(57)【要約】【課題】本発明は、アンチグレア処理を施された面の一部分にアンチグレア処理が施されていない非アンチグレア領域を有し、防汚効果の優れたアンチグレアガラス基板を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、第１の主面と、前記第１の主面に対向する第２の主面とを有するガラス基板であり、前記第１の主面の表面にアンチグレア処理が施され、さらに防汚膜であるフッ素含有有機ケイ素化合物被膜が積層されたアンチグレアガラス基板であって、前記第１の主面の一部に前記アンチグレア処理が施されていない非アンチグレア処理部分を有し、前記非アンチグレア処理部分の表面粗さＲａが１０ｎｍ未満であり、前記アンチグレア処理が施されたアンチグレア処理部分と非アンチグレア処理部分とのガラス基板の板厚方向における高さの差が１０μｍ以上２００μｍ以下である、アンチグレアガラス基板に関する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の主面と、前記第１の主面に対向する第２の主面とを有するガラス基板であり、前記第１の主面の表面にアンチグレア処理が施され、さらに防汚膜であるフッ素含有有機ケイ素化合物被膜が積層されたアンチグレアガラス基板であって、前記第１の主面の一部に前記アンチグレア処理が施されていない非アンチグレア処理部分を有し、前記非アンチグレア処理部分の表面粗さＲａが１０ｎｍ未満であり、前記アンチグレア処理が施されたアンチグレア処理部分と非アンチグレア処理部分とのガラス基板の板厚方向における高さの差が１０μｍ以上２００μｍ以下である、アンチグレアガラス基板。
【請求項２】
前記アンチグレア処理部分における可視光領域の透過光のヘイズ率が２％以上３０％以下である請求項１に記載のアンチグレアガラス基板。
【請求項３】
前記非アンチグレア処理部分の表面粗さＲａが５ｎｍ以下である請求項１または２に記載のアンチグレアガラス基板。
【請求項４】
ガラス基板の板厚方向における高さが、前記アンチグレア処理部分よりも前記非アンチグレア処理部分が大きい請求項１乃至３の何れか一項に記載のアンチグレアガラス基板。
【請求項５】
ガラス基板の板厚方向における高さが、前記アンチグレア処理部分よりも前記非アンチグレア処理部分が小さい請求項１乃至３の何れか一項に記載のアンチグレアガラス基板。
【請求項６】
前記非アンチグレア処理部分と勾配部位が錐台形状をなしており、ガラス基板の板厚方向の断面形状において、前記錐台形状の側面とガラス基板の前記第１の主面とのなす角度Ｘが、９０°＜Ｘ≦１５０°である請求項１乃至５の何れか一項に記載のアンチグレアガラス基板。
【請求項７】
前記第１の主面の表面に低反射膜、フッ素含有有機ケイ素化合物被膜の順に積層されている請求項１乃至６何れか一項に記載のアンチグレアガラス基板。
【請求項８】
前記ガラス基板は、アルミノシリケートガラスである請求項１乃至７の何れか一項に記載のアンチグレアガラス基板。
【請求項９】
前記ガラス基板は、化学強化ガラスである請求項１乃至８の何れか一項に記載のアンチグレアガラス基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アンチグレア性が付与されたガラス基板、すなわち、アンチグレアガラス基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、例えば、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）装置等の表示装置の表示面側には、該表示装置の保護のため、透明基体で構成されたカバーが配置される。この透明基体には外観上の観点からガラス基板が用いられることが多い。しかしながら、表示装置上にこのようなガラス基板を設置した場合、ガラス基板を介して表示装置の表示画を視認しようとした際に、しばしば、周辺に置かれているものの映り込みが発生する場合がある。ガラス基板にそのような映り込みが生じると、表示画の視認者は、表示画を視認することが難しくなる上、不快な印象を受けるようになる。
【０００３】
そこで、このような映り込みを抑制するため、例えば、ガラス基板の表面に、凹凸形状を形成するアンチグレア処理を施すことが試みられている。
また、このような表示装置においては、カバーをなすガラス基板表面に人の指等が触れる機会が多く、人の指等が触れた場合に、ガラス基板表面に脂等が付着し易い。そして、脂等が付着した場合には視認性に影響を及ぼすことから、アンチグレア処理が施されたガラス基板の表面に防汚処理が施されたものが用いられている。
【０００４】
アンチグレア処理には、例えば、ガラス基板表面をエッチングする（例えば、特許文献１参照。）、ガラス基板表面に凹凸形状を有する膜を形成する（例えば、特許文献２参照。）等の手段が記載されている。
【０００５】
ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）装置等が普及する中、新たな機能が要求されつつある。例えば、自動車や電車などの運転手の居眠り対策として運転者の状態をカメラで監視するシステムなどがインストルメントパネル、特に運転者の前に設置されるメーター等を収納するクラスター等に搭載されることがあり、その場合、カバーとなるガラス基板のうち、カメラ視野に当たる部分にはアンチグレア処理が施されていないことが必要となってきた。
【０００６】
このようなアンチグレア処理が施された領域と施されていない領域とを備えたガラス基板に防汚処理を施した場合、これらの領域の境界に防汚剤が凝集し、十分な効果が得られないといった問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】国際公開第２０１４／１１９４５３号
【特許文献２】米国特許第８００３１９４号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
アンチグレア処理を施された面の一部分にアンチグレア処理が施されていない非アンチグレア領域を有し、防汚効果の優れたアンチグレアガラス基板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一形態に係るアンチグレアガラス基板は、第１の主面と、前記第１の主面に対向する第２の主面とを有するガラス基板であり、前記第１の主面の表面にアンチグレア処理が施され、さらに防汚膜であるフッ素含有有機ケイ素化合物被膜が積層されたアンチグレアガラス基板であって、前記第１の主面の一部に前記アンチグレア処理が施されていない非アンチグレア処理部分を有し、前記非アンチグレア処理部分の表面粗さＲａが１０ｎｍ未満であり、前記アンチグレア処理が施されたアンチグレア処理部分と非アンチグレア処理部分との、ガラス基板の板厚方向における高さの差が１０μｍ以上２００μｍ以下であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、防汚剤が凝集することがなく、防汚性に優れた、非アンチグレア処理部分を有するアンチグレアガラス基板を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、本発明の一実施形態のアンチグレアガラス基板を模式的に表した斜視図である。
【図２】図２は、図１におけるＡ−Ａ´線に沿って切断した断面図である。
【図３】図３は、本発明の別の実施形態のアンチグレアガラス基板を模式的に表した斜視図である。
【図４】図４は、図３におけるＢ−Ｂ´線に沿って切断した断面図である。
【図５】図５は、本発明のさらに別の実施形態のアンチグレアガラス基板を模式的に表した斜視図である。
【図６】図６は、図５におけるＣ−Ｃ´線に沿って切断した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明するが、本発明は、下記の実施形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、下記の実施形態に種々の変形および置換を加えられる。
【００１３】
［第１の実施形態］
本実施形態のアンチグレアガラス基板について図１を用いて説明する。図１は本実施形態のアンチグレアガラス基板を模式的に表した斜視図である。図１に示すアンチグレアガラス基板１０は、ガラス基板１１の第１の主面にアンチグレア処理が施された構成である。図１に示すガラス基板１１において、上面が第１の主面、第１の主面に対向する下面が第２の主面である。本実施形態のアンチグレアガラス基板１０は、ガラス基板１１の第１の主面の表面にアンチグレア処理が施されたアンチグレア処理部分２０と、ガラス基板１１の第１の主面の表面にアンチグレア処理が施されていない非アンチグレア処理部分３０とを備えている。また、ガラス基板１１の第１の主面上には防汚膜１２が設けられている。
本実施形態では、ガラス基板１１の第１の主面に表面処理を施して、凹凸形状を形成することで、アンチグレアガラス基板１０のアンチグレア処理部分２０を形成する。上記の目的で実施する表面処理方法は特に限定されず、ガラス基板の主面に表面処理を施して、所望の凹凸形状を形成する方法を利用でき、一般的にはエッチングが用いられる。
【００１４】
本実施形態のアンチグレアガラス基板１０において、アンチグレア処理部分２０は、ガラス基板１１の第１の主面に表面処理を施して凹凸形状を形成することで、非アンチグレア処理部分３０よりもヘイズ率が高くなっている。アンチグレア処理部分２０のヘイズ率は、例えば、可視光領域の透過光のヘイズ率が０．５％〜７０％である。一方、非アンチグレア処理部分３０は、例えば、可視光領域の透過光のヘイズ率が０．５％未満である。非アンチグレア処理部分３０には前記したような表面処理による凹凸は形成されていない。以下、本明細書において、ヘイズ率と記載した場合、可視光領域の透過光のヘイズ率を指す。なお、ヘイズ率は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１３６（２０００年）に基づいて測定できる。
【００１５】
アンチグレア処理部分２０のヘイズ率が上記範囲にあることにより、本実施形態のアンチグレアガラス基板が十分な防眩特性を有し、表示装置等のカバー部材やタッチパネルと一体化した基板としてより好ましく利用できる。また、アンチグレア処理部分２０のヘイズ率は２％以上３０％以下が好ましい。ヘイズ率が２％以上であれば、光の映りこみを、アンチグレア処理が施されていない基板に比べて目視で確認して有意に抑制できる。ヘイズ率が３０％以下であると光の乱反射を抑制でき、表示装置のカバー部材やタッチパネルと一体化した基板として用いた場合に、表示装置の表示の視認性を十分に確保できる。ヘイズ率は、２％以上２８％以下がより好ましく、５％以上２６％以下がさらに好ましい。
上述した効果を奏するためには、ガラス基板１１の第１の主面の表面に占める非アンチグレア処理部分３０の面積比が２０％以下であることが好ましく、１５％以下がより好ましく、１０％以下がさらに好ましい。
【００１６】
図２は、図１におけるＡ−Ａ´線に沿って切断した断面図である。図２に示すように、本実施形態において、ガラス基板１１の板厚方向における高さに着目した場合、アンチグレア処理部分２０よりも非アンチグレア処理部分３０のほうが高く、凸となっている。
本実施形態において、アンチグレア処理部分２０と、非アンチグレア処理部分３０とのガラス基板１１の板厚方向における高さの差ｈが１０μｍ以上２００μｍ以下である。なお、本明細書において、アンチグレア処理部分２０と、非アンチグレア処理部分３０とのガラス基板の板厚方向における高さの差ｈとは、ガラス基板１１の第１の主面上に防汚膜１２が設けられた状態での両者の高さの差である。高さの差ｈが１０μｍ未満の場合は、アンチグレア処理部分２０と非アンチグレア処理部分３０との境界において高さが不十分であり、アンチグレア処理部分２０と非アンチグレア処理部分３０との接続領域における角度が緩やかとなる。このため、アンチグレアガラス基板１０の上面視において境界領域の外観が、その他のアンチグレア処理部分２０及び非アンチグレア処理部分３０と異なるように見え、汚れのような白曇りが視認されることがある。この白曇りは、アンチグレア処理が短時間であるが故に、アンチグレア処理に使用した薬剤とガラス基板１１との反応が不均質となり生じうる。この接続領域に、さらに防汚剤を塗布すると防汚剤と接続領域との反応性の不均質のため、防汚剤の凝集が発生することがある。防汚剤が凝集すると接続領域において防汚剤の疎水基同士が結合してしまい、防汚剤として十分に機能しなくなる恐れがある。加えて、防汚剤が凝集することによる外観の低下も懸念される。高さの差ｈを１０μｍ以上とすることで上記の問題を回避できる。但し、高さの差ｈが２００μｍ超だと、指で触った時のさわり心地が悪い、境界が目立つため外観が悪くなる等の問題が生じる。高さの差ｈは１０μｍ以上１００μｍ以下が好ましい。
【００１７】
アンチグレア処理部分２０と、非アンチグレア処理部分３０とのガラス基板の板厚方向における高さの差ｈは、例えば、株式会社キーエンス製レーザ顕微鏡ＶＫ−Ｘを使用して求められる。前記レーザ顕微鏡を使用して、アンチグレアガラス基板１０のうち、アンチグレア処理部分２０と、非アンチグレア処理部分３０とを含むように、高さマッピングデータを取得し、このデータについて傾き補正を実施する。この傾き補正後の高さマッピングデータから、非アンチグレア処理部分３０の平均高さを求め、続いて、非アンチグレア処理部分３０の端面から１ｍｍ離れたアンチグレア処理部分２０において平均高さを求め、最終的に、これらの平均高さの差分を求め、高さの差ｈを求められる。なお、高さの差ｈはこれに限定されず、触針式計測器なども使用できる。実施形態における高さｈの算出については以降同様である。
【００１８】
また、図２に示すように、非アンチグレア処理部分３０は、ガラス基板１１の板厚方向における断面形状は、第１の主面側である底辺に比べて、最表面側である上辺が短い台形形状をなしている。非アンチグレア処理部分３０と勾配部位は錐台形状をなしている。勾配部位とはアンチグレア処理部分２０と平滑部分（非アンチグレア処理部分３０）に挟まれた領域である。この錐台形状の側面とガラス基板１１の第１の主面とのなす角度Ｘは９０°＜Ｘ≦１５０°が好ましい。これにより防汚剤の凝集を抑制できる。加えて、９０°＜Ｘであると指で触れた場合の違和感が少なくさわり心地が良く、Ｘ≦１５０°であると、非アンチグレア処理部分３０の周囲の段差が目立ちにくいため好ましい。角度Ｘは、９０°＜Ｘ≦１４０°がより好ましく、１００°≦Ｘ≦１４０°がより好ましく、１２０°≦Ｘ≦１４０°がさらに好ましい。角度Ｘは、実施例において後述するように、アンチグレア処理部分と平滑部分に挟まれた領域を勾配部位と定義し、その長さＹを測定してｈ／Ｙ＝ｔａｎ（Ｘ／１８０×π）となるＸを計算することにより算出できる。
【００１９】
なお、本実施形態において、ガラス基板１１の第１の主面と防汚膜１２との間に必要に応じて各種機能膜（図示せず）が設けられていてもよい。その場合は、アンチグレア処理部分２０と、非アンチグレア処理部分３０とのガラス基板の板厚方向における高さの差ｈは、ガラス基板１１の第１の主面上に各種機能膜と防汚膜１２が設けられた状態での両者の高さの差である。
このような機能膜としては、例えば、低反射膜が挙げられる。低反射膜の材料は特に限定されるものではなく、反射を抑制できる材料であれば各種材料を利用できる。例えば低反射膜としては、高屈折率層と低屈折率層とを積層した構成とできる。
高屈折率層と低屈折率層とは、それぞれ１層ずつ含む形態であってもよいが、それぞれ２層以上含む構成であってもよい。高屈折率層と低屈折率層とをそれぞれ２層以上含む場合には、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層した形態であることが好ましい。
十分な反射防止性能とするためには、低反射膜は複数の膜（層）が積層された積層体が好ましい。例えば該積層体は全体で２層以上６層以下の膜の積層が好ましく、２層以上４層以下の膜の積層がより好ましい。ここでの積層体は、上記の様に高屈折率層と低屈折率層とを積層した積層体が好ましく、高屈折率層と低屈折率層との層の数の総計が上記範囲であることが好ましい。
高屈折率層、低屈折率層の材料は特に限定されるものではなく、要求される反射防止の程度や生産性等を考慮して選択できる。高屈折率層を構成する材料としては、例えば酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、窒化ケイ素（ＳｉＮ）、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）から選択された１種以上を好ましく利用できる。低屈折率層を構成する材料としては、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を好ましく利用できる。高屈折率層としては生産性や、屈折率の程度から、特に酸化ニオブを好ましく利用できる。このため、低反射膜は、酸化ニオブ層と酸化ケイ素層との積層体がより好ましい。膜厚としては４０ｎｍ以上５００ｎｍ以下が好ましく、１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下がより好ましい。
【００２０】
また、ガラス基板１１と防汚膜１２との密着性を向上する目的で、ガラス基板１１と防汚膜１２との間に密着層（図示せず）を挿入してもよい。密着層を挿入する場合、防汚膜１２を成膜する前に予めガラス基板１１の第１の主面に形成しておけばよい。密着層としては、酸化ケイ素膜が好適に用いられる。膜厚としては２ｎｍ以上５０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以上２０ｎｍ以下がより好ましい。
【００２１】
非アンチグレア処理部分３０は、例えば、本実施形態のアンチグレアガラス基板が携帯用電子機器のカバーガラスに用いられる場合には、カメラの前面に設けられる領域や指紋センサーが設けられる領域、その他のセンサー用の保護部材として用いられる場合には、センシングのための可視光や電波が透過する領域に設けられるものである。そのため、本実施形態では、非アンチグレア処理部分３０は表面粗さＲａが１０ｎｍ未満である。これは、カメラ機能、指紋センサー機能等に支障となることがないためである。非アンチグレア処理部分３０は表面粗さＲａが５ｎｍ以下であることが好ましい。非アンチグレア処理部分３０の表面粗さＲａの下限値は特に制限はないが、０．５ｎｍ以上が好ましく、１ｎｍ以上がより好ましい。
【００２２】
非アンチグレア処理部分３０は、例えば、ガラス基板１１の第１の主面の表面に凹凸形状を形成する目的で表面処理を施す際に、非アンチグレア処理部分とする部分に保護フィルムを張り付けることで形成できる。貼り付ける保護フィルムは、ポリエチレン系フィルムやアクリル系フィルムにアクリル系の粘着剤を塗布したものなどが使用できる。他に印刷により、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリブチレンテレフタレート、エチレン酢酸ブチル重合体等の樹脂のマスキングを行ってもよい。アンチグレア処理部分２０の形成後、これらの保護フィルムやマスキングは剥離する。非アンチグレア処理部分とする部分の、上面視における形状には特に制限はなく、円形、楕円形、三角形、長方形、正方形、台形など、適宜選択できる。非アンチグレア処理部分を所望の形状にするため、非アンチグレア処理部分に貼り付ける保護フィルムは、適宜形状を調整すればよい。非アンチグレア処理部分の大きさは、例えば、円形の場合、１ｍｍφ以上５０ｍｍφ以下が好ましく、長方形など多角形の場合、一辺の長さが１ｍｍ以上５０ｍｍ以下であることが好ましい。
【００２３】
アンチグレア処理部分２０は、例えば、物理的或いは化学的な処理により、ガラス基板１１の第１の主面の表面に凹凸形状を形成できる。具体的には、ガラス基板１１の第１の主面にフロスト処理を施す方法が挙げられる。フロスト処理は、例えば、フッ化水素とフッ化アンモニウムの混合溶液に、被処理体であるガラス基板１１の第１の主面の表面を浸漬し、浸漬面を化学的に表面処理することで実施できる。特に、フッ化水素等の薬液を用いて化学的に表面処理するフロスト処理を施す方法では、被処理面にマイクロクラックが生じ難く、機械的強度の低下が生じ難いため、ガラス基板１１の第１の主面の表面に凹凸形状を形成する表面処理方法として好ましく利用できる。
【００２４】
また、このような化学的処理による方法以外にも、例えば、結晶質二酸化ケイ素粉、炭化ケイ素粉等を加圧空気でガラス基板１１の第１の主面の表面に吹きつけるいわゆるサンドブラスト処理や、結晶質二酸化ケイ素粉、炭化ケイ素粉等を付着させたブラシを水で湿らせたもので磨く等の物理的処理による方法も利用できる。
【００２５】
このようにして凹凸を形成した後に、表面形状を整えるために、ガラス基板１１の主面の表面を化学的にエッチングすることが一般的に行われている。こうすることで、エッチング量によりヘイズを所望の値に調整でき、サンドブラスト処理等で生じたクラックを除去でき、またギラツキを抑えられる。エッチングは、保護フィルムやマスクを付けたままでもよく、除去した後でもよいが、フロスト処理を行った際のガラスの除去量により、任意に選択できる。
【００２６】
エッチングとしては、フッ化水素を主成分とする溶液に、被処理体であるガラス基板を浸漬する方法が好ましく用いられる。フッ化水素以外の成分としては、塩酸・硝酸・クエン酸などを含有してもよい。これらを含有することで、ガラスに入っているアルカリ成分とフッ化水素とが反応して析出反応が局所的に起きることを抑えられ、エッチングを面内均一に進行させられる。
【００２７】
防汚膜１２はフッ素含有有機ケイ素化合物等を使用できる。本実施形態で用いるフッ素含有有機ケイ素化合物としては、防汚性、撥水性、撥油性を付与するものであれば特に限定されず使用できる。例えば、市販のポリフルオロポリエーテル基、ポリフルオロアルキレン基及びポリフルオロアルキル基からなる群から選ばれる１つ以上の基を有するフッ素含有有機ケイ素化合物として、ＫＰ−８０１（商品名、信越化学社製）、ＫＹ１７８（商品名、信越化学社製）、ＫＹ−１３０（商品名、信越化学社製）、ＫＹ−１８５（商品名、信越化学社製）、オプツ−ル（登録商標）ＤＳＸおよびオプツールＡＥＳ（いずれも商品名、ダイキン社製）、Ｓ−５５０（旭硝子社製）などが好ましく使用できる。防汚膜１２の膜厚は特に限定されないが、１〜２０ｎｍが好ましく、２〜１０ｎｍがより好ましい。
【００２８】
本実施形態のアンチグレアガラス基板１０は、アンチグレア処理部分２０と、非アンチグレア処理部分３０とのガラス基板１１の板厚方向における高さの差ｈが１０μｍ以上２００μｍ以下であるため、アンチグレア処理部分２０と、非アンチグレア処理部分３０との境界において防汚剤が凝集することがなく、良好な防汚効果が得られる。また段差部に生じる色むらが目立つことがないため好ましい。
【００２９】
本実施形態において、例えば、ガラス基板１１としては、用途に応じて、種々の形状、材料からなるものを使用できる。
形状としては、平坦部と屈曲部との両方を有する板であってもよく、板に限らずフィルム状であってもよい。
ガラス基板１１は、透明であればよく、視認性の確保等の機能を損なわない限り、色を付与した基材でよい。
【００３０】
ガラス基板１１として、無機ガラスを用いる場合、その板厚は０．５ｍｍ以上５ｍｍ以下が好ましい。この下限値以上の板厚を備えたガラスであれば、高い強度と良好な質感を兼ね備えたアンチグレアガラス基板１０を得られる利点がある。その板厚は、０．７ｍｍ以上３ｍｍ以下がより好ましく、１ｍｍ以上３ｍｍ以下がさらに好ましい。ガラス基板１１の板厚は、均一でも不均一でもよい。厚さが不均一の場合、例えば、板厚方向断面視で台形や三角形、Ｃ字形状、Ｓ字形状といった形状でよく、特に制限はない。
【００３１】
ガラス基板１１およびアンチグレアガラス基板１０のガラス組成の具体例としては、酸化物基準のモル％で表示した組成で、ＳｉＯ２を５０〜８０％、Ａｌ２Ｏ３を０．１〜２５％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏを３〜３０％、ＭｇＯを０〜２５％、ＣａＯを０〜２５％およびＺｒＯ２を０〜５％含むガラスが挙げられるが、特に限定されない。より具体的には、以下のガラスの組成が挙げられる。なお、例えば、「ＭｇＯを０〜２５％含む」とは、ＭｇＯは必須ではないが２５％まで含んでもよい、の意である。
（ｉ）酸化物基準のモル％で表示した組成で、ＳｉＯ２を６３〜７３％、Ａｌ２Ｏ３を０．１〜５．２％、Ｎａ２Ｏを１０〜１６％、Ｋ２Ｏを０〜１．５％、Ｌｉ２Ｏを０〜５％、ＭｇＯを５〜１３％及びＣａＯを４〜１０％を含むガラス。
（ｉｉ）酸化物基準のモル％で表示した組成が、ＳｉＯ２を５０〜７４％、Ａｌ２Ｏ３を１〜１０％、Ｎａ２Ｏを６〜１４％、Ｋ２Ｏを３〜１１％、Ｌｉ２Ｏを０〜５％、ＭｇＯを２〜１５％、ＣａＯを０〜６％およびＺｒＯ２を０〜５％含有し、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３の含有量の合計が７５％以下、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計が１２〜２５％、ＭｇＯおよびＣａＯの含有量の合計が７〜１５％であるガラス。
（ｉｉｉ）酸化物基準のモル％で表示した組成が、ＳｉＯ２を６８〜８０％、Ａｌ２Ｏ３を４〜１０％、Ｎａ２Ｏを５〜１５％、Ｋ２Ｏを０〜１％、Ｌｉ２Ｏを０〜５％、ＭｇＯを４〜１５％およびＺｒＯ２を０〜１％含有するガラス。
（ｉｖ）酸化物基準のモル％で表示した組成が、ＳｉＯ２を６７〜７５％、Ａｌ２Ｏ３を０〜４％、Ｎａ２Ｏを７〜１５％、Ｋ２Ｏを１〜９％、Ｌｉ２Ｏを０〜５％、ＭｇＯを６〜１４％およびＺｒＯ２を０〜１．５％含有し、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３の含有量の合計が７１〜７５％、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計が１２〜２０％であり、ＣａＯを含有する場合その含有量が１％未満であるガラス。
（ｖ）酸化物基準のモル％で表示した組成が、ＳｉＯ２を５０〜８０％、Ａｌ２Ｏ３を２〜２５％、Ｌｉ２Ｏを０〜１０％、Ｎａ２Ｏを０〜１８％、Ｋ２Ｏを０〜１０％、ＭｇＯを０〜１５％、ＣａＯを０〜５％およびＺｒＯ２を０〜５％を含むガラス。
（ｖｉ）酸化物基準のモル％で表示した組成が、ＳｉＯ２を５０〜７４％、Ａｌ２Ｏ３を１〜１０％、Ｎａ２Ｏを６〜１４％、Ｋ２Ｏを３〜１１％、ＭｇＯを２〜１５％、ＣａＯを０〜６％およびＺｒＯ２を０〜５％含有し、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３の含有量の合計が７５％以下、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計が１２〜２５％、ＭｇＯおよびＣａＯの含有量の合計が７〜１５％であるガラス。
（ｖｉｉ）酸化物基準のモル％で表示した組成が、ＳｉＯ２を６８〜８０％、Ａｌ２Ｏ３を４〜１０％、Ｎａ２Ｏを５〜１５％、Ｋ２Ｏを０〜１％、ＭｇＯを４〜１５％およびＺｒＯ２を０〜１％含有し、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３の含有量の合計が８０％以下であるガラス。
（ｖｉｉｉ）酸化物基準のモル％で表示した組成が、ＳｉＯ２を６７〜７５％、Ａｌ２Ｏ３を０〜４％、Ｎａ２Ｏを７〜１５％、Ｋ２Ｏを１〜９％、ＭｇＯを６〜１４％、ＣａＯを０〜１％およびＺｒＯ２を０〜１．５％含有し、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３の含有量の合計が７１〜７５％、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計が１２〜２０％であるガラス。
（ｉｘ）酸化物基準のモル％で表示した組成が、ＳｉＯ２を６０〜７５％、Ａｌ２Ｏ３を０．５〜８％、Ｎａ２Ｏを１０〜１８％、Ｋ２Ｏを０〜５％、ＭｇＯを６〜１５％、ＣａＯを０〜８％含むガラス。
（ｘ）酸化物基準の質量％で表示した組成が、ＳｉＯ２を６３〜７５％、Ａｌ２Ｏ３を３〜１２％、ＭｇＯを３〜１０％、ＣａＯを０．５〜１０％、ＳｒＯを０〜３％、ＢａＯを０〜３％、Ｎａ２Ｏを１０〜１８％、Ｋ２Ｏを０〜８％、ＺｒＯ２を０〜３％、Ｆｅ２Ｏ３を０．００５〜０．２５％含有し、Ｒ２Ｏ／Ａｌ２Ｏ３（式中、Ｒ２ＯはＮａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏである）が２．０以上４．６以下であるガラス。
（ｘｉ）酸化物基準の質量％で表示した組成が、ＳｉＯ２を６６〜７５％、Ａｌ２Ｏ３を０〜３％、ＭｇＯを１〜９％、ＣａＯを１〜１２％、Ｎａ２Ｏを１０〜１６％、Ｋ２Ｏを０〜５％含有するガラス。
【００３２】
さらに、ガラスに着色を行い使用する際は、所望の化学強化特性の達成を阻害しない範囲において着色剤を添加してもよい。例えば、可視域に吸収を持つ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｖ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｔｉ、Ｃｅ、Ｅｒ、およびＮｄの金属酸化物である、Ｃｏ３Ｏ４、ＭｎＯ、ＭｎＯ２、Ｆｅ２Ｏ３、ＮｉＯ、ＣｕＯ、Ｃｕ２Ｏ、Ｃｒ２Ｏ３、Ｖ２Ｏ５、Ｂｉ２Ｏ３、ＳｅＯ２、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、Ｅｒ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３等が挙げられる。
【００３３】
また、ガラスとして着色ガラスを用いる場合、ガラス中に、酸化物基準のモル百分率表示で、着色成分（Ｃｏ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｖ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｔｉ、Ｃｅ、Ｅｒ、およびＮｄの金属酸化物からなる群より選択される少なくとも１成分）を７％以下の範囲で含有してもよい。着色成分が７％を超えると、ガラスが失透しやすくなる。この含量は５％以下が好ましく、３％以下がより好ましく、１％以下がさらに好ましい。また、ガラス基材は、溶融の際の清澄剤として、ＳＯ３、塩化物、フッ化物などを適宜含有してもよい。
【００３４】
ガラス基板１１は、化学強化処理、物理強化処理のいずれを行ってもよいし、いずれも行わなくてもよいが、化学強化処理を行うことが好ましい。上述のような比較的、薄い無機ガラスを強化処理する場合、所望の強度を付与しやすいため化学強化処理された化学強化ガラスとすることが好ましい。ガラス基板１１に化学強化処理をする場合は、アルミノシリケートガラスが好ましい。
【００３５】
化学強化処理は、ガラスの表面にイオン交換処理を施し、圧縮応力を有する表面層を形成させる処理である。具体的には、化学強化用ガラスのガラス転移点以下の温度でイオン交換処理を行い、ガラス板表面付近に存在するイオン半径が小さな金属イオン（典型的には、ＬｉイオンまたはＮａイオン）を、イオン半径のより大きいイオン（典型的には、Ｌｉイオンに対してはＮａイオンまたはＫイオンであり、Ｎａイオンに対してはＫイオン）に置換する。
【００３６】
［第２の実施形態］
本実施形態のアンチグレアガラス基板について図３を用いて説明する。図３は本実施形態のアンチグレアガラス基板を模式的に表した斜視図である。図３に示すアンチグレアガラス基板４０は、ガラス基板４１の第１の主面にアンチグレア処理が施された構成である。図３に示すガラス基板４１において、上面が第１の主面、第１の主面に対向する下面が第２の主面である。本実施形態のアンチグレアガラス基板４０では、ガラス基板４１の第１の主面の表面にアンチグレア処理が施されたアンチグレア処理部分５０と、ガラス基板４１の第１の主面の表面にアンチグレア処理が施されていない非アンチグレア処理部分６０とを備えている。本実施形態では、ガラス基板４１の第１の主面上にアンチグレア膜４２を設けることにより、アンチグレア処理部分５０を形成する点で前記した第１の実施形態と異なる。本実施形態では、ガラス基板４１の第１の主面上にアンチグレア膜４２を設けなかった部分が非アンチグレア処理部分６０となる。
【００３７】
本実施形態におけるアンチグレア膜４２は、表面に凹凸形状が形成された有機材料膜および無機材料膜を広く含む。アンチグレア膜４２は、ガラス基板４１の第１の主面の表面との密着性が良好であることが好ましい。また、アンチグレアガラス基板４０の反射防止機能を向上するため、ガラス基板４１よりも低屈折率であることが好ましい。
【００３８】
本実施形態において、ガラス基板４１の第１の主面上には防汚膜４３が設けられている。なお、アンチグレアガラス基板４０のアンチグレア処理部分５０では、ガラス基板４１の第１の主面上に設けられたアンチグレア膜４２上に防汚膜４３が設けられている。アンチグレアガラス基板４０の非アンチグレア処理部分６０では、ガラス基板４１の第１の主面上に防汚膜４３が直接設けられている。
【００３９】
本実施形態のアンチグレアガラス基板４０において、アンチグレア処理部分５０は、ガラス基板４１の第１の主面上にアンチグレア膜４２を設けることにより、非アンチグレア処理部分６０よりもヘイズ率が高くなっている。アンチグレア処理部分５０のヘイズ率は、例えば０．５％〜７０％である。一方、非アンチグレア処理部分６０のヘイズ率は、例えば０．５％未満である。
【００４０】
図４は図３におけるＢ−Ｂ´面を所定の方向から見た断面図である。本実施形態において、ガラス基板４１の板厚方向における高さに着目した場合、アンチグレア処理部分５０よりも非アンチグレア処理部分６０のほうが低く、凹となっている。
本実施形態において、アンチグレア処理部分５０と、非アンチグレア処理部分６０とのガラス基板４１の板厚方向における高さの差ｈが１０μｍ以上２００μｍ以下である。なお、本明細書において、アンチグレア処理部分５０と、非アンチグレア処理部分６０とのガラス基板の板厚方向における高さの差ｈとは、ガラス基板４１の第１の主面上に防汚膜４３が設けられた状態での両者の高さの差である。高さの差ｈが１０μｍ未満の場合は、アンチグレア処理部分５０と非アンチグレア処理部分６０との境界において高さが不十分であり、アンチグレア処理部分５０と非アンチグレア処理部分６０との接続領域における角度が緩やかとなる。このため、アンチグレアガラス基板４０の上面視において境界領域の外観が、その他のアンチグレア処理部分５０及び非アンチグレア処理部分６０と異なるように見え、汚れのような白曇りが視認されることがある。この白曇りは、アンチグレア処理が短時間であるが故に、アンチグレア処理に使用した薬剤とガラス基板４１との反応が不均質となっている可能性がある。この接続領域に、さらに防汚剤を塗布すると防汚剤と接続領域との反応性の不均質のため、防汚剤の凝集が発生することがある。防汚剤が凝集すると接続領域において防汚剤の疎水基同士が結合してしまい、防汚剤として十分に機能しなくなる恐れがある。加えて、防汚剤が凝集することによる外観の低下も懸念される。高さの差ｈを１０μｍ以上とすることで上記の問題を回避できる。但し、高さの差ｈが２００μｍ超だと、指で触った時のさわり心地が悪い、境界が目立つため外観が悪くなる等の問題が生じる。高さの差ｈは１０μｍ以上１００μｍ以下が好ましい。
【００４１】
また、図４に示すように、非アンチグレア処理部分６０は、ガラス基板４１の板厚方向における断面形状は、ガラス基板４１の第１の主面側の底辺に比べて、最表面側である上辺が長い逆台形形状をなしている。非アンチグレア処理部分６０と勾配部位は逆錐台形状をなしている。この逆錐台形状の側面とガラス基板４１の第１の主面とのなす角度Ｘは９０°＜Ｘ≦１５０°が好ましく、９０°＜Ｘ≦１４０°がより好ましい。これにより防汚剤の凝集を抑制できる。加えて、９０°＜Ｘであると指で触れた場合の違和感が少なくさわり心地が良く、Ｘ≦１５０°であると、非アンチグレア処理部分６０の周囲の段差が目立ちにくいため好ましい。
【００４２】
なお、本実施形態において、ガラス基板４１の第１の主面と防汚膜４３との間に必要に応じて各種機能膜（図示せず）が設けられていてもよい。アンチグレア処理部分５０では、ガラス基板４１の第１の主面上にアンチグレア膜４２が設けられているが、各種機能膜はアンチグレア膜４２上に設けられていてもよく、ガラス基板４１の第１の主面とアンチグレア膜４２との間に設けられていてもよい。各種機能膜を設ける場合は、アンチグレア処理部分５０と、非アンチグレア処理部分６０とのガラス基板４１の板厚方向における高さの差ｈは、ガラス基板４１の第１の主面上に、アンチグレア膜４２、各種機能膜、および防汚膜４３が設けられた状態での両者の高さの差である。
このような機能膜としては、例えば、低反射膜が挙げられる。低反射膜の材料は特に限定されるものではなく、反射を抑制できる材料であれば各種材料を利用できる。例えば低反射膜としては、高屈折率層と低屈折率層とを積層した構成とできる。
高屈折率層と低屈折率層とは、それぞれ１層ずつ含む形態であってもよいが、それぞれ２層以上含む構成であってもよい。高屈折率層と低屈折率層とをそれぞれ２層以上含む場合には、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層した形態であることが好ましい。
十分な反射防止性能とするためには、低反射膜は複数の膜（層）が積層された積層体が好ましい。例えば該積層体は全体で２層以上６層以下の膜の積層が好ましく、２層以上４層以下の膜の積層がより好ましい。ここでの積層体は、上記の様に高屈折率層と低屈折率層とを積層した積層体が好ましく、高屈折率層と低屈折率層との層の数の総計が上記範囲であることが好ましい。
高屈折率層、低屈折率層の材料は特に限定されるものではなく、要求される反射防止の程度や生産性等を考慮して選択できる。高屈折率層を構成する材料としては、例えば酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、窒化ケイ素（ＳｉＮ）、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）から選択された１種以上を好ましく利用できる。低屈折率層を構成する材料としては、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を好ましく利用できる。
高屈折率層としては生産性や、屈折率の程度から、特に酸化ニオブを好ましく利用できる。このため、低反射膜は、酸化ニオブ層と酸化ケイ素層との積層体がより好ましい。膜厚としては４０ｎｍ以上５００ｎｍ以下が好ましく、１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下がより好ましい。
【００４３】
非アンチグレア処理部分６０は、例えば、本実施形態のアンチグレアガラス基板が携帯用電子機器のカバーガラスに用いられる場合には、カメラの前面に設けられる領域や指紋センサーが設けられる領域、その他のセンサー用の保護部材として用いられる場合には、センシングのための可視光や電波が透過する領域に設けられるものである。そのため、本実施形態では、非アンチグレア処理部分６０は表面粗さＲａが１０ｎｍ未満である。これは、カメラ機能、指紋センサー機能等に支障となることがないためである。非アンチグレア処理部分６０は表面粗さＲａが５ｎｍ以下であることが好ましい。
【００４４】
非アンチグレア処理部分６０は、例えば、ガラス基板４１の第１の主面にアンチグレア膜４２を設ける際に、非アンチグレア処理部分６０とする部分に保護フィルムを張り付けることで形成できる。貼り付ける保護フィルムはポリエチレン系、アクリル系フィルムにアクリル系の粘着剤を塗布したものなどが使用できる。他に印刷により、樹脂のマスキングを行ってもよい。非アンチグレア処理部分とする部分の、上面視における形状には特に制限はなく、円形、楕円形、三角形、長方形、正方形、台形など、適宜選択できる。非アンチグレア処理部分を所望の形状にするため、非アンチグレア処理部分に貼り付ける保護フィルムは、適宜形状を調整すればよい。非アンチグレア処理部分の大きさは、例えば、円形の場合、１ｍｍφ以上５０ｍｍφ以下が好ましく、長方形など多角形の場合、一辺の長さが１ｍｍ以上５０ｍｍ以下であることが好ましい。
【００４５】
アンチグレア処理部分５０は、例えば、コーティングによってガラス基板４１の第１の主面上にアンチグレア膜４２を形成できる。アンチグレア膜４２の屈折率は、アンチグレア膜４２のマトリクスの材質、アンチグレア膜４２の空隙率、マトリクス中への任意の屈折率を有する物質の添加等によって調整できる。例えば、アンチグレア膜４２の空隙率を高くすることにより屈折率を低くできる。また、マトリクス中に屈折率の低い物質（中実シリカ粒子、中空シリカ粒子等）を添加することで、アンチグレア膜４２の屈折率を低くできる。
【００４６】
アンチグレア膜４２は、シリカを主成分とすることが好ましいがそれに限らない。シリカを主成分とすれば、アンチグレア膜４２の屈折率（反射率）が低くなりやすい。また、アンチグレア膜４２の化学的安定性等も良好である。また、ガラス基板との密着性が良好である。本明細書中において、シリカを主成分とするとは、ＳｉＯ２を５０質量％以上含むことを意味するが、９０質量％以上含むことが好ましい。
【００４７】
シリカを主成分とする場合、アンチグレア膜４２は、シリカのみから構成されてもよく、シリカ以外の成分を少量含んでもよい。その成分としては、Ｌｉ、Ｂ、Ｃ、Ｎ、Ｆ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐ、Ｓ、Ｋ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ，Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｂｉおよびランタノイド元素より選ばれる１つもしくは複数のイオンおよびまたは酸化物等の化合物が挙げられる。
【００４８】
シリカを主成分とするアンチグレア膜４２としては、シリカ前駆体を含む塗布組成物から形成されるものや粒子としてシリカ粒子を含む塗布組成物から形成されるもの、その他シリカを主成分としない樹脂膜等により形成されたものが挙げられる。
【００４９】
また、本実施形態において、アンチグレア膜４２を設けた後に非アンチグレア処理部分６０を形成してもよい。具体的には、レーザ処理、円柱の研磨砥石による研磨、またはアンチグレア処理部分５０とする部分をマスキングした状態で、バフまたはブラシなどによる研磨を行い、アンチグレア膜４２を除去することにより、非アンチグレア処理部分６０を形成できる。但し、非アンチグレア処理部分６０の表面粗さＲａが大きいと、カメラ機能、指紋センサー機能等が十分に得られなくなる点に留意する必要がある。
【００５０】
防汚膜４３はフッ素含有有機ケイ素化合物等を使用できる。本実施形態で用いるフッ素含有有機ケイ素化合物としては、防汚性、撥水性、撥油性を付与するものであれば特に限定されず使用できる。例えば、市販のポリフルオロポリエーテル基、ポリフルオロアルキレン基及びポリフルオロアルキル基からなる群から選ばれる１つ以上の基を有するフッ素含有有機ケイ素化合物として、ＫＰ−８０１（商品名、信越化学社製）、ＫＹ１７８（商品名、信越化学社製）、ＫＹ−１３０（商品名、信越化学社製）、ＫＹ−１８５（商品名、信越化学社製）、オプツ−ル（登録商標）ＤＳＸおよびオプツールＡＥＳ（いずれも商品名、ダイキン社製）、Ｓ−５５０（ＡＧＣ製）などが好ましく使用できる。防汚膜４３の膜厚は特に限定されないが、１〜２０ｎｍが好ましく、２〜１０ｎｍがより好ましい。
【００５１】
本実施形態のアンチグレアガラス基板４０は、アンチグレア処理部分５０と、非アンチグレア処理部分６０とのガラス基板４１の板厚方向における高さの差ｈが１０μｍ以上２００μｍ以下であるため、アンチグレア処理部分５０と、非アンチグレア処理部分６０との境界において防汚剤が凝集することがなく、良好な防汚効果が得られる。また段差部に生じる色むらが目立つことがないため好ましい。
またガラス基板４１としては、上述と同様のガラス基板が使用できる。
【００５２】
［第３の実施形態］
本実施形態のアンチグレアガラス基板について図５を用いて説明する。図５は本実施形態のアンチグレアガラス基板を模式的に表した斜視図である。図５に示すアンチグレアガラス基板７０は、ガラス基板７１の第１の主面にアンチグレア処理が施された構成である。図５に示すガラス基板７１において、上面が第１の主面、第１の主面に対向する下面が第２の主面である。本実施形態のアンチグレアガラス基板７０では、ガラス基板７１の第１の主面の表面にアンチグレア処理が施されたアンチグレア処理部分８０と、ガラス基板７１の第１の主面の表面にアンチグレア処理が施されていない非アンチグレア処理部分９０とを備えている。また、ガラス基板７１の第１の主面上には防汚膜７３が設けられている。
本実施形態において、アンチグレア処理部分８０、および非アンチグレア処理部分９０の形成手順は特に限定されないが、例えば、以下の手順で形成できる。ガラス基板７１の第１の主面全体に表面処理を施して、凹凸形状を形成する。この状態では、ガラス基板７１の第１の主面全体がアンチグレア処理部分となる。この状態から、非アンチグレア処理部分となる部位に対し研磨処理を施す、具体的には、レーザ処理、円柱の研磨砥石による研磨、またはアンチグレア処理部分とする部分をマスキングした状態で、バフまたはブラシなどによる研磨を行うことで、非アンチグレア処理部分を形成できる。但し、非アンチグレア処理部分の表面粗さＲａが大きいと、カメラ機能、指紋センサー機能等が十分に得られなくなる点に留意する必要がある。
【００５３】
本実施形態のアンチグレアガラス基板７０において、アンチグレア処理部分８０は、非アンチグレア処理部分９０よりもヘイズ率が高くなっている。アンチグレア処理部分８０のヘイズ率は、例えば０．５％〜７０％である。一方、非アンチグレア処理部分９０のヘイズ率は、例えば０．５％未満である。
【００５４】
図６は図５におけるＣ−Ｃ´面を所定の方向から見た断面図である。本実施形態において、ガラス基板７１の板厚方向における高さに着目した場合、アンチグレア処理部分８０よりも非アンチグレア処理部分９０のほうが低く、凹となっている。
本実施形態において、アンチグレア処理部分８０と、非アンチグレア処理部分９０とのガラス基板７１の板厚方向における高さの差ｈが１０μｍ以上２００μｍ以下である。なお、本明細書において、アンチグレア処理部分８０と、非アンチグレア処理部分９０とのガラス基板の板厚方向における高さの差ｈとは、ガラス基板７１の第１の主面上に防汚膜７３が設けられた状態での両者の高さの差である。高さの差ｈが１０μｍ未満の場合は、アンチグレア処理部分８０と非アンチグレア処理部分９０との境界において高さが不十分であり、アンチグレア処理部分８０と非アンチグレア処理部分９０との接続領域における角度が緩やかとなる。このため、アンチグレアガラス基板７０の上面視において境界領域の外観が、その他のアンチグレア処理部分８０及び非アンチグレア処理部分９０と異なるように見え、汚れのような白曇りが視認されることがある。この白曇りは、アンチグレア処理が短時間であるが故に、アンチグレア処理に使用した薬剤とガラス基板７１との反応が不均質となっている可能性がある。この接続領域に、さらに防汚剤を塗布すると防汚剤と接続領域との反応性の不均質のため、防汚剤の凝集が発生することがある。防汚剤が凝集すると接続領域において防汚剤の疎水基同士が結合してしまい、防汚剤として十分に機能しなくなる恐れがある。加えて、防汚剤が凝集することによる外観の低下も懸念される。高さの差ｈを１０μｍ以上とすることで上記の問題を回避できる。但し、高さの差ｈが２００μｍ超だと、指で触った時のさわり心地が悪い、境界が目立つため外観が悪くなる等の問題が生じる。高さの差ｈは１０μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましい。
【００５５】
また、図６に示すように、非アンチグレア処理部分９０は、ガラス基板７１の板厚方向における断面形状は、ガラス基板７１の第１の主面側に形成された凹部であって、第１の主面の高さより低い底辺に比べて、ガラス基板７１の第１の主面と同じ高さである上辺が長い逆台形形状をなしている。非アンチグレア処理部分９０と勾配部位は逆錐台形状をなしている。この逆錐台形状の側面とガラス基板７１の第１の主面とのなす角度Ｘは９０°＜Ｘ≦１５０°が好ましく、９０°＜Ｘ≦１４０°がより好ましい。これにより防汚剤が凝集することを抑制できる。加えて、９０°＜Ｘであると指で触れた場合の違和感が少なくさわり心地が良く、Ｘ≦１５０°であると、非アンチグレア処理部分９０の周囲の段差が目立ちにくいため好ましい。
【００５６】
なお、本実施形態において、ガラス基板７１の第１の主面と防汚膜７３との間に必要に応じて各種機能膜（図示せず）が設けられていてもよい。各種機能膜を設ける場合は、アンチグレア処理部分８０と、非アンチグレア処理部分９０とのガラス基板７１の板厚方向における高さの差ｈは、ガラス基板７１の第１の主面上に、各種機能膜、および防汚膜７３が設けられた状態での両者の高さの差である。
このような機能膜としては、たとえば、低反射膜が挙げられる。低反射膜の材料は特に限定されるものではなく、反射を抑制できる材料であれば各種材料を利用できる。例えば低反射膜としては、高屈折率層と低屈折率層とを積層した構成とできる。
高屈折率層と低屈折率層とは、それぞれ１層ずつ含む形態であってもよいが、それぞれ２層以上含む構成であってもよい。高屈折率層と低屈折率層とをそれぞれ２層以上含む場合には、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層した形態が好ましい。
十分な反射防止性能とするためには、低反射膜は複数の膜（層）が積層された積層体が好ましい。例えば該積層体は全体で２層以上６層以下の膜の積層が好ましく、２層以上４層以下の膜の積層がより好ましい。ここでの積層体は、上記の様に高屈折率層と低屈折率層とを積層した積層体が好ましく、高屈折率層と低屈折率層との層の数の総計が上記範囲であることが好ましい。
高屈折率層、低屈折率層の材料は特に限定されるものではなく、要求される反射防止の程度や生産性等を考慮して選択できる。高屈折率層を構成する材料としては、例えば酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、窒化ケイ素（ＳｉＮ）、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）から選択された１種以上を好ましく利用できる。低屈折率層を構成する材料としては、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を好ましく利用できる。
高屈折率層としては生産性や、屈折率の程度から、特に酸化ニオブを好ましく利用できる。このため、低反射膜は、酸化ニオブ層と酸化ケイ素層との積層体がより好ましい。膜厚としては４０ｎｍ以上５００ｎｍ以下が好ましく、１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下がより好ましい。
【００５７】
非アンチグレア処理部分９０は、例えば、本実施形態のアンチグレアガラス基板が携帯用電子機器のカバーガラスに用いられる場合には、カメラの前面に設けられる領域や指紋センサーが設けられる領域、その他のセンサー用の保護部材として用いられる場合には、センシングのための可視光や電波が透過する領域に設けられるものである。そのため、本実施形態では、非アンチグレア処理部分９０は表面粗さＲａが１０ｎｍ未満である。これは、カメラ機能、指紋センサー機能等に支障となることがないためである。非アンチグレア処理部分９０は表面粗さＲａが５ｎｍ以下であることが好ましい。
【００５８】
防汚膜７３はフッ素含有有機ケイ素化合物等を使用できる。本実施形態で用いるフッ素含有有機ケイ素化合物としては、防汚性、撥水性、撥油性を付与するものであれば特に限定されず使用できる。例えば、市販のポリフルオロポリエーテル基、ポリフルオロアルキレン基及びポリフルオロアルキル基からなる群から選ばれる１つ以上の基を有するフッ素含有有機ケイ素化合物として、ＫＰ−８０１（商品名、信越化学社製）、ＫＹ１７８（商品名、信越化学社製）、ＫＹ−１３０（商品名、信越化学社製）、ＫＹ−１８５（商品名、信越化学社製）、オプツ−ル（登録商標）ＤＳＸおよびオプツールＡＥＳ（いずれも商品名、ダイキン社製）、Ｓ−５５０（ＡＧＣ製）などが好ましく使用できる。防汚膜７３の膜厚は特に限定されないが、１〜２０ｎｍが好ましく、２〜１０ｎｍがより好ましい。
【００５９】
本実施形態のアンチグレアガラス基板７０は、アンチグレア処理部分８０と、非アンチグレア処理部分９０とのガラス基板７１の板厚方向における高さの差ｈが１０μｍ以上２００μｍ以下であるため、アンチグレア処理部分８０と、非アンチグレア処理部分９０との境界において防汚剤が凝集することがなく、良好な防汚効果が得られる。また段差部に生じる色むらが目立つことがないため好ましい。
またガラス基板７１としては、上述と同様のガラス基板が使用できる。
【００６０】
（実施例）
以下に具体的な実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、例１〜４、６、７、１３、１４は実施例、例５、８〜１２、１５〜１７は比較例である。
【００６１】
（１）試料作製
［例１］
以下の手順により、アンチグレアガラスサンプル１を製造した。
本例ではガラス基板に未強化の化学強化用ガラス（旭硝子株式会社製、商品名：ドラゴントレイル（登録商標）サイズ：３００ｍｍ×３００ｍｍ、厚さ１．３ｍｍ。）を用いた。
【００６２】
まず、耐酸性の保護フィルムを、ガラス基板のアンチグレア処理部分を形成しない側の主面（第２の主面）に貼合した。またガラス基板の主面のうち、アンチグレア処理部分を形成する側の主面（第１の主面）のほぼ中央部にφ２０ｍｍに切り出した耐酸性の保護フィルムをマスクとして貼った。
【００６３】
次いで、このガラス基板を、３重量％のフッ化水素溶液に３分浸漬し、ガラス基板の第１の主面のうち、マスクを形成していない領域に付着した汚れを除去するとともに、前加工としてガラス基板の厚みを１０μｍ除去した。さらに、ガラス基板を８重量％フッ化水素と８重量％フッ化カリウムとの混合溶液に３分間浸漬し、ガラス基板の第１の主面のうち、マスクを形成していない領域に対してフロスト処理を行った。フロスト処理後のガラス基板を、１０重量％フッ化水素溶液に３分間浸漬（エッチング時間３分）してエッチング処理することで、ヘイズ率を１５％に調整した。なお、ガラス基板の第１の主面のうち、φ２０ｍｍのマスクを貼った中央部が平滑部分、それ以外の部分がアンチグレア処理部分となる。以上より、未強化アンチグレアガラス基板を得た。
【００６４】
その後、得られた未強化アンチグレアガラス基板の保護フィルム及びマスクを剥がし、化学強化処理を行った。４５０℃に加熱・溶解させた硝酸カリウム塩にエッチング処理後の未強化アンチグレアガラス基板を１時間浸漬した後、ガラス基板を溶融塩より引き上げ、室温まで１時間で徐冷することで化学強化されたアンチグレアガラス基板を得た。
【００６５】
続いて、化学強化されたアンチグレアガラス基板の第１の主面に、低反射膜を形成した。低反射膜は、アンチグレアガラス基板の第１の主面に以下のように形成した。まず、アルゴンガスに１０体積％の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、酸化ニオブターゲット（ＡＧＣセラミックス社製、商品名ＮＢＯターゲット）を用いて、圧力０．３Ｐａ、周波数２０ｋＨｚ、電力密度３．８Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅５μｓｅｃの条件でパルススパッタリングを行い、ガラス基板の第１の主面上に、厚さ１３ｎｍの酸化ニオブ（ニオビア）からなる高屈折率層を形成した。
【００６６】
次いで、アルゴンガスに４０体積％の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、シリコンターゲットを用いて、圧力０．３Ｐａ、周波数２０ｋＨｚ、電力密度３．８Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅５μｓｅｃの条件でパルススパッタリングを行い、前記高屈折率層上に厚さ３０ｎｍの酸化ケイ素（シリカ）からなる低屈折率層を形成した。
【００６７】
次いでアルゴンガスに１０体積％の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、酸化ニオブターゲット（ＡＧＣセラミックス社製、商品名ＮＢＯターゲット）を用いて、圧力０．３Ｐａ、周波数２０ｋＨｚ、電力密度３．８Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅５μｓｅｃの条件でパルススパッタリングを行い、前記低屈折率層上に厚さ１１０ｎｍの酸化ニオブ（ニオビア）からなる高屈折率層を形成した。
【００６８】
次いで、アルゴンガスに４０体積％の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、シリコンターゲットを用いて、圧力０．３Ｐａ、周波数２０ｋＨｚ、電力密度３．８Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅５μｓｅｃの条件でパルススパッタリングを行い、厚さ９０ｎｍの酸化ケイ素（シリカ）からなる低屈折率層を形成した。
このようにして、酸化ニオブ（ニオビア）と酸化ケイ素（シリカ）が総計４層の低反射膜を、化学強化されたアンチグレアガラス基板上に形成した。
【００６９】
引き続き、防汚膜形成処理を行った。まず、フッ素含有有機ケイ素化合物被膜（防汚膜）材料（信越化学社製、商品名：ＫＹ−１８５）を加熱容器内に導入した。その後、加熱容器内を真空ポンプで１０時間以上脱気して溶液中の溶媒除去を行って、フッ素含有有機ケイ素化合物被膜形成用組成物とした。
【００７０】
次いで、上記フッ素含有有機ケイ素化合物被膜形成用組成物が入った加熱容器を２７０℃まで加熱した。２７０℃に到達した後、温度が安定するまで１０分間その状態を保持した。そして、真空チャンバ内に設置した上記低反射膜が積層された化学強化されたアンチグレアガラス基板の、低反射膜に対して、前記フッ素含有有機ケイ素化合物被膜形成用組成物が入った加熱容器と接続されたノズルから、フッ素含有有機ケイ素化合物被膜形成用組成物を供給し、成膜を行った。
【００７１】
成膜の際には、真空チャンバ内に設置した水晶振動子モニタにより膜厚を測定しながら行い、化学強化されたアンチグレアガラス基板の低反射膜上に形成したフッ素含有有機ケイ素化合物膜の膜厚が１０ｎｍになるまで成膜を行った。フッ素含有有機ケイ素化合物膜の膜厚が１０ｎｍになった時点でノズルから原料の供給を停止し、その後真空チャンバから製造されたアンチグレアガラスサンプル１を取り出した。取り出されたアンチグレアガラスサンプル１は、ホットプレートに膜面を上向きにして設置し、大気中で１５０℃、６０分間熱処理を行った。
【００７２】
［例２］
前加工でガラス基板の厚みを８０μｍ除去し、例１と同じヘイズ率となるよう、エッチング処理におけるエッチング条件を調整した以外は、例１と同様の条件でアンチグレアガラスサンプル２を作製した。
【００７３】
［例３］
前加工でガラス基板の厚みを１５μｍ除去し、マスクを剥がさず保護フィルムを剥離した状態でフロスト処理後、マスクを剥がし、フッ化水素溶液でエッチング処理を行った以外は、例１と同様の条件でアンチグレアガラスサンプル３を作製した。
【００７４】
［例４］
前加工を実施せずに例１と同じヘイズ率となるよう、エッチング処理におけるエッチング条件を調整した以外は、例１と同様の条件でアンチグレアガラスサンプル４を作製した。
【００７５】
［例５］
前加工でガラス基板の厚みを５μｍ除去し、例３と同じヘイズ率となるよう、エッチング処理におけるエッチング条件を調整した以外は、例３と同様の条件でアンチグレアガラスサンプル５を作製した。
【００７６】
［例６］
ヘイズ率を２５％に調整した以外は、例１と同様の条件でアンチグレアガラスサンプル６を作製した。
【００７７】
［例７］
前加工でガラス基板の厚みを１５μｍ除去し、フロスト処理後、マスクを剥がし、フッ化水素溶液でエッチング処理を行った以外は、例６と同様の条件でアンチグレアガラスサンプル７を作製した。
【００７８】
［例８］
前加工でガラス基板の厚みを５μｍ除去し、例７と同じヘイズ率となるよう、エッチング処理におけるエッチング条件を調整した以外は、例７と同様の条件でアンチグレアガラスサンプル８を作製した。
【００７９】
［例９］
例１と同様に、ガラス基板に（旭硝子株式会社製、商品名：ドラゴントレイル（登録商標）サイズ：３００ｍｍ×３００ｍｍ、厚さ１．３ｍｍ。）を用いた。ガラス基板のアンチグレア処理部分を形成しない側の主面（第２の主面）に、耐酸性の保護フィルムを貼合した。次いで、このガラス基板を、３重量％のフッ化水素溶液に浸漬し、ガラス基板表面に付着した汚れを除去した。さらに、ガラス基板を１５重量％フッ化水素と１５重量％フッ化カリウムとの混合溶液に３分間浸漬し、ガラス基板の保護フィルムを貼合していない側の主面（第１の主面）に対してフロスト処理を行った。上記フロスト処理後のガラス基板を、１０重量％フッ化水素溶液に４分間浸漬（エッチング時間４分）してエッチング処理することで、ヘイズ率を１５％に調整した。その後、エッチング処理後の面のほぼ中央部を、φ５ｍｍの円柱形状の研磨砥石、ヌープ硬度が３０００の酸化セリウムの研磨砥粒を用いて研磨を行ない、φ２０ｍｍの範囲を１５μｍの深さでエッチング処理後の面の除去を行った。その後、例１と同様に化学強化、低反射膜形成処理、防汚膜形成処理を行った。なお、エッチング処理後の主面（第１の主面）のうち、研磨によりエッチング処理した面を除去した中央部（ガラス除去部）が平滑部分、それ以外の部分がアンチグレア処理部分となる。以上より、アンチグレアガラスサンプル９を得た。
【００８０】
［例１０］
研磨による除去量を６００μｍの深さとした以外は、例９と同様の条件でアンチグレアガラスサンプル１０を作製した。
【００８１】
［例１１］
研磨による除去量を５μｍの深さ、ガラス除去部の底面と側面の角度が１６０°になるような研磨砥石を用いた以外は、例９と同様の条件でアンチグレアガラスサンプル１１を作製した。
【００８２】
［例１２］
例９と同様の方法でエッチング処理まで行った。その後、エッチング処理を施した面（第１の主面）のほぼ中央部のφ２０ｍｍの範囲を除き、保護フィルムを貼り、＃１００００のセラミック砥粒を用いてテープで研磨を行い１０μｍの深さでエッチング処理を施した面の除去を行った。その後例１と同様に化学強化、低反射膜形成処理、防汚膜形成処理を行った。なお、エッチング処理後の主面のうち、保護フィルムを貼らなかったφ２０ｍｍの中央部が非アンチグレア処理部分、それ以外の部分がアンチグレア処理部分となる。以上より、アンチグレアガラスサンプル１２を得た。
【００８３】
［例１３］
例１と同様の方法で予め化学強化したガラス基板（旭硝子株式会社製、商品名：ドラゴントレイル（登録商標）サイズ：３００ｍｍ×３００ｍｍ、厚さ１．３ｍｍ。）を用いた。ガラス基板のアンチグレア処理部分を形成する側の主面（第１の主面）のほぼ中央部にφ２０ｍｍに切り出した耐酸性のマスクを貼った。ついで、該ガラス基板の表面を炭酸水素ナトリウム水で洗浄した後、イオン交換水でリンスし、乾燥させた。次に、ガラス基板を表面温度が８０℃になるようにオーブンで加熱し、中空シリカ微粒子分散液をスプレイ法にて、スプレイ圧力：０．４ＭＰａ、塗布液量：７ｍＬ／分、ノズル移動速度：７５０ｍｍ／分、スプレーピッチ：２２ｍｍ、ノズル先端とガラス基板との距離：１１５ｍｍ、液滴径：６．５９μｍでガラス基板上に膜厚が１０μｍとなるように塗布し、ヘイズ率が１０％のアンチグレア膜を形成した。その後、マスクを除去し、例１と同様の方法で低反射膜形成処理、防汚膜形成処理を行った。なお、アンチグレア膜を形成した側の主面のうち、マスクを貼ったφ２０ｍｍの中央部が平滑部分、それ以外の部分がアンチグレア処理部分となる。以上より、アンチグレアガラスサンプル１３を得た。
【００８４】
［例１４］
アンチグレア膜の膜厚を５０μｍにして、ヘイズ率を８％とした以外は例１３と同様の条件でアンチグレアガラスサンプル１４を作製した。
【００８５】
［例１５］
アンチグレア膜の膜厚を５μｍにして、ヘイズ率を１２％とした以外は例１３と同様の条件でアンチグレアガラスサンプル１５を作製した。
【００８６】
［例１６］
マスクを貼らず例１３の方法と同様にアンチグレア膜の形成、低反射膜形成処理および防汚膜形成処理を行った。その後、例９と同様の方法で研磨を行い、アンチグレアガラスサンプル１６を作製した。
【００８７】
［例１７］
例１６と同様の方法でアンチグレア処理、低反射膜形成処理および防汚膜形成処理を行った。その後、例１２と同様の方法で研磨を行い、アンチグレアガラスサンプル１７を作製した。
【００８８】
（２）評価方法
以下の例１〜例１７において得られたアンチグレアガラス基板の特性評価方法について以下に説明する。
【００８９】
（表面形状の測定）
例１〜例１７で作製した防汚膜成膜後の試料の平滑部分の表面形状について、レーザ顕微鏡（キーエンス社製、商品名：ＶＫ−９７００）を用いて、１０００倍の倍率で平面プロファイルを測定した。そして、得られた平面プロファイルから、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１（２００１）に基づいて表面粗さＲａ、ＲＭＳの値を算出した。平滑部分のうち、Ｒａ＜１０ｎｍとなる部分を非アンチグレア処理部分と定義した。なお、アンチグレアガラスサンプル９〜１２、１６、１７は、平滑部分のＲａは１０ｎｍ未満とならず、非アンチグレア処理部分は得られなかった。
また、平滑部分の端点より２ｍｍ離れた領域をアンチグレア処理部分の代表部位とし、平滑部分との高低差（高さの差ｈ）を得た。次に、アンチグレア処理部分の代表部位のＲＳｍの二倍相当の領域にグリット状に区切ってＲｚを測定視野全体に対して算出し、アンチグレア処理部分の代表部位と同等のＲｚを有する領域をアンチグレア処理部位と定義した。アンチグレア処理部分と平滑部分に挟まれた領域を勾配部位と定義し、その長さＹを測定した。そして、ｈ／Ｙ＝ｔａｎ（Ｘ／１８０×π）となるＸを計算し、角度Ｘと定義した。
【００９０】
（ヘイズ率）
例１〜例１７で製作した防汚膜成膜後の試料のアンチグレア処理部分における透過へイズ率の測定を行った。ヘイズ率の測定は、ヘイズメーター（スガ試験機株式会社製、型式：ＨＺ−Ｖ３）を用いて行った。
【００９１】
（透過率測定）
例１〜例１７で製作した防汚膜成膜後の試料の平滑部分における透過率の測定を行った。透過率の測定は島津製作所製紫外可視分光光度計ＳｏｌｉｄＳｐｅｃ−３７００で実施した。
【００９２】
（指紋拭取りテスト）
アンチグレア処理部分の防汚膜について以下の手順により指紋拭き取り性の確認を行った。各試料の段差部に同等の押しつけ力で、人口汗使用して指紋を付けた。その後、エタノールを付けたガーゼを用い、指紋が消えるまでの拭き取り回数を確認する拭き取り試験を実施した。１０回以内で指紋拭き取れた場合を○とし、１１回〜５０回の拭き取りで取れたものを△とし、５０回拭き取りを実施しても取れなかった場合は×とした。
【００９３】
（触り心地）
アンチグレア処理部分と平滑部分との境界付近について触り心地の評価を行った。１０人による、１：とても良い、２：良い、３：問題ない、４：悪い、５：非常に悪い、の５段階評価の平均値で評価した。
【００９４】
例１〜１７の評価結果を下記表に示す。
【００９５】
【表１】
2018158879.tif 000002
【００９６】
【表２】
2018158879.tif 000003
【００９７】
表１および表２から分かるように、アンチグレア処理部分と平滑部分（非アンチグレア処理部分）との高低差が１０μｍ未満である場合、同条件で拭き取り試験を行った場合、１０回の拭き取りでは指紋を拭取りきることができず、特にアンチグレア処理部分と平滑部分（非アンチグレア処理部分）との接続領域付近で優れた防汚性能が得られていないことが確認できた。また、アンチグレア処理部分と平滑部分（非アンチグレア処理部分）との高低差が１０μｍ未満であるアンチグレアガラスサンプルの接続領域は、汚れのような白曇りが確認された。一方で、角度Ｘが１５０°超であった場合では、通常よりは劣るが、防汚性能が得られていることがわかった。
【００９８】
本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは、当業者にとって明らかである。
本出願は、２０１７年３月２３日出願の日本特許出願２０１７−０５７２８０に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
【符号の説明】
【００９９】
１０，４０，７０  アンチグレアガラス基板
１１，４１，７１  ガラス基板
１２，４３，７３  防汚膜
２０，５０，８０  アンチグレア処理部分
３０，６０，９０  非アンチグレア処理部分
４２        アンチグレア膜
【図１】
2018158879.tif 000004
【図２】
2018158879.tif 000005
【図３】
2018158879.tif 000006
【図４】
2018158879.tif 000007
【図５】
2018158879.tif 000008
【図６】
2018158879.tif 000009