(57)【要約】      （修正有）【課題】より低い温度で、簡便に形成することができる配向膜を含有する積層体を提供する。また、配向膜形成用組成物、及び、配向膜を提供する。【解決手段】第一の基板１０１と、トリプチセン誘導体を含有する第一の配向膜１０２と、液晶層１０３と、をこの順に備える積層体１００。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の基板と、トリプチセン誘導体を含有する第一の配向膜と、液晶層と、をこの順に備える積層体。
【請求項２】
前記トリプチセン誘導体が、一般式（１）で表される化合物である、請求項１に記載の積層体。
【化１】
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一般式（１）中、Ｒ１は、炭素数２〜６０の飽和又は不飽和の２価の炭化水素基を表し、前記炭化水素基は１つ又は２つ以上の置換基を含有してもよく、また、前記炭化水素基の中の１つ又は２つ以上の炭素原子が酸素原子、硫黄原子、ケイ素原子、又は、−ＮＲ５−（ここで、Ｒ５は、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数６〜３０のアリール基を表す。）で置換されていてもよい。
一般式（１）中、Ｒ２は、基−Ｒ１−Ｚ、水素原子、又は、炭素数１〜４の飽和若しくは不飽和の炭化水素基を表す。
一般式（１）中、Ｒ３は、基−Ｒ１−Ｚ、水素原子、又は、炭素数１〜４の飽和若しくは不飽和の炭化水素基を表す。
一般式（１）中、３つのＲ４は、同一でも異なってもよく、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、モノアルキル置換アミノ基、ジアルキル置換アミノ基、置換基を含有してもよい炭素数１〜１０のアルキル基、置換基を含有してもよい炭素数２〜１０のアルケニル基、置換基を含有してもよい炭素数２〜１０のアルキニル基、置換基を含有してもよい炭素数１〜１０のアルコキシ基、置換基を含有してもよい炭素数１〜１０のアルキルチオ基、ホルミル基、置換基を含有してもよい炭素数１〜１０のアルキルカルボニル基、置換基を含有してもよい炭素数１〜１０のアルコキシカルボニル基、置換基を含有してもよい炭素数１〜１０のアルキルカルボニルオキシ基、置換基を含有してもよい炭素数６〜３０のアリール基、又は、窒素原子、酸素原子、及び、硫黄原子からなる群から選択される少なくとも１種のヘテロ原子を１〜５個含有し、炭素原子を２〜１０個含有する、置換基を有してもよい５〜８員のヘテロアリール基を表す。
一般式（１）中、Ｘは、同一でも異なってもよく、それぞれ独立して、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、炭素原子、及び、ケイ素原子からなる群から選択される１〜５個の原子、並びに、水素原子で構成される２価の原子団からなるリンカー基を表す。
一般式（１）中、Ｚは、水素原子、固体基板の表面に結合若しくは吸着し得る基、又は、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、炭素原子、リン原子、ハロゲン原子、及び、ケイ素原子からなる群から選択される１〜１５個の原子、並びに、水素原子で構成される１価の原子団からなる末端基、を表す。
なお、一般式（１）中、Ｒ２及びＲ３のうち片方、又は、両方が基−Ｒ１−Ｚである場合、複数あるＲ１、及び、Ｚは同じでも異なってもよい。
【請求項３】
前記液晶層上に更に第二の基板を備え、前記第一の基板と前記第二の基板とは、前記液晶層を介して対向する、請求項１又は２に記載の積層体。
【請求項４】
前記第二の基板と、前記液晶層との間に、前記トリプチセン誘導体を含有する第二の配向膜を更に含有する、請求項３に記載の積層体。
【請求項５】
前記第一の基板と前記第一の配向膜の間、及び、前記第二の基板と前記第二の配向膜の間、からなる群から選択される少なくとも一箇所に、更に透明電極層を備える、請求項４に記載の積層体。
【請求項６】
前記第一の基板、及び、前記第二の基板からなる群から選択される少なくとも１種の基板が透明樹脂からなる、請求項３〜５のいずれか一項に記載の積層体。
【請求項７】
前記液晶層が、誘電率異方性が負である液晶化合物を含有するか、又は、誘電率異方性が負である液晶化合物を用いて形成された、請求項１〜６のいずれか一項に記載の積層体。
【請求項８】
前記液晶層が、重合性化合物を重合させた重合体を含有する、請求項１〜７のいずれか一項に記載の積層体。
【請求項９】
前記重合性化合物が、重合性棒状液晶化合物である、請求項８に記載の積層体。
【請求項１０】
前記液晶層が、更に、二色性色素を含有する、請求項１〜９のいずれか一項に記載の積層体。
【請求項１１】
トリプチセン誘導体を含有する配向膜形成用組成物。
【請求項１２】
前記トリプチセン誘導体が、一般式（１）で表される化合物である、請求項１１に記載の配向膜形成用組成物。
【化２】
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一般式（１）中、Ｒ１は、炭素数２〜６０の飽和又は不飽和の２価の炭化水素基を表し、前記炭化水素基は１つ又は２つ以上の置換基を含有してもよく、また、前記炭化水素基の中の１つ又は２つ以上の炭素原子が酸素原子、硫黄原子、ケイ素原子、又は、−ＮＲ５−（ここで、Ｒ５は、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数６〜３０のアリール基を表す。）で置換されていてもよい。
一般式（１）中、Ｒ２は、基−Ｒ１−Ｚ、水素原子、又は、炭素数１〜４の飽和若しくは不飽和の炭化水素基を表す。
一般式（１）中、Ｒ３は、基−Ｒ１−Ｚ、水素原子、又は、炭素数１〜４の飽和若しくは不飽和の炭化水素基を表す。
一般式（１）中、３つのＲ４は、同一でも異なってもよく、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、モノアルキル置換アミノ基、ジアルキル置換アミノ基、置換基を含有してもよい炭素数１〜１０のアルキル基、置換基を含有してもよい炭素数２〜１０のアルケニル基、置換基を含有してもよい炭素数２〜１０のアルキニル基、置換基を含有してもよい炭素数１〜１０のアルコキシ基、置換基を含有してもよい炭素数１〜１０のアルキルチオ基、ホルミル基、置換基を含有してもよい炭素数１〜１０のアルキルカルボニル基、置換基を含有してもよい炭素数１〜１０のアルコキシカルボニル基、置換基を含有してもよい炭素数１〜１０のアルキルカルボニルオキシ基、置換基を含有してもよい炭素数６〜３０のアリール基、又は、窒素原子、酸素原子、及び、硫黄原子からなる群から選択される少なくとも１種のヘテロ原子を１〜５個含有し、炭素原子を２〜１０個含有する、置換基を有してもよい５〜８員のヘテロアリール基を表す。
一般式（１）中、Ｘは、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、炭素原子、及び、ケイ素原子からなる群から選択される１〜５個の原子、並びに、水素原子で構成される２価の原子団からなるリンカー基を表す。
一般式（１）中、Ｚは、水素原子、固体基板の表面に結合若しくは吸着し得る基、又は、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、炭素原子、リン原子、ハロゲン原子、及び、ケイ素原子からなる群から選択される１〜１５個の原子、並びに、水素原子で構成される１価の原子団からなる末端基、を表す。
なお、一般式（１）中、Ｒ２及びＲ３のうち片方、又は、両方が基−Ｒ１−Ｚである場合、複数あるＲ１、及び、Ｚは同じでも異なってもよい。
【請求項１３】
請求項１１又は１２に記載の配向膜形成用組成物を用いて形成された、配向膜。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層体、配向膜形成用組成物、及び、配向膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置、及び、調光デバイス等の液晶セルを備える装置が多数知られている。液晶セルは、一般に液晶層と、液晶層を挟んで対向して配置される２枚の基板と、を備える。上記基板と液晶層の間には、液晶層を構成する液晶化合物を配向させるため配向膜が設けられることがある。
引用文献１には、所定のポリイミド系樹脂前駆体を含有してなる液晶配向膜用組成物から形成された液晶配向膜が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平５−３４７００
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明者らは、特許文献１に記載された液晶配向膜、並びに、基板、上記液晶配向膜、及び、液晶層とを備える積層体について検討したところ、液晶配向膜用組成物を用いて液晶配向膜を形成する際、所定の条件で加熱する必要があり、製造工程が煩雑となること、及び、上記基板の材料の選択に制限がある、言い換えれば、耐熱性がより低い基板を用いることができないという問題があることを知見した。
【０００５】
そこで、本発明は、より低い温度で、簡便に形成することができる配向膜を含有する（以下、「本発明の効果を有する」ともいう。）積層体を提供することを課題とする。また、配向膜形成用組成物、及び、配向膜を提供することも課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。
【０００７】
［１］  第一の基板と、トリプチセン誘導体を含有する第一の配向膜と、液晶層と、をこの順に備える積層体。
［２］  トリプチセン誘導体が、一般式（１）で表される化合物である、［１］に記載の積層体。
［３］  液晶層上に更に第二の基板を備え、第一の基板と第二の基板とは、液晶層を介して対向する、［１］又は［２］に記載の積層体。
［４］  第二の基板と、液晶層との間に、トリプチセン誘導体を含有する第二の配向膜を更に含有する、［３］に記載の積層体。
［５］  第一の基板と第一の配向膜の間、及び、第二の基板と第二の配向膜の間、からなる群から選択される少なくとも一箇所に、更に透明電極層を備える、［４］に記載の積層体。
［６］  第一の基板、及び、第二の基板からなる群から選択される少なくとも１種の基板が透明樹脂からなる、［３］〜［５］のいずれかに記載の積層体。
［７］  液晶層が、誘電率異方性が負である液晶化合物を含有するか、又は、誘電率異方性が負である液晶化合物を用いて形成された、［１］〜［６］のいずれかに記載の積層体。
［８］  液晶層が、重合性化合物を重合させた重合体を含有する、［１］〜［７］のいずれかに記載の積層体。
［９］  重合性化合物が、重合性棒状液晶化合物である、［８］に記載の積層体。
［１０］  液晶層が、更に、二色性色素を含有する、［１］〜［９］のいずれかに記載の積層体。
［１１］  トリプチセン誘導体を含有する配向膜形成用組成物。
［１２］  トリプチセン誘導体が、一般式（１）で表される化合物である、［１１］に記載の配向膜形成用組成物。
［１３］  ［１１］又は［１２］に記載の配向膜形成用組成物を用いて形成された、配向膜。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、より低い温度で、簡便に形成することができる配向膜を含有する積層体を提供することができる。また、配向膜形成用組成物、及び、配向膜を提供することもできる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の第一の実施形態に係る積層体の概略断面図である。
【図２】本発明の第二の実施形態に係る積層体の概略断面図である。
【図３】本発明の第三の実施形態に係る積層体の概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施形態に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施形態に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を含有しないものと共に置換基を含有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を含有しないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を含有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。
また、本明細書中における「活性光線」又は「放射線」とは、例えば、遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ：Ｅｘｔｒｅｍｅ  ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）、Ｘ線、並びに電子線等を意味する。また本明細書において光とは、活性光線及び放射線を意味する。本明細書中における「露光」とは、特に断らない限り、遠紫外線、Ｘ線、並びにＥＵＶ等による露光のみならず、電子線及びイオンビーム等の粒子線による描画も包含する。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートを表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタクリルを表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルを表す。
【００１１】
［積層体（第一形態）］
本発明の第一の実施形態に係る積層体は、第一の基板（以下「第一基板」ともいう。）と、トリプチセン誘導体を含有する第一の配向膜（以下、「第一配向膜」ともいう。）と、液晶層と、をこの順に備える。
【００１２】
本発明の第一の実施形態に係る積層体の概略断面図を図１に示した。積層体１００は、第一基板１０１と、第一配向膜１０２と、液晶層１０３とをこの順に備える。
図１の積層体１００において、第一基板１０１、及び、第一配向膜１０２、並びに、第一配向膜１０２、及び、液晶層１０３は互いに接しているが、本実施形態の積層体１００は、第一基板１０１と、第一配向膜１０２と、液晶層１０３とをこの順に備えていれば特に制限されない。後述するように、各層の間に別の層を備えてもよく、例えば、第一基板１０１と、第一配向膜１０２の間に、透明電極層を備える形態（この形態について後述する）等であってもよい。
【００１３】
〔第一基板〕
第一基板１０１としては特に制限されず、公知の材料からなる基板を用いることができる。第一基板１０１の材料としては、例えば、ガラス、又は、樹脂が挙げられる。
ガラスとしては特に制限されず、公知のガラスを用いることができるが、なかでも、ディスプレイ用途の無アルカリガラスが好ましい。
樹脂としては特に制限されず、公知のプラスチックを用いることができる。プラスチックとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリアリレート、環状ポリオレフィン、ポリイミド、及び、アセチルセルロース系フィルム等が挙げられる。
なかでも、第一基板が透明樹脂であると、積層体はより優れた可とう性を有し、また、積層体を透過する光の量等をより制御しやすい。なお、本明細書において、透明とは、積層体に使用される厚みにおいて、可視光域の波長の平均透過率が８０％以上であることを意図する。
【００１４】
第一基板１０１の厚みとしては特に制限されないが、一般に、０．０１〜２．０μｍが好ましい。また、第一基板１０１は、不透明であっても、有色透明であっても、無色透明であってもよく、無色透明が好ましい。
【００１５】
〔第一配向膜〕
第一配向膜は、トリプチセン誘導体を含有し、垂直配向膜としての機能を有する。
第一配向膜の厚みとしては特に制限されないが、一般に、０．００１〜１.０μｍが好ましい。
なお、第１配向膜が垂直配向膜としての機能を有するかどうかは、以下の方法によって判断できる。まず、透明基板（例えばガラス基板）上に、トリプチセン誘導体を含有する配向膜（以下、単に「トリプチセン配向膜」ともいう。）を形成し、スペーサを挟んでトリプチセン配向膜同士が向き合うように設置した後、スペーサ、及び、トリプチセン配向膜を備える２枚の透明基板によって形成された空隙に、液晶化合物を含有する組成物を注入して液晶層を形成する（本明細書において、上記を「液晶セル」ともいう。）。上記液晶セルを、偏光顕微鏡（クロスニコル）で観察して暗視野である場合には、液晶層中で液晶化合物が垂直配向しており、トリプチセン配向膜が垂直配向膜としての機能を有すると判断できる。
【００１６】
第一配向膜中におけるトリプチセン誘導体の含有量としては特に制限されないが、一般に、第一配向膜の全質量に対して、１〜１００質量％が好ましい。トリプチセン誘導体は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上のトリプチセン誘導体を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。なお、第一配向膜中におけるトリプチセン誘導体の含有量が１００質量％である、とは、第一配向膜がトリプチセン誘導体からなることを意図する。
なお、第一配向膜は、後述するトリプチセン誘導体以外の成分（例えば、溶剤等が挙げられる。）を含有してもよいが、トリプチセン誘導体から形成されることがより好ましい。なお、本明細書において、トリプチセン配向膜（第一配向膜、及び、後述する第二配向膜を含む）がトリプチセン誘導体から形成される、とは、トリプチセン配向膜がトリプチセン誘導体のみからなる場合、及び、意図しない不純物等がトリプチセン配向膜に含有される場合の両方を含む。
【００１７】
＜トリプチセン誘導体＞
トリプチセン誘導体としては、第一基板１０１上に、均一な膜を形成しやすい点で、ヤヌス型トリプチセン誘導体が好ましい。
【化１】
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【００１８】
トリプチセンは、上記式で表される１、８、及び、１３位の炭素原子から形成される面、並びに、４、５、及び、１６位の炭素原子から形成される面の２つの異なる面を含有する。本明細書において、ヤヌス型トリプチセン誘導体とは、上記２つの異なる面がそれぞれ異なる特性を備えるトリプチセン誘導体を意図する。異なる特性としては、特に制限されないが、例えば、一方の面側に所定の置換基を含有する形態等が挙げられる。
【００１９】
トリプチセン誘導体としては、以下の一般式（１）で表される化合物が好ましい。
【化２】
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【００２０】
一般式（１）中、Ｒ１は、炭素数２〜６０の飽和又は不飽和の２価の炭化水素基を表し、上記炭化水素基は１つ又は２つ以上の置換基を含有してもよく、また、上記炭化水素基の中の１つ又は２つ以上の炭素原子が酸素原子、硫黄原子、ケイ素原子、又は、−ＮＲ５−（ここで、Ｒ５は、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数６〜３０のアリール基を表す。）で置換されていてもよい。
【００２１】
一般式（１）中、Ｒ１の炭素数２〜６０の飽和又は不飽和の２価の炭化水素基としては特に制限されず、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよく、環状構造を含有してもよい。
Ｒ１の炭素数としては、２〜３０が好ましく、５〜３０がより好ましい。
Ｒ１としては、例えば、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、及び、アリーレン基等が挙げられる。
上記アリーレン基が含有する芳香族炭化水素（芳香環）としては、特に制限されず、単環状であってもよく、多環状であってもよく、縮合環状であってもよい。アリーレン基が含有する芳香族炭化水素の炭素数としては特に制限されないが、６〜３０が好ましく、６〜２０がより好ましく、６〜１２が更に好ましい。
なお、アリーレン基は、芳香環を複数含有してもよい。アリーレン基は、複数の芳香環の間、又は、芳香環の末端にアルキレン基、アルケニレン基、又は、アルキニレン基を更に含有してもよい。
なお、アルケニレン基を形成するための炭素−炭素二重結合、アルキニレン基を形成するための炭素−炭素三重結合、及び、アリーレン基を形成するための芳香環は、飽和のアルキレン基の中（末端を含む）、及び／又は、不飽和の炭素−炭素結合の前後に、規則的又は不規則的に配置されていてもよい。
Ｒ１の炭素数２〜６０の飽和又は不飽和の２価の炭化水素基の具体例としては、Ｃ６、Ｃ７、Ｃ８、Ｃ９、Ｃ１０、Ｃ１１、Ｃ１２、Ｃ１３、Ｃ１４、Ｃ１５、Ｃ１６、又は、Ｃ１７の、直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基（直鎖状がより好ましい）；上記アルキレン基の中（末端でもよい）に１〜３個の炭素−炭素二重結合が規則的又は不規則的に配置されたアルキレン基；−（−ＣＨ＝ＣＨ−）ｎ−（ｎは３〜８の整数を表す。）のアルキレン基；上記アルキレン基の中（末端でもよい）に１〜３個の炭素−炭素三重結合が規則的又は不規則的に配置されたアルキレン基；−（−Ｐｈ−ＣＨ＝ＣＨ−）ｍ−Ｐｈ−（ここで、Ｐｈは、ｐ−フェニレン基を示し、ｍは１〜４の整数を表す。）で表されるアリーレン基等が挙げられる。
【００２２】
一般式（１）中、Ｒ１の２価の炭化水素基が含有してもよい置換基としては特に制限されないが、ハロゲン原子、水酸基、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルキコキシ基；１〜５個（１〜３個が好ましい）のハロゲン原子で置換された炭素数１〜５のアルキル基；１個から５個（１〜３個が好ましい）のハロゲン原子で置換された炭素数１〜５のアルコキシ基；アミノ基；１個又は２個の炭素数１〜５のアルキル基で置換されたアミノ基；等が挙げられる。なお、本明細書において、「置換基」というときは、上記と同様である。
上記炭素数１〜５のアルキル基としては、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。このようなアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、及び、ペンチル基等が挙げられる。炭素数としては、１〜４が好ましく、１〜３がより好ましい。なお、本明細書において、「炭素数１〜５のアルキル基」というときは、上記と同様である。
上記炭素数１〜５のアルコキシ基としては、上記炭素数１〜５のアルキル基に酸素原子が結合した基が挙げられる。このようなアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、及び、ペンチルオキシ基等が挙げられる。なお、本明細書において、「炭素数１〜５のアルコキシ基」というときは、上記と同様である。
【００２３】
一般式（１）中、Ｒ１の２価の炭化水素基の中の１つ又は２つ以上の炭素原子が酸素原子、硫黄原子、ケイ素原子、又は、−ＮＲ５−で置換されていてもよい。
置換の形態としては特に制限されないが、例えば、−Ｃ−Ｃ−Ｃ−の炭素原子の連鎖の中の１つ又は２つ以上の炭素原子が他の原子で置換される形態が挙げられる。上記の具体例としては、−Ｃ−Ｏ−Ｃ−、−Ｃ−Ｓ−Ｃ−、−Ｃ−ＳｉＨ２−Ｃ−（式中のケイ素原子に結合する水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換されていてもよい。）、及び、−Ｃ−ＮＲ５−Ｃ−等が挙げられる。このような他の原子での置換は、置換の順番が規則的であってもよいし、不規則的であってもよい。
上記炭素数１〜１０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、及び、オクチル基等が挙げられる。炭素数としては、１〜８が好ましく、１〜５がより好ましい。なお、本明細書において、「炭素数１〜１０のアルキル基」というときは、上記と同様である。
上記炭素数１〜１０のアルコキシ基としては、上記炭素数１〜１０のアルキル基に酸素原子結合した基が挙げられる。このようなアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、及び、オクチルオキシ基等が挙げられる。なお、本明細書において、「炭素数１〜１０のアルコキシ基」というときは、上記と同様である。
なお、Ｒ５は、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数６〜３０のアリール基を表す。
炭素数６〜３０のアリール基としては、単環式、多環式、又は縮合環式のアリール基が挙げられる。このようなアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、及び、アントリル基等が挙げられる。炭素数としては、６〜１８が好ましく、６〜１２がより好ましい。なお、本明細書において、「炭素数６〜３０のアリール基」というときは、上記と同様である。
【００２４】
一般式（１）中、Ｒ２は、基−Ｒ１−Ｚ（「＊−Ｒ１−Ｚ」で表され、＊は結合位置を表す。）、水素原子、又は、炭素数１〜４の飽和若しくは不飽和の炭化水素基を表す。
Ｒ２が基−Ｒ１−Ｚである場合のＺは、水素原子、固体基板の表面に結合若しくは吸着し得る基、又は、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、炭素原子、リン原子、ハロゲン原子、及び、ケイ素原子からなる群から選択される１〜１５個の原子、並びに、水素原子で構成される１価の原子団からなる末端基、を表す。
ここで、固体基板の表面に結合若しくは吸着し得る基とは、すでに説明した第一基板１０１に加え、例えば、石英、サファイヤ、シリコン、ゲルマニウム、酸化ケイ素、金、白金、銀、銅、酸化インジウム、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、ＧａＡｓ、ＣｄＳ、ポリオレフィン、ポリアクリル、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、コラーゲン、澱粉、及び、セルロース等によって形成された個体基板と相互作用性を有する基（相互作用性基）である。
上記トリプチセン誘導体を用いた膜は、トリプチセン骨格部分が膜形成能を有する。更に、相互作用性基を含有するトリプチセン誘導体によれば、形成された膜の基板上での位置をより安定させやすい。
また、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、炭素原子、リン原子、ハロゲン原子、及び、ケイ素原子からなる群から選択される１〜１５個の原子、並びに、水素原子で構成される１価の原子団からなる末端基とは、１価の基であり、原子団を構成する原子数としては、１〜１０が好ましく、１〜６がより好ましい。
【００２５】
Ｚとしては、例えば、炭素数１〜１０のアルキル基；炭素数２〜１５（炭素数２〜１０が好ましく、炭素数２〜６がより好ましい）の直鎖状又は分岐鎖状のアルケニル基；炭素数２〜１５（炭素数２〜１０が好ましく、炭素数２〜６がより好ましい）の直鎖状又は分岐鎖状のアルキニル基；炭素数６〜１５（炭素数６〜１２が好ましく、炭素数６〜１０がより好ましい）の単環状、多環状、又は、縮合環状の芳香環を含有する総炭素数が６〜１５（炭素数６〜１２が好ましい）のアリール基（上記アリール基は、芳香環と芳香環の間又は末端に、アルキレン基、アルケニレン基、又はアルキニレン基を含有していてもよい。）；炭素数１〜１０のアルキル基の任意の位置が１〜７個のハロゲン原子で置換された炭素数１〜１０のハロアルキル基；−ＯＲ１１（Ｒ１１は水素原子、又は、炭素数１〜１０のアルキル基を表す。）；−ＳＲ１１（Ｒ１１は水素原子、又は、炭素数１〜１０のアルキル基を表す。）；−ＳＯＲ１１（Ｒ１１は水素原子、又は、炭素数１〜１０のアルキル基を表す。）；−ＳＯ２Ｒ１１（Ｒ１１は水素原子、又は、炭素数１〜１０のアルキル基を表す。）；−Ｎ（Ｒ１２）２（Ｒ１２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数６〜１２のアリール基を表す。）；−ＣＯ−Ｒ１３（Ｒ１３は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数６〜１２のアリール基を表す。）；−ＯＣＯ−Ｒ１３（Ｒ１３は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数６〜１２のアリール基を表す。）；−ＣＯＯ−Ｒ１３（Ｒ１３は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数６〜１２のアリール基を表す。）；−ＯＣＯＯ−Ｒ１４（Ｒ１４は、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数６〜１２のアリール基を表す。）；−ＣＯＮ（Ｒ１３）２（Ｒ１３はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数６〜１２のアリール基を表す。）；−ＮＲ１３ＣＯ−Ｒ１３（Ｒ１３はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数６〜１２のアリール基を表す。）；−Ｎ（Ｒ１３）ＣＯＮ（Ｒ１３）２（Ｒ１３はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数６〜１２のアリール基を表す。）；−ＣＯ−ＮＲ１３−Ｎ（Ｒ１３）２（Ｒ１３はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数６〜１２のアリール基を表す。）；−ＳｉＲ９Ｒ１０−Ｏ−Ｒ１３（Ｒ９、Ｒ１０は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、又は、炭素数１〜３のアルキル基で置換されてもよいアミノ基を表し、Ｒ１３は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数６〜１２のアリール基を表す。）；−Ｏ−ＳｉＲ９Ｒ１０−Ｏ−Ｒ１３（Ｒ９、Ｒ１０は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、又は、炭素数１〜３のアルキル基で置換されてもよいアミノ基を表し、Ｒ１３は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数６〜１２のアリール基を表す。）；−ＳｉＲ９Ｒ１０−Ｎ（Ｒ１３）２（Ｒ９、Ｒ１０は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、又は炭素数１〜３のアルキル基で置換されてもよいアミノ基を表し、Ｒ１３は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数６〜１２のアリール基を表す。）；−ＮＨ−ＳｉＲ９Ｒ１０−Ｏ−Ｒ１３（Ｒ９、Ｒ１０は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、又は、炭素数１〜３のアルキル基で置換されてもよいアミノ基を表し、Ｒ１３は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数６〜１２のアリール基を表す。）；−Ｐ（ＯＲ１５）２（ここで、Ｒ１５は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数６〜１２のアリール基を表す。）；−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ１５）２（ここで、Ｒ１５は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数６〜１２のアリール基を表す。）；等が挙げられる。
【００２６】
一般式（１）中、Ｒ３は、基−Ｒ１−Ｚ、水素原子、又は、炭素数１〜４の飽和若しくは不飽和の炭化水素基を表す。Ｒ１、及び、Ｚの形態としては既に説明したとおりである。
なお、一般式（１）中、Ｒ２及びＲ３のうち片方、又は、両方が基−Ｒ１−Ｚである場合、複数あるＲ１、及び、Ｚは同じでも異なってもよい。
【００２７】
一般式（１）中、３つのＲ４は、同一でも異なってもよく、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、モノアルキル置換アミノ基、ジアルキル置換アミノ基、置換基を含有してもよい炭素数１〜１０のアルキル基、置換基を含有してもよい炭素数２〜１０のアルケニル基、置換基を含有してもよい炭素数２〜１０のアルキニル基、置換基を含有してもよい炭素数１〜１０のアルコキシ基、置換基を含有してもよい炭素数１〜１０のアルキルチオ基、ホルミル基（アルデヒド基）、置換基を含有してもよい炭素数１〜１０のアルキルカルボニル基、置換基を含有してもよい炭素数１〜１０のアルコキシカルボニル基、置換基を含有してもよい炭素数１〜１０のアルキルカルボニルオキシ基、置換基を含有してもよい炭素数６〜３０のアリール基、又は、窒素原子、酸素原子、及び、硫黄原子からなる群から選択される少なくとも１種のヘテロ原子を１〜５個含有し、炭素原子を２〜１０個含有する、置換基を有してもよい５〜８員のヘテロアリール基を表す。
【００２８】
Ｒ４のモノアルキル置換アミノ基としては、例えば、アミノ基（−ＮＨ２）の１個の水素原子が、炭素数１〜１０のアルキル基で置換されたアミノ基が挙げられ、より具体的には、メチルアミノ基、及び、エチルアミノ基等が挙げられる。
Ｒ４のジアルキル置換アミノ基としては、アミノ基（−ＮＨ２）の２個の水素原子が、炭素数１〜１０のアルキル基でそれぞれ置換されたアミノ基が挙げられ、より具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、及び、メチルエチルアミノ基等が挙げられる。なお、２つあるアルキル基は同じでも、異なってもよい。
【００２９】
Ｒ４の炭素数２〜１０のアルケニル基としては、１個以上の炭素−炭素二重結合を有する基であって、総炭素数２〜１０（総炭素数２〜８が好ましく、２〜６がより好ましい。）の直鎖状又は分岐鎖状のアルケニル基が挙げられる。このようなアルケニル基の例としては、ビニル基、１−メチル−ビニル基、２−メチル−ビニル基、ｎ−２−プロペニル基、１，２−ジメチル−ビニル基、１−メチル−プロペニル基、２−メチル−プロペニル基、ｎ−１−ブテニル基、ｎ−２−ブテニル基、及び、ｎ−３−ブテニル基等が挙げられる。なお、本明細書において、「炭素数２〜１０のアルケニル基」というときは、上記と同様である。
【００３０】
Ｒ４の炭素数２〜１０のアルキニル基としては、１個以上の炭素−炭素三重結合を有する基であって、総炭素数２〜１０（総炭素数２〜８が好ましく、２〜６がより好ましい。）の直鎖状又は分岐鎖状のアルキニル基が挙げられる。このようなアルキニル基の例としては、エチニル基、ｎ−１−プロピニル基、ｎ−２−プロピニル基、ｎ−１−ブチニル基、ｎ−２−ブチニル基、及び、ｎ−３−ブチニル基等が挙げられる。なお、本明細書において、「炭素数２〜１０のアルキニル基」というときは、上記と同様である。
【００３１】
Ｒ４の炭素数１〜１０のアルキルチオ基としては、すでに説明した炭素数１〜１０のアルキル基に硫黄原子が結合した基が挙げられる。このようなアルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、及び、ペンチルチオ基等が挙げられる。これらのアルキルチオ基における硫黄原子は、スルフィニル（−ＳＯ−）又はスルホニル（−ＳＯ２−）となっていてもよい。なお、本明細書において、「炭素数１〜１０のアルキルチオ基」というときは、上記と同様である。
【００３２】
Ｒ４の炭素数１〜１０のアルキルカルボニル基としては、既に説明した炭素数１〜１０のアルキル基にカルボニル基（−ＣＯ−基）が結合した基が挙げられる。このようなアルキルカルボニル基としては、例えば、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、及び、イソプロピルカルボニル基等が挙げられる。なお、本明細書において、「炭素数１〜１０のアルキルカルボニル基」というときは、上記と同様である。
【００３３】
Ｒ４の炭素数１〜１０のアルコキシカルボニル基としては、既に説明した炭素数１〜１０のアルキル基にオキシカルボニル基（−Ｏ−ＣＯ−基）が結合した基が挙げられる。このようなアルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、及び、イソプロポキシカルボニル基等が挙げられる。なお、本明細書において、「炭素数１〜１０のアルコキシカルボニル基」というときは、上記と同様である。
【００３４】
Ｒ４の炭素数１〜１０のアルキルカルボニルオキシ基としては、既に説明した炭素数１〜１０のアルキル基にカルボニルオキシ基（−ＣＯ−Ｏ−基）が結合した基が挙げられる。このようなアルキルカルボニルオキシ基としては、例えば、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、及び、イソプロピルカルボニルオキシ基等が挙げられる。なお、本明細書において、「炭素数１〜１０のアルキルカルボニルオキシ基」というときは、上記と同様である。
【００３５】
Ｒ４の窒素原子、酸素原子、及び、硫黄原子からなる群から選択される少なくとも１種のヘテロ原子を１〜５個含有し、炭素原子を２〜１０個含有する、置換基を有してもよい５〜８員のヘテロアリール基（以下、「複素環基」ともいう。）としては、１個〜５個（１〜３個が好ましく、１〜２個がより好ましい。）の窒素原子、酸素原子、及び、硫黄原子からなる群から選択される少なくとも１種のヘテロ原子を含有する５〜８員（５〜６員が好ましい。）の環を含有する単環式、多環式、又は、縮合環式のヘテロアリール基が挙げられる。このような複素環基としては、例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピロリル基、２−ピリジル基、２−インドール基、及び、ベンゾイミダゾリル基等が挙げられる。なお、本明細書において、「複素環基」というときは、上記と同様である。
【００３６】
一般式（１）中、Ｘは、同一でも異なってもよく、それぞれ独立して、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、炭素原子、及び、ケイ素原子からなる群から選択される１〜５個の原子、並びに、水素原子で構成される２価の原子団からなるリンカー基（２価の連結基）を表す。
上記リンカー基は、トリプチセン骨格と２価の炭化水素基Ｒ１基を連結すれば、その構造は特に制限されない。
Ｘの好適形態としては、例えば、−Ｏ−；−Ｓ−；−ＳＯ−；−ＳＯ２−；−ＮＲ６−（Ｒ６は、水素原子、又は、炭素数１〜４のアルキル基を表す。）；−ＣＨ２−；−ＣＨ２−ＣＨ２−；−ＣＨ＝ＣＨ−；−Ｃ６Ｈ４−（フェニレン基）；−Ｃ４Ｈ２Ｓ−（チオフェンの任意位置からの水素原子を合計２個除いた２価の連結基）；−ＣＯ−；−ＯＣＯ−；−ＣＯＯ−；−ＯＣＯＯ−；−ＣＯＮＲ６１−（Ｒ６１は、水素原子、又は、炭素数１〜３のアルキル基を表す。）；−ＮＲ６２ＣＯ−（Ｒ６２は、水素原子、又は、炭素数１〜２のアルキル基を表す。）；−ＮＨＣＯＮＨ−、−ＣＯ−ＮＲ６３−ＮＲ６３−（Ｒ６３は、それぞれ独立して、水素原子、又は、メチル基を表す。）；−ＳｉＲ９Ｒ１０−Ｏ−（Ｒ９、Ｒ１０は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、又は、炭素数１〜３のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基を表す。）；−Ｏ−ＳｉＲ９Ｒ１０−Ｏ−（Ｒ９、Ｒ１０は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、又は、炭素数１〜３のアルキル基で置換されてもよいアミノ基を表す。）；−ＳｉＲ９Ｒ１０−ＮＨ−（Ｒ９、Ｒ１０は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、又は、炭素数１〜３のアルキル基で置換されてもよいアミノ基を表す。）；−ＮＨ−ＳｉＲ９Ｒ１０−Ｏ−（Ｒ９、Ｒ１０は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、又は、炭素数１〜３のアルキル基で置換されてもよいアミノ基を表す。）等が挙げられる。
一般式［ＩＩ］における好ましいＸ基としては、−Ｏ−；−Ｓ−；−ＳＯ−；−ＳＯ２−；−ＮＲ６−（ここで、Ｒ６は、水素原子、又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。）；−ＣＨ２−；−ＣＨ＝ＣＨ−；−ＣＯ−；−ＯＣＯ−；−ＣＯＮＲ６１−（ここで、Ｒ６１は、水素原子、又は炭素数１〜３のアルキル基を表す。）；−ＮＲ６２ＣＯ−（ここで、Ｒ６２は、水素原子、又は炭素数１〜２のアルキル基を表す。）等が挙げられ、特に好ましいＸとしては、−Ｏ−；−ＮＲ６−（ここで、Ｒ６は、水素原子、又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。）；−ＣＨ２−；−ＣＯ−等が挙げられる。
【００３７】
上記トリプチセン誘導体は、例えば、国際公開第２０１４／１１１９８０号、国際公開第２０１４／１２５５２７号、及び、国際公開第２０１６／０１００６１号等に記載された方法を参照して、適宜合成することができる。
【００３８】
〔液晶層〕
本実施形態に係る積層体１００は、第一配向膜１０２上に液晶層１０３を備える。液晶層１０３は液晶化合物を用いて形成された層であれば特に制限されない。
液晶層１０３の厚みとしては特に制限されないが、一般に０．１〜１００μｍが好ましい。
【００３９】
＜液晶層の一形態＞
一形態として、液晶層１０３は液晶性を有する化合物（以下、明細書において「液晶化合物」ともいう。）を含有する層である。本形態において、液晶層１０３は液晶化合物を含有すればよく、本発明の効果を奏する範囲内において、他の成分を含有してもよい。他の成分としては例えば、重合性化合物を重合させた重合体、二色性色素、及び、溶剤等が挙げられる。以下では、本形態における液晶層１０３が含有する各成分について詳述する。
【００４０】
（液晶化合物）
液晶層１０３は液晶化合物を含有する。液晶層１０３中における液晶化合物の含有量としては特に制限されないが、一般に、液晶層１０３の全質量に対して、１〜９９質量％が好ましく、１０〜１００質量％がより好ましい。液晶化合物は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の液晶化合物を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
【００４１】
液晶層１０３が含有する液晶化合物としては特に制限されず、公知の液晶化合物を用いることができる。液晶化合物としては、ネマチック相、又は、スメクチック相を示す液晶化合物が好ましく、ネマチック相を示す液晶化合物がより好ましい。
液晶化合物としては、例えば、アゾメチン化合物、シアノビフェニル化合物、シアノフェニルエステル、フッ素置換フェニルエステル、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル、フッ素置換シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル、シアノフェニルシクロヘキサン、フッ素置換フェニルシクロヘキサン、シアノ置換フェニルピリミジン、フッ素置換フェニルピリミジン、アルコキシ置換フェニルピリミジン、フッ素置換アルコキシ置換フェニルピリミジン、フェニルジオキサン、トラン系化合物、フッ素置換トラン系化合物、アルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル、ビシクロオクタン系液晶化合物、及び、キュバン系液晶化合物等が挙げられる。
また、液晶化合物としては、「液晶デバイスハンドブック」（日本学術振興会第１４２委員会編、日刊工業新聞社、１９８９年）の第１５４〜１９２頁及び第７１５〜７２２頁に記載の液晶化合物を用いることもできる。
より具体的には、Ｍｅｒｃｋ社の液晶化合物（ＺＬＩ−４６９２、ＭＬＣ−６２６７、６２８４、６２８７、６２８８、６４０６、６４２２、６４２３、６４２５、６４３５、６４３７、７７００、７８００、９０００、９１００、９２００、９３００、及び、１００００等）、チッソ社の液晶化合物（ＬＩＸＯＮ５０３６ｘｘ、５０３７ｘｘ、５０３９ｘｘ、５０４０ｘｘ、及び、５０４１ｘｘ等）、ＡＤＥＫＡ社の液晶化合物（ＨＡ−１１７５７、及び、ＣＡ−３２１５０等）が挙げられるが、これに制限されない。
【００４２】
液晶化合物の誘電率異方性としては特に制限されない。液晶組成物全体として、誘電率異方性を有することで、電圧の印加による配向状態の変化を発現させることができる。電圧無印加の状態で、液晶を垂直配向させ、垂直に電圧を印加することで、液晶を水平方向に配向変化させる点で、液晶化合物の誘電率異方性は負であることが好ましい。なお、液晶化合物の誘電率異方性が負である、とは、液晶化合物の長軸に垂直な方向の誘電率が、長軸方向の誘電率より大きいことを意図する。液晶化合物が負の誘電率異方性を有しているかは、液晶便覧編集委員会編  液晶便覧、丸善株式会社、２０９〜２１０頁に記載の方法により測定することができる。
【００４３】
負の誘電率異方性を有する液晶化合物としては、例えば、特開２００９−２６５３１７号公報の００１２〜００６４段落に記載された液晶化合物を用いることもでき、上記内容は本明細書に組み込まれる。
【００４４】
・重合性液晶化合物
本形態に係る液晶層は、液晶化合物として重合性基を含有する液晶化合物（重合性液晶化合物）を含有してもよい。重合性液晶化合物としては特に制限されず公知の重合性液晶化合物が挙げられる。
重合性基としては、例えば、ラジカル重合性基、カチオン重合性基、及び、アニオン重合性基等が挙げられる。ラジカル重合性基としては、（メタ）アクリロイル基、アクリルアミド基、ビニル基、スチリル基、及び、アリル基等が挙げられる。カチオン重合性基としては、ビニルエーテル基、オキシラニル基、及び、オキセタニル基等が挙げられる。なかでも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
なお、本明細書において（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基、及び、メタクリロイル基を意図する。
【００４５】
重合性液晶化合物中における重合性基の数は特に制限されないが、得られる液晶層がより優れた機械特性を有し、かつ、液晶層の特性の経時変化がより少ない点で、１以上が好ましく、２以上がより好ましい。重合性液晶組成物中における重合性基の数の上限値としては特に制限されないが、一般に６以下が好ましい。
【００４６】
重合性液晶化合物としては、特に制限されず、公知の重合性液晶化合物を用いることができる。一般的に、重合性液晶化合物はその形状から、棒状タイプ（棒状液晶化合物）と円盤状タイプ（ディスコティック液晶化合物、円盤状液晶化合物）とに分類でき、より優れた本発明の効果を有する積層体が得られる点で、重合性棒状液晶化合物が好ましい。重合性液晶化合物としては、いずれの化合物を用いることもできる。また、２種以上の重合性液晶化合物を併用してもよい。
【００４７】
液晶層１０３は液晶化合物を含有すればよく、他の成分を含有してもよい。以下では液晶層が含有する他の成分について説明する。
【００４８】
（重合性化合物が重合した重合体）
液晶層は、重合性化合物が重合した重合体を更に含有することが好ましい。重合性化合物とは、重合性基を１分子中に少なくとも１つ含有する化合物を意図し、液晶分子の配向状態をより安定して保持できる点で、重合性基を複数含有する（多官能の）重合性化合物が好ましい。
重合性基としては特に制限されず、その形態は、重合性液晶組成物が含有することがある重合性基として既に説明したとおりである。
液晶層が上記重合体を含有すると、液晶化合物の所望の配向状態をより安定して保持することができ、加熱、及び／又は、時間経過によって配向状態がより乱れにくい。
【００４９】
重合性化合物としては特に制限されず、用いる液晶化合物の種類に応じて、公知の重合性化合物を適宜選択することができる。すなわち、液晶化合物として棒状液晶化合物を用いる場合には、棒状の重合性化合物を用いると、棒状液晶化合物の配向状態がより安定化し、配向状態がより乱れにくい。
重合性化合物としては、特に制限されないが、特開２００３−３０７７２０号公報の００１２〜００３０段落に記載された化合物、特開２００５−１８１５８２号公報の００６３〜００６９段落に記載された化合物、特開２００９−１０２６３９号公報の００３０〜０１０２段落に記載された化合物、特開２００９−１３２７１８号公報の００２４〜００５１段落に記載された化合物、及び、特開２０１０−３３０９３号公報の００１５〜００２４段落に記載された化合物等を用いることもでき、上記内容は本明細書に組み込まれる。
また、重合性化合物としては、既に説明した重合性液晶化合物を用いることもできる。また、上記重合性化合物としては、ＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式に用いられるラジカル重合性モノマー等を用いることもできる。
また、上記重合性化合物のうち、非棒状のものとしては、特開２０１５−４３０７３号公報の０１１７〜０１１９段落に記載された化合物を用いることもでき、上記内容は本明細書に組み込まれる。
【００５０】
重合性化合物を重合させて重合体を得る方法としては特に制限されず、公知の方法を用いることができる。重合性化合物を重合させる方法としては、典型的には、重合性化合物、及び、液晶化合物を含有する液晶組成物を基板間に注入し、液晶化合物を配向させた状態（配向させる方法としては、配向膜を用いる方法、及び、電圧を印加する方法等が挙げられる。）で、重合性化合物にエネルギー付与（熱、及び／又は、光）して、重合体を形成する方法が挙げられる。上記のようにすると、液晶化合物の配向状態を維持しやすい。
【００５１】
（二色性色素）
液晶層１０３は更に二色性色素を含有することが好ましい。
二色性色素とは、二色性色素とは、分子の長軸方向における吸光度と、短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素のことをいう。
【００５２】
液晶層中における二色性色素の含有量としては特に制限されないが、一般に、液晶層の全質量に対して、０．０１〜２０質量％が好ましい。二色性色素は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の二色性色素を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
【００５３】
二色性色素としては特に制限されず、公知の二色性色素を用いることができる。
二色性色素は、染料であっても顔料であってもよい。二色性色素としては、例えば、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素、及び、アントラキノン色素等が挙げられる。
【００５４】
＜液晶層の他の形態＞
他の形態として、液晶層１０３は液晶化合物を用いて形成された、液晶化合物の液晶相を固定した層であって、液晶性示さない層である。
液晶相を固定した層とは、所望の液晶相となっている液晶化合物の配向が保持されている層を意図し、典型的には、重合性基を含有する液晶化合物（重合性液晶化合物）を所望の配向状態としたうえで、紫外線、及び、加熱等によって、重合性液晶化合物を重合させ、硬化させ、流動性が無い層を形成して、同時に外場又は外力によって配向形態に変化を生じさせることのない状態に変化した層が好ましい。
【００５５】
上記液晶化合物の形態としては、既に説明した液晶化合物と同様であり、好ましい形態としても上記と同様である。また、液晶化合物として重合性液晶化合物を用いる場合、その形態としては、既に説明した重合性液晶化合物と同様であり、好ましい形態も上記と同様である。
本形態に係る液晶層としては、誘電率異方性が負である液晶化合物を用いて形成されることが好ましく、誘電率異方性が負である重合性液晶化合物を用いて形成されることがより好ましい。なお、この場合において、形成された液晶層を構成する化合物（典型的には、重合性液晶化合物を重合して得られた重合体）の誘電率異方性はもはや負でなくてもよい。
【００５６】
〔積層体の製造方法〕
積層体の製造方法としては特に制限されず公知の方法を用いることができる。積層体の製造方法としては、より効率的に積層体を製造することができる点で、トリプチセン誘導体を含有する配向膜形成用組成物を用いて、第一基板上に第一配向膜を形成する工程（配向膜形成工程）と、液晶化合物を含有する液晶組成物を用いて、第一配向膜上に液晶層を形成する工程（液晶層形成工程１）と、をこの順に含有することが好ましい。以下では、上記各工程について説明する。
【００５７】
＜配向膜形成工程＞
配向膜形成工程は、トリプチセン誘導体を含有する配向膜形成用組成物を用いて、第一基板上に第一配向膜を形成する工程である。
第一基板上にトリプチセン配向膜を形成する方法としては特に制限されず、塗布法、及び、蒸着法等を用いることができる。
塗布法としては、例えば、スピンコート法、浸漬法、キャスト法、インクジェット法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、及び、ダイコーティング法等が挙げられる。
蒸着法としては、例えば、ＰＶＤ（ｐｈｙｓｉｃａｌ  ｖａｐｏｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）、及び、ＣＶＤ（ｃｈｅｍｉｃａｌ  ｖａｐｏｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）等が挙げられる。
【００５８】
（配向膜形成用組成物）
配向膜形成用組成物は、トリプチセン誘導体を含有していれば特に制限されないが、より簡便にトリプチセン配向膜を形成することができる点で、溶剤を含有することが好ましい。配向膜形成用組成物中における溶剤の含有量としては特に制限されないが、一般に、配向膜形成用組成物の固形分が、０．１〜５０質量％となるよう調整されることが好ましい。
配向膜形成用組成物が含有する溶剤としては、特に制限されず、その形態としては第一配向膜が含有することがある溶剤として既に説明したとおりである。
【００５９】
また、配向膜形成工程は、形成された第一配向膜を加熱する工程（アニーリング工程）を更に含有してもよい。アニーリング工程における加熱温度としては特に制限されず、トリプチセン誘導体の融点等に応じて適宜選択することができ、なかでも、加熱温度は、トリプチセン誘導体の融点と略同じ温度とすることが好ましい。
加熱温度としては、一般に、６０〜２３０℃が好ましく、１００℃〜２３０℃がより好ましい。加熱時間としては特に制限されないが、一般に、１０〜３０００秒が好ましい。  積層体の製造方法がアニーリング工程を含有すると、より均一な厚みを有する第一配向膜が得られる。
【００６０】
また、配向膜形成工程は、更に、アニーリング工程において加熱された第一配向膜を冷却する工程（冷却工程）を更に含有してもよい。冷却工程を含有すると、第一配向膜中のトリプチセン誘導体がより高度に配向しやすい。
冷却速度としては特に制限されないが、一般に０．５〜１０℃／分が好ましい。
【００６１】
＜液晶層形成工程１＞
液晶層形成工程１は、液晶化合物を含有する液晶組成物を用いて、第一配向膜上に液晶層を形成する工程である。第一配向膜上に液晶層を形成する方法としては特に制限されず、塗布法等を用いることができる。
塗布法としては、例えば、スピンコート法、浸漬法、キャスト法、インクジェット法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、及び、ダイコーティング法等が挙げられる。
【００６２】
・加熱／露光工程
液晶層形成工程１は、液晶化合物を第一配向膜上に塗布して液晶層を得た後、更に、上記液晶層を加熱、及び／又は、露光する工程を更に含有してもよい。特に、液晶組成物が重合性液晶化合物等の重合性化合物を含有する場合、上記工程を含有する積層体の製造方法により得られた積層体は、液晶層中の液晶化合物の配向状態がより安定的に維持されやすい。
露光処理としては、既に説明した光源等を用いることができ、特に制限されないが、例えば、紫外線ランプにより０．１〜１０００ｍＪ／ｃｍ２の照射量で光を照射して重合性組成物層を硬化する形態が挙げられる。
加熱処理の温度としては特に制限されないが、例えば、３０〜１００℃が好ましく、５０〜９０℃がより好ましい。また、加熱時間としては０．１〜５分間が好ましい。
【００６３】
・熟成工程
また、上記液晶層形成工程１は、液晶層を加熱、及び／又は、露光する工程の前に、更に、熟成工程を含有してもよい。
熟成工程とは、液晶層中の液晶化合物を所望の液晶相の状態にするための工程である。
例えば、液晶組成物が、溶剤を含む組成物として調製されている形態では、液晶層を乾燥し、溶剤を除去することで、所望の液晶相の状態にすることができる場合がある。
また、液晶相への転移温度とするために、液晶層を加熱してもよい。例えば、液晶層を、等方性相の温度まで一旦加熱し、その後、液晶層を液晶相転移温度まで冷却することで、安定的に液晶相の状態にすることができる。熟成工程における熟成温度、及び、熟成時間は、液晶組成物に含有される液晶化合物の種類に応じて適宜選択することができる。
【００６４】
（液晶組成物）
液晶組成物としては既に説明した液晶化合物を含有していれば特に制限されないが、溶剤、重合性化合物、重合開始剤、増感剤、二色性色素、配向制御剤、及び、界面活性剤等を含有してもよい。以下では、液晶組成物が含有する各成分について説明する。
【００６５】
・液晶化合物
液晶組成物は液晶化合物を含有する。液晶組成物中における液晶化合物の含有量としては特に制限されないが、一般に、液晶組成物の全固形分に対して、１０〜９９質量％が好ましく、１０〜１００質量％がより好ましい。液晶化合物は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の液晶化合物を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
液晶組成物が含有する液晶化合物の形態としては、液晶層が含有する液晶化合物として既に説明したとおりである。
【００６６】
・溶剤
液晶組成物は溶剤を含有してもよい。液晶組成物が溶剤を含有すると、より簡便に液晶膜を形成することができる。液晶組成物が溶剤を含有する場合、液晶組成物中における溶剤の含有量としては特に制限されないが、一般に、液晶組成物の全固形分が、１〜１００質量％となるよう調整されることが好ましい。溶剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の溶剤を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
【００６７】
液晶組成物が含有する溶剤としては特に制限されず、公知の溶剤を用いることができる。溶剤としては、例えば、γ−ブチロラクトン等のラクトン類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチル−ｎ−アミルケトン、メチルイソアミルケトン、及び、２−ヘプタノン等のケトン類；メタノール、エタノール、及び、イソプロパノール等の１価アルコール類；エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、及び、ジプロピレングリコール等の多価アルコール類、並びに、その誘導体；エチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノアセテート、及び、ジプロピレングリコールモノアセテート等のグリコールエステル；上記の多価アルコール類又は上記のエステル類のモノメチルエーテル、モノエチルエーテル、モノプロピルエーテル、及び、モノブチルエーテル等のモノエーテル又はモノエーテルエステル類；乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、及び、エトキシプロピオン酸エチル等のエステル類；アニソール、エチルベンジルエーテル、クレジルメチルエーテル、ジフェニルエーテル、ジベンジルエーテル、フェネトール、ブチルフェニルエーテル、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、アミルベンゼン、イソプロピルベンゼン、トルエン、キシレン、シメン、及び、メシチレン等の芳香族系有機溶剤；ジオキサン、及び／テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等の環式エーテル類；ジメチルホルムアミド、及び、ジメチルアセトアミド等のアミド類；ジメチルスルホキシド等の硫黄含有溶剤；等を挙げることができる。これらの溶剤は単独で用いてもよく、２種以上の混合溶剤として用いてもよい。
好ましい溶剤としては、ジメチルホルムアミド、及び、ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジオキサン等の環式エーテル類、並びに、ジメチルスルホキシド等の硫黄含有溶剤等が挙げられる。特に好ましい溶剤としては、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン等の極性溶剤が挙げられる。
【００６８】
・重合性化合物
液晶組成物は重合性化合物を含有することが好ましい。液晶組成物が重合性化合物を含有すると、液晶化合物の配向状態をより安定的に保持しやすい。液晶組成物中における重合性化合物の含有量としては特に制限されないが、一般に、液晶組成物の全固形分に対して、０．１〜１０質量％が好ましい。重合性化合物は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の重合性化合物を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
また、重合性化合物は重合性棒状液晶化合物であることが好ましい。なお、重合性化合物、及び、重合性棒状液晶化合物の形態としては、すでに説明したとおりである。
【００６９】
なお、重合性化合物が重合性棒状液晶化合物である場合、液晶組成物中における重合性棒状液晶化合物の含有量の好適範囲は、液晶組成物中における液晶化合物の含有量の好適範囲の記載に従うものとする。
【００７０】
・重合開始剤
液晶組成物は重合開始剤を含有することが好ましい。液晶組成物が重合開始剤を含有すると、液晶化合物の配向状態をより安定的に保持しやすい。液晶組成物中における重合開始剤の含有量としては特に制限されないが、一般に、液晶組成物の全固形分に対して、０．０１〜１０質量％が好ましい。重合開始剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の重合開始剤を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
【００７１】
重合開始剤としては特に制限されず、公知の重合開始剤を用いることができる。重合開始剤としては、熱重合開始剤、及び、光重合開始剤等が挙げられる。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート類、α−アミロキシムエステル類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、プロピオフェノン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、ベンジル類、ベンゾイン類、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類、及び、アシルホスフィンオキシド類等が挙げられる。
【００７２】
光重合開始剤の具体例、好ましい形態、及び、市販品等は、特開２００９−０９８６５８号公報の０１３３〜０１５１段落に記載されており、上記の内容は本明細書に組み込まれる。光重合開始剤の市販品としては、例えば、ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。
【００７３】
・二色性色素
液晶組成物は二色性色素を含有することが好ましい。液晶組成物が二色性色素を含有すると、得られる積層体は、より優れた偏光吸収性能を有する。本明細書において、偏光吸収性能とは、特定の方向の直線偏光を効率良く吸収する性能を意図する。
液晶組成物中における二色性色素の含有量としては特に制限されないが、一般に、液晶組成物の全固形分に対して、０．０１〜２０質量％が好ましい。二色性色素は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の二色性色素を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
なお、二色性色素の形態としては液晶層が含有する二色性色素として既に説明したとおりである。
【００７４】
・増感剤
液晶組成物は増感剤を含有してもよい。液晶組成物中における増感剤の含有量としては特に制限されないが、一般に、液晶組成物の全固形分に対して、０．０１〜１０質量％が好ましい。増感剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の増感剤を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
【００７５】
増感剤としては特に制限されず、公知の増感剤を用いることができる。
増感剤としては、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、及び、チオキサントンが挙げられる。市販の増感剤としては、日本化薬社製の商品名「ＫＡＹＡＣＵＲＥ」シリーズ等が挙げられる。
【００７６】
・配向制御剤
液晶組成物は、配向制御剤を含有してもよい。液晶組成物中における配向制御剤の含有量としては特に制限されないが、一般に、液晶組成物の全固形分に対して、０．０１〜１０質量％が好ましい。配向制御剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の配向制御剤を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
【００７７】
配向制御剤としては特に制限されず、公知の配向制御剤を用いることができる。
配向制御剤としては、例えば、低分子の配向制御剤又は高分子の配向制御剤を用いることができる。低分子の配向制御剤としては、例えば、特開２００２−２０３６３号公報の０００９〜００８３段落、特開２００６−１０６６６２号公報の０１１１〜０１２０段落、及び、特開２０１２−２１１３０６号公報の００２１−００２９段落の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、高分子の配向制御剤としては、例えば、特開２００４−１９８５１１号公報の００２１〜００５７段落の記載、及び、特開２００６−１０６６６２号公報の０１２１〜０１６７段落を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
配向制御剤を用いることにより、例えば、より容易に、液晶化合物を層の表面と並行に配向したホモジニアス配向状態とすることができる。
【００７８】
・界面活性剤
液晶組成物は、界面活性剤を含有してもよい。液晶組成物中における界面活性剤の含有量としては特に制限されないが、一般に、液晶組成物の全固形分に対して、０．０１〜１０質量％が好ましい。界面活性剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の界面活性剤を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
【００７９】
界面活性剤としては特に制限されず、公知の界面活性剤を用いることができる。
界面活性剤としては、例えば、シリコ−ン系界面活性剤及びフッ素系界面活性剤が挙げられ、フッ素系界面活性剤が好ましい。
【００８０】
界面活性剤の具体例としては、特開２０１４−１１９６０５号公報の００８２〜００９０段落に記載の化合物、特開２０１２−２０３２３７号公報の００３１〜００３４段落に記載の化合物、特開２００５−９９２４８号公報の００９２段落及び００９３段落に記載の化合物、特開２００２−１２９１６２号公報の００７６〜００７８段落及び００８２〜００８５段落に記載の化合物、並びに、特開２００７−２７２１８５号公報の００１８〜００４３段落に記載の化合物等が挙げられる。
【００８１】
［積層体（第二形態）］
本発明の第二の実施形態に係る積層体は、液晶層上に更に第二の基板（第二基板）を備え、第一基板と第二基板は液晶層を介して対向する積層体である。
本発明の第二の実施形態に係る積層体の概略断面図を図２に示した。積層体２００は、第一基板１０１と、第一配向膜１０２と、液晶層１０３と、第二の配向膜（以下「第二配向膜」ともいう。）２０１と、第二基板２０２と、をこの順に備える。
図２の積層体２００は、液晶層１０３と、第二基板２０２との間に第二配向膜２０１を備えるが、本実施形態に係る積層体としては、上記第二配向膜２０１を含有しなくてもよい。
【００８２】
上記積層体２００における第二配向膜２０１、及び、第二基板２０２の形態については、第一の実施形態における第一配向膜１０２及び第一基板１０１の形態として既に説明したとおりである。
また、その他の材料等についても第一の実施形態に係る各層の形態として既に説明したとおりである。
【００８３】
〔積層体（第二形態）の製造方法〕
積層体の製造方法としては特に制限されず、公知の方法を用いることができる。積層体の製造方法としては、より効率的に積層体を製造することができる点で、トリプチセン誘導体を含有する配向膜形成用組成物を用いて、第一基板、及び、第二基板上にそれぞれ第一配向膜、及び、第二配向膜を形成する工程（配向膜形成工程）、並びに、トリプチセン配向膜を備える２枚の基板をトリプチセン配向膜同士が向き合うように配置して形成された空隙に、液晶組成物を用いて液晶層を形成する工程（液晶層形成工程２）をこの順に含有することが好ましい。以下では、上記各工程について説明する。
【００８４】
＜配向膜形成工程＞
配向膜形成工程は、トリプチセン誘導体を含有する配向膜形成用組成物を用いて、第一基板、及び、第二基板上にそれぞれ第一配向膜、及び、第二配向膜を形成する工程である。
各基板上にトリプチセン配向膜を形成する方法、及び、配向膜形成用組成物の形態については、第一の実施形態に係る積層体の製造方法として既に説明したとおりである。
【００８５】
＜液晶層形成工程２＞
液晶層形成工程２は、トリプチセン配向膜を備える２枚の基板をトリプチセン配向膜同士が向き合うように配置して形成された空隙に、液晶組成物を用いて液晶層を形成する工程である。
液晶組成物を用いて空隙に液晶層を形成する方法としては特に制限されず、公知の方法を用いることができる。典型的には、一方の基板上、又は、トリプチセン配向膜上にスペーサ、及び、シール剤を配置し、２枚の基板を貼り合わせた後、形成された空隙中に液晶組成物を注入する方法が挙げられる。なお、スペーサの配置は、配向膜形成工程の前に行われてもよい。また、他の形態としては、予めトリプチセン配向膜上に液晶組成物を滴下した後、２枚の基板を貼り合わせて加圧する方法等でもよい。
スペーサ、及び、シール剤としては、特に制限されず、公知のものを用いることができる。スペーサは、２枚の基板により形成される空隙の厚みを均一化する機能を有し、例えば、特開２０１６−１６４６１７号公報の００２４段落、及び、００２９段落に記載のスペーサ等を用いることができ、上記内容は本明細書に組み込まれる。
シール剤は、２枚の基板を一体として保持し、また、液晶組成物の漏出を防止する機能を有し、例えば、特開２００７−７９５８８号公報の００１０〜００４１段落に記載のシール剤等を用いることができ、上記内容は本明細書に組み込まれる。
なお、上記液晶層形成工程２は、更に、加熱／露光工程、及び／又は、熟成工程を含有してもよく、その形態は第一の実施形態に係る積層体の製造方法として既に説明したとおりである。
また、液晶層形成工程２で用いることができる液晶組成物の形態については、液晶層形成工程１で用いることができる液晶組成物として既に説明したとおりである。
【００８６】
［積層体（第三形態）］
本発明の第三の実施形態に係る積層体は、第一基板と第一配向膜の間、及び、第二基板と第二配向膜の間、からなる群から選択される少なくとも一箇所に、更に透明電極層を備える、積層体である。
本発明の第三の実施形態に係る積層体の概略断面図を図３に示した。積層体３００は、第一基板１０１と、透明電極層３０１と、第一配向膜１０２と、液晶層１０３と、第二配向膜２０１と、透明電極層３０２と、第二基板２０２と、をこの順に備える。なお、図３の積層体３００は、透明電極層を２層備えるが、本実施形態に係る積層体としては、透明電極層は１層であってもよい。
上記実施形態に係る積層体が液晶化合物、特に重合性基を含有しない液晶化合物を含有する場合、透明電極層により液晶層１０３に電圧を印加することにより液晶化合物の配向状態を変化させることができ、例えば、積層体に外部から入射する光（外来光）の透過量を制御することができる。
【００８７】
透明電極層３０１、３０２を構成する透明電極の材料としては特に制限されないが、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ：Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ：Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、酸化ガリウム亜鉛（ＧＺＯ：Ｇａｌｌｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、及び、酸化アルミニウム亜鉛（Ａｌｕｍｉｎｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）等が挙げられる。
また、上記以外の透明電極層としては、例えば、特開２０１６−１９７３３６号公報の００１２〜００７８段落に記載の透明導電膜、又は、透明電極を用いることもでき、上記内容は本明細書に組み込まれる。
【００８８】
透明電極層３０１、３０２の厚みとしては特に制限されないが、一般に、０．０１〜１．０μｍが好ましい。
透明電極層は、透明電極から形成されてもよく（言い換えれば、透明電極膜でもよく）、パターン状の透明電極から形成されてもよく、両者を併用してもよい。
透明電極層がパターン状の透明電極を含有する場合、透明電極のパターニングは、透明電極の材料に応じて適宜選択することができ、フォトリソグラフィー法、レジストマスクスクリーン印刷−エッチング法、インクジェット法、及び、印刷法等を用いることができる。
【００８９】
〔積層体の製造方法〕
本実施形態に係る積層体の製造方法としては特に制限されず、公知の製造方法を用いることができる。典型的には、公知の方法（スパッタ、蒸着、フォトリソグラフィー、及び、印刷等）によって各基板上に、パターン状、又は、膜状の透明電極層を形成し、その上に既に説明した方法によってトリプチセン配向膜を形成する。その後、第二の実施形態に係る積層体の製造方法として既に説明した方法によって液晶層を形成することにより、積層体を製造することができる。
【００９０】
［積層体の用途］
本発明の各実施形態に係る積層体は、液晶表示装置、調光デバイス、及び、位相差膜等として用いることができる。
なかでも、第一基板、及び、第二基板からなる群から選択される少なくとも１種の基板が透明樹脂からなる場合、特に、第一基板、及び、第二基板が透明樹脂からなる場合、積層体はより優れた可とう性を有し、３次元形状の液晶表示装置等に用いることができる。
なお調光デバイスとは、液晶層中の液晶化合物の配向状態を変化させる（典型的には、電圧を印加して配向状態を変化させる）ことにより外来光を遮蔽したり、透過させたりすることができるデバイス（いわゆる、電子ブラインド等）を意図する。
【実施例】
【００９１】
以下に実施例に基づいて本発明を更に詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。
【００９２】
＜積層体１の作製＞
アルカリ洗浄したガラス基板上に下記式で表される化合物１の１質量％クロロホルム溶液（配向膜形成用組成物１）をスピンコートし、１００℃のホットプレート上で１分間加熱した後、室温に戻し、トリプチセン配向膜を得た。上記により、ガラス基板上に、化合物１を含有するトリプチセン配向膜を備える、積層体１を作製した。
【化３】
2018180219.tif 000005
【００９３】
＜積層体２の作製＞
積層体１の作製において、ガラス基板に代えて、透明電極層（ＩＴＯ；Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を備えたＰＥＴ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ、透明樹脂に該当する。）フィルムを用いた以外は、積層体１と同様にして、積層体２を作製した。なお、ＰＥＴの透明電極層側の表面上に配向膜を形成した。
【００９４】
＜積層体３の作製＞
アルカリ洗浄したガラス基板上に下記式で表される化合物２の１質量％クロロホルム溶液（配向膜形成用組成物２）をスピンコートし、１６０℃のホットプレート上で１分間加熱した後、室温に戻し、トリプチセン配向膜を得た。上記により、ガラス基板上に、化合物２を含有するトリプチセン配向膜を備える、積層体３を作製した。
【化４】
2018180219.tif 000006
【００９５】
＜積層体４の作製＞
アルカリ洗浄したガラス基板上に下記式で表される化合物３の１質量％クロロホルム溶液（配向膜形成用組成物３）をスピンコートし、８０℃のホットプレート上で１分間加熱した後、室温に戻し、ガラス基板上に、化合物３を含有する層を備える、積層体４を作製した。
【化５】
2018180219.tif 000007
【００９６】
＜液晶組成物１の調製＞
下記の液晶化合物ＬＣ１〜５（重合性基を含有しない）、下記の重合性液晶化合物１、及び、重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９を）を下記組成にて混合し、液晶組成物１を調製した。
・ＬＣ１                                          １５．６質量部
・ＬＣ２                                          ２５．０質量部
・ＬＣ３                                          １８．８質量部
・ＬＣ４                                          １８．８質量部
・ＬＣ５                                          １２．５質量部
・重合性棒状液晶化合物１                            ９．１質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）  ０．３質量部
【００９７】
【化６】
2018180219.tif 000008
【００９８】
【化７】
2018180219.tif 000009
【００９９】
＜液晶組成物２の調製＞
市販の駆動用液晶ＭＬＣ−６６０８（重合性基を含有しない液晶化合物）、市販の二色性色素Ｇ―２４１を下記組成にて混合し、液晶組成物２を調製した。
・ＭＬＣ−６６０８（Ｍｅｒｃｋ社製）                        ９９．９質量部
・Ｇ−２４１（日本感光色素研究所製）                          ０．１質量部
【０１００】
＜液晶セル１の作製＞
上記積層体１を２枚用意し、８μｍのビーズスペーサを挟んで、積層体１のトリプチセン配向膜同士が向き合うように設置した後、上記スペーサ、及び、２枚の積層体によって形成された空隙に、上記液晶組成物１を室温にて注入した。液晶組成物１を注入した後、室温で１分放置して、その後、ＨＯＹＡ−ＳＣＨＯＴＴ社製ＥＸＥＣＵＲＥ３０００−Ｗを用いて、３００ｍＪ／ｃｍ２のＵＶ（ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）光を照射し、液晶セル１を作製した。液晶セル１について、偏光顕微鏡を用いてクロスニコル下で観察すると暗視野となり、液晶化合物が垂直配向していることがわかった。また、液晶セル１について、ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製ＡＸＯＳＣＡＮを用いて複屈折を測定したところ、液晶セル１は面外方向（膜厚方向）の複屈折が大きく、液晶化合物が垂直配向していることが確認された。
【０１０１】
＜液晶セル２の作製＞
液晶セル１の作製において、ＵＶ光の照射を行わなかったこと以外は、液晶セル１の作製方法と同様にして、液晶セル２を作製した。液晶セル２について、偏光顕微鏡を用いてクロスニコル下で観察すると暗視野となり、液晶化合物が垂直配向していることがわかった。またＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製ＡＸＯＳＣＡＮを用いて複屈折を測定したところ、液晶セル２は面外方向（膜厚方向）の複屈折が大きく、液晶化合物が垂直配向していることが確認された。
【０１０２】
＜液晶セル３の作製＞
液晶セル１の作製において、積層体１に代えてガラス基板を用いたこと以外は、液晶セル１の作製方法と同様にして、液晶セル３を作製した。液晶セル３について偏光顕微鏡を用いてクロスニコル下で観察すると液晶化合物のランダム配向によるテクスチャーが観測され、液晶化合物が垂直配向していないことがわかった。
【０１０３】
＜液晶セル４の作製＞
上記積層体２を２枚用意し、８μｍのビーズスペーサを挟んで、積層体１のトリプチセン配向膜同士が向き合うように設置した後、上記スペーサ、及び、２枚の積層体によって形成された空隙に、上記液晶組成物２を室温にて注入し、液晶セル４を作製した。液晶セル４は正面から観察したときよりも斜めから観察したときの方が色濃度が濃く、液晶とともに二色性色素が垂直配向していることがわかった。また、液晶セル４の上下の透明電極に配線処理を行い、電圧を印加することで、透過率が変化し、液晶の駆動に伴って、二色性色素が配向変化していることがわかった。
【０１０４】
＜液晶セル５の作製＞
液晶セル１の作製において、積層体１に代えて積層体３を用いたこと以外は、液晶セル１の作製方法と同様にして、液晶セル５を作製した。液晶セル５について偏光顕微鏡を用いてクロスニコル下で観察すると暗視野となり、液晶化合物が垂直配向していることがわかった。またＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製ＡＸＯＳＣＡＮを用いて複屈折を測定したところ、液晶セル５は面外方向（膜厚方向）の複屈折が大きく、液晶化合物が垂直配向していることが確認された。
【０１０５】
＜液晶セル６の作製＞
液晶セル１の作製において、積層体１に代えて積層体４を用いたこと以外は、液晶セル１の作製方法と同様にして、液晶セル６を作製した。液晶セル６について偏光顕微鏡を用いてクロスニコル下で観察すると暗視野となり、液晶化合物が垂直配向していることがわかった。またＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製ＡＸＯＳＣＡＮを用いて複屈折を測定したところ、液晶セル６は面外方向（膜厚方向）の複屈折が大きく、液晶化合物が垂直配向していることが確認された。
【０１０６】
＜耐熱性試験＞
液晶セル１、及び、液晶セル２を１００℃のホットプレート上に置き、一定時間（後述する）放置した。その後、各液晶セルを室温に戻して、配向状態の変化を観察した。液晶セル２は、１００℃のホットプレート上に１分間置くと、配向状態の乱れが生じ、垂直配向性が失われた。一方、液晶セル１は、１００℃のホットプレート上に３０分間置いたあとも配向状態の乱れが生じず、垂直配向性が保たれていることがわかった。
【符号の説明】
【０１０７】
１００、２００、３００  積層体
１０１  第一基板
１０２  第一配向膜
１０３  液晶層
２０１  第二配向膜
２０２  第二基板
３０１、３０２  透明電極層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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