(57)【要約】      （修正有）【課題】ポリケトン重合触媒及びポリケトン重合触媒用リガンドの製造方法を提供する。【解決手段】新規のポリケトン重合触媒を構成するリガンドとして（（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５，５−ジイル）ビス（メチレン））ビス（ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン）を用いることで、高活性で、且つ構造が簡単であり、分子量が小さいので製造コストが節減され、商業的に大量合成を可能にする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）金属イオン；（Ｂ）リガンドとして下記化学式１の（（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５，５−ジイル）ビス（メチレン））ビス（ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン））；及び（Ｃ）酸；からなることを特徴とするポリケトン重合触媒。
【化１】
2018138653.tif 000009
【請求項２】
前記（Ａ）金属イオンがＶＩＩＩ族転移金属イオンであることを特徴とする請求項１に記載のポリケトン重合触媒。
【請求項３】
前記（Ｃ）酸がトリフルオロ酢酸（Ｔｒｉｆｌｕｏｒｏａｃｅｔｉｃ  ａｃｉｄ）、トリフルオロメタンスルホン酸（Ｔｒｉｆｌｕｏｒｏｍｅｔｈａｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ  ａｃｉｄ）、ｐ−トルエンスルホン酸（ｐ−Ｔｏｌｕｅｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ  ａｃｉｄ）、硫酸（Ｓｕｌｆｕｒｉｃ  ａｃｉｄ）及びマレイン酸（Ｍａｌｅｉｃ  ａｃｉｄ）であることを特徴とする請求項１に記載のポリケトン重合触媒。
【請求項４】
前記（Ａ）、（Ｂ）成分：（Ｃ）成分のモル比が１：７〜１：２０であることを特徴とする請求項１に記載のポリケトン重合触媒。
【請求項５】
ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン、５，５−ビス（ブロモメチル）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン及び水素化ナトリウムを用いて（（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５，５−ジイル）ビス（メチレン））ビス（ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン））を得ることを特徴とするポリケトン重合触媒用リガンドの製造方法。
【請求項６】
（ａ）窒素雰囲気下でビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン及びジメチルスルホキシドを反応容器に投入して常温で水素化ナトリウムを加えた後撹拌する段階；
（ｂ）得られた混合液に５，５−ビス（ブロモメチル）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン及びジメチルスルホキシドを加えた後撹拌して反応させる段階；
（ｃ）反応完了後メタノールを投入して撹拌する段階；
（ｄ）トルエン及び水を投入して層分離した後油層を水で洗滌した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥後減圧濾過を行って減圧濃縮する段階；及び
（ｅ）残留物をメタノール下で再結晶して（（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５，５−ジイル）ビス（メチレン））ビス（ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン））を得る段階；
を含むことを特徴とする請求項１に記載のポリケトン重合触媒用リガンドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はポリケトン重合触媒に関するもので、より詳細には、ポリケトン重合触媒を構成するリガンドとして（（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５，５−ジイル）ビス（メチレン））ビス（ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン））を用いることで、高活性で、且つ構造が簡単であり、分子量が小さいので製造コストが節減され、商業的に大量合成を可能にする新規のポリケトン重合触媒、及び前記リガンドの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一酸化炭素とエチレン性不飽和化合物との共重合体、特に一酸化炭素由来の繰り返し単位とエチレン性不飽和化合物由来の繰り返し単位が実質的に相互に連結された構造のポリケトンは、機械的性質及び熱的性質に優れ、耐磨耗性、耐薬品性、ガスバリアー性が高いので、様々な用途に適用可能な材料である。
【０００３】
このような完全交互共重合ポリケトンの高分子量体は、より高い機械的性質及び熱的性質と共に、経済性にも優れて、エンジニアリングプラスチック材として特に有用であると思われる。例えば、耐磨耗性が高いので自動車のギアなどの部品に有用であり、耐薬品性が高いので化学輸送パイプのライニング材などに有用であり、ガスバリアー性が高いので軽量ガソリンタンクなどに有用である。
【０００４】
また、固有粘度２以上の超高分子量ポリケトンを繊維に用いる場合、高配率の延伸が可能であり、延伸方向に配向された高強度及び高弾性率を有する繊維として、ベルト、ゴムホースなどの補強材、タイヤコード、コンクリート補強材、建築材料及び産業資材への用途に非常に適合した材料になる。
【０００５】
このようなポリケトンの製造に用いる重合触媒は、一般的にＰｄ（ＩＩ）／二座ホスフィン配位子（Ｂｉｄｅｎｔａｔｅ  Ｐｈｏｓｐｈｉｎｅ  Ｌｉｇａｎｄ）／酸（Ａｃｉｄ）系で構成される。
例えば、酢酸パラジウム／１，３−ビス［ジ（２−メトキシフェニル）ホスフィノ］プロパン／トリフルオロ酢酸（Ｐｄ（ＯＡｃ）２−ＢＤＯＭＰＰ−ＴＦＡ）系が開発され、Ｓｈｅｌｌ社が１９９９年に商業化したことがある。
【０００６】
１，３−ビス［ジ（２−メトキシフェニル）ホスフィノ］プロパン（Ｆ．ｗｔ：５３２．５４ｇ／ｍｏｌ）
【化１】
2018138653.tif 000002
ポリケトンの製造に用いる高活性重合触媒の開発は、触媒の三つの構成物の中でビスホフィン配位子（Ｂｉｓｐｈｏｓｐｈｉｎｅ  Ｌｉｇａｎｄ）の変更（Ｍｏｄｉｆｉｃａｔｉｏｎ）を中心に行われている。
【０００７】
代表的に、ＢＤＯＭＰＰの活性を凌ぐ２，２−ジメトキシ−１，３−ビス［ジ（２−メトキシフェニル）ホスフィノ］プロパン、３，３−ビス−［ビス−（２−メトキシフェニル）ホスファニルメチル］−１，５−ジオキサスピロ［５，５］ウンデカンなどが知られている。これらは平均的にＢＤＯＭＰＰ系に対して２倍以上の重合活性を発現するが、商業的な合成が容易でなく、価格が高いという短所を有する。
また、３，３−ビス−［ビス−（２−メトキシフェニル）ホスファニルメチル］−１，５−ジオキサスピロ［５，５］ウンデカンに関する特許（ＷＯ２００１−００２４６３Ａ１）に記述された合成法はリチウムを用いる実験室規模（Ｌａｂ  Ｓｃａｌｅ）のみで可能である危ない反応であって、商業的な大量生産には不適合という問題がある。
【０００８】
２，２−ジメトキシ−１，３−ビス［ジ（２−メトキシフェニル）ホスフィノ］プロパン（Ｆ．ｗｔ：５６０．５９ｇ／ｍｏｌ）
【化２】
2018138653.tif 000003
３，３−ビス−［ビス−（２−メトキシフェニル）ホスファニルメチル］−１，５−ジオキサスピロ［５，５］ウンデカン（ＷＯ２００１−００２４６３Ａ１）（Ｆ．ｗｔ：６７２．７３ｇ／ｍｏｌ）
【化３】
2018138653.tif 000004
従って、高い重合活性を発現しながらも経済的で且つ容易に、商業的に大量合成することができる新規のポリケトン重合触媒及び合成プロセスに対する開発が要求される実情である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】国際公開第ＷＯ２００１−００２４６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は前述のような従来技術の問題点を解決するためになされたもので、その技術的課題は、高活性で、且つ構造が簡単であり、分子量が小さな特定リガンドを含むポリケトン重合触媒、及び前記リガンドを低い製造コストで商業的に大量合成することができる方法（合成プロセス）を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前述した技術的課題を達成するために、本発明の一態様では、（Ａ）金属イオン；（Ｂ）リガンドとして下記化学式１の（（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５，５−ジイル）ビス（メチレン））ビス（ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン））；及び（Ｃ）酸；からなることを特徴とするポリケトン重合触媒を提供する。
【００１２】
【化４】
2018138653.tif 000005
また、前記（Ａ）金属イオンはＶＩＩＩ族転移金属イオンであることを特徴とするポリケトン重合触媒を提供する。
そして、前記（Ｃ）酸はトリフルオロ酢酸（Ｔｒｉｆｌｕｏｒｏａｃｅｔｉｃ  ａｃｉｄ）、トリフルオロメタンスルホン酸（Ｔｒｉｆｌｕｏｒｏｍｅｔｈａｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ  ａｃｉｄ）、ｐ−トルエンスルホン酸（ｐ−Ｔｏｌｕｅｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ  ａｃｉｄ）、硫酸（Ｓｕｌｆｕｒｉｃ  ａｃｉｄ）またはマレイン酸（Ｍａｌｅｉｃ  ａｃｉｄ）であることを特徴とするポリケトン重合触媒を提供する。
【００１３】
なお、前記（Ａ）、（Ｂ）成分：（Ｃ）成分のモル比は１：７〜１：２０であることを特徴とするポリケトン重合触媒を提供する。
また、本発明の他の態様では、ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン、５，５−ビス（ブロモメチル）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン及び水素化ナトリウムを用いて（（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５，５−ジイル）ビス（メチレン））ビス（ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン）を得ることを特徴とするポリケトン重合触媒用リガンドの製造方法を提供する。
【００１４】
そして、（ａ）窒素雰囲気下でビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン及びジメチルスルホキシドを反応容器に投入して常温で水素化ナトリウムを加えた後撹拌する段階；（ｂ）得られた混合液に５，５−ビス（ブロモメチル）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン及びジメチルスルホキシドを加えた後撹拌して反応させる段階；（ｃ）反応完了後メタノールを投入して撹拌する段階；（ｄ）トルエン及び水を投入して層分離した後油層を水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥後減圧濾過を行って減圧濃縮する段階；及び（ｅ）残留物をメタノール下で再結晶して（（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５，５−ジイル）ビス（メチレン））ビス（ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン）を得る段階；を含むことを特徴とするポリケトン重合触媒用リガンドの製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１５】
本発明は活性が高いながらも相対的に簡単な構造を有し、分子量が低い（（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５，５−ジイル）ビス（メチレン））ビス（ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン）という物質を新しいポリケトン重合触媒用リガンドとして導入することで、製造コスト及び製造原価を節減しながらも最高水準の触媒活性を発現することができるポリケトン重合触媒を提供する。
また、本発明のポリケトン重合触媒用リガンドの製造方法によれば、前記（（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５，５−ジイル）ビス（メチレン））ビス（ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン）を、リチウムを用いない安全な環境下で容易なプロセスを通じて商業的に大量合成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明について詳しく説明する。
ポリケトン重合触媒
本発明のポリケトン重合触媒は（Ａ）金属イオン；（Ｂ）リガンドとして（（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５，５−ジイル）ビス（メチレン））ビス（ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン）；及び（Ｃ）酸；からなるものである。
前記金属イオンの種類は特に限定されるものではなく、周期表上第８族、第９族、第１０族または第１１族などに属する転移金属イオンを用いることができる。例えば、安価で入手が容易であるニッケル及び銅化合物、ポリケトンの収量及び分子量の側面で好ましくは、パラジウム化合物、特に触媒活性及び固有粘度向上の側面で好ましくは、酢酸パラジウムなどから前記金属イオンを構成することができる。好ましい一具体例において、前記金属イオンは周期表上第８族転移金属イオン、例えば鉄（Ｆｅ）、ルテニウム（Ｒｕ）、オスミウム（Ｏｓ）などであり得る。
【００１７】
前記金属イオン（ないし転移金属化合物）の使用量は、選択するエチレン性不飽和化合物の種類や他の重合条件によってその適合した値が変わるため、一律的にその範囲を限定することは難しいが、通常は、反応帯域の容量１リットル当たり０．０１〜１００ミリモル、より具体的には０．０１〜１０ミリモル程度が好ましい。ここで、反応帯域の容量とは、反応機の液状容量を言う。また触媒組成物を構成する転移金属化合物として酢酸パラジウムを用いる場合、その使用量は０．００１〜０．１モル程度が適切である。
【００１８】
本発明のポリケトン重合触媒は金属イオン／リガンド／酸系において、下記化学式１で表す（（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５，５−ジイル）ビス（メチレン））ビス（ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン）をリガンドとして導入したものである。
【化５】
2018138653.tif 000006
【００１９】
前記（（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５，５−ジイル）ビス（メチレン））ビス（ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン）は、現在まで紹介されたポリケトン重合触媒のうち、最高の活性を示すものであると知られた３，３−ビス−［ビス−（２−メトキシフェニル）ホスファニルメチル］−１，５−ジオキサスピロ［５，５］ウンデカンと同等の活性発現を示すが、その構造はより単純であり、分子量もより低い物質である。その結果、本発明は当該分野のポリケトン重合触媒として最高活性を確保しながらもその製造コスト及び原価を更に節減した新規のポリケトン重合触媒を提供することができるようになった。
【００２０】
分子量（化学式量）の比較
（（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５，５−ジイル）ビス（メチレン））ビス（ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン）→Ｆ．ｗｔ：６３２．６６ｇ／ｍｏｌ
３，３−ビス−［ビス−（２−メトキシフェニル）ホスファニルメチル］−１，５−ジオキサスピロ［５，５］ウンデカン→Ｆ．ｗｔ：６７２．７３ｇ／ｍｏｌ
触媒組成物において、前記リガンドの使用量は転移金属化合物対して１〜１．２（モル）当量の範囲であることが、触媒活性、固有粘度、経済的な触媒製造などの側面で好ましい。
【００２１】
前記酸は本発明の触媒系において陰イオンを構成するものであって、その種類が特に限定されるものではない。例えば、トリフルオロ酢酸（またはトリフルオロ醋酸）、トリフルオロメタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、マレイン酸などｐＫａが４以下である有機酸；過塩素酸、硫酸、窒酸、リン酸、ヘテロポリ酸、テトラフルオロホウ酸、ヘキサフルオロリン酸、フルオロケイ酸などｐＫａが４以下である無機酸；及びトリスペンタフルオロフェニルボラン、トリスフェニルカルボニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどのホウ素化合物；を単独にまたは２種以上混合して用いることができる。
【００２２】
一具体例として、トリフルオロ酢酸（Ｔｒｉｆｌｕｏｒｏａｃｅｔｉｃ  ａｃｉｄ）、トリフルオロメタンスルホン酸（Ｔｒｉｆｌｕｏｒｏｍｅｔｈａｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ  ａｃｉｄ）、ｐ−トルエンスルホン酸（ｐ−Ｔｏｌｕｅｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ  ａｃｉｄ）、硫酸（Ｓｕｌｆｕｒｉｃ  ａｃｉｄ）またはマレイン酸（Ｍａｌｅｉｃ  ａｃｉｄ）を用いることが固有粘度向上の側面で好ましい。
触媒組成物において、前記酸の使用量は転移金属化合物対して６〜２０（モル）当量の範囲、前記金属イオン＋リガンド：酸のモル比は１：７〜１：２０の範囲であることが触媒活性、固有粘度、経済的な触媒製造などの側面で好ましい。
【００２３】
前記ポリケトン重合触媒の製造方法は特に限定されるものではなく、（（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５，５−ジイル）ビス（メチレン））ビス（ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン）をリガンドとして当該分野の通常的な方法を通じて製造することができる。
例えば、金属イオン及びリガンド、すなわち（（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５，５−ジイル）ビス（メチレン））ビス（ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン）から合成した前駆体に酸を添加して本発明の触媒系を構成することができる。また本発明の触媒系は転移金属化合物、（（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５，５−ジイル）ビス（メチレン））ビス（ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン）及び酸の陰イオンを含む触媒組成物の形態で提供することもできる。
【００２４】
ポリケトン重合触媒用リガンドの製造方法
本発明の他の態様によれば、ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン、５，５−ビス（ブロモメチル）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン及び水素化ナトリウム（ＮａＨ）を用いて（（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５，５−ジイル）ビス（メチレン））ビス（ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン）を得ることを特徴とするポリケトン重合触媒用リガンドの製造方法を提供する。
本発明のポリケトン重合触媒用リガンドの製造方法は、従来の３，３−ビス−［ビス−（２−メトキシフェニル）ホスファニルメチル］−１，５−ジオキサスピロ［５，５］ウンデカンの合成法とは異なり、リチウムを用いない安全な環境下で容易なプロセスを通じて（（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５，５−ジイル）ビス（メチレン））ビス（ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン）を商業的に大量合成することができる。
【００２５】
好ましい一具体例において、本発明のポリケトン重合触媒用リガンドの製造方法は、（ａ）窒素雰囲気下でビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン及びジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）を反応容器に投入して常温で水素化ナトリウムを加えた後撹拌する段階；（ｂ）得られた混合液に５，５−ビス（ブロモメチル）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン及びジメチルスルホキシドを加えた後撹拌して反応させる段階；（ｃ）反応完了後メタノールを投入して撹拌する段階；（ｄ）トルエン及び水を投入して層分離した後油層を水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥後減圧濾過を行って減圧濃縮する段階；及び（ｅ）残留物をメタノール下で再結晶して（（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５，５−ジイル）ビス（メチレン））ビス（ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン）を得る段階；を経て行うことができる。
以下、実施例を通じて本発明をより具体的に説明する。しかし、これらの実施例は本発明の理解を助けるためのものに過ぎず、何等の意味でも本発明の範囲がこれらの実施例に限定されるものではない。
【実施例１】
【００２６】
５，５−ビス（ブロモメチル）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサンの合成
２，２−（ブロモメチル）プロパン−１，３−ジオール（１ｋｇ、３．８ｍｏｌ）を窒素雰囲気下で４Ｌのジクロロメタンに溶かした。
２，２−ジメトキシプロパン（５９６ｇ、５．７ｍｏｌ）を加えた後、内部温度が０〜５℃になるように冷却させた。
内部温度を維持しながら濃い硫酸（７ｇ、１８．８ｍｍｏｌ）を加えた後、内部温度０〜５℃で５時間撹拌した。
炭酸水素ナトリウム水溶液で２回及び水で洗浄して無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を減圧濃縮して望む生成物（１．１１ｋｇ、９６．４％）を得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：３．７９（ｓ、４Ｈ）、３．５７（ｓ、４Ｈ）、１．４１（ｓ、６Ｈ）
【００２７】
（（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５，５−ジイル）ビス（メチレン））ビス（ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン）の合成
窒素雰囲気下でビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン［Ｃｌａｕｄｉｏ  Ｂｉａｎｃｈｉｎｉ、Ｅｕｒ．Ｊ．Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．、２００５，４７９４−４８００参照］（１ｋｇ、４．０６ｍｏｌ）とジメチルスルホキシド１１ｋｇを反応容器に投入して常温で水素化ナトリウム（６０％）（３２５ｇ、８．１２ｍｏｌ）を加えた後１時間撹拌した。  ５，５−ビス（ブロモメチル）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン（７３６ｇ、２．８４ｍｏｌ）とジメチルスルホキシド５．５ｋｇ混合液をゆっくり加え、２〜４時間撹拌した。
【００２８】
反応完了後メタノール２Ｌをゆっくり投入して撹拌した。
トルエン１０Ｌと水１０Ｌを投入して層分離した後油層を水で２回洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥後減圧濾過を行って減圧濃縮させた。
残留物をメタノール下で再結晶して（（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５，５−ジイル）ビス（メチレン））ビス（ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン）を得た。
１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：７．２６〜７．１６（ｍ、８Ｈ）、６．８７〜６．７５（ｍ、８Ｈ）、３．９２（ｓ、４Ｈ）、３．７０（ｓ、１２Ｈ）、２．５１（ｄ、４Ｈ）、１．４４（ｓ、６Ｈ）
３１ＰＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：−４６．０４
【００２９】
（（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５，５−ジイル）ビス（メチレン））ビス（ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン）（Ｆ．ｗｔ：６３２．６６ｇ／ｍｏｌ）
【化６】
2018138653.tif 000007
【化７】
2018138653.tif 000008
【００３０】
以上の説明は本発明の技術思想を例示的に説明したものに過ぎず、本発明が属する技術分野で通常の知識を有した者であれば、本発明の本質的な特性から逸脱しない範囲内で様々な修正および変形が可能である。よって、本発明に記載された実施形態は本発明の技術思想を限定するためのものではなく説明するためのものであり、このような実施形態に限定されるものではない。本発明の保護範囲は下記の請求範囲によって解釈しなければならず、それと同等な範囲内にある全ての技術思想は本発明の権利範囲に含まれると解釈しなければならない。
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月6日(2018.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）金属イオン；（Ｂ）リガンドとして、ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン、５，５−ビス（ブロモメチル）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン及び水素化ナトリウムを用いて製造された下記化学式１の（（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５，５−ジイル）ビス（メチレン））ビス（ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィン））；及び（Ｃ）酸；からなることを特徴とするポリケトン重合触媒。
【化１】
2018138653.tif 000010
【請求項２】
前記（Ａ）金属イオンがＶＩＩＩ族遷移金属イオンであることを特徴とする請求項１に記載のポリケトン重合触媒。
【請求項３】
前記（Ｃ）酸がトリフルオロ酢酸（Ｔｒｉｆｌｕｏｒｏａｃｅｔｉｃ  ａｃｉｄ）、トリフルオロメタンスルホン酸（Ｔｒｉｆｌｕｏｒｏｍｅｔｈａｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ  ａｃｉｄ）、ｐ−トルエンスルホン酸（ｐ−Ｔｏｌｕｅｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ  ａｃｉｄ）、硫酸（Ｓｕｌｆｕｒｉｃ  ａｃｉｄ）またはマレイン酸（Ｍａｌｅｉｃ  ａｃｉｄ）であることを特徴とする請求項１に記載のポリケトン重合触媒。
【請求項４】
前記（Ａ）成分および（Ｂ）成分：（Ｃ）成分のモル比が１：７〜１：２０であることを特徴とする請求項１に記載のポリケトン重合触媒。
【外国語明細書】
2018138653000001.pdf