(57)【要約】【課題】基板を支持するステージの各ポストの位置調整を向上させることにある。【解決手段】調整用基板によって調整される、基板を支持するためのステージであって、ベースと、前記ベースに対して位置決めされ、前記基板を支持するための複数のポストと、を備え、前記ポストは、前記調整用基板及び前記基板を支持するように構成された支持部と、前記ベースに取り付けられる挿入軸部と、を有し、前記ベースは、前記ベースの第１の位置にあり、前記調整用基板の中心と前記ベースの中心との位置合わせ用の治具ピンと係合する第１係合部と、前記第１係合部から離間した位置に設けられ、前記ポストの前記挿入軸部が配置される複数の長穴と、を有する。【選択図】図２２
2018022800.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
調整用基板によって調整される、基板を支持するためのステージであって、
ベースと、
前記ベースに対して位置決めされ、前記基板を支持するための複数のポストと、
を備え、
前記ポストは、
前記調整用基板及び前記基板を支持するように構成された支持部と、
前記ベースに取り付けられる挿入軸部と、を有し、
前記ベースは、
前記ベースの中心にあり、前記調整用基板の中心と前記ベース上の第１の位置との位置合わせ用の治具ピンと係合する第１係合部と、
前記第１係合部から離間した位置に設けられ、前記ポストの前記挿入軸部が配置される複数の長穴と、を有する、ステージ。
【請求項２】
請求項１に記載のステージにおいて、
前記第１係合部は、前記第１の位置に設けられた、前記治具ピンを挿入するための穴である、ステージ。
【請求項３】
請求項１に記載のステージにおいて、
前記第１係合部は前記第１の位置に設けられた突起であり、前記治具ピンの底部に第１挿入穴が設けられ、前記治具ピンの前記第１挿入穴に前記第１係合部の前記突起が挿入される、ステージ。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れかに記載のステージにおいて、
前記ベースの前記長穴は、前記調整用基板を設置した際に、前記調整用基板の径方向外方に延びている、ステージ。
【請求項５】
請求項１乃至３の何れかに記載のステージにおいて、
前記ベースは略矩形であり、
前記長穴は、前記ベースの長辺または短辺に沿って延びている、ステージ。
【請求項６】
請求項１乃至３の何れかに記載のステージにおいて、
前記ベースは略矩形であり、
隣接する２つの前記長穴の一方が前記ベースの長辺に沿って延び、他方が前記ベースの短辺に沿って延びている、ステージ。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れかに記載のステージにおいて、
前記ポストの前記支持部は、
前記ポストの前記ベースへの挿入側とは反対側に向かって縮径する第１支持区画と、
前記第１支持区画の前記挿入側とは反対側に位置する略一定の径を有する第２支持区画と、
を有するステージ。
【請求項８】
請求項１乃至７の何れかに記載のステージにおいて、
前記治具ピンは、前記調整用基板の中心に該調整用基板と一体に形成されているか、または、前記調整用基板と別体であり前記調整用基板の中心に取り付け可能である、ステージ。
【請求項９】
請求項１乃至８の何れかに記載のステージにおいて、
前記長穴の底部には、前記長穴の延在方向に沿って延び、かつ前記長穴の開口側とは反対側の前記ベースの面に貫通する貫通穴が形成されており、該貫通穴に前記ポストを固定する締結部材を挿通可能である、ステージ。
【請求項１０】
基板を支持するためのステージを調整するための治具であって、
前記基板の径より所定の長さだけ大きい径を有する調整用基板と、
前記調整用基板の中心と前記ステージのベース上の第１の位置とを位置合わせするための治具ピンとを備え、
前記治具ピンは、前記調整用基板の中心に該調整用基板と一体に形成されているか、または、前記調整用基板と別体であり前記調整用基板の中心に取り付け可能である、治具。
【請求項１１】
請求項１０に記載の治具において、
前記治具ピンは、前記ベース上の前記第１の位置にある穴に挿入可能な第１挿入軸部を有する、治具。
【請求項１２】
請求項１０に記載の治具において、
前記治具ピンは、前記ベース上の前記第１の位置に設けられた突起に嵌合する第１挿入穴を有する、治具。
【請求項１３】
請求項１０乃至１２の何れかに記載の治具において、
前記調整用基板は、その中心に突起を有し、
前記治具ピンは、前記調整用基板の前記突起に嵌合する第２挿入穴を有する、治具。
【請求項１４】
請求項１０乃至１２の何れかに記載の治具において、
前記調整用基板は、その中心に中心穴を有し、
前記治具ピンは、前記調整用基板の中心穴に挿入される第２挿入軸部を有する、治具。
【請求項１５】
請求項１１に記載の治具において、
前記治具ピンは、前記第１挿入軸部よりも大きな径を有する本体部を有し、
前記第１挿入軸部に対する前記本体部の段差が、前記ベースに当接して、前記治具ピンが前記ベースに対して取り付けられる、治具。
【請求項１６】
請求項１４に記載の治具において、
前記治具ピンは、前記第２挿入軸部よりも大きな径を有する本体部を有し、
前記第２挿入軸部に対する前記本体部の段差が、前記調整用基板に当接して、前記治具ピンが前記調整用基板に対して取り付けられる、治具。
【請求項１７】
基板を支持するためのステージの調整方法であって、
ベースと複数のポストとを備えるステージであって、前記ベースが、前記基板を位置決めするための第１の位置と、前記第１の位置から離間して設けられ、各ポストを配置するための複数の長穴とを有する前記ステージを準備するステップと、
前記基板よりも大きい寸法を有する調整用基板と、治具ピンとを準備するステップと、
前記各ポストを前記ベースの各長穴に配置するステップと、
前記治具ピンを介して前記ベース上の前記第１の位置及び前記調整用基板の中心を位置合わせするステップと、
前記調整用基板の寸法に応じて各ポストを前記ベースの前記長穴内で移動させて、前記調整用基板と各ポストとの当接位置を調整するステップと、
を含む方法。
【請求項１８】
請求項１７に記載の方法において、
前記治具ピンは、前記調整用基板の中心に該調整用基板と一体に形成されており、
前記位置合わせするステップは、前記治具ピンを前記ベース上の前記第１の位置に取り付けることを含む、方法。
【請求項１９】
請求項１７に記載の方法において、
前記治具ピンは、前記調整用基板と別体であり、
前記位置合わせするステップは、前記治具ピンの各端部をそれぞれ前記ベース上の前記第１の位置および前記調整用基板の中心に取り付けることを含む、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウェハ等の基板を支持又は保持するためのステージ、ステージの調整方法、及び、ステージを調整するための治具に関する。なお、基板には、ガラス基板上に半導体ウェハを接着したワークも含まれる。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造装置では、半導体ウェハ等の基板に何らかの処置(化学的・機械的な処理、次工程へ搬送)を施す場合、装置内で基板を現在の位置から次の工程の位置へ搬送する必要がある。このとき、基板は、基板搬送用ロボット、または様々な動力装置を利用した搬送機構を使って移動される。基板の移動先には基板を置く為のステージが用意されており、そこから更に、搬送用ロボットが基板を取り出して別の場所へ移動させ、又は、ステージ自体が移動して基板を別の場所へ移動させる。このように、ステージ上の基板は次の受け渡しを確実に実施する為、ステージ上で位置がずれない様に保持される必要がある。
【０００３】
最も簡単なステージの構造としては、段差を付けた支持部品（例えば、ポスト）を基板の周囲に配置されるように板状の台座（ベース）に数個取付けるものがある。このポストは製作が簡単かつ基板との接触面積を極力小さくする為、円筒状にする場合が多い。そして、ポストと基板との隙間は極力小さくした方が基板の位置ずれが小さく、基板の受け渡しを確実に実施できる。
【０００４】
従来、この様な構造のステージでは、ポストと基板との隙間はポストの加工精度と、ポストを固定するベースの穴位置の加工精度に依存していた。従って、各々の部品の機械加工精度の影響でポストと基板との隙間の大きさがばらつき、基板の位置ずれが大きくなってしまう場合があった。そのようなステージを使用すると、基板を上手く受け渡せず、搬送ミスとなってしまう場合があった。
【０００５】
なお、従来のステージの例としては、特許文献１及び特許文献２に記載されたものがある。特許文献１には、搬送用のハンド１の収納部１１の周囲に８カ所のガイド片２３を設け、これらのガイド片２３でウェハ１００を案内し、支持する構成が記載されている（特許文献１の図１）。しかし、この構成では、ガイド片２３の加工精度等に起因してガイド片２３とウェハ１００との隙間がばらつくおそれがある。また、特許文献２の図２３及び図２４には、ベースプレート１３１の四隅に設けられたポスト１３２によってウェハＷを支持する構成の仮置部１３０が記載されている。この構成も、ポスト１３２の加工精度、取付穴の加工精度に起因して、ポスト１３２とウェハＷとの間の隙間がばらつくおそれがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平９−２７７１６１号公報
【特許文献２】国際公開第２００７／０９９９７６号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
半導体製造装置において基板の搬送ミスを低減するためには、基板を保持するステージ（ベースにポストを取付けたもの）において、基板とポストの隙間を所定の値に保ち、基板のずれを小さくしなければならない。ずれを小さくする為に高精度の機械加工を施した
部品を使用する場合は、コストが増加するという問題が発生する。
【０００８】
また、各々の部品の加工精度を向上させれば隙間のばらつきを小さくする事は可能であるが、複数のステージにて隙間の大きさを完全に一致させることは困難である。
【０００９】
更に、近年、半導体製造装置に使用されるウェハは大径化する傾向にあり、ポストを取り付けるベースの穴を十分な精度で加工することが、従来よりも困難になっている。穴の相互の間隔が小さい場合より大きい場合の方が、同じ精度（±〜mm以内）に収めるのが難しいためである。
【００１０】
また、ポストに可動域を設け、調整することで、基板の位置のずれを小さくする方法も考えられる。この場合、複数のポストを均等に動かして調整しないと、ベースの中心と基板の中心がずれてしまう。また、調整する作業者の技量により出来不出来が発生する他、熟練した作業者であっても、全ての製品において同一の調整とする事は困難である。
本発明の目的は、上述した課題の少なくとも一部を解決することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
［１］  本発明の一実施形態は、調整用基板によって調整される、基板を支持するためのステージに関する。ステージは、ベースと、前記ベースに対して位置決めされ、前記基板を支持するための複数のポストと、を備える。前記ポストは、前記調整用基板及び前記基板を支持するように構成された支持部と、前記ベースに取り付けられる挿入軸部と、を有し、前記ベースは、前記ベースの中心にあり、前記調整用基板の中心と前記ベース上の第１の位置との位置合わせ用の治具ピンと係合する第１係合部と、前記第１係合部から離間した位置に設けられ、前記ポストの前記挿入軸部が配置される複数の長穴と、を有する。第１の位置は、基板の中心と位置合わせする特定の位置であり、基板位置決め位置とも称す。第１の位置は、基板の中心と位置合わせする特定の位置であり、基板位置決め位置とも称す。第１の位置は、例えば、ステージ又はベースの中心または中心線上の位置に設定可能であるが、これらに限定されない。ステージ（ベース）上において第１の位置の周りに、基板を支持するためのポストを配置できる限り、第１の位置は、ステージ（ベース）上の任意の位置とすることが可能である。
【００１２】
この場合、治具ピンを、ステージのベース上の第１の位置（基板位置決め位置）、及び、実際の工程に使用する基板の半径よりも大きい調整用基板の中心に係合させ、調整用基板が各ポストに均一に当接するまで、各ポストをベースの挿入穴（長穴）内で往復移動させる。このため、ステージ（ベース）上の第１の位置と、調整用基板の中心とが一致し、かつ、各ポストと第１の位置との距離が均一となる。このため、調整用基板より小さい半径の基板をステージが保持した際に、各ポストと基板との隙間も一定かつ均一となる。この結果、複数のステージ間での基板の位置合わせのばらつきを抑制し、基板をステージに対して一定の位置に正確に合わせることができる。
また、治具ピンによって、ステージ上の第１の位置と調整用基板の中心とを一致させた状態で、各ポストの位置を調整するため、ステージ上の第１の位置と、調整用基板の中心とがずれることを防止できる。この結果、ステージに実際の工程に使用する基板Ｗを支持させた際に、ステージ上の第１の位置と基板の中心とがずれることを抑制ないし防止することができる。
また、本実施形態のステージは、ベース上の基板位置決め位置に治具ピンと係合するための第１係合部を設け、及び、ポストを挿入する長穴を設ければよいので、ステージの構成を大幅に変更する必要がない。
製造後のステージにおいてポストの位置を調整することによって基板の正確な位置決めを行うことができるので、ステージの製造において高精度の機械加工に依存する場合に比較して、コストの増加を抑制または防止することができる。
また、ステージ上の基板位置決め位置と中心が一致する調整用基板によってポストの位置が調整されるため、ステージ上の基板位置決め位置から各ポストまでの距離が、複数のステージ間でばらつくことを抑制または防止することができる。この結果、基板の位置（ステージに対する基板の支持位置）が、複数のステージ間でばらつくことを抑制ないし防止することができる。
更に、製造後のステージにおいてポストの位置を調整することによって基板の正確な位置決めを行うことができるので、大径の基板に対しても、ポストの調整精度のばらつきを抑制または防止することができる。
また、治具ピンによってステージ上の基板位置決め位置と調整用基板の中心とを一致させてポストの位置が調整されるため、調整する作業者の技量によらず、製品ごとの調整のばらつきを抑制または防止することができる。
【００１３】
［２］  ［１］に記載のステージにおいて、前記第１係合部は、前記第１の位置に設けられた、前記治具ピンを挿入するための穴である。
この場合、ベースの穴に治具ピンを挿入することにより、ベース及び調整用基板の中心を容易に位置合わせすることができる。
【００１４】
［３］  ［１］に記載のステージにおいて、前記第１係合部は前記第１の位置に設けられた突起であり、前記治具ピンの底部に第１挿入穴が設けられ、前記治具ピンの前記第１挿入穴に前記第１係合部の前記突起が挿入される。
この場合、ベースの突起に治具ピンの第１挿入穴を嵌合させることによって、ベースの第１の位置と調整用基板の中心とを容易に位置合わせすることができる。
【００１５】
［４］  ［１］乃至［３］の何れかに記載のステージにおいて、前記ベースの前記長穴は、前記調整用基板を設置した際に、前記調整用基板の径方向外方に延びている。
ベースの長穴の延びる方向が、調整用基板の径方向に一致するため、ポストの位置調整が容易である。
【００１６】
［５］  ［１］乃至［３］の何れかに記載のステージにおいて、前記ベースは略矩形であり、前記長穴は、前記ベースの長辺または短辺に沿って延びている。
この場合、ポストの長穴内での移動量に対して、ベース中心からのポストの距離（ポストの径方向への移動量）の変化を小さくすることが可能であり、調整用基板とポストとの当接位置の精度の高い調整が容易になる。
【００１７】
［６］  ［１］乃至［３］の何れかに記載のステージにおいて、前記ベースは略矩形であり、隣接する２つの前記長穴の一方が前記ベースの長辺に沿って延び、他方が前記ベースの短辺に沿って延びている。
この場合、ポストの長穴内での移動量に対して、ベース中心からのポストの距離（ポストの径方向への移動量）の変化を小さくすることが可能であり、調整用基板とポストとの当接位置の精度の高い調整が容易になる。
【００１８】
［７］  ［１］乃至［６］の何れかに記載のステージにおいて、前記ポストの前記支持部は、前記ポストの前記ベースへの挿入側とは反対側に向かって縮径する第１支持区画と、前記第１支持区画の前記挿入側とは反対側に位置する略一定の径を有する第２支持区画と、を有する。
この場合、調整用基板の外縁がポストの第２支持区画に当接するように調整し、実際の工程で使用する基板を第１支持区画によって支持することができる。よって、調整用基板によるポストの調整位置を容易かつ正確に確認することができる。
【００１９】
［８］  ［１］乃至［７］の何れかに記載のステージにおいて、前記治具ピンは、前記
調整用基板の中心に該調整用基板と一体に形成されているか、前記調整用基板と別体であり、前記調整用基板の中心に取り付け可能である。
治具ピンを調整用基板の中心に一体形成又は取り付けることによって、治具ピンを調整用基板の中心に位置合わせすることができる。
【００２０】
［９］  ［１］乃至［８］の何れかに記載のステージにおいて、前記長穴の底部には、前記長穴の延在方向に沿って延び、前記長穴の開口側とは反対側の前記ベースの面に貫通する貫通穴が形成されており、該貫通穴に前記ポストを固定する締結部材を挿通可能である。
長穴内で位置調整後のポストを締結部材によってしっかりと固定し、基板載置時にポストの位置がずれることを抑制ないし防止することができる。
【００２１】
［１０］  本発明の一実施形態は、基板を支持するためのステージを調整するための治具に関する。治具は、前記基板の径より所定の長さだけ大きい径を有する調整用基板と、前記調整用基板の中心と前記ステージのベース上の第１の位置とを位置合わせするための治具ピンとを備える。前記治具ピンは、前記調整用基板の中心に該調整用基板と一体に形成されているか、または、前記調整用基板と別体であり前記調整用基板の中心に取り付け可能である。第１の位置は、基板の中心と位置合わせする特定の位置であり、基板位置決め位置とも称す。第１の位置は、基板の中心と位置合わせする特定の位置であり、基板位置決め位置とも称す。第１の位置は、例えば、ステージ又はベースの中心または中心線上の位置に設定可能であるが、これらに限定されない。ステージ（ベース）上において第１の位置の周りに、基板を支持するためのポストを配置できる限り、第１の位置は、ステージ（ベース）上の任意の位置とすることが可能である。
【００２２】
この調整治具では、治具ピンを、ステージのベース上の第１の位置（基板位置決め位置）、及び、実際の工程に使用する基板の半径よりも大きい調整用基板の中心に係合させ、調整用基板が各ポストに均一に当接するまで、各ポストを移動させることができる。例えば、ベースに長穴を設け、ポストを長穴内で移動させる。この結果、ステージ（ベース）上の第１の位置と、調整用基板の中心とが一致し、かつ、各ポストと第１の位置との距離が均一となる。このため、調整用基板より小さい半径の基板をステージが保持した際に、各ポストと基板との隙間も一定かつ均一となる。この結果、複数のステージ間での基板位置合わせのばらつきを抑制し、基板をステージに対して一定の位置に正確に合わせることができる。
また、治具ピンによって、ステージ上の第１の位置と調整用基板の中心とを一致させた状態で、各ポストの位置を調整するため、ステージ上の第１の位置と、調整用基板の中心とがずれることを防止できる。この結果、ステージに実際の工程に使用する基板Ｗを支持させた際に、ステージ上の第１の位置と基板の中心とがずれることを抑制ないし防止することができる。
また、この調整治具、ステージの大幅な変更なしに適用することができる。例えば、ステージのベース上の第１の位置において、治具ピンと係合するための係合部（中心穴、突起）を設け、及び、ポストを挿入する長穴を設ければよい。
また、製造後のステージにおいてポストの位置を調整することによって基板の正確な位置決めを行うことができるので、ステージの製造において高精度の機械加工に依存する場合に比較して、コストの増加を抑制または防止することができる。
また、ステージ上の基板位置決め位置と中心が一致する調整用基板によってポストの位置が調整されるため、ステージ上の基板位置決め位置から各ポストまでの距離が、複数のステージ間でばらつくことを抑制または防止することができる。この結果、基板の位置（ステージに対する基板の支持位置）が、複数のステージ間でばらつくことを抑制ないし防止することができる。
更に、製造後のステージにおいてポストの位置を調整することによって基板の正確な位
置決めを行うことができるので、大径の基板に対しても、ポストの調整精度のばらつきを抑制または防止することができる。
また、治具ピンによってステージ上の位置決め位置と調整用基板の中心とを一致させてポストの位置が調整されるため、調整する作業者の技量によらず、製品ごとの調整のばらつきを抑制または防止することができる。
調整治具は、調整用基板と、調整用基板の中心をステージ上の基板位置決め位置に取り付けるための治具ピンとから構成できるので、調整用治具を簡易に構成することができる。
【００２３】
［１１］  ［１０］に記載の治具において、前記治具ピンは、前記ベースの第１の位置にある穴に嵌合可能な第１挿入軸部を有する。
治具ピンの第１挿入軸部をベース上の第１の位置中心穴に嵌合させることによって、ベース及び調整用基板の中心を容易に位置合わせすることができる。
【００２４】
［１２］  ［１０］に記載の治具において、前記治具ピンは、前記ベース上の第１の位置に設けられた突起に嵌合する第１挿入穴を有する。
治具ピンの第１挿入穴をベースの突起に嵌合させることによって、ベースの第１の位置と調整用基板の中心とを容易に位置合わせすることができる。
【００２５】
［１３］  ［１０］乃至［１２］の何れかに記載の治具において、前記調整用基板は、その中心に突起を有し、前記治具ピンは、前記調整用基板の前記突起に嵌合する第２挿入穴を有する。
調整用基板の突起を治具ピンの第２挿入穴に嵌合させることによって、ベース及び調整用基板の中心を容易に位置合わせすることができる。
【００２６】
［１４］  ［１０］乃至［１２］の何れかに記載の治具において、前記調整用基板は、その中心に中心穴を有し、前記治具ピンは、前記調整用基板の中心穴に挿入される第２挿入軸部を有する。
調整用基板の中心穴を治具ピンの第２挿入軸部に嵌合させることによって、ベース及び調整用基板の中心を容易に位置合わせすることができる。
【００２７】
［１５］  ［１１］に記載の治具において、前記治具ピンは、前記第１挿入軸部よりも大きな径を有する本体部を有し、前記第１挿入軸部に対する前記本体部の段差が、前記ベースに当接して、前記治具ピンが前記ベースに対して取り付けられる。
この場合、治具ピンのベースへの取付位置を正確に規定することができる。
【００２８】
［１６］  ［１４］に記載の治具において、前記治具ピンは、前記第２挿入軸部よりも大きな径を有する本体部を有し、前記第２挿入軸部に対する前記本体部の段差が、前記調整用基板に当接して、前記治具ピンが前記調整用基板に対して取り付けられる。
この場合、治具ピンの調整用基板への取付位置を正確に規定することができる。
【００２９】
［１７］  本発明の一実施形態は、基板を支持するためのステージの調整方法に関する。調整方法は、ベースと複数のポストとを備えるステージであって、前記ベースが、前記基板を位置決めするための第１の位置と、前記第１の位置から離間して設けられ、各ポストを配置するための複数の長穴とを有する前記ステージを準備するステップと、前記基板よりも大きい寸法を有する調整用基板と、治具ピンとを準備するステップと、前記各ポストを前記ベースの各長穴に配置するステップと、前記治具ピンを介して前記ベース上の第１の位置及び前記調整用基板の中心を位置合わせするステップと、前記調整用基板の寸法に応じて各ポストを前記ベースの前記長穴内で移動させて、前記調整用基板と各ポストとの当接位置を調整するステップと、を含む。第１の位置は、基板の中心と位置合わせする
特定の位置であり、基板位置決め位置とも称す。第１の位置は、例えば、ステージ又はベースの中心または中心線上の位置に設定可能であるが、これらに限定されない。ステージ（ベース）上において第１の位置の周りに、基板を支持するためのポストを配置できる限り、第１の位置は、ステージ（ベース）上の任意の位置とすることが可能である。
【００３０】
この場合、治具ピンを介して、ステージ上の第１の位置（基板位置決め位置）、及び、実際の工程に使用する基板の半径よりも大きい調整用基板の中心を位置合わせし、調整用基板が各ポストに均一に当接するまで、各ポストをベースの挿入穴（長穴）内で往復移動させる。このため、ステージ（ベース）上の第１の位置と、調整用基板の中心とが一致し、かつ、各ポストと第１の位置との距離が均一となる。このため、調整用基板より小さい半径の基板をステージが保持した際に、各ポストと基板との隙間も一定かつ均一となる。この結果、複数のステージ間での基板の位置合わせのばらつきを抑制し、基板をステージに対して一定の位置に正確に合わせることができる。
また、治具ピンによって、ステージ上の第１の位置と調整用基板の中心とを一致させた状態で、各ポストの位置を調整するため、ステージ上の第１の位置と、調整用基板の中心とがずれることを防止できる。この結果、ステージに実際の工程に使用する基板Ｗを支持させた際に、ステージ上の第１の位置と基板の中心とがずれることを抑制ないし防止することができる。
また、本実施形態のステージは、ベース上の基板位置決め位置に治具ピンと係合するための係合部を設け、及び、ポストを挿入する長穴を設ければよいので、ステージの構成を大幅に変更する必要がない。
製造後のステージにおいてポストの位置を調整することによって基板の正確な位置決めを行うことができるので、ステージの製造において高精度の機械加工に依存する場合に比較して、コストの増加を抑制または防止することができる。
また、ステージ上の基板位置決め位置と中心が一致する調整用基板によってポストの位置が調整されるため、ステージ上の基板位置決め位置から各ポストまでの距離が、複数のステージ間でばらつくことを抑制または防止することができる。この結果、基板の位置（ステージに対する基板の支持位置）が、複数のステージ間でばらつくことを抑制ないし防止することができる。
更に、製造後のステージにおいてポストの位置を調整することによって基板の正確な位置決めを行うことができるので、大径の基板に対しても、ポストの調整精度のばらつきを抑制または防止することができる。
また、治具ピンによってステージ上の基板位置決め位置と調整用基板の中心とを一致させてポストの位置が調整されるため、調整する作業者の技量によらず、製品ごとの調整のばらつきを抑制または防止することができる。
【００３１】
［１８］  ［１７］に記載の方法において、前記治具ピンは、前記調整用基板の中心に該調整用基板と一体に形成されており、前記位置合わせするステップは、前記治具ピンを前記ベース上の第１の位置に取り付けることを含む。
この場合、調整用基板への治具ピンの取り付けが不要になり、調整作業が簡略化される。
【００３２】
［１９］  ［１７］に記載の方法において、前記治具ピンは、前記調整用基板と別体であり、前記位置合わせするステップは、前記治具ピンの各端部をそれぞれ前記ベース上の第１の位置および前記調整用基板の中心に取り付けることを含む。
調整用基板から治具ピンを取り外した状態で、調整用基板及び治具ピンを保管できるので、調整用治具の保管スペースを節約できる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】一実施形態による例示的な研磨装置の全体構成を示す平面図である。
【図２】研磨装置の概略を示す斜視図である。
【図３】例示的なスイングトランスポータを示す斜視図である。
【図３Ａ】仮置部を示す斜視図である。
【図３Ｂ】仮置部が下降した状態を示す斜視図である。
【図４Ａ】スイングトランスポータの把持部を示す上面図である。
【図４Ｂ】スイングトランスポータの把持部の側面図である。
【図４Ｃ】スイングトランスポータの把持部のコマの拡大側面図である。
【図５】例示的なリニアトランスポータの正面図である。
【図６】リニアトランスポータの平面図である。
【図７Ａ】リニアトランスポータの搬送ステージの上面図である。
【図７Ｂ】リニアトランスポータの搬送ステージの側面図である。
【図７Ｃ】リニアトランスポータの搬送ステージのピンの拡大側面図である。
【図８】例示的な反転機を示す斜視図である。
【図９】反転機の平面図である。
【図１０】反転機の側面図である。
【図１１】反転機の開閉機構を示す縦断面図である。
【図１２】反転機の開閉機構を示す縦断面図であり、ウェハをリリースする状態を示す図である。
【図１３】リフタを示す縦断面図である。
【図１４Ａ】リフタのステージを示す上面図である。
【図１４Ｂ】リフタのステージを示す側面図である。
【図１４Ｃ】リフタのステージの爪を示す部分拡大側面図である。
【図１５】洗浄部の搬送ユニットを示す斜視図である。
【図１６】比較例に係るステージの斜視図である。
【図１７】比較例に係るステージの一部切り欠き側面図である。
【図１８】一実施形態に係るステージの斜視図である。
【図１９】ベースの平面図である。
【図２０Ａ】ポストの挿入側と反対側からみた斜視図である。
【図２０Ｂ】ポストの挿入側からみた斜視図である。
【図２１】調整治具の斜視図である。
【図２２】調整治具を設置した状態のステージの一部切欠き側面図である。
【図２３Ａ】ベースの第２面側からみた斜視図であり、締結部材によるポストの固定を示す。
【図２３Ｂ】ベースの第２面側における締結部材の拡大斜視図である。
【図２４】調整後における調整治具を設置した状態のステージの一部切欠き側面図である。
【図２５】実際の工程で使用する基板を支持した状態の調整後のステージの一部切欠き側面図である。
【図２６Ａ】第１の変形例に係るベースの平面図である。
【図２６Ｂ】第２の変形例に係るベースの平面図である。
【図２６Ｃ】第３の変形例に係るベースの平面図である。
【図２７】治具ピンとベースとの係合構造の変形例を示す断面図である。
【図２８】治具ピンと調整用基板との係合構造の変形例を示す断面図である。
【図２９】治具ピンと調整用基板及びベースとの係合構造の変形例を示す断面図である。
【図３０】治具ピンの係合位置がステージの中心と異なる位置にある場合のベースの平面図である。
【図３１】治具ピンと調整用基板を一体に形成した調整治具の斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００３４】
以下、本発明の実施形態を添付図面とともに説明する。一例として、国際公開第２００７／０９９９７６号パンフレット（特許文献２）に開示されるものと類似の半導体ウェハの研磨装置を取り挙げる。なお、添付図面において、同一または相当する構成要素には、同一の符号を付して重複した説明を省略する。また、以下に説明される研磨装置において、搬送ステージに関する構造以外については、公知の構成または国際公開第２００７／０９９９７６号パンフレットに開示されている構成を採用できるので、それらの詳細な説明は省略する。
【００３５】
（第１実施形態）
図１は、一実施形態による例示的な研磨装置の全体構成を示す平面図である。図２は、研磨装置の概略を示す斜視図である。図１に示すように、研磨装置は、略矩形状のハウジング１を備えており、ハウジング１の内部は隔壁１ａ，１ｂ，１ｃによってロード／アンロード部２と研磨部３（３ａ，３ｂ）と洗浄部４とに区画されている。これらのロード／アンロード部２、研磨部３ａ，３ｂ、および洗浄部４は、それぞれ独立に組み立てられ、独立に排気されるものである。なお、以下の説明では、半導体ウェハを例に挙げて説明するが、ガラス基板上に半導体ウェハを接着したワーク、その他の基板に適用可能である。
【００３６】
ロード／アンロード部２は、多数の半導体ウェハをストックするウェハカセットを載置する２つ以上（本実施形態では４つ）のフロントロード部２０を備えている。これらのフロントロード部２０は、研磨装置の幅方向（長手方向と垂直な方向）に隣接して配列されている。フロントロード部２０には、オープンカセット、ＳＭＩＦ（Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ  Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ）ポッド、またはＦＯＵＰ（Ｆｒｏｎｔ  Ｏｐｅｎｉｎｇ  Ｕｎｉｆｉｅｄ  Ｐｏｄ）を搭載することができる。ここで、ＳＭＩＦ、ＦＯＵＰは、内部にウェハカセットを収納し、隔壁で覆うことにより、外部空間とは独立した環境を保つことができる密閉容器である。
【００３７】
研磨部３は、半導体ウェハの研磨が行われる領域であり、第１研磨ユニット３０Ａと第２研磨ユニット３０Ｂとを内部に有する第１研磨部３ａと、第３研磨ユニット３０Ｃと第４研磨ユニット３０Ｄとを内部に有する第２研磨部３ｂとを備えている。これらの第１研磨ユニット３０Ａ、第２研磨ユニット３０Ｂ、第３研磨ユニット３０Ｃ、および第４研磨ユニット３０Ｄは、図１に示すように、装置の長手方向に沿って配列されている。
【００３８】
図１に示すように、第１研磨ユニット３０Ａは、研磨面を有する研磨テーブル３００Ａと、半導体ウェハを保持しかつ半導体ウェハを研磨テーブル３００Ａに対して押圧しながら研磨するためのトップリング３０１Ａと、研磨テーブル３００Ａに研磨液やドレッシング液（例えば、水）を供給するための研磨液供給ノズル３０２Ａと、研磨テーブル３００Ａのドレッシングを行うためのドレッサ３０３Ａと、液体（例えば純水）と気体（例えば窒素）の混合流体または液体（例えば純水）を霧状にして、１または複数のノズルから研磨面に噴射するアトマイザ３０４Ａと、を備えている。また、同様に、第２研磨ユニット３０Ｂは、研磨テーブル３００Ｂと、トップリング３０１Ｂと、研磨液供給ノズル３０２Ｂと、ドレッサ３０３Ｂと、アトマイザ３０４Ｂとを備えており、第３研磨ユニット３０Ｃは、研磨テーブル３００Ｃと、トップリング３０１Ｃと、研磨液供給ノズル３０２Ｃと、ドレッサ３０３Ｃと、アトマイザ３０４Ｃとを備えており、第４研磨ユニット３０Ｄは、研磨テーブル３００Ｄと、トップリング３０１Ｄと、研磨液供給ノズル３０２Ｄと、ドレッサ３０３Ｄと、アトマイザ３０４Ｄとを備えている。
【００３９】
第１研磨部３ａの第１研磨ユニット３０Ａおよび第２研磨ユニット３０Ｂと洗浄部４との間には、長手方向に沿った４つの搬送位置（ロード／アンロード部２側から順番に第１搬送位置ＴＰ１、第２搬送位置ＴＰ２、第３搬送位置ＴＰ３、第４搬送位置ＴＰ４とする）の間でウェハを搬送する第１リニアトランスポータ５が配置されている。この第１リニ
アトランスポータ５の第１搬送位置ＴＰ１の上方には、ロード／アンロード部２の搬送ロボット２２から受け取ったウェハを反転する反転機３１が配置されており、その下方には上下に昇降可能なリフタ３２が配置されている。また、第２搬送位置ＴＰ２の下方には上下に昇降可能なプッシャ３３が、第３搬送位置ＴＰ３の下方には上下に昇降可能なプッシャ３４がそれぞれ配置されている。なお、第３搬送位置ＴＰ３と第４搬送位置ＴＰ４との間にはシャッタ１２が設けられている。
【００４０】
また、第２研磨部３ｂには、第１リニアトランスポータ５に隣接して、長手方向に沿った３つの搬送位置（ロード／アンロード部２側から順番に第５搬送位置ＴＰ５、第６搬送位置ＴＰ６、第７搬送位置ＴＰ７とする）の間でウェハを搬送する第２リニアトランスポータ６が配置されている。この第２リニアトランスポータ６の第６搬送位置ＴＰ６の下方にはプッシャ３７が、第７搬送位置ＴＰ７の下方にはプッシャ３８が配置されている。なお、第５搬送位置ＴＰ５と第６搬送位置ＴＰ６との間にはシャッタ１３が設けられている。
【００４１】
洗浄部４は、研磨後の半導体ウェハを洗浄する領域であり、ウェハを反転する反転機４１と、研磨後の半導体ウェハを洗浄する４つの洗浄機４２〜４５と、反転機４１および洗浄機４２〜４５の間でウェハを搬送する搬送ユニット４６とを備えている。これらの反転機４１および洗浄機４２〜４５は、長手方向に沿って直列に配置されている。また、これらの洗浄機４２〜４５の上部には、クリーンエアフィルタを有するフィルタファンユニット（図示せず）が設けられており、このフィルタファンユニットによりパーティクルが除去されたクリーンエアが常時下方に向かって吹き出している。また、洗浄部４の内部は、研磨部３からのパーティクルの流入を防止するために研磨部３よりも高い圧力に常時維持されている。
【００４２】
図１に示すように、第１リニアトランスポータ５と第２リニアトランスポータ６との間には、第１リニアトランスポータ５、第２リニアトランスポータ６、および洗浄部４の反転機４１の間でウェハを搬送するスイングトランスポータ（ウェハ搬送機構）７が配置されている。このスイングトランスポータ７は、第１リニアトランスポータ５の第４搬送位置ＴＰ４から第２リニアトランスポータ６の第５搬送位置ＴＰ５へ、第２リニアトランスポータ６の第５搬送位置ＴＰ５から反転機４１へ、第１リニアトランスポータ５の第４搬送位置ＴＰ４から反転機４１にそれぞれウェハを搬送できるようになっている。
以下、それぞれの搬送機構について説明する。
【００４３】
スイングトランスポータ
スイングトランスポータ７について説明する。
【００４４】
図３は、例示的なスイングトランスポータを示す斜視図である。より詳細には、洗浄部４の反転機４１とともにスイングトランスポータ７を示す斜視図である。図３に示すように、本実施形態におけるスイングトランスポータ７は、第１研磨部３ａの筐体のフレーム１０２に設置されており、上下に延びる断面略コ字状のフレーム１０２の内部に配置されたロボシリンダ１０４と、ロボシリンダ１０４上を上下動するベースブラケット１０６と、ロボシリンダ１０４を上下動させるモータ１０７と、ベースブラケット１０６に取り付けられたモータカバー１０８と、モータカバー１０８内に収容されたモータの回転軸に取り付けられた旋回アーム１１０と、旋回アーム１１０の先端に取り付けられたウェハ把持機構１１２と、を備えている。
【００４５】
ウェハ把持機構１１２は、ウェハＷの周縁を両側から把持する一対の把持部１１４と、把持部１１４のロッド１１４ａをウェハＷの径方向（矢印Ａ）に開閉させる開閉機構１１６とを備えている。一対の把持部１１４は、ウェハＷの中心を挟んで互いに対向するよう
に配置されており、それぞれの把持部１１４の両端には、ウェハＷの外周部に点接触するコマ（チャック機構）１１８がそれぞれ２つ設けられている。これらのコマ１１８は把持部１１４の両端から下方に突出して設けられている。
【００４６】
開閉機構１１６は、例えばエアシリンダにより構成されており、把持部１１４を互いに近接する方向に移動させてウェハＷを把持し、把持部１１４を互いに離間する方向に移動させてウェハＷをリリースする。
【００４７】
図４Ａは、スイングトランスポータの把持部を示す上面図である。図４Ｂは、スイングトランスポータの把持部の側面図である。図４Ｃは、スイングトランスポータの把持部のコマの拡大側面図である。
【００４８】
なお、図４Ａ、図４Ｂ、図４Ｃにおいて、図示および説明の明瞭化のために、把持部１１４以外の構造を省略している。図４Ｃに示されるように、コマ１１８は異なる傾斜角のテーパー部１２０ａ、１２０ｂが形成されており、それぞれのテーパー部１２０ａ、１２０ｂにおいて、寸法の異なるウェハ（Ｗ１、Ｗ２）を支持することができる。そのため、かかる実施形態のスイングトランスポータ７においては、寸法の異なるウェハを搬送することができる。なお、本実施形態では、それぞれの把持部１１４に２つのコマ１１８を設けた例を説明したが、これに限られるものではなく、それぞれの把持部１１４に３つ以上のコマ１１８を設けてもよい。
【００４９】
このように、本実施形態のスイングトランスポータ７のウェハ把持機構１１２は、一対の把持部１１４を１方向に互いに反対向きに移動することによってウェハＷの把持とリリースとを行っているため、確実にウェハＷを把持することができる。
【００５０】
ロボシリンダ１０４内にはボール螺子とスライドガイドが設けられており、モータ１０７の駆動によりロボシリンダ１０４上のベースブラケット１０６が上下動するようになっている（矢印Ｂ）。これによりベースブラケット１０６とともにウェハ把持機構１１２が上下動するようになっており、フレーム１０２に沿ってウェハ把持機構１１２を上下動させる上下動機構がロボシリンダ１０４およびベースブラケット１０６によって構成されている。
【００５１】
また、旋回アーム１１０は、モータカバー１０８内のモータの駆動により該モータの回転軸を中心として旋回するようになっている（矢印Ｃ）。これにより、ウェハ把持機構１１２が、第１リニアトランスポータ５、第２リニアトランスポータ６、および洗浄部４の反転機４１の間で移動されるようになっており、フレーム１０２に隣接するモータ１０８の回転軸を中心としてウェハ把持機構１１２を旋回させる旋回機構がモータカバー１０８内のモータおよび旋回アーム１１０によって構成されている。なお、本実施形態では、フレーム１０２に隣接するモータカバー１０８内のモータの回転軸を中心としてウェハ把持機構１１２を旋回する例を説明したが、これに限られるものではなく、フレーム１０２を中心としてウェハ把持機構１１２を旋回してもよい。
【００５２】
ウェハＷを把持する場合には、把持部１１４を開いた状態で、把持部１１４のコマ１１８がウェハＷの下方に位置するまでベースブラケット１０６を下降させる。そして、開閉機構１１６を駆動して把持部１１４を互いに近接する方向に移動させ、把持部１１４のコマ１１８の最内周部をウェハＷの最外周よりも内側に位置させる。この状態で、ベースブラケット１０６を上昇させ、ウェハＷを把持部１１４のコマ１１８に把持した状態で持ち上げる。本実施形態では、コマ１１８とウェハＷとが点接触し、ウェハＷの接触面積を極力小さくすることができるので、ウェハを把持する際にウェハＷの表面に付着するごみを低減することができる。
【００５３】
リニアトランスポータ
次に、第１研磨部３ａの第１リニアトランスポータ５について説明する。
【００５４】
図５は、例示的なリニアトランスポータの正面図である。図６は、リニアトランスポータの平面図である。図７Ａは、リニアトランスポータの搬送ステージの上面図である。図７Ｂは、リニアトランスポータの搬送ステージの側面図である。図７Ｃは、リニアトランスポータの搬送ステージのピンの拡大側面図である。
【００５５】
図５および図６に示すように、第１リニアトランスポータ５は、直線往復移動可能な４つの搬送ステージＴＳ１，ＴＳ２，ＴＳ３，ＴＳ４を備えており、これらのステージは上下に２段の構成となっている。すなわち、下段には第１搬送ステージＴＳ１、第２搬送ステージＴＳ２、第３搬送ステージＴＳ３が配置され、上段には第４搬送ステージＴＳ４が配置されている。
【００５６】
下段の搬送ステージＴＳ１，ＴＳ２，ＴＳ３と上段の搬送ステージＴＳ４とは、図６の平面図上では同じ軸上を移動するが、設置される高さが異なっているため、下段の搬送ステージＴＳ１，ＴＳ２，ＴＳ３と上段の搬送ステージＴＳ４とは互いに干渉することなく自由に移動可能となっている。第１搬送ステージＴＳ１は、反転機３１とリフタ３２とが配置された第１搬送位置ＴＰ１と、プッシャ３３が配置された（ウェハの受け渡し位置である）第２搬送位置ＴＰ２との間でウェハを搬送する。第２搬送ステージＴＳ２は、第２搬送位置ＴＰ２と、プッシャ３４が配置された（ウェハの受け渡し位置である）第３搬送位置ＴＰ３との間でウェハを搬送する。第３搬送ステージＴＳ３は、第３搬送位置ＴＰ３と第４搬送位置ＴＰ４との間でウェハを搬送する。また、第４搬送ステージＴＳ４は、第１搬送位置ＴＰ１と第４搬送位置ＴＰ４との間でウェハを搬送する。
【００５７】
図６に示すように、各搬送ステージＴＳ１，ＴＳ２，ＴＳ３，ＴＳ４には、それぞれ４本のピン（ポストとも称す）５０が固定されており、このピン５０により搬送ステージに載置されたウェハの外周縁がガイドされて位置決めされた状態でウェハが搬送ステージ上に支持されるようになっている。これらのピン５０は、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）やポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）などの樹脂から形成される。また、各搬送ステージには、透過型センサなどによりウェハの有無を検知するセンサ（図示せず）が構成されており、各搬送ステージ上のウェハの有無を検知することができるようになっている。
【００５８】
図７Ｃに示されるように、ピン５０は異なる傾斜角のテーパー部５０ａ、５０ｂが形成されており、それぞれのテーパー部５０ａ、５０ｂおいて、寸法の異なるウェハ（Ｗ１、Ｗ２）を支持することができる。そのため、かかる実施形態のリニアトランスポータ５においては、寸法の異なるウェハを搬送することができる。
【００５９】
反転機
次に、第１研磨部３ａの反転機３１について説明する。第１研磨部３ａの反転機３１は、ロード／アンロード部２の搬送ロボット２２のハンドが到達可能な位置に配置され、研磨前のウェハを搬送ロボット２２から受け取り、このウェハの上下を反転してリフタ３２に渡すものである。
【００６０】
図８は、例示的な反転機を示す斜視図である。図９は、反転機の平面図である。図１０は、反転機の側面図である。
【００６１】
図８から図１０に示すように、反転機３１は、ウェハＷの周縁を両側から把持する一対
の円弧状の把持部３１０と、把持部３１０に取り付けられたシャフト３１４と、シャフト３１４をその軸方向に移動させ把持部３１０を開閉させる開閉機構３１２とを備えている。一対の把持部３１０は、ウェハＷの中心を挟んで互いに対向するように配置されており、それぞれの把持部３１０の両端には、ウェハＷの外周部に線接触するチャック部３１１がそれぞれ２つ設けられている。なお、本実施形態では、それぞれの把持部３１０に２つのチャック部３１１を設けた例を説明するが、これに限られるものではなく、それぞれの把持部３１０に３つ以上のチャック部３１１を設けてもよい。
【００６２】
図１１は、反転機の開閉機構を示す縦断面図である。図１２は、反転機の開閉機構を示す縦断面図であり、ウェハをリリースする状態を示す図である。
【００６３】
図１１に示すように、開閉機構３１２は、それぞれのシャフト３１４および把持部３１０を閉方向に付勢する圧縮ばね３１５と、それぞれのシャフト３１４に連結されたスライド式エアシリンダ３１３とを備えている。この開閉機構３１２は、圧縮ばね３１５により把持部３１０を互いに近接する方向に移動させてウェハＷを把持するようになっており、このときエアシリンダ３１３の可動部３１３ａはメカストッパ３１７に当接するようになっている。また、開閉機構３１２は、エアシリンダ３１３の駆動により把持部３１０を互いに離間する方向に移動させてウェハＷをリリースするようになっている。このときの状態を図１２に示す。
【００６４】
すなわち、ウェハＷを把持する場合には、片方のエアシリンダ３１３を加圧し、他方のエアシリンダ３１３は圧縮ばね３１５の付勢力のみによって閉じられる。このとき、加圧されたエアシリンダ３１３の可動部３１３ａのみがメカストッパ３１７に押し付けられ、その位置に固定される。このとき、圧縮ばね３１５によって付勢される他方のエアシリンダ３１３に接続された把持部３１０の位置がセンサ３１９により検出される。ウェハＷがない場合には、加圧されない方のエアシリンダ３１３はフルストローク位置にあり、センサ３１９の応答がないため、ウェハＷが把持されていないことが検出される。
【００６５】
上述したように、圧縮ばね３１５をウェハＷの把持に用い、エアシリンダ３１３をウェハＷのリリースに用いることにより、エアシリンダ３１３の空気圧によりウェハＷが破損することを防止することができる。
【００６６】
図８から図１０に示すように、開閉機構３１２には、ウェハＷの中心軸と垂直な軸周りに回転する回転軸３１６が取り付けられている。この回転軸３１６は反転機構３１８に連結されており、反転機構３１８により回転されるようになっている。したがって、反転機構３１８が駆動されると、回転軸３１６を中心として開閉機構３１２および把持部３１０が回転し、把持部３１０に把持したウェハＷが反転されるようになっている。
【００６７】
仮置部
図３Ａは、仮置部を示す斜視図である。図３Ｂは、仮置部が下降した状態を示す斜視図である。
【００６８】
図３に示すように、洗浄部４の反転機４１は、把持部１１４の下方に仮置部１３０を有している。図３Ａに示すように、仮置部１３０は、矩形状のベースプレート１３１と、ベースプレート１３１の四隅に設けられたコマ（ポスト）１３２と、ベースプレート１３１を支持する支持筒１３３と、支持筒１３３を上下動するエアシリンダ１３４とを備えている。それぞれのポスト１３２の上部には略半球状の突起１３２ａが設けられており、この突起１３２ａによりウェハＷの位置決めがなされる。支持筒１３３はロッド１３５を介してエアシリンダ１３４に連結されており、エアシリンダ１３４の駆動により支持筒１３３とともにベースプレート１３１が上下動するようになっている。
【００６９】
ウェハＷが反転されると、仮置部１３０のエアシリンダ１３４が駆動され、ベースプレート１３１がウェハＷの受取位置まで上昇される。ベースプレート１３１がウェハＷの受取位置まで上昇されると、開閉機構３１２が駆動され、把持部３１０を互いに離間する方向に移動させる。これにより、ウェハＷが把持部３１０からリリースされ、ベースプレート１３１のポスト１３２上に載置される。その後、仮置部１３０のエアシリンダ１３４が駆動され、図３Ｂに示すように、ベースプレート１３１が所定の位置まで下げられる。この仮置部１３０のポスト１３２上に載置されたウェハＷは、後述する搬送ユニット４６に受け渡され、各洗浄機４２〜４５に順次搬送され、それぞれの洗浄機で洗浄される。
【００７０】
このような仮置部１３０は、洗浄前のウェハのバッファとして利用することができるので、プロセス全体のタクトタイムを向上することができる。また、反転機４１に洗浄機構を設ければ、各洗浄機４２〜４５による洗浄の前にウェハＷの仮洗浄を行うこともできる。
【００７１】
リフタ
次に、第１研磨部３ａのリフタ３２について説明する。第１研磨部３ａのリフタ３２は、搬送ロボット２２および第１リニアトランスポータ５がアクセス可能な位置に配置されており、これらの間でウェハを受け渡す受け渡し機構として機能する。すなわち、反転機３１により反転されたウェハを第１リニアトランスポータ５の第１搬送ステージＴＳ１または第４搬送ステージＴＳ４に受け渡すものである。
【００７２】
図１３は、リフタを示す縦断面図である。図１４Ａは、リフタのステージを示す上面図である。図１４Ｂは、リフタのステージを示す側面図である。図１４Ｃは、リフタのステージの爪を示す部分拡大側面図である。
【００７３】
リフタ３２は、ウェハを載置するステージ３２２と、ステージ３２２の上昇下降動作を行うシリンダ３２３とを備えており、シリンダ３２３とステージ３２２とはスライド可能なシャフト３２４で連結されている。図１４Ａに示されるように、ステージ３２２は複数の爪３２５に分かれていて、それぞれの爪３２５はオリフラ付きウェハを載置した場合でも搬送に影響しない範囲内にウェハを保持できるような間隔で配置される。この爪３２５は反転機３１のチャック部３１１と位相が一致しない向きに配置されている。つまりチャック部３１１がウェハを保持する第１のウェハエッジ部と、リフタ３２の爪３２５が保持する第２のウェハエッジ部は一致しない。また、反転機３１や第１リニアトランスポータ５とのウェハ受け渡しを行う爪３２５にはウェハが載置される面があり、それより上方はウェハが載置される際に搬送位置決め誤差を吸収し、ウェハを求芯するようにテーパー状になっている。図１４Ｃに示されるように、爪３２５はウェハ支持部材３２６を備える。好ましくは、ウェハ支持部材３２６は、エラストマ材料から形成されることが好ましい。より好ましくは、ウェハ支持部材３２６はデュロメータＤスケール３０から５０、最も好ましくは４０の硬度のエラストマ材料から形成することができる。
【００７４】
洗浄部の搬送ユニット
次に、洗浄部４の搬送ユニット４６について説明する。
【００７５】
図１５は、洗浄部の搬送ユニットを示す斜視図である。図１５に示すように、搬送ユニット４６は、洗浄機内のウェハを着脱自在に把持するウェハ把持機構としての４つのチャッキングユニット４６１〜４６４を備えており、これらのチャッキングユニット４６１〜４６４は、メインフレーム４６５から水平方向に延びるガイドフレーム４６６に取り付けられている。メインフレーム４６５には、鉛直方向に延びるボールねじ（図示せず）が取り付けられており、このボールねじに連結されたモータ４６８の駆動により、チャッキン
グユニット４６１〜４６４が上下に昇降するようになっている。したがって、モータ４６８およびボールねじは、チャッキングユニット４６１〜４６４を上下動させる上下動機構を構成する。
【００７６】
また、メインフレーム４６５には、洗浄機４２〜４５の並びと平行に延びるボール螺子４６９が取り付けられており、このボール螺子４６９に連結されたモータ４７０の駆動により、メインフレーム４６５およびチャッキングユニット４６１〜４６４が水平方向に移動するようになっている。したがって、モータ４７０およびボール螺子４６９は、チャッキングユニット４６１〜４６４を洗浄機４２〜４５の配列方向（チャッキングユニット４６１〜４６４の配列方向）に沿って移動させる移動機構を構成する。
【００７７】
本実施形態では、洗浄機４２〜４５と同数のチャッキングユニットを用いている。チャッキングユニット４６１，４６２とチャッキングユニット４６３，４６４とは基本的に同一構造であり、メインフレーム４６５に対して対称であるため、以下ではチャッキングユニット４６１，４６２についてのみ説明する。
【００７８】
チャッキングユニット４６１は、ウェハＷを保持する開閉自在の１対のアーム４７１ａ，４７１ｂを備え、チャッキングユニット４６２は１対のアーム４７２ａ，４７２ｂを備えている。それぞれのチャッキングユニットのアームには、少なくとも３つ（本実施形態では４つ）のチャックコマ４７３が設けられている。これらのチャックコマ４７３によりウェハＷの周縁部を挟み込んで保持し、ウェハを次の洗浄機に搬送できるようになっている。
【００７９】
図１５に示すように、ガイドフレーム４６６には、チャッキングユニット４６１のアーム４７１ａ，４７１ｂとチャッキングユニット４６２のアーム４７２ａ，４７２ｂとを互いに近接する方向または互いに離間する方向に開閉するためのエアシリンダ４７４が設けられている。また、詳細には説明しないがエアシリンダ４７４の運動をアーム４７１ａ、４７１ｂ、４７２ａ、４７２ｂへ伝達するリンク機構などが設けられる。したがって、エアシリンダ４７４によりアーム４７１ａ，４７１ｂ，４７２ａ，４７２ｂを閉じることにより、ウェハＷの端面をアーム４７１ａ，４７１ｂ，４７２ａ，４７２ｂに挟み込んでウェハＷを保持することができるようになっている。このように、エアシリンダ４７４は、各チャッキングユニット４６１〜４６４のアームを互いに近接する方向または互いに離間する方向に開閉する開閉機構を構成する。なお、各チャッキングユニットは、エアシリンダのストロークを検知することによってウェハの有無を検知可能となっている。なお、真空吸着によりウェハを保持することとしてもよく、この場合には、真空圧力を測定することによってウェハ有無の検知を行うことができる。
【００８０】
また、チャッキングユニット４６１のアーム４７１ａ，４７１ｂとチャッキングユニット４６２のアーム４７２ａ，４７２ｂは、ガイドフレーム４６６に回転可能に設けられた回転軸４７５に取り付けられている。また、ガイドフレーム４６６には、回転軸４７５を中心としてこれらのアーム４７１ａ，４７１ｂ，４７２ａ，４７２ｂを回転させるエアシリンダ４７６が設けられている。このエアシリンダ４７６のロッドの先端にはピン４７７を中心として回転可能なリンク部材４７８が設けられている。このリンク部材４７８はロッド４７９を介して回転軸４７５に連結されている。このように、エアシリンダ４７６、リンク部材４７８、およびロッド４７９は、各チャッキングユニット４６１〜４６４のアームを、回転軸４７５を中心として回転させる回転機構を構成する。
【００８１】
ステージ
図１６は、比較例に係るステージの斜視図である。図１７は、比較例に係るステージの一部切り欠き側面図である。この比較例に係るステージ７００は、例えば、図３、図５、
及び図７Ａ−７Ｃに示す第１〜第４搬送ステージＴＳ１〜ＴＳ４、及び／又は、図１、図３、図３Ａ、図３Ｂの仮置部１３０、及び／又は、図１３及び図１４Ａ−１４Ｃのステージ３２２の代わりに使用することが可能である。ただし、ステージ７００は、上記に示したステージに限らず、半導体製造装置または半導体製造設備の任意の場所に配置されるものである。また、ステージ７００は、研磨装置に限らず、めっき装置等の半導体製造装置または半導体製造設備の任意の場所に配置されるものである。
【００８２】
ステージ７００は、ベース７１０と、ベース７１０に対して固定された複数のポスト７２０とを備えている。ポスト７２０は、支持部７２１と、本体部７２２と、挿入部７２３とを備え、支持部７２１と、本体部７２２と、挿入部７２３とは同軸上に形成されている。４つのポスト７２０が、ベース７１０の四隅に配置されている。半導体ウェハ等の基板Ｗは、ポスト７２０の支持部７２１において支持される。ベース７１０には、ポスト７２０に対応して挿入穴７１１が設けられている。挿入穴７１１は、基板Ｗに寸法に適合するようにポスト７２０を移動可能なように、基板Ｗの径方向に対応する方向に延びる長穴として形成されている。ステージ７００の組み立ては、ポスト７２０の挿入部７２３をベース７１０の挿入穴７１１に挿入し、ベース７１０の裏面からボルト等の締結部材７３０によってポスト７２０をベース７１０に仮止めする。仮止めの状態で、基板Ｗをポスト７２０に支持させて各ポスト７２０の位置を挿入穴７１１内で調整する。調整後に、締結部材７３０を締め付けて、各ポスト７２０をベース７１０にしっかりと固定する。このステージ７００では、各ポスト７２０の移動のさせ方によっては、図１６及び図１７に示すように、基板Ｗの中心Ｃｗの位置と、ステージ７００の中心Ｃｂの中心がずれてしまい、その結果、ステージ７００上における基板Ｗの位置がばらつく問題がある。言い換えれば、複数のステージ７００間で、基板Ｗの中心Ｃｗの位置がステージ７００上でばらつき、基板Ｗのステージ７００上での位置が一定にならない。ステージ７００上の基板Ｗの位置ずれの大きさによっては、基板Ｗの受け渡しが失敗するおそれがある。
【００８３】
図１８は、一実施形態に係るステージの斜視図である。図１９は、ベースの平面図である。図２０Ａは、ポストの挿入側と反対側からみた斜視図である。図２０Ｂは、ポストの挿入側からみた斜視図である。
【００８４】
一実施形態に係るステージ５００は、ベース５１０と、ベース５１０に対して固定された複数のポスト５２０とを備えている。このステージ５００には、図２５に示すように、半導体ウェハ等の基板Ｗが複数のポスト５２０上に載置され、支持または保持される。なお、基板Ｗは、位置合わせ用のオリエーションフラットやノッチ等を有する場合があるが、全体としては一定の半径Ｒ０を有する略円形である。
【００８５】
ベース５１０は、図１９に示すように略矩形の板状部材である。ベース５１０は、ポスト５２０が挿入される側の面である第１面５１０ａと、第１面５１０ａに対向する反対側の面である第２面５１０ｂと、を有する。本実施形態では、ベース５１０は、長辺５１０ｃと、短辺５１０ｄとを有する長方形の形状であるが、各辺が等しい正方形の形状であってもよい。ベース５１０は、ポスト５２０を挿入するための挿入穴５１１と、ベース５１０の中心Ｃｂに設けられ、後述する治具ピン６１０の第１挿入軸部６１２（図２１、図２２参照）を挿入するための中心穴５１２と、を有している。挿入穴５１１は、ベース５１０の四隅それぞれの近傍に設けられている。また、ベース５１０の形状は、基板位置決め位置としての第１の位置Ｐ１に後述の治具ピン６１０を係合できる構造、及び、第１の位置Ｐ１の周りにポストを配置できる構造であれば、任意の形状とすることが可能である。
【００８６】
なお、ここでは、治具ピン６１０の第１挿入軸部６１２を挿入する中心穴５１２をベース５１０の中心Ｃｂに設けた場合を例に挙げて説明する。つまり、基板Ｗの中心に位置合わせすべきステージ（ベース）上の特定の位置（第１の位置Ｐ１、基板位置決め位置）を
ステージ（ベース）の中心Ｃｂとした場合を例に挙げる。しかしながら、基板Ｗの中心に位置合わせすべきステージ（ベース）上の特定の位置は、ステージ（ベース）の中心Ｃｂに限定されず、特定の位置の周りに基板を支持するためのポストを配置できる限り、ステージ（ベース）上の任意の位置とすることが可能である。本実施形態によれば、特定の位置（第１の位置Ｐ１、基板位置決め位置）を何れの位置に設定した場合であっても、複数のステージ間で、基板Ｗの中心が特定の位置に整列するように基板Ｗを支持できるので、基板Ｗの位置ずれを抑制ないし防止できる。
【００８７】
図３０は、治具ピンの係合位置がステージの中心と異なる位置にある場合のベースの平面図である。同図に示すように、治具ピン６１０（第１挿入軸部６１２）を挿入するベース５１０上の穴５１２ｂは、ベース５１０の中心Ｃｂとは異なる第１の位置Ｐ１にある。この場合、基板Ｗがポスト５２０に支持された際に、基板Ｗの中心Ｃｗは、ベース５１０の中心Ｃｂとは異なる第１の位置Ｐ１にある穴５１２ｂに一致または整列する。なお、後述する図２７、図２９の変形例のように、第１の位置Ｐ１に穴５１２ｂに代えて突起５１２ａを設けても良い。
【００８８】
なお、第１の位置Ｐ１は、基板の中心と整合させるためのステージ５００（ベース５１０）上の基板位置決め位置である。図１９は、第１の位置Ｐ１がベースの中心Ｃｂである場合を示し、図３０は、第１の位置Ｐ１がベースの中心Ｃｂ以外の位置にある場合を示す。第１の位置Ｐ１は、ステージ（ベース）上において第１の位置Ｐ１の周りに基板を支持するためのポストを配置できる限り、ステージ（ベース）上の任意の位置とすることが可能である。
【００８９】
各挿入穴５１１は、ポスト５２０の後述する挿入軸部５２３を往復移動可能に受け入れる寸法及び形状を有する。各挿入穴５１１の底部には、後述するボルト等の締結部材５３０（図２３Ａ、図２３Ｂ参照）を第２面５１０ｂ側から挿通させるための貫通穴５１３が形成されている。貫通穴５１３は、ベース５１０の第２面５１０ｂから挿入穴５１１の底部まで貫通している。貫通穴５１３も、ポスト５２０の挿入穴５１１内での移動に伴って、締結部材５３０の挿入位置を変更可能なように、長穴に形成されている。
【００９０】
中心穴５１２は、ベース５１０の中心Ｃｂにおいて、後述する治具ピン６１０の第１挿入軸部６１２（図２１、図２２参照）が挿入、嵌合可能な径を有する。図３０の例では、穴５１２ｂは、ベース５１０の第１の位置Ｐ１において、後述する治具ピン６１０の第１挿入軸部６１２（図２１、図２２参照）が挿入、嵌合可能な径を有する。本実施形態では、中心穴５１２（穴５１２ｂ）は、ベース５１０の第１面５１０ａから第２面５１０ｂまで貫通する貫通穴として形成される。但し、中心穴５１２（穴５１２ｂ）は、必ずしも貫通穴である必要はなく、治具ピン６１０の第１挿入軸部６１２に嵌合してこれを支持できる構成であれば、有底の穴であってもよい。
【００９１】
この例では、４つのポスト５２０が設けられ、それに対応して４つの挿入穴５１１が設けられている。なお、ポスト５２０及び挿入穴５１１の数は４つに限らず、３つ以下でも、５つ以上でもよい。また、挿入穴５１１の数は、ポスト５２０の数以上であればよい。また、ベース５１０は、略矩形の板状部材に限らず、中心穴５１２（穴５１２ｂ）及び挿入穴５１１を設けることが可能である限り、ステージ３２２のように、周縁部の１または複数の箇所が切り欠かれた形状、又は、中央部の本体から放射状に複数の延長部分が延びる形状であってもよい。
【００９２】
ポスト５２０は、図２０Ａに示すように、支持部５２１と、本体部５２２と、挿入軸部５２３と、を備えている。支持部５２１と、本体部５２２と、挿入軸部５２３とは、一体に形成されてもよいし、一部または全部が別体で形成されたのちに互いに接続されてもよ
い。
【００９３】
挿入軸部５２３は、略円筒状をなす部材である。挿入軸部５２３は、長穴からなる挿入穴５１１に挿入され、挿入穴５１１内で位置を調整された後に、ボルト等の締結部材５３０によってベース５１０に対して固定される。挿入軸部５２３の挿入側端面（底面）には、図２０Ｂに示すように、締結部材５３０のねじに螺合する螺子穴５２３ａが設けられている。ベース５１０の第２面５１０ｂ側から貫通穴５１３に挿通された締結部材５３０（図２２参照）が、ポスト５２０の螺子穴５２３ａに螺合することによって、ポスト５２０がベース５１０に対して固定される。
【００９４】
本体部５２２は、図２０Ａに示すように、挿入軸部５２３よりも大きい径の略円筒状を有し、挿入軸部５２３と同軸に配置されている。支持部５２１は、本体部５２２の挿入軸部５２３とは反対側に本体部５２２と同軸に設けられる。支持部５２１は、本体部５２２と連続して配置され、挿入側とは反対方向に向かって縮径するテーパー形状の第１支持区画５２１ａと、第１支持区画５２１ａの本体部５２２とは反対側に位置する概ね一定の径を有する略円筒状の第２支持区画５２１ｂと、を有している。第１支持区画５２１ａ及び第２支持区画５２１ｂは、本体部５２２と同軸に配置されている。第２支持区画５２１ｂの先端側には、挿入側とは反対の方向に向かって縮径するテーパー部５２５が形成され、このテーパー部５２５は、基板Ｗを支持部５２１へ案内する案内部として機能する。
【００９５】
ここでは、ポスト２０の支持部５２１と、本体部５２２と、挿入軸部５２３とが同軸に配置される例を示したが、支持部５２１と、本体部５２２と、挿入軸部５２３とのうち少なくとも一部が偏心された構成のポスト２０を採用することも可能である。
【００９６】
何れのポスト５２０においても、ポスト５２０の挿入軸部５２３を、長穴である挿入穴５１１内で位置を変位させると、ポスト５２０の支持部５２１の面と、ベース５１０の中心Ｃｂ（または基板Ｗの中心Ｃｗ）との距離が変化する。図３０の例では、ポスト５２０の支持部５２１の面と、ベース５１０の穴５１２ｂ（または基板Ｗの中心Ｃｗ）との距離が変化する。これにより、各ポスト５２０（支持部５２１の第２支持区画５２１ｂ）と、基板Ｗとの間の隙間Ｓ（図２５）の大きさを調整することができる。
【００９７】
ステージ調整用の治具
図２１は、調整治具の斜視図である。図２２は、調整治具を設置した状態のステージの一部切欠き側面図である。図２３Ａは、ベースの第２面側からみた斜視図であり、締結部材によるポストの固定を示す。図２３Ｂは、ベースの第２面側における締結部材の拡大斜視図である。図２４は、調整後における調整治具を設置した状態のステージの一部切欠き側面図である。図２５は、実際の工程で使用する基板を支持した状態の調整後のステージの一部切欠き側面図である。なお、図２２、図２４、図２５のベースは、図１９のＡ−Ａ線に沿った断面で示されている。
【００９８】
調整治具６００は、調整用基板Ｗａと、調整用基板Ｗａをステージ５００に取り付けるための治具ピン６１０とを備えている。
【００９９】
調整用基板Ｗａは、実際の工程で使用する基板Ｗ（図２５参照）の半径Ｒ０よりも所定の長さΔＲだけ大きい半径Ｒ１（＝Ｒ０＋ΔＲ）を有する。所定の長さΔＲは、実際の工程で使用する基板Ｗをステージ５００に載置した際に、基板Ｗと各ポスト５２０との間に形成される隙間Ｓ（図２５）に対応する。
【０１００】
治具ピン６１０は、本体部６１１と、本体部６１１のベース挿入側に配置された第１挿入軸部６１２と、本体部６１１のベース挿入側と反対側に配置された第２挿入軸部６１３
と、を備えている。本体部６１１と、第１挿入軸部６１２と、第２挿入軸部６１３とは一体に形成されてもよいし、一部または全部が別体で形成されたのちに互いに接続されてもよい。本体部６１１は、略円筒状に形成され、図２２に示すように、ステージ５００に設置された際に、ベース５１０と調整用基板Ｗａとの間の距離に対応する軸方向の長さを有する。本体部６１１の軸方向の長さは、調整用基板Ｗａをステージ５００に設置した際に、調整用基板Ｗａの外縁がポスト５２０の第２支持区画５２１ｂの高さに整合するように選択される。第１挿入軸部６１２は、ベース５１０の中心穴５１２に挿入され、嵌合される寸法及び形状を有している。図３０の例では、第１挿入軸部６１２は、ベース５１０の穴５１２ｂに挿入され、嵌合される寸法及び形状を有している。第１挿入軸部６１２は、中心穴５１２（穴５１２ｂ）に回転不能に嵌合されてもよいし、中心穴５１２（穴５１２ｂ）内で回転可能に嵌合されてもよい。
【０１０１】
本実施形態では、ベース５１０の中心穴５１２（穴５１２ｂ）は、第１面５１０ａから第２面５１０ｂまで貫通する貫通穴である。本実施形態では、第１挿入軸部６１２は、ベース５１０の厚さよりも大きい長さを有し、ベース５１０の中心穴５１２（穴５１２ｂ）を貫通し、先端側がベース５１０の第２面５１０ｂから突出している（図２２参照）。なお、他の実施形態では、第１挿入軸部６１２は、ベース５１０の厚さよりも小さい長さを有する。その場合、ベース５１０の中心穴５１２（穴５１２ｂ）の深さは、少なくとも、第１挿入軸部６１２の長さに対応する長さを有すればよく、中心穴５１２（穴５１２ｂ）は有底の穴であってもよい。
【０１０２】
ステージ５００の調整は、以下のように行われる。
先ず、ステージ５００のベース５１０の各挿入穴５１１に各ポスト５２０を挿入して設置する。このとき、締結部材５３０は、未だ取り付けないか、又は、ポスト５２０が挿入穴５１１内で往復移動可能な程度に仮止めする。
次に、図２２に示すように、ステージ５００に調整治具６００を取り付ける。先ず、ステージ５００に治具ピン６１０を取り付ける。具体的には、治具ピン６１０の第１挿入軸部６１２を、ステージ５００のベース５１０の中心穴５１２（穴５１２ｂ）に挿入し、嵌合させることによって、治具ピン６１０をステージ５００に取り付ける（図２２）。次に、治具ピン６１０に調整用基板Ｗａを取り付ける。具体的には、調整用基板Ｗａの中心穴６２０を治具ピン６１０の第２挿入軸部６１３に嵌合させる。このとき、調整用基板Ｗａは、治具ピン６１０の第２挿入軸部６１３に対して回転不能に嵌合されてもよいし、治具ピン６１０の第２挿入軸部６１３に対して回転可能に嵌合されてもよい。調整用基板Ｗａを治具ピン６１０に取り付けると、調整用基板Ｗａの外周部は、ポスト５２０の支持部５２１に接近する（図２２）。
次に、図２４に示すように、各ポスト５２０の支持部５２１の第２支持区画５２１ｂが、調整用基板Ｗａの外縁に当接する位置まで、各ポスト５２０を挿入穴５１１内で往復移動させる。各ポスト５２０の第２支持区画５２１ｂが調整用基板Ｗａの外縁に当接したとき、各ポスト５２０の位置調整が完了する。
調整後の各ポストの位置で、図２３Ａ及び図２３Ｂに示すように、ポスト５２０に対して締結部材５３０を締め付けて、ポスト５２０をベース５１０に対してしっかりと固定する。このようにベース５１０上で各ポスト５２０の位置を調整した後、調整治具６００（調整用基板Ｗａ及び治具ピン６１０）をステージ５００から取り外す。
【０１０３】
ポスト位置の調整後、図２５に示すように、実際の工程に使用する基板Ｗをステージ５００上に載置し、ポスト５２０によって支持又は保持すると、基板Ｗと各ポスト５２０の支持部５２１の第２支持区画５２１ｂとの間には一定の隙間Ｓ＝ΔＲ（調整用基板Ｗａの半径Ｒ１と基板Ｗの半径Ｒ０との差に相当）が均一に形成される。
【０１０４】
なお、上記調整方法では、治具ピン６１０をステージ５００（ベース５１０）に取り付
けた後、治具ピン６１０に調整用基板Ｗａを取り付ける手順を説明したが、予め治具ピン６１０に調整用基板Ｗａを取り付けた後に、治具ピンをステージ５００（ベース５１０）に取り付けるようにしてもよい。また、治具ピンを調整用基板の中心に一体に形成してもよく、この場合、調整用基板の中心に一体形成された治具ピンをベースの第１の位置Ｐ１に取り付ける。
【０１０５】
本実施形態では、治具ピン６１０の第１挿入軸部６１２を、ステージ５００のベース５１０の中心穴５１２（穴５１２ｂ）、及び、実際の工程に使用する基板Ｗの半径よりもΔＲ大きい調整用基板Ｗａの中心穴６２０に取り付け、調整用基板Ｗａが各ポスト５２０（第２支持区画５２１ｂ）に均一に当接するまで、各ポスト５２０をベース５１０の挿入穴５１１内で往復移動させる。このため、ステージ５００（ベース５１０）の第１の位置Ｐ１（例えば、ベースの中心Ｃｂ、穴５１２ｂ）と、調整用基板Ｗａの中心Ｃｗａとが一致し、かつ、各ポスト５２０と中心穴５１２（又は穴５１２ｂ）との距離（最短距離）が均一となる。このため、調整用基板ＷａよりΔＲ小さい半径Ｒ０の基板Ｗをステージ５００が保持した際に、各ポスト５２０と基板Ｗとの隙間Ｓも一定かつ均一となる。この結果、複数のステージ間でのばらつきを抑制し、基板Ｗをステージ５００に対して一定の位置に正確に合わせることができる。
【０１０６】
また、治具ピン６１０によって、ステージ５００の第１の位置Ｐ１（例えば、ベースの中心Ｃｂ、穴５１２ｂ）と調整用基板Ｗａの中心Ｃｗａとを一致させた状態で、各ポスト５２０の位置を調整するため、ステージ５００の第１の位置Ｐ１と、調整用基板Ｗａの中心Ｃｗａとがずれることを防止できる。この結果、ステージ５００に実際の工程に使用する基板Ｗを支持させた際に、ステージの第１の位置Ｐ１と基板Ｗの中心Ｃｗとがずれることを抑制ないし防止することができる。
【０１０７】
また、本実施形態のステージは、ベース５１０に治具ピン６１０を挿入する中心穴５１２（穴５１２ｂ）を設け、ポスト５２０を挿入する挿入穴５１１を長穴にすればよいので、ステージ５００の構成を大幅に変更する必要がない。
また、ポストには、テーパー部からなる第１支持区画５２１ａと、略一定の径からなる第２支持区画５２１ｂとを設け、第２支持区画５２１ｂを調整用基板Ｗａの外縁を当接させて各ポスト５２０の位置決めを行い、実際の工程に使用する基板Ｗを第１支持区画５２１ａに支持させるようにしてので、ポスト５２０の位置調整を容易かつ正確に行うことができ、各ポスト５２０と基板との間の隙間Ｓを均一にすることができる。
【０１０８】
製造後のステージにおいてポストの位置を調整することによって基板の正確な位置決めを行うことができるので、ステージの製造において高精度の機械加工に依存する場合に比較して、コストの増加を抑制または防止することができる。
また、ステージの第１の位置Ｐ１（基板位置決め位置）と中心が一致する調整用基板によってポストの位置が調整されるため、ステージの第１の位置から各ポストまでの距離が、複数のステージ間でばらつくことを抑制または防止することができる。この結果、ステージの第１の位置Ｐ１に対する基板の位置（ステージに対する基板の支持位置）が、複数のステージ間でばらつくことを抑制ないし防止することができる。
更に、製造後のステージにおいてポストの位置を調整することによって基板の正確な位置決めを行うことができるので、大径の基板に対しても、ポストの調整精度のばらつきを抑制または防止することができる。
また、治具ピンによってステージの第１の位置Ｐ１と調整用基板の中心とを一致させてポストの位置が調整されるため、調整する作業者の技量によらず、製品ごとの調整のばらつきを抑制または防止することができる。
【０１０９】
調整治具は、調整用基板と、調整用基板の中心をステージの第１の位置Ｐ１に取り付け
るための治具ピンとから構成できるので、調整用治具を簡易に構成することができる。
【０１１０】
（変形例）
（１）図２６Ａは、第１の変形例に係るベースの平面図である。図２６Ｂは、第２の変形例に係るベースの平面図である。図２６Ｃは、第３の変形例に係るベースの平面図である。
上記実施形態では、ベース５１０の挿入穴５１１の長穴は、基板Ｗをステージ５００に設置した際に、基板Ｗの径方向外方に延びるが、例えば、図２６Ａ〜図２６Ｃに示すような長穴を採用することもできる。図２６Ａでは、挿入穴５１１は、ベース５１０の長辺５１０ｃに沿って延びる長穴である。図２６Ｂでは、挿入穴５１１は、ベース５１０の短辺５１０ｄに沿って延びる長穴である。図２６Ｃでは隣接する２つの挿入穴５１１の一方がベース５１０の長辺５１０ｃに沿って延び、他方がベース５１０の短辺５１０ｄに沿って延びている。第１乃至第３の変形例に係るベースでは、ポスト５２０の長穴５１１内での移動量に対して、ベース５１０の第１の位置Ｐ１（例えば、ベースの中心Ｃｂ、穴５１２ｂ）からのポスト５２０の距離（ポスト５２０の径方向への移動量）の変化を小さくすることが可能であり、調整用基板Ｗａとポスト５２０との当接位置の精度の高い調整が容易になる。
【０１１１】
（２）図２７は、治具ピンとベースとの係合構造の変形例を示す断面図である。
上記実施形態では、治具ピン６１０の第１挿入軸部６１２と、ベース５１０の中心穴５１２（穴５１２ｂ）との組み合わせで、治具ピン６１０とベース５１０とを係合させたが、図２７に示すように、ベース５１０の第１の位置Ｐ１（例えば、中心Ｃｂ、穴５１２ｂ）に突起５１２ａを設け、治具ピン６１０の本体部６１１のステージ側端面に第１挿入穴６１１ａを設けて、治具ピン６１０の第１挿入穴６１１ａをベース５１０の突起５１２ａに嵌合させるようにしてもよい。この場合、治具ピン６１０は、本体部６１１と、第１挿入穴６１１ａと、第２挿入軸部６１３と、を備える。ベース５１０は、中心穴５１２（穴５１２ｂ）の代わりに突起５１２ａを有する。
【０１１２】
（３）図２８は、治具ピンと調整用基板との係合構造の変形例を示す断面図である。
図２８に示すように、調整用基板Ｗａの中心Ｃｗａに突起６２０ａを設け、治具ピン６１０の本体部６１１の基板側端面に第２挿入穴６１１ｂを設けて、調整用基板Ｗａの突起６２０ａを治具ピン６１０の第２挿入穴６１１ｂに嵌合させるようにしてもよい。この場合、治具ピン６１０は、本体部６１１と、第１挿入軸部６１２と、第２挿入穴６１１ｂと、を備える。調整用基板Ｗａは、中心穴６２０の代わりに突起６２０ａを有する。
【０１１３】
（４）図２９は、治具ピンと調整用基板及びベースとの係合構造の変形例を示す断面図である。
図２９に示すように、ベース５１０の第１の位置Ｐ１（例えば、中心Ｃｂ、穴５１２ｂ）に突起５１２ａを設け、調整用基板Ｗａの中心Ｃｗａに突起６２０ａを設け、治具ピン６１０の本体部６１１のステージ側及び基板側端面にそれぞれ第１挿入穴６１１ａ及び第２挿入穴６１１ｂを設けて、治具ピン６１０の第１挿入穴６１１ａをベース５１０の突起５１２ａに嵌合させ、及び調整用基板Ｗａの突起６２０ａを治具ピン６１０の第２挿入穴６１１ｂに嵌合させるようにしてもよい。この場合、治具ピン６１０は、本体部６１１と、第１挿入穴６１１ａと、第２挿入穴６１１ｂと、を備える。
【０１１４】
(５)図３１は、治具ピンと調整用基板を一体に形成した調整治具の斜視図である。
図２１、図２７−図２９の治具ピン６１０を調整用基板Ｗａの中心Ｃｗａに一体に形成してもよく、この場合、調整用基板Ｗａの中心Ｃｗａに一体形成された治具ピン６１０をベース５１０の第１の位置Ｐ１に取り付ける。例えば、図２１、図２８の場合、第１の挿入軸部６１２を中心穴５１２又は穴５１２ｂに挿入する。例えば、図２７、図２９の場合
、ベース５１０の突起５１２ａを治具ピン６１０の第１挿入穴６１１ａに挿入する。
なお、治具ピン６１０を調整用基板Ｗａと一体に形成する代わりに、治具ピン６１０をベース５１０の第１の位置Ｐ１（基板位置決め位置）においてベース５１０と一体に形成してもよい。この場合、治具ピン６１０と調整用基板Ｗａとの取付構造は、例えば図２１、図２７−図２９に図示した構成を採用することができる。
【０１１５】
以上、いくつかの例に基づいて本発明の実施形態について説明してきたが、上記した発明の実施形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得るとともに、本発明には、その均等物が含まれることはもちろんである。また、上述した課題の少なくとも一部を解決できる範囲、または、効果の少なくとも一部を奏する範囲において、特許請求の範囲および明細書に記載された各構成要素の任意の組み合わせ、または、省略が可能である。
【符号の説明】
【０１１６】
ＴＳ１〜ＴＳ４…第１〜第４搬送ステージ
３２２…ステージ
５００…ステージ
５１０…ベース
５１０ａ…第１面
５１０ｂ…第２面
５１０ｃ…長辺
５１０ｄ…短辺
５１１…挿入穴
５１２…中心穴
５１２ａ…突起
５１２ｂ…穴
５１３…貫通穴
５２０…ポスト
５２１…支持部
５２１ａ…第１支持区画
５２１ｂ…第２支持区画
５２２…本体部
５２３…挿入軸部
５２３ａ…螺子穴
５２５…テーパー部
５３０…締結部材
６００…調整治具
６１０…治具ピン
６１１…本体部
６１１ａ…第１挿入穴
６１１ｂ…第２挿入穴
６１２…第１挿入軸部
６１３…第２挿入軸部
６２０…中心穴
６２０ａ…突起
７００…ステージ
７１０…ベース
７１１…挿入穴
７２０…ポスト
７２１…支持部
７２２…本体部
７２３…挿入部
７３０…締結部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図５】
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【図６】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図７Ｃ】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４Ａ】
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【図１４Ｂ】
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【図１４Ｃ】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０Ａ】
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【図２０Ｂ】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３Ａ】
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【図２３Ｂ】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６Ａ】
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【図２６Ｂ】
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【図２６Ｃ】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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