(57)【要約】【課題】管路断面の一部のみを流れる液体を精度良く検出する。【解決手段】液体検出装置８は、発光部８１と、受光部８２と、判断部７１とを備える。発光部８１は、重力方向に沿って延びる管路である排液管６２に向けて光を出射する。受光部８２は、排液管６２を経由した発光部８１からの光を受ける。判断部７１は、受光部８２からの出力に基づいて排液管６２の断面の一部を流れる液体の存否を判断する。排液管６２内における発光部８１からの光に対応する複数の検出ポイントは、排液管６２の長手方向に対して傾斜する配列方向に配列される。これにより、排液管６２の断面の一部のみを流れる液体を精度良く検出することができる。【選択図】図３
2018028500.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
管路内の液体を検出する光電式の液体検出装置であって、
重力方向に沿って延びる管路に向けて光を出射する発光部と、
前記管路を経由した前記発光部からの光を受ける受光部と、
前記受光部からの出力に基づいて前記管路の断面の一部を流れる液体の存否を判断する判断部と、
を備え、
前記管路内における前記発光部からの光に対応する複数の検出ポイントが、前記管路の長手方向に対して傾斜する配列方向に配列されることを特徴とする液体検出装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液体検出装置であって、
前記複数の検出ポイントが、前記管路の幅方向において、前記管路の全幅に亘って配列されることを特徴とする液体検出装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の液体検出装置であって、
前記複数の検出ポイントが、前記管路の前記長手方向および前記長手方向に垂直な方向にマトリクス状に配置されることを特徴とする液体検出装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の液体検出装置であって、
前記受光部が、前記管路の外面に沿って配置されることを特徴とする液体検出装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の液体検出装置であって、
前記管路が重力方向に平行に延びることを特徴とする液体検出装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載の液体検出装置であって、
前記判断部が、前記受光部からの出力に基づいて、前記管路の断面全体に液体が存在することも検出可能であることを特徴とする液体検出装置。
【請求項７】
基板を処理する基板処理装置であって、
チャンバと、
前記チャンバ内において基板を保持する基板保持部と、
前記基板に処理液を供給する処理液供給部と、
前記処理液供給部からの処理液を前記チャンバの外部へと導く排液管と、
請求項１ないし６のいずれかに記載の液体検出装置と、
を備え、
前記液体検出装置が、前記管路である前記排液管内の液体を検出することを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、管路内の液体を検出する光電式の液体検出装置、および、当該液体検出装置を備える基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体基板（以下、単に「基板」という。）の製造工程では、基板に対して様々な処理が施される。例えば、表面上にレジストのパターンが形成された基板上に、ノズルから薬液を吐出することにより、基板の表面に対してエッチング等の薬液処理が行われる。このように、基板に対して処理液を供給する処理が行われる装置では、処理液用配管における処理液のリーク等を監視する検出部が設けられることがある。当該検出部では、例えば、タンク内の液面レベルを光学的に測定するための液面センサが利用される。
【０００３】
例えば、特許文献１では、透光性管体に取り付けられる液位検出器が開示されている。当該液位検出器は、透光性管体の外周面に近接させた１つの発光素子と、透光性管体の外周面に近接させて発光素子に対向配設した１つの受光素子とを備える。また、特許文献２では、管体に収容された液体の液面レベルを検出する検出装置が開示されている。当該検出装置では、管体の長手方向に平行に延びる投光部および受光部を備える。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平８−２９３２３４号公報
【特許文献２】特許第４０５４２７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、特許文献１および特許文献２の装置では、管路内に充満する液体の液面レベルを検出することはできるが、管路断面の一部のみを通過して流れる少量の液体を精度良く検出することは難しい。例えば、バルブの故障等により少量の液体がリークし、管路の内周面の一部を伝わって流れている場合、当該液体の流れる経路が投光部から受光部への光路を偶然横切らない限り、特許文献１および特許文献２の装置では、当該液体を検出することは難しい。
【０００６】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、管路断面の一部のみを流れる液体を精度良く検出することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明は、管路内の液体を検出する光電式の液体検出装置であって、重力方向に沿って延びる管路に向けて光を出射する発光部と、前記管路を経由した前記発光部からの光を受ける受光部と、前記受光部からの出力に基づいて前記管路の断面の一部を流れる液体の存否を判断する判断部とを備え、前記管路内における前記発光部からの光に対応する複数の検出ポイントが、前記管路の長手方向に対して傾斜する配列方向に配列される。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の液体検出装置であって、前記複数の検出ポイントが、前記管路の幅方向において、前記管路の全幅に亘って配列される。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載の液体検出装置であって、前記複数の検出ポイントが、前記管路の前記長手方向および前記長手方向に垂直な方向にマトリクス状に配置される。
【００１０】
請求項４に記載の発明は、請求項１ないし３のいずれかに記載の液体検出装置であって、前記受光部が、前記管路の外面に沿って配置される。
【００１１】
請求項５に記載の発明は、請求項１ないし４のいずれかに記載の液体検出装置であって、前記管路が重力方向に平行に延びる。
【００１２】
請求項６に記載の発明は、請求項１ないし５のいずれかに記載の液体検出装置であって、前記判断部が、前記受光部からの出力に基づいて、前記管路の断面全体に液体が存在することも検出可能である。
【００１３】
請求項７に記載の発明は、基板を処理する基板処理装置であって、チャンバと、前記チャンバ内において基板を保持する基板保持部と、前記基板に処理液を供給する処理液供給部と、前記処理液供給部からの処理液を前記チャンバの外部へと導く排液管と、請求項１ないし６のいずれかに記載の液体検出装置とを備え、前記液体検出装置が、前記管路である前記排液管内の液体を検出する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明では、管路断面の一部のみを流れる液体を精度良く検出することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】一の実施の形態に係る基板処理装置の構成を示す図である。
【図２】処理液供給部を示すブロック図である。
【図３】退避位置の第３ノズルを示す図である。
【図４】複数の検出ポイントを示す図である。
【図５】複数の検出ポイントの他の例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
図１は、本発明の一の実施の形態に係る基板処理装置１の構成を示す図である。基板処理装置１は、半導体基板９（以下、単に「基板９」という。）を１枚ずつ処理する枚葉式の装置である。基板処理装置１は、基板９に処理液を供給して処理を行う。図１では、基板処理装置１の構成の一部を断面にて示す。
【００１７】
基板処理装置１は、チャンバ１１と、基板保持部３１と、基板回転機構３３と、カップ部４と、処理液供給部５と、制御ユニット７とを備える。チャンバ１１の内部には、基板保持部３１およびカップ部４等が収容される。制御ユニット７は、基板処理装置１の各構成を制御する。制御ユニット７は、各種演算処理を行うＣＰＵ、基本プログラムを記憶するＲＯＭおよび各種情報を記憶するＲＡＭ等を含む一般的なコンピュータシステムである。制御ユニット７により、判断部７１の機能が実現される。換言すれば、制御ユニット７は判断部７１を備える。
【００１８】
基板保持部３１は、上下方向を向く中心軸Ｊ１を中心とする略円板状の部材である。基板９は、基板保持部３１の上方に配置される。基板９は、チャンバ１１内において水平状態にて基板保持部３１により保持される。基板回転機構３３は、基板保持部３１の下方に配置される。基板回転機構３３は、中心軸Ｊ１を中心として基板９を基板保持部３１と共に回転する。基板回転機構３３は、有蓋略円筒状の回転機構収容部３４の内部に収容される。
【００１９】
処理液供給部５は、基板９に複数種類の処理液を個別に供給する。処理液供給部５は、第１ノズル５１と、第２ノズル５２と、第３ノズル５３とを備える。第１ノズル５１および第２ノズル５２はそれぞれ、基板９の上方から基板９の上側の主面（以下、「上面９１」という。）に向けて処理液を供給する。第１ノズル５１から基板９に処理液の供給が行われている状態では、第２ノズル５２および第３ノズル５３は、基板９の径方向外側へと退避している。第２ノズル５２から基板９に処理液の供給が行われる際には、第１ノズル５１および第３ノズル５３が基板９の径方向外側へと退避し、第２ノズル５２が基板９の上方に位置する。第３ノズル５３は、基板９の上方から基板９の上面９１の周縁領域（すなわち、エッジ部）に向けて処理液を供給する。図１では、第１ノズル５１、第２ノズル５２および第３ノズル５３を、基板９の上方に描いている。図１に例示するように、処理液供給部５は、基板９の下方に配置されて基板９の下側の主面に処理液を供給する下部ノズルも備えてもよい。
【００２０】
カップ部４は、中心軸Ｊ１を中心とする環状の部材であり、基板９および基板保持部３１の周囲に配置される。カップ部４は、上カップ部４１と、下カップ部４２と、カップ移動機構４３とを備える。上カップ部４１は、中心軸Ｊ１を中心とする略円筒状の部材である。上カップ部４１は、基板９および基板保持部３１の径方向外側に配置され、基板９および基板保持部３１の側方を全周に亘って覆う。上カップ部４１は、回転中の基板９から周囲に向かって飛散する処理液等を受ける。カップ移動機構４３は、上カップ部４１を上下方向に移動する。上カップ部４１は、図１に示す基板９の周囲の位置である処理位置と、当該処理位置よりも下方の退避位置との間を、カップ移動機構４３により移動する。
【００２１】
下カップ部４２は、中心軸Ｊ１を中心とする有底略円筒状の部材である。下カップ部４２は、上カップ部４１の下方にて回転機構収容部３４の径方向外側に配置される。下カップ部４２は、例えば、回転機構収容部３４の外側面に固定される。下カップ部４２は、上カップ部４１の下部に接続される。具体的には、上カップ部４１の下端部が、下カップ部４２の内部に挿入される。下カップ部４２は、上カップ部４１にて受けられた処理液等を受ける。下カップ部４２の底部には、下カップ部４２にて受けられた処理液等を排出する排液ポート４４が設けられる。排液ポート４４には、処理液等をチャンバ１１の外部へと導く共通排液管４５が接続される。共通排液管４５は、排液ポート４４から下方に延びる。共通排液管４５は、例えば、略鉛直下方に延びてもよく、上下方向に対して傾斜しつつ下方に延びてもよい。
【００２２】
図２は、基板処理装置１の処理液供給部５を示すブロック図である。図２では、処理液供給部５以外の構成も併せて示す。第１ノズル５１は、薬液供給源５４、基板洗浄液供給源５５およびＩＰＡ（イソプロピルアルコール）供給源５６に接続される。第２ノズル５２は、充填剤溶液供給源５７に接続される。第３ノズル５３は、ＩＰＡ供給源５６に接続される。
【００２３】
薬液供給源５４から送出された薬液は、第１ノズル５１を介して基板９の上面９１の中央部に供給される。薬液としては、例えば、フッ酸または水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液等のエッチング液が利用される。基板洗浄液供給源５５から送出された基板洗浄液も、第１ノズル５１を介して基板９の上面９１の中央部に供給される。基板洗浄液としては、例えば、純水（ＤＩＷ：deionized water）や炭酸水が利用される。ＩＰＡ供給源５６から第１ノズル５１へと送出されたＩＰＡは、第１ノズル５１を介して基板９の上面９１の中央部に供給される。
【００２４】
第１ノズル５１の下端には、例えば、薬液用、基板洗浄液用およびＩＰＡ用の複数の吐出口が設けられており、種類の異なる処理液は、異なる配管および吐出口を介して基板９の上面９１に供給される。処理液供給部５では、例えば、第１ノズル５１に代えて、薬液、基板洗浄液およびＩＰＡを基板９の上面９１の中央部にそれぞれ供給する複数の処理液ノズルが設けられてもよい。
【００２５】
充填剤溶液供給源５７から第２ノズル５２へと送出された充填剤溶液は、第２ノズル５２を介して基板９の上面９１の中央部に供給される。充填剤溶液としては、例えば、固体の溶質であるポリマーを溶媒に溶かした溶液が利用される。ポリマーが非水溶性である場合、溶媒としては、例えばＩＰＡが利用される。当該ポリマーは、基板９上において溶媒が気化することにより固化し、基板処理装置１とは別の装置において昇華されるものであり、昇華剤とも呼ばれる。
【００２６】
ＩＰＡ供給源５６から第３ノズル５３へと送出されたＩＰＡは、第３ノズル５３を介して基板９の上面９１の周縁領域に供給される。
【００２７】
基板処理装置１における基板９の処理は、例えば、薬液処理、洗浄処理、ＩＰＡ置換処理、充填剤充填処理、エッジリンス処理および乾燥処理の順で行われる。具体的には、まず、回転中の基板９に対して第１ノズル５１から薬液が供給されることにより、基板９に対する薬液処理が行われる。続いて、薬液の供給が停止され、回転中の基板９に対して第１ノズル５１から基板洗浄液が供給されることにより、基板９に対する洗浄処理が行われる。次に、基板洗浄液の供給が停止され、回転中の基板９に対して第１ノズル５１からＩＰＡが供給されることにより、基板９上の基板洗浄液がＩＰＡに置換される。
【００２８】
さらに、ＩＰＡの供給が停止され、回転中の基板９に対して第２ノズル５２から充填剤溶液が所定時間だけ供給された後、基板９の回転速度が低下され、基板９の上面９１全体が充填剤溶液により覆われた状態が維持される。これにより、基板９の上面９１上のパターンにおける間隙（すなわち、パターンに含まれるパターン要素の間の空間）に充填剤溶液が充填される。その後、基板９の回転速度が増大され、基板９の上面９１の周縁領域に第３ノズル５３からＩＰＡが供給されることにより、基板９の周縁領域の充填剤溶液を除去するエッジリンス処理が行われる。そして、基板９の回転速度が増大され、基板９の乾燥処理が行われる。上記処理中に基板９上に供給された薬液、基板洗浄液、ＩＰＡおよび充填剤溶液は、カップ部４により受けられ、排液ポート４４を介して共通排液管４５へと排出される。
【００２９】
図３は、基板９の径方向外側の退避位置に退避した状態の第３ノズル５３、および、第３ノズル５３近傍の部位を示す図である。図３に示すように、基板処理装置１は、受液部６１と、排液管６２と、液体検出装置８とをさらに備える。受液部６１は、退避位置に位置する第３ノズル５３の下方に配置される。受液部６１は、例えば、プリディスペンス（すなわち、基板９への処理液の供給前に処理液を予備的に吐出する動作）の際に第３ノズル５３から吐出される処理液を受ける。図３では、受液部６１を断面にて描く。
【００３０】
排液管６２は、受液部６１に接続され、重力方向に沿って延びる。排液管６２は、例えば、略鉛直下方に延びてもよく、重力方向に対して傾斜しつつ下方に延びてもよい。図３に示す例では、排液管６２は重力方向に略平行に延びる。排液管６２は、受液部６１にて受けられた第３ノズル５３からの処理液をチャンバ１１（図１参照）の外部へと導く。液体検出装置８は、管路内の液体を検出する光電式の液体検出装置である。液体検出装置８は、当該管路である排液管６２に取り付けられ、排液管６２内の液体を検出する。
【００３１】
液体検出装置８は、発光部８１と、受光部８２と、上述の判断部７１とを備える。発光部８１および受光部８２は、排液管６２に取り付けられる。排液管６２のうち、少なくとも発光部８１および受光部８２が取り付けられる部位は、透光性を有する。好ましくは、排液管６２のうち発光部８１および受光部８２が取り付けられる部位は、透明である。発光部８１および受光部８２は、排液管６２の外面に沿って配置される。発光部８１は、例えば、排液管６２を挟んで受光部８２の反対側に配置される。
【００３２】
発光部８１は、排液管６２に向けて光を出射する。発光部８１は、複数の発光素子を含む。発光素子は、例えば、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）またはＬＤ（Laser Diode）である。発光素子は、光源からの光を導く光ファイバであってもよい。複数の発光素子は、排液管６２の外面に沿って配置される。受光部８２は、排液管６２を経由した発光部８１の複数の発光素子からの複数の光を受ける。受光部８２は、１つまたは複数の受光素子を含む。当該受光素子は、排液管６２の外面に沿って配置される。
【００３３】
図４は、排液管６２内における発光部８１からの複数の光に対応する複数の検出ポイント８３を示す図である。図４では、受光部８２側から見た発光部８１の外形を破線にて示す。検出ポイント８３とは、発光部８１から排液管６２へと出射される光に対応する排液管６２内における位置であり、当該位置に液体が存在すると、発光部８１から受光部８２へと向かう当該光が遮られる。検出ポイント８３は、センシングポイントとも呼ばれる。実際には、排液管６２内において、各検出ポイント８３を通って紙面に垂直な直線上の各位置が、液体を検出する検出ポイントである。後述する図５においても同様である。
【００３４】
複数の検出ポイント８３は、排液管６２の長手方向に対して傾斜する配列方向に配列される。図４に示す例では、排液管６２は重力方向に略平行に延びるため、複数の検出ポイント８３の配列方向は、重力方向に対しても傾斜する。また、複数の検出ポイント８３の配列方向は、排液管６２の長手方向に対して垂直な幅方向に対しても傾斜する。具体的には、複数の検出ポイント８３の配列方向は、排液管６２の長手方向に対して約４５度傾斜している。複数の検出ポイント８３は、排液管６２の長手方向および幅方向に関して、略等ピッチにて配列される。なお、複数の検出ポイント８３の配列方向は、排液管６２の長手方向に対して傾斜していればよく、例えば、当該配列方向は、排液管６２の幅方向に略平行であってもよい。
【００３５】
複数の検出ポイント８３は、排液管６２の幅方向において、排液管６２の略全幅に亘って配列される。具体的には、図４において排液管６２の幅方向の最も外側に位置する検出ポイント８３（すなわち、図中の最も左側および最も右側に位置する検出ポイント８３）と、排液管６２の内面との間の幅方向の距離Ｄ１が、複数の検出ポイント８３の幅方向に関するピッチＰ１よりも小さい。
【００３６】
図３に示すように、判断部７１は、受光部８２に接続される。判断部７１は、受光部８２からの出力に基づいて、排液管６２のうち発光部８１および受光部８２が取り付けられた部位において、排液管６２の断面の不特定の一部を流れる液体の存否を判断する。また、判断部７１は、受光部８２からの出力に基づいて、排液管６２の断面の略全体に液体が存在することも検出可能である。
【００３７】
以下、液体検出装置８による処理液の具体的な検出について説明する。例えば、第３ノズル５３から処理液の漏れ（いわゆる、スローリーク）が生じ、少量の処理液が排液管６２に流入している場合、排液管６２内の処理液は、複数の検出ポイント８３のうちの一部を通過し、発光部８１からの光のうち、当該一部に対応する光を遮る。処理液の透光性が比較的低い場合、処理液により遮られた光は受光部８２へは到達せず、処理液の透光性が比較的高い場合、処理液により遮られた光の一部が処理液を通過して受光部８２へと到達する。いずれの場合も、処理液により光が遮られることにより、受光部８２における受光量が低下する。受光部８２からの出力は継続的に判断部７１に送られる。
【００３８】
判断部７１は、受光部８２における受光量がある程度以上低下し、予め定められている第１閾値受光量以下になると、排液管６２の断面の一部を流れる処理液が存在すると判断する。第１閾値受光量は、発光部８１からの光が排液管６２内で遮られずに受光部８２により受光された場合の受光量（以下、「正常受光量」という。）よりも小さい光量である。液体検出装置８により排液管６２の断面の一部を流れる処理液が検出されると、図示省略のアラーム等の報知手段により、第３ノズル５３からの処理液の漏れが生じていることが作業者に対して報知される。
【００３９】
また、例えば、排液管６２の下流にて詰まりが生じている状態で第３ノズル５３から受液部６１へとプリディスペンスが行われた場合、第３ノズル５３からの処理液は、排液管６２内に滞留する。この場合、排液管６２内の処理液は、複数の検出ポイント８３の大部分または全てと重なり、発光部８１からの光の大部分または全てを遮る。処理液の透光性が比較的低い場合、処理液により遮られた光は受光部８２へは到達せず、処理液の透光性が比較的高い場合、処理液により遮られた光の一部が処理液を通過して受光部８２へと到達する。いずれの場合も、処理液により光が遮られることにより、受光部８２における受光量が低下する。
【００４０】
判断部７１は、受光部８２における受光量が、予め定められている第２閾値受光量以下まで低下すると、排液管６２の断面の略全体に処理液が存在すると判断する。第２閾値受光量は、正常受光量および第１閾値受光量よりも小さい光量である。液体検出装置８により排液管６２の断面略全体に処理液が存在することが検出されると、図示省略のアラーム等の報知手段により、排液管６２に詰まりが生じていることが作業者に対して報知される。
【００４１】
基板処理装置１では、第１ノズル５２の退避位置にも、第３ノズル５３の退避位置と同様に、受液部６１、排液管６２および液体検出装置８が設けられ、第１ノズル５１からの処理液の漏れ、および、排液管６２の詰まりの検出が行われる。第２ノズル５２の退避位置についても同様である。
【００４２】
以上に説明したように、液体検出装置８は、発光部８１と、受光部８２と、判断部７１とを備える。発光部８１は、重力方向に沿って延びる管路である排液管６２に向けて光を出射する。受光部８２は、排液管６２を経由した発光部８１からの光を受ける。判断部７１は、受光部８２からの出力に基づいて排液管６２の断面の一部を流れる液体の存否を判断する。排液管６２内における発光部８１からの光に対応する複数の検出ポイント８３は、排液管６２の長手方向に対して傾斜する配列方向に配列される。これにより、複数の検出ポイントが排液管の長手方向に平行に配列される場合と異なり、排液管６２の周方向の広い範囲に亘って液体の存否を検出することができる。したがって、液体が排液管６２の内面の一部を伝わって流れている場合等であっても、排液管６２の断面の一部のみを流れる液体を精度良く検出することができる。
【００４３】
液体検出装置８では、複数の検出ポイント８３が、排液管６２の幅方向において、排液管６２の全幅に亘って配列される。これにより、排液管６２の周方向のさらに広い範囲に亘って液体の存否を検出することができる。その結果、排液管６２の断面の一部のみを流れる液体を、さらに精度良く検出することができる。
【００４４】
上述のように、受光部８２は、排液管６２の外面に沿って配置される。これにより、排液管６２を通過した直後の光を受光部８２により受光することができるため、排液管６２内の液体の検出精度を向上することができる。
【００４５】
排液管６２が重力方向に平行に延びている場合、排液管６２に流入した少量の液体は、排液管６２の断面のいずれの位置をも流れる可能性がある。液体検出装置８では、上述のように、排液管６２の断面の一部のみを流れる液体を精度良く検出することができるため、液体検出装置８の構造は、重力方向に平行に延びる排液管６２内の液体の検出に特に適している。
【００４６】
液体検出装置８では、判断部７１が、受光部８２からの出力に基づいて、排液管６２の断面全体に液体が存在することも検出可能である。これにより、処理液供給部５からの処理液の漏れを検出する構成を、排液管６２の詰まりを検出する構成として兼用することができる。その結果、液体検出装置８を備える基板処理装置１の構造を簡素化することができる。
【００４７】
図５は、排液管６２内における複数の検出ポイント８３の他の好ましい例を示す図である。図５に示す例では、複数の検出ポイント８３は、管路である排液管６２の長手方向、および、長手方向に垂直な幅方向にマトリクス状に配置される。換言すれば、当該複数の検出ポイント８３は、幅方向に略平行に配列される検出ポイント８３の列である検出ポイント列を複数含み、当該複数の検出ポイント列は、長手方向に沿って配列される。
【００４８】
各検出ポイント列に注目すると、各検出ポイント列に含まれる複数の検出ポイント８３の配列方向は、排液管６２の長手方向に対して傾斜している。これにより、上述の例と同様に、排液管６２の断面の一部のみを流れる液体を精度良く検出することができる。また、複数の検出ポイント８３が、排液管６２の長手方向および幅方向にマトリクス状に配置されることにより、発光部８１からの光が排液管６２内の液体により遮られた場合、受光部８２における受光量と正常受光量との差を大きくすることができる。その結果、排液管６２の断面の一部のみを流れる液体を、さらに精度良く検出することができる。また、排液管６２の断面全体に液体が存在することも精度良く検出することができる。
【００４９】
上述の液体検出装置８および基板処理装置１では、様々な変更が可能である。
【００５０】
例えば、複数の検出ポイント８３の配置は、複数の検出ポイント８３の配列方向が排液管６２の長手方向に対して傾斜しているのであれば、上述の配置例に限定される必要はなく、様々に変更されてよい。また、複数の検出ポイント８３は、必ずしも排液管６２の全幅に亘って配列される必要はない。
【００５１】
発光部８１および受光部８２は、必ずしも排液管６２の外面に沿って配置される必要はなく、排液管６２の外面から離間した位置に配置されてもよい。
【００５２】
判断部７１では、排液管６２の断面全体に液体が存在することは、判断されなくてもよい。
【００５３】
液体検出装置８は、基板処理装置１において、上述の排液管６２以外の様々な管路に設けられ、当該管路内の液体の検出に利用されてよい。例えば、液体検出装置８の発光部８１および受光部８２は、充填剤溶液供給源５７から第２ノズル５２に充填剤溶液を供給する管路において、重力方向に沿って延びる部位に設けられてもよい。この場合、液体検出装置８により、充填剤溶液供給源５７からの充填剤溶液のスローリーク等が検出される。
【００５４】
基板処理装置１では、処理液供給部５から基板９に供給される複数種類の処理液は、上述の例には限定されず、様々に変更されてよい。あるいは、処理液供給部５から基板９に供給される処理液は１種類のみであってもよい。
【００５５】
上述の基板処理装置１は、半導体基板以外に、液晶表示装置、プラズマディスプレイ、ＦＥＤ（field emission display）等の表示装置に使用されるガラス基板の処理に利用されてもよい。あるいは、上述の基板処理装置１は、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板および太陽電池用基板等の処理に利用されてもよい。
【００５６】
液体検出装置８は、必ずしも基板処理装置１に設けられる必要はなく、基板処理装置１以外の装置にて利用されてもよい。また、液体検出装置８は、他の装置とは独立して単独で利用されてもよい。
【００５７】
上記実施の形態および各変形例における構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わされてよい。
【符号の説明】
【００５８】
１    基板処理装置
８    液体検出装置
９    基板
１１    チャンバ
３１    基板保持部
６２    排液管
７１    判断部
８１    発光部
８２    受光部
８３    検出ポイント
Ｊ１    中心軸
【図１】
2018028500.tif 000003
【図２】
2018028500.tif 000004
【図３】
2018028500.tif 000005
【図４】
2018028500.tif 000006
【図５】
2018028500.tif 000007