(57)【要約】【課題】コストを抑えながら、ミラーの反射面を任意の形状に変形させるのに有利な光学装置を提供する。【解決手段】ミラーと、前記ミラーの裏面の中心部を支持する支持部と、前記ミラーの裏面に力を加えて前記ミラーの表面を変形させる複数のアクチュエータと、前記ミラーの表面の位置を計測する計測部と、前記計測部の計測結果に基づいて、前記複数のアクチュエータが前記ミラーの裏面に加える力を制御する制御部と、を有し、前記ミラーは、前記ミラーの振動を、前記ミラーの中心を通る第１方向に平行な第１軸を回転軸とする回転方向、及び、前記ミラーの中心を通る、前記第１方向に直交する第２方向に平行な第２軸を回転軸とする回転方向に誘発するための構造を含むことを特徴とする光学装置を提供する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ミラーと、
前記ミラーの裏面の中心部を支持する支持部と、
前記ミラーの裏面に力を加えて前記ミラーの表面を変形させる複数のアクチュエータと、
前記ミラーの表面の位置を計測する計測部と、
前記計測部の計測結果に基づいて、前記複数のアクチュエータが前記ミラーの裏面に加える力を制御する制御部と、を有し、
前記ミラーは、前記ミラーの振動を、前記ミラーの中心を通る第１方向に平行な第１軸を回転軸とする回転方向、及び、前記ミラーの中心を通る、前記第１方向に直交する第２方向に平行な第２軸を回転軸とする回転方向に誘発するための構造を含むことを特徴とする光学装置。
【請求項２】
前記構造は、前記ミラーの中心を回転軸とする４回回転対称の構造であることを特徴とする請求項１に記載の光学装置。
【請求項３】
前記構造は、前記裏面の中心を取り囲むように前記裏面に形成された４つの凹部を含み、
前記４つの凹部は、前記第１方向に沿って長手方向を有する２つの第１凹部と、前記第２方向に沿って長手方向を有する２つの第２凹部とを含み、
前記２つの第１凹部及び前記２つの第２凹部のそれぞれは、前記ミラーの中心を回転軸として２回回転対称となるように形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学装置。
【請求項４】
前記構造は、前記裏面の中心を取り囲むように前記裏面に形成された４つの凸部を含み、
前記４つの凸部は、前記第１方向及び前記第２方向に対して４５度で交差する第３方向に沿って長手方向を有する２つの第１凸部と、前記第３方向に直交する第４方向に沿って長手方向を有する２つの第２凸部とを含み、
前記２つの第１凸部及び前記２つの第２凸部のそれぞれは、前記ミラーの中心を回転軸として２回回転対称となるように形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学装置。
【請求項５】
前記構造は、前記ミラーの裏面の外周部に、前記ミラーの中心を中心として９０度の角度間隔で配置された４つの重りを含み、
前記４つの重りは、前記第１方向に平行な前記ミラーの中心を通る軸上に配置された２つの重りと、前記第２方向に平行な前記ミラーの中心を通る軸上に配置された２つの重りとを含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の光学装置。
【請求項６】
前記構造は、前記ミラーの外周部に、前記ミラーの中心から前記ミラーの外周に向かう方向に突出した４つの突出部を含み、
前記４つの突出部は、
前記ミラーの中心を中心として９０度の角度間隔で設けられ、
前記第１方向に平行な前記ミラーの中心を通る軸上に配置された２つの突出部と、前記第２方向に平行な前記ミラーの中心を通る軸上に配置された２つの突出部とを含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の光学装置。
【請求項７】
前記構造は、前記複数のアクチュエータのうち最も前記裏面の中心に近いアクチュエータと前記裏面の中心との間の前記裏面に形成された２つの凹部を含み、
前記２つの凹部は、前記第１方向に沿って長手方向を有する１つの凹部と、前記第２方向に沿って長手方向を有する２つの凹部とを含むことを特徴とする請求項１に記載の光学装置。
【請求項８】
前記計測部は、前記ミラーの裏面の外周部に対向するように、前記ミラーの中心を中心として９０度の角度間隔で配置された４つの変位センサを含み、
前記４つの変位センサは、前記第１方向に平行な前記ミラーの中心を通る軸上に配置された２つの第１変位センサと、前記第２方向に平行な前記ミラーの中心を通る軸上に配置された２つの第２変位センサとを含むことを特徴とする請求項３乃至６のうちいずれか１項に記載の光学装置。
【請求項９】
前記制御部は、前記複数のアクチュエータのうち前記２つの第１変位センサと同一の軸上に配置され、前記２つの第１変位センサのそれぞれに最も近いアクチュエータが前記ミラーの裏面に加える力、及び、前記複数のアクチュエータのうち前記２つの第２変位センサと同一の軸上に配置され、前記２つの第２変位センサのそれぞれに最も近いアクチュエータが前記ミラーの裏面に加える力を制御することを特徴とする請求項８に記載の光学装置。
【請求項１０】
マスクのパターンを基板に投影する投影光学系であって、
請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載の光学装置を有することを特徴とする投影光学系。
【請求項１１】
基板を露光する露光装置であって、
請求項１０に記載の投影光学系を有することを特徴とする露光装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光した前記基板を現像する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
【請求項１３】
ミラーであって、
前記ミラーの裏面の中心を取り囲むように前記裏面に形成された４つの凹部を有し、
前記４つの凹部は、
前記ミラーの中心を回転軸とする４回回転対称の構造であり、
前記ミラーの中心を通る第１方向に沿って長手方向を有する２つの凹部と、
前記ミラーの中心を通る、前記第１方向に直交する第２方向に沿って長手方向を有する２つの凹部とを含むことを特徴とするミラー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学装置、投影光学系、露光装置、物品の製造方法及びミラーに関する。
【背景技術】
【０００２】
ミラー（の反射面）を任意の形状に変形させて光学収差、焦点位置、像面湾曲などの補正を可能とする可変ミラーを有する光学系が一般的に知られている。天文分野においては、星を観察する際に、大気の揺らぎによって像の分解能が低下してしまうため、高速で波面を計測して可変ミラーで補正することで、大気の揺らぎによる影響を低減する技術が存在する。また、半導体デバイスの製造に用いられる露光装置においては、露光時の温度変化による収差の変化に対応するために、光学系に含まれているミラーを可変ミラーとし、収差を補正する技術が存在する。
【０００３】
大口径（例えば、２００ｍｍ以上）の可変ミラーには、ミラーの裏面をアクチュエータによって反射面の面外方向に駆動することで、任意の形状の反射面を形成するものがあり、１００個以上のアクチュエータが配置される場合もある。このような技術に関し、ミラーの裏面とアクチュエータの可動子とを締結する方式やミラーの裏面に磁石を配置（接合）し、且つ、かかる磁石から微小な間隔を有する位置にコイルを配置する方式などが提案されている。
【０００４】
前者の方式において、アクチュエータとしてピエゾ素子を用いる場合には、ミラーの裏面とアクチュエータの可動子とを機械的に締結する際に、多数のアクチュエータを整列させた状態でミラーを組み付ける必要がある。この場合、各アクチュエータの位置管理が難しいため、ミラーに変形を与えないでアクチュエータに組み付けることは非常に難しい作業となる。
【０００５】
後者の方式では、ミラーの裏面と多数のアクチュエータとを締結する必要がないため、ミラーの初期形状を崩すリスクは低減されている。ミラーの裏面にコイルを配置し、磁石を固定側に配置することでも可変ミラーを実現することは可能であるが、この場合、任意の形状を形成するミラーに電気配線を実装する必要があり、現実的ではない。
【０００６】
ミラーの支持（固定）に関しては、ミラーの裏面の中心の１箇所とする構成が提案されている（特許文献１参照）。ミラーの裏面の中心の１箇所でミラーを支持することで、ミラーの過拘束を回避し、ミラーを歪ませることなく支持することができる。従って、可変ミラーを実現するための構成としては、ミラーの裏面の中心の１箇所でミラーを支持し、ミラーの裏面に磁石を配置し、かかる磁石に対向する位置にコイルを配置する構成が好ましい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特許第４８１７７０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上述した可変ミラーの構成では、ミラーを１箇所で支持しているため、床の振動などの外乱によって、ミラーが揺れやすいという欠点がある。従って、ミラーに高精度な面形状が要求される場合、制振対策が不可欠となり、一般的には、ダンピング装置を備えることになる。
【０００９】
ミラーを１箇所で支持する場合、最も低次の固有振動モードは、ミラーの中心軸が固定されてミラーが傾くチルトモードである。ミラーは、一般的には、回転体であるため、ミラーが傾く方向の剛性は、どの向きでも同じである。チルトモードにおいて、ミラーが中心軸に対してどの方向に傾くのかは、ミラーが実際に共振した状態になって初めて判明することになる。従って、チルトモードの振動を抑制するためのダンピング装置は、ミラーがどの方向に傾いても対応できるように、余裕をもって配置しなければならない。そのため、チルトモードの振動の発生角度によっては、無駄なダンピング装置が存在することなり、コスト面で不利である。
【００１０】
本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、コストを抑えながら、ミラーの反射面を任意の形状に変形させるのに有利な光学装置を提供することを例示的目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての光学装置は、ミラーと、前記ミラーの裏面の中心部を支持する支持部と、前記ミラーの裏面に力を加えて前記ミラーの表面を変形させる複数のアクチュエータと、前記ミラーの表面の位置を計測する計測部と、前記計測部の計測結果に基づいて、前記複数のアクチュエータが前記ミラーの裏面に加える力を制御する制御部と、を有し、前記ミラーは、前記ミラーの振動を、前記ミラーの中心を通る第１方向に平行な第１軸を回転軸とする回転方向、及び、前記ミラーの中心を通る、前記第１方向に直交する第２方向に平行な第２軸を回転軸とする回転方向に誘発するための構造を含むことを特徴とする。
【００１２】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、例えば、コストを抑えながら、ミラーの反射面を任意の形状に変形させるのに有利な光学装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】第１実施形態における光学装置の構成を示す概略図である。
【図２】第２実施形態における光学装置の構成を示す概略図である。
【図３】第３実施形態における光学装置の構成を示す概略図である。
【図４】第４実施形態における光学装置の構成を示す概略図である。
【図５】本発明の一側面としての露光装置の構成を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【００１６】
＜第１実施形態＞
図１（ａ）及び図１（ｂ）は、本発明の第１実施形態における光学装置１００の構成を示す概略図である。図１（ａ）は、光学装置１００の断面図を示し、図１（ｂ）は、光学装置１００を図１（ａ）に示す矢印αから見た図を示している。光学装置１００は、ミラー１を変形させる、具体的には、ミラー１の反射面（表面）１ａを任意の形状に変形させる可変ミラー装置である。光学装置１００は、ミラー１と、ベース２と、支持部３と、複数のアクチュエータ１１と、計測部６と、制御部７と、電流ドライバ８とを有する。
【００１７】
ミラー１は、円形状の薄いミラーである。ベース２は、装置全体を支持する。支持部３は、ベース２に設けられ、ミラー１を、ミラー１の裏面（反射面１ａの反対側の面）１ｂの中心部（１箇所）で支持（固定）する。
【００１８】
アクチュエータ１１は、ミラー１とベース２との間において、ミラー１の中心から放射状に配置され、ミラー１の裏面１ｂに力を加えてミラー１の反射面１ａを変形させる。アクチュエータ１１は、ボイスコイルモーターで構成され、複数の磁石４がミラー１の裏面１ｂに配置され、複数の磁石４のそれぞれに対向するように複数のコイル５がベース２に配置されている。
【００１９】
アクチュエータ１１は、磁石４を可動子、コイル５を固定子とする非接触型のアクチュエータである（磁石４とコイル５とが機械的に結合されていない）。従って、アクチュエータ１１が推力を発生していない初期状態において、ミラー１（反射面１ａ）の形状を過拘束により歪ませることがない。また、ミラー１は、裏面１ｂの１箇所で固定されているため、ミラー１を組み込む際にミラー１の形状を歪ませる可能性が低減されている。
【００２０】
制御部７は、ミラー１の反射面１ａを目標形状に変形させるための駆動指令に基づいて、各コイル５の電流制御値を演算し、電流ドライバ８に出力する。電流ドライバ８は、電流制御値に基づいて、各コイル５に電流を供給する。これにより、目標形状に応じた推力がアクチュエータ１１で発生し、ミラー１の反射面１ａを目標形状に変形させることができる。
【００２１】
上述したように、本実施形態では、ミラー１が裏面１ｂの１箇所で固定されているため、共振周波数の最も低い振動モードは、ミラー１が傾く方向の振動モード（チルトモード）である。ミラー１は回転対称体であるため、チルトモードにおけるミラー１の振動の回転軸は、ミラー１の中心を通るＸＹ平面上の直線に沿った方向となるが、その方向は、ミラー１が実際に共振してから判明することになる。共振周波数の最も低い振動モードは、外乱により励起されやすく、振幅が大きいため、振動を抑制する必要がある。
【００２２】
そこで、本実施形態では、チルトモードにおけるミラー１の振動の回転軸の方向を予め規定する。そのため、ミラー１の振動を、ミラー１の中心を通るＸ軸（第１方向）に平行な第１軸を回転軸とする回転方向やミラー１の中心を通るＹ軸（第１方向に直交する第２方向）に平行な第２軸を回転軸とする回転方向に誘発するための構造をミラー１が含んでいる。
【００２３】
具体的には、図１（ｂ）に示すように、ミラー１の裏面１ｂの中心（支持部３）を取り囲むように、４つの凹部１０１が裏面１ｂに形成されている。４つの凹部１０１は、ミラー１の中心を回転軸とする４回回転対称の構造であって、９０度の位相で裏面１ｂの４箇所に形成されている。凹部１０１は、ミラー１の厚さの２０％程度の深さを有し、裏面１ｂをエッチング又は研削することで形成することができる。
【００２４】
４つの凹部１０１は、Ｘ軸方向に沿って長手方向を有する２つの第１凹部１０１ａ及び１０１ｂと、Ｙ軸方向に沿って長手方向を有する２つの第２凹部１０１ｃ及び１０１ｄとを含む。また、２つの第１凹部１０１ａ及び１０１ｂは、ミラー１の中心を回転軸として２回回転対称となるに形成され、２つの第２凹部１０１ｃ及び１０１ｄは、ミラー１の中心を回転軸として２回回転対称となるに形成されている。
【００２５】
このような構造によって、ミラー１の中心を通るＸ軸に平行な第１軸を回転軸とした回転方向の剛性、及び、ミラー１の中心を通るＹ軸に平行な第２軸を回転軸とした回転方向の剛性が、他の方向の剛性よりも弱くなる。これは、凹部１０１の剛性が弱いため、モーメントがかかった際に、凹部１０１が大きく変形するからである。従って、チルトモードは、必ずＸ軸及びＹ軸に平行な軸周りに発生するようになる。このように、本実施形態では、外乱により励起されるチルトモードにおけるミラー１の振動の回転軸の方向が予め規定されているため、振動を抑制するダンピング機構は、Ｘ軸及びＹ軸に平行な軸を回転軸とする回転方向の振動を抑制するように配置すればよい。これにより、無駄なダンピング機構を配置する必要がなくなり、コスト面で有利となる。
【００２６】
本実施形態におけるダンピング機構について説明する。本実施形態では、ミラー１の反射面１ａの位置を計測する計測部６と、アクチュエータ１１と、制御部７と、電流ドライバ８とでダンピング機構を構成する。なお、物理学においては、ダンピングとは、振動の速度に応じて、振動の向きとは逆向きの力を発生することと定義されるが、ここでは、振動を抑制することと定義する。更に、同じ外乱によって振動が発生した場合、振動の振幅をより小さくすることをダンピングと定義する。
【００２７】
計測部６は、ミラー１の裏面１ｂの外周部に対向するように、ミラー１の中心を中心として等角度（９０度の角度間隔）でベース２に配置された、静電容量センサなどの４つの変位センサを含む。本実施形態では、計測部６は、第１軸上に配置された２つの第１変位センサ６ａ及び６ｂと、第２軸上に配置された２つの第２変位センサ６ｃ及び６ｄとを含む。そして、制御部７は、４つの変位センサのそれぞれで計測されたミラー１の反射面１ａの位置（計測結果）を時間で微分して速度に換算し、かかる速度に応じて、アクチュエータ１１ａ、１１ｂ、１１ｃ及び１１ｄで発生させる推力を調整（制御）する。換言すれば、アクチュエータ１１のうち２つの第１変位センサ６ａ及び６ｂと同一の軸上に配置され、２つの第１変位センサ６ａ及び６ｂのそれぞれに最も近いアクチュエータ１１ａ及び１１ｂがミラー１の裏面１ｂに加える力を制御する。同様に、アクチュエータ１１のうち２つの第２変位センサ６ｃ及び６ｄと同一の軸上に配置され、２つの第２変位センサ６ｃ及び６ｄのそれぞれに最も近いアクチュエータ１１ｃ及び１１ｄがミラー１の裏面１ｂに加える力を制御する。このように、チルトモードにおけるミラー１の振動の速度に応じて、かかる速度の反対方向の推力をアクチュエータ１１ａ乃至１１ｄで発生させることで、ダンピングを行う。これにより、外乱により励起されるチルトモードにおけるミラー１の振動を抑制することができる。また、本実施形態では、ダンピング機構を４箇所にしか配置していないが、外乱により励起されるチルトモードにおけるミラー１の振動が発生する位置とダンピングをかける位置とが一致しているため、かかる振動を効率的に抑制することができる。
【００２８】
また、本実施形態では、４つの凹部１０１を含む構造を例に説明したが、相対的に９０度の角度を有する２つの凹部１０１を含む構造であっても同様な効果を得ることができる。具体的には、１つの第１凹部１０１ａ（又は１０１ｂ）と、１つの第２凹部１０１ｃ（又は１０１ｄ）とを含む構造であってもよい。この場合、２つの凹部１０１は、アクチュエータ１１のうち最もミラー１の裏面１ｂの中心に近いアクチュエータと裏面１ｂの中心との間に形成される。
【００２９】
＜第２実施形態＞
図２（ａ）及び図２（ｂ）は、本発明の第２実施形態における光学装置２００の構成を示す概略図である。図２（ａ）は、光学装置２００の断面図を示し、図２（ｂ）は、光学装置２００を図２（ａ）に示す矢印αから見た図を示している。光学装置２００は、ミラー１の反射面１ａを任意の形状に変形させる可変ミラー装置である。
【００３０】
光学装置２００は、第１実施形態と同様に、ミラー１を裏面１ｂの中央部で支持し、共振周波数の最も低い振動モードであるチルトモードにおける振動を抑制する。光学装置１００では、ミラー１の裏面１ｂの中心を取り囲むように４つの凹部１０１が裏面１ｂに形成されていたのに対し、光学装置２００では、ミラー１の裏面１ｂの中心を取り囲むように４つの凸部２０１が裏面１ｂに形成されている。４つの凸部２０１は、ミラー１の中心を回転軸とする４回回転対称の構造であって、９０度の位相で裏面１ｂの４箇所に形成されている。凸部２０１は、ミラー１の母材と一体で削り出して形成してもよいし、ミラー１と同じ材料の凸形状の部材をミラー１の裏面１ｂに接着してもよい。
【００３１】
４つの凸部２０１は、Ｘ軸及びＹ軸に対して４５度で交差する第３方向に沿って長手方向を有する２つの第１凸部２０１ａ及び２０１ｂと、第３方向に直交する第４方向に沿って長手方向を有する２つの第２凸部２０１ｃ及び２０１ｄとを含む。また、２つの第１凸部２０１ａ及び２０１ｂは、ミラー１の中心を回転軸として２回回転対称となるに形成され、２つの第２凸部２０１ｃ及び２０１ｄは、ミラー１の中心を回転軸として２回回転対称となるに形成されている。
【００３２】
このような構造によって、ミラー１の中心を通るＸ軸に平行な第１軸を回転軸とした回転方向の剛性、及び、ミラー１の中心を通るＹ軸に平行な第２軸を回転軸とした回転方向の剛性が、他の方向の剛性よりも弱くなる。従って、チルトモードは、必ずＸ軸及びＹ軸に平行な軸周りに発生するようになる。従って、第１実施形態と同様に、２つの第１変位センサ６ａ及び６ｂを第１軸上に配置し、２つの第２変位センサ６ｃ及び６ｄを第２軸上に配置し、アクチュエータ１１ａ乃至１１ｄで発生させる推力を調整（制御）すればよい。これにより、外乱により励起されるチルトモードにおけるミラー１の振動を効果的に抑制することができる。
【００３３】
＜第３実施形態＞
図３（ａ）及び図３（ｂ）は、本発明の第３実施形態における光学装置３００の構成を示す概略図である。図３（ａ）は、光学装置３００の断面図を示し、図３（ｂ）は、光学装置３００を図３（ａ）に示す矢印αから見た図を示している。光学装置３００は、ミラー１の反射面１ａを任意の形状に変形させる可変ミラー装置である。
【００３４】
光学装置３００は、第１実施形態と同様に、ミラー１を裏面１ｂの中央部で支持し、共振周波数の最も低い振動モードであるチルトモードにおける振動を抑制する。光学装置３００は、ミラー１の裏面１ｂの外周部に、ミラー１の中心を中心として等角度（９０度の角度間隔）で配置された４つの重り３０１を含む。４つの重り３０１は、ミラー１の中心を回転軸とする４回回転対称の構造である。４つの重り３０１は、Ｘ軸に平行なミラー１の中心を通る第１軸上に配置された２つの重り３０１ａ及び３０１ｂと、Ｙ軸に平行なミラー１の中心を通る第２軸上に配置された２つの重り３０１ｃ及び３０１ｄとを含む。
【００３５】
このような構造によって、Ｘ軸及びＹ軸のそれぞれを回転軸とする回転方向の慣性質量が大きくなる。このため、チルトモードにおけるミラー１の振動は、対向する重り３０１を結んだ直線、即ち、重り３０１ａ及び３０１ｂが配置された第１軸や重り３０１ｃ及び３０１ｄが配置された第２軸を回転軸として発生する。従って、第１実施形態と同様に、２つの第１変位センサ６ａ及び６ｂを第１軸上に配置し、２つの第２変位センサ６ｃ及び６ｄを第２軸上に配置し、アクチュエータ１１ａ乃至１１ｄで発生させる推力を調整（制御）すればよい。これにより、外乱により励起されるチルトモードにおけるミラー１の振動を効果的に抑制することができる。
【００３６】
本実施形態において、重り３０１の材質については、特に限定されるものではないが、ミラー１の局所的な変形を抑制するために、ミラー１（の裏面１ｂ）と重り３０１とを１点で締結するとよい。また、重り３０１の重量は、ミラー１の全体の重量の０．１％程度であればよい。
【００３７】
＜第４実施形態＞
図４は、本発明の第４実施形態における光学装置４００の構成を示す概略図であって、ミラー１の裏面１ｂを示している。光学装置４００は、ミラー１の反射面１ａを任意の形状に変形させる可変ミラー装置である。
【００３８】
光学装置４００は、第３実施形態と同様に、ミラー１を裏面１ｂの中央部で支持し、共振周波数の最も低い振動モードであるチルトモードにおける振動を抑制する。光学装置４００では、４つの重り３０１を配置するのではなく、ミラー１の外縁から、ミラー１の外周部に、ミラー１の中心からミラー１の外周に向かう方向に突出した４つの突出部４０１を含む。４つの突出部４０１は、ミラー１の中心を中心として等角度（９０度の角度間隔）で配置され、ミラー１の中心を回転軸とする４回回転対称の構造である。４つの突出部４０１は、Ｘ軸に平行なミラー１の中心を通る第１軸上に配置された２つの突出部４０１ａ及び４０１ｂと、Ｙ軸に平行なミラー１の中心を通る第２軸上に配置された２つの突出部４０１ｃ及び４０１ｄとを含む。
【００３９】
このような構造によって、Ｘ軸及びＹ軸のそれぞれを回転軸とする回転方向の慣性質量が大きくなる。このため、チルトモードにおけるミラー１の振動は、第１軸や第２軸を回転軸として発生する。従って、第１実施形態と同様に、２つの第１変位センサ６ａ及び６ｂを第１軸上に配置し、２つの第２変位センサ６ｃ及び６ｄを第２軸上に配置し、アクチュエータ１１ａ乃至１１ｄで発生させる推力を調整（制御）すればよい。これにより、外乱により励起されるチルトモードにおけるミラー１の振動を効果的に抑制することができる。
【００４０】
図５を参照して、本発明の一側面としての露光装置５０について説明する。露光装置５０は、基板５６を露光するリソグラフィ装置である。露光装置５０は、照明光学系ＩＬと、投影光学系ＰＯと、マスク５５を保持して移動するマスクステージＭＳと、基板５６を保持して移動する基板ステージＷＳとを有する。また、露光装置５０は、ＣＰＵやメモリなどを含み、露光装置５０の全体を制御する制御部５１を有する。
【００４１】
光源（不図示）からの光は、照明光学系ＩＬに含まれるスリット（不図示）を介して、例えば、Ｙ軸方向に長い円弧状の照明領域をマスク上に形成する。マスク５５及び基板５６のそれぞれは、マスクステージＭＳ及び基板ステージＷＳに保持され、投影光学系ＰＯを介して、光学的にほぼ共役な位置（投影光学系ＰＯの物体面及び像面の位置）に配置されている。投影光学系ＰＯは、所定の投影倍率（例えば、１／２倍）を有し、マスク５５に形成されたパターンを基板５６に投影する。そして、マスクステージＭＳ及び基板ステージＷＳを、投影光学系ＰＯの物体面と平行な方向（例えば、図５のＸ軸方向）に、投影光学系ＰＯの投影倍率に応じた速度比で走査する。これにより、マスク５５に形成されたパターンを基板５６に転写することができる。
【００４２】
投影光学系ＰＯは、例えば、図５に示すように、平面ミラー５２と、凹面ミラー５３と、凸面ミラー５４とを含む。照明光学系ＩＬから射出され、マスク５５を通過した光は、平面ミラー５２の第１面５２ａで反射され、凹面ミラー５３の第１面５３ａに入射する。凹面ミラー５３の第１面５３ａで反射した光は、凸面ミラー５４で反射され、凹面ミラー５３の第２面５３ｂに入射する。凹面ミラー５３の第２面５３ｂで反射した光は、平面ミラー５２の第２面５２ｂで反射され、基板上に結像する。投影光学系ＰＯでは、凸面ミラー５４が光学的な瞳となる。
【００４３】
露光装置５０において、上述した実施形態における光学装置１００乃至４００は、例えば、凹面ミラー５３の反射面を任意の形状に変形させる（即ち、凹面ミラー５３をミラー１とする）可変ミラー装置として用いられる。これにより、外乱により励起されるチルトモードにおける凹面ミラー５３の振動を効果的に抑制することができる。ここで、露光装置５０における制御部５１は、上述した実施形態における光学装置１００乃至４００における制御部７を含むように構成されてもよい。なお、図５に示すＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸は、それぞれ、図１（ａ）、図１（ｂ）、図２（ａ）、図２（ｂ）、図３（ａ）、図３（ｂ）及び図４に示すＺ軸、Ｙ軸及びＸ軸に対応する。
【００４４】
本発明の実施形態に係る物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に露光装置５０を用いて潜像パターンを形成する工程（基板を露光する工程）と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【００４５】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
【符号の説明】
【００４６】
１００：光学装置    １：ミラー    ２：ベース    ３：支持部    ４：磁石    ５：コイル    ６：計測部    ７：制御部    １１：アクチュエータ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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