(57)【要約】【課題】  光学フィルムと貼付面との間における気泡の発生を抑制可能な表示装置を提供する。【解決手段】  一実施形態に係る表示装置は、表示領域と前記表示領域の周囲の周辺領域とを有する基材と、前記基材の上方にある有機樹脂層と、前記表示領域において前記有機樹脂層の上方にある発光層と、前記発光層を覆う封止層と、前記表示領域及び前記周辺領域に亘って前記封止層の上方に貼り付けられた光学フィルムと、を備える。前記有機樹脂層は、前記周辺領域において延在する第１突出部と、平面視において前記第１突出部と前記表示領域の間に位置する第２突出部とを有する。前記第２突出部は、断面視において前記基材と前記封止層の間に位置する。前記光学フィルムは、平面視において前記第１突出部及び前記第２突出部と重畳している。【選択図】    図４
2018163737.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域と、前記表示領域の周囲の周辺領域とを有する基材と、
前記基材の上方にある有機樹脂層と、
前記表示領域において前記有機樹脂層の上方にある発光層と、
前記発光層を覆う封止層と、
前記表示領域及び前記周辺領域に亘って前記封止層の上方に貼り付けられた光学フィルムと、を備え、
前記有機樹脂層は、前記周辺領域において延在する第１突出部と、平面視において前記第１突出部と前記表示領域の間に位置する第２突出部とを有し、
前記第２突出部は、断面視において前記基材と前記封止層の間に位置し、
前記光学フィルムは、平面視において前記第１突出部及び前記第２突出部と重畳している、
表示装置。
【請求項２】
前記封止層の端部は、平面視において前記第１突出部と前記第２突出部の間にある、
請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記第２突出部は、前記第１突出部と平行に延在する、
請求項１又は２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記第１突出部と前記第２突出部の間の距離は、５０μｍ以下である、
請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項５】
前記第１突出部の頂部と前記基材との第１距離は、前記第２突出部の頂部と前記基材との第２距離よりも小さい、
請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項６】
前記有機樹脂層は、前記第１突出部に沿って間隔を空けて配列された複数の前記第２突出部を有し、
前記複数の第２突出部は、前記第１突出部と繋がっている、
請求項１に記載の表示装置。
【請求項７】
前記有機樹脂層は、前記第１突出部に沿って間隔を空けて配列された複数の第３突出部を有し、
前記複数の第３突出部は、平面視において前記複数の第２突出部と前記表示領域の間に位置するとともに、断面視において前記基材と前記封止層の間に位置し、
前記第１突出部の延在方向において、前記複数の第２突出部の各々の中心と、前記複数の第３突出部の各々の中心とが互いにずれている、
請求項６に記載の表示装置。
【請求項８】
隣り合う前記第２突出部の間隔は、５０μｍ以下である、
請求項６又は７に記載の表示装置。
【請求項９】
表示領域と、前記表示領域の周囲の周辺領域とを有する基材と、
前記表示領域及び前記周辺領域に亘って前記基材を覆う絶縁層と、
前記絶縁層の上方にある有機樹脂層と、
前記表示領域において前記有機樹脂層の上方に形成された発光層と、
前記発光層を覆う封止層と、
前記表示領域及び前記周辺領域に亘って前記封止層の上方に貼り付けられた光学フィルムと、を備え、
前記絶縁層は、前記周辺領域において延在する第１溝部を有し、
前記封止層の一部が前記第１溝部の内部に入っており、
前記光学フィルムは、平面視において前記第１溝部と重畳している、
表示装置。
【請求項１０】
前記絶縁層は、前記周辺領域において前記第１溝部に沿って延在する第２溝部をさらに有し、
前記第２溝部は、平面視において前記第１溝部と前記表示領域の間に位置する、
請求項９に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置などの表示装置においては、画素が形成された基板の表示面側に、例えば偏光子などの各種光学機能を有した光学フィルムが貼付される。
【０００３】
光学フィルムを貼付するに際して、当該フィルムと貼付面との間に気泡が混入する場合がある。このような気泡は、光学フィルムの剥離の原因となり得るし、表示品位の低下も招き得る。特に、表示装置の縁部近傍においては、表示装置に含まれる各種樹脂膜の端部による段差が存在するため、光学フィルムを貼り付ける際に気泡が生じやすい。
【０００４】
光学フィルムが貼付された表示装置に加圧脱泡（オートクレーブ）などのプロセスを施すと、小さいサイズの気泡は除去できる。しかしながら、ある程度大きいサイズの気泡は当該プロセスを経ても残る可能性がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−１３９２６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本開示の一態様における目的は、光学フィルムと貼付面との間における気泡の発生を抑制可能な表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
一実施形態に係る表示装置は、表示領域と前記表示領域の周囲の周辺領域とを有する基材と、前記基材の上方にある有機樹脂層と、前記表示領域において前記有機樹脂層の上方にある発光層と、前記発光層を覆う封止層と、前記表示領域及び前記周辺領域に亘って前記封止層の上方に貼り付けられた光学フィルムと、を備える。前記有機樹脂層は、前記周辺領域において延在する第１突出部と、平面視において前記第１突出部と前記表示領域の間に位置する第２突出部とを有する。前記第２突出部は、断面視において前記基材と前記封止層の間に位置する。前記光学フィルムは、平面視において前記第１突出部及び前記第２突出部と重畳している。
【０００８】
他の実施形態に係る表示装置は、表示領域と前記表示領域の周囲の周辺領域とを有する基材と、前記表示領域及び前記周辺領域に亘って前記基材を覆う絶縁層と、前記絶縁層の上方にある有機樹脂層と、前記表示領域において前記有機樹脂層の上方に形成された発光層と、前記発光層を覆う封止層と、前記表示領域及び前記周辺領域に亘って前記封止層の上方に貼り付けられた光学フィルムと、を備える。前記絶縁層は、前記周辺領域において延在する第１溝部を有する。前記封止層の一部が前記第１溝部の内部に入っている。前記光学フィルムは、平面視において前記第１溝部と重畳している。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、第１実施形態に係る表示装置の概略的な構成を示す平面図である。
【図２】図２は、副画素の回路構成の一例を示す図である。
【図３】図３は、図１におけるIII−III線に沿う表示装置の概略的な断面図である。
【図４】図４は、図１におけるIV−IV線に沿う表示装置の概略的な断面図である。
【図５】図５は、図４に示す表示装置の概略的な平面図である。
【図６】図６は、第２実施形態に係る表示装置を説明するための平面図である。
【図７】図７は、第３実施形態に係る表示装置を説明するための断面図である。
【図８】図８は、第３実施形態に係る表示装置の概略的な平面図である。
【図９】図９は、第４実施形態に係る表示装置を説明するための断面図である。
【図１０】図１０は、第５実施形態に係る表示装置を説明するための断面図である。
【図１１】図１１は、第６実施形態に係る表示装置を説明するための断面図である。
【図１２】図１２は、第７実施形態に係る表示装置を説明するための断面図である。
【図１３】図１３は、第８実施形態に係る表示装置を説明するための断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
いくつかの実施形態につき、図面を参照しながら説明する。  
なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有される。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。各図において、連続して配置される同一又は類似の要素については符号を省略することがある。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を省略することがある。
【００１１】
各実施形態においては、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示素子を有した表示装置を例示する。ただし、各実施形態は、他種の表示装置に対する、各実施形態にて開示される個々の技術的思想の適用を妨げるものではない。
【００１２】
［第１実施形態］  
図１は、第１実施形態に係る表示装置１の概略的な構成を示す平面図である。表示装置１は、例えば、スマートフォン、タブレット端末、携帯電話端末、パーソナルコンピュータ、テレビ受像装置、車載装置、ゲーム機器、ウェアラブル端末等の種々の装置に用いることができる。
【００１３】
表示装置１は、表示パネル２と、光学フィルム３と、フレキシブル回路基板４とを備えている。表示パネル２は、画像を表示する表示領域ＤＡと、表示領域を囲う周辺領域ＳＡとを備えている。表示領域ＤＡは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙに配列された多数の画素ＰＸを有している。第１方向Ｘ及び第２方向Ｙは、互いに直交する方向である。さらに、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙと直交する方向を、第３方向Ｚと定義する。第３方向Ｚは、表示パネル２の厚さ方向に相当する。本開示では、第３方向Ｚと平行に表示装置１を見ることを平面視と呼ぶ。また、第３方向Ｚと平行な表示装置１の断面を見ることを断面視と呼ぶ。
【００１４】
画素ＰＸは、異なる色に対応する複数の副画素ＳＰを備えている。図１の例では、画素ＰＸは、赤色に対応する副画素ＳＰＲと、緑色に対応する副画素ＳＰＧと、青色に対応する副画素ＳＰＢとを備えている。副画素ＳＰＲ，ＳＰＧ，ＳＰＢは、例えば第１方向Ｘに並んでいる。画素ＰＸの態様はこの例に限られず、白色などの他の色の副画素を備えてもよい。
【００１５】
表示パネル２は、第１辺Ｓ１と、第２辺Ｓ２と、第３辺Ｓ３と、第４辺Ｓ４とを有した矩形状である。第１辺Ｓ１及び第２辺Ｓ２は、第１方向Ｘに並び、第２方向Ｙと平行である。第３辺Ｓ３及び第４辺Ｓ４は、第２方向Ｙに並び、第１方向Ｘと平行である。なお、表示パネル２は、正円形、楕円形、或いは四角形以外の多角形状など、矩形以外の形状であってもよい。図１の例では、表示領域ＤＡも矩形状であるが、表示パネル２と同じく他の形状であってもよい。
【００１６】
表示パネル２は、端子部Ｔが設けられた端子領域ＴＡを有している。図１の例においては、端子領域ＴＡが周辺領域ＳＡと第４辺Ｓ４との間に設けられている。フレキシブル回路基板４は、例えば異方性導電材などを介して端子部Ｔに接続されている。
【００１７】
光学フィルム３は、表示パネル２の表示面側に貼付されている。平面視において、光学フィルム３は、表示領域ＤＡの全てと重畳し、周辺領域ＳＡの少なくとも一部と重畳する。例えば、光学フィルム３の周縁部は、周辺領域ＳＡの周縁部の近傍に位置している。この場合においては、光学フィルム３が周辺領域ＳＡの大部分と重畳する。光学フィルム３は、周辺領域ＳＡの全てと重畳してもよい。
【００１８】
表示パネル２は、周辺領域ＳＡにおいて、第１突出部Ｐ１と第２突出部Ｐ２とを有している。光学フィルム３は、平面視において各突出部Ｐ１，Ｐ２と重畳している。各突出部Ｐ１，Ｐ２については、図４及び図５を用いて後に詳細に説明する。
【００１９】
図２は、副画素ＳＰの回路構成の一例を示す図である。副画素ＳＰは、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤと、第１スイッチング素子ＳＷ１と、第２スイッチング素子ＳＷ２とを備えている。有機ＥＬ素子ＯＬＥＤのアノード電極は、第１スイッチング素子ＳＷ１を介して電源線ＰＬに接続されている。有機ＥＬ素子ＯＬＥＤのカソード電極は、接地されている。第１スイッチング素子ＳＷ１のゲート電極とソース電極（或いはドレイン電極）との間には、保持容量Ｃが形成されている。第１スイッチング素子ＳＷ１のゲート電極は、第２スイッチング素子ＳＷ２を介して映像線ＤＬに接続されている。第２スイッチング素子ＳＷ２のゲート電極は、走査線ＧＬに接続されている。例えば、各スイッチング素子ＳＷ１，ＳＷ２は、ポリシリコン薄膜トランジスタで構成することができる。
【００２０】
図３は、図１におけるIII−III線に沿う表示装置１の概略的な断面図である。ここでは、副画素ＳＰＲ，ＳＰＧ，ＳＰＢの断面を示している。これら副画素ＳＰＲ，ＳＰＧ，ＳＰＢの構成は同様のため、主に副画素ＳＰＧの構成要素に符号を付し、副画素ＳＰＲ，ＳＰＢの構成要素は符号を省略している。
【００２１】
表示装置１は、基材５と、絶縁層６と、有機樹脂層７と、リブ８と、封止層ＳＬと、第１〜第３パッシベーション層ＰＶ１〜ＰＶ３と、上述の光学フィルム３とを備えている。さらに、表示装置１は、各副画素ＳＰに配置される要素として、上述の第１スイッチング素子ＳＷ１と、上述の有機ＥＬ素子ＯＬＥＤと、反射層ＲＦとを備えている。なお、上述の第２スイッチング素子ＳＷ２の図示は省略している。隣り合う副画素ＳＰの有機ＥＬ素子ＯＬＥＤは、リブ８により区画されている。
【００２２】
基材５は、例えばポリイミドなどの樹脂材料で形成され、可撓性を有している。但し、基材５は、ガラスなどの他の材料で形成されてもよい。絶縁層６は、第１絶縁層６１（アンダーコート層）と、第２絶縁層６２（ゲート絶縁膜）と、第３絶縁層６３（層間絶縁膜）とを含む。第１絶縁層６１は、基材５の主面を覆っている。第１絶縁層６１の上に第１スイッチング素子ＳＷ１の半導体層ＳＣが形成されている。第２絶縁層６２は、第１絶縁層６１及び半導体層ＳＣを覆っている。第１スイッチング素子ＳＷ１のゲート電極ＧＥは、第２絶縁層６２の上に形成されている。第３絶縁層６３は、第２絶縁層６２及びゲート電極ＧＥを覆っている。第１スイッチング素子ＳＷ１のソース電極ＳＥ及びドレイン電極ＤＥは、第３絶縁層６３の上に形成され、各絶縁層６２，６３に形成されたコンタクトホールを通じて半導体層ＳＣに接触している。
【００２３】
有機樹脂層７は、第３絶縁層６３、ソース電極ＳＥ、及びドレイン電極ＤＥを覆っている。有機樹脂層７は、第１スイッチング素子ＳＷ１や第２スイッチング素子ＳＷ２により生じる凹凸を平坦化する。第１パッシベーション層ＰＶ１は、有機樹脂層７の上に形成されている。反射層ＲＦは、第１パッシベーション層ＰＶ１の上に形成されている。例えば、反射層ＲＦは、アルミニウムや銀などの光反射率が高い材料で形成することができる。
【００２４】
有機ＥＬ素子ＯＬＥＤのアノード電極ＡＥは、反射層ＲＦの上に形成されている。アノード電極ＡＥは、第１パッシベーション層ＰＶ１や有機樹脂層７を貫通するコンタクトホールを通じてドレイン電極ＤＥに接触している。リブ８は、第１パッシベーション層ＰＶ１及びアノード電極ＡＥの上に形成されている。有機発光層ＯＲＧは、隣り合うリブ８の間において、アノード電極ＡＥの上に形成されている。カソード電極ＣＥは、リブ８及び有機発光層ＯＲＧを覆っている。カソード電極ＣＥは、複数の副画素ＳＰに亘って連続的に形成されている。第２パッシベーション層ＰＶ２は、カソード電極ＣＥを覆っている。
【００２５】
封止層ＳＬは、第２パッシベーション層ＰＶ２の上に形成されている。封止層ＳＬは、第２パッシベーション層ＰＶ２及びカソード電極ＣＥとともに有機発光層ＯＲＧを覆っている。第３パッシベーション層ＰＶ３は、封止層ＳＬの上に形成されている。
【００２６】
封止層ＳＬは、例えば絶縁性の有機樹脂材料で形成することができる。各パッシベーション層ＰＶ１〜ＰＶ３は、例えばＳｉＮなどの絶縁性の無機樹脂材料で形成することができる。アノード電極ＡＥ及びカソード電極ＣＥは、例えばＩＴＯ（インジウム・ティン・オキサイド）などの透明導電材料で形成することができる。
【００２７】
第１スイッチング素子ＳＷ１を介してアノード電極ＡＥに映像信号が供給されると、アノード電極ＡＥとカソード電極ＣＥとの間に所定の電位差が生じる。この電位差により、有機発光層ＯＲＧが発光する。例えば、副画素ＳＰＲの有機発光層ＯＲＧが放つ色は赤色であり、副画素ＳＰＧの有機発光層ＯＲＧが放つ色は緑色であり、副画素ＳＰＢの有機発光層ＯＲＧが放つ色は青色である。各副画素ＳＰＲ，ＳＰＧ，ＳＰＢの有機発光層ＯＲＧが放つ光をいずれも同一色（例えば白色）とし、封止層ＳＬの上方にカラーフィルタを配置してもよい。
【００２８】
光学フィルム３は、光学機能層３１を有するフィルムや光透過性を有するフィルムであれば、特に限定されない。また、光学フィルム３は、透明な接着層３２を含む。例えば、光学フィルム３の厚さは、封止層ＳＬの厚さの２倍以上である。一例として、光学フィルム３の厚さは１００μｍであり、封止層ＳＬの厚さは１０μｍである。光学機能層３１は、例えば光の特定の偏光成分を通過させ他の偏光成分を吸収する偏光層、光に位相差を与える位相差層、光を拡散させる拡散層など、特定の光学機能を有した１つ又は複数の層を含む。上述の光透過性を有するフィルムとは、例えば、製造過程で表示領域ＤＡにある封止層ＳＬを保護する保護フィルムである。すなわち、このフィルムは、封止層ＳＬが形成された後、偏光板が貼り付けられる前において、封止層ＳＬ或いは第３パッシベーション層ＰＶ３の傷つきや、この傷から封止層ＳＬに水分が浸入すること等を防止する。接着層３２は、光学フィルム３を表示パネル２に接着（或いは粘着）する。図３の例では、接着層３２により光学フィルム３が第３パッシベーション層ＰＶ３に接着されている。但し、第３パッシベーション層ＰＶ３を設けずに光学フィルム３を封止層ＳＬに接着してもよいし、封止層ＳＬの上に第３パッシベーション層ＰＶ３以外の層を形成し、この層に光学フィルム３を接着してもよい。
【００２９】
図４は、図１におけるIV−IV線に沿う表示装置１の概略的な断面図である。図３の断面図と同じく、基材５の上に絶縁層６が形成され、絶縁層６の上に有機樹脂層７が形成されている。なお、図４においては、絶縁層６に含まれる第１絶縁層６１、第２絶縁層６２、第３絶縁層６３の境界の図示を省略している。また、表示領域ＤＡにおいて、反射層ＲＦ、アノード電極ＡＥ、カソード電極ＣＥ、リブ８などの図示を省略している。
【００３０】
有機樹脂層７は、周辺領域ＳＡにおいて、第１突出部Ｐ１と、第２突出部Ｐ２とを有している。図１に示したように、第１突出部Ｐ１は、表示領域ＤＡと表示装置１の各辺Ｓ１〜Ｓ４との間に延在している。第２突出部Ｐ２は、第１突出部Ｐ１と表示領域ＤＡとの間に延在している。例えば、各突出部Ｐ１，Ｐ２は、いずれも表示領域ＤＡを囲う矩形状である。但し、各突出部Ｐ１，Ｐ２の一部が途切れていてもよいし、表示装置１の角部において各突出部Ｐ１，Ｐ２が円弧状に曲がっていてもよい。
【００３１】
表示領域ＤＡと第１辺Ｓ１との間において、各突出部Ｐ１，Ｐ２は、第２方向Ｙと平行に延びている。表示領域ＤＡと第２辺Ｓ２との間においても、各突出部Ｐ１，Ｐ２は、第２方向Ｙと平行に延びている。表示領域ＤＡと第３辺Ｓ３との間において、各突出部Ｐ１，Ｐ２は、第１方向Ｘと平行に延びている。表示領域ＤＡと第４辺Ｓ４との間においても、各突出部Ｐ１，Ｐ２は、第１方向Ｘと平行に延びている。このように、各突出部Ｐ１，Ｐ２は、表示領域ＤＡと各辺Ｓ１〜Ｓ４との間において、互いに平行に延びている。但し、各突出部Ｐ１，Ｐ２が平行でない箇所が存在してもよい。
【００３２】
各突出部Ｐ１，Ｐ２は、各パッシベーション層ＰＶ１，ＰＶ２で覆われている。各突出部Ｐ１，Ｐ２は、各パッシベーション層ＰＶ１，ＰＶ２のいずれか一方のみに覆われていてもよい。第２パッシベーション層ＰＶ２の上に形成された封止層ＳＬは、第２突出部Ｐ２を乗り越えて、各突出部Ｐ１，Ｐ２の間の空間の少なくとも一部を満たしている。すなわち、第２突出部Ｐ２は、基材５と封止層ＳＬとの間に位置する。
【００３３】
図５は、図４に示す表示装置１の概略的な平面図である。図５においては、基材５、各突出部Ｐ１，Ｐ２を含む有機樹脂層７、封止層ＳＬ、及び光学フィルム３を示し、他の要素を省略している。図４及び図５に示す例では、封止層ＳＬが第１突出部Ｐ１を乗り越えていない。すなわち、封止層ＳＬの端部Ｅは、各突出部Ｐ１，Ｐ２の間に位置している。封止層ＳＬの上面は、端部Ｅまで第３パッシベーション層ＰＶ３で覆われている。以上述べた構成は、表示領域ＤＡと各辺Ｓ１，Ｓ３，Ｓ４との間においても同様である。
【００３４】
表示装置１の製造時、第２パッシベーション層ＰＶ２の上に形成された硬化前の封止層ＳＬは、各辺Ｓ１〜Ｓ４に向かって広がる。この封止層ＳＬの広がりは、先ず第２突出部Ｐ２によって抑制される。さらに、第２突出部Ｐ２を乗り越えた封止層ＳＬは、第１突出部Ｐ１で堰き止められる。このように、各突出部Ｐ１，Ｐ２により、封止層ＳＬの形状を制御することができる。
【００３５】
なお、封止層ＳＬは、第１突出部Ｐ１を乗り越えてもよい。この場合には、封止層ＳＬの端部Ｅが第１突出部Ｐ１と各辺Ｓ１〜Ｓ４との間に位置する。また、封止層ＳＬの端部Ｅは、第１突出部Ｐ１の頂部上に位置してもよい。さらに、封止層ＳＬの端部Ｅは、第２突出部Ｐ２の頂部上に位置してもよい。このように、封止層ＳＬの端部Ｅと各突出部Ｐ１，Ｐ２との位置関係は種々のケースが想定される。但し、封止層ＳＬの平面形状を好適に制御する観点からは、図４及び図５に示すように封止層ＳＬの端部Ｅが各突出部Ｐ１，Ｐ２の間に位置することが好ましい。
【００３６】
図４に示すように、周辺領域ＳＡにおいて、封止層ＳＬは端部Ｅに向かって厚さが減少している。これにより、封止層ＳＬの上面は、所定の角度θ（例えば２°〜５°）で傾斜している。封止層ＳＬの上方に貼り付けられた光学フィルム３も、同程度の角度で傾斜している。
【００３７】
以上の構成の表示装置１においては、光学フィルム３を表示パネル２に貼り付けた際に、光学フィルム３の下方に気泡が生じ得る。このような気泡は、各突出部Ｐ１，Ｐ２や封止層ＳＬの端部Ｅによる凹凸が存在する領域で生じ易い。図４及び図５においては、符号Ｂを付して、第１突出部Ｐ１の近傍で生じる気泡の一例を示している。なお、「気泡」との用語は、隙間、空間、或いは空気層などの他の用語で適宜に置き換えることができる。また、気泡の平面形状は図５に示すような楕円形に限られず、正円形や蛇行した輪郭を有する形状など、どのような形状であってもよい。
【００３８】
光学フィルム３の下方の気泡は、例えば加圧脱泡（オートクレーブ）などの脱泡プロセスを経ることで、概ね除去することができる。しかしながら、サイズの大きい気泡は、脱泡プロセスを経ても残る可能性がある。
【００３９】
一方で、本実施形態の構成であれば、封止層ＳＬの端部Ｅの近傍にて生じ得る気泡のサイズを小さくすることができる。すなわち図４に示すように、第２突出部Ｐ２の上方では、封止層ＳＬ及び第３パッシベーション層ＰＶ３の傾斜が緩和するので、光学フィルム３と第３パッシベーション層ＰＶ３とが密着する。したがって、気泡Ｂのサイズは、少なくとも各突出部Ｐ１，Ｐ２の間隔より小さくなる。なお、仮に第２突出部Ｐ２を無くして第１突出部Ｐ１のみを設けた場合、第１突出部Ｐ１の近傍に生じる気泡のサイズを制御することは困難である。
【００４０】
ここで、図５に示すように、第１突出部Ｐ１の幅をＷ１、第２突出部Ｐ２の幅をＷ２と定義する。幅Ｗ１は、例えば第１突出部Ｐ１のいずれの位置においても一定である。また、幅Ｗ２は、例えば第２突出部Ｐ２のいずれの位置においても一定である。但し、各幅Ｗ１，Ｗ２は一定でなくてもよい。また、幅Ｗ１と幅Ｗ２は、例えば同じであるが（Ｗ１＝Ｗ２）、異なってもよい。一例として、幅Ｗ２を幅Ｗ１より大きくしてもよい（Ｗ２＞Ｗ１）。
【００４１】
また、図４に示すように、基材５から第１突出部Ｐ１の頂部までの第３方向Ｚにおける距離をＤ１（第１距離）、基材５から第２突出部Ｐ２の頂部までの第３方向Ｚにおける距離をＤ２（第２距離）と定義する。さらに、有機樹脂層７の各突出部Ｐ１，Ｐ２を除く部分において、基材５から有機樹脂層７の上面までの第３方向Ｚにおける距離をＤと定義する。
【００４２】
距離Ｄ１は、距離Ｄ２よりも小さいことが好ましい（Ｄ１＜Ｄ２）。この場合、各突出部Ｐ１，Ｐ２の上方において光学フィルム３が緩やかに傾斜するので、表示パネル２と光学フィルム３との密着性が向上し、気泡の発生も抑制し易くなる。一例として、距離Ｄ２は、距離Ｄと同じである（Ｄ２＝Ｄ）。第１突出部Ｐ１は、例えば有機樹脂層７の形成時にハーフトーンマスクを用いることで、第２突出部Ｐ２や有機樹脂層７の他の部分よりも低く形成することができる。
【００４３】
さらに、図５に示すように、第１突出部Ｐ１と第２突出部Ｐ２との間の距離をｄと定義する。ここで、距離ｄは、例えば各突出部Ｐ１，Ｐ２の幅方向（図５では第１方向Ｘ）における中心の間の距離に相当する。各突出部Ｐ１，Ｐ２が高さのピークを有する山状であれば、距離ｄは、これらピークの間の距離として定義することもできる。
【００４４】
距離ｄは、５０μｍ以下であることが好ましい（ｄ≦５０μｍ）。さらに、距離ｄは、３０μｍ以下であるとより好ましい（ｄ≦３０μｍ）。距離ｄが５０μｍ以下であれば、各突出部Ｐ１，Ｐ２の配列方向（図５では第１方向Ｘ）における気泡Ｂのサイズを５０μｍ以下に制御できる。さらに、距離ｄが３０μｍ以下であれば、各突出部Ｐ１，Ｐ２の配列方向における気泡Ｂのサイズを３０μｍ以下に制御できる。５０μｍ以下のサイズの気泡Ｂであれば、一般的な脱泡プロセスにより概ね消滅させることができる。気泡Ｂを完全に消滅させることができない場合でも、気泡Ｂのサイズを十分に小さくできる。さらに、３０μｍ以下のサイズの気泡であれば、脱泡プロセスにより一層好適に消滅させることができる。
【００４５】
本実施形態のように気泡の発生を抑制することができれば、光学フィルム３の剥離を防止できる。また、気泡が表示素子や周辺回路に悪影響を及ぼすことを防止できる。したがって、本実施形態によれば、信頼性の高い表示装置１を得ることが可能となる。
【００４６】
なお、本実施形態では、有機樹脂層７が２つの突出部Ｐ１，Ｐ２を含む例を示した。しかしながら、有機樹脂層７は、３つ以上の突出部を含んでもよい。  
また、図４は上述の脱泡プロセスを行う前段階の断面図に相当する。当該プロセスを経た後の表示装置１においては、気泡Ｂが完全に消滅しているか、或いは極めて小さいサイズで残留する。
【００４７】
［第２実施形態］  
第２実施形態について説明する。ここでは主に第１実施形態との相違点に着目し、第１実施形態と同一の要素には同一の符号を付して説明を省略する。  
図６は、第２実施形態に係る表示装置１を説明するための図であって、図５と同じく表示装置１の第２辺Ｓ２の近傍の概略的な平面図を示している。図６において、有機樹脂層７は、第１突出部Ｐ１と、複数の第２突出部Ｐ２と、複数の第３突出部Ｐ３とを有している。
【００４８】
第１突出部Ｐ１は、図１及び図４の例と同様に延在している。各第２突出部Ｐ２は、第１突出部Ｐ１に沿って間隔を開けて配列されている。図６の例では、各第２突出部Ｐ２が第１突出部Ｐ１と繋がっている。但し、各第２突出部Ｐ２の少なくとも一つが第１突出部Ｐ１と繋がっていなくてもよい。
【００４９】
各第３突出部Ｐ３は、第１突出部Ｐ１に沿って間隔を開けて配列されている。各第３突出部Ｐ３は、平面視において各第２突出部Ｐ２と表示領域ＤＡ（図６中の左方）の間に位置する。また、各第３突出部Ｐ３は、図４に示した第２突出部Ｐ２と同じく、断面視において基材５と封止層ＳＬの間に位置している。
【００５０】
第１突出部Ｐ１の延在方向（図６では第２方向Ｙ）において、各第２突出部Ｐ１の各々の中心と、各第３突出部Ｐ３の各々の中心とが互いにずれている。すなわち、各第２突出部Ｐ２と各第３突出部Ｐ３は、第１突出部Ｐ１の延在方向において互い違いに配列されている。
【００５１】
ここで、第１突出部Ｐ１の幅をＷ１、第２突出部Ｐ２の幅をＷ２、第３突出部Ｐ３の幅をＷ３と定義する。例えば、幅Ｗ１，Ｗ２，Ｗ３は、それぞれ突出部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３のいずれの位置においても一定である。但し、各幅Ｗ１，Ｗ２，Ｗ３は一定でなくてもよい。また、各幅Ｗ１，Ｗ２，Ｗ３の大小関係は、適宜に定めることができる。一例として、幅Ｗ２を幅Ｗ１，Ｗ３より大きくしてもよい（Ｗ２＞Ｗ１，Ｗ３）。また、幅Ｗ３を幅Ｗ１より大きくしてもよい（Ｗ３＞Ｗ１）。
【００５２】
また、隣り合う第２突出部Ｐ２の間の距離をｄ１、第１突出部Ｐ１と第３突出部Ｐ３との間の距離をｄ２、隣り合う第３突出部Ｐ３の間の距離をｄ３と定義する。距離ｄ１は、例えば隣り合う第２突出部Ｐ２の配列方向（図６では第２方向Ｙ）における中心の間の距離に相当する。各第２突出部Ｐ２が高さのピークを有する山状であれば、距離ｄ１は、これらピークの間の距離として定義することもできる。距離ｄ２は、例えば各突出部Ｐ１，Ｐ３の幅方向（図６では第１方向Ｘ）における中心の間の距離に相当する。各突出部Ｐ１，Ｐ３が高さのピークを有する山状であれば、距離ｄ２は、これらピークの間の距離として定義することもできる。距離ｄ３は、例えば隣り合う第３突出部Ｐ３の配列方向（図６では第２方向Ｙ）における中心の間の距離に相当する。各第３突出部Ｐ３が高さのピークを有する山状であれば、距離ｄ３は、これらピークの間の距離として定義することもできる。
【００５３】
各突出部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３の近傍に生じる気泡のサイズは、距離ｄ１，ｄ２，ｄ３によって制御することが可能である。例えば、図６に示すように、隣り合う第２突出部Ｐ２の間には、気泡Ｂ１が生じ得る。また、隣り合う第３突出部Ｐ３の間には、気泡Ｂ２が生じ得る。気泡Ｂ１のサイズは、距離ｄ１，ｄ２によって制御できる。気泡Ｂ２のサイズは、距離ｄ３によって制御できる。
【００５４】
例えば、距離ｄ１，ｄ２，ｄ３は、５０μｍ以下であることが好ましい（ｄ１，ｄ２，ｄ３≦５０μｍ）。さらに、距離ｄ１，ｄ２，ｄ３は、３０μｍ以下であるとより好ましい（ｄ１，ｄ２，ｄ３≦３０μｍ）。距離ｄ１，ｄ２，ｄ３をこのように定めれば、気泡Ｂ１，Ｂ２を脱泡プロセスにより消滅させることが可能なサイズに制御できる。特に気泡Ｂ１に関しては、第１突出部Ｐ１の幅方向（図６では第１方向Ｘ）及び第２突出部Ｐ２の配列方向（図６では第２方向Ｙ）の双方において、サイズを小さくすることが可能である。
【００５５】
図６には第２辺Ｓ２の近傍における構成を示したが、第１辺Ｓ１、第３辺Ｓ３、第４辺Ｓ４の近傍にも同様の構成を適用できる。  
なお、図６の構成において、第３突出部Ｐ３を設けなくてもよい。この場合でも、各第２突出部Ｐ２の作用により、隣り合う第２突出部Ｐ２の間の気泡のサイズを小さくすることができる。
【００５６】
［第３実施形態］  
第３実施形態について説明する。ここでは主に第１実施形態との相違点に着目し、第１実施形態と同一の要素には同一の符号を付して説明を省略する。  
図７は、第３実施形態を説明するための図であって、図４と同じく表示装置１の第２辺Ｓ２の近傍の概略的な断面図を示している。図７において、表示装置１は、封止層ＳＬに代えて、第１封止層ＳＬ１と、第２封止層ＳＬ２とを備えている。
【００５７】
第１封止層ＳＬ１は、封止層ＳＬと同じく第２パッシベーション層ＰＶ２の上に形成されている。第２封止層ＳＬ２は、第３パッシベーション層ＰＶ３の上に形成されている。各封止層ＳＬ１，ＳＬ２は、例えば絶縁性の有機樹脂材料で形成することができる。光学フィルム３は、接着層３２により第２封止層ＳＬ２に接着されている。
【００５８】
第１封止層ＳＬ１は、有機発光層ＯＲＧを封止する。例えば、第２封止層ＳＬ２は、図１に示した端子部Ｔの表面から無機膜（例えば各パッシベーション層ＰＶ１〜ＰＶ３）を除去するプロセスにおいて、端子部Ｔ以外の表示パネル２の表面をマスクするための樹脂層である。
【００５９】
有機樹脂層７は、第１実施形態と同じく、第１突出部Ｐ１と、第２突出部Ｐ２とを有している。さらに、有機樹脂層７は、突出部Ｐ１００を有している。突出部Ｐ１００は、製造過程において硬化前の第１封止層ＳＬ１を堰き止め、第１封止層ＳＬ１の形状を制御する。各突出部Ｐ１，Ｐ２は、製造過程で硬化前の第２封止層ＳＬ２を堰き止め、第２封止層ＳＬ２の形状を制御する。さらに、各突出部Ｐ１，Ｐ２は、製造過程で第２封止層ＳＬ２と光学フィルム３との間に生じ得る気泡Ｂのサイズを小さく制御する。
【００６０】
図８は、本実施形態に係る表示装置１の概略的な平面図である。例えば図示したように、突出部Ｐ１００は、各辺Ｓ１〜Ｓ４と表示領域ＤＡとの間において、表示領域ＤＡを囲う矩形状である。但し、突出部Ｐ１００の一部が途切れていてもよいし、表示装置１の角部において突出部Ｐ１００が円弧状に曲がっていてもよい。
【００６１】
第２封止層ＳＬ２は、上述のマスクとしての役割を担うため、端子領域ＴＡも含め表示パネル２の表面を全体的に覆う必要がある。そこで、図８の例において、各突出部Ｐ１，Ｐ２は、各辺Ｓ１〜Ｓ３と表示領域ＤＡとの間に設けられているが、第４辺Ｓ４と表示領域ＤＡとの間には設けられていない。
【００６２】
以上の本実施形態のように、表示装置１が第１封止層ＳＬ１と第２封止層ＳＬ２とを備える場合には、外側に端部が位置する一方を対象として各突出部Ｐ１，Ｐ２を設ければよい。なお、各突出部Ｐ１，Ｐ２の詳細な構成は第１実施形態と同じであるが、第２実施形態のように第３突出部Ｐ３をさらに有する構成を適用することもできる。
【００６３】
［第４実施形態］  
第４実施形態について説明する。ここでは主に第１実施形態との相違点に着目し、第１実施形態と同一の要素には同一の符号を付して説明を省略する。  
図９は、第４実施形態を説明するための図であって、図４と同じく表示装置１の第２辺Ｓ２の近傍の概略的な断面図を示している。本実施形態において、表示装置１は、第１突出部Ｐ１や第２突出部Ｐ２に代えて、第１溝部ＧＲ１を備えている。
【００６４】
第１溝部ＧＲ１は、絶縁層６に形成されている。第１溝部ＧＲ１は、絶縁層６を構成する第１絶縁層６１、第２絶縁層６２、及び第３絶縁層６３の全てを貫通してもよいし、第３絶縁層６３と第２絶縁層６２を貫通してもよいし、第３絶縁層６３のみを貫通してもよい。第１溝部ＧＲ１の平面形状は、例えば図１に示した第１突出部Ｐ１の平面形状と同様である。第１溝部ＧＲ１の幅は、例えばいずれの位置においても一定である。但し、第１溝部ＧＲ１の幅は、一定でなくてもよい。
【００６５】
第１溝部ＧＲ１は、第１パッシベーション層ＰＶ１で覆われている。さらに、第１溝部ＧＲ１の内部において、第１パッシベーション層ＰＶ１は、第２パッシベーション層ＰＶ２で覆われている。図９の例では、封止層ＳＬが第１溝部ＧＲ１の内部を満たしている。封止層ＳＬの端部Ｅは、例えば第１溝部ＧＲ１と重畳する。封止層ＳＬは、第１溝部ＧＲ１の内部を一部のみ満たしてもよい。また、封止層ＳＬの端部Ｅは、第１溝部ＧＲ１と第２辺Ｓ２との間に位置してもよい。
【００６６】
第３パッシベーション層ＰＶ３は、封止層ＳＬを覆っている。封止層ＳＬの端部Ｅと第２辺Ｓ２との間において、第３パッシベーション層ＰＶ３は、第１パッシベーション層ＰＶ１を覆っている。光学フィルム３の接着層３２は、第３パッシベーション層ＰＶ３と隙間なく接している。例えば図１に示した第１突出部Ｐ１と光学フィルム３との関係と同様に、光学フィルム３は、平面視において第１溝部ＧＲ１と重畳している。
【００６７】
表示装置１の製造時において第２パッシベーション層ＰＶ２の上に形成された硬化前の封止層ＳＬは、表示装置１の各辺Ｓ１〜Ｓ４に向かって広がる。このように広がる封止層ＳＬは、第１溝部ＧＲ１によって堰き止められる。したがって、第１溝部ＧＲ１を設けることで、封止層ＳＬの形状を制御することができる。
【００６８】
上述の各突出部Ｐ１，Ｐ２に代えて第１溝部ＧＲ１を設ける場合には、図４と図９との比較からも明らかなように、封止層ＳＬの上面に凹凸が生じにくい。これにより、光学フィルム３を貼付面（図９の例では第３パッシベーション層ＰＶ３の上面）に密着させることができるので、気泡の発生を防止することが可能となる。仮に第１溝部ＧＲ１近傍における封止層ＳＬの凹凸に起因して小さな気泡が発生したとしても、上述の脱泡プロセスにより消滅させることができる。
なお、図９には第２辺Ｓ２の近傍における構成を示したが、第１辺Ｓ１、第３辺Ｓ３、第４辺Ｓ４の近傍にも同様の構成を適用できる。
【００６９】
［第５実施形態］  
第５実施形態について説明する。ここでは主に第４実施形態との相違点に着目し、第４実施形態と同一の要素には同一の符号を付して説明を省略する。  
図１０は、第５実施形態を説明するための図であって、図９と同じく表示装置１の第２辺Ｓ２の近傍の概略的な断面図を示している。図１０において、絶縁層６は、第１溝部ＧＲ１に加え、第２溝部ＧＲ２を有している。
【００７０】
第２溝部ＧＲ２は、周辺領域ＳＡにおいて、第１溝部ＧＲ１に沿って延在している。第２溝部ＧＲ２は、平面視において第１溝部ＧＲ１と表示領域ＤＡとの間に位置している。第２溝部ＧＲ２は、絶縁層６を構成する第１絶縁層６１、第２絶縁層６２、及び第３絶縁層６３の全てを貫通してもよいし、第３絶縁層６３と第２絶縁層６２を貫通してもよいし、第３絶縁層６３のみを貫通してもよい。第１溝部ＧＲ１の平面形状は、例えば図１に示した第１突出部Ｐ１と同様であり、第２溝部ＧＲ２の平面形状は、例えば図１に示した第２突出部Ｐ２と同様である。第１溝部ＧＲ１の深さと、第２溝部ＧＲ２の深さとが異なっていてもよい。一例として、第２溝部ＧＲ２の深さを第１溝部ＧＲ１の深さより大きくしてもよい。
【００７１】
各溝部ＧＲ１，ＧＲ２の幅は、例えばいずれの位置においても一定である。但し、各溝部ＧＲ１，ＧＲ２の幅は、一定でなくてもよい。また、第１溝部ＧＲ１の幅と、第２溝部ＧＲ２の幅が異なっていてもよい。一例として、第２溝部ＧＲ２の幅を第１溝部ＧＲ１の幅より大きくしてもよい。
【００７２】
本実施形態のように２つの溝部ＧＲ１，ＧＲ２を設けた場合には、封止層ＳＬの形状をより精度よく制御できる。溝部の数は２つに限られず、３つ以上であってもよい。  
なお、図１０には第２辺Ｓ２の近傍における構成を示したが、第１辺Ｓ１、第３辺Ｓ３、第４辺Ｓ４の近傍にも同様の構成を適用できる。
【００７３】
［第６実施形態］  
第６実施形態について説明する。ここでは主に第５実施形態との相違点に着目し、第５実施形態と同一の要素には同一の符号を付して説明を省略する。  
図１１は、第６実施形態を説明するための図であって、図１０と同じく表示装置１の第２辺Ｓ２の近傍の概略的な断面図を示している。図１１において、表示装置１は、第３実施形態と同じく第１封止層ＳＬ１と、第２封止層ＳＬ２とを備えている。
【００７４】
絶縁層６は、第５実施形態と同じく、第１溝部ＧＲ１と、第２溝部ＧＲ２とを有している。さらに、絶縁層６は、溝部ＧＲ１００を有している。溝部ＧＲ１００は、製造過程において硬化前の第１封止層ＳＬ１を堰き止め、第１封止層ＳＬ１の形状を制御する。各溝部ＧＲ１，ＧＲ２は、製造過程で硬化前の第２封止層ＳＬ２を堰き止め、第２封止層ＳＬ２の形状を制御する。
【００７５】
例えば、溝部ＧＲ１００は、図８に示した突出部Ｐ１００と同じく、表示領域ＤＡを囲う平面形状とすることができる。各溝部ＧＲ１，ＧＲ２も同様に、表示領域ＤＡを囲う平面形状とすることができる。他の例として、図８に示した各突出部Ｐ１，Ｐ２と同じく、各溝部ＧＲ１，ＧＲ２は、各辺Ｓ１〜Ｓ３と表示領域ＤＡとの間に設けられ、第４辺Ｓ４と表示領域ＤＡとの間に設けられていなくてもよい。
【００７６】
本実施形態のように各溝部ＧＲ１，ＧＲ２で第２封止層ＳＬ２の形状を制御する場合、第２封止層ＳＬ２の上面に凹凸が生じにくくなる。したがって、光学フィルム３の下方における気泡の発生を防止することができる。
【００７７】
なお、図１１には第２辺Ｓ２の近傍における構成を示したが、第１辺Ｓ１、第３辺Ｓ３、第４辺Ｓ４の近傍にも同様の構成を適用できる。  
第２封止層ＳＬ２の形状を制御するための溝部は、１つのみでもよいし、３つ以上でもよい。また、第１封止層ＳＬ１の形状を制御するための溝部は、２つ以上でもよい。
【００７８】
［第７実施形態］  
第７実施形態について説明する。ここでは主に第１実施形態との相違点に着目し、第１実施形態と同一の要素には同一の符号を付して説明を省略する。  
図１２は、第７実施形態を説明するための図であって、図４と同じく表示装置１の第２辺Ｓ２の近傍の概略的な断面図を示している。
【００７９】
図１２において、表示装置１は、第１突出部Ｐ１の上方に配置された透明導電層ＴＣを備えている。具体的には、透明導電層ＴＣは、第２パッシベーション層ＰＶ２の上に形成されている。透明導電層ＴＣは、直下の層よりも撥液性が高い材料、例えばＩＴＯで形成することができる。
【００８０】
このように撥液性の高い透明導電層ＴＣを設けると、硬化前の封止層ＳＬがこの透明導電層ＴＣを越えて広がりにくくなる。したがって、封止層ＳＬの形状をより精度良く制御できる。
【００８１】
なお、図１２には第２辺Ｓ２の近傍における構成を示したが、第１辺Ｓ１、第３辺Ｓ３、第４辺Ｓ４の近傍にも同様の構成を適用できる。  
透明導電層ＴＣを設ける位置は、図１２の例に限られない。例えば、透明導電層ＴＣは、各突出部Ｐ１，Ｐ２の間に設けられてもよいし、第２突出部Ｐ２の上方に設けられてもよいし、第１突出部Ｐ１と各辺Ｓ１〜Ｓ４との間に設けられてもよい。  
また、図６に示した各突出部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３の近傍や、図７に示した各突出部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ１００の近傍において、本実施形態と同様に透明導電層ＴＣを設けてもよい。
【００８２】
［第８実施形態］  
第８実施形態について説明する。ここでは主に第４実施形態との相違点に着目し、第４実施形態と同一の要素には同一の符号を付して説明を省略する。  
図１３は、第８実施形態を説明するための図であって、図４と同じく表示装置１の第２辺Ｓ２の近傍の概略的な断面図を示している。
【００８３】
図１３において、表示装置１は、第１溝部ＧＲ１の内部に配置された透明導電層ＴＣを備えている。具体的には、透明導電層ＴＣは、第２パッシベーション層ＰＶ２の上に形成されている。透明導電層ＴＣは、直下の層よりも撥液性が高い材料、例えばＩＴＯで形成することができる。
【００８４】
本実施形態の構成においても、第７実施形態と同じく、硬化前の封止層ＳＬが透明導電層ＴＣを越えて広がりにくくなる。したがって、封止層ＳＬの形状をより精度良く制御できる。
【００８５】
なお、図１３には第２辺Ｓ２の近傍における構成を示したが、第１辺Ｓ１、第３辺Ｓ３、第４辺Ｓ４の近傍にも同様の構成を適用できる。  
透明導電層ＴＣを設ける位置は、図１３の例に限られない。例えば、透明導電層ＴＣは、第１溝部ＧＲ１と表示領域ＤＡとの間に設けられてもよいし、第１溝部ＧＲ１と各辺Ｓ１〜Ｓ４との間に設けられてもよい。  
また、図１０に示した各溝部ＧＲ１，ＧＲ２の近傍や、図１１に示した各溝部ＧＲ１，ＧＲ２，ＧＲ１００の近傍において、本実施形態と同様に透明導電層ＴＣを設けてもよい。
【００８６】
以上の各実施形態にて開示した構成は、適宜に組み合わせることができる。例えば、封止層ＳＬ、第１封止層ＳＬ１、或いは第２封止層ＳＬ２の端部の近傍に、各実施形態にて開示した突出部と溝部の双方が設けられてもよい。
【００８７】
本発明の実施形態として説明した表示装置を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての表示装置も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。  
本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変形例に想到し得るものであり、それら変形例についても本発明の範囲に属するものと解される。例えば、上述の各実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除、若しくは設計変更を行ったもの、又は、工程の追加、省略若しくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。  
また、各実施形態において述べた態様によりもたらされる他の作用効果について、本明細書の記載から明らかなもの、又は当業者において適宜想到し得るものについては、当然に本発明によりもたらされるものと解される。
【符号の説明】
【００８８】
１…表示装置、２…表示パネル、３…光学フィルム、４…フレキシブル回路基板、５…基材、６…絶縁層、７…有機樹脂層、３１…光学機能層、３２…接着層、ＤＡ…表示領域、ＳＡ…周辺領域、ＰＸ…画素、Ｐ１…第１突出部、Ｐ２…第２突出部、Ｐ３…第３突出部、Ｐ１００…突出部、ＯＬＥＤ…有機ＥＬ素子、ＡＥ…アノード電極、ＯＲＧ…有機発光層、ＣＥ…カソード電極、ＲＦ…反射層、ＳＬ…封止層、ＳＬ１…第１封止層、ＳＬ２…第２封止層、Ｂ，Ｂ１，Ｂ２…気泡、ＰＶ１〜ＰＶ３…第１〜第３パッシベーション層、ＧＲ１…第１溝部、ＧＲ２…第２溝部、ＧＲ１００…溝部、ＴＣ…透明導電層。
【図１】
2018163737.tif 000003
【図２】
2018163737.tif 000004
【図３】
2018163737.tif 000005
【図４】
2018163737.tif 000006
【図５】
2018163737.tif 000007
【図６】
2018163737.tif 000008
【図７】
2018163737.tif 000009
【図８】
2018163737.tif 000010
【図９】
2018163737.tif 000011
【図１０】
2018163737.tif 000012
【図１１】
2018163737.tif 000013
【図１２】
2018163737.tif 000014
【図１３】
2018163737.tif 000015