(57)【要約】      （修正有）【課題】原版のパターンを露光する光の光路を含む空間の温度上昇を抑える点で有利な露光装置を提供する。【解決手段】物品Ｍを保持するステージ１４１を有し、当該ステージ１４１を移動させるステージ装置であって、ステージ１４１は、内部に設けられた空間Ｓと、側面に設けられた開口部と、空間と開口部とを結ぶ経路を開閉可能な開閉部材とを有し、開口部は、ステージ１４１の移動方向（Ｙ方向）の前方の側面に設けられた第１開口部ＯＰｂと、当該側面とは異なる側面に設けられた第２開口部ＯＰａと、を含み、ステージ１４１の移動方向の速度と移動方向の加速度との積が正の場合、または加速度が０となり、かつ、速度の絶対値が最大となる場合に経路を閉じるように開閉部材を制御し、積が負の場合、または速度が０となり、かつ、加速度の絶対値が最大となる場合に経路を開けるように開閉部材を制御する制御部を有する。【選択図】図３
2018077325.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物品を保持するステージを有し、当該ステージを移動させるステージ装置であって、
前記ステージは、内部に設けられた空間と、側面に設けられた開口部と、前記空間と前記開口部とを結ぶ経路を開閉可能な開閉部材とを有し、
前記開口部は、前記ステージの移動方向の前方の側面に設けられた第１開口部と、前記側面とは異なる側面に設けられた第２開口部と、を含み、
前記ステージの前記移動方向の速度と前記移動方向の加速度との積が正の場合、または前記加速度が０となり、かつ、前記速度の絶対値が最大となる場合に前記経路を閉じるように前記開閉部材を制御し、前記積が負の場合、または前記速度が０となり、かつ、前記加速度の絶対値が最大となる場合に前記経路を開けるように前記開閉部材を制御する制御部を有することを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
前記第１開口部および前記第２開口部は、互いに対向する側面のそれぞれに設けられることを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項３】
前記ステージの位置を検出する位置検出部をさらに有し、
前記制御部は、前記位置検出部が検出した前記ステージの位置に基づいて前記加速度および前記速度を求めることを特徴とする請求項１または２に記載のステージ装置。
【請求項４】
前記開閉部材は、前記開口部が設けられた側面に沿う方向に長い軸部と、前記軸部に支持され、前記軸部を回転中心として回転する板部と、を有し、
前記制御部は、前記板部を回転させて、前記経路の開閉を制御することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項５】
前記開閉部材は、前記開口部と対向する箇所に孔部を有する板部を有し、
前記制御部は、前記板部を前記側面に沿う方向に移動させて、前記開口部の位置と前記孔部との位置を調整することで前記経路の開閉を制御することを特徴とする請求項１ないし４のうちいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項６】
前記ステージの外部に、前記開口部と連結し、前記空間の空気を排気する排気部を有する請求項１ないし５のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項７】
前記開口部は、複数の前記第１開口部または複数の前記第２開口部を含み、前記複数の前記第１開口部または前記複数の前記第２開口部の個数および形状は前記ステージの剛性に基づいて決定されることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項８】
物品を移動させるステージ装置であって、
前記物品を保持し、内部に設けられた空間と外部の空間とを連通する第１開口部及び第２開口部と、前記第１開口部を開閉可能な第１開閉部材と、前記第２開口部を開閉可能な第２開閉部材と、を含むステージと、
前記ステージを移動させる駆動部と、
前記ステージの速度の変化に応じて、前記第１開閉部材と第２開閉部材を制御し前記第１開口部および前記第２開口部の開閉を制御する制御部とを有することを特徴とするステージ装置。
【請求項９】
前記第１開口部は前記内部に設けられた空間の第１方向側に、前記第２開口部は前記内部に設けられた空間の前記第１方向側とは異なる側に設けられ、
前記制御部は、前記ステージが第１方向に向かって減速している間、前記ステージの移動方向が前記第１方向から前記第１方向とは反対方向の第２方向に切り替わる時、及び、前記ステージが前記第２方向に向かって加速している間、のうち少なくとも一部の期間において、前記第１開口部と前記第２開口部が開くように前記第１開閉部材および前記第２開閉部材を制御することを特徴とする請求項８に記載のステージ装置。
【請求項１０】
原版に描かれたパターンを、投影光学系を介して基板に転写する露光装置であって、
前記原版を保持して移動するステージ装置を備え、
前記ステージ装置が、請求項１ないし９のいずれか１項に記載のステージ装置であることを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の露光装置を用いてパターンを基板上に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を現像する工程と、を有する
ことを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ステージ装置、露光装置、および物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスや液晶表示装置等の物品を製造するリソグラフィ装置の一つである露光装置は、原版（マスク）のパターンを照明光学系からの露光光で照明し、投影光学系を介して照明されたパターンを基板上に転写する。転写するパターンの微細化のために、露光光の基板までの光路を含む空間の温度上昇を抑える技術が求められている。原版は、露光光が照射されることで発熱しうる。例えば、特許文献１に記載の露光装置は、マスク近傍の気体を吸引機構により照明光学系側から局所的に吸引して装置外へ排出することで装置内の温度分布の変化を抑えている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平成１０−０２２１９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
露光光によって原版が温められることにより、原版に対して投影光学系側の空間にも熱が伝わる。当該区間は略閉空間であり、当該空間内にこもった熱が拡散しづらくなる。しかしながら、特許文献１に記載の吸引機構では原版に対して投影光学系側の気体を排気しづらいため、上記特許文献の露光装置では、原版から発生した熱の排熱が十分にできない可能性がある。残留している熱により生じる露光光の光路上における温度分布（温度むら）が露光光の屈折率を変化させ、基板に投影される像性能が低下する恐れがある。
【０００５】
本発明は、例えば、原版のパターンを露光する光の光路を含む空間の温度上昇を抑える点で有利な露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明は、物品を保持するステージを有し、当該ステージを移動させるステージ装置であって、ステージは、内部に設けられた空間と、側面に設けられた開口部と、空間と開口部とを結ぶ経路を開閉可能な開閉部材とを有し、開口部は、ステージの移動方向の前方の側面に設けられた第１開口部と、当該側面とは異なる側面に設けられた第２開口部と、を含み、ステージの移動方向の速度と移動方向の加速度との積が正の場合、または加速度が０となり、かつ、速度の絶対値が最大となる場合に経路を閉じるように開閉部材を制御し、積が負の場合、または速度が０となり、かつ、加速度の絶対値が最大となる場合に経路を開けるように開閉部材を制御する制御部を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、例えば、原版のパターンを露光する光の光路を含む空間の温度上昇を抑える点で有利な露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】第１実施形態に係るステージ装置を適用可能な露光装置の概略図である。
【図２】第１実施形態に係るステージ装置の構成を示す概略図である。
【図３】図２のＡ−Ａ断面図である。
【図４】原版ステージの走査が開始されたときの空間内の空気の流れを示す図である。
【図５】原版ステージ走査速度が最高速度に達した時の空間内の空気の流れを示した図である。
【図６】走査方向を１８０度切り替えたときの空間内の空気の流れを示した図である。
【図７】パネルの開閉タイミングを説明する図である。
【図８】第２実施形態に係るステージ装置の構成を示す概略図である。
【図９】第３実施形態に係るステージ装置の構成を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明を実施するための形態について図面などを参照して説明する。
【００１０】
（第１実施形態）
図１は本発明の第１実施形態に係るステージ装置を適用可能な露光装置の概略図である。本実施形態では、露光方式として、ミラーを用いて原版（マスク）のパターンを基板上に投影露光（転写）するプロジェクション方式を採用する。また、本実施形態における露光装置は、半導体デバイスや液晶表示装置等を製造する際に使用され、ステップ・アンド・リピート方式、又はステップ・アンド・スキャン方式を採用した走査型投影露光装置である。露光装置１００は、恒温チャンバ２００内に設置されている。恒温チャンバ２００は、温調機械室２１０および温調エア供給部２２０を含み、露光装置１００を取り巻く周囲の環境を一定に保つ。
【００１１】
露光装置１００は、光源１１０と、照明光学系１２０と、結像光学系１３０と、ステージ装置１４０と、投影光学系１５０と、基板ステージ１６０と、を含む。光源１１０から出射された露光光は、照明光学系１２０および結像光学系１３０により所定の光束に整形され、形成された光束でステージ装置１４０に保持された原版（マスク）Ｍが照明される。照明された原版Ｍのパターンは、投影光学系１５０を介して基板ステージ１６０に保持された基板（不図示）表面のレジストに転写される。
【００１２】
投影光学系１５０は、原版Ｍのパターンを基板に所定の倍率で縮小投影するものである。投影光学系１５０は、台形ミラー１５１と、円形（凹面）ミラー１５２と、凸面ミラー１５３と、を含む。台形ミラー１５１、円形（凹面）ミラー１５２、および凸面ミラー１５３は、パターン像を反射する部材であり、その材質は線膨張係数の小さい硝材である。基板ステージ１６０は、基板の位置決めを行う。基板ステージ１６０が位置決めする基板は、ガラス、シリコン、その他の材質の基板でもよい。
【００１３】
ステージ装置１４０は、原版ステージ定盤１７０に載置され、原版ステージ定盤１７０および投影光学系１５０は、構造体１８０に載置される。ステージ装置１４０の駆動や光学系は制御部１９０により制御される。制御部１９０は磁気記憶装置やメモリ等で構成される記憶装置を備えたコンピュータで構成され、制御部１９０と通信可能な各構成要素をプログラムに従って制御する。なお、以下の各図において、投影光学系１５０の光軸に平行な方向をＺ軸とし、該Ｚ軸に垂直な平面内で走査露光時の原版Ｍの走査方向をＹ軸とし、該Ｙ軸に直交する非走査方向をＸ軸とする。
【００１４】
図２は、本実施形態に係るステージ装置の構成を示す概略図である。ステージ装置１４０は、原版ステージ１４１と、原版ステージ１４１を移動させる手段である、駆動部を有する。駆動部は、可動子１４２と、エアパッド１４３と、マグネット１４４と、ガイド１４５と、固定子１４６と、を有する。原版ステージ１４１には、リニアモータを備えた可動子１４２が結合され、原版ステージ１４１の下面側には、可動子１４２に近接して両側にマグネット１４４が設けられたエアパッド１４３が配置される。ガイド１４５は、エアパッド１４３に対向するように設置される。また、原版ステージ１４１には、開口部ＯＰが形成されている。
【００１５】
ガイド１４５は脆性物質層であるセラミックス層と、吸磁性の金属層とを含んで構成され、エアパッド１４３の対向側にセラミックス層を配置して滑走面を形成している。エアパッド１４３に圧縮空気を供給すると、エアパッド１４３からエアが−Ｚ方向に噴射され、原版ステージ１４１はガイド１４５に対して浮上する。マグネット１４４とガイド１４５との間には、常に引き合わさる方向に磁力がはたらいているため、原版ステージ１４１は空気ばねが形成された状態で浮上している。この状態において、固定子１４６と可動子１４２との間で推力が付与されることで、可動子１４２ならびに原版ステージ１４１は、非接触で走査方向（Ｙ方向）へ移動する。同時に、走査方向のみならず、リニアモータの推力を利用してＸ駆動とＺ軸周りの回転方向駆動も行われ、原版ステージ１４１が高精度に位置決めされる。例えば、原版ステージ１４１を走査する時の移動量、移動速度および加速度に関する情報（駆動プロファイル）は制御部１９０に保存され、制御部１９０は当該情報に基づいて固定子１４６と可動子１４２との間に付与する推力を制御する。また、原版ステージ１４１の位置、速度および加速度は、レーザ干渉計などの位置を検出する位置検出部を用いて、検出値から制御部１９０が求めてもよい。
【００１６】
図３は、図２のＡ−Ａ断面図である。原版ステージ１４１は、原版Ｍからの光を投影光学系１５０に導くことができるように、上側の面（＋Ｚ側の面）から下側の面（−Ｚ側の面）にかけて貫通した開口を有する。当該開口に連通するように、原版ステージ１４１の走査方向（＝移動方向）において対向する２つの側面には開口部ＯＰが形成されている。また、原版ステージ定盤１７０にも原版ステージ１４１と同様に、露光光の光路上に開口が形成されている。また、原版ステージ１４１の内部には、原版Ｍと原版ステージ１４１の内面と原版ステージ定盤１７０の内面と投影光学系１５０とで囲まれる空間Ｓが設けられている。開口部ＯＰは、空間Ｓと、恒温チャンバ２００で囲まれた露光装置１００の周囲の空間（露光空間）と、を走査方向でつなげる。原版ステージ１４１の側面のうち、走査方向において互いに対向する側面にそれぞれ開口部ＯＰが設けられる。−Ｙ方向の側面）（＝空間Ｓの−Ｙ方向側）に形成された開口部を開口部ＯＰａ、原版ステージ１４１の移動方向の前方（＋Ｙ方向）の側面（＝空間Ｓの＋方向側）に形成された開口部を開口部ＯＰｂとする。空間Ｓと開口部ＯＰａとをつなぐ経路中には、当該経路を開閉可能とする開閉部材が配置される。開閉部材は、回転軸（軸部）１４７に支持され、回転軸１４７を回転中心として回転するパネル（板部）１４８ａを有する。同様に、空間Ｓと開口部ＯＰｂとをつなぐ経路には、回転軸１４７に連結されたパネル１４８ｂを有する開閉部材が配置される。
【００１７】
回転軸１４７は、不図示の駆動パルスモータと結合され、駆動パルスモータは制御部１９０で制御される。駆動パルスモータの回転により、パネル１４８ａおよびパネル１４８ｂが回転軸１４７を中心に回転して、経路の開閉が行われる。なお、回転軸１４７および駆動パルスモータからの発塵物質が原版Ｍに付着することを防止するために、駆動パルスモータには不図示のケーシングが設けられる。
【００１８】
原版ステージ１４１が走査中のとき、パネル１４８ａおよびパネル１４８ｂは、図３で示すように経路を塞ぎ、空間Ｓが密閉される。図４は、原版ステージ１４１の走査が開始されたときの空間Ｓ内の空気の流れを矢印で示した図である。矢印の向きが空気の流れの方向を示し、矢印の長さが空気の流速を示す。原版ステージ１４１の走査が開始されると、空間Ｓ内の空気が自身の粘性により、＋Ｙ方向（走査方向）の原版ステージ１４１の内面ＩＳｂに向かう気流が形成される。一方、原版ステージ１４１の−Ｙ方向の原版ステージ１４１の内面ＩＳａにおいては、空間Ｓの空気が内面ＩＳａに圧縮されることによる気流が形成される。
【００１９】
図５は、原版ステージ１４１の走査が開始され、走査速度が最高速度（例えば、９００ｍｍ／ｓ）に達した時の空間Ｓ内の空気の流れを示した図である。走査速度が最高速度に達した時、空間Ｓ内の空気の流速は、走査速度に近くなる。
【００２０】
図６は、走査方向を１８０度切り替えたときの空間Ｓ内の空気の流れを示した図である。走査方向を１８０度切り替えるとき、原版ステージ１４１の速度は一時的にゼロになるが、＋Ｙ方向の内面ＩＳｂ付近の空気は、＋Ｙ方向に動き続けようとする慣性力がはたらく。駆動パルスモータを制御部１９０で制御してパネル１４８ｂを回転させ、経路を開けておくと、＋Ｙ方向の内面ＩＳｂ付近の空気が慣性力により、開口部ＯＰｂから露光空間へ排出される。排出先の露光空間は、原版Ｍの露光光の光路外である。一方、駆動パルスモータを制御部１９０で制御してパネル１４８ａを回転させ、経路を開けておき、排出された分の空気を補うように、温調された露光空間の空気を開口部ＯＰａから空間Ｓへ取り込む。
【００２１】
開口部ＯＰｂから露光空間へ排出される空気は、走査方向を切り替えるまでに原版Ｍの下面の発熱により温められた空気である。原版Ｍの下部には、一般的に遮光膜としてクロムがパターン描画されており、クロムの遮光膜は露光光の照射により発熱する。本実施形態では、原版Ｍの下面の発熱により温められた空気を露光空間へ排出し、代わりに温調された空気を空間Ｓに取り込むことで、空間Ｓ、すなわち、露光光の光路を含む空間の温度上昇を抑えることができる。なお、露光空間に排出された熱は即座に拡散し、恒温チャンバ２００内（露光空間）の環境温度に影響を与えることはない。
【００２２】
図６のように走査方向を切り替えた後は、図４のようにパネル１４８ａおよびパネル１４８ｂを閉じて空間Ｓを密閉する。再び走査方向を切り替える際に図６のようにパネル１４８ａおよびパネル１４８ｂを開けて空間Ｓの空気を換気する。
【００２３】
開口部ＯＰａおよび開口部ＯＰｂの形状および個数は、原版ステージ１４１の剛性および通気効率に基づいて決定される。本実施形態では、図２に示したように矩形形状の開口部を複数設ける。開口部ＯＰａおよび開口部ＯＰｂを開けるタイミングは、原版ステージ１４１の走査方向を切り替えるときであり、すなわち、速度がゼロ、加速度の大きさが最大となる時点が好ましい。空間Ｓ内の空気に働く慣性力が最大となるためである。
【００２４】
図７は、原版ステージ１４１を走査させている時の原版ステージ１４１の位置、速度および加速度を示すグラフである。図７（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ順に位置、速度および加速度を示し、横軸はいずれのグラフも時間を示す。グラフ中のｔ１、ｔ３、およびｔ５は、原版ステージ１４１の速度がゼロ、加速度の大きさが最大となる時点である。開口部ＯＰａおよび開口部ＯＰｂは、ｔ１、ｔ３、およびｔ５を中心とする斜線で示した期間において開放する。パターンの露光は、グラフ中のｔ２およびｔ４における原版ステージ１４１が等速移動をしている期間で行われる。
【００２５】
なお、開口部ＯＰａおよび開口部ＯＰｂを開放するタイミングは、原版ステージ１４１の走査方向を切り替えるために走査速度を遅くしはじめるときであってもよい。例えば、図７のｔ２の期間とｔ３の期間との間に開口部ＯＰａおよび開口部ＯＰｂを開放してもよい。空間Ｓ内の空気に働く慣性力は、原版ステージ１４１の移動方向を切り替えるために移動速度を遅くし始めたときに働き始めるからである。また、移動方向を切り替えて、切り替え後の移動方向へ加速している期間（図７のｔ３の期間とｔ４の期間との間）に開口部ＯＰａおよび開口部ＯＰｂを開放してもよい。すなわち、ある移動方向へ減速をしている間、移動方向が切り替わる時、ある移動方向とは反対方向の移動方向へ加速をしている間の少なくとも一部の期間（図７のｔ２とｔ４との間の期間）で開口部ＯＰａおよび開口部ＯＰｂが開放される。
【００２６】
上述したパネル１４８ａおよびパネル１４８ｂの開閉タイミングは、原版ステージ１４１の加速度（＝速度の変化）に応じて制御される。原版ステージ１４１が移動方向と同じ向きの加速度で移動している場合（＝速度と加速度との積が正）、および、加速度が０で速度の絶対値が最大の場合に空間Ｓが密閉される。すなわち、加速運動時および等速運動時には空間Ｓが密閉される。一方、原版ステージ１４１の移動速度が落ち始める場合（＝速度と加速度との積が負、減速）、および、移動方向を切り替える（＝速度が０で加速度の絶対値が最大）場合に開口部ＯＰａおよび開口部ＯＰｂが開放される。すなわち、減速運動時および移動方向切り替え時には開口部ＯＰａおよび開口部ＯＰｂが開放される。
【００２７】
開口部ＯＰａおよび開口部ＯＰｂを開放するタイミングの制御は、制御部１９０に保存された原版ステージ１４１の駆動プロファイルのうち、速度および加速度のうち少なくとも一方のプロファイルに基づいて行われうる。また、原版ステージ１４１上に加速度センサを配置し、加速度センサの計測結果に基づいて制御されてもよい。なお、加速度を計測することは速度の変化を計測していることと同義である。
【００２８】
原版Ｍのパターン面の透過率を７０％、原版Ｍの下面の発熱量を２０Ｗ、露光空間の温度を２３℃として、開口部ＯＰａおよび開口部ＯＰｂを開閉した場合と開閉しない場合とで空間Ｓの温度変化をシミュレーションした。その結果、開口部ＯＰａおよび開口部ＯＰｂを開閉しない場合は、空間Ｓの温度は０．５度上昇するのに対し、開口部ＯＰａおよび開口部ＯＰｂを開閉した場合は、温度の上昇が０．０５度未満であることがわかった。
【００２９】
以上のように、上記ステージ装置１４０は、走査に伴う慣性力を利用して、原版Ｍの下面の熱せられた空気を換気することで原版Ｍのパターンを露光する露光光の光路内の空気の温度上昇を抑えることができる。すなわち、ステージ装置１４０を用いた露光装置は、露光光の光路上に温度分布が生じることによる露光光の屈折率変化を抑えることができ、高い解像度で基板上にパターンを転写することができる。また、例えば、露光時間を短縮してスループットを向上させるため、露光照度を高くした場合であっても、上記ステージ装置１４０によれば、光路内の空気の温度上昇を抑えることができる。したがって、本実施形態によれば、原版のパターンを露光する光の光路を含む空間の温度上昇を抑える露光装置を提供することができる。
【００３０】
（第２実施形態）
図８は、第２実施形態に係るステージ装置２４０の構成を示す概略図である。第１実施形態と同様の構成部材には、同じ符号を付して説明は省略する。第１実施形態では、パネル１４８ａおよびパネル１４８ｂを回転駆動により開閉した。しかしながら、開口部ＯＰａおよび開口部ＯＰｂのＺ軸方向のサイズが大きい場合は、パネル１４８ａおよびパネル１４８ｂのＺ軸方向のサイズも大きくなり、開閉の際に原版Ｍのパターンの露光光を遮ってしまいうる。本実施形態のステージ装置２４０は、開口部ＯＰａおよび開口部ＯＰｂのＺ軸方向のサイズが大きい場合にも対応できる。
【００３１】
ステージ装置２４０は、第１実施形態のステージ装置１４０に加え、並進パネル２４１と、リニアガイド２４２と、エアシリンダ２４３と、を有する。並進パネル２４１は、空間Ｓと開口部ＯＰａとをつなぐ経路および、空間Ｓと開口部ＯＰｂとをつなぐ経路を開閉可能とする開閉部材である。並進パネル２４１は、開口部ＯＰａおよび開口部ＯＰｂと同数かつ同形状の孔部を開口部ＯＰａおよび開口部ＯＰｂと対向する箇所に備えたパネルとする。並進パネル２４１は、例えば、リニアガイド２４２を介してエアシリンダ２４３と接続し、エアシリンダ２４３に圧縮空気を入れることによって、並進パネル２４１を開口の巾サイズ分だけＸ方向に並進駆動させる。並進パネル２４１が開口部ＯＰａおよび開口部ＯＰｂを塞いでいる状態から、並進パネル２４１を開口の巾サイズ分だけＸ方向に並進駆動（位置の調整）させると、開口部ＯＰａおよび開口部ＯＰｂと並進パネル２４１の開口が重なる。これにより、空間Ｓと露光空間とが開口部ＯＰａおよび開口部ＯＰｂを介してつながり、空間Ｓ内の空気を換気することができる。本実施形態によっても、第１実施形態と同様の効果を得られる。
【００３２】
（第３実施形態）
図９は、第３実施形態に係るステージ装置３４０の構成を示す概略図である。第１実施形態と同様の構成部材には、同じ符号を付して説明は省略する。高い露光エネルギーの露光光が原版Ｍに照射される場合や、原版Ｍの露光光の透過率が低く、原版Ｍの下面の発熱量が大きい場合、第１実施形態または第２実施形態では十分に空間Ｓに溜まった熱を排熱できない可能性がある。本実施形態のステージ装置３４０は、排熱の効率を向上させる構成部材を有する。
【００３３】
ステージ装置３４０は、第１実施形態のステージ装置１４０に加え、原版ステージ１４１の外部において、排気部３４１およびダクト３４２を有する。排気部３４１は、恒温チャンバ２００を構成するフレームに設置される。排気部３４１にはダクト３４２が接続され、排気部３４１が吸引して取り込んだ空気はダクト３４２から常時排気される。排気部３４１は、常に振動しているが、原版ステージ１４１や構造体１８０とは独立に設置されている恒温チャンバ２００のフレームに固定されているため、排気に伴う振動が像性能に悪影響を及ぼすことはない。第１実施形態で説明したように、操作方向が切り替わる時に、原版Ｍの下面の空気が排出されるが、排気部３４１による排気力を加えることによって、より多くの排熱を可能とする。なお、排気部３４１は、原版ステージ１４１の走査方向の片側のみに設けても良いし、両端に設置しても良い。
【００３４】
なお、上記実施形態では、開口部ＯＰａを開口部ＯＰｂが形成された側面と対向する側面に形成していたが、これに限られず、その他の側面に形成されていてもよい。また上記実施形態では原版ステージ１４１の移動方向が切り替わる場合で説明したが、移動方向を切り替えることは必須ではない。例えば、＋Ｙ方向への移動が終了して原版ステージ１４１が停止し、その後、移動方向が切り替わらなくても、停止したタイミングで開口部を開放すればよい。さらに、上記実施形態は、それぞれを組み合わせてもよい。すなわち、第２実施形態のステージ装置に第３実施形態の排気部を設けても良い。上記実施形態のステージ装置は、原版を保持するステージ装置に限らず、基板を保持する基板ステージにも適用しうる。これにより、基板の発熱による露光光の光路を含む空間の温度上昇を抑制できる。
【００３５】
（物品製造方法に係る実施形態）
本実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程（基板を露光する工程）と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。さらに、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【００３６】
（その他の実施形態）
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、これらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
【符号の説明】
【００３７】
１４０              ステージ装置
１４１              原版ステージ
１４２              可動子
１４３              エアパッド
１４４              マグネット
１４５              ガイド
１４６              固定子
１４７              回転軸（軸部）
１４８ａ、１４８ｂ  パネル（板部）
ＯＰａ、ＯＰｂ      開口部
１９０              制御部
Ｓ              空間
Ｍ              原版
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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