(57)【要約】      （修正有）【課題】近紫外領域から青色の光線をカットできるＵＶ−Ａ吸収剤及びカットフィルムの提供。【解決手段】式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤。2018172623.tif 000014（Ｒ１とＲ２は各々独立にＣ１〜１２アルキル、Ｃ６〜１３アリール、Ｃ１〜１３アルコキシ又はＣ６〜１３アリールオキシ；Ｘ及びＹは各々独立にＣ１〜８のアルキル）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表されるアントラセン化合物を有効成分として含有するＵＶ−Ａ吸収剤。
【化１】
2018172623.tif 000011
（一般式（１）において、Ｒ１とＲ２は同一であっても異なっていても良く、炭素数１から１２のアルキル基若しくは炭素数６から１３のアリール基又は炭素数１から１２のアルコキシ基若しくは炭素数６から１３のアリールオキシ基を表し、Ｘ、Ｙは同一であっても異なっていてもよく、炭素数１から８のアルキル基を表す。）
【請求項２】
一般式（１）において、Ｒ１、Ｒ２は炭素数７から１２のアルキル基若しくは炭素数６から１３のアリール基又は炭素数３から１２のアルコキシ基若しくは炭素数６から１３のアリールオキシ基であることを特徴とする、請求項１に記載のＵＶ−Ａ吸収剤。
【請求項３】
下記一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤及びＵＶ−Ｂ吸収剤を含有することを特徴とする、紫外線吸収剤組成物。
【化２】
2018172623.tif 000012
（一般式（１）において、Ｒ１とＲ２は同一であっても異なっていても良く、炭素数１から１２のアルキル基若しくは炭素数６から１３のアリール基又は炭素数１から１２のアルコキシ基若しくは炭素数６から１３のアリールオキシ基を表し、Ｘ、Ｙは同一であっても異なっていてもよく、炭素数１から８のアルキル基を表す。）
【請求項４】
下記一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤と、下記一般式（１）で表されるアントラセン化合物以外のＵＶ−Ａ吸収剤、を含有することを特徴とする、紫外線吸収剤組成物。
【化３】
2018172623.tif 000013
（一般式（１）において、Ｒ１とＲ２は同一であっても異なっていても良く、炭素数１から１２のアルキル基若しくは炭素数６から１３のアリール基又は炭素数１から１２のアルコキシ基若しくは炭素数６から１３のアリールオキシ基を表し、Ｘ、Ｙは同一であっても異なっていてもよく、炭素数１から８のアルキル基を表す。）
【請求項５】
一般式（１）において、Ｒ１、Ｒ２は炭素数７から１２のアルキル基若しくは炭素数６から１３のアリール基又は炭素数３から１２のアルコキシ基若しくは炭素数６から１３のアリールオキシ基であることを特徴とする、請求項３又は４に記載の紫外線吸収剤組成物。
【請求項６】
請求項１又は請求項２に記載のＵＶ−Ａ吸収剤に、更に、ヒンダードアミン系安定剤を含有することを特徴とする、紫外線吸収剤組成物。
【請求項７】
請求項３乃至５のいずれか一項に記載の紫外線吸収剤組成物に、更に、ヒンダードアミン系安定剤を含有することを特徴とする、紫外線吸収剤組成物。
【請求項８】
請求項１又は請求項２に記載のＵＶ−Ａ吸収剤に、更に、酸化防止剤及び/又は一重項酸素クエンチャーを含有することを特徴とする、紫外線吸収剤組成物。
【請求項９】
請求項３乃至７のいずれか一項に記載の紫外線吸収剤組成物に、更に、酸化防止剤及び/又は一重項酸素クエンチャーを含有することを特徴とする、紫外線吸収剤組成物。
【請求項１０】
請求項１又は請求項２に記載のＵＶ−Ａ吸収剤を有効成分として含有するＵＶ−Ａカットフィルム。
【請求項１１】
請求項３乃至９のいずれか一項に記載の紫外線吸収剤組成物を有効成分として含有するＵＶ−Ａカットフィルム。
【請求項１２】
ガラス基材、金属基材又は酸素バリアフィルム上に、請求項１若しくは２に記載のＵＶ-Ａ吸収剤又は、請求項３乃至９のいずれか一項に記載の紫外線吸収剤組成物を含有する光重合性組成物を塗布し、該塗膜上に更に酸素バリアフィルムを被せたのち、光照射してフィルム状に重合硬化させた重合皮膜であることを特徴とする、ＵＶ-Ａカットフィルム。
【請求項１３】
酸素バリアフィルムの酸素透過度が、２０℃、ドライ条件で１００ｃｍ３/（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下である、請求項１２に記載のＵＶ−Ａカットフィルム。
【請求項１４】
ＵＶ−Ａカットフィルムを含む積層体であって、該積層体が２つの高度酸素バリアフィルム層を有し、その高度酸素バリアフィルム層間に、請求項１０乃至１３のいずれか１項に記載のＵＶ−Ａカットフィルムを含むことを特徴とする、ＵＶ−Ａカットフィルム積層体。
【請求項１５】
ＵＶ−Ａカットフィルムを含む積層体であって、該積層体がガラス基板と高度酸素バリアフィルム層を有し、そのガラス基板と高度酸素バリアフィルム層の間に、請求項１０乃至１３のいずれか１項に記載のＵＶ−Ａカットフィルムを含むことを特徴とする、ＵＶ−Ａカットフィルム積層体。
【請求項１６】
高度酸素バリアフィルムの酸素透過度が、２０℃、ドライ条件で１０ｃｍ３/（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下である、請求項１４又は１５に記載のＵＶ−Ａカットフィルム積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、紫外線吸収剤に関し、特にＵＶ−Ａ領域の吸収性に優れた化合物及びＵＶ−Ａカットフィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
地球に降り注ぐ太陽からの電磁放射には、電波、ミリメートル波、マイクロ波、赤外線、可視光線、紫外線（ＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂ）、Ｘ線およびガンマ線が含まれている。その中で、可視光線は波長が４００ｎｍから７００ｎｍの範囲であり、紫外線は１０から４００ｎｍの範囲の光を称している。紫外線のうち、１０から２８６ｎｍまでの波長の光は地球のオゾン層が吸収してしまうため、地球に到達する紫外線は２８６ｎｍ以上の波長となる。一方、人間の健康や環境への影響の観点から、近紫外線帯域をＵＶ−Ａ、ＵＶ−Ｂ、ＵＶ−Ｃという分類が用いられている。一般に、波長が１０から２８０ｎｍのものをＵＶ−Ｃ、波長が２８０から３２０ｎｍのものをＵＶ−Ｂ、そして波長が３２０から４００ｎｍのものをＵＶ−Ａと称している。このうち、先ほど述べたように、地球のオゾン層が最大２８６ｎｍまでの波長を吸収してしまうため、ＵＶ−Ｃはこのオゾン層でほとんどカットされてしまい、地上には届かないが、オゾン層でカットされない２８６ｎｍより長波長のＵＶ−ＡとＵＶ−Ｂは地上に届き、人体に影響を与えることとなる。
【０００３】
また、光のエネルギーは、波数に比例して大きくなるため、波長が短くなるほど人体に対する危険度が増大する。すなわち、可視光より紫外線は人体に与える影響が大きいといえる。ＵＶ−Ｂは、人体の皮膚の表皮層に作用するといわれており、この時、色素細胞がメラニンを生成し防御反応を取る。いわゆる日焼けである。一方、ＵＶ−Ａは、ＵＶ−Ｂよりエネルギーは小さいが、波長が長いため皮膚の真皮層にまで作用し、蛋白質を変性させ、皮膚の弾性を失わせ老化を促進するといわれている。また、ＵＶ−Ｂによって生成されたメラニン色素を酸化させて褐色に変化させるともいわれている。
【０００４】
そして、このＵＶ−Ｂによる皮膚の日焼け対策として、ＵＶ-Ｂをカットする日焼け止めクリームやフィルムなどが多く開発されている。しかし、波長の長いＵＶ−Ａの危険性は近年まで重要視されてこなかった。ＵＶ−Ａによる皮膚の加齢、ＤＮＡへのダメージ、皮膚がんへのリスクはゼロではない。また、ＵＶ−Ａは上述のようにＵＶ−Ｂより波長が長いため、ＵＶ−Ｂより深く皮膚の中に浸透し、皮膚の張りを保つ弾性繊維を徐々に破壊し、張りの低下やしわを引き起こすといわれている。更に、ＵＶ−ＡはＵＶ−Ｂと比べて、大気中での減衰が少なく、ＵＶ−Ｂの減少する冬期や朝夕でも比較的多く降り注いでいるといわれており、窓ガラスや車のウインドウ越しにも入り込む性質を持っている。よって、ＵＶ−Ａの人体への影響は無視できないものとなってきている。
【０００５】
そこで、このＵＶ−Ａ対策として、窓ガラスや車のウインドウにＵＶ−Ａ吸収剤を配合したり、皮膚につける日焼け止めクリームに配合したりされている。このＵＶ−Ａをカットする化合物としてベンゾトリアジン系、ベンゾフェノン系の紫外線吸収剤などが種々検討されている。例えば、特許文献１から３には、近紫外領域をカットするトリスアリール−ｓ−トリアジン化合物が開示されている。しかし、当該文献に開示されている化合物は、３５０ｎｍ付近に吸収を有しているが、３８０から４００ｎｍ付近の吸収は弱く、ＵＶ−Ａの波長領域のすべてをカットできるものではなく、また、吸収波長が可視光領域を含むためか着色しており、実用的ではなかった。
【０００６】
また、特許文献４には、ＵＶ−Ａ領域にも吸収を持つ紫外線吸収剤として、チヌビン３２７（チヌビンはビー・エー・エス・エフ社の登録商標）、チヌビンＰ、およびＣＧＬ７７７などが開示されているが、これらの紫外線吸収剤はいずれも３５０ｎｍ付近に最大吸収を持つが、やはり３８０から４００ｎｍ付近の吸収は弱いという欠点がある。よって、３８０から４００ｎｍの波長を効率的にカットできるＵＶ−Ａ吸収剤が望まれていた。
【０００７】
更にまた、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキジベンゾイルメタンなどは３８０から４００ｎｍ付近までのＵＶ−Ａをカットできる化合物として知られている（特許文献５他）。しかしながら、可視光領域の一部にも吸収をもつため、薄黄色く着色していたりしており、着色が許容される一部の用途に限定されるものであった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平８−５３４２７号公報
【特許文献２】特開平１１−７１３５６号公報
【特許文献３】特開２０１１−１６４２８６号公報
【特許文献４】特開２００９−５２３６２５号公報
【特許文献５】特開２０１２−１８０２９０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
よって、本発明の目的は、ＵＶ−Ａ領域の紫外線を吸収し、特に、３８０から４００ｎｍの波長範囲の紫外線を効率的に吸収して、遮光しつつ、可視光領域には吸収を持たず、可視光線に対して優れた透過性を有するＵＶ−Ａ吸収剤を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者等は、長年アントラセン化合物の構造とその特性について鋭意研究を続けてきた結果、特定の構造を有するアントラセン化合物が、ＵＶ−Ａ領域の紫外線吸収性を有しており、特に３８０から４００ｎｍの波長範囲にその吸収ピークを有しており、優れたＵＶ−Ａ吸収剤として用いることができることを見出したものである。さらに当該化合物は、４００ｎｍ以上にほとんど吸収を持たないことから無色であり、可視光線に対して優れた透過性を有する化合物である。
【００１１】
すなわち、第一の発明は、下記一般式（１）で表されるアントラセン化合物を含有するＵＶ−Ａ吸収剤に存する。
【００１２】
【化１】
2018172623.tif 000002
【００１３】
一般式（１）において、Ｒ１とＲ２は同一であっても異なっていても良く、炭素数１から１２のアルキル基若しくは炭素数６から１３のアリール基又は炭素数１から１２のアルコキシ基若しくは炭素数６から１３のアリールオキシ基を表し、Ｘ、Ｙは同一であっても異なっていてもよく、炭素数１から８のアルキル基を表す。
【００１４】
第二の発明は、一般式（１）において、Ｒ１、Ｒ２は炭素数７から１２のアルキル基若しくは炭素数６から１３のアリール基又は炭素数３から１２のアルコキシ基若しくは炭素数６から１３のアリールオキシ基であることを特徴とする、第一の発明に記載のＵＶ−Ａ吸収剤に存する。
【００１５】
第三の発明は、上記一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤、及びＵＶ−Ｂ吸収剤を含有することを特徴とする、紫外線吸収剤組成物に存する。
【００１６】
第四の発明は、上記一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤、及び上記一般式（１）で表されるアントラセン化合物以外のＵＶ−Ａ吸収剤を含有することを特徴とする、紫外線吸収剤組成物に存する。
【００１７】
第五の発明は、上記一般式（１）において、Ｒ１、Ｒ２は炭素数７から１２のアルキル基若しくは炭素数６から１３のアリール基又は炭素数３から１２のアルコキシ基若しくは炭素数６から１３のアリールオキシ基であることを特徴とする、第三の発明又は第四の発明に記載の紫外線吸収剤組成物に存する。
【００１８】
第六の発明は、第一の発明又は第二の発明に記載のＵＶ−Ａ吸収剤に、更に、ヒンダードアミン系安定剤を含有することを特徴とする、紫外線吸収剤組成物に存する。
【００１９】
第七の発明は、第三の発明乃至第五の発明のいずれかひとつに記載の紫外線吸収剤組成物に、更に、ヒンダードアミン系安定剤を含有することを特徴とする紫外線吸収剤組成物に存する。
【００２０】
第八の発明は、第一の発明又は第二の発明に記載のＵＶ−Ａ吸収剤に、更に、酸化防止剤及び/又は一重項酸素クエンチャーを含有することを特徴とする、紫外線吸収剤組成物に存する。
【００２１】
第九の発明は、第三の発明乃至第七の発明のいずれかひとつに記載の紫外線吸収剤組成物に、更に、酸化防止剤及び/又は一重項酸素クエンチャーを含有することを特徴とする、紫外線吸収剤組成物に存する。
【００２２】
第十の発明は、第一の発明又は第二の発明に記載のＵＶ−Ａ吸収剤を有効成分として含有するＵＶ−Ａカットフィルムに存する。
【００２３】
第十一の発明は、第三の発明乃至第九の発明のいずれかひとつに記載の紫外線吸収剤組成物を有効成分として含有するＵＶ−Ａカットフィルムに存する。
【００２４】
第十二の発明は、ガラス基材、金属基材又は酸素バリアフィルム上に、第一の発明若しくは第二の発明に記載のＵＶ-Ａ吸収剤又は、第三の発明乃至第九の発明のいずれかひとつに記載の紫外線吸収剤組成物を含有する光重合性組成物を塗布し、該塗膜上に更に酸素バリアフィルムを被せたのち、光照射してフィルム状に重合硬化させた重合皮膜であることを特徴とする、ＵＶ−Ａカットフィルムに存する。
【００２５】
第十三の発明は、酸素バリアフィルムの酸素透過度が、２０℃、ドライ条件で１００ｃｍ３/（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下である、第十二の発明に記載のＵＶ−Ａカットフィルムに存する。
【００２６】
第十四の発明は、ＵＶ−Ａカットフィルムを含む積層体であって、該積層体が２つの高度酸素バリアフィルム層を有し、その高度酸素バリアフィルム層間に、第十の発明乃至第十三の発明のいずれかひとつに記載のＵＶ−Ａカットフィルムを含むことを特徴とする、ＵＶ−Ａカットフィルム積層体に存する。
【００２７】
第十五の発明は、ＵＶ−Ａカットフィルムを含む積層体であって、該積層体がガラス基板と高度酸素バリアフィルム層を有し、そのガラス基板と高度酸素バリアフィルム層の間に、第十の発明乃至第十三の発明のいずれかひとつに記載のＵＶ−Ａカットフィルムを含むことを特徴とする、ＵＶ−Ａカットフィルム積層体に存する。
【００２８】
第十六の発明は、高度酸素バリアフィルムの酸素透過度が、２０℃、ドライ条件で１０ｃｍ３/（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下である、第十四の発明又は第十五の発明に記載のＵＶ−Ａカットフィルム積層体に存する。
【発明の効果】
【００２９】
本発明の特定の構造を有するアントラセン化合物は、ＵＶ−Ａ領域の紫外線吸収性を有しており、特に３８０から４００ｎｍの波長範囲にその吸収極大が一つあり、優れたＵＶ−Ａ吸収剤として用いることができる。さらに当該化合物は、無色であり、可視光線に対して優れた透過性を有する化合物である。そして、当該化合物を含有する組成物及びフィルムも優れたＵＶ−Ａ吸収特性を示す。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明のＵＶ−Ａ吸収剤の一例である９，１０−ビス（ｎ−オクタノイルオキシ）アントラセン(ＡＨＱ−ｎ−オクタノイル)のＵＶ吸収曲線である。
【図２】本発明のＵＶ−Ａ吸収剤の一例である９，１０−ビス（フェノキシカルボニルオキシ）アントラセン（ＡＨＱ炭酸フェニル）のＵＶ吸収曲線である。
【図３】実施例１３と比較例５の耐光性試験テストサンプルの形状を示した図。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
＜ＵＶ−Ａ吸収剤＞
本発明のＵＶ−Ａ吸収剤は、下記一般式（１）で表されるアントラセン化合物である。
【００３２】
【化２】
2018172623.tif 000003
【００３３】
一般式（１）において、Ｒ１とＲ２は同一であっても異なっていても良く、炭素数１から１２のアルキル基若しくは炭素数６から１３のアリール基又は炭素数１から１２のアルコキシ基若しくは炭素数６から１３のアリールオキシ基を表し、Ｘ、Ｙは同一であっても異なっていてもよく、炭素数１から８のアルキル基を表す。
【００３４】
Ｒ１とＲ２で表される炭素数１から１２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基等が挙げられ、炭素数６から１３のアリール基としては、フェニル基、ｐ−トリル基、ｍ−トリル基、ｏ−トリル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等が挙げられる。炭素数１から１２のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基等が挙げられる。炭素数６から１３のアリールオキシ基としては、フェノキシ基、トリルオキシ基、ナフトキシ基、メチルナフトキシ基等が挙げられる。Ｘ又はＹで表される炭素数１から８のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等が挙げられる。
【００３５】
一般式（１）で表される化合物で、Ｒ１とＲ２が炭素数１から１２のアルキル基である場合の具体例としては、例えば次の化合物が挙げられる。すなわち、Ｘ及びＹが共に水素原子である場合の例としては、９，１０−ビス（アセチルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（プロピオニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ブチリルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｉ−ブチリルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ペンタノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ヘキサノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ヘプタノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−オクタノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（２−エチルヘキサノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ノナノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−デカノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ウンデカノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ドデカノイルオキシ）アントラセン等が挙げられる。
【００３６】
次に、Ｘ及び/又はＹがアルキル基である場合としては、２−メチル−９，１０−ビス（アセチルオキシ）アントラセン，２−メチル−９，１０−ビス（プロピオニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ブチリルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｉ−ブチリルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ペンタノイルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘキサノイルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘプタノイルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−オクタノイルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（２−エチルヘキサノイルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ノナノイルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−デカノイルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ウンデカノイルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ドデカノイルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（アセチルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（プロピオニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ブチリルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｉ−ブチリルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ペンタノイルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘキサノイルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘプタノイルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−オクタノイルオキシ）アントラセン，２−エチル−９，１０−ビス（２−エチルヘキサノイルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ノナノイルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−デカノイルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ウンデカノイルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ドデカノイルオキシ）アントラセン等が挙げられる。
【００３７】
一般式（１）で表される化合物で、Ｒ１とＲ２が炭素数６から１３のアリール基である場合の具体例としては、例えば次の化合物が挙げられる。すなわち、Ｘ及びＹが共に水素原子である場合の例としては、９，１０−ビス（ベンゾイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（４−メチルベンゾイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（２−ナフトイルオキシ）アントラセン等が挙げられる。
【００３８】
次に、Ｘ及び/又はＹがアルキル基である場合としては、２−メチル−９，１０−ビス（ベンゾイルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（４−メチルベンゾイルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（２−ナフトイルオキシ）アントラセン、１−メチル−９，１０−ビス（ベンゾイルオキシ）アントラセン、１−メチル−９，１０−ビス（４−メチルベンゾイルオキシ）アントラセン、１−メチル−９，１０−ビス（２−ナフトイルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ベンゾイルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（４−エチル−ベンゾイルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（２−ナフトイルオキシ）アントラセン、１−エチル−９，１０−ビス（ベンゾイルオキシ）アントラセン、１−エチル−９，１０−ビス（４−エチル−ベンゾイルオキシ）アントラセン、１−エチル−９，１０−ビス（２−ナフトイルオキシ）アントラセン等が挙げられる。
【００３９】
一般式（１）で表される化合物で、Ｒ１とＲ２が炭素数１から１２のアルコキシ基である場合の具体例としては、例えば次の化合物が挙げられる。すなわち、Ｘ及びＹが共に水素原子である場合の例としては、９，１０−ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（エトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ペントキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ヘプチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−オクチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（２−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ノニルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−デシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン，９，１０−ビス（ｎ−ウンデシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ドデシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン等が挙げられる。
【００４０】
次に、Ｘ及び/又はＹがアルキル基である場合としては、２−メチル−９，１０−ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（エトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ペントキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘプチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−オクチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（２−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ノニルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−デシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ウンデシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（ｎ−ドデシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（エトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ペントキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ヘプチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−オクチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（２−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ノニルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−デシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ウンデシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（ｎ−ドデシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン等が挙げられる。
【００４１】
一般式（１）で表される化合物で、Ｒ１とＲ２が炭素数６から１３のアリール基である場合の具体例としては、例えば次の化合物が挙げられる。すなわち、Ｘ及びＹが共に水素原子である場合の例としては、９，１０−ビス（フェノキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（４−メチルフェノキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（２−ナフチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン等が挙げられる。
【００４２】
次に、Ｘ及び/又はＹがアルキル基である場合としては、２−メチル−９，１０−ビス（フェノキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（４−メチルフェノキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−メチル−９，１０−ビス（２−ナフトイルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−メチル−９，１０−ビス（フェノキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−メチル−９，１０−ビス（４−メチルフェノキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−メチル−９，１０−ビス（２−ナフチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（フェノキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（４−メチルフェノキシカルボニルオキシ）アントラセン、２−エチル−９，１０−ビス（２−ナフチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−エチル−９，１０−ビス（フェノキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−エチル−９，１０−ビス（４−メチルフェノキシカルボニルオキシ）アントラセン、１−エチル−９，１０−ビス（２−ナフチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン等が挙げられる。
【００４３】
上記一般式（１）で表されるアントラセン化合物は、対応する９，１０−ジヒドロキシアントラセン化合物を公知の方法でアシル化又は置換カルボニル化することにより製造することができる。
【００４４】
上記化合物の中でも、３８０ｎｍから４００ｎｍの波長の光の吸収性特性の良さと合成が容易で高純度で得られ、白色性が高いという点で、９，１０−ビス（プロピオニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ブチリルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｉ−ブチリルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−バレリルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｉ−バレリルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ヘキサノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−へプタノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−オクタノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（２−エチルヘキサノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ノナノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ラウロイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（エトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（２−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（フェノキシカルボニルオキシ）アントラセンが好ましく、更に白色度が高いという点で、９，１０−ビス（ｎ−オクタノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（２−エチルヘキサノイルオキシ）アントラセン、９，１ ０−ビス(ｎ−プロポキシカルポニルオキシ)アントラセン、９，１ ０−ビス(ｉ―プロポキシカルボニルオキシ)アントラセン、９，１ ０−ビス(ｎ―ブトキシカルボニルオキシ)アントラセン、９，１ ０−ビス(ｉ―ブトキシカルボニルオキシ)アントラセン、９，１０−ビス（フェノキシカルボニルオキシ）アントラセンが好ましい。特に、９，１０−ビス（ｎ−オクタノイルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（２−エチルヘキサノイルオキシ）アントラセンが好ましい。
【００４５】
本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物は、３２０ｎｍから４００ｎｍの波長範囲にいくつかの吸収ピークを持ち、当該波長領域の少なくとも一部の光線を吸収
して、その強度を低減することが可能な化合物である。特に、３８０から４００ｎｍに強い吸収ピークを持ち、従来の紫外線吸収剤ではカットしづらかった波長の光を低減することができることが特徴である。また、通常は、当該可視光に近い波長域の光線をカットすると光の黄味が強くなるという問題があるが、本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物を用いるとその問題が軽減されるという特徴を有する。
【００４６】
この詳細は明らかではないが、一般式（１）で表されるアントラセン化合物は紫外線領域のカット機能を有しているが、当該領域の光をカットしたにも関わらず黄味が強くならないのは、可視光領域に吸収をほとんど持たないという点と、当該アントラセン化合物が光を吸収した後、一部の励起されたアントラセン化合物が吸光スペクトルとは鏡像関係にある蛍光スペクトルを可視光領域に発光するため、いわゆる蛍光増白作用を持つため、黄色味が強くなるという問題を軽減することを可能にしていると考えられる。
【００４７】
＜紫外線吸収剤組成物−１＞
本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物の特徴のひとつは、３２０ｎｍから４００ｎｍのＵＶ−Ａの波長範囲のみに吸収を持ち、２８０ｎｍから３２０ｎｍのＵＶ−Ｂの波長範囲及び、４００ｎｍ以上の可視光の波長範囲に吸収をほとんど持たないことである。よって、ＵＶ−Ｂの波長範囲の光もカットしたい場合は、本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤と公知のＵＶ−Ｂ吸収剤を併用し、ＵＶ−Ａ、ＵＶ−Ｂの両方をカットする紫外線吸収剤組成物として用いることができる。
【００４８】
本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤と併用することができるＵＶ−Ｂ吸収剤としては、ＵＶ−Ｂ波長領域に吸収を持つ化合物であれば特に限定されないが、以下のものが挙げられる。例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール（チバガイギー社製「チヌビンＰ」）、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール（チバガイギー社製「チヌビン３２０」）、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール（チバガイギー社製「チヌビン３２６」）、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールなどのベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、エチル−４−イソプロピルシンナメート、メチル−２，５−ジイソプロピルシンナメート、エチル−２，４−ジイソプロピルシンナメート、２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシシンナメート、シクロヘキシル−ｐ−メトキシシンナメート、エチル−α−シアノ−β−フェニルシンナメート、２−エチルヘキシル−α−シアノ−β−フェニルシンナメート、グリセリルモノ−２−エチルヘキサノイル−ジパラメトキシシンナメート等の桂皮酸系紫外線吸収剤、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４’−メチルベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、４−ヒドロキシ−３−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系紫外線吸収剤、パラアミノ安息香酸モノグリセリンエステル、Ｎ，Ｎ−ジプロポキシパラアミノ安息香酸エチルエステル、Ｎ，Ｎ−ジエトキシパラアミノ安息香酸エチルエステル等のパラアミノ安息香酸系紫外線吸収剤、アミルサリシレート、メンチルサリシレート、ホモメンチルサリシレート、オクチルサリシレート、フェニルサリシレート、ベンジルサリシレート、ｐ−イソプロパノールフェニルサリシレート等のサリチル酸系紫外線吸収剤、３−（４−メチルベンジリデン）カンファー、３−ベンジリデン−ｄ１−カンファー、ウロカニン酸、ウロカニン酸エチルエステル、オクチルトリアゾン、４−メトキシ−４’−ｔ−ブチルジベンゾイルメタン等の紫外線吸収剤が挙げられる。これらのＵＶ−Ｂ領域の紫外線吸収剤は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００４９】
ＵＶ−Ｂ吸収剤を併用する場合のＵＶ−Ｂ吸収剤の使用量は任意に設定できるが、その使用量は、本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤とＵＶ−Ｂ吸収剤の質量比で１対０．１から１対５の割合で用いることが好ましい。
【００５０】
＜紫外線吸収剤組成物−２＞
また、本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤と他の公知のＵＶ−Ａ吸収剤を併用することも可能である。公知のＵＶ−Ａ吸収剤と本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤を併用することにより、特に、公知のＵＶ−Ａ吸収剤ではカットし難かった３８０ｎｍから４００ｎｍの光のカット率を向上させることができる。
【００５１】
本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤と併用することができる他のＵＶ−Ａ吸収剤としては、特に限定されないが、以下のものが挙げられる。例えば、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、ジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリジンプロピオン酸２−エチルヘキシル、メチレンビスベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、ビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル］−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（４，６−ビス−｛２−ヒドロキシ−４−［１−（６−メチル−ヘプチルオキシカルボニル）−エトキシ］−フェニル｝−［１，３，５］トリアジン−２−イル）−３−ヒドロキシ−フェノキシ］−プロピオン酸  ６−メチル−ヘプチル  エステルなどが挙げられる。これらのＵＶ−Ａ領域の紫外線吸収剤は１種単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００５２】
本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物以外のＵＶ−Ａ吸収剤を併用する場合、当該ＵＶ−Ａ吸収剤の使用量は任意に設定できるが、その使用量は、本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤と一般式（１）で表されるアントラセン化合物以外のＵＶ−Ａ吸収剤の質量比で１対０．１から１対５の割合で用いることが好ましい。
【００５３】
＜光安定剤＞
本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤、または本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤を含有する紫外線吸収剤組成物には、更に光安定剤を含有することができる。
【００５４】
光安定剤をさらに含有することにより、本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤の光による分解を抑制して、その安定性を高めることができる。
【００５５】
用いられる光安定剤としては、特に限定されないが、ヒンダードアミン系安定剤が好ましい。ヒンダードアミン系光安定剤としては、例えば、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルステアレート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルステアレート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、１，５，８，１２−テトラキス〔２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル〕−１，５，８，１２−テトラアザドデカン、１，５，８，１２−テトラキス〔２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル〕−１，５，８，１２−テトラアザドデカン、１，６，１１−トリス〔２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イルアミノウンデカン、１，６，１１−トリス〔２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イルアミノウンデカン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート、ビス（１−ウンデシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）カーボネート、１，６−ジアミノヘキサンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン及びＮ，Ｎ−ジブチルアミンと４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの縮合物等のヒンダードアミン化合物が挙げられる。
【００５６】
光安定剤の含有量は任意に設定できるが、本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤又は一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤を含有する紫外線吸収剤組成物に対して質量比で１対０．１から１対５の割合で用いることが好ましい。
【００５７】
＜酸化防止剤、一重項酸素クエンチャー＞
本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤、または本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤を含有する紫外線吸収剤組成物には、更に酸化防止剤及び/又は一重項酸素クエンチャーを含有することができる。
【００５８】
本発明で用いられる酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、ペンタエリスリトール系酸化防止剤等を挙げることができる。
【００５９】
フェノール系酸化防止剤としては、例えば、α−トコフェロール、ブチルヒドロキシトルエン、シナピルアルコール、ビタミンＥ、ヒドロキシフェニルプロピオネート系化合物、ヒドロキシベンジル系化合物、チオフェノール系化合物、アルカンジイルフェノール系化合物等を挙げることができる。
【００６０】
ヒドロキシフェニルプロピオネート系化合物の具体例としては、３，９−ビス［２−〔３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニロキシ〕−１，１−ジメチルエトキシ］−２，４，８，１０−テロラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、トリエチレングリコール-ビス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，２−チオ-ジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−[３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、テトラキス[メチレン−３−（３，５'−ジ−ｔ−ブチル−４'−ヒドロキシフェニルプロピオネート）]メタン等を挙げることができる。
【００６１】
ヒドロキシベンジル系化合物の具体例としては、１，３，５，−トリメチル−２，４，６，−トリス（３'，５'−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、１，３，５−トリス（４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト、１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）−イソシアヌレイト等を挙げることができる。
【００６２】
チオフェノール系化合物の具体例としては、４，４'−チオビス（６−ｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、 チオメチルフェノール系化合物の具体例としては、２，４−ビス［（オクチルチオ）メチル］−ｏ−クレゾール等を挙げることができる。
【００６３】
アルカンジイルフェノール系化合物の具体例としては、Ｎ，Ｎ'−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、２，２'−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４'−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン等を挙げることができる。
【００６４】
リン系酸化防止剤の具体例としては、トリフェニルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリス（ノニルフェニル）ホスフェート、２−エチルフェニルジフェニルホスフェート、３，９−ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスピロ［５．５］ウンデカン、ジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、２，２'−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチル−１−フェニルオキシ）（２−エチルヘキシルオキシ）ホスホラス、６−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサフォスフェピン、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、４，４'−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニルジトリデシル）ホスファイト、オクタデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、１０−デシロキシ−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）［１，１−ビフェニル］−４，４'−ジイルビスホスフォナイト、ビス［２，４−ビス（１，１−ジメチルエチル）−６−メチルフェニル］エチルエステル、ホスフォン酸等を挙げることができる。
【００６５】
イオウ系酸化防止剤としては、例えば、チオプロピオネート系化合物、メルカプトベンズイミダゾール系化合物を挙げることができる。チオプロピオネート系化合物の具体例としては、２，２−ビス（｛［３−（ドデシルチオ）プロピオニル］オキシ｝メチル）−１，３−プロパンジイル−ビス［３−（ドデシルチオ）プロピオナート］、ジラウリル−３，３'−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３'−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３'−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）等を挙げることができる。メルカプトベンズイミダゾール系化合物の具体例としては、２−メルカプトベンズイミダゾール等を挙げることができる。
【００６６】
フェノール構造を有する酸化防止剤の市販品としては、例えばアデカスタブＡＯ−２０、同ＡＯ−３０、同ＡＯ−４０、同ＡＯ−５０、同ＡＯ−６０、同ＡＯ−７０、同ＡＯ−８０、同ＡＯ−３３０（以上、ＡＤＥＫＡ社）、ｓｕｍｉｌｉｚｅｒＧＭ、同ＧＳ、同ＭＤＰ−Ｓ、同ＢＢＭ−Ｓ、同ＷＸ−Ｒ、同ＧＡ−８０（以上、住友化学社）、ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０、同１０３５、同１０７６、同１０９８、同１１３５、同１３３０、同１７２６、同１４２５ＷＬ、同１５２０Ｌ、同２４５、同２５９、同３１１４、同５６５、ＩＲＧＡＭＯＤ２９５（以上、ビー・エー・エス・エフ社）、ヨシノックスＢＨＴ、同ＢＢ、同２２４６Ｇ、同４２５、同２５０、同９３０、同ＳＳ、同ＴＴ、同９１７、同３１４（以上、エーピーアイコーポレーション社）等が挙げられる。
【００６７】
本発明で用いることができる一重項酸素クエンチャーとしては、一重項状態の酸素からのエネルギー移動により一重項酸素を失活させ得る化合物であれば用いることができる。本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物は、ＵＶ−Ａを吸収する能カを有するが、ＵＶ−Ａを吸収した励起状態のアントラセン化合物が、系内に酸素が存在するときにはその酸素と反応して一重項酸素を生成し、その一重項酸素により、アントラセン化合物及び/又は他の添加物を分解する可能性がある。その反応を防ぐ目的で、本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物を含有するＵＶ−Ａ吸収剤には、一重項酸素クエンチャーを含有することが好ましい。
【００６８】
一重項酸素クエンチャーとしては、例えば、テトラメチルエチレン、シクロペンテン、シクロヘキセン、２，５−ジメチル−２，４−ヘキサジエン、１，３−シクロペンタジエン、α−テルピネン等のエチレン性化合物；ジエチルアミン、トリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロオクタン（ＤＡＢＣＯ）、Ｎ−エチルイミダゾール、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジ（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン、Ｎ−イソプロピルカルバゾール、Ｎ−フェニルカルバゾール等のアミン類；ナフタレン、ジメチルナフタレン、ピレン、クリセン、ペリレン、コロネン、テトラセン、ペンタセン、ルブレン、３，４−ベンゾフルオランスレン、２，３−ベンゾフルオレン、１，１２−ベンゾペリレン、３，４−ベンゾピレン、４，５−ベンゾピレン、及びこれらのアルキル置換体等の縮合多環芳香族化合物；１，３−ジフェニルイソベンゾフラン、１，２，３，４−テトラフェニル−１，３−シクロペンタジエン、ペンタフェニルシクロペンタジエン等の芳香族化合物等を挙げることができる。
【００６９】
更に、一重項酸素クエンチャーとして、硫黄原子を有する化合物を配位子とする金属錯体を挙げることができる。このような一重項酸素クエンチャーとしては、例えば、ビスジチオ−α−ジケトン、ビスフェニルジチオール、及びチオビスフェノールを配位子とする、ニッケル錯体、コバルト錯体、銅錯体、マンガン錯体、白金錯体等の遷移金属キレート化合物を挙げることができる。遷移金属キレート化合物の具体例としては、例えば、ビス（ジチオベンジル）ニッケル、ビス(４−ジメチルアミノジチオベンジル)ニッケル、ビス（ジチオビアセチル）ニッケル、ビス（ジブチルジチオカルバミン酸）ニッケル、ビス（オクチルフェニル）サルファイドニッケル、ビス（１，２−ジチオフェノレート）ニッケル テトラブチルアンモニウム塩、ビス（チオカテコール）ニッケル テトラブチルアンモニウム塩、ビス（４，４'−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジチオベンジル）ニッケル、ビス（４，４'−ジイソプロピルジチオベンジル）ニッケル、４−Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル−１，２−ベンゼンジチオールニッケル及びその誘導体が挙げられる。コバルト、銅、マンガン、白金錯体についても同様の化合物を挙げることができる。
【００７０】
本発明において、酸化防止剤及び/又は一重項酸素クエンチャーは、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。また、光安定剤と合わせて使用することもできる。
【００７１】
酸化防止剤及び/又は一重項酸素クエンチャーの含有量は任意に設定できるが、本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤又は一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤を含有する紫外線吸収剤組成物に対して質量比で１対０．１から１対５の割合で用いることが好ましい。
【００７２】
＜ＵＶ−Ａカットフィルムの調製＞
本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤又は本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物を含有する紫外線吸収剤組成物は、そのまま他の化合物と混合して、または溶媒と混合してあるいはペースト状にして用いることができる。例えば、ＰＭＭＡやＡＢＳ等の樹脂へ、本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤又は本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物を含有する紫外線吸収剤組成物を練り込んだり、樹脂とともに溶媒に溶解又は分散させて添加したりして、ＵＶ−Ａカット効果を持つプレート、シートやフィルム等として用いることができる。更にまた、重合性化合物中に本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤又は本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物を含有する紫外線吸収剤組成物を配合した後、当該重合性化合物を熱又は光重合することにより、ＵＶ−Ａ吸収剤を含有する硬化物、特にフィルム状物とすることもできる。
【００７３】
フィルム状とする場合には、簡便性、透明性の高さから光重合硬化が好ましい。すなわち、発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤又は本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物を含有する紫外線吸収剤組成物及び必要であれば光重合開始剤を光重合性化合物に添加し、光重合性組成物を調製して、当該光重合性組成物に光エネルギーを照射することにより、重合硬化させる方法である。
【００７４】
＜光重合性組成物＞
当該光重合性組成物は、光カチオン重合性組成物であっても、光ラジカル重合性組成物であってもよい。
【００７５】
＜光重合開始剤＞
本発明の光重合性組成物に用いられる光重合開始剤について説明する。光重合開始剤としては、オニウム塩、ベンジルメチルケタール系光重合開始剤、α−ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤、α−アミノフェノン系光重合開始剤、アシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤、オキシムエステル系光重合開始剤、ビイミダゾール系光重合開始剤などが挙げられる。
【００７６】
まず初めに、オニウム塩としては、通常スルホニウム塩またはヨードニウム塩が使用される。スルホニウム塩としては、アリールスルホニウム塩が好ましく、Ｓ，Ｓ，Ｓ’、Ｓ’−テトラフェニル−Ｓ，Ｓ’−（４，４’−チオジフェニル）ジスルホニウム  ビスヘキサフルオロフォスフェート、ジフェニル−４−フェニルチオフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェートが挙げられ、例えば、サンアプロ社製  商品名：ＣＰＩ−１００Ｐ、ビー・エ−・エス・エフ社製  商品名：イルガキュア２７０（イルガキュアは、ビー・エー・エス・エフ社の登録商標）を用いることが出来る。一方、ヨードニウム塩としては、アリールヨードニウム塩が好ましく、４−イソブチルフェニル−４’−メチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−イソプロピルフェニル−４’−メチルフェニルヨードニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレートが挙げられ、例えばビー・エ−・エス・エフ社製、商品名：イルガキュア２５０又は、ソルベイジャパン社製、商品名：ＰＨＯＴＯＩＮＩＴＩＡＴＯＲ２０７４を用いることが出来る。
【００７７】
ベンジルメチルケタール系ラジカル重合開始剤としては、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（商品名「イルガキュア６５１」ビー・エー・エス・エフ社製）等が挙げられる。α−ヒドロキシアルキルフェノン系ラジカル重合開始剤としては、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（商品名「イルガキュア１１７３」ビー・エー・エス・エフ社製）、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（商品名「イルガキュア１８４」ビー・エー・エス・エフ社製）、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（商品名「イルガキュア２９５９」ビー・エー・エス・エフ社製）、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−１−オン（商品名「イルガキュア１２７」ビー・エー・エス・エフ社製）が挙げられる。
【００７８】
また、アセトフェノン系ラジカル重合開始剤であるアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−エトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−メトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−イソプロポキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−イソブトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ベンジル系ラジカル重合開始剤であるベンジル、４，４’−ジメトキシベンジル、アントラキノン系ラジカル重合開始剤である２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−フェノキシアントラキノン、２−（フェニルチオ）アントラキノン、２−（ヒドロキシエチルチオ）アントラキノン等も用いることができる。
【００７９】
＜重合性化合物＞
次に、重合性化合物について説明する。重合性化合物としては、カチオン重合性化合物、ラジカル重合性化合物のどちらも用いることができる。まず初めに、カチオン重合性化合物である場合を説明する。
【００８０】
本発明に使用することができる光カチオン重合性化合物としてはエポキシ化合物、ビニルエーテル化合物が挙げられる。エポキシ化合物として一般的なものは脂環式エポキシ化合物、エポキシ変性シリコーン、芳香族グリシジル化合物である。脂環式エポキシ化合物としては３’，４’−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（ダイセル社製セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイドは株式会社ダイセルの登録商標）、１，２−エポキ−４−ビニルシクロヘキサン（ダイセル社製セロキサイド２０００）、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペート等が挙げられ、この中でも、特に３’，４’−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートを用いることが好ましい。芳香族グリシジル化合物としては２，２’−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）プロパンが挙げられる。ビニルエーテル化合物としてはメチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル等が挙げられる。又、エポキシ変性シリコーンとしては、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製のＵＶ−９３００を用いることが出来る。
【００８１】
次に、重合性化合物がラジカル重合性化合物である場合を説明する。
【００８２】
光ラジカル重合性化合物としては、例えば、スチレン、酢酸ビニル、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル等の二重結合を有する有機化合物を用いることができる。これらのラジカル重 合性化合物のうち、フィルム形成能等の面から、アクリル酸エステルやメタクリル酸エステル（以下、両者をあわせて「（メタ）アクリル酸エステル」という）が好ましい。（メタ）アクリル酸エステルとしては、アクリル酸メチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリ ル酸−２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリブタジエンアクリレート、ポリオールアクリレート、ポリエーテルアクリレート、シリコーン樹脂アクリレート、イミドアクリレート等が挙げられる。これらの光ラジカル重合性化合物は、単一化合物でも二種以上の混合物であっても良い。
【００８３】
一般式（１）に表されるアントラセン化合物と光重合開始剤を別々に重合性化合物に添加することも可能であるが、本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤又は一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤を含有する紫外線吸収剤組成物と光重合開始剤をあらかじめ混合した後に、重合性化合物に添加することも可能である。
【００８４】
本発明の光カチオン重合性組成物又は光ラジカル重合性組成物における一般式（１）に表されるアントラセン化合物の使用量は、重合性化合物１００部に対して  ０．００１重量部以上、５重量部未満の範囲、好ましくは０．０１重量部以上、３重量部未満である。０．００１重量部未満だとＵＶ−Ａ遮断効果が乏しく、一方、５重量部以上だと光重合させて得られる重合物の物性を悪化させるため好ましくない。
【００８５】
本発明の光カチオン重合性組成物又は光ラジカル重合性組成物における光重合開始剤の使用量は、重合性化合物１００部に対して０．００５重量部以上、１０重量部未満の範囲、好ましくは０．０１重量部以上、５重量部未満である。０．００５重量部未満だと光重合性組成物を光重合させるのに時間がかかってしまい、一方１０重量部以上だと光重合させて得られる重合物の硬度が低下し、重合物の物性を悪化させるため好ましくない。
【００８６】
＜溶剤＞
本発明の光重合性組成物は、一般に基材の上に薄く塗布して用いられるため、塗工性が良好となるとの観点から、更に、溶剤を含んでもよい。もちろん、無溶剤でも問題はない。溶剤は、上述した各成分を溶解することができるものであれば特に限定されない。例えば、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノンのようなケトン類；プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）のようなアルコール；シクロヘキサンのようなシクロアルカン；トルエン、キシレン、ベンジルアルコールのような芳香族炭化水素化合物が挙げられる。なかでも、溶解性、乾燥性や塗装性に優れるという観点から、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ＭＩＢＫが好ましい。溶剤は、それぞれ単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００８７】
本発明においては、溶剤を用いる場合のその含有量は、塗工性の観点から、光重合性組成物の全量中、０．１〜８５質量％であるのが好ましい。
【００８８】
＜レベリング剤＞
本発明の組成物は、溶剤を含む場合、更に、レベリング剤を含むのが好ましい。もちろん、無添加でも問題はない。レベリング剤としては、例えば、シリコーン系レベリング剤、アクリル系レベリング剤、ビニル系レベリング剤、フッ素系レベリング剤等が挙げられる。これらのうち、重合皮膜の均一性を高め、結果として、重合皮膜の透明性が良好となるという理由から、アクリル系レベリング剤を用いるのが好ましい。
【００８９】
本発明においては、任意のレベリング剤の含有量は、塗工性の観点から、光重合性組成物の全量中、０．０１〜３質量％であるのが好ましい。
【００９０】
＜フィルムの調製＞
本発明のＵＶ−Ａカットフィルムは、基材上に上記光重合性組成物を塗布し、光を照射することにより重合硬化させ重合皮膜を形成することにより製造することができる。
【００９１】
＜基材＞
基材としては特に限定されず、その構成材料としては、例えば、プラスチック、ゴム、ガラス、金属、セラミック等が挙げられる。ここで、プラスチックは、熱重合性樹脂および熱可塑性樹脂のいずれであってもよく、その具体例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、シクロオレフィン系重合体（単独重合体、共重合体、水素添加物を含む。例えば、ＣＯＰやＣＯＣ）、ポリメチルメタクリレート樹脂（ＰＭＭＡ樹脂）、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル・スチレン共重合樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、アセテート樹脂、ＡＢＳ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられる。また、上記基材は、例えば、コロナ処理のような表面処理がなされていてもよい。また、上記基材の形態は特に限定されないが、フィルム状であるのが好ましい。これらの中で、ガラス基材、金属基材又は酸素バリアフィルムを基材とすることが好ましい。これらの酸素非透過性の基材を用い、更に、酸素バリアフィルを被せることにより、本発明のＵＶ−Ａ吸収剤を含有する光重合性組成物を安定的にフィルム状とすることができる。
【００９２】
上述した方法で調製した光重合性組成物を基材上に塗布し、硬化させ、基材上に重合性皮膜を形成する。
【００９３】
基材および重合皮膜の厚さは特に制限されないが、基材の厚さは５０〜３００μｍ程度であるのが好ましく、重合皮膜の厚さは０．１〜１００μｍ程度であるのが好ましい。
【００９４】
例えば、フィルム状の基材上に、本発明の光重合性組成物を塗工し、乾燥し、紫外線を照射する工程を有する方法が挙げられる。ここで、本発明の光重合性組成物を基材上に塗工する方法は特に限定されず、例えば、はけ塗り、流し塗り、浸漬塗り、スプレー塗り、スピンコート等の公知の塗布方法を採用できる。また、塗工後に乾燥させる温度は、２０〜１１０℃であるのが好ましい。
【００９５】
また、本発明の光重合性組成物を重合させる際に使用する紫外線の照射量（積算光量）として、速重合性、作業性の観点から、１０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。紫外線を照射するために使用する装置は特に制限されない。例えば、次のような従来公知のものが挙げられる。このようにして調製した膜に、２５０〜５００ｎｍの波長範囲を含む紫外線を１〜１０００ｍＷ／ｃｍ２程度の強さで光照射することにより光重合物を得ることができる。用いる光源としてはメタルハライドランプ、キセノンランプ、４０５ｎｍＵＶ−ＬＥＤ、３９５ｎｍＵＶ−ＬＥＤ、３８５ｎｍＵＶ−ＬＥＤ、３６５ｎｍＵＶ−ＬＥＤ、青色ＬＥＤ、白色ＬＥＤ、フュージョン社製のＤバルブ、Ｖバルブ等が挙げられる。また、太陽光で光重合することも可能である。また、重合させるに際し加熱を併用してもよい。中でも、特に４０５ｎｍＵＶ−ＬＥＤ，３９５ｎｍＵＶ−ＬＥＤが好ましい。
【００９６】
本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤を含有する光重合性組成物において、本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物は紫外線を吸収するにもかかわらず、紫外線を用いた光重合を阻害せず、速やかに重合硬化する点も優れている。
【００９７】
本発明の光重合性組成物を光重合するときに、基材上に塗布・乾燥した光重合性組成物上に酸素バリアフィルムをかぶせたのち、光照射してフィルム状に重合硬化させることが好ましい。光照射時に酸素が存在すると光重合反応中に活性酸素が生成し本発明のＵＶ−Ａ吸収剤を分解する反応が一部進行する可能性がある。そこで、塗布した光重合性組成物上に酸素バリアフィルムを被せることにより、該分解反応を防ぐことができる。
【００９８】
光重合性組成物の上に被せる酸素バリアフィルムとしては、２０℃ドライ条件で、酸素透過度１００ｃｍ３/（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることが好ましい。
【００９９】
酸素透過度は、フィルムの素材によって異なるが、フィルムの厚みの影響も受ける。よって、酸素透過度１００ｃｍ３/（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下のフィルムとしては、例えば、エチレン含有率５６％のエチレン−ビニルアルコール共重合物であれば、１μｍ程度のものも使用可能である。ポリエチレンテレフタレートは１０μｍ以上、ナイロン６であれば２０μｍ以上の膜厚のフィルムが挙げられる。
【０１００】
＜ＵＶ−Ａカットフィルム>
本発明のＵＶ−Ａ吸収剤を含むＵＶ−Ａカットフィルムは、使用条件によっては、時間の経過とともに、そのＵＶ−Ａカット能力が低下する場合がある。このＵＶ−Ａカット能力の低下は、ＵＶ−Ａ吸収剤に光で励起された活性酸素が接触して、酸化反応などによりＵＶ−Ａ吸収剤の一部分解することなどに由来すると考えられる。
【０１０１】
そこで、本発明のＵＶ−Ａフィルムの長期安定性を高めるために、ＵＶ−Ａフィルムを光透過度が高く酸素バリア性の優れた高度酸素バリアフィルムでカバーすることが好ましい。
【０１０２】
その一つ方法として、本発明のＵＶ−Ａカットフィルムを２つの高度酸素バリアフィルム層によってサンドイッチした積層構造とすることが好ましい。
【０１０３】
またもう一つ方法として、本発明のＵＶ−Ａカットフィルムの一方をガラス基板とし、他方を高度酸素バリアフィルム層とし、この両者によりサンドイッチされた積層構造とすることが好ましい。
【０１０４】
このような積層構造とすることにより、本発明のＵＶ−Ａ吸収剤が紫外線照射下において、酸素と接触することが避けられ、長期に安定的にＵＶ−Ａカット能力を持続することが可能となる。
【０１０５】
用いられる高度酸素バリアフィルムとしては、酸素透過度が、１０ｃｍ３/（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることが好ましい。より好ましくは、１ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・aｔｍ）以下、より好ましくは、０．１ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・aｔｍ）以下である。酸素透過度は低いほど好ましく、可視光領域における全光線透過率は高いほど好ましい。
【０１０６】
このような高度酸素バリアフィルムとしては、高分子フィルムの表面に無機酸化物から成る薄膜を真空蒸着法又はプラズマ化学気相成長（ＣＶＤ）法等の真空プロセスで形成してバリア層を設けたものが一般的である。フィルム状のガラスも用いることができる。例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルムやナイロンフィルムの上にアルミナや酸化珪素などの蒸着層を設けたものなどが挙げられる。
【０１０７】
本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤又は本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤を含有する紫外線吸収剤組成物を含有する重合性組成物には、本発明の目的を損なわない範囲で、例えば、充填剤、老化防止剤、帯電防止剤、難燃剤、接着性付与剤、アンチブロック剤、分散剤、酸化防止剤、消泡剤、艶消し剤、界面活性剤、消泡剤、増粘剤、滑剤、可塑剤、撥水剤、染料、顔料のような添加剤を更に含有することができる。
【実施例】
【０１０８】
以下に、実施例を示して本発明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限定さ
れない。
【０１０９】
＜ＵＶスペクトルの測定＞
測定試料溶液は、測定試料をアセトニトリル（和光純薬）に濃度が１０ｐｐｍとなるように添加し、完全に溶解することにより調製した。該試料溶液を光路長１ｃｍの石英セルに気泡が生じないように約八分目の高さまで入れ、ＵＶ２６００（島津製作所製）にセットして、ＵＶスペクトルを測定した。
【０１１０】
（実施例１〜８）
表１に記載のＵＶ−Ａ吸収剤を測定試料として測定試料溶液を調製し、それぞれのＵＶスペクトルを測定し、３９０ｎｍと４００ｎｍにおける吸光度を表１に記載した。
【０１１１】
【表１】
2018172623.tif 000004
【０１１２】
（比較例１、２）
比較例として、公知の紫外線吸収剤であるチヌビンＰ、チヌビン３２６を実施例と同様にしてＵＶスペクトルを測定して、３９０ｎｍと４００ｎｍにおける吸光度を表２に記載した。
【０１１３】
【表２】
2018172623.tif 000005
【０１１４】
実施例１〜９と比較例１、２、及び表１と表２を比較することにより明らかなように、本発明の一般式（１）で表されるアントラセン化合物であるＵＶ−Ａ吸収剤は、３９０ｎｍの吸光度が大きく、３９０ｎｍ前後の光をよく吸収することがわかる。一方、４００ｎｍの吸光度は小さく、可視光部に吸収はほとんどないことがわかる。この点は、図１、図２の実施例１、実施例４の化合物のＵＶスペクトルを見ても明らかである。一方、従来から用いられている紫外線吸収剤であるチヌビンＰ及びチヌビン３２６は、３９０ｎｍの吸光度は小さく、３８０ｎｍから４００ｎｍの光を十分カットできないことがわかる。
【０１１５】
（実施例９）
＜カチオン系硬化フィルムの調製＞
ＵＶ−Ａ吸収剤として、９，１０−ビス（オクタノイルオキシ）アントラセン（ＯｃＡ）を１部、光重合開始剤としてイルガキュア２５０を２部、重合性化合物としてセロキサイド２０２１Ｐを１００部、溶剤としてメチルエチルケトンを３０部、レベリング剤としてアクリル系レベリング剤（ＢＹＫ３６１Ｎ、ビックケミー・ジャパン社製）０．１部を撹拌下混合し、光カチオン重合性組成物を調製した。
【０１１６】
上記のようにして得られた各光重合性組成物をＴＡＣフィルム（厚さ１００μｍ）上にバーコーターを用いて乾燥後の膜厚で１８μｍとなるよう塗布し、これにサンダー社製の３９５ｎｍＬＥＤ−ＵＶを用いて照射（照射条件：照射強度３，６ｍＷ／ｃｍ２）して光重合性組成物を重合させ、積層体を作製した。
【０１１７】
（評価）
製造したフィルムを用いて以下の評価を行った。結果を第３表に示す。
【０１１８】
＜フィルムの３９５ｎｍＵＶ−ＬＥＤ光のカット率＞
上述のとおり製造したフィルムに、装置としてサンダー社製３９５ｎｍＵＶ−ＬＥＤを照射し、その３９５ｎｍのフィルム透過後の照度をウシオ電機社製  紫外線照度計  ＵＮＩ−ＭＥＴＥＲ  ＵＩＴ−１０１、受光器はＵＶＤ−４０５ＰＤを用いて測定し、３９５ｎｍにおける透過率（％）を測定した。測定結果を下記式に当てはめて積層体の３９５ｎｍの波長の光のカット率を算出した。
【０１１９】
【数１】
2018172623.tif 000006
【０１２０】
（実施例１０および比較例３）
ＵＶ−Ａ吸収剤、光重合開始剤及び重合性化合物を下記表３の各成分とし、表３に示す組成（質量部）で、実施例９と同様にして撹拌機を用いて混合し、光重合性組成物を調製した。そして実施例９と同様に得られた光重合性組成物を重合させ、積層体を作成し、実施例９と同様に重合皮膜の３９５ｎｍの光のカット率を測定し、その結果を表３に記載した。
【０１２１】
【表３】
2018172623.tif 000007
【０１２２】
（実施例１１）
＜ラジカル系硬化フィルムの調製＞
ＵＶ−Ａ吸収剤として、９，１０−ビス（オクタノイルオキシ）アントラセン（ＯｃＡ）を１部、光重合開始剤としてイルガキュア１１７３を５部、重合性化合物としてビスコート４００を１００部、溶剤としてメチルエチルケトンを３０部、レベリング剤としてアクリル系レベリング剤（ＢＹＫ３６１Ｎ、ビックケミー・ジャパン社製）０．１部を撹拌下混合し、光ラジカル重合性組成物を調製し、実施例９と同様の方法でＵＶ-Ａカットフィルムを製造し、実施例９と同様の方法で、評価し、その結果を表４に記載した。
【０１２３】
（実施例１２および比較例４）
ＵＶ−Ａ吸収剤、光重合開始剤及び重合性化合物を下記表４の各成分とし、表４に示す組成（質量部）で、実施例１０と同様にして撹拌機を用いて混合し、光重合性組成物を調製した。そして実施例１０と同様に得られた光重合性組成物を重合させ、積層体を作成し、実施例１０と同様に重合皮膜の３９５ｎｍＵＶ−ＬＥＤ光のカット率を測定し、その結果を表４に記載した。
【０１２４】
【表４】
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【０１２５】
実施例９から１２と比較例３、４及び表３、４に示す結果から明らかなように、本発明の一般式（１）で表すアントラセン化合物を配合したフィルムの３９５ｎｍのカット率は、一般的なＵＶ吸収剤であるチヌビンＰを配合して調製したフィルムに比べ、３９５ｎｍのカット率は非常に高く、本発明のＵＶ−Ａ吸収剤を含有するフィルムのＵＶ−Ａカット機能、特に３９５ｎｍの波長のカット機能が優れていることがわかる。
【０１２６】
［実施例１３］
＜ＵＶ−Ａ吸収剤の安定化＞
ＵＶ−Ａ吸収剤は一重項酸素が共存することで分解されるが、一重項酸素が共存しないように一重項酸素を生成する酸素を除去することでＵＶ−Ａ吸収剤の安定化することができる。
【０１２７】
ＵＶ−Ａ吸収剤として９，１０−ビス（オクタノイルオキシ）アントラセン（ＯｃＡ）を１−メチル−２−ピロリドン（東京化成社製）に１ｗｔ％溶解させ、この溶液をステンレスカップに入れた。このステンレスカップを酸素濃度０．１ｐｐｍ以下のグローブボックスの中に投入し、ステンレスカップ内の溶液をグローブボックス内の雰囲気ガスで２０ｍＬ／分の速度でバブリングを実施し、溶液内の酸素を完全に追い出した。このステンレスカップにＰＥＴフィルムと石英ガラスで蓋をし、酸素不透過性の袋（ハイバリア彊美人、クリロン化成社製）の中に投入し、併せて袋内部に侵入してくる微量酸を除去できるように酸素吸収剤としてセキュール（ニッソーファイン社製、セキュールはニッソーファイン社の登録商標）を投入した。この袋をヒートシーリングで完全に密封し、グローブボックスから取り出した(図３左)。
【０１２８】
これを耐光性試験機（アトラス・サンテストＣＰＳ＋，東洋精機社製）に投入し、４時間光を照射した。その後、光照射前後の９，１０−ビス（オクタノイルオキシ）アントラセン（ＯｃＡ）の量を高速液体クロマトグラフィで定量し、９，１０−ビス（オクタノイルオキシ）アントラセン（ＯｃＡ）の残存割合を算出した。その結果を表５に示す。
【０１２９】
〔比較例５〕
９，１０−ビス（オクタノイルオキシ）アントラセン（ＯｃＡ）を１−メチル−２−ピロリドン（東京化成社製）に１ｗｔ％溶解させ、この溶液をステンレスカップに入れた。空気中で、このステンレスカップにＰＥＴフィルムと石英ガラスで蓋をし、酸素不透過性の袋（ハイバリア彊美人、クリロン化成社製）の中に投入し、袋をヒートシーリングで完全に密封した(図３右)。この他は実施例１３と同様な操作を実施した。その結果を表５に示す。
【０１３０】
【表５】
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【０１３１】
表５を見て分かるように、実施例１３では酸素が系内から除去されている為、一重項酸素が生成されない。その為、ＵＶ−Ａ吸収剤が一重合酸素によって分解されないことを示している。一方、比較例５では酸素が系内に存在している為、酸素が励起され、これにより生じた一重項酸素によってＵＶ−Ａ吸収剤が分解されていることが分かる。従って、酸素または一重項酸を除去することでＵＶ−Ａ吸収剤が安定して存在でき、ＵＶ−Ａを吸収することができることを示している。
【０１３２】
（実施例１４）
ＵＶ−Ａ吸収剤として９，１０−ビス（オクタノイルオキシ）アントラセン（ＯｃＡ）を１−メチル−２−ピロリドン（東京化成社製）に１ｗｔ％添加し、酸化防止剤としてＩＲＧＡＮＯＸ１０１０（ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ＢＡＳＦ社製、ＩＲＧＡＮＯＸはＢＡＳＦ社の登録商標）を５ｗｔ％添加した。この溶液をステンレスカップに入れ、ＰＥＴフィルムと石英ガラスで蓋をした。これを耐光性試験機（アトラス・サンテストＣＰＳ＋，東洋精機社製）に投入し、４時間光を照射した。その後、光照射前後の９，１０−ビス（オクタノイルオキシ）アントラセン（ＯｃＡ）の量を高速液体クロマトグラフィで定量し、９，１０−ビス（オクタノイルオキシ）アントラセン（ＯｃＡ）の残存割合を算出した。その結果を表６に示す。
【０１３３】
（実施例１５）
実施例１４においてＩＲＧＡＮＯＸ１０１０の代わりにアデカスタブＡＯ−８０（３，９−ビス［２−〔３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニロキシ〕−１，１−ジメチルエトキシ］−２，４，８，１０−テロラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、ＡＤＥＫＡ社製、アデカスタブはＡＤＥＫＡ社の登録商標）を５ｗｔ％添加した他は同様の操作を行った。その結果を表６に示す。
【０１３４】
〔比較例６〕
実施例１４においてＩＲＧＡＮＯＸ１０１０を添加しなかった他は同様の操作を行った。その結果を表６に示す。
【０１３５】
表６を見て分かるように、実施例１４および１５では酸化防止剤によって酸素がトラップされているので、一重項酸素によってＵＶ−Ａ吸収剤が分解されないことを示している。一方比較例６では酸化防止剤が添加されていない為、発生した一重項酸素によってＵＶ−Ａ吸収剤が分解されていることを示している。従って、一重項酸素を発生させない酸化防止剤を用いることで、ＵＶ−Ａ吸収剤を安定して存在させることができることを示している。
【０１３６】
【表６】
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【図１】
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【図２】
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【図３】
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