(57)【要約】【課題】光学デバイスの信頼性の低下を抑制することを課題とする。【解決手段】空間光変調装置は、液体の制御により光を変調する機能を実現する機能部と、機能部を支持する支持部と、機能部とともに液体を溜めておく液溜め部を形成する蓋部とを有する。機能部は、表面の濡れ性によって液体が移動する毛細管構造を形成する形成部材を有する。形成部材は、形成部材の表面のうち毛細管構造が形成される箇所に、電極膜と、電極膜の外側に撥水膜とを有する。蓋部は、電極膜に対向する対向電極膜を有する。電極膜及び対向電極膜への電圧印加によって、毛細管構造が形成される箇所の前記撥水膜の濡れ性が撥水性から親水性に変化することで、液溜め部から毛細管構造へ液体が流入する。【選択図】図１
2018124326.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体の制御により光を変調する機能を実現する機能部と、
前記機能部を支持する支持部と、
前記機能部とともに、液体を溜めておく液溜め部を形成する蓋部と、を有し、
前記機能部は、表面の濡れ性によって前記液体が移動する毛細管構造を形成する形成部材を有し、
前記形成部材は、前記形成部材の表面のうち前記毛細管構造が形成される箇所に、電極膜と、前記電極膜の外側に撥水膜とをさらに有し、
前記蓋部は、前記電極膜に対向する対向電極膜を有し、
前記電極膜及び前記対向電極膜への電圧印加によって、前記毛細管構造が形成される箇所の前記撥水膜の濡れ性が撥水性から親水性に変化することで、前記液溜め部から前記毛細管構造へ前記液体が流入する
ことを特徴とする空間光変調装置。
【請求項２】
前記支持部は、
表面に撥水膜を有する支持基板と、
前記支持基板上に、表面に撥水膜を有し、前記形成部材を支持する柱状物と、を有し、
前記柱状物は、前記毛細管構造への前記液体の流入によって、前記毛細管構造から抜けた気体を放出する気体排出路を形成することを特徴とする請求項１に記載の空間光変調装置。
【請求項３】
前記支持基板と前記形成部材との間の長さを示す前記柱状物の厚さは、前記毛細管構造の径よりも大きいことを特徴とする請求項２に記載の空間光変調装置。
【請求項４】
前記柱状物は、前記支持基板上に等間隔で複数配列されることを特徴とする請求項２又は３に記載の空間光変調装置。
【請求項５】
前記柱状物は、ポリマー材であることを特徴とする請求項２〜４の何れか一つに記載の空間光変調装置。
【請求項６】
前記柱状物は、界面張力が働きづらい形状であることを特徴とする請求項２〜５の何れか一つに記載の空間光変調装置。
【請求項７】
前記柱状物は、一方の底面が前記支持基板に、他方の底面が前記形成部材に接合された楕円柱であることを特徴とする請求項６に記載の空間光変調装置。
【請求項８】
支持基板上にポリマー材を塗布する工程と、
塗布された前記ポリマー材を柱状物としてパターニングするためのフォトレジストを塗布し、露光する工程と、
エッチングにより前記ポリマー材を加工する工程と、
前記ポリマー材の加工後に、塗布された前記フォトレジストを剥離する工程と、
柱状物となった前記ポリマー材が配置された前記支持基板と、表面に電極膜を有する形成部材により形成された毛細管構造を含む空間光変調基板とを、柱状物となった前記ポリマー材と前記形成部材とが接するように接合する工程と、
エッチングにより前記空間光変調基板を加工し、液体を溜めておく液溜め部を形成する工程と、
ディップコーディングにより全面に撥水膜を形成する工程と、
ディップコーディング後に、前記電極膜に対向する対向電極膜を有する蓋基板を接合する工程と
を含むことを特徴とする空間光変調装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、空間光変調装置及び空間光変調装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光の透過を液体制御により実施する光学デバイスである空間光変調装置では、エレクトロウェッティング現象や毛細管現象により液体の駆動を実現する。例えば、エレクトロウェッティング現象は、液体が接触する毛細管内の表面の濡れ性を撥水性から親水性に変化させ、液体を制御・駆動させる技術である。かかる技術は、カメラ等の撮像装置、画像投影装置、光計測技術等の幅広い光学分野で応用されている。空間光変調装置の構造体には、半導体プロセス技術やＭＥＭＳ（Micro  Electro  Mechanical  Systems）技術によって毛細管等の微細加工が施されている。
【０００３】
例えば、特許文献１（特開２０１５−０８４０７１号公報）では、光学デバイス基板を床基板と蓋基板とで接合した気密構造とする空間光変調装置が開示されている。また、特許文献１では、電極に電圧を印加して毛細管内の表面の濡れ性を撥水性から親水性に変化させた際に、毛細管内を駆動した液体と同等の体積の気体を、気体排出路を介して管外に放出する空間光変調装置が開示されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来技術は、光学デバイスの信頼性が低くなる可能性があるという問題がある。具体的には、従来技術は、毛細管の導入路から入った液体が毛細管の末端まで到達した場合に、側壁を伝って毛細管外に漏れ出し、気体排出路に接触する可能性がある。毛細管以外の箇所に液体が一度でも接触した場合は、電圧をオフにして毛細管内の表面の濡れ性を親水性から撥水性に戻したとしても、液体が戻る力よりも表面張力が上回り、液体が元の液面位置に戻らずに毛細管内に残ってしまうことがある。液体が元の液面位置に戻らずに毛細管内に残ってしまう場合には、液体の動作性能を維持することが困難となり、光学特性にばらつきが生じ、光学デバイスの信頼性が低くなってしまう。
【０００５】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、光学デバイスの信頼性の低下を抑制することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上述した課題を解決し、目的を達成するため、本発明に係る空間光変調装置は、液体の制御により光を変調する機能を実現する機能部と、前記機能部を支持する支持部と、前記機能部とともに、液体を溜めておく液溜め部を形成する蓋部と、を有し、前記機能部は、表面の濡れ性によって前記液体が移動する毛細管構造を形成する形成部材を有し、前記形成部材は、前記形成部材の表面のうち前記毛細管構造が形成される箇所に、電極膜と、前記電極膜の外側に撥水膜とをさらに有し、前記蓋部は、前記電極膜に対向する対向電極膜を有し、前記電極膜及び前記対向電極膜への電圧印加によって、前記毛細管構造が形成される箇所の前記撥水膜の濡れ性が撥水性から親水性に変化することで、前記液溜め部から前記毛細管構造へ前記液体が流入する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、光学デバイスの信頼性の低下を抑制することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】図１は、実施の形態に係る空間光変調装置の断面構造例を示す図である。
【図２】図２は、実施の形態に係る空間光変調装置に液体が浸透する前の断面構造例を示す図である。
【図３】図３は、実施の形態に係る空間光変調装置に液体が浸透した後の断面構造例を示す図である。
【図４Ａ】図４Ａは、実施の形態に係る空間光変調装置の柱状物の形状の例を示す図である。
【図４Ｂ】図４Ｂは、実施の形態に係る空間光変調装置の柱状物の形状の例を示す図である。
【図４Ｃ】図４Ｃは、実施の形態に係る空間光変調装置の柱状物の形状の例を示す図である。
【図４Ｄ】図４Ｄは、実施の形態に係る空間光変調装置の柱状物の形状の例を示す図である。
【図４Ｅ】図４Ｅは、実施の形態に係る空間光変調装置の柱状物の形状の例を示す図である。
【図４Ｆ】図４Ｆは、実施の形態に係る空間光変調装置の柱状物の形状の例を示す図である。
【図５】図５は、実施の形態に係る空間光変調装置の製造工程の例を示すフローチャートである。
【図６Ａ】図６Ａは、実施の形態に係る空間光変調装置の各製造工程のイメージ図である。
【図６Ｂ】図６Ｂは、実施の形態に係る空間光変調装置の各製造工程のイメージ図である。
【図６Ｃ】図６Ｃは、実施の形態に係る空間光変調装置の各製造工程のイメージ図である。
【図６Ｄ】図６Ｄは、実施の形態に係る空間光変調装置の各製造工程のイメージ図である。
【図６Ｅ】図６Ｅは、実施の形態に係る空間光変調装置の各製造工程のイメージ図である。
【図６Ｆ】図６Ｆは、実施の形態に係る空間光変調装置の各製造工程のイメージ図である。
【図６Ｇ】図６Ｇは、実施の形態に係る空間光変調装置の各製造工程のイメージ図である。
【図６Ｈ】図６Ｈは、実施の形態に係る空間光変調装置の各製造工程のイメージ図である。
【図７】図７は、実施の形態に係る接合前の空間光変調基板の上面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下に添付図面を参照して、本発明に係る空間光変調装置及び空間光変調装置の製造方法の実施の形態を説明する。なお、以下の実施の形態により本発明が限定されるものではない。
【００１０】
（実施の形態）
図１を用いて、実施の形態に係る空間光変調装置１００を説明する。図１は、実施の形態に係る空間光変調装置１００の断面構造例を示す図である。
【００１１】
図１に示すように、空間光変調装置１００は、支持部１と、機能部２と、蓋部３との基板構成に分けられる。機能部２は、液体の制御により光を変調する機能を実現する。支持部１は、機能部２を支持する。蓋部３は、機能部２によって制御される液体の注入口１１２を有し、機能部２とともに、液体を溜めておく液溜め部１１３を形成する。
【００１２】
機能部２は、注入口１１２から注入された液体を溜めておく液溜め部１１３と、複数の毛細管構造１０８を形成する形成部材１０４と、シリコン等により構成される光学デバイス基板である空間光変調基板１０６とを有する。毛細管構造１０８は、表面の濡れ性によって液体が移動する細い管状の構造を示す。形成部材１０４は、例えば厚さが１０μｍ〜２０μｍのＳｉＯ２（二酸化ケイ素）又は透明ガラスで構成される。この形成部材１０４に孔を開口することにより、上述したように、複数の毛細管構造１０８が形成される。毛細管構造１０８の径（孔径）は、例えば１μｍ〜２０μｍである。
【００１３】
形成部材１０４は、表面に電極膜１０５を有し、電極膜１０５の外側に撥水膜１０２をさらに有する。形成部材１０４の表面に成膜された電極膜１０５の厚さは、例えば１０ｎｍ〜４００ｎｍである。例えば、電極膜１０５は、ＣＶＤ（Chemical  Vapor  Deposition）法やスパッタリング法、ＡＬＤ（Atomic  Layer  Deposition）法等により、形成部材１０４の表面に成膜される。また、電極膜１０５は、透明な電極膜であるＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide：酸化インジウムスズ）やＡＺＯ（Alを添加したZnO薄膜）が望ましいが、Ａｕ膜のような導電性の金属膜であっても良い。電極膜１０５の外側に成膜された撥水膜１０２の厚さは、例えば１００ｎｍ〜１０００ｎｍである。
【００１４】
蓋部３は、液溜め部１１３の蓋となる基板である蓋基板１１０と、機能部２の空間光変調基板１０６に接合される接合材１０９とを有する。蓋基板１１０には、液溜め部１１３へ液体を注入する注入口１１２が形成されている。蓋基板１１０は、光を通すことが可能な透明基板である。また、蓋基板１１０は、電極膜１０５に対向する電極膜１１１を有する。蓋基板１１０が有する電極膜１１１の厚さは、例えば１０ｎｍ〜４００ｎｍである。例えば、電極膜１１１は、ＣＶＤ法やスパッタリング法、ＡＬＤ法等により、電極膜１０５に対向するように、蓋基板１１０の面に成膜される。電極膜１１１は、透明な電極膜であるＩＴＯやＡＺＯが望ましいが、ＡＵ膜のような導電性の金属膜であっても良い。空間光変調基板１０６と蓋基板１１０とは、接合材１０９により接合されている。
【００１５】
支持部１は、支持基板１０１と、柱状物１０３とを有する。支持基板１０１は、光を通すことが可能な透明基板であり、表面に撥水膜１０２を有する。柱状物１０３は、表面に撥水膜１０２を有し、形成部材１０４を支持する。柱状物１０３は、支持基板１０１の一面に、等間隔で複数配列されている。これにより、柱状物１０３は、気体排出路１０７を形成する。支持基板１０１と形成部材１０４との間の長さを示す柱状物１０３の厚さは、例えば２μｍ〜３０μｍである。また、柱状物１０３は、支持基板１０１と、形成部材１０４との接合材としても使用されるため、例えば接合材に適したポリマー材であることが好ましい。上述した柱状物１０３の厚さ（例えば、２μｍ〜３０μｍ）は、毛細管構造１０８の径（例えば、１μｍ〜２０μｍ）よりも大きいものとする。支持基板１０１や柱状物１０３の表面に成膜された撥水膜１０２の厚さは、例えば１００ｎｍ〜１０００ｎｍである。
【００１６】
上述したように、液溜め部１１３には、注入口１１２から液体を注入させることで、液体を溜めておくことが可能である。そして、液溜め部１１３に溜められた液体は、電極膜１０５及び電極膜１１１への電圧印加によって、形成部材１０４の表面に成膜された撥水膜１０２の濡れ性が撥水性から親水性に変化することで、液溜め部１１３から毛細管構造１０８へ流入する。毛細管構造１０８への液体の流入によって、毛細管構造１０８から抜けた気体は、気体排出路１０７から放出される。気体排出路１０７は、柱状物１０３の厚さと略同一である。支持基板１０１や柱状物１０３には、電極膜が成膜されていない。このため、支持基板１０１や柱状物１０３に成膜された撥水膜１０２は、電極膜１０５及び電極膜１１１へ電圧印加がなされたとしても、濡れ性は撥水性のまま変化しない。
【００１７】
なお、電極膜１０５や撥水膜１０２は、形成部材１０４の表面全体に成膜されていなくても良い。例えば、形成部材１０４は、形成部材１０４の表面のうち毛細管構造１０８が形成される箇所に、電極膜１０５と、電極膜１０５の外側に撥水膜１０２とを有していれば良い。つまり、電圧印加によって濡れ性が変化することで、液溜め部１１３からの液体が流入する毛細管構造１０８の箇所に、電極膜１０５や撥水膜１０２が成膜されていれば良い。
【００１８】
次に、図２及び図３を用いて、実施の形態に係る空間光変調装置１００のエレクトロウェッティング現象と毛細管現象との動作を説明する。図２は、実施の形態に係る空間光変調装置１００に液体が浸透する前の断面構造例を示す図である。図３は、実施の形態に係る空間光変調装置１００に液体が浸透した後の断面構造例を示す図である。
【００１９】
図２に示すように、空間光変調装置１００では、電圧オフ時（電極膜１０５及び電極膜１１１への電圧印加前）に、形成部材１０４の表面に撥水膜１０２が存在するため、撥水性の効果により毛細管構造１０８内に液体が流入することなく、液溜め部１１３に留まる。空間光変調装置１００では、電圧オフ時の光学特性として、蓋基板１１０からの入射光が形成部材１０４で散乱光となり、透明基板である支持基板１０１から抜ける特性となる。
【００２０】
図３に示すように、空間光変調装置１００では、電圧オン時（電極膜１０５及び電極膜１１１への電圧印加時）に、形成部材１０４の表面の撥水膜１０２の濡れ性が撥水性から親水性に変化し、また、毛細管現象も働いて、液溜め部１１３から毛細管構造１０８へ液体が流入する。空間光変調装置１００では、毛細管構造１０８への液体の流入によって、毛細管構造１０８から抜けた気体は気体排出路１０７を通して放出される。上述したように、空間光変調装置１００では、支持基板１０１と柱状物１０３との表面に、撥水膜１０２が存在する。また、空間光変調装置１００では、支持基板１０１と柱状物１０３とに、電極膜は成膜されていない。これらから、空間光変調装置１００では、電極膜１０５及び電極膜１１１への電圧印加に関わらず、支持基板１０１や柱状物１０３では常に撥水性の効果がもたらされ、毛細管構造１０８へ流入した液体が支持基板１０１や柱状物１０３に張り付かないようになっている。
【００２１】
空間光変調装置１００では、電圧オン時の光学特性として、形成部材１０４と液体との屈折率が近いため、蓋基板１１０からの入射光が形成部材１０４でそのまま透過光となり、透明基板である支持基板１０１から抜ける特性となる。これらの後、空間光変調装置１００では、電圧をオフにした場合に、形成部材１０４の表面の撥水膜１０２の濡れ性が親水性から撥水性に戻り、図２に示したように、液溜め部１１３の位置に液体が戻る。このように、空間光変調装置１００では、電圧印加のオンとオフとが交互に繰り返されることで、空間光変調装置１００内の液体が可逆的な動作をする。
【００２２】
次に、図４Ａ〜図４Ｆを用いて、実施の形態に係る空間光変調装置１００の柱状物１０３の形状について説明する。図４Ａ〜図４Ｆは、実施の形態に係る空間光変調装置１００の柱状物１０３の形状の例を示す図である。
【００２３】
例えば、図４Ａ及び図４Ｂに示すように、柱状物１０３は、四角柱である。また、図４Ａ及び図４Ｂに示したように、柱状物１０３が多角柱である場合は、何れの方向に角を向けて配置されても良い。これは、以降で示す何れの多角柱であっても同様である。例えば、図４Ｃに示すように、柱状物１０３は、三角柱である。例えば、図４Ｄに示すように、柱状物１０３は、五角柱である。例えば、図４Ｅに示すように、柱状物１０３は、六角柱である。例えば、図４Ｆに示すように、柱状物１０３は、楕円柱（円柱）である。
【００２４】
柱状物１０３は、上述した何れの形状であっても良いが、界面張力が働きづらい形状が好ましい。例えば、界面張力が働きづらい形状は、楕円柱であり、好ましくは円柱である。柱状物１０３に撥水剤が塗布される場合は、角がない分、界面張力が働きづらく、より均一な塗布を実現することができる。
【００２５】
次に、図５を用いて、実施の形態に係る空間光変調装置１００の製造工程を説明する。図５は、実施の形態に係る空間光変調装置１００の製造工程の例を示すフローチャートである。なお、図５の説明では、各製造工程のイメージ図（図６Ａ〜図６Ｈ）を適宜用いる。図６Ａ〜図６Ｈは、実施の形態に係る空間光変調装置１００の各製造工程のイメージ図である。
【００２６】
図５に示すように、透明基板である支持基板１０１上には、ポリマー材が均一に塗布される（ステップＳ１０１）。これにより、図６Ａに示すように、空間光変調装置１００の製造工程の一過程では、透明基板である支持基板１０１上に、ポリマー材が均一に塗布された状態となる。そして、ポリマー材が均一に塗布された構造物は、ポリマー材を柱状物１０３としてパターニングするためのフォトレジストが塗布され、露光される（ステップＳ１０２）。これにより、図６Ｂに示すように、空間光変調装置１００の製造工程の一過程では、ポリマー材の所定箇所（柱状物１０３を配置する箇所）にフォトレジストが塗布された状態となる。
【００２７】
ポリマー材を柱状物１０３としてパターニングされた構造物は、薬品によるウェットエッチング又は反応生成ガスによるドライエッチングにより、ポリマー材が加工される（ステップＳ１０３）。これにより、図６Ｃに示すように、空間光変調装置１００の製造工程の一過程では、フォトレジストが塗布されていないポリマー材をエッチングにより除去した状態となる。その後、フォトレジストが塗布されていないポリマー材が除去された構造物は、フォトレジストが剥離される（ステップＳ１０４）。これにより、図６Ｄに示すように、空間光変調装置１００の製造工程の一過程では、フォトレジストが剥離されることにより、支持基板１０１上に、柱状物１０３が配置された状態となる。
【００２８】
そして、支持基板１０１上に柱状物１０３が配置された状態の構造物は、柱状物１０３となったポリマー材が配置された支持基板１０１と、表面に電極膜１０５を有する形成部材１０４により形成された毛細管構造１０８を含む空間光変調基板１０６とが、柱状物１０３となったポリマー材と形成部材１０４とが接するように接合される（ステップＳ１０５）。これにより、図６Ｅに示すように、空間光変調装置１００の製造工程の一過程では、毛細管構造１０８を形成する形成部材１０４と、柱状物１０３となった支持基板１０１上のポリマー材とが接合された状態となる。図７は、実施の形態に係る接合前の空間光変調基板１０６の上面図である。図７に示すように、接合前の空間光変調基板１０６は、形成部材１０４により、複数の毛細管構造１０８が形成されている。
【００２９】
続いて、形成部材１０４と支持基板１０１上の柱状物１０３とが接合された構造物は、空間光変調基板１０６を反応生成ガスによりドライエッチングして貫通させ、毛細管構造１０８や液溜め部１１３が形成される（ステップＳ１０６）。これにより、図６Ｆに示すように、空間光変調装置１００の製造工程の一過程では、空間光変調基板１０６の加工により、液溜め部１１３が形成された状態となる。その後、毛細管構造１０８や液溜め部１１３が形成された構造物は、ディップコーターを用いて、ディップコーディングすることにより全面に撥水膜１０２が形成される（ステップＳ１０７）。例えば、図６Ｇに示すように、空間光変調装置１００の製造工程の一過程では、ディップコーターを用いてディップコーディングする際の基板について、図６Ｆに示した基板を９０度回転させた状態で引き上げられる。ディップコーディングした後の引き上げ速度は、例えば０．１ｍｍ／ｓｅｃ〜１．５ｍｍ／ｓｅｃである。この速度は、成膜する撥水膜１０２の厚さによって変更されれば良い。
【００３０】
そして、ディップコーディングされた構造物は、ディップコーディング後に、ディップコーディングした基板に、電極膜１０５に対向する電極膜１１１や、液溜め部１１３に液体を注入するための注入口１１２を有する蓋基板１１０が接合される（ステップＳ１０８）。これにより、図６Ｈに示すように、空間光変調装置１００の全製造工程が完了する。
【００３１】
上述したように、空間光変調装置１００は、液体の制御により光を変調する機能を実現する機能部２と、機能部２を支持する支持部１と、機能部２とともに液体を溜めておく液溜め部１１３を形成する蓋部３とを有する。また、機能部２は、表面の濡れ性によって液体が移動する毛細管構造１０８を形成する形成部材１０４を有する。形成部材１０４は、毛細管構造１０８が形成される箇所に、電極膜１０５と、電極膜１０５の外側に撥水膜１０２とを有する。また、蓋基板３は、電極膜１０５に対向する電極膜１１１を有する。そして、空間光変調装置１００では、電極膜１０５及び電極膜１１１への電圧印加によって、形成部材１０４の表面に成膜された撥水膜１０２の濡れ性が撥水性から親水性に変化することで、液溜め部１１３から毛細管構造１０８へ液体が流入する。また、支持部１は、表面に撥水膜１０２を有する支持基板１０１と、支持基板１０１上に、表面に撥水膜１０２を有し、形成部材１０４を支持する柱状物１０３とを有する。柱状物１０３は、毛細管構造１０８への液体の流入によって、毛細管構造１０８から抜けた気体を放出する気体排出路１０７を形成する。この結果、空間光変調装置１００は、毛細管構造１０８から出てくる液体が支持基板１０１や柱状物１０３等に触れることで、界面張力で液体が元の位置に戻らなくなることを防ぐことができる。換言すると、空間光変調装置１００は、電極膜１０５及び電極膜１１１への電圧印加に関わらず、撥水膜１０２を有する支持基板１０１や柱状物１０３に液体が張り付かないようになっていることで、光学デバイスの信頼性の低下を抑制することができる。
【００３２】
また、空間光変調装置１００は、柱状物１０３の厚さが毛細管構造１０８の径よりも大きく、毛細管構造１０８に流入した液体が支持基板１０１や柱状物１０３に接触しづらい構造となっているため、光学デバイスの信頼性の低下を抑制することができる。
【００３３】
また、空間光変調装置１００は、支持基板１０１上に柱状物１０３が等間隔で複数配列されるため、薄くてもろい毛細管構造１０８を形成する形成部材１０４と、柱状物１０３との接合を等加重で実現することができ、柱状物１０３にかかる力を分散させることで、壊れにくい毛細管構造１０８を形成することができる。
【００３４】
また、空間光変調装置１００は、支持基板１０１上の柱状物１０３が熱によって柔らかくなるポリマー材で形成されているため、形成部材１０４との接合時に高さが異なる箇所（未接触となる箇所）を吸収し、高さの違いによる接合不良の発生を抑制することができる。
【００３５】
また、空間光変調装置１００は、界面張力が働きづらい形状（例えば、円柱等）である柱状物１０３が採用されているので、撥水剤を柱状物１０３に均一に塗布することができる。
【符号の説明】
【００３６】
１  支持部
２  機能部
３  蓋部
１００  空間光変調装置
１０１  支持基板
１０２  撥水膜
１０３  柱状物
１０４  形成部材
１０５  電極膜
１０６  空間光変調基板
１０７  気体排出路
１０８  毛細管構造
１０９  接合材
１１０  蓋基板
１１１  電極膜
１１２  注入口
１１３  液溜め部
【先行技術文献】
【特許文献】
【００３７】
【特許文献１】特開２０１５−０８４０７１号公報
【図１】
2018124326.tif 000003
【図２】
2018124326.tif 000004
【図３】
2018124326.tif 000005
【図４Ａ】
2018124326.tif 000006
【図４Ｂ】
2018124326.tif 000007
【図４Ｃ】
2018124326.tif 000008
【図４Ｄ】
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【図４Ｅ】
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【図４Ｆ】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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【図６Ｄ】
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【図６Ｅ】
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【図６Ｆ】
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【図６Ｇ】
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【図６Ｈ】
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【図７】
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