(57)【要約】【課題】誘電体多層膜の表面に熱線遮蔽性無機酸化物を含有するハードコート層が配置されてなる赤外遮蔽フィルムにおいて、熱線遮蔽性を十分に確保しつつ、ハードコート層の割れや剥離を抑制しうる技術を提供する。【解決手段】熱線遮蔽性金属酸化物を含有するハードコート層と、高屈折率層と低屈折率層とが交互に積層されてなる誘電体多層膜とを有し、前記高屈折率層および前記低屈折率層の少なくとも一方がタングステン酸化物および複合タングステン酸化物の少なくとも一方を含む、赤外遮蔽フィルム。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱線遮蔽性金属酸化物を含有するハードコート層と、
高屈折率層と低屈折率層とが交互に積層されてなる誘電体多層膜と、
を有し、
前記高屈折率層および前記低屈折率層の少なくとも一方がタングステン酸化物および複合タングステン酸化物の少なくとも一方を含む、赤外遮蔽フィルム。
【請求項２】
前記高屈折率層が、タングステン酸化物および複合タングステン酸化物の少なくとも一方を含む、請求項１に記載の赤外遮蔽フィルム。
【請求項３】
前記高屈折率層および前記低屈折率層の少なくとも一方がセシウムドープト酸化タングステンを含む、請求項１または２に記載の赤外遮蔽フィルム。
【請求項４】
前記熱線遮蔽性金属酸化物が、セシウムドープト酸化タングステンである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の赤外遮蔽フィルム。
【請求項５】
前記高屈折率層が酸化チタン粒子を含み、前記低屈折率層が酸化ケイ素粒子を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の赤外遮蔽フィルム。
【請求項６】
前記高屈折率層および前記低屈折率層がポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールをさらに含む、請求項５に記載の赤外遮蔽フィルム。
【請求項７】
前記高屈折率層がポリエチレンナフタレートを含み、前記低屈折率層がポリメチルメタクリレートを含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の赤外遮蔽フィルム。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の赤外遮蔽フィルムを用いた赤外遮蔽体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、赤外遮蔽フィルムおよびこれを用いた赤外遮蔽体に関する。
【背景技術】
【０００２】
太陽から放射される光は、紫外領域から赤外光領域まで幅広いスペクトルを有している。このうち、赤外光は太陽光の約５０％を占めており、当該赤外光は、主として、波長が可視光に近い近赤外線（波長約７５０〜２５００ｎｍ）、それ以上の波長を有する中赤外線（約２５００〜４０００ｎｍ）および遠赤外線（波長約４０００ｎｍ以上）に分類される。このような赤外光は、紫外光と比較すると波長が長波長であることからエネルギーは小さいが、一方で熱的作用は大きく、物質に吸収されると熱として放出されて温度上昇をもたらす。このことから赤外光は熱線とも呼ばれており、赤外光を反射することにより、例えば、室内の温度上昇を抑制することができる。
【０００３】
近年、省エネルギー対策への関心の高まりから、上記赤外光を反射させるフィルムを建物や車両の窓ガラスに装着し、太陽光の熱線の透過を反射させて冷房設備にかかる負荷を減らそうとする試みが行われている。一方で、このような赤外遮蔽フィルムが赤外光に波長が近い可視光をも反射させてしまうと、フィルムの透明性が確保できず、フィルムが着色してしまう。したがって、赤外光を選択的に反射させ、可視光は透過させる赤外遮蔽フィルムが好ましいといえる。
【０００４】
このような、赤外光を選択的に反射させ、可視光を透過させることができる赤外遮蔽フィルムは、通常、相対的に低い屈折率を有する低屈折率層と、相対的に高い屈折率を有する高屈折率層と、が積層された誘電体多層膜を有する。この際、高屈折率層および低屈折率層について、屈折率および膜厚の積である光学膜厚を制御し、干渉を生じさせることで、赤外光を選択的に反射させることができる。
【０００５】
ところで、赤外遮蔽フィルムには、上述したように建物や車両の窓ガラスに装着するものであることから、清掃などの際に表面に傷等がつくことを防止する目的で（主として最表面に）ハードコート層が形成されることがある。また、このハードコート層に熱線遮蔽性（赤外線遮蔽性）無機酸化物を含有させて、遮熱性の向上やハードコート層の硬度の向上を図ることも行われている。近年、赤外遮蔽フィルムに用いられる熱線遮蔽性無機酸化物の開発も進んでおり、なかでも、高い遮熱性を示すものとして、タングステン酸化物や、タングステン酸化物にセシウム等の金属がドープされた複合タングステン酸化物が開発されている。
【０００６】
このような技術として、例えば特許文献１には、異なる光学的性質を有する２種以上の熱可塑性樹脂が交互にそれぞれ５０層以上積層された多層構造を有する基材フィルムの表面に、タングステン酸化物を含む熱線吸収層（ハードコート層）を積層する技術が開示されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、本発明者の検討によれば、（複合）タングステン酸化物等の熱線遮蔽性無機酸化物をハードコート層に含ませる構成を有する特許文献１に記載の積層フィルムを赤外遮蔽フィルムとして用いると、ハードコート層に割れが生じたり、ハードコート層が剥離したりする場合があることが判明した。
【０００８】
そこで本発明は、誘電体多層膜の表面に熱線遮蔽性無機酸化物を含有するハードコート層が配置されてなる赤外遮蔽フィルムにおいて、熱線遮蔽性を十分に確保しつつ、ハードコート層の割れや剥離を抑制しうる技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、上記課題に鑑み、鋭意研究を行った。その結果、誘電体多層膜の表面にハードコート層を設けた赤外遮蔽フィルムにおいて、誘電体多層膜を構成する屈折率層に（複合）タングステン酸化物を含ませることで上記課題が解決されうることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【００１０】
すなわち、本発明の上記課題は以下の手段により達成される。
【００１１】
（１）熱線遮蔽性金属酸化物を含有するハードコート層と、
高屈折率層と低屈折率層とが交互に積層されてなる誘電体多層膜と、
を有し、
前記高屈折率層および前記低屈折率層の少なくとも一方がタングステン酸化物および複合タングステン酸化物の少なくとも一方を含む、赤外遮蔽フィルム；
（２）前記高屈折率層が、タングステン酸化物および複合タングステン酸化物の少なくとも一方を含む、上記（１）に記載の赤外遮蔽フィルム；
（３）前記高屈折率層および前記低屈折率層の少なくとも一方がセシウムドープト酸化タングステンを含む、上記（１）または（２）に記載の赤外遮蔽フィルム；
（４）前記熱線遮蔽性金属酸化物が、セシウムドープト酸化タングステンである、上記（１）〜（３）のいずれか１項に記載の赤外遮蔽フィルム；
（５）前記高屈折率層が酸化チタン粒子を含み、前記低屈折率層が酸化ケイ素粒子を含む、上記（１）〜（４）のいずれか１項に記載の赤外遮蔽フィルム；
（６）前記高屈折率層および前記低屈折率層がポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールをさらに含む、上記（５）に記載の赤外遮蔽フィルム；
（７）前記高屈折率層がポリエチレンナフタレートを含み、前記低屈折率層がポリメチルメタクリレートを含む、上記（１）〜（４）のいずれか１項に記載の赤外遮蔽フィルム；
（８）上記（１）〜（７）のいずれか１項に記載の赤外遮蔽フィルムを用いた赤外遮蔽体。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、誘電体多層膜の表面に熱線遮蔽性無機酸化物を含有するハードコート層が配置されてなる赤外遮蔽フィルムにおいて、熱線遮蔽性を十分に確保しつつ、ハードコート層の割れや剥離を抑制することが可能となる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。
【００１４】
本発明の一形態によれば、熱線遮蔽性金属酸化物を含有するハードコート層と、高屈折率層と低屈折率層とが交互に積層されてなる誘電体多層膜とを有し、前記高屈折率層および前記低屈折率層の少なくとも一方がタングステン酸化物および複合タングステン酸化物の少なくとも一方を含む、赤外遮蔽フィルムが提供される。
【００１５】
＜赤外遮蔽フィルム＞
赤外遮蔽フィルムは、ハードコート層および誘電体多層膜を含む。その他必要に応じて、基材、中間層、他の機能層等を有していてもよい。
【００１６】
［誘電体多層膜］
誘電体多層膜は、高屈折率層および低屈折率層を含む。誘電体多層膜が、異なる屈折率を有する屈折率層を含む構成であることにより、赤外光を照射した場合に、少なくとも赤外光の一部を反射して赤外遮蔽効果を発揮することができる。
【００１７】
本形態において、誘電体多層膜を構成する屈折率層が、高屈折率層であるか低屈折率層であるかは、隣接する屈折率層との屈折率の対比によって判断される。具体的には、ある屈折率層を基準層としたとき、当該基準層に隣接する屈折率層が基準層より屈折率が低ければ、基準層は高屈折率層である（隣接層は低屈折率層である）と判断される。一方、基準層より隣接層の屈折率が高ければ、基準層は低屈折率層である（隣接層は高屈折率層である）と判断される。したがって、屈折率層が高屈折率層であるか低屈折率層であるかは、隣接層が有する屈折率との関係で定まる相対的なものであり、ある屈折率層は、隣接層との関係によって高屈折率層にも低屈折率層にもなりうる。
【００１８】
屈折率層としては、特に制限はないが、好ましくは当該技術分野において用いられる公知の屈折率層を用いることが好ましい。公知の屈折率層としては、例えば、乾式製膜法を用いて形成する屈折率層と、樹脂の押出成形によって形成される屈折率層と、湿式製膜法を用いて形成する屈折率層とが挙げられる。
【００１９】
上述のように、低屈折率層であるか高屈折率層であるかは、隣接する屈折率層との関係で定まる相対的なものであり、ある屈折率層は低屈折率層にも高屈折率層にもなりうるが、以下、それぞれの方法で形成されうる屈折率層のうち、代表的な高屈折率層および低屈折率層の構成について説明する。
【００２０】
（乾式成膜法を用いて形成される屈折率層）
乾式成膜法では、誘電体材料を蒸着等することによって屈折率層が形成されうる。
【００２１】
高屈折率層
本形態における高屈折率層の材料としては、特に制限されないが、透明な誘電体材料であることが好ましい。具体例としては、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）等が挙げられる。これらのうち、高屈折率層の材料は、酸化チタン、酸化亜鉛であることが好ましい。なお、上記の高屈折率層の材料は、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２２】
低屈折率層
低屈折率層の材料としては特に制限されないが、透明な誘電体材料であることが好ましい。具体例としては、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化アンチモンスズ（ＡＴＯ）等が挙げられる。これらのうち、低屈折率層の材料は、酸化ケイ素、フッ化マグネシウムであることが好ましい。なお、上記の低屈折率層の材料は、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２３】
（樹脂の押出成形によって形成される屈折率層）
樹脂の押出成形によって形成される屈折率層の形成方法としては、例えば、樹脂を溶融して得られた溶融樹脂を、多層押し出しダイよりキャスティングドラム上に押し出した後、急冷する方法が挙げられる。この際、溶融樹脂の押し出し冷却後、樹脂シートを延伸させてもよい。樹脂の延伸倍率としては、樹脂に合わせて適宜選択することできるが、縦軸方向および横軸方向にそれぞれ２〜１０倍であることが好ましい。
【００２４】
屈折率層
本形態においては、高屈折率層および低屈折率層を屈折率層として併せて説明する。
【００２５】
屈折率層を構成する樹脂としては、熱可塑性樹脂であれば特に制限されないが、例えば、ポリアルキレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、アミド系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等が挙げられる。
【００２６】
前記ポリアルキレン系樹脂としては、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）等が挙げられる。
【００２７】
前記ポリエステル系樹脂としては、ジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とするポリエステル樹脂が挙げられる。この際、前記ジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸等が挙げられる。また、前記ジオール成分としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、１，４−ブタンジオール、シクロヘキサンジメタノール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビスフェノールフルオレンジヒドロキシエチルエーテル、ジエチレングリコール
、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノン、シクロヘキサンジオール等が挙げられる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）であることが好ましい。
【００２８】
前記ポリカーボネート系樹脂としては、ビスフェノールＡやその誘導体であるビスフェノール類と、ホスゲンまたはフェニルジカーボネートとの反応物等が挙げられる。
【００２９】
前記（メタ）アクリル系樹脂としては、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸−２−メトキシエチル、（メタ）アクリル酸−２−エトキシエチル、（メタ）アクリル酸−２−ブトキシエチル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−オクチル（メタ）アクリルアミド等の単独重合体または共重合体が挙げられる。（メタ）アクリル系樹脂としては、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）が好ましく例示される。
【００３０】
前記アミド系樹脂としては、６，６−ナイロン、６−ナイロン、１１−ナイロン、１２−ナイロン、４，６−ナイロン、６，１０−ナイロン、６，１２−ナイロン等の脂肪族アミド系樹脂；フェニレンジアミン等の芳香族ジアミンと塩化テレフタロイルや塩化イソフタロイル等の芳香族ジカルボン酸またはその誘導体からなる芳香族ポリアミド等が挙げられる。
【００３１】
前記シリコーン系樹脂としては、構成単位としてアルキル基、芳香族基等の有機基を有するシロキサン結合を含む樹脂が挙げられる。前記アルキル基としては、特に制限されないが、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イオブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。また、前記芳香族基としては、特に制限されないが、フェニル基、トリル基、キシリル基、ベンジル基等が挙げられる。これらのうち、メチル基および／またはフェニル基を有するものが好ましく、ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、およびこれらの変性体がより好ましい。
【００３２】
前記フッ素系樹脂としては、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、クロロトリフルオロエチレン、フッ化ビリニデン、フッ化ビニル、ペルフルオロアルキルビニルエーテル等の単独重合体または共重合体等が挙げられる。
【００３３】
上述した樹脂は、単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。
【００３４】
溶融樹脂の押出し成形を用いた屈折率層の形成において、好ましい高屈折率層−低屈折率層の材料の組み合わせとしては、ＰＥＮ／ＰＭＭＡ、ＰＥＴ／ＰＭＭＡ、ＰＥ／ＰＭＭＡ、ＰＥ／ポリフッ化ビニリデン、ＰＥＮ／ポリフッ化ビニリデン、ＰＥＮ／ＰＥＴ、ＰＥＮ／ポリブチレンテレフタレート等が挙げられ、好ましくはＰＥＮ／ＰＭＭＡである。
【００３５】
（湿式製膜法を用いて形成する屈折率層）
湿式成膜法では、塗布液を順次塗布、乾燥する方法、塗布液を重層塗布、乾燥する方法等によって屈折率層が形成されうる。
【００３６】
高屈折率層
高屈折率層は、例えば、水溶性樹脂（以下、「第１の水溶性樹脂」とも称する）を含む。その他必要に応じて、金属酸化物粒子（以下、「第１の金属酸化物粒子」とも称する）、硬化剤、界面活性剤、その他の添加剤を含んでいてもよい。
【００３７】
（１）第１の水溶性樹脂
第１の水溶性樹脂としては、特に制限されないが、ポリビニルアルコール系樹脂、ゼラチン、セルロース類、増粘多糖類、および反応性官能基を有するポリマーが用いられうる。これらのうち、ポリビニルアルコール系樹脂を用いることが好ましい。なお、本明細書において、「水溶性」とは、高分子が最も溶解する温度で、０．５質量％の濃度となるように水に溶解させた際、Ｇ２グラスフィルタ（最大細孔４０〜５０μｍ）で濾過した場合に、濾別される不溶物の質量が加えた高分子の５０質量％以内であるものを意味する。
【００３８】
ポリビニルアルコール系樹脂
前記ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコール（未変性ポリビニルアルコール）、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン変性ポリビニルアルコール、ビニルアルコール系ポリマー等の変性ポリビニルアルコールが挙げられる。なお、変性ポリビニルアルコールにより、膜の密着性、耐水性、柔軟性が改良される場合がある。
【００３９】
前記ポリビニルアルコール（未変性ポリビニルアルコール）は、合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、ＰＶＡ−１０２、ＰＶＡ−１０３、ＰＶＡ−１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１２０、ＰＶＡ−１２４、ＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２１７、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２３５（株式会社クラレ製）、ＪＣ−２５、ＪＣ−３３、ＪＦ−０３、ＪＦ−０４、ＪＦ−０５、ＪＰ−０３、ＪＰ−０４ＪＰ−０５、ＪＰ−４５（日本酢ビ・ポバール株式会社製）等が挙げられる。
【００４０】
カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開昭６１−１０４８３号公報に記載されているような第１級〜第３級アミノ基や第４級アンモニウム基を上記ポリビニルアルコールの主鎖または側鎖中に有するポリビニルアルコールが挙げられる。カチオン変性ポリビニルアルコールは、カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体をケン化することにより得ることができる。
【００４１】
なお、当該カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、トリメチル−（２−アクリルアミド−２，２−ジメチルエチル）アンモニウムクロライド、トリメチル−（３−アクリルアミド−３，３−ジメチルプロピル）アンモニウムクロライド、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニル−２−メチルイミダゾール、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）メタクリルアミド、ヒドロキシルエチルトリメチルアンモニウムクロライド、トリメチル−（２−メタクリルアミドプロピル）アンモニウムクロライド、Ｎ−（１，１−ジメチル−３−ジメチルアミノプロピル）アクリルアミド等が挙げられる。カチオン変性ポリビニルアルコールのカチオン変性基含有単量体の比率は、酢酸ビニルに対して０．１〜１０モル％であることが好ましく、０．２〜５モル％であることがより好ましい。
【００４２】
また、アニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平１−２０６０８８号公報に記載されているようなアニオン性基を有するポリビニルアルコール、特開昭６１−２３７６８１号公報および特開昭６３−３０７９７９号公報に記載されているようなビニルアルコールと水溶性基を有するビニル化合物との共重合体、特開平７−２８５２６５号公報に記載されているような水溶性基を有する変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
【００４３】
さらに、ノニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平７−９７５８号公報に記載されているようなポリアルキレンオキサイド基をビニルアルコールの一部に付加したポリビニルアルコール誘導体、特開平８−２５７９５号公報に記載されている疎水性基を有するビニル化合物とビニルアルコールとのブロック共重合体、シラノール基を有するシラノール変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基、カルボニル基、カルボキシ基などの反応性基を有する反応性基変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。
【００４４】
また、ポリビニルアルコール系水溶性ポリマーを用いることも好ましい。前記ポリビニルアルコール系水溶性ポリマーとしては、例えば、エクセバール（登録商標、株式会社クラレ製）やニチゴーＧポリマー（登録商標、日本合成化学工業株式会社製）などが挙げられる。
【００４５】
ゼラチン
前記ゼラチンとしては、従来、ハロゲン化銀写真感光材料分野で広く用いられてきた各種ゼラチンを適用することができる。例えば、酸処理ゼラチン、アルカリ処理ゼラチン、ゼラチンの製造過程で酵素処理をする酵素処理ゼラチン、分子中に官能基としてのアミノ基、イミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基を有し、それと反応し得る基を持った試薬で処理し改質したゼラチン誘導体等が挙げられる。
【００４６】
ゼラチンの一般的製造法に関しては良く知られており、例えば、Ｔ．Ｈ．Ｊａｍｅｓ：Ｔｈｅ  Ｔｈｅｏｒｙ  ｏｆ  Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ  Ｐｒｏｃｅｓｓ  ４ｔｈ．  ｅｄ．  １９７７（Ｍａｃｍｉｌｌａｎ）５５項、科学写真便覧（上）７２〜７５項（丸善）、写真工学の基礎−銀塩写真編１１９〜１２４頁（コロナ社）等の記載を参考にすることができる。また、リサーチ・ディスクロージャー誌第１７６巻、Ｎｏ．１７６４３（１９７８年１２月）のＩＸ項に記載されているゼラチンを挙げることができる。
【００４７】
なお、ゼラチンを用いる場合、必要に応じてゼラチンの硬膜剤を添加することもできる。
【００４８】
セルロース類
前記セルロース類としては、水溶性のセルロース誘導体を好ましく用いることができる。例えば、カルボキシメチルセルロース（セルロースカルボキシメチルエーテル）、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等の水溶性セルロース誘導体；カルボキシメチルセルロース（セルロースカルボキシメチルエーテル）、カルボキシエチルセルロース等のカルボン酸基含有セルロース類；ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、酢酸セルロース、セルロース硫酸エステル等のセルロース誘導体が挙げられる。
【００４９】
増粘多糖類
前記増粘多糖類は、糖類の重合体であり、分子内に水素結合基を多数有するものである。当該増粘多糖類は、温度による分子間の水素結合力の違いにより、低温時の粘度と高温時の粘度差が大きいという特性を有する。また、増粘多糖類に金属酸化物微粒子を添加すると、低温時にその金属酸化物微粒子との水素結合によると思われる粘度上昇を起こす。その粘度上昇幅は、１５℃における粘度が、通常、１．０ｍＰａ・ｓ以上であり、好ましくは５．０ｍＰａ・ｓ以上であり、よりに好ましくは１０．０ｍＰａ・ｓ以上である。
【００５０】
用いられうる増粘多糖類としては、特に制限はなく、一般に知られている天然単純多糖類、天然複合多糖類、合成単純多糖類、合成複合多糖類が挙げられる。これら多糖類の詳細については、「生化学事典（第２版），東京化学同人出版」、「食品工業」第３１巻（１９８８）２１頁等を参照することができる。
【００５１】
具体的な増粘多糖類としては、例えば、ガラクタン（例えば、アガロース、アガロペクチン等）、ガラクトマンノグリカン（例えば、ローカストビーンガム、グアラン等）、キシログルカン（例えば、タマリンドガム等）、グルコマンノグリカン（例えば、蒟蒻マンナン、木材由来グルコマンナン、キサンタンガム等）、ガラクトグルコマンノグリカン（例えば、針葉樹材由来グリカン）、アラビノガラクトグリカン（例えば、大豆由来グリカン、微生物由来グリカン等）、グルコラムノグリカン（例えば、ジェランガム等）、グリコサミノグリカン（例えば、ヒアルロン酸、ケラタン硫酸等）、アルギン酸およびアルギン酸塩、寒天、κ−カラギーナン、λ−カラギーナン、ι−カラギーナン、ファーセレラン等の紅藻類に由来する天然高分子多糖類等が挙げられる。これらのうち、高屈折率層が後述の金属酸化微粒子を含む場合に、高屈折率層を形成するための塗布液の分散安定性を低下させない観点から、その構成単位としてカルボン酸基やスルホン酸基を有しないものであることが好ましい。このような増粘多糖類としては、例えば、Ｌ−アラビトース、Ｄ−リボース、２−デオキシリボース、Ｄ−キシロースなどのペントース、Ｄ−グルコース、Ｄ−フルクトース、Ｄ−マンノース、Ｄ−ガラクトースなどのヘキソースのみからなる多糖類が挙げられる。具体的には、主鎖がグルコースであり、側鎖もグルコースであるキシログルカンとして知られるタマリンドシードガム；主鎖がマンノースであり、側鎖がグルコースであるガラクトマンナンとして知られるグアーガム、カチオン化グアーガム、ヒドロキシプロピルグアーガム、ローカストビーンガム、タラガム；主鎖がガラクトースであり、側鎖がアラビノースであるアラビノガラクタンを用いることが好ましい。これらのうち、タマリンド、グアーガム、カチオン化グアーガム、ヒドロキシプロピルグアーガムを用いることが特に好ましい。
【００５２】
反応性官能基を有するポリマー
前記反応性官能基を有するポリマーとしては、例えば、ポリビニルピロリドン類、ポリアクリル酸、アクリル酸−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸カリウム−アクリロニトリル共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸エステル共重合体、アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのアクリル系樹脂；スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのスチレンアクリル酸樹脂；スチレン−スチレンスルホン酸ナトリウム共重合体、スチレン−２−ヒドロキシエチルアクリレート共重合体、スチレン−２−ヒドロキシエチルアクリレート−スチレンスルホン酸カリウム共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ビニルナフタレン−アクリル酸共重合体、ビニルナフタレン−マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−マレイン酸エステル共重合体、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体などの酢酸ビニル系共重合体；およびこれらの塩が挙げられる。これらのうち、ポリビニルピロリドン類およびこれを含有する共重合体を用いることが好ましい。
【００５３】
上述の水溶性樹脂は、単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。
【００５４】
第１の水溶性高分子の好ましい一例としては、ポリビニルアルコール系樹脂が挙げられる。
【００５５】
ポリビニアルアルコール系樹脂の重合度は、１０００以上であることが好ましく、１５００〜５０００であることがより好ましく、２０００〜５０００であることがさらに好ましい。重合度が１０００以上であると、屈折率層の形成時における塗布膜のひび割れ耐性が良くなることから好ましい。なお、本明細書において、「重合度」とは、粘度平均重合度を指し、ＪＩＳ−Ｋ６７２６（１９９４）に準じて測定された値を採用するものとする。具体的には、ポリビニルアルコール系樹脂を完全に再ケン化して精製した後、３０℃の水中で測定した極限粘度［η］（ｄｌ／ｇ）から下記式により求めることができる。
【００５６】
【数１】
2018028558.tif 000002
【００５７】
上記式において、Ｐは重合度を表し、ηは極限粘度を表す。
【００５８】
第１の水溶性樹脂の他の好ましい一例としては、質量平均分子量が１０００〜２０００００であるポリビニルアルコール系樹脂以外の水溶性樹脂が挙げられ、質量平均分子量が３０００〜４００００であることがより好ましい。なお、本明細書において、「質量平均分子量」の値は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によって測定した値を採用するものとする。
【００５９】
第１の水溶性樹脂の含有量は、高屈折率層の固形分１００質量％に対して、５〜５０質量％であることが好ましく、１０〜４０質量％であることがより好ましい。
【００６０】
（２）第１の金属酸化物粒子
第１の金属酸化物粒子とは、高屈折率層に含有されうる金属酸化物粒子を意味する。
【００６１】
第１の金属酸化物粒子としては、特に制限されないが、屈折率が２．０〜３．０である金属酸化物粒子であることが好ましい。具体的には、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、アルミナ、コロイダルアルミナ、チタン酸鉛、鉛丹、黄鉛、亜鉛黄、酸化クロム、酸化第二鉄、鉄黒、酸化銅、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ユーロピウム、酸化ランタン、ジルコン、酸化スズなどが挙げられる。これらのうち、第１の金属酸化物粒子は、透明で屈折率の高い高屈折率層を形成する観点から酸化チタン、酸化ジルコニウムであることが好ましく、耐候性向上の観点から酸化チタン粒子であることがより好ましく、ルチル型（正方晶形）酸化チタンであることがさらに好ましい。
【００６２】
また、前記酸化チタンは、含ケイ素の水和酸化物で被覆されたコア・シェル粒子の形態であってもよい。当該コア・シェル粒子は、酸化チタン粒子の表面を、コアとなる酸化チタンに含ケイ素の水和酸化物からなるシェルが被覆してなる構造を有する。この際のコアの部分となる酸化チタン粒子の体積平均粒径は、１ｎｍ超３０ｎｍ未満であることが好ましく、４ｎｍ以上３０ｎｍ未満であることがより好ましい。かようなコア・シェル粒子を含有させることで、シェル層の含ケイ素の水和酸化物と水溶性樹脂との相互作用により、高屈折率層と低屈折率層との層間混合が抑制されうる。
【００６３】
上述の第１の金属酸化物粒子は、単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。なお、後述するタングステン酸化物および／または複合タングステン酸化物が高屈折率層に含まれる場合には、これらも「第１の金属酸化物粒子」に該当しうる。ここで、タングステン酸化物および複合タングステン酸化物は比較的高い屈折率を示す酸化物であることから、後述する低屈折率層に含まれるよりも、高屈折率層に含まれることが好ましい。
【００６４】
第１の金属酸化物粒子の含有量は、低屈折率層との屈折率差が大きくなる観点から、高屈折率層の固形分１００質量％に対して、１５〜８０質量％であることが好ましく、２０〜７７質量％であることがより好ましく、３０〜７５質量％であることがさらに好ましい。
【００６５】
また、第１の金属酸化物粒子は、体積平均粒径が３０ｎｍ以下であることが好ましく、１〜３０ｎｍであることがより好ましく、５〜１５ｎｍであることがさらに好ましい。体積平均粒径が３０ｎｍ以下であると、ヘイズが少なく可視光透過性に優れることから好ましい。なお、本明細書において、「体積平均粒径」の値は、以下の方法によって測定した値を採用するものとする。具体的には、屈折率層の断面や表面に現れた任意の１０００個の粒子を電子顕微鏡で観察して粒径を測定し、それぞれｄ１、ｄ２……ｄｉ……ｄｋの粒径を持つ粒子がそれぞれｎ１、ｎ２……ｎｉ……ｎｋ個存在する金属酸化物粒子の集団において、粒子１個当りの体積をｖｉとした場合に、下記式により体積平均粒径（ｍｖ）を算出する。
【００６６】
【数２】
2018028558.tif 000003
【００６７】
（３）硬化剤
硬化剤は、高屈折率層に含有される水溶性樹脂（好ましくは、ポリビニルアルコール系樹脂）と反応して、水素結合のネットワークを形成する機能を有する。
【００６８】
硬化剤としては、第１の水溶性樹脂と硬化反応を起こすものであれば特に制限はないが、一般的には、水溶性樹脂と反応しうる基を有する化合物または水溶性樹脂が有する異なる基同士の反応を促進するような化合物が挙げられる。
【００６９】
具体例として、第１の水溶性樹脂としてポリビニルアルコールを用いる場合には、硬化剤としてホウ酸およびその塩を用いることが好ましい。また、ホウ酸およびその塩以外の公知の硬化剤を使用してもよい。当該公知の硬化剤としては、例えば、エポキシ系硬化剤（ジグリシジルエチルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ジグリシジルシクロヘキサン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジル−４−グリシジルオキシアニリン、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル等）、アルデヒド系硬化剤（例えば、ホルムアルデヒド、グリオキザール等）、活性ハロゲン系硬化剤（２，４−ジクロロ−４−ヒドロキシ−１，３，５，−ｓ−トリアジン等）、活性ビニル系化合物（１，３，５−トリスアクリロイル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、ビスビニルスルホニルメチルエーテル等）、アルミニウム明礬等が挙げられる。
【００７０】
なお、ホウ酸およびその塩とは、硼素原子を中心原子とする酸素酸およびその塩のことを意味する。具体的には、オルトホウ酸、二ホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸、五ホウ酸、八ホウ酸、およびこれらの塩が挙げられる。
【００７１】
硬化剤の含有量は、高屈折率層の固形分１００質量％に対して、１〜１０質量％であることが好ましく、２〜６質量％であることがより好ましい。
【００７２】
特に、第１の水溶性バインダー樹脂としてポリビニルアルコールを使用する場合の硬化剤の総使用量は、ポリビニルアルコール１ｇ当たり１〜６００ｍｇであることが好ましく、ポリビニルアルコール１ｇ当たり１００〜６００ｍｇであることがより好ましい。
【００７３】
（４）界面活性剤
界面活性剤としては、特に制限されないが、両性イオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤が挙げられる。これらのうち、ベタイン系両性イオン性界面活性剤、第４級アンモニウム塩系カチオン性界面活性剤、フッ素系カチオン性界面活性剤、ジアルキルスルホコハク酸塩系アニオン性界面活性剤、アセチレングリコール系ノニオン性界面活性剤を用いることが好ましい。
【００７４】
（５）その他の添加剤
その他の添加剤としては、アミノ酸、エマルジョン樹脂、リチウム化合物等が挙げられる。また、特開昭５７−７４１９３号公報、特開昭５７−８７９８８号公報、特開昭６２−２６１４７６号公報に記載の紫外線吸収剤；特開昭５７−７４１９２号、特開昭５７−８７９８９号公報、特開昭６０−７２７８５号公報、特開昭６１−１４６５９１号公報、特開平１−９５０９１号公報、特開平３−１３３７６号公報等に記載の退色防止剤；特開昭５９−４２９９３号公報、特開昭５９−５２６８９号公報、特開昭６２−２８００６９号公報、特開昭６１−２４２８７１号公報、特開平４−２１９２６６号公報等に記載の蛍光増白剤；硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のｐＨ調整剤；消泡剤；ジエチレングリコール等の潤滑剤；防腐剤；防黴剤；帯電防止剤；マット剤；熱安定剤；酸化防止剤；難燃剤；結晶核剤；無機粒子；有機粒子；減粘剤；滑剤；赤外線吸収剤；色素；顔料等の公知の各種添加剤等がその他の添加剤として使用されてもよい。
【００７５】
低屈折率層
低屈折率層は、例えば、水溶性樹脂（以下、「第２の水溶性樹脂」とも称する）を含む。その他必要に応じて、金属酸化物粒子（以下、「第２の金属酸化物粒子」とも称する）、硬化剤、界面活性剤、その他の添加剤等を含んでいてもよい。
【００７６】
（１）第２の水溶性樹脂
第２の水溶性樹脂としては、第１の水溶性樹脂と同様のものが用いられうる。この際、高屈折率層および低屈折率層が、第１の水溶性樹脂および第２の水溶性樹脂として、ともにポリビニルアルコール系樹脂を使用する場合には、それぞれケン化度の異なるポリビニルアルコール系樹脂を用いることが好ましい。これにより、界面の混合が抑制され、赤外反射率（赤外遮蔽率）がより良好となり、ヘイズが低くなりうる。なお、本明細書において「ケン化度」とは、ポリビニルアルコール中のアセチルオキシ基（原料の酢酸ビニル由来のもの）とヒドロキシ基との合計数に対するヒドロキシ基の割合を意味する。
【００７７】
高屈折率層および低屈折率層に含まれるポリビニルアルコール系樹脂のケン化度の絶対値の差は、３ｍｏｌ％以上であることが好ましく、５ｍｏｌ％以上であることがより好ましい。ケン化度の絶対値の差が３ｍｏｌ％以上であると、高屈折率層および低屈折率層の層間混合状態を好ましいレベルにすることができる。なお、ケン化度の絶対値の差は可能な限り大きいことが好ましいが、ポリビニルアルコールの水への溶解性の観点から、前記ケン化度の絶対値の差は２０ｍｏｌ％以下であることが好ましい。
【００７８】
高屈折率層および低屈折率層に含まれるポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、水への溶解性の観点から、７５ｍｏｌ％以上であることが好ましい。また、高屈折率層および低屈折率層に含まれるポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、一方の屈折率層のケン化が９０ｍｏｌ％以上、もう一方の屈折率層のケン化度が９０ｍｏｌ％以下であることが好ましく、一方の屈折率層のケン化が９０ｍｏｌ％以下、もう一方が屈折率層のケン化度が９５ｍｏｌ％以上であることがより好ましい。高屈折率層および低屈折率層のポリビニルアルコール系樹脂のケン化度が上記関係にあると、高屈折率層と低屈折率層との層間混合状態を好ましいレベルにできることから好ましい。なお、ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度の上限は特に限定されるものではないが、１００ｍｏｌ％未満であることが好ましく、９９．９ｍｏｌ％以下であることがより好ましい。
【００７９】
なお、高屈折率層および／または低屈折率層がケン化度や重合度が異なる２種以上のポリビニルアルコール系樹脂を含有する場合には、当該ケン化度、重合度は、屈折率層中で最も含有量の高いポリビニルアルコール系樹脂のケン化度、重合度を意味するものとする。
【００８０】
ここで、「屈折率層中で最も含有量の高いポリビニルアルコール系樹脂」を決定する場合、ケン化度の差が３ｍｏｌ％以内のポリビニルアルコール系樹脂は同一のポリビニルアルコール系樹脂であるとみなして判断する。ただし、重合度１０００以下の低重合度ポリビニルアルコールについては、異なるポリビニルアルコールとして取り扱う。すなわち、仮にケン化度の差が３ｍｏｌ％以内の低重合度ポリビニルアルコールがあったとしても、当該低重合度ポリビニルアルコールは同一のポリビニルアルコールとは扱わない。具体例を挙げると、ケン化度が９０ｍｏｌ％、ケン化度が９１ｍｏｌ％、ケン化度が９３ｍｏｌ％のポリビニルアルコールが同一層内にそれぞれ１０質量％、４０質量％、５０質量％含まれる場合には、これら３つのポリビニルアルコールは同一のポリビニルアルコールとし、これら３つの混合物を「屈折率層中で最も含有量の高いポリビニルアルコール系樹脂」とする。
【００８１】
なお、「ケン化度の差が３ｍｏｌ％以内のポリビニルアルコール」とは、いずれかのポリビニルアルコールに着目した場合に３ｍｏｌ％以内であればよく、例えば、９０ｍｏｌ％、９１ｍｏｌ％、９２ｍｏｌ％、９４ｍｏｌ％のポリビニルアルコールを含む場合には、９１ｍｏｌ％のポリビニルアルコールに着目した場合に、いずれのポリビニルアルコールのケン化度の差も３ｍｏｌ％以内であることから、これらはすべて同一のポリビニルアルコールとなる。
【００８２】
同一層内にケン化度が３ｍｏｌ％以上異なるポリビニルアルコールが含まれる場合には、異なるポリビニルアルコールの混合物とみなし、それぞれについて重合度およびケン化度を算出する。例えば、ＰＶＡ２０３：５質量％、ＰＶＡ１１７：２５質量％、ＰＶＡ２１７：１０質量％、ＰＶＡ２２０：１０質量％、ＰＶＡ２２４：１０質量％、ＰＶＡ２３５：２０質量％、ＰＶＡ２４５：２０質量％が含まれる場合、最も含有量の多いＰＶＡ（ポリビニルアルコール）は、ＰＶＡ２１７〜２４５の混合物であり（ＰＶＡ２１７〜２４５のケン化度の差は３ｍｏｌ％以内なので同一のポリビニルアルコールである）、この混合物が「屈折率層中で最も含有量の高いポリビニルアルコール系樹脂」となる。そして、ＰＶＡ２１７〜２４５の混合物における重合度は（１７００×０．１＋２０００×０．１＋２４００×０．１＋３５００×０．２＋４５００×０．７）／０．７＝３２００となり、ケン化度は８８ｍｏｌ％となる。
【００８３】
水溶性樹脂として、高屈折率層に低ケン化度のポリビニルアルコールを用い、低屈折率層に高ケン化度のポリビニルアルコールを用いる場合には、高屈折率層における「屈折率層中で最も含有量の高いポリビニルアルコール系樹脂」が高屈折率層中の全ポリビニルアルコール系樹脂の全質量に対し、４０〜１００質量％であることが好ましく、６０〜９５質量％であることがより好ましい。また、低屈折率層における「屈折率層中で最も含有量の高いポリビニルアルコール系樹脂」が低屈折率層中の全ポリビニルアルコール系樹脂の全質量に対し、４０〜１００質量％であることが好ましく、６０〜９５質量％であることがより好ましい。
【００８４】
他方、水溶性樹脂として、高屈折率層に高ケン化度のポリビニルアルコールを用い、低屈折率層に低ケン化度のポリビニルアルコールを用いる場合には、高屈折率層における「屈折率層中で最も含有量の高いポリビニルアルコール系樹脂」が高屈折率層中の全ポリビニルアルコール系樹脂の全質量に対し、４０〜１００質量％であることが好ましく、６０〜９５質量％であることがより好ましい。また、低屈折率層における「屈折率層中で最も含有量の高いポリビニルアルコール系樹脂」が低屈折率層中の全ポリビニルアルコール系樹脂の全質量に対し、４０〜１００質量％であることが好ましく、６０〜９５質量％であることがより好ましい。
【００８５】
（２）第２の金属酸化物粒子
第２の金属酸化物粒子とは、低屈折率層に含有されうる金属酸化物粒子を意味する。
【００８６】
当該第２の金属酸化物粒子としては、特に制限されないが、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ等のシリカ（二酸化ケイ素）を用いることが好ましく、酸性のコロイダルシリカゾルを用いることがより好ましい。また、屈折率をより低減させる観点から、第２の金属酸化物粒子として、粒子の内部に空孔を有する中空微粒子を用いることができ、特にシリカ（二酸化ケイ素）の中空微粒子を用いることが好ましい。
【００８７】
本発明で用いられるコロイダルシリカは、ケイ酸ナトリウムの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを加熱熟成して得られるものであり、例えば、特開昭５７−１４０９１号公報、特開昭６０−２１９０８３号公報、特開昭６０−２１９０８４号公報、特開昭６１−２０７９２号公報、特開昭６１−１８８１８３号公報、特開昭６３−１７８０７号公報、特開平４−９３２８４号公報、特開平５−２７８３２４号公報、特開平６−９２０１１号公報、特開平６−１８３１３４号公報、特開平６−２９７８３０号公報、特開平７−８１２１４号公報、特開平７−１０１１４２号公報、特開平７−１７９０２９号公報、特開平７−１３７４３１号公報、および国際公開第９４／２６５３０号などに記載されているものである。
【００８８】
このようなコロイダルシリカは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、日産化学工業株式会社から販売されているスノーテックスシリーズ（スノーテックスＯＳ、ＯＸＳ、Ｓ、ＯＳ、２０、３０、４０、Ｏ、Ｎ、Ｃ等）が挙げられる。
【００８９】
コロイダルシリカは、その表面をカチオン変性されたものであってもよく、また、Ａｌ、Ｃａ、ＭｇまたはＢａ等で処理されたものであってもよい。
【００９０】
また、第２の金属酸化物粒子は、表面被覆成分により表面コーティングされていてもよい。
【００９１】
本発明の低屈折率層に含まれる第１の金属酸化物粒子（好ましくは二酸化ケイ素）は、その平均粒径（個数平均；直径）が３〜１００ｎｍであることが好ましく、３〜５０ｎｍであることがより好ましい。なお、本明細書中、金属酸化物微粒子の「平均粒径（個数平均；直径）」は、粒子そのものあるいは屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、１，０００個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値（個数平均）として求められる。ここで個々の粒子の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。
【００９２】
第２の金属酸化物粒子として中空粒子を用いる場合には、平均粒子空孔径が、３〜７０ｎｍであることが好ましく、５〜５０ｎｍであることがより好ましく、５〜４５ｎｍであることがさらに好ましい。中空粒子の平均粒子空孔径が上記範囲であれば、十分に低屈折率層の屈折率が低屈折率化される。なお、本明細書において、「中空粒子の平均粒子空孔径」とは、中空粒子の内径の平均値である。また、「平均粒子空孔径」の値は、電子顕微鏡観察で、円形、楕円形、または実質的に円形もしくは楕円形として観察できる空孔径を、ランダムに５０個以上観察し、各粒子の空孔径を求め、その数平均値を求めることにより得られた値を採用するものとる。この際、「平均粒子空孔径」は、円形、楕円形、または実質的に円形もしくは楕円形として観察できる空孔径の外縁を、２本の平行線で挟んだ距離のうち、最小の距離を意味する。
【００９３】
低屈折率層における第２の金属酸化物粒子の含有量は、低屈折率層の全固形分１００質量％に対して、０．１〜７５質量％であることが好ましく、３０〜７０質量％であることがより好ましく、４５〜６５質量％であることがさらに好ましい。
【００９４】
上述の第２の金属酸化物は、屈折率を調整する等の観点から、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。なお、後述するタングステン酸化物および／または複合タングステン酸化物が低屈折率層に含まれる場合には、これらも「第２の金属酸化物粒子」に該当しうる。
【００９５】
（３）硬化剤、界面活性剤、その他の添加剤
硬化剤、界面活性剤、その他の添加剤としては、高屈折率層と同様のものが用いられうることからここでは説明を省略する。
【００９６】
（タングステン酸化物および複合タングステン酸化物）
本形態に係る赤外遮蔽フィルムにおいては、上述した高屈折率層および低屈折率層の少なくとも一方がタングステン酸化物および複合タングステン酸化物の少なくとも一方を含む点に特徴がある。このような構成とすることで、ハードコート層が熱線遮蔽性無機酸化物を含む場合であっても、熱線遮蔽性を確保しつつ、ハードコート層の割れや剥離を抑制することが可能となる。このような効果が発現するメカニズムとしては、以下のようなものが推定されている。すなわち、熱線遮蔽性無機酸化物が熱線遮蔽効果を発揮する（つまり、赤外線を吸収する）と発熱反応が進行するが、従来の技術のようにハードコート層のみに熱線遮蔽性無機酸化物を含有させると、上述した発熱反応の進行に起因して、ハードコート層に生じる応力から局所的な歪みが発生し、これがハードコート層の剥離（密着性の低下）や割れの原因となっているものと考えられる。これに対し、本形態に係る赤外遮蔽フィルムのように誘電体多層膜に熱線遮蔽性能に優れた（複合）タングステン酸化物を含ませることで、ハードコート層に含まれる熱線遮蔽性無機酸化物の量を低減させることが可能となる。その結果、上述したハードコート層における発熱に起因する剥離や割れの発生が抑制されるものと考えられる。なお、本発明の技術的範囲は、上記メカニズムによってなんら制限を受けるものではない。
【００９７】
ここで、高屈折率層および低屈折率層の一方のみが（複合）タングステン酸化物を含む形態であってもよいし、高屈折率層および低屈折率層の双方が（複合）タングステン酸化物を含む形態であってもよい。ただし、上述したように（複合）タングステン酸化物は比較的屈折率が大きい材料であることから、低屈折率層よりも高屈折率層に含まれることが、高屈折率層と低屈折率層との屈折率差を大きくするという観点からは好ましい。また、ある屈折率層が（複合）タングステン酸化物を含む場合、当該屈折率層はタングステン酸化物または複合タングステン酸化物のいずれか一方のみを含んでもよいし、タングステン酸化物および複合タングステン酸化物の双方を含んでもよい。さらに、ある屈折率層が複合タングステン酸化物を含む場合、複合タングステン酸化物を２種以上含んでもよい。
【００９８】
タングステン酸化物は、一般式：ＷｙＯｚで示され、特開２０１３−６４０４２号公報や特開２０１０−２１５４５１号公報に記載されるのと同様のものが使用できる。上記一般式中、Ｗは、タングステンを表し、Ｏは、酸素を表す。ｙおよびｚは、タングステンと酸素との組成（タングステンに対する酸素の組成、ｚ／ｙ）が、３未満（ｚ／ｙ＜３）の関係を満たすことが好ましく、２．２〜２．９９９（２．２≦ｚ／ｙ≦２．９９９）の関係を満たすことがより好ましい。このようなｚ／ｙ比であれば、材料として化学的に安定であり、高い赤外線吸収能を発揮できる上、必要量の自由電子が生成され効率よい赤外線吸収材料となりうる。
【００９９】
また、複合タングステン酸化物の組成は、特に制限されないが、安定性の観点から、一般式：ＭｘＷｙＯｚで表される酸化物であることが好ましく、特開２０１３−６４０４２号公報や特開２０１０−２１５４５１号公報に記載されるのと同様のものが使用できる。上記一般式中、Ｍは、Ｈ、Ｈｅ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｂｅ、Ｈｆ、Ｏｓ、Ｂｉ、Ｉうちから選択される１種類以上の元素を表す。また、Ｗは、タングステンを表し、Ｏは、酸素を表す。ｘ、ｙおよびｚは、タングステンとＭとの組成（タングステンに対するＭの組成、ｘ／ｙ）が０．００１≦ｘ／ｙ≦１の関係を満たし、タングステンと酸素との組成（タングステンに対する酸素の組成、ｚ／ｙ）が２．２≦ｚ／ｙ≦３の関係を満たすことが好ましい。ここで、アルカリ金属は、水素を除く周期表第１族元素であり、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、フランジウムである。アルカリ土類金属は、周期表第２族元素であり、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ラジウムである。希土類元素は、Ｓｃ、Ｙおよびランタノイド元素（５７番のランタンから７１番のルテチウムまでの元素）である。特に、赤外線吸収材料としての光学特性、耐候性向上効果の観点から、Ｍ元素が、Ｃｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｔｌ、Ｉｎ、Ｂａ、Ｌｉ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｆｅ、Ｓｎのうちの１種類以上であるものが好ましく、熱線遮蔽性に優れるという観点から、Ｃｓが特に好ましい。すなわち、本発明では、タングステン酸化物および複合タングステン酸化物のうち、複合タングステン酸化物が用いられることが好ましく、セシウムドープト酸化タングステン（ＣＷＯ）が用いられることが特に好ましい。また、これらの具体的な商品名としては、セシウムドープト酸化タングステン系としてＣＷＯ分散液（ＹＭＦ−０２Ａ  住友金属鉱山社製）等が挙げられる。
【０１００】
（複合）タングステン酸化物の形状は、特に制限されず、粒子状、球状、棒状、針状、板状、柱状、不定形状、燐片状、紡錘状など任意の構造をとりうるが、好ましくは粒子状である。また、タングステン酸化物等の大きさも特に制限されないが、（複合）タングステン酸化物が粒子状である場合、タングステン酸化物等粒子の平均粒径（平均一次粒子径、直径）は、可視光の反射を抑制しつつ、熱線吸収効果を確保できること、また散乱によるヘイズの劣化が生じず、透明性を確保できることから、５〜２００ｎｍであることが好ましく、１０〜１００ｎｍであることがより好ましい。上記平均粒径は、粒子そのものあるいは屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、１０００個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値（個数平均）として求められる。ここで個々の粒子の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。
【０１０１】
なお、（複合）タングステン酸化物が含まれる屈折率層における（複合）タングステン酸化物の含有量は、屈折率層の全固形分に対して、好ましくは１０〜８０質量％であり、より好ましくは２０〜７０質量％である。このような量であれば、（複合）タングステン酸化物は十分熱線を吸収できるため、赤外遮蔽フィルムの遮熱性能をより向上させることができる。
【０１０２】
以上のような構成を有しうる高屈折率層および低屈折率層を含む誘電体多層膜において、高屈折率層および低屈折率層の少なくとも一方が、湿式製膜法を用いて形成された屈折率層であることが好ましく、高屈折率層および低屈折率層の両方が、湿式製膜法を用いて形成された屈折率層であることがより好ましい。さらに、高屈折率層および低屈折率層の少なくとも一方が、金属酸化物粒子を含むことが好ましく、高屈折率層および低屈折率層の両方が金属酸化物粒子を含むことがより好ましい。
【０１０３】
一般に、赤外遮蔽フィルムにおいては、低屈折率層と高屈折率層との屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で赤外反射率を高くすることができるという観点から好ましい。本形態では、低屈折率層および高屈折率層から構成される積層体の少なくとも１つにおいて、隣接する低屈折率層と高屈折率層との屈折率差が０．１以上であることが好ましく、０．３以上であることがより好ましく、０．３５以上であることがさらに好ましく、０．４以上であることが特に好ましい。高屈折率層および低屈折率層の積層体を複数有する場合には、全ての積層体における高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が上記好適な範囲内にあることが好ましい。ただし、この場合でも誘電体多層膜の最上層や最下層を構成する屈折率層に関しては、上記好適な範囲外の構成であってもよい。
【０１０４】
特定波長領域の反射率は、隣接する２層の屈折率差と積層数で決まり、屈折率の差が大きいほど、少ない層数で同じ反射率を得られる。この屈折率差と必要な層数については、市販の光学設計ソフトを用いて計算することができる。例えば、赤外反射率９０％以上を得るためには、屈折率差が０．１より小さいと、２００層以上の積層が必要になる。このような場合、生産性の低下、積層界面における散乱の増大、透明性の低下、および製造時の故障が生じうる。
【０１０５】
高屈折率層の屈折率は、１．８０〜２.５０であることが好ましく、１．９０〜２．２０であることがより好ましい。また、低屈折率層の屈折率は、１．１０〜１.６０であることが好ましく、１．３０〜１．５０であることがより好ましい。
【０１０６】
誘電体多層膜の屈折率層の層数（高屈折率層および低屈折率層の総層数）としては、上記の観点から、６〜５０層であることが好ましく、８〜４０層であることがより好ましく、９〜３０層であることがさらに好ましく、１１〜３１層であることが特に好ましい。誘電体多層膜の屈折率層の層数が上記範囲にあると、優れた遮熱性能および透明性、膜剥がれやひび割れの抑制等が実現されうることから好ましい。なお、誘電体多層膜が、複数の高屈折率層および／または低屈折率層を有する場合には、各高屈折率層および／または各低屈折率層はそれぞれ同じものであっても、異なるものであってもよい。
【０１０７】
高屈折率層の１層当たりの厚さは、２０〜８００ｎｍであることが好ましく、５０〜５００ｎｍであることがより好ましい。また、低屈折率層の１層当たりの厚さは、２０〜８００ｎｍであることが好ましく、５０〜５００ｎｍであることがより好ましい。
【０１０８】
ここで、１層あたりの厚さを測定する場合、高屈折率層および低屈折率層の境界において明確な界面を持たず、連続的に組成が変化する場合がある。このような組成が連続的に変化するような界面領域においては、最大屈折率−最小屈折率＝Δｎとした場合、２層間の最小屈折率＋Δｎ／２の地点を層界面とみなすものとする。
【０１０９】
なお、高屈折率層および低屈折率層が金属酸化物粒子を含む場合には、当該金属酸化物粒子の濃度プロファイルにより上記組成を観察することができる。当該金属酸化物濃度プロファイルは、スパッタ法を用いて表面から深さ方向へエッチングを行い、ＸＰＳ表面分析装置を用いて、最表面を０ｎｍとして、０．５ｎｍ／ｍｉｎの速度でスパッタし、原子組成比を測定することで見ることができる。また、積層膜を切断して、切断面をＸＰＳ表面分析装置で原子組成比を測定することで確認してもよい。
【０１１０】
ＸＰＳ表面分析装置は、特に制限されず、いかなる機種も使用することができる。当該ＸＰＳ表面分析装置としては、例えば、ＶＧサイエンティフィックス社製ＥＳＣＡＬＡＢ−２００Ｒを用いることができる。Ｘ線アノードにはＭｇを用い、出力６００Ｗ（加速電圧１５ｋＶ、エミッション電流４０ｍＡ）で測定する。
【０１１１】
［ハードコート層］
ハードコート層は、赤外遮蔽フィルムへ傷等がつくのを防止する機能を有する。ここで、「ハードコート層」とは、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−４に準じた鉛筆硬度がＨ以上の層であり、好ましくは２Ｈ以上の層である。ハードコート層の硬さは、折り曲げ等の外部応力がかかった際に層の破壊や剥がれなどが発生しない範囲で硬い方が耐傷性の点で好ましい。
【０１１２】
ハードコート層の膜厚は、０．１〜５０μｍであることが好ましく、１〜２０μｍであることがより好ましい。膜厚が０．１μｍ以上であると、ハードコート性が向上しうることから好ましい。一方、膜厚が５０μｍ以下であると、赤外遮蔽フィルムの透明性が向上しうることから好ましい。また、
ハードコート層は、ハードコート材料を含む。また、本形態に係る赤外遮蔽フィルムにおいて、ハードコート層は、熱線遮蔽性無機酸化物を必須に含む。その他必要に応じて、熱線遮蔽性無機酸化物以外の赤外線吸収剤、界面活性剤等を含んでいてもよい。
【０１１３】
（ハードコート材料）
ハードコート材料としては、特に制限されないが、硬化樹脂等が挙げられる。
【０１１４】
前記硬化樹脂としては、特に制限されないが、熱硬化樹脂および活性エネルギー線硬化樹脂が挙げられる。なお、本明細書において、「活性エネルギー線」とは、紫外線や電子線等の活性線を表し、好ましくは紫外線を意味する。前記熱硬化樹脂としては、特に制限されないが、下記式で表されるポリシロキサン前駆体から得られる硬化樹脂が挙げられる。
【０１１５】
【化１】
2018028558.tif 000004
【０１１６】
上記式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、炭素数１〜１０のアルキル基である。また、ｍおよびｎは、ｍ＋ｎ＝４の関係を満たす整数である。
【０１１７】
具体的なポリシロキサン前駆体としては、特に制限されないが、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ポロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テロラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【０１１８】
その他のポリシロキサン前駆体としては、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−アミノベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、オクタデシルジメチル［３−（トリメトキシシリル）プロピル］アンモニウムクロライド等が挙げられる。
【０１１９】
なお、ポリシロキサン前駆体として、サーコートシリーズ（動研製）、ＳＲ２４４１（東レ・ダウコーニング社）、Ｐｅｒｍａ‐Ｎｅｗ  ６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ）等の市販品を使用してもよい。
【０１２０】
前記活性エネルギー線硬化樹脂としては、特に制限されないが、紫外線硬化ウレタン（メタ）アクリレート樹脂、紫外線硬化ポリエステル（メタ）アクリレート樹脂、紫外線硬化エポキシ（メタ）アクリレート樹脂、紫外線硬化ポリオール（メタ）アクリレート樹脂等が挙げられる。これらのうち、紫外線硬化（メタ）アクリレート系樹脂を用いることが好ましい。
【０１２１】
上記活性エネルギー線硬化樹脂は、通常、樹脂前駆体を活性エネルギー線で硬化することで得ることができる。
【０１２２】
紫外線硬化ウレタン（メタ）アクリレート樹脂の樹脂前駆体は、ポリエステルポリオールにイソシアネートモノマーまたはプレポリマーを反応させて得られた生成物に、さらに２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭５９−１５１１１０号公報に記載のユニディック１７−８０６（ＤＩＣ株式会社製）１００部とコロネートＬ（日本ポリウレタン工業株式会社製）１部との混合物等が好ましく用いられる。
【０１２３】
紫外線硬化ポリエステル（メタ）アクリレート樹脂の樹脂前駆体は、ポリエステル末端の水酸基やカルボキシ基に、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸等のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる（例えば、特開昭５９−１５１１１２号公報）。
【０１２４】
紫外線硬化エポキシ（メタ）アクリレート樹脂の樹脂前駆体は、エポキシ樹脂の末端の水酸基に、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸クロライド、グリシジル（メタ）アクリレート等のモノマーを反応させることによって得ることができる。例えばユニディックＶ−５５００（ＤＩＣ株式会社製）等が挙げられる。
【０１２５】
紫外線硬化型ポリオール（メタ）アクリレート樹脂の樹脂前駆体としては、特に制限されないが、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの樹脂前駆体は、単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１２６】
ハードコート材料は、通常、上記ポリシロキサン前駆体、樹脂前駆体等を硬化させて得ることができる。例えば、活性エネルギー線硬化樹脂の樹脂前駆体に、活性エネルギー線を照射することで、架橋反応等を経て当該樹脂前駆体が硬化し、ハードコート材料としての活性エネルギー線硬化樹脂となる。硬化方法としては、加熱、活性エネルギー線照射等が挙げられるが、硬化温度、硬化時間、コスト等の観点から活性エネルギー線照射であることが好ましい。
【０１２７】
（熱線遮蔽性金属酸化物）
ハードコート層は、熱線遮蔽性金属酸化物（「赤外線遮蔽性金属酸化物」とも称される）を必須に含む。熱線遮蔽性金属酸化物としては、特に制限されないが、上述した（複合）タングステン酸化物のほか、酸化亜鉛、アンチモンドープト酸化亜鉛（ＡＺＯ）、インジウムドープト酸化亜鉛（ＩＺＯ）、ガリウムドープト酸化亜鉛（ＧＺＯ）、アルミニウムドープト酸化亜鉛、酸化錫、アンチモンドープト酸化スズ（ＡＴＯ）、インジウムドープト酸化錫（ＩＴＯ）等が挙げられる。なかでも、熱線遮蔽性に優れることから、アンチモンドープト酸化スズ、インジウムドープト酸化スズ、（複合）タングステン酸化物からなる群から選択される少なくとも１種を含むことが好ましく、（複合）タングステン酸化物からなる群から選択される少なくとも１種を含むことが特に好ましく、セシウムドープト酸化タングステンを含むことが最も好ましい。また、これらの具体的な商品名としては、酸化亜鉛系として、セルナックス（登録商標）シリーズ（日産化学工業社製）、パゼットシリーズ（ハクスイテック社製）；酸化錫系として、ＡＴＯ分散液（ＳＲ３５Ｍ  Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｎａｎｏ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓ社製）、ＩＴＯ分散液（三菱マテリアル電子化成社製）、ＫＨシリーズ（住友金属鉱山社製）；セシウムドープト酸化タングステン系としてＣＷＯ分散液（ＹＭＦ−０２Ａ  住友金属鉱山社製）等が挙げられる。これらの熱線遮蔽性無機酸化物は、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１２８】
ハードコート層における熱線遮蔽性金属酸化物の含有量としては、使用する金属酸化物の種類によっても異なる。ただし、本形態に係る赤外遮蔽フィルムにおいては、誘電体多層膜にも熱線遮蔽性無機酸化物である（複合）タングステン酸化物が含まれていることから、ハードコート層における熱線遮蔽性無機酸化物の含有量は従来技術における値よりも小さく設定することが可能である。かような観点から、ハードコート層における熱線遮蔽性金属酸化物の含有量は、ハードコート層の全質量に対して、好ましくは３０〜５０質量％であり、より好ましくは３５〜４５質量％である。また、赤外遮蔽フィルム全体に含まれる熱線遮蔽性無機酸化物の含有量は、好ましく０．６〜１．２ｇ／ｍ２であり、より好ましくは０．６〜１．０ｇ／ｍ２である。
【０１２９】
（熱線遮蔽性無機酸化物以外の赤外線吸収剤）
熱線遮蔽性無機酸化物以外の赤外線吸収剤もまた、ハードコート層に一定の赤外線吸収能を付与する機能を有する。かような赤外線吸収剤としては、特に制限されないが、無機赤外線吸収剤および有機赤外線吸収剤が挙げられる。無機赤外線吸収剤としては、ホウ素化ランタン、ニッケル錯体系化合物が上げられる。また、有機赤外線吸収剤としては、イモニウム系化合物、フタロシアニン系化合物、アミニウム系化合物等が挙げられる。これらの赤外線吸収剤は、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１３０】
上述した赤外線吸収剤の含有量としては、使用する赤外線吸収剤の種類によっても異なるが、ハードコート層の全質量に対して、０．１〜０．８質量％程度であることが好ましい。
【０１３１】
（界面活性剤）
界面活性剤は、ハードコート層にレベリング性、撥水性、滑り性等を付与する機能を有する。界面活性剤としては、特に制限されないが、アクリル系界面活性剤、シリコン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤等が挙げられる。これらのうち、フッ素系界面活性剤を用いることが好ましい。
【０１３２】
当該界面活性剤としては、市販品を用いてもよい。当該市販品としては、Ｆシリーズ（メガファックスＦ−４３０、Ｆ−４７７、Ｆ−５５２〜Ｆ−５５９、Ｆ−５６１、Ｆ−５６２等、ＤＩＣ株式会社製）、ＲＳ−７６−Ｅ（ＤＩＣ株式会社製）、サーフロンシリーズ（ＡＧＣセイミケミカル社製）、ＰＯＬＹＦＯＸシリーズ（ＯＭＮＯＶＡ  ＳＯＬＵＴＩＯＮＳ社製）、ＺＸシリーズ（Ｔ＆Ｋ  ＴＯＫＡ社製）、オプツールシリーズ（ダイキン社製）等が挙げられる。
【０１３３】
上述した界面活性剤の含有量としては、使用する界面活性剤の種類によっても異なるが、ハードコート層の全質量に対して、０．３〜１質量％程度であることが好ましい。
【０１３４】
［基材］
赤外遮蔽フィルムは、基材を有していてもよい。この基材は、上述の誘電体多層膜やハードコート層、その他の任意で設けられる層を支持する機能を有するものである。
【０１３５】
基材は、透明であることが好ましく、種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、ポリオレフィンフィルム（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）、ポリ塩化ビニル、３酢酸セルロース、ポリイミド、ポリブチラールフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、透明なセルロースナノファイバーフィルム等を用いることができる。これらのうち、ポリエステルフィルムを用いることが好ましい。
【０１３６】
当該ポリエステルフィルムの中でも透明性、機械的強度、寸法安定性などの観点から、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸等のジカルボン酸成分と、エチレングリコールや１，４−シクロヘキサンジメタノール等のジオール成分と、を主要な構成成分とするフィルム形成性を有するポリエステルであることが好ましい。なかでも、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートを主要な構成成分とするポリエステルや、テレフタル酸と２，６−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールからなる共重合ポリエステル、およびこれらのポリエステルの２種以上の混合物を主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。
【０１３７】
基材は、二軸配向ポリエステルフィルムであることが好ましいが、未延伸または少なくとも一方に延伸されたポリエステルフィルムを用いることもできる。強度向上、熱膨張抑制の観点から延伸フィルムであることが好ましい。特に自動車のフロントガラスの合わせガラスに用いられる際には、延伸フィルムであることがより好ましい。
【０１３８】
基材の屈折率は、基材と隣接する層の屈折率と近い値であることが好ましい。たとえば隣接する層に用いられる材料は一般的な樹脂である可能性が高いことより、一般的な樹脂の屈折率との関係から、基材の屈折率は１．５０〜１．７０であることが好ましい。
【０１３９】
また、上記で列挙したもののほか、上述の誘電体多層膜で自己支持性を有するものを基材として使用してもよい。自己支持性を有する誘電体多層膜としては、特に制限されないが、例えば共押出法や共流涎法にて作製された誘電体多層膜等が挙げられる。
【０１４０】
基材の膜厚は、３０〜２００μｍであることが好ましく、３０〜１５０μｍであることがより好ましく、３５〜１２５μｍであることが最も好ましい。基材の膜厚が３０μｍ以上であると、取扱い中のシワが発生しにくくなることから好ましい。一方、基材の膜厚が２００μｍ以下であると、赤外遮蔽フィルムを基体と貼り合わせる際に、例えば、曲面の基体への追従性が良くなり、シワが発生しにくくなることから好ましい。
【０１４１】
なお、本発明において基材が用いられる場合、誘電体多層膜は、本発明の効果が得られる限り、基材の片面のみに設けられてもよいし、基材の両面に設けられてもよい。誘電体多層膜を基材の片面に設けるか、または両面に設けるかは、フィルム物性などの観点より、適宜決定することができる。例えば、基材の片面に他の層を設けるとき、他の層の物性にもよるが、反対側の面に誘電体多層膜を設けることでカールなどの問題を解決できる場合もある。また、誘電体多層膜を両面に設けることで、これらの問題を解決できる場合もある。
【０１４２】
［中間層］
誘電体多層膜とハードコート層との間には、隣接する層の密着性を向上させる機能を有する中間層が設けられてもよい。中間層の材料としては、特に制限されないが、ポリビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等の樹脂が挙げられる。中間層の膜厚は、４．０μｍ以上であることが好ましく、６．０μｍ以上であることがより好ましく、６．０〜３０μｍであることがさらに好ましい。中間層の屈折率は、隣接する誘電体多層膜およびハードコート層との屈折率の関係から、誘電体多層膜の屈折率とハードコート層の屈折率の間の値であることが好ましい。たとえば、誘電体多層膜の最上層がＳｉＯ２膜で屈折率１．４８であり、ハードコート層の屈折率が１．５８である場合には、中間層の屈折率は１．４８〜１．５８であることが好ましい。
【０１４３】
［他の機能層］
他の機能層としては、本発明の目的効果を損なわない範囲で、断熱層、粘着層、透明樹脂層等を設けてもよい。これらのうち、赤外遮蔽フィルムを建築部材、窓ガラス等に装着させる場合には、粘着層を設けることが好ましい。
【０１４４】
前記粘着層の材料としては、特に制限されないが、ドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴム等の粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤等が挙げられる。ここで、本発明の赤外遮蔽フィルムを窓ガラスに貼り合わせる場合、窓に水を吹き付け、濡れた状態のガラス面に赤外遮蔽フィルムの粘着層を合わせる方法（いわゆる水貼り法）が、張り直し、位置直し等の観点で好適に用いられる。そのため、水が存在する湿潤下では粘着力が弱い粘着剤が好ましい。
【０１４５】
粘着層を構成する粘着剤は、特に限定されず、公知の粘着剤が同様にして使用できる。具体的には、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール系粘着剤、エチレン−酢酸ビニル系粘着剤などを例示することができる。これらのうち、アクリル系粘着剤が、耐久性、透明性、粘着特性の調整の容易さなどの面から好ましい。また、粘着剤は、市販品を使用してもよく、具体的には、東洋インキ社製ＢＰＳ５９７８、日本合成化学製コーポニール（例えば、Ｎ−２１４７、５６９７、５６９８、５７０５Ｌ）などが使用できる。
【０１４６】
また、粘着剤層をアクリル系粘着剤で形成する場合には、アクリル系粘着剤の硬化剤を使用することができる。アクリル系粘着剤の硬化剤は、特に制限されないが、例えば、イソシアネート系、エポキシ系、アリジリン系硬化剤が利用できる。イソシアネート系硬化剤では、長期保存後も安定した粘着力を得ることと、より硬い粘着層とする目的で、トノレイレンジイソシアネート（ＴＤＩ）等の芳香族系のタイプを好ましく用いることができる。具体的には、東洋インキ社製ＢＸＸ５１３４を使用することができる。
【０１４７】
粘着層は、上記粘着剤に加えて、添加剤を含んでもよい。ここで、添加剤としては、特に制限されないが、例えば、安定剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、シランカップリング剤、難燃剤、帯電防止剤、抗酸化剤、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色、接着調整剤等が得られる。これらのうち、粘着層は、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。紫外線吸収剤を含む粘着層を熱線吸収層に対して太陽光の入射側に設けることによって、熱線吸収層に侵入する太陽光（特に赤外光）量（熱線吸収層の太陽光吸収量）はより低減する。このため、熱線吸収層に含まれるタングステン酸化物等の太陽光の吸収による発熱をより有効に抑制または防止し、熱線吸収層の熱による収縮、ゆえに熱線吸収層の熱割れをより有効に抑制または防止できる。また、本発明の光学制御フィルムを窓貼用として使用する場合には、紫外線による光反射フィルムの劣化を抑制できる。
【０１４８】
粘着層の厚さは、１〜１００μｍが好ましく、３〜５０μｍがより好ましい。１μｍ以上であれば粘着性が向上する傾向にあり、十分な粘着力が得られる。逆に１００μｍ以下であれば赤外遮蔽フィルムの透明性が向上するだけでなく、赤外遮蔽フィルムを窓ガラスに貼り付けた後、剥がしたときに粘着層間で凝集破壊が起こらず、ガラス面への粘着剤残りが無くなる傾向にある。
【０１４９】
粘着層の形成方法としては、特に制限されないが、セパレーター（剥離層）上に粘着層用塗布液を塗布し乾燥させて粘着層を形成した後、粘着層とフィルム本体（ハードコート層および誘電体多層膜を含む）とを貼り合わせる方法が好ましい。
【０１５０】
＜赤外遮蔽体＞
上述の赤外遮蔽フィルムは、幅広い分野に応用することができる。例えば、建物の屋外の窓や自動車窓等の長期間太陽光に晒らされる設備に貼り合せ、熱線反射効果を付与する熱線反射フィルム等の窓貼用フィルムや、農業用ビニールハウス用フィルム等として、主として耐候性を高める目的で用いられる。
【０１５１】
特に、本発明に係る赤外遮蔽フィルムは、直接または接着剤を介して、ガラスまたはガラス代替の樹脂などの基体に貼合される部材に好適に用いられる。例えば、建物の屋外の窓や自動車窓等太陽光に晒らされる窓ガラスに貼り合せ、室内温度の過上昇を抑える赤外反射効果を付与する窓貼用フィルム、農業用ビニールハウス用フィルム等として、主としてハウス内温度の過上昇を抑える赤外遮蔽効果を付与した農業用フィルムの目的で用いられる。
【０１５２】
また自動車用の合わせガラスのように、本発明の赤外遮蔽フィルムをガラスとガラスの間に挟み、自動車用赤外遮蔽フィルムとして用いられ、この場合外気ガスから赤外遮蔽フィルムを封止できるため、耐久性の観点から好ましい。
【０１５３】
すなわち、本発明の一形態によれば、基体と、前記基体の少なくとも一方の面に配置された上述の赤外遮蔽フィルムと、を含む、赤外遮蔽体が提供される。本発明の赤外遮蔽体とは、本発明の赤外遮蔽フィルムを基体の少なくとも一方の面に設けられた態様を意味するが、基体の複数面に設けた状態、本発明の赤外遮蔽フィルムに複数の基体を設けた状態でもよい。
【０１５４】
赤外遮蔽体において、基体の具体的な例としては、例えば、ガラス、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフィド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、金属板、セラミック、布等が挙げられる。樹脂の種類は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂のいずれでもあってもよく、これらを２種以上組み合わせて用いてもよい。また、基体は、フィルム状、板状、球状、立方体状、直方体状等様々な形態であってよい。
【実施例】
【０１５５】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」または「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」または「質量％」を表す。
【０１５６】
＜製造例＞
（低屈折率層用塗布液の調製）
はじめに低屈折率層用塗布液を調製した。具体的には、３８０部のコロイダルシリカ（１０質量％）（スノーテックスＯＸＳ；日産化学工業株式会社製）、５０部のホウ酸水溶液（３０質量％）、３００部のポリビニルアルコール（４質量％）（ＪＰ−４５；重合度：４５００、ケン化度：８８ｍｏｌ％；日本酢ビ・ポバール株式会社製）、３部の界面活性剤（５質量％）（ソフタゾリンＬＳＢ−Ｒ；川研ファインケミカル株式会社製）、を４５℃でこの順に添加した。そして、純水で１００部に仕上げ、低屈折率層用塗布液を調製した。
【０１５７】
（高屈折率層用塗布液の調製）
次に、高屈折率層用塗布液を調製した。具体的には、予めシリカ付着二酸化チタンゾルを調製し、これに溶媒等を添加した。
【０１５８】
シリカ付着二酸化チタンゾルは以下のように調製した。すなわち、１５．０％二酸化チタンゾル（ＳＲＤ−Ｗ、体積平均粒径：５ｎｍ、ルチル型二酸化チタン粒子、堺化学社製）０．５部に純水２部を加えた後、９０℃に加熱した。次いで、ケイ酸水溶液（ケイ酸ソーダ４号（日本化学社製）をＳｉＯ２濃度が０．５％となるように純水で希釈したもの）０．５部を徐々に添加し、次いでオートクレーブ中、１７５℃で１８時間加熱処理を行い、冷却後、限外濾過膜にて濃縮することにより、固形分濃度が６％の、ＳｉＯ２を表面に付着させたシリカ付着二酸化チタンゾル（体積平均粒径：９ｎｍ）を得た。
【０１５９】
このようにして得られたシリカ付着二酸化チタンゾル（２０％）１１３部に対して、クエン酸水溶液（１．９２％）を４８部加え、さらにエチレン変性ポリビニルアルコール（クラレ社製、エクセバールＲＳ−２１１７、鹸化度：９７．５〜９９モル％、固形分濃度８％）を１１３部加えて撹拌し、最後に界面活性剤（ソフタゾリンＬＳＢ−Ｒ、川研ファインケミカル社製）の５％水溶液０．４部を加えて、高屈折率層塗布液を作製した。
【０１６０】
（屈折率層用塗布液へのセシウムドープト酸化タングステンの導入）
住友金属鉱山株式会社製ＹＭＦ−０２Ａ（Ｃｓ０．３３ＷＯ３、固形分濃度１８．５％、平均粒径１５ｎｍ、屈折率１．６６）から溶剤を除去して乾固させた粒子を、セシウムドープト酸化タングステン粒子として準備した。このセシウムドープト酸化タングステン粒子を、上記で調製した低屈折率層用塗布液および高屈折率層用塗布液のそれぞれに添加し、高圧ホモジナイザーＬＡＢ１０００（ＳＭＴ社製）を用いて６００ｂａｒの圧力で塗布液中に分散させて、ＣＷＯ含有低屈折率層用塗布液およびＣＷＯ含有高屈折率層用塗布液をそれぞれ調製した。
【０１６１】
（屈折率層用樹脂へのセシウムドープト酸化タングステンの導入）
住友金属鉱山株式会社製ＹＭＦ−０２Ａ（Ｃｓ０．３３ＷＯ３、固形分濃度１８．５％、平均粒径１５ｎｍ、屈折率１．６６）から溶剤を除去して乾固させた粒子を、セシウムドープト酸化タングステン粒子として準備した。このセシウムドープト酸化タングステン粒子を、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）およびポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）にそれぞれ添加し、ブレンダーで混合し、二軸押し出し機で均一に溶融混練して、上記粒子が分散されてなるＣＷＯ含有ＰＥＮおよびＣＷＯ含有ＰＭＭＡを得た。
【０１６２】
（熱線遮蔽性無機酸化物としてセシウムドープト酸化タングステンを含有するハードコート層用塗布液の調製）
熱線遮蔽性無機酸化物としての上記と同様のセシウムドープト酸化タングステン（ＣＷＯ）粒子を、紫外線硬化性樹脂であるビームセット５７７（荒川化学工業株式会社製）に添加し、溶媒としてメチルエチルケトンをさらに添加した。次いで、フッ素系界面活性剤（商品名：フタージェント（登録商標）６５０Ａ、株式会社ネオス製）を０．０８％の濃度で添加し、固形分濃度４０％、ＣＷＯ粒子の添加量が全固形分に対して５５％となるように調製して、ＣＷＯ含有ハードコート層用塗布液を作製した。
【０１６３】
（熱線遮蔽性無機酸化物としてアンチモンドープト酸化スズを含有するハードコート層用塗布液の調製）
熱線遮蔽性無機酸化物としてのアンチモンドープト酸化スズ（ＡＴＯ）（商品名：ＳＲ３５Ｍ、ＡＮＰ社製）を、紫外線硬化性樹脂であるビームセット５７７（荒川化学工業株式会社製）に添加し、溶媒としてメチルエチルケトンをさらに添加した。次いで、フッ素系界面活性剤（商品名：フタージェント（登録商標）６５０Ａ、株式会社ネオス製）を０．０８％の濃度で添加し、固形分濃度４０％、ＡＴＯ粒子の添加量が全固形分に対して５５質量％となるように調製して、ＡＴＯ含有ハードコート層用塗布液を作製した。
【０１６４】
＜実施例１＞
基材として、ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ５０μｍ；東洋紡株式会社製、コスモシャインＡ４３００）を準備した。
【０１６５】
（誘電体多層膜の形成）
次いで、スライドホッパー塗布装置を用い、上記で得られた低屈折率層用塗布液および高屈折率層用塗布液を４５℃に保温しながら、４５℃に加温した基材上に、１５層同時重層塗布（誘電体多層膜の膜厚；１．５μｍ）を行った。この際、最下層および最上層は低屈折率層とし、それ以外は低屈折率層および高屈折率層がそれぞれ交互に積層されるように設定した。塗布量については、乾燥時の膜厚が低屈折率層は各層１５０ｎｍ、高屈折率層は各層１２０ｎｍになるように調節した。
【０１６６】
なお、本実施例では、ＣＷＯ含有低屈折率層用塗布液およびＣＷＯ含有高屈折率層用塗布液を用いた。また、ＣＷＯ粒子の添加量については、各屈折率層におけるＣＷＯ濃度が同一となるように、かつ、誘電体多層膜全体におけるＣＷＯ含有量（単位面積当たり）が０．８／ｍ２となるように調整した。
【０１６７】
（ハードコート層の形成）
上記で得られたＣＷＯ含有ハードコート層用塗布液を、上記で形成した誘電体多層膜の露出表面に塗工し、乾燥区間温度９０℃で１分間乾燥後、紫外線ランプを用いて塗膜を硬化させて、ハードコート層を形成した。これにより、本実施例の赤外遮蔽フィルムを作製した。この際、照射部の照度を１００ｍＷ／ｃｍ２とし、照射量を０．５Ｊ／ｃｍ２とした。なお、ハードコート層におけるＣＷＯ粒子の含有量が０．２ｇ／ｍ２となるように、上記ＣＷＯ含有ハードコート層用塗布液のＣＷＯ粒子濃度および塗布量を調整した。
【０１６８】
＜実施例２＞
誘電体多層膜の形成において、高屈折率層用塗布液として、ＣＷＯ含有高屈折率層用塗布液に代えて、ＣＷＯ粒子を含有していないものを用いたこと以外は、上述した実施例１と同様の手法により、本実施例の赤外遮蔽フィルムを作製した。なお、ＣＷＯ粒子の添加量については、各低屈折率層におけるＣＷＯ濃度が同一となるように、かつ、誘電体多層膜全体におけるＣＷＯ含有量（単位面積当たり）が０．８／ｍ２となるように調整した。
【０１６９】
＜実施例３＞
誘電体多層膜の形成において、低屈折率層用塗布液として、ＣＷＯ含有低屈折率層用塗布液に代えて、ＣＷＯ粒子を含有していないものを用いたこと以外は、上述した実施例１と同様の手法により、本実施例の赤外遮蔽フィルムを作製した。なお、ＣＷＯ粒子の添加量については、各高屈折率層におけるＣＷＯ濃度が同一となるように、かつ、誘電体多層膜全体におけるＣＷＯ含有量（単位面積当たり）が０．８／ｍ２となるように調整した。
【０１７０】
＜実施例４＞
ハードコート層の形成において、ＣＷＯ含有ハードコート層用塗布液に代えて、ＡＴＯ含有ハードコート層用塗布液を用いたこと以外は、上述した実施例３と同様の手法により、本実施例の赤外遮蔽フィルムを作製した。なお、ハードコート層におけるＡＴＯ粒子の含有量が０．３ｇ／ｍ２となるように、上記ＡＴＯ含有ハードコート層用塗布液のＡＴＯ粒子濃度および塗布量を調整した。
【０１７１】
＜実施例５＞
（誘電体多層膜の形成）
次いで、米国特許第６０４９４１９号明細書に記載の溶融押し出し方法に従い、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）ＴＮ８０６５Ｓ（帝人化成社製）とポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）樹脂アクリペットＶＨ（三菱レイヨン社製）とを、それぞれ３００℃に溶融して押出しにより積層し、（ＰＭＭＡ（１５２ｎｍ）／ＰＥＮ（１３７ｎｍ））６４／（ＰＭＭＡ（１６４ｎｍ）／ＰＥＮ（１４８ｎｍ））６４となるように縦横約３倍に延伸した後、熱固定、冷却を行って、計１２８層交互積層した誘電体多層膜を形成した。ここで、上記層構成において、「（ＰＭＭＡ（１５２ｎｍ）／ＰＥＮ（１３７ｎｍ））６４」とは、膜厚１５２ｎｍのＰＭＭＡ、膜厚１３７ｎｍのＰＥＮをこの順に積層したユニットを６４個積層させたという意味である。なお、上記誘電体多層膜の両表面には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を各１０μｍの層厚で押し出して上記誘電体多層膜を挟む構成とした。
【０１７２】
なお、本実施例では、ＣＷＯ含有ＰＥＮおよびＣＷＯ含有ＰＭＭＡを用いた。また、ＣＷＯ粒子の添加量については、各屈折率層におけるＣＷＯ濃度が同一となるように、かつ、誘電体多層膜全体におけるＣＷＯ含有量（単位面積当たり）が０．８／ｍ２となるように調整した。
【０１７３】
（ハードコート層の形成）
上述した実施例１と同様の手法により、上記で形成した誘電体多層膜の表面に位置するＰＥＴ層（片側）上に、ＣＷＯ含有ハードコート層用塗布液からなるハードコート層を形成した。これにより、本実施例の赤外遮蔽フィルムを作製した。
【０１７４】
＜実施例６＞
誘電体多層膜の形成において、高屈折率層用樹脂として、ＣＷＯ含有ＰＥＮに代えて、ＣＷＯ粒子を含有していないものを用いたこと以外は、上述した実施例５と同様の手法により、本実施例の赤外遮蔽フィルムを作製した。なお、ＣＷＯ粒子の添加量については、各低屈折率層におけるＣＷＯ濃度が同一となるように、かつ、誘電体多層膜全体におけるＣＷＯ含有量（単位面積当たり）が０．８／ｍ２となるように調整した。
【０１７５】
＜実施例７＞
誘電体多層膜の形成において、低屈折率層用樹脂として、ＣＷＯ含有ＰＭＭＡに代えて、ＣＷＯ粒子を含有していないものを用いたこと以外は、上述した実施例５と同様の手法により、本実施例の赤外遮蔽フィルムを作製した。なお、ＣＷＯ粒子の添加量については、各高屈折率層におけるＣＷＯ濃度が同一となるように、かつ、誘電体多層膜全体におけるＣＷＯ含有量（単位面積当たり）が０．８／ｍ２となるように調整した。
【０１７６】
＜実施例８＞
ハードコート層の形成において、ＣＷＯ含有ハードコート層用塗布液に代えて、ＡＴＯ含有ハードコート層用塗布液を用いたこと以外は、上述した実施例７と同様の手法により、本実施例の赤外遮蔽フィルムを作製した。なお、ハードコート層におけるＡＴＯ粒子の含有量が０．３ｇ／ｍ２となるように、上記ＡＴＯ含有ハードコート層用塗布液のＡＴＯ粒子濃度および塗布量を調整した。
【０１７７】
＜比較例１＞
誘電体多層膜の形成において、低屈折率層用塗布液および高屈折率層用塗布液として、ＣＷＯ含有低屈折率層用塗布液およびＣＷＯ含有高屈折率層用塗布液に代えて、それぞれＣＷＯ粒子を含有していないものを用いたこと以外は、上述した実施例１と同様の手法により、本比較例の赤外遮蔽フィルムを作製した。
【０１７８】
＜比較例２＞
誘電体多層膜の形成において、低屈折率層用樹脂および高屈折率層用樹脂として、ＣＷＯ含有ＰＭＭＡおよびＣＷＯ含有ＰＥＮに代えて、それぞれＣＷＯ粒子を含有していないものを用いたこと以外は、上述した実施例５と同様の手法により、本比較例の赤外遮蔽フィルムを作製した。
【０１７９】
＜比較例３＞
ハードコート層の形成において、ＣＷＯ含有ハードコート層用塗布液に代えて、ＡＴＯ含有ハードコート層用塗布液を用いたこと以外は、上述した比較例２と同様の手法により、本実施例の赤外遮蔽フィルムを作製した。なお、ハードコート層におけるＡＴＯ粒子の含有量が０．３ｇ／ｍ２となるように、上記ＡＴＯ含有ハードコート層用塗布液のＡＴＯ粒子濃度および塗布量を調整した。
【０１８０】
＜性能評価＞
実施例１〜８および比較例１〜３で作製した赤外遮蔽フィルムについて、各種性能評価を行った。
【０１８１】
［遮熱性能］
赤外遮蔽フィルムのハードコート層が形成された面とは逆の方向から波長２５０ｎｍ〜２５００ｎｍの光を照射して、透過率および反射率を測定した。これらの値を用いて日射反射重価係数との演算処理を行うことにより、日射取得率（Ｔｔｓ）を求めた。この日射取得率（Ｔｔｓ）が小さいほど、遮熱性能に優れることを意味する。この際、透過率および反射率の測定には、分光光度計Ｕ−４１００（株式会社島津製作所製）を使用した。測定された日射取得率（Ｔｔｓ）の結果を下記の表１に示す。
【０１８２】
［耐光性試験（密着性）］
厚さ３ｍｍの青色ガラスに、赤外遮蔽フィルムのそれぞれを、粘着層を介して貼り付けた。このサンプルを３０℃６０％ＲＨの条件でキセノンウェザーメーター（スガ試験機社製；太陽光に極めて近似した光を発する）を用いて１５０Ｗ／ｍ２の強度のキセノン光に５００時間曝露した。
【０１８３】
次いで、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−６：１９９９のクロスカット法に従い、各赤外遮蔽フィルムについて、フィルム最表面に片刃のカミソリの刃を面に対して９０°の角度で、２ｍｍ間隔でクロスカットし、１０ｍｍ角の碁盤目を作製した。日東電工株式会社製のセロファンテープＮｏ．２９をハードコート層に貼り付けて、テープをはがし、ハードコート層の剥離状態を調べた。クロスカットしたマス目の数をｎ、テープ剥離後に積層体にハードコート層が残っているマス目の数をｎ１とした時に、Ｆ＝（ｎ１／ｎ）×１００（％）を計算し、以下の基準で評価した。結果を下記の表１に示す：
◎：Ｆが１００％
○：Ｆが８０％以上１００％未満
△：Ｆが５０％以上８０％未満
×：Ｆが５０％未満。
【０１８４】
［耐光性試験（割れ評価）］
上記と同様の耐光性試験を行った後に、ハードコート層に膜割れが発生したかどうかを目視にて確認し、以下の評価基準に従って評価した。結果を下記の表１に示す。
【０１８５】
◎：ハードコート層の割れなし
○：ハードコート層の一部が割れている
△：ハードコート層の半分程度が割れている
×：ハードコート層の全面が割れている。
【０１８６】
【表１】
2018028558.tif 000005
【０１８７】
表１の結果から明らかなように、実施例に係る赤外遮蔽フィルムによれば、優れた熱線遮蔽性を確保しつつ、ハードコート層の割れや剥離を抑制することができる。
【０１８８】
一方、比較例に係る赤外遮蔽フィルムは、熱線遮蔽性には優れるものの、耐光性試験後に密着性の低下や割れの発生などの問題が生じた。これは、ハードコート層のみに高濃度で熱線遮蔽性無機酸化物が含まれていることによるものと考えられる。