(57)【要約】【課題】後方散乱光のＬＰ１１ａおよびＬＰ１１ｂモード成分のＯＴＤＲ波形の揺らぎを低減できる光パルス試験装置及び光パルス試験方法を提供することを目的とする。【解決手段】本発明に係る光パルス試験装置は、被試験光ファイバの任意の地点で生成される後方散乱光のＬＰ１１モード成分の電界分布を意図的に変化させることで、異なるＬＰ１１モードの電界分布状態に対する測定波形を取得し、さらにそれらに加算平均処理を施すことにより、ＬＰ１１モードの電界分布状態に起因した波形揺らぎを低減することとした。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
試験光パルスを被試験光ファイバに入射し、前記試験光パルスによる前記被試験光ファイバからの戻り光から前記被試験光ファイバの距離方向の分布データを取得する光パルス試験装置であって、
前記被試験光ファイバを基本モードと第一高次モードで伝搬可能な波長かつ偏波状態を任意に変化させた試験光パルスを繰り返し生成する生成部と、
前記生成部が生成した前記試験光パルスを任意のモードで前記被試験光ファイバに入射し、かつ前記被試験光ファイバからの前記戻り光を基本モードおよび直交する２つの第一高次モードの３成分に分離するモード合分波部と、
前記モード合分波部が分離した前記戻り光の３成分それぞれを光電変換する受光部と、
前記戻り光の３成分それぞれの、前記被試験光ファイバの距離に対する強度分布を繰り返し取得し、前記戻り光の３成分それぞれで前記強度分布を加算平均する処理を行う演算処理部と、
を備える光パルス試験装置。
【請求項２】
前記モード合分波部は、前記演算処理部が繰り返して前記強度分布を取得する間に、前記試験光パルスの直交する２つの第一高次モードの入射強度比率を変化させる分岐比可変カプラを有することを特徴とする請求項１に記載の光パルス試験装置。
【請求項３】
試験光パルスを被試験光ファイバに入射し、前記試験光パルスによる前記被試験光ファイバからの戻り光から前記被試験光ファイバの距離方向の分布データを取得する光パルス試験方法であって、
前記被試験光ファイバを基本モードと第一高次モードで伝搬可能な波長かつ偏波状態を任意に変化させた試験光パルスを繰り返し生成する生成手順と、
前記生成手順で生成した前記試験光パルスを任意のモードで前記被試験光ファイバに入射する入射手順と、
前記被試験光ファイバからの前記戻り光を基本モードおよび直交する２つの第一高次モードの３成分に分離するモード分波手順と、
前記モード分波手順で分離した前記戻り光の３成分それぞれを光電変換する受光手順と、
前記戻り光の３成分それぞれの、前記被試験光ファイバの距離に対する強度分布を繰り返し取得し、前記戻り光の３成分それぞれで前記強度分布を加算平均する処理を行う演算処理手順と、
を行う光パルス試験方法。
【請求項４】
前記入射手順では、前記試験光パルスを第一高次モードで入射する場合、前記演算処理手順で繰り返して前記強度分布を取得する間に、前記試験光パルスの直交する２つの第一高次モードの入射強度比率を変化させることを特徴とする請求項３に記載の光パルス試験方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、光ファイバの特性を測定するための光パルス試験装置及び光パルス試験方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光パルス試験法（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｔｉｍｅ  Ｄｏｍａｉｎ  Ｒｅｆｌｅｃｔｏｍｅｔｒｙ、以後ＯＴＤＲ）は、パルス化した試験光を被試験光ファイバ（Ｆｉｂｅｒ  Ｕｎｄｅｒ  Ｔｅｓｔ、以後ＦＵＴ）に入射し、光ファイバ内を伝搬する試験光パルスに由来するレイリー散乱光の後方散乱光やフレネル反射光の強度とラウンドトリップ時間に基づき分布データ（ＯＴＤＲ波形）を取得する方法である。この技術は、光ファイバの損失分布の測定や故障箇所の特定、光ファイバの伝送特性の測定ができるため、敷設光ファイバの保守運用や光ファイバ特性評価に用いられている。
【０００３】
近年、汎用的なＳＭＦの保守運用の高度化や数モードファイバ（Ｆｅｗ−ｍｏｄｅ  Ｆｉｂｅｒ、以後ＦＭＦ）の伝送特性測定のために、光ファイバの基本モード（ＬＰ０１モード）に加えて高次モードを測定するＯＴＤＲ法が提案されている。例えば、非特許文献１および非特許文献２ではシングルモードファイバ（Ｓｉｎｇｌｅ−ｍｏｄｅ  Ｆｉｂｅｒ、以後ＳＭＦ）の２モード領域を利用し、光ファイバに生じる異常な曲げやマイクロベンドを高感度に検出する方法が開示されている。また、非特許文献３および非特許文献４では、ＦＭＦのモードフィールド径やモード結合係数の分布を測定する方法が開示されている。これらの手法では、後方散乱光におけるＬＰ０１モードと直交する二つの第一高次モード（ＬＰ１１ａモードおよびＬＰ１１ｂモード、総称してＬＰ１１モード）の強度成分をモード合分波器で分離し個別に測定を実施している。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】Ａ．  Ｎａｋａｍｕｒａ，  Ｋ．  Ｏｋａｍｏｔｏ，  Ｙ．  Ｋｏｓｈｉｋｉｙａ，  Ｔ．  Ｍａｎａｂｅ，  Ｍ．  Ｏｇｕｍａ，  Ｔ．  Ｈａｓｈｉｍｏｔｏ，  ａｎｄ  Ｍ．  Ｉｔｏｈ，  “Ｈｉｇｈ−ｓｅｎｓｉｔｉｖｉｔｙ  ｄｅｔｅｃｔｉｏｎ  ｏｆ  ｆｉｂｅｒ  ｂｅｎｄｓ：  １−μｍ−ｂａｎｄ  ｍｏｄｅ−ｄｅｔｅｃｔｉｏｎ  ＯＴＤＲ”，  Ｊ．  Ｌｉｇｈｔｗ．  Ｔｅｃｈｎｏｌ．，  ｖｏｌ．  ３３，  ｎｏ．  ２３，  ｐｐ．  ４８６２−４８６９，  ２０１５．
【非特許文献２】Ａ．  Ｎａｋａｍｕｒａ，  Ｋ．  Ｏｋａｍｏｔｏ，  Ｙ．  Ｋｏｓｈｉｋｉｙａ，  Ｈ．  Ｗａｔａｎａｂｅ，  ａｎｄ  Ｔ．  Ｍａｎａｂｅ，  “Ｈｉｇｈｌｙ  ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  ｄｅｔｅｃｔｉｏｎ  ｏｆ  ｍｉｃｒｏｂｅｎｄｉｎｇ  ｉｎ  ｓｉｎｇｌｅ−ｍｏｄｅ  ｆｉｂｅｒｓ  ａｎｄ  ｉｔｓ  ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ”，  Ｏｐｔ．  Ｅｘｐｒｅｓｓ，  ｖｏｌ．  ２５，  ｎｏ．  ５，  ｐｐ．  ５７４２−５７４８，  ２０１７．
【非特許文献３】Ａ．  Ｎａｋａｍｕｒａ，  Ｋ．  Ｏｋａｍｏｔｏ，  Ｙ．  Ｋｏｓｈｉｋｉｙａ，  ａｎｄ  Ｔ．  Ｍａｎａｂｅ，  “Ｅｆｆｅｃｔｉｖｅ  ｍｏｄｅ  ｆｉｅｌｄ  ｄｉａｍｅｔｅｒ  ｆｏｒ  ＬＰ１１  ｍｏｄｅ  ａｎｄ  ｉｔｓ  ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ  ｔｅｃｈｎｉｑｕｅ”，  ＩＥＥＥ  Ｐｈｏｔｏｎ．  Ｔｅｃｈｎｏｌ．  Ｌｅｔｔ．，  ｖｏｌ．  ２８，  ｎｏ．  ２０，  ｐｐ．  ２５５３−２５５６，  ２０１６．
【非特許文献４】Ｍ．  Ｎａｋａｚａｗａ，  Ｍ．  Ｙｏｓｈｉｄａ，  ａｎｄ  Ｔ．  Ｈｉｒｏｏｋａ，  “Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ  ｏｆ  ｍｏｄｅ  ｃｏｕｐｌｉｎｇ  ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ  ａｌｏｎｇ  ａ  ｆｅｗ−ｍｏｄｅ  ｆｉｂｅｒ  ｕｓｉｎｇ  ａ  ｓｙｎｃｈｒｏｎｏｕｓ  ｍｕｌｔｉｃｈａｎｎｅｌ  ＯＴＤＲ”，  Ｏｐｔ．  Ｅｘｐｒｅｓｓ，  ｖｏｌ．  ２２，  ｎｏ．  ２５，  ｐｐ．  ３１２９９−３１３０９，  ２０１４．
【非特許文献５】Ｎ．  Ｈａｈｚａｗａ，  Ｋ．  Ｓａｉｔｏｈ，  Ｔ．  Ｓａｋａｍｏｔｏ，  Ｋ．  Ｔｓｕｊｉｋａｗａ，  Ｔ．  Ｕｅｍａｔｓｕ，  Ｍ．  Ｋｏｓｈｉｂａ，  “Ｔｈｅｒｅ−ｍｏｄｅ  ＰＬＣ−ｔｙｐｅ  ｍｕｌｔｉ／ｄｅｍｕｌｔｉｐｌｅｘｅｒ  ｆｏｒ  ｍｏｄｅ−ｄｉｖｉｓｉｏｎ  ｍｕｌｔｉｐｌｅｘｉｎｇ  ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ”，  ＥＣＯＣ２０１３，  Ｔｕ．１．Ｂ．３，  ２０１３．
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
光ファイバにおけるＬＰ１１モードは、厳密には伝搬定数がほぼ等しい固有モードであるＴＥ０１、ＴＭ０１、ＨＥ２１ａ、及びＨＥ２１ｂモードの重ねあわせで構成される。これら固有モードの伝搬定数はわずかに異なるため、伝搬に伴いそれらの相対的な位相差は変化する。その結果、ＬＰ１１モードの電界分布は伝搬距離に応じて変化する。
【０００６】
非特許文献１〜４のようなＬＰモードの強度を分離して個別に測定するＯＴＤＲ法においては、後方散乱光のＬＰ１１モード成分をモード合分波器においてＬＰ１１ａおよびＬＰ１１ｂモード成分の強度に分離して測定を行うため、ＬＰ１１ａおよびＬＰ１１ｂモード成分の強度は後方散乱光がモード合分波器まで戻ってきたときのＬＰ１１モードの電界分布変化状態に依存する。このため非特許文献１〜４のようなＯＴＤＲには後方散乱光のＬＰ１１ａとＬＰ１１ｂモード成分のＯＴＤＲ波形が揺らいで損失測定分解能が劣化するという課題がある。
【０００７】
本発明は、上記課題を解決するために、後方散乱光のＬＰ１１ａおよびＬＰ１１ｂモード成分のＯＴＤＲ波形の揺らぎを低減できる光パルス試験装置及び光パルス試験方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明は、被試験光ファイバの任意の地点で生成される後方散乱光のＬＰ１１モード成分の電界分布を意図的に変化させることで、異なるＬＰ１１モードの電界分布状態に対する測定波形を取得し、さらにそれらに加算平均処理を施すことにより、ＬＰ１１モードの電界分布状態に起因した波形揺らぎを低減することとした。
【０００９】
具体的には、本発明に係る光パルス試験装置は、試験光パルスを被試験光ファイバに入射し、前記試験光パルスによる前記被試験光ファイバからの戻り光から前記被試験光ファイバの距離方向の分布データを取得する光パルス試験装置であって、
前記被試験光ファイバを基本モードと第一高次モードで伝搬可能な波長かつ偏波状態を任意に変化させた試験光パルスを繰り返し生成する生成部と、
前記生成部が生成した前記試験光パルスを任意のモードで前記被試験光ファイバに入射し、かつ前記被試験光ファイバからの前記戻り光を基本モードおよび直交する２つの第一高次モードの３成分に分離するモード合分波部と、
前記モード合分波部が分離した前記戻り光の３成分それぞれを光電変換する受光部と、
前記戻り光の３成分それぞれの、前記被試験光ファイバの距離に対する強度分布を繰り返し取得し、前記戻り光の３成分それぞれで前記強度分布を加算平均する処理を行う演算処理部と、
を備える。
【００１０】
また、本発明に係る光パルス試験方法は、試験光パルスを被試験光ファイバに入射し、前記試験光パルスによる前記被試験光ファイバからの戻り光から前記被試験光ファイバの距離方向の分布データを取得する光パルス試験方法であって、
前記被試験光ファイバを基本モードと第一高次モードで伝搬可能な波長かつ偏波状態を任意に変化させた試験光パルスを繰り返し生成する生成手順と、
前記生成手順で生成した前記試験光パルスを任意のモードで前記被試験光ファイバに入射する入射手順と、
前記被試験光ファイバからの前記戻り光を基本モードおよび直交する２つの第一高次モードの３成分に分離するモード分波手順と、
前記モード分波手順で分離した前記戻り光の３成分それぞれを光電変換する受光手順と、
前記戻り光の３成分それぞれの、前記被試験光ファイバの距離に対する強度分布を繰り返し取得し、前記戻り光の３成分それぞれで前記強度分布を加算平均する処理を行う演算処理手順と、
を行う。
【００１１】
本発明は、被試験光ファイバに入射する試験光パルスの偏波状態を任意に変化させる。測定毎に試験光パルスの偏波状態がランダムに変化するので被試験光ファイバの任意地点におけるＬＰ１１モードの電界状態もランダムとなる。このようなランダムなＬＰ１１モードの電界状態に対する測定波形を加算平均することで揺らぎを緩和することができる。
【００１２】
従って、本発明は、後方散乱光のＬＰ１１ａおよびＬＰ１１ｂモード成分のＯＴＤＲ波形の揺らぎを低減できる光パルス試験装置及び光パルス試験方法を提供することができる。
【００１３】
本発明に係る光パルス試験装置の前記モード合分波部は、前記演算処理部が繰り返して前記強度分布を取得する間に、前記試験光パルスの直交する２つの第一高次モードの入射強度比率を変化させる分岐比可変カプラを有することを特徴とする。
【００１４】
また、本発明に係る光パルス試験方法の前記入射手順では、前記試験光パルスを第一高次モードで入射する場合、前記演算処理手順で繰り返して前記強度分布を取得する間に、前記試験光パルスの直交する２つの第一高次モードの入射強度比率を変化させることを特徴とする。
【００１５】
ＬＰ１１ａモードとＬＰ１１ｂモードの試験光パルスの光強度比率を変化させることでさらに後方散乱光のＬＰ１１ａおよびＬＰ１１ｂモード成分のＯＴＤＲ波形の揺らぎを低減できる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明は、後方散乱光のＬＰ１１ａおよびＬＰ１１ｂモード成分のＯＴＤＲ波形の揺らぎを低減できる光パルス試験装置及び光パルス試験方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明に係る光パルス試験装置を説明する図である。
【図２】本発明に係る光パルス試験装置が備えるモード合分波器を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
添付の図面を参照して本発明の実施形態を説明する。以下に説明する実施形態は本発明の実施例であり、本発明は、以下の実施形態に制限されるものではない。なお、本明細書及び図面において符号が同じ構成要素は、相互に同一のものを示すものとする。
【００１９】
図１は、本実施形態の光パルス試験装置１０１の構成を説明する図である。光パルス試験装置１０１は、試験光パルスを被試験光ファイバ１０に入射し、試験光パルスによる被試験光ファイバ１０からの戻り光から被試験光ファイバ１０の距離方向の分布データを取得する光パルス試験装置であって、
被試験光ファイバ１０を基本モード（ＬＰ０１）と第一高次モード（ＬＰ１１）で伝搬可能な波長かつ偏波状態を任意に変化させた試験光パルスを繰り返し生成する生成部Ａと、
生成部Ａが生成した試験光パルスを任意のモードで被試験光ファイバ１０に入射し、かつ被試験光ファイバ１０からの戻り光を基本モードおよび直交する２つの第一高次モード（ＬＰ１１ａとＬＰ１１ｂ）の３成分に分離するモード合分波部Ｂと、
モード合分波部Ｂが分離した戻り光の３成分それぞれを光電変換する受光部Ｃと、
戻り光の３成分それぞれの、被試験光ファイバ１０の距離に対する強度分布を繰り返し取得し、戻り光の３成分それぞれで強度分布を加算平均する処理を行う演算処理部Ｄと、
を備える。
【００２０】
光パルス試験装置１０１は、ＯＴＤＲの原理に基づいて、被試験光ファイバ１０からの戻り光のラウンドトリップ時間に対する強度分布を解析して被試験光ファイバ１０の特性を算出する。ここで、光パルス試験装置１０１は、被試験光ファイバ１０の実効遮断波長より短い波長の光パルスを入力する。実効遮断波長より短い波長の光は、被測定光ファイバ１０において、基本モードのみならず高次モードも伝搬することができる。
【００２１】
生成部Ａは、被試験光ファイバ１０を基本モードと第一高次モードで伝搬可能な波長かつ偏波状態を任意に変化させた試験光パルスを繰り返し生成する生成手順を行う。
モード合分波部Ｂは、生成手順で生成した試験光パルスを任意のモードで被試験光ファイバ１０に入射する入射手順と、被試験光ファイバ１０からの戻り光を基本モードおよび直交する２つの第一高次モードの３成分に分離するモード分波手順を行う。
受光部Ｃは、モード分波手順で分離した戻り光の３成分それぞれを光電変換する受光手順を行う。
演算処理部Ｄは、戻り光の３成分それぞれの、被試験光ファイバ１０の距離に対する強度分布を繰り返し取得し、戻り光の３成分それぞれで強度分布を加算平均する処理を行う演算処理手順を行う。
【００２２】
生成部Ａは、光源１１、偏波スクランブラ１２、パルス発生器１３および光強度変調器１４を有する。光源１１から出力される連続光は、偏波スクランブラ１２で偏波状態をランダムに変動させ、その後パルス発生器１３の信号に従って、光強度変調器１４でパルス化される。ここで偏波スクランブラ１２は、演算処理回路２５からの制御信号に従ってスクランブル速度を制御するか、もしくは予め指定した通りに測定中に自動で偏波状態をスクランブルする。光強度変調器１４は、例えば音響光学素子をパルス駆動するようにした音響光学スイッチを備える、音響光学変調器である。本実施形態では、光源１１から出力される連続光の波長は、被試験光ファイバ１０が２モード動作する波長である。
【００２３】
モード合分波部Ｂは、光スイッチ１５、光サーキュレータ１６、分岐比可変カプラ１７、光サーキュレータ１８、１９およびモード合分波器２０を有する。分岐比可変カプラ１７は、前記演算処理部が繰り返して前記強度分布を取得する間に、前記試験光パルスの直交する２つの第一高次モード（ＬＰ１１ａとＬＰ１１ｂ）の入射強度比率を変化させる。
【００２４】
光強度変調器１４で生成された試験光パルスは、光スイッチ１５により被試験光ファイバ１０に入射するモードを決定される。この光スイッチ１５は、所望のモードで試験光パルスを入射できるように、測定を開始する直前に切り替えを行う。また、その切り替えは演算処理回路２５からの制御信号または手動で制御される。ＬＰ０１モードで入射する場合は、光サーキュレータ１６を介してモード合分波器２０に入射される。また、ＬＰ１１モードで入射する場合は分岐比可変カプラ１７を介して光サーキュレータ１８および１９を通過し、モード合分波器２０に入射される。分岐比可変カプラ１７は、演算処理回路２５からの制御信号、または手動で分岐比を制御するか、もしくは予め指定した通りに測定中に自動で分岐比を変化させる。
【００２５】
モード合分波器２０は、例えば非特許文献５に記載されるような平面光波回路で構成された方向性結合器を備える、モード合分波器である。図２に、モード合分波器２０の概要を示す。生成部Ａ側に３つのポートを、被試験光ファイバ１０側に１つのポート有する。また、ＬＰ０１モード、ＬＰ１１ａモード、ＬＰ１１ｂモード成分は生成部Ａ側の３ポートを選択することで所望のモードを合分波できる。試験光パルスは、モード合分波器２０で所望のモードに変換されて被試験光ファイバ１０に入射される。
【００２６】
試験光パルスが被試験光ファイバ１０を伝搬する際に発生した戻り光は、モード合分波器２０に再入射される。このとき戻り光のＬＰ０１モード、ＬＰ１１ａモード、ＬＰ１１ｂモード成分はモード合分波器２０で分離される。
【００２７】
受光部Ｃは、３つの光受信器（２１、２２、２３）を有する。モード合分波器２０でモード毎に分離された戻り光のうち、ＬＰ０１、ＬＰ１１ａおよびＬＰ１１ｂモードの強度成分はそれぞれ、光サーキュレータ１６、１８および１９を経由して光受信器２１、２２および２３に入射され、光電変換される。
【００２８】
演算処理部Ｄは、Ａ／Ｄ（アナログ／デジタル）変換器２４および演算処理回路２５を有する。光受信器２１、２２および２３からの電気信号は、Ａ／Ｄ変換器２４でデジタルデータに変換される。前記デジタルデータは演算処理回路２５に入力される。演算処理回路２５は、戻り光のＬＰ０１モード、ＬＰ１１ａモードおよびＬＰ１１ｂモード成分に対する強度分布を取得し、加算平均処理を行う。
ここで、演算処理部Ｄはコンピュータとプログラムによっても実現でき、プログラムを記録媒体に記録することも、ネットワークを通して提供することも可能である。
【００２９】
光パルス試験装置１０１は、異なるＬＰ１１モードの電界分布状態に対する測定波形に加算平均処理を施すことで、ＬＰ１１モードの電界分布変化に起因した波形揺らぎを低減する。このため、光パルス試験装置１０１は、散乱地点で生成される後方散乱光について異なるＬＰ１１モードの電界分布状態を生成させるように動作する。異なるＬＰ１１モードの電界分布状態を生成する原理について、試験光パルスをＬＰ０１およびＬＰ１１モードそれぞれで入射する場合に分けて補足の説明をする。
【００３０】
まず、試験光パルスをＬＰ１１モードで入射する場合を考える。散乱地点において生成される後方散乱光の電界分布は、その地点における試験光パルスの電界分布によって決定される。一定の強度および偏波状態を持つ電界分布で繰り返し試験光パルスを被試験光ファイバに入射すると、ある散乱地点において生成される後方散乱光の電界分布は入射電界状態に対応して毎回同じになる。
【００３１】
そこで光パルス試験装置１０１は、繰り返し試験光パルスを入射する間に、偏波スクランブラ１２を用いて試験光パルスの偏波状態を変化させつつ、かつ分岐比可変カプラ１７を用いてＬＰ１１ａおよびＬＰ１１ｂモードの強度も変化させる。すなわち、偏波スクランブラ１２および分岐比可変カプラ１７を用いることで、繰り返し測定毎に偏波および強度分布がランダムに変化するＬＰ１１モードを被試験光ファイバに入射することができる。
【００３２】
繰り返し測定ごとに入射端においてランダムなＬＰ１１モードの電界状態を作ることができれば、それに対応して任意の地点におけるＬＰ１１モードの電界状態も繰り返し測定ごとにランダムとなる。したがって、これらの状態に対する測定波形に加算平均処理を施すことで、ランダムに変化させたＬＰ１１モードの電界状態に対して平均的な測定波形を得ることが可能となる。
【００３３】
一方、試験光パルスをＬＰ０１モードで入射する場合は、試験光パルスの強度分布は一定なので偏波状態を繰り返し測定ごとに変化させるのみで、任意の地点でレイリー散乱によって生成される後方散乱光のＬＰ１１モードの電界状態を繰り返し測定ごとにランダムにすることができる。
【００３４】
以上のように、光パルス試験装置１０１は、偏波状態がランダムに変化する試験光パルスをＬＰ０１またはＬＰ１１モードで被試験光ファイバ１０に入射し、さらにＬＰ１１モードで入射する場合はＬＰ１１ａおよびＬＰ１１ｂモードの強度比率を変化させることで、任意の地点で生成される後方散乱光のＬＰ１１モードの電界分布状態を変化させた際の強度分布波形を取得し、それらの強度分布波形に加算平均処理を施すことによって、伝搬に伴うＬＰ１１モードの電界分布変化に起因した波形揺らぎを低減した測定波形を取得することができる。
【００３５】
なお、この発明は上記実施形態に限定されるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施可能である。
要するにこの発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【符号の説明】
【００３６】
Ａ：生成部
Ｂ：モード合分波部
Ｃ：受光部
Ｄ：演算処理部
１０：被試験光ファイバ
１１：光源
１２：偏波スクランブラ
１３：パルス発生器
１４：光強度変調器
１５：光スイッチ
１６、１８、１９：光サーキュレータ
１７：分岐比可変カプラ
２０：モード合分波器
２１、２２、２３：光受信器
２４：Ａ／Ｄ（アナログ／デジタル）変換器
２５：演算処理回路
１０１：光パルス試験装置
【図１】
2018189600.tif 000003
【図２】
2018189600.tif 000004