(57)【要約】【課題】本発明は、副生成物の付着自体を防止することができる蓋体及びこれを用いた基板処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】金属板と、  該金属板上に設置された石英板と、  前記石英板を貫通し、前記金属板の所定深さまで設けられたネジ孔と、  該ネジ孔に挿入され、前記石英板を前記金属板に固定するネジと、  上面視にて該ネジよりも内側に設けられ、前記石英板と前記金属板との間の隙間にパージガスの供給が可能なように、前記金属板の内部から前記石英板の底面に向かってパージガスを供給可能なパージガス供給孔と、を有する。【選択図】図１７
2018022773.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属板と、
該金属板上に設置された石英板と、
前記石英板を貫通し、前記金属板の所定深さまで設けられたネジ孔と、
該ネジ孔に挿入され、前記石英板を前記金属板に固定するネジと、
上面視にて該ネジよりも内側に設けられ、前記石英板と前記金属板との間の隙間にパージガスの供給が可能なように、前記金属板の内部から前記石英板の底面に向かってパージガスを供給可能なパージガス供給孔と、を有する蓋体。
【請求項２】
前記パージガス供給孔と連通し、前記金属板内の外周側を循環して設けられたバッファ領域と、
該バッファ領域に接続され、該バッファ領域に前記パージガスを供給するパージガス供給管と、を更に有する請求項１に記載の蓋体。
【請求項３】
前記パージガス供給管に設けられたガス加熱器を更に有する請求項２に記載の蓋体。
【請求項４】
前記パージガス供給孔よりも内側の所定箇所で前記石英板と前記金属板とは密着し、
前記パージガス供給孔よりも外側では前記石英板と前記金属板との間に所定の吹き出し隙間が設けられ、前記パージガスは前記パージガス供給孔から外側に向かって流れるように誘導される請求項１乃至３のいずれか一項に記載の蓋体。
【請求項５】
前記石英板を貫通する前記ネジと前記ネジ孔との間には、前記パージガスが流通可能な隙間が設けられている請求項１乃至４のいずれか一項に記載の蓋体。
【請求項６】
前記ネジと前記ネジ孔との間には、前記隙間を完全には塞がない弾性体が設けられた請求項１乃至５のいずれか一項に記載の蓋体。
【請求項７】
前記石英板の前記ネジよりも外側の部分には、前記ネジの外側の部分を露出させる切り欠きが設けられた請求項１乃至６のいずれか一項に記載の蓋体。
【請求項８】
前記ネジは複数設けられ、
前記パージガス供給孔は、前記ネジよりも多く設けられ、
前記石英板の中心と前記ネジとを結ぶ直線上に設けられた前記パージガス供給孔を含む請求項１乃至７のいずれか一項に記載された蓋体。
【請求項９】
複数の基板を鉛直方向に所定の間隔を有して保持可能な基板保持具と、
所定の開口部を介して該基板保持具に保持された前記複数の基板を収容し、所定の基板処理が可能な基板処理容器と、
該基板処理容器に前記基板保持具が収容されていないときに、前記所定の開口部を塞ぐ請求項１乃至８のいずれか一項に記載された蓋体と、を有する基板処理装置。
【請求項１０】
前記所定の開口部は前記基板処理容器の底部に設けられ、
前記所定の基板処理は熱処理であり、
前記蓋体は、前記底部より下方の高さに旋回移動可能に支持されている請求項９に記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蓋体及びこれを用いた基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、基板を出し入れする炉口を有する処理室と、処理室の炉口を開閉する開閉扉と、開閉扉の開位置において開閉扉の周囲の少なくとも一部を囲む囲み部と、囲み部内を強制的に排気する排気手段を有し、囲み部内を強制排気することにより、開閉扉に付着した副生成物が固まるのを防止するようにした基板処理装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−９３４８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載の構成では、開閉扉に副生成物が付着するのを防止することはできないので、付着した副生成物のうち、ある程度の副生成物の残留は防止することができない。
【０００５】
そこで、本発明は、副生成物の付着自体を防止することができる蓋体及びこれを用いた基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するため、本発明の一態様に係る蓋体は、金属板と、
該金属板上に設置された石英板と、
前記石英板を貫通し、前記金属板の所定深さまで設けられたネジ孔と、
該ネジ孔に挿入され、前記石英板を前記金属板に固定するネジと、
上面視にて該ネジよりも内側に設けられ、前記石英板と前記金属板との間の隙間にパージガスの供給が可能なように、前記金属板の内部から前記石英板の底面に向かってパージガスを供給可能なパージガス供給孔と、を有する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、副生成物の蓋体への付着自体を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】前記縦型熱処理装置の内部を示す平面図である。
【図２】縦型熱処理装置を右側方側から見た縦断面図である。
【図３】縦型熱処理装置を後方側から見た縦断面図である。
【図４】熱処理炉、ウエハボート及び蓋体の斜視図である。
【図５】本発明の参考例に係る蓋体を示した図である。
【図６】本発明の実施形態に係る蓋体の一例の表面を示した平面図である。
【図７】本実施形態に係る蓋体の一例の裏面を示した平面図である。
【図８】図６のＡ−Ａ断面を示した図である。
【図９】図６のＢ−Ｂ断面を示した図である。
【図１０】図６のＢ−Ｂ断面を示した斜視図である。
【図１１】本発明の実施形態に係る蓋体の石英板の一例の平面形状を示した図である。
【図１２】図６のＡ−Ａ断面を示した第２の図である。
【図１３】図６のＢ−Ｂ断面を示した第２の図である。
【図１４】図１３の上面拡大図である。
【図１５】本発明の実施形態に係る蓋体の振動抑制構成の一例を示した斜視図である。
【図１６】本発明の実施形態に係る蓋体の振動抑制構成の一例を示した断面図である。
【図１７】本発明の実施形態に係る蓋体の一例の全体構成を示した図である。
【図１８】パージガス供給管にガス加熱器を設ける構成について説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、図面を参照して、本発明を実施するための形態の説明を行う。
【００１０】
まず、本発明の実施形態に係る蓋体を好適に適用可能な縦型熱処理装置の一実施形態について説明する。図１は前記縦型熱処理装置の内部を示す平面図である。なお、図１において、紙面奥側を前方側、紙面手前側を後方側、図１中Ｘ方向を左右方向、図１中Ｙ方向を前後方向として説明する。図２は縦型熱処理装置を右側方側から見た縦断面図、図３は後方側から見た縦断面図である。図１、２において、装置の外装体を構成する筐体１が示されている。筐体１内には、基板であるウエハＷを収納したキャリアＣを装置に対して搬入、搬出するための搬入搬出領域Ｓ１と、キャリアＣ内のウエハを搬送して後述の熱処理炉内に搬入するためのローディング室であるローディングエリアＳ２と、が設けられている。搬入搬出領域Ｓ１とローディングエリアＳ２とは隔壁１１により仕切られており、搬入搬出領域Ｓ１は大気雰囲気とされ、ローディングエリアＳ２は例えば清浄乾燥気体雰囲気（パーティクル及び有機成分が少なく、露点−６０℃以下の空気）とされている。
【００１１】
図１に示されるように、搬入搬出領域Ｓ１は、手前側の第１の領域１２と奥側の第２の領域１３とからなる。また、図２に示されるように、第１の領域１２には、キャリアＣを載置するための第１の載置台１４が設けられている。キャリアＣとしては、例えば直径３００ｍｍのウエハＷが複数枚例えば２５枚棚状に配列されて収納され、前面の図示しない取り出し口が蓋体により塞がれた密閉型のＦＯＵＰ（Front-Opening Unified Pod）が用いられる。第２の領域１３には第２の載置台１５とキャリア保管部１６が設けられると共に、キャリアＣを第１の載置台１４、第２の載置台１５並びにキャリア保管部１６の間で搬送するキャリア搬送機構１７が設けられている。また、図１に示されるように、キャリアＣ内とローディングエリアＳ２とを連通する開口部１０、開口部１０の扉１８、キャリアＣの蓋体を開閉する蓋開閉機構１９が設けられている。
【００１２】
ローディングエリアＳ２の奥側上方には、下端が炉口２０として開口する縦型の熱処理炉２が設けられている。熱処理炉２は、ウエハを収容して熱処理を行うための処理容器である。炉口２０は、熱処理炉２の開口部をなす。この熱処理炉２には、例えば図４に示すように、熱処理炉２内に処理ガスを供給するための処理ガス供給路２Ａと、熱処理炉２内の雰囲気を排気するための排気路２Ｂとが接続されている。処理ガス供給路２Ａ及び排気路２Ｂは、夫々図示しない処理ガス供給源及び排気機構に接続されている。なお、図１〜図３においては、図示の便宜上、処理ガス供給路２Ａ及び排気路２Ｂを省略している。
【００１３】
また、ローディングエリアＳ２内には、例えば２基のウエハボート３（３Ａ，３Ｂ）が設けられている。これらウエハボート３（３Ａ，３Ｂ）は、夫々多数枚のウエハＷを、鉛直方向に所定間隔を有して重ねるように配列保持する基板保持具をなすものであり、例えば石英により構成されている。ここで、ウエハボート３について図４を参照して簡単に説明すると、天板３１と底板３２との間に例えば４本の支柱３３が設けられており、この支柱３３に形成された図示しない溝部にウエハＷの周縁部が保持されて、例えば１００枚のウエハＷを所定の間隔で上下に配列して保持できるように構成されている。底板３２の下部には支持部３４が設けられている。
【００１４】
そして、ローディングエリアＳ２内には、保持具昇降機構をなすボートエレベータ４１が設けられている。このボートエレベータ４１は、上下方向に伸びるガイドレール４３に沿って移動機構４２により昇降自在に構成され、その上には、熱処理炉２の蓋体２１と断熱材２２とがこの順序で設けられている。断熱材２２は例えば石英等により構成されており、その上にウエハボート３が搭載されるようになっている。
【００１５】
こうしてウエハボート３は、ボートエレベータ４１により熱処理炉２内のロード位置とアンロード位置との間で昇降されるようになっている。ロード位置とは、ウエハボート３が熱処理炉２内に搬入され、熱処理炉２の炉口２０を蓋体２１が覆う処理位置であり、アンロード位置とは、ウエハボート３が熱処理炉２の下方側に搬出される位置（図２〜図４に示す位置）である。
【００１６】
また、ローディングエリアＳ２には、ウエハボート３を載置するための第１のステージ４４及び第２のステージ４５と、これらボートエレベータ４１、第１のステージ４４及び第２のステージ４５の間でウエハボート３の移載を行うボート搬送機構４６が設けられている。このボート搬送機構４６は、ウエハボート３の支持部３４を載置する保持アーム４７が、昇降自在、水平軸周りに回転自在、進退自在に構成されている。なお図２では図示の便宜上、ボート搬送機構４６を省略している。
【００１７】
さらに、ローディングエリアＳ２には、例えば第１のステージ４４に隣接してウエハ搬送機構４８が設けられている。ウエハ搬送機構４８は、例えば第１のステージ４４上のウエハボート３、ボートエレベータ上４１のウエハボート３及び第２の載置台１５上のキャリアＣの間でウエハの移載を行うものである。ウエハ搬送機構４８は、ウエハＷを保持する複数枚例えば５枚のフォーク４９と、フォーク４９を進退自在に支持する搬送基体４９ａとを備えており、搬送基体４９ａは、鉛直軸回りに回転自在及び昇降自在に構成されている。
【００１８】
さらに、ローディングエリアＳ２における熱処理炉２以外の領域には、例えば熱処理炉２の開口部近傍の高さ位置に天井部２３が形成されている。また、ローディングエリアＳ２の左右方向の一方側の側面には、フィルタユニット５が設けられている。フィルタユニット５は、図３に示すように、フィルタ部５１と通気空間５２とを備えており、通気空間５２は、ローディングエリアＳ２の底板２４の下方に形成された通気室２５と連通するように構成されている。
【００１９】
通気室２５の一端側には、第１のファン５３及び第１のゲートバルブ５４が設けられている。また、他端側は第２のゲートバルブ５５及び第２のファン５６を介して工場の排気設備に接続されている。図１及び図３に示されるように、底板２４には排気口２６が形成されている。
【００２０】
さらに、ローディングエリアＳ２における天井部２３の近傍には、熱処理炉２の炉口２０を塞ぐための蓋体６０を備えた蓋体開閉機構６が設けられている。蓋体６０は、例えば熱処理炉２後にウエハボート３がアンロードされたときに、熱処理炉２の炉口２０を塞ぐために設けられており、炉口２０を塞ぐ大きさに形成されている。
【００２１】
蓋体開閉機構６は、図４に示すように、蓋体６０を支持する支持部材７と、蓋体６０を、炉口２０を塞ぐ位置と、炉口２０を開く位置との間で移動させる蓋体移動機構８と、を備えている。炉口２０を開く位置とは、この例では炉口２０の側方の位置であり、ここを待機位置としている。また、蓋体移動機構８は、例えば支持部材７の基端側を昇降自在に支持する昇降機構８Ａと、昇降機構８Ａを鉛直軸まわりに回転させる回転機構８Ｂとを組み合わせて構成されている。この蓋体移動機構８は、図３に示すように、例えば筐体１の側壁部に設けられた載置部材９上に設けられている。
【００２２】
ここで、待機位置は、炉口２０の下方側の側方であって、炉口２０と、回転機構８Ｂを中心とする同心円状に隣接する位置である。そして、蓋体６０は待機位置から回転機構８Ｂにより炉口２０の下方側まで旋回し、次いで、昇降機構８Ａにより上昇することにより、炉口２０を塞ぐ位置に移動することになる。なお、図１及び図２では蓋体６０は待機位置にあり、図３では炉口２０を塞ぐ位置にある様子を示している。この際、蓋体開閉機構６は、ローディングエリアＳ２内において、例えばウエハボート３のロード及びアンロードや、ウエハボート３のステージ４４，４５及び断熱材２２間の移動を妨げずに、蓋体６０を前記待機位置と炉口２０を塞ぐ位置との間で移動できるように構成されている。
【００２３】
このように、蓋体６０は、ウエハボート３がアンロードされたときや、熱処理炉２の内部をクリーニングする際に、炉口２０を塞ぐために設けられる。本発明の実施形態に係る蓋体は、必ずしもこのような熱処理炉２の炉口２０を一時的に塞ぐ用途に限定されるものではないが、このような用途にも好適に利用できる。
【００２４】
以下、本発明の実施形態に係る蓋体６０について、より詳細に説明する。まず、本発明の実施形態に係る蓋体６０について説明する前に、参考例に係る蓋体１６０について説明する。
【００２５】
図５は、本発明の参考例に係る蓋体１６０を示した図である。参考例に係る蓋体１６０は、金属板１６１と、石英板１６２とを備える。また、金属板１６１の内部には、冷却路６３が設けられ、金属板１６１の外周部には、Ｏ−リング６４が設けられている。
【００２６】
参考例に係る蓋体１６０は、金属板１６１の上に石英板１６２が設置された構成を有し、熱処理炉２からウエハボート３がアンロードされた場合等に用いられるが、熱処理炉２を用いてＡＬＤ（Atomic Layer Deposition、原子堆積法）成膜を行った場合、石英板１６２と金属板１６１との間に、塩化アンモニウム（ＮＨ４Ｃｌ）１６３が付着し、蓋体１６０のクリーニングを定期的（例えば、週１回等）に行わなければならないという問題がある。本実施形態に係る蓋体６０では、塩化アンモニウムが付着し易い金属板１６１と石英板１６２との間にパージガスを供給し、このような塩化アンモニウムの付着を防止し、蓋体６０のクリーニング頻度を低下させることができる構成としている。なお、図５で説明した冷却炉６３及びＯ−リング６４については、本発明の実施形態に係る蓋体６０においても同様であるので、同一の参照符号を用いるものとする。
【００２７】
図６は、本発明の実施形態に係る蓋体６０の一例の表面を示した平面図である。本発明の実施形態に係る蓋体６０は、金属板６１の上に石英板６２が設置された構成を有する。金属板６１は、種々の金属から構成されてよいが、例えば、ステンレス鋼から構成されてもよい。また、石英板６２は、文字通り、石英から構成される。石英板６２は、金属板６１に比較して、厚さが薄く構成されてもよく、例えば、石英板６２を、石英キャップ６２と呼んでもよい。
【００２８】
金属板６１は、石英板６２よりも大きく構成される。金属板６１及び石英板６２は、処理容器の形状に合わせて種々の形状に構成されてよいが、熱処理炉２のように、円筒形の処理容器に用いられる場合には、図６に示されるように、円形の形状を有する。
【００２９】
石英板６２は、金属板６１上に設置されるだけでなく、ネジ６５により固定される。ネジ６５は、石英板６２を金属板６１に適切に固定できれば、種々の個数とされてよいが、例えば、図６に示すように、中心を通る反対側同士に対向して２個設置されてもよい。また、ネジ６５よりも内側に、パージガス供給孔６８が金属板６１の表面に設けられる。図６においては、対向するネジ６５同士を結ぶ金属板６１及び石英板６２の中心を通る直径上の２個のパージガス供給孔６８を含んで合計１６個のパージガス供給孔６８が設けられている。なお、パージガス供給孔６８の位置・個数等は用途により適宜変更されてよい。また、これらの断面形状の詳細については後述する。
【００３０】
図７は、本実施形態に係る蓋体６０の一例の裏面を示した平面図である。図７に示されるように、蓋体６０の裏面には、パージガス供給管７３が設けられる。図７に示されるように、丸で囲まれた裏面の４箇所からパージガスが供給される。つまり、金属板６１の裏面側にパージガス供給管７３が設けられ、金属板６１を貫通して石英板６２と金属板６１との間にパージガスが供給される構成となっている。なお、パージガスは、窒素ガス、Ａｒガス、Ｈｅガス等、希ガスを含む種々の不活性ガスを用いることができる。また、パージガス供給管７３からのパージガスの供給箇所は、図７では４箇所となっているが、供給箇所の位置、個数等は、用途により適宜変更されてよい。
【００３１】
図８は、図６のＡ−Ａ断面を示した図である。図８に示される通り、金属板６１の表面の窪み６１ａにはカバー部材６７が嵌め込まれるように設けられ、カバー部材６７にパージガス供給孔６８が形成されている。そして、カバー部材６７は、ネジ６９により金属板６１に固定されている。カバー部材６７の下方には、バッファ領域７２が設けられ、バッファ領域７２とパージガス供給孔６８とが連通した構成となっている。カバー部材６７よりも外側には、石英板６２の底面と金属板６１の上面との間に吹き出し隙間７０が設けられ、吹き出し隙間７０を通じてパージガスが外側に向けて流通し、石英板６２と金属板６１との間の隙間に塩化ナトリウム等の副生成物が付着するのを防止する構成となっている。なお、窪み６１ａの内側では、金属板６１と石英板６２が密着しており、石英板６２の底面に向けて供給されたパージガスは、内側は行き止まりとなっているため、最終的には必ず外側の吹き出し隙間７０に向かって流れる構成となっている。
【００３２】
図９は、図６のＢ−Ｂ断面を示した図である。図９に示される通り、石英板６２は、金属板６１にネジ６５により固定されている。なお、石英板６２及び金属板６１には、ネジ６５が挿入されるネジ孔６６が形成されており、ネジ孔６６は、石英板６２を貫通し、金属板６１の表面から所定深さまで形成されている。また、図８のＡ−Ａ断面と同様、カバー部材６７に形成されたパージガス供給孔６８からパージガスが供給され、ネジ６５とネジ孔６６との間の隙間７１を介してパージガスが通流する。これにより、ネジ６５の周辺も、副生成物の付着が防止される。なお、図９に示されるように、バッファ領域７２にはパージガス供給管７３が接続され、バッファ領域７２にパージガスが直接的に供給され、バッファ領域７２と連通するパージガス供給孔６８からパージガスが隙間７１に供給される構成となっている。
【００３３】
図１０は、図６のＢ−Ｂ断面を示した斜視図である。図１０に示されるように、カバー部材６７は円環状に形成され、その下にバッファ領域７２がやはり円環状に形成されて設けられている。ネジ６５及びネジ孔６６は、パージガス供給孔６８よりも外側に設けられているため、必ずパージガスにパージされる。ネジ６５等の金属部品は、パーティクルを発生するおそれがあるため、パージガスでパージすることが好ましい。本実施形態に係る蓋体６０においては、ネジ６５及びネジ孔６６をパージガス供給孔６８よりも外側に設けることにより、副生成物の石英板６２と金属板６１との間への侵入を防ぐだけでなく、ネジ６５及びネジ孔６６のパージも同時に行うことができ、蓋体６０を清浄化するのに非常に効果的な構成となっている。
【００３４】
なお、図１０において、Ｏ−リング６４が最外周付近に設けられている。かかる構成は、図５で説明したのと同様である。
【００３５】
また、バッファ領域７２は、本実施形態においては、円環状に設けられているが、パージガス供給孔６８の設ける位置に応じて、その形状や配置等が適宜変更可能であることは言うまでもない。
【００３６】
図１１は、本発明の実施形態に係る蓋体６０の石英板６２の一例の平面形状を示した図である。図１１に示されるように、石英板６２のネジ６５が挿入される箇所には、切り欠き６２ａが形成されている。以下、この点についてより詳細に説明する。
【００３７】
図１２は、図６のＡ−Ａ断面を示した第２の図である。図１２に係るＡ−Ａ断面は、図８と類似しているが、カバー部材６７ａのパージガス供給孔６８とネジ６９との間に隆起部６７ａが形成されている点で、図８と異なっている。このように、カバー部材６７ａに隆起部６７ｂを設け、隆起部６７ｂと石英板６２とを密着させる構成としてもよい。かかる構成により、パージガスがパージガス供給孔６８から供給された後、内側に流れることなく直ちに外側の吹き出し隙間７０に流れることになり、より効率的に外周側へのパージガスの供給を行うことができる。
【００３８】
図１３は、図６のＢ−Ｂ断面を示した第２の図である。図１３に係るＢ−Ｂ断面は、図１２と同様、カバー部材６７ａが隆起部６７ｂを有する点で、図９と異なっている。更に、図１３に係るＢ−Ｂ断面は、ネジ６５の外側において、切り欠き６２ａが設けられている点で、図９と異なっている。
【００３９】
図１４は、図１３の上面拡大図である。図１４に示されるように、ネジ６５の外側に切り欠き６２ａが形成され、ネジ６５の外側が露出する構成となる。これは、図８で説明したように、ネジ６５にパージガスを供給すべく、ネジ６５を石英板６２の外周側に配置したが、あまりネジ６５を石英板６２の外周側に配置すると、石英板６２の外側に割れが生じ、破損する場合がある。そのような破損を回避すべく、ネジ６５の外側の石英板６２に切り欠き６２ａを設け、ネジ６５の応力を逃がしている。このように、ネジ６５の外側に切り欠き６２ａを設けることにより、ネジ６５をパージガス供給孔６８よりも外側に設けることが可能となり、破損を防ぎつつ蓋体６０の清浄化を図ることが可能となる。
【００４０】
図１５及び図１６は、本実施形態に係る蓋体６０の振動抑制のための構成について説明するための図である。図６乃至図１４において、パージガスの供給により、蓋体６０への副生成物の付着を防止する構成について説明したが、パージガスの流量を増加させた場合、パージガスの供給圧力の影響により、石英板６２に振動が発生する懸念が生じる。そのような場合、弾性体をネジ６５の周囲、つまりネジ６５とネジ孔６６との間に配置することにより、振動の発生を抑制することができる。
【００４１】
図１５は、本発明の実施形態に係る蓋体６０の振動抑制構成の一例を示した斜視図である。図１５（ａ）は、振動抑制構成採用前の斜視図であり、図１５（ｂ）は、振動抑制構成を採用した斜視図である。図１５（ｂ）に示すように、弾性体からなるフッ素ゴムシート７５をネジ６５の周囲に配置することにより、振動を吸収し、抑制することができる。フッ素ゴムシートは、ゴム等の弾性体からなる帯状のリングであり、Ｏ−リング等と同様の機能を有する。
【００４２】
図１６は、本発明の実施形態に係る蓋体６０の振動抑制構成の一例を示した断面図である。図１６（ａ）は、振動抑制構成採用前の断面図であり、図１６（ｂ）は、振動抑制構成を採用した断面図である。図１６（ｂ）に示すように、弾性体からなるフッ素ゴムシート７５をネジ６５とネジ孔６６との間の空間に配置することにより、振動を吸収し、抑制することができる。
【００４３】
なお、フッ素ゴムシート７５を設けても、隙間７１を維持することができ、パージガスのパージガス供給孔６８からの供給により、ネジ６５のパージはそのまま行うことができる。よって、清浄度を維持したまま、振動の抑制を図ることが可能である。
【００４４】
図１７は、本発明の実施形態に係る蓋体６０の一例の全体構成を示した図である。図１７に示されるように、金属板６１の下方には冷却路６３が形成され、最外周にはＯ−リング６４が配置されている。そして、金属板６１の裏面側には、パージガス供給管７３が設けられ、副生成物の付着をパージガスで抑制できる構成となっている。また、金属板６１の上には石英板６２が設置され、石英板６２はネジ６５で金属板６１に固定されている。そして、ネジ６５よりも内側の金属板６１の内部には、バッファ領域７２が設けられ、パージガス供給管７３が接続されている。パージガス供給管７３は、図示しないパージガス供給源に接続されている。バッファ領域７２の上方には、カバー部材６７が設けられ、ネジ６９で固定されている。カバー部材６７にはパージガス供給孔６８が形成され、ネジ６５よりも内側から外側に向かって、石英板６２の底面に沿ってパージガスの供給が可能な構成となっている。かかる構成により、副生成物が石英板６２と金属板６１との間に付着することを防止することができる。また、必要に応じて、石英板６２のネジ６５の外側の部分に切り欠き６２ａを設けたり、ネジ６５とネジ孔６６との間に弾性体を設け、石英板６２の破損や振動を防止したりする構成としてもよい。
【００４５】
図１８は、パージガス供給管７３にガス加熱器７４を設ける構成について説明するための図である。副生成物は、蓋体６０が低温になると発生し易くなるため、副生成物の発生を更に効果的に防止すべく、パージガス供給管７３にガス加熱器７４を設ける構成としてもよい。この場合、ガス加熱器７４は、パージガス供給管７３の任意の箇所に設けることができ、図示しないパージガス供給源と蓋体６０付近のパージガス供給管７３との間の所望の位置に設けることができる。
【００４６】
このように、本実施形態に係る蓋体６０によれば、副生成物の付着を効果的に防止することができる。また、本実施形態においては、基板処理装置、特に縦型熱処理装置の蓋体に適用する例を挙げて説明したが、副生成物の付着の防止が必要な種々の用途に利用することができる。
【００４７】
以上、本発明の好ましい実施形態について詳説したが、本発明は、上述した実施形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、上述した実施形態に種々の変形及び置換を加えることができる。
【符号の説明】
【００４８】
２    熱処理炉
３Ａ、３Ｂ    ウエハボート
４１    ボートエレベータ
６    蓋体開閉機構
６０    蓋体
６１    金属板
６２    石英板
６２ａ    切り欠き
６５    ネジ
６６    ネジ孔
６８    パージガス供給孔
７０    吹き出し隙間
７１    隙間
７２    バッファ領域
７３    ガス供給管
７４    ガス加熱機構
７５    フッ素ゴムシート
Ｗ    半導体ウエハ
Ｃ    ＦＯＵＰ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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