(57)【要約】【課題】電子写真感光体の感光層に長手方向の感度ムラが発生することを抑制する導電性支持体を提供すること。【解決手段】金属からなる肉厚ｔが０．５ｍｍ以下の無底中空円筒部材で構成され、少なくとも一端の外周面側に周方向全体にわたる面取り部を有し、前記面取り部は、外周面に対する面取り角ａが１０°以上３０°未満であり、端面における面取り幅ｂが０．０５ｍｍ以上であり、前記面取り部を有する端面において端面幅ｃが０．１ｍｍ以上である、電子写真感光体用の導電性支持体。【選択図】図２
2018097204.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属からなる肉厚ｔが０．５ｍｍ以下の無底中空円筒部材で構成され、
少なくとも一端の外周面側に周方向全体にわたる面取り部を有し、
前記面取り部は、外周面に対する面取り角ａが１０°以上３０°未満であり、端面における面取り幅ｂが０．０５ｍｍ以上であり、
前記面取り部を有する端面において端面幅ｃが０．１ｍｍ以上である、
電子写真感光体用の導電性支持体。
【請求項２】
前記端面幅ｃが０．３ｍｍ以下である、請求項１に記載の導電性支持体。
【請求項３】
前記面取り角ａが１０°以上２０°以下である、請求項１又は請求項２に記載の導電性支持体。
【請求項４】
請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の導電性支持体と、前記導電性支持体上に配置された感光層と、を有する電子写真感光体。
【請求項５】
請求項４に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【請求項６】
請求項４に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を、トナーを含む現像剤により現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体用の導電性支持体、電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式の画像形成装置が備える電子写真感光体としては、導電性支持体上に少なくとも感光層を配置した電子写真感光体が知られている。
【０００３】
例えば特許文献１には、肉厚ｔが０．７ｍｍ以下の管状体であって端面の面取り角ａが３０°以上６０°以下であり面取り幅ｂが０．０５ｍｍ以上である感光層支持体上に、酸化亜鉛を含まない感光層が設けられた正帯電単層型電子写真感光体が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第５６６３５４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、面取り角ａが１０°未満若しくは３０°以上又は面取り幅ｂが０．０５ｍｍ未満である場合に比べて、電子写真感光体の感光層に長手方向の感度ムラが発生することを抑制する導電性支持体を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題を解決するための具体的手段には、下記の態様が含まれる。
【０００７】
請求項１に係る発明は、
金属からなる肉厚ｔが０．５ｍｍ以下の無底中空円筒部材で構成され、
少なくとも一端の外周面側に周方向全体にわたる面取り部を有し、
前記面取り部は、外周面に対する面取り角ａが１０°以上３０°未満であり、端面における面取り幅ｂが０．０５ｍｍ以上であり、
前記面取り部を有する端面において端面幅ｃが０．１ｍｍ以上である、
電子写真感光体用の導電性支持体。
【０００８】
請求項２に係る発明は、
前記端面幅ｃが０．３ｍｍ以下である、請求項１に記載の導電性支持体。
【０００９】
請求項３に係る発明は、
前記面取り角ａが１０°以上２０°以下である、請求項１又は請求項２に記載の導電性支持体。
【００１０】
請求項４に係る発明は、
請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の導電性支持体と、前記導電性支持体上に配置された感光層と、を有する電子写真感光体。
【００１１】
請求項５に係る発明は、
請求項４に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【００１２】
請求項６に係る発明は、
請求項４に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を、トナーを含む現像剤により現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の効果】
【００１３】
請求項１に係る発明によれば、面取り角ａが１０°未満若しくは３０°以上又は面取り幅ｂが０．０５ｍｍ未満である場合に比べて、電子写真感光体の感光層に長手方向の感度ムラが発生することを抑制する導電性支持体が提供される。
請求項２に係る発明によれば、端面幅ｃが０．３ｍｍ超である場合に比べて、電子写真感光体の感光層に長手方向の感度ムラが発生することを抑制する導電性支持体が提供される。
請求項３に係る発明によれば、面取り角ａが２０°超である場合に比べて、電子写真感光体の感光層に長手方向の感度ムラが発生することを抑制する導電性支持体が提供される。
請求項４に係る発明によれば、導電性支持体における面取り角ａが１０°未満若しくは３０°以上又は面取り幅ｂが０．０５ｍｍ未満である場合に比べて、感光層に長手方向の感度ムラが発生しにくい電子写真感光体が提供される。
請求項５及び６に係る発明によれば、導電性支持体における面取り角ａが１０°未満若しくは３０°以上又は面取り幅ｂが０．０５ｍｍ未満である場合に比べて、電子写真感光体の感光層に長手方向の感度ムラが発生しにくいプロセスカートリッジ及び画像形成装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本実施形態に係る導電性支持体の一例を示す概略斜視図である。
【図２】本実施形態に係る導電性支持体の一例を示す概略断面図である。
【図３】本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の一例を示す概略部分断面図である。
【図４】本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
【図５】本実施形態に係る画像形成装置の別の一例を示す概略構成図である。
【図６】導電性支持体の端面の強度を評価するために用いる円柱形ガイド棒の概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下に、発明の実施形態を説明する。これらの説明及び実施例は実施形態を例示するものであり、発明の範囲を制限するものではない。
【００１６】
本明細書において組成物中の各成分の量について言及する場合、組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合には、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計量を意味する。
【００１７】
本明細書において、「電子写真感光体」を単に「感光体」ともいう。本明細書において、導電性支持体又は電子写真感光体の長手方向とは、導電性支持体又は電子写真感光体の回転方向に直交する方向である。
【００１８】
＜導電性支持体＞
本実施形態に係る導電性支持体は、金属からなる肉厚ｔが０．５ｍｍ以下の無底中空円筒部材で構成され、少なくとも一端の外周面側に周方向全体にわたる面取り部を有する。前記面取り部は、外周面に対する面取り角ａが１０°以上３０°未満であり、端面における面取り幅ｂが０．０５ｍｍ以上である。そして、本実施形態に係る導電性支持体は、前記面取り部を有する端面の端面幅ｃが０．１ｍｍ以上である。
【００１９】
図１及び図２を参照しながら、本実施形態に係る導電性支持体を説明する。
図１は、電子写真感光体用の導電性支持体の一例を示す概略斜視図であり、図１に図示された導電性支持体４Ａは、無底の中空円筒部材である。図２は、図１のＡ−Ａ断面図及びその一部の拡大図であり、導電性支持体４Ａを長手方向かつ径方向に切断したときの断面を図示している。
【００２０】
図１に図示された導電性支持体４Ａは、両端の外周面側及び内周面側に、周方向全体にわたる面取り部を有する。本実施形態に係る導電性支持体は、これに限られず、少なくとも一端の外周面側に、周方向全体にわたる面取り部を有していればよく、内周面側には面取り部を有していなくてもよい。面取り部の斜面の形状（導電性支持体を長手方向かつ径方向に切断したときの断面に現れる形状）は、直線でもよく曲線でもよい。
【００２１】
肉厚ｔは、面取り部を除く部位における、導電性支持体の平均厚である。肉厚ｔは、導電性支持体の長手方向に等間隔に１０か所および周方向に４か所（９０°刻み）の合計４０か所において測定し平均した値である。
【００２２】
面取り角ａは、外周面に対する角度であり、導電性支持体の外周面の長手方向延長線と、面取り部の斜面とが成す角度である。面取り部の斜面の形状が曲線である場合は、外周面における面取りの起点と、端面における面取りの起点とを結ぶ直線を、面取り部の斜面とみなす。
【００２３】
面取り幅ｂは、端面における面取りの起点から、外周面の長手方向延長線までの距離である。
【００２４】
端面幅ｃは、面取り部を有する端面の径方向長さである。端面幅ｃは、いわば、端面における面取り後の残部幅である。外周面側だけでなく内周面側にも面取り部を有する場合は、端面幅ｃは、端面における外周面側の面取りの起点と、端面における内周面側の面取りの起点との距離に相当する。
【００２５】
内周面側の面取りは任意である。図１に図示された導電性支持体４Ａが有する内周面側の面取り部について、面取り角ｄ及び面取り幅ｅは以下のとおりである。
【００２６】
面取り角ｄは、内周面に対する角度であり、導電性支持体の内周面の長手方向延長線と、面取り部の斜面とが成す角度である。面取り部の斜面の形状が曲線である場合は、内周面における面取りの起点と、端面における面取りの起点とを結ぶ直線を、面取り部の斜面とみなす。
【００２７】
面取り幅ｅは、端面における面取りの起点から、内周面の長手方向延長線までの距離である。
【００２８】
本実施形態に係る導電性支持体は、感光体の感光層に長手方向の感度ムラが発生することを抑制する。その理由は、以下のように推測される。
【００２９】
肉厚の比較的薄い導電性支持体に、その長手方向を重力方向にして感光層形成用塗布液を浸漬塗布し、次いで、その長手方向を重力方向とした姿勢のままで塗膜を乾燥させて感光層を形成した場合、得られた感光層は長手方向に感度ムラが発生しやすい。塗膜を乾燥させる際に、導電性支持体上の塗膜が重力方向下端で厚くなりこの部分で溶剤気化量が多くなることと、肉厚の比較的薄い導電性支持体は熱容量が小さい故に溶剤気化によって塗膜が冷えやすく結露が発生しやすいこととにより、感光層に長手方向の性状ムラを発生させ、その結果、感光層に長手方向の感度ムラが発生すると推測される。
これに対して、導電性支持体の少なくとも一端の外周面側を面取りして、この面取りした一端を重力方向下端にして浸漬塗布及び乾燥すると、導電性支持体上の塗膜が重力方向下端で薄くなり、この部分で気化する溶剤量が相対的に少なくなって塗膜の冷却及び結露発生が抑制され、これにより、感光層の長手方向の性状ムラ発生が抑制され、その結果、感光層の長手方向の感度ムラが抑制されると推測される。
【００３０】
本実施形態において肉厚ｔは、感光体の軽量化の観点から、０．５ｍｍ以下であり、０．５ｍｍ未満がより好ましく、０．４ｍｍ以下が更に好ましい。本実施形態において肉厚ｔは、導電性支持体及び感光体の強度を確保する観点からは、０．２ｍｍ以上が好ましく、０．３ｍｍ以上がより好ましい。
【００３１】
本実施形態において端面幅ｃは、導電性支持体及び感光体の強度を確保する観点から、０．１ｍｍ以上であり、０．１５ｍｍ以上がより好ましく、０．２ｍｍ以上が更に好ましい。本実施形態において端面幅ｃは、肉厚ｔと面取り幅ｂとの関係から０．４５ｍｍ以下であり、感光層に長手方向の感度ムラが発生することを抑制する観点からは、０．４ｍｍ以下が好ましく、０．３ｍｍ以下がより好ましい。
【００３２】
本実施形態において面取り幅ｂは、感光層に長手方向の感度ムラが発生することを抑制する観点から、０．０５ｍｍ以上であり、０．１ｍｍ以上がより好ましく、０．１５ｍｍ以上が更に好ましい。本実施形態において面取り幅ｂは、肉厚ｔと端面幅ｃとの関係から０．４ｍｍ以下であり、導電性支持体及び感光体の強度を確保する観点からは、０．３ｍｍ以下が好ましく、０．２５ｍｍ以下がより好ましい。
【００３３】
本実施形態において面取り角ａは、１０°以上３０°未満である。
面取り角ａを３０°以上にして且つ端面幅ｃを０．１ｍｍ以上確保しようとすれば、面取りされる長手方向の距離が短くなってしまい、感光層に長手方向の感度ムラが発生することを抑制できないと推測される。
一方、面取り角ａを１０°未満にすると、面取りの傾斜がなだらか過ぎて、感光層に長手方向の感度ムラが発生することを抑制できないと推測される。
上記の観点から、本実施形態において面取り角ａは、１０°以上３０°未満であり、１０°以上２５°以下が好ましく、１０°以上２０°以下がより好ましい。
【００３４】
本実施形態に係る導電性支持体において、両端の内周面側は、面取りされていてもいなくてもよい。導電性支持体の両端の内周面側は、例えば、感光体を画像形成装置に搭載するための部材を導電性支持体に設置する目的で面取りされることがある。面取り角ｄは、例えば１０°以上６０°以下であり、１５°以上４５°以下が好ましい。面取り幅ｅは、例えば０．０５ｍｍ以上０．２ｍｍ以下であり、０．０５ｍｍ以上０．１５ｍｍ以下が好ましい。
【００３５】
導電性支持体を構成する金属としては、例えば、アルミニウム、鉄、銅等の純金属；ステンレス鋼、アルミニウム合金等の合金；が挙げられる。導電性支持体を構成する金属としては、軽いこと及び加工性に優れる観点から、アルミニウムを含む金属が好ましく、純アルミニウム又はアルミニウム合金がより好ましい。アルミニウム合金としては、アルミニウムが主成分である合金であれば特に制限されず、アルミニウムのほかに、例えば、Ｓｉ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｔｉ等を含むアルミニウム合金が挙げられる。ここで「主成分」とは、合金に含まれる元素の中で最も含有割合（質量基準）が大きい元素をいう。導電性支持体を構成する金属としては、加工性の観点から、アルミニウム含有率（質量割合）が９０．０％以上の金属が好ましく、アルミニウム含有率は９５．０％以上がより好ましく、９９．０％以上が更に好ましい。
【００３６】
本実施形態に係る導電性支持体は、例えば、抽伸加工、絞り加工、インパクトプレス加工、しごき加工、切削加工などによって中空円筒管を得た後、例えば、切削バイトを用いて、中空円筒管の少なくとも一端の外周面側を周方向全体にわたって面取りすることによって製造される。本実施形態に係る導電性支持体は、例えば、面取り部を有する鋳型に溶けた金属を流し込む鋳造によって製造される。
【００３７】
本実施形態に係る導電性支持体は、公知の表面処理、例えば、陽極酸化、酸洗、ベーマイト処理などが表面に施された部材であってもよい。
【００３８】
本実施形態に係る導電性支持体について「導電性」とは、体積抵抗率が１×１０１３Ωｃｍ未満であることを意味する。
【００３９】
＜電子写真感光体＞
本実施形態に係る感光体は、本実施形態に係る導電性支持体と、該導電性支持体上に配置された感光層とを有する。
【００４０】
本実施形態に係る導電性支持体を用いて感光体を効率よく製造する方法として、下記の製造方法が挙げられる。
導電性支持体を、その長手方向を重力方向にして、感光層形成用塗布液に浸漬し引き上げ、導電性支持体上に感光層形成用塗布液の塗膜を形成し、導電性支持体の長手方向を重力方向とした姿勢のままで塗膜を乾燥させて、導電性支持体上に感光層を形成する、感光体の製造方法。
【００４１】
本実施形態に係る感光体は、金属製の中空円筒部材である導電性支持体と、該導電性支持体上に配置された感光層とを備えている。感光層の下には、下引層が設けられていてもよく、感光層の上には、保護層が設けられていてもよい。
【００４２】
図３は、感光体の層構成の一例を示す概略部分断面図である。図３に示す感光体７Ａは、導電性支持体４上に、下引層１と電荷発生層２と電荷輸送層３とが、この順序で積層された構造を有する。電荷発生層２及び電荷輸送層３が感光層５を構成している。感光層は、図３に示すように電荷発生層２と電荷輸送層３とが分離した機能分離型感光層であってもよいし、電荷発生層２と電荷輸送層３とが一体化した単層型感光層であってもよい。感光層５上には、さらに保護層が設けられていてもよい。下引層１は設けられていなくてもよい。
【００４３】
以下、感光体の各層について詳細に説明する。符号は省略して説明する。
【００４４】
下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。
【００４５】
無機粒子としては、例えば、粉体抵抗（体積抵抗率）１×１０２Ωｃｍ以上１×１０１１Ωｃｍ以下の無機粒子が挙げられる。無機粒子の中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
【００４６】
無機粒子のＢＥＴ法による比表面積は、例えば、１０ｍ２／ｇ以上がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。
【００４７】
無機粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。
【００４８】
無機粒子は、表面処理が施されていてもよい。無機粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを２種以上混合して用いてもよい。
【００４９】
表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤がより好ましい。
【００５０】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００５１】
シランカップリング剤は、２種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００５２】
表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。
【００５３】
表面処理剤の処理量は、例えば、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が好ましい。
【００５４】
ここで、下引層は、無機粒子と共に電子受容性化合物（アクセプター化合物）を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。
【００５５】
電子受容性化合物としては、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物；２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物；キサントン系化合物；チオフェン化合物；３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物；等の電子輸送性物質等が挙げられる。電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。
【００５６】
電子受容性化合物は、下引層中に無機粒子と共に分散して含まれていてもよいし、無機粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。
【００５７】
電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着させる方法としては、例えば、乾式法又は湿式法が挙げられる。
【００５８】
乾式法は、例えば、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、さらに１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。
【００５９】
湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、無機粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤を除去して、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。溶剤の除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤の除去後には、さらに１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に無機粒子の含有水分を除去してもよく、その例として、溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。
【００６０】
電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を無機粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。
【００６１】
電子受容性化合物の含有量は、例えば、無機粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下がよく、好ましくは０．０１質量％以上１０質量％以下である。
【００６２】
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物；ジルコニウムキレート化合物；チタニウムキレート化合物；アルミニウムキレート化合物；チタニウムアルコキシド化合物；有機チタニウム化合物；シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。
【００６３】
これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂；ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
【００６４】
下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤としてさらに下引層に添加してもよい。
【００６５】
添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００６６】
ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００６７】
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００６８】
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【００６９】
これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【００７０】
下引層は、ビッカース硬度が３５以上であることがよい。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／（４ｎ）（ｎは上層の屈折率）から１／２までに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
【００７１】
下引層の形成は、特に制限はなく、公知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。
【００７２】
下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
【００７３】
下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。
【００７４】
下引層形成用塗布液を導電性支持体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【００７５】
本実施形態に係る導電性支持体上に下引層を効率よく形成する工程としては、下記の工程が挙げられる。
導電性支持体を、その長手方向を重力方向にして、下引層形成用塗布液に浸漬し引き上げ、導電性支持体上に下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、導電性支持体の長手方向を重力方向とした姿勢のままで塗膜を乾燥させて、導電性支持体上に下引層を形成する工程。
【００７６】
下引層の膜厚は、例えば、好ましくは１５μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上５０μｍ以下の範囲内に設定される。
【００７７】
［中間層］
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【００７８】
これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。
【００７９】
中間層の形成は、特に制限はなく、公知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【００８０】
下引層上に中間層を効率よく形成する工程としては、下記の工程が挙げられる。
下引層を有する導電性支持体を、その長手方向を重力方向にして、中間層形成用塗布液に浸漬し引き上げ、下引層上に中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、導電性支持体の長手方向を重力方向とした姿勢のままで塗膜を乾燥させて、下引層上に中間層を形成する工程。
【００８１】
中間層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲に設定される。中間層を下引層として使用してもよい。
【００８２】
［電荷発生層］
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂とを含む層である。電荷発生層は、電荷発生材料の蒸着層であってもよい。電荷発生材料の蒸着層は、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）イメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合に好適である。
【００８３】
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料；ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；ペリレン顔料；ピロロピロール顔料；フタロシアニン顔料；酸化亜鉛；三方晶系セレン等が挙げられる。
【００８４】
これらの中でも、近赤外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、金属フタロシアニン顔料、又は無金属フタロシアニン顔料を用いることが好ましい。具体的には、例えば、特開平５−２６３００７号公報、特開平５−２７９５９１号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン；特開平５−９８１８１号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン；特開平５−１４０４７２号公報、特開平５−１４０４７３号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン；特開平４−１８９８７３号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより好ましい。
【００８５】
一方、近紫外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；チオインジゴ系顔料；ポルフィラジン化合物；酸化亜鉛；三方晶系セレン；特開２００４−７８１４７号公報、特開２００５−１８１９９２号公報に開示されたビスアゾ顔料等が好ましい。
【００８６】
４５０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下に発光の中心波長があるＬＥＤ、有機ＥＬイメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合にも、上記電荷発生材料を用いてもよいが、解像度の観点から、感光層を２０μｍ以下の薄膜で用いるときには、感光層中の電界強度が高くなり、導電性支持体からの電荷注入による帯電低下、いわゆる黒点と呼ばれる画像欠陥を生じやすくなる。これは、三方晶系セレン、フタロシアニン顔料等のｐ−型半導体で暗電流を生じやすい電荷発生材料を用いたときに顕著となる。
【００８７】
これに対し、電荷発生材料として、縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、アゾ顔料等のｎ−型半導体を用いた場合、暗電流を生じ難く、薄膜にしても黒点と呼ばれる画像欠陥を抑制し得る。ｎ−型の電荷発生材料としては、例えば、特開２０１２−１５５２８２号公報の段落［０２８８］〜［０２９１］に記載された化合物（ＣＧ−１）〜（ＣＧ−２７）が挙げられるがこれに限られるものではない。
ｎ−型の判定は、通常使用されるタイムオブフライト法を用い、流れる光電流の極性によって判定され、正孔よりも電子をキャリアとして流しやすいものをｎ−型とする。
【００８８】
電荷発生層に用いる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択してもよく、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。
結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。ここで「絶縁性」とは、体積抵抗率が１×１０１３Ωｃｍ以上であることをいう。これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。
【００８９】
電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、質量比で１０：１から１：１０までの範囲内であることが好ましい。
【００９０】
電荷発生層には、その他、公知の添加剤が含まれていてもよい。
【００９１】
電荷発生層の形成は、特に制限はなく、公知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。電荷発生層の形成は、電荷発生材料の蒸着により行ってもよい。電荷発生層の蒸着による形成は、特に、電荷発生材料として縮環芳香族顔料、ペリレン顔料を利用する場合に好適である。
【００９２】
電荷発生層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等が挙げられる。これら溶剤は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いる。
【００９３】
電荷発生層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式等が挙げられる。この分散の際、電荷発生層形成用塗布液中の電荷発生材料の平均粒径を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、更に好ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。
【００９４】
電荷発生層形成用塗布液を下引層上（又は中間層上）に塗布する方法としては、例えばブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【００９５】
下引層上（又は中間層上）に電荷発生層を効率よく形成する工程としては、下記の工程が挙げられる。
下引層（又は、下引層及び中間層）を有する導電性支持体を、その長手方向を重力方向にして、電荷発生層形成用塗布液に浸漬し引き上げ、下引層上（又は中間層上）に電荷発生層形成用塗布液の塗膜を形成し、導電性支持体の長手方向を重力方向とした姿勢のままで塗膜を乾燥させて、下引層上（又は中間層上）に電荷発生層を形成する工程。
【００９６】
電荷発生層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上５．０μｍ以下、より好ましくは０．２μｍ以上２．０μｍ以下の範囲内に設定される。
【００９７】
［電荷輸送層］
電荷輸送層は、例えば、電荷輸送材料と結着樹脂とを含む層である。電荷輸送層は、高分子電荷輸送材料を含む層であってもよい。
【００９８】
電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物；キサントン系化合物；ベンゾフェノン系化合物；シアノビニル系化合物；エチレン系化合物等の電子輸送性化合物が挙げられる。電荷輸送材料としては、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物も挙げられる。これらの電荷輸送材料は１種を単独で又は２種以上で用いられるが、これらに限定されるものではない。
【００９９】
電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記構造式（ａ−１）で表されるトリアリールアミン誘導体、及び下記構造式（ａ−２）で表されるベンジジン誘導体が好ましい。
【０１００】
【化１】
2018097204.tif 000003
【０１０１】
構造式（ａ−１）中、ＡｒＴ１、ＡｒＴ２及びＡｒＴ３は各々独立に、置換若しくは無置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（ＲＴ４）＝Ｃ（ＲＴ５）（ＲＴ６）、又は−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ７）（ＲＴ８）を表す。ＲＴ４、ＲＴ５、ＲＴ６、ＲＴ７及びＲＴ８は各々独立に、水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基が挙げられる。
【０１０２】
【化２】
2018097204.tif 000004
【０１０３】
構造式（ａ−２）中、ＲＴ９１及びＲＴ９２は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、又は炭素数１以上５以下のアルコキシ基を表す。ＲＴ１０１、ＲＴ１０２、ＲＴ１１１及びＲＴ１１２は各々独立に、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは無置換のアリール基、−Ｃ（ＲＴ１２）＝Ｃ（ＲＴ１３）（ＲＴ１４）、又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ１５）（ＲＴ１６）を表し、ＲＴ１２、ＲＴ１３、ＲＴ１４、ＲＴ１５及びＲＴ１６は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。Ｔｍ１、Ｔｍ２、Ｔｎ１及びＴｎ２は各々独立に０以上２以下の整数を表す。上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基が挙げられる。
【０１０４】
構造式（ａ−１）で表されるトリアリールアミン誘導体、及び構造式（ａ−２）で表されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ７）（ＲＴ８）」を有するトリアリールアミン誘導体、及び「−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ１５）（ＲＴ１６）」を有するベンジジン誘導体が、電荷移動度の観点から好ましい。
【０１０５】
高分子電荷輸送材料としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の電荷輸送性を有する公知のものが用いられる。特に、特開平８−１７６２９３号公報、特開平８−２０８８２０号公報等に開示されているポリエステル系の高分子電荷輸送材が好ましい。高分子電荷輸送材料は、単独で使用してよいが、結着樹脂と併用してもよい。
【０１０６】
電荷輸送層に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの中でも、結着樹脂としては、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂が好適である。これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上で用いる。
電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は、質量比で１０：１から１：５までが好ましい。
【０１０７】
電荷輸送層には、その他、公知の添加剤が含まれていてもよい。
【０１０８】
電荷輸送層の形成は、特に制限はなく、公知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
【０１０９】
電荷輸送層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、２−ブタノン等のケトン類；塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類；テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状又は直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
【０１１０】
電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層の上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１１１】
電荷発生層上に電荷輸送層を効率よく形成する工程としては、下記の工程が挙げられる。
電荷発生層を有する導電性支持体を、その長手方向を重力方向にして、電荷輸送層形成用塗布液に浸漬し引き上げ、電荷発生層上に電荷輸送層形成用塗布液の塗膜を形成し、導電性支持体の長手方向を重力方向とした姿勢のままで塗膜を乾燥させて、電荷発生層上に電荷輸送層を形成する工程。
【０１１２】
電荷輸送層の膜厚は、例えば、好ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上３０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１１３】
［保護層］
保護層は、必要に応じて感光層上に設けられる。保護層は、例えば、帯電時の感光層の化学的変化を防止したり、感光層の機械的強度をさらに改善する目的で設けられる。
そのため、保護層は、硬化膜（架橋膜）で構成された層を適用することがよい。これら層としては、例えば、下記１）又は２）に示す層が挙げられる。
【０１１４】
１）反応性基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に有する反応性基含有電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり当該反応性基含有電荷輸送材料の重合体又は架橋体を含む層）
２）非反応性の電荷輸送材料と、電荷輸送性骨格を有さず、反応性基を有する反応性基含有非電荷輸送材料と、を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり、非反応性の電荷輸送材料と、当該反応性基含有非電荷輸送材料の重合体又は架橋体と、を含む層）
【０１１５】
反応性基含有電荷輸送材料の反応性基としては、連鎖重合性基、エポキシ基、−ＯＨ、−ＯＲ［但し、Ｒはアルキル基を表す。］、−ＮＨ２、−ＳＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳｉＲＱ１３−Ｑｎ（ＯＲＱ２）Ｑｎ［但し、ＲＱ１は水素原子、アルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表し、ＲＱ２は水素原子、アルキル基、トリアルキルシリル基を表す。Ｑｎは１〜３の整数を表す。］等の公知の反応性基が挙げられる。
【０１１６】
連鎖重合性基としては、ラジカル重合しうる官能基であれば特に限定されるものではなく、例えば、少なくとも炭素二重結合を含有する基を有する官能基である。具体的には、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル基、スチリル基（フェニルビニル基）、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基等が挙げられる。なかでも、その反応性に優れることから、連鎖重合性基としては、ビニル基、スチリル基（フェニルビニル基）、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基が好ましい。
【０１１７】
反応性基含有電荷輸送材料の電荷輸送性骨格としては、感光体の技術分野における公知の構造であれば特に限定されるものではなく、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格が好ましい。
【０１１８】
これら反応性基及び電荷輸送性骨格を有する反応性基含有電荷輸送材料、非反応性の電荷輸送材料、反応性基含有非電荷輸送材料は、公知の材料から選択すればよい。
【０１１９】
保護層には、その他、公知の添加剤が含まれていてもよい。
【０１２０】
保護層の形成は、特に制限はなく、公知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた保護層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱等の硬化処理することで行う。
【０１２１】
保護層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル等のセロソルブ系溶剤；イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。保護層形成用塗布液は、無溶剤の塗布液であってもよい。
【０１２２】
保護層形成用塗布液を感光層（例えば電荷輸送層）上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１２３】
感光層上に保護層を効率よく形成する工程としては、下記の工程が挙げられる。
感光層を有する導電性支持体を、その長手方向を重力方向にして、保護層形成用塗布液に浸漬し引き上げ、感光層上に保護層形成用塗布液の塗膜を形成し、導電性支持体の長手方向を重力方向とした姿勢のままで塗膜を乾燥させて、感光層上に保護層を形成する工程。
【０１２４】
保護層の膜厚は、例えば、好ましくは１μｍ以上２０μｍ以下、より好ましくは２μｍ以上１０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１２５】
［単層型感光層］
単層型感光層（電荷発生／電荷輸送層）は、例えば、電荷発生材料と電荷輸送材料と、必要に応じて、結着樹脂、及びその他公知の添加剤と、を含む層である。これら材料は、電荷発生層及び電荷輸送層で説明した材料と同様である。
【０１２６】
単層型感光層中、電荷発生材料の含有量は、全固形分に対して１０質量％以上８５質量％以下がよく、好ましくは２０質量％以上５０質量％以下である。単層型感光層中、電荷輸送材料の含有量は、全固形分に対して５質量％以上５０質量％以下がよい。
【０１２７】
単層型感光層の形成方法は、電荷発生層や電荷輸送層の形成方法と同様である。
単層型感光層の膜厚は、例えば、５μｍ以上５０μｍ以下がよく、好ましくは１０μｍ以上４０μｍ以下である。
【０１２８】
＜画像形成装置、プロセスカートリッジ＞
本実施形態に係る画像形成装置は、感光体と、感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。そして、感光体として、本実施形態に係る感光体が適用される。
【０１２９】
本実施形態に係る画像形成装置は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置；感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置；感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置；トナー像の転写後、帯電前の感光体の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えた装置；トナー像の転写後、帯電前に感光体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置；感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための感光体加熱部材を備える装置等の公知の画像形成装置が適用される。
【０１３０】
中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。
【０１３１】
本実施形態に係る画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式（液体現像剤を利用した現像方式）の画像形成装置のいずれであってもよい。
【０１３２】
本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、感光体を備える部分が、画像形成装置に対して着脱されるカートリッジ構造（プロセスカートリッジ）であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、本実施形態に係る感光体を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。プロセスカートリッジは、感光体以外に、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを備えてもよい。
【０１３３】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。以下、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。
【０１３４】
図４は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１００は、図４に示すように、感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、転写装置４０（一次転写装置）と、中間転写体５０とを備える。画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が感光体７に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を記録媒体（例えば紙）に転写する二次転写装置も有している。中間転写体５０、転写装置４０（一次転写装置）、及び二次転写装置（不図示）が転写手段の一例に相当する。
【０１３５】
図４におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、感光体７、帯電装置８（帯電手段の一例）、現像装置１１（現像手段の一例）、及びクリーニング装置１３（クリーニング手段の一例）を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材の一例）１３１を有しており、クリーニングブレード１３１は、感光体７の表面に接触するように配置されている。クリーニング部材は、クリーニングブレード１３１の態様ではなく、導電性又は絶縁性の繊維状部材であってもよく、これを単独で、又はクリーニングブレード１３１と併用してもよい。
【０１３６】
図４には、画像形成装置として、潤滑材１４を感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、及び、クリーニングを補助する繊維状部材１３３（平ブラシ状）を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。
【０１３７】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。
【０１３８】
［帯電装置］
帯電装置８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
【０１３９】
［露光装置］
露光装置９としては、例えば、感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
【０１４０】
［現像装置］
現像装置１１としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１１としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
【０１４１】
現像装置１１に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、公知のものが適用される。
【０１４２】
［クリーニング装置］
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。
【０１４３】
［転写装置］
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
【０１４４】
［中間転写体］
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
【０１４５】
図５は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図５に示す画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの感光体が使用される構成となっている。画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【実施例】
【０１４６】
以下、実施例により発明の実施形態を詳細に説明するが、発明の実施形態は、これら実施例に限定されない。
【０１４７】
＜導電性支持体１〜７３の作製＞
外径３０ｍｍ、肉厚０．５ｍｍ、長さ２５１ｍｍの無底のアルミ基材（アルミニウム純度９９．７％以上、ＪＩＳ呼称Ａ１０７０合金）を準備した。切削バイトを用いて、アルミ基材の両端において、内周面側を周方向全体にわたって、面取り角ｄ＝４５°且つ面取り幅ｅ＝０．１ｍｍで、面取り部の斜面の形状が直線になるよう面取りした。次に、切削バイトを用いて、アルミ基材の両端において、外周面側を周方向全体にわたって、表１に記載の面取り角ａ且つ面取り幅ｂで、面取り部の斜面の形状が直線になるよう面取りし、表１に記載の端面幅ｃを有する端面を形成した。
【０１４８】
＜感光体１〜７３の作製＞
導電性支持体１〜７３それぞれに下記の工程にしたがって下引層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０１４９】
［下引層の形成］
酸化亜鉛（平均粒径７０ｎｍ、比表面積１５ｍ２／ｇ、テイカ社製）１００質量部をトルエン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業社製、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン）１．３質量部を添加し、２時間攪拌した。次いで、トルエンを減圧留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤によって表面処理した酸化亜鉛を得た。
【０１５０】
表面処理した酸化亜鉛１１０質量部をテトラヒドロフラン５００質量部と攪拌混合し、アリザリン０．６質量部をテトラヒドロフラン５０質量部に溶解した溶液を添加し、５０℃にて５時間攪拌した。次いで、減圧濾過にて固形分を濾別し、６０℃で減圧乾燥を行い、アリザリン付与酸化亜鉛を得た。
【０１５１】
アリザリン付与酸化亜鉛６０質量部と、硬化剤（ブロック化イソシアネート、商品名：スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）１３．５質量部と、ブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＭ−１、積水化学工業社製）１５質量部と、メチルエチルケトン６８質量部とを混合し混合液を得た。この混合液１００質量部とメチルエチルケトン５質量部とを混合し、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い、分散液を得た。分散液に、触媒としてジオクチルスズジラウレート０．００５質量部と、シリコーン樹脂粒子（商品名：トスパール１４５、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）４質量部とを添加し、下引層形成用塗布液を得た。
【０１５２】
導電性支持体を、その長手方向を重力方向にして、下引層形成用塗布液に浸漬し引き上げた。次いで、長手方向を重力方向とした姿勢のままで、塗膜を雰囲気温度１７０℃で４０分間乾燥させて、厚さ２２μｍの下引層を形成した。
【０１５３】
［電荷発生層の形成］
電荷発生物質としてヒドロキシガリウムフタロシアニン（Ｃｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．５°，９．９°，１２．５°，１６．３°，１８．６°，２５．１°及び２８．３°の位置に回折ピークを有する。）１５質量部、結着樹脂として塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（商品名：ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０質量部、及びｎ−酢酸ブチル２００質量部を混合した混合物を、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。分散液にｎ−酢酸ブチル１７５質量部とメチルエチルケトン１８０質量部とを添加し、攪拌して電荷発生層形成用塗布液を得た。
【０１５４】
下引層を有する導電性支持体を、その長手方向を重力方向にして、電荷発生層形成用塗布液に浸漬し引き上げた。次いで、長手方向を重力方向とした姿勢のままで、塗膜を雰囲気温度１００℃で８分間乾燥させて、厚さ０．１５μｍの電荷発生層を形成した。
【０１５５】
［電荷輸送層の形成］
電荷輸送材料として下記構造式（ＣＴ１Ａ）で表されるブタジエン系電荷輸送材料８質量部及び下記構造式（ＣＴ２Ａ）で表されるベンジジン系電荷輸送材料３２質量部と、結着樹脂としてビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂（ビスフェノールＺの単独重合体、粘度平均分子量４万）５８質量部と、酸化防止剤として下記構造式（ＨＰ−１）で表されるヒンダードフェノール系酸化防止剤２質量部とをテトラヒドロフラン３４０質量部に溶解し、電荷輸送層形成用塗布液を得た。
【０１５６】
【化３】
2018097204.tif 000005
【０１５７】
下引層及び電荷発生層を有する導電性支持体を、その長手方向を重力方向にして、電荷輸送層形成用塗布液に浸漬し引き上げた。次いで、長手方向を重力方向とした姿勢のままで、塗膜を雰囲気温度１４３℃で２５分間乾燥させて、厚さ２５μｍの電荷輸送層を形成した。
【０１５８】
以上の工程を経て、導電性支持体１〜７３のいずれかを備える感光体１〜７３を得た。
【０１５９】
＜感光体の評価＞
［感度ムラ］
温度２０℃／相対湿度４０％下において、感光体を１００回転／分で回転させた状態で、スコロトロン帯電器により感光体を−７００Ｖに帯電させ、帯電から１１５ミリ秒後に波長７８０ｎｍの半導体レーザを用いて２ｍＪ／ｍ２の光を照射して放電させた。放電させてから５０ミリ秒後の感光体の表面の電位（単位：Ｖ）を測定し、これを照射後電位ＶＬの値とした。照射後電位ＶＬを、感光体の一端２０ｍｍから２３０ｍｍまで５ｍｍピッチで４３点、周方向に１０°ピッチで３６点、合計１５４８点で測定した。最大ＶＬと最小ＶＬとの差ΔＶＬ（単位：Ｖ）を求め、下記のとおり分類した。表１〜表３に結果を示す。
【０１６０】
Ｇ１：ΔＶＬ＜１５Ｖ。実用上問題ない。
Ｇ２：１５Ｖ≦ΔＶＬ＜２０Ｖ。実用上問題ない。
Ｇ３：２０Ｖ≦ΔＶＬ＜２５Ｖ。細線再現性又は諧調性に問題が発生する懸念がある。
Ｇ４：２５Ｖ≦ΔＶＬ。実用上問題あり。
【０１６１】
［導電性支持体の端面の強度］
図６に示す円柱形ガイド棒を利用し、導電性支持体（感光層を形成する前の素管）を８０ｍｍの高さから５回自由落下させ、スチール製の水平な台に衝突させた。導電性支持体の下端面を目視で観察し、下記のとおり分類した。表１〜表３に結果を示す。
【０１６２】
Ｇ１：下端面に変形が認められない。
Ｇ２：下端面に変形が認められるが、感光体を画像形成装置に搭載するための部材を導電性支持体の端部に設置することができ、且つ、設置後の感光体振れ精度が許容される程度の変形であり、感光体用に使用できる。
Ｇ３：下端面に変形が認められ、感光体を画像形成装置に搭載するための部材を導電性支持体の端部に設置することができない変形であるか、又は、設置できても設置後の感光体振れ精度に許容されない影響を与える変形であり、感光体用に使用できない。
【０１６３】
【表１】
2018097204.tif 000006
【０１６４】
【表２】
2018097204.tif 000007
【０１６５】
【表３】
2018097204.tif 000008
【符号の説明】
【０１６６】
１  下引層、２  電荷発生層、３  電荷輸送層、４，４Ａ  導電性支持体、５  感光層、７Ａ  感光体
【０１６７】
１００  画像形成装置、１２０  画像形成装置、３００  プロセスカートリッジ、７  感光体、８  帯電装置、９  露光装置、１１  現像装置、１３  クリーニング装置、１４  潤滑剤、４０  転写装置、５０  中間転写体、１３１  クリーニングブレード、１３２  繊維状部材、１３３  繊維状部材
【図１】
2018097204.tif 000009
【図２】
2018097204.tif 000010
【図３】
2018097204.tif 000011
【図４】
2018097204.tif 000012
【図５】
2018097204.tif 000013
【図６】
2018097204.tif 000014