(57)【要約】【課題】表面の平滑性に優れ、かつ優れた密着性を有する反射防止膜を備えた光学物品及びその製造方法を提供すること。【解決手段】基材と、上記基材上に積層された反射防止膜とを有する光学物品であって、上記反射防止膜は、シリカ粒子、シロキサン化合物、及びバインダー樹脂を含み、上記バインダー樹脂の重量平均分子量が５０，０００〜５，０００，０００である、光学物品及びその製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、前記基材上に積層された反射防止膜とを有する光学物品であって、
前記反射防止膜は、シリカ粒子、シロキサン化合物、及びバインダー樹脂を含み、
前記バインダー樹脂の重量平均分子量が５０，０００〜５，０００，０００である、
光学物品。
【請求項２】
前記バインダー樹脂の重量平均分子量が、１００，０００〜５，０００，０００である、請求項１に記載の光学物品。
【請求項３】
前記バインダー樹脂の重量平均分子量が、１，０００，０００〜５，０００，０００である、請求項１又は２に記載の光学物品。
【請求項４】
前記反射防止膜における、前記シリカ粒子の含有量と前記シロキサン化合物の含有量の合計に対する前記バインダー樹脂の含有量の比率が、５〜２０質量％である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学物品。
【請求項５】
前記反射防止膜における、前記シリカ粒子の含有量と前記シロキサン化合物の含有量の合計に対する前記バインダー樹脂の含有量の比率が、５〜１０質量％である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学物品。
【請求項６】
前記基材の表面の水の接触角が５０°以下である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学物品。
【請求項７】
前記バインダー樹脂が、親水性樹脂である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学物品。
【請求項８】
前記シロキサン化合物が、アルコキシシランの加水分解縮合物である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学物品。
【請求項９】
前記シロキサン化合物が、テトラエトキシシランの加水分解縮合物である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学物品。
【請求項１０】
前記反射防止膜の表面粗さが５０ｎｍ以下である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学物品。
【請求項１１】
基材上に反射防止膜形成用組成物を塗布して塗膜を形成する工程（１）と、
前記塗膜を加熱する工程（２）と、を有し、
前記反射防止膜形成用組成物は、シリカ粒子、アルコキシシラン又はアルコキシシランの加水分解縮合物、及びバインダー樹脂を含み、
前記バインダー樹脂の重量平均分子量が５０，０００〜５，０００，０００である、光学物品の製造方法。
【請求項１２】
前記工程（１）の前に、
前記基材の表面を親水化処理する工程（０）を有し、
前記工程（０）で親水化処理された基材の表面に、前記工程（１）により反射防止膜形成用組成物を塗布して塗膜を形成する、請求項１１に記載の光学物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学物品及び光学物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、カメラのレンズ、監視カメラに用いられるカバー部材などの光学物品には、高画質の画像を撮影するために、表面に反射防止膜が設けられることがある。反射防止膜としては、種々の態様が知られているが、例えば、特許文献１には、特定のアルコキシシランを有機溶媒中で加水分解して得られたシリカ前駆体と、酸性シリカ粒子分散液とを含む低屈折率組成物を基材に塗布し、加熱乾燥することにより、低屈折率層（反射防止膜）を形成することが記載されている。
また、特許文献２には、シリカ粒子と水溶性樹脂とを含有する反射防止膜が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第４８３０４６１号公報
【特許文献２】特開平１１−２８１８０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１の反射防止膜は、膜の表面粗さが大きく（表面の平滑性に劣り）、ヘイズが大きいという問題があった。
また、特許文献２の反射防止膜は、基材と反射防止膜の密着性の観点で改善の余地がある。
本発明の課題は、表面の平滑性に優れ、かつ優れた密着性を有する反射防止膜を備えた光学物品及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
特許文献１の反射防止膜の表面粗さが大きいという問題について、本発明者らはその原因を検討したところ、以下の知見を得た。
すなわち、シリカ前駆体であるアルコキシシランとシリカ粒子とを含む組成物を、加熱乾燥すると、アルコキシシランの加水分解縮合反応により、膜が硬化する際に、シリカ粒子が凝集し、膜の表面が荒れてしまうことが分かった。
【０００６】
本発明者らは、鋭意研究を重ね、シリカ粒子、シロキサン化合物、及び特定の重量平均分子量のバインダー樹脂を含む反射防止膜により上記課題を解決できることを見出した。本発明による上記課題解決の機構の詳細は完全には明らかではないが、本発明者らは以下のように考えている。
反射防止膜形成用の組成物中に特定の重量平均分子量のバインダー樹脂が含まれていると、組成物中のバインダー樹脂の含有量が少量であっても、組成物（溶液）の粘度を高くすることができるため塗布性が向上し、更に、アルコキシシランの加水分解縮合反応による硬化の際に、シリカ粒子の流動を抑制できるため、シリカ粒が凝集しにくくなり、膜の表面の荒れを防止することができると考えられる。
更に、バインダー樹脂がシリカ粒子間の接着剤として作用するので、基材と反射防止膜の密着性も高めることができると考えられる。
【０００７】
すなわち、本発明の課題は、下記の手段によって解決できる。
【０００８】
＜１＞
基材と、上記基材上に積層された反射防止膜とを有する光学物品であって、
上記反射防止膜は、シリカ粒子、シロキサン化合物、及びバインダー樹脂を含み、
上記バインダー樹脂の重量平均分子量が５０，０００〜５，０００，０００である、
光学物品。
＜２＞
上記バインダー樹脂の重量平均分子量が、１００，０００〜５，０００，０００である、＜１＞に記載の光学物品。
＜３＞
上記バインダー樹脂の重量平均分子量が、１，０００，０００〜５，０００，０００である、＜１＞又は＜２＞に記載の光学物品。
＜４＞
上記反射防止膜における、上記シリカ粒子の含有量と上記シロキサン化合物の含有量の合計に対する上記バインダー樹脂の含有量の比率が、５〜２０質量％である、＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の光学物品。
＜５＞
上記反射防止膜における、上記シリカ粒子の含有量と上記シロキサン化合物の含有量の合計に対する上記バインダー樹脂の含有量の比率が、５〜１０質量％である、＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の光学物品。
＜６＞
上記基材の表面の水の接触角が５０°以下である、＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の光学物品。
＜７＞
上記バインダー樹脂が、親水性樹脂である、＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の光学物品。
＜８＞
上記シロキサン化合物が、アルコキシシランの加水分解縮合物である、＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の光学物品。
＜９＞
上記シロキサン化合物が、テトラエトキシシランの加水分解縮合物である、＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載の光学物品。
＜１０＞
上記反射防止膜の表面粗さが５０ｎｍ以下である、＜１＞〜＜９＞のいずれか１つに記載の光学物品。
＜１１＞
基材上に反射防止膜形成用組成物を塗布して塗膜を形成する工程（１）と、
上記塗膜を加熱する工程（２）と、を有し、
上記反射防止膜形成用組成物は、シリカ粒子、アルコキシシラン又はアルコキシシランの加水分解縮合物、及びバインダー樹脂を含み、
上記バインダー樹脂の重量平均分子量が５００００〜５００００００である、光学物品の製造方法。
＜１２＞
上記工程（１）の前に、
上記基材の表面を親水化処理する工程（０）を有し、
上記工程（０）で親水化処理された基材の表面に、上記工程（１）により反射防止膜形成用組成物を塗布して塗膜を形成する、＜１１＞に記載の光学物品の製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、表面の平滑性に優れ、かつ優れた密着性を有する反射防止膜を備えた光学物品及びその製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明について詳細に説明する。
本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
【００１１】
［光学物品］
本発明の光学物品は、
基材と、上記基材上に積層された反射防止膜とを有する光学物品であって、
上記反射防止膜は、シリカ粒子、シロキサン化合物、及びバインダー樹脂を含み、
上記バインダー樹脂の重量平均分子量が５０，０００〜５，０００，０００である、
光学物品である。
【００１２】
＜反射防止膜＞
本発明の光学物品は反射防止膜を有する。反射防止膜は、少なくとも、シリカ粒子、シロキサン化合物、及びバインダー樹脂を含む。
以下、反射防止膜に含まれる成分について詳細に説明する。
【００１３】
（シリカ粒子）
反射防止膜に含まれるシリカ粒子のサイズ（１次粒径）は、１〜５０ｎｍであることが好ましく、３〜１５ｎｍであることがより好ましい。
【００１４】
≪シリカ粒子の含有量≫
反射防止膜中のシリカ粒子の含有量は反射防止膜の全質量に対して１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜５０質量％であることがより好ましい。
【００１５】
（シロキサン化合物）
反射防止膜に含まれるシロキサン化合物は、その原料であるアルコキシシラン（又はその加水分解縮合物）を加熱することにより生成されるものである。
シロキサン化合物の原料となるアルコキシシランとしては、１分子中に２個以上のアルコキシ基を有するアルコキシシランであることが好ましく、２〜４個のアルコキシ基を有するアルコキシシランであることがより好ましく、下記一般式（１）で表されるアルコキシシランであることが更に好ましい。
【００１６】
【化１】
2018063369.tif 000002
【００１７】
一般式（１）中、ｎは２〜４の整数を表す。Ｒ１は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、又はアリール基を表し、複数存在する場合は各々同じでも異なっていてもよい。Ｒ２はアルキル基を表し、複数のＲ２は各々同じでも異なっていてもよい。
【００１８】
Ｒ１がアルキル基を表す場合、炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、炭素数１〜６のアルキル基がより好ましい。
Ｒ１がシクロアルキル基を表す場合、炭素数６〜１０のシクロアルキル基が好ましい。
Ｒ１がアルケニル基を表す場合、炭素数２〜１０のアルケニル基が好ましく、炭素数２〜６のアルケニル基がより好ましい。
Ｒ１がアリール基を表す場合、炭素数６〜１０のアリール基が好ましい。
【００１９】
Ｒ２が表すアルキル基は、炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、炭素数１〜６のアルキル基がより好ましい。
【００２０】
１分子中に２個のアルコキシ基を有するアルコキシシランの例としては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジメチルジ（ｎ−プロポキシ）シラン、ジメチルジ（イソ−プロポキシ）シラン、ジメチルジ（ｓｅｃ−ブトキシキシ）シラン、ジメチルジ（ｔｅｒｔ−ブトキシキシ）シラン、ジエチルジ（ｎ−プロポキシ）シラン、ジエチルジ（イソ−プロポキシ）シラン、ジエチルジ（ｓｅｃ−ブトキシキシ）シラン、ジエチルジ（ｔｅｒｔ−ブトキシキシ）シラン、などが挙げられる。
１分子中に３個のアルコキシ基を有するアルコキシシランの例としては、トリメトキシラン、トリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、などが挙げられる。
１分子中に４個のアルコキシ基を有するアルコキシシランの例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルテトラメトキシシラン、メチルテトラエトキシシラン、エチルテトラメトキシシラン、エチルテトラエトキシシラン、プロピルテトラメトキシシラン、プロピルテトラエトキシシラン、イソブチルテトラメトキシシラン、イソブチルテトラエトキシシラン、シクロヘキシルテトラメトキシシラン、フェニルテトラメトキシシラン、フェニルテトラエトキシシラン、ビニルテトラメトキシシラン、ビニルテトラエトキシシラン、アリルテトラメトキシシラン、アリルテトラエトキシシラン、などが挙げられる。
【００２１】
反射防止膜に含まれるシロキサン化合物としては、アルコキシシランの加水分解縮合物であることが好ましく、テトラエトキシシランの加水分解縮合物であることがより好ましい。
【００２２】
（バインダー樹脂）
反射防止膜に含まれるバインダー樹脂は、親水性樹脂であることが好ましい。
【００２３】
親水性樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂〔ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、アセトアセチル変性ポリビニルアルコール、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、シラノール変性ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール等〕、ポリビニルアセタール、セルロース系樹脂〔メチルセルロース（ＭＣ）、エチルセルロース（ＥＣ）、ヒドロキシエチルセルロース（ＨＥＣ）、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）等〕、キチン類、キトサン類、デンプン、エーテル結合を有する樹脂であるポリエチレンオキサイド（ＰＥＯ）、ポリプロピレンオキサイド（ＰＰＯ）、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）、ポリビニルエーテル（ＰＶＥ）、アミド基またはアミド結合を有する樹脂であるポリアクリルアミド（ＰＡＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、解離性基としてカルボキシル基を有するポリアクリル酸塩、マレイン酸樹脂、アルギン酸塩、ゼラチン類等が挙げられる。
これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
親水性樹脂としては、上記の中でもポリビニルアルコール系樹脂、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドンが好ましく、ポリビニルアルコール系樹脂がより好ましい。
【００２４】
≪バインダー樹脂の重量平均分子量≫
バインダー樹脂の重量平均分子量は、５０，０００〜５，０００，０００であるが、バインダー樹脂の重量平均分子量は１００，０００〜５，０００，０００であることが好ましく、１，０００，０００〜５，０００，０００であることがより好ましい。
バインダー樹脂の重量平均分子量が５００００〜５００００００であると、反射防止膜形成用組成物の粘度を所望の範囲にすることができ、シリカ粒子の凝集を抑制できる。また、塗布性が向上し、反射防止膜表面の平滑性を良好にすることができる。
【００２５】
バインダー樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、ＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー）法により測定したポリスチレン換算値である。なお標準ポリスチレンとしては、ＴＳＫ−Ｓｔａｎｄａｒｄ（東ソー（株）製）を使用した。ＧＰＣは、ＨＬＣ−８２２０（東ソー（株）製）を用い、カラムとしてＴＳＫ  ｇｅｌ  ＧＭＨＸＬ、ＴＳＫ  ｇｅｌ  Ｇ４０００ＨＸＬ、およびＴＳＫ  ｇｅｌ  Ｇ２０００ＨＸＬ（東ソー（株）製、７．８ｍｍＩＤ×３０．０ｃｍ）を、溶離液としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を、検出器として示唆屈折計（ＲＩ）検出器を用いて測定した。
詳細な測定条件を以下に示す。
・試料濃度：０．１質量％
・流速：サンプル部０．３５ｍＬ／分、リファレンス部０．２０ｍＬ／分
・試料注入量：１０μＬ
・測定温度：４０℃
【００２６】
反射防止膜中に含まれるシリカ粒子の含有量とシロキサン化合物の含有量の合計に対するバインダー樹脂の含有量の比率は５〜２０質量％であることが好ましく、５〜１０質量％であることがより好ましい。シリカ粒子の含有量とシロキサン化合物の含有量の合計に対するバインダー樹脂の含有量の比率が５質量％以上であると、反射防止膜形成用の組成物の粘度を高くすることができ、反射防止膜表面の平滑性をより高めることができる。また、上記バインダー樹脂の含有量の比率が２０質量％以下であると、反射防止膜の屈折率を低くすることができる。
【００２７】
（その他の成分）
反射防止膜には、シリカ粒子、シロキサン化合物、及びバインダー樹脂の他に、適宜その他の成分を含んでいてもよい。たとえば、粒子の分散性を高める為に各種の無機塩類、ｐＨ調整剤として酸又はアルカリを含んでいてもよい。また塗布性や表面品質を高める目的で各種の界面活性剤を使用してもよい。表面の摩擦帯電や剥離帯電を抑制する為、イオン導電性を持つ界面活性剤や電子導電性を持つ金属酸化物微粒子を含んでいてもよい。
【００２８】
また反射防止膜と基材との間に接着性を高めたり、電気抵抗を調整する等の目的で下塗層を設けてもよい。さらに反射防止膜は、基材の片面に設けても良いし、表面と裏面の反射を抑制する為に、基材の両面に設けても良い。
【００２９】
反射防止膜の膜厚は、可視光域（３８０〜７８０ｎｍ）の反射防止性能の観点から、８０〜２００ｎｍであることが好ましい。
【００３０】
反射防止膜の屈折率は、１．３５以下であることが好ましく、１．２５以下であることがより好ましい。
【００３１】
反射防止膜の表面粗さは、５０ｎｍ以下であることが好ましく、２５ｎｍ以下であることがより好ましい。表面粗さは日本工業規格（ＪＩＳ）  Ｂ０６０１：２００１に準拠して測定される。
【００３２】
＜基材＞
本発明の光学物品の基材としては、特に限定はないが、光学基材であることが好ましく、レンズ、カバー部材であることがより好ましい。特に、カバー部材としては、ドーム形状のカバー部材であることが好ましく、監視カメラ用のカバー部材であることが更に好ましい。
【００３３】
基材を構成する素材としては、特に限定はないが、樹脂が好ましく、具体的には、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリアクリロニトリル、ポリイミド等、各種の透明な樹脂が例示される。
また、各種の化合物を添加したナノコンポジット樹脂等であってもよい。
更に、基材は、上記樹脂のみで形成されるものに限定されず、表面に、保護層、密着層、遮光層、緩衝層、応力緩和層等の、各種の機能を得るための層（膜）が形成されているものであってもよい。
【００３４】
基材の表面は親水化処理されていることが好ましい。特に、反射防止膜が積層される側の表面が親水化処理されており、水の接触角が５０°以下となっていると、基材と反射防止膜との密着性を高めることができる。
基材表面の水の接触角は３０°以下であることがより好ましく、１０°以下であることがさらに好ましい。
親水化処理の方法については後述する。
なお、水の接触角は以下の条件で測定する。
測定装置：協和界面科学社製ＤＭ−５０１      
液：純水      
液量：２．０μｌ      
測定温度：２５℃      
測定手法：液滴法、θ／２法。着滴１秒後に測定。  
【００３５】
［光学物品の製造方法］
本発明の光学物品の製造方法は、
基材上に反射防止膜形成用組成物を塗布して塗膜を形成する工程（１）と、
上記塗膜を加熱する工程（２）と、を有し、
上記反射防止膜形成用組成物は、シリカ粒子、アルコキシシラン又はアルコキシシランの加水分解縮合物、及びバインダー樹脂を含み、
上記バインダー樹脂の重量平均分子量が５０，０００〜５，０００，０００である、光学物品の製造方法である。
【００３６】
＜工程（１）＞
工程（１）は、基材上に反射防止膜形成用組成物を塗布して塗膜を形成する工程である。
反射防止膜形成用組成物は、シリカ粒子、アルコキシシラン又はアルコキシシランの加水分解縮合物、及び、重量平均分子量が５０，０００〜５，０００，０００であるバインダー樹脂を含むものであり、これらの各成分については前述したとおりである。
反射防止膜形成用組成物中の全固形分に対するアルコキシシラン又はアルコキシシランの加水分解縮合物の含有量は２５〜７５質量％であることが好ましい。
反射防止膜形成用組成物は、上記成分に加えて、溶媒を含むことが好ましく、溶媒としては水又は水溶性有機溶媒が好ましい。
反射防止膜形成用組成物の塗布方法としては、従来公知の方法を用いることができ、たとえばスピンコート法等が挙げられる。
【００３７】
＜工程（２）＞
工程（２）は塗膜を加熱する工程である。
加熱工程により、アルコキシシランの加水分解縮合反応が進み、シロキサン化合物が生成され、膜を硬化することができる。
【００３８】
本発明の光学物品の製造方法は、
上記工程（１）の前に、
上記基材の表面を親水化処理する工程（０）を有し、
上記工程（０）で親水化処理された基材の表面に、上記工程（１）により反射防止膜形成用組成物を塗布して塗膜を形成することが好ましい。
【００３９】
＜工程（０）＞
工程（０）は、基材の表面を親水化処理する工程である。
基材としては、上述の基材を用いることができる。
親水化処理の方法としては、公知の方法を用いることができるが、基材の表面に対して酸素プラズマ処理を施す方法、テトラヒドロフランとアルコールの混合液で表面処理する方法などが好ましい。
【００４０】
本発明の光学物品は、基材に反射防止膜を設けたものであり、基材に反射防止性能を付与したものである。したがって、本発明の光学物品は、前述した基材の用途など、反射防止性能が求められる種々の用途に用いることができ、反射防止膜の表面の平滑性と密着性に優れるものである。
【実施例】
【００４１】
以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
【００４２】
＜実施例１＞
（酸性加水分解液の調製）
室温（２５℃）の環境でテトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）０．８ｇと、酢酸の濃度が１モル％の酢酸水溶液９．２ｇとを混合し、２時間攪拌して、酸性加水分解液を調製した。
【００４３】
（バインダー樹脂溶液の調製）
ポリビニルアルコール（株式会社クラレ製、Ｍｗ１２５，０００）を蒸留水で希釈して、１質量％のバインダー樹脂溶液を調製した。
【００４４】
（反射防止膜形成用組成物の調製）
室温（２５℃）の環境でシリカ粒子分散液（１次粒径７ｎｍのシリカ粒子の２０質量％水溶液）とバインダー樹脂溶液と酸性加水分解液とを混合し、３０分攪拌して反射防止膜形成用組成物を得た。
【００４５】
（塗布、乾燥）
反射防止膜形成用組成物をポリカーボネート基板に０．５ｍＬ滴下し、膜厚が１００ｎｍになるように回転数を調整してスピンコーターにて塗布し、乾燥炉にて１２０℃６０分で乾燥させて、反射防止膜を形成し、実施例１の光学物品を得た。
【００４６】
＜実施例２〜１３、比較例１〜１０＞
各成分の種類及び含有量を下記表１に示すように変更して、実施例２〜１３及び比較例１〜１０の光学物品を作製した。
実施例５〜７については、基材であるポリカーボネート基板に対して以下に示す親水化処理を施してから反射防止膜形成用組成物を塗布した。
【００４７】
（親水化処理（プラズマ処理））
ポリカーボネート基板の表面に対して、酸素流量７０ｍＬ／分、処理時間１分間、ＲＦ（Ｒａｄｉｏ  Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）パワー８０Ｗの条件で、神港精機社製のＥＸＡＭ型プラズマクリーニング装置を用いて酸素プラズマ処理を行った。
【００４８】
（接触角の測定条件）  
以下に示す条件で、親水化処理を施した基材及び親水化処理を行っていない基材に対する水の接触角を測定した。
測定装置：協和界面科学社製ＤＭ−５０１      
液：純水      
液量：２．０μｌ      
測定温度：２５℃      
測定手法：液滴法、θ／２法。着滴１秒後に測定。    
親水化処理を施した基材の表面の水の接触角は３０°であった。
親水化処理を行っていない基材の表面の水の接触角は７０°であった。
【００４９】
上記のようにして得られた実施例及び比較例の光学物品（サンプル）に対し、反射率、表面粗さ（平滑性の指標）、及び密着性を測定した。評価方法及び評価基準を以下に示し、評価結果を下記表１に示す。
なお、下記表１に記載のアルコキシシラン及びバインダー樹脂としては下記表２に示す化合物を用いた。表２には各化合物の購入元、ＣＡＳ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ａｂｓｔｒａｃｔｓ  Ｓｅｒｖｉｃ）番号、製品コード、Ｍｗも示した。
【００５０】
（反射率）
分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角５°の鏡面反射率を測定した。５００〜５５０ｎｍの平均反射率（％）を算出し（表１には「反射率（％）」と記載）、反射防止性を評価した。この平均反射率が小さいほど反射防止性に優れる。
【００５１】
（表面粗さ）
株式会社日立ハイテクサイエンス製ＡＦＭ−５０００にて、反射防止膜の表面の１μｍ四方内で表面形状を計測し、ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１に準拠して表面粗さを求めた。以下の基準で評価した。
Ａ：表面粗さが２５ｎｍ以下
Ｂ：表面粗さが２５ｎｍ超、５０ｎｍ以下
Ｃ：表面粗さが５０ｎｍ超、１００ｎｍ以下
Ｄ：表面粗さが１００ｎｍ超
【００５２】
（密着性）
メンディングテープ（Ｓｃｏｔｃｈ  ＴＭ  テープ（３Ｍ社製、型式：メンディングテープ８１０））を反射防止膜に貼りつけて剥離試験を行った。剥離試験後の反射率を前述の方法で測定することで、密着性を評価した。
Ａ：剥離試験後の反射率が１％以下
Ｂ：剥離試験後の反射率が１％超、２％以下
Ｃ：剥離試験後の反射率が２％超、４％以下
Ｄ：剥離試験後の反射率が４％超
【００５３】
【表１】
2018063369.tif 000003
【００５４】
【表２】
2018063369.tif 000004
【００５５】
上記結果から明らかなように、本発明の実施例の光学物品は、反射防止膜中にシリカ粒子、アルコキシシランの加水分解縮合物であるシロキサン化合物及び所定のＭｗのバインダー樹脂が含まれているので、表面の粗さが小さく（平滑性に優れ）、かつ密着性が優れたものであり、反射率も低かった。
特に、基材の表面を親水化処理した実施例５〜７は、密着性が優れたものとなった。
一方、比較例１〜５は、反射防止膜形成用組成物にアルコキシシランを含まないため、反射防止膜中にシロキサン化合物が存在せず、密着性が低くなった。
比較例６はバインダー樹脂が含まれていないので、表面粗さが大きくなった。
比較例７〜９は、反射防止膜中に含まれるバインダー樹脂のＭｗが所定の範囲よりも小さいので、表面粗さ及び密着性のいずれも劣っていた。
比較例１０は、バインダー樹脂のＭｗが所定の範囲よりも大きいので、均一な厚さの膜を形成することができなかった。