下である。
【００３６】
ドットひとつあたりのインク吐出量は、形成されたドットの硬化性を高め、レジストパターン形成性を向上させる観点から、好ましくは６００ｐｌ（picolitre）以上、より好ましくは１０００ｐｌ以上、更に好ましくは２０００ｐｌ以上であり、そして、好ましくは６０００ｐｌ以下、より好ましくは５０００ｐｌ以下、更に好ましくは４０００ｐｌ以下である。
【００３７】
非水溶性層形成工程（Ｓ３）において、レジストパターン２１が形成されたハードコート層１３上に非水溶性層１５を形成する。
図５は、非水溶性層形成工程（Ｓ３）の模式図である。図５に示されるように、例えば、非水溶性層形成工程（Ｓ３）では、蒸着装置７により、非水溶性層として、金属層１５を蒸着する。
【００３８】
剥離工程（Ｓ４）において、レジストパターン２１を水系溶媒により除去することで、レジストパターン上に形成された非水溶性層を剥離する。
図６は、剥離工程（Ｓ４）後の眼鏡レンズ１の断面図の一部である。図６に示されるように、例えば、剥離工程では、水系溶媒により、水溶性ポリマーを含むレジストパターン２１が除去されることで、レジストパターン２１上に形成された金属層が剥離され、開口部１５ａと処理パターン１５ｂが形成された眼鏡レンズ１が得られる。レジストパターンの剥離に有機溶媒が使用されていたときのような、眼鏡レンズ表面が侵食されることを防ぎ、水系溶媒を使用することで表面の浸食を抑制しつつ、処理パターンが形成された眼鏡レンズを得ることができる。
水系溶媒とは、水を６０質量％以上含有する溶媒を意味する。水系溶媒としては、水が好ましい。水系溶媒に、水以外に含まれうる溶媒としては、エタノール、メタノール、プロパノール等のアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒が挙げられる。
水系溶媒中、水の含有量は、好ましくは８０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上、更に好ましくは９５質量％以上、更に好ましくは１００質量％である。
【００３９】
レジストパターン２１上に形成された金属層１５の剥離は、水系溶媒に浸漬して行う。水系溶媒の温度は、好ましくは１５℃以上、より好ましくは２０℃以上であり、そして、好ましくは７０℃以下、より好ましくは６０℃以下、更に好ましくは５５℃以下である。
浸漬時に、超音波照射を行ってもよい。超音波の周波数は、例えば、２９ｋＨｚ以上５０ｋＨｚ以下である。
剥離工程により、レジストパターンのドット部２１ａ上の金属層１５が剥離され、ドット部２１ａと同一の位置に形成された同一形状の開口部１５ａが金属層１５に形成され、処理パターン１５ｂが形成される。
【００４０】
機能層形成工程（Ｓ５）において、剥離工程後、機能層を形成する。
機能層として、例えば、反射防止層１７、撥水層１９が形成される。
反射防止層１７は、低屈折率層１７Ｌと高屈折率層１７Ｈとを交互に積層してなる。反射防止層１７は、下層側の低屈折率層１７Ｌから順に各層を、各組成及び各膜厚で成膜する。この成膜は、イオンアシスト蒸着を適用してもよい。
また、最表面に撥水層１９を更に形成してもよい。
【００４１】
以上のとおり、レジストパターン形成工程において、レジストパターン２１を特定のインクにより、形成する。次に、非水溶性層形成工程において、レジストパターン２１上に金属層１５を形成する。続いて、剥離工程において水系溶媒によりレジストパターン２１を除去する。以上により、当該レジストパターン２１上に形成された金属層１５が剥離され、処理パターン１５ｂと開口部１５ａが形成される。
【００４２】
本開示は、上記各成分の例、含有量、各種物性については、発明の詳細な説明に例示又は好ましい範囲として記載された事項を任意に組み合わせてもよい。
また、実施例に記載した組成に対し、発明の詳細な説明に記載した組成となるように調整を行えば、クレームした組成範囲全域にわたって実施例と同様に開示の実施の形態を実施することができる。
【実施例】
【００４３】
以下、具体的な実施例を示すが、本特許請求の範囲は、以下の実施例によって限定されるものではない。
各種物性の測定方法及び評価方法は、以下の方法により行った。
【００４４】
［ｐＨ測定］
インクのｐＨは、温度２５℃の条件下、ｐＨメーター（株式会社堀場製作所製、商品名「Ｄ−５１」）を用い、ガラス電極法により測定した。
【００４５】
［粘度測定］
インクの粘度は、ＪＩＳ  Ｚ  ８８０３：２０１１に準拠して、温度２５℃の条件下、音叉型振動式粘度計（株式会社エー・アンド・ディー製、商品名「ＳＶ−１０」）で測定した。
【００４６】
［接触角］
眼鏡レンズ用モノマー（三井化学株式会社製、商品名「ＭＲ８」）により製造した眼鏡用レンズ基材に、ハードコート液（ＨＯＹＡ株式会社製、商品名「ＨＣ６０Ｓ」）にて形成したハードコート層を設けたレンズ基材上にインクを滴下し、ＪＩＳ  Ｒ  ３２５７：１９９０  ６．静滴法に記載の方法により、接触角を測定した。
【００４７】
実施例１〜６
＜インクの調製＞
サンプル瓶に、ポリエチレングリコールジアクリレート（平均付加モル数１４，ＣＡＳ  Ｎｏ，２６５７０−４８−９）、メトキシトリエチレングリコールアクリレート（ＣＡＳ  Ｎｏ.４８０６７−７２−７）及び水を加え、撹拌した。その後、プロピレングリコールを加え、更に撹拌した。更に、１質量％ＮａＯＨ水溶液を添加し、ｐＨを調整した。その後さらに、光重合開始剤として、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（ＣＡＳ  Ｎｏ．１０６７９７−５３−９）を添加して撹拌し、２０質量％のポリビニルピロリドン水溶液（重量平均分子量１０，０００，ＣＡＳ  Ｎｏ．９００３−３９−８）を添加し撹拌して、フィルタリングを行って不溶分を取り除き、表１に示す組成の目的のｐＨ７のインク１〜６を得た。得られたインクについて、粘度測定、接触角測定を行い、その結果を表１に示した。
【００４８】
＜レジストパターン形成＞
眼鏡レンズ用モノマー（三井化学株式会社製、商品名「ＭＲ８」）により製造した眼鏡用レンズ基材に、ハードコート液（ＨＯＹＡ株式会社製、商品名「ＨＣ６０Ｓ」）にて形成したハードコート層を設けたレンズ基材上に、上記の得られたインクを用いて、ノズル（京セラ株式会社製、商品名「ＫＪ４Ａ」）を装着したインクジェット装置により、９６００×６００ｄｐｉのドット密度で、印字幅１０８ｍｍで、ドット間隔０．４３２ｎｍ、ドット直径０．３２３ｎｍの格子状のドットのレジストパターンを形成した（レンズ基材の片主面側のハードコート層上に全面に形成した。）。なお、１ドットあたりの液滴量は、２４００ｐｌとした。レジストパターンを形成後、ライン式ＵＶ−ＬＥＤ（ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ株式会社製、商品名「Ｈ−１６ＬＨ４−Ｖ１−ＳＭ２」）により波長３６５ｎｍで照射量９００ｍＪ／ｃｍ２で照射し、眼鏡用レンズ基材上のレジストパターンを硬化した。当該レジストパターンは、円状のドットで、格子欠陥なく作成できた。
〔ＵＶ硬化性の評価〕
硬化後のレジストパターンのドットの状態を観察し、以下の基準でＵＶ硬化性の評価を行った。
Ａ：完全に硬化している
Ｂ：柔軟性がやや残った状態で硬化している
Ｃ：柔軟性が残った状態で硬化している
Ｄ：硬化しない
【００４９】
硬化後、アシストガスとしてアルゴンを用いてイオンアシスト蒸着により、クロム単層を蒸着した。
クロム単層を蒸着した眼鏡用レンズ基材を２０℃の水中に５分浸漬、又は、２０℃の水中に浸漬して超音波を５分間照射し、開口部を有するクロム単層による処理パターンが形成された眼鏡レンズを得た。眼鏡レンズ表面の浸食は観察されなかった。
〔剥離性の評価〕
剥離性の評価は、レジストパターンを構成するドットの除去個数割合（％）により行った。
表中、剥離性「ＵＳなし」とは、超音波照射なしでの評価結果を意味し、剥離性「ＵＳあり」とは、超音波照射ありでの評価結果を意味する。
【００５０】
参考例１
ポリビニルピロリドン水溶液を添加せず、表１に示す組成とした以外は、実施例１と同様の方法によりインク５１を得、レジストパターン形成、処理パターン形成及びその評価を行った。
【００５１】
【表１】
2018180168.tif 000003
【００５２】
表中の各略語の意味は、以下のとおりである。
ＰＶＰ：ポリビニルピロリドン（重量平均分子量１０，０００，ＣＡＳ  Ｎｏ．９００３−３９−８）
ＰＥＧＤＡ：ポリエチレングリコールジアクリレート（平均付加モル数１４，ＣＡＳ  Ｎｏ，２６５７０−４８−９）
ＭＥＡ：メトキシトリエチレングリコールアクリレート（ＣＡＳ  Ｎｏ.４８０６７−７２−７）
ＰＧ：プロピレングリコール（沸点  １８８℃）
ＰＩ−１：１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（ＣＡＳ  Ｎｏ．１０６７９７−５３−９）
【００５３】
最後に、本開示の実施の形態を、図等を用いて総括する。
本開示の一実施の形態であるパターンが形成された光学部材の製造方法は、図１乃至図４に示すように、
レンズ基材１１上に、水溶性ポリマーを含むレジストパターン２１を形成する、レジストパターン形成工程（Ｓ２）と、
レジストパターン２１が形成されたレンズ基材に非水溶性層（例えば、金属層１５）を形成する、非水溶性層形成工程（Ｓ３）と、
レジストパターン２１を水系溶媒により除去することで、レジストパターン２１上に形成された非水溶性層を剥離し、処理パターン１５ｂを形成する、剥離工程（Ｓ４）と、
を備える。
上述の水溶性ポリマーを含むレジストパターン２１を用い、剥離工程（Ｓ４）において水系溶媒により、レジストパターン２１を除去することで、上記パターンが形成された光学部材を得ることができる。
【００５４】
本開示の一実施の形態であるパターンが形成された光学部材の製造方法は、
レジストパターン形成工程（Ｓ２）において、水溶性ポリマーを含むインクを硬化させてレジストパターンを形成し、
更に、インクが水溶性ポリマーと、（メタ）アクリルモノマーとを含有する。
上述の構成により、インクを硬化させた場合であっても、インク中に水溶性ポリマーが含まれることで、剥離工程において、優れた剥離性を発揮する。
【００５５】
本開示の一実施の形態であるパターンが形成された光学部材の製造方法は、
レンズ基材上に、レジストパターン２１を形成する、レジストパターン形成工程（Ｓ２）と、
レジストパターン２１が形成されたレンズ基材に非水溶性層（例えば、金属層１５）を形成する、非水溶性層形成工程（Ｓ３）と、
レジストパターン２１を水系溶媒により除去することで、レジストパターン２１上に形成された非水溶性層を剥離し、処理パターン１５ｂを形成する、剥離工程（Ｓ４）と、
を備える。
【００５６】
本開示の一実施例であるパターンが形成された光学部材の製造方法は、
レジストパターン形成工程（Ｓ２）において、インクを硬化させてレジストパターンを形成し、
インクのレジストパターン形成表面に対する接触角が、好ましくは２５°以上６５°以下である。
上述の構成により、レジストパターンのドット形状を真円に近づけることができる。
【００５７】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【符号の説明】
【００５８】
１：眼鏡レンズ
１１：レンズ基材
１３：ハードコート層
１５：金属層
１５ａ：開口部
１５ｂ：処理パターン
１７：反射防止層
１７Ｌ：低屈折率層
１７Ｈ：高屈折率層
１９：撥水層
２１：レジストパターン
２１ａ：ドット部
Ｄ：ドット
Ｍ：透かしマーク
【図１】
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【図２】
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【図３】
2018180168.tif 000006
【図４】
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【図５】
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【図６】
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