(57)【要約】【課題】ＬＦ−ＯＣＴ装置において、参照光学系に配置されるシリンドリカルレンズの調整等を容易にする。【解決手段】ＬＦ−ＯＣＴ装置を、光源からの光を測定光と参照光とに分割する分割手段と、測定光の光路に配置されて測定光の第１のライン像を生成する第１のライン像生成手段と、参照光の光路長を調整する参照光学系に配置されて光路長が調整された参照光の第２のライン像を生成する第２のライン像生成手段と、被検査物を介した生成された第１のライン像と第２のライン像とを同一の結像面上で合波して干渉光を生成する干渉手段と、生成された干渉光を用いて前記被検査物の断層像を生成する断層像生成手段と、より構成する。【選択図】図１
2018187038.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光を測定光と参照光とに分割する分割手段と、
前記測定光の光路に配置されて前記測定光の第１のライン像を生成する第１のライン像生成手段と、
前記参照光の光路長を調整する参照光学系に配置されて前記光路長が調整された参照光の第２のライン像を生成する第２のライン像生成手段と、
被検査物を介した前記生成された第１のライン像と前記第２のライン像とを同一の結像平面上で合波して干渉光を生成する干渉手段と、
前記生成された干渉光を用いて前記被検査物の断層像を生成する断層像生成手段と、を備えることを特徴とする光干渉断層撮像装置。
【請求項２】
前記第１のライン像生成手段に導かれる前記測定光を平行光とする第１のコリメート手段と、
前記分割手段から導かれて前記参照光学系に射出された参照光を平行光とする第２のコリメート手段と、を更に備え、
前記第１のライン像生成手段は前記第１のコリメート手段により平行光とされた前記測定光から前記第１のライン像を生成し、前記第２のライン像生成手段は前記第２のコリメート手段により平行光とされた前記参照光から前記第２のライン像を生成することを特徴とする請求項１に記載の光干渉断層撮像装置。
【請求項３】
前記分割手段はカプラを含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の光干渉断層撮像装置。
【請求項４】
前記参照光は前記カプラから前記参照光学系に光ファイバを介して導かれ、
前記光ファイバは、複数の環状として束ねられた前記光ファイバを駆動することで前記参照光の偏光を調整する偏光調整部を備えることを特徴とする請求項３に記載の光干渉断層撮像装置。
【請求項５】
前記分割手段はビームスプリッタを含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の光干渉断層撮像装置。
【請求項６】
前記参照光学系は、前記ビームスプリッタと前記第２のライン像生成手段との間に配置されて前記参照光の偏光を調整する偏光調整手段を備えることを特徴とする請求項５に記載の光干渉断層撮像装置。
【請求項７】
前記第１のライン像生成手段は、直交する２つの経線方向の曲率が異なる第１のライン像形成レンズを少なくとも備えることを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載の光干渉断層撮像装置。
【請求項８】
前記第２のライン像生成手段は、直交する２つの経線方向の曲率が異なる第２のライン像形成レンズを少なくとも備えることを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項に記載の光干渉断層撮像装置。
【請求項９】
前記被検査物が眼であることを特徴とする請求項１乃至８の何れか１項に記載の光干渉断層撮像装置。
【請求項１０】
前記光源は、波長掃引型の光源であり、
前記断層像生成手段は、前記干渉光から干渉信号を検出するラインセンサを含むことを特徴とする請求項１乃至９の何れか１項に記載の光干渉断層撮像装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被検査物の光干渉断層像を取得する光干渉断層撮像装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、眼科分野において、非侵襲で眼底および前眼部の断層を観察／計測できる光干渉断層撮像法（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｈｅｒｅｎｃｅ  Ｔｏｍｏｇｒａｐｈｙ：ＯＣＴ）を用いた装置（以下ＯＣＴ装置という。）が普及している。ＯＣＴでは、低コヒーレント光（測定光）を被検眼に照射し、被検眼からのその戻り光と参照光とを合波させて得た干渉光を用いて、被検眼の断層に関する情報を得ている。また、この測定光を被検眼の例えば眼底上の所定範囲に走査することで、該所定範囲の３次元断層情報が得られる。当該方法を具現化するＯＣＴ装置は、医療において研究から臨床まで広く使われている。
【０００３】
ＯＣＴは、タイムドメインＯＣＴ、およびフーリエドメインＯＣＴの２種に大別されている。更に、フーリエドメインＯＣＴには、スペクトラルドメインＯＣＴ（ＳＤ−ＯＣＴ）とスウェプトソースＯＣＴ（ＳＳ−ＯＣＴ）とがある。これらフーリエドメインＯＣＴは、広い波長帯域を有する光源からの光を利用し、得られた干渉光を分光して信号取得を行い、取得した信号にフーリエ変換等の処理を施すことで、被検眼の断層の情報を得ている。広帯域光を用いるＳＤ−ＯＣＴでは、分光器により空間的に分光して周波数毎の情報を得ている。波長掃引型光源からの光を用いるＳＳ−ＯＣＴでは、時間的に異なる波長の光を発する光源からの光を用いてこれを時間的に分光して周波数毎の情報を得ている。
【０００４】
例えば測定時間の短縮化を目的として、スポット状の測定光を用いるのではなく線状に成型した測定光を用いて断層情報を得るラインフィールド（Ｌｉｎｅ−Ｆｉｅｌｄ）ＯＣＴ装置（以下ＬＦ−ＯＣＴ装置）が提案されている。ここで、非特許文献１に開示されるＬＦ−ＯＣＴ装置の光学系について、その概略構成を示す図４を参照して簡単に述べる。
【０００５】
該ＬＦ−ＯＣＴ装置の光学系２００において、波長掃引型光源０１から射出された光は、ライン像生成系２０１に導かれる。ライン像生成系２０１において、射出光はコリメータレンズ０２により平行光とされ、続いて配置される第１のシリンドリカルレンズ０３およびレンズ０４によりライン状の像を結ぶ光に成型される。これら構成は、該ライン状の光が所定視度、例えば０ディオプタの被検眼眼底と共役な位置でライン像を形成するように配置される。該ライン状の光は、成型後にビームスプリッタ１２により測定光と参照光に分割される。
【０００６】
測定光は測定光学系２０３に導かれ、被検眼０１０の眼底上でライン像を形成し、反射・散乱されて戻り光として眼底から再びビームスプリッタ１２に戻る。参照光は、参照光学系２０２に導かれる。参照光は、参照光学系２０２のレンズおよび第２のシリンドリカルレンズ０７からなるユニットにより平行光とされ、参照光の光路に配置されたミラーユニット２１等を経て参照ミラー０６に至る。なお、参照光の光路には、参照光の偏光を調整するために、波長板等から構成される偏光調整手段２５も配置される。該平行光は参照ミラー０６で反射された後、この光路を逆に辿る。そして、第２のシリンドリカルレンズ０７等のユニットにより再びライン状の光に成型されてビームスプリッタ１２に導かれる。眼底を経た測定光（戻り光）と参照光学系の光路を経た参照光とは、ビームスプリッタ１２で合波され、ライン状の干渉光とされて検出光学系２０４に導かれる。検出光学系２０４ではそのライン状の干渉光をラインセンサ１１で検出し干渉信号を出力する。この干渉信号に信号処理を施すことによって、被検眼眼底の断層像が取得できる。また、このライン状の測定光を該ラインの延在方向と異なる（例えば垂直な）方向に走査することで、３次元の断層像が取得できる。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】D. J. Fechtig, B. Grajciar, T. Schmoll, C. Blatter, R. M. Werkmeister, W. Drexler, and R. a Leitgeb, “Line-field parallel swept source MHz OCT for structural and functional retinal imaging.,” Biomed. Opt. Express, vol. 6, no. 3, pp. 716-35, Mar. 2015.
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
非特許文献１に開示されるＬＦ−ＯＣＴ装置では、測定光が所定視度の被検眼０１０の眼底上でライン像を形成するように第１のシリンドリカルレンズ０３を配している。そして、該第１のシリンドリカルレンズ０３は、波長掃引型光源０１から射出した光をビームスプリッタ１２で測定光と参照光に分割する前に配置され、ビームスプリッタ１２にはライン像を結ぶ光として導かれる。ビームスプリッタ１２で分割された参照光は、撮影対象である被検眼０１０の眼底に対する測定光の光路長とその光路長が等しくなるように参照光学系２０２により光路長補正される。そして、上述したように、光路長の補正後にビームスプリッタ１２により戻り光と合波されて、干渉光として検出光学系２０４に導かれる。測定光学系２０３および参照光学系２０２は、その際に導かれる干渉光がラインセンサ１１上でライン像を形成するように配置されている。即ち、参照光学系２０２では、参照光が所定視度の被検眼０１０の眼底と共役な位置でライン像を形成する必要がある。
【０００９】
ここで、参照光の光路長補正するためには、第２のシリンドリカルレンズ０７によって参照光を再び平行光とし、光路長補正した後に、再び第２のシリンドリカルレンズ０７によりライン像を結ぶ光に該参照光を成型する必要がある。このように、ＬＦ−ＯＣＴ装置の参照光学系２０２では、参照光が第２のシリンドリカルレンズ０７を往路と復路で２回通過する。このため、該第２のシリンドリカルレンズ０７には、光軸に対する位置や角度の調整における非常に高い取り付け精度が要求される。
【００１０】
本発明は以上の状況に鑑みたものであって、参照光学系に配置されるシリンドリカルレンズの光軸に対する角度等の調整が容易なＬＦ−ＯＣＴ装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するために、本発明の一態様に係る光干渉断層撮像装置は、
光源からの光を測定光と参照光とに分割する分割手段と、
前記測定光の光路に配置されて前記測定光の第１のライン像を生成する第１のライン像生成手段と、
前記参照光の光路長を調整する参照光学系に配置されて前記光路長が調整された参照光の第２のライン像を生成する第２のライン像生成手段と、
被検査物を介した前記生成された第１のライン像と前記第２のライン像とを同一の結像面上で合波して干渉光を生成する干渉手段と、
前記生成された干渉光を用いて前記被検査物の断層像を生成する断層像生成手段と、を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、ＬＦ−ＯＣＴ装置において、参照光学系に配置されるシリンドリカルレンズの光軸に対する角度等の調整が容易となる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施例１における、ライン走査型ＯＣＴ装置（ＬＦ−ＯＣＴ装置）の光学レイアウトを示す図である。
【図２】本発明の実施例１における、ライン走査型ＯＣＴ装置における機能構成を示すブロック図である。
【図３】本発明の実施例２における、ライン走査型ＯＣＴ装置の光学レイアウトを示す図である。
【図４】従来のライン走査型ＯＣＴ装置の光学レイアウトを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明を実施するための例示的な実施例を、図面を参照して説明する。ただし、以下の実施例で説明される寸法、材料、形状、および構成要素の相対的な位置等は任意であり、本発明が適用される装置の構成又は様々な条件に応じて変更できる。また、図面において、同一であるか又は機能的に類似している要素を示すために図面間で同じ参照符号を用いる。
【００１５】
（実施例１）
図１および図２を参照して、本発明の実施例１によるＯＣＴ装置について説明する。本実施例では、参照光学系に配置されるシリンドリカルレンズを、参照光が１回通過する態様のＬＦ−ＯＣＴ装置について述べる。参照光学系のシリンドリカルレンズを参照光が１回通過するシンプルな構成とすることで、光軸に対する取り付け時の位置および回転の調整が容易となる。更に、取り付け精度における許容幅が大きくなることによって、該シリンドリカルレンズの部品精度を下げることが可能となることも期待できる。なお、以下の説明において、該ＬＦ−ＯＣＴ装置による検査対象となる被検査物として、被検眼の眼底を例として説明する。
【００１６】
上述したように、従来のＬＦ−ＯＣＴ装置では、光を分割して測定光と参照光を生成する前にライン像を生成し、ライン状の光を測定光と参照光とに分割した後に、各々を測定光路と参照光路とに導くこととしている。これに対して、本実施例１（および後述する実施例２）では、光源からの光を参照光と測定光とにまず分割し、各々個別にライン像を形成するように成型した後、仮想の同一結像面上にてライン像を結んで干渉するように各光学部材を配置している。このような構成とすることにより、本発明では参照光学系に配置されるシリンドリカルレンズの光軸に対する角度等の調整を容易としている。以下、実施例１の詳細について述べる。
【００１７】
（光学構成）
図１は、本実施例に係るＬＦ−ＯＣＴ装置におけるＯＣＴ光学系１００における光学要素等とそのレイアウトとを模式的に示している。該ＯＣＴ光学系１００は、光源００１、ライン像生成系１０１、参照光学系１０２、測定光学系１０３、検出光学系１０４、およびビームスプリッタ０１２を主たる構成として有する。
【００１８】
光源００１は波長掃引型（Ｓｗｅｐｔ  Ｓｏｕｒｅ：以下ＳＳ）光源であり、例えば掃引中心波長１０５０ｎｍ、掃引幅１００ｎｍで波長を掃引しながら光を射出する。光源００１から射出された光は、カプラ００２によって、所望の分割比の下、測定光と参照光とに分割される。カプラ００２により分割された測定光および参照光は、各々光ファイバによりライン像生成系１０１および参照光学系１０２に導かれる。
【００１９】
ライン像生成系１０１は、測定光の光ファイバの射出端より順に配置される第１のコリメータレンズ０１３、第１のシリンドリカルレンズ００３およびレンズ０１４を有する。ライン像生成系１０１へ導かれた測定光は、第１のコリメータレンズ０１３により平行光となり、第１のシリンドリカルレンズ００３およびレンズ０１４とによって、仮想の第１の結像平面０１５上にライン像を形成する。ライン像を結ぶ光とされた測定光は、ビームスプリッタ０１２を通過して測定光学系１０３へ導かれる。
【００２０】
測定光学系１０３は、ビームスプリッタ０１２より順に配置されるレンズ０１６、フォーカスレンズ００８、ガルバノメトリックミラー００９および対物レンズユニット０１７を有する。本実施例において、ガルバノメトリックミラー００９は、被検眼０１０の前眼部と略共役な位置に配置された角度可変ミラーより構成される。また、本実施例において、対物レンズユニット０１７は２つのレンズより構成され、測定光を被検眼０１０へ導き、眼底上にライン像を形成する。
【００２１】
フォーカスレンズ００８は後述するフォーカス駆動手段０８１（図２参照）により光軸に沿って移動可能であり、結像平面０１５と被検眼０１０の眼底とが光学的に共役になるように、光軸上で移動される。また、眼底上に導かれた測定光によるライン像は、ガルバノメトリックミラー００９の角度を変えることにより、延在方向とは異なる（本実施例では垂直）方向に眼底上で走査される。
【００２２】
被検眼０１０の眼底で反射散乱した測定光は、戻り光として測定光学系１０３を逆に辿り再びビームスプリッタ０１２に入射する。該戻り光はビームスプリッタ０１２によって反射され、検出光学系１０４へ導かれる。その際、該戻り光は、仮想の第２の結像平面０１８上に、ライン像を形成する。検出光学系１０４における第２の結像平面０１８は、被検眼０１０の眼底および第１の結像平面０１５と光学的に共役となっており、更に検出用レンズ群０１９を介して配置されるラインセンサ０１１の受光面とも共役となっている。このため、眼底上のライン像から反射散乱された測定光はライン像としてラインセンサ０１１へと達することになる。
【００２３】
カプラ００２により得られた参照光は、光ファイバを介して参照光学系１０２へ導かれる。該参照光学系１０２は、光ファイバの射出端より順に配された、第２のコリメータレンズ０２０、ＮＤフィルター００５、ミラーユニット０２１、参照ミラー００６、第２のシリンドリカルレンズ００７を有する。なお、光ファイバには複数の環状に束ねた偏光調整用パドル００４が配されており、該偏光調整用パドル００４を駆動する後述する偏光調整駆動手段０４１がこれに付随している。偏光調整駆動手段０４１によって偏光調整用パドル００４の環状部分の捩れ等を調節することにより、参照光の偏光状態が変えられる。このように該偏光調整用パドル００４等が設けられることにより、測定光と参照光との干渉状態が良くなるように、測定光の偏光状態に対する参照光の偏光状態を調整できる。
【００２４】
偏光調整されて光ファイバの射出端より射出された参照光は、第２のコリメータレンズ０２０により平行光とされ、更にＮＤフィルター００５を通過することで所定光量に減衰される。減衰後、該参照光はミラーユニット０２１を経て参照ミラー００６に至る。参照ミラー００６は本実施例でレトロリフレクタの態様で構成され、図中矢印で示す光軸方向に移動可能とされている。該レトロリフレクタが光軸方向に移動することで、測定光学系１０３における測定光の光路長と参照光の光路長との差を補正することができる。
【００２５】
該レトロリフレクタで折り返された参照光は、ミラーユニット０２１を経て第２のシリンドリカルレンズ００７に導かれる。該第２のシリンドリカルレンズ００７は、付随するレンズとからライン像形成レンズ系を構成する。参照光は該ライン像形成レンズ系を経た後、ビームスプリッタ０１２を透過して、第２の結像平面０１８上にライン像を形成する。
【００２６】
参照光学系を経た参照光と眼底に照射された測定光の戻り光とがビームスプリッタ０１２により合波され、第２の結像平面０１８上では参照光と測定光（戻り光）の各々のライン像が干渉する。その干渉したライン像は検出光学系１０４内において検出用レンズ群０１９を経て、ラインセンサ０１１で受光される。該ラインセンサ０１１は、受光結果に応じた干渉信号を検出し、出力する。当該信号は後述する信号処理部１１５等により処理され、眼底の断層画像が生成される。
【００２７】
（機能構成）
次に、図２を参照して本実施例に係るＬＦ−ＯＣＴ装置について説明する。該ＬＦ−ＯＣＴ装置３００は、上述したＯＣＴ光学系１００、サンプリング部１１３、メモリ１１４、信号処理部１１５、操作入力部１１６、モニタ１１７および制御部１１８を有する。制御部１１８は、上述した光源００１およびラインセンサ０１１、並びにサンプリング部１１３、メモリ１１４、信号処理部１１５、操作入力部１１６およびモニタ１１７に接続される。
【００２８】
また、制御部１１８は、ＯＣＴ光学系に配される偏光調整駆動手段０４１、リフレクタ駆動手段０６１、ガルバノ駆動手段０９１およびフォーカス駆動手段０８１等に接続される。偏光調整駆動手段０４１は、上述したように偏光調整用パドル００４を駆動して参照光の偏光を調整する。リフレクタ駆動手段０６１はレトロリフレクタ（参照ミラー００６）を光軸方向に駆動させ、参照光の光路長を調整する。ガルバノ駆動手段０９１はガルバノメトリックミラー００９の角度調整を行い、これによりライン状の測定光を眼底にて走査する。フォーカス駆動手段０８１は上述したようにフォーカスレンズ００８を光軸方向に移動させ、ライン状の測定光を眼底に合焦させる。なお、これら駆動手段は、例えばステップモータ等の公知の駆動系より構築されることからここでの説明は省略する。
【００２９】
列状に配置された複数の受光素子からなるラインセンサ０１１における受光素子は、例えば眼底像を表示する表示画面において、眼底におけるライン状の測定光の延在方向に並ぶ各画素と対応する。従って、ガルバノ駆動手段０９１が指定した測定光の照射位置に対応する画素毎に、光源００１の１回の波長掃引に対応してサンプリング部１１３が干渉信号をサンプリングすることとなる。１回の波長掃引に伴う干渉信号のサンプリング終了後、ガルバノメトリックミラー００９が駆動されて測定光の照射位置が該ライン状の測定光の延在方向とは垂直な方向に一画素分移動し、当該位置にて再度干渉信号のサンプリングが行われる。以降はこの繰り返しで、例えばモニタ１１７の表示画面上の各画素に応じた干渉信号が次々にサンプリングされる。
【００３０】
サンプリング部１１３によりサンプリングされた干渉信号は、メモリ１１４にガルバノメトリックミラー００９の駆動位置と関連付けて記憶される。メモリ１１４に記憶された干渉信号は、信号処理部１１５により、周波数解析され、画素毎で深さ方向の断層像データが生成される。そして、これら断層像データをまとめて被検眼０１０の眼底の３次元断層像が生成され、操作者の指示等に応じた画像が構成されてモニタ１１７に表示される。３次元の断層像表示、任意の切断線に沿った断層像の表示、３次元断層像データに基づいて生成された平面像等表示すべき画像の指示、或いはサンプリング条件の変更等は、例えばＧＵＩやキーボード、マウス等からなる操作入力部１１６を介して行われる。制御部１１８は、表示制御手段として、入力された指示に応じて生成した画像を表示手段であるモニタ１１７に表示させる。
【００３１】
なお、制御部１１８は汎用のコンピュータを用いて構成することができるが、専用のコンピュータより構成してもよい。また、モニタ１１７は制御部１１８と別体として示しているが、これらは単一の構成としてもよい。即ち、図２にて各々別体として示した各構成は、一部又は全体が一体として構成されてもよい。また、各々の構成は有線により接続されているがこれを一部或いは全部を無線にて接続することとしてもよい。
【００３２】
以上に述べたように、本実施例では、光源００１から発せられた光を、ライン状に成型する前にまず参照光と測定光とに分割し、測定光は測定光路にて被検眼０１０に至る前に、参照光は参照光路長の調整が終わった後に各々ライン状に成型している。このような態様とすることにより、参照光学系１０２に配置された第２のシリンドリカルレンズ００７に対し、参照光は１回通過するだけのシンプルな構成とすることができている。このため、該第２のシリンドリカルレンズ００７に求められる部品精度、およびその取り付けの際の光軸に対する位置および回転の精度を下げることができる。従って、実際に装置を構築する際に、該第２のシリンドリカルレンズ００７の取り付け時の調整が容易となる。
【００３３】
また、干渉信号を得るためには、好適には戻り光と参照光学系を経た参照光との偏光状態を一致させることが望ましい。この場合、測定光或いは戻り光とは別個に、参照光の偏光状態を調整することが望ましい。本実施例によれば、参照光が参照光学系１０２において空間光とされる前段階で偏光調整用パドル００４が設けられている。このため、波長板等を多数配置して各々の角度調整等をすることなく、且つ測定光とは独立して偏光調整が可能となる。従って、例えば非特許文献１に開示されるＯＣＴ装置のように、参照光の光路を往路と復路とで分離してその何れかに波長板を配置する場合と比較して、シンプルな構成で偏光調整を行うことができる。その結果、測定光と参照光との適切な干渉状態が容易に得られ、良好な断層像を得ることができる。また、測定光と参照光との偏光調整も、個別且つ容易に行うことができる。
【００３４】
本実施例において、光源００１からの光は、分割手段の一例であるカプラ００２によって測定光と参照光とに分割される。第１のライン像生成手段の一例である第１のシリンドリカルレンズ００３は、測定光の光路に配置されて該測定光の第１のライン像を第１の結像平面０１５上で生成する。また、第２のライン像生成手段の一例である第２のシリンドリカルレンズ００７は、参照光の光路長を調整する参照光学系１０２に配置されて、該参照光が参照ミラー００６を経て参照光路長が調整された後の参照光により、第２のライン像を生成する。なお、これらシリンドリカルレンズはライン像生成手段の一例であって、同様のライン像が得られれば同じ機能を有する他の光学部材により代替可能である。
【００３５】
被検眼眼底を介して生成された第１のライン像と第２のライン像とは、干渉手段の一例であるビームスプリッタ０１２によって、同一の結像平面となる第２の結像平面０１８上でライン像として合波して干渉光を生成する。サンプリング部１１３、信号処理部１１５、制御部１１８等は、以上より生成された干渉光を用いて眼底の断層像を生成する断層像生成手段を構成する。これら構成により、本実施例に示した光干渉断層撮像装置（ＬＦ−ＯＣＴ装置）が構築される。なお、ビームスプリッタ０１２は第１のライン像と第２のライン像とを同一結像平面上で合波、干渉させる干渉手段の一例であって、２つのライン像を同一結像平面上で結像、干渉させることが可能であれば公知の光学部材により代替可能である。また、測定光学系１０３と参照光学系１０２のビームスプリッタ０１２に関する反射方向および透過方向の配置は、実施例の逆の配置としてもよい。
【００３６】
ここで、該ＬＦ−ＯＣＴ装置にあっては、該第１のライン像生成手段に導かれる測定光を平行光とする第１のコリメート手段の一例として、第１のコリメータレンズ０１３が配される。また、カプラ００２から導かれて参照光学系１０２に射出された参照光を平行光とする第２のコリメート手段の一例として、第２のコリメータレンズ０２０が配される。そして、第１のシリンドリカルレンズ００３および第２のシリンドリカルレンズ００７は、各々平行光から第１のライン像および第２のライン像を生成する。なお、これらコリメータレンズはコリメート手段の一例であって、同様の平行光が得られれば、同じ機能を有する光学部材により代替可能である。
【００３７】
上述したように、本実施例では分割手段としてカプラ００２を含み、該参照光はカプラ００２から参照光学系１０２に光ファイバを介して導かれる。その際、該光ファイバは複数の環状として束ねられて、この環状の部分の捩れが調整される等、駆動されることで参照光の偏光を調整する。この光ファイバの環状部は、これを駆動する偏光調整駆動手段０４１により偏光調整部の一例として機能する。参照光は被検眼０１０を経た測定光の戻り光と合波されるが、その際に好適な干渉状態を得るためには戻り光と参照光との偏光が一致していることが望ましい。本実施例では参照光をライン状等に成型する前にこの偏光調整が行われる位置に該偏光調整部を配置することにより、容易且つ適切に参照光の偏光を調整することができる。
【００３８】
（実施例２）
次に、図３を参照して、本発明の実施例２によるＬＦ−ＯＣＴ装置について説明する。上述した実施例１では、光源００１より射出された光は光ファイバによってカプラ００２に導かれ、参照光および測定光も該カプラ００２から光ファイバによって各々参照光学系１０２および測定光学系１０３に導かれている。これに対し、実施例２では光源００１からの光を空間光として分割し、対応する光学系に導くこととしている。なお、図３において、実施例１と同じ構成要素に関しては同じ参照番号を用いることとし、ここでの説明は省略する。
【００３９】
以下、実施例１との具体的な相違点について述べる。実施例１では、光源００１からの射出光をカプラ００２によって、測定光と参照光に分割した。しかし、実施例２では、光源００１からの射出光を光源部コリメータレンズ０２２により平行光とし、ビームスプリッタ０２３によって、測定光と参照光とに分割している。なお、ビームスプリッタ０２３による分割比は、カプラ００２の場合と同様の所望の値とされている。また、以下ではビームスプリッタ０２３により反射された光を測定光とし、透過された光を参照光としているが、逆に反射された光を参照光とし且つ透過された光を測定光としてもよい。
【００４０】
本実施例では、該平行光においてビームスプリッタ０１２による反射で分割された光は、測定光とされる。該測定光は、ライン像生成系１０１’へ導かれ、実施例１の場合と同様に配置される第１のシリンドリカルレンズ００３およびレンズ０１４によって、第１の結像平面０１５上にライン像を形成する。ライン状とされた測定光は、ビームスプリッタ０１２を通過して測定光学系１０３へ導かれる。測定光学系１０３は実施例１のものと同じ構成からなる。
【００４１】
一方、該平行光においてビームスプリッタ０１２による透過で分割された光は、参照光とされる。該参照光は、ミラー０２４により参照光学系１０２’へ導かれる。参照光学系１０２’には複数の波長板などで構成される偏光調整手段０２５が配置されており、ミラー０２４により参照光学系１０２’に導かれた参照光は該偏光調整手段０２５によって偏光調整される。変更調整後、参照光はミラー０２６により、ＮＤフィルター００５に導かれる。ＮＤフィルター００５以降に配置される構成については、実施例１における参照光学系１０２のものと同じ構成からなる。
【００４２】
測定光学系１０３により眼底を経た戻り光と、参照光学系１０２’を経た参照光とは、実施例１の場合と同様に第２の結像平面０１８上で合波され、干渉したライン像を生成する。該干渉したライン像が、ラインセンサ０１１で受光され、該ラインセンサ０１１は受光結果に応じた信号を出力する。以降、実施例１と同様に、図２のブロック図に示された構成要素等により、被検眼０１０の眼底の断層像を得ることができる。
【００４３】
例えば、ライン状に成型した光を参照光と測定光とに分割し、その後に参照光の偏光調整を行なおうとした場合も、偏光調整手段は参照光学系に配置される。この場合、第２のシリンドリカルレンズと同様に、偏光調整手段においても参照光は往路と復路とで２回通過することとなるため、高い取り付け精度等が求められる。ここで、２回通過の状態での適切な偏光調整は容易ではないため、実際には往路と復路とで光路を異ならせ、往路又は復路の何れかで１回のみ通過する態様とする等の対応が考えられる。本実施例では、偏光調整手段０２５は参照光を参照光学系１０２’に導いた段階で通過させることとしている。従って、このような光路上留意することが無くなり、このような配置上の課題も生じなくなる。
【００４４】
本実施例では、分割手段はビームスプリッタ０２３を含む。そして、参照光学系１０２’は、ビームスプリッタ０２３と第２のシリンドリカルレンズ００７との間に配置されて該参照光の偏光を調整する偏光調整手段０２５を備える。本実施例において偏光調整手段０２５は、参照光学系１０２’の最初に参照光が通過する位置に配置されている。しかし、参照光学系１０２’内の参照光の光路上であって、ビームスプリッタ０２３と第２のシリンドリカルレンズ００７の間の任意の位置に配置することができる。
【００４５】
以上に述べた実施例において、第１のライン像生成手段はシリンドリカルレンズより構成され、該シリンドリカルレンズは直交する２つの経線方向の曲率が異なる第１のライン像形成レンズとして定義できる。また、第２のライン像生成手段も同様にシリンドリカルレンズより構成され、該シリンドリカルレンズは直交する２つの経線方向の曲率が異なる第２のライン像形成レンズとして定義できる。なお、ライン像生成手段としては、単一のシリンドリカルレンズから構成されるものに限られず、少なくとも１つのシリンドリカルレンズを有して、ライン像を形成するものであればよい。
【００４６】
上述した実施例１および実施例２では、眼底の断層像および３次元断層像を撮像或いは計測する装置を例にとって説明した。しかし、検査対象となる被検査物は被検眼眼底に限らず、例えば被検眼の前眼部であってもよい。該前眼部の断層像および３次元断層像を撮像或いは計測する装置に応用しても、本発明の効果が得られることは明白である。また、被検査物として眼以外の皮膚や臓器等に本発明を適用することも可能である。この場合、本発明は例えば内視鏡等の医療機器より得られるデータに基づいて画像を撮影する光干渉断層撮像装置としての態様を有する。
【００４７】
また、上述した実施例１および実施例２では、光源に波長掃引型（ＳＳ）光源を用い、該光源からの光をライン状に成型した後に被検眼に投影し、被検眼で反射散乱した測定光とライン状の参照光を干渉させている。そして、ラインセンサで該干渉光より干渉信号を得て、これに信号処理を施すことで被検眼の断層像を取得している。しかし光源の態様はこれに限定されず、光源に５０ｎｍ〜１００ｎｍ程度の波長域の光を射出するスーパールミネッセンスダイオード（ＳＬＤ）を用いてもよい。この場合、ライン状の干渉光を分光器で波長分解し、検出器として２次元エリアセンサーで分解後の干渉光を波長毎に検出し、信号処理することで被検眼の断層像および３次元断層像を取得できる。
【００４８】
以上、実施例を参照して本発明について説明したが、本発明は上述した実施例に限定されるものではない。例えばミラー、或いはミラーユニット等は光学系に許容されるスペース等に鑑みて適宜変更されるべきである。即ち、本発明の趣旨に反しない範囲で変更された発明、および本発明と均等な発明も本発明に含まれる。また、上述した各実施例は、本発明の趣旨に反しない範囲で適宜組み合わせることができる。
【符号の説明】
【００４９】
００１：光源、  ００２：カプラ、  ００３：第１のシリンドリカルレンズ、  ００７：第２のシリンドリカルレンズ、  ０１２：ビームスプリッタ、  ０１３：コリメータレンズ、  ０２０：第２のコリメータレンズ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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