(57)【要約】【課題】ハウジング外に放電器を取り出すことが容易なエキシマ光照射装置を提供する。【解決手段】エキシマ光照射装置は、放電器２と、当該放電器２が収納されたハウジング１と、当該放電器２が載置されている載置台４と、電極着脱機構５と、を備える。放電器２は、放電によってエキシマ光を生じる放電器であって、エキシマ光が照射される照射対象に対向する窓面２ａと、当該窓面２ａとは反対側に位置する背面２ｂと、を外周面の一部として有する。放電器２の窓面２ａには第１電極層３Ａが形成され、放電器２の背面２ｂには第２電極層３Ｂが形成されている。載置台４は、放電器２と共にハウジング１から引き出すことが可能である。電極着脱機構５は、電極部５３を有し、当該電極部５３を第２電極層３Ｂに対して着脱可能に接続する。そして、電極着脱機構５により電極部５３が第２電極層３Ｂから離脱した状態で、載置台４がハウジング１から引き出される。【選択図】図１
2018063830.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放電によってエキシマ光を生じる放電器であって、前記エキシマ光が照射される照射対象に対向する窓面と、当該窓面とは反対側に位置する背面と、を外周面の一部として有し、前記窓面に第１電極層が形成され、前記背面に第２電極層が形成された、放電器と、
前記放電器が収納されたハウジングと、
前記放電器が載置されており、前記放電器と共に前記ハウジングから引き出すことが可能な載置台と、
電極部を有し、当該電極部を前記第２電極層に対して着脱可能に接続する電極着脱機構と、
を備え、
前記電極着脱機構により前記電極部が前記第２電極層から離脱した状態で、前記載置台が前記ハウジングから引き出される、エキシマ光照射装置。
【請求項２】
前記電極着脱機構は、
第１端部と第２端部とを有し、これら両端部の間に設けられた支点周りに回動可能な梃子部と、
前記梃子部の第１端部に設けられ、前記梃子部を前記支点周りに回動させる際に使用される操作部と、
を更に有し、
前記電極部は、前記梃子部の第２端部に設けられており、前記梃子部の回動に応じて前記第２電極層に着脱する、請求項１に記載のエキシマ光照射装置。
【請求項３】
前記電極部は、
前記梃子部の第２端部に軸支されたアーム部と、
前記アーム部の両端部にそれぞれ設けられた一対の電極端子と、
を含む、請求項２に記載のエキシマ光照射装置。
【請求項４】
前記ハウジング内に配されており、前記放電器の背面に対向した主面と、当該主面とは反対側に位置する背面と、を有する基材と、
を更に備え、
前記電極着脱機構は、前記支点の位置で梃子部を支持する支持部を更に有し、
前記支持部は、前記基材の背面に設けられており、
前記操作部は、前記ハウジングの側壁の外面に設けられ、当該側壁に形成されたスリットを通じて前記梃子部の第１端部に連結されており、
前記電極部は、前記梃子部の回動に応じて移動可能な状態で、前記基材を貫通している、請求項２に記載のエキシマ光照射装置。
【請求項５】
前記電極部は、
前記梃子部の第２端部に軸支されたアーム部と、
前記アーム部の両端部にそれぞれ設けられた一対の電極端子と、
を有し、
前記一対の電極端子が、前記梃子部の回動に応じて移動可能な状態で、前記基材を貫通している、請求項４に記載のエキシマ光照射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エキシマ光照射装置に関し、特に、装置内の電力供給対象に対して外部電極を着脱させる技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造技術や環境技術の分野において、様々な処理に紫外線が用いられる。半導体製造技術の分野では、ドライ洗浄、表面活性化処理、及びソフトアッシング等の処理において紫外線が用いられる。又、環境技術の分野では、オゾン生成、水や大気の汚染浄化、及び超純水製造等の処理において紫外線が用いられる。そして、これらの用途で使用される紫外線には、エネルギの高い短波長の紫外線（真空紫外線）が適しており、真空紫外線の照射装置として、放電用ガスが封入された放電器を備えたエキシマ光照射装置が多く用いられている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
エキシマ光照射装置では、放電器に形成された一対の電極層に対して高周波電圧を印加することで、放電器において高周波放電を生じさせ、これによりエキシマ光が生成される。そして、電極層への電力供給には、電気ケーブルを用いることが一般的であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１５−２３０８３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来、エキシマ光照射装置において、放電器は、これを収納するハウジング内に固定されることでユニット化されていた。このため、何らかの原因で放電器が故障した場合や、放電器の寿命でエキシマ光の光量が低下した場合には、エキシマ光照射装置自体を取り替える必要があった。
【０００６】
又、放電器に形成されている電極層には、電気ケーブルが、電極層から容易に外れることがない様に半田付け等の手段で強固に接続されることが一般的である。このため、放電器がハウジングから分離可能であったとしても、電極層への電気ケーブルの接続が、放電器の取替えの妨げとなる。
【０００７】
更に、上記エキシマ光照射装置では、放電器での高周波放電時において、電極層に対して１０ｋＶ以上の電圧が印加されることがある。通常、電気ケーブルには、導電線を絶縁被膜で覆うことで絶縁対策が施されているが、この様な絶縁対策は、１０ｋＶ以上の電圧に対する絶縁対策としては不十分である。例えば、電気ケーブルが、装置内の他の導電箇所（例えば、放電器が収納されたハウジング等）に近づいてしまった場合、当該導電箇所との間で絶縁破壊が生じる虞がある。
【０００８】
そこで本発明の目的は、ハウジング外に放電器を取り出すことが容易なエキシマ光照射装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係るエキシマ光照射装置は、放電器と、当該放電器が収納されたハウジングと、当該放電器が載置されている載置台と、電極着脱機構と、を備える。放電器は、放電によってエキシマ光を生じる放電器であって、エキシマ光が照射される照射対象に対向する窓面と、当該窓面とは反対側に位置する背面と、を外周面の一部として有する。そして、放電器の窓面に第１電極層が形成され、放電器の背面に第２電極層が形成されている。載置台は、放電器と共にハウジングから引き出すことが可能である。電極着脱機構は、電極部を有し、当該電極部を第２電極層に対して着脱可能に接続する。そして、電極着脱機構により電極部が第２電極層から離脱した状態で、載置台がハウジングから引き出される。
【００１０】
上記エキシマ光照射装置によれば、電極着脱機構に対する簡単な操作で、第２電極層への電極部の着地と、第２電極層からの電極部の離脱と、を選択的に行うことができる。そして、電極部を第２電極層から離脱させることにより、載置台を、放電器と共にハウジングから引き出すことが可能になる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、ハウジング外に放電器を容易に取り出すことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】第１実施形態に係るエキシマ光照射装置を概念的に示した縦断面図である。
【図２】エキシマ光照射装置の構成を示したブロック図である。
【図３】エキシマ光照射装置における電極着脱機構の動作を示した縦断面図である。
【図４】エキシマ光照射装置が備える載置台の引出し状態を示した縦断面図である。
【図５】第２実施形態に係るエキシマ光照射装置を概念的に示した縦断面図である。
【図６】エキシマ光照射装置の構成を示したブロック図である。
【図７】エキシマ光照射装置が備える冷却部を示した分解斜視図である。
【図８】冷却部の他の例を示した分解斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
［１］第１実施形態
図１は、第１実施形態に係るエキシマ光照射装置を概念的に示した縦断面図である。又、図２は、当該エキシマ光照射装置の構成を示したブロック図である。図１に示される様に、エキシマ光照射装置は、ハウジング１と、放電器２と、第１電極層３Ａと、第２電極層３Ｂと、載置台４と、電極着脱機構５と、を備える。更に図２に示される様に、エキシマ光照射装置は、電力供給部８４と、センサ８５と、制御部８６と、を備える。尚、図１では、電極着脱機構５は、断面図とせずにそのままの外観が示されている。他の図においても同様である。
【００１４】
ハウジング１は、底壁１１と、側壁１２と、天壁１３と、から構成されており、これらで囲まれた空間内に、放電器２と、第１電極層３Ａと、第２電極層３Ｂと、載置台４と、電極着脱機構５と、が収納されている。又、ハウジング１の底壁１１には、後述する放電器２の窓面２ａから出射されたエキシマ光を通す開口部１４が形成されている。
【００１５】
放電器２は、薄箱形状を呈したフラット型の容器であり、放電用ガスが封入されている。具体的には、放電器２は、その全体が、エキシマ光を透過させる誘電体から形成されている。又、放電器２は、その厚さ方向に対して垂直な２つの平面を、外周面の一部として有している。そして、一方の平面が、エキシマ光の照射対象と開口部１４を通じて対向する窓面２ａとなる様に、ハウジング１内に放電器２が配されている。この様な放電器２の配置において、他方の平面は、窓面２ａとは反対側に位置する背面２ｂとなる。尚、放電器２は、放電用ガスが封入されるものに限らず、放電用ガスの導入及び排出が行われることにより放電器２内を通って放電用ガスが流れるものであってもよい。
【００１６】
放電器２の形成材料である誘電体には、例えば、紫外線の透過性に優れた石英又は合成石英を用いることができる。尚、放電器２の形成材料には、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム等のフッ化物が用いられてもよい。
【００１７】
放電器２は、封入（又は導入）される放電用ガスの種類に応じて、異なる波長のエキシマ光を生成する。従って、用途に応じて放電用ガスの種類を選択することにより、その用途に適した波長のエキシマ光を放電器２にて生成することができる。
【００１８】
第１電極層３Ａは、放電器２の窓面２ａに形成されており、グランドとして機能するハウジング１を介して、高周波電圧を出力する電力供給部８４に接続されている（図２参照）。一方、第２電極層３Ｂは、放電器２の背面２ｂに形成されており、第２電極層３Ｂには、後述する電極着脱機構５の電極部５３が着脱可能に接続され、当該電極部５３を介して電力供給部８４に接続される。従って、第１電極層３Ａと第２電極層３Ｂとの間に電力供給部８４によって高周波電圧が印加されることにより、電極層間に放電（高周波放電）を生じさせることができる。これにより、放電器２内の放電用ガスが励起し、その結果として放電器２内で生じたエキシマ光が、放電器２から放射される。尚、高周波電圧として、周波数は１ＭＨｚ以上２０ＭＨｚ以下であることが好ましく、又、電圧は１ｋＶ以上２０ｋＶ以下であることが好ましい。
【００１９】
具体的には、第１電極層３Ａは、窓面２ａから出射されたエキシマ光を均一に透過させることが可能な構成を有している。例えば、第１電極層３Ａには、網状を呈したものや、全域に亘って複数の開口が均一に分布したもの等が用いられる。尚、第１電極層３Ａは、これらに限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、第１電極層３Ａは、導電材料を窓面２ａに蒸着させて形成されたものであってもよい。第１電極層３Ａの形成材料には、ステンレス鋼、アルミニウム、アルミニウム合金、銅、酸化銅、金、銀など、種々の導電材料が用いられる。
【００２０】
一方、第２電極層３Ｂは、放電器２の背面２ｂの全域を覆っている。従って、第１電極層３Ａと第２電極層３Ｂとの間に高周波電圧が印加されたとき、放電器２内の全域で放電用ガスを均一に励起させることができ、その結果として放電器２内の全域でエキシマ光を均一に生じさせることができる。よって、窓面２ａから出射されるエキシマ光の光量分布も均一になり易い。又、放電器２の背面２ｂの全域が第２電極層３Ｂで覆われることにより、背面２ｂ側へのエキシマ光の漏出が防止される。
【００２１】
第２電極層３Ｂの形成材料には、第１電極層３Ａと同様、ステンレス鋼、アルミニウム、アルミニウム合金、銅、酸化銅、金、銀など、種々の導電材料が用いられる。尚、第２電極層３Ｂは、導電材料を背面２ｂに蒸着させて形成されたものであってもよい。この場合、第２電極層３Ｂは、背面２ｂの方へ向かってきたエキシマ光を窓面２ａ側へ効率良く反射するリフレクタとして機能する。
【００２２】
尚、放電器２の背面２ｂ側には、当該背面２ｂに対向すると共に第２電極層３Ｂに密着した状態で、遮光板（不図示）が配されてもよい。この遮光板は、放電器２の背面２ｂ側へのエキシマ光の漏出を防止する役割を担う。この様な場合、第２電極層３Ｂには、背面２ｂの全域を覆ったものに限らず、第１電極層３Ａと同様、網状を呈したものや、全域に亘って複数の開口が均一に分布したもの等が用いられてもよい。
【００２３】
載置台４は、ハウジング１の底壁１１の内面（図１において上面）に沿って配されたトレイ型の台であり、ハウジング１の側壁１２から引き出すことが可能な構造を有している。具体的には、載置台４には、放電器２が、その窓面２ａ及び背面２ｂに第１電極層３Ａ及び第２電極層３Ｂがそれぞれ形成された状態で載置されている。本実施形態では、放電器２は、図１における載置台４の上面に固定されている。又、載置台４には、放電器２の窓面２ａから出射されたエキシマ光を通す開口部４１が形成されている。
【００２４】
そして、載置台４は、ハウジング１に収納された収納位置（図１参照）と、ハウジング１から放電器２と共に引き出された引出し位置（図４参照）と、の間で、スライドさせることが可能な構造を有している。より具体的には、収納位置は、載置台４に設けられた開口部４１が、ハウジング１に設けられた開口部１４と一致する位置である。又、引出し位置は、収納位置から載置台４が横方向へスライドすることにより、放電器２全体がハウジング１外へ露出する位置である。
【００２５】
電極着脱機構５は、梃子部５１と、操作部５２と、電極部５３と、を有する。梃子部５１は、第１端部５１ａと第２端部５１ｂとを有し、これら両端部の間に設けられた支点５１ｃ周りに回動することが可能である。具体的には、ハウジング１内には、放電器２の背面２ｂに対向した主面６１ａを持った平板状の基材６１が配されており、当該主面６１ａとは反対側に位置する基材６１の背面６１ｂに、支点５１ｃの位置で梃子部５１を支持する支持部５４が突設されている。
【００２６】
操作部５２は、梃子部５１の第１端部５１ａに設けられており、梃子部５１を支点５１ｃ周りに回動させる際に使用される。具体的には、操作部５２は、ハウジング１の側壁１２の外面に設けられ、当該側壁１２に形成されたスリット１２ｂを通じて梃子部５１の第１端部５１ａに連結されている。本実施形態では、操作部５２に、当該操作部５２からスリット１２ｂを通って延びた連結部５５が一体的に形成されている。そして、連結部５５が梃子部５１の第１端部５１ａに軸支されることにより、操作部５２は、連結部５５を介して梃子部５１の第１端部５１ａに設けられている。
【００２７】
そして、操作部５２は、第２電極層３Ｂに電極部５３が着地する第１位置Ｐｓ１（図１参照）と、第２電極層３Ｂから電極部５３が離脱する第２位置Ｐｓ２（図３参照）と、の間で、スリット１２ｂに沿って（図１及び図３において上下方向に）往復移動させることが可能である。具体的には、第１位置Ｐｓ１及び第２位置Ｐｓ２は、梃子部５１において、操作部５２の移動に伴う次の様な動作が実現される様に設定されている。即ち、操作部５２が第１位置Ｐｓ１へ移動することにより、梃子部５１の第１端部５１ａが基材６１から離れる方向へ移動すると共に梃子部５１が支点５１ｃ周りに回動し、その結果として梃子部５１の第２端部５１ｂが基材６１に近づく方向へ移動する。一方、操作部５２が第２位置Ｐｓ２へ移動することにより、梃子部５１の第１端部５１ａが基材６１に近づく方向へ移動すると共に梃子部５１が支点５１ｃ周りに回動し、その結果として梃子部５１の第２端部５１ｂが基材６１から離れる方向へ移動する。
【００２８】
電極部５３は、梃子部５１の第２端部５１ｂに設けられており、梃子部５１の回動に応じて第２電極層３Ｂ（電力供給対象）に着脱する構成を有している。具体的には、電極部５３は、梃子部５１の第２端部５１ｂに軸支されたアーム部５３１と、当該アーム部５３１の両端部５３１ａ及び５３１ｂにそれぞれ設けられた一対の電極端子５３２と、を有する。そして、一対の電極端子５３２は、放電器２の背面２ｂに対して垂直に配された棒状の端子であり、梃子部５１の回動に応じて移動可能な状態で、基材６１を貫通している。本実施形態では、基材６１に、一対の電極端子５３２をそれぞれ通す２つの貫通孔６１ｄが形成されている。
【００２９】
この様な電極着脱機構５によれば、操作部５２が第１位置Ｐｓ１へ移動することにより（図１参照）、梃子部５１の第２端部５１ｂが基材６１に近く方向へ移動し、これに伴って電極部５３の一対の電極端子５３２が第２電極層３Ｂへ近づく方向へ移動する。その結果として、電極端子５３２の先端が第２電極層３Ｂに着地することになる。一方、操作部５２が第２位置Ｐｓ２へ移動することにより（図３参照）、梃子部５１の第２端部５１ｂが基材６１から離れる方向へ移動し、これに伴って一対の電極端子５３２が第２電極層３Ｂから離れる方向へ移動する。その結果として、電極端子５３２の先端が第２電極層３Ｂから離脱することになる。
【００３０】
この様に、電極着脱機構５によれば、操作部５２で梃子部５１を回動させるといった簡単な操作で、第２電極層３Ｂへの一対の電極端子５３２の着地と、第２電極層３Ｂからの一対の電極端子５３２の離脱と、を選択的に行うことができる。よって、第２電極層３Ｂ（電力供給対象）に対する外部電極（本実施形態では、一対の電極端子５３２）の着脱を容易に行うことができる。
【００３１】
制御部８６は、エキシマ光照射装置の各部を制御する。具体的には、第２電極層３Ｂに電極部５３（本実施形態では一対の電極端子５３２）が接続された状態で、制御部８６は、電力供給部８４を制御して第１電極層３Ａ及び第２電極層３Ｂの間に高周波電圧を印加することにより、電極層間に放電（高周波放電）を生じさせ、その結果として放電器２の窓面２ａからエキシマ光を出射させる。
【００３２】
高周波放電時において、放電器２の窓面２ａと照射対象との間には、不活性ガスが供給されることが好ましい。即ち、窓面２ａと照射対象との間において、エキシマ光を吸収し易い酸素ガスの濃度を低くすることが好ましい。この様に不活性ガスを供給することにより、放電器２の窓面２ａから出射されたエキシマ光を、照射対象に対して効率良く照射することが可能となる。
【００３３】
上述したエキシマ光照射装置において、制御部８６は、放電器２から放射されるエキシマ光の光量をセンサ８５（図２参照）で検出し、その検出結果に基づいて電力供給部８４を制御してもよい。この場合、制御部８６は、センサ８５の検出結果に基づいて、当該電力供給部８４から出力される高周波電圧を昇降させる。これにより、エキシマ光照射装置からのエキシマ光の出射量をフィードバック制御することができ、照射対象に対して安定してエキシマ光を供給することが可能になる。
【００３４】
又、本実施形態のエキシマ光照射装置によれば、ハウジング１から放電器２を取り出すことができる。放電器２を取り出す場合、先ず、電極着脱機構５において、操作部５２を第２位置Ｐｓ２に移動させることにより、電極部５３（本実施形態では一対の電極端子５３２）を第２電極層３Ｂから離脱させる（図３参照）。その後、載置台４を、収納位置から引出し位置へスライドさせる（図４参照）。これにより、載置台４が、放電器２と共にハウジング１外へ引き出され、その結果として、放電器２全体がハウジング１外に露出することになる。
【００３５】
従って、何らかの原因で放電器２が故障した場合や、放電器２の寿命でエキシマ光の光量が低下した場合、ハウジング１外に放電器２を容易に取り出すことができる。又、載置台４に新たな放電器２を載置し、その後、載置台４を収納位置へスライドさせるといった簡易な操作で、放電器２の取替えを行うことができる。
【００３６】
又、上述した電極着脱機構５によれば、電極部５３（主に一対の電極端子５３２）を、装置内の他の導電箇所（例えば、ハウジング１等）から離した状態で維持することができる。又、電極端子５３２には、電気ケーブルの様な撓みを生じさせる必要がないため、電気ケーブルに施される絶縁対策よりも強靭な絶縁対策を施し易い。よて、エキシマ光照射装置内において、１０ｋＶ以上の電圧に耐え得る絶縁対策が、簡易な構成で実現される。
【００３７】
［２］第２実施形態
上述したエキシマ光照射装置は、放電器２を冷却する冷却部６を更に備えていてもよい。図５は、第２実施形態に係るエキシマ光照射装置を概念的に示した縦断面図である。又、図６は、当該エキシマ光照射装置の構成を示したブロック図である。図６に示される様に、第２実施形態のエキシマ光照射装置は、ガス供給部８１と、冷媒供給部８２と、を更に備える。
【００３８】
図５に示される様に、冷却部６は、上述した基材６１に構築されている。具体的には、冷却部６は、放電器２の背面２ｂ上方の位置にて基材６１の主面６１ａに形成された噴射口６２を有し、当該噴射口６２から放電器２の背面２ｂに向けて冷却ガスを噴き出す。本実施形態では、噴射口６２は、放電器２の背面２ｂの中心位置（本実施形態では、第２電極層３Ｂの中心位置）に冷却ガスが噴き付けられる様に、当該中心位置と対向する位置に配されている。尚、図５には、噴射口６２から噴き出した冷却ガスの流れが、太線矢印で示されている。
【００３９】
具体的には、基材６１には、噴射口６２へ冷却ガスを導くガス流路６３と、ガス流路６３内の冷却ガスを冷却する冷媒が流れる冷媒流路６４と、が形成されている。そして、ガス流路６３の入口と、冷媒流路６４の入口及び出口とが、何れも、基材６１が持つ同じ側面６１ｃに形成されている（図５参照）。
【００４０】
そして、冷却ガスは、ガス供給部８１（図６参照）により、ハウジング１の側壁１２に設けられたガス導入口１２ａを通じてガス流路６３に導入される。冷却ガスには、窒素ガス等の不活性ガスが用いられる。又、冷媒は、冷媒供給部８２（図６参照）により、ハウジング１の側壁１２に設けられた冷媒導入口（不図示）を通じて冷媒流路６４に導入され、当該冷媒流路６４を流れた後、ハウジング１の側壁１２に設けられた冷媒排出口（不図示）を通じてハウジング１外に排出される（図７参照）。冷媒には、水等、熱交換率の高い液体が用いられる。尚、冷媒には、熱交換率の高いガスが用いられてもよい。
【００４１】
本実施形態では、放電器２は、開口部４１に通じる間隙４２を載置台４との間に設けた状態で載置台４に固定されている。具体的には、放電器２は、その横幅が開口部４１の幅より小さく（何れの幅も図５において横方向の幅）、図５の紙面に垂直な方向における両端部が、図５における載置台４の上面に固定されている。よって、放電器２の背面２ｂ（本実施形態では、第２電極層３Ｂ）に噴き付けられた冷却ガスは、放電器２の背面２ｂに沿って流れた後、放電器２と載置台４との間に設けられている間隙４２を通って、開口部１４からハウジング１外に排出される（図５に示された太線矢印参照）。
【００４２】
図７は、冷却部６を示した分解斜視図である。図７に示される様に、冷却部６の基材６１は、３枚の平板６１Ａ〜６１Ｃを貼り合わせて構成されている。そして、平板６１Ａは、主面６１ａとなる第１平面６１Ａａと、それとは反対側に位置する第２平面６１Ａｂと、を有し、当該第２平面６１Ａｂに、ガス流路６３を構成するスリット状の溝６３ａが凹設されている。第２平板６１Ｂは、平板６１Ａの第２平面６１Ａｂに貼り付けられる第１平面６１Ｂａと、それとは反対側に位置する第２平面６１Ｂｂと、を有し、当該第２平面６１Ｂｂに、冷媒流路６４を構成するスリット状の溝６４ａが凹設されている。３枚の平板６１Ａ〜６１Ｃを貼り合わせる際には、これらが直接的に貼り合わされてもよいし、それぞれの間にオーリング等のシール材を介在させて貼り合わされてもよい。
【００４３】
本実施形態では、ガス流路６３を構成する溝６３ａは、平板６１Ａの第２平面６１Ａｂにおいて、基材６１の側面６１ｃと一致する端縁に入口が設けられており、当該入口の位置から噴射口６２の位置まで直線的に延びている。又、冷媒流路６４を構成する溝６４ａは、平板６１Ｂの第２平面６１Ｂｂにおいて、基材６１の側面６１ｃと一致する端縁に入口及び出口が設けられており、平板６１Ａ〜６１Ｃの積層方向から見てガス流路６３の周りを、入口の位置から出口の位置までＵ字状に延びている。
【００４４】
本実施形態のエキシマ光照射装置では、制御部８６は、放電器２での高周波放電時において、ガス供給部８１及び冷媒供給部８２を制御することにより、ガス流路６３に冷却ガスを流すと共に、冷媒流路６４に冷媒を流す。これにより、放電器２内で生じた熱の影響で冷却部６自体の温度が上昇した場合であっても、ガス流路６３内に導入された冷却ガスを、放電器２の冷却に適した所定温度に維持しつつ噴射口６２まで導くことができる。
【００４５】
そして、放電器２の冷却に適した温度の冷却ガスが、噴射口６２から放電器２の背面２ｂに向けて噴き出し、これにより、放電器２の背面２ｂに冷却ガスが噴き付けられる。本実施形態では、放電器２の背面２ｂに第２電極層３Ｂが形成されているため、冷却ガスは、第２電極層３Ｂに噴き付けられる。そして、第２電極層３Ｂが冷却ガスで冷却されることにより、当該第２電極層３Ｂを通じて放電器２が冷却される。この様に、放電器２の背面２ｂに対して上方から冷却ガスが噴き付けられることにより、放電器２が効率良く冷却される。よって、放電器２内における放電用ガスの過度な温度上昇が抑制され、その結果、エキシマ光の生成効率の低下が防止される。又、放電器２自身の過度な温度上昇が抑制され、その結果、放電器２におけるエキシマ光の透過率の低下が防止される。
【００４６】
又、放電器２の背面２ｂに噴き付けられた冷却ガスは、当該背面２ｂに沿って流れた後、放電器２と載置台４との間に設けられている間隙４２を通って、開口部１４からハウジング１外に排出される。従って、開口部１４と照射対象との間において、冷却ガスの主成分である不活性ガスの濃度が高くなる。即ち、開口部１４と照射対象との間において、エキシマ光を吸収し易い酸素ガスの濃度が低くなる。よって、放電器２の窓面２ａから出射されたエキシマ光は、照射対象に対して効率良く照射される。
【００４７】
本実施形態のエキシマ光照射装置は、窒素等のガスの付着が許容される液晶パネル等をエキシマ光の照射対象とする場合に適している。
【００４８】
尚、載置台４に設けられた開口部４１、又はハウジング１に設けられた開口部１４は、何れかが透光板等で密閉されていてもよい。この場合、放電器２の背面２ｂ（本実施形態では、第２電極層３Ｂ）に噴き付けられた冷却ガスは、開口部１４からは漏れ出さず、例えばハウジング１の側壁１２に設けられたガス排出口（不図示）を通じてハウジング１外に排出される。この様なエキシマ光照射装置は、窒素等のガスの付着を嫌う半導体ウェハ等をエキシマ光の照射対象とする場合に適している。
【００４９】
図８は、冷却部６の他の例を示した分解斜視図である。図８に示される様に、冷却部６は、基材６１の主面６１ａに噴射口６２が複数形成されたものであってもよい。この場合、基材６１には、複数の噴射口６２の何れにも通じる空洞６５がガス流路６３の一部として形成されていることが好ましい。又、複数の噴射口６２は、放電器２の背面２ｂの中央領域又はそれに限定されない広い範囲に亘って分布させることができる。
【００５０】
この様な冷却部６によれば、ガス流路６３に導入された冷却ガスを、複数の噴射口６２から効率良く噴射させることができる。具体的には、噴射口６２からの冷却ガスの噴射量にばらつきが生じ難くなる。従って、複数の噴射口６２のそれぞれから噴き出した冷却ガスは、放電器２の背面２ｂの広い範囲に亘って均一に噴き付けられる。よって、放電器２を、より効率良く冷却することができる。
【００５１】
尚、冷却部６に形成されるガス流路６３及び冷媒流路６４の構成は、本実施形態で説明したものに限らず、種々の変形が可能である。又、冷却部６の基材６１は、平板状のものに限定されず、バルク状のものであってもよい。更に、冷却部６は、３枚の平板６１Ａ〜６１Ｃを貼り合わせて構成されたものに限らず、噴射口６２に冷却ガスを導くことのできる種々の構成に変形することが可能である。
【００５２】
更に、エキシマ光照射装置は、冷却ガスを用いずに放電器２を背面２ｂ側から冷却する構成を有していてもよい。例えば、冷却部６の基材６１と第２電極層３Ｂとの間に放熱材を挟み込むことにより、放電器２で生じた熱を基材６１へ効率良く移動させてもよい。この場合、基材６１へ移動した熱は、冷媒流路６４を流れる冷媒を介して外部へ放出される。
【００５３】
［３］他の実施形態
上述した電極着脱機構５は、上述した構成に限らず、種々の変形が可能である。例えば、電極部５３は、電極端子５３２を１つだけ有したものであってもよいし、電極端子５３２を３つ以上有したものであってもよい。又、電極着脱機構５には、梃子部５１の回動に伴う電極部５３の移動をガイドするガイド部（不図示）が設けられていてもよい。更に、電極着脱機構５は、第２電極層３Ｂに対する電極端子５３２の着脱をエアシリンダやモータ等の駆動機構で行う構成を有していてもよい。
【００５４】
又、上述した電極着脱機構５は、エキシマ光照射装置に限定されない種々の装置内において、電力供給対象への外部電極の接続に適用することができる。
【００５５】
上述の実施形態の説明は、すべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上述の実施形態ではなく、特許請求の範囲によって示される。更に、本発明の範囲には、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。
【符号の説明】
【００５６】
１  ハウジング
２  放電器
２ａ  窓面
２ｂ  背面
３Ａ  第１電極層
３Ｂ  第２電極層
４  載置台
５  電極着脱機構
６  冷却部
１１  底壁
１２  側壁
１２ａ  ガス導入口
１２ｂ  スリット
１３  天壁
１４  開口部
４１  開口部
４２  間隙
５１  梃子部
５１ａ  第１端部
５１ｂ  第２端部
５１ｃ  支点
５２  操作部
５３  電極部
５４  支持部
５５  連結部
６１  基材
６１ａ  主面
６１ｂ  背面
６１ｃ  側面
６１ｄ  貫通孔
６１Ａ、６１Ｂ、６１Ｃ  平板
６１Ａａ、６１Ｂａ  第１平面
６１Ａｂ、６１Ｂｂ  第２平面
６２  噴射口
６３  ガス流路
６４  冷媒流路
６３ａ、６４ａ  溝
６５  空洞
８１  ガス供給部
８２  冷媒供給部
８４  電力供給部
８５  センサ
８６  制御部
５３１  アーム部
５３１ａ、５３１ｂ  端部
５３２  電極端子
Ｐｓ１  第１位置
Ｐｓ２  第２位置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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