(57)【要約】      （修正有）【課題】ミラーの光軸を回転軸とする回転方向の振動を抑制するのに有利な光学装置、および基板を露光する露光装置を提供する。【解決手段】光学装置ＯＡは、ベース４と、ベース４に設けられ、ミラー１を、ミラー１の裏面の中心部で支持する支持部２と、ミラー１の側面に力を加えてミラー１の光軸を回転軸とする回転方向の振動を抑制する抑制部Ｄと、を有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベースと、
前記ベースに設けられ、ミラーを、当該ミラーの裏面の中心部で支持する支持部と、
前記ミラーの側面に力を加えて前記ミラーの光軸を回転軸とする回転方向の振動を抑制する抑制部と、
を有することを特徴とする光学装置。
【請求項２】
前記抑制部は、
磁石と、コイルとを含み、前記ミラーの側面に前記回転方向の力を加えるアクチュエータと、
前記ミラーの側面に設けられ、前記磁石を保持する第１保持部と、
前記ベースに設けられ、前記第１保持部に保持された前記磁石と対向するように前記コイルを保持する第２保持部と、
前記ミラーの前記回転方向の速度を計測する計測部と、
前記計測部の計測結果に基づいて、前記アクチュエータが前記ミラーの側面に加える前記回転方向の力を制御する制御部と、
を含むことを特徴とする請求項１に記載の光学装置。
【請求項３】
前記抑制部は、
前記ミラーの側面に設けられた凸部と、
前記凸部を挟み込んで前記ミラーを水平方向に案内する案内部と、
前記ベースに設けられたシリンダと、前記水平方向に可動するピストンとを含むダンパーと、
前記案内部と前記ピストンとを接続し、前記ピストンの移動による力を前記案内部に伝達する伝達部と、
を含むことを特徴とする請求項１に記載の光学装置。
【請求項４】
前記抑制部は、
前記ミラーの側面に設けられた凸部と、
前記凸部を挟み込んで前記ミラーを水平方向に案内する案内部と、
前記ベースに固定され、前記案内部を保持する保持部と、
を含むことを特徴とする請求項１に記載の光学装置。
【請求項５】
前記抑制部は、
前記ミラーの側面に設けられた凸部と、
シリンダと、水平方向に可動するピストンとを含むダンパーと、
前記ベースに設けられ、前記ダンパーが前記ミラーと同じ高さに配置されるように、前記ダンパーを保持する保持部と、
前記凸部と前記ピストンとを接続するジョイントと、
を含むことを特徴とする請求項１に記載の光学装置。
【請求項６】
前記ミラーは、凹面ミラーであり、
前記第１保持部及び前記第２保持部のそれぞれは、前記ミラーの形状の重心位置と同じ高さの位置に前記アクチュエータが配置されるように、前記磁石及び前記コイルを保持することを特徴とする請求項２に記載の光学装置。
【請求項７】
マスクのパターンを基板に投影する投影光学系であって、
請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の光学装置を有することを特徴とする投影光学系。
【請求項８】
基板を露光する露光装置であって、
請求項７に記載の投影光学系を有することを特徴とする露光装置。
【請求項９】
請求項８に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光した前記基板を現像する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学装置、投影光学系、露光装置及び物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ミラー（の反射面）を任意の形状に変形させて光学収差、焦点位置、像面湾曲などの補正を可能とする可変ミラーを有する光学系が一般的に知られている。天文分野においては、星を観察する際に、大気の揺らぎによって像の分解能が低下してしまうため、高速で波面を計測して可変ミラーで補正することで、大気の揺らぎによる影響を低減する技術が存在する。また、半導体デバイスの製造に用いられる露光装置においては、露光時の温度変化による収差の変化に対応するために、光学系に含まれているミラーを可変ミラーとし、収差を補正する技術が存在する。
【０００３】
大口径（例えば、２００ｍｍ以上）の可変ミラーには、ミラーの裏面をアクチュエータによって反射面の面外方向に駆動することで、任意の形状の反射面を形成するものがあり、１００個以上のアクチュエータが配置される場合もある。このような技術に関し、ミラーの裏面とアクチュエータの可動子とを締結する方式やミラーの裏面に磁石を配置（接合）し、且つ、かかる磁石から微小な間隔を有する位置にコイルを配置する方式などが提案されている。
【０００４】
前者の方式において、アクチュエータとしてピエゾ素子を用いる場合には、ミラーの裏面とアクチュエータの可動子とを機械的に締結する際に、多数のアクチュエータを整列させた状態でミラーを組み付ける必要がある。この場合、各アクチュエータの位置管理が難しいため、ミラーに変形を与えないでアクチュエータに組み付けることは非常に難しい作業となる。
【０００５】
後者の方式では、ミラーの裏面と多数のアクチュエータとを締結する必要がないため、ミラーの初期形状を崩すリスクは低減されている。ミラーの裏面にコイルを配置し、磁石を固定側に配置することでも可変ミラーを実現することは可能であるが、この場合、任意の形状を形成するミラーに電気配線を実装する必要があり、現実的ではない。
【０００６】
ミラーの支持（固定）に関しては、ミラーの裏面の中心の１箇所とする構成が提案されている（特許文献１参照）。ミラーの裏面の中心の１箇所でミラーを支持することで、ミラーの過拘束を回避し、ミラーを歪ませることなく支持することができる。
【０００７】
従って、可変ミラーを実現するための構成としては、ミラーの裏面の中心の１箇所でミラーを支持し、ミラーの裏面に磁石を配置し、かかる磁石に対向する位置にコイルを配置する構成が好ましい。また、ミラーの固定は、接着で行うのがよい。これは、ミラーを１箇所（小領域）で支持するため、機械的に締結すると、その締結力によって局所的にミラーに力が加わり、ミラーの形状が変形してしまうからである。一方、接着であれば、ミラーの裏面（の形状）と支持部材の支持面（の形状）とが完全に一致していなくても、接着剤が介在することになるため、ミラーの形状を維持したまま支持部材に取り付けることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特許第４８１７７０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、上述した可変ミラーの構成では、ミラーの裏面と支持部材との間の剛性が低いため、床の振動などの外乱によって、ミラーが揺れやすいという欠点がある。特に、ミラーの光軸周りの回転方向の振動が発生してしまうという問題がある。
【００１０】
本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、ミラーの光軸を回転軸とする回転方向の振動を抑制するのに有利な光学装置を提供することを例示的目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての光学装置は、ベースと、前記ベースに設けられ、ミラーを、当該ミラーの裏面の中心部で支持する支持部と、前記ミラーの側面に力を加えて前記ミラーの光軸を回転軸とする回転方向の振動を抑制する抑制部と、を有することを特徴とする。
【００１２】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、例えば、ミラーの光軸を回転軸とする回転方向の振動を抑制するのに有利な光学装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】第１実施形態における光学装置の構成を示す概略図である。
【図２】第１実施形態における抑制部の構成を示す概略図である。
【図３】第２実施形態における抑制部の構成を示す概略図である。
【図４】第３実施形態における抑制部の構成を示す概略図である。
【図５】第４実施形態における光学装置の構成を示す概略図である。
【図６】第５実施形態における抑制部の構成を示す概略図である。
【図７】本発明の一側面としての露光装置の構成を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【００１６】
＜第１実施形態＞
図１（ａ）及び図１（ｂ）は、第１実施形態における光学装置ＯＡの構成を示す概略図である。図１（ａ）は、光学装置ＯＡの上面図を示し、図１（ｂ）は、光学装置ＯＡの断面（正面）図を示している。光学装置ＯＡは、ミラー１を変形させる、具体的には、ミラー１の反射面１ａを所望の形状に変形させる可変ミラー装置である。光学装置ＯＡは、ミラー１と、支持部２と、接着層３と、ベース４と、ボイスコイルモーターＶＣＭと、抑制部Ｄとを有する。
【００１７】
ミラー１は、円形状の薄いミラーである。支持部２は、ベース４に設けられ、ミラー１を、ミラー１の中心部で支持する。接着層３は、ミラー１と支持部２とを接着（締結）する接着剤を含む層である。本実施形態では、ミラー１の中央部に形成された孔１ｃに支持部２が挿入され、接着剤で固定されている。従って、ミラー１の孔１ｃと支持部２との間には、薄い接着層３が介在する。支持部２は、装置全体を支持するベース４に固定されている。
【００１８】
ミラー１の裏面（反射面１ａの反対側の面）１ｂには、複数の磁石５が配置されている（取り付けられている）。また、ミラー１の裏面１ｂに配置された複数の磁石５のそれぞれに対向するように、複数のコイル６がベース４に配置されている（取り付けられている）。コイル６に電流を流すことで、ローレンツ力が発生する。１つの磁石５と、それに対応するコイル６とのペアによって、１つのボイスコイルモーターＶＣＭが構成されている。磁石５とコイル６とは接触していないため、ミラー１は、支持部２のみで支持されている。このような構成では、ボイスコイルモーターＶＣＭが推力を発生していない初期状態において、ミラー１が過拘束されていないため、ミラー１の初期形状を崩すリスクを低減することができる。
【００１９】
本実施形態では、ミラー１と支持部２との締結には、接着を採用している。ミラー１と支持部２とを機械的に締結する場合、ミラー１の中心部の狭い領域を挟み込むことで固定することになる。従って、ミラー１と支持部２との当たり面の微小な形状誤差がミラー１の外周部に向かって拡大されてしまう。接着による締結では、ミラー１と支持部２との間の形状誤差を接着層３が吸収するため、そのような問題は発生しない。
【００２０】
但し、接着は、剛性が低いという欠点がある。接着剤の弾性率は、一般的に、金属やガラスの弾性率よりも小さいため、中心部の一点で支持部２に支持されたミラー１が揺れやすくなる。ミラー１の光軸周りの回転方向の振動モードは、ミラー１を剛に固定している場合に比べて、共振周波数が低くなる。ミラー１が光軸周りの回転方向に振動した場合、ボイスコイルモーターＶＣＭを駆動してミラー１の反射面１ａを所望の形状に変形させたとしても、回転方向にずれるため、光学性能が低下してしまう。ミラー１が傾く方向の振動モード、所謂、チルトモードも発生するが、その方向には、ミラー１の反射面１ａの形状を変形させるためのボイスコイルモーターＶＣＭが多数配置されているため、制振制御を行うことが可能である。一方、ミラー１の光軸周りの回転方向の振動、即ち、ミラー１の光軸を回転軸とする回転方向の振動に関しては、ボイスコイルモーターＶＣＭでは対応することができない。
【００２１】
そこで、本実施形態では、図１（ｂ）に示すように、ミラー１の側面に力を与えてミラー１の光軸を回転軸とする回転方向の振動を抑制する機能、即ち、ダンピング機能を有する抑制部Ｄを設けている。物理学においては、ダンピングとは、振動の速度に応じて、振動の向きとは逆向きの力を発生することと定義されるが、ここでは、振動を抑制することと定義する。更に、同じ外乱によって振動が発生した場合、振動の振幅をより小さくすることをダンピングと定義する。
【００２２】
図２は、第１実施形態における抑制部Ｄの構成を示す概略図である。図２では、Ｙ軸方向から見た抑制部Ｄを示している。抑制部Ｄは、本実施形態では、第１保持部１０１と、第２保持部１０５と、センサターゲット１０２及びセンサ１０６を含む計測部１１１と、ダンピング用磁石１０３及びダンピング用コイル１０４を含むアクチュエータ１１３とを含む。また、抑制部Ｄは、アンプ１０７と、制御部１０８と、ドライバ１０９とを含む。
【００２３】
第１保持部１０１は、ミラー１の側面１ｄに設けられている（固定されている）。第１保持部１０１は、本実施形態では、ダンピング用磁石１０３及びセンサターゲット１０２を保持する。第２保持部１０５は、ベース４に設けられている（固定されている）。第２保持部１０５は、第１保持部１０１に保持されたダンピング用磁石１０３と対向するようにダンピング用コイル１０４を保持する。また、第２保持部１０５は、第１保持部１０１に保持されたセンサターゲット１０２と対向するようにセンサ１０６を保持する。
【００２４】
計測部１１１は、ミラー１の光軸を回転軸とする回転方向の速度（光軸周りの回転速度）を計測する機能を有する。センサ１０６は、例えば、静電容量センサなどの変位センサを含み、常に、センサターゲット１０２までの距離（センサターゲット１０２とセンサ１０６との間の距離）を検出している。センサ１０６で検出された距離（変位）を時間で微分することで、ミラー１の光軸周りの回転速度を計測することができる。
【００２５】
アクチュエータ１１３は、ミラー１の側面１ｄに、ミラー１の光軸を回転軸とする回転方向の力を加える機能を有する。アクチュエータ１１３は、ローレンツ力を利用したボイスコイルモーターであって、ダンピング用コイル１０４に電流を流すことで、ダンピング用磁石１０３との間に力を発生させることができる。アクチュエータ１１３において、計測部１１１によって計測された回転速度に比例した推力を発生させることでダンピング効果を得ることが可能となる。
【００２６】
制御部１０８は、計測部１１１の計測結果に基づいて、アクチュエータ１１３がミラー１の側面１ｄに加える回転方向の力を制御する。具体的には、センサ１０６からの出力（変位）は、アンプ１０７によって電圧などの出力に変換されて制御部１０８に送られる。制御部１０８は、変位を時間で微分して回転速度に変換し、かかる回転速度に応じて、係数を乗じて、アクチュエータ１１３で発生すべき推力を求める。そして、制御部１０８は、アクチュエータ１１３で発生すべき推力に応じた指令値をドライバ１０９に出力する。ドライバ１０９は、制御部１０８からの指令値に応じた電流を発生させてダンピング用コイル１０４に与える。これにより、抑制部Ｄは、ダンピング効果を発揮し、ミラー１の光軸を回転軸とする回転方向の振動を減衰させることができる。従って、ミラー１の光軸を回転軸とする回転方向の振動が低減され、光学性能の低下を抑制することができる。
【００２７】
本実施形態では、抑制部Ｄにおいて、ダンピング用磁石１０３（可動部）とダンピング用コイル１０４（固定部）とが機械的に締結されていない非接触の状態となっている（アクチュエータ１１３が非接触型のアクチュエータである）。従って、ミラー１の反射面１ａを所望の形状に変形させる制御（面形状制御）には、影響を与えることはない。
【００２８】
また、本実施形態では、ミラー１の光軸周りの回転速度を計測するために、センサ１０６として変位センサを用いて変位を検出し、かかる変位を時間で微分しているが、これに限定されるものではない。例えば、ミラー１の周辺部に加速度センサを配置し、加速度センサで検出された加速度を積分することで、ミラー１の光軸周りの回転速度を計測してもよい。
【００２９】
＜第２実施形態＞
図３は、第２実施形態における抑制部Ｄの構成を示す概略図である。図３では、Ｙ軸方向から見た抑制部Ｄを示している。抑制部Ｄは、本実施形態では、凸部２０１と、ガイド２０２と、ダンパー２０４と、ガイド支持部２０３と、ダンパー２０４とを含む。
【００３０】
凸部２０１は、ミラー１の側面１ｄに剛に締結されている。ガイド２０２は、凸部２０１の両側面をボールで挟み込んで２次元で自由に転がり案内する、即ち、ミラー１を水平方向に案内する案内部であって、水平方向には力を伝達するが、垂直方向には力を伝達しない構造を有している。ダンパー２０４は、ベース４に設けられている（取り付けられている）。ダンパー２０４は、オイルダンパーで構成され、ベース４に固定されたシリンダ２０４ａと、水平方向に可動するピストン２０４ｂとを含む。ガイド支持部２０３は、ガイド２０２及びピストン２０４ｂに締結されている。ガイド支持部２０３は、ガイド２０２とピストン２０４ｂとを接続し、ピストン２０４ｂの水平方向への移動による力をガイド２０２に伝達する伝達部として機能する。
【００３１】
第２実施形態における抑制部Ｄでは、ミラー１が光軸を回転軸とする回転方向に振動した場合、かかる振動の速度に応じてダンパー２０４が反力を発生する。ダンパー２０４で発生した反力は、ガイド支持部２０３を介してガイド２０２に伝達され、ミラー１の光軸を回転軸とする回転方向の振動を減衰させる。従って、ミラー１の光軸を回転軸とする回転方向の振動が低減され、光学性能の低下を抑制することができる。
【００３２】
＜第３実施形態＞
図４（ａ）及び図４（ｂ）は、第３実施形態における抑制部Ｄの構成を示す概略図である。図４（ａ）は、Ｚ軸方向から見た抑制部Ｄを示し、図４（ｂ）は、Ｙ軸方向から見た抑制部Ｄを示している。抑制部Ｄは、本実施形態では、凸部３０１と、ダンパー３０４と、ダンパー支持部３０３と、ジョイント３０２とを含む。
【００３３】
凸部３０１は、ミラー１の側面１ｄに固定されている。ダンパー３０４は、オイルダンパーで構成され、シリンダ３０４ａと、水平方向に可動するピストン３０４ｂとを含む。ダンパー支持部３０３は、ベース４に設けられている。ダンパー支持部３０３は、ダンパー３０４がミラー１と同じ高さに配置されるように、ダンパー３０４を保持する。ジョイント３０２は、凸部３０１とピストン３０４ｂとを接続している。ジョイント３０２は、自在継ぎ手を２箇所に含み、かかる自在継ぎ手は、ミラー１と同じ高さに配置されている。このように、ミラー１が光軸方向に沿って駆動された場合でも、その駆動量が微小量であれば、ミラー１の光軸を回転軸とする回転方向への力がミラー１にかからない構成となっている。従って、ジョイント３０２は、ミラー１とダンパー３０４との間において、ミラー１の光軸を回転軸とする回転方向の力のみを伝達する。
【００３４】
第３実施形態における抑制部Ｄでは、ミラー１が光軸を回転軸とする回転方向に振動した場合、かかる振動の速度に応じてダンパー３０４が反力を発生する。ダンパー３０４で発生した反力は、ジョイント３０２を介して、ミラー１（の側面１ｄ）に伝達され、ミラー１の光軸を回転軸とする回転方向の振動を減衰させる。従って、ミラー１の光軸を回転軸とする回転方向の振動が低減され、光学性能の低下を抑制することができる。
【００３５】
＜第４実施形態＞
図５は、第４実施形態における光学装置ＯＡの構成を示す概略図である。図５では、光学装置ＯＡの断面（正面）図を示している。本実施形態では、光学装置ＯＡは、反射面１ａが凹面形状であるミラー１、即ち、凹面ミラーを変形させる可変ミラー装置であって、基本的には、第１実施形態と同様な構成を有する。但し、図５では、ミラー１の反射面１ａの形状を変形させるためのボイスコイルモーターＶＣＭ、即ち、磁石５及びコイル６の図示を省略している。
【００３６】
抑制部Ｄは、第１実施形態と同様に、第１保持部１０１と、第２保持部１０５と、計測部１１１と、アクチュエータ１１３とを有するが、計測部１１１の図示を省略している。本実施形態では、ミラー１に対して、ミラー１の光軸を回転軸とする回転方向の力（ダンピング力）を加える位置（高さ）を規定する。具体的には、ミラー１の形状の重心位置と同じ高さの位置にアクチュエータ１１３が配置されるように、第１保持部１０１及び第２保持部１０５のそれぞれがダンピング用磁石１０３及びダンピング用コイル１０４を保持する。これにより、ミラー１の光軸を回転軸とする回転方向の振動が発生した場合に、かかる振動を抑制するためにアクチュエータ１１３からミラー１に加えられる力の位置がミラー１の形状の重心位置と一致するため、回転方向のみの振動を抑制することができる。一方、アクチュエータ１１３からミラー１に加えられる力の位置がミラー１の形状の重心位置と一致していない場合には、ミラー１を曲げる方向に力が加わることになるため、ミラー１の面形状制御の精度を低下させてしまう。そこで、本実施形態では、ミラー１の形状の重心位置と同じ高さの位置にアクチュエータ１１３を配置することで、ミラー１の面形状制御の精度の低下を抑え、より高精度な可変ミラー装置を実現している。
【００３７】
＜第５実施形態＞
図６は、第５実施形態における抑制部Ｄの構成を示す概略図である。図６では、Ｙ軸方向から見た抑制部Ｄを示している。抑制部Ｄは、本実施形態では、基本的には、第２実施形態と同様な構成を有するが、ダンパー２０４の代わりに固定部５０４を含む。
【００３８】
ガイド支持部２０３は、ガイド２０２及び固定部５０４に締結されている。固定部５０４は、ガイド支持部２０３をベース４に固定するとともに、ガイド支持部２０３の位置及び角度を調整する機能を有する。例えば、ガイド支持部２０３の姿勢が傾き、ガイド２０２が案内する面が光軸方向から傾いている場合には、ミラー１を変形させる際の抵抗となり、ミラー１を変形させるための力が増大してしまう。また、ガイド支持部２０３の位置がずれている場合には、ミラー１の光軸を回転軸とする回転方向の力が常にかかり、ガイド２０２の摩擦によって、ミラー１を変形させるための力が増大してしまう。そこで、ガイド支持部２０３の位置及び姿勢を固定部５０４で調整することで、ガイド２０２が案内する方向を光軸方向に一致させる。
【００３９】
第５実施形態における抑制部Ｄでは、ミラー１の光軸を回転軸とする回転方向の剛性が向上しているため、外乱による振動がミラー１に生じた場合、かかる振動を抑制することができる。但し、ミラー１を変形させる方向の剛性は変わっていないため、ミラー１を変形させるための力が大きくなることはない。
【００４０】
図７を参照して、本発明の一側面としての露光装置５０について説明する。露光装置５０は、基板５６を露光するリソグラフィ装置である。露光装置５０は、照明光学系ＩＬと、投影光学系ＰＯと、マスク５５を保持して移動するマスクステージＭＳと、基板５６を保持して移動する基板ステージＷＳとを有する。また、露光装置５０は、ＣＰＵやメモリなどを含み、露光装置５０の全体を制御する制御部５１を有する。
【００４１】
光源（不図示）からの光は、照明光学系ＩＬに含まれるスリット（不図示）を介して、例えば、Ｙ軸方向に長い円弧状の照明領域をマスク上に形成する。マスク５５及び基板５６のそれぞれは、マスクステージＭＳ及び基板ステージＷＳに保持され、投影光学系ＰＯを介して、光学的にほぼ共役な位置（投影光学系ＰＯの物体面及び像面の位置）に配置されている。投影光学系ＰＯは、所定の投影倍率（例えば、１／２倍）を有し、マスク５５に形成されたパターンを基板５６に投影する。そして、マスクステージＭＳ及び基板ステージＷＳを、投影光学系ＰＯの物体面と平行な方向（例えば、図７のＸ軸方向）に、投影光学系ＰＯの投影倍率に応じた速度比で走査する。これにより、マスク５５に形成されたパターンを基板５６に転写することができる。
【００４２】
投影光学系ＰＯは、例えば、図７に示すように、平面ミラー５２と、凹面ミラー５３と、凸面ミラー５４とを含む。照明光学系ＩＬから射出され、マスク５５を通過した光は、平面ミラー５２の第１面５２ａで反射され、凹面ミラー５３の第１面５３ａに入射する。凹面ミラー５３の第１面５３ａで反射した光は、凸面ミラー５４で反射され、凹面ミラー５３の第２面５３ｂに入射する。凹面ミラー５３の第２面５３ｂで反射した光は、平面ミラー５２の第２面５２ｂで反射され、基板上に結像する。投影光学系ＰＯでは、凸面ミラー５４が光学的な瞳となる。
【００４３】
露光装置５０において、上述した実施形態における光学装置ＯＡは、例えば、凹面ミラー５３の反射面を任意の形状に変形させる（即ち、凹面ミラー５３をミラー１とする）可変ミラー装置として用いられる。これにより、凹面ミラー５３の光軸を回転軸とする回転方向の振動が低減され、光学性能の低下を抑制することができる。ここで、露光装置５０における制御部５１は、上述した第１実施形態における光学装置ＯＡ（抑制部Ｄ）における制御部１０８を含むように構成されてもよい。
【００４４】
本発明の実施形態に係る物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に露光装置５０を用いて潜像パターンを形成する工程（基板を露光する工程）と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【００４５】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。例えば、上述した実施形態では、ダンピング機能を有する抑制部を構成するダンパーとしてオイルダンパーを例に説明したが、ダンパーは、オイルダンパーに限定されるものではない。例えば、パッシブダンパーであれば、ゴムを用いたダンパーやエアを用いたダンパーでも同様な効果を得ることができる。
【符号の説明】
【００４６】
ＯＡ：光学装置    Ｄ：抑制部    １：ミラー    ２：支持部    ３：接着層    ４：ベース    ５：磁石    ６：コイル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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