(57)【要約】【課題】一部の液晶が汚損されたり、気泡を含んだりしてしまうのを抑制した液晶セル、調光フィルム及び液晶セルの製造方法を提供する。【解決手段】  少なくとも基材を有する第１の積層体５Ｄと、少なくとも基材を有する第２の積層体５Ｕと、前記第１の積層体５Ｄと前記第２の積層体５Ｕとの間に挟持された液晶層８と、前記液晶層８内に配置され、前記液晶層８の厚みを保持するスペーサ１２と、前記液晶層８内において、前記スペーサ１２が配置されているスペーサ領域Ｓを包囲するとともに、前記スペーサ領域Ｓの内側と外側とをつなぐ、液晶８ａの流路が設けられた外枠部２０と、を備える液晶セル４を提供する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも基材を有する第１の積層体と、
少なくとも基材を有する第２の積層体と、
前記第１の積層体と前記第２の積層体との間に挟持された液晶層と、
前記液晶層内に配置され、前記液晶層の厚みを保持するスペーサと、
前記液晶層内において、前記スペーサが配置されているスペーサ領域を包囲するとともに、前記スペーサ領域の内側と外側とをつなぐ、液晶の流路が設けられた外枠部と、
を備える液晶セル。
【請求項２】
前記外枠部は、前記スペーサと同じ材料で形成され、前記スペーサよりも互いに密接して配置された柱状部材である、
請求項１に記載の液晶セル。
【請求項３】
前記外枠部は、前記スペーサと同じ材料で形成され、前記スペーサよりも低い高さで前記スペーサ領域を連続して包囲している、
請求項１に記載の液晶セル。
【請求項４】
前記外枠部は、耐汚染性を有する材料で形成され、前記スペーサよりも互いに密接して配置された柱状部材である、
請求項１に記載の液晶セル。
【請求項５】
前記外枠部は、耐汚染性を有する材料で形成され、前記スペーサよりも低い高さで前記スペーサ領域を連続して包囲している、
請求項１に記載の液晶セル。
【請求項６】
前記液晶の流路が、前記液晶が流れた痕跡である、
請求項１から５のいずれか１項に記載の液晶セル。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか１項に記載の液晶セルと、
前記液晶セルを挟持する偏光板と、
を備える調光フィルム。
【請求項８】
少なくとも基材を有する第１の積層体上にスペーサを形成するスペーサ形成工程と、
第１の積層体上における、前記スペーサが形成されているスペーサ領域を包囲するとともに、前記スペーサ領域の内側と外側とをつなぐ液晶の流路が設けられた外枠部を形成する外枠部形成工程と、
前記外枠部の外側を囲む仮シール部を形成する仮シール部形成工程と、
前記第１の積層体上における前記外枠部の内側に、液晶を滴下する液晶滴下工程と、
少なくとも基材を有する第２の積層体を前記第１の積層体と対向させて前記第１の積層体側に押圧し、前記外枠部の内側に前記液晶を充填させるとともに、前記液晶を、前記流路を通じて前記外枠部の内側から外側に流出させる積層工程と、
前記外枠部と前記仮シール部との間で切断し、前記仮シール部を含む部分をトリミングするトリミング工程と、
を有する液晶セルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶セル、調光フィルム及び液晶セルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、窓に貼り付けて外来光の透過を制御する電子ブラインド等に利用可能な調光フィルムに関する工夫が種々に提案されている（特許文献１、２）。このような調光フィルムの１つに、液晶を利用したものがある。このような液晶を利用した調光フィルムは、例えば、２枚の積層体の間の隙間に液晶を挟持して液晶セルを製造し、その液晶セルを２枚の偏光板で挟持することで製造される。
このような液晶セルは、従来、この２枚の積層体間の隙間の外縁部を、液晶の流出を防止するシール剤で囲み、この内側に液晶が滴下されることによって製造される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平０３−４７３９２号公報
【特許文献２】特開平０８−１８４２７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
シール剤は、液晶が滴下された時点では未硬化で、液晶が封入された後で硬化される。シール剤が未硬化の状態で液晶と接すると、液晶が汚染される。未硬化のシール剤と液晶とが接触しないように、液晶の滴下位置をシール剤から離間させ過ぎると、液晶とシール剤との間に気泡が残りやすい。一方、液晶の滴下位置をシール剤に近づけると、液晶とシール剤とが接触して液晶の汚染が発生する。また、液晶セルを汚染しにくいシール剤もあるが、汚染しにくいシール剤は積層体との密着性が弱い。一方、密着性が強いシール剤は、液晶セルを汚染しやすい傾向がある。このため、密着性と汚染耐性の両立は難しい。
【０００５】
本発明の課題は、一部の液晶が汚損されたり、気泡を含んだりしてしまうのを抑制した液晶セル、調光フィルム及び液晶セルの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上記課題を解決するために以下のものを提供する。
（１）少なくとも基材を有する第１の積層体と、少なくとも基材を有する第２の積層体と、前記第１の積層体と前記第２の積層体との間に挟持された液晶層と、前記液晶層内に配置され、前記液晶層の厚みを保持するスペーサと、前記液晶層内において、前記スペーサが配置されているスペーサ領域を包囲するとともに、前記スペーサ領域の内側と外側とをつなぐ液晶の流路が設けられた外枠部と、を備える液晶セル。
【０００７】
（２）  （１）において、前記外枠部は、前記スペーサと同じ材料で形成され、前記スペーサよりも互いに密接して配置された柱状部材である。
【０００８】
（３）  （１）において、前記外枠部は、前記スペーサと同じ材料で形成され、前記スペーサよりも低い高さで前記スペーサ領域を連続して包囲している。
【０００９】
（４）  （１）において、前記外枠部は、耐汚染性を有する材料で形成され、前記スペーサよりも互いに密接して配置された柱状部材である。
【００１０】
（５）  （１）において、前記外枠部は、耐汚染性を有する材料で形成され、前記スペーサよりも低い高さで前記スペーサ領域を連続して包囲している。
【００１１】
（６）  （１）から（５）のいずれかにおいて、前記液晶の流路が、前記液晶が流れた痕跡である。
【００１２】
（７）  （１）から（６）のいずれかの液晶セルと、前記液晶セルを挟持する偏光板と、を備える調光フィルム。
【００１３】
（８）少なくとも基材を有する第１の積層体上にスペーサを形成するスペーサ形成工程と、第１の積層体上における、前記スペーサが形成されているスペーサ領域を包囲するとともに、前記スペーサ領域の内側と外側とをつなぐ液晶の流路が設けられた外枠部を形成する外枠部形成工程と、前記外枠部の外側を囲む仮シール部を形成する仮シール部形成工程と、前記第１の積層体上における前記外枠部の内側に、液晶を滴下する液晶滴下工程と、少なくとも基材を有する第２の積層体を前記第１の積層体と対向させて前記第１の積層体側に押圧し、前記外枠部の内側に前記液晶を充填させるとともに、前記液晶を、前記流路を通じて前記外枠部の内側から外側に流出させる積層工程と、前記外枠部と前記仮シール部との間で切断し、前記仮シール部を含む部分をトリミングするトリミング工程と、を有する液晶セルの製造方法。
【発明の効果】
【００１４】
一部の液晶が汚損されたり、気泡を含んだりしてしまうのを抑制した液晶セル、調光フィルム及び液晶セルの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】第１実施形態の調光フィルム１の基本構成を説明する断面図である。
【図２】第１実施形態のスペーサ１２及び外枠部２０を説明する図であり、（ａ）は図１に示す調光フィルム１のＡ−Ａ断面図であり、液晶セル４部分のみを示す。（ｂ）は外枠部２０の部分斜視図である。
【図３】調光フィルム１の製造方法を説明するフローチャートである。
【図４】（ａ）から（ｄ）は実施形態の調光フィルム１の製造方法を説明する図である。
【図５】第２実施形態のスペーサ１２及び外枠部２２０を説明する図であり、（ａ）は調光フィルム１の断面図、（ｂ）は外枠部２２０の部分斜視図である。
【図６】第３実施形態のスペーサ１２及び外枠部３２０を説明する図であり、（ａ）は調光フィルム１の断面図、（ｂ）は外枠部３２０の部分斜視図である。
【図７】外枠部２０を構成する円柱部材２１を含む調光フィルム１の部分断面図である。
【図８】第４実施形態のスペーサ１２及び外枠部４２０を説明する図であり、（ａ）は調光フィルム１の断面図、（ｂ）は外枠部４２０の部分斜視図である。
【図９】第５実施形態の調光フィルム５０１の基本構成を説明する断面図である。
【図１０】第６実施形態の調光フィルム６０１の基本構成を説明する断面図である。
【図１１】第７実施形態の調光フィルム７０１の基本構成を説明する断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
（調光フィルム）
図１は、第１実施形態の調光フィルム１の基本構成を説明する概略断面図である。調光フィルム１は、液晶８ａを利用して透過光を制御するフィルム状の部材であり、直線偏光板２，３により液晶セル４を挟持している。
【００１７】
（直線偏光板）
直線偏光板２，３は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）にヨウ素等を含浸させた後、延伸して直線偏光板としての光学的機能を果たす光学機能層が形成され、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルム材による基材により光学機能層を挟持して作製される。
直線偏光板２，３は、クロスニコル配置により、アクリル系透明粘着樹脂等の接着剤層によって液晶セル４に配置される。なお、直線偏光板２，３には、それぞれ液晶セル４側に光学補償のための位相差フィルム２Ａ，３Ａが設けられるが、位相差フィルム２Ａ，３Ａは、必要に応じて省略してもよい。
【００１８】
（液晶セル）
液晶セル４は、フィルム状の下側積層体５Ｄ及び上側積層体５Ｕにより液晶層８を挟持して構成される。
【００１９】
（下側積層体，上側積層体）
下側積層体５Ｄは、透明フィルム材である基材６に、透明電極１１、スペーサ１２及び配向層１３を積層して形成される。上側積層体５Ｕは、透明フィルム材である基材１５に、透明電極１６及び配向層１７を積層して形成される。
【００２０】
（基材）
基材６，１５は、種々の透明フィルム材を適用することができるが、光学異方性の小さなフィルム材を適用することが望ましい。本実施形態において、基材６，１５は、厚み１００μｍのポリカーボネートフィルムが適用されるが、種々の厚みのフィルム材を適用することができ、さらにはＣＯＰ（シクロオレフィンポリマー）フィルム等を適用してもよい。
【００２１】
（透明電極）
透明電極１１，１６（一方の層、他方の層）は、この種のフィルム材に適用される各種の電極材料を適用することができ、本実施形態ではＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）による透明電極材により形成される。
【００２２】
（スペーサ１２）
スペーサ１２は、下側積層体５Ｄと上側積層体５Ｕとの間の隙間に配置されている。図２は、第１実施形態のスペーサ１２、及び後述の外枠部２０を説明する図であり、図２（ａ）は図１に示す調光フィルム１のＡ−Ａ断面図であり、後述の外周シール部１９を含まない液晶セル４部分のみの断面図である。図２（ｂ）は外枠部２０の部分斜視図である。
図示するように、スペーサ１２は、透明電極１１が作製された基材６（下側積層体５Ｄ）上に複数配置されている。スペーサ１２は、液晶層８の厚みを規定するために設けられ、各種の樹脂材料を広く適用することができる。本実施形態では、基材６上に、フォトレジストを塗工して露光、現像することにより円柱形状に作製される。スペーサ１２は、上側積層体５Ｕの基材１５に設けるようにしてもよく、基材６及び基材１５の双方に設けるようにしてもよい。また、スペーサ１２は、配向層１３の上に設けるようにしてもよい。
【００２３】
（外枠部２０）
基材６のスペーサ１２が配置されている領域（スペーサ領域Ｓ）を囲むようにして、外枠部２０が設けられている。外枠部２０は、複数の円柱部材２１で構成されている。個々の円柱部材２１は、スペーサ１２と同じ材料で同形に製造された円柱形状である。円柱部材２１は、基材６の外縁から一定の間隔を開けて、その外縁に沿って直線状に整列配置されている。円柱部材２１の互いの間隔ｘ１は一定であり、スペーサ１２の互いの間隔ｘ２より密接（ｘ１＜ｘ２）している。
この間隔ｘ１の隙間は、図２（ｂ）に示すように、液晶８ａの流路ｆとなり、液晶８ａは円柱部材２１間を流れ出ることが可能である。
【００２４】
（配向層）
配向層１３，１７は、光配向層により形成される。光配向層に適用可能な光配向材料は、光配向の手法を適用可能な各種の材料を広く適用することができるが、本実施形態では、例えば光二量化型の材料を使用する。この光二量化型の材料については、「Ｍ．Ｓｃｈａｄｔ，  Ｋ．Ｓｃｈｍｉｔｔ，  Ｖ．  Ｋｏｚｉｎｋｏｖ  ａｎｄ  Ｖ．  Ｃｈｉｇｒｉｎｏｖ  ：  Ｊｐｎ．  Ｊ．  Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，  ３１，  ２１５５（１９９２）」、「Ｍ．  Ｓｃｈａｄｔ，  Ｈ．  Ｓｅｉｂｅｒｌｅ  ａｎｄ  Ａ．  Ｓｃｈｕｓｔｅｒ  ：  Ｎａｔｕｒｅ，  ３８１，  ２１２（１９９６）」等に開示されている。なお光配向層に代えてラビング処理により配向層を作製してもよく、微細なライン状凹凸形状を賦型処理して配向層を作製してもよい。
【００２５】
配向層１３，１７は、配向層の塗工液を塗工した後、乾燥させ、その後、紫外線の照射により露光して作成される。配向層１３，１７のうちの１方の配向層は、この紫外線の照射において、マスクを使用した繰り返しの露光処理により、配向規制力の方向が異なる複数の領域が作成される。また残る配向層１３又は１７は、配向規制力が全面で均一に設定される。
【００２６】
（液晶層）
液晶層８に配置される液晶８ａは、この種の調光フィルム１に適用可能な各種の液晶８ａを広く適用することができ、例えば、ネマチック液晶を適用することができる。具体的には、液晶層８として、例えばメルク社製ＭＬＣ２１６６等の液晶を適用することができる。
【００２７】
（シール部）
図１に戻り、調光フィルム１の外周縁には、シール剤で製造された外周シール部１９が形成されている。外周シール部１９は、調光フィルム１の側面（厚み方向に平行な面）の全体を覆っている。外周シール部１９は、直線偏光板２，３、上側積層体５Ｕ、下側積層体５Ｄの外周縁を一体的に保持し、液晶８ａの漏出が防止される。
外周シール部１９は、例えば耐汚染性のエポキシ樹脂、紫外線硬化性樹脂等を適用することができる。
【００２８】
実施形態の調光フィルム１における液晶層８の配向制御には、ＶＡ方式（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ，垂直配向型）等が適用される。
ＶＡ方式では、駆動電源の振幅が０Ｖの場合（駆動電圧が０Ｖの場合）である無電界時、液晶層８の液晶８ａ分子は垂直配向し、これにより調光フィルム１は、入射光を遮光して遮光状態となる。また、駆動電源の振幅を増大させて駆動電圧を立ち上げると、液晶層８の液晶層は水平配向し、調光フィルム１は、入射光を透過させる。
しかし、ＶＡ方式に代えて、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｃｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ゲストホスト方式等、種々の駆動方式を適用してよい。
なお液晶セル４は、光配向層のパターンニング等により、本実施形態においては、いわゆるシングルドメインにより駆動する。
ＴＮ方式は、電界の印加により、液晶８ａ分子の配向を垂直方向と水平ねじれ方向とで変化させ、光の旋光性を利用して透過光量を制御する方式である。
ＩＰＳ方式は、配向させた液晶８ａ分子を基板に対して横（水平）方向に回転させることにより透過光量を制御する方式である。
ゲストホスト方式とは、二色性色素を液晶８ａ内に混合し、液晶８ａ分子の移動に伴い、二色性色素を移動させることで、光の透遮光を制御する方式であり、この場合、直線偏光板は省略してもよい。
【００２９】
（製造工程）
（電極作製工程）
次に、本実施形態の調光フィルム１の製造工程について説明する。図３は実施形態の調光フィルム１の製造方法を説明するフローチャートである。図４（ａ）から（ｄ）は実施形態の調光フィルム１の製造方法を説明する図である。なお、調光フィルム１の製造工程は、本実施形態において真空下で行うが、これに限定されず、常圧で行うこともできる。
【００３０】
調光フィルム１の製造工程ＳＰ１は、電極作製工程ＳＰ２において、スパッタリング装置を使用したスパッタリング等によってＩＴＯを用いて、下側積層体５Ｄ及び上側積層体５Ｕに係る基材６，１５に透明電極１１、１６を作製する。ここで、電極作製工程ＳＰ２は、透明電極をパターンニングする工程をさらに備えていてもよい。
【００３１】
（スペーサ１２及び外枠部作製工程）
続いて、スペーサ１２及び外枠部作製工程ＳＰ３において、透明電極１１が形成された基材６に、図４（ａ）に示すように、スペーサ１２及び外枠部２０を作製する。
スペーサ１２及び外枠部作製工程ＳＰ３は、フォトレジスト塗工工程ＳＰ３−１と、露光工程ＳＰ３−２と、現像工程ＳＰ３−３とを含む。
【００３２】
フォトレジスト塗工工程ＳＰ３−１において、基材６にフォトレジストの塗工液を塗工した後、乾燥させ、これによりフォトレジスト層を作製する。
露光工程ＳＰ３−２において、露光装置によりフォトレジスト層をスペーサ１２と外枠部２０に対応するマスクを用いて露光処理する。
現像工程ＳＰ３−３において、現像液により現像した後、洗浄、リンス、乾燥処理し、これらによりスペーサ１２及び外枠部２０を作製する。
なお、本実施形態では、スペーサ１２及び外枠部２０は、基材６側に設けられる例を示したが、これに限定されるものでなく、基材１５側や、基材６及び基材１５の両方に作製されるようにしてもよい。
本実施形態では、スペーサ１２及び外枠部２０を同時に作製することができるので、外枠部２０のため工程を別途設ける必要がない。ただし、これに限らず、スペーサ作製工程と、外枠部作製工程とを分けてスペーサ１２及び外枠部２０を別々に作製してもよい。
【００３３】
（塗工工程）
続く塗工工程ＳＰ４において、このようにしてスペーサ１２及び外枠部２０を作製した基材６に配向層１３に係る塗工液を塗工した後、乾燥させる。また他方の基材１５についても、同様にして配向層１７に係る塗工液を塗工した後、乾燥させる。
【００３４】
（露光工程）
露光工程ＳＰ５において、塗工液が塗工された部分を紫外線の照射により露光する。配向層１３，１７のうちの１方の配向層は、この紫外線の照射において、マスクを使用した繰り返しの露光処理により、配向規制力の方向が異なる複数の領域が作成される。また残る配向層１３又は１７は、配向規制力が全面で均一に設定される。
なお、光配向層ではない場合、露光工程ＳＰ５に代えて配向層１３，１７の材料層を作製した基材６，１５をラビング処理し、配向層１３，１７を作製する。
【００３５】
（仮シール部作製工程）
仮シール部作製工程ＳＰ６において、図４（ｂ）に示すように、ディスペンサや印刷を使用して、基材６上の外枠部２０よりもさらに外側に、シール剤を塗布し、液晶８ａの流出を阻止する矩形の壁状の仮シール部９を形成する。
なお、仮シール部９は、後述するトリミング工程ＳＰ１０においてトリミングされて除去される。そして仮シール部９がトリミングされた後の液晶セル４の外周に外周シール部１９が形成される。
【００３６】
（液晶滴下工程）
続く、液晶滴下工程ＳＰ７において、スペーサ領域Ｓの複数個所に、液晶８ａを滴下する。液晶８ａの滴下は、ディスペンサやインクジェットにより行う。
【００３７】
（積層工程）
積層工程ＳＰ８において、液晶８ａが滴下された基材６（下側積層体５Ｄ）に、基材１５（上側積層体５Ｕ）を積層して押圧する。
【００３８】
（液晶８ａの広がり方）
液晶滴下工程ＳＰ７においてスペーサ領域Ｓに滴下された液晶８ａは、積層工程ＳＰ８において、基材１５（上側積層体５Ｕ）によって押圧されて外周へと流れ、図４（ｃ）に示すように外枠部２０の内側から外枠部２０間の隙間（図２（ｂ）の流路ｆ）を通って外へと流れる。
【００３９】
ここで、外枠部２０が配置されている部分では、円柱部材２１の間隔がスペーサ１２より密接しているので、液晶８ａは通りにくい。すなわち、液晶８ａは、外枠部２０の部分において流れが停滞しやすくなり、外枠部２０の内側の隅々まで行きわたる。ゆえに、液晶８ａは、外枠部２０の内部において気泡等が発生しにくく、均一に充填される。
【００４０】
ここで、例えば、本実施形態と異なり外枠部２０が設けられていない場合、矩形の仮シール部９内に液晶８ａを滴下すると、液晶８ａは滴下位置を中心として円形に広がる。したがって、仮シール部９における滴下位置と近い部分においては、液晶８ａと仮シール部９とが接触する可能性が高い。仮シール部９が半硬化状態で仮シール部９と液晶８ａとが接触すると、仮シール部９と接触した液晶８ａが汚染される場合がある。
しかし、本実施形態において液晶８ａは、仮シール部９と接触する前に、その仮シール部９と略相似形の外枠部２０の矩形形状に整えられた後、仮シール部９側に広がっていく。
したがって、液晶８ａの流れの一部が、他よりも早く仮シール部９と接する可能性が低減される。ゆえに液晶８ａの汚染の可能性が低減される。
【００４１】
ただし、外枠部２０よりも外側においては、液晶８ａと仮シール部９との接触の可能性を完全に排除することができず、接触する場合もある。この場合、液晶８ａが汚染される可能性がある（図４（ｃ）の領域Ｓ１）。また、例えば、仮シール部９の角部において、液晶８ａが充填されず、気泡Ｓ２が発生する可能性もある。これらについては後述のようにトリミングにより対処する。
【００４２】
（トリミング工程）
このようにして作製された上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄの積層体を続くトリミング工程ＳＰ１０において、図４（ｄ）に示すように外枠部２０と仮シール部９との間でトリミング（切断）し、図２に示す液晶セル４を作製する。
このトリミングにより、上述の積層工程ＳＰ８で述べたように、汚染が発生し、また気泡が発生している可能性がある部分がトリミングされる。図４（ｄ）の一点鎖線Ｌは、トリミングするラインを示したものである。
本実施形態によると、汚染や気泡が発生している可能性がある、外周シール部１９に近い部分をトリミングするので、液晶セル４は、汚染や気泡を含まないものとなる。
【００４３】
（貼合工程）
続く貼合工程ＳＰ１１において、直線偏光板２、３を粘着材により液晶セル４に貼り合せる。なお、ゲストホスト型液晶を用いる場合は、直線偏光板を必要としないので、この貼合工程を省略してもよい。
【００４４】
（シール工程）
シール工程ＳＰ１２において、直線偏光板２，３が貼合された液晶セル４の外周を、外周シール部１９で覆う。外周シール部１９としては耐汚染性の強いものを用いる。耐汚染性の外周シール部１９は液晶８ａと接触する可能性もあるが、耐汚染性が高いので、液晶８ａが汚染される可能性は低い。外周シール部１９は、外周端部面を覆った後、紫外線のみで硬化、あるいは紫外線で仮硬化した後、熱で本硬化する。
【００４５】
以上、本実施形態によると、以下の効果を有する。
（１）外枠部２０が配置されている部分では、円柱部材２１の間隔がスペーサ１２より密接しているので、液晶８ａは通りにくい。すなわち、液晶８ａは、外枠部２０の部分において流れが停滞し、外枠部２０の内側の隅々まで行きわたる。ゆえに、液晶８ａは、外枠部２０の内部において気泡等が発生しにくく、均一に充填される。
【００４６】
（２）外枠部２０を超えて外枠部２０の外部に流出した液晶８ａは、仮シール部９と接触し、液晶８ａが汚染され、また、仮シール部９の角部の液晶層８において気泡が発生する可能性がある。しかし、それらの部分はトリミングされる。したがって、気泡や汚染部分を含まない、全面において高性能の調光フィルム１を製造することができる。
【００４７】
（３）液晶８ａは、仮シール部９と接触する前に、その仮シール部９と略相似形の外枠部２０の形状に整えられた後、仮シール部９側に広がっていく。したがって、液晶８ａの流れの一部が、他よりも早く仮シール部９と接する可能性が低減される。ゆえに、液晶８ａの汚染の可能性自体も低減される。
【００４８】
（４）本実施形態ではスペーサ１２及び外枠部２０が同じ材料で製造されるので、これらを同時に作製することができるので、外枠部２０のための製造工程を別途設ける必要がない。
【００４９】
（５）外周シール部１９は、液晶８ａと接触する可能性もあるが耐汚染性の高いシールであるので、汚染する可能性が低い。液晶の濡れ広がりを制御する事で未硬化シールと全く接触せず、気泡も混入していない耐久性のある調光セルを作製することが出来る。
【００５０】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態について説明する。図５は第２実施形態のスペーサ１２及び外枠部２２０を説明する図であり、（ａ）は液晶セル２０４の断面図であり、（ｂ）は外枠部２２０の部分斜視図である。第２実施形態が第１実施形態と異なる点は、外枠部２２０の形状である。第１実施形態と同様な部分は同一の符号を付し、説明を省略する。
外枠部２２０は、図５（ａ）に示すように、スペーサ１２が配置されているスペーサ領域Ｓを囲むようにして設けられている。外枠部２２０は、下側積層体５Ｄの外縁から一定の間隔を開けて、その外縁に沿って直線状に連続して延びる一体の部材である。
外枠部２２０の断面（外枠部２２０の延びる方向と直交する方向の断面）は、略矩形で、外枠部２２０の高さ（液晶層８の厚み方向の高さ）は、下側積層体５Ｄと上側積層体５Ｕとの間の距離よりも低い。すなわち、外枠部２２０と上側積層体５Ｕとの間には隙間が空いている。
【００５１】
液晶滴下工程ＳＰ７において外枠部２０の内部に滴下された液晶８ａは、積層工程ＳＰ８において、上側積層体５Ｕによって押圧されると、液晶８ａは、図８（ｂ）に示すように外枠部２０を乗り越えて外周へと広がっていく。
【００５２】
本実施形態においても、第１実施形態と同様に、液晶層内において、スペーサが配置されているスペーサ領域Ｓを包囲するとともに、スペーサ領域Ｓの内側と外側とをつなぐ液晶８ａの流路ｆが設けられた外枠部２２０を備える。外枠部２２０が配置されている部分では、液晶８ａは通りにくい。すなわち、液晶８ａは、外枠部２２０の部分において流れが停滞し、外枠部２２０の内側の隅々まで行きわたる。ゆえに、液晶８ａは、外枠部２２０の内部において気泡等が発生しにくく、均一に充填される。
さらに、第１実施形態と同様に、外枠部２２０を超えて外枠部２２０の外部に流出した液晶８ａは、仮シール部と接触し、液晶８ａが汚染され、また、仮シール部の角部の液晶層８において気泡が発生する可能性がある。しかし、それらの部分はトリミングされる。したがって、気泡や汚染部分を含まない、全面において高性能の調光フィルムを製造することができる。
その他の効果についても第１実施形態と同様である。
【００５３】
（第３実施形態）
次に、本発明の第３実施形態について説明する。図６は第３実施形態のスペーサ１２及び外枠部３２０を説明する図であり、（ａ）は液晶セル３０４の断面図、（ｂ）は外枠部３２０の部分斜視図である。
第３実施形態が第１実施形態と異なる点は、外枠部３２０の形状、材料及び製造方法である。第１実施形態と同様な部分には同一の符号を付し、説明を省略する。
外枠部３２０は、図６（ａ）に示すように、スペーサ１２が配置されているスペーサ領域Ｓを囲むようにして設けられている。外枠部３２０は、下側積層体５Ｄの外縁から一定の間隔を開けて、その外縁に沿って直線状に整列配置されている。
外枠部２０は、複数の略円錐部材３２１（液体を滴下した形状）で構成される。個々の略円錐部材３２１は、耐汚染性の材料を滴下することによって製造される。略円錐部材３２１の互いの間隔は一定であり、スペーサ１２の互いの間隔より密接している。
なお、外枠部２０は本実施形態では略円錐部材３２１としたが、これに限定されず、多角錐部材や、下部が柱部材で上部が円錐部材や多角錐部材である形等であっても良い。
【００５４】
液晶滴下工程ＳＰ７において基材６上の外枠部３２０よりも内側に滴下された液晶８ａは、積層工程ＳＰ８において、基材１５（上側積層体５Ｕ）によって押圧されて外周へと流れ、図４（ｃ）に示すように外枠部３２０の内側から外枠部３２０間の隙間（図６（ｂ）の流路ｆ）を通って外へと流れる。
【００５５】
本実施形態においても、第１実施形態と同様に、液晶層内において、スペーサが配置されているスペーサ領域Ｓを包囲するとともに、スペーサ領域Ｓの内側と外側とをつなぐ液晶の流路ｆが設けられた外枠部３２０を備える。外枠部３２０が配置されている部分では、液晶８ａは通りにくい。すなわち、液晶８ａは、外枠部３２０の部分において流れが停滞し、外枠部３２０の内側の隅々まで行きわたる。ゆえに、液晶８ａは、外枠部３２０の内部において気泡等が発生しにくく、均一に充填される。
さらに、第１実施形態と同様に、外枠部３２０を超えて外枠部３２０の外部に流出した液晶８ａは、仮シール部と接触し、液晶８ａが汚染され、また、仮シール部の角部の液晶層８において気泡が発生する可能性がある。しかし、それらの部分はトリミングされる。したがって、気泡や汚染部分を含まない、全面において高性能の調光フィルムを製造することができる。
その他の効果についても第１実施形態と同様である。
さらに、本実施形態の略円錐部材３２１は、スペーサ１２のようにマスク等を必要とせずに滴下で製造可能であるので、製造が容易である。
【００５６】
なお、本実施形態において、略円錐部材３２１として、例えば、容易に変形する材料を用いた場合（硬化前のシール材など）、第１実施形態で説明した積層工程ＳＰ８において、略円錐部材３２１が変形する可能性がある。
すなわち、液晶８ａが滴下された基材６（下側積層体５Ｄ）に、基材１５（上側積層体５Ｕ）を積層して押圧すると、外枠部３２０（略円錐部材３２１）にも押圧力が加わる。このため、略円錐部材３２１の軸方向（調光フィルムの厚み方向）の長さが短縮する方向に変形し、略円錐部材３２１が径方向に太くなり、隣接する略円錐部材３２１が接触して隙間がなくなる場合がある。
図７は、このような隣接する略円錐部材３２１の接触部を通る、液晶セル３０４の部分断面図である。液晶８ａが流れている状態で略円錐部材３２１が押し潰されると、隣接する略円錐部材３２１間に液晶８ａが挟まれて筋状液晶８ｂが残る。
【００５７】
（第４実施形態）
次に、本発明の第４実施形態について説明する。第４実施形態が第１実施形態と異なる点は、外枠部４２０の形状である。第１実施形態と同様な部分には同一の符号を付し、説明を省略する。
図８は第４実施形態のスペーサ１２及び外枠部４２０を説明する図であり、（ａ）は液晶セル４０４の断面図、（ｂ）は外枠部４２０の部分斜視図である。
外枠部４２０は、図８に示すように、スペーサ１２が配置されているスペーサ領域Ｓを囲むようにして設けられている。外枠部４２０は、下側積層体５Ｄの外縁から一定の間隔を開けて、その外縁に沿って直線状に連続して延びる一体の部材である。
外枠部４２０の断面（外枠部４２０の延びる方向に対して直交する断面）は、略矩形で、外枠部４２０の高さ（液晶層８の厚み方向の高さ）は、下側積層体５Ｄと上側積層体５Ｕとの間の距離よりも低い。すなわち、外枠部４２０と上側積層体５Ｕとの間には隙間が空いている。外枠部２０は、耐汚染性の材料を直線状に滴下することで製造されている。
【００５８】
液晶滴下工程ＳＰ７において外枠部２０の内部に滴下された液晶８ａは、積層工程ＳＰ８において、上側積層体５Ｕによって押圧されると、図８（ｂ）に示すように外枠部４２０の内側から外枠部４２０間の隙間（図８（ｂ）の流路ｆ）を通って外へと流れる。
【００５９】
本実施形態においても、第１実施形態と同様に、液晶層内において、スペーサが配置されているスペーサ領域Ｓを包囲するとともに、スペーサ領域Ｓの内側と外側とをつなぐ液晶の流路ｆが設けられた外枠部４２０を備える。外枠部４２０が配置されている部分では、液晶８ａは通りにくい。すなわち、液晶８ａは、外枠部４２０の部分において流れが停滞し、外枠部４２０の内側の隅々まで行きわたる。ゆえに、液晶８ａは、外枠部４２０の内部において気泡等が発生しにくく、均一に充填される。
さらに、第１実施形態と同様に、外枠部４２０を超えて外枠部４２０の外部に流出した液晶８ａは、仮シール部と接触し、液晶８ａが汚染され、また、仮シール部の角部の液晶層８において気泡が発生する可能性がある。しかし、それらの部分はトリミングされる。したがって、気泡や汚染部分を含まない、全面において高性能の調光フィルムを製造することができる。
その他の効果についても第１実施形態と同様である。
【００６０】
（第５実施形態）
次に、本発明の第５実施形態について説明する。図９は、第５実施形態の調光フィルム５０１の基本構成を説明する断面図である。第５実施形態の調光フィルム５０１が第１実施形態と異なる点は、直線偏光板５０２，５０３の液晶セル５０４に対する面積（フィルムの延びる方向の面積、厚み方向と直交する方向の面積）と、調光フィルム５０１の外周における外周シール部５１９が覆う領域である。第１実施形態と同様な部分の説明は省略する。
【００６１】
直線偏光板５０２，５０３は液晶セル５０４より面積が広く、図９に示すように、直線偏光板５０２，５０３の端部は液晶セル５０４の端部よりも外側にはみ出している。
【００６２】
外周シール部５１９は、液晶セル５０４の外周縁を覆っているが、直線偏光板５０２，５０３の外周縁は覆わない。第１実施形態では、貼合工程ＳＰ１１の後にシール工程ＳＰ１２であったが、本実施形態ではシール工程の後に貼合工程を行う。すなわち、シール工程において、液晶セル５０４の外周を外周シール部５１９で覆う。その後、貼合工程において、直線偏光板５０２、５０３を粘着材により液晶セル５０４に貼り合せる。
【００６３】
本実施形態においても、第１実施形態と同様に、液晶層８内において、スペーサが配置されているスペーサ領域Ｓを包囲するとともに、スペーサ領域Ｓの内側と外側とをつなぐ液晶の流路ｆが設けられた外枠部５２０を備える。外枠部５２０が配置されている部分では、液晶８ａは通りにくい。すなわち、液晶８ａは、外枠部５２０の部分において流れが停滞し、外枠部５２０の内側の隅々まで行きわたる。ゆえに、液晶８ａは、外枠部５２０の内部において気泡等が発生しにくく、均一に充填される。
さらに、第１実施形態と同様に、外枠部５２０を超えて外枠部５２０の外部に流出した液晶８ａは、仮シール部と接触し、液晶８ａが汚染され、また、仮シール部の角部の液晶層８において気泡が発生する可能性がある。しかし、それらの部分はトリミングされる。したがって、気泡や汚染部分を含まない、全面において高性能の調光フィルム５０１を製造することができる。
その他の効果についても第１実施形態と同様である。
【００６４】
（第６実施形態）
次に、本発明の第６実施形態について説明する。図１０は、第６実施形態の調光フィルム６０１の基本構成を説明する断面図である。第６実施形態の調光フィルム６０１が第１実施形態と異なる点は、トリミング工程におけるトリミング位置である。
第１実施形態で外枠部２０と仮シール部９との間をトリミングし、外枠部２０よりも外側に液晶８ａが存在する領域が設けられていたが、第６実施形態ではトリミング工程において、外枠部６２０上をトリミングする。したがって、図１０に示すように、液晶層６０８の最外周は、外枠部６２０となる。
そして、その外枠部６２０を含む液晶セル６０４と、直線偏光板６０２，６０３との外周側を覆うように、外周シール部６１９が配置される。
本実施形態においても、トリミング位置は異なるが、汚染や気泡が発生している可能性がある仮シール部に近い部分がトリミングされるので、液晶セル４は、汚染や気泡を含まないものとなる。また、その他の効果についても第１実施形態と同様である。
【００６５】
（第７実施形態）
次に、本発明の第７実施形態について説明する。図１１は、第７実施形態の調光フィルム７０１の基本構成を説明する断面図である。
第１実施形態で外枠部２０と仮シール部９との間をトリミングし、外枠部２０よりも外側に液晶８ａが存在する領域が設けられていたが、第７実施形態では、第６実施形態と同様にトリミング工程において、外枠部７２０上をトリミングする。したがって、図１１に示すように、液晶層７０８の最外周は、外枠部７２０となる。そして、その外枠部７２０を含む液晶セル７０４の外周側に、外周シール部７１９が配置される。
【００６６】
直線偏光板７０２，７０３は、第５実施形態と同様に、液晶セル７０４より面積が広く、図１１に示すように、直線偏光板７０２，７０３の端部は液晶セル７０４の端部よりも外側にはみ出している。外周シール部７１９は液晶セル７０４の外周縁を覆っているが、直線偏光板７０２，７０３の外周縁は覆わない。本実施形態においても、第１実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００６７】
（他の実施形態）
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を種々に変更することができる。
【００６８】
（変形形態）
（１）本実施形態では、スペーサとして柱状のスペーサを用いたが、これに限定されずビーズスペーサを用いてもよい。
（２）スペーサ１２は、上側積層体５Ｕに設けるようにしてもよく、上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄの双方に設けるようにしてもよい。また、スペーサ１２は、配向層１３の上に設けるようにしてもよい。
（３）光配向層に代えてラビング処理により配向層を作製してもよく、微細なライン状凹凸形状を賦型処理して配向層を作製してもよい。
（４）実施形態の調光フィルム１における液晶層８の配向制御には、ＶＡ方式（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ，垂直配向型）等が適用される。しかし、上述したように、ＶＡ方式に代えて、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｃｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ゲストホスト方式等、種々の駆動方式を適用してよい。
ＴＮ方式は、電界の印加により、液晶８ａ分子の配向を垂直方向と水平ねじれ方向とで変化させ、光の旋光性を利用して透過光量を制御する方式である。
ＩＰＳ方式は、配向させた液晶８ａ分子を基板に対して横（水平）方向に回転させることにより透過光量を制御する方式である。
ゲストホスト方式とは、二色性色素を液晶８ａ内に混合し、液晶８ａ分子の移動に伴い、二色性色素を移動させることで、光の透遮光を制御する方式であり、直線偏光板は必須ではない。
【符号の説明】
【００６９】
Ｓ  スペーサ領域
１  調光フィルム
５０１，６０１，７０１  調光フィルム
２，３，５０２，５０３，６０２，６０３，７０２，７０３  直線偏光板
４，２０４，３０４，４０４，５０４，６０４，７０４  液晶セル
５Ｄ  下側積層体
５Ｕ  上側積層体
６  基材
８，６０８，７０８  液晶層
８ａ  液晶
８ｂ  筋状液晶
９  仮シール部
１１  透明電極
１２  スペーサ
１３  配向層
１５  基材
１６  透明電極
１７  配向層
１９  外周シール部
５１９，６１９，７１９  外周シール部
２０，２２０，３２０，４２０，５２０，６２０，７２０  外枠部
２１  円柱部材
３２１  円錐部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2018097261.tif 000009
【図８】
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【図９】
2018097261.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
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