(57)【要約】【課題】稼働部側タンクの交換作業を省略でき、修正用基板の修正処理に用いる処理用ガスの供給を容易に行える基板修正装置を提供する。【解決手段】稼働部３は、処理用ガスを貯留してレーザＣＶＤ処理部４へ供給する小型ガスタンク５と、小型ガスタンク５へ原料ガスを導入可能な稼働部側継ぎ手９と、を備え、稼働部３に干渉しない位置に、大容量高圧ガスタンク７と、大容量高圧ガスタンク７に供給用配管８で接続された供給用タンク側継ぎ手９と、を設け、稼働部側継ぎ手６は、供給用タンク側継ぎ手９に対して結合および結合解除が可能である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
本体部と、前記本体部に対して移動可能に設けられた稼働部と、前記稼働部に設けられた修正処理部と、を備え、前記修正処理部で処理用ガスを用いて修正用基板の表面の欠陥を修正する基板修正装置であって、
前記稼働部は、処理用ガスを貯留して前記修正処理部へ供給する稼働部側タンクと、前記稼働部側タンクへ処理用ガスを導入可能な稼働部側継ぎ手と、を備え、
前記本体部と前記稼働部に干渉しない位置に、供給用タンクに配管で接続された供給用タンク側継ぎ手を固定し、
前記稼働部側継ぎ手は、前記供給用タンク側継ぎ手に対して結合および結合解除が可能である、
基板修正装置。
【請求項２】
前記稼働部側継ぎ手は、
前記稼働部を前記供給用タンク側継ぎ手に向けて移動させることにより、前記供給用タンク側継ぎ手に結合し、
前記稼働部を前記供給用タンク側継ぎ手から遠ざかる方向に移動させることにより、前記供給用タンク側継ぎ手から結合が解除される、
請求項１に記載の基板修正装置。
【請求項３】
前記稼働部は、前記稼働部側タンクの残留ガス量に応じて、前記稼働部側継ぎ手を前記供給用タンク側継ぎ手に結合させる動作を行う、
請求項１または請求項２に記載の基板修正装置。
【請求項４】
前記本体部は、前記修正用基板を配置する修正用基板配置テーブルを備え、前記稼働部を前記修正用基板配置テーブルのＸ−Ｙ軸方向に移動可能にするガントリステージである、
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の基板修正装置。
【請求項５】
前記配管に開閉バルブを設け、
前記稼働部側継ぎ手は、前記供給用タンク側継ぎ手との結合が解除されたときに、内部流路を閉じる自動開閉バルブを内蔵する、
請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の基板修正装置。
【請求項６】
制御部を備え、
前記制御部は、
前記稼働部側タンクの残留ガス量の情報に応じて前記本体部および前記稼働部を駆動制御して、前記稼働部側継ぎ手を前記供給用タンク側継ぎ手に結合させ、前記稼働部側継ぎ手と前記供給用タンク側継ぎ手との結合を解除させるときに、前記開閉バルブを閉じる制御を行う、
請求項５に記載の基板修正装置。
【請求項７】
前記修正処理部は、修正用基板の表面に成膜処理を行い、
前記処理用ガスは成膜に用いる原料ガスである、
請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の基板修正装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板表面に形成された配線パターンなどの欠陥を修正する基板修正装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶パネルや有機ＥＬ（Electro-Luminescence）パネルなどのディスプレイパネルは、配線パターンや絶縁膜などが形成された基板を備える。ディスプレイパネルの製造工程では、配線パターンや絶縁膜などの欠陥を修正するリペア処理が必要である。リペア処理としては、レーザ光により配線パターンのショート箇所の切断を行う除去加工や、レーザＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）技術により配線パターンや絶縁膜などの成膜を行う所謂ＣＶＤ加工がある。特許文献１には、表示装置の基板の表面に沿って移動する稼働部を備えた修正装置が開示されている。その稼働部には、除去加工を行うレーザ加工処理部やＣＶＤ加工を行うＣＶＤ処理部が搭載されている。これらレーザ加工処理部やＣＶＤ処理部は、稼働部とともに基板の表面に沿って移動して、この基板の欠陥箇所のリペア処理を行う。
【０００３】
上記のＣＶＤ処理部は、成膜に必要な原料ガスなどの処理用ガスが必要である。ＣＶＤ処理部へ原料ガスなどを供給する方法としては、以下の二つの方法がある。第１の方法は、図５に示すように、可撓性を有する接続ホース１０１を用いて、ＣＶＤ機構１０２と、装置１０３の外に設置された大型のガスタンク１０４と、を接続する方法である。第２の方法は、ガスカートリッジを稼働部に搭載する方法である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−７８８９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記第１の方法では、接続ホース１０１の耐久性、可動性、ならびに取り回しに問題がある。第1の方法では、接続ホース１０１が短寿命となり易い。第１の方法では、接続ホース１０１が消耗したときのメンテナンスが煩雑となる。第1の方法では、接続ホース１０１の取り回し空間を確保する必要があり、装置１０３の大型化を招く虞がある。第1の方法では、接続ホース１０１が稼働部に追従する際に、接続ホース１０１が基板上に落下することを防止するための図示しない支持手段が必要となり、装置１０３の大型化ならびに複雑化を招く虞がある。
【０００６】
上記第２の方法では、稼働部への搭載重量を大きくできないため、ガスカートリッジの重量ならびに容量が制限される。このため、第２の方法では、稼働部に搭載したガスカートリッジの交換頻度が高くなり、生産性を低下させるという課題がある。ガスカートリッジの交換作業としては、稼働部からガスカートリッジを取り外し、そのガスカートリッジを装置の外へ搬送し、原料ガスを充填した新たな交換用のガスカートリッジを搬送して稼働部に取り付けるという煩雑な作業を要する。
【０００７】
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであって、稼働部側タンクの交換作業を省略でき、修正用基板の修正処理に用いる処理用ガスの供給を容易に行える基板修正装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の態様は、本体部と、この本体部に対して移動可能に設けられた稼働部と、この稼働部に設けられた修正処理部と、を備え、上記修正処理部で処理用ガスを用いて修正用基板の表面の欠陥を修正する基板修正装置であって、上記稼働部は、処理用ガスを貯留して上記修正処理部へ供給する稼働部側タンクと、この稼働部側タンクへ処理用ガスを導入可能な稼働部側継ぎ手と、を備え、本体部と稼働部に干渉しない位置に、供給用タンクに配管で接続された供給用タンク側継ぎ手を固定し、上記稼働部側継ぎ手は、上記供給用タンク側継ぎ手に対して結合および結合解除が可能であることを特徴とする。
【０００９】
上記態様として、上記稼働部側継ぎ手は、稼働部を上記供給用タンク側継ぎ手に向けて移動させることにより、供給用タンク側継ぎ手に結合し、稼働部を供給用タンク側継ぎ手から遠ざかる方向に移動させることにより、供給用タンク側継ぎ手から結合が解除される構成とすることが好ましい。
【００１０】
上記態様として、稼働部は、稼働部側タンクの残留ガス量に応じて、稼働部側継ぎ手を供給用タンク側継ぎ手に結合させる動作を行うことが好ましい。
【００１１】
上記態様として、本体部は、修正用基板を配置する修正用基板配置テーブルを備え、稼働部を修正用基板配置テーブルのＸ−Ｙ軸方向に移動可能にするガントリステージであることが好ましい。
【００１２】
上記態様として、配管に開閉バルブを設け、稼働部側継ぎ手は、供給用タンク側継ぎ手との結合が解除されたときに、内部流路を閉じる自動開閉バルブを内蔵する構成が好ましい。
【００１３】
上記態様として、制御部を備え、この制御部は、稼働部側タンクの残留ガス量の情報に応じて本体部および稼働部を駆動制御して、稼働部側継ぎ手を供給用タンク側継ぎ手に結合させ、稼働部側継ぎ手と供給用タンク側継ぎ手との結合を解除させるときに、上記開閉バルブを閉じる制御を行うことが好ましい。
【００１４】
上記態様として、修正処理部は、修正用基板の表面に成膜処理を行い、処理用ガスは成膜に用いる原料ガスであることが好ましい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明に係る基板修正装置によれば、メンテナンスの頻度が低く、処理用基板の修正処理に用いる処理用ガスの供給を容易に行える基板修正装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】図１は、本発明の実施の形態に係る基板修正装置の概略を示す斜視図である。
【図２】図２は、本発明の実施の形態に係る基板修正装置の稼働部側継ぎ手を供給用タンク側継ぎ手に結合させる動作を示す説明図である。
【図３】図３は、本発明の実施の形態に係る基板修正装置の稼働部側継ぎ手が供給用タンク側継ぎ手に結合した状態を示す説明図である。
【図４】図４は、本発明の実施の形態に係る基板修正装置の制御方法を示すフローチャートである。
【図５】図５は、従来の基板修正装置の概略斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下に、本発明の実施の形態に係る基板修正装置の詳細を図面に基づいて説明する。但し、図面は模式的なものであり、各部材の寸法や寸法の比率や形状などは現実のものと異なることに留意すべきである。また、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率や形状が異なる部分が含まれている。
【００１８】
ここで、実施の形態の説明に先駆けて、修正処理について簡単に説明する。以下に説明する実施の形態では、修正処理の一例としてレーザＣＶＤ法による成膜処理を適用した例である。この成膜処理として、具体的には、レーザＣＶＤ法により成膜を行って配線同士の接続を行う加工や、窒化シリコン膜などの絶縁膜の形成を挙げることができる。レーザＣＶＤ法により修正処理を行う場合、処理用ガスを用いる。なお、本発明は、修正用基板の修正処理にガスを消費する各種の修正手段に適用可能である。
【００１９】
修正用基板としては、各種のＦＰＤ（Flat Panel Display）を構成する基板を適用できる。修正用基板として、具体的には、例えば、液晶パネルのＴＦＴ基板や、有機ＥＬパネルの、電子・正孔注入電極などの各種配線パターンが形成された基板などを挙げることができる。
【００２０】
［実施の形態］
（基板修正装置の構成）
以下、図１〜図３を用いて、本発明の実施の形態に係る基板修正装置１の構成を説明する。図１に示すように、基板修正装置１は、本体部としてのガントリステージ（位置決め機構）２と、稼働部３と、修正処理部としてのレーザＣＶＤ処理部４と、稼働部側タンクとしての小型ガスタンク５と、稼働部側継ぎ手６と、供給用タンクとしての大容量高圧ガスタンク７に接続された配管としての供給用配管８と、供給用タンク側継ぎ手９と、開閉バルブ１０と、制御部１１と、ガントリステージ駆動部１２と、を備える。なお、小型ガスタンク５は、残留ガス量を検知する図示しない圧力センサを備えている。大容量高圧ガスタンク７は、レーザＣＶＤ処理部４で消費する原料ガスの供給源である。
【００２１】
稼働部３は、ガントリステージ２に搭載されている。このガントリステージ２は、後述する修正用基板１３を載せる、修正用基板配置テーブルとしてのテーブル２１を備えている。ガントリステージ２は、稼働部３を、テーブル２１の上方において、図中Ｘｇで示すＸ軸方向と図中Ｙｇで示すＹ軸方向に移動させることができる。
【００２２】
ガントリステージ２は、一対のＹ軸方向ガイド部２２，２３と、Ｘ軸方向ガイド部２４と、を備える。一対のＹ軸方向ガイド部２２，２３は、テーブル２１のＸ軸方向の両側部上に配置され、それぞれがＹ軸方向に沿って延びる。Ｘ軸方向ガイド部２４は、一対のＹ軸方向ガイド部２２，２３に対して架け渡され、Ｘ軸方向に沿って延びる。Ｘ軸方向ガイド部２４は、一対のＹ軸方向ガイド部２２，２３に対して、矢印Ｙｇで示すＹ軸方向に移動可能に支持されている。Ｘ軸方向ガイド部２４は、制御部１１からの駆動信号に基づいてガントリステージ駆動部１２により矢印Ｙｇで示すＹ軸方向に移動する。
【００２３】
本実施の形態では、稼働部３は矩形のプレートで構成されている。なお、稼働部３の形状、構造はこれに限定されるものではない。稼働部３は、Ｘ軸方向ガイド部２４に対して、Ｘ軸方向に移動可能に支持されている。稼働部３は、制御部１１からの駆動信号に基づいて、図示しないＸ軸方向駆動機構により、矢印Ｘｇで示すようにＸ軸方向に移動される。稼働部３は、Ｘ軸方向ガイド部２４がＹ軸方向ガイド部２２，２３に沿って移動することにより、Ｙ軸方向に移動する。したがって、テーブル２１の上方において、稼働部３は、Ｘ−Ｙ軸方向の任意の位置に移動可能である。
【００２４】
図１に示すように、レーザＣＶＤ処理部４は、テーブル２１上に配置された修正用基板１３の表面の欠陥を、レーザＣＶＤ法にて成膜することにより修正を行う。レーザＣＶＤ処理部４は、図示しない、レーザ光源、各種光学系などを備える。
【００２５】
小型ガスタンク５は、レーザＣＶＤ処理部４に対してＸ軸方向に隣接するように配置されている。そして、小型ガスタンク５は、レーザＣＶＤ処理部４に連通するように結合パイプ１４で接続されている。小型ガスタンク５は、処理用ガスとしての原料ガスを蓄積し、必要に応じてレーザＣＶＤ処理部４へ原料ガスを供給する。小型ガスタンク５は、稼働部３の円滑な移動を低下させない程度の重さならびに容量が設定されている。
【００２６】
稼働部側継ぎ手６は、小型ガスタンク５におけるレーザＣＶＤ処理部４と反対側に隣接するように配置されている。稼働部側継ぎ手６は、小型ガスタンク５に連通するように結合パイプ１５で接続されている。なお、結合パイプ１５は剛性を有し稼働部側継ぎ手６が揺動しないように支持することが好ましい。
【００２７】
図１および図２に示すように、稼働部側継ぎ手６の先端挿入部６Ａは、稼働部３から、図中Ｘｒで示すＸ軸方向の一方側に向けて突出するように配置されている。この稼働部側継ぎ手６は、稼働部３に対して揺動しないように、図示しない固定手段で稼働部３に固定することが好ましい。
【００２８】
図２に示すように、稼働部側継ぎ手６は、上記先端挿入部６Ａの基部側で結合パイプ１５に装着されるパイプ装着部６Ｂを有する。パイプ装着部６Ｂは、稼働部側継ぎ手６が供給用タンク側継ぎ手９と結合していないときに、内部流路６Ｄを閉じる自動開閉バルブ６Ｃが内蔵されている。
【００２９】
レーザＣＶＤ処理部４と小型ガスタンク５と稼働部側継ぎ手６との位置関係は、上述の構成でなくともよい。要は、稼働部側継ぎ手６の先端挿入部６Ａが稼働部３からＸ方向に沿って突出して配置され、供給用タンク側継ぎ手９と結合可能であればよい。
【００３０】
図１に示すように、本実施の形態では、大容量高圧ガスタンク７は、基板修正装置１の装置外に設置する。大容量高圧ガスタンク７には、供給用配管８が接続されている。なお、本実施の形態では、供給用配管８は、供給用配管８Ａ，８Ｂ，８Ｃの３つの部分を含む。供給用配管８Ａは、大容量高圧ガスタンク７に着脱可能に接続されている。供給用配管８Ａの下流端には、タンク交換時に用いるバルブ１６が設けられている。供給用配管８Ａには、バルブ１６を挟んで供給用配管８Ｂが接続されている。供給用配管８Ｂの下流端には、上記開閉バルブ１０が設けられている。供給用配管８Ｂには、開閉バルブ１０を挟んで供給用配管８Ｃが接続されている。そして、供給用配管８Ｃの下流端には、供給用タンク側継ぎ手９が設けられている。
【００３１】
図１に示すように、供給用タンク側継ぎ手９は、装置外に固定されている。具体的には、供給用タンク側継ぎ手９は、基板修正装置１の動作空間を覆う、図示しないカバー部材の側壁などに固定することができる。なお、供給用タンク側継ぎ手９の固定先はこれに限定されるものではない。図２に示すように、供給用タンク側継ぎ手９は、供給用配管８Ｃの下流端に装着する配管装着部９Ａと、先端被挿入部９Ｂと、係止部９Ｃと、を有している。先端被挿入部９Ｂには、上記稼働部側継ぎ手６の先端挿入部６Ａが挿入して結合する。係止部９Ｃは、上記稼働部側継ぎ手６の先端挿入部６Ａの外周面に形成された溝に係止される係止用球体を有する。
【００３２】
したがって、図２に示すように、稼働部側継ぎ手６は、稼働部３を供給用タンク側継ぎ手９に向けて（図中矢印Ｘｒ方向に向けて）移動させることにより、先端挿入部６Ａが供給用タンク側継ぎ手９の先端被挿入部９Ｂに結合する。結合を解除するには、図３に示す状態から、稼働部３を供給用タンク側継ぎ手９から遠ざかる方向（図中矢印Ｘｌ方向）に移動させることにより、供給用タンク側継ぎ手９から結合が解除される。
【００３３】
（基板修正装置の動作および作用）
以下、本実施の形態に係る基板修正装置１の作用および効果について説明する。本実施の形態では、稼働部３が、原料ガスを貯留してレーザＣＶＤ処理部４へ供給する小型ガスタンク５と稼働部側継ぎ手６とを備える。また、この実施の形態では、大容量高圧ガスタンク７に接続された供給用タンク側継ぎ手９を、装置動作を干渉しない位置に固定配置している。このような構成により、Ｘ軸方向ガイド部２４と稼働部３を駆動させるだけで、稼働部側継ぎ手６と供給用タンク側継ぎ手９とを結合し、その結合を解除することができる。
【００３４】
本実施の形態に係る基板修正装置１では、小型ガスタンク５の残留ガス量に応じて、制御部１１が、Ｘ軸方向ガイド部２４と稼働部３を駆動制御する。稼働部３は、図示しないＸ軸方向駆動機構により、Ｘ軸方向ガイド部２４をＸ軸方向に移動する。Ｘ軸方向ガイド部２４は、制御部１１からの駆動信号をガントリステージ駆動部１２が受けることにより、Ｙ軸方向に移動する。
【００３５】
本実施の形態では、稼働部側継ぎ手６に、供給用タンク側継ぎ手９との結合が解除されたときに、内部流路６Ｄを閉じる自動開閉バルブ６Ｃを内蔵するため、稼働部側継ぎ手６に別途開閉制御機構を備える必要がない。
【００３６】
本実施の形態では、制御部１１が、小型ガスタンク５の残留ガス量の情報に応じてガントリステージ２および稼働部３を駆動制御して、稼働部側継ぎ手６を供給用タンク側継ぎ手９に結合させる。また、制御部１１は、稼働部側継ぎ手６と供給用タンク側継ぎ手９との結合を解除させるときに、開閉バルブ１０を閉じる制御を行う。
【００３７】
（基板修正装置の制御方法）
次に、図４に示すフローチャートを用いて、本実施の形態に係る基板修正装置１の制御方法について説明する。
【００３８】
まず、本実施の形態では、小型ガスタンク５の残留ガス量の情報が図示しない圧力センサから制御部１１に入力されるように設定されている。制御部１１は、小型タンク５の残留ガス量が所定量以下である否かを判定する（ステップＳ１）。
【００３９】
ステップＳ１で残留ガス量が所定量以下である場合は、Ｘ軸方向ガイド部２４を定位置に移動させる（ステップＳ２）。この定位置は、稼働部側継ぎ手６が、固定配置された供給用タンク側継ぎ手９に対して、Ｘ軸方向において互いに対峙するような位置である。
【００４０】
次に、稼働部３をＸ軸方向（図２に示す矢印Ｘｒ方向）に移動させて、稼働部側継ぎ手６を供給用タンク側継ぎ手９に結合させる（ステップＳ３）。
【００４１】
上記ステップＳ３で稼働部側継ぎ手６と供給用タンク側継ぎ手９とが結合した状態で、制御部１１は開閉バルブ１０を開ける駆動信号を出力して開閉バルブ１０を開ける。そして、例えば、開閉バルブ１０を一定時間開けて小型ガスタンク５に原料ガスを充填した後、開閉バルブ１０を閉じる（ステップＳ４）。
【００４２】
上記ステップＳ４で小型ガスタンク５への原料ガスの充填が終了した後、図３に矢印Ｘｌで示す方向に稼働部３を移動させて、稼働部側継ぎ手６を供給用タンク側継ぎ手９から抜いて結合を解除させる（ステップＳ５）。
【００４３】
上述した制御方法を用いることにより、小型ガスタンク５の残留ガス量が所定量以下に低下した場合は、自動的に大容量高圧ガスタンク７からの補給が可能である。このようにして、小型ガスタンク５へ原料ガスを円滑に供給できる。
【００４４】
（基板修正装置の効果）
本実施の形態に係る基板修正装置１では、移動可能な稼働部側継ぎ手６と、装置に干渉しない位置に固定された供給用タンク側継ぎ手９と、を備える構成としたことにより、制御を容易にする効果がある。したがって、基板修正装置１を操作するオペレータの手間を大幅に削減する効果がある。
【００４５】
本実施の形態に係る基板修正装置１は、稼働部側継ぎ手６と供給用タンク側継ぎ手９を備える構成であるため、稼働部３の装備ならびに構造の簡素化、軽量化を達成できる。
【００４６】
本実施の形態に係る基板修正装置１は、小型ガスタンク５に対して可撓性を有する接続ホースを必要としないため、耐久性を向上できる。また、本実施の形態に係る基板修正装置１では、稼働部３に交換を要しない小型ガスタンク５を設置したことにより、カートリッジ交換用の機構など装置の内外に亘る交換機構を設けることがないため、装置の簡素化、低コスト化、および保守作業の簡易化を達成できる。さらに、本実施の形態に係る基板修正装置１では、原料ガスなどの処理用ガスの供給の人的要因を低減させ、自動化することを容易にする効果がある。本実施の形態では、制御部１１などにより、原料ガスの供給の自動化を図ったが、原料ガスの供給工程をオペレータによる手動で行うことも勿論可能である。
【００４７】
（その他の実施の形態）
以上、実施の形態について説明したが、これら実施の形態の開示の一部をなす論述および図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例および運用技術が明らかとなろう。
【００４８】
例えば、上記した実施の形態では、本体部としてガントリステージ２を適用して説明したが、本発明では、ガントリステージ２以外に各種の位置決め機構、ロボットアームなど各種の機構を採用できる。
【００４９】
また、上記した実施の形態では、修正処理部としてレーザＣＶＤ処理部４を適用して説明したが、処理用ガスを消費する各種の修正処理手段を適用することができる。このため、処理用ガスとしてもＣＶＤ用の原料ガスに限定されるものではない。したがって、本発明は、処理用ガスとして、基板洗浄用のガスを適用することも可能である。
【００５０】
上記した実施の形態に係る基板修正装置１では、制御部１１で稼働部３の移動動作、開閉バルブ１０の開閉動作を制御する。しかし、本発明ではオペレータが手動で操作することもでき、このような手動により操作を行う構成も本発明の適用範囲である。この場合、小型ガスタンク５の残留ガス量が所定量以下に低下したときに、ランプ点灯などの認識手段を用いてオペレータに知らせる構成を備えることが好ましい。
【００５１】
上記した実施の形態に係る基板修正装置１では、図２および図３に示すようなプラグとソケットを結合するタイプの結合手段としたが、稼働部側継ぎ手６および供給用タンク側継ぎ手９の構成はこれらに限定されるものでなく、各種の結合、解除の可能な継ぎ手（結合手段）を用いることができる。
【符号の説明】
【００５２】
１  基板修正装置
２  ガントリステージ（本体部）
３  稼働部
４  レーザＣＶＤ処理部（修正処理部）
５  小型ガスタンク（稼働部側タンク）
６  稼働部側継ぎ手
６Ａ  先端挿入部
６Ｂ  パイプ装着部
６Ｃ  自動開閉バルブ
６Ｄ  内部流路
７大容量高圧ガスタンク（供給用タンク）
８  供給用配管（配管）
８Ａ，８Ｂ，８Ｃ  供給用配管
９  供給用タンク側継ぎ手
９Ａ  配管装着部
９Ｂ  先端被挿入部
９Ｃ  係止部  
１０  開閉バルブ
１１  制御部
１２  ガントリステージ駆動部
１３  修正用基板
１４，１５  結合パイプ
２１  テーブル（修正基板配置テーブル）
２２，２３  Ｙ軸方向ガイド部
２４  Ｘ軸方向ガイド部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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