(57)【要約】【課題】新規なＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を含む触媒系、およびＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を含む触媒系を作製するプロセスを提供する。【解決手段】本出願は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体に関する。本出願はまた、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を含む触媒系およびＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を含む触媒系を作製するプロセスに関する。本出願はまた、オレフィンをオリゴマー化するまたは重合するプロセスにおいてＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を利用することに関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物と錯体を形成するクロム塩を含むＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を含む組成物。
【請求項２】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体が、一般構造
【化１】
2018076371.tif 000038
（式中、
Ｒ１はＣ１〜Ｃ３０オルガニル基であり、
Ｒ２ａおよびＲ２ｂは独立して、不活性官能基から本質的になるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基であり、
Ｒ３は、水素または不活性官能基から本質的になるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基であり、
Ｒ４およびＲ５は各々独立して、不活性官能基から本質的になるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基であり、
ＣｒＸｐはクロム塩を表し、式中、Ｘはモノアニオンであり、ｐは２から６の範囲であり、Ｑは中性配位子であり、ｑは０から６の範囲である）
を有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
ａ）Ｒ１およびＲ２ａは結合して環もしくは環系を形成でき、
ｂ）Ｒ２ａおよびＲ２ｂは結合して環もしくは環系を形成でき、
ｃ）Ｒ２ｂおよびＲ３は結合して環もしくは環系を形成でき、または
ｄ）Ｒ１およびＲ２ａは結合して環または環系を形成でき、かつＲ２ｂおよびＲ３は結合して環または環系を形成できる、
請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体が、一般構造：
【化２】
2018076371.tif 000039
（式中、Ｌ１２およびＬ２３は独立して、不活性官能基からなるＣ２〜Ｃ１５オルガニレン基である）
を有する、請求項２に記載の組成物。
【請求項５】
クロム塩が、カルボン酸クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩＩ）β−ジケトナートまたはハロゲン化クロム（ＩＩＩ）を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
クロム塩が、ハロゲン化クロム（ＩＩＩ）を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
Ｑが、Ｃ１〜Ｃ２０ニトリルまたはＣ１〜Ｃ４０エーテルを含む、請求項２に記載の組成物。
【請求項８】
ＣｒＸｐが、ハロゲン化クロム（ＩＩＩ）を含み、各々のＱが独立して、Ｃ２〜Ｃ３０脂肪族非環式エーテルまたはＣ３〜Ｃ３０脂肪族環式エーテルである、請求項２に記載の組成物。
【請求項９】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体が、構造：
【化３】
2018076371.tif 000040
を有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項１０】
ａ）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物と錯体を形成するクロム塩を含むＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体、および
ｂ）金属アルキル化合物
を含む、触媒系組成物。
【請求項１１】
金属アルキル化合物が、アルミノキサンを含む、請求項１０に記載の触媒系組成物。
【請求項１２】
アルミノキサンが、メチルアルミノキサン、修飾されたメチルアルミノキサン、エチルアルミノキサン、ｎ−プロピルアルミノキサン、イソ−プロピルアルミノキサン、ｎ−ブチルアルミノキサン、ｓｅｃ−ブチルアルミノキサン、イソ−ブチルアルミノキサン、ｔ−ブチルアルミノキサン、１−ペンチル−アルミノキサン、２−ペンチルアルミノキサン、３−ペンチルアルミノキサン、イソ−ペンチルアルミノキサン、ネオペンチルアルミノキサンおよびそれらの混合物を含む、請求項１１に記載の触媒系組成物。
【請求項１３】
金属アルキルが、修飾されたメチルアルミノキサンを含む、請求項１１に記載の触媒系組成物。
【請求項１４】
アルミノキサンのアルミニウム対Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体のクロムのモル比が、少なくとも５：１である、請求項１２に記載の触媒系組成物。
【請求項１５】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体および金属アルキル化合物を接触させるステップを含む、触媒系組成物を調製するプロセス。
【請求項１６】
触媒系組成物が、少なくとも１５分間、オレフィンの実質的に不存在下で熟成される、請求項１５に記載のプロセス。
【請求項１７】
熟成された触媒系組成物は、ａ）熟成されていない他の同様の触媒系と比較して増加したオリゴマー化触媒活性度、ｂ）熟成されていない他の同様の触媒系と比較して生成したポリマーの減少した割合、またはｃ）熟成されていない他の同様の触媒系と比較して増加したオリゴマー化触媒活性度および生成したポリマーの減少した割合を示す、請求項１６に記載のプロセス。
【請求項１８】
ａ）
ｉ）オレフィンと、
ｉｉ）（ａ）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物と錯体を形成するクロム塩を含むＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体、および（ｂ）金属アルキル化合物を含む触媒系と
を接触させて、オリゴマー生成物を形成するステップ、ならびに
ｂ）オリゴマーを回収するステップ
を含む、オリゴマー化プロセス。
【請求項１９】
前記触媒系、オレフィンおよび水素を接触させて、オリゴマー生成物を形成する、請求項１８に記載のプロセス。
【請求項２０】
前記オリゴマー生成物が２０℃〜１５０℃の範囲の温度で形成する、請求項１８に記載のプロセス。
【請求項２１】
前記オレフィンがエチレンを含み、前記オリゴマー生成物が、６０〜９９．９重量％のＣ６およびＣ８オレフィンを含む液体オリゴマー生成物を含む、請求項１８に記載のプロセス。
【請求項２２】
前記オレフィンがエチレンを含み、Ｃ６オリゴマー生成物が少なくとも９０重量％の１−ヘキセンを含む、請求項１８に記載のプロセス。
【請求項２３】
前記オレフィンがエチレンを含み、Ｃ８オリゴマー生成物が少なくとも９０重量％の１−オクテンを含む、請求項１８に記載のプロセス。
【請求項２４】
前記触媒系、オレフィンおよび水素を接触させて、オリゴマー生成物を形成し、
前記オレフィンがエチレンを含み、
前記オリゴマー生成物が、
（ａ）１５０ｐｓｉｇ〜２，０００ｐｓｉｇの範囲のエチレン分圧
（ｂ）５ｐｓｉｇ〜４００ｐｓｉｇの範囲の水素分圧、および
（ｃ）２０℃〜１５０℃の範囲の温度
で形成され、前記オリゴマー生成物は、６０〜９９．９重量％のＣ６およびＣ８オレフィンを含む液体オリゴマー生成物を含み、Ｃ６オリゴマー生成物は、少なくとも９０重量％の１−ヘキセンを含み、Ｃ８オリゴマー生成物が少なくとも９０重量％の１−オクテンを含む、請求項１８に記載のプロセス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物およびＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物の金属塩錯体に関する。その開示はまた、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物およびＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物の金属塩錯体を製造する方法に関する。本開示は、さらに、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物の金属塩錯体を利用する触媒系、および、オレフィンのオリゴマー化または重合におけるそれらの使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
オレフィンは、重要な工業品目である。それらの多くの用途は、洗剤の製造における中間体として、環境によりやさしい精製油への前駆体として、モノマーとして、および他の多くの製品形態への前駆体としての使用を含む。オレフィンの重要な部分集合はアルファ−オレフィンであり、アルファ−オレフィンを製造する１つの方法は、様々な種類の触媒および／または触媒系が関与する触媒反応である、エチレンのオリゴマー化を経由する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
オレフィンオリゴマー（例えば、アルファオレフィン）に対する用途および需要は、増加し続け、それらを供給する競争は対応して激しくなっている。したがって、オレフィンオリゴマー化および／または重合のための、さらに新規で改良された触媒および方法が望まれる。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
一態様において、本開示は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物と錯体化された金属塩あるいはＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物と錯体化されたクロム塩を含むＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体に関する。別の態様において、本開示は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物と錯体化されたクロム塩を含むＮ２−ホスファニルグアニジン金属塩錯体を含む組成物に関する。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体は、構造ＭＧｕ１、構造ＭＧｕ２、構造ＭＧｕ３、構造ＭＧｕ４または構造ＭＧｕ５を有してもよいか、あるいは構造ＣｒＧｕ１、構造ＣｒＧｕ２、構造ＣｒＧｕ３、構造ＣｒＧｕ４、または構造ＣｒＧｕ５を有してもよい。いくつかの実施形態において、金属塩がクロム塩である場合、クロム塩は、カルボン酸クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩＩ）β−ジケトナートまたはハロゲン化クロム（ＩＩＩ）を含んでもよい。
【０００５】
別の態様において、本開示は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物および金属アルキル化合物と錯体化された金属塩あるいはＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物および金属アルキル化合物と錯体化されたクロム塩を含むＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を含む触媒系に関する。いくつかの実施形態において、金属アルキル化合物はアルミノキサンであってもよい。いくつかの実施形態において、アルミノキサンは、メチルアルミノキサン（ＭＡＯ）、修飾されたメチルアルミノキサン（ＭＭＡＯ）、エチルアルミノキサン、ｎ−プロピルアルミノキサン、イソ−プロピルアルミノキサン、ｎ−ブチルアルミノキサン、ｓｅｃ−ブチルアルミノキサン、イソ−ブチルアルミノキサン、ｔ−ブチルアルミノキサン、１−ペンチルアルミノキサン、２−ペンチルアルミノキサン、３−ペンチルアルミノキサン、イソ−ペンチルアルミノキサン、ネオペンチルアルミノキサンおよびそれらの混合物あるいは修飾されたメチルアミノキサン（ＭＭＡＯ）を含んでもよい。さらなる態様において、本開示は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体と金属アルキル化合物とを接触させるステップあるいはＮ２−ホスフィニルグアニジンクロム塩錯体と金属アルキル化合物とを接触させるステップを含む、触媒系を調製するプロセスに関する。一実施形態において、触媒系はオレフィンの実質的に非存在下で熟成されてもよい。
【０００６】
さらに別の態様において、本開示は、ａ）ｉ）オレフィンと、ｉｉ）（ａ）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体（あるいはＮ２−ホスフィニルグアニジンクロム塩化合物）および（ｂ）金属アルキル化合物（あるいはアルミノキサン）を含む触媒系とを接触させて、オリゴマー生成物を形成させるステップと、ｂ）オリゴマーを回収するステップとを含む、オリゴマー化プロセスに関する。いくつかの実施形態において、触媒系、オレフィンおよび水素はオリゴマー生成物を形成するために接触されてもよい。いくつかの実施形態において、オレフィンはエチレンを含んでもよい。オレフィンがエチレンを含む実施形態において、オリゴマー生成物は、６０〜９９．９重量％のＣ６およびＣ８オレフィンを含む液体オリゴマー生成物を含んでもよい。オレフィンがエチレンを含む別の実施形態において、Ｃ６オリゴマー生成物は少なくとも９０重量％の１−ヘキセンを含んでもよいか、あるいはＣ８オリゴマー生成物は少なくとも９０重量％の１−オクテンを含む。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
本明細書において使用される用語をより明瞭に定義するために、以下の定義が提供される。他に示さない限り、以下の定義が本開示に適用できる。ある用語が本開示において使用されるが、本明細書において具体的に定義されない場合、その定義が、本明細書において適用される他の任意の開示または定義と矛盾しない限り、またはその定義が適用される任意のクレームを不明確または不可能にしない限り、ＩＵＰＡＣ Ｃｏｍｐｅｎｄｉｕｍ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｔｅｒｍｉｎｏｌｏｇｙ，２ｎｄＥｄ（１９９７）からの定義を適用することができる。参照によって本明細書において組み込まれる任意の文書によって提供される任意の定義または使用が、本明細書において提供される定義または使用と矛盾する範囲では、本明細書において提供される定義または使用が優先する。
【０００８】
周期表の族は、Ｃｈｅｍｉｃａｌ ａｎｄ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｎｅｗｓ，６３（５），２７，１９８５に公開された版の元素の周期表に示されている番号体系を使用して示す。いくつかの事例において、元素の族は、族に割り当てられた一般名；例えば、１族元素に対してアルカリ金属、２族元素に対してアルカリ土類金属、３〜１２族元素対して遷移金属、および１７族元素に対してハロゲンを使用して示すことができる。
【０００９】
クレーム移行用語または移行句に関して、「包含する」、「含有する」、「有する」、または「特徴とする」と同義である、「含む」という移行用語は、包括的であり、すなわち、オープンエンドであり、さらなる記述しない要素またはプロセスステップを除外しない。「からなる」という移行句は、クレーム中の指定されないいかなる要素、ステップ、または原料も除外する。「本質的にからなる」という移行句は、クレームの範囲を、指定された物質またはステップ、ならびに請求された発明の基本的および新規の特性（複数可）に実質的に影響を与えないものに限定する。「本質的にからなる」クレームは、「からなる」書式で書かれたクローズドのクレームと「含む」書式で起草された完全にオープンなクレームとの間の中央領域を占める。化合物または組成物を記載する場合、それとは反対の指示がない限り、「本質的にからなる」は、「含む」と解釈されるものではなく、その用語が適用される組成物またはプロセスを著しく改変しない物質を含む、記述された要素を記載するように意図される。例えば、物質Ａからなる供給原料は、記述された化合物または組成物の工業的に製造されたまたは市販の試料中に、通常、存在する不純物を含むことができる。クレームが、異なる特色および／または特色の種類（なかんずく、例えば、プロセスステップ、供給原料の特色、および／または、製品の特色）を含む場合、「含む」、「本質的にからなる」、および「からなる」という移行用語は、使用される特色の種類にのみに当てはまり、クレーム内の異なる特色を含む異なる移行用語または移行句を使用することができる。例えば、あるプロセスは、いくつかの記述されたステップ（および他の記述されていないステップ）が含むことができるが、特定のステップからなる、または代替として特定のステップからなる触媒系調製物を使用するおよび／または記述された要素および他の記述されていない要素を含む触媒系を使用することができる。
【００１０】
組成物および方法が様々な要素またはステップを「含む」という観点から記載されているが、組成物および方法はまた、様々な要素またはステップ「本質的にからなる」または「からなる」ことができる。
【００１１】
「ａ」、「ａｎ」、および「ｔｈｅ」という用語は、特に他に示されない限り、複数の代替、例えば、少なくとも１つを含むよう意図される。例えば、「トリアルキルアルミニウム化合物」の開示は、別段の定めがない限り、１種のトリアルキルアルミニウム化合物、または複数のトリアルキルアルミニウム化合物の混合物または組み合わせを包含するよう意図される。
【００１２】
本明細書において、主題の特徴は、特定の態様および／または実施形態内で、異なる特徴の組合せが想定され得るように記載され得る。本明細書に開示されている各々および全ての態様および／または実施形態に関して、本明細書に記載されている化合物、プロセスおよび／または方法に有害に影響を与えない特徴の全ての組合せが、特定の組合せの明確な説明と共にまたはそれらを用いずに意図される。さらに、他に明確に記載されていない限り、本明細書に開示されている任意の態様および／または実施形態は、本出願の本発明の特徴を示すために組み合わされてもよい。
【００１３】
本明細書に開示される任意の特定の化合物に関して、提示された一般構造または名称はまた、他に示されない限り、置換基の特定の集合から生じ得る構造異性体、配座異性体、および立体異性体をすべて包含するように意図される。したがって、ある化合物に対する一般的な言及は、他に明示的に示されない限り、すべての構造異性体を含む。例えば、ペンタンに対する一般的な言及は、ｎ‐ペンタン、２−メチル−ブタン、および２，２−ジメチルプロパンを含み、一方、ブチル基に対する一般的な言及は、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソ−ブチル基、およびｔｅｒｔ−ブチル基を含む。さらに、一般的な構造または名称に対する言及は、文脈が認めるまたは必要とする限り、鏡像異性体であろうとまたはラセミ体であろうとすべての鏡像異性体、ジアステレオマー、および他の光学異性体、ならびに立体異性体の混合物を包含する。提示される任意の特定の式または名称について、提示される任意の一般式または名称はまた、置換基の特定の集合から生じ得るすべての配座異性体、位置異性体、および立体異性体を包含する。
【００１４】
化学「基」は、たとえその基がこのようにして文字通りに合成されなくても、例えば、基を生成するために親化合物から形式的に除去された水素原子の数によって、その基が参照または「親」化合物からどのように形式的に由来するかによって記載される。これらの基は、置換基として使用され、または、金属原子に配位もしくは結合され得る。例として、アルカンから１個の水素原子を除去することによって、「アルキル基」を形式的に誘導することができ、一方、アルカンから２個の水素原子を除去することにより「アルキレン基」を形式的に誘導することができる。さらに、より一般的な用語を、親化合物から任意の数（「１個または複数」）の水素原子を除去することにより形式的に誘導される様々な基を包含するために使用することができる。この親化合物は、この例においては「アルカン基」として記載することができ、また、「アルキル基」を包含するが、アルカンから、状況に応じて必要な、3個以上の水素原子が除去される「アルキレン基」を包含する。全体を通じて、置換基、配位子、または、他の化学的な部分が特定の「基」を構成し得るという開示は、記載される通りその基が使用されるとき、化学構造および結合の周知のルールに従うことを示唆する。「によって誘導される」、「から由来する」、「によって形成される」または「から形成される」基を記載する場合、そのような用語は、形式的な意味において使用され、他に指定されまたは文脈が他に必要としない限り、任意の特定の合成法または手順を反映するようには意図されない。
【００１５】
ある基を記載するために、例えば、特定の基の置換された類似体を指すときに使用される場合の「置換された」という用語は、その基の水素を形式的に置き換える任意の非水素部分を記載することが意図され、非限定的であるように意図される。基（複数可）はまた、本明細書において「非置換」または「無置換」などの等価の用語で呼ばれ、これは、非水素部分がその基内の水素を置き換えていない元の基を指す。「置換された」は、非限定的であり、無機置換基または有機置換基を含むように意図される。さらに、他の識別子または制限用語が、特定の置換基の有無、特定の位置化学および／または立体化学、または基礎をなす分枝構造もしくは骨格の有無を示すために使用されてもよい
【００１６】
グアニジン基は、一般構造
【化１】
2018076371.tif 000002
を有する基である。グアニジンのコア内で、中心の炭素原子との二重結合に関与する窒素はＮ１窒素と称され、中心の炭素原子との単結合に関与する２つの窒素原子はＮ２窒素およびＮ３窒素と称される。同様に、Ｎ１、Ｎ２およびＮ３窒素原子に取り付けられる基はそれぞれ、Ｎ１基、Ｎ２基およびＮ３基と称される。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基は、一般構造
【化２】
2018076371.tif 000003
を有する。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基内で、グアニジンコアの中心の炭素原子との二重結合に関与する窒素はＮ１窒素と称され、グアニジンコアの中心の炭素原子との単結合およびホスフィニル基のリン原子との結合に関与する窒素原子はＮ２−窒素と称され、グアニジンコアの中心の炭素原子との単結合に関与する残りの窒素原子はＮ３窒素と称される。グアニジンコアまたはＮ２−ホスフィニルグアニジン基は、グアニジンを含有しないより大きな基（または化合物）の一部であってもよいことは留意されるべきである。例えば、化合物７−ジメチルホスフィニルイミダゾ［１，２−ａ］イミダゾールは、イミダゾ［１，２−ａ］イミダゾールコアを有する化合物（またはホスフィニルイミダゾ［１，２−ａ］イミダゾール基を有する化合物）と分類され得、７−ジメチルホスフィニルイミダゾ［１，２−ａ］イミダゾールはさらに、グアニジンコア（またはＮ２−ホスフィニルグアニジン基）の定義された一般構造を含有するので、グアニジンコアを有する化合物（またはＮ２−ホスフィニルグアニジン基を有する化合物）と分類される。
【００１７】
「オルガニル基」という用語は、本明細書において、ＩＵＰＡＣによって指定された定義、「官能基の種類に関係なく、炭素原子に遊離の１価を有する有機置換基」に従って使用される。同様に、「オルガニレン基」とは、官能基の種類に関係なく、有機化合物から２個の水素原子、すなわち、１個の炭素原子から２個の水素原子を、または２個の異なる炭素原子それぞれから１個の水素原子を除去することにより誘導されたオルガニック基を指す。「オルガニック基」とは、有機化合物の炭素原子から１個または複数の水素原子を除去することにより形成された一般化された基を指す。したがって、「オルガニル基」、「オルガニレン基」および「オルガニック基」は、有機官能基（複数可）および／または炭素および水素以外の原子（複数可）を含むことができる。すなわち、オルガニック基は、炭素および水素に加えて官能基および／または原子を含むことができる。例えば、炭素および水素以外の原子の非限定的な例は、ハロゲン、酸素、窒素、リンなどを含む。官能基の非限定的な例は、エーテル、アルデヒド、ケトン、エステル、スルフィド、アミン、ホスフィンなどを含む。一態様において、除去されて「オルガニル基」、「オルガニレン基」または「オルガニック基」を形成する水素原子（複数可）は、官能基、なかんずく、例えば、アシル基（−Ｃ（Ｏ）Ｒ）、ホルミル基（−Ｃ（Ｏ）Ｈ）、カルボキシ基（−Ｃ（Ｏ）ＯＨ）、ヒドロカルボキシカルボニル基（−Ｃ（Ｏ）ＯＲ）、シアノ基（−Ｃ≡Ｎ）、カルバモイル基（−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２）、Ｎ−ヒドロカルビルカルバモイル基（−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ）、またはＮ，Ｎ’−ジヒドロカルビルカルバモイル基（−Ｃ（Ｏ）ＮＲ２）に属する炭素原子に結合されていてもよい。別の態様において、除去されて「オルガニル基」、「オルガニレン基」または「オルガニック基」を形成する水素原子（複数可）は、官能基、例えば、−ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ３，−ＣＨ２ＮＲ２などに属さず、かつ、そこから遠い炭素原子に結合されていてもよい。「オルガニル基」、「オルガニレン基」または「オルガニック基」は、環式もしくは非環式を含む脂肪族であってもよく、または芳香族であってもよい。「オルガニル基」、「オルガニレン基」および「オルガニック基」はまた、ヘテロ原子含有環、ヘテロ原子含有環系、ヘテロ芳香環、およびヘテロ芳香環系を包含する。「オルガニル基」、「オルガニレン基」および「オルガニック基」は、別段の定めがない限り、直鎖状または分岐状であってもよい。最後に、「オルガニル基」、「オルガニレン基」または「オルガニック基」定義は、「ヒドロカルビル基」、「ヒドロカルビレン基」、「炭化水素基」をそれぞれ、また成員として「アルキル基」、「アルキレン基」および「アルカン基」をそれぞれ含むことが留意される。
【００１８】
本出願の目的に対して、「不活性官能基からなるオルガニル基」という用語または用語の変形は、有機官能基（複数可）、および／または、官能基中に存在する炭素および水素以外の原子（複数可）が、金属化合物と錯体を形成しない、および／または本明細書において定義された工程条件下で不活性である、有機官能基（複数可）、および／または、炭素および水素以外の原子（複数可）に限定されたオルガニル基を指す。したがって、「不活性官能基からなるオルガニル基」という用語または用語の変形は、さらに、不活性官能基からなるオルガニル基内に存在し得る特定のオルガニル基を定義する。さらに、「不活性官能基からなるオルガニル基」という用語は、オルガニル基内の１個または複数の不活性官能基の存在を指すことがある。「不活性官能基からなるオルガニル基」という用語または用語の変形の定義は、（他の基の中でも）成員としてヒドロカルビル基を含む。同様に、「不活性官能基からなるオルガニレン基」とは、不活性官能基からなる有機化合物の１個または２個の炭素原子から２個の水素原子を除去することによって形成されたオルガニック基を指し、また「不活性官能基からなるオルガニック基」とは、不活性官能基からなる有機化合物の１個または２個の炭素原子から２個の水素原子を除去することによって形成された不活性官能基からなる一般化されたオルガニック基を指す。
【００１９】
本出願の目的に対して、「不活性官能基」とは、ｉ）不活性官能基を有する物質が一部を成す、本明細書に記載されるプロセスと実質的に干渉しない、および／またはｉｉ）金属塩錯体の金属塩と錯体を形成しない、ヘテロ原子上に自由原子価を有する基である。「金属塩錯体の金属塩と錯体を形成しない」という用語は、金属塩と錯体を形成し得るが、しかし、特に本明細書に記載される分子は、配位子内の不活性官能基の位置関係により、金属塩と錯体を形成し得ない基を含んでいてもよい。したがって、特定の官能基の不活性度は、金属化合物と錯体を形成する官能基の固有の無能力に関係するだけでなく、金属塩錯体内の官能基の位置にも関係し得る。本明細書において記載されるプロセスと実質的に干渉しない、および／または（ｉｉ）金属塩錯体の金属塩と錯体を形成しない不活性官能基の非限定的な例は、ハライド（フッ化物、塩化物、臭化物およびヨウ化物）、ニトロ、ヒドロカルボキシ基（とりわけ、例えば、アルコキシ、および／またはアロキシ）、および／またはヒドロカルビル基（例えば、ＲＳ−）を含むことができる。
【００２０】
「炭化水素」という用語は、本明細書および特許請求の範囲において使用される場合は常に、炭素および水素のみを含有する化合物を指す。他の識別子は炭化水素中の特定の基の存在を示すために使用することができる（例えば、ハロゲン化炭化水素は、炭化水素中の等しい数の水素原子を置き換えた１個または複数のハロゲン原子の存在を示す）。「ヒドロカルビル基」という用語は、本明細書において、ＩＵＰＡＣによって規定された定義：「炭化水素から水素原子を除去することにより形成された１価の基」に従って使用される。ヒドロカルビル基の非限定的な例は、エチル、フェニル、トリル、プロペニルなどを含む。同様に、「ヒドロカルビレン基」は、炭化水素から２個の水素原子、１個の炭素原子からの２個の水素原子、または、２個の異なる炭素原子のそれぞれから１個の水素原子を除去することにより形成された基を指す。したがって、本明細書において使用される用語論によると、「炭化水素基」は、炭化水素から１個または複数の水素原子を（特定の基に必要なように）除去することによって形成された一般化された基を指す。「ヒドロカルビル基」、「ヒドロカルビレン基」および「炭化水素基」は、非環式または環式の基であってもよく、および／または直鎖状または分枝状であってもよい。「ヒドロカルビル基」、「ヒドロカルビレン基」および「炭化水素基」は、炭素および水素を含む環、環系、芳香環、および芳香環系を含むことができる。「ヒドロカルビル基」、「ヒドロカルビレン基」および「炭化水素基」は、例として、成員として、他の基の中でも、アリール、アリーレン、アレーン、アルキル、アルキレン、アルカン、シクロアルキル、シクロアルキレン、シクロアルカン、アラルキル、アラルキレンおよびアラルカン基を含む。
【００２１】
「アルカン」という用語は、本明細書および特許請求の範囲において使用される場合は常に、飽和炭化水素化合物を指す。他の識別子をアルカン中の特定の基の存在を示すために使用することができる。（例えば、ハロゲン化アルカンは、アルカン中の等しい数の水素原子を置き換えた１個または複数のハロゲン原子の存在を示す）。「アルキル基」という用語は、本明細書においてＩＵＰＡＣによって規定された定義：「アルカンから水素原子を除去することにより形成された１価の基」に従って使用される。同様に、「アルキレン基」とは、アルカンから２個の水素原子（１個の炭素原子からの２個の水素原子、または２個の異なる炭素原子からの１個の水素原子のどちらか）を除去することにより形成された基を指す。「アルカン基」とは、アルカンから１個または複数の水素原子を（特定の基に必要なように）除去することによって形成された基を指す一般的用語である。「アルキル基」、「アルキレン基」および「アルカン基」は、別段の定めがない限り、非環式または環式の基であってもよく、および／または直鎖状または分枝状であってもよい。第一級、第二級、および第三級アルキル基は、アルカンの、それぞれ、第一級、第二級、第三級炭素原子からの水素原子の除去によって誘導される。ｎ−アルキル基は、直鎖状アルカンの末端炭素原子からの水素原子の除去によって誘導することができる。基ＲＣＨ２（Ｒ≠Ｈ）、Ｒ２ＣＨ（Ｒ≠Ｈ）、およびＲ３Ｃ（Ｒ≠Ｈ）は、それぞれ、第一級、第二級、および第三級アルキル基である。
【００２２】
シクロアルカンは、側鎖を含む、または含まない飽和環式炭化水素、例えば、シクロブタンである。１個または複数の二重結合または１個の三重結合を環内に有する不飽和環状炭化水素は、それぞれシクロアルケンおよびシクロアルキンと呼ばれる。ただ１個、ただ２個、ただ３個などの二重結合または三重結合を、それぞれ、環内に有するシクロアルケンおよびシクロアルキンは、「モノ」、「ジ」、「トリ」などの用語の使用によって、シクロアルケンまたはシクロアルキンの名称内で特定することができる。シクロアルケンおよびシクロアルキンは、さらに、環内の二重結合または三重結合の位置を特定することができる。
【００２３】
「シクロアルキル基」は、シクロアルカンの環炭素原子から水素原子を除去することにより誘導される１価の基である。例えば、１−メチルシクロプロピル基および２−メチルシクロプロピル基は、以下のように図示される。
【化３】
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同様に、「シクロアルキレン基」とは、少なくともその１個が環炭素であるシクロアルカンから２個の水素原子を除去することにより誘導された基を指す。したがって、「シクロアルキルエン基」は、２個の水素原子が同一の環炭素から形式的に除去されたシクロアルカンから誘導された基、２個の水素原子が２個の異なる環炭素から形式的に除去されたシクロアルカンから誘導された基、および、第１の水素原子が環炭素から形式的に除去され、かつ第２の水素原子が環炭素でない炭素原子から形式的に除去されたシクロアルカンから誘導された基のいずれをも含む。「シクロアルカン基」とは、シクロアルカンから１個または複数の水素原子を（特定の基に必要なように、また少なくともその１個は環炭素である）除去することにより形成された一般化された基を指す。本明細書に提供された定義によると、一般的なシクロアルカン基（シクロアルキル基およびシクロアルキレン基を含む）は、シクロアルカン環炭素原子（例えば、メチルシクロプロピル基）に結合した、０、１個または複数のヒドロカルビル置換基を有する基を含み、炭化水素基の群の成員であることが留意されるべきである。しかし、指定された数のシクロアルカン環炭素原子を有するシクロアルカン基（とりわけ、例えば、シクロペンタン基またはシクロヘキサン基）を指す場合、規定された数のシクロアルカン環炭素原子を有するシクロアルカン基の基本名は、非置換シクロアルカン基（シクロアルカン基環炭素原子上に位置するヒドロカルビル基を有しない基を含む）を指す。したがって、指定された数の環炭素原子を有する置換シクロアルカン基（とりわけ、例えば、置換シクロペンタンまたは置換シクロヘキサン）は、シクロアルカン基環炭素原子に結合した１個または複数の置換基を有する各基（他の置換基の中でも、ハロゲン、ヒドロカルビル基、および／またはヒドロカルボキシ基を含む）を指す。規定された数のシクロアルカン環炭素原子を有する置換シクロアルカン基が、炭化水素基の群の成員（またはシクロアルカン基の一般的な群の成員）である場合、規定された数のシクロアルカン環炭素原子を有する置換シクロアルカン基の各置換基は、ヒドロカルビル置換基に限定される。炭化水素基の成員（またはシクロアルカン基の一般的な基の成員）として使用することができる、特定の数の環炭素原子を有する一般的な基、特定の基、および／または個々の置換シクロアルカン基（複数可）は、容易に識別し選択することができる。
【００２４】
「オレフィン」という用語は、本明細書および特許請求の範囲において使用される場合は常に、芳香環または環系の一部でない、少なくとも１個の炭素炭素二重結合を有する化合物を指す。「オレフィン」という用語は、特に別記しない限り、芳香環または環系の一部でない、少なくとも１個の炭素炭素二重結合を有する、脂肪族および芳香族、環式および非環式の、および／または直鎖状および分枝状化合物を含む。「オレフィン」という用語単独では、明示的に示されない限り、ヘテロ原子の有無および／または他の炭素炭素二重結合の有無を示さない。ただ１個、ただ２個、ただ３個などの炭素炭素二重結合を有するオレフィンは、「モノ」、「ジ」、「トリ」などの用語の使用によって、オレフィンの名称内で特定することができる。オレフィンは、炭素炭素二重結合の位置によってさらに特定することができる。
【００２５】
「アルケン」という用語は、本明細書および特許請求の範囲において使用される場合は常に、１個または複数の炭素炭素二重結合を有する直鎖状または分岐状炭化水素オレフィンを指す。ただ１個、ただ２個、ただ３個などのそのような多重結合を有するアルケンは、「モノ」、「ジ」、「トリ」などの用語の使用によって、その名称内で特定することができる。例えば、アルカモノエン、アルカジエンおよびアルカトリエンは、ただ１個の炭素炭素二重結合（一般式ＣｎＨ２ｎ）、ただ２個の炭素炭素二重結合（一般式ＣｎＨ２ｎ−２）、およびただ３個の炭素炭素二重結合（一般式ＣｎＨ２ｎ−４）をそれぞれ有する、直鎖状または分枝状炭化水素オレフィンを指す。アルケンは、さらに、炭素炭素二重結合の位置によって特定することができる。他の識別子はアルケン内の特定の基の有無を示すために使用することができる。例えば、ハロアルケンは、１個または複数の水素原子をハロゲン原子に置き換えたアルケンを指す。
【００２６】
「アルケニル基」は、アルケンの任意の炭素原子からの水素原子の除去によってアルケンから誘導された１価の基である。したがって、「アルケニル基」は、ｓｐ２混成（オレフィン）炭素原子から水素原子が形式的に除去された基、および他の任意の炭素原子から形式的に水素原子が除去された基を含む。例えば、別段の定めがない限り、１−プロペニル（−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３）、２−プロペニル［（ＣＨ３）Ｃ＝ＣＨ２］、および３−プロペニル（−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）基はすべて、「アルケニル基」という用語に包含される。同様に、「アルケニレン基」は、アルケンから形式的に２個の水素原子、すなわち１個の炭素原子からの２個の水素原子または２個の異なる炭素原子からの１個の水素原子を除去することにより形成された基を指す。「アルケン基」とは、アルケンから１個または複数の水素原子を（特定の基に必要なように）除去することにより形成された一般化された基を指す。水素原子が炭素炭素二重結合に参加する炭素原子から除去される場合、水素原子が除去される炭素の位置化学、および炭素炭素二重結合の位置化学はともに指定することができる。アルケン基はまた、複数の炭素炭素二重結合を有することができる。アルケン基はまた、炭素炭素二重結合の位置によってさらに特定することができる。
【００２７】
本明細書および特許請求の範囲において使用される場合、「アルファオレフィン」という用語は、炭素原子の最長の隣接鎖の１番目および２番目の炭素原子の間に炭素炭素二重結合を有するオレフィンを指す。特に他に明示されない限り、「アルファオレフィン」という用語は、直鎖状および分枝状アルファオレフィンを含む。分枝状アルファオレフィンの場合には、分枝は、オレフィン二重結合に関して２位（ビニリデン）におよび／または３位以上にあってもよい。「ビニリデン」という用語は、本明細書および特許請求の範囲において使用される場合は常に、オレフィン二重結合に関して２位に分枝を有するアルファオレフィンを指す。明示的に示されない限り、「アルファオレフィン」という用語は、それ自体で、ヘテロ原子の有無および／または他の炭素炭素二重結合の有無を示さない。「炭化水素アルファオレフィン」または、「アルファオレフィン系炭化水素」という用語は、水素および炭素のみを含有するアルファオレフィン化合物を指す。
【００２８】
本明細書において使用される場合、「直鎖状アルファオレフィン」という用語は、１番目および２番目の炭素原子の間に炭素炭素二重結合を有する直鎖状のオレフィンを指す。「直鎖状アルファオレフィン」という用語単独では、明示的に示されない限り、ヘテロ原子の有無および／または他の炭素炭素二重結合の有無を示さない。「直鎖状炭化水素アルファオレフィン」または「直鎖状アルファオレフィン炭化水素」という用語は、水素および炭素のみを含有する直鎖状アルファオレフィン化合物を指す。
【００２９】
「ノルマルアルファオレフィン」という用語は、本明細書および特許請求の範囲において使用される場合は常に、１番目および２番目の炭素原子の間に炭素炭素二重結合を有する直鎖状炭化水素モノオレフィンを指す。「直鎖状アルファオレフィン」という用語が、１番目および２番目の炭素原子の間に二重結合を有し、ヘテロ原子および／またはさらなる二重結合を有する直鎖状オレフィン化合物を包含することができるように、「ノルマルアルファオレフィン」は「直鎖状アルファオレフィン」と同義ではないことが留意される。
【００３０】
「本質的にノルマルアルファオレフィン（複数可）からなる」という用語またはその変形は、本明細書および特許請求の範囲において使用される場合は常に、市販のノルマルアルファオレフィン製品（複数可）を指す。市販のノルマルアルファオレフィン製品は、他の不純物の中でも、ビニリデン、内部オレフィン、分枝状アルファオレフィン、パラフィン、およびジオレフィンなどの非ノルマルアルファオレフィン不純物を含むことがあり、これらはノルマルアルファオレフィン製造工程中に除去されない。工業的ノルマルアルファオレフィン製品中に存在する特定の不純物の同一性および量は、工業的ノルマルアルファオレフィン製品の起源に依存することは容易に認識される。したがって、「本質的にノルマルアルファオレフィンからなる」という用語およびその変形は、明示的に示されない限り、特定の工業的ノルマルアルファオレフィン製品中に存在する量／分量（ａｍｏｕｎｔ／ｑｕａｎｔｉｔｙ）より、非直鎖状アルファオレフィン成分の量／分量を厳密に限定するようには意図されない。
【００３１】
「複素環化合物」は、環員原子として少なくとも２種の異なる元素を有する環式化合物である。例えば、複素環化合物は、とりわけ、炭素および窒素（例えば、テトラヒドロピロール）、炭素および酸素（例えば、テトラヒドロフラン）、または炭素および硫黄（例えば、テトラヒドロチオフェン）を含有する環を含んでいてもよい。複素環化合物および複素環基は、脂肪族または芳香族のいずれであってもよい。
【００３２】
「ヘテロシクリル基」は、複素環化合物の複素環または環系炭素原子から水素原子を除去することにより形成された１価の基である。水素原子が複素環または環系炭素原子から除去されることを指定することによって、「ヘテロシクリル基」は、水素原子が複素環または環系ヘテロ原子から除去される「シクロヘテリル基」と識別される。例えば、以下に説明されるピロリジン−２−イル基は、「シクロヘテリル」基の一例であり、以下に説明されるピロリジン−１−イル基は、「シクロヘテリル」基の一例である。
【化４】
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同様に、「ヘテロシクリレン基」、またはより簡単に「ヘテロシクレン基」とは、少なくともその１個が複素環または環系炭素からである、複素環の化合物から２個の水素原子を除去することによって形成された基を指す。したがって、「ヘテロシクリレン基」において、少なくとも１個の水素は複素環または環系炭素原子から除去され、例えば、同一の複素環または環系炭素原子、異なる複素環または環系環炭素原子、または非環炭素原子を包含する他の任意の炭素原子から、他の水素原子を除去することができる。「複素環基」は、複素環化合物から１個または複数の水素原子を（特定の基に必要なように、また少なくともその１個は複素環炭素原子である）除去することにより形成された一般化された基を指す。一般に、複素環化合物は、別段の定めがない限り、脂肪族または芳香族であってもよい。
【００３３】
「シクロヘテリル基」は、説明の通り、複素環化合物の複素環または環系ヘテロ原子から水素原子を除去することにより形成された１価の基である。水素原子が、環炭素原子からではなく、複素環または環系ヘテロ原子から除去されることを指定することによって、「シクロヘテリル基」は、水素原子が、複素環または環系炭素原子から除去される「ヘテロシクリル基」から識別される。同様に、「シクロヘテリレン基」は、少なくともその１個が複素環化合物の複素環または環系ヘテロ原子から除去され、他の水素原子は、例えば、複素環または環系環炭素原子、別の複素環または環系ヘテロ原子、または非環原子（炭素またはヘテロ原子）を包含する他の原子から除去することができる、複素環化合物から２個の水素原子を除去することによって形成された基を指す。「シクロヘテロ基」は、複素環化合物から１個または複数の水素原子を（特定の基に必要なように、またその少なくとも１個は複素環または環系ヘテロ原子からである）除去することにより形成された一般化された基を指す。
【００３４】
脂肪族化合物は、芳香族化合物を除く、非環式または環式の、飽和または不飽和の炭素化合物である。したがって、脂肪族化合物は、芳香族化合物を除く、非環式または環式の、飽和または不飽和の炭素化合物である。すなわち、脂肪族化合物は非芳香族有機化合物である。「脂肪族基」は、脂肪族化合物の炭素原子から１個または複数の水素原子を（特定の基に必要なように）除去することによって形成された一般化された基である。したがって、脂肪族の化合物は、芳香族化合物を除く、非環式または環式の、飽和または不飽和の炭素化合物である。すなわち、脂肪族化合物は、非芳香族有機化合物である。脂肪族化合物と、したがって、脂肪族基は、炭素および水素以外の有機官能基（複数可）および／または原子（複数可）を含んでいてもよい。
【００３５】
芳香族化合物は、ｎが１から５までの整数である、Ｈｕｃｋｅｌ（４ｎ＋２）ルールに従い、（４ｎ＋２）π電子を含む、循環的に共役の二重結合系を含有する化合物である。芳香族化合物は、「アレーン」（炭化水素芳香族化合物）、および「ヘタレーン（ｈｅｔａｒｅｎｅｓ）」（複素芳香族化合物）とも称せられる「ヘテロアレーン」を含む。ヘテロアレーンは、芳香族系の特徴である連続的なπ電子系、およびＨｕｃｋｅｌルール（４ｎ＋２）に対応する数の面外π電子を維持するように、周期的な共役二重結合系の１個または複数のメチン（Ｃ＝）炭素原子を、３価または２価のヘテロ原子と置き換えることによってアレーンから形式的に誘導される。アレーン化合物およびヘテロアレーン化合物は芳香族化合物の群の相互に排他的な成員であるが、アレーン基およびヘテロアレーン基の両方を有する化合物は、一般にヘテロアレーン化合物と考えられる。芳香族化合物、アレーン、およびヘテロアレーンは、別段の定めがない限り、単環（例えば、ベンゼン、トルエン、フラン、ピリジン、メチルピリジン）、または多環であってもよい。多環芳香族化合物、アレーンおよびヘテロアレーンは、別段の定めがない限り、芳香環が縮合されていてよい化合物（例えば、ナフタレン、ベンゾフラン、およびインドール）、芳香族基が分離され結合によって連結されていてよい化合物（例えば、ビフェニルまたは４−フェニルピリジン）、または芳香族基が連結原子を含む基によって連結された化合物（他の連結基の中でも、例えば、炭素−ジフェニルメタン中のメチレン基；酸素−ジフェニルエーテル；窒素−トリフェニルアミン）を含む。本明細書において開示されたように、「置換された」という用語は、非水素部分が形式的に化合物中の水素を交換した、芳香族基、アレーン、またはヘテロアレーンを記載するために使用することができ、非限定的であることが意図される。
【００３６】
「芳香族基」とは、芳香族化合物から１個または複数の水素原子（特定の基に必要なように、また少なくともその１個は芳香環炭素原子である）を除去することにより形成された一般化された基を指す。１価の「芳香族基」に関して、除去された水素原子は芳香環炭素からでなければならない。芳香族化合物から複数の水素原子を除去することにより形成された「芳香族基」に関して、少なくとも１個の水素原子は芳香族炭化水素環炭素からでなければならない。さらに、「芳香族基」は、水素原子が芳香環または環系の同一の環から除去され（例えば、フェン−１，４−イレン、ピリジン−２，３−イレン、ナフト−１，２−イレン、およびベンゾフラン−２，３−イレン）、水素原子が環系の２個の異なる環から除去され（例えば、ナフト−１，８−イレンおよびベンゾフラン−２，７−イレン）、または水素原子が２個の単離した芳香環または環系から除去されていてもよい（例えば、ビス（フェン−４−イレン）メタン）。
【００３７】
アレーンは、側鎖を含む、または含まない芳香族炭化水素である（とりわけ、例えば、ベンゼン、トルエン、またはキシレン）。「アリール基」は、アレーンの芳香環炭素からの水素原子の形式的な除去から誘導された基である。アレーンは、単一の芳香族炭化水素環（例えば、ベンゼン、またはトルエン）を含み、縮合芳香環（例えば、ナフタレンまたはアントラセン）を含み、結合を介して共有結合で連結した１個または複数の単離した芳香環（例えば、ビフェニル）または非芳香族炭化水素基（複数可）（例えば、ジフェニルメタン）を含んでいてもよいことは留意されるべきである。「アリール基」の一例は、オルト−トリル（ｏ−トリル）であり、その構造は次に示される。
【化５】
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同様に、「アリーレン基」とは、アレーンから２個の水素原子（少なくともその１個は芳香環炭素からである）を除去することにより形成された基を指す。「アレーン基」とは、アレーンから１個または複数の水素原子（特定の基に必要なように、またその少なくとも１個は芳香環炭素である）を除去することにより形成された一般化された基を指す。しかし、基が別々の異なったアレーンおよびヘテロアレーン環または環系（例えば、７−フェニルベンゾフラン中のフェニルおよびベンゾフランの部分）を含む場合、その分類は、水素原子が除去された特定の環または環系、すなわち、除去された水素が芳香族炭化水素環または環系炭素原子から来た場合、アレーン基（例えば、６−フェニルベンゾフランのフェニル基中の２−炭素原子）、および除去された水素炭素（ｈｙｄｒｏｇｅｎ ｃａｒｂｏｎ）がヘテロ芳香環または環系炭素原子から来た場合、ヘテロアレーン基（例えば、ベンゾフラン基または６−フェニルベンゾフランの２−または７−炭素原子）に依存する。本明細書に提供される定義によると、一般的なアレーン基（アリール基およびアリーレン基を含む）は、芳香族炭化水素環または環系炭素原子に位置する０、１、または複数のヒドロカルビル置換基を有する基（とりわけ、例えば、トルエン基またはキシレン基）を包含し、炭化水素基の群の成員であることが留意されるべきである。しかし、フェニル基（またはフェニレン基）および／またはナフチル基（またはナフチレン基）は、特定の非置換アレーン基（芳香族炭化水素環または環系炭素原子に位置するヒドロカルビル基を有しない）を指す。したがって、置換フェニル基または置換ナフチル基は、芳香族炭化水素環または環系炭素原子に位置する１個または複数の置換基（とりわけ、ハロゲン、ヒドロカルビル基、および／またはヒドロカルボキシ基を含む）を有する各アレーン基を指す。置換フェニル基および／または、置換ナフチル基が、炭化水素基の群の成員（またはアレーン基の一般的な群の成員）である場合、各置換基はヒドロカルビル置換基に限定される。当業者は、炭化水素基の群の成員（またはアレーン基の一般的な群の成員）として使用することができる、一般的フェニルおよび／またはナフチル基、特定のフェニルおよび／またはナフチル基、および／または個々の置換フェニルまたは置換ナフチル基を容易に識別し選択することができる。
【００３８】
ヘテロアレーンは、芳香環または環系内にヘテロ原子を有する、側鎖を含むまたは含まない芳香族化合物である（とりわけ、例えば、ピリジン、インドール、またはベンゾフラン）。「ヘテロアリール基」は、「ヘテロシクリル基」の種類であり、ヘテロアレーン化合物のヘテロ芳香環または環系炭素原子から水素原子を除去することにより形成された１価の基である。水素原子が環炭素原子から除去されたことを指定することによって、「ヘテロアリール基」は、水素原子がヘテロ芳香環または環系ヘテロ原子から除去された「アリールヘテリル基」と識別される。例えば、以下に説明されるインドール−２−イル基は、「ヘテロアリール基」の一例であり、以下に説明されるインドール−１−イル基は、「アリールヘテリル」基の一例である。
【化６】
2018076371.tif 000007
同様に、「ヘテロアリーレン基」とは、少なくともその１個がヘテロアレーン環または環系炭素原子からである２個の水素原子を、ヘテロアレーン化合物から除去することにより形成された基を指す。したがって、「ヘテロアリーレン基」において、少なくとも１個の水素が、ヘテロアレーン環または環系炭素原子から除去され、他の水素原子は、例えば、ヘテロアレーン環もしくは環系炭素原子、または非ヘテロアレーン環もしくは環系原子を包含する他の炭素原子から除去することができる。「ヘテロアレーン基」とは、ヘテロアレーン化合物から１個または複数の水素原子（特定の基に必要なように、また少なくともその１個はヘテロアレーン環炭素原子または環系炭素原子である）を除去することによって形成された一般化された基を指す。水素原子が、ヘテロ芳香環もしくは環系ヘテロ原子から、および、ヘテロ芳香環または環系炭素原子、または芳香族炭化水素環もしくは環系炭素原子から除去される場合、この基は、「アリールヘテリレン（ａｒｙｌｈｅｔｅｒｙｌｅｎｅ）基」または「アリールヘテロ基」として分類される。
【００３９】
「アリールヘテリル基」は、「シクロヘテリル基」の種類であり、説明されるように、ヘテロ芳香環または環系ヘテロ原子から水素原子を除去することにより形成された１価の基である。ヘテロ芳香環または環系炭素原子からではなく、水素原子がヘテロ芳香環または環系ヘテロ原子から除去されると指定することによって、「アリールヘテリル基」は、水素原子がヘテロ芳香環または環系炭素原子から除去される「ヘテロアリール基」と識別される。同様に、「アリールヘテリレン基」とは、少なくともその１個がヘテロアリール化合物のヘテロ芳香環または環系ヘテロ原子から除去される２個の水素原子を、ヘテロアリール化合物から除去することにより形成された基を指し；他の水素原子は、例えば、複素芳香族化合物からの、ヘテロ芳香環もしくは環系炭素原子、別のヘテロ芳香環もしくは環系ヘテロ原子、または非環原子（炭素またはヘテロ原子）を包含する他の任意の原子から除去することができる。「アリールヘテロ基」とは、ヘテロアレーン化合物から１個または複数の水素原子（特定の基に必要なように、また少なくともその１個がヘテロ芳香環または環系ヘテロ原子からである）を除去することにより形成された一般化された基を指す。
【００４０】
「アラルキル基」は、非芳香族炭素原子（とりわけ、例えば、ベンジル基、または２−フェニルエタ−１−イル２−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈ−１ｙｌ基）に遊離の原子価ｖａｌａｎｃｅを有するアリール置換アルキル基である。同様に、「アラルキレン基」は、１個の非芳香族炭素原子に遊離の２価、または２個の非芳香族炭素原子に遊離の１価を有するアリール置換アルキレン基であるが、「アラルカン基」は、非芳香族炭素原子（複数可）に遊離の１または複数の価を有する一般化されたアリール置換アルカン基である。「ヘテロアラルキル基」は、非ヘテロ芳香環または環系炭素原子に遊離の原子価を有する、ヘテロアリール置換アルキル基である。同様に、「ヘテロアラルキレンｈｅｔｅｒｏａｒａｌｋｙｌｅｎｅ基」は、１個の非ヘテロ芳香環もしくは環系炭素原子に遊離の２価または２個の非ヘテロ芳香環もしくは環系炭素原子に遊離の１価を有するヘテロアリール置換アルキレン基であるが、「ヘテロアラルカン基」は、非ヘテロ芳香環または環系炭素原子に遊離の１または複数の価を有する一般化されたアリール置換アルカン基である。それは留意されるべきである本明細書において提供された定義を与えるそれ、一般的なアラルカン基は、アラルカン芳香族炭化水素環または環系炭素原子に位置する０、１個または複数のヒドロカルビル置換基を有する基を包含し、炭化水素基の群の成員である。しかし、特定のアリール基（とりわけ、例えば、ベンジル基中のフェニル基または２−フェニルエチル基）を指定する特定のアラルカン基は、特定の非置換アラルカン基を指す（アラルカン芳香族炭化水素環または環系炭素原子に位置するヒドロカルビル基を含まない）。したがって、特定のアリール基を指定する置換アラルカン基は、１個または複数の置換基有する各アラルカン基を指す（ハロゲン、ヒドロカルビル基、および／またはヒドロカルボキシ基をとりわけ含む）。特定のアリール基を指定する置換アラルカン基が炭化水素基の群の成員（またはアラルカン基の一般的な群の成員）である場合、各置換基はヒドロカルビル置換基に限定される。炭化水素基の群の成員（またはアラルカン基の一般的な群の成員）として使用することができる、特定のアリール基を指定する置換アラルカン基は、容易に識別し選択することができる。
【００４１】
「ハライド」はその通常の意味を有する。したがって、ハライドの例は、フルオリド、クロリド、ブロミド、およびヨージドを含む。
【００４２】
「オルガノヘテリル基」は、炭素を含有する１価の基である。したがって、これは有機系であるが、炭素以外の原子にそれらの遊離の原子価を有している。したがって、オルガノヘテリルおよびオルガニル基は相補的で、相互に排他的である。オルガノヘテリル基は、環式または非環式、および／または、脂肪族または芳香族であってもよく、したがって脂肪族「シクロヘテリル基」（とりわけ、例えば、ピロリジン−１−イルまたはモルホリン−１−イル）、芳香族「アリールヘテリル基」（とりわけ、例えば、ピロール−１−イルまたはインドール−１−イル）、および非環式の基（とりわけ、例えば、オルガニルチオ、トリヒドロカルビルシリル、アリールオキシ、またはアルコキシ）を包含する。同様に、「オルガノヘテリレン（ｏｒｇａｎｏｈｅｔｅｒｙｌｅｎｅ）基」は、少なくともその１つはヘテロ原子にある遊離の２価を有する炭素および少なくとも１個のヘテロ原子を含む２価の基である。「オルガノヘテロ基」は、オルガノヘテロ化合物から遊離の１つまたは複数の価を有する（特定の基に必要なように、また少なくともその１つはヘテロ原子にある）炭素および少なくとも１個のヘテロ原子を含む一般化された基である。
【００４３】
「オルガノアルミニウム化合物」は、アルミニウム−炭素結合を含む任意の化合物を記載するために使用される。したがって、オルガノアルミニウム化合物は、トリアルキル、ジアルキルまたはモノアルキルアルミニウム化合物などのヒドロカルビルアルミニウム化合物；ヒドロカルビルアルモキサン化合物、およびテトラキス（ｐ−トリル）アルミナート塩などのアルミニウムオルガニル結合を含むアルミナート化合物を含む。
【００４４】
本開示内では、有機命名法の一般的な規則が優先する。例えば、置換化合物または基を参照する場合、置換パターンに対する言及は、示された基（複数可）は示された位置に位置し、他の示されていないすべての位置は水素であることを示すようになされる。例えば、４−置換フェニル基に対する言及は、４の位置に位置する非水素置換基、および２、３、５、および６の位置に位置する水素があることを示す。別の例として、３−置換ｓｕｂｔｉｔｕｔｅｄナフト−２−イルに対する言及は、３の位置に位置する非水素置換基、および１、４、５、６、７、および８の位置に位置する水素があることを示す。示された位置に追加された位置に置換を有する化合物または基に対する言及は、他のいくつかの代替言語を使用して言及するであろう。例えば、４の位置に置換基を含むフェニル基に対する言及は、４の位置に非水素基、および２、３、５、および６の位置に水素または任意の非水素原子を有する基を指す。
【００４５】
「反応器流出物」という用語およびその派生語（例えば、オリゴマー化反応器流出物）は、反応器を出るすべての物質を一般に指す。「反応器流出物」という用語およびその派生語は、参照されている反応器流出物の部分を限定する他の記述子で前置きする（ｐｒｅｆａｃｅｄ）こともできる。例えば、「反応器流出物」という用語は、反応器を出るすべての物質（とりわけ、例えば、生成物および溶媒または希釈剤）を指すが、「オレフィン反応器流出物」という用語は、オレフィン（すなわち炭素炭素）二重結合を含む反応器の流出物を指す。
【００４６】
「オリゴマー化」という用語およびその派生語は、２から３０までのモノマー単位を含有する少なくとも７０重量パーセントの生成物を含有する生成物の混合物を生成する工程を指す。同様に、「オリゴマー」は、２から３０までのモノマー単位を含有する生成物であるが、「オリゴマー化生成物」または「オリゴマー生成物」は、「オリゴマー」および「オリゴマー」でない生成物（例えば、３０を超えるモノマー単位を含む生成物）を包含する「オリゴマー化」工程によって生成された生成物をすべて含む。「オリゴマー」または「オリゴマー化生成物」中のモノマー単位は、同じである必要がないことが留意されるべきである。例えば、「オリゴマー」またはモノマーとしてエチレンおよびプロピレンを使用する「オリゴマー化」工程の「オリゴマー化生成物」は、エチレンおよび／またはプロピレン単位両方を含むことができる。
【００４７】
「重合」という用語およびその派生語は、３０モノマー単位を含有する少なくとも７０重量パーセントの生成物を含有する生成物の混合物を生成する工程を指す。同様に、「ポリマー」は、３０を超えるモノマー単位を含有する生成物であるが、「重合生成物」または「ポリマー生成物」は、「ポリマー」を含む「重合」プロセスによって生成される全ての生成物および「ポリマー」でない生成物（例えば、３０モノマー単位以下を含有する生成物）を含む。「ポリマー」または「重合生成物」中のモノマー単位は、同じである必要がないことが留意されるべきである。例えば、モノマーとしてエチレンおよびプロピレンを使用する「重合」工程の「ポリマー」または「重合生成物」は、エチレンおよび／またはプロピレン単位両方を含むことができる。
【００４８】
「三量化」という用語およびその派生語は、３であって３のみのモノマー単位を含有する少なくとも７０重量パーセントの生成物を含有する生成物の混合物を生成する工程を指す。「三量体」は３であって３のみのモノマー単位を含有する生成物であるが、「三量化生成物」または「三量体生成物」は、三量体および三量体でない生成物（例えば、二量体または四量体）を包含する三量化工程によって生成された生成物をすべて含む。一般に、オレフィン三量化は、モノマーｍｏｎｍｅｒ単位中のオレフィン結合の数、および三量体中のオレフィン結合の数を考慮に入れると、オレフィン結合の数、すなわち、炭素炭素二重結合の数を２だけ減少させる。「三量体」または「三量化生成物」中のモノマー単位は同じである必要がないことは留意されるべきである。例えば、モノマーとしてのエチレンおよびブテンを使用する「三量化」工程の「三量体」は、エチレンおよび／またはブテンモノマー単位を含むことができる。すなわち、「三量体」は、Ｃ６、Ｃ８、Ｃ１０、およびＣ１２生成物を包含するということである。別の例において、モノマーとしてエチレンを使用する「三量化」工程の「三量体」は、エチレン単量体単位を含むことができる。単一の分子が２個のモノマー単位を含むことができることもまた留意されるべきである。例えば、１，３−ブタジエンおよび１，４−ペンタジエンなどのジエンは、１個の分子内に２個のモノマー単位を有する。
【００４９】
「四量化」という用語およびその派生語は、４であって４のみのモノマー単位を含有する少なくとも７０重量パーセントの生成物を含有する生成物の混合物を生成する工程を指す。「四量体」は４であって４のみのモノマー単位を含有する生成物であるが、「四量化生成物」または「四量体生成物」は、四量体および四量体でない生成物（例えば、二量体または三量体）を包含する四量化工程によって生成された生成物をすべて含む。一般に、オレフィン四量化は、モノマーｍｏｎｍｅｒ単位中のオレフィン結合の数、および四量体中のオレフィン結合の数を考慮に入れると、オレフィン結合の数、すなわち、炭素炭素二重結合の数を３だけ減少させる。「四量体」または「四量化生成物」中のモノマー単位は同じである必要がないことは留意されるべきである。例えば、モノマーとしてのエチレンおよびブテンを使用する「四量化」工程の「四量体」は、エチレンおよび／またはブテンモノマー単位を含むことができる。一例において、モノマーとしてエチレンを使用する「四量化」工程の「四量体」は、エチレン単量体単位を含むことができる。単一の分子が２個のモノマー単位を含むことができることもまた留意されるべきである。例えば、１，３−ブタジエンおよび１，４−ペンタジエンなどのジエンは、１個の分子内に２個のモノマー単位を有する。
【００５０】
「三量化および四量化」および「三量体および四量体生成物」という用語およびその派生語は、３および／もしくは４であって／または３および／もしくは４のみのモノマー単位を含有する少なくとも７０重量パーセントの生成物を含有する生成物の混合物を生成する工程を指す。「三量化および四量化生成物」は、三量体、四量体、および四量体でない生成物（例えば、二量体）を包含する「三量化および四量化」工程によって生成された生成物をすべて含む。一例において、モノマーとしてエチレンを使用する「三量化および四量化」工程は、少なくとも７０重量パーセントのヘキセンおよび／またはオクテンを含有する生成物の混合物を生成する。
【００５１】
Ｘが０でない正の任意の整数である、「Ｘ炭素原子を有するオリゴマー化生成物」および「ＣＸオリゴマー生成物」という用語または用語の変形は、モノマーのオリゴマー化によって生成されたＸ炭素原子を有する物質を指す。したがって、「Ｘ炭素原子を有するオリゴマー化生成物」および「Ｃｘオリゴマー生成物」という用語は、オレフィンのオリゴマー化によって生成されなかったＸ炭素原子を有する物質（例えば、溶媒）およびＸ炭素原子を有さないオリゴマー生成物を除外する。これらの用語はまた、モノマーのオリゴマー化によって生成するＸ炭素原子を有する物質を指す用語の本質を減じることなく、他の記述的な言葉（とりわけ、例えば、オレフィン、液体、および混合物）およびさらなる記述的な用語の適合を含むことができる。
【００５２】
本開示は、他の態様および実施形態の中でも、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物を製造する方法、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物を含む金属塩錯体、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物を含む金属塩錯体を製造する方法、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物を含む触媒系、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物を含む触媒系を製造する方法、およびＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物を含む触媒系を使用するオレフィンをオリゴマー化する方法を包含する。本開示のこれらの態様は、本明細書にさらに記載される。これらの態様はこれらの見出しの下に開示することができるが、見出しは、本明細書に見られる開示に限定するものではない。さらに、本明細書に開示された様々な態様および実施形態は、任意の方式で組み合わせることができる。
【００５３】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物
一般に、本開示によって包含されるＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物は、少なくとも１個のＮ２−ホスフィニルグアニジン基を有する。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物はただ１個のＮ２−ホスフィニルグアニジンを含み、または代替として、ただ２個のＮ２−ホスフィニルグアニジン基を含む。
【００５４】
一態様において、本開示が包含する化合物は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物を含む。一般に、本開示が包含するＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基を含み；または代替として、２個のＮ２−ホスフィニルグアニジン基を含む。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物は、ただ１個のＮ２−ホスフィニルグアニジン基を含み；または代替として、ただ２個のＮ２−ホスフィニルグアニジン基を含む。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基の数、または構造に関係なく、本化合物は、非金属であってもよい（すなわち、非金属のＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物またはＮ２−ホスフィニルグアニジン基を有する非金属化合物）。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物のグアニジン基は、非環式のグアニジン基（３個の窒素原子およびアミン基の中央の炭素原子が環に含まれていないグアニジン基）である。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物のグアニジン基は環状グアニジン基（アミン基の窒素原子および中央の炭素原子の１つ以上が環内に含まれるグアニジン基）であってもよい。
【００５５】
一態様において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物は、構造Ｇｕ１，Ｇｕ２，Ｇｕ３，Ｇｕ４，もしくはＧｕ５；代替として、構造Ｇｕ１；代替として、Ｇｕ２；代替として、Ｇｕ３；代替として、構造Ｇｕ４；または代替として、構造Ｇｕ５を有することができる。
【化７】
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【００５６】
一実施形態において、ただ１個のＮ２−ホスフィニルグアニジン基を含むＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物は、構造Ｇｕ１，Ｇｕ２，Ｇｕ３，Ｇｕ４またはＧｕ５；代替として、構造Ｇｕ１；代替として、構造Ｇｕ２；代替として、構造Ｇｕ３；代替として、構造Ｇｕ４；または代替として、構造Ｇｕ５を有することにより特徴付けることができる。一実施形態において、１個より多いＮ２−ホスフィニルグアニジン基を有するＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物は、構造Ｇｕ１，Ｇｕ２，Ｇｕ３，Ｇｕ４，またはＧｕ５を有することにより特徴付けることができ、ここで、Ｒ１、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｌ１２、Ｌ２２および／またはＬ２３は、他のＮ２−ホスフィニルグアニジン基を含む。一実施形態において、ただ２個のＮ２−ホスフィニルグアニジン基を含むＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物は、構造Ｇｕ１，Ｇｕ２，Ｇｕ３，Ｇｕ４またはＧｕ５を有することにより特徴付けることができ、ここで、Ｒ１、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｌ１２、Ｌ２２および／またはＬ２３は、第２のＮ２−ホスフィニルグアニジン基を含む。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物が１個より多いＮ２−ホスフィニルグアニジン基であり得るいくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基の原子の１個以上は、１個より多いＮ２−ホスフィニルグアニジン基を有するＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物内の別のＮ２−ホスフィニルグアニジン基と共有できる。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物構造Ｇｕ１，Ｇｕ２，Ｇｕ３，Ｇｕ４またはＧｕ５内のＲ１、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｌ１２、Ｌ２２およびＬ２３は、本明細書に独立して記載され、限定されずに、構造Ｇｕ１，Ｇｕ２，Ｇｕ３，Ｇｕ４，および／またはＧｕ５を有するＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物をさらに記載するために利用できる。他の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物は、本明細書に開示される任意の特定構造を有することができる。
【００５７】
一般に、Ｒ１は、オルガニル基；代替として、本質的に不活性官能基からなるオルガニル基；または代替として、ヒドロカルビル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ１はＣ１〜Ｃ３０オルガニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０オルガニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５オルガニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０オルガニル基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５オルガニル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ１は、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基；代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ２０オルガニル基；代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ１５オルガニル基；代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ１０オルガニル基；または代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ５オルガニル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ３０ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルビル基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５ヒドロカルビル基であってもよい。また他の実施形態において、Ｒ１はＣ３〜Ｃ３０芳香族基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０芳香族基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５芳香族基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ１０芳香族基であってもよい。
【００５８】
一態様において、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ３０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基、もしくはＣ６〜Ｃ３０置換アリール基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基もしくはＣ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基、もしくはＣ６〜Ｃ３０置換アリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ３０アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基；または代替として、Ｃ６〜Ｃ３０置換アリール基であってもよい。一実施形態において、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ１５アルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基、もしくはＣ６〜Ｃ２０置換アリール基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基もしくはＣ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基もしくはＣ６〜Ｃ２０置換アリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基；または代替として、Ｃ６〜Ｃ２０置換アリール基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基、またはＣ６〜Ｃ１５置換アリール基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基、またはＣ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基、もしくはＣ６〜Ｃ１５置換アリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基；または代替として、Ｃ６〜Ｃ１５置換アリール基であってもよい。さらなる実施形態において、Ｒ１はＣ１〜Ｃ５アルキル基であってもよい。置換基（一般および特定）は独立して本明細書に開示され、Ｒ１として利用され得る置換基をさらに記載するために限定せずに利用されてもよい。
【００５９】
一実施形態において、Ｒ１は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、またはデシル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ１は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、もしくはネオペンチル基；代替として、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、もしくはネオペンチル基；代替として、メチル基；代替として、エチル基；代替として、ｎ−プロピル基；代替として、イソプロピル基；代替として、ｔｅｒｔ−ブチル基；または代替として、ネオペンチル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ１として使用することができるアルキル基は置換されていてもよい。置換アルキル基の各置換基は、独立してハロゲンもしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。置換基として使用することができるハロゲンおよびヒドロカルボキシ基（一般および特定）は、独立して本明細書に開示され、限定されることなく使用することができ、Ｒ１として使用することができる置換アルキル基をさらに記載する。
【００６０】
一実施形態において、Ｒ１は、シクロブチル基、置換シクロブチル基、シクロペンチル基、置換シクロペンチル基、シクロヘキシル基、置換シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、置換シクロヘプチル基、シクロオクチル基、または置換シクロオクチル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ１はシクロペンチル基、置換シクロペンチル基、シクロヘキシル基、または置換シクロヘキシル基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ１は、シクロペンチル基または置換シクロペンチル基；または代替として、シクロヘキシル基もしくは置換シクロヘキシル基であってもよい。さらなる実施形態において、Ｒ１は、シクロペンチル基；代替として、置換シクロペンチル基；シクロヘキシル基；または代替として、置換シクロヘキシル基であってもよい。置換基（一般および特定）は、独立して本明細書において開示され、限定されることなく使用することができ、Ｒ１として使用することができる置換シクロアルキル基をさらに記載する。
【００６１】
一態様において、Ｒ１は、構造Ｇ１：
【化８】
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［式中、指定されない原子価は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子に結合している。］であってもよい。一般に、Ｒ１１ｃ、Ｒ１２ｃ、Ｒ１３ｃ、Ｒ１４ｃ、およびＲ１５ｃは、独立して水素または非水素置換基であってもよく、ｎは１から５までの整数であってもよい。Ｒ１が構造Ｇ１を有する実施形態において、Ｒ１１ｃ、Ｒ１３ｃ、Ｒ１４ｃ、およびＲ１５ｃは、水素であってもよく、Ｒ１２ｃは、本明細書において開示された任意の非水素置換基であってもよく；または、代替として、Ｒ１１ｃ、Ｒ１３ｃ、およびＲ１５ｃは、水素であってもよく、Ｒ１２ｃおよびＲ１４ｃは、独立して本明細書において開示された任意の非水素置換基であってもよい。一実施形態において、ｎは１から４まで；または代替として、２から４までの整数であってもよい。他の実施形態において、ｎは２もしくは３；代替として、２；または代替として、３であってもよい。置換基（一般および特定）は、独立して本明細書において開示され、限定されることなく使用することができ、構造Ｇ１を有するＲ１基についてＲ１１ｃ、Ｒ１２ｃ、Ｒ１３ｃ、Ｒ１４ｃおよび／またはＲ１５ｃとして使用することができる非水素置換基をさらに記載する。
【００６２】
Ｒ１が構造Ｇ１を有する実施形態において、Ｒ１１ｃ、Ｒ１３ｃ、Ｒ１４ｃ、およびＲ１５ｃは、水素であってもよく、また、Ｒ１２ｃは、本明細書に示される任意の非水素置換基であってもよく；または、代替として、Ｒ１１ｃ、Ｒ１３ｃおよびＲ１５ｃは水素であってもよく、Ｒ１２ｃおよびＲ１４ｃは、本明細書に示される任意の非水素置換基であってもよい。Ｒ１が構造Ｇ１を有するいくつかの実施形態において、Ｒ１１ｃ、Ｒ１３ｃ、Ｒ１４ｃ、およびＲ１５ｃは水素であってもよく、Ｒ１２ｃは、本明細書に示される任意のアルキル基、アルコキシ基、もしくはハロゲンであってもよく；または、代替として、Ｒ１１ｃ、Ｒ１３ｃおよびＲ１５ｃは水素であってもよく、Ｒ１２ｃおよびＲ１４ｃは、本明細書に示される任意のアルキル基、アルコキシ基、もしくはハロゲンであってもよい。Ｒ１が構造Ｇ１を有する他の実施形態において、Ｒ１１ｃ、Ｒ１３ｃ、Ｒ１４ｃ、およびＲ１５ｃは水素であってもよく、Ｒ１２ｃは本明細書に示される任意のアルキル置換基であってもよく；または、代替として、Ｒ１１ｃ、Ｒ１３ｃおよびＲ１５ｃは水素であってもよく、Ｒ１２ｃおよびＲ１４ｃは、本明細書に示される任意のアルキル置換基であってもよい。Ｒ１が構造Ｇ１を有する別の実施形態において、Ｒ１１ｃ、Ｒ１２ｃ、Ｒ１３ｃ、Ｒ１４ｃ、およびＲ１５ｃは水素であってもよい。一実施形態において、Ｒ１１ｃ、Ｒ１２ｃ、Ｒ１３ｃ、Ｒ１４ｃ、およびＲ１５ｃは、独立して水素、もしくはアルキル基であってもよく；代替として、Ｒ１１ｃ、Ｒ１２ｃ、およびＲ１４ｃは水素であってもよく、Ｒ１３ｃおよびＲ１５ｃは、アルキル基であってもよく；または代替として、Ｒ１１ｃは、水素であってもよく、Ｒ１２ｃ、Ｒ１３ｃ、Ｒ１４ｃ、およびＲ１５ｃは、アルキル基であってもよい。特定の置換基ハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され、限定されることなく使用することができ、構造Ｇ１を有するＲ１基をさらに記載する。
【００６３】
一態様において、Ｒ１は、フェニル基、置換フェニル基、ナフチル基、もしくは置換ナフチル基；代替として、フェニル基もしくは置換フェニル基；代替として、ナフチル基もしくは置換ナフチル基；代替として、フェニル基もしくはナフチル基；または代替として、置換フェニル基もしくは置換ナフチル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ１は独立してフェニル基；代替として、置換フェニル基；代替として、ナフチル基；または代替として、置換ナフチル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ１置換フェニル基は、２−置換フェニル基、３−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、３，５−二置換フェニル基、または２，４，６−三置換フェニル基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ１置換フェニル基は、２−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、もしくは２，４，６−三置換フェニル基；代替として、２−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、もしくは２，６−二置換フェニル基；代替として、３−置換フェニル基もしくは３，５−二置換フェニル基；代替として、２−置換フェニル基もしくは４−置換フェニル基；代替として、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、もしくは２，４，６−三置換フェニル基；代替として、２，６−二置換フェニル基もしくは２，４，６−三置換フェニル基；代替として、２，４−二置換フェニル基もしくは２，６−二置換フェニル基；代替として、２−置換フェニル基；代替として、３−置換フェニル基；代替として、４−置換フェニル基；代替として、２，４−二置換フェニル基；代替として、２，６−二置換フェニル基；代替として、３，５−二置換フェニル基；または代替として、２，４，６−三置換フェニル基であってもよい。置換基（一般および特定）は、独立して本明細書に開示され、限定されることなく使用することができ、Ｒ１として使用することができる任意の置換フェニル基をさらに記載する。
【００６４】
一実施形態において、Ｒ１は、ナフト−１−イル基、置換ナフト−１−イル基、ナフト−２−イル基、または置換ナフト−２−イル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ１は、ナフト−１−イル基もしくは置換ナフト−１−イル基；代替として、ナフト−２−イル基もしくは置換ナフト−２−イル基；代替として、ナフト−１−イル基；代替として、置換ナフト−１−イル基；代替として、ナフト−２−イル基；または代替として、置換ナフト−２−イル基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ１は、２−置換ナフト−１−イル基、３−置換ナフト−１−イル基、４−置換ナフト−１−イル基、または８−置換ナフト−１−イル基；代替として、２−置換ナフト−１−イル基；代替として、３−置換ナフト−１−イル基；代替として、４−置換ナフト−１−イル基；または代替として、８−置換ナフト−１−イル基であってもよい。さらなる実施形態において、Ｒ１は、１−置換ナフト−２−イル基、３−置換ナフト−２−イル基、４−置換ナフト−２−イル基、もしくは１，３−二置換ナフト−２−イル基；代替として、１−置換ナフト−２−イル基；代替として、３−置換ナフト−２−イル基；代替として、４−置換ナフト−２−イル基；または代替として、１，３−二置換ナフト−２−イル基であってもよい。置換基（一般および特定）は、独立して本明細書に開示され、限定されることなく使用することができ、Ｒ１として使用することができる任意の置換ナフチル基をさらに記載する。
【００６５】
一態様において、Ｒ１は構造Ｇ２：
【化９】
2018076371.tif 000010
［式中、指定されない原子価が、Ｎ２−ホスフィニルグアニン基のＮ１窒素原子に結合している。］を有することができる。一般に、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６は、独立して水素または非水素置換基であってもよい。Ｒ１が構造Ｇ２を有する実施形態において、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってよく、Ｒ１２は非水素置換基であってもよく、Ｒ１２、Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６は水素であってもよく、Ｒ１３は非水素置換基であってもよく、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１４は非水素置換基であってもよい。Ｒ１３、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１２およびＲ１４は非水素置換基であってもよく、Ｒ１３、Ｒ１４、およびＲ１５は水素であってもよく、Ｒ１２およびＲ１６は、非水素置換基であってもよく、Ｒ１２、Ｒ１４、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１３およびＲ１５は非水素置換基であってもよく、または、Ｒ１３およびＲ１５は水素であってもよく、Ｒ１２、Ｒ１４、およびＲ１６は、非水素置換基であってもよい。Ｒ１が構造Ｇ２を有するいくつかの実施形態において、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６は水素であってもよく、Ｒ１２は非水素置換基であってもよく、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１４は非水素置換基であってもよく、Ｒ１３、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１２およびＲ１４は、非水素置換基であってもよく、Ｒ１３、Ｒ１４、およびＲ１５は、水素であってもよく、Ｒ１２およびＲ１６は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ１３およびＲ１５は、水素であってもよく、Ｒ１２、Ｒ１４、およびＲ１６は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１２は非水素置換基であってもよく、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１４は非水素置換基であってもよく、Ｒ１３、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１２およびＲ１４は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ１３、Ｒ１４、およびＲ１５は、水素であってもよく、Ｒ１２およびＲ１６は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ１２、Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１３は非水素置換基であってもよく、または、Ｒ１２、Ｒ１４、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１３およびＲ１５は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１２は非水素置換基であってもよく、または、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１４は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ１３、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１２およびＲ１４は、非水素置換基であってもよく、Ｒ１３、Ｒ１４、およびＲ１５は、水素であってもよく、Ｒ１２およびＲ１６は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ１３およびＲ１５は、水素であってもよく、Ｒ１２、Ｒ１４、およびＲ１６は、非水素置換基であってもよく；または、代替として、Ｒ１３、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１２およびＲ１４は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ１３、Ｒ１４、およびＲ１５は、水素であってもよく、Ｒ１２およびＲ１６は、非水素置換基であってもよい。Ｒ１が構造Ｇ２を有する他の実施形態において、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６は水素であってもよく；代替として、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１２は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ１２、Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１３は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１４は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ１３、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１２およびＲ１４は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ１３、Ｒ１４、およびＲ１５は、水素であってもよく、Ｒ１２およびＲ１６は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ１２、Ｒ１４、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１３およびＲ１５は非水素置換基であってもよく；または、代替として、Ｒ１３およびＲ１５は水素であってもよく、Ｒ１２、Ｒ１４、およびＲ１６は、非水素置換基であってもよい。置換基（一般および特定）は、独立して本明細書に開示され、構造Ｇ２を有するＲ１基についてＲ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５およびＲ１６として限定されることなく使用することができる。
【００６６】
一態様において、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ３０オルガノヘテリル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０オルガノヘテリル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５オルガノヘテリル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０オルガノヘテリル基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５オルガノヘテリル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ１は、Ｃ４〜Ｃ３０シクロヘテリル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロヘテリル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロヘテリル基；または代替として、Ｃ４〜Ｃ１０シクロヘテリル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ１として使用することができるシクロヘテリル基は、置換シクロヘテリル基であってもよい。
【００６７】
いくつかの実施形態において、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ３０ヒドロカルビルアミニル基、Ｃ２〜Ｃ３０ジヒドロカルビルアミニル基、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアミニル基、もしくはＣ４〜Ｃ３０置換シクロアミニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ３０ヒドロカルビルアミニル基、もしくはＣ２〜Ｃ３０ジヒドロカルビルアミニル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアミニル基もしくはＣ４〜Ｃ３０置換シクロアミニル基；代替としてＣ２〜Ｃ３０ジヒドロカルビルアミニル基、もしくはＣ４〜Ｃ３０シクロアミニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ３０ヒドロカルビルアミニル基；代替として、Ｃ２〜Ｃ３０ジヒドロカルビルアミニル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアミニル基；または代替として、Ｃ４〜Ｃ３０置換シクロアミニル基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ２０ヒドロカルビルアミニル基、Ｃ２〜Ｃ２０ジヒドロカルビルアミニル基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアミニル基、もしくはＣ４〜Ｃ２０置換シクロアミニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０ヒドロカルビルアミニル基もしくはＣ２〜Ｃ２０ジヒドロカルビルアミニル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアミニル基もしくはＣ４〜Ｃ２０の置換シクロアミニル基；代替としてＣ２〜Ｃ２０ジヒドロカルビルアミニル基もしくはＣ４〜Ｃ２０シクロアミニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０ヒドロカルビルアミニル基；代替として、Ｃ２〜Ｃ２０ジヒドロカルビルアミニル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアミニル基；または代替として、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアミニル基であってもよい。また他の実施形態において、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルビルアミニル基、Ｃ２〜Ｃ１５ジヒドロカルビルアミニル基、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアミニル基、もしくはＣ４〜Ｃ１５置換シクロアミニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルビルアミニル基もしくはＣ２〜Ｃ１５ジヒドロカルビルアミニル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアミニル基もしくはＣ４〜Ｃ１５置換シクロアミニル基；代替としてＣ２〜Ｃ１５ジヒドロカルビルアミニル基、もしくはＣ４〜Ｃ１５シクロアミニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルビルアミニル基；代替として、Ｃ２〜Ｃ１５ジヒドロカルビルアミニル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアミニル基；または代替として、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアミニル基であってもよい。さらなる実施形態において、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ５ヒドロカルビルアミニル基、Ｃ２〜Ｃ１０ジヒドロカルビルアミニル基、Ｃ４〜Ｃ１０シクロアミニル基、もしくはＣ４〜Ｃ１０の置換シクロアミニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ５ヒドロカルビルアミニル基もしくはＣ２〜Ｃ１０ジヒドロカルビルアミニル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１０シクロアミニル基もしくはＣ４〜Ｃ１０の置換シクロアミニル基；代替として、Ｃ２〜Ｃ１０ジヒドロカルビルアミニル基もしくはＣ４〜Ｃ１０シクロアミニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ５ヒドロカルビルアミニル基；代替として、Ｃ２〜Ｃ１０ジヒドロカルビルアミニル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１０シクロアミニル基；または代替として、Ｃ４〜Ｃ１０置換シクロアミニル基であってもよい。
【００６８】
一実施形態において、ヒドロカルビルアミニル基またはジヒドロカルビルアミニル基の各ヒドロカルビル基は、独立してＣ１〜Ｃ３０ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルビル基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５ヒドロカルビル基であってもよい。一実施形態において、ヒドロカルビルアミニル基またはジヒドロカルビルアミニル基の各ヒドロカルビル基は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、もしくはアラルキル基；代替として、アルキル基；代替として、シクロアルキル基；代替として、アリール基；または代替として、もしくはアラルキル基であってもよい。アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、およびアラルキル基は、可能性のあるＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５基（他の可能性のある基の中でも）として本明細書において記載された。これらのアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、およびアラルキル基は、限定されることなく使用することができ、Ｒ１として使用することができるヒドロカルビルアミニル基および／またはジヒドロカルビルアミニル基をさらに記載する。
【００６９】
一実施形態において、Ｒ１は、ピロリジン−１−イル基、置換ピロリジン−１−イル基、ピペリジン−１−イル基、置換ピペリジン−１−イル基、モルフィン−１−イル基、置換モルフィン−１−イル基、ピロール−１−イル基、または置換ピロールイル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ１は、ピロリジン−１−イル基、置換ピロリジン−１−イル基、ピペリジン−１−イル基、もしくは置換ピペリジン−１−イル基；ピロリジン−１−イル基もしくは置換ピロリジン−１−イル基；代替として、ピペリジン−１−イル基もしくは置換ピペリジン−１−イル基；代替として、モルフィン−１−イル基もしくは置換モルフィン−１−イル基；代替として、ピロール−１−イル基もしくは置換ピロールイル基；代替として、ピロリジン−１−イル基、ピペリジン−１−イル基、モルフィン−１−イル基、もしくはピロール−１−イル基；代替として、ピロリジン−１−イル基もしくはピペリジン−１−イル基；代替として、ピロリジン−１−イル基；代替として、置換ピロリジン−１−イル基；代替として、ピペリジン−１−イル基；代替として、置換ピペリジン−１−イル基；代替として、モルフィン−１−イル基；代替として、置換モルフィン−１−イル基；代替として、ピロール−１−イル基；または代替として、置換ピロール−１−イル基であってもよい。一般に、これらの特定のシクロアミニル基は、本明細書に記載されるシクロアミニルおよび置換シクロアミニル基と同一の数の炭素原子を有することができる。置換基（一般または特定）は本明細書において独立して開示され、これらの置換基は、限定されることなく使用することができ、Ｒ１として使用することができる置換シクロアミニル基（一般または特定）をさらに記載する。
【００７０】
一態様において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子が環または環系基（例えば、シクロアルカン基、脂肪族複素環基、シクロヘテロ基、芳香族基、アレーン基、ヘテロアレーン基、アリールヘテロ基、または本明細書に開示された他の任意の基）の原子（炭素またはヘテロ原子）に結合している場合、環式のＲ１基は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子に結合した原子に隣接する原子に、少なくとも１個の置換基を含むことができる。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子が環または環系基（例えば、シクロアルカン基、脂肪族複素環基、シクロヘテロ基、芳香族基、アレーン基、ヘテロアレーン基、もしくはアリールヘテロ基、または本明細書に開示された他の任意の基）の原子（炭素またはヘテロ原子）に結合している場合、環式のＲ１基は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子に結合した原子に隣接する各原子に、少なくとも１個の置換基を含むことができる。別の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子が環または環系基（例えば、シクロアルカン基、脂肪族複素環基、シクロヘテロ基、芳香族基、アレーン基、ヘテロアレーン基、もしくはアリールヘテロ基、または本明細書に開示された他の任意の基）の原子（炭素またはヘテロ原子）に結合している場合、環式のＲ１基は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子に結合した原子に隣接する各原子に、１個の置換基からなることができる。他の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子が環または環系基（例えば、シクロアルカン基、脂肪族複素環基、シクロヘテロ基、芳香族基、アレーン基、ヘテロアレーン基、もしくはアリールヘテロ基、または本明細書に開示された他の任意の基）の原子（炭素またはヘテロ原子）に結合している場合、環式のＲ１基は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子に結合した原子に隣接する原子に、ただ１個の置換基を含むことができる。別の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子が環または環系基（例えば、シクロアルカン基、脂肪族複素環基、シクロヘテロ基、芳香族基、アレーン基、ヘテロアレーン基、もしくはアリールヘテロ基、または本明細書に開示された他の任意の基）の原子（炭素またはヘテロ原子）に結合している場合、環式のＲ１基は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子に結合した原子に隣接する各原子に、ただ１個の置換基を含むことができる。また別の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子が環または環系基（例えば、シクロアルカン基、脂肪族複素環基、シクロヘテロ基、芳香族基、アレーン基、ヘテロアレーン基、もしくはアリールヘテロ基、または本明細書に開示された他の任意の基）の原子（炭素またはヘテロ原子）に結合している場合、環式のＲ１基は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子に結合した原子に隣接する各原子に位置する、ただ１個の置換基からなることができる。
【００７１】
一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子がシクロアルカンまたはアレーン環または環系の炭素原子に結合している場合、環式のＲ１基は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子に結合した炭素原子に隣接する炭素原子に位置する少なくとも１個の置換基を含むことができる。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子がシクロアルカンまたはアレーン環または環系の炭素原子に結合している場合、環式のＲ１基は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子に結合した炭素原子に隣接する各炭素原子に位置する少なくとも１個の置換基を含むことができる。別の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子がシクロアルカンまたはアレーン環または環系の炭素原子に結合している場合、環式のＲ１基は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子に結合した炭素原子に隣接する各炭素原子に位置する１個の置換基からなることができる。他の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子がシクロアルカンまたはアレーン環または環系の炭素原子に結合している場合、環式のＲ１基は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子に結合した炭素原子に隣接する炭素原子に位置するただ１個の置換基を含むことができる。別の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子がシクロアルカンまたはアレーン環または環系の炭素原子に結合している場合、環式のＲ１基は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子に結合した炭素原子に隣接する各炭素原子に位置するただ１個の置換基を含むことができる。また別の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子がシクロアルカンまたはアレーン環または環系の炭素原子に結合している場合、環式のＲ１基は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子に結合した炭素原子に隣接する各炭素原子に位置するただ１個の置換基からなることができる。
【００７２】
非限定的な実施形態において、Ｒ１は、フェニル基、２−アルキルフェニル基、３−アルキルフェニル基、４−アルキルフェニル基、２，４−ジアルキルフェニル基、２，６−ジアルキルフェニル基、３，５−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基、４−アルキルフェニル基、２，４−ジアルキルフェニル基、２，６−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基もしくは４−アルキルフェニル基；代替として、２，４−ジアルキルフェニル基、２，６−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、２，４−ジアルキルフェニル基、もしくは２，６−ジアルキルフェニル基；代替として、２，６−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、３−アルキルフェニル基もしくは３，５−ジアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基もしくは２，６−ジアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基；代替として、３−アルキルフェニル基；代替として、４−アルキルフェニル基；代替として、２，４−ジアルキルフェニル基；代替として、２，６−ジアルキルフェニル基；代替として、３，５−ジアルキルフェニル基；または代替として、２，４，６−トリアルキルフェニル基であってもよい。別の非限定的な実施形態において、Ｒ１は、ナフト−１−イル基、ナフト−２−イル基、２−アルキルナフト−１−イル基、１−アルキルナフト−２−イル基、３−アルキルナフト−２−イル基、もしくは１，３−ジアルキルナフト−２−イル基；代替として、ナフト−１−イル基もしくは２−アルキルナフト−１−イル基；代替として、ナフト−２−イル基、１−アルキルナフト−２−イル基、３−アルキルナフトｎａｐｔｈ−２−イル基、もしくは１，３−ジアルキルナフト−２−イル基；代替として、ナフト−１−イル基；代替として、ナフト−２−イル基；代替として、２−アルキルナフト−１−イル基；代替として、１−アルキルナフト−２−イル基；代替として、３−アルキルナフトｎａｐｔｈ−２−イル基；または代替として、１，３−ジアルキルナフト−２−イル基であってもよい。他の非限定的な実施形態において、Ｒ１はシクロヘキシル基、２−アルキルシクロヘキシル基、もしくは２，６−ジアルキルシクロヘキシル基；代替として、シクロペンチル基、２−アルキルシクロペンチル基、または２，５−ジアルキルシクロペンチル基；代替として、シクロヘキシル基；代替として、２−アルキルシクロヘキシル基；代替として、２，６−ジアルキルシクロヘキシル基；代替として、シクロペンチル基；代替として、２−アルキルシクロペンチル基；または代替として、２，５−ジアルキルシクロペンチル基であってもよい。アルキル基置換基（一般および特定）は、独立して本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、Ｒ１として使用することができる、アルキルフェニル、ジアルキルフェニル、トリアルキルフェニル、ナフチル、ジアルキルナフチル、アルキルシクロヘキシル、ジアルキルシクロヘキシル、アルキルシクロペンチル、またはジアルキルシクロペンチル基をさらに記載する。一般に、ジアルキルまたはトリアルキルフェニル、ナフチル、シクロヘキシル、またはシクロペンチル基のアルキル置換基は、同一であってもよく；または代替として、ジアルキルまたはトリアルキルフェニル、ナフチル、シクロヘキシル、またはシクロペンチル基のアルキル置換基は異なっていてもよい。
【００７３】
別の非限定的な実施形態において、Ｒ１は、フェニル基、２−アルコキシフェニル基、３−アルコキシフェニル基、４−アルコキシフェニル基、または３，５−ジアルコキシフェニル基；代替として、２−アルコキシフェニル基または４−アルコキシフェニル基；代替として、３−アルコキシフェニル基または３，５−ジアルコキシフェニル基；代替として、２−アルコキシフェニル基；代替として、３−アルコキシフェニル基；代替として、４−アルコキシフェニル基；代替として、３，５−ジアルコキシフェニル基であってもよい。アルコキシ基置換基（一般および特定）は独立して本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、Ｒ１として使用することができるアルコキシフェニルまたはジアルコキシフェニル基をさらに記載する。一般に、ジアルコキシフェニル基のアルコキシ置換基は同じであってもよく；または代替として、ジアルコキシフェニル基のアルコキシ置換基は異なっていてもよい。
【００７４】
他の非限定的な実施形態において、Ｒ１は、フェニル基、２−ハロフェニル基、３−ハロフェニル基、４−ハロフェニル基、２，６−ジハロフェニル基、または３，５−ジアルキルフェニル基；代替として、２−ハロフェニル基、４−ハロフェニル基、もしくは２，６−ジハロフェニル基；代替として、２−ハロフェニル基もしくは４−ハロフェニル基；代替として、３−ハロフェニル基もしくは３，５−ジハロフェニル基；代替として、２−ハロフェニル基；代替として、３−ハロフェニル基；代替として、４−ハロフェニル基；代替として、２，６−ジハロフェニル基；または代替として、３，５−ジハロフェニル基であってもよい。ハライドは独立して本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、Ｒ１として使用することができるハロフェニルまたはジハロフェニル基をさらに記載する。一般に、ジハロフェニル基のハライドは同じであってもよく；または、代替として、ジハロフェニル基のハライドは異なっていてもよい。
【００７５】
非限定的な実施形態において、Ｒ１は、２−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、２−ｎ−プロピルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、３−メチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、２，６−ジ−ｎ−プロピルフェニル基、２，６−ジイソプロピルフェニル基、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、２−イソプロピル−６−メチルフェニル基、３，５−ジメチル基、または２，４，６−トリメチルフェニル基；代替として、２−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、２−ｎ−プロピルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基、または２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、２，６−ジメチルフェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、２，６−ジ−ｎ−プロピルフェニル基、２，６−ジイソプロピルフェニル基、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、もしくは２−イソプロピル−６−メチルフェニル基；代替として、２−メチルフェニル基；代替として、２−エチルフェニル基；代替として、２−ｎ−プロピルフェニル基；代替として、２−イソプロピルフェニル基；代替として、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、３−メチルフェニル基；代替として、２，６−ジメチルフェニル基；代替として、２，６−ジエチルフェニル基；代替として、２，６−ジ−ｎ−プロピルフェニル基；代替として、２，６−ジイソプロピルフェニル基；代替として、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、２−イソプロピル−６−メチルフェニル基；代替として、３，５−ジメチルフェニル基；または代替として、２，４，６−トリメチルフェニル基であってもよい。別の非限定的な実施形態において、Ｒ１は、２−メチルシクロヘキシル基、２−エチルシクロヘキシル基、２−イソプロピルシクロヘキシル基、２−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基、２，６−ジメチルシクロヘキシル基、２，６−ジエチルシクロヘキシル基、２，６−ジイソプロピルシクロヘキシル基、または２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基；代替として、２−メチルシクロヘキシル基、２−エチルシクロヘキシル基、２−イソプロピルシクロヘキシル基、または２−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基；代替として、２，６−ジメチルシクロヘキシル基、２，６−ジエチルシクロヘキシル基、２，６−ジイソプロピルシクロヘキシル基、または２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基；代替として、２−メチルシクロヘキシル基；代替として、２−エチルシクロヘキシル基；代替として、２−イソプロピルシクロヘキシル基；代替として、２−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基；代替として、２，６−ジメチルシクロヘキシル基；代替として、２，６−ジエチルシクロヘキシル基；代替として、２，６−ジイソプロピルシクロヘキシル基；または代替として、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基であってもよい。別の非限定的な実施形態において、Ｒ１は、２−メチルナフト−１−イル基、２−エチルナフト−１−イル基、２−ｎ−プロピルナフト−１−イル基、２−イソプロピルナフト−１−イル基、もしくは２−ｔｅｒｔ−ブチルナフト−１−イル基；代替として、２−メチルナフト−１−イル基；代替として、２−エチルナフト−１−イル基；代替として、２−ｎ−プロピルナフト−１−イル基；代替として、２−イソプロピルナフト−１−イル基；または代替として、２−ｔｅｒｔ−ブチルナフト−１−イル基であってもよい。
【００７６】
非限定的な実施形態において、Ｒ１は、３−メトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、３−イソプロポキシフェニル基、３−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、４−エトキシフェニル基、４−イソプロポキシフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基、３，５−ジメトキシフェニル基、３，５−ジエトキシフェニル基、３，５−ジイソプロポキシフェニル基、もしくは３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、３−メトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、３−イソプロポキシフェニル基、もしくは３−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、４−メトキシフェニル基、４−エトキシフェニル基、４−イソプロポキシフェニル基、もしくは４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；または代替として、３，５−ジメトキシフェニル基、３，５−ジエトキシフェニル基、３，５−ジイソプロポキシフェニル基、もしくは３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基であってもよい。他の非限定的な実施形態において、Ｒ１は、３−メトキシフェニル基；代替として、３−エトキシフェニル基；代替として、３−イソプロポキシフェニル基；代替として、３−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、４−メトキシフェニル基；代替として、４−エトキシフェニル基；代替として、４−イソプロポキシフェニル基；代替として、４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、３，５−ジメトキシフェニル基；代替として、３，５−ジエトキシフェニル基；代替として、３，５−ジイソプロポキシフェニル基；または代替として、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基であってもよい。
【００７７】
一態様において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは、独立して、水素、オルガニル基、もしくはトリオルガニルシリル基；代替として、水素もしくはオルガニル基；代替として、水素もしくはトリオルガニルシリル基；代替として、水素；代替として、オルガニル基；または代替としてトリオルガニルシリル基であってもよい。別の態様において、Ｒ２ａおよび／またはＲ２ｂは、独立して、水素、不活性官能基から実質的になるオルガニル基、もしくはトリ（不活性官能基から実質的になるオルガニル基）シリル基；代替として、水素もしくは不活性官能基から実質的になるオルガニル基；代替として、水素もしくはトリ（不活性官能基から実質的になるオルガニル基）シリル基；代替として、不活性官能基から実質的になるオルガニル基もしくはトリ（不活性官能基から実質的になるオルガニル基）シリル基；代替として、不活性官能基から実質的になるオルガニル基；または代替として、トリ（不活性官能基から実質的になるオルガニル基）シリル基であってもよい。一態様において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは、独立して、水素、ヒドロカルビル基、もしくはトリヒドロカルビルシリル基；代替として、水素もしくはヒドロカルビル基；代替として、水素もしくはトリヒドロカルビルシリル基；代替として、ヒドロカルビルもしくはトリヒドロカルビルシリル基；代替として、ヒドロカルビル基；または代替として、トリヒドロカルビルシリル基であってもよい。オルガニル基（一般および特定）は本明細書に開示されており（例えば、Ｒ１についての潜在的選択として）、本明細書に開示されるこれらのオルガニル基の任意の態様または実施形態は、Ｒ２ａおよび／もしくはＲ２ｂとして、またはＲ２ａおよび／もしくはＲ２ｂとして使用できるトリオルガニルシリル基の各々の独立したオルガニル基として使用できる。不活性官能基（一般および特定）から実質的になるオルガニル基は本明細書に開示されており（例えば、Ｒ１についての潜在的選択として）、本明細書に開示される不活性官能基から実質的になるこれらのオルガニル基の任意の態様または実施形態は、Ｒ２ａおよび／もしくはＲ２ｂとして、またはＲ２ａおよび／もしくはＲ２ｂとして使用できるトリ（不活性官能基から実質的になるオルガニル基）シリル基の不活性官能基から実質的になる各々の独立したオルガニル基として使用できる。ヒドロカルビル基（一般および特定）は本明細書に開示されており（例えば、Ｒ１についての潜在的選択として）、本明細書に開示されるこれらのヒドロカルビル基の任意の態様または実施形態は、Ｒ２ａおよび／もしくはＲ２ｂとして、またはＲ２ａおよび／もしくはＲ２ｂとして使用できるトリヒドロカルビルシリル基の独立したヒドロカルビル基として使用できる。さらに他の実施形態において、Ｒ２ａおよび／またはＲ２ｂは、独立して、Ｃ３〜Ｃ３０芳香族基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０芳香族基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５芳香族基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ１０芳香族基であってもよい。
【００７８】
一態様において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは、独立して、Ｃ１〜Ｃ３０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基、もしくはＣ６〜Ｃ３０置換アリール基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基、もしくはＣ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基、もしくはＣ６〜Ｃ３０置換アリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ３０アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基；または代替として、Ｃ６〜Ｃ３０置換アリール基であってもよい。一実施形態において、Ｒ２ａおよび／またはＲ２ｂは、独立して、Ｃ１〜Ｃ１５アルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基、もしくはＣ６〜Ｃ２０置換アリール基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基、もしくはＣ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基、もしくはＣ６〜Ｃ２０置換アリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基；または代替として、Ｃ６〜Ｃ２０置換アリール基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ２ａおよび／またはＲ２ｂは、独立して、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基、またはＣ６〜Ｃ１５置換アリール基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基またはＣ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基もしくはＣ６〜Ｃ１５置換アリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基；または代替として、Ｃ６〜Ｃ１５置換アリール基であってもよい。さらなる実施形態において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは、独立して、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基であってもよい。置換基（一般および特定）は、独立して本明細書に開示され、限定されることなく使用することができ、Ｒ２ａおよびＲ２ｂとして使用することができる置換基をさらに記載する。
【００７９】
一実施形態において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは、独立して、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、またはデシル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは、独立して、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、もしくはネオペンチル基；代替として、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、もしくはネオペンチル基；代替として、メチル基；代替として、エチル基；代替として、ｎ−プロピル基；代替として、イソプロピル基；代替として、ｔｅｒｔ−ブチル基；または代替として、ネオペンチル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂとして使用することができるアルキル基は置換されていてもよい。置換アルキル基の各置換基は、独立してハロゲンまたはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。ハロゲンおよびヒドロカルボキシ基（一般および特定）は、独立して本明細書に開示され（例えば、一般構造および置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、Ｒ２ａおよびＲ２ｂとして使用することができる置換アルキル基をさらに記載する。
【００８０】
一実施形態において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは、独立して、シクロブチル基、置換シクロブチル基、シクロペンチル基、置換シクロペンチル基、シクロヘキシル基、置換シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、置換シクロヘプチル基、シクロオクチル基、または置換シクロオクチル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは、独立して、シクロペンチル基、置換シクロペンチル基、シクロヘキシル基、または置換シクロヘキシル基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは、シクロブチル基または置換シクロブチル基；または代替として、シクロペンチル基もしくは置換シクロペンチル基；代替として、シクロヘキシル基もしくは置換シクロヘキシル基であってもよい。さらなる実施形態において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは、独立して、シクロペンチル基；代替として、置換シクロペンチル基；シクロヘキシル基；または代替として、置換シクロヘキシル基であってもよい。置換基（一般および特定）は、独立して本明細書に開示され、限定されることなく使用することができ、Ｒ２ａおよび／またはＲ２ｂとして使用することができる置換シクロアルキル基をさらに記載する。
【００８１】
一態様において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは独立して、それぞれ構造Ｇ３および構造Ｇ４：
【化１０】
2018076371.tif 000011
を有してもよく、ここで、構造Ｇ３およびＧ４の指定されていない原子価は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ３窒素原子に結合される。一般に、構造Ｇ３のＲ２１ｃ、Ｒ２３ｃ、Ｒ２４ｃ、Ｒ２５ｃならびに構造Ｇ４のＲ３１ｃ、Ｒ３３ｃ、Ｒ３４ｃおよびＲ３５ｃは独立して、水素または非水素置換基であってもよく、各々のｎは独立して、１から５の整数であってもよい。Ｒ２ａが構造Ｇ３を有する実施形態において、Ｒ２１ｃ、Ｒ２３ｃ、Ｒ２４ｃ、およびＲ２５ｃは、水素であってもよく、Ｒ２２ｃは、本明細書に開示される任意の非水素置換基であってもよく；または、代替として、Ｒ２１ｃ、Ｒ２３ｃ、およびＲ２５ｃは水素であってもよく、Ｒ２２ｃおよびＲ２４ｃは、独立して本明細書に開示される任意の非水素置換基であってもよい。Ｒ２ｂが構造Ｇ４を有する実施形態において、Ｒ３１ｃ、Ｒ３３ｃ、Ｒ３４ｃ、およびＲ３５ｃは、水素であってもよく、Ｒ３２ｃは、本明細書に開示される任意の非水素置換基であってもよく；または、代替として、Ｒ３１ｃ、Ｒ３３ｃ、およびＲ３５ｃは水素であってもよく、Ｒ３２ｃおよびＲ３４ｃは、独立して本明細書に開示される任意の非水素置換基であってもよい。一実施形態において、ｎは１から４までの；または代替として２から４までの整数であってもよい。他の実施形態において、各々のｎは、２もしくは３；代替として、２；または代替として、３であってもよい。置換基（一般および特定）は独立して本明細書に開示され、限定されないが、構造Ｇ３を有するＲ２ａ基についてＲ２１ｃ、Ｒ２３ｃ、Ｒ２４ｃ、およびＲ２５ｃとして、ならびに／または構造Ｇ４を有するＲ２ｂ基についてＲ３１ｃ、Ｒ３３ｃ、Ｒ３４ｃ、およびＲ３５ｃとして使用することができる。
【００８２】
一実施形態において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは独立して、フェニル基または置換フェニル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂはフェニル基；または代替として、置換フェニル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂ置換フェニル基は独立して、２−置換フェニル基、３−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、３，５−二置換フェニル基、もしくは２，４，６−三置換フェニル基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂ置換フェニル基は独立して、２−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、もしくは２，４，６−三置換フェニル基；代替として、２−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、または２，６−二置換フェニル基；代替として、３−置換フェニル基もしくは３，５−二置換フェニル基；代替として、２−置換フェニル基もしくは４−置換フェニル基；代替として、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、もしくは２，４，６−三置換フェニル基；代替として、２，６−二置換フェニル基もしくは２，４，６−三置換フェニル基；代替として、２，４−二置換フェニル基もしくは２，６−二置換フェニル基；代替として、２−置換フェニル基；代替として、３−置換フェニル基；代替として、４−置換フェニル基；代替として、２，４−二置換フェニル基；代替として、２，６−二置換フェニル基；代替として、３，５−二置換フェニル基；または代替として、２，４，６−三置換フェニル基であってもよい。置換基（一般および特定）は独立して本明細書に開示され、限定されないが、Ｒ２ａおよび／またはＲ２ｂとして使用することができる任意の置換フェニル基をさらに記載するために使用することができる。
【００８３】
一態様において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは独立して、それぞれ構造Ｇ５および構造Ｇ６：
【化１１】
2018076371.tif 000012
を有してもよく、ここで、構造Ｇ５および構造Ｇ６の指定されていない原子価は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ３窒素原子に結合される。一般に、構造Ｇ５のＲ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５およびＲ２６ならびに構造Ｇ６のＲ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５およびＲ３６は独立して、水素または非水素置換基であってもよい。一実施形態において、構造Ｇ５のＲ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５およびＲ２６は水素であってもよく、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５およびＲ２６は水素であってもよく、Ｒ２２は非水素置換基であってもよく、Ｒ２２、Ｒ２４、Ｒ２５およびＲ２６は水素であってもよく、Ｒ２３は非水素置換基であってもよく、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２５およびＲ２６は水素であってもよく、Ｒ２４は非水素置換基であってもよく、Ｒ２３、Ｒ２５およびＲ２６は水素であってもよく、Ｒ２２およびＲ２４は非水素置換基であってもよく、Ｒ２３、Ｒ２４およびＲ２５は水素であってもよく、Ｒ２２およびＲ２６は非水素置換基であってもよく、Ｒ２２、Ｒ２４およびＲ２６は水素であってもよく、Ｒ２３およびＲ２５は非水素置換基であってもよく、またはＲ２３およびＲ２５は水素であってもよく、Ｒ２２、Ｒ２４、およびＲ２６は非水素置換基であってもよい。いくつかの実施形態において、構造Ｇ５のＲ２３、Ｒ２４、Ｒ２５およびＲ２６は水素であってもよく、Ｒ２２は非水素置換基であってもよく、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２５およびＲ２６は水素であってもよく、Ｒ２４は非水素置換基であってもよく、Ｒ２３、Ｒ２５およびＲ２６は水素であってもよく、Ｒ２２およびＲ２４は非水素置換基であってもよく、Ｒ２３、Ｒ２４およびＲ２５は水素であってもよく、Ｒ２２およびＲ２６は非水素置換基であってもよく、またはＲ２３およびＲ２５は水素であってもよく、Ｒ２２、Ｒ２４およびＲ２６は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５およびＲ２６は水素であってもよく、Ｒ２２は非水素置換基であってもよく、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２５およびＲ２６は水素であってもよく、Ｒ２４は非水素置換基であってもよく、Ｒ２３、Ｒ２５、およびＲ２６は水素であってもよく、Ｒ２２およびＲ２４は非水素置換基であってもよく、またはＲ２３、Ｒ２４、およびＲ２５は水素であってもよく、Ｒ２２およびＲ２６は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ２２、Ｒ２４、Ｒ２５およびＲ２６は水素であってもよく、Ｒ２３は非水素置換基であってもよく、Ｒ２２、Ｒ２４およびＲ２６は水素であってもよく、Ｒ２３およびＲ２５は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５およびＲ２６は水素であってもよく、Ｒ２２は非水素置換基であってもよく、またはＲ２２、Ｒ２３、Ｒ２５およびＲ２６は水素であってもよく、Ｒ２４は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ２３、Ｒ２５およびＲ２６は水素であってもよく、Ｒ２２およびＲ２４は非水素置換基であってもよく、Ｒ２３、Ｒ２４およびＲ２５は水素であってもよく、Ｒ２２およびＲ２６は非水素置換基であってもよく、またはＲ２３およびＲ２５は水素であってもよく、Ｒ２２、Ｒ２４およびＲ２６は非水素置換基であってもよく；または代替として、Ｒ２３、Ｒ２５およびＲ２６は水素であってもよく、Ｒ２２およびＲ２４は非水素置換基であってもよく、またはＲ２３、Ｒ２４およびＲ２５は水素であってもよく、Ｒ２２およびＲ２６は非水素置換基であってもよい。他の実施形態において、構造Ｇ５のＲ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５およびＲ２６は水素であってもよく；代替として、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５およびＲ２６は水素であってもよく、Ｒ２２は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ２２、Ｒ２４、Ｒ２５およびＲ２６は水素であってもよく、Ｒ２３は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２５およびＲ２６は水素であってもよく、Ｒ２４は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ２３、Ｒ２５およびＲ２６は水素であってもよく、Ｒ２２およびＲ２４は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ２３、Ｒ２４およびＲ２５は水素であってもよく、Ｒ２２およびＲ２６は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ２２、Ｒ２４およびＲ２６は水素であってもよく、Ｒ２３およびＲ２５は非水素置換基であってもよく；または代替として、Ｒ２３およびＲ２５は水素であってもよく、Ｒ２２、Ｒ２４およびＲ２６は非水素置換基であってもよい。一実施形態において、構造Ｇ６のＲ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５およびＲ３６は水素であってもよく、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５およびＲ３６は水素であってもよく、Ｒ３２は非水素置換基であってもよく、Ｒ３２、Ｒ３４、Ｒ３５およびＲ３６は水素であってもよく、Ｒ３３は非水素置換基であってもよく、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３５およびＲ３６は水素であってもよく、Ｒ３４は非水素置換基であってもよく、Ｒ３３、Ｒ３５およびＲ３６は水素であってもよく、Ｒ３２およびＲ３４は非水素置換基であってもよく、Ｒ３３、Ｒ３４およびＲ３５は水素であってもよく、Ｒ３２およびＲ３６は非水素置換基であってもよく、Ｒ３２、Ｒ３４およびＲ３６は水素であってもよく、Ｒ３３およびＲ３５は非水素置換基であってもよく、またはＲ３３およびＲ３５は水素であってもよく、Ｒ３２、Ｒ３４、およびＲ３６は非水素置換基であってもよい。いくつかの実施形態において、構造Ｇ６のＲ３３、Ｒ３４、Ｒ３５およびＲ３６は水素であってもよく、Ｒ３２は非水素置換基であってもよく、
Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３５およびＲ３６は水素であってもよく、Ｒ３４は非水素置換基であってもよく、Ｒ３３、Ｒ３５およびＲ３６は水素であってもよく、Ｒ３２およびＲ３４は非水素置換基であってもよく、Ｒ３３、Ｒ３４およびＲ３５は水素であってもよく、Ｒ３２およびＲ３６は非水素置換基であってもよく、またはＲ３３およびＲ３５は水素であってもよく、Ｒ３２、Ｒ３４およびＲ３６は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５およびＲ３６は水素であってもよく、Ｒ３２は非水素置換基であってもよく、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３５およびＲ３６は水素であってもよく、Ｒ３４は非水素置換基であってもよく、Ｒ３３、Ｒ３５、およびＲ３６は水素であってもよく、Ｒ３２およびＲ３４は非水素置換基であってもよく、またはＲ３３、Ｒ３４、およびＲ３５は水素であってもよく、Ｒ３２およびＲ３６は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ３２、Ｒ３４、Ｒ３５およびＲ３６は水素であってもよく、Ｒ３３は非水素置換基であってもよく、Ｒ３２、Ｒ３４およびＲ３６は水素であってもよく、Ｒ３３およびＲ３５は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５およびＲ３６は水素であってもよく、Ｒ３２は非水素置換基であってもよく、またはＲ３２、Ｒ３３、Ｒ３５およびＲ３６は水素であってもよく、Ｒ３４は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ３３、Ｒ３５およびＲ３６は水素であってもよく、Ｒ３２およびＲ３４は非水素置換基であってもよく、Ｒ３３、Ｒ３４およびＲ３５は水素であってもよく、Ｒ３２およびＲ３６は非水素置換基であってもよく、またはＲ３３およびＲ３５は水素であってもよく、Ｒ３２、Ｒ３４およびＲ３６は非水素置換基であってもよく；または代替として、Ｒ３３、Ｒ３５およびＲ３６は水素であってもよく、Ｒ３２およびＲ３４は非水素置換基であってもよく、またはＲ３３、Ｒ３４およびＲ３５は水素であってもよく、Ｒ３２およびＲ３６は非水素置換基であってもよい。他の実施形態において、構造Ｇ６のＲ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５およびＲ３６は水素であってもよく；代替として、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５およびＲ３６は水素であってもよく、Ｒ３２は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ３２、Ｒ３４、Ｒ３５およびＲ３６は水素であってもよく、Ｒ３３は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３５およびＲ３６は水素であってもよく、Ｒ３４は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ３３、Ｒ３５およびＲ３６は水素であってもよく、Ｒ３２およびＲ３４は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ３３、Ｒ３４およびＲ３５は水素であってもよく、Ｒ３２およびＲ３６は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ３２、Ｒ３４およびＲ３６は水素であってもよく、Ｒ３３およびＲ３５は非水素置換基であってもよく；または代替として、Ｒ３３およびＲ３５は水素であってもよく、Ｒ３２、Ｒ３４およびＲ３６は非水素置換基であってもよい。置換基（一般および特定）は独立して本明細書に開示され、限定されないが、構造Ｇ５を有するＲ２ａ基についてＲ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５およびＲ２６として、ならびに／または構造Ｇ６を有するＲ２ｂ基についてＲ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５およびＲ３６として使用することができる。
【００８４】
非限定的な実施形態において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは独立して、フェニル基、２−アルキルフェニル基、３−アルキルフェニル基、４−アルキルフェニル基、２，４−ジアルキルフェニル基、２，６−ジアルキルフェニル基、３，５−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基、４−アルキルフェニル基、２，４−ジアルキルフェニル基、２，６−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基もしくは４−アルキルフェニル基；代替として、２，４−ジアルキルフェニル基、２，６−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、２，４−ジアルキルフェニル基、もしくは２，６−ジアルキルフェニル基；代替として、２，６−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、３−アルキルフェニル基もしくは３，５−ジアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基もしくは２，６−ジアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基；代替として、３−アルキルフェニル基；代替として、４−アルキルフェニル基；代替として、２，４−ジアルキルフェニル基；代替として、２，６−ジアルキルフェニル基；代替として、３，５−ジアルキルフェニル基；または代替として、２，４，６−トリアルキルフェニル基であってもよい。別の非限定的な実施形態において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは独立して、フェニル基、２−アルコキシフェニル基、３−アルコキシフェニル基、４−アルコキシフェニル基、または３，５−ジアルコキシフェニル基；代替として、２−アルコキシフェニル基または４−アルコキシフェニル基；代替として、３−アルコキシフェニル基または３，５−ジアルコキシフェニル基；代替として、２−アルコキシフェニル基；代替として、３−アルコキシフェニル基；代替として、４−アルコキシフェニル基；代替として、３，５−ジアルコキシフェニル基であってもよい。他の非限定的な実施形態において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは独立して、フェニル基、２−ハロフェニル基、３−ハロフェニル基、４−ハロフェニル基、２，６−ジハロフェニル基もしくは３，５−ジアルキルフェニル基；代替として、２−ハロフェニル基、４−ハロフェニル基、もしくは２，６−ジハロフェニル基；代替として、２−ハロフェニル基もしくは４−ハロフェニル基；代替として、３−ハロフェニル基もしくは３，５−ジハロフェニル基；代替として、２−ハロフェニル基；代替として、３−ハロフェニル基；代替として、４−ハロフェニル基；代替として、２，６−ジハロフェニル基；または代替として、３，５−ジハロフェニル基であってもよい。ハライド、アルキル基置換基（一般および特定）、およびアルコキシ基置換基（一般および特定）は、独立して本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、Ｒ２ａおよびＲ２ｂとして使用することができるアルキルフェニル、ジアルキルフェニル、トリアルキルフェニル、アルコキシフェニル、ジアルコキシフェニル、ハロフェニル、またはジハロフェニル基をさらに記載する。一般に、ジアルキル、トリアルキルフェニル、ジアルコキシフェニル、またはジハロフェニル基のハライド、アルキル置換基、またはアルコキシ置換基は、同じであってもよく；または代替として、アルキルフェニル、ジアルキルフェニル、トリアルキルフェニル、ジアルコキシフェニル、またはジハロフェニル基のハロ、アルキル置換基、またはアルコキシ置換基は、異なっていてもよい。
【００８５】
非限定的な実施形態において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは独立して、２−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−エチルフェニル基、４−イソプロピルフェニル基、もしくは４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、２−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基、もしくは２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、４−メチルフェニル基、４−エチルフェニル基、４−イソプロピルフェニル基、もしくは４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、２−メチルフェニル基；代替として、２−エチルフェニル基；代替として、２−イソプロピルフェニル基；代替として、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、４−メチルフェニル基；代替として、４−エチルフェニル基；代替として、４−イソプロピルフェニル基；または代替として、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基であってもよい。別の非限定的な実施形態において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは独立して、２−メトキシフェニル基、２−エトキシフェニル基、２−イソプロポキシフェニル基、２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、４−エトキシフェニル基、４−イソプロポキシフェニル基、もしくは４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、２−メトキシフェニル基、２−エトキシフェニル基、２−イソプロポキシフェニル基、もしくは２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、４−メトキシフェニル基、４−エトキシフェニル基、４−イソプロポキシフェニル基、もしくは４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、２−メトキシフェニル基；代替として、２−エトキシフェニル基；代替として、２−イソプロポキシフェニル基；代替として、２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、４−メトキシフェニル基；代替として、４−エトキシフェニル基；代替として、４−イソプロポキシフェニル基；または代替として、４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基であってもよい。他の非限定的な実施形態において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは独立して、２−フルオロフェニル基、２−クロロフェニル基、３−フルオロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−フルオロフェニル基、４−クロロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、もしくは３，５−ジクロロフェニル基；代替として、２−フルオロフェニル基もしくは２−クロロフェニル基；代替として、３−フルオロフェニル基もしくは３−クロロフェニル基；代替として、４−フルオロフェニル基もしくは４−クロロフェニル基；代替として、３，５−ジフルオロフェニル基もしくは３，５−ジクロロフェニル基；代替として、３−フルオロフェニル基、３−クロロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基もしくは３，５−ジクロロフェニル基；代替として、３−フルオロフェニル基もしくは３，５−ジフルオロフェニル基；代替として、２−フルオロフェニル基；代替として、２−クロロフェニル基；代替として、３−フルオロフェニル基；代替として、３−クロロフェニル基；代替として、４−フルオロフェニル基；代替として、４−クロロフェニル；代替として、３，５−ジフルオロフェニル基；または代替として、３，５−ジクロロフェニル基であってもよい。
【００８６】
一実施形態において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは独立して、トリヒドロカルビルシリル基であってもよい。トリヒドロカルビルシリル基は、一般式ＳｉＲ３を有してもよく、式中Ｒは、本明細書に開示される種類のヒドロカルビル基である。いくつかの実施形態において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂのトリヒドロカルビルシリル基置換基の各々のヒドロカルビル基は独立して、アルキル基、アリール基、アラルキル基；代替として、アルキル基；代替として、アリール基；または代替として、アラルキル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂ（一般または特定）の任意のトリヒドロカルビルシリル基置換基についてＲとして使用することができる各々のアルキル置換基は独立して、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−ペンチル基、３−ペンチル基、２−メチル−１−ブチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、３−メチル−１−ブチル基、３−メチル−２−ブチル基、またはｎｅｏ−ペンチル基；代替として、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎｅｏ−ペンチル基；代替として、メチル基；代替として、エチル基；代替として、イソプロピル基；代替として、ｔｅｒｔ−ブチル基；または代替として、ｎｅｏ−ペンチル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂ（一般および特定）の任意のトリヒドロカルビルシリル基についてＲとして使用することができる各々のアリール基は独立して、フェニル基、トリル基、キシリル基、または２，４，６−トリメチルフェニル基；代替として、フェニル基；代替として、トリル基；代替として、キシリル基；または代替として、２，４，６−トリメチルフェニル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂ（一般および特定）の任意のトリヒドロカルビルシリル基置換基についてＲとして使用することができる各々のアラルキル置換基は独立して、ベンジル基であってもよい。
【００８７】
一実施形態において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂとして使用することができるトリヒドロカルビルシリル基は独立して、トリアルキルシリル基、トリアリールシリル基、またはトリアルカリルシリル基；代替として、トリアルキルシリル基；代替として、トリアリールシリル基；または代替として、トリアルカリルシリル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂとして使用することができる各々のトリヒドロカルビル基は独立して、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、またはトリベンジルシリル基；代替として、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、またはトリプロピルシリル基；代替として、トリメチルシリル基；代替として、トリエチルシリル基；代替として、トリプロピルシリル基；代替として、トリフェニルシリル基；または代替として、トリベンジルシリル基であってもよい。
【００８８】
一態様において、Ｒ３は水素であってもよい。別の態様において、Ｒ３は、オルガニル基；代替として、本質的に不活性官能基からなるオルガニル基；または代替としてヒドロカルビル基であってもよい。オルガニル基（一般および特定）は、（例えばＲ１についての潜在的選択として）本明細書に開示されており、本明細書に開示されるこれらのオルガニル基の任意の態様または実施形態はＲ３として使用することができる。本質的に不活性官能基（一般および特定）からなるオルガニル基は、（例えばＲ１についての潜在的選択として）本明細書に開示されており、本明細書に開示される本質的に不活性官能基からなるこれらのオルガニル基の態様または実施形態はＲ３として使用することができる。ヒドロカルビル基（一般および特定）は、（例えばＲ１についての潜在的選択として）本明細書に開示されており、本明細書に開示されるこれらのヒドロカルビル基の態様または実施形態はＲ３として使用することができる。また他の実施形態において、Ｒ３は、Ｃ３〜Ｃ３０芳香族基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０芳香族基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５芳香族基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ１０芳香族基であってもよい。
【００８９】
一態様において、Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ３０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基、もしくはＣ６〜Ｃ３０置換アリール基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基もしくはＣ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基、もしくはＣ６〜Ｃ３０置換アリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ３０アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基；または代替として、Ｃ６〜Ｃ３０置換アリール基であってもよい。一実施形態において、Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ１５アルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基、もしくはＣ６〜Ｃ２０置換アリール基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基もしくはＣ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基もしくはＣ６〜Ｃ２０置換アリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基；または代替として、Ｃ６〜Ｃ２０置換アリール基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基、もしくはＣ６〜Ｃ１５置換アリール基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基、もしくはＣ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基、もしくはＣ６〜Ｃ１５置換アリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基；または代替として、Ｃ６〜Ｃ１５置換アリール基であってもよい。さらに他の実施形態において、Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基であってもよい。置換基（一般および特定）は独立して本明細書に開示され、限定されないが、Ｒ３として使用することができる置換基をさらに記載するために使用することができる。
【００９０】
一実施形態において、Ｒ３は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ３は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、またはネオペンチル基；代替として、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、またはネオペンチル基；代替として、メチル基；代替として、エチル基；代替として、ｎ−プロピル基；代替として、イソプロピル基；代替として、ｔｅｒｔ−ブチル基；または代替として、ネオペンチル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ３として使用することができるアルキル基は置換されていてもよい。置換アルキル基の各置換基は、独立してハロゲンもしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。ハロゲンおよびヒドロカルボキシ基（一般および特定）は、独立して本明細書に開示され（例えば、一般置換基および置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、Ｒ３として使用することができる置換アルキル基をさらに記載する。
【００９１】
一実施形態において、Ｒ３は、シクロブチル基、置換シクロブチル基、シクロペンチル基、置換シクロペンチル基、シクロヘキシル基、置換シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、置換シクロヘプチル基、シクロオクチル基、または置換シクロオクチル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ３は、シクロペンチル基、置換シクロペンチル基、シクロヘキシル基、もしくは置換シクロヘキシル基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ３は、シクロペンチル基もしくは置換シクロペンチル基；または代替として、シクロヘキシル基もしくは置換シクロヘキシル基であってもよい。さらなる実施形態において、Ｒ３は、シクロペンチル基；代替として、置換シクロペンチル基；シクロヘキシル基；または代替として、置換シクロヘキシル基であってもよい。置換基（一般および特定）は独立して本明細書に開示され、限定されないが、Ｒ３として使用することができる置換シクロアルキル基をさらに記載するために使用することができる。
【００９２】
一態様において、Ｒ３は、構造Ｇ１１：
【化１２】
2018076371.tif 000013
（式中、指定されない原子価が、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ２窒素原子に結合している）を有することができる。一般に、Ｒ３１ｃ、Ｒ３２ｃ、Ｒ３３ｃ、Ｒ３４ｃ、およびＲ３５ｃは、独立して水素または非水素置換基であってもよく、ｎは１から５までの整数であってもよい。Ｒ３が構造Ｇ５を有する実施形態において、Ｒ３１ｃ、Ｒ３３ｃ、Ｒ３４ｃ、およびＲ３５ｃは、水素であってもよく、Ｒ３２ｃは、本明細書に開示される任意の非水素置換基であってもよく；または、代替として、Ｒ３１ｃ、Ｒ３３ｃ、およびＲ３５ｃは、水素であってもよく、Ｒ３２ｃおよびＲ３４ｃは、独立して本明細書において開示される任意の非水素置換基であってもよい。一実施形態において、ｎは、１から４までの；または代替として、２から４までの整数であってもよい。他の実施形態において、ｎは、２もしくは３；代替として、２；または代替として、３であってもよい。置換基（一般および特定）は独立して本明細書に開示され、限定されないが、Ｒ６１ｃ、Ｒ６２ｃ、Ｒ６３ｃ、Ｒ６４ｃ、および／またはＲ６５ｃとして使用することができる非水素置換基をさらに記載するために使用することができる。
【００９３】
一実施形態において、Ｒ３は、フェニル基または置換フェニル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ３は、フェニル基；または代替として、置換フェニル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ３置換フェニル基は、２−置換フェニル基、３−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、３，５−二置換フェニル基、または２，４，６−三置換フェニル基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ３置換フェニル基は、２−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、または２，４，６−三置換フェニル基；代替として、２−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、または２，６−二置換フェニル基；代替として、３−置換ｓｕｂｓｉｔｕｔｅｄフェニル基または３，５−二置換フェニル基；代替として、２−置換フェニル基または４−置換フェニル基；代替として、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、または２，４，６−三置換フェニル基；代替として、２，６−二置換フェニル基または２，４，６−三置換フェニル基；代替として、２，４−二置換フェニル基または２，６−二置換フェニル基；代替として、２−置換フェニル基；代替として、３−置換フェニル基；代替として、４−置換フェニル基；代替として、２，４−二置換フェニル基；代替として、２，６−二置換フェニル基；代替として、３，５−二置換フェニル基；または代替として、２，４，６−三置換フェニル基であってもよい。置換基（一般および特定）は独立して本明細書に開示され、限定されないが、Ｒ３として使用することができる任意の置換フェニル基をさらに記載するために使用することができる。
【００９４】
一態様において、Ｒ３は構造Ｇ１２：
【化１３】
2018076371.tif 000014
（式中、指定されない原子価はＮ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子に結合している）を有することができる。一般に、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６４、Ｒ６５、およびＲ６６は、独立して水素または非水素置換基であってもよい。Ｒ３が構造Ｇ１２を有する実施形態において、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６４、Ｒ６５、およびＲ６６は、水素であってもよく、Ｒ６３、Ｒ６４、Ｒ６５、およびＲ６６は水素であってもよく、Ｒ６２は非水素置換基であってもよく、Ｒ６２、Ｒ６４、Ｒ６５、およびＲ６６は、水素であってもよく、Ｒ６３は非水素置換基であってもよく、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６５、およびＲ６６は、水素であってもよく、Ｒ６４は非水素置換基であってもよい。Ｒ６３、Ｒ６５、およびＲ６６は、水素であってもよく、Ｒ６２およびＲ６４は非水素置換基であってもよく、Ｒ６３、Ｒ６４、およびＲ６５は、水素であってもよく、Ｒ６２およびＲ６６は、非水素置換基であってもよく、Ｒ６２、Ｒ６４、およびＲ６６は、水素であってもよく、Ｒ６３およびＲ６５は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ６３およびＲ６５は水素であってもよく、Ｒ６２、Ｒ６４、およびＲ６６は、非水素置換基であってもよい。Ｒ３が構造Ｇ１２を有するいくつかの実施形態において、Ｒ６３、Ｒ６４、Ｒ６５、およびＲ６６は水素であってもよく、Ｒ６２は非水素置換基であってもよく、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６５、およびＲ６６は水素であってもよく、Ｒ６４は非水素置換基であってもよく、Ｒ６３、Ｒ６５、およびＲ６６は、水素であってもよく、Ｒ６２およびＲ６４は、非水素置換基であってもよく、Ｒ６３、Ｒ６４、およびＲ６５は、水素であってもよく、Ｒ６２およびＲ６６は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ６３およびＲ６５は水素であってもよく、Ｒ６２、Ｒ６４、およびＲ６６は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ６３、Ｒ６４、Ｒ６５、およびＲ６６は、水素であってもよく、Ｒ６２は非水素置換基であってもよく、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６５、およびＲ６６は、水素であってもよく、Ｒ６４は非水素置換基であってもよく、Ｒ６３、Ｒ６５、およびＲ６６は、水素であってもよく、Ｒ６２およびＲ６４は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ６３、Ｒ６４、およびＲ６５は水素であってもよく、Ｒ６２およびＲ６６は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ６２、Ｒ６４、Ｒ６５、およびＲ６６は、水素であってもよく、Ｒ６３は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ６２、Ｒ６４およびＲ６６は、水素であってもよく、Ｒ６３およびＲ６５は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ６３、Ｒ６４、Ｒ６５、およびＲ６６は、水素であってもよく、Ｒ６２は非水素置換基であってもよく、または、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６５、およびＲ６６は、水素であってもよく、Ｒ６４は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ６３、Ｒ６５、およびＲ６６は水素であってもよく、Ｒ６２およびＲ６４は、非水素置換基であってもよく、Ｒ６３、Ｒ６４、およびＲ６５は、水素であってもよく、および、Ｒ６２およびＲ６６は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ６３およびＲ６５は、水素であってもよく、Ｒ６２、Ｒ６４、およびＲ６６は、非水素置換基であってもよく；または、代替として、Ｒ６３、Ｒ６５、およびＲ６６は、水素であってもよく、Ｒ６２およびＲ６４は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ６３、Ｒ６４、およびＲ６５は、水素であってもよく、Ｒ６２およびＲ６６は、非水素置換基であってもよい。Ｒ３が構造Ｇ１２を有する他の実施形態において、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６４、Ｒ６５、およびＲ６６は、水素であってもよく；代替として、Ｒ６３、Ｒ６４、Ｒ６５、およびＲ６６は、水素であってもよく、Ｒ６２は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ６２、Ｒ６４、Ｒ６５、およびＲ６６は、水素であってもよく、Ｒ６３は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６５、およびＲ６６は、水素であってもよく、Ｒ６４は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ６３、Ｒ６５、およびＲ６６は、水素であってもよく、Ｒ６２およびＲ６４は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ６３、Ｒ６４、およびＲ６５は水素であってもよく、Ｒ６２およびＲ６６は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ６２、Ｒ６４、およびＲ６６は、水素であってもよく、Ｒ６３およびＲ６５は、非水素置換基であってもよく；または、代替として、Ｒ６３およびＲ６５は水素であってもよく、Ｒ６２、Ｒ６４、および、Ｒ６６は、非水素置換基であってもよい。置換基（一般および特定）は独立して本明細書に開示され、限定されないが、構造１２を有するＲ３基について、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６４、Ｒ６５、およびＲ６６として使用することができる任意の置換フェニル基をさらに記載するために使用することができる。
【００９５】
非限定的な実施形態において、Ｒ３は、フェニル基、２−アルキルフェニル基、３−アルキルフェニル基、４−アルキルフェニル基、２，４−ジアルキルフェニル基、２，６−ジアルキルフェニル基、３，５−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基、４−アルキルフェニル基、２，４−ジアルキルフェニル基、２，６−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基もしくは４−アルキルフェニル基；代替として、２，４−ジアルキルフェニル基、２，６−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、２，４−ジアルキルフェニル基、もしくは２，６−ジアルキルフェニル基；代替として、２，６−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、３−アルキルフェニル基もしくは３，５−ジアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基もしくは２，６−ジアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基；代替として、３−アルキルフェニル基；代替として、４−アルキルフェニル基；代替として、２，４−ジアルキルフェニル基；代替として、２，６−ジアルキルフェニル基；代替として、３，５−ジアルキルフェニル基；または代替として、２，４，６−トリアルキルフェニル基であってもよい。別の非限定的な実施形態において、Ｒ３は、フェニル基、２−アルコキシフェニル基、３−アルコキシフェニル基、４−アルコキシフェニル基、もしくは３，５−ジアルコキシフェニル基；代替として、２−アルコキシフェニル基もしくは４−アルコキシフェニル基；代替として、３−アルコキシフェニル基もしくは３，５−ジアルコキシフェニル基；代替として、２−アルコキシフェニル基；代替として、３−アルコキシフェニル基；代替として、４−アルコキシフェニル基；代替として、３，５−ジアルコキシフェニル基であってもよい。他の非限定的な実施形態において、Ｒ３は、フェニル基、２−ハロフェニル基、３−ハロフェニル基、４−ハロフェニル基、２，６−ジハロフェニル基、もしくは３，５−ジアルキルフェニル基；代替として、２−ハロフェニル基、４−ハロフェニル基、もしくは２，６−ジハロフェニル基；代替として、２−ハロフェニル基もしくは４−ハロフェニル基；代替として、３−ハロフェニル基もしくは３，５−ジハロフェニル基；代替として、２−ハロフェニル基；代替として、３−ハロフェニル基；代替として、４−ハロフェニル基；代替として、２，６−ジハロフェニル基；または代替として、３，５−ジハロフェニル基であってもよい。ハライド、アルキル基置換基（一般および特定）、およびアルコキシ基置換基（一般および特定）は、独立して本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、Ｒ３として使用することができるアルキルフェニル、ジアルキルフェニル、トリアルキルフェニル、アルコキシフェニル、ジアルコキシフェニル、ハロフェニル、またはジハロフェニル基をさらに記載する。一般に、ジアルキル、トリアルキルフェニル、ジアルコキシフェニル、もしくはジハロフェニル基のハライド、アルキル置換基、もしくはアルコキシ置換基は、同じであってもよく；または代替として、アルキルフェニル、ジアルキルフェニル、トリアルキルフェニル、ジアルコキシフェニル、もしくはジハロフェニル基のハロ、アルキル置換基、もしくはアルコキシ置換基は、異なっていてもよい。
【００９６】
非限定的な実施形態において、Ｒ３は、２−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−エチルフェニル基、４−イソプロピルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、２，６−ジイソプロピルフェニル基、もしくは２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、２−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基、もしくは２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−エチルフェニル基、４−イソプロピルフェニル基、もしくは４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、２−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基、もしくは２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、４−メチルフェニル基、４−エチルフェニル基、４−イソプロピルフェニル基、もしくは４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；または代替として、２，６−ジメチルフェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、２，６−ジ−ｎ−プロピルフェニル基、２，６−ジイソプロピルフェニル基、もしくは２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基であってもよい。別の非限定的な実施形態において、Ｒ３は、２−メチルフェニル基；代替として、２−エチルフェニル基；代替として、２−イソプロピルフェニル基；代替として、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、４−メチルフェニル基；代替として、４−エチルフェニル基；代替として、４−イソプロピルフェニル基；または代替として、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基であってもよい。
【００９７】
一態様において、Ｒ４およびＲ５は独立して、オルガニル基；代替として、本質的に不活性官能基からなるオルガニル基；または代替として、ヒドロカルビル基であってもよい。オルガニル基（一般および特定）は、（例えばＲ１についての潜在的選択として）本明細書に記載され、これらのオルガニル基はＲ４および／またはＲ５として利用されてもよい。本質的に不活性官能基からなるオルガニル基（一般および特定）は、（例えばＲ１についての潜在的選択として）本明細書に記載され、本質的に不活性官能基からなるこれらのオルガニル基はＲ４および／Ｒ５として利用されてもよい。ヒドロカルビル基（一般および特定）は、（例えばＲ１についての潜在的選択として）本明細書に記載され、これらのヒドロカルビル基はＲ４および／またはＲ５として利用されてもよい。さらに他の実施形態において、Ｒ４およびＲ５は独立して、Ｃ３〜Ｃ３０芳香族基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０芳香族基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５芳香族基；またはＣ３〜Ｃ１０芳香族基から選択されてもよい。一態様において、Ｒ４およびＲ５は、結合して（特定の種類の基に関係なく−オルガニル、不活性官能基、ヒドロカルビルまたは任意の内部化学種からなるオルガニル）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のリン原子を含む環を形成することができる。
【００９８】
別の態様において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立してＣ１〜Ｃ３０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ３０脂肪族複素環基、Ｃ３〜Ｃ３０置換脂肪族複素環基、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基、Ｃ６〜Ｃ３０置換アリール基、Ｃ３〜Ｃ３０ヘテロアリール基、もしくはＣ３〜Ｃ３０置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ３０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基、もしくはＣ６〜Ｃ３０置換アリール基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基もしくはＣ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０脂肪族複素環基もしくはＣ３〜Ｃ３０置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基もしくはＣ６〜Ｃ３０置換アリール基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０ヘテロアリール基もしくはＣ３〜Ｃ３０置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ３０アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０脂肪族複素環基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基；代替として、Ｃ６〜Ｃ３０置換アリール基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０ヘテロアリール基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ３０置換ヘテロアリール基であってもよい。一実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立してＣ１〜Ｃ１５アルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ２０脂肪族複素環基、Ｃ３〜Ｃ２０置換脂肪族複素環基、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基、Ｃ６〜Ｃ２０置換アリール基、Ｃ３〜Ｃ２０ヘテロアリール基、もしくはＣ３〜Ｃ２０置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５アルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基、もしくはＣ６〜Ｃ２０置換アリール基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基もしくはＣ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０脂肪族複素環基もしくはＣ３〜Ｃ２０置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基もしくはＣ６〜Ｃ２０置換アリール基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０ヘテロアリール基もしくはＣ３〜Ｃ２０置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０の置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０脂肪族複素環基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０置換アリール基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０ヘテロアリール基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ２０置換ヘテロアリール基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立してＣ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ１５脂肪族複素環基、Ｃ３〜Ｃ１５置換脂肪族複素環基、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基、Ｃ６〜Ｃ１５の置換アリール基、Ｃ３〜Ｃ１５ヘテロアリール基、もしくはＣ３〜Ｃ１５置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基、もしくはＣ６〜Ｃ１５置換アリール基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基もしくはＣ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５脂肪族複素環基もしくはＣ３〜Ｃ１５置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基もしくはＣ６〜Ｃ１５置換アリール基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５ヘテロアリール基もしくはＣ３〜Ｃ１５置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５脂肪族複素環基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５置換アリール基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５ヘテロアリール基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ１５置換ヘテロアリール基であってもよい。さらなる実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立してＣ１〜Ｃ５アルキル基であってもよい。置換基（一般および特定）は独立して本明細書に開示され、限定されないが、Ｒ４および／またはＲ５として使用することができる置換基をさらに記載するために使用することができる。
【００９９】
さらなる態様において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立してメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、またはデシル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立してメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、またはネオペンチル基；代替として、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、またはネオペンチル基；代替として、メチル基；代替として、エチル基；代替として、ｎ−プロピル基；代替として、イソプロピル基；代替として、ｔｅｒｔ−ブチル基；または代替として、ネオペンチル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５として使用することができるアルキル基は、置換されていてもよい。置換アルキル基の各置換基は、独立してハロゲンもしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。ハロゲン、およびヒドロカルボキシ基（一般および特定）は、独立して本明細書に開示され（例えば一般置換基および／または置換されたＲ１基についての置換基として）、限定されることなく使用することができ、Ｒ４および／またはＲ５として使用することができる置換アルキル基をさらに記載する。
【０１００】
さらなる態様において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立してシクロブチル基、置換シクロブチル基、シクロペンチル基、置換シクロペンチル基、シクロヘキシル基、置換シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、置換シクロヘプチル基、シクロオクチル基、または置換シクロオクチル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立してシクロペンチル基、置換シクロペンチル基、シクロヘキシル基、もしくは置換シクロヘキシル基であってもよい。さらなる実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立してシクロペンチル基もしくは置換シクロペンチル基；または代替として、シクロヘキシル基もしくは置換シクロヘキシル基であってもよい。さらなる実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立してシクロペンチル基；代替として、置換シクロペンチル基；シクロヘキシル基；または代替として、置換シクロヘキシル基であってもよい。置換基（一般および特定）は独立して本明細書に開示され、限定されないが、Ｒ４および／またはＲ５として使用することができる置換シクロアルキル基をさらに記載するために使用することができる。
【０１０１】
一態様において、Ｒ４は構造Ｇ７：
【化１４】
2018076371.tif 000015
（式中、指定されない原子価がＮ２−ホスフィニルグアニジン基のリン原子に結合している）を有することができる。一般に、Ｒ４１ｃ、Ｒ４２ｃ、Ｒ４３ｃ、Ｒ４４ｃ、およびＲ４５ｃは、独立して水素または非水素置換基であってもよく、ｎは、１から５までの整数であってもよい。ここで、Ｒ４には構造Ｇ７実施形態において、Ｒ４１ｃ、Ｒ４３ｃ、Ｒ４４ｃおよびＲ４５ｃは、水素であってもよく、Ｒ３２ｃは、本明細書に開示された任意の非水素置換基であってもよく；または、代替として、Ｒ４１ｃ、Ｒ４３ｃ、およびＲ４５ｃは、水素であってもよく、Ｒ４２ｃおよびＲ４４ｃは、独立して本明細書に開示される任意の非水素置換基であってもよい。一実施形態において、ｎは１から４まで；または代替として２から４までの整数であってもよい。他の実施形態において、ｎは、２もしくは３；代替として、２；または代替として、３であってもよい。置換基（一般および特定）は独立して本明細書に開示され、限定されないが、構造Ｇ７を有するＲ４基についてＲ４１ｃ、Ｒ４２ｃ、Ｒ４３ｃ、Ｒ４４ｃ、および／またはＲ４５ｃとして使用することができる非水素置換基をさらに記載するために使用することができる。
【０１０２】
一態様において、Ｒ５は構造Ｇ８：
【化１５】
2018076371.tif 000016
（式中、指定されない原子価が、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のリン原子に結合している）を有することができる。一般に、Ｒ５１ｃ、Ｒ５２ｃ、Ｒ５３ｃ、Ｒ５４ｃ、およびＲ５５ｃは、独立して水素または非水素置換基であってもよく、ｎは１から５までの整数であってもよい。Ｒ５が構造Ｇ８を有する実施形態において、Ｒ５１ｃ、Ｒ５３ｃ、Ｒ５４ｃおよびＲ５５ｃは、水素であってもよく、Ｒ３２ｃは、本明細書に開示される任意の非水素置換基であってもよく；または、代替として、Ｒ５１ｃ、Ｒ５３ｃ、およびＲ５５ｃは水素であってもよく、Ｒ５２ｃおよびＲ５４ｃは、独立して本明細書において開示された任意の非水素置換基であってもよい。一実施形態において、ｎは１から４まで；または代替として２から４までの整数であってもよい。他の実施形態において、ｎは、２もしくは３；代替として、２；または代替として、３であってもよい。置換基（一般および特定）は独立して本明細書に開示され、限定されないが、構造Ｇ８を有するＲ５基についてＲ５１ｃ、Ｒ５２ｃ、Ｒ５３ｃ、Ｒ５４ｃ、および／またはＲ５５ｃとして使用することができる非水素置換基をさらに記載するために使用することができる。
【０１０３】
一態様において、Ｒ４およびＲ５は、独立してフェニル基、置換フェニル基、ナフチル基、または置換ナフチル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立してフェニル基もしくは置換フェニル基；代替として、ナフチル基もしくは置換ナフチル基；代替として、フェニル基もしくはナフチル基；または代替として、置換フェニル基もしくは置換ナフチル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立してフェニル基；代替として、置換フェニル基；代替として、ナフチル基；または代替として、置換ナフチル基であってもよい。置換基（一般および特定）は独立して本明細書に開示され、限定されないが、Ｒ４および／Ｒ５として使用することができる置換フェニル基および／または置換ナフチル基をさらに記載するために使用することができる。
【０１０４】
一実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５置換フェニル基は、２−置換フェニル基、３−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、３，５−二置換フェニル基、または２，４，６−三置換フェニル基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５置換フェニル基は、２−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、もしくは２，４，６−三置換フェニル基；代替として、２−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、もしくは２，６−二置換フェニル基；代替として、３−置換ｓｕｂｓｉｔｕｔｅｄフェニル基もしくは３，５−二置換フェニル基；代替として、２−置換フェニル基もしくは４−置換フェニル基；代替として、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、もしくは２，４，６−三置換フェニル基；代替として、２，６−二置換フェニル基もしくは２，４，６−三置換フェニル基；代替として、２，４−二置換フェニル基もしくは２，６−二置換フェニル基；代替として、２−置換フェニル基；代替として、３−置換フェニル基；代替として、４−置換フェニル基；代替として、２，４−二置換フェニル基；代替として、２，６−二置換フェニル基；代替として、３，５−二置換フェニル基；または代替として、２，４，６−三置換フェニル基であってもよい。置換基（一般および特定）は独立して本明細書に開示され、限定されないが、Ｒ４および／Ｒ５として使用することができる置換フェニル基をさらに記載するために使用することができる。
【０１０５】
一実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立してナフト−１−イル基、置換ナフト−１−イル基、ナフト−２−イル基、または置換ナフト−２−イル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立してナフト−１−イル基もしくは置換ナフト−１−イル基；代替として、ナフト−２−イル基もしくは置換ナフト−２−イル基；代替として、ナフト−１−イル基；代替として、置換ナフト−１−イル基；代替として、ナフト−２−イル基；または代替として、置換ナフト−２−イル基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立して２−置換ナフト−１−イル基、３−置換ナフト−１−イル基、４−置換ナフト−１−イル基、もしくは８−置換ナフト−１−イル基；代替として、２−置換ナフト−１−イル基；代替として、３−置換ナフト−１−イル基；代替として、４−置換ナフト−１−イル基；または代替として、８−置換ナフト−１−イル基であってもよい。さらなる実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立して１−置換ナフト−２−イル基、３−置換ナフト−２−イル基、４−置換ナフト−２−イル基、または１，３−二置換ナフト−２−イル基；代替として、１−置換ナフト−２−イル基；代替として、３−置換ナフト−２−イル基；代替として、４−置換ナフト−２−イル基；代替として、１，３−二置換ナフト−２−イル基であってもよい。置換基（一般および特定）は独立して本明細書に開示され、限定されないが、Ｒ４および／Ｒ５として使用することができる任意の置換ナフチル基をさらに記載するために使用することができる。
【０１０６】
一態様において、Ｒ４は構造Ｇ９：
【化１６】
2018076371.tif 000017
（式中、指定されない原子価が、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のリン原子に結合している）を有することができる。一般に、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、およびＲ４６は、独立して水素または非水素置換基であってもよい。Ｒ４が構造Ｇ９を有する実施形態において、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４２は非水素置換基であってもよく、Ｒ４２、Ｒ４４、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４３は非水素置換基であってもよく、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４４は非水素置換基であってもよく、Ｒ４３、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４２およびＲ４４は、非水素置換基であってもよく、Ｒ４３、Ｒ４４、およびＲ４５は、水素であってもよく、Ｒ４２およびＲ４６は、非水素置換基であってもよく、Ｒ４２、Ｒ４４、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４３およびＲ４５は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ４３およびＲ４５は水素であってもよく、Ｒ４２、Ｒ４４、およびＲ４６は非水素置換基であってもよい。Ｒ４が構造Ｇ９を有するいくつかの実施形態において、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４２は非水素置換基であってもよく、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４４は非水素置換基であってもよく、Ｒ４３、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４２およびＲ４４は、非水素置換基であってもよく、Ｒ４３、Ｒ４４、およびＲ４５は、水素であってもよく、Ｒ４２およびＲ４６は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ４３およびＲ４５は水素であってもよく、Ｒ４２、Ｒ４４、およびＲ４６は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、およびＲ４６は水素であってもよく、Ｒ４２は非水素置換基であってもよく、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４５、およびＲ４６は水素であってもよく、Ｒ４４は非水素置換基であってもよく、Ｒ４３、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４２およびＲ４４は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ４３、Ｒ４４、およびＲ４５は、水素であってもよく、Ｒ４２およびＲ４６は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ４２、Ｒ４４、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４３は非水素置換基であってもよく、または、Ｒ４２、Ｒ４４、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４３およびＲ４５は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４２は非水素置換基であってもよく、または、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４４は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ４３、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４２およびＲ４４は、非水素置換基であってもよく、Ｒ４３、Ｒ４４、およびＲ４５は、水素であってもよく、Ｒ４２およびＲ４６は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ４３およびＲ４５は、水素であってもよく、Ｒ４２、Ｒ４４、およびＲ４６は、非水素置換基であってもよく；または、代替として、Ｒ４３、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４２およびＲ４４は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ４３、Ｒ４４、およびＲ４５は、水素であってもよく、Ｒ４２およびＲ４６は、非水素置換基であってもよい。Ｒ４が構造Ｇ９を有する他の実施形態において、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく；代替として、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４２は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ４２、Ｒ４４、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４３は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４４は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ４３、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４２およびＲ４４は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ４３、Ｒ４４、およびＲ４５は、水素であってもよく、Ｒ４２およびＲ４６は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ４２、Ｒ４４、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４３およびＲ４５は、非水素置換基であってもよく；または代替として、Ｒ４３およびＲ４５は水素であってもよく、Ｒ４２、Ｒ４４、およびＲ４６は、非水素置換基であってもよい。置換基（一般および特定）は独立して本明細書に開示され、限定されないが、構造Ｇ９を有するＲ４基についてＲ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、およびＲ４６として使用することができる。
【０１０７】
一態様において、Ｒ５は構造Ｇ１０：
【化１７】
2018076371.tif 000018
（式中、指定されない原子価が、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のリン原子に結合している）を有することができる。一般に、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、およびＲ５６は、独立して水素または非水素置換基であってもよい。Ｒ５が構造Ｇ１０を有する実施形態において、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５２は非水素置換基であってもよく、Ｒ５２、Ｒ５４、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５３は非水素置換基であってもよく、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５４は非水素置換基であってもよく、Ｒ５３、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５２およびＲ５４は非水素置換基であってもよく、Ｒ５３、Ｒ５４、およびＲ５５は、水素であってもよく、Ｒ５２およびＲ５６は、非水素置換基であってもよく、Ｒ５２、Ｒ５４、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５３およびＲ５５は、非水素置換基であってもよく、またはＲ５３およびＲ５５は、水素であってもよく、Ｒ５２、Ｒ５４、およびＲ５６は、非水素置換基であってもよい。Ｒ５が構造Ｇ１０を有するいくつかの実施形態において、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、およびＲ５６は水素であってもよく、Ｒ５２は非水素置換基であってもよく、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５４は非水素置換基であってもよく、Ｒ５３、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５２およびＲ５４は、非水素置換基であってもよく、Ｒ５３、Ｒ５４、およびＲ５５は、水素であってもよく、Ｒ５２およびＲ５６は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ５３およびＲ５５は、水素であってもよく、Ｒ５２、Ｒ５４、およびＲ５６は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５２は非水素置換基であってもよく、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５４は非水素置換基であってもよく、Ｒ５３、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５２およびＲ５４は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ５３、Ｒ５４、およびＲ５５は、水素であってもよく、Ｒ５２およびＲ５６は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ５２、Ｒ５４、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５３は非水素置換基であってもよく、または、Ｒ５２、Ｒ５４、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５３およびＲ５５は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５２は非水素置換基であってもよく、または、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５４は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ５３、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５２およびＲ５４は、非水素置換基であってもよく、Ｒ５３、Ｒ５４、およびＲ５５は、水素であってもよく、Ｒ５２およびＲ５６は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ５３およびＲ５５は、水素であってもよく、Ｒ５２、Ｒ５４、およびＲ５６は、非水素置換基であってもよく；または代替として、Ｒ５３、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５２およびＲ５４は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ５３、Ｒ５４、およびＲ５５は、水素であってもよく、Ｒ５２およびＲ５６は、非水素置換基であってもよい。Ｒ５が構造Ｇ１０を有する他の実施形態において、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく；代替として、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５２は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ５２、Ｒ５４、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５３は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５４は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ５３、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５２およびＲ５４は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ５３、Ｒ５４、およびＲ５５は、水素であってもよく、Ｒ５２およびＲ５６は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ５２、Ｒ５４、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５３およびＲ５５は、非水素置換基であってもよく；または、代替として、Ｒ５３およびＲ５５は、水素であってもよく、Ｒ５２、Ｒ５４、および、Ｒ５６は、非水素置換基であってもよい。置換基（一般および特定）は独立して本明細書に開示され、限定されないが、構造Ｇ１０を有するＲ５基についてＲ５２、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、およびＲ５６として使用することができる。
【０１０８】
一態様において、Ｒ４およびＲ５は、独立してピリジニル基、置換ピリジニル基、フリル基、置換フリル基、チエニル基、または置換チエニル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立してピリジニル基または置換ピリジニル基であってもよく；代替として、フリル基または置換フリル基；または代替として、チエニル基または置換チエニル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立してピリジニル基、フリル基、またはチエニル基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、ピリジニル基；代替として、置換ピリジニル基；代替として、フリル基；代替として、置換フリル基；代替として、チエニル基；または代替として、置換チエニル基であってもよい。
【０１０９】
一実施形態において、ピリジニル（または置換ピリジニル）Ｒ４およびＲ５基は、独立してピリジン−２−イル基、置換ピリジン−２−イル基、ピリジン−３−イル基、置換ピリジン−３−イル基、ピリジン−４−イル基、または置換ピリジン−４−イル基；または代替として、ピリジン−２−イル基、ピリジン−３−イル基、またはピリジン−４−イル基であってもよい。いくつかの実施形態において、ピリジニル（または置換ピリジニル）Ｒ４およびＲ５基は、独立してピリジン−２−イル基または置換ピリジン−２−イル基；代替として、ピリジン−３−イル基もしくは置換ピリジン−３−イル基；代替として、ピリジン−４−イル基もしくは置換ピリジン−４−イル基；代替として、ピリジン−２−イル基；代替として、置換ピリジン−２−イル基；代替として、ピリジン−３−イル基；代替として、置換ピリジン−３−イル基；代替として、ピリジン−４−イル基；または代替として、置換ピリジン−４−イル基であってもよい。一実施形態において、置換ピリジニルＲ４およびＲ５基は、独立して２−置換ピリジン−３−イル基、４−置換ピリジン−３−イル基、５−置換ピリジン−３−イル基、６−置換ピリジン−３−イル基、２，４−二置換ピリジン−３−イル基、２，６−二置換ピリジン−３−イル基、もしくは２，４，６−三置換ピリジン−３−イル基；代替として、２−置換ピリジン−３−イル基、４−置換ピリジン−３−イル基、もしくは６−置換ピリジン−３−イル基；代替として、２，４−二置換ピリジン−３−イル基もしくは２，６−二置換ピリジン−３−イル基；代替として、２−置換ピリジン−３−イル基；代替として、４−置換ピリジン−３−イル基；代替として、５−置換ピリジン−３−イル基；代替として、６−置換ピリジン−３−イル基；代替として、２，４−二置換ピリジン−３−イル基；代替として、２，６−二置換ピリジン−３−イル基；または代替として、２，４，６−三置換ピリジン−３−イル基であってもよい。一実施形態において、置換ピリジニルＲ４およびＲ５基は、独立して２−置換ピリジン−４−イル基、３−置換ピリジン−４−イル基、５−置換ピリジン−４−イル基、６−置換ピリジン−４−イル基、２，６−二置換ピリジン−４−イル基、もしくは３，５−二置換ピリジン−４−イル基；代替として、２−置換ピリジン−４−イル基もしくは６−置換ピリジン−４−イル基；代替として、３−置換ピリジン−４−イル基もしくは５−置換ピリジン−４−イル基；代替として、２−置換ピリジン−４−イル基；代替として、３−置換ピリジン−４−イル基；代替として、５−置換ピリジン−４−イル基；代替として、６−置換ピリジン−４−イル基；代替として、２，６−二置換ピリジン−４−イル基；または代替として、３，５−二置換ピリジン−４−イル基であってもよい。置換基（一般および特定）は独立して本明細書に開示され、限定されないが、Ｒ４および／またはＲ５として使用することができる置換ピリジニル基をさらに記載するために使用することができる。
【０１１０】
一実施形態において、各フリル（または置換フリル）Ｒ４およびＲ５基は、独立してフル−２−イル基、置換フル−２−イル基、フル−３−イル基、または置換フル−３−イル基；代替として、フル−２−イルまたはフル−３−イル基から選択することができる。いくつかの実施形態において、フリル（または置換フリル）Ｒ４およびＲ５基は、独立してフル−２−イル基もしくは置換フル−２−イル基；代替として、フル−３−イル基もしくは置換フル−３−イル基；代替として、フル−２−イル基；代替として、置換フル−２−イル基；代替として、フル−３−イル基；または代替として、置換フル−３−イル基から選択することができる。一実施形態において、置換フリルＲ４およびＲ５基は、２−置換フル−３−イル基、４−置換フル−３−イル基、もしくは２，４−二置換フル−３−イル基；代替として、２−置換フル−３−イル基；代替として、４−置換フル−３−イル基；または代替として、２，４−二置換フル−３−イル基であってもよい。置換基（一般および特定）は独立して本明細書に開示され、限定されないが、Ｒ４および／またはＲ５として使用することができる置換フリル基をさらに記載するために使用することができる。
【０１１１】
一実施形態において、チエニル（または置換チエニル）Ｒ４およびＲ５基は、独立してチエン−２−イル基、置換チエン−２−イル基、チエン−３−イル基、または置換チエン−３−イル基；または代替として、チエン−２−イル基またはチエン−３−イル基から選択することができる。いくつかの実施形態において、チエニル（または置換チエニル）Ｒ４およびＲ５基は、独立してチエン−２−イル基もしくは置換チエン−２−イル基；代替として、チエン−３−イル基もしくは置換チエン−３−イル基；代替として、チエン−２−イル基；代替として、置換チエン−２−イル基；代替として、チエン−３−イル基；または代替として、置換チエン−３−イル基から選択することができる。一実施形態において、置換チエニルＲ４およびＲ５基は、２−置換チエン−３−イル基、４−置換チエン−３−イル基、もしくは２，４−二置換チエン−３−イル基；代替として、２−置換チエン−３−イル基；代替として、４−置換チエン−３−イル基；または代替として、２，４−二置換チエン−３−イル基であってもよい。置換基（一般および特定）は独立して本明細書に開示され、限定されないが、Ｒ４および／またはＲ５として使用することができる置換チエニル基をさらに記載するために使用することができる。
【０１１２】
一態様において、Ｒ４およびＲ５が結合してリン原子を含む環状基を形成できる。一実施形態において、Ｒ４およびＲ５が結合してＮ２−ホスフィニルグアニジン基のリン原子を含む環式基を形成する場合、ホスフィニル基は、ホスホル−１−イル基、置換ホスホル−１−イル基、２，３−ジホスホル−１−イル基、置換２，３−ジホスホル−１−イル基、３，５−ジホスホル−１−イル基、置換３，５−ジホスホル−１−イル基、ホスホラン−１−イル基、置換ホスホラン−１−イル基、１，２−ジホドロホスフィニン−１−イル基、置換、１，２−ジホドロホスフィニン−１−イル基、１，４−ジホドロホスフィニン−１−イル基、置換１，４−ジホドロホスフィニン−１−イル基、１，２，３，４−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基、置換１，２，３，４−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基、１，２，３，６−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基、置換１，２，３，６−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基、ホスフィナン−１−イル基、または置換ホスフィナン−１−イル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ４およびＲ５が結合してＮ２−ホスフィニルグアニジン基のリン原子を含む環式基を形成する場合、ホスフィニル基は、ホスホル−１−イル基もしくは置換ホスホル−１−イル基；代替として、２，３−ジホスホル−１−イル基もしくは置換２，３−ジホスホル−１−イル基；代替として、３，５−ジホスホル−１−イル基もしくは置換３，５−ジホスホル−１−イル基；代替として、ホスホラン−１−イル基もしくは置換ホスホラン−１−イル基；代替として、１，２−ジヒドロホスフィニン−１−イル基もしくは置換１，２−ジヒドロホスフィニン−１−イル基；代替として、１，４−ジヒドロホスフィニン−１−イル基もしくは置換１，４−ジヒドロホスフィニン−１−イル基；代替として、１，２，３，４−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基、もしくは置換１，２，３，４−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基；代替として、１，２，３，６−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基、もしくは置換１，２，３，６−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基；または代替として、ホスフィナン−１−イル基もしくは置換ホスフィナン−１−イル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ４およびＲ５が結合してＮ２−ホスフィニルグアニジン基のリン原子を含む環式基を形成する場合、ホスフィニル基は、ホスホル−１−イル基、２，３−ジホスホル−１−イル基、３，５−ジホスホル−１−イル基、ホスホラン−１−イル基、１，２−ジヒドロホスフィニン−１−イル基、１，４−ジヒドロホスフィニン−１−イル基、１，２，３，４−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基、１，２，３，６−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基、またはホスフィナン−１−イル基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ４およびＲ５が結合してＮ２−ホスフィニルグアニジン基のリン原子を含む環式基を形成する場合、ホスフィニル基は、置換ホスホル−１−イル基、置換２，３−ジホスホル−１−イル基、置換３，５−ジホスホル−１−イル基、置換ホスホラン−１−イル基、置換１，２−ジヒドロホスフィニン−１−イル基、置換１，４−ジヒドロホスフィニン−１−イル基、置換１，２，３，４−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基、置換１，２，３，６−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基、または置換ホスフィナン−１−イル基であってもよい。また他の実施形態において、Ｒ４およびＲ５が結合してＮ２−ホスフィニルグアニジン基のリン原子を含む環式基を形成する場合、ホスフィニル基は、ホスホラン−１−イル基、置換ホスホラン−１−イル基、ホスフィナン−１−イル基、もしくは置換ホスフィナン−１−イル基；代替として、ホスホラン−１−イル基もしくはホスフィナン−１−イル基；または代替として、置換ホスホラン−１−イル基もしくは置換ホスフィナン−１−イル基。さらなる実施形態において、Ｒ４およびＲ５が結合してＮ２−ホスフィニルグアニジン基のリン原子を含む環式基を形成する場合、ホスフィニル基は、ホスホル−１−イル基；代替として、置換ホスホル−１−イル基；代替として、２，３−ジホスホル−１−イル基；代替として、置換２，３−ジホスホル−１−イル基；代替として、３，５−ジホスホル−１−イル基；代替として、置換３，５−ジホスホル−１−イル基；代替として、ホスホラン−１−イル基；代替として、置換ホスホラン−１−イル基；代替として、１，２−ジヒドロホスフィニン−１−イル基；代替として、置換、１，２−ジヒドロホスフィニン−１−イル基；代替として、１，４−ジヒドロホスフィニン−１−イル基；代替として、置換１，４−ジヒドロホスフィニン−１−イル基；代替として、１，２，３，４−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基；代替として、置換１，２，３，４−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基；代替として、１，２，３，６−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基；代替として、置換１，２，３，６−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基；代替として、ホスフィナン−１−イル基；または代替として、置換ホスフィナン−１−イル基であってもよい。置換基（一般および特定）は独立して本明細書に開示され、限定されないが、Ｒ４およびＲ５が結合してリン原子を含む環状基を形成する置換基をさらに記載するために使用することができる。
【０１１３】
一実施形態において、Ｒ４およびＲ５が結合してＮ２−ホスフィニルグアニジン基のリン原子を含む環式基を形成する場合、リン原子を含む環式基は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ２窒素原子に結合したリン原子に隣接する炭素原子上の少なくとも１個の置換基を含むことができる。いくつかの実施形態において、Ｒ４およびＲ５が結合してＮ２−ホスフィニルグアニジン基のリン原子を含む環式基を形成する場合、リン原子を含む環式基は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ２窒素原子に結合したリン原子に隣接する各炭素原子上の少なくとも１個の置換基を含むことができる。他の実施形態において、Ｒ４およびＲ５が結合してＮ２−ホスフィニルグアニジン基のリン原子を含む環式基を形成する場合、リン原子を含む環式基は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ２窒素原子に結合したリン原子に隣接する炭素原子上のただ１個の置換基を含む、またはそれからなることができる。また他の実施形態において、Ｒ４およびＲ５が結合してＮ２−ホスフィニルグアニジン基のリン原子を含む環式基を形成する場合、リン原子を含む環式基は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ２窒素原子に結合したリン原子に隣接する各炭素原子上のただ１個の置換基を含む、またはそれからなることができる。
【０１１４】
一実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立してフェニル基、２−アルキルフェニル基、３−アルキルフェニル基、４−アルキルフェニル基、２，４−ジアルキルフェニル基、２，６−ジアルキルフェニル基、３，５−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基、４−アルキルフェニル基、２，４−ジアルキルフェニル基、２，６−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基もしくは４−アルキルフェニル基；代替として、２，４−ジアルキルフェニル基、２，６−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、２，４−ジアルキルフェニル基、もしくは２，６−ジアルキルフェニル基；代替として、２，６−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、３−アルキルフェニル基もしくは３，５−ジアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基もしくは２，６−ジアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基；代替として、３−アルキルフェニル基；代替として、４−アルキルフェニル基；代替として、２，４−ジアルキルフェニル基；代替として、２，６−ジアルキルフェニル基；代替として、３，５−ジアルキルフェニル基；または代替として、２，４，６−トリアルキルフェニル基であってもよい。別の非限定的な実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立してナフトｎａｐｈｔ−１−イル基、２−ナフト−２−イル基、２−アルキルナフト−１−イル基、１−アルキルナフト−２−イル基、３−アルキルナフトｎａｐｔｈ−２−イル基、または１，３−ジアルキルナフト−２−イル基；代替として、ナフトｎａｐｈｔ−１−イル基または２−アルキルナフト−１−イル基；代替として、ナフト−２−イル基、１−アルキルナフト−２−イル基、３−アルキルナフトｎａｐｔｈ−２−イル基、または１，３−ジアルキルナフト−２−イル基；代替として、ナフトｎａｐｈｔ−１−イル基；代替として、２−ナフト−２−イル基；代替として、２−アルキルナフト−１−イル基；代替として、１−アルキルナフト−２−イル基；代替として、３−アルキルナフトｎａｐｔｈ−２−イル基；または代替として、１，３−ジアルキルナフト−２−イル基であってもよい。他の非限定的な実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立してシクロヘキシル基、２−アルキルシクロヘキシル基、もしくは２，６−ジアルキルシクロヘキシル基；代替として、シクロペンチル基、２−アルキルシクロペンチル基、もしくは２，５−ジアルキルシクロペンチル基；代替として、シクロヘキシル基；代替として、２−アルキルシクロヘキシル基；代替として、２，６−ジアルキルシクロヘキシル基；代替として、シクロペンチル基；代替として、２−アルキルシクロペンチル基；または代替として、２，５−ジアルキルシクロペンチル基であってもよい。アルキル基置換基（一般および特定）は、独立して本明細書に記載され、限定されることなく使用することができる、Ｒ４および／またはＲ５として使用することができるアルキルフェニル、ジアルキルフェニル、トリアルキルフェニル、ナフチル、ジアルキルナフチル、アルキルシクロヘキシル、ジアルキルシクロヘキシル、アルキルシクロペンチル、またはジアルキルシクロペンチル基をさらに記載する。一般に、ジアルキルまたはトリアルキルフェニル、ナフチル、シクロヘキシル、またはシクロペンチル基のアルキル置換基は、同一であってもよく；または代替として、ジアルキルまたはトリアルキルフェニル、ナフチル、シクロヘキシル、もしくはシクロペンチル基のアルキル置換基は、異なっていてもよい。
【０１１５】
別の非限定的な実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立してフェニル基、２−アルコキシフェニル基、３−アルコキシフェニル基、４−アルコキシフェニル基、または３，５−ジアルコキシフェニル基；代替として、２−アルコキシフェニル基または４−アルコキシフェニル基；代替として、３−アルコキシフェニル基または３，５−ジアルコキシフェニル基；代替として、２−アルコキシフェニル基；代替として、３−アルコキシフェニル基；代替として、４−アルコキシフェニル基；代替として、３，５−ジアルコキシフェニル基であってもよい。アルコキシ基置換基（一般および特定）は、独立して本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、なるＲ４および／またはＲ５として使用することができるアルコキシフェニルまたはジアルコキシフェニル基をさらに記載する。一般に、ジアルコキシフェニル基のアルコキシ置換基は同一であってもよく；または代替として、ジアルコキシフェニル基のアルコキシ置換基は、異なっていてもよい。
【０１１６】
他の非限定的な実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立してフェニル基、２−ハロフェニル基、３−ハロフェニル基、４−ハロフェニル基、２，６−ジハロフェニル基、もしくは３，５−ジアルキルフェニル基；代替として、２−ハロフェニル基、４−ハロフェニル基、もしくは２，６−ジハロフェニル基；代替として、２−ハロフェニル基もしくは４−ハロフェニル基；代替として、３−ハロフェニル基もしくは３，５−ジハロフェニル基；代替として、２−ハロフェニル基；代替として、３−ハロフェニル基；代替として、４−ハロフェニル基；代替として、２，６−ジハロフェニル基；または代替として、３，５−ジハロフェニル基であってもよい。ハライドは、独立して本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、Ｒ４および／またはＲ５として使用することができるハロフェニルまたはジハロフェニル基をさらに記載する。一般に、ジハロフェニル基のハライドは同じであってもよく；または、代替として、ジハロフェニル基のハライドは異なっていてもよい。
【０１１７】
非限定的な実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立して２−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、３−メチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、２，６−ジイソプロピルフェニル基、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、３，５−ジメチル基、もしくは２，４，６−トリメチルフェニル基；代替として、２−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基、もしくは２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、２，６−ジメチルフェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、２，６−ジイソプロピルフェニル基、もしくは２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、２−メチルフェニル基；代替として、２−エチルフェニル基；代替として、２−イソプロピルフェニル基；代替として、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、３−メチルフェニル基；代替として、２，６−ジメチルフェニル基；代替として、２，６−ジエチルフェニル基；代替として、２，６−ジイソプロピルフェニル基；代替として、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、３，５−ジメチル基；または代替として、２，４，６−トリメチルフェニル基であってもよい。別の非限定的な実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立してシクロヘキシル基、２−メチルシクロヘキシル基、２−エチルシクロヘキシル基、２−イソプロピルシクロヘキシル基、２−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基、２，６−ジメチルシクロヘキシル基、２，６−ジエチルシクロヘキシル基、２，６−ジイソプロピルシクロヘキシル基、もしくは２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基；代替として、２−メチルシクロヘキシル基、２−エチルシクロヘキシル基、２−イソプロピルシクロヘキシル基、もしくは２−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基；代替として、２，６−ジメチルシクロヘキシル基、２，６−ジエチルシクロヘキシル基、２，６−ジイソプロピルシクロヘキシル基、もしくは２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基；代替として、シクロヘキシル基；代替として、２−メチルシクロヘキシル基；代替として、２−エチルシクロヘキシル基；代替として、２−イソプロピルシクロヘキシル基；代替として、２−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基；代替として、２，６−ジメチルシクロヘキシル基；代替として、２，６−ジエチルシクロヘキシル基；代替として、２，６−ジイソプロピルシクロヘキシル基；または代替として、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基であってもよい。別の非限定的な実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立して２−メチルナフト−１−イル基、２−エチルナフト−１−イル基、２−ｎ−プロピルナフト−１−イル基、２−イソプロピルナフト−１−イル基、または２−ｔｅｒｔ−ブチルナフト−１−イル基；代替として、２−メチルナフト−１−イル基；代替として、２−エチルナフト−１−イル基；代替として、２−ｎ−プロピルナフト−１−イル基；代替として、２−イソプロピルナフト−１−イル基；または代替として、２−ｔｅｒｔ−ブチルナフト−１−イル基であってもよい。
【０１１８】
非限定的な実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立して２−メトキシフェニル基、２−エトキシフェニル基、２−イソプロポキシフェニル基、２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、３−イソプロポキシフェニル基、３−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、４−エトキシフェニル基、４−イソプロポキシフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基、２，４−ジメトキシフェニル基、２，４−ジエトキシフェニル基、２，４−ジイソプロポキシフェニル基、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基、３，５−ジメトキシフェニル基、３，５−ジエトキシフェニル基、３，５−ジイソプロポキシフェニル基、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基、２，６−ジメトキシフェニル基、２，６−ジエトキシフェニル基、２，６−ジイソプロポキシフェニル基、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基、もしくは２，４，６−トリメトキシフェニル基；代替として、２−メトキシフェニル基、２−エトキシフェニル基、２−イソプロポキシフェニル基、もしくは２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、３−メトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、３−イソプロポキシフェニル基、もしくは３−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、４−メトキシフェニル基、４−エトキシフェニル基、４−イソプロポキシフェニル基、もしくは４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、２，４−ジメトキシフェニル基、２，４−ジエトキシフェニル基、２，４−ジイソプロポキシフェニル基、もしくは２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、３，５−ジメトキシフェニル基、３，５−ジエトキシフェニル基、３，５−ジイソプロポキシフェニル基、もしくは３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；または代替として、２，６−ジメトキシフェニル基、２，６−ジエトキシフェニル基、２，６−ジイソプロポキシフェニル基、もしくは２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基であってもよい。他の非限定的な実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立して２−メトキシフェニル基；代替として、２−エトキシフェニル基；代替として、２−イソプロポキシフェニル基；代替として、２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、３−メトキシフェニル基；代替として、３−エトキシフェニル基；代替として、３−イソプロポキシフェニル基；代替として、３−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、４−メトキシフェニル基；代替として、４−エトキシフェニル基；代替として、４−イソプロポキシフェニル基；代替として、４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、２，４−ジメトキシフェニル基；代替として、２，４−ジエトキシフェニル基；代替として、２，４−ジイソプロポキシフェニル基；代替として、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、３，５−ジメトキシフェニル基；代替として、３，５−ジエトキシフェニル基；代替として、３，５−ジイソプロポキシフェニル基；代替として、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、２，６−ジメトキシフェニル基；代替として、２，６−ジエトキシフェニル基；代替として、２，６−ジイソプロポキシフェニル基；代替として、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；または代替として、２，４，６−トリメトキシフェニル基であってもよい。別の非限定的な実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立して２−フルオロフェニル基、２−クロロフェニル基、３−フルオロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−フルオロフェニル基、４−クロロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、または３，５−ジクロロフェニル基；代替として、２−フルオロフェニル基または２−クロロフェニル基；代替として、３−フルオロフェニル基または３−クロロ−フェニル基；代替として、４−フルオロフェニル基または４−クロロフェニル基；代替として、３，５−ジフルオロフェニル基；代替として、３−フルオロフェニル基、３−クロロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基または３，５−ジクロロフェニル基；または代替として、３−フルオロフェニル基または３，５−ジフルオロフェニル基であってもよい。別の非限定的な実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立して２−フルオロフェニル基；代替として、２−クロロフェニル基；代替として、３−フルオロフェニル基；代替として、３−クロロフェニル基；代替として、４−フルオロフェニル基；代替として、４−クロロフェニル；代替として、３，５−ジフルオロフェニル基；または代替として、３，５−ジクロロフェニル基であってもよい。一般に、ホスフィニル基のＲ４および／またはＲ５は、独立して本明細書に記載されるＲ４またはＲ５基であってもよく、本明細書に記載される任意のＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物のホスフィニル基をさらに記載するために任意の組み合わせで利用されてもよい。一実施形態において、Ｒ４およびＲ５基は同じであってもよい。他の実施形態において、Ｒ４およびＲ５は異なってもよい。
【０１１９】
ホスフィニル基
一態様において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物のホスフィニル基は、ジフェニルホスフィニル基、ジアルキルホスフィニル基、ビス（モノハロ置換フェニル）ホスフィニル基、ビス（モノアルキル置換フェニル）ホスフィニル基、もしくはビス（モノアルコキシ置換フェニル）ホスフィニル基；代替として、ジフェニルホスフィニル基；代替として、ジアルキルホスフィニル基；代替として、ビス（モノハロ置換フェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（モノアルキル置換フェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（モノアルコキシ置換フェニル）ホスフィニル基であってもよい。別の態様において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物のホスフィニル基は、（アルキル）（フェニル）ホスフィニル基、（モノハロ置換フェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（モノアルキル置換フェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（モノアルコキシ置換フェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（モノアルキル置換フェニル）（モノハロ置換フェニル）ホスフィニル基、または（モノアルキル置換フェニル）（モノアルコキシ置換フェニル）ホスフィニル基；代替として、（アルキル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（モノハロ置換フェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（モノアルキル置換フェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（モノアルコキシ置換フェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（モノアルキル置換フェニル）（モノハロ置換フェニル）ホスフィニル基；または代替として、（モノアルキル置換フェニル）（モノ−アルコキシ置換フェニル）ホスフィニル基であってもよい。別の態様において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物のホスフィニル基は、ビス（ジハロ置換フェニル）ホスフィニル基、ビス（ジアルキル置換フェニル）ホスフィニル基、ビス（ジアルコキシ置換フェニル）ホスフィニル基、ビス（トリアルキルフェニル）ホスフィニル基、またはビス（トリアルコキシフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（ジハロ置換フェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（ジアルキル置換フェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（ジアルコキシ置換フェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（トリアルキルフェニル）ホスフィニル基；または代替として、ビス（トリアルコキシフェニル）ホスフィニル基であってもよい。ハロゲン、アルキル基置換基（一般および特定）、およびアルコキシ基置換基（一般および特定）は、独立して本明細書に記載され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物において使用することができるホスフィニル基をさらに記載する。
【０１２０】
非限定的な態様において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物のホスフィニル基は、ジメチルホスフィニル基、ジエチルホスフィニル基、ジイソプロピルホスフィニル基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィニル基、またはジネオペンチルホスフィニル基であってもよい。非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物のホスフィニル基はジメチルホスフィニル基；代替として、ジエチルホスフィニル基；代替として、ジイソプロピルホスフィニル基；代替として、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィニル基；または代替として、ジネオペンチルホスフィニル基であってもよい。非限定的な態様において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物のホスフィニル基は、（メチル）（フェニル）ホスフィニル基、（エチル）（フェニル）ホスフィニル基、（イソプロピル）（フェニル）ホスフィニル基、（ｔｅｒｔ−ブチル）（フェニル）ホスフィニル基、または（ネオ−ペンチル）（フェニル）ホスフィニル基であってもよい。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物のホスフィニル基は、（メチル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（エチル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（イソプロピル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（ｔｅｒｔ−ブチル）（フェニル）ホスフィニル基；または代替として、（ネオペンチル）（フェニル）ホスフィニル基であってもよい。いくつかの非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物のホスフィニル基は、ジシクロペンチルホスフィニル基、ジシクロヘキシルホスフィニル基；代替として、ジシクロペンチルホスフィニル基；または代替として、ジシクロヘキシルホスフィニル基であってもよい。
【０１２１】
また別の非限定的な態様において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物のホスフィニル基は、ビス（２−フルオロフェニル）ホスフィニル基、ビス（２−クロロフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−フルオロフェニル）ホスフィニル基、ビス（４−フルオロフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−クロロフェニル）ホスフィニル基またはビス（４−クロロフェニル）ホスフィニル基であってもよい。いくつかの非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物のホスフィニル基は、ビス（２−フルオロフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−フルオロフェニル）ホスフィニル基、もしくはビス（４−フルオロフェニル）ホスフィニル基；または代替として、ビス（２−クロロフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−クロロフェニル）ホスフィニル基またはビス（４−クロロフェニル）ホスフィニル基であってもよい。他の非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物のホスフィニル基は、ビス（２−フルオロフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（２−クロロフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（３−フルオロフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（３−クロロフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（４−フルオロフェニル）ホスフィニル基；または代替として、ビス（４−クロロフェニル）ホスフィニル基であってもよい。
【０１２２】
また別の非限定的な態様において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物のホスフィニル基は、（２−フルオロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（２−クロロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−フルオロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−クロロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（４−フルオロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、または（４−クロロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基であってもよい。いくつかの非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物のホスフィニル基は、（２−フルオロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−フルオロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、もしくは（４−フルオロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；または代替として、（２−クロロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−クロロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、もしくは（４−クロロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基であってもよい。他の非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物のホスフィニル基は、（２−フルオロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（２−クロロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（３−フルオロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（３−クロロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（４−フルオロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；または代替として、（４−クロロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基であってもよい。
【０１２３】
また別の非限定的な態様において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物のホスフィニル基は、ジフェニルホスフィニル基、ビス（２−メチルフェニル）ホスフィニル基、ビス（２−エチルフェニル）ホスフィニル基、ビス（２−イソプロピルフェニル）ホスフィニル基、ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−メチルフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−エチルフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−イソプロピルフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィニル基、ジフェニルホスフィニル基、ビス（４−メチルフェニル）ホスフィニル基、ビス（４−エチルフェニル）ホスフィニル基、ビス（４−イソプロピルフェニル）ホスフィニル基、またはビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィニル基であってもよい。非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物のホスフィニル基は、ビス（２−メチルフェニル）ホスフィニル基、ビス（２−エチルフェニル）ホスフィニル基、ビス（２−イソプロピルフェニル）ホスフィニル基、もしくはビス（２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィニル基；代替として、ジフェニルホスフィニル基、ビス（３−メチルフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−エチルフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−イソプロピルフェニル）ホスフィニル基、もしくはビス（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィニル基；または代替として、ジフェニルホスフィニル基、ビス（４−メチルフェニル）ホスフィニル基、ビス（４−エチルフェニル）ホスフィニル基、ビス（４−イソプロピルフェニル）ホスフィニル基、もしくはビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィニル基であってもよい。他の非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物のホスフィニル基は、ジフェニルホスフィニル基；代替として、ビス（２−メチルフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（２−エチルフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（２−イソプロピルフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ホスフィニル基；代替として、ビス（３−メチルフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（３−エチルフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（３−イソプロピルフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィニル基；代替として、ジフェニルホスフィニル基；代替として、ビス（４−メチルフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（４−エチルフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（４−イソプロピルフェニル）ホスフィニル基；または代替として、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィニル基であってもよい。
【０１２４】
また別の非限定的な態様において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物のホスフィニル基は、ジフェニルホスフィニル基、（２−メチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（２−エチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（２−イソプロピルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−メチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−エチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−イソプロピルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、ジフェニルホスフィニル基、（４−メチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（４−エチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（４−イソプロピルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、または（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基であってもよい。非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物のホスフィニル基は、（２−メチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（２−エチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（２−イソプロピルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、または（２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、ジフェニルホスフィニル基、（３−メチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−エチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−イソプロピルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、もしくは（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；または代替として、ジフェニルホスフィニル基、（４−メチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（４−エチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（４−イソプロピルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、もしくは（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基であってもよい。他の非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物のホスフィニル基は、ジフェニルホスフィニル基；代替として、（２−メチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（２−エチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（２−イソプロピルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（３−メチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（３−エチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（３−イソプロピルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、ジフェニルホスフィニル基；代替として、（４−メチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（４−エチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（４−イソプロピルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；または代替として、（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基であってもよい。
【０１２５】
また別の非限定的な態様において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物のホスフィニル基は、ジフェニルホスフィニル基、ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（２−エトキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（２−イソプロポキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−メトキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−エトキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−イソプロポキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ホスフィニル基、ジフェノキシホスフィニル基、ビス（４−メトキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（４−エトキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（４−イソプロポキシフェニル）ホスフィニル基、またはビス（４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ホスフィニル基であってもよい。非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物のホスフィニル基は、ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（２−エトキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（２−イソプロポキシフェニル）ホスフィニル基、もしくはビス（２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ホスフィニル基；代替として、ジフェノキシホスフィニル基、ビス（３−メトキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−エトキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−イソプロポキシフェニル）ホスフィニル基、もしくはビス（３−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ホスフィニル基；または代替として、ジフェノキシホスフィニル基、ビス（４−メトキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（４−エトキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（４−イソプロポキシフェニル）ホスフィニル基、もしくはビス（４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ホスフィニル基であってもよい。他の非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物のホスフィニル基は、ジフェニルホスフィニル基；代替として、ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（２−エトキシフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（２−イソプロポキシル）フェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（３−メトキシフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（３−エトキシフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（３−イソプロポキシフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（３−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ホスフィニル基；代替として、ジフェノキシホスフィニル基；代替として、ビス（４−メトキシフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（４−エトキシフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（４−イソプロポキシフェニル）ホスフィニル基；または代替として、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ホスフィニル基であってもよい。
【０１２６】
また別の非限定的な態様において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物のホスフィニル基は、ジフェニルホスフィニル基、（２−メトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（２−エトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（２−イソプロポキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−メトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−エトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−イソプロポキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、ジフェノキシホスフィニル基、（４−メトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（４−エトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（４−イソプロポキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、または（４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基であってもよい。非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物のホスフィニル基は、（２−メトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（２−エトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（２−イソプロポキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、もしくは（２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、ジフェノキシホスフィニル基、（３−メトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−エトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−イソプロポキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、もしくは（３−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）（フェニル）−ホスフィニル基；または代替として、ジフェノキシホスフィニル基、（４−メトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（４−エトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（４−イソプロポキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、もしくは（４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基であってもよい。他の非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物のホスフィニル基は、ジフェニルホスフィニル基；代替として、（２−メトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（２−エトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（２−イソプロポキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（３−メトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（３−エトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（３−イソプロポキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（３−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、ジフェノキシホスフィニル基；代替として、（４−メトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（４−エトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（４−イソプロポキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；または代替として、（４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基であってもよい。
【０１２７】
一態様の実施形態において、Ｒ１およびＲ２ａは結合して、基Ｌ１２を形成でき、ここでＬ１２、Ｎ１窒素原子およびＮ３窒素原子は環または環系を形成できる。別の態様において、Ｒ２ｂおよびＲ３は結合して、基Ｌ２３を形成でき、ここでＬ１３、Ｎ１窒素およびＮ２窒素原子は環または環系を形成できる。一実施形態において、Ｌ１２および／またはＬ２３はオルガニレン基であってもよく；代替として、オルガニレン基は不活性官能基；または代替として、ヒドロカルビレン基からなる。Ｌ１２およびＬ２３として利用され得るオルガニレン基は独立して、Ｃ２〜Ｃ２０オルガニレン基；代替として、Ｃ２〜Ｃ１５オルガニレン基；代替として、Ｃ２〜Ｃ１０オルガニレン基；または代替として、Ｃ２〜Ｃ５オルガニレン基であってもよい。Ｌ１２およびＬ２３として利用され得る不活性官能基からなるオルガニレン基は独立して、不活性官能基からなるＣ２〜Ｃ２０オルガニレン基；代替として、不活性官能基からなるＣ２〜Ｃ１５オルガニレン基；代替として、不活性官能基からなるＣ２〜Ｃ１０オルガニレン基；または代替として、不活性官能基からなるＣ２〜Ｃ５オルガニレン基；または代替として、不活性官能基からなるＣ２〜Ｃ５オルガニレン基であってもよい。Ｌ１２およびＬ２３として利用され得るヒドロカルビレン基は独立して、Ｃ２〜Ｃ２０ヒドロカルビレン基；代替として、Ｃ２〜Ｃ１５ヒドロカルビレン基；代替として、Ｃ２〜Ｃ１０ヒドロカルビレン基；または代替として、Ｃ２〜Ｃ５ヒドロカルビレン基であってもよい。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物がＬ１２およびＬ２３を含むいくつかの実施形態において、Ｌ１２およびＬ２３は同じであってもよい。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物がＬ１２およびＬ２３を含む他の実施形態において、Ｌ１２およびＬ２３は異なってもよい。
【０１２８】
一実施形態において、Ｌ１２および／またはＬ２３は表１に提供される任意の構造を有してもよい。実施形態において、Ｌ１２および／またはＬ２３は、構造１Ｌ、構造２Ｌ、構造３Ｌ、構造４Ｌまたは構造５Ｌを有してもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ１２およびＬ２３は独立して、構造２Ｌまたは構造３Ｌ；代替として、構造４Ｌまたは構造５Ｌを有してもよい。他の実施形態において、Ｌ１２およびＬ２３は独立して、構造１Ｌ；代替として、構造２Ｌ；代替として、構造３Ｌ；代替として、構造４Ｌ；または代替として、構造５Ｌを有してもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ１２は構造６Ｌを有してもよい。Ｌ１２が構造６Ｌを有する場合、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ３窒素原子との二重結合（実在として示されているが、芳香族共鳴を介してであり得る）のため、対応するＲ２ｂはなくてもよいことは留意すべきである。
【表１】
2018076371.tif 000019
表１の構造内で、指定されていない価数は、存在する場合、Ｌ１２および／またはＬ２３が、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のそれぞれの窒素原子に結合する点を表す。一般に、ｍは２〜５の範囲の整数であってもよい。さらなる実施形態において、ｍは２または３であってもよく；代替として、ｍは２であってもよく；代替として、ｍは３であってもよい。構造１Ｌを有する連結基のＲＬ１およびＲＬ２、構造２Ｌを有する連結基のＲＬ３、ＲＬ４、ＲＬ５およびＲＬ６、構造３Ｌを有する連結基のＲＬ３、ＲＬ４、ＲＬ５、ＲＬ６、ＲＬ７およびＲＬ８、構造４Ｌを有する連結基のＲＬ１１およびＲＬ１２、構造５Ｌを有する連結基のＲＬ２２、ＲＬ２３、ＲＬ２４、ＲＬ２５およびＲＬ２６、構造６Ｌを有する連結基のＲＬ２７、ＲＬ２８およびＲＬ２９は独立して、水素もしくは非水素置換基（本明細書に記載される任意の一般または特定）；または代替として、水素であってもよい。非水素置換基（一般および特定）は独立して本明細書に開示され、限定されないが、構造１Ｌ、構造２Ｌ、構造３Ｌ、構造４Ｌおよび／または構造５Ｌを有する連結基をさらに記載するために使用されてもよい。一実施形態において、Ｌ１２およびＬ２３は独立して、エテ−１，２−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−）、エテン−１，２−イレン基（−ＣＨ＝ＣＨ−）、プロパ−１，３−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）、１−メチルエテン−１，２−イレン基（−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ−）、ブト−１，３−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−）、３−メチルブト−１，３−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−）、３−メチルブト−１，３−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２−）またはフェン−１，２−イレン基であってもよい。いくつかの非限定的な実施形態において、Ｌ１２およびＬ２３は独立して、エテ−１，２−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−）、プロパ−１，３−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）、１−メチルエテン−１，２−イレン基（−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ−）、ブト−１，３−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−）または３−メチルブト−１，３−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２−）；代替として、エテ−１，２−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−）、エテン−１，２−イレン基（−ＣＨ＝ＣＨ−）、プロパ−１，３−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）またはフェン−１，２−イレン基；代替として、エテ−１，２−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−）またはプロパ−１，３−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）；代替として、エテン−１，２−イレン基（−ＣＨ＝ＣＨ−）またはフェン−１，２イレン基であってもよい。他の実施形態において、Ｌ１２および／またはＬ２３は、エテ−１，２−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−）；代替として、エテン−１，２−イレン基（−ＣＨ＝ＣＨ−）；代替として、プロパ−１，３−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）；代替として、１−メチルエテン−１，２−イレン基（−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ−）；代替として、ブト−１，３−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−）；代替として、３−メチルブト−１，３−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２−）；代替として、フェン−１，２−イレン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ１２は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝基であってもよい。一実施形態において、Ｌ１２は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子に結合した炭素原子に位置する少なくとも１つの置換基を含んでもよい構造を有してもよく；代替として、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子に結合した炭素原子に位置する１つの置換基のみを含んでもよく；代替として、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子に結合した炭素原子に位置する２つの置換基を含んでもよい。別の実施形態において、Ｌ１２は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子に結合した炭素原子に位置する１つの置換基からなってもよい構造を有してもよく；代替として、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ１窒素原子に結合した炭素原子に位置する２つの置換基からなってもよい。一実施形態において、Ｌ２３は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ２窒素原子に結合した炭素原子に位置する少なくとも１つの置換基を含んでもよい構造を有してもよく；代替として、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ２窒素原子に結合した炭素原子に位置する１つの置換基のみを含んでもよく；代替として、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ２窒素原子に結合した炭素原子に位置する２つの置換基を含んでもよい。別の実施形態において、Ｌ２３は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ２窒素原子に結合した炭素原子に位置する１つの置換基からなってもよい構造を有してもよく；または代替として、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ２窒素原子に結合した炭素原子に位置する２つの置換基からなってもよい。
【０１２９】
一実施形態において、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは結合して、基Ｌ２２を形成でき、ここで、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂおよびＮ３窒素（またはＬ２２およびＮ３窒素）は環または環系を形成する。一実施形態において、Ｌ２２はオルガニレン基；代替として、不活性官能基からなるオルガニレン基；または代替として、ヒドロカルビレン基であってもよい。Ｌ２２として使用することができるオルガニレン基は、Ｃ３〜Ｃ２０オルガニレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５オルガニレン基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ１０オルガニレン基であってもよい。Ｌ２２として使用することができる不活性官能基からなるオルガニレン基は、不活性官能基からなるＣ３〜Ｃ２０オルガニレン基；代替として、不活性官能基からなるＣ３〜Ｃ１５オルガニレン基；または代替として、不活性官能基からなるＣ３〜Ｃ１０オルガニレン基であってもよい。Ｌ２２として使用することができるヒドロカルビレン基は、Ｃ４〜Ｃ２０ヒドロカルビレン基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５ヒドロカルビレン基；または代替として、Ｃ４〜Ｃ１０ヒドロカルビレン基であってもよい。
【０１３０】
一実施形態において、Ｌ２２は表２に与えられる任意の構造を有してもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ２２は、構造１１Ｌ、構造１２Ｌ、構造１３Ｌ、構造１４Ｌ、または構造１５Ｌを有してもよい。他の実施形態において、Ｌ２２は、構造２Ｌまたは構造３Ｌ；代替として、構造４Ｌまたは構造５Ｌを有してもよい。他の実施形態において、連結基は、構造１Ｌ；代替として、構造２Ｌ；代替として、構造３Ｌ；代替として、構造４Ｌ；または代替として、構造５Ｌを有してもよい。
【表２】
2018076371.tif 000020
【０１３１】
表２の構造内で、指定されていない価数は、存在する場合、Ｌ２２がＮ２−ホスフィニルグアニジン基のＮ３窒素原子に結合する点を表す。一般に、ｎは４〜７の範囲の整数であってもよい。さらなる実施形態において、ｎは４または５であってもよく；代替として、ｎは４であってもよく；または代替として、ｎは５であってもよい。構造１１Ｌを有する連結基のＲＬ３１およびＲＬ３２、構造１２Ｌを有する連結基のＲＬ４１、ＲＬ４２、ＲＬ４３、ＲＬ４４、ＲＬ４５、ＲＬ４６、ＲＬ４７、およびＲＬ４８、構造１３Ｌを有する連結基のＲＬ４１、ＲＬ４２、ＲＬ４３、ＲＬ４４、ＲＬ４５、ＲＬ４６、ＲＬ４７、ＲＬ４８、ＲＬ４９、およびＲＬ５０、構造１４Ｌを有する連結基のＲＬ４１、ＲＬ４２、ＲＬ４３、ＲＬ４４、ＲＬ４５、ＲＬ４６、ＲＬ４７、およびＲＬ４８、構造１５Ｌを有する連結基のＲＬ４１、ＲＬ４２、ＲＬ４３、ＲＬ４４、ＲＬ４５、ＲＬ４６、ＲＬ４７、およびＲＬ４８、ならびに構造１６Ｌを有する連結基のＲＬ５１、ＲＬ５２、ＲＬ５３、およびＲＬ５４は独立して、水素または非水素置換基（本明細書に記載される任意の一般または特定）；代替として、水素であってもよい。非水素置換基（一般および特定）は独立して本明細書に開示され、限定されないが、構造１１Ｌ、構造１２Ｌ、構造１３Ｌ、構造１４Ｌ、構造１５Ｌおよび／または構造１６Ｌを有する連結基をさらに記載するために使用することができる。一実施形態において、Ｌ２２は、ブト−１，４−イレン基、ペント−１，４−イレン基、ペント−１，５−イレン基、ヘキサ−２，５−イレン基、ヘキサ−１，５−イレン基、ヘプト−２，５−イレン基、ブタ−１，３−ジエン−１，４−イレン基またはビス（エテ−２−イル）エーテル基；代替として、ブト−１，４−イレン基、ペント−１，５−イレン基、またはビス（エテ−２−イル）エーテル基；代替として、ブト−１，４−イレン基；代替として、ペント−１，５−イレン基；代替として、ブタ−１，３−ジエン−１，４−イレン基；または代替として、ビス（エテ−２−イル）エーテル基であってもよい。
【０１３２】
一実施形態において、少なくとも１つのＮ２−ホスフィニルグアニジン基を含むＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物は、構造Ｇｕ６、Ｇｕ７、Ｇｕ８、Ｇｕ９、Ｇｕ１０、Ｇｕ１１、Ｇｕ１２、Ｇｕ１３、Ｇｕ１４、Ｇｕ１５、Ｇｕ１６、Ｇｕ１７、Ｇｕ１８、Ｇｕ１９、Ｇｕ２０、Ｇｕ２１、Ｇｕ２２、Ｇｕ２３、Ｇｕ２４、Ｇｕ２５、もしくはＧｕ２６；代替として、構造Ｇｕ６、Ｇｕ７、Ｇｕ８、Ｇｕ９、Ｇｕ１０、Ｇｕ１１、Ｇｕ１２、Ｇｕ１３、Ｇｕ１４、もしくはＧｕ１５；代替として、構造Ｇｕ１７、Ｇｕ１８、Ｇｕ２１、Ｇｕ２２、Ｇｕ２３、Ｇｕ２４、もしくはＧｕ２５；代替として、構造Ｇｕ１９、Ｇｕ２０；代替として、構造Ｇｕ６；代替として、構造Ｇｕ７；代替として、構造Ｇｕ８；代替として、構造Ｇｕ９；代替として、構造Ｇｕ１０；代替として、構造Ｇｕ１１；代替として、構造Ｇｕ１２；代替として、構造Ｇｕ１３；代替として、構造Ｇｕ１４；代替として、構造Ｇｕ１５；代替として、構造Ｇｕ１６；代替として、構造Ｇｕ１７；代替として、構造Ｇｕ１８；代替として、構造Ｇｕ１９；代替として、構造Ｇｕ２０；代替として、構造Ｇｕ２１；代替として、構造Ｇｕ２２；代替として、構造Ｇｕ２３；代替として、構造Ｇｕ２４；代替として、構造Ｇｕ２５；または代替として、構造Ｇｕ２６を有してもよい。
【化１８−１】
2018076371.tif 000021
【化１８−２】
2018076371.tif 000022
構造Ｇｕ６〜Ｇｕ２６を有するＮ２−ホスホニルグアニジン化合物内で、Ｒ１、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、Ｎ２−ホスホニルグアニジン化合物構造Ｇｕ１〜Ｇｕ５について以前に記載されている。これらのＲ１、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の詳細（一般および特定）の任意の態様または実施形態は、限定されないが、Ｒ１、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５が現れる配位子構造Ｇｕ６〜Ｇｕ２６のいずれかをさらに記載するために使用することができる。構造Ｇｕ６〜Ｇｕ２６を有するＮ２−ホスホニルグアニジン化合物内で、構造Ｇｕ６、Ｇｕ１０および／またはＧｕ１２のＲ６１〜Ｒ６４、構造Ｇｕ７、Ｇｕ１１および／またはＧｕ１３のＲ６１〜Ｒ６６、構造Ｇｕ８、Ｇｕ１０、Ｇｕ１１および／またはＧｕ１９のＲ７１〜Ｒ７４、構造Ｇｕ９、Ｇｕ１２、Ｇｕ１３および／またはＧｕ２０のＲ７１〜Ｒ７６、構造Ｇｕ１４および／またはＧｕ１６のＲ８１〜Ｒ８８、構造Ｇｕ１５のＲ８１〜Ｒ９０、構造Ｇｕ１５のＲ８１〜Ｒ９０、構造Ｇｕ１７のＲ２ｐ〜Ｒ５ｐ、構造Ｇｕ１８、Ｇｕ１９、Ｇｕ２０，Ｇｕ２１および／またはＧｕ２４のＲ１１ａ〜Ｒ１２ａ、構造Ｇｕ２１および／またはＧｕ２３のＲ２１ａ〜Ｒ２２ａ、構造Ｇｕ２２、Ｇｕ２３および／またはＧｕ２５のＲ３１ａ〜Ｒ３４ａ、構造Ｇｕ２４および／またはＧｕ２５のＲ４１ａ〜Ｒ４４ａ、ならびに／あるいは構造Ｇｕ２６のＲ５４ａ〜Ｒ５６ａは独立して、本明細書に記載される水素または任意の置換基（一般または特定）；または代替として、水素であってもよい。一実施形態において、Ｎ２−ホスホニルグアニジン化合物は、構造Ｇｕ  Ｉ、ＧｕＩＩ、ＧｕＩＩＩ、Ｇｕ  ＩＶ、Ｇｕ  Ｖ、Ｇｕ  ＶＩ、Ｇｕ  ＶＩＩ、Ｇｕ  ＶＩＩＩ、Ｇｕ  ＩＸ、Ｇｕ  Ｘ、Ｇｕ  ＸＩ、Ｇｕ  ＸＩＩ、Ｇｕ  ＸＩＩＩ、Ｇｕ  ＸＩＶ、Ｇｕ  ＸＶ、Ｇｕ  ＸＶＩ、Ｇｕ  ＸＶＩ、Ｇｕ  ＸＶＩＩ、Ｇｕ  ＸＶＩＩＩ、Ｇｕ  ＸＩＸ、Ｇｕ  ＸＸ、Ｇｕ  ＸＸＩ、Ｇｕ  ＸＸＩＩ、またはＧｕ  ＸＸＩＩＩ；代替として、構造Ｇｕ  Ｉ、ＧｕＩＩ、ＧｕＩＩＩ；代替として、Ｇｕ  ＩＶ、Ｇｕ  Ｖ；代替として、構造Ｇｕ  ＶＩＩ、Ｇｕ  ＶＩＩＩ、Ｇｕ  ＩＸ、Ｇｕ  Ｘ、Ｇｕ  ＸＩ、Ｇｕ  ＸＩＩ、Ｇｕ  ＸＩＩＩ、Ｇｕ  ＸＩＶまたはＧｕ  ＸＶ；代替として、構造Ｇｕ  ＶＩＩ、Ｇｕ  ＶＩＩＩ、Ｇｕ  ＩＸ、Ｇｕ  Ｘ、Ｇｕ  ＸＩ、またはＧｕ  ＸＸＩＩＩ；代替として、構造Ｇｕ  ＸＩＩ、Ｇｕ  ＸＩＩＩ、Ｇｕ  ＸＩＶ、またはＧｕ  ＸＶ；代替として、Ｇｕ  ＸＶＩＩ、Ｇｕ  ＸＶＩＩＩ、Ｇｕ  ＸＩＸ、Ｇｕ  ＸＸ、Ｇｕ  ＸＸＩ、またはＧｕ  ＸＸＩＩ；代替として、構造Ｇｕ  Ｉ；代替として、構造Ｇｕ  ＩＩ；代替として、構造Ｇｕ  ＩＩＩ；代替として、構造Ｇｕ  ＩＶ；代替として、構造Ｇｕ  Ｖ；代替として、構造Ｇｕ  ＶＩ；代替として、構造Ｇｕ  ＶＩＩ；代替として、構造Ｇｕ  ＶＩＩＩ；代替として、構造Ｇｕ  ＩＸ；代替として、構造Ｇｕ  Ｘ；代替として、構造Ｇｕ  ＸＩ；代替として、構造Ｇｕ  ＸＩＩ；代替として、構造Ｇｕ  ＸＩＩＩ；代替として、構造Ｇｕ  ＸＩＶ；代替として、構造Ｇｕ  ＸＶ；代替として、構造Ｇｕ  ＸＶＩ；代替として、構造Ｇｕ  ＸＶＩＩ；代替として、構造Ｇｕ  ＸＶＩＩＩ；代替として、��造Ｇｕ  ＸＩＸ；代替として、構造Ｇｕ  ＸＸ；代替として、構造Ｇｕ  ＸＸＩ；代替として、構造Ｇｕ  ＸＸＩＩ；または代替として、構造Ｇｕ  ＸＸＩＩＩを有してもよい。
【化１９−１】
2018076371.tif 000023
【化１９−２】
2018076371.tif 000024
【０１３３】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体
一態様において、本開示は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体；または代替として、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を含む組成物を提供する。一般に、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物と錯体を形成する金属塩を含んでもよい。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体は中性配位子Ｑをさらに含んでもよい。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物は概して、本発明に記載されており、限定されないが、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物と錯体を形成する金属塩を含むＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体をさらに記載するために使用することができる。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物（またはＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体）と錯体を形成する金属化合物は、構造ＭＧｕ１、ＭＧｕ２、ＭＧｕ３、ＭＧｕ４、またはＭＧｕ５；代替として、構造ＭＧｕ１；代替として、構造ＭＧｕ２；代替として、構造ＭＧｕ３；代替として、構造ＭＧｕ４；または代替として、ＭＧｕ５を有してもよい。
【化２０】
2018076371.tif 000025
他の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物と錯体を形成する金属塩（またはＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体）は、構造ＭＧｕ６、ＭＧｕ７、ＭＧｕ８、ＭＧｕ９、ＭＧｕ１０、ＭＧｕ１１、ＭＧｕ１２、ＭＧｕ１３、ＭＧｕ１４、ＭＧｕ１５、ＭＧｕ１６、ＭＧｕ１７、ＭＧｕ１８、ＭＧｕ１９、ＭＧｕ２０、ＭＧｕ２１、ＭＧｕ２２、ＭＧｕ２３、ＭＧｕ２４、ＭＧｕ２５、もしくはＭＧｕ２６；代替として、構造ＭＧｕ６、ＭＧｕ７、ＭＧｕ８、ＭＧｕ９、ＭＧｕ１０、ＭＧｕ１１、ＭＧｕ１２、ＭＧｕ１３、ＭＧｕ１４、もしくはＭＧｕ１５；代替として、構造ＭＧｕ１７、ＭＧｕ１８、ＭＧｕ２１、ＭＧｕ２２、ＭＧｕ２３、ＭＧｕ２４、もしくはＭＧｕ２５；代替として、構造ＭＧｕ１９もしくはＭＧｕ２０；代替として、構造ＭＧｕ６；代替として、構造ＭＧｕ７；代替として、構造ＭＧｕ８；代替として、構造ＭＧｕ９；代替として、構造ＭＧｕ１０；代替として、構造ＭＧｕ１１；代替として、構造ＭＧｕ１２；代替として、構造ＭＧｕ１３；代替として、構造ＭＧｕ１４；代替として、構造ＭＧｕ１５；代替として、構造ＭＧｕ１６；代替として、構造ＭＧｕ１７；代替として、構造ＭＧｕ１８；代替として、構造ＭＧｕ１９；代替として、構造ＭＧｕ２０；代替として、構造ＭＧｕ２１；代替として、構造ＭＧｕ２２；代替として、構造ＭＧｕ２３；代替として、構造ＭＧｕ２４；代替として、構造ＭＧｕ２５；または代替として、構造ＭＧｕ２６を有する。
【化２１−１】
2018076371.tif 000026
【化２１−２】
2018076371.tif 000027
構造ＭＧｕ１〜Ｍｇｕ２６を有するＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体内で、Ｒ１、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、構造Ｇｕ１〜Ｇｕ５を有するＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物について以前に記載されており、これらの記述（一般または特定）の任意の態様または実施形態が、限定されないが、Ｒ１、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ３、Ｒ４および／またはＲ５が現れる、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体構造ＭＧｕ１〜ＭＧｕ２６のいずれかをさらに記載するために使用することができる。構造ＭＧｕ６〜ＭＧｕ２６を有するＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物内で、Ｒ６１〜Ｒ６６、Ｒ７１〜Ｒ７６、Ｒ８１〜Ｒ９０、Ｒ１１ａ〜Ｒ１２ａ、Ｒ２１ａ〜Ｒ２２ａ、Ｒ３１ａ〜Ｒ３４ａ、Ｒ４１ａ〜Ｒ４４ａ、およびＲ５４ａ〜Ｒ５６ａは、構造Ｇｕ６〜Ｇｕ２６を有するＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物について以前に記載されており、これらの記述（一般または特定）の任意の態様または実施形態は、限定されずに、Ｒ６１〜Ｒ６６、Ｒ７１〜Ｒ７６、Ｒ８１〜Ｒ９０、Ｒ１１ａ〜Ｒ１２ａ、Ｒ２１ａ〜Ｒ２２ａ、Ｒ３１ａ〜Ｒ３４ａ、Ｒ４１ａ〜Ｒ４４ａ、およびＲ５４ａ〜Ｒ５６ａが現れる、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体構造Ｍｇｕ１〜ＭＧｕ２６のいずれかをさらに記載するために使用することができる。さらに他の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体は、構造ＭＧＵ  Ｉ、ＭＧＵ  ＩＩ、ＭＧＵ  ＩＩＩ、ＭＧＵ  ＩＶ、ＭＧＵ  Ｖ、ＭＧＵ  ＶＩ、ＭＧＵ  ＶＩＩ、ＭＧＵ  ＶＩＩＩ、ＭＧＵ  ＩＸ、ＭＧＵ  Ｘ、ＭＧＵ  ＸＩ、ＭＧＵ  ＸＩＩ、ＭＧＵ  ＸＩＩＩ、ＭＧＵ  ＸＩＶ、ＧＵ  ＭＸＶ、ＧＵ  ＭＸＶＩ、ＧＵ  ＭＸＶＩＩ、ＧＵ  ＭＸＶＩＩＩ、ＧＵ  ＭＸＩＸ、ＧＵ  ＭＸＸ、ＧＵ  ＭＸＸＩ、ＧＵ  ＭＸＸＩＩ、またはＧＵ  ＭＸＸＩＩＩ；代替として、構造ＭＧｕ  Ｉ、ＭＧｕ  ＩＩ、またはＭＧｕ  ＩＩＩ；代替として、構造ＭＧｕ  ＩＶまたはＭＧｕ  Ｖ；代替として、構造ＭＧｕ  ＶＩＩ、ＭＧｕ  ＶＩＩＩ、ＭＧｕ  ＩＸ、ＭＧｕ  Ｘ、ＭＧｕ  ＸＩ、ＭＧｕ  ＸＩＩ、ＭＧｕ  ＸＩＩＩ、ＭＧｕ  ＸＩＶ、またはＭＧｕ  ＸＶ；代替として、構造ＭＧｕ  ＶＩＩ、ＭＧｕ  ＶＩＩＩ、ＭＧｕ  ＩＸ、ＭＧｕ  ＸＩ、またはＭＧｕ  ＸＸＩＩＩ；代替として、構造ＭＧｕ  ＸＩＩ、ＭＧｕ  ＸＩＩＩ、ＭＧｕ  ＸＩＶ、またはＭＧｕ  ＸＶ；代替として、構造ＭＧｕ  Ｉ；代替として、構造ＭＧｕ  ＩＩ；代替として、構造ＭＧｕ  ＩＩＩ；代替として、構造ＭＧｕ  ＩＶ；代替として、構造ＭＧｕ  Ｖ；代替として、構造ＭＧｕ  ＶＩ；代替として、構造ＭＧｕ  ＶＩＩ；代替として、構造ＭＧｕ  ＶＩＩＩ；代替として、構造ＭＧｕ  ＩＸ；代替として、構造ＭＧｕ  Ｘ；代替として、構造ＭＧｕ  ＸＩ；代替として、構造ＭＧｕ  ＸＩＩ；代替として、構造ＭＧｕ  ＸＩＩＩ；代替として、構造ＸＩＶ；代替として、構造ＭＧｕ  ＸＶ；代替として、構造ＭＧｕ  ＸＶＩ；代替として、構造ＭＧｕ  ＸＶＩＩ；代替として、構造ＭＧｕ  ＸＶＩＩＩ；代替として、構造ＭＧｕ  ＸＩＸ；代替として、構造ＭＧｕ  ＸＸ；代替として、構造ＭＧｕ  ＸＸＩ；代替として、構造ＭＧｕ  ＸＸＩＩ；または代替として、構造ＭＧｕ  ＸＸＩＩＩを有してもよい。
【化２２−１】
2018076371.tif 000028
【化２２−２】
2018076371.tif 000029
存在する場合、金属塩（ＭＸｐまたはＭＸｐＱｑ）、中性配位子（Ｑ）、および中性配位子の数（ｑ）の態様および実施形態が本明細書に記載されており、これらの態様および実施形態は、限定されないが、構造ＭＧｕ１〜ＭＧｕ２６を有するＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体および構造ＭＧｕ  Ｉ〜ＭＧｕ  ＸＶＩを有するＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体をさらに記載するために使用することができ、任意のＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物と錯体を形成する他の金属塩（または任意のＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体）（ＭＸｐまたはＭＸｐＱｑ）が、本明細書に示されるそれぞれのＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物と錯体を形成する金属化合物、ＭＸｎの記述と同様の方法で本明細書に提供される任意の配位子へのＭＸｎのライゲーション結合を示すことによって想定され（容易に明らかにされ）てもよい。一般的な金属塩と錯体を形成するＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の記述は、構造指定ＭＸｎＧｕＹまたはＭＸｎＧｕＸを有してもよく、ここでＭは、中性配位子（これはＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体に存在してもよく、または存在しなくてもよい）を有さない金属塩（一般または特定）の金属を表し、Ｙは、この記述内のそれぞれのＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物のアラビア数字の指定を表し、Ｘは、この記述内のそれぞれのＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物のローマ数字の指定を表す。特定の金属塩とのＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の記述は、構造の指定ＭＸｎＧｕＹまたはＭＸｎＧｕＸを有してもよく、ここでＭＸｎは、中性配位子（Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体に存在してもよく、または存在しなくてもよい）を有さない特定の金属塩であり、Ｙは、この記述内のそれぞれのＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物のアラビア数字の指定を表し、Ｘは、この記述内のそれぞれのＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物のローマ数字の指定を表す。さらに、中性配位子（存在する場合）および中性配位子の数は一般にＱｑとして提供されてもよいか、または存在する配位子および配位子の数の指定を提供することによって具体的に指定される。例えば、指定の例示目的のために、構造ＭＧｕ１〜ＭＧｕ２６ならびに構造ＭＧｕ  Ｉ〜ＭＧｕ  ＸＶＩを有するＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体についての一般的なクロム塩Ｎ２−ホスフィニルグアニジン錯体、構造ＭＧｕ１〜ＭＧｕ２６を有するＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体についての一般的な三塩化クロムＮ２−ホスフィニルグアニジン錯体、および構造ＭＧｕ  Ｉ〜ＭＧｕ  ＸＶＩを有するＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体についての特定のＣｒＣｌ３・ＴＨＦ  Ｎ２−ホスフィニルグアニジン錯体がそれらの適切な構造の指定と共に提供される。
【化２３−１】
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【化２３−２】
2018076371.tif 000031
【化２３−３】
2018076371.tif 000032
【化２３−４】
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【化２３−５】
2018076371.tif 000034
【０１３４】
金属塩
一般に、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物に錯体形成した金属塩を含むＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の金属塩、ＭＸＰまたはＭＸｐＱqは、陽イオン性金属Ｍ、およびモノ陰イオン性配位子Ｘを含むことができる。いくつかの実施形態において、金属塩は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物に錯体形成した金属塩を含むＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体中に存在してもしなくてもよい中性配位子をさらに含むことができる。
【０１３５】
一般に金属塩、ＭＸｐまたはＭＸｐＱqの金属原子は、任意の金属原子であってもよい。一態様において、金属塩の金属原子は、遷移金属であってもよい。一実施形態において、金属塩は、３〜１２族金属；代替として、４〜１０族金属；代替として、６〜９族金属；代替として、７〜８族金属；代替として、４族金属；代替として、５族金属代替として、６族金属；代替として、７族金属；代替として、８族金属；代替として、９族金属；または代替として、１０族金属を含むことができる。いくつかの実施形態において、金属塩は、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、パラジウム、白金、銅、または亜鉛；代替として、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、鉄またはコバルト含むことができる。他の実施形態において、金属塩は、チタン、ジルコニウム、バナジウム、クロム、モリブデン、タングステン、鉄、コバルト、ニッケル、パラジウム、もしくは白金；代替として、チタン、ジルコニウム、バナジウム、クロム、モリブデン、タングステン、鉄もしくはコバルト；代替として、クロム、鉄、コバルト、もしくはニッケル；代替として、クロム、鉄もしくはコバルト；代替として、チタン、ジルコニウムもしくはハフニウム；代替として、バナジウムもしくはニオブ；代替として、クロム、モリブデンもしくはタングステン；代替として、鉄もしくはコバルト；または代替として、ニッケル、パラジウム、白金、銅、もしくは亜鉛；代替として、パラジウムもしくは白金；または代替として、銅もしくは亜鉛を含むことができる。他の実施形態において、金属塩は、チタン；代替として、ジルコニウム；代替として、ハフニウム；代替として、バナジウム；代替として、ニオブ；代替として、タンタル；代替として、モリブデン；代替として、タングステン；代替として、マンガン；代替として、鉄；代替として、コバルト；代替として、ニッケル；代替として、パラジウム；代替として、白金；代替として、銅；または代替として、亜鉛を含むことができる。一実施形態において、金属塩はクロムを含むことができる。
【０１３６】
一般に、遷移金属塩、ＭＸｐまたはＭＸｐＱｑの金属原子は、金属原子に利用可能な任意の正の酸化状態を有することができる。一実施形態において、遷移金属（一般または特定）は、＋２から＋６までの；代替として、＋２から＋４までの；または代替として、＋２から＋３までの酸化状態を有することができる。いくつかの実施形態において、遷移金属塩、ＭＸｐまたはＭＸｐＱqの金属原子は、＋１；代替として、＋２；代替として、＋３；または代替として、＋４の酸化状態を有することができる。
【０１３７】
遷移金属塩の陰イオンＸは、任意のモノ陰イオンであってもよい。一実施形態において、モノ陰イオンＸは、ハライド、カルボン酸塩、β−ジケトナート、ヒドロカルボキシド、硝酸塩、または塩素酸塩であってもよい。いくつかの実施形態において、モノ陰イオンＸは、ハライド、カルボン酸塩、β−ジケトナート、またはヒドロカルボキシドであってもよい。任意の態様または実施形態において、ヒドロカルボキシドは、アルコキシド、アリーロキシド（ａｒｙｌｏｘｉｄｅ）、またはアラルコキシド（ａｒａｌｋｏｘｉｄｅ）であってもよい。一般に、ヒドロカルボキシド（およびヒドロカルボキシドの下位区分）は、ヒドロカルボキシ基の陰イオン類似体である。他の実施形態において、モノ陰イオンＸは、ハライド、カルボン酸塩、β−ジケトナート、もしくはアルコキシド；または代替として、ハライドもしくはβ−ジケトナートであってもよい。他の実施形態において、モノ陰イオンＸは、ハライド；代替として、カルボン酸塩；代替として、β−ジケトナート；代替として、ヒドロカルボキシド；代替として、アルコキシド；または代替として、アリーロキシドであってもよい。一般に、モノ陰イオンＸの数ｐは、金属原子の酸化状態と等しくてもよい。一実施形態において、モノ陰イオンＸの数ｐは、２から６までの；代替として、２から４までの；代替として、２から３までの；代替として、１；代替として、２；代替として、３；または代替として、４であってもよい。
【０１３８】
一般に、各ハライドモノ陰イオンは、独立してフッ素、塩素、臭素、もしくはヨウ素；または代替として、塩素、臭素、またはヨウ素であってもよい。一実施形態において、各ハライドモノ陰イオンは、塩素；代替として、臭素；または代替として、ヨウ素であってもよい。
【０１３９】
一般に、カルボン酸塩、β−ジケトナート、ヒドロカルボキシド（アルコキシド、アリーロキシド、またはアラルコキシドもまた）は、任意のＣ１〜Ｃ２０カルボン酸塩、β−ジケトナート、またはヒドロカルボキシド（アルコキシド、アリーロキシドまたはアラルコキシドもまた）；または代替として、任意のＣ１〜Ｃ１０カルボン酸塩、β−ジケトナート、またはヒドロカルボキシド（アルコキシド、アリーロキシド、もしくはアラルコキシドもまた）であってもよい。いくつかの実施形態において、陰イオンＸは、Ｃ１〜Ｃ２０カルボン酸塩；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０カルボン酸塩；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０β−ジケトナート；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０β−ジケトナート；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０ヒドロカルボキシド；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルボキシド；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０アルコキシド；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシド；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０アリーロキシド；または代替として、Ｃ６〜Ｃ１０アリーロキシドであってもよい。
【０１４０】
一態様において、各カルボン酸モノ陰イオンは、独立してアセタート、プロピオナート、ブチラート、ペンタノアート、ヘキサノアート、ヘプタノアート、オクタノアート、ノナノアート、デカノアート、ウンデカノアート、ドデカノアート、トリデカノアート、テトラデカノアート、ペンタデカノアート、ヘキサデカノアート、ヘプタデカノアート、もしくはオクタデカノアート；または代替として、ペンタノアート、ヘキサノアート、ヘプタノアート、オクタノアート、ノナノアート、デカノアート、ウンデカノアート、もしくはドデカノアートであってもよい。一実施形態において、各カルボン酸モノ陰イオンは、独立してアセタート、プロピオナート、ｎ−ブチラート、バレラート（ｎ−ペンタノアート）、ネオペンタノアート、カプロナート（ｎ−ヘキサノアート）、ｎ−ヘプタノアート、カプリラート（ｎ−オクタノアート）、２−エチルヘキサノアート、ｎ−ノナノアート、カプラート（ｎ−デカノアート）、ｎ−ウンデカノアート、ラウラート（ｎ−ドデカノアート）、もしくはステアラート（ｎ−オクタデカノアート）；代替として、バレラート（ｎ−ペンタノアート）、ネオペンタノアート、カプロナート（ｎ−ヘキサノアート）、ｎ−ヘプタノアート、カプリラート（ｎ−オクタノアート）、２−エチルヘキサノアート、ｎ−ノナノアート、カプラート（ｎ−デカノアート）、ｎ−ウンデカノアート、もしくはラウラート（ｎ−ドデカノアート）；代替として、カプロナート（ｎ−ヘキサノアート）；代替として、ｎ−ヘプタノアート；代替として、カプリラート（ｎ−オクタノアート）；または代替として、２−エチルヘキサノアートであってもよい。いくつかの実施形態において、カルボン酸陰イオンは、トリフラート（トリフルオロアセタート）であってもよい。
【０１４１】
一態様において、各β−ジケトナートは、独立してアセチルアセトナート（代替として、２，４−ペンタンジオナート）、ヘキサフルオロアセチルアセトン（代替として、１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロ−２，４−ペンタンジオナートｐｅｎｔａｎｅｄｉｕｏｎａｔｅ、またはベンゾイルアセトナート）；代替として、アセチルアセトナート；代替として、ヘキサフルオロアセチルアセトン；または代替として、ベンゾイルアセトナートであってもよい。一態様において、各アルコキシドモノ陰イオンは、独立してメトキシド、エトキシド、プロポキシド、またはブトキシドであってもよい。一実施形態において、各アルコキシドモノ陰イオンは、独立してメトキシド、エトキシド、イソプロポキシド、もしくはｔｅｒｔ−ブトキシド；代替として、メトキシド；代替として、エトキシド；代替として、イソプロポキシド；または代替として、ｔｅｒｔ−ブトキシドであってもよい。一態様において、アリーロキシドはフェノキシドであってもよい。
【０１４２】
中性配位子
一般に、遷移金属塩の中性配位子、Ｑ、または存在する場合、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物に錯体形成した遷移金属塩を含むＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の中性配位子は、独立して、金属塩、またはＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物に錯体形成した遷移金属塩を含むＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の単離可能な化合物を形成する任意の中性配位子であってもよい。一態様において、各中性配位子は、独立してニトリルまたはエーテルであってもよい。一実施形態において、中性配位子は、ニトリル；または代替として、エーテルであってもよい。金属塩またはＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物に錯体形成した遷移金属塩を含むＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の中性配位子の数ｑは、単離可能な金属塩またはＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物に錯体形成した遷移金属塩を含むＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を有する化合物を形成する任意の数であってもよい。一態様において、中性配位子の数は、０から６まで；代替として、０から３まで；代替として、０；代替として、１；代替として、２；代替として、３；または代替として、４であってもよい。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物に錯体形成した遷移金属塩を含むＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の中性配位子は、存在する場合、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を形成するために使用される遷移金属塩の中性配位子として、同一である必要がないことは留意されるべきである。さらに、中性配位子を有しない金属塩は、中性配位子を有するＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物に錯体形成した遷移金属塩を含むＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を調製するために使用することができる。
【０１４３】
一般に、各中性ニトリル配位子は、独立してＣ２〜Ｃ２０ニトリル；または代替として、Ｃ２〜Ｃ１０ニトリルであってもよい。一実施形態において、各中性ニトリル配位子は、独立してＣ２〜Ｃ２０脂肪族ニトリル、Ｃ７〜Ｃ２０芳香族ニトリル、Ｃ８〜Ｃ２０アラルカンニトリル、もしくはその任意の組み合わせ；代替として、Ｃ２〜Ｃ２０脂肪族ニトリル；代替として、Ｃ７〜Ｃ２０芳香族ニトリル；または代替として、Ｃ８〜Ｃ２０アラルカンニトリルであってもよい。いくつかの実施形態において、各中性ニトリル配位子は、独立してＣ２〜Ｃ１０脂肪族ニトリル、Ｃ７〜Ｃ１０芳香族ニトリル、Ｃ８〜Ｃ１０アラルカンニトリル、もしくはその任意の組み合わせ；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０脂肪族ニトリル；代替として、Ｃ７〜Ｃ１０芳香族ニトリル；または代替として、Ｃ８〜Ｃ１０アラルカンニトリルであってもよい。
【０１４４】
一実施形態において、各脂肪族ニトリルは、独立してアセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、またはその任意の組み合わせ；代替として、アセトニトリル；代替として、プロピオニトリル；代替として、またはブチロニトリルであってもよい。一実施形態において、各芳香族ニトリルは、独立してベンゾニトリル、２−メチルベンゾニトリル、３−メチルベンゾニトリル、４−メチルベンゾニトリル、２−エチルベンゾニトリル、３−エチルベンゾニトリル、４−エチルベンゾニトリル、もしくはその任意の組み合わせ；代替として、ベンゾニトリル；代替として、２−メチルベンゾニトリル；代替として、３−メチルベンゾニトリル；代替として、４−メチルベンゾニトリル；代替として、２−エチルベンゾニトリル；代替として、３−エチルベンゾニトリル；または代替として、４−エチルベンゾニトリルであってもよい。
【０１４５】
一般に、各中性エーテル配位子は、独立してＣ２〜Ｃ４０エーテル；代替として、Ｃ２〜Ｃ３０エーテル；または代替として、Ｃ２〜Ｃ２０エーテルであってもよい。一実施形態において、中性配位子は、独立してＣ２〜Ｃ４０脂肪族非環式エーテル、Ｃ３〜Ｃ４０脂肪族環式エーテル、Ｃ４〜Ｃ４０芳香環エーテル、もしくはＣ１２〜Ｃ４０ジアリールエーテル；代替として、Ｃ２〜Ｃ４０脂肪族非環式エーテルもしくはＣ３〜Ｃ４０脂肪族環式エーテル；代替として、Ｃ２〜Ｃ４０脂肪族非環式エーテル；代替として、Ｃ３〜Ｃ４０脂肪族環式エーテル；代替として、Ｃ４〜Ｃ４０芳香環エーテル；または代替として、Ｃ１２〜Ｃ４０ジアリールエーテルであってもよい。いくつかの実施形態において、各中性エーテル配位子は、独立してＣ２〜Ｃ３０脂肪族非環式エーテル、Ｃ３〜Ｃ３０脂肪族環式エーテル、Ｃ４〜Ｃ３０芳香環エーテル、もしくはＣ１２〜Ｃ３０ジアリールエーテル；代替として、Ｃ２〜Ｃ３０脂肪族非環式エーテルもしくはＣ３〜Ｃ３０脂肪族環式エーテル；代替として、Ｃ２〜Ｃ３０脂肪族環式エーテル；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０脂肪族環式エーテル；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０芳香環エーテル；または代替として、Ｃ１２〜Ｃ３０ジアリールエーテルであってもよい。他の実施形態において、各中性エーテル配位子は、独立してＣ２〜Ｃ２０脂肪族非環式エーテル、Ｃ３〜Ｃ２０脂肪族環式エーテル、Ｃ４〜Ｃ２０芳香環エーテル、もしくはＣ１２〜Ｃ２０ジアリールエーテル；代替として、Ｃ２〜Ｃ２０脂肪族非環式エーテルもしくはＣ３〜Ｃ２０脂肪族環式エーテル；代替として、Ｃ２〜Ｃ２０脂肪族環式エーテル；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０脂肪族環式エーテル；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０芳香環エーテル；または代替として、Ｃ１２〜Ｃ２０ジアリールエーテルであってもよい。
【０１４６】
一実施形態において、脂肪族非環式エーテルは、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、メチルエチルエーテル、メチルプロピルエーテル、メチルブチルエーテル、またはその任意の組み合わせであってもよい。いくつかの実施形態において、脂肪族非環式エーテルは、ジメチルエーテル；代替として、ジエチルエーテル；代替として、ジプロピルエーテル；代替として、ジブチルエーテル；代替として、メチルエチルエーテル；代替として、メチルプロピルエーテル；または代替として、メチルブチルエーテルであってもよい。
【０１４７】
一実施形態において、脂肪族環式エーテルは、テトラヒドロフラン、置換テトラヒドロフラン、ジヒドロフラン、置換ジヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、置換１，３−ジオキソラン、テトラヒドロピラン、置換テトラヒドロピラン、ジヒドロピラン、置換ジヒドロピラン、ピラン、置換ピラン、ジオキサン、もしくは置換ジオキサン；代替として、テトラヒドロフランもしくは置換テトラヒドロフラン；代替として、ジヒドロフランもしくは置換ジヒドロフラン；代替として、１，３−ジオキソランもしくは置換１，３−ジオキソラン；代替として、テトラヒドロピランもしくは置換テトラヒドロピラン；代替として、ジヒドロピランもしくは置換ジヒドロピラン；代替として、ピランもしくは置換ピラン；または代替として、ジオキサンもしくは置換ジオキサンであってもよい。いくつかの実施形態において、脂肪族環式エーテルは、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、もしくはジオキサン、もしくはその任意の組み合わせ；代替として、テトラヒドロフラン；代替として、テトラヒドロピラン；または代替として、ジオキサンであってもよい。置換基（一般および特定）は独立して本明細書に開示され、限定されないが、中性配位子として使用することができる置換テトラヒドロフラン、置換ジヒドロフラン、置換１，３−ジオキソラン、置換テトラヒドロピラン、置換ジヒドロピラン、置換ピラン、または置換ジオキサンをさらに記載するために使用することができる。
【０１４８】
一実施形態において、芳香環エーテルは、フラン、置換フラン、ベンゾフラン、置換ベンゾフラン、イソベンゾフラン、置換イソベンゾフラン、ジベンゾフラン、置換ジベンゾフラン、もしくはその任意の組み合わせ；代替として、フランもしくは置換フラン；代替として、ベンゾフランもしくは置換ベンゾフラン；代替として、イソベンゾフランもしくは置換イソベンゾフラン；または代替として、ジベンゾフランもしくは置換ジベンゾフランであってもよい。いくつかの実施形態において、芳香環エーテルは、フラン、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、ジベンゾフラン、もしくはその任意の組み合わせ；代替として、フラン；代替として、ベンゾフラン；代替として、イソベンゾフラン；または代替として、ジベンゾフランであってもよい。置換基（一般および特定）は独立して本明細書に開示され、限定されないが、中性配位子として使用することができる置換フラン、置換ベンゾフラン、置換イソベンゾフラン、または置換ジベンゾフランをさらに記載するために使用することができる。
【０１４９】
一実施形態において、ジアリールエーテルは、ジフェニルエーテル、置換ジフェニルエーテル、ジトリルエーテル、置換ジトリルエーテル、もしくはその任意の組み合わせ；代替として、ジフェニルエーテルもしくは置換ジフェニルエーテル；または代替として、ジトリルエーテルもしくは置換ジトリルエーテルであってもよい。いくつかの実施形態において、ジアリールエーテルは、ジフェニルエーテルもしくはジトリルエーテル；代替として、ジフェニルエーテル；またはジトリルエーテルであってもよい。置換基（一般および特定）は独立して本明細書に開示され、限定されないが、中性配位子として使用することができる置換ジフェニルエーテルまたは置換ジトリイルエーテルをさらに記載するために使用することができる。
【０１５０】
遷移金属塩の特色は、独立して本明細書に記載され、任意の組み合わせで使用することができ、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物に錯体形成した遷移金属塩を含むＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の遷移金属塩を記載する。
【０１５１】
非限定的な実施形態において、遷移金属塩は、ハロゲン化クロム（ＩＩ）、ハロゲン化クロム（ＩＩＩ）、カルボン酸クロム（ＩＩ）、カルボン酸クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩ）β−ジケトナート、クロム（ＩＩＩ）β−ジケトナート、ハロゲン化クロム（ＩＩ）（ＴＨＦ）錯体、ハロゲン化クロム（ＩＩＩ）（ＴＨＦ）錯体、ハロゲン化鉄（ＩＩ）、ハロゲン化鉄（ＩＩＩ）、鉄（ＩＩ）カルボン酸塩、鉄（ＩＩＩ）カルボン酸塩、鉄（ＩＩ）β−ジケトナート、鉄（ＩＩＩ）β−ジケトナート、ハロゲン化コバルト（ＩＩ）、ハロゲン化コバルト（ＩＩＩ）、カルボン酸コバルト（ＩＩ）、カルボン酸コバルト（ＩＩＩ）、コバルト（ＩＩ）β−ジケトナート、コバルト（ＩＩＩ）β−ジケトナート、ハロゲン化ニッケル（ＩＩ）、カルボン酸ニッケル（ＩＩ）、ニッケル（ＩＩ）β−ジケトナート、ハロゲン化パラジウム（ＩＩ）、カルボン酸パラジウム（ＩＩ）、パラジウム（ＩＩ）β−ジケトナート、ハロゲン化白金（ＩＩ）、ハロゲン化白金（ＩＶ）、カルボン酸白金（ＩＩ）、またはカルボン酸白金（ＩＶ）を含んでもよいか、または本質的にそれらからなってもよい。いくつかの非限定的な実施形態において、遷移金属塩は、ハロゲン化クロム（ＩＩ）、ハロゲン化クロム（ＩＩＩ）、カルボン酸クロム（ＩＩ）、カルボン酸クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩ）β−ジケトナート、クロム（ＩＩＩ）β−ジケトナート、ハロゲン化クロム（ＩＩ）（ＴＨＦ）錯体、もしくはハロゲン化クロム（ＩＩＩ）（ＴＨＦ）錯体；代替として、ハロゲン化鉄（ＩＩ）、ハロゲン化鉄（ＩＩＩ）、カルボン酸鉄（ＩＩ）、カルボン酸鉄（ＩＩＩ）、鉄（ＩＩ）β−ジケトナート、もしくは鉄（ＩＩＩ）β−ジケトナート；代替として、ハロゲン化コバルト（ＩＩ）、ハロゲン化コバルト（ＩＩＩ）、カルボン酸コバルト（ＩＩ）、カルボン酸コバルト（ＩＩＩ）、コバルト（ＩＩ）β−ジケトナート、もしくはコバルト（ＩＩＩ）β−ジケトナート；代替として、ハロゲン化ニッケル（ＩＩ）、カルボン酸ニッケル（ＩＩ）、もしくはニッケル（ＩＩ）β−ジケトナート；代替として、ハロゲン化パラジウム（ＩＩ）、カルボン酸パラジウム（ＩＩ）、もしくはパラジウム（ＩＩ）β−ジケトナート；または代替として、ハロゲン化白金（ＩＩ）、ハロゲン化白金（ＩＶ）、カルボン酸白金（ＩＩ）、もしくはカルボン酸白金（ＩＶ）を含んでもよいか、またはそれらからなってもよい。いくつかの実施形態において、遷移金属塩は、ハロゲン化クロム（ＩＩＩ）、カルボン酸クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩＩ）β−ジケトナート、ハロゲン化クロム（ＩＩＩ）（ＴＨＦ）錯体；代替として、ハロゲン化鉄（ＩＩＩ）、カルボン酸鉄（ＩＩＩ）、もしくは鉄（ＩＩＩ）β−ジケトナート；または代替として、ハロゲン化コバルト（ＩＩＩ）、カルボン酸コバルト（ＩＩＩ）、もしくはコバルト（ＩＩＩ）β−ジケトナートを含んでもよいか、またはそれらからなってもよい。他の実施形態において、遷移金属塩は、ハロゲン化クロム（ＩＩ）；代替として、ハロゲン化クロム（ＩＩＩ）；代替として、カルボン酸クロム（ＩＩ）；代替として、カルボン酸クロム（ＩＩＩ）；代替として、クロム（ＩＩ）β−ジケトナート；代替として、��ロム（ＩＩＩ）β−ジケトナート；代替として、ハロゲン化クロム（ＩＩ）（ＴＨＦ）錯体；代替として、ハロゲン化クロム（ＩＩＩ）（ＴＨＦ）錯体；代替として、ハロゲン化鉄（ＩＩ）；代替として、ハロゲン化鉄（ＩＩＩ）；代替として、カルボン酸鉄（ＩＩ）；代替として、カルボン酸鉄（ＩＩＩ）；代替として、鉄（ＩＩ）β−ジケトナート；代替として、鉄（ＩＩＩ）β−ジケトナート；代替として、ハロゲン化コバルト（ＩＩ）；代替として、ハロゲン化コバルト（ＩＩＩ）；代替として、カルボン酸コバルト（ＩＩ）；代替として、カルボン酸コバルト（ＩＩＩ）；代替として、コバルト（ＩＩ）β−ジケトナート；代替として、コバルト（ＩＩＩ）β−ジケトナート；代替として、ハロゲン化ニッケル（ＩＩ）；代替として、カルボン酸ニッケル（ＩＩ）；代替として、ニッケル（ＩＩ）β−ジケトナート；代替として、ハロゲン化パラジウム（ＩＩ）；代替として、カルボン酸パラジウム（ＩＩ）；代替として、パラジウム（ＩＩ）β−ジケトナート；代替として、ハロゲン化白金（ＩＩ）；代替として、ハロゲン化白金（ＩＶ）；代替として、カルボン酸白金（ＩＩ）；または代替として、カルボン酸白金（ＩＶ）を含んでもよいか、またはそれらからなってもよい。
【０１５２】
いくつかの非限定的な実施形態において、使用することができる遷移金属塩は、塩化クロム（ＩＩ）、塩化クロム（ＩＩＩ）、フッ化クロム（ＩＩ）、フッ化クロム（ＩＩＩ）、臭化クロム（ＩＩ）、臭化クロム（ＩＩＩ）、ヨウ化クロム（ＩＩ）、ヨウ化クロム（ＩＩＩ）、塩化クロム（ＩＩＩ）（ＴＨＦ）錯体、酢酸クロム（ＩＩ）、酢酸クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩ）２−エチルヘキサノアート、クロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノアート、クロム（ＩＩ）トリフラート、クロム（ＩＩＩ）トリフラート、硝酸クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩＩ）アセチルアセトナート、クロム（ＩＩＩ）ヘキサフルオロアセチルアセトナート、クロム（ＩＩＩ）ベンゾイルアセトナート、塩化鉄（ＩＩ）、塩化鉄（ＩＩＩ）、フッ化鉄（ＩＩ）、フッ化鉄（ＩＩＩ）、臭化鉄（ＩＩ）、臭化鉄（ＩＩＩ）、ヨウ化鉄（ＩＩ）、ヨウ化鉄（ＩＩＩ）、酢酸鉄（ＩＩ）、酢酸鉄（ＩＩＩ）、鉄（ＩＩ）アセチルアセトナート、鉄（ＩＩＩ）アセチルアセトナート、鉄（ＩＩ）２−エチルヘキサノアート、鉄（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノアート、鉄（ＩＩ）トリフラート、鉄（ＩＩＩ）トリフラート、硝酸鉄（ＩＩＩ）、塩化コバルト（ＩＩ）、塩化コバルト（ＩＩＩ）、フッ化コバルト（ＩＩ）、フッ化コバルト（ＩＩＩ）、臭化コバルト（ＩＩ）、臭化コバルト（ＩＩＩ）、ヨウ化コバルト（ＩＩ）、ヨウ化コバルト（ＩＩＩ）、酢酸コバルト（ＩＩ）、酢酸コバルト（ＩＩＩ）、コバルト（ＩＩ）アセチルアセトナート、コバルト（ＩＩＩ）アセチルアセトナート、コバルト（ＩＩ）２−エチルヘキサノアート、コバルト（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノアート、コバルト（ＩＩ）トリフラート、コバルト（ＩＩＩ）トリフラート、硝酸コバルト（ＩＩＩ）、塩化ニッケル（ＩＩ）、フッ化ニッケル（ＩＩ）、臭化ニッケル（ＩＩ）、ヨウ化ニッケル（ＩＩ）、酢酸ニッケル（ＩＩ）、ニッケル（ＩＩ）２−エチルヘキサノアート、ニッケル（ＩＩ）トリフラート、硝酸ニッケル（ＩＩ）、ニッケル（ＩＩ）アセチルアセトナート、ニッケル（ＩＩ）ベンゾイルアセトナート、ニッケル（ＩＩ）ヘキサフルオロアセチルアセトナート、塩化パラジウム（ＩＩ）、フッ化パラジウム（ＩＩ）、臭化パラジウム（ＩＩ）、ヨウ化パラジウム（ＩＩ）、酢酸パラジウム（ＩＩ）、パラジウム（ＩＩ）アセチルアセトナート、硝酸パラジウム（ＩＩ）、塩化白金（ＩＩ）、臭化白金（ＩＩ）、ヨウ化白金（ＩＩ）、または塩化白金（ＩＶ）を含んでもよいか、または本質的にそれらからなってもよい。他の実施形態において、遷移金属塩は、塩化クロム（ＩＩ）、塩化クロム（ＩＩＩ）、フッ化クロム（ＩＩ）、フッ化クロム（ＩＩＩ）、臭化クロム（ＩＩ）、臭化クロム（ＩＩＩ）、ヨウ化クロム（ＩＩ）、ヨウ化クロム（ＩＩＩ）、塩化クロム（ＩＩＩ）（ＴＨＦ）錯体、酢酸クロム（ＩＩ）、酢酸クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩ）２−エチルヘキサノアート、クロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノアート、クロム（ＩＩ）トリフラート、クロム（ＩＩＩ）トリフラート、硝酸クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩＩ）アセチルアセトナート、クロム（ＩＩＩ）ヘキサフルオロアセチルアセトナート、またはクロム（ＩＩＩ）ベンゾイルアセトナート；代替として、塩化鉄（ＩＩ）、塩化鉄（ＩＩＩ）、フッ化鉄（ＩＩ）、フッ化鉄（ＩＩＩ）、臭化鉄（ＩＩ）、臭化鉄（ＩＩＩ）、ヨウ化鉄（ＩＩ）、ヨウ化鉄（ＩＩＩ）、酢酸鉄（ＩＩ）、酢酸鉄（ＩＩＩ）、鉄（ＩＩ）アセチルアセトナート、鉄（ＩＩＩ）アセチルアセトナート、鉄（ＩＩ）２−エチルヘキサノアート、鉄（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノアート、鉄（ＩＩ）トリフラート、鉄（ＩＩＩ）トリフラート、もしくは硝酸鉄（ＩＩＩ）；代替として、塩化コバルト（ＩＩ）、塩化コバルト（ＩＩＩ）、フッ化コバルト（ＩＩ）、フッ化コバルト（ＩＩＩ）、臭化コバルト（ＩＩ）、臭化コバルト（ＩＩＩ）、ヨウ化コバルト（ＩＩ）、ヨウ化コバルト（ＩＩＩ）、酢酸コバルト（ＩＩ）、酢酸コバルト（ＩＩＩ）、コバルト（ＩＩ）アセチルアセトナート、コバルト（ＩＩＩ）アセチルアセトナート、コバルト（ＩＩ）２−エチルヘキサノアート、コバルト（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノアート、コバルト（ＩＩ）トリフラート、コバルト（ＩＩＩ）トリフラート、もしくは硝酸コバルト（ＩＩＩ）；代替として、塩化ニッケル（ＩＩ）、フッ化ニッケル（ＩＩ）、臭化ニッケル（ＩＩ）、ヨウ化ニッケル（ＩＩ）、酢酸ニッケル（ＩＩ）、ニッケル（ＩＩ）２−エチルヘキサノアート、ニッケル（ＩＩ）トリフラート、硝酸ニッケル（ＩＩ）、ニッケル（ＩＩ）アセチルアセトナート、ニッケル（ＩＩ）ベンゾイルアセトナート、もしくはニッケル（ＩＩ）ヘキサフルオロアセチルアセトナート；代替として、塩化パラジウム（ＩＩ）、フッ化パラジウム（ＩＩ）、臭化パラジウム（ＩＩ）、ヨウ化パラジウム（ＩＩ）、酢酸パラジウム（ＩＩ）、パラジウム（ＩＩ）アセチルアセトナート、もしくは硝酸パラジウム（ＩＩ）；または代替として、塩化白金（ＩＩ）、臭化白金（ＩＩ）、ヨウ化白金（ＩＩ）、もしくは塩化白金（ＩＶ）を含んでもよいか、または本質的にそれらからなってもよい。また他の実施形態において、遷移金属塩は、塩化クロム（ＩＩＩ）、フッ化クロム（ＩＩＩ）、臭化クロム（ＩＩＩ）、ヨウ化クロム（ＩＩＩ）、塩化クロム（ＩＩＩ）（ＴＨＦ）錯体、酢酸クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノアート、クロム（ＩＩＩ）トリフラート、硝酸クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩＩ）アセチルアセトナート、クロム（ＩＩＩ）ヘキサフルオロアセチルアセトナートもしくはクロム（ＩＩＩ）ベンゾイルアセトナート；または代替として、塩化鉄（ＩＩＩ）、フッ化鉄（ＩＩＩ）、臭化鉄（ＩＩＩ）、ヨウ化鉄（ＩＩＩ）、酢酸鉄（ＩＩＩ）、鉄（ＩＩＩ）アセチルアセトナート、鉄（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノアート、鉄（ＩＩＩ）トリフラート、もしくは硝酸鉄（ＩＩＩ）を含んでもよいか、または本質的にそれらからなってもよい。さらなる実施形態において、遷移金属塩は、塩化クロム（ＩＩＩ）、塩化クロム（ＩＩＩ）（ＴＨＦ）錯体、もしくはクロム（ＩＩＩ）アセチルアセトナート；または代替として、塩化鉄（ＩＩＩ）、もしくは鉄（ＩＩＩ）アセチルアセトナートであってもよい。
【０１５３】
いくつかの非限定的な実施形態において、使用することができる、遷移金属塩は塩化クロム（ＩＩ）；代替として、塩化クロム（ＩＩＩ）；代替として、フッ化クロム（ＩＩ）；代替として、フッ化クロム（ＩＩＩ）；代替として、臭化クロム（ＩＩ）；代替として、臭化クロム（ＩＩＩ）；代替として、ヨウ化クロム（ＩＩ）；代替として、ヨウ化クロム（ＩＩＩ）；代替として、塩化クロム（ＩＩＩ）（ＴＨＦ）錯体；代替として、酢酸クロム（ＩＩ）；代替として、酢酸クロム（ＩＩＩ）；代替として、クロム（ＩＩ）２−エチルヘキサノアート；代替として、クロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノアート；代替として、クロム（ＩＩ）トリフラート；代替として、クロム（ＩＩＩ）トリフラート；代替として、硝酸クロム（ＩＩＩ）；代替として、クロム（ＩＩＩ）アセチルアセトナート；代替として、クロム（ＩＩＩ）ヘキサフルオロアセチルアセトナート；代替として、クロム（ＩＩＩ）ベンゾイルアセトナート；代替として、塩化鉄（ＩＩ）；代替として、塩化鉄（ＩＩＩ）；代替として、フッ化鉄（ＩＩ）；代替として、フッ化鉄（ＩＩＩ）；代替として、臭化鉄（ＩＩ）；代替として、臭化鉄（ＩＩＩ）；代替として、ヨウ化鉄（ＩＩ）；代替として、ヨウ化鉄（ＩＩＩ）；代替として、酢酸鉄（ＩＩ）；代替として、酢酸鉄（ＩＩＩ）；代替として、鉄（ＩＩ）アセチルアセトナート；代替として、鉄（ＩＩＩ）アセチルアセトナート；代替として、鉄（ＩＩ）２−エチルヘキサノアート；代替として、鉄（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノアート；代替として、鉄（ＩＩ）トリフラート；代替として、鉄（ＩＩＩ）トリフラート；代替として、硝酸鉄（ＩＩＩ）；代替として、塩化コバルト（ＩＩ）；代替として、塩化コバルト（ＩＩＩ）；代替として、フッ化コバルト（ＩＩ）；代替として、フッ化コバルト（ＩＩＩ）；代替として、臭化コバルト（ＩＩ）；代替として、臭化コバルト（ＩＩＩ）；代替として、ヨウ化コバルト（ＩＩ）；代替として、ヨウ化コバルト（ＩＩＩ）；代替として、酢酸コバルト（ＩＩ）；代替として、酢酸コバルト（ＩＩＩ）；代替として、コバルト（ＩＩ）アセチルアセトナート；代替として、コバルト（ＩＩＩ）アセチルアセトナート；代替として、コバルト（ＩＩ）２−エチルヘキサノアート；代替として、コバルト（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノアート；代替として、コバルト（ＩＩ）トリフラート；代替として、コバルト（ＩＩＩ）トリフラート；代替として、硝酸コバルト（ＩＩＩ）；代替として、塩化ニッケル（ＩＩ）；代替として、フッ化ニッケル（ＩＩ）；代替として、臭化ニッケル（ＩＩ）；代替として、ヨウ化ニッケル（ＩＩ）；代替として、酢酸ニッケル（ＩＩ）；代替として、ニッケル（ＩＩ）２−エチルヘキサノアート；代替として、ニッケル（ＩＩ）トリフラート；代替として、硝酸ニッケル（ＩＩ）；代替として、ニッケル（ＩＩ）アセチルアセトナート；代替として、ニッケル（ＩＩ）ベンゾイルアセトナート；代替として、ニッケル（ＩＩ）ヘキサフルオロアセチルアセトナー；代替として、塩化パラジウム（ＩＩ）；代替として、フッ化パラジウム（ＩＩ）；代替として、臭化パラジウム（ＩＩ）；代替として、ヨウ化パラジウム（ＩＩ）；代替として、酢酸パラジウム（ＩＩ）；代替として、パラジウム（ＩＩ）アセチルアセトナート；代替として、硝酸パラジウム（ＩＩ）；代替として、塩化白金（ＩＩ）；代替として、臭化白金（ＩＩ）；代替として、ヨウ化白金（ＩＩ）；または代替として、塩化白金（ＩＶ）を含んでもよいか、または本質的にそれらからなってもよい。
【０１５４】
所与のＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を製造するために使用された金属塩が中性配位子を有しない場合でも、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体が１個または複数の中性配位子を有することができることは理解されるべきである。さらに、所与のＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を生成するために利用される金属塩に存在するより多くの中性配位子を有してもよい。
【０１５５】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の調製
一態様において、本開示は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を調製するプロセスに関する。一般に、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を調製するプロセスは、ａ）金属塩をＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物と接触させるステップ；およびｂ）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を形成するステップを含んでもよい。一般に、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体はＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を形成できる条件下で形成され得る。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体は単離されてもよく；代替として精製されてもよく；または単離および精製されてもよい。
【０１５６】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物が本明細書に開示され、限定されないが、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を調製するプロセスをさらに記載するために使用することができる。金属塩が本明細書に開示され、限定されないが、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を調製するプロセスをさらに記載するために使用することができる。
【０１５７】
一般に、金属塩およびＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物は、少なくとも０．９：１の金属塩対Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物の当量比で接触されてもよい。いくつかの実施形態において、金属塩およびＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物は、少なくとも０．９５：１；代替として、少なくとも０．９７５：１；または代替として、少なくとも０．９９：１の金属塩対Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物の当量比で接触されてもよい。いくつかの実施形態において、金属塩およびＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物は、０．９：１〜１．２５：１の範囲；代替として、０．９５：１〜１．２０：１の範囲；代替として、０．９７５：１〜１．１５：１の範囲；または代替として、０．９９：１〜１．１０：１の範囲の金属塩対Ｎ２−ホスフィニルグアニジンの当量比で接触されてもよい。他の実施形態において、金属塩およびＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物は、約１：１の金属塩対Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物の当量比で接触されてもよい。
【０１５８】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を形成できる条件は、接触温度；接触時間；または代替として、接触および接触時間を含んでもよい。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を形成するための接触温度は、少なくとも０℃；代替として、少なくとも５℃；代替として、少なくとも１０℃；または代替として、少なくとも１５℃の接触温度を含んでもよい。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を形成するための接触温度は、０℃〜６０℃の範囲；代替として、５℃〜５０℃の範囲；代替として、１０℃〜４５℃の範囲；または代替として、１５℃〜４０℃の範囲の接触温度を含んでもよい。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を形成するための接触時間は、少なくとも１５分；代替として、少なくとも３０分；代替として、少なくとも４５分；または代替として、少なくとも１時間の接触時間を含んでもよい。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を形成するための接触時間は、１５分〜３６時間の範囲；代替として、３０分〜３０時間の範囲；代替として、４５分〜２４時間の範囲；または代替として、１時間〜１８時間の範囲を含んでもよい。
【０１５９】
一実施形態において、金属塩およびＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物は、溶媒中で接触されてもよい。いくつかの実施形態において、金属塩およびＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物は極性溶媒中で接触されてもよい。いくつかの実施形態において、溶媒は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の中性リガンド、Ｑと同じである。溶媒（一般および特定）および中性リガンド（一般および特定）は一般に本明細書に開示され、限定されないが、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を調製するプロセスをさらに記載するために使用することができる。
【０１６０】
一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体は、さらに単離または精製せずに使用することができる。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体は、単離されてもよく；代替として、精製されてもよく；または代替として、単離および精製されてもよい。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体が溶媒中で調製される一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を調製するプロセスは、溶媒を蒸発させることによってＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を単離するステップを含んでもよい。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体が溶媒中で調製される一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属錯体塩を調製するためのプロセスは、特定の物質および／または反応の副産物を除去するために溶液を濾過することによってＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を単離し、溶媒を蒸発させるステップを含んでもよい。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を調製するためのプロセスは、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物が、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を溶媒に溶解し、特定の物質および／または反応の副産物を除去するために溶液を濾過することによって精製される、精製するステップを含んでもよい。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を精製するために使用される溶媒は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を形成させるために使用される同じ溶媒であってもよく、それは、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を形成させるために使用される溶媒と異なってもよい。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を調製するプロセスは、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を溶媒で洗浄することによってＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を単離する精製するステップを含んでもよい。他の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を調製するプロセスは、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を再結晶する精製するステップを含んでもよい。
【０１６１】
一般に、溶媒の蒸発は任意の好適な方法を使用して実施されてもよい。いくつかの実施形態において、溶媒は、周囲温度（１５℃〜３５℃（外部熱源の適用なし））にて蒸発されてもよい。他の実施形態において、溶媒は穏やかに加熱しながら（例えば、２５℃〜５０℃の温度範囲にて）蒸発されてもよい。さらなる実施形態において、溶媒は減圧下で周囲温度にて蒸発されてもよい。さらに他の実施形態において、溶媒は減圧下で穏やかに加熱しながら蒸発されてもよい。
【０１６２】
触媒系
一態様において、本開示は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物および金属塩；代替として、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を含む触媒系（または触媒系組成物）に関する。一実施形態において、触媒系（または触媒系組成物）はＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体および金属アルキル化合物；または代替として、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体およびアルミノキサンを含む、または、本質的にそれからなることができる。別の態様において触媒系（または触媒系組成物）は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物、金属塩、および金属アルキル化合物；または代替として、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物、金属塩、およびアルミノキサンを含む、または、本質的にそれからなることができる。触媒系（または触媒系組成物）の様々な態様および／または実施形態において使用することができるＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物、金属アルキル化合物、およびアルミノキサンは、独立して本明細書にて記載され、任意の組み合わせで、また限定されることなく使用することができ、本開示の様々な触媒系を記載する。
【０１６３】
金属アルキル
一般に、本開示の触媒系において使用することができる金属アルキル化合物は、任意のヘテロレプティック（ｈｅｔｅｒｏｌｅｐｔｉｃ）またはホモレプティック（ｈｏｍｏｌｅｐｔｉｃ）な金属アルキル化合物であってもよい。一実施形態において、金属アルキル化合物は、非ハライド金属アルキル、金属アルキルハライド、もしくはその任意の組み合わせ;代替として、非ハライド金属アルキル;または代替として、金属アルキルハライドを含む、本質的にそれからなる、またはそれからなることができる。
【０１６４】
一実施形態において、金属アルキル化合物の金属は、１、２、１１、１２、１３、もしくは１４族の金属；または代替として、１３もしくは１４族の金属；または代替として、１３族の金属を含む、本質的にそれからなる、もしくはそれからなることができる。いくつかの実施形態において、金属アルキル化合物（非ハロゲン化金属アルキル化合物またはハロゲン化金属アルキル化合物）の金属は、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、亜鉛、カドミウム、ホウ素、アルミニウム、またはスズ；代替として、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、亜鉛、ホウ素、アルミニウム、またはスズ；代替として、リチウム、ナトリウム、またはカリウム；代替として、マグネシウム、カルシウム；代替として、リチウム；代替として、ナトリウム；代替として、カリウム；代替として、マグネシウム；代替として、カルシウム、；代替として、亜鉛；代替として、ホウ素；代替として、アルミニウム；または代替として、スズであってもよい。いくつかの実施形態において金属アルキル化合物（非ハライド金属アルキル化合物または金属アルキルハライド化合物）は、リチウムアルキル化合物、ナトリウムアルキル化合物、マグネシウムアルキル化合物、ホウ素アルキル化合物、アルキル亜鉛化合物、またはアルミニウムアルキル化合物を含む、本質的にそれからなる、またはそれからなることができる。いくつかの実施形態において、金属アルキル化合物（非ハライド金属アルキル化合物または金属アルキルハライド化合物）は、アルミニウムアルキル化合物を含む、本質的にそれからなる、またはそれからなることができる。
【０１６５】
一実施形態において、アルミニウムアルキル化合物は、トリアルキルアルミニウム化合物、アルキルアルミニウムハライド化合物、アルキルアルミニウムアルコキシド化合物、アルミノキサン、またはその任意の組み合わせであってもよい。いくつかの実施形態において、アルミニウムアルキル化合物は、トリアルキルアルミニウム化合物、アルキルアルミニウムハライド化合物、アルミノキサン、もしくはその任意の組み合わせ；または代替として、トリアルキルアルミニウム化合物、アルミノキサン、もしくはその任意の組み合わせであってもよい。他の実施形態において、アルミニウムアルキル化合物は、トリアルキルアルミニウム化合物；代替として、アルキルアルミニウムハライド化合物；代替として、アルキルアルミニウムアルコキシド化合物；または代替として、アルミノキサンであってもよい。
【０１６６】
非限定的な実施形態において、アルミノキサンは、Ｒ’が直鎖状または分岐状アルキル基である式Ｉ：
【化２４】
2018076371.tif 000035
を特徴とする反復単位を有することができる。式Ｉを有するアルミノキサン反復単位のアルキル基、Ｒ’は異なるアルキル基の混合物であってもよい。金属アルキル化合物のアルキル基は、独立して本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、式Ｉを有するアルミノキサン反復単位をさらに記載する。一般に、式Ｉのｎは、１より大きい；または代替として、２より大きい。一実施形態において、ｎは、２から１５までの；または代替として、３から１０までの範囲であってもよい。
【０１６７】
一態様において、本明細書に開示される任意の金属アルキルハライド化合物の各ハライドは、独立してフルオリド、クロリド、ブロミド、またはヨージド；代替として、クロリド、ブロミド、またはヨージドであってもよい。一実施形態において、本明細書に開示される任意の金属アルキルハライド化合物の各ハライドは、フルオリド；代替として、クロリド；代替として、ブロミド；または代替として、ヨージドであってもよい。
【０１６８】
一態様において、本明細書に開示される任意の金属アルキル化合物の各アルキル基（非ハロゲン化金属アルキル化合物および／またはアルミノキサン、とりわけ、本明細書に記載される他のもの）は、独立してＣ１〜Ｃ２０アルキル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基であってもよい。一実施形態において、各アルキル基は、独立してメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、もしくはオクチル基；代替として、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基、もしくはオクチル基であってもよい。いくつかの実施形態において、各アルキル基は、独立してメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ヘキシル基、もしくはｎ−オクチル基；代替として、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、もしくはイソブチル基；代替として、メチル基；代替として、エチル基；代替として、ｎ−プロピル基；代替として、ｎ−ブチル基；代替として、イソブチル基；代替として、ｎ−ヘキシル基；または代替として、ｎ−オクチル基であってもよい。
【０１６９】
一態様において、本明細書に開示される任意の金属アルキルアルコキシド化合物の各アルコキシド基は、独立してＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基であってもよい。一実施形態において、本明細書に開示される任意の金属アルキルアルコキシド化合物の各アルコキシド基は、独立してメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ基、またはオクトキシ基；代替として、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、ヘキソキシ基、またはオクトキシ基であってもよい。いくつかの実施形態において、本明細書に開示される任意の金属アルキルアルコキシド化合物のアルコキシド基は、独立してメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｎ−ヘキソキシ基、もしくはｎ−オクトキシ基；代替として、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基、もしくはイソブトキシ基；代替として、メトキシ基；代替として、エトキシ基；代替として、ｎ−プロポキシ基；代替として、ｎ−ブトキシ基；代替として、イソブトキシ基；代替として、ｎ−ヘキソキシ基；または代替として、ｎ−オクトキシ基であってもよい。
【０１７０】
非限定的な実施形態において、金属アルキル化合物は、メチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、ジエチルマグネシウム、ジｎ−ブチルマグネシウム、エチルマグネシウムクロリド、ｎ−ブチルマグネシウムクロリド、およびジエチル亜鉛を含むことができる、または本質的にそれらからなってもよい。
【０１７１】
非限定的な実施形態において、トリアルキルアルミニウム化合物は、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、またはその混合物を含むことができるか、またはそれらからなってもよい。いくつかの非限定的な実施形態において、トリアルキルアルミニウム化合物は、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリｎ−ブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリｎ−オクチルアルミニウム、またはその混合物；代替として、トリエチルアルミニウム、トリｎ−ブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリｎ−オクチルアルミニウム、またはその混合物；代替として、トリエチルアルミニウム、トリｎ−ブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリｎ−オクチルアルミニウム、またはその混合物を含むことができるか、またはそれらからなってもよい。他の非限定的な実施形態において、トリアルキルアルミニウム化合物は、トリメチルアルミニウム；代替として、トリエチルアルミニウム；代替として、トリプロピルアルミニウム；代替として、トリｎ−ブチルアルミニウム；代替として、トリイソブチルアルミニウム；代替として、トリヘキシルアルミニウム；または代替として、トリｎ−オクチルアルミニウムを含むことができるか、またはそれらからなってもよい。
【０１７２】
非限定的な実施形態において、アルキルアルミニウムハライド化合物は、ジエチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムブロミド、エチルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、およびその混合物を含むことができるか、または本質的にそれらかなってもよい。いくつかの非限定的な実施形態において、アルキルアルミニウムハライドは、ジエチルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、およびその混合物を含むことができるか、または本質的にそれらからなってもよい。他の非限定的な実施形態において、アルキルアルミニウムハライドは、ジエチルアルミニウムクロリド；代替として、ジエチルアルミニウムブロミド；代替として、エチルアルミニウムジクロリド；または代替として、エチルアルミニウムセスキクロリドを含むことができるか、または本質的にそれらからなってもよい。
【０１７３】
非限定的な実施形態において、アルミノキサンは、メチルアルミノキサン（ＭＡＯ）、エチルアルミノキサン、修飾メチルアルミノキサン（ＭＭＡＯ）、ｎ−プロピルアルミノキサン、イソプロピルアルミノキサン、ｎ−ブチルアルミノキサン、ｓｅｃ−ブチルアルミノキサン、イソブチルアルミノキサン、ｔ−ブチルアルミノキサン、１−ペンチルアルミノキサン、２−ペンチルアルミノキサン、３−ペンチルアルミノキサン、イソペンチルアルミノキサン、ネオペンチルアルミノキサン、またはその混合物を含むことができるか、または本質的にそれらかなってもよい。非限定的な実施形態において、いくつかの有用なアルミノキサンは、メチルアルミノキサン（ＭＡＯ）、修飾メチルアルミノキサン（ＭＭＡＯ）、イソブチルアルミノキサン、ｔ−ブチルアルミノキサン、またはその混合物を含むことができるか、または本質的にそれらからなってもよい。他の非限定的な実施形態において、有用なアルミノキサンは、メチルアルミノキサン（ＭＡＯ）；代替として、エチルアルミノキサン；代替として、修飾メチルアルミノキサン（ＭＭＡＯ）；代替として、ｎ−プロピルアルミノキサン；代替として、イソプロピルアルミノキサン；代替として、ｎ−ブチルアルミノキサン；代替として、ｓｅｃ−ブチルアルミノキサン；代替として、イソブチルアルミノキサン；代替として、ｔ−ブチルアルミノキサン；代替として、１−ペンチルアルミノキサン；代替として、２−ペンチルアルミノキサン；代替として、３−ペンチルアルミノキサン；代替として、イソペンチルアルミノキサン；または代替として、ネオペンチルアルミノキサンを含むことができる。
【０１７４】
触媒系成分比
一態様において、アルキル金属およびＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体は、活性な触媒系（または触媒系組成物）を形成できる任意の比率で組み合わることができる。一実施形態において、金属アルキル化合物の金属対Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の金属のモル比は、５：１以上；代替として１０：１以上；代替として２５：１以上；代替として５０：１以上；または代替として１００：１以上であってもよい。いくつかの実施形態において、アルキル金属化合物の金属対Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の金属のモル比は、５：１から１００，０００：１までの範囲；代替として、１０：１から５０，０００：１までの範囲；代替として、２５：１から１０，０００：１までの範囲；代替として、５０：１から５，０００：１までの範囲；または代替として、１００：１から２，５００：１までの範囲であってもよい。特定の金属を有する金属アルキル化合物および特定の金属を有するＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体が使用される場合、アルキル金属の金属対Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の金属のモル比は、アルキル金属の特定の金属対Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の特定の金属のモル比として述べることができる。例えば、金属アルキル化合物がアルキルアルミニウム化合物（例えば、トリアルキルアルミニウム、アルキルアルミニウムハライド、アルキルアルミニウムアルコキシド、および／またはアルミノキサン）であり、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体がＮ２−ホスフィニルグアニジンクロム塩錯体である場合、アルキル金属化合物の金属対金属塩の金属は、アルミニウム対クロムのモル比であってもよい。いくつかの非限定的な実施形態において、アルミニウム対クロムのモル比は、５：１以上；代替として、１０：１以上；代替として、２５：１以上；代替として、５０：１以上；代替として、１００：１以上；代替として、５：１から１００，０００：１までの範囲；代替として、１０：１から５０，０００：１までの範囲；代替として、２５：１から１０，０００：１までの範囲；代替として、５０：１から５，０００：１までの範囲；または代替として、１００：１から２，５００：１までの範囲であってもよい。
【０１７５】
別の態様において、金属アルキル、金属塩、およびＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物は、活性触媒系（または触媒系組成物）を形成する任意の比率で組み合わせることができる。一般に、金属アルキル、金属塩、およびＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物を含む、本質的にそれからなる、またはそれからなる触媒系（または触媒系組成物）の成分の比率は、ｉ）金属アルキル化合物の金属対金属塩の金属のモル比、ｉｉ）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物対金属塩の当量比、またはｉｉｉ）金属アルキル化合物の金属対金属塩の金属のモル比およびＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物対金属塩の当量比の組み合わせとして与えることができる。
【０１７６】
一実施形態において、金属アルキル化合物の金属対金属塩の金属のモル比は、５：１以上；代替として、１０：１以上；代替として、２５：１以上；代替として、５０：１以上；または代替として、１００：１以上であってもよい。いくつかの実施形態において、金属アルキル化合物の金属対金属塩の金属のモル比は、５：１から１００，０００：１までの範囲；代替として、１０：１から５０，０００：１までの範囲；代替として、２５：１から１０，０００：１までの範囲；代替として、５０：１から５，０００：１までの範囲；または代替として、１００：１から２，５００：１までの範囲であってもよい。特定の金属を有する金属アルキル化合物および特定の金属を有する金属塩が使用される場合、アルキル金属化合物の金属と金属塩の金属とのモル比は、アルキル金属化合物の特定の金属と金属塩の特定の金属とのモル比として述べることができる。例えば、金属アルキル化合物がアルキルアルミニウム化合物（例えば、トリアルキルアルミニウム化合物、アルキルアルミニウムハライド化合物、アルキルアルミニウムアルコキシド化合物、および／またはアルミノキサン）であり、金属塩がクロム塩である場合、金属アルキル化合物の金属対金属塩の金属は、アルミニウム対クロムのモル比であってもよい。いくつかの非限定的な実施形態において、アルミニウム対クロムのモル比は、５：１以上；代替として、１０：１以上；代替として、２５：１以上；代替として、５０：１以上；または代替として、１００：１以上；代替として、５：１から１００，０００：１までの範囲；代替として、１０：１から５０，０００：１までの範囲；代替として、２５：１から１０，０００：１までの範囲；代替として、５０：１から５，０００：１までの範囲；または代替として、１００：１から２，５００：１までの範囲であってもよい。
【０１７７】
一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物対金属塩の当量比は、０．８：１以上；代替として、０．９：１以上；または代替として、０．９５：１以上；または代替として、０．９８：１以上であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物対金属塩の当量比は、０．８：１から５：１までの範囲；代替として、０．９：１から４：１までの範囲；または代替として、０．９５：１から３：１までの範囲；または代替として、０．９８：１から２．５：１までの範囲であってもよい。他の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物対金属塩の当量比は、０．９：１〜１．２５：１の範囲；代替として、０．９５：１〜１．２０：１の範囲；代替として、０．９７５：１〜１．１５：１の範囲；または代替として、０．９９：１〜１．１０：１の範囲であってもよい。さらに他の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物対金属塩の当量比は、約１：１であってもよい。
【０１７８】
一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の単離および／または精製と、触媒系の形成が、オリゴマー化の態様に影響を及ぼすことがある。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の単離および／または精製と、触媒系の形成との間の時間が増加すると、触媒系の触媒活性度が高まる、および／または触媒系の生産性が高まる。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の単離および／または精製と、触媒系の形成との間の時間が増加すると、触媒系によって製造されるポリマーの百分率が増加し得る。理論によって限定されるものではないが、これらの効果は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体からの、および／またはＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の結晶格子からの中性配位子Ｑの脱会合（または代替として、その蒸発）に起因し得ると考えられる。
【０１７９】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の単離および／または精製と、触媒系の形成との間の時間を制御すると、オリゴマー化工程を改善することができる。例えば、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の単離および／または精製と、触媒系の形成との間の時間を増加させることによって、触媒系の活性度および／または生産性を高めることができる。触媒系の活性度および／または生産性を高めると触媒系１単位当たりのオリゴマー（またはポリマー）生成物の増加を提供することができる。
【０１８０】
しかし、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の単離および／または精製と、触媒系の形成との間の時間を無差別に増加させることが可能でないこともあり得る。本明細書に示されるように、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の単離および／または精製と、触媒系の形成との間の時間を増加させると、触媒系によって生成するポリマーの百分率が増加させることができる。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を使用する触媒系のポリマー生成があまりにも多く増加する場合、ポリマー生成がオリゴマー化工程への影響を不利にすることある。例えば、ポリマーは、オリゴマー化反応器壁または冷却器に付着し、ポリマーを除去するために反応器の停止が必要となり得る汚れを引き起こすことがある。したがって、ポリマー生成の増加に対する触媒系活性度および／または生産性の増加との均衡を取る必要性がある場合がある。
【０１８１】
一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の単離および／または精製と、触媒系の形成との間の時間が増加する効果の少なくとも一部は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体への中性配位子の添加により逆転させることができることが発見された。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の単離および／または精製と、触媒系の形成との間の時間が増加する効果の一部を逆転させる能力は、負の効果を潜在的に減少させることができる。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の単離および／または精製と、触媒系の形成との間の時間が増加する負の効果の非限定的な例は、１）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の単離および／または精製と、触媒系の形成との間の時間を、形成された触媒系が望ましくない量のポリマーを生成するポイントまで増加させることにより、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を使用する能力を妨げること、および２）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の調製と、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を使用する触媒系の調製との間の時間を最小限に抑える必要性を減少させることを含むことができる。また、中性配位子の増分の損失は、触媒系およびオリゴマー化におけるその後の使用に影響を与え得ることに留意されるべきである。したがって、中性配位子を添加することは、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体からの中性配位子損失の効果を反転させることができるが、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属錯体から中性配位子に関連する効果を制御する方法としてＮ２−ホスフィニルグアニジン金属錯体からの中性配位子損失の損失を制限できるプロセスおよび／またはステップが実施され得る。例えば、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属錯体は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の中性配位子の損失を制限するために（当業者に公知の方法の中で）密閉容器内に保存されてもよい。
【０１８２】
しかしながら、理論により制限されないが、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体に会合する中性配位子があまりにも多いと、触媒系生産性を著しく減少させる、またはなくし得ると考えられる。したがって、いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体に供給される中性配位子の量を制御する注意を払う必要があり得る。一般に、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体への中性配位子の添加は、任意の適切な方法によって達成することができる。例えば、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を中性配位子を含有する溶液から再結晶することができ、または、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を中性配位子を含有する溶媒中に置くことができる。過剰の中性配位子は、溶媒を蒸発させることによって、またはＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の中性配位子での処理と触媒系の形成との間の時間を増加させることによってＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体から除去することができる。
【０１８３】
一態様において、単離したおよび／または精製したＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体は、オリゴマー化（または重合）プロセスのための触媒系に使用することができる。したがって、一態様において、本明細書に開示される触媒系を生成する任意のプロセスまたは任意のオリゴマー化（または重合）プロセスは、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を熟成させるステップをさらに含んでもよい。別の態様において、本明細書に開示される触媒系を生成する任意のプロセスまたは任意のオリゴマー化（または重合）プロセスは、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を中性配位子で処理するステップ、１）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を中性配位子で処理するステップおよび２）処理したＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を熟成させるステップをさらに含んでもよい。別の態様において、本明細書に開示される触媒系を生成する任意のプロセスまたは任意のオリゴマー（または重合）プロセスは、熟成したＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を中性配位子で処理するステップ；または代替として、１）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を中性配位子で処理するステップおよび２）処理したＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を熟成させるステップをさらに含んでもよい。
【０１８４】
一態様において、本明細書に記載される任意のオリゴマー化（または重合化）プロセス（本明細書に記載される任意のＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を含む、本明細書に記載される任意の触媒系を使用する）の活性度は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を熟成することによって制御することができる。一態様において、本明細書に記載される任意のオリゴマー化（または重合）プロセス（本明細書に記載される任意のＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を含む、本明細書に記載される任意の触媒系を使用する）の活性度は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を中性配位子で処理することによって；または代替として、１）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を中性配位子で処理し、かつ２）処理したＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を熟成させることによって制御することができる。一態様において、本明細書に記載される任意のオリゴマー化（または重合）プロセス（本明細書に記載される任意のＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を含む、本明細書に記載される任意の触媒系を使用する）の活性度は、熟成したＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を中性配位子で処理することによって；または代替として、１）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を中性配位子で処理し、かつ２）処理したＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を熟成させることによって制御することができる。
【０１８５】
オリゴマー化（または重合）プロセスにおける本明細書に記載される任意のＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を含む、本明細書に記載される任意の触媒系の触媒活性度は、使用されたＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体中の金属塩の金属のグラム当たりに生成したオレフィンオリゴマー（またはポリマー）生成物（または液状オレフィンオリゴマー／ポリマー生成物、もしくはオリゴマー化／重合生成物の他の定義された部分）のグラムとして定義することができる。一実施形態において、本明細書に記載される任意のＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を含む、本明細書に記載される任意の触媒系の触媒系活性度は、熟成したＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の使用により増加させることができる。この活性度増加量は、触媒系活性度の百分率増加量として記載することができ、新鮮なＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を使用して調製された触媒系の活性度ａ０と関係し得る。一般に、新鮮なＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体とは、化触媒系をその単離および／または精製の７日間内に調製するために使用されたものである。新鮮なＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体は、不活性触媒系（すなわち、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体中の金属塩のグラム金属当たり５００グラム未満のオリゴマー／ポリマーを生成する触媒系）を与え得る過剰の中性配位子を含まないことは留意されるべきである。熟成したＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体に基づく触媒系の活性度は、ａｘで示すことができる。
【０１８６】
一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体は、最大で、７３０日；代替として、５５０日；代替として、４５０日；代替として、３６５日；代替として、３３０日；代替として、３００日；代替として、２７０日；代替として、２４０日；代替として、２１０日；または代替として、１８０日間、熟成されてもよい。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体は、最短で、１日；代替として、３日；代替として、７日；代替として、１４日；代替として、２８日間、熟成されてもよい。他の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体は、本明細書に提供される任意の最小の熟成の時間から本明細書に提供される任意の最大の熟成の時間まで熟成されてもよい。非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体は、１日から７３０日；代替として、３日から５５０日；代替として、３日から３３０日；または代替として、７日から１８０日、熟成されてもよい。他の熟成の時間は本開示から容易に明白である。
【０１８７】
一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を（本明細書に記載される任意の期間）熟成すると、本明細書に記載される任意のＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を使用する、本明細書に記載される任意の触媒系の活性度を、最小で１０％；代替として、少なくとも２０％；代替として、少なくとも３０％；代替として、少なくとも４０％；または代替として、少なくとも５０％、増加させることができる。他の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を（本明細書に記載される任意の期間）熟成すると、本明細書に記載される任意のＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を使用する、本明細書に記載される任意の触媒系の活性度を、最大で１５００％；代替として、１０００％まで；代替として、７５０％まで；代替として、６００％まで；または代替として、５００％まで、増加させることができる。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を（本明細書に記載される任意の時間）熟成させることは、本明細書に記載される任意の最小値から本明細書に記載される任意の最大値まで本明細書に記載される任意のＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を使用して本明細書に記載される任意の触媒系の活性度を増加させることができる。非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を（本明細書に記載される任意の時間）熟成させることは、本明細書に記載されるＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を使用して本明細書に記載される任意の触媒系の活性度を、４０％〜６００％；または代替として、５０％〜５００％増加させることができる。他の触媒系の活性度の範囲は本開示から容易に明らかである。
【０１８８】
一実施形態において、本明細書に記載される任意のＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を使用する、本明細書に記載される任意の触媒系のために、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を（本明細書に記載される任意の期間）熟成すると、本明細書に記載されるポリマーの任意の定義された百分率を生成することができるオリゴマー化触媒系を提供することができる。一実施形態において、本明細書に記載される任意のＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を使用する、本明細書に記載される任意の触媒系のために、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を（本明細書に記載される任意の期間）熟成すると、５重量パーセント（ｗｔ％）未満のポリマー；代替として、２重量％以下のポリマー；代替として、１．５重量％以下、代替として、１重量％以下のポリマー；代替として、０．７５重量％以下、代替として、２重量％以下のポリマー；代替として、０．５重量％以下のポリマー；代替として、０．４重量％以下のポリマー；代替として、０．３重量％以下のポリマー；代替として、０．２重量％以下のポリマー；または代替として、０．１重量％以下のポリマーを生成することができるオリゴマー化触媒系を提供することができる。一般に、重量％に基づいて、ポリマーは、オレフィンオリゴマー化（オレフィン三量体化、オレフィン四量体化、またはオレフィン三量体化および四量体化）の全てのオリゴマー生成物（代替として、三量体生成物、四量体生成物または三量体および四量体生成物）に基づく。
【０１８９】
いくつかの実施形態において、熟成したＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を使用する、本明細書に記載される任意のオリゴマー化触媒系は、本明細書に記載される任意の増加させた活性度、および本明細書に記載される任意の量のポリマーの組み合わせを有することができる。熟成したＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を使用する、本明細書に記載されるオリゴマー化触媒系は、本明細書に記載される他の任意のオリゴマー化触媒系の特色またはオリゴマー化生成物の特色を、個々にまたは組み合わせて使用してさらに記載することができる。
【０１９０】
一実施形態において、本明細書に記載される任意のＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を含む任意の触媒系の、ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の熟成に応じる、触媒活性度およびまたはポリマー生成物を描く検量線を作成することができる。いくつかの実施形態において、検量線（触媒活性度および／またはポリマー生成の）は、予測式を誘導するためにＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の熟成期間の関数として描くことができる。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の熟成に応じる、触媒系活性度および／またはポリマー生成と関係する検量線または予測式は、検量線および／または予測式の内挿または外挿に基づく、１つまたは複数の利用者および／または工程のパラメーターを調節するために使用することができる。いくつかの態様において、ａｘがａ０に関して増加する程度は、開示された範囲から即座に外れることがあり、また、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体が熟成される条件に依存して、目下のところ開示された値に基づいて予想されるより大きくなり得ることは企図される。例えば、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体は、目下記述されたものより５から１０倍長い期間の間の熟成、または高温および／または減圧の条件下の熟成にかけることができる。そのような条件下でＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を熟成する効果は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の熟成が触媒系活性度を増加させ得る条件をもたらすことができる予測的な情報を提供するために、記述される数的範囲外の熟成したＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を使用して、本明細書において言及された分析にかけることができる。本開示の恩恵およびルーチン実験の使用を前提とすれば、当業者は、本明細書に開示される方法論を修飾して、熟成したＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を使用する触媒系の活性度を所望の値または範囲に改変することができることが企図される。そのような修飾は、本開示の範囲内にある。
【０１９１】
一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体（熟成した、またはしていない）の中性配位子との接触は、中性配位子対Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩の任意の適切なモル比を使用して行うことができる。一実施形態において、中性配位子対Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩のモル比は、少なくとも０．２：１；代替として、少なくとも０．３：１；代替として、少なくとも０．４：１；または代替として、少なくとも０．５：１であってもよい。一実施形態において、中性配位子対Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩の任意の適切なモル比は、０．２：１から１０，０００：１まで；代替として、０．３：１から８，０００：１；代替として、０．４：１から６，０００：１まで；または代替として、０．５：１から５，０００：１までであってもよい。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の接触は、本質的に中性配位子からなる溶媒中で；または代替として、中性配位子および非錯体形成溶媒を含む、または本質的にそれからなる溶媒中で起こすことができる。
【０１９２】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体が本質的に中性配位子からなる溶媒と接触される場合、中性配位子対Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩のモル比は、本明細書に開示される中性配位子対Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩の任意のモル比であってもよい。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体が本質的に中性配位子からなる溶媒と接触される他の実施形態において、中性配位子対Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩のモル比は、中性配位子対Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩の、少なくとも５：１；代替として、少なくとも７．５：１；代替として、少なくとも１０：１；代替として、少なくとも１０：１；代替として、少なくとも１５：１；代替として、５：１；代替として、７．５：１から１０，０００：１までの範囲；代替として、１０：１から８，０００：１までの範囲；代替として、１０：１から６，０００：１までの範囲；または代替として、１５：１から５，０００：１までの範囲の任意のモル比であってもよい。
【０１９３】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体が中性配位子および非錯体形成溶媒を含む、または本質的にそれからなる溶媒と接触される場合、中性配位子対Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩のモル比は、本明細書に開示される中性配位子対Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩の任意のモル比であってもよい。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体が中性配位子および非錯体形成溶媒を含む、または本質的にそれからなる溶媒と接触される他の実施形態において、中性配位子対Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩のモル比は、５００：１以下；３００：１以下；２００：１以下；代替として、１００：１以下；代替として、０．２：１から５００：１までの範囲；代替として、０．３：１から３００：１までの範囲；代替として、０．４：１から２００：１までの範囲；または代替として、０．５：１から１００：１までであってもよい。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体が中性配位子および非錯体形成溶媒を含む、または本質的にそれからなる溶媒と接触されるいくつかの実施形態において、中性配位子対非錯体形成溶媒の体積比は、１：１から１０，０００：１までの範囲；代替として、５：１から８，０００：１までの範囲；代替として、７．５：１から６，０００：１までの範囲；または代替として、１０：１から５，０００：１までの範囲であってもよい。
【０１９４】
一実施形態において、中性配位子は、本明細書に開示される任意の中性配位子であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を処理するために使用される中性配位子は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の中性配位子と同じであってもよく；または代替として、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を処理するために使用される中性配位子は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の中性配位子と異なっていてもよい。一実施形態において、中性配位子および非錯体形成溶媒を含む、または本質的にそれからなる実施形態において使用される非錯体形成溶媒は、炭化水素またはハロゲン化炭化水素；代替として、炭化水素またはハロゲン化炭化水素であってもよい。炭化水素およびハロゲン化炭化水素溶剤（一般的および特定の）は、本明細書に開示され、限定されることなく使用することができ、中性配位子および非錯体形成溶媒を含む、または本質的にそれからなる溶媒を使用する任意の態様および／または実施形態をさらに記載する。
【０１９５】
一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体は、任意の適切な方法論を使用して熟成することができる（それが中性配位子で処理されたか否かにかかわらず）。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体は、（それが中性配位子で処理されたか否かにかかわらず）常温（１５−３５℃−外部熱源を適用しない）で；または代替として、不活性雰囲気下で常温で熟成することができる。他の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体は、（それが中性配位子で処理されたか否かにかかわらず）、緩やかに加熱して（例えば、２５℃から５０℃までの範囲の温度で）；代替として、減圧下で；代替として、常温減圧下で；または代替として、緩やかに加熱しながら減圧下で熟成することができる。
【０１９６】
一実施形態において、熟成したＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体、中性配位子処理したＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体、または、中性配位子処理し熟成したＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体は、触媒系において、触媒を調製する工程および／またはオリゴマー化（または重合）プロセスにおいて使用することができる。一般に、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を熟成するステップ、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を中性配位子で処理するステップ、および／またはＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を中性配位子で処理し、かつ中性配位子処理したＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を熟成するステップは、限定されることなく使用することができ、触媒系、触媒系、を調製するプロセスおよび／またはオリゴマー化（または重合）プロセスをさらに記載する。
【０１９７】
一態様において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物を調製するステップ（複数可）は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の調製、触媒系を調製するプロセスおよび／またはオリゴマー化（または重合）プロセスに組み込むことができる。ステップが組み合わせられた場合、適切なステップ識別子（例えば、１）、２）など．．ａ）、ｂ）など．．ｉ）、ｉｉ）など．．および、化合物／溶媒識別子（例えば、第１の、第２の、など）は、一般的な開示を損なうことなく、グアニジン化合物の調製、触媒系を調製するプロセスおよび／またはオリゴマー化（または重合）プロセス内で使用される個々および／または異なるステップ／化合物／溶媒を示すために加えることができる。
【０１９８】
一態様において、本開示は、オリゴマー化工程；または代替として、重合プロセスに関する。一実施形態において、オリゴマー化プロセスは、ａ）オレフィンおよび触媒系（または触媒系組成物）を接触させるステップ；およびｂ）オリゴマー生成物を形成するステップを含むことができる。いくつかの実施形態において、オリゴマー化プロセスは、ａ）オレフィン、水素、および触媒系（または触媒系組成物）を接触させるステップ；およびｂ）オリゴマー生成物を形成するステップを含むことができる。一実施形態において、重合プロセスは、ａ）オレフィンおよび触媒系（または触媒系組成物）を接触させるステップ；およびｂ）ポリマー生成物を形成するステップを含むことができる。いくつかの実施形態において、重合プロセスは、ａ）オレフィン、水素、および触媒系（または触媒系組成物）を接触させるステップ、およびｂ）ポリマー生成物を形成するステップを含むことができる。本触媒系（または触媒系組成物）、オレフィン、およびオリゴマー生成物またはポリマー生成物の特色は、独立して本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、オリゴマー化プロセスまたは重合プロセスをさらに記載する。一実施形態において、本触媒系は、第１の溶媒中で調製することができる。一実施形態において、オレフィン、触媒系（または触媒系組成物）、および、場合によって、水素は、第２の溶媒中で接触することができる。一般に、触媒系を調製することができる溶媒、およびオレフィンおよび触媒系（または触媒系組成物）を接触させることができる溶媒は、同じであってもよく；または、代替として、異なっていてもよい。
【０１９９】
一実施形態において、オリゴマー化工程は、ａ）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体および金属アルキル化合物を含む触媒系混合物を形成するステップ；ｂ）触媒系混合物をオレフィンと接触させるステップ；およびｃ）オリゴマー生成物を形成するステップを含むことができる。一実施形態において、重合工程は、ａ）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体および金属アルキル化合物を含む触媒系混合物を形成するステップ；ｂ）触媒系混合物をオレフィンと接触させるステップ；およびｃ）ポリマー生成物を形成するステップを含むことができる。いくつかの実施形態において、触媒系混合物をオレフィンと接触させるステップは、触媒系混合物をオレフィンおよび水素と接触させるステップであってもよい。いくつかの実施形態において、触媒系混合物は、溶媒（例えば、第１の溶媒）をさらに含む。いくつかの実施形態において、触媒系混合物およびオレフィンは、溶媒（例えば、触媒系が溶媒中で調製される場合、第２の溶媒）中で接触させることができる。一実施形態において、オリゴマー化工程は、ａ）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体、金属アルキル化合物、および第１の溶媒を含む、または本質的にそれからなる、触媒系混合物を形成するステップ；ｂ）触媒系混合物をオレフィンおよび第２の溶媒と接触させるステップ；およびｃ）オリゴマー生成物を形成するステップを含むことができる。一実施形態において、重合工程は、ａ）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体、金属アルキル化合物、および第１の溶媒を含む、または本質的にそれからなる、触媒系混合物を形成するステップ；ｂ）触媒系混合物をオレフィンおよび第２の溶媒と接触させるステップ；およびｃ）ポリマー生成物を形成するステップを含むことができる。いくつかの実施形態において、触媒系混合物をオレフィンおよび第２の溶媒と接触させるステップは、オレフィン、第２の溶媒、および水素と触媒系混合物を接触させるステップであってもよい。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体、金属アルキル化合物、オレフィン、溶媒、およびオリゴマー生成物またはポリマー生成物の特色は、独立して本明細書に記載され（他の触媒系およびオリゴマー化または重合の特色の中でも）、限定されることなく使用することができ、オリゴマー化プロセスまたは重合プロセスをさらに記載する。いくつかの実施形態において、第１および第２の溶媒は、同じであってもよく；または代替として、第１および第２の溶媒が、異なっていてもよい。いくつかの実施形態において、金属アルキル化合物は、アルミノキサンを含む、または、本質的にそれからなることができる。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の金属対金属アルキル化合物の金属の比率は、独立して本明細書に提供され（他の触媒系およびオリゴマー化または重合の特色の中でも）、限定されることなく使用することができ、オリゴマー化プロセスまたは重合プロセスをさらに記載する。
【０２００】
一実施形態において、オリゴマー化工程は、ａ）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を含む組成物を形成するステップ；ｂ）オレフィンおよび金属アルキル化合物を含む混合物を形成するステップ；ｃ）ステップａ）の組成物およびステップｂ）の混合物を接触させるステップ；およびｄ）オリゴマー生成物を形成するステップを含むことができる。一実施形態において、重合工程は、ａ）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を含む組成物を形成するステップ；ｂ）オレフィンおよび金属アルキル化合物を含む混合物を形成するステップ；ｃ）ステップａ）の組成物およびステップｂ）の混合物を接触させるステップ；およびｄ）ポリマー生成物を形成するステップを含むことができる。いくつかの実施形態において、オレフィンおよび金属アルキル化合物を含む混合物は、水素をさらに含む。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を含む組成物は、溶媒（例えば、第１の溶媒）をさらに含む。いくつかの実施形態において、オレフィン、金属アルキル化合物、および場合によって、水素を含む混合物は、溶媒（例えば、第２の溶媒）をさらに含む。一実施形態において、オリゴマー化工程は、ａ）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体および第１の溶媒を含む、または本質的にそれからなる組成物を形成するステップ；ｂ）オレフィン、金属アルキル化合物、水素、および第２の溶媒を含む混合物を形成するステップ；ｃ）ステップａ）の組成物およびステップｂ）の混合物を接触させるステップ；およびｄ）オリゴマー生成物を形成するステップを含むことができる。一実施形態において、重合工程は、ａ）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体および第１の溶媒を含む、または本質的にそれからなる、組成物を形成するステップ；ｂ）オレフィン、金属アルキル化合物、水素、および第２の溶媒を含む混合物を形成するステップ；ｃ）ステップａ）の組成物およびステップｂ）の混合物を接触させるステップ；およびｄ）ポリマー生成物を形成するステップを含むことができる。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体ならびにオレフィンおよび金属アルキル化合物（場合によって、水素）を含む混合物を含む組成物に使用される溶媒は、同一であってもよく；または、代替として、異なっていてもよい。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体、金属アルキル化合物、オレフィン溶媒、およびオリゴマー生成物または、ポリマー生成物の特色（他の触媒系およびオリゴマー化または重合の特色の中でも）は、独立して本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、オリゴマー化プロセスまたは重合プロセスをさらに記載する。いくつかの実施形態において、金属アルキルは、アルミノキサンを含んでもよいか、または本質的にそれからなってもよい。
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体の金属対金属アルキル化合物の金属の比は、独立して本明細書に提供され（他の触媒系およびオリゴマー化プロセスまたは重合プロセスの特色の中でも）、限定されることなく使用することができ、オリゴマー化プロセスまたは重合プロセスをさらに記載する。
【０２０１】
一実施形態において、オリゴマー化工程は、ａ）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物、金属塩、および金属アルキル化合物を含む触媒系混合物を形成するステップ；ｂ）触媒系混合物をオレフィンと接触させるステップ；およびｃ）オリゴマー生成物を形成するステップを含むことができる。一実施形態において、重合プロセスは、ａ）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物、金属塩、および金属アルキル化合物を含む触媒系混合物を形成するステップ；ｂ）触媒系混合物をオレフィンと接触させるステップ；およびｃ）ポリマー生成物を形成するステップを含むことができる。いくつかの実施形態において、触媒系混合物をオレフィンと接触させるステップは、触媒系混合物をオレフィンおよび水素と接触させるステップであってもよい。いくつかの実施形態において、触媒系混合物は、溶媒（例えば、第１の溶媒）をさらに含むことができる。いくつかの実施形態において、触媒系混合物およびオレフィンは、溶媒（例えば、触媒系が溶媒中で調製された場合、第２の溶媒）中で接触させることができる。一実施形態において、オリゴマー化工程は、ａ）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物、金属塩、金属アルキル化合物、および第１の溶媒を含む、または本質的にそれからなる触媒系混合物を形成するステップ；ｂ）触媒系混合物をオレフィンおよび第２の溶媒と接触させるステップ；およびｃ）オリゴマー生成物を形成するステップを含むことができる。一実施形態において、重合プロセスは、ａ）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物、金属塩、金属アルキル、および第１の溶媒を含む、または本質的にそれからなる触媒系混合物を形成するステップ；ｂ）触媒系混合物をオレフィンおよび第２の溶媒と接触させるステップ；およびｃ）ポリマー生成物を形成するステップを含むことができる。いくつかの実施形態において、触媒系混合物をオレフィンおよび第２の溶媒と接触させるステップは、触媒混合物を、オレフィン、第２の溶媒、および水素と接触させるステップであってもよい。いくつかの実施形態において、第１および第２の溶媒は、同じであってもよく；または代替として、第１および第２の溶媒は、異なっていてもよい。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物、金属塩、金属アルキル、オレフィン、溶媒、およびオリゴマー生成物またはポリマー生成物の特色は、独立して本明細書に記載され（他の触媒系およびオリゴマー化または重合の特色の中でも）、限定されることなく使用することができ、オリゴマー化プロセスまたは重合プロセスをさらに記載する。いくつかの実施形態において、第１および第２の溶媒は、同じであってもよく；または代替として、第１および第２の溶媒は、異なっていてもよい。いくつかの実施形態において、金属アルキル化合物は、アルミノキサンを含んでもよいか、または本質的にそれからなってもよい。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物、金属塩、金属アルキル化合物、オレフィン、溶媒、およびオリゴマー生成物またはポリマー生成物の特色は、独立して本明細書に記載され（他の触媒系およびオリゴマー化または重合の特色の中でも）、限定されることなく使用することができ、オリゴマー化プロセスまたは重合プロセスをさらに記載する。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物対金属塩の比、および金属アルキル化合物の金属対金属塩の金属の比は、独立して本明細書に提供され（他の触媒系およびオリゴマー化プロセスまたは重合プロセスの特色の中でも）、限定されることなく使用することができ、オリゴマー化プロセスまたは重合プロセスをさらに記載する。
【０２０２】
一実施形態において、オリゴマー化工程は、ａ）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物および金属塩を含む組成物を形成するステップ；ｂ）オレフィンおよび金属アルキル化合物を含む混合物を形成するステップ；ｃ）ステップａ）において形成された組成物、およびステップｂ）において形成された混合物を接触させるステップ；およびｄ）オリゴマー生成物を形成するステップを含むことができる。一実施形態において、重合工程は、ａ）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物および金属塩を含む混合物を形成するステップ；ｂ）オレフィンおよび金属アルキル化合物を含む混合物を形成するステップ；ｃ）ステップａ）において形成された組成物、およびステップｂ）において形成された混合物を接触させるステップ；およびｄ）ポリマー生成物を形成するステップを含むことができる。いくつかの実施形態において、オレフィンおよび金属アルキル化合物を含む混合物は、水素をさらに含む。いくつかの実施形態において、ステップａ）の組成物は、溶媒（例えば、第１の溶媒）をさらに含む。いくつかの実施形態において、ステップｂ）の混合物は、溶媒（例えば、触媒系が溶媒中で調製される場合、第２の溶媒）をさらに含む。一実施形態において、オリゴマー化工程は、ａ）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物、金属塩、および第１の溶媒を含む、または本質的にそれからなる組成物を形成するステップ；ｂ）オレフィン、金属アルキル化合物、および第２の溶媒を含む混合物を形成するステップ；ｃ）ステップａ）において形成された組成物、およびステップｂ）において形成された混合物を接触させるステップ；およびｄ）オリゴマー生成物を形成するステップを含むことができる。一実施形態において、重合工程は、ａ）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物、金属塩、および第１の溶媒を含む、または本質的にそれからなる、組成物を形成するステップ；ｂ）オレフィン、金属アルキル化合物、および第２の溶媒を含む混合物を形成するステップ；ｃ）ステップａ）において形成された組成物、およびステップｂ）において形成された混合物を接触させるステップ；およびｄ）ポリマー生成物を形成するステップを含むことができる。いくつかの実施形態において、第１および第２の溶媒は、同じであってもよく；または代替として、第１および第２の溶媒は、異なっていてもよい。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物、金属塩、金属アルキル化合物、オレフィン、溶媒、ならびにオリゴマー生成物またはポリマー生成物（他の触媒系およびオリゴマー化または、重合特色中の）の特色は、独立して本明細書において記載され、限定されることなく使用することができ、オリゴマー化プロセスまたは重合プロセスをさらに記載する。いくつかの実施形態において、金属アルキルはアルミノキサンを含んでもよいか、または本質的にそれからなってもよい。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物対金属塩の比、および金属アルキルの金属対金属塩の金属の比は、独立して本明細書に提供され（他の触媒系およびオリゴマー化プロセスまたは重合プロセスの特色の中でも）、限定されることなく使用することができ、オリゴマー化プロセスまたは重合プロセスをさらに記載する。
【０２０３】
一実施形態において、触媒系、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を含む混合物、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体および金属アルキル化合物を含む混合物、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物および金属塩を含む組成物、またはＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物、金属塩、および金属アルキル化合物を含む組成物とともに使用される溶媒は、炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、またはその任意の組み合わせ；代替として、炭化水素溶剤；または代替として、ハロゲン化炭化水素溶剤であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を含む混合物、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体および金属アルキル化合物を含む混合物、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物および金属塩を含む組成物、またはＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物、金属塩、および金属アルキル化合物を含む組成物とともに使用される溶媒は、脂肪族炭化水素溶剤、ハロゲン化脂肪族炭化水素溶剤、芳香族炭化水素溶媒、ハロゲン化芳香族溶媒、またはその任意の組み合わせ；代替として、脂肪族炭化水素溶剤、ハロゲン化脂肪族炭化水素溶剤、またはその任意の組み合わせ；代替として、芳香族炭化水素溶媒、ハロゲン化芳香族溶媒、またはその任意の組み合わせ；代替として、脂肪族炭化水素溶剤；代替として、ハロゲン化脂肪族炭化水素溶剤；代替として、芳香族炭化水素溶媒；または代替として、ハロゲン化芳香族溶媒であってもよい。一般的および特定の炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、脂肪族炭化水素溶剤、ハロゲン化脂肪族炭化水素溶剤、芳香族炭化水素溶媒、およびハロゲン化芳香族溶媒は、本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、本明細書に記載されるオリゴマー化プロセスまたは重合プロセス（複数可）をさらに記載する。
【０２０４】
一実施形態において、オレフィンを含む任意の混合物に使用される、またはオリゴマー生成物もしくはポリマー生成物を形成するために使用される溶媒は、炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、もしくはその任意の組み合わせ；代替として、炭化水素溶剤；または代替として、ハロゲン化炭化水素溶剤であってもよい。いくつかの実施形態において、オレフィンを含む任意の混合物に使用される、またはオリゴマー生成物もしくはポリマー生成物を形成するために使用される溶媒は、脂肪族炭化水素溶剤、ハロゲン化脂肪族炭化水素溶剤、芳香族炭化水素溶媒、ハロゲン化芳香族溶媒、もしくはその任意の組み合わせ；代替として、脂肪族炭化水素溶剤、ハロゲン化脂肪族炭化水素溶剤、もしくはその任意の組み合わせ；代替として、芳香族炭化水素溶媒、ハロゲン化芳香族溶媒、もしくはその任意の組み合わせ；代替として、脂肪族炭化水素溶剤；代替として、ハロゲン化脂肪族炭化水素溶剤；代替として、芳香族炭化水素溶媒；または代替として、ハロゲン化芳香族溶媒であってもよい。一般的および特定の炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、脂肪族炭化水素溶剤、ハロゲン化脂肪族炭化水素溶剤、芳香族炭化水素溶媒、およびハロゲン化芳香族溶媒は、本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、本明細書に記載されるオリゴマー化プロセスまたは重合プロセスをさらに記載する。
【０２０５】
いくつかの実施形態において、触媒系、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を含む混合物、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体および金属アルキルを含む混合物、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物および金属塩を含む組成物とともに使用される溶媒、またはＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物、金属塩、および金属アルキルを含む組成物、ならびにオレフィンを含む任意の混合物に使用されるまたはオリゴマー生成物もしくはポリマー生成物を形成するために使用される溶媒は、同じであってもよく；または、代替として、異なっていてもよい。一実施形態において、触媒系、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を含む混合物、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体および金属アルキルを含む混合物、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物および金属塩を含む組成物、またはＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物、金属塩、および金属アルキルを含む組成物とともに使用される溶媒、ならびにオレフィンを含む任意の混合物に使用される、またはオリゴマー生成物もしくはポリマー生成物を形成するために使用される溶媒は、オリゴマー生成物またはポリマー生成物からその容易な分離（例えば、蒸留による）を可能にする沸点を有する。
【０２０６】
一般に、オリゴマー化または重合することができるオレフィンは、Ｃ２〜Ｃ３０オレフィン；代替として、Ｃ２〜Ｃ１６オレフィン；または代替として、Ｃ２〜Ｃ１０オレフィンを含む、または、本質的にそれからなることができる。一実施形態において、オレフィンは、アルファオレフィン；代替として、直鎖状アルファオレフィン；または代替として、一般的なアルファオレフィンであってもよい。一実施形態において、オレフィンは、エチレン、プロピレン、またはその組み合わせ；代替として、エチレン；または代替として、プロピレンを含む、または、本質的にそれからなることができる。オレフィンが本質的にエチレンからなる場合、オリゴマー化工程は、エチレンオリゴマー化工程またはエチレン重合工程であってもよい。
【０２０７】
一態様において、オリゴマー化工程は、三量化工程；代替として、四量化工程；または代替として、三量化および四量化工程であってもよい。オレフィンがエチレンである場合、オリゴマー化工程は、エチレン三量化工程；代替として、エチレン四量化工程；または代替として、エチレン三量化および四量化工程であってもよい。工程がエチレン三量体化工程である場合、オリゴマー生成物は、ヘキセンを含むことができ；または代替として、１−ヘキセンを含むことができる。工程がエチレン四量化工程である場合、オリゴマー生成物は、オクテンを含むことができ；または代替として、１−オクテンを含むことができる。工程がエチレン三量化および四量化工程である場合、オリゴマー生成物は、ヘキセンおよびオクテンを含むことができ；または、１−ヘキセンおよび１−オクテンを含むことができる。
【０２０８】
別段の定めがない限り、「接触された」、「組み合わせた」、および「存在下で」という用語は、オリゴマー化工程の２種以上の成分の接触または組み合わせのための任意の添加シーケンス、順序、または濃度を指す。本明細書に記載される様々な方法によるオリゴマー化成分の接触または組み合わせは、例えば、温度、圧力、接触時間、流速などの適切な接触条件下の１つまたは複数の接触ゾーンに生じる得る。接触ゾーンは、容器（例えば、貯蔵タンク、運搬容器（ｔｏｔｅ）、容器、撹拌槽、反応器など）、管（例えば、一般の管路へ成分供給の管路を組み合わせるためのティー（ｔｅｅ）、入口、注入ポート、またはヘッダー）の長手に、または成分を接触させるための他の任意の適切な器具中に配置することができる。その工程は、所与の実施形態に適切なバッチまたは連続工程で行うことができる。
【０２０９】
一実施形態において、オリゴマー化プロセスまたは重合プロセスは、１つまたは複数の反応器中で行われる連続工程であってもよい。いくつかの実施形態において、連続的なオリゴマー化反応器または重合反応器は、ループ反応器、管型反応装置、連続撹拌槽型反応器（ＣＳＴＲ）、またはその組み合わせを含むことができる。他の実施形態において、連続的なオリゴマー化反応器または重合反応器は、ループ反応器；代替として、管型反応装置；または代替として、連続撹拌槽型反応器（ＣＳＴＲ）であってもよい。他の実施形態において、連続的なオリゴマー化反応器または重合反応器は、組み合わせた、および様々に構成した異なる種類の連続的な反応器の形態で使用することができる。
【０２１０】
一実施形態において、オリゴマー生成物またはポリマー生成物は、反応温度、反応圧力、および／または反応時間としてのなどの適切なオリゴマー化反応条件または重合反応条件下に形成することができる。オリゴマー生成物またはポリマー生成物を形成するための反応温度、反応圧力、および／または、反応時間は、他の因子の中でも、金属錯体の安定性、金属錯体の活性度、助触媒の種類、助触媒の活性度、所望の生成物分布、および／または所望の生成物純度などの多くの因子によって影響され得る。
【０２１１】
一般に、オリゴマー生成物またはポリマー生成物は、所望のオリゴマー生成物またはポリマー生成物（代替として、オリゴマーまたはポリマー）を形成できるＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物、金属塩、またはＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体濃度を使用して形成されてもよい。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物、金属塩、またはＮ２−ホスフィニルグアニジン金属錯体の濃度は、少なくとも１ｘ１０−６当量／リットル；代替として、少なくとも１ｘ１０−５当量／リットル；または代替として、少なくとも５ｘ１０−４当量／リットルであってもよい。他の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン錯体化金属化合物の濃度は、１ｘ１０−６当量／リットルから１当量／リットルまでの範囲；代替として、１ｘ１０−５当量／リットルから５ｘ１０−１当量／リットルまでの範囲；または代替として、５ｘ１０−４当量／リットルから１ｘ１０−１当量／リットルまでの範囲であってもよい。
【０２１２】
一般に、オリゴマー生成物またはポリマー生成物は、オレフィンのオリゴマー化または重合を促進できる任意の圧力で形成されてもよい。一実施形態において、オリゴマー生成物またはポリマー生成物が形成される圧力は、所望のオリゴマー生成物またはポリマー生成物（代替として、オリゴマーまたはポリマー）を生成する任意の圧力であってもよい。いくつかの実施形態において、オリゴマー生成物またはポリマー生成物が形成できる圧力は、０ｐｓｉｇ（０ＫＰａ）以上；代替として、５０ｐｓｉｇ（３４４ＫＰａ）以上；代替として、１００ｐｓｉｇ（６８９ＫＰａ）以上；または代替として、１５０ｐｓｉｇ（１．０ＭＰａ）以上であってもよい。他の実施形態、において、オリゴマー生成物またはポリマー生成物が形成できる圧力は、０ｐｓｉｇ（０ＫＰａ）から５，０００ｐｓｉｇ（３４．５ＭＰａ）までの範囲；代替として、５０ｐｓｉｇ（３４４ＫＰａ）から４，０００ｐｓｉｇ（２７．６ＭＰａ）；代替として、１００ｐｓｉｇ（６８９ＫＰａ）から３，０００ｐｓｉｇ（２０．９ＭＰａ）；または代替として、１５０ｐｓｉｇ（１．０ＭＰａ）から２，０００ｐｓｉｇ（１３．８ＭＰａ）であってもよい。モノマーはガス（例えば、エチレン）である実施形態において、オリゴマー生成物またはポリマー生成物は、モノマーガスの圧力下で形成することができる。オリゴマー化または重合がエチレンオリゴマー生成物またはポリエチレンを生成する場合、圧力はエチレン圧力であってもよい。いくつかの実施形態において、エチレンの圧力は、０ｐｓｉｇ（０ＫＰａ）以上；代替として、５０ｐｓｉｇ（３４４ＫＰａ）以上；代替として、１００ｐｓｉｇ（６８９ＫＰａ）以上；または代替として、１５０ｐｓｉｇ（１．０ＭＰａ）以上であってもよい。他の実施形態、において、エチレンの圧力は、０ｐｓｉｇ（０ＫＰａ）から５，０００ｐｓｉｇ（３４．５ＭＰａ）；代替として、５０ｐｓｉｇ（３４４ＫＰａ）から４，０００ｐｓｉｇ（２７．６ＭＰａ）；代替として、１００ｐｓｉｇ（６８９ＫＰａ）から３，０００ｐｓｉｇ（２０．９ＭＰａ）；または代替として、１５０ｐｓｉｇ（１．０ＭＰａ）から２，０００ｐｓｉｇ（１３．８ＭＰａ）の範囲であってもよい。いくつかの場合、エチレンがモノマーである場合、不活性ガス（および／または他のガス、例えば、水素）は、全圧の一部を形成してもよい。不活性ガス（および／または他のガス、例えば、水素）が圧力の一部を形成する場合、上記のエチレン圧力が、オリゴマー生成物またはポリマー生成物が形成できる適用可能なエチレン分圧であってもよい。モノマーが、オリゴマー化または重合の圧力のすべてまたは一部を提供する状況においては、ガス状モノマーが消費されるにつれて反応系の圧力は低下し得る。この状況において、追加のガス状モノマーおよび／または不活性ガスは、所望の圧力を維持するために添加することができる。いくつかの実施形態において、追加のガス状モノマーは、設定速度（例えば、連続的な流通反応装置のための）で、または異なる速度（例えば、バッチ式反応装置の設定システム圧力を維持するために）で重合の圧力に添加することができる。他の実施形態において、任意の追加のガス状モノマーおよび／または不活性ガスを添加せずに、オリゴマー化または重合の圧力を低下させることができる。
【０２１３】
水素が使用される実施形態において、所望の効果を生み出すことができる任意の量で水素を添加することができる。いくつかの実施形態において、水素分圧は、１ｐｓｉｇ（ｋＰａ）以上；代替として、５ｐｓｉｇ（３４ｋＰａ）以上；代替として、１０ｐｓｉｇ（６９ｋＰａ）以上；または代替として、１５ｐｓｉｇ（１００ｋＰａ）以上であってもよい。他の実施形態において、水素分圧は、１ｐｓｉｇ（６．９ｋＰａ）から５００ｐｓｉｇ（３．５ＭＰａ）；代替として、５ｐｓｉｇ（３４ｋＰａ）から４００ｐｓｉｇ（２．８ＭＰａ）；代替として、１０ｐｓｉｇ（６９ｋＰａ）から３００ｐｓｉｇ（２．１ＭＰａ）；または代替として、１５ｐｓｉｇ（１００ｋＰａ）から２００ｐｓｉｇ（１．４ＭＰａ）の範囲であってもよい。
【０２１４】
一実施形態において、オリゴマー生成物またはポリマー生成物を形成する条件は、オリゴマー生成物またはポリマー生成物が形成できる温度を含んでもよい。一般に、オリゴマー生成物またはポリマー生成物は、所望のオリゴマー生成物またはポリマー生成物を形成できる任意の温度で形成できる。一実施形態において、オリゴマー生成物またはポリマー生成物が形成される温度は、少なくとも０℃；代替として、少なくとも１０℃；代替として、少なくとも２０℃；代替として、少なくとも３０℃；代替として、少なくとも４０℃；代替として、少なくとも５０℃；代替として、少なくとも６０℃；代替として、少なくとも７０℃；代替として、少なくとも８０℃；代替として、少なくとも９０℃であってもよい。いくつかの実施形態において、オリゴマー生成物またはポリマー生成物が形成される最大のオリゴマー化温度または重合温度は、２００℃；代替として、１８０℃；代替として、１６０℃；代替として、１４０℃；代替として、１２０℃；代替として、１００℃；代替として、９０℃；または代替として、８０℃であってもよい。いくつかの実施形態において、オリゴマー生成物またはポリマー生成物が形成されるオリゴマー化温度（または重合音頭）は、本明細書に記載される任意の最小の温度から本明細書に記載される最大の温度までの範囲であってもよい。非限定的な例において、オリゴマー生成物またはポリマー生成物が形成されるオリゴマー化温度（または重合温度）は、０℃〜２００℃の範囲；代替として、１０℃〜１６０℃の範囲；代替として、２０℃〜１４０℃の範囲；代替として、３０℃〜１２０℃の範囲；代替として、４０℃〜１００℃の範囲；代替として、５０℃〜１００℃の範囲；または代替として、６０℃〜１４０℃の範囲であってもよい。オリゴマー生成物またはポリマー生成物が形成できる他の温度範囲は本開示から容易に明らかである。
【０２１５】
一実施形態において、オリゴマー生成物またはポリマー生成物を形成する条件は、オリゴマー生成物またはポリマー生成物が形成できる時間を含んでもよい。一般に、オリゴマー生成物またはポリマー生成物が形成される時間は、オリゴマー生成物またはポリマー生成物の所望の質を生成できる；または代替として、所望の触媒系の生産性を提供できる；または代替として、所望のモノマーの変換を提供できる任意の時間であってもよい。いくつかの実施形態において、オリゴマー生成物またはポリマー生成物が形成される時間は、１分から５時間までの範囲；代替として、５分から２．５時間までの範囲；代替として、１０分から２時間までの範囲；または、代替として、１５分から１．５時間までの範囲であってもよい。一実施形態において、オリゴマー生成物またはポリマー生成物の形成は、少なくとも３０重量％パーセント；代替として、少なくとも３５重量％パーセント；代替として、少なくとも４０重量％パーセント；または代替として、少なくとも４５重量％パーセントのエチレンの１回通しのオレフィン変換を有することができる。オレフィンがエチレンである場合、オレフィン変換はエチレン変換である。
【０２１６】
一実施形態において、オリゴマー化工程は、オレフィン三量体、オレフィン四量体、またはその混合物を含むオリゴマー生成物を生成する。いくつかの実施形態において、オリゴマー生成物は、（標準雰囲気条件下で）液体生成物を含んでもよい。いくつかの実施形態において、オレフィンがエチレンである場合、オリゴマー化はエチレンオリゴマー化工程である。いくつかの実施形態において、オリゴマー化は、少なくとも４個の炭素原子を有するアルファオレフィン生成物を生成できる。一実施形態において、エチレンオリゴマー化工程は、エチレン三量体（例えば、ヘキセン、または代替として、１−ヘキセン）、エチレン四量体（例えば、オクテン、または代替として、１−オクテン）、またはその組み合わせ；代替として、ヘキセン；代替として、オクテン；代替として、ヘキセンおよびオクテンを含むオレフィン生成物を生成できる。他の実施形態において、エチレンオリゴマー化は、１−ヘキセン、１−オクテン、またはその組み合わせ；代替として、１−ヘキセン；代替として、１−オクテン；代替として、１−ヘキセンおよび１−オクテンを含むオレフィン生成物を生成できる。一実施形態において、オレフィンがエチレンおよびオリゴマー工程がアルファオレフィン（例えば、１−ヘキセン、１−オクテン、またはその組み合わせ）を生成する場合は、オレフィンオリゴマー化工程はアルファオレフィン製造工程であってもよい。
【０２１７】
一実施形態において、エチレンオリゴマー化工程は、少なくとも６０重量％のＣ６およびＣ８オレフィンを含む液体オリゴマーを含むオリゴマー生成物を生成することができる。いくつかの実施形態において、オレフィン生成物は、少なくとも７０重量％のＣ６およびＣ８オレフィン；代替として、少なくとも７５重量％のＣ６およびＣ８オレフィン；代替として、少なくとも８０重量％のＣ６およびＣ８オレフィン；代替として、少なくとも８５重量％のＣ６およびＣ８オレフィン；または代替として、少なくとも９０重量％のＣ６およびＣ８オレフィンを含む液体オリゴマー生成物を含む。他の実施形態において、エチレンオリゴマー化工程は、６０から９９．９重量％までのＣ６およびＣ８オレフィン；代替として、７０から９９．８重量％までのＣ６およびＣ８オレフィン；代替として、７５から９９．７重量％までのＣ６およびＣ８オレフィン；または代替として、８０から９９．６重量％までのＣ６およびＣ８オレフィンを有する液体生成物を含む液体オリゴマー生成物を生成することができる。本出願の全体にわたって、液体オリゴマー生成物は４から１８までの炭素原子を有するオリゴマー生成物を指す。
【０２１８】
一実施形態において、エチレンオリゴマー化工程によって生成したＣ６オリゴマー生成物は、少なくとも８５重量％の１−ヘキセンを含むことができる。いくつかの実施形態において、エチレンオリゴマー化工程によって生成したＣ６オリゴマー生成物は、少なくとも８７．５重量％の１−ヘキセン；代替として、少なくとも９０重量％の１−ヘキセン；代替として、少なくとも９２．５重量％の１−ヘキセン；代替として、少なくとも９５重量パーセントの１−ヘキセン；代替として、少なくとも９７重量パーセントの１−ヘキセン；または代替として、少なくとも９８重量パーセントの１−ヘキセンを含むことができる。他の実施形態において、エチレンオリゴマー化工程によって生成したＣ６オリゴマー生成物は、８５から９９．９重量％までの１−ヘキセン；代替として、８７．５から９９．９重量％までの１−ヘキセン；代替として、９０から９９．９重量％までの１−ヘキセン；代替として、９２．５から９９．９重量％までの１−ヘキセン；代替として、９５から９９．９重量％までの１−ヘキセン；代替として、９７から９９．９重量％までの１−ヘキセン；または代替として、９８から９９．９重量％までの１−ヘキセンを含むことができる。
【０２１９】
一実施形態において、エチレンオリゴマー化工程によって生成したＣ８オリゴマー生成物は、少なくとも８５重量％の１−オクテンを含むことができる。いくつかの実施形態において、エチレンオリゴマー化工程によって生成したＣ８オリゴマー生成物は、少なくとも８７．５重量％の１−オクテン；代替として、少なくとも９０重量％の１−オクテン；代替として、少なくとも９２．５重量％の１−オクテン；代替として、少なくとも９５重量％の１−オクテン；代替として、少なくとも９７重量パーセントの１−オクテン；または代替として、少なくとも９８重量パーセントの１−オクテンを含むことができる。他の実施形態において、エチレンオリゴマー化工程によって生成したＣ８オリゴマー生成物は、８５から９９．９重量％までの１−オクテン；代替として、８７．５から９９．９重量％までの１−オクテン；代替として、９０から９９．９重量％までの１−オクテン；代替として、９２．５から９９．９重量％までの１−オクテン；代替として、９５から９９．９重量％までの１−オクテン；代替として、９７から９９．９重量％までの１−オクテン；または代替として、９８から９９．９重量％までの１−オクテンを含むことができる。
【０２２０】
いくつかの態様および／または実施形態において、オリゴマー化および／または重合されるオレフィンと触媒系（または触媒系組成物）を接触させる前に触媒系（または触媒系組成物）を熟成すると、オリゴマー化プロセスおよび／または重合プロセスの態様を改善することができる。いくつかの実施形態において、触媒系の熟成は、触媒系の生産性を増加させることができる。他の実施形態において、触媒系の熟成が、オリゴマー化工程において生成するポリマーの量を減少させることができる。いくつかのオリゴマー化プロセスの態様および／または実施形態において、触媒系の熟成は、触媒系の生産性を増加させることができ；代替として、オリゴマー化プロセスにおいて生成するポリマーの量を減少させることができ；または代替として、触媒系の生産性を増加させ、かつ、オリゴマー化において生成するポリマーの量を減少させることができる。オレフィンの実質的に不存在下で触媒系（または触媒系組成物）を熟成させることに関わらず、これは、触媒系（または触媒系組成物）が重量で１，０００ｐｐｍ未満のオレフィンを含有できることを意味し得る。いくつかの実施形態において、触媒系（または触媒系組成物）は、重量で５００ｐｐｍ未満のオレフィン；代替として、重量で２５０ｐｐｍのオレフィン；代替として、重量で１００ｐｐｍのオレフィン；代替として、重量で７５ｐｐｍのオレフィン；代替として、重量で５０ｐｐｍのオレフィン；代替として、重量で２５ｐｐｍのオレフィン；代替として、重量で１５ｐｐｍのオレフィン；代替として、重量で１０ｐｐｍのオレフィン；代替として、重量で５ｐｐｍのオレフィン；代替として、重量で２．５ｐｐｍのオレフィン；代替として、重量で１ｐｐｍのオレフィンを含有できる。
【０２２１】
触媒系の熟成の影響は、正の恩恵をオリゴマー化プロセスおよび／または重合プロセスに提供するために使用することができる。例えば、触媒系の活性度および／または生産性の増加は、他の恩恵の中でも、触媒系１単位当たりのオリゴマー生成物（またはポリマー生成物）の増加を提供することができる。さらに、オリゴマー化プロセスにおいて、触媒系を熟成してオリゴマー化で生成するポリマーが減少すると、オリゴマー化反応器壁または冷却器に付着し得るポリマーを減少させることができる。オリゴマー化プロセスにおいて生成するポリマーの減少は、汚れを引き起し得るポリマーを除去するために反応器を停止する必要性を減少させることができる。
【０２２２】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物、金属塩、および金属アルキルが、オレフィンとの接触前に接触される任意の態様または実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物、金属塩、および金属アルキルを含む混合物は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物、金属塩、および金属アルキルを含む混合物をオレフィン（またはオレフィンを含む混合物）と接触させる前に、ある期間、熟成させることができるか；または代替として、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物、金属塩、および金属アルキルを含む触媒系は、オレフィン（またはオレフィンを含む混合物）の実質的に不存在下（または不存在下）で、ある期間、熟成されてもよい。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物、金属塩、および金属アルキルを含む混合物は、溶媒をさらに含むことができる。
【０２２３】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体、および金属アルキルが、オレフィンとの接触前に接触される任意の態様または実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体、および金属アルキルを含む混合物は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体、および金属アルキルを含む混合物をオレフィン（またはオレフィンを含む混合物）と接触させる前に、ある期間、熟成させることができるか、または代替として、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体、および金属アルキルを含む触媒系は、オレフィン（またはオレフィンを含む混合物）の実質的に不存在下（または不存在下）で、ある期間、熟成されてもよい。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体、および金属アルキルを含む混合物は、溶媒をさらに含むことができる。
【０２２４】
非限定的な実施形態において、オリゴマー化工程は、ａ）触媒系を調製するステップ；ｂ）触媒系をある期間熟成させるステップ；ｃ）熟成した触媒系をオレフィンと接触させるステップ；およびｄ）オリゴマー生成物を形成するステップを含むことができる。いくつかの非限定的な実施形態において、オリゴマー化工程は、ａ）触媒系を調製するステップ；ｂ）触媒系をある期間熟成させるステップ；ｃ）熟成した触媒系をオレフィンおよび水素と接触させるステップ；およびｄ）オリゴマー生成物を形成するステップを含むことができる。触媒系、オレフィン、およびオリゴマー化生成物の他の特色は、独立して本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、オレフィンオリゴマー化工程をさらに記載する。いくつかの実施形態において、触媒系は第１の溶媒中で調製することができる。一実施形態において、オレフィン、熟成した触媒系、および、場合によって、水素、は第２の溶媒中で接触させることができる。一般に、触媒系を調製することができる溶媒、ならびにオレフィンおよび熟成した触媒系を接触させることができる溶媒は、同じであってもよく；または、代替として、異なっていてもよい。触媒系、触媒系熟成の特色、オリゴマー生成物の特色、および触媒系を熟成する影響の特色は、他の特色の中でも、独立して本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、オリゴマー化工程をさらに記載する。いくつかの実施形態において、第１および第２の溶媒は、同じであってもよく；または代替として、第１および第２の溶媒は、異なっていてもよい。
【０２２５】
非限定的な実施形態において、オリゴマー化工程は、ａ）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体および金属アルキル化合物を含む触媒系混合物を形成するステップ；ｂ）触媒系混合物を熟成するステップ；ｃ）熟成した触媒系混合物をオレフィンと接触させるステップ；およびｃ）オリゴマー生成物を形成するステップを含むことができる。別の非限定的な実施形態において、オリゴマー化工程は、ａ）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物、金属塩、および金属アルキル化合物を含む触媒系混合物を形成するステップ；ｂ）触媒系混合物を熟成するステップ；ｃ）熟成した触媒系混合物をオレフィンと接触させること；およびｃ）オリゴマー生成物を形成するステップを含むことができる。いくつかの実施形態において、触媒系混合物は、溶媒（例えば、第１の溶媒）をさらに含むことができる。いくつかの実施形態において、触媒系混合物およびオレフィンは、溶媒（例えば、第２の溶媒）中で接触させることができる。また別の非限定的な実施形態において、オリゴマー化工程は、ａ）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体、金属アルキル化合物、および第１の溶媒を含む（または本質的にそれからなる）触媒系混合物を形成するステップ；ｂ）触媒系混合物を熟成するステップ；ｃ）熟成した触媒系混合物をオレフィンおよび第２の溶媒と接触させるステップ；およびｃ）オリゴマー生成物を形成するステップを含むことができる。さらなる非限定的な実施形態において、オリゴマー化工程は、ａ）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物、金属塩、金属アルキル、および第１の溶媒を含む（または本質的にそれからなる）触媒系混合物を形成するステップ；ｂ）触媒系混合物を熟成するステップ；ｃ）熟成した触媒系混合物をオレフィンおよび第２の溶媒と接触させるステップ；およびｄ）オリゴマー生成物を形成するステップを含むことができる。
【０２２６】
いくつかの実施形態において、熟成した触媒系混合物をオレフィン（および場合によって、溶媒−例えば、第２の溶媒）と接触させるステップは、熟成した触媒系混合物をオレフィンおよび水素と接触させるステップであってもよい。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物、金属塩、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体、金属アルキル化合物、オレフィン、溶媒、触媒系の熟成の特色、オリゴマー生成物の特色、および触媒系の熟成の影響の特色は、他の特色の中でも、独立して本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、オリゴマー化プロセスをさらに記載する。いくつかの実施形態において、第１および第２の溶媒は同じであってもよく；または代替として、第１および第２の溶媒は、異なっていてもよい。いくつかの実施形態において、金属アルキルはアルミノキサンを含むことができるか、または本質的にそれからなってもよい。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物対金属塩の比、および金属アルキル化合物の金属対金属塩の金属またはＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩の金属の比は、他の特色の中でも、独立して本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、オリゴマー化プロセスをさらに記載する。
【０２２７】
一実施形態において、触媒系は、最長１４日；代替として、最長１０日；代替として、最長８日；代替として、最長６日；代替として、最長４日；代替として、最長３日；代替として、最長４８時間；代替として、最長３６時間；代替として、最長２４時間；代替として、最長１８時間；代替として、最長１０時間；代替として、最長８時間；代替として、最長６時間；代替として、最長４時間；または代替として、最長３時間、熟成することができる。一実施形態において、触媒系は、少なくとも１５分；代替として、少なくとも２０分；または代替として、少なくとも３０分、熟成することができる。一実施形態において、触媒系は、本明細書に開示される任意の触媒系の熟成最短時間から本明細書に開示される任意の触媒系の熟成最長時間の範囲の時間、熟成することができる。いくつかの非限定的な実施形態において、触媒系は、１５分から１４日まで；代替として、１５分から１０日まで；代替として、１５分から８日まで；代替として、１５分から６日まで；代替として、２０分から４日まで；代替として、２０分から３日まで；代替として、３０分から４８時間まで；代替として、３０分から３６時間まで；代替として、３０分から２４時間まで；代替として、３０分から１８時間まで；代替として、３０分から１０時間まで；代替として、３０分から８時間まで；代替として、３０分から６時間まで；代替として、３０分から４時間まで；または代替として、３０分から３時間まで熟成することができる。他の触媒系の熟成時間の範囲は本開示から容易に明らかである。
【０２２８】
一実施形態において、本明細書に記載される任意の触媒系は、常温で熟成することができる（１５℃〜３５℃、外部熱源はない）。他の実施形態において、本明細書に記載される任意の触媒系は、２５℃から１００℃まで；代替として、３０℃から８０℃まで；または代替として、３５℃から６０℃までの温度で熟成することができる。いくつかの実施形態において、本明細書に記載される任意の触媒系は、不活性雰囲気下で熟成することができる。一般に、当業者はそれを認識するであろう。触媒系が熟成される温度は、触媒系活性度の増加および／または触媒系ポリマー生成の減少を達成するのに必要な時間に影響を及ぼし得る。任意の態様または実施形態において、触媒系は、本明細書に記載される任意の触媒系熟成時間と本明細書に記載される任意の熟成触媒系熟成温度とを組み合わせて熟成することができる。
【０２２９】
ｉ）任意のＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体またはｉｉ）本明細書に記載される任意のＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物および本明細書に記載される任意の金属塩を含む本明細書に記載される任意の触媒系の触媒活性度（オリゴマー化または重合）は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体（または金属塩の金属）における金属塩の金属の１グラム当たりに生成された生成物（オリゴマー生成物またはポリマー生成物）のグラムとして定義され、完全な触媒系がオレフィンと接触したときから開始して３０分にわたって測定される。一実施形態において、本明細書に記載される任意の熟成した触媒系は（本明細書に記載される任意の熟成する期間および／または本明細書に記載される任意の熟成温度を使用して）、触媒系のオリゴマー化活性度または重合活性度を、少なくとも１０％；代替として、少なくとも２０％；代替として、少なくとも３０％；代替として、少なくとも４０％；または代替として、少なくとも５０％、増加させることができる。いくつかの実施形態において、本明細書に記載される任意の熟成した触媒系は（本明細書に記載される任意の熟成する期間および／または本明細書に記載される任意の熟成温度を使用して）、１０％から１０００％；代替として、２０％から８００％まで；代替として、３０％から６００％まで；代替として、４０％から５００％まで；または代替として、５０％から４００％まで増加させることができる。一般に、触媒系を熟成した結果としての触媒系活性度（オリゴマー化または重合）の増加は、熟成した触媒系の活性度を、１２分未満の間熟成した触媒系の活性度と比較することにより求められる。
【０２３０】
一実施形態において、本明細書に記載される任意の熟成した触媒系は（本明細書に記載される任意の熟成する期間および／または本明細書に記載される任意の熟成温度を使用して）、本明細書に記載される生成したポリマーの百分率の減少を生み出すことができる触媒系を提供することができる。いくつかの実施形態において、本明細書に記載される任意の触媒系の熟成は、（本明細書に記載される任意の熟成する期間および／または本明細書に記載される任意の熟成温度を使用して）オリゴマー化工程で生成するポリマーの量を、少なくとも５％；代替として、７．５％；代替として、１０％；代替として、１２．５％；または代替として、少なくとも１５％減少させることができる。いくつかの実施形態において、本明細書に記載される任意の触媒系の（本明細書に記載される任意の期間の）熟成は、オリゴマー化で生成するポリマーの量を、少なくとも、２０％；代替として、少なくとも２５％；代替として、少なくとも３０％；または代替として、少なくとも３５％、減少させることができる。一般に、熟成した結果としての触媒系のポリマー生成の減少は、熟成した触媒系のポリマー生成を、１２分未満の間熟成した触媒系のポリマー生成と比較することにより求めることができる。
【０２３１】
一実施形態において、オリゴマー化触媒系を熟成すると、本明細書に記載される活性度の任意の増加、および本明細書に記載される生成するポリマーの量の任意の減少を組み合わせることができる。
【０２３２】
一実施形態において、本明細書に記載される任意の熟成した触媒系の触媒系活性度および／またはポリマー生成を、１つまたは複数の触媒系熟成変数（例えば、時間、温度、または時間と温度）に応じて描く検量線を作成することができる。いくつかの実施形態において、検量線は、触媒系熟成変数（複数可）（例えば、時間、温度、または時間と温度）の関数としてグラフで描くことができる；または代替として、触媒系熟成変数（複数可）（例えば、時間、温度、または時間と温度）の予測式として描くことができる。触媒熟成に応じる、触媒系活性度および／またはポリマー生成に関係するグラフ表示および／または予測式は、グラフ表示または予測式の内挿または外挿に基づいて、１つまたは複数の利用者および／または工程のパラメーターを調節するために使用することができる。いくつかの態様において、触媒系熟成に関して触媒系活性度が増加する程度および／またはポリマー生成において減少する程度は、即座に開示された範囲から外れることがあり、また、触媒系がが熟成される条件に依存して、目下のところ開示された値に基づいて予想されるより大きくなり得ることは企図される。例えば、触媒系は、目下のところ記述されたものより長い期間、および／または目下のところ記述されたものより高い温度で熟成にかけることができる。そのような条件下で触媒系を熟成する効果は、触媒系の熟成が、何がしかの利用者および／または工程の所望の値の範囲内まで、触媒系活性度を増加させる、および／または、オリゴマー化においてポリマー生成を減少させる条件をもたらすことができる予測的な情報を提供するために、本明細書において言及された分析にかけることができる。本開示の恩恵およびルーチン実験の使用を前提とすれば、当業者は、本明細書に開示される方法論を修飾して、所望の値または範囲に、開示される触媒系の触媒系活性度を改変する、および／またはオリゴマー化工程において生成するポリマーの量を減少させることができる。そのような修飾は、本開示の範囲内にある。
【０２３３】
また、金属アルキルがアルモキサンである場合、アルモキサンを熟成すると、オリゴマー化の態様を改善することができることが発見された。例えば、触媒系の他の成分との接触以前にアルモキサンを熟成すると、オリゴマー化工程において生成するポリマーの量を減少させることができることが観察された。いくつかの実施形態において、本明細書に記載される触媒系を調製する任意の工程および／または本明細書に記載される任意のオリゴマー化工程は、アルモキサンの熟成のためのステップ（複数可）を含むことができる。
【０２３４】
一実施形態において、アルモキサンは、常温で（１５℃〜３５℃、外部熱源はない）少なくとも６０日；少なくとも１２０日；少なくとも１８０日；または少なくとも２４０日熟成することができる。いくつかの実施形態において、アルモキサンは、最大１，４４０日；最大１０８０日；最大９００日；または最大７２０日熟成することができる。いくつかの実施形態、において、一実施形態において、アルモキサンは、常温で（１５℃〜３５℃、外部熱源はない）６０日から１４４０日まで；１２０日から１０８０日まで；１８０日から９００日まで；または２４０日から７２０日まで熟成することができる。周囲温度にて他のアルモキサン熟成の時間は本開示から容易に明らかになる。いくつかの実施形態において、アルモキサンは不活性雰囲気下で熟成することができる。
【０２３５】
アルモキサンの熟成は高い温度で行うことができる。高温でのアルモキサンの熟成は、熟成したアルモキサンが触媒系に使用される場合に観察された恩恵を達成するために必要な時間を減少させることができることが発見された。一実施形態において、アルモキサンは、３０℃から１００℃まで；３５℃から９０℃まで；４０℃から８０℃まで；または４５℃から７０℃までの温度で熟成することができる。一実施形態において、アルモキサンは、明細書に開示される任意の高い温度で、少なくとも１２時間；少なくとも１８時間；少なくとも２４時間；または少なくとも３６時間、熟成することができる。一実施形態において、アルモキサンは、明細書に開示される任意の高い温度で、最長３６０日；２７０日；１８０日；または最長９０日熟成することができる。いくつかの実施形態において、アルモキサンは、本明細書に開示される任意の最小のアルモキサン熟成時間から本明細書に開示される任意の最大のアルモキサン熟成時間まで本明細書に開示される任意の高い温度で熟成することができる。非限定的な例において、アルモキサンは、１２時間から３６０日；代替として、１２時間から２７０日；代替として、１８時間から２７０日；代替として１８時間から１８０日の範囲で本明細書に開示される任意の高い温度で熟成することができる。高い温度での他のアルモキサンの熟成時間は本開示から容易に明らかである。いくつかの実施形態において、アルモキサンは、不活性雰囲気下で熟成することができる。
【０２３６】
一実施形態において、本明細書に記載されるアルモキサンの任意の熟成は、本明細書に記載されるオリゴマー化プロセスによって生成するポリマーの百分率の任意の減少を提供することができる。いくつかの実施形態において、本明細書に記載されるアルモキサンの任意の熟成は、オリゴマー化工程において生成するポリマーの量を、少なくとも２０％；少なくとも４０％；少なくとも６０％；少なくとも７０％；少なくとも７５％；少なくとも８０％；または少なくとも８５％、減少させることができる。
【０２３７】
一実施形態において、本明細書に記載される任意の触媒系の触媒系ポリマー生成を、熟成したアルモキサンを使用して、１つまたは複数のアルモキサン熟成変数（例えば、時間、温度、または時間と温度）に応じて描く検量線を作成することができる。いくつかの実施形態において、アルモキサン熟成検量線は、アルモキサン熟成変数（複数可）（例えば、時間、温度、または時間と温度）の関数としてグラフで描くことができる；代替として、アルモキサン熟成変数（複数可）（例えば、時間、温度、または時間と温度）の予測式として描くことができる。アルモキサン熟成に応じる、触媒系ポリマー生成に関係するグラフ表示および／または予測式は、グラフ表示または予測式の内挿または外挿に基づいて、１つまたは複数の利用者および／または工程のパラメーターを調節するために使用することができる。いくつかの態様において、アルモキサン熟成に関して触媒系のポリマー生成が減少する程度は、即座に開示された範囲から外れることがあり、また、アルモキサンが熟成される条件に依存して、目下のところ開示された値に基づいて予想されるより大きくなり得ることは企図される。例えば、触媒系は、目下のところ記述されたものより長い期間、および／または目下のところ記述されたものより高い温度で熟成にかけることができる。そのような条件下でアルモキサンを熟成する効果は、アルモキサンの熟成が、オリゴマー化において触媒系のポリマー生成を減少させることができる条件をもたらすことができる予測的な情報を提供するために、本明細書において言及された分析にかけることができる。本開示の恩恵およびルーチン実験の使用を前提とすれば、当業者は、本明細書に開示される方法論を修飾して、オリゴマー化プロセスにおいて生成するポリマーの量の減少を改変することができることが企図される。そのような修飾は、本開示の範囲内にある。
【０２３８】
本明細書に記載される種々の態様および実施形態は、非水素置換基（または代替として、置換分または置換基）を指す。各非水素置換基は、ハライド、ヒドロカルビル基、またはヒドロカルボキシ基；代替として、ハライド、またはヒドロカルビル基；代替として、ハライドまたはヒドロカルボキシ基；代替として、ヒドロカルビル基またはヒドロカルボキシ基；代替として、ハライド；代替として、ヒドロカルビル基；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。置換基を必要とする任意の態様または実施形態の各非水素置換基は独立して、ハライド、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルビル基、またはＣ１〜Ｃ１０ヒドロカルボキシ基；代替として、ハライドまたはＣ１〜Ｃ１０ヒドロカルビル基；代替として、ハライドまたはＣ１〜Ｃ１０ヒドロカルボキシ基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルビル基もしくはＣ１〜Ｃ１０ヒドロカルボキシ基；代替として、ハライド；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルビル基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルボキシ基であってもよい。他の実施形態において、置換基を必要とする任意の態様または実施形態の各非水素置換基は独立して、ハライド、Ｃ１〜Ｃ５ヒドロカルビル基、もしくはＣ１〜Ｃ５ヒドロカルボキシ基；代替として、ハライドもしくはＣ１〜Ｃ５ヒドロカルビル基；代替として、ハライドもしくはＣ１〜Ｃ５ヒドロカルボキシ基；代替として、Ｃ１〜Ｃ５ヒドロカルビル基もしくはＣ１〜Ｃ５ヒドロカルボキシ基；代替として、ハライド；代替として、Ｃ１〜Ｃ５ヒドロカルビル基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５ヒドロカルボキシ基であってもよい。
【０２３９】
一実施形態において、置換基を必要とする任意の態様または実施形態の各ハライド置換基は独立して、フルオリド、クロリド、ブロミド、またはヨージド；代替として、フルオリドまたはクロリドであってもよい。いくつかの実施形態において、置換基を必要とする任意の態様または実施形態の各ハライド置換基は独立して、フルオリド；代替として、クロリド；代替として、ブロミド；または代替として、ヨージドであってもよい。
【０２４０】
一実施形態において、置換基を必要とする任意の態様または実施形態の各ヒドロカルビル置換基は独立して、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基；代替として、アルキル基；代替として、アリール基；または代替として、アラルキル基であってもよい。一実施形態において、置換基を必要とする任意の態様または実施形態の各アルキル置換基は独立して、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−ペンチル基、３−ペンチル基、２−メチル−１−ブチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、３−メチル−１−ブチル基、３−メチル−２−ブチル基、もしくはネオペンチル基；代替として、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、もしくはネオペンチル基；代替として、メチル基；代替として、エチル基；代替として、イソプロピル基；代替として、ｔｅｒｔ−ブチル基；または代替として、ネオペンチル基であってもよい。一実施形態において、置換基を必要とする任意の態様または実施形態の任意の各アリール置換基は独立して、フェニル基、トリル基、キシリル基、もしくは２，４，６−トリメチルフェニル基；代替として、フェニル基；代替として、トリル基；代替として、キシリル基；または代替として、２，４，６−トリメチルフェニル基であってもよい。一実施形態において、置換基を必要とする任意の態様または実施形態の任意の各アラルキル置換基は独立して、ベンジル基またはエチルフェニル基（２−フェニルエタ−１−イルまたは１−フェニルエタ−１−イル）；代替として、ベンジル基；代替として、エチルフェニル基；代替として、２−フェニルエタ−１−イル基；または代替として、１−フェニルエタ−１−イル基であってもよい。
【０２４１】
一実施形態において、置換基を必要とする任意の態様または実施形態の各ヒドロカルボキシ置換基は独立して、アルコキシ基、アリールオキシ基、またはアラルコキシ基；代替として、アルコキシ基；代替として、アリールオキシ基、またはアラルコキシ基であってもよい。一実施形態において、置換基を必要とする任意の態様または実施形態の各アルコキシ置換基は、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペントキシ基、２−ペントキシ基、３−ペントキシ基、２−メチル−１−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ペントキシ基、３−メチル−１−ブトキシ基、３−メチル−２−ブトキシ基、またはネオペントキシ基；代替として、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、またはネオペントキシ基；代替として、メトキシ基；代替として、エトキシ基；代替として、イソプロポキシ基；代替として、ｔｅｒｔ−ブトキシ基；または代替として、ネオペントキシ基であってもよい。一実施形態において、置換基を必要とする任意の態様または実施形態の各アリールオキシ置換基は独立して、フェノキシ基、トロキシ基、キシロキシ基、または２，４，６−トリメチルフェノキシ基；代替として、フェノキシ基；代替として、トロキシ基；代替として、キシロキシ基；または代替として、２，４，６−トリメチルフェノキシ基であってもよい。一実施形態において、置換基を必要とする任意の態様または実施形態の各アラルコキシ置換基は独立して、ベンゾキシ基であってもよい。
【０２４２】
一実施形態において、種々の態様または実施形態で使用することができる非水素置換基（または代替として、置換分もしくは置換基）は、トリヒドロカルビルシリル基であってもよい。一般に、トリヒドロカルビルシリル基の各々のヒドロカルビル基は独立して、非水素置換基として本明細書に開示される任意のヒドロカルビル基（一般および特定）であってもよい。いくつかの実施形態において、置換基として使用することができるトリヒドロカルビルシリル基は、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、またはトリベンジルシリル基；代替として、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、またはトリプロピルシリル基；代替として、トリメチルシリル基；代替として、トリエチルシリル基；代替として、トリプロピルシリル基；代替として、トリフェニルシリル基；または代替として、トリベンジルシリル基であってもよい。
【０２４３】
一実施形態において、種々の態様または実施形態で使用することができる非水素置換基（または代替として、置換分もしくは置換基）は、トリヒドロカルビルシロキシ基であってもよい。一般に、トリヒドロカルビルシロキシ基の各々のヒドロカルビル基は独立して、非水素置換基として本明細書に開示される任意のヒドロカルビル基（一般および特定）であってもよい。いくつかの実施形態において、置換基として使用することができるトリヒドロカルビルシロキシ基は、トリメチルシロキシ基、トリエチルシロキシ基、トリプロピルシロキシ基、トリフェニルシロキシ基、またはトリベンジルシロキシ基；代替として、トリメチルシロキシ基、トリエチルシロキシ基、またはトリプロピルシロキシ基；代替として、トリメチルシロキシ基；代替として、トリエチルシロキシ基；代替として、トリプロピルシロキシ基；代替として、トリフェニルシロキシ基；または代替として、トリベンジルシロキシ基であってもよい。
【０２４４】
溶媒
本明細書に記載されるプロセスおよび方法は、１種または複数の溶媒を使用することができる。本開示の態様および／または実施形態において使用することができる溶媒は、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル、炭酸、エステル、ケトン、アルデヒド、アルコール、ニトリルおよびその組み合わせを含むが、これらに限定されない。本開示のいくつかの態様および／または実施形態および態様は極性溶媒を必要としてもよい。使用することができる極性溶剤は、エーテル、カルボナート、エステル、ケトン、アルデヒド、アルコール、ニトリル、およびその混合物；代替として、エーテル、カルボナート、エステル、ケトン、アルデヒド、アルコール、ニトリル、およびその混合物；代替として、エーテル、エステル、ケトン、アルコール、ニトリル、およびその混合物；代替として、エーテル；代替として、カルボナート；代替として、エステル；代替として、ケトン；代替として、アルデヒド；代替として、アルコール；または代替として、ニトリルを含むが、これらに限定されない。本開示のいくつかの態様および／または実施形態は非プロトン性極性溶媒を必要としてもよい。使用することができる非プロトン性極性溶媒は、エーテル、エステル、ケトン、アルデヒド、ニトリル、およびその混合物；代替として、エーテル、ニトリルおよびその混合物；代替として、エステル、ケトン、アルデヒドおよびその混合物；代替として、エーテル；代替として、エステル；代替として、ケトン；代替として、アルデヒド；または代替として、ニトリルを含むが、これらに限定されない。本開示の他の態様および／または実施形態は無極性溶媒を必要としてもよい。無極性溶媒は、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、またはその混合物；代替として、炭化水素；または代替として、ハロゲン化炭化水素を含むが、これらに限定されない。本開示のさらに他の態様および／または実施形態は、金属アルキルと実質的に反応しない溶媒を必要としてもよい。金属アルキルと反応しない溶媒は、エーテル、炭化水素、およびその混合物；代替として、エーテル；または代替として、炭化水素を含むが、これらに限定されない。
【０２４５】
炭化水素およびハロゲン化炭化水素は、例えば、脂肪族炭化水素溶剤、芳香族炭化水素、石油蒸留物、ハロゲン化脂肪族炭化水素溶剤、ハロゲン化芳香族炭化水素、またはその組み合わせ；代替として、脂肪族炭化水素溶剤、芳香族炭化水素、ハロゲン化脂肪族炭化水素溶剤、ハロゲン化芳香族炭化水素、およびその組み合わせ；代替として、脂肪族炭化水素溶剤；代替として、芳香族炭化水素；代替として、ハロゲン化脂肪族炭化水素溶剤；または代替として、ハロゲン化芳香族炭化水素を含むが、これらに限定されない。溶媒として有用出あり得る脂肪族炭化水素溶剤は、Ｃ３〜Ｃ２０脂肪族炭化水素溶剤；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５脂肪族炭化水素溶剤；または代替として、Ｃ５〜Ｃ１０脂肪族炭化水素溶剤であってもよい。脂肪族炭化水素溶剤は、別段の定めがない限り、環式または非環式であってもよく、および／または直鎖状または分枝状であってもよい。単独でまたは任意の組み合わせで使用することができる適切な非環式の脂肪族炭化水素溶剤の非限定的な例は、プロパン、イソブタン、ｎ−ブタン、ブタン（ｎ−ブタンまたは直鎖状および分枝状のＣ４非環式脂肪族炭化水素の混合物）、ペンタン（ｎ‐ペンタンまたは直鎖状および分枝状のＣ５非環式脂肪族炭化水素の混合物）、ヘキサン（ｎ−ヘキサンまたは直鎖状および分枝状のＣ６非環式脂肪族炭化水素の混合物）、ヘプタン（ｎ−ヘプタンまたは直鎖状および分枝状のＣ７非環式脂肪族炭化水素の混合物）、オクタン（ｎ‐オクタンまたは直鎖状および分枝状のＣ８非環式脂肪族炭化水素の混合物）、およびその組み合わせ；代替として、イソブタン、ｎ−ブタン、ブタン（ｎ−ブタンまたは直鎖状および分枝状のＣ４非環式脂肪族炭化水素の混合物）、ペンタン（ｎ‐ペンタンまたは直鎖状および分枝状のＣ５非環式脂肪族炭化水素の混合物）、ヘキサン（ｎ−ヘキサンまたは直鎖状および分枝状のＣ６非環式脂肪族炭化水素の混合物）、ヘプタン（ｎ−ヘプタンまたは直鎖状および分枝状のＣ７非環式脂肪族炭化水素の混合物）、オクタン（ｎ‐オクタンまたは直鎖状および分枝状のＣ８非環式脂肪族炭化水素の混合物）、およびその組み合わせ；代替として、イソブタン、ｎ−ブタン、ブタン（ｎ−ブタンまたは直鎖状および分枝状のＣ４非環式脂肪族炭化水素の混合物）、ペンタン（ｎ‐ペンタンまたは直鎖状および分枝状のＣ５非環式脂肪族炭化水素の混合物）、ヘプタン（ｎ−ヘプタンまたは直鎖状および分枝状のＣ７非環式脂肪族炭化水素の混合物）、オクタン（ｎ‐オクタンまたは直鎖状および分枝状のＣ８非環式脂肪族炭化水素の混合物）、およびその組み合わせ；代替として、プロパン；代替として、イソブタン；代替として、ｎ−ブタン；代替として、ブタン（ｎ−ブタンまたは直鎖状および分枝状のＣ４非環式脂肪族炭化水素の混合物）；代替として、ペンタン（ｎ‐ペンタンまたは直鎖状および分枝状のＣ５非環式脂肪族炭化水素の混合物）；代替として、ヘキサン（ｎヘキサンまたは直鎖状および分枝状のＣ６非環式脂肪族炭化水素の混合物）；代替として、ヘプタン（ｎ−ヘプタンまたは直鎖状および分枝状のＣ７非環式脂肪族炭化水素の混合物）；または代替として、オクタン（ｎ‐オクタンまたは直鎖状および分枝状のＣ８非環式脂肪族炭化水素の混合物）を含む。適切な環式の脂肪族炭化水素溶剤の非限定的な例は、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン；代替として、シクロヘキサン；または代替として、メチルシクロヘキサンを含む。溶媒として有用であり得る芳香族炭化水素は、Ｃ６〜Ｃ２０芳香族炭化水素；または代替として、Ｃ６〜Ｃ１０芳香族炭化水素を含む。単独でまたは任意の組み合わせで使用することができる適切な非環式の芳香族炭化水素の非限定的な例は、ベンゼン、トルエン、キシレン（ｏ‐キシレン、ｍ‐キシレン、ｐ‐キシレン、またはその混合物を含む）、およびエチルベンゼン、または、その組み合わせ；代替として、ベンゼン；代替として、トルエン；代替として、キシレン（ｏ‐キシレン、ｍ‐キシレン、ｐ‐キシレンまたはその混合物を含む）；または代替として、エチルベンゼンを含む。
【０２４６】
溶媒として有用であり得るハロゲン化脂肪族炭化水素は、Ｃ１〜Ｃ１５ハロゲン化脂肪族炭化水素；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０ハロゲン化脂肪族炭化水素；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５ハロゲン化脂肪族炭化水素を含む。ハロゲン化脂肪族炭化水素は、別段の定めがない限り、環式もしくは非環式であってもよく、および／または直鎖状もしくは分枝状であってもよい。使用することができる適切なハロゲン化脂肪族炭化水素の非限定的な例は、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエタン、およびその組み合わせ；代替として、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタン、およびその組み合わせ；代替として、塩化メチレン；代替として、クロロホルム；代替として、四塩化炭素；代替として、ジクロロエタン；または代替として、トリクロロエタンを含む。溶媒として有用であり得るハロゲン化芳香族炭化水素は、Ｃ６〜Ｃ２０ハロゲン化芳香族炭化水素；または代替として、Ｃ６〜Ｃ１０ハロゲン化芳香族炭化水素を含む。適切なハロゲン化芳香族炭化水素の非限定的な例は、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、およびその組み合わせ；代替として、クロロベンゼンおよびジクロロベンゼンを含む。
【０２４７】
溶媒として有用であり得る、エーテル、カルボナート、エステル、ケトン、アルデヒド、またはアルコールは、Ｃ２〜Ｃ２０エーテル、カルボナート、エステル、ケトン、アルデヒド、またはアルコール；代替として、Ｃ２〜Ｃ１０エーテル、カルボナート、エステル、ケトン、アルデヒド、またはアルコール；または代替として、Ｃ２〜Ｃ５エーテル、カルボナート、エステル、ケトン、アルデヒド、またはアルコールを含む。適切なエーテル溶媒は、環式または非環式であってもよい。溶媒として有用であり得る適切なエーテルの非限定的な例は、ジメチルエーテル，ジエチルエーテル，メチルエチルエーテル，グリコールのモノエーテルまたはジエーテル（例えば、ジメチルグリコールエーテル），フラン，置換フラン，ジヒドロフラン，置換ジヒドロフラン，テトラヒドロフラン（ＴＨＦ），置換テトラヒドロフラン，テトラヒドロピラン，置換テトラヒドロピラン，１，３−ジオキサン，置換１，３−ジオキサン，１，４−ジオキサン，置換１，４−ジオキサン，またはその混合物を含む。一実施形態において、置換フラン，置換ジヒドロフラン，置換テトラヒドロフラン，置換テトラヒドロピラン，置換１，３−ジオキサン，または置換１，４−ジオキサン，の各置換基は、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基であってもよい。Ｃ１〜Ｃ５アルキル置換基は、本明細書に開示され、限定されることなく使用することができ、置換テトラヒドロフラン，ジヒドロフラン，フラン，１，３−ジオキサンまたは１，４−ジオキサン溶媒をさらに記載する。溶媒として使用することができる適切なカルボナートの非限定的な例は、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、炭酸ジエチル、炭酸ジエチル、炭酸グリセリン、およびその組み合わせを含む。溶媒として使用することができる適切なエステルの非限定的な例は、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、イソ酪酸イソブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、およびその組み合わせを含む。溶媒として使用することができる適切なケトンの非限定的な例は、アセトン、エチルメチルケトン、メチルイソブチルケトン、およびその組み合わせを含む。溶媒として使用することができる適切なアルコールの非限定的な例は、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ベンジルアルコール、フェノール、シクロヘキサノールなど、または、およびその組み合わせを含む。
【０２４８】
本開示は種々の態様および実施形態を独立した要素として開示しているが、当業者は、これらの態様および実施形態がさらなる態様および実施形態を形成するように組み合わされてもよいことを容易に認識できる。態様および実施形態のいくつかの非限定的な組み合わせが例示的な組み合わせとして本明細書に提示される。これらの例示的な組み合わせは、本開示によって想起および／または支持され得る本明細書に提示される概念の態様および実施形態の唯一の組み合わせとして解釈されるべきではない。本明細書に開示される種々の態様および実施形態の全ての組み合わせは全体が本開示に組み込まれる。
【０２４９】
第１の実施形態において、本開示は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物と錯体を形成するクロム塩を含むＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を含む組成物を含む。第２の実施形態において、本開示は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体が、構造ＣｒＧｕ１を有し、Ｒ１がＣ１〜Ｃ３０オルガニル基であり、Ｒ２ａおよびＲ２ｂが、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基であり、Ｒ３が、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基であり、Ｒ４およびＲ５が、各々独立して、Ｒ４およびＲ５が、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基であり、ＣｒＸｐがクロム塩を表し、Ｘがモノアニオンであり、ｐが２〜６の範囲であり、Ｑが中性リガンドであり、ｑが０〜６の範囲である、第１の実施形態の組成物を含む。第３の実施形態において、本開示は、ａ）Ｒ１およびＲ２ａが結合して、環または環系を形成でき、ｂ）Ｒ２ａおよびＲ２ｂが結合して、環または環系を形成でき、ｃ）Ｒ２ｂおよびＲ３が結合して、環または環系を形成でき、あるいはｄ）Ｒ１およびＲ２ａが結合して、環または環系を形成でき、Ｒ２ｂおよびＲ３が結合して、環または環系を形成できる、第２の実施形態の組成物を含む。第４の実施形態において、本開示は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体が構造ＣｒＧｕ２を有し、Ｌ１２が、不活性官能基からなるＣ２〜Ｃ１５オルガニレン基（または代替としてＣ２〜Ｃ１５ヒドロカルビレン基）であり、Ｒ３が、水素または本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基（またはＣ１〜Ｃ３０ヒドロカルビル基）であり、Ｒ４およびＲ５が独立して、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基（またはＣ１〜Ｃ３０ヒドロカルビル基）であり、ＣｒＸｐがクロム塩を表し、Ｘがモノアニオンであり、ｐが２〜６の範囲であり、Ｑが中性リガンドであり、ｑが０〜６の範囲であり；代替として、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体が構造ＣｒＧｕ３を有し、Ｒ１が、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基（またはＣ１〜Ｃ３０ヒドロカルビル基）であり、Ｌ２３が、不活性官能基からなるＣ２〜Ｃ１５オルガニレン基（または代替として、Ｃ２〜Ｃ１５ヒドロカルビレン基）であり、Ｒ４およびＲ５が、独立して、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基（またはＣ１〜Ｃ３０ヒドロカルビル基）であり、ＣｒＸｐがクロム塩を表し、Ｘがモノアニオンであり、ｐが２〜６の範囲であり、Ｑが中性リガンドであり、ｑが０〜６の範囲であり；代替として、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体が構造ＣｒＧｕ４を有し、Ｌ１２およびＬ２３が独立して、不活性官能基からなるＣ２〜Ｃ１５オルガニレン基（または代替として、ヒドロカルビレン基）であり、Ｒ４およびＲ５が独立して、本質的に不活性官能基からなるＣ２〜Ｃ３０オルガニル基（またはＣ１〜Ｃ３０ヒドロカルビル基）であり、ＣｒＸｐがクロム塩を表し、Ｘがモノアニオンであり、ｐが２〜６の範囲であり、Ｑが中性リガンドであり、ｑが０〜６の範囲であり；代替として、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体が構造ＣｒＧｕ５を有し、Ｒ１が、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基（またはＣ３〜Ｃ２０ヒドロカルビル基）であり、Ｌ２２が、不活性官能基からなるＣ３〜Ｃ２０オルガニレン基（または代替として、Ｃ２〜Ｃ１５ヒドロカルビレン基）であり、Ｒ３が、水素または本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基（またはＣ１〜Ｃ３０ヒドロカルビル基）であり、Ｒ４およびＲ５が独立して、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基（またはＣ１〜Ｃ３０ヒドロカルビル基）であり、ＣｒＸｐがクロム塩を表し、Ｘがモノアニオンであり、ｐが２〜６の範囲であり、Ｑが中性リガンドであり、ｑが０〜６の範囲である、第１または第２の実施形態の組成物を含む。第５の実施形態において、本開示は、クロム塩が、カルボン酸クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩＩ）β−ジケトナート、もしくはハロゲン化クロム（ＩＩＩ）を含む、第１の実施形態の組成物；または代替として、Ｘがカルボキシレート、β−ジケトネートまたはハライドであり、ｐが３である、第２〜第４の実施形態の組成物を含む。第６の実施形態において、本開示は、クロム塩がハロゲン化クロム（ＩＩＩ）を含む第１の実施形態の組成物；または代替として、Ｘがハライドであり、ｐが３である、第２〜第４の実施形態の組成物を含む。第７の実施形態において、本開示は、ＱがＣ１〜Ｃ２０ニトリルまたはＣ１〜Ｃ４０エーテルを含む第２〜第６の実施形態の組成物を含む。第８の実施形態において、本開示は、ＣｒＸｐが、ハロゲン化クロム（ＩＩＩ）を含み、各々のＱが独立して、Ｃ２〜Ｃ３０脂肪族環状エーテルまたはＣ３〜Ｃ３０脂肪族環状エーテルである第２〜第４の実施形態の組成物を含む。第９の実施形態において、本開示は、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体が、構造ＣｒＣｌ３・ＴＨＦ  Ｇｕ  Ｉ、構造ＣｒＣｌ３・ＴＨＦ  Ｇｕ  ＶＩＩ、または構造ＣｒＣｌ３・ＴＨＦ  Ｇｕ  ＸＩ；代替として、構造ＣｒＣｌ３・ＴＨＦ  Ｇｕ  Ｉ；代替として、構造ＣｒＣｌ３・ＴＨＦ  Ｇｕ  ＶＩＩ；または代替として、構造ＣｒＣｌ３・ＴＨＦ  Ｇｕ  ＸＩを有する第１の実施形態の組成物を含む。
【０２５０】
第１０の実施形態において、本開示は、ａ）第１〜第９の実施形態のいずれかに記載されるＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体、およびｂ）金属アルキル化合物を含む触媒系組成物を含む。第１１の実施形態において、本開示は、金属アルキル化合物がアルミノキサンを含む第１０の実施形態の触媒系組成物を含む。第１２の実施形態において、本開示は、アルミノキサンが、メチルアルミノキサン（ＭＭＡＯ）、エチルアルミノキサン、ｎ−プロピルアルミノキサン、イソ−プロピル−アルミノキサン、ｎ−ブチルアルミノキサン、ｓｅｃ−ブチルアルミノキサン、イソ−ブチルアルミノキサン、ｔ−ブチルアルミノキサン、１−ペンチルアルミノキサン、２−ペンチルアルミノキサン、３−ペンチルアルミノキサン、イソ−ペンチルアルミノキサン、ネオペンチルアルミノキサンおよびそれらの混合物を含む第１１の実施形態の触媒系組成物を含む。第１３の実施形態において、本開示は、アルミノキサンが、修飾されたメチルアルミノキサン（ＭＭＡＯ）を含む第１０の実施形態の触媒系組成物；または代替として、アルミノキサンが修飾されたメチルアルミノキサン（ＭＭＡＯ）を含む第１１の実施形態の触媒系組成物を含む。第１４の実施形態において、本開示は、金属アルキル化合物の金属対Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体のクロムのモル比が少なくとも５：１である；または代替として、アルミノキサンのアルミニウム対Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体のクロムのモル比が少なくとも５：１である、第１１〜第１３の実施形態の触媒系組成物を含む。
【０２５１】
第１５の実施形態において、本開示は、第１〜第９の実施形態のいずれかに記載されるＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体および金属アルキル化合物（または代替として、アルミノキサン）を接触させるステップを含む、触媒系組成物を調製するプロセスを含む。第１６の実施形態において、本開示は、触媒系組成物が、少なくとも１５分間、オレフィンの実質的に不存在下で熟成される第１５の実施形態の方法を含む。第１７の実施形態において、本開示は、熟成された触媒系組成物が、ａ）熟成されていない他の同様の触媒系と比較して増加したオリゴマー化触媒活性を示す、ｂ）熟成されていない他の同様の触媒系と比較して生成したポリマーの減少した割合、またはｃ）熟成されいない他の同様の触媒系と比較して増加したオリゴマー化触媒活性および生成したポリマーの減少した割合を示す、第１６の実施形態のプロセスを含む。
【０２５２】
第１８の実施形態において、本開示は、ａ）ｉ）オレフィン、およびｉｉ）（ａ）第１〜第９の実施形態のいずれかに記載されるＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体、および（ｂ）金属アルキル化合物（または代替として、アルミノキサン）を含む触媒系を接触させて、オリゴマー生成物を形成するステップ、ならびにｂ）オリゴマーを回収するステップ；または代替として、ａ）ｉ）オレフィン、およびｉｉ）第１０〜第１４の実施形態のいずれかに記載される触媒系を接触させるステップ、およびｂ）オリゴマーを回収するステップを含む、オリゴマー化プロセスを含む。第１９の実施形態において、本開示は、触媒系、オレフィン、および水素を接触させて、オリゴマー生成物を形成させる、第１８の実施形態のプロセスを含む。第２０の実施形態において、本開示は、オリゴマー生成物が２０℃〜１５０℃の範囲の温度で形成される、第１８〜第１９の実施形態のプロセスを含む。第２１の実施形態において、本開示は、オレフィンがエチレンを含み、オリゴマー生成物が、６０〜９９．９重量％のＣ６およびＣ８オレフィンを含む液体オリゴマー生成物を含む、第１９〜第２０の実施形態のプロセスを含む。第２２の実施形態において、本開示は、オレフィンがエチレンを含み、Ｃ６オリゴマー生成物が少なくとも９０重量％の１−ヘキセンを含む、第１８〜第２１の実施形態のプロセスを含む。第２３の実施形態において、本開示は、オレフィンがエチレンを含み、Ｃ８オリゴマー生成物が少なくとも９０重量％の１−オクテンを含む、第１８〜第２２の実施形態のプロセスを含む。第２４の実施形態において、本開示は、触媒系、オレフィンおよび水素が接触して、オリゴマー生成物を形成し、オレフィンがエチレンを含み、オリゴマー生成物が、１５０ｐｓｉｇ〜２，０００ｐｓｉｇの範囲のエチレン分圧および５ｐｓｉｇ〜４００ｐｓｉｇの範囲で形成される、第１９〜第２３の実施形態のプロセスを含む。
【０２５３】
一般開示情報
本出願からの米国の国内段階出願の目的に対して、本開示の方法に関連して使用され得る刊行物において記載されている構成および方法論を記載し開示する目的で、本開示において言及される刊行物および特許はすべて、参照によってその全体が本明細書に組み込まれる。上記本文、およびその本文の全体にわたって論じられた刊行物および特許はいずれも、本出願の出願日以前にそれらの開示が提供されたものである。本発明者には、先の発明によるそのような開示に先行する資格がないという承認として、本明細書が解釈されるべきではない。
【０２５４】
任意の種類の範囲、例えば、炭素原子、モル比、温度などのある範囲の数が開示または主張される場合、他に示されない限り、そのような範囲が、そこに包含されるいずれの小領域をも包含して、道理にかなって包含し得る可能な各数を個々に開示または主張するように意図される。例えば、炭素原子のある範囲の数を記載する場合、可能な個々の各整数、およびその範囲が含む原子の整数間の範囲は、そこに包含される。したがって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基または１から１０までの炭素原子、すなわち「最大」１０の炭素原子を有するアルキル基を開示することによって、本出願人の意図は、アルキル基は、１、２、３、４、５、６、７、８、９、または１０の炭素原子を有することができ、またそのような基を記載するこれらの方法が交換可能であることを記述することである。モル比などのある範囲の大きさを記載する場合、そのような範囲が道理にかなって包含することができるあらゆる数字は、例えば、範囲の終点に存在するより１つの有効数字を含む範囲の内側の値を指す。この例では、１．０３：１から１．１２：１の間のモル比は、個々に１．０３：１、１．０４：１、１．０５：１、１．０６：１、１．０７：１、１．０８：１、１．０９：１、１．１０：１、１．１１：１、および１．１２：１のモル比を含む。本出願人の意図は、範囲を記載するこれらの２つの方法が交換可能であるということである。さらに、本出願人が、そのような範囲が道理にかなって包含し得る可能な各数を個々に反映するように意図する範囲の値が開示または主張される場合、本出願人はまた、すべてのあらゆる小領域およびそこに包含される小領域の組み合わせをも開示して、範囲の開示を反映し、また交換可能であることを意図する。この態様において、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基の本出願人の開示は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ４〜Ｃ８アルキル、Ｃ２〜Ｃ７アルキル、Ｃ１〜Ｃ３およびＣ５〜Ｃ７アルキルの組み合わせなどを文字通りに包含するように意図される。範囲の終点が異なる数の有効数字、例えば、１：１から１．２：１までのモル比を有する範囲を記載する場合、そのような範囲が道理にかなって包含し得る、可能なあらゆる数字は、例えば、有効数字の最大数、この場合１．２：１を有する範囲の終点に存在するより１つの有効数字を含む範囲の内側の値を指す。この例では、１：１から１．２：１までのモル比は、すべて１に対して、１．０１、１．０２、１．０３、１．０４、１．０５、１．０６、１．０７、１．０８、１．０９、１．１０、１．１１、１．１２、１．１３、１．１４、１．１５、１．１６、１．１７、１．１８、１．１９、および１．２０のモル比、ならびに、そこに包含されるすべてのあらゆる小領域および小領域の組み合わせを個々に含む。したがって、何らかの理由で、例えば、本出願人が本出願の申請時に気付かない参照を、説明するべき開示の完全性に足りずに、本出願人が請求することを選択した場合、本出願人は、任意の小領域または群内の小領域の組み合わせを含む、そのような群の任意の個々の成員を条件外とするまたは除外する権利を留保する。
【０２５５】
米国特許商標庁への出願において、本出願の要約は、３７Ｃ．Ｆ．Ｒ．§１．７２の要件を満たす目的、および３７Ｃ．Ｆ．Ｒ．§１．７２（ｂ）に述べられた目的「米国特許商標庁および公衆が概観することにより、技術的開示の性質及び趣旨を速やかに決定できること」で提供される。したがって、本出願の要約は、特許請求の範囲を解釈する、または本明細書に開示される主題の範囲を限定するために用いられるようには意図されない。さらに本明細書に使用することができる任意の見出しもまた、特許請求の範囲を解釈する、または本明細書に開示される主題の範囲を限定するために用いられるようには意図されない。建設的または予告的として他の場合に示された例を、過去時制を用いて記載しても、建設的または予告的な例が実際に行われたことを反映するようには意図されない。
【０２５６】
本開示は、以下の実施例によってさらに説明されるが、その範囲に限定を置くようには決して解釈すべきではない。一方、本明細書の記載の読了後、本発明の趣旨または添付の特許請求の範囲から離れることなく、当業者に示唆し得る、様々な他の態様、実施形態、修飾、および等価物に対する手段が含まれ得ることは、明瞭に理解されるべきである。
【０２５７】
以下の例に提供されるデータおよび記載は、開示された化合物、触媒系、ならびにオリゴマー化および／または重合法の特定の態様および実施形態を示し、多くの実施およびその利点を示すために与えられる。実施例は、本明細書に記載される態様および実施形態のいくつかのより詳細な実証として与えられ、開示または特許請求の範囲を限定するようには決して意図されない。
【実施例】
【０２５８】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を調製し、オリゴマー化触媒としてのそれらの有用性を評価した。
【０２５９】
グアニジン化合物合成
使用した全ての化学物質および化合物は商業的供給源から購入した。ジエチルエーテルを、水および酸素を除去するためにナトリウム−ベンゾフェノンから蒸留した。無水ベンゼン（乾燥ベンゼン）を脱気し、分子篩上に保存した。グアニジン化合物の合成は、その全体が本明細書に参照として援用される、Ｌｉ，Ｄ．；Ｇｕａｎｇ，Ｊ．；Ｚｈａｎｇ，Ｗ．−Ｘ．；Ｗａｎｇ，Ｙ．；Ｘｉ，Ｚ．Ｏｒｇ．Ｂｉｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．２０１０，８，１８１６−１８２０における一般手順を使用して実施した。表３は、生成したグアニジン化合物と共にグアニジン合成１〜５に利用したアミンおよびカルボジイミドを要約する。
【０２６０】
グアニジン合成１−グアニジンＡ
２，６ジメチルアニリン（２０ｍｍｏｌ、２．６０８ｍｌ）を、１００ｍｌのＳｃｈｌｅｎｋフラスコ中で５０ｍｌのベンゼンに溶解した。この溶液に、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド（２０ｍｍｏｌ、３．０９ｍｌ）およびトリフルオロメタンスルホン酸亜鉛（０．６ｍｍｏｌ、０．２２００ｇ）も加えて、透明で無色の溶液を得た。この溶液を１２時間還流した。還流後、反応混合物は濁ったが、依然として無色であった。ベンゼン溶媒を除去し、残った白色固体をジエチルエーテルに溶解し、濾過し、乾燥させて、白色粉末（４．３９５１ｇ、８８．１％収率）を得た。ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）δ：７．１６（二重項，２Ｈ），６．９５（三重項，１Ｈ），３．１７（ブロード二重項，２Ｈ），２．３３（一重項，６Ｈ），０．８７（ブロード二重項，１２Ｈ）ｐｐｍ。
【０２６１】
グアニジン合成２−グアニジンＢ
アニリン（１０ｍｍｏｌ、０．９１３７ｍｌ）、Ｚｎ（ＯＴＦ）２（０．３ｍｍｏｌ、０．１１００ｇ）およびＮ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド（１０ｍｍｏｌ、１．５４６ｍｌ）を５０ｍｌのＳｃｈｌｅｎｋフラスコに移し、２５ｍｌのベンゼンに溶解した。反応混合物を７２時間還流した。溶液は暗褐色から半透明の暗緑色に変化し、フラスコを室温に冷やすと凝固し始めた。フラスコを加熱して混合物を再溶解し、ベンゼン溶媒を真空により除去した。温ジエチルエーテルを溶解することによって生成物を単離し、続いて濾過した。固体が形成し始めるまで緑色の溶液は体積が減少した。濾過する前に溶液を１時間フリーザに入れた（１．３３２０ｇ、６０．７％収率）。ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）δ：７．２６（三重項，２Ｈ），７．１４（一重項，２Ｈ），６．９２（三重項，１Ｈ），３．６４（ブロード一重項，２Ｈ），３．４２（ブロード多重項，２Ｈ），０．８８（二重項，１３Ｈ）ｐｐｍ。
【０２６２】
グアニジン合成３−グアニジンＣ
２−５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリン（１０ｍｍｏｌ、２．０５３５ｇ）、白色粉末固体、Ｚｎ（ＯＴＦ）２（０．３ｍｍｏｌ、０．１１００ｇ）およびＮ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド（１０ｍｍｏｌ、１．５４６ｍｌ）を５０ｍｌのＳｃｈｌｅｎｋフラスコに移し、２５ｍｌのベンゼンに溶解して、透明で無色の溶液を得た。この溶液を１２時間還流した。還流後、溶液は無色のままであったが、より半透明になった。フラスコを室温に冷やし、溶媒を真空下で除去して白色固体を得た。この固体をジエチルエーテルに溶解して、細かな白色の沈殿物を有する無色の溶液を得、それを３０分間撹拌させ、その後、濾過して、透明で無色の濾液を得た。溶媒を真空により除去して白色粉末（３．０５５４ｇ、９２．２％収率）を得た。ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）δ：７．４６（二重項，２Ｈ），７．０１（二重項，１Ｈ），６．９７（一重項，１Ｈ），３．６８（ブロード，２Ｈ），３．４３（ブロード二重項，２Ｈ），１．６６（一重項，９Ｈ），１．３０（一重項，９Ｈ），０．９４（二重項，１２Ｈ）ｐｐｍ。
【０２６３】
グアニジン合成４−グアニジンＤ
グアニジンＤを、グアニジンＣの合成について記載されているものと同じ方法および同じミリモル濃度の割合で調製した。この合成により、４．６８ｇ、９４．５％収率のグアニジンＤを得た。ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）δ：７．２５（二重項，１Ｈ），７．１９（二重項，１Ｈ），６．９８（多重項，２Ｈ），３．６３（ブロード，２Ｈ），３．３９（ブロード，２Ｈ），２．８０（四重極，２Ｈ），１．３１（三重項，３Ｈ），０．９０（二重項，１２Ｈ）ｐｐｍ。
【０２６４】
グアニジン合成５−グアニジンＥ
グアニジンＥを、グアニジンＣの合成について記載されているものと同じ方法および同じミリモル濃度の割合で調製した。この合成により、５．３４６１ｇ、９７．０％収率のグアニジンＥを得た。ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）δ：７．３３（二重項，２Ｈ），７．１２（二重項，２Ｈ），３．６８（ブロードｐｅａｋ，４Ｈ），１．２６（一重項，９Ｈ），０．９２（二重項，１２Ｈ）ｐｐｍ。
【表３】
2018076371.tif 000036
【０２６５】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物の合成
本明細書の実施例に開示されているように調製されない全ての化学物質および化合物は商業的供給源から購入した。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物はアルゴン雰囲気下で実施した。ジエチルエーテルを、水および酸素を除去するためにナトリウム−ベンゾフェノンから蒸留した。無水ベンゼン（乾燥ベンゼン）を脱気し、分子篩上で保存した。
【０２６６】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン合成１−Ｎ２−ホスフィニルグアニジン構造ＸＩＸ
グアニジンＡ（３ｍｍｏｌ、０．７４１５ｇ）を１００ｍｌのＳｃｈｌｅｎｋフラスコ中で５０ｍｌのジエチルエーテルに溶解して、透明で無色の溶液を得た。反応混合物をアルゴンパージ下で氷浴に入れた。１０％モル過剰のブチルリチウム（２Ｍ、１．６５ｍｌ）を滴下して加え、溶液を室温にて２時間撹拌した。１０％モル過剰のｐ−クロロジフェニルホスフィン（３．３ｍｍｏｌ、０．５９２ｍｌ）を一度に加えた。数分後、溶液は透明で無色から橙−黄色に変化し、微細な白色沈殿が溶液中に懸濁した。混合物を濾過して透明な溶液を得た。溶媒を真空下で濾液から除去して、粘性の黄色の油（１．３３５９ｇ、定量的収率）を得た。ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：δ７．６７（三重項，４Ｈ），７．１３（多重項，８Ｈ），６．９０（三重項，１Ｈ），４．５１（多重項，１Ｈ），４．３２（二重項，１Ｈ），３．１８（多重項，１Ｈ），２．３８（一重項，６Ｈ），１．４６（二重項，６Ｈ），０．４６（二重項，６Ｈ）ｐｐｍ。
【０２６７】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン合成２−Ｎ２−ホスフィニルグアニジン構造ＸＶＩＩＩ
構造ＸＶＩＩＩを有するＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物を、試薬としてクロロジイソプロピルホスフィンおよびグアニジンＡを使用してＮ２−ホスフィニルグアニジン合成１に利用されているものと同じ手順およびミリモル量を使用して調製した。ｐ−クロロジイソプロピルホスフィンを加えると、溶液は透明で無色のままであり、微細な白色沈殿物が溶液中に懸濁した。２つの濾液が、透明で無色の溶液を得るために濾液から固体を除去するのに必要であった。エーテルを除去し、透明で無色の油が残った（１．１０８２、定量的収率）。ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：δ６．９４（一重項，３Ｈ），３．３４（多重項，１Ｈ），３．２３（多重項，２Ｈ），３．０４（多重項，１Ｈ），２．９７（二重項，１Ｈ），２．５１（一重項，６Ｈ），１．２２（多重項，１９Ｈ），０．５３（二重項，６Ｈ）ｐｐｍ。
【０２６８】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン合成３−Ｎ２−ホスフィニルグアニジン構造ＸＶＩＩ
構造ＸＶＩＩを有するＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物を、試薬としてクロロジフェニル−ホスフィンおよびグアニジンＢを使用してＮ２−ホスフィニルグアニジン合成１で利用したものと同じ手順のミリモル量を使用して調製した。１モル当量のブチルリチウムおよびクロロジフェニル−ホスフィンの各々を試薬として使用した。反応混合物を濾過することにより、塩化リチウム塩を除去して、透明でわずかに黄色溶液を得た。溶媒を除去して、黄色の油（０．９８８５ｇ、４８．９％収率）を得た。ＮＭＲにより、生成物は恐らく異性体の混合物からなったことが示された。
【０２６９】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン合成４−Ｎ２−ホスフィニルグアニジン構造ＸＸＩＩ
構造ＸＶＩＩを有するＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物を、試薬としてクロロジフェニルホスフィンおよびグアニジンＣを使用してＮ２−ホスフィニルグアニジン合成１で利用されているものと同じ手順を使用して調製した。グアニジンＣ（５ｍｍｏｌ、１．６５７８ｇ）を、１００ｍｌのＳｃｈｌｅｎｋフラスコ中で５０ｍｌの乾燥ジエチルエーテルに溶解し、氷浴中で冷却した。ブチルリチウム（５ｍｍｏｌ、２Ｍ、２．５ｍｌ）を滴下して加えた。添加後、混合物を室温にて２時間撹拌した。クロロジフェニル−ホスフィン（５ｍｍｏｌ、０．８９８ｍｌ）を一度に加えた。混合物はわずかに黄色になり、数分で微細な白色の沈殿物が形成し始めた。混合物を微細なフィルタ処理したフリット漏斗に通して、塩化リチウム塩を除去し、透明で淡黄色の溶液を得た。溶媒を除去して淡い黄色の粉末（２．３１０９ｇ、８９．６％収率）を得た。ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：δ７．６７（多重項，４Ｈ），７．４１（２一重項ｓ，１Ｈ），７．１５（多重項，６Ｈ），７．２０（三重項，２Ｈ），７．０２（二重項，１Ｈ），６．８９（一重項，１Ｈ），４．００（多重項，１Ｈ），３．７９（一重項，２Ｈ），１．６５（一重項，９Ｈ），１．３５（二重項，６Ｈ），１．２９（一重項，９Ｈ），０．７９（二重項，６Ｈ）ｐｐｍ。
【０２７０】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン合成５−Ｎ２−ホスフィニルグアニジン合成ＸＸ
構造ＸＸを有するＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物を、試薬としてクロロジフェニルホスフィンおよびグアニジンＤを使用してＮ２−ホスフィニルグアニジン合成１で利用されているものと同じ手順を使用して調製した。グアニジンＤ（５ｍｍｏｌ、１．２３７３ｇ）を乾燥ジエチルエーテルに溶解し、氷浴中で冷却し、ブチルリチウム（２Ｍ、２．５ｍｌ）で処理した。添加を完了した後、混合物を室温にて２時間撹拌した。クロロジフェニルホスフィンを加え、溶液は微細な白色沈殿物を有し、緑から淡い黄色に変化し、それを一晩静置した。白色の塩化リチウム塩を、微細なフリット付きフィルタ漏斗を通して真空濾過によって除去して、緑−黄色の溶液を得た。溶媒を除去し、残存化合物は凝固し始めた。固体をペンタンに溶解し、濾過し、乾燥させ、緑色がかったベージュ色の固体（１．９４７４ｇ、９０．０％の収率）を得た。ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：δ７．６５（三重項，４Ｈ），７．０７（多重項，７Ｈ），６．９４（三重項，２Ｈ），６．８１（二重項，１Ｈ），４．１０（多重項，２Ｈ），３．５２（多重項，１Ｈ），２．８５（四重極，２Ｈ），１．３６（一重項，２Ｈ），１．３３（一重項，３Ｈ），１．３２（二重項，１Ｈ），０．９１（二重項，２Ｈ），０．６７（二重項，４Ｈ）ｐｐｍ。
【０２７１】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン合成６−Ｎ２−ホスフィニルグアニジン構造ＸＸＩ
構造ＸＸＩを有するＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物を、試薬としてクロロジフェニルホスフィンおよびグアニジンＥを使用してＮ２−ホスフィニルグアニジン合成１で利用したものと同じ手順およびミリモル量を使用して調製した。生成物は非常に粘性のある黄色の油（１．９０４７ｇ、８１．１％収率）であった。ＮＭＲにより、生成物は恐らく異性体の混合物から構成されたことが示された。
【０２７２】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン合成７−Ｎ２−ホスフィニルグアニジン構造ＶＩＩ
トリアザビシクロ［４．４．０］デカ−５−エン（５ｍｍｏｌ、０．６９６ｇ）を、アルゴン雰囲気下で５０ｍｌの乾燥ジエチルエーテル中で懸濁し、氷浴中で冷却した。１モル当量のブチルリチウム（２Ｍ、２．５ｍｌ）を滴下して加え、溶液を室温にて２時間撹拌した。反応混合物は、溶液中に懸濁した微細な白色の粉末を有して乳白色になった。２時間後、１モル当量のｐ−クロロジイソプロピルホスフィン（５ｍｍｏｌ、０．７９７ｍｌ）を一度に加え、微細な白色の沈殿物が形成し始めた。この混合物を室温にて１時間撹拌した。塩化リチウムを濾過によって除去し、透明で無色の濾液を得た。溶媒を透明で無色の液体のまま除去した（１．１８５１ｇ、９２．８％収率）。ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：δ３．４０（三重項，２Ｈ），３．３１（多重項，２Ｈ），３．０８（多重項，２Ｈ），２．６６（三重項，２Ｈ），２．５２（三重項，２Ｈ），１．５３（多重項，２Ｈ），１．４７（多重項，２Ｈ），１．２５−１．１４（多重項，１２Ｈ）ｐｐｍ。
【０２７３】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン合成８−Ｎ２−ホスフィニルグアニジン構造ＸＩ
構造ＸＩを有するＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物を、試薬としてクロロジフェニルホスフィンおよびトリアザビシクロ［４．４．０］デカ−５−エンを使用してＮ２−ホスフィニルグアニジン合成７で利用されるものと同じ手順およびミリモル量を使用して調製した。クロロジフェニルホスフィンの添加後、反応混合物は、多くの沈殿物を有して、著しく厚くなった。エーテルを除去し、白色の固体を乾燥ベンゼンに溶解し、濾過した。ベンゼンを真空下で除去して、加温条件下で部分的に溶解する白色の固体を得た（１．２６４６ｇ、８１．２％収率）。ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：δ７．５４（多重項，４Ｈ），７．１２（多重項，５Ｈ），３．４９（三重項，２Ｈ），２．８８（三重項，２Ｈ），２．６６（三重項，２Ｈ），２．５２（三重項，２Ｈ），１．５６（多重項，２Ｈ），１．２９（多重項，２Ｈ）ｐｐｍ。
【０２７４】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン合成９−Ｎ２−ホスフィニルグアニジン構造Ｘ
構造Ｘを有するＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物を、試薬としてクロロジシクロヘキシルホスフィンおよびトリアザビシクロ［４．４．０］デカ−５−エンを使用してＮ２−ホスフィニルグアニジン合成７で利用されるものと同じ手順およびミリモル量を使用して調製した。生成物は室温で液体であった（１．１４０９ｇ、７１．０％収率）。ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：δ３．４６（ブロード三重項，２Ｈ），３．２７（三重項，２Ｈ），２．９４（ブロード一重項，２Ｈ），２．６３（三重項，２Ｈ），２．５２（三重項，２Ｈ），２．０２（ブロード，２Ｈ），１．８９（ブロード多重項，４Ｈ），１．７７（ブロード二重項，２Ｈ），１．６８（ブロード二重項，２Ｈ），１．５２−１．３３（ブロード多重項，１４Ｈ）ｐｐｍ。
【０２７５】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン合成１０−Ｎ２−ホスフィニルグアニジン構造ＸＸＩＩＩ
構造ＸＸＩＩＩを有するＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物を、試薬としてクロロジエチルホスフィンおよびトリアザビシクロ［４．４．０］デカ−５−エンを使用してＮ２−ホスフィニルグアニジン合成７で利用されるものと同じ手順およびミリモル量を使用して調製した。生成物は白色の粉末であった（０．８３０２ｇ、８３．０％収率）。ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：δ３．６４（ブロード一重項，２Ｈ），２．７３（ブロード一重項，２Ｈ），２．５６（三重項，２Ｈ），２．４７（三重項，２Ｈ），１．７１（ブロード多重項，２Ｈ），１．４９，（多重項，２Ｈ），１．３１−１．１０（多重項，１０Ｈ）ｐｐｍ。
【０２７６】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン合成１１−Ｎ２−ホスフィニルグアニジン構造Ｉ
構造Ｉを有するＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物を、試薬としてクロロジイソプロピルホスフィンおよび１，３−ジ−ｏ−トリルグアニジンを使用してＮ２−ホスフィニルグアニジン合成７で利用されるものと同じ手順およびミリモル量を使用して調製した。生成物は粘性の油（１．３２０ｇ、７４．３％収率）であった。ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６）：δ９．０５（ブロード一重項，１Ｈ），７．２０（多重項，６Ｈ），６．９０（多重項，２Ｈ），４．２０（ブロード一重項，１Ｈ），２．２８（一重項，６Ｈ），０．８１−０．６９（多重項，１２Ｈ）ｐｐｍ。
【０２７７】
三塩化クロムＮ２−ホスフィニルグアニジン錯体の合成
本明細書の実施例に開示されているように調製されない全ての化学物質および化合物は市販の供給源から購入した。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物はアルゴン雰囲気下で実施した。テトラフドロフランをナトリウム−ベンゾフェノンから蒸留して、水および酸素を除去した。無水ペンタン、ベンゼンおよびトルエンを脱気し、分子篩上で保存した。
【０２７８】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体合成１−Ｎ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体構造ＣｒＣｌ３Ｇｕ  ＸＩＸ
ＣｒＣｌ３（ＴＨＦ）３（０．５ｍｍｏｌ、０．１８７３ｇ）を５０ｍｌのＳｃｈｌｅｎｋフラスコ中で２５ｍｌのトルエン中に懸濁して、懸濁した固体を有する濃い紫色の溶液を得た。構造ＸＩＸを有する１モル当量のＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物をフラスコに移した。混合物を３日間撹拌し、次いでフリット付き漏斗で濾過し、ペンタンで洗浄して暗緑色の固体（０．１４７０ｇ、４９．５％収率）を得た。
【０２７９】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体合成２−Ｎ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体構造ＣｒＣｌ３Ｇｕ  ＸＶＩＩＩ
ＣｒＣｌ３（ＴＨＦ）３（０．５ｍｍｏｌ、０．１８７３ｇ）を５０ｍｌのＳｃｈｌｅｎｋフラスコ中で２５ｍｌのテトラヒドロフラン中に溶解して、透明な紫色の溶液を得た。構造ＸＶＩＩＩを有する１モル当量のＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物をフラスコに移した。混合物は透明で紫色から暗緑色にすぐに色が変化した。反応の完了が継続していることを確実にするために反応物を１時間静置させた。得られた溶液を濾過して透明な溶液にした。溶媒を真空下でゆっくり除去して、暗緑色の固体（０．５８６８ｇ、９８．４％収率）を得た。
【０２８０】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体合成３−Ｎ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体構造ＣｒＣｌ３Ｇｕ  ＸＶＩＩ
構造ＸＶＩＩを有するＮ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体を、構造ＸＶＩＩを有するＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物を使用してＮ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体合成２で利用されるものと同じ手順およびミリモル量を使用して調製した。この手順により、濃い青色の固体（０．２６９９ｇ、８５．１％収率）が得られた。
【０２８１】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体合成４−Ｎ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体構造ＣｒＣｌ３Ｇｕ  ＸＸＩＩ
構造ＸＸＩＩを有するＮ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体を、構造ＸＸＩＩを有するＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物を使用してＮ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体合成１で利用されるものと同じ手順およびミリモル量を使用して調製した。この手順により、青色の固体（０．１００７ｇ、２７．０％収率）を得た。
【０２８２】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体合成５−Ｎ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体構造ＣｒＣｌ３Ｇｕ  ＸＸ
構造ＸＸを有するＮ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体を、構造ＸＸを有するＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物を使用してＮ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体合成２で利用されるものと同じ手順およびミリモル量を使用して調製した。この手順により、暗緑色の固体（０．３０６６ｇ、９２．６％収率）が得られた。
【０２８３】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体合成６−Ｎ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体構造ＣｒＣｌ３Ｇｕ  ＸＸＩ
構造ＸＸＩを有するＮ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体を、構造ＸＸＩを有するＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物を使用してＮ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体合成２で利用されるものと同じ手順およびミリモル量を使用して調製した。この手順により、緑色の固体（０．２８８５ｇ、８２．５％収率）が得られた。
【０２８４】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体合成７−Ｎ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体構造ＣｒＣｌ３Ｇｕ  ＶＩＩ
構造ＶＩＩを有するＮ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体を、構造ＶＩＩを有する２．０ｍｍｏｌのＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物および２．０ｍｍｏｌのＣｒＣｌ３（ＴＨＦ）３を使用した手順を除いて、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体合成２で利用されるものと同じ手順およびミリモル量を使用して調製した。この手順により、緑色がかった青色の固体（０．８７２１ｇ、８９．９％収率）を得た。
【０２８５】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体合成８−Ｎ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体構造ＣｒＣｌ３Ｇｕ  ＸＩ
構造ＸＩを有するＮ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体を、構造ＸＩを有する２．０ｍｍｏｌのＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物および２．０ｍｍｏｌのＣｒＣｌ３（ＴＨＦ）３を使用した手順を除いて、Ｎ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体合成２で利用されるものと同じ手順を使用して調製した。この手順により、濃い青色の固体（１．０８１、８６．０％収率）を得た。
【０２８６】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体合成９−Ｎ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体構造ＣｒＣｌ３Ｇｕ  Ｘ
構造Ｘを有するＮ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体を、構造Ｘを有するＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物を使用してＮ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体合成２で利用されるものと同じ手順およびミリモル量を使用して調製した。この手順により、濃い青色の固体（０．２０００ｇ、７２．６％収率）を得た。
【０２８７】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体合成１０−Ｎ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体構造ＣｒＣｌ３Ｇｕ  ＸＸＩＩＩ
構造ＸＸＩＩＩを有するＮ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体を、構造ＸＸＩＩＩを有するＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物を使用してＮ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体合成２で利用されるものと同じ手順およびミリモル量を使用して調製した。この手順により、濃い青色の固体（０．１５９０ｇ、７１．３％収率）を得た。
【０２８８】
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体合成１１−Ｎ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体構造ＣｒＣｌ３Ｇｕ  Ｉ
構造Ｉを有するＮ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体を、構造Ｉを有するＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物を使用してＮ２−ホスフィニルグアニジン三塩化クロム錯体合成２で利用されるものと同じ手順およびミリモル量を使用して調製した。この手順により、濃い青色の固体（０．２４６７ｇ、８４．４％収率）を得た。
【０２８９】
オレフィンオリゴマー化
本明細書に記載された方法を使用して調製されたＮ２−ホスフィニルグアニジン化合物およびＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体が使用された。化学物質供給業者Ａｋｚｏ−Ｎｏｂｅｌから得たＭＭＡＯ−３Ａ（ヘプタン中の７重量％アルミニウム）を使用した。従来の方法を使用して溶媒を乾燥および／または精製し、水を吸収するそれらの能力を制限する条件下で保存した。生成物の分析において、Ｃ６またはＣ８生成物の量に対する言及はそれぞれ、オリゴマー生成物内に６または８個の炭素原子を有する全てのオリゴマー生成物を指す。１−ヘキセンまたは１−オクテンの重量パーセントに対する言及はそれぞれ、オリゴマー生成物のＣ６またはＣ８生成物部内の１−ヘキセンまたは１−オクテンの重量パーセント（例えば生成物純度）を指す。
【０２９０】
エチレンオリゴマー化実施−標準方法
１Ｌのステンレス鋼リアクタを、使用前に少なくとも８時間、１１０℃にて真空下で乾燥させた。次いでリアクタを５０℃に冷却した。ドライボックスにおいて、２０ｍＬのガラスバイアルにＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体およびエチルベンゼン（１．０ｇ）を充填した。ＭＭＡＯ−３Ａ（３．３ｇ、ヘプタン中の７．６重量％Ａｌ溶液）を、Ｎ２−ホスフィニル金属塩錯体の青色の異種溶液に加え、黄色の溶液が形成した。次いで触媒系を一晩（約１８時間）静置させた。次いで黄色の溶液を、４００ｍｌのシクロヘキサンを含有する０．５Ｌのガラス充填器に加えた。この溶液をドライボックスから取り除き、リアクタ内に入れた。水素（５０ｐｓｉｇ）、続いてエチレン（８５０ｐｓｉｇ、オンデマンドで供給）を加えた。（触媒の導入から開始して）反応を５０℃にて３０分間進行させた。３０分後、水冷却をリアクタシステムに適用した。温度が３５℃に到達すると、未反応のエチレンおよび水素ガスを雰囲気に通気した。液体試料を回収し、ＧＣ−ＦＩＤによって分析した。この実施のために、エチルベンゼンを内部標準として使用した。溶液を濾過することによって固体を回収し、リアクタの壁を洗浄し、コイルを冷却した。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体および各々のエチレンオリゴマー化に利用される物資の量は、各々のオリゴマー実施の結果と共に表４にまとめられるように提供する。
【表４】
2018076371.tif 000037
【手続補正書】
【提出日】平成30年2月7日(2018.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の一般構造を有するＮ２−ホスフィニルグアニジンクロム塩錯体：
【化１】
2018076371.tif 000041
（式中、
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ３０ヒドロカルビル基であり、
Ｒ２ａは、Ｃ１〜Ｃ３０ヒドロカルビル基であり、
Ｒ２ｂは、Ｃ１〜Ｃ３０ヒドロカルビル基であり、
Ｌ１２は、Ｃ２〜Ｃ２０ヒドロカルビレン基であり、
Ｌ２２は、Ｃ３〜Ｃ２０ヒドロカルビレン基であり、
Ｌ２３は、Ｃ２〜Ｃ２０ヒドロカルビレン基であり、
Ｒ３は、水素またはＣ１〜Ｃ３０ヒドロカルビル基であり、
Ｒ４およびＲ５は、各々独立して、Ｃ１〜Ｃ３０ヒドロカルビル基であり、
ＣｒＸｐは、クロム塩を表し、式中、Ｘはモノアニオンであり、ｐは２から６の範囲であり、
Ｑは、Ｃ２〜Ｃ２０ニトリルまたはＣ２〜Ｃ４０エーテルから選択される中性配位子であり、ｑは０から６の範囲である。
【請求項２】
Ｌ１２が、エテ−１，２−イレン基、エテン−１，２−イレン基、プロパ−１，３−イレン基、１−メチルエテン−１，２−イレン基、ブト−１，３−イレン基、３−メチルブト−１，３−イレン基またはフェン−１，２−イレン基であり、
Ｌ２２が、ブト−１，４−イレン基、ペント−１，４−イレン基、ペント−１，５−イレン基、ヘキサ−２，５−イレン基、ヘキサ−１，５−イレン基、ヘプト−２，５−イレン基またはブタ−１，３−ジエン−１，４−イレン基であり、
Ｌ２３が、エテ−１，２−イレン基、エテン−１，２−イレン基、プロパ−１，３−イレン基、１−メチルエテン−１，２−イレン基、ブト−１，３−イレン基、３−メチルブト−１，３−イレン基またはフェン−１，２−イレン基である、
請求項１に記載のＮ２−ホスフィニルグアニジンクロム塩錯体。
【請求項３】
クロム塩が、カルボン酸クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩＩ）β−ジケトナートまたはハロゲン化クロム（ＩＩＩ）を含む、請求項１に記載のＮ２−ホスフィニルグアニジンクロム塩錯体。
【請求項４】
クロム塩が、ハロゲン化クロム（ＩＩＩ）を含む、請求項１に記載のＮ２−ホスフィニルグアニジンクロム塩錯体。
【請求項５】
ＣｒＸｐが、ハロゲン化クロム（ＩＩＩ）を含み、各々のＱが独立して、Ｃ２〜Ｃ３０脂肪族非環式エーテルまたはＣ３〜Ｃ３０脂肪族環式エーテルである、請求項１に記載のＮ２−ホスフィニルグアニジンクロム塩錯体。
【請求項６】
構造：
【化２】
2018076371.tif 000042
を有する、請求項１に記載のＮ２−ホスフィニルグアニジンクロム塩錯体。
【請求項７】
ａ）請求項１〜６のいずれか１項に記載のＮ２−ホスフィニルグアニジンクロム塩錯体；および
ｂ）アルミノキサンを含む金属アルキル化合物
を含む、オレフィンをオリゴマー化するための触媒系組成物。
【請求項８】
アルミノキサンが、メチルアルミノキサン、修飾されたメチルアルミノキサン、エチルアルミノキサン、ｎ−プロピルアルミノキサン、イソ−プロピルアルミノキサン、ｎ−ブチルアルミノキサン、ｓｅｃ−ブチルアルミノキサン、イソ−ブチルアルミノキサン、ｔ−ブチルアルミノキサン、１−ペンチル−アルミノキサン、２−ペンチルアルミノキサン、３−ペンチルアルミノキサン、イソ−ペンチルアルミノキサン、ネオペンチルアルミノキサンおよびそれらの混合物を含む、請求項７に記載の触媒系組成物。
【請求項９】
金属アルキルが、修飾されたメチルアルミノキサンを含む、請求項７に記載の触媒系組成物。
【請求項１０】
アルミノキサンのアルミニウム対Ｎ２−ホスフィニルグアニジンクロム塩錯体のクロムのモル比が、少なくとも５：１である、請求項８に記載の触媒系組成物。
【請求項１１】
請求項１〜６のいずれか１項に記載のＮ２−ホスフィニルグアニジンクロム塩錯体と、アルミノキサンを含む金属アルキル化合物とを接触させるステップを含む、オレフィンをオリゴマー化するための触媒系組成物を調製するプロセス。
【請求項１２】
触媒系組成物が、少なくとも１５分間、オレフィンの実質的に不存在下で、２５℃〜１００℃の温度で熟成される、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１３】
熟成された触媒系組成物が、ａ）熟成されていない他の同様の触媒系と比較して増加したオリゴマー化触媒活性度、ｂ）熟成されていない他の同様の触媒系と比較して生成したポリマーの減少した割合、またはｃ）熟成されていない他の同様の触媒系と比較して増加したオリゴマー化触媒活性度および生成したポリマーの減少した割合を示す、請求項１２に記載のプロセス。
【請求項１４】
ａ）
ｉ）オレフィンと、
ｉｉ）（ａ）請求項１〜６のいずれか１項に記載のＮ２−ホスフィニルグアニジンクロム塩錯体；および
（ｂ）アルミノキサンを含む金属アルキル化合物
を含む触媒系とを接触させて、オリゴマー生成物を形成するステップ、ならびに
ｂ）オリゴマーを回収するステップ
を含み、
このオレフィンがエチレンを含み、このオリゴマー生成物が６０〜９９．９重量％のＣ６およびＣ８オレフィンを含む液体オリゴマー生成物を含む、オリゴマー化プロセス。
【請求項１５】
前記触媒系、オレフィンおよび水素を接触させて、オリゴマー生成物を形成する、請求項１４に記載のプロセス。
【請求項１６】
前記オリゴマー生成物が２０℃〜１５０℃の範囲の温度で形成する、請求項１４に記載のプロセス。
【請求項１７】
前記オレフィンがエチレンを含み、Ｃ６オリゴマー生成物が少なくとも９０重量％の１−ヘキセンを含む、請求項１４に記載のプロセス。
【請求項１８】
前記オレフィンがエチレンを含み、Ｃ８オリゴマー生成物が少なくとも９０重量％の１−オクテンを含む、請求項１４に記載のプロセス。
【請求項１９】
前記触媒系、オレフィンおよび水素を接触させて、オリゴマー生成物を形成し、
前記オレフィンがエチレンを含み、
前記オリゴマー生成物が、
（ａ）１５０ｐｓｉｇ〜２，０００ｐｓｉｇの範囲のエチレン分圧、
（ｂ）５ｐｓｉｇ〜４００ｐｓｉｇの範囲の水素分圧、および
（ｃ）２０℃〜１５０℃の範囲の温度
で形成され、
前記オリゴマー生成物が６０〜９９．９重量％のＣ６およびＣ８オレフィンを含む液体オリゴマー生成物を含み、Ｃ６オリゴマー生成物が少なくとも９０重量％の１−ヘキセンを含み、Ｃ８オリゴマー生成物が少なくとも９０重量％の１−オクテンを含む、請求項１４に記載のプロセス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２９０】
エチレンオリゴマー化実施−標準方法
１Ｌのステンレス鋼リアクタを、使用前に少なくとも８時間、１１０℃にて真空下で乾燥させた。次いでリアクタを５０℃に冷却した。ドライボックスにおいて、２０ｍＬのガラスバイアルにＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体およびエチルベンゼン（１．０ｇ）を充填した。ＭＭＡＯ−３Ａ（３．３ｇ、ヘプタン中の７．６重量％Ａｌ溶液）を、Ｎ２−ホスフィニル金属塩錯体の青色の異種溶液に加え、黄色の溶液が形成した。次いで触媒系を一晩（約１８時間）静置させた。次いで黄色の溶液を、４００ｍｌのシクロヘキサンを含有する０．５Ｌのガラス充填器に加えた。この溶液をドライボックスから取り除き、リアクタ内に入れた。水素（５０ｐｓｉｇ）、続いてエチレン（８５０ｐｓｉｇ、オンデマンドで供給）を加えた。（触媒の導入から開始して）反応を５０℃にて３０分間進行させた。３０分後、水冷却をリアクタシステムに適用した。温度が３５℃に到達すると、未反応のエチレンおよび水素ガスを雰囲気に通気した。液体試料を回収し、ＧＣ−ＦＩＤによって分析した。この実施のために、エチルベンゼンを内部標準として使用した。溶液を濾過することによって固体を回収し、リアクタの壁を洗浄し、コイルを冷却した。Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体および各々のエチレンオリゴマー化に利用される物資の量は、各々のオリゴマー実施の結果と共に表４にまとめられるように提供する。
【表４】
2018076371.tif 000043
本発明に包含され得る諸態様は、以下のとおりである。
［態様１］
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物と錯体を形成するクロム塩を含むＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体を含む組成物。
［態様２］
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体が、一般構造
［化１］
2018076371.tif 000044
（式中、
Ｒ１はＣ１〜Ｃ３０オルガニル基であり、
Ｒ２ａおよびＲ２ｂは独立して、不活性官能基から本質的になるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基であり、
Ｒ３は、水素または不活性官能基から本質的になるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基であり、
Ｒ４およびＲ５は各々独立して、不活性官能基から本質的になるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基であり、
ＣｒＸｐはクロム塩を表し、式中、Ｘはモノアニオンであり、ｐは２から６の範囲であり、Ｑは中性配位子であり、ｑは０から６の範囲である）
を有する、上記態様１に記載の組成物。
［態様３］
ａ）Ｒ１およびＲ２ａは結合して環もしくは環系を形成でき、
ｂ）Ｒ２ａおよびＲ２ｂは結合して環もしくは環系を形成でき、
ｃ）Ｒ２ｂおよびＲ３は結合して環もしくは環系を形成でき、または
ｄ）Ｒ１およびＲ２ａは結合して環または環系を形成でき、かつＲ２ｂおよびＲ３は結合して環または環系を形成できる、
上記態様２に記載の組成物。
［態様４］
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体が、一般構造：
［化２］
2018076371.tif 000045
（式中、Ｌ１２およびＬ２３は独立して、不活性官能基からなるＣ２〜Ｃ１５オルガニレン基である）
を有する、上記態様２に記載の組成物。
［態様５］
クロム塩が、カルボン酸クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩＩ）β−ジケトナートまたはハロゲン化クロム（ＩＩＩ）を含む、上記態様１に記載の組成物。
［態様６］
クロム塩が、ハロゲン化クロム（ＩＩＩ）を含む、上記態様１に記載の組成物。
［態様７］
Ｑが、Ｃ１〜Ｃ２０ニトリルまたはＣ１〜Ｃ４０エーテルを含む、上記態様２に記載の組成物。
［態様８］
ＣｒＸｐが、ハロゲン化クロム（ＩＩＩ）を含み、各々のＱが独立して、Ｃ２〜Ｃ３０脂肪族非環式エーテルまたはＣ３〜Ｃ３０脂肪族環式エーテルである、上記態様２に記載の組成物。
［態様９］
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体が、構造：
［化３］
2018076371.tif 000046
を有する、上記態様１に記載の組成物。
［態様１０］
ａ）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物と錯体を形成するクロム塩を含むＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体、および
ｂ）金属アルキル化合物
を含む、触媒系組成物。
［態様１１］
金属アルキル化合物が、アルミノキサンを含む、上記態様１０に記載の触媒系組成物。
［態様１２］
アルミノキサンが、メチルアルミノキサン、修飾されたメチルアルミノキサン、エチルアルミノキサン、ｎ−プロピルアルミノキサン、イソ−プロピルアルミノキサン、ｎ−ブチルアルミノキサン、ｓｅｃ−ブチルアルミノキサン、イソ−ブチルアルミノキサン、ｔ−ブチルアルミノキサン、１−ペンチル−アルミノキサン、２−ペンチルアルミノキサン、３−ペンチルアルミノキサン、イソ−ペンチルアルミノキサン、ネオペンチルアルミノキサンおよびそれらの混合物を含む、上記態様１１に記載の触媒系組成物。
［態様１３］
金属アルキルが、修飾されたメチルアルミノキサンを含む、上記態様１１に記載の触媒系組成物。
［態様１４］
アルミノキサンのアルミニウム対Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体のクロムのモル比が、少なくとも５：１である、上記態様１２に記載の触媒系組成物。
［態様１５］
Ｎ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体および金属アルキル化合物を接触させるステップを含む、触媒系組成物を調製するプロセス。
［態様１６］
触媒系組成物が、少なくとも１５分間、オレフィンの実質的に不存在下で熟成される、上記態様１５に記載のプロセス。
［態様１７］
熟成された触媒系組成物は、ａ）熟成されていない他の同様の触媒系と比較して増加したオリゴマー化触媒活性度、ｂ）熟成されていない他の同様の触媒系と比較して生成したポリマーの減少した割合、またはｃ）熟成されていない他の同様の触媒系と比較して増加したオリゴマー化触媒活性度および生成したポリマーの減少した割合を示す、上記態様１６に記載のプロセス。
［態様１８］
ａ）
ｉ）オレフィンと、
ｉｉ）（ａ）Ｎ２−ホスフィニルグアニジン化合物と錯体を形成するクロム塩を含むＮ２−ホスフィニルグアニジン金属塩錯体、および（ｂ）金属アルキル化合物を含む触媒系と
を接触させて、オリゴマー生成物を形成するステップ、ならびに
ｂ）オリゴマーを回収するステップ
を含む、オリゴマー化プロセス。
［態様１９］
前記触媒系、オレフィンおよび水素を接触させて、オリゴマー生成物を形成する、上記態様１８に記載のプロセス。
［態様２０］
前記オリゴマー生成物が２０℃〜１５０℃の範囲の温度で形成する、上記態様１８に記載のプロセス。
［態様２１］
前記オレフィンがエチレンを含み、前記オリゴマー生成物が、６０〜９９．９重量％のＣ６およびＣ８オレフィンを含む液体オリゴマー生成物を含む、上記態様１８に記載のプロセス。
［態様２２］
前記オレフィンがエチレンを含み、Ｃ６オリゴマー生成物が少なくとも９０重量％の１−ヘキセンを含む、上記態様１８に記載のプロセス。
［態様２３］
前記オレフィンがエチレンを含み、Ｃ８オリゴマー生成物が少なくとも９０重量％の１−オクテンを含む、上記態様１８に記載のプロセス。
［態様２４］
前記触媒系、オレフィンおよび水素を接触させて、オリゴマー生成物を形成し、
前記オレフィンがエチレンを含み、
前記オリゴマー生成物が、
（ａ）１５０ｐｓｉｇ〜２，０００ｐｓｉｇの範囲のエチレン分圧
（ｂ）５ｐｓｉｇ〜４００ｐｓｉｇの範囲の水素分圧、および
（ｃ）２０℃〜１５０℃の範囲の温度
で形成され、前記オリゴマー生成物は、６０〜９９．９重量％のＣ６およびＣ８オレフィンを含む液体オリゴマー生成物を含み、Ｃ６オリゴマー生成物は、少なくとも９０重量％の１−ヘキセンを含み、Ｃ８オリゴマー生成物が少なくとも９０重量％の１−オクテンを含む、上記態様１８に記載のプロセス。
【外国語明細書】
2018076371000001.pdf