(57)【要約】【課題】優れた偏光解消性能を有し、かつ、ヘイズの低い、偏光解消フィルムを提供することを課題とする。【解決手段】基材と、基材中に分散された複屈折性を有する粒子と、を含有し、粒子が所定の特性を有する、偏光解消フィルム。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、前記基材中に分散された複屈折性を有する粒子と、を含有し、
前記粒子の複屈折Δｎが０．１５以下であり、
前記粒子の平均屈折率と前記基材の屈折率との差が０．１以下である、偏光解消フィルム。
【請求項２】
前記粒子と、前記基材とが、同一の成分を含有し、
前記粒子の全質量に対する、前記成分の含有量が５０質量％以上であり、
前記基材の全質量に対する、前記成分の含有量が５０質量％以上である、請求項１に記載の偏光解消フィルム。
【請求項３】
前記粒子が、重合性液晶化合物を用いて形成される粒子である、請求項１又は２に記載の偏光解消フィルム。
【請求項４】
前記Δｎが０．１以下である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の偏光解消フィルム。
【請求項５】
前記粒子がキラル剤を含有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の偏光解消フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光解消フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置から出射する光は、液晶表示装置の表面に配置された偏光板を透過した偏光であることが多い。
上記液晶表示装置から出射する光を、更に、偏光板を介して受光すると、上記偏光板の配置等によっては、受光量が極端に少なくなる場合がある。これは、例えば、液晶表示装置の利用者が偏光サングラスを使用している場合、表示画面が暗くなり、液晶表示装置に表示される情報が認識できない、という問題として現れることが知られている。
【０００３】
上記の問題を解決する方法として、液晶表示装置の最表面に偏光解消フィルムを配置する技術が知られている。特許文献１には、「位相差を有する延伸フィルムと、偏光解消性微粒子をポリマーマトリックス中に分散した層とを積層したフィルムであって、ヘイズが１０〜５０％の範囲にあることを特徴とする偏光解消フィルム。」が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１４−２１９６３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明者らは、特許文献１に記載された偏光解消フィルムについて検討したところ、偏光解消性能を有するものの、ヘイズが大きく、昨今要求される水準に達していない問題があることを明らかとした。
【０００６】
そこで、本発明は、優れた偏光解消性能を有し、かつ、ヘイズの小さい、偏光解消フィルムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。
【０００８】
［１］  基材と、基材中に分散された複屈折性を有する粒子と、を含有し、粒子の複屈折Δｎが０．１５以下であり、粒子の平均屈折率と基材の屈折率との差が０．１以下である、偏光解消フィルム。
［２］  粒子と、基材とが、同一の成分を含有し、粒子の全質量に対する、成分の含有量が５０質量％以上であり、基材の全質量に対する、成分の含有量が５０質量％以上である、［１］に記載の偏光解消フィルム。
［３］  粒子が、重合性液晶化合物を用いて形成される粒子である、［１］又は［２］に記載の偏光解消フィルム。
［４］  Δｎが０．１以下である、［１］〜［３］のいずれかに記載の偏光解消フィルム。
［５］  粒子がキラル剤を含有する、［１］〜［４］のいずれかに記載の偏光解消フィルム
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、優れた偏光解消性能を有し、かつ、ヘイズの小さい、偏光解消フィルムを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施形態に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施形態に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書中において、重合性基とは、重合反応に関与する基をいう。
【００１１】
［偏光解消フィルム］
本発明の実施形態に係る偏光解消フィルムは、基材と、基材中に分散された複屈折性を有する粒子と、を含有し、粒子が所定の特性を有する偏光解消フィルムである。
上記の構成を備えた偏光解消フィルムにより、本発明の効果が得られる推測機序を以下のとおり説明する。なお、以下の推測機序により本発明の範囲が制限されるものではない。
【００１２】
上記偏光解消フィルムは、所定の複屈折Δｎを有する粒子が、マトリクスである基材中に分散された構造を有する。
各粒子は基材中に分散しており、偏光解消フィルムの主面側から見た各粒子の進相軸、及び、遅相軸の方向は、整列していない（ランダムである）。従い、上記偏光解消フィルムに光が入射すると、入射光が各粒子を透過する際に、様々な位相差が生じ、結果として、偏光解消フィルムから出射する光の偏光は解消されるものと推測される。
なお、Δｎが、０．１５超であると、偏光解消性能は向上するが、基材との屈折率差が大きくなり易い。基材と粒子との屈折率差が大きくなると、基材と粒子の境界面で光の散乱が発生しやすく、結果として、偏光解消フィルムのヘイズが大きくなり易い。
以下では、上記偏光解消フィルムを構成する成分ごとに詳細を説明する。
【００１３】
〔粒子〕
粒子は、複屈折性を有する粒子である。
粒子の複屈折Δｎは０．１５以下であり、より優れた本発明の効果が得られる点で、０．１以下が好ましい。Δｎの下限値としては特に制限されないが、一般に０．０３以上が好ましい。
【００１４】
本明細書において粒子の複屈折Δｎは、後述する粒子を構成する材料に応じて、以下の方法により測定したΔｎを意図する。
【００１５】
（１）粒子が無機材料からなる場合
粒子が無機材料からなる場合、粒子と同様の材料を用いて、板状の試験片を作製し、複屈折測定装置により面内の進相軸を検出して屈折率（ｎ１）を測定し、それと垂直な方向の屈折率（ｎ２）を測定し、Δｎを算出する。
（２）粒子が有機材料（樹脂）からなる場合
粒子が有機材料からなる場合であって、樹脂からなる場合は、上記樹脂を用いて膜厚５μｍのフィルムを作製し、粒子と同様の配向状態とした上で、（４）と同様の方法によりΔｎを測定する。
（３）粒子が有機材料（樹脂以外）からなる場合
粒子が有機材料からなる場合であって、樹脂以外から場合（以下の（４）の場合を除く）は、上記有機材料を含有する塗液を作製し、（４）の同様の方法によりΔｎを測定する。
（４）粒子が重合性液晶化合物を用いて形成される場合
ＰＥＴ（Polyethylene terephthalate）フィルム（厚み：５０μｍ）の表面に、ラビング処理（レーヨン布、圧力：０．１ｋｇｆ（０．９８Ｎ）、回転数：１０００ｒｐｍ、搬送速度：１０ｍ／ｍｉｎ、回数：１往復）を施す。次に、上記ＰＥＴフィルムのラビング面に、粒子を形成するのに用いる材料（後述する重合性組成物）を乾燥膜厚が５μｍ程度となるように塗布して、塗膜を形成する。次に、上記塗膜をＰＥＴフィルムから剥離し、剥離した塗膜のラビング方向と平行な方向の屈折率ｎ１、及び、ラビング方向と垂直な方向の屈折率ｎ２をアッべ屈折計（例えば、アタゴ社製「ＮＡＲ−１Ｔ」）で求める。Δｎは、以下の式により計算される。
（式）Δｎ＝｜ｎ１−ｎ２｜
【００１６】
上記粒子の平均円相当径としては特に制限されないが、偏光解消フィルムがより優れた本発明の効果を有する点で、０．１〜１００μｍが好ましく、０．１〜５０μｍがより好ましい。なお、本明細書において、上記平均円相当径は下記の測定方法により測定した平均円相当径を意図する。
【００１７】
上記平均円相当径は、走査型電子顕微鏡にて、少なくとも１００個以上の粒子の円相当径を測定し、それらを算術平均して求める。なお、円相当径とは、観察される粒子の２次元画像の面積と同じ面積に相当する円の直径を意味する。
なお、粒子の形状は、特に制限されず、球状、円状、楕円形状、多角形状、ロッド、及び、繊維状等が挙げられる。
【００１８】
上記粒子の平均屈折率としては特に制限されないが、一般に１．４〜１．８が好ましく、１．５〜１．７がより好ましい。
なお、本明細書において、粒子の平均屈折率とは、上述したΔｎの測定の際に測定したｎ１及びｎ２から、以下の式によって計算することができる平均屈折率を意図する。
（式）（平均屈折率）＝（ｎ１＋ｎ２）／２
【００１９】
偏光解消フィルム中における粒子の含有量としては特に制限されないが、偏光解消フィルムがより優れた本発明の効果を有する点で、偏光解消フィルムの全質量に対して、１０〜９０質量％が好ましく、１０〜５０質量％がより好ましい。
なお、粒子は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の粒子を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
【００２０】
上記粒子を構成する材料は特に制限されない。
粒子は、有機材料で構成されていてよく、無機材料で構成されていてもよい。また、粒子は、有機材料及び無機材料の両方を含んでいてもよい。
上記粒子の好適態様としては、重合性液晶化合物を用いて形成される粒子が挙げられる。より具体的には、重合性液晶化合物を含有する重合性組成物を用いて形成される粒子が挙げられる。このような粒子としては、配向した重合性液晶化合物を固定してなる粒子であることが好ましい。
以下、上記重合性組成物に含まれる成分、及び、重合性組成物を用いた粒子の製造方法について詳述する。
【００２１】
＜重合性液晶化合物＞
重合性液晶化合物とは、重合性基を含有する液晶性化合物を意図する。
重合性基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、及び、スチリル基等のエチレン性不飽和基；エポキシ基、及び、オキセタン基等のカチオン性重合性基が好ましく、エチレン性不飽和基がより好ましい。
重合性液晶化合物が含有する重合性基の数としては特に制限されないが、一般に１分子中、１〜６個が好ましい。
【００２２】
重合性液晶化合物としては特に制限されず、公知の重合性液晶化合物を用いることができる。一般的に、重合性液晶化合物はその形状から、棒状タイプ（棒状液晶化合物）と円盤状タイプ（ディスコティック液晶化合物、円盤状液晶化合物）とに分類できる。更に、棒状タイプ及び円盤状タイプには、それぞれ低分子タイプと高分子タイプとがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。重合性液晶化合物としては、いずれの化合物を用いることもできる。また、２種以上の重合性液晶化合物を併用してもよい。
【００２３】
重合性液晶化合物の分子量としては特に制限されず、１００〜１０００が好ましい。
【００２４】
重合性液晶化合物としては、粒子の複屈折Δｎを所定の範囲内に制御し易い点で、以下の式（Ｉ）で表される重合性化合物であることが好ましい。
【００２５】
【化１】
2018028614.tif 000002
【００２６】
式（Ｉ）中、Ａは、置換基を有していてもよいフェニレン基、又は、置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基を示し、
Ｌは単結合、又は、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−（ＣＨ２）２ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、及び、−ＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−からなる群から選択される連結基を示し、
ｍは３〜１２の整数を示し、
Ｓｐ１及びＳｐ２はそれぞれ独立に、単結合、又は、炭素数１〜２０の直鎖状、若しくは分岐鎖状のアルキレン基、及び、炭素数１〜２０の直鎖状、若しくは、分岐鎖状のアルキレン基において１つ、又は、２つ以上の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ３）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基からなる群から選択される連結基を示し、Ｑ１、及び、Ｑ２はそれぞれ独立に、水素原子、又は、以下の式Ｑ−１〜式Ｑ−５で表される基からなる群から選択される重合性基を示し、ただし、Ｑ１、及び、Ｑ２のいずれか一方は重合性基を示す。
【００２７】
【化２】
2018028614.tif 000003
【００２８】
式（Ｉ）中の、フェニレン基としては１，４−フェニレン基が好ましい。
フェニレン基、及び、トランス−１，４−シクロヘキシレン基について「置換基を有していてもよい」というときの置換基は、特に限定されず、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルキルエーテル基、アミド基、アミノ基、及び、ハロゲン原子、並びに、上記の置換基を２つ以上組み合わせて構成される基からなる群から選択される置換基が挙げられる。また、置換基の例としては、後述の−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ３−Ｓｐ３−Ｑ３で表される置換基が挙げられる。フェニレン基、及び、トランス−１，４−シクロヘキシレン基は、置換基を１〜４個有していてもよい。２個以上の置換基を有するとき、２個以上の置換基は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００２９】
本明細書において、アルキル基は直鎖状、及び、分岐鎖状のいずれでもよい。アルキル基の炭素数は１〜３０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜６が更に好ましい。アルキル基の例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、直鎖状又は分枝鎖状のヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、又は、ドデシル基が挙げられる。アルキル基に関する上記説明はアルキル基を含むアルコキシ基においても同様である。また、本明細書において、アルキレン基というときのアルキレン基の具体例としては、上記のアルキル基の例それぞれにおいて、任意の水素原子を１つ除いて得られる２価の基等が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又は、ヨウ素原子が挙げられる。
【００３０】
本明細書において、シクロアルキル基の炭素数は、３〜２０が好ましく、５以上がより好ましく、また、１０以下がより好ましく、８以下が更に好ましく、６以下が特に好ましい。
シクロアルキル基の例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及び、シクロオクチル基等が挙げられる。
【００３１】
フェニレン基、及び、トランス−１，４−シクロヘキシレン基が有していてもよい置換基としては特に、アルキル基、及び、アルコキシ基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ３−Ｓｐ３−Ｑ３からなる群から選択される置換基が好ましい。ここで、Ｘ３は単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、若しくは−Ｎ（Ｓｐ４−Ｑ４）−を示すか、又は、Ｑ３、及び、Ｓｐ３と共に環構造を形成している窒素原子を示す。Ｓｐ３、Ｓｐ４はそれぞれ独立に、単結合、炭素数１〜２０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基、及び、炭素数１から２０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基において１つ又は２つ以上の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ３）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、又は−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基からなる群から選択される連結基を示す。
【００３２】
Ｑ３及びＱ４はそれぞれ独立に、水素原子、シクロアルキル基、シクロアルキル基において１つ若しくは２つ以上の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ３）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、若しくは−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基、又は式Ｑ−１〜式Ｑ−５で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基を示す。
【００３３】
シクロアルキル基において１つ又は２つ以上の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ３）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、又は−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基として、具体的には、テトラヒドロフラニル基、ピロリジニル基、イミダゾリジニル基、ピラゾリジニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、及び、モルホルニル基等が挙げられる。置換位置は特に限定されない。これらのうち、テトラヒドロフラニル基が好ましく、特に２−テトラヒドロフラニル基が好ましい。
【００３４】
式（Ｉ）において、Ｌは、単結合、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−（ＣＨ２）２ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）２−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、及び、−ＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−からなる群から選択される連結基を示す。Ｌは、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−又は−ＯＣ（＝Ｏ）−であることが好ましい。ｍ個のＬは互いに同一でも異なっていてもよい。
【００３５】
Ｓｐ１及びＳｐ２は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１〜２０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基、及び、炭素数１〜２０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基において１つ又は２つ以上の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ３）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、又は−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基からなる群から選択される連結基を示す。Ｓｐ１及びＳｐ２はそれぞれ独立に、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−、及び、炭素数１〜１０の直鎖状のアルキレン基からなる群から選択される基を１又は２以上組み合わせて構成される連結基であることが好ましく、両末端にそれぞれ−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、及び−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−からなる群から選択される連結基が結合した炭素数１〜１０の直鎖状のアルキレン基であることがより好ましく、両方の末端に−Ｏ−がそれぞれ結合した炭素数１〜１０の直鎖状のアルキレン基であることが更に好ましい。
【００３６】
Ｑ１及びＱ２はそれぞれ独立に、水素原子、又は、上記の式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択される重合性基を示し、ただしＱ１及びＱ２のいずれか一方は重合性基を示す。
重合性基としては、アクリロイル基（式Ｑ−１）又はメタクリロイル基（式Ｑ−２）が好ましい。
【００３７】
式（Ｉ）中、ｍは３〜１２の整数を示し、３〜９の整数であることが好ましく、３〜７の整数であることがより好ましく、３〜５の整数であることが更に好ましい。
【００３８】
式（Ｉ）で表される重合性化合物は、Ａとして置換基を有していてもよいフェニレン基を少なくとも１つ及び置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基を少なくとも１つ含むことが好ましい。式（Ｉ）で表される重合性化合物は、Ａとして、置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基を１〜４個含むことが好ましく、１〜３個含むことがより好ましく、２又は３個含むことが更に好ましい。また、式（Ｉ）で表される重合性化合物は、Ａとして、置換基を有していてもよいフェニレン基を１個以上含むことが好ましく、１〜４個含むことがより好ましく、１〜３個含むことが更に好ましく、２個又は３個含むことが特に好ましい。
【００３９】
式（Ｉ）において、Ａで表されるトランス−１，４−シクロヘキシレン基の数をｍで割った数をｍｃとしたとき、０．１＜ｍｃ＜０．９であることが好ましく、０．３＜ｍｃ＜０．８であることがより好ましく、０．５＜ｍｃ＜０．７であることが更に好ましい。また、０．５＜ｍｃ＜０．７である式（Ｉ）で表される重合性化合物と、０．１＜ｍｃ＜０．３である式（Ｉ）で表される重合性化合物とを併用することも好ましい。
【００４０】
式（Ｉ）で表される重合性化合物の例として具体的には、ＷＯ２０１６／０４７６４８の段落００５１〜００５８に記載の化合物のほか、特開２０１３−１１２６３１号公報、特開２０１０−７０５４３号公報、特許４７２５５１６号、国際公開ＷＯ２０１５／１１５３９０、ＷＯ２０１５／１４７２４３、ＷＯ２０１６／０３５８７３、特開２０１５−１６３５９６号公報、及び特開２０１６−５３１４９号公報の００１６〜００３３段落に記載の化合物等を挙げることができる。
【００４１】
重合性組成物中における、重合性液晶化合物の含有量としては特に制限されず、重合性組成物の全固形分に対して、５０〜９９質量％が好ましく、７０〜９９質量％がより好ましい。
重合性液晶化合物は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の重合性液晶化合物を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
【００４２】
重合性組成物には、上述した重合性液晶化合物以外の他の成分が含まれていてもよく、例えば、上記重合性液晶化合物以外の他のモノマー、重合開始剤、溶剤、配向制御剤、及び、キラル剤などが挙げられる。
以下、これらの成分について詳述する。
【００４３】
＜重合性液晶化合物以外の他のモノマー（以後、単に「他のモノマー」とも称する）＞
重合性組成物は、重合性液晶化合物以外の他のモノマーを含有していてもよい。
他のモノマーの種類は特に制限されず、公知のモノマーを用いることができる。
なお、モノマー中に含まれる重合性基の種類としては、上記重合性液晶化合物で説明した重合性基が挙げられる。他のモノマーには、重合性基が複数含まれていてもよい。
重合性組成物中における、他のモノマーの含有量としては特に制限されず、重合性組成物の全固形分に対して、５〜３０質量％が好ましく、５〜２０質量％がより好ましい。
【００４４】
＜重合開始剤＞
重合性組成物は、重合開始剤を含有することが好ましい。
重合開始剤としては特に制限されず、公知の重合開始剤を用いることができる。重合開始剤としては例えば、熱重合開始剤、及び、光重合開始剤等が挙げられ、なかでも、所望の平均円相当径を有する粒子をより容易に得られる点で光重合開始剤が好ましい。
重合開始剤としては例えば、ベンジルジメチルケタール、α−ヒドロキシアルキルフェノン、及び、α−アミノアルキルフェノン等のアルキルフェノン系光重合開始剤；モノアシルフォスフィンオキサイド、及び、ビスアシルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤；オキシムエステル系光重合剤；等が挙げられる。
重合性組成物中における重合開始剤の含有量としては特に制限されないが、重合性組成物の全固形分に対して０．５〜１０質量％が好ましく、１〜１０質量％がより好ましい。
重合開始剤は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の重合開始剤を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
【００４５】
＜溶剤＞
重合性組成物は、溶剤を含有することが好ましい。重合性組成物が溶剤を含有すると、重合性組成物の取り扱い性、及び、塗布性が向上する。
溶剤としては特に制限されず、公知の溶剤を用いることができる。例えば、水及び／又は有機溶剤が挙げられる。溶剤は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００４６】
重合性組成物の固形分量としては、特に制限されないが、重合性組成物がより優れた取り扱い性、及び、塗布性を有する点で、１０〜６０質量％が好ましく、２０〜５０質量％がより好ましい。上記固形分になるよう、重合性組成物中には溶剤を含有することが好ましい。
溶剤は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の溶剤を併用する場合には、固形分が上記範囲内であることが好ましい。
【００４７】
＜配向制御剤＞
重合性組成物は、安定的又は迅速な分子配向のため、液晶相（例えば、コレステリック液晶相）の形成に寄与する配向制御剤を含有することが好ましい。
配向制御剤の例には、含フッ素（メタ）アクリレート系ポリマー、ＷＯ２０１１／１６２２９１号に記載の一般式（Ｘ１）〜（Ｘ３）で表される化合物、及び特開２０１３−４７２０４号公報の００２０〜００３１段落に記載の化合物が含まれる。これらから選択される２種以上を含有していてもよい。これらの化合物は、層の空気界面において、分子のチルト角を低減、又は、実質的に水平配向させることができる（このような配向制御剤を、本明細書では、以下「空気界面配向剤」ともいう。）。
なお、本明細書で「水平配向」とは、分子長軸と膜面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、膜面とのなす傾斜角が２０度未満の配向を意味するものとする。化合物が空気界面付近で水平配向する場合、配向欠陥が生じ難いため、可視光領域での透明性が高くなる。
配向制御剤として利用可能な含フッ素（メタ）アクリレート系ポリマーの例は、特開２００７−２７２１８５号公報の００１８〜００４３段落等にも記載がある。
また、配向制御剤としては、特開２０１４−１１９６０５号公報の００８１〜００９０段落、０１３１段落に記載の化合物を用いることが好ましく、上記内容は本明細書に組み込まれる。
【００４８】
配向制御剤の含有量は特に限定されないが、重合性液晶化合物１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部が好ましく、０．０１〜５質量部がより好ましい。
配向制御剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の配向制御剤を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
【００４９】
＜キラル剤＞
重合性組成物は、キラル剤を含有していてもよい。キラル剤が用いられることにより、コレステリック液晶相が形成され、コレステリック液晶相が固定してなる粒子を得ることができる。
キラル剤の種類は、特に制限されない。キラル剤は液晶性であっても、非液晶性であってもよい。キラル剤は、公知の種々のキラル剤（例えば、液晶デバイスハンドブック、第３章４−３項、ＴＮ（twisted nematic）、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９に記載）から選択することができる。キラル剤は、一般に不斉炭素原子を含む。ただし、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物又は面性不斉化合物を、キラル剤として用いることもできる。軸性不斉化合物又は面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファン及びこれらの誘導体が含まれる。キラル剤は、重合性基を有していてもよい。
【００５０】
重合性組成物中におけるキラル剤の含有量としては特に制限されないが、重合性組成物の全固形分に対して０．１〜１０質量％が好ましく、０．１〜５質量％がより好ましい。
キラル剤は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上のキラル剤を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
【００５１】
重合性組成物は、上記の各成分を混合することにより調製することができる。
【００５２】
以下に、上記重合性組成物を用いた粒子（以後、液晶粒子とも称する）の製造方法を例示する。
【００５３】
＜液晶粒子の製造方法１＞
液晶粒子の製造方法としては、特開２０１５−６３４７７号公報に記載の方法を参酌できる。より具体的には、液晶粒子の製造方法１としては、例えば、以下の工程Ｘ１〜工程Ｘ４を含有する製造方法が挙げられる。
【００５４】
（工程Ｘ１）
工程Ｘ１は、重合性組成物を用いて、仮支持体の少なくとも一方の主面上（以下、単に「仮支持体上に」ともいう。）に、重合性組成物層を形成する工程である。
仮支持体上に重合性組成物層を形成する方法としては特に制限されず、公知の形成方法を用いることができ、例えば、仮支持体上に重合性組成物を塗布する方法、及び、仮支持体を重合性組成物に浸漬する方法等が挙げられる。
重合性組成物層を形成する際、重合性組成物に含有される溶剤を除去するために、乾燥工程を更に含有してもよい。乾燥の方法としては特に制限されず、公知の乾燥方法を用いることできる。
【００５５】
重合性組成物層の厚さとしては、特に制限されないが、後述する硬化膜を粉砕する工程により所望の粒径の粒子が得られやすい点で、乾燥膜厚として０．１〜１０μｍが好ましく、０．５〜５μｍがより好ましい。
なお、本明細書において上記膜厚は、重合性組成物層の３点の膜厚を接触膜厚計によって測定し、上記測定結果を算術平均した膜厚を意図する。
【００５６】
工程Ｘ１は、重合性液晶化合物を配向させるために、熟成工程を更に含有してもよい。  熟成工程としては、重合性組成物層の温度を一定に保持する工程が挙げられる。熟成工程における、熟成温度としては５０〜１５０℃が好ましく、熟成時間としては０．５〜３分が好ましい。
上記により配向させた重合性液晶化合物を、後述する工程Ｘ２において重合させることにより、重合性液晶化合物の配向状態を固定し、光学特性（例えば、光学異方性、及び、旋光性等）を有する硬化膜を得ることができる。
【００５７】
仮支持体は、重合性組成物層を形成する際の支持体としての機能を有する。
仮支持体の厚さとしては、特に制限されないが、一般的に１０〜１０００μｍが好ましく、１０〜２００μｍがより好ましい。
【００５８】
（工程Ｘ２）
工程Ｘ２は、重合性組成物層にエネルギーを付与して、硬化膜付き仮支持体を得る工程である。重合性組成物層にエネルギーを付与する方法としては特に制限されず、重合性組成物層を加熱する方法、及び、重合性組成物層に光を照射する方法が挙げられる。
【００５９】
（工程Ｘ３）
工程Ｘ３は、硬化膜付き仮支持体から、仮支持体を剥離して、硬化膜を得る工程である。硬化膜付き仮支持体から、仮支持体を剥離する方法としては特に制限されず、公知の剥離方法を用いることができる。
【００６０】
（工程Ｘ４）
工程Ｘ４は、硬化膜を粉砕して、粒子を得る工程である。硬化膜を粉砕する方法としては特に制限されず公知の粉砕方法が挙げられる。
硬化膜を粉砕する方法としては、乾式粉砕であっても、湿式粉砕であってもよい。
粉砕した粒子は、分級して所望の大きさの粒子を分取することが好ましい。分級は公知の方法、例えば、ふるいを用いる方法、サイクロンを用いる方法、及び、メッシュを用いてろ過する方法等が挙げられる。
【００６１】
＜液晶粒子の製造方法２＞
液晶粒子の製造方法としては、特開平７−１５９７６７号公報に記載の方法を参酌できる。より具体的には、液晶粒子の製造方法２としては、例えば、以下の工程Ｙ１〜工程Ｙ２を含有する製造方法が挙げられる。
【００６２】
（工程Ｙ１）
工程Ｙ１はポリビニルアルコール溶液に重合性組成物を滴下して、エマルジョン溶液を得る工程である。
なお、エマルジョン溶液において、分散質である重合性組成物の相は、液相であっても固相であってもよい。すなわち、一般的には、液相である分散媒に液相である分散質が分散した系を「エマルジョン」といい、液相である分散媒に固相である分散質が分散した系を「サスペンション」というが、本明細書においては、「エマルジョン」は「サスペンション」を含む概念とする。
【００６３】
ポリビニルアルコール溶液としては特に制限されないが、ポリビニルアルコールと、溶剤とを含有することが好ましい。
ポリビニルアルコールの重合度としては特に制限されないが、得られるエマルジョン溶液がより優れた塗布性を有する点で、３００〜４０００が好ましい。
ポリビニルアルコールのけん化度としては特に制限されないが、溶解性が良好な点で、７０〜９０が好ましい。
なお、ポリビニルアルコールのけん化度としては、ＪＩＳ（Japanese Industrial Standards）  Ｋ  ６７２６：１９９４に記載された方法に準拠した試験によって測定することができる。
【００６４】
上記溶剤としては特に制限されず、公知の溶剤を用いることができる。なかでも、溶剤としては、水、又は、水及び水溶性有機溶剤の混合溶剤が好ましく、水、又は、水及びアルコール系溶剤の混合溶剤がより好ましく、水が更に好ましい。
水及びアルコール系溶剤の含有質量比としては特に制限されないが、重合性液晶化合物の溶解性の観点から、水の含有量に対する、アルコール系溶剤の含有量の含有質量比（アルコール系溶剤／水）としては、１０／９０〜９０／１０が好ましい。
【００６５】
エマルジョン溶液の製造方法としては特に制限されず、公知の方法を用いることができる。エマルジョン溶液の製造方法としては、例えば、上記ポリビニルアルコール溶液に重合性組成物を滴下し、高速ミキサーを用いて攪拌する方法等が挙げられる。
【００６６】
（工程Ｙ２）
工程Ｙ２は、エマルジョン溶液を仮支持体に塗布して、エマルジョン層を形成し、上記エマルジョン層にエネルギーを付与して、液晶粒子を得る工程である。
【００６７】
仮支持体の材質としては特に制限されず、ガラス、金属、及び、樹脂等からなる仮支持体を用いることができる。また、仮支持体としては表面をラビング処理したものであってもよい。
【００６８】
仮支持体上にエマルジョン層を形成する方法としては特に制限されず、公知の方法を用いることができ、例えば、仮支持体上にエマルジョン溶液を塗布する方法、及び、仮支持体をエマルジョン溶液に浸漬する方法等が挙げられる。
エマルジョン層の膜厚としては特に制限されないが、乾燥膜厚として０．１〜２０μｍが好ましい。
また、支持体上にエマルジョン層を形成した後、エマルジョン層から溶剤を除去するために加熱処理を行ってもよい。
【００６９】
また、工程Ｙ２は、エマルジョン層にエネルギーを付与する前に、重合性液晶化合物を配向させるために、熟成工程を更に含有してもよい。熟成工程としては、重合性組成物層の温度を一定の時間保持する工程が挙げられる。熟成工程における、熟成温度としては３０〜９０℃が好ましく、熟成時間としては０．１〜１０分が好ましい。
なお、熟成は、エマルジョン層にエネルギーを付与（例えば露光）する前に行うことが好ましい。
【００７０】
エマルジョン層にエネルギーを付与する方法としては、特に制限されず、公知のエネルギー付与の方法を用いることができる。エネルギー付与の形態としては、上記工程Ｘ２にて既に説明したとおりである。エマルジョン層にエネルギーを付与することにより、分散質中に含有される重合性組成物が硬化し、液晶粒子が得られる。
【００７１】
また、工程Ｙ２は、得られた液晶粒子を分級する工程を更に含有することが好ましい。分級する方法としては、工程Ｘ４にて既に説明したとおりである。
【００７２】
重合性液晶化合物を用いた粒子の製造方法は、上記形態に制限されない。例えば、特開２００８−１３４４８０号公報の００９７〜０１００段落、特開平１０−６２７５７号公報の００１１〜００４３段落、及び、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ、２０１３、１３５（２７）、９９７２〜９９７５頁に記載された粒子の製造方法を用いることができ、上記の内容は本明細書に組み込まれる。
【００７３】
また、上記重合性液晶化合物を用いて形成された粒子以外の他の粒子を用いてもよく、このような他の粒子の製造方法としては、例えば、特開２０１０−９１６５５号公報の００１２〜００１５、００２３〜００２５段落、及び、００２８段落に記載された方法を用いることができる。
【００７４】
〔基材〕
基材としては特に制限されず、公知の基材を用いることができる。
基材は、上記粒子を分散させるマトリックスとしての機能を有し、得られる偏光解消フィルムがより小さいヘイズを有する点で、上記粒子の平均屈折率と基材の屈折率との差が小さいことが好ましい。具体的には、上記粒子の平均屈折率と基材の屈折率との差としては、０．１以下であり、０．０５以下が好ましく、０．０３以下がより好ましい。
なお、本明細書において、基材の屈折率とは、アッべ屈折計（例えば、アタゴ社製「ＮＡＲ−１Ｔ」）で求めた屈折率を意図する。
【００７５】
基材を構成する材料は、粒子の平均屈折率との関係が満たされれば特に制限されず、有機材料、及び／又は、無機材料が挙げられる。なかでも、偏光解消フィルムの取り扱い性の点から、有機材料が好ましく、樹脂が好ましい。
【００７６】
上記のとおり、上記粒子を基材との屈折率の差を小さくする観点から、粒子と、基材とが、同一の成分を含有し、粒子の全質量に対する、上記成分の含有量が５０質量％以上であり、基材の全質量に対する、上記成分の含有量が５０質量％以上であることが好ましい。
【００７７】
また、基材は、上記粒子と同じ材料からなることが好ましい。例えば、粒子が重合性液晶化合物を用いて形成される場合、基材も同じ重合性液晶化合物を用いて形成されることがより好ましい。
なお、基材が、重合性液晶化合物を含有する重合性組成物を硬化して得られたものである場合には、重合性液晶化合物の配向状態としては、光学的に当方な状態（等方相）で固定されていることが好ましい。つまり、基材は、重合性液晶化合物の等方相を固定してなることが好ましい。
【００７８】
基材の屈折率としては特に制限されないが、一般に１．４〜１．８が好ましい。
【００７９】
偏光解消フィルムの膜厚としては特に制限されないが、より優れた偏光解消性能を有する点で、０．１〜５０μｍが好ましく、１〜３０μｍがより好ましい。
【００８０】
〔偏光解消フィルムの製造方法〕
偏光解消フィルムの製造方法としては特に制限されず、公知の製造方法を用いることができる。偏光解消フィルムの製造方法としては、例えば、基材を溶融させ、溶融した基材中に上記粒子を混合して、分散させて、その後成膜する（例えば、溶融押出成形等による）方法、重合後に基材を構成し得る重合性モノマー及び上記粒子を含有する偏光解消フィルム形成用組成物を調製し、上記偏光解消フィルム形成用組成物を用いて偏光解消フィルム形成用組成物層を形成し、これを硬化させることで製造する方法等が挙げられる。
なかでも、基材（マトリクス）中に粒子をより均一に分散させやすい点で、偏光解消フィルム形成用組成物を用いる方法が好ましい。以下では、偏光解消フィルム形成用組成物を用いる態様について詳述する。
【００８１】
＜偏光解消フィルム形成用組成物＞
偏光解消フィルム形成用組成物としては、粒子、及び、重合後に基材を構成し得る重合性モノマーを含有する。
以下では、偏光解消フィルム形成用組成物の形態について、各成分ごとに説明する。
【００８２】
（粒子）
偏光解消フィルム形成用組成物は粒子を含有する。粒子の形態としてはすでに説明したとおりである。
偏光解消フィルム形成用組成物中における粒子の含有量としては特に制限されず、上述した偏光解消フィルム中の粒子の含有量の好適範囲となるように調整される。
【００８３】
（重合性モノマー）
偏光解消フィルム形成用組成物は、重合後に基材を構成し得る重合性モノマーを含有する。重合性モノマーは、後述する偏光解消フィルム形成用組成物層中において重合し、基材を構成する。
なお、重合性モノマーの種類としては、得られる基材の屈折率と粒子の平均屈折率との差が所定範囲となれば特に制限されず、公知の重合性モノマーを用いることができる。
なお、上述のとおり、得られる偏光解消フィルムがより小さいヘイズを有する点で、重合性モノマーとしては、粒子の製造に用いられる重合性組成物に含有される重合性液晶化合物の平均屈折率と近い平均屈折率を示す重合性モノマーが好ましく、具体的にはその差の絶対値が０．１以内である重合性モノマーがより好ましい。なかでも、重合性モノマーとしては、粒子の製造に用いられる重合性組成物に含有される重合性液晶化合物と同一の重合性液晶化合物を用いることが好ましい。
【００８４】
偏光解消フィルム形成用組成物中における重合性モノマーの含有量としては特に制限されず、上述した偏光解消フィルム中の基材の含有量の好適範囲となるように調整される。
重合性モノマーとしては、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の重合性モノマーを併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
【００８５】
（重合開始剤）
偏光解消フィルム形成用組成物は、重合開始剤を含有することが好ましい。重合開始剤としては特に制限されず、公知の重合開始剤を用いることができる。重合開始剤としては例えば、熱重合開始剤、及び、光重合開始剤等が挙げられ、なかでも光重合開始剤が好ましい。
【００８６】
偏光解消フィルム形成用組成物中における重合開始剤の含有量としては特に制限されないが、偏光解消フィルム形成用組成物の全固形分に対して、一般に０．５〜２０質量％が好ましく、１〜１５質量％がより好ましい。
なお、重合開始剤は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の重合開始剤を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
【００８７】
（溶剤）
偏光解消フィルム形成用組成物は、溶剤を含有することが好ましい。溶剤としては特に制限されず、公知の溶剤を用いることができる。溶剤の形態としてはすでに説明したとおりである。
【００８８】
偏光解消フィルム形成用組成物の固形分としては特に制限されないが、偏光解消フィルム形成用組成物がより優れた塗布性を有する点で、１０〜６０質量％が好ましく、上記範囲内となるよう、溶剤で希釈されることが好ましい。
なお、溶剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の溶剤を併用する場合には、固形分が上記範囲内であることが好ましい。
【００８９】
（配向制御剤）
偏光解消フィルム形成用組成物は、配向制御剤を含有することが好ましい。配向制御剤としては特に制限されず、公知の配向制御剤を用いることができる。配向制御剤の形態としては、重合性組成物で既に説明したとおりである。
【００９０】
偏光解消フィルム形成用組成物中における配向制御剤の含有量としては、特に制限されないが、一般に０．０１〜１質量％が好ましく、０．０１〜０．５質量％がより好ましい。
なお、配向制御剤は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の配向制御剤を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
【００９１】
偏光解消フィルム形成用組成物は、上記の各成分を混合することにより調製することができる。
【００９２】
偏光解消フィルム形成用組成物を用いて偏光解消フィルムを製造する方法としては、例えば、偏光解消フィルム形成用組成物を用いて、仮支持体上に偏光解消フィルム形成用組成物層を形成し、上記偏光解消フィルム形成用組成物層に対してエネルギーを付与して、硬化させ、偏光解消フィルムを得る方法が挙げられる。
【００９３】
仮支持体上に偏光解消フィルム形成用組成物層を形成する方法としては特に制限されず、公知の方法を用いることができ、例えば、仮支持体上に偏光解消フィルム形成用組成物を塗布する方法、及び、仮支持体を偏光解消フィルム形成用組成物に浸漬させる方法等が挙げられる。
【００９４】
偏光解消フィルム形成用組成物層の膜厚としては特に制限されないが、所望の膜厚を有する偏光解消フィルムが得られやすい点で、乾燥膜厚として０．１〜１０μｍが好ましく、０．５〜５μｍがより好ましい。
【００９５】
偏光解消フィルム形成用組成物層を形成する際、偏光解消フィルム形成用組成物層に含有される溶剤を除去するために、乾燥工程を更に含有してもよい。乾燥の方法としては特に制限されず、公知の乾燥方法を用いることできる。
【００９６】
偏光解消フィルム形成用組成物層にエネルギーを付与して、硬化させ、偏光解消フィルムを得る方法としては特に制限されず、公知の方法を用いることができ、例えば、偏光解消フィルム形成用組成物層を露光する方法が挙げられる。
【００９７】
〔偏光解消フィルムのヘイズ〕
上記のようにして得られた本実施形態に係る偏光解消フィルムのヘイズは、１．０％以下が好ましく、０．５％以下がより好ましい。なお、本明細書において、ヘイズはＪＩＳ  Ｋ  ７１３６：２０００（プラスチック−透明材料のヘーズの求め方）に準拠して測定することができる。
【００９８】
〔偏光解消フィルムの用途〕
上記偏光解消フィルムは、例えば、液晶表示装置から出射する偏光を解消するために用いることができる。具体的には、液晶表示装置の表面に配置された偏光板上に配置して、液晶表示装置から出射する光の偏光を解消する用途に用いることができる。
【実施例】
【００９９】
以下に実施例に基づいて本発明を更に詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。
【０１００】
［重合性液晶化合物１の合成］
特開２０１６−５３１４９号公報の０１５１〜０１５３段落に記載されている方法により、下記式で表される、重合性液晶化合物１を合成した（重合性液晶化合物１は、特開２０１６−５３１４９号公報における化合物５２に対応する。）。
【化３】
2018028614.tif 000004
【０１０１】
［重合性液晶化合物２の合成］
特開２０１６−５３１４９号公報の００８６〜００８８段落に記載されている方法により、下記式で表される、重合性液晶化合物２を合成した（重合性液晶化合物２は、特開２０１６−５３１４９号公報における化合物２０に対応する。）。
【化４】
2018028614.tif 000005
【０１０２】
［混合物Ｂの調製］
上記で合成した重合性液晶化合物２と下記の重合性モノマーＭ−１とを表１に記載した組成で混合して、混合物Ｂを調製した。
【表１】
2018028614.tif 000006
【０１０３】
なお、表１中の略号は以下の化合物を表す。
【０１０４】
【化５】
2018028614.tif 000007
【０１０５】
［重合性組成物の調製］
表２に示した各成分を混合し、重合性組成物１〜４を調製した。表中の略号は以下のとおりである。なお、各重合性組成物は、メチルエチルケトンで固形分が３０質量％となるよう調整した。
【０１０６】
＜粒子のΔｎ及び平均屈折率の測定＞
ＰＥＴ（Polyethylene terephthalate）フィルム（厚み：５０μｍ）の表面に、ラビング処理（レーヨン布、圧力：０．１ｋｇｆ（０．９８Ｎ）、回転数：１０００ｒｐｍ、搬送速度：１０ｍ／ｍｉｎ、回数：１往復）を施した。
次に、上記ＰＥＴフィルムのラビング面に、上記で調製した各重合性組成物を乾燥膜厚が５μｍとなるように塗布して、重合性組成物層を形成した。
次に、上記重合性組成物層をＰＥＴフィルムから剥離し、剥離した重合性組成物層のラビング方向と平行な方向の屈折率ｎ１、及び、ラビング方向と垂直な方向の屈折率ｎ２をアッべ屈折計（アタゴ  ＮＡＲ−１Ｔ）で測定し、Δｎを、以下の式から計算した。
（式）Δｎ＝｜ｎ１−ｎ２｜
また、あわせて、粒子の平均屈折率を、以下の式から計算した。
（式）（粒子の平均屈折率）＝（ｎ１＋ｎ２）／２
結果を表２に示した。
【０１０７】
・空気界面配向剤１：以下の式で表される化合物。
【化６】
2018028614.tif 000008
【０１０８】
・空気界面配向剤２：以下の式で表される化合物。
【化７】
2018028614.tif 000009
【０１０９】
・ＬＣ−７５６（商品名「Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ  ＬＣ−７５６」；ＢＡＳＦ社製；キラル剤に該当する）
・Ｉｒｇ８１９（商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ８１９」；ＢＡＳＦ社製；重合開始剤に該当する；アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤に該当する。）
【０１１０】
【表２】
2018028614.tif 000010
【０１１１】
表２中、各数値（重合性組成物の番号１〜４、Δｎ、及び、平均屈折率以外）は質量部を表す。
【０１１２】
［液晶粒子の作製］
以下の方法により各液晶粒子（粒子に該当する）を作製した。
【０１１３】
〔液晶粒子Ｌ−１の作製〕
けん化度８８％のポリビニルアルコールを蒸留水に溶解し、１０質量％ポリビニルアルコール水溶液を得た。上記ポリビニルアルコールを高速ミキサー（５０００回転／分）で攪拌しながら、重合性組成物１を滴下して、エマルジョン溶液を得た。
次に、膜厚５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムに、乾燥後の膜厚が２０μｍとなるように、バーコーターを用いて、エマルジョン溶液を塗布し、エマルジョン層を得た。次に、エマルジョン層を８０℃のオーブンで２分間加熱し、その後、得られたエマルジョン層に対して、高圧水銀灯で３００ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を１秒間照射した。紫外線を照射した後、エマルジョン層を蒸留水で洗浄して、ポリビニルアルコール等を溶解させ、平均孔径１μｍの濾紙でろ過し、更にふるいを用いて分級して、平均円相当径１０μｍの液晶粒子Ｌ−１を得た。
【０１１４】
〔液晶粒子Ｌ−２及びＬ−３の作製〕
液晶粒子Ｌ−１の作製において、重合性組成物１に代えて、それぞれ重合性組成物２及び重合性組成物３を用いた以外は同様にして、液晶粒子Ｌ−２及びＬ−３を作製した。
【０１１５】
〔液晶粒子Ｌ−４の作製〕
膜厚５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムに、重合性組成物４を乾燥膜厚が５μｍとなるよう塗布し、重合性組成物層を得た。その後、重合性組成物層を１２０℃のオーブンで１分間加熱し、次に、８０℃まで温度を低下した状態で、３００ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を１秒間照射して、硬化膜を得た。上記硬化膜をポリエチレンテレフタレートフィルムから剥離し、ロール粉砕機を用いて破砕して、粗粒の液晶粒子を得た。上記粗粒の液晶粒子をふるいを用いて分級し、平均膜厚５μｍ、平均直径１０μｍの円盤状の液晶粒子Ｌ−４を得た。
【０１１６】
［実施例１：偏光解消フィルム１の作製］
表３に示した各成分を混合し、メチルエチルケトンで固形分を３０質量％とした偏光解消フィルム形成用組成物を得た。得られた偏光解消フィルム形成用組成物を、乾燥膜厚が２０μｍとなるよう、ガラス板に塗布し、塗膜を得た。上記塗膜を２００℃のオーブンで１分間加熱し、加熱後の塗膜に対して、高圧水銀灯で３００ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を１秒間照射し、偏光解消フィルム１を得た。
【０１１７】
［実施例２〜５：偏光解消フィルム２〜５の作製］
実施例１と同様の手順で、偏光解消フィルム２〜５を得た。なお、使用した成分等は、表３に記載した。なお、偏光解消フィルム形成用組成物は、いずれもメチルエチルケトンで固形分が３０質量％となるよう希釈した。
【０１１８】
［比較例１：偏光解消フィルム６の作製］
液晶粒子Ｌ−２を２０質量部と、ＢＲ８０（商品名「ダイヤナールＢＲ８０」；三菱レイヨン社製；ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）；重量平均分子量：９万）を１００質量部とを、メチレンクロライドに溶解し、固形分２０質量％の塗液を得た。なお、ＢＲ８０は完全に溶解していた。
上記塗液を、乾燥膜厚が２０μｍとなるよう、ガラス板に塗布し、乾燥させて偏光解消フィルム６を得た。
【０１１９】
＜基材の屈折率の測定＞
まず、各液晶粒子を含有しないこと以外は、各偏光解消フィルム形成用組成物と同様の方法で各基材形成用組成物を調製し、上記基材形成用組成物を、乾燥膜厚が２０μｍとなるよう、ガラス板に塗布し、塗膜を得た。上記塗膜を２００℃のオーブンで１分間加熱し、加熱後の塗膜に対して、高圧水銀灯で３００ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を１秒間照射し、基材を得た。上記各基材について、アッべ屈折計（アタゴ  ＮＡＲ−１Ｔ）を用いて屈折率を測定した。結果は表３に示した。
【０１２０】
＜偏光解消度の測定＞
２枚の直交偏光子（クロスニコル）の間に各偏光解消フィルムを挿入して、各偏光解消フィルムを３６０度回転させながら、透過光量を目視で確認した。偏光解消フィルムを３６０度回転させる間に、透過光量に変化がなかったものをＡ、透過光量に変化があった（明暗があった）ものをＢとした。結果を表３に示した。なお、偏光解消フィルムとしてはＡが実用範囲である。
【０１２１】
＜評価３：ヘイズの測定＞
ＪＩＳ  Ｋ７１３６：２０００に準拠して、各偏光解消フィルムのヘイズを測定した。結果を表３に示した。
【０１２２】
【表３】
2018028614.tif 000011
【０１２３】
表中、偏光解消フィルム形成用組成物の各成分の含有量は質量部を表す。
【０１２４】
表３に示した結果から、所定の複屈折を有する粒子を含有し、粒子の平均屈折率と、基材の屈折率との差が０．１以下である実施例１〜５の偏光解消フィルムは優れた偏光解消性能を有し、かつ、ヘイズが小さかった。一方、比較例１の偏光解消フィルムは偏光解消能を有するもののヘイズが大きかった。
粒子の複屈折Δｎが０．１以下である実施例１の偏光解消フィルムは、実施例２の偏光解消フィルムと比較してよりヘイズが小さかった。
また、粒子と、基材とが、同一の成分を含有し、粒子の全質量に対する、上記成分の含有量が５０質量％以上であり、基材の全質量に対する、上記成分の含有量が５０質量％以上である、実施例１の偏光解消フィルムは、実施例５の偏光解消フィルムと比較して、よりへイズが小さかった。