(57)【要約】【課題】本発明は、有機ＥＬ表示装置の見栄えの悪化を抑制することが可能であると同時に、画素を正確な白色に表示させることができる有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板を提供することを主目的とする。【解決手段】本発明は、透明基板と、上記透明基板上に形成された開口部を有する遮蔽層と、を有し、上記遮蔽層は、有機ＥＬ表示装置における複数色の発光部が上記開口部に位置するように配置される有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板であって、上記発光部間に位置する上記遮蔽層の幅は、上記発光部間の間隔よりも狭いことを特徴とする有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板を提供することにより、上記課題を解決する。【選択図】図２
2018045973.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、
前記透明基板上に形成された開口部を有する遮蔽層と、
を有し、
前記遮蔽層は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置における複数色の発光部が前記開口部に位置するように配置される有機エレクトロルミネッセンス表示装置用遮蔽基板であって、
前記発光部間に位置する前記遮蔽層の幅は、前記発光部間の間隔よりも狭いことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置用遮蔽基板。
【請求項２】
前記発光部間に位置する前記遮蔽層の幅方向の外側には、透過率を調整するための遮蔽補助層が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置用遮蔽基板。
【請求項３】
前記遮蔽補助層は、前記遮蔽層における前記開口部が配置される位置の前記発光部と同系色であることを特徴とする請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置用遮蔽基板。
【請求項４】
前記遮蔽層における前記開口部を覆うように形成された複数色の着色層をさらに有することを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置用遮蔽基板。
【請求項５】
請求項１から請求項４までのいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置用遮蔽基板と、
支持基板上に有機エレクトロルミネッセンス素子が形成された有機エレクトロルミネッセンス素子基板と
が積層されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置用遮蔽基板およびそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、自己発色により視認性が高いこと、液晶表示装置と異なり全固体ディスプレイであるため耐衝撃性に優れていること、応答速度が速いこと、温度変化による影響が少ないこと、および視野角が大きいこと等の利点を有することから注目されており、液晶表示装置やプラズマディスプレイに続くフラットパネルディスプレイとして、研究開発、商品化が進められている。なお、以下、エレクトロルミネッセンスをＥＬと略す場合がある。
【０００３】
有機ＥＬ表示装置のフルカラー化には、大別して、三色塗り分け方式と色変換方式とカラーフィルタ方式とがある。三色塗り分け方式は赤、緑、青の三色の発光層を用いる方法であり、色変換方式は青色発光層を用いて色変換層を組み合わせる方法であり、カラーフィルタ方式は白色発光層を用いてカラーフィルタを組み合わせる方法である。また、三色塗り分け方式では、色純度を高めるためにカラーフィルタを併用する場合がある。
【０００４】
上述した方式の中で三色塗り分け方式が適用されるフルカラーの有機ＥＬ表示装置では、一つの画素の表示色は、有機ＥＬ素子において、例えば、赤、緑、および青等の複数色の発光部により表示される。そして、複数色の発光部の面積比は、一つの画素を白色に表示させる時に、複数色の発光部から出射される複数色の光の強度比が所定の比率になるように調整されている。
【０００５】
一方、フルカラーの有機ＥＬ表示装置は、支持基板上に有機ＥＬ素子が形成されている有機ＥＬ素子基板を有するが、有機ＥＬ素子基板において、有機ＥＬ素子の複数色の発光部以外の領域には駆動回路や隔壁等が形成されている。そして、これらの駆動回路や隔壁等は、有機ＥＬ表示装置の外部から視認されることがあるために、有機ＥＬ表示装置の見栄えを悪化させることがある。
【０００６】
このような問題に対処するために、例えば、特許文献１に記載のフルカラーの有機ＥＬ表示装置は、有機ＥＬ素子基板に対して、遮蔽層が形成された遮蔽基板が積層された構成となっている。この構成では、遮蔽基板における遮蔽層を有機ＥＬ素子基板における複数色の発光部以外の領域と同様の形状に形成した上で、平面視して遮蔽基板における遮蔽層が有機ＥＬ素子基板における発光部間の領域に位置するように、有機ＥＬ素子基板に対して遮蔽基板が積層されている。したがって、このような有機ＥＬ表示装置を外部から平面視した時には、有機ＥＬ素子基板において複数色の発光部以外の領域は、遮蔽基板における遮蔽層により遮蔽されることになる。これにより、上述した駆動回路や隔壁等が有機ＥＬ表示装置の外部から視認され、有機ＥＬ表示装置の見栄えが悪化することを抑制することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１２−１２３３０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、このようなフルカラーの有機ＥＬ表示装置を製造する時には、有機ＥＬ素子基板に対して、遮蔽層が形成された遮蔽基板を精度良く配置することができないこと等を原因として、遮蔽基板における遮蔽層を有機ＥＬ素子基板における発光部間の領域に正確に位置決めできない場合がある。
【０００９】
このような場合には、有機ＥＬ表示装置を平面視した時において、有機ＥＬ素子基板における複数色の発光部は、遮蔽基板における遮蔽層によりその一部が遮蔽されることになる。このため、遮蔽層により遮蔽されずに視認される複数色の発光部の面積比が、遮蔽基板を積層せずに有機ＥＬ素子基板を直接平面視した時に視認される面積比とは異なるものになり、画素を正確な白色に表示させることができなくなるといった不具合が生じる場合がある。
【００１０】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、上記有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板と上記有機ＥＬ素子基板との位置決め精度を高く保たなくても、画素を正確な白色に表示させることができ、さらに上記有機ＥＬ表示装置の見栄えの悪化を抑制することが可能である有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板およびそれを用いた有機ＥＬ表示装置を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、上記課題を解決するために、透明基板と、上記透明基板上に形成された開口部を有する遮蔽層と、を有し、上記遮蔽層は、有機ＥＬ表示装置における複数色の発光部が上記開口部に位置するように配置される有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板であって、上記発光部間に位置する上記遮蔽層の幅は、上記発光部間の間隔よりも狭いことを特徴とする有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板を提供する。
【００１２】
本発明によれば、上記有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板と上記有機ＥＬ素子基板との位置決め精度を高く保たなくても、画素を正確な白色に表示させることができ、さらに上記有機ＥＬ表示装置の見栄えの悪化を抑制することが可能である。
【００１３】
上記発明においては、上記発光部間に位置する上記遮蔽層の幅方向の外側には、透過率を調整するための遮蔽補助層が形成されていることが好ましい。上記有機ＥＬ表示装置の見栄えが悪くなることをより効果的に抑制することができるからである。
【００１４】
また、上記発明においては、上記遮蔽補助層は、上記遮蔽層における上記開口部が配置される位置の上記発光部と同系色であることが好ましい。色精度を低下させることなく上記有機ＥＬ表示装置の見栄えが悪くなることをより効果的に抑制することができるからである。
【００１５】
また、上記発明においては、上記遮蔽層における上記開口部を覆うように形成された複数色の着色層をさらに有することが好ましい。画素の色純度を高めて表示することができるからである。
【００１６】
また、本発明は、上述した有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板と、支持基板上に有機ＥＬ素子が形成された有機ＥＬ素子基板とが積層されていることを特徴とする有機ＥＬ表示装置を提供する。
【００１７】
本発明によれば、上記有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板を有することにより、上記有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板と上記有機ＥＬ素子基板との高い位置決め精度を求められることなく、画素を正確な白色に表示させることができ、さらに上記有機ＥＬ表示装置の見栄えの悪化を防止することが可能である。
【発明の効果】
【００１８】
本発明においては、上記有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板と上記有機ＥＬ素子基板との位置決め精度を高く保たなくても、画素を正確な白色に表示させることができ、さらに上記有機ＥＬ表示装置の見栄えの悪化を抑制することが可能であるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板の一例を示す概略平面図である。
【図２】図１に示される一つの画素領域のＡ−Ａ線断面図である。
【図３】図１に示される有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板が用いられる有機ＥＬ素子基板の一例を示す概略平面図である。
【図４】図３に示される一つの画素領域のＡ−Ａ線断面図である。
【図５】図１に示される有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板と図３に示される有機ＥＬ素子基板とが積層された本発明の有機ＥＬ表示装置の一例を示す概略平面図である。
【図６】図５に示される一つの画素のＡ−Ａ線断面図である。
【図７】本発明の有機ＥＬ表示装置の他の例を示す概略図である。
【図８】本発明の有機ＥＬ表示装置の他の例を示す概略図である。
【図９】本発明の有機ＥＬ表示装置の他の例を示す概略断面図である。
【図１０】本発明の有機ＥＬ表示装置の他の例を示す概略図である。
【図１１】従来の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板の一例と図３に示される有機ＥＬ素子基板とが積層された従来の有機ＥＬ表示装置の一例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板およびそれを用いた有機ＥＬ表示装置について詳細に説明する。
【００２１】
Ａ．有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板
本発明の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板は、透明基板と、上記透明基板上に形成された開口部を有する遮蔽層と、を有し、上記遮蔽層は、有機ＥＬ表示装置における複数色の発光部が上記開口部に位置するように配置される有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板であって、上記発光部間に位置する上記遮蔽層の幅は、上記発光部間の間隔よりも狭いことを特徴とする。
以下、本発明の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板について詳細に説明する。
【００２２】
まず、本発明の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板の一例について図面を参照しながら説明する。図１は、本発明の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板の一例を示す概略平面図である。図２は、図１に示される一つの画素領域のＡ−Ａ線断面図である。また、図３は、図１に示される有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板が用いられる有機ＥＬ素子基板の一例を示す概略平面図であり、図４は、図３に示される一つの画素領域のＡ−Ａ線断面図である。さらに、図５は、図１に示される有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板と図３に示される有機ＥＬ素子基板とが積層された本発明の有機ＥＬ表示装置の一例を示す概略平面図であり、図６は図５に示される一つの画素のＡ−Ａ線断面図である。
【００２３】
図５および図６に示されるように、有機ＥＬ表示装置３０は縦方向および横方向に並べられた複数個の画素Ｐを有している。有機ＥＬ表示装置３０では、有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板１０と有機ＥＬ素子基板２０とが積層されており、有機ＥＬ素子基板２０と有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板１０との間に樹脂２５が充填されている。
【００２４】
図３および図４に示されるように、有機ＥＬ素子基板２０では、各画素Ｐが位置する各画素領域９ごとに、支持基板１２上に有機ＥＬ素子１３が形成されている。有機ＥＬ素子１３では、背面電極層１４と有機ＥＬ層１６と透明電極層１７とが順に積層されている。有機ＥＬ層１６には、赤色に発光する有機ＥＬ層１６Ｒ、緑色に発光する有機ＥＬ層１６Ｇ、および青色に発光する有機ＥＬ層１６Ｂが含まれている。なお、背面電極層１４の間および有機ＥＬ層の間には絶縁層１５が形成されている。
また、有機ＥＬ層１６は、発光材料が蒸着された発光層を含み、発光層が形成された領域および背面電極層１４が形成された領域が、有機ＥＬ層１６の発光領域となっている。
【００２５】
また、有機ＥＬ素子基板２０では、各画素領域９ごとに、有機ＥＬ層１６Ｒの発光領域である赤色発光部ＰＲ、有機ＥＬ層１６Ｇの発光領域である緑色発光部ＰＧ、および有機ＥＬ層１６Ｂの発光領域である青色発光部ＰＢが配置される。図５および図６に示すように、有機ＥＬ表示装置３０では、一つの画素Ｐの表示色が、赤色発光部ＰＲ、緑色発光部ＰＧ、および青色発光部ＰＢにより表示される。
【００２６】
また、図３に示されるように、有機ＥＬ素子基板２０を平面視すると、赤色発光部ＰＲ、緑色発光部ＰＧ、および青色発光部ＰＢの形状は、対応するそれぞれの辺が平行な複数の長方形になっている。赤色発光部ＰＲの形状は縦方向の長さ×横方向の長さがＬ１×Ｓ１の長方形になっており、緑色発光部ＰＧの形状は縦方向の長さ×横方向の長さがＬ２×Ｓ１の長方形になっており、青色発光部ＰＢの形状は縦方向の長さ×横方向の長さがＬ２×Ｓ２の長方形になっている。
【００２７】
一方、図１および図２ならびに図５および図６に示されるように、有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板１０は、透明基板２と、透明基板２上に形成された遮蔽層３と、を有する。有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板１０では、各画素領域９ごとに配置された遮蔽層３における複数の開口部３ａに、赤色発光部ＰＲ、緑色発光部ＰＧ、および青色発光部ＰＢがそれぞれ位置する。
【００２８】
また、図１および図２ならびに図５および図６に示されるように、有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板１０では、一つの画素領域９内において、赤色発光部ＰＲおよび緑色発光部ＰＧの間に位置する遮蔽層３の幅Ｗは、当該赤色発光部ＰＲおよび緑色発光部ＰＧの間隔Ｓよりも狭くなっており、緑色発光部ＰＧおよび青色発光部ＰＢの間に位置する遮蔽層３の幅Ｗも、当該緑色発光部ＰＧおよび青色発光部ＰＢの間隔Ｓよりも狭くなっている。また、一つの画素領域９の青色発光部ＰＢおよび横方向に隣接する他の画素領域９の赤色発光部ＰＲの間に位置する遮蔽層３の幅Ｗも、当該青色発光部ＰＢおよび赤色発光部ＰＲの間隔Ｓよりも狭くなっている。さらに、縦方向に隣接する二つの画素領域９の赤色発光部ＰＲ間に位置する遮蔽層３の幅Ｗは、当該二つの赤色発光部ＰＲの間隔Ｓよりも狭くなっており、縦方向に隣接する二つの画素領域９の緑色発光部ＰＧ間に位置する遮蔽層３の幅Ｗは、当該二つの緑色発光部ＰＧの間隔Ｓよりも狭くなっており、縦方向に隣接する二つの画素領域９の青色発光部ＰＢ間に位置する遮蔽層３の幅Ｗは、当該二つの青色発光部ＰＢの間隔Ｓよりも狭くなっている。
【００２９】
この例においては、これらの隣接する二つの発光部間に位置する遮蔽層３の幅Ｗが、当該二つの発光部の間隔Ｓに対して両側でそれぞれ距離ｄ１ずつ狭くなっている。なお、距離ｄ１と、赤色発光部ＰＲおよび緑色発光部ＰＧの横方向の長さＳ１ならびに青色発光部ＰＢの横方向の長さＳ２との関係は、ｄ１＜Ｓ１＜Ｓ２となっている。また、距離ｄ１と、赤色発光部ＰＲの縦方向の長さＬ１ならびに緑色発光部ＰＧおよび青色発光部ＰＢの縦方向の長さＬ２との関係は、ｄ１＜Ｌ２＜Ｌ１となっている。
【００３０】
これに対して、図１１（ａ）は、従来の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板と図３に示される有機ＥＬ素子基板とが積層された従来の有機ＥＬ表示装置の一例を示す概略平面図であり、図１１（ｂ）は図１１（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
【００３１】
図１１（ａ）に示されるように、従来例の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板１０では、各画素領域９ごとに配置された遮蔽層３における複数の開口部３ａは、赤色発光部ＰＲ、緑色発光部ＰＧ、および青色発光部ＰＢと形状および寸法がほぼ同一になっている。
【００３２】
このため、従来例の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板１０と有機ＥＬ素子基板２０とが位置決め精度が悪い状態で積層され、有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板１０が有機ＥＬ素子基板２０に対して横方向に距離ｄ１だけずれて配置された有機ＥＬ表示装置３０を平面視すると、図１１（ａ）に示されるように、赤色発光部ＰＲ、緑色発光部ＰＧ、および青色発光部ＰＢにおける横方向の端側の遮蔽領域ＳＲ、遮蔽領域ＳＧ、および遮蔽領域ＳＢが、遮蔽層３によりそれぞれ遮蔽されることになる。
【００３３】
そして、遮蔽領域ＳＲ、遮蔽領域ＳＧ、および遮蔽領域ＳＢの横方向の幅は全てが同一のｄ１になる。また、上述したように青色発光部ＰＢの横方向の長さＳ２は赤色発光部ＰＲおよび緑色発光部ＰＧの横方向の長さＳ１と比較して大きい。このため、青色発光部ＰＢにおける遮蔽領域ＳＢの割合は、赤色発光部ＰＲにおける遮蔽領域ＳＲの割合および緑色発光部ＰＧにおける遮蔽領域ＳＧの割合と比較して大きくなる。
【００３４】
したがって、赤色発光部ＰＲ、緑色発光部ＰＧ、および青色発光部ＰＢから直接出射される赤色光、緑色光、および青色光のうち、上述した遮蔽領域から出射される光は、遮蔽層３により遮蔽されるので、有機ＥＬ表示装置３０の外部に出射される赤色光、緑色光、および青色光の強度比は、赤色発光部ＰＲ、緑色発光部ＰＧ、および青色発光部ＰＢから直接出射される赤色光、緑色光、および青色光の強度比と異なるものになる。この結果、画素を正確な白色に表示させることができなくなる。これは、従来例の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板１０が有機ＥＬ素子基板２０に対して縦方向にずれて配置された場合も同様である。
【００３５】
これに対して、本発明の一例の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板１０と有機ＥＬ素子基板２０とが積層された有機ＥＬ表示装置３０では、図５および図６に示されるように、有機ＥＬ素子基板２０において、赤色発光部ＰＲの周囲に隣接する幅ｄ１の領域、緑色発光部ＰＧの周囲に隣接する幅ｄ１の領域、ならびに青色発光部ＰＢの周囲に隣接する幅ｄ１の領域の分だけ、両基板がずれても各発光部は遮蔽されない。
【００３６】
したがって、図１１に示される従来例の場合とは異なり、両基板の位置決め精度が多少悪い場合でも、有機ＥＬ表示装置３０の外部に出射される赤色光、緑色光、および青色光の強度比は、赤色発光部ＰＲ、緑色発光部ＰＧ、および青色発光部ＰＢから直接出射される赤色光、緑色光、および青色光の強度比と異なるものになることはない。この結果、画素を正確な白色に表示させることができる。また、各発光部間には幅が若干狭くなるものの遮蔽層３が配置されているため、有機ＥＬ表示装置３０の見栄えの悪化を防止することもできる
【００３７】
以上のように、本発明によれば、上記有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板と上記有機ＥＬ素子基板との位置決め精度を高く保たなくても、画素を正確な白色に表示させることができ、さらに上記有機ＥＬ表示装置の見栄えの悪化を抑制することが可能である。
【００３８】
以下、本発明の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板における各構成について説明する。
【００３９】
１．遮蔽層
本発明における遮蔽層は、上記透明基板上に形成された開口部を有するものである。そして、上記遮蔽層は、有機ＥＬ表示装置における複数色の発光部が上記開口部に位置するように配置されるものであり、上記発光部間に位置する上記遮蔽層の幅は、上記発光部間の間隔よりも狭い。
【００４０】
ここで、「上記有機ＥＬ表示装置における上記複数色の発光部」とは、上記有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板が用いられる有機ＥＬ素子基板において、各画素領域ごとに配置された発光色の異なる複数の発光部を意味する。
なお、「画素」とは画像を構成する最小単位であり、「画素領域」とは一つの画素が配置されている領域をいう。
【００４１】
また、「上記発光部間に位置する上記遮蔽層の幅は、上記発光部間の間隔よりも狭い」とは、例えば、図１に示されるように、上記有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板と、上記有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板が用いられる有機ＥＬ素子基板とが積層された有機ＥＬ表示装置を平面視した場合に、一つの画素領域内において、隣接する二つの発光部間に位置する遮蔽層の幅が当該二つの発光部の間隔よりも狭くなっていることのみではなく、隣接する二つの画素領域にそれぞれ配置される隣接する二つの発光部間に位置する遮蔽層の幅が当該二つの発光部の間隔よりも狭くなっていることを含む意味である。
【００４２】
さらに、上記発光部間に位置する上記遮蔽層の幅が、上記発光部間の間隔よりも狭い構成としては、両基板の位置決め精度を高く保たなくても各発光部が遮蔽されない構成であれば特に限定されないが、例えば、図１に示されるように、隣接する二つの発光部間に位置する遮蔽層３の幅Ｗが、当該二つの発光部の間隔Ｓに対して両側で距離ｄ１ずつ狭くなっているように、隣接する二つの発光部間に位置する遮蔽層の幅が、当該二つの発光部の間隔に対して両側で狭くなっている構成が好ましく、特に両側で同一の距離ずつ狭くなっていることが好ましい。両基板が互いにどちらの方向にずれても各発光部は遮蔽されないからである。
【００４３】
このような構成としては、例えば、図１に示される距離ｄ１のような、上記遮蔽層の幅が、上記二つの発光部の間隔に対して一方の側で狭くなっている距離が、７μｍ以上１５μｍ以下であるものが好ましく、中でも上記距離が５μｍ以上１２μｍ以下、特に上記距離が３μｍ以上１０μｍ以下であるものが好ましい。
【００４４】
上記発光部間に位置する上記遮蔽層の幅が大き過ぎると、両基板の位置決め精度が悪い場合において、複数色の発光部の一部が上記遮蔽層により遮蔽されることになり、画素を正確な白色に表示できない場合があるからである。また、上記遮蔽層の幅が狭過ぎると、各発光部間の領域のうち上記遮蔽層により遮蔽されない領域の割合が大きくなるために、上記有機ＥＬ表示装置の見栄えの悪化を十分に抑制できない場合があるからである。
【００４５】
本発明における遮蔽層は、上記発光部の可視光を遮蔽することができるものであれば特に限定されないが、可視光領域での平均透過率が１％未満であることが好ましく、中でも０．５％以下、特に０．１％以下であることが好ましい。上記有機ＥＬ素子基板における上記発光部以外の領域に対する遮蔽効果を十分に発揮するためである。
【００４６】
ここで、「可視光領域」とは、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲内をいう。
透過率の測定方法としては、サンプル基板（透明基板）の透過率をリファレンス（１００％）として、透過率を測定する方法を採用することができる。装置としては、紫外・可視分光光度計（例えば日立Ｕ-４０００等）、またはフォトダイオードアレイを検出器としている装置（例えば大塚電子ＭＣＰＤ等）を用いることができる。また、可視光領域での平均透過率とは波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲内における透過率を平均した値である。
【００４７】
上記遮蔽層の膜厚は、上述した透過率を示すものであれば特に限定されないが、例えば０．５μｍ〜２．０μｍの範囲内で適宜設定することができる。
【００４８】
上記遮蔽層としては、例えばバインダ樹脂中に黒色色材を分散させたものが用いられる。
【００４９】
上記黒色色材としては、カラーフィルタ等の遮光層等に一般に使用されるものを挙げることができ、顔料および染料のいずれも用いることができる。例えば、カーボンブラック、チタンブラック等が挙げられる。
【００５０】
また、上記遮蔽層としては、バインダ樹脂中に有色色材を分散させたものが用いてもよい。黒色色材を分散させたものを用いる場合には、フォトリソグラフィ法により上記遮蔽層を形成した時に、黒色色材が残渣として画素領域に付着することにより、上記発光部の可視光が遮蔽されることがあるからである。また、有色色材を分散させた上記遮蔽層としては、１色の有色色材を分散させたものでもよいし、複数色の有色色材を分散させたものでもよいが、後者であることがより好ましい。遮蔽効果を十分に発揮するためである。有色色材としては、例えば、後述する「３．その他の構成  （１）遮蔽補助層」の項目に記載の着色遮蔽補助層に用いられる色材と同様の色材が用いられる。
【００５１】
上記バインダ樹脂は、上記遮蔽層の形成方法に応じて適宜選択される。フォトリソグラフィ法の場合、バインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。また、印刷法やインクジェット法の場合、バインダ樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられる。
【００５２】
また、上記遮蔽層には、必要に応じて光重合開始剤、増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等が含有されていてもよい。
【００５３】
上記遮蔽層の形成方法としては、透明基板上に上記遮蔽層をパターン状に形成できる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、フォトリソグラフィ法、印刷法、インクジェット法を挙げることができる。
【００５４】
２．透明基板
本発明における透明基板は、上記遮蔽層を支持するものである。
上記透明基板としては、一般的にカラーフィルタ等の光学基板に用いられているものを用いることができ、例えば、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英板等の可撓性のない無機基板、および、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する樹脂基板等を挙げることができる。
【００５５】
３．その他の構成
本発明の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板は、上記透明基板および上記遮蔽層以外に、必要に応じて他の構成を有していてもよい。
【００５６】
（１）遮蔽補助層
上記有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板としては、上記発光部間に位置する上記遮蔽層の幅方向の外側には、透過率を調整するための遮蔽補助層が形成されているものが好ましい。上記有機ＥＬ表示装置の見栄えが悪くなることをより効果的に抑制することができるからである。
【００５７】
上記遮蔽補助層は、可視光領域での平均透過率が上記遮蔽層よりも高いものであれば特に限定されないが、可視光領域での平均透過率が１％以上５０％以下であることが好ましく、中でも可視光領域での平均透過率が２％以上４０％以下、特に可視光領域での平均透過率が５％以上３０％以下であるものが好ましい。上記有機ＥＬ素子基板における上記発光部以外の領域に対する遮蔽効果を発揮しつつ、両基板の位置決め精度が悪い場合に画素の表示色の色精度を低下させないためである。
なお、上記遮蔽補助層の可視光領域での平均透過率の測定方法は、上述した「１．遮蔽層」の項目に記載の上記遮蔽層の可視光領域での平均透過率の測定方法と同様であるため、ここでの記載は省略する。
【００５８】
上記遮蔽補助層とは、例えば、図７に示されるように、上記遮蔽層における上記開口部内において、上記開口部の外縁から上記発光部側に延在しているもの等が挙げられる。
なお、上記開口部の外縁から上記発光部側に延在している上記遮蔽補助層としては、上記遮蔽層上に重なって形成され、上記遮蔽層上の位置から上記発光部側に延在しているものも含まれる。
【００５９】
ここで、図７（ａ）は、本発明の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板の他の例と図３に示される有機ＥＬ素子基板とが積層された本発明の有機ＥＬ表示装置の他の例を示す概略平面図であり、図７（ｂ）は図７（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
【００６０】
図７に示されるように、この例の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板１０では、図１に示される構成に加えて、遮蔽補助層５が、赤色発光部ＰＲが位置する開口部３ａの外縁から赤色発光部ＰＲの外縁までの領域、緑色発光部ＰＧが位置する開口部３ａの外縁から緑色発光部ＰＧの外縁までの領域、および青色発光部ＰＢが位置する開口部３ａの外縁から青色発光部ＰＢの外縁までの領域に形成されている。遮蔽補助層５の幅は、遮蔽層３の幅が一方の側で狭くなっている距離と同じｄ１となっている。なお、遮蔽補助層５の幅は、図７（ｂ）において破線で示されるように当該距離ｄ１よりも大きくてもよい。
【００６１】
このため、図７に示されるように、有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板１０と有機ＥＬ素子基板２０とが正しく位置決めされた有機ＥＬ表示装置３０では、有機ＥＬ素子基板２０において、赤色発光部ＰＲ、緑色発光部ＰＧ、および青色発光部ＰＢの周囲に隣接する幅ｄ１の領域が、遮蔽補助層５により遮蔽されることになる。これにより、図５および図６に示される有機ＥＬ表示装置３０と比較して見栄えの悪化をより効果的に抑制することが可能である。また、図７に示される両基板の位置決め精度が多少悪い場合には、各発光部の端側の領域が遮蔽補助層５により遮蔽されることになるが、遮蔽補助層５の可視光領域での平均透過率は遮蔽層３と比較して高いために、図１１に示される従来例と比較して、色精度を低下させることがない。
【００６２】
上記遮蔽補助層の幅としては、図７（ｂ）において破線で示されるように、上記遮蔽層の幅が一方の側で狭くなっている距離よりも大きくてもよいが、図７（ｂ）において実線で示されるように、当該距離以下の幅が好ましい。上記発光部が上記遮蔽補助層により遮蔽されることがないので、色精度を低下させることがないからである。
なお、「上記遮蔽補助層の幅」とは、上記遮蔽補助層における上記開口部の外縁から上記発光部側の端までの距離を意味し、図７（ａ）に示される遮蔽補助層５ではその全体の幅を意味するが、上記遮蔽層上に重なって形成され、上記遮蔽層上の位置から上記発光部側に延在している上記遮蔽補助層では、その一部の幅に相当する、上記開口部の外縁から上記発光部側の端までの距離を意味する。
【００６３】
このような上記遮蔽補助層の幅としては、特に限定されないが、３μｍ以上２０μｍ以下のものが好ましく、中でも３μｍ以上１５μｍ以下、特に３μｍ以上１２μｍ以下のものが好ましい。上記発光部が上記遮蔽補助層により遮蔽される面積が大きくはならず、色精度の低下を抑制することができるからであり、上記発光部間の十分な領域を遮蔽することができるので、上記有機ＥＬ表示装置の見栄えが悪くなることをより効果的に抑制することができるからである。
【００６４】
上記遮蔽補助層の膜厚は、可視光領域での平均透過率が上記遮蔽層よりも高くなるものであれば特に限定されないが、例えば１μｍ〜５μｍの範囲内で適宜設定することができる。
【００６５】
上記遮蔽補助層は、例えば色材をバインダ樹脂中に分散させたものである。上記色材としては、各色の顔料や染料等を挙げることができる。上記バインダ樹脂および上記遮蔽補助層に含有される他の材料については、上述した遮蔽層に用いられるバインダ樹脂および他の材料と同様であるため、ここでの説明は省略する。
【００６６】
上記遮蔽補助層の形成方法としては、カラーフィルタ等における一般的な着色層等と同様の形成方法であればよく、例えばフォトリソグラフィ法、インクジェット法、印刷法等が挙げられる。
【００６７】
また、上記遮蔽補助層としては、上記遮蔽層における上記開口部が配置される位置の上記発光部と同系色である着色遮蔽補助層が好ましい。色精度を低下させることなく上記有機ＥＬ表示装置の見栄えが悪くなることをより効果的に抑制することができるからである。
【００６８】
ここで、図８（ａ）は、本発明の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板の他の例と図３に示される有機ＥＬ素子基板とが積層された本発明の有機ＥＬ表示装置の他の例を示す概略平面図であり、図８（ｂ）は図８（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
【００６９】
図８に示されるように、この例の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板１０では、図１に示される構成に加えて、赤色遮蔽補助層５Ｒが、赤色発光部ＰＲが位置する開口部３ａの外縁から赤色発光部ＰＲの外縁までの領域に形成されており、緑色遮蔽補助層５Ｇが、緑色発光部ＰＧが位置する開口部３ａの外縁から緑色発光部ＰＧの外縁までの領域に形成されており、青色遮蔽補助層５Ｂが、青色発光部ＰＢが位置する開口部３ａの外縁から青色発光部ＰＢの外縁までの領域に形成されている。赤色遮蔽補助層５Ｒ、緑色遮蔽補助層５Ｇ、および青色遮蔽補助層５Ｂの幅は、遮蔽層３の幅が一方の側で狭くなっている距離と同じｄ１となっている。
【００７０】
このため、図８に示されるように、有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板１０と有機ＥＬ素子基板２０とが正しく位置決めされて積層された有機ＥＬ表示装置３０では、有機ＥＬ素子基板２０において、赤色発光部ＰＲ、緑色発光部ＰＧ、および青色発光部ＰＢの周囲に隣接する領域が、同系色の着色遮蔽補助層により遮蔽されることになる。このため、図７に示される例と比較して見栄えの悪化をより効果的に抑制することが可能である。また、図８に示される両基板の位置決め精度が多少悪い場合には、各発光部の端側の領域が同系色の着色遮蔽補助層により遮蔽されることになるため、図７に示される例と比較して、色精度を低下させることがない。
【００７１】
本発明において、上記着色遮蔽補助層としては、上記着色遮蔽補助層が形成される上記開口部が配置される位置の上記発光部の発光色の波長域での平均透過率が、当該発光色の波長域以外の可視光領域での平均透過率よりも高い遮蔽補助層が好ましい。
なお、上記着色遮蔽補助層の所定の波長域での平均透過率とは、所定の波長域内における透過率を平均した値である。透過率の測定方法としては、上述した「１．遮蔽層」の項目に記載の透過率の測定方法と同様であるため、ここでの記載は省略する。
【００７２】
また、上記着色遮蔽補助層としては、上記着色遮蔽補助層が形成される上記開口部が配置される位置の上記発光部の発光色の波長域での平均透過率が２０％以上８０％以下であり、当該発光色の波長域以外の可視光領域での平均透過率が３０％以上８０％以下である層が好ましい。
【００７３】
上記着色遮蔽補助層としては、例えば、赤色発光部と同系色の赤色遮蔽補助層、緑色発光部と同系色の緑色遮蔽補助層、青色発光部と同系色の青色遮蔽補助層等が挙げられる。
【００７４】
上記着色遮蔽補助層の幅としては、図９に示されるように、上記遮蔽層の幅が一方の側で狭くなっている距離よりも大きくてもよい。上記有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板および上記有機ＥＬ素子基板の位置決め精度が悪い場合に、上記着色遮蔽補助層によって、上記有機ＥＬ素子基板における上記発光部の周囲に隣接する領域のより広い範囲を遮蔽することができるからである。
【００７５】
ここで、図９は、本発明の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板の他の例と図３に示される有機ＥＬ素子基板とが積層された本発明の有機ＥＬ表示装置の他の例を示す概略断面図である。
【００７６】
図９に示される有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板１０では、赤色遮蔽補助層５Ｒ、緑色遮蔽補助層５Ｇ、および青色遮蔽補助層５Ｂの幅は、遮蔽層３の幅が一方の側で狭くなっている距離ｄ１よりも大きくなっている。このため、図９に示される両基板の位置決め精度が悪い場合には、図８に示される例と比較して、有機ＥＬ素子基板２０における、赤色発光部ＰＲ、緑色発光部ＰＧ、および青色発光部ＰＢの周囲に隣接する領域のより広い範囲を遮蔽することができる。
【００７７】
上記着色遮蔽補助層に用いられる色材としては、上述したように各色の顔料や染料等を挙げることができるが、上記赤色遮蔽補助層に用いられる色材としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。上記緑色遮蔽補助層に用いられる色材としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。上記青色遮蔽補助層に用いられる色材としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料や染料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
【００７８】
（２）複数色の着色層
上記有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板としては、上記遮蔽層における上記開口部を覆うように形成された複数色の着色層を有するものであってもよい。画素の色純度を高めて表示することができるからである。
【００７９】
ここで、「上記複数色の着色層」とは、上記遮蔽層における複数の開口部の各開口部において、各開口部に位置する各色の発光部と同系色の着色層が形成されたものを意味し、一般的には、三色塗り分け方式の有機ＥＬ表示装置において色純度を高めるために併用される複数色の着色層と同様のものである。上記複数色の着色層としては、例えば赤、緑、青の３色の着色層を含むもの等が挙げられる。
なお、上記複数色の着色層の所定の波長域での平均透過率とは、所定の波長域内における透過率を平均した値である。透過率の測定方法としては、上述した「１．遮蔽層」の項目に記載の透過率の測定方法と同様であるため、ここでの記載は省略する。
【００８０】
ここで、図１０（ａ）は、本発明の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板の他の例と図３に示される有機ＥＬ素子基板とが積層された本発明の有機ＥＬ表示装置の他の例を示す概略平面図であり、図１０（ｂ）は図１０（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
【００８１】
図１０に示されるように、この例の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板１０では、隣接する二つの発光部間に位置する遮蔽層３の幅Ｗが、当該二つの発光部の間隔Ｓに対して両側でそれぞれ距離ｄ２ずつ狭くなっている。
【００８２】
また、この例の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板１０では、赤色着色層６Ｒ、緑色着色層６Ｇ、および青色着色層６Ｂは、同系色の発光部が位置する開口部３ａを覆うように形成されている。このため、画素の表示色は各色の発光部の出射光が同系色の着色層を透過した光により表示されるので、より高い精度で表示可能である。また、各発光部間には幅が若干狭くなるものの遮蔽層３が配置されているため、有機ＥＬ表示装置３０の見栄えの悪化を防止することもできる。
【００８３】
上記複数色の着色層を有する上記有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板としては、例えば、図１０に示される距離ｄ２のような、上記遮蔽層の幅が上記二つの発光部の間隔に対して一方の側で狭くなっている距離が７μｍ以上１５μｍ以下であるものが好ましく、中でも上記距離が５μｍ以上１２μｍ以下、特に上記距離が３μｍ以上１０μｍ以下であるものが好ましい。見る方向によって表示画像の色ずれが発生することを抑制することができるからである。
【００８４】
図１０に示される有機ＥＬ表示装置３０では、複数色の発光部と遮蔽層３との間の積層方向の間隔ｈが、５μｍ以上４０μｍ以下となっている。また、遮蔽層３の幅が隣接する二つの発光部の間隔に対して一方の側で狭くなっている距離ｄ２が、３μｍ以上１０μｍ以下となっている。このため、図１０に示される有機ＥＬ表示装置３０では、例えば、赤色発光部ＰＲから緑色着色層６Ｇに入射した赤色光ＬＲや緑色発光部ＰＧから青色着色層６Ｂに入射した緑色光ＬＧ等のように各色の発光部から同系色ではない隣接する着色層に入射した光が、遮蔽層３により遮蔽されることになる。よって、各色の発光部から同系色ではない着色層への光漏れが生じることが原因で、見る方向によって表示画像の色ずれが発生することを抑制することができる。
【００８５】
上記複数色の着色層の膜厚、材料、および形成方法については、上述した「（１）遮蔽補助層」の項目で説明した着色遮蔽補助層の膜厚、材料、および形成方法と同様であるため、ここでの説明は省略する。
【００８６】
４．有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板の製造方法
本発明の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板の製造方法は、上記透明基板上に上記開口部を有する上記遮蔽層を形成する遮蔽層形成工程を有し、上記遮蔽層形成工程においては、対応する上記発光部間に位置する上記遮蔽層の幅が、上記発光部間の間隔よりも狭くなるように、上記遮蔽層が形成される。
【００８７】
上記遮蔽層形成工程において、上記遮蔽層を形成する方法としては、例えば、フォトリソグラフィ法、印刷法、インクジェット法等を挙げることができる。
【００８８】
５．用途
本発明の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板は、一つの画素の表示色を表示させる複数色の発光部となる有機ＥＬ層を有する有機ＥＬ表示装置に用いることができる。中でも、本発明の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板は、赤色発光部、緑色発光部、および青色発光部となる有機ＥＬ層を有する有機ＥＬ表示装置に好適である。
【００８９】
Ｂ．有機ＥＬ表示装置
本発明の有機ＥＬ表示装置は、上述した「Ａ．有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板」の項目に記載の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板と、支持基板上に有機ＥＬ素子が形成された有機ＥＬ素子基板とが積層されていることを特徴とするものである。
【００９０】
図５および図６は、本発明の有機ＥＬ表示装置の一例を示す概略図である。なお、図５および図６に示される有機ＥＬ表示装置については、上述した「Ａ．有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板」の項に記載したので、ここでの説明は省略する。
【００９１】
本発明においては、上記有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板を有することにより、上記有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板と上記有機ＥＬ素子基板との高い位置決め精度を求められることなく、画素を正確な白色に表示させることができ、さらに上記有機ＥＬ表示装置の見栄えの悪化を防止することが可能である。
【００９２】
なお、上記有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板については、上述した「Ａ．有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板」の項に記載したので、ここでの説明は省略する。以下、本発明の有機ＥＬ表示装置における他の構成について説明する。
【００９３】
１．有機ＥＬ素子基板
本発明における有機ＥＬ素子基板は、支持基板上に有機ＥＬ素子が形成されたものであり、上記有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板が用いられるものである。以下、上記有機ＥＬ素子基板における各構成について説明する。
【００９４】
（１）有機ＥＬ素子
本発明における有機ＥＬ素子は、一つの画素の表示色を表示させる複数色の発光部が配置されるものであり、例えば、図３および図４に示される有機ＥＬ素子１３のように、上記支持基板上にパターン状に形成された背面電極層と、上記背面電極層の開口部に形成された絶縁層と、上記背面電極層上に形成され、発光領域が上記複数色の発光部となる有機ＥＬ層と、上記有機ＥＬ層上に形成された透明電極層とを有することができる。
以下、上記有機ＥＬ素子における各構成について説明する。
【００９５】
ａ．複数色の発光部
上記複数色の発光部としては、一つの画素の表示色を表示させる発光色の異なる複数の発光部であれば特に限定されるものではないが、例えば、赤色に発光する赤色発光部、緑色に発光する緑色発光部、および青色に発光する青色発光部を含むもの等が挙げられる。
【００９６】
上記複数色の発光部の形状としては、特に限定されるものではないが、例えば、図３および図４に示される赤色発光部ＰＲ、緑色発光部ＰＧ、および青色発光部ＰＢの形状のように、対応するそれぞれの辺が平行な複数の長方形であって、いずれかの発光部の横方向または縦方向の長さが他の発光部と異なっているもの等が挙げられる。
【００９７】
ｂ．有機ＥＬ層
上記有機ＥＬ層としては、上記有機ＥＬ層の発光領域が上記複数色の発光部となるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、図３および図４に示される有機ＥＬ層のように、上記有機ＥＬ層の発光領域が赤色発光部、緑色発光部、および青色発光部となるもの等が挙げられる。
【００９８】
上記有機ＥＬ層は、少なくとも発光層を含む１層もしくは複数層の有機層を有するものである。上記発光層以外の有機ＥＬ層を構成する有機層としては、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層等を挙げることができる。正孔輸送層は、正孔注入層に正孔輸送の機能を付与することにより、正孔注入層と一体化される場合が多い。また、有機ＥＬ層を構成する有機層としては、正孔ブロック層や電子ブロック層のような正孔もしくは電子の突き抜けを防止し、さらに励起子の拡散を防止して発光層内に励起子を閉じ込めることにより、再結合効率を高めるための層等を挙げることができる。有機ＥＬ層の構成としては、一般的な構成であればよく、発光層のみ、正孔注入層／発光層、正孔注入層／発光層／電子注入層、正孔注入層／正孔ブロック層／発光層／電子注入層、正孔注入層／発光層／電子輸送層等を例示することができる。
【００９９】
上記有機ＥＬ層を構成する各層の材料および形成方法等については、一般的な有機ＥＬ素子と同様とすることができる。
【０１００】
ｃ．透明電極層および背面電極層
上記透明電極層および背面電極層は、上記発光層に電圧を印加し、上記発光層で発光を起こさせるために設けられるものであり、一方が陽極、他方が陰極である。上記背面電極層は上記支持基板および上記有機ＥＬ層の間に形成され、上記透明電極層は上記有機ＥＬ層上に形成される。
上記透明電極層および背面電極層の材料および形成方法等については、一般的な有機ＥＬ素子と同様とすることができる。
【０１０１】
（２）支持基板
本発明における支持基板は有機ＥＬ素子を支持するものである。
本発明においては有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板から光を取り出すため、上記支持基板は透明であってもよく不透明であってもよい。透明な上記支持基板としては、上記有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板の透明基板と同様とすることができる。
【０１０２】
２．その他の構成
本発明の有機ＥＬ表示装置は、上記の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板および有機ＥＬ素子基板以外に、必要に応じて他の構成を有していてもよい。
【０１０３】
（１）封止構造
本発明の有機ＥＬ表示装置の封止構造は特に限定されるものではないが、中でも、上記有機ＥＬ素子基板と有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板との間に樹脂が充填された固体封止であることが好ましい。
【０１０４】
上記樹脂としては、一般的に有機ＥＬ素子に用いられるものを使用することができ、例えば、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂が挙げられる。
【０１０５】
（２）絶縁層
本発明においては、上記支持基板上にパターン状に形成された上記背面電極層の開口部に絶縁層が形成されていてもよい。上記絶縁層は、隣接する背面電極層間で導通したり、上記透明電極層および背面電極層間で導通したりするのを防ぐために形成されるものである。
上記絶縁層の材料および形成方法等については、一般的な有機ＥＬ素子と同様とすることができる。
【０１０６】
（３）シール剤
本発明の有機ＥＬ表示装置はシール剤で封止されていてもよい。上記シール剤は、上記有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板および有機ＥＬ素子基板の周縁部に形成され、上記有機ＥＬ素子を封止するものである。上記シール剤としては、上記有機ＥＬ素子が大気中の水分等と接触するのを抑制することができるものであればよく、上記有機ＥＬ表示装置に一般的に用いられるものを使用することができる。
【０１０７】
３．その他
上記有機ＥＬ表示装置が、上記有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板として、上記遮蔽層における上記開口部を覆うように形成された複数色の着色層をさらに有する有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板を有するものである場合には、例えば、図１０に示される有機ＥＬ表示装置３０のように、上記有機ＥＬ素子基板における上記複数色の発光部と上記有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板における上記遮蔽層との間の積層方向の間隔が、５μｍ以上４０μｍ以下であることが好ましい。上記複数色の着色層を有する上記有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板であって、上記遮蔽層の幅が上記二つの発光部の間隔に対して一方の側で狭くなっている距離が３μｍ以上１０μｍ以下であるものが用いられる場合に、見る方向によって表示画像の色ずれが発生することを抑制することができるからである。
【０１０８】
４．用途
本発明の有機ＥＬ表示装置の用途としては、高精細なディスプレイに好適であり、例えば、モバイル機種のノートパソコンや多機能端末機器（高機能端末機器ともいう）等のモバイル電子機器用が挙げられる。
【０１０９】
本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【０１１０】
以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに詳細に説明する。
【０１１１】
［実施例］
（有機ＥＬ素子基板の準備）
図３に示される有機ＥＬ素子基板２０を準備した。具体的には、赤色発光部ＰＲ、緑色発光部ＰＧ、および青色発光部ＰＢの寸法が下記に示されるような有機ＥＬ素子基板２０を準備した。
【０１１２】
＜発光部の寸法＞
・赤色発光部ＰＲの寸法：Ｌ１×Ｓ１＝３５μｍ×１０μｍ
・緑色発光部ＰＧの寸法：Ｌ２×Ｓ１＝１０μｍ×１０μｍ
・青色発光部ＰＢの寸法：Ｌ２×Ｓ２＝１０μｍ×２５μｍ
【０１１３】
（有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板の作製）
有機ＥＬ素子基板２０に用いられる図１に示される有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板１０を作製した。
具体的には、下記に示すように、遮蔽層形成用の硬化性樹脂組成物を得た上でをそれを用いて、フォトリソグラフィ法により、透明基板２（ガラス基板）（旭硝子社製、ＡＮ材）上に形成膜厚が１．５μｍとなるように遮蔽層３を形成した。
【０１１４】
まず、下記分量の成分を十分混合して、遮蔽層形成用の硬化性樹脂組成物を得た。
＜遮蔽層形成用の硬化性樹脂組成物の組成＞
・黒色顔料分散液                          ：４３重量部
・硬化性樹脂組成物                        ：１９重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル    ：３８重量部
黒色顔料分散液としては、例えば、特開２０１５−３１８６３号に記載の黒色顔料分散液Ｂ等が用いられる。また、硬化性樹脂組成物としては、例えば、特開２０１５−３１８６３号に記載の硬化性樹脂組成物Ａ等が用いられる。
【０１１５】
次に、透明基板２の一面に、上記遮蔽層形成用の硬化性樹脂組成物をスピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させ、遮光性樹脂層を形成した。この遮光性樹脂層を、遮光性樹脂層から１００μｍの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより２．０ｋＷの超高圧水銀ランプでパターン状に露光した後、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液で現像した。その後、透明基板２を２３０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより加熱処理を施して、図１および図２に示されるｄ１が５μｍとなるような遮蔽層３に形成した。このようにして有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板１０を作製した。
【０１１６】
（有機ＥＬ表示装置の作製）
有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板１０と有機ＥＬ素子基板２０とが位置決め精度が悪い状態で積層され、有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板１０が有機ＥＬ素子基板２０に対して横方向に２μｍだけずれて配置された有機ＥＬ表示装置３０を作製した。
【０１１７】
［比較例］
（有機ＥＬ素子基板の準備）
上述した実施例と同一の有機ＥＬ素子基板２０を準備した。
【０１１８】
（有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板の作製）
有機ＥＬ素子基板２０に用いられる図１１に示される従来例の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板１０を、実施例と同様の作製方法によって作製した。具体的には、図１および図２に示されるｄ１が０μｍとなるような遮蔽層３に形成して、図１１に示される従来例の有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板１０を作製した。
【０１１９】
（有機ＥＬ表示装置の作製）
有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板１０と有機ＥＬ素子基板２０とが位置決め精度が悪い状態で積層され、有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板１０が有機ＥＬ素子基板２０に対して横方向に２μｍだけずれて配置された有機ＥＬ表示装置３０を作製した。
【０１２０】
［評価］
実施例の有機ＥＬ表示装置３０および比較例の有機ＥＬ表示装置３０を平面視した場合に、有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板１０を介して遮蔽層３により遮蔽されることなく視認される赤色発光部ＰＲ、緑色発光部ＰＧ、および青色発光部ＰＢの面積を測定した。そして、測定した各色の発光部の面積の合計に対する測定した各色の発光部の面積の比率を計算した。結果を表１に示す。
【０１２１】
【表１】
2018045973.tif 000003
【０１２２】
表１に示されるように、実施例の有機ＥＬ表示装置３０を平面視した場合に、遮蔽層３により遮蔽されることなく視認される各色の発光部の面積の比率は、有機ＥＬ素子基板２０を直接平面視した場合に視認される各色の発光部の面積の比率と同一になった。比較例の有機ＥＬ表示装置３０を平面視した場合に遮蔽層３により遮蔽されることなく視認される各色の発光部の面積の比率は、有機ＥＬ素子基板２０を直接平面視した場合に視認される各色の発光部の面積の比率と異なるものになった。
【符号の説明】
【０１２３】
１０  …  有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板
２  …  透明基板
３  …  遮蔽層
２０  …  有機ＥＬ表示装置用遮蔽基板
１２  …  支持基板
１３  …  有機ＥＬ素子
ＰＲ  …  赤色発光部
ＰＧ  …  緑色発光部
ＰＢ  …  青色発光部
３０  …  有機ＥＬ表示装置
【図１】
2018045973.tif 000004
【図２】
2018045973.tif 000005
【図３】
2018045973.tif 000006
【図４】
2018045973.tif 000007
【図５】
2018045973.tif 000008
【図６】
2018045973.tif 000009
【図７】
2018045973.tif 000010
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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