(57)【要約】【課題】透明導電膜からなるセンサー電極のパターンが視認し難い静電容量型タッチパネルを提供する。【解決手段】本発明で提供する静電容量型タッチパネルは、第一層２と第二層３に形成されたＸ電極Ｘ１、Ｙ電極Ｙ１、ダミー電極（第一ダミー電極Ｄ１１及び第二ダミー電極Ｄ２１）に曲線状のスリットＳ１を形成することによって、第一層２と第二層３の電極パターンを投射した際に生ずる単位格子によるセンサー電極パターンを視認し難くできる。【選択図】図１５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｙ方向に延在して前記Ｙ方向と直交するＸ方向に配列された複数のＸ電極と、隣り合う前記Ｘ電極の間に配置された第一ダミー電極と、が形成された透明導電膜の第一層と、
前記Ｘ方向に延在して前記Ｙ方向に配列された複数のＹ電極と、隣り合う前記Ｙ電極の間に配置された第二ダミー電極と、が形成された透明導電膜の第二層と、を備え、
前記第一層と前記第二層とは、絶縁層を介して積層され、
前記Ｘ電極には、当該Ｘ電極の延在方向に延びるスリットが形成され、
前記Ｙ電極には、当該Ｙ電極の延在方向に延びるスリットが形成され、
前記ダミー電極には、前記Ｘ方向に延びるスリット及び前記Ｙ方向に延びるスリットが形成され、
前記第一層と前記第二層とを前記第一層と前記第二層との積層方向に投射した投射像において、前記スリットによる格子形状がタッチパネルの全面に形成される、
静電容量型タッチパネル。
【請求項２】
前記第一層の前記Ｘ電極に形成された前記スリットは、前記投射像において前記第二層の前記Ｙ電極と重なるが前記第二ダミー電極とは重ならず、
前記第二層の前記Ｙ電極に形成された前記スリットは、前記投射像において前記第一層の前記Ｘ電極と重なるが前記第一ダミー電極とは重ならない、
請求項１に記載の静電容量型タッチパネル。
【請求項３】
前記第一層の前記Ｘ電極に形成された前記スリットは、前記投射像において前記第二層の前記Ｙ電極と重なるが前記第二ダミー電極とは重ならず、等ピッチで前記Ｘ方向に配置され、
前記第二層の前記Ｙ電極に形成された前記スリットは、前記投射像において前記第一層の前記Ｘ電極と重なるが前記第一ダミー電極とは重ならず、等ピッチで前記Ｙ方向に配置される、請求項１に記載の静電容量型タッチパネル。
【請求項４】
前記第一層の前記Ｘ電極に形成された前記スリットのピッチは、前記第一層の前記第一ダミー電極に形成された前記Ｙ方向に延びる前記スリットのピッチと等しく、
前記第二層の前記Ｙ電極に形成された前記スリットのピッチは、前記第一層の前記第一ダミー電極に形成された前記Ｘ方向に延びるスリットのピッチと等しい、
請求項１〜３の何れか一項に記載の静電容量型タッチパネル。
【請求項５】
前記格子形状の最小単位である単位格子における４つの格子点間の縦二辺及び横二辺の計四辺の前記スリットの形状が、任意の曲線からなる、
請求項１〜４の何れか一項に記載の静電容量型タッチパネル。
【請求項６】
前記格子形状の最小単位である単位格子における４つの格子点間の縦二辺及び横二辺の計四辺の前記スリットの形状が、それぞれ２種類の凹凸の曲線のうちの何れかからなる、
請求項１〜５の何れか一項に記載の静電容量型タッチパネル。
【請求項７】
前記格子形状の最小単位である単位格子における４つの格子点間の縦二辺及び横二辺の長さが、５０μｍ〜５００μｍである、
請求項１〜６の何れか一項に記載の静電容量型タッチパネル。
【請求項８】
前記格子形状の最小単位である単位格子を形成する前記スリットは、前記Ｘ方向及び前記Ｙ方向に沿って一階微分連続となるような配列で構成されている、
請求項１〜７の何れか一項に記載の静電容量型タッチパネル。
【請求項９】
前記投射像において、前記第一層の前記Ｘ電極と前記第二層の前記Ｙ電極が重なる部分の面積が前記タッチパネルの全面において同じとなるように、前記スリットの形状及び配列が構成されている、
請求項１〜８の何れか一項に記載の静電容量型タッチパネル。
【請求項１０】
前記格子形状の最小単位である単位格子の前記Ｘ方向と前記Ｙ方向との比が０．７〜１．３である、
請求項１〜９の何れか一項に記載の静電容量型タッチパネル。
【請求項１１】
前記格子形状の最小単位である単位格子の前記Ｘ方向と前記Ｙ方向との比が１である、
請求項１〜１０の何れか一項に記載の静電容量型タッチパネル。
【請求項１２】
前記第一層及び前記第二層は、それぞれ透明基板の両側に形成されている、
請求項１〜１１の何れか一項に記載の静電容量型タッチパネル。
【請求項１３】
前記第一層及び前記第二層は、透明基板の片側に、前記透明基板、前記第一層、絶縁層及び前記第二層の順、又は前記透明基板、前記第二層、絶縁層及び前記第一層の順に形成されている、
請求項１〜１２の何れか一項に記載の静電容量型タッチパネル。
【請求項１４】
前記第一層の前記Ｘ電極及び前記第一ダミー電極、並びに前記第二層の前記Ｙ電極及び前記第二ダミー電極は、同一の透明導電膜からなる、
請求項１〜１３の何れか一項に記載の静電容量型タッチパネル。
【請求項１５】
前記スリットの幅が４０μｍ以下である、
請求項１〜１４の何れか一項に記載の静電容量型タッチパネル。
【請求項１６】
前記透明導電膜は、金属ナノワイヤを含有する組成物で形成される、
請求項１〜１５の何れか一項に記載の静電容量型タッチパネル。
【請求項１７】
請求項１６に記載の静電容量型タッチパネルにおいて、前記金属ナノワイヤからなる透明導電材を感光性プロセスでパターニングすることで、前記透明導電膜を形成する、
静電容量型タッチパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、静電容量型タッチパネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルは、表示領域がタッチされたこと、及びタッチされた座標を検出する装置である。タッチパネルは、例えばスマートフォン、タブレット端末、ノートパソコン等に搭載される。タッチ検出方式は数種類あり、例えば静電容量方式、抵抗膜方式、赤外線方式等がある。本技術は、主に静電容量方式のタッチパネルである静電容量型タッチパネルに関するものである。
【０００３】
静電容量型タッチパネルは、透明導電膜からなる複数の互いに直交するＸ電極及びＹ電極からなる。Ｘ電極及びＹ電極は、互いに交差する部分と交差しない部分を有するのが一般的である。
【０００４】
これらタッチパネルでは、指が触れていない定常状態の電極間の静電容量、すなわち、主に直交する電極の交差部及び隣接する電極間の静電容量が、指を触れた際に変化することを検出している。
【０００５】
具体的な構造としては、Ｘ電極とＹ電極とを異なる層で形成して絶縁層を介して積層した構造、又はＸ電極とＹ電極とを同一層に形成して交差部のみを絶縁層を介して立体的に橋渡しした構造が一般的である。
【０００６】
両構造ともに、透明導電膜からなる電極のある部分とない部分とが存在する。その結果、ある部分とない部分との光学的な差、すなわち、透過率、反射率、及びそのスペクトルに起因した色相の差が面内に存在し、それがセンサー電極パターンとなって視認される問題があった。
【０００７】
また、電極のない部分をなくすために、電極間に、電気的に接続されていないダミー電極を配置した構造も提案され実用化されている。しかし、絶縁を得るために透明導電膜を細いスペースで除去した領域が必要となり、この透明導電膜のないスペースも僅かながら視認される。
【０００８】
このため、このスペースの空間的な配置を均一化することによって、ダミー電極のパターンを見え難くする工夫も提案され実用化されている。
【０００９】
非特許文献１では、図１〜図３に示すように、第一層のＸ電極と第二層のＹ電極とを異なる層で形成して絶縁層を介して積層した構造において、Ｘ電極とＸ方向及びＹ方向に延在するスリット状のスペースを形成したダミー電極とをＹ方向に配置し、Ｙ電極の中にスリット状のスペースをＸ方向に入れることによって、第一層と第二層を投射して見た場合に全面で均一な格子形状を得る構造が記されている。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【００１０】
【非特許文献１】タッチパネルがわかる本  越石健司／黒沢 理［共編］オーム社（2011年発売）  ｐ.５７
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、上記方法では、Ｘ電極及びＹ電極の幅に制約があるため、設計の柔軟性に欠ける。また、第一層及び第二層に形成された電極及びダミー電極の形状が十分には視認し難いとは言えないため、更なる視認性の向上が求められている。
【００１２】
本発明は上記事情を鑑みてなされたものであり、透明導電膜からなるセンサー電極パターンが視認し難い静電容量型タッチパネル及びその製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明に係る静電容量型タッチパネルは、Ｙ方向に延在してＹ方向と直交するＸ方向に配列された複数のＸ電極と、隣り合うＸ電極の間に配置された第一ダミー電極と、が形成された透明導電膜の第一層と、Ｘ方向に延在してＹ方向に配列された複数のＹ電極と、隣り合うＹ電極の間に配置された第二ダミー電極と、が形成された透明導電膜の第二層と、を備え、第一層と第二層とは、絶縁層を介して積層され、Ｘ電極には、当該Ｘ電極の延在方向に延びるスリットが形成され、Ｙ電極には、当該Ｙ電極の延在方向に延びるスリットが形成され、ダミー電極には、Ｘ方向に延びるスリット及びＹ方向に延びるスリットが形成され、第一層と第二層とを第一層と第二層との積層方向に投射した投射像において、スリットによる格子形状がタッチパネルの全面に形成される。
【００１４】
本発明に係る静電容量型タッチパネルでは、第一層と第二層とに形成されたＸ電極、Ｙ電極及びダミー電極にスリットを形成することによって、第一層と第二層の電極パターンを投射した際に生ずる単位格子をタッチパネルの全面に配列する。これにより、センサー電極パターンを視認し難くできる。
【００１５】
第一層のＸ電極に形成されたスリットは、投射像において第二層のＹ電極と重なるが第二ダミー電極とは重ならず、第二層のＹ電極に形成されたスリットは、投射像において第一層のＸ電極と重なるが第一ダミー電極とは重ならなくてもよい。
【００１６】
第一層のＸ電極に形成されたスリットは、投射像において第二層のＹ電極と重なるが第二ダミー電極とは重ならず、等ピッチでＸ方向に配置され、第二層のＹ電極に形成されたスリットは、投射像において第一層のＸ電極と重なるが第一ダミー電極とは重ならず、等ピッチでＹ方向に配置されてもよい。
【００１７】
第一層のＸ電極に形成されたスリットのピッチは、第一層の第一ダミー電極に形成されたＹ方向に延びるスリットのピッチと等しく、第二層のＹ電極に形成されたスリットのピッチは、第一層の第一ダミー電極に形成されたＸ方向に延びるスリットのピッチと等しくてもよい。
【００１８】
格子形状の最小単位である単位格子における４つの格子点間の縦二辺及び横二辺の計四辺のスリットの形状が、任意の形状であってもよい。当該形状は、曲線であってもよく、それぞれ２種類の凹凸の曲線のうちの何れかからなってもよい。
【００１９】
格子形状の最小単位である単位格子における４つの格子点間の縦二辺及び横二辺の長さは、５０μｍ〜５００μｍであってもよい。
【００２０】
格子形状の最小単位である単位格子を形成するスリットは、Ｘ方向及びＹ方向に沿って一階微分が連続となるような配列で構成されていてもよい。
【００２１】
投射像において、第一層のＸ電極と第二層のＹ電極が重なる部分の面積がタッチパネルの全面において同じとなるように、スリットの形状及び配列が構成されていてもよい。
【００２２】
格子形状の最小単位である単位格子のＸ方向とＹ方向との比が０．７〜１．３であってもよい。
【００２３】
格子形状の最小単位である単位格子のＸ方向とＹ方向との比が１であってもよい。
【００２４】
第一層及び第二層は、それぞれ透明基板の両側に形成されていてもよい。
【００２５】
第一層及び第二層は、透明基板の片側に、透明基板、第一層、絶縁層及び第二層の順、又は透明基板、第二層、絶縁層及び第一層の順に形成されていてもよい。
【００２６】
第一層のＸ電極及び第一ダミー電極、並びに第二層のＹ電極及び第二ダミー電極は、同一の透明導電膜からなってもよい。
【００２７】
スリットの幅が４０μｍ以下であってもよい。
【００２８】
透明導電膜は、金属ナノワイヤを含有する組成物で形成されてもよい。
【００２９】
本発明に係る静電容量型タッチパネルの製造方法は、上記の静電容量型タッチパネルにおいて、金属ナノワイヤからなる透明導電材を感光性プロセスでパターニングすることで、上記透明導電膜を形成してもよい。
【発明の効果】
【００３０】
本発明によれば、任意に幅の異なるＸ電極とＹ電極を構成でき、従来技術（非特許文献１）と比較して設計の自由度を高めることができる。更に、第一層と第二層の電極パターンを投射した際に生ずる単位格子によるセンサー電極パターンを視認し難くできる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】非特許文献１（比較例１）における第一層の構成例を示す図である。
【図２】非特許文献１（比較例１）における第二層の構成例を示す図である。
【図３】非特許文献１（比較例１）における第一層と第二層を重ね合わせた投射像の例を示す図である。
【図４】第一の実施形態における第一層の構成例を示す図である。
【図５】第一の実施形態における第二層の構成例を示す図である。
【図６】第一の実施形態における第一層と第二層を重ね合わせた投射像の例を示す図である。
【図７】第一の実施形態における格子形状からなる４つの異なる領域を示す図である。
【図８】第一の実施形態における単位格子の曲線スリットの概念を示す図である。
【図９】第一の実施形態における単位格子の曲線スリットの一例を示す図である。
【図１０】第一の実施形態における４つの隣接する単位格子の形状の一例を示す図である。
【図１１】第一の実施形態におけるＹ方向に沿った隣接するスリット曲線の一例を示す図である。
【図１２】第一の実施形態におけるＹ方向に沿った隣接するスリット曲線の一例を示す図である。
【図１３】第一の実施形態におけるＸ方向に沿った隣接するスリット曲線の一例を示す図である。
【図１４】第一の実施形態におけるＸ方向に沿った隣接するスリット曲線の一例を示す図である。
【図１５】第一の実施形態における曲線スリットを用いたスリットでの第一層と第二層を重ね合わせた投射像の例を示す図である。
【図１６】第一の実施形態におけるタッチパネルの断面構造例を示す図である。
【図１７】第一の実施形態におけるタッチパネルの断面構造例を示す図である。
【図１８】第二の実施形態における第一層の構成例を示す図である。
【図１９】第二の実施形態における第二層の構成例を示す図である。
【図２０】第二の実施形態における第一層と第二層を重ね合わせた投射像の例を示す図である。
【図２１】第二の実施形態における格子形状からなる４つの異なる領域を示す図である。
【図２２】第三の実施形態における第一層の構成例を示す図である。
【図２３】第三の実施形態における第二層の構成例を示す図である。
【図２４】第三の実施形態における第一層と第二層を重ね合わせた投射像の例を示す図である。
【図２５】第三の実施形態における格子形状からなる４つの異なる領域を示す図である。
【図２６】比較例２における第一層の構成例を示す図である。
【図２７】比較例２における第二層の構成例を示す図である。
【図２８】比較例２における第一層と第二層を重ね合わせた投射像の例を示す図である。
【図２９】比較例２における格子形状からなる４つの異なる領域を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
以下、図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する。また、本明細書において「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
【００３３】
＜第一の実施の形態＞
図４は、本実施形態のタッチパネルの第一層２の構成例を示す。第一層２は、透明導電膜からなる。第一層２には、Ｙ方向に延在してＹ方向と直交するＸ方向に配列された複数のＸ電極Ｘ１と、隣り合うＸ電極Ｘ１の間に配置された第一ダミー電極Ｄ１１とが形成されている。第一ダミー電極Ｄ１１は、電気的に接続されていない浮遊電極である。Ｘ電極Ｘ１には、Ｘ電極Ｘ１の延在方向、すなわちＹ方向に延在するスリットＳ１が形成されている。第一ダミー電極Ｄ１１には、Ｘ方向に延在するスリットＳ１及びＹ方向に延在するスリットＳ１が形成されている。これらのスリットＳ１は、絶縁性を有する。図４では、Ｘ電極Ｘ１は３本のラインで構成され、Ｘ電極Ｘ１の幅Ｗ１と第一ダミー電極Ｄ１１の幅Ｗ２とは等しい例を示している。なお、スリットは、任意の形状でよく、直線であっても、曲線であってもよい。
【００３４】
図５は、本実施形態のタッチパネルの第二層３の構成例を示す。第二層３は、透明導電膜からなる。第二層３には、Ｘ方向に延在してＹ方向に配列された複数のＹ電極Ｙ１と、隣り合うＹ電極Ｙ１の間に配置された第二ダミー電極Ｄ２１と、が形成されている。第二ダミー電極Ｄ２１は、電気的に接続されていない浮遊電極である。Ｙ電極Ｙ１には、Ｙ電極Ｙ１の延在方向、すなわちＸ方向に延在するスリットＳ１が形成されている。第二ダミー電極Ｄ２１には、Ｘ方向に延在するスリットＳ１及びＹ方向に延在するスリットＳ１が形成されている。これらのスリットＳ１は、絶縁性を有する。図５では、Ｙ電極Ｙ１は３本のラインで、Ｙ電極Ｙ１の幅Ｗ２と第二ダミー電極Ｄ２１の幅Ｗ４とは等しい例を示している。
【００３５】
本実施形態のタッチパネルは、このように構成される第一層２と第二層３とが絶縁層（不図示）を介して積層された静電容量型タッチパネルセンサである。
【００３６】
図６は、本実施形態のタッチパネルの第一層２と第二層３とを絶縁層を介して積層した場合の投射像を示す。なお、図６では、第一層２を実線で示し、第二層３を破線で示している。投射像は、第一層２と第二層３とを第一層２と第二層３との積層方向に投射した像である。投射像には、スリットＳ１による格子形状が全面に渡って均一に形成されている。以下、第一層２と第二層３とを重ね合わせて投射方向で見た際に、スリットＳ１で形成される最小単位の格子を単位格子という。単位格子は、Ｘ方向に延在する二つのスリットＳ１と、Ｙ方向に延在する二つのスリットＳ１と、の合計四つのスリットＳ１により形成される格子である。
【００３７】
図７は、図６の投射像において分類分けできる４つの領域を示す。すなわち、投射像には、Ａ領域、Ｂ領域、Ｃ領域、及びＤ領域の４つの異なるセンサー電極パターンの領域がある。Ａ領域は、第一層２のＸ電極Ｘ１と第二層３のＹ電極Ｙ１とが重なる領域である。Ｂ領域は、第一層２のＸ電極Ｘ１と第二層３の第二ダミー電極Ｄ２１とが重なる領域である。Ｃ領域は、第一層２の第一ダミー電極Ｄ１１と第二層３のＹ電極Ｙ１とが重なる領域である。Ｄ領域は、第一層２の第一ダミー電極Ｄ１１と第二層３の第二ダミー電極Ｄ２１とが重なる領域である。
【００３８】
ここで、本発明者らが鋭意研究したところ、以下の知見を得た。すなわち、第一層２と第二層３とを重ね合わせて投射した際に生ずる単位格子に関して、タッチパネルの全面に配列すること、更には、Ａ領域〜Ｄ領域の４つの領域の繰り返しをタッチパネルの全面に配列することによって、センサー電極パターンを視認し難くできることを見出した。
【００３９】
ここで、タッチパネルの全面とは、タッチパネルのタッチ領域又は視認領域における全域をいう。つまり、タッチパネルが、電極の形成されない非タッチ領域を含む場合、又は、筐体に隠れてユーザから視認されない非露出領域を含む場合は、この非タッチ領域又は非露出領域を除いた全面が、タッチパネルの全面となる。
【００４０】
具体的に記述すると、図６の投射像において、第一層２のＸ電極Ｘ１に形成されるスリットＳ１は、第二層３のＹ電極Ｙ１と重なるが第二ダミー電極Ｄ２１とは重ならない。
【００４１】
図６の投射像において、第二層３のＹ電極Ｙ１に形成されるスリットＳ１は、第一層２のＸ電極Ｘ１と重なるが第一ダミー電極Ｄ１１とは重ならない。
【００４２】
図６の投射像において、第一層２の第一ダミー電極Ｄ１１に形成されるスリットＳ１は、第二層３のＹ電極Ｙ１及び第二ダミー電極Ｄ２１と重なる。
【００４３】
図６の投射像において、第二層３の第二ダミー電極Ｄ２１に形成されるスリットＳ１は、第一層２のＸ電極Ｘ１及び第一ダミー電極Ｄ１１と重なる。
【００４４】
Ａ領域では、第一層２のＸ電極Ｘ１に形成されたＹ方向に延びるスリットＳ１と第二層３のＹ電極Ｙ１に形成されたＸ方向に延びるスリットＳ１とが形成される。
【００４５】
Ｂ領域では、第二層３の第二ダミー電極Ｄ２１に形成されたＸ方向に延びるスリットＳ１及びＹ方向に延びるスリットＳ１が形成される。
【００４６】
Ｃ領域では、第一層２の第一ダミー電極Ｄ１１に形成されたＸ方向に延びるスリットＳ１及びＹ方向に延びるスリットＳ１が形成される。
【００４７】
Ｄ領域では、第一層２の第一ダミー電極Ｄ１１に形成されたＹ方向に延びるスリットＳ１と第二層３の第二ダミー電極Ｄ２１に形成されたＸ方向に延びるスリットＳ１とが形成される。
【００４８】
そして、このＡ領域〜Ｄ領域の４つの領域の繰り返しが、タッチパネルの全面に配列されている。
【００４９】
また、図６の投射像において、第一層２のＸ電極Ｘ１に形成されるスリットＳ１は、第二層３のＹ電極Ｙ１と重なるが第二ダミー電極Ｄ２１とは重ならない。そして、スリットＳ１は等ピッチでＸ方向に配置されている。つまり、Ｘ方向に隣り合うスリットＳ１間の距離が等しい。
【００５０】
図６の投射像において、第二層３のＹ電極Ｙ１に形成されるスリットＳ１は、第一層２のＸ電極Ｘ１と重なるが第一ダミー電極Ｄ１１とは重ならない。そして、スリットＳ１は等ピッチでＹ方向に配置されている。つまり、Ｙ方向に隣り合うスリットＳ１間の距離が等しい。
【００５１】
単位格子のＸ方向とＹ方向の比が０．７〜１．３であると、対称性が高く、センサー電極パターンを視認し難くできるため、好ましい。また、単位格子のＸ方向とＹ方向の比が１であると、対称性が更に高く、センサー電極パターンを更に視認し難くできるため、更に好ましい。すなわち、第一層２のＸ電極Ｘ１に形成されるスリットＳ１のピッチは、第一層２の第一ダミー電極Ｄ１１のＹ方向に延びるスリットＳ１のピッチと等しいことが好ましい。同様に、第二層３のＹ電極Ｙ１に形成されるスリットＳ１は、第二層３の第二ダミー電極Ｄ２１のＸ方向に延びるスリットＳ１のピッチと等しいことが好ましい。また、単位格子の大きさは、大きすぎても小さすぎても視認され易く、一辺が５０〜５００μｍとなるのが好ましい。すなわち、格子形状の最小単位である単位格子における４つの格子点間の縦二辺及び横二辺の長さが、５０μｍ〜５００μｍの範囲とすることで、センサー電極パターンを更に視認し難くすることができる。上記縦二辺及び横二辺の長さは、１００〜５００μｍの範囲がより好ましい。
【００５２】
スリットＳ１を直線で構成すると、その格子形状が特定の角度から見た際に視認され易い可能性がある。
【００５３】
そこで、単位格子における４つの格子点間を結ぶ、縦二辺及び横二辺の計四辺のスリットＳ１の形状が、任意の曲線からなっていてもよく、図８に示すように、それぞれ２種類の凹凸の曲線のうちの何れかからなってもよい。図９は２種類の凹凸の曲線で構成することができる１６通りの単位格子形状の一例である。なお、図８〜図１５において、太線は、スリットを示しており、互いに直交する細線の格子は、スリットの基準位置を示す基準線を示している。
【００５４】
更に、これら単位格子が隣接した４つの格子の形状に注目すると、図１０（ａ）〜（ｆ）に示す様にスリット曲線を滑らかに接続することによって、電極パターンを視認し難くできることを見出した。このためには、Ｘ方向及びＹ方向に沿って、隣接するスリット曲線の一階微分が連続、すなわちＣ１連続となるような配列で、単位格子が構成されることが好ましい。
【００５５】
図１０では６つの例を示したが、そのスリットの組み合わせは任意で、よりランダムな組み合わせの方が規則性を緩和でき、特定角度から見た際の視認性を向上できる。
【００５６】
タッチパネルの全面で曲線の一階微分が連続という制約は、Ｘ電極に関して図示すると、図１１又は図１２に示す様に、Ｙ方向に沿ってスリット曲線を配置することを意味する。同様に、Ｙ電極に関して図示すると、図１３又は図１４に示す様に、Ｘ方向に沿ってスリット曲線を配置することを意味する。
【００５７】
これらのＸ方向及びＹ方向への組み合わせを任意に構成することによって、図１５に示す例の様に、より単位格子をランダムに配列することができる。図１５は、タッチパネルの一部、つまり、Ｘ電極及びＹ電極の一部を示している。図１５において、Ａ領域には、第一層のＸ電極と第二層のＹ電極とが配置されており、Ｂ領域には、第一層のダミー電極と第二層のＹ電極とが配置されており、Ｃ領域には、第一層のＸ電極と第二層のダミー領域とが配置されており、Ｄ領域には、第一層のダミー電極と第二層のダミー電極とが配置されている。
【００５８】
但し、後述のように静電容量を規定する第一層のＸ電極と第二層のＹ電極とが重なる面積は、タッチパネルの全面で一定になるようにスリット形状を設計する方が好ましい。この制約を一番簡単に実現するには、第一層のＸ電極と第二層のＹ電極が重なる部分では、スリットの形状、配列をタッチパネルの全面において同じとなるように構成することが好ましい。
【００５９】
図１６は、本実施形態のタッチパネル１において、第一層２及び第二層３がそれぞれ透明基板４の両側に形成した構造を示す。図１６では透明基板が絶縁層を兼ねる。図１７は、本実施形態のタッチパネル１において、第一層２及び第二層３が透明基板４の片側に、透明基板４、第一層２、絶縁層５及び第二層３の順、又は透明基板４、第二層３、絶縁層５及び第一層２の順に形成した構造を示す。
【００６０】
本実施形態のタッチパネルにおいては、第一層２のＸ電極Ｘ１及び第一ダミー電極Ｄ１１、並びに第二層３のＹ電極Ｙ１及び第二ダミー電極Ｄ２１が同一の透明導電膜からなることが好ましい。透明導電膜としては、酸化インジウムスズ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ：ＩＴＯ）、導電性ポリマー、金属ナノワイヤ含有組成物、カーボンナノチューブ含有組成物等が挙げられる。
【００６１】
また、本実施形態のタッチパネルにおいては、スリットＳ１の幅が４０μｍ以下であることが好ましい。スリットＳ１の幅が４０μｍ以下であると、スリットＳ１自体が視認され難くなるため好ましい。一方、スリットＳ１の幅は、小さいほど視認され難いが、電極間でショートする可能性がでてくるので、視認性と電極間のショートの両立を図ることが必要となる。
【００６２】
本実施形態のタッチパネルは、透明導電膜として、金属ナノワイヤを含有する組成物で形成されている場合、特に有効である。金属ナノワイヤ含有組成物から形成された透明導電膜を有するタッチパネルは、金属ナノワイヤの散乱に起因して、電極のある部分とない部分の光学的な差、すなわち、透過率、反射率、及びそのスペクトルに起因した色相の差が視認され易い。しかしながら、本実施形態の構成により、金属ナノワイヤ含有組成物から形成された透明導電膜を有するタッチパネルであっても、センサー電極パターンを視認し難くすることができる。
【００６３】
本実施形態の静電容量型タッチパネルの製造方法では、金属ナノワイヤからなる透明導電材を感光性プロセスでパターニングすることが好ましい。すなわち、透明導電膜によるセンサー電極パターンを感光性プロセスで形成し、タッチパネルを製造することが好ましい。
【００６４】
タッチパネルで検出する静電容量は、第一層のＸ電極と第二層のＹ電極とが重なる面積、第一層のＸ電極と第二層のＹ電極間の距離、第一層のＸ電極と第二層のＹ電極間の材料の誘電率に依存する。第一層のＸ電極と第二層のＹ電極とが重なる面積は、第一層のＸ電極の幅と第二層のＹ電極の幅で規定される。一般に使用されているコントローラーＩＣは、静電容量が一定範囲内にあることを必要とする。また、一般に使用されているコントローラーＩＣは、電極の長さと幅で規定される抵抗が一定範囲内にあることを必要とする。
【００６５】
これらの要求から、第一層のＸ電極及び第二層のＹ電極の幅を設計する必要がある。一方、各電極のピッチは、指の大きさから４〜５ｍｍが適当である。以上から、電極の幅とダミー電極の幅の比率が求まる。また、電極のラインの本数はタッチパネルの寸法に依存し、タッチパネルの寸法が大きければラインの本数は多くなる。
【００６６】
＜第二の実施の形態＞
図１８は、本実施形態のタッチパネルの第一層２Ａの構成例を示す。第一層２Ａは、透明導電膜からなる。第一層２Ａには、Ｙ方向に延在してＹ方向と直交するＸ方向に配列された複数のＸ電極Ｘ２と、隣り合うＸ電極Ｘ２の間に配置された第一ダミー電極Ｄ１２と、が形成されている。第一ダミー電極Ｄ１２は、電気的に接続されていない浮遊電極である。Ｘ電極Ｘ２には、Ｘ電極Ｘ２の延在方向、すなわちＹ方向に延在するスリットＳ２が形成されている。第一ダミー電極Ｄ１２には、Ｘ方向に延在するスリットＳ２及びＹ方向に延在するスリットＳ２が形成されている。これらのスリットＳ２は、絶縁性を有する。図１８では、Ｘ電極Ｘ２は３本のラインで構成され、Ｘ電極Ｘ２の幅Ｗ１と第一ダミー電極Ｄ１２の幅Ｗ２との比はＷ１：Ｗ２＝１：２の例を示している。
【００６７】
図１９は、本実施形態のタッチパネルの第二層３Ａの構成例を示す。第二層３Ａは、透明導電膜からなる。第二層３Ａには、Ｘ方向に延在してＹ方向に配列された複数のＹ電極Ｙ２と、隣り合うＹ電極Ｙ２の間に配置された第二ダミー電極Ｄ２２と、が形成されている。第二ダミー電極Ｄ２２は、電気的に接続されていない浮遊電極である。Ｙ電極Ｙ２には、Ｙ電極Ｙ２の延在方向、すなわちＸ方向に延在するスリットＳ２が形成されている。第二ダミー電極Ｄ２２には、Ｘ方向に延在するスリットＳ２及びＹ方向に延在するスリットＳ２が形成されている。これらのスリットＳ２は、絶縁性を有する。図１９では、Ｙ電極Ｙ２は３本のラインで、Ｙ電極Ｙ２の幅Ｗ３と第二ダミー電極Ｄ２２の幅Ｗ４との比はＷ３：Ｗ４＝１：２の例を示している。
【００６８】
本実施形態のタッチパネルは、このように構成される第一層２Ａと第二層３Ａとが絶縁層（不図示）を介して積層された静電容量型タッチパネルセンサである。
【００６９】
図２０は、本実施形態のタッチパネルの第一層２Ａと第二層３Ａとを絶縁層を介して積層した場合の投射像を示す。なお、図２０では、第一層２Ａを実線で示し、第二層３Ａを破線で示している。投射像は、第一層２Ａと第二層３Ａとを第一層２Ａと第二層３Ａとの積層方向に投射した像である。投射像には、スリットＳ２による格子形状が全面に渡って均一に形成されている。投射像において、スリットＳ２で形成される最小単位の格子を単位格子という。単位格子は、Ｘ方向に延在するスリットＳ２と、Ｙ方向に延在するスリットＳ２の合計四つのスリットＳ２により形成される格子である。
【００７０】
図２１は、図２０の投射像において分類分けできる４つの領域を示す。すなわち、投射像には、Ａ領域、Ｂ領域、Ｃ領域、及びＤ領域の４つの異なるセンサー電極パターンの領域がある。Ａ領域は、第一層２のＸ電極Ｘ２と第二層３のＹ電極Ｙ２とが重なる領域である。Ｂ領域は、第一層２のＸ電極Ｘ２と第二層３の第二ダミー電極Ｄ２２とが重なる領域である。Ｃ領域は、第一層２の第一ダミー電極Ｄ１２と第二層３のＹ電極Ｙ１とが重なる領域である。Ｄ領域は、第一層２の第一ダミー電極Ｄ１２と第二層３の第二ダミー電極Ｄ２２とが重なる領域である。
【００７１】
ここで、本発明者らが鋭意研究したところ、以下の知見を得た。すなわち、第一層２Ａと第二層３Ａとを重ね合わせて投射した際に生ずる単位格子に関して、タッチパネルの全面に配列すること、更には、Ａ領域〜Ｄ領域の４つの領域の繰り返しをタッチパネルの全面に配列することによって、センサー電極パターンを視認し難くできることを見出した。
【００７２】
また、格子形状の最小単位である単位格子における４つの格子点間の縦二辺及び横二辺の長さを、５０μｍ〜５００μｍの範囲とすることで、センサー電極パターンを更に視認し難くできることを見出した。
【００７３】
具体的に説明すると、図２０の投射像において、第一層２ＡのＸ電極Ｘ２に形成されるスリットＳ２は、第二層３ＡのＹ電極Ｙ２と重なるが第二ダミー電極Ｄ２２とは重ならない。
【００７４】
図２０の投射像において、第二層３ＡのＹ電極Ｙ２に形成されるスリットＳ２は、第一層２ＡのＸ電極Ｘ２と重なるが第一ダミー電極Ｄ１２とは重ならない。
【００７５】
図２０の投射像において、第一層２Ａの第一ダミー電極Ｄ１２に形成されるスリットＳ２は、第二層３ＡのＹ電極Ｙ２及び第二ダミー電極Ｄ２２と重なる。
【００７６】
図２０の投射像において、第二層３Ａの第二ダミー電極Ｄ２２に形成されるスリットＳ２は、第一層２ＡのＸ電極Ｘ２及び第一ダミー電極Ｄ１２と重なる。
【００７７】
Ａ領域では、第一層２ＡのＸ電極Ｘ２に形成されたＹ方向に延びるスリットＳ２と第二層３ＡのＹ電極Ｙ２に形成されたＸ方向に延びるスリットＳ２とが形成される。
【００７８】
Ｂ領域では、第二層３Ａの第二ダミー電極Ｄ２２に形成されたＸ方向に延びるスリットＳ２及びＹ方向に延びるスリットＳ２が形成される。
【００７９】
Ｃ領域では、第一層２Ａの第一ダミー電極Ｄ１２に形成されたＸ方向に延びるスリットＳ２及びＹ方向に延びるスリットＳ２が形成される。
【００８０】
Ｄ領域では、第一層２Ａの第一ダミー電極Ｄ１２に形成されたＹ方向に延びるスリットＳ２と第二層３Ａの第二ダミー電極Ｄ２２に形成されたＸ方向に延びるスリットＳ２とが形成される。
【００８１】
そして、このＡ領域〜Ｄ領域の４つの領域の繰り返しが、タッチパネルの全面に配列されている。
【００８２】
また、図２０の投射像において、第一層２ＡのＸ電極Ｘ２に形成されるスリットＳ２は、第二層３ＡのＹ電極Ｙ２と重なるが第二ダミー電極Ｄ２２とは重ならない。そして、スリットＳ２は等ピッチでＸ方向に配置されている。つまり、Ｘ方向に隣り合うスリットＳ２間の距離が等しい。
【００８３】
図２０の投射像において、第二層３ＡのＹ電極Ｙ２に形成されるスリットＳ２は、第一層２ＡのＸ電極Ｘ２と重なるが第一ダミー電極Ｄ１２とは重ならない。そして、スリットＳ２は等ピッチでＹ方向に配置されている。つまり、Ｙ方向に隣り合うスリットＳ２間の距離が等しい。
【００８４】
＜第三の実施の形態＞
図２２は、本実施形態のタッチパネルの第一層２Ｂの構成例を示す。第一層２Ｂは、透明導電膜からなる。第一層２Ｂには、Ｙ方向に延在してＸ方向に配列される複数のＸ電極Ｘ３と、隣り合うＸ電極Ｘ３の間に配置された第一ダミー電極Ｄ１３と、が形成されている。第一ダミー電極Ｄ１３は、電気的に接続されていない浮遊電極である。Ｘ電極Ｘ３には、Ｘ電極Ｘ３の延在方向、すなわちＹ方向に延在するスリットＳ３が形成されている。第一ダミー電極Ｄ１３には、Ｘ方向に延在するスリットＳ３及びＹ方向に延在するスリットＳ３が形成されている。これらのスリットＳ３は、絶縁性を有する。図２２では、Ｘ電極Ｘ３は３本のラインの例で、Ｘ電極Ｘ３の幅Ｗ１と第一ダミー電極Ｄ１３の幅Ｗ２との比はＷ１：Ｗ２＝１：２の例を示している。
【００８５】
図２３は、本実施形態のタッチパネルの第二層３Ｂの構成例を示す。第二層３Ｂは、透明導電膜からなる。第二層３Ｂには、Ｘ方向に延在してＹ方向に配列された複数のＹ電極Ｙ３と、隣り合うＹ電極Ｙ３の間に配置された第二ダミー電極Ｄ２３と、が形成されている。第二ダミー電極Ｄ２３は、電気的に接続されていない浮遊電極である。Ｙ電極Ｙ３には、Ｙ電極Ｙ３の延在方向、すなわちＸ方向に延在するスリットＳ３が形成されている。第二ダミー電極Ｄ２３には、Ｘ方向に延在するスリットＳ３及びＹ方向に延在するスリットＳ３が形成されている。これらのスリットＳ３は、絶縁性を有する。図２３では、Ｙ電極Ｙ３は３本のラインで、Ｙ電極Ｙ３の幅Ｗ３と第二ダミー電極Ｄ２３の幅Ｗ４とは等しい例を示している。
【００８６】
本実施形態のタッチパネルは、このように構成される第一層２Ｂと第二層３Ｂとが絶縁層（不図示）を介して積層された静電容量型タッチパネルセンサである。
【００８７】
図２４は、本実施形態のタッチパネルの第一層２Ｂと第二層３Ｂとを絶縁層を介して積層した場合の投射像を示す。なお、図２４では、第一層２Ｂを実線で示し、第二層３Ｂを破線で示している。投射像は、第一層２Ｂと第二層３Ｂとを第一層２Ｂと第二層３Ｂとの積層方向に投射した像である。投射像には、スリットＳ３による格子形状が全面に渡って均一に形成されている。投射像において、スリットＳ３で形成される最小単位の格子を単位格子という。単位格子は、Ｘ方向に延在する二つのスリットＳ３と、Ｙ方向に延在する二つのスリットＳ３と、の合計四つのスリットＳ３により形成される矩形の格子である。
【００８８】
図２５は、図１３の投射像において分類分けできる４つの領域を示す。すなわち、投射像には、Ａ領域、Ｂ領域、Ｃ領域、及びＤ領域の４つの異なるセンサー電極パターンの領域がある。Ａ領域は、第一層２ＢのＸ電極Ｘ３と第二層３ＢのＹ電極Ｙ３とが重なる領域である。Ｂ領域は、第一層２ＢのＸ電極Ｘ３と第二層３Ｂの第二ダミー電極Ｄ２３とが重なる領域である。Ｃ領域は、第一層２Ｂの第一ダミー電極Ｄ１３と第二層３ＢのＹ電極Ｙ３とが重なる領域である。Ｄ領域は、第一層２Ｂの第一ダミー電極Ｄ１３と第二層３Ｂの第二ダミー電極Ｄ２３とが重なる領域である。
【００８９】
ここで、本発明者らが鋭意研究したところ、以下の知見を得た。すなわち、第一層２Ｂと第二層３Ｂとを重ね合わせて投射した際に生ずる単位格子に関して、タッチパネルの全面に配列すること、更には、Ａ領域〜Ｄ領域の４つの領域の繰り返しをタッチパネルの全面に配列することによって、センサー電極パターンを視認し難くできることを見出した。
【００９０】
また、格子形状の最小単位である単位格子における４つの格子点間の縦二辺及び横二辺の長さが、５０μｍ〜５００μｍの範囲とすることで、センサー電極パターンを更に視認し難くできることを見出した。
【００９１】
具体的に説明すると、図２４の投射像において、第一層２ＢのＸ電極Ｘ３に形成されるスリットＳ３は、第二層３ＢのＹ電極Ｙ３と重なるが第二ダミー電極Ｄ２３とは重ならない。
【００９２】
図２４の投射像において、第二層３ＢのＹ電極Ｙ３に形成されるスリットＳ３は、第一層２ＢのＸ電極Ｘ３と重なるが第一ダミー電極Ｄ１３とは重ならない。
【００９３】
図２４の投射像において、第一層２Ｂの第一ダミー電極Ｄ１３に形成されるスリットＳ３は、第二層３ＢのＹ電極Ｙ３及び第二ダミー電極Ｄ２３と重なる。
【００９４】
図２４の投射像において、第二層３Ｂの第二ダミー電極Ｄ２３に形成されるスリットＳ３は、第一層２ＢのＸ電極Ｘ３及び第一ダミー電極Ｄ１３と重なる。
【００９５】
Ａ領域では、第一層２ＢのＸ電極Ｘ３に形成されたＹ方向に延びるスリットＳ３と第二層３ＢのＹ電極Ｙ３に形成されたＸ方向に延びるスリットＳ３とが形成される。
【００９６】
Ｂ領域では、第二層３Ｂの第二ダミー電極Ｄ２３に形成されたＸ方向に延びるスリットＳ３及びＹ方向に延びるスリットＳ３が形成される。
【００９７】
Ｃ領域では、第一層２Ｂの第一ダミー電極Ｄ１３に形成されたＸ方向に延びるスリットＳ３及びＹ方向に延びるスリットＳ３が形成される。
【００９８】
Ｄ領域では、第一層２Ｂの第一ダミー電極Ｄ１３に形成されたＹ方向に延びるスリットＳ３と第二層３Ｂの第二ダミー電極Ｄ２３に形成されたＸ方向に延びるスリットＳ３とが形成される。
【００９９】
そして、このＡ領域〜Ｄ領域の４つの領域の繰り返しが、タッチパネルの全面に配列されている。
【０１００】
また、図２４の投射像において、第一層２ＢのＸ電極Ｘ３に形成されるスリットＳ３は、第二層３ＢのＹ電極Ｙ３と重なるが第二ダミー電極Ｄ２３とは重ならない。そして、スリットＳ３は等ピッチでＸ方向に配置されている。つまり、Ｘ方向に隣り合うスリットＳ３間の距離が等しい。
【０１０１】
図２４の投射像において、第二層３ＢのＹ電極Ｙ３に形成されるスリットＳ３は、第一層２ＢのＸ電極Ｘ３と重なるが第一ダミー電極Ｄ１３と重ならない。そして、スリットＳ３は等ピッチでＹ方向に配置されている。つまり、Ｙ方向に隣り合うスリットＳ３間の距離が等しい。
【０１０２】
＜比較例１の形態＞
図１は、比較例１のタッチパネルの第一層１０２の構成例を示す。第一層１０２は、透明導電膜からなる。第一層１０２には、Ｙ方向に延在してＸ方向に配列される複数のＸ電極Ｘ１０１と、隣り合うＸ電極Ｘ１０１の間に配置された第一ダミー電極Ｄ１１１と、が形成されている。第一ダミー電極Ｄ１１１は、電気的に接続されていない浮遊電極である。第一ダミー電極Ｄ１１１には、Ｘ方向に延在するスリットＳ１０１及びＹ方向に延在するスリットＳ１０１が形成されている。これらのスリットＳ１０１は、絶縁性を有する。図１では、Ｘ電極Ｘ１０１は４本のラインの例で、Ｘ電極Ｘ１０１の幅Ｗ１と第一ダミー電極Ｄ１１１の幅Ｗ２との比はＷ１：Ｗ２＝１：４の例を示している。
【０１０３】
図２は、比較例１のタッチパネルの第二層１０３の構成例を示す。第二層１０３は、透明電極からなる。第二層１０３には、Ｘ方向に延在してＹ方向に配列された複数のＹ電極Ｙ１０１が形成されている。Ｙ電極Ｙ１０１には、Ｙ電極Ｙ１０１の延在方向、すなわちＸ方向に延在するスリットＳ１０１が形成されている。これらのスリットＳ１０１は、絶縁性を有する。図２では、Ｙ電極Ｙ１０１は５本のラインで構成されている例を示している。
【０１０４】
比較例１のタッチパネルは、このように構成される第一層１０２と第二層１０３とが絶縁層（不図示）を介して積層された静電容量型タッチパネルセンサである。
【０１０５】
図３は、比較例のタッチパネルの第一層１０２と第二層１０３とを絶縁層を介して積層した場合の投射像を示す。なお、図３では、第一層１０２を実線で示し、第二層１０３を破線で示している。投射像は、第一層１０２と第二層１０３とを第一層１０２と第二層１０３との積層方向に投射した像である。投射像には、スリットＳ１０１による格子形状が全面に渡って均一に形成されている。図３の投射像において、第二層１０３のＹ電極Ｙ１０１に形成されるスリットＳ１０１は、第一層１０２のＸ電極Ｘ１０１と重なるが第一ダミー電極Ｄ１１１とは重ならない。
【０１０６】
しかしながら、比較例１では、第一層１０２にはＸ電極Ｘ１０１と第一ダミー電極Ｄ１１１を、第二層１０３にはＹ電極Ｙ１０１を配置することによって、タッチパネルの全面で単位格子を構成している。したがって、比較例１では、Ｘ電極Ｘ１０１の幅と、隣り合うＸ電極Ｘ１０１の間に配置された第一ダミー電極Ｄ１１１の幅と、Ｙ電極Ｙ１０１の幅と、の関係に制約があり、設計の柔軟性に欠ける。
【０１０７】
＜比較例２の形態＞
図２６は、比較例２のタッチパネルの第一層２０２の構成例を示す。第一層２０２は、透明導電膜からなる。第一層２０２には、Ｙ方向に延在してＸ方向に配列される複数のＸ電極Ｘ２０１と、隣り合うＸ電極Ｘ２０１の間に配置された第一ダミー電極Ｄ２１１と、が形成されている。第一ダミー電極Ｄ２１１は、電気的に接続されていない浮遊電極である。第一ダミー電極Ｄ２１１には、Ｘ方向に延在するスリットＳ２０１及びＹ方向に延在するスリットＳ２０１が形成されている。これらのスリットＳ２０１は、絶縁性を有する。図２６では、Ｘ電極Ｘ２０１は３本のラインで構成され、Ｘ電極Ｘ２０１の幅Ｗ１と第一ダミー電極Ｄ２１１の幅Ｗ２とは等しい例を示している。
【０１０８】
図２７は、比較例２のタッチパネルの第二層２０３の構成例を示す。第二層２０３は、透明電極からなる。第二層２０３には、Ｘ方向に延在してＹ方向に配列された複数のＹ電極Ｙ２０１と、隣り合うＹ電極Ｙ２０１の間に配置された第二ダミー電極Ｄ２２１と、が形成されている。第二ダミー電極Ｄ２２１は、電気的に接続されていない浮遊電極である。第二ダミー電極Ｄ２２１には、Ｘ方向に延在するスリットＳ２０１及びＹ方向に延在するスリットＳ２０１が形成されている。これらのスリットＳ２０１は、絶縁性を有する。図２７では、Ｙ電極Ｙ２０１は３本のラインで構成され、Ｙ電極Ｙ２０１の幅Ｗ３と第二ダミー電極Ｄ２２１の幅Ｗ４とは等しい例を示している。
【０１０９】
比較例２のタッチパネルは、このように構成される第一層２０２と第二層２０３とが絶縁層（不図示）を介して積層された静電容量型タッチパネルセンサである。
【０１１０】
図２８は、比較例２のタッチパネルの第一層２０２と第二層２０３とを絶縁層を介して積層した場合の投射像を示す。なお、図２８では、第一層２０２を実線で示し、第二層２０３を破線で示している。投射像は、第一層２０２と第二層２０３とを第一層２０２と第二層２０３との積層方向に投射した像である。投射像には、スリットＳ２０１による格子形状が部分的に形成されている。投射像において、スリットＳ２０１で形成される最小単位の格子を単位格子という。単位格子は、Ｘ方向に延在する二つのスリットＳ２０１と、Ｙ方向に延在する二つのスリットＳ２０１と、の合計四つのスリットＳ２０１により形成される矩形の格子である。
【０１１１】
図２９は、図２８の投射像において分類分けできる４つの領域を示す。すなわち、投射像には、Ａ領域、Ｂ領域、Ｃ領域、及びＤ領域の４つの異なるセンサー電極パターンの領域がある。Ａ領域は、第一層２０２のＸ電極Ｘ２０１と第二層２０３のＹ電極Ｙ２０１とが重なる領域である。Ｂ領域は、第一層２０２のＸ電極Ｘ２０１と第二層２０３の第二ダミー電極Ｄ２２１とが重なる領域である。Ｃ領域は、第一層２０２の第一ダミー電極Ｄ２１１と第二層２０３のＹ電極Ｙ２０１とが重なる領域である。Ｄ領域は、第一層２０２の第一ダミー電極Ｄ２１１と第二層２０３の第二ダミー電極Ｄ２２１とが重なる領域である。
【０１１２】
比較例２では、Ａ領域には全く格子形状が形成できない。Ｂ領域、Ｃ領域、Ｄ領域では格子形状が形成できるものの、Ｄ領域では第一ダミー電極Ｄ２１１のスリットと第二ダミー電極Ｄ２２１のスリットとが重なっている。このため、Ａ領域とＤ領域がＢ領域及びＣ領域と異なって視認され、電極パターンが視認され易い。
【０１１３】
以上、本発明によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で変更、置き換え可能である。
【符号の説明】
【０１１４】
１…タッチパネル、２，２Ａ，２Ｂ…第一層、３，３Ａ，３Ｂ…第二層、４…透明基板（絶縁層）、５…絶縁層、Ｘ１、Ｘ２，Ｘ３…Ｘ電極、Ｙ１、Ｙ２，Ｙ３…Ｙ電極、Ｄ１１、Ｄ１２，Ｄ１３…第一ダミー電極、Ｄ２１、Ｄ２２，Ｄ２３…第二ダミー電極、Ｓ１、Ｓ２，Ｓ３…スリット、１０２，２０２…第一層、１０３，２０３…第二層、Ｘ１０１，Ｘ２０１…Ｘ電極、Ｙ１０１，Ｙ２０１…Ｙ電極、Ｄ１１１…第一ダミー電極、Ｄ２１１…第一ダミー電極、Ｄ２２１…第二ダミー電極、Ｓ１０１，Ｓ２０１…スリット。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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