(57)【要約】【課題】筐体内に配設された紫外線光源と、該紫外線光源に対向配置されたインプラント保持部とを備え、紫外線によりインプラントの有機汚染物除去を行うためのインプラント用紫外線照射装置において、インプラントへの紫外線照射量にムラがなく、全外周位置で均一な有機汚染物除去処理ができる構造を提供することである。【解決手段】前記インプラント保持部には、インプラントの長手方向の軸回りに該インプラント保持部を回転させる回転機構が設けられていることを特徴とする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
筐体内に配設された紫外線光源と、該紫外線光源に対向配置されたインプラント保持部とを備え、紫外線によりインプラントの有機汚染物除去を行うためのインプラント用紫外線照射装置において、
前記インプラント保持部には、インプラントの長手方向の軸回りに該インプラント保持部を回転させる回転機構が設けられていることを特徴とするインプラント用紫外線照射装置。
【請求項２】
前記インプラント用紫外線照射装置はインプラントステージを有し、該インプラントステージは２つの基台部からなり、
第一の基台部には、前記インプラント保持部が回転自在に設けられており、
第二の基台部には、前記インプラント保持部を回転させるための駆動部が設けられている、
ことを特徴とする請求項１に記載のインプラント用紫外線照射装置。
【請求項３】
前記第一の基台部は、貫通孔を有するブロック体からなり、
前記インプラント保持部は、前記貫通孔内に回転自在に設けられていて、該インプラント保持部には従動磁石が取り付けられており、
前記第二の基台部は、密閉されたケーシングを備え、前記駆動部は、該ケーシング内に設けられるとともに、前記従動磁石を回転させる駆動磁石を有する、
ことを特徴とする請求項２に記載のインプラント用紫外線照射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、インプラントに紫外線を照射してその有機汚染物除去を行うインプラント用紫外線照射装置に関するものであり、特に、紫外線光源を利用してデンタルインプラントの有機汚染物除去を行うインプラント用紫外線照射装置に係わるものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、インプラントに紫外線を照射してその有機汚染物除去を行うインプラント用紫外線照射装置としては、例えば、特開２０１２−１５７４１３号公報（特許文献１）が知られている。
このインプラント用紫外線照射装置は、ピン状のデンタルインプラント（以下、インプラントという）に紫外線を照射するために用いられるものである。
【０００３】
図４、図５に、その概略構造が示されている。
このインプラント用紫外線照射装置は、開閉扉１０２を有する筐体１０１と、該筐体１０１内に配設された一対の紫外線ランプ１０３、１０３とを有し、前記筐体１０１内には開閉扉１０２と一体化された引き出し可能なキャリッジ１０４が配設され、このキャリッジ１０４上にはインプラント保持体１０５が載置されている。
そして、このインプラント保持体１０５は、前記キャリッジ１０４に着脱自在に載置される載置台１０６と、この載置台１０６に着脱自在に載置されるインプラント支持台１０７とからなる。
前記載置台１０６には、把手１０８が設けられており、インプラント支持台１０７上には処理対象の複数本のインプラントＷが、前記紫外線ランプ１０３の長手方向に沿うように直線状にセットされている。
【０００４】
このインプラント用紫外線照射装置では、インプラントＷがセットされたインプラント保持体１０５がキャリッジ１０４上に載置された状態で、開閉扉１０２が閉じられてキャリッジ１０４が筐体１０１内に収容されたとき、インプラント保持体１０５上に直線状に配設されたインプラントＷは一対の紫外線ランプ１０３、１０３間に位置して、これと対向配置されるものである。
インプラントＷは、紫外線ランプ１０３からの、例えば、１７２ｎｍや、２５４ｎｍの紫外線が所定の時間、照射される。照射処理後は、ファン１１１が回転し、筐体１０１内のガスが循環して、オゾン除去手段１１２によってオゾンの除去処理が行われるものである。
なお、紫外線光源としては、上述した紫外線ランプのほかに、紫外線を発生するＬＥＤを複数並列配置したものも使用される。
【０００５】
ところで、このようなインプラント用紫外線照射装置によって紫外線処理されるインプラントＷは通常は断面円形の円柱形状であって、これが紫外線ランプ１０３間に配置されて紫外線を照射されると、図６に示すように、インプラントＷの円周表面において、紫外線照度にムラができる。つまり、インプラントＷに照射される紫外線の照度は、その外円周上の最もランプ１０３に近い点Ａにおいて照度が最も高く、これと９０°ずれた点Ｂにおいて最も低くなる。そのため、インプラントＷに対する紫外線照射量にムラができてしまう。
このような不具合は、例えば１７２ｎｍ等のＶＵＶ光を使用する場合には、ＶＵＶ光が空気中の酸素によって吸収されるので、より顕著となる。
また、このような傾向は、紫外線光源としてＬＥＤを使用するものにあっても全く同様である。
その結果、インプラントＷでは、外円周上の位置によって、紫外線による有機汚染物除去処理にムラが生じてしまうという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１２−１５７４１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
この発明が解決しようとする課題は、筐体内に配設された紫外線光源と、該紫外線光源に対向配置されたインプラント保持部とを備え、紫外線によりインプラントの有機汚染物除去を行うためのインプラント用紫外線照射装置において、インプラントへの紫外線照射量にムラがなく、全外周位置で均一な有機汚染物除去処理ができる構造を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、この発明に係るインプラント用紫外線照射装置は、前記インプラント保持部には、インプラントの長手方向の軸回りに該インプラント保持部を回転させる回転機構が設けられていることを特徴とする。
また、前記インプラント用紫外線照射装置はインプラントステージを有し、該インプラントステージは２つの基台部からなり、第一の基台部には、前記インプラント保持部が回転自在に設けられており、第二の基台部には、前記インプラント保持部を回転させるための駆動部が設けられていることを特徴とする。
また、前記第一の基台部は、貫通孔を有するブロック体からなり、前記インプラント保持部は、前記貫通孔内に回転自在に設けられていて、該インプラント保持部には従動磁石が取り付けられており、前記第二の基台部は、密閉されたケーシングを備え、前記駆動部は、該ケーシング内に設けられるとともに、前記従動磁石を回転させる駆動磁石を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明のインプラント用紫外線照射装置によれば、紫外線照射処理にあたってインプラントをその長手方向軸回りに回転させるので、その全外周表面にムラなく紫外線照射ができて、有機汚染物処理が均一に達成できる。
また、インプラントステージを第一基台部と第二基台部の２つから構成することで、インプラントの有機汚染物除去作業に先立って、予めインプラントの各基台部をオートクレーブなどにより容易に加熱滅菌処理することができる。
また、第一基台部をブロック体としたので、そのまま上記加熱滅菌処理ができ、また、第二基台部を密閉されたケーシングから構成し、その内部に駆動部を収容したので、駆動部に処理水が掛かることなく、第二基台部の加熱滅菌処理を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明のインプラント用紫外線照射装置における要部の斜視図。
【図２】図１の正面断面図。
【図３】図２の要部の部分拡大断面図。
【図４】従来のインプラント用紫外線照射装置の正断面図。
【図５】図４の横断面図。
【図６】従来例の不具合の説明図。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
図１は、本発明のインプラント用紫外線照射装置におけるインプラントステージを示す斜視図で、図２は、その正面断面図であり、図３は、図２の要部の拡大断面図である。
図１に示されるように、本発明のインプラント用紫外線照射装置において、インプラントＷを保持するためのインプラントステージ１は、２つの基台部、即ち、第一基台部２と第二基台部３とからなる。インプラントＷは、第一基台部２に保持され、その長手方向軸回りに回転可能とされている。
【００１２】
図２にその詳細が示され、第一基台部２は、全体がブロック形状とされ、複数の貫通孔２１、２１が一列状に配置形成されている。第３図で示すように、この貫通孔２１内には、カップ状のインプラント保持部４が回転自在に設けられている。
このカップ状のインプラント保持部４は、その支持軸４１が軸受け４２によって支持されることにより、貫通孔２１内で回転可能に支持される。
図２に示すように、このインプラント保持部４内にインプラントＷが挿入支持される。
そして、特に図３で明示されるように、インプラント保持部４の支持軸４１の下端には従動磁石６が取り付けられている。この従動磁石６は、ブロック状の第一基台部２の下面から突出することはない。
【００１３】
一方、図２に示すように、第二基台部３は、密閉されたケーシング３１からなり、このケーシング３1内には、前記インプラント保持部４を回転させる駆動部５が収容されている。
駆動部５は、バッテリー５１によって駆動されるモータ５２と、これにより回転されるプーリー５３を有し、このプーリー５３は、前記第一基台部２の貫通孔２１内のインプラント保持部４にそれぞれ対向して設けられる。
そして、これらのプーリー５３、５３はベルト５５によって回転される。そして、図３で示すように、その回転軸５４には、前記従動磁石６に対向して駆動磁石７が取り付けられている。
【００１４】
図３に示すように、第一基台部２と第二基台部３が組み立てられたとき、第一基台部２内の従動磁石６は、第二基台部３のケーシング３１の上壁３２よりも若干上方に位置する。
また、第二基台部３内に収容された駆動部５の駆動磁石７は、ケーシング３１の上壁３２の若干下方で前記従動磁石６に対向するように位置する。
これにより、従動磁石６と駆動磁石７は、ケーシング３１の上壁３２を介在して対向配置されることになる。
このような配置とすることで、駆動部５により回転される駆動磁石７によって、これと対向する従動磁石６が回転され、インプラント保持部４及びこれに保持されたインプラントＷが、その長手方向軸を中心として回転される。
【００１５】
上記実施例での説明においては、各インプラント保持部４を回転させる機構として、プーリー５３とベルト５５によるものを示したが、歯車により回転伝達機構を用いることもできる。即ち、各インプラント保持部４に対向して回転軸５４に歯車を配置し、これらを互いに噛み合わせる構成とすることにより、回転伝達する機構とするものである。
【００１６】
また、紫外線照射時にインプラントを回転させる構成としたことにより、紫外線光源はインプラントの両側に一対設けることが、必ずしも必要でなくなり、紫外線光源を片側配置として片側からの照射であってもインプラントの全外周面にムラなく照射することができる。こうすることで、装置全体の小型化に資するものである。
【００１７】
以上説明したように、本発明のインプラント用紫外線照射装置においては、インプラント保持体が回転自在に支持されていることにより、紫外線光源からの紫外線がインプラントの全外周面にムラなく照射され、有機汚染物の除去が均一に行われるという効果を奏する。
また、インプラントステージを２つの基台部により構成したことで、紫外線照射処理に先立って、これら基台部の加熱滅菌処理が容易にできる。
特に、第二基台部のケーシングを密閉構造とすることで、前記加熱滅菌処理時に内部の駆動部が処理水から保護されて汚染されることがない。
【符号の説明】
【００１８】
１      インプラントステージ
２      第一基台部
２１    貫通孔
３      第二基台部
３１    ケーシング
３２    上壁
４      インプラント保持部
４１    支持軸
４２    軸受
５      駆動部
５１    バッテリー
５２    モータ
５３    プーリー
５４    回転軸
５５    ベルト
６      従動磁石
７      駆動磁石
Ｗ      インプラント
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
2018046957.tif 000006
【図５】
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【図６】
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