(57)【要約】【課題】効率的に製造することができ、かつ表面に導電膜を形成してもその導電膜が断裂しにくいハードコートフィルムを提供する。【解決手段】本発明の導電膜作製用のハードコートフィルムは、基材フィルムと、基材フィルムの少なくとも片面に形成されたハードコート層とを有するものであって、基材フィルムは、４０℃の温度および９０％ＲＨの相対湿度の環境下でカップ法により測定した透湿度が１３００ｇ／ｍ2・２４ｈ以上７０００ｇ／ｍ2・２４ｈ以下であり、ハードコートフィルムの透湿度が２００ｇ／ｍ2・２４ｈ以上２０００ｇ／ｍ2・２４ｈ以下であり、ハードコートフィルムの透湿度を１としたときの基材フィルムの透湿度が１．５以上７．５以下であり、ハードコートフィルムの面内位相差Ｒ0は５ｎｍ以下であり、ハードコートフィルムの厚み方向位相差｜Ｒth｜は１５ｎｍ以下である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムと、前記基材フィルムの少なくとも片面に形成されたハードコート層とを有するハードコートフィルムであって、
前記基材フィルムは、４０℃の温度および９０％ＲＨの相対湿度の環境下でカップ法により測定した透湿度が１３００ｇ／ｍ2・２４ｈ以上７０００ｇ／ｍ2・２４ｈ以下であり、
前記ハードコートフィルムは、４０℃の温度および９０％ＲＨの相対湿度の環境下でカップ法により測定した透湿度が２００ｇ／ｍ2・２４ｈ以上２０００ｇ／ｍ2・２４ｈ以下であり、
前記ハードコートフィルムの透湿度を１としたときの前記基材フィルムの透湿度が１．５以上７．５以下であり、
前記ハードコートフィルムの面内位相差Ｒ0は５ｎｍ以下であり、
前記ハードコートフィルムの厚み方向位相差｜Ｒth｜は１５ｎｍ以下である、導電膜作製用のハードコートフィルム。
【請求項２】
前記ハードコート層は、３官能以上の多官能（メタ）アクリレートモノマーおよび／または３官能以上の多官能ウレタン（メタ）アクリレートモノマーを構成単位として含む樹脂を含む請求項１に記載の導電膜作製用のハードコートフィルム。
【請求項３】
前記ハードコート層は、２μｍ以上５μｍ以下の厚みを有する請求項１又は２に記載の導電膜作製用のハードコートフィルム。
【請求項４】
前記ハードコート層は、５ＧＰａ以上１０ＧＰａ以下の弾性率である請求項１〜３のいずれか一項に記載の導電膜作製用のハードコートフィルム。
【請求項５】
前記ハードコート層は、５０質量％以上８０質量％以下の金属酸化物粒子を含む請求項１〜４のいずれか一項に記載の導電膜作製用のハードコートフィルム。
【請求項６】
前記基材フィルムは、１０μｍ以上２５μｍ以下の厚みである請求項１〜５のいずれか一項に記載の導電膜作製用のハードコートフィルム。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の導電膜作製用のハードコートフィルムと、前記ハードコート層の前記基材フィルムと接する側と反対側に設けられた導電膜とを含む、電極フィルム。
【請求項８】
請求項７に記載の電極フィルムをタッチセンサに用いた画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電膜作製用のハードコートフィルム、電極フィルムおよびそれを含む画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
携帯情報端末、デジタルビデオカメラ、デジタルカメラなどの携帯端末には、操作キーを省くために、表示ディスプレイにタッチパネルが搭載されている。従来のタッチパネルは、プラスチックフィルムと、プラスチックフィルム上にパターニングされた導電膜と、導電膜上に形成された誘電体層とを有している。そして、タッチパネルの表面を指で押さえることにより、人体の静電容量を介して接地される。この際、電極と接地点との間の抵抗値に変化が生じて位置入力が認識される。
【０００３】
近年、タッチパネルをフレキシブル化するために、タッチパネルを構成する各フィルム部材を薄膜化して耐折性を高めることが検討されている。従来のタッチパネルの製造の一例として、例えば特許文献１には、プラスチックフィルムに導電膜を形成する前に、プラスチックフィルムに含まれる水分を除去する脱ガス工程を行うことが開示されている。この脱ガス工程によりプラスチックフィルムに含まれる残留溶液を除去することができ、水分の影響による導電膜の導電不良を抑制することができる。
【０００４】
しかしながら、例えばＰＥＴフィルムのような透湿度の低い材質のフィルムをプラスチックフィルムに用いる場合、ＰＥＴフィルムに含まれる水分を完全に除去するための脱ガス工程に丸一日くらいかかってしまうという生産性の問題があった。この問題を解消するために、ＰＥＴフィルムに代えて透湿度の高い材質の基材フィルムを用いると、脱ガス工程の時間を短縮することはできるが、このような基材フィルムは高い吸湿性を示すため、吸湿により寸法変動が大きくなってしまう。このため、基材フィルム上に形成された導電膜が、基材フィルムの寸法変化に追従できずに断裂してしまうことがあった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第４７７５７２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、効率的に製造でき、かつ表面に導電膜を形成してもその導電膜が断裂しにくいハードコートフィルムを提供することである。本発明の目的は、上記ハードコートフィルムを用いて作製された電極フィルムおよびそれを含む画像表示装置を提供することでもある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、従来必須の脱ガス工程を短時間化するために、透湿度の高い材料で構成された基材フィルムを用いることを検討した。このような透湿度の高い基材フィルムは、吸湿により寸法変化が生じやすいので、かかる寸法変化を抑えるべく、基材フィルムの表裏のいずれか一方若しくは両方にハードコート層を形成した。さらに、基材フィルムおよびハードコート層を含めたハードコートフィルム全体の透湿度を調整した。このようにハードコート層を設けるとともにハードコートフィルム全体の透湿度を調整することにより、効率的に製造することができ、かつ表面に導電膜を形成してもその導電膜が断裂しにくいハードコートフィルムを得られることが明らかとなり、本発明を完成させた。
【０００８】
すなわち、本発明の導電膜作製用のハードコートフィルムは、基材フィルムと、前記基材フィルムの少なくとも片面に形成されたハードコート層とを有するものであって、前記基材フィルムは、４０℃の温度および９０％ＲＨの相対湿度の環境下でカップ法により測定した透湿度が１３００ｇ／ｍ2・２４ｈ以上７０００ｇ／ｍ2・２４ｈ以下であり、前記ハードコートフィルムは、４０℃の温度および９０％ＲＨの相対湿度の環境下でカップ法により測定した透湿度が２００ｇ／ｍ2・２４ｈ以上２０００ｇ／ｍ2・２４ｈ以下であり、前記ハードコートフィルムの透湿度を１としたときの前記基材フィルムの透湿度が１．５以上７．５以下であり、前記ハードコートフィルムの面内位相差Ｒ0は５ｎｍ以下であり、前記ハードコートフィルムの厚み方向位相差｜Ｒth｜は１５ｎｍ以下である。
【０００９】
上記構成において、前記ハードコート層は、３官能以上の多官能（メタ）アクリレートモノマーおよび／または３官能以上の多官能ウレタン（メタ）アクリレートモノマーを構成単位として含む樹脂を含むことが好ましい。
【００１０】
上記構成において、前記ハードコート層は、２μｍ以上５μｍ以下の厚みを有することが好ましく、５ＧＰａ以上１０ＧＰａ以下の弾性率であることがより好ましい。
【００１１】
上記構成において、前記基材フィルムは、１０μｍ以上２５μｍ以下の厚みであることが好ましい。
【００１２】
本発明の電極フィルムは、上記ハードコートフィルムと、ハードコート層の基材フィルムと接する側と反対側に設けられた導電膜とを含む。
【００１３】
本発明は、上記電極フィルムをタッチセンサに用いた画像表示装置でもある。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、効率的に製造でき、かつ表面に導電膜を形成してもその導電膜が断裂しにくいハードコートフィルムを提供することができる。本発明によれば、上記ハードコートフィルムを用いて作製された電極フィルムおよびそれを含む画像表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明のハードコートフィルムの模式的な断面図である。
【図２】本発明の電極フィルムを用いて作製されたタッチパネル付き画像表示装置の模式的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明にかかる実施形態を図面に基づいて説明する。
【００１７】
［ハードコートフィルム］
図１は、本発明のハードコートフィルムの模式的な断面図である。本発明のハードコートフィルム１０は、図１に示すように、基材フィルム１と、基材フィルム１の片面に形成されたハードコート層２とを有する。なお、本発明のハードコートフィルム１０は、図１に示すように、基材フィルム１の片面にハードコート層２を形成したもののみに限られず、基材フィルム１の両面にハードコート層２を形成したものであってもよい。また基材フィルム１のハードコート層２が形成されている側の面とは反対側にバックコート層が設けられていてもよい。
【００１８】
なお、図１においては、基材フィルム１とハードコート層２との間に明確な境界面が存在している場合を示しているが、ハードコート層２を構成する成分の一部が基材フィルム１に溶解することによって基材フィルム１とハードコート層２との界面が消失している場合も本発明のハードコートフィルムに含まれるものとする。
【００１９】
本発明のハードコートフィルム１０は、４０℃の温度および９０％ＲＨの相対湿度の環境下でカップ法により測定した透湿度が２００ｇ／ｍ2・２４ｈ以上２０００ｇ／ｍ2・２４ｈ以下であり、ハードコートフィルム１０の透湿度を１としたときの基材フィルム１の透湿度が１．５以上７．５以下である。
【００２０】
（用途）
本発明のハードコートフィルム１０は、導電膜形成用に用いられるものであり、より好ましくは電極形成用に用いられる。このハードコートフィルム１０のハードコート層２上に導電膜を形成することによって電極フィルムを形成することができる。本発明のハードコートフィルム１０は従来のそれに比べて基材フィルムの透湿度が高いので、ハードコートフィルムの脱ガス処理をより短時間で完了することができる。このため、ハードコートフィルムの表面に導電膜を形成する時の生産性が高い。また基材フィルム１が吸湿することによって寸法変化が生じた場合にも、その基材フィルム１の表面に形成されたハードコート層２が基材フィルム１の寸法変化に追従し、ハードコートフィルムの寸法変化を抑制する。このため、ハードコートフィルム上に設けられた導電膜が断線しにくいという利点がある。
【００２１】
このようにして作製された電極フィルムは、例えばタッチパネルを搭載した画像表示装置に好適に用いられる。ここで、画像表示装置とは、画像を表示する表示面を有する装置であり、装置を構成する各種部材として、例えば、偏光板、カラーフィルタ、液晶セル、バックライトなどが挙げられる。上記画像表示装置の種類は特に制限されず、例えば、液晶表示装置（ＬＣＤ：Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ：Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）表示装置、真空蛍光ディスプレイ（ＶＦＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、表面電界ディスプレイ（ＳＥＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）または電子ペーパー（Ｅ−Ｐａｐｅｒ）などの公知の表示装置を使用することができる。以下に本発明のハードコートフィルム１０の各種特性を説明する。
【００２２】
（透湿度）
本発明のハードコートフィルムは、４０℃の温度および９０％ＲＨの相対湿度の環境下でカップ法により測定した透湿度が２００ｇ／ｍ2・２４ｈ以上２０００ｇ／ｍ2・２４ｈ以下である。一般的には、基材フィルムの膜厚が厚いほど透湿度は低くなり、基材フィルムを構成する構成単位が親水性の構成単位を含むほど透湿度が高くなる。ハードコートフィルムの透湿度が２００ｇ／ｍ2・２４ｈ以上であることにより、ハードコート層上に導電膜を形成する前の脱ガス工程に要する時間を短時間化することができる。また、ハードコートフィルムの透湿度が２０００ｇ／ｍ2・２４ｈ以下であることにより、ハートコート層の硬化状態を良好とすることができる。これにより基材フィルム１が吸湿によって寸法変化が生じたとしても、ハードコート層２が基材フィルム１に追従しやすくなるので、ハードコートフィルムの寸法変化を抑制することができる。したがって、ハードコート層２上に設けられた導電膜に断裂が生じることを抑制することができる。
【００２３】
ここで、上記「透湿度」は、「高分子の物性ＩＩ」（高分子実験講座４  共立出版）の２８５頁〜２９４頁：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の測定方法によって算出された値を採用する。この測定の具体的手順は、まず、測定対象となるハードコートフィルムを７０ｍｍφの円形状に切り出す。この円形状のハードコートフィルムを、ＪＩＳＺ０２０８の条件Ｂに基づいて、温度２５±０．５℃で、かつ相対湿度９０±２％ＲＨ、および温度４０±０．５℃で、かつ相対湿度９０±２％ＲＨでそれぞれ２４時間調湿する。次に、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８に記載にしたがって、精密天秤にて単位面積あたりの水分量（ｇ／ｍ2）を算出する。最後に、調湿後のハードコートフィルムの重量から調湿前のハードコートフィルムの重量を減ずることによってハードコートフィルムに含まれる水分量を算出し、この値を透湿度とする。
【００２４】
上記ハードコートフィルムの透湿度は３００ｇ／ｍ2・２４ｈ以上１２００ｇ／ｍ2・２４ｈ以下であることが好ましく、より好ましくは３５０ｇ／ｍ2・２４ｈ以上９００ｇ／ｍ2・２４ｈ以下である。
【００２５】
（リターデーション値）
本発明のハードコートフィルムは、液晶表示装置またはＯＬＥＤ等の表示装置のタッチパネル用途に組み込まれることを想定している。このため、パネル設計の自由度を確保する観点から、ハードコートフィルム１０は、いわゆるゼロ位相差フィルムであることが好ましく、つまり、面内方向および厚さ方向のいずれの位相差も実質的に０であることが好ましい。
【００２６】
ここで、「位相差が実質的に０」とは、面内方向のリターデーション値（面内位相差Ｒｏ）が０ｎｍ以上５ｎｍ以下であり、かつ厚み方向のリターデーション値（厚み方向位相差Ｒth）が−１５ｎｍ以上１５ｎｍ以下であることを意味する。言い換えると、ハードコートフィルム１０の面内位相差Ｒ0は５ｎｍ以下であり、ハードコートフィルム１０の厚み方向位相差｜Ｒth｜は１５ｎｍ以下である。上記ハードコートフィルム１０の面内位相差Ｒ0は５ｎｍ未満であることが好ましく、上記面内位相差Ｒ0は３ｎｍ以下であることがより好ましく、さらに好ましくは２ｎｍ以下である。ハードコートフィルム１０の厚み方向位相差｜Ｒth｜は１５ｎｍ未満であることが好ましく、１２ｎｍ以下がより好ましく、さらに好ましくは１０ｎｍ以下である。
【００２７】
本発明において、ハードコートフィルム１０の波長λにおける面内位相差値Ｒ0および厚み方向の位相差｜Ｒth｜は、下記式（ｉ）および式（ｉｉ）で表される。
【００２８】
式（ｉ）：Ｒ0＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ｎｍ）
式（ｉｉ）：Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ（ｎｍ）
〔式（ｉ）および式（ｉｉ）において、ｎｘは、ハードコートフィルムの面内方向において屈折率が最大になる方向ｘにおける屈折率を表す。ｎｙは、ハードコートフィルムの面内方向において、前記方向ｘと直交する方向ｙにおける屈折率を表す。ｎｚは、ハードコートフィルムの厚さ方向ｚにおける屈折率を表す。ｄは、ハードコートフィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。〕
上記式（ｉ）および式（ｉｉ）に表される位相差の値は、自動複屈折率計、例えば、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製のＡｘｏｓｃａｎ、または王子計測機器株式会社製のＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨを用いて、２３℃、相対湿度５５％ＲＨの環境下で、５９０ｎｍの波長における複屈折率を測定することにより算出される。ＡｘｏＳｃａｎを用いる場合、以下の手順で位相差Ｒ0およびＲthがそれぞれ測定される。
【００２９】
１）ハードコートフィルムを、２３℃・５５％ＲＨで２４時間調湿する。調湿後のハードコートフィルムの、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍのそれぞれにおける平均屈折率を、アッベ屈折計と分光光源を用いて測定する。また、膜厚計を用いて基材フィルムの膜厚ｄ（ｎｍ）を測定する。
【００３０】
２）調湿後のハードコートフィルムに、ハードコートフィルム表面の法線と平行に、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ又は６５０ｎｍの光をそれぞれ入射させたときの面内方向の位相差値Ｒ0（４５０）、Ｒｏ（５５０）及びＲｏ（６５０）を、ＡｘｏＳｃａｎにて２３℃・５５％ＲＨ条件下で測定する。
【００３１】
３）ＡｘｏＳｃａｎにより、ハードコートフィルムの面内の遅相軸を確認する。この遅相軸を傾斜軸（回転軸）として、ハードコートフィルムの表面の法線に対してφの角度（入射角（φ））から波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの光をそれぞれ入射させたときの位相差値Ｒ（φ）を測定する。Ｒ（φ）の測定は、２３℃・５５％ＲＨ条件下で、φが０〜５０°の範囲で、１０°毎に６点行う。
【００３２】
４）上記２）で測定されたＲ0（４５０）、Ｒｏ（５５０）及びＲｏ（６５０）と、上記３）で各波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ又は６５０ｎｍにて測定されたＲ（φ）と、上記１）で測定された平均屈折率及び膜厚ｄとから、ＡｘｏＳｃａｎにより、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚを算出する。そして、上記式（ｉｉ）に基づいて、各波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍでの厚さ方向の位相差値Ｒth（４５０）、Ｒth（５５０）及びＲth（６５０）を算出する。
【００３３】
５）上記各値をコーシーの分散公式の第３項まで、つまりＲｅ＝Ａ＋Ｂ／λ2＋Ｃ／λ4で近似することによって、上記式中のＡ、Ｂ及びＣの値をそれぞれ算出する。このようにして波長λにおけるＲｅ及びＲthをプロットし直し、そこから各波長λにおけるＲｅ（λ）およびＲth（λ）を算出することができる。
【００３４】
６）得られた５）の式を用いることで、ハードコートフィルムの波長５９０ｎｍにおける面内位相差Ｒ0及び厚さ方向の位相差Ｒthを算出する。
【００３５】
＜基材フィルム＞
本発明において、基材フィルム１は、フレキシブルディスプレイ用途に用いられる電極フィルムの支持体となるものであり、その表面にハードコート層２が形成される。基材フィルム１は、透湿度が高いこと、製造が容易であること、ハードコート層２との接着性が良好であること、光学的に等方性であること、透明度が高いこと等の特性を有することが好ましい。以下に基材フィルム１に要求される各種特性を説明する。
【００３６】
（透湿度）
基材フィルム１は、４０℃の温度および９０％ＲＨの相対湿度の環境下でカップ法により測定した透湿度が１３００ｇ／ｍ2・２４ｈ以上７０００ｇ／ｍ2・２４ｈ以下である。基材フィルム１の透湿度が１３００ｇ／ｍ2・２４ｈ以上であることにより、基材フィルム中に含まれる微量の水分を短時間で放出することができる。また、基材フィルムの透湿度が７０００ｇ／ｍ2・２４ｈ以下であることにより、基材フィルムを構成する材料の選択の自由度を高めることができる。上記基材フィルム１の透湿度は、１５００ｇ／ｍ2・２４ｈ以上であることが好ましく、より好ましくは１６００ｇ／ｍ2・２４ｈ以上である。また基材フィルム１の透湿度は、５０００ｇ／ｍ2・２４ｈ以下であることが好ましく、より好ましくは４０００ｇ／ｍ2・２４ｈ以下である。
【００３７】
基材フィルム１の膜厚は、１０μｍ以上２５μｍ以下であることが好ましく、１２μｍ以上２３μｍ以下であることがより好ましく、さらに好ましくは１５μｍ以上２０μｍ以下である。このような薄膜の基材フィルム１を用いることにより、透湿度調整剤等を添加することなく、基材フィルムの透湿度を上記数値範囲に設定することができるし、基材フィルムに含まれる水分を容易に放出することができる。このため、本発明のハードコートフィルムの脱ガス処理をより短時間化できるので、そのハードコート層上に導電膜を形成するときにその生産性を高めることができる。
【００３８】
ここで、ハードコートフィルムの透湿度を１としたときの基材フィルムの透湿度は１．５以上７．５以下である。本発明のハードコートフィルム１０の透湿度を１としたときの基材フィルム１の透湿度が１．５以上であることにより、ハードコート層２を構成するモノマー成分を十分に硬化させることができるので、吸湿によるハードコートフィルム１０の寸法変化を抑制することができる。また本発明のハードコートフィルム１０の透湿度を１としたときの基材フィルム１の透湿度が７．５以下であることにより、基材フィルム１に寸法変化が生じてもハードコート層２が基材フィルム１の寸法変化に追従することで、ハードコートフィルム１０の寸法変化を抑制することができる。これによりハードコート層２上に形成された導電膜の断線を防ぐことができる。
【００３９】
本発明のハードコートフィルム１０の透湿度を１としたときの基材フィルム１の透湿度は、２以上であることが好ましく、より好ましくは２．５以上であり、さらに好ましくは３以上である。また本発明のハードコートフィルム１０の透湿度を１としたときの基材フィルム１の透湿度は、７以下であることが好ましく、より好ましくは６．５以下であり、さらに好ましくは６以下である。
【００４０】
本発明において、基材フィルム１を構成する樹脂は、特に制限することなく用いることができるが、水との反応性および水に対する溶解性が低いことが好ましく、透湿度が高いことが好ましく、このような基材フィルム１としては、例えば、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム等のセルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム（アートン（ＪＳＲ社製）、ゼオネックス、ゼオノア（以上、日本ゼオン社製））、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム、ポリ乳酸フィルムまたはガラス板等を挙げることができる。中でも、セルロースエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、シクロオレフィンポリマーフィルムが好ましい。
【００４１】
基材フィルム１を構成する樹脂は、セルロースエステルであることが好ましい。セルロースエステルで構成された基材フィルム１をセルロースエステルフィルム（以下、「セルロースアセテートフィルム」と称することもある）というものとする。
【００４２】
基材フィルム１としては、例えばトリアセチルセルロースフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム等が挙げられる。また、セルロースエステルフィルムは、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ノルボルネン系樹脂、フッ素樹脂、シクロオレフィンポリマー等を併用してもよい。セルロースエステルフィルムの市販品としては、例えばコニカミノルタタックＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ６ＵＡ、ＫＣ４ＵＡ、ＫＣ２ＵＡ、ＫＣ４ＵＥおよびＫＣ４ＵＺ、ＫＣ４ＣＴ１、ＫＣ２ＣＴ１（以上、コニカミノルタ（株）製）が挙げられる。セルロースエステルフィルムの屈折率は１．４５〜１．５５であることが好ましい。屈折率は、ＪＩＳ Ｋ７１４２−２００８に準じて測定することができる。
【００４３】
上記基材フィルム１に用いるセルロースエステルは、炭素数２〜２２程度のカルボン酸エステルであることが好ましく、芳香族カルボン酸のエステルであってもよいし、セルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。ここで、セルロースの低級脂肪酸エステルにおける「低級脂肪酸」とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。
【００４４】
また、セルロースエステルを構成するグルコース単位のヒドロキシル基に結合するアシル基は、直鎖炭化水素基であってもよいし、分岐炭化水素基であってもよいし、環状構造の炭化水素基であってもよいし、アシル基に対して別の置換基が置換していてもよい。セルロースエステルの水酸基に結合する置換基の置換度が同じ場合、低級脂肪酸の炭素数が７を超えると、複屈折性が低下するため、セルロースエステルを構成するグルコース単位のヒドロキシル基に結合するアシル基の炭素数は２〜６が好ましく、この炭素数は２〜４がより好ましく、さらに好ましくは炭素数が２〜３である。
【００４５】
本発明において、セルロースエステルは、混合酸由来のアシル基を用いることもでき、好ましくは炭素数が２と３のアシル基、または炭素数が２と４のアシル基を用いることである。このようなセルロースエステルの具体例として、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、または、セルロースアセテートプロピオネートブチレート等のアセチル基の他にプロピオネート基またはブチレート基が結合したセルロースの混合脂肪酸エステルを用いることができる。なお、ブチレートを形成するブチリル基は、直鎖状であってもよいし、分岐状であってもよい。セルロースエステルは、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、またはセルロースアセテートフタレートであることが好ましい。
【００４６】
上記基材フィルム１のリターデーション値は、セルロースエステルに含まれるアシル基の種類とセルロース樹脂骨格のピラノース環へのアシル基の置換度等によって適宜制御することができる。
【００４７】
本実施形態の基材フィルム１に用いられるセルロースエステルを構成するグルコース単位のヒドロキシル基に結合する置換基は、下記式（１）および（２）を同時に満足するものが好ましい。
【００４８】
式（１）：２．０≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（２）：０≦Ｙ≦２．０
上記式（１）中、Ｘはアセチル基の置換度であり、式（１）および（２）中、Ｙはプロピオニル基またはブチリル基の置換度である。上記２式を満足することにより、優れた光学特性を示す基材フィルム１を製造することができる。上記セルロースエステルの中で、トリアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられる。セルロースアセテートプロピオネートは、アセチル基の置換度Ｘが１．０≦Ｘ≦２．５であり、かつ０．１≦Ｙ≦１．５、２．０≦Ｘ＋Ｙ≦３．０であることが好ましい。アシル基の置換度の測定方法は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することができる。アシル基の置換度が低過ぎると、セルロース樹脂の骨格を構成するピラノース環の水酸基に対して未反応部分が多くなり、該水酸基が多く残存する。このため、基材フィルム１のリターデーションが湿度によって変化してしまうため好ましくなく、偏光板保護フィルムとして偏光子を保護する能力が低下するため好ましくない。
【００４９】
上記セルロースエステルの数平均分子量は６００００〜３０００００が好ましく、より好ましくは７００００〜２０００００である。このような数平均分子量のセルロースエステルを用いることにより基材フィルム１の機械的強度を高めることができる。このセルロースエステルの数平均分子量は、高速液体クロマトグラフィーにより下記条件で測定した値を採用するものとする。
【００５０】
溶媒：アセトン
カラム：ＭＰＷ×１（東ソー株式会社製）
試料濃度：０．２（質量／容量）％
流量：１．０ｍｌ／分
試料注入量：３００μｌ
標準試料：標準ポリスチレン
温度：２３℃
セルロースエステルの原料となるセルロースは、特に限定されないが、綿花リンター、木材パルプ、ケナフなどを挙げることができる。またこれらの材料から得られたセルロースエステルはそれぞれ任意の割合で混合して使用してもよい。
【００５１】
上記セルロース原料のアシル化剤として、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸等の酸無水物を用いる場合、酢酸等の有機酸またはメチレンクロライド等の有機溶媒と、硫酸等のプロトン性触媒とによって反応が行われる。アシル化剤として酸クロライド（ＣＨ3ＣＯＣｌ、Ｃ2Ｈ5ＣＯＣｌ、Ｃ3Ｈ7ＣＯＣｌ）を用いる場合、触媒としてアミン等の塩基性化合物が用いられる。セルロース原料のアシル化は、特開平１０−４５８０４号公報に記載の方法により合成することができる。
【００５２】
上記セルロースエステルにおいて、グルコース単位の６位のアシル基の平均置換度は０．５〜０．９であることが好ましい。セルロースエステルを構成するグルコース単位の６位のヒドロキシル基は、２位および３位のヒドロキシル基よりも反応性が高い一級ヒドロキシル基が存在する。この一級ヒドロキシル基は、硫酸を触媒とするセルロースエステルの製造過程で硫酸エステルを優先的に形成する。このため、セルロースのエステル化反応において、触媒である硫酸の添加量を増加させることにより、通常のセルロースエステルに比べて、グルコース単位の２位および３位のヒドロキシル基の平均置換度が高いセルロースエステルを得ることができる。
【００５３】
また、２位および３位のヒドロキシル基の平均置換度を高めるために、必要に応じて、セルロースエステルをトリチル化してもよい。セルロースエステルを構成するグルコース単位の６位のヒドロキシル基をトリチル化により選択的に保護することで、グルコース単位の２位および３位のヒドロキシル基を集中的にエステル化することができる。そして、グルコース単位の２位および３位のヒドロキシル基をエステル化した後に、グルコース単位の６位のヒドロキシル基を保護するトリチル基（保護基）を脱離することにより、グルコース単位の６位のヒドロキシル基よりも２位および３位のヒドロキシル基の平均置換度を高めることができる。このようなエステル化の手法として、特開２００５−２８１６４５号記載の方法で製造されたセルロースエステルを用いることが好ましい。
【００５４】
セルロースエステルとしてアセチルセルロースを用いる場合、アセチルセルロースの酢化率を上げるためには、酢化反応の時間を延長する必要がある。但し、酢化反応の反応時間を長くすると、セルロース鎖の切断およびアセチル基の分解等が起こるため好ましくない。よって、アセチルセルロースの酢化度を上げつつアセチルセルロースの分解を抑えるために、酢化反応の反応時間を特定の範囲に設定することが好ましい。しかしながら、反応時間の好適数値範囲は、反応装置、反応設備、その他の反応条件等によって最適な反応時間が大きく変わるので一律に定めることが困難である。
【００５５】
そこで、上記反応時間に代えて反応度合いの一つの指標である重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）の値を用いることが好ましい。セルロースエステルは、通常のポリマーの分解と同様に分解が進むにつれて分子量分布が広くなってゆくので、重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）の値によってセルロースエステルの分解度合いを把握することができる。例えば、重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）によって反応度合いを特定することにより、セルローストリアセテートを酢化する過程で、酢化の反応時間が余り長くなり過ぎてセルローストリアセテートの分解が進み過ぎることを防止することができ、かつ酢化に十分な反応時間を確保することができる。セルロースエステルのＭｗ／Ｍｎ比は１．４〜５．０が好ましい。
【００５６】
セルロースエステルの製造法の一例を以下に示すと、セルロース原料として綿化リンター１００質量部を解砕して、４０質量部の酢酸を添加し、３６℃で２０分間前処理活性化をする。その後、硫酸８質量部、無水酢酸２６０質量部、酢酸３５０質量部を添加し、３６℃で１２０分間エステル化を行う。２４％酢酸マグネシウム水溶液１１質量部で中和した後、６３℃で３５分間ケン化熟成することによりアセチルセルロースを得る。このアセチルセルロースを１０倍の酢酸水溶液（酢酸：水＝１：１（質量比））を用いて、室温で１６０分間攪拌した後、濾過、乾燥させてアセチル置換度２．７５の精製アセチルセルロースを得る。このアセチルセルロースは、Ｍｎが９２０００、Ｍｗが１５６０００、Ｍｗ／Ｍｎは１．７である。同様にセルロースエステルのエステル化条件（温度、時間、攪拌）、加水分解条件を調整することによって置換度、Ｍｗ／Ｍｎ比の異なるセルロースエステルを合成することができる。
【００５７】
上記方法で合成されたセルロースエステルは、精製して低分子量成分を除去することが好ましく、未酢化または低酢化度の成分を濾過で取り除くことが好ましい。また、上記セルロースエステルが混酸セルロースエステルの場合には、特開平１０−４５８０４号公報に記載の方法で得ることができる。
【００５８】
また、セルロースエステルは、鉄（Ｆｅ）、カルシウム（Ｃａ）、マグネシウム（Ｍｇ）等の金属を含まないことが好ましい。これらの金属イオンは、有機の酸性基を含むポリマー分解物等と塩を形成することにより不溶性の核を形成するからである。これらの微量金属成分は、製造工程で使用される水に由来してセルロースエステル中に含まれると考えられる。
【００５９】
上記セルロースエステルに含まれる鉄は、１ｐｐｍ以下であることが好ましい。セルロースエステルに含まれるカルシウムは、６０ｐｐｍ以下が好ましく、より好ましくは０〜３０ｐｐｍである。カルシウムは、カルボン酸またはスルホン酸等の酸性成分と錯体を形成することもあるし、また多くの配位子と錯体を形成することもある。これらの錯体により不溶なカルシウムに由来するスカム（不溶性の澱、濁り）が形成されることがある。セルロースエステルに含まれるマグネシウムは、０〜７０ｐｐｍであることが好ましく、０〜２０ｐｐｍであることがより好ましい。マグネシウムを７０ｐｐｍ以下とすることにより不溶分の生成を抑制することができる。
【００６０】
上記金属の含有量は、絶乾したセルロースエステルをマイクロダイジェスト湿式分解装置にて硫硝酸分解した後にアルカリ溶融で前処理を行い、その前処理後のセルロースエステルをＩＣＰ−ＡＥＳ（誘導結合プラズマ発光分光分析装置）を用いて分析することによって特定される。
【００６１】
（アクリル系共重合体）
基材フィルムは、重量平均分子量が５００以上３００００以下であるアクリル系共重合体を含有してもよい。このアクリル系共重合体は、分子内に芳香環と親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａと分子内に芳香環を有さず親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂとを共重合して得られたポリマーＸであることが好ましく、上記ポリマーＸに加えて、芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーＹａを重合して得られた重量平均分子量５００以上３０００以下のポリマーＹを含有することがより好ましい。
【００６２】
（添加剤）
基材フィルムは、１種以上の添加剤を０．０１〜３０質量％で含むことが好ましい。基材フィルムに親水性または疎水性の添加剤を添加することにより透水性を調整することができる。このように透水性を調製する添加剤のことを透湿度調整剤ということもある。添加剤の親水性は、水／ｎ−オクタノール分配係数（ＬｏｇＰ）や水への溶解度等によって評価することができ、この溶解度の値が近いものほど分離しにくい。 透湿度を高める添加剤としては、特に限定されないが、糖エステル系化合物を用いることが好ましい。また、透湿度を低下させる添加剤としては、ポリエステル系化合物を用いることが好ましい。
【００６３】
（糖エステル系化合物）
本発明において、基材フィルムは、透湿度を調整するために糖エステル化合物を１〜３５質量％含むことが好ましく、５〜３０質量％含むことがより好ましい。糖エステル化合物が５質量％以上であることにより透湿度を高めることができるし、糖エステル化合物が３０質量％以下であることにより、基材フィルムの保管中に基材フィルムから糖エステル化合物がブリードアウトしにくくすることができる。
【００６４】
糖エステル系化合物は、フラノース構造若しくはピラノース構造を１個有する化合物（Ａ）中のＯＨ基の全て若しくは一部を脂肪族アシル基によりエステル化した化合物、または、フラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を２個以上１２個以下結合した化合物（Ｂ）中のＯＨ基の全て若しくは一部を脂肪族アシル基によりエステル化した化合物（以下、これらの化合物を「糖エステル」または「糖エステル化合物」と称する）を含んでいてもよい。
【００６５】
また、全てのＯＨ基をエステル化した糖エステル化合物と１つ以上のＯＨ基が残存している糖エステル化合物とを併用することもできる。このような糖エステル化合物の混合物としては、例えば、スクロースオクタアセテートと、スクロースヘプタアセテートと、スクロースヘキサアセテートとの混合物等が挙げられる。この糖エステル化合物の混合の比率は特に限定はないが、例えば、３０：３０：３０、４０：３０：３０、４０：５０：１０、５０：３０：２０、６０：３０：１０、８０：１０：１０、９０：７：３、９５：５：０等の組み合わせが挙げられる。これらは、糖のエステル化の際に反応時間あるいは糖と反応させるモノカルボン酸の添加量を調整することで制御してもよいし、それぞれを混合してもよい。
【００６６】
好ましい化合物（Ａ）および化合物（Ｂ）の例としては、以下に示す化合物を挙げることができるが、本発明はこれらに限定されない。
【００６７】
化合物（Ａ）の例としては、グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロース、アラビノース等が挙げられる。なお、化合物（Ａ）には、マルトースを高圧で水素添加して還元して得られるマルチトールも含まれる。
【００６８】
化合物（Ｂ）の例としては、ラクトース、スクロース、セロビオース、マルトース、セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノース、ケストースなどが挙げられる。これらの化合物（Ａ）および化合物（Ｂ）の中で、特にフラノース構造とピラノース構造とを両方有するものが好ましい。フラノース構造とピラノース構造とを両方有する糖エステル化合物の例としてはスクロースが挙げられる。
【００６９】
糖エステル化合物を合成する際に用いられるモノカルボン酸は、特に限定されず、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸等を用いることができる。用いられるカルボン酸は１種類でもよいし、２種以上を混合したものであってもよい。
【００７０】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、オクテン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。
【００７１】
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。上記化合物（Ａ）および化合物（Ｂ）のエステル化化合物に加えて、フラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を３〜１２個結合したオリゴ糖のエステル化化合物を適用してもよい。糖エステル化合物の製造方法は、例えば特開平８−２４５６７８号公報に記載されている。
【００７２】
オリゴ糖は、澱粉、ショ糖等にアミラーゼ等の酵素を作用させて製造されるものである。基材フィルムの添加剤として適用可能なオリゴ糖としては、マルトオリゴ糖、イソマルトオリゴ糖、フラクトオリゴ糖、ガラクトオリゴ糖、キシロオリゴ糖等が挙げられる。このオリゴ糖は、上記化合物（Ａ）および化合物（Ｂ）と同様の方法でアセチル化することができる。
【００７３】
次に、糖エステル化合物の製造の一例を示す。２９．８ｇ（１６６ｍｍｏｌ）のグルコースに１００ｍｌのピリジンを加えた溶液に２００ｍｌの無水酢酸を滴下して２４時間反応させる。この反応により得られた溶液をエバポレートさせることにより濃縮する。この濃縮液を氷水へ投入することにより冷却する。氷水で１時間冷却した後、その冷却液をガラスフィルターにてろ過することにより固体と水を分離する。このガラスフィルターで回収された固体をクロロホルムに溶かし、この溶液を中性になるまで冷水で分液する。分液された有機層を分離した後に、この有機層を無水硫酸ナトリウムによって乾燥させる。そして、有機層に含まれる無水硫酸ナトリウムをろ過により除去した後、クロロホルムをエバポレートにより除き、更に減圧乾燥することにより５８．８ｇ（１５０ｍｍｏｌ）のグリコースペンタアセテート（９０．９％）を得る。なお、上記無水酢酸に代えて上述のモノカルボン酸を使用してもよい。
【００７４】
以下に、本実施形態の糖エステル化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００７５】
【化１】
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【００７６】
【化２】
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【００７７】
【化３】
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【００７８】
【化４】
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【００７９】
【化５】
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【００８０】
【化６】
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【００８１】
【化７】
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【００８２】
（ポリエステル系化合物）
基材フィルムは、透湿度低下剤として、下記一般式（Ｘ）または（Ｙ）で表されるポリエステルを含有してもよい。一般式（Ｘ）で表されるポリエステルは、炭素数２〜１２の２価のアルコールＧと、炭素数２〜１２の２塩基酸と、炭素数１〜１２のモノカルボン酸Ｂ１とによって得られる。一般式（Ｙ）で表されるポリエステルは、炭素数２〜１２の２価のアルコールＧと、炭素数２〜１２の２塩基酸と、炭素数１〜１２のモノアルコールとによって得られる。
【００８３】
一般式（Ｘ）
Ｂ１−（Ｇ−Ａ−）ｍＧ−Ｂ１
上記一般式（Ｘ）において、Ｂ１は炭素数１〜１２のモノカルボン酸を表し、Ｇは炭素数２〜１２の２価のアルコールを表し、Ａは炭素数２〜１２の２塩基酸を表し、ｍは繰り返し数を表す。Ｂ１、Ｇ、およびＡはいずれも芳香環の比率が少ないか、芳香環を含まないことが好ましい。
【００８４】
一般式（Ｙ）
Ｂ２−（Ａ−Ｇ−）ｎＡ−Ｂ２
上記一般式（Ｙ）において、Ｂ２は炭素数１〜１２のモノアルコールを表し、Ｇは炭素数２〜１２の２価のアルコールを表し、Ａは炭素数２〜１２の２塩基酸を表し、ｎは繰り返し数を表す。Ｂ２、Ｇ、およびＡはいずれも芳香環の比率が少ないか、芳香環を含まないことが好ましい。
【００８５】
ｍおよびｎは、１以上で１７０以下が好ましい。
【００８６】
上記式（Ｘ）および式（Ｙ）中のＢ１で表されるモノカルボン酸は、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸等を好ましく用いることができる。好ましいモノカルボン酸の例としては、以下のものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されない。
【００８７】
脂肪族モノカルボン酸は、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を用いることが好ましく、炭素数１〜２０の直鎖または側鎖を有する脂肪酸であることがより好ましく、さらに好ましくは炭素数１〜１２の直鎖または側鎖を有する脂肪酸である。このような脂肪酸に対して酢酸を含有させることにより、セルロースエステルとの相溶性を高めることができるので好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることがより好ましい。
【００８８】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、例えば、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。
【００８９】
上記式（Ｘ）および式（Ｙ）中のＢ２で表されるモノアルコール成分としては、特に制限はなく、公知のアルコール類を用いることができる。Ｂ２で表されるモノアルコール成分は、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を持った脂肪族飽和アルコールまたは脂肪族不飽和アルコールを用いることが好ましく、炭素数１〜２０の直鎖または側鎖を持った脂肪族飽和アルコールまたは脂肪族不飽和アルコールであることがより好ましく、さらに好ましくは、炭素数１〜１２の直鎖または側鎖を持った脂肪族飽和アルコールまたは脂肪族不飽和アルコールである。
【００９０】
上記式（Ｘ）および式（Ｙ）中のＧで表される２価のアルコール成分としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，５−ペンチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール等を挙げることができる。これらのうち、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、またはトリエチレングリコールが好ましく、更に、１，３−プロピレングリコール、１，４−ブチレングリコール１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコールが挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００９１】
上記式（Ｘ）および式（Ｙ）中のＡで表される２塩基酸（ジカルボン酸）成分としては、脂肪族２塩基酸または脂環式２塩基酸が好ましい。脂肪族２塩基酸としては、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカンジカルボン酸、ドデカンジカルボン酸等が好ましく、脂肪族ジカルボン酸としては炭素原子数４〜１２のものが好ましく、ここで挙げられた化合物から少なくとも１種を選択して使用することができる。もちろん、上記で挙げた化合物の中から２種以上の２塩基酸を組み合わせて使用してもよい。２種以上の２塩基酸を組み合わせて使用する場合、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸などの芳香族ジカルボン酸を併用することもできる。
【００９２】
上記式（Ｘ）または式（Ｙ）で表されるポリエステルの数平均分子量は２００００以下が好ましく、１００００以下であることがより好ましい。ポリエステルの数平均分子量が５００〜１００００であることにより、セルロースエステルとの相溶性が良好で、製膜中に蒸発も揮発も起こりにくいため好ましい。
【００９３】
ポリエステルの重縮合は常法によって行われる。例えば、上記２塩基酸とグリコールの直接反応、上記の２塩基酸またはこれらのアルキルエステル類、例えば２塩基酸のメチルエステルとグリコール類とのポリエステル化反応またはエステル交換反応による熱溶融縮合法か、あるいはこれら酸の酸クロライドとグリコールとの脱ハロゲン化水素反応の何れかの方法により容易に合成することができる。ポリエステルの数平均分子量が大きくない場合には上記直接反応によってポリエステルを作製することが好ましい。ポリエステルの分子量分布が低分子量側に高い場合には、ポリエステルとセルロースエステルとの相溶性が優れている。このため、透湿度も小さく、しかも透明性に優れる基材フィルムを得ることができる。
【００９４】
上記ポリエステルの分子量の調整方法は、特に制限なく従来の方法を使用できる。例えば、重合条件にもよるが、１価の酸（モノカルボン酸）または１価のアルコール（モノアルコール）で分子末端を封鎖する方法では、これら１価の化合物の添加量を調整することにより、ポリエステルの分子量を調整することができる。ポリエステルの分子量を調整する場合、ポリマーの安定性の点から１価の酸で分子末端を封鎖することが好ましい。
【００９５】
分子末端を封鎖する１価の酸は、重縮合反応中では系外に溜去せず、反応を停止した後に反応系外に溜去し易いものを選択することが好ましく、例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸等を単独でまたは混合して使用することが好ましい。また、直接反応によってポリエステルを作製する場合、反応中に溜去してくる水の量により反応を停止するタイミングを図ることで、ポリエステルの数平均分子量を調整してもよい。その他、仕込むグリコールまたは２塩基酸のモル数を偏らせることによってポリエステルの数平均分子量を調整してもよいし、反応温度をコントロールしてもポリエステルの数平均分子量を調整してもよい。
【００９６】
〈可塑剤〉
基材フィルムは、必要に応じて可塑剤を含有することができる。可塑剤は特に限定されないが、好ましくは、多価カルボン酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、アクリル系可塑剤等から選択される。なお、これらの可塑剤をリタデーション低下剤として用いることもできる。
【００９７】
グリコレート系可塑剤としては、特に限定されないが、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が好ましく用いることができる。アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例えば、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられる。
【００９８】
フタル酸エステル系可塑剤としては、例えば、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が挙げられる。
【００９９】
クエン酸エステル系可塑剤としては、例えば、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等が挙げられる。
【０１００】
脂肪酸エステル系可塑剤としては、例えば、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル等が挙げられる。
【０１０１】
リン酸エステル系可塑剤としては、例えば、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が挙げられる。
【０１０２】
多価カルボン酸エステル化合物としては、２価以上の多価カルボン酸とアルコールのエステルを用いることが好ましく、好ましくは２価〜２０価の多価カルボン酸とアルコールのエステルを用いることである。また、脂肪族多価カルボン酸は２〜２０価であることが好ましく、芳香族多価カルボン酸、脂環式多価カルボン酸の場合は３価〜２０価であることが好ましい。
【０１０３】
多価カルボン酸は、下記一般式（Ｃ）で表される。
【０１０４】
一般式（Ｃ）
Ｒ２（ＣＯＯＨ）ｍ（ＯＨ）ｎ
上記一般式（Ｃ）において、Ｒ２は（ｍ＋ｎ）価の有機基を表し、ｍは２以上の正の整数を表し、ｎは０以上の整数を表し、ＣＯＯＨ基はカルボキシ基を表し、ＯＨ基はアルコール性またはフェノール性ヒドロキシ基を表す。
【０１０５】
上記式（Ｃ）で表される多価カルボン酸の好ましい例としては、トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸のような３価以上の芳香族多価カルボン酸またはその誘導体、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、テトラヒドロフタル酸のような脂肪族多価カルボン酸、酒石酸、タルトロン酸、リンゴ酸、クエン酸のようなオキシ多価カルボン酸などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。多価カルボン酸は、保留性向上の観点からオキシ多価カルボン酸を用いることが好ましい。
【０１０６】
多価カルボン酸エステルに用いられるアルコールとしては、特に制限されず、公知のアルコールまたはフェノール類を用いることができ、例えば、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を有する脂肪族飽和アルコールまたは脂肪族不飽和アルコールを好ましく用いることができる。上記脂肪族飽和アルコールまたは脂肪族不飽和アルコールの炭素数は１〜２０であることが好ましく、炭素数１〜１０であることがより好ましい。多価カルボン酸エステルに用いられるアルコールとしては、シクロペンタノール、シクロヘキサノールなどの脂環式アルコールまたはその誘導体、ベンジルアルコール、シンナミルアルコールなどの芳香族アルコールまたはその誘導体なども好ましく用いることができる。
【０１０７】
多価カルボン酸としてオキシ多価カルボン酸を用いる場合、オキシ多価カルボン酸のアルコール性またはフェノール性のヒドロキシ基を、モノカルボン酸を用いてエステル化してもよい。好ましいモノカルボン酸の例としては、以下のものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されない。
【０１０８】
脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることができる。上記脂肪酸の炭素数は１〜２０であることが好ましく、脂肪酸の炭素数は１〜１０であることがより好ましい。
【０１０９】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などを挙げることができる。これらの中でも脂肪族モノカルボン酸は、酢酸、プロピオン酸等であることが好ましい。
【０１１０】
好ましい脂環族モノカルボン酸としては、例えば、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。
【０１１１】
好ましい芳香族モノカルボン酸としては、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したものが挙げられるし、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸またはそれらの誘導体が挙げられる。芳香族モノカルボン酸は、安息香酸であることが好ましい。
【０１１２】
多価カルボン酸エステルの分子量は、特に制限はないが、３００〜１０００の分子量であることが好ましく、３５０〜７５０であることがより好ましい。保留性を向上する観点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。
【０１１３】
多価カルボン酸エステルに用いられるアルコール類は１種でもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１１４】
多価カルボン酸エステルの酸価は、１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、０．２ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましい。酸価を上記範囲にすることによって、リターデーションの環境変動を抑制することができる。ここで、酸価は、ＪＩＳ  Ｋ００７０に準拠して測定した値を採用するものとする。この酸化は、試料１ｇ中に含まれる酸（試料中に存在するカルボキシ基）を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数を意味する。
【０１１５】
多価カルボン酸エステル化合物の好ましい例としては、トリエチルシトレート、トリブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート（ＡＴＥＣ）、アセチルトリブチルシトレート（ＡＴＢＣ）、ベンゾイルトリブチルシトレート、アセチルトリフェニルシトレート、アセチルトリベンジルシトレート、酒石酸ジブチル、酒石酸ジアセチルジブチル、トリメリット酸トリブチル、ピロメリット酸テトラブチル等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。
【０１１６】
ポリエステル系可塑剤は、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有するものが用いられるが、これに限定されない。ポリエステル系可塑剤としては、下記一般式（Ｄ）で表される芳香族末端のエステル系可塑剤が用いられる。
【０１１７】
一般式（Ｄ）
Ｂ−（Ｇ−Ａ）ｎ−Ｇ−Ｂ
上記一般式（Ｄ）において、Ｂはベンゼンモノカルボン酸残基を表し、Ｇは炭素数２〜１２のアルキレングリコール残基、炭素数６〜１２のアリールグリコール残基または炭素数が４〜１２のオキシアルキレングリコール残基を表し、Ａは炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸残基または炭素数６〜１２のアリールジカルボン酸残基を表し、ｎは１以上の整数を表す。
【０１１８】
一般式（Ｄ）で表される化合物は、Ｂで示されるベンゼンモノカルボン酸残基と、Ｇで示されるアルキレングリコール残基またはオキシアルキレングリコール残基またはアリールグリコール残基と、Ａで示されるアルキレンジカルボン酸残基またはアリールジカルボン酸残基とから構成されるものである。上記式（Ｄ）で表される芳香族末端のエステル系可塑剤は、通常のポリエステル系可塑剤と同様の反応により得られる。
【０１１９】
ポリエステル系可塑剤のベンゼンモノカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラ−ｔｅｒｔ−ブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等が挙げられ、これらの１種または２種以上の混合物として使用することができる。
【０１２０】
ポリエステル系可塑剤の炭素数２〜１２のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル１，３−ペンタンジオール、２−エチル１，３−ヘキサンジオール、２−メチル１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等が挙げられ、これらのグリコールのうちの１種を単独でまたは２種以上の混合物として使用される。特に炭素数２〜１２のアルキレングリコールがセルロースエステルとの相溶性に優れているため特に好ましい。
【０１２１】
上記芳香族末端エステルの炭素数４〜１２のオキシアルキレングリコール成分としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等が挙げられ、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物を使用することができる。
【０１２２】
芳香族末端エステルの炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸成分としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタール酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等が挙げられる。これらのアルキレンジカルボン酸成分は、それぞれ１種または２種以上の混合物として使用される。炭素数６〜１２のアリーレンジカルボン酸成分としては、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５ナフタレンジカルボン酸、１，４ナフタレンジカルボン酸等が挙げられる。
【０１２３】
ポリエステル系可塑剤は、数平均分子量が３００〜１５００であることが好ましく、より好ましくは４００〜１０００である。また、ポリエステル系可塑剤の酸価は０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、より好ましくは０．３ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。またヒドロキシ基価は２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、より好ましくは１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。
【０１２４】
（微粒子）
基材フィルムは、微粒子を含有することが好ましい。微粒子は、無機化合物で構成されていることが好ましい。無機化合物の例として、例えば、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウム等が挙げられる。微粒子は珪素を含むことが好ましく、より好ましくは二酸化珪素を含むことである。珪素を含むことにより基材フィルムの濁度を低くすることができる。
【０１２５】
基材フィルムに含まれる微粒子は、一次粒子の平均粒子径が５〜４００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１０〜３００ｎｍである。この微粒子は、粒径０．０５〜０．３μｍの二次凝集体として含有されていてもよいが、１００〜４００ｎｍの平均粒子径の微粒子は、凝集せずに一次粒子として含まれることが好ましい。基材フィルムは０．０１〜１質量％の微粒子を含むことが好ましく、特に０．０５〜０．５質量％の微粒子を含むことがより好ましい。共流延法による多層構成の基材フィルムを用いる場合、基材フィルムの表面に位置する層が、基材フィルムの内側に位置する層よりも多量の微粒子を含有するか、又は基材フィルムの内側に位置する層が微粒子を含有しないことが好ましい。
【０１２６】
二酸化珪素で構成された微粒子の具体例としては、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上、日本アエロジル株式会社製）の商品名で市販されているものが挙げられる。酸化ジルコニウムで構成された微粒子の具体例としては、例えば、アエロジルＲ９７６およびＲ８１１（以上、日本アエロジル株式会社製）の商品名で市販されているものが挙げられる。
【０１２７】
これらの中でも、基材フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいという観点で、アエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖを微粒子として含むことが好ましい。基材フィルムは、少なくとも一方の面の動摩擦係数が０．２〜１．０であることが好ましい。
【０１２８】
＜ハードコート層＞
本発明のハードコートフィルム１０は、基材フィルム１の表裏のうちの一方若しくは両方に形成されたハードコート層２を有する。このハードコート層２は、基材フィルム１に対し、ハードコート組成物を塗布して乾燥させ、硬化させることによって形成される。本発明のハードコートフィルムは、基材フィルム上にハードコート層を２層以上積層して形成してもよい。また、基材フィルムの両面にハードコート層が形成されていてもよい。このハードコート層を形成するためのハードコート組成物は、樹脂、光重合開始剤、微粒子、ポリマーシランカップリング剤、溶剤、紫外線吸収剤等を含む。以下にハードコート層に含まれる各成分を説明する。
【０１２９】
（樹脂）
ハードコート層に含まれる樹脂は、紫外線または電子線等の活性エネルギー線により架橋反応を経て硬化する活性線硬化樹脂であることが好ましい。ハードコート層が活性線硬化樹脂を含むことにより、ハードコート層の機械的膜強度および湿熱寸法変動を確保することができる。活性線硬化樹脂は、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを重合させることによって得られるものであることが好ましい。
【０１３０】
活性線硬化樹脂としては、紫外線照射によって硬化する紫外線硬化性樹脂または電子線照射によって硬化する電子線硬化性樹脂等が挙げられるが、機械的膜強度および湿熱寸法変動に優れる観点から紫外線硬化性樹脂を用いることが好ましい。ハードコート層に含まれる紫外線硬化性樹脂は、紫外線硬化型アクリレート系樹脂、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂および紫外線硬化型エポキシ樹脂からなる群より選択される１種以上であることが好ましく、中でも紫外線硬化型アクリレート系樹脂であることが好ましく、さらに好ましくは、３官能以上の多官能（メタ）アクリレートモノマーおよび／または３官能以上の多官能ウレタン（メタ）アクリレートモノマーを構成単位として含む樹脂を含むことである。
【０１３１】
紫外線硬化型アクリレート系樹脂は、単官能アクリレートおよび／または多官能アクリレートを重合することによって得られる樹脂であることが好ましく、多官能アクリレートを重合して得られる樹脂であることがより好ましい。多官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、およびジペンタエリスリトール多官能メタクリレートからなる群から選択される１種以上を含むことが好ましい。
【０１３２】
上記多官能アクリレートは、分子中に２個以上のアクリロイルオキシ基またはメタクロイルオキシ基を有することが好ましい。多官能アクリレートのモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ／テトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体、多塩基酸性アクリレート等が挙げられ、このような活性線硬化樹脂を単独または２種以上混合して用いてもよい。
【０１３３】
また、多官能アクリレートの市販品としては、アデカオプトマーＮシリーズ、サンラッドＨ−６０１、ＲＣ−７５０、ＲＣ−７００、ＲＣ−６００、ＲＣ−５００、ＲＣ−６１１、ＲＣ−６１２（三洋化成工業株式会社製）、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０、アロニックスＭ−２１５、アロニックスＭ−３１５、アロニックスＭ−３１３、アロニックスＭ−３２７（東亞合成株式会社製）、ＮＫ−エステルＡ−ＴＭＭ−３Ｌ、ＮＫ−エステルＡＤ−ＴＭＰ、ＮＫ−エステルＡＴＭ−３５Ｅ、ＮＫエステルＡ−ＤＯＧ、ＮＫエステルＡ−ＩＢＤ−２Ｅ、Ａ−９３００、Ａ−９３００−１ＣＬ（新中村化学工業株式会社製）、ＰＥ−３Ａ（共栄社化学株式会社製）などが挙げられる。
【０１３４】
単官能アクリレートとしては、イソボロニルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ラウリルアクリレート、イソオクチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベヘニルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、シクロヘキシルアクリレートなどが挙げられる。このような単官能アクリレートは、日本化成工業株式会社、新中村化学工業株式会社、または大阪有機化学工業株式会社等の市販品を用いることができる。
【０１３５】
活性線硬化樹脂を構成する構成単位として単官能アクリレートを含む場合、多官能アクリレートと単官能アクリレートの含有質量比が、多官能アクリレート：単官能アクリレート＝８０：２０〜９８：２であることが好ましい。
【０１３６】
（光重合開始剤）
ハードコート層は、活性線硬化樹脂の硬化を促進するために光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤の含有量は、質量比で、光重合開始剤：活性線硬化樹脂＝２０：１００〜０．０１：１００であることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アルキルフェノン系、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等、およびこれらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されない。光重合開始剤として市販品を用いてもよく、市販品の例としては、ＢＡＳＦジャパン（株）製のイルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア６５１などが挙げられる。
【０１３７】
（微粒子）
ハードコート層は、微粒子を含有することが好ましい。微粒子の含有量は、微粒子：活性線硬化樹脂＝１００：１００〜４００：１００であることが好ましい。このような含有量で微粒子を含むことにより、ハードコート層の寸法変動を低くすることができ、電極基材として有効なハードコートフィルムを得ることができる。ここでの微粒子は、特に制限されないが、金属酸化物によって構成された微粒子（以下、「金属酸化物粒子」とも記す）であることが好ましい。ここでの金属酸化物としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化チタン、五酸化アンチモン等が挙げられる。これらの中で、金属酸化物粒子は、シリカで構成されていることが好ましい。シリカ微粒子は、内部に空洞が形成された中空粒子であってもよい。
【０１３８】
上記微粒子は、ポリマーシランカップリング剤によって被覆されていることが好ましい。微粒子の表面をポリマーシランカップリング剤で被覆することにより、ハードコート組成物中で微粒子を均一に分散させることができる。またポリマーシランカップリング剤で被覆された微粒子を用いることにより、耐久性試験後のハードコート層の基材フィルムへの密着性を良好にすることができる。
【０１３９】
ポリマーシランカップリング剤で被覆した微粒子の平均粒子径は、５〜５００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１０〜２００ｎｍである。このような平均粒子径の微粒子を用いることにより、ハードコート層の光学特性を高めることができる。
【０１４０】
ハードコート層は、金属酸化物粒子を固形分比率で５０〜８０質量部含むことが好ましく、ポリマーシランカップリング剤で被覆された微粒子を固形分比率で５０〜８０質量部含むことがより好ましい。このような含有量で微粒子を含むことによりハードコート層の膜強度を向上させることができる。
【０１４１】
上記ポリマーシランカップリング剤によって形成される被覆層の厚みは、１〜１０ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１〜５ｎｍである。被覆層の厚みを１ｎｍ以上とすることによりハードコート組成物中で微粒子を均一に分散することができる。また被覆層の厚みが１０ｎｍ以下であることにより被覆層の形成に必要となる時間を短時間化することができ、生産性を向上させることができる。また、被覆層の含有量は、微粒子全体に対して固形分で０．５〜２０重量％であることが好ましく、より好ましくは１〜１５重量％である。
【０１４２】
上記ポリマーシランカップリング剤は、重合性モノマーとシランカップリング剤（シラン化合物）とを反応することによって調整される。このようなポリマーシランカップリング剤は、例えば、特開平１１−１１６２４０号公報に開示された重合性モノマーと反応性シラン化合物との反応物の製法に準じて作製することができる。具体的には、重合性モノマー１００重量部に対し、反応性シラン化合物を０．５〜２０重量部、好ましくは１〜１０重量部で混合した有機溶液を調製し、さらにこの有機溶液に重合開始剤を添加して加熱することによって得られる。
【０１４３】
上記ポリマーシランカップリング剤を構成する重合性モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸−ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）−ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸−ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸−ｎ−ヘプチル、（メタ）アクリル酸−ｎ−オクチル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸トルイル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸−２−メトキシエチル、（メタ）アクリル酸−３−メトキシブチル、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ステアリル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸２−アミノエチル、（メタ）アクリル酸のエチレンオキサイド付加物、（メタ）アクリル酸トリフルオロメチルメチル、（メタ）アクリル酸２−トリフルオロメチルエチル、（メタ）アクリル酸２−パーフルオロエチルエチル、（メタ）アクリル酸２−パーフルオロエチル−２−パーフルオロブチルエチル、（メタ）アクリル酸２−パーフルオロエチル、（メタ）アクリル酸パーフルオロメチル、（メタ）アクリル酸ジバーフルオロメチルメチル、（メタ）アクリル酸２−パーフルオロメチル−２−パーフルオロエチルメチル、（メタ）アクリル酸２−パーフルオロヘキシルエチル、（メタ）アクリル酸２−パーフルオロデシルエチル、（メタ）アクリル酸２−パーフルオロヘキサデシルエチル等の（メタ）アクリル酸系モノマー；スチレン、ビニルトルエン、α−メチルシチレン、クロルスチレン、スチレンスルホン酸およびその塩等のスチレン系モノマー；パーフルオロエチレン、パーフルオロプロピレン、フッ化ビニリデン等のフッ素含有ビニルモノマー；ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等のケイ素含有ビニル系モノマー；無水マレイン酸、マレイン酸、マレイン酸のモノアルキルエステルおよびジアルキルエステル；フマル酸、フマル酸のモノアルキルエステルおよびジアルキルエステル；マレイミド、メチルマレイミド、エチルマレイミド、プロピルマレイミド、ブチルマレイミド、ヘキシルマレイミド、オクチルマレイミド、ドデシルマレイミド、ステアリルマレイミド、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド等のニトリル基含有ビニル系モノマー；アクリルアミド、メタクリルアミド等のアミド基含有ビニル系モノマー；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ピバリン酸ビニル、安息香酸ビニル、桂皮酸ビニル等のビニルエステル類；エチレン、プロピレン等のアルケン類；ブタジエン、イソプレン等の共役ジエン類；塩化ビニル、塩化ビニリデン、塩化アリル、アリルアルコール、アクリル樹脂モノマー類；ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリ���ート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメテクリレート、イソデシルメテクリレート、ｎ−ラウリルアクリレート、ｎ−ステアリルアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、トリフロロエチルメテクリレート、ウレタンアクリレート等が挙げられ、これらを単独で用いてもよいし、複数を混合した混合物として用いてもよい。また上記で挙げられた重合性モノマーの重合物（オリゴマー、プレポリマー）を用いることもできる。ここで、上記「（メタ）アクリル」は、アクリルおよびメタクリルの両方を意味し、「（メタ）アクリレート」とはアクリレートおよびメタクリレートの両方を意味する。
【０１４４】
上記反応性シラン化合物は、下記式（１）で表される有機ケイ素化合物であることが好ましい。
【０１４５】
Ｘ−Ｒ−Ｓｉ（ＯＲ）３      （１）
上記式（１）中、Ｒは、置換または非置換の炭化水素基から選ばれる炭素数１〜１０の有機基を表す。Ｘは（メタ）アクロイル基、エポキシ基（グリシド基）、ウレタン基、アミノ基、フルオロ基から選ばれる１種または２種以上の官能基を表す。
【０１４６】
上記式（１）で表される有機ケイ素化合物として、具体的には、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル−３，３，３−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシメチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシメチルトリエキシシラン、γ−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−（β−グリシドキシエトキシ）プロピルトリメトキシシラン、γ−（メタ）アクリロオキシメチルトリメトキシシラン、γ−（メタ）アクリロオキシメチルトリエキシシラン、γ−（メタ）アクリロオキシエチルトリメトキシシラン、γ−（メタ）アクリロオキシエチルトリエトキシシラン、γ−（メタ）アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−（メタ）アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−（メタ）アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−（メタ）アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、３−ウレイドイソプロピルプロピルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等およびこれらの混合物が挙げられる。
【０１４７】
有機溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸エチレングリコールモノメチルエーテル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、メタノール、イソプロパノール等のアルコール類、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類が挙げられ、これらを単独で、または２種以上を混合して用いられる。重合性モノマーと反応性シラン化合物との合計の濃度は、固形分比率で１〜４０重量％であることが好ましく、より好ましくは２〜３０重量％である。
【０１４８】
重合開始剤としては、アゾイソブチルニトリル、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサイノエート、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ブチルパーオキシアセテートなどの過酸化物重合開始剤、２，２−アゾビスイソブチロニトリル、２，２−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２−アゾビス（４−メトキシ−２,４−ジメチルバレロニトリル）などのアゾ化合物などが挙げられる。
【０１４９】
重合性モノマーとシラン化合物との反応温度は３０℃以上１００℃以下であることが好ましく、５０℃以上９５℃以下であることがより好ましい。反応温度を３０℃以上とすることにより、重合性モノマーとシラン化合物との反応が進行しやすくなるため、分子量の大きいポリマーシランカップリング剤を短時間で調製することができる。反応温度が１００℃以下であることにより、所望の分子量に調整できる程度の反応速度とすることができる。ポリマーシランカップリング剤の分子量は、ポリスチレン換算で２,５００〜１５０,０００であることが好ましく、より好ましくは２，０００〜１００，０００である。
【０１５０】
（ポリマーシランカップリング剤で被覆した微粒子の調製方法）
ポリマーシランカップリング剤で被覆した微粒子の調製方法としては、まず、微粒子とポリマーシランカップリング剤とを有機溶媒に分散させた分散液を作製する。この分散液に対してアルカリを添加することにより微粒子の表面を活性化させる。これにより微粒子の表面にＯＨ基が生成し、このＯＨ基によってポリマーシランカップリング剤との親和性が高められ、微粒子の表面にポリマーシランカップリング剤が吸着されるか、または、微粒子の表面に生成したＯＨ基とポリマーシランカップリング剤のＯＨ基とが脱水反応によって結合する。最後に、ポリマーシランカップリング剤を吸着した微粒子を分散液から分離して、当該微粒子を乾燥することによってポリマーシランカップリング剤で被覆した微粒子が得られる。
【０１５１】
上記分散液に含まれる微粒子とポリマーシランカップリング剤の合計の濃度は、固形分比で１〜３０重量％であることが好ましく、より好ましくは２〜２５重量％である。
【０１５２】
上記分散液に含まれる有機溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、２−プロパノール（ＩＰＡ）、ブタノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、イソプロピルグリコールなどのアルコール類；酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステル、酢酸ブチルなどのエステル類；ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、アセト酢酸エステルなどのケトン類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、トルエン、シクロヘキサノン、イソホロン等が挙げられる。
【０１５３】
上記分散液に添加するアルカリは、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化物、またはアンモニア、アミン類等の塩基性窒素化合物を含むことが好ましい。これらの中でも微粒子へのポリマーシランカップリング剤の吸着および結合を促進し、未吸着のポリマーシランカップリング剤を少なくするという観点から塩基性窒素化合物をアルカリとして用いることが好ましい。
【０１５４】
上記分散液に添加するアルカリの添加量は、微粒子を構成する金属酸化物の種類、微粒子の平均粒子径等によっても異なるが、微粒子に対して０．００１〜０．２質量部であることが好ましく、より好ましくは０．００５〜０．１質量部である。
【０１５５】
（導電剤）
ハードコート層は、帯電防止性を付与するための導電剤を含むことが好ましい。好ましい導電剤としては、イオン液体、金属酸化物粒子またはπ共役系導電性ポリマーが挙げられる。
【０１５６】
（添加剤）
ハードコート層は、シリコーン系化合物またはＨＬＢ値が３〜１８の化合物が含まれることが好ましい。これらの添加剤の種類や添加量を調整することで、ハードコート組成物の親水性を高めることができるので、基材フィルムに対して塗布しやすくなるという利点がある。これらの添加剤は、ハードコート組成物中の固形分成分に対し、０．００５質量部以上１０質量部以下含まれることが好ましい。これらの成分は全添加剤量が０．００５質量部以上１０質量部以下であれば２種類以上添加することもできる。
【０１５７】
シリコーン系化合物としては、信越化学工業株式会社製：ＫＦ−３５１、ＫＦ−３５２、ＫＦ−３５３、ＫＦ−３５４Ｌ、ＫＦ−３５５Ａ、ＫＦ−６１５Ａ、ＫＦ−９４５、ＫＦ−６１８、ＫＦ−６０１１、ＫＦ−６０１５、ＫＦ−６００４、ビックケミージャパン株式会社製：ＢＹＫ−ＵＶ３５７６、ＢＹＫ−ＵＶ３５３５、ＢＹＫ−ＵＶ３５１０、ＢＹＫ−ＵＶ３５０５、ＢＹＫ−ＵＶ３５００等が挙げられる。
【０１５８】
ＨＬＢ（Ｈｙｄｒｏｐｈｉｌｅ−Ｌｉｐｏｐｈｉｌｅ−Ｂａｌａｎｃｅ）値は、化合物の親水性または親油性の大きさを示す値である。ＨＬＢ値が小さいほど親油性が高く、ＨＬＢ値が大きいほど親水性が高くなる。また、ＨＬＢ値は以下の計算式によって算出される。
【０１５９】
ＨＬＢ＝７＋１１．７Ｌｏｇ（Ｍｗ／Ｍｏ）
上記式中、Ｍｗは親水基の分子量を表し、Ｍｏは親油基の分子量を表す。Ｍｗ＋Ｍｏ＝Ｍ（化合物の分子量）である。また、ＨＬＢ値は、グリフィン法によって算出された値を採用してもよい。グリフィン法による計算式は、ＨＬＢ値＝２０×親水部の式量の総和／分子量（Ｊ．Ｓｏｃ．Ｃｏｓｍｅｔｉｃ  Ｃｈｅｍ．，５（１９５４），２９４）等が挙げられる。
【０１６０】
ＨＬＢ値が３〜１８の化合物の具体例として、例えば、花王株式会社製：エマルゲン１０２ＫＧ（６．３）、エマルゲン１０３（８．１）、エマルゲン１０４Ｐ（９．６）、エマルゲン１０５（９．７）、エマルゲン１０６（１０．５）、エマルゲン１０８（１２．１）、エマルゲン１０９Ｐ（１３．６）、エマルゲン１２０（１５．３）、エマルゲン１２３Ｐ（１６．９）、エマルゲン１４７（１６．３）、エマルゲン２１０Ｐ（１０．７）、エマルゲン２２０（１４．２）、エマルゲン３０６Ｐ（９．４）、エマルゲン３２０Ｐ（１３．９）、エマルゲン４０４（８．８）、エマルゲン４０８（１０．０）、エマルゲン４０９ＰＶ（１２．０）、エマルゲン４２０（１３．６）、エマルゲン４３０（１６．２）、エマルゲン７０５（１０．５）、エマルゲン７０７（１２．１）、エマルゲン７０９（１３．３）、エマルゲン１１０８（１３．５）、エマルゲン１１１８Ｓ−７０（１６．４）、エマルゲン１１３５Ｓ−７０（１７．９）、エマルゲン２０２０Ｇ−ＨＡ（１３．０）、エマルゲン２０２５Ｇ（１５．７）、エマルゲンＬＳ−１０６（１２．５）、エマルゲンＬＳ−１１０（１３．４）、エマルゲンＬＳ−１１４（１４．０）、日信化学工業株式会社製：サーフィノール１０４Ｅ（４）、サーフィノール１０４Ｈ（４）、サーフィノール１０４Ａ（４）、サーフィノール１０４ＢＣ（４）、サーフィノール１０４ＤＰＭ（４）、サーフィノール１０４ＰＡ（４）、サーフィノール１０４ＰＧ−５０（４）、サーフィノール１０４Ｓ（４）、サーフィノール４２０（４）、サーフィノール４４０（８）、サーフィノール４６５（１３）、サーフィノール４８５（１７）、サーフィノールＳＥ（６）、信越化学工業株式会社製：Ｘ−２２−４２７２（７）、Ｘ−２２−６２６６（８）等の製品が挙げられるが、これに限定されるものでない。なお、上記製品名の後に示す括弧書（  ）内の数値はＨＬＢ値である。
【０１６１】
（紫外線吸収剤）
ハードコート層は、紫外線吸収剤を含むことが好ましい。ハードコート層が２層以上積層されている場合には、ハードコート層のうちの基材フィルムに接する側のハードコート層が紫外線吸収剤を含有することが好ましい。
【０１６２】
ハードコート層に含まれる紫外線吸収剤の含有量は、質量比で、紫外線吸収剤：ハードコート構成樹脂＝０．０１：１００〜２０：１００であることが好ましい。ハードコート層を２層以上設ける場合、基材フィルムと接するハードコート層の膜厚は０．０５〜２μｍであることが好ましい。ハードコート層を２層以上積層する場合、同時重層によって形成してもよい。同時重層とは、乾燥工程を経ずに基材フィルム上に２層以上のハードコート層をｗｅｔ  ｏｎ  ｗｅｔで塗布することによって形成することである。ハードコート層上に乾燥工程を経ずに、さらにハードコート層をｗｅｔ  ｏｎ  ｗｅｔで積層する場合、押し出しコーターにより逐次重層するか、若しくは複数のスリットを有するスロットダイにて同時重層を行うことができる。
【０１６３】
（溶剤）
ハードコート組成物に含まれる溶剤は、基材フィルムを膨潤または一部溶解させるものを用いることが好ましい。このような溶剤としては、メチルエチルケトン、アセトンなどのケトン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの酢酸エステル、エタノール、メタノール、ノルマルプロパノール、イソプロパノールなどのアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどの１種を単独でまたは２種以上を混合して用いられる。
【０１６４】
本発明のハードコートフィルムに用いる基材フィルムは、透湿度が高く、かつ薄膜であるため、湿度による寸法変化が大きく、座屈が起こりやすい。このため、脱ガス工程等で急激な寸法変化が生じることによってハードコートフィルムが変形することがある。この変形によりハードコートフィルム上に一定の厚みで電極を形成することが困難になるし、形成した電極性能が悪影響を受けることもある。このようなハードコートフィルムの寸法変動を抑制するために、ハードコートフィルムの表面に寸法変動しにくい保護フィルムを貼り合わせることも考えられる。しかしながら、ハードコートフィルムの搬送中の急激な温度湿度変化によってハードコートフィルムと保護フィルムとの間の寸法変化の相違に起因するカールが生じることもあるため、保護フィルムを設けることは好ましくない。
【０１６５】
そこで、上記の溶媒を用いることにより基材フィルムの表面を膨潤または一部溶解させることができる。これによりハードコート組成物を基材フィルムに塗布したときに、基材フィルムを構成する成分とハードコート層を構成する成分とが混ざり合った部分が層状に形成される。この層状の部分を緩衝層というものとする。この緩衝層により基材フィルムに対してハードコート層を強固に密着させることができるので、基材フィルムに寸法変化が生じてもハードコート層が基材フィルムの寸法変化に追従してその寸法変化を抑制する力を作用させることができる。これにより搬送中で温度および湿度の環境に変動が生じたとしても、ハードコートフィルムに変形を生じにくくすることができる。上記緩衝層の厚みは厚いことが好ましい。緩衝層の厚みが厚いことで基材フィルムとハードコート層との密着性を高めることができる。
【０１６６】
ハードコート組成物の塗布量は、ウェット膜厚で０．１〜８０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜３０μｍである。ここで、ウェット膜厚は、吐出液量を塗布面積で除算することによって算出された値を採用するものとする。ハードコート層の膜厚は、平均膜厚０．５〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは１〜５μｍであり、さらに好ましくは２μｍ以上５μｍ以下である。ここで、ハードコート層の膜厚は、ハードコートフィルムの膜厚から基材フィルムの膜厚を減算することによって得られた値を採用するものとする。言い換えると、基材フィルムにハードコート層を形成した後に、元々の基材フィルムから増加した膜厚を、ハードコート層の膜厚として算出している。
【０１６７】
上記ハードコート層は、５ＧＰａ以上１０ＧＰａ以下の弾性率であることが好ましく、上記弾性率は６ＧＰａ以上９ＧＰａ以下であることがより好ましい。ここで、上記弾性率は、ナノインデンテーション法において測定深さ１μｍでハードコート層の表面を測定した値を採用するものとする。上記弾性率の範囲内にすることによって、基材フィルムの温湿度変化による寸法変化をハードコート層によって抑えることができる。また、このような弾性率のハードコート層が形成されていることにより、ハードコートフィルムの機械的強度を高めることができる。
【０１６８】
ここで、ナノインデンテーション法は、超微小硬度計を用いて、先端形状が正三角錐状（バーコビッチ型）のダイヤモンドチップからなる圧子を平坦な試料表面（ここでは、ハードコート層）に押し込み負荷／除荷試験を行い、そのときの負荷／除荷応答から弾性率を測定する方法である。具体的には、前記負荷／除荷試験によって、試験力（荷重）−押し込み深さ曲線を作成し、その曲線から硬度や弾性率を求める。試験力（荷重）−押し込み深さ曲線は、具体的には、以下のような操作を行って作成する。
【０１６９】
まず、試料に対して、前記圧子を試料表面から所定の押し込み深さになるまで一定の速度で荷重を増加させて押し込む。そして、所定の押し込み深さまで前記圧子を押し込んだ後、所定の時間、一定の荷重で保持する。その際、徐々に圧子は試料内に沈んでいく。そして、前記保持終了後、一定の速度で荷重が減少するように圧子を試料から引き抜く。その際、圧子を試料に押し込む直前の位置まで戻しても、圧子の押し込みによる変形の分だけ、圧子と試料とが離間してしまう。このような動作を行って、上記試験力（荷重）−押し込み深さ曲線を作成する。前記超微小硬度計としては、株式会社島津製作所製の島津ダイナミック超微小硬度計ＤＵＨ−２１１Ｓ等を用いることができる。
【０１７０】
ナノインデンテーション法において測定される緩和弾性率（Ｅｉｔ）とは、負荷／除荷試験によって、作成された試験力（荷重）−押し込み深さ曲線を用いて、下記式（２）から算出される弾性率である。
【０１７１】
１／Ｅｒ＝（１−Ｖｓ２）／Ｅｉｔ＋（１−Ｖｉ２）／Ｅｉ      （２）
なお、前記式（２）中、Ｅｒは、押し込み接触による換算弾性率（ＭＰａ）を示し、Ｖｓは、試料のポアソン比を示し、Ｅｉｔは、緩和弾性率（ＭＰａ）を示し、Ｖｉは、圧子のポアソン比を示し、Ｅｉは、圧子のヤング率（ＭＰａ）を示す。そして、Ｅｒは、下記式（３）から算出することができる。Ｖｓは、横歪（％）を縦歪（％）で除した値である。例えば、ハードコート層を形成した基材フィルムを引っ張り試験機によって定速で引っ張った場合の歪（伸び率）（横歪（％）および縦歪（％））を測定し、これらの歪から算出することができる。より具体的には、例えば、ポアソン比測定装置（例えば、オリエンテック社製のテンシロンＲＴＡ−１００等）によって測定することができる。Ｖｉは、０．０７である。Ｅｉは、１．１４×１０６ＭＰａである。
【０１７２】
Ｓ＝２×Ｅｒ×Ａｐ０．５／π０．５      （３）
なお、前記式（３）中、Ｓは、試験力（荷重）−押し込み深さ曲線における除荷開始時の傾き（近似曲線の傾き（ｄＦ／ｄｈ））を示し、Ｅｒは、押し込み接触による換算弾性率（ＭＰａ）を示し、Ａｐは、接触投影面積（ｍｍ２）を示す。そして、Ａｐは、下記式（４）から算出される。
【０１７３】
Ａｐ＝２３．９６×ｈｃ２      （４）
なお、前記式（４）中、Ａｐは、接触投影面積（ｍｍ２）を示し、ｈｃは、接触深さ（ｍｍ）を示す。そして、ｈｃは、下記式（５）から算出される。
【０１７４】
ｈｃ＝ｈｍａｘ−０．７５×（ｈｍａｘ−ｈｒ）    （５）
なお、前記式（５）中、ｈｃは、接触深さ（ｍｍ）を示し、ｈｍａｘは、最大試験力Ｆｍａｘ時における押し込み深さ（深さ最大値）（ｍｍ）を示し、ｈｒは、試験力（荷重）−押し込み深さ曲線の最大試験力Ｆｍａｘにおける除荷曲線の接線が深さ軸と交わる切片（ｍｍ）である。
【０１７５】
よって、ナノインデンテーション法において測定深さ１μｍで表面を測定した緩和弾性率とは、最大試験力Ｆｍａｘ時における押し込み深さ（深さ最大値）ｈｍａｘが、１μｍ（０．００１ｍｍ）であるときに、上記式（２）〜（５）から算出される弾性率である。そして、この緩和弾性率は、上述のように、試験力（荷重）−押し込み深さ曲線における除荷開始時の傾き（近似曲線の傾き（ｄＦ／ｄｈ））に依存し、試料の塑性変形のしやすさや、弾性回復のしにくさ等を示す指標となる。
【０１７６】
（ハードコート層の形成方法）
ハードコート層は、基材フィルムに対してハードコート組成物を塗布、乾燥および硬化することによって形成される。ここでの硬化は、活性線を照射することによって行われる、いわゆるＵＶ硬化処理であることが好ましい。さらに必要に応じてＵＶ硬化処理後に加熱処理を行ってもよい。
【０１７７】
ハードコート組成物の塗布方法は、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等の公知の方法を用いることができる。
【０１７８】
一般に乾燥プロセスは、ハードコート組成物の乾燥が始まると、乾燥速度が一定の状態から徐々に減少していくことが知られている。乾燥速度が一定の区間を恒率乾燥区間、乾燥速度が減少していく区間を減率乾燥区間と呼ぶ。ハードコート組成物の乾燥は、減率乾燥区間の温度を３０℃以上で行うことが好ましく、５０℃以上であることがより好ましい。
【０１７９】
ハードコート組成物の硬化は、活性線を照射（ＵＶ硬化処理とも言う）することによって行ってもよいし、さらに必要に応じて、ＵＶ硬化処理後に加熱処理をしてもよい。上記ＵＶ硬化処理に用いる光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用することができ、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。
【０１８０】
上記照射条件は用いるランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２であり、好ましくは５０〜３００ｍＪ／ｃｍ２である。また、ＵＶ硬化処理では、酸素による反応阻害を防止するため、酸素除去を行うこともでき、例えば、窒素パージなどの不活性ガスによる置換を行うことが好ましい。酸素濃度の除去量を調整することによってハードコート層の表面の硬化状態を制御することができる。これによりハードコート層に十分な機械的膜強度（湿熱寸法変動）を発現することができるし、ハードコートフィルムを屈曲させたときにハードコート層にクラックが発生することを抑制することもできる。
【０１８１】
活性線の照射は、基材フィルムに対してその搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、より好ましくは幅方向にも張力を付与しながら活性線を照射することである。基材フィルムに付与する張力は３０〜３００Ｎ／ｍであることが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックローラ上で搬送方向に張力を付与してもよいし、テンターにて幅方向または２軸方向に張力を付与してもよい。このように張力を導入しながらハードコート組成物を硬化させることにより平面性に優れたハードコートフィルムを得ることができる。
【０１８２】
ＵＶ処理後の加熱処理は８０℃以上であることが好ましく、より好ましくは１００℃以上であり、さらに好ましくは１２０℃以上である。このような高温で加熱処理を行うことにより、膜強度に優れたハードコート層を形成することができる。
【０１８３】
ハードコート層を表面改質してもよい。表面改質の方法は、プラズマ照射処理、コロナ照射処理、溶媒処理等が挙げられる。これらの表面改質の方法は、一種類を単独で行ってもよいし、複数を組み合わせてもよい。
【０１８４】
（バックコート層）
本実施形態のハードコートフィルムのハードコート層を設けた側と反対側の面には、バックコート層を設けてもよい。バックコート層は、ハードコート組成物の塗布またはＣＶＤなどによる導電膜の形成によってハードコートフィルムに生じるカールを矯正するために設けられる。すなわち、バックコート層を設けることにより、バックコート層側の面を内側にして丸まろうとする性質を持たせることができ、ハードコートフィルムのカールの度合いをバランスさせることができる。バックコート層は、バックコート組成物を塗布することによって形成されるものである。バックコート組成物は、ブロッキング防止機能を持たせるための微粒子を含むことが好ましい。これによりバックコート層がブロッキング防止層としての機能を発揮することができる。
【０１８５】
バックコート組成物に含まれる微粒子は、無機化合物またはポリマーで構成されていることが好ましく、このような無機化合物としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ＩＴＯ、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウムおよびリン酸カルシウムが挙げられる。微粒子は珪素を含むことが好ましい。珪素を含むことによりバックコート層のヘイズを低くすることができる。中でも微粒子は二酸化珪素で構成されていることがより好ましい。
【０１８６】
上記無機化合物で構成された微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル株式会社製）の商品名で市販されているものを使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６およびＲ８１１（以上日本アエロジル株式会社製）の商品名で市販されているものを使用することができる。
【０１８７】
上記ポリマーで構成された微粒子としては、シリコーン樹脂、フッ素樹脂およびアクリル樹脂が挙げられる。これらの中でもシリコーン樹脂を用いることが好ましく、特に三次元の網状構造を有するものがより好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０および同２４０（以上東芝シリコーン株式会社製）の商品名で市販されているものを使用することが好ましい。
【０１８８】
これらの中でもアエロジル２００ＶおよびアエロジルＲ９７２Ｖが、バックコート層のヘイズを低く保ちながら、ブロッキング防止効果を得ることができるため特に好ましい。本実施形態のハードコートフィルムは、ハードコート層の裏面側の動摩擦係数が０．９以下であることが好ましく、より好ましくは０．１〜０．９である。
【０１８９】
バックコート層に含まれる微粒子は、バインダー成分に対して０．１〜５０質量％含まれていることが好ましく、０．１〜１０質量％含まれていることがより好ましい。バックコート層を設けた場合のハードコートフィルムのヘイズの増加は１％以下であることが好ましく、０．５％以下であることがより好ましく、さらに好ましくは０．０〜０．１％である。
【０１９０】
上記バックコート組成物は、基材フィルムを溶解させる溶媒または膨潤させる溶媒を含むことが好ましい。ここで用いる溶媒は、基材フィルムを溶解させる溶媒および／または基材フィルムを膨潤させる溶媒を混合したものであってもよいし、さらに基材フィルムを溶解させない溶媒を含んでいてもよい。バックコート組成物は、ハードコートフィルムのカール度合や基材フィルムを構成する樹脂の種類によって適した割合で上記各主成分を混合することが好ましく、このようなバックコート組成物をハードコートフィルムのカール度合や基材フィルムを構成する樹脂の種類に応じて適した塗布量で塗布することが好ましい。
【０１９１】
ハードコートフィルムのカールをより効果的に防止する場合は、バックコート組成物に含まれる溶媒のうち、基材フィルムを溶解させる溶媒および／または膨潤させる溶媒の混合比率を大きくし、基材フィルムを溶解させない溶媒の比率を小さくすることが好ましい。この混合比率は、好ましくは（溶解させる溶媒および／または膨潤させる溶媒）：（溶解させない溶媒）＝１０：０〜０．３：９．７である。このようなバックコート組成物に含まれる溶媒のうちの基材フィルムを溶解または膨潤させる溶媒としては、例えば、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、シクロヘキサン、ジアセトンアルコール、１，３−ジオキソラン、Ｎ−メチルピロリドン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、炭酸プロピレン、シクロペンタノン、３−ペンタノン、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、乳酸エチル、ビス（２−メトキシエチル）エーテル、酢酸２−メトキシエチル、プロピレングリコールジメチルエーテル、トリクロロエチレン、メチレンクロライド、エチレンクロライド、テトラクロロエタン、トリクロロエタン、クロロホルムなどが挙げられる。
【０１９２】
また、バックコート組成物に含まれる溶媒のうち、基材フィルムを溶解させない溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、或いは炭化水素類（トルエン、キシレン、シクロヘキサノール）などが挙げられる。
【０１９３】
上記バックコート組成物を、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター等を用いて基材フィルムの表面にウェット膜厚１〜１００μｍで塗布するのが好ましく、より好ましくは５〜３０μｍである。バックコート層はバインダーとして樹脂を含有することが好ましい。バックコート層に含まれる樹脂としては、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニルとビニルアルコールの共重合体、部分加水分解した塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等のビニル系重合体或いは共重合体、ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート（好ましくはアセチル基置換度１．８〜２．３、プロピオニル基置換度０．１〜１．０）、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート樹脂等のセルロース誘導体、マレイン酸および／またはアクリル酸の共重合体、アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、塩素化ポリエチレン、アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂、ブタジエン−アクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。例えば、アクリル樹脂としては、アクリペットＭＤ、ＶＨ、ＭＦ、Ｖ（三菱レーヨン（株）製）、ハイパールＭ−４００３、Ｍ−４００５、Ｍ−４００６、Ｍ−４２０２、Ｍ−５０００、Ｍ−５００１、Ｍ−４５０１（根上工業株式会社製）、ダイヤナールＢＲ−５０、ＢＲ−５２、ＢＲ−５３、ＢＲ−６０、ＢＲ−６４、ＢＲ−７３、ＢＲ−７５、ＢＲ−７７、ＢＲ−７９、ＢＲ−８０、ＢＲ−８２、ＢＲ−８３、ＢＲ−８５、ＢＲ−８７、ＢＲ−８８、ＢＲ−９０、ＢＲ−９３、ＢＲ−９５、ＢＲ−１００、ＢＲ−１０１、ＢＲ−１０２、ＢＲ−１０５、ＢＲ−１０６、ＢＲ−１０７、ＢＲ−１０８、ＢＲ−１１２、ＢＲ−１１３、ＢＲ−１１５、ＢＲ−１１６、ＢＲ−１１７、ＢＲ−１１８等（三菱レーヨン（株）製）のアクリルおよびメタクリル系モノマーを原料として製造した各種ホモポリマー並びにコポリマーなどが市販されており、これらの中から好ましいモノマーを適宜選択することもできる。上記樹脂の中でも、バックコート層は、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートのようなセルロース系樹脂を含むことが好ましい。
【０１９４】
バックコート層は、基材フィルムのハードコート層を塗設する前に形成されてもよいし、ハードコート層を塗設した後に形成されてもよい。バックコート層がブロッキング防止の機能を有する場合、ハードコート層よりも先にバックコート層を形成することが好ましい。また、ハードコート層を塗設する前後にそれぞれ１回ずつ合計２回バックコート層を形成してもよいし、２回以上に分けてバックコート組成物を塗布することもできる。
【０１９５】
［電極フィルム］
本発明の電極フィルムは、上記ハードコートフィルムの表面に導電膜を形成することによって作製される。具体的には、本発明の電極フィルムは、ハードコートフィルムのハードコート層の基材フィルムと接する側と反対側に導電膜が形成されたものである。言い換えると、導電膜は、ハードコートフィルムのハードコート層側に形成される。
【０１９６】
ハードコート層上に導電膜を形成する方法としてはスパッタ法を用いることが好ましい。ここで、スパッタ法としては、公知のスパッタ法を適宜用いることができ、中でも、２極スパッタ法、マグネトロンスパッタ法、ＤＣスパッタ法、ＤＣパルススパッタ法、ＲＦ（高周波）スパッタ法、デュアルマグネトロンスパッタ法、反応性スパッタ法、イオンビームスパッタ法、バイアススパッタ法、および対向ターゲットスパッタ法などが挙げられる。これらのスパッタ法の中でも導電膜の生産性が高いという観点から、マグネトロンスパッタ法または対向ターゲットスパッタ法を用いることが好ましく、より好ましくは対向ターゲットスパッタ法を用いることである。対向ターゲットスパッタ法で導電膜を作製することにより、導電膜を緻密にすることができ、導電膜の表面平滑性を高めることができる。これにより導電膜に対して光の透過率を高めることができる。
【０１９７】
上記スパッタ法に用いるスパッタ装置としては、市販のものを用いることができ、例えば大阪真空社製のマグネトロンスパッタ装置、ウルバック社の各種スパッタ装置（例えば、マルチチャンバ型スパッタリング装置ＥＮＴＲＯＮ−ＥＸ Ｗ３００）、アネルバ社のＬ−４３０Ｓ−ＦＨＳスパッタ装置等が挙げられる。
【０１９８】
上記導電膜を形成する前に、ハードコートフィルムに含まれる水分や残留している溶媒を、ターボ分子ポンプやクライオポンプ等を用いて、高真空排気できる構造の室内で予め除去する必要がある。ハードコートフィルムに含まれる水分を除去しないままハードコートフィルム上に導電膜を形成すると、導電膜を均一に形成することができず、品質、特に電気抵抗等が劣化、あるいは場所による変動が生じてしまうため好ましくない。この除湿は過熱状態で行うことも時間短縮に有効である。水分除去の際の真空度としてはスパッタ時の雰囲気と同等以上に減圧されていることが好ましく、より好ましくは１×１０-6〜１×１０-2Ｐａである。
【０１９９】
［画像表示装置］
図２は、上記電極フィルムを用いて作製されたタッチパネル付き画像表示装置の概略断面図である。同図に示すように、タッチパネル付き画像表示装置は、表示装置１０ａとタッチパネル２０とを貼り合わせて構成されている。
【０２００】
表示装置１０ａは、表示パネル１１上に位相差フィルム１５と、所定の直線偏光を透過する偏光子１３と、ハードコートフィルム１０とをこの順に積層して構成されている。表示パネル１１は、ＬＣＤやＯＬＥＤディスプレイで構成することができる。ＬＣＤやＯＬＥＤは、マトリクス状に配置される複数の画素を有しており、各画素の駆動をＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）などのスイッチング素子によってＯＮ／ＯＦＦすることにより表示を行う。
【０２０１】
偏光子１３は、例えばポリビニルアルコールフィルムを二色性色素で染色し、高倍率延伸することで得られ、アルカリ処理（鹸化処理ともいう）された後に、本発明のハードコートフィルム１０は、偏光子１３の一方の面にポリビニルアルコール水溶液を接着剤として貼り合わせられる。
【０２０２】
ハードコートフィルム１０は、基材フィルム１上にハードコート層２を積層して構成されたものであり、偏光子１３の表面を保護する機能を有している。なお、表示パネル１１がＬＣＤの場合、表示パネル１１に対して偏光子１３とは反対側にも別の偏光子（図示せず）が配置されることもある。また、表示パネル１１がＯＬＥＤディスプレイの場合、偏光子１３は、外光反射防止のための円偏光板（または楕円偏光板）として構成されることが好ましい。円偏光板とする場合は、偏光子１３の表示パネル１１側の位相差フィルム１５は、透過光に対して波長の１／４程度の面内位相差を付与する光学フィルムであり、偏光子１３の光学軸と位相差フィルム１５の遅相軸とがおよそ４５°の角度で交差するように、偏光子１３と位相差フィルム１５とを貼り合わせることが好ましい。
【０２０３】
位相差フィルム１５は、表示パネル１１がＬＣＤの場合、単に偏光子の保護フィルムとして設けられてもよく、所望の光学補償機能を有する位相差フィルムを兼ねた保護フィルムとされてもよい。上述のように、表示パネル１１がＯＬＥＤディスプレイの場合は、位相差フィルム１５は、透過波長の１／４程度の面内位相差を付与する光学フィルムであることが好ましい。
【０２０４】
タッチパネル２０は、静電容量型のものであり、ガラス基板２１上に、透明導電膜（例えばＩＴＯ）からなる第１電極パターン２２（電極層）と、層間絶縁層２３と、透明導電膜（例えばＩＴＯ）からなる第２電極パターン２４（電極層）と、飛散防止フィルム２５と、電磁波シールド層２６とをこの順で積層して構成されている。つまり、タッチパネル２０において、用いるガラス基板は、ガラス基板２１の１枚のみであり、ガラス基板を２枚用いたものに比べて薄型のタッチパネル２０が構成されている。なお、第２電極パターン２４と飛散防止フィルム２５との間に、第２電極パターン２４を覆うように絶縁膜を設けてもよい。
【０２０５】
ガラス基板２１の表面（第１電極パターン２２とは反対側の表面）は、タッチパネル２０のタッチ面である。第１電極パターン２２は、ガラス基板２１上で一方向（例えばＸ方向）に延びるように形成されている。層間絶縁層２３は、第１電極パターン２２を覆うようにガラス基板２１上に形成されている。第２電極パターン２４は、第１電極パターン２２の延びる方向とは直交する方向（例えばＹ方向）に延びるように形成されている。タッチパネル２０の表面を指で押圧すると、第１電極パターン２２と第２電極パターン２４とが接触し、第１電極パターン２２と第２電極パターン２４との間の静電容量が変化する。その静電容量の変化を第１電極パターン２２および第２電極パターン２４を介して検出することにより、押圧位置（座標）を特定することができる。本発明の電極フィルムを用いて作製された画像表示装置は、従来のそれに比べてタッチパネルの感度が良好であって、かつ表示装置が表示する画像に色ムラが生じにくいという利点がある。
【実施例】
【０２０６】
以下、本発明について実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。
【０２０７】
＜基材フィルムの作製＞
材質および膜厚が異なる１１種類の基材フィルムを作製した。具体的には、以下の手順により基材フィルム１−１〜１−４と、基材フィルム２−１〜２−２と、基材フィルム３−１、３−２、３−３と、基材フィルム４と、基材フィルム５とを作製した。
【０２０８】
（主ドープの調製）
各基材フィルムの原料となる主ドープ１〜３を、下記表１に示す組成を混合することによって調製した。具体的には、まず、加圧溶解タンクに対し、溶媒としてメチレンクロライドおよびエタノールを添加した。次に、この加圧溶解タンクに下記の成分（セルロースエステル等）を撹拌しながら投入した。そして、加圧溶解タンクを加熱しながら加圧溶解タンク内の溶液を撹拌することによりセルロースエステル等を溶媒に完全に溶解させた。さらに、上記添加剤成分を加圧溶解タンクに投入し、加圧溶解タンク内の溶液を撹拌することにより各添加剤成分を溶解させた。この溶液を、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過することにより主ドープ１〜３を調製した。
【０２０９】
【表１】
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【０２１０】
上記表１中の各成分としては、下記の化合物を用いた。
【０２１１】
セルローストリアセテート（ＴＡＣ）：アセチル基置換度２．９０である重量平均分子量２５００００
アクリルレジン：ダイヤナールＢＲ８５（三菱レイヨン株式会社製）
セルロースアセテートプロピオネート：アシル基総置換度２．７５、アセチル基置換度０．１９、プロピオニル基置換度２．５６、重量平均分子量２０００００
糖エステル：オクタアセチルスクロース（第一工業製薬製）
上記糖エステルの水／ｎ−オクタノール分配係数（ＬｏｇＰ値）は−０．４２であった。
【０２１２】
【化８】
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【０２１３】
エステル化合物Ｎ：以下のようにして作製した透湿低下剤を用いた。
【０２１４】
まず、１，２−プロピレングリコール２５１ｇ、テレフタル酸３５４ｇ、ｐ−トロイル酸６８０ｇ、エステル化触媒としてテトライソプロピルチタネート０．１９１ｇを、温度計、撹拌器、緩急冷却管を備えた２Ｌの四つ口フラスコに仕込んだ。次に、四つ口フラスコ内に窒素気流を吹き込んで、溶液の温度が２３０℃になるまで溶液を撹拌しながら徐々に溶液を昇温させて重合度を観察しながら脱水縮合反応させた。反応終了後に、２００℃で未反応の１，２−プロピレングリコールを減圧留去することによりエステル化合物Ｎを得た。このエステル化合物Ｎは、酸価０．３０、数平均分子量４００であった。このエステル化合物Ｍの水／ｎ−オクタノール分配係数（ＬｏｇＰ値）は６であった。
【０２１５】
エステル化合物Ｍ：以下のようにして作製した透湿低下剤を用いた。
【０２１６】
まず、１，２−プロピレングリコール２５１ｇ、無水フタル酸２４４ｇ、アジピン酸１０３ｇ、安息香酸６１０ｇ、エステル化触媒としてテトライソプロピルチタネート０．１９１ｇを、温度計、撹拌器、緩急冷却管を備えた２Ｌの四つ口フラスコに仕込んだ。次に、四つ口フラスコ内に窒素気流を吹き込んで、溶液の温度が２３０℃になるまで溶液を撹拌しながら徐々に溶液を昇温させることにより重合度を観察しながら脱水縮合反応させた。反応終了後に、２００℃で未反応の１，２−プロピレングリコールを減圧留去することにより、重縮合エステル化合物Ｍを得た。このエステル化合物Ｍは、酸価０．１０、数平均分子量４５０であった。このエステル化合物Ｍの水／ｎ−オクタノール分配係数（ＬｏｇＰ値）は５であった。
【０２１７】
二酸化珪素分散液：以下のようにして作製した微粒子分散液を用いた。
【０２１８】
まず、１０質量部のアエロジルＲ８１２（日本アエロジル株式会社製）と、９０質量部のエタノールとをディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンでエタノール中に二酸化珪素を分散させた。この分散液に８８質量部のメチレンクロライドを撹拌しながら投入し、ディゾルバーで３０分間撹拌混合することにより分散液を希釈した。この希釈した分散液を微粒子分散希釈液濾過器（アドバンテック東洋株式会社：ポリプロピレンワインドカートリッジフィルターＴＣＷ−ＰＰＳ−１Ｎ）で濾過することにより二酸化珪素分散液を得た。
【０２１９】
（基材フィルム１−１の作製）
上記で調製した主ドープ１を、ベルト流延装置を用いて、温度２２℃、１．８ｍ幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。このステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が２０％になるまで溶媒を蒸発させることにより、ステンレスバンド支持体上からドープ膜（ウェブ）を剥離した。
【０２２０】
次いで、剥離したドープ膜（ウェブ）に含まれる溶媒を３５℃で蒸発させた。そして、このドープ膜を１．６ｍ幅にスリット加工した。スリット加工後のドープ膜を、テンター延伸機によって１６０℃で元幅に対して幅手方向（ＴＤ方向）に１．１倍延伸した。延伸を開始したときの残留溶媒量は４質量％であった。その後、多数のローラーでドープ膜を搬送することにより１２０℃、１４０℃の乾燥ゾーンを通過させた。これによってドープ膜を乾燥させた。このドープ膜を１．３ｍ幅にスリットし、ドープ膜の両端に幅１０ｍｍ、高さ２．５μｍのナーリング加工を施すことによって基材フィルム１−１を作製した。このようにして作製した基材フィルム１−１は、２５μｍの膜厚で、長手方向の長さは６０００ｍであった。この基材フィルムをコアに巻き取ってロール状に保管した。
【０２２１】
（基材フィルム１−２〜１−４の作製）
上記基材フィルム１−１に対し、基材フィルムの膜厚が後掲の表２の「膜厚」の欄に示すように異なる他は基材フィルム１−１と同様にして基材フィルム１−２〜１−４を作製した。
【０２２２】
（基材フィルム２−１、２−２の作製）
主ドープ２を用いたことが異なる他は基材フィルム１−１と同様にして基材フィルム２−１、２−２を作製した。
【０２２３】
（基材フィルム３−１、３−２、３−３の作製）
上記主ドープ１を、ドラム径１００ｃｍ表面ＳＵＳ３１６製のドラム流延装置を用いて、温度２２℃、１５０ｃｍ幅でドラム支持体に均一に流延した。このドラム支持体で、残留溶剤量が５％になるまで溶媒を蒸発させることによりドープ膜（ウェブ）を形成した。このドープ膜をドラム支持体上から剥離した。得られたドープ膜を３５℃に加熱することによって溶媒を蒸発させた。その後、１３０ｃｍ幅にスリットし、１０００ｍのロール状のドープ膜を作製した。巻き取り時の残留溶媒量は、０．１質量％であった。このようにして膜厚５μｍの基材フィルム３−１と、膜厚８μｍの基材フィルム３−２とを作製した。なお、膜厚が４μｍの基材フィルム３−３を作製しようとしたが、安定してスリットすることができず、作製することができなかった。この基材フィルム３−３は、透湿度７０００ｇ／ｍ2・２４ｈを超えるものを想定していたが、作製できなかった。
【０２２４】
（基材フィルム４の作製）
主ドープ３を用いたことが異なる他は基材フィルム３と同様にして基材フィルム４を作製した。
【０２２５】
（基材フィルム５の作製）
主ドープ２を用いたこと、および基材フィルムの延伸倍率を１．３倍にしたことが異なる他は基材フィルム１−１と同様にして基材フィルム５を作製した。
【０２２６】
下記の表２に示す各基材フィルムに対し、後掲の表３に示すハードコート組成物１を用いて膜厚２．５μｍのハードコート層を形成した時の面内位相差Ｒ0および厚み方向位相差｜Ｒth｜をそれぞれ下記の表２に示す。また各基材フィルムの膜厚も下記表２の「膜厚」の欄に示す。なお、表２中の「位相差（Ｒ0および｜Ｒth｜）」は、Ａｘｏｓｃａｎを用い、２３℃、５５％ＲＨの環境下で基材フィルムの面内位相差および厚み方向位相差を測定した値を採用するものとする。
【０２２７】
【表２】
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【０２２８】
上記表２の「カール」は、基材フィルムに対してハードコート層を形成した時に実用上の問題がある程度の曲がり（カール）が生じているか否かを判断した結果である。具体的には、上記表２に示す基材フィルムに対し、後掲の表３に示すハードコート組成物１を用いて膜厚２．５μｍのハードコート層を形成した。そして、このハードコート層付きの基材フィルムのカール度合を、ＪＩＳ  Ｋ７６１９−１９８８の「写真フィルムのカールの測定法」に記載の方法Ａのカール測定用型板を用いて測定した。カールは以下の数式Ａで表される。
【０２２９】
（数式Ａ）  カール＝１／Ｒ  （ただし、Ｒは曲率半径（ｍ））
上記数式Ａに基づいて算出されたカールの値に基づいて、以下の評価基準で基材フィルムが実用上で有効か否かを評価した。ここで、カールの値がプラスの場合は基材フィルムのハードコート層塗設側が内側に湾曲したカールを意味し、カールの値がマイナスの場合は、ハードコート層塗設側が外側に湾曲したカールを意味する。
【０２３０】
○（実用可能）：−１０〜＋１０
×（実用上問題がある）：−１０未満、＋１０超過
上記表２の基材フィルム２−１、基材フィルム２−２、および基材フィルム５の「カール」に示す結果から、同一の主ドープから作成したにもかかわらず面内位相差Ｒ0が５ｎｍを超え、かつ厚み方向位相差Ｒthが１５ｎｍを超える場合、または厚み方向位相差Ｒthが１５ｎｍを超える場合、パネル設計の自由度が低下するだけでなく基材フィルムにカールが生じることが明らかとなった。
【０２３１】
＜ハードコート組成物の調製＞
下記の表３に示す成分からなるハードコート組成物１〜６を調製した。なお、ハードコート組成物６を用いてハードコート層を形成する場合には、基材フィルムに対して「第１層」の欄に示す組成物と「第２層」の欄に示す組成物とをこの順に塗布することによって、第１層および第２層を積層した２層構造のハードコート層を形成した。
【０２３２】
【表３】
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【０２３３】
上記表３中の「添加剤」の欄に示す「ポリマーシランカップリング剤被覆シリカ」は、下記の手順によって作製したものを用いた。
【０２３４】
まず、容器に３０ｍｌのメタクリル酸メチル（共栄社化学（株）製：ライトエステルＭ）と、１ｍｌの３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン（信越化学（株）製：ＫＢＭ−８０３）と、溶媒として１００ｍｌのテトラヒドロフランと、重合開始剤として５０ｍｇのアゾイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ（関東化学株式会社製））とを混合した。この混合液の周囲をＮ2ガスで置換した後、８０℃で３時間加熱することによりポリマーシランカップリング剤を作製した。得られたポリマーシランカップリング剤の分子量は１６，０００であった。この分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー装置で測定した。
【０２３５】
次に、シリカゾル（日揮触媒化成工業株式会社製：Ｓｉ−４５Ｐ、ＳｉＯ2濃度３０重量％、平均粒子径４５ｎｍ、分散媒：水）をイオン交換樹脂にてイオン交換した。そして、このシリカゾルに含まれる水を限外濾過膜法でエタノールに溶媒置換することによって、ＳｉＯ2濃度３０重量％のシリカ微粒子のエタノール分散液１００ｇを調製した。
【０２３６】
このエタノール分散液１００ｇとポリマーシランカップリング剤１．５ｇとをアセトン２０ｇ（２５ｍｌ）に分散した。この分散液に濃度２９．８重量％のアンモニア水２０ｍｇを添加し、室温で３０時間攪拌することによりシリカ微粒子の表面にポリマーシランカップリング剤を吸着させた。
【０２３７】
上記溶液に対して平均粒子径５μｍのシリカ粒子を添加し、２時間攪拌することにより溶液中の未吸着のポリマーシランカップリング剤をシリカ粒子に吸着させた。この溶液を遠心分離することによってポリマーシランカップリング剤を吸着した平均粒子径５μｍのシリカ粒子を分離して除去した。得られたシリカ微粒子分散液にエタノール１０００ｇを加えることによってシリカ微粒子を沈降させた。このシリカ微粒子を分離して減圧乾燥し、ついで、２５℃で８時間乾燥することによってポリマーシランカップリング剤で被覆した平均粒子径５７ｎｍのシリカ微粒子を得た。この平均粒子径はレーザー粒子径測定装置により測定した。シリカ微粒子の表面には６ｎｍのポリマーシランカップリング剤で構成された被膜が形成されていた。
【０２３８】
＜実施例１＞
上記で作製した基材フィルム１−１のＡ面（流延ベルトに接していない面）上に、押し出しコーターを用いて上記ハードコート組成物１を塗布した。この塗布後の基材フィルムを、恒率乾燥区間と減率乾燥区間とに通過させることでハードコート組成物１に含まれる溶媒を揮発させた。ここでの恒率乾燥区間および減率乾燥区間はいずれも５０℃であった。次に、乾燥を終えた基材フィルムに対し、紫外線ランプから紫外線を照射することによってハードコート組成物１を硬化させた。ここでの紫外線照射は、照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ2で、照射量を０．２Ｊ／ｃｍ2として、１．０体積％以下の酸素濃度の雰囲気になるように窒素パージした環境下で行った。このようにして実施例１のハードコートフィルムを作製した。このハードコートフィルムをロール状に５００ｍ巻き取った。
【０２３９】
＜実施例２〜１５、比較例１〜８＞
実施例２〜１５および比較例１〜８では、実施例１のそれに対し基材フィルムの種類およびハードコート層の膜厚を下記の表４の「基材種類」および「ハードコート層膜厚」の欄に示すように変更したことが異なる他は実施例１と同様にしてハードコートフィルムを作製した。ただし、比較例８のハードコートフィルムはハードコート層を形成したことによりハードコートフィルムが延伸方向に屈曲したため導電膜形成用のハードコートフィルムとして使用できなかった。
【０２４０】
【表４】
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【０２４１】
上記表４中の比較例５の「ＣＨＣ−ＰＥＴフィルム」は、クリアハードコート付きポリエチレンテレフタレートフィルム（株式会社きもと製  Ｇ０１ＳＢＦ  厚さ：１２５μｍ、透湿度：５０ｇ／ｍ2・２４ｈ以下、５００ｍ巻）である。
【０２４２】
上記表４中の比較例６の「ＰＥＴフィルム」は、ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績（株）製、コスモシャインＡ４３００、幅：１３００ｍ、厚み：１００μｍ、透湿度：５０ｇ／ｍ2・２４ｈ以下、５００ｍ巻）である。
【０２４３】
上記表４中の比較例７の「ＣＯＰフィルム」は、環状オレフィン系樹脂フィルム（ＪＳＲ株式会社製、商品名「Ｆ５０２３」、膜厚１００μｍ、透湿度：５０ｇ／ｍ2・２４ｈ以下、５００ｍ巻）である。
【０２４４】
上記表４中の「膜厚」は、ハードコートフィルムの膜厚から基材フィルムの膜厚を差し引くことによって算出した値である。言い換えると、ハードコート層を形成したことによって増加した分の膜厚をハードコート層の膜厚としている。
【０２４５】
（屈曲耐久評価：マンドレル試験）
上記表４の「屈曲耐久評価」は、各実施例および各比較例のハードコートフィルムの屈曲耐久性を、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−１に記載の耐屈曲性（円筒形マンドレル法）に基づいて評価した結果である。この評価方法では、まず、ハードコートフィルムをＪＩＳ  Ｋ  ５６００−１に記載の方法で採取する。ここで採取したハードコートフィルムのハードコート側を外側にして、直径が１２ｍｍのマンドレルに沿わせながら１秒〜２秒でハードコートフィルムを１８０°折り曲げる。折り曲げた後のハードコートフィルムを、暗室にて、蛍光灯（Ｐａｎａｓｏｎｉｃ  ＦＨＦ３２ＥＮ―Ｓ）の直下４０ｃｍ〜６０ｃｍの位置に配置する。
【０２４６】
次に、蛍光灯の光をハードコートフィルムに反射させることによって、その反射光からハードコート層の割れの有無を目視観察する。そして、ハードコート層に割れが発生していない場合、マンドレルの直径を１２ｍｍとした屈曲耐久評価が良好（○）であると判定した。次に、ハードコート層２に割れが発生するまで、マンドレルの直径を１０ｍｍ、８ｍｍ、６ｍｍ、４ｍｍ、３ｍｍおよび２ｍｍの順番に変更し、ハードコート層に割れが発生しなかった最小のマンドレルの直径を特定した。ここで特定されたマンドレルの直径に対し、以下の評価基準で屈曲耐久性を評価した。その結果を表４の「屈曲耐久評価」の欄に示す。なお、マンドレルの直径が小さいほど、ハードコート層の屈曲耐久性が優れていることを示す。
【０２４７】
○：マンドレルの直径が３ｍｍ以下
△：マンドレルの直径が４ｍｍ以上６ｍｍ以下
×：マンドレルの直径が８ｍｍ以上
（脱ガス完了時間）
上記表４の「脱ガス完了時間」は、各実施例および各比較例のハードコートフィルムに対して均一な導電膜を形成するために必要な脱ガス処理の時間を表している。具体的には、表４の脱ガス完了時間は、脱ガス処理後のハードコートフィルムに対して成膜した金属膜の表面抵抗率のバラツキが１％未満となるために必要な脱ガス処理の時間であり、以下の算出方法によって算出した値である。
【０２４８】
まず、上記各実施例および各比較例のハードコートフィルムに対して脱ガス時間の長さを、１２、１６、２０、２４、３０、３６、４０および４８時間にそれぞれ変更してそれぞれ脱ガス処理を行った。
【０２４９】
次に、上記脱ガス処理を終えた各実施例および各比較例のハードコートフィルムを繰り出し部の繰り出し軸にセットした。そして、第１形成部内のタンタル製抵抗加熱ボートに蒸着源として下記化合物Ｎｏ．１０をセットした。また、第２形成部内のタングステン製の抵抗加熱ボートに銀（Ａｇ）をセットした。さらに、第３形成部内に二酸化チタン（ＴｉＯ2）をセットした。
【０２５０】
【化９】
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【０２５１】
次に、第１形成部内を４×１０-4Ｐａまで減圧した後、上記化合物をセットした加熱ボートに通電して加熱した。そして、真空下のロールツーロール方式でロール上のハードコートフィルムを連続走行させながら、蒸着法によって蒸着速度０．１ｎｍ／秒〜０．２ｎｍ／秒でハードコート層上に膜厚２５ｎｍの中間層を形成した。
【０２５２】
次に、中間層を形成したハードコートフィルムを、真空のまま第２形成部までロール上を走行させた。また第２形成部を４×１０-4Ｐａまで減圧した後、銀をセットした加熱ボートを通電して加熱した。そして、真空下のロールツーロール方式でロール上のハードコートフィルムを連続走行させながら、蒸着法によって蒸着速度０．１ｎｍ／秒〜０．２ｎｍ／秒で膜厚８ｎｍの銀からなる電極層を中間層上に形成した。
【０２５３】
そして、電極層を形成したハードコートフィルムを真空のまま第３形成部まで走行させた。また第３形成部を４×１０-4Ｐａまで減圧した後、酸化チタン（ＴｉＯ2）をセットした加熱ボートを通電して加熱した。そして、真空下のロールツーロール方式でロール上のハードコートフィルムを連続走行させながら、蒸着法によって蒸着速度０．１ｎｍ／秒〜０．２ｎｍ／秒で膜厚３０ｎｍの酸化チタン（ＴｉＯ2）からなる表面保護層を電極層上に形成した。このようにして中間層と電極層と表面保護層との３層で構成された導電膜を形成した。上記各層の膜厚は、Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ  Ｃｏ．Ｉｎｃ．製のＶＢ−２５０型ＶＡＳＥエリプソメータで測定した。このようにして長手５００ｍのロール状の導電性フィルムを得た。
【０２５４】
上記で得られたロール状の導電性フィルムの最外周側の表面抵抗率について、幅方向に一方の端部から全幅の２５％の点、５０％の点、および７５％の点での表面抵抗率をそれぞれ測定した。具体的には、ロール状の導電性フィルムを温度２３℃、相対湿度５５％ＲＨの環境下で２４時間放置した後、幅手に渡って２０ｃｍ角に切り出した。この切り出した導電性フィルムを、２５μｍの両面接着テープ（リンテック社製  基材レステープ  ＭＯ−３００５Ｃ）を介して予めエタノールで表面を洗浄した厚さ１．２ｍｍのガラス板に貼合した。ここでのガラス面への貼合せは、導電膜が表（上側）となるようにした。
【０２５５】
次に、抵抗率計（三菱化学社製ＭＣＰ−Ｔ６１０）を用いて、４端子４探針法定電流印加方式で貼り合せた後の２０ｃｍ角である導電膜表面を１６分割し、分割した区画内の任意の点で測定を行なった。そして、１６分割した測定点の平均値を２０ｃｍ角サンプルの表面抵抗率とした。さらに、幅手に渡り作製した各２０ｃｍ角サンプルについても同様に測定し、各２０ｃｍ角の値について最大値と最小値とから変動量を求め、全２０ｃｍ角サンプル平均値に対する変動量の割合を算出した。この変動量の割合を下記の評価基準で評価した。
【０２５６】
○：変動量が全幅手サンプル平均値の１％未満
×：変動量が全幅手サンプル平均値の１％以上
上記表面抵抗率の変動量が１％未満となる脱ガス時間の最小時間を特定した。この最小時間の長さが短いほど生産性が高いハードコートフィルムであることを示す。
【０２５７】
例えば、表４の実施例１の「脱ガス処理時間」の結果は、実施例１のハードコートフィルムに対して１６時間の脱ガス処理を施した場合に、高温多湿環境下に配置する前後の導電膜の表面抵抗率の平均値に対する変動量が１％以上となったが、２０時間の脱ガス処理を施した場合には、高温多湿環境下に配置する前後の導電膜の表面抵抗率の平均値に対する変動量が１％未満となったことを表している。
【０２５８】
上記実施例１〜１５のハードコートフィルムは、基材フィルムの透湿度が１３００ｇ／ｍ2・２４ｈ以上７０００ｇ／ｍ2・２４ｈ以下であり、ハードコートフィルムの透湿度が２００ｇ／ｍ2・２４ｈ以上２０００ｇ／ｍ2・２４ｈ以下であり、ハードコートフィルムの透湿度を１としたときの前記基材フィルムの透湿度が１．５以上７．５以下であり、ハードコートフィルムの面内位相差Ｒ0は５ｎｍ以下であり、ハードコートフィルムの厚み方向位相差｜Ｒth｜は１５ｎｍ以下を満たすことにより、脱ガス工程を短時間化することができ、かつ表面に導電膜を形成してもその導電膜が断裂しにくくできることが明らかとなり、本発明の効果が示された。
【０２５９】
一方、比較例１のハードコートフィルムは、ハードコートフィルムの透湿度を１としたときの基材フィルムの透湿度が７．５を超えていたため、基材フィルムの吸湿による寸法変化にハードコート層が追随できなかったことにより屈曲耐久性の評価結果が悪くなったものと考えられる。
【０２６０】
比較例２〜７のハードコートフィルムは、基材フィルムの透湿度が１３００ｇ／ｍ2・２４ｈ未満であったため、脱ガス工程において基材フィルムに含まれる水分を放出するために要した時間が長くなってしまったことにより脱ガス完了時間が長くなったものと考えられる。
【０２６１】
比較例８では、基材フィルムに対してハードコート層を形成した場合に、ハードコートフィルムが延伸方向に屈曲したためハードコートフィルムとして使用できなかった。
【０２６２】
＜実施例１６〜５９、比較例９〜２３＞
実施例１６〜５９および比較例９〜２３のハードコートフィルムは、実施例３のそれに対しハードコート層を形成するための組成物および膜厚を下記の表５の「ハードコート組成物」および「膜厚」の欄に示すように変更したことが異なる他は実施例１のハードコートフィルムと同様にして作製した。
【０２６３】
なお、ハードコート組成物６を用いて形成されるハードコート層は、まず、第１層ハードコート組成物を塗布することによって膜厚１μｍの第１層を形成した後に、第２ハードコート組成物を塗布することによって残りの膜厚の第２層を形成したものである。例えば実施例５９では、基材フィルム１−２に対して両面にそれぞれ膜厚１μｍの第１層を形成した後に、各第１層の上面に膜厚４μｍの第２層を形成することで、基材フィルムの両面にそれぞれ膜厚５μｍのハードコート層を形成した。
【０２６４】
【表５】
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【０２６５】
なお、２０００ｇ／ｍ2・２４ｈを超える透湿度のハードコートフィルムを作製するためには、基材フィルム３−３に対してハードコート組成物１による１μｍのハードコート層を形成する必要があったが、この基材フィルム３−３を作製することができなかったため、２０００ｇ／ｍ2・２４ｈを超える透湿度のハードコートフィルムを作製することができなかった。
【０２６６】
表５の「寸法安定性」は、各実施例および各比較例のハードコートフィルムを温度４０℃、相対湿度９０％ＲＨで１時間調湿する前後の寸法変化を以下のようにして評価した結果である。各実施例および各比較例のハードコートフィルムから１１０ｍｍ×１１０ｍｍのサンプルを切り出した。この各サンプルを、温度２５℃、相対湿度１０％ＲＨで２４時間調湿した。次に、このサンプルの両端に１００ｍｍ間隔で印をつけ、顕微鏡で１／１０００ｍｍスケールまで延伸方向（ＭＤ方向）および幅方向（ＴＤ方向）のそれぞれの間隔（Ｌ１）を測定した。また、上記各サンプルを、温度４０℃、相対湿度９０％ＲＨで１時間調湿した上で、そのサンプルを顕微鏡で１／１０００ｍｍのスケールで、ＭＤ方向およびＴＤ方向のそれぞれの間隔（Ｌ２）を測定した。そして、ハードコートフィルムの変化率Ｘを｛（Ｌ１−Ｌ２）／Ｌ１｝×１００によって算出し、以下の評価基準に基づいてハードコートフィルムの寸法安定性を評価した。
【０２６７】
◎（非常に良好）：−０．０３％≦Ｘ≦０．０３％
○（良好）：−０．０５％≦Ｘ＜−０．０３％、または、０．０３％＜Ｘ≦０．０５％
△（実用上問題ない）：−０．１％≦Ｘ＜−０．０５％、または、０．０５％＜Ｘ≦０．１％
×（不可）：Ｘ＜―０．１％または０．１％＜Ｘ
上記表５に示す結果から、ハードコート層の膜厚を２μｍ以上５μｍ以下とすることによってハードコートフィルムの寸法安定性を良好にできることが明らかとなった。
【０２６８】
＜実施例６０〜７１、比較例１５〜１６＞
実施例６０〜７１および比較例１５〜１６では、実施例３のそれに対しハードコート組成物の種類および金属酸化物粒子の含有量を下記の表６に示すように変更したことが異なる他は実施例１と同様にしてハードコートフィルムを作製した。なお、ここでの金属酸化物粒子としてはシリカ微粒子分散液（製品名：Ｖ−８８０４、日揮触媒化成株式会社製）を用いた。またハードコート層の膜厚は３μｍとした。
【０２６９】
【表６】
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【０２７０】
上記表６中の「弾性率」は、ビッカース圧子および稜線同士の角度が１１５度の三角錐圧子を用いた微小硬度計（製品名：ＤＵＨ−２１１Ｓ、島津製作所社製）によって、各実施例におけるハードコート層の弾性率を測定した値を示している。具体的には、上記各実施例のハードコートフィルムのハードコート層に対して試験力を負荷して押し込み深さ０．５（μｍ）まで圧子を押し込んだ後、除荷することによって得られた負荷試験力−押しこみ深さ曲線に基づいて下記の式（ａ）から弾性率を算出した。
【０２７１】
１／Ｅｒ＝（１−Ｖｓ２）／Ｅｉｔ＋（１−Ｖｉ２）／Ｅｉ      （ａ）
なお、前記式（ａ）中、Ｅｒは、押し込み接触による換算弾性率（ＭＰａ）を示し、Ｖｓは、試料のポアソン比を示し、Ｅｉｔは、緩和弾性率（ＭＰａ）を示し、Ｖｉは、圧子のポアソン比を示し、Ｅｉは、圧子のヤング率（ＭＰａ）を示す。
【０２７２】
上記表５に示す結果から、金属酸化物粒子の含有量を増やすほどハードコート層の弾性率を高めることができ、これに伴ってハードコートフィルムの寸法変化率を良好にすることができることが明らかである。そして、ハードコート層に含まれる金属酸化物粒子の含有量を５０〜８０質量％とすることによって優れた寸法安定性のハードコートフィルムを得られることが明らかとなった。一方で、ハードコート層に含まれる金属酸化物粒子の含有量が８０質量％を超えると、ハードコート層の屈曲耐久性が低下することもわかる。
【０２７３】
＜実施例７２〜７９：タッチパネル付き液晶表示装置＞
実施例７２〜７９では、下記の表７に示すように、上記実施例３〜１０のハードコートフィルムを用いてタッチパネル付き液晶表示装置を作製した。具体的には、ＶＡモード型の液晶表示装置（画像表示装置）として、ＳＯＮＹ製ＢＲＡＶＩＡＶ１、４０インチ型を準備した。次に、実施例３〜１０のロール状の導電性フィルムを長辺９００ｍｍ×短辺５００ｍｍの大きさに各２枚切りだした。２枚のうちの一方を長辺方向に、他方を短辺方向に導電性を有するようフォトエッチングでパターニングを行った。そして、長辺９００ｍｍ×短辺５００ｍｍ、厚さ１．２ｍのガラス板の表面を予めエタノールで洗浄した。このガラス板の片面に、２５μｍの両面接着テープ（リンテック社製  基材レステープ  ＭＯ−３００５Ｃ）を介して、ガラス板、両面テープ、導電性フィルム、両面テープ、導電性フィルムという積層順序で積層した。
【０２７４】
次に、引き出し電極およびドライバＩＣと接続し、上記ＶＡモード型液晶表示装置の表示面に、空隙が１．５ｍｍとなるよう重ね合わせ、簡易タッチパネル付きＶＡモード型液晶表示装置を作製した。このようにして得られた液晶表示装置に対してタッチパネルを操作することによってタッチパネルのセンサーの反応の有無を確認した。また液晶表示装置に白色を表示させて、斜め４５°より偏光サングラスを通してディスプレイ表面を観察した。そして、ディスプレイの表面に色むらができているかどうかを確認した。そして、下記の基準に基づいて液晶表示装置の性能評価を行なった。
【０２７５】
○：色むらは観察されず、センサーが反応した。
△：色むらは観察されず、センサーが反応しなかった。 
×：色むらが見られ、センサーが反応しなかった。
【０２７６】
【表７】
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【０２７７】
上記表７に示す実施例７２〜７９の結果から、本発明の導電膜形成用のハードコートフィルムを用いた電極フィルムによって液晶表示装置を構成することにより、液晶表示装置のタッチパネルのセンサが良好に反応し、かつ液晶表示装置に色ムラが観察されないことが明らかとなり、本発明の効果が示された。
【符号の説明】
【０２７８】
１  基材フィルム
２  ハードコート層
１０  ハードコートフィルム
【図１】
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【図２】
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