(57)【要約】【課題】ＦＯＤを小さくしつつターゲットを移動することができるＸ線管及びＸ線発生装置を提供する。【解決手段】Ｘ線管１は、真空筐体１０と、ターゲット部２０と、Ｘ線出射窓３０と、弾性部材４０と、移動機構５０と、を備える。真空筐体１０は、真空の内部空間Ｒを有する。ターゲット部２０は、内部空間Ｒに配置されている。ターゲット部２０は、電子ビームＢの入射によりＸ線を発生するターゲットＴ及びターゲットＴで発生したＸ線を透過させるターゲット支持基板２３を含む。Ｘ線出射窓３０は、ターゲット支持基板２３と対向するように設けられ、真空筐体１０の開口部１４を封止し、ターゲット支持基板２３を透過したＸ線を透過させる。弾性部材４０は、ターゲット部２０をＸ線出射窓３０に近づく方向に押圧する。移動機構５０は、弾性部材４０で押圧されたターゲット部２０を、移動方向Ａに沿って移動させる。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空の内部空間を有する真空筐体と、
前記内部空間に配置され、電子ビームの入射によりＸ線を発生するターゲットと前記ターゲットを支持し且つ前記ターゲットで発生した前記Ｘ線を透過させるターゲット支持部とを含むターゲット部と、
前記ターゲット支持部と対向するように設けられ、前記真空筐体の開口部を封止し、前記ターゲット支持部を透過した前記Ｘ線を透過させるＸ線出射窓と、
前記ターゲット部を前記Ｘ線出射窓に近づく方向に押圧する弾性部材と、
前記弾性部材で押圧された前記ターゲット部を、前記電子ビームの入射方向と交差する方向に沿って移動させるターゲット移動部と、を備える、Ｘ線管。
【請求項２】
前記ターゲット部は、前記ターゲット移動部と接続され前記ターゲット及び前記ターゲット支持部を保持するターゲット保持部を含み、
前記弾性部材は、前記ターゲット保持部を押圧する、請求項１に記載のＸ線管。
【請求項３】
前記弾性部材は、金属により形成されている、請求項１又は２に記載のＸ線管。
【請求項４】
前記真空筐体は、前記内部空間における前記ターゲット部の前記Ｘ線出射窓側とは反対側に設けられ前記ターゲット部を前記弾性部材を介して支持する弾性部材支持部を有し、
前記ターゲット部及び前記弾性部材支持部の少なくとも一方には、前記弾性部材を位置決めする位置決め部が設けられている、請求項１〜３の何れか一項に記載のＸ線管。
【請求項５】
前記位置決め部は、前記ターゲット部及び前記弾性部材支持部の何れか一方に設けられた溝部であり、
前記弾性部材は、前記ターゲット部と前記弾性部材支持部と間において、前記溝部に収容された状態で前記ターゲット部及び前記弾性部材支持部の何れかに対して摺動可能に保持されている、請求項４に記載のＸ線管。
【請求項６】
前記ターゲット移動部による前記ターゲット部の移動をガイドするガイド部を備える、請求項１〜５の何れか一項に記載のＸ線管。
【請求項７】
前記ガイド部は、
前記ターゲット部及び前記真空筐体の何れか一方に設けられ、前記ターゲット移動部による前記ターゲット部の移動方向に沿って長尺の凹部と、
前記ターゲット部及び前記真空筐体の何れか他方に設けられ、前記凹部内に進入する凸部と、を有する、請求項６に記載のＸ線管。
【請求項８】
前記弾性部材は、前記ターゲット部が前記真空筐体の内壁面に接触するように前記ターゲット部を押圧する、請求項１〜７の何れか一項に記載のＸ線管。
【請求項９】
前記ターゲット部は、前記真空筐体の内壁面と摺動するように前記ターゲット移動部により移動し、
前記ターゲット部において前記内壁面に当接する領域、及び、前記内壁面において前記ターゲット部に当接する領域のうちの少なくとも一方は、前記ターゲット支持部の表面よりも表面粗さが粗い粗面部を含む、請求項１〜８の何れか一項に記載のＸ線管。
【請求項１０】
前記Ｘ線出射窓は、前記ターゲット支持部と離間している、請求項１〜９の何れか一項に記載のＸ線管。
【請求項１１】
前記ターゲット部には、前記ターゲット支持部と前記Ｘ線出射窓との間に画成された離間空間内から当該離間空間外へ通じる貫通孔が形成されている、請求項１〜１０の何れか一項に記載のＸ線管。
【請求項１２】
請求項１〜１１の何れか一項に記載のＸ線管と、
前記Ｘ線管の少なくとも一部を収容すると共に、絶縁油が封入された筐体と、
前記Ｘ線管に給電部を介して電気的に接続された電源部と、を備える、Ｘ線発生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、Ｘ線管及びＸ線発生装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、特許文献１，２に記載されたＸ線管が知られている。特許文献１に記載されたＸ線管は、ターゲットが配置されたターゲット基台と、ターゲット基台を固定するターゲットホルダと、電子ビーム光軸に対して直角な平面でターゲット基台を移動させる機構と、を備える。特許文献２に記載されたＸ線管は、内部を真空可能な管本体と、管本体の内部に設けられたターゲットと、管本体の内部でターゲットを移動させる機構と、管本体に設けられたＸ線出射窓と、を備える。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第３８１２１６５号公報
【特許文献２】特開２００１−３５４２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、Ｘ線管では、ターゲットが電子ビームの入射により損傷し、発生させるＸ線の線量が低下してしまう場合がある。そのため、ターゲットにおける当該損傷箇所以外の箇所に電子ビームが入射されるように、ターゲットを移動可能に構成することが求められている。この点、上記特許文献１に記載されたＸ線管では、Ｘ線管の外部に露出したターゲット基台を移動させてターゲットを移動することが図られている。しかし、移動させるターゲット基台とターゲットホルダとの間を気密に封止する必要があることから、十分な気密性を保ったままターゲットを移動させるのは難しい。
【０００５】
一方、上記特許文献２に記載されたＸ線管では、管本体の内部にターゲットが収容されており、管本体の内部でターゲットが移動する。そのため、ターゲットの移動に際しての十分な気密性の確保は可能であるものの、ターゲットとＸ線出射窓とが離れた位置関係で保持されているために、ＦＯＤ（Focus  to  Object  Distance）が大きい。Ｘ線管を用いて被検体を撮像する際、撮像画像上における被検体の幾何学倍率を上げるためには、Ｘ線焦点から被検体までの距離であるＦＯＤを小さくすることが望まれる。
【０００６】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、ＦＯＤを小さくしつつターゲットを移動することができるＸ線管及びＸ線発生装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係るＸ線管は、真空の内部空間を有する真空筐体と、内部空間に配置され、電子ビームの入射によりＸ線を発生するターゲットとターゲットを支持し且つターゲットで発生したＸ線を透過させるターゲット支持部とを含むターゲット部と、ターゲット支持部と対向するように設けられ、真空筐体の開口部を封止し、ターゲット支持部を透過したＸ線を透過させるＸ線出射窓と、ターゲット部をＸ線出射窓に近づく方向に押圧する弾性部材と、弾性部材で押圧されたターゲット部を、電子ビームの入射方向と交差する方向に沿って移動させるターゲット移動部と、を備える。
【０００８】
このＸ線管では、弾性部材によりターゲット部がＸ線出射窓に近づく方向に押圧される。これにより、ターゲットをＸ線出射窓に近づけることができる。そして、ターゲット移動部によりターゲット部を移動させても、ターゲットをＸ線出射窓に近づけた状態で保持することができる。したがって、ＦＯＤを小さくしつつターゲットを移動することが可能となる。
【０００９】
本発明に係るＸ線管では、ターゲット部は、ターゲット移動部と接続されターゲット及びターゲット支持部を保持するターゲット保持部を含み、弾性部材は、ターゲット保持部を押圧してもよい。この構成によれば、ターゲット部の移動及び弾性部材の押圧に起因する物理的な応力がターゲット及びターゲット支持部に直接加わることを抑制できる。
【００１０】
本発明に係るＸ線管では、弾性部材は、金属により形成されていてもよい。この構成によれば、弾性部材からのガス放出を抑制できる。
【００１１】
本発明に係るＸ線管では、真空筐体は、内部空間におけるターゲット部のＸ線出射窓側とは反対側に設けられターゲット部を弾性部材を介して支持する弾性部材支持部を有し、ターゲット部及び弾性部材支持部の少なくとも一方には、弾性部材を位置決めする位置決め部が設けられていてもよい。この構成によれば、弾性部材を位置決めし、ＦＯＤの変化を抑制することが可能となる。
【００１２】
本発明に係るＸ線管では、位置決め部は、ターゲット部及び弾性部材支持部の何れか一方に設けられた溝部であり、弾性部材は、ターゲット部と弾性部材支持部と間において、溝部に収容された状態でターゲット部及び弾性部材支持部の何れかに対して摺動可能に保持されていてもよい。この構成によれば、ターゲット移動部によるターゲット部の移動の際、弾性部材が溝部で確実に位置決めされつつ摺動するため、ターゲット部の移動の影響で弾性部材の押圧方向が変化することを抑制でき、ターゲット部とＸ線出射窓との配置関係を一定に保つことができる。
【００１３】
本発明に係るＸ線管は、ターゲット移動部によるターゲット部の移動をガイドするガイド部を備えていてもよい。この構成によれば、ターゲット部が意図しない方向へ移動してしまうことを抑制できる。
【００１４】
本発明に係るＸ線管では、ガイド部は、ターゲット部及び真空筐体の何れか一方に設けられ、ターゲット移動部によるターゲット部の移動方向に沿って長尺の凹部と、ターゲット部及び真空筐体の何れか他方に設けられ、凹部内に進入する凸部と、を有していてもよい。この構成によれば、凹部及び凸部によりターゲット部の移動をガイドできる。
【００１５】
本発明に係るＸ線管では、弾性部材は、ターゲット部が真空筐体の内壁面に接触するようにターゲット部を押圧してもよい。この構成によれば、ターゲット部を真空筐体の内壁面で位置決めし、ＦＯＤの変化を抑制することが可能となる。
【００１６】
本発明に係るＸ線管では、ターゲット部は、真空筐体の内壁面と摺動するようにターゲット移動部により移動し、ターゲット部において内壁面に当接する領域、及び、内壁面においてターゲット部に当接する領域のうちの少なくとも一方は、ターゲット支持部の表面よりも表面粗さが粗い粗面部を含んでいてもよい。この構成によれば、当接するターゲット部と真空筐体との間の接触面積を低減し、ターゲット部の移動の際における抵抗を低減することが可能となる。
【００１７】
本発明に係るＸ線管では、Ｘ線出射窓は、ターゲット支持部と離間していてもよい。この構成によれば、ターゲット部の移動が容易になると共に、当該移動によるＸ線出射窓とターゲット支持部との擦れの可能性を低減することが可能となる。
【００１８】
本発明のＸ線管では、ターゲット部には、ターゲット支持部とＸ線出射窓との間に画成された離間空間内から当該離間空間外へ通じる貫通孔が形成されていてもよい。この構成によれば、貫通孔を利用して離間空間の真空排気を効率よく行うことができる。
【００１９】
本発明に係るＸ線発生装置は、上記Ｘ線管と、Ｘ線管の少なくとも一部を収容すると共に、絶縁油が封入された筐体と、Ｘ線管に給電部を介して電気的に接続された電源と、を備える。
【００２０】
このＸ線発生装置においても、上記Ｘ線管により、ＦＯＤを小さくしつつターゲットを移動することが可能となるという上記効果が奏される。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、ＦＯＤを小さくしつつターゲットを移動することができるＸ線管及びＸ線発生装置を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】実施形態に係るＸ線発生装置を示す縦断面図である。
【図２】実施形態に係るＸ線管を示す縦断面図である。
【図３】実施形態に係るＸ線管のＸ線出射側を示す縦断面図である。
【図４】（ａ）は、図３のターゲット部の移動を説明する拡大縦断面図である。（ｂ）は、図３のターゲット部の移動を説明する他の拡大縦断面図である。
【図５】図３のターゲット部を示す分解斜視図である。
【図６】図３のターゲット移動板の下面側を示す斜視図である。
【図７】変形例に係るＸ線管のターゲット部の移動を説明する拡大縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、図面を参照しつつ本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。以下の説明において同一又は相当要素には同一符号を付し、重複する説明を省略する。
【００２４】
図１は、実施形態に係るＸ線発生装置を示す縦断面図である。図２は、実施形態に係るＸ線管を示す縦断面図である。図１に示されるように、Ｘ線発生装置１００は、例えば、被検体の内部構造を観察するＸ線非破壊検査に用いられる微小焦点Ｘ線源である。Ｘ線発生装置１００は、Ｘ線管１、筐体Ｃ及び電源部８０を備える。
【００２５】
図２に示されるように、Ｘ線管１は、ターゲットＴに対して、電子銃１１０からの電子ビームＢが入射することにより発生し且つ当該ターゲットＴ自身を透過したＸ線Ｘを、Ｘ線出射窓３０から出射する透過型のＸ線管である。Ｘ線管１は、真空の内部空間Ｒを有する真空筐体１０を備えた、部品交換等が不要な真空封止型のＸ線管である。
【００２６】
真空筐体１０は、略円柱状の外形を呈する。真空筐体１０は、金属材料（例えばステンレス鋼）により形成されたヘッド部４と、絶縁性材料（例えばガラス）により形成された絶縁バルブ２と、を備える。ヘッド部４には、Ｘ線出射窓３０が固定されている。ヘッド部４は、本体部１１及び上蓋１２を有する。絶縁バルブ２には、電子銃１１０が固定されている。絶縁バルブ２は、Ｘ線出射窓３０と対向する端部側からＸ線出射窓３０側に向かって折り返されるように延在して形成された凹部１１６を有する。また、絶縁バルブ２は、凹部１１６のＸ線出射窓３０側の端部を封止するように設けられたステム部１１５を有する。ステム部１１５は、給電等に用いるステムピンＳを介して内部空間Ｒの所定位置で電子銃１１０を保持する。つまり、凹部１１６によって、ヘッド部４と電子銃１１０との沿面距離を延ばして耐電圧特性を向上させると共に、内部空間Ｒ内において電子銃１１０をターゲットＴに近づけて配置することで、電子ビームＢを微小焦点化させやすくしている。
【００２７】
電子銃１１０は、通電によって発熱するフィラメントにより形成されたヒーター１１１と、ヒーター１１１によって加熱され電子放出源となるカソード１１２と、カソード１１２から放出される電子の量を制御する第１グリッド電極１１３と、第１グリッド電極１１３を通過した電子をターゲットＴに向けて集束する円筒状の第２グリッド電極１１４と、を備える。Ｘ線管１は、後述の筒部材７０の一端側に固定されている。なお、Ｘ線管１には、図示しない排気管が付設され、この排気管を介して内部が真空引きされることによって真空封止されている。
【００２８】
Ｘ線発生装置１００の筐体Ｃは、筒部材７０と、電源部８０を収容する電源部ケース８４と、を備える。筒部材７０は、金属により形成されている。筒部材７０は、その両端に開口を有する円筒状を呈する。筒部材７０は、その一端側の開口７０ａにＸ線管１の絶縁バルブ２が挿入されている。これにより、筒部材７０は、Ｘ線管１の少なくとも一部を収容する。筒部材７０の一端面には、Ｘ線管１の取付フランジ３が当接され且つネジ等で固定されている。これにより、Ｘ線管１は、筒部材７０の開口７０ａにて固定されつつ、開口７０ａを封止している。筒部材７０の内部には、液状の電気絶縁性物質である絶縁油７１が封入されている。
【００２９】
電源部８０は、Ｘ線管１に電力を供給する機能を有する。電源部８０は、エポキシ樹脂からなる絶縁ブロック８１と、絶縁ブロック８１中にモールドされた高電圧発生回路を含む内部基板８２と、を有し、矩形箱状を呈する電源部ケース８４に収容される。電源部８０には、筒部材７０の他端側（Ｘ線管１側である一端側とは反対側）が固定されている。これにより、筒部材７０の他端側の開口７０ｂが封止され、絶縁油７１が筒部材７０の内部に気密に封入される。
【００３０】
絶縁ブロック８１上には、内部基板８２に電気的に接続された円筒状のソケットを含む高圧給電部９０が配置されている。電源部８０は、高圧給電部９０を介してＸ線管１に電気的に接続されている。より詳細には、高圧給電部９０のＸ線管１側である一端側が、Ｘ線管１の絶縁バルブ２の凹部１１６内に挿入されてステム部１１５から突出するステムピンＳと電気的に接続されている。これと共に、高圧給電部９０の電源部８０側である他端側が、内部基板８２に電気的に接続された状態で絶縁ブロック８１に固定されている。絶縁ブロック８１には、Ｘ線管１と同軸の環状の壁部８３が、Ｘ線管１及び筒部材７０と離間した状態で、筒部材７０と電源部８０との接続部を高圧給電部９０から遮蔽するように突設されている。なお、本実施形態においては、ターゲットＴ（アノード）を接地電位とし、電源部８０からはマイナスの高電圧（例えば−１０ｋＶ〜−５００ｋＶ）が高圧給電部９０を介して電子銃１１０に供給される。
【００３１】
図３は、実施形態に係るＸ線管のＸ線出射側を示す縦断面図である。図４は、ターゲット部の移動を説明する拡大縦断面図である。図５は、ターゲット部を示す分解斜視図である。図３及び図４に示されるように、Ｘ線管１は、真空筐体１０と、ターゲット部２０と、Ｘ線出射窓３０と、弾性部材４０と、移動機構（ターゲット移動部）５０と、を備える。
【００３２】
なお、本実施形態の説明では、Ｘ線管１がＸ線を出射する方向側を単に「Ｘ線出射側」又は「上側」と称する。また、Ｘ線管１の管軸を「軸ＴＡ」，電子ビームＢのターゲットＴへの入射方向軸を「軸ＢＡ」、及び、Ｘ線Ｘの出射方向軸を「軸ＸＡ」とすると、本実施形態においては、電子銃１１０から出射された電子ビームＢは、軸ＴＡと同軸になるように内部空間ＲをターゲットＴに向かって進行し、軸ＴＡ上でターゲットＴに垂直に入射し、Ｘ線を発生する。つまり、軸ＴＡ，軸ＢＡ、軸ＸＡは全て同軸となっているため、これらをまとめて軸ＡＸとも称する。
【００３３】
真空筐体１０のＸ線出射側には、内部空間Ｒを画成する壁部としてヘッド部４を備える。ヘッド部４は、金属材料（例えばステンレス鋼）により形成された本体部１１及び上蓋１２を含む。ヘッド部４は、電位的にＸ線管１のアノードに相当する。本体部１１は、円筒状を呈する。本体部１１は、電位的にＸ線管１のアノードに相当する。本体部１１は、両端に開口を備えた、軸ＡＸと同軸の略円筒状を呈する。本体部１１におけるＸ線出射側の一端側の開口１１ａには、上蓋１２が固定されている。本体部１１は、電子銃１１０側の他端側の開口において、軸ＡＸと同軸の絶縁バルブ２と連通する（図２参照）。本体部１１の壁面の一部には、移動機構５０を収容する収容空間Ｉとなる凹部が形成されている。収容空間Ｉの径方向内側且つ上側は、連通孔１１ｂを介して内部空間Ｒと連通する。連通孔１１ｂには、移動機構５０の後述のピン５１が挿通されている。
【００３４】
上蓋１２は、本体部１１と電気的に接続された状態で、本体部１１おけるＸ線出射側の一端側の開口１１ａを塞ぐように設けられている。上蓋１２は、軸ＡＸと同軸の円板状を呈する。上蓋１２の上面には、当該上蓋１２と同心の断面円形の凹部１３が形成されている。凹部１３の底面には、上蓋１２と同心の断面円形の開口部１４が形成されており、軸ＡＸと同軸のＸ線通過孔となっている。
【００３５】
真空筐体１０は、支持台（弾性部材支持部）１５をさらに含む。支持台１５は、軸ＡＸと同軸に配置された円板状を呈する。支持台１５は、内部空間Ｒにおいて、ターゲットＴ（ターゲット部２０）の配置空間と電子銃１１０の配置空間とを仕切るように、上蓋１２に対して所定間隔を空けて平行に配置されている。支持台１５は、ターゲット部２０の下側（Ｘ線出射窓３０側とは反対側の電子銃１１０側）に設置されている。支持台１５上には、ターゲット部２０が弾性部材４０を介して載せられている。支持台１５は、ターゲット部２０を弾性部材４０を介して支持する。支持台１５には、軸ＡＸと同軸、つまり当該支持台１５と同心の断面円形の貫通孔であってターゲットＴに向かう電子ビームＢが通過する電子ビーム通過孔１６が形成されている。ターゲットＴ（ターゲット部２０）の配置空間と電子銃１１０の配置空間とは、少なくとも電子ビーム通過孔１６を介して連通されている。
【００３６】
ターゲット部２０は、内部空間Ｒに配置されている。ターゲット部２０は、ターゲットＴ、ターゲット移動板（ターゲット保持部）２１及びターゲット支持基板（ターゲット支持部）２３を有する。ターゲットＴは、電子ビームＢの入射によりＸ線を発生する。ターゲットＴとしては、例えばタングステンが用いられている。ターゲットＴは、後述するように、少なくともターゲット支持基板２３の下面に膜状に形成されている。
【００３７】
ターゲット移動板２１は、ターゲットＴ及びターゲット支持基板２３を保持する。ターゲット移動板２１は、電子ビームＢの入射方向（照射方向）と交差する所定方向である移動方向Ａに沿って、ターゲットＴを移動させる。ここでの移動方向Ａは、ターゲットＴに対する電子ビームＢの入射方向、つまり軸ＢＡ（軸ＡＸ）に対して直交する一方向であって、真空筐体１０の径方向である。ターゲット移動板２１は、軸ＢＡ（軸ＡＸ）に沿った方向に延びる中心軸を持った円板状を呈する。ターゲット移動板２１は、当該中心軸が移動方向Ａに沿って平行移動するように移動機構５０によって移動される。ターゲット移動板２１は、熱伝導性が一定値よりも高く、且つ、熱膨張率がターゲット支持基板２３に近く、ターゲット支持基板２３よりも擦れによる破損又は異物発生の少ない材料で形成されている。例えばターゲット移動板２１は、モリブデンで形成されている。ターゲット移動板２１は、上蓋１２の内壁面と当接すると共に、上蓋１２と平行に配置されている。
【００３８】
ターゲット移動板２１の上面には、ターゲット移動板２１と同軸の円形凸部２４が形成されている。円形凸部２４は、ターゲット移動板２１と上蓋１２とが当接した状態において、上蓋１２の開口部１４内に進入する。円形凸部２４は、開口部１４の内径よりも小さい外径を有する。より詳細には、円形凸部２４は、開口部１４が構成する後述の離間空間Ｒ２内において移動方向Ａに沿って所定距離移動可能な外形を有する。円形凸部２４には、ターゲット移動板２１と同心の断面円形の貫通孔２５が形成されており、この貫通孔２５は、ターゲットＴに向かう電子ビームＢが通過する電子ビーム通過孔となる。ターゲット移動板２１は、移動機構５０のピン５１が挿入される孔であって移動方向Ａにおける一方側に形成された孔部２７を有する。ターゲット移動板２１は、孔部２７を介して移動機構５０と接続されている。
【００３９】
図２〜図５に示されるように、ターゲット支持基板２３は、ターゲットＴを支持する。ターゲット支持基板２３は、ターゲットＴで発生したＸ線を透過させる第１のＸ線透過窓を構成する。ターゲット支持基板２３は、円板状を呈する。ターゲット支持基板２３は、例えばダイヤモンド又はベリリウム等のＸ線透過性の高い材料で形成されている。ターゲット支持基板２３の外径は、ターゲット移動板２１の円形凸部２４の外径に対応することが好ましい。なお、ターゲット支持基板２３の外径は、円形凸部２４の外径に対して多少の大小があってもよい。ターゲット支持基板２３は、円形凸部２４上に、貫通孔２５を塞ぐように環状のシール部材２８を介して設けられている。シール部材２８は、ターゲット移動板２１とターゲット支持基板２３とを接合する。シール部材２８は、例えばアルミニウムで形成されている。ターゲット支持基板２３及びシール部材２８は、ターゲット移動板２１と同軸に配置されている。
【００４０】
図４に示されるように、ターゲット支持基板２３の下面には、ターゲットＴが膜状に形成されている。具体的には、ターゲット支持基板２３の下面、ターゲット移動板２１の貫通孔２５の内面及びターゲット移動板２１の下面を含む領域に、ターゲットＴが蒸着によって膜状に形成されている。
【００４１】
Ｘ線出射窓３０は、真空筐体１０の上蓋１２において、ターゲット支持基板２３と対向するように設けられている。Ｘ線出射窓３０は、ターゲット支持基板２３と離間している。Ｘ線出射窓３０は、軸ＡＸと同軸方向視において（つまり、上方から見て、或いは、Ｘ線出射窓３０を外側から対面するように見て）、常にターゲット支持基板２３のＸ線出射部分を含むような大きさ及び配置とされている。Ｘ線出射窓３０は、ターゲット支持基板２３を透過したＸ線を透過させる第２のＸ線透過窓を構成する。Ｘ線出射窓３０は、円板状を呈する。Ｘ線出射窓３０は、例えばベリリウム又はダイヤモンド等のＸ線透過性の高い材料で形成されている。Ｘ線出射窓３０は、上蓋１２の凹部１３の底面に軸ＡＸと同軸に配置されている。Ｘ線出射窓３０は、真空筐体１０の開口部１４を封止する。具体的には、Ｘ線出射窓３０は、開口部１４であってターゲット部２０と対面するＸ線出射部分を封止して真空保持する。
【００４２】
弾性部材４０は、ターゲット部２０をＸ線出射窓３０に近づく方向に押圧する。弾性部材４０としては、例えばターゲット移動板２１と同軸の略円錐形状のコイルばねが用いられている。弾性部材４０は、金属により形成されている。例えば弾性部材４０は、ニッケルクロム系の合金により形成されている。弾性部材４０は、ターゲット部２０が上蓋１２の下面（真空筐体１０の内壁面）に接触するようにターゲット部２０を押圧する。
【００４３】
弾性部材４０は、ターゲット移動板２１と支持台１５との間に介在されている。具体的には、弾性部材４０は、コイルばねの略円錐形状を圧縮して、側面の傾斜がより緩やかな略円錐形状に変形させた状態でターゲット移動板２１と支持台１５との間に配置されている。弾性部材４０は、ターゲット移動板２１の下面を支持台１５の上面を基準にＸ線出射側へ押し付ける。例えば円錐コイルばねである弾性部材４０のバネ定数は、０．０１〜１Ｎ／ｍｍであり、より好ましくは、０．０５〜０．５Ｎ／ｍｍである。
【００４４】
移動機構５０は、弾性部材４０で押圧された状態のターゲット部２０を移動方向Ａに沿って移動させる機構である。移動機構５０は、ネジを利用してターゲット部２０を移動させる。移動機構５０は、ピン５１、リューズ５２、螺合機構５３及び蛇腹５４を有する。
【００４５】
ピン５１は、本体部１１の収容空間Ｉから本体部１１の連通孔１１ｂを通じてターゲット移動板２１の孔部２７に挿入されている。ピン５１は、移動方向Ａに沿って進退（前進及び後退）する。連通孔１１ｂは、ピン５１の移動範囲以上の径の断面円形で形成されている。リューズ５２は、移動機構５０を操作するつまみ部分であり、収容空間Ｉの外部に配置されている。螺合機構５３は、リューズ５２の回転をピン５１の直進運動へ変換させる機構である。蛇腹５４は、収容空間Ｉ内に設けられている。蛇腹５４は、収容空間Ｉを封止して真空保持すると共に、収容空間Ｉを真空保持したままピン５１の移動に伴って伸縮する。蛇腹５４は、金属により形成されており、蛇腹５４からのガス放出が抑制されている。
【００４６】
本実施形態では、ターゲット移動板２１における上面（上蓋１２に当接する領域）と上蓋１２における下面（ターゲット移動板２１に当接する領域）とのうちの少なくとも一方は、ターゲット支持基板２３の表面よりも表面粗さが粗い粗面部とされている。ここでは、ターゲット移動板２１の上面と上蓋１２の下面との少なくとも一方に粗面処理が施されている。ターゲット移動板２１の上面と上蓋１２の下面との少なくとも一方の表面粗さは、例えばＲｚ２５〜０．０２５であり、より好ましくは、Ｒｚ６．３〜０．４である。
【００４７】
図６は、ターゲット移動板の下面側を示す斜視図である。図４及び図６に示されるように、ターゲット移動板２１の下面には、ターゲット移動板２１と同心の円環状溝部（位置決め部）２９が形成されている。円環状溝部２９は、その軸方向に沿う断面が矩形状を有する。円環状溝部２９は、その内部に弾性部材４０の少なくとも一部を収容する。円環状溝部２９の内面は、底面２９ａと、外周側に存在する側面２９ｂと、内周側に存在する側面２９ｃと、を含む。側面２９ｂ及び側面２９ｃは、底面２９ａを径方向に挟むように対向する。弾性部材４０は、少なくとも底面２９ａに接触すると共に、より好ましくは側面２９ｂ及び側面２９ｃの少なくとも一方に接触して嵌まり込んだ状態で位置決めされている。これにより、円環状溝部２９は、ターゲット移動板２１に対する弾性部材４０の位置を位置決めする。なお、本実施形態においては、弾性部材４０は、底面２９ａ、側面２９ｂ及び側面２９ｃの何れにも接触し、円環状溝部２９に嵌まり込んだ状態で位置決めされている。支持台１５の上面は、平面であって、弾性部材４０が移動方向Ａに摺動可能とされている。このような構成により、弾性部材４０は、ターゲット部２０と支持台１５と間において、円環状溝部２９に収容された状態で支持台１５の上面に対して摺動可能に保持される。弾性部材４０は、ターゲット部２０の移動の際、円環状溝部２９に収容され、円環状溝部２９を構成する面と接触することにより円環状溝部２９内で位置決めされながら支持台１５の上面を摺動し、ターゲット部２０に連れ立って移動する。
【００４８】
ターゲット移動板２１は、円形凸部２４の周辺に、円形凸部２４を挟むように形成された一対の貫通孔２６を有する。一対の貫通孔２６は、円形凸部２４の移動方向Ａにおける一方側と他方側とのそれぞれにおいて、ターゲット移動板２１を厚さ方向に貫通する。貫通孔２６は、内部空間Ｒにおけるターゲット支持基板２３とＸ線出射窓３０との間に画成された離間空間Ｒ２内から、当該離間空間Ｒ２外へ通じる。貫通孔２６は、真空筐体１０内の真空引き時に、離間空間Ｒ２の空気を離間空間Ｒ２外へ流通させる。
【００４９】
また、Ｘ線管１は、移動機構５０によるターゲット部２０の移動をガイドするガイド部６０を備える。ガイド部６０は、ターゲット移動板２１の下面に設けられ移動方向Ａに沿って長尺の凹部６１と、支持台１５の上面において支持台１５と同心となるように電子ビーム通過孔１６を包囲する円形に設けられた凸部６２と、を含んで構成されている。ターゲット部２０と支持台１５とは、凹部６１の下側面と凸部６２の上側面とが互いに接触することなく空間的に離れるように、弾性部材４０の弾性力によって離間されている。凹部６１は、移動方向Ａにおいて所定長を有する。凹部６１は、ターゲット移動板２１の円環状溝部２９の径方向内側に、貫通孔２５及び一対の貫通孔２６を包囲した状態で、ターゲット移動板２１と同心で形成されている。また、凹部６１の短軸長（移動方向Ａと直交する方向の長さ）は凸部６２の直径とほぼ等しく、凹部６１の長軸長（移動方向Ａにおける所定長）は凸部６２の直径よりも大きい。より詳しくは、凹部６１は、移動方向Ａに沿って凸部６２が所定距離移動した際の軌跡（凸部６２が通る領域）を投影させた形状と略等しい形状を有している。凸部６２は、支持台１５と同心の円形で上方に突出する。凸部６２は、その先端側が凹部６１内に進入する。
【００５０】
これにより、凹部６１ひいてはターゲット移動板２１（ターゲット部２０）は、Ｘ線出射方向と直交する方向のうち、移動方向Ａにおける所定長の範囲の移動は許容される（凸部６２が凹部６１と干渉しない）。一方、凹部６１ひいてはターゲット移動板２１（ターゲット部２０）は、Ｘ線出射方向と直交する方向のうち、移動方向Ａ以外の方向における移動は規制される（凸部６２が凹部６１と干渉する）。
【００５１】
以上のように構成されたＸ線管１では、内部空間Ｒに配置された電子銃１１０から電子ビームＢが出射され、この電子ビームＢがターゲットＴに入射することによってＸ線Ｘが発生する。発生したＸ線Ｘは、ターゲット支持基板２３を透過した後にＸ線出射窓３０を透過し、Ｘ線管１外へ出射され、被検体に照射される。
【００５２】
ここで、移動機構５０のリューズ５２を回すことにより、螺合機構５３の螺合作用でピン５１が移動方向Ａに沿って移動する。これにより、図４（ａ）及び図４（ｂ）に示されるように、弾性部材４０で上方に押圧されているターゲット部２０は、ターゲット移動板２１が上蓋１２の内壁面と摺動するように移動方向Ａに沿って移動される。その結果、ターゲットＴが移動方向Ａに沿って移動され、ターゲットＴにおける電子ビームＢが入射される入射箇所が、移動方向Ａに沿って移動（変更）することになる。換言すれば、ターゲットＴにおける軸ＢＡ（軸ＡＸ）との交差点が、ターゲットＴの移動方向Ａに沿って移動（変更）することになる。なお、ターゲットＴが移動方向Ａに沿った一方側に移動すると、ターゲットＴにおける電子ビームＢが入射される入射箇所（ターゲットＴにおける軸ＢＡ（軸ＡＸ）との交差点）は、移動方向Ａに沿った他方側に移動する。
【００５３】
以上、本実施形態に係るＸ線管１及びＸ線発生装置１００では、弾性部材４０によりターゲット部２０がＸ線出射窓３０に近づく方向に押圧される。これにより、ターゲットＴをＸ線出射窓３０に近づけることができる。そして、移動機構５０によりターゲット部２０を移動させることで、電子ビームＢのターゲットＴへの入射位置を変更しても、ターゲットＴをＸ線出射窓３０に近づけた状態を保持することができる。
【００５４】
すなわち、Ｘ線管１をターゲット支持基板２３とＸ線出射窓３０との二重窓構造にし、ターゲット支持基板２３ひいてはターゲットＴの移動を実現する。このとき、ＦＯＤを小さくするためにターゲットＴとＸ線出射窓３０との距離を可能な限り短くすべく、ターゲット支持基板２３をＸ線出射窓３０に向かって押し付ける。したがって、本実施形態によれば、ＦＯＤを小さくしつつターゲットを移動することが可能となる。また、Ｘ線管１では、電子ビームＢを偏向して曲げることでターゲットＴへの入射位置を変更するのではなく、電子ビームＢをターゲットＴに垂直に入射する状態で固定し、ターゲットＴを移動することでターゲットＴへの入射位置を変更している。そのため、電子ビームＢの集束状態を安定に制御することができるので、微小焦点のＸ線が高い安定度で求められるような場合には、特に好ましい。また、ターゲットＴにおける電子ビームＢの入射位置を移動させても、Ｘ線Ｘの焦点自体は常に同一の位置にあるため、Ｘ線撮像素子等の外部装置との再調整も不要となる。さらに、軸ＴＡ，軸ＸＡ、軸ＢＡが全て同軸となっているので、所望の特性を備えるＸ線管の設計及び製造も容易となる。
【００５５】
本実施形態では、ターゲット部２０がターゲット移動板２１を含み、弾性部材４０がターゲット移動板２１を押圧する。この構成によれば、ターゲット部２０の移動及び弾性部材４０の押圧に起因する物理的な応力が、ターゲットＴ及びターゲット支持基板２３に直接加わることを抑制できる。Ｘ線の発生に対する影響の大きいターゲットＴ及びターゲット支持基板２３に物理的な応力の悪影響が及ぶことを抑制し、安定したＸ線を得ることができる。また、ターゲットＴ及びターゲット支持基板２３の材料選択時において、物理的な応力に対する強度を考慮する必要がないので、Ｘ線発生に関する特性又は放熱性を重視した材料選択を行うことができる。
【００５６】
本実施形態では、弾性部材４０は、金属により形成されている。この構成によれば、弾性部材４０からのガス放出を抑制でき、安定したＸ線を得ることができる。また、Ｘ線管１を真空排気する際には、より真空度を高めるために加熱して排気するのが好ましいが、弾性部材４０を金属で形成することで、加熱による弾性部材４０の材料の変質又は弾性の変化等を抑制することが可能となる。
【００５７】
本実施形態では、ターゲット部２０のターゲット移動板２１の下面には、弾性部材４０を位置決めする位置決め部として円環状溝部２９が設けられている。この構成によれば、弾性部材４０を位置決めし、弾性部材４０の位置を一定に保ち（安定化するよう保持し）、ＦＯＤの変化を抑制することが可能となる。
【００５８】
本実施形態では、弾性部材４０は、ターゲット部２０と支持台１５と間において、円環状溝部２９に収容された状態で支持台１５の上面に対して摺動可能に保持されている。この構成によれば、ターゲット部２０の移動の際、円環状溝部２９に弾性部材４０が確実に位置決めされつつ、支持台１５上を摺動するため、ターゲット部２０の移動の影響で弾性部材４０の押圧方向が変化することを抑制できる。ターゲット部２０とＸ線出射窓３０との配置関係を一定に保つことができる。また、ターゲット部２０の移動の際、弾性部材４０をターゲット部２０に連れ立って移動でき、弾性部材４０とターゲット部２０との位置関係を一定に保つことができるため、当該移動の影響でターゲット部２０に加わる押圧力が偏ったり、その分布が変化したりすることを抑制できる。
【００５９】
本実施形態は、移動機構５０によるターゲット部２０の移動をガイドするガイド部６０を備える。この構成によれば、ターゲット部２０が意図しない方向へ移動してしまうことを抑制できる。ターゲット部２０がランダムな方向に移動してしまうことを抑制できるため、ターゲットＴにおける電子入射位置を確実に把握でき、以前にＸ線発生に用いた部位を再度使用してしまうことを抑制できる。
【００６０】
本実施形態では、ガイド部６０は、ターゲット移動板２１に設けられた凹部６１と、支持台１５に設けられ凹部６１内に進入する凸部６２と、を有する。この構成によれば、凹部６１及び凸部６２によりターゲット部２０の移動をガイドできる。ガイド部６０を簡易な構成で実現できる。
【００６１】
本実施形態では、弾性部材４０は、ターゲット部２０が上蓋１２の下面に接触するようにターゲット部２０を押圧する。この構成によれば、ターゲット部２０を上蓋１２の下面で位置決めし、ターゲット部２０の位置を一定に保ち（安定化するよう保持し）、ＦＯＤの変化を抑制することが可能となる。また、ターゲット部２０の熱を上蓋１２に伝えやすくなるので、ターゲットＴの放熱性を向上することができる。
【００６２】
本実施形態では、ターゲット移動板２１の上面と上蓋１２の下面との少なくとも一方が、ターゲット支持基板２３の表面よりも表面粗さが粗い粗面部とされている。これにより、当接するターゲット部２０と真空筐体１０との間の接触面積を低減し、ターゲット部２０の移動の際における抵抗を低減することが可能となる。また、ターゲット部２０の移動の際における抵抗を低減するためには、ターゲット移動板２１と上蓋１２との接触部、つまりターゲット移動板２１の上面と上蓋１２の下面とが互いに異なる材料で形成されることが好ましい。この点、本実施形態では、ターゲット移動板２１がモリブデンで形成され、上蓋１２がステンレスで形成されている。なお、真空下において滑面部材が面接触する場合、その位置関係を変更するためには大きな力を必要とする可能性があるため、移動機構５０又はターゲット移動板２１の破損といった可能性があるが、粗面部を設けることで、ターゲット部２０の移動が容易となり、移動機構５０又はターゲット移動板２１の破損を抑制することができる。
【００６３】
本実施形態では、Ｘ線出射窓３０がターゲット支持基板２３と離間している。この構成によれば、ターゲット部２０の移動が容易になると共に、この移動によるＸ線出射窓３０とターゲット支持基板２３との擦れの可能性（擦れによる破損又は異物の発生の可能性）を低減することが可能となる。また、Ｘ線出射窓３０及びターゲット支持基板２３の材料選択時において、物理的な応力に対する強度を考慮する必要がないので、Ｘ線Ｘの透過性又は放熱性を重視した材料選択を行うことができる。また、Ｘ線出射窓３０は真空封止も兼ねているために、内部空間Ｒ側に窪む可能性もある。この場合、当該Ｘ線出射窓３０がターゲット支持基板２３と接触していると、ターゲット支持基板２３も窪み、ターゲットＴに対する電子ビームＢの入射状態が変化し、例えば発生するＸ線Ｘの焦点径又はＦＯＤが変わってしまう可能性がある。そのため、Ｘ線出射窓３０がターゲット支持基板２３と離間することで、発生するＸ線Ｘの安定性も向上させることができる。
【００６４】
本実施形態では、ターゲット部２０には、離間空間Ｒ２の内外に通じる貫通孔２６が形成されている。この構成によれば、貫通孔２６を利用して離間空間Ｒ２の真空排気を効率よく行うことができる。電子ビームＢの入射によって高温化するターゲットＴの近傍空間である離間空間Ｒ２に空気等のガスが残留していると、当該離間空間Ｒ２近傍の部材（例えば、ターゲット支持基板２３又はＸ線出射窓３０等）がガスと反応して劣化しやすくなる。そのため、離間空間Ｒ２の真空排気を効率よく行うことでガスの残留を抑制し、部材の劣化を抑制することが可能となる。
【００６５】
なお、例えばターゲットＴが電子ビームＢの入射で損傷した場合、移動機構５０によりターゲットＴを移動させてターゲットＴにおける当該損傷箇所以外の箇所に電子ビームＢを入射させることで、Ｘ線量の低下を抑制することが可能となる。Ｘ線管１は、真空密封型のＸ線管が採用されており、メンテナンスの煩雑さを抑制できる。弾性部材４０及び蛇腹５４が金属で形成されていることから、樹脂で形成される場合に比べて、ガス放出によってＸ線管１内の真空度が低下してしまうことを抑制でき、また、温度耐性を高めて管球ベーキング工程に対応できる。
【００６６】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は、上記実施形態に限られるものではない。
【００６７】
上記実施形態では、弾性部材４０として金属の略円錐形状のコイルばねを用いたが、弾性部材４０の数、材質、構造及び種類等は限定されない。ターゲット部２０をＸ線出射窓３０に近づく方向に押圧できれば、種々の部材を用いることができる。例えば弾性部材４０として、複数のコイルバネを用いてもよいし、板バネを用いてもよい。また、上記実施形態のように弾性部材支持部である支持台１５を設けるのではなく、本体部１１又は上蓋１２に弾性部材４０を固定してもよい。
【００６８】
上記実施形態では、ターゲット部２０が移動方向Ａに沿って移動するが、ターゲット部２０が移動する方向は限定されず、電子ビームＢの入射方向（図２の上下方向）と交差する方向であればよい。また、ターゲット部２０の移動は直線移動に限らず、例えば図７に示されるような回転移動でもよい。図７に示される例では、軸ＡＸと同軸に配置された支持台１５において、円形状の凸部６２が軸ＡＸとは偏心して設けられている。支持台１５の電子ビーム通過孔１６は、軸ＡＸと同軸に設けられている。一方、ターゲット部２０は、ターゲット部２０自身が軸ＡＸとは偏心して設けられている。ターゲット部２０のターゲット移動板２１の凹部６１は、ターゲット部２０と同心に設けられ、凸部６２の外径よりも僅かに大きな内径を有する円形状を呈している。凹部６１に凸部６２が進入することで、ターゲット部２０は、軸ＡＸに対して偏心して設けられ、凸部６２の中心軸であると共に軸ＡＸに対して偏心した回転軸である軸ＲＡを中心に回転移動が可能となっている。そして、ターゲット部２０を図示しない移動機構（例えば、磁力を用いてターゲット部２０を回転させたり、ギアを設けて回転させたりする機構）によって回転させることで、ターゲット部２０が電子ビームＢの入射方向と交差する方向（軸ＲＡを中心した回転方向）に沿って移動する。さらにまた、ターゲット部２０の移動は、直線移動又は回転移動のそれぞれに限らず、直線移動と回転移動とを組み合わせた移動であってもよい。
【００６９】
上記実施形態では、軸ＴＡ，軸ＸＡ及び軸ＢＡは全て同軸となっていたが、それぞれ異なる軸であってもよい。上記実施形態では、ネジを利用してターゲット部２０を移動させる移動機構５０を用いたが、移動機構５０は特に限定されない。弾性部材４０で押圧されたターゲット部２０を移動方向Ａに沿って移動させ得る機構であれば、種々の機構を用いることができる。移動機構５０は、ターゲット部２０を手動で移動させる機構であってもよいし、電気的に自動で移動させる機構であってもよい。
【００７０】
上記実施形態では、凹部６１及び凸部６２によってガイド部６０を構成したが、ガイド部６０は特に限定されず、移動機構５０によるターゲット部２０の移動をガイドできればよい。上記実施形態では、ターゲット移動板２１に弾性部材４０の位置決め部としての円環状溝部２９を設けたが、これに代えて若しくは加えて、支持台１５に位置決め部を設けてもよい。この場合、弾性部材４０は、支持台１５の上面に対して摺動可能に保持されるのに代えて若しくは加えて、ターゲット移動板２１に対して摺動可能に保持されていてもよい。
【００７１】
上記実施形態では、弾性部材４０の位置決め部は、弾性部材４０の固定を行うものではなく、弾性部材４０の移動を所定範囲内に制限（規制）するものでもよい。その場合、ターゲット部２０の移動の際、弾性部材４０が位置決め部において所定範囲内で摺動してもよい。
【００７２】
上記実施形態では、ターゲット移動板２１の上面と上蓋１２の下面とのうちの少なくとも一方を粗面部としたが、これに限定されない。ターゲット移動板２１の上面の一部のみを粗面部としてもよいし、上蓋１２の下面の一部のみを粗面部としてもよい。或いは、これらの少なくとも１つの組合せとしてもよい。
【００７３】
上記実施形態では、ターゲット移動板２１の上面及び上蓋１２の下面に表面処理を特に施していないが、ターゲット移動板２１の上面と上蓋１２の下面とのうちの少なくとも一方に、相手側に結合しにくくなるような表面処理（酸化処理又は窒化処理等）を施してもよい。上記実施形態では、ターゲット移動板２１の上面及び上蓋１２の下面に被膜を特に形成していないが、ターゲット移動板２１の上面と上蓋１２の下面とのうちの少なくとも一方に、摩擦力を低減するような被膜（例えばターゲット移動板２１の上面又は上蓋１２の下面よりも柔らかい金属被膜）を形成してもよい。上記実施形態では、ターゲット移動板２１の上面と上蓋１２の下面とを接触させたが、ターゲット移動板２１の上面と上蓋１２の下面との間にベアリング又は球状部材を介在させることで、ターゲット部２０の移動の際における抵抗を低減してもよい。
【００７４】
上記実施形態では、支持台１５とＸ線出射窓３０との間に空間を形成したが、支持台１５とＸ線出射窓３０との間の当該空間に、熱伝導性のよい部材を充填してもよい。これにより、ターゲット部２０の熱がＸ線出射窓３０に伝えやすくなり、ターゲット部２０の放熱性が向上する。なお、その際、当該部材は電子ビームＢの入射又はＸ線Ｘの出射に影響のないよう、電子ビームＢ又はＸ線Ｘの経路上には充填しないことが好ましい。上記実施形態では、Ｘ線出射窓３０がターゲット支持基板２３と離間しているが、接触していてもよい。その場合、ＦＯＤをより短くすることができると共に、ターゲットＴで発生した熱をＸ線出射窓３０を介して放熱することが可能となる。
【符号の説明】
【００７５】
１…Ｘ線管、１０…真空筐体、１４…開口部、１５…支持台（弾性部材支持部）、２０…ターゲット部、２１…ターゲット移動板（ターゲット保持部）、２３…ターゲット支持基板（ターゲット支持部）、２６…貫通孔、２９…円環状溝部（位置決め部，溝部）、３０…Ｘ線出射窓、４０…弾性部材、５０…移動機構（ターゲット移動部）、６０…ガイド部、６１…凹部、６２…凸部、７０…筒部材、７１…絶縁油、８０…電源部、Ｂ…電子ビーム、Ｒ…内部空間、Ｒ２…離間空間、Ｔ…ターゲット。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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