(57)【要約】【課題】複数の画素の集合からなるグループごとにインクドットの形成を行う記録において、記録媒体の搬送誤差や記録ヘッドの走査位置の誤差などに起因したスジを抑制することを可能とする。【解決手段】記録ヘッドの複数回の走査で記録媒体の単位領域の記録を完成するマルチパス記録を行うインクジェット記録装置は、記録を許容する記録許容画素が隣接して複数配置されたクラスタを複数配置したマスクパターンを用いて前記複数回の走査それぞれの記録データを生成するデータ生成部、を具え、マスクパターンは、第１走査に対応する第１クラスタと、第１走査と異なる第２走査に対応する第２クラスタと、が記録媒体の搬送方向または記録ヘッドの走査方向において一部同士が重複するようにして隣接配置され、第１、第２クラスタそれぞれの重複した領域の記録許容画素の比率が、第１、第２クラスタそれぞれの重複した領域以外の領域の記録許容画素の比率より低い。【選択図】図１１
2018111243.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録ヘッドの複数回の走査で記録媒体の単位領域の記録を完成するマルチパス記録を行うインクジェット記録装置であって、
記録を許容する記録許容画素が隣接して複数配置されたクラスタを複数配置したマスクパターンを用いて前記複数回の走査それぞれの記録データを生成するデータ生成手段、を具え、
前記マスクパターンは、第１走査に対応する第１クラスタと、前記第１走査と異なる第２走査に対応する第２クラスタと、が記録媒体の搬送方向または記録ヘッドの走査方向において一部同士が重複するようにして隣接配置され、
前記第１、第２クラスタそれぞれの前記重複した領域の記録許容画素の比率が、前記第１、第２クラスタそれぞれの前記重複した領域以外の領域の記録許容画素の比率より低いことを特徴とするインクジェット記録装置。
【請求項２】
前記第１、第２クラスタの、前記重複した領域の記録許容画素の比率の合計が１００％より大きいことを特徴とする請求項１に記載のインクジェット記録装置。
【請求項３】
前記第１、第２クラスタそれぞれの走査方向における前記重複した領域の幅は、前記第１、第２クラスタそれぞれの搬送方向における前記重複した領域の幅より大きいことを特徴とする請求項１または２に記載のインクジェット記録装置。
【請求項４】
前記第１、第２走査の間に行われる走査回数の差が大きいほど、当該第１、第２クラスタそれぞれの重複した領域の幅が大きいことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のインクジェット記録装置。
【請求項５】
記録に用いるインクの明度が高いほど、前記第１、第２クラスタの前記重複した領域の幅を狭くすることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載のインクジェット記録装置。
【請求項６】
記録に用いるインクの記録媒体に対する接触角が小さいほど、前記第１、第２クラスタの前記重複した領域の幅を狭くすることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載のインクジェット記録装置。
【請求項７】
記録する画像の濃度が低いほど、前記第１、第２クラスタの前記重複した領域の幅を狭くすることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載のインクジェット記録装置。
【請求項８】
前記単位領域の記録を完成するための走査の回数が少ないほど、前記第１、第２クラスタの前記重複した領域の幅を狭くすることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載のインクジェット記録装置。
【請求項９】
前記第１、第２クラスタのそれぞれは、前記重複した領域から前記重複した領域以外の領域にかけて、記録許容画素の比率が漸次的に変化するものであることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載のインクジェット記録装置。
【請求項１０】
前記第１、第２クラスタのそれぞれは、当該重複した領域において、境界形状が波形となることを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載のインクジェット記録装置。
【請求項１１】
前記第１、第２クラスタの前記重複した領域は、前記第１、第２走査と異なる第３の走査に対応する第３クラスタが更に配置されるものであることを特徴とする請求項１に記載のインクジェット記録装置。
【請求項１２】
前記第１、第２、第３クラスタの記録許容画素が重なるよう配置されるものであることを特徴とする請求項１1に記載のインクジェット記録装置。
【請求項１３】
前記重複した領域において前記第１クラスタの記録許容画素の数が前記第２クラスタの記録許容画素の数より多いものであることを特徴とする請求項１から１２のいずれか１項に記載のインクジェット記録装置。
【請求項１４】
搬送方向における前記単位領域の境界に対応する前記重複した領域の幅は、前記単位領域の境界に対応していない前記重複した領域の幅より広いことを特徴とする請求項１に記載のインクジェット記録装置。
【請求項１５】
前記重複した領域に対応する記録領域の記録を、前記重複した領域以外の領域に対応する記録領域を記録するインクドットより小さいインクドットで記録することを特徴とする請求項１に記載のインクジェット記録装置。
【請求項１６】
前記複数回の走査で記録されるときの前記記録許容画素に対応するドットの配置は、前記クラスタにおける前記重複した領域および前記重複した領域以外の領域の記録許容画素が、異なる走査で記録を許容する複数の記録許容画素で構成されることを特徴とする請求項１に記載のインクジェット記録装置。
【請求項１７】
記録ヘッドの複数回の走査で記録媒体の単位領域の記録を完成するマルチパス記録を行うためのインクジェット記録方法であって、
記録を許容する記録許容画素が隣接して複数配置されたクラスタを複数配置したマスクパターンを用いて前記複数回の走査それぞれの記録データを生成するデータ生成工程、を有し、
前記マスクパターンは、第１走査に対応する第１クラスタと、前記第１走査と異なる第２走査に対応する第２クラスタと、が記録媒体の搬送方向または記録ヘッドの走査方向において一部同士が重複するようにして隣接配置され、
前記第１、第２クラスタそれぞれの前記重複した領域の記録許容画素の比率が、前記第１、第２クラスタそれぞれの前記重複した領域以外の領域の記録許容画素の比率より低いことを特徴とするインクジェット記録方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インクジェット記録装置およびインクジェット記録方法に関し、詳しくは、複数の画素の集合からなるグループごとにインクドットの形成を行う記録技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種の技術として、いわゆるクラスターマスクを用いた処理が知られている。特許文献１には、マルチパス記録を行う場合に、ｍ×ｎの画素グループを単位とし、この画素グループが隣接しないように複数配置されるとともに、これら複数の画素グループが互いに補完の関係となるように配置されたマスクパターンを用いて各走査の記録を行うことが記載されている。このようなマスクパターンを用いることにより、例えば、マルチパス記録においてインク滲みに起因した色ムラや濃度ムラを抑制することが可能となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平６−２２１０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、記録装置において何らかの原因による、記録媒体の搬送誤差や記録ヘッドの走査位置の誤差が生じている場合、上述のクラスターマスクを用いた記録を行うと、異なる走査で記録される、隣接する画素グループ間で隙間を生じることがある。その結果、隙間が記録画像においてスジとして視認される。
【０００５】
本発明は、複数の画素の集合からなるグループごとにインクドットの形成を行う記録において、記録媒体の搬送誤差や記録ヘッドの走査位置の誤差などに起因したスジを抑制することが可能なインクジェット記録装置およびインクジェット記録方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために本発明は、記録ヘッドの複数回の走査で記録媒体の単位領域の記録を完成するマルチパス記録を行うインクジェット記録装置であって、記録を許容する記録許容画素が隣接して複数配置されたクラスタを複数配置したマスクパターンを用いて前記複数回の走査それぞれの記録データを生成するデータ生成手段、を具え、前記マスクパターンは、第１走査に対応する第１クラスタと、前記第１走査と異なる第２走査に対応する第２クラスタと、が記録媒体の搬送方向または記録ヘッドの走査方向において一部同士が重複するようにして隣接配置され、前記第１、第２クラスタそれぞれの前記重複した領域の記録許容画素の比率が、前記第１、第２クラスタそれぞれの前記重複した領域以外の領域の記録許容画素の比率より低いことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
以上の構成によれば、複数の画素の集合からなるグループごとにインクドットの形成を行う記録において、記録媒体の搬送誤差や記録ヘッドの走査位置の誤差などに起因したスジを抑制することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の一実施形態に係るインクジェット記録装置の主要部の構成を示す斜視図である。
【図２】図１に示した記録装置における記録ヘッド７のノズルの配列を模式的に示す平面図である。
【図３】図１に示した記録装置を含む記録システムの制御構成を示すブロック図である。
【図４】図３に示した制御構成によって実施される記録データ生成処理を説明する図である。
【図５】一般的なマスクとそれを用いたマルチパス記録処理を説明する図である。
【図６】比較例に係るクラスターマスクとそれを用いたマルチパス記録を説明する図である。
【図７】（ａ）〜（ｃ）は、本発明の課題を説明する図である。
【図８】本発明の一実施形態の原理を説明する図である。
【図９】本発明の一実施形態の原理を説明する図である。
【図１０】本発明の一実施形態に係るクラスタマスクのクラスタパターンを示す図である。
【図１１】（ａ）〜（ｃ）は、図１０に示す一実施形態のマスクを用いて４パス記録を行う場合の、比較例に係る図７と同様の図である。
【図１２】図１０に示した第１実施形態に係るクラスタパターンを含むクラスタマスク示す図である。
【図１３】本発明の第２実施形態に係るマスクにおけるクラスタパターンを示す図である。
【図１４】（ａ）および（ｂ）は、図１３に示すパターンを用いたときの、４回の走査（１パス目〜４パス目）に対応する４つのクラスタパターンが隣接した図である。
【図１５】本発明の第３実施形態に係るクラスタパターンを示す図である。
【図１６】本発明の第４実施形態に係るクラスタパターンを説明する図である。
【図１７】本発明の一実施形態に係るクラスタパターンにおける周囲領域の幅を決める要因を説明する図である。
【図１８】本発明の第９実施形態に係るクラスタマスクにおけるクラスタパターンを説明する図である。
【図１９】（ａ）〜（ｃ）は、本発明の第１０実施形態に係るクラスタパターンを示す図である。
【図２０】本発明の第１１実施形態に係るクラスタパターンを説明する図である。
【図２１】（ａ）および（ｂ）は、図２０に示したクラスタパターンによる効果を説明する図である。
【図２２】本発明の第１２実施形態に係るマスクにおけるクラスタパターンを説明する図である。
【図２３】本発明の第１３実施形態に係るマスクにおけるクラスタパターンを説明する図である。
【図２４】本発明の第１４実施形態に係るマスクにおけるクラスタパターンを説明する図である。
【図２５】本発明の第１５実施形態に係るマスクにおけるクラスタパターンを説明する図である。
【図２６】本発明の第１６実施形態に係るマスクにおけるクラスタパターンを説明する図である。
【図２７】本発明の第１６実施形態で用いるマスクパターンを示す図である。
【図２８】本発明の第１７実施形態に係るインクジェット記録装置の主要部の構成を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、図面を参照して本発明の実施形態を詳細に説明する。
【００１０】
＜装置構成＞
図１は、本発明の一実施形態に係るインクジェット記録装置の主要部の構成を示す斜視図である。本実施形態の記録装置には筐体１が設けられており、この筐体１上にプラテン２が設けられている。また、筐体１の長手方向に沿って設置されたメインレール５に、主走査方向に往復移動するキャリッジ６が支持されている。キャリッジ６は、インクジェット方式の記録ヘッド７を搭載しており、記録ヘッド７は、本実施形態では発熱素子を用いた方式によってインクを吐出する。なお、この形態に限定されず、ピエゾ素子を用いた方式など、種々のインクジェット方式を用いることができる。キャリッジモータ８は、キャリッジ６を主走査方向に移動させるための駆動源であり、その回転駆動力はベルト９でキャリッジ６に伝達される。キャリッジ６の主走査方向における位置は、リニアエンコーダで検出してモニタすることができる。リニアエンコーダは、筐体１の長手方向に沿って設けられた直線状のエンコーダパターン１０と、それを光学的、磁気的あるいは機械的に読み取る、キャリッジ１に搭載された読取部（不図示）を備える。
【００１１】
記録媒体３は、給紙スプール１８に備えられたロール状の給紙媒体２３から給紙される。給紙スプール１８は記録媒体３にブレーキ力を作用させるためのトルクリミッタ１９を備える。一方、筐体１内にはシート状の記録媒体３をプラテン２に吸着させるための吸引機構４が設けられている。従って、記録媒体３はプラテン２に吸着されながらその上を、キャリッジ６の主走査方向と直交する副走査方向（図中の矢印方向）に搬送される。この搬送は、搬送ローラ１１、ピンチローラ１６、ベルト１２、搬送モータ１３からなる駆動機構により行われる。搬送ローラ１１の駆動状態（回転量、回転速度）は、ロータリーエンコーダで検出してモニタすることができる。ロータリーエンコーダは、搬送ローラ１１と共に回転する円周状のエンコーダパターン１４と、それを光学的、磁気的あるいは機械的に読み取る読取部１５とを備える。記録媒体３は、記録ヘッド７により記録された後、巻取りスプール２０により巻取られ、ロール状の巻取り媒体２４を形作る。巻取りスプール２０は巻取りモータ２１により回転し、記録媒体３に巻取りテンションを作用させるためのトルクリミッタ２２を備える。
【００１２】
＜ヘッド構成＞
図２は、図１に示した記録装置における記録ヘッド７のノズルの配列を模式的に示す平面図である。記録ヘッドには、ブラック（Ｋ）、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）のインクごとに、インクを吐出するための複数のノズルｎが設けられている。それぞれのノズルｎには、これを一端の開口とするインク流路（不図示）が連なっており、また、インク流路内には、インクを局所的に加熱して膜沸騰を生じさせ、その発泡エネルギでインクを吐出させる電気熱変換体が設けられている。各色インクのノズル列は、それぞれ６００ｄｐｉ相当の間隔で副走査方向に沿って６４０個のノズルが配列する２つのノズル列が、相互に上記間隔の半分だけずれて配列したものである。これにより、各色インクのノズル列は、全体として、副走査方向において１２００ｄｐｉの密度で配列された１２８０個のノズルから構成されることになる。
【００１３】
以上のノズル配列を有する記録ヘッド７は、往方向およびその逆の復方向（本明細書では、これら２つの方向を主走査方向といる）に走査して、記録媒体３にインクを吐出することにより、記録を行うことができる。
【００１４】
＜制御系構成＞
図３は、図１に示した記録装置を含む記録システムの構成を示すブロック図である。本実施形態の記録装置は、ホスト装置であるパーソナルコンピュータ（ＰＣ）３１５からの記録データに従って記録を行う。記録装置における主制御部３０１は、記録装置における記録実行のための演算、選択、判別、制御などの処理動作を実行するＣＰＵ３０２と、ＣＰＵ３０２によって実行すべき制御プログラム等を格納するＲＯＭ３０３と、記録データのバッファ等として用いられるＲＡＭ３０４、入出力ポート３０５等を備えている。そして、入出力ポート３０５には、搬送モータ（ＬＦモータ）１３、キャリッジモータ（ＣＲモータ）８、記録ヘッド７および切断装置１３におけるアクチュエータなどの各駆動回路３０６、３０７、３０８、３０９が接続されている。さらに、主制御部３０１はインターフェース回路３１４を介してホストＰＣ３１５に接続されている。以上の構成において、記録データに基づいて、入出力ポート３０５を介して各モータや記録ヘッドなどの駆動を制御し、記録動作を行う。
【００１５】
＜記録データ生成処理＞
図４は、図３に示したシステムにおいて実施される記録データ生成処理を説明する図である。
【００１６】
先ず、ホストＰＣ３１５において、アプリケーションで作成された画像を入力する（４０１）。そして、その入力画像データをレンダリング処理し、記録用多値ＲＧＢデータとして記録装置に出力する（４０２）。また、ホストＰＣ３１５では、上記の処理とともに、入力画像データから属性判別処理を行い、エリア毎に属性情報を作成し、プリンタに出力する。
【００１７】
主制御部１（図３）が上記記録データを受信すると、ＣＰＵ３０２は、ＲＯＭ３０３に格納されたプログラムおよびＲＡＭ４に格納されたデータなどに基づき、色変換処理４０３、多値量子化処理４０４、インデックス展開処理４０５を順次に行う。これにより、２値のＣＭＹＫデータが作成される。このＣＭＹＫデータそれぞれに対して、マスクを用いた間引き処理が行われる（４０６）。
【００１８】
図５は、一般的なマスクとそれを用いたマルチパス記録処理を説明する図である。図５において、説明および図示の簡略化のため記録ヘッド７は、１６個のノズルを有するものとして示されている。マスク（マスクパターン）５０２は、この１６個のノズルに対応して、ノズルの配列方向において１６個のマスク画素を配列するサイズを有する。マスク５０２の上記配列方向と直交する方向のサイズは、４個のマスク画素を配列するサイズである。この１６×４個のマスク画素のサイズのマスク５０２は、上記直交する方向において繰り返して用いられる。なお、マスクの上記直交方向のサイズは、図示の例では４マスク画素のサイズであるが、マスク処理や装置の仕様に応じて定めることができる。マスク５０２において、「黒」で示すマスク画素は、記録データにおいて、このマスク画素に対応する画素のデータによる記録を許容する画素（記録許容画素）であり、「白」で示すマスク画素は、記録データにおいて、このマスク画素に対応する画素のデータによる記録を許容しない画素（非記録許容画素）である。図示の例は、４パスのマルチパスに用いられるマスクを示しており、この４パスに応じて、マスク５０２は、ノズルの配列方向において、４つの領域に分割される。４つの領域の記録許容画素は相互に補完の関係にあり、４つの領域の記録許容画素を重ね合わせると、４×４画素の単位領域の記録を完成することができる。
【００１９】
記録媒体５０３は、記録ヘッド７の１回の走査（パス）ごとに、ノズル列の４つのノズルの配列長に対応しフィード量分だけ搬送される。図に示す例は、記録データがいわゆるベタ画像に対応するもので、記録データの総ての画素がインクを吐出することを示す「１」を有する例である。この場合、記録媒体５０３において、「黒」で示す画素はインクが吐出されて、ドットが形成されることを示している。記録ヘッド７の走査とフィード量分の記録媒体搬送とを繰り返すことにより、記録媒体の４×４画素の単位領域に順次対応するノズルからのインク吐出によってインクドットが形成されて行く。そして、４回の走査（パス）で、単位領域の記録が完成する。
【００２０】
図６は、比較例に係るクラスターマスクとそれを用いたマルチパス記録を説明する図であり、図５と同様の図である。なお、図６に示す例は、ノズル列のノズル数は６４個であり、これに応じて単位領域に対応したノズル数が１６個として示している。クラスターマスク６０２が、図５に示した一般的なマスクと異なる点は、記録許容画素が８×８画素のマスク画素の集合からなるグループ６０４として規定され、かつこのマスク許容画素のグループが隣接しない点である。図６に示す例では、これらのグループ６０４は、吐出項番号が「１」〜「８」、「２５」〜「３２」、「３３」〜「４０」、「５７」〜「６４」のノズルに対応して、それぞれ２ずつ規定されている。これにより、４パスのマルチパス記録では、記録媒体６０３の１パス目に対応する単位領域に、８×８画素の画素集合の２つに記録を行うことができる。以下、順次、２パス目に対応する単位領域に、８×８画素の画素集合の２つが加わり、合計４つの画素集合の記録を行うことができ、４パス目に対応する単位領域で総ての画素集合の記録を行うことができ、記録を完成する。
【００２１】
＜実施形態に係るマスクパターンの説明＞
図７（ａ）〜（ｃ）は、本発明の課題を説明する図である。具体的には、図６に示す例において、記録媒体６０３に１パス目から４パス目で記録された画像の一部を抽出した記録結果の二例（図７（ｂ）および（ｃ））と、その記録データ生成に用いるマスクのクラスタパターン（８×８）を記録位置に対応させて示したもの（図７（ａ））である。
【００２２】
図７（ａ）に示すように、１６×１６画素の単位領域は、マスクにおける１パス目〜４パス目に対応したクラスタパターン（８×８許容画素）が走査方向および搬送方向にそれぞれ隣接するような位置関係で記録される。この場合において、図７（ｂ）は、走査方向および記録媒体の搬送方向それぞれの記録位置にズレがないときの記録結果を示している。これに対し、図７（ｃ）は、搬送誤差などを原因として、搬送方向の記録位置にズレがある場合を示している。このような搬送方向の記録位置ずれがある場合、１パス目のクラスタと、これに搬送方向において隣接する３パス目のクラスタとの間に、隙間Ｓ１を生じる。３パス目と４パス目との間の搬送に同じ量の記録位置ずれがある場合、同様に、３パス目のクラスタと、これに搬送方向において隣接する４パス目のクラスタとの間に、隙間Ｓ２を生じる。なお、図７（ｃ）は、隙間Ｓ１と隙間Ｓ２の搬送方向の位置を同じ位置として表しているが、実際は、それら隙間の幅分、相互に搬送方向にずれている。図６に示す例では、記録媒体６０３に記録される画像では、隙間Ｓ１と隙間Ｓ２との組が走査方向に連続することになるから、ジグザク状の隙間が形成される。その結果、この隙間が白スジと視認されることになる。なお、隙間Ｓ１と隙間Ｓ２とが同じ大きさで無い場合もあるが、本発明はこれによる白スジをも抑制するものである。例えば、記録媒体搬送ごとの搬送誤差の量あるいはその原因が異なる場合には、隙間の大きさは異なる場合がある。
【００２３】
以上のスジの問題に対して、本発明の一実施形態は、隣接するクラスタ間にそれらのクラスタを記録するパスの両方で記録する領域を設け、この周囲領域の記録比率をクラスタ領域（上記周囲領域以外の領域）の記録比率より小さくする。図８および図９は、本発明の一実施形態の原理を説明する図である。
【００２４】
図８示すように、本発明の実施形態は、あるパスで記録されるクラスタである第１の領域と、本来この領域に隣接し、別のパスで記録されるクラスタである第２の領域との間に、第３の記録領域を設ける。そして、図９に示すように、この第３の領域は、第１の領域を記録するパス（走査）と第２の領域を記録するパス（走査）の両方でドット形成（記録）を行う。ここで、第３領域は、各パスで形成されるドットの画素位置が互いに排他の関係で、隣接配置されている。これによって、第３領域の記録濃度を、他の領域との間で良好に維持することが可能となる。
【００２５】
以上の点をクラスタマスクに適用すると、本発明の実施形態のマスクは、第１の領域と第３の領域からなるクラスタのマスク画素と、第２の領域と第３の領域からなるクラスタのマスク画素と、が存在するものである。そして、この第１〜第３領域の関係は、全方向の隣接するクラスタに対して適用される。
【００２６】
（第１実施形態）
図１０は、本発明の第１実施形態に係るマスクのクラスタパターン１００４を示す図である。また、図１１（ａ）〜（ｃ）は、図１０に示した本実施形態のマスクを用いて４パス記録を行う場合の、比較例に係る図７と同様の図である。
【００２７】
図１０に示すように、本実施形態のクラスタマスクにおけるクラスタパターンは、クラスタの周囲が中心部に比べて記録率（マスクに適用した場合、記録許容比率）が少ない形状となる。具体的には、フィード量が１６画素分に対して、本発明の実施形態のクラスタマスクは、搬送方向および走査方向に９画素分のサイズを有する。そして、この９画素分は、図１０に示すように、記録許容比率が１００％の５×５画素分の領域と、その周囲の記録許容比率がより低い（５０％以下）それぞれ２画素分の領域（第３領域）である。そして、図１１（ａ）に示すように、フィード量と画素サイズとの関係から、搬送方向で適用範囲が重複する部分は２画素分となる。また、本実施形態は、各パスに対して、図１０に示した、クラスタパターン１００４が同じ形状のマスクを用い、第３領域において、重複する２つまたは４つ（中央部分）のクラスタパターンの記録許容画素は互いに補完の関係にある。これにより、搬送方向に配列する２つのパスのクラスタパターンを合せたサイズは１６画素分となり（走査方向も同じ）、記録ヘッドのノズル列に対して、図６に示した比較例に係るクラスターマスクと同じ用い方をすることができる。
【００２８】
図１１（ｂ）は、図１１（ａ）に示すようにマスクが適用されて、記録許容画素の配置と同じ位置にインクドットが形成され、その際に記録位置ずれがない場合を示している。これに対し、図１１（ｃ）は、図７（ｃ）に示したような搬送方向における記録位置ずれがある場合に、本発明の実施形態のクラスタマスクを適用してインクドットを形成した結果を示している。記録位置ずれによって、１パス目と２パス目との間と、３パス目と４パス目との間でドットのズレが生じても、図１１（ｃ）に示すように、それぞれのパス間で補完関係にあった、一方または両方のドットを上記ズレによって隙間が生じ得る箇所に形成することができる。これにより、完全にドットが形成されない、図７（ｃ）に示した隙間Ｓ１、Ｓ２の領域が生じることを防止することができる。その結果、隙間に起因した白スジを低減することが可能となる。
【００２９】
図１２は、図１０に示した第１実施形態に係るクラスタパターンを含むクラスタマスク１００２を示す図であり、図６と同様の図である。図６に示す比較例と同様、クラスタパターンであるグループ１００４は、ノズル番号が「１」〜「８」、「２５」〜「３２」、「３３」〜「４０」、「５７」〜「６４」のノズルに対応して、それぞれ２ずつ規定されている。これにより、フィード量が１６画素分の４パスのマルチパス記録では、記録媒体１００３の１パス目に対応する単位領域に、９×９画素の画素集合の２つに記録を行うことができる。以下、順次、２パス目に対応する単位領域に、９×９画素の画素集合の２つが加わり、合計４つの画素集合の記録を行うことができ、４パス目に対応する単位領域で総ての画素集合の記録を行うことができ、記録を完成する。この記録が完成によって、記録位置ずれが無い場合は、図１１（ｂ）に示したような、１パス目〜４パス目によるドット形成が行われる。なお、図１１（ｂ）に示す第３の領域を２つに分ける中央のラインが、図１２における、フィード量に対応した単位領域の搬送方向における中心となる線に重なるようにそれぞれのグループ１００４が位置する。
【００３０】
（第２実施形態）
本発明の第２実施形態は、マスクにおけるクラスタパターンの周囲の記録許容比率が５０％よりも高く、隣接するクラスタパターンの周囲と組み合わせたときに、重なる記録許容画素が存在する形態に関する。
【００３１】
図１３は、本発明の第２実施形態に係るマスクにおけるクラスタパターンを示す図である。本実施形態は、図１３に示すとおり、記録許容画素の比率が１００％である中央部のクラスタ部分の周囲では、記録許容画素の比率が５０より高いパターンである。図１４（ａ）および（ｂ）は、第１実施形態に係る図１１（ａ）と同様の図であり、４回の走査（１パス目〜４パス目）に対応する４つのクラスタパターンが隣接した図である。なお、図１３および図１４（ａ）および（ｂ）に示すクラスタパターンは、第１実施形態と異なり、そのサイズが１０×１０画素の例である。この場合、図１２に示したクラスタマスクと記録ヘッドのノズルの数及びフィード量との関係は、上記１０×１０画素のサイズに対応して定められることはもちろんである。この点については、後述される実施形態についても同様である。
【００３２】
図１４（ａ）に示すように、１パス目〜４パス目のクラスタパターンに対応して記録される領域では、それぞれのクラスタの周囲である、互いに重複する領域に記録許容画素が重なる部分が存在する。このような記録がなされる場合に、記録位置ずれがあるときは、図１４（ｂ）に示すように、位置ズレがないときに重なっていたい記録許容画素（図１４（ａ））、すなわち形成されるドットが、重ならずにそれぞれが現れる。これにより、記録位置ずれによって生じ得る隙間の面積、つまり記録媒体の白地が露出する面積を、さらに低減することができる。
【００３３】
（第３実施形態）
図１５は、本発明の第３実施形態に係るクラスタパターンを示す図である。本実施形態のクラスタパターンは、同図示すように、走査方向と搬送方向でクラスタの周囲の領域の幅が異なる。具体的には、クラスタの周囲領域について、走査方向の幅を搬送方向の幅より大きくする。これにより、例えば、マルチパス記録における記録ヘッドの往復走査で記録を行う場合の往走査と復走査の間に記録位置ズレによる白スジを低減することができる。すなわち、マルチパス記録では、往復走査における偶数パス（例えば、復方向走査（パス））の記録画像と奇数パス（往方向走査（パス））の記録画像が走査方向にずれる往復ズレが比較的大きな場合がある。そのため、本実施形態では、クラスタパターンにおけるクラスタの周囲領域の幅を比較的大きなものとする。
【００３４】
ここで、往復ズレと記録媒体の搬送ズレは、記録装置の仕様によってその程度が大きく異なる。このため、クラスタの周囲の幅もそれに対応させた大きさとする。また、往復ズレが搬送ズレよりも大きな値となることが多いことから、図示の例では、走査方向のクラスタの周囲の幅を搬送方向の幅よりより大きくしている。
【００３５】
（第４実施形態）
図１６は、本発明の第４実施形態に係るクラスタパターンを説明する図である。本実施形態は、１パス目〜４パス目のクラスタパターンに対応して記録される領域において搬送方向において隣接するクラスタパターンにおける周囲領域の幅を、走査の間隔に応じて異ならせる。具体的には、本実施形態のクラスタマスクは、１パス目〜４パス目それぞれのクラスタパターンによって記録された画像では、搬送方向において１パス目と４パス目のクラスタパターンが対応し、また、２パス目と３パス目のクラスタパターンが対応するものである。この場合、１パス目と４パス目の記録の間には３回分のパス数差がある。一方で、２パス目と３パス目の記録の間は１回分のパス数差である。ここで、記録媒体の搬送誤差に起因した記録位置ズレ（搬送ズレ）は、記録媒体が走査毎に２０ミクロンだけ所定の搬送量に対して多く送る、記録位置ズレがある場合、１回分のパス数差でクラスタパターンに対応した記録領域の境界は２０ミクロン離れることになる。他方、３回分のパス数差のクラスタパターンに対応した記録領域の境界は６０ミクロン離れることになる。このように、隣接するクラスタパターンのパス数の差に応じて隙間の大きさが異なる場合がある。
【００３６】
そこで、本実施形態では、より大きなスジができやすいパス数差が大きい領域に対応するクラスタパターンの周囲の領域の幅を大きくする。これにより、パス数差に応じた必要最低限のクラスタパターンの周囲領域の幅を設定することができ、クラスタとしての効果を最大限に維持しながら、十分なズレへの耐性を持たせることができる。
【００３７】
（第５実施形態）
本発明の第５実施形態は、記録に用いるインクの色によって、クラスタパターンの周囲領域の幅を異ならせる形態に関するものである。マルチパス記録で用いるマスクは、インクの色ごとに異なるパターンのものが用意されることがあるが、本実施形態では、それぞれのマスクにおけるクラスタパターンの周囲領域の幅を、そのマスクに対応するインクの色に応じて異ならせる。一例として、図１７に示すように、記録媒体に記録したときの明度が高い色のインクに用いるマスクでは、クラスタパターンの周囲領域の幅を比較的狭くする。一方、上記明度が低い色のインクに用いるマスクでは、クラスタパターンの周囲領域の幅を比較的広くする。これにより、スジが比較的目立つ、明度の低いインクほど周囲領域の幅をより広くして、記録位置ズレによって隙間が生じ得る箇所に形成されるドットを多くすることができる。
【００３８】
（第６実施形態）
本発明の第６実施形態は、記録に用いる記録媒体の種類に応じてクラスタパターンの周囲領域の幅を異ならせる形態に関するものである。図１７に示されるように、インクの接触角が小さい記録媒体は、インク吸収率が低い媒体である。特に、難吸収または非吸収の記録媒体はインク滴が吸収されずに広がりやすいため、クラスタパターンの周囲領域に記録されるインク滴も広がる。その結果、隣接するクラスタパターンの周囲領域同士（クラスタパターンの一部同士）が重なる領域が多くなり、スジを発生しずらくする。そのため、周囲領域の幅は相対的に狭くする。一方、接触角の比較的大きな記録媒体は、インクはあまり広がらず、隣接するクラスタパターンの周囲領域同士が重なる領域が相対的に小さくなる。そのため、相対的に周囲領域の幅の広いクラスタパターンを用いる。
【００３９】
（第７実施形態）
本発明の第７実施形態は、記録する画像の濃度によって、クラスタパターンの周囲領域の幅を異ならせる形態に関する。図１７に示されるように、記録する画像の濃度が低い場合は、クラスタパターンの周囲領域の幅を狭くする。全体的に色が薄いため、クラスタパターンに対応した隣接領域の間に隙間が生じたとしてもそれによるコントラストは小さく、スジとして認識し難いからである。一方、記録画像の濃度が高い場合は、クラスタパターンの周囲領域の幅を広くする。全体的に色が濃いことから、生じ得る隙間によるコントラストが大きくなってスジが顕著になるためである。
【００４０】
（第８実施形態）
本発明の第８実施形態は、マルチパス記録において単位領域の記録を完成するための走査回数（パス数）に応じて、クラスタパターンの周囲領域の幅を異ならせる形態に関するものである。図１７に示すように、記録を完成するパス数が少ない場合は、周囲領域の幅を相対的に狭くする。パス数が少ない場合、１回のパスで比較的多くのインクドットが記録される。このため、特に、難吸収、非吸収の記録媒体では、インクドットが滲んで広がり易く、隣接するクラスタパターンに対応する領域間で、相互に重なる領域が多くなることから、周囲の幅は相対的に狭くする。一方、パス数が多い記録モードでは、１回のパスで記録するドットの数が少ないことからインクの滲みは少ない。このことから、隣接するクラスタパターンに対応する領域間で重なる領域が相対的に小さくなるため、相対的に周囲領域の幅が広いクラスタパターンを用いる。
【００４１】
（第９実施形態）
本発明の第９実施形態は、クラスタパターンとして、周囲領域から中心にかけて記録許容画素の比率が滑らかに（漸次的に）変化する形態に関するものである。図１８は、本発明の第９実施形態に係るクラスタマスクにおけるクラスタパターンを説明する図である。図１８に示すように、本実施形態のクラスタパターンは、その中心が最も記録許容比率が高く、中心から離れるに従ってゆるやかに記録許容比率が低くなっていく。このようなクラスタパターンを用いることにより、隣接するクラスタパターン間でそれらの境界が明確に認識できなくなる。その結果、記録位置ズレが生じてもクラスタパターンに対応したい領域の境界のスジは視認しずらくなり、スジ耐性を向上させることができる。一方、クラスタパターンにおける周辺部では、記録許容画素が比較的分散していることからクラスタとしての効果が低下しており、クラスタ効果とスジ耐性のバランスを考慮して用いることが望ましい。
【００４２】
（第１０実施形態）
本発明の第１０実施形態は、クラスタパターンとして、周囲領域が波状の形である形態に関する。図１９（ａ）〜（ｃ）は、本発明の第１０実施形態に係るクラスタパターンを示す図である。図１９（ａ）および（ｂ）に示すように、クラスタパターンの周囲領域の形状（クラスタパターンが重複する領域の境界形状）を波形あるいは凹凸上にする。これにより、視覚特性的にクラスタパターンに対応した領域の境界を視認されにくくし、その境界で発生し得るスジを視認しずらくすることができる。本実施形態はクラスタパターンの周囲の記録許容画素が分散していないので、比較的高いクラスタの効果を維持しながらスジ耐性を高めることできる。また、図１９（ｃ）に示すように、第１実施形態と組み合わせて、クラスタパターンの周囲領域の記録許容比率を減らし、さらに、形状を星型にすることで比較的高いスジ耐性を得ることができる。
【００４３】
（第１１実施形態）
本発明の第１１実施形態は、隣接するクラスタパターンの周囲領域に対応する記録領域に、それら隣接するクラスタパターンに対応する領域を記録するパス以外のパスの記録許容画素を存在させる形態に関するものである。図２０に示す例では、１パス目のクラスタパターンの周囲領域による記録領域と、２パス目のクラスタパターンの周囲領域による記録領域とが重なる領域に、３パス目のマスクにおける記録許容画素が存在するマスクである。境界に接する２つのクラスタパターンに対応する記録領域が２つのパスの記録許容画素で形成される場合、記録位置ズレの生じ方によっては記録許容画素が大きく重なることがあり、その場合、記録媒体の白地が多く露出してスジが視認される場合がある。これに対し、本実施形態は、図２１（ａ）に示すように、隣接するクラスタパターンの周囲領域による記録領域が互いに重なる領域に他のパスの記録許容画素によるドットを混在させる。これにより、図２１（ｂ）に示すように、他のパスでの記録位置のずれ方が異なり、ずれ方の多様性が増し、記録媒体の白地が露出しづらくすることができる。
【００４４】
（第１２実施形態）
図２２は、本発明の第１２実施形態に係るマスクにおけるクラスタパターンを説明する図である。本実施形態のマスクは、同図に示すように、クラスタパターンの周囲領域が互いに重なる領域に、重なっている２つのクラスタパターン以外のパスの記録許容画素が存在し、さらに、３パス以上の記録許容画素が重なる領域が存在する。これにより、記録位置ズレ発生時には３つ重なった記録許容画素がずれて記録媒体の白地を各々が埋めることができ、スジを効果的に提言することが可能となる。
【００４５】
（第１３実施形態）
図２３は、本発明の第１３実施形態に係るマスクにおけるクラスタパターンを説明する図である。本実施形態のマスクは、同図に示すように、クラスタパターンの周囲領域が互いに重なる領域において、片方のクラスタパターンの記録許容画素の方が大きくなる形態に関する。特に、本実施形態では、先行するパス（１パス目）のクラスタパターンの記録許容比率が高くしている。特に、非吸収性の記録媒体に記録を行う場合に、先行パスで記録されるインクドットと後続パスで記録されるインクドットが重なったときに、その表面張力の時間依存の影響により後続パスのインクが先行パスのインクの方に流れ込むことがある。そこで、本実施形態は、先行パスのクラスタパターンにおける重なり領域の記録許容比率を高める。これにより、相対的に後続パスの上記領域における記録許容比率が低くなり、それによって、流れ込みを起こすインクを減らすことができ、流れ込みによって起こるスジの強調を抑制することができる。
【００４６】
（第１４実施形態）
本発明の第１４実施形態は、マルチパス記録の複数回の走査で記録を完成する領域の境界であるバンド境界に対応する、クラスタパターンの周囲領域の幅を広くする形態に関するものである。図２４に示すように、バンド境界部に対応する部分のクラスタパターンの周囲領域の搬送方向の幅を広くし３画素分とする。これに対し、バンド境界部に対応していない周囲領域の搬送方向の幅は２画素分とする。マルチパス記録においてバンド境界部は、ノズル列の片側の端のノズルで記録されるドットと、それとは逆の端のノズルで記録されるドットのつなぎ目となる。このため、このつなぎ目は、記録位置ずれによって、特に、スジが視認されやすいが、その部分の領域の幅を広くすることにより、視認されやすいバンド境界部のスジを低減することができる。
【００４７】
（第１５実施形態）
本発明の第１５実施形態は、クラスタパターンの周囲領域が重なる領域において、小ドットを用いる形態に関するものである。本実施形態は、各ノズルからの吐出量を可変とすることができる記録ヘッドを用いる。具体的には、本実施形態では、大ドットと小ドットの二種類のドットを記録可能なように、２つの吐出量でインクを吐出可能な記録ヘッドおよびその駆動構成を用いる。図２５に示すように、クラスタパターン１００４の中心部では相対的に大ドット多く用いて、周囲領域では小ドットを相対的に多く用いる。このようにして、クラスタパターンの周囲領域の記録濃度を内部より下げることができる。これにより、クラスタパターンの周囲領域による記録ついて粒状性の悪化を抑制しつつ、スジを低減することができる。
【００４８】
（第１６実施形態）
本発明の第１６実施形態は、１単位のクラスタパターン１００４を、連続する複数のパスでそれぞれ記録する記録許容画素で構成する形態に関する。インクジェット記録装置の記録条件によっては、１回の走査で記録できる画素に制約がある場合がある。そのような場合に、１単位のクラスタパターンに対応する領域を複数回の走査（パス）で記録する。すなわち、上記実施形態で示した１つの走査およびその走査以外の他の走査で１単位のクラスタパターンに対応する領域を記録する。これにより、クラスタの効果が得られることがある。そのような場合に関しても、図２６に示すように、複数回の走査で記録するクラスタパターンに対して、本発明に係る周囲領域の記録許容画素の比率を低くしたクラスタマスクを用いる。これにより、本発明の効果を得ることができる。図２６は、２回の走査で１単位のクラスタパターンに対応する領域が記録される例を示している。
【００４９】
図２７は、本実施形態で用いるマスクパターンを示す図である。同図に示す例は、走査ごとのフィード量が１６画素分であり、このとき、このマスクパターンの領域Ａと領域Ｂに対応する記録領域では、２回の走査で１単位のクラスタパターンによる記録を行う。このクラスタパターンは、その周囲領域の記録許容画素の比率が低いものであり、また、この周囲領域が他のクラスタパターンの周囲領域と重なるため、本発明の効果を得ることができる。
【００５０】
なお、図１２に示したような、マスクパターンを用いる場合においても、最終的に各走査に分割される際に、記録システムの制約上、走査方向のライン状のパターンや搬送方向のライン状のパターンなどにさらに分割されて記録されることがある。その様なシステムにおいても、記録媒体上では１つのクラスタパターンに対応する領域が複数の記録走査で記録されることとなるが、本実施形態と同様に本発明の効果を得ることができる。
【００５１】
（第１７実施形態）
＜エマルジョン樹脂インクとヒータを用いる場合＞
図２８は、本発明の第１７実施形態に係るインクジェット記録装置の主要部の構成を示す斜視図であり、図１に示す記録装置における要素と同様の要素には同じ符号を付してその説明を省略する。第１実施形態に係る装置と異なる点は、ヒータ２５がプラテン２と対向する位置に設けられし、その熱によって液体状のインク中の色材の媒体への定着を図る点である。
【００５２】
ヒータ２５はヒータカバー２６に覆われており、ヒータカバー２６はそれぞれのヒータの熱を紙面に効率よく照射する機能と、ヒータの保護の機能を担っている。吐出ヘッド７から吐出された液体の一例としてのインクは記録面に着弾した後にヒータ２５からの熱と加熱された記録媒体３からの熱により定着が行われる。
【００５３】
本実施形態で使用するインクは、いずれも樹脂エマルジョンを含有している。本明細書において、「樹脂エマルジョン」とは、水中に分散している状態で存在するポリマー微粒子を意味する。具体的には、（メタ）アクリル酸アルキルエステルや（メタ）アクリル酸アルキルアミドなどのモノマーを乳化重合するなどして合成したアクリルエマルジョン；（メタ）アクリル酸アルキルエステルや（メタ）アクリル酸アルキルアミドなどとスチレンのモノマーを乳化重合するなどして合成したスチレン−アクリルエマルジョン；ポリエチレンエマルジョン、ポリプロピレンエマルジョン、ポリウレタンエマルジョン、スチレン−ブタジエンエマルジョンなどが挙げられる。また、樹脂エマルジョンを構成するコア部とシェル部でポリマーの組成が異なるコアシェル型樹脂エマルジョンや、粒径を制御するために予め合成したアクリル系微粒子をシード粒子とし、その周辺で乳化重合することにより得られるエマルジョンなどでもよい。更には、アクリル樹脂エマルジョンとウレタン樹脂エマルジョンなど異なる樹脂エマルジョンを化学的に結合させたハイブリッド型樹脂エマルジョンなどでもよい。
【００５４】
樹脂エマルジョンを構成するモノマーとしては、（メタ）アクリル酸；メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートなどのアルキルアルコールと（メタ）アクリル酸から合成される（メタ）アクリル酸アルキルエステル；（メタ）アクリルアミド、ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピル（メタ）アクリルアミド、イソプロピル（メタ）アクリルアミド、ジエチル（メタ）アクリルアミド（メタ）アクリロイルモルホリンなどの（メタ）アクリル酸アルキルアミドが挙げられる。
【００５５】
本実施形態のインクに使用する樹脂エマルジョンの分子量は、ＧＰＣにより得られるポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）が、１００，０００以上３，０００，０００以下、更には３００，０００以上２，０００，０００以下であることが好ましい。
【００５６】
本実施形態のインクに使用する樹脂エマルジョンの平均粒径は、５０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下であることが好ましい。平均粒径が５０ｎｍ未満であると、単位体積当たりの樹脂エマルジョン粒子の表面積が大きくなり、粒子間の凝集力が大きくなるため、保存安定性の向上効果が十分に得られない場合がある。また、平均粒径が２５０ｎｍより大きいと、樹脂エマルジョンのインク中での沈降速度が速くなるため、インクの吐出安定性や保存安定性の向上効果が十分に得られない場合がある。
【００５７】
本実施形態のインクに使用する樹脂エマルジョンのガラス転移温度（Ｔｇ）は、４０℃以上９０℃以下であることが好ましい。更には、５０℃以上８０℃以下であることがより好ましい。Ｔｇが４０℃未満であると、樹脂が軟らかく、得られた画像の耐擦過性の向上効果が十分得られない場合がある。また、Ｔｇが９０℃より高いと樹脂エマルジョンの最低造膜温度も高くなるため、記録媒体に付与された樹脂が軟化しにくく、画像の定着性が十分でない場合がある。これらの観点から、得られた樹脂エマルジョンのＴｇが４０℃以上９０℃以下の範囲となる、メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートを用いた樹脂エマルジョンを用いることが好ましい。
【００５８】
本実施形態のインクに使用する樹脂エマルジョンの含有量（質量％）は、インク全質量を基準として０．１質量％以上１０．０質量％以下が好ましい。更には、２．０質量％以上８．０質量％以下がより好ましい。０．１質量％未満であると、画像の耐擦過性の向上効果が十分に得られない場合がある。また、１０．０質量％以上であると、インクの粘度が上昇し、インクの吐出安定性の向上効果が十分に得られない場合がある。
【００５９】
本実施形態では、基材上の塩化ビニルによる層が形成されたシートを記録媒体として使用する。
【符号の説明】
【００６０】
７    記録ヘッド
３０２    ＣＰＵ
３０３    ＲＯＭ
３０４    ＲＡＭ
４０６    マスク間引き処理
１００４    クラスタパターン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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