(57)【要約】【課題】磁気記録媒体とした時の電磁変換特性および耐久性に優れ、磁性層のスペーシングロスやノイズの少ない磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルムを提供すること。【解決手段】厚みが１μｍ以上２０μｍ未満の磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルムであって、フィルムの長手方向および幅方向のヤング率が、共に８ＧＰａ以上１８ＧＰａ以下であり、フィルムの磁性層が形成される側（Ａ面）の面を構成するポリマー層に、１質量％以上２０質量％未満の有機粒子を含有し、反対面（Ｂ面）の面を構成するポリマー層に０．３質量％以上１０質量％未満で一次粒径１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の無機粒子を含有し、前記有機粒子の形成する突起が特定の特徴の有する磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルムとする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
厚みが１μｍ以上２０μｍ未満の磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルムであって、フィルムの長手方向および幅方向のヤング率が、共に８ＧＰａ以上１８ＧＰａ以下であり、フィルムの磁性層が形成される側（Ａ面）の面を構成するポリマー層に、１質量％以上２０質量％未満の有機粒子を含有し、反対面（Ｂ面）の面を構成するポリマー層に０．３質量％以上１０質量％未満で一次粒径１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の無機粒子を含有し、前記有機粒子の形成する突起が以下の（ａ）〜（ｄ）を同時に満足する磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルム。
（ａ）５ｎｍ以上の高さの突起が１００万個／ｍｍ２以上かつ、１０ｎｍ以上の高さの突起が３００万個／ｍｍ２未満かつ、１５ｎｍ以上の高さの突起が０．２万個／ｍｍ２未満であり、
（ｂ）突起を高さ５ｎｍの水平面で切ったときの占有面積をＳ５、７ｎｍで水平方向に切ったときの占有面積をＳ７としたときに、Ｓ５／Ｓ７が１．５以上２０以下であり、
（ｃ）Ｓ５が測定面積の５％未満であり、
（ｄ）突起を高さ５ｎｍの水平面で切ったときの突起平均径が５０ｎｍ以上１３０ｎｍ未満であること
【請求項２】
フィルムの長手方向および幅方向の寸法変化率が、いずれも０．０％以上０．６％以下であり、スパッタリングタイプの磁気記録媒体用に用いられる、請求項１記載の磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
芳香族ポリアミドフィルムは磁気記録テープのベースフィルムとして使用されており、近年、磁気記録テープはクラウドコンピューティングやＩＣＴ（Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ  ａｎｄ  Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ  ：情報通信技術）におけるバックアップ用途、アーカイブ用途として、その需要が高まっている。また、ビッグデータの取り扱いにより、保存すべきデータ量が飛躍的に増加しているため、信頼性が高く、かつ高密度な記録技術が追求されている。そのため、従来の磁気テープは塗布型や真空蒸着による磁気記録層形成が一般的であったが、金属薄膜をスパッタリング法によって形成する方法での高密度記録化の検討が成されており、ベースフィルムに対しても、高密度化の要求に対応するため、厚みムラが均一で平滑な表面に対する極限追求がされている。
【０００３】
そのため従来からスペーシングロスやノイズをなくすため粗大突起を減らしたり（特許文献１）、突起の高さを制御する検討が成されてきたが（特許文献２）、近年の高い要求性能とテープ製造の歩留まり改善を達成するには不十分である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−４９００７号公報
【特許文献２】特開２０００−３４４９１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
そこで本発明では粗大突起を極限まで減らしながら微細突起の高さと密度を制御し、磁気記録媒体とした時の電磁変換特性および耐久性に優れた芳香族ポリアミドフィルムを提供することを目的とする。すなわち、本発明は磁性層のスペーシングロスやノイズの少ない磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
かかる問題点を解決するために、本発明は、以下の構成からなる。
（１）厚みが１μｍ以上２０μｍ未満の磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルムであって、フィルムの長手方向および幅方向のヤング率が、共に８ＧＰａ以上１８ＧＰａ以下であり、フィルムの磁性層が形成される側（Ａ面）の面を構成するポリマー層に、１質量％以上２０質量％未満の有機粒子を含有し、反対面（Ｂ面）の面を構成するポリマー層に０．３質量％以上１０質量％未満で一次粒径１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の無機粒子を含有し、前記有機粒子の形成する突起が以下の（ａ）〜（ｄ）を同時に満足する磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルム。
（ａ）５ｎｍ以上の高さの突起が１００万個／ｍｍ２以上かつ、１０ｎｍ以上の高さの突起が３００万個／ｍｍ２未満かつ、１５ｎｍ以上の高さの突起が０．２万個／ｍｍ２未満であり、
（ｂ）突起を高さ５ｎｍの水平面で切ったときの占有面積をＳ５、７ｎｍで水平方向に切ったときの占有面積をＳ７としたときに、Ｓ５／Ｓ７が１．５以上２０以下であり、
（ｃ）Ｓ５が測定面積の５％未満であり、
（ｄ）突起を高さ５ｎｍの水平面で切ったときの突起平均径が５０ｎｍ以上１３０ｎｍ未満であること
（２）フィルムの長手方向および幅方向の寸法変化率が、いずれも０．０％以上０．６％以下であり、スパッタリングタイプの磁気記録媒体用に用いられる、（１）記載の磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルム。
【発明の効果】
【０００７】
本発明を適用することにより、後述するようにテープ加工性に優れた芳香族ポリアミドフィルムを提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】乾湿式法による製造装置の例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明で用いる芳香族ポリアミドフィルムは磁気記録材料用として好適に使用できる。ここで、磁気記録材料としては、たとえば、エンタープライズシステムやＬＴＯ（Ｌｉｎｅａｒ  Ｔａｐｅ−Ｏｐｅｎ）に使用されるデータストレージテープなどに使用される材料が挙げられる。磁気記録テープの加工は塗布タイプ、蒸着タイプ、スパッタリングタイプ等があり、本発明のフィルムはどのタイプの磁気テープにも好適に使用できるが、特に表面が平滑であることを要求されるスパッタリングタイプに使用することでその効果を発揮する。
【００１０】
本発明の磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルムは、基本構成単位としての
【００１１】
【化１】
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【００１２】
及び／または、
【００１３】
【化２】
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【００１４】
を５０モル％以上、好ましくは７０モル％以上含む重合体からなるものが好ましい。このような構造単位の含有量の上限は特に限定されないが、１００モル％以下である。ここで、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３の基としては、例えば
【００１５】
【化３】
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【００１６】
などが挙げられ、Ｘ，Ｙは芳香環の結合基であって、−Ｏ−、−ＣＨ２−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−Ｃ（ＣＨ３）２−  などから選ばれるが、これらに限定されるものではない。さらに、これら芳香環上の水素原子の一部が、フッ素や臭素、塩素などのハロゲン基（特に塩素）、ニトロ基、メチル基、エチル基、プロピル基などのアルキル基（特にメチル基）、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基などのアルコキシ基などの置換基で置換されていてもよく、また、重合体を構成するアミド結合中の水素が他の置換基によって置換されていてもよい。
【００１７】
また、本発明に用いる芳香族ポリアミドは、上記の芳香環がパラ配向性を有している重合体が全芳香環の５０モル％以上、より好ましくは７０モル％以上であるとフィルムの剛性が高く、耐熱性も良好となるため好ましい。ここでパラ配向性とは、芳香環上の主鎖を構成する２価の結合手が互いに同軸または平行にある状態をいう。このようなパラ配向性の重合体の、含有量の上限は特に限定されないが、１００モル％以下である。
【００１８】
また、本発明に用いる芳香族ポリアミドには、上記化学式（１）及び／または化学式（２）の構造単位を５０モル％以上含有していれば、５０モル％未満の他の構造単位を共重合またはブレンドしていてもよい。
【００１９】
本発明に用いる芳香族ポリアミドは、次の化学式（３）で示される構造単位を５０モル％以上含有していると、有機溶媒に対する溶解性が向上するため好ましい。このような化学式（３）で示される構造単位は、６０モル％以上含有することがより好ましく、さらに好ましくは７０モル％以上である。このような構造単位の含有量の上限は特に限定されないが、１００モル％以下である。
【００２０】
【化４】
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【００２１】
ここでＺは、任意のハロゲン原子であり、ｐ、ｑは０〜４の整数、かつ、ｐ＋ｑ≧１を満足する。
【００２２】
本発明の磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルムは、表面形成、加工性改善、耐熱性向上などを目的としてＡ面を構成するポリマー層に対し１質量％以上２０質量％未満の有機粒子を含有する。有機粒子は後述する製膜工程での加熱処理にて表面粗さや形状を制御することができる。好ましい有機粒子としては、例えば、ポリエーテルサルホン、架橋ポリビニルベンゼン、架橋アクリル、架橋ポリスチレン、ポリエステル粒子、ポリイミド粒子、ポリアミド粒子、フッ素樹脂粒子等の有機高分子からなる粒子がある。これらの有機粒子の含有量が１質量％未満だったり２０質量％以上の場合は、目標の突起高さや粒径を形成するのが困難となる。
【００２３】
本発明の磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルムは、表面形成、走行性付与、ハンドリング向上などを目的としてＢ面を構成するポリマー層に対し０．３質量％以上１０質量％未満で一次粒径１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の無機粒子を含有する。好ましい無機粒子としては、例えばＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＣｕＯ、ＭｎＯ２、ＮｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＣａＳＯ４、ＢａＳＯ４、ＣａＣＯ３、カーボンブラック、カーボンナノチューブ、フラーレン、ゼオライト、その他の金属微粉末等が挙げられる。含有量が０．３質量％未満であったり一次粒径が１０ｎｍ未満の場合はフィルムの走行性やハンドリングが悪くなる。粒子の含有量が１０質量％以上であったり一次粒径が２００ｎｍを超える場合は、フィルムロールとして巻き取ったときに、Ｂ面の突起がＡ面を傷つけたり、平面性を悪化させる可能性がある。
【００２４】
本発明の磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルムは、５ｎｍ以上の高さの突起が１００万個／ｍｍ２以上、１０ｎｍ以上の高さの突起が３００万個／ｍｍ２未満、１５ｎｍ以上の高さの突起が０．２万個／ｍｍ２未満であることが望ましい。５ｎｍ以上の高さの突起が１００万個／ｍｍ２未満の場合、表面が平滑過ぎ、磁気ヘッドと接触走行させた際に磁気テープの表面が削れやすくなる可能性がある。１０ｎｍ以上の高さの突起が３００万個／ｍｍ２以上または１５ｎｍ以上の高さの突起が０．２万個／ｍｍ２以上の場合、磁性層が均一にならずテープ再生出力とノイズの比率（以下Ｃ／Ｎ）が悪化するおそれがある。
【００２５】
本発明の磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルムは、突起を高さ５ｎｍの水平面で切ったときの占有面積をＳ５、７ｎｍで水平方向に切ったときの占有面積をＳ７としたときに、Ｓ５／Ｓ７が１．５以上２０以下であることが望ましい。Ｓ５／Ｓ７が１．５未満の場合は突起の均一性が低くＣ／Ｎが悪化する可能性があり、Ｓ５／Ｓ７が２０を超える場合は平滑すぎてフィルムの走行性が悪くなったり磁気テープの表面が削れ易くなる可能性がある。
【００２６】
本発明の磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルムは、高さ５ｎｍの水平面で切った突起の断面積が（Ｓ５突起断面積）、測定面積の５％未満であることが望ましい。５％を超えると突起密度が高すぎて、磁気ヘッドの磨耗量が大きくなり耐久性が悪化する可能性がある。
【００２７】
本発明の芳香族ポリアミドフィルムは、突起を高さ５ｎｍの水平面で切ったときの突起平均径が５０ｎｍ以上１３０ｎｍ未満であることが望ましい。５０ｎｍ未満の鋭い突起の場合や、１３０ｎｍ以上の大きい突起になるとノイズが高くなりＣ／Ｎが悪化したり、磁気ヘッドの磨耗量が大きくなる可能性がある。
【００２８】
本発明の磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルムは、厚みが１μｍ以上２０μｍ未満であることが望ましい。厚みが１．０μｍ未満の場合、加工時のハンドリング性が悪く、また、厚みが２０μｍ以上では、製膜するのが難しい。
【００２９】
本発明の磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルムは、フィルムの長手方向および幅方向のヤング率が、いずれも８ＧＰａ以上１８ＧＰａ以下であることが望ましい。８ＧＰａ未満では、強度が低く磁気材料用ベースフィルムとしては不適当であり、１８ＧＰａを上回るヤング率にしようとするのは現実的ではない。
【００３０】
本発明の磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルムは、フィルムの長手方向および幅方向の寸法変化率が、いずれも０．０％以上０．６％以下であることが望ましい。０．０％未満とするのは現実的ではなく、０．６％を超える場合は磁気材料の配列が不均一になり、磁気材料用ベースフィルムとしては不適当である。
【００３１】
以下、本発明の磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルムの製造法を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００３２】
本発明の磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルムの製膜方法は特に限定されず、溶融製膜、溶液製膜等、どの方法を用いてもよい。
【００３３】
（原料調製工程）
まず芳香族ポリアミドであるが、酸クロリドとジアミンから得る場合には、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）などの非プロトン性有機極性溶媒中で、溶液重合を行うことや、水系媒体を使用する界面重合などで合成される。ポリマー溶液は、単量体として酸クロリドとジアミンを使用すると塩化水素が副生するが、これを中和する場合には水酸化カルシウム、炭酸カルシウム、炭酸リチウムなどの無機の中和剤、またエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、アンモニア、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ジエタノールアミンなどの有機の中和剤が使用される。また、イソシアネートとカルボン酸との反応は、非プロトン性有機極性溶媒中、触媒の存在下で行なわれる。
【００３４】
製膜原液には溶解助剤として無機塩、例えば塩化カルシウム、塩化マグネシム、塩化リチウム、硝酸リチウムなどを添加する場合もある。粒子の添加方法は、粒子を予め溶媒中に十分スラリー化した後、重合用溶媒または希釈用溶媒として使用する方法や、製膜原液を調製した後に直接添加する方法などがある。ポリマー濃度は高い方が生産性向上につながり望ましいが、現実的なプロセスの観点から５〜３５質量％の範囲内である。
【００３５】
このように重合した製膜原液を２つに分け、Ａ面用には１質量％以上２０質量％未満の有機粒子を添加し、Ｂ面用には０．３質量％以上１０質量％未満の無機粒子を添加する。粒子の添加方法は、粒子を予め溶媒中に溶解させた後、重合用溶媒または希釈用溶媒として使用する方法や、粒子を予め溶媒中に十分スラリー化した後、重合用溶媒または希釈用溶媒として使用する方法や、製膜原液を調製した後に直接添加する方法などがある。
【００３６】
本発明の磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルムは、少なくともＡ面を形成するポリマー層とＢ面を形成するポリマー層の２層以上を有する積層フィルムである。
【００３７】
これら積層の方法としては周知の方法、たとえば、口金内での積層、複合管での積層や、一旦１層を形成しておいてその上に他の層を形成する方法などがある。積層フィルムの場合、それぞれの製膜原液の溶液粘度は、その差が５００ポイズ以下、より好ましくは３００ポイズ以下であると、口金内、複合管内での流動特性、または他の層上への積層時の流動特性が均質になるために好ましい。また、流動特性を均質にするために、口金直前に混練機能のついた配管（スタティック・ミキサー）を用いてもよい。
【００３８】
上記のように調製された製膜原液は、いわゆる溶液製膜法によりフィルム化が行なわれる。溶液製膜法には製膜原液をエンドレスベルト、ドラム等の支持体にキャスト後乾燥、フィルムの剥離、熱処理を行う乾式法、製膜原液乾燥工程を経ずに直接水中に押し出し、溶媒抽出後熱処理を行う湿式法、支持体上で乾燥、フィルム剥離後湿式工程に導入する乾湿式法などがあるが、本発明の範囲のフィルムを得るには乾湿式法、湿式法が望ましい。以下に、図１を用い、乾湿式法を例にとって説明する。
【００３９】
乾湿式法で製膜する場合はまず該原液を口金１からドラム、エンドレスベルト装置等の支持体２上にポリマー溶液３を押し出し、乾燥機４によりかかる薄膜から溶媒を一部除去し、膜体Ｃとする。次いでフィルムを溶媒抽出処理装置５に導入し、残存の溶媒あるいは含有無機塩類を抽出し、かつ、複数の駆動ローラー５ａおよび従動ローラー５ｂを用いて、おのおののローラーの周速差を用い、長手方向に延伸を行う。次に横延伸機６に導入し乾燥、熱処理を施す。その後、膜厚測定器７によりフィルムの厚みを測定し、得られた厚みデータを用い、口金１のスリット間隙調整を自動的に行って厚みを調整する。厚みを測定した後のフィルムは、巻取機８により巻き取られることによってフィルムを得る。
【００４０】
本発明のフィルムを得るための方法としては、まず乾燥工程において５０℃以上から溶媒の沸点＋２０℃以下の範囲で乾燥を行い、フィルム中の溶媒濃度が３０〜９０質量％、好ましくは４０〜７０質量％以下まで乾燥を行い、次いで、フィルムと同種溶媒を２０〜８０質量％以下、好ましくは３０〜７０質量％以下含有する水系湿式浴を１分以上５分以下通過または浸漬させることが有効に用いられる。
【００４１】
またポリマー種によっては湿式浴として水浴を用いて浴温度を３０℃以上９０℃以下にすることも可能である。上記湿式浴を出たフィルムは水浴を通過、浸漬させることにより残存の溶媒、無機塩類等が完全に抽出される。湿式工程を終えたフィルムの両端を把持した状態で、テンターにて乾燥を行う。更に係るフィルムの両端を把持した状態でテンターにて熱延伸を行う。熱延伸の温度はポリマーのＴｇ−５０℃以上Ｔｇ＋２０℃未満の範囲で行うことが望ましい。Ｔｇ＋２０℃以上の熱に長時間かけると熱劣化し、フィルム層間剥離の原因となることがある。また、Ｔｇ−５０℃未満ではフィルムが十分に延伸できず破れてしまうことがある。延伸倍率は面倍率で０．８倍以上２．０倍以下（面倍率とは延伸後のフィルム面積を延伸前のフィルム面積で除した値であり、１未満はリラックスを意味する）の範囲にあることが好ましい。上記テンターの温度条件で０．８倍未満の延伸条件にしてもフィルムが弛み、製膜できない。２．０倍を超えるとポリマーの面配向が進み、延伸中にフィルムが破れる達可能性がある。
【実施例】
【００４２】
（１）厚み
巻取機でロール状に巻き取った中間製品より、フィルムサンプルを全幅に亘って採取する。これを１０枚重ね合わせて（株）ミツトヨ製のマイクロメーターを用いて測定し、１０で割って１枚あたりの厚みを出す。これを幅方向１０箇所においても同様に行い、この平均値を取ってフィルムの厚みとする。
【００４３】
（２）突起個数、占有面積、突起平均径
Ｄｉｇｉｔａｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製の原子間力顕微鏡  ＮａｎｏＳｃｏｐｅＩＩＩ、ＡＦＭを使用し、以下の条件で幅方向に１０ケ所測定を行った。
【００４４】
深針；単結晶シリコン
走査モード；タッピングモード
測定範囲；５×５μｍ
面素数；２５６×２５６
スキャン速度；１．０Ｈｚ
測定環境；室温、大気中
解析ソフトＮａｎｏＳｃｏｐｅＶ５３１ｒｌを使用して、高さ５ｎｍ以上の突起個数、１０ｎｍ以上の突起個数、１５ｎｍ以上の突起個数を求めた。
該装置では任意の高さに設定したときの突起全面積を求めることができる。その機能を使用して、高さ５ｎｍと７ｎｍの突起全面積を求め、それぞれを占有面積Ｓ５、Ｓ７とした。
【００４５】
Ｓ５の測定面積に対する割合（Ｓ５突起断面積）は、Ｓ５を測定範囲５×５μｍで除して求めた。
ＮａｎｏＳｃｏｐｅＶ５３１ｒｌを用いて、突起を高さ５ｎｍの水平面で切ったときの各突起面積Ｓを求めることが出来る。高さ５ｎｍの水平面で切ったときに認識される全ての突起に対して面積円相当径Ｒを算出し、合計した値を突起個数Ｎで割ることにより、突起平均径Ｒを算出した。下記式で算出した。
【００４６】
各径Ｒ＝（２×各突起面積Ｓ／π）１／２×２
突起平均径Ｒ＝ΣＲ／突起個数Ｎ
（３）一次粒径
添加する無機粒子を走査型電子顕微鏡により観測し、１００個の粒子について面積円相当径Ｍを求めた値の平均値を一次粒径Ｉとした。
【００４７】
面積円相当径Ｍ＝（２×各粒子面積Ｌ／π）１／２×２
一次粒径Ｉ＝ΣＭ／１００
（４）ヤング率
オリエンテック社製ロボットテンシロンＲＴＦ−１２１０型を用いて、幅１０ｍｍ、長さ１５０ｍｍに切断したフィルムをチャック間距離１００ｍｍの装置にセットして、引張速度２００ｍｍ／分、温度２３℃、相対湿度６５％の条件下で引張試験を行い、得られた荷重−伸び曲線の立ち上がり部の接線から引張りヤング率を求めた。
【００４８】
（フィルム寸法変化率）
フィルム表面に、幅１０ｍｍ、測定長約１００ｍｍとなるように２本のラインを引き、この２本のライン間の距離を２３℃で正確に測定しこれをα０とする。このフィルムサンプルを１５０℃のオーブン中に１０分間、１．５ｇの荷重下で放置した後、再び２本のライン間の距離を２３℃で測定しこれをα１とし、下式によりそれぞれの温度での寸法変化率を求める。
【００４９】
寸法変化率（％）＝｛（α０−α１）／α０］×１００。
【００５０】
（評価方法）
〔実験例１〕
非磁性支持体１として、幅１２７ｍｍ、長さ５００ｍ、膜厚４．４μｍの東レ株式会社製芳香族ポリアミドフィルム４ＹＭＬ４１を用意した。
【００５１】
次に、公知のスパッタ装置を用いて非磁性支持体１を１．５ｍ／ｍｉｎの速度で搬送させ、下記に示す条件により、機能層２、下地層３、磁性層４を順次形成し、その後従来公知のＣＶＤ装置を用いて保護層５を形成し、さらにバック層及び潤滑剤層を形成した。
（機能層：ＴｉＷ膜）
Ｔｉ５０原子％−Ｗ５０原子％からなる合金ターゲットのカソードに直流スパッタリング電源より４Ｗ／ｃｍ２の投入電力を印加し、ガス圧はアルゴン雰囲気中０．５Ｐａとした。この条件でスパッタ成膜を行い、膜厚１０ｎｍのＴｉＷ膜よりなる機能層２を形成した。
（下地層：Ｒｕ膜）
Ｒｕ金属ターゲットのカソードに直流スパッタリング電源より７Ｗ／ｃｍ２の投入電力を印加し、ガス圧はアルゴン雰囲気中９Ｐａとした。この条件でスパッタ成膜を行い、膜厚３０ｎｍのＲｕ膜よりなる下地層３を形成した。
（磁性層：Ｃｏ−Ｐｔ−Ｃｒ（ＳｉＯ２））
Ｃｏ６０原子％−Ｐｔ８原子％−Ｃｒ１６原子％、ＳｉＯ２−１６原子％からなる焼結ターゲットのカソードに、ＲＦスパッタリング電源より３Ｗ／ｃｍ２の投入電力を印加し、ガス圧をアルゴン１００％雰囲気中１．３Ｐａとした。この条件でスパッタ成膜を行い、膜厚１３ｎｍの磁性層４を形成した。
（保護層：ＤＬＣ膜）
反応ガスをトルエン、反応ガス圧を１０Ｐａとし、印加電力を１．５ｋＶとした。この条件下でＣＶＤ法により膜厚１０ｎｍのＤＬＣ膜よりなる保護層５を形成した。
（バック層）
磁性層形成面とは反対側の面に、カーボンとウレタン樹脂を主成分とする塗料を塗布して膜厚０．６μｍのバック層を形成した。
【００５２】
その後、８ｍｍ幅に裁断し、磁性層形成面側にパーフルオロポリエーテル系潤滑剤を塗布して潤滑剤層を形成し、サンプル磁気テープを作製した。
（Ｃ／Ｎ）
ＡＩＴドライブを改造したものを用いて、各サンプル磁気テープ（上記と同様に磁気記録媒体を作製）に記録波長０．３μｍにて情報信号を記録した後、ＭＲヘッドにより再生出力とノイズを測定してＣ／Ｎを算出した。
【００５３】
なお、Ｃ／Ｎの評価は、上記実験例１の磁気テープの値を基準値（０ｄＢ）とし、これとの相対評価を行い、基準値と比較して−１．０ｄＢ以上であれば実用上良好なものとして許容（○）とした。
（耐久性）
４０℃８０％ＲＨの環境条件に制御された恒温槽中で、ＡＩＴドライブを改造したものを用い、１８０ｍの長さのサンプル磁気テープを組み込み、１分間信号記録を行った後、巻き戻しを行い、１分間信号再生を行い、その時の出力を初期出力とした。その後、１回全長記録を行い、繰り返し再生を行い、出力をモニタリングしながら走行させ、上記初期出力に対し、出力が半分（−６ｄＢ）になる走行繰り返し回数（パス回数）を測定した。
【００５４】
１００パス以上であれば、実用上良好な耐久性を有しているもの（○）と判断した。
（磁気ヘッド磨耗）
記録再生操作前の初期の磁気ヘッドの高さと、６０分間の再生を１００回繰り返した後の磁気ヘッドの高さとの差を磨耗量とした。この磨耗量が０．５μｍ以下であれば、実用上良好（○）であるものと判断した。
【００５５】
（実施例１）
Ｎ−メチル−２−ピロリドン（以下ＮＭＰ）に、８５モル％に相当する２−クロロパラフェニレンジアミン（以下ＣＰＡ）と１５モル％に相当するジフェニルエーテル（以下ＤＰＥ）を溶解させ、この溶液を濾過精度１．０μｍのポリプロピレンからなるフィルターに通して濾過した後、重合槽へ移送し、これに濾過精度１．０μｍのポリプロピレンからなるフィルターに通した９８．５モル％に相当するクロロテレフタル酸クロライド（以下ＣＴＰＣ）を添加して、重合前にポリエーテルサルホン（住友化学（株）製  スミカエクセル５４００Ｐ、以下ＰＥＳと略す）を芳香族ジアミン成分に対して１０．０質量％になるように添加して、３０℃以下で２時間の撹拌を行い重合ポリマーを得た。
【００５６】
次に、重合ポリマー中の塩化水素に対して９８．５モル％の炭酸リチウムを添加して４時間の中和を行い、重合ポリマー中の塩化水素に対して１０モル％のトリエタノールアミンを添加して１時間の撹拌を行い、ポリマー濃度１０．８質量％の芳香族ポリアミド溶液Ａを得た。
【００５７】
ＮＭＰに、８５モル％に相当するＣＰＡと１５モル％に相当するＤＰＥを溶解させ、この溶液を濾過精度１．０μｍのポリプロピレンからなるフィルターに通して濾過した後、重合槽へ移送し、これに濾過精度１．０μｍのポリプロピレンからなるフィルターに通した９８．５モル％に相当するＣＴＰＣを添加して、３０℃以下で２時間の撹拌を行い重合ポリマーを得た。次に、重合ポリマー中の塩化水素に対して９８．５モル％の炭酸リチウムを添加して４時間の中和を行い、平均１次粒径が１６ｎｍのシリカ（日本アエロジル株式会社製“ＡＥＲＯＳＩＬ”Ｒ９７２タイプ）をポリマーに対して０．３質量％添加して１時間の攪拌を行った後、重合ポリマー中の塩化水素に対して１０モル％のトリエタノールアミンを添加して１時間の撹拌を行い、ポリマー濃度１０．８質量％の芳香族ポリアミド溶液Ｂを得た。
【００５８】
次に、重合した芳香族ポリアミド溶液Ａを濾過精度１．０μｍのステンレスからなる金属繊維フィルターに通し、また、芳香族ポリアミド溶液Ｂを濾過精度５．０μｍのステンレスからなる金属繊維フィルターに通した後に口金内部で積層した。この時の芳香族ポリアミド溶液ＡとＢの積層比率（厚み比）は、５０％ずつになるようにした。
【００５９】
図１に示した製造装置を用い、径が３０μｍ以上の表面欠点の頻度が０．００６個／ｍｍ２のエンドレスベルト上に、積層した芳香族ポリアミド溶液のＢがベルト面になるよう流延し、１２０℃の熱風で２分間加熱して溶媒を蒸発させ、自己保持性を得た膜体をベルトから連続的に剥離した。
【００６０】
次に、溶媒抽出処理装置の槽内へ膜体を導入して、縦方向に１．１５倍に延伸しながら残存溶媒と中和で生じた無機塩の水抽出を行なった。
【００６１】
その後、得られた膜体を横延伸機のクリップに把持させて、幅方向に１．４６倍延伸を行ないながら２５０℃で１．０分間乾燥と熱処理を行なった後、２０℃／秒の速度で徐冷し、厚みが２．０μｍ、５ｎｍ以上の高さの突起が３６０万個／ｍｍ２、１０ｎｍ以上の高さの突起が８万個／ｍｍ２、１５ｎｍ以上の高さの突起が０．１万個／ｍｍ２、長手方向ヤング率が１１．９ＧＰａ、幅方向ヤング率が１６．９ＧＰａ、寸法変化率は長手方向０．２％、幅方向０．１％、の芳香族ポリアミドフィルムを得た。得られた芳香族ポリアミドフィルムを幅１２７ｍｍ、長さ５００ｍ幅にスリットし、ベルトに接触した面をＢ面、反対面をＡ面として、実験例１の方法で磁気テープを作成し評価を行った。評価の結果はＣ／Ｎが○、耐久性○、磁気ヘッド磨耗○と良好な結果が得られた。得られたフィルム特性と磁気テープ特性を表１に示す。
【００６２】
（実施例２）
Ｎ−メチル−２−ピロリドン（以下ＮＭＰ）に、８５モル％に相当する２−クロロパラフェニレンジアミン（以下ＣＰＡ）と１５モル％に相当するジフェニルエーテル（以下ＤＰＥ）を溶解させ、この溶液を濾過精度１．０μｍのポリプロピレンからなるフィルターに通して濾過した後、重合槽へ移送し、これに濾過精度１．０μｍのポリプロピレンからなるフィルターに通した９８．５モル％に相当するクロロテレフタル酸クロライド（以下ＣＴＰＣ）を添加して、重合前にＰＥＳ（住友化学（株）製  スミカエクセル３６００Ｐ）を芳香族ジアミン成分に対して１８．０質量％になるように添加して、３０℃以下で２時間の撹拌を行い重合ポリマーを得た。
【００６３】
次に、重合ポリマー中の塩化水素に対して９８．５モル％の炭酸リチウムを添加して４時間の中和を行い、重合ポリマー中の塩化水素に対して１０モル％のトリエタノールアミンを添加して１時間の撹拌を行い、ポリマー濃度１０．８質量％の芳香族ポリアミド溶液Ｃを得た。
【００６４】
ＮＭＰに、８５モル％に相当するＣＰＡと１５モル％に相当するＤＰＥを溶解させ、この溶液を濾過精度１．０μｍのポリプロピレンからなるフィルターに通して濾過した後、重合槽へ移送し、これに濾過精度１．０μｍのポリプロピレンからなるフィルターに通した９８．５モル％に相当するＣＴＰＣを添加して、３０℃以下で２時間の撹拌を行い重合ポリマーを得た。次に、重合ポリマー中の塩化水素に対して９８．５モル％の炭酸リチウムを添加して４時間の中和を行い、平均１次粒径が１６５ｎｍのコロイダルシリカ（触媒化成工業株式会社製“ＯＳＣＡＬ”１７２７ＴＨタイプ）の固形分量がポリマーに対して９．０質量％添加して１時間の攪拌を行った後、重合ポリマー中の塩化水素に対して１０モル％のトリエタノールアミンを添加して１時間の撹拌を行い、ポリマー濃度１０．８質量％の芳香族ポリアミド溶液Ｄを得た。
【００６５】
次に、重合した芳香族ポリアミド溶液Ｃを濾過精度１．０μｍのステンレスからなる金属繊維フィルターに通し、また、芳香族ポリアミド溶液Ｄを濾過精度５．０μｍのステンレスからなる金属繊維フィルターに通した後に口金内部で芳香族ポリアミド溶液Ｃの積層比率が８０％になるように積層した。
【００６６】
実施例１と同様に、積層した芳香族ポリアミド溶液のＤがベルト面になるよう流延し、１５０℃の熱風で３分間加熱して溶媒を蒸発させ、自己保持性を得た膜体をベルトから連続的に剥離した。
【００６７】
次に、溶媒抽出処理装置の槽内へ膜体を導入して、縦方向に１．１５倍に延伸しながら残存溶媒と中和で生じた無機塩の水抽出を行なった。
【００６８】
その後、得られた膜体を横延伸機のクリップに把持させて、幅方向に１．４６倍延伸を行ないながら２４２℃で２．０分間乾燥と熱処理を行なった後、２０℃／秒の速度で徐冷し、厚みが１８．０μｍ、５ｎｍ以上の高さの突起が３９６万個／ｍｍ２、１０ｎｍ以上の高さの突起が２８８万個／ｍｍ２、１５ｎｍ以上の高さの突起が０．１万個／ｍｍ２の芳香族ポリアミドフィルムを得た。実施例１と同様に磁気テープを作成し評価を行ったところ、Ｃ／Ｎが○、耐久性○、磁気ヘッド磨耗○と良好な結果が得られた。
【００６９】
得られたフィルム特性と磁気テープ特性を表１に示す。
【００７０】
（実施例３）
Ｎ−メチル−２−ピロリドン（以下ＮＭＰ）に、８５モル％に相当する２−クロロパラフェニレンジアミン（以下ＣＰＡ）と１５モル％に相当するジフェニルエーテル（以下ＤＰＥ）を溶解させ、この溶液を濾過精度１．０μｍのポリプロピレンからなるフィルターに通して濾過した後、重合槽へ移送し、これに濾過精度１．０μｍのポリプロピレンからなるフィルターに通した９８．５モル％に相当するクロロテレフタル酸クロライド（以下ＣＴＰＣ）を添加して、重合前にＰＥＳ（住友化学（株）製  スミカエクセル７６００Ｐ）を芳香族ジアミン成分に対して５．０質量％になるように添加して、３０℃以下で２時間の撹拌を行い重合ポリマーを得た。
【００７１】
次に、重合ポリマー中の塩化水素に対して９８．５モル％の炭酸リチウムを添加して４時間の中和を行い、重合ポリマー中の塩化水素に対して１０モル％のトリエタノールアミンを添加して１時間の撹拌を行い、ポリマー濃度１０．８質量％の芳香族ポリアミド溶液Ｅを得た。
【００７２】
ＮＭＰに、８５モル％に相当するＣＰＡと１５モル％に相当するＤＰＥを溶解させ、この溶液を濾過精度１．０μｍのポリプロピレンからなるフィルターに通して濾過した後、重合槽へ移送し、これに濾過精度１．０μｍのポリプロピレンからなるフィルターに通した９８．５モル％に相当するＣＴＰＣを添加して、３０℃以下で２時間の撹拌を行い重合ポリマーを得た。次に、重合ポリマー中の塩化水素に対して９８．５モル％の炭酸リチウムを添加して４時間の中和を行い、平均１次粒径が８０ｎｍのコロイダルシリカ（触媒化成工業株式会社製“ＯＳＣＡＬ”５１１６タイプ）の固形分量がポリマーに対して５．０質量％添加して１時間の攪拌を行った後、重合ポリマー中の塩化水素に対して１０モル％のトリエタノールアミンを添加して１時間の撹拌を行い、ポリマー濃度１０．８質量％の芳香族ポリアミド溶液Ｆを得た。
【００７３】
次に、重合した芳香族ポリアミド溶液Ｅを濾過精度１．０μｍのステンレスからなる金属繊維フィルターに通し、また、芳香族ポリアミド溶液Ｆを濾過精度５．０μｍのステンレスからなる金属繊維フィルターに通した後に口金内部で芳香族ポリアミド溶液Ｅの積層比率が６５％になるように積層した。
【００７４】
実施例１と同様に、積層した芳香族ポリアミド溶液のＦがベルト面になるよう流延し、１４０℃の熱風で２分間加熱して溶媒を蒸発させ、自己保持性を得た膜体をベルトから連続的に剥離した。
【００７５】
次に、溶媒抽出処理装置の槽内へ膜体を導入して、縦方向に１．１５倍に延伸しながら残存溶媒と中和で生じた無機塩の水抽出を行なった。
【００７６】
その後、得られた膜体を横延伸機のクリップに把持させて、幅方向に１．４２倍延伸を行ないながら２４５℃で２．０分間乾燥と熱処理を行なった後、２０℃／秒の速度で徐冷し、厚みが３．６μｍ、５ｎｍ以上の高さの突起が４２８万個／ｍｍ２、１０ｎｍ以上の高さの突起が２０万個／ｍｍ２、１５ｎｍ以上の高さの突起が０．１万個／ｍｍ２の芳香族ポリアミドフィルムを得た。実施例１と同様に磁気テープを作成し評価を行ったところ、Ｃ／Ｎが○、耐久性○、磁気ヘッド磨耗○と良好な結果が得られた。
【００７７】
得られたフィルム特性と磁気テープ特性を表１に示す。
【００７８】
（比較例１）
Ｎ−メチル−２−ピロリドン（以下ＮＭＰ）に、８５モル％に相当する２−クロロパラフェニレンジアミン（以下ＣＰＡ）と１５モル％に相当するジフェニルエーテル（以下ＤＰＥ）を溶解させ、この溶液を濾過精度１．０μｍのポリプロピレンからなるフィルターに通して濾過した後、重合槽へ移送し、これに濾過精度１．０μｍのポリプロピレンからなるフィルターに通した９８．５モル％に相当するクロロテレフタル酸クロライド（以下ＣＴＰＣ）を添加して、重合前にＰＥＳ（住友化学（株）製  スミカエクセル５２００Ｐ）を芳香族ジアミン成分に対して８．０質量％になるように添加して、３０℃以下で２時間の撹拌を行い重合ポリマーを得た。
【００７９】
次に、重合ポリマー中の塩化水素に対して９８．５モル％の炭酸リチウムを添加して４時間の中和を行い、重合ポリマー中の塩化水素に対して１０モル％のトリエタノールアミンを添加して１時間の撹拌を行い、ポリマー濃度１０．８質量％の芳香族ポリアミド溶液Ｇを得た。
【００８０】
ＮＭＰに、８５モル％に相当するＣＰＡと１５モル％に相当するＤＰＥを溶解させ、この溶液を濾過精度１．０μｍのポリプロピレンからなるフィルターに通して濾過した後、重合槽へ移送し、これに濾過精度１．０μｍのポリプロピレンからなるフィルターに通した９８．５モル％に相当するＣＴＰＣを添加して、３０℃以下で２時間の撹拌を行い重合ポリマーを得た。次に、重合ポリマー中の塩化水素に対して９８．５モル％の炭酸リチウムを添加して４時間の中和を行い、平均１次粒径が２８０ｎｍのコロイダルシリカ（触媒化成工業株式会社製“ＯＳＣＡＬ”２７２３Ｈタイプ）の固形分量がポリマーに対して８．０質量％添加して１時間の攪拌を行った後、重合ポリマー中の塩化水素に対して１０モル％のトリエタノールアミンを添加して１時間の撹拌を行い、ポリマー濃度１０．８質量％の芳香族ポリアミド溶液Ｈを得た。
【００８１】
次に、重合した芳香族ポリアミド溶液Ｇを濾過精度１．０μｍのステンレスからなる金属繊維フィルターに通し、また、芳香族ポリアミド溶液Ｆを濾過精度５．０μｍのステンレスからなる金属繊維フィルターに通した後に口金内部で芳香族ポリアミド溶液Ｈの積層比率が３５％になるように積層した。
【００８２】
実施例１と同様に、積層した芳香族ポリアミド溶液のＨがベルト面になるよう流延し、１３０℃の熱風で２分間加熱して溶媒を蒸発させ、自己保持性を得た膜体をベルトから連続的に剥離した。
【００８３】
次に、溶媒抽出処理装置の槽内へ膜体を導入して、縦方向に１．１５倍に延伸しながら残存溶媒と中和で生じた無機塩の水抽出を行なった。
【００８４】
その後、得られた膜体を横延伸機のクリップに把持させて、幅方向に１．４４倍延伸を行ないながら２５５℃で２．０分間乾燥と熱処理を行なった後、２０℃／秒の速度で徐冷し、厚みが３．８μｍ、５ｎｍ以上の高さの突起が２３６万個／ｍｍ２、１０ｎｍ以上の高さの突起が０．１万個／ｍｍ２、１５ｎｍ以上の高さの突起が０．１万個／ｍｍ２の芳香族ポリアミドフィルムを得た。実施例１と同様に磁気テープを作成し評価を行ったところ、Ｃ／Ｎが○、耐久性×、磁気ヘッド磨耗×となった。
【００８５】
得られたフィルム特性と磁気テープ特性を表１に示す。
【００８６】
（比較例２）
Ｎ−メチル−２−ピロリドン（以下ＮＭＰ）に、８５モル％に相当する２−クロロパラフェニレンジアミン（以下ＣＰＡ）と１５モル％に相当するジフェニルエーテル（以下ＤＰＥ）を溶解させ、この溶液を濾過精度１．０μｍのポリプロピレンからなるフィルターに通して濾過した後、重合槽へ移送し、これに濾過精度１．０μｍのポリプロピレンからなるフィルターに通した９８．５モル％に相当するクロロテレフタル酸クロライド（以下ＣＴＰＣ）を添加して、重合前にＰＥＳ（住友化学（株）製  スミカエクセル４１００Ｐ）を芳香族ジアミン成分に対して４．０質量％になるように添加して、３０℃以下で２時間の撹拌を行い重合ポリマーを得た。
【００８７】
次に、重合ポリマー中の塩化水素に対して９８．５モル％の炭酸リチウムを添加して４時間の中和を行い、重合ポリマー中の塩化水素に対して１０モル％のトリエタノールアミンを添加して１時間の撹拌を行い、ポリマー濃度１０．８質量％の芳香族ポリアミド溶液Ｉを得た。
【００８８】
ＮＭＰに、８５モル％に相当するＣＰＡと１５モル％に相当するＤＰＥを溶解させ、この溶液を濾過精度１．０μｍのポリプロピレンからなるフィルターに通して濾過した後、重合槽へ移送し、これに濾過精度１．０μｍのポリプロピレンからなるフィルターに通した９８．５モル％に相当するＣＴＰＣを添加して、３０℃以下で２時間の撹拌を行い重合ポリマーを得た。次に、重合ポリマー中の塩化水素に対して９８．５モル％の炭酸リチウムを添加して４時間の中和を行い、平均１次粒径が１６ｎｍのシリカ（日本アエロジル株式会社製“ＡＥＲＯＳＩＬ”Ｒ９７２タイプ）をポリマーに対して１５．０質量％添加して１時間の攪拌を行った後、重合ポリマー中の塩化水素に対して１０モル％のトリエタノールアミンを添加して１時間の撹拌を行い、ポリマー濃度１０．８質量％の芳香族ポリアミド溶液Ｊを得た。
【００８９】
次に、重合した芳香族ポリアミド溶液Ｉを濾過精度１．０μｍのステンレスからなる金属繊維フィルターに通し、また、芳香族ポリアミド溶液Ｊを濾過精度５．０μｍのステンレスからなる金属繊維フィルターに通した後に口金内部で芳香族ポリアミド溶液Ｉの積層比率が１５％になるように積層した。
【００９０】
実施例１と同様に、積層した芳香族ポリアミド溶液のＪがベルト面になるよう流延し、１５０℃の熱風で２分間加熱して溶媒を蒸発させ、自己保持性を得た膜体をベルトから連続的に剥離した。
【００９１】
次に、溶媒抽出処理装置の槽内へ膜体を導入して、縦方向に１．０６倍に延伸しながら残存溶媒と中和で生じた無機塩の水抽出を行なった。
【００９２】
その後、得られた膜体を横延伸機のクリップに把持させて、幅方向に１．０８倍延伸を行ないながら２８０℃で２．０分間乾燥と熱処理を行なった後、２０℃／秒の速度で徐冷し、厚みが１２．０μｍ、５ｎｍ以上の高さの突起が３６万個／ｍｍ２、１０ｎｍ以上の高さの突起が０．１万個／ｍｍ２、１５ｎｍ以上の高さの突起が０．１万個／ｍｍ２の芳香族ポリアミドフィルムを得た。実施例１と同様に磁気テープを作成し評価を行ったところ、Ｃ／Ｎが×、耐久性×、磁気ヘッド磨耗×となった。
【００９３】
得られたフィルム特性と磁気テープ特性を表１に示す。
【００９４】
（比較例３）
Ｎ−メチル−２−ピロリドン（以下ＮＭＰ）に、８５モル％に相当する２−クロロパラフェニレンジアミン（以下ＣＰＡ）と１５モル％に相当するジフェニルエーテル（以下ＤＰＥ）を溶解させ、この溶液を濾過精度１．０μｍのポリプロピレンからなるフィルターに通して濾過した後、重合槽へ移送し、これに濾過精度１．０μｍのポリプロピレンからなるフィルターに通した９８．５モル％に相当するクロロテレフタル酸クロライド（以下ＣＴＰＣ）を添加して、重合前にＰＥＳ（住友化学（株）製  スミカエクセル５９００Ｐ）を芳香族ジアミン成分に対して２２．０質量％になるように添加して、３０℃以下で２時間の撹拌を行い重合ポリマーを得た。
【００９５】
次に、重合ポリマー中の塩化水素に対して９８．５モル％の炭酸リチウムを添加して４時間の中和を行い、重合ポリマー中の塩化水素に対して１０モル％のトリエタノールアミンを添加して１時間の撹拌を行い、ポリマー濃度１０．８質量％の芳香族ポリアミド溶液Ｋを得た。
【００９６】
ＮＭＰに、８５モル％に相当するＣＰＡと１５モル％に相当するＤＰＥを溶解させ、この溶液を濾過精度１．０μｍのポリプロピレンからなるフィルターに通して濾過した後、重合槽へ移送し、これに濾過精度１．０μｍのポリプロピレンからなるフィルターに通した９８．５モル％に相当するＣＴＰＣを添加して、３０℃以下で２時間の撹拌を行い重合ポリマーを得た。次に、重合ポリマー中の塩化水素に対して９８．５モル％の炭酸リチウムを添加して４時間の中和を行い、平均１次粒径が２８０ｎｍのシリカ（触媒化成工業株式会社製“ＯＳＣＡＬ”２７２３Ｈタイプ）の固形分量がポリマーに対して１．０質量％添加して１時間の攪拌を行った後、重合ポリマー中の塩化水素に対して１０モル％のトリエタノールアミンを添加して１時間の撹拌を行い、ポリマー濃度１０．８質量％の芳香族ポリアミド溶液Ｌを得た。
【００９７】
次に、重合した芳香族ポリアミド溶液Ｋを濾過精度１．０μｍのステンレスからなる金属繊維フィルターに通し、また、芳香族ポリアミド溶液Ｌを濾過精度５．０μｍのステンレスからなる金属繊維フィルターに通した後に口金内部で芳香族ポリアミド溶液Ｋの積層比率が９５％になるように積層した。
【００９８】
実施例１と同様に、積層した芳香族ポリアミド溶液のＫがベルト面になるよう流延し、１３５℃の熱風で２分間加熱して溶媒を蒸発させ、自己保持性を得た膜体をベルトから連続的に剥離した。
【００９９】
次に、溶媒抽出処理装置の槽内へ膜体を導入して、縦方向に１．１５倍に延伸しながら残存溶媒と中和で生じた無機塩の水抽出を行なった。
【０１００】
その後、得られた膜体を横延伸機のクリップに把持させて、幅方向に１．４４倍延伸を行ないながら２３８℃で２．０分間乾燥と熱処理を行なった後、２０℃／秒の速度で徐冷し、厚みが８．０μｍ、５ｎｍ以上の高さの突起が７１２万個／ｍｍ２、１０ｎｍ以上の高さの突起が３０６万個／ｍｍ２、１５ｎｍ以上の高さの突起が０．３万個／ｍｍ２の芳香族ポリアミドフィルムを得た。実施例１と同様に磁気テープを作成し評価を行ったところ、Ｃ／Ｎが×、耐久性×、磁気ヘッド磨耗×となった。
【０１０１】
得られたフィルム特性と磁気テープ特性を表１に示す。
【０１０２】
【表１】
2018137026.tif 000007
【符号の説明】
【０１０３】
１  口金
２  支持体
３  ポリマー溶液
４  乾燥機
５  溶媒抽出処理装置
５ａ  駆動ローラー
５ｂ  従動ローラー
６  横延伸機
７  膜厚測定器
８  巻取機
【図１】
2018137026.tif 000008