(57)【要約】【課題】オートネイル方式のネイルアートにおいて、より良好な印字を施すことのできるベースコート組成物を提供する。【解決手段】ベースコート組成物は、オートネイルによって形成されるプリント層の下層に位置するベースコート層の材料となる。このベースコート組成物は、主な成分として、（Ａ）ウレタンアクリレートオリゴマーと、（Ｂ）モノマー成分と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）ポリマー成分とを含有している。そして、（Ｄ）モノマー成分として、ヒドロキシエチルアクリルアミドモノマーおよび２−ヒドロキシエチルメタクリレートモノマーを少なくとも含んでいる。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
オートネイルによって形成されるプリント層の下層に位置するベースコート層に含まれるベースコート組成物であって、
ウレタンアクリレートオリゴマーと、
モノマー成分と、
光重合開始剤と、
ポリマー成分と、を含有し、
前記モノマー成分として、ヒドロキシエチルアクリルアミドモノマーおよび２−ヒドロキシエチルメタクリレートモノマーを少なくとも含んでいる、ベースコート組成物。
【請求項２】
前記モノマー成分として、酸含有メタクリル化合物をさらに含んでいる、請求項１に記載のベースコート組成物。
【請求項３】
シリカおよび合成マイカの少なくとも何れかをさらに含有している、請求項１または２に記載のベースコート組成物。
【請求項４】
前記ポリマー成分は、ポリビニルピロリドン−酢酸ビニル共重合体である、請求項１から３の何れか１項に記載のベースコート組成物。
【請求項５】
重合抑制剤として、アミン系化合物および有機ケイ素系化合物の少なくとも何れかをさらに含有している、請求項１から４の何れか１項に記載のベースコート組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、オートネイル方式のネイルアートに用いられるベースコート組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
ネイルアートとは、手足の爪の表面に模様、イラスト、文字などを描き、化粧を施すことである。ネイルアートは、一般に、マニキュアのような塗料を刷毛などで爪の表面に塗ることによって行われる。しかし、このような手作業でのネイルアートは、特に、複雑な模様などを描く場合などに、非常に長い時間を要する。また、刷毛などを用いて爪の表面に緻密な模様を描くことは、現実的に困難である。
【０００３】
そのため、近年、インクジェットプリンターなどのネイルプリント装置を用いて自動で爪にネイルアートを施す、いわゆるオートネイルが普及している。オートネイルを用いることで、難易度の高い模様を爪の表面により短時間で塗ることが可能となる。
【０００４】
オートネイルに用いられる塗料（インク）は、インクジェットプリンターなどの装置を用いて爪上に吐出される。そのため、オートネイル用塗料としては、粘性の低いものが望まれる。例えば、特許文献１には、インクジェット方式の液滴吐出に適した爪被覆用インクが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１２−１９６２４３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、オートネイルによってネイルアートを施す場合には、ネイルプリント装置を用いて爪上に模様の層（プリント層）を形成する前段階として、爪の表面にベースコート層（下地膜）を形成するという処理が行われる。ベースコート層を形成することで、爪とネイルアートとの密着性を向上させることができる。例えば、特許文献１に記載の爪被覆方法では、ベースコート層（下地膜）として、親水性樹脂が用いられる。
【０００７】
しかしながら、オートネイル方式のネイルアートでは、従来の組成のベースコート層を用いると、ベースコート層上に塗布されるネイルアート（プリント層）に滲みが生じるなどの印字不良が生じる可能性がある。
【０００８】
そこで、本発明では、オートネイル方式のネイルアートにおいて、より良好な印字を施すことのできるベースコート組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本願発明者らは、上記の課題について鋭意検討し、オートネイルのベースジェルに用いられるウレタンアクリレートオリゴマー、モノマー成分、および光重合開始剤に加えて、合成樹脂成分（ポリマー成分）を添加したベースコート組成物を調製した。そして、このベースコート組成物を用いて形成されたベースコート層上に、オートネイルによってプリント層を形成した結果、プリント層の印字性を向上させることができることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【００１０】
すなわち、本発明の一局面にかかるベースコート組成物は、オートネイルによって形成されるプリント層の下層に位置するベースコート層に含まれるベースコート組成物である。そして、このベースコート組成物は、ウレタンアクリレートオリゴマーと、モノマー成分と、光重合開始剤と、ポリマー成分と、を含有し、前記モノマー成分として、ヒドロキシエチルアクリルアミドモノマーおよび２−ヒドロキシエチルメタクリレートモノマーを少なくとも含んでいる。
【００１１】
本発明の一局面にかかるベースコート組成物は、前記モノマー成分として、酸含有メタクリル化合物をさらに含んでいることが好ましい。
【００１２】
本発明の一局面にかかるベースコート組成物は、シリカおよび合成マイカの少なくとも何れかをさらに含有していていることが好ましい。
【００１３】
本発明の一局面にかかるベースコート組成物において、前記ポリマー成分は、ポリビニルピロリドン−酢酸ビニル共重合体であることが好ましい。
【００１４】
本発明の一局面にかかるベースコート組成物は、重合抑制剤として、アミン系化合物および有機ケイ素系化合物の少なくとも何れかをさらに含有していることが好ましい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のベースコート組成物によれば、これを材料として形成されたベースコート層上にオートネイルによってプリント層を形成したときに、プリント層の滲みを抑えることができる。そのため、本発明のベースコート組成物を用いることで、印字性の向上したオートネイル方式のネイルアートを実現することができる。
【００１６】
また、本発明のベースコート組成物は、前記モノマー成分として、酸含有メタクリル化合物をさらに含むことで、ベースコート層の爪への付着性を向上させることができる。また、本発明のベースコート組成物は、シリカおよび合成マイカの少なくとも何れかをさらに含有することで、プリント層の印字性をさらに向上させることができる。また、本発明のベースコート組成物は、重合抑制剤として、アミン系化合物および有機ケイ素系化合物の少なくとも何れかをさらに含有することで、長期保存した際の物性の変化を抑えることができる。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施形態について説明する。
【００１８】
＜ベースコート組成物について＞
本発明にかかるベースコート組成物は、インクジェットプリンターなどのネイルプリント装置を用いて行われるオートネイルに好適に用いられる。すなわち、このベースコート組成物は、オートネイルにおいて、インクジェットプリンターから吐出される爪被覆用インク（オートネイル用塗料）によって形成されるプリント層の下層に形成されるベースコート層の材料となるものである。
【００１９】
本発明にかかるベースコート組成物は、主な成分として、（Ａ）ウレタンアクリレートオリゴマーと、（Ｂ）モノマー成分と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）ポリマー成分と、を含有する。また、本発明にかかるベースコート組成物は、追加の成分として、（Ｅ）艶消し剤、（Ｆ）重合抑制剤、および（Ｇ）レベリング剤をさらに含んでいてもよい。
【００２０】
以下、ベースコート組成物に含まれる各成分について説明する。
【００２１】
（Ａ）ウレタンアクリレートオリゴマー
ウレタンアクリレートオリゴマーは、ベースコート組成物に柔軟性を与え、塗布した際の組成物の伸びを向上させることができる。また、ベースコート組成物にウレタンアクリレートモノマーが含まれていると、ベースコート組成物を爪上に塗布したときに、塗膜を強靭にすることができる。
【００２２】
ウレタンアクリレートオリゴマーは、例えば、重量平均分子量が５００〜８，０００であるウレタンアクリレートオリゴマーである。このような重量平均分子量を有するウレタンアクリレートオリゴマーを使用することにより、爪に対する密着性を効果的に保持しつつも、硬化速度を向上させて、硬化時間を短縮することができる。これに加え、硬化塗膜としての所定の硬さを容易に得ることができる。ウレタンアクリレートオリゴマーについては、例えば、特許文献２（特開２０１１−２０９５６号公報）に記載のものを使用することができる。
【００２３】
ウレタンアクリレートオリゴマーは、ベースコート組成物の全量に対して、１０重量％以上３０重量％以下の範囲内で含むことができ、１５重量％以上２５重量％以下の範囲内で含むことが好ましい。
【００２４】
（Ｂ）モノマー成分
本発明にかかるベースコート組成物のモノマー成分には、ヒドロキシエチルアクリルアミドモノマーおよび２−ヒドロキシエチルメタクリレートモノマーが少なくとも含まれている。ヒドロキシエチルアクリルアミドモノマーおよび２−ヒドロキシエチルメタクリレートモノマーは、比較的高い親水性を有する。そのため、ベースコート層の上層にプリントされる爪被覆用インクの受理性を向上させることができる。
【００２５】
ヒドロキシエチルアクリルアミドモノマーと２−ヒドロキシエチルメタクリレートモノマーとの配合割合は、特に限定はされない。なお、光硬化時のベースコート組成物の発熱を抑えるためには、ヒドロキシエチルアクリルアミドモノマーの配合量よりも、２−ヒドロキシエチルメタクリレートモノマーの配合量を多くすることが好ましい。例えば、ヒドロキシエチルアクリルアミドモノマー１０重量部に対して、２−ヒドロキシエチルメタクリレートモノマーの配合量を、１５重量部以上１５０重量部以下とすることが好ましく、３０重量部以上１２０重量部以下とすることがより好ましい。
【００２６】
また、本発明のベースコート組成物には、モノマー成分として、酸含有メタクリル化合物がさらに含まれていることが好ましい。酸含有メタクリル化合物が含まれていることで、ベースコート組成物を爪に塗布した場合の密着性を向上させることができる。
【００２７】
酸含有メタクリル化合物として、具体的には、例えば、以下のようなリン酸変性メタクリル化合物を挙げることができる。
【００２８】
３−メタクリロキシプロピル−３−ホスホノプロピオネート、３−メタクリロキシプロピルホスホノアセテート、４−メタクリロキシブチル−３−ホスホノプロピオネート、４−メタクリロキシブチルホスホノアセテート、５−メタクリロキシペンチル−３−ホスホノプロピオネート、５−メタクリロキシペンチルホスホノアセテート、６−メタクリロキシヘキシル−３−ホスホノプロピオネート、６−メタクリロキシヘキシルホスホノアセテート、ビス［２−メタクリロキシエチル］ハイドロジェンホスフェート、２−メタクリロイルオキシエチルジハイドロジェンホスフェート、３−メタクリロイルオキシプロピルジハイドロジェンホスフェート、４−メタクリロイルオキシブチルジハイドロジェンホスフェート、５−メタクリロイルオキシペンチルジハイドロジェンホスフェート、６−メタクリロイルオキシヘキシルジハイドロジェンホスフェート、Ｎ−メタクリロイル−ω−アミノプロピルホスホン酸、Ｎ−メタクリロイル１−アミノ−１−ベンジルホスホン酸、Ｎ−メタクリロイル１−メチル−１−アミノホスホン酸、Ｎ−メタクリロイル１−エチル−１−アミノホスホン酸、Ｎ−メタクリロイル１−ブチル−１−アミノホスホン酸、５−（Ｎ−メタクリロイル）ペンチル−１−アミノメチルホスホン酸、６−（Ｎ−メタクリロイル）ヘキシル−１−アミノメチルホスホン酸、１０−（Ｎ−メタクリロイル）デシル−１−アミノメチルホスホン酸、６−（Ｎ−メタクリロイル）ヘキシル−１−アミノプロピルホスホン酸、６−（Ｎ−メタクリロイル）ヘキシル−２−アミノプロピルホスホン酸、１０−（Ｎ−メタクリロイル）デシル−２−アミノプロピルホスホン酸などが挙げられる。
【００２９】
酸含有メタクリル化合物の配合量は、特に限定はされないが、ヒドロキシエチルアクリルアミドモノマーの配合量とほぼ同量か、よりも少ないことが好ましい。例えば、酸含有メタクリル化合物の配合量は、ヒドロキシエチルアクリルアミドモノマー１０重量部に対して、１重量部以上１０重量部以下とすることが好ましく、３重量部以上９重量部以下とすることがより好ましい。
【００３０】
また、モノマー成分（各種モノマーの総量）は、ベースコート組成物の全量に対して、４０重量％以上７０重量％以下の範囲内で含むことができ、４５重量％以上６０重量％以下の範囲内で含むことが好ましい。
【００３１】
（Ｃ）光重合開始剤
光重合開始剤は、紫外線によりラジカルを発生し、そのラジカルが上述の（Ａ）ウレタンアクリレートオリゴマー成分および（Ｂ）モノマー成分を重合反応させるものであればよい。
【００３２】
光重合開始剤として具体的には、例えば、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンなどのベンジルジメチルケタール系化合物；１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのα−ヒドロキシケトン系合物；２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オンなどのα−アミノケトン系化合物；ジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フォスフィンオキサイドなどのアシルフォスフィンオキサイド系化合物；１−〔４−（４−ベンゾイルフェニルスルファニル）フェニル〕−２−メチル−２−（４−メチルフェニルスルフォニル）プロパン−１−オンなどのケトスルフォン系化合物；ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウムなどのメタロセン系化合物；２，４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系化合物などが挙げられる。
【００３３】
上述した光重合開始剤の中でも、フェニル基を有するアシルフォスフィンオキサイド系化合物、α−ヒドロキシケトン系化合物は、紫外線を照射することでラジカルを発生し、そのラジカルがオリゴマー成分およびモノマー成分の混合物と効率的に反応することにより硬化反応が促進される。
【００３４】
なお、光重合開始剤は、２種類以上を混合使用することが好ましい。特に、硬化速度や耐候性が適当であって、硬化塗膜としての耐久性を効果的に調整することができることから、アシルフォスフィンオキサイド系化合物に、α−ヒドロキシケトン系化合物を混合して使用することが好ましい。
【００３５】
そのため、本発明にかかるベースコート組成物は、重合開始剤として、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンおよびジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フォスフィンオキサイドを含有していることが好ましい。特に、ＬＥＤを照射して硬化を行う場合には、ジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フォスフィンオキサイドが含まれていることが好ましい。
【００３６】
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンとジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フォスフィンオキサイドとの配合割合は、特に限定はされないが、ほぼ同量か、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンをより多く含むことが好ましい。例えば、フェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フォスフィンオキサイドの配合量は、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン１０重量部に対して、１重量部以上８重量部以下とすることが好ましく、１重量部以上５重量部以下とすることがより好ましい。
【００３７】
また、光重合開始剤は、ベースコート組成物の全量に対して、３重量％以上１５重量％以下の範囲内で含むことができ、４重量％以上１０重量％以下の範囲内で含むことが好ましい。
【００３８】
（Ｄ）ポリマー成分
ポリマー成分は、合成樹脂成分とも呼ばれる。本発明のベースコート組成物では、ポリマー成分は、ポリビニルピロリドン−酢酸ビニル共重合体であることが好ましい。ポリマー成分としてポリビニルピロリドン−酢酸ビニル共重合体を含有することで、紫外線照射によってベースコート組成物を硬化させた場合に、他の硬化成分の硬化特性を阻害することなく、親水性を有するモノマー成分との間の親和性を向上させることができる。これにより、ベースコート層の上層にプリントされるプリント層の滲みを抑えることができる。そのため、プリント層の画像をより鮮明なものとすることができる。
【００３９】
また、ポリビニルピロリドン−酢酸ビニル共重合物におけるビニルピロリドン（モノマー）と酢酸ビニル（モノマー）との共重合比（モル換算）は、１００：１０〜１００：７５の範囲内の値とすることが好ましい。上記の共重合比が１００：１０未満になると、ポリビニルピロリドン−酢酸ビニル共重合物の凝集力が低下するばかりか、得られるベースコート層の凝集力も低下する場合があるためである。また、上記の共重合比が１００：７５を超えると水溶性が著しく低下し、取り扱いが困難になったり、プリント層の受理特性が低下したりする場合があるためである。また、ベースコート組成物が、後述の（Ｅ）艶消し剤を含有している場合には、ポリマー成分としてポリビニルピロリドン−酢酸ビニル共重合体を含有することで、艶消し剤に形成されている孔を塞ぐことができる。そのため、ベースコート層の表面の平滑性を向上させることができる。
【００４０】
また、ポリマー成分は、ベースコート組成物の全量に対して、１重量％以上１０重量％以下の範囲内で含むことができ、１．５重量％以上５重量％以下の範囲内で含むことが好ましい。
【００４１】
（Ｅ）艶消し剤
本発明のベースコート組成物には、必須の成分ではないが、艶消し剤がさらに含まれていてもよい。艶消し剤としては、例えば、シリカ、合成マイカなどが挙げられる。このような艶消し剤が含まれていることで、ベースコート層上に形成されたプリント層をより短時間で乾燥させることができる。また、ベースコート組成物中にシリカまたは合成マイカを添加することで、ベースコート層上に形成されるプリント層の印字性をより向上させることができる。
【００４２】
艶消し剤は、ベースコート組成物の全量に対して、３重量％以上３０重量％以下の範囲内で含むことができ、１５重量％以上２５重量％以下の範囲内で含むことが好ましい。
【００４３】
艶消し剤としてのシリカおよび合成マイカは、何れか一方のみを含んでもよいし、両方を含んでもよい。シリカおよび合成マイカの両方を含む場合には、シリカと合成マイカとの配合割合は、特に限定はされないが、合成マイカをより多く含むことが好ましい。例えば、合成マイカの配合量は、シリカ１０重量部に対して、１０重量部以上２０重量部以下とすることが好ましく、１２重量部以上１６重量部以下とすることがより好ましい。
【００４４】
（Ｆ）重合抑制剤
重合抑制剤は、本発明のベースコート組成物における必須の成分ではないが、ベースコート組成物の貯蔵安定性を向上させるためには含有させることが好ましい。重合抑制剤が含まれていることで、保存中のベースコート組成物のゲル化を抑えたり、ベースコート組成物の黄変を抑えたりすることができる。
【００４５】
本発明のベースコート組成物には、重合抑制剤として、アミン系化合物および有機ケイ素系化合物の少なくとも何れかが含まれていることが好ましい。
【００４６】
アミン系化合物として、具体的には、例えば以下のようなものを挙げることができる。
【００４７】
１−ナフチルアミン、フェニル−１−ナフチルアミンなどのナフチルアミン系重合抑制剤、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジイソブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−β−ナフチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−１，３−ジメチルブチル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、ジオクチル−ｐ−フェニレンジアミン、フェニルヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、フェニルオクチル−ｐ−フェニレンジアミンなどのフェニレンジアミン系重合抑制剤、ジフェニルアミン、ｐ，ｐ’−ジ−ｎ−ブチルジフェニルアミン、ｐ，ｐ’−ジ−ｔ−ブチルジフェニルアミン、ｐ，ｐ’−ジ−ｔ−ペンチルジフェニルアミン、ｐ，ｐ’−ジオクチルジフェニルアミン、ｐ，ｐ’−ジノニルジフェニルアミン、ｐ，ｐ’−ジデシルジフェニルアミン、ｐ，ｐ’−ジドデシルジフェニルアミン、ｐ，ｐ’−ジスチリルジフェニルアミン、ｐ，ｐ’−ジメトキシジフェニルアミン、４，４’−ビス（４−α，α−ジメチルベンゾイル）ジフェニルアミン、ｐ−イソプロポキシジフェニルアミンなどのジフェニルアミン系重合抑制剤、フェノチアジン、３，７−ジオクチルフェノチアジンなどのフェノチアジン系重合抑制剤などが挙げられる。また、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアンモニウム塩、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩のニトロソアミン系重合抑制剤などが挙げられる。
【００４８】
アミン系化合物は、ベースコート組成物の全量に対して、０．００１重量％以上０．１重量％以下の範囲内で含むことができ、０．０１５重量％以上０．１重量％以下の範囲内で含むことが好ましい。アミン系化合物の配合割合を上記の下限値以上とすることで、貯蔵安定性を向上させることができる。また、アミン系化合物の配合割合を上記の上限値以下とすることで、紫外線照射時の効果不良を抑えることができる。
【００４９】
有機ケイ素化合物として、具体的には、例えば以下のようなシラザン化合物を挙げることができる。
【００５０】
１，１，３，３−テトラメチルジシラザン、１，１，１，３，３，３−へキサメチルジシラザン、Ｎ−トリメチルシリルアルキルアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（トリメチルシリルウレア）、Ｎ−ベンジルトリメチルシリルアミン、１，１，３，３−テトラメチル−１，３−ジビニルプロパンジシラザン及びその重合物、２，２，５，５−テトラメチル−１−アザ−２，５−ジシラシクロペンタン、１，３−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１，３，３−テトラメチルプロパンジシラザン、ビス（トリエチルシリル）アミン、２，２，６，６−テトラメチル−１−アザ−２，６−ジシラシクロヘキサン、ポリシラザン、メチルトリス（シクロヘキシルアミノ）シラン、２，２，４，４，６，６−ヘキサメチルシクロトリシラザン、ジブチルテトラメチルジシラザン、ヘキサエチルジシラザン、ジビニルテトラメチルジシラザン、ジフェニルテトラメチルジシラザン、テトラフェニルジメチルジシラザン、２，２，６，６−テトラメチル−２，６−ジシラピペリジン、２，２，５，５−テトラメチル−２，５−ジシラピロリジンなどを挙げることができる。
【００５１】
有機ケイ素系化合物は、ベースコート組成物の全量に対して、０．０１重量％以上１．０重量％以下の範囲内で含むことができ、０．１重量％以上０．５重量％以下の範囲内で含むことが好ましい。
【００５２】
（Ｇ）レベリング剤
本発明のベースコート組成物には、必須の成分ではないが、レベリング剤が含まれていてもよい。レベリング剤は、表面調整剤とも呼ばれる。ベースコート組成物がレベリング剤を含有することで、ベースコート層の表面の凹凸を減少させ、表面の平滑性を高めることができる。これにより、ベースコート層上に形成されるプリント層の印字性をより向上させることができる。
【００５３】
レベリング剤として具体的には、例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルアルキルシロキサン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエステル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性ポリメチルアルキルシロキサン、ポリエステル変性ポリメチルアルキルシロキサン、アクリル基を有するポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、アクリル基を有するポリエステル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性水酸基含有ポリジメチルシロキサン、ポリエステル変性水酸基含有ポリジメチルシロキサンなどが挙げられる。レベリング剤は、ベースコート組成物の全量に対して、０以上１重量％以下の範囲内で含むことができる。
【００５４】
（ベースコート組成物の製造方法）
本発明にかかるベースコート組成物は、上述の各成分を所定の割合で配合し、混合することによって製造することができる。具体的には、例えば、撹拌装置を備えた容器内に上述の各成分を収容した後、撹拌装置を用いて均一な液状体になるまで混合することによって製造することができる。
【００５５】
＜ベースコート組成物を用いたオートネイル方法について＞
続いて、本発明のベースコート組成物を用いて行うオートネイル方法について説明する。ここでいうオートネイル方法とは、オートネイル装置（例えば、インクジェットプリンターなど）を用いて自動で行うネイル方法のことである。
【００５６】
以下に、本発明にかかるベースコート組成物を用いたオートネイル方法（以下、本発明にかかる方法という。）の各工程を順に示す。
（１）ベースコート組成物塗布工程
（２）光照射工程
（３）カラージェル塗布工程
（４）光照射工程
（５）ベースコート組成物塗布工程
（６）光照射工程
（７）マスキングテープ貼付工程
（８）プリント工程（オートネイル装置使用）
（９）トップジェル塗布工程
（１０）光照射工程
（１１）未硬化ジェルのふき取り工程
【００５７】
先ず、（１）ベースコート組成物塗布工程では、例えば、刷毛などを用いて爪の表面に、本発明にかかるベースコート組成物を塗布する。この工程は、通常、手動で行われるが、自動の塗布装置を用いて行ってもよい。
【００５８】
次に行われる（２）光照射工程では、ＬＥＤなどを有するＵＶ照射装置を用いて、爪の表面に光を約３０秒間照射する。これにより、ベースコート組成物中の重合開始剤の作用によって光重合反応が進み、ベースコート組成物が硬化する。そして、ベースコート層が形成される。
【００５９】
その後、（３）カラージェル塗布工程において、ベースコート層上にカラージェルが塗布される。この工程は、通常、手動で行われるが、自動の塗布装置を用いて行ってもよい。カラージェルは、その後の（４）光照射工程（ＵＶ照射時間は、約３０秒）によって硬化し、オートネイル装置を用いて形成されるプリント層（模様層）のベースカラー層となる。（３）および（４）の工程は、所望とするネイルアートのデザインに応じて１回または複数回行うことができる。
【００６０】
次に、（５）ベースコート組成物塗布工程および（６）光照射工程を実行する。これらの工程は、上述の（１）および（２）の工程と同様の方法で行うことができる。これにより、その後に行われるプリント工程の下地となるベースコート層が形成される。
【００６１】
続いて、（７）マスキングテープ貼付工程を実施する。この工程では、施術部分（指先の爪部分）以外の部分に、保護用のマスキングテープを貼り付ける。マスキングテープは、例えば、紫外線を透過しない材料で形成することができる。
【００６２】
次に、オートネイル装置を使用して、（８）プリント工程を実施する。プリント工程では、水溶性のインクを用いて爪上に特定のデザインや模様などの印字が行われる。これにより、所望のデザインのプリント層（模様層）が形成される。
【００６３】
その後、（９）トップジェル塗布工程において、プリント層上にトップジェルを塗布する。そして、（１０）光照射工程を実施する。この光照射工程は、（２）の光照射工程と同様のＵＶ照射装置を用いて、爪の表面に光を約１分間照射する。これにより、トップジェルが硬化し、トップコート層が形成される。
【００６４】
最後に、（１１）のふき取り工程において、未硬化ジェルをふき取る。
以上の工程により、１つの爪について、ネイルアートが完成する。
【００６５】
（従来のオートネイル方法）
ここで、比較のために、本願発明者らが行っていた従来のオートネイル方法の工程について以下に説明する。
【００６６】
従来のオートネイル方法の各工程は、以下の通りである。
（１）ベースジェル塗布工程
（２）光照射工程
（３）カラージェル塗布工程
（４）光照射工程
（５）ベースジェル塗布工程
（６）光照射工程
（７）プリントコート塗布工程
（８）乾燥工程
（９）マスキングテープ貼付工程
（１０）プリント工程（オートネイル装置使用）
（１１）乾燥工程
（１２）ベースジェル塗布工程
（１３）光照射工程（（１２）と（１３）は２回繰り返す）
（１４）トップジェル塗布工程
（１５）光照射工程
（１６）未硬化ジェルのふき取り工程
【００６７】
従来のオートネイル工程では、本発明にかかるベースコート組成物の代わりに、ベースジェルおよびプリントコートが用いられている。なお、ベースジェルには、本発明のベースコート組成物とは異なるモノマー成分が含まれている。また、ベースジェルには、ポリマー成分（合成樹脂成分）および重合抑制剤などは含まれていない。
【００６８】
また、プリントコートは、親水性樹脂などを含んでいる。なお、特許文献１（特開２０１２−１９６２４３号公報）に開示された下地膜は、上記の従来のオートネイル工程の（７）の工程で用いられるプリントコートに相当すると考えられる。
【００６９】
本発明にかかる方法と、上記の従来のオートネイル方法とを比較すると、本発明にかかる方法では、従来のオートネイル方法よりも工程数を減らすことができることがわかる。具体的には、本発明にかかる方法では、従来のオートネイル方法における（７）プリントコート塗布工程および（８）乾燥工程を省略することができる。これは、本発明にかかるベースコート組成物が、従来のベースジェルとプリントコートの機能を兼ね備えているためである。
【００７０】
これに加え、本発明にかかる方法では、従来のオートネイル方法における（１１）乾燥工程から（１３）光照射工程までを省略することができる。これは、本発明にかかる方法では、プリント層の下層にベースコート層が形成されているためである。つまり、ベースコート組成物由来のベースコート層上にネイルアートをプリントすることで、プリント層の印字性と密着性を改善することができる。これにより、水溶性のインクで形成されたプリント層をカバーするための処理（すなわち、従来のオートネイル方法における（１１）から（１３）までの工程）を不要にすることができる。
【００７１】
以上のように、本発明のベースコート組成物を使用することで、従来のオートネイル方法における複数の工程を省略することができる。また、本発明のベースコート組成物由来のベースコート層を形成することで、ベースコート層の爪への密着性を改善することができるとともに、ベースコート層上に形成されるプリント層の印字性を改善することができる。
【００７２】
〔実施例〕
続いて、本発明の実施例について説明する。本実施例では、種々の組成を有するベースコート組成物を作製した。そして、これらのベースコート組成物を用いて種々の物性評価を行った。
【００７３】
（実施例１−４）
１．ベースコート組成物の作製
撹拌装置を備えた容器内に、下記（Ａ）〜（Ｅ）成分等を、表１に示す各配合割合（重量部基準）となるように収容した後、撹拌装置を用いて、均一になるまで混合し、透明色のベースコート組成物とした。
（Ａ）ウレタンアクリレートオリゴマー（重量平均分子量：２，０００〜１０，０００）
（Ｂ）モノマー成分（ヒドロキシエチルアクリルアミド、２−ヒドロキシエチルメタクリレート）
（Ｃ）光重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジフェニル(２，４，６−トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド）
（Ｄ）ポリマー成分（ポリビニルピロリドン−酢酸ビニル共重合体）
（Ｅ）艶消し剤（シリカ）
【００７４】
【表１】
2018080129.tif 000002
【００７５】
２．ベースコート組成物の評価
続いて、得られたベースコート組成物について、以下に示す観点で物性の評価を行った。
【００７６】
（２−１）硬化性
基材としての爪に、ベースコート組成物を刷毛にて塗布した後、ネイル専用ＵＶ装置を使用して、３０秒間ＬＥＤ照射を行い、硬化後の成膜性およびタック感（粘着性）を確認し、以下の基準で評価した。その結果を、表１に示す。
【００７７】
○：（硬化後の被膜表面タック感  少）
△：（硬化後の被膜表面タック感  中）
【００７８】
（２−２）硬化熱
基材としての爪に、ベースコート組成物を刷毛にて塗布した後、ネイル専用ＵＶ装置を使用して、３０秒間ＬＥＤ照射を行い、硬化時の発熱の有無による感応評価を、以下の評価基準で行った。その結果を、表１に示す。
【００７９】
○：（硬化時の熱  小）
○△：（硬化時の熱  中）
△：（硬化時の熱  大）
【００８０】
（２−３）滲み評価
基材としての爪に、ベースコート組成物を刷毛にて塗布した後、ネイル専用ＵＶ装置を使用して、３０秒間ＬＥＤ照射を行い、ベースコート層を形成した。その上に、ネイルプリント装置（リンクカンパニー社製）を用いて、所定のデザインを有するプリント層を形成した。そして、得られるプリント層の滲みの有無を以下の評価基準で評価した。
【００８１】
○：（画像が鮮明に判別可能）
○△：（画像にやや滲み有り）
△：（画像の滲みが明確に確認される）
【００８２】
表１に示すように、各実施例１−４の組成を有するベースコート組成物を使用することにより、その上層のプリント層の印字性を概ね良好なものとすることができることが確認された。また、艶消し剤（マイカ）を添加することで、プリント層の滲みをより抑え、印字性をより良好なものとすることができることが確認された。
【００８３】
（実施例５−１２）
１．ベースコート組成物の作製
撹拌装置を備えた容器内に、下記（Ａ）〜（Ｅ）成分等を、表２に示す各配合割合（重量部基準）となるように収容した後、撹拌装置を用いて、均一になるまで混合し、透明色のベースコート組成物とした。
（Ａ）ウレタンアクリレートオリゴマー（重量平均分子量：２，０００〜１０，０００）
（Ｂ）モノマー成分（ヒドロキシエチルアクリルアミド、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、酸含有メタクリル化合物）
（Ｃ）光重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジフェニル(２，４，６−トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド）
（Ｄ）ポリマー成分（ポリビニルピロリドン−酢酸ビニル共重合体）
（Ｅ）艶消し剤（シリカ、合成マイカ）
【００８４】
【表２】
2018080129.tif 000003
【００８５】
２．ベースコート組成物の評価
続いて、得られたベースコート組成物について、実施例１から４と同様の評価方法で物性の評価を行った。その結果を、表２に示す。
【００８６】
実施例１−４（表１）と実施例５−１２（表２）を比較すると、印字性（滲み評価）には大きな差はないものの、硬化熱に関して、実施例５−１２の方がより良い結果を得ることができた。つまり、ベースコート組成物中の（Ａ）ウレタンアクリレートオリゴマー成分の割合を減らし、（Ｂ）モノマー成分の各比率を変更することで、印字性を維持しつつ、硬化時の発熱を抑えることができることが確認された。
【００８７】
（実施例１３−１９）
１．ベースコート組成物の作製
撹拌装置を備えた容器内に、下記（Ａ）〜（Ｅ）成分等を、表３に示す各配合割合（重量部基準）となるように収容した後、撹拌装置を用いて、均一になるまで混合し、透明色のベースコート組成物とした。
（Ａ）ウレタンアクリレートオリゴマー（重量平均分子量：２，０００〜１０，０００）
（Ｂ）モノマー成分（ヒドロキシエチルアクリルアミド、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、酸含有メタクリル化合物）
（Ｃ）光重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジフェニル(２，４，６−トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド）
（Ｄ）ポリマー成分（ポリビニルピロリドン−酢酸ビニル共重合体）
（Ｅ）艶消し剤（シリカ、合成マイカ）
（Ｆ）重合抑制剤
重合抑制剤は、アミン系化合物として、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアンモニウム塩、およびＮ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩のうちの何れかを使用した。また、有機ケイ素系化合物として、１，１，３，３−テトラメチルジシラザン、１，１，１，３，３，３−へキサメチルジシラザン、Ｎ−トリメチルシリルアルキルアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（トリメチルシリルウレア）、Ｎ−ベンジルトリメチルシリルアミン、および１，１，３，３−テトラメチル−１，３−ジビニルプロパンジシラザンのうちの何れかを使用した。
【００８８】
【表３】
2018080129.tif 000004
【００８９】
２．ベースコート組成物の評価
続いて、得られたベースコート組成物について、以下に示す観点で物性の評価を行った。また、硬化性、硬化熱、および滲み評価については、実施例１から４と同様の評価方法で物性の評価を行った。その結果を、表３に示す。なお、表３では、比較のために実施例１１の結果も参考例として示す。
【００９０】
（２−４）貯蔵安定性
作製したベースコート組成物を容器に入れて６０℃で１４日間保持した。その後、ベースコート組成物のゲル化の有無を、以下の基準で評価した。その結果を、表３に示す。
【００９１】
○：（ゲル化  無し）
△：（ゲル化  やや有り）
×：（完全にゲル化）
（２−５）経時黄変
作製したベースコート組成物を透明容器に入れて、経時的な黄変の有無を確認した。そして、以下の基準で評価した。その結果を、表３に示す。
【００９２】
○：（黄変無し）
○△：（黄変  小  （僅かに確認））
△：（黄変  中  （やや黄変））
×：（黄変  大  （黄変を確認））
【００９３】
表３に示す結果より、ベースコート組成物中にアミン系化合物を所定量（例えば、０．０１５重量％）以上含有させることで、貯蔵安定性を向上させることができることが確認された。また、ベースコート組成物の黄変を抑えるためには、アミン系化合物と有機ケイ素系化合物とを併用することが望ましいと考えられる。
【００９４】
今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した説明ではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。