(57)【要約】【課題】液体による部品の劣化や破損を抑制することが可能なポンプ装置を提供する。【解決手段】液体Ｅを貯溜可能であり、外部から液体Ｅが供給される導入部１１３ａ、及び液体Ｅを外部へと供給する導出部１１３ｂを有するポンプ室１１３と、ポンプ室１１３の気圧を下げることで、導入部１１３ａを介して外部からポンプ室１１３へと液体Ｅを供給可能であり、かつポンプ室１１３の気圧を上げることで、導出部１１３ｂを介してポンプ室１１３から外部へと液体Ｅを供給可能な圧力調整部１２０と、ポンプ室１１３に貯溜された液体Ｅの液面Ｅ１が、所定の下限位置より低い位置まで到達したことを検知する下側液面センサ１８０と、を具備する。【選択図】図３
2018066281.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を貯溜可能であり、外部から液体が供給される導入部、及び液体を外部へと供給する導出部を有するポンプ室と、
前記ポンプ室の気圧を下げることで、前記導入部を介して外部から前記ポンプ室へと液体を供給可能であり、かつ前記ポンプ室の気圧を上げることで、前記導出部を介して前記ポンプ室から外部へと液体を供給可能な圧力調整部と、
前記ポンプ室に貯溜された液体の液面が、所定の下限位置より低い位置まで到達したことを検知する下限検知部と、
を具備するポンプ装置。
【請求項２】
前記下限位置は、
前記導出部よりも高い位置に設定される、
請求項１に記載のポンプ装置。
【請求項３】
前記圧力調整部は、
前記下限検知部によって前記液面が前記下限位置より低い位置まで到達したことが検知された場合、前記導出部を介する外部への液体の供給を停止する、
請求項２に記載のポンプ装置。
【請求項４】
前記圧力調整部は、
前記下限検知部によって前記液面が前記下限位置より低い位置まで到達したことが検知された場合、前記導出部を介する外部への液体の供給を停止した後、前記ポンプ室の気圧を下げる、
請求項２に記載のポンプ装置。
【請求項５】
前記下限検知部は、
非接触式のセンサによって構成される、
請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載のポンプ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体を外部へと供給するためのポンプ装置の技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液体を外部へと供給するためのポンプ装置の技術は公知となっている。例えば、特許文献１に記載の如くである。
【０００３】
特許文献１に記載されるポンプ装置は、ダイヤフラムと、当該ダイヤフラムによってその一部が形成されるポンプ室と、を具備するダイヤフラムポンプである。前記ポンプ装置は、ダイヤフラムを弾性変形させることでポンプ室の容積を増減させて、砥粒を含有した水溶液をタンクからノズルに供給する。
【０００４】
しかし、特許文献１に記載されるポンプ装置は、ポンプ室の容積を増減させる際にダイヤフラムが砥粒に触れて摩耗してしまう。このため、前記ポンプ装置は、ダイヤフラム等の部品が短期間で劣化（又は破損）してしまう可能性がある。また、例えば、前記ポンプ装置として、ギヤポンプやベーンポンプ等を用いた場合でも、ギヤやベーン等の部品（水溶液の供給時にポンプ室で動作する部品）が砥粒に触れて短期間で劣化（又は破損）してしまう可能性がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−２０２７７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、以上の如き状況を鑑みてなされたものであり、その解決しようとする課題は、液体による部品の劣化や破損を抑制することが可能なポンプ装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の解決しようとする課題は以上の如くであり、次にこの課題を解決するための手段を説明する。
【０００８】
即ち、請求項１においては、液体を貯溜可能であり、外部から液体が供給される導入部、及び液体を外部へと供給する導出部を有するポンプ室と、前記ポンプ室の気圧を下げることで、前記導入部を介して外部から前記ポンプ室へと液体を供給可能であり、かつ前記ポンプ室の気圧を上げることで、前記導出部を介して前記ポンプ室から外部へと液体を供給可能な圧力調整部と、前記ポンプ室に貯溜された液体の液面が、所定の下限位置より低い位置まで到達したことを検知する下限検知部と、を具備するものである。
【０００９】
請求項２においては、前記下限位置は、前記導出部よりも高い位置に設定されるものである。
【００１０】
請求項３においては、前記圧力調整部は、前記下限検知部によって前記液面が前記下限位置より低い位置まで到達したことが検知された場合、前記導出部を介する外部への液体の供給を停止するものである。
【００１１】
請求項４においては、前記圧力調整部は、前記下限検知部によって前記液面が前記下限位置より低い位置まで到達したことが検知された場合、前記導出部を介する外部への液体の供給を停止した後、前記ポンプ室の気圧を下げるものである。
【００１２】
請求項５においては、前記下限検知部は、非接触式のセンサによって構成されるものである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の効果として、以下に示すような効果を奏する。
【００１４】
請求項１においては、液体による部品の劣化や破損を抑制することができる。
【００１５】
請求項２においては、液面が下降して導出部に到達する前に、当該液面を検知することができる。
【００１６】
請求項３においては、導出部から供給される液体に気体が混入するのを防止することができる。
【００１７】
請求項４においては、導出部から供給される液体に気体が混入するのを防止することができる。
【００１８】
請求項５においては、液体による下限検知部の劣化を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】研磨加工システムの全体的な構成を示した正面図。
【図２】研磨加工装置を示した拡大正面図。
【図３】ポンプ装置の全体的な構成を示した正面一部断面図。
【図４】吸引部材及びサイレンサを示した拡大正面図。
【図５】屋根部材を示した斜視図。
【図６】（ａ）屋根部材を示した平面図。（ｂ）Ｘ−Ｘ断面図。
【図７】ポンプ装置のブロック図。
【図８】ポンプ室の気圧を下げる様子を示した正面一部断面図。
【図９】全ての電磁弁を閉じた状態を示した正面一部断面図。
【図１０】ポンプ室の気圧を上げる様子を示した正面一部断面図。
【図１１】ポンプ室を大気開放する様子を示した正面一部断面図。
【図１２】タンクから吐出部材に液体が供給される様子を示した正面図。
【図１３】シューに研磨加工を施す様子を示した拡大正面図。
【図１４】上側液面センサが液面の上昇を検知した様子を示した正面一部断面図。
【図１５】下側液面センサが液面の下降を検知した様子を示した正面一部断面図。
【図１６】屋根部材が液体の噴出を規制する様子を示した正面一部断面図。
【図１７】液体が気体排出部から排出される様子を示した正面一部断面図。
【図１８】液体に空気が混入する様子を示した正面一部断面図。
【図１９】導入部から液体が噴出する様子を示した正面一部断面図。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下では、図中の矢印Ｕ、矢印Ｄ、矢印Ｆ、矢印Ｂ、矢印Ｌ及び矢印Ｒで示した方向を、それぞれ上方向、下方向、前方向、後方向、左方向及び右方向と定義して説明を行う。
【００２１】
以下では、図１及び図２を参照して、本実施形態に係る研磨加工システム１について説明する。
【００２２】
研磨加工システム１は、加工対象物に研磨加工を施すためのシステムである。本実施形態に係る研磨加工システム１は、コンプレッサに用いられるシューＳを加工対象物としている。図１に示すように、研磨加工システム１は、架台１０、研磨加工装置２０、タンク３０、ポンプ装置１００及び供給経路４０等を具備する。
【００２３】
架台１０は、シューＳや後述する研磨加工装置２０等を支持するためのものである。架台１０は、複数の支柱や当該支柱に支持される複数の板状部材によって構成される。架台１０は、その上下中途部にテーブル１１が設置される。テーブル１１は、その上面で複数（図１では二つ）のシューＳを支持する。
【００２４】
研磨加工装置２０は、シューＳの摺動面Ｓ１（上面）を研磨するための装置である。研磨加工装置２０は、架台１０に支持されて、テーブル１１の上方に配置される。研磨加工装置２０は、上下方向に移動自在に構成される。研磨加工装置２０は、研磨部材２１及び吐出部材２２を具備する。
【００２５】
図２に示すように、研磨部材２１は、複数のシューＳの上方にそれぞれ配置される部材である。研磨部材２１は、軸部２１ａ、円板部２１ｂ及びバフ２１ｃを具備する。軸部２１ａは、その軸方向を上下方向に向けて配置され、回転自在に構成される。円板部２１ｂは、軸部２１ａの下端部に固定される。バフ２１ｃは、円板部２１ｂの下面に取り付けられる。バフ２１ｃは、例えば、布等によって構成される。
【００２６】
吐出部材２２は、研磨部材２１の上方に配置される部材である。吐出部材２２には、後述する供給経路４０から液体Ｅが供給される（図１２参照）。吐出部材２２は、バフ２１ｃとシューＳとの間に液体Ｅを吐出する（滴下する）ためのノズル２２ａを具備する。ノズル２２ａは、研磨部材２１に対応するように設けられる（一つの研磨部材２１に対して一つのノズル２２ａが設けられる）。
【００２７】
図１に示すように、タンク３０は、液体Ｅを貯溜するための容器である。本実施形態に係るタンク３０は、アルミナ等の研磨剤が含有された液体Ｅを貯溜する。タンク３０は、架台１０の側方（右方）に配置される。タンク３０は、その内部で回転可能な羽根３１を具備し、当該羽根３１を回転させることで液体Ｅを攪拌する。これにより、タンク３０は、研磨剤が沈殿するのを抑制している。
【００２８】
ポンプ装置１００は、タンク３０に貯溜される液体Ｅを研磨加工装置２０（吐出部材２２）に供給するための装置である。ポンプ装置１００は、架台１０とタンク３０との間に配置される。ポンプ装置１００の構成については、後で詳述する。
【００２９】
供給経路４０は、タンク３０から吐出部材２２に液体Ｅを供給するための経路である。供給経路４０は、上流側供給路４１、下流側供給路４２及びリターン通路４３を具備する。
【００３０】
上流側供給路４１は、タンク３０からポンプ装置１００に液体Ｅを供給する通路である。下流側供給路４２は、ポンプ装置１００から吐出部材２２に液体Ｅを供給する通路である。
【００３１】
リターン通路４３は、下流側供給路４２を流通する液体Ｅの一部をタンク３０へ戻すための通路である。リターン通路４３は、その一端部が下流側供給路４２の中途部と連通されると共に、その他端部がタンク３０と連通される。
【００３２】
このように構成される研磨加工システム１は、液体Ｅを吐出部材２２に供給することで、シューＳの摺動面Ｓ１に研磨加工を施す。なお、研磨加工システム１の動作については、後で詳述する。
【００３３】
次に、図１及び図３から図７までを参照してポンプ装置１００の構成について説明する。図３及び図７に示すように、ポンプ装置１００は、本体部材１１０、圧力調整部１２０、上流側逆止弁１５０、下流側逆止弁１６０、上側液面センサ１７０、下側液面センサ１８０、屋根部材１９０、流量調整部２００及び制御部２１０を具備する。
【００３４】
図３に示すように、本体部材１１０は、供給経路４０の中途部に設けられる中空の部材である。本実施形態に係る本体部材１１０は、軸方向を上下方向に向けた筒状部材の上端部及び下端部を板状部材で閉塞することで構成される。本体部材１１０は、連通管１１１、導入部材１１２及びポンプ室１１３を具備する。
【００３５】
連通管１１１は、その軸線方向を上下方向に向けて配置される。連通管１１１は、本体部材１１０の内部における左部に配置される。連通管１１１は、本体部材１１０の上端部から下端部近傍までに亘って形成される。連通管１１１は、その上端部が本体部材１１０の上端部に固定され、下流側供給路４２と連通される。
【００３６】
導入部材１１２は、気体（本実施形態では空気Ｋ、図１０参照）を本体部材１１０の内部に導入するための部材である。導入部材１１２は、その下端部が閉塞する略有底筒状に形成される。導入部材１１２は、その外周面と内周面とを連通する複数の孔部を具備する。当該孔部は、上下方向及び導入部材１１２の周方向に間隔をあけて複数形成される。導入部材１１２は、本体部材１１０の内部における上端部に配置されると共に、連通管１１１の右方に配置される。導入部材１１２は、その上端部が本体部材１１０の上端部に固定され、後述する導入路１３２と連通される。
【００３７】
ポンプ室１１３は、本体部材１１０の内部空間である。ポンプ室１１３は、導入部１１３ａ、導出部１１３ｂ、気体導入部１１３ｃ及び気体排出部１１３ｄを具備する。
【００３８】
導入部１１３ａは、ポンプ室１１３に液体Ｅを導入するための部分である。導入部１１３ａは、本体部材１１０（ポンプ室１１３）の底面を上下に貫通する孔部によって形成される。すなわち、導入部１１３ａは、上方に向けて開口される。導入部１１３ａは、本体部材１１０（前記筒状部材）の中心に形成される。
【００３９】
導出部１１３ｂは、ポンプ室１１３に導入された液体Ｅを下流側供給路４２に導出するための部分である。導出部１１３ｂは、連通管１１１の下端部（導入部１１３ａの略左方で開口する部分）によって構成される。
【００４０】
気体導入部１１３ｃは、ポンプ室１１３に空気Ｋを導入するための部分である。気体導入部１１３ｃは、導入部材１１２の複数の孔部によって構成される。すなわち、気体導入部１１３ｃは、水平方向（左右方向や前後方向）に向けて開口される。
【００４１】
気体排出部１１３ｄは、ポンプ室１１３の空気Ｋを外部に排出するための部分である。気体排出部１１３ｄは、本体部材１１０の上端部を上下に貫通する孔部によって形成される。気体排出部１１３ｄは、本体部材１１０の中心（気体導入部１１３ｃの左方）に形成される。
【００４２】
圧力調整部１２０は、ポンプ室１１３の気圧を調整するためのものである。圧力調整部１２０は、気体流通路１３０、吸引部材１４１及びサイレンサ１４２を具備する。
【００４３】
気体流通路１３０は、空気Ｋが流通する通路である。気体流通路１３０は、供給路１３１、導入路１３２、排出路１３３及び案内路１３４を具備する。
【００４４】
供給路１３１は、空気Ｋ（圧縮エア）をポンプ室１１３の近傍に案内するための通路である。供給路１３１は、その一端部が空気Ｋを圧送可能なコンプレッサ（不図示）と接続される。供給路１３１は、その他端部が後述する導入路１３２及び案内路１３４と連通される。
【００４５】
導入路１３２は、供給路１３１を流通する空気Ｋをポンプ室１１３に案内するための通路である。導入路１３２は、その一端部が供給路１３１と連通される。導入路１３２は、その他端部が気体導入部１１３ｃと連通される。導入路１３２の中途部には、導入路１３２を開閉可能な導入側電磁弁１３２ａが設けられる。
【００４６】
排出路１３３は、ポンプ室１１３の空気Ｋを外部に排出するための通路である。排出路１３３は、その一端部が気体排出部１１３ｄと連通される。排出路１３３は、その他端部が後述する吸引部材１４１等を介して外部と連通される。排出路１３３の中途部には、排出路１３３を開閉可能な排出側電磁弁１３３ａが設けられる。
【００４７】
案内路１３４は、供給路１３１を流通する空気Ｋを吸引部材１４１に案内するための通路である。案内路１３４は、その一端部が供給路１３１と連通される。案内路１３４は、その他端部が吸引部材１４１と接続される。案内路１３４の中途部には、案内路１３４を開閉可能な案内側電磁弁１３４ａが設けられる。
【００４８】
吸引部材１４１は、ポンプ室１１３から空気Ｋを吸引するための部材である。図３及び図４に示すように、吸引部材１４１は、その軸方向を左上方向に向けた略筒状に形成される。吸引部材１４１は、第一の通路１４１ａ及び第二の通路１４１ｂを具備する。
【００４９】
第一の通路１４１ａは、吸引部材１４１を軸方向（図４では左上方向）に貫通する内部通路である。第一の通路１４１ａは、その一端部が案内路１３４と連通される。第一の通路１４１ａは、その他端部が後述するサイレンサ１４２と接続される。第一の通路１４１ａは、サイレンサ１４２を介して外部と連通する。
【００５０】
第二の通路１４１ｂは、吸引部材１４１の外周面と第一の通路１４１ａの中途部とを連通する通路である。第二の通路１４１ｂは、その一端部（下端部）が排出路１３３と連通される。
【００５１】
このように構成される吸引部材１４１は、案内路１３４から空気Ｋが第一の通路１４１ａに案内されると、当該空気Ｋを第一の通路１４１ａを流通させて外部に排出する。この際、吸引部材１４１は、その内部が負圧となる。これにより、吸引部材１４１は、ポンプ室１１３との気圧差を利用して、ポンプ室１１３の空気Ｋを吸引することができる（図８参照）。
【００５２】
サイレンサ１４２は、空気Ｋを外部に排出する際に生じる音を小さくするためのものである。サイレンサ１４２は、配管１４２ａを介して吸引部材１４１（第一の通路１４１ａの他端部）と連通される。
【００５３】
このように構成される圧力調整部１２０は、供給路１３１を流通する空気Ｋによってポンプ室１１３の気圧を調整することができる。これにより、圧力調整部１２０は、ポンプ室１１３に液体Ｅを導入したり、ポンプ室１１３から液体Ｅを導出できる。なお、圧力調整部１２０の動作については、後で詳述する。
【００５４】
上流側逆止弁１５０は、タンク３０からポンプ装置１００に向かう液体Ｅの流れを許容すると共に、その逆の流れを規制するものである。図３に示すように、上流側逆止弁１５０は、上流側供給路４１の中途部に設けられる。
【００５５】
下流側逆止弁１６０は、ポンプ装置１００から吐出部材２２に向かう液体Ｅの流れを許容すると共に、その逆の流れを規制するものである。下流側逆止弁１６０は、下流側供給路４２の上流側（ポンプ装置１００側）に設けられる。
【００５６】
上側液面センサ１７０は、ポンプ室１１３に導入された液体Ｅの液面Ｅ１（図８参照）が、予め設定される上限位置に到達したことを検知するためのものである。ここで、例えば、ポンプ室１１３に導入される液体Ｅの液面Ｅ１が上昇し過ぎると、気体排出部１１３ｄから液体Ｅが吸引されるという不具合が生じる可能性がある（図１７参照）。そこで、本実施形態では、不具合が生じない範囲で極力高い位置（図８に示すレーザ光Ｌ１の高さ位置）に上限位置を設定している。なお、当該不具合に関しては、後で詳述する。上側液面センサ１７０は、投光部１７１及び受光部１７２を具備する。
【００５７】
投光部１７１は、本体部材１１０の上端部に取り付けられる所定の連結部材を介して本体部材１１０に支持される。投光部１７１は、上限位置と同一の高さに配置される。また、投光部１７１は、本体部材１１０の左方、かつ連通管１１１に対して前後にずれた位置に配置され、右方へ向けてレーザ光Ｌ１を照射可能に構成される。
【００５８】
受光部１７２は、本体部材１１０の上端部に取り付けられる所定の連結部材を介して本体部材１１０に支持される。受光部１７２は、本体部材１１０を挟んで投光部１７１と対向するように配置される。受光部１７２は、投光部１７１からのレーザ光Ｌ１を受光可能に構成される。
【００５９】
このように構成される上側液面センサ１７０は、レーザ光Ｌ１が遮られた（又は受光部１７２で受光される光量が減った）場合に、液面Ｅ１が上限位置に到達したことを検知する。一方、上側液面センサ１７０は、投光部１７１から照射されたレーザ光Ｌ１（図８参照）を受光部１７２で受光した場合に、液面Ｅ１が上限位置に到達していないと判断する。
【００６０】
下側液面センサ１８０は、ポンプ室１１３に導入された液体Ｅの液面Ｅ１が、予め設定される下限位置よりも低くなった（低い位置に到達した）ことを検知するためのものである。ここで、例えば、液面Ｅ１が下降し過ぎると、導出部１１３ｂから空気Ｋが導入されるという不具合が生じる可能性がある（図１８参照）。そこで、本実施形態では、不具合が生じない範囲で極力低い位置（図８に示すレーザ光Ｌ２の高さ位置）に下限位置を設定している。なお、当該不具合に関しては、後で詳述する。下側液面センサ１８０は、投光部１８１及び受光部１８２を具備する。
【００６１】
投光部１８１は、下限位置と同一の高さに配置される点を除いて上側液面センサ１７０の投光部１７１と同様に構成される。受光部１８２は、投光部１８１と対向するように配置される点を除いて上側液面センサ１７０の受光部１７２と同様に構成される。
【００６２】
このように構成される下側液面センサ１８０は、投光部１８１から照射されたレーザ光Ｌ２（図８参照）を受光部１８２で受光した場合に、液面Ｅ１が下限位置よりも低くなったことを検知する。一方、下側液面センサ１８０は、レーザ光Ｌ２が遮られた（又は受光部１８２で受光される光量が減った）場合に、液面Ｅ１が下限位置よりも低くなっていないと判断する。
【００６３】
屋根部材１９０は、本体部材１１０の底面に載置される部材である。屋根部材１９０は、支持部１９１及び規制部１９２を具備する。
【００６４】
図３、図５及び図６に示すように、支持部１９１は、後述する規制部１９２を支持するための部分である。支持部１９１は、本体部材１１０（前記筒状部材）の内径と略同一の外径を有する略円板状に形成される。支持部１９１は、貫通孔１９１ａ及び切欠部１９１ｂを具備する。
【００６５】
貫通孔１９１ａは、支持部１９１を上下に貫通する平面視略円状の孔である。貫通孔１９１ａは、支持部１９１の上面の全域に亘って形成され、下方向に向かうにつれて縮径する。貫通孔１９１ａは、その下端部が導入部１１３ａと連通する。
【００６６】
切欠部１９１ｂは、支持部１９１の左部を切り欠いたような形状に形成される部分である。切欠部１９１ｂは、支持部１９１の上端部から下端部までに亘って形成される。切欠部１９１ｂの内側には、連通管１１１（導出部１１３ｂ）が配置される。
【００６７】
規制部１９２は、略板状に形成される部分である。規制部１９２は、その前端部及び後端部から前後中央部に向かうにつれて上方に凹むような側面視略逆Ｖ字状に形成される。すなわち、規制部１９２は、その向き（略逆Ｖ字状に見える方向）を左右（切欠部１９１ｂが形成される側）に向けて配置される。規制部１９２は、その左前端部、右前端部、左後端部及び右後端部（図６に黒塗りで示す半円Ｐ参照）が貫通孔１９１ａに溶接されることで、支持部１９１に固定される。これにより、規制部１９２は、支持部１９１の中心に配置され、その下面が導入部１１３ａと対向するように配置される。また、規制部１９２は、支持部１９１内に収まる（上方に突出しない）ように配置される。
【００６８】
流量調整部２００は、供給経路４０を流通する液体Ｅの流量を調整する部分である。図１及び図３に示すように、流量調整部２００は、第一の調整弁２０１、第二の調整弁２０２及び第三の調整弁２０３を具備する。
【００６９】
第一の調整弁２０１は、上流側供給路４１の中途部（タンク３０と上流側逆止弁１５０との間）に設けられる。第一の調整弁２０１は、タンク３０からポンプ室１１３に導入される液体Ｅの流量を調整する。第一の調整弁２０１は、例えば、ボール弁等によって構成される。
【００７０】
第二の調整弁２０２は、下流側供給路４２の中途部（下流側逆止弁１６０のすぐ下流側）に設けられる。第二の調整弁２０２は、ポンプ室１１３から導出される液体Ｅの流量を調整する。第二の調整弁２０２は、例えば、ボール弁等によって構成される。
【００７１】
第三の調整弁２０３は、下流側供給路４２の中途部（下流側供給路４２のリターン通路４３との連通部分と吐出部材２２との間）に設けられる。第三の調整弁２０３は、吐出部材２２に供給される液体Ｅの流量を調整する。第三の調整弁２０３は、例えば、ボール弁等によって構成される。
【００７２】
図７に示す制御部２１０は、ポンプ装置１００の動作を制御するためのものである。制御部２１０は、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）及びＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）等を具備する。制御部２１０は、ＲＯＭに記憶された各種制御プログラム及びマップに基づいて、各種の演算処理をＣＰＵで実行可能に構成される。制御部２１０は、例えば、マイコン等によって構成される。
【００７３】
制御部２１０は、導入側電磁弁１３２ａ、排出側電磁弁１３３ａ、案内側電磁弁１３４ａ、上側液面センサ１７０及び下側液面センサ１８０と接続される。制御部２１０は、導入側電磁弁１３２ａ、排出側電磁弁１３３ａ及び案内側電磁弁１３４ａに信号を送信することで、導入路１３２、排出路１３３及び案内路１３４を開閉することができる。また、制御部２１０は、上側液面センサ１７０から信号を受信することで、液面Ｅ１が上限位置に到達したことを確認することができる。また、下側液面センサ１８０から信号を受信することで、液面Ｅ１が下限位置よりも低くなったことを確認することができる。
【００７４】
次に、図８から図１１までを参照してポンプ装置１００の動作について説明する。
【００７５】
なお、ポンプ室１１３は、動作前の状態において、大気圧であるものとする。また、ポンプ室１１３には、下限位置よりもやや高い位置まで液体Ｅが導入されているものとする。また、全ての電磁弁１３２ａ〜１３４ａは、閉じた状態であるものとする。また、図８から図１１まで、並びに後述する図１４、図１７及び図１９においては、気体流通路１３０のうち、空気Ｋが流通する通路を実線で示すと共に、流通しない通路を点線で示している。
【００７６】
まず、図８に示すように、制御部２１０は、排出側電磁弁１３３ａ及び案内側電磁弁１３４ａに信号を送信し、排出路１３３及び案内路１３４を開く。これにより、制御部２１０は、ポンプ室１１３と吸引部材１４１とを連通すると共に、供給路１３１を流通する空気Ｋを吸引部材１４１に導入する。これによって、吸引部材１４１は、その内部が負圧となってポンプ室１１３の空気Ｋを吸引する。こうして、制御部２１０は、ポンプ室１１３の気圧を下げる（減圧する）。
【００７７】
ポンプ室１１３は、その気圧が下げられることで、その気圧がタンク３０及び吐出部材２２の気圧よりも低くなる。また、吐出部材２２からポンプ室１１３への液体Ｅの流通は、下流側逆止弁１６０によって規制されている。従って、気圧が下げられたポンプ室１１３には、上流側供給路４１を通ってタンク３０から液体Ｅが導入される。このとき、液体Ｅは、その流量が第一の調整弁２０１で適宜調整されて、導入部１１３ａからポンプ室１１３に導入される。
【００７８】
制御部２１０は、所定の時間（例えば、５秒程度）だけ、ポンプ室１１３の空気Ｋを吸引する。以下では、このようなポンプ室１１３の空気Ｋを吸引する状態（導入路１３２を閉じると共に排出路１３３及び案内路１３４を開いた状態）を「吸引状態」と称する。また、空気Ｋを吸引する時間を「吸引時間」と称する。
【００７９】
図９に示すように、制御部２１０は、吸引時間が経過すると、排出側電磁弁１３３ａ及び案内側電磁弁１３４ａに信号を送信し、排出路１３３及び案内路１３４を閉じる。すなわち、制御部２１０は、導入路１３２、排出路１３３及び案内路１３４（全ての電磁弁１３２ａ〜１３４ａ）を閉じる。そして、制御部２１０は、所定の時間（例えば、３秒程度）だけ待機する。以下では、このような全ての電磁弁１３２ａ〜１３４ａを閉じた状態を「待機状態」と称する。また、全ての電磁弁１３２ａ〜１３４ａを閉じる時間を「待機時間」と称する。
【００８０】
ポンプ室１１３は、その気圧が下げられているため、吸引状態から待機状態に切り替えられた当初は、タンク３０との気圧差によって液体Ｅが導入されるが、当該液体Ｅの導入により気圧差がなくなる（大気圧に戻る）と、液体Ｅが導入されなくなる。
【００８１】
図１０に示すように、制御部２１０は、待機時間が経過すると、導入側電磁弁１３２ａに信号を送信し、導入路１３２を開く。これにより、制御部２１０は、供給路１３１を流通する空気Ｋをポンプ室１１３に導入する。これによって、制御部２１０は、ポンプ室１１３の気圧を上げる（加圧する）。
【００８２】
本実施形態に係るポンプ装置１００は、水平方向に向けて開口される気体導入部１１３ｃから空気Ｋを導入する。これにより、ポンプ装置１００は、空気Ｋを液面Ｅ１に向けて噴き付けないようにしている（図１０の気体導入部１１３ｃの近傍に示す空気Ｋ参照）。これによれば、ポンプ装置１００は、液体Ｅが飛散するのを抑制しつつ、ポンプ室１１３の気圧を上げることができる。
【００８３】
ポンプ室１１３は、その気圧が上げられることで、その気圧がタンク３０及び吐出部材２２の気圧よりも高くなる。また、ポンプ室１１３からタンク３０への液体Ｅの流通は、上流側逆止弁１５０によって規制されている。従って、液体Ｅは、気圧が上げられたポンプ室１１３から連通管１１１及び下流側供給路４２を通って吐出部材２２に供給される。このとき、液体Ｅは、導出部１１３ｂから導出され、その流量が第二の調整弁２０２で適宜調整されて吐出部材２２に供給される。
【００８４】
制御部２１０は、所定の時間（例えば、７秒程度）だけ、ポンプ室１１３に空気Ｋを導入する。以下では、このようなポンプ室１１３に空気Ｋを導入する状態（導入路１３２だけを開いた状態）を「空気導入状態」と称する。また、空気Ｋを導入する時間を「空気導入時間」と称する。
【００８５】
図１１に示すように、制御部２１０は、空気導入時間が経過すると、導入側電磁弁１３２ａ及び排出側電磁弁１３３ａに信号を送信し、導入路１３２を閉じると共に排出路１３３を開く。すなわち、制御部２１０は、排出路１３３だけを開く。制御部２１０は、所定の時間（例えば、１秒程度）だけ待機する。以下では、このような排出路１３３だけを開いた状態を「開放状態」と称する。また、排出路１３３だけを開く時間を「開放時間」と称する。
【００８６】
ポンプ室１１３は、その気圧が上げられているため、空気導入状態から開放状態に切り替えられると、内部の空気Ｋが排出路１３３から排出される（大気開放される）。これによって、気圧が上げられたポンプ室１１３は、速やかに大気圧に戻される。従って、開放状態中は、ポンプ室１１３から液体Ｅがほとんど導出されない。
【００８７】
以上によって、ポンプ装置１００の一回のサイクルが終了する。ポンプ装置１００は、当該サイクルを繰り返す（図８から図１１までに示す吸引状態、待機状態、空気導入状態及び開放状態の切替を繰り返し行う）ことで、液体Ｅを吐出部材２２に間欠的に供給する。
【００８８】
本実施形態に係るポンプ装置１００は、圧力調整部１２０によってポンプ室１１３の気圧を調整することで、ポンプ室１１３内で所定の部材（例えば、ダイヤフラム等）を動作させることなく、液体Ｅを吐出部材２２に供給することができる。これによれば、液体Ｅを本体部材１１０から導出させるための部材（すなわち、従来のポンプ装置におけるダイヤフラム等が有する役目を果たす部材）が液体Ｅに触れることなく、吐出部材２２に液体Ｅを供給することができる。これにより、液体Ｅ（研磨剤）による部品の劣化や破損を抑制することができるため、メンテナンスの頻度を減らすことができる。
【００８９】
また、圧力調整部１２０は、吸引部材１４１によって空気Ｋ（圧縮エア）を利用してポンプ室１１３の空気Ｋを吸引し、ポンプ室１１３の気圧を下げている。これによれば、案内路１３４から吸引部材１４１に空気Ｋを案内するだけでポンプ室１１３の気圧を簡単に下げることができるため、構成を簡素化することができる。
【００９０】
また、制御部２１０は、吸引部材１４１によって供給路１３１からの空気Ｋを利用してポンプ室１１３の気圧を下げると共に、供給路１３１からの空気Ｋをポンプ室１１３に導入してポンプ室１１３の気圧を上げている。これによれば、供給路１３１からの空気Ｋによって（空気Ｋを圧送する装置だけで）ポンプ室１１３の気圧を調整できるため、空気Ｋを吸引する装置（例えば、真空ポンプ等）が不要となって、構成を簡素化することができる。
【００９１】
また、本実施形態に係るポンプ装置１００は、サイレンサ１４２を具備している。このように構成することにより、空気Ｋを外部に排出するときに発生する音を低減できる。
【００９２】
次に、図１２及び図１３を参照して、研磨加工システム１の動作について説明する。
【００９３】
まず、図１２に示すように、研磨加工システム１は、ポンプ装置１００を動作させる。ポンプ装置１００は、動作されることで上述したサイクルを繰り返し、供給経路４０を介してタンク３０から吐出部材２２に液体Ｅを供給する。本実施形態においては、吐出部材２２に液体Ｅを供給する直前に、第三の調整弁２０３で液体Ｅの流量（吐出部材２２への供給量）を調整している。このため、一部の液体Ｅは、吐出部材２２に供給されずに、リターン通路４３からタンク３０に戻される。一方、図１３に示すように、吐出部材２２に供給された液体Ｅは、ノズル２２ａからシューＳとバフ２１ｃとの間に滴下される。
【００９４】
次に、研磨加工システム１は研磨加工装置２０を動作させる。研磨加工装置２０は、動作されることで、軸部２１ａを回転させながら下方に移動する。これにより、研磨加工装置２０は、バフ２１ｃを回転させながらシューＳの摺動面Ｓ１に接触させる。これによって、研磨加工装置２０は、液体Ｅに含有される研磨剤でシューＳの摺動面Ｓ１を研磨する。
【００９５】
上述の如く、ポンプ装置１００は、液体Ｅを本体部材１１０から導出させるための部材（圧力調整部１２０）が液体Ｅに触れることなく、吐出部材２２に液体Ｅを供給することができる。このため、研磨加工システム１は、液体Ｅによるポンプ装置１００の劣化や破損を抑制することができる。
【００９６】
また、研磨加工システム１は、第三の調整弁２０３によって吐出部材２２に供給される液体Ｅの量を調整している。これによれば、吐出部材２２に少量の液体Ｅを簡単に供給することができる。例えば、ポンプ室１１３の気圧を調整するだけで、ポンプ室１１３から吐出部材２２に少量の液体Ｅを供給しようとすると、ポンプ室１１３の気圧を微調整する必要がある。これに対して、第三の調整弁２０３によれば、ポンプ室１１３の気圧を微調整することなく、ポンプ室１１３から吐出部材２２に少量の液体Ｅを供給できる。
【００９７】
ここで、例えば、図１７に示すように、ポンプ室１１３に液体Ｅが過剰に導入されて液面Ｅ１が気体排出部１１３ｄまで上昇した場合、当該液体Ｅが気体排出部１１３ｄから吸引部材１４１に吸引されてしまう可能性がある。この場合、吸引された液体Ｅは、排出路１３３を通って外部に排出されてしまう。このような場合としては、例えば、吸引時間が長すぎた場合、ポンプ室１１３の気圧を過剰に下げた場合、及び液体Ｅの導入中に停電が発生し、復電後にポンプ装置１００をもう一度動作させる場合等がある。なお、復電後にポンプ装置１００をもう一度動作させる場合には、ポンプ室１１３にある程度液体Ｅが導入された状態で吸引状態となる（液体Ｅが導入される）ため、ポンプ室１１３に液体Ｅが過剰に導入されることとなる。
【００９８】
本実施形態に係るポンプ装置１００は、上側液面センサ１７０によって、液体Ｅが吸引部材１４１に吸引されるのを抑制している。具体的には、図１４に示すように、吸引状態中に液面Ｅ１が上限位置（又は上限位置より高い位置）まで上昇すると、上側液面センサ１７０の投光部１７１からのレーザ光Ｌ１が当該液面Ｅ１によって遮られることとなる。これにより、受光部１７２は、レーザ光Ｌ１を受光できなくなくなる（又は受光した光量が減る）。これによって、上側液面センサ１７０は、上限位置まで液面Ｅ１が上昇したことを検知し、当該検知結果に関する信号を制御部２１０に送信する。
【００９９】
制御部２１０は、上側液面センサ１７０から前記検知結果に関する信号を受信すると、吸引状態から図９に示す待機状態に切り替える。これにより、制御部２１０は、吸引時間が経過する前にポンプ室１１３の空気Ｋの吸引を停止する。これによれば、制御部２１０は、液面Ｅ１が気体排出部１１３ｄまで上昇する前に空気Ｋの吸引を停止できるため、液体Ｅが気体排出部１１３ｄから吸引部材１４１に吸引されるのを抑制できる。
【０１００】
なお、制御部２１０は、待機状態に切り替えた後、通常の動作に戻る。すなわち、制御部２１０は、待機時間が経過すると図１０に示す空気導入状態に切り替えて、液体Ｅをポンプ室１１３から導出する。これによれば、液面Ｅ１が気体排出部１１３ｄまで上昇する前に、液面Ｅ１を下降させることができる。
【０１０１】
また、上側液面センサ１７０は、投光部１７１からレーザ光Ｌ１を照射することで液面Ｅ１の上昇を検知する非接触式のセンサによって構成されている。これによれば、上側液面センサ１７０は、液体Ｅに触れることなく液面Ｅ１の上昇を検知できるため、液体Ｅによる劣化や破損を抑制することができる。
【０１０２】
また、ポンプ装置１００は、決まった時間（吸引時間）だけポンプ室１１３に液体Ｅを導入している。このように構成することにより、ポンプ装置１００は、上側液面センサ１７０の不具合等によって液面Ｅ１の上昇を検知できなかった場合でも、吸引時間が経過すれば液体Ｅの導入を自動的に停止することができる。これにより、ポンプ装置１００は、液体Ｅが気体排出部１１３ｄから排出されるのを抑制することができる。
【０１０３】
また、ポンプ装置１００は、第一の調整弁２０１によって、タンク３０からポンプ室１１３に導入される液体Ｅの量を調整することができる。このため、吸引時間が経過するまでの間、第一の調整弁２０１によってポンプ室１１３に導入される液体Ｅの量を減らせば、液面Ｅ１の上昇を抑制することができる。これにより、吸引部材１４１から液体Ｅが外部に排出されるのを簡単に抑制することができる。
【０１０４】
また、例えば、図１８に示すように、ポンプ室１１３の液体Ｅを過剰に導出して液面Ｅ１が導出部１１３ｂよりも低い位置まで下降した場合、導出部１１３ｂに空気Ｋが巻き込まれる（液体Ｅに空気Ｋが混入する）可能性がある。この場合、吐出部材２２からミスト状の液体Ｅが噴射されてしまう（滴下することができなくなってしまう）可能性がある。このような場合としては、例えば、空気導入時間が長すぎた場合及びポンプ室１１３の気圧を過剰に上げた場合等がある。
【０１０５】
本実施形態に係るポンプ装置１００は、下側液面センサ１８０によって、液体Ｅに空気Ｋが混入するのを抑制している。具体的には、図１５に示すように、空気導入状態中に液面Ｅ１が下限位置よりも低くなると、下側液面センサ１８０の投光部１８１からのレーザ光Ｌ２が当該液面Ｅ１によって遮られなくなる。これにより、受光部１８２は、レーザ光Ｌ２を受光する。これによって、下側液面センサ１８０は、液面Ｅ１が下限位置よりも低くなったことを検知し、当該検知結果に関する信号を制御部２１０に送信する。
【０１０６】
制御部２１０は、下側液面センサ１８０から検知結果に関する信号を受信すると、空気導入状態から図１１に示す開放状態に切り替える。これにより、制御部２１０は、空気導入時間が経過する前にポンプ室１１３への空気Ｋの導入を停止する。これによれば、制御部２１０は、液面Ｅ１が導出部１１３ｂよりも低い位置まで下降する前に空気Ｋの導入を停止できるため、液体Ｅに空気Ｋが混入するのを抑制できる。
【０１０７】
また、本実施形態に係る制御部２１０は、液面Ｅ１が下限位置よりも低くなった際に、開放状態に切り替えてポンプ室１１３を大気開放している。これによれば、気体排出部１１３ｄから空気Ｋを排出して気圧を下げることができるため、導出部１１３ｂから液体Ｅが導出され難くすることができる。これによって、液体Ｅに空気Ｋが混入するのを効果的に抑制できる。
【０１０８】
なお、制御部２１０は、開放状態に切り替えた後、通常の動作に戻る。すなわち、制御部２１０は、開放時間が経過すると図８に示す吸引状態に切り替えて、液体Ｅをポンプ室１１３に導入する。これによれば、液面Ｅ１が導出部１１３ｂよりも低い位置まで下降する前に、液面Ｅ１を上昇させることができる。
【０１０９】
また、下側液面センサ１８０は、投光部１８１からレーザ光Ｌ２を照射することで液面Ｅ１の下降を検知する非接触式のセンサによって構成されている。これによれば、下側液面センサ１８０は、液体Ｅに触れることなく液面Ｅ１の下降を検知できるため、液体Ｅによる劣化や破損を抑制することができる。
【０１１０】
また、ポンプ装置１００は、決まった時間（空気導入時間）だけポンプ室１１３に空気Ｋを導入している。このように構成することにより、ポンプ装置１００は、下側液面センサ１８０の不具合等によって液面Ｅ１の下降を検知できなかった場合でも、空気導入時間が経過すれば空気Ｋの導入を自動的に停止することができる。これにより、ポンプ装置１００は、液体Ｅに空気Ｋが混入するのを抑制することができる。
【０１１１】
また、ポンプ装置１００は、第二の調整弁２０２によって、ポンプ室１１３から導出される液体Ｅの量を調整することができる。このため、空気導入時間が経過するまでの間、第二の調整弁２０２によってポンプ室１１３から導出される液体Ｅの量を減らせば、液面Ｅ１の下降を抑制することができる。これにより、液体Ｅに空気Ｋが混入するのを簡単に抑制することができる。
【０１１２】
また、ポンプ装置１００は、第一の調整弁２０１によって、ポンプ室１１３に導入される液体Ｅの量を増やせば、開放状態から吸引状態に切り替えたときに液体Ｅをより多く導入して液面Ｅ１を上昇させることができる。これにより、ポンプ装置１００は、気体導入状態に切り替えたとき（液体Ｅを導出するとき）に、液面Ｅ１が下限位置よりも低くなり難くすることができる。
【０１１３】
ここで、圧力調整部１２０は、ポンプ室１１３とタンク３０との気圧差を利用してポンプ室１１３に液体Ｅを導入するため、当該液体Ｅは、導入部１１３ａから勢い良く上方に噴出することとなる（図１９参照）。
【０１１４】
そこで、本実施形態に係るポンプ装置１００は、屋根部材１９０によって、液体Ｅの噴出を規制している。前述の如く、屋根部材１９０の規制部１９２は、導入部１１３ａと対向するように配置されている。このため、図１６に示すように、導入部１１３ａから噴出した液体Ｅは、規制部１９２の下面（導入部１１３ａとの対向面）に衝突して下方に流れる（図１６に示す液体Ｅ１１・Ｅ１２参照）。これにより、屋根部材１９０は、液体Ｅの噴出を規制することができる。これによれば、噴出した液体Ｅに起因する上側液面センサ１７０及び下側液面センサ１８０の誤検知の発生を抑制できる。
【０１１５】
具体的には、図１９に示すように、屋根部材１９０が設けられていない場合、液体Ｅは、上限位置まで噴出してしまう可能性がある。この場合、当該液体Ｅが投光部１７１からのレーザ光Ｌ１を遮ってしまう可能性がある。この場合、上限位置まで液面Ｅ１が上昇していないにも関わらず、上側液面センサ１７０が上限位置まで液面Ｅ１が上昇したことを検知、すなわち誤検知してしまう可能性がある。また、下限位置においても、これと同様に、噴出した液体Ｅが投光部１８１からのレーザ光Ｌ２を遮ってしまい、下側液面センサ１８０が誤検知してしまう可能性がある。
【０１１６】
図１６に示すように、本実施形態に係るポンプ装置１００は、屋根部材１９０によって液体Ｅの噴出を規制できるため、噴出した液体Ｅがレーザ光Ｌ１・Ｌ２を遮ってしまうのを抑制できる。このため、上側液面センサ１７０及び下側液面センサ１８０の誤検知の発生を抑制できる。
【０１１７】
また、前述の如く、ポンプ装置１００は、気体導入部１１３ｃによって空気Ｋを液面Ｅ１に噴き付けないようにして、液体Ｅが飛散するのを抑制している。これによれば、ポンプ装置１００は、空気Ｋによって飛散した液体Ｅがレーザ光Ｌ１・Ｌ２を遮ってしまうのを抑制できるため、上側液面センサ１７０及び下側液面センサ１８０の誤検知の発生を抑制できる。
【０１１８】
また、屋根部材１９０の規制部１９２は、その前端部及び後端部が前後中央部に向かうにつれて上方に凹んでいる。これにより、規制部１９２は、噴出した液体Ｅを下方へと流す（落下させる）ことができる（図１６に示す液体Ｅ１２参照）。これによれば、液体Ｅの流れを乱して攪拌を促すことができる（図１６に示す液体Ｅ１４参照）。これによって、規制部１９２は、タンク３０にあるような攪拌用の羽根３１を用いることなく、ポンプ室１１３で液体Ｅを攪拌する（研磨剤の沈殿を抑制する）ことができる。このため、ポンプ装置１００は、ポンプ室１１３で液体Ｅを攪拌するための部材が不要となって、コストを低減することができる。
【０１１９】
また、支持部１９１は、下方に向かうにつれて縮径する貫通孔１９１ａを具備している。これにより、支持部１９１は、規制部１９２から下方へと流れた液体Ｅを貫通孔１９１ａの形状に沿って径方向に広がるように流すことができる（図１６に示す液体Ｅ１３参照）。当該液体Ｅは、支持部１９１と規制部１９２との間を通って規制部１９２の側方に流れる。これによれば、支持部１９１は、液体Ｅの流れを乱して攪拌を促すことができる（図１６に示す液体Ｅ１４参照）。
【０１２０】
また、連通管１１１（導出部１１３ｂ）は、屋根部材１９０の切欠部１９１ｂに配置されている。これによれば、導出部１１３ｂをポンプ室１１３の底面近傍に配置することができる。このため、液体Ｅに空気Ｋが混入され難くすることができる。
【０１２１】
前述の如く、規制部１９２は、その左前端部等（図６（ａ）に黒塗りで示す半円Ｐ）が貫通孔１９１ａに溶接されて固定されている。このため、規制部１９２は、その前端部における左右中途部と貫通孔１９１ａとの間、並びにその後端部における左右中途部と貫通孔１９１ａとの間に隙間が形成されている。屋根部材１９０は、当該隙間からも液体Ｅを規制部１９２の側方に流すことができる。これによれば、液体Ｅの流れを乱して攪拌を効果的に促すことができる。
【０１２２】
また、規制部１９２は、その向きを左右（切欠部１９１ｂが形成される側）に向けて配置されている。これによれば、規制部１９２は、その下面に衝突した液体Ｅを切欠部１９１ｂにも流し易くすることができる。これによれば、液体Ｅの流れを乱して攪拌を効果的に促すことができる。
【０１２３】
以上の如く、本実施形態に係るポンプ装置１００は、液体Ｅを貯溜可能であり、外部から液体Ｅが供給される導入部１１３ａ、及び液体Ｅを外部へと供給する導出部１１３ｂを有するポンプ室１１３と、前記ポンプ室１１３の気圧を下げることで、前記導入部１１３ａを介して外部から前記ポンプ室１１３へと液体Ｅを供給可能であり、かつ前記ポンプ室１１３の気圧を上げることで、前記導出部１１３ｂを介して前記ポンプ室１１３から外部へと液体Ｅを供給可能な圧力調整部１２０と、を具備するものである。
【０１２４】
このように構成することにより、液体Ｅに触れることなく、当該液体Ｅを外部へと供給することができるため、液体Ｅによる部品の劣化や破損を抑制することができる。
【０１２５】
また、前記圧力調整部１２０は、前記ポンプ室１１３から空気Ｋ（気体）を排出することで、前記ポンプ室１１３の気圧を下げる減圧部を具備するものである。
【０１２６】
このように構成することにより、ポンプ室１１３の気圧を下げる際に、部品を液体Ｅに触れ難くすることができる。このため、液体Ｅによる部品の劣化を抑制することができる。
【０１２７】
また、前記減圧部は、圧送される空気Ｋを案内する案内路１３４と、前記ポンプ室１１３に連通され、前記ポンプ室１１３からの空気Ｋを案内する排出路１３３と、前記案内路１３４と前記排出路１３３とを接続し、前記案内路１３４からの空気Ｋの流通に伴って前記排出路１３３からの空気Ｋを吸引する吸引部材１４１（吸引部）と、を具備するものである。
【０１２８】
このように構成することにより、空気Ｋを吸引部材１４１に案内すれば簡単にポンプ室１１３の気圧を下げることができる。これによって、簡素な構成で、ポンプ室１１３の気圧を下げることができる。
【０１２９】
また、前記圧力調整部１２０は、前記ポンプ室１１３に空気Ｋを供給することで、前記ポンプ室１１３の気圧を上げる昇圧部を具備するものである。
【０１３０】
このように構成することにより、ポンプ室１１３の気圧を上げる際に、部品を液体Ｅに触れ難くすることができる。このため、液体Ｅによる部品の劣化を抑制することができる。
【０１３１】
また、前記昇圧部は、圧送される空気Ｋを前記ポンプ室１１３へと導入する導入路１３２を具備するものである。
【０１３２】
このように構成することにより、導入路１３２から空気Ｋをポンプ室１１３に導入できるため、簡素な構成で、ポンプ室１１３の気圧を上げることができる。
【０１３３】
また、前記圧力調整部１２０は、空気Ｋを案内する案内路１３４と、前記ポンプ室１１３に連通され、前記ポンプ室１１３からの空気Ｋを案内する排出路１３３と、前記案内路１３４と前記排出路１３３とを接続し、前記案内路１３４からの空気Ｋの流通に伴って前記排出路１３３からの空気Ｋを吸引する吸引部材１４１（吸引部）と、空気Ｋを前記ポンプ室１１３へと導入する導入路１３２と、圧送された空気Ｋを前記案内路１３４及び前記導入路１３２へと供給する供給路１３１と、空気Ｋが前記案内路１３４を流通可能かつ前記導入路１３２を流通不能な吸引状態（第一の状態）、又は空気Ｋが前記案内路１３４を流通不能かつ前記導入路１３２を流通可能な空気導入状態（第二の状態）に切り替え可能な導入側電磁弁１３２ａ、排出側電磁弁１３３ａ及び案内側電磁弁１３４ａ（切替部）と、を具備するものである。
【０１３４】
このように構成することにより、共通の流路（供給路１３１）からの空気Ｋを用いて、ポンプ室１１３の気圧を調整することができる。具体的には、圧力調整部１２０は、図８に示す吸引状態に切り替えることで、空気Ｋによってポンプ室１１３の気圧を下げることができる。また、圧力調整部１２０は、図１０に示す空気導入状態に切り替えることで、空気Ｋによってポンプ室１１３の気圧を上げることができる。これによれば、空気Ｋを圧送する経路を切り替えるだけでポンプ室１１３の気圧を調整できるため、簡素な構成でポンプ室１１３の気圧を調整することができる。
【０１３５】
また、研磨剤を含有する液体Ｅを貯溜するタンク３０（液体貯溜部）と、前記研磨剤を含有する液体Ｅを用いてシューＳ（加工対象物）に研磨加工を施す研磨加工装置２０と、前記タンク３０に貯溜された前記研磨剤を含有する液体Ｅを前記研磨加工装置２０へと供給する前記ポンプ装置１００と、を具備するものである。
【０１３６】
このように構成することにより、液体Ｅによるポンプ装置１００の劣化や破損を抑制することができる。
【０１３７】
なお、本実施形態に係る空気Ｋは、本発明に係る気体の実施の一形態である。
また、本実施形態に係る吸引部材１４１は、本発明に係る吸引部の実施の一形態である。
また、本実施形態に係る導入側電磁弁１３２ａ、排出側電磁弁１３３ａ及び案内側電磁弁１３４ａは、本発明に係る切替部の実施の一形態である。
また、本実施形態に係る吸引状態は、本発明に係る第一の状態の実施の一形態である。
また、本実施形態に係る空気導入状態は、本発明に係る第二の状態の実施の一形態である。
また、本実施形態に係るタンク３０は、本発明に係る液体貯溜部の実施の一形態である。
また、本実施形態に係るシューＳは、本発明に係る加工対象物の実施の一形態である。
【０１３８】
また、以上の如く、本実施形態に係るポンプ装置１００は、液体Ｅを貯溜可能であり、外部から液体Ｅが供給される導入部１１３ａ、及び液体Ｅを外部へと供給する導出部１１３ｂを有するポンプ室１１３と、前記ポンプ室１１３の気圧を下げることで、前記導入部１１３ａを介して外部から前記ポンプ室１１３へと液体Ｅを供給可能であり、かつ前記ポンプ室１１３の気圧を上げることで、前記導出部１１３ｂを介して前記ポンプ室１１３から外部へと液体Ｅを供給可能な圧力調整部１２０と、前記ポンプ室１１３に貯溜された液体Ｅの液面Ｅ１が、所定の上限位置より高い位置まで到達したことを検知する上側液面センサ１７０（上限検知部）と、を具備するものである。
【０１３９】
このように構成することにより、液体Ｅに触れることなく、当該液体Ｅを外部へと供給することができるため、液体Ｅによる部品の劣化や破損を抑制することができる。また、上側液面センサ１７０によって、ポンプ室１１３の液面Ｅ１の上限位置を管理することができる。
【０１４０】
また、前記圧力調整部１２０は、前記ポンプ室１１３に形成された気体排出部１１３ｄから空気Ｋを排出することで、前記ポンプ室１１３の気圧を下げることが可能であり、前記上限位置は、前記気体排出部１１３ｄよりも低い位置に設定されるものである。
【０１４１】
このように構成することにより、液面Ｅ１が上昇して気体排出部１１３ｄに到達する前に、当該液面Ｅ１を検知することができる。
【０１４２】
また、前記圧力調整部１２０は、前記上側液面センサ１７０によって前記液面Ｅ１が前記上限位置より高い位置まで到達したことが検知された場合、前記気体排出部１１３ｄからの空気Ｋの排出を停止するものである。
【０１４３】
このように構成することにより、液面Ｅ１が気体排出部１１３ｄまで上昇する前に空気Ｋの排出、すなわちポンプ室１１３への液体Ｅの導入動作を停止することができる。このため、液体Ｅが気体排出部１１３ｄから排出されるのを防止することができる。
【０１４４】
また、前記圧力調整部１２０は、前記上側液面センサ１７０によって前記液面Ｅ１が前記上限位置より高い位置まで到達したことが検知された場合、前記気体排出部１１３ｄからの空気Ｋの排出を停止した後、前記ポンプ室１１３の気圧を上げるものである。
【０１４５】
このように構成することにより、液面Ｅ１が気体排出部１１３ｄまで上昇する前に、ポンプ室１１３の気圧を上げる、すなわちポンプ室１１３から液体Ｅを導出することができる。これによって、液面Ｅ１を下降させることができるため、液体Ｅが気体排出部１１３ｄから排出されるのを防止することができる。
【０１４６】
また、前記上側液面センサ１７０は、非接触式のセンサによって構成されるものである。
【０１４７】
このように構成することにより、液体Ｅに触れることなく液面Ｅ１が上限位置より高い位置まで到達したことを検知できるため、液体Ｅによる上側液面センサ１７０の劣化を抑制することができる。
【０１４８】
なお、本実施形態に係る上側液面センサ１７０は、本発明に係る上限検知部の実施の一形態である。
【０１４９】
また、以上の如く、本実施形態に係るポンプ装置１００は、液体Ｅを貯溜可能であり、外部から液体Ｅが供給される導入部１１３ａ、及び液体Ｅを外部へと供給する導出部１１３ｂを有するポンプ室１１３と、前記ポンプ室１１３の気圧を下げることで、前記導入部１１３ａを介して外部から前記ポンプ室１１３へと液体Ｅを供給可能であり、かつ前記ポンプ室１１３の気圧を上げることで、前記導出部１１３ｂを介して前記ポンプ室１１３から外部へと液体Ｅを供給可能な圧力調整部１２０と、前記ポンプ室１１３に貯溜された液体Ｅの液面Ｅ１が、所定の下限位置より低い位置まで到達したことを検知する下側液面センサ１８０（下限検知部）と、を具備するものである。
【０１５０】
このように構成することにより、液体Ｅに触れることなく、当該液体Ｅを外部へと供給することができるため、液体Ｅによる部品の劣化や破損を抑制することができる。また、ポンプ室１１３の液面Ｅ１の下限位置を管理することができる。
【０１５１】
また、前記下限位置は、前記導出部１１３ｂよりも高い位置に設定されるものである。
【０１５２】
このように構成することにより、液面Ｅ１が下降して導出部１１３ｂに到達する前に、当該液面Ｅ１を検知することができる。
【０１５３】
また、前記圧力調整部１２０は、前記下側液面センサ１８０によって前記液面Ｅ１が前記下限位置より低い位置まで到達したことが検知された場合、前記導出部１１３ｂを介する外部への液体Ｅの供給を停止するものである。
【０１５４】
このように構成することにより、液面Ｅ１が導出部１１３ｂまで下降する前にポンプ室１１３からの液体Ｅの導出を停止することができる。このため、導出部１１３ｂから供給される液体Ｅに空気Ｋが混入するのを防止することができる。
【０１５５】
また、前記圧力調整部１２０は、前記下側液面センサ１８０によって前記液面Ｅ１が前記下限位置より低い位置まで到達したことが検知された場合、前記導出部１１３ｂを介する外部への液体Ｅの供給を停止した後、前記ポンプ室１１３の気圧を下げるものである。
【０１５６】
このように構成することにより、液面Ｅ１が導出部１１３ｂまで下降する前に、ポンプ室１１３の気圧を下げる、すなわちポンプ室１１３に液体Ｅを導入することができる。これによって、液面Ｅ１を上昇させることができるため、導出部１１３ｂから供給される液体Ｅに空気Ｋが混入するのを防止することができる。
【０１５７】
また、前記下側液面センサ１８０は、非接触式のセンサによって構成されるものである。
【０１５８】
このように構成することにより、液体Ｅに触れることなく液面Ｅ１が下限位置より低い位置まで到達したことを検知できるため、液体Ｅによる下側液面センサ１８０の劣化を抑制することができる。
【０１５９】
なお、本実施形態に係る下側液面センサ１８０は、本発明に係る下限検知部の実施の一形態である。
【０１６０】
また、以上の如く、本実施形態に係るポンプ装置１００は、液体Ｅを貯溜可能であり、外部から液体Ｅが供給される導入部１１３ａ、及び液体Ｅを外部へと供給する導出部１１３ｂを有するポンプ室１１３と、前記ポンプ室１１３の気圧を下げることで、前記導入部１１３ａを介して外部から前記ポンプ室１１３へと液体Ｅを供給可能であり、かつ前記ポンプ室１１３の気圧を上げることで、前記導出部１１３ｂを介して前記ポンプ室１１３から外部へと液体Ｅを供給可能な圧力調整部１２０と、前記ポンプ室１１３の内部において、前記導入部１１３ａと対向するように配置される規制部１９２と、を具備するものである。
【０１６１】
このように構成することにより、液体Ｅに触れることなく、当該液体Ｅを外部へと供給することができるため、液体Ｅによる部品の劣化や破損を抑制することができる。また、導入部１１３ａからポンプ室１１３内へと供給される液体Ｅが噴出するのを抑制することができる。
【０１６２】
また、前記導入部１１３ａは、前記ポンプ室１１３の底部において上方に向けて開口されているものである。
【０１６３】
このように構成することにより、導入部１１３ａからポンプ室１１３内へと供給される液体Ｅが上方に向かって噴出するのを抑制することができる。
【０１６４】
また、前記ポンプ室１１３に貯溜された液体Ｅの液面Ｅ１の位置を検知する上側液面センサ１７０及び下側液面センサ１８０（液面検知部）をさらに具備するものである。
【０１６５】
このように構成することにより、噴出した液体Ｅを上側液面センサ１７０及び下側液面センサ１８０が検知するのを抑制できるため、液面Ｅ１の位置の誤検知を抑制することができる。
【０１６６】
また、前記規制部１９２は、下面（前記導入部１１３ａと対向する側の面）が、上方に向かって凹むように形成されているものである。
【０１６７】
このように構成することにより、規制部１９２の下面に沿って液体Ｅを落とすことができるため、導入部１１３ａから供給される液体Ｅの流れを乱して、攪拌を促すことができる。
【０１６８】
また、前記導入部１１３ａに向かって縮径する貫通孔１９１ａを有する支持部１９１をさらに具備し、前記規制部１９２は、前記貫通孔１９１ａの内側面に固定されるものである。
【０１６９】
このように構成することにより、規制部１９２と衝突した液体Ｅを径方向に広がるように流すことができるため、導入部１１３ａから供給される液体Ｅの流れを乱して、攪拌を促すことができる。また、支持部１９１によって規制部１９２をポンプ室１１３に直接取り付ける必要がなくなるため、規制部１９２をポンプ室１１３の内部に簡単に配置することができる。
【０１７０】
また、前記支持部１９１は、当該支持部１９１を上下に亘って切り欠く切欠部１９１ｂを有し、前記導出部１１３ｂは、前記切欠部１９１ｂに位置するように配置されるものである。
【０１７１】
このように構成することにより、導出部１１３ｂをポンプ室１１３の底面に近付けることができるため、液面Ｅ１が導出部１１３ｂよりも低い位置まで下降し難くすることができる。これにより、導出部１１３ｂから液体Ｅを供給し易くすることができる。
【０１７２】
なお、本実施形態に係る上側液面センサ１７０及び下側液面センサ１８０は、本発明に係る液面検知部の実施の一形態である。
【０１７３】
以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明は上記構成に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種々の変更が可能である。
【０１７４】
例えば、ポンプ装置１００は、研磨加工装置２０（吐出部材２２）に液体Ｅを供給するものとしたが、液体Ｅを供給する対象は、研磨加工装置２０に限定されるものではなく、種々の装置に液体Ｅを供給することができる。
【０１７５】
また、ポンプ装置１００は、研磨剤を含有する液体Ｅを供給するものとしたが、液体Ｅの種類は、これに限定されるものではなく、例えば、研磨剤を含有していない液体等であってもよい。
【０１７６】
また、圧力調整部１２０は、ポンプ室１１３に空気Ｋを導入するものとしたが、これに限定されるものではなく、種々の気体を導入することができる。圧力調整部１２０は、例えば、ポンプ室１１３に不活性ガスを導入することで、液体Ｅの劣化の進行を抑制することができる。
【０１７７】
また、圧力調整部１２０は、ポンプ室１１３の気圧を下げることで液体Ｅをポンプ室１１３に導入するものとしたが、液体Ｅをポンプ室１１３に導入する手法は、これに限定されるものではない。圧力調整部１２０は、例えば、タンク３０の気圧を上げることで液体Ｅをポンプ室１１３に導入してもよい。
【０１７８】
また、圧力調整部１２０は、吸引部材１４１によって空気Ｋ（圧縮エア）を利用してポンプ室１１３の空気Ｋを排出したが、ポンプ室１１３の空気Ｋを排出する手法は、これに限定されるものではない。圧力調整部１２０は、例えば、真空ポンプによってポンプ室１１３の空気Ｋを排出してもよい。
【０１７９】
また、ポンプ装置１００は、吸引状態から待機状態に切り替えるものとしたが、吸引状態後の状態は、待機状態に限定されるものではない。ポンプ装置１００は、例えば、吸引状態から空気導入状態に切り替えてもよい。
【０１８０】
また、圧力調整部１２０は、ポンプ室１１３の気圧を上げることで液体Ｅをポンプ室１１３から導出するものとしたが、液体Ｅをポンプ室１１３から導出する手法は、これに限定されるものではない。圧力調整部１２０は、例えば、吐出部材２２の気圧を下げることで液体Ｅをポンプ室１１３から導出してもよい。
【０１８１】
また、ポンプ装置１００は、空気導入状態から開放状態に切り替えるものとしたが、空気導入状態後の状態は、開放状態に限定されるものではない。ポンプ装置１００は、例えば、空気導入状態から吸引状態に切り替えてもよい。
【０１８２】
また、上側液面センサ１７０及び下側液面センサ１８０は、レーザ式のセンサによって構成されるものとしたが、これに限定されるものではなく、例えば、赤外線式のセンサ等、種々のセンサを用いることができる。また、上側液面センサ１７０及び下側液面センサ１８０は、互いに異なる種類のセンサによって構成されていてもよい。また、上側液面センサ１７０及び下側液面センサ１８０は、液面Ｅ１を測定する一つのセンサ（例えば、超音波式の液面計等）によって構成されていてもよい。これによれば、上側液面センサ１７０及び下側液面センサ１８０を一つのセンサで構成できるため、部品点数を減らして構成を簡素化することができる。
【０１８３】
また、規制部１９２は、支持部１９１に固定されるものとしたが、規制部１９２が固定される対象は、支持部１９１に限定されるものではなく、例えば、ポンプ室１１３（本体部材１１０）等であってもよい。
【０１８４】
また、支持部１９１の形状は、本実施形態に限定されるものではなく、例えば、直方体状等であってもよい。
【０１８５】
また、支持部１９１の切欠部１９１ｂの形状は、本実施形態に限定されるものではなく、例えば、支持部１９１の上面を凹ませることで形成される（上下に亘って形成されていない）ものであってもよい。
【０１８６】
また、規制部１９２の形状は、本実施形態に限定されるものではなく、例えば、円錐状等であってもよい。
【符号の説明】
【０１８７】
１００    ポンプ装置
１１３    ポンプ室
１１３ａ  導入部
１１３ｂ  導出部
１２０    圧力調整部
１７０    上側液面センサ
１８０    下側液面センサ（下限検知部）
１９２    規制部
Ｅ        液体
Ｅ１      液面
Ｋ        空気
【図１】
2018066281.tif 000003
【図２】
2018066281.tif 000004
【図３】
2018066281.tif 000005
【図４】
2018066281.tif 000006
【図５】
2018066281.tif 000007
【図６】
2018066281.tif 000008
【図７】
2018066281.tif 000009
【図８】
2018066281.tif 000010
【図９】
2018066281.tif 000011
【図１０】
2018066281.tif 000012
【図１１】
2018066281.tif 000013
【図１２】
2018066281.tif 000014
【図１３】
2018066281.tif 000015
【図１４】
2018066281.tif 000016
【図１５】
2018066281.tif 000017
【図１６】
2018066281.tif 000018
【図１７】
2018066281.tif 000019
【図１８】
2018066281.tif 000020
【図１９】
2018066281.tif 000021