(57)【要約】【課題】優れた電磁変換特性を示し、かつ繰り返し走行における再生出力の低下が抑制された磁気テープの提供。【解決手段】磁性層表面において測定される中心線平均表面粗さＲａは１．８ｎｍ以下であり、磁性層表面において振り子粘弾性試験により求められる対数減衰率は０．０５０以下であり、磁性層に脂肪酸エステルを含み、磁気テープを真空加熱する前に磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は０ｎｍ超かつ７．０ｎｍ以下、真空加熱した後に測定されるスペーシング分布の半値全幅は０ｎｍ超かつ７．０ｎｍ以下、かつ磁気テープを真空加熱した後に磁性層表面において光学干渉法により測定されるスペーシングと真空加熱する前に測定されるスペーシングとの差分は０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である磁気テープ。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有する磁気テープであって、
前記磁性層の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａは、１．８ｎｍ以下であり、
前記磁性層の表面において振り子粘弾性試験により求められる対数減衰率は、０．０５０以下であり、
前記磁性層は、脂肪酸エステルを含み、
前記磁気テープを真空加熱する前に前記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、０ｎｍ超かつ７．０ｎｍ以下であり、
前記磁気テープを真空加熱した後に前記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、０ｎｍ超かつ７．０ｎｍ以下であり、かつ
前記磁気テープを真空加熱した後に前記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳａｆｔｅｒと、前記磁気テープを真空加熱する前に前記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳｂｅｆｏｒｅとの差分、Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ、は、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である磁気テープ。
【請求項２】
前記対数減衰率は、０．０１０以上０．０５０以下である、請求項１に記載の磁気テープ。
【請求項３】
前記中心線平均表面粗さＲａは、１．２ｎｍ以上１．８ｎｍ以下である、請求項１または２に記載の磁気テープ。
【請求項４】
前記磁気テープを真空加熱する前に前記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、３．０ｎｍ以上７．０ｎｍ以下である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気テープ。
【請求項５】
前記磁気テープを真空加熱した後に前記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、３．０ｎｍ以上７．０ｎｍ以下である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の磁気テープ。
【請求項６】
前記差分、Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ、は、２．０ｎｍ以上８．０ｎｍ以下である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の磁気テープ。
【請求項７】
前記非磁性支持体と前記磁性層との間に、非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の磁気テープ。
【請求項８】
前記非磁性支持体の前記磁性層を有する表面側とは反対の表面側に、非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を有する、請求項１〜７のいずれか１項に記載の磁気テープ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気テープに関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録媒体にはテープ状のものとディスク状のものがあり、データバックアップ等のストレージ用途には、テープ状の磁気記録媒体、即ち磁気テープが主に用いられている。磁気テープへの情報の記録および再生は、通常、磁気テープをドライブ内で走行させ、磁気テープの磁性層表面を磁気ヘッド（以下、単に「ヘッド」とも記載する。）と接触させ摺動させることにより行われる。
【０００３】
磁気記録分野では、電磁変換特性の向上が常に求められている。この点に関し、例えば特許文献１には、磁性層の表面平滑性を高めることにより、電磁変換特性に優れる磁気記録媒体が得られることが記載されている（例えば特許文献１の段落００２０および段落０１７８参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−４９７３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
磁気テープの磁性層表面の表面平滑性を高めることは、磁性層表面とヘッドとの間の間隔（スペーシング）を狭めて電磁変換特性を向上するための有効な手段である。
しかるに、本発明者らの検討によって、電磁変換特性の向上のために磁性層の表面平滑性を高めた磁気テープでは、走行を繰り返すうちに再生出力が低下する現象が見られることが判明した。
【０００６】
そこで本発明の目的は、優れた電磁変換特性を示し、かつ繰り返し走行における再生出力の低下が抑制された磁気テープを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一態様は、
非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有する磁気テープであって、
上記磁性層の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａは、１．８ｎｍ以下であり、
上記磁性層の表面において振り子粘弾性試験により求められる対数減衰率は、０．０５０以下であり、
上記磁性層は、脂肪酸エステルを含み、
上記磁気テープを真空加熱する前に上記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、０ｎｍ超かつ７．０ｎｍ以下であり、
上記磁気テープを真空加熱した後に上記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、０ｎｍ超かつ７．０ｎｍ以下であり、かつ
上記磁気テープを真空加熱した後に上記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳａｆｔｅｒと、上記磁気テープを真空加熱する前に上記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳｂｅｆｏｒｅとの差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）は、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である磁気テープ、
に関する。
【０００８】
本発明および本明細書における磁気テープの磁性層の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａ（以下、「磁性層表面粗さＲａ」ともいう。）は、原子間力顕微鏡（Ａｔｏｍｉｃ  Ｆｏｒｃｅ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ；ＡＦＭ）により磁性層表面の面積４０μｍ×４０μｍの領域において測定される値とする。測定条件の一例としては、下記の測定条件を挙げることができる。後述の実施例に示す磁性層表面粗さＲａは、下記測定条件下での測定によって求めた値である。また、磁気テープの「磁性層（の）表面」とは、磁気テープの磁性層側表面と同義である。
ＡＦＭ（Ｖｅｅｃｏ社製Ｎａｎｏｓｃｏｐｅ４）をタッピングモードで用いて磁気テープの磁性層の表面の面積４０μｍ×４０μｍの領域を測定する。探針としてはＢＲＵＫＥＲ社製ＲＴＥＳＰ−３００を使用し、スキャン速度（探針移動速度）は４０μｍ／秒、分解能は５１２ｐｉｘｅｌ×５１２ｐｉｘｅｌとする。
【０００９】
以下において、磁性層の表面において振り子粘弾性試験により求められる対数減衰率を、単に「対数減衰率」ともいう。
本発明および本明細書において、上記の対数減衰率とは、以下の方法により求められる値とする。
図１〜図３は、対数減衰率の測定方法の説明図である。以下、これら図面を参照し対数減衰率の測定方法を説明する。ただし、図示された態様は例示であって、本発明を何ら限定するものではない。
測定対象の磁気テープから、測定用試料１００を切り出す。切り出した測定用試料１００を、振り子粘弾性試験機内の試料ステージ１０１において、基板１０３上に測定面（磁性層表面）を上方に向けて載置し、目視で確認できる明らかなしわが入っていない状態で、固定用テープ１０５等で固定する。
測定用試料１００の測定面上に、質量１３ｇの振り子付円柱型シリンダエッジ１０４（直径４ｍｍ）を、シリンダエッジの長軸方向が測定用試料１００の長手方向と平行になるように載せる。こうして測定用試料１００の測定面に、振り子付円柱型シリンダエッジ１０４を載せた状態（上方から見た状態）の一例を、図１に示す。図１に示す態様では、ホルダ兼温度センサー１０２が設置され、基板１０３の表面温度をモニタリングできる構成になっている。ただし、この構成は必須ではない。なお測定用試料１００の長手方向とは、図１に示す態様では図中に矢印によって示した方向であり、測定用試料を切り出した磁気テープにおける長手方向をいう。本発明および本明細書において、「平行」とは、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。上記誤差の範囲とは、例えば、厳密な平行±１０°未満の範囲を意味し、厳密な平行±５°以内であることが好ましく、±３°以内であることがより好ましい。また、振り子１０７（図２参照）としては、マグネットに吸着される性質を有する材料製（例えば金属製、合金製等）の振り子を用いる。
測定用試料１００を載置した基板１０３の表面温度を５℃／ｍｉｎ以下の昇温速度（５℃／ｍｉｎ以下であれば任意の昇温速度でよい。）で昇温して８０℃として、振り子運動を、振り子１０７とマグネット１０６との吸着を解除することにより開始（初期振動を誘起）させる。振り子運動している振り子１０７の状態（横から見た状態）の一例が、図２である。図２に示す態様では、振り子粘弾性試験機内で、試料ステージ下方に配置されたマグネット（電磁石）１０６への通電を停止して（スイッチをオフにして）吸着を解除することにより振り子運動を開始し、電磁石への通電を再開して（スイッチをオンにして）振り子１０７をマグネット１０６に吸着させることにより振り子運動を停止させる。振り子運動中、図２に示すように、振り子１０７は振幅を繰り返す。振り子が振幅を繰り返している間、振り子の変位を変位センサー１０８によりモニタリングして得られる結果から、変位を縦軸に取り、経過時間を横軸に取った変位−時間曲線を得る。変位−時間曲線の一例を、図３に示す。図３では、振り子１０７の状態と変位−時間曲線との対応が模式的に示されている。一定の測定間隔で、静止（吸着）と振り子運動とを繰り返し、１０分以上（１０分以上であれば任意の時間でよい。）経過した後の測定間隔において得られた変位−時間曲線を用いて、対数減衰率Δ（無単位）を、下記式から求め、この値を磁気テープの磁性層表面の対数減衰率とする。１回の吸着の吸着時間は１秒以上（１秒以上であれば任意の時間でよい。）とし、吸着終了から次の吸着開始までの間隔は６秒以上（６秒以上であれば任意の時間でよい。）とする。測定間隔とは、吸着開始から次の吸着開始までの時間の間隔である。また、振り子運動を行う環境の湿度は、相対湿度４０〜７０％の範囲であれば任意の相対湿度でよい。
【００１０】
【数１】
2018137014.tif 000002
【００１１】
変位−時間曲線において、変位が極小から再び極小になるまでの間隔を、波の一周期とする。ｎを、測定間隔中の変位−時間曲線に含まれる波の数とし、Ａｎを、ｎ番目の波における極小変位と極大変位との差とする。図３では、ｎ番目の波の変位が極小から再び極小になるまでの間隔を、Ｐｎ（例えば１番目の波についてはＰ１、２番目についてはＰ２、３番目についてはＰ３）と表示している。対数減衰率の算出には、ｎ番目の波の次に現れる極小変位と極大変位との差（上記式中、Ａｎ＋１、図３に示す変位−時間曲線ではＡ４）も用いるが、極大以降に振り子１０７が静止（吸着）している部分は波の数のカウントには用いない。また、極大変位以前に振り子１０７が静止（吸着）している部分も、波の数のカウントには用いない。したがって、図３に示す変位−時間曲線では、波の数は３つ（ｎ＝３）である。
【００１２】
以下において、磁気テープを真空加熱する前に磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅（Ｆｕｌｌ  Ｗｉｄｔｈ  ａｔ  Ｈａｌｆ  Ｍａｘｉｍｕｍ；ＦＷＨＭ）を「ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅ」とも記載し、磁気テープを真空加熱した後に磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅を「ＦＷＨＭａｆｔｅｒ」とも記載する。また、磁気テープを真空加熱した後に磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳａｆｔｅｒと、磁気テープを真空加熱する前に磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳｂｅｆｏｒｅとの差分を、「差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）」とも記載する。ＦＷＨＭａｆｔｅｒ、および差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）を求めるためのスペーシングＳａｆｔｅｒは、磁気テープを真空加熱した後に求められる値である。本発明および本明細書において、磁気テープの「真空加熱」とは、磁気テープを２００Ｐａ以上０．０１ＭＰａ以下の圧力かつ７０〜９０℃の雰囲気温度の環境下に２４時間保持することにより行われる。
本発明および本明細書において、磁気テープの磁性層表面において光学干渉法により測定されるスペーシングとは、以下の方法により測定される値とする。
磁気テープと透明な板状部材（例えばガラス板等）を、磁気テープの磁性層表面が透明な板状部材と対向するように重ね合わせた状態で、磁気テープの磁性層側とは反対側から５．０５×１０４Ｎ／ｍ（０．５ａｔｍ）の圧力で押圧部材を押しつける。この状態で、透明な板状部材を介して磁気テープの磁性層表面に光を照射し（照射領域：１５００００〜２０００００μｍ２）、磁気テープの磁性層表面からの反射光と透明な板状部材の磁気テープ側表面からの反射光との光路差によって発生する干渉光の強度（例えば干渉縞画像のコントラスト）に基づき、磁気テープの磁性層表面と透明な板状部材の磁気テープ側表面との間のスペーシング（距離）を求める。ここで照射される光は特に限定されるものではない。照射される光が、複数波長の光を含む白色光のように、比較的広範な波長範囲にわたり発光波長を有する光の場合には、透明な板状部材と反射光を受光する受光部との間に、干渉フィルタ等の特定波長または特定波長域以外の光を選択的にカットする機能を有する部材を配置し、反射光の中の一部の波長または一部の波長域の光を選択的に受光部に入射させる。照射させる光が単一の発光ピークを有する光（いわゆる単色光）の場合には、上記の部材は用いなくてもよい。受光部に入射させる光の波長は、一例として、例えば５００〜７００ｎｍの範囲にあることができる。ただし、受光部に入射させる光の波長は、上記範囲に限定されるものではない。また、透明な板状部材は、この部材を介して磁気テープに光を照射し干渉光が得られる程度に、照射される光を透過する透明性を有する部材であればよい。
以上の測定は、例えばＭｉｃｒｏ  Ｐｈｙｓｉｃｓ社製Ｔａｐｅ  Ｓｐａｃｉｎｇ  Ａｎａｌｙｚｅｒ等の市販のテープスペーシングアナライザー（ＴＳＡ；Ｔａｐｅ  Ｓｐａｃｉｎｇ  Ａｎａｌｙｚｅｒ）を用いて行うことができる。実施例におけるスペーシング測定は、Ｍｉｃｒｏ  Ｐｈｙｓｉｃｓ社製Ｔａｐｅ  Ｓｐａｃｉｎｇ  Ａｎａｌｙｚｅｒを用いて実施した。
また、本発明および本明細書におけるスペーシング分布の半値全幅とは、上記スペーシングの測定により得られる干渉縞画像を３０００００ポイントに分割して各ポイントのスペーシング（磁気テープの磁性層表面と透明な板状部材の磁気テープ側表面との間の距離）を求め、これをヒストグラムとし、このヒストグラムをガウス分布でフィッティングしたときの半値全幅（ＦＷＨＭ；Ｆｕｌｌ  Ｗｉｄｔｈ  ａｔ  Ｈａｌｆ  Ｍａｘｉｍｕｍ）である。
また、差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）は、上記３０００００ポイントにおける真空加熱後の最頻値から真空加熱前の最頻値を差し引いた値をいうものとする。
【００１３】
一態様では、上記対数減衰率は、０．０１０以上０．０５０以下である。
【００１４】
一態様では、上記中心線平均表面粗さＲａは、１．２ｎｍ以上１．８ｎｍ以下である。
【００１５】
一態様では、ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅは、３．０ｎｍ以上７．０ｎｍ以下である。
【００１６】
一態様では、ＦＷＨＭａｆｔｅｒは、３．０ｎｍ以上７．０ｎｍ以下である。
【００１７】
一態様では、差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）は、２．０ｎｍ以上８．０ｎｍ以下である。
【００１８】
一態様では、上記磁気テープは、上記非磁性支持体と上記磁性層との間に、非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を有する。
【００１９】
一態様では、上記磁気テープは、上記非磁性支持体の上記磁性層を有する表面側とは反対の表面側に、非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を有する。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の一態様にかかる磁気テープは、優れた電磁変換特性を発揮することができ、かつ繰り返し走行における再生出力低下の抑制が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】対数減衰率の測定方法の説明図である。
【図２】対数減衰率の測定方法の説明図である。
【図３】対数減衰率の測定方法の説明図である。
【図４】磁気テープ製造工程の具体的態様の一例（工程概略図）を示す。
【図５】実施例で用いた振動付与装置の概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本発明の一態様は、非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有する磁気テープであって、上記磁性層の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａ（磁性層表面粗さＲａ）は１．８ｎｍ以下であり、上記磁性層の表面において振り子粘弾性試験により求められる対数減衰率は０．０５０以下であり、上記磁性層は脂肪酸エステルを含み、上記磁気テープを真空加熱する前に上記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅（ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅ）は０ｎｍ超かつ７．０ｎｍ以下であり、上記磁気テープを真空加熱した後に上記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅（ＦＷＨＭａｆｔｅｒ）は０ｎｍ超かつ７．０ｎｍ以下であり、かつ上記磁気テープを真空加熱した後に上記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳａｆｔｅｒと、上記磁気テープを真空加熱する前に上記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳｂｅｆｏｒｅとの差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）は０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である磁気テープに関する。
以下、上記磁気テープについて、更に詳細に説明する。
【００２３】
［磁性層表面粗さＲａ］
上記磁気テープの磁性層の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａは、１．８ｎｍ以下である。これにより、上記磁気テープは、優れた電磁変換特性を発揮することができる。電磁変換特性の更なる向上の観点からは、磁気テープ表面粗さＲａは、１．７ｎｍ以下であることが好ましく、１．６ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、磁性層表面粗さＲａは、例えば１．０ｎｍ以上または１．２ｎｍ以上であることができる。ただし、電磁変換特性向上の観点からは磁気層表面粗さＲａが低いことは好ましいため、上記例示した下限を下回ってもよい。
【００２４】
磁性層表面粗さＲａは、公知の方法により制御することができる。例えば、磁性層に含まれる各種粉末のサイズ、磁気テープの製造条件等により磁性層表面粗さＲａは変わり得る。したがって、これらの１つ以上を調整することにより、磁性層表面粗さＲａが１．８ｎｍ以下の磁気テープを得ることができる。
【００２５】
本発明者らは、磁性層表面粗さＲａが１．８ｎｍ以下である磁気テープでは、何ら対策を施さない場合には走行を繰り返すうちに再生出力が低下してしまうことを見出した。この再生出力の低下は、理由は明らかではないものの、高温高湿環境下で磁気テープを繰り返し高速走行させる場合に顕在化することも判明した。ここで高温高湿環境下とは、例えば、雰囲気温度３０〜４５℃かつ相対湿度６５％以上（例えば６５〜９０％）の環境下である。また、高速走行とは、例えば、磁気テープの走行速度が６．０ｍ／秒以上での走行である。
そこで本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、磁性層表面粗さＲａが１．８ｎｍ以下である磁気テープにおいて、対数減衰率、ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅ、ＦＷＨＭａｆｔｅｒおよび差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）をそれぞれ上記範囲とすることにより、高温高湿環境下での繰り返し高速走行における再生出力低下の抑制が可能となることを新たに見出した。より詳しくは、以下の通りである。
【００２６】
上記の再生出力の低下は、磁気テープの走行を繰り返したときに磁性層表面とヘッドとが摺動し続けることにより磁気テープ由来の成分が磁性層表面からヘッドに付着し、付着した成分（以下、「ヘッド付着物」という。）が磁性層表面とヘッドとの間に介在すること（所謂スペーシングロス）により発生すると考えられる。そこで本発明者らは、磁性層表面からヘッドへ付着する成分を低減するために検討を重ねた。その結果、本発明者らは、対数減衰率、ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅ、ＦＷＨＭａｆｔｅｒおよび差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）を上記範囲とすることが、磁性層表面からヘッドに付着する成分を低減することに寄与すると考えるに至った。対数減衰率、ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅ、ＦＷＨＭａｆｔｅｒおよび差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）について、詳細は後述する。こうして上記の本発明の一態様にかかる磁気テープは完成された。ただし上記記載および以下の記載には、本発明者らの推察が含まれる。かかる推察に、本発明は何ら限定されるものではない。
【００２７】
［対数減衰率］
上記磁気テープの磁性層の表面において振り子粘弾性試験により求められる対数減衰率は、０．０５０以下である。このことが、上記の範囲の磁性層表面粗さＲａを有する磁気テープを繰り返し走行させた際の再生出力低下の抑制に寄与し得る。再生出力低下をより一層抑制する観点から、上記対数減衰率は、０．０４８以下であることが好ましく、０．０４５以下であることがより好ましく、０．０４０以下であることが更に好ましく、０．０３５以下であることが一層好ましい。また、上記対数減衰率は、例えば０．０１０以上、０．０１２以上、または０．０１５以上であることができる。再生出力低下抑制の観点からは、上記対数減衰率は低いほど好ましい傾向がある。したがって、上記対数減衰率は、上記の例示した下限を下回ってもよい。
【００２８】
上記の対数減衰率に関して、本発明者らは、以下のように考えている。ただし下記は推察に過ぎず、本発明を何ら限定するものではない。
磁気テープの磁性層表面の表面平滑性を高めることにより電磁変換特性を向上することができる。他方、表面平滑性を高めると、繰り返し走行中の磁性層表面とヘッドとの接触面積（いわゆる真実接触面積）は増すと考えられる。これにより、磁気テープ由来の成分が磁性層表面からヘッドへ付着しやすくなり、走行を繰り返すうちにヘッドに付着し堆積することにより再生出力低下の原因となるスペーシングロスがもたらされると、本発明者らは推察している。これに対し本発明者らは、ヘッドに付着し堆積する成分には、磁性層表面から遊離する粘着性成分が含まれていると考えている。更に本発明者らは、上記の対数減衰率は、この粘着性成分の量の指標になり得る値であり、この値が０．０５０以下であることは、磁性層表面からヘッドへ付着する粘着性成分の量が低減されていることを意味すると考えている。かかる粘着性成分の詳細は明らかではないものの、結合剤として用いられる樹脂に由来する可能性があると、本発明者らは推察している。詳しくは、次の通りである。結合剤としては、詳細を後述するように各種樹脂を用いることができる。樹脂とは、２つ以上の重合性化合物の重合体（ホモポリマーおよびコポリマーを包含する。）であり、分子量が平均分子量を下回る成分（以下、「低分子量結合剤成分」と記載する。）も通常含まれる。このような低分子量結合剤成分が、走行中に磁性層表面から遊離しヘッドに付着し走行を繰り返すうちに堆積することが、再生出力低下の原因となるスペーシングロスをもたらすのではないかと、本発明者らは考えている。そして、上記の低分子量結合剤成分は粘着性を有すると考えられ、振り子粘弾性試験により求められる対数減衰率が、走行中にヘッドに付着し堆積する上記成分の量の指標になるのではないかと、本発明者らは推察している。なお、一態様では、磁性層は、強磁性粉末および結合剤に加えて、硬化剤を含む磁性層形成用組成物を非磁性支持体上に直接または他の層を介して塗布し、硬化処理を施し形成される。ここでの硬化処理により、結合剤と硬化剤とを硬化反応（架橋反応）させることができる。ただし、低分子量結合剤成分は、理由は明らかではないものの、硬化反応の反応性に乏しいのではないかと本発明者らは考えている。このため、低分子量結合剤成分は磁性層に留まり難く磁性層表面から遊離しヘッドに付着しやすいことが、低分子量結合剤成分が走行中にヘッドに付着し堆積しやすい理由の１つではないかと、本発明者らは推察している。
上記対数減衰率を調整するための手段の具体的態様は、後述する。
【００２９】
［差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）］
上記磁気テープにおいて測定される真空加熱前後のスペーシングの差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）は、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である。差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）に関しては、この値が磁性層に含まれる脂肪酸エステルによって磁性層表面に形成される液膜の厚みの指標になり得ると本発明者らは考えている。詳しくは、以下の通りである。
磁性層表面には、通常、磁気テープとヘッドとが摺動する際にヘッドと主に接触（いわゆる真実接触）する部分（突起）と、この部分より低い部分（以下、「素地部分」と記載する。）とが存在する。先に説明したスペーシングは、磁気テープとヘッドとが摺動する際のヘッドと素地部分との距離の指標になる値であると、本発明者らは考えている。ただし磁性層に含まれる脂肪酸エステルが磁性層表面に液膜を形成していると、素地部分とヘッドとの間に液膜が存在することにより、液膜の厚み分、スペーシングは狭くなると考えられる。
ところで、潤滑剤は、一般に流体潤滑剤と境界潤滑剤とに大別され、脂肪酸エステルは流体潤滑剤として機能し得る成分と言われている。脂肪酸エステルは、それ自身が磁性層表面に液膜を形成することにより、磁性層を保護する役割を果たすことができると考えられる。この脂肪酸エステルの液膜が存在することによって磁性層表面が保護されることが、ヘッドとの摺動により磁性層表面が削れて削れ屑がヘッド付着物となることを抑制することにつながると考えられる。ただし、脂肪酸エステルが磁性層表面に過剰に存在すると、脂肪酸エステルにより磁性層表面とヘッドとの間にメニスカス（液架橋）により強い密着力が働き貼り付きの原因になると考えられる。
以上の点に関して本発明者らは、脂肪酸エステルが真空加熱により揮発する性質を有する成分であることに着目し、真空加熱後（脂肪酸エステルの液膜が揮発し除去された状態）と真空加熱前（脂肪酸エステルの液膜が存在している状態）のスペーシングの差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）を、磁性層表面における脂肪酸エステルにより形成される液膜の厚みの指標として採用した。この値が０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下となるように磁性層表面に脂肪酸エステルの液膜を存在させることが、貼り付きの発生を抑制しつつ、ヘッドとの摺動により磁性層表面が削れて削れ屑が発生することを抑制することにつながると、本発明者らは推察している。磁性層表面の削れをより一層抑制する観点から、差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）は、０．１ｎｍ以上であることが好ましく、１．０ｎｍ以上であることがより好ましく、１．５ｎｍ以上であることが更に好ましく、２．０ｎｍ以上であることが一層好ましく、２．５ｎｍ以上であることがより一層好ましい。一方、貼り付きの発生をより一層抑制する観点からは、差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）は、７．５ｎｍ以下であることがより好ましく、７．０ｎｍ以下であることが更に好ましく、６．５ｎｍ以下であることが一層好ましく、６．０ｎｍ以下であることがより一層好ましく、５．０ｎｍ以下であることが更により一層好ましく、４．５ｎｍ以下であることが更になお一層好ましい。差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）は、磁性層形成用組成物に添加する脂肪酸エステル量によって制御することができる。また、非磁性支持体と磁性層との間に非磁性層を有する磁気テープについては、非磁性層形成用組成物に添加する脂肪酸エステル量によっても差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）を制御することができる。非磁性層は、潤滑剤を保持し磁性層に供給する役割を果たすことができ、非磁性層に含まれる脂肪酸エステルは磁性層に移行し磁性層表面に存在し得るからである。
【００３０】
［ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅ、ＦＷＨＭａｆｔｅｒ］
上記のスペーシング分布の半値全幅は、この値が小さいほど、磁性層表面の各部において測定されるスペーシングの値にばらつきが少ないことを意味する。本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、走行中の磁気テープの磁性層表面とヘッドとの貼り付きおよび磁性層表面の削れの発生を抑制するには、磁性層表面に存在する突起の高さの均一性を高め、かつ脂肪酸エステルの液膜の厚みの均一性を高めることにより、磁性層表面とヘッドとの接触状態の均一性を高めることが有効であると考えるに至った。更に磁性層表面とヘッドとの接触状態の均一性を高めることは、スペーシング変動による電磁変換特性低下を抑制することにもつながるため、電磁変換特性の向上にも有効であると、本発明者らは考えている。
以上の点に関し、上記のスペーシングの値がばらつく要因は、磁性層表面の突起の高さのばらつきと、脂肪酸エステルの液膜の厚みのばらつきにあると考えられる。真空加熱前、即ち磁性層表面に脂肪酸エステルの液膜が存在する状態で測定されるスペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅは、突起の高さのばらつきと脂肪酸エステルの液膜の厚みのばらつきが大きいほど大きくなり、中でも脂肪酸エステルの液膜の厚みのばらつきが大きく影響すると、本発明者らは推察している。これに対し、真空加熱後、即ち磁性層表面から脂肪酸エステルの液膜が除去された状態で測定されるスペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭａｆｔｅｒは、突起の高さのばらつきが大きいほど大きくなると本発明者らは考えている。即ち、スペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅおよびＦＷＨＭａｆｔｅｒがともに小さいほど、磁性層表面の脂肪酸エステルの液膜の厚みのばらつきも突起の高さのばらつきも小さいことを意味すると、本発明者らは推察している。そしてスペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅおよびＦＷＨＭａｆｔｅｒがともに０ｎｍ超かつ７．０ｎｍ以下となるように、突起の高さおよび脂肪酸エステルの液膜の厚みの均一性を高めることにより、走行中の磁気テープの磁性層表面とヘッドとの貼り付きおよび磁性層表面の削れの発生を抑制することが可能になり、しかも電磁変換特性の向上も可能になると、本発明者らは考えている。
【００３１】
上記磁気テープにおいて測定される真空加熱前のスペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅ、および真空加熱後のスペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭａｆｔｅｒは、ともに０ｎｍ超かつ７．０ｎｍ以下である。このことが、走行中の磁気テープの磁性層表面とヘッドとの貼り付きおよび磁性層表面の削れの発生を抑制することに寄与すると考えられる、上記の貼り付きおよび磁性層表面の削れの発生をより一層抑制する観点から、ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅおよびＦＷＨＭａｆｔｅｒは、６．５ｎｍ以下であることが好ましく、６．０ｎｍ以下であることがより好ましく、５．５ｎｍ以下であることが更に好ましく、５．０ｎｍ以下であることが一層好ましく、４．５ｎｍ以下であることが更に一層好ましい。ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅおよびＦＷＨＭａｆｔｅｒは、例えば０．５ｎｍ以上、１．０ｎｍ以上、２．０ｎｍ以上、または３．０ｎｍ以上であることができる。ただし、値が小さいほど、上記の貼り付きおよび磁性層表面の削れの発生を抑制する観点から好ましい傾向があるため、上記の例示した下限を下回ってもよい。
真空加熱前に測定されるＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅは、主に脂肪酸エステルの液膜の厚みのばらつきを低減することにより小さくすることができる。具体的な手段の一例は後述する。一方、真空加熱後に測定されるＦＷＨＭａｆｔｅｒは、磁性層表面の突起の高さのばらつきを低減することにより小さくすることができる。そのためには、磁性層に含まれる粉末成分、例えば詳細を後述する非磁性フィラーの磁性層における存在状態を制御することが好ましい。具体的な手段の一例は後述する。
【００３２】
次に、上記磁気テープの磁性層等について、更に詳細に説明する。
【００３３】
［磁性層］
＜脂肪酸エステル＞
上記磁気テープは、磁性層に脂肪酸エステルを含む。脂肪酸エステルは、一種のみ含まれていてもよく、二種以上が含まれていてもよい。脂肪酸エステルとしては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ベヘン酸、エルカ酸、エライジン酸等のエステルを挙げることができる。具体例としては、例えば、ミリスチン酸ブチル、パルミチン酸ブチル、ステアリン酸ブチル（ブチルステアレート）、ネオペンチルグリコールジオレエート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタントリステアレート、オレイン酸オレイル、ステアリン酸イソセチル、ステアリン酸イソトリデシル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸イソオクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸ブトキシエチル等を挙げることができる。
脂肪酸エステル含有量は、磁性層形成用組成物における含有量として、強磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０．１〜１０.０質量部であり、好ましくは１．０〜７．０質量部である。脂肪酸エステルとして二種以上の異なる脂肪酸エステルを使用する場合、含有量とは、それらの合計含有量をいうものとする。この点は、本発明および本明細書において、特記しない限り、他の成分の含有量についても同様である。また、本発明および本明細書において、特記しない限り、ある成分は、一種のみ用いてもよく二種以上用いてもよい。
また、上記磁気テープが非磁性支持体と磁性層との間に非磁性層を有する場合、非磁性層形成用組成物における脂肪酸エステル含有量は、非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜１０．０質量部であり、好ましくは０．１〜８．０質量部である。
【００３４】
＜その他潤滑剤＞
上記磁気テープは、少なくとも磁性層に、潤滑剤の一種である脂肪酸エステルを含む。脂肪酸エステル以外の潤滑剤が、任意に磁性層および／または非磁性層に含まれていてもよい。上記の通り、非磁性層に含まれる潤滑剤は、磁性層に移行し磁性層表面に存在し得る。任意に含まれ得る潤滑剤としては、脂肪酸を挙げることができる。また、脂肪酸アミド等を挙げることもできる。なお脂肪酸エステルは流体潤滑剤として機能することができる成分と言われているのに対し、脂肪酸および脂肪酸アミドは、境界潤滑剤として機能することができる成分と言われている。境界潤滑剤は、粉末（例えば強磁性粉末等）の表面に吸着し強固な潤滑膜を形成することで接触摩擦を下げることのできる潤滑剤と考えられる。
脂肪酸としては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ベヘン酸、エルカ酸、エライジン酸等を挙げることができ、ステアリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸が好ましく、ステアリン酸がより好ましい。脂肪酸は、金属塩等の塩の形態で磁性層に含まれていてもよい。
脂肪酸アミドとしては、上記の各種脂肪酸のアミド、例えば、ラウリン酸アミド、ミリスチン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド等を挙げることができる。
脂肪酸と脂肪酸の誘導体（アミド、エステル等）については、脂肪酸誘導体の脂肪酸由来部位は、併用される脂肪酸と同様または類似の構造を有することが好ましい。例えば、一例として、脂肪酸としてステアリン酸を用いる場合にステアリン酸エステルおよび／またはステアリン酸アミドを使用することは好ましい。
磁性層形成用組成物における脂肪酸含有量は、強磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜１０.０質量部であり、好ましくは０．１〜１０.０質量部であり、より好ましくは１．０〜７．０質量部である。磁性層形成用組成物における脂肪酸アミド含有量は、強磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜３.０質量部であり、好ましくは０〜２．０質量部であり、より好ましくは０〜１．０質量部である。
また、上記磁気テープが非磁性支持体と磁性層との間に非磁性層を有する場合、非磁性層形成用組成物における脂肪酸含有量は、非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜１０．０質量部であり、好ましくは１．０〜１０．０質量部であり、より好ましくは１．０〜７．０質量部である。非磁性層形成用組成物における脂肪酸アミド含有量は、非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜３．０質量部であり、好ましくは０〜１．０質量部である。
【００３５】
＜強磁性粉末＞
磁性層に含まれる強磁性粉末としては、各種磁気記録媒体の磁性層において通常用いられる強磁性粉末を使用することができる。強磁性粉末として平均粒子サイズの小さいものを使用することは、磁気テープの記録密度向上の観点から好ましい。この点から、強磁性粉末としては、平均粒子サイズが５０ｎｍ以下の強磁性粉末を用いることが好ましい。一方、磁化の安定性の観点からは、強磁性粉末の平均粒子サイズは１０ｎｍ以上であることが好ましい。
【００３６】
強磁性粉末の好ましい具体例としては、強磁性六方晶フェライト粉末を挙げることができる。強磁性六方晶フェライト粉末の平均粒子サイズは、記録密度向上と磁化の安定性の観点から、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましい。強磁性六方晶フェライト粉末の詳細については、例えば、特開２０１１−２２５４１７号公報の段落００１２〜００３０、特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１３４〜０１３６、および特開２０１２−２０４７２６号公報の段落００１３〜００３０を参照できる。
【００３７】
強磁性粉末の好ましい具体例としては、強磁性金属粉末を挙げることもできる。強磁性金属粉末の平均粒子サイズは、記録密度向上と磁化の安定性の観点から、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましい。強磁性金属粉末の詳細については、例えば特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１３７〜０１４１および特開２００５−２５１３５１号公報の段落０００９〜００２３を参照できる。
【００３８】
本発明および本明細書において、特記しない限り、強磁性粉末等の各種粉末の平均粒子サイズは、透過型電子顕微鏡を用いて、以下の方法により測定される値とする。
粉末を、透過型電子顕微鏡を用いて撮影倍率１０００００倍で撮影し、総倍率５０００００倍になるように印画紙にプリントして粉末を構成する粒子の写真を得る。得られた粒子の写真から目的の粒子を選びデジタイザーで粒子の輪郭をトレースし粒子（一次粒子）のサイズを測定する。一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
以上の測定を、無作為に抽出した５００個の粒子について行う。こうして得られた５００個の粒子の粒子サイズの算術平均を、粉末の平均粒子サイズとする。上記透過型電子顕微鏡としては、例えば日立製透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型を用いることができる。また、粒子サイズの測定は、公知の画像解析ソフト、例えばカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ−４００を用いて行うことができる。後述の実施例に示す平均粒子サイズは、特記しない限り、透過型電子顕微鏡として日立製透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型、画像解析ソフトとしてカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ−４００を用いて測定された値である。本発明および本明細書において、粉末とは、複数の粒子の集合を意味する。例えば、強磁性粉末とは、複数の強磁性粒子の集合を意味する。また、複数の粒子の集合とは、集合を構成する粒子が直接接触している態様に限定されず、後述する結合剤、添加剤等が、粒子同士の間に介在している態様も包含される。粒子との語を、粉末を表すために用いることもある。
【００３９】
粒子サイズ測定のために磁気テープから試料粉末を採取する方法としては、例えば特開２０１１−０４８８７８号公報の段落００１５に記載の方法を採用することができる。
【００４０】
本発明および本明細書において、特記しない限り、粉末を構成する粒子のサイズ（粒子サイズ）は、上記の粒子写真において観察される粒子の形状が、
（１）針状、紡錘状、柱状（ただし、高さが底面の最大長径より大きい）等の場合は、粒子を構成する長軸の長さ、即ち長軸長で表され、
（２）板状または柱状（ただし、厚みまたは高さが板面または底面の最大長径より小さい）の場合は、その板面または底面の最大長径で表され、
（３）球形、多面体状、不特定形等であって、かつ形状から粒子を構成する長軸を特定できない場合は、円相当径で表される。円相当径とは、円投影法で求められるものを言う。
【００４１】
また、粉末の平均針状比は、上記測定において粒子の短軸の長さ、即ち短軸長を測定し、各粒子の（長軸長／短軸長）の値を求め、上記５００個の粒子について得た値の算術平均を指す。ここで、特記しない限り、短軸長とは、上記粒子サイズの定義で（１）の場合は、粒子を構成する短軸の長さを、同じく（２）の場合は、厚みまたは高さを各々指し、（３）の場合は、長軸と短軸の区別がないから、（長軸長／短軸長）は、便宜上１とみなす。
そして、特記しない限り、粒子の形状が特定の場合、例えば、上記粒子サイズの定義（１）の場合、平均粒子サイズは平均長軸長であり、同定義（２）の場合、平均粒子サイズは平均板径であり、平均板状比とは、（最大長径／厚みまたは高さ）の算術平均である。同定義（３）の場合、平均粒子サイズは、平均直径（平均粒径、平均粒子径ともいう）である。
【００４２】
磁性層における強磁性粉末の含有量（充填率）は、好ましくは５０〜９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０〜９０質量％の範囲である。磁性層の強磁性粉末以外の成分は少なくとも結合剤および脂肪酸エステルであり、任意に一種以上の更なる添加剤が含まれ得る。磁性層において強磁性粉末の充填率が高いことは、記録密度向上の観点から好ましい。
【００４３】
＜結合剤＞
上記磁気テープは塗布型磁気テープであって、磁性層に結合剤を含む。結合剤としては、一種以上の樹脂を使用する。樹脂は、ホモポリマーでもよく、コポリマー（共重合体）でもよい。結合剤としては、塗布型磁気記録媒体の結合剤として通常使用される各種樹脂を用いることができる。例えば、結合剤としては、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレート等を共重合したアクリル樹脂、ニトロセルロース等のセルロース樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルキラール樹脂等から選ばれる樹脂を単独で用いるか、または複数の樹脂を混合して用いることができる。これらの中で好ましいものはポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、セルロース樹脂、および塩化ビニル樹脂である。これらの樹脂は、後述する非磁性層および／またはバックコート層においても結合剤として使用することができる。以上の結合剤については、特開２０１０−２４１１３号公報の段落００２８〜００３１を参照できる。また、結合剤は、電子線硬化型樹脂等の放射線硬化型樹脂であってもよい。放射線硬化型樹脂については、特開２０１１−０４８８７８号公報の段落００４４〜００４５を参照できる。
結合剤として使用される樹脂の平均分子量は、重量平均分子量として、例えば１０，０００以上２００，０００以下であることができる。本発明および本明細書における重量平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定された値をポリスチレン換算して求められる値である。測定条件としては、下記条件を挙げることができる。
ＧＰＣ装置：ＨＬＣ−８１２０（東ソー社製）
カラム：ＴＳＫ ｇｅｌ Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＸＬ−Ｍ（東ソー社製、７．８ｍｍＩＤ(ｉｎｎｅｒ ｄｉａｍｅｔｅｒ（内径）)×３０．０ｃｍ）
溶離液：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
【００４４】
また、結合剤とともに硬化剤を使用することもできる。硬化剤は、一態様では加熱により硬化反応（架橋反応）が進行する化合物である熱硬化性化合物であることができ、他の一態様では光照射により硬化反応（架橋反応）が進行する光硬化性化合物であることができる。硬化剤は、磁性層形成工程の中で硬化反応が進行することにより、少なくとも一部は、結合剤等の他の成分と反応（架橋）した状態で磁性層に含まれ得る。好ましい硬化剤は、熱硬化性化合物であり、ポリイソシアネートが好適である。ポリイソシアネートの詳細については、特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１２４〜０１２５を参照できる。硬化剤は、磁性層形成用組成物中に、結合剤１００．０質量部に対して例えば０〜８０．０質量部、磁性層等の各層の強度向上の観点からは好ましくは５０．０〜８０．０質量部の量で使用することができる。
【００４５】
＜その他成分＞
磁性層には、必要に応じて添加剤を加えることができる。上記磁性層は、一種以上の非磁性フィラーを含むことが好ましい。非磁性フィラーとは、非磁性粉末と同義である。非磁性フィラーとしては、主に磁性層表面の突起制御のために添加される非磁性フィラー（以下、「突起形成剤」ともいう。）と、磁性層表面に研磨性を付与する研磨剤として添加される非磁性フィラー（以下、「研磨剤」ともいう。）が挙げられる。磁性層は、少なくとも突起形成剤を含むことが好ましく、突起形成剤と研磨剤を含むことがより好ましい。
【００４６】
突起形成剤は、無機物質の粉末（無機粉末）であっても有機物質の粉末（有機粉末）であってもよく、無機物質の粉末が好ましい。また、カーボンブラックも好ましい。カーボンブラックとしては、平均粒子サイズが２０ｎｍ以上のものが好ましく、３０ｎｍ以上のものがより好ましい。また、カーボンブラックの平均粒子サイズは、１５０ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００４７】
無機粉末としては、金属酸化物等の無機酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の粉末を挙げることができ、具体例としては、α−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、二酸化珪素等の珪素酸化物、炭化珪素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、二酸化チタン、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデン等の粉末またはこれらの二種以上の複合無機粉末を挙げることができる。無機酸化物粉末がより好ましく、珪素酸化物粉末が更に好ましい。
【００４８】
突起形成剤は、電磁変換特性の一層の向上の観点からは、粒子サイズの均一性が高いことが好ましい。粒子サイズの均一性が高い粒子の入手容易性の観点から、突起形成剤はコロイド粒子であることが好ましい。本発明および本明細書において、「コロイド粒子」とは、少なくとも、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、トルエンもしくは酢酸エチル、または上記溶媒の二種以上を任意の混合比で含む混合溶媒の少なくとも１つの有機溶媒１００ｍＬあたり１ｇ添加した際に、沈降せず分散しコロイド分散体をもたらすことのできる粒子をいうものとする。コロイド粒子については、平均粒子サイズは、特開２０１１−０４８８７８号公報の段落００１５に平均粒径の測定方法として記載されている方法により求められる値とする。磁性層に含まれる非磁性フィラーがコロイド粒子であることは、磁性層の形成に用いた非磁性フィラーが入手可能であれば、かかる非磁性フィラーが、先に記載したコロイド粒子の定義に当てはまる性質を有するかを評価すればよい。または、磁性層から取りだした非磁性フィラーが、先に記載したコロイド粒子の定義に当てはまる性質を有するかを評価することもできる。磁性層からの非磁性フィラーの取り出しは、例えば、以下の方法で行うことができる。
１．磁性層を約１ｇ削り取る。削り取りは、例えば、かみそり刃などにより行うことができる。
２．削り取って得られた磁性層試料を、ナスフラスコ等の容器に入れ、この容器にテトラヒドロフランを１００ｍｌ添加する。なおテトラヒドロフランは、安定剤を添加し市販されているものと安定剤無添加で市販されているものがある。ただしここでは安定剤無添加のテトラヒドロフランを用いる。以下に記載の洗浄に用いるテトラヒドロフランについても、同様である。
３．上記容器に還流管を取り付けて、水温６０℃の湯浴において９０分間加熱する。加熱後の容器内の内容物をろ紙によりろ過後、ろ紙上に残った固形分を数回テトラヒドロフランで洗浄し、洗浄後の固形分をビーカー等の容器に移す。この容器に４Ｎ（４ｍｏｌ／Ｌ）塩酸水溶液を添加して溶解せずに残った残渣をフィルタろ過により取り出す。フィルタとしては、孔径が０．０５μｍより小さいものを用いる。例えば、クロマトグラフィー分析用に使用されるメンブレンフィルタ (例えば、メルク社製のＭＦミリポア)を用いることができる。フィルタろ過により取り出した残渣は、数回、純水で洗浄後、乾燥させる。
上記操作により強磁性粉末および有機物（結合剤等）が溶解し、非磁性フィラーが残渣として回収される。
以上の工程により、磁性層から非磁性フィラーを取り出すことができる。こうして取り出した非磁性フィラーの中に、複数種の非磁性フィラーが含まれている場合には、密度の違いによって複数種の非磁性フィラーを分別することができる。
【００４９】
好ましいコロイド粒子としては、無機酸化物コロイド粒子を挙げることができる。無機酸化物コロイド粒子としては、先に例示した無機酸化物のコロイド粒子を挙げることができ、ＳｉＯ２・Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２・Ｂ２Ｏ３、ＴｉＯ２・ＣｅＯ２、ＳｎＯ２・Ｓｂ２Ｏ３、ＳｉＯ２・Ａｌ２Ｏ３・ＴｉＯ２、ＴｉＯ２・ＣｅＯ２・ＳｉＯ２等の複合無機酸化物コロイド粒子を挙げることもできる。好ましいものとしては、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｆｅ２Ｏ３等の無機酸化物コロイド粒子を挙げることができ、シリカコロイド粒子（コロイダルシリカ）が特に好ましい。ところで、一般的なコロイド粒子は表面が親水性であるため水を分散媒とするコロイド溶液の作製に適する。例えば一般的な合成法により得られるコロイダルシリカは、表面が分極した酸素原子（Ｏ２−）で覆われているため水中で水を吸着してヒドロキシル基を形成して安定化している。しかしこれら粒子は、磁性層形成用組成物に通常用いられる有機溶媒中では、コロイド状態で存在することは困難である。これに対し、本発明および本明細書におけるコロイド粒子は、先に記載した有機溶媒１００ｍＬあたり１ｇ添加した際に、沈降せず分散しコロイド分散体をもたらすことのできる粒子をいう。かかるコロイド粒子は、表面処理により表面を疎水化する等の公知の方法により調製することができる。そのような疎水化処理の詳細については、例えば特開平５−２６９３６５号公報、特開平５−２８７２１３号公報、特開２００７−６３１１７号公報等に記載されている。
【００５０】
好ましいコロイド粒子であるシリカコロイド粒子（コロイダルシリカ）については、製造方法は、一般的に、水ガラス法とゾルゲル法の２種類が知られている。水ガラス法とは、原料に珪酸ソーダ（珪酸ナトリウム、いわゆる水ガラス）を用いて、これをイオン交換させることで活性珪酸を発生させ、そこで粒子成長させる方法である。一方、ゾルゲル法は、テトラアルコキシシランを原料として用い、塩基性触媒下で加水分解させるのと同時に粒子成長させる方法である。シリカコロイド粒子を用いる場合、シリカコロイド粒子は、いずれの製造方法で製造されたものであってもよい。
【００５１】
突起形成剤の平均粒子サイズは、５０〜２００ｎｍの範囲であることが好ましく、５０〜１５０ｎｍの範囲であることがより好ましい。
【００５２】
突起形成剤の磁性層における含有量は、強磁性粉末１００．０質量部に対して、１．０〜４．０質量部であることが好ましく、１．５〜３．５質量部であることがより好ましい。
【００５３】
一方、研磨剤は、無機粉末であっても有機粉末であってもよく、無機粉末が好ましい。研磨剤としては、磁性層の研磨剤として通常使用される物質であるアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、炭化珪素、ボロンカーバイド（Ｂ４Ｃ）、ＳｉＯ２、ＴｉＣ、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）、酸化セリウム、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化鉄、ダイヤモンド等の粉末を挙げることができ、中でもα−アルミナ等のアルミナおよび炭化珪素の粉末が好ましい。研磨剤の磁性層における含有量は、好ましくは強磁性粉末１００．０質量部に対して１．０〜２０．０質量部の範囲であり、より好ましくは３．０〜１５．０質量部の範囲であり、更に好ましくは４．０〜１０．０質量部の範囲である。研磨剤の平均粒子サイズは、例えば３０〜３００ｎｍの範囲であり、好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲である。
【００５４】
磁性層には、更に、分散剤、分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤、カーボンブラック等の各種添加剤の一種以上が任意の量で含まれていてもよい。添加剤は、所望の性質に応じて市販品を適宜選択して使用することができる。または、公知の方法で合成された化合物を添加剤として使用することもできる。
【００５５】
以上説明した磁性層は、非磁性支持体上に直接、または非磁性支持体上に形成された非磁性層上に、設けることができる。
【００５６】
［非磁性層］
次に非磁性層について説明する。上記磁気テープは、非磁性支持体上に直接磁性層を有していてもよく、非磁性支持体と磁性層との間に、非磁性粉末と結合剤を含む非磁性層を有していてもよい。非磁性層に使用される非磁性粉末は、無機粉末でも有機粉末でもよい。また、カーボンブラック等も使用できる。無機粉末としては、例えば金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の粉末が挙げられる。これらの非磁性粉末は、市販品として入手可能であり、公知の方法で製造することもできる。その詳細については、特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１４６〜０１５０を参照できる。非磁性層に使用可能なカーボンブラックについては、特開２０１０−２４１１３号公報の段落００４０〜００４１も参照できる。非磁性層における非磁性粉末の含有量（充填率）は、好ましくは５０〜９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０〜９０質量％の範囲である。
【００５７】
非磁性層の結合剤、添加剤等のその他詳細は、非磁性層に関する公知技術が適用できる。また、例えば、結合剤の種類および含有量、添加剤の種類および含有量等に関しては、磁性層に関する公知技術も適用できる。
【００５８】
本発明および本明細書における非磁性層には、非磁性粉末とともに、例えば不純物として、または意図的に、少量の強磁性粉末を含む実質的に非磁性な層も包含されるものとする。ここで実質的に非磁性な層とは、この層の残留磁束密度が１０ｍＴ以下であるか、保磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であるか、または、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であり、かつ保磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下である層をいうものとする。非磁性層は、残留磁束密度および保磁力を持たないことが好ましい。
【００５９】
［バックコート層］
上記磁気テープは、非磁性支持体の磁性層を有する表面側とは反対の表面側に、非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を有することもできる。バックコート層には、カーボンブラックおよび無機粉末のいずれか一方または両方が含有されていることが好ましい。バックコート層に含まれる結合剤および任意に含まれ得る各種添加剤については、磁性層および／または非磁性層の処方に関する公知技術を適用することができる。
【００６０】
［非磁性支持体］
次に、非磁性支持体（以下、単に「支持体」とも記載する。）について説明する。非磁性支持体としては、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド等の公知のものが挙げられる。これらの中でもポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、およびポリアミドが好ましい。これらの支持体には、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理等を行ってもよい。
【００６１】
［各種厚み］
非磁性支持体の厚みは、好ましくは３．００〜６．００μｍである。
磁性層の厚みは、近年求められている高密度記録化の観点からは０．１５μｍ以下であることが好ましく、０．１０μｍ以下であることがより好ましい。磁性層の厚みは、更に好ましくは０．０１〜０．１０μｍの範囲である。磁性層は少なくとも一層あればよく、磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。２層以上に分離する場合の磁性層の厚みとは、これらの層の合計厚みとする。
非磁性層の厚みは、例えば０．１０〜１．５０μｍであり、０．１０〜１．００μｍであることが好ましい。
バックコート層の厚みは、０．９０μｍ以下であることが好ましく、０．１０〜０．７０μｍの範囲であることが更に好ましい。
磁気テープの各層および非磁性支持体の厚みは、公知の膜厚測定法により求めることができる。一例として、例えば、磁気テープの厚み方向の断面を、イオンビーム、ミクロトーム等の公知の手法により露出させた後、露出した断面において走査型電子顕微鏡によって断面観察を行う。断面観察において厚み方向の１箇所において求められた厚み、または無作為に抽出した２箇所以上の複数箇所、例えば２箇所、において求められた厚みの算術平均として、各種厚みを求めることができる。または、各層の厚みは、製造条件から算出される設計厚みとして求めてもよい。
【００６２】
［製造方法］
＜各層形成用組成物の調製＞
磁性層、非磁性層またはバックコート層を形成するための組成物は、先に説明した各種成分とともに、通常、溶媒を含む。溶媒としては、塗布型磁気記録媒体を製造するために一般に使用される各種有機溶媒を用いることができる。中でも、塗布型磁気記録媒体に通常使用される結合剤の溶解性の観点からは、各層形成用組成物には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン溶媒の一種以上が含まれることが好ましい。各層形成用組成物における溶媒量は特に限定されるものではなく、通常の塗布型磁気記録媒体の各層形成用組成物と同様にすることができる。また、各層形成用組成物を調製する工程は、通常、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程を含むことができる。個々の工程はそれぞれ２段階以上に分かれていてもかまわない。本発明で用いられるすべての原料は、どの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。磁性層形成用組成物の調製においては、強磁性粉末と研磨剤とを別分散することが好ましい。また、磁気テープを製造するためには、公知の製造技術を用いることができる。混練工程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、エクストルーダ等の強い混練力をもつニーダを使用することが好ましい。これらの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３８号公報および特開平１−７９２７４号公報に記載されている。また、各層形成用組成物を分散させるためには、分散メディアとして、ガラスビーズおよびその他の分散ビーズの一種以上を用いることができる。このような分散ビーズとしては、高比重の分散ビーズであるジルコニアビーズ、チタニアビーズ、およびスチールビーズが好適である。これら分散ビーズのビーズ径と充填率は最適化して用いることができる。分散機は公知のものを使用することができる。各層形成用組成物を、塗布工程に付す前に公知の方法によってろ過してもよい。ろ過は、例えばフィルタろ過によって行うことができる。ろ過に用いるフィルタとしては、例えば孔径０．０１〜３μｍのフィルタを用いることができる。
【００６３】
また、真空加熱後に測定されるＦＷＨＭａｆｔｅｒは、磁性層形成用組成物の分散条件を強化する（例えば分散回数を増やす、分散時間を延ばす等）、および／または、ろ過条件を強化する（例えばろ過に用いるフィルタとして孔径の小さいフィルタを用いる、フィルタろ過回数を増やす等）ことによって、小さくなる傾向がある。これらによって、磁性層形成用組成物に含まれる粉末、中でも先に記載した突起形成剤として機能し得る非磁性フィラーの分散性および／または粒子サイズの均一性が向上することにより、磁性層表面に存在する突起の高さの均一性が向上するためと、本発明者らは推察している。一態様では、分散条件および／またはろ過条件を、実製造前に予備実験を行い最適化することもできる。
【００６４】
更に、非磁性フィラーとしてカーボンブラックを含む磁性層を有する磁気テープについては、カーボンブラックの分散性を向上させるための分散剤を磁性層成分として用いることは、真空加熱後に測定されるＦＷＨＭａｆｔｅｒを小さくするために有効である。例えば一例として、カーボンブラックの分散剤としては、有機三級アミンを挙げることができる。有機三級アミンについては、特開２０１３−０４９８３２号公報の段落００１１〜００１８および００２１を参照できる。上記有機三級アミンは、より好ましくはトリアルキルアミンである。トリアルキルアミンが有するアルキル基は、好ましくは炭素数１〜１８のアルキル基である。トリアルキルアミンが有する３つのアルキル基は、同一であっても異なっていてもよい。アルキル基の詳細については、特開２０１３−０４９８３２号公報の段落００１５〜００１６を参照できる。トリアルキルアミンとしては、トリオクチルアミンが特に好ましい。
【００６５】
＜塗布工程、冷却工程、加熱乾燥工程、バーニッシュ処理工程、硬化工程、振動付与工程＞
磁性層は、磁性層形成用組成物を、非磁性支持体上に直接塗布するか、または非磁性層形成用組成物と逐次もしくは同時に重層塗布することにより形成することができる。各層形成のための塗布の詳細については、特開２０１０−２３１８４３号公報の段落００６６を参照できる。
【００６６】
好ましい一態様では、強磁性粉末、結合剤、脂肪酸エステル、硬化剤および溶媒を含む磁性層形成用組成物を非磁性支持体上に直接または他の層を介して塗布することにより塗布層を形成する塗布工程、塗布層を加熱処理により乾燥させる加熱乾燥工程、ならびに、塗布層に硬化処理を施す硬化工程を含む磁性層形成工程を経て、磁性層を形成することができる。磁性層形成工程は、塗布工程と加熱乾燥工程との間に、塗布層を冷却する冷却工程を含むことが好ましく、更に加熱乾燥工程と硬化工程との間に、上記塗布層表面をバーニッシュ（ｂｕｒｎｉｓｈ）処理するバーニッシュ処理工程を含むことが好ましい。
【００６７】
上記の磁性層形成工程の中で冷却工程およびバーニッシュ処理工程を実施することは、対数減衰率を０．０５０以下とするための好ましい手段であると本発明者らは考えている。詳しくは、次の通りである。
塗布工程と加熱乾燥工程との間に塗布層を冷却する冷却工程を行うことは、磁性層表面とヘッドとが接触し摺動する際に磁性層表面から遊離する粘着性成分を、上記塗布層の表面および／または表面近傍の表層部分に局在させることに寄与するのではないかと、本発明者らは推察している。これは、加熱乾燥工程前に磁性層形成用組成物の塗布層を冷却することにより、加熱乾燥工程における溶媒揮発時に粘着性成分が塗布層表面および／または表層部分に移行しやすくなるためではないかと、本発明者らは推察している。ただし、その理由は明らかではない。そして、粘着性成分が表面および／または表層部分に局在した塗布層の表面をバーニッシュ処理することにより、粘着性成分を除去することができると、本発明者らは考えている。こうして粘着性成分を除去した後に硬化工程を行うことが、対数減衰率を０．０５０以下にすることにつながると、本発明者らは推察している。ただし、以上は推察に過ぎず、本発明を何ら限定するものではない。
【００６８】
更に、振動付与工程を行うことにより、磁性層表面の脂肪酸エステルの液膜が流動し、液膜の厚みの均一性が向上されると考えられる。したがって、振動付与工程を行うことは、ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅを制御するために好ましい。
【００６９】
上記の通り、磁性層形成用組成物は、非磁性層形成用組成物と逐次または同時に重層塗布することができる。好ましい一態様では、上記磁気テープは、逐次重層塗布により製造することができる。逐次重層塗布を含む製造工程は、好ましくは次のように行うことができる。非磁性層形成用組成物を非磁性支持体上に塗布することにより塗布層を形成する塗布工程、および形成した塗布層を加熱処理により乾燥させる加熱乾燥工程を経て、非磁性層を形成する。そして形成された非磁性層上に磁性層形成用組成物を塗布することにより塗布層を形成する塗布工程、および形成した塗布層を加熱処理により乾燥させる加熱乾燥工程を経て、磁性層を形成する。
【００７０】
以下、上記製造方法の具体的態様を、図４に基づき説明する。ただし本発明は、下記具体的態様に限定されるものではない。
【００７１】
図４は、非磁性支持体の一方の面に非磁性層と磁性層とをこの順に有し、他方の面にバックコート層を有する磁気テープを製造する工程の具体的態様を示す工程概略図である。図４に示す態様では、非磁性支持体（長尺フィルム）を、送り出し部から送り出し巻き取り部で巻き取る操作を連続的に行い、かつ図４に示されている各部または各ゾーンにおいて塗布、乾燥、配向等の各種処理を行うことにより、走行する非磁性支持体上の一方の面に非磁性層および磁性層を逐次重層塗布により形成し、他方の面にバックコート層を形成することができる。かかる製造方法は、磁性層形成工程に冷却ゾーンを含み、硬化処理前にバーニッシュ処理工程を含み、かつ硬化処理後の振動付与工程を含む点以外は、塗布型磁気記録媒体の製造のために通常行われる製造方法と同様にすることができる。
【００７２】
送り出し部から送り出された非磁性支持体上には、第一の塗布部において、非磁性層形成用組成物の塗布が行われる（非磁性層形成用組成物の塗布工程）。
【００７３】
上記塗布工程後、第一の加熱処理ゾーンでは、塗布工程で形成された非磁性層形成用組成物の塗布層を加熱することにより、塗布層を乾燥させる（加熱乾燥工程）。加熱乾燥工程は、非磁性層形成用組成物の塗布層を有する非磁性支持体を加熱雰囲気中に通過させることにより行うことができる。ここでの加熱雰囲気の雰囲気温度は、例えば６０〜１４０℃程度とすることができる。ただし、溶媒を揮発させて塗布層を乾燥させることができる温度とすればよく、上記範囲に限定されるものではない。また任意に、加熱した気体を塗布層表面に吹き付けてもよい。以上の点は、後述する第二の加熱処理ゾーンにおける加熱乾燥工程および第三の加熱処理ゾーンにおける加熱乾燥工程についても、同様である。また、結合剤として電子線硬化型樹脂等の放射線硬化型樹脂を含む非磁性層形成用組成物を用いて塗布層を形成した場合には、電子線等の放射線を塗布層に照射する硬化処理を行うことができる。この点は、他の層を形成する工程についても同様である。
【００７４】
次に、第二の塗布部において、第一の加熱処理ゾーンにて加熱乾燥工程を行い形成された非磁性層上に、磁性層形成用組成物が塗布される（磁性層形成用組成物の塗布工程）。
【００７５】
上記塗布工程後、冷却ゾーンにおいて、塗布工程で形成された磁性層形成用組成物の塗布層が冷却される（冷却工程）。例えば、非磁性層上に上記塗布層を形成した非磁性支持体を冷却雰囲気中に通過させることにより、冷却工程を行うことができる。冷却雰囲気の雰囲気温度は、好ましくは−１０℃〜０℃の範囲とすることができ、より好ましくは−５℃〜０℃の範囲とすることができる。冷却工程を行う時間（例えば、塗布層の任意の部分が冷却ゾーンに搬入されてから搬出されるまでの時間（以下において、「滞在時間」ともいう。））は特に限定されるものではない。滞在時間を長くするほど対数減衰率の値は小さくなる傾向があるため、０．０５０以下の対数減衰率を実現できるように必要に応じて予備実験を行う等して調整することが好ましい。なお冷却工程では、冷却した気体を塗布層表面に吹き付けてもよい。
【００７６】
その後、磁性層形成用組成物の塗布層が湿潤状態にあるうちに、配向ゾーンにおいて塗布層中の強磁性粉末の配向処理が行われる。配向処理については、特開２０１０−２４１１３号公報の段落００５２を参照することができる。
【００７７】
配向処理後の塗布層は、第二の加熱処理ゾーンにおいて加熱乾燥工程に付される。
【００７８】
次いで、第三の塗布部において、非磁性支持体の非磁性層および磁性層が形成された面とは反対側の面に、バックコート層形成用組成物が塗布されて塗布層が形成される（バックコート層形成用組成物の塗布工程）。その後、第三の加熱処理ゾーンにおいて、上記塗布層を加熱処理し乾燥させる。
【００７９】
こうして、非磁性支持体の一方の面に、非磁性層上に加熱乾燥された磁性層形成用組成物の塗布層を有し、他方の面にバックコート層を有する磁気テープを得ることができる。ここで得られた磁気テープは、この後に、後述する各種処理を施した後に、製品磁気テープとなる。
【００８０】
得られた磁気テープは、巻き取り部に巻き取られた後に、製品磁気テープのサイズに裁断（スリット）される。スリットは、公知の裁断機を用いて行うことができる。
【００８１】
スリットされた磁気テープは、磁性層形成用組成物に含まれている硬化剤の種類に応じた硬化処理（加熱、光照射等）を行う前に、加熱乾燥された磁性層形成用組成物の塗布層の表面をバーニッシュ処理される（加熱乾燥工程と硬化工程との間のバーニッシュ処理工程）。このバーニッシュ処理により、冷却ゾーンにおいて冷却されて塗布層表面および／または表層部分に移行した粘着性成分を除去できることが、上記対数減衰率を０．０５０以下にすることにつながると、本発明者らは推察している。ただし推察に過ぎず、本発明を何ら限定するものではない。
【００８２】
バーニッシュ処理は、部材（例えば研磨テープ、または研削用ブレード、研削用ホイール等の研削具）により処理対象の表面を擦る処理であり、塗布型磁気記録媒体製造のために公知のバーニッシュ処理と同様に行うことができる。ただし、冷却工程および加熱乾燥工程を経た後、硬化工程前の段階でバーニッシュ処理を行うことは、従来行われていなかった。これに対し、上記段階でバーニッシュ処理を行うことにより、上記の対数減衰率を０．０５０以下にすることができる。
【００８３】
バーニッシュ処理は、好ましくは、研磨テープによって処理対象の塗布層表面を擦る（研磨する）ことおよび研削具によって処理対象の塗布層表面を擦る（研削すること）の一方または両方を行うことにより、実施することができる。磁性層形成用組成物が研磨剤を含む場合には、この研磨剤よりモース硬度の高い研磨剤を少なくとも一種含む研磨テープを用いることが好ましい。研磨テープとしては、市販品を用いてもよく、公知の方法で作製した研磨テープを用いてもよい。また、研削具としては、固定式ブレード、ダイヤモンドホイール、回転式ブレード等の公知の研削用ブレード、研削用ホイール等を用いることができる。また、研磨テープおよび／または研削具によって擦られた塗布層表面をワイピング材によって拭き取るワイピング（ｗｉｐｉｎｇ）処理を行ってもよい。好ましい研磨テープ、研削具、バーニッシュ処理およびワイピング処理の詳細については、特開平６−５２５４４号公報の段落００３４〜００４８、図１および同公報の実施例を参照できる。バーニッシュ処理を強化するほど、上記の対数減衰率の値は小さくなる傾向がある。バーニッシュ処理は、研磨テープに含まれる研磨剤として高硬度な研磨剤を用いるほど強化することができ、研磨テープ中の研磨剤量を増やすほど強化することができる。また、研削具として高硬度な研削具を用いるほど強化することができる。バーニッシュ処理条件に関しては、処理対象の塗布層表面と部材（例えば研磨テープまたは研削具）との摺動速度を早くするほど、バーニッシュ処理を強化することができる。上記摺動速度は、部材を移動させる速度および処理対象の磁気テープを移動させる速度の一方または両方を速くすることにより、速くすることができる。
【００８４】
上記のバーニッシュ処理（バーニッシュ処理工程）後、磁性層形成用組成物の塗布層に硬化処理を施す。図４に示す態様では、磁性層形成用組成物の塗布層は、バーニッシュ処理後、硬化処理前に、表面平滑化処理が施される。表面平滑化処理は、カレンダ処理によって行うことが好ましい。カレンダ処理の詳細は、例えば特開２０１０−２３１８４３号公報の段落００２６を参照できる。カレンダ処理を強化するほど、磁気テープ表面を平滑化することができる。カレンダ処理は、カレンダロールの表面温度（カレンダ温度）を高くするほど、および／または、カレンダ圧力を大きくするほど、強化することができる。
【００８５】
その後、磁性層形成用組成物の塗布層に、この塗布層に含まれる硬化剤の種類に応じた硬化処理を施す（硬化工程）。硬化処理は、加熱処理、光照射等の上記塗布層に含まれる硬化剤の種類に応じた処理によって行うことができる。硬化処理条件は特に限定されるものではなく、塗布層形成に用いた磁性層形成用組成物の処方、硬化剤の種類、塗布層の厚み等に応じて適宜設定すればよい。例えば、硬化剤としてポリイソシアネートを含む磁性層形成用組成物を用いて塗布層を形成した場合には、硬化処理は加熱処理であることが好ましい。なお磁性層以外の層に硬化剤が含まれる場合、その層の硬化反応も、ここでの硬化処理により進行させることもできる。または別途、硬化工程を設けてもよい。なお硬化工程後に、更にバーニッシュ処理を行ってもよい。
【００８６】
次いで、振動付与部において磁性層に振動を付与する（振動付与工程）。振動付与手段は特に限定されるものではない。例えば、磁性層を形成した非磁性支持体の磁性層とは反対側の面を、振動付与ユニットと接触させることにより、磁性層に振動を加えることができる。磁性層を形成した非磁性支持体を振動付与ユニットと接触させながら走行させてもよい。振動付与ユニットは、例えば、内部に超音波振動子を備えることにより、このユニットと接触した物品に振動を加えることができる。超音波振動子の振動周波数、強度、および／または振動付与ユニットとの接触時間によって、磁性層に加える振動を調整することができる。例えば接触時間は、磁性層を形成した非磁性支持体の振動付与ユニットとの接触中の走行速度によって調整することができる。これらの振動付与条件は特に限定されるものではなく、先に記載したスペーシング分布の半値全幅、特に、真空加熱前に測定されるＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅを制御できるように設定すればよい。一態様では、振動付与条件の設定のために実製造前に予備実験を行い、条件を最適化することもできる。
【００８７】
以上により、本発明の一態様にかかる磁気テープを得ることができる。ただし上記の製造方法は例示であって、磁性層表面粗さＲａ、対数減衰率、ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅ、ＦＷＨＭａｆｔｅｒおよび差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）を調整可能な任意の手段によって、これらの値をそれぞれ上記範囲に制御することができ、そのような態様も本発明に包含される。
【００８８】
以上説明した本発明の一態様にかかる磁気テープは、通常、磁気テープカートリッジに収容され、磁気テープカートリッジがドライブに装着される。磁気テープカートリッジおよびドライブの構成は公知である。ドライブ内で磁気テープが走行し（搬送され）、情報の記録および／または再生を行うための磁気ヘッドと磁性層表面とが接触し摺動して、磁気テープへの情報の記録および／または記録された情報の再生が行われる。磁気テープの走行速度とは、搬送速度とも呼ばれ、磁気テープ走行時の磁気テープとヘッドとの相対速度である。走行速度を高速化して磁気テープを高速走行させることは、情報の記録に要する時間および／または記録された情報の再生に要する時間を短縮するために好ましい。この点から磁気テープの走行速度は、例えば６．０ｍ／秒以上であることが好ましい。他方、磁性層表面粗さＲａを１．８ｎｍ以下とした磁気テープは、何ら対策を施さずに高温高湿環境下で高速走行を繰り返すと再生出力の低下が発生してしまうことが判明した。これに対し磁性層表面粗さＲａが１．８ｎｍ以下であり、かつ対数減衰率、ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅ、ＦＷＨＭａｆｔｅｒおよび差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）がそれぞれ上記範囲である本発明の一態様にかかる磁気テープは、高温高湿環境下での繰り返し高速走行における再生出力の低下を抑制することができる。
【実施例】
【００８９】
以下に、本発明を実施例に基づき説明する。但し、本発明は実施例に示す態様に限定されるものではない。以下に記載の「部」、「％」の表示は、特に断らない限り、「質量部」、「質量％」を示す。
【００９０】
１．磁気テープの作製
［実施例１］
＜磁性層形成用組成物＞
（磁性液）
強磁性六方晶バリウムフェライト粉末：１００．０部
（保磁力Ｈｃ：２１００Ｏｅ（１６８ｋＡ／ｍ）、平均粒子サイズ：２５ｎｍ）
スルホン酸基含有ポリウレタン樹脂：１５．０部
シクロヘキサノン：１５０．０部
メチルエチルケトン：１５０．０部
（研磨剤液）
α−アルミナ（平均粒子サイズ：１１０ｎｍ）：９．０部
塩化ビニル共重合体（日本ゼオン製ＭＲ１１０）：０．７部
シクロヘキサノン：２０．０部
（シリカゾル）
ゾルゲル法により調製されたコロイダルシリカ（平均粒子サイズ：表１参照）：３．５部
メチルエチルケトン：８．２部（その他成分）
ブチルステアレート：１．０部
ステアリン酸：１．０部
ポリイソシアネート（日本ポリウレタン社製コロネート）：２．５部
（仕上げ添加溶媒）
シクロヘキサノン：１８０．０部
メチルエチルケトン：１８０．０部
【００９１】
＜非磁性層形成用組成物＞
非磁性無機粉末（α−酸化鉄）：８０．０部
（平均粒子サイズ：０．１５μｍ、平均針状比：７、ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ−Ｅｍｍｅｔｔ−Ｔｅｌｌｅｒ）比表面積：５２ｍ２／ｇ）
カーボンブラック（平均粒子サイズ：２０ｎｍ）：２０．０部
電子線硬化型塩化ビニル共重合体：１３．０部
電子線硬化型ポリウレタン樹脂：６．０部
フェニルホスホン酸：３．０部
シクロヘキサノン：１４０．０部
メチルエチルケトン：１７０．０部
ブチルステアレート：表１参照
ステアリン酸：２．０部
【００９２】
＜バックコート層形成用組成物＞
非磁性無機粉末（α−酸化鉄）：８０．０部
（平均粒子サイズ：０．１５μｍ、平均針状比：７、ＢＥＴ比表面積：５２ｍ２／ｇ）
カーボンブラック（平均粒子サイズ：２０ｎｍ）：２０．０部
カーボンブラック（平均粒子サイズ：１００ｎｍ）：３．０部
塩化ビニル共重合体：１３．０部
スルホン酸基含有ポリウレタン樹脂：６．０部
フェニルホスホン酸：３．０部
シクロヘキサノン：１４０．０部
メチルエチルケトン：１７０．０部
ステアリン酸：３．０部
ポリイソシアネート（日本ポリウレタン社製コロネート）：５．０部
メチルエチルケトン：４００．０部
【００９３】
＜各層形成用組成物の調製＞
磁性層形成用組成物は、以下の方法によって調製した。
上記磁性液をオープンニーダにより混練および希釈処理した後、横型ビーズミル分散機により、ビーズ径０．５ｍｍのジルコニア（ＺｒＯ２）ビーズ（以下、「Ｚｒビーズ」と記載する）を用い、ビーズ充填率８０体積％、ローター先端周速１０ｍ／秒で、１パスあたりの滞留時間を２分とし、１２パスの分散処理を行った。
研磨剤液は、上記成分を混合した後、ビーズ径１ｍｍのＺｒビーズとともに縦型サンドミル分散機に入れ、ビーズ体積／（研磨剤液体積＋ビーズ体積）が６０％になるように調整し、１８０分間サンドミル分散処理を行い、処理後の液を取り出し、フロー式の超音波分散ろ過装置を用いて、超音波分散ろ過処理を施した。
磁性液、シリカゾルおよび研磨剤液と、その他成分および仕上げ添加溶媒をディゾルバー攪拌機に導入し、周速１０ｍ／秒で３０分間攪拌した。その後、フロー式超音波分散機により流量７．５ｋｇ／分で表１に示すパス回数で処理を行った後に、表１に示す孔径のフィルタで表１に示す回数ろ過して磁性層形成用組成物を調製した。
【００９４】
非磁性層形成用組成物は以下の方法によって調製した。
潤滑剤（ブチルステアレートおよびステアリン酸）を除く上記成分をオープンニーダにより混練および希釈処理した後、横型ビーズミル分散機により分散処理を実施した。その後、潤滑剤（ブチルステアレートおよびステアリン酸）を添加して、ディゾルバー攪拌機にて攪拌および混合処理を施して非磁性層形成用組成物を調製した。
【００９５】
バックコート層形成用組成物は以下の方法によって調製した。
潤滑剤（ステアリン酸）、ポリイソシアネートおよびメチルエチルケトン（４００．０部）を除く上記成分をオープンニーダにより混練および希釈処理した後、横型ビーズミル分散機により分散処理を実施した。その後、潤滑剤（ステアリン酸）、ポリイソシアネートおよびメチルエチルケトン（４００．０部）を添加して、ディゾルバー攪拌機にて攪拌および混合処理を施し、バックコート層形成用組成物を調製した。
【００９６】
＜磁気テープの作製＞
図４に示す具体的態様により磁気テープを作製した。詳しくは、次の通りとした。
厚み４．５０μｍのポリエチレンナフタレート製支持体を送り出し部から送り出し、一方の表面に、第一の塗布部において乾燥後の厚みが０．４０μｍになるように非磁性層形成用組成物を塗布し、第一の加熱処理ゾーン（雰囲気温度１００℃）にて乾燥させて塗布層を形成した。形成した塗布層に、１２５ｋＶの加速電圧で４０ｋＧｙのエネルギーとなるよう電子線を照射した。
その後、第二の塗布部において乾燥後の厚みが６０ｎｍ（０．０６μｍ）になるように磁性層形成用組成物を非磁性層上に塗布し塗布層を形成した。形成した塗布層が湿潤状態にあるうちに雰囲気温度０℃に調整した冷却ゾーンに表１に示す滞在時間で通過させて冷却工程を行い、更に配向ゾーンにおいて磁場強度０．３Ｔの磁場を垂直方向に印加し垂直配向処理を行った後、雰囲気温度１００℃の第二の加熱処理ゾーン（雰囲気温度１００℃）にて乾燥させた。
その後、第三の塗布部において、上記ポリエチレンナフタレート製支持体の非磁性層および磁性層を形成した表面とは反対側の表面に、乾燥後の厚みが０．６０μｍになるようにバックコート層形成用組成物を塗布して塗布層を形成し、形成した塗布層を第三の加熱処理ゾーン（雰囲気温度１００℃）にて乾燥させた。
こうして得られた磁気テープを１／２インチ（０．０１２７メートル）幅にスリットした後、磁性層形成用組成物の塗布層表面のバーニッシュ処理およびワイピング処理を行った。バーニッシュ処理およびワイピング処理は、特開平６−５２５４４号公報の図１に記載の構成の処理装置において、研磨テープとして市販の研磨テープ（富士フイルム社製商品名ＭＡ２２０００、研磨剤：ダイヤモンド／Ｃｒ２Ｏ３／ベンガラ）を使用し、研削用ブレードとして市販のサファイヤブレード（京セラ社製、幅５ｍｍ、長さ３５ｍｍ、先端角度６０度）を使用し、ワイピング材として市販のワイピング材（クラレ社製商品名ＷＲＰ７３６）を使用して行った。処理条件は、特開平６−５２５４４号公報の実施例１２における処理条件を採用した。
上記バーニッシュ処理およびワイピング処理後、金属ロールのみから構成されるカレンダロールで、速度８０ｍ／分、線圧３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）、および表１に示すカレンダ温度（カレンダロールの表面温度）にてカレンダ処理（表面平滑化処理）を行った。
その後、雰囲気温度７０℃の環境で３６時間加熱処理（硬化処理）を行った後に振動付与部において磁性層に振動を加えた。具体的には、磁性層を形成した支持体を、図５に示す振動付与装置に磁性層を形成した表面とは反対側の表面が振動付与ユニットと接するように設置し、磁性層を形成した支持体（図５中、符号１）を搬送速度０．５ｍ／秒で搬送させてバックコート層に振動を加えた。図５中、符号２はガイドローラ（符号２は２つのガイドローラの一方に付した）、符号３は振動付与装置（超音波振動子を含む振動付与ユニット）、矢印は搬送方向を示す。磁性層を形成した支持体の任意の箇所が振動付与ユニットとの接触を開始してから接触が終了するまでの時間を振動付与時間として、表１に示す。使用した振動付与ユニットは内部に超音波振動子を備えている。超音波振動子の振動周波数および強度を表１に示す値として振動付与を行った。
以上により、実施例１の磁気テープを作製した。作製した磁気テープの各種厚みを、以下の方法により求めた。非磁性支持体、形成した非磁性層、磁性層およびバックコートの厚みが上記厚みであることが確認された。  
磁気テープの厚み方向の断面を、イオンビームにより露出させた後、露出した断面において走査型電子顕微鏡によって断面観察を行った。断面観察において厚み方向の２箇所において求められた厚みの算術平均として、各種厚みを求めた。
【００９７】
［実施例２〜８、比較例１〜９］
表１に示すように各種条件を変更した点以外、実施例１と同様の方法で磁気テープを作製した。振動付与時間は、上記磁性層を形成した支持体の搬送速度を変えることにより調整した。
また、表１中、冷却ゾーン滞在時間の欄および硬化処理前バーニッシュ処理の欄に「未実施」と記載され、かつ硬化処理後バーニッシュ処理の欄に「実施」と記載されている比較例では、磁性層形成工程に冷却ゾーンを含まず、かつ硬化処理前ではなく硬化処理後であって振動付与工程前に実施例１と同様の方法によりバーニッシュ処理およびワイピング処理を行う製造工程により磁気テープを作製した。
【００９８】
以上の方法によって作製した実施例および比較例の各磁気テープの一部を下記物性評価のために使用し、他の一部を後述する性能評価のために使用した。
【００９９】
２．磁気テープの物性評価
（１）磁性層の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａ
原子間力顕微鏡（ＡＦＭ、Ｖｅｅｃｏ社製Ｎａｎｏｓｃｏｐｅ４）をタッピングモードで用いて、実施例および比較例の各磁気テープの磁性層表面において測定面積４０μｍ×４０μｍの範囲を測定し、中心線平均表面粗さＲａを求めた。探針としてはＢＲＵＫＥＲ社製ＲＴＥＳＰ−３００を使用し、スキャン速度（探針移動速度）は４０μｍ／秒、分解能は５１２ｐｉｘｅｌ×５１２ｐｉｘｅｌとした。
【０１００】
（２）対数減衰率の測定
測定装置として、株式会社エー・アンド・ディー製剛体振り子型物性試験器ＲＰＴ−３０００Ｗ（振り子：真鍮製、基板：ガラス基板、基板昇温速度５℃／ｍｉｎ）を用いて、先に記載した方法により磁気テープの磁性層表面において対数減衰率を求めた。磁気テープから切り出した測定用試料は、約３ｃｍ×約５ｃｍのサイズのガラス基板上に、固定用テープ（東レ・デュポン製カプトンテープ）で図１に示すように４箇所を固定し載置した。吸着時間を１秒間かつ測定間隔を７〜１０秒とし、８６回目の測定間隔について変位−時間曲線を作成し、この曲線を用いて対数減衰率を求めた。測定は、相対湿度約５０％の環境下にて行った。
【０１０１】
（３）ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅ、ＦＷＨＭａｆｔｅｒ
ＴＳＡ（Ｔａｐｅ  Ｓｐａｃｉｎｇ  Ａｎａｌｙｚｅｒ（Ｍｉｃｒｏ  Ｐｈｙｓｉｃｓ社製））を用いて、以下の方法により、真空加熱前後のスペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅおよびＦＷＨＭａｆｔｅｒを求めた。
磁気テープの磁性層表面上に、ＴＳＡに備えられたガラス板を配置した状態で、押圧部材としてＴＳＡに備えられているウレタン製の半球を用いて、この半球を磁気テープのバックコート層表面に、５．０５×１０４Ｎ／ｍ（０．５ａｔｍ）の圧力で押しつけた。この状態で、ＴＳＡに備えられているストロボスコープから白色光を、ガラス板を通して磁気テープの磁性層表面の一定領域（１５００００〜２０００００μｍ２）に照射し、得られる反射光を、干渉フィルタ（波長６３３ｎｍの光を選択的に透過するフィルタ）を通してＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ−Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｄｅｖｉｃｅ）で受光することで、この領域の凹凸で生じた干渉縞画像を得た。
この画像を３０００００ポイントに分割して各ポイントのガラス板の磁気テープ側の表面から磁気テープの磁性層表面までの距離（スペーシング）を求めこれをヒストグラムとし、ヒストグラムをガウス分布でフィッティングしたときの半値全幅をスペーシング分布の半値全幅とした。
真空加熱は、磁気テープを、２００Ｐａ以上０．０１ＭＰａ以下の真空度かつ内部雰囲気温度７０〜９０℃の真空定温乾燥機に２４時間保存することにより行った。
【０１０２】
（４）差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）
上記（３）で得た真空加熱後のヒストグラムの最頻値から、真空加熱前のヒストグラムの最頻値を差し引いて、差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）とした。
【０１０３】
３．磁気テープの性能評価
（１）電磁変換特性（ＳＮＲ（Ｓｉｇｎａｌ−ｔｏ−Ｎｏｉｓｅ−Ｒａｔｉｏ））および高温高湿環境下での繰り返し高速走行における再生出力低下分
実施例および比較例の各磁気テープについて、電磁変換特性（ＳＮＲ）および繰り返し走行における再生出力低下分を、ヘッドを固定した１／２インチ（０．０１２７メートル）リールテスターを用いて以下の方法により測定した。測定は、雰囲気温度３２℃かつ相対湿度８０％の環境下で行った。
ヘッド／テープ相対速度を８．０ｍ／秒とし、記録ヘッドとしてはＭＩＧ（Ｍｅｔａｌ−Ｉｎ−Ｇａｐ）ヘッド（ギャップ長０．１５μｍ、トラック幅１．０μｍ）を使用し、記録電流は各テープの最適記録電流に設定した。再生ヘッドとしては素子厚み１５ｎｍ、シールド間隔０．１μｍ、リード幅０．５μｍのＧＭＲ（Ｇｉａｎｔ−Ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔｉｖｅ）ヘッドを使用した。線記録密度３００ｋｆｃｉの信号を記録し、再生信号をシバソク社製のスペクトラムアナライザーで測定した。なお単位ｋｆｃｉとは、線記録密度の単位（ＳＩ単位系に換算不可）である。信号は、磁気テープ走行開始後に信号が十分に安定した部分を使用した。以上の条件で、１パスあたり１，０００ｍで５００パス摺動させて記録再生を行った。キャリア信号の出力値と、スペクトル全帯域の積分ノイズとの比をＳＮＲとした。１パス目のＳＮＲについて、比較例１を基準（０ｄＢ）としたときの相対値として、ＢＢ−ＳＮＲ（Ｂｒｏａｄｂａｎｄ−ＳＮＲ）を表１に示した。
１パス目のキャリア信号の出力値と５００パス目のキャリア信号の出力値をそれぞれ求め、差分「（５００パス目の出力値）−（１パス目の出力値）」を、繰り返し走行における再生出力低下分として表１に示した。
なお比較例７の磁気テープは、磁性層表面とヘッドとが貼り付いてしまい磁気テープを走行させることが困難であったため、評価を中止した。
【０１０４】
（２）ヘッド付着物量の評価
上記（２）の測定後、５００パス往復後の再生ヘッド表面を微分干渉顕微鏡で観察し、ヘッド付着物量を、微分干渉顕微鏡観察で得られた顕微鏡画像で付着物の付着が確認される面積の広さにより、下記基準で判断した。
５点  ヘッド付着物がほとんどない。
４点  ヘッド付着物がわずかに観察される。
３点  ヘッド付着物が観察される（４点の場合より多く２点の場合より少ない）。
２点  ヘッド付着物が多く観察される。
１点  ヘッド付着物が非常に多く観察される。
【０１０５】
以上の結果を、表１に示す。
【０１０６】
【表１】
2018137014.tif 000003
【０１０７】
表１に示す結果から、実施例の磁気テープは、高いＳＮＲを示し、かつ高温高湿環境下での繰り返し高速走行における再生出力低下が少ないことが確認できる。
【産業上の利用可能性】
【０１０８】
本発明は、データストレージ用記録媒体として用いられる磁気テープの技術分野において有用である。
【図１】
2018137014.tif 000004
【図２】
2018137014.tif 000005
【図３】
2018137014.tif 000006
【図４】
2018137014.tif 000007
【図５】
2018137014.tif 000008