(57)【要約】【課題】画面が湾曲している場合でも、ユーザのタッチ面積やタッチ位置を正確に決定することができる表示装置を提供する【解決手段】発光素子を含有する表示パネルと、表示パネルと重なるタッチセンサと、表示パネルに取り付けられる第１のセンサと第２のセンサを有する表示装置が提供される。第１のセンサは、曲率が増大するにつれて抵抗が増大する、可撓性の抵抗である。第２のセンサは、加速度センサである。第１のセンサは、表示パネル上、あるいは表示パネル下に設けられる。【選択図】図４
2018060404.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光素子を含む表示パネルと、
前記表示パネルと重なるタッチセンサと、
前記表示パネルの形状変化に伴って形状が変化する第１のセンサと、
加速度センサである第２のセンサを有する表示装置。
【請求項２】
前記第１のセンサは、曲率が増大するにつれて抵抗が増大する、請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記第１のセンサは前記表示パネルと重なる、請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記表示パネルは、第１から第４の辺を有する四角形の形状を有する表示領域を備え、
前記第１のセンサは、前記表示領域を囲むように複数設けられ、
前記第１のセンサは、それぞれ前記第１から第４の辺のいずれかに対して平行に配置される、請求項１に記載の表示装置。
【請求項５】
前記第２のセンサは、前記表示パネルと重なる、請求項１に記載の表示装置。
【請求項６】
前記表示パネルは可撓性を有する、請求項１に記載の表示装置。
【請求項７】
前記表示パネルと前記タッチセンサと前記第１のセンサと前記第２のセンサとを格納する筐体を有する、請求項１に記載の表示装置。
【請求項８】
前記タッチセンサは、前記表示装置へのタッチのｘ座標とｙ座標を決定するように構成され、
前記表示パネルはさらに、
前記表示装置の態様を判断するように構成される第１の回路と、
前記第１の回路の出力に基づき、前記ｘ座標と前記ｙ座標を補正するように構成される第２の回路を有し、
前記態様は前記表示装置の形状と姿勢を含む、請求項１に記載の表示装置。
【請求項９】
前記タッチセンサの表面に位置する任意の一点を通過し、かつ、前記表示パネルの一つの辺と平行な線を基準線とした場合、前記姿勢は、前記基準線に直交し、前記タッチセンサの前記表面と接する接線が水平面となす角度である、請求項８に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記辺は、直線の辺である、請求項９に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記姿勢は、前記タッチセンサの表面に位置する任意の一点を通過する、前記表示パネルの法線のベクトルと水平面とのなす角度である、請求項８に記載の表示装置。
【請求項１２】
発光素子を含む表示パネルと、
前記表示パネルと重なるタッチセンサと、
前記表示パネルの形状変化に伴って形状が変化する第１のセンサと、
加速度センサである第２のセンサを有する表示装置において、
前記表示装置の態様を前記第１のセンサと前記第２のセンサを用いて判断し、
前記表示パネルへのタッチのｘ座標とｙ座標を前記タッチセンサを用いて決定し、
前記態様に基づいて前記ｘ座標と前記ｙ座標を補正することを含み、
前記態様は前記表示装置の形状と姿勢を含む、タッチ操作の補正方法。
【請求項１３】
前記第１のセンサは、曲率が増大するにつれて抵抗が増大する可撓性の抵抗である、請求項１２に記載の補正方法。
【請求項１４】
前記表示装置は形状情報メモリを有し、
前記形状情報メモリには、前記形状と、前記形状における前記第１のセンサの抵抗率が格納され、
前記第１のセンサが示す抵抗率に最も近い前記抵抗率を有する前記形状を前記形状情報メモリから呼び出すことを含む、請求項１３に記載の補正方法。
【請求項１５】
前記表示装置は姿勢情報メモリを有し、
前記姿勢情報メモリには、前記姿勢と、前記姿勢における前記第２のセンサが出力する信号が格納され、
前記第２のセンサが出力する信号に最も近い前記信号を与える前記姿勢を前記姿勢情報メモリから呼び出すことを含む、請求項１２に記載の補正方法。
【請求項１６】
前記表示装置は補正値メモリを有し、
前記補正値メモリには、前記態様と、前記態様における補正係数が格納され、
判断された前記態様に対応する前記補正係数を前記補正値メモリから呼び出すことを含む、請求項１２に記載の補正方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態の一つは、タッチセンサが搭載された表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ユーザが表示装置に対して情報を入力するためのインターフェースとして、タッチセンサが知られている。タッチセンサを表示装置の画面と重なるように設置することで、画面上に表示される入力ボタンやアイコンなどをユーザが操作することができ、表示装置へ容易に情報を入力することができる。タッチセンサの代表例として投影型静電容量方式のタッチセンサが知られている。この方式のタッチセンサでは、ストライプ状に形成された複数の送信電極（Ｔｘ）と受信電極（Ｒｘ）が互いに交差するように配置されており、ＴｘとＲｘ間で容量が形成される。人の指などがタッチセンサに直接あるいは間接的に触れる（以下、タッチ、あるいはタッチ操作と記す）ことでこの容量が変化し、その変化を測定することでタッチの位置（以下、タッチ位置と記す）、すなわち、タッチセンサにおけるｘ座標とｙ座標を決定することができる。
【０００３】
表示装置の画面が曲面を有するように形成され、その上にタッチセンサを搭載する場合、ユーザの指などがタッチセンサと接触する面積（以下、タッチ面積と記す）は、タッチ位置によって異なることがある。また、画面の場所によっては、ユーザがタッチを意図した位置と実際のタッチ位置がずれる場合がある。このようなタッチ面積の変化、タッチ位置ずれなどを補正するため、例えば特許文献１では、Ｔｘ電極、および／あるいはＲｘ電極の間隔を連続的に変化させている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−２５６２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、画面が湾曲している場合でも、タッチ面積やタッチ位置を正確に決定することができる表示装置を提供することを目的の一つとする。あるいは、タッチ面積やタッチ位置を補正するためのタッチ操作の補正方法を提供することを目的の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の実施形態の一つは、発光素子を含む表示パネルと、表示パネルと重なるタッチセンサと、表示パネルとタッチセンサを格納する筐体と、表示パネルの形状変化に伴って形状が変化するように据え付けられた第１のセンサと、筐体内の第２のセンサを有する表示装置である。第１のセンサは、曲率が増大するにつれて抵抗が増大する可撓性の抵抗であり、第２のセンサは、加速度センサである。
【０００７】
本発明の実施形態の一つは、表示装置のタッチ操作の補正方法である。表示装置は、発光素子を含む表示パネルと、表示パネルと重なるタッチセンサと、表示パネルとタッチセンサを格納する筐体と、表示パネルの形状変化に伴って形状が変化するように据え付けられ、曲率が増大するにつれて抵抗が増大する可撓性の抵抗である第１のセンサと、筐体内に位置し、加速度センサである第２のセンサを有する。当該補正方法は、表示装置の態様を第１のセンサと第２のセンサを用いて判断し、表示パネルへのタッチのｘ座標とｙ座標をタッチセンサを用いて決定し、態様に基づいてｘ座標とｙ座標を補正することを含む。態様は表示装置の形状と姿勢を含む。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の実施形態の表示装置の斜視図。
【図２】本発明の実施形態の表示装置の上面図と底面図。
【図３】本発明の実施形態の表示装置の態様を説明する図。
【図４】本発明の実施形態の表示装置の態様を説明する図。
【図５】本発明の実施形態の表示装置の態様を説明する図。
【図６】本発明の実施形態の表示装置の使用形態、および姿勢を説明する図。
【図７】本発明の実施形態の表示装置の使用形態を説明する図。
【図８】本発明の実施形態の表示装置の補正システム。
【図９】本発明の実施形態の表示装置のタッチセンサの上面図。
【図１０】本発明の実施形態の表示装置の断面図。
【図１１】本発明の実施形態の表示装置の発光素子の断面図。
【図１２】本発明の実施形態の表示装置の断面図。
【図１３】本発明の実施形態の表示装置の斜視図。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の各実施形態について、図面等を参照しつつ説明する。但し、本発明は、その要旨を逸脱しない範囲において様々な態様で実施することができ、以下に例示する実施形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。
【００１０】
図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。本明細書と各図において、既出の図に関して説明したものと同様の機能を備えた要素には、同一の符号を付して、重複する説明を省略することがある。
【００１１】
本発明において、ある一つの膜を加工して複数の膜を形成した場合、これら複数の膜は異なる機能、役割を有することがある。しかしながら、これら複数の膜は同一の工程で同一層として形成された膜に由来し、同一の層構造、同一の材料を有する。したがって、これら複数の膜は同一層に存在しているものと定義する。
【００１２】
本明細書および特許請求の範囲において、ある構造体の上に他の構造体を配置する態様を表現するにあたり、単に「上に」と表記する場合、特に断りの無い限りは、ある構造体に接するように、直上に他の構造体を配置する場合と、ある構造体の上方に、さらに別の構造体を介して他の構造体を配置する場合との両方を含むものとする。
【００１３】
（第１実施形態）
［１．全体構成］
図１は、本発明の第１実施形態のタッチセンサ搭載の表示装置（以下、単に表示装置と記す）１００の模式的な斜視図である。表示装置１００は、映像を表示するための表示パネル１０２と、表示パネル１０２上に位置し、タッチを認識するためのタッチセンサ２００（後述）を有している。表示パネル１０２とタッチセンサ２００は可撓性を有することができ、これらは筐体１０４内に格納することができる。
【００１４】
筐体１０４は可撓性を有してもよく、あるいは、任意に形状を変化できない程度に剛性を有してもよい。筐体１０４が可撓性を有する場合、ユーザは表示装置１００を任意の形状に変化させることができ、湾曲した壁や円柱状の柱、あるいは身体の一部などに自由に設置、装着することができる。一方、筐体１０４が剛性を有する場合、表示パネル１０２とタッチセンサ２００を平坦な状態で筐体１０４に格納してもよく、あるいは任意の形状へ成型したのちに筐体１０４へ格納してもよい。この場合、平坦な、あるいは屈曲した状態の表示パネル１０２やタッチセンサ２００の形状が筐体１０４によって保持される。筐体１０４の形状は、表示装置１００を設置する場所の形状を考慮して決定すればよい。
【００１５】
図示していないが、筐体１０４には、表示装置１００を駆動するためのバッテリーや回路基板、あるいはカメラや音声出力部などの付属品が搭載されていてもよい。
【００１６】
タッチセンサ２００が搭載された表示パネル１０２の上面図を図２（Ａ）に、底面図を図２（Ｂ）に示す。図２（Ａ）に示すように、表示パネル１０２は基板１０６上に表示領域１０８を有しており、表示領域１０８と重なるようにタッチセンサ２００が設けられている。表示パネル１０２および表示領域１０８は、全体として四つの辺を備える四角形の形状をとることができる。表示領域１０８には複数の画素１１０が設けられる。画素１１０はマトリクス状に配置され、各画素１１０には液晶素子や発光素子などの表示素子が備えられる。これらの画素１１０により、映像が表示領域１０８上に再生される。
【００１７】
基板１０６上にはさらに、表示領域１０８に設けられる画素１１０の駆動を制御するための走査線側駆動回路１１２が設けられる。走査線側駆動回路１１２は基板１０６の上に直接形成される必要はなく、基板１０６とは異なる基板（半導体基板など）上に形成された駆動回路を基板１０６やコネクタ１１４上に設け、これらの駆動回路によって各画素１１０を制御してもよい。表示領域１０８からは図示しない配線が基板１０６の端部へ延びており、配線の末端には端子１１６が設けられる。端子１１６はコネクタ１１４と接続され、外部回路から表示領域１０８を駆動するための各種信号が端子１１６を介して供給される。コネクタ１１４としては、フレキシブル印刷回路（ＦＰＣ）基板などが挙げられる。
【００１８】
タッチセンサ２００は、行方向にストライプ状に配列される複数の第１のタッチ電極２０２と、列方向にストライプ状に配列され、第１のタッチ電極２０２と交差する複数の第２のタッチ電極２０４を有している。第１のタッチ電極２０２と第２のタッチ電極２０４のいずれか一方は送信電極（Ｔｘ）、他方は受信電極（Ｒｘ）とも呼ばれる。第１のタッチ電極２０２と第２のタッチ電極２０４は互いに離間しており、これらの間で容量が形成される。人の指などが第１のタッチ電極２０２と第２のタッチ電極２０４を介して表示領域１０８に直接、あるいは間接的にタッチすることで容量が変化し、この変化を読み取ることでタッチ位置（表示領域１０８上のｘ座標とｙ座標）が決定される。このように表示装置１００では、第１のタッチ電極２０２と第２のタッチ電極２０４により、いわゆる投影型静電容量方式のタッチセンサ２００が形成される。第１のタッチ電極２０２と第２のタッチ電極２０４は図示しない配線、および端子１１６を経由してコネクタ１１４および駆動ＩＣ１１８と電気的に接続され、これらを介して外部回路からタッチセンサ２００用の種々の信号が供給される。
【００１９】
図２（Ｂ）の底面図を参照すると、基板１０６の下には第１のセンサ１２０、１２２、１２４、１２６が設けられる。第１のセンサ１２０、１２２、１２４、１２６はいわゆる曲率センサであり、屈曲して曲率が変化することでその電気抵抗（抵抗率）が変化するものである。具体的には、第１のセンサ１２０、１２２、１２４、１２６は、より大きく曲がる、すなわち、曲率が大きくなるほど抵抗率が大きくなるように構成される。例えば第１のセンサ１２０、１２２、１２４、１２６は、内部に設けられる導電体の断面積が曲げによって変化し、この断面積の変化に応じて抵抗が変化するよう構成することができる。後述するように、基板１０６が可撓性を有し屈曲できる場合、この第１のセンサ１２０、１２２、１２４、１２６により、表示パネル１０２の形状を認識、判断することができる。
【００２０】
図２（Ｂ）には第１のセンサ１２０、１２２、１２４、１２６が基板１０６の下（表示領域１０８に対し、基板１０６の反対側）に配置される例を示すが、これらのセンサの一部、あるいはすべてが基板１０６の上に設けられていてもよい。この場合、第１のセンサ１２０、１２２、１２４、１２６の一部は走査線側駆動回路１１２の上に位置し、走査線側駆動回路１１２と重なってもよい。また、図２（Ｂ）では第１のセンサ１２０、１２２、１２４、１２６が表示領域１０８を取り囲むように四つ設けられているが、表示パネル１０２には必ずしも四つの第１のセンサを設ける必要はなく、三つ以下、あるいは五つ以上の第１のセンサを設けてもよい。
【００２１】
基板１０６の下には、さらに第２のセンサ１３０が設けられる。第２のセンサ１３０はいわゆる加速度センサであり、静電容量型、ピエゾ抵抗型、ガス温度分布型など、様々なタイプの加速度センサを用いることができる。後述するように、この第２のセンサを用いることで、表示装置１００の姿勢を認識することができる。第１のセンサ１２０、１２２、１２４、１２６と同様、第２のセンサ１３０を基板１０６の上に設けてもよく、この場合、第２のセンサ１３０は走査線側駆動回路１１２と重なってもよい。第２のセンサ１３０は複数設けてもよく、この場合には、基板１０６の上面と下面の両方に設置してもよい。
【００２２】
第１のセンサ１２０、１２２、１２４、１２６や第２のセンサ１３０は表示パネル１０２と接している必要はない。第１のセンサ１２０、１２２、１２４、１２６は、表示パネル１０２の形状の変化に伴って形状が変化するように、表示装置１００に設けられれば良い。第２のセンサ１３０は、筐体１０４内に備え付けられていればよい。
【００２３】
［２．表示装置の態様］
上述したように、表示装置１００を構成する表示パネル１０２、タッチセンサ２００、および筐体１０４は可撓性を有することができる。このため、ユーザは任意の形状に表示装置１００を変形して様々な態様（Ｃｏｎｆｉｇｕｒａｔｉｏｎ）で表示装置１００を利用することができる。表示装置１００の態様は、第１のセンサ１２０、１２２、１２４、１２６と第２のセンサ１３０の出力（あるいは情報）に基づいて判断することが可能である。ここで態様とは、表示装置１００の形状、および姿勢である。形状は、表示領域１０８の四つの辺で定義される形状である。姿勢とは、表示領域１０８内のある一点を基準点として固定した時、基準点を通過する表示パネル１０２の法線のベクトルによって決定される。以下に、態様の具体例を図３（Ａ）乃至図５（Ｂ）を用いて示す。なお、これらの図の一部では、タッチセンサ２００やコネクタ１１４、筐体１０４などは省略されている。
【００２４】
＜形状＞
図３（Ａ）は表示装置１００を折り曲げたり湾曲することなく、表示パネル１０２のほぼ全体を平坦な状態で使用する場合である。ここで、基板１０６の表示領域１０８が形成されている側を上方向、その逆を下方向と定義する。表示領域１０８が上方向に突き出る凸部を形成するように表示パネル１０２のｙ方向を湾曲させることで、図３（Ｂ）に示す形状を得ることができる。逆に、表示領域１０８が下方向に窪んだ凹部を形成するように表示パネル１０２のｙ方向を湾曲させることで、図４（Ａ）に示す形状が得られる。
【００２５】
一方、表示領域１０８が上方向に突き出る凸部を形成するように表示パネル１０２のｘ方向を湾曲させることで、図４（Ｂ）に示す形状を得ることができる。逆に、表示領域１０８が下方向に窪んだ凹部を形成するように表示パネル１０２のｙ方向を湾曲させることで、図５（Ａ）に示す形状が得られる。さらに図５（Ｂ）に示すように、ｙ方向を異なる方向に二度湾曲させることで表示パネル１０２は波型の形状を有することができる。この場合、表示パネル１０２には凸部と凹部が形成される。図示していないが、表示パネル１０２はｘ、ｙ方向の両方が同時に湾曲した形状をとってもよい。
【００２６】
このような種々の形状は、表示パネル１０２の形状に合わせて形状を変化するように設けられる第１のセンサ１２０、１２２、１２４、１２６を用いることによって認識、判断することができる。
【００２７】
＜姿勢＞
上述したように、本明細書および請求項では、表示装置１００の姿勢は、表示領域１０８内のある一点を基準点１４０として設定した時、基準点１４０を通過する表示パネル１０２の法線ベクトル、あるいは法線ベクトルと水平面の角度によって決定される。例えば表示装置１００をユーザの腕などに装着した場合、図６（Ａ）中の矢印で示すように、表示装置１００は腕を軸として回転し、ユーザや水平面に対して異なる姿勢を取りうる。つまり、法線１４２のベクトルが変化する。この態様の断面模式図を図６（Ｂ）乃至（Ｄ）に示す。
【００２８】
ここでは一例として、基準点１４０をユーザの目に最も近い位置とし、この基準点１４０を通過し、かつ、表示領域１０８の辺から選択される一つの辺に平行な直線を基準線（あるいは正面位置）１４４として定義する。基準点１４０は、例えばタッチセンサ２００の表面に位置することができる。この直線は、表示パネル１０２を平坦な状態にしたときに、上記選択された辺と平行となる。選択される辺は、表示パネル１０２が平坦な状態から変形されているときに直線を維持していてもよい。図６（Ｂ）に示すように、基準点１４０に接し、基準線１４４と直行する接線１４６と水平面１４８とがなす角度θを表示装置１００の姿勢を表現する指標の一つとして利用することができる。図６（Ｂ）の状態を基準として考えると、図６（Ｃ）は表示パネル１０２は全体として下方を向いた状態であり、この時の角度θは図６（Ｂ）のそれよりも大きい。一方図６（Ｄ）の状態では、表示パネル１０２の正面は上方を向いた状態であり、角度θは図６（Ｂ）のそれよりも小さい。
【００２９】
この角度θを第２のセンサからの出力、あるいは情報に基づいて見積もることにより、表示装置１００の姿勢を判断することが可能である。上述した形状とこの姿勢という二つの情報に基づき、表示装置１００の態様が決定される。
【００３０】
［３．補正の概要］
以下、表示装置１００へユーザがタッチする際の補正の概要を説明する。図７（Ａ）に示すように、湾曲している表示パネル１０２上のタッチセンサ２００を直接、あるいは間接的にユーザが指でタッチする場合、タッチする場所によってタッチ面積が異なる。より具体的には図７（Ａ）の断面模式図である図７（Ｂ）に示すように、表示パネル１０２の中央（例えば先に定義した基準線１４４）付近をタッチする場合、指と表示パネル１０２が接触する面積であるタッチ面積１５０と比較し、表示パネル１０２の上部をタッチする際のタッチ面積１５２は大きくなる。これは、上部をタッチする際には指先よりも指の腹の部分がより表示パネル１０２に接触しやすく、また、指の腹は指先よりも一般的に柔らかく表示パネル１０２の形状に合わせて変形するためである。一方、表示パネル１０２の下部をタッチする場合のタッチ面積１５４は、タッチ面積１５０と比較して小さくなる。この理由の一つは、指先の面積が指の腹の面積よりも小さいからである。
【００３１】
したがって、ユーザが均一な力で表示パネル１０２をタッチしようとしても、タッチを意図する場所によってはタッチ面積が異なるため、表示装置１００は、ユーザが意図しない場所までタッチ操作が行われたと認識することになる。あるいは表示装置１００は、ユーザがタッチしたと認識した位置においてタッチ操作が行われていないと誤認することになる。また、タッチ面積がユーザの意図に反して変動すると、タッチセンサ２００における容量変化もユーザの意図と無関係に変動するため、検出レベルが変動し、使用感が悪化する。
【００３２】
また、図７（Ｃ）に示すように、例えば表示パネル１０２の上部で再生される表示１５６に対してユーザがタッチを試みる場合、ユーザの目の位置によっては、表示１５６が再生される画素１１０に対応する位置ではなく、この位置よりも下方の位置１５８に表示１５６が再生されたとユーザが誤認し、その結果、表示１５６の位置を正確にタッチできず、タッチ位置のずれが発生する。
【００３３】
このようなタッチ面積の変化やタッチ位置のずれを防ぐために補正を行う。補正は、例えば基準線１４４に平行な行、あるいは列ごとに適切な補正係数を使用して行うことができる。具体的には、以下に示すようなシステム、あるいは回路を用いて補正を行う。
【００３４】
［３．システム構成および補正方法］
図８に、表示装置１００に対するタッチを検知し、そのタッチ位置やタッチ面積を補正するための補正システム３００の構成を示す。
【００３５】
＜態様の決定＞
ｘ方向曲率センサ３０２、ｙ方向曲率センサ３０４は、上述した第１のセンサを含む。表示領域１０８の一つの辺に平行な方向をｘ方向、ｘ方向に垂直な方向をｙ方向とすると（図２（Ａ）参照）、前者は第１のセンサ１２０、１２４を含み、後者は第１のセンサ１２２、１２６を含む。これらのセンサは、表示パネル１０２の変形に伴って変形し、その変形量（曲率）に基づいて抵抗率が変化する。この抵抗率の変化は、曲率検出回路３０６に備えられるｘ方向曲率検出回路３０８、ｙ方向曲率検出回路３１０によってそれぞれ読み取られる。ｘ方向に平行に二つの第１のセンサ（例えば第１のセンサ１２０、１２４）が設けられる場合、それぞれの第１のセンサの抵抗率をｘ方向曲率検出回路３０８によって読み取ればよい。
【００３６】
曲率検出回路３０６から出力される信号は、態様判定回路３２０に備えられる形状判定回路３２２に入力される。形状情報メモリ３２４には、ｘ方向曲率検出回路３０８、ｙ方向曲率検出回路３１０によって読み取られるｘ方向、ｙ方向の抵抗率と、ｘ方向、ｙ方向の曲率との相関をまとめたデータテーブルが格納されている。あるいは、形状情報メモリ３２４には、抵抗率と曲率間の変換式が格納されていてもよい。さらに、表示パネル１０２のあらかじめ想定した形状や過去に使用した形状が与えるｘ方向、ｙ方向の抵抗率が格納されていてもよい。形状判定回路３２２は形状情報メモリ３２４に格納されたｘ方向、ｙ方向の抵抗率を参照し、ｘ方向曲率検出回路３０８、ｙ方向曲率検出回路３１０によって読み取られるｘ方向、ｙ方向の抵抗率から表示パネル１０２の形状を判定する、あるいは読み取られた抵抗率から最も近い抵抗率を有する形状を、形状情報メモリ３２４から呼び出すように構成される。これにより、表示パネル１０２の形状が決定される。
【００３７】
第２のセンサ１３０が出力する信号は傾き検出回路３４０に入力されて処理され、その後、態様判定回路３２０に備えられる姿勢判定回路３２６へ姿勢情報として入力される。姿勢情報メモリ３２８には、傾き検出回路が出力する信号（例えばｘ、ｙ、ｚ方向の三軸の加速度信号）と、姿勢（例えば上述した角度θ）との相関をまとめたデータテーブルや変換式を格納することができる。あるいは、あらかじめ想定した姿勢、過去に使用した姿勢と、それに対応する信号を格納することができる。姿勢判定回路３２６は、姿勢情報メモリ３２８に格納された情報を参照し、傾き検出回路３４０から出力される信号に基づき、表示パネル１０２の姿勢を判定する、あるいは当該信号から最も近い信号を与える姿勢を呼び出すように構成される。これにより、表示パネル１０２の姿勢が決定される。
【００３８】
形状判定回路３２２、姿勢判定回路３２６で判定された表示パネル１０２の態様に関する情報は、正面位置判定回路３３０に入力される。正面位置メモリ３３２には、表示パネル１０２のあらかじめ想定される、あるいは過去に使用した態様、表示パネル１０２の基準点１４０、あるいは基準線１４４との相関をまとめたデータテーブルを格納することができる。正面位置判定回路３３０は正面位置メモリ３３２に格納された情報を参照し、表示パネル１０２の態様に関する情報に基づき、表示パネル１０２の基準線１４４（正面位置）を決定する。
【００３９】
＜補正＞
正面位置と表示パネル１０２の態様に関する情報は、正面位置判定回路３３０を介し、補正値選定回路３５０に備えられる選定回路３５２へ出力される。補正値メモリ３５４には、表示パネル１０２の態様、および正面位置に基づき、正面位置を基準とするｘ方向補正係数とｙ方向補正係数を補正係数として格納することができる。選定回路３５２は、このｘ方向補正係数とｙ方向補正係数を表示パネル１０２の態様と正面位置に基づいて呼び出し、それぞれｘ方向感度補正回路３５６とｙ方向感度補正回路３５８へ出力する。
【００４０】
タッチセンサ２００においては、ユーザによるタッチにより、容量の変化が発生し、これがタッチ検出回路３６０によって読み取られ、タッチ位置のｘ座標とｙ座標が見積もられる。ここで見積もられたｘ座標、ｙ座標のデータはそれぞれ、ｘ方向感度補正回路３５６、ｙ方向感度補正回路３５８へ出力される。
【００４１】
ｘ方向感度補正回路３５６、ｙ方向感度補正回路３５８では、タッチ検出回路３６０から入力されたタッチのｘ座標、ｙ座標が、選定回路３５２から入力されるｘ方向補正係数とｙ方向補正係数に基づいて補正される。補正は、例えば基準線１４４から離れるほど、タッチセンサ２００で実際に認識されたタッチ面積よりも大きくなる、あるいは小さくなるように補正することができる。この補正は、基準線１４４を基準として画素１１０のマトリクスの行、あるいは列ごとに補正係数を変化させて行うことができる。あるいは、基準線１４４から離れるほど、タッチセンサ２００で実際に認識されたタッチ位置をｘ方向、あるいはｙ方向にシフトさせるように補正を行うことができる。
【００４２】
なお図８では、形状情報メモリ３２４、姿勢情報メモリ３２８、正面位置メモリ３３２、補正値メモリ３５４はそれぞれ独立したメモリとして記述されているが、これらが一つのメモリ内にまとめられ、このメモリを幾つかのセクタに分割し、分割されたセクタを形状情報メモリ３２４、姿勢情報メモリ３２８、正面位置メモリ３３２、補正値メモリ３５４として使用してもよい。
【００４３】
＜設定＞
上述した方法では、補正値であるｘ方向補正係数とｙ方向補正係数は、表示パネル１０２の態様、および正面位置によって決定されるが、これらの情報に依存せず、あるいはこれらの情報と連携しつつ、タッチ位置とタッチ面積の補正をユーザが能動的に設定するよう、回路を構成してもよい。例えばユーザが補正値の設定を行う場合、表示領域１０８に複数のアイコンや適当なトレースパターンなどを表示し、ユーザにアイコンへのタッチあるいはパターン上のトレースを要求する。この時、タッチセンサ２００、およびタッチ検出回路３６０によって見積もられるタッチ位置と、実際に表示されるアイコンの位置に関する情報が選定回路３５２へ入力される。選定回路３５２では、ユーザの上記操作におけるタッチのずれに基づいて新たに補正係数を生成し、ｘ方向感度補正回路３５６とｙ方向感度補正回路３５８へ補正係数を入力する。これにより、ユーザによる補正値の設定が可能となる。この設定操作においては、仮の補正値を選定回路３５２より生成し、これに基づいてタッチの補正を行ってもよい。
【００４４】
なお、ユーザによる補正値の設定は、表示装置１００の起動時に行うよう、補正システム３００が構成されていてもよい。
【００４５】
さらに、補正値の再設定が必要であるかを自動的に判断するよう、再設定判定回路３７０を補正システム３００に設けてもよい。再設定判定回路３７０にはタッチ位置やタッチ面積のずれに伴うタッチ感度の変動を検知するためのプログラムを搭載することができる。例えば表示領域１０８に表示されるアイコンやバナーをユーザがタッチする際、アイコンやバナーが実施に表示される位置とユーザのタッチ位置やタッチ面積に関する情報を適宜格納するよう、再設定判定回路３７０を構成することができる。これらのずれが大きいと判断した場合に、ユーザに補正値の再設定を促してもよい。なお、自動再設定の頻度が高すぎるとユーザによる使用感を損ねるため、再設定をの要否判断には一定のヒステリシスを持つよう、再設定判定回路３７０を構成してもよい。
【００４６】
あるいは、再設定判定回路３７０は、一定時間ごとに再度表示パネル１０２の態様と姿勢、および正面位置に関する情報を形状判定回路３２２、正面位置判定回路３３０、姿勢判定回路３２６などから取得し、これらの情報を選定回路３５２へ入力するよう構成されてもよ。これにより、表示パネル１０２の態様と正面位置に関する新たな情報に基づき、新たな補正値が選定回路３５２で選び出される、あるいは生成される。これにより、表示装置１００の態様の変化にタイムリーに追従して補正を行うことができる。
【００４７】
上述したように、本発明の実施形態である表示装置１００は、表示パネル１０２の態様に基づき、タッチ位置やタッチ面積の補正を行う。このため、使用環境に従って表示装置１００の形状や姿勢が変化しても正確なタッチを検知することができ、タッチセンサ２００の使用感を損なうことがない。その結果、応用範囲の広い表示装置を提供することが可能となる。
【００４８】
（第２実施形態）
本実施形態では、第１実施形態で述べた表示装置１００の構造の詳細を述べる。
【００４９】
図１の領域１３２の拡大図を図９に模式的に示す。上述したように、タッチセンサ２００は複数の第１のタッチ電極２０２と複数の第２のタッチ電極２０４を有している。複数の第１のタッチ電極２０２は互いに、実質的に等間隔で配置される。同様に、複数の第２のタッチ電極２０４も互いに、実質的に等間隔で配置される。
【００５０】
１のタッチ電極２０２と複数の第２のタッチ電極２０４いずれも、ほぼ四角形の形状を有する複数の四角形領域（ダイヤモンド電極）２０６と、隣接するダイヤモンド電極２０６間の接続領域２０８を有している。ダイヤモンド電極２０６と接続領域２０８は互いに交互する。第１のタッチ電極２０２、第２のタッチ電極２０４は互いに離間しており、電気的に独立している。第１のタッチ電極２０２、第２のタッチ電極２０４のダイヤモンド電極２０６は同一の層内に形成してもよく、異なる層内に形成してもよい。図９ではこれらが同一の層内に形成された例が示されており、この場合、第１のタッチ電極２０２、第２のタッチ電極の一方において、隣接するダイヤモンド電極２０６同士がブリッジ配線２１０によって電気的に接続される。
【００５１】
第１のタッチ電極２０２は、表示領域１０８外から延びる第１の配線２１２と電気的に接続される。第１の配線２１２は表示領域１０８の外を延伸し、コンタクトホール２１６において第１の端子配線２１８と電気的に接続される。第１の端子配線２１８は表示パネル１０２の端部付近で露出されて端子１１６を形成する。
【００５２】
同様に、第２のタッチ電極２０４は、表示領域１０８外から延びる第２の配線２１４と電気的に接続される。第２の配線２１４は表示領域１０８の外を延伸し、コンタクトホール２２０において第２の端子配線２２２と電気的に接続される。第２の端子配線２２２は表示パネル１０２の端部付近で露出されて端子１１６を形成する。
【００５３】
図１０に表示装置１００の断面模式図を示す。図１０は、図９における鎖線Ａ−Ａ´に沿った断面であり、表示領域１０８から第２の配線２１４、第２の端子配線２２２、端子１１６に至る断面を模式的に示す。
【００５４】
表示装置１００は基板１０６を有し、この上に、任意の構成である下地膜１６０を介して、画素１１０を制御するためのトランジスタ１７０や、走査線側駆動回路１１２のトランジスタ１８０が設けられる。基板１０６には、例えばポリイミドやポリアミド、ポリカーボナート、ポリエステルなどの高分子材料を含んでもよい。この場合、基板１０６が可撓性を有することができるので、基板１０６はベースフィルムや、シート基材と呼ばれることもある。表示装置１００に可撓性を付与しない場合には、基板１０６はガラスや石英、金属、セラミックなどを含むことができる。
【００５５】
下地膜１６０は、基板１０６からアルカリ金属などの不純物がトランジスタ１７０、１８０などへ拡散することを防ぐための膜であり、窒化ケイ素や酸化ケイ素、窒化酸化ケイ素、酸化窒化系をなどの無機化合物を用いることができ、単層、あるいは積層構造で形成される。下地膜１６０は化学気相成長法（ＣＶＤ法）やスパッタリング法などを適用して形成することができる。
【００５６】
トランジスタ１７０は半導体膜１７２、ゲート絶縁膜１７４、ゲート電極１７６、ソース／ドレイン電極１７８などを含む。ゲート電極１７６はゲート絶縁膜１７４を介して半導体膜１７２と重なっており、ゲート電極１７６と重なる領域が半導体膜１７２のチャネル領域である。半導体膜１７２はチャネル領域を挟むようにソース／ドレイン領域を有してもよい。ゲート電極１７６上には層間膜１６２を設けることができ、層間膜１６２とゲート絶縁膜１７４に設けられる開口において、ソース／ドレイン電極１７８は半導体膜１７２と電気的に接続される。なお、半導体膜１７２の一部は、端子１１６が設けられる領域に形成してもよい。
【００５７】
半導体膜１７２は例えばケイ素などの１４族元素を含むことができる。あるいは半導体膜１７２は酸化物半導体を含んでもよい。酸化物半導体としては、インジウムやガリウムなどの第１３族元素を含むことができ、例えばインジウムとガリウムの混合酸化物（ＩＧＯ）が挙げられる。酸化物半導体を用いる場合、半導体膜１７２はさらに１２族元素を含んでもよく、一例としてインジウム、ガリウム、および亜鉛を含む混合酸化物（ＩＧＺＯ）が挙げられる。半導体膜１７２の結晶性に限定はなく、半導体膜１７２は単結晶、多結晶、微結晶、あるいはアモルファスのいずれの結晶場外と含んでもよい。
【００５８】
半導体膜１７２がケイ素を含む場合、半導体膜１７２は、シランガスなどを原料として用い、ＣＶＤ法によって形成すればよい。得られるアモルファスシリコンに対して加熱処理、あるいはレーザなどの光を照射することで結晶化を行ってもよい。半導体膜１７２が酸化物半導体を含む場合、スパッタリング法などを利用して形成することができる。
【００５９】
ゲート絶縁膜１７４は単層構造、積層構造のいずれの構造を有していてもよく、下地膜１６０と同様の手法で形成することができる。
【００６０】
ゲート電極１７６はスパッタリング法やＣＶＤ法を用いて形成することができる。ゲート電極１７６はチタンやアルミニウム、銅、モリブデン、タングステン、タンタルなどの金属やその合金などを用い、単層、あるいは積層構造を有するように形成することができる。例えばチタンやタングステン、モリブデンなどの比較的高い融点を有する金属でアルミニウムや銅などの導電性の高い金属を挟持する構造を採用することができる。
【００６１】
層間膜１６２は単層構造、積層構造のいずれの構造を有していてもよく、下地膜１６０と同様の手法で形成することができる。積層構造を有する場合、例えば有機化合物を含む層を形成したのち、無機化合物を含む層を積層してもよい。
【００６２】
層間膜１６２とゲート絶縁膜１７４には、トランジスタ１７０の半導体膜１７２、および端子１１６を形成する半導体膜１７２に達する開口部が設けらる。開口部はエッチング、例えばフッ素含有炭化水素を含むガス中でのプラズマエッチングによって形成することができる。この開口部を覆うようにソース／ドレイン電極１７８、および第２の端子配線２２２の一部が設けられる。すなわち、第２の端子配線２２２は二つの層を有しており、そのうちの下層がソース／ドレイン電極１７８と同時に形成される。
【００６３】
さらに、ソース／ドレイン電極１７８と第２の端子配線２２２の形成時、発光素子１９０の第２の電極１９６に電位を与えるための陰極コンタクト１８２の一部が同時に形成される。陰極コンタクト１８２も二層構造を有することができ、ソース／ドレイン電極１７８の形成の際、二層構造の下層が形成される。ソース／ドレイン電極１７８、第２の端子配線２２２の下層、陰極コンタクト１８２の下層は、ゲート電極１７６と同様の構造、手法で形成することができる。例えばチタン／アルミニウム／チタンの積層構造、モリブデン／アルミニウム―ネオジウム合金／モリブデンの積層構造などを採用することができる。
【００６４】
トランジスタ１８０もトランジスタ１７０と同様の構造を有するため、詳細な説明は割愛する。図１０では、トランジスタ１７０、１８０はトップゲート型のトランジスタとして図示されているが、トランジスタ１７０、１８０の構造に限定はなく、ボトムゲート型トランジスタ、ゲート電極１７６を複数有するマルチゲート型トランジスタ、半導体膜１７２の上下を二つのゲート電極１７６で挟持する構造を有するデュアルゲート型トランジスタでもよい。
【００６５】
トランジスタ１７０、１８０上には、平坦化膜１６４が備えられる。平坦化膜１６４はトランジスタ１７０、１８０などの半導体素子に起因する凹凸を吸収して平坦な表面を与える機能を有する。平坦化膜１６４は有機絶縁体で形成することができる。有機絶縁体としてエポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル、ポリカーボナート、ポリシロキサンなどの高分子材料が挙げられ、スピンコート法、印刷法、インクジェット法などの湿式成膜法などによって形成することができる。
【００６６】
平坦化膜１６４には、トランジスタ１７０のソース／ドレイン電極１７８、および陰極コンタクト１８２、第２の端子配線２２２の下層、端子１１６の下層を露出するように開口部が設けられる。これらの開口部を覆うように、接続電極１６６が形成される。その結果、表示領域１０８では接続電極１６６がソース／ドレイン電極１７８と電気的に接続され、これと同時に陰極コンタクト１８２の上層と端子１１６の上層が形成される。接続電極１６６はインジウム―スズ酸化物（ＩＴＯ）やインジウム―亜鉛酸化物（ＩＺＯ）などの可視光を透過できる導電性酸化物を用いることができ、スパッタリング法によって形成することができる。接続電極１６６を用いることで、その後のプロセスにおいてソース／ドレイン電極１７８や陰極コンタクト１８２の下層、第２の端子配線２２２の下層を保護することができ、接触抵抗の低いコンタクトを実現することができる。
【００６７】
表示装置１００はさらに、接続電極１６６の端部を覆うように、絶縁膜１６８を有する。絶縁膜１６８は下地膜１６０や層間膜１６２と同様の構造を有することができ、同様の方法で形成することができる。
【００６８】
表示装置１００はさらに、ソース／ドレイン電極１７８と電気的に接続される接続電極１６６の上に、絶縁膜１６８の開口部を覆う第１の電極（画素電極）１９２を有する。発光素子１９０からの発光を第２の電極１９６から取り出す場合、第１の電極１９２は可視光を反射するように構成される。この場合、第１の電極１９２は、銀やアルミニウムなどの反射率の高い金属やその合金を用いる。あるいはこれらの金属や合金を含む膜上に、透光性を有する導電性酸化物の膜を形成する。例えば導電性酸化物／銀またはアルミニウム／導電性酸化物の三層構造や、銀またはアルミニウム／導電性酸化物の二層構造が挙げられる。発光素子１９０からの発光を第１の電極１９２から取り出す場合には、ＩＴＯやＩＺＯを用いて第１の電極１９２を形成すればよい。表示パネル１０２はその上にタッチセンサ２００が設けられるため、第１の電極１９２は可視光を反射する電極として設けられる。
【００６９】
表示装置１００には、第１の電極１９２の端部を覆うように、隔壁１９８が設けられる。隔壁１９８により、第１の電極１９２などに起因する段差を吸収し、かつ、隣接する画素の第１の電極１９２を互いに電気的に絶縁することができる。隔壁１９８はエポキシ樹脂やアクリル樹脂、ポリイミドなど、平坦化膜１６４で使用可能な材料を用い、湿式成膜法で形成することができる。
【００７０】
発光素子１９０は、機能層１９４、および第２の電極１９６を有しており、これらは第１の電極１９２と隔壁１９８を覆うように備えられる。機能層１９４は主に有機化合物を含み、湿式成膜法、あるいは蒸着などの乾式成膜法を適用して形成することができる。発光素子１９０の構成は後述する。第２の電極１９６は、陰極コンタクト１８２の上層を覆い、陰極コンタクト１８２と電気的に接続されるように形成される。これにより、陰極コンタクト１８２を介して第２の電極１９６に電位を供給することができる。
【００７１】
発光素子１９０からの発光を第１の電極１９２から取り出す場合には、第２の電極１９６として、アルミニウムやマグネシウム、銀などの金属やこれらの合金を用いればよい。逆に発光素子１９０からの発光を第２の電極１９６から取り出す場合には、第２の電極１９６として、ＩＴＯなどの透光性を有する導電性酸化物などを用いればよい。あるいは、上述した金属を可視光が透過する程度の厚さで形成することができる。この場合、さらに透光性を有する導電性酸化物を積層してもよい。
【００７２】
図１１（Ａ）、（Ｂ）に発光素子１９０の構造を示す。発光素子１９０は、第１の電極１９２、第２の電極１９４、およびこれらに挟持される機能層１９４によって構成される。第１の電極１９２と第２の電極１９４から注入されるキャリア（電子、ホール）が機能層１９４内で再結合することで機能層１９４中の分子の励起状態が生成する。この励起状態が基底状態に緩和する際のエネルギー差が光として放出されることで、発光が認識される。
【００７３】
機能層１９４の構成は適宜選択することができ、例えばキャリア注入層、キャリア輸送層、発光層、キャリア阻止層、励起子阻止層などを組み合わせて構成することができる。図１１（Ａ）では、機能層１９４が三つの層１９４ａ、１９４ｂ、１９４ｃを有する例が示されている。この場合、例えば層１９４ａはキャリア（ホール）注入／輸送層、層１９４ｂは発光層、層１９４ｃはキャリア（電子）注入／輸送層とすることができる。これらの各層１９４ａ、１９４ｂ、１９４ｃはそれぞれ複数の層で構成されていてもよい。
【００７４】
発光層である層１９４ｂは、図１１（Ａ）に示すように、隣接する画素１１０間で異なる材料を含むように構成することができる。この場合、他の層１９４ａや１９４ｃは複数の画素１１０で共有されるよう、画素１１０および隔壁１９８上にわたって形成すればよい。層１９４ｂで用いる材料を適宜選択することで、画素１１０間で異なる発光色を得ることができる。あるいは、図１１（Ｂ）に示すように、層１９４ｂの構造を画素１１０間で同一としてもよい。この場合、層１９４ｂも複数の画素１１０で共有されるよう、画素１１０および隔壁１９８上にわたって形成すればよい。このような構成では画素１１０の層１９４ｂから同一の発光色が出力されるため、例えば層１９４ｂを白色発光可能な構成とし、カラーフィルタを用いて種々の色（例えば、赤色、緑色、青色）を取り出してもよい。
【００７５】
表示装置１００はさらに、発光素子１９０の上に封止膜２４０を有することができる。封止膜２４０の構造は任意であるが、一つの例として、無機化合物を含む第１の層２４２、有機化合物を含む第２の層２４４、無機化合物を含む第３の層２４６の積層構造が挙げられる。
【００７６】
第１の層２４２は、発光素子１９０や陰極コンタクト１８２、第２の端子配線２２２の一部を覆うように形成することができる。第１の層２４２は、例えば窒化ケイ素や酸化ケイ素、窒化酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素などの無機材料を含むことができ、下地膜１６０と同様の手法で形成することができる。
【００７７】
第２の層２４４は、アクリル樹脂やポリシロキサン、ポリイミド、ポリエステルなどを含む有機樹脂を含有することができる。また、図１０に示すように、隔壁１９８に起因する凹凸を吸収するよう、また、平坦な面を与えるような厚さで形成してもよい。第２の層２４４は、表示領域１０８内に選択的に形成することが好ましい。すなわち第２の層２４４は、第２の端子配線２２２や端子１１６と重ならないように形成することが好ましい。第２の層２４４は、インクジェット法などの湿式成膜法によって形成することができる。あるいは、上記高分子材料の原料となるオリゴマーを減圧下で霧状あるいはガス状にし、これを第１の層２４２に吹き付けて、その後オリゴマーを重合することによって第２の層２４４を形成してもよい。
【００７８】
第３の層２４６は、第１の層２４２と同様の構造を有し、同様の方法で形成することができる。第３の層２４６も、第２の層２４４上だけでなく、第２の端子配線２２２を覆うように形成することができる。これにより、第１の層２４２や第３の層２４６と比較して親水性の高い第２の層２４４を第１の層２４２と第３の層２４６によって封止することができるため、外部からの不純物の侵入、ならびに表示領域１０８内での不純物の拡散をより効果的に防ぐことができる。
【００７９】
封止膜２４０上にタッチセンサ２００が設けられる。図１０に示した例では、タッチセンサ２００は、同一の層内に設けられる第１のタッチ電極２０２と第２のタッチ電極２０４が封止膜２４０の第３の層２４６上に備えられている。第２のタッチ電極２０４の隣接するダイヤモンド電極２０６の間には、これらの端部を覆う層間絶縁膜２２４が設けられ、この上にダイヤモンド電極２０６間を電気的に接続するブリッジ配線２１０が形成される。なお、ブリッジ配線２１０の形成前に、第２の端子配線２２２の一部を露出するようにコンタクトホール２２０が設けられ、ブリッジ配線２１０の形成と同時に、第２のタッチ電極２０４と第２の端子配線２２２を電気的に接続するため第２の配線２１４が形成される。
【００８０】
第１のタッチ電極２０２と第２のタッチ電極２０４はＩＴＯやＩＺＯなどの可視光を透過する導電酸化物を含むことができる。層間絶縁膜２２４は、酸化ケイ素や窒化ケイ素、窒化酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素などの無機絶縁物、あるいはアクリル樹脂やエポキシ樹脂、ポリイミドなどの高分子材料で形成することができる。ブリッジ配線２１０および第２の配線２１４には、例えばモリブデンやタングステン、チタンなどの金属、あるいはこれらの合金を用いることが可能である。
【００８１】
第１のタッチ電極２０２と第２のタッチ電極２０４を異なる層に存在するように形成する場合には、第１のタッチ電極２０２と第２のタッチ電極２０４の間に層間絶縁膜２２４を形成すればよい。この場合、ブリッジ配線２１０は設ける必要はなく、第２の配線２１４は第１のタッチ電極２０２と第２のタッチ電極２０４のいずれか一方と同時に形成すればよい。
【００８２】
表示装置１００はさらに、任意の構成として第１のタッチ電極２０２と第２のタッチ電極２０４上に第１の保護膜２２６を有してもよい。第１の保護膜２２６は窒化ケイ素や酸化ケイ素などの無機絶縁物を使用することができる。
【００８３】
第１の保護膜２２６上には、接着層２２８により第２の保護膜２３０が固定される。接着層２２８は典型的にはエポキシ系の接着剤を用いることができる。第２の保護膜２３０には可視光を透過する高分子材料を用いることができ、例えばポリエステルやポリカーボナート、ポリオレフィンなどを含むフィルムが挙げられる。
【００８４】
図１０の構造では、第２の配線２１４と第２の端子配線２２２が接続されるコンタクトホール２２０は第２の保護膜２３０、および接着層２２８に覆われているが、表示装置１００の構造はこれに限られず、コンタクトホール２２０が接続が第２の保護膜２３０、および接着層２２８に覆われない領域に形成されてもよい（図１２参照）。
【００８５】
（第３実施形態）
本実施形態では、第１実施形態で述べた表示装置１００の応用例を示す。本実施形態の表示装置４００は広告（サイネージ）への応用が可能であり、その模式図を図１３に示す。図１３では、表示装置４００が湾曲した壁や柱に張り付けられたた状態を図示しており、表示領域１０８が凸部を形成している。
【００８６】
表示装置４００では、表示装置１００と同様、第１のセンサ１２０、１２２、１２４、１２６が表示領域１０８、ならびにタッチセンサ２００を取り囲むように設けられており、さらに、第２のセンサ１３０が複数設けられている。第１のセンサ１２０、１２２、１２４、１２６によって表示装置４００の形状を判断することができる。一方、第２のセンサ１３０により、表示装置４００の姿勢を判断することができる。表示装置４００には、図示しない補正システム３００が搭載されている。
【００８７】
このような大型のサイネージに対してタッチにより情報入力を行う場合、タッチする場所によってタッチの面積が大きく異なる。また、タッチ位置のずれも大きくなり、特に表示領域１０８の端部ではその差が顕著に現れる。しかしながら、補正システム３００による補正が行われるため、タッチ位置がずれたり、タッチ面積が変動しても、違和感のないタッチ操作を行うことが可能となる。
【００８８】
さらに第１実施形態で述べたように、補正システム３００は随時表示装置１００や４００の態様をモニターし、その態様に応じた補正係数を生成することができる。このため、表示装置４００を任意の場所に任意の態様で設置しても、常に違和感のないタッチ操作を行うことが可能である。
【００８９】
本発明の実施形態として上述した各実施形態は、相互に矛盾しない限りにおいて、適宜組み合わせて実施することができる。また、各実施形態の表示装置を基にして、当業者が適宜構成要素の追加、削除もしくは設計変更を行ったもの、又は、工程の追加、省略もしくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。
【００９０】
本明細書においては、開示例として主にＥＬ表示装置の場合を例示したが、他の適用例として、その他の自発光型表示装置、液晶表示装置、あるいは電気泳動素子などを有する電子ペーパ型表示装置など、あらゆるフラットパネル型の表示装置が挙げられる。また、中小型から大型まで、特に限定することなく適用が可能である。
【００９１】
また、上述した各実施形態において、第１のセンサ、第２のセンサの一方のみを具備した表示装置としてもよい。例えば図１３に示すような、広告に使用する場合、パネルを固定して設置する際には角度の検出は不要である。したがって、第１のセンサのみを具備する、あるいは、第１のセンサに加え使用者の位置を検出するセンサ、システムを備える構造、およびその構造を用いたタッチ操作の補正方法にすることが可能である。例えば図６に示すような、腕時計用などに使用する場合、曲面が固定されているものなら、第２のセンサによる角度検知によるタッチパネルの感度調整だけを行う構造、及びその構造を用いたタッチ操作の補正方法にすることが可能である。
【００９２】
上述した各実施形態の態様によりもたらされる作用効果とは異なる他の作用効果であっても、本明細書の記載から明らかなもの、又は、当業者において容易に予測し得るものについては、当然に本発明によりもたらされるものと解される。
【符号の説明】
【００９３】
１００：表示装置、１０２：表示パネル、１０４：筐体、１０６：基板、１０８：表示領域、１１０：画素、１１２：走査線側駆動回路、１１４：コネクタ、１１６：端子、１２０：第１のセンサ、１２２：第１のセンサ、１２４：第１のセンサ、１２６：第１のセンサ、１３０：第２のセンサ、１３２：領域、１４０：基準点、１４２：法線、１４４：基準線、１４６：接線、１４８：水平面、１５０：タッチ面積、１５２：タッチ面積、１５４：タッチ面積、１５６：表示、１５８：位置、１６０：下地膜、１６２：層間膜、１６４：平坦化膜、１６６：接続電極、１６８：絶縁膜、１７０：トランジスタ、１７２：半導体膜、１７４：ゲート絶縁膜、１７６：ゲート電極、１７８：ソース／ドレイン電極、１８０：トランジスタ、１８２：陰極コンタクト、１９０：発光素子、１９２：第１の電極、１９４：機能層、１９４ａ：層、１９４ｂ：層、１９４ｃ：層、１９６：第２の電極、１９８：隔壁、２００：タッチセンサ、２０２：第１のタッチ電極、２０４：第２のタッチ電極、２０６：ダイヤモンド電極、２０８：接続領域、２１０：ブリッジ配線、２１２：第１の配線、２１４：第２の配線、２１６：コンタクトホール、２１８：第１の端子配線、２２０：コンタクトホール、２２２：第２の端子配線、２２４：層間絶縁膜、２２６：第１の保護膜、２２８：接着層、２３０：第２の保護膜、２４０：封止膜、２４２：第１の層、２４４：第２の層、２４６：第３の層、３００：補正システム、３０２：ｘ方向曲率センサ、３０４：ｙ方向曲率センサ、３０６：曲率検出回路、３０８：ｘ方向曲率検出回路、３１０：ｙ方向曲率検出回路、３２０：態様判定回路、３２２：形状判定回路、３２４：形状情報メモリ、３２６：姿勢判定回路、３２８：姿勢情報メモリ、３３０：正面位置判定回路、３３２：正面位置メモリ、３４０：検出回路、３５０：補正値選定回路、３５２：選定回路、３５４：補正値メモリ、３５６：ｘ方向感度補正回路、３５８：ｙ方向感度補正回路、３６０：タッチ検出回路、３７０：再設定判定回路、４００：表示装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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