(57)【要約】【課題】広角度での反射の低減が、光学及び光電子機器に関連する用途で求められている。【解決手段】ランダムな異方性ナノ構造化表面を呈し、６０°のオフ角で１パーセント未満の平均反射を呈するナノ構造化材料。ナノ構造化材料は、例えば、光学及び光電子装置、ディスプレイ、ソーラ、光センサ、アイウェア、カメラレンズ、並びにグレージングに有用である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ランダムな異方性ナノ構造化表面を示し、６０°のオフ角で１％未満の平均反射率を示す、ナノ構造化材料。
【請求項２】
ポリマーマトリックス及びナノスケール分散相を含む、請求項１に記載のナノ構造化材料。
【請求項３】
前記ナノスケール相が、６０ｎｍ〜９０ｎｍの範囲の大きさ、３０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲の大きさ、及び２５ｎｍ未満の大きさで存在し、前記ナノスケール相が、前記ポリマーマトリックス及びナノスケール相の総重量に対して、６０ｎｍ〜９０ｎｍの範囲の大きさでは０．２５重量％〜５０重量％、３０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲の大きさでは１重量％〜５０重量％、及び２５ｎｍ未満の大きさでは０．２５重量％〜２５重量％の範囲で存在する、請求項２に記載のナノ構造化材料。
【請求項４】
前記ナノスケール相が、６０ｎｍ〜９０ｎｍの範囲の大きさ、３０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲の大きさ、及び２５ｎｍ未満の大きさで存在し、前記ナノスケール相が、前記ポリマーマトリックス及びナノスケール相の総容量に対して、６０ｎｍ〜９０ｎｍの範囲の大きさでは０．１容量％〜３５容量％、３０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲の大きさでは０．１容量％〜２５容量％、及び２５ｎｍ未満の大きさでは０．１容量％〜１０容量％の範囲で存在する、請求項２又は３に記載のナノ構造化材料。
【請求項５】
前記ナノスケール相がサブマイクロメートル粒子を含む、請求項１〜４のいずれかに記載ナノ構造化材料。
【請求項６】
前記サブマイクロメートル粒子がポリマーマトリックスと共有結合される、請求項２〜５のいずれかに記載のナノ構造化材料。
【請求項７】
層である、請求項１〜６のいずれかに記載のナノ構造化材料。
【請求項８】
少なくとも５００ｎｍの厚さを有する、請求項７に記載の層。
【請求項９】
第１の主面上に請求項７又は８に記載の層を有するほぼ対向した第１及び第２の主面を有する基材を有する、物品。
【請求項１０】
２％未満のヘイズ値を有する、請求項９に記載の物品。
【請求項１１】
前記基材の前記第２の表面上に配置された光学的に透明な接着剤を更に含み、前記光学的に透明な接着剤が、少なくとも９０％の可視光透過率及び５％未満のヘイズ値を有する、請求項９に記載の物品。
【請求項１２】
請求項１〜６のいずれかに記載のナノ構造化材料を作製する方法であって、
ナノ分散相を含むポリマーマトリックスを与えることと、
プラズマを使用して前記ポリマーマトリックスを異方性エッチングしてランダムなナノ構造化表面を形成することと、を含む方法。
【請求項１３】
前記ポリマーマトリックスが、少なくとも２００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲の深さまでエッチングされる、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
請求項１〜６のいずれか一項に記載のナノ構造化材料を作製する方法であって、
ナノ分散相を含むポリマーマトリックスを与えることと、
プラズマを使用して前記ポリマーマトリックスの少なくとも一部分をエッチングして、ランダムなナノ構造化表面を形成することと、を含む方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
（関連出願の相互参照）
本出願は、２０１２年３月２６日出願の米国特許仮出願第６１／６１５，６４６号に基づく利益を主張するものであり、その開示内容全体を参照により本明細書に援用する。
【背景技術】
【０００２】
光が１つの媒質から別の媒質へと伝播する際、光の一部は２つの媒質間の境界面で反射される。例えば、通常、透明なプラスチック基材に入射する光の約４〜５％は上面で反射される。
【０００３】
モバイルハンドヘルド機器及びラップトップ機器用のバックライトは、コントラスト比を低減させ、外部物体の干渉画像により視覚的品質を低下させうる、ディスプレイ装置の上面及び内部境界面からの外部照明の反射が存在する場合、所望のディスプレイ品質を提供するうえで効果的ではない。
【０００４】
ディスプレイ装置の上面の反射を低減させるために、種々の手法が利用されている。１つの手法は、例えば、反射を低減させるために屈折率の異なる交互の層を含む透明な薄膜構造からなる多層反射コーティングのような、反射防止コーティングを使用することである。しかしながら、多層反射防止コーティング技術を使用して広帯域の反射防止を実現することは困難でありうる。
【０００５】
別の手法は、広帯域の反射防止のためにサブ波長表面構造（例えばサブ波長スケールの表面グレーティング）を使用するものであり、この場合、サブ波長という語句は、物体又は構造が相互作用する波長よりも小さい１つ以上の寸法を有する物体又は構造を述べるために使用される。光学表面からのフレネル反射を抑制するために、サブ波長構造の構造体として、表面上のサブ波長構造の構造体より大きい波長範囲の反射を最小限に抑えるために有効な媒質として連続形状表面レリーフ格子が開発されている。サブ波長表面構造を（例えばリソグラフィーによって）作製する方法は、比較的複雑で費用がかかる傾向にある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
広角度での反射の低減が、光学及び光電子機器に関連する用途で求められている。（例えばリソグラフィーによる）従来のサブ波長構造表面技術によって、６０°のオフ角（すなわち鉛直から表面へ６０°）で低反射率（＜１．５％）を与える深い表面構造を作製することは困難である。プリズムのようなマイクロメートルスケールのマイクロ構造が太陽光用途で広角度での反射を低減するために広く利用されているが、この手法は、高いヘイズ値をもたらす傾向にあり、光が低屈折率媒質から高屈折率媒質に伝播する場合にのみ適用可能である。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
一態様では、本開示は、ランダムな異方性ナノ構造化表面を有し、６０°のオフ角で１パーセント未満（一部の実施形態では、０．７５、０．５、０．２５未満又は０．２パーセント未満）の平均反射率を示すナノ構造化材料について述べる。一般的に、ナノ構造化材料は、ポリマーマトリックス及びナノスケール分散相を含む。
【０００８】
別の態様では、本開示は、本明細書に記載のナノ構造化材料を作製する方法を説明する。この方法は、
ナノ分散相を含むポリマーマトリックスを準備することと、
プラズマを使用してポリマーマトリックスを異方性エッチングし、ランダムな異方性ナノ構造化表面を形成することと、を含む。
【０００９】
別の態様では、本開示は、本明細書に記載のナノ構造化材料を作製する方法を説明する。この方法は、
ナノ分散相を含むポリマーマトリックスを準備することと、
プラズマを使用してポリマーマトリックスの少なくとも一部分をエッチングし、ランダムな異方性ナノ構造化表面を形成することと、を含む。
【００１０】
場合により、本明細書に記載の物品は、基材の第１の主面と本明細書に記載の材料の層との間に配置された機能層（すなわち透明な導電層又はガスバリア層のうちの少なくとも１つ）を更に含む。場合により、本明細書に記載の物品は、本明細書に記載の材料の層上に配置された機能層（すなわち、透明な導電層又はガスバリア層のうちの少なくとも１つ）を更に含む。
【００１１】
場合により、本明細書に記載の物品は、基材の第２の主面上に（本明細書に記載の材料、並びに開示が参照により本明細書に援用する２０１１年２月２８日出願の国際出願第ＵＳ２０１１／０２６４５４号並びに２０１１年３月１４日出願の米国特許出願第６１／４５２，４０３号及び同６１／４５２，４３０号に記載の材料を含む）材料の（第２）層を更に含む。場合により、本明細書に記載の物品は、基材の第２の主面と材料の（第２）層との間に配置された機能層（すなわち透明な導電層又はガスバリア層のうちの少なくとも１つ）を更に含む。場合により、本明細書に記載の物品は、材料の（第２）層上に配置された機能層（すなわち、透明な導電層又はガスバリア層のうちの少なくとも１つ）を更に含む。
【００１２】
本明細書に記載の物品は、例えば、高性能で低干渉縞の反射防止光学物品を作製するために使用されうる。機能層（すなわち、透明な導電層又はガスバリア層のうちの少なくとも１つ）が本明細書に記載の材料の層上に配置されるとき、本明細書に記載の物品は、著しく強化された光学性能を有しうる。
【００１３】
本明細書に記載のナノ構造化材料及び物品の実施形態は、光学及び光電子機器、ディスプレイ、太陽電池、光センサ、アイウェア、カメラレンズ、並びにグレージングを含む数多くの用途に有用である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
一般的に、ナノ構造化材料は、ポリマーマトリックス及びナノスケール分散相を含む。一部の実施形態では、ポリマーマトリックスは、アクリレート、ウレタンアクリレート、メタクリレート、ポリエステル、エポキシ、フルオロポリマー、又はシロキサンのうちの少なくとも１つを含む。
【００１５】
ポリマーマトリックスは、反応前駆体から作製されうる。前駆体の例としては、少なくとも１つの、オリゴマーのウレタン（メタ）アクリレートを含んだ、重合性樹脂が挙げられる。一般的に、オリゴマーのウレタン（メタ）アクリレートは、マルチ（メタ）アクリレートである。用語「（メタ）アクリレート」は、アクリル及びメタクリル酸のエステルを指すために使用され、「マルチ（メタ）アクリレート」は、（メタ）アクリレートポリマーを一般に指す「ポリ（メタ）アクリレート」とは対照的に、２つ以上の（メタ）アクリレート基を含有する分子を指す。一般的に、マルチ（メタ）アクリレートはジ（メタ）アクリレートであるが、他の例としてトリ（メタ）アクリレート及びテトラ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００１６】
オリゴマーのウレタンマルチ（メタ）アクリレートは、例えば、Ｓａｒｔｏｍｅｒから商品名「ＰＨＯＴＯＭＥＲ  ６０００シリーズ」（例えば「ＰＨＯＴＯＭＥＲ  ６０１０」及び「ＰＨＯＴＯＭＥＲ  ６０２０」）、商品名「ＣＮ  ９００シリーズ」（例えば「ＣＮ９６６Ｂ８５」、「ＣＮ９６４」、及び「ＣＮ９７２」）で入手可能である。オリゴマーのウレタン（メタ）アクリレートはまた、例えば、Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｉｅｓから商品名「ＥＢＥＣＲＹＬ  ８４０２」、「ＥＢＥＣＲＹＬ  ８８０７」、及び「ＥＢＥＣＲＹＬ  ４８２７」で入手可能である。オリゴマーのウレタン（メタ）アクリレートはまた、例えば、Ｒ３がＣ２〜１００アルキレン又はアリーレン基である、式ＯＣＮ−Ｒ３−ＮＣＯのアルキレン又は芳香族ジイソシアネートとポリオールとの初期反応によって、調製されてもよい。一般的に、ポリオールは、式ＨＯ−Ｒ４−ＯＨのジオールであり、式中Ｒ４はＣ２−１００アルキレン基である。試薬の化学量論に応じて、次の中間生成物は、ウレタンジオール又はジイソシアネートとなり、続いてこれが、２−イソシアナトエチル（メタ）アクリレートといったイソシアネート官能性ビニルモノマー、それぞれ２−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートと反応しうる。好適なジイソシアネートとしては、２，２，４−トリメチルヘキシレンジイソシアネート及びトルエンジイソシアネートが挙げられる。アルキレンジイソシアネートが一般的に好ましい。一例を挙げると、このタイプの化合物は、２，２，４−トリメチルヘキシレンジイソシアネート、ポリ（カプロラクタム）ジオール、及び２−ヒドロキシエチルメタクリレートから調製されうる。少なくともいくつかの場合では、ウレタン（メタ）アクリレートが好ましい脂肪族である。
【００１７】
重合性前駆体は、少なくとも１つの他のモノマー（すなわちオリゴマーのウレタン（メタ）アクリレート以外）を含んだ、放射線硬化性組成物でありうる。他のモノマーは、粘度を低減させ、及び／又は熱機械的特性を向上させ、及び／又は屈折率を増加させうる。これらの特性を有するモノマーとしては、アクリルモノマー（すなわちアクリレート及びメタクリレートエステル、アクリルアミド、及びメタクリルアミド）、スチレンモノマー、並びにエチレン性不飽和窒素複素環が挙げられる。ＳａｒｔｏｍｅｒのＵＶ硬化性アクリレートモノマーの例としては、「ＳＲ２３８」、「ＳＲ３５１」、「ＳＲ３９９」、及び「ＳＲ４４４」が挙げられる。
【００１８】
好適なアクリルモノマーとしては、モノマーの（メタ）アクリレートエステルが挙げられる。モノマーの（メタ）アクリレートエステルとしては、アルキル（メタ）アクリレート（例えばメチルアクリレート、エチルアクリレート、１−プロピルアクリレート、メチルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ラウリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソオクチルアクリレート、エトキシエトキシエチルアクリレート、メトキシエトキシエチルアクリレート、及びｔ−ブチルアクリレート）が挙げられる。また、他の機能性を有する（メタ）アクリレートエステルも挙げられる。このタイプの化合物は、エトキシエトキシエチルアクリレート、メトキシエトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−（Ｎ−ブチルカルバミル）エチル（メタ）アクリレート、２，４−ジクロロフェニルアクリレート、２，４，６−トリブロモフェニルアクリレート、トリブロモフェノキシルエチルアクリレート、ｔ−ブチルフェニルアクリレート、フェニルアクリレート、フェニルチオアクリレート、フェニルチオエチルアクリレート、アルコキシル化フェニルアクリレート、イソボルニルアクリレート、及びフェノキシエチルアクリレートによって例示される。テトラブロモビスフェノールＡジエポキシド及び（メタ）アクリル酸の反応生成物もまた好適である。
【００１９】
他のモノマーはまた、モノマーのＮ置換又はＮ，Ｎ−二置換（メタ）アクリルアミド、特にアクリルアミドであってもよい。これらとしては、Ｎ−アルキルアクリルアミド及びＮ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド、特にＣ１〜４アルキル基を含有するものが挙げられる。例には、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、及びＮ，Ｎ−ジエチルアクリルアミドがある。
【００２０】
他のモノマーは更に、ポリオールマルチ（メタ）アクリレートであってもよい。このような化合物は一般的に、２〜１０の炭素原子を含有する脂肪族ジオール、トリオール、及び／又はテトラオールから調製される。好適なポリ（メタ）アクリレートの例には、エチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクレート、２−エチル−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオールトリアクリレート（トリメチロールプロパントリアクリレート）、ジ（トリメチロールプロパン）テトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、相当するメタクリレート、及び前述のポリオールのアルコキシル化（通常はエトキシル化）誘導体の（メタ）アクリレートがある。少なくとも２つのエチレン性不飽和基を有するモノマーは架橋剤としての働きをすることができる。
【００２１】
他のモノマーとしての使用に好適なスチレン化合物としては、スチレン、ジクロロスチレン、２，４，６−トリクロロスチレン、２，４，６−トリブロモスチレン、４−メチルスチレン、及び４−フェノキシスチレンが挙げられる。エチレン性不飽和窒素複素環としては、Ｎ−ビニルピロリドン及びビニルピリジンが挙げられる。
【００２２】
重合性前駆体の追加的な例としては、テトラフルオロエチレン、ビニルフルオリド、ビニリデンフルオリド、クロロトリフルオロエチレン、パーフルオロアルコキシ、フッ素化エチレン−プロピレン、エチレンテトラフルオロエチレン、エチレンクロロトリフルオロエチレン、パーフルオロポリエーテル、パーフルオロポリオキセタン、ヘキサフルオロプロピレンオキシド、シロキサン、オルガノシリコン、シロキシド、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、アクリルアミド、アミン、エーテル、スルホネート、アクリル酸、無水マレイン酸、ビニル酸、ビニルアルコール、ビニルピリジン、又はビニルピロリドンが挙げられる。
【００２３】
ナノスケール相は、ポリマーマトリックス内にランダムに分散した非連続相であり、ナノ粒子（例えばナノスフェア及びナノキューブ）、ナノチューブ、ナノ繊維、かご状分子、多分岐分子）を含むことができる。ナノスケール分散相は、会合しても又は会合しなくてもよく、あるいは両方であってもよい。ナノスケール分散相は良好に分散されうる。良好に分散されるとは、凝集が殆ど無いことを意味する。ナノスケール相の平均寸法は、１ｎｍ〜１００ｎｍの範囲でありうる。
【００２４】
一部の実施形態では、本明細書に記載のナノ構造化材料に、ナノスケール相は、ポリマーマトリックス及びナノスケール相の総重量に対して１．２５重量％未満（一部の実施形態では、１重量％、０．７５重量％、０．５重量％未満、又は更には０．３５重量％未満）存在する。
【００２５】
一部の実施形態では、本明細書に記載のナノ構造化材料は、６０ｎｍ〜９０ｎｍの範囲の大きさの、３０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲の大きさの、そして２５ｎｍ未満の大きさのナノスケール相を含み、ナノスケール相は、ポリマーマトリックス及びナノスケール相の総重量に対して、６０ｎｍ〜９０ｎｍの範囲の大きさが０．２５重量％〜５０重量％（一部の実施形態では、１重量％〜２５重量％、５重量％〜２５重量％、又は更には１０重量％〜２５重量％）、３０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲の大きさが１重量％〜５０重量％（一部の実施形態では、１重量％〜２５重量％、又は更には１重量％〜１０重量％）、そして２５ｎｍ未満の大きさが０．２５重量％〜２５重量％（一部の実施形態では、０．５重量％〜１０重量％、０．５重量％〜５重量％、又は更には０．５重量％〜２重量％）の範囲で存在する。
【００２６】
一部の実施形態では、６０ｎｍ〜９０ｎｍの範囲の大きさの、３０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲の大きさの、そして２５ｎｍ未満の大きさのナノスケール相を含んだ、本明細書に記載のナノ構造化材料に、ナノスケール相は、ポリマーマトリックス及びナノスケール相の総容量に対して、６０ｎｍ〜９０ｎｍの範囲の大きさが０．１容量％〜３５容量％（一部の実施形態では、０．５容量％〜２５容量％、１容量％〜２５容量％、又は更には３容量％〜１５容量％）、３０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲の大きさが０．１容量％〜２５容量％（一部の実施形態では、０．２５容量％〜１０容量％、又は更には０．２５容量％〜５容量％）、そして２５ｎｍ未満の大きさが０．１容量％〜１０容量％（一部の実施形態では、０．２５容量％〜１０容量％、又は更には０．１容量％〜２．５容量％）の範囲で存在する。
【００２７】
一部の実施形態では、本明細書に記載のナノ構造化材料は、ランダムなナノ構造化異方性表面を呈する。ナノ構造化異方性表面は一般的に、少なくとも２：１（一部の実施形態では、少なくとも５：１、１０：１、２５：１、５０：１、７５：１、１００：１、１５０：１又は更には少なくとも２００：１）の高さ対幅比率を有するナノ構造体を含む。ナノ構造化異方性表面の例示的なナノ構造体としては、ナノ柱若しくはナノ円柱、又はナノ柱、ナノ円柱、異方性ナノ穴若しくは異方性ナノ孔を含む連続的なナノ壁が挙げられる。一部の実施形態では、ナノ構造体は、機能層をコーティングした基材に対しておよそ垂直である急勾配の側壁を有する。一部の実施形態では、ナノ構造体は、分散相材料で末端保護される。ナノ構造化表面の平均高さは、標準偏差が２０ｎｍ〜７５ｎｍの範囲である２００ｎｍ〜５００ｎｍでありうる。ナノ構造の構造体は、平面の方向に、場合によってはまたｚ−方向に、基本的にランダム化される。
【００２８】
ナノスケール相を含むナノ構造化材料を有した本明細書に記載のナノ構造化材料の一部の実施形態では、ナノスケール相はサブマイクロメートル粒子を含む。一部の実施形態では、サブマイクロメートル粒子は、１ｎｍ〜１００ｎｍ（一部の実施形態では、１ｎｍ〜７５ｎｍ、１ｎｍ〜５０ｎｍ、又は更には１ｎｍ〜２５ｎｍ）の範囲の平均粒子サイズを有する。一部の実施形態では、サブマイクロメートル粒子はポリマーマトリックスに共有結合される。
【００２９】
サブマイクロメートル粒子は、炭素、金属、金属酸化物（例えばＳｉＯ２、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ケイ酸マグネシウム、酸化インジウムスズ、及び酸化アンチモンスズ）、炭化物（例えばＳｉＣ及びＷＣ）、窒化物、ホウ化物、ハロゲン化物、フッ化炭素固体（例えばポリ（テトラフルオロエチレン））、カーボネート（例えば炭酸カルシウム）、及びこれらの混合物を含むことができる。一部の実施形態では、サブマイクロメートル粒子は、ＳｉＯ２粒子、ＺｒＯ２粒子、ＴｉＯ２粒子、ＺｎＯ粒子、Ａｌ２Ο３粒子、炭酸カルシウム粒子、ケイ酸マグネシウム粒子、酸化インジウムスズ粒子、酸化アンチモンスズ粒子、ポリ（テトラフルオロエチレン）粒子、又は炭素粒子のうちの少なくとも１つを含む。金属酸化物粒子は、完全に凝結しうる。金属酸化物粒子は結晶質でありうる。
【００３０】
一部の実施形態では、サブマイクロメートル粒子は、単分散（全て同サイズ又は単峰性）であるか、又は分布（例えば、二蜂性又は他の複峰性）を有しうる。
【００３１】
例示的なシリカは、例えば、Ｎａｌｃｏ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏ．（Ｎａｐｅｒｖｉｌｌｅ，ＩＬ）から、商品名「ＮＡＬＣＯ  ＣＯＬＬＯＩＤＡＬ  ＳＩＬＩＣＡ」、例えば製品２３２９、２３２９Ｋ、及び２３２９  ＰＬＵＳで市販されている。例示的なヒュームドシリカとしては、例えば、Ｅｖｏｎｉｋ  Ｄｅｇｕｓａ  Ｃｏ．（Ｐａｒｓｉｐｐａｎｙ，ＮＪ）から商品名「ＡｅｒｏｓｉｌシリーズＯＸ−５０」、並びに製品番号−１３０、−１５０、及び−２００で、並びにＣａｂｏｔ  Ｃｏｒｐ．（Ｔｕｓｃｏｌａ，ＩＬ）から「ＣＡＢ−Ｏ−ＳＰＥＲＳＥ  ２０９５」、「ＰＧ００２」、「ＰＧ０２２」、「ＣＡＢ−Ｏ−ＳＰＥＲＳＥ  Ａ１０５」、及び「ＣＡＢ−Ｏ−ＳＩＬ  Ｍ５」の名前で市販されているものが挙げられる。他の例示的なコロイダルシリカは、例えば、Ｎｉｓｓａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから、「ＭＰ１０４０」、「ＭＰ２０４０」、「ＭＰ３０４０」、及び「ＭＰ４０４０」の名前で入手可能である。
【００３２】
一部の実施形態では、サブマイクロメートル粒子は、表面改質される。好ましくは、粒子が重合性樹脂中に良好に分散され、実質的に均質な組成物をもたらすように、表面処理は、サブマイクロメートル粒子を安定化させる。安定化させた粒子が硬化中に重合性樹脂と共重合又は反応できるように、サブマイクロメートル粒子は、その表面の少なくとも一部分を表面処理剤で改質されうる。
【００３３】
一部の実施形態では、サブマイクロメートル粒子は、表面処理剤で処理される。一般に、表面処理剤は、粒子表面に（共有結合により、イオン結合により、又は強力な物理吸着を介して）付着することになる第１の末端部、並びに粒子に樹脂との相溶性を付与し及び／又は硬化中に樹脂と反応する第２の末端部を有する。表面処理剤の例としては、アルコール、アミン、カルボン酸、スルホン酸、ホスホン酸、シラン、及びチタネートが挙げられる。好ましいタイプの処理剤は、金属酸化物表面の化学的性質によってある程度決定される。シリカ及び他のシリカ質充填剤に対してはシランが好ましい。ジルコニアのような金属酸化物に対しては、シラン及びカルボン酸が好ましい。表面改質は、モノマーとの混合に続いて、又は混合後のいずれかに行うことができる。シランの場合、樹脂中に取り込ませる前にシランを粒子又はナノ粒子の表面と反応させることが好ましい。表面改質剤の必要量は、粒子サイズ、粒子タイプ、改質剤の分子量、及び改質剤のタイプのようないくつかの要素に依存する。
【００３４】
表面処理剤の代表的な実施形態としては、イソオクチルトリ−メトキシ−シラン、Ｎ−（３−トリエトキシシリルプロピル）メトキシエトキシ−エトキシエチルカルバメート（ＰＥＧ３ＴＥＳ）、Ｎ−（３−トリエトキシシリルプロピル）メトキシエトキシエトキシエチルカルバメート（ＰＥＧ２ＴＥＳ）、３−（メタクリロイルオキシ）プロピルトリメトキシシラン、３−アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタクリロイルオキシ）プロピルトリエトキシシラン、３−（メタクリロイルオキシ）プロピルメチルジメトキシシラン、３−（アクリロイルオキシプロピル）メチルジメトキシシラン、３−（メタクリロイルオキシ）プロピルジメチルエトキシシラン、ビニルジメチルエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ｎ−オクチルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ビニルメチルジアセトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ビニルトリ−ｔ−ブトキシシラン、ビニルトリス−イソブトキシシラン、ビニルトリイソプロペノキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、スチリルエチルトリメトキシシラン、メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アクリル酸、メタクリル酸、オレイン酸、ステアリン酸、ドデカン酸、２−（２−（２−メトキシエトキシ）エトキシ）酢酸（ＭＥＥＡＡ）、β−カルボキシエチルアクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）酢酸、メトキシフェニル酢酸などの化合物、及びこれらの混合物が挙げられる。１つの例示的なシラン表面改質剤は、例えば、ＯＳＩ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓ（クロンプトン、サウスチャールストン、ウェストバージニア州）から商品名「ＳＩＬＱＵＥＳＴ  Ａ１２３０」で入手可能である。シラノール基を含む単官能性シランカップリング剤に関しては、シラン剤は反応し、ナノ粒子の表面上でヒドロキシル基との共有結合を形成することができる。シラノール基及び他の官能基（例えばアクリレート、エポキシ、及び／又はビニル）を含む二官能性又は複官能性シランカップリング剤に関しては、シラン剤は反応し、ナノ粒子の表面上でヒドロキシル基及びポリマーマトリックス中で官能基（例えばアクリレート、エポキシ、及び／又はビニル）との共有結合を形成することができる。
【００３５】
コロイド状分散液中の粒子の表面改質は、様々な方法で実現可能である。このプロセスは、無機分散体と表面改質剤との混合物を用いる。場合により、１−メトキシ−２−プロパノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、及び１−メチル−２−ピロリジノンのような共溶媒をこの時点で添加することができる。共溶媒は、表面改質剤並びに表面改質された粒子の溶解度を向上することができる。無機ゾル及び表面改質剤を含む混合物を、その後、室温又は高温で、混合あり又はなしで反応させる。一方法では、混合物を約８５℃で、約２４時間反応させることができ、表面改質されたゾルが得られる。別の方法では、金属酸化物が表面改質される場合に、金属酸化物の表面処理において好ましくは、粒子表面への酸性分子の吸着を行うことができる。重金属酸化物の表面改質は、室温で実施することが好ましい。
【００３６】
シランでのＺｒＯ２の表面改質は、酸性条件下又は塩基性条件下で実現可能である。一例では、シランは、酸性条件下で好適な時間加熱される。そのとき、分散液は、アンモニア水（又は他の塩基）と組み合わせられる。この方法は、ＺｒＯ２表面からの酸対イオンの除去、及びシランとの反応を可能にする。別の方法では、粒子は、分散液から析出され、液相から分離される。
【００３７】
表面改質剤の組み合わせが有用でありうるが、例えば、表面改質剤のうちの少なくとも１つは、架橋性樹脂と共重合可能な官能基を有する。例えば、重合化基は、エチレン性不飽和であるか、又は開環重合を受ける環状基でありうる。エチレン性不飽和重合化基は、例えば、アクリレート基若しくはメタクリレート基、又はビニル基でありうる。開環重合を受ける環状官能基は一般的に、酸素、イオウ、又は窒素のようなヘテロ原子、及び好ましくは酸素を含有する３員環（例えばエポキシド）を含む。
【００３８】
場合により、サブマイクロメートル粒子のうちの少なくとも一部は、シラノール、及びアクリレート、エポキシ、又はビニル官能基のうちの少なくとも１つを含む少なくとも１つの複官能性シランカップリング剤で官能化される。
【００３９】
カップリング剤とサブマイクロメートル粒子とは一般的に溶媒中で混合されることにより、カップリング剤のシラノールがサブマイクロメートル粒子の表面上のヒドロキシル基と反応して高温で粒子との共有結合を形成する。カップリング剤は、溶媒中の凝集及び析出を低減又は防止するサブマイクロメートル粒子間の立体障害を提供する、サブマイクロメートル粒子との共有結合を形成する。アクリレート、メタクリレート、エポキシ又はビニルのようなカップリング剤の他の官能基は、コーティングモノマー又はオリゴマー中で、及び溶媒中で官能化されたサブマイクロメートル粒子の分散液を更に強化することができる。
【００４０】
一部の実施形態では、本明細書に記載のナノ構造化材料は、層の形態である。一部の実施形態では、層は、少なくとも５００ｎｍ（一部の実施形態では、少なくとも１μｍ、１．５μｍ、２μｍ、２．５μｍ、３μｍ、４μｍ、５μｍ、７．５μｍ、又は更には少なくとも１０μｍ）の厚さを有する。
【００４１】
一部の実施形態では、本明細書に記載の物品は、層が更に、１μｍ〜１０μｍの範囲の大きさの粒子を０．０１重量％〜０．５重量％の範囲で含む。一部の実施形態では、本明細書に記載の物品は、マイクロメートルスケールの粒子が、ワックス、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリスチレン、ポリ乳酸（ＰＬＡ）又はシリカから作製されうる。これらのマイクロメートルスケールの粒子は、上記のカップリング剤で官能化され、ブレンダ又は超音波処理器によってコーティング溶液中に分散されうる。粒子は、コーティングを構成する樹脂バインダの総量に対して０．０１〜０．５重量％の範囲の量で、コーティング樹脂バインダに一般的に添加される。粒子は、ナノ構造化材料の表面全体にわたって「波打ち」（波状の突出部／凹部）を形成することができ、別の材料の表面と接触する際にニュートンリング防止特性を与える表面形状を形成する。このニュートン防止の方法はまた、従来のサブ波長スケールの表面グレーティング、多層反射防止コーティング、ナノ中空スフェアを使用した超低屈折率又は低屈折率コーティング、多孔性ヒュームドシリカ、又はニュートン防止反射防止機能を与える任意の他のナノ多孔性コーティング方法のような、他の反射防止技術と共に適用されうる。更なる詳細は、例えば、その開示内容を参照により本明細書に援用する、米国特許第６，５９２，９５０号（Ｔｏｓｈｉｍａら）に見ることができる。
【００４２】
例示的な基材としては、ポリマー基材、ガラス基材又は窓、及び機能デバイス（例えば有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）、ディスプレイ、及び光起電性デバイス）が挙げられる。一般的に、基材は、約１２．７μｍ（０．０００５インチ）〜約７６２μｍ（０．０３インチ）の範囲の厚さを有するが、他の厚さもまた有用でありうる。
【００４３】
基材用の例示的なポリマー材料としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリスチレン、アクリロニトリルブタジエンスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリアクリレート、熱可塑性ポリウレタン、ポリビニルアセテート、ポリアミド、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリエチレン、ポリ（メチルメタクリレート）、ポリエチレンナフタレート、スチレンアクリロニトリルコポリマー、シリコーン−ポリオキサミドポリマー、フルオロポリマー、セルローストリアセテートポリマー、環状オレフィンコポリマー、及び熱可塑性エラストマーが挙げられる。半結晶性ポリマー（例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ））は、良好な機械的強度及び寸法安定性を必要とする用途で特に望ましい場合がある。他の光学フィルム用途では、三酢酸セルロース、ポリ（メチルメタクリレート）、ポリカーボネート、及び環状オレフィンコポリマーのような低複屈折ポリマー基材が、配向によって誘発される偏光、又は偏光子、電磁波シールド部、若しくは光学ディスプレイ装置における静電容量式タッチ機能層のような他の光学要素との二色性干渉を最小限に抑えるか又は回避するために特に望ましい場合がある。
【００４４】
ポリマー基材は、例えば溶融押出注型成形、溶融押出成形カレンダー工法、二軸延伸を伴う溶融押出成形、吹込みフィルムプロセス、及び場合により二軸延伸を伴う溶媒注型成形によって形成されうる。一部の実施形態では、基材は、低いヘイズ値（例えば１％未満）及び低複屈折（例えば５０ナノメートル未満の光遅延値）を有し、高い透明度を有する（例えば可視スペクトルにおいて少なくとも９０％の透過率）。一部の実施形態では、基材はマイクロ構造化表面又は充填剤を有し、曇った、すなわち拡散性外観を与える。
【００４５】
場合により、基材は偏光子（例えば反射性偏光子又は吸収性偏光子）である。例えば全複屈折光学層、部分複屈折光学層又は全等方光学層のうちのいくつかの組み合わせから構成される多層光学フィルムを含む、様々な偏光フィルムが、基材として使用されてもよい。多層光学フィルムは、１０層以内の層、数百、又は更には数千の層を有することができる。例示的な多層偏光フィルムとしては、ディスプレイパネルにおいて輝度を向上させ及び／又はグレアを低減させるために、液晶ディスプレイ装置のような広範な用途において使用されるものが挙げられる。偏光フィルムはまた、サングラスに使用することで光強度及びグレアを低減させるタイプであってもよい。偏光フィルムは、偏光フィルム、反射性偏光フィルム、吸収性偏光フィルム、拡散フィルム、輝度向上フィルム、回転フィルム、ミラーフィルム、又はこれらの組み合わせを含んでもよい。例示的な反射性偏光フィルムとしては、米国特許第５，８２５，５４３号（Ｏｕｄｅｒｋｉｒｋら）、同第５，８６７，３１６号（Ｃａｒｌｓｏｎら）、同第５，８８２，７７４号（Ｊｏｎｚａら）、同第６，３５２，７６１（Ｂ１）号（Ｈｅｂｒｉｎｋら）、同第６，３６８，６９９（Ｂ１）号（Ｇｉｌｂｅｒｔら）、及び同第６，９２７，９００（Ｂ２）号（Ｌｉｕら）、米国特許出願公開第２００６／００８４７８０（Ａ１）号（Ｈｅｂｒｉｎｋら）、及び同第２００１／００１３６６８（Ａ１）号（Ｎｅａｖｉｎら）、及び国際公開第ＷＯ９５／１７３０３号（Ｏｕｄｅｒｋｉｒｋら）、同第ＷＯ９５／１７６９１号（Ｏｕｄｅｒｋｉｒｋら）、同第ＷＯ９５／１７６９２号（Ｏｕｄｅｒｋｉｒｋら）、同第ＷＯ９５／１７６９９号（Ｏｕｄｅｒｋｉｒｋら）、同第ＷＯ９６／１９３４７号（Ｊｏｎｚａら）、同第ＷＯ９７／０１４４０号（Ｇｉｌｂｅｒｔら）、同第ＷＯ９９／３６２４８号（Ｎｅａｖｉｎら）、及び同第ＷＯ９９／３６２６２号（Ｈｅｂｒｉｎｋら）に報告されているものが挙げられ、これらの開示内容を参照により本明細書に援用する。例示的な反射性偏光フィルムとしてはまた、３Ｍ  Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｓｔ．Ｐａｕｌ，ＭＮ）から、商品名「ＶＩＫＵＩＴＩ  ＤＵＡＬ  ＢＲＩＧＨＴＮＥＳＳ  ＥＮＨＡＮＣＥＤ  ＦＩＬＭ（ＤＢＥＦ）」、「ＶＩＫＵＩＴＩ  ＢＲＩＧＨＴＮＥＳＳ  ＥＮＨＡＮＣＥＤ  ＦＩＬＭ（ＢＥＦ）」、「ＶＩＫＵＩＴＩ  ＤＩＦＦＵＳＥ  ＲＥＦＬＥＣＴＩＶＥ  ＰＯＬＡＲＩＺＥＲ  ＦＩＬＭ（ＤＲＰＦ）」、「ＶＩＫＵＩＴＩ  ＥＮＨＡＮＣＥＤ  ＳＰＥＣＵＬＡＲ  ＲＥＦＬＥＣＴＯＲ（ＥＳＲ）」、及び「ＡＤＶＡＮＣＥＤ  ＰＯＬＡＲＩＺＥＲ  ＦＩＬＭ（ＡＰＦ）」で市販されているものが挙げられる。例示的な吸収性偏光フィルムは、例えば、株式会社サンリッツ（東京、日本）から商品名「ＬＬＣ２−５５１８ＳＦ」で市販されている。
【００４６】
光学フィルムは、少なくとも１つの非光学層（すなわち光学フィルムの光学特性の決定に著しく関与しない層（単数又は複数））を有してもよい。非光学層を使用して、例えば、機械特性、化学特性、又は光学特性、引裂き又は穿刺抵抗、耐候性、若しくは耐溶剤性を付与又は向上させてもよい。
【００４７】
例示的なガラス基材としては、例えば融解金属床上に溶融ガラスをフローティングさせることによって作製されるような板ガラス（例えばソーダ石灰ガラス）が挙げられる。他の例示的なガラス基材としては、ホウケイ酸塩ガラス、ＬＣＤガラス及び化学強化ガラスが挙げられる。一部の実施形態（例えば建築用途及び自動車用途）では、ガラスのエネルギー効率を向上させるために、ガラスの表面上に低放射率（ｌｏｗ−Ｅ）コーティングを含むことが望ましくありうる。ガラスの電子−光学特性、触媒特性、導電特性を向上させるために、一部の実施形態では他のコーティングもまた望ましくありうる。
【００４８】
本明細書に記載のナノ構造化材料を作製する一方法は、
ナノ分散相を含むポリマーマトリックスを準備することと、
プラズマを使用してポリマーマトリックスを異方性エッチングし、ランダムなナノ構造化表面を形成することと、を含む。
【００４９】
一部の実施形態では、マトリックスは、少なくとも２００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲の深さまでエッチングされる。例えば、高バイアス電圧を伴う高真空下での非常に方向性の高いイオン化プラズマエッチングは、２００ｎｍを超えるより深いエッチングを可能にしうる。有効な方向性の高い反応性かつ物理的なイオンボンバードメントは、高真空及びバイアス電圧下で形成され、サイドエッチングを最小限に抑えながら表面内へのプラズマのより深い浸透を実現させる。
【００５０】
本明細書に記載のナノ構造化材料を作製する別の方法は、
ナノ分散相を含むポリマーマトリックスを準備することと、
プラズマ（例えばＯ２、Ａｒ、ＣＯ２、Ｏ２／Ａｒ、Ｏ２／ＣＯ２、Ｃ６Ｆ１４／Ｏ２又はＣ３Ｆ８／Ｏ２プラズマ）を使用してポリマーマトリックスの少なくとも一部分をエッチングし、ランダムなナノ構造化表面を形成することと、を含む。場合により、ナノ構造化表面を、プラズマによる少なくとも２回目の処理に供する。一部の実施形態では、方法は、円筒型反応性イオンエッチングを使用したロールツーロールで行われる。一部の実施形態では、エッチングは、約１ｍＴｏｒｒ〜約２０ｍＴｏｒｒ（約０．１３Ｐａ〜約２．６７Ｐａ）の圧力で行われる。
【００５１】
本明細書に記載のナノ構造化材料は、６０°のオフ角で１パーセント未満（一部の実施形態では、０．７５、０．５、０．２５未満又は０．２パーセント未満）の平均反射を呈する。６０°のオフ角での反射は、以下の実施例の手順２によって測定される。
【００５２】
別の態様では、本明細書に記載のナノ構造化材料は、以下の実施例の手順２によって測定した２パーセント未満（一部の実施形態では、１．５パーセント未満、又は更には０．５パーセント未満）の反射を有する。本明細書に記載のナノ構造化材料は、以下の実施例の手順３によって測定した３パーセント未満（一部の実施形態では、２パーセント、１．５パーセント未満、又は更には１パーセント未満）のヘイズ値を有しうる。
【００５３】
基材、機能層、及び本明細書に記載のナノ構造化材料の層をこの順序で含む物品に関しては、物品は、例えば、
略向かい合った第１及び第２の主面を有する基材、並びに向かい合う第１及び第２の主面を有する機能層を準備することであって、機能層の第１の主面が基材の第１の主面上に配置される、ことと、
ポリマーマトリックス又はポリマー前駆体マトリックスの少なくとも一方と、前記ポリマーマトリックス又はポリマー前駆体マトリックスの少なくとも一方に含まれるナノスケール分散相とを含む組成物を、機能層の第１の主面上にコーティングすることと、
場合によりコーティングを乾燥させて（及び場合により乾燥させたコーティングを硬化させて）、ポリマーマトリックス又はポリマー前駆体マトリックスの少なくとも一方と、前記ポリマーマトリックス又はポリマー前駆体マトリックスの少なくとも一方に含まれるナノスケール分散相とを含む物品を準備することと、
物品の第２の主面を反応性イオンエッチングに暴露することと、を含む方法により作製することができ、前記イオンエッチングは、
真空容器中で円筒形の電極上に物品を配置することと、
既定の圧力で（例えば１ｍＴｏｒｒ〜２０ｍＴｏｒｒ（０．１３Ｐａ〜２．６７Ｐａ）の範囲で）エッチングガスを真空容器に導入することと、）；
円筒形の電極と対電極との間にプラズマ（例えば酸素プラズマ）を生成することと、
円筒形の電極を回転させて、基材を移動させることと、
コーティングを異方性エッチングして、ランダムなナノ構造化異方性表面を準備することと、を含む。
【００５４】
第２の機能層及び第２のナノ構造化物品を基材に対してこの順序で更に含む複合体に関しては、方法は、例えば、基材のそれぞれの主面上に機能層（同一であっても異なっていてもよい）を備えた基材を準備し、そして上記方法において記載されるように機能層上に第２のナノ構造化物品を適用することによって、行われうる。一部の実施形態では、第２のナノ構造化物品は、第１のナノ構造化物品と同時に適用される。一部の実施形態では、第２の機能層は、第１のナノ構造化物品が適用された後に準備されるが、他方では、例えば第１のナノ構造化物品の適用時に準備される。
【００５５】
基材、本明細書に記載のナノ構造化材料の層、及び機能層をこの順序で含む本明細書に記載の複合体に関しては、複合体は、例えば、
略向かい合った第１及び第２の主面を有する基材を準備することと、
ポリマーマトリックス材料又はポリマー前駆体マトリックスの少なくとも一方と、前記ポリマーマトリックス又はポリマー前駆体マトリックスの少なくとも一方に含まれるナノスケール分散相とを含む組成物を、基材の第１の主面上にコーティングすることと、
場合によりコーティングを乾燥させて（及び場合により乾燥させたコーティングを硬化させて）、ポリマーマトリックス又はポリマー前駆体マトリックスの少なくとも一方と、前記ポリマーマトリックス又はポリマー前駆体マトリックスの少なくとも一方に含まれるナノスケール分散相とを含む物品を準備することと、
物品の主面を反応性イオンエッチングに暴露することと、を含む方法により作製することができ、前記イオンエッチングは、
真空容器中で円筒形の電極上に物品を配置することと、
既定の圧力で（例えば１ｍＴｏｒｒ〜２０ｍＴｏｒｒ（０．１３Ｐａ〜２．６７Ｐａ）の範囲で）エッチングガスを真空容器に導入することと、；
円筒形の電極と対電極との間にプラズマ（例えば酸素プラズマ）を生成することと、
円筒形の電極を回転させて、基材を移動させることと、
コーティングを異方性エッチングして、第１のランダムなナノ構造化異方性表面を準備することと、
ランダムなナノ構造化異方性表面上に機能層を配置することと、を含む。
【００５６】
第２のナノ構造化物品及び第２の機能層を基材に対してこの順序で更に含む複合体に関しては、上記方法は、例えば、上記方法において記載されるように機能層上に第２のナノ構造化物品を適用し、続いて第２のナノ構造化物品の主面上に機能層（同一であっても又は異なっていてもよい）を配置することによって、行われうる。一部の実施形態では、第２のナノ構造化物品は、第１のナノ構造化物品と同時に適用される。一部の実施形態では、第２の機能層は、第１のナノ構造化物品が適用された後に準備されるが、他方では、例えば第１のナノ構造化物品の適用時に準備される。
【００５７】
透明な導電フィルムを形成するために使用される、化学蒸着（ＣＶＤ）、マグネトロンスパッタリング、蒸着、及びスプレー熱分解を含むいくつかの堆積技術が存在する。有機発光ダイオードを作製するために、ガラス基材が広範に使用されてきた。しかしながら、ガラス基材は、ある種の用途（例えばカーナビ及びポータブルコンピュータ）には望ましくない傾向にある。ガラスは脆性であることから、柔軟性が所望される場合には望ましくない。同様に、一部の用途（例えば大型ディスプレイ）では、ガラスは重すぎる。プラスチック基材は、ガラス基材の代替基材である。低温（２５℃〜１２５℃）スパッタリングによるプラスチック基材上での透明な導電フィルムの成長は、例えば、Ｇｉｌｂｅｒｔらの４７ｔｈ  Ａｎｎｕａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  ｏｆ  Ｖａｃｕｕｍ  Ｃｏａｔｅｒｓ  Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ  Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ  Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ（１９９３）、Ｔ．ＭｉｎａｍｉらのＴｈｉｎ  Ｓｏｌｉｄ  Ｆｉｌｍ，Ｖｏｌ．２７０，３７頁（１９９５）、及びＪ．ＭａのＴｈｉｎ  Ｓｏｌｉｄ  Ｆｉｌｍｓ，ｖｏｌ．３０７，２００頁（１９９７）に報告されている。別の堆積技術、パルスレーザー堆積が、例えば米国特許第６，６４５，８４３号（Ｋｉｍら）に報告されており、滑らかで低電気抵抗性のインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）コーティングがポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基材上に形成される。導電性層は、導電元素金属、導電金属合金、導電金属酸化物、導電金属窒化物、導電金属炭化物、導電金属ホウ化物、及びこれらの組み合わせを含みうる。好ましい導電金属としては、銀、銅、アルミニウム、金、パラジウム、プラチナ、ニッケル、ロジウム、ルテニウム、アルミニウム、及び亜鉛の元素が挙げられる。銀−金合金、銀−パラジウム合金、銀−金−パラジウム合金、又は互いに若しくは他の金属と混合してこれらの金属を含有している分散液のような、これらの金属の合金もまた、使用されうる。インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、並びにアルミニウム、ガリウム及びホウ素のようなドーパントを含む又は含まない亜鉛酸化物といった、透明な導電酸化物（ＴＣＯ）、他のＴＣＯ、並びにこれらの組み合わせもまた、導電性層として使用されうる。好ましくは、導電性金属層の物理的な厚さは約３ｎｍ〜約５０ｎｍ（一部の実施形態では、約５ｎｍ〜約２０ｎｍ）の範囲であり、一方、透明な導電酸化物層の物理的な厚さは好ましくは約１０ｎｍ〜約５００ｎｍ（一部の実施形態では約２０ｎｍ〜約３００ｎｍ）の範囲である。得られる導電性層は、一般的に、３００Ω／ｓｑ未満（一部の実施形態では、２００オーム／ｓｑ未満、又は更には１００Ω／ｓｑ未満）のシート抵抗を提供しうる。構造化表面に適用される機能層については、層は、反射防止機能が構造化表面と堆積層との間の境界面で、及び空気に接触する機能性コーティング層の第２の表面又は別の基材表面で生成されるように、構造化表面の表面輪郭に沿ってもよい。
【００５８】
透明な導電フィルムは、例えば、透明な導電ポリマーから作製されうる。導電ポリマーとしては、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリピロール、ＰＥＴＯＴ／ＰＳＳ（ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）／ポリスチレンスルホン酸）、又はポリチオフェン（例えば、Ｓｋｏｔｈｅｉｍら、Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｃｏｎｄｕｃｔｉｎｇ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ，１９９８を参照されたい）の誘導体が挙げられる。理論に束縛されることを望むものではないが、これらのポリマーは、伝導を可能にする共役二重結合を有するものと考えられる。更に、理論に束縛されることを望むものではないが、ポリチオフェンはバンド構造を操作することにより、可視光線に対し透過性のＨＵＭＯ−ＬＵＭＯ分離が生じるよう改質されているものと考えられる。ポリマーにおいて、バンド構造は分子軌道により決定される。有効なバンドギャップは、最高被占軌道（ＨＯＭＯ）及び最低空軌道（ＬＵＭＯ）間を分離する。
【００５９】
透明な導電層は、例えば中実又は中空でありうる異方性ナノスケール材料を含みうる。中実の異方性ナノスケール材料としては、ナノ繊維及びナノプレートレットが挙げられる。中空の異方性ナノスケール材料としては、ナノチューブが挙げられる。一般的には、ナノチューブは１０：１超のアスペクト比（長さ：直径）を有する（一部の実施形態では５０：１超、又は更には１００：１超）。ナノチューブの長さは、一般的には５００ｎｍ超である（一部の実施形態では、１μｍ超、又は更には１０μｍ超）。これらの異方性のナノスケール材料は、任意の導電材料から製造することができる。ほとんどの場合、導電材料は金属である。金属材料は、金属原子（例：遷移金属）又は金属化合物（例：金属酸化物）でありうる。金属材料はまた、金属合金又はバイメタル材料（２種以上の金属を含む材料）であってもよい。好適な材料としては、銀、金、銅、ニッケル、金めっき銀、プラチナ、及びパラジウムが挙げられる。導電材料は、非金属であってもよい（炭素又はグラファイト（炭素の同素体）など）。
【００６０】
ガス（例えば水蒸気及び酸素）バリアフィルムは、一般的に、フィルム表面上に比較的薄い（例えば約１００ｎｍ〜約３００ｎｍ）酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、又は酸化ケイ素といった金属酸化物の層を含む。ガスバリアフィルムを提供するための、フィルム上の他の例示的な層としては、セラミックス、例えば酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化窒化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ、スズをドープした酸化インジウム、及びアルミニウムをドープした酸化亜鉛が挙げられる。ガスバリアフィルムは、単一のバリア層であっても、又は複数のバリア層構成体であってもよい。バリア層は、導電機能など、複数の機能特性を含んでもよい。
【００６１】
一部の実施形態では、サブマイクロメートル粒子を含むポリマーマトリックスの表面は、マイクロ構造化されてもよい。例えば、Ｖ型溝のマイクロ構造化表面を有する透明な導電性酸化物コーティング基材は、サブマイクロメートル粒子を含む重合性マトリックス材料でコーティングされ、プラズマエッチングによって処理されて、Ｖ型溝のマイクロ構造化表面上にナノ構造体を形成することができる。他の実施例は、米国特許第７，３７８，１３６号（Ｐｏｋｏｒｎｙら）に報告される多溶媒コーティング溶液の溶媒蒸発プロセスの制御から得られる微細マイクロ構造化表面、又は米国特許第７，６０４，３８１号（Ｈｅｂｒｉｎｋら）に報告されるマイクロ複製方法による構造化表面、又は例えば電界及び磁界によって誘発されるその他の構造化表面を含む。
【００６２】
必要に応じて、本明細書に記載の物品は、基材の第２の表面上に配置された光学的に透明な接着剤を更に含む。本開示において使用されうる光学的に透明な接着剤は、好ましくは、光学的に透明な接着剤のためのヘイズ値及び透過率試験の実施例のセクションで、以下に記載される内容において、２５μｍ厚のサンプルで測定されたとき、少なくとも約９０％又はそれ以上の光学透過率及び約５％未満又はそれ以下のヘイズ値を呈するものである。適した光学的に透明な接着剤は、帯電防止特性を有してもよく、腐食感受性の層と適合性があってもよく、接着剤を延伸することによって基材から剥離することができてもよい。例示の光学的に透明な接着剤としては、帯電防止の光学的に透明な感圧接着剤に関する国際公開第ＷＯ  ２００８／１２８０７３号（Ｅｖｅｒａｅｒｔｓら）、延伸剥離型の光学的に透明な接着剤に関する米国特許出願公開第２００９／０２２９７３２（Ａ１）号（Ｄｅｔｅｒｍａｎら）、インジウムスズ酸化物と相溶性の光学的に透明な接着剤に関する米国特許出願公開第２００９／００８７６２９号（Ｅｖｅｒａｅｒｔｓら）、光学的に透過性な接着剤を有する帯電防止の光学的な構成体に関する米国特許出願公開第２０１０／００２８５６４号（Ｅｖｅｒａｅｒｔｓら）、腐食感受性層と適合性のある接着剤に関する米国特許出願公開第２０１０／００４０８４２号（Ｅｖｅｒａｅｒｔｓら）、光学的に透明な延伸剥離型接着テープに関する国際公開第ＷＯ  ２００９／１１４６８３号（Ｈａｍｅｒｓｋｉら）、及び延伸剥離型接着テープに関する国際公開第ＷＯ  ２０１０／０７８３４６号（Ｈａｍｅｒｓｋｉら）に記載のものが挙げられる。一実施形態では、光学的に透明な接着剤は、約５μｍまでの厚さを有する。
【００６３】
一部の実施形態では、本明細書に記載の物品は、マルチ（メタ）アクリレート、ポリエステル、エポキシ、フルオロポリマー、ウレタン、又はシロキサン（それらの配合物又はコポリマーを含む）のうちの少なくとも１つを含む架橋性マトリックス中に分散された、ＳｉＯ２ナノ粒子又はＺｒＯ２ナノ粒子のうちの少なくとも１つ含む、ハードコートを更に含む。市販の液体−樹脂系材料（一般的に「ハードコート」と呼ばれる）は、ポリマーマトリックスとして、又はポリマーマトリックスの構成要素として使用されうる。このような材料としては、Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏ．（Ｓａｎ  Ｄｉｅｇｏ，ＣＡ）から商品名「ＰＥＲＭＡＮＥＷ」で市販されているもの；及びＭｏｍｅｎｔｉｖｅ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ（Ａｌｂａｎｙ，ＮＹ）から商品名「ＵＶＨＣ」で市販されているものが挙げられる。加えて、Ｎａｎｏｒｅｓｉｎｓ  ＡＧ（Ｇｅｅｓｔｈａｃｈｔ  Ｇｅｒｍａｎｙ）から商品名「ＮＡＮＯＣＲＹＬ」及び「ＮＡＮＯＰＯＸ」で入手可能なものといった、ナノ粒子が充填された市販のポリマーマトリックス材料もまた、使用されうる。
【００６４】
一部の実施形態では、本明細書に記載の物品は、物品の表面に対してポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、塩化ビニルフィルム、又はポリエチレンテレフタレートフィルム等のフィルムの一方の側の表面の面積全体に形成された剥離可能な接着剤層を有する表面保護接着シート（ラミネートプレマスクフィルム）を、物品の表面に上述のポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、塩化ビニルフィルム又はポリエチレンテレフタレートフィルムを重ねることによって更に含む。
【００６５】
例示的な実施形態
１Ａ．ランダムな異方性ナノ構造化表面を呈し、６０°のオフ角で１パーセント未満（一部の実施形態では、０．７５、０．５、０．２５未満又は０．２パーセント未満）の平均反射を呈するナノ構造化材料。
２Ａ．ポリマーマトリックス及びナノスケール分散相を含む、実施形態１Ａに記載のナノ構造化材料。
３Ａ．ナノスケール相が、６０ｎｍ〜９０ｎｍの範囲の大きさ、３０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲の大きさ、そして２５ｎｍ未満の大きさで存在し、ナノスケール相が、ポリマーマトリックス及びナノスケール相の総重量に対して、６０ｎｍ〜９０ｎｍの範囲の大きさは０．２５重量％〜５０重量％（一部の実施形態では、１重量％〜２５重量％、５重量％〜２５重量％、又は更には１０重量％〜２５重量％）、３０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲の大きさは１重量％〜５０重量％（一部の実施形態では、１重量％〜２５重量％、又は更には１重量％〜１０重量％）、そして２５ｎｍ未満の大きさは０．２５重量％〜２５重量％（一部の実施形態では、０．５重量％〜１０重量％、０．５重量％〜５重量％、又は更には０．５重量％〜２重量％）の範囲で存在する、実施形態２Ａに記載のナノ構造化材料。
４Ａ．ナノスケール相が、６０ｎｍ〜９０ｎｍの範囲の大きさ、３０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲の大きさ、そして２５ｎｍ未満の大きさで存在し、ナノスケール相が、ポリマーマトリックス及びナノスケール相の総容量に対して、６０ｎｍ〜９０ｎｍの範囲の大きさは０．１容量％〜３５容量％（一部の実施形態では、０．５容量％〜２５容量％、１容量％〜２５容量％、又は更には３容量％〜１５容量％）、３０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲の大きさは０．１容量％〜２５容量％（一部の実施形態では、０．２５容量％〜１０容量％、又は更には０．２５容量％〜５容量％）、そして２５ｎｍ未満の大きさは０．１容量％〜１０容量％（一部の実施形態では、０．２５容量％〜１０容量％、又は更には０．１容量％〜２．５容量％）の範囲で存在する、実施形態２Ａ又は３Ａのうちのいずれかに記載のナノ構造化材料。
５Ａ．ポリマーマトリックスの少なくとも一部分が、テトラフルオロエチレン、ビニルフルオリド、ビニリデンフルオリド、クロロトリフルオロエチレン、パーフルオロアルコキシ、フッ素化エチレン−プロピレン、エチレンテトラフルオロエチレン、エチレンクロロトリフルオロエチレン、パーフルオロポリエーテル、パーフルオロポリオキセタン、ヘキサフルオロプロピレンオキシド、シロキサン、オルガノシリコン、シロキシド、シリルハライド、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、アクリルアミド、アミン、エーテル、スルホネート、アクリル酸、無水マレイン酸、ビニル酸、ビニルアルコール、ビニルピリジン、又はビニルピロリドンのうちの少なくとも１つを含む、実施形態２Ａ〜４Ａのうちのいずれか１つに記載のナノ構造化材料。
６Ａ．ナノスケール相がサブマイクロメートル粒子を含む、先行する実施形態Ａのうちのいずれか１つに記載のナノ構造化材料。
７Ａ．サブマイクロメートル粒子が、１ｎｍ〜１００ｎｍ（一部の実施形態では、１ｎｍ〜７５ｎｍ、１ｎｍ〜５０ｎｍ、又は更には１ｎｍ〜２５ｎｍ）の範囲の平均粒子サイズを有し、ナノスケール相が、ポリマーマトリックス及びナノスケール相の総重量に対して１．２５重量％未満（一部の実施形態では、１重量％、０．７５重量％、０．５重量％未満、又は更には０．３５重量％未満）存在する、実施形態６Ａに記載のナノ構造化材料。
８Ａ．サブマイクロメートル粒子がポリマーマトリックスに共有結合される、実施形態２Ａ〜７Ａのうちのいずれかに記載のナノ構造化材料。
９Ａ．サブマイクロメートル粒子のうちの少なくともいくつかが、シラノール、及びアクリレート、エポキシ、又はビニル官能基のうちの少なくとも１つを含む少なくとも１つの複官能性シランカップリング剤で官能化される、実施形態２Ａ〜８Ａのうちのいずれか１つに記載のナノ構造化材料。
１０Ａ．サブマイクロメートル粒子が、炭素、金属、金属酸化物、金属炭化物、金属窒化物、又はダイヤモンドのうちの少なくとも１つを含む、実施形態２Ａ〜９Ａのうちのいずれか１つに記載のナノ構造化材料。
１１Ａ．ポリマーマトリックス（例えば架橋性材料）が、アクリレート、ウレタンアクリレート、メタクリレート、ポリエステル、エポキシ、フルオロポリマー又はシロキサンのうちの少なくとも１つを含む、実施形態２Ａ〜１０Ａのうちのいずれか１つに記載のナノ構造化材料。
１２Ａ．ナノ構造化異方性表面が、少なくとも２：１（一部の実施形態では、少なくとも１０：１）の高さ対幅比率を有するナノスケール構造体を含む、先行する実施形態Ａのうちのいずれか１つに記載のナノ構造化材料。
１３Ａ．層である、先行する実施形態Ａのうちのいずれか１つに記載のナノ構造化材料。
１４Ａ．少なくとも５００ｎｍ（一部の実施形態では、少なくとも１μｍ、１．５μｍ、２μｍ、２．５μｍ、３μｍ、４μｍ、５μｍ、７．５μｍ、又は更には少なくとも１０μｍ）の厚さを有する、実施形態１３Ａに記載の層。
１５Ａ．第１の主面上に実施形態１３Ａ又は１４Ａのいずれかに記載の層を有する、略向かい合った第１及び第２の主面を有した基材を含む、物品。
１６Ａ．基材が、偏光子（例えば、反射性偏光子又は吸収性偏光子）である、実施形態１５Ａに記載の物品。
１７Ａ．基材の第１の主面が、マイクロ構造化表面を有する、実施形態１５Ａ又は１６Ａのうちのいずれかに記載の物品。
１８Ａ．２パーセント未満（一部の実施形態では、１．５パーセント、１パーセント、０．７５パーセント、０．５パーセント未満、又は更には０．３パーセント未満）のヘイズ値を有する、実施形態１５Ａ〜１７Ａのうちのいずれか１つに記載の物品。
１９Ａ．マルチ（メタ）アクリレート、ポリエステル、エポキシ、フルオロポリマー、ウレタン、又はシロキサンのうちの少なくとも１つを含む架橋性マトリックス中に分散される、ＳｉＯ２ナノ粒子又はＺｒＯ２ナノ粒子のうちの少なくとも１つを含んだ、ハードコートを更に含む、実施形態１５Ａ〜１８Ａのうちのいずれか１つに記載の物品。
２０Ａ．少なくとも９０パーセント（一部の実施形態では、少なくとも９４パーセント、９５パーセント、９６パーセント、９７パーセント、９８パーセント、９９パーセント、又は更には１００パーセント）の可視光線透過率を有する、実施形態１５Ａ〜１９Ａのうちのいずれか１つに記載の物品。
２１Ａ．基材の第１の主面と層との間に配置された機能層を更に含み、機能層が透明な導電層又はガスバリア層のうちの少なくとも１つである、実施形態１５Ａ〜２０Ａのうちのいずれか１つに記載の物品。
２２Ａ．層上に配置されたプレマスクフィルムを更に含む、実施形態１５Ａ〜２１Ａのうちのいずれか１つに記載の物品。
２３Ａ．層上に配置された機能層を更に含み、この機能層が、透明な導電層又はガスバリア層のうちの少なくとも１つである、実施形態１５Ａ〜２１Ａのうちのいずれか１つに記載の物品。
２４Ａ．基材の第２の主面上に配置された機能層を更に含み、この機能層が、透明な導電層又はガスバリア層のうちの少なくとも１つである、実施形態１５Ａ〜２１Ａ又は２３Ａのうちのいずれか１つに記載の物品。
２５Ａ．基材の第２の表面上に配置された光学的に透明な接着剤を更に含み、光学的に透明な接着剤が、少なくとも９０％の可視光に対する透過率及び５％未満のヘイズ値を有する、実施形態１５Ａ〜２１Ａ又は２３Ａのうちのいずれか１つに記載の物品。
２６Ａ．光学的に透明な接着剤に付着されるガラス基材の主面を更に含む、実施形態２５Ａに記載の物品。
２７Ａ．光学的に透明な接着剤に付着される偏光基材の主面を更に含む、実施形態２５Ａに記載の物品。
２８Ａ．光学的に透明な接着剤に付着される触覚センサの主面を更に含む、実施形態２５Ａに記載の物品。
２９Ａ．光学的に透明な接着剤の第２の主面上に配置される剥離ライナを更に含む、実施形態２５Ａに記載の物品。
１Ｂ．実施形態１Ａ〜１２Ａのうちのいずれか１つに記載のナノ構造化材料を作製する方法であって、
ナノ分散相を含むポリマーマトリックスを準備することと、
プラズマを使用してポリマーマトリックスを異方性エッチングし、ランダムなナノ構造化表面を形成することと、を含む方法。
２Ｂ．ポリマーマトリックスが、少なくとも２００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲の深さまでエッチングされる、実施形態１Ｂに記載の方法。
１Ｃ．実施形態１Ａ〜１２Ａのうちのいずれか１つに記載のナノ構造化材料を作製する方法であって、
ナノ分散相を含むポリマーマトリックスを準備することと、
プラズマを使用してポリマーマトリックスの少なくとも一部分をエッチングし、ランダムなナノ構造化表面を形成することと、を含む方法。
２Ｃ．ナノ構造化表面をプラズマで２回目の処理に供することを更に含む、実施形態１Ｃに記載の方法。
３Ｃ．方法が、円筒型反応性イオンエッチングを使用してロールツーロールで実行される、実施形態１Ｃ又は２Ｃのうちのいずれかに記載の方法。
４Ｃ．エッチングが、約１ｍＴｏｒｒ〜約２０ｍＴｏｒｒ（約０．１３Ｐａ〜約２．６７Ｐａ）の圧力で実施される、先行する実施形態Ｃのうちのいずれか１つに記載の方法。
５Ｃ．プラズマが、Ｏ２、Ａｒ、ＣＯ２、Ｏ２／Ａｒ、Ｏ２／ＣＯ２、Ｃ６Ｆ１４／Ｏ２、又はＣ３Ｆ８／Ｏ２プラズマである、先行する実施形態Ｃのうちのいずれか１つに記載の方法。
【００６６】
本発明の利点及び実施形態は、以下の実施例により更に例示されるが、これらの実施例に列挙されたその特定の材料及び量、並びに他の条件及び詳細は、本発明を過度に限定するものと解釈されるべきではない。特に指示がない限り、全ての部及び割合は、重量による。
【実施例】
【００６７】
手順１  ロールツーロールサンプルのプラズマ処理
開示が参照により組み込まれる２０１０年公開の国際公開第ＷＯ２０１０／０７８３０６（Ａ２）号（Ｍｏｓｅｓら）の図１に示される円筒型ＲＩＥ装置を、ポリマーフィルムを処理するために使用した。ドラム電極の幅は、４２．５インチ（１０８ｃｍ）であった。ターボ分子ポンプによりポンピングを実施した。
【００６８】
ポリマーフィルムのロールをチャンバ内に取り付け、フィルムをドラム電極の周囲に巻き付け、ドラムの反対側上の巻取りロールに固定した。巻き出し及び巻取りテンションは３ポンド（１３．３Ｎ）に維持された。チャンバのドアを閉鎖し、チャンバを基準圧５×１０−４トール（０．０６７Ｐａ）までポンプ排気した。次に酸素をチャンバ内に導入した。動作圧は公称５ｍＴｏｒｒ（０．６７Ｐａ）であった。５０００ワットの電力の高周波エネルギーをドラムに適用することでプラズマを生成した。フィルムが具体的な実施例で述べられる具体的なエッチング時間のあいだ所望の速度で搬送されるように、ドラムを回転させた。単品フィルムに関しては、具体的な実施例で述べられる具体的なエッチング時間のあいだ所望の速度で処理されるように、サンプルをウェブキャリア又はドラム電極の表面のどちらかに付着させた。
【００６９】
手順２  ６０°のオフ角での平均％反射率の測定
プラズマ処理された表面の平均％反射率（％Ｒ）を、（ＰｅｒｋｉｎＥｌｍｅｒ（Ｗａｌｔｈａｎ、ＭＡ）から商品名「ＰＥＲＫＩＮＥＬＭＥＲ  ＬＡＭＢＤＡ  ９５０  ＵＲＡ  ＵＶ−ＶＩＳ−ＮＩＲ  ＳＣＡＮＮＩＮＧ  ＳＰＥＣＴＲＯＰＨＯＴＯＭＥＴＥＲ」で入手した）ＵＶ／Ｖｉｓ／ＮＩＲ  Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒを使用して測定した。ブラックビニルテープをサンプルの裏側に適用することによって、それぞれのフィルムの１つのサンプルを調製した。ブラックテープは、ブラックテープとサンプルとの間に捕らえられた気泡がないことを確実にするためにローラを使用してサンプルの裏側へ積層された。テープのない側が開口部に対するように機械内にサンプルを配置することによって、サンプルの前側表面％反射率（鏡面）を測定した。％反射率を６０°のオフ角で測定し、４００〜７００ｎｍの波長範囲に関して平均％反射率を算出した。
【００７０】
手順３  透過率及びヘイズ値の測定
開示が参照により本明細書に組み込まれるＡＳＴＭ  Ｄ１００３−１１（２０１１）に従って、（ＢＹＫ  Ｇａｒｄｉｎｅｒから商品名「ＢＹＫ  ＨＡＺＥＧＡＲＤ  ＰＬＵＳ」で入手した）ヘイズ値メーターで、平均％透過率及びヘイズ値の測定を実施した。
【００７１】
官能化された１５ｎｍ  ＳｉＯ２分散液
光開始剤を含むＵＶ硬化性樹脂に分散された官能化された１５ｎｍ  ＳｉＯ２の分散液を、Ｍｏｍｅｎｔｉｖｅ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ（Ｗｉｌｔｏｎ、ＣＴ）から商品名「ＵＶＨＣ８５５８」で入手した）。分散液中の１５ｎｍ  ＳｉＯ２の重量パーセントは、約２０重量％である。
【００７２】
官能化された７５ｎｍ  ＳｉＯ２分散液
（Ｎａｌｃｏ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏ．（Ｎａｐｅｒｖｉｌｌｅ、ＩＬ）から商品名「ＮＡＬＣＯ  ２３２９Ｋ」で入手した）７５ｎｍのシリカ粒子４００ｇｍを１クォート（０．９５リットル）広口瓶に充填した。阻害剤濃度５重量％で、水に、４５０グラムの１−メトキシ−２−プロパノール、９．２グラムの３−（メタクリロイルオキシ）プロピルトリメトキシシラン、及び（Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ，Ｉｎｃ．（Ｔａｒｒｙｔｏｗｎ，ＮＹ）から商品名「ＰＲＯＳＴＡＢ  ５１２８」で入手した）０．２３グラムのヒンダードアミン窒素酸化物阻害剤を一緒に混合し、撹拌しながら広口瓶に添加した。広口瓶を密閉し、８０℃まで１６時間にわたって加熱することで、表面改質されたシリカ分散液を形成した。回転蒸発により、混合物から水を更に取り除き、４２．４重量％の７５ｎｍ  ＳｉＯ２の、１−メトキシ−２−プロパノール溶液を形成した。
【００７３】
コーティングモノマー及び光開始剤
トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）及び１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（ＨＤＤＡ）を、それぞれ、Ｓａｒｔｏｍｅｒから商品名「ＳＲ３５１」及び「ＳＲ２３８」で入手した。光開始剤を、ＢＡＳＦ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １８４」で入手した）。
【００７４】
実施例１〜９及び比較例１〜３
官能化された１５ｎｍ  ＳｉＯ２分散液（「ＵＶＨＣ８５５８」）を（Ｓａｒｔｏｍｅｒ（Ｅｘｔｏｎ、ＰＡ）から商品名「ＳＲ３５１」で入手した）トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）及び（Ｓａｒｔｏｍｅｒから商品名「ＳＲ２３８」で入手した）１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（ＨＤＤＡ）と混合することで、実施例１〜９及び比較例１〜３のためのコーティング組成物１〜６を調製し、１−メトキシ−２−プロパノール（ＰＭ）及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）中に４０重量％の固体を形成した。コーティング組成物１〜６の組成は、以下の表１に示される。
【００７５】
【表１】
2018028693.tif 000002
【００７６】
これらのコーティング組成物を、メイヤーロッド（＃４バー）コーティングデバイスを使用して（富士フィルム株式会社（東京、日本）から商品名「ＦＵＪＩ  ＴＡＣ  ＦＩＬＭ」で入手した）厚さ８０μｍの三酢酸セルロースフィルム上に適用した。コーティングされた基材を、ベンチフードの内側で室温で５分間乾燥させ、次に、５０ｆｐｍ（１５．２４メートル／分）にて、窒素雰囲気下で、Ｈバルブを取り付けたＵＶプロセッサを使用して硬化させた。
【００７７】
硬化したコーティングされたフィルムに、続いて、様々なエッチング時間（以下の表２参照）、手順１に記載のＯ２プラズマエッチングプロセスを行った。エッチングされたサンプルの光学特性は、手順２及び３に従って測定され、以下の表２に報告される。
【００７８】
【表２】
2018028693.tif 000003
【００７９】
実施例１０〜１１
官能化された７５ｎｍ  ＳｉＯ２分散液をトリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）（「ＳＲ３５１」及び１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（ＨＤＤＡ）（「ＳＲ２３８」）と混合することで、実施例１０〜１１のためのコーティング組成物を調製し、１−メトキシ−２−プロパノール（ＰＭ）及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）中に４０重量％の固体を形成した。組成を以下の表３に示す。
【００８０】
【表３】
2018028693.tif 000004
【００８１】
コーティング組成物を、メイヤーロッド（＃４バー）コーティングデバイスを使用して、８０μｍ三酢酸セルロースフィルム（「ＦＵＪＩ  ＴＡＣ  ＦＩＬＭ」）上に適用した。コーティングした基材を、ベンチフードの内側で室温で５分間乾燥させ、次に、５０ｆｐｍ（１５．２４メートル／分）にて、窒素雰囲気下で、Ｈバルブを取り付けたＵＶプロセッサを使用して硬化させた。
【００８２】
硬化したコーティングされたフィルムに、続いて、様々なエッチング時間（以下の表４参照）、手順１に記載のＯ２プラズマエッチングプロセスを行った。エッチングされたサンプルの光学特性は、手順２及び３に従って測定され、以下の表４に報告される。
【００８３】
【表４】
2018028693.tif 000005
【００８４】
本発明の範囲及び趣旨から逸脱することなく、本開示の予測可能な修正及び変更が当業者には明らかであろう。本発明は、例示を目的として本出願に記載される実施形態に制限されるべきではない。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月24日(2017.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
一態様では、本開示は、ランダムな異方性ナノ構造化表面を有し、６０°のオフ角で１パーセント未満（一部の実施形態では、０．７５、０．５、０．２５未満又は０．２パーセント未満）の平均反射率を示すナノ構造化材料について述べる。一般的に、ナノ構造化材料は、ポリマーマトリックス及びナノスケール分散相（以下「ナノスケール相」とも言う）を含む。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
ナノスケール相は、ポリマーマトリックス内にランダムに分散した非連続相であり、ナノ粒子（例えばナノスフェア及びナノキューブ、ナノチューブ、ナノ繊維、かご状分子、多分岐分子）を含むことができる。ナノスケール分散相は、会合しても又は会合しなくてもよく、あるいは両方であってもよい。ナノスケール分散相は良好に分散されうる。良好に分散されるとは、凝集が殆ど無いことを意味する。ナノスケール相の平均寸法は、１ｎｍ〜１００ｎｍの範囲でありうる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマーマトリックス及びナノスケール分散相を含むナノ構造化層であって、前記ナノ構造化層がランダムな異方性ナノ構造化表面を示し、前記ランダムな異方性ナノ構造化表面が６０°のオフ角で１パーセント未満の平均反射率を有しており、前記ナノ構造化層が、少なくとも５００ｎｍの厚さを有し、且つ前記ナノ構造化層の前記厚さを通して前記ランダムな異方性ナノ構造化表面に対して９０度で少なくとも９４パーセントの可視光線透過率を有する、ナノ構造化層。
【請求項２】
請求項１に記載のナノ構造化層を作製する方法であって、
ナノ分散相を含むポリマーマトリックスを与えることと、
プラズマを使用して前記ポリマーマトリックスを異方性エッチングして、前記ランダムな異方性ナノ構造化表面を形成することと、
を含む方法。
【請求項３】
請求項１に記載のナノ構造化層を作製する方法であって、
ナノ分散相を含むポリマーマトリックスを与えることと、
プラズマを使用して前記ポリマーマトリックスの少なくとも一部分をエッチングして、前記ランダムな異方性ナノ構造化表面を形成することと、
を含む方法。
【外国語明細書】
2018028693000001.pdf