(57)【要約】【課題】異なる構造の電解セルで電解エッチングを行う場合であっても、所望の構造を有するピットを導電箔に形成することが可能な電解コンデンサ用電極箔の製造方法を提供する。【解決手段】電極箔の製造方法は、電位測定用導電箔に対して所望の構造を有するピットが形成される電解エッチングを行ったときの当該導電箔の電位を規準電位として予め測定しておく規準電位測定ステップＳ１と、電解エッチングに用いる電解セルを決定する電解セル決定ステップＳ３と、電解セル内のエッチング液に浸漬された導電箔と電極との間に電源装置を接続して、導電箔を搬送しながら導電箔に対して電解エッチングを行う電解エッチングステップＳ５とを備える。電解エッチングステップＳ５では、電位制御手段を用いて導電箔の電位を規準電位に近づける。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも電極とエッチング液とを含む、互いに異なる複数種の電解セルのいずれかを用いて電解エッチングを行うことにより、導電箔に所望の構造を有するピットを形成する電解コンデンサ用電極箔の製造方法であって、
電位測定用導電箔に対して前記所望の構造を有するピットが形成される電解エッチングを行ったときの当該電位測定用導電箔の電位を規準電位として予め測定しておく規準電位測定ステップと、
前記所望の構造を有するピットを形成すべき導電箔の電解エッチングに用いる電解セルを前記複数種の電解セルの中から決定する電解セル決定ステップと、
前記電解セル内の前記エッチング液に浸漬された前記導電箔と当該エッチング液中の電極との間に電源装置を接続して、前記導電箔を搬送しながら当該導電箔に対して電解エッチングを行う電解エッチングステップとを備え、
前記電解エッチングステップにおいて、電位制御手段を用いて前記導電箔の電位を前記規準電位に近づける
ことを特徴とする電解コンデンサ用電極箔の製造方法。
【請求項２】
前記電解セル決定ステップで決定した前記電解セルの構造と、前記電解エッチングステップにおける前記導電箔の搬送速度とに基づいて、前記電解セル内に配置する制御板を選定する制御板選定ステップをさらに備え、
前記電解エッチングステップにおいて、前記制御板選定ステップで選定された前記制御板を前記電位制御手段として用いる
ことを特徴とする請求項１に記載の電解コンデンサ用電極箔の製造方法。
【請求項３】
前記制御板選定ステップにおいて選定される前記制御板として、開口を有する絶縁体により形成された遮蔽板を使用する
ことを特徴とする請求項２に記載の電解コンデンサ用電極箔の製造方法。
【請求項４】
前記電解エッチングステップにおいて、前記エッチング液中における前記導電箔の搬送方向に沿って並べて設けられるとともに、互いに独立して電源装置に接続される複数の電極を前記電位制御手段として用いる
ことを特徴とする請求項１に記載の電解コンデンサ用電極箔の製造方法。
【請求項５】
前記電解エッチングステップにおいて、前記電解セル内において前記導電箔に対向するように設けられた電位センサを用いて当該導電箔の電位を測定する
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の電解コンデンサ用電極箔の製造方法。
【請求項６】
前記電解エッチングステップにおいて、前記エッチング液中において前記導電箔の搬送方向に沿って設けられた複数の前記電位センサを用いて前記導電箔の電位を測定する
ことを特徴とする請求項５に記載の電解コンデンサ用電極箔の製造方法。
【請求項７】
前記規準電位測定ステップにおいて、前記電位測定用導電箔に対向するように設けられた複数の電位センサを用いて、当該電位測定用導電箔の電位を測定する
ことを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の電解コンデンサ用電極箔の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電解エッチングを行うことにより導電箔にピットを形成する電解コンデンサ用電極箔の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、電解コンデンサ用電極箔の製造方法において、静電容量が大きい電解コンデンサを実現するために、電解セル内のエッチング液に導電箔を浸漬するとともに電解セルを構成する２つの電極の間に導電箔を配置し、導電箔にトンネル状のピットが形成されるように電解エッチングを行うことが知られている（例えば特許文献１参照）。
【０００３】
特許文献１に記載の製造方法は、電流密度が１．５Ａ／ｃｍ２以上の直流電流をアルミニウム箔（導電箔）に印加し、その後、電流密度を０．１Ａ／ｃｍ２以下に低下させることで、深さ（ピット長）の揃った多数のトンネル状ピットをアルミニウム箔に形成している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−２８２２９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載の製造方法は、特定の電解セルを用いて形成される多数のピットの深さを均一にするものであって、電解セルを構成する電極の面積、電極間の距離等が特許文献１と異なる他の電解セルを用いて電解エッチングを行う場合に、特許文献１に開示されたピットの構造を維持することについては考慮していない。したがって、異なる構造の電解セルで電解エッチングを行う場合に、所望の構造を有するピットを導電箔に形成することができないという問題があった。
【０００６】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、異なる構造の電解セルで電解エッチングを行う場合であっても、所望の構造を有するピットを導電箔に形成することが可能な電解コンデンサ用電極箔の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するため、請求項１に記載の電解コンデンサ用電極箔の製造方法は、少なくとも電極とエッチング液とを含む、互いに異なる複数種の電解セルのいずれかを用いて電解エッチングを行うことにより、導電箔に所望の構造を有するピットを形成する電解コンデンサ用電極箔の製造方法であって、電位測定用導電箔に対して前記所望の構造を有するピットが形成される電解エッチングを行ったときの当該電位測定用導電箔の電位を規準電位として予め測定しておく規準電位測定ステップと、前記所望の構造を有するピットを形成すべき導電箔の電解エッチングに用いる電解セルを前記複数種の電解セルの中から決定する電解セル決定ステップと、前記電解セル内の前記エッチング液に浸漬された前記導電箔と当該エッチング液中の電極との間に電源装置を接続して、前記導電箔を搬送しながら当該導電箔に対して電解エッチングを行う電解エッチングステップとを備え、前記電解エッチングステップにおいて、電位制御手段を用いて前記導電箔の電位を前記規準電位に近づけることを特徴とする。
【０００８】
上記構成によれば、電解エッチングステップにおいて、エッチング液中において搬送されている導電箔の電位の波形を、所望の構造を有するピットが形成された電位測定用導電箔の電位（規準電位）の波形と揃えることができる。したがって、電位測定用導電箔に形成されたピットと同様のピットを導電箔に形成することができるため、互いに異なる構造の電解セルにて電解エッチングを行う場合であっても、所望の構造を有するピットを導電箔に形成することが可能である。また、搬送中の導電箔に対して連続的にピットを形成することができるため、電解コンデンサ用電極箔を大量に製造することができる。
【０００９】
また、請求項２に記載の電解コンデンサ用電極箔の製造方法は、前記電解セル決定ステップで決定した前記電解セルの構造と、前記電解エッチングステップにおける前記導電箔の搬送速度とに基づいて、前記電解セル内に配置する制御板を選定する制御板選定ステップをさらに備え、前記電解エッチングステップにおいて、前記制御板選定ステップで選定された前記制御板を前記電位制御手段として用いることを特徴とする。
【００１０】
また、請求項３に記載の電解コンデンサ用電極箔の製造方法は、前記制御板選定ステップにおいて選定される前記制御板として、開口を有する絶縁体により形成された遮蔽板を使用することを特徴とする。
【００１１】
また、請求項４に記載の電解コンデンサ用電極箔の製造方法は、前記電解エッチングステップにおいて、前記エッチング液中における前記導電箔の搬送方向に沿って並べて設けられるとともに、互いに独立して電源装置に接続される複数の電極を前記電位制御手段として用いることを特徴とする。
【００１２】
また、請求項５に記載の電解コンデンサ用電極箔の製造方法は、前記電解エッチングステップにおいて、前記電解セル内において前記導電箔に対向するように設けられた電位センサを用いて当該導電箔の電位を測定する。この構成によれば、導電箔の一部の電位を精度良く測定することができる。
【００１３】
また、請求項６に記載の電解コンデンサ用電極箔の製造方法は、前記電解エッチングステップにおいて、前記エッチング液中において前記導電箔の搬送方向に沿って設けられた複数の前記電位センサを用いて前記導電箔の電位を測定する。この構成によれば、導電箔の複数箇所の電位を即座に測定することができる。
【００１４】
また、請求項７に記載の電解コンデンサ用電極箔の製造方法は、前記規準電位測定ステップにおいて、前記電位測定用導電箔に対向するように設けられた複数の電位センサを用いて、当該電位測定用導電箔の電位を測定する。この構成によれば、電位測定用導電箔の複数箇所の電位を即座に測定することができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、異なる構造の電解セルで電解エッチングを行う場合であっても、所望の構造を有するピットを導電箔に形成することが可能な電解コンデンサ用電極箔の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の一実施形態に係る電極箔製造装置の概略構成図である。
【図２】同実施形態に係る電極箔の製造工程を示すフローチャートである。
【図３】（Ａ）は、所望の構造を有するピットが形成される電解エッチングを行ったときに測定された電流および電位の波形図であり、（Ｂ）は、形成されたピットの電子顕微鏡写真である。
【図４】（Ａ）は、実験Ａにおいて測定された電流および電位の波形図であり、（Ｂ）は、形成されたピットの電子顕微鏡写真である。
【図５】（Ａ）は、実験Ｂにおいて測定された電流および電位の波形図であり、（Ｂ）は、形成されたピットの電子顕微鏡写真である。
【図６】変形例に係る電極箔製造装置の概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
図面を参照して、本発明に係る電解コンデンサ用電極箔（以下「電極箔Ｆ」という）の製造方法について説明する。図１は、規準となる電極箔Ｆを製造する第１の電極箔製造装置１Ａの一部と、規準となる電極箔Ｆの複製物を製造する第２の電極箔製造装置１Ｂの一部とを示している。図中において、電極箔製造装置１Ａ，１Ｂで共通する構成は、同じ符号で示されている。
【００１８】
まず、第１の電極箔製造装置１Ａの構成について説明する。
図１に示すように、第１の電極箔製造装置１Ａは、導電箔１１を搬送するローラー２１，２２，２３，２４と、電解エッチングを行うための電解セル３０Ａとを備えている。電解セル３０Ａは、エッチング液Ｌと、一対の電極３２と、制御板３３Ａとにより構成されている。これらは、エッチング槽３１Ａに収容されている。電解セル３０Ａは、エッチング液Ｌの液面より下方の部分、かつ、電極３２を含む一対の電極３２で挟まれる部分である。
【００１９】
導電箔１１は、アルミニウム箔である。電解エッチングが施される導電箔１１は、導電箔１１が巻かれて形成されたロール体１０Ａから引き出され、電解エッチングが施された導電箔１１は、ロール体１０Ｂとして巻き取られる。
【００２０】
ローラー２１〜２４は、ロール体１０Ａからロール体１０Ｂにかけて導電箔１１を搬送する搬送装置であって、導電箔１１をエッチング液Ｌに浸漬する。ローラー２１〜２４は、導電箔１１を連続的に粗面化して電極箔Ｆを大量に製造するために、導電箔１１に対して電解エッチングが行われている間も導電箔１１を搬送する。
【００２１】
エッチング槽３１Ａは、塩化物水溶液であるエッチング液Ｌを溜める電解槽であって、エッチング液Ｌ中には一対の電極３２および制御板３３Ａが設けられている。一対の電極３２は、例えば、炭素により形成されているカーボン電極であって、導電箔１１の両面を粗面化するために、導電箔１１を挟む位置に設けられている。制御板３３Ａは、搬送中の導電箔１１の電位を制御するための電位制御手段であって、導電箔１１と電極３２との間に設けられている。制御板３３Ａは、電解セル３０Ａ内の電位分布を調整する遮蔽板であって、開口（図示略）を有した絶縁体により形成されている。制御板３３Ａは、電流を部分的に遮蔽することで、電解セル３０Ａの位置に応じて導電箔１１に印加される電位を制御する。制御板３３Ａに形成されている開口の形状および大きさは、所望の電位分布が電解セル３０Ａ内で得られるように予め設定されている。当該開口は、制御板３３Ａの厚み方向（導電箔１１の表面と直交する方向）に貫通して形成されることが好ましい。
【００２２】
さらに、第１の電極箔製造装置１Ａは、導電箔１１および電極３２に電気的に接続されている電源装置４１と、導電箔１１の電位を測定する電位測定装置４３と、電位の測定結果を記憶する情報記憶装置４４とを備えている。
【００２３】
電源装置４１は、エッチング液Ｌに浸漬されて搬送されている導電箔１１と電極３２との間に接続することで、導電箔１１に対して電解エッチングを行う。電源装置４１のプラス端子は、ローラー２１を介して導電箔１１に電気的に接続されるとともに、電源装置４１のマイナス端子は、陰極を構成する電極３２に電気的に接続されており、陽極である導電箔１１に対して電解エッチングが行われることで、導電箔１１の表面が粗面化される。電源装置４１の出力電圧または出力電流を所定値に設定することで、電解セル３０Ａにおいて導電箔１１に所望の構造を有するピットが形成される。
【００２４】
電位測定装置４３は、エッチング液Ｌ中における導電箔１１の搬送方向に沿って設けられた複数の電位センサ４３Ａを有し、導電箔１１の複数箇所の電位を測定する。複数の電位センサ４３Ａは、導電箔１１の近傍（例えば、導電箔１１から１〜２０ｍｍ離れた箇所）において導電箔１１に対向するように設けられており、導電箔１１の電位波形（時間的変化）が特徴的となる位置（例えば、電位ピーク点および電位変曲点となる位置）に配置されていることが好ましい。電位測定装置４３は、導電箔１１に対して所望の構造を有するピットが形成される電解エッチングが行われているときの導電箔１１の電位を規準電位として測定する。
【００２５】
情報記憶装置４４は、電位測定装置４３による電位の測定結果、すなわち導電箔１１の電位の情報を記憶する。情報記憶装置４４は、電位測定装置４３により測定された規準電位の情報を記憶する。規準電位の情報は、測定データとして電位測定装置４３から情報記憶装置４４に送信されることで、情報記憶装置４４に自動的に記憶される。
【００２６】
次いで、第２の電極箔製造装置１Ｂの構成について説明する。なお、第２の電極箔製造装置１Ｂが備えている第１の電極箔製造装置１Ａと共通する構成については、その説明を省略する。
【００２７】
第２の電極箔製造装置１Ｂは、電解セル３０Ａに代えて、電解セル３０Ａと構造の異なる電解セル３０Ｂを備えている。電解セル３０Ｂは、エッチング液Ｌと、一対の電極３２と、制御板３３Ｂとにより構成されている。これらは、エッチング槽３１Ｂに収容されている。電解セル３０Ｂは、電解セル３０Ａと同様に、エッチング液Ｌの液面より下方の部分、かつ、電極３２を含む一対の電極３２で挟まれる部分である。
【００２８】
すなわち、第２の電極箔製造装置１Ｂには、電解セル３０Ａに対して、導電箔１１と電極３２との間に電流遮蔽部３１ａが追加して設けられた、電解セル３０Ａとは構造の異なる電解セル３０Ｂを備えている。電解セル３０Ｂ内において電流遮蔽部３１ａが電流を遮蔽することによって、導電箔１１と電極３２との間に流れる電流は、電流遮蔽部３１ａを迂回してエッチング液Ｌ中を流れる。
【００２９】
また、第２の電極箔製造装置１Ｂは、制御板３３Ａに代えて、電解セル３０Ｂの構造に応じた制御板３３Ｂを備えている。制御板３３Ｂは、制御板３３Ａと同様に、搬送中の導電箔１１の電位を制御するための電位制御手段である。制御板３３Ｂは、電解セル３０Ｂ内の電位分布を調整する電位制御のための遮蔽板であって、開口（図示略）を有した絶縁体により形成されている。制御板３３Ｂに形成されている開口の形状および大きさは、電解セル３０Ａ内の電位分布と同様の電位分布が電解セル３０Ｂ内で実現できるように設定する。
【００３０】
第２の電極箔製造装置１Ｂにおいては、電源装置４１の出力電圧または出力電流が、手動により調整できるように構成されており、電源装置４１の出力電圧または出力電流を調整し、かつ、前出の制御板３３Ｂに形成されている開口の形状および大きさを調整することで、第１の電極箔製造装置１Ａの電位測定装置４３で測定された規準電位を導電箔１１に印加できる。すなわち、導電箔１１の電位を規準電位に近づけることができ、所望の構造を有するトンネル状のピットが導電箔１１に形成される。
【００３１】
図２は、電極箔Ｆの製造工程の流れを示している。
図２に示すように、電極箔Ｆの製造工程は、第１の電極箔製造装置１Ａを用いる第１電極箔製造ステップと、第２の電極箔製造装置１Ｂを用いる第２電極箔製造ステップとに分かれる。第１電極箔製造ステップでは、電解セル３０Ａを用いて電解エッチングを行うことで、規準となる電極箔Ｆが製造され、第２電極箔製造ステップでは、電解セル３０Ｂを用いて電解エッチングを行うことで、規準となる電極箔Ｆの複製物が製造される。以下、電解セル３０Ａを用いて電解エッチングが行われる導電箔１１を「電位測定用導電箔Ａ」といい、電解セル３０Ｂを用いて電解エッチングが行われる導電箔１１を「導電箔Ｂ」という。
【００３２】
第１電極箔製造ステップでは、まず、第１の電極箔製造装置１Ａを用いて所望の構造を有するピットが電位測定用導電箔Ａに形成されるように電解エッチングを行うとともに、電位測定用導電箔Ａの電位を電位測定装置４３により測定する（規準電位測定ステップＳ１）。すなわち、規準電位測定ステップＳ１では、電解セル３０Ａ内のエッチング液Ｌに浸漬されて搬送されている電位測定用導電箔Ａと電極３２との間に電源装置４１を接続して、電位測定用導電箔Ａに対して電解エッチングを行うとともに、電解エッチングが行われている間の電位測定用導電箔Ａの電位を測定する。次いで、規準電位測定ステップＳ１で測定された電位測定用導電箔Ａの電位の情報である規準電位の情報を、情報記憶装置４４により記憶する（規準電位記憶ステップＳ２）。
【００３３】
第２電極箔製造ステップでは、まず、所望の構造を有するピットを形成すべき導電箔Ｂに対して電解エッチングを行うにあたって、電解エッチングに用いる電解セル３０Ｂを、複数種の電解セルの中から決定し（電解セル決定ステップＳ３）、次いで、電解エッチングに用いる電解セル３０Ｂに応じた制御板３３Ｂを選定して、その制御板３３Ｂを電解セル３０Ｂ内の電極３２の表面に配置する（制御板選定ステップＳ４）。電解セル３０Ａ内の電位分布と同様の電位分布を電解セル３０Ｂで実現するための制御板３３Ｂの選定は、電解セル決定ステップＳ３で決定した電解セル３０Ｂの構造と、後述する電解エッチングステップＳ５における導電箔１１の搬送速度とに基づいて行う。
【００３４】
そして、第２の電極箔製造装置１Ｂを用いて所望の構造を有するピットが導電箔Ｂに形成されるように電解エッチングを行う（電解エッチングステップＳ５）。すなわち、電解エッチングステップＳ５では、エッチング液Ｌ中において導電箔Ｂを搬送するとともに、電解セル３０Ｂ内のエッチング液Ｌに浸漬されて搬送されている導電箔Ｂと電極３２との間に電源装置４１を接続して、導電箔Ｂに対して電解エッチングを行う。このとき、導電箔Ｂの電位を規準電位測定ステップＳ１で測定された規準電位に近づけるように電源装置４１の出力を調整するとともに、制御板３３Ｂを用いて導電箔Ｂの電位の波形を規準電位の波形に近づける。
【００３５】
以上のように、導電箔Ｂから電極箔Ｆを製造する方法で用いる電解セル３０Ｂは、電位測定用導電箔Ａから電極箔Ｆを製造する方法で用いる電解セル３０Ａと構造が異なるものの、電解セル３０Ｂの構造に応じた制御板３３Ｂにより、導電箔Ｂの電位の波形（時間的変化）を、所望の構造を有するピットが形成された電位測定用導電箔Ａの電位の波形（時間的変化）と揃えることができる。したがって、電解セル３０Ａを電解セル３０Ｂに取り換えて電解エッチングを行う場合であっても、電位測定用導電箔Ａに形成されたピットと同様のピットを導電箔Ｂに形成することができ、所望の構造を有するピットを導電箔１１に形成することが可能である。
【００３６】
［ピットの形成実験］
次に、導電箔Ｂの電位の波形を規準電位の波形に近づけることによって、導電箔Ｂに形成されたピットの構造が、電位測定用導電箔Ａに形成されたピットの構造と略同じになることを証明する実験結果について説明する。なお、本実験においては、電解エッチングを行っている間に、エッチング液Ｌ中において導電箔１１を搬送せず、電源装置４１の出力電圧または出力電流を時間的に変動させる制御を行った。また、導電箔１１の各位置での電位を一様にするために、制御板３３Ａ，３３Ｂを用いずに電解エッチングを行った。
【００３７】
（規準となる電極箔の製造）
電解セル３０Ａを用いて、所望の構造を有するピットが形成されるように、導電箔１１に対して電解エッチングを行い、規準となる電極箔Ｆを製造した。この際、電位センサ４３Ａのプローブとして機能するルギン管を電位測定用導電箔Ａから２ｍｍ離れた位置に設けて、ポテンショスタットにより構成された電位測定装置４３を用いて、銀塩化銀参照電極を基準として作用電極である導電箔１１の電位を測定した。さらに、導電箔１１、ローラー２１、電源装置４１、および電極３２により構成される電気回路上に複数の電流センサとしてシャント抵抗（図示略）を設けて、このシャント抵抗での電圧降下を計測することで、導電箔１１に流れる電流を測定した。
【００３８】
図３（Ａ）は、電解セル３０Ａを用いてピットを形成した際の電位および電流の測定結果を示しており、導電箔１１の電位の波形と、導電箔１１に流れる電流の波形を示している。グラフの横軸は、導電箔１１の電解エッチング開始からの経過時間を示している。導電箔１１に所望のピットを形成するために、図３（Ａ）に示すように、電源装置４１の出力を制御することで、電解エッチングの開始初期において導電箔１１に大きな電位を印加した。これにより導電箔１１に形成されたピットの形態を、図３（Ｂ）に示す。このピットの形態を測定したところ、ピット径は約０．６９μｍであり、ピット長は約４７μｍであり、導電箔１１の表面におけるピット密度は約５．６×１０６個／ｃｍ２であった。
【００３９】
（実験Ａ）
次いで、電解セル３０Ｂを用いて、図３（Ａ）に示す電位波形が得られるように電源装置４１の出力を変動させて導電箔１１に電解エッチングを行い、電極箔Ｆを製造した。また、規準となる電極箔Ｆの製造時と同様にして、導電箔１１の電位および導電箔１１に流れる電流を測定した。
【００４０】
図４（Ａ）は、本実験Ａに係る電極箔Ｆの製造時における電位および電流の測定結果を示しており、図３（Ａ）と同様に、導電箔１１の電位の波形と、導電箔１１に流れた電流の波形を示している。図３（Ａ）および図４（Ａ）に示すように、本実験Ａにおける導電箔１１の電位波形は、規準となる電極箔Ｆの製造時における導電箔１１の電位波形と略同じ形状であるが、電解セル３０Ａ，３０Ｂの構造が異なるため、導電箔１１の電流波形については大きく異なっている。本実験Ａにより導電箔１１に形成されたピットの形態を、図４（Ｂ）に示す。この導電箔１１に形成されたピットの形態を測定したところ、ピット径は約０．７８μｍであり、ピット長は約４４μｍであり、導電箔１１の表面におけるピット密度は約５．６×１０６個／ｃｍ２であった。
【００４１】
規準となる電極箔Ｆおよび実験Ａに係る電極箔Ｆの製造時に導電箔１１に形成されたピットを比較すると、ピット径、ピット長、および、ピット密度について大きな差異はない。したがって、形状の異なる複数種の電解セル３０Ａ，３０Ｂのいずれかを用いて導電箔１１に対して電解エッチングを行う場合であっても、導電箔１１の電位の波形を揃えることで、導電箔１１に形成されるピットの形態（ピット径、ピット長、ピット密度）が揃うことが分かる。
【００４２】
（実験Ｂ）
電解セル３０Ｂを用いて、図３（Ａ）に示す電流波形が得られるように電源装置４１の出力を変動させて導電箔１１に電解エッチングを行い、電極箔Ｆを製造した。また、規準となる電極箔Ｆの製造時と同様にして、導電箔１１の電位および導電箔１１に流れる電流を測定した。
【００４３】
図５（Ａ）は、本実験Ｂに係る電極箔Ｆの製造時における電位および電流の測定結果を示しており、図３（Ａ）と同様に、導電箔１１の電位の波形と、導電箔１１に流れた電流の波形を示している。図３（Ａ）および図５（Ａ）に示すように、本実験Ｂにおける導電箔１１の電流波形は、規準となる電極箔Ｆの製造時における導電箔１１の電流波形と略同じ形状であるが、導電箔１１の電位波形については大きく異なっている。本実験Ｂにより導電箔１１に形成されたピットの形態を、図５（Ｂ）に示す。この導電箔１１に形成されたピットの形態を測定したところ、ピット径は約１．０２μｍであり、ピット長は約２７μｍであり、導電箔１１の表面におけるピット密度は約１．５×１０６個／ｃｍ２であった。
【００４４】
規準となる電極箔Ｆおよび実験Ｂに係る電極箔Ｆの製造時に導電箔１１に形成されたピットを比較すると、ピット径、ピット長、および、ピット密度について大きな差異がある。したがって、導電箔１１に流れる電流の波形を揃えても、導電箔１１の電位の波形が異なることによって、導電箔１１に形成されるピットの形態が揃わないことが分かる。
【００４５】
以上のように、異なる構造の電解セル３０Ａ，３０Ｂを用いて導電箔１１にピットを形成する場合に、導電箔１１の電位波形を同じ形状とすることで、略同じ構造のピットを導電箔１１に形成することができる。電解エッチングを行っている間に、エッチング液Ｌ中において導電箔１１を搬送する場合には、電源装置４１の出力を時間的に変動させず一定にして、制御板３３Ａ，３３Ｂを用いて導電箔１１の電位を局所的に制御することにより、導電箔１１の電位波形を同じ形状とすることができる。
【００４６】
本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、上記構成を適宜変更することもできる。例えば、上記実施形態を、以下のように変更して実施してもよく、以下の変更を組み合わせて実施してもよい。
【００４７】
電解セル３０Ａ内の電位分布と電解セル３０Ｂ内の電位分布とを同じにすることができるのであれば、制御板３３Ｂの構成を適宜変更してもよい。例えば、制御板３３Ｂに形成されている開口の形状および大きさを一様とし、制御板３３Ｂの厚みを変化させたり制御板３３Ｂの配置態様を変更したりすることで、電解セル３０Ａ，３０Ｂ内の電位分布を同じようにしてもよい。
【００４８】
図６に示すように、第２の電極箔製造装置１Ｂは、搬送中の導電箔１１の電位を制御するための電位制御手段として、制御板３３Ｂ（図１参照）に代えて、複数の電極３２Ａ〜３２Ｃを備えていてもよい。複数の電極３２Ａ〜３２Ｃは、エッチング液Ｌ中における導電箔１１の搬送方向に沿って並べて設けられるとともに、互いに独立して電源装置４１Ａ〜４１Ｃに接続されている。電源装置４１Ａ〜４１Ｃのプラス端子は、ローラー２１を介して導電箔１１に電気的に接続され、電源装置４１Ａ〜４１Ｃのマイナス端子は、電極３２Ａ〜３２Ｃに電気的に接続されており。電源装置４１Ａ〜４１Ｃの出力電圧または出力電流は個別に設定することができる。すなわち、電解エッチングステップＳ５において、複数の電極３２Ａ〜３２Ｃを導電箔１１の電位を制御するための電位制御手段として用いてもよい。なお、図３（Ａ）に示す電位波形を得るために、複数の電極３２Ａ〜３２Ｃのうち、エッチング液Ｌの液面に近い電極３２Ａと導電箔１１との電位差は、他の電極３２Ｂ，３２Ｃと導電箔１１との電位差に比べて高いことが好ましい。
【００４９】
複数の電位センサ４３Ａを用いて導電箔１１の電位を測定しなくてもよい。例えば、１つの電位センサ４３Ａを導電箔１１に対向するように設けて、この電位センサ４３Ａを導電箔１１の搬送方向に沿って移動可能に構成することで、任意の位置での電位の測定を可能とすることもできる。
【００５０】
第１の電極箔製造装置１Ａにおいて、制御板３３Ａを省略してもよい。すなわち、第１電極箔製造ステップにおいては、制御板３３Ａをエッチング液Ｌ中に設けることなく電解エッチングを行ってもよい。
【００５１】
電解セル３０Ａ，３０Ｂは、電位制御手段により電解セル３０Ａ内の電位分布と電解セル３０Ｂ内の電位分布とを同じにすることができるのであれば、それらの構造は特に限定されない。例えば、電解セル３０Ｂは、電流遮蔽部３１ａが設けられた形状でなくてもよい。また、エッチング液Ｌ中の一対の電極３２は、炭素により形成されているカーボン電極を用いたが、電極材質はこれに限定されるものではない。
【００５２】
情報記憶装置４４は、管理者が電位の測定結果を情報記憶装置４４に入力することで、規準電位の情報を記憶するように構成してもよい。すなわち、規準電位の情報が、管理者の入力操作に基づいて情報記憶装置４４に記憶されてもよい。
【符号の説明】
【００５３】
１Ａ  第１の電極箔製造装置
１Ｂ  第２の電極箔製造装置
１０Ａ，１０Ｂ  ロール体
１１  導電箔
２１，２２，２３，２４  ローラー
３０Ａ，３０Ｂ  電解セル
３１Ａ，３１Ｂ  エッチング槽
３１ａ  電流遮蔽部
３２  電極
３２Ａ，３２Ｂ，３２Ｃ  電極（電位制御手段）
３３Ａ，３３Ｂ  制御板（電位制御手段）
４１  電源装置
４３  電位測定装置
４３Ａ  電位センサ
４４  情報記憶装置
Ｌ  エッチング液
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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