(57)【要約】【課題】実装時の位置確認を容易に行うことができ、かつ長期安定性に優れる、光学レンズを提供する。【解決手段】光軸方向ｙを有する光学レンズ１であって、第１のレンズ形成面２ａと、第１のレンズ形成面２ａに接続されている上面２ｄ及び底面２ｃとを有し、かつ第１のレンズ形成面２ａに形成された第１のレンズ部３を有する基材２と、基材２の底面２ｃ上に形成されているメタライズ層５とを備え、基材２の底面２ｃが、光軸方向ｙに垂直な方向ｘにおいて対向する第１，第２の端縁部２ｃ１，２ｃ２を有し、底面２ｃにおいて、第１，第２の端縁部２ｃ１，２ｃ２の近傍にメタライズ層５が形成されていないことを特徴としている。【選択図】図２
2018021946.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光軸方向を有する光学レンズであって、
レンズ形成面と、前記レンズ形成面に接続されている上面及び底面とを有し、かつ前記レンズ形成面に形成されたレンズ部を有する基材と、
前記基材の前記底面上に形成されているメタライズ層とを備え、
前記基材の前記底面が、光軸方向に垂直な方向において対向する第１，第２の端縁部を有し、前記底面において、前記第１，第２の端縁部の近傍に前記メタライズ層が形成されていない、光学レンズ。
【請求項２】
前記光軸方向に垂直な方向における前記メタライズ層が形成されていない領域の長さが、前記底面の同方向における長さの５％以上、２０％以下である、請求項１に記載の光学レンズ。
【請求項３】
平面視において、少なくとも前記メタライズ層の全面に重なるように、前記基材の前記上面上に遮光膜または光吸収膜が形成されている、請求項１または２に記載の光学レンズ。
【請求項４】
平面視において、前記遮光膜または前記光吸収膜が、前記メタライズ層の外周縁より外側にも形成されている、請求項３に記載の光学レンズ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学レンズに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、通信のさらなる高速化の需要に伴い、光通信デバイスが注目を集めている。このような光通信デバイス等に、光学レンズが用いられている。
【０００３】
例えば、下記の特許文献１には、レンズ部材が接着剤により実装基板上に固定された、光モジュールが開示されている。レンズ部材の実装に粘着性が高い接着剤を用いることにより、レンズ部材の光軸高さの調芯が可能となることが知られている。下記の特許文献２には、金属製の鏡筒にレンズが組み込まれたレンズ部材が開示されている。鏡筒の側面には、メタライズ層が形成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−０２６４６２号公報
【特許文献２】特開２００８−２０３４１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に記載の光モジュールでは、気密封止された光モジュールの筐体内において、有機物を含む接着剤が用いられている。そのため、接着剤に含まれた有機物の揮発によって発生したガスの影響により、長期安定性が損なわれるおそれがある。
【０００６】
光源から照射された光は、レンズ部材が透明であっても、レンズ部材にわずかに吸収される。それによって、レンズ部材は発熱する。照射される光のエネルギー密度が高い場合には、わずかな光吸収であってもレンズ部材が高温となる。特許文献１の光モジュールにおいては、高温となったレンズ部材に接着剤が加熱されて軟化し、レンズ部材に位置ずれが生じるおそれがある。さらに、レンズ部材が実装基板から剥離するおそれもある。
【０００７】
近年、レンズ部材のより一層の小型化が求められている。特許文献２に記載されたレンズ部材の鏡筒の場合には、例えば、１ｍｍ３程度またはそれ以下のサイズとすることが求められる。このような小型の鏡筒に高精度にレンズを組み込むことは非常に困難である。
【０００８】
また、特許文献２のレンズ部材を、金属製の鏡筒を含まないガラスのみの成形体とした場合においても、レンズ部材の側面にはメタライズ層が形成されている。このレンズ部材の製造工程において、メタライズ層は、互いに密着するように並べられた複数のレンズ部材の側面に連続して形成される。各レンズ部材において、メタライズ層は、メタライズ層が形成された面の端縁部に至っている。そのため、レンズ部材を実装基板上に配置した後に、レンズ部材の位置をカメラにより確認する際、端縁部におけるメタライズ層からの反射光により、端縁部の位置を画像認識され難いことがある。このように、レンズ部材の位置確認が困難となることがある。
【０００９】
さらに、メタライズ層形成の際に、小型のレンズ部材を隙間なく並べる工程においては、レンズ部材同士の接触等により、レンズ部材に欠けやクラックが発生するおそれがある。クラックの成長等により、長期安定性が損なわれるおそれもある。
【００１０】
本発明の目的は、実装時の位置確認を容易に行うことができ、かつ長期安定性に優れる、光学レンズを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明に係る光学レンズは、光軸方向を有する光学レンズであって、レンズ形成面と、レンズ形成面に接続されている上面及び底面とを有し、かつレンズ形成面に形成されたレンズ部を有する基材と、基材の底面上に形成されているメタライズ層とを備え、基材の底面が、光軸方向に垂直な方向において対向する第１，第２の端縁部を有し、底面において、第１，第２の端縁部の近傍にメタライズ層が形成されていないことを特徴としている。
【００１２】
本発明において、光軸方向に垂直な方向におけるメタライズ層が形成されていない領域の長さが、底面の同方向における長さの５％以上、２０％以下であることが好ましい。
【００１３】
本発明において、平面視において、少なくともメタライズ層の全面に重なるように、基材の上面上に遮光膜または光吸収膜が形成されていてもよい。この場合には、平面視において、遮光膜または光吸収膜が、メタライズ層の外周縁より外側にも形成されていることが好ましい。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、実装時の位置確認を容易に行うことができ、かつ長期安定性に優れる、光学レンズを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る光学レンズを示す模式的底面図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る光学レンズを示す模式的正面図である。
【図３】比較例の光学レンズを示す模式的底面図である。
【図４】本発明の第１の実施形態の第１の変形例に係る光学レンズを示す模式的正面図である。
【図５】本発明の第１の実施形態の第２の変形例に係る光学レンズを示す模式的底面図である。
【図６】（ａ）及び（ｂ）は、本発明の第１の実施形態に係る光学レンズの製造方法の一例を説明するための模式的断面図である。
【図７】本発明の第１の実施形態に係る光学レンズの製造方法の一例を説明するための模式的平面図である。
【図８】本発明の第１の実施形態に係る光学レンズの製造方法の一例を説明するための模式的側面図である。
【図９】本発明の第２の実施形態に係る光学レンズを示す模式的正面図である。
【図１０】本発明の第２の実施形態に係る光学レンズを示す模式的平面図である。
【図１１】本発明の第３の実施形態に係る光学レンズを示す模式的平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、好ましい実施形態について説明する。但し、以下の実施形態は単なる例示であり、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。また、各図面において、実質的に同一の機能を有する部材は同一の符号で参照する場合がある。
【００１７】
（第１の実施形態）
図１は、本発明の第１の実施形態に係る光学レンズを示す模式的底面図である。図２は、第１の実施形態に係る光学レンズを示す模式的正面図である。なお、図１及び図２においては、後述するメタライズ層を斜線のハッチングにより示す。後に示す図３〜図５、図８、図９においても同様である。
【００１８】
図１に示すように、本実施形態に係る光学レンズ１は、光軸方向ｙを有する。光学レンズ１は、光軸方向ｙにおいて互いに対向し合う第１，第２のレンズ形成面２ａ，２ｂを有する、基材２を備える。第１のレンズ形成面２ａには第１のレンズ部３が形成されており、第２のレンズ形成面２ｂには第２のレンズ部４が形成されている。本実施形態では、第１，第２のレンズ部３，４は凸レンズである。なお、光学レンズ１は、レンズ部を少なくとも１つ有していればよい。
【００１９】
基材２は、第１，第２のレンズ形成面２ａ，２ｂに接続されている底面２ｃを有する。底面２ｃは、光軸方向ｙに垂直な方向ｘにおいて互いに対向し合う第１，第２の端縁部２ｃ１，２ｃ２を有する。底面２ｃは、第１，第２の端縁部２ｃ１，２ｃ２を接続する第３，第４の端縁部２ｃ３，２ｃ４を有する。第３の端縁部２ｃ３は第１のレンズ形成面２ａ側に位置しており、第４の端縁部２ｃ４は第２のレンズ形成面２ｂ側に位置している。なお、方向ｘは底面２ｃに平行な方向である。
【００２０】
図２に示すように、基材２は、底面２ｃに対向している上面２ｄを有する。上面２ｄは、方向ｘにおいて互いに対向し合う第１，第２の端縁部２ｄ１，２ｄ２を有する。本実施形態においては、平面視において、上面２ｄ及び底面２ｃの第１の端縁部２ｄ１，２ｃ１は重なっている。上面２ｄ及び底面２ｃの第２の端縁部２ｄ２，２ｃ２も重なっている。
【００２１】
ここで、光学レンズ１の、方向ｘに沿う寸法を幅とし、光軸方向ｙ及び方向ｘに垂直な方向ｚに沿う寸法を高さとする。このとき、本実施形態では、光学レンズ１の幅は１ｍｍであり、高さは１ｍｍである。なお、光学レンズ１のサイズは、特に限定されない。
【００２２】
基材２は、例えば、ガラス、セラミックス、半導体または樹脂等により構成することができる。もっとも、基材２はガラスからなることが好ましい。基材２に用いられるガラスとしては、例えば、Ｂ２Ｏ３−ＺｎＯ−Ｌａ２Ｏ３系ガラスやＴｅＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＷＯ３−Ｌａ２Ｏ３系ガラス等を挙げることができる。
【００２３】
基材２の、波長４００ｎｍ〜１６００ｎｍの光の透過率は、７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、９０％以上がさらに好ましく、９５％以上が特に好ましく、９９％以上が最も好ましい。透過率が７０％未満である場合、光の散乱や吸収により、集光効率が低くなる傾向がある。
【００２４】
基材２の底面２ｃ上には、メタライズ層５が形成されている。メタライズ層５は外周縁５ｇを有する。光学レンズ１は、メタライズ層５を介して、光学デバイス用の実装基板等に接合される。光学レンズ１は、例えば、レーザー光の照射によりメタライズ層５を溶融させ、実装基板等に接合することができる。本実施形態では、メタライズ層５は、複数の金属膜が積層された積層金属膜である。より具体的には、メタライズ層５は、底面２ｃ側から、Ｃｒ層、Ｐｄ層及びＡｕＳｎ合金層がこの順序で積層された積層金属膜である。上記Ｐｄ層の代わりに、または上記Ｐｄ層に加えて、Ｎｉ層、Ｔｉ層またはＰｔ層が用いられてもよい。なお、メタライズ層５を構成する金属の種類は、上記に限定されない。
【００２５】
メタライズ層５の厚みは、０．２μｍ以上であることが好ましく、０．５μｍ以上であることがより好ましい。それによって、十分な接合力を得ることができる。メタライズ層５の厚みは、２．０μｍ以下であることが好ましい。それによって、接合に際しての光学レンズ１の傾きを抑制することができる。
【００２６】
基材２の底面２ｃの算術平均粗さ（Ｒａ）は、０．００５μｍ以上であることが好ましく、０．００７μｍ以上であることがより好ましく、０．０１０μｍ以上であることがさらに好ましい。それによって、底面２ｃとメタライズ層５との接触面積を大きくすることができ、接合力をより一層高めることができる。メタライズ層５の厚みを薄くしても接合力を十分とすることができるため、接合に際しての光学レンズ１の傾きを抑制することができる。
【００２７】
基材２の底面２ｃの算術平均粗さ（Ｒａ）は、２．０μｍ以下であることが好ましく、１．５μｍ以下であることがより好ましく、１．０μｍ以下であることがさらに好ましい。それによって、第１，第２のレンズ部３，４のプレス成形が困難となる等の問題が生じ難い。
【００２８】
基材２の上面２ｄの算術平均粗さ（Ｒａ）は、２．０μｍ以下であることが好ましく、１．５μｍ以下であることがより好ましく、１．０μｍ以下であることがさらに好ましい。この場合には、第１，第２のレンズ部３，４のプレス成形が困難となる等の問題が生じ難い。なお、本明細書では、算術平均粗さ（Ｒａ）は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２０１３において規定される算術平均粗さ（Ｒａ）を示す。
【００２９】
底面２ｃは、第１の端縁部２ｃ１の近傍に位置する第１のメタライズ層非形成領域Ａ１と、第２の端縁部２ｃ２の近傍に位置する第２のメタライズ層非形成領域Ａ２とを有する。第１，第２のメタライズ層非形成領域Ａ１，Ａ２には、メタライズ層５は形成されていない。本実施形態では、メタライズ層５は第３，第４の端縁部２ｃ３，２ｃ４にも至っていない。
【００３０】
本実施形態の特徴は、底面２ｃにメタライズ層５が形成されており、かつ底面２ｃが第１，第２のメタライズ非形成領域Ａ１，Ａ２を有することにある。それによって、実装時の位置確認を容易に行うことができ、かつ長期安定性に優れる。この効果の詳細を、以下において説明する。
【００３１】
光学レンズ１は、光学デバイス用の実装基板への実装の際、例えば、搬送コレットにより実装基板上に配置される。実装基板上に配置された後、上面２ｄ側から、カメラにより光学レンズ１の位置が確認される。一般的に、位置確認を行う対象と、その周囲との輝度差等に基づき、上記対象の位置が確認される。例えば、輝度差が一定の閾値を超えている部分が、上記対象の外周縁として画像認識される。なお、本明細書において、輝度とは、カメラが受光した光の強度をいう。以下において、カメラによる位置確認の行い易さについて、本実施形態と、下記の比較例とを比較する。
【００３２】
図３は、比較例の光学レンズを示す模式的底面図である。比較例の光学レンズ１０１においては、メタライズ層１０５が、基材２の底面２ｃの第１，第２の端縁部２ｃ１，２ｃ２に至っている。メタライズ層１０５は光を強く反射する。光学レンズ１０１を基材２の上面側からカメラにより撮像する場合、基材２を透過したメタライズ層１０５からの反射光もカメラに受光される。カメラには、メタライズ層１０５が形成されている部分及びその周囲は、一様に輝度が高い部分として画像認識される。この輝度が高い部分には、底面２ｃの第１，第２の端縁部２ｃ１，２ｃ２、上面の第１，第２の端縁部及びその周囲も含まれる。そのため、底面２ｃの第１，第２の端縁部２ｃ１，２ｃ２及び上面の第１，第２の端縁部と、その周囲との輝度差が大きくならず、光学レンズ１０１の位置確認を行い難い。
【００３３】
これに対して、図１及び図２に示す本実施形態においては、第１のメタライズ層非形成領域Ａ１にはメタライズ層５が形成されていないため、第１の端縁部２ｃ１近傍においては、メタライズ層５により光が反射されない。これにより、上面２ｄ及び底面２ｃの第１の端縁部２ｄ１，２ｃ１と、その周囲との輝度差を大きくすることができる。よって、第１の端縁部２ｄ１，２ｃ１の位置は容易に画像認識され得る。同様に、第２のメタライズ層非形成領域Ａ２にもメタライズ層５は形成されていないため、第２の端縁部２ｄ２，２ｃ２の位置も容易に画像認識され得る。従って、実装時の光学レンズ１の位置確認を容易に行うことができる。
【００３４】
第１のメタライズ層非形成領域Ａ１の、第１の端縁部２ｃ１からの方向ｘに沿う長さは、底面２ｃの方向ｘに沿う長さの５％以上であることが好ましい。第２のメタライズ層非形成領域Ａ２の、第２の端縁部２ｃ２からの方向ｘに沿う長さは、底面２ｃの方向ｘに沿う長さの５％以上であることが好ましい。それによって、実装時の光学レンズ１の位置確認をより確実に行うことができる。
【００３５】
第１のメタライズ層非形成領域Ａ１の、第１の端縁部２ｃ１からの方向ｘに沿う長さは、底面２ｃの方向ｘに沿う長さの２０％以下であることが好ましく、１０％以下であることがより好ましい。第２のメタライズ層非形成領域Ａ２の、第２の端縁部２ｃ２からの方向ｘに沿う長さは、底面２ｃの方向ｘに沿う長さの２０％以下であることが好ましく、１０％以下であることがより好ましい。それによって、光学レンズ１の実装基板等に対する接合力を高めることができる。
【００３６】
また、第１のメタライズ層非形成領域Ａ１の第１の端縁部２ｃ１からの方向ｘに沿う長さが最短の部分の長さは、１０μｍ以上、２００μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以上、１００μｍ以下であることがより好ましい。第２のメタライズ層非形成領域Ａ２の第１の端縁部２ｃ２からの方向ｘに沿う長さが最短の部分の長さは、１０μｍ以上、２００μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以上、１００μｍ以下であることがより好ましい。それによって、実装時の光学レンズ１の位置確認をより確実に行うことができ、かつ実装時の接合力を高めることができる。
【００３７】
光学レンズ１は、メタライズ層５を介して実装基板に接合することができるため、有機物を含む接着剤を用いずに、実装を行うことができる。よって、光学レンズ１は、実装された際の長期安定性に優れる。
【００３８】
基材２の底面２ｃ側から見たときの、底面２ｃの面積に対するメタライズ層５の面積の割合は、３６％以上であることが好ましく、５０％以上であることがより好ましい。それによって、光学レンズ１の実装基板等に対する接合力を高めることができる。底面２ｃの面積に対するメタライズ層５の面積の割合は、９５％以下であることが好ましく、９０％以下であることがより好ましい。それによって、実装時の光学レンズ１の位置確認を容易に行うことができる。なお、光学レンズ１の実装基板等に対する接合力を高めるためには、光学レンズ１に荷重をかけつつ接合することが好ましい。本発明のように、底面２ｃの面積に対するメタライズ層５の面積の割合を９５％以下に制限することにより、光学レンズ１に荷重をかけつつ実装基板等に接合しても、メタライズ層５が光学レンズ１から漏れ出してしまうことを防ぐことが可能となる。
【００３９】
図４に示す第１の実施形態の第１の変形例のように、基材３２は面取りされていてもよい。基材３２は、底面３２ｃ及び第１のレンズ形成面３２ａに接続されており、かつ互いに対向し合う側面３２ｅ，３２ｆを有する。第１の変形例においては、底面３２ｃの面取りされた部分と、側面３２ｅ，３２ｆとがそれぞれ接続された部分が、第１，第２の端縁部３２ｃ１，３２ｃ２である。第１の変形例においては、面取りされているため、基材３２の欠け等が生じ難い。
【００４０】
図１に示す第１の実施形態では、メタライズ層５は底面２ｃの第３，第４の端縁部２ｃ３，２ｃ４に至っていないが、図５に示す第１の実施形態の第２の変形例のように、メタライズ層４５は第３，第４の端縁部２ｃ３，２ｃ４に至っていてもよい。
【００４１】
以下において、第１の実施形態に係る光学レンズ１の製造方法の一例を説明する。
【００４２】
（製造方法）
図６（ａ）及び（ｂ）は、第１の実施形態に係る光学レンズの製造方法の一例を説明するための模式的断面図である。図７は、第１の実施形態に係る光学レンズの製造方法の一例を説明するための模式的平面図である。図８は、第１の実施形態に係る光学レンズの製造方法の一例を説明するための模式的側面図である。なお、図８における側面とは、後述するメタライズ層形成面を示す。
【００４３】
図６（ａ）に示すように、第１，第２の主面２Ａａ，２Ａｂを有するマザー基板２Ａを用意する。次に、成形型７Ａ，７Ｂを用いて、マザー基板２Ａのプレス成形を行う。これにより、図６（ｂ）に示すように、マザー基板２Ａの第１の主面２Ａａに複数の第１のレンズ部３を形成し、第２の主面２Ａｂに複数の第２のレンズ部４を形成する。
【００４４】
第１，第２のレンズ部３，４は、図６（ｂ）に示す断面以外の部分にも形成してもよく、例えば、図７に示すように、マトリクス状に形成してもよい。この場合には、次に、ダイシングラインＩ−Ｉに沿い、ダイシングを行う。ダイシングは、例えば、ダイシングソー等を用いて行ってもよく、あるいは、レーザースクライビングにより行ってもよい。これにより、メタライズ層形成面を形成する。
【００４５】
メタライズ層形成面は、図１に示した第１の実施形態の光学レンズ１の底面２ｃに相当する面である。メタライズ層形成面が、上述した範囲内の算術平均粗さ（Ｒａ）となるように、メタライズ層形成面にブラスト加工等を行ってもよい。
【００４６】
次に、図８に示すように、メタライズ層形成面２Ａｃ上に、複数のメタライズ層５を形成する。各メタライズ層５の外周縁５ｇが、ダイシングラインＩＩ−ＩＩ及びマザー基板２Ａの外周縁に至らないように、複数のメタライズ層５を形成する。メタライズ層５の形成は、例えば、スパッタリング法や蒸着法等により行うことができる。このとき、例えば、フォトリソグラフィ法によりメタライズ層形成面２Ａｃ上にレジストパターンを形成し、該レジストパターンを用いて複数のメタライズ層５を形成してもよい。
【００４７】
次に、ダイシングラインＩＩ−ＩＩに沿い、ダイシングを行う。ダイシングは、例えば、ダイシングソー等を用いて行ってもよく、あるいは、レーザースクライビングにより行ってもよい。これにより、複数の光学レンズ１を得ることができる。
【００４８】
（第２の実施形態）
図９は、第２の実施形態に係る光学レンズを示す模式的正面図である。図１０は、第２の実施形態に係る光学レンズを示す模式的平面図である。なお、図９及び図１０においては、後述する遮光膜を破線のハッチングにより示す。
【００４９】
図９に示すように、光学レンズ１１は、基材２の上面２ｄ上に遮光膜１６が形成されている点で、第１の実施形態と異なる。上記の点以外においては、光学レンズ１１は、第１の実施形態に係る光学レンズ１と同様の構成を有する。
【００５０】
遮光膜１６には、例えば、適宜の金属や半導体を用いることができる。金属の例としては、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ａｌ等を挙げることができる。半導体の例としては、Ｇｅ、Ｓｉ等を挙げることができる。
【００５１】
図１０に示すように、平面視において、遮光膜１６はメタライズ層５の全面に重なるように形成されている。それによって、上面２ｄ側からカメラにより位置確認を行うときに、メタライズ層５からカメラ側に向かう反射光を、遮光膜１６により遮光することができる。そのため、図９に示す上面２ｄ及び底面２ｃの第１，第２の端縁部２ｄ１，２ｃ１，２ｄ２，２ｃ２と、その周囲との輝度差をより確実に大きくすることができる。従って、実装時の光学レンズ１１の位置確認をより確実に行うことができる。
【００５２】
遮光膜１６は、平面視において、第１，第２のメタライズ層非形成領域Ａ１，Ａ２の少なくとも一部に重なるように形成されていることが好ましい。より好ましくは、本実施形態のように、平面視において、遮光膜１６がメタライズ層５の外周縁５ｇの外側にも形成されていることが望ましい。それによって、メタライズ層５からカメラ側に向かう反射光を、より一層確実に遮光することができる。
【００５３】
本実施形態においては、遮光膜１６は、上面２ｄの第１，第２の端縁部２ｄ１，２ｄ２には至っていない。これにより、実装時の光学レンズ１１の位置確認をより一層行い易い。
【００５４】
また、本実施形態においても、第１の実施形態と同様に、有機物を含む接着剤を用いずに、光学レンズ１１の実装を行うことができる。よって、光学レンズ１１は、実装された際の長期安定性に優れる。
【００５５】
（第３の実施形態）
図１１は、第３の実施形態に係る光学レンズを示す模式的平面図である。なお、図１１においては、後述する光吸収膜を破線のハッチングにより示す。
【００５６】
図１１に示すように、光学レンズ２１は、基材２の上面２ｄ上に光吸収膜２６が形成されている点で、第２の実施形態と異なる。上記の点以外においては、光学レンズ２１は、第２の実施形態に係る光学レンズ１１と同様の構成を有する。
【００５７】
光吸収膜２６には、例えば、適宜の半導体や窒化物を用いることができる。半導体の例としては、Ｇｅ、Ｓｉ等を挙げることができる。窒化物の例としては、ＡｌＮ、ＳｉＮ、ＣｒＮ等を挙げることができる。
【００５８】
本実施形態においては、光吸収膜２６が、第２の実施形態における遮光膜１６と同様の位置に配置されている。より具体的には、平面視において、光吸収膜２６はメタライズ層５の全面に重なるように形成されている。それによって、上面２ｄ側からカメラにより位置確認を行うときに、メタライズ層５からカメラ側に向かう反射光は光吸収膜２６により吸光される。よって、カメラ側に向かう反射光を遮光することができる。従って、第２の実施形態と同様に、実装時の光学レンズ２１の位置確認をより確実に行うことができる。
【００５９】
光吸収膜２６は、平面視において、第１，第２のメタライズ層非形成領域Ａ１，Ａ２の少なくとも一部に重なるように形成されていることが好ましい。より好ましくは、本実施形態のように、平面視において、光吸収膜２６がメタライズ層５の外周縁５ｇの外側にも形成されていることが望ましい。それによって、メタライズ層５からカメラ側に向かう反射光を、より一層確実に遮光することができる。
【００６０】
なお、本実施形態においては、光吸収膜２６は、上面２ｄの第１，第２の端縁部２ｄ１，２ｄ２には至っていない。これにより、実装時の光学レンズ２１の位置確認をより一層行い易い。
【００６１】
また、本実施形態においても、第１の実施形態と同様に、有機物を含む接着剤を用いずに、光学レンズ２１の実装を行うことができる。よって、光学レンズ２１は、実装された際の長期安定性に優れる。
【符号の説明】
【００６２】
１…光学レンズ
２…基材
２ａ，２ｂ…第１，第２のレンズ形成面
２ｃ…底面
２ｃ１〜２ｃ４…第１〜第４の端縁部
２ｄ…上面
２ｄ１，２ｄ２…第１，第２の端縁部
２Ａ…マザー基板
２Ａａ，２Ａｂ…第１，第２の主面
２Ａｃ…メタライズ層形成面
３，４…第１，第２のレンズ部
５…メタライズ層
５ｇ…外周縁
７Ａ，７Ｂ…成形型
１１…光学レンズ
１６…遮光膜
２１…光学レンズ
２６…光吸収膜
３２…基材
３２ａ…第１のレンズ形成面
３２ｃ…底面
３２ｃ１，３２ｃ２…第１，第２の端縁部
３２ｅ，３２ｆ…側面
４５…メタライズ層
１０１…光学レンズ
１０５…メタライズ層
【図１】
2018021946.tif 000003
【図２】
2018021946.tif 000004
【図３】
2018021946.tif 000005
【図４】
2018021946.tif 000006
【図５】
2018021946.tif 000007
【図６】
2018021946.tif 000008
【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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