(57)【要約】【課題】洗浄性及び液切れ性に優れるスクリーン版用の洗浄剤組成物の提供。【解決手段】本開示は、一態様において、２５℃の水１００ｇに対する溶解度が１０ｇ未満であるアミン（成分Ａ）又はその塩、２５℃の水１００ｇに対する溶解度が０．０２ｇ以上１０ｇ未満である溶剤（成分Ｂ）、及び水を含み、前記成分Ａが、炭素数が６以上２６以下の、１級アミン、２級アミン及び３級アミンから選ばれる少なくとも１種である、スクリーン版用洗浄剤組成物に関する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
２５℃の水１００ｇに対する溶解度が１０ｇ未満であるアミン（成分Ａ）又はその塩、２５℃の水１００ｇに対する溶解度が０．０２ｇ以上１０ｇ未満である溶剤（成分Ｂ）、及び水を含み、
前記成分Ａが、炭素数が６以上２６以下の、１級アミン、２級アミン及び３級アミンから選ばれる少なくとも１種である、スクリーン版用洗浄剤組成物。
【請求項２】
ｐＨが５以上１２以下である、請求項１記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
【請求項３】
成分Ａが、下記式（Ｉ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種である、請求項１又は２に記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
【化１】
2018021093.tif 000005
上記式（Ｉ）において、Ｒ1は、炭素数５以上１８以下の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、及び炭素数５以上１８以下の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基から選ばれる少なくとも１種を示し、Ｒ2及びＲ3は同一又は異なり、炭素数１以上５以下の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、及び水素原子から選ばれる少なくとも１種を示し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の合計炭素数が６以上２６以下である。
【請求項４】
成分Ａの塩が、前記式（Ｉ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物と、カルボキシ基、スルホン酸基、硫酸基及びリン酸基を１〜３個有する炭素数２以上１２以下の化合物並びにギ酸から選ばれる少なくとも１種の化合物との塩である、請求項３に記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
【請求項５】
成分Ｂが、下記式（ＩＩ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物である、請求項１から４のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
Ｒ4Ｏ−（ＥＯ）m（ＰＯ）n−Ｈ      （ＩＩ）
上記式（ＩＩ）において、Ｒ4は、炭素数３以上１２以下の炭化水素基を示し、ＥＯはエチレンオキシド基を示し、ｍはＥＯの付加モル数であって０以上５以下の数であり、ＰＯはプロピレンオキシド基を示し、ｎはＰＯの付加モル数であって０以上２以下の数であり、ｍ＋ｎ≧１であり、ＥＯとＰＯの付加形態はブロックでもランダムでもよく、ＥＯとＰＯの付加順序は問わない。
【請求項６】
カルボキシ基、スルホン酸基、硫酸基及びリン酸基を１〜３個有する炭素数２以上１２以下の化合物並びにギ酸から選ばれる少なくとも１種の酸（成分Ｃ）をさらに含む、請求項１から５のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
【請求項７】
請求項１から６のいずれかに記載の洗浄剤組成物を用いて被洗浄物を洗浄する工程を含み、
前記被洗浄物は、スクリーン印刷後のスクリーン版である、スクリーン版の洗浄方法。
【請求項８】
前記洗浄後のスクリーン版を濯がずに乾燥する工程を含む、請求項７に記載のスクリーン版の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、スクリーン版用洗浄剤組成物及びスクリーン版の洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリント基板やセラミック基板等に電子部品を実装する際、一般に半田付けが行われる。通常、半田付けには、半田及び母材表面の酸化膜を除去する、あるいは半田及び母材表面の再酸化を防止し、十分な半田接続を得る目的でフラックスが使用される。しかし、フラックスは腐食性であり、フラックス残渣はプリント配線基板の品質を低下させることから、フラックス残渣を洗浄除去するための各種洗浄剤組成物が提案されている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、フラックス残渣や金属加工油等の種々の汚染物を洗浄するための、特定の水溶性グリコールエーテル７５〜９４．９９重量％、１７０〜２７０℃の沸点を有する有機アミン類０．０１〜５重量％、水５〜２０重量％より構成し、実質的に他成分を含まない工業用洗浄剤組成物が開示されている。
【０００４】
特許文献２には、プリント基板製造時における任意の工程で基板上に残留するフラックス及び再融解液を洗浄するための、グリコール系溶剤、アミン類及び／または界面活性剤からなる洗浄剤組成物が開示されている。
【０００５】
近年、低消費電力、高速処理といった観点から、電子部品が小型化しており、それに伴い配線パターンが微細化している。微細な配線形成には、スクリーン版を用いたスクリーン印刷が主に行われている。しかし、スクリーン版の繰り返し使用によるフラックスや半田ペースト等の各種ペーストのスクリーン版表面への付着が配線不良等の製品不良へつながり、今後大きな問題になることが懸念されている。しかし、従来の洗浄剤組成物では、スクリーン版に付着したフラックスや半田ペースト等の汚染物に対する洗浄性が十分ではなかった。さらに、フロン規制以前から使用されている洗浄装置が未だに多く使用されてきており、洗浄剤として脱フロン化したものの、洗浄装置の構成及び構造上、洗浄後に濯ぎを行わずそのまま乾燥させてスクリーン版を使用することから、高い生産性を得るためには、洗浄剤には素早い乾燥性や液切れ性が求められる。さらに、引火性を有するような有機溶剤を使用する場合、厳重な設備を設けて防爆仕様にする必要があり、引火性を有せず、すなわち高沸点かつ低揮発性の水を含有しつつ、素早い乾燥性、液切れ性及び微細配線に対応できる高い洗浄性を有する洗浄剤が求められている。
【０００６】
例えば、特許文献３には、一定の沸点を持ち、水溶性である１種または２種以上のグリコールエーテル系化合物２５〜４５重量％、一定の沸点と一定量の水溶性を持つ１種または２種以上のグリコールエーテル系化合物５〜２５重量％、アミン系化合物０．００５〜１．０重量％及び水（残量）を含有するメタルマスク用洗浄剤が開示されている。
【０００７】
特許文献４には、有機ＥＬ材料が付着した被洗浄物を洗浄するための洗浄剤であって、プロピルプロピレンジグリコールのような特定のプロピレングリコール５〜８０質量％及びＮ−メチル−２−ピロリドンのような特定のピロリドン類２０〜９５質量％からなる組成物を含有してなる洗浄剤が開示されている。
【０００８】
特許文献５には、低沸点の親水性グリコールエーテルモノアルキルエーテル、高沸点の親水性グリコールエーテルモノアルキルエーテル及び水を含有するスクリーン版洗浄用組成物が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開平９−８７６６８号公報
【特許文献２】特開平５−１２５３９５号公報
【特許文献３】特開平９−５９６８８号公報
【特許文献４】特開２００６−２６５３００号公報
【特許文献５】特開２０００−２６７２９３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
スクリーン版の配線パターンの微細化に伴い、スクリーン版の繰り返し使用によるフラックスや半田ペースト等の各種ペーストのスクリーン版表面への残留に起因する製品欠陥を防ぐため、洗浄剤にはより高い洗浄性が求められている。さらに、高い生産性を得るためには、洗浄後に素早く乾燥できることが好ましく、洗浄剤には素早い液切れ性が求められる。しかし、前記特許文献に記載の方法では、高い洗浄性と素早い液切れ性とを両立できるものがなかった。
【００１１】
そこで、本開示は、洗浄性及び液切れ性に優れるスクリーン版用の洗浄剤組成物及び洗浄方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本開示は、一態様において、２５℃の水１００ｇに対する溶解度が１０ｇ未満であるアミン（成分Ａ）又はその塩、２５℃の水１００ｇに対する溶解度が０．０２ｇ以上１０ｇ未満である溶剤（成分Ｂ）、及び水を含み、前記成分Ａが、炭素数が６以上２６以下の、１級アミン、２級アミン及び３級アミンから選ばれる少なくとも１種である、スクリーン版用洗浄剤組成物に関する。
【００１３】
本開示は、一態様において、本開示に係る洗浄剤組成物を用いて被洗浄物を洗浄する工程を含み、前記被洗浄物は、スクリーン印刷後のスクリーン版である、スクリーン版の洗浄方法に関する。
【発明の効果】
【００１４】
本開示によれば、洗浄性及び液切れ性に優れるスクリーン版用の洗浄剤組成物を提供できる。そして、本開示の洗浄剤組成物を用いることによって、スクリーン版の洗浄及び乾燥にかかる時間が短縮され、清浄度に優れたスクリーン版を効率よく得ることができ、さらに、高品質なプリント基板やセラミック基板等の電子部品の生産効率を向上できる。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本開示は、スクリーン版の洗浄に用いる洗浄剤組成物中に、２５℃の水１００ｇに対する溶解度が１０ｇ未満で、炭素数６〜２６の１〜３級アミン（成分Ａ）及び２５℃の水１００ｇに対する溶解度が０．０２ｇ以上１０ｇ未満の溶剤（成分Ｂ）を含有させることで、洗浄性を向上でき、液切れ性が早くなるという知見に基づく。
【００１６】
すなわち、本開示は、一態様において、２５℃の水１００ｇに対する溶解度が１０ｇ未満であるアミン（成分Ａ）又はその塩、２５℃の水１００ｇに対する溶解度が０．０２ｇ以上１０ｇ未満である溶剤（成分Ｂ）、及び水を含み、前記成分Ａが、炭素数が６以上２６以下の、１級アミン、２級アミン及び３級アミンから選ばれる少なくとも１種である、スクリーン版用洗浄剤組成物（以下、「本開示に係る洗浄剤組成物」ともいう）に関する。本開示によれば、洗浄性及び液切れ性に優れるスクリーン版用の洗浄剤組成物を提供できる。そして、本開示に係る洗浄剤組成物を用いることによって、スクリーン版の洗浄及び乾燥にかかる時間が短縮され、清浄度に優れたスクリーン版を効率よく得ることができ、さらに、高品質なプリント基板やセラミック基板等の電子部品の生産効率を向上できる。
【００１７】
本開示に係る洗浄剤組成物における効果の作用メカニズムの詳細は不明な部分があるが、以下のように推定される。
本開示に係る洗浄剤組成物をスクリーン印刷後のスクリーン版の洗浄に用いると、洗浄剤組成物中の成分Ａのアミンは、水への溶解度が低く、低親水性すなわち疎水性を有することから、スクリーン版表面に吸着し、スクリーン版表面を疎水化すると同時に、フラックス等の油性成分へ吸着あるいは浸透し、油性成分の流動性を高くし、スクリーン版表面と電荷反発させることによって、スプレーや超音波による物理力の補助によりスクリーン版から油性成分を引きはがし、スクリーン版からの油性成分の除去及び再付着防止、油性成分同志の凝集を抑制できるため、洗浄性が向上すると推測される。そして、スクリーン版表面が疎水化したこと、及び／又は洗浄剤組成物の表面張力が大きいことにより、液切れ性が早くなると推測される。
また、洗浄剤組成物中の成分Ｂの溶剤は、水に対してある程度の溶解度を有することから、成分Ａと相溶し、成分Ａを水中に均一に安定化でき、フラックス等の油性成分へ吸着あるいは浸透しやすくするため、洗浄性が向上すると推測される。
さらに、成分Ａが酸と塩を形成した場合、特に、本開示に係る洗浄剤組成物が酸（成分Ｃ）をさらに含み、成分Ａのアミンと成分Ｃの酸とが塩を形成した場合、洗浄剤組成物中にアミンと酸との塩が存在することによってフラックス等の油性成分への浸透性が高くなり、より短時間に上記効果を発現できるようになると推測される。
但し、本開示はこのメカニズムに限定して解釈されなくてもよい。
【００１８】
[成分Ａ：アミン]
本開示に係る洗浄剤組成物は、２５℃の水１００ｇに対する溶解度が１０ｇ未満であるアミン（成分Ａ）又はその塩を含む。本開示において成分Ａは、１種又は２種以上を混合して用いることができる。
【００１９】
成分Ａの２５℃の水１００ｇに対する溶解度は、１０ｇ未満であって、洗浄性及び液切れ性の観点から、８ｇ以下が好ましく、５ｇ以下がより好ましく、２ｇ以下が更に好ましく、１ｇ以下がより更に好ましく、０．５ｇ以下がより更に好ましく、０．２ｇ以下がより更に好ましく、０．１ｇ以下がより更に好ましく、そして、同様の観点から、０．０００１ｇ以上が好ましく、０．００１ｇ以上がより好ましく、０．０１ｇ以上が更に好ましい。
【００２０】
成分Ａのアミンは、洗浄性及び液切れ性の観点から、炭素数が６以上２６以下の、１級アミン、２級アミン及び３級アミンから選ばれる少なくとも１種である。成分Ａの炭素数は、洗浄性及び液切れ性の観点から、６以上であって、７以上が好ましく、８以上がより好ましく、そして、同様の観点から、２６以下であって、１８以下が好ましく、１２以下がより好ましく、１０以下が更に好ましい。成分Ａが塩の形態である場合、塩を形成させるための対イオンとしては、特に限定されなくてもよく、例えば、成分Ｃの酸を挙げることができる。
【００２１】
成分Ａとしては、洗浄性及び液切れ性の観点から、式（Ｉ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
【００２２】
【化１】
2018021093.tif 000002
【００２３】
式（Ｉ）中、Ｒ1は、炭素数５以上１８以下の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、及び炭素数５以上１８以下の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基から選ばれる少なくとも１種を示し、Ｒ2及びＲ3は同一又は異なり、炭素数１以上５以下の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、及び水素原子から選ばれる少なくとも１種を示し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の炭素数の合計が６以上２６以下である。
【００２４】
式（Ｉ）において、Ｒ1の炭素数は、洗浄性及び液切れ性の観点から、５以上であって、６以上が好ましく、７以上がより好ましく、そして、泡立ちを抑える（以下、「抑泡性」ともいう）観点から、１８以下であって、１２以下が好ましく、１０以下がより好ましく、８以下が更に好ましい。
【００２５】
式（Ｉ）において、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立して、洗浄性及び液切れ性の観点から、炭素数１以上５以下の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、及び水素原子から選ばれる少なくとも１種であって、炭素数１又は２の直鎖アルキル基及び水素原子から選ばれる少なくとも１種が好ましく、メチル基又は水素原子がより好ましく、水素原子が更に好ましい。
【００２６】
式（Ｉ）において、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の合計炭素数は、洗浄性及び液切れ性の観点から、６以上であって、７以上が好ましく、８以上がより好ましく、そして、抑泡性の観点から、２６以下であって、１８以下が好ましく、１２以下がより好ましく、１０以下が更に好ましい。
【００２７】
成分Ａの塩としては、洗浄性及び液切れ性の観点から、前記式（Ｉ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物と酸との塩が挙げられる。酸としては、成分Ａと水溶性の塩を形成するものであれば特に限定されなくてもよいが、例えば、後述する成分Ｃの酸が挙げられる。
【００２８】
本開示に係る洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ａの含有量は、洗浄性及び液切れ性の観点から、０．００１質量％以上が好ましく、０．０１質量％以上がより好ましく、０．０２質量％以上が更に好ましく、そして、洗浄性、液切れ性及び抑泡性の観点から、２．０質量％以下が好ましく、１．０質量％以下がより好ましく、０．７質量％以下が更に好ましく、０．２質量％以下がより更に好ましく、０．１５質量％以下がより更に好ましく、０．１質量％以下がより更に好ましい。
【００２９】
本開示において「洗浄剤組成物の洗浄時における各成分の含有量」とは、一又は複数の実施形態において、洗浄工程に使用される洗浄剤組成物の各成分の含有量をいう。
【００３０】
［成分Ｂ：溶剤］
本開示に係る洗浄剤組成物は、２５℃の水１００ｇに対する溶解度が０．０２ｇ以上１０ｇ未満である溶剤（成分Ｂ）を含む。本開示において成分Ｂは、１種又は２種以上を混合して用いることができる。
【００３１】
成分Ｂの２５℃の水に対する溶解度は、洗浄性及び液切れ性の観点から、０．０２ｇ以上であって、０．０５ｇ以上が好ましく、０．１ｇ以上がより好ましく、０．２ｇ以上が更に好ましく、そして、同様の観点から、１０ｇ未満であって、５ｇ以下が好ましく、３ｇ以下がより好ましく、２ｇ以下が更に好ましい。
【００３２】
成分Ｂとしては、洗浄性及び液切れ性の観点から、上記範囲内の溶解度を有する成分Ａ以外の溶剤が挙げられ、例えば、上記範囲内の溶解度を有する、グリコールエーテル系溶剤及びアルコール系溶剤から選ばれる少なくとも１種が挙げられる。前記グリコールエーテル系溶剤としては、洗浄性及び液切れ性の観点から、下記式（ＩＩ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種が好ましい。
【００３３】
Ｒ4Ｏ−（ＥＯ）m（ＰＯ）n−Ｈ      （ＩＩ）
【００３４】
上記式（ＩＩ）において、Ｒ4は、炭素数３以上１２以下の炭化水素基を示し、ＥＯはエチレンオキシド基を示し、ｍはＥＯの付加モル数であって０以上５以下の数であり、ＰＯはプロピレンオキシド基を示し、ｎはＰＯの付加モル数であって０以上２以下の数であり、ｍ＋ｎ≧１であり、ＥＯとＰＯの付加形態はブロックでもランダムでもよく、ＥＯとＰＯの付加順序は問わない。
【００３５】
式（ＩＩ）において、Ｒ4は、洗浄性及び液切れ性を向上させる観点から、炭素数３以上１２以下の炭化水素基であって、炭素数６以上１０以下の炭化水素基が好ましく、炭素数６以上８以下の炭化水素基がより好ましい。
【００３６】
式（ＩＩ）において、（ＥＯ）m（ＰＯ）nは、エチレンオキシド基単独で構成されていてもよいが、エチレンオキシド基とプロピレンオキシド基とから構成されていてもよい。（ＥＯ）m（ＰＯ）nが、エチレンオキシド基とプロピレンオキシド基とから構成される場合、ＥＯとＰＯの配列はランダムでもブロックでもよい。ＥＯとＰＯの配列がブロックの場合、ＥＯのブロック数、ＰＯのブロック数は、各平均付加モル数が上記範囲内であれば、それぞれ１個であっても１個以上であってもよい。ＥＯからなるブロックの数が２個以上の場合、各ブロックにおけるＥＯの繰り返し数は、相互に同じであってもよいし、異なっていてもよい。
【００３７】
成分Ｂの具体例としては、例えば、エチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテル（溶解度：０．２０ｇ）、ジエチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテル（溶解度：０．２０ｇ）、エチレングリコールモノヘキシルエーテル（溶解度：１．００ｇ）、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル（溶解度：１．４０ｇ）、プロピレングリコールモノフェニルエーテル（フェノキシプロパノール、溶解度：０．２０ｇ）、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル（溶解度：５．６０ｇ）、プロピレングリコールモノブチルエーテル（溶解度：６．６０ｇ）から選ばれる１種または２種以上の組合せが挙げられる。液切れ性を向上させる観点から、エチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテル（溶解度：０．２０ｇ）、エチレングリコールモノヘキシルエーテル（溶解度：１．００ｇ）、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル（溶解度：１．４０ｇ）及びプロピレングリコールモノフェニルエーテル（溶解度：０．２０ｇ）から選ばれる１種又は２種以上の組合せが好ましく、エチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテル（溶解度：０．２０ｇ）、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル（溶解度：１．４０ｇ）及びプロピレングリコールモノフェニルエーテル（溶解度：０．２０ｇ）から選ばれる１種又は２種以上の組合せがより好ましく、エチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテル（溶解度：０．２０ｇ）及びジエチレングリコールモノヘキシルエーテル（溶解度：１．４０ｇ）のいずれか一方が更に好ましく、エチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテル（溶解度：０．２０ｇ）がより更に好ましい。括弧内の溶解度は、２５℃の水１００ｇに対する溶解度を示す。
【００３８】
本開示に係る洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｂの含有量は、洗浄性及び液切れ性の観点から、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましく、１質量％以上が更に好ましく、２質量％以上がより更に好ましく、そして、同様の観点から、２０質量％以下が好ましく、１５質量％以下がより好ましく、１２質量％以下が更に好ましく、１０質量％以下がより更に好ましい。
【００３９】
本開示に係る洗浄剤組成物中の成分Ｂの含有量に対する成分Ａの含有量の比Ａ／Ｂは、洗浄性及び液切れ性の観点から、０．００１以上が好ましく、０．００２以上がより好ましく、０．００３以上が更に好ましく、そして、同様の観点から、０．１以下が好ましく、０．０９以下がより好ましく、０．０８以下が更に好ましい。
【００４０】
［成分Ｃ：酸］
本開示に係る洗浄剤組成物は、酸（成分Ｃ）を含有することができる。本開示において成分Ｃは、１種又は２種以上を混合して用いることができる。
【００４１】
成分Ｃとしては、洗浄性及び液切れ性の観点から、成分Ａと塩を形成する酸が好ましく、カルボキシ基、スルホン酸基、硫酸基及びリン酸基を１〜３個有する、炭素数２以上１２以下の化合物並びにギ酸から選ばれる１種又は２種以上の酸がより好ましい。
【００４２】
成分Ｃの具体例としては、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、２−エチルヘキサン酸、ペラルゴン酸、カプリン酸。ラウリン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、グリコール酸、乳酸、タルトロン酸、ヒドロキシ酪酸、グリセリン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、ラウリル硫酸エステル、２−アミノエチルホスホン酸、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸、アミノトリ（メチレンホスホン酸）、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）及びジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）から選ばれる１種又は２種以上の組合せが挙げられ、洗浄性及び液切れ性の観点から、ギ酸、酢酸、カプリル酸、２−エチルヘキサン酸、乳酸、クエン酸、ｐ−トルエンスルホン酸及び１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸から選ばれる１種又は２種以上の組合せがより好ましく、ギ酸、酢酸、２−エチルヘキサン酸、クエン酸、ｐ−トルエンスルホン酸及び１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸から選ばれる１種又は２種以上の組合せが更に好ましく、ギ酸、酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸及び１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸から選ばれる１種又は２種以上の組合せがより更に好ましく、酢酸及びｐ−トルエンスルホン酸のいずれか一方がより更に好ましく、酢酸がより更に好ましい。
【００４３】
本開示に係る洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｃの含有量は、洗浄性及び液切れ性の観点から、０．００１質量％以上が好ましく、０．００５質量％以上がより好ましく、０．０１質量％以上が更に好ましく、そして、洗浄性、液切れ性及び泡立ちを低く抑える観点から、２．０質量％以下が好ましく、１．０質量％以下がより好ましく、０．７質量％以下が更に好ましく、０．２質量％以下がより更に好ましく、０．１５質量％以下がより更に好ましく、０．１質量％以下がより更に好ましい。
【００４４】
本開示に係る洗浄剤組成物中の成分Ｃの含有量に対する成分Ａの含有量の比Ａ／Ｃは、洗浄性及び液切れ性の観点から、０．１以上が好ましく、０．２以上がより好ましく、０．４以上が更に好ましく、そして、同様の観点から、１０以下が好ましく、７以下がより好ましく、５以下が更に好ましい。
【００４５】
［成分Ｄ：水］
本開示に係る洗浄剤組成物は、水（成分Ｄ）を含む。成分Ｄの水としては、イオン交換水、ＲＯ水、蒸留水、純水、超純水が使用されうる。水の含有量は、本開示に係る洗浄剤組成物の使用態様にあわせて適宜設定すればよい。
【００４６】
本開示に係る洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｄの含有量は、洗浄性の観点から、７０質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましく、８５質量％以上が更に好ましく、そして、同様の観点から、９９質量％以下が好ましく、９７質量％以下がより好ましく、９５質量％以下が更に好ましい。
【００４７】
［任意成分］
本開示に係る洗浄剤組成物は、本開示の効果を損なわない範囲で、上述した成分Ａ〜Ｄ以外に、必要に応じて任意成分を含有することができる。任意成分としては、例えばノニオン性界面活性剤；ヒドロキシエチルアミノ酢酸、ヒドロキシエチルイミノ２酢酸、エチレンジアミンテトラ酢酸等のアミノカルボン酸塩等のキレート力を持つ化合物；防腐剤；防錆剤；殺菌剤；抗菌剤；シリコーン等の消泡剤；酸化防止剤；ヤシ脂肪酸メチル、酢酸ベンジル等のエステル；炭化水素系溶剤；アルコール類；等から選ばれる１種又は２種以上の組合せが挙げられる。
【００４８】
本開示に係る洗浄剤組成物の洗浄時における任意成分の含有量は、本開示の効果を妨げない観点から、０質量％以上２．０質量％以下が好ましく、０質量％以上１．５質量％以下がより好ましく、０質量％以上１．３質量％以下が更に好ましく、０質量％以上１．０質量％以下が更により好ましい。
【００４９】
［洗浄剤組成物のｐＨ］
本開示に係る洗浄剤組成物の洗浄時のｐＨは、洗浄性及び液切れ性の観点から、１２以下が好ましく、９以下がより好ましく、８以下が更に好ましく、７以下がより更に好ましく、そして、洗浄性、液切れ性及び洗浄設備の腐食防止の観点から、４以上が好ましく、４．５以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、５．５以上がより更に好ましい。本開示において「洗浄時のｐＨ」とは、２５℃における洗浄剤組成物の使用時（希釈後）のｐＨであり、ｐＨメータを用いて測定できる。具体的には実施例に記載の方法により測定できる。
【００５０】
本開示に係る洗浄剤組成物のｐＨの調整は、例えば、硝酸、硫酸等の無機酸；オキシカルボン酸、多価カルボン酸、アミノポリカルボン酸、アミノ酸等の有機酸；及びそれらの金属塩やアンモニウム塩、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アミン等の塩基性物質；等を用いて行うことができる。
【００５１】
［洗浄剤組成物の製造方法］
本開示に係る洗浄剤組成物は、前記成分Ａ、成分Ｂ及び成分Ｄ、必要に応じて成分Ｃ及び任意成分を公知の方法で配合することにより製造できうる。例えば、本開示に係る洗浄剤組成物は、少なくとも前記成分Ａを配合してなるものとすることができる。したがって、本開示は、一態様において、少なくとも前記成分Ａを配合する工程を含む、洗浄剤組成物の製造方法に関する。本開示において「配合する」とは、成分Ａ、成分Ｂ及び成分Ｄ、必要に応じて成分Ｃ及び任意成分を同時に又は任意の順に混合することを含む。本開示に係る洗浄剤組成物の製造方法において、各成分の配合量は、上述した本開示に係る洗浄剤組成物の各成分の含有量と同じとすることができる。
【００５２】
本開示に係る洗浄剤組成物は、貯蔵及び輸送の観点から、成分Ｄの水の量を減らした濃縮物として調製してもよい。洗浄剤組成物の濃縮物は、貯蔵及び輸送の観点から、希釈倍率３倍以上の濃縮物とすることが好ましく、保管安定性の観点から、希釈倍率２００倍以下の濃縮物とすることが好ましい。洗浄剤組成物の濃縮物は、使用時に各成分の含有量が、上述した含有量（すなわち、洗浄時の含有量）となるように水で希釈して使用することができる。さらに、洗浄剤組成物の濃縮物は、使用時に各成分を別々に添加して使用することもできる。本開示において洗浄剤組成物の濃縮物の「使用時」又は「洗浄時」とは、洗浄剤組成物の濃縮物が希釈された状態をいう。
【００５３】
［被洗浄物］
本開示に係る洗浄剤組成物は、一又は複数の実施形態において、スクリーン印刷後のスクリーン版の洗浄、フラックス；半田ペースト、銀ペースト、銅ペースト等の導電性ペースト；等が付着したスクリーン版の洗浄に使用されうる。スクリーン版としては、例えば、メタルマスク、樹脂マスク、電鋳マスク、乳剤マスク等が挙げられる。
【００５４】
［洗浄方法］
本開示は、一態様において、本開示に係る洗浄剤組成物を用いて被洗浄物を洗浄する工程（以下、「洗浄工程」ともいう）を含む、スクリーン版の洗浄方法（以下、「本開示に係る洗浄方法」ともいう）に関する。本開示に係る洗浄剤組成物が濃縮物である場合、本開示に係る洗浄方法は、洗浄剤組成物の濃縮物を希釈する工程をさらに含むことができる。被洗浄物としては、上述した被洗浄物が挙げられる。前記洗浄工程は、一又は複数の実施形態において、被洗浄物に本開示に係る洗浄剤組成物を接触させることを含むことができる。被洗浄物を本開示に係る洗浄剤組成物を用いて洗浄する方法としては、例えば、被洗浄物を洗浄槽に浸漬して被洗浄物に洗浄剤組成物を接触させる方法、超音波洗浄装置の浴槽内で被洗浄物に洗浄剤組成部を接触させる方法、洗浄剤組成物をスプレー状に射出して被洗浄物に接触させる方法等が挙げられる。
【００５５】
本開示に係る洗浄方法は、前記洗浄後のスクリーン版を濯がずに乾燥する工程をさらに含むことができる。これにより、スクリーン版の洗浄及び乾燥にかかる時間が短縮され、清浄度に優れたスクリーン版を効率よく得ることができ、高品質なプリント基板やセラミック基板等の電子部品の生産性を向上できる。
【００５６】
本開示に係る洗浄方法は、本開示に係る洗浄剤組成物の洗浄力が発揮されやすい点から、本開示に係る洗浄剤組成物と被洗浄物との接触時に超音波を照射することが好ましい。超音波の照射条件としては、例えば、２０〜２０００ｋＨｚと設定できる。
【００５７】
［キット］
本開示は、一態様において、本開示に係る洗浄剤組成物を製造するためのキットであって、本開示に係る洗浄剤組成物を構成する前記成分Ａ、前記成分Ｂ、及び前記成分Ｄのうちの少なくとも１成分が他の成分と混合されない状態で保管されている、キット（以下、「本開示に係るキット」ともいう）に関する。本開示によれば、洗浄性及び液切れ性に優れる洗浄剤組成物が得られうるキットを提供できる。
【００５８】
本開示に係るキットとしては、例えば、成分Ｂを含む溶液（第１液）と、成分Ａ、Ｃ及びＤの１種又は２種以上を含む溶液（第２液）とが、相互に混合されていない状態で保存されており、これらが使用時に混合されるキット（２液型洗浄剤組成物）が挙げられる。前記第１液及び第２液の各々には、必要に応じて上述した任意成分が混合されていてもよい。
【００５９】
本開示は、さらに以下の洗浄剤組成物、洗浄方法、製造方法及びキットに関する。
＜１＞  ２５℃の水１００ｇに対する溶解度が１０ｇ未満であるアミン（成分Ａ）又はその塩、２５℃の水１００ｇに対する溶解度が０．０２ｇ以上１０ｇ未満である溶剤（成分Ｂ）、及び水（成分Ｄ）を含み、前記成分Ａが、炭素数が６以上２６以下の、１級アミン、２級アミン及び３級アミンから選ばれる少なくとも１種である、スクリーン版用洗浄剤組成物。
【００６０】
＜２＞  ｐＨが５以上１２以下である、＜１＞に記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜３＞  ｐＨは、１２以下が好ましく、９以下がより好ましく、８以下が更に好ましく、７以下がより更に好ましい、＜１＞又は＜２＞に記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜４＞  ｐＨは、４以上が好ましく、４．５以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、５．５以上がより更に好ましい、＜１＞から＜３＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜５＞  成分Ａの２５℃の水１００ｇに対する溶解度は、１０ｇ未満であって、８ｇ以下が好ましく、５ｇ以下がより好ましく、２ｇ以下が更に好ましく、１ｇ以下がより更に好ましく、０．５ｇ以下がより更に好ましく、０．２ｇ以下がより更に好ましく、０．１ｇ以下がより更に好ましい、＜１＞から＜４＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜６＞  成分Ａの２５℃の水１００ｇに対する溶解度は、０．０００１ｇ以上が好ましく、０．００１ｇ以上がより好ましく、０．０１ｇ以上が更に好ましい、＜１＞から＜５＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜７＞  成分Ａの炭素数は、６以上であって、７以上が好ましく、８以上がより好ましい、＜１＞から＜６＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜８＞  成分Ａの炭素数は、２６以下であって、１８以下が好ましく、１２以下がより好ましく、１０以下が更に好ましい、＜１＞から＜７＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜９＞  成分Ａが、下記式（Ｉ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種である、＜１＞から＜８＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
【化２】
2018021093.tif 000003
上記式（Ｉ）において、Ｒ1は、炭素数５以上１８以下の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、及び炭素数５以上１８以下の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基から選ばれる少なくとも１種を示し、Ｒ2及びＲ3は同一又は異なり、炭素数１以上５以下の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、及び水素原子から選ばれる少なくとも１種を示し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の合計炭素数が６以上２６以下である。
＜１０＞  成分Ａの塩が、前記式（Ｉ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物と、カルボキシ基、スルホン酸基、硫酸基及びリン酸基を１〜３個有する炭素数２以上１２以下の化合物並びにギ酸から選ばれる少なくとも１種の化合物との塩である、＜９＞に記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜１１＞  洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ａの含有量は、０．００１質量％以上が好ましく、０．０１質量％以上がより好ましく、０．０２質量％以上が更に好ましい、＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜１２＞  洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ａの含有量は、２．０質量％以下が好ましく、１．０質量％以下がより好ましく、０．７質量％以下が更に好ましく、０．２質量％以下がより更に好ましく、０．１５質量％以下がより更に好ましく、０．１質量％以下がより更に好ましい、＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜１３＞  成分Ｂの２５℃の水に対する溶解度は、０．０２ｇ以上であって、０．０５ｇ以上が好ましく、０．１ｇ以上がより好ましく、０．２ｇ以上が更に好ましい、＜１＞から＜１２＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜１４＞  成分Ｂの２５℃の水に対する溶解度は、１０ｇ未満であって、５ｇ以下が好ましく、３ｇ以下がより好ましく、２ｇ以下が更に好ましい、＜１＞から＜１３＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜１５＞  成分Ｂが、下記式（ＩＩ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物である、＜１＞から＜１４＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
Ｒ4Ｏ−（ＥＯ）m（ＰＯ）n−Ｈ      （ＩＩ）
ここで、式（ＩＩ）において、Ｒ4は、炭素数３以上１２以下の炭化水素基を示し、ＥＯはエチレンオキシド基を示し、ｍはＥＯの付加モル数であって０以上５以下の数であり、ＰＯはプロピレンオキシド基を示し、ｎはＰＯの付加モル数であって０以上２以下の数であり、ｍ＋ｎ≧１であり、ＥＯとＰＯの付加形態はブロックでもランダムでもよく、ＥＯとＰＯの付加順序は問わない。
＜１６＞  式（ＩＩ）におけるＲ4は、炭素数３以上１２以下の炭化水素基であって、炭素数６以上１０以下の炭化水素基が好ましく、炭素数６以上８以下の炭化水素基がより好ましい、＜１５＞に記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜１７＞  洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｂの含有量は、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましく、１質量％以上が更に好ましく、２質量％以上がより更に好ましい、＜１＞から＜１６＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜１８＞  洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｂの含有量は、２０質量％以下が好ましく、１５質量％以下がより好ましく、１２質量％以下が更に好ましく、１０質量％以下がより更に好ましい、＜１＞から＜１７＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜１９＞  洗浄剤組成物中の成分Ｂの含有量に対する成分Ａの含有量の比Ａ／Ｂは、０.００１以上が好ましく、０．００２以上がより好ましく、０．００３以上が更に好ましい、＜１＞から＜１８＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜２０＞  洗浄剤組成物中の成分Ｂの含有量に対する成分Ａの含有量の比Ａ／Ｂは、０．１以下が好ましく、０．０９以下がより好ましく、０．０８以下が更に好ましい、＜１＞から＜１９＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜２１＞  カルボキシ基、スルホン酸基、硫酸基及びリン酸基を１〜３個有する炭素数２以上１２以下の化合物並びにギ酸から選ばれる少なくとも１種の酸（成分Ｃ）をさらに含む、＜１＞から＜２０＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜２２＞  洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｃの含有量は、０．００１質量％以上が好ましく、０．００５質量％以上がより好ましく、０．０１質量％以上が更に好ましい、＜２１＞に記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜２３＞  洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｃの含有量は、２．０質量％以下が好ましく、１．０質量％以下がより好ましく、０．７質量％以下が更に好ましく、０．２質量％以下がより更に好ましく、０．１５質量％以下がより更に好ましく、０．１質量％以下がより更に好ましい、＜２１＞又は＜２２＞に記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜２４＞  洗浄剤組成物中の成分Ｃの含有量に対する成分Ａの含有量の比Ａ／Ｃは、０．１以上が好ましく、０．２以上がより好ましく、０．４以上が更に好ましく、＜２１＞から＜２３＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜２５＞  洗浄剤組成物中の成分Ｃの含有量に対する成分Ａの含有量の比Ａ／Ｃは、１０以下が好ましく、７以下がより好ましく、５以下が更に好ましい、＜２１＞から＜２４＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜２６＞  洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｄの含有量は、７０質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましく、８５質量％以上が更に好ましい、＜１＞から＜２５＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜２７＞  洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｄの含有量は、９９質量％以下が好ましく、９７質量％以下がより好ましく、９５質量％以下が更に好ましい、＜１＞から＜２６＞のいずれかに記載のスクリーン版用洗浄剤組成物。
＜２８＞  ＜１＞から＜２７＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物を用いて被洗浄物を洗浄する工程を含み、前記被洗浄物は、スクリーン印刷後のスクリーン版である、スクリーン版の洗浄方法。
＜２９＞  前記洗浄後のスクリーン版を濯がずに乾燥する工程を含む、＜２８＞に記載のスクリーン版の洗浄方法。
＜３０＞  ＜１＞から＜２７＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物を製造するためのキットであって、成分Ａ、成分Ｂ及び成分Ｄのうちの少なくとも１成分が他の成分と混合されない状態で保管されているキット。
【実施例】
【００６１】
以下に、実施例により本開示を具体的に説明するが、本開示はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。
【００６２】
１．洗浄剤組成物の調製（実施例１〜２６及び比較例１〜４）
下記表１に記載の組成及び含有量（質量％）となるように各成分を配合し、実施例１〜２６及び比較例１〜４の洗浄剤組成物を得た。ｐＨは、２５℃における洗浄剤組成物のｐＨであり、ｐＨメータ（東亜電波工業株式会社、ＨＭ−３０Ｇ）を用いて測定し、電極を洗浄剤組成物に浸漬して４０分後の数値である。
【００６３】
洗浄剤組成物の成分として下記のものを使用した。
＜成分Ａ：アミン＞
・ｎ−ヘキシルアミン（和光純薬工業株式会社製）
・ｎ−オクチルアミン（東京化成工業株式会社製）
・ｎ−ドデシルアミン（東京化成工業株式会社製、ドデシルアミン）
・ｎ−ステアリルアミン（東京化成工業株式会社製、ステアリルアミン）
・Ｎ−メチルヘキシルアミン（和光純薬工業株式会社製）
・Ｎ，Ｎ−ジメチルヘキシルアミン（和光純薬工業株式会社製）
＜非成分Ａ：アミン＞
・ｎ−ブチルアミン（和光純薬工業株式会社製）
・ポリオキシエチレン（２モル）ラウリルアミン（青木油脂工業株式会社製、ＢＬＡＵＮＯＮ  Ｌ−２０２）
＜成分Ｂ：溶剤（グリコールエーテル）＞
・エチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテル［日本乳化剤株式会社製、２エチルヘキシルグリコール（ＥＨＧ）］
・ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル［日本乳化剤株式会社製、ヘキシルジグリコール（ＨｅＤＧ）］
・フェノキシプロパノール（プロピレングリコールモノフェニルエーテル）［日本乳化剤株式会社製、フェニルプロピレングリコール（ＰｈＦＧ）］
・エチレングリコールモノヘキシルエーテル［日本乳化剤株式会社製、ヘキシルグリコール（ＨｅＧ）］
・ジエチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテル［日本乳化剤株式会社製、２エチルヘキシルジグリコール（ＥＨＤＧ）］
・ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル［日本乳化剤株式会社製、プロピルプロピレンジグリコール（ＰＦＤＧ）］
＜非成分Ｂ：溶剤＞
・ジエチレングリコールモノブチルエーテル［日本乳化剤株式会社製、ブチルジグリコール（ＢＤＧ）］
＜成分Ｃ：酸＞
・酢酸（関東化学株式会社製、鹿１級）
・ｐ−トルエンスルホン酸（和光純薬工業株式会社製、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物、）
・１−ヒドロキシエチリデン−１、１−ジホスホン酸（Italmatch Chemicals社製、デイクエスト２０１０、６０％水溶液）
・ギ酸（株式会社朝日化学工業所製、ギ酸８８％、）
・２−エチルヘキサン酸（和光純薬工業株式会社製）
・クエン酸［和光純薬工業株式会社製、くえん酸（無水）］
＜成分Ｄ：水＞
・オルガノ株式会社製の純水装置Ｇ−１０ＤＳＴＳＥＴで製造した１μＳ/ｃｍ以下の純水
＜その他＞
・水酸化カリウム（関東化学株式会社製、鹿特級、固形分４８質量％）
【００６４】
［アミン及び溶剤の水に対する溶解度］
１Ｌガラスビーカーに水を５００ｇ加え、回転子（フッ素樹脂（ＰＴＦＥ）、φ8ｍｍ×５０ｍｍ）を用い、回転数１００ｒｐｍで攪拌しながら、２５℃の恒温槽にて保温する。各種アミン又は溶剤を０．１ｇ添加し、目視にて均一透明な状態を確認する。均一透明でなくなるまで各種アミン又は溶剤を０．１ｇずつ追加で添加し、水への溶解度を測定する。
ここで、アミン又は溶剤を５０ｇ添加しても均一透明の場合、その時点で測定を終了し、２５℃の水１００ｇに対する溶解度は１０ｇ以上と判断する。アミン又は溶剤を０．１ｇ添加したときに均一透明ではない場合、２５℃の水１００ｇに対する溶解度は０．０２ｇ未満と判断する。
【００６５】
２．洗浄剤組成物の評価
調製した実施例１〜２６及び比較例１〜４の洗浄剤組成物を用いて下記の評価を行った。
【００６６】
[安定性]
１００ｍＬガラスビーカーに各洗浄剤組成物を１００ｇ調製し、温度２５℃において回転子（フッ素樹脂（ＰＴＦＥ）、φ8ｍｍ×２５ｍｍ）を用い、回転数１００ｒｐｍにおける撹拌中の液の状態を目視観察し、下記の評価基準で安定性を評価する。その結果を表１に示す。相分離が確認されなかった場合は、安定性に優れると評価できる。
<評価基準>
○：相分離なし
×：相分離
【００６７】
[洗浄性試験方法]
ステンレス製金網（綾畳織、５００メッシュ）にフラックス(ＭＢ−Ｔ１００、千住金属工業株式会社製)を塗布し、ステンレス製金網の開口部をフラックスで満たし、余分なフラックスをスキージで除去後、２４時間、室温で放置し、２０ｍｍ×２０ｍｍに切断して評価用テストピースを作製する。このテストピースを用いて洗浄剤組成物の洗浄性を以下の手順で評価する。
１００ｍＬガラスビーカーに各洗浄剤組成物を５０ｇ添加し、２５℃水浴に保温する。次に、テストピースをピンセットで保持して、洗浄剤組成物に浸漬し、超音波（１０４ｋＨｚ、５０Ｗ）を１５分間照射する。洗浄後、テストピースを濯がずに、６０℃の熱風にて１５分間乾燥する。
【００６８】
［洗浄性の評価方法］
光学顕微鏡  デジタルマイクロスコープＶＨＸ−２０００（株式会社キーエンス製）を用いて、乾燥後のテストピースのメッシュ開口部にフラックス残渣の有無を目視確認し、フラックス残渣が残る開口部の残渣率を下記の計算式により算出して、洗浄性を評価する。結果を表１に示す。値が小さいほど、洗浄性に優れると評価できる。
残渣率（％）＝残渣のある開口部数÷全体の開口部数×１００
【００６９】
［液切れ性評価］
ニッケル板(５０ｍｍ×２５ｍｍ×０．５ｍｍ、太佑機材株式会社製)をテストピースとし、垂直（５０ｍｍを高さ方向とする）に直立させ、洗浄剤組成物を垂直面上端に０．０４ｍＬ滴下して、下端までの到達時間を計測し、液切れ性を評価する。結果を表１に示す。値が小さいほど、液切れ性に優れ、乾燥が素早いと評価できる。
【００７０】
［抑泡性］
各洗浄剤組成物を１１０ｍＬのスクリュー管瓶に５０ｇ添加し、２５℃に保温し、３０回上下に振り、静置して１０秒後の泡高さを計測し、抑泡性を評価する。結果を表１に示す。値が小さいほど、泡立ちの抑制効果が高いと評価できる。
【００７１】
【表１】
2018021093.tif 000004
【００７２】
上記表１に示すとおり、所定のアミン（成分Ａ）、所定の溶剤（成分Ｂ）及び水（成分Ｄ）を含有する実施例１〜２６の洗浄剤組成物は、比較例１〜４の洗浄剤組成物に比べて、洗浄性及び液切れ性に優れていた。
【産業上の利用可能性】
【００７３】
本開示の洗浄剤組成物は、スクリーン印刷後のスクリーン版用の洗浄剤組成物として有用であり、洗浄及び乾燥にかかる時間を短縮して、清浄度の高いスクリーン版を効率よく得ることができ、さらに、高品質なプリント基板やセラミック基板等の電子部品の生産効率を向上できる。