(57)【要約】【課題】調光フィルムを枚葉により生産する場合に、安定かつ高い精度により生産できるようにする。【解決手段】第１の基材６に透明電極１１、配向層１３を作製する第１の基材処理工程と、第２の基材１５に少なくとも配向層１７を作製する第２の基材処理工程と、液晶材料８を間に挟んで、各基材処理工程により作製された第１及び第２の基材６、１５を積層して、一体化する積層一体化工程とを備える。各基材６、１５は、搬送方向と平行に延長する対向する２つの辺に沿って、一定間隔により貫通孔２０が設けられ、第１の基材処理工程、第２の基材処理工程、積層一体化工程のうち少なくともいずれかの工程は、各基材を搬送する搬送工程を有し、搬送工程は、各基材６、１５の搬送方向に、各基材６、１５の移動に追従して移動する凸部を貫通孔２０に挿入した状態で、回転体を回転駆動して、回転体の上に載置された各基材６、１５を搬送する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明フィルム材による第１の基材に透明電極、配向層を作製する第１の基材処理工程と、
透明フィルム材による第２の基材に少なくとも配向層を作製する第２の基材処理工程と、
液晶材料を間に挟んで、前記第１及び第２の基材処理工程により作製された前記第１及び第２の基材を積層して、一体化する積層一体化工程とを備え、
前記第１及び第２の基材は、
少なくとも搬送方向と平行に延長する対向する２つの辺に沿って、一定間隔により貫通孔が設けられ、
前記第１の基材処理工程、前記第２の基材処理工程、前記積層一体化工程のうち少なくともいずれかの工程は、前記第１の基材及び又は前記第２の基材を搬送する搬送工程を有し、
前記搬送工程は、
前記第１の基材及び又は前記第２の基材の搬送方向に、前記貫通孔を有する前記第１の基材及び又は前記第２の基材の移動に追従して移動する凸部を前記貫通孔に挿入した状態で、
回転体を回転駆動して、前記回転体の上に載置された前記第１の基材及び又は前記第２の基材を搬送する
調光フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記凸部は、前記回転体の回転に連動して移動する連動部に設けられ、
前記搬送工程は、
前記連動部により、前記第１の基材及び又は前記第２の基材の搬送方向に、前記第１の基材及び又は前記第２の基材の移動に追従して凸部を移動させる
請求項１に記載の調光フィルムの製造方法。
【請求項３】
ロールにより提供される長尺形状の透明フィルム材を切断、孔明けして、前記第１の基材及び又は前記第２の基材を作製する基材作製工程を備える
請求項１又は請求項２に記載の調光フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記積層一体化工程により積層された前記第１及び第２の基材の積層体から、少なくとも前記貫通孔が作製されている部位を切り取るトリミング工程を備える
請求項１、請求項２、請求項３の何れかに記載の調光フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記トリミング工程により貫通孔が作製された部位を切り取った積層体に、直線偏光板を貼り合せる貼合工程を備える
請求項４に記載の調光フィルムの製造方法。
【請求項６】
調光フィルムの製造に係る透明フィルム材による基材を搬送する搬送装置において、
前記基材は、
少なくとも前記搬送装置による搬送方向と平行に延長する対向する２つの辺に沿って、一定間隔により貫通孔が設けられ、
前記搬送装置は、
回転駆動により前記基材を搬送する回転体と、
前記基材の前記貫通孔に挿入される凸部とを備え、
前記凸部を、前記基材の搬送方向に、前記基材の移動に追従して移動させる
搬送装置。
【請求項７】
前記凸部が、前記回転体の回転に連動して移動する連動部に設けられる
請求項６に記載の搬送装置。
【請求項８】
透明フィルム材による第１の基材に透明電極、配向層が設けられた第１の積層体と、透明フィルム材による第２の基材に少なくとも配向層が設けられた第２の積層体とにより液晶層を挟持した液晶セルによる調光フィルムの中間製品であって、
前記第１及び第２の基材に、
対向する２つの辺に沿って、一定間隔により搬送用の貫通孔が設けられた
調光フィルムの中間製品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば窓に貼り付けて外来光の透過を制御する電子ブラインド等に利用可能な調光フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば窓に貼り付けて外来光の透過を制御する調光フィルムに関する工夫が種々に提案されている（特許文献１、２）。このような調光フィルムの１つに、液晶を利用したものがある。この液晶を利用した調光フィルムは、透明電極を作製した透明フィルム材により液晶材料を挟持して液晶セルが作製され、この液晶セルを直線偏光板により挟持して作成される。これによりこの調光フィルムでは、液晶に印加する電界の変化により液晶の配向を変化させて外来光を遮光したり透過したりし、さらには透過光量を変化させたりし、これらにより外来光の透過を制御する。
【０００３】
また画像表示パネルの１つである液晶表示パネルは、ガラス板材による透明板材に透明電極、配向層等を順次作製し、この透明電極、配向膜を作製してなる１対のガラス板材により液晶を挟持して液晶セルが構成され、この液晶セルを直線偏光板により挟持して構成される。液晶表示パネルは、ガラス板材に形成された透明電極のパターンニングにより、画素単位で、液晶に印加する電界を変化させて所望の画像を表示する。
【０００４】
ところで調光フィルムにおいては、画素単位の駆動では無いものの、液晶表示パネルと同様に、透明電極を作製した透明基材により液晶層を挟持して作製することにより、液晶表示パネルの生産設備を利用して量産できると考えられる。しかしながら調光フィルムは、厚みの薄い透明フィルム材に透明電極等を作製することにより、ガラス板材に透明電極等を作製する液晶表示パネルの製造設備によっては、安定かつ高い精度により生産できない問題がある。
【０００５】
具体的に、液晶表示パネルの製造工程では、図６に示すように、回転体を備えた回転軸を一定間隔により平行に配置すると共に、この回転軸をモータ等の駆動源により回転し、これにより回転体の上に載置した搬送対象（液晶表示パネルの場合、ガラス板である）を搬送する。このような搬送装置を調光フィルムの生産に適用して厚みの薄い枚葉状の透明フィルム材を搬送する場合、搬送される透明フィルム材が回転体の形状に沿って湾曲することになる。その結果、この場合、矢印Ａにより示すように、連続する回転体間の隙間から搬送対象が落下することになり、安定に調光フィルムを生産できなくなる。また図７に示すように、搬送途中で、搬送方向に対して透明フィルム材が傾き、さらにこの傾きが搬送過程で変化する場合も発生し、この場合も安定に調光フィルムを生産することが困難になり、さらには作製精度が低下することになる。
【０００６】
これらにより調光フィルムにおいては、調光フィルムを枚葉により生産する場合に、安定かつ高い精度により生産することが困難な問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平０３−４７３９２号公報
【特許文献２】特開平０８−１８４２７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、調光フィルムを枚葉により生産する場合に、安定かつ高い精度により生産できるようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、透明フィルム材に貫通孔を設け、この貫通孔を使用して変位、傾きを抑制して枚葉による透明フィルム材を搬送する、との着想に至り、本発明を完成するに至った。
【００１０】
具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。
【００１１】
（１）  透明フィルム材による第１の基材に透明電極、配向層を作製する第１の基材処理工程と、
透明フィルム材による第２の基材に少なくとも配向層を作製する第２の基材処理工程と、
液晶材料を間に挟んで、前記第１及び第２の基材処理工程により作製された前記第１及び第２の基材を積層して、一体化する積層一体化工程とを備え、
前記第１及び第２の基材は、
少なくとも搬送方向と平行に延長する対向する２つの辺に沿って、一定間隔により貫通孔が設けられ、
前記第１の基材処理工程、前記第２の基材処理工程、前記積層一体化工程のうち少なくともいずれかの工程は、前記第１の基材及び又は前記第２の基材を搬送する搬送工程を有し、
前記搬送工程は、
前記第１の基材及び又は前記第２の基材の搬送方向に、前記第１の基材及び又は前記第２の基材の移動に追従して移動する凸部を前記貫通孔に挿入した状態で、
回転体を回転駆動して、前記回転体の上に載置された前記第１の基材及び又は前記第２の基材を搬送する調光フィルムの製造方法。
【００１２】
（１）によれば、貫通孔に挿入された凸部により、傾いたり、変位したりしないようにして基材を搬送することができる。これにより調光フィルムを枚葉により生産する場合に、安定かつ高い精度により生産することができる。
【００１３】
（２）  （１）において、
前記凸部は、前記回転体の回転に連動して移動する連動部に設けられ、
前記搬送工程は、
前記連動部により、前記第１の基材及び又は前記第２の基材の搬送方向に、前記第１の基材及び又は前記第２の基材の移動に追従して凸部を移動させる調光フィルムの製造方法。
【００１４】
（２）によれば、板形状による基材を搬送する構成を有効に利用して、より具体的構成により、傾いたり、変位したりしないようにして基材を搬送することができ、調光フィルムを枚葉により生産する場合に、安定かつ高い精度により生産することができる。
【００１５】
（３）  （１）又は（２）において、
ロールにより提供される長尺形状の透明フィルム材を切断、孔明けして、前記貫通孔を有する前記第１の基材及び又は前記第２の基材を作製する基材作製工程を備える調光フィルムの製造方法。
【００１６】
（３）によれば、ロールにより提供される汎用性の高い材料を使用して、調光フィルムを枚葉により生産する場合に、安定かつ高い精度により生産することができる。
【００１７】
（４）  （１）、（２）、（３）の何れかにおいて、
前記積層一体化工程により積層された前記第１及び第２の基材の積層体から、少なくとも前記貫通孔が作製されている部位を切り取るトリミング工程を備える調光フィルムの製造方法。
【００１８】
（４）によれば、製造工程においてのみ、貫通孔を有効利用して、不要となった貫通孔を取り除いて、調光フィルムを作製することができる。
【００１９】
（５）  （４）において、
前記トリミング工程により貫通孔が作製された部位を切り取った積層体に、直線偏光板を貼り合せる貼合工程を備える調光フィルムの製造方法。
【００２０】
（５）によれば、調光に供しない貫通孔が作製されている部位を切り取った後、直線偏光板を設けることにより、直前偏光板の無駄を低減することができる。
【００２１】
（６）  調光フィルムの製造に係る透明フィルム材による基材を搬送する搬送装置において、
前記基材は、
少なくとも前記搬送装置による搬送方向と平行に延長する対向する２つの辺に沿って、一定間隔により貫通孔が設けられ、
前記搬送装置は、
回転駆動により前記基材を搬送する回転体と、
前記基材の前記貫通孔に挿入される凸部とを備え、
前記凸部を、前記基材の搬送方向に、前記基材の移動に追従して移動させる
搬送装置。
【００２２】
（６）によれば、貫通孔に凸部を挿入して、傾いたり、変位したりしないようにして基材を搬送することができる。これにより調光フィルムを枚葉により生産する場合に、安定かつ高い精度により生産することができる。
【００２３】
（７）  （６）において、
前記凸部が、前記回転体の回転に連動して移動する連動部に設けられる搬送装置。
【００２４】
（７）によれば、板形状による基材を搬送する構成を有効に利用して、より具体的構成により、傾いたり、変位したりしないようにして基材を搬送することができ、調光フィルムを枚葉により生産する場合に、安定かつ高い精度により生産することができる。
【００２５】
（８）  透明フィルム材による第１の基材に透明電極、配向層が設けられた第１の積層体と、透明フィルム材による第２の基材に少なくとも配向層が設けられた第２の積層体とにより液晶層を挟持した液晶セルによる調光フィルムの中間製品であって、
前記第１及び第２の基材に、
対向する２つの辺に沿って、一定間隔により搬送用の貫通孔が設けられた調光フィルムの中間製品。
【００２６】
（８）によれば、貫通孔により傾いたり、変位したりしないようにして基材を搬送して安定かつ高い精度により生産してなる調光フィルムの中間製品を提供することができる。
【発明の効果】
【００２７】
本発明は、調光フィルムを枚葉により生産する場合に、安定かつ高い精度により生産することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の第１実施形態に係る調光フィルムを示す図である。
【図２】図１の調光フィルムの製造工程を示すフローチャートである。
【図３】図１の調光フィルムに適用される第１及び第２の基材の説明に供する図である。
【図４】図３の第１及び第２の基材に係る搬送装置の説明に供する図である。
【図５】他の実施形態に係る第１及び第２の基材の説明に供する図である。
【図６】搬送過程における基材の落下の説明に供する図である。
【図７】搬送過程における基材の傾きの説明に供する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
〔第１実施形態〕
〔調光フィルム〕
図１は、本発明の第１実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。この調光フィルム１は、建築物の窓ガラス、ショーケース、屋内の透明パーテーション等の調光を図る部位に、粘着剤層等により貼り付けて使用され、印加電圧の可変により透過光の光量を制御する。
【００３０】
この調光フィルム１は、液晶を利用して透過光を制御するフィルム材であり、直線偏光板２、３により調光フィルム用の液晶セル４を挟持して構成される。ここで直線偏光板２、３は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）にヨウ素等を含浸させた後、延伸して直線偏光板としての光学的機能を果たす光学機能層が形成され、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルム材による基材により光学機能層を挟持して作製される。直線偏光板２、３は、クロスニコル配置により、紫外線硬化性樹脂等による接着剤層により液晶セル４に配置される。なお直線偏光板２、３には、それぞれ液晶セル４側に光学補償に供する位相差フィルム２Ａ、３Ａが設けられるものの、位相差フィルム２Ａ、３Ａは、必要に応じて省略してもよい。
【００３１】
液晶セル４は、後述する透明電極への印加電圧により透過光の偏光面を制御する。これにより調光フィルム１は、透過光を制御して種々に調光を図ることができるように構成される。
【００３２】
〔液晶セル〕
液晶セル４は、フィルム形状による第１及び第２の積層体である上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄにより液晶層８を挟持して構成される。下側積層体５Ｄは、透明フィルム材による第１の基材６に、透明電極１１、スペーサ１２、配向層１３を作製して形成される。上側積層体５Ｕは、透明フィルム材による第２の基材１５に、透明電極１６、配向層１７を積層して形成される。液晶セル４は、この上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄに設けられた透明電極１１、１６の駆動により、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式により液晶層８に設けられた液晶材料の配向を制御し、これにより透過光の偏光面を制御する。
【００３３】
なおＴＮ方式に代えて、ＶＡ（Ｖｉｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｃｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式等の駆動方式を適用するようにしてよい。なおＩＰＳ方式により駆動する場合、上側積層体５Ｕ又は下側積層体５Ｄの透明電極１１又は１６の何れか一方を省略し、他方の透明電極のパターンニングにより液晶材料に駆動用の電界を印加する。
ここで、ＴＮ方式は、電界の印加により、液晶分子の配向を垂直方向と水平ねじれ方向とで変化させ、光の旋光性を利用して透過光量を制御する方式である。
また、ＶＡ方式は、液晶の配向を垂直配向と水平配向とで変化させて透過光を制御する方式であり、一般的に、無電界時、液晶を垂直配向させることにより、液晶層を垂直配向層により挟持して液晶セルが構成され、電界の印加により液晶材料を水平配向させるように構成される。
ＩＰＳ方式は、配向させた液晶分子を基板に対して横（水平）方向に回転させることにより透過光量を制御する方式である。
ＦＦＳ方式は、ＩＰＳ方式と同じく基板に対して液晶分子が横（水平）方向に動くが、ねじれと曲がりを伴うことにより透過光量を制御する方式である。
【００３４】
第１及び第２の基材６、１５は、この種のフィルム材に適用可能な種々の透明フィルム材を適用することができるものの、光学異方性の小さなフィルム材を適用することが望ましい。この実施形態において、第１及び第２の基材６、１５は、ポリカーボネートフィルムが適用されるものの、ＣＯＰ（シクロオレフィンポリマー）フィルム、ＴＡＣフィルム等を適用してもよい。
【００３５】
透明電極１１、１６は、この種のフィルム材に適用される各種の電極材料を適用することができ、この実施形態ではＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）による透明電極材により形成される。
スペーサ１２は、液晶層８の厚みを規定するために設けられ、各種の樹脂材料を広く適用することができるものの、この実施形態ではフォトレジストにより作製され、透明電極１１を作製してなる第１の基材６の上に、フォトレジストを塗工して露光、現像することにより作製される。なおスペーサ１２は、上側積層体５Ｕに設けるようにしてもよく、上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄの双方に設けるようにしてもよい。またフォトレジストによるスペーサに代えて、いわゆるビーズスペーサを適用してもよい。
【００３６】
配向層１３、１７は、ポリイミド樹脂層をラビング処理して作製される。なお配向層１３、１７は、液晶層８に係る液晶材料に対して配向規制力を発現可能な各種の構成を適用することができ、いわゆる光配向層により作製してもよく、ラビング処理、研磨処理による微細なライン状凹凸形状を賦型処理により作製して形成してもよい。なおスペーサ１２は、配向層１３の上に設けるようにしてもよい。
【００３７】
なお光配向材料は、光配向の手法を適用可能な各種の材料を適用することができるものの、この実施形態では、一旦配向した後には、紫外線の照射によって配向が変化しない、例えば光２量化型の材料を使用する。この光２量化型の材料については、「Ｍ．Ｓｃｈａｄｔ，  Ｋ．Ｓｃｈｍｉｔｔ，  Ｖ．  Ｋｏｚｉｎｋｏｖ  ａｎｄ  Ｖ．  Ｃｈｉｇｒｉｎｏｖ  ：  Ｊｐｎ．  Ｊ．  Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，  ３１，  ２１５５  （１９９２）」、「Ｍ．  Ｓｃｈａｄｔ，  Ｈ．  Ｓｅｉｂｅｒｌｅ  ａｎｄ  Ａ．  Ｓｃｈｕｓｔｅｒ  ：  Ｎａｔｕｒｅ，  ３８１，  ２１２（１９９６）」等に開示されている。
【００３８】
液晶層８は、この種の調光フィルムに適用可能な各種の液晶材料を広く適用することができる。なお液晶セル４は、液晶層８を囲むように、シール剤１９が配置され、このシール剤１９により上側積層体５Ｕ、下側積層体５Ｄが一体に保持され、液晶材料の漏出が防止される。
【００３９】
〔製造工程〕
図２は、調光フィルム１の製造工程を示すフローチャートである。この製造工程は、枚葉の処理により透明フィルム材による基材を１枚ずつ搬送しながら透明電極１１、１６等を順次作製して調光フィルム１を作製する。このためこの製造工程ＳＰ１は、フィルムカット工程ＳＰ２において、ロールにより提供される長尺フィルム形状による透明フィルム材をロールより引き出して搬送しながら一定間隔により切断し、これにより第１及び第２の基材６、１５に係る透明フィルム材を所望の大きさにより順次切り出して第１及び第２の基材６Ａ、１５Ａを作製する。
【００４０】
この製造工程は、続く孔加工工程ＳＰ３において、図３に示すように、切り出した第１及び第２の基材６Ａ、１５Ａに、搬送用の貫通孔２０を作製する。なお貫通孔２０を作製した後、フィルムカット工程を設けるようにしてもよい。これらによりこの実施形態では、下側積層体５Ｄ、上側積層体５Ｕの第１及び第２の基材６、１５に対応する第１及び第２の基材６Ａ、１５Ａを作製する。なお、上述のフィルムカット工程ＳＰ２及び孔加工工程ＳＰ３が、基板作成工程となる。
【００４１】
ここでこの貫通孔２０は、搬送工程における第１及び第２の基材６Ａ、１５Ａの搬送方向と平行な方向に延長する対向する２辺の内側に、この２辺に沿って一定の間隔Ｐにより作製される。この製造工程は、図４に示すように、搬送装置の凸部２２をこの貫通孔２０に挿入して、傾いたり、変形したりしないようにして、第１及び第２の基材６Ａ、１５Ａを搬送する。これによりこの実施形態では、各基材の湾曲を有効に回避して搬送過程における各基材の落下を有効に回避し、さらには搬送過程における各基材の傾きを有効に回避し、これらにより安定かつ高い精度により調光フィルムを生産する。
【００４２】
ここで貫通孔２０は、パンチング、レーザ加工等、種々の手法を適用して作製することができる。また貫通孔２０は、この実施形態では、搬送方向に細長く延長する幅の狭い長方形形状により作製され、これにより透明フィルム材の使用可能面積を極力低減しないように作製される。より具体的に、貫通孔２０は、このように凸部２２を挿入して搬送する際に、充分な強度を確保して、搬送方向及び搬送方向と直交する方向の双方に適切に張力を与えてフィルム材の撓み、変形を防止できるように、間隔Ｐ、幅Ｗ、長さＨが設定される。
この実施形態において、間隔Ｐは、図３に示すように、搬送方向に配列される貫通孔２０の配置間隔であり、１ｍｍ以上１０００ｍｍ以下に設定されるものの、好ましくは１５ｍｍ以上３５ｍｍ以下に設定される。
また幅Ｗは、搬送方向に直交する方向における貫通孔２０の幅寸法であり、１ｍｍ以上１００ｍｍ以下に設定されるものの、好ましくは５ｍｍ以上１５ｍｍ以下に設定される。
長さＨは、搬送方向における貫通孔２０の長さ寸法であり、１ｍｍ以上３００ｍｍ以下に設定されるものの、好ましくは１０ｍｍ以上３０ｍｍ以下に設定される。なおこの実施形態において、透明フィルム材は、厚み１００μｍであるものの、厚み１μｍ以上１０００μｍ以下の透明フィルム材を適用してもよい。
【００４３】
また貫通孔２０は、余りに第１及び第２の基材６Ａ、１５Ａの端部に作製すると、搬送過程において第１及び第２の基材６Ａ、１５Ａの機械的強度が低下したり、第１及び第２の基材６Ａ、１５Ａが局所的に伸縮したりして安定に生産できなくなったりする恐れがある。また、貫通孔２０は、余りに基材の内側に作製すると、調光フィルムとして切り出す面積が小さくなる。そこで、貫通孔２０は、第１及び第２の基材６Ａ、１５Ａの搬送方向に平行な端縁から貫通孔２０までの距離Ｗ１が１ｍｍ以上１００ｍｍ以下により、より好ましくは５ｍｍ以上２０ｍｍ以下により作製される。
【００４４】
ここで図４は、この貫通孔２０を使用した搬送装置を示す図である。
搬送装置２１は、この調光フィルム１の製造工程に含まれる各工程（各工程間を含む）に適宜設けられる。搬送装置２１は、基材を搬送する回転体が設けられている。本実施形態の回転体は、一定の間隔により複数の搬送ローラ２３が配置された回転軸２４が、複数、水平に保持されて、平行に一定の間隔により整列するようにして、不図示のフレームに保持される構成となる。
本実施形態の搬送ローラ２３は、円板状に形成されたローラであり、円板の中心に回転軸２４が配置されている。搬送ローラ２３は、回転軸２４を中心にして回転することにより、円板の周側面に当接した基材等の被搬送物を搬送することができる。また各回転軸２４は、モータ等の駆動源により回転駆動される。これにより搬送装置２１は、この駆動源により回転軸２４を介して搬送ローラ２３を回転させ、この搬送ローラ２３の上に載置された基材を搬送する。
【００４５】
搬送装置２１は、各基材に設けられた貫通孔２０に挿入される凸部２２が、搬送ローラ２３（回転体）の回転に連動して移動する連動部に設けられる。本実施形態では、連動部は、回転軸２４の両端に設けられた連動ローラ２５と、この連動ローラ２５に掛け渡されたベルト２６から構成されており、凸部２２はベルト２６の外周面に貫通孔２０に対応する間隔Ｐにより設けられている。
これにより搬送装置２１は、搬送ローラ２３の回転により搬送される基材に追従させた状態で、凸部２２を基材の搬送方向に移動させることができる。そのため、搬送装置２１は、凸部２２を貫通孔２０に挿入した状態で、搬送ローラ２３により基材を搬送することができる。しかしてこのように搬送方向に繰り返し作製された貫通孔２０に、貫通孔２０に対応する間隔Ｐにより設けられた凸部２２を挿入して基材を搬送する場合にあっては、基材の変形、傾きを抑制して搬送することができる。これにより搬送途中における基材の落下、傾きを有効に回避することができ、安定かつ高い精度により調光フィルムを作製することができる。
【００４６】
実際上、実験した結果によれば、貫通孔２０を設けていない幅狭の基材を搬送して実験したところ、１０回中１０回とも基材が各回転軸間から落下した（図６矢印Ａ参照）。しかしながらこの実施形態に係る基材及び搬送装置の構成によれば、基材の落下、傾きを防止して搬送できることが確認された。
【００４７】
なおこれにより凸部２２は、図３中の破線部に示すように、貫通孔２０の幅Ｗに対応する幅ｗが、貫通孔２０の幅Ｗ−αに設定され、また貫通孔２０の長さＨに対応する長さｈが、貫通孔２０の長さＨ−βに設定される。ここでα及びβは、余りに小さいと、この種の厚みの薄い第１及び第２の基材６Ａ、１５Ａの搬送に適用して第１及び第２の基材６Ａ、１５Ａを痛めることなく、確実に貫通孔２０に凸部２２を挿入できなくなるのに対し、余りに大きいと搬送過程における基材の変形、傾きが大きくなったり、搬送後の工程において位置決め精度が低下したりする等の問題が発生する。そこで搬送方向と直交する方向である幅方向に係るαは、０ｍｍ以上１０ｍｍ以下、好ましくは１ｍｍ以上３ｍｍ以下が望ましい。また搬送方向である長さ方向に係るβは、０ｍｍ以上１０ｍｍ以下、好ましくは１ｍｍ以上３ｍｍ以下が望ましい。
【００４８】
この製造工程は、孔加工工程ＳＰ３で貫通孔２０を作製しながら（図２）、作製直後の貫通孔２０に凸部２２を順次差し込み、この図４に示す搬送装置２１を使用して第１及び第２の基材６Ａ、１５Ａを孔加工工程ＳＰ３から次工程に搬送する。
【００４９】
この製造工程は、洗浄工程ＳＰ４において、この第１及び第２の基材６Ａ、１５Ａを洗浄する。この製造工程は、搬送装置２１により第１及び第２の基材６Ａ、１５Ａを搬送しながら、エアーの吹き付け、洗浄液の塗布、リンス液の塗布等を順次実行した後、乾燥することにより、洗浄の処理を実行する。なおこの洗浄工程ＳＰ４における搬送装置２１による搬送の際に、適宜、第１及び第２の基材６Ａ、１５Ａを斜めに傾くように保持して搬送し、洗浄液等の液切れを促進してもよい。
【００５０】
続いて製造工程は、電極作製工程ＳＰ５において、透明電極１１、１６を作製する。すなわち電極作製工程ＳＰ５においては、搬送装置２１により搬送される第１及び第２の基材６Ａ、１５Ａをロボットによりスパッタリング装置に搬送し、このスパッタリング装置を使用したスパッタリングにより透明電極１１、１６を作製する。ここで、電極作製工程ＳＰ５は、透明電極をパターンニングする工程を更に備えていてもよい。
なお、ＩＰＳ方式による場合、透明電極１１、１６のうちの一方の作製が省略され、また他方の透明電極１１又は１６をパターンニングするパターンニング工程が設けられるものの、このパターンニング工程においても、搬送装置２１を使用して基材を搬送しながらエッチング、洗浄、リンス、乾燥の処理が実行される。
また、ＦＦＳ方式による場合、一方の基材に対する透明電極の作製が省略され、他方の基材に透明電極を作製した後、作製した透明電極上に絶縁層を作製し、更にその絶縁層の上に透明電極を作製する工程を有し、絶縁層の上に設けられた透明電極をパターンニングする工程も更に備える。
【００５１】
続いて製造工程は、スペーサ作製工程ＳＰ６において、スペーサ１２を作製する。ここで製造工程は、図４について上述した搬送装置２１に、透明電極１１を作製してなる第１の基材６Ａをロボットにより載置した後、この搬送装置２１により搬送してスペーサ１２を作製する。
より具体的に、スペーサ作製工程ＳＰ６は、搬送装置２１により搬送する第１の基材６Ａに対して、フォトレジスト塗工工程ＳＰ６−１において、フォトレジストの塗工液を塗工した後、乾燥させ、これによりフォトレジスト層を作製する。
また続く露光工程ＳＰ６−２において、露光装置に第１の基材６Ａを搬送して所定位置に載置し、ここで露光処理を実行する。また露光処理した第１の基材６Ａを、搬送装置２１に載置して搬送しながら、現像工程ＳＰ６−３において、現像液を塗布して現像した後、洗浄、リンス、乾燥処理し、これらによりスペーサ１２を作製する。なおこの現像工程ＳＰ６−３においても、適宜、基材を傾けて搬送して液切れを促進しても良い。なおスペーサにビーズスペーサを適用する場合、当然に、スペーサ作製工程ＳＰ６は省略される。
【００５２】
続いてこの製造工程は、このようにしてスペーサ１２を作製してなる第１の基材６Ａを搬送装置２１により搬送しながら、塗工工程ＳＰ７により配向層１３に係る塗工液を塗工した後、乾燥、硬化し、これにより配向層１３の材料層を作製する。
また他方の第２の基材１５Ａについても、同様にして、搬送装置により搬送しながら配向層１７の材料層を作製する。
【００５３】
製造工程は、続くラビング工程ＳＰ８において、このようにして配向層の材料層を作製してなる上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄに係る第１及び第２の基材６Ａ、１５Ａをロボットによりラビング装置に配置し、ここでラビング処理することにより、配向層１３、１７を作製する。なお配向層１３、１７に光配向層を適用する場合には、光配向層に係る塗工液の塗工から露光までの一連の配向層作製工程を搬送装置２１により搬送しながら実行してもよい。
【００５４】
これらによりこの製造工程では、透明フィルム材による第１の基材６Ａに透明電極１１、配向層１３を作製する第１の基材処理工程と、透明フィルム材による第２の基材１５Ａに少なくとも配向層１７を作製する第２の基材処理工程とが、電極作製工程ＳＰ５からラビング工程ＳＰ８により構成される。
【００５５】
この製造工程は、このようにして配向層１３、１７を作製すると、上側積層体５Ｕ又は下側積層体５Ｄに係る第１及び第２の基材６Ａ、１５Ａの何れかをロボットによりシール剤塗工工程ＳＰ９に搬送し、ここでディスペンサを使用してシール剤１９を塗布する。
また続く液晶滴下工程ＳＰ１０において、液晶層８に係る液晶材料を滴下した後、積層工程ＳＰ１１において、上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄに係る第１及び第２の基材６Ａ、１５Ａを積層する。
また続く一体化工程ＳＰ１２において、紫外線の照射によりシール剤１９を半硬化させた後、加熱し、これにより上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄに係る第１及び第２の基材６Ａ、１５Ａを積層一体化する。これによりこの実施形態では、液晶セル４に係る調光フィルムの中間製品を作製する。またこれによりこの製造工程では、液晶材料を間に挟んで、第１及び第２の基材処理工程で配向層を作製してなる第１及び第２の基材１５Ａ、６Ａを積層して、一体化する積層一体化工程が、シール剤塗工工程ＳＰ９から一体化工程ＳＰ１２により構成される。
【００５６】
この製造工程は、続くトリミング工程ＳＰ１３において、積層して一体化された上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄに係る第１及び第２の基材６Ａ、１５Ａの周囲を切り落とし、これにより貫通孔２０が作製されている部位を切断して液晶セル４を作製する。なおトリミング工程では、少なくとも貫通孔２０が作製されている部位のみを切り取るようにして大面積により調光フィルムを作製してもよい。
【００５７】
製造工程は、続く貼合工程ＳＰ１４において、直線偏光板２、３を紫外線硬化性樹脂等の接着剤により貼り合せて調光フィルム１を作製する。
【００５８】
〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を種々に変更することができる。
【００５９】
すなわち上述の実施形態では、搬送方向に延長した細長い長方形形状により貫通孔を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、正方形形状により貫通孔を作製するようにしてもよく、基材の幅方向（搬送方向に直交する方向）に細長い形状により貫通孔を作製してもよく、さらには円形形状、楕円形状等により貫通孔を作製してもよい。
【００６０】
また上述の実施形態では、搬送方向に平行に延長する対向する２つの辺に沿って貫通孔を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば図５に示すように、１枚の基材から複数枚の調光フィルムを作製する工程において、例えば基材の中央にも貫通孔を設ける場合等、２つの辺に沿った部位以外の部位にも貫通孔を設けるようにしてもよい。
【００６１】
また上述の実施形態では、貫通孔により搬送過程における基材の変形、傾き等を抑制する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、併せて例えば積層工程における位置決め用の基準等に貫通孔を利用するようにしてもよい。
【００６２】
また上述の実施形態では、搬送ローラを備えた回転軸の両端に連動ローラを設け、凸部を備えたベルトをこの連動ローラに掛け渡した連動部により、基材の搬送方向に、基材の移動に追従して移動する凸部を設ける場合について述べたが、本発明はこれに限られるものでない。連動部を用いずに、回転体の駆動機構とは独立して、基材の移動に追従して凸部を移動させるようにしてもよい。
【００６３】
また上述の実施形態では、電極作製工程からスペーサ作製工程の現像工程までの間で（光配向層を適用する場合には、ラビング工程に対応する配向層作製工程までの間）、搬送装置２１により各基材を適宜搬送する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、必要に応じて、これらの工程の何れかにおいて、貫通孔を使用した搬送装置２１による搬送処理の工程を採用しないようにしてもよい。より具体的には、例えば一時的に搬送用テーブル等に各基材を保持して搬送することにより、貫通孔を使用した搬送処理を一時的に採用しないように製造工程を構成してもよい。なおこれにより貫通孔を作製する孔加工工程は、このような工程の変更により、各基材の作製に係るシートカット工程とは別工程とし、必要とする工程の直前で穴加工して貫通孔を作製するようにしてもよい。
【００６４】
また上述の実施形態では、液晶セルの段階で、トリミング工程により貫通孔を作製してなる部位を切り取る場合について述べたが、本発明はこれに限らず、必要に応じてこれより前の工程で切り取るようにしてもよい。またこれとは逆に、直線偏光板と貼り合せた後、切り取るようにしてもよい。また実用上十分な場合には、トリミング工程を省略して、各基材に貫通孔を備えてなる形状により調光フィルムを提供してもよい。なおこの場合、貫通穴は、調光フィルムを設置する際の基準に利用することができる。
【００６５】
また上述の実施形態では、窓ガラス等の調光を図る部位に、粘着剤層等により貼り付けて使用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば合わせガラスの中間材に使用する場合等にも広く適用することができる。
【００６６】
上述の実施形態において、液晶セル４の液晶の配向制御には、ＶＡ方式等が適用される例を示したが、これに限定されるものでなく、ゲストホスト方式を適用するようにしてもよい。この場合、調光フィルムは、直線偏光板を省略してもよい。
ここで、ゲストホスト方式とは、液晶層に液晶分子と二色性色素とが混合されており、液晶層に印加される電界により液晶分子の配向方向を変化させると、その動きに従って二色性色素の配向も変化して、液晶セルの透過光量を変化させることができる方式である。
【００６７】
上述の説明では、搬送装置２１（搬送工程）は、調光フィルムの製造方法において用いられる例を示したが、これに限定されるものでなく、調光フィルムの作製工程以外の薄い枚葉状のフィルムやシート等を搬送する工程においても使用することができる。
【符号の説明】
【００６８】
１  調光フィルム
２、３  直線偏光板
２Ａ、３Ａ  位相差フィルム
４  液晶セル
５Ｄ  下側積層体
５Ｕ  上側積層体
６、１５、６Ａ、１５Ａ  基材
８  液晶層
１１、１６  透明電極
１２  スペーサ
１３、１７  配向層
１９  シール剤
２０  貫通孔
２１  搬送装置
２２  凸部
２３  搬送ローラ
２４  回転軸
２５  連動ローラ
２６  ベルト
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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