(57)【要約】【課題】光変調器の測定における光変調素子のチャンネルとスキャン位置の不一致を解消する。【解決手段】光変調素子群の中からマーキング用素子とする光変調素子を少なくとも２以上選択し、マーキング用素子以外の光変調素子を出力値の取得対象である出力値取得対象素子とする第１のステップと、出力値取得対象素子に、出力値を取得するために必要な制御値である第１の制御値を設定する第２のステップと、マーキング用素子に、第１の制御値に応じて設定される制御値である第２の制御値を設定する第３のステップと、出力値取得対象素子に第１の制御値が入力されるとともにマーキング用素子に第２の制御値が入力された状態における出力値を測定することで、光変調素子の配列方向における測定位置と出力値の関係を示すプロファイルを生成する第４のステップと、を有する。【選択図】図８
2018163010.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力された制御値に応じて光を出力する光変調素子が配列して設けられた光変調素子群において、前記光変調素子の前記制御値に対する出力値を取得する測定方法であって、
前記光変調素子群の中からマーキング用素子とする光変調素子を少なくとも２以上選択し、前記マーキング用素子以外の光変調素子を前記出力値の取得対象である出力値取得対象素子とする第１のステップと、
前記出力値取得対象素子に、前記出力値を取得するために必要な前記制御値である第１の制御値を設定する第２のステップと、
前記マーキング用素子に、前記第１の制御値に応じて設定される前記制御値である第２の制御値を設定する第３のステップと、
前記出力値取得対象素子に前記第１の制御値が入力されるとともに前記マーキング用素子に前記第２の制御値が入力された状態における前記出力値を測定することで、前記光変調素子の配列方向における測定位置と出力値の関係を示すプロファイルを生成する第４のステップと、を有し、
前記第２の制御値は、前記プロファイルにおいて、前記マーキング用素子の前記出力値が、前記出力値取得対象素子の前記出力値とは区別可能な値となるような制御値であって、
前記プロファイルから前記マーキング用素子の前記出力値を検出することで、前記測定位置に対応する前記出力値取得対象素子のチャンネルを特定する、
測定方法。
【請求項２】
前記第１のステップにおいて、前記マーキング用素子は、前記光変調素子群の両端付近に位置する前記光変調素子の中から選択される、
請求項１に記載の測定方法。
【請求項３】
前記第２のステップにおいて入力する前記第１の制御値を変化させて前記第１〜４のステップを繰り返し、取得された前記出力値取得対象素子の前記出力値に基づいて、前記制御値と前記出力値との関係である入出力特性を取得する、請求項１又は２に記載の測定方法。
【請求項４】
前記第１のステップにおいて選択する前記マーキング用素子を変更するとともに前記第２のステップにおいて入力する前記第１の制御値を変化させて前記第１〜４のステップを繰り返す、請求項１から３の何れか１項に記載の測定方法。
【請求項５】
入力された制御値に応じて光を出力する光変調素子が配列して設けられた光変調素子群において、前記光変調素子の前記制御値に対する出力値を取得する測定装置であって、
前記光変調素子群の中からマーキング用素子とする光変調素子を少なくとも２以上選択し、前記マーキング用素子以外の光変調素子を前記出力値の取得対象である出力値取得対象素子とする選択手段と、
前記出力値取得対象素子に、前記出力値を取得するために必要な前記制御値である第１の制御値を入力し、前記マーキング用素子に、前記第１の制御値に応じて設定される前記制御値である第２の制御値を入力する信号入力手段と、
前記出力値取得対象素子に前記第１の制御値が入力されるとともに前記マーキング用素子に前記第２の制御値が入力された状態における前記出力値を測定することで、前記光変調素子の配列方向における測定位置と出力値の関係を示すプロファイルを生成するプロファイル生成手段と、
前記プロファイルから前記マーキング用素子の前記出力値を検出することで、前記測定位置に対応する前記出力値取得対象素子のチャンネルを特定するチャンネル特定手段と、を備え、
前記第２の制御値は、前記プロファイルにおいて、前記マーキング用素子の前記出力値が、前記出力値取得対象素子の前記出力値とは区別可能な値となるような制御値である、
測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、測定方法、及び測定装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光を対象物に向けて照射する露光装置には、高精細な描画能力が求められている。これを実現するためには、露光装置が高精度に光を変調する必要がある。光を変調する手段としては、反射板である固定リボンと可動リボンとで構成された光変調素子がライン状に配列して設けられ、可動リボンを微細に動かすことによって回折格子を形成する光変調器が利用されている。このような光変調器は、可動リボンの変位量を調整することによって、出力する光を変調することができる。
【０００３】
光変調器の精度を高めるためには、光変調器の性能を高精度に評価する必要がある。光変調器の性能を評価する方法としては、露光装置とは別の測定装置を用いて、スポット光を光変調器に照射したときの各リボンから出力される光量を測定することによって、反射率やコントラストを測定する方法がある。これを実現する測定装置の構成として、光変調器を定位置に固定した状態で光学系そのものを移動させて光変調素子をスキャン（走査）するものと、光学系を定位置に固定した状態で光変調器を移動させて光変調素子をスキャンするものとがある。前者は、光学系（照明系＋観察系）を移動させる必要があるため、振動などに配慮した高精度な２軸の駆動機構が必要となり、高コストとなる。一方で、後者は、１軸の駆動機構（ステージ）上に光変調器をマウントし、ステージを往復運動させてラインスキャンする構成であるため、汎用ステージ等を用いることによって安価な構成で実現することができるが、その場合、光変調器の自重の影響によって位置精度が低くなり易いという問題がある。そのため、後者の光学系を用いて、装置を安価な汎用ステージを使用して構成した場合は、位置精度が低いことを前提として、ソフト的に位置補正を行う事が必須となる。
【０００４】
上記に関連して、特許文献１には、ライン状に並んだ光供給素子（光変調素子）群から対象物に向けて光を発するように構成された露光装置において各光供給素子から供給される光量を補正するキャリブレーション方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１０−６６４１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
光変調器の光量測定では、光変調素子の配列方向にラインスキャンしたデータが測定結果として得られる。そのため、従来では、測定結果において各リボンに対応する出力の値が何れであるのかを特定するために、測定の前に、光変調素子の番号（チャンネル）とスキャン位置とを一致させる作業（チャンネル特定）を行っていた。しかしながら、安価なステージを用いた場合では、往復運動におけるステージ位置の再現性が不足する傾向がある。そのため、ラインスキャンを繰り返すことによって、スキャンの開始位置が変動し、事前に行ったチャンネル特定の結果とラインスキャンの測定結果との間で位置の相関がとれなくなり、チャンネルとスキャン位置の不一致が生じるという問題があった。一方で、ラインスキャン毎に事前にチャンネル特定を行うとなると、測定に必要な工数が大幅に増加する虞がある。
【０００７】
そこで、本発明は、光変調器の測定における光変調素子のチャンネルとスキャン位置の不一致を解消することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するための本発明は、次のような構成とする。
【０００９】
入力された制御値に応じて光を出力する光変調素子が配列して設けられた光変調素子群において、前記光変調素子の前記制御値に対する出力値を取得する測定方法であって、
前記光変調素子群の中からマーキング用素子とする光変調素子を少なくとも２以上選択し、前記マーキング用素子以外の光変調素子を前記出力値の取得対象である出力値取得対象素子とする第１のステップと、
前記出力値取得対象素子に、前記出力値を取得するために必要な前記制御値である第１の制御値を設定する第２のステップと、
前記マーキング用素子に、前記第１の制御値に応じて設定される前記制御値である第２の制御値を設定する第３のステップと、
前記出力値取得対象素子に前記第１の制御値が入力されるとともに前記マーキング用素子に前記第２の制御値が入力された状態における前記出力値を測定することで、前記光変調素子の配列方向における測定位置と出力値の関係を示すプロファイルを生成する第４のステップと、を有し、
前記第２の制御値は、前記プロファイルにおいて、前記マーキング用素子の前記出力値が、前記出力値取得対象素子の前記出力値とは区別可能な値となるような制御値であって、
前記プロファイルから前記マーキング用素子の前記出力値を検出することで、前記測定位置に対応する前記出力値取得対象素子のチャンネルを特定する、
測定方法。
【００１０】
本発明によると、出力値取得対象素子には出力値を取得するために必要な制御値である第１の制御値を入力し、マーキング用素子には第１の制御値に応じて設定される制御値である第２の制御値を入力し、第２の制御値は、プロファイルにおいて、マーキング用素子の出力値が出力値取得対象素子の出力値とは区別可能な値となるような制御値であることにより、出力値取得対象素子のチャンネルとスキャン位置の特定と出力値の取得とを、同一のプロファイルで実現することができる。即ち、生成するプロファイルごとにチャンネルとスキャン位置の特定を行うため、スキャンの開始位置の変動によるチャンネルとスキャン位置の不一致を解消することができる。また、出力値取得対象素子の出力値の取得とチャンネル特定とを同時に実現することが可能となるため、測定における工数を低減することができる。
【００１１】
また、本発明は、前記第１のステップにおいて、前記マーキング用素子は、前記光変調素子群の両端付近に位置する前記光変調素子の中から選択されてもよい。これによれば、チャンネルの特定を精度良く行うことができる。
【００１２】
また、本発明は、前記第２のステップにおいて入力する前記第１の制御値を変化させて前記第１〜４のステップを繰り返し、取得された前記出力値取得対象素子の出力値に基づいて、制御値と出力値との関係である入出力特性を取得してもよい。これによれば、光変調素子の入出力特性を取得することができる。その結果、各光変調素子における出力値が最大／最小となる制御値を特定することができる。
【００１３】
また、本発明は、前記第１のステップにおいて選択する前記マーキング用素子を変更するとともに前記第２のステップにおいて入力する前記第１の制御値を変化させて前記第１〜４のステップを繰り返してもよい。これによれば、プロファイルごとにマーキング用素
子として選択される光変調素子が異なり、特定の光変調素子が常にマーキング用素子に選択されることがない。そのため、全ての光変調素子について、マーキング用素子として選択された回のラインスキャンを除いて、光量を取得することができる。
【００１４】
更に本発明は、装置として特定することができる。即ち、本発明は、
入力された制御値に応じて光を出力する光変調素子が配列して設けられた光変調素子群において、前記光変調素子の前記制御値に対する出力値を取得する測定装置であって、
前記光変調素子群の中からマーキング用素子とする光変調素子を少なくとも２以上選択し、前記マーキング用素子以外の光変調素子を前記出力値の取得対象である出力値取得対象素子とする選択手段と、
前記出力値取得対象素子に、前記出力値を取得するために必要な前記制御値である第１の制御値を入力し、前記マーキング用素子に、前記第１の制御値に応じて設定される前記制御値である第２の制御値を入力する信号入力手段と、
前記出力値取得対象素子に前記第１の制御値が入力されるとともに前記マーキング用素子に前記第２の制御値が入力された状態における前記出力値を測定することで、前記光変調素子の配列方向における測定位置と出力値の関係を示すプロファイルを生成するプロファイル生成手段と、
前記プロファイルから前記マーキング用素子の前記出力値を検出することで、前記測定位置に対応する前記出力値取得対象素子のチャンネルを特定するチャンネル特定手段と、を備え、
前記第２の制御値は、前記プロファイルにおいて、前記マーキング用素子の前記出力値が、前記出力値取得対象素子の前記出力値とは区別可能な値となるような制御値である、
測定装置であってもよい。
【００１５】
なお、上述した課題を解決するための手段は、適宜組み合わせて用いることができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、光変調器の測定における光変調素子のチャンネルとスキャン位置の不一致を解消することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】光変調器を簡易的に示した図である。
【図２】光変調器の部分斜視図である。
【図３Ａ】光変調器の断面図である。
【図３Ｂ】光変調器の断面図である。
【図４】光変調素子の入出力特性の一例を示す図である。
【図５】第１実施形態に係る測定装置の全体構成を示す図である。
【図６】ラインスキャンの様子を示す図である。
【図７】プロファイルの一例を示す図である。
【図８】第１実施形態に係る入出力特性の取得方法の手順を示すフロー図である。
【図９】予想値テーブルを示す図である。
【図１０Ａ】マーク値の一例を示す図である。
【図１０Ｂ】マーク値の一例を示す図である。
【図１１】プロファイルを一図で示した図である。
【図１２】比較例に係る入出力特性の取得方法の手順を示すフロー図である。
【図１３Ａ】比較例に係るチャンネル特定のためのプロファイルを示す図である。
【図１３Ｂ】比較例に係る出力値を取得するためのプロファイルを示す図である。
【図１４】ステージの往復移動に伴う初期位置の変動を示す図である。
【図１５Ａ】比較例に係る測定方法においてステージの初期位置の変動の影響を説明するための図である。
【図１５Ｂ】比較例に係る測定方法においてステージの初期位置の変動の影響を説明するための図である。
【図１６】比較例に係る測定方法において、１回目のラインスキャンのプロファイルと１＋ｋ回目のラインスキャンを一図に示した図である。
【図１７】第２実施形態に係る入出力特性の取得方法の手順を示すフロー図である。
【図１８】第２実施形態に係る測定方法において取得されたプロファイルを示す図である。
【図１９】第２実施形態に係る測定方法における特定の光変調素子のラインスキャンごとの光量を示す図である。である。
【図２０】第３実施形態に係る測定方法におけるラインスキャンの一例を示す図である。
【図２１】本発明に係る測定方法を用いた光量のキャリブレーションを示す図である。
【図２２】本発明に係る測定方法を用いた故障チャンネルの特定方法を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。本実施形態に係る測定装置２００、及び測定装置２００を用いた測定方法は、光変調器１００の出力値を測定する。なお、以下に示す実施形態は、本願発明の一態様であり、本願発明の技術的範囲を限定するものではない。
【００１９】
＜光変調器１００＞
まず、本実施形態に係る測定装置２００の測定対象である光変調器１００について説明する。図１は、光変調器１００を簡易的に示した図である。また、図２は、光変調器１００の部分拡大図である。図１中の矢印は、それぞれ、互いに直交するＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向を示している。図２は、図１に示す光変調器１００をＹＺ平面と平行な面で切断した部分の斜視図である。図１に示すように、光変調器１００は、板形状を有する支持台２と、支持台２に配列して設けられた光変調素子１からなる光変調素子群１０と、を有する。光変調素子群１０は、Ｚ方向に延在する数千本の光変調素子１が一定のピッチでＸ方向に配列して設けられて構成されている。本実施形態では、一例として、光変調器１００に８１９２本の光変調素子１が設けられている。後述するように、各光変調素子１は、溝深さを変更可能な回折格子として機能するように構成されている。また、光変調素子１は、隣接する一組の反射板（以下、リボンと称す）である固定リボン１ｂと可動リボン１ａとで構成される。即ち、本実施形態に係る光変調器１００には、固定リボン１ｂと可動リボン１ａが８１９２本ずつ交互に配置されており、計１６３８４本のリボンが設けられている。
【００２０】
各リボンの−Ｙ方向に位置する表面には金属薄膜が形成されており、これにより、リボンが電極として機能するとともに、リボンの表面が反射面となっている。また、図２に示すように、各リボンは支持台２に設けられた共通電極３を跨ぐように配置されている。即ち、共通電極３は、リボンと対向するように、解放層を隔てて設けられている。ここで、固定リボン１ｂは、その反射面の位置が固定された構成となっている。一方、可動リボン１ａは、反射面の一部が、印加される電圧に応じてＹ方向に下降する構成となっている。より詳細には、可動リボン１ａに電圧が印加されることにより、静電気によって可動リボン１ａが共通電極３側に撓み、反射面がＹ方向に下降する。光変調素子１は、公知の半導体プロセスを利用して製造することができる。
【００２１】
図３Ａ、図３Ｂは、ＸＹ平面と平行な面における光変調器１００の断面図であって、図３Ａは、固定リボン１ｂの反射面と可動リボン１ａの反射面とが面一となっている状態を
示し、図３Ｂは、図中すべての可動リボン１ａが所定の幅だけＹ方向に下降した状態を示す。上述したように、光変調器１００は、可動リボン１ａに印加する電圧を調整することで、可動リボン１ａの変位量を調整することができる。これにより、図３Ｂに示すように、隣接する固定リボン１ｂとの高低差が生じると、光変調器１００は矩形状の回折格子を形成する。この状態では、可動リボン１ａの反射面が回折格子における溝の底面として機能することによって、反射型の回折格子と同様の効果を得ることができる。
【００２２】
このような光変調器１００にレーザ光が照射される場合、光変調器１００は、図３Ａに示す固定リボン１ｂの反射面と可動リボン１ａの反射面とが面一の状態においては、単一のミラーとして機能し、入射光Ｌ１の反射光として０次回折光Ｌ２（正反射光）Ｌ２を反射する。また、図３Ｂに示すように、可動リボン１ａの反射面が固定リボン１ｂの反射面に対して下降している状態においては、非０次回折光、具体的には、±１次回折光Ｌ３及び更に高次の回折光が反射される。光変調器１００は、可動リボン１ａに印加される電圧に応じて、図３Ａに示す０次回折光Ｌ２のみが出力される状態から、図３Ｂに示す０次回折光Ｌ２が消失して非０次回折光が出力される状態との間を遷移可能である。詳細には、可動リボン１ａの位置が図３Ａで示す状態から下降するに従って、出力される０次回折光Ｌ２の光量が少なくなり、可動リボン１ａが図３Ｂで示す所定の位置に変位することで０次回折光Ｌ２が完全に消失する。所定の位置とは、光変調器１００に照射されるレーザ光の波長によって異なり、具体的には、可動リボン１ａのＹ方向の変位量が波長の１／４となる位置とされる。また、光変調器１００は、光変調素子１ごとに可動リボン１ａに電圧を印加して制御することができる。即ち、光変調器１００は、光変調素子１ごとに可動リボン１ａへ印加する電圧を調整することにより、各光変調素子１から互いに独立して変調可能な多数の回折光を得ることができる。このような光変調器１００としては、米国のシリコンライトマシーンズ社製の、ＧＬＶとも呼称されるグレイティングライトバルブ（Ｇｒａｔｉｎｇ Ｌｉｇｈｔ Ｖａｌｖｅ：シリコンライトマシーンズ社の商標）を使用することができる。なお、以下の説明において、光変調器１００の最小制御単位（すなわち個別に電圧を制御可能な最小単位）を「チャンネル（単位：［ｃｈ］）」と称する。各光変調素子１のチャンネルは、−Ｘ方向の端からＸ方向の端まで順に、０［ｃｈ］、１［ｃｈ］、・・・、Ｎ［ｃｈ］（Ｎは自然数）となる。本実施形態で例示するように光変調素子群１０が８１９２本の光変調素子１で構成されている場合、Ｎは８１９１となり、Ｎ［ｃｈ］は８１９１［ｃｈ］となる。
【００２３】
このような光変調器１００は、空間変調した光を対象物に向けて照射する装置に用いることができる。本実施形態では、光変調器１００は、例えば、露光装置に用いられる。露光装置は、レーザ光を照射された光変調器１００から出力される正反射光によって、入力された画像データに基づいた像を形成し、フォトレジストが塗布された基板にパターンを描画する。露光装置は、描画装置又は直描装置とも呼ばれる。なお、光変調器１００が搭載される装置は露光装置に限定されず、用途に応じて適宜選択することができるのは勿論である。
【００２４】
ここで、上述した露光装置に光変調器１００が搭載される場合、結像に用いられる０次回折光Ｌ２の光量が光変調素子１ごとにバラつくことが問題となる。光変調素子１ごとに光量がバラつくと、露光面に対して光を均一に照射したい場合などに露光面で光量の分布が一様にならず、露光結果に悪影響を及ぼす虞があるためである。
【００２５】
図４は、特定の光変調素子１に一定の光量のレーザ光を照射したときの、当該光変調素子１の可動リボン１ａに印加される電圧の値（制御値）と、当該光変調素子１から出力される０次回折光Ｌ２の光量の値（出力値）との関係（入出力特性）の一例を示す図である。図中の曲線は、入出力特性を示し、ＩＶカーブと呼ばれる。図４に示すように、ＩＶカーブは、制御量の増大に従って極小値及び極大値を示す。光変調素子は、光量が最大の状
態と光量が最小の状態とで切り替えて使用されることもあり、前者の状態を「ＯＮ」、後者の状態を「ＯＦＦ」と呼ぶこともある。なお、光変調素子１の構造によっては、光量が最大となる電圧Ｖminの方が、光量が最小となるＶmaxよりも大きくなることもある。また、光変調素子１の構造が同じである場合であっても、各光変調素子１の入出力特性は似たような傾向を示すものの、原則として、入出力特性は光変調素子１ごとに微小に相違する。そのため、全チャンネルの光変調素子１に同一の制御値を入力した場合、各光変調素子１の光量のバラつきが許容される範囲内に収まらない可能性がある。
【００２６】
従って、光変調器１００の性能を向上させるためには、各光変調素子１の入出力特性を特定することで、各光変調素子１について、光量が最大／最小となる制御値を導出するとともに、それぞれの入出力特性に応じて各光変調素子１を制御することで、光量のバラつきを補正する必要がある。そのためには、各光変調素子１の正確な入出力特性を取得することが必須となる。入出力特性の取得は、キャリブレーションとも呼ばれる。
【００２７】
［装置構成］
次に、本実施形態に係る測定装置２００について説明する。図５は、本実施形態に係る測定装置２００の全体構成を示す図である。測定装置２００は、光変調器１００から出力される光の光量を測定するとともに、光変調素子１ごとの光量を特定可能にする。測定装置２００は、所定の位置に固定された測定系４と、測定対象となる光変調器１００を測定系４に対して相対的に移動させる移動系５と、測定系４と移動系５を制御することによって測定を実行する制御系６と、によって構成される。測定装置２００は、移動系５によって光変調器１００を測定系４に対してＸ方向（又は−Ｘ方向）にスライドさせ、測定系４によって光変調器１００をスキャン（走査）することで、各光変調素子１から出力される０次回折光Ｌ２の光量を連続的に測定する。
【００２８】
測定系４は、測定装置２００において、光変調器１００に対して−Ｙ方向に配置される。測定系４は、所定の強度の光（レーザ光）をスポット光として光変調器１００に照射する光照射部４１と、光変調器１００から出力された光を受光する受光部４２と、を有する。光照射部４１は、更に、レーザ光源４１１と、レーザ光源４１１から出力されるレーザ光をスポット光として変調器に導く光学系４１２と、を有する。また、受光部４２は、受光素子４２１と処理部４２２と、を有する。受光素子４２１は、例えば、フォトダイオードである。受光素子４２１は、受光した０次回折光Ｌ２の光量に応じた電流信号を出力する。処理部４２２は、受光素子４２１から出力される信号を演算処理して光量に換算する。
【００２９】
移動系５は、測定の際に、光変調器１００に対してＹ方向に配置される。移動系５は、光変調器１００を保持する保持部５１と、保持部５１が固定されるステージ５２と、ステージ５２を±Ｘ方向に移動可能とする移動機構５３と、を有する。移動機構５３は、更に、モータ、ボールねじ、ガイドレールなどによって構成され、モータに入力するパルス数やレーザ変位計などにより、初期位置（原点位置）からのステージ移動量を制御部６１に出力する。
【００３０】
また、制御系６は、制御部６１と、選択部６２と、信号入力部６３と、プロファイル生成部６４と、チャンネル特定部６５と、記憶部６７と、を備える。選択部６２は、光変調素子群１０の中から、後述するマーキング用素子となる光変調素子１を選択する。信号入力部６３は、駆動回路７を介して、可動リボン１ａを可動するための制御値を入力信号として光変調素子１に入力する。プロファイル生成部６４は、処理部４２２から取得した光量に基づいて後述するプロファイルを生成する。チャンネル特定部６５は、生成されたプロファイルに基づいてチャンネルと光量とを対応付ける。入出力特性取得部は、チャンネル毎の入出力特性を取得する。記憶部６７は、制御値が予め記憶されているとともに、取
得した光量やプロファイルを記憶可能である。制御部６１は、所定のプログラムに従って、制御系６、測定系４、移動系５を制御する。なお、選択部６２が本発明の「選択手段」に相当し、信号入力部６３が本発明の「信号入力手段」に相当し、プロファイル生成部が本発明の「プロファイル生成手段」に相当し、チャンネル特定部が本発明の「チャンネル特定手段」に相当する。
【００３１】
［プロファイルの生成方法］
次に、測定装置２００によるプロファイルの生成方法について説明する。プロファイルとは、光変調器１００が出力する光量のＸ方向における分布を示すデータである。図６はラインスキャンの様子を示す図である。
【００３２】
まず、光変調器１００を保持部５１に固定する。各光変調素子１は、信号入力部６３から制御値が入力されると、制御値に応じた変位量だけ可動リボン１ａを下降させる。次に、光照射部４１の光源が点灯されると、光源から出力されるレーザ光が測定系４を介してスポット光として光変調器１００上に照射される。このとき、ステージ５２は初期位置に配置された状態にあり、図６に示すように、光変調器１００上の光変調素子群１０よりも−Ｘ側の位置に光スポットＳが形成される。また、Ｚ方向において、光スポットＳの中心位置がリボンの中心位置とほぼ一致する。光スポットＳは、少なくとも互いに隣接する２つの光変調素子１と重なる大きさを有する。
【００３３】
変調器に光スポットＳが形成された状態で、移動機構５３がステージ５２を初期位置から−Ｘ方向にスライドさせることで、光変調器１００が−Ｘ方向にスライドする。即ち、光スポットＳが光変調器１００に対してＸ方向にスライドする。これにより、初期位置を開始位置としてラインスキャンが開始される。ラインスキャンの開始とともに、受光部４２は、受光した光に応じた電流信号を処理部４２２に出力する。光変調素子群１０は、−Ｘ方向側の端に位置する１［ｃｈ］の光変調素子１から順にレーザ光に照射される。このとき、光スポットＳの中心は、光変調素子１のＺ方向における中央付近をＸ方向にスライドする。光変調素子１にレーザ光が照射されている間には、可動リボン１ａの変位量に応じた光量の０次回折光Ｌ２が当該光変調素子１から出力される。受光部４２は、光変調素子１から出力された０次回折光Ｌ２を受光素子４２１で受光し、電流信号を処理部４２２に出力する。処理部４２２は、受光素子４２１からの電流信号を演算処理することによって、受光素子４２１が受光した光量を算出し、光量のデータをプロファイル生成部６４に出力する。光スポットＳが光変調素子群１０上をＸ方向にスライドする間、光量のデータが連続に取得される。測定系４がＮ［ｃｈ］までの光変調素子１の光量を測定し、ステージ５２が所定の位置までスライドすることで、光変調器１００のラインスキャンが完了する。上述したように、移動機構５３は、ステージ５２をスライドさせたときの初期位置からのステージ５２の移動量を連続的に出力している。プロファイル生成部６４は、移動機構５３により取得したステージ５２の移動量から、スキャン開始位置を原点ＯとするＸ方向のスキャン位置（測定位置）を取得し、測定系４の処理部４２２から取得した光量とを対応付ける。これにより、特定のスキャン位置において測定された０次回折光Ｌ２の光量を特定することできる。プロファイル生成部６４は、対応付けられたスキャン位置と光量とに基づいて、プロファイルを生成する。図７は、光変調素子１が所定の制御量で制御されている場合に取得されたプロファイルの一例を示す図である。
【００３４】
［入出力特性の取得方法］
入出力特性は、制御値に応じたプロファイルからチャンネルごとに光量を抽出することによって取得される。以下、本実施形態に係る測定方法を用いた入出力特性の取得方法について詳しく説明する。図８は、本実施形態に係る入出力特性の取得方法の手順を示すフロー図である。図７に示したプロファイルの状態では、スキャン位置と光量とが対応付けられているものの、スキャン位置に対応する光変調素子１のチャンネルが不明のままであ
る。そのため、この状態では、プロファイルにおける各光量が何れの光変調素子１のものなのかを特定することが困難である。従って、光変調素子１の入出力特性を得るためには、スキャン位置とチャンネルとを一致させる処理（チャンネル特定）が必要となる。本実施形態に係る入出力特性の取得方法では、光変調素子群１０の中から特定の光変調素子１をプロファイル上で目印とすることで、チャンネルを特定する。なお、以下の手順は、光変調器１００が移動系５の保持部５１に固定され、上述したラインスキャンが実行可能な状態で行われる。
【００３５】
まず、ラインスキャンを実行する前に、選択部６２は、光変調素子群１０の中からマーキング用素子とする光変調素子１を選択する（ステップＳ０１）。マーキング用素子は、チャンネル特定の際に目印となる光変調素子１である。マーキング用素子は、互いに隣接しない２以上の光変調素子１を選択することが好ましく、２つの光変調素子１を選択する場合は、光変調素子群１０において両端付近に位置する光変調素子１を選択することがより好ましい。本例では、マーキング用素子として、光変調素子群１０の両端付近に位置する２つの光変調素子１を選択する。マーキング用素子として選択された光変調素子１のチャンネルをそれぞれ、ｍ［ｃｈ］、ｎ［ｃｈ］（ｍ、ｎは自然数）とする。また、光変調素子群１０のうち、マーキング用素子以外を、出力値取得対象素子と称する。出力値取得対象素子は、ラインスキャンにおいて、入出力特性の取得に必要な出力値が取得される光変調素子１である。換言すると、出力値取得対象素子から取得された光量に基づいて入出力特性が取得される。
【００３６】
次に、信号入力部６３が、記憶部６７に記憶された制御値の集合である制御値群の中からプロファイルを取得していない制御値を第１の制御値として選択する（ステップＳ０２）。制御値群に含まれる制御値は、入出力特性を取得するために必要な制御値であって、本例では、互いに異なる８つの電圧Ｖ１〜Ｖ８である。また、第１の制御値は、出力値取得対象素子に入力される制御値のことを指す。第１の制御値は、制御値群の中から何れか１つが選択される。制御値は、記憶部６７に予め記憶されたプラグラムに基づいて選択されてもよいし、ランダムで選択されてもよい。
【００３７】
次に、信号入力部６３は、ステップＳ０２で選択された第１の制御値に応じた制御値を第２の制御値として選択する（ステップＳ０３）。第２の制御値は、マーキング用素子に入力する制御値のことを指す。第２の制御値は、第２の制御値を入力されたマーキング用素子の光量がプロファイル上で容易に判別可能な値となる制御値である。より詳細には、第２の制御値は、プロファイル上で、マーキング用素子の出力値が第１の制御値を入力された出力値取得対象素子の光量と区別可能となる制御値である。記憶部６７には、予め、図９に示す予想値テーブルが参照データとして記憶されている。予想値テーブルには、各チャンネルの光変調素子１について、制御値群に含まれる制御値を含む特定の制御値に対する光量の予想値が格納されている。予想値は、任意の方法による測定結果や経験的法則に基づいて定められる。また、予想値テーブルには、各光変調素子１について、予想される最大の光量とそれに対応する制御値、及び、予想される最小の光量が格納されている。上述したように、各光変調素子１の入出力特性は似たような傾向を示すことから、各チャンネルにおける特定の制御値に対する出力予想値は、凡そ近い値となっている。本例の光変調素子１は、例示として、図４に示す入出力特性と同様の入出力特性を有する。
【００３８】
信号入力部６３は、予想値テーブルを参照することによって、第２の制御値を選択する。具体的には、信号入力部６３は、出力値取得対象素子の予想出力値に応じて、マーキング用素子の光量が最大となることが予想される制御値、又はマーキング用素子の出力値が最小となることが予想される制御値を第２の制御値として選択する。例えば、第１の制御値として電圧Ｖ３が選択された場合、信号入力部６３が予想値テーブルを参照して電圧Ｖ３における各出力値取得対象素子の出力予想値を取得する。上述したように、各光変調素
子１の入出力特性は図４と似たような傾向を示すことから、各出力値取得対象素子の電圧Ｖ３における出力予想値は、予想値テーブルに格納された予想値の中でも比較的小さい値となる。このとき、信号入力部６３は、ｍ［ｃｈ］に入力する第２の制御値として、ｍ［ｃｈ］の出力予想値が最大となる電圧Ｖｍａｘ（ｍ）を選択し、ｎ［ｃｈ］に入力する第２の制御値として、ｎ［ｃｈ］の出力予想値が最大となる電圧Ｖｍａｘ（ｎ）を選択する。これにより、ｍ［ｃｈ］、ｎ［ｃｈ］の出力予想値であるＬｍａｘ（ｍ）、Ｌｍａｘ（ｎ）が、出力値取得対象素子の出力予想値に対して顕著に大きな値となる。そのため、後述するステップにおいて取得したプロファイル上で、マーキング用素子の光量を容易に判別可能となる。
【００３９】
反対に、第１の制御値として電圧Ｖ８が選択された場合、電圧Ｖ８における出力値取得対象素子の出力予想値は、予想値テーブルに格納された予想値の中でも比較的大きい値となる。そのため、信号入力部６３は、第２の制御値として、ｍ［ｃｈ］には、出力予想値が最小となる電圧Ｖｍｉｎ（ｍ）を選択し、ｎ［ｃｈ］には、出力予想値が最小となる電圧Ｖｍｉｎ（ｎ）を選択する。これにより、出力予想値であるＬｍｉｎ（ｍ）、Ｌｍｉｎ（ｎ）が、出力値取得対象素子の出力予想値に対して顕著に小さな値となるため、プロファイル上でマーキング用素子の光量を容易に判別可能となる。
【００４０】
次に、信号入力部６３がステップＳ０３で選択した制御値を入力対象となる光変調素子１に入力し、制御部６１によって移動系５及び測定系４が制御されることにより、ラインスキャンが実行され、プロファイル生成部６４によってプロファイルが生成される（ステップＳ０４）。図１０Ａは、ステップＳ０２において、第１の制御値として電圧Ｖ３が選択された場合に取得されたプロファイルを示す図、図１０Ｂは、第１の制御値として電圧Ｖ８が選択された場合に取得されたプロファイルを示す図である。ステップＳ０３の際に第１の制御値に応じた第２の制御値を選択しているため、ラインスキャンで測定されたマーキング用素子の光量と出力値取得対象素子の光量とが大きく異なっている。その結果、図１０Ａ，１０Ｂに示すように、生成したプロファイルにおいて、マーキング用素子の光量が際立っている。このマーキング用素子の光量を、マーク値と称する。生成されたプロファイルは、記憶部６７に記憶される。
【００４１】
次に、制御部６１は、制御値群の中から、プロファイルを取得していない制御値があるか否かを判定する（ステップＳ０５）。プロファイルを取得していない制御値がある場合は、ステップＳ０２に進む。必要な全ての制御値についてプロファイルを取得していない制御値がない場合、即ち、制御値群に含まれる全ての制御値についてプロファイルを取得されている場合は、ステップＳ０６に進む。ステップＳ０２に進んだ場合、未だプロファイルを取得してない制御値を第１の制御値として選択する。同様にステップＳ０３を経て、ステップＳ０４にてラインスキャンを実行する。ステップＳ０２〜Ｓ０４は、全ての制御値についてプロファイルを取得するまで繰り返される。ステージ５２は、ステップＳ０４でラインスキャンを実行する度に初期位置に戻り、スキャンの範囲内をＸ方向に往復する。
【００４２】
ステップＳ０６では、チャンネル特定部６５が、マーク値を利用することによって、取得された全てのプロファイルについてチャンネル特定を実行する（ステップＳ０６）。ステップＳ０４で取得された状態のプロファイルは、スキャン位置と光量との関係を表しているが、チャンネルと光量との関係は不明である。ステップＳ０６では、まず、チャンネル特定部６５が、プロファイルからマーク値のみを検出する。マーク位置の検出は、公知の任意の手法を用いることができる。例えば、チャンネル特定部６５は、予め記憶部６７に記憶されている、第１の制御値に応じた閾値を取得し、閾値以上、又は閾値未満の光量をマーク値として判別し、検出してもよい。ステップＳ０３において、マーク値が出力値取得対象素子の光量に対して顕著に大きく／小さくなるように第２の制御値を選択するこ
とにより、出力値取得対象素子の光量に対して閾値を大きく／小さく設定することができ、誤検出を抑制することができる。そして、チャンネル特定部６５は、マーク値が検出されたスキャン位置に基づいて、スキャン位置と全チャンネルとを対応づける。スキャン位置と全チャンネルとの対応付けには、線形補間と呼ばれる手法を用いることができる。ステップＳ０６により、取得した全てのプロファイルについてチャンネル特定がなされ、チャンネルと光量とが適性に対応付けられる。ここで、本実施形態に係る測定方法は、光変調素子群１０の両端付近に位置する光変調素子１の中からマーキング用素子を選択しているため、チャンネル特定を精度良く行うことができる。
【００４３】
次に、入出力特性取得部６６が、チャンネル特定された全プロファイルから出力値取得対象素子ごとの光量を抽出することで、各出力値取得対象素子の入出力特性を取得する（ステップＳ０７）。図１１は、説明のために、チャンネル特定された全プロファイルを一図に示したものである。なお、図中では、マーク値を省略して表示している。図１１に示すように、制御値群に含まれる全ての制御値である電圧Ｖ１〜Ｖ８におけるプロファイルがチャンネル特定されている。例えば、ｑ［ｃｈ］（ｑはｎ、ｍ以外の自然数）の場合は、図中のドットで示される光量を抽出することで、ｑ［ｃｈ］の入出力特性、及び、図４に示すようなＩＶカーブを取得することができる。
【００４４】
［作用・効果］
以上のように、本実施形態に係る入出力特性の取得方法では、光変調素子群１０の中から予めマーキング用素子を選択しておき、プロファイルを取得する際にプロファイル上でマークとなる光量をマーキング用素子に出力させる。より詳細には、出力値取得対象素子には出力値を取得するために必要な制御値である第１の制御値を入力し、マーキング用素子には第１の制御値に応じて設定される制御値である第２の制御値を入力する。そして、第２の制御値は、プロファイルにおいて、マーキング用素子の出力値が出力値取得対象素子の出力値とは区別可能な値となるような制御値である。これにより、チャンネル特定と出力値の取得とを、同一のプロファイルで実現することができる。即ち、生成するプロファイルごとにチャンネル特定を行うため、ラインスキャンの開始位置の変動によるチャンネルとスキャン位置の不一致を解消することができる。また、出力値取得対象素子の出力値の取得とチャンネル特定とを同時に実現することが可能となるため、測定における工数を低減することができる。これにより、出力値取得対象素子の光量の取得とチャンネル特定とを、一つのプロファイル上で実行することができる。
【００４５】
なお、各光変調素子１の入出力特性は似たような傾向を示すことから、第２の制御値はｍ［ｃｈ］とｎ［ｃｈ］とで同じ制御値を選択してもよい。
【００４６】
［比較例］
ここで、比較例として、従来の方法によって光変調素子１の入出力特性を取得する方法について説明する。図１２は、比較例において光変調素子１の入出力特性を取得する手順を示すフロー図である。比較例に係る入出力特性の取得方法では、チャンネル特定と光量の取得を別々のプロファイルで実行する点で、本実施形態に係る入出力特性の取得方法と大きく相違している。
【００４７】
比較例に係る方法では、まず、光変調素子群１０の中から、マーキング用素子を選択し、マーキング用素子には、光量が最大と予想される制御値を入力し、マーキング用素子以外の光変調素子１には、制御値を入力しないか、光量が最小と予想される制御値を入力して、ラインスキャンを実行する（ステップＳ１１）。それにより、図１３Ａに示すような、マーキング用素子の光量が際立ったマーキング用プロファイルを得る。次に、全チャンネルの光変調素子１に、制御値群に含まれる制御値を順次に入力し、制御値ごとにラインスキャンを実行する（ステップＳ１２）。それにより、図１３Ｂに示すようなプロファイ
ルを制御値ごとに取得する。次に、ステップＳ１１で取得したプロファイルに基づいて、チャンネル特定を実行する（ステップＳ１３）。そして、ステップＳ１３で得たチャンネル特定結果を用いて、ステップＳ１２で取得した、各制御値のプロファイルのチャンネルを特定する（ステップＳ１４）。ステップＳ１４では、ステップＳ１３で取得したスキャン位置とチャンネルとの関係を各制御値のプロファイルに設定する。そして、ステップＳ１２で取得した全てのプロファイルからチャンネルごとの光量を抽出することで、各チャンネルの入出力特性を取得する（ステップＳ１５）。
【００４８】
ここで、ステップＳ１２において制御値ごとにラインスキャンを実行する度に、ステージ５２が初期位置を起点としてスキャン範囲をＸ方向に往復移動している。このとき、図１４に示すように、ラインスキャンごとにステージ５２の初期位置が変動する虞がある。このような初期位置の再現性の不具合は、特に、安価なステージ５２を用いた場合に発生し易い。図１５Ａ，１５Ｂは、比較例に係るステージ５２の初期位置の変動によるチャンネル特定への影響を説明する図である。なお、図１５Ａは、ステップＳ１２における１回目のラインスキャンで取得したプロファイルを表示し、図１５Ｂは、１＋ｋ回目のラインスキャンで取得したプロファイルを表示している。また、図１６は、１回目のプロファイルと１＋ｋ回目のプロファイルとを一図に示した図である。なお、図１６においては、１＋ｋ回目のプロファイルを破線で表示している。
【００４９】
比較例において、１回目のラインスキャン時では、ステージ５２の初期位置がマーキング用プロファイルを取得したラインスキャン時から変動しておらず、１＋ｋ回目のラインスキャンでは、ステージ５２の初期位置が１回目のラインスキャン時のステージ５２の初期位置と比較して−Ｘ方向に１［ｃｈ］分ずれているとする。すると、図１５Ｂに示すように、１回目のラインスキャンのスキャン開始位置Ｏ１に対して、１＋ｋ回目のスキャン開始位置Ｏ２は、−Ｘ方向に１［ｃｈ］分ずれている。その結果、図１６に示すように、１＋ｋ回目のプロファイルでは、１回目のプロファイルに対して、各チャンネルに対応する光量が−１［ｃｈ］分、Ｘ方向にずれている。しかしながら、比較例に係る方法では、ステップＳ１２で取得したチャンネル特定の結果が全てのプロファイルに適用されるため、１回目のプロファイルと１＋ｋ回目のプロファイルとで同一のスキャン位置であれば、即ち、スキャン開始位置からの距離が同じ位置であれば、同一のチャンネルが対応付けられる。そのため、図１６に示すように、１＋ｋ回目のラインスキャンにおけるｒ［ｃｈ］の光量が、プロファイル上ではｒ−１［ｃｈ］の光量として誤って特定される。このように、比較例に係る方法では、ラインスキャンごとのスキャン開始位置の位置ずれが考慮されないため、各チャンネルの正しい光量を特定することができない虞がある。その結果、誤った入出力特性が取得され、キャリブレーションの不良となる問題があった。
【００５０】
これに対し、本実施形態に係る入出力特性の取得方法は、プロファイルごとにチャンネル特定を行うため、スキャン開始位置の位置ずれが生じた場合でも、各チャンネルの正確な光量を特定することができる。また、一度のラインスキャンで、チャンネル特定と、入出力特性を取得するのに必要な光量の取得とを行うことができる。その結果、従来よりも作業工数を低減することができる。
【００５１】
＜第２実施形態＞
図１７は、第２実施形態に係る入出力特性の取得方法を示すフロー図である。図１７に示すように、第２実施形態に係る方法は、ラインスキャンごとに異なるマーキング用素子を選択する点で、第１実施形態に係る方法と相違する。以下、第１実施形態との相違点を中心に説明する。
【００５２】
まず、ステップＳ２１において、選択部６２が、光変調素子群１０の中から未だマーキング用素子として使用されていない光変調素子１を、マーキング用素子として選択する。
本ステップでは、まず、マーキング用素子としてｍ［ｃｈ］、ｎ［ｃｈ］（ｍ、ｎは自然数）の光変調素子１が選択され、ｍ［ｃｈ］及びｎ［ｃｈ］以外の光変調素子１が、出力値取得対象素子となる。
【００５３】
第１実施形態と同様に、ステップＳ０２で、信号入力部６３が未だプロファイルを取得されていない制御値を第１の制御値として制御値群の中から選択する。次に、ステップＳ０３では、信号入力部６３が第２の制御値を選択する。次に、ステップＳ０４において、光変調素子１に制御値が入力された状態で、ラインスキャンが実行され、プロファイルが生成される。生成されたプロファイルは、記憶部６７に記憶される。
【００５４】
次に、ステップＳ２５において、制御部６１は、制御値群の中から、プロファイルを取得していない制御値があるか否かを判定する。プロファイルを取得していない制御値がある場合は、ステップＳ２１に進む。全ての制御値についてプロファイルを取得していない制御値がない場合は、ステップＳ０６に進む。ステップＳ２１に進んだ場合、未だマーキング用素子として使用されていない光変調素子１をマーキング用素子として選択する。同様にステップＳ０３を経て、ステップＳ０４にてラインスキャンを実行する。ステップＳ２１〜Ｓ０４は、全ての制御値についてプロファイルを取得するまで繰り返される。上述したように、ステップＳ０２でマーキング用素子として選択される光変調素子１は、ラインスキャンごとに異なっている。例えば、ｋ回目のラインスキャンでマーキング用素子として選択された光変調素子１がｍ［ｃｈ］、ｎ［ｃｈ］であった場合、ｋ＋１回目では、ｍ＋ａ［ｃｈ］及びｎ＋ａ［ｃｈ］の光変調素子１がマーキング用素子として選択され、ｋ＋２回目では、ｍ＋ｂ［ｃｈ］及びｎ＋ｂ［ｃｈ］の光変調素子１がマーキング用素子として選択される。ｋ回目でマーキング用素子として選択されたｍ［ｃｈ］、ｎ［ｃｈ］の光変調素子１は、ｋ回目以外のラインスキャンでは出力値取得対象素子となる。図１８は、上述のようにｋ回目、ｋ＋１回目、ｋ＋２回目のラインスキャンで取得されたプロファイルを示しており、それぞれのプロファイルにおいて、チャンネル特定に用いられるマーク値の位置が異なっている。次に、ステップＳ０６では、チャンネル特定部６５によって、取得された全てのプロファイルについてチャンネル特定が実行される。
【００５５】
［作用・効果］
第２実施形態に係る取得方法では、ラインスキャンごとに選択されるマーキング用素子が異なるため、特定の光変調素子１が常にマーキング用素子に選択されることがない。そのため、全ての光変調素子１について、マーキング用素子として選択された回のラインスキャンを除いて、光量を取得することができる。
【００５６】
図１９は、例示としてｎ［ｃｈ］のラインスキャンごとの光量を示す図である。ｎ［ｃｈ］の光変調素子１は、ｋ回目のラインスキャン時においてマーキング用素子として選択されている。これにより、ｎ［ｃｈ］の光変調素子１については、ｋ回目のラインスキャン時に出力値取得対象素子に入力された電圧Ｖｋを除く制御値について光量が取得されている。そのため、入出力特性取得部６６は、周知の手法によって電圧Ｖｋにおける光量を補間するのみで、ｎ［ｃｈ］の入出力特性を取得することができる。同様に、制御値群に含まれる制御値の数量がＰである場合、即ち、ラインスキャンの回数がＰ回である場合、マーキング用素子として使用される光変調素子１については、Ｐ−１回分の光量が得ることができる。
【００５７】
また、ラインスキャンごとにマーキング用素子として選択される光変調素子１の数量は、上述に限定されない。マーキング用素子は、少なくとも２以上であれば好ましく、光変調素子群１０の両端付近と中央付近とで計３つの光変調素子１が一度のラインスキャンにおいてマーキング用素子として選択されてもよい。マーキング用素子の数が多ければ多いほど、生成されたプロファイルにおいてチャンネル特定に用いることができるマーク値の
数量が増えるため、チャンネル特定の精度を向上させることができる。
【００５８】
＜第３実施形態＞
図２０は、第３実施形態に係る測定方法におけるラインスキャンの一例を示す図である。光変調素子群１０のうち、露光装置において描画に使用されない光変調素子１からなる不使用素子群１０ａが存在する場合、全てのラインスキャンにおいて当該不使用素子群１０ａからマーキング用素子を選択してもよい。例えば、光変調素子群１０の両端付近に分布する光変調素子１は、露光装置に搭載されたときに使用されない場合がある。図２０に示すように、不使用素子群１０ａが光変調素子群１０の両端付近に分布している場合には、マーキング用素子を不使用素子群１０ａから選択することによって、露光装置で使用する全ての光変調素子１が出力値取得対象素子となる。このようにして、全ての制御値についてプロファイルを取得することによって、露光装置で使用する全ての光変調素子１について、全ての制御値における光量を取得して、入出力特性を取得することができる。
【００５９】
なお、複数のラインスキャンにおいて同一の光変調素子１をマーキング用素子として使用してもよい。例えば、制御値郡に含まれる制御値の数が、チャンネル数よりも多い場合、即ち、ラインスキャンの回数が光変調素子群１０に含まれる光変調素子１の数量よりも多い場合には、特定の光変調素子１が２回以上マーキング用素子に選択されてもよい。また、不使用素子群１０ａが存在する場合は、第１実施形態と同様に、全てのラインスキャンにおいて、不使用素子群１０ａの中の同一の光変調素子１をマーキング用素子として選択してもよい。
【００６０】
［実施例］
本発明に係る測定方法は、入出力特性の取得以外にも好適に使用することができる。本発明に係る測定方法は、例えば、光量を目標の値に調整するキャリブレーションにも使用することができる。図２１は、第２実施形態に係る測定方法を用いた場合の光量キャリブレーション時におけるｎ［ｃｈ］の光変調素子のラインスキャンごとの光量を示す図である。光量キャリブレーションは、各光変調素子１の光量が目標の値となるように制御値を調整する作業である。光量キャリブレーションは、具体的には、制御値を変化させてラインスキャンを実行し、各光変調素子１の光量を評価する。各光変調素子１の光量が目標の値となったときに光量キャリブレーションを終了する。尚、ｎ［ｃｈ］の光変調素子１はｋ回目のラインスキャン時においてマーキング用素子として選択されている。第２実施形態に係る測定方法では、ラインスキャンごとに選択されるマーキング用素子が異なるため、特定の光変調素子１が常にマーキング用素子に選択されることがない。そのため、全ての光変調素子１について、光量キャリブレーションを実施することができる。
【００６１】
また、本発明に係る測定方法は、必ずしもラインスキャンを複数回行わなくてもよく、ラインスキャンを１回のみ実行する場合についても適用することができる。図２２は、本発明に係る測定方法を用いた故障チャンネルの特定方法を示す図である。例えば、何れかの光変調素子１が故障することによって、特定の制御値を入力された状態においてエラーが発生しており、且つ、故障した光変調素子１のチャンネルが分からない場合がある。そのような場合は、各光変調素子１に特定の制御値を入力してエラーが発生する状態を再現したプロファイルを取得し、各光変調素子１の光量を評価することによって故障した光変調素子１を特定する必要がある。従来は、チャンネルを特定するためのプロファイルとエラー状態を再現するためのプロファイルの２パターンのプロファイルを取得していた。即ち、少なくとも２回のラインスキャンが必要であった。しかしながら、本発明に係る測定方法を用いると、図２２に示すように、光変調素子群１０の中からマーキング用素子を選択し、マーキング用素子以外の素子にはエラー状態の再現パターンを形成する制御値を入力し、マーキング用素子にはマーク値を出力させるための制御値を入力することができる。これにより、マーキング用素子でない光変調素子１が故障していた場合は、１回目のラ
インスキャンで故障したチャンネルを特定することができる。また、１回目のラインスキャンで故障したチャンネルを発見しない場合は、マーキング用素子が故障していることになるため、１回目のラインスキャンとは別の光変調素子１をマーキング用素子として選択して２回目のラインスキャンを実行することで、故障したチャンネルを特定することができる。従って、本発明によれば、１回若しくは２回のラインスキャンで故障したチャンネルを特定することができる。
【００６２】
なお、上述した実施形態に係る測定装置２００において、測定系４は、レーザ光をスポット光でなくラインビームとして光変調器１００に照射してもよい。
【００６３】
更に、測定装置２００は、固定された移動系５に対して測定系４が±Ｘ方向に移動してもよい。また、制御値は、可動リボン１ａの変位量を制御するための信号であればよい。光変調器１００の種類に応じて、電圧ではなく電流を制御値として光変調器１００を制御してもよい。また、出力値である光量の値は、光変調素子１が出力する光の放射束（単位：［ｍＷ］）や光束（単位：［ｌｍ］）で表すことができる。また、出力値は、光量の値に代えて、光変調素子１に照射した入射光Ｌ１の光束に対する０次回折光Ｌ２の光束の割合である反射率（［％］）で表してもよい。
【００６４】
また、以上の説明では、０次回折光Ｌ２（正反射光）を測定したが、光変調器１００が搭載される露光装置が結像に用いる光に応じて、非０次回折光を測定してもよい。
【００６５】
また、上記の実施例における処理は、可能な限り、予め定められたプログラムに基づいてシステム的に自動処理されるようにしてもよいが、本発明は、上記の実施例に係る処理を人的資源によってマニュアルで実行する、方法としての発明をも含む趣旨である。
【００６６】
また、測定装置２００は、露光装置に搭載されていてもよい。測定装置２００を搭載した露光装置は、測定装置２００を動作させることによって、自らキャリブレーションや故障チャンネルの特定を行ってもよい。
【００６７】
＜その他＞
上述の実施例及び変形例に記載した内容は、可能な限り組み合わせて実施することができる。
【符号の説明】
【００６８】
１００・・・光変調器
１・・・光変調素子
１ａ・・・可動リボン
１ｂ・・・固定リボン
１０・・・光変調素子群
２００・・・測定装置
４・・・測定系
５・・・移動系
６・・・制御系
６１・・・制御部
６２・・・選択部
６３・・・信号入力部
６４・・・プロファイル生成部
６５・・・チャンネル特定部
６６・・・入出力特性取得部
６７・・・記憶部
【図１】
2018163010.tif 000003
【図２】
2018163010.tif 000004
【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
2018163010.tif 000006
【図４】
2018163010.tif 000007
【図５】
2018163010.tif 000008
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３Ａ】
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【図１３Ｂ】
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【図１４】
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【図１５Ａ】
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【図１５Ｂ】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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