(57)【要約】【課題】液晶セル内への気泡混入を有効に回避して効率よく製造可能な調光フィルム及び調光フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】本発明の調光フィルム１は、透明電極１１が設けられた第１積層体５Ｄと、前記第１積層体５Ｄの前記透明電極１１側の面に設けられ、液晶配置領域２５の外枠を形成するシール部１９と、透明電極１６が設けられた第２積層体５Ｕと、前記液晶配置領域２５に配置され、前記第１積層体５Ｄと前記第２積層体５Ｕとによって挟持された液晶層８と、を備え、前記液晶配置領域２５の隅部が、面取り形状を有している。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明電極が設けられた第１積層体と、
前記第１積層体の前記透明電極側の面に設けられた、液晶配置領域の外枠を囲むシール部と、
透明電極が設けられた第２積層体と、
前記液晶配置領域に配置され、前記第１積層体と前記第２積層体との間に挟持された液晶層と、を備え、
前記シール部の隅部が、面取り形状を有している調光フィルム。
【請求項２】
前記隅部の面取り形状が、曲線形状である、
請求項１に記載の調光フィルム。
【請求項３】
前記隅部の面取り形状が、多角形状である、
請求項１に記載の調光フィルム。
【請求項４】
透明電極が設けられた第１積層体における前記透明電極側の面に、液晶配置領域を囲むシール部を形成するシール部作製工程と、
前記液晶配置領域に液晶を滴下する液晶滴下工程と、
透明電極が設けられた第２積層体を前記第１積層体に積層し、前記第１積層体と前記第２積層体とで前記液晶を挟持する積層工程と、
を備える調光フィルムの製造方法であって、
前記シール部作製工程は、シール部の隅部が面取り形状となるようにシール部を形成する、
調光フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記隅部の面取り形状が、曲線形状である、
請求項４に記載の調光フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記隅部の曲線形状が、円弧形状であり、
前記液晶滴下工程は、前記液晶を、前記液晶配置領域における、前記円弧を形成する円の中心に滴下される、
請求項５に記載の調光フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記隅部の曲線形状が、楕円弧状であり、
前記液晶滴下工程は、前記液晶を、前記液晶配置領域における、前記楕円弧を形成する楕円の焦点に滴下される、
請求項５に記載の調光フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記隅部の面取り形状が、多角形状である、
請求項４に記載の調光フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記隅部の多角形状が、角部から三角形が切り取られた形状であり、
前記液晶が、前記液晶配置領域における、前記三角形の一辺であって、前記液晶配置領域の外周の一部として残った辺と平行な線に沿った複数点に滴下される、
請求項８に記載の調光フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、調光フィルム及び調光フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば窓に貼り付けて外来光の透過を制御する電子ブラインド等に利用可能な調光フィルムに関する工夫が種々に提案されている（特許文献１、２）。このような調光フィルムの１つに、液晶を利用したものがある。液晶を利用した調光フィルムにおいて、まず、透明電極が設けられた積層体により液晶を挟持して液晶セルが製造される。次いで、この液晶セルを直線偏光板により挟持することにより調光フィルムが作成される。そして、調光フィルムにおいて、液晶に印加する電圧を変更することにより液晶の配向を変更し、外来光を変更し、これらにより外来光の透過を制御する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平０３−４７３９２号公報
【特許文献２】特開平０８−１８４２７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
積層体によって液晶を挟持して液晶セルを製造する場合、液晶セル内への気泡混入を回避して効率よく生産することが求められる。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するため、本発明は、液晶セル内への気泡混入を有効に回避して効率よく製造可能な調光フィルム及び調光フィルムの製造方法を提供する。
【０００６】
（１）  透明電極が設けられた第１積層体と、前記第１積層体の前記透明電極側の面に設けられた、液晶配置領域の外枠を囲むシール部と、透明電極が設けられた第２積層体と、前記液晶配置領域に配置され、前記第１積層体と前記第２積層体との間に挟持された液晶層と、を備え、前記シール部の隅部が、面取り形状を有している調光フィルム。
【０００７】
（２）  （１）において、前記隅部の面取り形状が、曲線形状であってもよい。
【０００８】
（３）  （１）において、前記隅部の面取り形状が、多角形状であってもよい。
【０００９】
（４）  透明電極が設けられた第１積層体における前記透明電極側の面に、液晶配置領域を囲むシール部を形成するシール部作製工程と、前記液晶配置領域に液晶を滴下する液晶滴下工程と、透明電極が設けられた第２積層体を前記第１積層体に積層し、前記第１積層体と前記第２積層体とで前記液晶を挟持する積層工程と、を備える調光フィルムの製造方法であって、前記シール部作製工程は、シール部の隅部が面取り形状となるようにシール部を形成する、調光フィルムの製造方法。
【００１０】
（５）  （４）において、前記隅部の面取り形状が、曲線形状であってもよい。
【００１１】
（６）  （５）において、前記隅部の曲線形状が、円弧形状であり、前記液晶滴下工程は、前記液晶を、前記液晶配置領域における、前記円弧を形成する円の中心に滴下されてもよい。
【００１２】
（７）  （５）において、前記隅部の曲線形状が、楕円弧状であり、前記液晶滴下工程は、前記液晶を、前記液晶配置領域における、前記楕円弧を形成する楕円の焦点に滴下されてもよい。
【００１３】
（８）  （４）において、前記隅部の面取り形状が、多角形状であってもよい。
【００１４】
（９）  （８）において、前記隅部の多角形状が、角部から三角形が切り取られた形状であり、前記液晶が、前記液晶配置領域における、前記三角形の一辺であって、前記液晶配置領域の外周の一部として残った辺と平行な線に沿った複数点に滴下されてもよい。
【発明の効果】
【００１５】
液晶セル内への気泡混入を有効に回避して効率よく製造可能な調光フィルム及び調光フィルムの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】調光フィルムの基本構成を説明する断面図である。
【図２】実施形態の調光フィルムの製造方法を説明するフローチャートである。
【図３】第１実施形態のシール部作製工程において形成される、シール部の形状、及び液晶滴下工程において液晶が滴下される、液晶滴下位置を説明する図である。
【図４】第１比較例であって、連結部隣接領域に液晶滴下位置が設けられていない場合の、液晶の広がり方を示す図である。
【図５】第１実施形態の液晶の広がり方を示す図である。
【図６】第２比較例の、シール部の形状、及び液晶滴下工程において液晶が滴下される、液晶滴下位置を説明する図である。
【図７】第２比較例の液晶の広がり方を示す図である。
【図８】第２実施形態のシール部作製工程において形成される、シール部の形状、及び液晶滴下工程において液晶が滴下される、液晶滴下位置を説明する図である。
【図９】第２実施形態の液晶の広がり方を示す図である。
【図１０】第３実施形態のシール部作製工程において形成される、シール部の形状、及び液晶滴下工程において液晶が滴下される、液晶滴下位置を説明する図である。
【図１１】第３実施形態の液晶の広がり方を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
〔調光フィルム〕
図１は、第１実施形態の移動体用調光システムに用いられる調光フィルムの構成を説明する断面図である。
調光フィルム１は、液晶を利用して透過光を制御するフィルム状の部材であり、直線偏光板２、３により調光フィルム用の液晶セル４を挟持して構成される。
【００１８】
〔直線偏光板〕
直線偏光板２、３は、偏光子を含むものであれば特に限定されるものではなく、偏光子の片側又は両側に偏光板保護フィルムを有するものであってもよい。
偏光子は、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）のような親水性ポリマーからなるフィルムを二色性色素であるヨウ素を含有する水溶液に浸漬させて延伸することによりポリビニルアルコールとヨウ素との錯体を形成させた偏光子や、ポリ塩化ビニルのようなプラスチックフィルムを処理してポリエンを配向させたものからなる偏光子等を挙げることができる。
また、ヨウ素の代わり二色性色素として二色性染料を用いる場合は、二色性染料として、アゾ系染料、スチルベン系染料、メチン系染料、シアニン系染料、ピラゾロン系染料、トリフェニルメタン系染料、キノリン系染料、オキサジン系染料、チアジン系染料、アントラキノン系染料等が用いられる。
【００１９】
上述の偏光板保護フィルムは、上述の偏光子を保護することができ、且つ、所望の透明性を有するものであれば特に限定されるものではない。偏光板保護フィルムの材料としては、例えば、アセチルセルロース系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、アモルファスポリオレフィン、変性アクリル系ポリマー、ポリスチレン、エポキシ樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエステル系樹脂等あるいは、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型、又は紫外線硬化型の樹脂等を挙げることができる。中でも、上述の樹脂材料としてアセチルセルロース系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、又はアクリル系樹脂を用いることが好ましい。その中でも特に、アセチルセルロース系樹脂であるトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）が好適である。
直線偏光板２、３は、クロスニコル配置により、アクリル系透明粘着樹脂等による接着剤層により液晶セル４に配置される。なお、直線偏光板２、３には、それぞれ液晶セル４側に光学補償のための位相差フィルム２Ａ、３Ａが設けられるが、位相差フィルム２Ａ、３Ａは、必要に応じて省略してもよい。またクロスニコル配置に代えてパラレルニコル配置により配置してもよい。
【００２０】
〔液晶セル〕
液晶セル４は、フィルム状の下側積層体５Ｄ及び上側積層体５Ｕにより液晶層８を挟持して構成される。
【００２１】
〔下側積層体、上側積層体〕
下側積層体５Ｄは、基材６に、透明電極１１、スペーサ１２及び配向層１３を作製して形成される。
上側積層体５Ｕは、基材１５に、透明電極１６及び配向層１７を積層して形成される。
【００２２】
〔基材〕
基材６、１５は、種々の透明樹脂フィルムを適用することができるが、光学異方性が小さく、また、可視域の波長（３８０〜８００ｎｍ）における透過率が８０％以上である透明樹脂フィルムを適用することが望ましい。
透明樹脂フィルムの材料としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のアセチルセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、ポリメチルペンテン、ＥＶＡ等のポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリサルホン（ＰＥＦ）、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスルホン、ポリエーテル（ＰＥ）、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、（メタ）アクロニトリル、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、シクロオレフィンコポリマー等の樹脂を挙げることができる。
特に、ポリカーボネート（ＰＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の樹脂が好ましい。
本実施形態において、基材６、１５は、厚み１００μｍのポリカーボネートフィルムが適用されるが、種々の厚みの透明樹脂フィルムを適用することができる。
【００２３】
〔透明電極〕
透明電極１１、１６は、上記透明樹脂フィルムと透明樹脂フィルムに積層される透明導電膜から構成されている。
透明導電膜としては、この種の透明樹脂フィルムに適用される各種の透明電極材料を適用することができ、酸化物系の全光透過率が５０％以上の透明な金属薄膜を挙げることができる。例えば、酸化錫系、酸化インジウム系、酸化亜鉛系が挙げられる。
【００２４】
酸化錫（ＳｎＯ２）系としてはネサ（酸化錫ＳｎＯ２）、ＡＴＯ（Antimony Tin Oxide：アンチモンドープ酸化錫）、フッ素ドープ酸化錫が挙げられる。
酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）系としては、酸化インジウム、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide：インジウム錫酸化物）、ＩＺＯ（Indium  Zic  Oxide）が挙げられる。
酸化亜鉛（ＺｎＯ）系としては、酸化亜鉛、ＡＺＯ（アルミドープ酸化亜鉛）、ガリウムドープ酸化亜鉛が挙げられる。
本実施形態では、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）により透明導電膜が形成される。
【００２５】
〔スペーサ〕
スペーサ１２は、液晶層８の厚みを規定するために設けられ、各種の樹脂材料を広く適用することができる。本実施形態ではフォトレジストにより作製され、透明電極１１が作製された基材６の上に、フォトレジストを塗工して露光、現像することにより作製される。スペーサ１２は、上側積層体５Ｕに設けるようにしてもよく、上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄの双方に設けるようにしてもよい。また、スペーサ１２は、配向層１３の上に設けるようにしてもよい。
なお、スペーサ１２は、このようなフォトレジストによる作製に限定されない。例えば、スペーサ１２は、ビーズスペーサであってもよい。この場合、ビーズスペーサは、配向層を形成した後に、その配向層上に散布したり、また、配向層を形成する光配向材料（後述する）内に分散したり、液晶材料内に分散したりすることによって配置される。
【００２６】
〔配向層〕
配向層１３、１７は、光配向層により形成される。光配向層に適用可能な光配向材料は、光配向の手法を適用可能な各種の材料を広く適用することができ、例えば、光分解型、光二量化型、光異性化型等を挙げることができる。
本実施形態では、光二量化型の材料を使用する。光二量化型の材料としては、例えば、シンナメート、クマリン、ベンジリデンフタルイミジン、ベンジリデンアセトフェノン、ジフェニルアセチレン、スチルバゾール、ウラシル、キノリノン、マレインイミド、又は、シンナミリデン酢酸誘導体を有するポリマー等を挙げることができる。中でも、配向規制力が良好である点で、シンナメート、クマリンの一方又は両方を有するポリマーが好ましく用いられる。このような光二量化型の材料の具体例としては、例えば特開平９−１１８７１７号公報、特表平１０−５０６４２０号公報、特表２００３−５０５５６１号公報及びＷＯ２０１０／１５０７４８号公報に記載された化合物を挙げることができる。
なお、光配向層に代えてラビング処理により配向層を作製してもよく、微細なライン状凹凸形状を賦型処理して配向層を作製してもよい。
【００２７】
〔液晶層〕
液晶層８は、この種の調光フィルム１に適用可能な各種の液晶材料を広く適用することができる。具体的に、液晶層８には、重合性官能基を有していない液晶化合物として、ネマチック液晶化合物、スメクチック液晶化合物及びコレステリック液晶化合物を適用することができる。
ネマチック液晶化合物としては、例えば、ビフェニル系化合物、ターフェニル系化合物、フェニルシクロヘキシル系化合物、ビフェニルシクロヘキシル系化合物、フェニルビシクロヘキシル系化合物、トリフルオロ系化合物、安息香酸フェニル系化合物、シクロヘキシル安息香酸フェニル系化合物、フェニル安息香酸フェニル系化合物、ビシクロヘキシルカルボン酸フェニル系化合物、アゾメチン系化合物、アゾ系化合物、およびアゾオキシ系化合物、スチルベン系化合物、トラン系化合物、エステル系化合物、ビシクロヘキシル系化合物、フェニルピリミジン系化合物、ビフェニルピリミジン系化合物、ピリミジン系化合物、およびビフェニルエチン系化合物等を挙げることができる。
【００２８】
スメクチック液晶化合物としては、例えば、ポリアクリレート系、ポリメタクリレート系、ポリクロロアクリレート系、ポリオキシラン系、ポリシロキサン系、ポリエステル系等の強誘電性高分子液晶化合物を挙げることができる。
コレステリック液晶化合物としては、例えば、コレステリルリノレート、コレステリルオレエート、セルロース、セルロース誘導体、ポリペプチド等を挙げることができる。
【００２９】
液晶セル４は、液晶層８を囲むように、シール材１９が配置されている。シール材１９により上側積層体５Ｕ、下側積層体５Ｄが一体に保持され、液晶材料の漏出が防止される。シール材１９は、例えばエポキシ樹脂、アクリル樹脂等の熱硬化性樹脂や紫外線硬化性樹脂等を適用することができる。
【００３０】
調光フィルム１は、透明電極１１、１６に、所定周期で極性が切り替わる交流電圧が印加され、この交流電圧により液晶層８に電界が形成される。また、この電界により液晶層８に設けられた液晶分子の配向が制御され、透過光が制御される。
【００３１】
実施形態の調光フィルム１における液晶層８の配向制御には、ＶＡ方式（Ｖｉｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ、垂直配向型）が適用される。ＶＡ方式は、基板上に形成した透明電極の上に垂直方向に配向規制力を有する配向膜を設け、上下基板で液晶層８を挟む構成である。
ＶＡ方式は、無電界時、液晶層８の液晶分子は垂直配向し、これにより調光フィルム１は、入射光を遮光して遮光状態となり、また、この電界の印加により、液晶層８の液晶が水平配向し、調光フィルム１は、入射光を透過して透過状態となる。
このＶＡ方式のように、無電界時に遮光状態となり、電界印加時に透過状態となるような光の制御モードをノーマリーブラックモードという。
【００３２】
しかし、ＶＡ方式に代えて、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ  Ｈｏｓｔ）方式等、種々の駆動方式を適用してもよい。
【００３３】
ここで、ＴＮ方式は、基板上に形成した透明電極の上に、配向方向が９０°異なるようなラビング処理等を行った配向膜を付け、上下基板で液晶層８を挟む構成である。配向膜の配向規制力により液晶分子は配向膜の配向方向に沿って並び、その液晶分子に沿って他の液晶分子が配向するため、液晶分子の方向が９０°捩じれる形で配向する。そして上下基板の外側に、配向膜の配向方向と平行に偏光板を配置する。
ＴＮ方式は、無電界時、偏光板を通過した光は直線偏光となり液晶に入る。液晶分子は９０°捩じれて配向されているので、入射した光も９０°捩じれて通過するため、下の偏光板を通過できる。これにより調光フィルム１は、入射光を透過して透過状態となる。
また、この電界の印加により液晶分子が直立して捩じれがとれるが、配向膜表面では配向規制力の方が強いため、液晶分子の配向方向は配向膜に沿ったままである。このような状態では、液晶分子は通過する光に対しては等方的であるため、液晶層８に入射された直線偏光の偏光方向の回転は生じない。従って、上の偏光板を通過した直線偏光は下の偏光板を通過できず、調光フィルム１は、入射光を遮光して遮光状態となる。
このＴＮ方式のように、無電界時に透過状態となり、電界印加時に遮光状態となるような光の制御モードをノーマリーホワイトモードという。
【００３４】
また、ＩＰＳ方式は、一方の基材に電極をまとめて作成し、この電極による電界により配向させた液晶分子を基板に対して横（水平）方向に回転させることにより透過光量を制御する方式である。
【００３５】
更に、ＧＨ方式は、ホストであるネマチック液晶中にゲストとして二色性色素を溶解させた液晶組成物を用いる方式である。二色性色素は、１軸の光吸収軸を有し、光吸収軸方向に振動する光のみを吸収することから、電場による液晶の動きに合わせて、二色性色素の配向を変化させ、光吸収軸の向きを制御することにより、液晶セルの透過状態を変化させることができる。
ＧＨ方式に使用される液晶組成物は、電界印加時における液晶分子の長軸方向の相違により、ポジ型とネガ型とに大別される。
ポジ型のネマチック液晶は、誘電率が長軸方向に大きく長軸に垂直な方向に小さい誘電率異方性が正の液晶であり、無電界時には液晶分子の長軸方向が光軸に対して垂直となり、電界印加時には液晶分子の長軸方向が光軸に対して平行となるものである。
一方、ネガ型のネマチック液晶は、誘電率が長軸方向に小さく長軸に垂直な方向に大きい誘電率異方性が負の液晶であり、無電界時には液晶分子の長軸方向が光軸に対して平行となり、電界印加時には液晶分子の長軸方向が光軸に対して垂直となるものである。
ここで、二色性色素分子は液晶分子と同じ方向に配向するため、ポジ型のネマチック液晶をホストとして用いた場合には、無電界時には遮光状態となり、電界印加時には透過状態となる（ノーマリーブラックモード）。
一方、ネガ型のネマチック液晶をホストとして用いた場合には、逆に、無電界時には透過状態となり、電界印加時には遮光状態となる（ノーマリーホワイトモード）。
ＧＨ方式に用いられる二色性色素としては、液晶に対して溶解性があり、二色性の高い色素、好ましくはオーダーパラメーター（Ｓ値）が０．７以上の色素が挙げられ、例えば、アゾ系、アントラキノン系、キノフタロン系、ペリレン系、インジゴ系、チオインジゴ系、メロシアニン系、スチリル系、アゾメチン系、テトラジン系等の二色性色素が挙げられる。
なお、調光フィルム１がＧＨ方式により製造される場合は、直線偏光板は省略することができる。
【００３６】
また、液晶セル４は、光配向層のパターンニング等によりいわゆるマルチドメイン方式により液晶材料を駆動してもよく、さらにはシングルドメインにより駆動してもよい。
更に、調光フィルム１は、上述の液晶による調光フィルムの他、透過光量を調整可能な各種調光フィルムを使用する場合に広く適用することができる。
【００３７】
〔製造工程〕
（電極作製工程）
次に、本実施形態の調光フィルム１の製造工程について説明する。図２は実施形態の調光フィルム１の製造方法を説明するフローチャートである。
【００３８】
調光フィルム１の製造工程は、電極作製工程ＳＰ２において、スパッタリング装置を使用したスパッタリング等によってＩＴＯにより、下側積層体５Ｄ及び上側積層体５Ｕに係る基材６、１５に透明電極１１、１６を作製する。ここで、電極作製工程ＳＰ２は、透明電極をパターンニングする工程をさらに備えていてもよい。
【００３９】
（スペーサ作製工程）
続いて製造工程は、スペーサ作製工程ＳＰ３において、透明電極１１が形成された基材６にスペーサ１２を作製する。なお、この工程で作成するスペーサ１２の形状については後述する。
スペーサ作製工程ＳＰ３は、フォトレジスト塗工工程ＳＰ３−１において、下側積層体５Ｄに係る基材６に、フォトレジストの塗工液を塗工した後、乾燥させ、これによりフォトレジスト層を作製する。
続く露光工程ＳＰ３−２において、露光装置によりフォトレジスト層を露光処理する。
現像工程ＳＰ３−３において、現像液により現像した後、洗浄、リンス、乾燥処理し、これらによりスペーサ１２を作製する。
なお、本実施形態では、スペーサ１２は、基材６側に設けられる例を示したが、これに限定されるものでなく、基材１５側や、基材６及び基材１５の両方に作製されるようにしてもよい。
【００４０】
（塗工工程）
続く塗工工程ＳＰ４において、このようにしてスペーサ１２を作製した基材６に配向層１３に係る塗工液を塗工した後、乾燥、硬化し、これにより配向層１３の材料層を作製する。また他方の基材１５についても、同様にして配向層１７の材料層を作製する。
【００４１】
（ラビング工程）
ラビング工程ＳＰ５において、このようにして配向層１３、１７の材料層を作製した上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄに係る基材６、１５をラビング処理し、配向層１３、１７を作製する。なお配向層１３、１７に光配向層を適用する場合には、塗工工程ＳＰ４、ラビング工程ＳＰ５に代えて光配向層に係る塗工液の塗工、露光の処理が実行される。
【００４２】
（シール部作製工程）
シール部作製工程ＳＰ６において、上側積層体５Ｕ又は下側積層体５Ｄの何れかに、ディスペンサや印刷を使用してシール材を塗布し、液晶を配置する枠状のシール部１９を形成する。このシール部作製工程の詳細については後述する。
【００４３】
（液晶滴下工程）
続く、液晶滴下工程ＳＰ７において、上側積層体５Ｕに液晶を滴下する。液晶の滴下は、ディスペンサやインクジェットにより行う。この液晶滴下工程の詳細については、後述する。
【００４４】
（積層工程）
積層工程ＳＰ８において、液晶が配置された下側積層体５Ｄに、上側積層体５Ｕを積層して押圧する。
なお、液晶滴下工程ＳＰ７及び続く積層工程ＳＰ８は、液晶セル４内への気泡混入を防止するために、通常、減圧下で行われる。例えば、１００Ｐａ以下の雰囲気により、より好ましくは５０Ｐａ以下の雰囲気において行われる。
【００４５】
（一体化工程）
続く一体化工程ＳＰ９において、紫外線の照射によりシール部１９を半硬化させた後、加熱し、これにより上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄに係る基材６、１５を貼合により一体化する。貼合は、真空貼合、常圧貼合、垂直プレス、ラミネート等を用いる。
【００４６】
（トリミング工程）
このようにして作製された上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄの積層体を続くトリミング工程ＳＰ１０において、所望の大きさに切断し、これにより液晶セル４を作製する。
【００４７】
（貼合工程）
続く貼合工程ＳＰ１１において、直線偏光板２、３を粘着材により貼り合せて調光フィルム１を作製する。
なお、ゲストホスト型液晶を用いる場合は、直線偏光板を必要としないので、この貼合工程を省略してもよい。
【００４８】
（第１実施形態）
図３は、第１実施形態のシール部作製工程ＳＰ６において外枠を形成するシール部１９の形状、及び液晶滴下工程ＳＰ７における液晶滴下位置Ｐを説明する図である。
【００４９】
（シール部の形状）
図示するように、シール部作製工程ＳＰ６で形成される第１実施形態のシール部１９は、略矩形状に形成されており、第１方向に延びる２本の第１延在部２１と、第１方向と直交する第２方向に延びる２本の第２延在部２２と、隣り合う第１延在部２１と第２延在部２２とを連結する連結部２３とを含む。
連結部２３は、曲線形状に形成されており、本実施形態では円弧形状に形成されている。そのため、本実施形態のシール部１９は、連結部２３において、第１延在部２１の端部と第２延在部２２の端部とは円弧を形成するように連結されている。
円弧を形成する円の半径は、シール部１９で形成される枠の大きさが、１０ｍｍ×４０００ｍｍの場合、０．１ｍｍから２０００ｍｍが好ましく、１ｍｍ〜５０ｍｍがより好ましい。また、シール部１９の枠形状は、長方形に限らず、異型形状であってもよい。
すなわち、２本の第１延在部２１と２本の第２延在部２２とが連結部２３によって連結されたシール部１９によって外枠が形成された液晶配置領域２５の隅部は、円弧状の面取り形状を有している。
【００５０】
（液晶滴下位置）
また、液晶配置領域２５は、シール部１９から一定の幅の外周領域２６と、その外周領域２６によって囲まれて外周領域２６の内部に位置する内部領域２７とを有している。
【００５１】
（内部領域での滴下位置）
図３の符号Ｐは、液晶滴下工程ＳＰ７において液晶８ａを滴下する液晶滴下位置であり、そのうちのＰ１は外周領域２６において液晶８ａが滴下される位置であり、Ｐ２は内部領域２７において液晶８ａが滴下される位置である。
内部領域２７の液晶滴下位置Ｐ２は、格子状に引かれた仮想直線２８の交点である。ただし、これに限定されず、液晶滴下位置Ｐ２の配置パターンは、内部領域２７おいて、上側積層体５Ｕが下側積層体５Ｄ側に押圧されたときに液晶が内部領域２７内で均等に広がるような構成であれば他の配置パターンであってもよい。
例えば、４つの液晶滴下位置Ｐ２で囲まれる領域の中央に、さらに一つの液晶滴下位置を設ける、いわゆる二次元の面心パターンであってもよい。
さらに、格子状ではなく、正六角形の頂点とその中心に滴下位置を設けるような六法格子のパターンであってもよい。なお六法格子の場合、縦辺と横辺とは均等な滴下パターンとはならない。
【００５２】
（外部領域での滴下位置）
本実施形態では、さらに、内部領域２７の設けられた液晶滴下位置Ｐ２のみならず、外周領域２６における連結部２３に近い連結部隣接領域２６ａにも、液晶滴下位置Ｐ１が設けられている。
【００５３】
（液晶の広がり方）
液晶滴下工程ＳＰ７において、内部領域２７の液晶滴下位置Ｐ２へ滴下された液晶８ａは、積層工程ＳＰ８において、上側積層体５Ｕによって押圧されて、外周領域２６へと広がっていく。
積層工程ＳＰ８において液晶８ａは、まだシール部１９と接触していない。一体化工程ＳＰ９でシール部１９が半硬化される前にシール部１９と液晶とが接触すると、シール部１９が汚染される場合があるからである。なお、シール部１９や液晶材料の種類や組み合わせによっては未硬化のシール部１９と液晶が接触しても問題ない場合もある。
一体化工程ＳＰ９において、紫外線によってシール部１９が半硬化された後、液晶８ａはさらにシール部１９まで広がってシール部１９と接触する。この際、シール部１９は半硬化されているので、液晶８ａによって汚染されることがない。
【００５４】
ここで、本実施形態では、上述のように内部領域２７のみならず、外周領域２６における連結部２３に近い連結部隣接領域２６ａにも、液晶滴下位置Ｐ１が設けられている。
【００５５】
（第１比較例）
これに対して、図４は第１比較例であって、連結部２３に近い連結部隣接領域２６ａに液晶滴下位置Ｐ１が設けられていない場合の、液晶８ａの広がり方を示す図である。図４に示すように連結部隣接領域２６ａに液晶滴下位置Ｐ１が設けられていない場合であって、円弧状の連結部２３の円の半径が液晶滴下位置Ｐ２ａと連結部２３との間の距離よりも短い場合、連結部２３の円弧のカーブが液晶８ａが広がる形状よりも急峻となる。したがって、液晶滴下位置Ｐ２ａに滴下された液晶８ａは、連結部２３まで広がらない可能性がある。
【００５６】
そうすると、連結部２３に気泡（真空泡、真空気泡）３０が残る可能性がある。なお、気泡は、陰圧により発生する気泡のみならず、陽圧により発生する気泡も含まれる。また、上述のように、一体化工程ＳＰ９は減圧下で行われるが、完全な真空でない場合もあり、角部に気泡３０が残る可能性もある。このような気泡３０が残存すると、調光フィルム１のこの気泡３０によって透過光の制御が局所的に損なわれることになる。
【００５７】
しかし、本実施形態では、連結部隣接領域２６ａに液晶滴下位置Ｐ１が設けられている。これにより、液晶滴下位置Ｐ１に滴下された液晶が、連結部２３まで十分に広がり、連結部２３における気泡３０の発生の確率がより低減される。
【００５８】
（第２比較例）
図６は、第２比較例の、シール部１９の形状、及び液晶滴下工程において液晶８ａが滴下される、液晶滴下位置Ｐ１を説明する図である。
図７は、第２比較例の液晶８ａの広がり方を示す図である。
このように連結部隣接領域２６ａに液晶滴下位置Ｐ１が設けられていても、図６に示す第２比較例のように第１延在部２１と第２延在部２２とが直接交差する、すなわち、連結部２３が面取りされていない（直角の）場合、図７に示すように連結部２３まで十分に液晶８ａが広がることが困難となる。そうすると、連結部２３に気泡３０が残る可能性がある。
【００５９】
図５は本実施形態における、液晶８ａの広がり方を示す図である。図示するように、本実施形態は、さらに、連結部２３の円弧形状が、液晶滴下位置Ｐ１を中心とした円弧形状となっている。すなわち、液晶８ａが広がる形に合わせて連結部２３が形成されている。ゆえに、連結部２３における気泡３０の発生の確率がより低減される。
なお、液晶滴下位置Ｐ１は、連結部２３の円弧形状を形成する円の中心に限らない。未硬化のシール部１９と液晶８ａとの接触を避けるために、円の中心よりも内側に寄せたり、液晶８ａの塗れ広がり不足により封入する気泡３０を避けるために円の中心よりも外側に寄せたり、状況に応じて滴下位置調整することが可能である。
【００６０】
本実施形態では、このように連結部２３における気泡３０の発生の確率がより低減されるので、調光フィルム１において気泡３０によって透過光の制御が局所的に損なわれる可能性が低減される。
さらに、連結部２３が湾曲していることにより、液晶８ａの塗れ広がりも促進され、液晶層８内への気泡３０の混入をさらに抑制することができる。
【００６１】
（第２実施形態）
図８は、第２実施形態のシール部作製工程ＳＰ６において外枠を形成するシール部１９の形状、及び液晶滴下工程ＳＰ７における液晶滴下位置Ｐを説明する図である。図９は、図８における連結部２３に隣接する連結部隣接領域２６ａの拡大図である。
第２実施形態が第１実施形態と異なる点は、シール部１９の連結部２３の形状と、外周領域２６における液晶滴下位置Ｐの位置である。
【００６２】
第２実施形態で、シール部１９の第１延在部２１と第２延在部２２との連結部２３は、楕円弧状に形成されている。連結部２３に隣接する連結部隣接領域２６ａにおける、液晶滴下位置Ｐは、楕円弧を形成する円の２つの焦点の液晶滴下位置Ｐａ、Ｐｂである。
そして、シール部１９の連結部２３の形状は、その楕円弧の形状と略一致している。
【００６３】
本実施形態によると、楕円弧の焦点である液晶滴下位置Ｐａ，Ｐｂされた液晶８ａは、積層工程ＳＰ８において、上側積層体５Ｕによって押圧される。そして、液晶滴下位置Ｐａ，Ｐｂされた液晶８ａは、図９に示すよう、シール部１９の連結部２３の形状に一致するように楕円形に広がっていく。
なお、この場合も、液晶滴下位置Ｐａ，Ｐｂは、楕円弧を形成する楕円の焦点に限らず、未硬化のシール部１９と液晶８ａとの接触を避けるために液晶滴下位置Ｐａ，Ｐｂは、楕円の焦点よりも内側に寄せたり、液晶８ａの塗れ広がり不足により封入する気泡を避けるために楕円の焦点よりも外側に寄せたり、状況に応じて滴下位置調整することが可能である。
本実施形態においても、液晶８ａの広がり方は、連結部２３の楕円弧形状に沿って広がっていくので、気泡が残りにくい。したがって一体化工程において、気泡が残りにくくなる。
【００６４】
（第３実施形態）
図１０は、第３実施形態のシール部作製工程ＳＰ６において外枠を形成するシール部１９の形状、及び液晶滴下工程ＳＰ７における液晶滴下位置Ｐを説明する図である。図１１は、連結部２３に隣接する連結部隣接領域２６ａの拡大図である。
第３実施形態が第１実施形態と異なる点は、シール部１９の連結部２３の形状と、外周領域２６における液晶滴下位置Ｐの位置である。本実施形態のシール部１９の隅部（連結部２３）は、多角形状に形成される。
【００６５】
第３実施形態で、シール部１９の第１延在部２１と第２延在部２２との連結部２３は第１延在部２１と第２延在部２２とのそれぞれに対して内角が１３５°になるように直線状に形成され、２つの角部が設けられる。
連結部２３に隣接する連結部隣接領域２６ａにおける、液晶滴下位置ＰはＰｃ，Ｐｄの２点で、連結部２３と平行な直線に沿って、連結部２３と、内部領域２７との間の略中間に配置されている。
【００６６】
本実施形態においても、図１０に示すように、液晶滴下位置Ｐｃ、Ｐｄに滴下された液晶は、積層工程ＳＰ８において、上側積層体５Ｕによって押圧されると、図１１に示すように、液晶滴下位置Ｐｃ、Ｐｄから広がっていき、シール部１９の連結部２３、第１延在部２１、及び第２延在部２２と接する楕円形状になる。
この際、図１０に示すように、連結部２３と第１延在部２１、連結部２３と第２延在部２２との間の角部の内角は１３５°であるので、例えば角部の内角が９０°の場合と比べて、液晶は角部の内部まで侵入し、気泡が残りにくい。したがって一体化工程において、気泡が残りにくくなる。
【００６７】
〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を種々に変更することができる。
【００６８】
（変形形態）
（１）第３実施形態では、連結部２３は、２つの角部を有するように形成したが、これに限定されず、角部は３つ以上の角部を有する他の多角形形状でもよい。
（２）連結部２３は、円弧、楕円弧に限られず、その他の曲線に形成されるようにしてもよい。
【符号の説明】
【００６９】
１    調光フィルム
２，３    直線偏光板
２Ａ，３Ａ    位相差フィルム
４    液晶セル
５Ｄ    下側積層体
５Ｕ    上側積層体
６，１５    基材
８    液晶層
１１，１６    透明電極
１２    スペーサ
１３，１７    配向層
１９    シール部
２０    駆動電源
２１    第１延在部
２２    第２延在部
２３    連結部
２５    液晶配置領域
２６    外周領域
２６ａ    連結部隣接領域
２７    内周領域
２７ａ    連結部隣接領域
２８    仮想直線
３０    気泡
Ｐ、Ｐ１、Ｐ２、Ｐａ、Ｐｂ    液晶滴下位置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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