(57)【要約】【課題】被処理物の乾燥ムラなどの乾燥不良を抑制し得る乾燥装置を提供すること。【解決手段】本発明の乾燥装置は、被処理物の乾燥処理を行う乾燥槽と、前記被処理物の固定具と、前記被処理物の表面に対向する加熱手段と、前記被処理物の裏面に対向する加熱手段と、を有し、前記加熱手段の長手方向が水平線に対して傾斜するように設けられていることに要旨を有する。【選択図】図２
2018066500.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理物の乾燥処理を行う乾燥槽と、
前記被処理物の固定具と、
前記被処理物の表面に対向する加熱手段と、
前記被処理物の裏面に対向する加熱手段と、を有し、
前記加熱手段の長手方向が水平線に対して傾斜していることを特徴とする乾燥装置。
【請求項２】
更に前記乾燥槽は、
前記被処理物の表面に対向する気体噴射手段と、
前記被処理物の裏面に対向する気体噴射手段と、を有し、
前記気体噴射手段はノズル孔を有しており、
前記ノズル孔は斜め下方に向けられている請求項１に記載の乾燥装置。
【請求項３】
更に前記乾燥槽は、
前記固定具の搬送機構を有する請求項１または２に記載の乾燥装置。
【請求項４】
更に前記乾燥槽は、底面に排気口を有する請求項１〜３のいずれかに記載の乾燥装置。
【請求項５】
更に前記乾燥槽は、
前記排気口の上方に、前記ノズル孔から噴射される気体を当てる気体整流板を有する請求項４に記載の乾燥装置。
【請求項６】
前記気体整流板は、前記被処理物に対向する面が、上方に凸となるように湾曲した形状である請求項５に記載の乾燥装置。
【請求項７】
前記気体噴射手段は昇降機構を有する請求項２〜６のいずれかに記載の乾燥装置。
【請求項８】
前記乾燥装置は、
前記乾燥槽の入口側に設けられた前槽と、
前記乾燥槽の出口側に設けられた後槽と、を有し、
前記前槽、及び前記後槽は、
前記被処理物の表面に対向する気体噴射手段と、
前記被処理物の裏面に対向する気体噴射手段と、を有する請求項１〜７のいずれかに記載の乾燥装置。
【請求項９】
前記気体噴射手段は前記被処理物の上部に対向する位置、また下部に対向する位置の少なくとも一方に設けられている請求項８に記載の乾燥装置。
【請求項１０】
前記乾燥装置は、
前記前槽の入口側に設けられた予備加熱槽を有し、
前記予備加熱槽は、加熱液体噴射手段を有する請求項８または９に記載の乾燥装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は乾燥装置に関し、詳細には洗浄処理を行ったプリント基板などの被処理物を乾燥処理するための乾燥装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
プリント基板などの被処理物の製造工程では、デスミア処理などの前処理工程で付着した異物等を水洗処理などの洗浄処理によって除去した後、被処理物の乾燥処理が行われている。被処理物の表面に付着している液体を十分に除去しないと、残存した液体が不良原因となることがある。乾燥時間を長くすれば十分に液体を除去して乾燥させることができるが、生産効率向上の観点からはできるだけ短時間で効率よく乾燥処理を行うことが求められている。
【０００３】
例えば特許文献１にはプリント基板を垂直に吊り下げた状態で水平移動させながら乾燥処理を行う乾燥装置が開示されている。この構成によればプリント基板を水平に保持した状態で水平搬送する場合と比べて効率的に乾燥処理を行うことができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平６−００６０１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１のようにプリント基板などの被処理物を垂直に吊り下げた状態で水平移動させながら乾燥処理する場合であっても、乾燥処理に用いる加熱手段（熱源）から離れるほど被処理物の温度が低下するため面内温度差が生じ、乾燥ムラが生じていた。
【０００６】
本発明は上記事情に鑑みなされたものであって、その目的は被処理物の乾燥ムラなどの乾燥不良を抑制し得る乾燥装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決し得た本発明の乾燥装置は、被処理物の乾燥処理を行う乾燥槽と、前記被処理物の固定具と、前記被処理物の表面に対向する加熱手段と、前記被処理物の裏面に対向する加熱手段と、を有し、前記加熱手段の長手方向が水平線に対して傾斜していることに要旨を有する。
【０００８】
また前記被処理物の表面に対向する気体噴射手段と、前記被処理物の裏面に対向する気体噴射手段と、を有し、前記気体噴射手段はノズル孔が斜め下に向けられていることも好ましい実施態様である。
【０００９】
更に前記乾燥槽は、前記固定具の搬送機構を有すること、底面に排気口を有すること、前記排気口の上方に前記ノズル孔から噴射される気体を当てる気体整流板を有すること、前記被処理物に対向する面が上方に凸となるように湾曲した形状であること、はいずれも好ましい実施態様である。
【００１０】
前記気体噴射手段は昇降機構を有することも好ましい。
【００１１】
更に本発明の乾燥装置には、前記乾燥槽の入口側に設けられた前槽と、前記乾燥槽の出口側に設けられた後槽と、を有し、前記前槽、及び前記後槽は、前記被処理物の表面に対向する気体噴射手段と、前記被処理物の裏面に対向する気体噴射手段を有することも含まれ、更に前記気体噴射手段は前記被処理物の上部に対向する位置、また下部に対向する位置の少なくとも一方に設けられていることも本発明に含まれる。
【００１２】
また本発明の乾燥装置は、更に前記前槽の入口側に設けられた予備加熱槽を有し、前記予備加熱槽は、加熱液体噴射手段を有することも好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の乾燥装置によれば、乾燥槽内に設けた加熱手段の長手方向が水平線に対して傾斜するように設けられているため、被処理物の上下方向の乾燥ムラを抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図１は、本発明の一実施態様である乾燥装置を上方からみた平面図である。
【図２】図２は、図１の乾燥装置を矢印Ｚ方向からみた側面図である。
【図３】図３は、図２の乾燥槽の断面図であって矢印Ｃ方向からみた図である。
【図４】図４は、図２の前槽の断面図であって矢印Ｄ方向からみた図である。
【図５】図５は、図２の後槽の断面図であって矢印Ｅ方向からみた図である。
【図６】図６は、図２の予備加熱槽の断面図であって矢印Ｆ方向からみた図である。
【図７】図７（Ａ）は、図１に示す気体噴射手段を被処理物側からみた側面図である。また図７（Ｂ）は、気体噴射手段の断面図であって、矢印Ｇ方向からみた図である。
【図８】図８は、図３の乾燥槽の排気口近傍の拡大図であって、気体整流板の他の実施形態を示す断面図である。
【図９】図９（Ａ）は、図１に示す上部気体噴射手段を被処理物側からみた側面図である。また図９（Ｂ）は、上部気体噴射手段の断面図であって、矢印Ｈ方向からみた図である。
【図１０】図１０（Ａ）は、図１に示す加熱液体噴射手段を被処理物側からみた側面図である。また図１０（Ｂ）は、加熱液体噴射手段の断面図であって、矢印Ｉ方向からみた図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明を実施するための最良の形態について図面を参照しながら詳細に説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されない。
【００１６】
図面に基づいて本発明の乾燥装置１の構成について説明する。図１は本発明の一実施態様である乾燥装置を上方からみた平面図である。図２は図１の乾燥装置を矢印Ｚ方向からみた側面図である。図３は図２の乾燥槽３の断面図であって矢印Ｃ方向からみた図である。なお、図１では固定具、及び搬送機構を省略している。また図２では搬送機構を省略している。
【００１７】
図１に示す様に乾燥装置１には、被処理物２の搬送方向７に沿って、予備加熱槽１２、前槽１０、乾燥槽３、後槽１１が順に設けられており、この順で各槽を通過する被処理物２に必要な処理が行われる。各槽には図３に示すように固定具４の通路を形成する切り欠き１９が設けられている。
【００１８】
乾燥装置１には、保持した被処理物２を搬送する固定具４と、固定具４を各槽内に搬送するための搬送機構とを備えている。被処理物２は固定具４によって被処理物２の表面と裏面が乾燥装置１の側面、すなわち、被処理物２の搬送方向７と直交する面、に対向するように保持されている。
【００１９】
固定具４は、被処理物２の上部（一辺）をクランプなどの把持部２２で保持している。図３に示すように、固定具４は固定具接続部２４から切り欠き１９を通して乾燥槽内で中空状態に保持されている。なお、固定具４は被処理物２を保持できればよく各種公知の固定具を使用でき、例えばプリント基板などの搬送用に使用されるハンガーや、枠状の固定具で被処理物２の複数の辺を保持してもよい。なお、被処理物としては各種樹脂基板、ガラス基板、金属基板、セラミック基板などの板状被処理が例示される。被処理物はリジット基板などのように可撓性の低いものであってもよいし、フレキシブル基板などのように可撓性の高いものであってもよい。また被処理物が板状である場合の厚みも数ミリからサブミクロンレベルまで対応可能である。
【００２０】
図３に示す搬送機構は、ガイドレール５、固定具接続部２４、搬送用ローラー２５で構成される。搬送機構は固定具接続部２４の底部にガイドレール５上を移動するための搬送用ローラー２５が取り付けられており、図示しないモーターなどの駆動手段によって駆動される。ガイドレール５は乾燥装置の上部に固定されている。なお、搬送機構は各種公知の固定具搬送手段を用いることができる。
【００２１】
各槽間には各槽を区切るための仕切り部材を設けてもよいし、設けなくてもよい。効率的に被処理物２を乾燥させる観点からは仕切り部材の開閉に伴う時間ロスをなくして乾燥時間を短縮するためには仕切り部材は設けないことが望ましい。
【００２２】
図３に示す乾燥槽３は被処理物２に対する乾燥処理を行うため、内部には搬送される被処理物２の表面に対向する加熱手段６、及び被処理物２の裏面に対向する加熱手段６が設けられている。なお、本発明では被処理物２の表面と裏面に同じ処理を施すため、表面と裏面はいずれの面でもよい。
【００２３】
図２に示す様に被処理物２の一方の面に対向するように設けられた加熱手段６の長手方向は水平線に対して傾斜するように設けられている。これにより、被処理物２の移動に伴って加熱手段６、具体的には熱源と対向する被処理物２の高さ位置が変化するため、被処理物２の面内の温度分布差が減少し、その結果、乾燥ムラを抑制できる。加熱手段６の傾斜は好ましくは被処理物２の搬送方向７手前側が水平線の上側となるようにすると、被処理物２の上側から順に液滴を除去しながら効率的に乾燥できる。
【００２４】
加熱手段６としてはカーボンやセラミックなどの輻射熱方式の加熱に利用できる導電性部材である。加熱手段６の形状は特に限定されないが、搬送される被処理物２を効率的に加熱できるようにロッド状の長尺形状である。ロッド状の導電性部材を用いる場合は両端に電極を設け、通電することで導電性部材が加熱されて遠赤外線を発生させることができる。
【００２５】
なお、図示例では加熱手段６の設置数は片面あたり２本であるが、これに限定されず、被処理物の大きさに応じて十分に乾燥できるように適宜選択すればよい。また加熱手段６の数は被処理物２の表裏面で同数でも異なる数でもよい。加熱手段６は長尺形状であればよく、被処理物２を十分に乾燥できる長さを有していればよく、特に限定されない。また図２では加熱手段６は乾燥槽３の入り口側から出口側まで伸長しているが、複数に分割されていてもよい。
【００２６】
また図３に示す様に乾燥槽３の内部には搬送される被処理物２の表面に対向する気体噴射手段１４、及び裏面に対向する気体噴射手段１４が設けられている。気体噴射手段１４は加熱手段６よりも下側に取り付けられる。
【００２７】
図７（Ａ）は図１に示す気体噴射手段１４を被処理物２側からみた側面図である。また図７（Ｂ）は気体噴射手段１４の断面図であって、矢印Ｇ方向からみた図である。気体噴射手段１４は、内部に空間を有する管部材であるパイプで構成されており、所定間隔で配置される斜め下方に向けられている複数のノズル孔１５を有する。斜め下方とは被処理物２方向である。気体噴射手段１４は搬送方向７に長手方向を有しており、気体噴射手段１４は図２に示す様に乾燥槽３の入り口側から出口側まで伸長しているが、複数に分割されていてもよい。
【００２８】
気体噴射手段１４にはノズル孔１５の設置角度３１が断面中心点を通る水平線３０に対して斜め下方向（ノズル孔中心を通るライン３２）となるように設けられている。ノズル孔１５からは被処理物２に向けて気体が水平線に対して斜め下方に噴射され、被処理物２の下部に気流が当てられる。その結果、上記加熱手段６による加熱によって生じる熱対流に起因する被処理物２の揺れ動きを抑制できると共に、被処理物２の下端部に付着している液滴を除去できる。
【００２９】
なお、図７（Ｂ）では気体噴射手段１４の断面を円形としたが、四角形など他の形状でもよく、ノズル孔１５の形状も円形以外の形状でもよい。また図７（Ａ）では管部材に複数のノズル孔１５を設けたが、管部材長手方向にスリット状の切り欠きを設けて気体吐出口としてもよい。あるいはそれぞれ独立に気体が供給され、それぞれにノズル孔を備えたエアノズルを土台となる板状部材に複数配置してもよい。
【００３０】
気体噴射手段１４は昇降機構を有する。昇降機構によって気体噴射手段１４を昇降させて気体の噴射位置を調整できる。図７（Ａ）に示す様に気体噴射手段１４の長手方向両側に設けられた昇降機構は昇降支持部２６、昇降用レール２７、昇降支持部２６内に設けられた昇降用ローラー（図示せず）で構成される。昇降支持部２６内部に昇降用レール２７を移動するための昇降用ローラーを取り付けてモーター（図示せず）などで駆動すればよい。昇降支持部２６をその昇降時に昇降用レール２７に沿って移動させることでスムーズな昇降を実現でき、気体噴射手段１４は水平状態を維持したまま短時間で精度よく所定の位置に移動できる。なお、昇降用レール２７の乾燥槽３の内壁への接地の有無は問わない。昇降用レール２７を乾燥槽３の内壁に取り付けたり、あるいは乾燥槽３の天井面や底面に支柱の端部を接続し、該支柱に昇降用レール２７を取り付けてもよい。
【００３１】
乾燥槽３の底面には排気口１３となる切り欠き１９が設けられている。気体噴射手段１４から噴射された気体は排気口１３から乾燥槽３の外へ排出される。排気口１３は被処理物２の真下に位置するように設けられている。これにより排気口１３から排出される気流に起因する被処理物２の揺れ動きが抑制される。排気口１３の長手方向は搬送方向７であり、気体噴射手段１４の長さと同程度である。なお、排気口１３の長さは気体噴射手段１４の長手方向の長さよりも短いと気流に起因する被板状処理物２の揺れ動きが生じる可能性があるため、好ましくは気体噴射手段１４の長さよりも長くすることが望ましい。
【００３２】
また排気口１３上方には気体整流板１８が設けられている。具体的には図３に示す様に被処理物２の表面、裏面のそれぞれに設けた気体噴射手段１４から噴射された気体を当てる気体整流板１８が排気口１３を夾んで対向するように排気口の上方の底面に設けられている。気体整流板１８の長手方向は排気口１３の長手方向と同じであり、その長さも排気口１３の長さと同じとなるように設けられている。気体整流板１８は被処理物２から離れる方向に傾斜して設けられ、底面と気体整流板とで形成される角度は水平状態を０°とした場合に好ましくは３０〜８０°である。気体噴射手段１４から噴射された気体は気体整流板１８によって流れが制御される。その結果、気流の乱れによる被処理物２の揺れ動きを防止できる。気体整流板１８の形状は図３に示す様な板状、或いは図８に示す様な被処理物に対向する面が上方に凸となるように湾曲した形状などが例示される。気体整流板１８は湾曲した形状であるとより一層整流効果が高まる。
【００３３】
次に乾燥槽３の入口側に設けられた前槽１０と乾燥槽３の出口側に設けられた後槽１１について説明する。
【００３４】
図４は図２の前槽１０の断面図であって矢印Ｄ方向からみた図である。また図５は図２の後槽１１の断面図であって矢印Ｅ方向からみた図である。前槽１０では乾燥槽３の前処理として被処理物２に付着する液体の除去処理を行う。また後槽１１は乾燥槽３の後処理として被処理物２に残存する液体の除去処理を行う。前槽１０、及び後槽１１では液体の除去処理を行うため、内部には被処理物２の表面に対向する気体噴射手段、及び被処理物２の裏面に対向する気体噴射手段が設けられている。前槽１０では気体噴射手段は被処理物２の上部（半分よりも上側）に対向する位置（上部気体噴射手段１６）に設けられている。また後槽１１では気体噴射手段は被処理物２の下部（半分よりも下側）に対向する位置（下部気体噴射手段１７）に設けられ、更に上部気体噴射手段１６が設けられている。なお、前槽１０、後槽１１共に、上部気体噴射手段１６、または下部気体噴射手段１７のいずれか一方、または両方に設けることができる。
【００３５】
図９（Ａ）は図１に示す上部気体噴射手段１６を被処理物２側からみた側面図である。また図９（Ｂ）は上部気体噴射手段１６の断面図であって、矢印Ｈ方向からみた図である。上部気体噴射手段１６は、内部に空間を有する管部材であるパイプで構成されており、所定間隔で配置される複数の上部ノズル孔２０を有する。上部気体噴射手段１６は進行方向７に長手方向を有している。上部気体噴射手段１６は上部気体噴射手段固定台２９で保持されており、上部気体噴射手段固定台２９を前槽の壁面に固定して設置している。なお、上部気体噴射手段１６は図２に示す様に前槽３の出口側に設けられているが、上記効果が得られれば設置位置や、上部気体噴射手段１６の長さも限定されない。
【００３６】
上部気体噴射手段１６には上部ノズル孔２０の設置角度３１が中心点を通る水平線３０に対して斜め上方向（ノズル孔中心を通るライン３２）となるように設けられている。上部ノズル孔２０からは被処理物２に向けて気体が水平線に対して斜め上方に噴射され、被処理物２が固定具４に保持されている部分（保持部分）に気流が当てられる。その結果、保持部分に付着している液滴を除去できる。保持部分は加熱されにくいため、予め除去しておくことで乾燥槽３での乾燥効率を向上できる。
【００３７】
下部気体噴射手段１７には図７（Ａ）、図７（Ｂ）に示す気体噴射手段１４と同様の構成を有している。これにより、後槽１１の内部において下部気体噴射手段１７のノズル孔からは被処理物２に向けて気体が水平線に対して斜め下方に噴射され、被処理物２の下部に気流が当てられる。その結果、被処理物２の下端部に付着している液滴を除去できる。また下部気体噴射手段１７は、気体噴射手段１４と同様の昇降手段を有していてもよい。なお、下部気体噴射手段１７は図２に示す様に後槽３の入口側に設けられているが、上記効果が得られれば設置位置や下部気体噴射手段１７の長さも限定されない。
【００３８】
なお、下部気体噴射手段１７を設ける際は図３と同様に排気口１３を設けると共に、気体整流板を設けることが望ましい。
【００３９】
次に前槽１０の入口側に設けられた予備加熱槽１２について説明する。
【００４０】
図６は図２の予備加熱槽１２の断面図であって矢印Ｆ方向からみた図である。予備加熱槽１２では、被処理物２の予備加熱処理を行うため、内部には加熱液体噴射手段８が設けられている。加熱液体噴射手段８は予備加熱槽１２の天井面３３に固定した支持台２１に取り付けられ、被処理物２の表面に対向する側、及び被処理物２の裏面に対向する側に設置されている。加熱液体噴射手段８には加熱された液体を噴射する液体噴射ノズル孔２３が設けられている。液体噴射ノズル２３の設置角度は水平線よりも下方となるように設置されている。予備加熱槽１２の底部には排水口２８が設けられている。加熱液体噴射ノズル２３からは被処理物２に向けて液体が水平線に対して斜め下方に噴射され、被処理物２が固定具４に保持されている部分（保持部分）に液体が当てられる。その結果、加熱した液体が被処理物２の表面を伝って下方に流れ、被処理物２が温められる。被処理物を予め温めておくと、乾燥処理時に短時間で所定温度まで加熱できるため効率的に乾燥処理できる。加熱した液体は排水口２８から排出される。
【００４１】
なお、加熱液体噴射手段８は被処理物２の一方の面にのみ設けてもよい。また加熱液体噴射手段８の設置方法も特に限定されず、予備加熱槽１２の内壁に固定した支持台に取り付けてもよい。また液体噴射ノズル２３の設置角度も特に限定されないが、被処理物２全体を予備加熱するためにはできるだけ被処理物２の上部に加熱液体を噴射できるように設定することが望ましい。
【００４２】
本発明において、加熱手段６、気体噴射手段１４、上部気体噴射手段１６、下部気体噴射手段１７、及び加熱液体噴射手段８などの噴射手段は上記したように各処理槽の内部に設けられていればよく、処理槽の内壁への接地の有無は問わない。噴射手段はクランプなどの固定治具で保持し、該固定治具を内壁に取り付けたり、あるいは処理槽の天井面や底面に設置した支柱に該固定治具を取り付けてもよい。また被処理物２を介して対向する気体噴射手段１４、上部気体噴射手段１６、下部気体噴射手段１７、及び加熱液体噴射手段８から均等な圧力で気体乃至液体を被処理物２に当てると被処理物２の揺れ動きを抑制できる。そのため、ノズル孔の設置角度や、高さ、噴射圧力、被処理物２までの水平距離を適宜調整してもよく、好ましくは設置角度、設置高さ、噴射圧力、水平距離を等しくすることで被処理物２は両側から均等な圧力で抑えられるため、より一層被処理物２の揺れ動きを抑制できる。
【００４３】
次に乾燥装置１において行われる各処理工程の内容について図面を参照しながら説明する。被処理物２は固定具４に取り付けられた後、搬送機構によって予備加熱槽１２から前槽１０、乾燥槽３、後槽１１の順で搬送される。その際の搬送速度は制御部でコントロールすればよい。
【００４４】
本発明において制御部は、各種演算処理を行うＣＰＵ、プログラムの記憶と読み出しを行うメモリ（ＲＡＭ、ＲＯＭ）、制御用プログラムやデータなどの記録媒体（磁気ディスクなど）を備えており、記録媒体に収納されている各種処理プログラムをメモリに読み出し、その内容にしたがってＣＰＵが各部の動作、処理を制御する。なお、電気の供給が必要な装置は図示しない電源に接続され、必要な電力が供給されている。
【００４５】
また固定具４の搬送機構は、モーターと制御部（図示せず）とが電気的に接続されて制御されており、制御部からの動作命令を受けて固定具４は移動される。
【００４６】
予備加熱槽１２では被処理物２に液加熱体噴射手段８から温水を当てることにより予備加熱処理が行われる。加熱液体噴射手段８には液体供給管（図示せず）を介して送液ポンプ（図示せず）、ヒーターなどの液体加熱手段（図示せず）、及び液体タンク（図示せず）が接続されており、送液ポンプは図示しない制御部と電気的に接続しており、制御部の動作命令により送液ポンプから所定量の液体が供給され、加熱液体噴射手段８のノズル孔から噴射される。液体は特に限定されないが、コスト面からは水である。水は任意の箇所に設けた加熱液体加熱手段８で所定の温度（例えば６０℃程度）に加熱すればよい。予備加熱槽１２内では固定具４に保持された被処理物２は被処理物２の加熱に必要な時間停止させてもよいし、移動させながら予備加熱処理を行ってもよい。予備加熱処理後、固定具４に保持された被処理物２は前槽１０内に移動される。
【００４７】
前槽１０では、被処理物２のそれぞれの面の固定具４保持部分に上部気体噴射手段１６から噴射された気体（例えば７５Ｌ／ｍｉｎ、０．４ＭＰａ）が当てられる。これにより固定具４に保持された被処理物２の保持部分の液体除去処理が行われる。上部気体噴射手段１６には気体供給配管（図示せず）が接続されており、該気体供給配管を介して気体供給ポンプ（図示せず）と連結されている。気体供給ポンプは図示しない制御部と電気的に接続しており、制御部の動作命令により気体供給ポンプから所定量の気体が上部気体噴射手段１６に供給され、上部ノズル孔２０から噴射される。気体は特に限定されず、空気、乾燥空気、窒素などの気体が例示されるが、コスト面からは空気である。空気は気体供給ポンプで取り込んで供給すればよい。上部気体噴射手段１６から噴射される気体の噴出速度は、ポンプ（図示せず）の圧力を適宜調整すればよいが、例えばフラットエアノズルを使用した場合、ノズル幅（例えば５０〜２００ｍｍ程度）、ノズルの直径（例えば０．１〜５ｍｍ程度）であれば、ノズル１個当たりの気体の供給量や圧力は５０〜４００Ｌ／ｍｉｎ、０．２〜０．５ＭＰａ程度である。前槽１０内では固定具４に保持された被処理物２は保持部分の液体除去に必要な時間停止させてもよいし、移動させながら液体除去を行ってもよい。処理後、固定具４に保持された被処理物２は乾燥槽３内に移動される。
【００４８】
乾燥槽３では被処理物２のそれぞれの面に対向して設けた加熱手段６からの輻射熱によって被処理物２の表裏面の乾燥が行われる。また被処理物２の下端部に向けて、被処理物２のそれぞれの面に対向して設けた気体噴射手段１４から空気を当てることにより、被処理物２の姿勢保持と液滴除去が行われる。加熱手段６の両端には電極が設けられており、この電極は図示しない電源部、制御部と電気的に接続されており、制御部から電源部に動作命令をだして通電させることで加熱手段６が加熱されて遠赤外線を発生させることができる。なお、被処理物２は過熱されると熱損傷する場合があるため、加熱手段６はＰＩＤ制御（Proportional-Integral-Differential Controller）などによって被処理物２が過熱されないように電源のオン、オフを行って温度制御を行う。具体的には被処理物２の温度が１８０℃以上になると熱損傷が生じる。また被処理物２の温度が６０℃以下では乾燥効率が悪い。したがって被処理物２の温度が上記範囲内となるように制御する。
【００４９】
気体噴射手段１４には気体供給配管（図示せず）が接続されており、該気体供給配管を介して気体供給ポンプ（図示せず）と連結されている。気体供給ポンプは図示しない制御部と電気的に接続しており、制御部の動作命令により気体供給ポンプから所定量の気体が気体噴射手段１４に供給され、ノズル孔１５から噴射される。気体の噴出速度は、ポンプ（図示せず）の圧力と管部材の直径（例えば１０〜２０ｍｍ程度）、ノズル孔１５の数、及びノズル孔１５の直径（例えば１〜５ｍｍ程度）などによって調整できる。気体噴射手段１４から噴射される気体の供給量や圧力は被処理物２の揺動を抑制できる程度でよく、例えば気体供給手段１４に使用する管部材の長さ１ｍあたり１００〜４００Ｌ／ｍｉｎ、０．０１〜０．０４ＭＰａ程度である。
【００５０】
また昇降支持部２６に設けたモーターは制御部（図示しない）と電気的に接続しており、制御部の動作命令によりモーターが稼働して昇降用ローラー（図示せず）を駆動して昇降用レール２７を移動することで所望の位置に気体噴射手段１４を移動させることができる。したがって被処理物２の大きさが変わっても気液噴射手段１４を昇降機構で移動させることで、被処理物２の下部に気体を当てることができる。
【００５１】
次に、固定具４に保持された被処理物２は後槽１１に移動する。後槽１１では、被処理物２のそれぞれの面の下端部に下部気体噴射手段１７から噴射された気体（例えば６０Ｌ／ｍｉｎ、０．４ＭＰａ）が当てられる。これにより被処理物２の下端部に付着する液滴除去処理が行われる。固定具４に保持された被処理物２は後槽１１で所定時間停止、或いは停止せずに液滴除去処理が行われる。また後槽１１では、被処理物２のそれぞれの面の保持部分に部気体噴射手段１６から噴射された気体（例えば７５Ｌ／ｍｉｎ、０．４ＭＰａ）が当てられる。これにより保持部分に残存する液体の除去処理が行われる。上部気体噴射手段１６の制御は、上記前槽１２と同じであるため説明を省略する。また下部気体噴射手段の制御は、上記乾燥槽３の気体噴射手段１４の制御と同じであるため説明を省略する。処理後、固定具４に保持された被処理物２は後槽１１から乾燥装置外へ搬出される。
【符号の説明】
【００５２】
１  乾燥装置
２  被処理物
３  乾燥槽
４  固定具
５  ガイドレール
６  加熱手段
７  搬送方向
８  加熱液体噴射手段
１０  前槽
１１  後槽
１２  予備加熱槽
１３  排気口
１４  気体噴射手段
１５  ノズル孔
１６  上部気体噴射手段
１７  下部気体噴射手段
１８  気体整流板
１９  切り欠き
２０  上部ノズル孔
２１  支持台
２２  把持部
２３  液体噴射ノズル孔
２４  固定具接続部
２５  搬送用ローラー
２６  昇降支持部
２７  昇降用レール
２８  排水口
２９  上部気体噴射手段固定台
３０  水平線
３１  ノズル孔の設置角度
３２  ノズル孔中心を通るライン
３３  予備加熱槽天井面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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