(57)【要約】【課題】摩擦力の変化を大きくすることができ、触感の表現力を高めることができる、触感呈示デバイス用トップパネル、触感呈示デバイス及び触感呈示デバイス用トップパネルの製造方法を提供する。【解決手段】触感呈示デバイス１０に用いられるトップパネル１（触感呈示デバイス用トップパネル）であって、触感呈示デバイス１０の外側に位置する外側主面１ａを有し、外側主面１ａの算術平均粗さ（Ｒａ）が２ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であることを特徴としている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
触感呈示デバイスに用いられる触感呈示デバイス用トップパネルであって、
前記触感呈示デバイスの外側に位置する外側主面を有し、
前記外側主面の算術平均粗さ（Ｒａ）が２ｎｍ以上、１００ｎｍ以下である、触感呈示デバイス用トップパネル。
【請求項２】
前記外側主面の算術平均粗さ（Ｒａ）が５ｎｍ以上、２０ｎｍ以下である、請求項１に記載の触感呈示デバイス用トップパネル。
【請求項３】
ガラスからなる、請求項１または２に記載の触感呈示デバイス用トップパネル。
【請求項４】
透明である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の触感呈示デバイス用トップパネル。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の触感呈示デバイス用トップパネルと、
前記触感呈示デバイス用トップパネルに超音波を印加するアクチュエータと、
を備える、触感呈示デバイス。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の触感呈示デバイス用トップパネルの製造方法であって、
主面を有する元パネルを用意する工程と、
前記元パネルの前記主面にウェットブラスト処理を施す工程と、
を備える触感呈示デバイス用トップパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、触感呈示デバイス用トップパネル、触感呈示デバイス及び触感呈示デバイス用トップパネルの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、触覚を通じて情報を提供する触感呈示デバイスに対する注目が高まってきている。例えば、タッチパネルにより人が操作する際に、人が触れたときの触感を変えることができる触感呈示デバイスが開示されている。特許文献１には、一例として、人が触れたときの摩擦力を変化させる触感呈示デバイスが開示されている。この触感呈示デバイスは、人に触れられる部分であるトップパネルを有する。トップパネルに超音波を印加することにより、触感を変化させている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１５−１８１０６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載されているような触感呈示デバイスでは、摩擦力の変化が小さく、触感の表現の幅の広さが不十分なことがあった。
【０００５】
本発明の目的は、摩擦力の変化を大きくすることができ、触感の表現力を高めることができる、触感呈示デバイス用トップパネル、触感呈示デバイス及び触感呈示デバイス用トップパネルの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の触感呈示デバイス用トップパネルは、触感呈示デバイスに用いられる触感呈示デバイス用トップパネルであって、触感呈示デバイスの外側に位置する外側主面を有し、外側主面の算術平均粗さ（Ｒａ）が２ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であることを特徴としている。
【０００７】
本発明においては、外側主面の算術平均粗さ（Ｒａ）が５ｎｍ以上、２０ｎｍ以下であることが好ましい。
【０００８】
本発明の触感呈示デバイス用トップパネルは、ガラスからなっていてもよい。
【０００９】
本発明の触感呈示デバイス用トップパネルは、透明であってもよい。
【００１０】
本発明の触感呈示デバイスは、上記本発明の触感呈示デバイス用トップパネルと、触感呈示デバイス用トップパネルに超音波を印加するアクチュエータとを備えることを特徴としている。
【００１１】
本発明の触感呈示デバイス用トップパネルの製造方法は、上記本発明の触感呈示デバイス用トップパネルの製造方法であって、主面を有する元パネルを用意する工程と、元パネルの主面にウェットブラスト処理を施す工程とを備えることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、摩擦力の変化を大きくすることができ、触感の表現力を高めることができる、触感呈示デバイス用トップパネル、触感呈示デバイス及び触感呈示デバイス用トップパネルの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の第１の実施形態の触感呈示デバイスを示す模式的断面図である。
【図２】本発明の第１の実施形態の変形例の触感呈示デバイスを示す模式的断面図である。
【図３】（ａ）及び（ｂ）は、触感呈示デバイス用トップパネルの製造方法の一例を説明するための模式的断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、好ましい実施形態について説明する。但し、以下の実施形態は単なる例示であり、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。また、各図面において、実質的に同一の機能を有する部材は同一の符号で参照する場合がある。
【００１５】
（触感呈示デバイス）
（第１の実施形態）
図１は、本発明の第１の実施形態の触感呈示デバイスを示す模式的断面図である。図１に示すように、本実施形態の触感呈示デバイス１０は、開口部２ａを有する筐体２と、開口部２ａを封止しているトップパネル１と、トップパネル１に接触するように設けられているアクチュエータ５とを備える。トップパネル１は本発明に係る触感呈示デバイス用トップパネルである。アクチュエータ５は、トップパネル１に超音波を印加する圧電素子である。
【００１６】
触感呈示デバイス１０は、筐体２内に設けられているディスプレイ３と、ディスプレイ３上に設けられているタッチセンサ４とをさらに備える。本実施形態では、トップパネル１は透明なガラスからなり、タッチセンサ４は光を透過させるタッチパネルである。
【００１７】
トップパネル１は、触感呈示デバイス１０の外側（ユーザー側）に位置する外側主面１ａを有する。触感呈示デバイス１０は、外側主面１ａの触感が変化するデバイスである。より具体的には、外側主面１ａの摩擦力が変化する。例えば、人が指を外側主面１ａ上において滑らせたとき、その部分にアクチュエータ５によって超音波が印加されると、指は振動する外側主面１ａにより突き上げられる。それによって、指と外側主面１ａとの間の摩擦力が小さくなる。
【００１８】
触感呈示デバイス１０は、アクチュエータ５によりトップパネル１に超音波を印加する位置や振幅を制御する振動制御部（図示せず）と、ディスプレイ３に表示する画像を制御する画像制御部（図示せず）とを有する。振動制御部は、アクチュエータ５、タッチセンサ４及び画像制御部に接続されている。人がトップパネル１に触れた際、タッチセンサ４により人が触れている位置が検出される。タッチセンサ４から、人が触れている位置の位置データが振動制御部に入力される。さらに、画像制御部から、ディスプレイ３に表示される画像に係る位置データ等も振動制御部に入力される。振動制御部は、上記位置データ及びディスプレイ３に表示される画像に応じて、アクチュエータ５によりトップパネル１に超音波を印加する位置や振幅を制御する。
【００１９】
振動制御部により、超音波を印加している部分と印加していない部分とを組み合わせることによって、トップパネル１の外側主面１ａにおける各部分の摩擦力を調整することができる。超音波を印加している部分と印加していない部分とを交互に配置することにより、凹凸感を表現することもできる。あるいは、印加する超音波の振幅が大きい部分と小さい部分とを交互に配置することによっても、凹凸感を表現することができる。それによって、人が触れている部分やディスプレイ３に表示された画像に応じて、触感を変化させることができる。
【００２０】
ここで、本願発明者らは、トップパネル１の外側主面１ａを適切な範囲内の算術平均粗さ（Ｒａ）とすることにより、摩擦力の変化を効果的に大きくすることができ、触感の表現力を高めることができることを見出した。
【００２１】
より具体的には、本実施形態におけるトップパネル１の外側主面１ａの算術平均粗さ（Ｒａ）は、２ｎｍ以上、１００ｎｍ以下である。これにより、超音波を印加することによる摩擦力の変化を効果的に大きくすることができる。外側主面１ａの算術平均粗さ（Ｒａ）は、５ｎｍ以上であることが好ましい。それによって、摩擦力の変化をより一層大きくすることができる。一方で、外側主面１ａの算術平均粗さ（Ｒａ）が大きすぎると、摩擦力の変化が小さくなる傾向がある。また、外側主面１ａの算術平均粗さ（Ｒａ）が大きいほど、トップパネル１のヘイズが大きくなる傾向がある。ヘイズが大きすぎる場合には、トップパネル１を通して見る画像に滲みが生じるおそれがある。よって、外側主面１ａの算術平均粗さ（Ｒａ）は、８０ｎｍ以下、６０ｎｍ以下、４０ｎｍ以下、３０ｎｍ以下、特に２０ｎｍ以下であることが好ましい。それによって、摩擦力の変化を大きくすることができ、また画像の滲みを効果的に抑制することができる。
【００２２】
トップパネル１のヘイズは１０％以下であることが好ましく、５％以下であることがより好ましく、３％以下であることがさらに好ましい。
【００２３】
なお、本明細書における算術平均粗さ（Ｒａ）は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２０１３において規定される算術平均粗さ（Ｒａ）を示す。
【００２４】
トップパネル１の厚みは０．１ｍｍ〜２ｍｍであることが好ましく、０．３ｍｍ〜１．５ｍｍであることがより好ましい。トップパネル１の厚みが小さすぎると、機械的強度が低下しやすくなる。一方、トップパネル１の厚みが大きすぎると、アクチュエータ５による振動が外側主面１ａに伝わりにくくなり、指と外側主面１ａとの間の摩擦力が大きくなる傾向がある。
【００２５】
本実施形態では、トップパネル１は透明であるが、トップパネル１は透明ではなくともよい。例えば、トップパネル１の外側主面１ａに模様等が付されていてもよい。このような場合には、触感呈示デバイス１０はディスプレイ３を有しなくともよい。タッチセンサ４は、トップパネル１の外側主面１ａ側とは反対側の面に設けられていればよい。なお、赤外線光学イメージング方式のタッチセンサを用いることも可能である。赤外線光学イメージング方式のタッチセンサは、例えばトップパネル１の外側の筐体２上に配置されるものであり、人が触れている位置を三角測量により検出する。
【００２６】
触感呈示デバイス１０のトップパネル１はガラスからなる基板であるが、これに限定されず、例えば、樹脂やセラミックス等のガラス以外の材料からなっていてもよい。
【００２７】
図１に示すように、触感呈示デバイス１０は複数のアクチュエータ５を有する。より具体的には、触感呈示デバイス１０は、トップパネル１の一方端部付近に接触するように設けられたアクチュエータ５と、他方端部付近に接触するように設けられたアクチュエータ５とを有する。複数のアクチュエータ５は、トップパネル１と筐体２との間に設けられている。なお、アクチュエータ５の配置は上記に限定されず、トップパネル１に超音波を印加することができるように設けられていればよい。アクチュエータ５は少なくとも１つ設けられていればよい。
【００２８】
トップパネル１の少なくとも一方の主面上に反射防止膜を形成してもよい。あるいは、トップパネル１の外側主面１ａ上に、指紋の付着等の汚れを防止するための、撥水性や撥油性の防汚膜を形成してもよい。
【００２９】
反射防止膜としては、例えばトップパネル１よりも屈折率が低い低屈折率膜、または、相対的に屈折率が低い低屈折率膜と相対的に屈折率が高い高屈折率膜とが交互に積層された誘電体多層膜等が用いられる。反射防止膜は、スパッタリング法やＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ；化学気相成長）法等により形成することができる。
【００３０】
防汚膜は、主鎖中にケイ素を含む含フッ素重合体であることが好ましい。含フッ素重合体としては、例えば、−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−ユニットを主鎖として有し、かつ、フッ素を含む撥水性の官能基を側鎖として有する重合体を用いることができる。含フッ素重合体は、例えばシラノールの脱水縮合により合成することができる。
【００３１】
トップパネル１の外側主面１ａ上に反射防止膜と防汚膜の両方を形成する場合は、トップパネル１の外側主面１ａ上に反射防止膜を形成し、さらに反射防止膜上に防汚膜を形成する。
【００３２】
トップパネル１の外側主面１ａ上に反射防止膜または防汚膜が形成されている場合、反射防止膜または防汚膜（最外に位置する膜）の表面が上述の算術平均粗さ（Ｒａ）の範囲を満たすものとする。
【００３３】
図２は、第１の実施形態の変形例の触感呈示デバイスを示す模式的断面図である。図２に示すように、トップパネル２１は、本体である基板２６と、基板２６上に設けられている外層膜２７とを有する。上記の点以外においては、本変形例の触感呈示デバイス２０は、第１の実施形態の触感呈示デバイス１０と同様の構成を有する。
【００３４】
トップパネル２１の外側主面２１ａは、外層膜２７の表面を含み、外層膜２７の表面に凹凸が形成されている。外層膜２７は、例えば、無機膜である。上記無機膜の材料には、特に限定されないが、例えば、ＳｉＯ２等を用いることができる。
【００３５】
本変形例においても、第１の実施形態と同様に、摩擦力の変化を大きくすることができ、触感の表現力を高めることができる。
【００３６】
（触感呈示デバイス用トップパネルの製造方法）
図３（ａ）及び（ｂ）は、触感呈示デバイス用トップパネルの製造方法の一例を説明するための模式的断面図である。
【００３７】
図３（ａ）に示すように、主面１１ａを有する元パネル１１を用意する。次に元パネル１１の主面１１ａにウェットブラスト処理を施す。
【００３８】
ウェットブラスト処理は、アルミナ等の固体粒子により構成される砥粒と、水等の液体とを均一に撹拌してスラリーとしたものを、高速で元パネル１１に噴射することにより行う。上記噴射は、噴射ノズルを用いて行うことができる。噴射ノズルから、圧縮エアと共にスラリーを高速で噴射する。
【００３９】
ウェットブラスト処理においては、高速で噴射されたスラリーが元パネル１１に衝突した際に、スラリー内の砥粒が元パネル１１の表面を削ることにより、元パネル１１の主面１１ａに凹凸が形成されることとなる。これにより、図３（ｂ）に示すトップパネル１を得ることができる。
【００４０】
なお、噴射された砥粒や砥粒により削られた元パネル１１の破片は、噴射された液体により洗い流されるため、トップパネル１の外側主面１ａに残留する粒子が少なくなる。
【００４１】
ウェットブラスト処理を行うに際し、主にスラリーに含まれる砥粒の粒度分布と、スラリーをワークに噴射する際の噴射圧力とにより、算術平均粗さ（Ｒａ）を調整することができる。
【００４２】
ウェットブラスト処理においては、スラリーを元パネル１１に噴射した場合、液体が砥粒を元パネル１１まで運ぶため、乾式ブラスト処理に比べて微細な砥粒を使用することができる。加えて、砥粒が元パネル１１に衝突する際の衝撃が小さくなり、精密な加工を行うことができる。なお、乾式ブラスト処理を用いた場合、小さな砥粒を用いても適度な大きさの凹凸を形成することが困難である。このように、元パネル１１に対してウェットブラスト処理を施すことにより、適度な大きさの凹凸を形成し易く、ヘイズの上昇を抑制することができる。
【００４３】
なお、乾式ブラスト処理においては、噴射された砥粒が元パネル１１に衝突した際の摩擦により、元パネル１１に加工熱が発生する。これに対して、ウェットブラスト処理においては、処理中は液体が元パネル１１の表面を常に冷却しているため、加工熱による温度上昇を抑制することができる。また、乾式ブラスト処理では砥粒が元パネル１１の主面１１ａに衝突する際の衝撃が大きい傾向がある。そのため、トップパネル１の外側主面１ａの算術平均粗さ（Ｒａ）が大きくなり易く、トップパネル１のヘイズが大きくなり易い。
【００４４】
また、トップパネル１を得る方法としては、元パネル１１の主面１１ａをエッチングする方法がある。なお、第１の実施形態のトップパネル１はガラスからなり、上記元パネル１１もガラスからなる。この場合、エッチングには、例えば、フッ化水素（ＨＦ）ガスまたはフッ化水素酸を用いることができる。しかしながら、エッチングにより得られる凹凸は過度に小さくなり易い。
【００４５】
なお、エッチングは、元パネル１１にウェットブラスト処理や乾式ブラスト処理を施した後に行うことが好ましい。この場合には、トップパネル１の外側主面１ａの算術平均粗さ（Ｒａ）を好適に調整することができる。
【００４６】
一方、図２に示した外層膜２７を有するトップパネル２１を得る場合には、元パネルの主面上に、例えば、シリカ前駆体を含むコーティング剤をスプレーコート法により塗布する。これにより、主面上に塗膜を形成する。次に、塗膜を加熱する。加熱温度は、８０℃〜２５０℃の範囲内であることが好ましく、１００℃〜２３０℃の範囲内であることがより好ましい。これにより、外層膜２７を形成する。
【００４７】
＜実施例１〜５並びに比較例１及び２＞
以下において実施例１〜５と比較例１及び２とを比較することにより、本発明の効果をより詳細に説明する。
【００４８】
（実施例１）
厚さ１．１ｍｍのアルミノシリケートガラスからなる元パネルの主面にウェットブラスト処理を施すことにより、トップパネルを作製した。なお、ウェットブラスト処理には、粒度が＃４０００のアルミナにて構成される砥粒と水とを均一に撹拌することにより調整したスラリーを使用し、元パネルを載置した処理台を一定速度で移動させながら、当該スラリーを所定の噴出圧力で吹き付けた。スラリーの噴出圧力は、トップパネルの外側主面の算術平均粗さ（Ｒａ）が２ｎｍ以上、８ｎｍ未満となる条件とした。
【００４９】
（実施例２）
スラリーの噴出圧力を、トップパネルの外側主面の算術平均粗さ（Ｒａ）が８ｎｍ以上、１０ｎｍ未満となる条件とした以外においては、実施例１と同様にしてトップパネルを作製した。
【００５０】
（実施例３）
スラリーの噴出圧力を、トップパネルの外側主面の算術平均粗さ（Ｒａ）が１０ｎｍ以上、１５ｎｍ未満となる条件とした以外においては、実施例１と同様にしてトップパネルを作製した。
【００５１】
（実施例４）
スラリーの噴出圧力を、トップパネルの外側主面の算術平均粗さ（Ｒａ）が１５ｎｍ以上、２０ｎｍ未満となる条件とした以外においては、実施例１と同様にしてトップパネルを作製した。
【００５２】
（実施例５）
マトリックス前駆体として、オルトケイ酸テトラエチルからなるシリカ前駆体を準備し、液状媒体として、硝酸水溶液、エタノール、イソプロパノール及びメチルエチルケトンからなる混合物を準備した。マトリックス前駆体と液状媒体を均一になるまで撹拌することにより、コーティング剤を得た。
【００５３】
次に、実施例１と同様の元パネルの主面上に、コーティング剤を、所定の吐出量及びノズル移動速度でスプレーコート法により塗布し、塗膜を形成した。次に、塗膜を１５０℃において３０分間加熱した。これにより、ＳｉＯ２からなる外層膜を形成した。
【００５４】
（比較例１）
実施例１と同様の元パネルを用意し、そのままトップパネルとした。
【００５５】
（比較例２）
コーティング剤の吐出量及びノズル移動速度を変更したこと以外は、実施例５と同様にしてトップパネルを作製した。
【００５６】
（算術平均粗さ（Ｒａ）の測定）
（実施例１〜４及び比較例１）
トップパネルの外側主面の算術平均粗さ（Ｒａ）を、原子間力顕微鏡（Ｂｒｕｋｅｒ社製、ＳＰＭユニット「Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ  Ｉｃｏｎ」、コントローラユニット「Ｎａｎｏ  Ｓｃｏｐｅ  Ｖ」）を用いて測定した。算術平均粗さ（Ｒａ）の測定はＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２０１３に基づいて行った。測定条件としては、タッピングモードを使用し、測定エリアを１０μｍ×１０μｍとし、スキャンレートを１ＭＨｚとし、取得データ数を５１２×５１２とした。
【００５７】
（実施例５及び比較例２）
実施例５及び比較例２は、実施例１〜４及び比較例１と比べて算術平均粗さ（Ｒａ）が大きいため、以下の方法を用いて算術平均粗さ（Ｒａ）を測定した。
【００５８】
トップパネルの外側主面の算術平均粗さ（Ｒａ）を、レーザー顕微鏡（キーエンス社製、型番「ＶＫ−Ｘ２５０」）を用いて測定した。算術平均粗さ（Ｒａ）の測定はＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２０１３に基づいて行った。測定条件としては、測定エリアを約３２μｍ×２４μｍとし、取得データ数を１０２４×７６８とし、算術平均粗さ（Ｒａ）を算出するための基準長さを測定エリアにおける長辺の長さの１／５とした。
【００５９】
（ヘイズの測定）
（実施例１〜５並びに比較例１及び２）
トップパネルのヘイズを、ヘイズメータ（Ｓｕｇａ  Ｔｅｓｔ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製、型番「ＨＺ−２」）を用いて測定した。ヘイズの測定はＪＩＳ  Ｋ７１３６に基づいて行った。
【００６０】
（滑り易さの官能性評価）
（実施例１〜５並びに比較例１及び２）
１５ｃｍ×５ｃｍのガラス基板上に、３ｃｍ×５ｃｍのトップパネルを配置した。なお、ガラス基板は、トップパネルと同じ組成のガラスからなる。次に、トップパネルの外側主面において指を滑らせることにより、滑り易さの官能性評価を行った。
【００６１】
次に、アクチュエータによりガラス基板に超音波を印加した。これにより、ガラス基板介してトップパネルに超音波を印加し、トップパネルを超音波帯の固有振動数において振動させた。この状態において、外側主面において指を滑らせることにより、滑り易さの官能性評価を行った。
【００６２】
滑り易さの官能性評価は、１〜９の９段階の評価値を用いて行い、摩擦力が小さく滑り易いほど評価値が大きいものとした。超音波印加の有無の滑り易さの差を、超音波印加時の滑り易さの評価値から超音波無印加時の滑り易さの評価値から差し引くことにより算出した。
【００６３】
（画像の滲みの評価）
（実施例１〜５並びに比較例１及び２）
ディスプレイにおける画像を表示する面側にトップパネルを配置した。次に、ディスプレイに表示された画像をトップパネルを通して見た状態において、画像の滲みの評価を行った。画像の滲みの評価は３段階の評価とした。◎：鮮明な画像が見え、画像に滲みが見られない。○：画像を十分に視認できるが、僅かに画像の滲みが見られる。×：画像が不鮮明であり、かつ画像の滲みが目立つ。
【００６４】
（評価の結果）
上記各評価の結果を下記の表１に示す。
【００６５】
【表１】
2018180621.tif 000003
【００６６】
表１に示すように、実施例１〜５のトップパネルの外側主面の算術平均粗さ（Ｒａ）は、２ｎｍ以上、１００ｎｍ以下である。これに対して、比較例１における算術平均粗さ（Ｒａ）は２ｎｍ未満であり、比較例２における算術平均粗さ（Ｒａ）は１００ｎｍより大きい。ここで、比較例１及び比較例２における超音波印加の有無の滑り易さの差は評価値４以下と小さいが、実施例１〜５における超音波印加の有無の滑り易さの差は評価値５以上と大きい。従って、本発明の実施例１〜５においては、摩擦力の変化を大きくすることができ、触感の表現力を高められることがわかる。
【００６７】
実施例５及び比較例２のように、算術平均粗さ（Ｒａ）が比較的大きい場合（例えば２０ｎｍ超）、算術平均粗さ（Ｒａ）が大きくなるほど、超音波無印加時の滑り易さの度合いが大きくなっているが、超音波印加時の滑り易さの度合いは小さくなっている。よって、算術平均粗さ（Ｒａ）が比較的大きい場合、算術平均粗さ（Ｒａ）が大きくなるほど、超音波印加の有無の滑り易さの差が小さくなる傾向があることがわかる。
【００６８】
一方で、算術平均粗さ（Ｒａ）が比較的小さい場合（例えば２０ｎｍ以下）、算術平均粗さ（Ｒａ）の変化により超音波無印加時の滑り易さはほぼ変化していないが、超音波印加時の滑り易さの度合いは、算術平均粗さ（Ｒａ）が大きくなるほど大きくなる傾向がある。よって、算術平均粗さ（Ｒａ）が比較的小さい場合、算術平均粗さ（Ｒａ）が大きくなるほど、超音波印加の有無の滑り易さの差が大きくなる傾向があることがわかる。
【００６９】
表１に示すように、算術平均粗さ（Ｒａ）が小さいほど、ヘイズが小さくなっており、かつ画像の滲みが抑制されていることがわかる。算術平均粗さ（Ｒａ）が５０ｎｍ以下である場合には、画像の滲みの評価は○以上となっている。算術平均粗さ（Ｒａ）が２０ｎｍ以下である場合には、画像の滲みの評価は◎となっている。従って、算術平均粗さ（Ｒａ）は５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以下であることがより好ましい。
【符号の説明】
【００７０】
１…トップパネル
１ａ…外側主面
２…筐体
２ａ…開口部
３…ディスプレイ
４…タッチセンサ
５…アクチュエータ
１０…触感呈示デバイス
１１…元パネル
１１ａ…主面
２０…触感呈示デバイス
２１…トップパネル
２１ａ…外側主面
２６…基板
２７…外層膜
【図１】
2018180621.tif 000004
【図２】
2018180621.tif 000005
【図３】
2018180621.tif 000006