(57)【要約】【課題】  本発明の課題は、発光素子稼働時のアウトガス量が少なく信頼性が高く、残渣が少なく、インクジェット法において良好な塗布性が得られる隔壁形成用感光性樹脂組成物を提供することにある。【解決手段】  （Ａ）エチレン性不飽和化合物、（Ｂ）光重合開始剤及び（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂を含有する隔壁形成用感光性樹脂組成物であって、  前記（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂が、（Ｃ１）エポキシ（メタ）アクリレート樹脂、及び（Ｃ２）側鎖にエチレン性不飽和基を有するアクリル共重合樹脂を含有することを特徴とする隔壁形成用感光性樹脂組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）エチレン性不飽和化合物、（Ｂ）光重合開始剤及び（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂を含有する隔壁形成用感光性樹脂組成物であって、
前記（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂が、（Ｃ１）エポキシ（メタ）アクリレート樹脂、及び（Ｃ２）側鎖にエチレン性不飽和基を有するアクリル共重合樹脂を含有することを特徴とする隔壁形成用感光性樹脂組成物。
【請求項２】
前記（Ｃ２）アクリル共重合樹脂が、下記一般式（Ｉ）で示される部分構造含む、請求項１に記載の隔壁形成用感光性樹脂組成物。
【化１】
2018018036.tif 000042
（式（Ｉ）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表す。Ｒ2は置換基を有していてもよいアルケニル基又は下記一般式（ＩＩ）で表される基を表す。Ｒ3は水素原子又は下記一般式（ＩＩＩ）で表される基を表す。）
【化２】
2018018036.tif 000043
（式（ＩＩ）中、Ｒ4は置換基を有していてもよいアルケニル基を表す。αは置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基、又は置換基を有していてもよいアルケニレン基を表す。＊はカルボニル炭素との結合手を表す。）
【化３】
2018018036.tif 000044
（上記式（ＩＩＩ）中、βはジカルボン酸の残基である。）
【請求項３】
前記（Ｃ１）エポキシ（メタ）アクリレート樹脂が、以下の一般式（Ｃ１−１）〜（Ｃ１−６）で示される樹脂のうち少なくとも１種を含有する、請求項１又は２に記載の隔壁形成用感光性樹脂組成物。
【化４】
2018018036.tif 000045
（式（Ｃ１−１）中、Ｒ111は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はアリール基を表し、ｎ111は０〜２０の整数を表す。）
【化５】
2018018036.tif 000046
（式（Ｃ１−２）中、Ｒ121は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基を表し、ｎ121は０〜２０の整数を表す。）
【化６】
2018018036.tif 000047
（式（Ｃ１−３）中、Ｒ131は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基を表す。ｍ131及びｎ131は各々独立に０〜２０の整数を表す。γは単結合、−ＣＯ−、−ＣＨ2−、−Ｃ（ＣＨ3）2−、下記式（ＩＶ）に示す基、又は下記式（Ｖ）に示す基を表す。δは水素原子又は多塩基酸残基を表す。）
【化７】
2018018036.tif 000048
【化８】
2018018036.tif 000049
【化９】
2018018036.tif 000050
（式（Ｃ１−４）中、Ｒ141はアルキル基又はハロゲン原子を表し、ｐは０〜４の整数を表す。）
【化１０】
2018018036.tif 000051
【化１１】
2018018036.tif 000052
（式（Ｃ１−６）中、Ｒ161は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基を表し、ｎ161は０〜２０の整数を表す。
また式（Ｃ１−１）〜式（Ｃ１−６）中、Ａは下記一般式（ＶＩ）に示す基を表す。）
【化１２】
2018018036.tif 000053
（式（ＶＩ）中、Ｒ171は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ172はアルキレン基を表し、ｍ171は０〜１０の整数を表す。またδは、水素原子又は多塩基酸残基を表す。）
【請求項４】
前記（Ｃ１）エポキシ（メタ）アクリレート樹脂が、エポキシ樹脂にエチレン性不飽和モノカルボン酸又はエステル化合物を付加し、更に多塩基酸又はその無水物を反応させた樹脂である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の隔壁形成用感光性樹脂組成物。
【請求項５】
前記（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂における（Ｃ１）エポキシ（メタ）アクリレート樹脂の含有割合が３０〜９５質量％である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の隔壁形成用感光性樹脂組成物。
【請求項６】
前記（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂の平均酸価が５０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以下である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の隔壁形成用感光性樹脂組成物。
【請求項７】
さらに（Ｄ）撥液剤を含有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の隔壁形成用感光性樹脂組成物。
【請求項８】
前記（Ｄ）撥液剤が架橋基を有する、請求項７に記載の隔壁形成用感光性樹脂組成物。
【請求項９】
さらに連鎖移動剤を含有する、請求項１〜８のいずれか１項に記載の隔壁形成用感光性樹脂組成物。
【請求項１０】
さらに紫外線吸収剤を含有する、請求項１〜９のいずれか１項に記載の隔壁形成用感光性樹脂組成物。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の隔壁形成用感光性樹脂組成物で構成される隔壁。
【請求項１２】
請求項１１に記載の隔壁を備える有機電界発光素子。
【請求項１３】
請求項１２に記載の有機電界発光素子を含む画像表示装置。
【請求項１４】
請求項１２に記載の有機電界発光素子を含む照明。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、隔壁を形成するために用いられる隔壁形成用感光性樹脂組成物に関し、特に隔壁形成用感光性樹脂組成物で構成される隔壁や、該隔壁を備える有機電界発光素子、該有機電界発光素子を含む画像表示装置及び照明に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、有機電界ディスプレイや有機電界照明などに含まれる有機電界発光素子は、基板上に、隔壁（バンク）を形成した後に、隔壁に囲まれた領域内に、種々の機能層を積層して製造されている。このような隔壁を容易に形成する方法として、感光性樹脂組成物を用いたフォトリソグラフィー法により形成する方法が知られている（特許文献１参照）。
【０００３】
また、隔壁に囲まれた領域内に種々の機能層を積層する方法としては、まず機能層を構成する材料を含むインクを調製し、次いで、調製したインクを隔壁に囲まれた領域内に注入する方法が知られている。この方法の中でも、所定量のインクを所定の箇所に正確に注入しやすいことから、インクジェット法が採用されることが多い。
【０００４】
さらに、インクを用いて機能層を形成する場合、隔壁へのインクの付着の予防や、隣接する領域間に注入されるインク同士が混合されることを防ぐ目的等で、隔壁に撥インク性を付与することが求められる場合がある。
また近年、隔壁には撥インク性以外にも種々の特性が要求されており、種々の感光性樹脂組成物が開発されている。例えば特許文献２には特定の光吸収に関する材料を選定することで開口部の残渣を低減する方法が記載されている。また一方で特許文献３のように、隔壁形成時に発生するアウトガスを低減するため、開始剤種を選択する方法が記載されている。また特許文献４には、分散性や保存性を改善するために異なる樹脂種を混合すること方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１０−２６２９４０号公報
【特許文献２】国際公開第２０１５／１２５７８７号パンフレット
【特許文献３】特開２０１１−１４６３７５号公報
【特許文献４】国際公開第２０１３／０６９７８９号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
近年、素子の駆動寿命を向上させるため、隔壁、素子形成後の素子発光時に隔壁から発生するアウトガスを低減する要望がある。
本発明者らが検討したところ、特許文献２及び４に記載の隔壁形成用感光性樹脂組成物は、残渣の低減、撥インク性と、長期間の発光素子稼働時のアウトガスの低減との両立が困難であることが見出された。さらに特許文献３に記載の隔壁形成用感光性樹脂組成物は、長期間の発光素子稼働時のアウトガスの低減が不十分であることが見出された。
そこで本発明は、発光素子稼働時のアウトガス量が少なく信頼性が高く、残渣が少なく、インクジェット法において良好な塗布性が得られる隔壁形成用感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。
また、本発明は、当該隔壁形成用感光性樹脂組成物を用いて形成された隔壁、当該隔壁を備える有機電界発光素子、該有機電界発光素子を含む画像表示装置及び照明を提供することを目的とする
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らが鋭意検討した結果、エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤及びアルカリ可溶性樹脂を含有する隔壁形成用感光性樹脂組成物において、特定のアルカリ可溶性樹脂を併用することで上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち本発明の要旨は以下の通りである。
【０００８】
［１］  （Ａ）エチレン性不飽和化合物、（Ｂ）光重合開始剤及び（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂を含有する隔壁形成用感光性樹脂組成物であって、
前記（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂が、（Ｃ１）エポキシ（メタ）アクリレート樹脂、及び（Ｃ２）側鎖にエチレン性不飽和基を有するアクリル共重合樹脂を含有することを特徴とする隔壁形成用感光性樹脂組成物。
［２］  前記（Ｃ２）アクリル共重合樹脂が、下記一般式（Ｉ）で示される部分構造含む、［１］に記載の隔壁形成用感光性樹脂組成物。
【０００９】
【化１】
2018018036.tif 000002
【００１０】
（式（Ｉ）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表す。Ｒ2は置換基を有していてもよいアルケニル基又は下記一般式（ＩＩ）で表される基を表す。Ｒ3は水素原子又は下記一般式（ＩＩＩ）で表される基を表す。）
【００１１】
【化２】
2018018036.tif 000003
【００１２】
（式（ＩＩ）中、Ｒ4は置換基を有していてもよいアルケニル基を表す。αは置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基、又は置換基を有していてもよいアルケニレン基を表す。＊はカルボニル炭素との結合手を表す。）
【００１３】
【化３】
2018018036.tif 000004
【００１４】
（上記式（ＩＩＩ）中、βはジカルボン酸の残基である。）
［３］  前記（Ｃ１）エポキシ（メタ）アクリレート樹脂が、以下の一般式（Ｃ１−１）〜（Ｃ１−６）で示される樹脂のうち少なくとも１種を含有する、［１］又は［２］に記載の隔壁形成用感光性樹脂組成物。
【００１５】
【化４】
2018018036.tif 000005
【００１６】
（式（Ｃ１−１）中、Ｒ111は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はアリール基を表し、ｎ111は０〜２０の整数を表す。）
【００１７】
【化５】
2018018036.tif 000006
【００１８】
（式（Ｃ１−２）中、Ｒ121は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基を表し、ｎ121は０〜２０の整数を表す。）
【００１９】
【化６】
2018018036.tif 000007
【００２０】
（式（Ｃ１−３）中、Ｒ131は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基を表す。ｍ131及びｎ131は各々独立に０〜２０の整数を表す。γは単結合、−ＣＯ−、−ＣＨ2−、−Ｃ（ＣＨ3）2−、下記式（ＩＶ）に示す基、又は下記式（Ｖ）に示す基を表す。δは水素原子又は多塩基酸残基を表す。）
【００２１】
【化７】
2018018036.tif 000008
【００２２】
【化８】
2018018036.tif 000009
【００２３】
【化９】
2018018036.tif 000010
【００２４】
（式（Ｃ１−４）中、Ｒ141はアルキル基又はハロゲン原子を表し、ｐは０〜４の整数を表す。）
【００２５】
【化１０】
2018018036.tif 000011
【００２６】
【化１１】
2018018036.tif 000012
【００２７】
（式（Ｃ１−６）中、Ｒ161は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基を表し、ｎ161は０〜２０の整数を表す。
また式（Ｃ１−１）〜式（Ｃ１−６）中、Ａは下記一般式（ＶＩ）に示す基を表す。）
【００２８】
【化１２】
2018018036.tif 000013
【００２９】
（式（ＶＩ）中、Ｒ171は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ172はアルキレン基を表し、ｍ171は０〜１０の整数を表す。またδは、水素原子又は多塩基酸残基を表す。）
［４］  前記（Ｃ１）エポキシ（メタ）アクリレート樹脂が、エポキシ樹脂にエチレン性不飽和モノカルボン酸又はエステル化合物を付加し、更に多塩基酸又はその無水物を反応させた樹脂である、［１］〜［３］のいずれかに記載の隔壁形成用感光性樹脂組成物。
［５］  前記（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂における（Ｃ１）エポキシ（メタ）アクリレート樹脂の含有割合が３０〜９５質量％である、［１］〜［４］のいずれかに記載の隔壁形成用感光性樹脂組成物。
［６］  前記（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂の平均酸価が５０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以下である、［１］〜［５］のいずれかに記載の隔壁形成用感光性樹脂組成物。
［７］  さらに（Ｄ）撥液剤を含有する、［１］〜［６］のいずれかに記載の隔壁形成用感光性樹脂組成物。
［８］  前記（Ｄ）撥液剤が架橋基を有する、［７］に記載の隔壁形成用感光性樹脂組成物。
［９］  さらに連鎖移動剤を含有する、［１］〜［８］のいずれかに記載の隔壁形成用感光性樹脂組成物。
【００３０】
［１０］  さらに紫外線吸収剤を含有する、［１］〜［９］のいずれかに記載の隔壁形成用感光性樹脂組成物。
［１１］  ［１］〜［１０］のいずれかに記載の隔壁形成用感光性樹脂組成物で構成される隔壁。
［１２］  ［１１］に記載の隔壁を備える有機電界発光素子。
［１３］  ［１２］に記載の有機電界発光素子を含む画像表示装置。
［１４］  ［１２］に記載の有機電界発光素子を含む照明。
【発明の効果】
【００３１】
本発明により、発光素子稼働時のアウトガス量が少なく信頼性が高く、残渣が少なく、インクジェット法において良好な塗布性が得られる隔壁形成用感光性樹脂組成物を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】図１は、隔壁のテーパ角度の評価方法の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
以下、本発明を詳細に説明する。なお、以下の記載は本発明の実施形態の一例であり、本発明はその要旨を超えない限り、これらに特定されない。
なお、本発明において、「（メタ）アクリル」とは、「アクリル及び／又はメタクリル」を意味するものとし、また、「全固形分」とは、感光性樹脂組成物における溶剤以外の全成分を意味するものとする。さらに、本発明において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本発明において、「（共）重合体」とは、単一重合体（ホモポリマー）と共重合体（コポリマー）の双方を含むことを意味し、また、「（酸）無水物」、「（無水）…酸」とは、酸とその無水物の双方を含むことを意味する。
本発明において、隔壁材とはバンク材、壁材、ウォール材をさし、同様に、隔壁とはバンク、壁、ウォールをさす。
本発明において、重量平均分子量とは、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）によるポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）をさす。
【００３４】
［１］隔壁形成用感光性樹脂組成物
本発明の隔壁形成用感光性樹脂組成物は、（Ａ）エチレン性不飽和化合物、（Ｂ）光重合開始剤及び（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂を含有する隔壁形成用感光性樹脂組成物であって、前記（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂が、（Ｃ１）エポキシ（メタ）アクリレート樹脂、及び（Ｃ２）側鎖にエチレン性不飽和基を有するアクリル共重合樹脂を含有することを特徴とする。さらに必要に応じてさらにその他の成分を含んでいてもよく、例えば（Ｄ）撥液剤や、連鎖移動剤や、紫外線吸収剤を含んでいてもよい。
【００３５】
本発明において隔壁とは、例えば、アクティブ駆動型有機電界発光素子における機能層（有機層）を区画するためのものであり、区画された領域（画素領域）に機能層を構成するための材料であるインクを吐出、乾燥することで、機能層及び隔壁からなる画素等を形成させていくために使用されるものである。
【００３６】
［１−１］隔壁形成用感光性樹脂組成物の成分および組成
本発明の隔壁形成用感光性樹脂組成物を構成する成分およびその組成について説明する。
本発明の隔壁形成用感光性樹脂組成物（以下、単に「感光性樹脂組成物」という場合がある）は、（Ａ）エチレン性不飽和化合物、（Ｂ）光重合開始剤及び（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂を含有し、さらに通常は、さらに溶剤も含有する。また、本発明の隔壁形成用感光性樹脂組成物は、撥液性の隔壁を形成するために用いることが好ましく、係る観点からは（Ｄ）撥液剤を含有することが好ましく、また、前記（Ａ）〜（Ｃ）成分として撥液剤としての作用を示すものを用いてもよい。
【００３７】
［１−１−１］（Ａ）成分；エチレン性不飽和化合物
本発明の隔壁形成用感光性樹脂組成物は、（Ａ）エチレン性不飽和化合物を含有する。（Ａ）エチレン性不飽和化合物を含むことで、高感度となると考えられる。
ここで使用されるエチレン性不飽和化合物としては、エチレン性不飽和結合を分子内に１個以上有する化合物を意味するが、重合性、架橋性、およびそれに伴う露光部と非露光部の現像液溶解性の差異を拡大できる等の点から、エチレン性不飽和結合を分子内に２個以上有する化合物であることが好ましく、また、その不飽和結合は（メタ）アクリロイルオキシ基に由来するもの、つまり、（メタ）アクリレート化合物であることがさらに好ましい。
【００３８】
本発明においては、特に、１分子中にエチレン性不飽和結合を２個以上有する多官能エチレン性単量体を使用することが望ましい。多官能エチレン性単量体が有するエチレン性不飽和基の数は特に限定されないが、好ましくは２以上、より好ましくは３以上、さらに好ましくは５以上であり、また、好ましくは１５以下、より好ましくは１０以下である。前記下限値以上とすることで重合性が向上して高感度となる傾向があり、前記上限値以下とすることで現像性がより良好となる傾向がある。
エチレン性不飽和化合物の具体例としては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル；芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル；脂肪族ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポリヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化合物と、不飽和カルボン酸及び多塩基性カルボン酸とのエステル化反応により得られるエステルなどが挙げられる。
【００３９】
前記脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルとしては、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、グリセロールアクリレート等の脂肪族ポリヒドロキシ化合物のアクリル酸エステル、これら例示化合物のアクリレートをメタクリレートに代えたメタクリル酸エステル、同様にイタコネートに代えたイタコン酸エステル、クロネートに代えたクロトン酸エステルもしくはマレエートに代えたマレイン酸エステル等が挙げられる。
【００４０】
芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルとしては、ハイドロキノンジアクリレート、ハイドロキノンジメタクリレート、レゾルシンジアクリレート、レゾルシンジメタクリレート、ピロガロールトリアクリレート等の芳香族ポリヒドロキシ化合物のアクリル酸エステル及びメタクリル酸エステル等が挙げられる。
脂肪族ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポリヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化合物と、不飽和カルボン酸及び多塩基性カルボン酸とのエステル化反応により得られるエステルとしては必ずしも単一物ではないが、代表的な具体例を挙げれば、アクリル酸、フタル酸、及びエチレングリコールの縮合物、アクリル酸、マレイン酸、及びジエチレングリコールの縮合物、メタクリル酸、テレフタル酸及びペンタエリスリトールの縮合物、アクリル酸、アジピン酸、ブタンジオール及びグリセリンの縮合物等が挙げられる。
【００４１】
その他、本発明に用いられる多官能エチレン性単量体の例としては、ポリイソシアネート化合物と水酸基含有（メタ）アクリル酸エステル又はポリイソシアネート化合物とポリオール及び水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルを反応させて得られるようなウレタン（メタ）アクリレート類；多価エポキシ化合物とヒドロキシ（メタ）アクリレート又は（メタ）アクリル酸との付加反応物のようなエポキシアクリレート類；エチレンビスアクリルアミド等のアクリルアミド類；フタル酸ジアリル等のアリルエステル類；ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物等が有用である。
上記ウレタン（メタ）アクリレート類としては、例えば、ＤＰＨＡ−４０Ｈ、ＵＸ−５０００、ＵＸ−５００２Ｄ−Ｐ２０、ＵＸ−５００３Ｄ、ＵＸ−５００５（日本化薬社製）、Ｕ−２ＰＰＡ、Ｕ−６ＬＰＡ、Ｕ−１０ＰＡ、Ｕ−３３Ｈ、ＵＡ−５３Ｈ、ＵＡ−３２Ｐ、ＵＡ−１１００Ｈ（新中村化学工業社製）、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−５１０Ｈ、ＵＦ−８００１Ｇ（協栄社化学社製）、ＵＶ−１７００Ｂ、ＵＶ−７６００Ｂ、ＵＶ−７６０５Ｂ、ＵＶ−７６３０Ｂ、ＵＶ７６４０Ｂ（日本合成化学社製）等が挙げられる。
【００４２】
これらの中でも、適正なテーパ角度と感度の観点から（Ａ）エチレン性不飽和化合物として、エステル（メタ）アクリレート類又はウレタン（メタ）アクリレート類を用いることが好ましく、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、２−トリス（メタ）アクリロイロキシメチルエチルフタル酸、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートの二塩基酸無水物付加物、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートの二塩基酸無水物付加物等を用いることがより好ましい。
これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４３】
本発明において、（Ａ）エチレン性不飽和化合物の分子量は特に限定されないが、感度、撥液性、テーパ角度の観点から、好ましくは１００以上、より好ましくは１５０以上で、さらに好ましくは２００以上、よりさらに好ましくは３００以上、特に好ましくは４００以上、最も好ましくは５００以上であり、好ましくは１０００以下、より好ましくは７００以下である。また、（Ａ）エチレン性不飽和化合物の炭素数は特に限定されないが、感度、撥液性、テーパ角度の観点から、好ましくは７以上、より好ましくは１０以上、さらに好ましくは１５以上、よりさらに好ましくは２０以上、特に好ましくは２５以上であり、好ましくは５０以下、より好ましくは４０以下、さらに好ましくは３５以下、特に好ましくは３０以下である。
また、感度、撥液性、テーパ角度の観点から、エステル（メタ）アクリレート類、エポキシ（メタ）アクリレート類、およびウレタン（メタ）アクリレート類が好ましく、中でも、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートなど３官能以上のエステル（メタ）アクリレート類、２，２，２−トリス（メタ）アクリロイロキシメチルエチルフタル酸、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートの二塩基酸無水物付加物等の３官能以上のエステル（メタ）アクリレート類への酸無水物の付加物が、感度、撥液性、テーパ角の面でさらに好ましい。
【００４４】
本発明の感光性樹脂組成物中の（Ａ）エチレン性不飽和化合物の含有割合は、全固形分に対して通常５質量％以上、好ましくは１０質量％以上、より好ましくは２０質量％以上、さらに好ましくは３０質量％以上、特に好ましくは４０質量％以上、通常８０質量％以下、好ましくは７０質量％以下、より好ましくは６０質量％以下、さらに好ましくは５５質量％以下、特に好ましくは５０質量％以下である。前記下限値以上とすることで露光時の感度やテーパ角が良好となる傾向があり、前記上限値以下とすることで現像性が良好となる傾向がある。
【００４５】
また、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂１００質量部に対する（Ａ）エチレン性不飽和化合物の含有割合は、通常１５質量部以上、好ましくは３０質量部以上、より好ましくは５０質量部以上、さらに好ましくは８０質量部以上、特に好ましくは９０質量部以上であり、通常１５０質量部以下、好ましくは１３０質量部以下、より好ましくは１２０質量部以下、さらに好ましくは１１０質量部以下であることが好ましい。前記上限値以下とすることで現像性が良好となる傾向があり、前記下限値以上とすることで露光時に感度が良好となり、テーパ角が良好となる傾向がある。
【００４６】
［１−１−２］（Ｂ）成分；光重合開始剤
本発明の隔壁形成用感光性樹脂組成物は、（Ｂ）光重合開始剤を含有する。光重合開始剤は、活性光線により、前記（Ａ）エチレン性不飽和化合物が有するエチレン性不飽和結合を重合させる化合物であれば特に限定されるものではなく、公知の光重合開始剤を用いることができる。
【００４７】
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｂ）光重合開始剤として、この分野で通常用いられている光重合開始剤を使用することができる。このような光重合開始剤としては、例えば、ヘキサアリールビイミダゾール系光重合開始剤、アシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤、オキシム系光重合開始剤、トリアジン系光重合開始剤、アセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、ヒドロキシベンゼン系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、アントラキノン系光重合開始剤、ケタール系光重合開始剤、チタノセン系光重合開始剤、ハロゲン化炭化水素誘導体系光重合開始剤、有機硼素酸塩系光重合開始剤、オニウム塩系光重合開始剤、スルホン化合物系光重合開始剤、カルバミン酸誘導体系光重合開始剤、スルホンアミド系光重合開始剤、トリアリールメタノール系光重合開始剤が挙げられる。
【００４８】
ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、吸光度および感度、紫外線吸収剤の吸収波長とのマッチング性の観点から、下記一般式（１−１）及び／又は下記一般式（１−２）で表されるヘキサアリールビイミダゾール系光ラジカル開始剤が好ましい。
【００４９】
【化１３】
2018018036.tif 000014
2018018036.tif 000015
【００５０】
上記式中、Ｒ11〜Ｒ13は、各々独立に水素原子、置換基を有してもよい炭素数１〜４のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１〜４のアルコキシ基、又はハロゲン原子を表し、ｍ、ｎ及びｌは、各々独立に０〜５の整数を表す。
【００５１】
Ｒ11〜Ｒ13のアルキル基の炭素数は１〜４の範囲内であれば特に限定されないが、感度の観点から、好ましくは３以下、より好ましくは２以下である。アルキル基は鎖状のものでも、環状のものでもよい。アルキル基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基が挙げられ、中でもメチル基、エチル基が好ましい。Ｒ11〜Ｒ13の炭素数１〜４のアルキル基が有してもよい置換基としては、水素を除く１価の非金属原子団の基が用いられ、好ましい例としては、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基が挙げられる。
【００５２】
また、Ｒ11〜Ｒ13のアルコキシ基の炭素数は１〜４の範囲内であれば特に限定されないが、感度の観点から、好ましくは３以下、より好ましくは２以下である。アルコキシ基のアルキル基部分は鎖状のものでも、環状のものでもよい。アルコキシ基の具体例とは、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基が挙げられ、中でもメトキシ基、エトキシ基が好ましい。Ｒ11〜Ｒ13の炭素数１〜４のアルコキシ基が有してもよい置換基としてはアルキル基、アルコキシ基が挙げられるが、好ましくはアルキル基である。
【００５３】
また、Ｒ11〜Ｒ13のハロゲン原子とは、例えば、塩素原子、ヨウ素原子、臭素原子、フッ素原子が挙げられ、中でも合成容易性の観点から、塩素原子又はフッ素原子が好ましく、塩素原子がより好ましい。
これらの中でも、感度や合成容易性の観点から、Ｒ11〜Ｒ13は各々独立にハロゲン原子であることが好ましく、塩素原子であることがより好ましい。
【００５４】
ｍ、ｎ及びｌは、各々独立に０〜５の整数を表すが、合成容易性の観点から、ｍ、ｎ及びｌの少なくとも１つが１以上の整数であることが好ましく、ｍ、ｎ及びｌのうちいずれか１つが１であり、かつ、残りの２つが０であることがより好ましい。
【００５５】
一般式（１−１）及び／又は一般式（１−２）で表されるヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４’，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，５，４’，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−フルオロフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジブロモフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−クロロナフチル）ビイミダゾール等が挙げられる。中でも、ヘキサフェニルビイミダゾール化合物が好ましく、そのイミダゾール環上の２，２’−位に結合したベンゼン環のｏ−位がメチル基、メトキシ基、又はハロゲン原子で置換されたものが更に好ましく、そのイミダゾール環上の４，４’，５，５’−位に結合したベンゼン環が無置換、又は、ハロゲン原子若しくはメトキシ基で置換されたもの等が好ましい。
【００５６】
（Ｂ）光重合開始剤として、一般式（１−１）で表されるヘキサアリールビイミダゾール系化合物と一般式（１−２）で表されるヘキサアリールビイミダゾール系化合物のいずれかを用いても良く、両者を併用して用いても良い。併用して用いる場合には、その比率については特に限定されない。なお、実施例で用いたＢ−１は、一般式（１−１）を満足する構造を有する。
【００５７】
また、アシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド等を好ましいものとして挙げることができる。
【００５８】
オキシム系光重合開始剤としては、特表２００４−５３４７９７号公報、特開２０００−８００６８号公報、特開２００６−３６７５０号公報、特開２００８−１７９６１１号公報、特表２０１２−５２６１８５号公報、特表２０１２−５１９１９１号公報等に記載されているオキシムエステル化合物が挙げられる。中でも感度の観点からＮ−アセトキシ−Ｎ−｛４−アセトキシイミノ−４−［９−エチル−６−（ｏ−トルオイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］ブタン−２−イル｝アセトアミド、Ｎ−アセトキシ−Ｎ−｛３−（アセトキシイミノ）−３−［９−エチル−６−（１−ナフトイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−メチルプロピル｝アセトアミド、4−アセトキシイミノ−５−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−５−オキソペンタン酸メチルが、また製品名として、ＯＸＥ−０１、ＯＸＥ−０２、ＯＸＥ−０３（ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ−ＰＢＧ−３０４、ＴＲ−ＰＢＧ−３０５（常州強力社製）、ＮＣＩ−８３１、ＮＣＩ−９３０（ＡＤＥＫＡ社製）等を好ましいものとして挙げることができる。
【００５９】
アセトフェノン系光重合開始剤としては、例えば、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、１−ヒドロキシ−１−（ｐ−ドデシルフェニル）ケトン、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル−（ｐ−イソプロピルフェニル）ケトン、１−トリクロロメチル−（ｐ−ブチルフェニル）ケトン、α−ヒドロキシ−２−メチルフェニルプロパノン、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、４−ジメチルアミノエチルベンゾエート、４−ジメチルアミノイソアミルベンゾエート、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、２−エチルヘキシル−１，４−ジメチルアミノベンゾエート、２，５−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロヘキサノン、７−ジエチルアミノ−３−（４−ジエチルアミノベンゾイル）クマリン、４−（ジエチルアミノ）カルコン等が挙げられる。
ベンゾフェノン系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２−カルボキシベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェノン、ミヒラーケトン等が挙げられる。
【００６０】
ヒドロキシベンゼン系光重合開始剤としては、例えば、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベンジルベンゾフェノン、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。
チオキサントン系光重合開始剤としては、例えば、チオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン等が挙げられる。
アントラキノン系光重合開始剤としては、例えば、２−メチルアントラキノン等が、また、ケタール系光重合開始剤としては、例えば、ベンジルジメチルケタール等が、それぞれ挙げられる。
【００６１】
チタノセン系光重合開始剤としては、例えば、ジシクロペンタジエニルチタニウムジクロライド、ジシクロペンタジエニルチタニウムビスフェニル、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス（２，４−ジフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス（２，６−ジフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス（２，４，６−トリフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル）、ジ（メチルシクロペンタジエニル）チタニウムビス（２，６−ジフルオロフェニル）、ジ（メチルシクロペンタジエニル）チタニウムビス（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス〔２，６−ジフルオロ−３−（１−ピロリル）フェニル〕等が挙げられる。中でも、感度の観点からジシクロペンタジエニル構造とビスフェニル構造を有するチタン化合物が好ましく、ビスフェニル環のｏ−位がハロゲン原子で置換されたものが特に好ましい。
【００６２】
ハロゲン化炭化水素誘導体系光重合開始剤としては、ハロメチル化ｓ−トリアジン誘導体類が挙げられ、例えば、２，４，６−トリス（モノクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（ジクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ｎ−プロピル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（α，α，β−トリクロロエチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３，４−エポキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔１−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ブタジエニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシ−ｍ−ヒドロキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ｉ−プロピルオキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−エトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−エトキシカルボニルナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニルチオ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ベンジルチオ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（ジブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メトキシ−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等のハロメチル化ｓ−トリアジン誘導体類が挙げられ、中でも感度の観点から、ビス（トリハロメチル）−ｓ−トリアジン類が好ましい。
【００６３】
また、有機硼素酸塩系光重合開始剤としては、例えば、有機硼素アンモニウム錯体、有機硼素ホスホニウム錯体、有機硼素スルホニウム錯体、有機硼素オキソスルホニウム錯体、有機硼素ヨードニウム錯体、有機硼素遷移金属配位錯体等が挙げられ、その有機硼素アニオンとしては、例えば、ｎ−ブチル−トリフェニル硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（２，４，６−トリメチルフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（ｐ−メトキシフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（ｐ−フルオロフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（ｍ−フルオロフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（３−フルオロ−４−メチルフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（２，６−ジフルオロフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（２，４，６−トリフルオロフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（ｐ−クロロフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（２，６−ジフルオロ−３−ピロリルフェニル）硼素アニオン等のアルキル−トリフェニル硼素アニオンが感度の観点から好ましく、また、対カチオンとしては、アンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、スルホニウムカチオン、ヨードニウムカチオン等のオニウム化合物が感度の観点から好ましく、テトラアルキルアンモニウム等の有機アンモニウムカチオンが感度の観点から特に好ましい。
【００６４】
また、オニウム塩系光重合開始剤としては、例えば、テトラメチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムブロマイド等のアンモニウム塩、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムｐ−トルエンスルホネート、ジフェニルヨードニウムカンファースルホネート、ジシクロヘキシルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ジシクロヘキシルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジシクロヘキシルヨードニウムｐ−トルエンスルホネート、ジシクロヘキシルヨードニウムカンファースルホネート等のヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムｐ−トルエンスルホネート、トリフェニルスルホニウムカンファースルホネート、トリシクロヘキシルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリシクロヘキシルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリシクロヘキシルスルホニウムｐ−トルエンスルホネート、トリシクロヘキシルスルホニウムカンファースルホネート等のスルホニウム塩等が挙げられる。
【００６５】
また、スルホン化合物系光重合開始剤としては、例えば、ビス（フェニルスルホニル）メタン、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニルスルホニル）メタン、ビス（ｐ−メトキシフェニルスルホニル）メタン、ビス（α−ナフチルスルホニル）メタン、ビス（β−ナフチルスルホニル）メタン、ビス（シクロヘキシルスルホニル）メタン、ビス（ｔ−ブチルスルホニル）メタン、フェニルスルホニル（シクロヘキシルスルホニル）メタン等のビス（スルホニル）メタン化合物、フェニルカルボニル（フェニルスルホニル）メタン、ナフチルカルボニル（フェニルスルホニル）メタン、フェニルカルボニル（ナフチルスルホニル）メタン、シクロヘキシルカルボニル（フェニルスルホニル）メタン、ｔ−ブチルカルボニル（フェニルスルホニル）メタン、フェニルカルボニル（シクロヘキシルスルホニル）メタン、フェニルカルボニル（ｔ−ブチルカルボニル）メタン等のカルボニル（スルホニル）メタン化合物、ビス（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｐ−メトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（α−ナフチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（β−ナフチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｔ−ブチルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（スルホニル）ジアゾメタン化合物、フェニルカルボニル（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、ナフチルカルボニル（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルカルボニル（ナフチルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルカルボニル（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、ｔ−ブチルカルボニル（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルカルボニル（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルカルボニル（ｔ−ブチルカルボニル）ジアゾメタン等のカルボニル（スルホニル）ジアゾメタン化合物等が挙げられる。
【００６６】
また、カルバミン酸誘導体系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルシクロヘキシルカルバメート、２−ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメート、３，５−ジメトキシベンジルシクロヘキシルカルバメート、３−ニトロフェニルシクロヘキシルカルバメート等が挙げられる。
スルホンアミド系光重合開始剤としては、例えば、Ｎ−シクロヘキシル−４−メチルフェニルスルホンアミド、Ｎ−シクロヘキシル−２−ナフチルスルホンアミド等が、また、トリアリールメタノール系光重合開始剤としては、例えば、トリフェニルメタノール、トリ（４−クロロフェニル）メタノール等が、それぞれ挙げられる。
【００６７】
これらの光重合開始剤は、感光性樹脂組成物中にその１種が単独で含まれていてもよく、２種以上が含まれていてもよい。これらの光重合開始剤の中で、ヘキサアリールビイミダゾール化合物は、吸光度が高いことから表面硬化性が高く、また、高い撥液性と高いテーパ角度が得られる面で特に好ましい。
【００６８】
本発明の感光性樹脂組成物中の（Ｂ）光重合開始剤の含有割合としては、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、通常０．０１質量％以上、好ましくは０．１質量％以上、より好ましくは０．５質量％以上、さらに好ましくは１質量％以上、特に好ましくは１．５質量％以上であり、通常２５質量％以下、好ましくは１０質量％以下、より好ましくは８質量％以下、さらに好ましくは５質量％以下、特に好ましくは３質量％以下である。前記下限値以上とすることで現像時に膜減りを生じず塗膜が形成され、また十分な撥液性が生じる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで所望のパターン形状が形成しやすくなる傾向がある。
【００６９】
また、感光性樹脂組成物中の（Ａ）エチレン性不飽和化合物に対する（Ｂ）光重合開始剤の配合比としては、（Ａ）エチレン性不飽和化合物１００質量部に対して、１質量部以上が好ましく、２質量部以上がより好ましく、３質量部以上がさらに好ましく、また、２００質量部以下が好ましく、１００質量部以下がより好ましく、５０質量部以下がさらに好ましく、２０質量部以下がよりさらに好ましく、１０質量部以下が特に好ましく、６質量部以下が最も好ましい。前記下限値以上とすることで適切な感度となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで所望のパターン形状が形成しやすくなる傾向がある。
【００７０】
また上記光重合開始剤と併用して、連鎖移動剤を用いることが好ましい。連鎖移動剤としてはメルカプト基含有化合物や、四塩化炭素等が挙げられ、連鎖移動効果が高い傾向があることからメルカプト基を有する化合物を用いることがより好ましい。Ｓ−Ｈ結合エネルギーが小さいことによって結合開裂が起こりやすく、水素引きぬき反応や連鎖移動反応を起こしやすいためであると考えられる。感度向上や表面硬化性に有効である。
【００７１】
メルカプト基含有化合物としては、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプト−４（３Ｈ）−キナゾリン、β−メルカプトナフタレン、１，４−ジメチルメルカプトベンゼン等の芳香族環を有するメルカプト基含有化合物；へキサンジチオール、デカンジチオール、ブタンジオールビス（３−メルカプトプロピオネート）、ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、エチレングリコールビスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリスヒドロキシエチルトリスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールトリス（３−メルカプトプロピオネート）、ブタンジオールビス（３−メルカプトブチレート）、エチレングリコールビス（３−メルカプトブチレート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールトリス（３−メルカプトブチレート）、１，３，５−トリス（３−メルカプトブチルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン等の脂肪族系のメルカプト基含有化合物、特に、メルカプト基を複数有する化合物等が挙げられる。
【００７２】
このうち好ましくは、芳香族環を有するメルカプト基含有化合物の中では２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾールが好ましく、脂肪族系のメルカプト基含有化合物の中では、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールトリス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールトリス（３−メルカプトブチレート）、１，３，５−トリス（３−メルカプトブチルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオンが好ましい。
【００７３】
また感度の面からは、脂肪族系のメルカプト基含有化合物が好ましく、具体的には、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールトリス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールトリス（３−メルカプトブチレート）、１，３，５−トリス（３−メルカプトブチルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオンが好ましく、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）がより好ましい。
これらは種々のものが１種を単独で、或いは２種以上を混合して使用できる。
【００７４】
これらの中でも、テーパ角度を高める観点から、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、及び２−メルカプトベンゾオキサゾールよりなる群から選択された１又は２以上と、光重合開始剤とを組み合わせて、光重合開始剤系として使用することが好適である。例えば、２−メルカプトベンゾチアゾールを用いても良く、２−メルカプトベンゾイミダゾールを用いても良く、２−メルカプトベンゾチアゾールと２−メルカプトベンゾイミダゾールとを併用して用いても良い。
また、感度の観点から、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）よりなる群から選択された１又は２以上を用いることが好ましい。さらに、感度の観点から、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、及び２−メルカプトベンゾオキサゾールよりなる群から選択された１又は２以上と、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）よりなる群から選択された１又は２以上と、光重合開始剤とを組み合わせて用いることが好ましい。
【００７５】
本発明の感光性樹脂組成物中の、連鎖移動剤の含有割合としては、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、通常０．０１質量％以上、好ましくは０．０２５質量％以上、より好ましくは０．０５質量％以上、さらに好ましくは０．１質量％以上、特に好ましくは１質量％以上であり、通常５質量％以下、好ましくは４質量％以下、より好ましくは３質量％以下である。前記下限値以上とすることで感度が高くなる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで所望のパターンを形成しやすくなる傾向がある。
【００７６】
また、感光性樹脂組成物中の（Ｂ）光重合開始剤に対する、連鎖移動剤の配合比としては、（Ｂ）光重合開始剤１００質量部に対して、１０質量部以上が好ましく、２５質量部以上がより好ましく、５０質量部以上がさらに好ましく、８０質量部以上が特に好ましく、また、５００質量部以下が好ましく、４００質量部以下がより好ましく、３００質量部以下がさらに好ましく、２００質量部以下が特に好ましい。前記下限値以上とすることで高感度となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで所望のパターンを形成しやすくなる傾向がある。
【００７７】
［１−１−３］（Ｃ）成分；アルカリ可溶性樹脂
本発明の隔壁形成用感光性樹脂組成物は、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂を含有する。本発明において、アルカリ可溶性樹脂としては現像液で現像可能なものであれば特に限定されないが、現像液としてはアルカリ現像液が好ましいため、本発明においてはアルカリ可溶性樹脂を用いる。アルカリ可溶性樹脂としては、カルボキシル基または水酸基含有の各種樹脂などが挙げられる。中でも、より現像性に優れるカルボキシル基を有するものが好ましく、また適度なテーパ角の隔壁が得られることおよび隔壁の熱溶融による流出が抑えられ撥液性を保持できることなどの理由より、さらにエチレン性不飽和基を有するものであることがより好ましい。
【００７８】
本発明において、アルカリ可溶性樹脂の中でも（Ｃ１）エポキシ（メタ）アクリレート樹脂を含有することでアウトガスの発生が少なく、発光層への影響が少なく発光効率が高く、且つ素子の駆動寿命に優れる。理由の一つとしては剛直な主骨格を有することで熱に対して分解しづらいことなどが類推される。また（Ｃ２）側鎖にエチレン性不飽和基を有するアクリル共重合樹脂を含有することで、現像性が良好であり、残渣等が少なく発光効率が高くなる。理由の一つとしては主骨格に芳香環等を含まないため、現像液が膜内に浸透しやすいことなどが類推される。
以下に、（Ｃ１）エポキシ（メタ）アクリレート樹脂について詳述する。
【００７９】
［（Ｃ１）エポキシ（メタ）アクリレート樹脂］
（Ｃ１）エポキシ（メタ）アクリレート樹脂は、エポキシ樹脂にエチレン性不飽和モノカルボン酸又はエステル化合物を付加し、更に多塩基酸又はその無水物を反応させた樹脂である。例えば、エポキシ樹脂のエポキシ基に、不飽和モノカルボン酸のカルボキシル基が開環付加されることにより、エポキシ化合物にエステル結合（−ＣＯＯ−）を介してエチレン性不飽和結合が付加されると共に、その際生じた水酸基に、多塩基酸無水物の一方のカルボキシ基が付加されたものが挙げられる。また多塩基酸無水物を付加するときに、多価アルコールを同時に添加して付加されたものも挙げられる。
【００８０】
ここで、エポキシ樹脂とは、熱硬化により樹脂を形成する以前の原料化合物をも含めて言うこととし、そのエポキシ樹脂としては、公知のエポキシ樹脂の中から適宜選択して用いることができる。また、エポキシ樹脂は、フェノール性化合物とエピハロヒドリンとを反応させて得られる化合物を用いることができる。フェノール性化合物としては、２価もしくは２価以上のフェノール性水酸基を有する化合物が好ましく、単量体でも重合体でもよい。
具体的には、例えば、ビスフェノールＡエポキシ樹脂、ビスフェノールＦエポキシ樹脂、ビスフェノールＳエポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、ビフェニルノボラックエポキシ樹脂、トリスフェノールエポキシ樹脂、フェノールとジシクロペンタンとの重合エポキシ樹脂、ジハイドロオキシルフルオレン型エポキシ樹脂、ジハイドロオキシルアルキレンオキシルフルオレン型エポキシ樹脂、９，９−ビス（４’−ヒドロキシフェニル）フルオレンのジグリシジルエーテル化物、１，１−ビス（４’−ヒドロキシフェニル）アダマンタンのジグリシジルエーテル化物、などが挙げられ、このように主鎖に芳香族環を有するものを好適に用いることができる。
【００８１】
中でも、高い硬化膜強度の観点から、ビスフェノールＡエポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、フェノールとジシクロペンタジエンとの重合エポキシ樹脂、９，９−ビス（４’−ヒドロキシフェニル）フルオレンのジグリシジルエーテル化物、などが好ましく、ビスフェノールＡエポキシ樹脂が更に好ましい。
【００８２】
エチレン性不飽和モノカルボン酸としては、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸等、および、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート無水琥珀酸付加物、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートテトラヒドロ無水フタル酸付加物、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート無水琥珀酸付加物、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート無水フタル酸付加物、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートテトラヒドロ無水フタル酸付加物、（メタ）アクリル酸とε−カプロラクトンとの反応生成物などが挙げられる。中でも、感度の観点から、（メタ）アクリル酸が好ましい。
【００８３】
多塩基酸（無水物）としては、例えば、琥珀酸、マレイン酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、３−メチルテトラヒドロフタル酸、４−メチルテトラヒドロフタル酸、３−エチルテトラヒドロフタル酸、４−エチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、３−メチルヘキサヒドロフタル酸、４−メチルヘキサヒドロフタル酸、３−エチルヘキサヒドロフタル酸、４−エチルヘキサヒドロフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸、およびそれらの無水物などが挙げられる。中でも、アウトガスの観点から、コハク酸無水物、マレイン酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、またはヘキサヒドロフタル酸無水物が好ましく、コハク酸無水物又はテトラヒドロフタル酸無水物がより好ましく、コハク酸無水物が更に好ましい。
【００８４】
多価アルコールを用いることで、（Ｃ１）エポキシ（メタ）アクリレート樹脂の分子量を増大させ、分子中に分岐を導入することが出来、分子量と粘度のバランスをとることができる傾向がある。また、分子中への酸基の導入率を増やすことができ、感度や密着性等のバランスがとれやすい傾向がある。
多価アルコールとしては、例えばトリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリメチロールエタン、１，２，３−プロパントリオールの中から選ばれる１種又は２種以上の多価アルコールであることが好ましい。
【００８５】
（Ｃ１）エポキシ（メタ）アクリレート樹脂の酸価は特に限定されないが、１０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、２０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、３０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以上がさらに好ましく、４０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以上がよりさらに好ましく、５０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以上が特に好ましく、また、２００ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１８０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、１５０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以下がさらに好ましく、１００ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以下がよりさらに好ましく、８０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以下が特に好ましい。前記下限値以上とすることで未露光部の現像性を良化する傾向があり、また、前記上限値以下とすること膜減り等を生じない膜を生成できる傾向がある。
【００８６】
（Ｃ１）エポキシ（メタ）アクリレート樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は特に限定されないが、通常１０００以上、好ましくは２０００以上、より好ましくは３０００以上、さらに好ましくは４０００以上、よりさらに好ましくは５０００以上、特に好ましくは６０００以上、最も好ましくは７０００以上であり、また、通常３００００以下、好ましくは２００００以下、より好ましくは１５０００以下、さらに好ましくは１００００以下である。前記下限値以上とすることで膜減り等を生じない膜を生成できる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性を良化する傾向がある。
【００８７】
（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂に含まれる（Ｃ１）エポキシ（メタ）アクリレート樹脂の含有割合は特に限定されないが、３０質量％以上が好ましく、４０質量％以上がより好ましく、５０質量％以上がさらに好ましく、６０質量％以上が特に好ましく、また、９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましく、８５質量％以下がさらに好ましい。前記下限値以上とすることでアウトガスの発生量を減少させる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性を良化させ、残渣を低減させ、インクジェット適正が良好となる傾向がある。
【００８８】
（Ｃ１）エポキシ（メタ）アクリレート樹脂は、従来公知の方法により合成することができる。具体的には、前記エポキシ樹脂を有機溶剤に溶解させ、触媒と熱重合禁止剤の共存下、前記エチレン性不飽和結合を有する酸又はエステル化合物を加えて付加反応させ、更に多塩基酸又はその無水物を加えて反応を続ける方法を用いることができる。
【００８９】
ここで、反応に用いる有機溶剤としては、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどの有機溶剤の１種または２種以上が挙げられる。また、上記触媒としては、トリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、トリベンジルアミン等の第３級アミン類、テトラメチルアンモニウムクロライド、メチルトリエチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムクロライド、トリメチルベンジルアンモニウムクロライドなどの第４級アンミニウム塩類、トリフェニルホスフィンなどの燐化合物、トリフェニルスチビンなどのスチビン類などの１種または２種以上が挙げられる。更に、熱重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、メチルハイドロキノンなどの１種または２種以上が挙げられる。
【００９０】
また、エチレン性不飽和結合を有する酸又はエステル化合物としては、エポキシ樹脂のエポキシ基の１化学当量に対して通常０．７〜１．３化学当量、好ましくは０．９〜１．１化学当量となる量とすることができる。また、付加反応時の温度としては、通常６０〜１５０℃、好ましくは８０〜１２０℃の温度とすることができる。更に、多塩基酸（無水物）の使用量としては、前記付加反応で生じた水酸基の１化学当量に対して、通常０．１〜１．２化学当量、好ましくは０．２〜１．１化学当量となる量とすることができる。
【００９１】
（Ｃ１）エポキシ（メタ）アクリレート樹脂の化学構造は特に限定されないが、アウトガスの観点から、以下の一般式（Ｃ１−１）〜（Ｃ１−６）で示される樹脂のうち少なくとも１種を含有することが好ましい。（Ｃ１）エポキシ（メタ）アクリレート樹脂は、１種の樹脂を含むものであってもよく、２種以上の樹脂を含むものであってもよい。
【００９２】
【化１４】
2018018036.tif 000016
【００９３】
式（Ｃ１−１）中、Ｒ111は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基を表し、ｎ111は０〜２０の整数を表す。
【００９４】
【化１５】
2018018036.tif 000017
【００９５】
式（Ｃ１−２）中、Ｒ121は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基を表し、ｎ121は０〜２０の整数を表す。
【００９６】
【化１６】
2018018036.tif 000018
【００９７】
式（Ｃ１−３）中、Ｒ131は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基を表し、ｍ131及びｎ131は各々独立に０〜２０の整数を表す。なお、ｍ131及びｎ131は繰り返し単位の数を意味し、ブロック共重合体であることを示すものではない。γは単結合、−ＣＯ−、−ＣＨ2−、−Ｃ（ＣＨ3）2−、下記式（ＩＶ）に示す基、又は下記式（Ｖ）に示す基を表す。δは水素原子又は多塩基酸残基を表す。
【００９８】
【化１７】
2018018036.tif 000019
【００９９】
【化１８】
2018018036.tif 000020
【０１００】
【化１９】
2018018036.tif 000021
【０１０１】
式（Ｃ１−４）中、Ｒ141はアルキル基又はハロゲン原子を表し、ｐは０〜４の整数を表す。
【０１０２】
【化２０】
2018018036.tif 000022
【０１０３】
【化２１】
2018018036.tif 000023
【０１０４】
式（Ｃ１−６）中、Ｒ161は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基を表し、ｎ161は０〜２０の整数を表す。
【０１０５】
また、式（Ｃ１−１）〜式（Ｃ１−６）中、Ａは下記一般式（ＶＩ）に示す基を表す。
【０１０６】
【化２２】
2018018036.tif 000024
【０１０７】
式（ＶＩ）中、Ｒ171は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ172はアルキレン基を表し、ｍ171は０〜１０の整数を表す。またδは、水素原子又は多塩基酸残基を表す。
【０１０８】
（Ｒ111）
前記式（Ｃ１−１）において、Ｒ111は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基を表す。
Ｒ111におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
また、Ｒ111におけるアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基が挙げられる。その炭素数は通常１以上であり、また、１０以下が好ましく、５以下がより好ましく、２以下がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
【０１０９】
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、２−プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基、３−メチルブチル基等が挙げられる。これらの中でも現像性の観点から、メチル基またはエチル基が好ましい。
【０１１０】
Ｒ111におけるアリール基としては、芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基が挙げられる。その炭素数は通常４以上であり、また、１５以下が好ましく、１０以下がより好ましく、６以下がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
【０１１１】
芳香族炭化水素環基における芳香族炭化水素環としては、単環であっても縮合環であってもよく、例えば、１個の遊離原子価を有する、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、アセナフテン環、フルオランテン環、フルオレン環などの基が挙げられる。また、芳香族複素環基における芳香族複素環としては、単環であっても縮合環であってもよく、例えば、１個の遊離原子価を有する、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、フェナントリジン環、ベンゾイミダゾール環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環などの基が挙げられる。これらの中でも現像性の観点から、ベンゼン環がより好ましい。
【０１１２】
これらの中でも、現像性の観点から、Ｒ111は水素原子又はメチル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。また、１つのベンゼン環に結合される２つのＲ111はいずれも水素原子であることがより好ましい。
【０１１３】
（ｎ111）
前記式（Ｃ１−１）において、ｎ111は０〜２０の整数を表すが、０以上が好ましく、１以上がより好ましく、２以上がさらに好ましく、また、１５以下が好ましく、１０以下がより好ましく、５以下がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
【０１１４】
（Ｒ121）
前記式（Ｃ１−２）において、Ｒ121は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基を表す。
Ｒ121におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ。
また、Ｒ121におけるアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基が挙げられる。その炭素数は通常１以上であり、また、１０以下が好ましく、５以下がより好ましく、２以下がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
【０１１５】
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、２−プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基、３−メチルブチル基等が挙げられる。これらの中でも現像性の観点から、メチル基、エチル基が好ましい。
【０１１６】
Ｒ121におけるアリール基としては、芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基が挙げられる。その炭素数は通常４以上であり、６以上が好ましく、また、１５以下が好ましく、１０以下がより好ましく、６以下がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
【０１１７】
芳香族炭化水素環基における芳香族炭化水素環としては、単環であっても縮合環であってもよく、例えば、１個の遊離原子価を有する、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、アセナフテン環、フルオランテン環、フルオレン環などの基が挙げられる。また、芳香族複素環基における芳香族複素環としては、単環であっても縮合環であってもよく、例えば、１個の遊離原子価を有する、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、フェナントリジン環、ベンゾイミダゾール環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環などの基が挙げられる。これらの中でも現像性の観点から、ベンゼン環が好ましい。
【０１１８】
これらの中でも、現像性の観点から、Ｒ121は水素原子又はメチル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。また、１つのベンゼン環に結合される２つのＲ121はいずれも水素原子であることがより好ましい。
【０１１９】
（ｎ121）
前記式（Ｃ１−２）において、ｎ121は０〜２０の整数を表すが、２以上が好ましく、３以上がより好ましく、５以上がさらに好ましく、また、１６以下が好ましく、１４以下がより好ましく、１２以下がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化するとなる傾向がある。
【０１２０】
（Ｒ131）
前記式（Ｃ１−３）において、Ｒ131は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基を表す。
Ｒ131におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
また、Ｒ131におけるアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基が挙げられる。その炭素数は通常１以上であり、また１５以下が好ましく、１０以下がより好ましく、６以下がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化するとなる傾向がある。
【０１２１】
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、２−プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基、３−メチルブチル基等が挙げられる。これらの中でも現像性の観点から、メチル基、エチル基が好ましい。
【０１２２】
Ｒ131におけるアリール基としては、芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基が挙げられる。その炭素数は通常４以上であり、６以上が好ましく、また１５以下が好ましく、１０以下がより好ましく、６以下がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
【０１２３】
芳香族炭化水素環基における芳香族炭化水素環としては、単環であっても縮合環であってもよく、例えば、１個の遊離原子価を有する、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、アセナフテン環、フルオランテン環、フルオレン環などの基が挙げられる。また、芳香族複素環基における芳香族複素環としては、単環であっても縮合環であってもよく、例えば、１個の遊離原子価を有する、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、フェナントリジン環、ベンゾイミダゾール環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環などの基が挙げられる。これらの中でも現像性の観点から、ベンゼン環がより好ましい。
【０１２４】
これらの中でも、現像性の観点から、Ｒ131は水素原子又はメチル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。また、１つのベンゼン環に結合される２つのＲ131はいずれも水素原子であることがより好ましい。
【０１２５】
（ｍ131）
前記式（Ｃ１−３）において、ｍ131は０〜２０の整数を表すが、２以上が好ましく、５以上がより好ましく、１０以上がさらに好ましく、また、１８以下が好ましく、１６以下がより好ましく、１４以下がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
【０１２６】
（ｎ131）
前記式（Ｃ１−３）において、ｎ131は０〜２０の整数を表すが、１以上が好ましく、２以上がより好ましく、３以上がさらに好ましく、また、１８以下が好ましく、１６以下がより好ましく、１４以下がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで未露光部の現像性が良化する傾向があり、また、前記上限値以下とすることで現像時の膜減りを生じない傾向がある。
【０１２７】
（γ）
前記式（Ｃ１−３）において、γは単結合、−ＣＯ−、−ＣＨ2−、−Ｃ（ＣＨ3）2−、前記式（ＩＶ）に示す基、又は前記式（Ｖ）に示す基を表す。これらの中でも現像性、アウトガスの観点から、−Ｃ（ＣＨ3）2−が好ましい。
【０１２８】
（Ｒ141）
前記式（Ｃ１−４）において、Ｒ141はアルキル基又はハロゲン原子を表す。
Ｒ141におけるアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基が挙げられる。その炭素数は通常１以上であり、また、１０以下が好ましく、５以下がより好ましく、２以下がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
【０１２９】
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、２−プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基、３−メチルブチル基等が挙げられる。これらの中でも現像性の観点から、メチル基、エチル基が好ましい。
【０１３０】
Ｒ141におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【０１３１】
これらの中でも、現像性の観点から、Ｒ141は水素原子又はメチル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
【０１３２】
（ｐ）
前記式（Ｃ１−４）において、ｐは各々独立に０〜４の整数を表す。現像性の観点から、０以上が好ましく、２以下が好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
【０１３３】
（Ｒ161）
前記式（Ｃ１−６）において、Ｒ161は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基を表す。
Ｒ161におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
また、Ｒ161におけるアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基が挙げられる。その炭素数は通常１以上であり、また、１０以下が好ましく、５以下がより好ましく、２以下がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
【０１３４】
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、２−プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基、３−メチルブチル基等が挙げられる。これらの中でも現像性の観点から、メチル基が好ましい。
【０１３５】
Ｒ161におけるアリール基としては、芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基が挙げられる。その炭素数は通常４以上であり、６以上が好ましく、また１５以下が好ましく、１０以下がより好ましく、６以下がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
【０１３６】
芳香族炭化水素環基における芳香族炭化水素環としては、単環であっても縮合環であってもよく、例えば、１個の遊離原子価を有する、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、アセナフテン環、フルオランテン環、フルオレン環などの基が挙げられる。また、芳香族複素環基における芳香族複素環としては、単環であっても縮合環であってもよく、例えば、１個の遊離原子価を有する、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、フェナントリジン環、ベンゾイミダゾール環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環などの基が挙げられる。これらの中でも現像性の観点から、ベンゼン環が好ましい。
【０１３７】
これらの中でも、現像性の観点から、Ｒ161は水素原子又はメチル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
【０１３８】
（ｎ161）
前記式（Ｃ１−６）において、ｎ161は０〜２０の整数を表すが、１以上が好ましく、２以上がより好ましく、また、１５以下が好ましく、１０以下がより好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
【０１３９】
（Ｒ172）
前記式（Ｖ）において、Ｒ172はアルキレン基を表す。
Ｒ172におけるアルキレン基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキレン基が挙げられる。その炭素数は通常１以上であり、２以上が好ましく、また４以下が好ましく、３以下がより好ましく、２以下がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
【０１４０】
アルキレン基の具体例としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基等が挙げられる。これらの中でも現像性の観点から、エチレン基、プロピレン基が好ましい。
【０１４１】
（ｍ171）
前記式（Ｖ）において、ｍ171は０〜１０の整数を表すが、１以上が好ましく、また、５以下が好ましい。前記下限値以上とすることで未露光部の現像性が良化する傾向があり、また、前記上限値以下とすることで現像時の膜減りを生じない傾向がある。
【０１４２】
（δ）
前記式（Ｃ１−３）及び（Ｖ）において、δは水素原子又は多塩基酸残基を表す。
多塩基酸残基とは、多塩基酸からＯＨ基を１つ除した１価の基を表す。
多塩基酸残基における多塩基酸としては、琥珀酸、マレイン酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、３−メチルテトラヒドロフタル酸、４−メチルテトラヒドロフタル酸、３−エチルテトラヒドロフタル酸、４−エチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、３−メチルヘキサヒドロフタル酸、４−メチルヘキサヒドロフタル酸、３−エチルヘキサヒドロフタル酸、４−エチルヘキサヒドロフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸などが挙げられ、現像性、信頼性、アウトガスの観点から、コハク酸無水物、マレイン酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、またはヘキサヒドロフタル酸無水物が好ましく、コハク酸無水物又はテトラヒドロフタル酸無水物がより好ましく、コハク酸無水物が更に好ましい。
【０１４３】
前記一般式（Ｃ１−１）〜（Ｃ１−６）で示される樹脂の中でも、アウトガス量及びインクジェット塗布性の点から、前記一般式（Ｃ１−２）又は（Ｃ１−３）で示されるエポキシ（メタ）アクリレート樹脂が好ましく、前記一般式（Ｃ１−３）で示されるエポキシ（メタ）アクリレート樹脂がより好ましい。
【０１４４】
［（Ｃ２）側鎖にエチレン性不飽和基を有するアクリル共重合樹脂］
次に、（Ｃ２）側鎖にエチレン性不飽和基を有するアクリル共重合樹脂について詳述する。
（Ｃ２）アクリル共重合樹脂は、側鎖にエチレン性不飽和基を有する。エチレン性不飽和基を有するものとすることで、露光による光硬化が起こりより強固な膜となり、現像時に膜減り生じにくくなり、またポストベーク時に熱分解しにくくないアウトガス量が減少するという効果が得られると考えられる。
【０１４５】
（一般式（Ｉ）で示される部分構造）
（Ｃ２）アクリル共重合樹脂に含まれる、エチレン性不飽和基を有する側鎖を含む部分構造は特に限定されないが、現像性の観点から、例えば、下記一般式（Ｉ）で示される部分構造を含むことが好ましい。
【０１４６】
【化２３】
2018018036.tif 000025
【０１４７】
式（Ｉ）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表す。Ｒ2は置換基を有していてもよいアルケニル基又は下記一般式（ＩＩ）で表される基を表す。Ｒ3は水素原子又は下記一般式（ＩＩＩ）で表される基を表す。
【０１４８】
【化２４】
2018018036.tif 000026
【０１４９】
式（ＩＩ）中、Ｒ4は置換基を有していてもよいアルケニル基を表す。αは置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基、又は置換基を有していてもよいアルケニレン基を表す。＊はカルボニル炭素との結合手を表す。
【０１５０】
【化２５】
2018018036.tif 000027
式（ＩＩＩ）中、βはジカルボン酸の残基である。
【０１５１】
（Ｒ2）
前記式（Ｉ）において、Ｒ2は置換基を有していてもよいアルケニル基又は前記一般式（ＩＩ）で表される基を表す。
【０１５２】
Ｒ2におけるアルケニル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルケニル基が挙げられる。その炭素数は、２以上であることが好ましくまた、２０以下であることが好ましく、１６以下であることがより好ましく、１２以下であることがさらに好ましく、８以下であることがよりさらに好ましく、６以下であることが特に好ましく、４以下であることが最も好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
【０１５３】
アルケニル基の具体例としては、エテニル基、プロペニル基、ブチレニル基、シクロヘキセニル基等が挙げられる。これらの中でも現像性と硬化性の観点から、エテニル基又はプロペニル基が好ましく、エテニル基がより好ましい。
【０１５４】
また、アルケニル基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、チオール基、スルフィド基等が挙げられる。これらの中でも現像性の観点から、アルキル基又はアルケニル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。置換基を２以上有する場合には、置換基同士が連結して環を形成していてもよい。
【０１５５】
Ｒ2としては、これらの中でも現像性と硬化性の観点から、エテニル基又はプロペニル基が好ましく、エテニル基がより好ましい。
【０１５６】
（Ｒ4）
前記式（ＩＩ）においてＲ4は置換基を有していてもよいアルケニル基を表す。
【０１５７】
Ｒ4におけるアルケニル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルケニル基が挙げられる。その炭素数は、２以上であることが好ましくまた、２０以下であることが好ましく、１６以下であることがより好ましく、１２以下であることがさらに好ましく、８以下であることがよりさらに好ましく、６以下であることが特に好ましく、４以下であることが最も好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化すると硬化性を向上できる傾向がある。
【０１５８】
アルケニル基の具体例としては、エテニル基、プロペニル基、ブチレニル基、シクロヘキセニル基等が挙げられる。これらの中でも現像性と硬化性の観点から、エテニル基又はプロペニル基が好ましく、エテニル基がより好ましい。
【０１５９】
また、アルケニル基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、チオール基、スルフィド基等が挙げられる。これらの中でも現像性の観点から、アルキル基又はアルケニル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。置換基を２以上有する場合には、置換基同士が連結して環を形成していてもよい。
【０１６０】
このように、Ｒ4は置換基を有していてもよいアルケニル基を表すが、これらの中でも現像性の観点から、エテニル基又はプロペニル基であることが好ましく、エテニル基であることがより好ましい。
【０１６１】
（α）
前記式（ＩＩ）においてαは、置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基、又は置換基を有していてもよいアルケニレン基を表す。
αにおけるアルキレン基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキレン基が挙げられる。その炭素数は、１以上であることが好ましく、２以上であることがより好ましく、また、２２以下であることが好ましく、２０以下であることがより好ましく、１８以下であることがさらに好ましく、１６以下であることがよりさらに好ましく、１４以下であることが特に好ましく、１２以下であることが最も好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
【０１６２】
アルキレン基の具体例としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、シクロヘキシレン基、メチルシクロヘキシレン基、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン基、メチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン基等が挙げられる。これらの中でも現像性の観点から、エチレン基、シクロヘキシレン基又はメチルシクロヘキシレン基が好ましく、エチレン基がより好ましい。
【０１６３】
また、アルキレン基が有していてもよい置換基としては、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、チオール基、スルフィド基等が挙げられる。これらの中でも残膜率の観点から、アルケニルが好ましい。また、置換基を２以上有する場合には、置換基同士が連結して環を形成していてもよい。
【０１６４】
また、αにおけるアリーレン基としては、２価の芳香族炭化水素環基及び２価の芳香族複素環基が挙げられる。その炭素数は６以上であることが好ましく、また、２４以下であることが好ましく、２２以下であることがより好ましく、２０以下であることがさらに好ましく、１８以下であることがよりさらに好ましく、１６以下であることが特に好ましく、１４以下であることが最も好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
芳香族炭化水素環基における芳香族炭化水素環としては、単環であっても縮合環であってもよく、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、アセナフテン環、フルオランテン環、フルオレン環などの基が挙げられる。
また、芳香族複素環基における芳香族複素環基としては、単環であっても縮合環であってもよく、例えば、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、フェナントリジン環、ベンゾイミダゾール環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環などの基が挙げられる。これらの中でも現像性の観点から、ベンゼン環基、又はナフタレン環基が好ましく、ベンゼン環基がより好ましい。
【０１６５】
また、アリーレン基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、チオール基、スルフィド基等が挙げられる。これらの中でも現像性の観点から、ヒドロキシル基又はカルボキシル基が好ましく、カルボキシル基がより好ましい。また、置換基を２以上有する場合には、置換基同士が連結して環を形成していてもよい。
【０１６６】
置換基を有するアリーレン基の具体例としては、カルボキシルベンゼン環基等が挙げられる。
【０１６７】
また、αにおけるアルケニレン基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルケニレン基が挙げられる。その炭素数は、２以上であることが好ましくまた、２２以下であることが好ましく、２０以下であることがより好ましく、１８以下であることがさらに好ましく、１６以下であることがよりさらに好ましく、１４以下であることが特に好ましく、１２以下であることが最も好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
【０１６８】
アルケニレン基の具体例としては、エテニレン基、プロペニレン基、シクロヘキセニレン基、メチルエテニレン基等が挙げられる。これらの中でも現像性の観点から、エテニレン基、シクロヘキセニレン基が好ましく、エテニレン基がより好ましい。
【０１６９】
また、アルケニレン基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、チオール基、スルフィド基等が挙げられる。これらの中でも残膜率の観点から、アルキル基又はアルケニル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。また、置換基を２以上有する場合には、置換基同士が連結して環を形成していてもよい。
【０１７０】
このように、αは置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基、又は置換基を有していてもよいアルケニレン基を表すが、これらの中でも現像性の観点から、アルキレン基又はアルケニレン基であることが好ましく、アルキレン基であることがより好ましい。
【０１７１】
（Ｒ3）
前記式（Ｉ）においては水素原子又は下記一般式（ＩＩＩ）で示される基を表す。
【０１７２】
【化２６】
2018018036.tif 000028
【０１７３】
前記式（ＩＩＩ）においてβはジカルボン酸の残基である。
Ｒ3は、アルカリ現像性の観点から、一般式（ＩＩＩ）で示される基であることが好ましい。
【０１７４】
（β）
前記式（ＩＩＩ）においてβはジカルボン酸の残基である。ジカルボン酸の残基とは、２価のカルボン酸から２つのＣＯＯＨ基を除した２価の基を意味する。
ジカルボン酸の残基としては、例えば、置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基、又は置換基を有していてもよいアルケニレン基が挙げられる。
βにおけるアルキレン基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキレン基が挙げられる。その炭素数は、１以上であることが好ましく、２以上であることがより好ましく、また、２０以下であることが好ましく、１８以下であることがより好ましく、１６以下であることがさらに好ましく、１４以下であることがよりさらに好ましく、１２以下であることが特に好ましく、１０以下であることが最も好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
【０１７５】
アルキレン基の具体例としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、シクロヘキシレン基、メチルシクロヘキシレン基、ビシクロ［２．２．１］ヘプチレン基、メチルビシクロ［２．２．１］ヘプチレン基等が挙げられる。これらの中でも現像性、信頼性、アウトガスの観点から、エチレン基、シクロヘキシレン基又はメチルシクロヘキシレン基が好ましく、エチレン基がより好ましい。
【０１７６】
また、アルキレン基が有していてもよい置換基としては、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、チオール基、スルフィド基等が挙げられる。これらの中でも残膜率の観点から、アルケニル基が好ましい。また、置換基を２以上有する場合には、置換基同士が連結して環を形成していてもよい。
【０１７７】
置換基を有するアルキレン基の具体例としては、メチレンエチレン基、オクテニルエチレン基、ドデセニルエチレン基などが挙げられる。
【０１７８】
また、βにおけるアリーレン基としては、２価の芳香族炭化水素環基及び２価の芳香族複素環基が挙げられる。その炭素数は６以上であることが好ましく、また、２４以下であることが好ましく、２０以下であることがより好ましく、１８以下であることがさらに好ましく、１６以下であることがよりさらに好ましく、１４以下であることが特に好ましく、１２以下であることが最も好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
芳香族炭化水素環基における芳香族炭化水素環としては、単環であっても縮合環であってもよく、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、アセナフテン環、フルオランテン環、フルオレン環などの基が挙げられる。
また、芳香族複素環基における芳香族複素環基としては、単環であっても縮合環であってもよく、例えば、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、フェナントリジン環、ベンゾイミダゾール環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環などの基が挙げられる。これらの中でも現像性の観点から、ベンゼン環基、又はナフタレン環基が好ましく、ベンゼン環基がより好ましい。
【０１７９】
また、アリーレン基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、チオール基、スルフィド基等が挙げられる。これらの中でも現像性の観点から、水酸基又はカルボキシル基が好ましく、カルボキシル基がより好ましい。また、置換基を２以上有する場合には、置換基同士が連結して環を形成していてもよい。
【０１８０】
置換基を有するアリーレン基の具体例としては、カルボキシルベンゼン環基等が挙げられる。
【０１８１】
また、βにおけるアルケニレン基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルケニレン基が挙げられる。その炭素数は、２以上であることが好ましく、また、２０以下であることが好ましく、１６以下であることがより好ましく、１０以下であることがさらに好ましく、８以下であることがよりさらに好ましく、６以下であることが特に好ましく、４以下であることが最も好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
【０１８２】
アルケニレン基の具体例としては、エテニレン基、プロペニレン基、シクロヘキセニレン基、メチルエテニレン基等が挙げられる。これらの中でも現像性の観点から、エテニレン基、又はシクロヘキセニレン基が好ましく、シクロヘキセニレン基がより好ましい。
【０１８３】
また、アルケニレン基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、チオール基、スルフィド基等が挙げられる。これらの中でも残膜率の観点から、アルキル基又はアルケニル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。また、置換基を２以上有する場合には、置換基同士が連結して環を形成していてもよい。
【０１８４】
このように、βとして、置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基、又は置換基を有していてもよいアルケニレン基が挙げられるが、これらの中でも現像性の観点から、アルキレン基またはアルケニレン基であることが好ましく、アルキレン基であることがより好ましい。
【０１８５】
（Ｃ２）アクリル共重合樹脂に含まれる前記一般式（Ｉ）で示される部分構造の含有割合は特に限定されないが、５モル％以上が好ましく、２０モル％以上がより好ましく、３０モル％以上がさらに好ましく、５０モル％以上が特に好ましく、また、９９モル％以下が好ましく、９７モル％以下がより好ましく、９５モル％以下がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで高感度となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで適度な溶解現像性となる傾向がある。
【０１８６】
（一般式（Ｉ’）で示される部分構造）
（Ｃ２）アクリル共重合樹脂が前記一般式（Ｉ）で示される部分構造を含む場合、他に含まれる部分構造は特に限定されないが、耐熱性や膜強度の観点から、例えば、下記一般式（Ｉ’）で示される部分構造が含まれることが好ましい。
【０１８７】
【化２７】
2018018036.tif 000029
【０１８８】
上記式（Ｉ’）中、Ｒ5は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ6は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、又は置換基を有していてもよいアルケニル基を表す。
【０１８９】
（Ｒ6）
前記式（Ｉ’）において、Ｒ6は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、又は置換基を有していてもよいアルケニル基を表す。
Ｒ6におけるアルキル基としては直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基が挙げられる。その炭素数は、１以上であることが好ましく、３以上であることがより好ましく、５以上であることがさらに好ましく、また、２０以下であることが好ましく、１８以下であることがより好ましく、１６以下であることがさらに好ましく、１４以下であることがよりさらに好ましく、１２以下であることが特に好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
【０１９０】
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、シクロヘキシル基、ジシクロペンタニル基、ドデカニル基等が挙げられる。これらの中でも現像性の観点から、ジシクロペンタニル基又はドデカニル基が好ましく、ジシクロペンタニル基がより好ましい。
また、アルキル基が有していてもよい置換基としては、メトキシ基、エトキシ基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、オリゴエチレングリコール基、フェニル基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などが挙げられ、現像性の観点から、ヒドロキシ基、オリゴエチレングリコール基が好ましい。
【０１９１】
Ｒ6におけるアリール基としては、１価の芳香族炭化水素環基及び１価の芳香族複素環基が挙げられる。その炭素数は６以上であることが好ましく、また、２４以下であることが好ましく、２２以下であることがより好ましく、２０以下であることがさらに好ましく、１８以下であることが特に好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
芳香族炭化水素環基における芳香族炭化水素環としては、単環であっても縮合環であってもよく、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、アセナフテン環、フルオランテン環、フルオレン環などの基が挙げられる。
また、芳香族複素環基における芳香族複素環基としては、単環であっても縮合環であってもよく、例えば、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、フェナントリジン環、ベンゾイミダゾール環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環などの基が挙げられる。これらの中でも現像性の観点から、ベンゼン環基、又はナフタレン環基が好ましく、ベンゼン環基がより好ましい。
また、アリール基が有していてもよい置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、オリゴエチレングリコール基、フェニル基、カルボキシル基などが挙げられ、現像性の観点から、ヒドロキシ基、オリゴエチレングリコール基が好ましい。
【０１９２】
Ｒ6におけるアルケニル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルケニル基が挙げられる。その炭素数は、２以上であることが好ましく、また、２２以下であることが好ましく、２０以下であることがより好ましく、１８以下であることがさらに好ましく、１６以下であることがよりさらに好ましく、１４以下であることが特に好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
【０１９３】
また、アルケニル基が有していてもよい置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、オリゴエチレングリコール基、フェニル基、カルボキシル基などが挙げられ、現像性の観点から、ヒドロキシ基、オリゴエチレングリコール基が好ましい。
【０１９４】
このように、Ｒ6は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよい
アリール基、又は置換基を有していてもよいアルケニル基を表すが、これらの中でも現像性の観点から、アルキル基又はアルケニルが好ましく、アルキル基がより好ましい。
【０１９５】
（Ｃ２）アクリル共重合樹脂に含まれる前記一般式（Ｉ’）で示される部分構造の含有割合は特に限定されないが、１モル％以上が好ましく、２モル％以上がより好ましく、３モル％以上がさらに好ましく、また、９５モル％以下が好ましく、８０モル％以下がより好ましく、７０％モル以下がさらに好ましく、５０モル％以下が特に好ましい。前記下限値以上とすることで耐熱性や膜強度が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで適度な現像性となる傾向がある。
【０１９６】
（一般式（Ｉ’’）で示される部分構造）
（Ｃ２）アクリル共重合樹脂が前記一般式（Ｉ）で示される部分構造を含む場合、他に含まれる部分構造として、耐熱性、膜強度の観点から下記一般式（Ｉ’’）で示される部分構造が含まれることが好ましい。
【０１９７】
【化２８】
2018018036.tif 000030
【０１９８】
上記式（Ｉ’’）中、Ｒ7は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ8は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルコキシ基、チオール基、又は置換基を有していてもよいアルキルスルフィド基を表す。ｔは０〜５の整数を表す。
【０１９９】
（Ｒ8）
前記式（Ｉ’’）においてＲ8は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルコキシ基、チオール基、又は置換基を有していてもよいアルキルスルフィド基を表す。
Ｒ8におけるアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基が挙げられる。その炭素数は、１以上であることが好ましく、３以上であることがより好ましく、５以上であることがさらに好ましく、また、２０以下であることが好ましく、１８以下であることがより好ましく、１６以下であることがさらに好ましく、１４以下であることがよりさらに好ましく、１２以下であることが特に好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
【０２００】
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、シクロヘキシル基、ジシクロペンタニル基、ドデカニル基等が挙げられる。これらの中でも現像性の観点から、ジシクロペンタニル基又はドデカニル基が好ましく、ジシクロペンタニル基がより好ましい。
また、アルキル基が有していてもよい置換基としては、メトキシ基、エトキシ基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、オリゴエチレングリコール基、フェニル基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などが挙げられ、現像性の観点から、ヒドロキシ基、オリゴエチレングリコール基が好ましい。
【０２０１】
Ｒ8におけるアルケニル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルケニル基が挙げられる。その炭素数は、２以上であることが好ましく、また、２２以下であることが好ましく、２０以下であることがより好ましく、１８以下であることがさらに好ましく、１６以下であることがよりさらに好ましく、１４以下であることが特に好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
【０２０２】
また、アルケニル基が有していてもよい置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、オリゴエチレングリコール基、フェニル基、カルボキシル基などが挙げられ、現像性の観点から、ヒドロキシ基、オリゴエチレングリコール基が好ましい。
【０２０３】
Ｒ8におけるアルキニル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキニル基が挙げられる。その炭素数は、２以上であることが好ましく、また、２２以下であることが好ましく、２０以下であることがより好ましく、１８以下であることがさらに好ましく、１６以下であることがよりさらに好ましく、１４以下であることが特に好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
【０２０４】
また、アルキニル基が有していてもよい置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、オリゴエチレングリコール基、フェニル基、カルボキシル基などが挙げられ、現像性の観点から、ヒドロキシ基、オリゴエチレングリコール基が好ましい。
【０２０５】
Ｒ8におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、これらの中でも誘電率の観点からはフッ素原子が好ましい。
【０２０６】
Ｒ8におけるアルコキシ基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルコキシ基が挙げられる。その炭素数は、１以上であることが好ましく、また、２０以下であることが好ましく、１８以下であることがより好ましく、１６以下であることがさらに好ましく、１４以下であることがよりさらに好ましく、１２以下であることが特に好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
【０２０７】
また、アルコシ基が有していてもよい置換基としては、メトキシ基、エトキシ基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、オリゴエチレングリコール基、フェニル基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などが挙げられ、現像性の観点から、ヒドロキシ基、オリゴエチレングリコール基が好ましい。
【０２０８】
Ｒ8におけるアルキルスルフィド基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキルスルフィド基が挙げられる。その炭素数は、１以上であることが好ましく、また、２０以下であることが好ましく、１８以下であることがより好ましく、１６以下であることがさらに好ましく、１４以下であることがよりさらに好ましく、１２以下であることが特に好ましい。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
【０２０９】
また、アルキルスルフィド基におけるアルキル基が有していてもよい置換基としては、メトキシ基、エトキシ基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、オリゴエチレングリコール基、フェニル基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などが挙げられ、現像性の観点から、ヒドロキシ基、オリゴエチレングリコール基が好ましい。
【０２１０】
このように、Ｒ8は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、チオール基、又は置換基を有していてもよいアルキルスルフィド基を表すが、これらの中でも現像性の観点から、ヒドロキシル基又はカルボキシル基が好ましく、カルボキシル基がより好ましい。
【０２１１】
（Ｃ２）アクリル共重合樹脂に含まれる前記一般式（Ｉ’’）で示される部分構造の含有割合は特に限定されないが、１モル％以上が好ましく、２モル％以上がより好ましく、３モル％以上がさらに好ましく、５モル％以上が特に好ましく、また、９０モル％以下が好ましく、７０モル％以下がより好ましく、５０モル％以下がさらに好ましく、３０モル％以下がよりさらに好ましく、２０モル％以下が特に好ましく、１０モル％以下が最も好ましい。前記下限値以上とすることで耐熱性が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで適度な現像性となる傾向がある。
【０２１２】
（一般式（Ｉ’’’）で示される部分構造）
（Ｃ２）アクリル共重合樹脂が前記一般式（Ｉ）で示される部分構造を含む場合、他に含まれる部分構造として、耐熱性の観点から下記一般式（Ｉ’’’）で示される部分構造が含まれることが好ましい。
【０２１３】
【化２９】
2018018036.tif 000031
【０２１４】
上記式（Ｉ’’’）中、Ｒ9は水素原子又はメチル基を表す。
【０２１５】
（Ｃ２）アクリル共重合樹脂に含まれる前記一般式（Ｉ’’’）で示される部分構造の含有割合は特に限定されないが、５モル％以上が好ましく、１０モル％以上がより好ましく、３０モル％以上がさらに好ましく、また、９０モル％以下が好ましく、８０モル％以下がより好ましく、７０モル％以下がさらに好ましく、５０モル％以下が特に好ましい。前記下限値以上とすることで耐熱性が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで適度な現像性となる傾向がある。一方で、アウトガスの観点から、０％、つまり、前記一般式（Ｉ’’’）で示される部分構造を含まないことが好ましい。
【０２１６】
（Ｃ２）アクリル共重合樹脂の酸価は特に限定されないが、５ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、１０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、１５ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以上がさらに好ましく、２０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以上がよりさらに好ましく、また、１００ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、９０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、７０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以下がさらに好ましく、５０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以下がよりさらに好ましい。前記下限値以上とすることで未露光部の現像性が良化する傾向があり、また、前記上限値以下とすること現像時の膜減りを生じない傾向がある。
【０２１７】
（Ｃ２）アクリル共重合樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は特に限定されないが、通常１０００以上、好ましくは１０００以上、より好ましくは２０００以上、さらに好ましくは３０００以上、よりさらに好ましくは４０００以上、特に好ましくは５０００以上であり、また、通常３００００以下、好ましくは２００００以下、より好ましくは１５０００以下、さらに好ましくは１００００以下である。前記下限値以上とすることで現像時の膜減りを生じない傾向があり、また、前記上限値以下とすることで未露光部の現像性が良化する傾向がある。
【０２１８】
（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂に含まれる（Ｃ２）アクリル共重合樹脂の含有割合は特に限定されないが、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、１５質量％以上がさらに好ましく、７０質量％以上が特に好ましく、また、６０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましく、４０質量％以下がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで未露光部の現像性を良化させ、残渣を低減させ、インクジェット適正が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることでアウトガスの発生量を減少させる傾向がある。
【０２１９】
また、（Ｃ２）アクリル共重合樹脂は、（Ｃ１）エポキシ（メタ）アクリレート樹脂と（Ｃ２）アクリル共重合樹脂との合計質量に対して、５質量％以上が好ましく、１０質量％がより好ましく、１５質量％がさらに好ましく、また７０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましく、３０質量％以下がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで未露光部の現像性を良化させ、残渣を低減させ、インクジェット適正が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることでアウトガスの発生量を減少させる傾向がある。
【０２２０】
以下に（Ｃ２）アクリル共重合樹脂の具体例を詳述する。（Ｃ２）アクリル共重合樹脂としては、例えば、（Ｃ２−ａ）側鎖にエチレン性不飽和基を有するカルボシキル基共重合体が挙げられる。
【０２２１】
［Ｃ２−ａ］側鎖にエチレン性不飽和基を有するカルボキシル基含有共重合体
［Ｃ２−ａ−１］不飽和カルボン酸と２個以上のエチレン性不飽和基を含有する化合物との共重合体
側鎖にエチレン性不飽和基を有するカルボキシル基含有共重合体として、例えば、アリル（メタ）アクリレート、３−アリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、シンナミル（メタ）アクリレート、クロトニル（メタ）アクリレート、メタリル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジアリル（メタ）アクリルアミドなどの２個以上のエチレン性不飽和基を含有する化合物、または、ビニル（メタ）アクリレート、１−クロロビニル（メタ）アクリレート、２−フェニルビニル（メタ）アクリレート、１−プロペニル（メタ）アクリレート、ビニルクロトネート、ビニル（メタ）アクリルアミドなどの２個以上のエチレン性不飽和基を含有する化合物と、（メタ）アクリル酸などの不飽和カルボン酸、またはさらに不飽和カルボン酸エステルなどとを、前者の２個以上のエチレン性不飽和基を含有する化合物の全体に占める割合が１０〜９０モル％、好ましくは３０〜８０モル％程度となるように共重合させて得られた共重合体などが挙げられる。
【０２２２】
なお、この共重合体の酸価は、現像溶解性の観点から、好ましくは３０〜２５０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇであり、重量平均分子量（Ｍｗ）は、現像溶解性の観点から、好ましくは１０００〜３０００００である。
【０２２３】
［Ｃ２−ａ−２］エポキシ基含有不飽和化合物変性カルボキシル基含有共重合体
また、側鎖にエチレン性不飽和基を有するカルボキシル基含有共重合体として、例えば、カルボキシル基含有共重合体に、エポキシ基含有不飽和化合物を反応させて、カルボキシル基含有共重合体のカルボキシル基の一部にエポキシ基含有不飽和化合物のエポキシ基を付加させて変性した変性カルボキシル基含有共重合体が挙げられる。
そのカルボキシル基含有共重合体としては、感度の観点から、前述したカルボキシル基含有共重合体の（メタ）アクリレート−（メタ）アクリル酸共重合体、及び、スチレン−（メタ）アクリレート−（メタ）アクリル酸共重合体などが好ましい。
また、そのエポキシ基含有不飽和化合物としては、アリルグリシジルエーテル、グリシジル（メタ）アクリレート、α−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルクロトネート、グリシジルイソクロトネート、クロトニルグリシジルエーテル、イタコン酸モノアルキルモノグリシジルエステル、フマル酸モノアルキルモノグリシジルエステル、マレイン酸モルアルキルモノグリシジルエステルなどの脂肪族エポキシ基含有不飽和化合物、および、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、２，３−エポキシシクロペンチルメチル（メタ）アクリレート、７，８−エポキシ〔トリシクロ［５．２．１．０］デシ−２−イル〕オキシエチル（メタ）アクリレートなどの脂環式エポキシ基含有不飽和化合物が挙げられる。
そして、これらのエポキシ基含有不飽和化合物を、カルボキシル基含有共重合体の有するカルボキシル基の５〜９０モル％、好ましくは３０〜７０モル％程度を反応させることにより得られる。なお、反応は公知の方法により実施することができる。
【０２２４】
なお、このエポキシ基含有不飽和化合物変性カルボキシル基含有共重合体の酸価は、現像性の観点から、好ましくは３０〜２５０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇであり、現像性の観点から、重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１０００〜３０００００である。
【０２２５】
［Ｃ２−ａ−３］不飽和カルボン酸変性エポキシ基およびカルボキシル基含有（共）重合体
また、側鎖にエチレン性不飽和基を有するカルボキシル基含有共重合体として、例えば、（メタ）アクリル酸などの不飽和カルボン酸と、前述の脂肪族エポキシ基含有不飽和化合物または脂環式エポキシ基含有不飽和化合物、またはさらに不飽和カルボン酸エステルやスチレンなどとを、前者のカルボキシル基含有不飽和化合物の全体に占める割合を１０〜９０モル％、好ましくは３０〜８０モル％程度となるように共重合させて得られた共重合体に、（メタ）アクリル酸などの不飽和カルボン酸を反応させて、該共重合体のエポキシ基に不飽和カルボン酸のカルボキシル基を付加させて変性した変性エポキシ基およびカルボキシル基含有共重合体が挙げられる。
【０２２６】
なお、この不飽和カルボン酸変性エポキシ基およびカルボキシル基含有共重合体の酸価は、現像性の観点から、好ましくは３０〜２５０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇであり、現像性の観点から、重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１０００〜３０００００である。
【０２２７】
［Ｃ２−ａ−４］酸変性エポキシ基含有共重合体
また、側鎖にエチレン性不飽和基を有するカルボキシル基含有（共）重合体として、エポキシ基含有（メタ）アクリレートとエチレン性不飽和化合物との共重合体に対し、該共重合体が有するエポキシ基の少なくとも一部にエチレン性不飽和モノカルボン酸を付加し、さらに付加により生じた水酸基の少なくとも一部に多塩基酸（無水物）を付加して得られる酸変性エポキシ基含有（共）重合体が挙げられる。
具体的には、グリシジル（メタ）アクリレートなどのエポキシ基含有（メタ）アクリレート５〜９９モル％と、（メタ）アクリル酸エステルなどのエチレン性不飽和化合物通常２〜９５モル％との共重合体を、共重合体に含まれるエポキシ基の通常１０〜１００モル％に、エチレン性不飽和モノカルボン酸を付加し、さらに付加したときに生成する水酸基の通常１０〜１００モル％に、多塩基酸（無水物）を付加して得られる酸変性エポキシ基含有（共）重合体が挙げられる。
【０２２８】
ここで、前記共重合体におけるエポキシ基含有（メタ）アクリレートの共重合割合は特に限定されないが、通常５モル％以上、好ましくは２０モル％以上、より好ましくは４０モル％以上、さらに好ましくは６０モル％以上、よりさらに好ましくは８０モル％以上、特に好ましくは９０モル％以上であり、通常９９モル％以下、好ましくは９８モル％以下、より好ましくは９５モル％以下である。前記下限値以上とすることで高感度となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで適度な現像溶解性となる傾向がある。
一方、前記共重合体におけるエチレン性不飽和化合物の共重合割合は特に限定されないが、通常１モル％以上、好ましくは３モル％以上、より好ましくは５モル％以上であり、通常９０モル％以下、好ましくは７０モル％以下、より好ましくは５０モル％以下、さらに好ましくは３０モル％以下、特に好ましくは１０モル％以下である。前記下限値以上とすることで高感度となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで適度な現像溶解性となる傾向がある。
【０２２９】
エポキシ基含有（メタ）アクリレートとしては、グリシジル（メタ）アクリレート、α−エチルグリシジル（メタ）アクリレートなどの脂肪族エポキシ基含有（メタ）アクリレート；３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、２，３−エポキシシクロペンチルメチル（メタ）アクリレート、７，８−エポキシ〔トリシクロ［５．２．１．０］デシ−２−イル〕オキシエチル（メタ）アクリレートなどの脂環式エポキシ基含有（メタ）アクリレートが挙げられる。
【０２３０】
ここで、（メタ）アクリル酸エステルなどのエチレン性不飽和化合物としては、例えば、下記式（ＶＩ）で表される部分構造を有するモノ（メタ）アクリレートの１種または２種以上を用いることが好ましい。
【０２３１】
【化３０】
2018018036.tif 000032
【０２３２】
式（ＶＩ）中、Ｒ1d〜Ｒ4dは、それぞれ独立に、水素原子、または、炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ5dとＲ6dは、それぞれ独立に、水素原子、または炭素数１〜１０のアルキル基を表す。また、Ｒ5dとＲ6dは連結して環を形成していてもよい。Ｒ5dとＲ6dが連結して形成される環は、好ましくは脂肪族環であり、飽和または不飽和の何れでもよく、好ましくは炭素数５〜６である。
【０２３３】
Ｒ1d〜Ｒ4dにおけるアルキル基の炭素数は通常１以上であり、通常１０以下、好ましくは８以下、より好ましくは５以下である。前記上限値以下とすることで適切な現像溶解性となる傾向がある。
これらの中でも、溶解性の観点から、Ｒ1d〜Ｒ4dは水素原子であることが好ましい。
【０２３４】
Ｒ5d及びＲ6dにおけるアルキル基の炭素数は通常１以上であり、また、通常１０以下、好ましくは８以下、より好ましくは５以下である。前記下限値以上とすることで適切な溶解性を示す傾向があり、また、前記上限値以下とすることで親水性が保持される傾向がある。
これらの中でも、現像溶解性の観点から、Ｒ5d及びＲ6dが水素原子であるか、Ｒ5d及びＲ6dが連結して炭素数５〜６の脂肪族環を形成していることが好ましい。
【０２３５】
上記式（ＶＩ）の中では、下記式（ＶＩａ）、（ＶＩｂ）、または（ＶＩｃ）で表される構造を有するモノ（メタ）アクリレートが好ましい。これらの部分構造を導入することによって、モノ（メタ）アクリレートの耐熱性や強度を増すことが可能となる傾向がある。なお、これらのモノ（メタ）アクリレートは、１種を用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。
【０２３６】
【化３１】
2018018036.tif 000033
【０２３７】
前記の式（ＶＩ）で表される部分構造を有するモノ（メタ）アクリレートとしては、公知の各種のものが使用できるが、硬化性の観点から、特に次の式（ＶＩＩ）で表されるものが好ましい。
【０２３８】
【化３２】
2018018036.tif 000034
【０２３９】
式（ＶＩＩ）中、Ｒ9dは水素原子またはメチル基を表し、Ｒ10dは前記の式（ＶＩ）を表す。
【０２４０】
一方で、エチレン性不飽和化合物としては、上述した式（ＶＩ）で表される部分構造を有するモノ（メタ）アクリレート以外の、例えば、スチレンのα−、ｏ−、ｍ−、ｐ−アルキル、ニトロ、シアノ、アミド、エステル誘導体などのスチレン類、ブタジエン、２，３−ジメチルブタジエン、イソプレン、クロロプレンなどのジエン類、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸−ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸−ｉｓｏ−プロピル、（メタ）アクリル酸−ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸−ｓｅｃ−ブチル、（メタ）アクリル酸−ｔｅｒｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ネオペンチル、（メタ）アクリル酸イソアミル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸シクロペンチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸２−メチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ジシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸イソボロニル、（メタ）アクリル酸アダマンチル、（メタ）アクリル酸アリル、（メタ）アクリル酸プロパルギル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸ナフチル、（メタ）アクリル酸アントラセニル、（メタ）アクリル酸アントラニノニル、（メタ）アクリル酸ピペロニル、（メタ）アクリル酸サリチル、（メタ）アクリル酸フリル、（メタ）アクリル酸フルフリル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフリル、（メタ）アクリル酸ピラニル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸フェネチル、（メタ）アクリル酸クレジル、（メタ）アクリル酸−１，１，１−トリフルオロエチル、（メタ）アクリル酸パーフルオルエチル、（メタ）アクリル酸パーフルオロ−ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸パーフルオロ−ｉｓｏ−プロピル、（メタ）アクリル酸トリフェニルメチル、（メタ）アクリル酸クミル、（メタ）アクリル酸３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピル、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシプロピルなどの（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリル酸アミド、（メタ）アクリル酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド、（メタ）アクリル酸Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド、（メタ）アクリル酸Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミド、（メタ）アクリル酸Ｎ，Ｎ−ジ−ｉｓｏ−プロピルアミド、（メタ）アクリル酸アントラセニルアミドなどの（メタ）アクリル酸アミド類、（メタ）アクリル酸アニリド、（メタ）アクリロイルニトリル、アクロレイン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、Ｎ−ビニルピロリドン、ビニルピリジン、酢酸ビニルなどのビニル化合物類、シトラコン酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチルなどの不飽和ジカルボン酸ジエステル類、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ラウリルマレイミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）マレイミドなどのモノマレイミド類、Ｎ−（メタ）アクリロイルフタルイミドなどのようなラジカル重合性化合物も挙げられる。
【０２４１】
これらの中でも、より優れた耐熱性および強度を付与させるためには、エチレン性不飽和化合物としては、スチレン、ベンジル（メタ）アクリレートおよびモノマレイミドから選択された少なくとも１種を使用することが有効である。この場合、耐熱性の観点から、スチレン、ベンジル（メタ）アクリレートおよびモノマレイミドから選択された少なくとも１種の共重合割合は、通常１モル％以上、好ましくは３モル％以上、また、通常、７０モル％以下、好ましくは５０モル％以下、より好ましくは３０モル％以下、さらに好ましくは１０モル％以下である。
【０２４２】
エポキシ基含有（メタ）アクリレートとエチレン性不飽和化合物との共重合体に含まれるエポキシ基に付加させるエチレン性不飽和モノカルボン酸としては、公知のものを使用することができ、硬化性の観点から、（メタ）アクリル酸が好ましい。前記共重合体に含まれるエポキシ基にエチレン性不飽和モノカルボン酸を付加させる量は、該共重合体に含まれるエポキシ基の通常１０モル％以上、好ましくは３０モル％以上、より好ましくは５０モル％以上であり、さらに好ましくは７０モル％以上であり、通常１００モル％以下である。エチレン性不飽和モノカルボン酸の付加割合を前記下限値以上とすることで、硬化性を高めることができる傾向がある。なお、前記共重合体にエチレン性不飽和モノカルボン酸を付加させる方法としては公知の方法を採用することができる。
【０２４３】
前記共重合体にエチレン性不飽和モノカルボン酸を付加させたときに生成する水酸基に付加させる多塩基酸（無水物）としては、特に限定されず公知のもの１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。このような成分を付加させることにより、共重合体にアルカリ可溶性を付与することができる。
【０２４４】
多塩基酸（無水物）を付加させる量は、前記共重合体にエチレン性不飽和モノカルボン酸を付加させたときに生成する水酸基の、通常１モル％以上、好ましくは５モル％以上、より好ましくは１０モル％以上、さらに好ましくは２０モル％以上、特に好ましくは３０モル％以上である。また、通常１００モル％以下、好ましくは、９０モル％以下、より好ましくは８０モル％以下、さらに好ましくは５０モル％以下である。前記下限値以上とすることで十分な現像性を付与できる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで現像が進みすぎ膜溶解するのを抑制できる傾向がある。なお、前記共重合体にエチレン性不飽和モノカルボン酸を付加させたときに生成する水酸基に多塩基酸（無水物）を付加させる方法としては、公知の方法を任意に採用することができる。
【０２４５】
以上のエポキシ基含有共重合体のエチレン性不飽和モノカルボン酸および多塩基酸（無水物）による変性物には、多塩基酸（無水物）付加後に生成したカルボキシ基の一部に、グリシジル（メタ）アクリレートやエチレン不飽和基を有するグリシジルエーテル化合物を付加させることにより、さらに光感度を向上させることができる。また、多塩基酸（無水物）付加後に生成したカルボキシ基の一部にエチレン性不飽和基を有さないグリシジルエーテル化合物を付加させることにより、現像性を向上させることもできる。さらに、多塩基酸（無水物）付加後にこれらの両者を付加させてもよい。
【０２４６】
なお、上述した酸変性エポキシ基含有共重合体としては、例えば、特開平８−２９７３６６号公報や特開２００１−８９５３３号公報に記載の樹脂が挙げられる。また、上記変性物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、特に限定されないが、通常３，０００以上、好ましくは５，０００以上、また、通常１００，０００以下、好ましくは５０，０００以下、より好ましくは３０，０００以下、さらに好ましくは２０，０００以下、特に好ましくは１５，０００以下である。前記下限値以上とすることで相溶性を向上できる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで溶解性を確保できる傾向がある。また、分子量分布〔重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）〕は、硬化性の観点から、２．０〜５．０が好ましい。
また、酸変性エポキシ基含有共重合体の酸価は特に限定されないが、５ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、１０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、２０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以上がさらに好ましく、また、１５０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１２０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、１００ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以下がさらに好ましく、８０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以下がよりさらに好ましく、５０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以下が特に好ましい。前記下限値以上とすることで溶解性を担保できる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで減膜を向上させることができる傾向がある。
【０２４７】
以上のとおり、本発明における（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂は、（Ｃ１）エポキシ（メタ）アクリレート樹脂、及び（Ｃ２）アクリル共重合樹脂を含有するものであるが、それら以外にその他のアルカリ可溶性樹脂を含んでいてもよい。
【０２４８】
また、（Ｃ）成分のアルカリ可溶性樹脂の平均酸価は特に限定されないが、１０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、２０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく３０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、また、２００ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１５０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、１００ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以下がさらに好ましく、７０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以下がよりさらに好ましく、５０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以下が特に好ましい。前記下限値以上とすることで適度な現像溶解性が得られる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで現像が進みすぎ膜溶解するのを抑制する傾向がある。（Ｃ）成分のアルカリ可溶性樹脂の平均酸価は中和滴定により測定することができる。
【０２４９】
本発明の感光性樹脂組成物中における（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂の含有割合は、全固形分に対して、通常５質量％以上、好ましくは１０質量％以上、より好ましくは２０質量％以上、さらに好ましくは３０質量％以上、特に好ましくは４０質量％以上、通常９０重量％以下、好ましくは７０重量％以下、より好ましくは６０重量％以下である。前記下限値以上とすることで適度な現像溶解性と感度にできる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで所望のパターンを形成しやすい傾向がある。
【０２５０】
また、全固形分中における（Ａ）エチレン性不飽和化合物及び（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂の含有割合の総和は、１０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましく、６０質量％以上がさらに好ましく、９０質量％以上が特に好ましく、また、１００質量％以下が好ましく、９９質量％以下がより好ましく、９７質量％以下がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで適度な現像溶解性と感度にできる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで所望のパターンを形成しやすい傾向がある。
【０２５１】
［１−１−４］（Ｄ）成分；撥液剤
本発明の隔壁形成用感光性樹脂組成物は、（Ｄ）撥液剤を含有していてもよい。特に、インクジェット法で有機電界発光素子を作成する場合には（Ｄ）撥液剤を含有することが好ましく、（Ｄ）撥液剤を含有することでそれが隔壁の表面に撥液性を付与できることから、得られる隔壁を有機層の画素ごとの混色を防ぐものとすることができると考えられる。
撥液剤としては、シリコーン含有化合物やフッ素系化合物が挙げられ、好ましくは、架橋基を有する撥液剤（以下、「架橋基含有撥液剤」と称す場合がある。）が挙げられる。架橋基としては、エポキシ基又はエチレン性不飽和基が挙げられ、現像液の撥液成分の流出抑制の観点から、好ましくはエチレン性不飽和基である。
架橋基含有撥液剤を用いる場合には、形成した塗布膜を露光する際にその表面での架橋反応を加速することができ、撥液剤が現像処理で流出しにくくなり、その結果、得られる隔壁を高い撥液性を示すものとすることができると考えられる。
【０２５２】
撥液剤としてフッ素系化合物を用いた場合には、当該フッ素化合物が隔壁の表面に配向して、インキのにじみや混色を防止する働きをする傾向がある。さらに詳しくは、フッ素原子を有する基が、インキをはじき、インキが隔壁を越えて隣接する領域に進入することによるインキのにじみや混色を防ぐ働きをする傾向がある。
【０２５３】
架橋基含有撥液剤、特にエチレン性不飽和基含有フッ素系化合物の具体例としては、例えばパーフルオロアルキルスルホン酸、パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロアルキルアルキレンオキシド付加物、パーフルオロアルキルトリアルキルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル基と親水基を含むオリゴマー、パーフルオロアルキル基と親油基を含むオリゴマー、パーフルオロアルキル基と親水基と新油基を含むオリゴマー、パーフルオロアルキルと親水基を含むウレタン、パーフルオロアルキルエステル、パーフルオロアルキル燐酸エステルなどのフッ素含有有機化合物を挙げることができる。これらのフッ素含有化合物の市販品としては、ＤＩＣ社製「メガファックＦ１１６」、「同Ｆ１２０」、「同Ｆ１４２Ｄ」、「同Ｆ１４４Ｄ」、「同Ｆ１５０」、「同Ｆ１６０」、「同Ｆ１７１」、「同Ｆ１７２」、「同Ｆ１７３」、「同Ｆ１７７」、「同Ｆ１７８Ａ」、「同Ｆ１７８Ｋ」、「同Ｆ１７９」、「同Ｆ１８３」、「同Ｆ１８４」、「同Ｆ１９１」、「同Ｆ８１２」、「同Ｆ８１５」、「同Ｆ８２４」、「同Ｆ８３３」、「ＤＥＦＥＮＳＡＭＣＦ３００」、「同ＭＣＦ３１０」、「同ＭＣＦ３１２」、「同ＭＣＦ３２３」、「同ＲＳ７２Ｋ」、「同ＲＳ３０４」、「同ＲＳ２０２」、「同ＲＳ２０１」、「同ＲＳ１０２」、「同ＲＳ１０１」、「同ＲＳ１０５」、「同ＲＳ４０１」、「同ＲＳ４０２」、「同ＲＳ５０１」、「同ＲＳ５０２」、「同ＲＳ３０１」、「同ＲＳ３０３」、スリーエムジャパン社製「同ＦＣ４３１」、「ＦＣ−４４３０」、「同ＦＣ４４３２」、旭硝子社製「アサヒガードＡＧ７１０」、「サーフロンＳ−３８２」、「同ＳＣ−１０１」、「同ＳＣ−１０２」、「同ＳＣ−１０３」、「同ＳＣ−１０４」、「同ＳＣ−１０５」、「同ＳＣ−１０６」、ダイキン工業社製「オプツールＤＡＣ―ＨＰ」、「ＨＰ−６５０」などの商品名で市販されている含フッ素有機化合物を使用することができる。
【０２５４】
このように、撥液剤としてフッ素系化合物を用いる場合において、撥液剤中のＦ原子含有量は特に制限されないが、好ましくはフッ素原子含有量が１質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましく、また、５０質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましい。前記下限値以上とすることで画素部への流出を抑制できる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで高い接触角を示す傾向がある。
【０２５５】
撥液剤の分子量は特に制限されず、低分子量の化合物でも、高分子量体であってもよい。高分子量体の撥液剤の方が、焼成による撥液剤の流動性が抑えられるため、バンクから撥液剤の流出を抑えることができるため好ましく、係る観点から撥液剤の数平均分子量は、１００以上が好ましく、５００以上がより好ましく、１０００００以下が好ましく、１００００以下がより好ましい。
【０２５６】
本発明の感光性樹脂組成物中の（Ｄ）撥液剤の含有割合は、全固形分に対して通常０．０１質量％以上、好ましくは０．０５質量％以上、より好ましくは０．１質量％以上、通常１質量％以下、好ましくは０．５質量％以下、より好ましくは０．３質量％以下である。前記下限値以上とすることで高い撥液性を示す傾向があり、また、前記上限値以下とすることで画素部への流出を抑制できる傾向がある。
【０２５７】
一方で、本発明の隔壁形成用感光性樹脂組成物は、（Ｄ）撥液剤と共に界面活性剤を用いてもよく、また、（Ｄ）撥液剤に代えて界面活性剤を用いてもよい。界面活性剤は、隔壁形成用感光性樹脂組成物の塗布液としての塗布性、および塗布膜の現像性の向上などを目的として用いることができ、中でもフッ素系又はシリコーン系の界面活性剤が好ましい。
特に、現像の際、未露光部から感光性樹脂組成物の残渣を除去する作用があり、また、濡れ性を発現する機能を有することから、シリコーン系界面活性剤が好ましく、ポリエーテル変性シリコーン系界面活性剤がさらに好ましい。
【０２５８】
フッ素系界面活性剤としては、末端、主鎖および側鎖の少なくとも何れかの部位にフルオロアルキルまたはフルオロアルキレン基を有する化合物が好適である。具体的には、１，１，２，２−テトラフロロオクチル（１，１，２，２−テトラフロロプロピル）エーテル、１，１，２，２−テトラフロロオクチルヘキシルエーテル、オクタエチレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフロロブチル）エーテル、ヘキサエチレングリコールジ（１，１，２，２，３，３−ヘキサフロロペンチル）エーテル、オクタプロピレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフロロブチル）エーテル、ヘキサプロピレングリコールジ（１，１，２，２，３，３−ヘキサフロロペンチル）エーテル、パーフロロドデシルスルホン酸ナトリウム、１，１，２，２，８，８，９，９，１０，１０−デカフロロドデカン、１，１，２，２，３，３−ヘキサフロロデカンなどを挙げることができる。これらの市販品としては、例えば、ＢＭ  Ｃｈｅｍｉｅ社製「ＢＭ−１０００」、「ＢＭ−１１００」、ＤＩＣ社製「メガファックＦ１４２Ｄ」、「メガファックＦ１７２」、「メガファックＦ１７３」、「メガファックＦ１８３」、「メガファックＦ４７０」、「メガファックＦ４７５」、「メガファックＦ５５４」、「メガファックＦ５５９」、スリーエムジャパン社製「ＦＣ４３０」、ネオス社製「ＤＦＸ−１８」などを挙げることができる。
【０２５９】
また、シリコーン系界面活性剤としては、例えば、東レ・ダウコーニング社製「ＤＣ３ＰＡ」、「ＳＨ７ＰＡ」、「ＤＣ１１ＰＡ」、「ＳＨ２１ＰＡ」、「ＳＨ２８ＰＡ」、「ＳＨ２９ＰＡ」、「８０３２Ａｄｄｉｔｉｖｅ」、「ＳＨ８４００」、ビックケミー社製「ＢＹＫ３２３」、「ＢＹＫ３３０」などの市販品を挙げることができる。
界面活性剤として、フッ素系界面活性剤及びシリコーン系界面活性剤以外のものを含んでいてもよく、その他、界面活性剤としては、ノニオン性、アニオン性、カチオン性、両性界面活性剤などが挙げられる。
【０２６０】
上記ノニオン性界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル類、グリセリン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル類、ペンタエリスリット脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンペンタエリスリット脂肪酸エステル類、ソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類、ソルビット脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビット脂肪酸エステル類などが挙げられる。これらの市販品としては、例えば、花王社製の「エマルゲン１０４Ｐ」、「エマルゲンＡ６０」などのポリオキシエチレン系界面活性剤などが挙げられる。
【０２６１】
また、上記アニオン性界面活性剤としては、例えば、アルキルスルホン酸塩類、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルスルホン酸塩類、アルキル硫酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類、高級アルコール硫酸エステル塩類、脂肪族アルコール硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸塩類、特殊高分子系界面活性剤などが挙げられる。中でも、特殊高分子系界面活性剤が好ましく、特殊ポリカルボン酸型高分子系界面活性剤がさらに好ましい。このようなアニオン性界面活性剤としては市販品を用いることができ、例えば、アルキル硫酸エステル塩類では、花王社製「エマール１０」等、アルキルナフタレンスルホン酸塩類では花王社製「ペレックスＮＢ−Ｌ」など、特殊高分子系界面活性剤では花王社製「ホモゲノールＬ−１８」、「ホモゲノールＬ−１００」などが挙げられる
【０２６２】
さらに、上記カチオン性界面活性剤としては、第４級アンモニウム塩類、イミダゾリン誘導体類、アルキルアミン塩類などが、また、両性界面活性剤としては、ベタイン型化合物類、イミダゾリウム塩類、イミダゾリン類、アミノ酸類などが挙げられる。これらのうち、第４級アンモニウム塩類が好ましく、ステアリルトリメチルアンモニウム塩類がさらに好ましい。市販のものとしては、例えば、アルキルアミン塩類では花王社製「アセタミン２４」など、第４級アンモニウム塩類では花王社製「コータミン２４Ｐ」、「コータミン８６Ｗ」などが挙げられる。
また、界面活性剤は２種類以上の組み合わせで用いてもよく、例えば、シリコーン系界面活性剤／フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤／特殊高分子系界面活性剤、フッ素系界面活性剤／特殊高分子系界面活性剤の組み合わせなどが挙げられる。中でも、シリコーン系界面活性剤／フッ素系界面活性剤の組み合わせが好ましい。このシリコーン系界面活性剤／フッ素系界面活性剤の組み合わせでは、例えば、／ネオス社製「ＤＦＸ−１８」、ビックケミー社製「ＢＹＫ−３００」または「ＢＹＫ−３３０」／ＡＧＣセイミケミカル社製「Ｓ−３９３」、信越シリコーン社製「ＫＰ３４０」／ＤＩＣ社製「Ｆ−４７８」または「Ｆ−４７５」、東レ・ダウコーニング社製「ＳＨ７ＰＡ」／ダイキン社製「ＤＳ−４０１」、ＮＵＣ社製「Ｌ−７７」／スリーエムジャパン社製「ＦＣ４４３０」などが挙げられる。
【０２６３】
［１−１−５］紫外線吸収剤
本発明の隔壁形成用感光性樹脂組成物は、紫外線吸収剤を含有してもよい。紫外線吸収剤は、露光に用いられる光源の特定の波長を紫外線吸収剤によって吸収させることにより、光硬化分布を制御する目的で添加されるものである。紫外線吸収剤の添加により、現像後のテーパ角度及び形状を改善したり、現像後に非露光部に残る残渣をなくしたりするなどの効果が得られる。紫外線吸収剤としては、開始剤の光吸収の阻害の観点から、例えば、波長２５０ｎｍから４００ｎｍの間に吸収極大を有する化合物を用いることができる。
紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物及び／又はトリアジン系化合物が望ましい。ベンゾトリアゾール系化合物及び／又はトリアジン系化合物を含むことで開始剤の膜底部での光吸収率が減少し、ボトムサイズが小さくなることによりテーパ角度の増大効果が得られると考えられる。
【０２６４】
ベンゾトリアゾール系化合物の中でも、テーパ形状の点から、下記の一般式（Ｚ１）で記載されるベンゾトリアゾール化合物が好ましい。
【０２６５】
【化３３】
2018018036.tif 000035
【０２６６】
上記式（Ｚ１）中、Ｒ1e及びＲ2eは各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は下記一般式（Ｚ２）、又は下記一般式（Ｚ３）で表される基を表す。Ｒ3eは、水素原子又はハロゲン原子を表す。
【０２６７】
【化３４】
2018018036.tif 000036
【０２６８】
上記式（Ｚ２）中、Ｒ4eは置換基を有していてもよいアルキレン基を表し、Ｒ5eは置換基を有していてもよいアルキル基を表す。
【０２６９】
2018018036.tif 000037
【０２７０】
上記式（Ｚ３）中、Ｒ6eは置換基を有していてもよいアルキレン基を表し、Ｒ7eは水素原子またはメチル基を表す。
（Ｒ1e及びＲ2e）
前記式（Ｚ１）において、Ｒ1e及びＲ2eは各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、一般式（Ｚ２）または一般式（Ｚ３）で表される基を表す。
アルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基が挙げられる。その炭素数は、１以上であることが好ましく、２以上であることがより好ましく、４以上であることがさらに好ましく、また、１０以下であることが好ましく、６以下であることがより好ましく、４以下であることがさらに好ましい。
【０２７１】
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。これらの中でもｔｅｒｔ−ブチル基が好ましい。
また、アルキル基が有していてもよい置換基としては、メトキシ基、エトキシ基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、オリゴエチレングリコール基、フェニル基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などが挙げられる。
【０２７２】
（Ｒ3e）
前記式（Ｚ１）において、Ｒ3eは、水素原子又はハロゲン原子を表す。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げらる。
これらの中でも合成の観点から、Ｒ3eが水素原子であることが好ましい。
【０２７３】
（Ｒ4e）
前記式（Ｚ２）において、Ｒ4eは置換基を有していてもよいアルキレン基を表す。
アルキレン基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキレン基が挙げられる。その炭素数は通常１以上であり、２以上が好ましく、また６以下が好ましく、４以下がより好ましく、３以下がさらに好ましい。
【０２７４】
アルキレン基の具体例としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、プロピレン基、ブチレン基等が挙げられる。これらの中でもエチレン基が好ましい。
また、アルキレン基が有していてもよい置換基としては、メトキシ基、エトキシ基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、オリゴエチレングリコール基、フェニル基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などが挙げられる。
【０２７５】
これらの中でも、Ｒ4eがエチレン基であることが好ましい。
【０２７６】
（Ｒ5e）
前記式（Ｚ２）において、置換基を有していてもよいアルキル基を表す。
アルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基が挙げられる。その炭素数は、４以上であることが好ましく、５以上であることがより好ましく、７以上であることがさらに好ましく、また、１５以下であることが好ましく、１０以下であることがより好ましく、９以下であることがさらに好ましい。
【０２７７】
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプシル基、オクチル基、ノニル基等が挙げられる。
また、アルキル基が有していてもよい置換基としては、メトキシ基、エトキシ基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、オリゴエチレングリコール基、フェニル基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などが挙げられる。
これらの中でもテーパ形状の観点から、Ｒ5eがヘプチル基、オクチル基、ノニル基であることが好ましい。
【０２７８】
（Ｒ6e）
アルキレン基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキレン基が挙げられる。その炭素数は通常１以上であり、２以上が好ましく、また６以下が好ましく、４以下がより好ましく、３以下がさらに好ましい。
【０２７９】
アルキレン基の具体例としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、プロピレン基、ブチレン基等が挙げられる。これらの中でもエチレン基が好ましい。
また、アルキレン基が有していてもよい置換基としては、メトキシ基、エトキシ基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、オリゴエチレングリコール基、フェニル基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などが挙げられる。
【０２８０】
これらの中でもテーパ形状の観点から、Ｒ1eがｔｅｒｔ−ブチル基、Ｒ2eが（Ｚ２）で表される基（ただしＲ4eがメチレン基、及びＲ5eが炭素数７〜９のアルキル基）、Ｒ3eが水素原子である化合物、またはＲ1eが水素原子、Ｒ2eが（Ｚ３）で表される基（ただしＲ6eがメチレン基、及びＲ7eがメチル基）、Ｒ3eが水素原子である化合物が好ましく、Ｒ1eがｔｅｒｔ−ブチル基、Ｒ2eが（Ｚ２）で表される基（ただしＲ4eがメチレン基、及びＲ5eが炭素数７〜９のアルキル基）、Ｒ3eが水素原子である化合物がより好ましい。
【０２８１】
その他のベンゾトリアゾール系化合物としては、２−（５メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、オクチル−３［３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−［３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートの混合物、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、が挙げられる。
【０２８２】
市販されているベンゾトリアゾール系化合物としては例えば、スミソーブ２００、スミソーブ２５０、スミソーブ３００、スミソーブ３４０、スミソーブ３５０（住友化学製）、ＪＦ７７、ＪＦ７８、ＪＦ７９、ＪＦ８０、ＪＦ８３（城北化学工業製）、ＴＩＮＵＶＩＮ  ＰＳ、ＴＩＮＵＶＩＮ９９−２、ＴＩＮＵＶＩＮ１０９、ＴＩＮＵＶＩＮ３８４−２、ＴＩＮＵＶＩＮ  ３２６、ＴＩＮＵＶＩＮ９００、「ＴＩＮＵＶＩＮ  ９２８」、ＴＩＮＵＶＩＮ９２８、ＴＩＮＵＶＩＮ１１３０（ＢＡＳＦ製）、ＥＶＥＲＳＯＲＢ７０、ＥＶＥＲＳＯＲＢ７１、ＥＶＥＲＳＯＲＢ７２、ＥＶＥＲＳＯＲＢ７３、ＥＶＥＲＳＯＲＢ７４、ＥＶＥＲＳＯＲＢ７５、ＥＶＥＲＳＯＲＢ７６、ＥＶＥＲＳＯＲＢ２３４、ＥＶＥＲＳＯＲＢ７７、ＥＶＥＲＳＯＲＢ７８、ＥＶＥＲＳＯＲＢ８０、ＥＶＥＲＳＯＲＢ８１（台湾永光化学工業製）、トミソーブ１００、トミソーブ６００（エーピーアイコーポレーション製）、ＳＥＥＳＯＲＢ７０１、ＳＥＥＳＯＲＢ７０２、ＳＥＥＳＯＲＢ７０３、ＳＥＥＳＯＲＢ７０４、ＳＥＥＳＯＲＢ７０６、ＳＥＥＳＯＲＢ７０７、ＳＥＥＳＯＲＢ７０９（シプロ化成製）、ＲＵＶＡ−９３（大塚化学株式会社）などが挙げられる。
【０２８３】
トリアジン系化合物としては、２−［４，６−ジ（２，４−キシリル）−１，３，５−トリアジン−２−イル］−５−オクチルオキシフェノール、２‐［４，６‐ビス（２，４‐ジメチルフェニル）‐１，３，５‐トリアジン‐２‐イル］‐５‐［３‐（ドデシルオキシ）‐２‐ヒドロキシプロポキシ］フェノール、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジンと（２−エチルヘキシル−グリシド酸エステルの反応生成物、２，４−ビス「２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル」−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３−５−トリアジン等が挙げられる。これらの中でも、テーパ角度と露光感度の観点から、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物が好ましい。
市販されているトリアジン系化合物としては例えば、ＴＩＮＵＶＩＮ４００、ＴＩＮＵＶＩＮ４０５、ＴＩＮＵＶＩＮ４６０、ＴＩＮＵＶＩＮ４７７、ＴＩＮＵＶＩＮ４７９（ＢＡＳＦ製）などを挙げることができる。
【０２８４】
その他の紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン化合物、ベンゾエート化合物、桂皮酸誘導体、ナフタレン誘導体、アントラセン及びその誘導体、ジナフタレン化合物、フェナントロリン化合物、染料等が挙げられる。
より具体的には、例えば、スミソーブ１３０（住友化学製）、ＥＶＥＲＳＯＲＢ１０、ＥＶＥＲＳＯＲＢ１１、ＥＶＥＲＳＯＲＢ１２（台湾永光化学工業製）、トミソーブ８００（エーピーアイコーポレーション製）、ＳＥＥＳＯＲＢ１００、ＳＥＥＳＯＲＢ１０１、ＳＥＥＳＯＲＢ１０１Ｓ、ＳＥＥＳＯＲＢ１０２、ＳＥＥＳＯＲＢ１０３、ＳＥＥＳＯＲＢ１０５、ＳＥＥＳＯＲＢ１０６、ＳＥＥＳＯＲＢ１０７、ＳＥＥＳＯＲＢ１５１（シプロ化成製）などのベンゾフェノン化合物；スミソーブ４００（住友化学製）、サリチル酸フェニルなどのベンゾエート化合物；桂皮酸２−エチルヘキシル、パラメトキシ桂皮酸２−エチルヘキシル、メトキシケイ皮酸イソプロピル、メトキシケイ皮酸イソアミル等の桂皮酸誘導体；α−ナフトール、β−ナフトール、α−ナフトールメチルエーテル、α−ナフトールエチルエーテル、１，２−ジヒドロキシナフタレン、１，３−ジヒドロキシナフタレン、１，４−ジヒドロキシナフタレン、１，５−ジヒドロキシナフタレン、１，６−ジヒドロキシナフタレン、１，７−ジヒドロキシナフタレン、１，８−ジヒドロキシナフタレン、２，３−ジヒドロキシナフタレン、２，６−ジヒドロキシナフタレン、２，７−ジヒドロキシナフタレン等のナフタレン誘導体；アントラセン、９，１０−ジヒドロキシアントラセン等のアントラセン及びその誘導体；アゾ系染料、ベンゾフェノン系染料、アミノケトン系染料、キノリン系染料、アントラキノン系染料、ジフェニルシアノアクリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−アミノ安息香酸系染料等の染料；等が挙げられる。これらの中でも、露光感度の観点から、桂皮酸誘導体、ナフタレン誘導体を用いることが好ましく、桂皮酸誘導体を用いることが特に好ましい。これらの光吸収剤は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。
【０２８５】
これらの中でも、テーパ形状の観点から、ベンゾトリアゾール化合物及び／又はヒドロキシフェニルトリアジン化合物が好ましく、ベンゾトリアゾール化合物が特に好ましい。
【０２８６】
紫外線吸収剤としては１種類の化合物を単独で用いてもよいし、２種類以上の化合物を併用してもよい。
【０２８７】
本発明の感光性樹脂組成物中の紫外線吸収剤の含有割合は、全固形分に対して、通常０．０１質量％以上、好ましくは０．０５質量％以上、より好ましくは０．１質量％以上、さらに好ましくは０．５質量％以上、特に好ましくは１質量％以上であり、また、通常１５質量％以下、好ましくは１０質量％以下、より好ましくは５質量％以下、さらに好ましくは３質量％以下である。前記下限値以上とすることでテーパ角度は大きくなる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで高感度となる傾向がある。
【０２８８】
また、（Ｂ）光重合開始剤に対する配合比としては、（Ｂ）光重合開始剤１００質量部に対する（Ｄ）紫外線吸収剤の配合量として、通常１質量部以上、好ましくは１０質量部以上、より好ましくは３０質量部以上、さらに好ましくは５０質量部以上であり、特に好ましくは８０質量部以上、通常５００質量部以下、好ましくは３００質量部以下、より好ましくは２００質量部以下、さらに好ましくは１００質量部以下である。前記下限値以上とすることでテーパ角度が大きくなる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで高感度となる傾向がある。
【０２８９】
［１−１−６］重合禁止剤
本発明の隔壁形成用感光性樹脂組成物は、重合禁止剤を含有することが好ましい。（Ｅ）重合禁止剤を含有することでそれがラジカル重合を阻害することから、得られる隔壁のテーパ角度を大きくすることができる傾向がある。
重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、メチルハイドロキノン、メトキシフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−クレゾール（ＢＨＴ）などが挙げられる。これらの中でも重合禁止能力の観点から、ハイドロキノン又はメトキシフェノールが好ましく、メチルハイドロキノンがより好ましい。
【０２９０】
重合禁止剤は、１種又は２種以上を含有することが好ましい。通常、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂を製造する際に、当該樹脂中に重合禁止剤が含まれることがあり、それを本発明の（Ｅ）重合禁止剤として用いてもよいし、樹脂中に含まれる重合禁止剤の他に、それと同一、又は異なる重合禁止剤を感光性樹脂組成物製造時に添加してもよい。
【０２９１】
感光性樹脂組成物中の重合禁止剤の含有割合は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、通常０．０００５質量％以上、好ましくは０．００１質量％以上、より好ましくは０．０１質量％以上であり、また通常０．１質量％以下、好ましくは０．０８質量％以下、より好ましくは０．０５質量％以下である。前記下限値以上とすることでテーパ角度を高くすることができる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで高感度を保つことができる傾向がある。
【０２９２】
［１−１−７］熱重合開始剤
さらに、本発明の隔壁形成用感光性樹脂組成物には、熱重合開始剤が含有されていてもよい。熱重合開始剤を含有することで、膜の架橋度を高くできる傾向がある。このような熱重合開始剤の具体例としては、例えば、アゾ系化合物、有機過酸化物および過酸化水素などが挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０２９３】
なお、光重合開始剤に感度向上や膜の架橋密度の増大を期待して熱重合開始剤を併用する場合、これらの含有割合の合計が、前述の感光性樹脂組成物中の光重合開始剤の含有割合となるようにすることが好ましく、また、光重合開始剤と熱重合開始剤との併用割合としては、感度の観点から、光重合開始剤１００質量部に対して熱重合開始剤を５〜３００質量部とすることが好ましい。
【０２９４】
［１−１−８］アミノ化合物
本発明の隔壁形成用感光性樹脂組成物には、熱硬化を促進するためにアミノ化合物が含まれていてもよい。この場合、感光性樹脂組成物中のアミノ化合物の含有量としては、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、通常４０質量％以下、好ましくは３０質量％以下である。また、通常０．５質量％以上、好ましくは１質量％以上である。前記上限値以下とすることで保存安定性を維持できる傾向があり、前記下限値以上とすることで十分な熱硬化性を確保できる傾向がある。
【０２９５】
アミノ化合物としては、例えば、官能基としてメチロール基、それを炭素数１〜８のアルコール縮合変性したアルコキシメチル基を少なくとも２個有するアミノ化合物が挙げられる。具体的には、例えば、メラミンとホルムアルデヒドとを重縮合させたメラミン樹脂；ベンゾグアナミンとホルムアルデヒドとを重縮合させたベンゾグアナミン樹脂；グリコールウリルとホルムアルデヒドとを重縮合させたグリコールウリル樹脂；尿素とホルムアルデヒドとを重縮合させた尿素樹脂；メラミン、ベンゾグアナミン、グリコールウリル、または尿素などの２種以上とホルムアルデヒドとを共重縮合させた樹脂；上述の樹脂のメチロール基をアルコール縮合変性した変性樹脂などが挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。アミノ化合物としては中でも、メラミン樹脂およびその変性樹脂が好ましく、メチロール基の変性割合が、７０％以上の変性樹脂が更に好ましく、８０％以上の変性樹脂が特に好ましい。
【０２９６】
上記アミノ化合物の具体例として、メラミン樹脂およびその変性樹脂としては、例えば、サイテック社製の「サイメル」（登録商標）３００、３０１、３０３、３５０、７３６、７３８、３７０、７７１、３２５、３２７、７０３、７０１、２６６、２６７、２８５、２３２、２３５、２３８、１１４１、２７２、２５４、２０２、１１５６、１１５８、および、三和ケミカル社製の「ニカラック」（登録商標）ＭＷ−３９０、ＭＷ−１００ＬＭ、ＭＸ−７５０ＬＭ、ＭＷ−３０Ｍ、ＭＸ−４５、ＭＸ−３０２などが挙げられる。また、上記ベンゾグアナミン樹脂およびその変性樹脂としては、例えば、サイテック社製の「サイメル」（登録商標）１１２３、１１２５、１１２８などが挙げられる。また、上記グリコールウリル樹脂およびその変性樹脂としては、例えば、サイテック社製の「サイメル」（登録商標）１１７０、１１７１、１１７４、１１７２、および、三和ケミカル社製の「ニカラック」（登録商標）ＭＸ−２７０などが挙げられる。また、上記尿素樹脂およびその変性樹脂としては、例えば、サイテック社製の「ＵＦＲ」（登録商標）６５、３００、および、三和ケミカル社製の「ニカラック」（登録商標）ＭＸ−２９０などが挙げられる。
【０２９７】
［１−１−９］着色剤
本発明の隔壁形成用感光性樹脂組成物には、隔壁を着色させる目的で着色剤が含まれていてもよい。着色剤としては、顔料、染料等公知の着色剤を用いることができる。また、例えば、顔料を用いる際に、その顔料が凝集したりせずに安定して感光性樹脂組成物中に存在できるように、公知の分散剤や分散助剤が併用されてもよい。特に撥液性隔壁を黒色に着色することで、鮮明な画素表示が得られる効果がある。黒色着色剤としては黒色染料や黒色顔料、カーボンブラック、チタンブラックなどの他、有機顔料を混合させて黒く着色することも低導電性を持たせる効果として有効である。着色剤の含有量としては製版性と色特性の観点から、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、通常６０質量％以下、好ましくは４０質量％以下である。
【０２９８】
［１−１−１０］塗布性向上剤、現像改良剤
本発明の隔壁形成用感光性樹脂組成物には、塗布性や現像溶解性を向上するために塗布性向上剤や現像改良剤が含まれていてもよい。塗布性向上剤あるいは現像改良剤としては、例えば公知の、カチオン性、アニオン性、ノニオン性、フッ素系、シリコーン系界面活性剤を用いることができる。また、現像改良剤として、有機カルボン酸或いはその無水物など公知のものを用いることもできる。また、その含有量は、感度の観点から、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、通常２０質量％以下、好ましくは１０質量％以下である。
【０２９９】
［１−１−１１］シランカップリング剤
本発明の隔壁形成用感光性樹脂組成物には、基板との密着性を改善するため、シランカップリング剤を添加することも好ましい。シランカップリング剤の種類としては、エポキシ系、メタクリル系、アミノ系、イミダゾール系など種々の物が使用できるが、密着性向上の観点から、特にエポキシ系、イミダゾール系のシランカップリング剤が好ましい。その含有量は、密着性の観点から、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、通常２０質量％以下、好ましくは１５質量％以下である。
【０３００】
［１−１−１２］無機充填剤
また、本発明の隔壁形成用感光性樹脂組成物は、さらに、硬化物としての強度の向上と共に、アルカリ可溶性樹脂との適度な相互作用（マトリックス構造の形成）による塗布膜の優れた平坦性とテーパ角の向上等を目的として、無機充填剤を含有していてもよい。そのような無機充填剤としては、例えば、タルク、シリカ、アルミナ、硫酸バリウム、酸化マグネシウム、或いは、これらを各種シランカップリング剤により表面処理したものなどが挙げられる。
【０３０１】
これら無機充填剤の平均粒子径としては、通常０．００５〜２０μｍ、好ましくは０．０１〜１０μｍである。ここで本実施の形態にいう平均粒子径とは、ベックマン・コールター社製などのレーザ回折散乱粒度分布測定装置にて測定した値である。これらの無機充填剤のうち、特に、シリカゾルおよびシリカゾル変性物は、分散安定性と共にテーパー角の向上効果に優れる傾向があるため、好ましく配合される。本発明の隔壁形成用感光性樹脂組成物がこれらの無機充填剤を含む場合、その含有量としては、感度の観点から、全固形分に対して、通常５質量％以上、好ましくは１０質量％以上であり、通常８０質量％以下、好ましくは７０質量％以下である。
【０３０２】
［１−１−１３］溶剤
本発明の隔壁形成用感光性樹脂組成物は、通常溶剤を含有し、前述の各成分を溶剤に溶解または分散させた状態で使用される（以下、溶剤を含む感光性樹脂組成物を「感光性樹脂組成物溶液」と記すことがある）。その溶剤としては、特に制限は無いが、例えば、以下に記載する有機溶剤が挙げられる。
【０３０３】
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコール−ｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、メトキシメチルペンタノール、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、３−メチル−３−メトキシブタノール、３−メトキシ−１−ブタノール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテルのようなグリコールモノアルキルエーテル類；エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテルのようなグリコールジアルキルエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−メトキシ−１−ブチルアセテートのようなグリコールアルキルエーテルアセテート類；エチレングリコールジアセテート、１，３−ブチレングリコールジアセテート、１，６−ヘキサノールジアセテートなどのグリコールジアセテート類；シクロヘキサノールアセテートなどのアルキルアセテート類；アミルエーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジアミルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジヘキシルエーテルのようなエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソアミルケトン、ジイソプロピルケトン、ジイソブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エチルアミルケトン、メチルブチルケトン、メチルヘキシルケトン、メチルノニルケトン、メトキシメチルペンタノンのようなケトン類；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、メトキシメチルペンタノール、グリセリン、ベンジルアルコールのような１価又は多価アルコール類；ｎ−ペンタン、ｎ−オクタン、ジイソブチレン、ｎ−ヘキサン、ヘキセン、イソプレン、ジペンテン、ドデカンのような脂肪族炭化水素類；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、メチルシクロヘキセン、ビシクロヘキシルのような脂環式炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、クメンのような芳香族炭化水素類；アミルホルメート、エチルホルメート、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸アミル、メチルイソブチレート、エチレングリコールアセテート、エチルプロピオネート、プロピルプロピオネート、酪酸ブチル、酪酸イソブチル、イソ酪酸メチル、エチルカプリレート、ブチルステアレート、エチルベンゾエート、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、γ−ブチロラクトンのような鎖状又は環状エステル類；３−メトキシプロピオン酸、３−エトキシプロピオン酸のようなアルコキシカルボン酸類；ブチルクロライド、アミルクロライドのようなハロゲン化炭化水素類；メトキシメチルペンタノンのようなエーテルケトン類；アセトニトリル、ベンゾニトリルのようなニトリル類：テトラヒドロフラン、ジメチルテトラヒドロフラン、ジメトキシテトラヒドロフランのようなテトラヒドロフラン類などである。
【０３０４】
上記に該当する市販の溶剤としては、ミネラルスピリット、バルソル＃２、アプコ＃１８ソルベント、アプコシンナー、ソーカルソルベントＮｏ．１およびＮｏ．２、ソルベッソ＃１５０、シェルＴＳ２８  ソルベント、カルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート、ジグライム（いずれも商品名）などが挙げられる。
【０３０５】
上記溶剤は、感光性樹脂組成物中の各成分を溶解または分散させることができるもので、本発明の感光性樹脂組成物の使用方法に応じて選択されるが、塗布性の観点から、大気圧下における沸点が６０〜２８０℃の範囲のものを選択するのが好ましい。より好ましくは７０℃以上、２６０℃以下の沸点をもつものであり、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテル、３−メトキシ−１−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシ−１−ブチルアセテート、が好ましい。
【０３０６】
これらの溶剤は１種を単独でもしくは２種以上を混合して使用することができる。また、これらの溶剤は、感光性樹脂組成物溶液中の全固形分の割合が、通常１０質量％以上、好ましくは１５質量％以上、より好ましくは２０質量％以上、通常９０質量％以下、好ましくは５０質量％以下、より好ましくは４０質量％以下、さらに好ましくは３０質量％以下となるように使用されることが好ましい。前記下限値以上とすることで塗布ムラの発生を抑制できる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで異物、ハジキ等の発生を抑制できる傾向がある。
【０３０７】
［１−２］隔壁形成用感光性樹脂組成物の調製方法
本発明の隔壁形成用感光性樹脂組成物は、上記の各成分を撹拌機で混合することにより調製される。なお、調製された感光性樹脂組成物が均一なものとなるよう、メンブランフィルタ等を用いて濾過してもよい。
【０３０８】
［２］隔壁及びその形成方法
本発明の感光性樹脂組成物は隔壁、特に有機電界発光素子の有機層を区画するための隔壁を形成するために好適に用いることができる。
以上説明した隔壁形成用感光性樹脂組成物を用いて隔壁を形成する方法は特に限定されず、従来公知の方法を採用することができる。隔壁の形成方法としては、例えば、隔壁形成用感光性樹脂組成物を、基板上に塗布し、感光性樹脂組成物層を形成する塗布工程と、感光性樹脂組成物層を露光する露光工程と、を含む方法が挙げられる。このようなバンクの形成方法の具体例としては、インクジェット法とフォトリソグラフィー法とが挙げられる。
【０３０９】
インクジェット法では、溶剤による希釈等により粘度調整された隔壁形成用感光性樹脂組成物をインクとして用い、所定の隔壁のパターンに沿ってインクジェット法によりインク液滴を基板上に吐出することで感光性樹脂組成物を基板上に塗布して未硬化の隔壁のパターンを形成する。そして、未硬化の隔壁のパターンを露光して、基板上に硬化した隔壁を形成する。未硬化の隔壁のパターンの露光は、マスクを用いないことの他は、後述するフォトリソグラフィー法における露光工程と同様に行われる。
【０３１０】
フォトリソグラフィー法では、隔壁形成用感光性樹脂組成物を、基板の隔壁が形成される領域全面に塗布して感光性樹脂組成物層を形成する。形成された感光性樹脂組成物層を、所定の隔壁のパターンに応じて露光した後、露光された感光性樹脂組成物層を現像して、基板上に隔壁が形成される。
【０３１１】
フォトリソグラフィー法における、感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程では、隔壁が形成されるべき基板上に、ロールコーター、リバースコーター、バーコーター等の接触転写型塗布装置やスピンナー（回転式塗布装置）、カーテンフローコーター等の非接触型塗布装置を用いて感光性樹脂組成物を塗布し、必要に応じて、乾燥により溶媒を除去して、感光性樹脂組成物層を形成する。
【０３１２】
次いで、露光工程では、ネガ型のマスクを利用して、感光性樹脂組成物に紫外線、エキシマレーザー光等の活性エネルギー線を照射し、感光性樹脂組成物層をバンクのパターンに応じて部分的に露光する。露光には、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、カーボンアーク灯等の紫外線を発する光源を用いることができる。露光量は感光性樹脂組成物の組成によっても異なるが、例えば１０〜４００ｍＪ／ｃｍ2程度が好ましい。
【０３１３】
次いで、現像工程では、隔壁のパターンに応じて露光された感光性樹脂組成物層を現像液で現像することにより隔壁を形成する。現像方法は特に限定されず、浸漬法、スプレー法等を用いることができる。現像液の具体例としては、ジメチルベンジルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の有機系のものや、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア、４級アンモニウム塩等の水溶液が挙げられる。又、現像液には、消泡剤や界面活性剤を添加することもできる。
【０３１４】
その後、現像後の隔壁にポストベークを施して加熱硬化する。ポストベークは、１５０〜２５０℃で１５〜６０分間が好ましい。
【０３１５】
隔壁の形成に用いる基板は特に限定されず、隔壁が形成された基板を用いて製造される有機電界発光素子の種類に合わせて適宜選択される。好適な基板の材料としては、ガラスや、各種の樹脂材料が挙げられる。樹脂材料の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル；ポリエチレン、及びポリプロピレン等のポリオレフィン；ポリカーボネート；ポリ（メタ）メタアクリル樹脂；ポリスルホン；ポリイミドが挙げられる。これらの基板の材料の中では、耐熱性に優れることからガラス、及びポリイミドが好ましい。また、製造される有機電界発光素子の種類に応じて、隔壁が形成される基板の表面には、予めＩＴＯやＺｎＯ等の透明電極層を設けておいてもよい。
【０３１６】
［３］有機電界発光素子
本発明の有機電界発光素子は、前述の隔壁形成用感光性樹脂組成物で構成される隔壁を備える。
以上説明した方法により製造された隔壁パターンを備える基板を用いて、種々の有機電界発光素子が製造される。有機電界発光素子を形成する方法は特に限定されないが、好ましくは、上記方法により基板上に隔壁のパターンを形成した後に、基板上の隔壁により囲まれた領域内にインクを注入して画素等の有機層を形成することによって、有機電界発光素子が製造される。
【０３１７】
隔壁がすそ引き形状である場合、有機層形成用のインクが隔壁のすそ部分で弾かれるため、隔壁により囲まれた領域内が有機層形成用のインクにより十分に被覆されない場合がある。それに対して、すそ引きのない良好な形状とすることで、隔壁により囲まれた領域内を有機層形成用のインクにより十分に被覆することができる。これにより、例えば、有機ＥＬ表示素子におけるハレーションの問題を解消することができる。
【０３１８】
有機層形成用のインクを形成する際に使用される溶媒としては、水、有機溶剤、及びこれらの混合溶剤を用いることができる。有機溶剤は、インクの注入後に形成された皮膜から除去可能であれば特に限定されない。有機溶剤の具体例としては、トルエン、キシレン、アニソール、メシチレン、テトラリン、シクロヘキシルベンゼン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エチル、及び酢酸ブチル、３−フェノキシトルエン、等が挙げられる。また、インクには、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤等を添加することができる。
【０３１９】
隔壁により囲まれた領域内にインクを注入する方法としては、少量のインクを所定の個所に容易に注入可能であることから、インクジェット法が好ましい。有機層の形成に使用されるインクは、製造される有機電界発光素子の種類に応じて適宜選択される。インクをインクジェット法により注入する場合、インクの粘度はインクをインクジェットヘッドから良好に吐出できる限り特に限定されないが、４〜２０ｍＰａ・ｓが好ましく、５〜１０ｍＰａ・ｓがより好ましい。インクの粘度は、インク中の固形分含有量の調整、溶媒の変更、粘度調整剤の添加等により調整することができる。
【０３２０】
［４］画像表示装置
本発明の画像表示装置は、前述の有機電界発光素子を含むものである。有機電界発光素子を含むものであれば、画像表示装置の型式や構造については特に制限はなく、例えばアクティブ駆動型有機電界発光素子を用いて常法に従って組み立てることができる。例えば、「有機ＥＬディスプレイ」（オーム社、平成１６年８月２０日発行、時任静士、安達千波矢、村田英幸著）に記載されているような方法で、本発明の画像表示装置を形成することができる。例えば、白色光を発光する有機電界発光素子とカラーフィルターとを組み合わせて画像表示させてもよいし、ＲＧＢ等の発光色の異なる有機電界発光素子を組み合わせて画像表示させてもよい。
【０３２１】
［５］照明
本発明の照明は、前述の有機電界発光素子を含むものである。型式や構造については特に制限はなく、本発明の有機電界発光素子を用いて常法に従って組み立てることができる。有機電界発光素子としては、単純マトリックス駆動方式としてもよいし、アクティブマトリックス駆動方式としてもよい。
本発明の照明が白色光を発光するものとするために、白色光を発光する有機電界発光素子を用いてもよい。また、発光色の異なる有機電界発光素子を組み合わせて、各色が混色して白色となるよう構成してもよいし、混色比率を調整できるように構成して調色機能を付与してもよい。
【実施例】
【０３２２】
以下、本発明の隔壁形成用感光性樹脂組成物について、具体的な実施例を挙げて説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
【０３２３】
［１］  隔壁形成用感光性樹脂組成物の作製
各成分を表１に記載の配合割合（質量部）で用い、かつ、全固形分の含有割合が２５質量％となるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを用いて、各成分を均一になるまで撹拌して実施例及び比較例の隔壁形成用感光性樹脂組成物を調製した。なお、表１中の数値は固形分の値を意味する。
なお、表中の記号は以下のものを表す。
【０３２４】
ａ−１  ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）（日本化薬社製）
ｂ−１  ：２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール（保土ヶ谷化学社製）
【０３２５】
ｄ−１：ＲＳ７２Ｋ（ＤＩＣ社製、フッ素系、エチレン性二重結合を有するオリゴマー）
ｅ−１：２−メルカプトベンゾイミダゾール（東京化成社製）
ｅ−２：ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオナート）（淀化学社製）
ｆ−１：ＴＩＮＵＶＩＮ３８４−２（ＢＡＳＦ社製）
ｇ−１：ＰＭ２１（日本化薬社製）
【０３２６】
ｃ−１：以下のエチレン性不飽和基含有樹脂（エポキシアクリレート樹脂／一般式（Ｃ１−２）で示される樹脂に相当）
下記式で表されるエポキシ化合物（重量平均分子量３９００、式中のｎが１〜２０のものの混合物）４００質量部、アクリル酸１０２質量部、ｐ−メトキシフェノール０．３質量部、トリフェニルホスフィン５質量部、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２６４質量部を反応容器に仕込み、９５℃で酸価が３ｍｇＫＯＨ／ｇ以下になるまで撹拌した。次いで、更にテトラヒドロ無水フタル酸９１質量部を添加し、９５℃で４時間反応させ、固形分酸価６０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）６８００のアルカリ可溶性樹脂（ｃ−１）溶液を得た。
【０３２７】
【化３５】
2018018036.tif 000038
【０３２８】
ｃ−２：以下のエチレン性不飽和基含有樹脂（エポキシアクリレート樹脂／一般式（Ｃ１−３）で示される樹脂に相当）
下記式で表されるビスフェノールＡ型エポキシ化合物（エポキシ当量１８６ｇ／ｅｑ、式中のｎが１〜２０のものの混合物）１００質量部、アクリル酸４０質量部、ｐ−メトキシフェノール０．０６質量部、トリフェニルホスフィン２．４質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１２６質量部を反応容器に仕込み、酸価が５ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以下になるまで９５℃で撹拌した。次いで、上記反応により得られた反応液８０質量部にプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１２質量部を加え、無水コハク酸５質量部を添加し、９５℃で３時間反応させ、固形分酸価４０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）が８０００のアルカリ可溶性樹脂（ｃ−２）溶液を得た。
【０３２９】
【化３６】
2018018036.tif 000039
【０３３０】
ｃ−３：以下のエチレン性不飽和基含有樹脂（エポキシアクリレート樹脂／一般式（Ｃ１−６）で示される樹脂に相当）
ＣＣＲ−１３３２（日本化薬社製）  クレゾールノボラックエポキシアクリレート樹脂溶液。ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は６５００、固形分酸価は６０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ。
【０３３１】
ｃ−４：以下のアクリル共重合樹脂（（Ｃ２）アクリル共重合樹脂に相当）
トリシクロデカンメタクリレート／スチレン／グリシジルメタクリレート（モル比：０．０２／０．０５／０．９３）を構成モノマーとする共重合樹脂に、アクリル酸をグリシジルメタクリレートと等量付加反応させ、さらに無水テトラヒドロフタル酸を上記の共重合樹脂１モルに対してモル比０．１になるように付加した、アルカリ可溶性のアクリル共重合樹脂。ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は９０００、固形分酸価は２４．３ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ。
【０３３２】
【表１】
2018018036.tif 000040
【０３３３】
［２］  隔壁の形成及び評価
以下に性能評価の方法を説明する。
【０３３４】
（接触角測定用基板作成）
表面にＩＴＯ膜を形成したガラス基板の該ＩＴＯ膜上にスピナーを用いて、加熱硬化後に２．０μｍの厚みになるように塗布液（前記隔壁形成用感光性樹脂組成物）を塗布した。その後１００℃で２分間ホットプレート上で加熱乾燥し、得られた塗膜をマスクを使用せずに、露光量を６０〜１４０ｍＪ／ｃｍ2の範囲で振って露光した（１００ｍＪ未満は１０ｍＪおき、１００〜５００ｍＪは２０ｍＪおき、５００ｍＪ超過は５０ｍＪおき）。この時の波長３６５ｎｍにおける強度は４０ｍＷ／ｃｍ2であった。次いで２４℃の２．３８質量％ＴＭＡＨ（水酸化テトラメチルアンモニウム）水溶液で６０秒間スプレー現像した後、純水で１０秒間洗浄した。この基板を、オーブン中２３０℃で３０分間加熱硬化させ、硬化物が得られた。
【０３３５】
（硬化物の接触角の評価）
組成物の感度により硬化性が異なるため、硬化物において撥液性が生じるために必要な露光量は、組成により異なる。ここで撥液性が生じる露光量とは、得られる硬化物の安息香酸イソアミルに対する接触角が１０度以上となるために必要な露光量のことを表す。具体的には、露光量を変えて作成した前述の接触角測定用基板上の硬化物の安息香酸イソアミルに対する接触角を測定し、撥液性が生じた基板の露光量の最小値を最小露光量とし、さらに最小露光量で作製した基板の接触角を表２に記載した。接触角は、協和界面科学（株）製Ｄｒｏｐ  Ｍａｓｔｅｒ  ５００接触角測定装置により、２３℃、湿度５０％の条件下で測定した。接触角が大きい方が撥液性が高いことを表す。
【０３３６】
（隔壁の作成）
表面にＩＴＯ膜を形成したガラス基板の該ＩＴＯ膜上にスピナーを用いて、加熱硬化後に２．０μｍの厚みになるように塗布液（前記隔壁形成用感光性樹脂組成物）を塗布した。その後１００℃で２分間ホットプレート上で加熱乾燥した。得られた塗膜をフォトマスクを用いて露光を行った。露光量は、前述の評価で得た撥液性が生じる最小露光量とし、露光ギャップは１６μｍとした。フォトマスクは格子状の開口部を有するマスク（８０μｍ×２８０μｍの被覆部を４０μｍ間隔で複数有する）を使用した。次いで、接触角測定用基板作成と同様に、ＴＭＡＨ水溶液で現像を行った後、加熱硬化を行い、格子状の隔壁が得られた。
【０３３７】
（隔壁のインクジェット塗布適正評価）
前述の格子状の隔壁を有する基板において、格子状の隔壁で囲われた画素部分に対して、富士フィルム社製ＤＭＰ−２８３１にてインクジェット塗布を行った。インクとして、溶剤（安息香酸イソアミル）を単独で使用し、１画素あたり、１２０ｐＬ（条件１）及びさらに厳しい条件８０ｐＬ（条件２）にて塗布して濡れ広がり性の評価をおこなった。画素内全域に濡れ広がるほど、隔壁作成時の残渣等が少なく、現像性が良好であることを示す。さらに、インクを１６０ｐＬを塗布して、決壊（インクが隔壁を乗り越えて隣の画素部分に混入する現象）の有無の評価を行った。決壊しないほど撥液性が高いことを示す。
［濡れ広がり性評価（１２０ｐＬ（条件１）、８０ｐＬ（条件２））］
〇：インクが画素内全域に広がった。
△：インクが広がらない部分が画素内に一部生じた。
×：インクが画素内に全く広がらなかった。
［決壊評価（１６０ｐＬ）］
〇：インクが画素内からあふれなかった。
△：インクが画素内から一部分が隔壁の上面にあふれ出してしまった。
×：インクが画素内から全面に隔壁の上面にあふれ出してしまった。
【０３３８】
（隔壁のテーパ角度測定）
前述の格子状の隔壁をカットして断面観察用のＳＥＭ観察サンプルを作成し、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ、キーエンス社製）を用いて隔壁の断面形状を観察し、そのテーパ角度を測定し、その結果を表２に記載した。
この断面図において、図１のように隔壁１とＩＴＯ膜２との境界面をＳ、隔壁の高さをＨとした。隔壁の斜辺においてＨの１／２となる高さの点をＡとし、点Ａにおける斜辺との接線をＴとし、接線Ｔと境界面Ｓのなす角を測定し、テーパ角とした。
テーパ角は高いほど現像性が良好で残渣が発生しにくい傾向があり、インクジェット塗布において、より濡れ広がりやすい傾向がある。
【０３３９】
（ガス量測定用基板の作成）
表面にＩＴＯ膜を形成したガラス基板の該ＩＴＯ膜上にスピナーを用いて、塗布液（前記隔壁形成用感光性樹脂組成物）を加熱硬化後に２．０μｍの厚みになるように塗布した。その後１００℃で２分間ホットプレート上で加熱乾燥し、得られた塗膜をマスクを使用せずに、前述の撥液性が生じる最小露光量で露光した。この時の波長３６５ｎｍにおける強度は４０ｍＷ／ｃｍ2であった。次いで、接触角測定用基板作成と同様に、ＴＭＡＨ水溶液で現像を行った後、オーブン中２３０℃で３０分間加熱硬化を行い、硬化物が得られた。
【０３４０】
（ガス量の測定）
作成したガス量測定用基板（４０ｍｍ×８ｍｍ、４枚）を加熱炉内で２３０℃、２０分間加熱した際のアウトガスをＧＣ／ＭＳ（Ａｇｉｌｅｎｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製、商品名「５９７３Ｎ」）にて分析し、検出されたピーク全成分の面積の総和を計算した。次に、検出されたピーク面積の総和より検量線を用いてトルエン量に換算し、測定した基板面積で除し、単位面積あたりのトルエン換算のアウトガス量（ｎｇ／ｃｍ2）を算出した。なお検量線は、濃度既知のトルエンを用いてＧＣ／ＭＳを測定し、トルエン量と検出されるガスのピーク面積値をプロットして、検量線を作成した。
【０３４１】
【表２】
2018018036.tif 000041
【０３４２】
表２より、比較例２の（Ｃ２）樹脂単独ではテーパ角が大きく、また濡れ広がり性も良好であるものの、アウトガス量が多い。一方で、比較例１の（Ｃ１）樹脂単独ではアウトガス量が少なく良好であるものの、テーパ角が小さく、また濡れ広がり性が悪い。これに対して、実施例１〜３の（Ｃ１）樹脂と（Ｃ２）樹脂を併用した系では、テーパ角が大きく、濡れ広がり性も良好であり、アウトガス量も少なくなっていることがわかる。
【０３４３】
これは（Ｃ１）樹脂単独では、剛直な主骨格よりアウトガス量が低くなるものの、当該樹脂の主骨格中に芳香族環を有することに起因して現像液への溶解性が悪く、現像時の残膜除去が不十分となるからであると考えられる。一方で、（Ｃ２）樹脂単独では、現像液の浸透性が良好であり塗膜下部まで現像されテーパ角が高くなるものの、当該樹脂分子中の側鎖が熱により切れやすく熱分解性が高く、アウトガス量が多くなっていると考えられる。これに対して、（Ｃ１）樹脂と（Ｃ２）樹脂とを併用することで、十分な現像溶解性を確保しつつ、アウトガス量を抑えることが可能となったと考えられる。
【０３４４】
また実施例１〜３を比較した場合、条件２の濡れ広がり性やテーパ角に示すように、（Ｃ１）樹脂の中でも（Ｃ１−３）樹脂（ｃ−２樹脂）がさらに濡れ広がり性が良好となり、テーパ角も大きく良好であることが分かる。これは（Ｃ１−３）樹脂が、樹脂分子の主骨格内の疎水基（芳香族環）が他の樹脂に比べて少ないため、より現像性が良好になったためと考えられる。またアウトガス量も少なくなっていることが分かる。これは（Ｃ１−１）樹脂、（Ｃ１−３）樹脂で使用されている多塩基酸無水物がテトラヒドロ無水フタル酸であるのに対し、（Ｃ１−２）樹脂で使用されている多塩基酸無水物が無水コハク酸であるため、隔壁作成後のアウトガスがより少なくなったためと考えられる。
【符号の説明】
【０３４５】
１：隔壁
２：ＩＴＯ膜
３：ガラス基板
Ａ：隔壁の斜辺においてＨの１／２となる高さの点
Ｈ：隔壁の高さ
Ｓ：隔壁とＩＴＯ膜との境界面
【図１】
2018018036.tif 000054