(57)【要約】【課題】簡素な構成でありながら、戻り光の光源への入射を抑制することができる光走査装置を提供する。【解決手段】本発明に係る光走査装置は、光束ＬＡ、ＬＢを偏向して複数の被走査面を主走査方向に走査する偏向器１０７と、光源１００から出射した第１の光束Ｌが通過する複数の通過部が設けられた分割手段１０１を備え、分割手段１０１によって第１の光束Ｌから分割された複数の光束ＬＡ、ＬＢを副走査断面内において偏向器１０７に斜入射させる入射光学系７５と、偏向器１０７によって偏向された複数の光束ＬＡ、ＬＢを複数の被走査面に導光する結像光学系と、を有し、入射光学系７５が、偏向器１０７により反射されて光源１００へ向かう光束ＬＡｂ、ＬＢｂを遮光する遮光手段１０１を備えることを特徴とする。【選択図】図７
2018063277.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光束を偏向して複数の被走査面を主走査方向に走査する偏向器と、
光源から出射した第１の光束が通過する複数の通過部が設けられた分割手段を備え、該分割手段によって前記第１の光束から分割された複数の光束を副走査断面内において前記偏向器に斜入射させる入射光学系と、
前記偏向器によって偏向された前記複数の光束を前記複数の被走査面に導光する結像光学系と、
を有し、
前記入射光学系は、前記偏向器により反射されて前記光源へ向かう光束を遮光する遮光手段を備えることを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
前記遮光手段は、前記分割手段に設けられている遮光部を含むことを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
前記偏向器、前記入射光学系及び前記結像光学系を収納するハウジングを備えており、
前記光走査装置は、該ハウジングと一体に形成されている前記遮光手段を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の光走査装置。
【請求項４】
前記複数の光束の各光束の前記偏向器に斜入射する際の光路と前記偏向器によって前記光源へ向かうように反射された際の光路とは、互いに一致しないことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光走査装置。
【請求項５】
前記複数の光束の各光束の前記偏向器に斜入射する際の光路と前記偏向器によって前記光源へ向かうように反射された際の光路とは、互いに主走査断面内において一致していることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の光走査装置。
【請求項６】
前記偏向器の偏向面の法線を含む主走査断面である第１の平面と前記光源の中心を含む主走査断面である第２の平面とは、互いに副走査方向に離間していることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の光走査装置。
【請求項７】
前記入射光学系は、入射面及び出射面の少なくとも一方が非球面であり、前記複数の光束を平行光束に変換する第１の光学素子を備えることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の光走査装置。
【請求項８】
前記分割手段は、前記光源と前記第１の光学素子との間に配置されていることを特徴とする請求項７に記載の光走査装置。
【請求項９】
前記入射光学系は、前記第１の光学素子を通過した前記複数の光束を副走査方向に集光する第２の光学素子を備えていることを特徴とする請求項７または８に記載の光走査装置。
【請求項１０】
前記光走査装置は、前記第１の光学素子と前記第２の光学素子との間に配置されている前記遮光手段を含むことを特徴とする請求項９に記載の光走査装置。
【請求項１１】
前記光走査装置は、前記第２の光学素子と前記偏向器との間に配置されている前記遮光手段を含むことを特徴とする請求項９または１０に記載の光走査装置。
【請求項１２】
前記入射光学系は、前記複数の光束のうち第２の光束を反射する第１の反射手段を備えることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の光走査装置。
【請求項１３】
前記入射光学系は、前記第２の光束を反射する第２の反射手段を備えることを特徴とする請求項１２に記載の光走査装置。
【請求項１４】
前記複数の光束の前記分割手段による分割直後の光路は、主走査断面内及び副走査断面内の一方において互いに一致していることを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか一項に記載の光走査装置。
【請求項１５】
前記分割手段は、前記第１の光束の主走査方向及び副走査方向の少なくとも一方の光束幅を制限する開口絞りであることを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか一項に記載の光走査装置。
【請求項１６】
前記複数の光束のうち第２及び第３の光束はそれぞれ、前記偏向器の第１及び第２の偏向面に入射することを特徴とする請求項１乃至１５のいずれか一項に記載の光走査装置。
【請求項１７】
前記偏向器は、同一の偏向軸で互いに副走査方向に離間させて配置された複数の偏向部を備えることを特徴とする請求項１乃至１６のいずれか一項に記載の光走査装置。
【請求項１８】
前記結像光学系は、前記偏向器によって偏向された前記複数の光束をそれぞれ第１及び第２の被走査面に導光する第１及び第２の結像光学系を含み、前記第１及び第２の被走査面を時分割走査することを特徴とする請求項１乃至１７のいずれか一項に記載の光走査装置。
【請求項１９】
請求項１乃至１８のいずれか一項に記載の光走査装置と、該光走査装置によって前記被走査面に形成された静電潜像をトナー像として現像する現像器と、現像された前記トナー像を被転写材に転写する転写器と、転写された前記トナー像を前記被転写材に定着させる定着器と、を備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２０】
請求項１乃至１８のいずれか一項に記載の光走査装置と、外部機器から出力されたコードデータを画像信号に変換して前記光走査装置に入力するプリンタコントローラと、を備えることを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光走査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、１つの光源から射出される光束を分割し、得られた複数の光束のそれぞれによって異なるタイミングで複数の被走査面を走査（時分割走査）する光走査装置が採用されている。
この構成では、あるタイミングで光束が偏向器の偏向面に垂直入射した場合、その光束が偏向面で反射されて入射光路に沿って光源に向かう戻り光となってしまうことがある。
【０００３】
特許文献１は、偏光分離素子によって分割された複数の光束のそれぞれが通過する複数の１／４波長板を設けることで、戻り光が光源に入射して光源の発光安定性が低下することを抑制した光走査装置を開示している。
しかしながら、特許文献１に開示されている光走査装置では、複数の１／４波長板を設けたことで、光学部品の数が増加して装置全体が複雑化してしまう。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−０３３１６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
そこで、本発明は、簡素な構成でありながら、戻り光の光源への入射を抑制することができる光走査装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る光走査装置は、光束を偏向して複数の被走査面を主走査方向に走査する偏向器と、光源から出射した第１の光束が通過する複数の通過部が設けられた分割手段を備え、該分割手段によって第１の光束から分割された複数の光束を副走査断面内において偏向器に斜入射させる入射光学系と、偏向器によって偏向された複数の光束を複数の被走査面に導光する結像光学系と、を有し、入射光学系が、偏向器により反射されて光源へ向かう光束を遮光する遮光手段を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、簡素な構成でありながら、戻り光の光源への入射を抑制することができる光走査装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】第一実施形態に係る光走査装置の主走査断面図及び副走査断面図。
【図２】第一実施形態に係る光走査装置に設けられている第１の開口絞りを光軸方向から見た図。
【図３】第一実施形態に係る光走査装置における光源の発光タイミングを示した図。
【図４】第一実施形態に係る光走査装置の光源の所定の発光タイミングにおいて各光束が偏向される様子を示した図。
【図５】第一実施形態に係る光走査装置における光源の発光タイミングを示した図。
【図６】第一実施形態に係る光走査装置の光源の所定の発光タイミングにおいて各光束が偏向される様子を示した図。
【図７】第一実施形態に係る光走査装置において発生した戻り光を遮光する様子を示した図。
【図８】第一実施形態に係る光走査装置における光源の発光タイミングを示した図。
【図９】第一実施形態の変形例に係る光走査装置において発生した戻り光を遮光する様子を示した図。
【図１０】第二実施形態に係る光走査装置の主走査断面図及び副走査断面図。
【図１１】第二実施形態に係る光走査装置の入射光学系の主走査断面図及び副走査断面図。
【図１２】第二実施形態に係る光走査装置における光源の発光タイミングを示した図。
【図１３】第二実施形態に係る光走査装置の光源の所定の発光タイミングにおいて各光束が偏向される様子を示した図。
【図１４】第二実施形態に係る光走査装置における光源の発光タイミングを示した図。
【図１５】第二実施形態に係る光走査装置の光源の所定の発光タイミングにおいて各光束が偏向される様子を示した図。
【図１６】第二実施形態に係る光走査装置において発生した戻り光を遮光する様子を示した図。
【図１７】第二実施形態に係る光走査装置における光源の発光タイミングを示した図。
【図１８】第三実施形態に係る光走査装置の主走査断面図。
【図１９】本発明の光走査装置が搭載されたカラー画像形成装置の要部副走査断面図。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本実施形態に係る光走査装置について図面に基づいて説明する。なお、以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために、実際とは異なる縮尺で描かれている場合がある。
【００１０】
なお、以下の説明において、主走査方向（Ｙ方向）は、偏向器の回転軸及び光学系の光軸（Ｘ方向）に垂直な方向に対応し、副走査方向（Ｚ方向）は、偏向器の回転軸に平行な方向に対応する。また、主走査断面は、副走査方向に垂直な断面に対応し、副走査断面は、主走査方向に垂直な断面に対応する。
【００１１】
［第一実施形態］
図１（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）はそれぞれ、第一実施形態に係る光走査装置１の主走査断面図、光走査装置１の入射光学系７５の副走査断面図及び光走査装置１の結像光学系８５の副走査断面図を示している。
【００１２】
第一実施形態に係る光走査装置１は、光源１００、第１の開口絞り（光束分割手段、遮光手段）１０１、コリメータレンズ１０２（第１の光学素子）、シリンドリカルレンズ１０４ａ及び１０４ｂ（第２の光学素子）、及び第２の開口絞り１０６ａ及び１０６ｂを備えている。
また、光走査装置１は、偏向器１０７、第１のｆθレンズ１０８ａ及び１０８ｂ、第２のｆθレンズ１０９ａ及び１０９ｂ、防塵手段１１０ａ及び１１０ｂ、及び不図示のハウジングを備えている。
【００１３】
第１の開口絞り１０１、コリメータレンズ１０２、シリンドリカルレンズ１０４ａ及び１０４ｂ、及び第２の開口絞り１０６ａ及び１０６ｂによって、本実施形態に係る光走査装置１の入射光学系７５が構成される。
また、第１のｆθレンズ１０８ａ及び１０８ｂ、及び第２のｆθレンズ１０９ａ及び１０９ｂによって、本実施形態に係る光走査装置１の結像光学系８５が構成される。
【００１４】
光源１００としては、少なくとも１つの発光点を有しており、例えば端面発光型のレーザーやＶＣＳＥＬ等の面発光型の半導体レーザーなどが用いられる。
第１の開口絞り１０１は、光源１００より出射した光束Ｌを光束ＬＡ及び光束ＬＢに分割するように、複数の開口部（通過部）を有して構成されている。第１の開口絞り１０１の具体的な構造については、後述する。
コリメータレンズ１０２は、第１の開口絞り１０１を通過した光束ＬＡ及び光束ＬＢを平行光束に変換する。なおここで、平行光束とは、厳密な平行光束だけでなく、弱発散光束や弱収束光束等の略平行光束を含むものとする。
【００１５】
シリンドリカルレンズ１０４ａ及び１０４ｂはそれぞれ、副走査断面内に有限のパワー（屈折力）を有しており、コリメータレンズ１０２を通過した光束ＬＡ及び光束ＬＢを、偏向器１０７の偏向部１０７１及び１０７２の偏向面１０７１ａ及び１０７２ａの近傍で副走査方向に集光する。
第２の開口絞り１０６ａ及び１０６ｂはそれぞれ、シリンドリカルレンズ１０４ａ及び１０４ｂを通過した光束ＬＡ及び光束ＬＢの主走査方向の光束幅を制限する。
【００１６】
このようにして、光源１００から出射し、分割された光束ＬＡ及び光束ＬＢはそれぞれ、偏向器１０７の偏向部１０７１及び１０７２の偏向面１０７１ａ及び１０７２ａの近傍において副走査方向にのみ集光され、主走査方向に長い線像として導光される。
【００１７】
なお、光束ＬＡ及び光束ＬＢはそれぞれ、副走査断面内において、主走査断面に対して−１度及び＋１度の角度を有して、偏向部１０７１及び１０７２に斜入射している。
【００１８】
偏向器１０７は、２つの偏向部１０７１及び１０７２を同一の偏向軸で副走査方向に離間させて配置した、多段偏向器を採用している。
偏向部１０７１及び１０７２はそれぞれ、偏向面を４面有するポリゴンミラーである。
そして、偏向器１０７は、不図示のモータ等の駆動手段により図中矢印Ａ方向に回転することにより、光源１００から出射し、分割された光束ＬＡ及び光束ＬＢをそれぞれ、偏向部１０７１及び１０７２の偏向面１０７１ａ及び１０７２ａによって、被走査面１１１ａ及び１１１ｂに向けて偏向する。
なお、偏向部１０７１及び１０７２は、互いに４５度だけ位相がずれて配置されている。換言すると、偏向部１０７１の偏向面１０７１ａの法線と偏向部１０７２の偏向面１０７２ａの法線とが、主走査断面内において、互いに４５度の角度をなすように配置されている。
これにより、後述するように、光束ＬＡ及び光束ＬＢはそれぞれ、被走査面１１１ａ及び１１１ｂを走査する時間が異なる、いわゆる時分割走査をしている。時分割走査を行うことで、被走査面１１１ａ及び１１１ｂにそれぞれ異なる画像を形成することができる。
第１のｆθレンズ１０８ａ及び１０８ｂ、第２のｆθレンズ１０９ａ及び１０９ｂは、主走査断面内と副走査断面内とで異なるパワーを有するアナモフィック結像レンズであり、偏向器１０７によって偏向された光束ＬＡ及び光束ＬＢを被走査面１１１ａ及び１１１ｂ上に集光（導光）する。
防塵手段１１０ａ及び１１０ｂは、光走査装置１の内部へのゴミ等の侵入を防ぐために設けられており、例えば、ガラス板などで構成される。
不図示のハウジングは、偏向器１０７、入射光学系７５及び結像光学系８５等を収納している。
【００１９】
光源１００から出射した光束Ｌ（第１の光束）は、第１の開口絞り１０１によって、光束ＬＡ及び光束ＬＢに分割される。分割された光束ＬＡ及び光束ＬＢはそれぞれ、コリメータレンズ１０２によって平行光束に変換される。
変換された光束ＬＡ及び光束ＬＢはそれぞれ、シリンドリカルレンズ１０４ａ及び１０４ｂによって偏向器１０７の偏向部１０７１及び１０７２の偏向面１０７１ａ及び１０７２ａ近傍で副走査方向に集光される。そして、光束ＬＡ及び光束ＬＢはそれぞれ、第２の開口絞り１０６ａ及び１０６ｂによって主走査方向の光束幅が制限され、偏向器１０７の偏向部１０７１及び１０７２の偏向面１０７１ａ（第１の偏向面）及び１０７２ａ（第２の偏向面）に入射する。
【００２０】
光源１００から出射し、分割され、偏向器１０７の偏向部１０７１の偏向面１０７１ａに入射した光束ＬＡは、偏向器１０７の偏向部１０７１の偏向面１０７１ａにより偏向走査された後、第１のｆθレンズ１０８ａ、第２のｆθレンズ１０９ａによって被走査面１１１ａ（第１の被走査面）上に導光される。光束ＬＡは、被走査面１１１ａを矢印Ｂ方向に等速度で走査する。
また、光源１００から出射し、分割され、偏向器１０７の偏向部１０７２の偏向面１０７２ａに入射した光束ＬＢは、偏向器１０７の偏向部１０７２の偏向面１０７２ａにより偏向走査された後、第１のｆθレンズ１０８ｂ、第２のｆθレンズ１０９ｂによって被走査面１１１ｂ（第２の被走査面）上に導光される。光束ＬＢは、被走査面１１１ｂを矢印Ｂ方向に等速度で走査する。
【００２１】
なお、本実施形態では、被走査面１１１ａ及び１１１ｂとして、感光ドラムを用いている。
感光ドラム１１１ａ及び１１１ｂ上における副走査方向の露光分布の作成は、主走査露光毎に、感光ドラム１１１ａ及び１１１ｂを副走査方向に回転させることによって達成している。
【００２２】
次に、本実施形態に係る光走査装置１の入射光学系７５及び結像光学系８５の諸特性をそれぞれ以下の表１及び表２に示す。
【００２３】
【表１】
2018063277.tif 000003
【００２４】
【表２】
2018063277.tif 000004
【００２５】
なお、表１及び表２において、各レンズ面と光軸との交点を原点としたときの、光軸方向、主走査断面内において光軸と直交する軸、及び副走査断面内において光軸と直交する軸をそれぞれ、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸としている。また、表１及び表２において、「Ｅ−ｘ」は、「×１０−ｘ」を意味している。
【００２６】
本実施形態の光走査装置１に設けられているコリメータレンズ１０２は、収差補正のために、入射面及び出射面の少なくとも一方が非球面である回転対称なガラスモールドレンズであり、その形状は、以下の式（１）で表される。
【００２７】
【数１】
2018063277.tif 000005
ここで、Ｒは曲率半径、ｋは離心率、Ｃｉ（ｉ＝２，４，６）は非球面係数である。
【００２８】
次に、本実施形態の光走査装置１に設けられている第１のｆθレンズ１０８ａ及び１０８ｂ、第２のｆθレンズ１０９ａ及び１０９ｂにおける各レンズ面の主走査断面内における非球面形状（母線形状）は、以下の式（２）で表される。
【００２９】
【数２】
2018063277.tif 000006
【００３０】
ここで、Ｒは曲率半径、ｋは離心率、Ｂｉ（ｉ＝４、６、８、１０）は非球面係数である。なお、ｙに関してプラス側（光源側）とマイナス側（反光源側）で係数ｋ及びＢｉが異なる場合は、表２にあるように、プラス側の係数には添字ｕを付し（すなわち、ｋｕ、Ｂｉｕ）、マイナス側の係数には添字ｌを付している（すなわち、ｋｌ、Ｂｉｌ）。
【００３１】
また、本実施形態の光走査装置１に設けられている第１のｆθレンズ１０８ａ及び１０８ｂ、第２のｆθレンズ１０９ａ及び１０９ｂにおける各レンズ面の副走査断面内における非球面形状は、以下の式（３）で表される。
【００３２】
【数３】
2018063277.tif 000007
【００３３】
すなわち、式（３）におけるＳは、母線上の任意の点において母線の面法線を含み主走査断面に垂直な面内に定義される子線形状に対応する。
ここで、Ｍｊｋ（ｊ＝０、２、４、６、８、ｋ＝１）は副走査断面内の傾きの変化係数である。ｙに関してプラス側（光源側）とマイナス側（反光源側）で係数Ｍｊｋが異なる場合は、表２にあるように、プラス側の係数には添字ｕを付し（すなわち、Ｍｊｋｕ）、マイナス側の係数には添字ｌを付している（すなわち、Ｍｊｋｌ）。
【００３４】
また、副走査断面内の曲率半径ｒ’は、レンズ面のｙ座標に従って、以下の式（４）のように連続的に変化する。
【００３５】
【数４】
2018063277.tif 000008
【００３６】
ここで、ｒは光軸上における副走査断面内の曲率半径、Ｅｊ（ｊ＝２、４、６、８、１０）は副走査断面内の曲率半径の変化係数である。なお、ｙに関してプラス側（光源側）とマイナス側（反光源側）で係数Ｅｊが異なる場合は、表２にあるように、プラス側の係数には添字ｕを付し（すなわち、Ｅｊｕ）、マイナス側の係数には添字ｌを付している（すなわち、Ｅｊｌ）。
【００３７】
図２は、本実施形態に係る光走査装置１の入射光学系７５に設けられている第１の開口絞り１０１を光軸方向から見た図である。
【００３８】
図２に示されているように、第１の開口絞り１０１には主走査方向に広く、副走査方向に狭い２つの開口部１０１１及び１０１２、及び遮光部１０１３が設けられている。そして、光源１００から出射した光束Ｌが開口部１０１１及び１０１２を通過することによって、光束ＬＡ及び光束ＬＢに分割される。
従って、第１の開口絞り１０１は、光束Ｌを分割すると共に、光束ＬＡ及び光束ＬＢの副走査方向の光束幅を制限している。
このため、光束ＬＡ及び光束ＬＢの第１の開口絞り１０１による分割直後の光路は、主走査断面内において互いに一致している。
【００３９】
次に、本実施形態に係る光走査装置１における効果について説明する。
図３は、本実施形態に係る光走査装置１における、入射角度θｉｎが４５度のときの偏向器１０７の回転角度θｐｏｌに対する光源１００の発光タイミングを示した図である。
また、図４（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）はそれぞれ、図３中の（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）の各発光タイミングにおける、偏向器１０７に入射した光束ＬＡ及びＬＢが偏向される様子を示した図である。
なお、ここで、入射角度θｉｎ及び回転角度θｐｏｌはそれぞれ、主走査断面内において、光束ＬＡ、ＬＢの偏向器１０７への入射方向及び偏向器１０７の偏向部１０７１の偏向面１０７１ａの法線それぞれが結像光学系８５の光軸に対してなす角度である。
【００４０】
図３において、発光領域２００ａ及び２００ｂはそれぞれ、被走査面１１１ａ及び１１１ｂ上の走査幅内の領域を走査するために、光源１００が発光している領域である。また、発光禁止領域２０１ａ及び２０１ｂは、後述するように、戻り光が発生するために、光源１００を発光させない領域である。
【００４１】
図３に示されているように、入射角度θｉｎが４５度のときには、発光禁止領域２０１ａ及び２０１ｂは、発光領域２００ａ及び２００ｂ以外の領域にくるため、光源１００の発光制御が容易である。
【００４２】
具体的には、回転角度θｐｏｌが２２．５度である発光タイミング（ａ）では、図４（ａ）に示されているように、光束ＬＡは、被走査面１１１ａの軸上像高を走査するように、偏向部１０７１の偏向面１０７１ａによって偏向される。一方で、光束ＬＢは、偏向部１０７２の偏向面１０７２ａによって被走査面１１１ｂの走査幅外の領域に偏向される。
また、回転角度θｐｏｌが４５度である発光タイミング（ｂ）では、図４（ｂ）に示されているように、光束ＬＡは、偏向部１０７１の偏向面１０７１ａによって、光源１００へ向かう方向、すなわち戻り光として偏向される。一方で、光束ＬＢは、偏向部１０７２の偏向面１０７２ａによって、被走査面１１１ｂの走査幅外の領域に偏向される。
また、回転角度θｐｏｌが６７．５度である発光タイミング（ｃ）では、図４（ｃ）に示されているように、光束ＬＡは、偏向部１０７１の偏向面１０７１ａによって、被走査面１１１ａの走査幅外の領域に偏向される。一方で、光束ＬＢは、被走査面１１１ｂの軸上像高を走査するように、偏向部１０７２の偏向面１０７２ａによって偏向される。
【００４３】
以上のように、入射角度θｉｎが４５度の場合においては、光束ＬＡの戻り光が発生する発光タイミング（ｂ）で、光束ＬＢは、被走査面１１１ｂの走査幅外の領域に偏向される。そのため、発光領域２００ａ及び２００ｂ内のタイミングのみにおいて、光源１００を発光させるように制御すればよい。
しかしながら、入射角度θｉｎを４５度に設定すると、偏向器１０７へ入射する光束ＬＡ及びＬＢと被走査面１１１ａ及び１１１ｂの走査幅内の領域に向けて偏向器１０７によって偏向された光束ＬＡ及びＬＢとの間の間隔が狭くなる。
そのため、光走査装置１の最大画角が小さくなり、それにより、走査効率が低下することになる。そして、最大画角が小さくなると、十分な画像形成領域を確保するためには、結像光学系８５の焦点距離を長くする必要が生じ、それは光走査装置１の大型化につながってしまう。
【００４４】
図５は、本実施形態に係る光走査装置１における、入射角度θｉｎが９０度のときの偏向器１０７の回転角度θｐｏｌに対する光源１００の発光タイミングを示した図である。
また、図６（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）はそれぞれ、図５中の（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）の各発光タイミングにおける、偏向器１０７に入射した光束ＬＡ及びＬＢが偏向される様子を示した図である。
【００４５】
この場合、回転角度θｐｏｌが４５度である発光タイミング（ａ）では、図６（ａ）に示されているように、光束ＬＡは、被走査面１１１ａの軸上像高を走査するように、偏向部１０７１の偏向面１０７１ａによって偏向される。一方で、光束ＬＢは、偏向部１０７２の偏向面１０７２ａによって光源１００へ向かう方向、すなわち戻り光として偏向される。
また、回転角度θｐｏｌが６７．５度である発光タイミング（ｂ）では、図６（ｂ）に示されているように、光束ＬＡは、偏向部１０７１の偏向面１０７１ａによって、被走査面１１１ａの走査幅外の領域に偏向される。そして、光束ＬＢも、偏向部１０７２の偏向面１０７２ａによって、被走査面１１１ｂの走査幅外の領域に偏向される。
また、回転角度θｐｏｌが９０度である発光タイミング（ｃ）では、図６（ｃ）に示されているように、光束ＬＡは、偏向部１０７１の偏向面１０７１ａによって光源１００へ向かう方向、すなわち戻り光として偏向される。一方で、光束ＬＢは、被走査面１１１ｂの軸上像高を走査するように、偏向部１０７２の偏向面１０７２ａによって偏向される。
【００４６】
以上のように、入射角度θｉｎが９０度（３６０度／偏向器１０７の面数）の場合においては、最大画角を最も大きくできるため、走査効率を最も上げることができる。それと共に、結像光学系８５の焦点距離を短くすることができ、光走査装置１を小型化することができる。
一方で、光束ＬＡ及びＬＢのうちの一方の光束が対応する被走査面の走査幅内の領域に導光される際の所定のタイミングにおいて、他方の光束が光源１００に向かう戻り光として偏向されてしまう。
しかしながら、以下に示すように、本実施形態に係る光走査装置１では、このような戻り光を遮光することができる。
【００４７】
図７は、本実施形態に係る光走査装置１において発生した戻り光を遮光する様子を示した図である。
【００４８】
図７に示されているように、光束ＬＡ及び光束ＬＢはそれぞれ、副走査断面内において、主走査断面に対して−１度及び＋１度の角度を有して、偏向器１０７の偏向部１０７１及び１０７２の偏向面１０７１ａ及び１０７２ａに斜入射している。
そして、光束ＬＡ及び光束ＬＢの一部が偏向面１０７１ａ及び１０７２ａによって偏向され、戻り光ＬＡｂ及び戻り光ＬＢｂとなっている。
ここで、戻り光ＬＡｂの光路と光束ＬＡの光路とは、偏向面１０７１ａの法線を含む主走査断面である平面ＰＡ（第１の平面）に対して、互いに面対称の関係である。換言すると、戻り光ＬＡｂは、副走査断面内において、主走査断面に対して＋１度の角度を有して、偏向器１０７の偏向部１０７１の偏向面１０７１ａから光源１００に向けて進行する。すなわち、光束ＬＡの光路と戻り光ＬＡｂの光路とは、互いに主走査断面内において一致している。
また、戻り光ＬＢｂの光路と光束ＬＢの光路とは、偏向面１０７２ａの法線を含む主走査断面である平面ＰＢ（第１の平面）に対して、互いに面対称の関係である。換言すると、戻り光ＬＢｂは、副走査断面内において、主走査断面に対して−１度の角度を有して、偏向器１０７の偏向部１０７２の偏向面１０７２ａから光源１００に向けて進行する。すなわち、光束ＬＢの光路と戻り光ＬＢｂの光路とは、互いに主走査断面内において一致している。
【００４９】
そして、戻り光ＬＡｂ及び戻り光ＬＢｂはそれぞれ、シリンドリカルレンズ１０４ａ及び１０４ｂ、コリメータレンズ１０２を再び通過し、光源１００に入射しようとする。
しかしながら、本実施形態に係る光走査装置１では、第１の開口絞り１０１が設けられており、戻り光ＬＡｂ及び戻り光ＬＢｂは、第１の開口絞り１０１の遮光部１０１３によって遮光されることとなる。
従って、本実施形態に係る光走査装置１では、第１の開口絞り１０１は、光束Ｌを光束ＬＡ及び光束ＬＢに分割する光束分割手段として機能すると共に、戻り光ＬＡｂ及び戻り光ＬＢｂを遮光する遮光部材としても機能している。
【００５０】
本実施形態に係る光走査装置１では、シリンドリカルレンズ１０４ａ及び１０４ｂそれぞれの光軸ＯＡａ及びＯＡｂはそれぞれ、光束ＬＡ及び光束ＬＢが偏向面１０７１ａ及び１０７２ａの近傍で集光するように、平面ＰＡ及び平面ＰＢ内にある。
そして、光束ＬＡ及び光束ＬＢはそれぞれ、シリンドリカルレンズ１０４ａ及び１０４ｂの光軸から副走査方向に離間した位置を通過することによって、偏向面１０７１ａ及び１０７２ａに斜入射する。
また、光源１００の中心を含む主走査断面である平面ＰＣ（第２の平面）は、平面ＰＡ及び平面ＰＢそれぞれに対して、副走査方向に離間している。
このように本実施形態に係る光走査装置１を構成することで、戻り光ＬＡｂ及び戻り光ＬＢｂは、第１の開口絞り１０１の遮光部１０１３によって遮光されることとなる。
【００５１】
従って、図５及び図６に示されているような、入射角度θｉｎが９０度の場合のように、光束ＬＡ及びＬＢのうちの一方の光束が対応する被走査面の走査幅内の領域に導光される際の所定のタイミングにおいて、他方の光束が光源１００に向かう戻り光として偏向されてしまっても、その戻り光は遮光することができる。
すなわち、本実施形態に係る光走査装置１では、図８に示されるように、入射角度θｉｎが９０度の場合であっても、発光禁止領域２０１ａ及び２０１ｂは無くなる。
それにより、戻り光による画像不良の発生を防ぐと共に、最大画角を大きくできることにより、走査効率を上げることができる。
【００５２】
図９（ａ）及び（ｂ）は、本実施形態の変形例に係る光走査装置１において発生した戻り光を遮光する様子を示した図である。
【００５３】
図９（ａ）に示されている変形例では、コリメータレンズ１０２とシリンドリカルレンズ１０４ａ及び１０４ｂとの間に、遮光部材１１４が設けられている。また、図９（ｂ）に示されている変形例では、シリンドリカルレンズ１０４ａ及び１０４ｂと偏向器１０７との間に、遮光部材１１５が設けられている。
この遮光部材１１４及び１１５（遮光手段）により、戻り光ＬＡｂ及び戻り光ＬＢｂを遮光することができる。また、遮光部材１１５のように、遮光部材はハウジングと一体で設けられていてもよい。
【００５４】
［第二実施形態］
図１０（ａ）及び（ｂ）はそれぞれ、第二実施形態に係る光走査装置２の主走査断面図及び光走査装置１の結像光学系８５の副走査断面図を示している。
また、図１１（ａ）及び（ｂ）はそれぞれ、第二実施形態に係る光走査装置２の入射光学系７５の主走査断面図及び副走査断面図を示している。
なお、第二実施形態に係る光走査装置２では、入射光学系７５に反射ミラー２０３、２０５ａ及び２０５ｂが新たに設けられ、且つ、多段偏向器１０７の代わりに１段偏向器２０７が設けられている以外は、第一実施形態に係る光走査装置１と同一の部材で構成されているため、同一の部材については、同一の符番を付し、説明を省略する。
【００５５】
反射ミラー２０３は、コリメータレンズ１０２を通過した光束ＬＢのみを反射するように、光束ＬＢの光路中に配置されている。
また、反射ミラー２０５ａ及び２０５ｂはそれぞれ、シリンドリカルレンズ１０４ａ及び１０４ｂを通過した光束ＬＡ及び光束ＬＢを、偏向器２０７の偏向面２０７ａ及び２０７ｂに向けて反射する。
【００５６】
第二実施形態に係る光走査装置２では、光源１００から出射した光束Ｌが、第１の開口絞り１０１によって、光束ＬＡ及び光束ＬＢに分割される。分割された光束ＬＡ及び光束ＬＢはそれぞれ、コリメータレンズ１０２によって平行光束に変換される。
変換された光束ＬＡ（第３の光束）は、シリンドリカルレンズ１０４ａによって偏向器２０７の偏向面２０７ａ近傍で副走査方向に集光される。そして、光束ＬＡは、反射ミラー２０５ａによって反射され、第２の開口絞り１０６ａによって主走査方向の光束幅が制限され、偏向器２０７の偏向面２０７ａ（第１の偏向面）に入射する。
また、変換された光束ＬＢ（第２の光束）は、反射ミラー２０３（第１の反射手段、第２の反射手段）によって反射された後、シリンドリカルレンズ１０４ｂによって偏向器２０７の偏向面２０７ｂ近傍で副走査方向に集光される。そして、光束ＬＢは、反射ミラー２０５ｂ（第１の反射手段、第２の反射手段）によって反射され、第２の開口絞り１０６ｂによって主走査方向の光束幅が制限され、偏向器２０７の偏向面２０７ｂ（第２の偏向面）に入射する。
なお、光束ＬＡ及び光束ＬＢはそれぞれ、副走査断面内において、主走査断面に対して−１度及び＋１度の角度を有して、偏向器２０７の偏向面２０７ａ及び２０７ｂに斜入射している。
【００５７】
光源１００から出射し、分割され、偏向器２０７の偏向面２０７ａに入射した光束ＬＡは、偏向器２０７の偏向面２０７ａにより偏向走査された後、第１のｆθレンズ１０８ａ、第２のｆθレンズ１０９ａによって被走査面１１１ａ（第１の被走査面）上に導光される。光束ＬＡは、被走査面１１１ａを矢印Ｂ方向に等速度で走査する。
また、光源１００から出射し、分割され、偏向器２０７の偏向面２０７ｂに入射した光束ＬＢは、偏向器２０７の偏向面２０７ｂにより偏向走査された後、第１のｆθレンズ１０８ｂ、第２のｆθレンズ１０９ｂによって被走査面１１１ｂ（第２の被走査面）上に導光される。光束ＬＢは、被走査面１１１ｂを矢印Ｂ方向に等速度で走査する。
【００５８】
なお、第二実施形態に係る光走査装置２に設けられている偏向器２０７は、偏向面を５面有するポリゴンミラーである。
また、第二実施形態に係る光走査装置２では、第１のｆθレンズ１０８ａ及び第２のｆθレンズ１０９ａによって第１の結像光学系８５ａが構成される。また、第１のｆθレンズ１０８ｂ及び第２のｆθレンズ１０９ｂによって第２の結像光学系８５ｂが構成される。
そして、第１の結像光学系８５ａ及び第２の結像光学系８５ｂをまとめて結像光学系８５と呼ぶ場合がある。
【００５９】
そして、以下に示すように、第二実施形態に係る光走査装置２においても、光束ＬＡ及び光束ＬＢはそれぞれ、被走査面１１１ａ及び１１２ｂを走査する時間が異なる、いわゆる時分割走査をしている。
【００６０】
次に、本実施形態に係る光走査装置２の入射光学系７５及び結像光学系８５の諸特性をそれぞれ以下の表３及び表４に示す。
【００６１】
【表３】
2018063277.tif 000009
【００６２】
【表４】
2018063277.tif 000010
【００６３】
次に、本実施形態に係る光走査装置２の入射光学系７５の詳細な構成について説明する。
図１１（ａ）及び（ｂ）に示されているように、光源１００から出射した光束Ｌは、第１の開口絞り１０１によって、光束ＬＡ及び光束ＬＢに分割される。分割された光束ＬＡ及び光束ＬＢはそれぞれ、コリメータレンズ１０２によって平行光束に変換される。
変換された光束ＬＡは、シリンドリカルレンズ１０４ａによって偏向器２０７の偏向面２０７ａ近傍で副走査方向に集光される。そして、光束ＬＡは、反射ミラー２０５ａによって反射され、第２の開口絞り１０６ａによって主走査方向の光束幅が制限され、偏向器２０７の偏向面２０７ａに入射する。
また、変換された光束ＬＢは、反射ミラー２０３によって反射された後、シリンドリカルレンズ１０４ｂによって偏向器２０７の偏向面２０７ｂ近傍で副走査方向に集光される。そして、光束ＬＢは、反射ミラー２０５ｂによって反射され、第２の開口絞り１０６ｂによって主走査方向の光束幅が制限され、偏向器２０７の偏向面２０７ｂに入射する。
【００６４】
本実施形態に係る光走査装置２では、コリメータレンズ１０２を通過した光束ＬＡ及び光束ＬＢはそれぞれ、主走査断面内においては互いに同一、副走査断面内においては互いに離間した光路に沿って進行する。
そして、光束ＬＡ及び光束ＬＢをそれぞれ、互いに同じ副走査方向高さにある偏向面２０７ａ及び２０７ｂに対して、主走査断面に対して角度を有して斜入射させるために、光束ＬＢを、反射ミラー２０３及び２０５ｂによって、主走査方向だけでなく、副走査方向にも偏向させている。
【００６５】
本実施形態に係る光走査装置２の入射光学系７５に設けられている各光学素子の入射面の面頂点における法線の方向余弦は、以下の表５に示されるように設定されている。
【００６６】
【表５】
2018063277.tif 000011
ここで、θｘ、θｙ及びθｚはそれぞれ、法線とｘ軸、ｙ軸及びｚ軸とがなす角度である。
【００６７】
表５に示されているように本実施形態に係る光走査装置２では、光束ＬＢの光路中に配置されている反射ミラー２０３、シリンドリカルレンズ１０４ｂ、反射ミラー２０５ｂ、及び第２の開口絞り１０６ｂが、副走査方向に傾いて配置されている。
【００６８】
次に、本実施形態に係る光走査装置２における効果について説明する。
図１２は、本実施形態に係る光走査装置２における、入射角度θｉｎが６２度のときの偏向器２０７の回転角度θｐｏｌに対する光源１００の発光タイミングを示した図である。
また、図１３（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）はそれぞれ、図１２中の（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）の各発光タイミングにおける、偏向器２０７に入射した光束ＬＡ及びＬＢが偏向される様子を示した図である。
なお、ここで、入射角度θｉｎ及び回転角度θｐｏｌはそれぞれ、主走査断面内において、光束ＬＡ、ＬＢの偏向器２０７への入射方向及び偏向器２０７の偏向面２０７ａの法線それぞれが結像光学系８５の光軸に対してなす角度である。
【００６９】
なお、図１２に示されている実施例では、結像光学系８５のｆθ係数は４００（ｍｍ／ｒａｄ）となっている。
これは、ｆθ係数を３００（ｍｍ／ｒａｄ）とすると、入射角度θｉｎが６２度のときにおいても、発光領域２００ａ及び２００ｂと発光禁止領域２０１ａ及び２０１ｂとが重なるタイミングがあるからである。すなわち、光束ＬＡ及びＬＢのうちの一方の光束が対応する被走査面の走査幅内の領域に導光される際の所定のタイミングにおいて、他方の光束が光源１００に向かう戻り光として偏向されてしまう場合があるからである。
【００７０】
図１２に示されているように、入射角度θｉｎが６２度のときには、発光禁止領域２０１ａ及び２０１ｂは、発光領域２００ａ及び２００ｂ以外の領域にくるため、光源１００の発光制御が容易である。
【００７１】
具体的には、回転角度θｐｏｌが３１度である発光タイミング（ａ）では、図１３（ａ）に示されているように、光束ＬＡは、被走査面１１１ａの軸上像高を走査するように、偏向器２０７の偏向面２０７ａによって偏向される。一方で、光束ＬＢは、偏向器２０７の偏向面２０７ｂによって被走査面１１１ｂの走査幅外の領域に偏向される。
また、回転角度θｐｏｌが４６度である発光タイミング（ｂ）では、図１３（ｂ）に示されているように、光束ＬＡは、偏向器２０７の偏向面２０７ａによって被走査面１１１ａの走査幅外の領域に偏向される。一方で、光束ＬＢは、偏向器２０７の偏向面２０７ｂによって光源１００へ向かう方向、すなわち戻り光として偏向される。
また、回転角度θｐｏｌが６２度である発光タイミング（ｃ）では、図１３（ｃ）に示されているように、光束ＬＡは、偏向器２０７の偏向面２０７ａによって光源１００へ向かう方向、すなわち戻り光として偏向される。一方で、光束ＬＢは、偏向器２０７の偏向面２０７ｂによって被走査面１１１ｂの走査幅外の領域に偏向される。
【００７２】
以上のように、入射角度θｉｎが６２度の場合においては、光束ＬＢの戻り光が発生する発光タイミング（ｂ）で、光束ＬＡは、被走査面１１１ｂの走査幅外の領域に偏向される。また、光束ＬＡの戻り光が発生する発光タイミング（ｃ）で、光束ＬＢは、被走査面１１１ｂの走査幅外の領域に偏向される。
そのため、発光領域２００ａ及び２００ｂ内のタイミングのみにおいて、光源１００を発光させるように制御すればよい。
しかしながら、入射角度θｉｎを６２度に設定すると、偏向器２０７へ入射する光束ＬＡ及びＬＢと被走査面１１１ａ及び１１１ｂの走査幅内の領域に向けて偏向器２０７によって偏向された光束ＬＡ及びＬＢとの間の間隔が狭くなる。
そのため、光走査装置２の最大画角が小さくなり、それにより、走査効率が低下することになる。そして、最大画角が小さくなると、十分な画像形成領域を確保するためには、結像光学系８５の焦点距離を長くする必要が生じ、それは光走査装置２の大型化につながってしまう。
【００７３】
図１４は、本実施形態に係る光走査装置２における、入射角度θｉｎが７２度のときの偏向器２０７の回転角度θｐｏｌに対する光源１００の発光タイミングを示した図である。
また、図１５（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）はそれぞれ、図１４中の（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）の各発光タイミングにおける、偏向器２０７に入射した光束ＬＡ及びＬＢが偏向される様子を示した図である。
なお、図１４に示されている実施例では、結像光学系８５のｆθ係数は３００（ｍｍ／ｒａｄ）となっている。
【００７４】
この場合、回転角度θｐｏｌが３６度である発光タイミング（ａ）では、図１５（ａ）に示されているように、光束ＬＡは、被走査面１１１ａの軸上像高を走査するように、偏向器２０７の偏向面２０７ａによって偏向される。一方で、光束ＬＢは、偏向器２０７の偏向面２０７ｂによって光源１００へ向かう方向、すなわち戻り光として偏向される。
また、回転角度θｐｏｌが５４度である発光タイミング（ｂ）では、図１５（ｂ）に示されているように、光束ＬＡは、偏向器２０７の偏向面２０７ａによって、被走査面１１１ａの走査幅外の領域に偏向される。そして、光束ＬＢも、偏向器２０７の偏向面２０７ｂによって、被走査面１１１ｂの走査幅外の領域に偏向される。
また、回転角度θｐｏｌが７２度である発光タイミング（ｃ）では、図１５（ｃ）に示されているように、光束ＬＡは、偏向器２０７の偏向面２０７ａによって光源１００へ向かう方向、すなわち戻り光として偏向される。一方で、光束ＬＢは、被走査面１１１ｂの軸上像高を走査するように、偏向器２０７の偏向面２０７ｂによって偏向される。
【００７５】
以上のように、入射角度θｉｎが７２度（３６０度／偏向器２０７の面数）の場合においては、最大画角を最も大きくできるため、走査効率を最も上げることができる。それと共に、結像光学系８５の焦点距離を短くすることができ、光走査装置２を小型化することができる。
一方で、光束ＬＡ及びＬＢのうちの一方の光束が対応する被走査面の走査幅内の領域に導光される際の所定のタイミングにおいて、他方の光束が光源１００に向かう戻り光として偏向されてしまう。
しかしながら、以下に示すように、本実施形態に係る光走査装置２では、このような戻り光を遮光することができる。
【００７６】
図１６は、本実施形態に係る光走査装置２において発生した戻り光を遮光する様子を示した図である。
【００７７】
図１６に示されているように、光束ＬＡ及び光束ＬＢはそれぞれ、副走査断面内において、主走査断面に対して−１度及び＋１度の角度を有して、偏向器２０７の偏向面２０７ａ及び２０７ｂに斜入射している。
そして、光束ＬＡ及び光束ＬＢの一部が偏向面２０７ａ及び２０７ｂによって偏向され、戻り光ＬＡｂ及び戻り光ＬＢｂとなっている。
ここで、戻り光ＬＡｂの光路と光束ＬＡの光路とは、偏向面２０７ａの法線を含む主走査断面である平面ＰＤに対して、互いに面対称の関係である。換言すると、戻り光ＬＡｂは、副走査断面内において、主走査断面に対して＋１度の角度を有して、偏向器２０７の偏向面２０７ａから光源１００に向けて進行する。すなわち、光束ＬＡの光路と戻り光ＬＡｂの光路とは、互いに主走査断面内において一致している。
また、戻り光ＬＢｂの光路と光束ＬＢの光路とは、平面ＰＤに対して、互いに面対称の関係である。換言すると、戻り光ＬＢｂは、副走査断面内において、主走査断面に対して−１度の角度を有して、偏向器２０７の偏向面２０７ｂから光源１００に向けて進行する。すなわち、光束ＬＢの光路と戻り光ＬＢｂの光路とは、互いに主走査断面内において一致している。
【００７８】
そして、戻り光ＬＡｂは、反射ミラー２０５ａによって再び反射され、シリンドリカルレンズ１０４ａ及びコリメータレンズ１０２を再び通過し、光源１００に入射しようとする。
また、戻り光ＬＢｂは、反射ミラー２０５ａ及び２０３によって再び反射され、シリンドリカルレンズ１０４ｂ及びコリメータレンズ１０２を再び通過し、光源１００に入射しようとする。
しかしながら、本実施形態に係る光走査装置２では、第１の開口絞り１０１が設けられており、戻り光ＬＡｂ及び戻り光ＬＢｂは、第１の開口絞り１０１の遮光部１０１３によって遮光されることとなる。
従って、本実施形態に係る光走査装置２では、第１の開口絞り１０１は、光束Ｌを光束ＬＡ及び光束ＬＢに分割する光束分割手段として機能すると共に、戻り光ＬＡｂ及び戻り光ＬＢｂを遮光する遮光部材としても機能している。
【００７９】
従って、図１４及び図１５に示されているような、入射角度θｉｎが７２度の場合のように、光束ＬＡ及びＬＢのうちの一方の光束が対応する被走査面の走査幅内の領域に導光される際の所定のタイミングにおいて、他方の光束が光源１００に向かう戻り光として偏向されてしまっても、その戻り光は遮光することができる。
すなわち、本実施形態に係る光走査装置２では、図１７に示されるように、入射角度θｉｎが７２度の場合であっても、発光禁止領域２０１ａ及び２０１ｂは無くなる。
それにより、戻り光による画像不良の発生を防ぐと共に、最大画角を大きくできることにより、走査効率を上げることができる。
【００８０】
また、本実施形態に係る光走査装置２においても、第一実施形態と同様に、遮光部材１１４または１１５を設けるような変形例を考えることができる。
【００８１】
［第三実施形態］
図１８は、第三実施形態に係る光走査装置３の主走査断面図を示している。
第三実施形態に係る光走査装置３では、光源１００ａから出射した光束Ｌ１は、第１の開口絞り１０１ａによって、光束ＬＡ及び光束ＬＢに分割される。分割された光束ＬＡ及び光束ＬＢはそれぞれ、コリメータレンズ１０２ａによって平行光束に変換される。
変換された光束ＬＡ及び光束ＬＢはそれぞれ、シリンドリカルレンズ１０４ａ及び１０４ｂによって偏向器３０７の偏向部３０７１及び３０７２の偏向面３０７１ａ及び３０７２ａ近傍で副走査方向に集光される。そして、光束ＬＡ及び光束ＬＢはそれぞれ、第２の開口絞り１０６ａ及び１０６ｂによって主走査方向の光束幅が制限され、偏向器３０７の偏向部３０７１及び３０７２の偏向面３０７１ａ及び３０７２ａに入射する。
同様に、光源１００ｂから出射した光束Ｌ２は、第１の開口絞り１０１ｂによって、第３の光束ＬＣ及び第４の光束ＬＤに分割される。分割された第３の光束ＬＣ及び第４の光束ＬＤはそれぞれ、コリメータレンズ１０２ｂによって平行光束に変換される。
変換された第３の光束ＬＣ及び第４の光束ＬＤはそれぞれ、シリンドリカルレンズ１０４ｃ及び１０４ｄによって偏向器３０７の偏向部３０７１及び３０７２の偏向面３０７１ｂ及び３０７２ｂ近傍で副走査方向に集光される。そして、第３の光束ＬＣ及び第４の光束ＬＤはそれぞれ、第２の開口絞り１０６ｃ及び１０６ｄによって主走査方向の光束幅が制限され、偏向器３０７の偏向部３０７１及び３０７２の偏向面３０７１ｂ及び３０７２ｂに入射する。
【００８２】
光源１００ａから出射し、分割され、偏向器３０７の偏向部３０７１の偏向面３０７１ａに入射した光束ＬＡは、偏向部３０７１の偏向面３０７１ａにより偏向走査された後、第１のｆθレンズ１０８ａ、第２のｆθレンズ１０９ａによって被走査面１１１ａ上に導光される。光束ＬＡは、被走査面１１１ａを矢印Ｂ方向に等速度で走査する。
また、光源１００ａから出射し、分割され、偏向器３０７の偏向部３０７２の偏向面３０７２ａに入射した光束ＬＢは、偏向部３０７２の偏向面３０７２ａにより偏向走査された後、第１のｆθレンズ１０８ｂ、第２のｆθレンズ１０９ｂによって被走査面１１１ｂ上に導光される。光束ＬＢは、被走査面１１１ｂを矢印Ｂ方向に等速度で走査する。
また、光源１００ｂから出射し、分割され、偏向器３０７の偏向部３０７１の偏向面３０７１ｂに入射した第３の光束ＬＣは、偏向部３０７１の偏向面３０７１ｂにより偏向走査された後、第１のｆθレンズ１０８ｃ、第２のｆθレンズ１０９ｃによって被走査面１１１ｃ上に導光される。第３の光束ＬＣは、被走査面１１１ｃを矢印Ｂ方向に等速度で走査する。
また、光源１００ｂから出射し、分割され、偏向器３０７の偏向部３０７２の偏向面３０７２ｂに入射した第４の光束ＬＤは、偏向部３０７２の偏向面３０７２ｂにより偏向走査された後、第１のｆθレンズ１０８ｄ、第２のｆθレンズ１０９ｄによって被走査面１１１ｄ上に導光される。第４の光束ＬＤは、被走査面１１１ｄを矢印Ｂ方向に等速度で走査する。
【００８３】
第三実施形態に係る光走査装置３においても、第一及び第二実施形態と同様に、第１の開口絞り１０１ａは遮光部材として機能し、戻り光ＬＡｂ及び戻り光ＬＢｂを遮光することができる。
また、第１の開口絞り１０１ｂも遮光部材として機能し、戻り光ＬＣｂ及び戻り光ＬＤｂを遮光することができる。
【００８４】
以上、好ましい実施形態について説明したが、これらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
第一乃至第三実施形態のいずれかに係る光走査装置では、第１の開口絞り１０１及び第２の開口絞り１０６をハウジングと一体となるように設けても構わない。
また、第一乃至第三実施形態のいずれかに係る光走査装置は、光源１００から射出された光束Ｌを第１の開口絞り１０１によって光束ＬＡ及び光束ＬＢに分割し、各光束が２つの被走査面１１１ａ及び１１１ｂを走査するように構成されていた。しかしながら、これに限られず、光源１００から射出された光束Ｌを第１の開口絞り１０１によって３つ以上の光束に分割して、各光束が３つ以上の被走査面を走査するように構成することもできる。
また、第一乃至第三実施形態のいずれかに係る光走査装置では、第１の開口絞り１０１を光束ＬＡ及びＬＢの光路上において光源１００とコリメータレンズ１０２との間に配置していたが、これに限られず、入射光学系のその他の場所に配置しても構わない。
また、第一乃至第三実施形態のいずれかに係る光走査装置では、主走査方向に広く、副走査方向に狭い開口部が設けられた第１の開口絞り１０１を用いていたが、これに限られず、主走査方向に狭く、副走査方向に広い開口部が設けられた開口絞りを用いても構わない。この場合、光束ＬＡ及びＬＢの第１の開口絞り１０１による分割直後の光路は、副走査断面内において互いに一致することになる。
また、第一乃至第三実施形態のいずれかに係る光走査装置１では、第１の開口絞り１０１を用いて光束を分割していたが、これに限られず、光束を分割するために、透光部材に遮光部材を部分的に貼着したような光学部材を用いても構わない。
また、第一乃至第三実施形態のいずれかに係る光走査装置では、光束ＬＡ及び光束ＬＢは、共通のコリメータレンズ１０２によって平行光束に変換されていたが、これに限られず、各々の光束に対して、個別のコリメータレンズを設けても構わない。
また、第一及び第三実施形態のいずれかに係る光走査装置において、入射光学系内に光束を反射するための反射ミラー等を設けても構わない。
また、第二実施形態に係る光走査装置において、偏向器２０７の代わりに、偏向器１０７を用いても構わない。
【００８５】
［画像形成装置］
図１９は、第一及び第二実施形態のいずれかに係る光走査装置が搭載されたカラー画像形成装置９０の要部副走査断面図である。
【００８６】
画像形成装置９０は、第一及び第二実施形態のいずれかに係る光走査装置を用いて、像担持体である各感光ドラム面上に画像情報を記録するタンデムタイプのカラー画像形成装置である。
画像形成装置９０は、第一及び第二実施形態のいずれかに係る光走査装置１１、１２、像担持体としての感光ドラム２３、２４、２５、２６及び現像器１５、１６、１７、１８を備えている。また、画像形成装置９０は、搬送ベルト９１、プリンタコントローラ９３、定着器９４及び用紙カセット９５を備えている。
【００８７】
画像形成装置９０には、パーソナルコンピュータ等の外部機器９２から出力されたＲ（レッド）、Ｇ（グリーン）、Ｂ（ブルー）の各色信号（コードデータ）が入力される。入力された色信号は、画像形成装置９０内のプリンタコントローラ９３によって、Ｃ（シアン），Ｍ（マゼンタ），Ｙ（イエロー）、Ｋ（ブラック）の各画像データ（ドットデータ）に変換される。変換された各画像データはそれぞれ、光走査装置１１、１２に入力される。そして、光走査装置１１、１２からはそれぞれ、各画像データに応じて変調された光ビーム１９、２０、２１、２２が射出され、これらの光ビームによって感光ドラム２３、２４、２５、２６の感光面が露光される。
【００８８】
感光ドラム２３、２４、２５、２６の表面を一様に帯電せしめる帯電ローラ（不図示）が表面に当接するように設けられている。そして、帯電ローラによって帯電された感光ドラム２３、２４、２５、２６の表面に、光走査装置１１、１２によって光ビーム１９、２０、２１、２２が照射されるようになっている。
【００８９】
上で述べたように、光ビーム１９、２０、２１、２２は各色の画像データに基づいて変調されており、光ビーム１９、２０、２１、２２を照射することによって感光ドラム２３、２４、２５、２６の表面に静電潜像が形成される。形成された静電潜像は、感光ドラム２３、２４、２５、２６に当接するように配設された現像器１５、１６、１７、１８によってトナー像として現像される。
【００９０】
現像器１５乃至１８によって現像されたトナー像は、感光ドラム２３乃至２６に対向するように配設された不図示の転写ローラ（転写器）によって、用紙カセット９５から搬送ベルト９１上を搬送される不図示の用紙（被転写材）上に多重転写され、１枚のフルカラー画像が形成される。
【００９１】
以上のようにして、未定着トナー像が転写された用紙は、さらに感光ドラム２３、２４、２５、２６後方（図１９において左側）の定着器９４へと搬送される。定着器９４は、内部に定着ヒータ（不図示）を有する定着ローラとこの定着ローラに圧接するように配設された加圧ローラとで構成されている。転写部から搬送されてきた用紙は、定着ローラと加圧ローラの圧接部にて加圧しながら加熱されることにより、用紙上の未定着トナー像が定着される。さらに定着ローラの後方には不図示の排紙ローラが配設されており、排紙ローラは定着された用紙を画像形成装置９０の外に排出せしめる。
【００９２】
カラー画像形成装置９０は、光走査装置１１、１２を２個並べ、各々がＣ、Ｍ、Ｙ、Ｋの各色に対応し、各々並行して感光ドラム２３、２４、２５、２６の感光面上に画像信号（画像情報）を記録し、カラー画像を高速に印字するものである。
なお、プリンタコントローラ９３は、先に説明したデータの変換だけでなく、感光ドラム２３乃至２６を駆動するモータに加えて、画像形成装置９０内の各構成要素や、光走査装置１１、１２内のポリゴンモータなどの制御を行う。
外部機器９２としては、例えばＣＣＤセンサを備えたカラー画像読取装置が用いられても良い。この場合には、このカラー画像読取装置と、カラー画像形成装置９０とで、カラーデジタル複写機が構成される。
【００９３】
なお、カラー画像形成装置９０では、２つの第一及び第二実施形態のいずれかに係る光走査装置を用いているが、この代わりに、１つの第三実施形態に係る光走査装置を用いても構わない。
また、本実施形態に係る画像形成装置の記録密度は、特に限定されない。しかしながら、記録密度が高くなればなるほど、高画質が求められることを考えると、１２００ｄｐｉ以上の画像形成装置において、第一乃至第三実施形態の効果はより発揮される。
【符号の説明】
【００９４】
１  光走査装置
７５  入射光学系
８５  結像光学系
１００  光源
１０１  第１の開口絞り（分割手段、遮光手段）
１０７  偏向器
１１１ａ、１１１ｂ  被走査面
１１４、１１５  遮光部材（遮光手段）
Ｌ  光束（第１の光束）
ＬＡ、ＬＢ  光束（複数の光束）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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