(57)【要約】【課題】本発明は、非発光部分が目立ち難く、より明るく、輝度分布をより均一にできる面発光装置および面発光装置の製造方法を提供する。【解決手段】本発明の面発光装置Ｄａは、第１および第２電極層２、６の間に、互いに発光面が直接的にまたは間接的に重なるように配置された第１および第２面発光層３、５を備えた装置であって、第１および第２面発光層３、５のうちのいずれか一方の面発光層は、第１面発光層３の第１輝度分布と第２面発光層５の第２輝度分布との和が均一となるように、当該一方の面発光層における輝度分布を調整する複数の非発光領域ＡＲ１ａ、ＡＲ２ａを備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１および第２電極層の間に、互いに発光面が直接的にまたは間接的に重なるように配置された第１および第２面発光層を備えた面発光装置であって、
前記第１および第２面発光層のうちのいずれか一方の面発光層は、前記第１面発光層の第１輝度分布と前記第２面発光層の第２輝度分布との和が均一となるように、当該一方の面発光層における輝度分布を調整する複数の非発光領域を備える、
面発光装置。
【請求項２】
前記複数の非発光領域には、それぞれ、前記一方の面発光層に接する電極層との間に、前記一方の面発光層の発光を阻止する発光阻止層がさらに配置されている、
請求項１に記載の面発光装置。
【請求項３】
前記第１および第２電極層のうち、前記一方の面発光層に接する電極層は、前記複数の非発光領域を除く領域に形成されている、
請求項１に記載の面発光装置。
【請求項４】
前記第１および第２面発光層の間に、第３電極層をさらに備える、
請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の面発光装置。
【請求項５】
前記第３電極層は、１層であって、前記第１および第２面発光層に対し同極で共用されている、
請求項４に記載の面発光装置。
【請求項６】
前記第１面発光層に対する第１給電点は、面広がり方向の一方端に位置し、
前記第２面発光層に対する第２給電点は、前記面広がり方向の他方端に位置している、
請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の面発光装置。
【請求項７】
前記第１および第２電極層のうちの一方は、前記第１および第２面発光層で発光される各光の波長帯の光を反射する反射電極層であり、
前記一方の面発光層は、他方の面発光層を介して前記反射電極層に対向するように配置されている、
請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載の面発光装置。
【請求項８】
請求項１、請求項４、請求項５、請求項６および請求項７のいずれか１項に記載の面発光装置を製造する面発光装置の製造方法であって、
前記一方の面発光層に電磁波を照射することによって前記複数の非発光領域を形成する非発光領域形成工程を含む、
面発光装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、面発光する面発光装置および前記面発光装置を製造する面発光装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機ＥＬ（ＥｌｅｃｔｒｏＬｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）等に代表される面発光装置が新しい灯りの形として注目されている。有機ＥＬは、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ、Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ）とも呼ばれ、平面基板上に面状の有機発光層を挟持した一対の平面電極層を配置する構成を取ることが多い。有機ＥＬでは、平面電極層の少なくとも一方を、発光した光の波長に対して透明とすることで、有機発光層で発光した光は、透明電極層を経由して外部に放出される。これによって平面形状の発光体が実現される。また、一対の平面電極層の両方を透明とすることで、透明な面発光光源が実現される。透明電極層には、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、ＺｎＯ（Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）等の化合物が用いられることもあるが、銀、金、銅、アルミニウム等の金属を薄膜成膜して用いることもある。その一方、有機ＥＬを大面積化する際には、輝度ムラが課題として発生する。より詳しくは、有機発光層へかかる電圧は、その給電点から離れるにしたがって、電極層内での電圧降下の影響で低くなる。透明電極層は、通常の金属電極に比し高抵抗であるため、より電圧降下が大きくなり、有機発光層へかかる電圧の変動割合が顕著となって、輝度ムラが生じ易くなる。
【０００３】
そこで、この課題を解決する１つの技術が、例えば、特許文献１に提案されている。この特許文献１に開示された有機電界発光素子は、陽極と陰極との間に発光層を有してなり、発光面内の少なくとも一部に輝度を変化させた輝度変化パターンからなる面積階調を有し、電磁波を照射して発光面内の輝度ムラを補正してなる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１２−１３４０６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、前記特許文献１に開示された有機電界発光素子は、１層の発光層で構成され、この１層の発光層における発光面内で輝度変化パターンを形成し、発光面内の輝度ムラを補正している。このため、輝度変化パターンにおける非発光部分のサイズによっては、前記非発光部分が目立ってしまい、面発光装置として好ましくない。また、前記特許文献１では、輝度の高い部分に非発光部分が形成され、輝度の低い部分におけるその輝度に合わせることで、輝度ムラが補正されている。このため、照明光が暗くなってしまい、面発光装置として好ましくない。
【０００６】
本発明は、上述の事情に鑑みて為された発明であり、その目的は、非発光部分が目立ち難く、より明るくでき、輝度分布をより均一にできる面発光装置および面発光装置の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、種々検討した結果、上記目的は、以下の本発明により達成されることを見出した。すなわち、本発明の一態様にかかる面発光装置は、第１および第２電極層の間に、互いに発光面が直接的にまたは間接的に重なるように配置された第１および第２面発光層を備えた面発光装置であって、前記第１および第２面発光層のうちのいずれか一方の面発光層は、前記第１面発光層の第１輝度分布と前記第２面発光層の第２輝度分布との和が均一となるように、当該一方の面発光層における輝度分布を調整する複数の非発光領域を備える。好ましくは、上述の面発光装置において、前記複数の非発光領域は、発光面を正面視した場合に格子模様を呈し、前記複数の非発光領域は、それぞれ、前記第１面発光層の第１輝度分布と前記第２面発光層の第２輝度分布との和が均一となる密度で配置されている。好ましくは、上述の面発光装置において、前記複数の非発光領域は、発光面を正面視した場合にドット模様（水玉模様）を呈し、前記複数の非発光領域は、それぞれ、前記第１面発光層の第１輝度分布と前記第２面発光層の第２輝度分布との和が均一となる密度で配置されている。好ましくは、上述の面発光装置において、他方の面発光層は、複数のサブ面発光層を備えて成る。
【０００８】
このような面発光装置は、複数の非発光領域を備え、他方の面発光層の輝度分布を、前記複数の非発光領域で輝度分布を調整した前記一方の面発光層の輝度分布で補正する。このため、前記一方の面発光層における非発光領域は、他方の面発光層で発光した光でカバーされるため、上記面発光装置では、非発光領域が目立ち難くなる。また、このため、他方の面発光層の輝度分布における暗い部分を、前記一方の面発光層で発光した光で補正するので、上記面発光装置は、より明るくでき、輝度分布をより均一にできる。したがって、上記面発光装置は、非発光部分が目立ち難く、より明るくでき、輝度分布をより均一にできる。
【０００９】
他の一態様では、上述の面発光装置において、前記複数の非発光領域には、それぞれ、前記一方の面発光層に接する電極層との間に、前記一方の面発光層の発光を阻止する発光阻止層がさらに配置されている。好ましくは、上述の面発光装置において、前記発光阻止層は、正孔（ホール）の移動を阻止する正孔ブロック層である。好ましくは、上述の面発光装置において、前記発光阻止層は、電子の移動を阻止する電子ブロック層である。好ましくは、上述の面発光装置において、前記発光阻止層は、前記一方の面発光層における発光を開始する発光開始電圧に満たない電圧（発光開始電圧未満の電圧）が前記非発光領域で前記一方の面発光層に印加されるように、電圧降下を生じさせる抵抗値で形成されている抵抗層である。好ましくは、上述の面発光装置において、前記発光阻止層は、電気的に絶縁する絶縁層である。
【００１０】
このような面発光装置は、発光阻止層を設けることで、比較的容易に前記非発光領域を形成できる。前記発光阻止層が前記正孔ブロック層である場合、発光に必要な正孔の移動が妨げられるので、前記一方の面発光層において、前記正孔ブロック層を形成した領域は、非発光領域となる。前記発光阻止層が前記電子ブロック層である場合、発光に必要な電子の移動が妨げられるので、前記一方の面発光層において、前記電子ブロック層を形成した領域は、非発光領域となる。前記発光阻止層が前記抵抗層である場合、前記一方の面発光層において、前記抵抗層を形成した領域では、発光に必要な電圧値に到達せず、当該領域は、非発光領域となる。前記発光阻止層が前記絶縁層である場合、前記一方の面発光層において、前記絶縁層を形成した領域では、発光に必要な電流が流れず、当該領域は、非発光領域となる。
【００１１】
他の一態様では、上述の面発光装置において、前記第１および第２電極層のうち、前記一方の面発光層に接する電極層は、前記複数の非発光領域を除く領域に形成されている。好ましくは、上述の面発光装置において、前記一方の面発光層に接する電極層は、前記第１および第２面発光層で発光される各光の波長帯に対し透明である透明電極である。
【００１２】
このような面発光装置では、前記一方の面発光層に接する電極層は、前記複数の非発光領域を除く領域に形成されている。すなわち、上記面発光装置では、前記複数の非発光領域には、電極層が形成されていない。したがって、上記面発光装置は、前記複数の非発光領域を除く領域に電極層を形成することで、比較的容易に前記非発光領域を形成できる。
【００１３】
他の一態様では、これら上述の面発光装置において、前記第１および第２面発光層の間に、第３電極層をさらに備える。好ましくは、上述の面発光装置において、前記第３電極層は、２層の第３Ａおよび第３Ｂ電極層から成る。好ましくは、上述の面発光装置において、前記第３電極層は、１層である。
【００１４】
このような面発光装置は、第３電極層をさらに備えるので、第１面発光層と第２面発光層とを個別に駆動できる。
【００１５】
他の一態様では、上述の面発光装置において、前記第３電極層は、１層であって、前記第１および第２面発光層に対し同極で共用されている。好ましくは、上述の面発光装置において、前記第３電極層は、陽極で共用される。好ましくは、上述の面発光装置において、前記第３電極層は、陰極で共用される。
【００１６】
前記第３電極層が前記第１および第２面発光層に対し異極で共用されている場合、第１面発光層の点消灯制御（オン／オフ制御）と第２面発光層の点消灯制御（オン／オフ制御）とを時分割で実施しなければならず、その制御や回路が複雑となる。上記面発光装置は、前記第３電極層が前記第１および第２面発光層に対し同極で共用されているので、前記異極で共用される場合に必要となる前記複雑な制御や回路が不要となり、第１および第２面発光層それぞれに所望の電圧を印加するだけでこれら第１および第２面発光層を駆動できる。
【００１７】
他の一態様では、これら上述の面発光装置において、前記第１面発光層に対する第１給電点は、面広がり方向の一方端に位置し、前記第２面発光層に対する第２給電点は、前記面広がり方向の他方端に位置している。
【００１８】
電極層は、通常、電力の供給を受ける給電点から離れるに従ってその抵抗値によって電圧降下を生じ、これによって面発光層は、その給電点から離れるに従って光量が徐々に低減する。上記面発光装置は、第１給電点と第２給電点とが略反対に（互いに対向するように）位置するため、非発光領域を備えない状態において、第１面発光層の輝度分布と第２面発光層の輝度分布とが互いに補完し合う。このため、上記面発光装置は、前記互いに補完し合う分だけ、前記一方の面発光層における輝度分布を調整するための非発光領域をより少なくでき、より明るくなる。
【００１９】
他の一態様では、これら上述の面発光装置において、前記第１および第２電極層のうちの一方は、前記第１および第２面発光層で発光される各光の波長帯の光を反射する反射電極層であり、前記一方の面発光層は、他方の面発光層を介して前記反射電極層に対向するように配置されている。
【００２０】
反射電極層は、一般に、いわゆるプラズモン吸収を有する。このため、非発光領域を備えた前記一方の面発光層が前記反射電極層の近傍に配置されると、前記一方の面発光層は、より暗くなってしまい、前記一方の面発光層と前記他方の面発光層との輝度差がより大きくなり、その結果、前記第１面発光層の輝度分布と前記第２面発光層の輝度分布との和が均一となるように調整することが難しくなってしまう。これは、前記輝度差を補償するために、前記一方の面発光層により大きな電流値の電流を通電することで解決可能である。しかしながら、この方法では、前記一方の面発光層が前記他方の面発光層より早く劣化してしまい、面発光装置は、より短い時間で不均一な輝度分布になってしまう。上記面発光装置は、前記一方の面発光層が他方の面発光層を介して前記反射電極層に対向するように配置されているので、プラズモン吸収が前記他方の面発光層に対して生じ、上述の各問題を解決できる。
【００２１】
本発明の他の一態様にかかる面発光装置の製造方法は、これら上述のいずれかの面発光装置を製造する面発光装置の製造方法であって、前記一方の面発光層に電磁波を照射することによって前記複数の非発光領域を形成する非発光領域形成工程を含む。好ましくは、他の一態様では、第１および第２電極層の間に、互いに発光面が重なるように配置された第１および第２面発光層を備えた面発光装置の製造方法であって、前記第１面発光層の第１輝度分布と前記第２面発光層の第２輝度分布との和が均一となるように、前記第１および第２面発光層のうちのいずれか一方の面発光層における輝度分布を調整する複数の非発光領域、を形成する非発光領域形成工程を備える。好ましくは、他の一態様では、第１および第２電極層の間に、互いに発光面が重なるように配置された第１および第２面発光層を備えた面発光装置の製造方法であって、基板に前記第１電極層を形成する第１電極層形成工程と、前記第１電極層に積層するように前記第１面発光層を形成する第１面発光層形成工程と、前記第１面発光層に積層するように中間層（第３電極層）を形成する中間層（第３電極層）形成工程と、前記中間層（第３電極層）に積層するように、前記第２面発光層を形成する第２面発光層形成工程と、前記第２面発光層に積層するように、前記第２電極層を形成する第２電極層形成工程と、前記第１面発光層の第１輝度分布と前記第２面発光層の第２輝度分布との和が均一となるように、前記第１および第２面発光層のうちのいずれか一方の面発光層における輝度分布を調整する複数の非発光領域、を形成する非発光領域形成工程を備える。好ましくは、これら上述の面発光装置の製造方法において、前記第１電極層、前記第１面発光層、前記中間層（第３電極層）、前記第２面発光層および前記第２電極層を、前記基板とで封止する封止層を形成する封止層形成工程をさらに備える。
【００２２】
このような面発光装置の製造方法は、電磁波の照射によって比較的容易に前記非発光領域を形成でき、輝度分布をより均一にした面発光装置を製造できる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明にかかる面発光装置および面発光装置の製造方法は、非発光部分が目立ち難く、より明るく、輝度分布をより均一にできる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】第１実施形態における面発光装置の構成を示す図である。
【図２】第１実施形態において、第１面発光層、第２面発光層および面発光装置の各輝度分布を示す図である。
【図３】実施形態（第１実施形態）における面発光装置の製造方法を説明するための図である。
【図４】第２実施形態における面発光装置の構成を示す図である。
【図５】第２実施形態における面発光装置の製造方法を説明するための図である。
【図６】第３実施形態における面発光装置の構成を示す図である。
【図７】第４実施形態における面発光装置の構成を示す図である。
【図８】第４実施形態において、第１面発光層、第２面発光層および面発光装置の各輝度分布を示す図である。
【図９】第４実施形態の面発光装置における作用効果を説明するために用いる、面発光装置の構成を示す図である。
【図１０】図９に示す面発光装置において、第１面発光層、第２面発光層および面発光装置の各輝度分布を示す図である。
【図１１】第５実施形態における面発光装置の構成を示す図である。
【図１２】第６実施形態における面発光装置の構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明にかかる実施の一形態を図面に基づいて説明する。なお、各図において同一の符号を付した構成は、同一の構成であることを示し、適宜、その説明を省略する。本明細書において、総称する場合には添え字を省略した参照符号で示し、個別の構成を指す場合には添え字を付した参照符号で示す。
【００２６】
図１は、実施形態（第１実施形態）における面発光装置の構成を示す図である。図１Ａは、面発光装置の断面図であり、図１Ｂは、図１Ａに示す面発光装置における第１面発光層の正面図であり、図１Ｃは、図１Ａに示す面発光装置における第２面発光層の正面図である。図１Ｂおよび図１Ｃでは、グラデーションによって輝度分布が示されている。図２は、第１実施形態において、第１面発光層、第２面発光層および面発光装置の各輝度分布を示す図である。図２Ａは、第１面発光層および第２面発光層の各輝度分布を示し、図２Ｂは、面発光装置の各輝度分布を示す。図２Ａの実線は、第２面発光層の第２輝度分布ＬＤ２であり、図２Ａの破線は、複数の非発光領域を備える第１面発光層の第１輝度分布ＬＤ１である。図２Ａおよび図２Ｂの各横軸は、発光領域幅（発光エリア幅）の方向の各位置を示し、それらの各縦軸は、ｃｄ／ｍ２単位の輝度を示す。図３は、実施形態（第１実施形態）における面発光装置の製造方法を説明するための図である。図３Ａないし図３Ｈの各図は、各製造工程を説明するための図である。
【００２７】
実施形態における面発光装置Ｄは、例えば図１に示すように、第１および第２電極層２、６の間に、互いに発光面が直接的にまたは間接的に重なるように配置された第１および第２面発光層３、５を備えた装置であって、第１および第２面発光層３、５のうちのいずれか一方の面発光層３（または５）は、第１面発光層３の第１輝度分布と第２面発光層５の第２輝度分布との和が均一となるように、当該一方の面発光層３（または５）における輝度分布を調整する複数の非発光領域ＡＲ１、ＡＲ２を備える。このような面発光装置Ｄは、第１面発光層３の第１輝度分布と第２面発光層５の第２輝度分布との和が均一となるように、第１および第２面発光層３、５のうちのいずれか一方の面発光層３（または５）における輝度分布を調整する複数の非発光領域ＡＲ１、ＡＲ２、を形成する非発光領域形成工程（輝度分布調整用非発光領域形成工程）を備える面発光装置の製造方法で製造される。このような面発光装置の一例について、第１ないし第５実施形態によって、以下で、より具体的に説明する。
【００２８】
（第１実施形態）
第１実施形態における面発光装置Ｄは、前記複数の非発光領域ＡＲ１、ＡＲ２の一例として、前記一方の面発光層３（または５、図１に示す例では第１面発光層３）に所定波長の電磁波を照射することによって形成された複数の非発光領域ＡＲ１ａ、ＡＲ２ａを備えた面発光装置Ｄａである。
【００２９】
より具体的には、図１において、第１実施形態における面発光装置Ｄａは、第１基板１と、第１電極層２と、第１面発光層３と、中間層４と、第２面発光層５と、第２電極層６と、第２基板７（図３Ｈ参照）とを備える。なお、図１には、第２基板７の図示が省略されている。これら第１基板１、第１電極層２、第１面発光層３、中間層４、第２面発光層５、第２電極層６および第２基板７は、この順で厚さ方向に積層されている。このため、第１電極層２、第１面発光層３、第２面発光層５および第２電極層６は、面広がり方向を互いに揃えて（好ましくは互いに略平行に）配置されており、第１および第２面発光層３、５は、第１および第２電極層２、６の間で、互いに発光面が直接的にまたは間接的に重なるように配置されている。「互いの発光面が直接的にまたは間接的に重なる」とは、「面方向において、第１面発光層３の領域を面方向に投影した場合に得られる投影領域に第２面発光層５が重なるように配置されている状態であり、第１および第２発光層３、５同士の間に発光層以外の他の層が介在せずに第１および第２発光層３、５同士が直接的に重なって良く、または、第１および第２発光層３、５同士の間に発光層以外の他の層が介在して第１および第２発光層３、５同士が間接的に重なって良い。図１に示す例では、第１および第２発光層３、５は、中間層４を介して間接的に重なっている。なお、図１に示す例では、第１および第２面発光層３、５は、正面視にて同形状の同面積であって完全一致で互いの発光面が重なっているが、一方が他方より広面積で当該面発光装置Ｄａの輝度分布を均一にしたい所望の領域のみで互いの発光面が重なっても良い。
【００３０】
第１および第２基板１、７は、それぞれ、平面状の部材であり、プラスチックフィルム、プラスチック板、ガラス板等の透明基板を用いることができる。透明とは、第１および第２面発光層３、５で発光される各光の波長帯の光を透過させることができることであり、その透過率が高いほど好ましい。なお、面発光装置Ｄａの発光面に臨む基板１、７が少なくとも透明であれば良い。すなわち、面発光装置Ｄａが、両面に発光面を有するいわゆる両面発光の装置である場合、第１および第２基板１、７は、透明基板であり、面発光装置Ｄａが、両面のうちの一方面のみに発光面を有するいわゆる片面発光の装置である場合、例えば発光面に臨む第１基板１が少なくとも透明基板であり、第２基板７は、透明基板でも不透明基板でもいずれでも良い。
【００３１】
プラスチックフィルムおよびプラスチック板の原料は、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、ＥＶＡ（エチレン酢酸ビニル）等のポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリサルホン（ＰＳＦ）、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等である。
【００３２】
図１および図３Ｈでは、互いに積層された第１電極層２、第１面発光層３、中間層４、第２面発光層５および第２電極層６から成る積層体の周面は、開放されているように図示されているが、第１および第２基板１、７は、前記積層体を内包するように、前記積層体の取り囲む環状の各領域で、例えば接着剤や融着等によって張り合わされる。これによって前記積層体は、第１および第２基板１、７によって封止される。
【００３３】
第１および第２基板１、７それぞれの上に、大気中の酸素、水分を遮断する目的でガスバリア層をさらに設けることが好ましい。ガスバリア層の形成材料は、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、酸化窒化シリコン、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム等の金属酸化物、金属窒化物である。これら材料は、水蒸気バリア機能のほかに酸素バリア機能も有する。特にバリア性、耐溶剤性および透明性が良好な窒化シリコン、酸化窒化シリコンが好ましい。バリア層は、必要に応じて多層構成とすることも可能である。ガスバリア層の形成方法は、材料に応じて、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法を用いることができる。
【００３４】
第１および第２面発光層３、５は、それぞれ、面発光する層であり、例えば、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ、ＯＬＥＤ）から構成される有機発光層を備える。第１および第２面発光層３、５は、それぞれ、有機発光層の単層構造（（プラス極）／有機発光層／（マイナス極））に限らず、例えば、（プラス極）／ホール輸送層／有機発光層／電子輸送層／（マイナス極）、（プラス極）／ホール注入層／ホール輸送層／有機発光層／電子輸送層／（マイナス極）、（プラス極）／ホール注入層／有機発光層／電子輸送層／電子注入層／（マイナス極）、（プラス極）／ホール注入層／有機発光層／電子注入層／（マイナス極）、等の各種の構成で良く、適宜に変更し得る。なお、上述において、図１に示す例では、前記プラス極（陽極）は、第１電極層２に相当し、前記マイナス極（陰極）は、第２電極層６に相当する。前記プラス極が第２電極層６に相当し、前記マイナス極が第１電極層２に相当しても良い。
【００３５】
このような第１および第２面発光層３、５の輝度分布、特に、これらのうちのいずれか一方の輝度分布の調整については、後述する。
【００３６】
第１および第２電極層２、６は、それぞれ、第１および第２面発光層３、５それぞれに給電するための部材であり、いずれか一方がプラス極（陽極）とされ、他方がマイナス極（陰極）とされる。この実施形態では、上述したように、第１電極層２がプラス極とされ、第２電極層６がマイナス極とされている。第１および第２電極層２、６は、面発光装置Ｄａが両面発光の装置である場合には、それぞれ、透明電極であり、また面発光装置Ｄａが片面発光の装置である場合には、一方が透明電極であり、他方が、片面からの光取出し効率を向上させる観点から、反射電極である。反射とは、第１および第２面発光層３、５で発光される各光の波長帯の光を反射させることができることであり、その反射率が高いほど好ましい。この実施形態では、第１電極層２が透明電極とされ、第２電極層６が反射電極とされている。
【００３７】
透明電極は、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）等の金属酸化物や、例えば５０ｎｍ未満の薄膜金属等である。前記薄膜金属は、例えば、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）等の金属が挙げられる。前記薄膜金属の膜厚は、好ましくは３０ｎｍ以下、より好ましくは２０ｎｍ以下、さらにより好ましくは１５ｎｍ以下とされる。反射電極は、例えば５０ｎｍ以上の金属膜等である。前記金属膜は、例えば、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）等の金属が挙げられる。
【００３８】
中間層４は、第１面発光層３と第２面発光層５との間に介在する透明な層であり、例えば、第１および第２面発光層３、５の各発光量を揃えるための電荷発生層（無機層）である。このような電荷発生層は、ヘキサアザトリフェニレンカルボニトリル（ＨＡＴ−ＣＮ）等の材料で形成される。また例えば、中間層４は、光の干渉効果によって輝度や配光を調整するためのバッファ層（有機層）であっても良い。このようなバッファ層は、電子輸送層や正孔輸送層に使われる、例えば、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン及びアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体や、例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体等の材料で形成される。また例えば、中間層４は、後述の実施形態で説明するように、第３電極層８、８−１、８−２であっても良い。また、中間層４は、省略されても良い。
【００３９】
そして、このような第１実施形態における面発光装置Ｄａでは、第１および第２電極層２、６それぞれに外部の直流電源ＥＳが接続される。例えば、直流電源ＥＳは、図１Ａに示すように、第１および第２電極層２、６それぞれの一方端面（一方側面）に接続されている。このため、図１Ａに示す例では、第１面発光層３に対する第１給電点は、面広がり方向の一方端に位置し、第２面発光層５に対する第２給電点は、前記面広がり方向の一方端に位置している。この外部の直流電源ＥＳから電力が供給されることによって、第１および第２面発光層３、５は、発光する。
【００４０】
ここで、第１および第２面発光層３、５の輝度分布について説明する。
【００４１】
電極層は、通常、電力の供給を受ける給電点から離れるに従ってその抵抗値によって電圧降下を生じ、これによって面発光層は、その給電点から離れるに従って光量が徐々に低減する。このため、面発光層は、輝度ムラを生じる。そこで、本実施形態では、面発光層を２層設け、一方の面発光層の輝度分布を、他方の面発光層の輝度分布と逆になるように（すなわち、前記一方の面発光層の輝度分布と前記他方の面発光層の輝度分布との和が均一（一定値）となるように）、複数の非発光領域で調整し、前記一方の面発光層からの発光と前記他方の面発光層からの発光とを重畳することで、面発光装置の輝度分布が均一化（一定化）される。
【００４２】
例えば、図１Ａに示す例では、上述したように、第１および第２電極層２、６には、直流電源ＥＳが図１Ａの紙面左側の一方端面に接続されている。したがって、第２面発光層５に対する第２給電点は、図１Ａの紙面左側の一方端面に位置し、このため、第２面発光層５の第２輝度分布ＬＤ２は、図１Ｃおよび図２Ａに示すように、図１Ｃの紙面左側の一方端（発光エリアの左側）が最も明るく、発光エリア幅の方向（発光エリア幅方向、紙面の横方向（水平方向））に沿って前記一方端から他方端へ向かうに従い、徐々に暗くなり、図１Ｃの紙面右側の前記他方端（発光エリアの右側）が最も暗くなる。図１Ｂには非発光領域ＡＲ１ａ、ＡＲ２ａも図示されているため、見難いが、非発光領域ＡＲ１ａ、ＡＲ２ａを備えない元の第１面発光層３における元の輝度分布も、図１Ｃに示す第２面発光層５の輝度分布と同様に、図１Ｂの紙面左側の一方端（発光エリアの左側）が最も明るく、発光エリア幅方向に沿って前記一方端から他方端へ向かうに従い、徐々に暗くなり、図１Ｂの紙面右側の前記他方端（発光エリアの右側）が最も暗くなる。
【００４３】
このような各輝度分布を持つ前記元の第１面発光層３および第２面発光層５の各光を重畳して得られる面発光装置Ｄａの輝度分布を均一化するためには、上述したように、第１面発光層３の第１輝度分布ＬＤ１は、図２Ａに破線で示すように、第２面発光層５の第２輝度分布ＬＤ２と逆になるように、すなわち、第１面発光層３の第１輝度分布ＬＤ１と第２面発光層５の第２輝度分布ＬＤ２との和が均一となるように、複数の非発光領域ＡＲ１ａ、ＡＲ２ａで調整されればよい。より具体的には、これら複数の非発光領域ＡＲ１ａ、ＡＲ２ａは、それぞれ、第１面発光層３の第１輝度分布ＬＤ１と第２面発光層５の第２輝度分布ＬＤ２との和が均一となる密度で配置される。より詳しくは、一例では、第２面発光層５は、前記一方端が最も明るい輝度を持つので、前記一方端の輝度を目標輝度として、発光エリア幅方向に沿った各位置で、前記目標輝度に足りない不足分の輝度（補正輝度）となるように、複数の非発光領域ＡＲ１ａ、ＡＲ２ａの個数、それぞれの各サイズおよびそれぞれの各配置位置が調整される。すなわち、まず、前記目標輝度に対し、全体的に、前記元の第１面発光層３の輝度が高いので全体的に輝度を低下させるために、発光エリア幅方向に沿って線状または帯状の直線的な１または複数の非発光領域ＡＲ２ａが設けられる。非発光領域ＡＲ２ａが複数である場合には、複数の非発光領域ＡＲ２ａは、発光エリア幅方向に直交する方向（発光エリア奥行き方向、紙面の縦方向（垂直方向））に等間隔で配置される。これによって、図２Ａに示すように、前記他方端における第１面発光層３の輝度が、第２面発光層５における最高輝度と最低輝度との差分に等しく調整される。そして、第２面発光層５の第２輝度分布ＬＤ２が前記一方端から前記他方端へ向かうに従って徐々に暗くなるので、前記一方端から前記他方端へ向かうに従って密度が小さくなるように、発光エリア奥行き方向に沿って線状または帯状の直線的な１または複数の非発光領域ＡＲ１ａが設けられる。非発光領域ＡＲ１ａが複数である場合には、複数の非発光領域ＡＲ１ａは、発光エリア幅方向に前記一方端から前記他方端に向かって徐々に間隔を広げるように配置される。これによって、図２Ａに示すように、第１面発光層３の輝度は、発光エリア幅方向に沿って前記一方端から前記他方端に向かうに従って徐々に高くなるように調整される。なお、これら線状または帯状の非発光領域ＡＲ１ａ、ＡＲ２ａにおける線幅は、非視認性を付与するために、例えばナノメートルオーダであることが好ましい。このように発光面を正面視した場合に格子模様を呈する複数の非発光領域ＡＲ１ａ、ＡＲ２ａが調整されて設けられることで、図２Ｂに示すように、第１面発光層３の第１輝度分布ＬＤ１と第２面発光層５の第２輝度分布ＬＤ２との和ＬＤ３、すなわち、面発光装置Ｄａの輝度分布ＬＤ３が均一となる。
【００４４】
なお、上述では、前記一方端の輝度が目標輝度とされたが、これに限定されるものではなく、前記一方端の輝度より暗い輝度が前記目標輝度とされて良く、前記元の第１面発光層３で調整可能な範囲で、前記一方端の輝度より明るい輝度が前記目標輝度とされて良い。
【００４５】
このような第１実施形態における面発光装置Ｄａは、前記一方の面発光層３（または５）（図１に示す例では第１面発光層３）に所定波長の電磁波を照射することによって前記複数の非発光領域ＡＲ１、ＡＲ２（ＡＲ１ａ、ＡＲ２ａ）を形成する非発光領域形成工程を含む面発光装置の製造方法によって製造される。
【００４６】
より具体的には、図３において、まず、第１基板１が用意される（図３Ａ）。
【００４７】
次に、例えばスパッタ法等の成膜法を用いることによって、第１基板１の一方主面上に第１電極層２が形成される（図３Ｂ、第１電極層形成工程）。
【００４８】
次に、例えば真空蒸着法等の成膜法を用いることによって、厚さ方向で第１電極層２に積層するように第１電極層２上に第１面発光層３が形成される（図３Ｃ、第１面発光層形成工程）。
【００４９】
次に、第１面発光層３の第１輝度分布ＬＤ１と第２面発光層５の第２輝度分布ＬＤ２との和が均一となるように、第１および第２面発光層３、５のうちのいずれか一方の面発光層、この例では第１面発光層３における輝度分布を調整する複数の非発光領域ＡＲ１ａ、ＡＲ２ａが形成される。より詳しくは、図１および図２を用いて上述した複数の非発光領域ＡＲ１ａ、ＡＲ２ａに対応する格子模様の貫通開口のパターンを形成したマスクＭＫが第１面発光層３上に配置され、このマスクＭＫを介して所定波長の電磁波が照射される（図３Ｄ、非発光領域形成工程）。前記所定波長の電磁波は、γ線、Ｘ線、紫外線、可視光線および赤外線等であるが、好ましくは紫外線である。第１面発光層３における、前記電磁波が照射された領域は、例えば前記特許文献１に開示されているように発光しなくなり、非発光領域ＡＲ１ａ、ＡＲ２ａとなる。この電磁波の照射による方法（電磁波照射法）は、非発光領域ＡＲの密度変化を細かく調整でき、この結果、第２面発光層５の第２輝度分布ＬＤ２を好適に補正する、滑らかに変化する第１面発光層３の第１輝度分布ＬＤ１を得ることができ、面発光装置Ｄとして目立ちづらい輝度分布ＬＤ３が得られる。
【００５０】
次に、例えばスパッタ法や真空蒸着法等の、中間層４に応じた適宜な成膜法を用いることによって、厚さ方向で第１面発光層３に積層するように第１面発光層３上に中間層４が形成される（図３Ｅ、中間層形成工程）。
【００５１】
次に、例えば真空蒸着法等の成膜法を用いることによって、厚さ方向で中間層４に積層するように中間層４上に第２面発光層５が形成される（図３Ｆ、第２面発光層形成工程）。
【００５２】
次に、例えば真空蒸着法等の成膜法を用いることによって、厚さ方向で第２面発光層５に積層するように第２面発光層５上に第２電極層６が形成される（図３Ｇ、第２電極層形成工程）。
【００５３】
そして、第１電極層２、第１面発光層３、中間層４、第２面発光層５および第２電極層６を、第１基板１とで封止するように、第２基板７が設けられる（図３Ｈ、封止層形成工程）。より詳しくは、第１および第２基板１、７は、第１電極層２、第１面発光層３、中間層４、第２面発光層５および第２電極層６から成る積層体を内包するように、前記積層体の取り囲む環状の各領域で、例えば接着剤や融着等によって張り合わされる。これによって前記積層体は、第１および第２基板１、７によって封止される。
【００５４】
このような各工程が実施されることで、第１実施形態における面発光装置Ｄａが製造される。
【００５５】
以上説明したように、第１実施形態における面発光装置Ｄａは、複数の非発光領域ＡＲ１ａ、ＡＲ２ａを備え、第２面発光層５の輝度分布ＤＬ２を、複数の非発光領域ＡＲ１ａ、ＡＲ２ａで輝度分布を調整した第１面発光層３の輝度分布ＤＬ１で補正する。このため、第１面発光層３における非発光領域ＡＲａ（ＡＲ１ａ、ＡＲ２ａ）は、第２面発光層５で発光した光でカバーされるため、上記面発光装置Ｄａでは、非発光領域ＡＲａが目立ち難くなる。また、このため、第２面発光層５の輝度分布における暗い部分を、第１面発光層３で発光した光で補正するので、上記面発光装置Ｄａは、より明るくでき、輝度分布をより均一にできる。したがって、上記面発光装置Ｄａは、非発光部分が目立ち難く、より明るくでき、輝度分布をより均一にできる。そして、その製造方法は、電磁波の照射（電磁波照射法）によって比較的容易に非発光領域ＡＲ１ａ、ＡＲ２ａを形成でき、輝度分布ＤＬ３をより均一にした面発光装置Ｄａを製造できる。
【００５６】
次に、別の実施形態について説明する。
【００５７】
（第２実施形態）
図４は、第２実施形態における面発光装置の構成を示す図である。図４Ａは、面発光装置の断面図であり、図４Ｂは、図４Ａに示す面発光装置における第１面発光層の正面図であり、図４Ｃは、図４Ａに示す面発光装置における第２面発光層の正面図である。図４Ｂおよび図４Ｃでは、グラデーションによって輝度分布が示されている。図５は、第２実施形態における面発光装置の製造方法を説明するための図である。図５Ａないし図５Ｈの各図は、各製造工程を説明するための図である。
【００５８】
第１実施形態における面発光装置Ｄａは、透明電極である第１電極層２上に積層された第１面発光層３に、その輝度分布を調整する複数の非発光領域ＡＲ１ａ、ＡＲ２ａを備えたが、第２実施形態における面発光装置Ｄｂは、反射電極である第２電極層６をその上に積層する第２面発光層５に、その輝度分布を調整する複数の非発光領域ＡＲ１ｂ、ＡＲ２ｂを設けるものである。なお、反射電極を備える片面発光の場合では、第４実施形態で説明するが、前記輝度分布の調整の観点から、第２実施形態における面発光装置Ｄｂより、第１実施形態における面発光装置Ｄａの方が好ましい。
【００５９】
このような第２実施形態における面発光装置Ｄｂは、例えば、図４に示すように、第１基板１と、第１電極層２と、第１面発光層３と、中間層４と、第２面発光層５と、第２電極層６と、第２基板７（図５Ｈ参照）とを備える。なお、図４には、第２基板７の図示が省略されている。これら第２実施形態の面発光装置Ｄｂにおける第１基板１、第１電極層２、第１面発光層３、中間層４、第２面発光層５、第２電極層６および第２基板７は、それぞれ、第１面発光層３が非発光領域ＡＲ１ａ、ＡＲ２ａを備えずに第２面発光層５が非発光領域ＡＲ１ｂ、ＡＲ２ｂを備える点を除き、第１実施形態の面発光装置Ｄａにおける第１基板１、第１電極層２、第１面発光層３、中間層４、第２面発光層５、第２電極層６および第２基板７と同様であるので、その説明を省略する。
【００６０】
このような第２実施形態における面発光装置Ｄｂでは、第１面発光層３に対する第１給電点は、図４Ａの紙面左側の一方端面に位置し、このため、第１面発光層３の第１輝度分布は、第１実施形態の第２面発光層５の輝度分布と同様に、図４Ｂの紙面左側の一方端（発光エリアの左側）が最も明るく、発光エリア幅方向に沿って前記一方端から他方端へ向かうに従い、徐々に暗くなり、図４Ｂの紙面右側の前記他方端（発光エリアの右側）が最も暗くなる。図４Ｃには非発光領域ＡＲ１ｂ、ＡＲ２ｂも図示されているため、見難いが、非発光領域ＡＲ１ｂ、ＡＲ２ｂを備えない元の第２面発光層５における元の輝度分布も、図４Ｂに示す第１面発光層３の輝度分布と同様に、図４Ｃの紙面左側の一方端（発光エリアの左側）が最も明るく、発光エリア幅方向に沿って前記一方端から他方端へ向かうに従い、徐々に暗くなり、図４Ｃの紙面右側の前記他方端（発光エリアの右側）が最も暗くなる。
【００６１】
このような各輝度分布を持つ第１面発光層３および前記元の第２面発光層５の各光を重畳して得られる面発光装置Ｄｂの輝度分布を均一化するためには、第１実施形態と同様に、第２面発光層５の第２輝度分布は、第１面発光層３の第１輝度分布と逆になるように、すなわち、第１面発光層３の第１輝度分布と第２面発光層５の第２輝度分布との和が均一となるように、複数の非発光領域ＡＲ１ｂ、ＡＲ２ｂで調整される。より具体的には、これら複数の非発光領域ＡＲ１ｂ、ＡＲ２ｂは、それぞれ、第１面発光層３の第１輝度分布と第２面発光層５の第２輝度分布との和が均一となる密度で配置される。より詳しくは、一例では、第１面発光層３は、前記一方端が最も明るい輝度を持つので、前記一方端の輝度を目標輝度として、発光エリア幅方向に沿った各位置で、前記目標輝度に足りない不足分の輝度（補正輝度）となるように、第１実施形態における複数の非発光領域ＡＲ１ａ、ＡＲ２ａと同様に、これら複数の非発光領域ＡＲ１ｂ、ＡＲ２ｂそれぞれのサイズおよび配置位置が調整される。このように発光面を正面視した場合に格子模様を呈する複数の非発光領域ＡＲ１ｂ、ＡＲ２ｂが調整されて設けられることで、第１面発光層３の第１輝度分布と第２面発光層５の第２輝度分布との和、すなわち、面発光装置Ｄａの輝度分布が均一となる。
【００６２】
このような第２実施形態における面発光装置Ｄｂは、第２面発光層５に電磁波を照射することによって前記複数の非発光領域ＡＲ１ｂ、ＡＲ２ｂを形成する非発光領域形成工程を含む面発光装置の製造方法によって製造される。
【００６３】
より具体的には、図５において、まず、第２基板７が用意される（図５Ａ）。
【００６４】
次に、例えば真空蒸着法等の成膜法を用いることによって、第２基板７の一方主面上に第２電極層６が形成される（図５Ｂ、第２電極層形成工程）。
【００６５】
次に、例えば真空蒸着法等の成膜法を用いることによって、厚さ方向で第２電極層６に積層するように第２電極層６上に第２面発光層５が形成される（図５Ｃ、第２面発光層形成工程）。
【００６６】
次に、第１面発光層３の第１輝度分布と第２面発光層５の第２輝度分布との和が均一となるように、第２面発光層５における輝度分布を調整する複数の非発光領域ＡＲ１ｂ、ＡＲ２ｂが形成される。より詳しくは、図４を用いて上述した複数の非発光領域ＡＲ１ｂ、ＡＲ２ｂに対応する格子模様の貫通開口のパターンを形成したマスクＭＫが第２面発光層５上に配置され、このマスクＭＫを介して所定波長の電磁波が照射される（図５Ｄ、非発光領域形成工程）。第２面発光層５における、前記電磁波が照射された領域は、発光しなくなり、非発光領域ＡＲ１ｂ、ＡＲ２ｂとなる。
【００６７】
次に、例えばスパッタ法や真空蒸着法等の、中間層４に応じた適宜な成膜法を用いることによって、厚さ方向で第２面発光層５に積層するように第２面発光層５上に中間層４が形成される（図５Ｅ、中間層形成工程）。
【００６８】
次に、例えば真空蒸着法等の成膜法を用いることによって、厚さ方向で中間層４に積層するように中間層４上に第１面発光層３が形成される（図５Ｆ、第１面発光層形成工程）。
【００６９】
次に、例えばスパッタ法等の成膜法を用いることによって、厚さ方向で第１面発光層３に積層するように第１面発光層３上に第１電極層２が形成される（図５Ｇ、第１電極層形成工程）。
【００７０】
そして、第１実施形態と同様に、第２電極層６、第２面発光層５、中間層４、第１面発光層３および第１電極層２を、第２基板７とで封止するように、第１基板１が設けられる（図５Ｈ、封止層形成工程）。
【００７１】
このような各工程が実施されることで、第２実施形態における面発光装置Ｄｂが製造される。
【００７２】
このような第２実施形態における面発光装置Ｄｂおよびその製造方法は、第１実施形態における面発光装置Ｄａおよびその製造方法と同様な作用効果を奏する。
【００７３】
次に、別の実施形態について説明する。
【００７４】
（第３実施形態）
図６は、第３実施形態における面発光装置の構成を示す図である。第１および第２実施形態における面発光装置Ｄａ、Ｄｂは、電荷発生層やバッファ層の中間層４を備えたが、第３実施形態における面発光装置Ｄｃは、第３電極層の中間層を備えるものである。そして、第３実施形態における、この中間層は、絶縁層９を介在した２層の第３Ａ電極層８−１および第３Ｂ電極層８−２を備えて構成される。
【００７５】
このような第３実施形態における面発光装置Ｄｃは、例えば、図６に示すように、第１基板１と、第１電極層２と、第１面発光層３と、第３Ａ電極層８−１と、絶縁層９と、第３Ｂ電極層８−２と、第２面発光層５と、第２電極層６と、図略の第２基板７とを備える。これら第３実施形態の面発光装置Ｄｃにおける第１基板１、第１電極層２、第１面発光層３、第２面発光層５、第２電極層６および第２基板７は、それぞれ、第１面発光層３と第２面発光層５との間に介在する中間層４に代え、第１面発光層３と第２面発光層５との間に、厚さ方向で順に積層された第３Ａ電極層８−１、絶縁層９および第３Ｂ電極層８−２が介在する点を除き、第１実施形態の面発光装置Ｄａにおける第１基板１、第１電極層２、第１面発光層３、第２面発光層５、第２電極層６および第２基板７と同様であるので、その説明を省略する。なお、第１面発光層３には、非発光領域ＡＲ１ａ、ＡＲ２ａと同様に非発光領域ＡＲｃを備えている。あるいは、図示を省略するが、これら第３実施形態の面発光装置Ｄｃにおける第１基板１、第１電極層２、第１面発光層３、第２面発光層５、第２電極層６および第２基板７は、それぞれ、第１面発光層３と第２面発光層５との間に介在する中間層４に代え、第１面発光層３と第２面発光層５との間に、厚さ方向で順に積層された第３Ａ電極層８−１、絶縁層９および第３Ｂ電極層８−２が介在する点を除き、第２実施形態の面発光装置Ｄｂにおける第１基板１、第１電極層２、第１面発光層３、第２面発光層５、第２電極層６および第２基板７と同様であっても良い。
【００７６】
第３Ａ電極層８−１は、厚さ方向で第１面発光層３上に積層され、第１面発光層３に給電するための部材であり、第１電極層２とで１対（１組）の電極を構成する。図６に示す例では、第１電極層２および第３Ａ電極層８−１は、それぞれ、透明電極であり、第１電極層２は、マイナス極とされ、第３Ａ電極層８−１は、プラス極とされている。
【００７７】
絶縁層９は、厚さ方向で第３Ａ電極層８−１上に積層され、第３Ａ電極層８−１と第３Ｂ電極層８−２とを電気的に絶縁するための部材であり、例えば、無機絶縁材料や有機絶縁材料で形成される。本実施形態では、絶縁層９は、窒化シリコン等の材料で形成されている。
【００７８】
第３Ｂ電極層８−２は、厚さ方向で絶縁層９上に積層され、第２面発光層５に給電するための部材であり、第２電極層６とで１対（１組）の電極を構成する。図６に示す例では、第２電極層６は、反射電極であり、第３Ｂ電極層８−２は、透明電極であり、第２電極層６は、マイナス極とされ、第３Ｂ電極層８−２は、プラス極とされている。第３Ｂ電極層８−２上には、厚さ方向で第２面発光層５が積層される。
【００７９】
そして、このような第３実施形態における面発光装置Ｄｃでは、第１および第３Ａ電極層２、８−１それぞれに外部の第１直流電源ＥＳ−１が接続され、第２および第３Ｂ電極層６、８−２それぞれに外部の第２直流電源ＥＳ−２が接続される。例えば、第１直流電源ＥＳ−１は、図６に示すように、第１および第３Ａ電極層２、８−１それぞれの他方端面（他方側面）に接続されている。このため、図６に示す例では、第１面発光層３に対する第１給電点は、面広がり方向の他方端に位置する。一方、第２直流電源ＥＳ−２は、図６に示すように、第２および第３Ｂ電極層６、８−２それぞれの一方端面（一方側面）に接続されている。このため、図６に示す例では、第２面発光層５に対する第２給電点は、面広がり方向の一方端に位置する。
【００８０】
この外部の第１直流電源ＥＳ−１から電力が供給されることによって、第１面発光層３は、発光し、また、この外部の第２直流電源ＥＳ−２から電力が供給されることによって、第２面発光層５は、発光する。
【００８１】
このような第３実施形態における面発光装置Ｄｃは、第１実施形態における面発光装置Ｄａと同様な作用効果を奏する。
【００８２】
第３実施形態における面発光装置Ｄｃは、前記第１および第２面発光層の間に、第３電極層をさらに備えるので、第１面発光層３と第２面発光層５とを個別に駆動できる。
【００８３】
第３実施形態における面発光装置Ｄｃは、第１給電点と第２給電点とが面広がり方向において略反対に（互いに対向するように）位置するため、非発光領域を備えない状態において、第１面発光層３の輝度分布と第２面発光層５の輝度分布とが互いに補完し合う。このため、上記面発光装置Ｄｃは、前記互いに補完し合う分だけ、第１面発光層３（あるいは第２面発光層５）における輝度分布を調整するための非発光領域ＡＲをより少なくでき、より明るくなる。
【００８４】
なお、上述の第３実施形態の面発光装置Ｄｃにおける第３Ａおよび第３Ｂ電極層８−１、８−２は、互いに同極とされたが、絶縁層９を備えるので、互いに異極とされても良い。
【００８５】
次に、別の実施形態について説明する。
【００８６】
（第４実施形態）
図７は、第４実施形態における面発光装置の構成を示す図である。図７Ａは、面発光装置の断面図であり、図７Ｂは、図７Ａに示す面発光装置における第１面発光層の正面図であり、図７Ｃは、図７Ａに示す面発光装置における第２面発光層の正面図である。図７Ｂおよび図７Ｃでは、グラデーションによって輝度分布が示されている。図８は、第４実施形態において、第１面発光層、第２面発光層および面発光装置の各輝度分布を示す図である。図８Ａは、第４実施形態において、第１面発光層および第２面発光層の各輝度分布を示し、図８Ｂは、第４実施形態において、第１面発光層、第２面発光層および面発光装置の各輝度分布を示す。図８Ａにおいて、実線は、プラズモン吸収の作用を受けた後の第２面発光層５の第２輝度分布ＬＤ２ｐを示し、破線は、プラズモン吸収の作用を受ける前の第２面発光層５の輝度分布ＬＤ２ａを示し、一点鎖線は、非発光領域ＡＲｄ（ＡＲ１ｄ、ＡＲ２ｄ）を考慮した第１面発光層の第１輝度分布ＬＤ１を示す。図８Ｂにおいて、相対的に細い実線は、プラズモン吸収の作用を受けた後の第２面発光層５の第２輝度分布ＬＤ２ｐを示し、一点鎖線は、非発光領域ＡＲｄを考慮した第１面発光層の第１輝度分布ＬＤ１を示し、相対的に太い実線は、面発光装置Ｄｄの輝度分布ＬＤ３を示す。図９は、第４実施形態の面発光装置における作用効果を説明するために用いる、面発光装置の構成を示す図である。図９Ａは、面発光装置の断面図であり、図９Ｂは、図９Ａに示す面発光装置における第１面発光層の正面図であり、図９Ｃは、図９Ａに示す面発光装置における第２面発光層の正面図である。図９Ｂおよび図９Ｃでは、グラデーションによって輝度分布が示されている。図１０は、図９に示す面発光装置において、第１面発光層、第２面発光層および面発光装置の各輝度分布を示す図である。図１０Ａは、図９に示す面発光装置ｄにおいて、第１面発光層および第２面発光層の各輝度分布を示し、図１０Ｂは、図９に示す面発光装置ｄにおいて、第１面発光層、第２面発光層および面発光装置の各輝度分布を示す。図１０Ａにおいて、実線は、第１面発光層の第１輝度分布ｌｄ１を示し、二点鎖線は、プラズモン吸収の作用を受けた後の第２面発光層５の輝度分布ｌｄ２ｐを示し、破線は、プラズモン吸収の作用を受ける前の第２面発光層５の輝度分布ｌｄ２ａを示し、一点鎖線は、非発光領域ＡＲｄを考慮した第２面発光層５の第２輝度分布ｌｄ２ｂを示す。図１０Ｂにおいて、相対的に細い実線は、第１面発光層３の第１輝度分布ｌｄ１を示し、一点鎖線は、非発光領域ＡＲｄを考慮した第２面発光層の第２輝度分布ｌｄ２ｂを示し、相対的に太い実線は、面発光装置ｄの輝度分布ｌｄ３を示す。図８Ａ、図８Ｂ、図１０Ａおよび図１０Ｂにおいて、各横軸は、発光エリア幅方向の各位置を示し、各縦軸は、ｃｄ／ｍ２単位の輝度を示す。
【００８７】
第４実施形態における面発光装置Ｄｄは、反射電極で生じるプラズモン吸収に対し、より有利な構造を持つものである。さらに、第３実施形態における面発光装置Ｄｃは、中間層の一例として、２層の第３Ａおよび第３Ｂ電極層８−１、８−２を備えたが、第４実施形態における面発光装置Ｄｄは、中間層の他の一例として、１層であって、第１および第２面発光層３、５に対し同極で共用される第３電極層８を備えるものである。
【００８８】
このような第４実施形態における面発光装置Ｄｄは、例えば、図７に示すように、第１基板１と、第１電極層２と、第１面発光層３と、第３電極層８と、第２面発光層５と、第２電極層６と、図略の第２基板７とを備える。これら第４実施形態の面発光装置Ｄｄにおける第１基板１、第１電極層２、第１面発光層３、第２面発光層５、第２電極層６および第２基板７は、それぞれ、第１面発光層３と第２面発光層５との間に介在する中間層４に代え、第１面発光層３と第２面発光層５との間に第３電極層８を備え、第１電極層２が透明電極に特定され、第２電極層６が反射電極に特定され、複数の非発光領域ＡＲ１ｄ、ＡＲ２ｄが第２面発光層５ではなく第１面発光層３に形成される点を除き、第１実施形態の面発光装置Ｄａにおける第１基板１、第１電極層２、第１面発光層３、第２面発光層５、第２電極層６および第２基板７と同様であるので、その説明を省略する。
【００８９】
第３電極層８は、厚さ方向で第１面発光層３上に積層され、この第３電極層８上には、厚さ方向で第２面発光層５が積層される。第３電極層８は、第１および第２面発光層３、５それぞれに給電するための部材であり、第１電極層２とで１対（１組）の電極を構成するとともに、第２電極層６とで他の１対（他の１組）の電極を構成する。すなわち、第３電極層８は、第１および第２面発光層３、５に対し同極で共用される。例えば、第３電極層８は、第１および第２面発光層３、５に対しプラス極で共用され、第１および第２面発光層３、５は、それぞれ、マイナス極であって良いが、図７Ａに示す例では、第３電極層８は、第１および第２面発光層３、５に対しマイナス極で共用され、第１および第２面発光層３、５は、それぞれ、プラス極である。第３電極層８は、第２面発光層５で発光する光を透過するために、透明電極で形成される。
【００９０】
上述したように、第１電極層２は、透明電極であり、第２電極層６は、反射電極である。そして、複数の非発光領域ＡＲ１ｄ、ＡＲ２ｄは、第１面発光層３の第１輝度分布ＬＤ１と第２面発光層５の第２輝度分布ＬＤ２ｐとの和が均一となるように、例えば電磁波の照射によって、第１面発光層３に設けられる。したがって、複数の非発光領域ＡＲ１ｄ、ＡＲ２ｄを設ける第１面発光層３は、厚さ方向で、複数の非発光領域ＡＲ１ｄ、ＡＲ２ｄを設けない第２面発光層５を介して反射電極の第２電極層６に対向するように配置されている。
【００９１】
このような第４実施形態における面発光装置Ｄｄでは、第１および第３電極層２、８それぞれに外部の第１直流電源ＥＳ−１が接続され、第２および第３電極層６、８それぞれに外部の第２直流電源ＥＳ−２が接続される。例えば、第１直流電源ＥＳ−１は、図７に示すように、第１および第３電極層２、８それぞれの他方端面（他方側面）に接続されている。このため、図７に示す例では、第１面発光層３に対する第１給電点は、面広がり方向の他方端に位置する。一方、第２直流電源ＥＳ−２は、図７に示すように、第２および第３電極層６、８それぞれの一方端面（一方側面）に接続されている。このため、図７に示す例では、第２面発光層５に対する第２給電点は、面広がり方向の一方端に位置する。
【００９２】
この外部の第１直流電源ＥＳ−１から電力が供給されることによって、第１面発光層３は、発光し、また、この外部の第２直流電源ＥＳ−２から電力が供給されることによって、第２面発光層５は、発光する。
【００９３】
ここで、第４実施形態における面発光装置Ｄｄは、反射電極で生じるプラズモン吸収に対し、より有利な構造である点について説明する。
【００９４】
反射電極は、プラズモン吸収により、光を吸収する。プラズモン吸収は、反射電極である第２電極層６に距離的により近い第２面発光層５に対し、第１面発光層３に較べて顕著に生じる。
【００９５】
第４実施形態における面発光装置Ｄｄが、第２電極層６の反射電極で生じるプラズモン吸収に対し、より有利な構造である点を説明するために、まず、図９に示すように、複数の非発光領域ＡＲ１ｄ、ＡＲ２ｄを第１面発光層３に設けるのではなく第２面発光層５に設けた点を除き、第４実施形態における面発光装置Ｄｄと同様な構成である面発光装置ｄを考える。このような図９に示す面発光装置ｄでは、第１面発光層３に対する第１給電点は、図９Ａの紙面右側の他方端面に位置し、このため、第１面発光層３の第１輝度分布ｌｄ１は、図９Ｂおよび図１０Ａに示すように、図９Ｂの紙面右側の他方端（発光エリアの右側）が最も明るく、発光エリア幅方向に沿って前記他方端から一方端へ向かうに従い、徐々に暗くなり、図９Ｂの紙面左側の前記他方端（発光エリアの右側）が最も暗くなる（図１０の実線）。一方、第２面発光層５に対する第２給電点は、図９Ａの紙面左側の一方端面に位置し、このため、仮に反射電極の第２電極層６でプラズモン吸収がなく、第１および第２面発光層３、５に製造バラツキがなければ、第２面発光層５の輝度分布ｌｄ２ａは、図１０Ａに破線で示すように、発光エリア幅方向において、第１面発光層３の第１輝度分布ｌｄ１と逆のプロファイルとなる。しかしながら、反射電極の第２電極層６でプラズモン吸収が生じるため、第２面発光層５の輝度分布ｌｄ２ｐは、図１０Ａに二点鎖線で示すように、発光エリア幅方向の各位置において、図１０Ａに破線で示す第２面発光層５の輝度分布ｌｄ２ａに較べて輝度の低下したプロファイルとなる。したがって、第２面発光層５は、このようなプラズモン吸収によって、より暗くなってしまい、第２面発光層５と第１面発光層３との輝度差がより大きくなってしまう。その結果、複数の非発光領域ＡＲ１ｄ、ＡＲ２ｄを第２面発光層５に設けると、第２面発光層５の輝度分布ｌｄ２ｂは、図１０Ａに一点鎖線で示すように、第１面発光層３の第１輝度分布ｌｄ１と第２面発光層５の第２輝度分布ｌｄ２ｂとの和が均一となるように調整することが難しくなってしまい、図１０Ｂに太い実線で示すように、図９に示す面発光装置ｄの輝度分布ｌｄ３は、均一に調整し難い。これは、前記輝度差を補償するために、第２面発光層５により大きな電流値の電流を通電することで解決可能である。しかしながら、この方法では、第２面発光層５が第１面発光層３より早く劣化してしまい、図９に示す面発光装置ｄは、より短い時間で不均一な輝度分布になってしまう。この方法では、電力消費も増大してしまう。
【００９６】
これに対し、第４実施形態における面発光装置Ｄｄは、複数の非発光領域ＡＲ１ａ、ＡＲ２ａを第２面発光層５に設けるのではなく第１面発光層３に設けられている。仮に反射電極の第２電極層６でプラズモン吸収がなく、第１および第２面発光層３、５に製造バラツキがなければ、第２面発光層５の輝度分布ＬＤ２ａは、図８Ａに破線で示すように、発光エリア幅方向において、上述の図１０Ａに示す第１面発光層３の第１輝度分布ｌｄ１と逆のプロファイルとなる。しかしながら、反射電極の第２電極層６でプラズモン吸収が生じるため、第２面発光層５の第２輝度分布ＬＤ２ｐは、図８Ａに実線で示すように、発光エリア幅方向の各位置において、図８Ａに破線で示す第２面発光層５の輝度分布ＬＤ２ａに較べて輝度の低下したプロファイルとなる。したがって、第２面発光層５は、このようなプラズモン吸収によって、より暗くなる。しかしながら、第４実施形態では、複数の非発光領域ＡＲ１ｄ、ＡＲ２ｄを第１面発光層３に設けるので、第１面発光層３の第１輝度分布ＬＤ１は、図８Ａに一点鎖線で示すように、第２面発光層５と同様に輝度の低下した状態となり、第１面発光層３の第１輝度分布ＬＤ１と第２面発光層５の第２輝度分布ＬＤ２ｐとの和が均一となるように調整し易く、図８Ｂに太い実線で示すように、第４実施形態における面発光装置Ｄｄは、電力消費の増大を抑制しつつ、その輝度分布ＬＤ３を均一にできる。
【００９７】
以上説明したように、第４実施形態における面発光装置Ｄｄは、第１実施形態における面発光装置Ｄａと同様な作用効果を奏する。
【００９８】
上記第４実施形態における面発光装置Ｄｄは、複数の非発光領域ＡＲ１ａ、ＡＲ２ａを第１面発光層３に設けた第１面発光層３が第２面発光層５を介して反射電極の第２電極層６に対向するように配置されているので、プラズモン吸収が第２面発光層５に対して生じ、上述の各問題を解決でき、その輝度分布ＬＤ３を均一にできる。
【００９９】
第３電極層８が第１および第２面発光層３、５に対し異極で共用されている場合、第１面発光層３の点消灯制御（オン／オフ制御）と第２面発光層５の点消灯制御（オン／オフ制御）とを時分割で実施しなければならず、その制御や回路が複雑となる。上記第４実施形態における面発光装置Ｄｄは、第３電極層８が第１および第２面発光層３、５に対し同極で共用されているので、前記異極で共用される場合に必要となる前記複雑な制御や回路が不要となり、第１および第２面発光層３、５それぞれに所望の電圧を印加するだけでこれら第１および第２面発光層３、５を駆動できる。
【０１００】
上記第４実施形態における面発光装置Ｄｄは、第３電極層８が単層であるため、２層の第３電極層８−１、８−２の場合に較べて、製造工程の工数を低減でき、透過率も向上できる。
【０１０１】
次に、別の実施形態について説明する。
【０１０２】
（第５実施形態）
図１１は、第５実施形態における面発光装置の構成を示す図である。図１１Ａは、面発光装置の断面図であり、図１１Ｂは、図１１Ａに示す面発光装置における第１面発光層の正面図であり、図１１Ｃは、図１１Ａに示す面発光装置における第２面発光層の正面図である。図１１Ｂおよび図１１Ｃでは、グラデーションによって輝度分布が示されている。
【０１０３】
第１ないし第４実施形態では、非発光領域ＡＲ（ＡＲａ（ＡＲ１ａ，ＡＲ２ａ）、ＡＲｂ（ＡＲ１ｂ，ＡＲ２ｂ）、ＡＲｃ、ＡＲｄ（ＡＲ１ｄ、ＡＲ２ｄ））は、前記一方の面発光層（第１面発光層３または第２面発光層５）における非発光領域を形成すべき領域に電磁波を照射することによって形成されたが、これに限定されるものではなく、適宜に変更できる。例えば、この第５実施形態では、非発光領域ＡＲｅ（ＡＲ１ｅ、ＡＲ２ｅ）は、前記一方の面発光層（第１面発光層３または第２面発光層５）における非発光領域を形成すべき領域において、前記一方の面発光層（第１面発光層３または第２面発光層５）に接する電極層（第１電極層２または第２電極層２）との間に、前記一方の面発光層（第１面発光層３または第２面発光層５）の発光を阻止する発光阻止層１０がさらに配置されることで、形成される。以下、一例として、第４実施形態における面発光装置Ｄｄの構成において、電磁波の照射によって形成された非発光領域ＡＲｄに代え、発光阻止層１０によって形成された非発光領域ＡＲｅを備える第５実施形態おける面発光装置Ｄｅについて説明するが、第１ないし第３実施形態における面発光装置Ｄａ〜Ｄｃの構成においても、同様に、第５実施形態おける面発光装置Ｄｅが構成できる。
【０１０４】
このような第５実施形態における面発光装置Ｄｅは、例えば、図１１に示すように、第１基板１と、第１電極層２と、第１面発光層３と、第３電極層８と、第２面発光層５と、第２電極層６と、図略の第２基板７と、発光阻止層１０とを備える。これら第５実施形態の面発光装置Ｄｅにおける第１基板１、第１電極層２、第１面発光層３、第３電極層８、第２面発光層５、第２電極層６および第２基板７は、それぞれ、第１面発光層３における非発光領域ＡＲｅが電磁波の照射を受けていない点を除き、第４実施形態の面発光装置Ｄｄにおける第１基板１、第１電極層２、第１面発光層３、第３電極層８、第２面発光層５、第２電極層６および第２基板７と同様であるので、その説明を省略する。
【０１０５】
発光阻止層１０は、前記一方の面発光層における非発光領域ＡＲｅを形成すべき領域において、前記一方の面発光層と前記一方の面発光層に接する電極層との間に、前記一方の面発光層の発光を阻止する部材である。本実施形態では、非発光領域ＡＲｅ（ＡＲ１ｅ、ＡＲ２ｅ）は、第１面発光層３に形成されるので、前記一方の面発光層は、第１面発光層３となる。したがって、発光阻止層１０は、第１面発光層３における非発光領域ＡＲｅを形成すべき領域において、第１面発光層３と第１電極層２との間に、第１面発光層３の発光を阻止する部材で形成される。第１面発光層３における非発光領域ＡＲｅを形成すべき領域は、図１１Ｂに示すように、第１面発光層３の第１輝度分布ＬＤ１と第２面発光層５の第２輝度分布ＬＤ２との和が均一となるように、第１面発光層３における輝度分布を調整する複数の領域であり、第１実施形態で説明した通りである。
【０１０６】
このような発光阻止層１０は、例えば、正孔（ホール）の移動を阻止する正孔ブロック層である。この正孔ブロック層は、電子輸送層でもあり、例えば、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタンおよびアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体等の材料によって形成され、上述の非発光領域形成工程において、電磁波に代え、前記材料を用いた、例えばスパッタ法や真空蒸着法等の成膜法によって形成される。このような正孔ブロック層は、発光に必要な正孔の移動を妨げるので、第１面発光層３において、この正孔ブロック層を形成した領域は、発光できず、非発光領域ＡＲｅとなる。
【０１０７】
また例えば、発光阻止層１０は、例えば、電子の移動を阻止する電子ブロック層である。この電子ブロック層は、正孔輸送層でもあり、例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体等の材料によって形成され、上述の非発光領域形成工程において、電磁波に代え、前記材料を用いた、例えばスパッタ法や真空蒸着法等の成膜法によって形成される。このような電子ブロック層は、発光に必要な電子の移動を妨げるので、第１面発光層３において、この電子ブロック層を形成した領域は、発光できず、非発光領域ＡＲｅとなる。
【０１０８】
また例えば、発光阻止層１０は、例えば、電気的な所定の抵抗値を持つ抵抗層である。前記所定の抵抗値は、前記一方の面発光層（本実施形態では第１面発光層３）における発光を開始する発光開始電圧に満たない電圧（発光開始電圧未満の電圧）が前記非発光領域ＡＲｅで前記一方の面発光層（本実施形態では第１面発光層３）に印加されるように、電圧降下を生じさせる値である。この抵抗層は、電子輸送層や正孔輸送層を厚く成膜すればよく、例えば、５００ｎｍ以上成膜することによって形成され、上述の非発光領域形成工程において、電磁波に代え、前記材料を用いた、例えばスパッタ法や真空蒸着法等の成膜法によって形成される。このような抵抗層は、発光開始電圧未満に電圧降下させるので、第１面発光層３において、この抵抗層を形成した領域は、発光に必要な発光開始電圧の電圧値に到達せず、非発光領域ＡＲｅとなる。
【０１０９】
また例えば、発光阻止層１０は、例えば、電気的に絶縁する絶縁層である。このような絶縁層は、前記抵抗層の一例でもあり、高抵抗な抵抗層であるとも言える。この絶縁層は、例えば、窒化シリコン等の材料によって形成され、上述の非発光領域形成工程において、電磁波に代え、前記材料を用いた、例えばスパッタ法や真空蒸着法等の成膜法によって形成される。このような絶縁層は、通電を遮断するので、第１面発光層３において、この絶縁層を形成した領域は、発光に必要な電流が流れず、非発光領域ＡＲｅとなる。
【０１１０】
以上説明したように、第５実施形態における面発光装置Ｄｅは、第１実施形態における面発光装置Ｄａと同様な作用効果を奏する。
【０１１１】
上記第５実施形態における面発光装置Ｄｅは、発光阻止層１０を設けることで、比較的容易に非発光領域ＡＲｅを形成できる。
【０１１２】
次に、別の実施形態について説明する。
【０１１３】
（第６実施形態）
図１２は、第６実施形態における面発光装置の構成を示す図である。図１２Ａは、面発光装置の断面図であり、図１２Ｂは、図１２Ａに示す面発光装置における第１電極層の正面図であり、図１２Ｃは、図１２Ａに示す面発光装置における第１面発光層の正面図であり、図１２Ｄは、図１２Ａに示す面発光装置における第２面発光層の正面図である。図１２Ｃおよび図１２Ｄでは、グラデーションによって輝度分布が示されている。
【０１１４】
第６実施形態では、非発光領域ＡＲｆは、第１および第２電極層２、６のうち、前記一方の面発光層（第１面発光層３または第２面発光層５）に接する電極層が前記複数の非発光領域ＡＲｆを除く領域に形成されることで、形成される。好ましくは、前記一方の面発光層に接する電極層は、第１および第２面発光層３、５で発光される各光の波長帯に対し透明である透明電極である。以下、一例として、第４実施形態における面発光装置Ｄｄの構成において、電磁波の照射によって形成された非発光領域ＡＲｄに代え、電極層の不形成によって形成された非発光領域ＡＲｆを備える第６実施形態おける面発光装置Ｄｆについて説明するが、第１ないし第３実施形態における面発光装置Ｄａ〜Ｄｃの構成においても、同様に、第６実施形態おける面発光装置Ｄｆが構成できる。
【０１１５】
このような第６実施形態における面発光装置Ｄｆは、例えば、図１２に示すように、第１基板１と、第１電極層２と、第１面発光層３と、第３電極層８と、第２面発光層５と、第２電極層６と、図略の第２基板７とを備える。これら第６実施形態の面発光装置Ｄｆにおける第１基板１、第１電極層２、第１面発光層３、第３電極層８、第２面発光層５、第２電極層６および第２基板７は、それぞれ、第１面発光層３における非発光領域ＡＲｆが電磁波の照射を受けていない点、および、第１電極層２のうち、第１面発光層３における非発光領域ＡＲｆ上に位置する部分が形成されていない点を除き、第４実施形態の面発光装置Ｄｄにおける第１基板１、第１電極層２、第１面発光層３、第３電極層８、第２面発光層５、第２電極層６および第２基板７と同様であるので、その説明を省略する。
【０１１６】
本実施形態では、非発光領域ＡＲｆは、第１面発光層３に形成されるので、前記一方の面発光層は、第１面発光層３となり、第１および第２電極層２、６のうち、前記一方の面発光層に接する電極層は、第１電極層２となる。この第１電極層２は、透明電極であり、第１電極層２のうち、第１面発光層３における非発光領域ＡＲｆを形成すべき領域上に位置する部分は、形成されていない。すなわち、第１面発光層３に接する第１電極層２は、非発光領域ＡＲｆを除く領域に形成されている。より具体的には、第１電極層２には、図１２Ａおよび図１２Ｃに示すように、第１面発光層３における非発光領域ＡＲｆを形成すべき領域に対応する部分に、貫通開口ＣＭが形成されている。このような貫通開口ＣＭは、例えば、まず、第１面発光層３における非発光領域ＡＲｆを形成すべき領域に対応する部分をマスクし、次に、第１電極層２を形成し、そして、前記マスクを除去することによって、形成される。なお、貫通開口ＣＭに代え、第１電極層２を形成した後にエッチング（例えばドライエッチング等）によって形成された凹部であっても良い。
【０１１７】
第１面発光層３における非発光領域ＡＲｆを形成すべき領域は、図１２Ｃに示すように、第１面発光層３の第１輝度分布ＬＤ１と第２面発光層５の第２輝度分布ＬＤ２との和が均一となるように、第１面発光層３における輝度分布を調整する複数の領域であり、第１実施形態で説明したプロセスで設定される。第１ないし第５実施形態では、前記複数の非発光領域ＡＲａ、ＡＲｂ、ＡＲｃ、ＡＲｄ、ＡＲｅは、発光面を正面視した場合に格子模様を呈し、前記複数の非発光領域ＡＲａ、ＡＲｂ、ＡＲｃ、ＡＲｄ、ＡＲｅは、それぞれ、第１面発光層３の第１輝度分布ＬＤ１と第２面発光層５の第２輝度分布ＬＤ２との和が均一となる密度で配置されたが、第６実施形態では、複数の非発光領域ＡＲｆは、発光面を正面視した場合にドット模様（水玉模様）を呈し、前記複数の非発光領域ＡＲｆは、それぞれ、第１面発光層３の第１輝度分布ＬＤ１と第２面発光層５の第２輝度分布ＬＤ２との和が均一となる密度でそれらの個数、各サイズおよび各配置位置が調整されて配置される。このため、前記貫通開口ＣＭは、横断面円形の筒状を呈する。なお、前記貫通開口ＣＭは、横断面多角形の筒状を呈しても良い。このように複数の非発光領域ＡＲｆがドット模様を呈することで、複数の非発光領域ＡＲｆを除く領域に形成される第１電極層２は、連続的に繋がった形状を呈し、第１電極層２全体に通電できる。なお、前記凹部の場合には、前記複数の非発光領域ＡＲｆは、ドット模様であって良く、あるいは、格子模様であっても良い。
【０１１８】
このような第６実施形態における面発光装置Ｄｆでは、外部の第１直流電源ＥＳ−１から電力が供給されることによって、第１面発光層３は、発光し、また、この外部の第２直流電源ＥＳ−２から電力が供給されることによって、第２面発光層５は、発光する。ここで、第１面発光層３では、非発光領域ＡＲｆ上には、第１電極層２が形成されていないので、この非発光領域ＡＲｆでは、発光しない。このため、第６実施形態における面発光装置Ｄｆの輝度分布ＬＤ３を均一にできる。
【０１１９】
以上説明したように、第６実施形態における面発光装置Ｄｆは、第１実施形態における面発光装置Ｄａと同様な作用効果を奏する。
【０１２０】
上記第６実施形態における面発光装置Ｄｆは、前記複数の非発光領域ＡＲｆを除く領域に第１電極層２を形成することで、比較的容易に前記非発光領域ＡＲｆを形成できる。
【０１２１】
なお、これら第１ないし第６実施形態において、非発光領域ＡＲを備えない面発光層（前記他方の面発光層）は、複数のサブ面発光層を備えて構成されても良い。これら複数のサブ面発光層は、それぞれ、第１および第２面発光層３、５と同様に、面発光する層であり、例えば、有機ＥＬ（ＯＬＥＤ）から構成される有機発光層を備える。これら複数のサブ面発光層は、それぞれ、第１および第２面発光層３、５と同様に、単層構造であって良く、あるいは、多層構造であって良い。
【０１２２】
また、これら第１ないし第６実施形態では、第１および第２面発光層３、５は、他の層を介在して間接的に重なっているが、中間層４を省略することで、面発光装置Ｄは、第１および第２面発光層３、５が他の層を介在せずに直接的に重なって構成することもできる。
【０１２３】
本発明を表現するために、上述において図面を参照しながら実施形態を通して本発明を適切且つ十分に説明したが、当業者であれば上述の実施形態を変更および／または改良することは容易に為し得ることであると認識すべきである。したがって、当業者が実施する変更形態または改良形態が、請求の範囲に記載された請求項の権利範囲を離脱するレベルのものでない限り、当該変更形態または当該改良形態は、当該請求項の権利範囲に包括されると解釈される。
【符号の説明】
【０１２４】
Ｄａ、Ｄｂ、Ｄｃ、Ｄｄ、Ｄｅ、Ｄｆ、ｄ  面発光装置
ＡＲａ（ＡＲ１ａ、ＡＲ２ａ）、ＡＲｂ（ＡＲ１ｂ、ＡＲ２ｂ）、ＡＲｃ、ＡＲｄ（ＡＲ１ｄ、ＡＲ２ｄ）、ＡＲｅ（ＡＲ１ｅ、ＡＲ２ｅ）、ＡＲｆ  非発光領域
ＣＭ  貫通開口
ＥＳ  直流電源
ＥＳ−１  第１直流電源
ＥＳ−２  第２直流電源
１  第１基板
２  第１電極層
３  第１面発光層
４  中間層
５  第２面発光層
６  第２電極層
７  第２基板
８  第３電極層
８−１  第３Ａ電極層
８−２  第３Ｂ電極層
９  絶縁層
１０  発光阻止層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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