(57)【要約】【課題】基板を搬送するのに有利な搬送装置を提供する。【解決手段】基板を保持する保持面を含む基板保持部と、前記保持面から斜め上方に離れた第１位置との間で前記基板を搬送する搬送装置であって、前記基板を支持する支持部材と、鉛直方向の位置が前記保持面と前記第１位置との間にある第２位置を経由して前記支持部材を駆動する駆動機構と、を有し、前記駆動機構は、前記保持面の位置と前記第２位置との間では前記支持部材が鉛直方向に軌道を描き、前記第１位置と前記第２位置との間では前記支持部材が円弧状の軌道を描くように、前記支持部材を駆動することを特徴とする搬送装置を提供する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持する保持面を含む基板保持部と、前記保持面から斜め上方に離れた第１位置との間で前記基板を搬送する搬送装置であって、
前記基板を支持する支持部材と、
鉛直方向の位置が前記保持面と前記第１位置との間にある第２位置を経由して前記支持部材を駆動する駆動機構と、を有し、
前記駆動機構は、前記保持面の位置と前記第２位置との間では前記支持部材が鉛直方向に軌道を描き、前記第１位置と前記第２位置との間では前記支持部材が円弧状の軌道を描くように、前記支持部材を駆動することを特徴とする搬送装置。
【請求項２】
前記第２位置は、前記保持面と前記第１位置との間の位置であり、且つ、前記支持部材に支持された前記基板が前記保持面と接触しない位置であることを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。
【請求項３】
前記駆動機構は、
前記支持部材を支持し、一端を回転軸として回転駆動されるアームと、
前記保持面の位置と前記第２位置との間で前記支持部材を駆動する間において、前記支持部材と前記アームとの間に水平方向の駆動に関する遊びを形成する変換機構と、
を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の搬送装置。
【請求項４】
前記変換機構は、
前記支持部材の前記基板を支持する側の面とは反対側の第１面に設けられ、前記支持部材に対して水平方向にスライドするスライド部材と、
前記スライド部材と前記アームの他端とを、前記回転軸に平行な軸を中心として回転可能に連結するブロックと、
を含み、
前記アームの回転駆動に応じて前記スライド部材を前記水平方向にスライドさせることで前記保持面の位置と前記第２位置との間で前記支持部材を前記鉛直方向に直線駆動し、且つ、前記スライド部材を前記水平方向にスライドさせずに前記アームの回転駆動を前記支持部材に伝えることで前記第１位置と前記第２位置との間で前記支持部材を回転駆動することを特徴とする請求項３に記載の搬送装置。
【請求項５】
前記変換機構は、
前記支持部材の前記第１面に固定されて前記鉛直方向に延在するガイドと、
前記ガイドに接触可能な接触部材と、
前記ガイドを前記接触部材に押し付ける押付部材と、
を含み、
前記ガイドは、前記押付部材により前記接触部材に接触した状態で前記鉛直方向に移動することで、前記保持面の位置と前記第２位置との間における前記支持部材の前記鉛直方向への直線駆動を規定することを特徴とする請求項４に記載の搬送装置。
【請求項６】
前記押付部材は、
一端が前記ブロックに連結され、他端がバネ受けに連結されて前記水平方向に伸縮するコイルバネと、
前記コイルバネの中空部に挿入され、前記スライド部材の前記水平方向への移動量を規制する規制部材と、
を含むことを特徴とする請求項５に記載の搬送装置。
【請求項７】
前記変換機構は、
前記ブロックに連結して前記水平方向に伸縮するアクチュエータと、
前記アームを回転駆動するモーターの回転量と前記アクチュエータの伸縮量とを同期させることで、前記保持面の位置と前記第２位置との間における前記支持部材の前記鉛直方向への直線駆動を規定する制御部と、
を含むことを特徴とする請求項４に記載の搬送装置。
【請求項８】
前記駆動機構は、
前記保持面の位置と前記第２位置との間において前記支持部材を前記鉛直方向に直線駆動する直線駆動部と、
前記第１位置と前記第２位置との間において前記支持部材を回転駆動する回転駆動部と、
を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の搬送装置。
【請求項９】
前記回転駆動部は、前記支持部材を支持し、一端を回転軸として回転駆動されるアームを含み、
前記直線駆動部は、前記アームを前記鉛直方向に駆動するアクチュエータを含むことを特徴とする請求項８に記載の搬送装置。
【請求項１０】
パターンを基板に形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板を保持する保持面を含む基板保持部と、
前記基板保持部と、前記保持面から斜め上方に離れた第１位置との間で前記基板を搬送する請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載の搬送装置と、
を有することを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項１１】
マスクのパターンを前記基板保持部に保持された前記基板に投影する投影光学系を更に有し、
前記基板と前記マスクとを走査しながら前記投影光学系を介して前記基板を露光して前記パターンを前記基板に形成することを特徴とする請求項１０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１２】
請求項１０又は１１に記載のリソグラフィ装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンが形成された前記基板を処理する工程と、
処理された前記基板から物品を製造する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、搬送装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示デバイス（液晶パネル）や半導体デバイスなどは、フォトリソグラフィ工程を経て製造される。フォトリソグラフィ工程では、例えば、走査型露光装置が使用されている。かかる露光装置は、マスク（原版）を保持するマスクステージと、基板を保持する基板ステージとを有し、マスクステージと基板ステージとを移動させながら、投影光学系を介してマスクのパターンを基板に転写するリソグラフィ装置である。１つの基板に対する露光が完了すると、露光された基板をロボットハンドに渡す。そして、新たな基板をロボットハンドから受け取り、かかる基板の露光を開始する。このような基板の搬送（受け渡し）は、基板の大きさや厚さ、周辺部材への干渉、露光装置及び基板に対するダメージの抑制、装置サイズの縮小を考慮して、リフトバーやリフトピンなどの支持部材を含む基板搬送機構を用いて行われる。
【０００３】
そこで、基板搬送機構に関して、駆動源であるモーターや複数のリンクで構成される回転駆動機構又は直動駆動機構によって、基板の搬送を実現する技術が提案されている（特許文献１及び２参照）。例えば、基板チャックからロボットハンドに基板を搬送する際に、基板を支持した支持部材をロボットハンドに向けて回転駆動することで、基板の受け渡し位置までの基板ステージの移動ストロークを短縮することが可能となり、装置サイズの縮小に寄与する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−３４４６７５号公報
【特許文献２】特開２００５−３５３８１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、支持部材で基板を支持した状態では支持部材間に基板の撓みが発生しているため、支持部材を回転駆動する際に基板の裏面と基板チャックとが擦れてしまう。これにより、基板チャックが摩耗し、フォーカス精度が低下してしまうため、十分な露光性能を発揮できない可能性がある。
【０００６】
特許文献１には、基板を支持した支持部材を、基板チャックに対して垂直方向に駆動（昇降）する技術が開示されている。特許文献１に開示された技術では、基板の裏面と基板チャックとの擦れは殆ど生じないが、基板の受け渡し位置までの基板ステージの移動ストロークが長くなるため、装置サイズが拡大してしまう。
【０００７】
また、特許文献２には、基板を支持するリフトピンを、基板チャックに対して斜め方向に駆動する技術が開示されている。但し、特許文献２に開示された技術は、リフトピンに支持された基板の撓みを考慮しておらず、基板の裏面と基板チャックとが擦れてしまう構造である。また、特許文献２に開示された技術では、基板ステージ上にストッパピンが設けられており、リフトピンの駆動とともに基板（の側面）をストッパピンに接触させることで基板の位置決めを行っている。従って、特許文献２では、基板とストッパピンとの間に接触や擦れが生じるため、基板の変形や破損のリスクがある。特に、近年では、基板の大型化及び薄型化が進んでいるため、基板の変形や破損のリスクが増大する傾向にある。
【０００８】
本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、基板を搬送するのに有利な搬送装置を提供することを例示的目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての搬送装置は、基板を保持する保持面を含む基板保持部と、前記保持面から斜め上方に離れた第１位置との間で前記基板を搬送する搬送装置であって、前記基板を支持する支持部材と、鉛直方向の位置が前記保持面と前記第１位置との間にある第２位置を経由して前記支持部材を駆動する駆動機構と、を有し、前記駆動機構は、前記保持面の位置と前記第２位置との間では前記支持部材が鉛直方向に軌道を描き、前記第１位置と前記第２位置との間では前記支持部材が円弧状の軌道を描くように、前記支持部材を駆動することを特徴とする。
【００１０】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、例えば、基板を搬送するのに有利な搬送装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の一側面としての露光装置の構成を示す概略図である。
【図２】基板ステージの近傍の構成を示す概略図である。
【図３】リフトバーを用いた基板の搬送を説明するための図である。
【図４】第１実施形態における搬送装置の構成を示す概略図である。
【図５】リフトバーの駆動状態を示す概略図である。
【図６】バネ部材の近傍の構成を示す概略断面図である。
【図７】図５におけるリフトバーの駆動によって描かれるリフトバーの軌道を示す図である。
【図８】リフトバーに支持された基板の状態を段階的に示す図である。
【図９】第２実施形態における搬送装置の構成を示す概略図である。
【図１０】第３実施形態における搬送装置の構成を示す概略図である。
【図１１】第４実施形態における搬送装置の構成を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【００１４】
図１は、本発明の一側面としての露光装置１の構成を示す概略図である。露光装置１は、液晶表示デバイスや半導体デバイスの製造工程であるリソグラフィ工程に採用され、パターンを基板に形成するリソグラフィ装置である。露光装置１は、本実施形態では、ミラープロジェクションタイプ及びステップ・アンド・スキャン方式を採用する走査型露光装置（スキャナー）である。露光装置１は、マスクＭと基板Ｐとを走査（同期走査）しながら、マスクＭに形成されているパターンを、投影光学系４を介して基板Ｐに転写する。
【００１５】
露光装置１は、照明光学系２と、マスクステージ３と、投影光学系４と、基板ステージ５と、制御部６とを有する。露光装置１は、露光チャンバ２０に収容されている。また、ここでは、鉛直方向であるＺ軸に垂直な平面内で、マスクＭ及び基板Ｐの走査方向をＹ軸とし、Ｙ軸に直交する非走査方向をＸ軸とする。
【００１６】
照明光学系２は、例えば、超高圧水銀ランプなどの光源からの光を用いて、マスクＭを照明する。照明光学系２は、本実施形態では、マスクＭに対してスリット状に成形された照明光を照射する。
【００１７】
マスクＭは、例えば、基板Ｐに転写すべきパターン（例えば、回路パターン）が形成されたガラス製の原版である。マスクステージ３は、マスクＭを保持してＸ及びＹ方向に移動するステージである。
【００１８】
投影光学系４は、マスクステージ３に保持されたマスクＭと、チャック７を介して基板ステージ５に保持された基板Ｐとを光学的に共役な関係に維持し、マスクＭの照明領域に存在するパターンの像を基板Ｐに投影する。投影光学系４は、本実施形態では、第１平行平板８と、台形鏡９と、凹面鏡１０と、凸面鏡１１と、第２平行平板１２とを含む。投影光学系４において、マスクＭからの光は、第１平行平板８、台形鏡９、凸面鏡１１、凹面鏡１０、台形鏡９、第２平行平板１２を順に経て、基板Ｐに到達する。基板上における投影光学系４からの光の投影領域（露光領域）は、所定の形状、例えば、円弧形状に設定されている。
【００１９】
基板Ｐは、例えば、表面にレジスト層（感光剤）が形成されたガラス製のプレートである。基板ステージ５は、基板Ｐをチャック７で真空吸着し、例えば、Ｘ、Ｙ及びＺ方向（更には、各軸の回転方向であるθｘ、θｙ及びθｚ方向）に移動するステージである。基板ステージ５の構成については、以下で詳細に説明する。
【００２０】
制御部６は、ＣＰＵやメモリを含むコンピュータなどで構成され、メモリに格納されたプログラムに従って露光装置１の各部の制御及び演算処理などを行う。また、本実施形態では、制御部６が基板ステージ５を制御するが、基板ステージ５を制御する専用のステージ制御部を設けてもよい。この場合、ステージ制御部は、制御部６からの指令に基づいて、基板ステージ５を制御する。また、制御部６は、露光装置１の他の部分と一体で（共通の筐体内に）構成してもよいし、露光装置１の他の部分とは別体で（別の筐体内に）構成してもよい。
【００２１】
露光チャンバ２０には、ロボットハンド２３が収容されたインターフェースチャンバ２２と連通する開口部２１が設けられており、開口部２１を介して、露光装置１とロボットハンド２３との間で基板Ｐの搬送（受け渡し）が行われる。本実施形態では、基板Ｐを保持したロボットハンド２３が開口部２１を介して露光チャンバ２０に進入すると、基板ステージ５を、開口部２１の近傍の所定の位置（基板Ｐの搬送位置）まで移動させる。そして、リフトバー３１をロボットハンド２３の近傍まで駆動（上昇）させて、ロボットハンド２３から基板Ｐを受け取る。
【００２２】
図２は、基板ステージ５の近傍の構成を示す概略図である。基板ステージ５の上には、図２に示すように、チャック７が配置されている。チャック７は、例えば、基板Ｐの裏面を真空吸着して基板Ｐを保持する保持面７ａを含む基板保持部として機能する。また、基板ステージ５には、チャック７と、開口部２１を介して露光チャンバ２０に進入しているロボットハンド２３との間での基板Ｐの搬送に用いられるリフトバー３１が設けられている。このように、本実施形態では、基板Ｐの搬送には、基板Ｐの大きさや厚さ、周辺部材への干渉、露光装置１及び基板Ｐに対するダメージの抑制、装置サイズの縮小を考慮して、リフトバー３１を用いている。
【００２３】
図３（ａ）及び図３（ｂ）は、チャック７とロボットハンド２３との間でのリフトバー３１を用いた基板Ｐの搬送を説明するための図である。例えば、基板Ｐの搬送時以外では、リフトバー３１は、図３（ａ）に示すように、チャック７の保持面７ａよりも下方の位置に退避（位置）している。そして、基板Ｐの搬送時には、リフトバー３１は、図３（ｂ）に示すように、チャック７の上方（＋Ｚ方向）及びロボットハンド２３に向かう方向（＋Ｙ方向）に突出することでチャック７から基板Ｐを受け取り、かかる基板Ｐをロボットハンド２３に渡す。
【００２４】
以下、チャック７とロボットハンド２３との間で基板Ｐを搬送する搬送装置の具体的な構成を各実施形態で説明する。かかる搬送装置は、基板Ｐを支持する支持部材として機能するリフトバー３１と、リフトバー３１を駆動する駆動機構とを有する。かかる駆動機構は、鉛直方向の位置がチャック７の保持面７ａと保持面７ａから斜め上方に離れた第１位置（ロボットハンド２３の位置）との間にある第２位置を経由してリフトバー３１を駆動する。
【００２５】
＜第１実施形態＞
図４は、第１実施形態における搬送装置５０の構成を示す概略図である。図４は、リフトバー３１がチャック７の保持面７ａより下方に位置した状態、即ち、基板Ｐを搬送していない状態を示している。なお、リフトバー３１からロボットハンド２３に基板Ｐを渡す位置、即ち、第１位置は、＋Ｙ方向にある。搬送装置５０は、リフトバー３１を駆動する駆動機構として、アーム駆動部７０と、アーム従動部８０とを有する。
【００２６】
リフトバー３１は、ベース９０の上に配置されたアーム駆動部７０及びアーム従動部８０のそれぞれに設けられた支持ブロック６９に支持される。支持ブロック６９は、リフトバー３１の基板Ｐを支持する側の面３１ａとは反対側の面（第１面）３１ｂに固定される。また、ローラー６２は、ベース９０の上に配置されたローラーベース６１に回転可能に支持される。ローラー６２は、リフトバー３１の面３１ｂに固定されたローラーガイド６３に接触可能な接触部材である。ローラーガイド６３は、Ｚ方向（鉛直方向）に延在してローラー６２が接触する接触面６３ａを形成する。
【００２７】
アーム駆動部７０において、アーム７３の駆動源として機能するモーター７１は、ベース９０の上に配置されている。アーム７３は、その一端がモーター７１の回転軸７２に回転可能に連結されている。アーム７３は、リフトバー３１を支持し、その一端を回転軸として（回転軸７２を中心として）モーター７１によって回転駆動される。また、アーム７３の他端は、アームブロック７９に連結されている。アームブロック７９は、リニアガイド７７とアーム７３の他端とを、モーター７１の回転軸７２に平行な軸（回転軸）７４を中心として回転可能に連結するブロックである。
【００２８】
アームブロック７９と支持ブロック６９との間には、リニアガイド７７が配置されている。リニアガイド７７は、リフトバー３１の面３１ｂに設けられてＺ方向に直交するＹ方向（水平方向）にスライドするスライド部材である。リニアガイド７７は、本実施形態では、アームブロック７９に設けられたリニア可動子７７ａと、支持ブロック６９に設けられたリニア固定子７７ｂとを含む。リニア可動子７７ａとリニア固定子７７ｂとは、相対的にＹ方向にスライド可能である。なお、リニア可動子７７ａを支持ブロック６９に設け、リニア固定子７７ｂをアームブロック７９に設けてもよい。
【００２９】
アームブロック７９には、バネ部材７５が接している。バネ部材７５は、アームブロック７９とバネ受け７６との間に配置されている。このように、バネ部材７５は、一端がアームブロック７９に連結され、他端がバネ受け７６に連結されてＹ方向（水平方向）に伸縮する。バネ受け７６は、バネ部材７５のＹ方向の初期の長さを調整可能なように、支持ブロック６９に設けられている。なお、バネ部材７５は、Ｙ方向に縮められた状態（伸びようとする内部応力を有する状態）で、Ｙ軸方向のみに伸縮可能なように案内される。また、リフトバー３１の面３１ａを水平に維持するため、アーム駆動部７０及びアーム従動部８０のそれぞれのバネ部材７５の力が同じになるように、各バネ部材のＹ方向の長さが調整されている。なお、バネ部材７５は、本実施形態では、引張バネで構成されているが、圧縮バネ、ゴムなどの弾性部材、エアシリンダ、アクチュエータなどに置き換えることも可能である。
【００３０】
アーム従動部８０において、アーム７３の一端は、回転軸７２を介して従動軸ブロック７８に回転可能に連結されている。アーム従動部８０の他の構成は、アーム駆動部７０の構成と同様であるため、ここでの詳細な説明は省略する。従って、図３では、アーム駆動部７０及びアーム従動部８０のそれぞれに設けられたバネ部材７５のＹ方向に伸びようとする内部応力によって、ローラーガイド６３（接触面６３ａ）がローラー６２に押し付けられている。このように、バネ部材７５は、ローラーガイド６３をローラー６２に押し付ける押付部材として機能する。
【００３１】
図５（ａ）、図５（ｂ）及び図５（ｃ）を参照して、アーム駆動部７０及びアーム従動部８０（駆動機構）によるリフトバー３１の駆動を説明する。図５（ａ）乃至図５（ｃ）は、リフトバー３１の駆動の様子（駆動状態）を示す概略図である。
【００３２】
図５（ａ）は、リフトバー３１がチャック７の保持面７ａよりも下方に位置した状態を示している。図５（ｂ）は、アーム駆動部７０及びアーム従動部８０によってアーム７３を回転駆動することでリフトバー３１が＋Ｚ方向のみに駆動された（即ち、直線駆動された）状態を示している。なお、図５（ｂ）では、リフトバー３１は、鉛直方向の位置がチャック７の保持面７ａと、保持面７ａから斜め上方に離れた第１位置との間にある第２位置に位置している。ここで、第２位置は、チャック７の保持面７ａと第１位置との間の位置であり、且つ、リフトバー３１に支持された基板Ｐが保持面７ａと接触しない位置である。アーム駆動部７０及びアーム従動部８０は、モーター７１を駆動源として、それぞれに設けられた回転軸７２を中心として時計回りにアーム７３を回転駆動する。この際、ローラーガイド６３は、バネ部材７５（のＹ方向の予圧）によって、ローラー６２に押し付けられた状態で＋Ｚ方向に移動する。このように、ローラーガイド６３がローラー６２に接触した状態でＺ方向に移動することで、チャック７の保持面７ａの位置と第２位置との間におけるリフトバー３１のＺ方向への直線駆動を規定する。
【００３３】
また、ローラーガイド６３にローラー６２が接触している間は、図５（ｂ）に示すように、バネ部材７５が延伸することで、リフトバー３１が＋Ｙ方向に移動しようとする距離分を吸収するため、リフトバー３１は、＋Ｚ方向のみに駆動されることになる。このように、バネ部材７５は、アームブロック７９と協同して、保持面７ａの位置と第２位置との間でリフトバー３１を駆動する間において、リフトバー３１とアーム７３との間にＹ方向（水平方向）の駆動に関する遊びを形成する変換機構として機能する。
【００３４】
図６（ａ）及び図６（ｂ）は、バネ部材７５の近傍の構成を示す概略断面図である。バネ部材７５は、本実施形態では、中空部７５ｂを有するコイルバネ７５ａで構成され、その一端がアームブロック７９に連結され、他端がバネ受け７６に連結されている。ストッパー８１は、アームブロック７９に固定され、コイルバネ７５ａの中空部７５ｂ及びバネ受け７６に設けられた孔７６ａに貫通している。コイルバネ７５ａは、図６（ｂ）に示すように、リフトバー３１の駆動を開始することで延伸する。コイルバネ７５ａの延伸距離は、図６（ａ）に示すように、寸法Ｂによって管理可能である。換言すれば、ストッパー８１は、コイルバネ７５ａの中空部７５ｂに挿入され、コイルバネ７５ａの延伸距離を管理することで、リニアガイド７７のＹ方向への移動量を規制する規制部材として機能する。
【００３５】
なお、図６（ａ）及び図６（ｂ）に示すバネ部材７５の構成は、他の構成に置き換えることも可能である。例えば、ストッパー８１の代わりに、リニア可動子７７ａを別に設けたブロック又はピンなどに突き当ててストッパーとし、コイルバネ７５ａの延伸距離を管理してもよい。また、コイルバネ７５ａの延伸距離は、基板Ｐの撓み量に応じて任意に選択することが可能である。また、コイルバネ７５ａの力は、基板Ｐや周辺部材の重さ、リフトバー３１を駆動する際の加速度などに応じて任意に選択することが可能である。
【００３６】
図５（ｃ）は、ローラーガイド６３の接触面６３ａがローラー６２から離れた状態、例えば、リフトバー３１が基板Ｐをロボットハンド２３に渡す位置である第１位置に位置した状態を示している。バネ部材７５が延伸してストッパー８１がバネ受け７６に突き当たった状態から、アーム駆動部７０及びアーム従動部８０によってアーム７３を更に駆動すると、ローラーガイド６３がローラー６２から離れる。これにより、リフトバー３１は、円弧状の軌道を描くように駆動されることになる。
【００３７】
図７は、図５（ａ）、図５（ｂ）及び図５（ｃ）におけるリフトバー３１の駆動によって描かれるリフトバー３１の軌道を示す図である。本実施形態では、リフトバー３１の駆動を開始してから、バネ部材７５が延伸してストッパー８１がバネ受け７６に突き当たるまで、即ち、第２位置までは、リフトバー３１がＺ方向に軌道（Ｉ−ＩＩ）を描くように、リフトバー３１が駆動される。また、ローラーガイド６３の接触面６３ａがローラー６２から離れてから、基板Ｐをロボットハンド２３に渡す位置まで、即ち、第２位置と第１位置との間では、リフトバー３１が円弧状の軌道（ＩＩ−ＩＩＩ）を描くように、リフトバー３１が駆動される。このように、アーム駆動部７０及びアーム従動部８０は、第２位置まではリフトバー３１が鉛直方向に軌道を描き、第２位置と第１位置との間ではリフトバー３１が円弧状の軌道を描くように（軌道Ｉ−ＩＩ−ＩＩＩ）、リフトバー３１を駆動する。一方、従来技術のように、リフトバー３１の回転駆動のみを行う場合には、リフトバー３１は、軌道ＩＶ−ＩＩ−ＩＩＩを描くことになる。
【００３８】
図８は、リフトバー３１に支持された基板Ｐの状態を段階的に示す図である。図８では、リフトバー３１の数を５本としているが、実際には、リフトバー３１の数は、基板Ｐのサイズや装置状態に応じて任意に設定することができる。また、リフトバー３１の数に応じて、搬送装置５０は、それぞれ同様に並列に配置される。
【００３９】
図８（ａ）は、チャック７の保持面７ａに保持された基板Ｐの裏面にリフトバー３１が接した状態を示している。図８（ｂ）は、リフトバー３１が図７に示す軌道Ｉ−ＩＩを描くように駆動している間の基板Ｐの状態を示している。図８（ｃ）は、リフトバー３１が第２位置に位置しているときの基板Ｐの状態を示している。ここで、リフトバー３１を保持面７ａの位置から第２位置に駆動する際のリフトバー３１のＺ方向の駆動距離Ｖは、基板Ｐをリフトバー３１で支持したときにリフトバー３１の間に発生する基板ＰのＺ方向の撓み量Ｔよりも大きくする（Ｖ＞Ｔ）必要がある。換言すれば、リフトバー３１に支持された基板Ｐ（Ｚ方向に撓んだ基板Ｐ）とチャック７の保持面７ａとの間の距離（隙間）ｔを０以上にする必要がある。これにより、基板Ｐの裏面とチャック７（保持面７ａ）とが擦れることなく、チャック７からロボットハンド２３に基板Ｐを搬送することができる。
【００４０】
このように、本実施形態では、チャック７からロボットハンド２３に基板Ｐを搬送する際に、まず、基板Ｐを支持するリフトバー３１が鉛直方向に軌道を描き、その後、リフトバー３１が円弧状の軌道を描くように、リフトバー３１を駆動する。これにより、基板Ｐを搬送する際の基板Ｐとチャック７との擦れや基板ステージ５の長ストローク化を抑制することができる。
【００４１】
本実施形態では、チャック７からロボットハンド２３に基板Ｐを搬送する場合について説明した。但し、ロボットハンド２３からチャック７に基板Ｐを搬送する場合についても同様に、基板Ｐの裏面とチャック７（保持面７ａ）とが擦れることなく、ロボットハンド２３からチャック７に基板Ｐを搬送することができる。
【００４２】
＜第２実施形態＞
図９は、第２実施形態における搬送装置５１の構成を示す概略図である。上述したように、第１実施形態では、アーム駆動部７０及びアーム従動部８０のそれぞれのバネ部材７５の力が同じになるように、各バネ部材のＹ方向の長さを調整する必要がある。そこで、第２実施形態では、このような調整を不要とし、装置の組立の容易化及び装置コストの低減を実現する搬送装置５１について説明する。
【００４３】
搬送装置５１では、アーム駆動部７０及びアーム従動部８０のそれぞれのアームブロック７９に連結ベース９１を接続し、バネ部材７５及びバネ受け７６を１つ設けている。図９では、ローラーベース６１、ローラー６２及びローラーガイド６３をアーム従動部側に配置しているが、この配置に限定されるものではない。リフトバー３１が図７に示す軌道Ｉ−ＩＩ−ＩＩＩを描くようにリフトバー３１を駆動することが可能であれば、ローラーベース６１、ローラー６２及びローラーガイド６３は、任意の位置に配置することができる。
【００４４】
搬送装置５１では、アーム駆動部７０及びアーム従動部８０のそれぞれのアームブロック７９を連結ベース９１で連結しているため、上述したように、１つのバネ部材７５及びバネ受け７６を設けるだけでよい。また、アーム駆動部７０及びアーム従動部８０のそれぞれの回転軸７４の間のＹ方向の距離Ｌを一定に維持することで、リフトバー３１の面３１ａを常に水平に維持することが可能となる。
【００４５】
＜第３実施形態＞
図１０は、第３実施形態における搬送装置５２の構成を示す概略図である。搬送装置５２では、アーム駆動部７０及びアーム従動部８０のそれぞれに、アクチュエータ９５及びアクチュエータ伸縮部９６が設けられている。アクチュエータ９５は、電気、油圧、空圧、磁力などを駆動源とする駆動装置を含む。アクチュエータ伸縮部９６は、アームブロック７９に連結してＹ方向に伸縮可能に構成されている。また、アクチュエータ９５及びモーター７１には、それらを制御する制御部６が接続されている。なお、制御部６がアクチュエータ９５及びモーター７１を制御するのではなく、アクチュエータ９５及びモーター７１を制御する専用の制御部を設けてもよい。
【００４６】
搬送装置５２では、制御部６にて、アクチュエータ伸縮部９６のＹ方向の伸縮量及びタイミングと、モーター７１の回転量及びタイミングとを連動して制御することで、リフトバー３１が図７に示す軌道Ｉ−ＩＩ−ＩＩＩを描くようにリフトバー３１を駆動する。この際、制御部６は、アーム７３を回転駆動するモーター７１の回転量とアクチュエータ伸縮部９６の伸縮量とを同期させることで、保持面７ａの位置と第２位置との間（軌道Ｉ−ＩＩ）におけるリフトバー３１のＺ方向への直線駆動を規定する。
【００４７】
搬送装置５２では、ローラーベース６１、ローラー６２及びローラーガイド６３を設けることなく、リフトバー３１が図７に示す軌道Ｉ−ＩＩ−ＩＩＩを描くようにリフトバー３１を駆動することができる。このように、搬送装置５２は、簡易な構造を有するため、省スペースに寄与する。
【００４８】
本実施形態では、リフトバー３１の下方又は上方に、リフトバー３１の位置を計測するセンサーなどを配置することも有効である。例えば、センサーで計測されたリフトバー３１の位置を制御部６にフィードバックすることで、外力などによる駆動誤差をリカバーすることが可能となり、露光装置１のダウンタイムを短くすることができる。
【００４９】
＜第４実施形態＞
図１１は、第４実施形態における搬送装置５３の構成を示す概略図である。搬送装置５３は、ベース９０の下方（−Ｚ方向）に、アクチュエータ１００、アクチュエータ伸縮部１０１及びベース１０３を設けている。アクチュエータ１００は、電気、油圧、空圧、磁力などを駆動源とする駆動装置を含む。アクチュエータ伸縮部１０１は、Ｚ方向に伸縮可能に構成されている。本実施形態において、アクチュエータ１００やアクチュエータ伸縮部１０１は、チャック７の保持面７ａの位置と第２位置との間においてリフトバー３１をＺ方向に直線駆動する直線駆動部として機能する。一方、モーター７１やアーム７３は、第２位置と第１位置との間においてリフトバー３１を回転駆動する回転駆動部として機能する。また、アクチュエータ１００及びモーター７１には、それらを制御する制御部６が接続されている。なお、制御部６がアクチュエータ１００及びモーター７１を制御するのではなく、アクチュエータ１００及びモーター７１を制御する専用の制御部を設けてもよい。連結ブロック１０４は、アームブロック７９とリフトバー３１とを連結（固定）している。なお、アクチュエータ１００のストロークは、第１実施形態で説明したリフトバー３１のＺ方向の駆動距離Ｖ以上である。
【００５０】
搬送装置５３では、制御部６にて、アクチュエータ伸縮部１０１のＺ方向の伸縮量及びタイミングと、モーター７１の回転量及びタイミングとを連動して制御することで、リフトバー３１が図７に示す軌道Ｉ−ＩＩ−ＩＩＩを描くようにリフトバー３１を駆動する。
【００５１】
搬送装置５３では、ローラーベース６１、ローラー６２及びローラーガイド６３を設けることなく、リフトバー３１が図７に示す軌道Ｉ−ＩＩ−ＩＩＩを描くようにリフトバー３１を駆動することができる。このように、搬送装置５３は、簡易な構造を有するため、省スペースに寄与する。
【００５２】
本実施形態では、リフトバー３１の下方又は上方に、リフトバー３１の位置を計測するセンサーなどを配置することも有効である。例えば、センサーで計測されたリフトバー３１の位置を制御部６にフィードバックすることで、外力などによる駆動誤差をリカバーすることが可能となり、露光装置１のダウンタイムを短くすることができる。
【００５３】
本発明の実施形態における物品の製造方法は、例えば、デバイス（半導体素子、磁気記憶媒体、液晶表示素子など）などの物品を製造するのに好適である。かかる製造方法は、露光装置１を用いて、感光剤が塗布された基板を露光する（パターンを基板に形成する）工程と、露光された基板を現像する（基板を処理する）工程を含む。また、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングなど）を含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【００５４】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。例えば、本発明は、リソグラフィ装置を露光装置に限定するものではなく、インプリント装置や描画装置などのリソグラフィ装置にも適用することができる。ここで、インプリント装置は、基板上に供給されたインプリント材とモールドとを接触させ、インプリント材に硬化用のエネルギーを与えることにより、モールドのパターンが転写された硬化物のパターンを形成する。また、描画装置は、荷電粒子線（電子線）やレーザビームで基板に描画を行うことにより基板上にパターン（潜像パターン）を形成する。上述した物品の製造方法は、これらのリソグラフィ装置を用いて行ってもよい。
【符号の説明】
【００５５】
１：露光装置    ５：基板ステージ    ７：チャック    ２３：ロボットハンド    ３１：リフトバー    ５０、５１、５２、５３：搬送装置    ７０：アーム駆動部    ８０：アーム従動部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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