(57)【要約】【課題】湾曲しているウェハを安定して搬送することができるサセプタを提供する。【解決手段】サセプタ１０Ａはウェハを搬送するためのサセプタである。サセプタ１０Ａは、本体部１１と、４つのウェハ支持部１３ａ〜１３ｄとを有する。本体部１１はリング状であって、内周部において厚さ方向に凹となる、ウェハ２０を載置するためのザグリ部１２を有する。４つのウェハ支持部１３ａ〜１３ｄは、ザグリ部１２の底面１２ａから突出する。ザグリ部１２に載置されたウェハ２０が、その湾曲の谷線あるいは稜線が平面視においてサセプタ１０Ａの所定方向に沿うように湾曲している場合に、４つのウェハ支持部１３ａ〜１３ｄは、ウェハ２０の裏面２０ｂに当接するように当該所定方向に関連付けられた位置に設けられる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェハを搬送するためのサセプタであって、
内周部において厚さ方向に凹となる、前記ウェハを載置するためのザグリ部を有するリング状の本体部と、
前記ザグリ部の底面から突出する４つのウェハ支持部と
を備え、
前記ザグリ部に載置された前記ウェハが、その湾曲の谷線あるいは稜線が平面視において前記サセプタの所定方向に沿うように湾曲している場合に、前記４つのウェハ支持部は、前記ウェハの裏面に当接するように前記所定方向に関連付けられた位置に設けられる、サセプタ。
【請求項２】
ウェハを搬送するためのサセプタであって、
前記ウェハより大きい開口で厚さ方向に貫通する、前記ウェハを内部に載置するための開口部を有するリング状の本体部と、
前記開口部の内壁の下部から内側に向けて突出する４つのウェハ支持部と
を備え、
前記開口部内に載置された前記ウェハが、その湾曲の谷線あるいは稜線が平面視において前記サセプタの所定方向に沿うように湾曲している場合に、前記４つのウェハ支持部は、前記ウェハの裏面に当接するように前記所定方向に関連付けられた位置に設けられる、サセプタ。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のサセプタであって、
前記４つのウェハ支持部を第１支持部群とし、前記所定方向を第１方向とし、
前記サセプタは、４つの前記ウェハ支持部からなる、前記第１支持部群とは異なる第２支持部群をさらに備え、
載置された前記ウェハが、その湾曲の谷線あるいは稜線が平面視において前記サセプタの前記第１方向とは異なる第２方向に沿うように湾曲している場合に、前記第２支持部群は、前記ウェハの裏面に当接するように前記第２方向に関連付けられた位置に設けられる、サセプタ。
【請求項４】
請求項３に記載のサセプタであって、
前記第１支持部群および前記第２支持部群の８つの前記ウェハ支持部は、平面視において前記本体部の中心を基準点として４５°刻みに等間隔の位置に設けられ、
前記ウェハは、前記ウェハが有するノッチが平面視において前記本体部の中心を基準点として前記８つのウェハ支持部のうちの１つと２２．５°ずれた位置となるように載置される、サセプタ。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載のサセプタであって、
前記本体部は、前記ウェハと対向しない部分において厚さ方向に貫通する貫通部を有する、サセプタ。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれか一項に記載のサセプタであって、
前記ウェハ支持部における、前記ウェハが載置された場合に前記ウェハの裏面と当接する部分の高さ方向における断面形状は、前記ウェハの裏面側が頂点となる３角形状である、サセプタ。
【請求項７】
請求項１から請求項５のいずれか一項に記載のサセプタであって、
前記ウェハ支持部における、前記ウェハが載置された場合に前記ウェハの裏面と当接する部分の高さ方向における断面形状は、前記ウェハの裏面側が凸となる円弧を含む形状である、サセプタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェハ搬送用のサセプタに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置の製造工程においてはウェハを搬送するためにサセプタが用いられる。ウェハはサセプタ上に載置され、サセプタと共に半導体製造装置の処置室内に搬送される。
【０００３】
サセプタは例えば円盤状であって、ウェハを載置するための円形凹部が設けられている（例えば特許文献１を参照）。このような構成のサセプタでは、ウェハ搬送時には、ウェハの裏面の全体がサセプタの円形凹部の底面と面接触することによってウェハが支持される。また、サセプタは例えばリング状であって、その内周部が凹となる、ウェハを載置するためのザグリ部が設けられている。このような構成のサセプタでは、ウェハ搬送時には、ウェハの裏面の周縁部がサセプタのザグリ部の底面と面接触することによってウェハが支持される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−２８０１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来のウェハ搬送用のサセプタは以上のように構成されているので、ウェハの裏面におけるサセプタに接触する部分が平面内において平坦であれば、サセプタとウェハ裏面との間に面接触が確保されて安定してウェハを支持することが可能である。
【０００６】
しかしながら、例えばプロセス処理後にウェハが反って湾曲しているような場合には、サセプタとウェハの裏面との接触部分が１箇所または２箇所の線接触になるなどして、サセプタを搬送する際にウェハが不安定になる。場合によってはウェハの位置ずれ、ウェハ落下等の搬送上の不具合を引き起こすことがある。
【０００７】
そこで、本発明は上記のような課題を解消するためになされたものであって、湾曲しているウェハであっても安定して搬送することができるサセプタを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一の実施の形態に係るサセプタは、ウェハを搬送するためのサセプタである。サセプタは、本体部と、４つのウェハ支持部とを備える。本体部はリング状であって、内周部において厚さ方向に凹となる、ウェハを載置するためのザグリ部を有する。４つのウェハ支持部は、ザグリ部の底面から突出する。ザグリ部に載置されたウェハが、その湾曲の谷線あるいは稜線が平面視においてサセプタの所定方向に沿うように湾曲している場合に、４つのウェハ支持部は、ウェハの裏面に当接するように当該所定方向に関連付けられた位置に設けられる。
【０００９】
また、本発明の一の実施の形態に係るサセプタは、ウェハを搬送するためのサセプタである。サセプタは、本体部と、４つのウェハ支持部とを備える。本体部はリング状であって、ウェハより大きい開口で厚さ方向に貫通する、ウェハを内部に載置するための開口部を有する。４つのウェハ支持部は、開口部の内壁の下部から内側に向けて突出する。開口部内に載置されたウェハが、その湾曲の谷線あるいは稜線が平面視においてサセプタの所定方向に沿うように湾曲している場合に、４つのウェハ支持部は、ウェハの裏面に当接するように当該所定方向に関連付けられた位置に設けられる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、載置されたウェハが、その湾曲の谷線あるいは稜線が平面視においてサセプタの所定方向に沿うように湾曲している場合に、４つのウェハ支持部は、ウェハの裏面に当接するように当該所定方向に関連付けられた位置に設けられる。これにより、載置されたウェハが、その湾曲の谷線あるいは稜線が平面視においてサセプタの所定方向に沿うように湾曲している場合であってもウェハを安定して搬送することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】実施の形態１に係るサセプタの上面図である。
【図２】実施の形態１に係るサセプタの断面図である。
【図３】実施の形態１に係るサセプタの断面図である。
【図４】実施の形態１の第１変形例に係るサセプタの断面図である。
【図５】実施の形態１の第２変形例に係るサセプタの断面図である。
【図６】実施の形態２に係るサセプタの上面図である。
【図７】実施の形態２に係るサセプタの上面図である。
【図８】実施の形態２に係るサセプタの断面図である。
【図９】実施の形態２に係るサセプタの上面図である。
【図１０】実施の形態２に係るサセプタの断面図である。
【図１１】実施の形態３に係るサセプタの上面図である。
【図１２】実施の形態３に係るサセプタの断面図である。
【図１３】実施の形態３に係るサセプタの断面図である。
【図１４】実施の形態３に係るサセプタの断面図である。
【図１５】実施の形態１に係るサセプタの上面図である。
【図１６】実施の形態１に係るサセプタの断面図である。
【図１７】実施の形態１に係るサセプタの断面図である。
【図１８】前提技術に係るサセプタの上面図である。
【図１９】前提技術に係るサセプタの断面図である。
【図２０】前提技術に係るサセプタの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
＜前提技術＞
本発明の実施の形態について説明する前に、まずは前提技術について図面に基づいて説明する。図１８は、前提技術に係るサセプタ１０の構成の一例を概略的に示す上面図である。図１９は、図１８に示される矢視Ｈ−Ｈにおける断面図である。図１８，１９では、サセプタ１０に平坦なウェハ２０が載置された状態を示している。また図１８では、サセプタ１０においてウェハ２０と接触している部分を砂地ハッチングで示している。
【００１３】
図１８，１９に示されるように、サセプタ１０の外形はリング状であって、リング状の本体部１１には、その内周部の全周囲が厚さ方向に凹となるザグリ部１２が設けられている。ザグリ部１２はその周囲の部分よりも一段低くなっている。ウェハ２０は前面２０ａを外側に向けて、つまり裏面２０ｂをザグリ部１２側に向けて、ザグリ部１２上に載置される。ウェハ２０が平坦な場合には、ウェハ２０の裏面２０ｂにおける周縁部が全周囲にわたってザグリ部１２の底面１２ａと面接触してウェハ２０が支持される。
【００１４】
一方、ウェハ２０が湾曲している場合について図２０を用いて説明する。図２０は、載置されたウェハ２０が湾曲している状態での、図１８に示される矢視Ｈ−Ｈにおける断面図である。図２０では、ウェハ２０が、裏面２０ｂ側が凸となるように、その湾曲の谷線あるいは稜線が図１８に示されるウェハ２０のノッチ２０ｃと中心２０ｄとを通る方向２１（以下、「ノッチ方向２１」とも呼ぶ）に沿うように湾曲している場合について示している。
【００１５】
図２０に示されるように、ウェハ２０が、裏面２０ｂ側が凸となるように湾曲している場合には、ウェハ２０の湾曲の稜線の両端部がザグリ部１２の底面１２ａと線接触するようにウェハ２０が支持される。この場合、ウェハ２０は、平面視においてノッチ方向２１と垂直な方向に傾きやすく位置ずれしやすくなっている。以下では、上記問題を解決するための本発明の実施の形態について図面に基づいて説明する。
【００１６】
＜実施の形態１＞
図１は、実施の形態１に係るサセプタ１０Ａの構成の一例を概略的に示す上面図である。図２は、図１に示される矢視Ａ−Ａにおける断面図である。図１，２では、サセプタ１０Ａに平坦なウェハ２０が載置された状態を示している。また、図１では、サセプタ１０Ａにおいてウェハ２０と接触している部分を砂地ハッチングで示している。なお、図１，２において、前提技術ですでに説明したものと同一の構成要素については、同一符号を付して詳細な説明を省略する。以下の図においても同様に、既出の図において説明したものと同一の構成要素には同一符号を付して詳細な説明を省略する。
【００１７】
サセプタ１０Ａは、例えば、枚葉式のスパッタ装置においてウェハを搬送するために用いられる。サセプタ１０Ａは、例えば金属からなる。サセプタ１０Ａは、半導体製造工程において、その上にウェハを載せたまま、大気搬送ロボットから真空排気室を経て大気中に搬出される、いわゆるウェハ搬送キャリアとしての治具として機能する。
【００１８】
図１，２に示されるように、サセプタ１０Ａの外形はリング状であって、リング状の本体部１１と、４つのウェハ支持部１３ａ〜１３ｄとを備える。本体部１１には、内周部の全周囲において厚さ方向に凹となるザグリ部１２が設けられている。ウェハ支持部１３ａ〜１３ｄは略直方体状であって、ザグリ部１２の底面１２ａから突出している。ウェハ支持部１３ａ〜１３ｄは、本体部１１と一体となっている。ウェハ支持部１３ａ〜１３ｄの高さは一様であって、それらの上面は同一平面上に位置する。
【００１９】
図１，２に示されるように、ウェハ２０が平坦な状態では、ウェハ２０の裏面２０ｂの周縁部の４箇所がウェハ支持部１３ａ〜１３ｄと面接触するように当接して、ウェハ２０が支持される。
【００２０】
一方、ウェハ２０が湾曲している状態について図３を用いて説明する。図３は、載置されたウェハ２０が湾曲している状態での、図１に示される矢視Ａ−Ａにおける断面図である。図３では、ウェハ２０が、裏面２０ｂ側が凸となり、その湾曲の谷線あるいは稜線が図１に示されるノッチ方向２１に沿うように湾曲している場合について示している。
【００２１】
本実施の形態では、ウェハ２０が、その湾曲の谷線あるいは稜線が平面視においてサセプタ１０Ａの所定方向に沿うように湾曲している場合に、ウェハ支持部１３ａ〜１３ｄは、ウェハ２０の裏面２０ｂに当接するように当該所定方向に関連付けられた位置に設けられる。
【００２２】
通常、ウェハ２０がサセプタ１０Ａに載置される向きはノッチ２０ｃを基準として決まっている。そして、ウェハ２０が湾曲する際の谷線あるいは稜線の向きがあらかじめ分かっている場合には、サセプタ１０Ａに対するウェハ２０の湾曲の谷線あるいは稜線の向きが分かる。そこで、この向きに関連付けて、ウェハ２０が湾曲した際に裏面２０ｂに当接するようにウェハ支持部１３ａ〜１３ｄの位置を決定する。
【００２３】
具体的には、サセプタ１０Ａに載置されたウェハ２０が湾曲した場合に、ウェハ支持部１３ａ〜１３ｄによってウェハ２０の裏面２０ｂが支持されるように、ウェハ支持部１３ａ，１３ｂは、それぞれ、ウェハ支持部１３ｄ，１３ｃと平面視においてウェハ２０が湾曲する際の谷線あるいは稜線を基準として線対称となる位置に設けられている。また、ウェハ支持部１３ａ，１３ｄは、それぞれ、ウェハ支持部１３ｂ，１３ｃと、平面視においてウェハ２０が湾曲する際の谷線あるいは稜線と垂直な線を基準として線対称となる位置に設けられている。
【００２４】
以上のようにサセプタ１０Ａでは、載置されたウェハ２０が、その湾曲の谷線あるいは稜線がサセプタ１０Ａの所定方向に沿うように湾曲している場合に、ウェハ支持部１３ａ〜１３ｄがウェハ２０の裏面２０ｂと当接するようになっている。したがって、ウェハ２０が湾曲している場合であっても、前提技術に係るサセプタ１０が２箇所のみで支持していたのと比較して、４箇所でウェハ２０を支持することが可能になる。これにより、ウェハ２０が不安定になりにくく、安定して支持したままウェハ２０を搬送することが可能になる。
【００２５】
また、ウェハ支持部１３ａ，１３ｂと、ウェハ支持部１３ｄ，１３ｃとは、ウェハ２０の湾曲の谷線あるいは稜線の両側それぞれの位置でウェハ２０を支持していることから、ウェハ２０が平面視において湾曲の谷線あるいは稜線と垂直な方向に位置ずれしにくくなっている。
【００２６】
なお、ウェハ支持部１３ａ〜１３ｄの位置および高さは、ウェハ２０の湾曲の谷線あるいは稜線の方向および湾曲の曲率に応じて適切に設定される。
【００２７】
＜実施の形態１の各種変形例＞
上記説明した実施の形態１では、ウェハ支持部１３ａ〜１３ｄは直方体状の凸形状であったが、その他の形状であってもよい。以下に、実施の形態１における構成を一部変更した幾つかの変形例について説明を行う。
【００２８】
＜実施の形態１の第１変形例＞
図４は、実施の形態１の第１変形例に係るサセプタ１０Ｂの構成の一例を概略的に示す断面図である。図４は、実施の形態１における図３と対応する図である。本変形例に係るサセプタ１０Ｂは、実施の形態１に係るサセプタ１０Ａと比較して、ウェハ支持部１３ａ〜１３ｄのかわりにウェハ支持部１４ａ〜１４ｄを備える。
【００２９】
ウェハ支持部１４ａ〜１４ｄの全体的な形状は、例えば、その側面がザグリ部１２の底面１２ａ側に位置する３角柱状である。なお、ウェハ支持部１４ａ〜１４ｄの全体的な形状はこれに限らず、その頂角がウェハ２０の裏面２０ｂ側となるような錐体状であってもよく、ウェハ支持部１４ａ〜１４ｄにおける、ウェハ２０が載置された場合にウェハ２０の裏面２０ｂと当接する部分の高さ方向における断面形状が、ウェハ２０の裏面２０ｂ側が頂点となる３角形状であればよい。なお、サセプタ１０Ｂにおけるウェハ支持部１４ａ〜１４ｄ以外の構成は、実施の形態１に係るサセプタ１０Ａと同様であるので詳細な説明を省略する。
【００３０】
本変形例に係るサセプタ１０Ｂでは、ウェハ支持部１４ａ〜１４ｄそれぞれの頂角部分は、１点で裏面２０ｂ側に凸となるように湾曲しているウェハ２０の裏面２０ｂを支持するため、ウェハ２０の支持位置を一意に確定することができ、より安定してウェハ２０を支持することができる。
【００３１】
＜実施の形態１の第２変形例＞
図５は、実施の形態１の第２変形例に係るサセプタ１０Ｃの構成の一例を概略的に示す断面図である。図５は、実施の形態１における図３と対応する図である。本変形例に係るサセプタ１０Ｃは、実施の形態１に係るサセプタ１０Ａと比較して、ウェハ支持部１３ａ〜１３ｄのかわりにウェハ支持部１５ａ〜１５ｄを備える。
【００３２】
ウェハ支持部１５ａ〜１５ｄの全体的な形状は、例えば、その側面の平面部分がザグリ部１２の底面１２ａ側に位置する半円柱状である。なお、ウェハ支持部１５ａ〜１５ｄの全体的な形状はこれに限らず、ウェハ２０の裏面２０ｂ側が球面となるような半球状であってもよく、ウェハ支持部１５ａ〜１５ｄにおける、ウェハ２０が載置された場合にウェハ２０の裏面２０ｂと当接する部分の高さ方向における断面形状が、ウェハ２０の裏面２０ｂ側が凸となる円弧を含む形状であればよい。なお、サセプタ１０Ｃにおけるウェハ支持部１５ａ〜１５ｄ以外の構成は、実施の形態１に係るサセプタ１０Ａと同様であるので詳細な説明を省略する。
【００３３】
本変形例においても、サセプタ１０Ｃに載置されたウェハ２０が裏面２０ｂ側を凸にして湾曲している場合、ウェハ支持部１５ａ〜１５ｄのそれぞれは、円弧の部分でウェハ２０の裏面２０ｂに当接するため、ウェハ２０の支持位置を一意に確定することができ、安定してウェハ２０を支持することができる。また、ウェハ２０の支持位置でのウェハ２０の裏面２０ｂに対する応力を緩和することができ、ウェハ２０へのダメージを抑制することができる。
【００３４】
＜実施の形態２＞
上記実施の形態およびその各種変形例では、サセプタにウェハ支持部を４箇所設ける例について説明したが、さらにウェハ支持部を設けてもよい。
【００３５】
図６は、実施の形態２に係るサセプタ１０Ｄの構成の一例を概略的に示す上面図である。図６では、サセプタ１０Ｄに平坦なウェハ２０が載置された状態を示している。また、図６では、サセプタ１０Ｄにおいてウェハ２０と接触している部分を砂地ハッチングで示している。
【００３６】
本実施の形態では、図６に示されるように、サセプタ１０Ｄは８つのウェハ支持部１６ａ〜１６ｈを有する。なお、サセプタ１０Ｄにおけるウェハ支持部１６ａ〜１６ｈ以外の構成は、実施の形態１に係るサセプタ１０Ａと同様であるので詳細な説明を省略する。
【００３７】
ウェハ支持部１６ａ〜１６ｈは、その順に、平面視において本体部１１の中心を基準点として４５°刻みに等間隔の位置に設けられている。ウェハ２０は、ノッチ２０ｃが平面視において本体部１１の中心を基準点としてウェハ支持部１６ａと２２．５°反時計回りにずれた位置となるように載置される。
【００３８】
図６に示されるように、ウェハ２０が平坦な場合には、ウェハ２０の裏面２０ｂの周縁部の８箇所がウェハ支持部１６ａ〜１６ｈと面接触するように当接して、ウェハ２０が支持される。
【００３９】
ここで、半導体装置に一般的に使用されるシリコン単結晶からなるウェハの前面に、金属材料から薄膜のように引っ張りストレスを内包する膜を形成するとウェハは裏面側に凸となるように湾曲する。ウェハが湾曲する方向は、シリコン単結晶の弾性定数の結晶方位による異方性によって決まる。このため、ウェハは、ウェハの前面側からみてノッチ方向に対して時計回りまたは反時計回りに４５°回転した位置にウェハの谷線がくるように湾曲する場合が多い。
【００４０】
図７は、載置されたウェハ２０が平面視においてノッチ方向２１に対して反時計回りに４５°回転した方向２２に谷線あるいは稜線がくるように裏面２０ｂ側が凸となるように湾曲している状態での、サセプタ１０Ｄの上面図である。図８は、図７に示される矢視Ｂ−Ｂにおける断面図である。図７では、サセプタ１０Ｄにおいてウェハ２０と接触している箇所を砂地ハッチングで示している。
【００４１】
図７，８に示されるように、載置されたウェハ２０が方向２２に谷線あるいは稜線がくるように湾曲している場合には、ウェハ支持部１６ｃ，１６ｄ，１６ｇ，１６ｈからなる支持部群によって、ウェハ２０が支持される。このように、ウェハ支持部１６ｃ，１６ｄ，１６ｇ，１６ｈからなる支持部群は、サセプタ１０Ｄに所定方向で載置されたウェハ２０が方向２２に谷線あるいは稜線がくるように湾曲している場合に、ウェハ２０の裏面２０ｂに当接するような位置に設けられている。
【００４２】
図９は、載置されたウェハ２０が平面視においてノッチ方向２１に対して時計回りに４５°回転した方向２３に谷線あるいは稜線がくるように裏面２０ｂ側が凸となるように湾曲している状態での、サセプタ１０Ｄの上面図である。図１０は、図９に示される矢視Ｃ−Ｃにおける断面図である。図９では、サセプタ１０Ｄにおいてウェハ２０と接触している箇所を砂地ハッチングで示している。
【００４３】
図９，１０に示されるように、載置されたウェハ２０が方向２３に谷線あるいは稜線がくるように湾曲している場合には、ウェハ支持部１６ａ，１６ｂ，１６ｅ，１６ｆからなる支持部群によって、ウェハ２０が支持される。このように、ウェハ支持部１６ａ，１６ｂ，１６ｅ，１６ｆからなる支持部群は、サセプタ１０Ｄに所定方向で載置されたウェハ２０が方向２３に谷線あるいは稜線がくるように湾曲している場合に、ウェハ２０の裏面２０ｂに当接するような位置に設けられている。
【００４４】
以上のように、実施の形態２に係るサセプタ１０Ｄでは、サセプタ１０Ｄの所定方向に向けて載置されたウェハ２０が上記のような２方向で湾曲する場合であっても、ウェハ支持部１６ａ〜１６ｈのうち、平面視においてウェハ２０の湾曲の谷線あるいは稜線をまたぐ４つのウェハ支持部が、ウェハ２０の裏面２０ｂに当接することから、ウェハ２０を安定して支持したままウェハ２０を搬送することが可能である。
【００４５】
また、ウェハ上に形成する素子の仕様によっては、単結晶の＜１００＞方向にノッチを形成したウェハと、＜１１０＞方向にノッチを形成したウェハとを使い分けることから、同一工場内にて上記２種類のウェハが混用される場合がある。ノッチの結晶方位が異なるウェハの場合には、ノッチ方向またはノッチ方向に対して９０°回転した方向にウェハの谷線がくるようにウェハが湾曲することがある。
【００４６】
載置されたウェハ２０がノッチ方向２１に谷線あるいは稜線がくるように湾曲している場合には、ウェハ支持部１６ａ，１６ｄ，１６ｅ，１６ｈからなる支持部群によってウェハ２０が支持される。このように、ウェハ支持部１６ａ，１６ｄ，１６ｅ，１６ｈからなる支持部群は、サセプタ１０Ｄに所定方向で載置されたウェハ２０がノッチ方向２１に谷線あるいは稜線がくるように湾曲している場合に、ウェハ２０の裏面２０ｂに当接するような位置に設けられている。
【００４７】
また、載置されたウェハ２０が平面視においてノッチ方向２１と９０°回転した方向に谷線あるいは稜線がくるように湾曲している場合には、ウェハ支持部１６ｂ，１６ｃ，１６ｇ，１６ｆからなる支持部群によってウェハ２０が支持される。このように、ウェハ支持部１６ｂ，１６ｃ，１６ｇ，１６ｆからなる支持部群は、サセプタ１０Ｄに所定方向で載置されたウェハ２０がノッチ方向２１と９０°回転した方向に谷線あるいは稜線がくるように湾曲している場合に、ウェハ２０の裏面２０ｂに当接するような位置に設けられている。
【００４８】
以上のように、実施の形態２に係るサセプタ１０Ｄでは、サセプタ１０Ｄの所定方向に向けて載置されたウェハ２０が上記のような４方向のいずれかで湾曲する場合には、ウェハ支持部１６ａ〜１６ｈのうち、平面視においてウェハ２０の湾曲の谷線あるいは稜線をまたぐ４つのウェハ支持部が、ウェハ２０の裏面２０ｂに当接することから、ウェハ２０を安定して支持したままウェハ２０を搬送することが可能である。
【００４９】
＜実施の形態３＞
上記の例では、サセプタがザグリ部を有する構成について説明したが、サセプタはザグリ部を有さないような構成であってもよい。
【００５０】
図１１は、実施の形態３に係るサセプタ１０Ｅの構成の一例を概略的に示す上面図である。図１２，１３は、それぞれ、図１１に示される矢視Ｄ−Ｄ、矢視Ｅ−Ｅにおける断面図を示している。図１１〜１３では、サセプタ１０Ｅに平坦なウェハ２０が載置された状態を示している。また、図１１では、サセプタ１０Ａにおいてウェハ２０と接触している箇所を砂地ハッチングで示している。
【００５１】
図１１に示されるように、サセプタ１０Ｅの外形はリング状であって、リング状の本体部１１と、４つのウェハ支持部１７ａ〜１７ｈとを備える。本体部１１は、載置されるウェハ２０より大きい開口で厚さ方向に貫通する開口部１１ａを有する。４つのウェハ支持部１７ａ〜１７ｈは、開口部１１ａの内壁１１ｂの下部から内側に向けて突出している。
【００５２】
ウェハ支持部１７ａ〜１７ｈは、その順に、平面視において本体部１１の中心を基準点として４５°刻みに等間隔の位置に設けられている。ウェハ２０は、ノッチ２０ｃが平面視において本体部１１の中心を基準点としてウェハ支持部１７ａと２２．５°反時計回りにずれた位置となるような向きで載置される。
【００５３】
図１１〜１３に示されるように、ウェハ２０が平坦な状態では、ウェハ２０の裏面２０ｂの周縁部の８箇所がウェハ支持部１７ａ〜１７ｈと面接触するように当接して、ウェハ２０が支持される。
【００５４】
図１４は、載置されたウェハ２０が平面視においてノッチ方向２１に谷線あるいは稜線がくるように裏面２０ｂ側を凸にして湾曲している状態での、図１１に示される矢視Ｄ−Ｄにおける断面図である。図１４に示されるように、ウェハ２０がノッチ方向２１に谷線あるいは稜線がくるように裏面２０ｂ側を凸として湾曲している場合には、ウェハ支持部１７ａ，１７ｄ，１７ｅ，１７ｈからなる支持部群によってウェハ２０が支持される。なお、本実施の形態においても、実施の形態２と同様、サセプタ１０Ｅの所定方向に向けて載置されたウェハ２０が所定の４方向のうちのいずれか１つの方向で湾曲している場合には、ウェハ支持部１７ａ〜１７ｈのうち、平面視においてウェハ２０の谷線をまたぐ４つのウェハ支持部がウェハ２０の裏面２０ｂに当接することから、ウェハ２０を安定して支持したままウェハ２０を搬送することが可能である。
【００５５】
また、ウェハ２０は、ウェハ２０より大きい開口の開口部１１ａ内に載置されることから、サセプタ１０Ｅにウェハ２０が載置された状態では、ウェハ２０と本体部１１との間隙が厚さ方向に貫通する貫通部として機能する。これにより、ウェハ２０が載置されたサセプタ１０Ｅを上下に搬送する際に、当該貫通部を空気が移動することができる。
【００５６】
特にウェハ裏面を加工するプロセス工程のように、厚さ１００μｍ以下、好ましくは５０μｍ程度の薄いウェハを取り扱うような半導体製造装置の場合には、ウェハの搬送時に高速でウェハ搬送用サセプタを上下に動かすと、ウェハが軽いため上下移動時の風圧により押し動かされて搬送中の位置ずれなどのトラブルを招くことがある。これに対して、本実施形態に係るサセプタ１０Ｅでは、上記のような構造にすることで上下搬送時に厚さ方向に貫通する貫通部を介してウェハ２０が面で受ける空気を逃がすことが可能になり、より高速にウェハ２０を搬送することができる。
【００５７】
なお、実施の形態１およびその各種変形例ならびに実施の形態２においても、本体部１１におけるウェハ２０と対向しない部分に厚さ方向に貫通する貫通部を設けることでも、上記と同様の効果が得られる。
【００５８】
＜ウェハの湾曲方向＞
上記これまで、本発明において裏面２０ｂ側に凸となるように湾曲しているウェハ２０を搬送する場合を想定して主に説明してきたが、ウェハ２０が前面２０ａ側に凸となるように湾曲している場合も考えられる。以下では、実施の形態１に係るサセプタ１０Ａを例として説明する。
【００５９】
図１５は、載置されたウェハ２０が前面２０ａ側に凸となるように湾曲している状態での、サセプタ１０Ａの上面図である。図１６，１７は、それぞれ、図１５に示される矢視Ｆ−Ｆおよび矢視Ｇ−Ｇにおける断面図である。図１５では、サセプタ１０Ａにおいてウェハ２０と接触している箇所を砂地ハッチングで示している。また、図１５〜１７では、ウェハ２０は前面２０ａ側が凸となり、平面視において湾曲の谷線あるは稜線がノッチ方向２１と垂直な方向に沿うように湾曲している場合について示している。
【００６０】
図１５〜１７に示されるように、載置されたウェハ２０が前面２０ａ側に凸となり、平面視においてノッチ方向２１と垂直な方向に谷線あるいは稜線がくるように湾曲している場合であっても、ウェハ支持部１３ａ〜１３ｄによって、ウェハ２０が支持される。よって、安定してウェハ２０を搬送することが可能となる。
【００６１】
なお、実施の形態１に係るサセプタ１０Ａを例にして説明を行ったが、他の実施の形態および各種変形例においても同様である。
【００６２】
なお、本発明は、その発明の範囲において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略したりすることが可能である。
【符号の説明】
【００６３】
１０，１０Ａ〜１０Ｅ  サセプタ、１１  本体部、１１ａ  開口部、１１ｂ  内壁、１２  ザグリ部、１２ａ  底面、１３ａ〜１３ｄ，１４ａ〜１４ｄ，１５ａ〜１５ｄ，１６ａ〜１６ｈ，１７ａ〜１７ｈ  ウェハ支持部、２０  ウェハ、２０ａ  前面、２０ｂ  裏面、２０ｃ  ノッチ、２０ｄ  中心、２１  ノッチ方向、２２，２３  方向。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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