(57)【要約】【課題】液晶性を有し熱伝導性、耐熱性に優れた新規なジエポキシ化合物を提供すること。【解決手段】下記一般式（１）で表されるジエポキシ化合物を使用することにより、上記課題は解決できる。2018172310.tif 000050（式中、Ｒ１は酸素原子又はメチレン基を表し、Ｒ２はＲ１が酸素原子の場合はメチレン基を、Ｒ１がメチレン基の場合は酸素原子を表し、Ｒ３は水素原子又はメチル基を表し、ｎは０又は１を示す。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）で表されるジエポキシ化合物。
【化１】
2018172310.tif 000049
（式中、Ｒ１は酸素原子又はメチレン基を表し、Ｒ２はＲ１が酸素原子の場合はメチレン基を、Ｒ１がメチレン基の場合は酸素原子を表し、Ｒ３は水素原子又はメチル基を表し、ｎは０又は１を示す。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規なジエポキシ化合物に関する。詳しくは、３つもしくは４つのフェニレン基を有し、化合物の両末端にエポキシ環を有するジエポキシ化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子機器の小型化・高集積化に伴う実装部品（車載用インバータ、ＬＥＤ照明等）の発熱や使用環境の高温化が問題となっている。これらの絶縁構成材料にはエポキシ樹脂が広く用いられている。このような分野では、高い熱伝導性を有するエポキシ樹脂が求められている。そのための手段の一つとして、エポキシ化合物に液晶性（高配向性）を持たせることが有効であることが知られている。
従来、このような耐熱性液晶性エポキシ化合物としては、分子中に２個の安息香酸フェニル基などのメソゲンを持つ液晶性ジエポキシ化合物がいくつか知られている（例えば、特許文献１、２など）。しかしながら液晶性ジエポキシ化合物は分子構造が複雑で製造が困難である上に、取り扱いが極めて困難であった。
一方、取り扱いや合成が容易な耐熱性エポキシ化合物としては、例えば分子中に１個のビフェニル基を有するジエポキシ化合物が知られている。特許文献３には、フェノキシビフェニル構造を有する、下記に示すジエポキシ化合物（ａ）が記載されているが、熱伝導性や液晶性については、説明されていない。
【化１】
2018172310.tif 000002
同文献に記載されているジエポキシ化合物（ａ）の示差走査熱量測定（ＤＳＣ）の分析結果では、融点１６６℃における１本の吸熱ピークのみが示され、その他の相転移を表す吸熱ピークは見られなかった。このことから、該文献記載のジエポキシ化合物は液晶性を持たず、絶縁構成材料に使用しても高い熱伝導性を示すことは期待できない。
【０００３】
特許文献４には、４，４’−ジフェノキシビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂が提案されており、そのエポキシ樹脂硬化物は機械強度に優れることが記されているが、熱伝導性や液晶性については、説明されていない。そのうち、例えば、下記のｐ，ｐ’−ビス（４−グリシドキシフェノキシ）ビフェニルは融点が示されるのみであって、このことから液晶性化合物ではないことは明らかである。このような化合物は優れた耐熱性や機械強度を有するビフェニル骨格含有エポキシ樹脂であるが、液晶性を示さないので絶縁構成部材に使用しても、熱伝導率が十分に高くないことが予測される。
【化２】
2018172310.tif 000003
【０００４】
また、特許文献５には、ビフェニル骨格とエステル基を含有する、下記に示すジエポキシ化合物（ｂ）が記載されている。
【化３】
2018172310.tif 000004
しかしながら、このようなエステル基を有する化合物もまた、液晶性を示さない。
さらに、エステル基を有するジエポキシ化合物は加水分解やアルカリ等により、特に高温環境下においては劣化が進行しやすいことが懸念される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平０９−１１８６７３号公報
【特許文献２】特開２００３−２６８０７０号公報
【特許文献３】中国特許出願公開第１０２２１１９８４号明細書
【特許文献４】米国特許第３２１９６７０号明細書
【特許文献５】特開２０１１−２１９７３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、液晶性を有し熱伝導性、耐熱性に優れた新規なジエポキシ化合物を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上述の課題解決のために鋭意検討した結果、主鎖に一個のビフェニル骨格を有し、ビフェニル骨格の結合基にエステル基を有さない特定構造のジエポキシ化合物は、液晶性を示すことを見出し、このようなジエポキシ化合物は液晶性を有し熱伝導性、耐熱性に優れた新規なジエポキシ化合物であることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明によると、下記一般式（１）で表されるジエポキシ化合物が提供される。
【化４】
2018172310.tif 000005
（式中、Ｒ１は酸素原子又はメチレン基を表し、Ｒ２はＲ１が酸素原子の場合はメチレン基を、Ｒ１がメチレン基の場合は酸素原子を表し、Ｒ３は水素原子又はメチル基を表し、ｎは０又は１を示す。）
【発明の効果】
【０００８】
本発明のジエポキシ化合物は、液晶性を有し、熱伝導性、耐熱性に優れている。
また、ビフェニル骨格を有することから耐熱性と機械強度に優れ、さらにエステル基を有さず、メチレンオキシ基のエーテル結合を有することから耐加水分解性や耐アルカリ性にも優れている。
したがって、本発明のジエポキシ化合物と各種硬化剤、例えば、アミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤、アミド系硬化剤、フェノール系硬化剤、カチオン重合開始剤などを含有し、任意に硬化促進剤、無機充填剤、離型剤等の配合剤を含んでも良いエポキシ樹脂組成物は取り扱いが容易であり、しかも硬化樹脂とした場合、熱伝導性に優れ、耐熱性、機械強度、耐湿・耐アルカリ性にも優れた硬化樹脂を形成することができるため、電子部品用絶縁材料、接着剤等に好適に用いられる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明のジエポキシ化合物について詳細に説明する。
本発明の下記一般式（１）
【化５】
2018172310.tif 000006
で表されるジエポキシ化合物において、Ｒ１は酸素原子又はメチレン基であり、Ｒ２はＲ１が酸素原子の場合はメチレン基を、Ｒ１がメチレン基の場合は酸素原子であり、Ｒ３は水素原子又はメチル基であり、ｎは０又は１の整数である。
したがって、前記一般式（１）で表される本発明のジエポキシ化合物として、具体的には、下記構造式で表されるジエポキシ化合物（２）〜（９）を例示することができる。
【００１０】
【化６】
2018172310.tif 000007
４−［４−（オキシラン−２−イルメトキシ）フェニル］−１−｛［４−（オキシラン−２−イルメトキシ）フェニル］メトキシ｝ベンゼン  
【化７】
2018172310.tif 000008
２−メチル−４−［４−（オキシラン−２−イルメトキシ）フェニル］−１−｛［４−（オキシラン−２−イルメトキシ）フェニル］メトキシ｝ベンゼン  
【化８】
2018172310.tif 000009
４−｛［４−（オキシラン−２−イルメトキシ）フェニル］メトキシ｝−１−（４−｛［４−（オキシラン−２−イルメトキシ）フェニル］メトキシ｝フェニル）ベンゼン  
【化９】
2018172310.tif 000010
３−メチル−４−｛［４−（オキシラン−２−イルメトキシ）フェニル］メトキシ｝−１−（４−｛［４−（オキシラン−２−イルメトキシ）フェニル］メトキシ｝フェニル）ベンゼン
【化１０】
2018172310.tif 000011
４−（オキシラン−２−イルメトキシ）−１−（｛４−［４−（オキシラン−２−イルメトキシ）フェニル］フェニル｝メトキシ）ベンゼン  
【化１１】
2018172310.tif 000012
【化１２】
2018172310.tif 000013
【化１３】
2018172310.tif 000014
【００１１】
本発明による前記一般式（１）で表されるジエポキシ化合物の製造方法は、特に制限はなく、目的とするジエポキシ化合物に対応して、その出発原料の選定並びに反応工程、反応方法は公知の方法を適宜用いることができる。
例えば、前記したジエポキシ化合物（２）及び（３）の製造方法については、ｐ−クレゾールとエピハロヒドリンを出発原料とし、下記のＳＴＥＰ１−１〜ＳＴＥＰ１−５の工程を順次経て合成することができる。
【００１２】
（ＳＴＥＰ１−１）
ｐ−クレゾールと下記一般式（１０）
【化１４】
2018172310.tif 000015
（式中、Ｘはハロゲン原子を表す）
で表されるエピハロヒドリン（以下、化合物（１０）と記す）を反応させて、１−メチル−４−（オキシラン−２−イルメトキシ）ベンゼン（以下、化合物（Ａ）と称呼する）を得る工程。
（ＳＴＥＰ１−２）
化合物（Ａ）のメチル基を臭素化させて、１−（ブロモメチル）−４−（オキシラン−２−イルメトキシ）ベンゼン（以下、化合物（Ｂ）と称呼する）を得る工程。
（ＳＴＥＰ１−３）
化合物（Ｂ）と下記一般式（１１）
【化１５】
2018172310.tif 000016
（式中、Ｒ３は一般式（１）のそれと同じである）
で表される４−ブロモフェノール類（以下、化合物（１１）と称呼する）を反応させて、下記一般式（１２）
【化１６】
2018172310.tif 000017
（式中、Ｒ３は一般式（１）のそれと同じである）
で表される化合物（以下、化合物（１２）と称呼する）を得る工程。
（ＳＴＥＰ１−４）
化合物（１２）と４−ヒドロキシフェニルボロン酸を反応させて、下記一般式（１３）
【化１７】
2018172310.tif 000018
（式中、Ｒ３は一般式（１）のそれと同じである）
で表される化合物（以下、化合物（１３）と称呼する）を得る工程。
（ＳＴＥＰ１−５）
化合物（１３）と化合物（１０）を反応させて、ジエポキシ化合物（２）又は（３）を得る工程。
【００１３】
上記ＳＴＥＰ１−１〜ＳＴＥＰ１−５の工程スキームを反応式で示す。
【化１８】
2018172310.tif 000019
（式中、Ｒ３は一般式（１）に示すそれと同じであり、Ｘはハロゲン原子を表す。）
【００１４】
次に前記各工程をさらに詳細に説明する。
（ＳＴＥＰ１−１）：化合物（Ａ）の合成（グリシジルエーテル化）
化合物（Ａ）は、ｐ−クレゾールとエピハロヒドリンを塩基性化合物の存在下に反応（グリシジルエーテル化）させる公知の方法（例えば特開昭６２−１４８４７７号公報など）により容易に合成することができる。
反応に際し、エピハロヒドリン（化合物（１０））としては、エピクロロヒドリン又はエピブロモヒドリンを好ましく用いることができる。また、エピハロヒドリンはそれ自身を溶媒としても用いることができる。エピハロヒドリンの使用量は、ｐ−クレゾール１モルに対して、通常、１〜１００モルの割合で用いられる。
また、塩基性化合物としては、具体的には、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等のアルカリ土類金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩等の無機塩、ピリジンなどの塩基性芳香族化合物、トリエチルアミンなどの有機アミン、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド等のアンモニウム塩などが挙げられる。これら塩基性化合物は、使用する溶媒に溶解した溶液の形態でも使用できるし、固形の形態でも使用できる。また、単独で使用しても、２種類以上を併用してもよい。塩基性化合物の使用量は、ｐ−クレゾール１モルに対して、通常、０．１〜１０モルの割合で用いられる。
反応に際し、溶媒は操作性に問題なければ用いなくてもよい。溶媒を用いる場合は、溶媒は該反応に不活性であれば特に制限はない。用いられる溶媒として、具体的には、例えば、水、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサンなどの脂肪族炭化水素、シクロペンタン、シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノールなどのアルコール類、エチレングリコール、トリメチレングリコールなどのグリコール類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメチルエーテル、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキサン、ジエトキシエタンなどのエーテル類、アセトニトリル、プロピオニトリルなどの脂肪族ニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。このような溶媒は単独でも、また２種類以上併用して用いてもよい。
反応温度は、使用する溶媒によっても変わるが、通常、４０℃〜１５０℃の範囲である。このような反応条件において、反応時間は反応温度、使用する塩基性化合物や溶媒の種類や量等によっても変わるが、通常、０．５〜２０時間の範囲である。
反応終了後、反応生成混合物から目的とする化合物を精製、単離するのが好ましく、例えば、常法に従い、反応終了後、中和、水洗、晶析、ろ過、乾燥、蒸留などの後処理操作を行うことで、化合物（Ａ）を得ることができる。得られた化合物（Ａ）は、さらに純度を高めるため、常法に従い蒸留や再結晶、カラムクロマトグラフィーによる精製を行ってもよい。
【００１５】
（ＳＴＥＰ１−２）：化合物（Ｂ）の合成（臭素化）
ＳＴＥＰ１−１で合成した化合物（Ａ）のメチル基を臭素化することにより、化合物（Ｂ）を合成することができる。化合物（Ａ）の臭素化は公知の方法で行うことができる。例えば、過酸化ベンゾイルなどのラジカル開始剤の存在下、四塩化炭素等の溶媒中、Ｎ−ブロモスクシンイミド等の臭素化剤と反応させる方法により行うことができる。
反応に際し、用いられる臭素化剤としては、具体的には、例えばＮ−ブロモスクシンイミド、臭素、Ｎ−ブロモグルタルイミド、Ｎ−ブロモフタルイミドなどが挙げられる。臭素化剤の使用量としては、化合物（Ａ）１モルに対して、通常、１〜１０モルの割合で用いられる。
また、ラジカル開始剤としては、具体的には例えば、過酸化ベンゾイル、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、ジアシルペルオキシド、ジアルキルペルオキシジカルボネート、ｔｅｒｔ−アルキルペルオキシエステル、モノペルオキシカルボネート、ジ（ｔｅｒｔ−アルキルペルオキシ）ケタールおよびケトンペルオキシド等が挙げられる。ラジカル開始剤の使用量は、化合物（Ａ）１モルに対して、通常、０．００１〜０．１モルの割合で用いられる。
反応は、通常、溶媒中で行われる。用いられる溶媒としては、具体的には、例えば、四塩化炭素、ｎ−ヘプタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、フルオロベンゼン、ジフルオロベンゼン、トリフルオロベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、α，α，α−トリフルオロトルエン、α，α，α−トリクロロトルエン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類などが挙げられる。このような溶媒は単独でも、また２種類以上併用して用いてもよい。
反応温度は、通常、−２０〜１００℃の範囲である。このような反応条件において、反応時間は、反応温度、使用する溶媒の種類や量等によっても変わるが、通常、０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後、反応生成混合物から目的とする化合物を精製、単離するのが好ましく、常法に従い、反応終了後、中和、水洗、晶析、ろ過、乾燥、蒸留などの後処理操作を行うことで化合物（Ｂ）を得ることができる。例えば、Ｎ−ブロモスクシンイミドを用いる場合、臭素化反応を行うとスクシンイミドの固体が析出するため、これをろ別し、得られた母液を蒸留により濃縮、分留したり、母液に溶媒を混合して生成物を結晶化させたり、母液の濃縮液をカラムクロマトグラフィーにより精製することにより、化合物（Ｂ）の精製品を得ることができる。
【００１６】
（ＳＴＥＰ１−３）：化合物（１２）の合成（エーテル化）
ＳＴＥＰ１−２で合成した化合物（Ｂ）と、化合物（１１）を公知の方法により塩基性条件下に反応させることにより、化合物（１２）を合成することができる。
ここにおいて、化合物（１１）としては、具体的には、４−ブロモフェノール又は４−ブロモ−２−メチルフェノールが挙げられる。
反応に際し、化合物（Ｂ）と化合物（１１）のモル比は、通常、化合物（Ｂ）１モルに対して、化合物（１１）は１〜２０モル範囲の割合で用いられる。
用いられる塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、水素化ナトリウム等の無機塩トリエチルアミン、ピリジンなどの有機塩基が挙げられる。塩基の使用量としては  化合物（Ｂ）１モルに対して０．１〜１０モルの割合で用いられる。
反応は通常、溶媒中で行われる。用いられる溶媒としては、反応に不活性であれば特に制限されないが、具体的には、例えば、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキサン、ジエトキシエタン等のエーテル類、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒等が挙げられる。これらの有機溶媒は、それぞれ単独で用いてもよいし、また、極性を調整するために適宜２種以上を併用してもよい。
反応温度は、通常、０℃〜５０℃の範囲である。このような反応条件において、反応時間は、反応温度、使用する溶媒の種類や量等によっても変わるが、通常、１〜４８時間の範囲である。
反応終了後、反応生成混合物から目的とする化合物を精製、単離するのが好ましく、例えば常法に従い、反応終了後、中和、水洗、晶析、ろ過、蒸留、カラムクロマトグラフィーによる分離などの後処理操作を行うことで、化合物（１２）を得ることができる。得られた化合物（１２）は、さらに純度を高めるため、常法に従い蒸留や再結晶、カラムクロマトグラフィーによる精製を行ってもよい。
【００１７】
（ＳＴＥＰ１−４）：化合物（１３）の合成（鈴木クロスカップリング反応）
ＳＴＥＰ１−３で合成した化合物（１２）と４−ヒドロキシフェニルボロン酸を、鈴木クロスカップリング反応させることにより、化合物（１３）を合成することができる。クロスカップリング反応に際しては、公知の方法に従い、反応触媒と塩基を用いる。
反応に際し、４−ヒドロキシフェニルボロン酸と化合物（１２）のモル比は、通常、化合物（１２）１モルに対して、４−ヒドロキシフェニルボロン酸は１〜１０モル範囲の割合で用いられる。
用いられるカップリング反応触媒としては、パラジウム系触媒、ニッケル系触媒などが挙げられる。パラジウム系触媒としては、具体的には例えば、パラジウム−活性炭素、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（０）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）等の０価のパラジウム化合物や、酢酸パラジウム（ＩＩ）、塩化パラジウム（ＩＩ）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、［１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン］パラジウム(ＩＩ) ジクロリド、ビス（アセトニトリル）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（ベンゾニトリル）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、アリルパラジウム（ＩＩ）クロリド２量体、シクロペンタジエニルアリルパラジウム（ＩＩ）、水酸化パラジウム等の２価のパラジウム化合物等が挙げられる。またパラジウム化合物は、反応中、溶解していても、何らかの担体に担持されていてもよい。ニッケル系触媒としては、具体的には例えば、ビス（トリフェニルホスフィン）ニッケルクロリド、テトラキス（トリフェニルホスフィン）ニッケル等のニッケル化合物等が挙げられる。パラジウム系触媒及びニッケル系触媒は、必要に応じてそれらを２種以上併用して用いることもできる。パラジウム系触媒及びニッケル系触媒の使用量は、化合物（１２）１モルに対して、通常、０．００１〜０．１モル範囲の割合で用いられる。
塩基としては、具体的には、例えば、酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等のアルカリ金属酢酸塩、リン酸ナトリウム等のアルカリ金属リン酸塩、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルコール金属塩類、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジン、４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基などが挙げられる。これらを単独もしくは必要に応じて２種以上を併用して用いることができる。中でも、収率がよい点でアルカリ金属炭酸塩が好ましい。塩基の使用量は、化合物（１２）１モルに対して、通常、０．５〜５．０モル範囲の割合で用いられる。
反応は通常、溶媒中で行われる。用いられる溶媒としては、具体的には、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン又はクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の非プロトン性極性溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類；酢酸エチル、プロピオン酸エチル等のエステル類；ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類；メタノール、エタノール等のアルコール類；水が挙げられる。これらを単独もしくは必要に応じて２種以上を併用して用いることができる。溶媒の使用量は、化合物（１２）１重量部に対して、０．１〜５０重量部の範囲、好ましくは０．５〜２０重量部の範囲である。
反応温度は、通常、２０〜１００℃の範囲である。このような反応条件において、反応時間は、反応温度、使用する溶媒の種類や量等によっても変わるが、通常、０．５〜１０時間の範囲である。
反応終了後、反応生成混合物から目的とする化合物を精製、単離するのが好ましく、例えば、常法に従い、反応終了後、中和、水洗、晶析、ろ過、蒸留、カラムクロマトグラフィーによる分離などの後処理操作を行うことで、化合物（１３）を得ることができる。
得られた生成物の着色が強い場合には、生成物を溶媒に溶解させ、活性炭、ゼオライト、シリカゲル、アルミナゲル、活性白土などの吸着剤で処理することで着色を低減することができる。
【００１８】
（ＳＴＥＰ１−５）：ジエポキシ化合物（２）又は（３）の合成（ジグリシジルエーテル化）
ＳＴＥＰ１−４で得られた化合物（１３）は、ＳＴＥＰ１−１と同様にして、化合物（１０）とグリシジルエーテル化反応をすることにより、ジエポキシ化合物（２）又は（３）を得ることができる。また得られたジエポキシ化合物（２）又は（３）は、ＳＴＥＰ１−１と同様の後処理操作を行うことで、精製・単離することができる。
【００１９】
次に、前記したジエポキシ化合物（４）及び（５）の製造方法については、例えば、前記した化合物（Ｂ）と下記一般式（１４）
【化１９】
2018172310.tif 000020
（式中、Ｒ３は一般式（１）におけるそれと同じである。）
で表される４，４’−ジヒドロキシビフェニル類（以下、化合物（１４）と称呼する）を出発原料とし、公知の方法に従い、塩基性条件下に反応させる（ジエーテル化）ことにより得ることができる。
上記工程スキームを反応式で示す。
【化２０】
2018172310.tif 000021
【００２０】
反応に際し、化合物（Ｂ）と化合物（１４）のモル比は、通常、化合物（１４）１モルに対して、化合物（Ｂ）は２〜５０モル範囲の割合で用いられる。
用いられる塩基は前記したＳＴＥＰ１−３で用いられる塩基と同様である。塩基の使用量は、化合物（１４）１モルに対して、通常、０．１〜１０モル範囲の割合で用いられる。
反応は、通常、溶媒中で行われる。用いられる溶媒としては、前記したＳＴＥＰ１−３で用いられる溶媒と同様である。溶媒の使用量は、化合物（１４）１重量部に対して、通常、１０〜５００重量部の範囲である。
反応温度は、通常、１０〜５０℃の範囲である。このような反応条件において、反応時間は、反応温度、使用する溶媒の種類や量等によっても変わるが、通常、５〜４８時間の範囲である。
反応終了後、反応生成混合物から目的とする化合物を精製、単離するのが好ましく、例えば、反応終了後、生成物が固体として析出する場合、必要に応じて溶媒を混合し、ろ別して回収する。析出しない場合は、貧溶媒を混合したり、濃縮することにより生成物を結晶化させ、回収して、ジエポキシ化合物（４）又は（５）を得ることができる。
得られたジエポキシ化合物（４）又は（５）は、さらに純度を高めるため、常法に従い蒸留や再結晶、カラムクロマトグラフィーによる精製を行ってもよい。
【００２１】
次に、前記したジエポキシ化合物（６）及び（７）の製造方法については、例えば、下記一般式（１５）で表される４−ブロモベンジルハライド類とハイドロキノンを出発原料とし、下記のＳＴＥＰ３−１〜３−３の工程を順次経て合成することができる。
（ＳＴＥＰ３−１）
下記一般式（１５）
【化２１】
2018172310.tif 000022
（式中、Ｒ３は一般式（１）のそれと同じであり、Ｘはハロゲン原子である。）
で表される４−ブロモベンジルハライド類（以下、化合物（１５）と称呼する）とハイドロキノンを反応させて、下記一般式（１６）
【化２２】
2018172310.tif 000023
（式中、Ｒ３は一般式（１）のそれと同じである。）
で表される化合物（以下、化合物（１６）と称呼する）を得る工程。
（ＳＴＥＰ３−２）
化合物（１６）と４−ヒドロキシフェニルボロン酸を反応させて、下記一般式（１７）
【化２３】
2018172310.tif 000024
（式中、Ｒ３は一般式（１）のそれと同じである。）
で表される化合物（以下、化合物（１７）と称呼する）を得る工程。
（ＳＴＥＰ３−３）
化合物（１７）と化合物（１０）を反応させて、ジエポキシ化合物（６）又は（７）を得る工程。
【００２２】
上記ＳＴＥＰ３−１〜ＳＴＥＰ３−３の工程スキームを反応式で示す。
【化２４】
2018172310.tif 000025
（式中、Ｒ３は一般式（１）のそれと同じであり、Ｘはハロゲン原子である。）
【００２３】
次に前記各工程を更に詳細に説明する。
（ＳＴＥＰ３−１）：化合物（１６）の合成（エーテル化）
化合物（１６）は化合物（１５）とハイドロキノンを塩基性化合物存在下に、公知の方法に従い反応させることにより容易に得ることができる。
原料化合物（１５）としては、具体的には、４−ブロモベンジルブロミド、４−ブロモ−２−メチルベンジルブロミド、４−ブロモベンジルクロリド、４−ブロモ−２−メチルベンジルクロリド、４−ブロモベンジルヨード、４−ブロモ−２−メチルベンジルヨードなどが挙げられる。  
反応に際し、化合物（１６）とハイドロキノンのモル比は、通常、化合物（１６）１モルに対して、ハイドロキノンは１〜１０モル範囲の割合で用いられる。
用いられる塩基は前記したＳＴＥＰ１−３で用いられる塩基と同様である。塩基の使用量は、化合物（１５）１モルに対して、通常、０．１〜１０モル範囲の割合で用いられる。
反応は通常、溶媒中で行われる。用いられる溶媒としては、前記したＳＴＥＰ１−３で用いられる溶媒と同様である。溶媒の使用量は、化合物（１５）１重量部に対して、５〜１００重量部範囲の割合で用いられる。
反応温度は、通常、２０〜１００℃の範囲である。
このような反応条件において、反応時間は、反応温度、使用する溶媒の種類や量等によっても変わるが、通常、１〜１０時間の範囲である。
反応終了後、反応生成混合物から目的とする化合物を精製、単離するのが好ましく、例えば常法に従い、反応終了後、中和、水洗、晶析、ろ過、乾燥、蒸留などの後処理操作を行うことで、化合物（１６）を得ることができる。
得られた化合物（１６）は、さらに純度を高めるため、常法に従い蒸留や再結晶、カラムクロマトグラフィーによる精製を行ってもよい。
【００２４】
（ＳＴＥＰ３−２）：化合物（１７）の合成（鈴木クロスカップリング反応）
ＳＴＥＰ３−１で得られた化合物（１６）は、４−ヒドロキシフェニルボロン酸と、前記したＳＴＥＰ１−４と同様の方法で鈴木クロスカップリング反応させることにより化合物（１７）を得ることができる。
また、得られた反応生成物は、ＳＴＥＰ１−４と同様の後処理操作を行うことで、化合物（１７）を精製・単離することができる。
【００２５】
（ＳＴＥＰ３−３）：ジエポキシ化合物（６）又は（７）の合成（ジグリシジルエーテル化）
ＳＴＥＰ３−２で得られた化合物（１７）は、化合物（１０）と、前記したＳＴＥＰ１−５と同様の方法で反応を行うことにより、ジエポキシ化合物（６）又は（７）を得ることができる。
また、得られた反応生成物は、ＳＴＥＰ１−５と同様の後処理操作を行うことで、ジエポキシ化合物（６）又は（７）を精製・単離することができる。
【００２６】
次に、前記したジエポキシ化合物（８）及び（９）の製造方法については、例えば、前記化合物（１６）と化合物（１０）を出発原料として、下記のＳＴＥＰ４−１〜４−３の工程を順次経て合成することができる。
（ＳＴＥＰ４−１）
化合物（１６）と化合物（１０）を反応させて、下記一般式（１８）
【化２５】
2018172310.tif 000026
（式中、Ｒ３は一般式（１）のそれと同じである）
で表される化合物（以下、化合物（１８）と称呼する）を合成する工程。
（ＳＴＥＰ４−２）
化合物（１８）と４−ヒドロキシフェニルボロン酸を反応させて、下記一般式（１９）
【化２６】
2018172310.tif 000027
（式中、Ｒ３は一般式（１）のそれと同じである）
で表される化合物（以下、化合物（１９）と称呼する）を合成する工程。
（ＳＴＥＰ４−３）
化合物（１９）と化合物（Ｂ）を反応させて化合物（８）又は（９）を合成する工程。
【００２７】
上記ＳＴＥＰ４−１〜ＳＴＥＰ４−３の工程スキームを反応式で示す。
【化２７】
2018172310.tif 000028
（式中、Ｒ３は一般式（１）のそれと同じであり、Ｘはハロゲン原子である。） 
【００２８】
次に前記各工程を更に詳細に説明する。
（ＳＴＥＰ４−１）：化合物（１８）の合成（グリシジルエーテル化）
上記ＳＴＥＰ３−１で得られたものであってもよい化合物（１６）と化合物（１０）を、前記したＳＴＥＰ１−５と同様の方法で反応を行うことにより、化合物（１８）を得ることができる。
また、得られた反応生成物は、ＳＴＥＰ１−５と同様の後処理操作を行うことで、化合物（１８）を精製・単離することができる。
（ＳＴＥＰ４−２）：化合物（１９）の合成（鈴木クロスカップリング反応）
ＳＴＥＰ４−１で得られた化合物（１８）は、４−ヒドロキシフェニルボロン酸と、前記したＳＴＥＰ１−４と同様の方法で鈴木クロスカップリング反応させることにより化合物（１９）を得ることができる。
また、得られた反応生成物は、ＳＴＥＰ１−４と同様の後処理操作を行うことで、化合物（１９）を精製・単離することができる。
（ＳＴＥＰ４−３）：ジエポキシ化合物（８）又は（９）の合成（エーテル化）
ＳＴＥＰ４−２で得られた化合物（１９）は、化合物（Ｂ）と、前記したＳＴＥＰ１−３と同様の方法で反応させることによりジエポキシ化合物（８）又は（９）を得ることができる。
また、得られた反応生成物は、ＳＴＥＰ１−３と同様の後処理方法に従い、ジエポキシ化合物（８）又は（９）を精製・単離することができる。
【実施例】
【００２９】
以下、実施例により、本発明をさらに具体的に説明する。
ジエポキシ化合物の液晶性の有無については、以下の確認方法及び測定法で判定した。
（１）偏光顕微鏡による確認方法
得られたエポキシ化合物が液晶性を発現するか否かについては、室温からの昇温過程で物質の状態変化を、偏光顕微鏡を用いて観察することで判断できる。
クロスニコル状態での観察において、結晶相および液晶相は偏光解消による干渉模様が見られ、等方相は暗視野に見える。また、結晶相から液晶相への相転移は流動性の有無により確認できる。
すなわち、偏光顕微鏡による観察において、流動性を有し、且つ偏光解消による干渉模様が観察される温度範囲が確認されれば液晶相を有すると判断する。
（２）示差走査熱量測定（ＤＳＣ）による確認方法
得られたジエポキシ化合物が結晶相から液晶相へ転移する温度、および液晶相から等方相へ転移する温度は、示差走査熱量測定装置（ＤＳＣ）を用いて測定することができる。相転移に伴うエネルギー変化がＤＳＣ測定で吸熱ピークとして現れる。
したがって、ジエポキシ化合物が結晶相から液晶相に転移する温度及び、ジエポキシ化合物が液晶相から等方相に転移する温度の確認はＤＳＣ測定と偏光顕微鏡観察の両方で行うことが好ましい。
（３）液晶性の測定
（ア）融点、相転移温度の測定
示差走査熱量測定装置（セイコーインスツル製、DSC6100）を用い、昇温速度10℃／分(但し、化合物（６）は1℃／分）、測定温度範囲25〜350℃、流量20ｍＬ／分のアルゴン雰囲気下の条件で、アルミパンに密閉した約3mgの試料の示差走査熱量測定を行った。
（イ）偏光顕微鏡による観察
得られたジエポキシ化合物の試料を加熱しながら、又は加熱した試料を冷却しながら、状態変化について偏光顕微鏡（ニコン製、ECLIPSE 50iPOL）を用いて、クロスニコル状態で観察した。加熱過程若しくは冷却過程で流動性を有し、かつ偏光解消による干渉模様が観察されれば上記ジエポキシ化合物は液晶性を有すると判断した。
【００３０】
＜実施例１＞ジエポキシ化合物（２）の合成
工程スキームを反応式で示す。
【化２８】
2018172310.tif 000029
【００３１】
（合成１）化合物（Ａ）の合成
還流器を備えた２００ｍＬのフラスコにｐ−クレゾール２１．６ｇ（０．２ｍｏｌ）、エピクロロヒドリン４６．３ｇ（０．５ｍｏｌ）、水酸化ナトリウム水（水酸化ナトリウム１２ｇ（０．３ｍｏｌ）を水３０ｍＬに溶解）を仕込み、バス温８０℃にて１時間反応させた。その後、室温まで冷却し、水層を分離した。得られた油層に酢酸エチルと水を添加し、室温で撹拌した後、水層を分離した。次に飽和食塩水を加え、室温で撹拌した後水層を分離した。得られた油層に硫酸ナトリウムを添加し脱水後、ろ別した。得られた油層を濃縮し、減圧単蒸留にて純度１００％（高速液体クロマトグラフィー法２５４ｎｍにおけるピーク面積基準）の無色透明液体１９．５ｇを得た。また、１Ｈ−ＮＭＲ分析結果から目的化合物であることを確認した。
【化２９】
2018172310.tif 000030
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）測定（溶媒：CDCl3）：2.29(s,3H:c), 2.75(dd,1H:E), 2.90(dd,1H:D), 3.32-3.37(m,1H:C), 3.95(dd,1H:B), 4.18(dd,1H:A), 6.83(d,2H:b), 7.09(d,2H:a).
【００３２】
（合成２）化合物（Ｂ）の合成
還流器を備えた１００ｍＬのフラスコに合成１で得た化合物（Ａ）２．９６ｇ（１８ｍｍｏｌ）、Ｎ−ブロモスクシンイミド３．３６ｇ（１８．９ｍｍｏｌ）、過酸化ベンゾイル１７４ｍｇ（０．７ｍｍｏｌ）、四塩化炭素２０ｍＬを仕込み、バス温９１℃にて２時間反応させた。その後、室温まで冷却し、反応で副生したスクシンイミドをろ別した。得られたろ液を濃縮し、淡黄白色固体４．７８ｇを得た。また、１Ｈ−ＮＭＲ分析結果から目的化合物であることを確認した。
【化３０】
2018172310.tif 000031
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）測定（溶媒：CDCl3）：2.76(dd,1H:E), 2.90(dd,1H:D), 3.33-3.37(m,1H:C), 3.95(dd,1H:B), 4.23(dd,1H:A), 4.49(s,2H:c), 6.88(d,2H:b), 7.32(d,2H:a). 
【００３３】
（合成３）１−［（４−ブロモフェノキシ）メチル］−４−（オキシラン−２−イルメトキシ）ベンゼンの合成
５０ｍＬのフラスコに合成２で得た化合物（Ｂ）１．９５ｇ（８．０ｍｍｏｌ）、４−ブロモフェノール０．６９ｇ（４．０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム２．２１ｇ（１６ｍｍｏｌ）、アセトン２５ｍＬを仕込み、室温にて１６時間反応させた。その後、反応液をろ別し、得られたろ液を濃縮した。この濃縮物のシリカゲルカラム分離を行い、純度１００％（高速液体クロマトグラフィー法２５４ｎｍにおけるピーク面積基準）の白色固体０．６ｇを得た。また、１Ｈ−ＮＭＲ分析結果から目的化合物であることを確認した。
【化３１】
2018172310.tif 000032
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）測定（溶媒：CDCl3）：2.76(dd,1H:E), 2.91(dd,1H:D), 3.34-3.38(m,1H:C), 3.97(dd, 1H:B), 4.24(dd,1H:A), 4.95(s,2H:e), 6.84, 6.93, 7.34, 7.37(each d,2H×4:a,b,c,d). 
【００３４】
（合成４）４−（４−｛［４−（オキシラン−２−イルメトキシ）フェニル］メトキシ｝フェニル）フェノールの合成
還流器を備えた５０ｍＬのフラスコに合成３で得た化合物０．５０ｇ（１．５ｍｍｏｌ）、４−ヒドロキシフェニルボロン酸０．２３ｇ（１．７ｍｍｏｌ）、炭酸ナトリウム０．３２ｇ（３．０ｍｍｏｌ）、ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）・ＣＨ２Ｃｌ２０．０３ｇ（０．０３ｍｍｏｌ）、１，４−ジオキサン７．５ｍＬ、水５．０ｍＬを仕込み、アルゴン雰囲気下にてバス温５０℃で１時間反応させた。その後、室温まで冷却し、水を加えてろ別して固形物を得た。この固形物をアセトンに溶解させろ別し、得られたろ液に活性炭０．５ｇを加え室温にて１時間撹拌した。その後、ろ別により活性炭を除去し、得られたろ液から、純度９７．３％（高速液体クロマトグラフィー法２５４ｎｍにおけるピーク面積基準）の灰白色固体０．２６ｇを得た。また、１Ｈ−ＮＭＲ分析結果から目的化合物であることを確認した。
【化３２】
2018172310.tif 000033
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）測定（溶媒：DMSO-d6）：2.71(dd,1H:E), 2.83(dd,1H:D), 3.28-3.33(m,1H:C), 3.92(dd,1H:B), 4.31(dd,1H:A), 5.06(s,2H:g), 6.82, 6.98, 7.03, 7.37, 7.40, 7.47(each d,2H×6:a,b,c,d,e,f), 9.15(s,1H:h). 
【００３５】
（合成５）ジエポキシ化合物（２）の合成
還流器を備えた３０ｍＬのフラスコに合成４で得た化合物０．１４ｇ（０．４ｍｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムブロミド０．０３ｇ（０．１ｍｍｏｌ）、エピクロロヒドリン１．４８ｇ（１６ｍｍｏｌ）を仕込み、バス温５５℃にて８時間反応させた。その後、水を添加し、析出物をろ別により取得した。得られた析出物をＤＭＡｃ（１５ｍＬ）に溶解させ、水酸化ナトリウム０．０５ｇを添加し、室温で３０分撹拌した。この溶液に水を添加し、析出物をろ別、乾燥し、純度９３．８％（高速液体クロマトグラフィー法２５４ｎｍにおけるピーク面積基準）の白色固体０．０８ｇを得た。ＤＡＲＴ−ＭＳによる質量分析を行い、目的物（Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：４０４．２）を示唆する分子イオンピークが確認でき、また、１Ｈ−ＮＭＲ分析結果から目的化合物であることを確認した。
【化３３】
2018172310.tif 000034
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）測定（溶媒：DMSO-d6）：2.70-2.73(m,2H:E,E'), 2.82-2.86(m,2H:D,D'), 3.28-3.35(m,2H:C,C'), 3.89-3.97(m,2H:B,B'), 4.29-4.36(m,2H:A,A'), 5.07(s,2H:g), 6.96-7.08, 7.37-7.40, 7.45-7.54(each m,2H×6:a,b,c,d,e,f).
示差走査熱量測定法による熱分析の結果、３つの相転移（１６１、１８６、２０１℃、このうち融点は１６１℃）が確認できた。さらに、偏光顕微鏡観察にて１６１〜１８６℃及び１８６〜２０１℃の間で、流動性及びそれぞれで異なる干渉模様が観察され、目的物が液晶化合物であることが明らかとなった。
【００３６】
＜実施例２＞ジエポキシ化合物（３）の合成
工程スキームを反応式で示す。
【化３４】
2018172310.tif 000035
【００３７】
（合成１）４−ブロモ−２−メチル−１−｛［４−（オキシラン−２−イルメトキシ）フェニル］メトキシ｝ベンゼンの合成
１００ｍＬのフラスコに実施例１の合成２で得た化合物（Ｂ）１．４６ｇ（６．０ｍｍｏｌ）、４−ブロモ−２−メチルフェノール０．７５ｇ（４．０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム１．１１ｇ（８．０ｍｍｏｌ）、アセトン２５ｍＬを仕込み、室温にて１６時間反応させた。その後、反応液をろ別し、得られたろ液を濃縮した。この濃縮物のシリカゲルカラム分離を行い、純度９６．２％（高速液体クロマトグラフィー法２５４ｎｍにおけるピーク面積基準）の白色固体１．０７ｇを得た。また、１Ｈ−ＮＭＲ分析結果から目的化合物であることを確認した。
【化３５】
2018172310.tif 000036
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）測定（溶媒：CDCl3）：2.22(s,3H:g), 2.76(dd,1H:E), 2.91(dd,1H:D), 3.34-3.39(m,1H:C), 3.97(dd,1H:B), 4.24(dd,1H:A), 4.97(s,2H:f), 6.74(d,1H:c), 6.93(d,2H:e), 7.22(d,1H:b), 7.26(s,1H:a), 7.33(d,2H:d). 
【００３８】
（合成２）４−（３−メチル−４−｛［４−（オキシラン−２−イルメトキシ）フェニル］メトキシ｝フェニル）フェノールの合成
還流器を備えた１００ｍＬのフラスコに合成１で得た化合物０．５２ｇ（１．５ｍｍｏｌ）、４−ヒドロキシフェニルボロン酸０．２３ｇ（１．７ｍｍｏｌ）、炭酸ナトリウム０．３２ｇ（３．０ｍｍｏｌ）、ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）・ＣＨ２Ｃｌ２０．０３ｇ（０．０３ｍｍｏｌ）、１，４−ジオキサン１２ｍＬ、水１２ｍＬを仕込み、アルゴン雰囲気下にてバス温５０℃で２．５時間反応させた。その後、室温まで冷却し、水を加えてろ別して固形物を得た。この固形物をアセトンに溶解させろ別し、得られたろ液に活性炭０．５ｇを加え室温にて３０分撹拌した。その後、ろ別により活性炭を除去し、得られたろ液を濃縮し、シリカゲルカラム分離を行い純度９３．１％（高速液体クロマトグラフィー法２５４ｎｍにおけるピーク面積基準）の淡黄白色固体０．３１ｇを得た。また、１Ｈ−ＮＭＲ分析結果から目的化合物であることを確認した。
【化３６】
2018172310.tif 000037
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）測定（溶媒：DMSO-d6）：2.23(s,3H:i), 2.70(dd,1H:E), 2.82(dd,1H:D), 3.27-3.33(m,1H:C), 3.91(dd,1H:B), 4.30(dd,1H:A), 5.05(s,2H:h), 6.80(d,2H:a), 6.98(d,2H:g), 7.02(d,1H:e), 7.28-7.39(m,6H:b,c,d,f), 9.11(s,1H:j). 
【００３９】
（合成３）ジエポキシ化合物（３）の合成
還流器を備えた５０ｍＬのフラスコに合成２で得た化合物０．１８ｇ（０．５ｍｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムブロミド０．０４ｇ（０．１ｍｍｏｌ）、エピクロロヒドリン１．８５ｇ（２０ｍｍｏｌ）を仕込み、バス温５５℃にて４時間反応させた。その後、酢酸エチル３０ｍＬと水１５ｍＬを添加し、分液により油層を取得した。得られた油層を濃縮し、ＴＨＦ１５ｍＬに溶解させた後、水酸化ナトリウム０．０８ｇを添加し、室温で１時間撹拌した。この溶液に水を添加し、析出物をろ別、乾燥し、純度９７．５％（高速液体クロマトグラフィー法２５４ｎｍにおけるピーク面積基準）の淡黄白色固体０．１５ｇを得た。ＤＡＲＴ−ＭＳによる質量分析を行い目的物（Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：４１８．２）を示唆する分子イオンピークが確認でき、また、１Ｈ−ＮＭＲ分析結果から目的化合物であることを確認した。
【化３７】
2018172310.tif 000038
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）測定（溶媒：DMSO-d6）：2.24(s,3H:i), 2.69-2.72(m,2H:E,E'), 2.81-2.85(m,2H:D,D'), 3.27-3.34(m,2H:C,C'), 3.88-3.96(m,2H:B,B'), 4.28-4.34(m,2H:A,A'), 5.07(s,2H:h), 6.96-7.06, 7.33-7.53(each m,11H:a,b,c,d,e,f,g).
示差走査熱量測定法による熱分析の結果、２つの相転移（１０６、１４４℃、このうち融点は１０６℃）が確認できた。さらに、偏光顕微鏡観察にて、１０６〜１４４℃の間で流動性と干渉模様が観察され、目的物が液晶化合物であることが明らかとなった。
【００４０】
＜実施例３＞ジエポキシ化合物（４）の合成
工程スキームを反応式で示す。
【化３８】
2018172310.tif 000039
１００ｍＬのフラスコに実施例１の合成２で得た化合物（Ｂ）０．９７ｇ（４．０ｍｍｏｌ）、４，４’−ジヒドロキシビフェニル０．１９ｇ（１．０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム０．４２ｇ（３．０ｍｍｏｌ）、アセトン２０ｍＬを仕込み、室温にて２０時間反応させた。その後、反応液をろ別し、白色固体を得た。ＤＭＳＯを用いてこの白色固体の再結晶を行い、純度９１．２％（高速液体クロマトグラフィー法２５４ｎｍにおけるピーク面積基準）の白色固体０．２５ｇを得た。また、１Ｈ−ＮＭＲ分析結果から目的化合物であることを確認した。
【化３９】
2018172310.tif 000040
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）測定（溶媒：DMSO-d6）：2.70(dd,2H:E), 2.82(dd,2H:D), 3.27-3.32(m,2H:C), 3.93(dd,2H:B), 4.29(dd,2H:A), 5.06(s,4H:e), 6.98, 7.04, 7.37, 7.50(each d,16H:a,b,c,d).
示差走査熱量測定法による熱分析の結果、２つの相転移（２２９、２５４℃、このうち融点は２２９℃）が確認できた。さらに、偏光顕微鏡観察にて２２９〜２５４℃の間で流動性と干渉模様が観察され、目的物が液晶化合物であることが明らかとなった。
【００４１】
＜実施例４＞ジエポキシ化合物（６）の合成
工程スキームを反応式で示す。
【化４０】
2018172310.tif 000041
【００４２】
（合成１）４−［（４−ブロモフェニル）メトキシ］フェノールの合成
還流器を備えた２００ｍＬのフラスコに４−ブロモベンジルブロミド５．０ｇ（２０ｍｍｏｌ）、ハイドロキノン１１．０ｇ（１００ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム４．１ｇ（３０ｍｍｏｌ）、アセトン７０ｍＬを仕込み、バス温７０℃にて３時間反応させた。その後、室温まで冷却し、無機塩をろ別した。得られたろ液を濃縮し、クロロホルムを用いて数回洗浄した。この洗浄液を濃縮し、酢酸エチルに溶解後、ヘキサンを加え淡黄白色結晶を取得した。さらにトルエンに溶解後、水洗を行い、ヘキサンを加え純度９７．７％（高速液体クロマトグラフィー法２８０ｎｍにおけるピーク面積基準）の淡黄白色結晶１．９ｇを得た。また、１Ｈ−ＮＭＲ分析結果から目的化合物であることを確認した。
【化４１】
2018172310.tif 000042
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）測定（溶媒：CDCl3）：4.48(s,1H:f), 4.95(s,2H:e), 6.75, 6.83, 7.29, 7.50(each d,8H:a,b,c,d).
【００４３】
（合成２）４−（４−｛［４−（オキシラン−２−イルメトキシ）フェニル］メトキシ｝フェニル）フェノールの合成
還流器を備えた５０ｍＬのフラスコに合成１で得た化合物０．５６ｇ（２．０ｍｍｏｌ）、４−ヒドロキシフェニルボロン酸０．３０ｇ（２．２ｍｍｏｌ）、炭酸ナトリウム０．４２ｇ（４．０ｍｍｏｌ）、ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）・ＣＨ２Ｃｌ２０．０３ｇ（０．０４ｍｍｏｌ）、１，４−ジオキサン４．０ｍＬ、水４．０ｍＬを仕込み、アルゴン雰囲気下にてバス温７０℃で２時間反応させた。その後、室温まで冷却し、水を加えてろ別して固形物を得た。この固形物をアセトンに溶解させ、活性炭を加えバス温４０℃にて３０分撹拌した。その後、ろ別により活性炭を除去し、得られたろ液から灰白色固体０．５１ｇを得た。さらに、メタノールを用いて再結晶を行い、純度８３．９％（高速液体クロマトグラフィー法２８０ｎｍにおけるピーク面積基準）の灰白色固体０．２５ｇを得た。また、１Ｈ−ＮＭＲ分析結果から目的化合物であることを確認した。
【化４２】
2018172310.tif 000043
１Ｈ−ＮＭＲ（６００ＭＨｚ）測定（溶媒：DMSO-d6）：4.99 (s,2H:g), 6.66, 6.82, 6.84, 7.43, 7.48, 7.56(each d,12H:a,b,c,d,e,f), 8.93, 9.54(each s,2H:h,i). 
【００４４】
（合成３）ジエポキシ化合物（６）の合成
還流器を備えた３０ｍＬのフラスコに合成２で得た化合物０．１９ｇ（０．６５ｍｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムブロミド０．０５ｇ（０．１６ｍｍｏｌ）、エピクロロヒドリン２．１０ｇ（２２．８ｍｍｏｌ）を仕込み、バス温５５℃にて１５時間反応させた。その後、水を添加し、析出物をろ別により取得した。得られた析出物をＤＭＡｃ（１０ｍＬ）に溶解させ、水酸化ナトリウム０．０５ｇを添加し、バス温２０℃で１時間撹拌した。この溶液に水を添加し、析出物をろ別した。得られたろ過物をメタノールにてスラリー洗浄し、純度９４．４％（高速液体クロマトグラフィー法２５４ｎｍにおけるピーク面積基準）の白色固体０．１６ｇを得た。ＤＡＲＴ−ＭＳによる質量分析を行い目的物（Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：４０４．２）を示唆する分子イオンピークが確認でき、また、１Ｈ−ＮＭＲ分析結果から目的化合物であることを確認した。
【化４３】
2018172310.tif 000044
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）測定（溶媒：THF-d8）：2.61, 2.65(each dd,2H:E,E'), 2.73-2.80(m,2H:D,D'), 3.18-3.29(m,2H:C,C'), 3.81, 3.93(each dd,2H:B,B'), 4.13, 4.25(each dd,2H:A,A'), 5.04(s, 2H:g), 6.83-7.03, 7.44-7.59(each m,12H:a,b,c,d,e,f).
示差走査熱量測定法による熱分析の結果、４つの相転移（１５１、１７５、１７７、１８１℃、このうち融点は１５１℃）が確認できた。さらに、偏光顕微鏡観察にて、１５１〜１８１℃の間で流動性と干渉模様が観察され、目的物が液晶化合物であることが明らかとなった。
【００４５】
＜比較例１＞下記式（２１）で表される化合物の合成
【化４４】
2018172310.tif 000045
４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルビフェニルと化合物（Ｂ）を原料に用いて、実施例３と同様な方法で化合物（２０）を合成し、その得られた化合物（２０）とエピクロロヒドリンを原料に用いて、実施例１の合成５と同様な方法で化合物（２１）を合成した。
示差走査熱量測定法による熱分析の結果、１つの相転移（１５１℃）しか確認されず、化合物（２１）に液晶性は確認できなかった。
【００４６】
＜比較例２＞下記式（２２）で表される化合物の合成
【化４５】
2018172310.tif 000046
実施例１の合成１におけるｐ−クレゾールに代えてｍ−クレゾールを用いて、実施例１と同様な方法により化合物（２２）を合成した。
示差走査熱量測定法による熱分析の結果、１つの相転移（１２８℃）しか確認されず、化合物（２２）に液晶性は確認できなかった。
【００４７】
＜比較例３＞下記式（２３）で表される化合物の合成
【化４６】
2018172310.tif 000047
パラヒドロキシフェネチルアルコールを出発原料として用いて、臭素化、４，４’−ジヒドロキシビフェニルとのエーテル化、エピクロロヒドリンとの反応によるグリシジルエーテル化を行って、化合物（２３）を合成した。
示差走査熱量測定法による熱分析の結果、１つの相転移（１２１℃）しか確認されず、化合物（２３）に液晶性は確認できなかった。
【００４８】
＜比較例４＞下記式（２４）で表される化合物の合成
【化４７】
2018172310.tif 000048
実施例３における４，４’−ジヒドロキシビフェニルに代えて、３，３’−ジメチル−４，４’−ジヒドロキシビフェニルを用いて、実施例３と同様な方法で、化合物（２４）を合成した。
示差走査熱量測定法による熱分析の結果、１つの相転移（２１４℃）しか確認されず、化合物（２４）に液晶性は確認できなかった。