(57)【要約】【課題】  凹版印刷のワイピング装置において、従来の浸漬方式の装置では、ワイピング溶剤中のインキ分散濃度が高くなり、ワイピングローラの洗浄不良という問題があった。また、従来の層流噴射方式の装置では、ナイロンタワシユニットに供給されるワイピング溶剤の液量が十分とならないため、ナイロンタワシ上に堆積した余剰凹版インキが完全には洗浄されないという問題があった。  【解決手段】  本発明は、第１の層流装置からワイピングローラ円周面に向けてワイピング溶剤を吹きかけ、プレブラシ及びメインブラシによって余剰凹版インキを取り除き、ワイピングローラ回転方向の後方に設置した第２の層流装置からはプレブラシ及びメインブラシ上のナイロンタワシに向けてワイピング溶剤を滝状に噴射させることによって、ナイロンタワシを確実に洗浄し、ワイピングローラ上の余剰凹版インキを確実に除去するものである。【選択図】  図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
凹版印刷機のワイピング部において、ワイピングローラ表面に付着した余剰凹版インキを洗浄する装置の洗浄機構であって、
インキを溶解・分散させるための洗浄液を、層流を発生させるノズルによってワイピングローラ円周面に沿うよう連続的に層流状態で吹きかける第１の層流装置と、
前記ワイピングローラ円周面から機械的にインキを取り除くプレブラシ及びメインブラシと、
前記メインブラシに付着した余剰凹版インキを洗浄する第２の層流装置とから成ることを特徴とする凹版印刷機のワイピング洗浄装置。
【請求項２】
前記プレブラシは、ワイピングローラの回転方向入り側に設置したことを特徴とする請求項１記載の凹版印刷機のワイピング洗浄装置。
【請求項３】
前記メインブラシは、前記プレブラシの下流側に設置したことを特徴とする請求項１又は２記載の凹版印刷機のワイピング洗浄装置。
【請求項４】
前記第２の層流装置は、前記メインブラシの下流側に設置したことを特徴とする請求項１から３までのいずれか１項記載の凹版印刷機のワイピング洗浄装置。
【請求項５】
前記プレブラシ及び前記メインブラシは、ブラシ最上部に柔軟性がある合成繊維製のタワシを設置し、前記ワイピングローラと面接触することを特徴とする請求項１から４までのいずれか１項記載の凹版印刷機のワイピング洗浄装置。
【請求項６】
前記メインブラシは、前記タワシの下部に複数の穴の空いた金属板を用いたことを特徴とする請求項１から５までのいずれか１項記載の凹版印刷機のワイピング洗浄装置。
【請求項７】
前記第２の層流装置は、下部に溶剤投入口を設け、上部に前記メインブラシの幅と同じか、前記メインブラシの幅より広い幅の噴出口を設けたことを特徴とする請求項１から６までのいずれか１項記載の凹版印刷機のワイピング洗浄装置。
【請求項８】
前記第２の層流装置は、前記溶剤投入口と前記噴出口の間に、複数の溶剤流量堰を設けたことを特徴とする請求項１から７までのいずれか１項記載の凹版印刷機のワイピング洗浄装置。
【請求項９】
前記複数の溶剤流量堰は、それぞれ互い違いに設けられていることを特徴とする請求項１から８までのいずれか１項記載の凹版印刷機のワイピング洗浄装置。
【請求項１０】
前記第２の層流装置は、前記噴出口からワイピング溶剤が滝状になって流れ落ちることを特徴とする請求項１から９までのいずれか１項記載の凹版印刷機のワイピング洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、凹版印刷機におけるワイピング装置の洗浄機構に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
凹版印刷機における印刷方式は、図１に示すように、インキ壺（１）に凹版インキを投入し、ダクトローラ（２）、着肉ローラ（３）、凹版版胴（４）の順に凹版インキを転移させていき、凹版版胴には、プレート状の凹版版面が設置されており、この凹版版面上に着肉ローラから転移された凹版インキのうち、凹版版面上の凹版画線部分のみのインキを残して、それ以外の部分に付着した余剰な凹版インキ（以下「余剰凹版インキ」という。）をワイピングローラで拭き取ることで、凹版画線部分に拭き取られずに残った凹版インキが凹版圧胴の表面に保持されている用紙に圧着転移されることで印刷するものである。
【０００３】
従来のワイピング機構について説明する。
図２に示すように凹版版胴（４）に設置された凹版版面に転移された凹版インキのうち、画線部以外の部分に付着した余剰凹版インキ（５）は、ワイピングローラ（６）によって拭き取られ、ワイピングローラ（６）の表面に付着した余剰凹版インキ（５）は、余剰凹版インキ（５）を溶解・分散させる洗浄液（以下「ワイピング溶剤」という。）に浸漬し、ワイピングローラ（６）の回転を利用してワイピングローラ（６）に接触しているプレブラシ（７）及びメインブラシ（８）によってかき取ることでワイピングローラ（６）の表面を清掃し、再び凹版版面上の余剰凹版インキ（５）を拭き取る工程が可能となるものである。
【０００４】
次に、余剰凹版インキ（５）をワイピング溶剤に浸漬させる機構について説明する。
図３は浸漬方式のワイピング装置である。ワイピング槽内にワイピング溶剤（９）が満たされており、洗浄装置であるプレブラシ（７）及びメインブラシ（８）は全体がワイピング槽内のワイピング溶剤（９）中に沈んでおり、ワイピングローラ（６）表面に付着した余剰凹版インキ（５）は、プレブラシ（７）及びメインブラシ（８）の上部に設置されたナイロンタワシ（１０）によってかき落とされ、ワイピング溶剤（９）中に分散することによって、ワイピングローラ（６）の表面が洗浄される装置である。
【０００５】
この方式の場合、印刷開始時点ではワイピング溶剤（９）が汚れていないためワイピングローラ（６）表面はきれいに洗浄されるが、印刷がかさむにつれワイピング溶剤（９）中の余剰凹版インキ（５）の分散濃度が高くなることにより、プレブラシ（７）及びメインブラシ（８）上に余剰凹版インキ（５）が堆積し、その堆積等が原因でワイピング槽内にためられたワイピング溶剤（９）が汚れてしまうため、ワイピングローラ（６）の洗浄不良となり、凹版版面上に線状の汚れ（以下「溶剤汚れ」という。）が発生し、前記溶剤汚れが製品に付着して印刷されてしまうため、欠陥製品が生じることとなる。
【０００６】
そこで、本願出願人は、ワイピング溶剤（９）の汚れを防止できる機構として、特許文献２に示す層流噴射方式のワイピング機構を発明した。
図４は、層流噴射方式の機構の説明図である。本機構は、浸漬方式と異なり、ワイピング槽内にワイピング溶剤（９）はためず、前方からワイピング溶剤（９）を滝状に噴出させる層流装置（１１）によりワイピングローラ（６）表面を湿らせたのち、ワイピング槽内にあるワイピング溶剤（９）を上方に噴出させる機構を備えたプレブラシ（１２）で洗浄後、プレブラシ（１２）及びメインブラシ（１４）の間に設置された中間噴射装置（１３）から直接ワイピング溶剤（９）をワイピングローラ（６）に噴射させ、最後にワイピング溶剤（９）を上方に噴出させる機構を備えたメインブラシ（１４）でワイピングローラ（６）上の余剰凹版インキ（５）を除去する機構である。
【０００７】
また、本機構のプレブラシ（１２）及びメインブラシ（１４）には、ブラシユニットの上に、ワイピングローラ（６）と同じ曲率を持たせた金属製ネット又は図５に示すような複数の規則正しい穴が空けられた１ｍｍ程度の鉄板（以下「パンチングメタル」という。）（１７）を設け、更にその上にナイロンタワシユニット（１８）を設けることで、ワイピングローラ（６）との接触を均一に保ち、ワイピングローラ（６）の表面全面に対して確実な洗浄が行われるようにした。
そのため、本機構を用いることにより、ワイピングローラ（６）からがき取られた余剰凹版インキ（５）は、ワイピング槽下部に溶解されていないインキカスとして堆積されることになる。これによって、ワイピング槽内に溶剤をためこまず、溶解及び分散が抑制される。
また、層流装置、プレブラシ（１２）、メインブラシ（１４）及び中間噴射装置（１３）から排出されたワイピング溶剤（９）は循環するため、浸漬方式に比較するとワイピング溶剤（９）中の汚れが緩和された機構となっている（例えば、特許文献１、特許文献２及び特許文献３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平１１−２６８２５２号公報
【特許文献２】特許第３７０９５３７号公報
【特許文献３】特許第４７０６０５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、図５に示すように、層流噴射方式のプレブラシ（１２）及びメインブラシ（１４）の内部に設置されている上向きの噴射ノズル口（１６）から、ブラシユニット（１５）に設置されているパンチングメタル（１７）に前記噴射ノズル口（１６）から噴射したワイピング溶剤（９）が当たることでパンチングメタル（１７）の穴を通過せずに、噴射されたワイピング溶剤（９）が泡立ち、その泡が原因で槽内にある液面センサに誤作動が生じることが分かった。
【００１０】
また、パンチングメタル（１７）の穴が空いてない部分は鉄板でふさがれているため、噴射されたワイピング溶剤（９）の一部がパンチングメタル（１７）の穴を通過せず、最上部のナイロンタワシユニット（１８）に供給されるワイピング溶剤（９）の液量が十分とならないことから、ナイロンタワシユニット（１８）上に堆積した余剰凹版インキ（５）が完全に洗浄されず、ワイピングローラ（６）上に洗い残りが発生し、その洗い残りのインキによる汚れが原因で、製品に溶剤汚れが生じてしまうことが分かった。
【００１１】
更に、プレブラシ（１２）、メインブラシ（１４）及び中間噴射装置（１３）には、図８に示すように、それぞれ上方にワイピング溶剤（９）を噴出させるために必要な循環ポンプ類（２６）（２７）（２８）を使用しているが、ポンプ故障やポンプからのワイピング溶剤漏れ等が発生し、その都度機械停止や機械故障の原因となることが分かった。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記の課題を解決するため、本発明は、パンチングメタル（１７）上に設置されたナイロンタワシユニット（１８）上に発生するワイピング溶剤（９）の泡立ちと洗い残りの余剰インキ（５）による汚れの低減と、プレブラシ（１２）、メインブラシ（１４）及び中間噴射装置（１３）からワイピング溶剤（９）を噴出させるための循環ポンプ類（２６）（２７）（２８）を廃止することで機械故障の原因を取り除くことを目的として、ワイピングローラ（６）表面の洗浄方法の改善を行ったものである。
【００１３】
上記の課題を解決するため、本発明は、凹版印刷機のワイピング部において、ワイピングローラ（６）表面に付着した余剰凹版インキ（５）を洗浄する装置の洗浄機構であって、余剰インキ（５）を溶解・分散させるためのワイピング溶剤（９）を、層流を発生させる噴出口によってワイピングローラ（６）円周面に沿うよう連続的に層流状態で吹きかける第１の層流装置（１１）と、前記ワイピングローラ（６）円周面から機械的に余剰凹版インキ（５）を取り除くプレブラシ（７）及びメインブラシ（８）と、前記メインブラシ（８）に付着した余剰凹版インキ（５）を洗浄する第２の層流装置（１９）とから成ることを特徴とした凹版印刷機のワイピング洗浄装置である。
【００１４】
また、前記プレブラシは、ワイピングローラの回転方向入り側に設置した構成としたものである。
【００１５】
また、前記メインブラシは、前記プレブラシの下流側に設置した構成としたものである。
【００１６】
また、前記第２の層流装置は、前記メインブラシの下流側に設置した構成としたものである。
【００１７】
また、前記プレブラシ及び前記メインブラシは、ブラシ最上部に柔軟性がある合成繊維製のタワシを設置し、前記ワイピングローラと面接触する構成としたものである。
【００１８】
また、前記プレブラシ及びメインブラシは、前記タワシの下部に複数の穴の空いた金属板を用いた構成としたものである。
【００１９】
また、前記第２の層流装置は、下部に溶剤投入口を設け、上部に前記メインブラシの幅と同じか、前記メインブラシの幅より広い幅の噴出口を設けた構成としたものである。
【００２０】
また、前記第２の層流装置は、前記溶剤投入口と前記噴出口の間に、複数の溶剤流量堰を設けた構成としたものである。
【００２１】
また、前記複数の溶剤流量堰は、それぞれ互い違いに設けられた構成としたものである。
【００２２】
また、前記第２の層流装置は、前記噴出口からワイピング溶剤が滝状になって流れ落ちる構成としたものである。
【発明の効果】
【００２３】
本発明のワイピング洗浄装置の特徴であるワイピングローラ回転方向の後方から大量のワイピング溶剤を滝状に流すことにより、ブラシ上に堆積した余剰凹版インキが確実に洗浄されることから、ナイロンタワシの洗浄性向上が図られ、凹版版面から拭き取られたワイピングローラ上の余剰凹版インキが確実に除去できるとともに、ローラの発熱、摩耗及び凹版版面の摩耗等の抑制が図られる。
【００２４】
また、ワイピングローラ回転方向の後方からワイピング溶剤を大量に流すことで、これまでワイピング溶剤の不足分を補うために設けられていたワイピング槽内にあるワイピング溶剤を上方に噴出させる機構を備えたプレブラシ、メインブラシ及び中間噴出装置が不要となることから、ワイピング溶剤の噴出に起因するワイピング溶剤の泡立ちの防止と、ワイピング溶剤を噴出させるために用いていた各部材が不要となることから、それらにワイピング溶剤を供給していたポンプ類を撤去できるため、ポンプ類に起因する機械故障リスクの軽減が図られる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明における凹版印刷部に関する概略図である。
【図２】本発明におけるワイピング部に関する概略図である。
【図３】従来のワイピング溶剤浸漬型のワイピング装置の概略図である。
【図４】従来のワイピング溶剤層流噴射型のワイピング装置の概略図である。
【図５】従来のワイピング溶剤層流噴射型のワイピング装置におけるパンチングメタル及び噴射装置の概略図である。
【図６】本発明におけるワイピング洗浄装置の概略図である。
【図７】本発明における第２の層流装置の概略図である。
【図８】従来のワイピング液層流噴射型のワイピング溶剤循環経路の概略図である。
【図９】本発明を実施するための形態における、ポンプの配置図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
本発明を実施するための形態については、図面を参照して説明する。
図６に示すように、ワイピングローラ（６）が凹版版面と接触し、余剰凹版インキ（５）を拭き取った後、ワイピング槽内のワイピングローラ（６）の回転方向「Ｙ」入り側に設置された第１の層流装置（１１）からワイピング溶剤（９）が滝状に噴出し、ワイピングローラ（６）の表面を湿らせた後、ワイピング槽内にあるプレブラシ（７）で洗浄後、プレブラシ（７）の下流に設置されたメインブラシ（８）でワイピングローラ（６）上の余剰凹版インキ（５）を除去し、最後にメインブラシ（８）の更に下流に設置された第２の層流装置（１９）からワイピング溶剤（９）を滝状に噴出させ、プレブラシ（７）及びメインブラシ（８）上に設置されたナイロンタワシ（１０）上の洗い残りのインキを洗浄する機構となっている。
【００２７】
なお、第２の層流装置（１９）は、図７に示すように大型の噴出口（２０）を備えており、装置下部に備えられた右側の溶剤投入口（２１）から投入されたワイピング溶剤（９）が、ワイピング溶剤（９）の流量を均一にするために内部側面に互い違いに設けられた溶剤流量調整堰（２２）を経て、前記噴出口（２０）から図６に示すメインブラシ（８）へワイピング溶剤（９）が滝状になって大量に流れ落ちる機構となっている。
【００２８】
また、第１及び第２の層流装置にワイピング溶剤を供給するポンプの配置は図９のようになっており、図８にあるようなワイピング溶剤を上方に噴出させる機構を備えたプレブラシ（１２）、メインブラシ（１４）及び中間噴出装置（１３）を不要としたことで、それらに使用していたポンプ類（２６）（２７）（２８）が撤去され、ワイピング溶剤循環管理装置（２３）下部にある循環ポンプ類の簡略化が図られている。
【符号の説明】
【００２９】
１    インキ壺
２    ダクトローラ
３    着肉ローラ
４    凹版版胴
Ｘ    凹版版胴「４」の回転方向
５    余剰凹版インキ
６    ワイピングローラ
Ｙ    ワイピングローラ「６」の回転方向
７    プレブラシ
８    メインブラシ
９    ワイピング溶剤
１０  ナイロンタワシ
１１  層流装置（第１用）
１２  プレブラシ（噴射機能付）
１３  中間噴射装置
１４  メインブラシ（噴射機能付）
１５  ブラシユニット
１６  噴射ノズル口
１７  パンチングメタル
１８  ナイロンタワシユニット
１９  層流装置（第２用）
２０  噴出口
２１  溶剤投入口
２２  溶剤流量調整堰
２３  ワイピング溶剤循環管理装置（Ａ槽・Ｂ槽）
２４  戻りポンプ
２５  層流装置循環ポンプ（第１用）
２６  プレ噴射循環ポンプ
２７  中間噴射循環ポンプ
２８  メイン噴射循環ポンプ
２９  電磁弁バルブ
３０  層流ポンプ（第２用）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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