(57)【要約】      （修正有）【課題】水分の侵入に起因するエレクトロクロミック機能低下を防止したエレクトロクロミック型調光素子を提供する。【解決手段】エレクトロクロミック層１２Ａ，１２Ｂおよび電解質層１１を含有するエレクトロクロミック型調光素子１０にあって、脱水剤が電解質層１１中に含有されており、この脱水剤は水分を水以外のものに化学的に変化させた後にイオン成分を発生させない。【選択図】図１
2018091910.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エレクトロクロミック層および電解質層を含有するエレクトロクロミック型調光素子にあって、
脱水剤が前記電解質層中に含有されており、
前記脱水剤は水分を水以外のものに化学的に変化させた後にイオン成分を発生させない、エレクトロクロミック型調光素子。
【請求項２】
前記脱水剤が、加水分解性のアルコキシ基およびイソシアナート基の少なくとも１種の官能基を有する、請求項１に記載のエレクトロクロミック型調光素子。
【請求項３】
前記脱水剤が、シラン化合物、加水分解性エステル、およびイソシアネート化合物のうちの少なくとも１種である、請求項２に記載のエレクトロクロミック型調光素子。
【請求項４】
脱水促進剤が前記電解質層に含まれる、請求項１〜３のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック型調光素子。
【請求項５】
前記脱水促進剤が、有機金属系化合物、酸系化合物、および塩基性化合物のうちの少なくとも１種である、請求項４に記載のエレクトロクロミック型調光素子。
【請求項６】
前記電解質層は、シール材で封止されており、
前記シール材がポリオレフィン系樹脂およびエポキシ系樹脂のうちの少なくとも１種である、請求項１〜５のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック型調光素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エレクトロクロミック型調光素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、調光フィルムを有する調光素子が、窓または表示装置等に採用されている。このような調光素子は、透明フィルム上に調光層を積層したものであり、通電によって調光層の色が変化する。調光素子は、厚みが薄いため、設置場所を選ばずに使用できるという利点を有する。
【０００３】
調光素子の代表的な調光方式の１つに、エレクトロクロミック方式がある。このエレクトロクロミック方式は、応答速度が比較的速く、印加電圧も低い。さらに、エレクトロクロミック方式の調光素子は、簡単な構造な上、熱の発生等のフィルムへのダメージも小さい。そのため、エレクトロクロミック方式は、主に表示装置に使用されている。エレクトロクロミック方式の調光素子としては、例えば、特許文献１，２がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２００９／１３６６２６号公報
【特許文献２】特許第４９６１０５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、エレクトロクロミック方式の調光素子は、調光層（エレクトロクロミック層）に対する電子またはイオンの供給層として電解質層を有するが、この電解質層は、バインダーおよび有機溶剤の少なくとも一方と、電解質と含む。そして、一般的に、この電解質は、水分等の侵入を受けると、導電機能または電荷保持機能が低下し、その結果、調光素子のエレクトロミック機能が低下する。
【０００６】
本発明は、上記の問題点を解決するためになされたものである。そして、その目的は、水分の侵入に起因するエレクトロクロミック機能低下を防止したエレクトロクロミック型調光素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明にかかるエレクトロクロミック型調光素子は、エレクトロクロミック層および電解質層を含む。そして、脱水剤が電解質層中に含有されている。そして、この脱水剤は水分を水以外のものに化学的に変化させた後にイオン成分を発生させない。
【０００８】
なお、脱水剤が、加水分解性のアルコキシ基およびイソシアナート基の少なくとも１種の官能基を有すると好ましい。さらには、脱水剤が、シラン化合物、加水分解性エステル、およびイソシアネート化合物のうちの少なくとも１種であると好ましい。
【０００９】
また、脱水促進剤が電解質層に含まれるのが好ましく、この脱水促進剤は、有機金属系化合物、酸系化合物、および塩基性化合物のうちの少なくとも１種であるのが好ましい。
【００１０】
また、電解質層は、シール材で封止されており、このシール材がポリオレフィン系樹脂およびエポキシ系樹脂のうちの少なくとも１種であると好ましい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明にかかるエレクトロクロミック型調光素子は、水分の侵入に起因するエレクトロクロミック機能低下を起こさないため、信頼性に優れる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】は、図３のエレクトロクロミック型調光素子のＡ−Ａ’線矢視断面図である。
【図２】は、図１のエレクトロクロミック型調光素子の別例を示す断面図である。
【図３】は、エレクトロクロミック型調光素子の斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明の一実施形態について説明すると以下の通りであるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００１４】
≪≪エレクトロクロミック型調光素子≫≫
エレクトロクロミック型調光素子（ＥＣ型調光素子）１０は、図３の斜視図およびこの図のＡ−Ａ’線矢視断面図である図１に示される。これらの図に示すように、ＥＣ型調光素子１０は、通電により変色するエレクトロクロミック層１２（１２Ａ・１２Ｂ）を有した電圧印加を行える調光フィルム１８（１８Ａ・１８Ｂ）２枚で、電解質層１１を挟み込む。
【００１５】
なお、電解質層１１の性状に応じて、エレクトロクロミック層（ＥＣ層）１２Ａ・１２Ｂおよび電解質層１１を囲って封止するシール材２１と、調光フィルム１８Ａ・１８Ｂ同士の間隔を調整するスペーサー２２とが、含まれていると好ましい。そこで、本明細書では、シール材２１およびスペーサー２２を含むＥＣ型調光素子１０を例示するが、本発明は、これに限定されるものではない。
【００１６】
また、ＥＣ型調光素子１０に対して給電すべく、調光フィルム１８Ａ・１８Ｂには、外部電源３０から給電を受けるための給電部３１（３１Ａ・３１Ｂ）が形成されている。そして、調光フィルム１８Ａ・１８Ｂは、電力供給されることで、ＥＣ層１２Ａ・１２Ｂに対して電圧を印加させる。
【００１７】
調光フィルム１８は、基材１６（１６Ａ・１６Ｂ）、金属細線層１５（１５Ａ・１５Ｂ）、保護層１４（１４Ａ・１４Ｂ）、透明導電層１３（１３Ａ・１３Ｂ）、および、ＥＣ層１２（１２Ａ・１２Ｂ）を含む。
【００１８】
ここで、まず、ＥＣ型調光素子１０において、通電によって変色するＥＣ層１２と、このＥＣ層１２に対して、電子またはイオンの供給を行うキャリア供給層である電解質層１１と、について説明する。
【００１９】
≪調光フィルム≫
＜エレクトロクロミック層＞
ＥＣ層１２は、少なくともエレクトロミック化合物を含む層で、通電による酸化還元反応によって、遮光状態と透光状態とに変化することで変色する。なお、必要に応じて、ＥＣ層１２は、エレクトロクロミック化合物への電荷注入を高めるために、導電性化合物を含んでいてもよい。また、ＥＣ層１２の耐久性向上のために、バインダー樹脂がＥＣ層１２に含まれてもよいし、ＥＣ層１２上にコートされてもよい。
【００２０】
［エレクトロクロミック化合物］
エレクトロミック化合物（ＥＣ化合物）は、無機系でも有機系でもよく、特に限定されない。
【００２１】
無機系のＥＣ化合物としては、例えば、酸化タングステン、水酸化ニッケル、酸化ニッケル、酸化インジウム、酸化ニオブ、酸化モリブデン、酸化イリジウム、酸化チタン、酸化マンガン、酸化コバルト、酸化バナジウム、六酸化バナジウム、酸化レニウム、酸化タンタル、酸化ロジウム、酸化クロム、酸化タンタル、酸化銅、酸化パラセオジウム、ストロンチウムドープチタン酸、タングステンサルファイト、窒化インジウム−窒化錫、グラファイト、塩化窒化β−ジルコニウム、または、プルシアンブルー等が挙げられる。
【００２２】
有機系のＥＣ化合物としては、例えば、ビオロゲン、ポリニリン、テトラチオフルバレン、パソフェナンスロリン錯体等の還元反応により発色する還元型発色化合物、ポリ（３，４−エチレン−ジオキシチオフェン）（略称：ＰＥＤＯＴ）、ポリピロール、ポリアセチレン、スチリル類等の酸化反応により発色する酸化型発色化合物、希土類フタロシアニン、または、アントラキノンとピラゾリンとの混合物等の酸化反応および還元反応の両方で発色する酸化還元型発色化合物等が挙げられる。
【００２３】
なお、ＥＣ層１２は、単独でも発色するが、電解質層１１を挟んで、酸化側のＥＣ層１２（例えば１２Ａ）と還元側のＥＣ層１２（例えば１２Ｂ）を対向させることでより、発色程度をアップさせることができる。そこで、図１に示すＥＣ型調光素子１０では、ＥＣ層１２ＡとＥＣ層１２Ｂとで異なるＥＣ化合物を使用し、ＥＣ層１２Ａ・１２Ｂは通電した場合に実質的に同一色に変化する。
【００２４】
例えば、ＥＣ層１２Ａに酸化反応で発色する酸化型発色化合物を用い、ＥＣ層１２Ｂに還元反応で発色する還元型発色化合物を用いた場合、ＥＣ層１２Ａ・１２Ｂは、通電することによって有色に変化して遮光状態となり、通電を止めることによって透明に変化して透明状態となる。
【００２５】
このようなＥＣ層１２Ａ／ＥＣ層１２Ｂの組み合わせとしては、例えば、酸化タングステン／酸化チタン、酸化タングステン／酸化ジルコニウム、酸化タングステン／酸化ニッケル、酸化タングステン／酸化タンタル、酸化タングステン／プルシアンブルー、ＰＥＤＯＴ／プルシアンブルー、酸化タングステン／ポリアニリン、酸化ニオブ／酸化モリブデン、酸化ニオブ／酸化チタン、ＰＥＤＯＴ／ポリアニリン、ポリアセチレン／ポリアニリン、または、ポリピロール／ポリアニリン等の組み合わせが挙げられる。
【００２６】
［導電性化合物］
導電性化合物は、電荷注入を促進する化合物で、導電性を有していれば、特に限定されるものではない。導電性化合物としては、導電性ポリマー、カーボンナノチューブ、および金属原子含有顔料からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
【００２７】
なお、ＥＣ層１２中の導電性化合物が含まれる場合、その含有量は３０重量％以上であることが好ましい。この範囲であれば、ＥＣ層１２内での内部抵抗を小さくでき、十分な応答速度を発揮する。
【００２８】
≪電解質層≫
電解質層１１は、電解質として機能する層であり、電気を流したり、電気を貯蔵したりする。すなわち、電解質層１１は、ＥＣ層１２への電子またはイオンの供給を行うキャリア供給層である。なお、電解質層１１の性状は、特に限定されないが、液体状、ゲル状、固体状、またはフィルム状が挙げられ、ＥＣ型調光素子１０を薄くできる観点から、液体状またはフィルム状であると好ましい。
【００２９】
電解質層１１は、電解質、有機溶剤およびバインダーの少なくとも一方、並びに、脱水剤を含む。また、必要に応じて、脱水促進剤が含まれても構わない。
【００３０】
＜電解質＞
電解質としては、カリウム塩、リチウム塩がある。
【００３１】
カリウム塩またはリチウム塩における無機塩としては、例えば、ＫＰＦ６、ＫＢＦ４、ＫＡｓＦ６、ＫＳｂＦ６、ＬｉＰＦ６、ＬｉＢＦ４、ＬｉＡｓＦ６、ＬｉＳｂＦ６等の無機フッ化物塩、または、ＫＣｌＯ４、ＫＢＲＯ４、ＫＩＯ４、ＬｉＣｌＯ４、ＬｉＢＲＯ４、ＬｉＩＯ４等の過ハロゲン酸塩、または、ＬｉＡｌＣｌ４等の無機塩化物塩等が挙げられる。
【００３２】
カリウム塩またはリチウム塩における有機塩としては、例えば、ＫＣＦ３ＳＯ３、ＬｉＣＦ３ＳＯ３等のパーフルオロアルカンスルホン酸塩、または、ＫＮ（ＣＦ３ＳＯ２）２、ＫＮ（ＣＦ３ＣＦ２ＳＯ２）２、ＫＮ（ＦＳＯ２）２、ＫＮ（ＣＦ３ＳＯ２）（Ｃ４Ｆ９ＳＯ２）、ＬｉＮ（ＣＦ３ＳＯ２）２、ＬｉＮ（ＣＦ３ＣＦ２ＳＯ２）２、ＬｉＮ（ＦＳＯ２）２、ＬｉＮ（ＣＦ３ＳＯ２）（Ｃ４Ｆ９ＳＯ２）等のパーフルオロアルカンスルホニルイミド塩、または、ＫＣ（ＣＦ３ＳＯ２）３、ＬｉＣ（ＣＦ３ＳＯ２）３等のパーフルオロアルカンスルホニルメチド塩、または、Ｋ［ＰＦ５（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）］、Ｋ［ＰＦ４（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）２］、Ｋ［ＰＦ３（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）３］、Ｋ［ＰＦ５（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）］、Ｋ［ＰＦ４（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）２］、Ｋ［ＰＦ３（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）３］、Ｌｉ［ＰＦ５（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）］、Ｌｉ［ＰＦ４（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）２］、Ｌｉ［ＰＦ３（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）３］、Ｌｉ［ＰＦ５（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）］、Ｌｉ［ＰＦ４（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）２］、Ｌｉ［ＰＦ３（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）３］等のフルオロアルキルフッ化リン酸塩等の含フッ素有機塩が挙げられる。
【００３３】
カリウム塩またはリチウム塩におけるオキサラトボレート塩としては、例えば、カリウムビス（オキサラト）ボレート、カリウムジフルオロオキサラトボレート、リチウムビス（オキサラト）ボレート、または、リチウムジフルオロオキサラトボレート等が挙げられる。
【００３４】
これらのなかで、ＫＰＦ６、ＫＢＦ４、ＫＡｓＦ６、ＫＳｂＦ６、ＫＣｌＯ４、Ｋ（Ｒｆ１ＳＯ３）、ＫＮ（Ｒｆ１ＳＯ２）２、ＫＮ（ＦＳＯ２）２、ＬｉＰＦ６、ＬｉＢＦ４、ＬｉＡｓＦ６、ＬｉＳｂＦ６、ＬｉＣｌＯ４、Ｌｉ（Ｒｆ１ＳＯ３）、ＬｉＮ（Ｒｆ１ＳＯ２）２、ＬｉＮ（ＦＳＯ２）２、および、ＫＮ（Ｒｆ１ＳＯ２）（Ｒｆ２ＳＯ２）２、ＫＮ（Ｒｆ１ＳＯ２）（Ｒｆ２ＳＯ２）２、ＬｉＮ（Ｒｆ１ＳＯ２）（Ｒｆ２ＳＯ２）２ＬｉＮ（Ｒｆ１ＳＯ２）（Ｒｆ２ＳＯ２）２が好ましく、ＫＰＦ６、ＫＢＦ４、ＫＮ（Ｒｆ１ＳＯ２）２、ＫＮ（ＦＳＯ２）２、ＬｉＰＦ６、ＬｉＢＦ４、ＬｉＮ（Ｒｆ１ＳＯ２）２、ＬｉＮ（ＦＳＯ２）２、およびＫＮ（Ｒｆ１ＳＯ２）（Ｒｆ２ＳＯ２）２、ＬｉＮ（Ｒｆ１ＳＯ２）（Ｒｆ２ＳＯ２）２等のイミド塩がさらに好ましい。ここで、Ｒｆ１、Ｒｆ２はそれぞれパーフルオロアルキル基を示す。
【００３５】
＜有機溶剤＞
有機溶剤としては、例えば、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、炭酸ブチレン、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸エチルメチル、炭酸メチルプロピル、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，３−ジオキソラン、４−メチル−１，３−ジオキソラン、１，３−ジオキサン、１，４−ジオキサン、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、イソ酪酸メチル、トリメチル酢酸メチル、トリメチル酢酸エチル、アセトニトリル、グルタロニトリル、アジポニトリル、メトキシアセトニトリル、３−メトキシプロピオニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリジノン、Ｎ−メチルオキサゾリジノン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルイミダゾリジノン、ニトロメタン、ニトロエタン、スルホラン、燐酸トリメチル、ジメチルスルホキシド、または、ジメチルスルホキシド燐酸等の有機溶媒が挙げられる。これらは、一種単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００３６】
有機溶剤としては、上記した有機溶媒の中でも、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、および、炭酸エチルメチルからなる群のうちの少なくとも１種が好ましい。
【００３７】
有機溶剤としては、特に、沸点が２００℃以上の炭酸エチレン若しくは炭酸プロピレン等の高粘度（高誘電率）溶媒（例えば、比誘電率ε≧３０）と、炭酸ジメチル、炭酸エチルメチル若しくは炭酸ジエチル等の低粘度溶媒（例えば、粘度≦１ｍＰａ・ｓ）との組み合わせがより好ましい。有機溶剤としてこれらを使用することによって、電解質塩の解離性およびイオンの移動度を向上させられる。
【００３８】
また、有機溶媒は、不飽和結合を有する環状炭酸エステルを含有していてもよい。こうすることによって、電解液の化学的安定性がより向上することができる。
【００３９】
不飽和結合を有する環状炭酸エステルとしては、例えば、炭酸ビニレン系化合物、炭酸ビニルエチレン系化合物、および炭酸メチレンエチレン系化合物からなる群のうちの少なくとも１種などが挙げられる。
【００４０】
炭酸ビニレン系化合物としては、例えば、炭酸ビニレン（１，３−ジオキソール−２−オン）、炭酸メチルビニレン（４−メチル−１，３−ジオキソール−２−オン）、炭酸エチルビニレン（４−エチル−１，３−ジオキソール−２−オン）、４，５−ジメチル−１，３−ジオキソール−２−オン、４，５−ジエチル−１，３−ジオキソール−２−オン、４−フルオロ−１，３−ジオキソール−２−オン、または、４−トリフルオロメチル−１，３−ジオキソール−２−オン等が挙げられる。
【００４１】
炭酸ビニルエチレン系化合物としては、例えば、炭酸ビニルエチレン（４−ビニル−１，３−ジオキソラン−２−オン）、４−メチル−４−ビニル−１，３−ジオキソラン−２−オン、４−エチル−４−ビニル−１，３−ジオキソラン−２−オン、４−ｎ−プロピル−４−ビニル−１，３−ジオキソラン−２−オン、５−メチル−４−ビニル−１，３−ジオキソラン−２−オン、４，４−ジビニル−１，３−ジオキソラン−２−オン、または、４，５−ジビニル−１，３−ジオキソラン−２−オン等が挙げられる。
【００４２】
炭酸メチレンエチレン系化合物としては、例えば、４−メチレン−１，３−ジオキソラン−２−オン、４，４−ジメチル−５−メチレン−１，３−ジオキソラン−２−オン、または、４，４−ジエチル−５−メチレン−１，３−ジオキソラン−２−オン等が挙げられる。
【００４３】
これらは単独で用いられてもよいし、複数種が混合されて用いられてもよい。中でも、炭酸ビニレンが好ましい。高い効果が得られるからである。
【００４４】
＜バインダー＞
バインダーとしては、電解質との相溶性の観点から、ポリエーテル骨格またはアクリル骨格をもつ樹脂であることが好ましい。また、このバインダーは、架橋性官能基を有するものが好ましく、硬化速度の観点からＵＶ硬化性樹脂であることがより好ましい。このバインダーは、極性、硬化性、低粘度（ハンドリング性）、耐久性の観点から、アクリル骨格を持つ樹脂であることがさらに好ましい。
【００４５】
なお、電解質に加えられる化合物としては、有機溶剤およびバインダーの少なくとも一方であるが、電解質層１１の液漏れ防止の観点から、電解質に対して、バインダーが加えられる場合が好ましい。もちろん、電解質に有機溶剤が加えられたときにもバインダーが加えられていると液漏れは防止される。
【００４６】
＜脱水剤＞
脱水剤は、電解質層１１に含まれる水と化学的に反応し、その水を水とは異なる化合物へ変化させる物質である。特に、この脱水剤は水分を化学的に水以外の化合物へ変化させた後にイオン成分を発生させない。
【００４７】
すなわち、このような脱水剤は、例えば外部から電解質に侵入した水に反応することで、その水を電解質層１１から消失させる。すると、水に起因した電解質層１１の劣化が抑制される。その上、脱水剤と水とによる化学反応の後に、イオン成分が発生しないために、電解質のイオンバランスが崩れない。つまり、電解質におけるイオン成分の量かつ陽イオンと陰イオンとの比率が、当初の状態と同じ程度に維持される。その結果、ＥＣ層１２への電荷注入量の低下が起き難く、ＥＣ型調光素子１０の応答速度の低下および色の劣化変色が抑制される。
【００４８】
このような脱水剤としては、加水分解性のアルコキシ基およびイソシアナート基の少なくとも１種の官能基を有すると好ましい。例えば、脱水剤としては、シラン化合物、加水分解性エステル、およびイソシアネート化合物のうちの少なくとも１種である化合物が挙げられる。
【００４９】
［シラン化合物］
シラン化合物としては、特に制限はないが、安定性、取り扱い易さの点で液状もの、加水分解性のエステル官能基を有する構造のものが好ましい。シラン化合物は、シラン単量とその部分加水分解縮合物（ポリシランとも言う）脱水効果および電解質層に添加して際の透明性の点で単量体である必要がある。
【００５０】
シラン化合物としては、例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、１−ナフチルトリメトキシシラン、２−ナフチルトリメトキシシラン、１−ナフチルトリエトキシシラン、２−ナフチルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジグリシジル）アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、β−シアノエチルトリエトキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、α−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリメトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリプロポキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリブトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリフェノキシシラン、３−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシラン、３−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリエトキシシラン、４−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリメトキシシラン、４−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチ��ジエトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジエトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、オクタデシルメチルジメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、トリフルオロメチルトリメトキシシラン、トリフルオロメチルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、または、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のシランカップリング剤が挙げられる。
【００５１】
さらに、シランカップリング剤は、例えば、３−トリメトキシシリルプロピオン酸、３−トリエトキシシリルプロピオン酸、３−ジメチルメトキシシリルプロピオン酸、３−ジメチルエトキシシリルプロピオン酸、４−トリメトキシシリル酪酸、４−トリエトキシシリル酪酸、４−ジメチルメトキシシリル酪酸、４−ジメチルエトキシシリル酪酸、５−トリメトキシシリル吉草酸、５−トリエトキシシリル吉草酸、５−ジメチルメトキシシリル吉草酸、５−ジメチルエトキシシリル吉草酸、３−トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物、３−トリエトキシシシリルプロピルコハク酸無水物、３−ジメチルメトキシシリルプロピルコハク酸無水物、３−ジメチルエトキシシリルプロピルコハク酸無水物、３−トリメトキシシリルプロピルシクロヘキシルジカルボン酸無水物、３−トリエトキシシリルプロピルシクロヘキシルジカルボン酸無水物、３−ジメチルメトキシシリルプロピルシクロヘキシルジカルボン酸無水物、３−ジメチルエトキシシリルプロピルシクロヘキシルジカルボン酸無水物、３−トリメトキシシリルプロピルフタル酸無水物、３−トリエトキシシリルプロピルフタル酸無水物、３−ジメチルメトキシシリルプロピルフタル酸無水物、または、３−ジメチルエトキシシリルプロピルフタル酸無水物等を用いることにより、カルボキシル基を含有し、脱水能力に吸湿能力を加えた化合物が挙げられる。
【００５２】
さらに、シランカップリング剤は、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニメチルジメトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルメチルジメトキシシラン、アリルメチルジエトキシシラン、スチリルトリメトキシシラン、スチリルトリエトキシシラン、スチリルメチルジメトキシシラン、スチリルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン、または、γ−アクリロイルプロピルメチルジエトキシシラン等の脱水能力以外の他の反応性が緩やかな化合物が挙げられる。
【００５３】
なお、以上のシラン化合物の中では、脱水効果、電解質層との相溶性、低揮発性の点で、アミノシラン、エポキシシラン、酸系シラン、アクリロイルシラン、ビニルシランが好ましく、アクリロイルシランまたは（メタ）アクリロイルシランが特に好ましい。
【００５４】
［加水分解エステル］
加水分解性エステルとしては、例えば、オルトギ酸メチル、オルトギ酸エチル、オルト酢酸メチル、オルト酢酸エチル、オルトプロピオン酸トリメチル、オルトプロピオン酸トリエチル、オルトイソプロピオン酸トリメチル、オルトイソプロピオン酸トリエチル、オルト酪酸トリメチル、オルト酪酸トリエチル、オルトイソ酪酸トリメチル、または、オルトイソ酪酸トリエチル等の加水分解性エステル化合物が挙げられる。
【００５５】
また、ジメトキシメタン、１，１−ジメトキシエタン、または、１，１−ジメトキシプロパン、１，１−ジメトキシブタン等が、加水分解性エステルとして挙げられる。
【００５６】
また、エチルシリケ−ト（テトラメトキシシラン）、メチルシリケ−ト（テトラメトキシシラン）、または、メチルトリメトキシシラン等が、加水分解性エステルとして挙げられる。
【００５７】
なお、以上の加水分解性エステル中では、脱水効果の点から、オルト酢酸メチルが好ましい。これらは単独で用いてもよく、２種以上併用してもよい。
【００５８】
［イソシアネート化合物］
イソシアネート化合物には、単官能イソシアネート化合物とウレタン架橋に使用する多官能性イソシアネート化合物とがあり、水との反応（脱水）、脱炭酸、アミン生成他のイソシアネート分子との反応を経てウレアを生成する。
【００５９】
例えば、ヘキサメチレンジイソシアナート、ジシクロヘキシルメタン４，４‘−イソシアナート、２，２，４−トリメチル−１，６−ジイソシアナート、または、イソフォロンジイソシアナートがあり、構造としては、単量体、ビュレット型、ウレジオ型、または、イソシナヌレ−ト型がある。
【００６０】
単官能イソシアート化合物成分としては、例えば、イソシアン酸、メチルイソシアナート、エチルイソシアナート、イソプロピルイソシアナート、ヘキシルイソシアナート、ビニルイソシアナート、イソプロペニルイソシアナート、フェニルイソシアナート、トリルイソシアナート、ニトロフェニルイソシアナート、ナフチルイソシアナート、または、トシルイソシアナート等が挙げられる。
【００６１】
なお、脱水能力化合物自体の安定性、脱水後反応で高分子量化（電解質層との相溶性低下）しない点から、ヘキシルイソシアナート、トリルイソシアナート、または、トシルイソシアナートが好ましい。中でも脱水効果の持続性の点からトシルイソシアナートが特に好ましい。これらは、単独または２種類以上併用することができる。それによって、硬化剤が脱水され、ポリイソシアナート、有機金属化合物、または、単官能イソシアナート化合物を混合した場合の貯蔵安定性が飛躍的に向上する。
【００６２】
脱水剤としては、互いに反応しない限りにおいては、複数の化合物を組み合わせて使用することが可能である。
【００６３】
＜脱水促進剤＞
電解質層は、脱水促進剤が含まれているのが好ましい。脱水促進剤としては、有機金属系化合物、酸系化合物、および塩基性化合物があり、これらの中の少なくとも１種であればよい。脱水促進剤の対象物質としては、特に制限はないが、有機金属系化合物は、シラン化合物、イソシアナート化合物、酸系化合物は加水分解性エステル、塩基性化合物はイソシアネートの脱水促進剤として有効である。
【００６４】
なお、脱水促進剤の添加量としては、脱水剤１００重量部に対して０．０１重量部以上５０重量部以下であり、０．１重量部以上２０重量部以下が好ましく、０．５重量部以上１０重量部以下が好ましい。
【００６５】
［有機金属系化合物］
有機金属系化合物としては、特に限定はないが、有機錫化合物、またはアルミキレート化合物が挙げられる。
【００６６】
有機錫化合物としては、例えば、ジオクチル錫ビス（２−エチルヘキシルマレート）、ジオクチル錫オキサイド若しくはジブチル錫オキサイドとシリケートとの縮合物、ジブチル錫ジオクトエート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジステアレート、ジブチル錫ジアセチルアセトナート、ジブチル錫ビス（エチルマレート）、ジブチル錫ビス（ブチルマレート）、ジブチル錫ビス（２−エチルヘキシルマレート）、ジブチル錫ビス（オレイルマレート）、スタナスオクトエート、ステアリン酸錫、または、ジ−ｎ−ブチル錫ラルレートオキサイドが挙げられる。
【００６７】
また、分子内にＳ原子を有する錫化合物としては、例えば、ジブチル錫ビスイソノニル−３−メルカプトプロピオネート、ジオクチル錫ビスイソノニル−３−メルカプトプロピオネート、オクチルブチル錫ビスイソノニル−３−メルカプトプロピオネート、ジブチル錫ビスイソオクチルチオグルコレート、ジオクチル錫ビスイソオクチルチオグルコレート、または、オクチルブチル錫ビスイソオクチルチオグルコレート等が挙げられる。
【００６８】
なお、ジオクチル錫ビス（２−エチルヘキシルマレ−ト）、または、ジオクチル錫オキサイド若しくはジブチル錫オキサイドとシリケ−トとの縮合物が、脱水促進効果または電解質層への相溶性の点で好ましい。
【００６９】
また、前記アルミキレ−ト化合物も好ましく、例えば、エチルアセトアセートアルミニウムジイソプロピレート、アルミトリス（アセチルアセトナート）、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス（エチルアセトナート）、または、アルキルアセチルアセテートアルミニウムジイソプロピレート等が挙げられる。
【００７０】
前記アルミキレート化合物としては、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）とアルミニウムトリス（アセチルアセトナート）がイソシアナート脱水促進または電解質層との相溶性の点で好ましい。
【００７１】
［酸系化合物］
酸系化合物としては、例えば、塩酸、硝酸、リン酸、硫酸、若しくは亜硫酸等の無機酸、または、モノメチルホスフエート、モノエチルホスフエート、モノブチルホスフエート、モノオクチルホスフエート、ジオクチルホスフエート、若しくはジデシルホスフエート等のリン酸エステル、または、ぎ酸、酢酸、マレイン酸、アジピン酸、しゅう酸、若しくはコハク酸等のカルボン酸化合物、または、ドデシルベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、１−ナフタレンスルホン酸、若しくは２−ナフタレンスルホン酸等のスルホン酸化合物が挙げられる。
【００７２】
これらの中では、脱水促進効果、電解質層に対する相溶性の点で塩酸、硝酸、または、亜硫酸のような無機酸が好ましい。
【００７３】
［塩基性化合物］
塩基性化合物は、特に限定はないが、例えば、３級アミンまたは４級アンモニウム塩等のアミン系硬化促進剤が挙げられる。
【００７４】
また、ジアザビシクロウンデセン系硬化促進剤としては、例えば、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン−７（ＤＢＵ）およびその塩（オクチル酸塩、スルホン酸塩、オルソフタル酸塩、石炭酸塩等の有機酸塩）等が挙げられる。
【００７５】
上記の他の硬化促進剤としては、例えば、ベンジルジメチルアミン、２，４，６−トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、トリエチルアミン、または、トリエチレンジアミン等の３級アミンが挙げられる。
【００７６】
また、２−エチル−４−メチルイミダゾール若しくは１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール等のイミダゾール類、または、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウム−Ｏ，Ｏ−ジエチルホスホロジチオエート等の芳香族を含まないリン化合物（ホスホニウム塩等）、または、３級アミン塩、４級アンモニウム塩等が挙げられる。
【００７７】
なお、上記のＤＢＵおよびその塩は、イソシアネート系脱水剤に対して、安定性、脱水促進性を高めるだけでなく、電解質への相溶性も高いことから、好ましい。
【００７８】
≪調光フィルム≫
続いて、調光フィルム１８における基材１６（１６Ａ・１６Ｂ）、金属細線層１５（１５Ａ・１５Ｂ）、保護層１４（１４Ａ・１４Ｂ）、透明導電層１３（１３Ａ・１３Ｂ）について説明する。なお、ＥＣ層１２を除いた調光フィルム１８（１８Ａ・１８Ｂ）を電極フィルム１７（１７Ａ・１７Ｂ）と称すこともある。
【００７９】
＜基材＞
基材１６は、少なくとも可視光領域で無色透明の透明フィルムであって、電気絶縁性を有した絶縁フィルムである。なお、基材１６は、可撓性を有していてもよい。また、基材１６は、面上に、金属細線層１５および透明導電層１３を積層させることから、金属細線層１５および透明導電層１３の形成温度における耐熱性を有していれば、その材料は特に限定されない。
【００８０】
基材１６の材料としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、若しくはポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、またはセルロース系樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリエステル系樹脂が好ましく、ポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。
【００８１】
なお、基材１６は、片面または両面にハードコート層または湿分バリア層等の機能性層、または、光学特性を向上させる観点から、基材１６上に光学調整層等が形成されてもよい。また、基材１６は、無延伸フィルムでも延伸フィルムでもよい。
【００８２】
基材１６の厚みは、特に限定されるものではないが、１０μｍ以上４００μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以上２００μｍ以下であることがより好ましい。この範囲であれば、十分な耐久性と適度な柔軟性を確保できるので、ロールトゥロール方式を採用できる。
【００８３】
＜金属細線層＞
金属細線層１５は、基材１６の面上に積層され、透明導電層１３よりも高い導電率を有し、電極としての導電性を担う。なお、金属細線Ｍの材料としては、例えば、銅が挙げられる。
【００８４】
金属細線層１５を形成する金属細線Ｍの配置パターンは、図２では、所定の間隔を空けたストライプパターンであるが、視認性を確保できれば、特に限定されることはない。例えば、正方形格子、菱型格子、若しくはハニカム状等のメッシュパターンであってもよいし、不規則に形成されたランダムメッシュパターンであってもよい。
【００８５】
なお、金属細線Ｍの厚み、金属細線Ｍ同士の間隔、または、金属細線Ｍ長手に対する直交断面形状は、特に限定されない。これらは、外部からの視認性および金属細線層１５としての他層との密着性を確保しつつ、調光フィルム１８における表面抵抗を低くするように、適宜設計されればよい。
【００８６】
＜保護層＞
保護層１４は、基材１６上の金属細線層１５を被覆することで、金属細線Ｍの腐食を防止する。なお、保護層は、必須ではなく、必要に応じて、金属細線層１５に積層させればよい。
【００８７】
保護層１４としては、金属を使用する場合、銀、白金、金、クロム、モリブデン、バナジウム、ニッケル、または、チタン等の金属が好ましい。この中でも、銀、白金、または、金等の貴金属がより好ましい。
【００８８】
また、金属酸化物を使用する場合、酸化クロム、酸化モリブデン、酸化バナジウム、酸化ニッケル、酸化インジウム、酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化タングステン、酸化錫、酸化コバルト、酸化ゲルマニウム、酸化アルミニウム、または、酸化チタンの金属酸化物が、保護層１４として好ましい。この中でも、酸化インジウム、酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化タングステン、酸化錫、酸化コバルト、酸化ゲルマニウム、酸化アルミニウム、または、酸化チタンの金属酸化物がより好ましい。
【００８９】
以上の材料の中でも、防食性能と透明性とのバランスの観点から、酸化亜鉛、酸化錫、または、酸化チタンが好ましく、酸化亜鉛または酸化チタンがより好ましい。
【００９０】
なお、保護層１４の厚みは、金属細線の防食効果を得つつ透明性を確保する観点から、０．５μｍ以下であることが好ましく、１ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましく、３ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、５ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることが特に好ましい。
【００９１】
また、保護層１４の製膜方法としては、特に限定されず、スパッタリング法、物理的蒸着（ＰＶＤ法）、若しくは化学的蒸着（ＣＶＤ法）等の蒸着法、または、めっき法等による方法が挙げられる。なお、保護層１４が貴金属で形成される場合には、めっき法、スパッタリング法、蒸着法のいずれかで製膜されることが好ましい。保護層が金属酸化物で形成される場合には、スパッタリング法または蒸着法で製膜されることが好ましい。これらの方法であれば、ロールトゥロール方式により容易に製膜を行うことができる。
【００９２】
＜透明導電層＞
透明導電層１３は、金属細線層１５同様に、電極としての導電性を担う。
【００９３】
透明導電層１３は、導電性酸化物を主成分（５０重量％超過）とすることが好ましく、７０重量％以上であることが好ましく、８５重量％以上であることがより好ましい。
【００９４】
導電性酸化物としては、例えば、酸化亜鉛、酸化インジウム、若しくは酸化錫等の透明導電性酸化物が挙げられる、なお、このような透明導電性酸化物は、単独または複合酸化物として用いてもよい。
【００９５】
以上のような導電性酸化物の中でも、導電性、光学特性、または長期信頼性の観点から、インジウム系酸化物を主成分とするものが好ましい。この場合、透明導電層１３中の酸化インジウムの含有量は、８７．５重量％以上９９．０重量％以下であることが好ましく、９０重量％以上９５重量％以下であることがより好ましい。
【００９６】
また、透明導電層１３は、ドープ不純物を含有してもよい。ドープ不純物としては、酸化錫、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化タングステン、または酸化セリウム等が挙げられる。これらの中では、酸化錫が好ましい。すなわち、透明導電層１３は、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）を主成分とすることがより好ましい。なお、透明導電層１３中のドープ不純物の含有量は、１．０重量％以上１２．５重量％以下であることが好ましく、５．０重量％以上１０．０重量％以下であることがより好ましい。
【００９７】
透明導電層１３の平均膜厚は、１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以上２００ｎｍ以下がより好ましく、３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下がさらに好ましい。
【００９８】
透明導電層１３の形成方法は、生産性の観点から、スパッタリング法が好ましい。スパッタリング法では、マグネトロンスパッタリング法が特に好ましい。なお、スパッタリング法に用いる電源は特に限定されず、ターゲットの材料に合わせて直流電源、交流電源等を適宜選択できる。
【００９９】
≪シール部材≫
シール部材は、電解質層１１を封止するもので、電解質層１１を囲みつつ、２枚の調光フィルム１８Ａ・１８Ｂに挟まれる。
【０１００】
シール部材２１の主成分としては、ポリオレフィン系樹脂およびエポキシ系樹脂のうちの少なくとも１種が挙げられる。これら樹脂成分は架橋性であるか否かは特に限定されないが、シール部材を電解質層１１の周囲に形成させた直後に湿分バリア性能を発現させる点から、架橋性能を有すると好ましい。架橋性官能基としては加水分解シリル基、（メタ）アクリロイル基、アルケニル基、またはエポキシ基等が挙げられる。なお、架橋性官能基の導入位置は、特に限定はないが、柔軟性と強度とのバランスから分子末端に導入されていると好ましい。
【０１０１】
また、上記の樹脂の配合量は、シール部材１００質量部中に５０質量部以上９５質量部以内の範囲であれば、高い弾性率または耐熱性を有する硬化物となったシール部材になるため好ましい。なお、より好ましくは、樹脂の配合量は、６０質量部以上９０質量部以下の範囲であり、さらに好ましくは７０質量部以上９０質量部以下である。
【０１０２】
また、副成分としては、ポリオレフィン系樹脂およびエポキシ系樹脂のうちの少なくとも１種からなるバインダーを硬化させるための重合開始剤が含まれる。また、シール材２１の接着性を向上させるために、接着性付与剤が添加されていてもよいし、シール材２１の強度、チクソ性を付与するために、充填剤が添加されていてもよい。
【０１０３】
なお、シール部材２１を有するＥＣ型調光素子１０は、電解質層１１への湿分の侵入を防止する上、電解質層１１に脱水剤を含むことから、より一層、高い耐久性を有する。
【０１０４】
≪≪エレクトロクロミック型調光素子の製造方法≫≫
ここで、ＥＣ型調光素子１０の製造方法の一例について説明する。
【０１０５】
まず、スパッタ装置または真空蒸着装置等の製膜装置によって、基材１６上に金属薄膜層が製膜される［金属薄膜形成工程］。その後、金属薄膜上にレジストパターンが形成される［パターンニング工程］。そして、レジストパターンの形成されていない金属薄膜の領域がエッチング除去されることで、金属細線Ｍが形成される［金属細線層形成工程］。なお、金属細線層１５は、エッチングファクタを調整して、金属細線Ｍの側面に傾斜面とされている。
【０１０６】
続いて、スパッタ装置または真空蒸着装置等の製膜装置によって、金属細線層１５上に保護層１４が製膜される［保護層形成工程］。保護層１４は、基材１６と金属細線層１５に跨って製膜される。
【０１０７】
さらに、スパッタ装置またはＣＶＤ装置によって、保護層１４の形成された基材１６上に透明導電層１３が製膜され［透明導電層形成工程］、この透明導電層１３の面上に、バーコーター等の塗布装置によってエレクトロクロミック化合物を含んだエレクトロクロミック溶液を塗布し、ＥＣ層１２を形成する［エレクトロクロミック層形成工程］。なお、エレクトロクロミック溶液の粘度またはレオロジーを調整するために、溶剤または塗料配合剤を添加してもよい。
【０１０８】
続いて、一方の調光フィルム１８のＥＣ層１２上に、電解質、高沸点溶剤およびバインダーを混合した電解質混合物を塗工し、他方の調光フィルム１８をＥＣ層１２Ａ・１２Ｂ同士が対向するように貼り合わせる。なお、必要に応じて、調光フィルム１８Ａ・１６Ｂの間にスペーサー２２を介在させ、シール材２１によって、電解質層を封止する。
【０１０９】
そして、貼り合わせた調光フィルム１８Ａ・１８Ｂに対して、熱または活性エネルギー線を照射して硬化させて一体化させる［一体化工程］。なお、一体化工程では、活性エネルギー線の一つであるＵＶ線を照射して硬化させて一体化させている。その後、必要に応じて給電部３１に給電線等を接続して、ＥＣ型調光素子１０が完成する。
【０１１０】
なお、以上の製法では、いわゆるサブトラクティブ法と略同一の工程により、金属細線層１５を形成したが、これに限定されるものではなく、例えば、セミアディティブ法と略同一の工程により、金属細線層１５は形成されてもよい。
【０１１１】
また、以上の製法では、フォトリソグラフィ法により金属薄膜をパターニングすることにより、金細細線層１５を形成したが、これに限定されるものではなく、例えば、レーザースクライブ法により金属薄膜をパターニングしてもよいし、インクジェットプリント法若しくはマイクロコンタクトプリント法等のプリント法によって、直接、金属細線Ｍ、ひいては金属細線層１５が形成されてもよい。
【０１１２】
≪≪その他≫≫
以上のようなＥＣ型調光素子１０において、透明導電層１３が、低抵抗性を十分に担保しているのであれば、図２に示すように、金属細線層１５および保護層１４を省略しても構わない。
【０１１３】
また、以上のようなＥＣ型調光素子１０は、ＥＣ層１２を２枚有しているが、これに限定されず、１枚のＥＣ層１２のみを有していてもよい。すなわち、２枚の一方の調光フィルム１８がＥＣ層１２を有していれば、他方の調光フィルム１８にはＥＣ層１２を設けなくてもよい。
【０１１４】
また、以上のようなＥＣ型調光素子１０は、基材１６の片面のみに、電極となる金属細線層１５・透明導電層１３を形成しているが、これに限定されることはなく、基材１６の両面に電極が形成されてもよい。
【実施例】
【０１１５】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。なお、各実施例および比較例における金属細線層および透明導電層の膜厚は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いた断面観察により求めた。
【０１１６】
まず、実施例１〜４および比較例１，２のＥＣ型調光素子を製造する場合に使用した電極フィルム１，２、および、電解質１〜３について説明する。なお、電極フィルムの製造には、ロールロールトゥロール方式が採用され、各製造工程の前後には、純水による洗浄・リンスと乾燥とを実施した。
【０１１７】
また、下記電極フィルム１、２の電極形成部分の全光線透過率は、全光線透過率測定装置（商品名：ＮＤＨ７０００、日本電色工業株式会社製）を用いて測定したところ、いずれも４０％以上であった。
【０１１８】
＜電極フィルム１＞
電極フィルム１は、平均厚み１２５μｍのハードコート付きＰＥＴフィルム（商品名：ＫＢフィルム１２５ＭＡＢＧ、株式会社きもと社製）を基材とする。そして、このＰＥＴフィルムの一方の主面には、膜厚２ｎｍの酸化インジウム錫層（以下、第１のＩＴＯ層ともいう）が形成される。
【０１１９】
この第１のＩＴＯ層の製膜は、酸化インジウム錫（酸化錫含有量：１０重量％）をターゲットとして、酸素とアルゴンとの混合ガスを装置内に導入しながら、酸素分圧２×１０−４Ｐａ、製膜室内圧力０．２Ｐａ、基板温度０℃、パワー密度４ｋＷの条件にて、スパッタリングで製膜された。
【０１２０】
次に、第１のＩＴＯ層上に、第２のＩＴＯ層が形成される。すなわち、ＰＥＴフィルムの主面上には、２層のＩＴＯ層が形成され、その両層を合わせた膜厚は、ＰＥＴフィルム上にて、１００ｎｍとされた。
【０１２１】
この第２のＩＴＯ層の製膜は、酸化インジウム錫（酸化錫含有量７重量％）をターゲットとして、酸素とアルゴンとの混合ガスを装置内に導入しながら、酸素分圧２×１０−３Ｐａ、製膜室内圧力０．２Ｐａ、基板温度０℃、パワー密度１２ｋＷの条件にて、スパッタリングで製膜された。
【０１２２】
次に、ＰＥＴフィルムのもう一方の主面、すなわちＩＴＯ層の積層面に対する逆の主面に、湿分バリア層が形成される。
【０１２３】
この湿分バリア層は、グラフト層を有するポリイソブチレン（商品名：ＳＩＢＳＴＡＲ１０３Ｔ−ＵＬ、株式会社カネカ製）１０重量部、紫外線吸収剤０．５重量部（商品名：ＴＩＮＵＶＩＮ３２６、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、光安定剤０．５重量部（商品名ＬＡ―５２、ＡＤＥＫＡ株式会社製）を、トルエン８９重量部に溶解させたものを塗工したものであり、乾燥後の膜厚は１μｍである。
【０１２４】
＜電極フィルム２＞
電極フィルム２は、易接着層付ＰＥＴフィルム（１００μｍ厚）の一方の主面に、２μｍ厚の純Ｃｕ層とその表面に黒化層（４０〜５０ｎｍ厚の酸化層）とを製膜されたＣｕ層付フィルム（商品名：１００−２０Ａ０、東レＫＰフィルム株式会社製）を基材とする。
【０１２５】
そして、このＣｕ層付フィルムの金属薄膜（銅層）上には、ポジ型レジスト（商品名：ＡＺ−６１１２、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社製）が、乾燥膜厚１μｍになるように塗布・乾燥された。
【０１２６】
次に、このレジスト膜は、フォトマスクを用いて、積算光量５０ｍＪ／ｃｍ２で露光された後に、現像液（商品名：ＡＺ４００Ｋの２５％希釈液、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社製）に浸漬することで現像され、さらに、純水でリンスされることで、レジストパターンとなった。
【０１２７】
そして、このレジストパターンを載せた金属薄膜は、酸化第二鉄水溶液を用いてエッチングされた後、純水でリンスされる。次に、レジストパターンは、剥離液（商品名：ＡＺ４００Ｋ、メルク株式会社製）で剥離された後、エッチングされた金属薄膜は、純粋でリンスされ、さらに乾燥された。
【０１２８】
以上のパターニング処理により、銅製の金属細線（幅：１５０μｍ、厚み：２μｍ、間隔：４８０μｍ）で形成された金属細線層が完成した。  
【０１２９】
また、この金属細線層上には、電極フィルム１と同様の条件で透明導電層が製膜され、さらに、金属細線層の積層面に対する逆の主面に、湿分バリア層が形成される。
【０１３０】
＜電解液１＞
電解液は、炭酸プロピレンを６４重量部、リチウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（商品名：エフトップＥＦ−Ｎ１１５、三菱マテリアル電子化成株式会社製）を２．９重量部、バインダー成分としてテレケリックポリアクリレート（商品名；ＲＣ２１０Ｃ（株）カネカ製）を３０重量部、脱水剤としてオルト酢酸メチル３g、光ラジカル開始剤として２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（商品名：ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を０．６７重量部、ビスアシルホスフィンオキサイド（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を０．３３重量部添加して良く混合して得た。
【０１３１】
＜電解液２＞
電解液１のオルト酢酸メチルの代わりに、ビニルメトキシシラン０．５重量部と
ジブチル錫オキサイドとフタル酸エステルの反応物０．１重量部とを加え、炭酸プロピレン６６．４重量部とした以外は、電解液１と同様の配合組成および方法で電解液を製造した。
【０１３２】
＜電解液３＞
電解液１のオルト酢酸メチルの代わりに、トシルイソシアネート１．５部を添加、炭酸プロピレンを６５．５部とした以外は、電解液１と同様の配合組成および方法で電解液を製造した。
【０１３３】
＜電解液０（比較用）＞
電解液１に脱水剤を添加せず、その分炭酸プロピレンを増量した以外は、電解液１と同様の方法で電解液を製造した。
【０１３４】
≪実施例１≫
実施例１のＥＣ型調光素子は、２枚の調光フィルムともに電極フィルム１を用いた。
【０１３５】
一方の調光フィルムは、電極フィルム１上に、エレクトロクロミック剤としてプルシアンブルー（商品名  ｗＦｅＨＣＦ分散液、関東化学株式会社製）を乾燥膜厚０．５μｍにしたＥＣ層を含む。なお、このプルシアンブルーはバーコーターで塗工され、１００℃で５分間乾燥した。
【０１３６】
他方の調光フィルムは、電極フィルム１の上に、エレクトロクロミック剤である導電性ポリマーＰＥＤＯＴ（商品名  ＭＣ−２００、化研産業株式会社製）を乾燥膜厚１μｍにしたＥＣ層を含む。なお、このＰＥＤＯＴも、バーコーターで塗工され、１００℃で５分間乾燥されている。
【０１３７】
また、このＰＥＤＯＴで形成されたＥＣ層を含む調光フィルムには、ＥＣ層の面にオレフィン系シール材（商品名：Ｎo．ＸＶＬ−９０Ｔ２、協立化学産業株式社製）が、１ｍｍ幅、１００μｍ厚で配置した。そして、このシール剤の枠内に、電解質１が、１００μｍの厚みになるまで充填した。
【０１３８】
そして、プルシアンブルーで形成されたＥＣ層を含む調光フィルムが、ＥＣ層の面を、電解質１およびシール部材に向けて、ＰＥＤＯＴで形成されたＥＣ層を含む調光フィルムに貼り合わせた。この後、両調光フィルムに対して、積算光量２０００ｍＪ／ｃｍ２のＵＶ光が照射されることにより、シール材が硬化する。そして、最後に、この一体化した両調光フィルムの端部が、アルミテープでシールされることで、実施例１のＥＣ型調光素子を得た。
【０１３９】
≪実施例２≫
実施例２のＥＣ型調光素子は、電極フィルム１を電極フィルム２に変更し、電解液を電解液２にした以外は実施例１と同様に製造した。
【０１４０】
≪実施例３≫
実施例３のＥＣ型調光素子は、実施例１の電解液を電解液３に変更、シール材を使用しなかったこと以外は実施例１と同様に製造した。
【０１４１】
≪実施例４≫
実施例４のＥＣ型調光素子は、実施例１のＥＣ型調光素子の両調光フィルムのバリア層側に１．１ｍｍ厚のガラス基板をアクリル系粘着剤（１ｍｍ厚）で貼り合わせて製造された。
【０１４２】
≪比較例１≫
比較例１のＥＣ型調光素子は、電解液０を用いた以外は実施例１と同様にして製造した。
【０１４３】
≪比較例２≫
比較例２のＥＣ型調光素子は、比較例１のＥＣ型調光素子のバリア層側に１．１ｍｍ厚のガラス基板をアクリル系粘着剤（１ｍｍ厚）で貼り合わせて製造した。
【０１４４】
≪ＥＣ型調光素子の耐久性試験≫
実施例１〜４および比較例１、２のＥＣ型調光素子に対して、以下の２つの環境下に置いた。
（１）キセノンウェザーメーター試験（照射エネルギー１８０Ｗ／ｍ２、
ブラックパネル温度＝６３℃、降雨照射／ドライ照射時間＝１８分／１２０分）
（２）耐湿熱試験（８５℃×１００％Ｒ．Ｈ．の条件で５００時間）
【０１４５】
所定時間経過後、調光フィルムの端部の給電部に、銅箔製の取出電極が付けられ、一度、＋２．０Ｖの電圧と−２．０Ｖの電圧とが交互に１０回繰り返す通電試験後に、電圧を−３Ｖの電圧を印加した状態から＋３Ｖの電圧を印加したときのエレクトロクロミック層の劣化状態（目視）を、遮光・透明モードの状態間の応答速度を測定した。そして、この測定結果と、試験前に行った上記同様の条件での応答速度の結果（初期応答速度）との比較で、評価を行った（下記表１参照）。
【０１４６】
なお、耐湿熱試験では、熱による調光フィルムの変形、膨張、または収縮の影響がわかる。この実験は、ガラスサポートのある実施例４および比較例２を用いた。
【０１４７】
【表１】
2018091910.tif 000003
【０１４８】
≪表１の総評≫
キセノンウェザーメーター試験および耐湿熱試験から、電解質層に脱水剤を含有する電解質層を有する実施例１〜４では、応答速度に遅延が生じたが、脱水剤を含有していない比較例１，２と違って、調光機能は消失しなかった。以上から、電解質層に脱水剤を含むことで、ＥＣ型調光素子は、水分に起因する機能低下を防止していることがわかる。
【符号の説明】
【０１４９】
１０        エレクトロクロミック型調光素子
１１        電解質層
１２        エレクトロクロミック層
１３        透明導電層
１４        保護層
１５        金属細線層
Ｍ          金属細線
１６        基材
１７        電極フィルム
１８        調光フィルム
２１        シール材
２２        スペーサー
【図１】
2018091910.tif 000004
【図２】
2018091910.tif 000005
【図３】
2018091910.tif 000006