(57)【要約】      （修正有）【課題】基材との密着性および導電性が良好で、Ｌ／Ｓが３０μｍ／３０μｍ以下のレーザー加工ができるレーザー加工用導電性ペーストおよび導電性シートの提供。【解決手段】バインダー樹脂、導電性微粒子および分散剤を含むレーザー加工用導電性ペーストであって、２５℃、周波数１Ｈｚにおいて、振動応力１Ｐａでの貯蔵弾性率をＧ’（Ａ）、振動応力１Ｐａでの損失弾性率をＧ’’（Ａ）、振動応力１００Ｐａでの貯蔵弾性率Ｇ’（Ｂ）、振動応力１００Ｐａでの損失弾性率をＧ’’（Ｂ）、ｔａｎδ（Ａ）＝Ｇ’’（Ａ）／Ｇ’（Ａ）、ｔａｎδ（Ｂ）＝Ｇ’’（Ｂ）／Ｇ’（Ｂ）、とした際に、Ｇ’’（Ａ）およびＧ’’（Ｂ）が、いずれも１００〜５，０００Ｐａであり、ｔａｎδ（Ａ）およびｔａｎδ（Ｂ）が、いずれも１〜２０である、レーザー加工用導電性ペースト。【選択図】図１
2018045853.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バインダー樹脂、導電性微粒子および分散剤を含むレーザー加工用導電性ペーストであって、２５℃、周波数１Ｈｚにおいて、
振動応力１Ｐａでの貯蔵弾性率をＧ’（Ａ）、
振動応力１Ｐａでの損失弾性率をＧ’’（Ａ）、
振動応力１００Ｐａでの貯蔵弾性率Ｇ’（Ｂ）、
振動応力１００Ｐａでの損失弾性率をＧ’’（Ｂ）、
ｔａｎδ（Ａ）＝Ｇ’’（Ａ）／Ｇ’（Ａ）、
ｔａｎδ（Ｂ）＝Ｇ’’（Ｂ）／Ｇ’（Ｂ）、
とした際に、
Ｇ’’（Ａ）およびＧ’’（Ｂ）が、いずれも１００〜５，０００Ｐａであり、
ｔａｎδ（Ａ）およびｔａｎδ（Ｂ）が、いずれも１〜２０である、
レーザー加工用導電性ペースト。
【請求項２】
前記導電性微粒子のアスペクト比が２以下である、請求項１記載のレーザー加工用導電性ペースト。
【請求項３】
前記導電性微粒子のＤ５０平均粒子径が０．３〜３μｍである、請求項１または２記載のレーザー加工用導電性ペースト。
【請求項４】
前記バインダー樹脂と前記導電性微粒子との合計１００質量部に対して、前記分散剤を０．１〜１０質量部含む、請求項１〜３いずれか記載のレーザー加工用導電性ペースト。
【請求項５】
基材、および請求項１〜４いずれか記載のレーザー加工用導電性ペーストから形成された導電層を備えた、導電性シート。
【請求項６】
前記導電層の基材と接していない面の表面粗さＲａが０．１〜０．３μｍである、請求項５記載の導電性シート。
【請求項７】
請求項５または６に記載の導電性シートにレーザー加工を行い、前記導電層の一部を除去する配線回路の製造方法。
【請求項８】
請求項７記載の方法により製造された配線回路を備えた電子機器の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザー加工用導電性ペーストおよびそれを用いた導電性シートと、配線回路およびそれを用いた電子機器の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子部品、電磁波シールド用の導電性薄膜の形成手段、または信号配線等の形成手段として、エッチング法が広く使用されている。エッチング法は、金属被膜の一部をエッチング液で除去することで所望の形状の信号配線を得る方法であるが、一般的に工程が煩雑、かつ別途、廃液処理が必要であるため、費用および環境への負荷がかかる問題があった。また、エッチング法によって形成された信号配線は、アルミニウムや銅など金属材料等で形成されたものであるため、折り曲げ等の物理的衝撃に対して弱いという問題があった。
【０００３】
そこで、上記問題を解決してより安価に信号配線を形成するために、導電性ペーストを使用した印刷法が注目されている。印刷法は、エッチング工程が不要であるため大掛かりな設備や廃液処理等が必要ないため低コストかつ容易に信号配線を形成できる。さらに配線板全体の小型化にも寄与できるため電子部品の小型軽量化、生産性の向上、低コスト化が期待されている。
【０００４】
また、近年スマートフォン、タブレット型端末等の情報端末は、その大きさを維持したまま多機能化、およびディスプレイの高精細化が進んでおり、これら性能をさらに向上させるためには、電子部品をさらに高密度に実装する必要がある。電子部品の高密度実装には、電子部品自体の小型化と、信号配線の微細化が求められており、導電性ペーストによる印刷法の高精細化もそれに伴い求められている。
例えば、静電容量方式のタッチパネルでは、１００μｍ以下の幅のライン／スペース（１００μｍ以下／１００μｍ以下）（以下、「Ｌ／Ｓ」と略記する）が普及しており、さらには、スマートフォン、およびタブレット型端末等の多機能化、ならびにディスプレイの高精細化により、Ｌ／Ｓが５０μｍ／５０μｍ以下の信号配線が強く求められているが、印刷法では、更なる高精細化が難しかった。
【０００５】
そこで導電性被膜にレーザー光を照射することで信号配線を形成するレーザー加工法（レーザーアブレーション法）の検討が行なわれている。レーザー加工法では、導電性ペーストを印刷して絶縁性基材上に導電性被膜を形成し、その一部をレーザー光により絶縁性基材上から除去することで信号配線を形成する。これにより印刷法では形成が困難なＬ／Ｓが５０μｍ／５０μｍ程度の高精細な信号配線を形成できるが、市場からは、さらにＬ／Ｓが３０μｍ／３０μｍ以下の超高精細の信号配線が強く求められている。
【０００６】
特許文献１には、レーザー光照射によるアブレーション加工（以下、レーザー加工という）を行うための導電性ペーストとして、導電性微粒子、無機フィラー、および樹脂結着剤、ならびに界面活性剤、シランカップリング剤および有機金属化合物のいずれかを含む導電性ペーストが開示されている。
また、特許文献２には、数平均分子量が５，０００〜６０，０００かつガラス転移温度が６０〜１００℃のバインダー樹脂、金属粉および有機溶剤を含むレーザー加工用導電性ペーストが開示されている。
【０００７】
しかし、これら従来のレーザー加工用導電性ペーストでは、Ｌ／Ｓが３０μｍ／３０μｍ以下の超高精細の信号配線を形成することは困難であり、また、基材に対する密着性も満足するものではなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０１４−２９９２号公報
【特許文献２】国際公開ＷＯ２０１４／０１３８９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明が解決しようとする課題は、基材との密着性および導電性が良好で、従来の導電性ペーストでは困難とされていたＬ／Ｓが３０μｍ／３０μｍ以下のレーザー加工ができるレーザー加工用導電性ペーストおよび導電性シートを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、以下に示すレーザー加工用導電性ペーストにより解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１１】
即ち、本発明の実施態様は、バインダー樹脂、導電性微粒子および分散剤を含むレーザー加工用導電性ペーストであって、２５℃、周波数１Ｈｚにおいて、
振動応力１Ｐａでの貯蔵弾性率をＧ’（Ａ）、
振動応力１Ｐａでの損失弾性率をＧ’’（Ａ）、
振動応力１００Ｐａでの貯蔵弾性率Ｇ’（Ｂ）、
振動応力１００Ｐａでの損失弾性率をＧ’’（Ｂ）、
ｔａｎδ（Ａ）＝Ｇ’’（Ａ）／Ｇ’（Ａ）、
ｔａｎδ（Ｂ）＝Ｇ’’（Ｂ）／Ｇ’（Ｂ）、
とした際に、
Ｇ’’（Ａ）およびＧ’’（Ｂ）が、いずれも１００〜５，０００Ｐａであり、
ｔａｎδ（Ａ）およびｔａｎδ（Ｂ）が、いずれも１〜２０である、
レーザー加工用導電性ペーストである。
【００１２】
また、本発明の実施態様は、上記導電性微粒子のアスペクト比が２以下である上記レーザー加工用導電性ペーストである。
【００１３】
また、本発明の実施態様は、上記導電性微粒子のＤ５０平均粒子径が０．３〜３μｍである上記レーザー加工用導電性ペーストである。
【００１４】
また、本発明の実施態様は、上記バインダー樹脂と上記導電性微粒子との合計１００質量部に対して、上記分散剤を０．１〜１０質量部含む上記レーザー加工用導電性ペーストである。
【００１５】
また、本発明の実施態様は、基材、および上記レーザー加工用導電性ペーストから形成された導電層を備えた導電性シートである。
【００１６】
また、本発明の実施態様は、前記導電層の基材と接していない面の表面粗さＲａが０．１〜０．３μｍである上記導電性シートである。
【００１７】
また、本発明の実施態様は、上記導電性シートにレーザー加工を行い、前記導電層の一部を除去する配線回路の製造方法である。
【００１８】
また、本発明の実施態様は、上記方法により製造された配線回路を備えた電子機器の製造方法である。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、基材との密着性および導電性が良好で、従来の導電性ペーストでは困難とされていたＬ／Ｓが３０μｍ／３０μｍ以下のレーザー加工ができるレーザー加工用導電性ペーストおよび導電性シートを提供できるようになった。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】図１  レーザー加工性の評価で使用するスクリーン印刷版の平面図である。
【図２】図２  レーザー加工後の回路パターンの一部の拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
まず、本発明を説明する前に用語を定義する。信号配線は、配線回路、回路パターン等の電気信号を送信する配線、ならびにグランド配線等のアース接続用の配線を含む。導電性ペーストの貯蔵弾性率Ｇ’、および損失弾性率Ｇ’’は、動的粘弾性測定装置（レオメーター）「レオストレス６０００」（ＨＡＡＫＥ社製）にて、上部コーン型円盤（直径２０ｍｍ、角度０．５°）を用いて、２５℃、周波数１（Ｈｚ）に固定し、振動応力０．１〜１０，０００（Ｐａ）の範囲で測定した数値である。また、損失弾性率Ｇ’’を貯蔵弾性率Ｇ’で除した数値がｔａｎδである。
【００２２】
本発明のレーザー加工用導電性ペースト（以下、単に「導電性ペースト」ということがある）は、バインダー樹脂、および導電性微粒子を含み、
前記レーザー加工用導電性ペーストに対して、２５℃、周波数１（Ｈｚ）において、
振動応力１Ｐａでの貯蔵弾性率をＧ’（Ａ）、
振動応力１Ｐａでの損失弾性率をＧ’’（Ａ）、
振動応力１００Ｐａでの貯蔵弾性率Ｇ’（Ｂ）、
振動応力１００Ｐａでの損失弾性率をＧ’’（Ｂ）、
ｔａｎδ（Ａ）＝Ｇ’’（Ａ）／Ｇ’（Ａ）、
ｔａｎδ（Ｂ）＝Ｇ’’（Ｂ）／Ｇ’（Ｂ）、
とした際に、
Ｇ’’（Ａ）およびＧ’’（Ｂ）が、いずれも１００〜５，０００Ｐａであり、
ｔａｎδ（Ａ）およびｔａｎδ（Ｂ）が、いずれも１〜２０である。
【００２３】
印刷法での信号配線の形成は、導電性ペーストをスクリーン印刷して形成するのが一般的であり、導電性ペーストの粘性をチキソトロピック性に調整して使用されていた。そのため、従来の導電性ペーストは、流動性が悪く、印刷によって導電性被膜を形成すると、その被膜表面はスクリーン印刷版に由来する凹凸形状が形成され、局所的に被膜の膜厚がばらつくことが多かった。このような導電性被膜に、例えばＬ／Ｓ＝３０μｍ／３０μｍのレーザー加工を行うと、被膜が厚い部分はレーザーアブレーションし難いため被膜が残り、被膜が薄い部分はレーザーアブレーションが容易で被膜が除去され、結果としてスペース幅（Ｓ幅）にばらつきが生じ、高精細な信号配線を形成することができないという問題があった。そこで、導電性被膜の凹凸を少なくし平滑な表面を形成する目的で、導電性ペーストの低粘度化や、ＴＩ値（チキソインデックス）を下げる試みが行われていたが、平滑性の良い導電性被膜を形成できる導電性ペーストは知られていなかった。
【００２４】
そこで本発明者らは、導電性ペーストの弾性的な性質（弾性変形）である貯蔵弾性率と、流動的な性質（粘性流動）である損失弾性率に着目し、これら粘弾性特性が特定範囲にある導電性ペーストを用いた場合、驚くべきことに、極めて流動性が良好で、平滑な導電性被膜を形成できることを見いだし本発明に至った。以下、本発明の導電性ペーストを作成するための材料について説明する。
【００２５】
＜バインダー樹脂＞
バインダー樹脂は、ポリエスエル樹脂、ウレタン変性ポリエステル樹脂、エポキシ変性ポリエステル樹脂、（メタ）アクリル樹脂、スチレン樹脂、スチレン−（メタ）アクリル樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂、エポキシ樹脂、変性エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ブチラール樹脂、アセタール樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、アルキッド樹脂、ポリオレフィン樹脂、フッ素樹脂、ケトン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、シリコン樹脂、ニトロセルロース樹脂、セルロース・アセテート・ブチレート（ＣＡＢ）樹脂、セルロース・アセテート・プロピオネート（ＣＡＰ）樹脂、ロジン、ロジンエステル、およびマレイン酸樹脂等が挙げられる。これらの中でもバインダー樹脂は、基材への密着性、例えばスクリーン印刷で使用される溶剤への溶解性、信号配線に必要な塗膜の機械強度の面より、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、およびエポキシ樹脂が好ましい。
バインダー樹脂は、単独または２種類以上を併用できる。
【００２６】
ポリエステル樹脂は、水酸基およびカルボキシル基の少なくともいずれか有することが好ましい。ポリエステル樹脂は、多塩基酸とポリオール等との反応、または多塩基酸エステルとポリオール等とのエステル交換反応等の公知の合成法で合成できる。また、ポリエステル樹脂にカルボキシル基を付与する方法は、公知の手法が使用できるが、例えばポリエステル樹脂を重合後、１８０〜２３０℃でε−カプロラクトンなどの環状エステルを後付加（開環付加）してブロック化する方法、または無水トリメリット酸、無水フタル酸などの酸無水物を付加する方法等が挙げられる。また、ポリエスエル樹脂は、飽和ポリエステル樹脂が好ましい。
【００２７】
多塩基酸は、芳香族ジカルボン酸、直鎖脂肪族ジカルボン酸、環状脂肪族ジカルボン酸等、および３官能以上のカルボン酸等が好ましい。なお、多塩基酸は、酸無水物基含有化合物を含む。芳香族ジカルボン酸は、テレフタル酸、イソフタル酸等が挙げられる。直鎖脂肪族ジカルボン酸は、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸等が挙げられる。環状脂肪族ジカルボン酸は、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、ジカルボンキシ水素添加ビスフェノールＡ、ダイマー酸、４−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、３−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。３官能以上のカルボン酸は、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸等が挙げられる。その他カルボン酸は、フマル酸等の不飽和ジカルボン酸、５−スルホイソフタル酸ナトリウム塩等のスルホン酸金属塩含有ジカルボン酸等が挙げられる。  多塩基酸は、単独または２種類以上を併用できる。
【００２８】
ポリオールは、ジオール、および３個以上の水酸基を有する化合物が好ましい。ジオールは、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール等が挙げられる。３個以上の水酸基を有する化合物は、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール等が挙げられる。ポリオールは、単独または２種類以上を併用できる。
【００２９】
ポリウレタン樹脂は、ポリオールとジイソシアネートと鎖延長剤のジオール化合物とを反応させて得られる、末端に水酸基を有する樹脂である。ポリウレタン樹脂は、鎖延長剤を使用して分子鎖を延ばすことができる。鎖延長剤は、一般的にはジオール等が好ましい。ポリウレタン樹脂は、公知の合成法で合成できる。
【００３０】
ポリウレタン樹脂の合成に使用するポリオールは、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリブタジエングリコール等が好ましい。ポリオールは単独または２種類以上併用できる。
ポリエーテルポリオールは、酸化エチレン、酸化プロピレン、およびテトラヒドロフラン等の重合体、ならびにこれらの共重合体である。
ポリエステルポリオールは、前記ポリエステル樹脂で説明したポリオールと多塩基酸のエステルである。
ポリカーボネートポリオールは、１）ジオールまたはビスフェノールと、炭酸エステルとの反応生成物、または２）ジオールまたはビスフェノールを、アルカリの存在下でホスゲンと反応させて得られる反応生成物等が好ましい。
炭酸エステルは、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジフェニルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等が挙げられる。
【００３１】
ジイソシアネートは、芳香族ジイソシアネート、脂肪族ジイソシアネート、脂環族イソシアネート等が好ましい。ジイソシアネートは単独または２種類以上を併用できる。
【００３２】
ポリウレタンウレア樹脂は、ポリオールとジイソシアネートとを反応させて末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーを合成し、さらにポリアミンと反応させて得られる樹脂である。また、ポリウレタンウレア樹脂は、分子量を調整するため必要に応じて反応停止剤を反応させることができる。ポリオールおよびジイソシアネートは、前記ポリウレタン樹脂で説明した化合物を使用することが好ましい。ポリアミンはジアミンが好ましい。また、分子中に水酸基を有するには、ジアミンの一部または全てを水酸基を有するジアミンに置き換えて合成する方法が挙げられる。前記水酸基を有するジアミンとしては、Ｎ−アミノエチルエタノールアミン等のＮ−アミノアルキルアルコールアミン等が好ましい。
反応停止剤は、ジアルキルアミン、モノアルコール等が好ましい。また、分子末端に水酸基を有するには、モノアミンの一部または全てをアルカノールアミン等の水酸基を有するモノアミンに置き換えて合成する方法が挙げられる。前記アルカノールアミンとしては、ジエタノールアミン等が好ましい。ポリウレタンウレアは、公知の合成法で合成できる。
【００３３】
ポリウレタン樹脂およびポリウレタンウレア樹脂は、水酸基に加えて、カルボキシル基を有することが好ましい。具体的には、合成の際、ジオールの一部をカルボキシル基を有するジオールに置き換えて合成する方法が挙げられる。前記ジオールは、ジメチロールプロピオン酸、およびジメチロールブタン酸等が好ましい。
【００３４】
導電性ペーストがポリウレタン樹脂またはポリウレタンウレア樹脂を含む場合、形成する導電性被膜の硬さがより向上する。
【００３５】
ポリウレタン樹脂やポリウレタンウレア樹脂を合成する際、溶剤を使用できる。
溶剤は、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、脂肪族系溶剤、芳香族系溶剤、カーボネート系溶剤等が好ましい。
溶剤は、単独または２種類以上併用できる。
【００３６】
エポキシ樹脂は、エポキシ基を有する樹脂であり、さらに水酸基を有する樹脂が好ましい。エポキシ樹脂は、ビスフェノールＡおよびビスフェノールＦに代表される芳香族ジオールとエピクロルヒドリンとを反応させて得られるポリグリシジルエーテルが好ましい。エポキシ樹脂は、高分子エポキシ樹脂である、いわゆるフェノキシ樹脂を使用することも好ましい。
バインダー樹脂は、単独または２種類以上併用できる。
【００３７】
本発明においてバインダー樹脂は、数平均分子量５，０００〜５０，０００が好ましく、１０，０００〜４０，０００がより好ましい。数平均分子量が５，０００以上になることで形成する信号配線の環境信頼性が向上し、特に耐湿熱性がより向上する。また、数平均分子量が５０，０００以下になることで、導電性被膜に適度な凝集力を付与できるため、レーザー加工時のアブレーションが容易になり微細な信号配線が得易くなる。なお、数平均分子量は、ＧＰＣ（ゲルパーミッションクロマトグラフィー）で測定したポリスチレン換算の数値である。また、信号配線の環境信頼性とは、導電性被膜の基材（例えばＩＴＯフィルム）に対する密着性が劣化し難いことであり、具体的には、それぞれ８０℃、−４０℃、および６０℃９０％の経時、ならびに８５℃〜−４０℃のサイクル試験である。
【００３８】
また、バインダー樹脂は、ガラス転移温度（以下、Ｔｇという）５〜１００℃が好ましく、１０〜９５℃がより好ましい。Ｔｇが５℃以上になると、信号配線と基材との６０℃９０％経時後の密着性（以下、耐湿熱性という）がより向上する。また、Ｔｇが１００℃以下になると信号配線と基材との密着性がより向上し、レーザー加工が容易になることで微細なＬ／Ｓが得易くなる。なお、Ｔｇは、ＤＳＣ（示差走査熱量分析計）測定装置「ＤＳＣ−２２０Ｃ」（セイコーインスツルメンツ（株）社製）にて測定した数値である。
【００３９】
バインダー樹脂は、数平均分子量とＴｇを同時に満足すると信号配線の環境信頼性がより向上するとともに、レーザー加工性がより向上する。
【００４０】
バインダー樹脂は、バインダー樹脂および導電性微粒子の合計１００質量％のうち５〜４０質量％を配合することが好ましく、５〜１５質量％がより好ましい。５質量％以上になることで導電性被膜は、基材との密着性がより向上し、被膜の機械強度も向上する。また、４０質量％以下になることで導電性被膜の導電性がより向上する。
【００４１】
＜導電性微粒子＞
本発明において導電性微粒子は、導電性皮膜に所望の導電性を付与するために必要である。導電性微粒子は、平均粒子径の大小にこだわらず使用できるところ、平均粒子径が小さく、粗大粒子が少ないほど、例えばスクリーン印刷を行った場合、導電性被膜表面の凹凸を抑制できるのでレーザー加工の際にレーザー光が導電性被膜表面で散乱しにくく、微細な信号配線が形成し易い。また、例えば平均粒子径が小さな導電性微粒子を使用すると導電性被膜の厚さがバラつき難いためレーザー加工で良好な加工精度が得易く、直線性の高い信号配線を形成できる。また導電性微粒子は、形状が球状に近いほど、失弾性率Ｇ’’およびｔａｎδを所定の範囲にした粘性流動を有することができる。
【００４２】
上記特性を得るため、導電性微粒子のアスペクト比が２以下であることが好ましく、１．１以上１．６以下であることがより好ましい。アスペクト比が２以下の粒子を使用することにより、導電性微粒子同士の接触確率と接触面積を低くすることができ、導電性ペーストのチキソトロピック性を抑え、印刷に適した粘性流動を有することができる。
【００４３】
また、本発明において導電性微粒子のＤ５０平均粒子径（以下、「Ｄ５０」と略記することがある）が０．３〜３μｍが好ましく、０．３〜２μｍがより好ましい。０．３μｍ以上にすることで表面平滑性に適した粘性流動をより得られやすく、３μｍ以下にすることでレーザー加工時の直線性がより向上する。
【００４４】
導電性微粒子は、例えば金、銀、銅、ニッケル、クロム、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、インジウム、ケイ素、アルミニウム、タングステン、モリブテン、および白金等の金属粉、ならびにこれらの合金、ならびにこれらの複合粉、ならびに導電性樹脂が挙げられる。
また、核体と、前記核体表面を前記核体物質とは異なる物質で被覆した複合微粒子、例えば、銅を核体とし、その表面を銀で被覆した、いわゆる銀コート銅粉等が挙げられる。
また、導電性微粒子は、例えば酸化銀、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化ルテニウム、ＩＴＯ（スズドープ酸化インジウム）、ＡＺＯ（アルミドープ酸化亜鉛）、およびＧＺＯ（ガリウムドープ酸化亜鉛）等の金属酸化物の粉末、ならびにこれらの金属酸化物で表面被覆した粉末等も挙げられる。
これらの中でもコストが低く、導電性が高く、酸化し難いため電気抵抗率の変化が少ない銀が好ましい。導電性微粒子は、単独または２種類以上を併用できる。
【００４５】
導電性微粒子の形状は、球状、フレーク状、樹枝状、棒状、および線状等の公知の形状が使用できる。
【００４６】
導電性微粒子は、バインダー樹脂および導電性微粒子の合計１００質量％のうち６０〜９５質量％を配合することが好ましく、８５〜９５質量％がより好ましい。６０質量％以上になることで導電性がより向上する。また、９５質量％以下になることで導電性被膜は、基材との密着性がより向上し、機械強度も向上する。
【００４７】
＜レーザー光増感剤＞
本発明の導電性ペーストは、さらにレーザー加工性を向上させるために、レーザー光増感剤を含むことができる。レーザー光増感剤は、レーザー光の波長に吸収を有する染料、顔料、フィラー等が挙げられ、顔料が好ましく、顔料の炭素粉末がより好ましい。炭素粉末は、カーボンブラック、ファーネスブラック、チャンネルブラック、ランプブラック、アセチレンブラック、ケチェンブラック、カーボンナノチューブ、グラファイト等が挙げられる。
レーザー光増感剤は、バインダー樹脂および導電性微粒子を合計した１００質量部に対して０．１〜１０質量部を配合することが好ましい。
レーザー光増感剤は、単独または２種類以上を併用できる。
【００４８】
＜分散剤＞
本発明において分散剤は、分散し難い導電性微粒子を導電性ペーストに分散するために使用する。また、導電性ペーストが分散剤を含むとバインダー樹脂と導電性微粒子が混和しやすく分散性が向上するため、導電性ペーストを流動粘性に近づけ易い。そのため、例えばスクリーン印刷で塗工し形成した被膜は、表面が平滑で膜厚がバラつき難いので、レーザー加工での加工性が良好であり、直線性が良好な信号配線が形成できる。
分散剤は、樹脂型分散剤、界面活性剤、シランカップリング剤および金属キレート等が好ましい。
【００４９】
樹脂型分散剤は、親和性部位と、バインダー樹脂に親和性が高い部位を有するポリマー（樹脂）の分散剤である。導電性微粒子に吸着する親和性部位は、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基、水酸基、マレイン酸基、（一級、二級、三級）アミノ基、アミド基、アルキルアンモニウム塩、リン酸塩、およびポリアミドアマイド等が挙げられる。またバインダー樹脂に親和性が高い部位は、ポリエステルユニット、ポリエーテルユニット、ポリエーテルエステルユニット、ポリアクリルユニット、およびポリウレタンユニット等が挙げられる。樹脂型分散剤は、数平均分子量が５００以上５，０００未満の範囲内であることが好ましい。上記範囲内であることにより、導電性微粒子に対する濡れ性が良好で分散性が向上すると共に、経時での分散安定性を両立することが可能となる。
【００５０】
樹脂型分散剤は、以下の樹脂型分散剤が好ましい。例えば、ポリウレタン、およびポリアクリレート等のポリカルボン酸エステルポリアミド；ポリカルボン酸、ポリカルボン酸（部分）アミン塩、ポリカルボン酸アンモニウム塩、ポリカルボン酸アルキルアミン塩、ポリシロキサン、長鎖ポリアミノアマイドリン酸塩、および水酸基含有ポリカルボン酸エステル；ポリ（低級アルキレンイミン）と遊離のカルボキシル基を有するポリエステルとの反応で合成したアミド、およびその塩等；、
ポリエステル、ポリエーテル、ポリエステルエーテル、ポリウレタン等のポリリン酸（塩）；ポリリン酸、ポリリン酸（部分）アミン塩、ポリリン酸アンモニウム塩、ポリリン酸アルキルアミン塩等；
（メタ）アクリル酸−スチレン共重合体、（メタ）アクリル酸−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル系、変性ポリアクリレート系、エチレンオキサイド／プロピレンオキサイド付加化合物、および繊維系誘導体樹脂等が挙げられる。樹脂型分散剤の好ましい一態様として、アルキルアンモニウム塩構造を有する樹脂が挙げられる。
【００５１】
界面活性剤は、アニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、および両性界面活性剤が好ましい。
アニオン性界面活性剤は、ラウリル硫酸ソーダ、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ、およびスチレン−アクリル酸共重合体のアルカリ塩；ステアリン酸ナトリウム、アルキルナフタリンスルホン酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸モノエタノールアミン、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、ラウリル硫酸アンモニウム、ステアリン酸モノエタノールアミン、ステアリン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、およびスチレン−アクリル酸共重合体のモノエタノールアミンポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エスエル等が挙げられる。
ノニオン性界面活性剤は、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリエチレングリコールモノラウレート等が挙げられる。
カチオン性界面活性剤は、アルキル４級アンモニウム塩やそれらのエチレンオキサイド付加物等が挙げられる。
両性界面活性剤は、アルキルジメチルアミノ酢酸ペタイン等のアルキルペタイン、およびアルキルイミダゾリン等が挙げられる。
【００５２】
シランカップリング剤は、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、２‐（３，４‐エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３‐グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３‐グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ｐ‐スチリルトリメトキシシラン‐３‐メタクリロキシプロピル、メチルジメトキシシラン、３‐メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３‐メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３‐メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３‐アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ‐２‐（アミノエチル）‐３‐アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ‐２‐（アミノエチル）‐３‐アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ‐２‐（アミノエチル）‐３‐アミノプロピルトリエトキシシラン、３‐アミノプロピルトリメトキシシラン、３‐アミノプロピルトリエトキシシラン、３‐トリエトキシシリル-Ｎ（１，３‐ジメチル-ブチリデン）、プロピルアミンＮ‐フェニル‐３‐アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ‐（ビニルベンジル）‐２‐アミノエチル‐３‐アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩、３‐ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３‐クロロプロピルトリメトキシシラン、３‐メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３‐メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド、および３‐イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【００５３】
金属キレートは、金属アルコシドと、β−ジケトンやケトエステル（例えば、アセト酢酸エチル等）等のキレート化剤とを反応させたキレート化合物（金属錯体）である。金属キレートは、アルミニウムキレート、ジルコニウムキレート、およびチタンキレート等が好ましい。
【００５４】
アルミニウムキレートは、アルミニウムと配位子のアセトネート基で構成される。アセトネート基は、例えばアセチルアセトネート基：−Ｏ−Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ、−ＣＯ（ＣＨ3）や、メチルアセトアセトネート基：−Ｏ−Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−ＣＨ3、およびエチルアセトアセトネート基：−Ｏ−Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−Ｃ2Ｈ5等が挙げられる。これらの中でもアセチルアセトネート基、メチルアセトアセトネート基、およびエチルアセトアセテート基から少なくとも１種以上を使用すると導電性被膜の導電性がより向上するため好ましい。
アルミニウムキレートは、例えばエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピオネート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（アセチルアセテート）、アルミニウムモノアセチルアセテートビス（エチルアセトアセテテート）、アルミニウム−ジ−ｎ−ブトキシドモノメチルアセトアセテート、アルミニウムジイソブトキシドモノメチルアセトアセテート、アルミニウム−ジ−ｓｅｃ−ブトキシドモノメチルアセトアセテート等が挙げられるがこれらに限定されない。アルミニウムキレートは、式量が２００〜４２０の化合物が好ましい。
【００５５】
ジルコニウムキレートは、ジルコニウムとアセトネート基で構成される。アセトネート基は、アセチルアセトネート基、およびエチルアセトアセテート基が好ましい。
ジルコニウムキレートは、例えばジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムトリブトキシアセチルアセトネート、ジルコニウムモノブトキシアセチルアセトネートビス(エチルアセトアセテート)、ジルコニウムジブトキシビス（エチルアセトアセテート）、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート等が挙げられる。ジルコニウムキレートは、式量が３５０〜１,０００の化合物が好ましい。
【００５６】
チタンキレートは、 （ＨＯＲ1Ｏ）2Ｔｉ（ＯＲ2）2あるいは（Ｈ2ＮＲ1Ｏ）2Ｔｉ（０Ｒ2）2で表すことができるチタンキレートおよびアルコキシチタンが好ましい。ここで、Ｒ1およびＲ2はアルキル基である。
チタンキレートは、例えば、ジ−ｉ−プロポキシビス（アセチルアセトナト）チタン、ジ−ｎ−プトキシビス（トリエタノールアミナト）チタン、チタニウム−ｉ−プロポキシオクチレングリコレート、チタニウムステアレート、チタンアセチルアセトナート、チタンテトラアセチルアセトナート、ポリチタンアセチルアセチルアセトナート、チタンオクチレングリコレート、チタンエチルアセトアセテート、チタンラクテート、およびチタントリエタノールアミネート等が挙げられる。チタンキレートは、式量が２５０〜１，５００の化合物が好ましい。
分散剤は、単独または２種類以上を併用できる。
【００５７】
分散剤は、バインダー樹脂と導電性微粒子との合計１００質量部に対して、０．１〜１０質量部を配合することが好ましく、０．５〜５質量部がより好ましい。分散剤が０．１質量部以上になることで導電性微粒子の分散性がより向上する。また、分散剤が１０質量以下になることで導電性被膜の導電性がより向上する。
【００５８】
＜溶剤＞
本発明のレーザー加工用導電性ペーストは、さらに溶剤を配合できる。溶剤を配合することでレーザー加工用導電性ペーストの流動性向上し、印刷に適した粘度への調整が容易になる。
溶剤は、使用する樹脂の溶解性や印刷方法等の種類に応じて、選択することができる。溶剤は、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、脂肪族系溶剤、脂環族系溶剤、芳香族系溶剤、アルコール系溶剤、水等が好ましい。
エステル系溶剤は、例えば酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸アミル、乳酸エチル、および炭酸ジメチル等が挙げられるがこれらに限定されない。
環状エステル系溶剤は、例えばε−カプロラクトン、およびγ―ブチロラクトン等が挙げられるがこれらに限定されない。
ケトン系溶剤は、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、イソホロン、およびシクロヘキサノン等が挙げられるがこれらに限定されない。
グリコールエーテル系溶剤は、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、およびエチレングリコールモノブチルエーテル等のモノエーテル、ならびにこれらの酢酸エステル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、およびプロピレングリコールモノエチルエーテル等、ならびにこれらの酢酸エステル等が挙げられる。
脂肪族系溶剤は、ｎ−ヘプタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等が挙げられる。
芳香族系溶剤は、トルエン、キシレン、テトラリン等が挙げられる。
溶剤は、単独または２種類以上を併用できる。溶剤は、導電性ペーストの不揮発分および溶剤の合計１００質量％のうち５〜５０質量％程度使用することが好ましい。
【００５９】
＜硬化剤＞
本発明の導電性ペーストは、さらに硬化剤を含むことができる。硬化剤は、バインダー樹脂が反応性官能基（例えば水酸基やカルボキシル基等）を有する場合、その反応性官能基と反応可能な官能基を複数有し、硬化した導電性被膜の耐熱性、耐溶剤性、耐薬品性、または密着性等を向上させることができる。硬化剤は、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物、オキサゾリン化合物、カルボジイミド化合物、アミン化合物、酸無水物基含有化合物等が好ましい。
硬化剤は、バインダー樹脂が水酸基を有する場合、イソシアネート化合物等が好ましい。また、バインダー樹脂がカルボキシル基を有する場合、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物、オキサゾリン化合物、カルボジイミド化合物等が好ましい。さらに、バインダー樹脂がエポキシ基を有する場合、アミン化合物、酸無水物基含有化合物等が好ましい。
【００６０】
イソシアネート化合物は、芳香族ポリイソシアネート、脂肪族ポリイソシアネート、および脂環族ポリイソシアネート等が好ましい。
芳香族ポリイソシアネートは、例えばトリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、トリレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、および４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネートのオリゴマー等が挙げられる。
脂肪族ポリイシシアネートは、例えばヘキサメチレンジイソシアネートのビウレット体、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネートのオリゴマー、ヘキサメチレンジイソシアネートのウレトジオン、およびトリレンジイソシアネートとヘキサメチレンジイソシアネートからなるコポリマーのイソシアヌレート体等が挙げられる。
脂環族ポリイソシアネートは、例えばイソホロンジイソシアネートのイソシアヌレート体、イソホロンジイソシアネートのオリゴマー等が挙げられる。
また、これらの化合物をブロックしたブロック化イソシアネートも好ましい。ブロック剤は、例えば、ε−カプロラクタム、ブタノンオキシム、フェノール、および活性メチレン化合物等が好ましい。
【００６１】
エポキシ化合物は、エポキシ基を有する化合物である。エポキシ化合物の性状は、液体と固体がある。エポキシ化合物は、グリジシルエーテル型エポキシ樹脂、グリジシルアミン型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、および環状脂肪族（脂環型）エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂が好ましい。
【００６２】
グリシジルエーテル型エポキシ樹脂は、例えばビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂のクレゾール構造とクレゾール構造の間にビフェニル構造を有するエポキシ樹脂（日本化薬社製：ＮＣ−３０００等）、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂のクレゾール構造とクレゾール構造の間にジシクロペンタジエン骨格構造を有するエポキシ樹脂（日本化薬社製：ＸＤ−１０００等）、α−ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型ノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリス（グリシジルオキシフェニル）メタン、およびテトラキス（グリシジルオキシフェニル）エタン等が挙げられる。
【００６３】
グリシジルアミン型エポキシ樹脂は、例えばテトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルパラアミノフェノール、トリグリシジルメタアミノフェノール、およびテトラグリシジルメタキシリレンジアミン等が挙げられる。
【００６４】
グリシジルエステル型エポキシ樹脂は、例えばジグリシジルフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、およびジグリシジルテトラヒドロフタレート等が挙げられる。
【００６５】
環状脂肪族（脂環型）エポキシ樹脂は、例えばエポキシシクロヘキシルメチル−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、およびビス（エポキシシクロヘキシル）アジペート等が挙げられる。
【００６６】
アジリジン化合物は、例えば、トリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、テトラメチロールメタン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、Ｎ，Ｎ−ヘキサメチレン−１，６−ビス−１−アジリジンカルボキシアミド、４，４−ビス（エチレンイミノカルボキルアミノ）ジフェニルメタン等が挙げられる。
【００６７】
オキサゾリン化合物は、例えば２，２'−（１，３−フェニレン）−ビス（２−オキサゾリン）等が挙げられる。
【００６８】
カルボジイミド化合物は、例えばジシクロヘキシルカルボジイミド、およびカルボジライト（日清紡社製、ポリカルボジイミド系樹脂）等が挙げられる。
【００６９】
アミン化合物は、例えばジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン等が挙げられる。
【００７０】
酸無水物基含有化合物は、例えばテトラヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、無水メチルナジック酸、無水トリメリット酸、および無水ピロメリット酸等が挙げられる。
硬化剤は、単独または２種類以上を併用できる。
【００７１】
硬化剤は、バインダー樹脂１００質量部に対して、０．５〜２０質量部を配合することが好ましい。硬化剤を前記範囲内で使用すると導電性被膜の密着性、および耐熱性がより向上する。
【００７２】
本発明の導電性ペーストは、硬化反応を促進するために硬化促進剤等の添加剤を配合できる。硬化促進剤は、ジシアンジアミド、３級アミン化合物、ホスフィン化合物、イミダゾール化合物、カルボン酸ヒドラジド、脂肪族または芳香族ジメチルウレア等のジアルキルウレア、酸無水物等が使用できる。硬化促進剤により、硬化反応が促進される。
【００７３】
３級アミン化合物は、例えばトリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデセンー７、および１，５−ジアザビシクロ（４．３．０）ノネン−５等が挙げられる。
ホスフィン化合物は、例えばトリフェニルホスフィン、およびトリブチルホスフィン等が挙げられる。
イミダゾール化合物は、例えば２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、２，４−ジメチルイミダゾール、および２−フェニルイミダゾール等、ならびにこれらとエポキシ樹脂を反応させて溶剤に不溶化した化合物、ならびにこれらをマイクロカプセルに封入したタイプ等の保存安定性を改良した潜在性硬化促進剤等が挙げられる。
【００７４】
カルボン酸ヒドラジドは、例えばコハク酸ヒドラジド、アジピン酸ヒドラジド等を挙げることができる。酸無水物としては、テトラヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、無水メチルナジック酸、無水トリメリット酸、および無水ピロメリット酸等が挙げられる
硬化促進剤は、単独または２種類以上を併用できる。
硬化促進剤は、バインダー樹脂１００質量部に対して０．１〜３０質量部を配合することが好ましい。
【００７５】
本発明の導電性ペーストは、必要に応じて耐摩擦向上剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、芳香剤、酸化防止剤、有機顔料、無機顔料、消泡剤、可塑剤、難燃剤、保湿剤等を含むことができる。
【００７６】
本発明の導電性ペーストは、上段で説明した原料を所定の割合で配合して攪拌機で混合することで作製できる。攪拌機は、プラネタリーミキサー、デスパー等の公知の装置を使用できる。また、攪拌機に加えて、分散機等を用いて分散を行うことで導電性微粒子をより微細に分散できる。分散機は、ボールミル、ビーズミル、および３本ロール等が挙げられる。
【００７７】
さらに、作製した導電性ペーストは、濾過することが好ましい。濾過するフィルターは従来公知のフィルターを使用できる。例えば１００〜６５０メッシュのスクリーンメッシュを用いて濾過することができる。スクリーンメッシュの素材としては、ステンレス、ナイロン、ポリエステル、ポリアリレート等が挙げられる。
【００７８】
本発明の導電性ペーストは、流動性が良好な流動粘性を有している。具体的には、２５℃、周波数１Ｈｚにおいて、
振動応力１Ｐａでの貯蔵弾性率をＧ’（Ａ）、
振動応力１Ｐａでの損失弾性率をＧ’’（Ａ）、
振動応力１００Ｐａでの貯蔵弾性率Ｇ’（Ｂ）、
振動応力１００Ｐａでの損失弾性率をＧ’’（Ｂ）、
ｔａｎδ（Ａ）＝Ｇ’’（Ａ）／Ｇ’（Ａ）、
ｔａｎδ（Ｂ）＝Ｇ’’（Ｂ）／Ｇ’（Ｂ）、
とした際に、
Ｇ’’（Ａ）およびＧ’’（Ｂ）が、いずれも１００〜５，０００Ｐａであり、
ｔａｎδ（Ａ）およびｔａｎδ（Ｂ）が、いずれも１〜２０である。
【００７９】
なお、２５℃、周波数１Ｈｚにおいて、振動応力１Ｐａの損失弾性率Ｇ’’（Ａ）、および振動応力１００Ｐａの損失弾性率Ｇ’’（Ｂ）は、いずれも１００〜３，０００Ｐａであることが好ましい。いすれも１００Ｐａ以上にすることで、スクリーン印刷した場合滲みがより起きにくく、いずれも５，０００Ｐａ以下にすることで、導電性被膜の表面平滑性がより良好となる。
【００８０】
また、ｔａｎδ（Ａ）およびｔａｎδ（Ｂ）が、いずれも１〜１５であることがより好ましい。ｔａｎδ（Ａ）およびｔａｎδ（Ｂ）がいずれも１以上にすることで、導電性被膜の表面平滑性がより良好となり、ｔａｎδ（Ａ）およびｔａｎδ（Ｂ）がいずれも２０以下にすることで、スクリーン印刷した場合滲みがより起きにくい。
【００８１】
＜導電性シート＞
本発明の導電性シートは、基材と、レーザー加工用導電性ペーストから形成された導電層（以下、「導電性被膜」と称することがある）とを備える。導電性シートの製造方法の一例を挙げると、例えば、導電性ペーストを基材上に印刷等により導電性被膜を形成できる。得られた導電性被膜は、表面が平滑であるためレーザー加工性が良好である。導電性被膜の表面平滑性は、表面粗さＲａ０．３μｍ以下が好ましく、０．２５μｍ以下がより好ましい。また、Ｒａの下限値は、０μｍが好ましいが、実際には技術的に難しいため、現状０．１μｍ以上である。Ｒａが０．３μｍ以下になると表面の凸凹が少ないのでレーザー光が乱反射にし難く、直進性が高い回路パターンを形成し易くなる。
【００８２】
印刷は、スクリーン印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、グラビア印刷、グラビアオフセット印刷等が好ましく、スクリーン印刷がより好ましい。スクリーン印刷で使用するスクリーン版は、導電回路パターンの高精細化、導電性被膜の平滑性に対応すべく微細なメッシュ、特に好ましくは４００〜６５０メッシュ程度の微細なメッシュのスクリーンを用いることが好ましい。この時のスクリーンの開放面積は２０〜５０％が好ましい。スクリーン線径は約１０〜７０μｍが好ましい
導電性被膜を形成した後には、乾燥工程を行なうことが好ましい。乾燥工程は、熱風オーブン、赤外線オーブン、マイクロウエーブオーブン、およびこれらのオーブンを複合した複合オーブン等公知の乾燥装置が挙げられる。
【００８３】
基材は、特に限定されるものではなく、例えば、ポリイミドフィルム、ポリパラフェニレンテレフタルアミドフィルム、ポリエーテルニトリルフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、およびポリアクリルフィルム等が挙げられる。またこれらのフィルム上にＩＴＯ（スズドープ酸化インジウム）層を形成したＩＴＯフィルム、およびガラス板上にＩＴＯ層を形成したＩＴＯガラスも挙げられる。また、基材は、セラミック板上にＩＴＯ層を形成したＩＴＯセラミックも挙げられる、なおＩＴＯ層は、フィルムないし板の全面に形成する必要は無く部分的で形成されていても良い。
【００８４】
基材の厚みは、特に限定されないが、３０〜３５０μｍ程度であり、５０〜２５０μｍがより好ましい。前記範囲の厚みにより、基材の機械特性、形状安定性、寸法安定性、およびハンドリング面等が適切になりやすい。
【００８５】
導電性被膜の厚みは、通常３〜３０μｍが好ましく、４〜１０μｍがより好ましい。厚みが３〜３０μｍになることでレーザー光非照射部のレーザー光の影響を抑制し、基材と密着性がより向上する。
【００８６】
次に、本発明の導電性ペーストを使用した信号配線の製造方法について説明する。
信号配線は、まず、基材上にレーザー加工用導電性ペーストを印刷等によって導電性被膜を形成して導電性シートを作成（第１の工程）した後、導電性シートにレーザー加工を行い、導電層の一部を除去（第２の工程）することで製造することができる。
【００８７】
ここで、「レーザー加工」とは、レーザー光によって、導電性被膜を融解および／または気化して信号配線等を形成する加工法を意味する。レーザー光を照射された部位は、レーザー光を吸収して温度が上昇し、導電性塗膜が除去される。
より具体的には、レーザー加工機の加工ステージに導電性被膜を形成した導電性シートをセットし、所望のＣＡＤ数値等からなるＬ／Ｓを有する配線回路データにより、導電性被膜にレーザー光を照射して導電性皮膜のみを除去する。例えばＬ／Ｓ＝２０μｍ／２０μｍｎの配線回路を作成する場合、ビーム径２０μｍのレーザー光にて２０μｍの溝を作り、４０μｍ横（または縦）にレーザー光を移動し（この部分は導通回路部分）、また２０μｍの溝を作成する。この溝をタッチパネルディスプレイ等では７〜３０本程度を作成することで配線回路となる。なお、信号配線は、所望のＬ／Ｓを有する配線回路でもよく、グランド配線等であっても良い。
【００８８】
レーザー光は、基本波の波長が１９３〜１０６００ｎｍの範囲が好ましい。具体的にはエキシマレーザー（基本波の波長：１９３〜３０８ｎｍ）、ＹＶＯ4レーザー（基本波の波長：１０６４ｎｍ）、ＹＡＧレーザー（基本波の波長：１０６４ｎｍ）、ファイバーレーザー（基本波の波長：１０６０ｎｍ），ＣＯ2レーザー（基本波の波長：１０６００ｎｍ）、および半導体レーザー等が挙げられる。本発明では、特にＹＡＧレーザーが基材に対するダメージが少ないので好ましい。
【００８９】
レーザー光を使用する際の出力、走査速度および周波数は、導電性被膜が除去できる程度の条件であれば良く、限定されないが、一般的に出力は１〜５０Ｗ、走査速度は１，０００〜４，０００ｍｍ／ｓ、および周波数は１０〜４００ｋＨｚ程度である。
また、レーザー光の走査（照射）を複数回繰り返し行うこともできる。
【００９０】
本発明の製造方法で得られる信号配線は、Ｌ／Ｓが３０μｍ／３０μｍ以下の超高精細パターンが得やすいため、視認性が重要なタッチパネルの構成部材に使用できる。また、フラットパネルディスプレイ、太陽電池等の配線の用途に使用しても良い。
【００９１】
本発明より得られた配線回路を備えた電子機器は、レーザー加工用導電性ペーストを使用して形成した信号配線を備えている。電子機器は、携帯電話、スマートフォン、タブレット端末。ノート型ＰＣ,電子書籍、カーナビゲーション等のタッチパネルディスプレイを備えた電子デバイスが挙げられる。また、ディスプレイが無くともレーザー加工により形成した信号配線を備えた電子機器等、例えばデジタルカメラ、ビデオカメラ、ＣＤ・ＤＶＤプレーヤー等に制限無く使用できる。
【実施例】
【００９２】
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は「質量部」、「％」は「質量％」をそれぞれ表す。
【００９３】
（バインダー樹脂溶液１）
ＪＥＲ１２５６（ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、数平均分子量（Ｍｎ）２５，０００、Ｔｇ９５℃、エポキシ当量７，５００ｇ／ｅｑ、水酸基価１９０ｍｇＫＯＨ／ｇ、三菱化学（株）社製）４０部を、イソホロン３０部、γ−ブチロラクトン３０部に溶解し、不揮発分４０％のバインダー樹脂溶液（１）を得た。
【００９４】
（バインダー樹脂溶液２）
ＪＥＲ４２５０（ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂およびビスフェノールＦ型エポキシ樹脂の混合物、Ｍｎ２４，０００、Ｔｇ７０℃、エポキシ当量８，５００ｇ／ｅｑ、水酸基価１８０ｍｇＫＯＨ／ｇ、三菱化学（株）社製）４０部を、イソホロン３０部、γ−ブチロラクトン３０部に溶解し、不揮発分４０％のバインダー樹脂溶液（２）を得た。
【００９５】
（バインダー樹脂溶液３）
ＪＥＲ１００９（ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、Ｍｎ５，２００、Ｔｇ７９℃、エポキシ当量２，５００ｇ／ｅｑ、水酸基価２２０ｍｇＫＯＨ／ｇ、三菱化学（株）社製）４０部を、イソホロン３０部、γ−ブチロラクトン３０部に溶解し、不揮発分４０％のバインダー樹脂溶液（３）を得た。
【００９６】
（バインダー樹脂溶液４）
バイロン６５０（ポリエステル樹脂、Ｍｎ２３，０００、Ｔｇ１０℃、水酸基価５ｍｇＫＯＨ／ｇ，酸価１ｍｇＫＯＨ／ｇ、東洋紡績（株）社製）４０部を、イソホロン３０部、γ−ブチロラクトン３０部に溶解し、不揮発分４０％のバインダー樹脂溶液（４）を得た。
【００９７】
（バインダー樹脂溶液５）
バイロン５５０（ポリエステル樹脂、Ｍｎ２８，０００、Ｔｇ−１５℃、水酸基価４ｍｇＫＯＨ／ｇ，酸価１ｍｇＫＯＨ／ｇ、東洋紡績（株）社製）４０部を、イソホロン３０部、γ−ブチロラクトン３０部に溶解し、不揮発分４０％のバインダー樹脂溶液（５）を得た。
【００９８】
（バインダー樹脂溶液６）
攪拌機、温度計、還流冷却管、窒素ガス導入管を備えた反応装置に、イソフタル酸と３−メチル−１，５ペンタンジオールを単量体の構成単位とするポリエステルポリオール（クラレポリオールＰ−２０３０、Ｍｎ２０３３、（株）クラレ社製）１２７．４部、ジメチロールブタン酸１．９部、イソホロンジイソシアネート１５．９部、ジブチル錫ジラウレート０．０４部及びジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート４３部を仕込み、窒素気流下にて９０℃で５時間反応させた。次いでジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート１０２部を加えることで、Ｍｎ１９，０００、Ｔｇ１７℃、水酸基価３ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価５ｍｇＫＯＨ／ｇのポリウレタン樹脂の溶液を得た。ポリウレタン樹脂の溶液１００部にイソホロン２５部を加え、不揮発分４０％のポリウレタン樹脂のバインダー樹脂溶液（６）を得た。
【００９９】
（バインダー樹脂溶液７）
攪拌機、温度計、還流冷却管、窒素ガス導入管を備えた反応装置に、クラレポリオールＰ−２０３０  ９０．９部、ジメチロールブタン酸１．５部、イソホロンジイソシアネート１７．１部、ジブチル錫ジラウレート０．０３部及びジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート２３部を仕込み、窒素気流下にて９０℃で３時間反応させた。次いでジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート７２部を加えることで、イソシアネート基を有するウレタンプレポリマー溶液を得た。次にイソホロンジアミン３．１８部、ジ−ｎ−ブチルアミン０．３６部、ジエチレングリコールモノエチルエーテル１７．９部、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート５６．７部の混合物に、得られたイソシアネート基を有するウレタンプレポリマー溶液２０４．５部を添加し、５０℃で３時間反応させた後、９０℃で２時間反応させることで、Ｍｎ１７，０００、Ｔｇ１９℃、酸価５ｍｇＫＯＨ／ｇ、不揮発分４０％のポリウレタンウレア樹脂のバインダー樹脂溶液（７）を得た。
【０１００】
なお、バインダー樹脂（１）〜（７）のＭｎ、Ｔｇ、エポキシ当量、酸価および水酸基価は以下の方法に従って求めた。
【０１０１】
＜数平均分子量（Ｍｎ）の測定＞
装置：ＧＰＣ（ゲルパーミッションクロマトグラフィー）
機種：昭和電工（株）社製  Ｓｈｏｄｅｘ  ＧＰＣ−１０１
カラム：昭和電工（株）社製  ＧＰＣ  ＫＦ−Ｇ＋ＫＦ８０５Ｌ＋ＫＦ８０３Ｌ＋ＫＦ  ８０２を直列に連結
検出器：示差屈折率検出器  昭和電工（株）社製  Ｓｈｏｄｅｘ  ＲＩ−７１
溶離液：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
流量  ：サンプル側：１ｍＬ／分、リファレンス側：０．５ｍＬ／分
温度  ：４０℃
サンプル：０．２％ＴＨＦ溶液（１００μＬインジェクション）
検量線：東ソー（株）社製の下記の分子量の標準ポリスチレン１２点を用いて検量線を作成し、検量線法により分子量を決定した。
Ｆ１２８（１．０９Ｘ１０6）、Ｆ８０（７．０６Ｘ１０5）、Ｆ４０（４．２７Ｘ１０5）、Ｆ２０（１．９０Ｘ１０5）、Ｆ１０（９．６４Ｘ１０4）、Ｆ４（３．７９Ｘ１０4）、Ｆ２（１．８１Ｘ１０4）、Ｆ１（１．０２Ｘ１０4）、Ａ５０００（５．９７Ｘ１０3）、Ａ２５００（２．６３Ｘ１０3）、Ａ１０００（１．０５Ｘ１０3）、Ａ５００（５．０Ｘ１０2）。
ベースライン：バインダー（３）以外は、ＧＰＣ曲線の最初のピークの立ち上がり点を起点とし、リテンションタイム２５分（分子量３，１５０）でピークが検出されなかったので、これを終点とした。そして、これら起点および終点の両点を結んだ線をベースラインとして、分子量を計算した。
バインダー樹脂（３）は、リテンションタイム３０分（分子量２５０）を終点に変更した以外は、他のバインダー樹脂の場合と同様にベースラインを設定し、分子量を求めた。
【０１０２】
＜Ｔｇの測定＞
・装置：セイコーインスツルメンツ（株）社製示差走査熱量分析計ＤＳＣ−２２０Ｃ
・試料：１０ｍｇ
・昇温速度：１０℃／分にて２００℃まで測定
・Ｔｇ温度：低温側のベースラインを高温側に延長した直線と、融解（吸熱）ピークの    低温側の曲線の勾配が最大となる点の接線との交点の温度をＴｇとした。
【０１０３】
＜エポキシ当量の測定＞
日本工業規格ＪＩＳ  Ｋ７２３６に準拠して測定した。
＜水酸基価、酸価の測定＞
ＪＩＳ  Ｋ００７０に準拠して測定した。
【０１０４】
＜導電性微粒子＞
［銀粉Ａ］ＤＯＷＡエレクトロニクス（株）社製球状銀粉（Ｄ５０平均粒子径１．５μｍ、タップ密度４．２ｇ／ｃｍ3、比表面積０．９８ｍ2／ｇ、アスペクト比１．１）
【０１０５】
［銀粉Ｂ］メタローテクノロジーズジャパン（株）社製フレーク銀粉（Ｄ５０平均粒子径１．０μｍ、タップ密度３．８ｇ／ｃｍ3、比表面積１．３２ｍ2／ｇ、アスペクト比１．６）
【０１０６】
［銀粉Ｃ］メタローテクノロジーズジャパン（株）社製凝集銀粉（Ｄ５０平均粒子径０．９μｍ、タップ密度２．７ｇ／ｃｍ3、比表面積１．５０ｍ2／ｇ、アスペクト比１．２）
【０１０７】
［銀粉Ｄ］三井金属鉱業（株）社製球状銀粉（Ｄ５０平均粒子径０．２５μｍ、タップ密度４．５ｇ／ｃｍ3、比表面積１．７０ｍ2／ｇ、アスペクト比１．１）
【０１０８】
［銀粉Ｅ］ＤＯＷＡエレクトロニクス（株）社製球状銀粉（Ｄ５０平均粒子径３．６μｍ、タップ密度６．０ｇ／ｃｍ3、比表面積０．２８ｍ2／ｇ、アスペクト比１．１）
【０１０９】
［銀粉Ｆ］ＤＯＷＡエレクトロニクス（株）社製フレーク銀粉（Ｄ５０平均粒子径１．６μｍ、タップ密度４．６ｇ／ｃｍ3、比表面積０．６６ｍ2／ｇ、アスペクト比５．５）
【０１１０】
＜アスペクト比＞
電界放出型走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）「ＪＳＭ−７８００Ｆ」（日本電子（株）社製）を用いて、倍率１０，０００倍から３０，０００倍で観察し、粒子を任意に１０点選出、それぞれの長径と厚みより平均値を求め、平均長径／平均厚をアスペクト比とした。
【０１１１】
＜Ｄ５０平均粒子径＞
測定方法としては、導電性微粒子０．２ｇをイソプロピルアルコール８０ｍｌに添加し、超音波洗浄機「Ｗ−１１３ＭＫ−II」（本多電子(株)社製）にて、周波
数２４ｋＨｚにて１０分間分散させて得られた分散液を、レーザー回折粒度分布測定装置「マイクロトラックＭＴ３３００ＥＸII」（マイクロトラック・ベル（株）社製）を用い
て体積粒度分布を測定した。累積粒度の中央値をＤ５０平均粒子径とした。
【０１１２】
＜タップ密度＞
ＪＩＳ  Ｚ  ２５１２：２００６法に基づいて測定した。
【０１１３】
＜ＢＥＴ比表面積＞
流動式比表面積測定装置「フローソーブＩＩ」（（株）島津製作所社製）を用いて測定した表面積より、以下の計算式により算出した値を比表面積とした。
比表面積（ｍ2／ｇ）＝表面積（ｍ2）／粉末質量（ｇ）
【０１１４】
［分散剤Ａ］アルミニウムキレートＡＬＣＨ−９０Ｆ（金属キレート：アルミニウムエチルアセトアセテートジイソプロピオネート、不揮発分９０％、川研ファインケミカル（株）社製）
【０１１５】
［分散剤Ｂ］ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１８０（樹脂型分散剤：酸基を含むブロック共重合物のアルキルアンモニウム塩、酸価９４ｍｇＫＯＨ／ｇ、アミン価９４ｍｇＫＯＨ／ｇ、数平均分子量１，０００、不揮発分８１％  ビックケミー・ジャパン（株）社製）
【０１１６】
［カーボンブラックＡ］カーボンブラック＃３０３０Ｂ（レーザー光増感剤、Ｄ５０：５５ｎｍ、比表面積３２ｍ2/ｇ、吸油量１３０ｃｍ3/１００ｇ、三菱化学（株）社製）
【０１１７】
［硬化剤Ａ］デュラネートＭＦ−Ｋ６０Ｘ（ブロック型ヘキサメチレンジイソシアネート硬化剤、不揮発分６０％、旭化成ケミカルズ（株）社製）
【０１１８】
＜実施例１＞
バインダー樹脂溶液（１）：１００部と、銀粉Ａ：３７０部、分散剤Ａ：２．４７部、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート：３９部とをプラネタリーミキサーにて混合後し、次いで３本ロールを使用して分散することで導電性ペーストを調製した。
得られた導電性ペーストは、不揮発分が約８１％であり、不揮発分中、銀粉は約９０％、エポキシ樹脂は約１０％であった。
【０１１９】
＜実施例２〜１９、比較例１〜２＞
バインダー樹脂溶液、銀粉、分散剤、カーボンブラックおよび硬化剤を、表１および表２に示す配合比率にした以外は、実施例１と同様に行なうことで、それぞれ実施例２〜１９、および比較例１〜２の導電性ペーストを調整した。なお、カーボンブラックは、バインダー樹脂溶液、銀粉、分散剤、溶剤と共に混合し、３本ロールを使用して分散した。
【０１２０】
＜粘度、ＴＩ値の測定＞
得られた導電性ペーストの粘度、ＴＩ値を下記条件で測定した。
・粘度計：Ｅ型粘度計ＴＶＥ−２５Ｈ（東機産業（株）社製）
・ローター：コーンローター＃７（θ３°ｘＲ７．７ｍｍ）
・測定温度：２５℃
・試料：０．１ｍｌ
・粘度測定：回転数５ｒｐｍにて測定を開始してから２分後の数値を粘度とした。
・ＴＩ値測定：回転数２ｒｐｍ（ズリ速度４（１／ｓ））にて測定を開始してから２分後の数値と回転数２０ｒｐｍ（ズリ速度４０（１／ｓ））にて測定を開始してから２分後の数値をそれぞれ測定し、下記計算式により求めた数値をＴＩ値とした。
ＴＩ値＝（回転数２ｒｐｍの２分後の数値）／（回転数２０ｒｐｍの２分後の数値）
【０１２１】
＜粘弾性の測定＞
得られた導電性ペーストの貯蔵弾性率Ｇ’、損失弾性率Ｇ’’およびｔａｎδを下記条件で測定した。
・動的粘弾性測定装置（レオメーター）：「レオストレス６０００」（ＨＡＡＫＥ社製  ）
・ローター：上部コーン型円盤（直径２０ｍｍ、角度０．５°）
・測定温度：２５℃
・測定条件：周波数１（Ｈｚ）に固定し、振動応力０．１〜１０，０００（Ｐａ）の範囲で測定
ｔａｎδ＝損失弾性率Ｇ’’／貯蔵弾性率Ｇ’
【０１２２】
［導電性シートの作成］
基材として厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）社製ルミラーＴ６０、以下、ＰＥＴフィルムという）上に得られた導電性ペーストを、縦１５ｍｍ×横３０ｍｍのパターン形状にスクリーン印刷し、１３５℃オーブンにて３０分乾燥させ、導電層の膜厚が約５μｍの導電性シートを得た。なお、導電性シートの厚みはＭＨ−１５Ｍ型測定器（（株）ニコン社製）を用いて測定した。
【０１２３】
＜表面抵抗値＞
得られた導電性シートの表面抵抗値は、２５℃、湿度５０％雰囲気下にてロレスタＧＰＭＣＰ−Ｔ６１０測定機（三菱化学アナリテック（株）社製）の直列４探針プローブ（ＡＳＰ）を用いて測定した。
【０１２４】
＜体積抵抗率の算出＞
上記方法で測定された表面抵抗値、および膜厚を以下の式に基づいて導電性シートの体積抵抗率を算出した。
体積抵抗率（Ω・ｃｍ）＝(表面抵抗率:Ω／□)×(膜厚:ｃｍ)
なお評価基準は下記の通りである。
良好：５０μΩ・ｃｍ以下
実用域：５０μΩ・ｃｍを超え１５０μΩ・ｃｍ以下
実用不可：１５０μΩ・ｃｍを超える
【０１２５】
＜密着性＞
１．基材としてＩＴＯ積層フィルムおよびＩＴＯ積層エッチングフィルムを使用して、基材に対する導電層の密着性を評価した。密着性は、基材に印刷、乾燥直後の密着性（以下、初期密着性という）および経時試験後の密着性を評価した。
ＩＴＯ積層フィルムのＩＴＯ層に得られた導電性ペーストを、乾燥後の膜厚が約６μｍになるように導電性ペーストをスクリーン印刷して縦１５ｍｍ×横３０ｍｍのパターンを形成し、次いで１３５℃オーブンにて３０分乾燥させることで印刷物（導電性シートの一態様）を得た。別途、ＩＴＯ積層エッチングフィルムのエッチングされた面に上記同様に導電性ペーストを印刷、乾燥することで印刷物を得た。そしてこれらの印刷物を使用して導電性被膜の密着性を評価した。
・ＩＴＯ積層フィルム：Ｖ１５０Ｌ−ＯＦＭＥ（厚さ：１７５μｍ、日東電工（株）社製）
・ＩＴＯ積層エッチングフィルム：上記ＩＴＯ積層フィルムの一部を塩酸でエッチングしてＩＴＯ層を除去して基材（ＰＥＴフィルム）を露出させたフィルム。
【０１２６】
・評価方法
テープ密着試験：ＪＩＳ  Ｋ５６００に準拠して、テープ密着試験を実施した。
上記印刷物の印刷された面に、幅１ｍ間隔に１０マス×１０マスの計１００マス目をカッターで入れ、セロハンテープ（２５ｍｍ幅、ニチバン（株）社製）を印刷面に貼り付けた後、セロハンテープを手で急速に剥離することで、残ったマス目の状態を評価した。
・評価基準
○：剥離無し（良好）
△：マスの端がわずかに剥離した（実用上問題ない）
×：１マス以上の剥離が観察された（実用不可）
【０１２７】
・経時試験後の密着性
上記の方法で別途作成したＩＴＯ積層フィルムの印刷物、およびＩＴＯ積層エッチングフィルムの印刷物を６０℃９０％ＲＨ雰囲気下に２４０時間放置した後、上記同様の方法で密着性を評価した。上記同様の評価基準で評価した。
【０１２８】
２．基材にポリイミドフィルムを使用して密着性を評価した。
ポリイミドフィルム（カプトン１００Ｈ、２５μｍ厚、東レ・デュポン（株）社製）上に、導電性ペーストを、乾燥後の膜厚が約８μｍになるようにスクリーン印刷を行い縦１５ｍｍ×横３０ｍｍのパターンを形成した。次いで１８０℃オーブンで３０分乾燥させることで印刷物を得た。当該印刷物を使用して導電性被膜の密着性を評価した。
セロハンテープ（２５ｍｍ幅）を印刷物の導電性被膜上に貼り付け、セロハンテープを手で急速に剥離することで密着性を評価した。
○：剥離が全く無い（良好）
△：わずかに剥離があった（実用上問題ない）
×：全面的に剥離した（実用不可）
【０１２９】
［レーザー加工性の評価］
導電性ペーストを高精度スクリーン印刷装置（ＳＥＲＩＡ、東海精機（株）社製）を用いて、厚さ７５μｍのＰＥＴフィルムに印刷し、１３５℃で３０分乾燥することで厚さ約６μｍの導電性被膜を有する導電性シートを得た。なおスクリーン印刷版は、図１に示す様に縦２０５ｍｍ・幅３４０ｍｍの領域に、幅６ｍｍ、縦１１５ｍｍ、横６５ｍｍの窓枠柄画像部を４個有する版を使用した。なお、印刷条件は下記の通りである。
【０１３０】
（スクリーン印刷条件）
・スクリーン  ：ステンレス版４００メッシュ、線径１８μｍ
・乳剤厚  ：１０μｍ
・スクリーン枠   ：６５０×５５０ｍｍ
・スキージ角度   ：７０°
・スキージ硬度   ：８０°
・スキージ速度   ：１５０ｍｍ／秒
・スキージ印圧   ：１５ｋｇｆ
・スキージ押込み：１．５ｍｍ
・クリアランス   ：２．５ｍｍ
・使用した溶剤：ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート
・ＰＥＴフィルム：東レ（株）社製ルミラーＴ６０  厚さ７５μｍ
【０１３１】
＜膜厚の測定＞
得られた導電性シートにおける導電性被膜の厚みをＭＨ−１５Ｍ型測定器（（株）ニコン社製）を用いて測定した。
【０１３２】
＜表面粗さＲａの測定＞
得られた導電性シートにおける導電性被膜の表面粗さＲａ（算術平均粗さ）を接触式表面形状粗さ測定機Ｔａｌｙｓｕｒｆ６０（アメテック（株）社製）を用いて測定を行い、解析ソフト「Ｔａｌｙ Ｍａｐ Ｐｌａｔｉｎｕｍ ｖｅｒ．５．０」（アメテック（株）社製）を用いて解析した。なお、Ｒａ（算術平均粗さ）の定義については「ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−２００１」に準拠した。
測定条件は下記の通りである。
・測定範囲：５ｍｍｘ５ｍｍ
・本数：５１本
・速度：０．５ｍｍ／ｓ
解析は４ｍｍ×４ｍｍの範囲で０．２５μｍのフィルターをかけてうねりを取り除いたデータを用いてパラメーターの算出を行った。
【０１３３】
＜レーザー加工評価＞
導電性シートの窓枠柄状の導電性被膜の角部に対して、図２の拡大図に示すように縦線（長さ７０ｍｍ）、横線（長さ３０ｍｍ）及びコーナー部からなる１６本のＬ／Ｓが２０μｍ／２０μｍの配線パターンの形成を目的としてレーザー加工を行なった。レーザー加工条件は下記の通りである。
（レーザー加工条件）
・レーザー加工機 ： Suzhou Delphi Laser Co.,LTD社製 Ag Laser Etching System
・レーザー光：ＹＡＧレーザー（基本波の波長１０６４ｎｍ）
・最大出力：２０Ｗ
・ビーム径：２０μｍ
・出力：２５％
・周波数：３００ｋＨｚ
・パルス幅：２５ｎｍ
・走査速度：２０００ｍｍ／s
・走査回数：２回
【０１３４】
レーザー加工後の導電性シートを使用して、スペース幅のばらつき度合いの評価するためにデジタルマイクロスコープ（ＶＨＸ−９００  キーエンス社製）を用いて撮影した。撮影した拡大写真を小型汎用画像解析装置「ＬＵＺＥＸ  ＡＰ」（ニレコ社製）を用いて導電性被膜が除去された部分のスペース幅を読み取った。
前記回路パターンの任意のスペース８本を選択し、１本につき４６０箇所、８本合計で３６８０箇所のスペース幅を測定し、平均値、標準偏差を求めた。
スペース幅の平均値を下記の基準で判定した。
○：スペース幅が平均１８〜２２μｍ。良好。
△：スペース幅が平均１６〜１７μｍ、または２３〜２４μｍ。実用上問題ない。
×：スペース幅が１５μｍ未満、または２４μｍを超えている。実用不可。
【０１３５】
スペースの直線性（図２におけるライン部３とスペース部４部との境界のギザギザ・凹凸度合い）を、標準偏差にて評価した。
スペースの直線性を下記の基準で判定した。
○：標準偏差が０〜１．５μｍ。良好。
△：標準偏差が１．６〜２．４μｍ。実用上問題ない。
×：標準偏差が２．５μｍ以上。実用不可。
スペース幅の平均値、標準偏差、スペース幅評価及びスペース直線性評価を表１、２に示す。
【０１３６】
表１の結果から、実施例１〜１９の導電性ペーストおよびそれを用いて作成された導電性シートは、良好な体積抵抗率、レーザー加工性、基材への密着性を示す。また、硬化剤を添加した実施例９は、ポリイミドフィルムへの密着性がさらに向上した。
【０１３７】
それに対し、表２に示すように、比較例１〜２は、振動応力１Ｐａの損失弾性率Ｇ’’（Ａ）、および振動応力１００Ｐａの損失弾性率Ｇ’’（Ｂ）が５，０００Ｐａを超えており、かつ振動応力１Ｐａの損失弾性率Ｇ’’（Ａ）を貯蔵弾性率Ｇ’（Ａ）で除した値ｔａｎδ（Ａ）が１未満であり、レーザー加工に適した粘弾性を有していない。
そのため表面が平滑な被膜が形成できず、Ｒａが０．３μｍより大きく、レーザー加工後のスペース部の直線性が低い。
【０１３８】
本発明に係るレーザー加工用導電性ペーストおよびそれを用いて作成された導電性シートは、良好なレーザー加工性を持つと共に、基材初期密着性、６０℃９０％ＲＨ雰囲気下に２４０時間放置後の基材密着性を保持する導電性シートを提供することができる。
また、本発明に係るレーザー加工用導電性ペースト用いて、レーザー加工により形成した配線は、例えば、携帯電話、スマートフォン、タブレット端末、ノート型ＰＣ等のタッチパネルディスプレイに好適に用いることができる。
【符号の説明】
【０１３９】
１            スクリーン印刷版
２            窓枠柄画像部
３            ライン部（Ｌ）
４            スペース部（Ｓ）
【０１４０】
【表１】
2018045853.tif 000003
【０１４１】
【表１】
2018045853.tif 000004
【０１４２】
【表２】
2018045853.tif 000005
【図１】
2018045853.tif 000006
【図２】
2018045853.tif 000007