(57)【要約】【課題】弁体部と弁孔の間から流体室に流入する流体を流体室内で滞留させることなく流出孔へ導いて流体の滞留による不具合を抑制する。【解決手段】弁体部１０が挿入される弁孔２０ｇが形成された本体部２０が、下流側流体室Ｆｒ２を弁体部１０の周囲に円環状に形成される内側流路２４と内側流路２４の外側に円環状に形成される外側流路２５とに仕切る円環状壁部２３と、外側流路２５を流通する流体を流出側流路へ導く流出孔２６と、流出孔２６へ到達した流体が外側流路２５を周回することを阻止する阻止壁２７と、を有し、円環状壁部２３が、内側流路２４から外側流路２５へ流体を導く連通流路２３ａを有し、連通流路２３ａが、阻止壁２７に隣接しかつ阻止壁２７により流出孔２６から隔離された位置に流体を導く流量調整装置１００を提供する。【選択図】図３
2018013164.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸線に沿って移動可能な弁体部と、
前記弁体部が挿入される弁孔が形成された本体部と、
前記弁体部に連結され、前記本体部の内部空間を前記弁孔から流入する流体が流通する流体室と気体室とに仕切るダイヤフラム部と、
前記ダイヤフラム部を前記軸線に沿って移動させることにより前記弁体部と前記弁孔との間隔を調整する流量調整部と、を備え、
前記本体部が、
流入ポートから流入する流体を前記流体室へ導く流入側流路と、
前記流体室から流出する流体を流出ポートへ導く流出側流路と、
前記流体室を前記弁体部の周囲に円環状に形成される内側流路と該内側流路の外側に円環状に形成される外側流路とに仕切る円環状壁部と、
前記外側流路を流通する流体を前記流出側流路へ導く流出孔と、
前記外側流路に配置され、前記流出孔へ到達した流体が前記外側流路を周回することを阻止する阻止壁と、を有し、
前記円環状壁部が、前記内側流路から前記外側流路へ流体を導く連通流路を有し、
前記連通流路が、前記阻止壁に隣接しかつ該阻止壁により前記流出孔から隔離された位置に流体を導く流量調整装置。
【請求項２】
前記ダイヤフラム部が、
前記弁体部に連結される基部と、
前記基部の外周側端部に接続されるとともに円環状に形成される薄膜部と、を有し、
前記基部と前記円環状壁部とが接触した場合、前記連通流路が配置された位置を除くその他の位置で前記内側流路と前記外側流路との間の流体の流通が遮断される請求項１に記載の流量調整装置。
【請求項３】
前記弁孔と接触する方向の第１付勢力を前記弁体部へ付与する付勢部材を備え、
前記流量調整部は、前記気体室へ導入される圧縮空気により前記弁孔から離間する方向の第２付勢力を前記弁体部へ付与する請求項２に記載の流量調整装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、流量調整装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体製造装置に用いられる薬液や純水等の液体の流量を調整する流量調整部を備える流量調整装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
特許文献１に開示される流量調整装置は、圧縮室を加圧してダイヤフラムを下方に押し下げることにより、弁体を弁座から離間させ、上流側の第１の空間から下流側の第２の空間へ流体を流入させるものである。第２の空間は出口ポートに連通しているため、第２の空間へ流入した流体は、出口ポートから外部へ流出する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−１６２７７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に開示される流量調整装置において、第２の空間は弁体を取り囲むように形成された空間となっている。また、第１の空間から第２の空間へ流入した流体は、出口ポートへ向けて直線的に流れやすい。そのため、第２の空間においては、弁体から出口ポートへ向けた直線的な流体の流れが生じる一方で、その他の領域においては流体が滞留しやすい。第２の空間の特定の領域で流体が滞留すると、流体そのものやその領域を形成するハウジングの劣化等による不具合が生じてしまう。
【０００５】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、弁体部と弁孔の間から流体室に流入する流体を流体室内で滞留させることなく流出孔へ導いて流体の滞留による不具合を抑制した流量調整装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上記の課題を解決するため、下記の手段を採用した。
本発明の一態様にかかる流量調整装置は、軸線に沿って移動可能な弁体部と、前記弁体部が挿入される弁孔が形成された本体部と、前記弁体部に連結され、前記本体部の内部空間を前記弁孔から流入する流体が流通する流体室と気体室とに仕切るダイヤフラム部と、前記ダイヤフラム部を前記軸線に沿って移動させることにより前記弁体部と前記弁孔との間隔を調整する流量調整部と、を備え、前記本体部が、流入ポートから流入する流体を前記流体室へ導く流入側流路と、前記流体室から流出する流体を流出ポートへ導く流出側流路と、前記流体室を前記弁体部の周囲に円環状に形成される内側流路と該内側流路の外側に円環状に形成される外側流路とに仕切る円環状壁部と、前記外側流路を流通する流体を前記流出側流路へ導く流出孔と、前記外側流路に配置され、前記流出孔へ到達した流体が前記外側流路を周回することを阻止する阻止壁と、を有し、前記円環状壁部が、前記内側流路から前記外側流路へ流体を導く連通流路を有し、前記連通流路が、前記阻止壁に隣接しかつ該阻止壁により前記流出孔から隔離された位置に流体を導く。
【０００７】
本発明の一態様にかかる流量調整装置によれば、弁孔から流体室の内側流路へ流入した流体は、円環状壁部が有する連通流路を介して外側流路へ導かれる。外側流路へ導かれる流体は、阻止壁に隣接しかつ阻止壁により流出孔から隔離された位置に流入し、阻止壁から遠ざかる方向に沿って流通し、最終的に流出孔へ到達する。流出孔へ到達した流体は、阻止壁により外側流路を周回することが阻止されるため、その全量が流出孔を介して流出側流路へ導かれる。外側流路には、阻止壁により流出孔から隔離された位置から軸線回りに略一周した流出孔の位置まで一方向に流通する流れが形成されるため、内部で流体が滞留することが抑制される。また、外側流路が軸線回りに略一周に渡って形成されているため、外側流路を流通する流体からの圧力をダイヤフラム部の各位置に均等に付与することができる。
このように、本発明の一態様にかかる流量調整装置によれば、弁体部と弁孔の間から流体室に流入する流体を流体室内で滞留させることなく流出孔へ導いて流体の滞留による不具合を抑制することができる。
【０００８】
本発明の一態様にかかる流量調整装置においては、前記ダイヤフラム部が、前記弁体部に連結される円板状の基部と、前記基部の外周側端部に接続されるとともに円環状に形成される薄膜部と、を有し、前記基部と前記円環状壁部とが接触した場合、前記連通流路が配置された位置を除くその他の位置で前記内側流路と前記外側流路との間の流体の流通が遮断される構成であってよい。
このようにすることで、ダイヤフラム部の基部と円環状壁部とが接触する開状態において、弁孔から流体室の内側流路へ流入した流体は、連通流路が配置された位置からその全量が外側流路へ流入し、他の位置からは外側流路へ流入しない。そのため、阻止壁により流出孔から隔離された位置から軸線回りに略一周した流出孔の位置まで一方向に流通する流れをより確実に形成して流体の滞留を抑制することができる。
【０００９】
上記構成の流量調整装置においては、前記弁孔と接触する方向の第１付勢力を前記弁体部へ付与する付勢部材を備え、前記流量調整部は、前記気体室へ導入される圧縮空気により前記弁孔から離間する方向の第２付勢力を前記弁体部へ付与するものであってよい。
このようにすることで、気体室へ圧縮空気を導入して第２付勢力を増大させることにより、阻止壁により流出孔から隔離された位置から軸線回りに略一周した流出孔の位置まで一方向に流通する流れをより確実に形成して流体の滞留を抑制することができる。
【００１０】
また、気体室が圧縮空気により過度に加圧されたとしても、ダイヤフラムの基部が連通流路が配置された位置を除くその他の位置で円環状壁部と接触するため、圧縮空気による加圧力が円環状壁部のほぼ全周で受け止められる。そのため、気体室が圧縮空気により過度に加圧されたことによる流量調整装置の破損等の不具合を抑制することができる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、弁体部と弁孔の間から流体室に流入する流体を流体室内で滞留させることなく流出孔へ導いて流体の滞留による不具合を抑制した流量調整装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】閉状態の流量調整装置の一実施形態を示す部分縦断面図である。
【図２】開状態の流量調整装置の一実施形態を示す部分縦断面図である。
【図３】図２に示す流量調整装置のI-I矢視断面図である。
【図４】図３に示す流量調整装置のII-II矢視断面図である。
【図５】図３に示す流量調整装置のIII-III矢視断面図である。
【図６】図３に示す流量調整装置のIV-IV矢視断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の一実施形態の流量調整装置１００について、図面を参照して説明する。
本実施形態の流量調整装置１００は、流入側配管（図示略）から流入ポート１００ａへ流入する流体を流出ポート１００ｂから流出側配管（図示略）へ流出させる装置である。流量調整装置１００は、後述する弁孔２０ｇと弁孔２０ｇに挿入される弁体部１０との間隔を調整することにより、流出ポート１００ｂから流出させる流体の流量を調整する。
ここで、本実施形態における流体とは、例えば、半導体製造装置による半導体製造工程で用いられる薬液、溶剤、純水等である。
【００１４】
図１に示すように、本実施形態の流量調整装置１００は、軸線Ｘに沿って移動可能な弁体部１０と、本体部２０と、ダイヤフラム部３０と、流量調整部４０と、スプリング（付勢部材）５０と、スローリーク機構６０と、を備える。
【００１５】
弁体部１０は、軸線Ｘに沿って移動可能な軸状の部材であり、弁体部１０と弁孔２０ｇとの間の隙間を通過する流体の流量を調整するための部材である。本体部２０に形成された弁孔２０ｇとの間隔を流量調整部４０で調整することにより、弁体部１０と弁孔２０ｇとの間の隙間を通過する流体の流量が調整される。
図４に示すように、弁体部１０は、上端がダイヤフラム部３０の基部３０ａに連結され、下端に本体部２０に取り付けられる取付部１１が設けられている。取付部１１は、ダイヤフラム１１ａが一体成形された部材である。ダイヤフラム１１ａにより、上流側流体室Ｆｒ１とスプリング５０が配置される空間とが隔離される。
【００１６】
本体部２０は、第１本体部２０ａと、第２本体部２０ｂと、第３本体部２０ｃと、第４本体部２０ｄとを有する。第１本体部２０ａと、第２本体部２０ｂと、第３本体部２０ｃと、第４本体部２０ｄとは、これらに形成された貫通孔（図示略）に、軸線Ｘに沿った方向に延びる締結ボルト（図示略）を挿入してねじ部（図示略）に締結することにより、一体に連結されている。
本体部２０は、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ＰＣＴＦＥ（ポリクロロトリフルオロエチレン）、ＰＦＡ（テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体）等のフッ素樹脂材料により形成されている。
【００１７】
第１本体部２０ａは、流入側流路２０ｅと、上流側流体室Ｆｒ１と、弁孔２０ｇと、下流側流体室Ｆｒ２と、流出孔２６と、流出側流路２０ｆと、が内部に形成された部材である。流入ポート１００ａから流入する流体は、流入側流路２０ｅ、上流側流体室Ｆｒ１、弁孔２０ｇ、下流側流体室Ｆｒ２、流出孔２６、流出側流路２０ｆの順に流通し、外部へ流出する。
【００１８】
流入側流路２０ｅは、流入ポート１００ａから流入する流体を上流側流体室Ｆｒ１へ導く流路である。上流側流体室Ｆｒ１は、流入側流路２０ｅと連通するとともに弁体部１０を収容する空間である。弁孔２０ｇは、軸線Ｘを中心とした円形の孔であり、弁体部１０の上端側が挿入される。下流側流体室Ｆｒ２は、弁孔２０ｇを介して上流側流体室Ｆｒ１と連通する空間である。流出孔２６は、下流側流体室Ｆｒ２を流通する流体を流出側流路２０ｆへ導く孔である。流出側流路２０ｆは、下流側流体室Ｆｒ２から流出する流体を流出ポート１００ｂへ導く流路である。
【００１９】
第２本体部２０ｂは、第１本体部２０ａの上面に取り付けられる部材である。第２本体部２０ｂが第１本体部２０ａに取り付けられた状態で、第１本体部２０ａの上面と第２本体部２０ｂの下面との間に、ダイヤフラム部３０を収容する内部空間が形成される。第２本体部２０ｂには、外部の圧縮空気供給源（図示略）から配管を介して供給される圧縮空気を第１圧力室（気体室）Ｐｒ１に導くための圧縮空気導入ポート２１が形成されている。
【００２０】
第３本体部２０ｃは、第２本体部２０ｂの上面に取り付けられる部材である。第３本体部２０ｃの内部には、スローリーク機構６０が収容される。第３本体部２０ｃには、外部の圧縮空気供給源（図示略）から配管を介して供給される圧縮空気を第２圧力室Ｐｒ２に導くための圧縮空気導入ポート２２が形成されている。
【００２１】
第４本体部２０ｄは、第１本体部２０ａの下面に取り付けられる部材である。第４本体部２０ｄには、軸線Ｘに沿った方向に延びる貫通穴（図示略）が形成されている。この貫通穴に締結ボルト（図示略）を挿入して設置面Ｓに設けられた締結穴（図示略）に締結することにより、流量調整装置１００が設置面Ｓに固定される。
【００２２】
ダイヤフラム部３０は、第１本体部２０ａの上面と第２本体部２０ｂの下面との間に形成される内部空間を、弁孔２０ｇから流入する流体が流通する下流側流体室Ｆｒ２と圧縮空気導入ポート２１から圧縮空気が導入される第１圧力室Ｐｒ１とを仕切る部材である。
図４に示すように、ダイヤフラム部３０は、下端側の凹所に弁体部１０の上端が連結される円板状の基部３０ａと、基部３０ａの外周側端部に接続されるとともに円環状に形成される薄膜部３０ｂと、基部３０ａの上面に取り付けられる上板部３０ｃとを有する。基部３０ａと薄膜部３０ｂとは、フッ素樹脂材料により一体成形されている。
【００２３】
流量調整部４０は、外部から供給される圧縮空気を第１圧力室Ｐｒ１に導くための圧縮空気導入ポート２１および第１圧力室Ｐｒ１からなる。
図２に示すように、流量調整部４０は、外部から供給される圧縮空気を第１圧力室Ｐｒ１に導くことにより、ダイヤフラム部３０を軸線Ｘに沿って下方へ移動させる付勢力を発生させ、弁体部１０が弁孔２０ｇから離間した開状態とする。流量調整部４０は、第１圧力室Ｐｒ１へ供給される圧縮空気を調整することにより弁体部１０と弁孔２０ｇとの間隔を調整し、弁孔２０ｇを通過する流体の流量を調整する。
【００２４】
スプリング５０は、弁孔２０ｇと接触する方向の付勢力（第１付勢力）を弁体部１０へ付与する弾性部材であり、弁体部１０の取付部１１の下面に配置される。
スプリング５０が弁体部１０へ付与する上方へ向けた付勢力（第１付勢力）よりも、第１圧力室Ｐｒ１がダイヤフラム部３０を介して弁体部１０へ付与する下方へ向けた付勢力（第２付勢力）が大きくなると、弁体部１０が弁孔２０ｇから離間するように下方へ移動する。
【００２５】
スローリーク機構６０は、第１圧力室Ｐｒ１がダイヤフラム部３０を介して弁体部１０へ付与する下方へ向けた付勢力（第２付勢力）よりもスプリング５０が弁体部１０へ付与する上方へ向けた付勢力（第１付勢力）が大きく、弁体部１０が上方へ移動する場合に、弁体部１０と弁孔２０ｇとの間隔を微調整するための機構である。
【００２６】
スローリーク機構６０は、シャフト軸６１と、ピストン部６２と、ロックナット６３と、ロックキャップ６４と、操作部６５と、スプリング６６と、締結ボルト６７とを有する。
シャフト軸６１の外周面には雄ねじが形成されており、ピストン部６２の内周面には雌ねじが形成されている。シャフト軸６１の上端に形成された締結穴には、円柱状の操作部６５に形成された貫通穴に挿入された締結ボルト６７が締結されている。ピストン部６２は、軸線Ｘ回りの回転を規制する回り止め部材（図示略）により、軸線Ｘ回りに回転しないように規制されている。
【００２７】
流量調整装置１００の操作者は、操作部６５を軸線Ｘ回りに回転させる操作を行うことにより、操作部６５に連結されたシャフト軸６１を軸線Ｘ回りに回転させる。シャフト軸６１が軸線Ｘ回りに回転することに応じて、ピストン部６２に対するシャフト軸６１の軸線Ｘ方向の位置が変化する。これは、ピストン部６２の内周面に雌ねじが形成されており、かつピストン部６２の軸線Ｘ回りの回転が規制されているからである。
【００２８】
スプリング６６は、第２本体部２０ｂの内部に配置されるとともに、ピストン部６２を軸線Ｘに沿った上方へ付勢する付勢力を発生する。一方、第２圧力室Ｐｒ２は、外部の圧縮空気供給源（図示略）から圧縮空気導入ポート２２に供給される圧縮空気により、ピストン部６２を軸線Ｘに沿って下方へ付勢する付勢力を発生する。
シャフト軸６１およびピストン部６２は、第２圧力室Ｐｒ２が発生する付勢力が、スプリング６６が発生する付勢力を上回る場合に、軸線Ｘに沿って下方へ移動する。これにより、シャフト軸６１の下端が第１圧力室Ｐｒ１へ突出した状態となる。
【００２９】
スプリング５０が発生する付勢力が、第１圧力室Ｐｒ１が発生する付勢力よりも大きい場合、弁体部１０およびダイヤフラム部３０は、上方へ移動する。ダイヤフラム部３０の上端がシャフト軸６１の下端と接触すると、弁体部１０およびダイヤフラム部３０は、それ以上上方へ移動しないように軸線Ｘ上の位置が固定される。この場合、ピストン部６２に対するシャフト軸６１の位置に応じて、弁体部１０と弁孔２０ｇとの間隔が決定する。
このように、スローリーク機構６０は、操作部６５を軸線Ｘ回りに回転させてピストン部６２に対するシャフト軸６１の位置を調整することにより、弁体部１０がスプリング５０の付勢力により弁孔２０ｇへ向けて押し付けられる場合の、弁体部１０と弁孔２０ｇとの間隔を調整することができる。すなわち、ピストン部６２に対するシャフト軸６１の位置を調整することにより、流量調整装置１００を流通する流体の最小流量を決定することができる。
【００３０】
ロックナット６３は、シャフト軸６１の外周面の雄ねじと係合する雌ねじが内周面に形成された円環状の部材である。ロックナット６３を回転させてピストン部６２に接触させることにより、シャフト軸６１が軸線Ｘ回りに回転することが規制される。
ロックキャップ６４は、操作部６５の側面（操作者により操作される操作面）を覆うことにより、操作者による操作部６５の操作を禁止するための部材である。
【００３１】
次に、内部で流体を滞留させないための下流側流体室Ｆｒ２の構造について、図３から図６を参照して説明する。
図３に示すように、第１本体部２０ａは、下流側流体室Ｆｒ２を内側流路２４と外側流路２５とに仕切る円環状壁部２３を有する。
図４および図５に示すように、内側流路２４は、軸線Ｘを中心とした円環状に形成される流路であり、弁体部１０の周囲を取り囲むように形成されている。
図４および図５に示すように、外側流路２５は、軸線Ｘを中心とした円環状に形成される流路であり、内側流路２４の外側に配置されるとともに円環状壁部２３を取り囲むように形成されている。
【００３２】
図３および図５に示すように、円環状壁部２３には、軸線Ｘ回りの１箇所に、内側流路２４から外側流路２５へ流体を導く連通流路２３ａを有する。
図６（図３に示す流量調整装置のIV-IV矢視断面図）に示すように、連通流路２３ａは、軸線Ｘに直交する径方向に沿って内周側から外周側に延びるように形成される流路である。弁孔２０ｇを介して内側流路２４へ流入した流体は、連通流路２３ａを経由して外側流路２５へ流入する。連通流路２３ａは、後述する阻止壁２７に隣接しかつ阻止壁２７により流出孔２６から隔離された位置に流体を導く。
【００３３】
図３および図５に示すように、第１本体部２０ａは、外側流路２５を流通する流体を流出側流路２０ｆへ導く流出孔２６と隣接する位置に配置される阻止壁２７を有する。阻止壁２７は、連通流路２３ａから外側流路２５へ流入した流体が流出孔２６へ最短距離で導かれることを阻止するとともに、外側流路２５を流通して流出孔２６へ到達した流体が外側流路２５を周回して再び連通流路２３ａが設けられる位置に到達することを阻止する。
【００３４】
このように、下流側流体室Ｆｒ２は、図３に矢印で示すように、弁孔２０ｇから内側流路２４へ流入する流体を流出孔２６に隣接して配置される阻止壁２７に隣接する位置で外側流路２５へ流入させ、外側流路２５を略一周流通した流体を流出孔２６から流出側流路２０ｆへ導く構造となっている。そのため、弁孔２０ｇから下流側流体室Ｆｒ２へ導かれた流体が最短距離で流出孔２６へ導かれ、その他の領域において流体が滞留しやすくなるという不具合を抑制することができる。
また、外側流路２５は、連通流路２３ａから流体が流入する位置から流出孔２６へ至るまで軸線Ｘ回りの略一周に渡って、軸線Ｘ回りの周方向に沿った一定の流路形状が維持されている。そのため、外側流路２５の各位置での流体の流速が略一定となって安定した流れが形成され、不安定な流れによる不具合を抑制することができる。
【００３５】
図４および図５に示すように、第１圧力室Ｐｒ１が発生する付勢力が、スプリング５０が発生する付勢力よりも大きい場合、ダイヤフラム部３０の基部３０ａと第１本体部２０ａの円環状壁部２３とが接触した状態となる。この状態となる場合、連通流路２３ａが配置された位置を除くその他の位置で内側流路２４と外側流路２５との間の流体の流通が遮断され、連通流路２３ａの部分のみで内側流路２４と外側流路２５とが連通した状態となる。そのため、ダイヤフラム部３０の基部３０ａと第１本体部２０ａの円環状壁部２３とが接触した状態となる場合、内側流路２４を流通する流体の全量が、連通流路２３ａを通過して外側流路２５へ流入する。
【００３６】
以上説明した本実施形態の流量調整装置１００が奏する作用および効果について説明する。
本実施形態の流量調整装置１００によれば、弁孔２０ｇから下流側流体室Ｆｒ２の内側流路２４へ流入した流体は、円環状壁部２３が有する連通流路２３ａを介して外側流路２５へ導かれる。外側流路２５へ導かれる流体は、阻止壁２７に隣接しかつ阻止壁２７により流出孔２６から隔離された位置に流入し、阻止壁２７から遠ざかる方向に沿って流通し、最終的に流出孔２６へ到達する。流出孔２６へ到達した流体は、阻止壁２７により外側流路２５を周回することが阻止されるため、その全量が流出孔２６を介して流出側流路２０ｆへ導かれる。
【００３７】
外側流路２５には、阻止壁２７により流出孔２６から隔離された位置から軸線Ｘ回りに略一周した流出孔２６の位置まで一方向に流通する流れが形成されるため、下流側流体室Ｆｒ２の内部で流体が滞留することが抑制される。また、外側流路２５が軸線Ｘ回りに略一周に渡って形成されているため、外側流路２５を流通する流体からの圧力をダイヤフラム部３０の各位置に均等に付与することができる。
このように、本発明の一態様にかかる流量調整装置１００によれば、弁体部１０と弁孔２０ｇの間から下流側流体室Ｆｒ２に流入する流体を下流側流体室Ｆｒ２内で滞留させることなく流出孔２６へ導いて流体の滞留による不具合を抑制することができる。
【００３８】
本実施形態の流量調整装置１００は、ダイヤフラム部３０の基部３０ａと円環状壁部２３とが接触した場合、連通流路２３ａが配置された位置を除くその他の位置で内側流路２４と外側流路２５との間の流体の流通が遮断される。
このようにすることで、ダイヤフラム部３０の基部３０ａと円環状壁部２３とが接触する開状態において、弁孔２０ｇから下流側流体室Ｆｒ２の内側流路２４へ流入した流体は、連通流路２３ａが配置された位置からその全量が外側流路２５へ流入し、他の位置からは外側流路２５へ流入しない。そのため、阻止壁２７により流出孔２６から隔離された位置から軸線Ｘ回りに略一周した流出孔２６の位置まで一方向に流通する流れをより確実に形成して流体の滞留を抑制することができる。
【符号の説明】
【００３９】
１０    弁体部
１１    取付部
１１ａ  ダイヤフラム
２０    本体部
２０ａ  第１本体部
２０ｂ  第２本体部
２０ｃ  第３本体部
２０ｄ  第４本体部
２０ｅ  流入側流路
２０ｆ  流出側流路
２０ｇ  弁孔
２１，２２  圧縮空気導入ポート
２３    円環状壁部
２３ａ  連通流路
２４    内側流路
２５    外側流路
２６    流出孔
２７    阻止壁
３０    ダイヤフラム部
３０ａ  基部
３０ｂ  薄膜部
３０ｃ  上板部
４０    流量調整部
５０    スプリング（付勢部材）
６０    スローリーク機構
６１    シャフト軸
６２    ピストン部
６３    ロックナット
６４    ロックキャップ
１００  流量調整装置
１００ａ  流入ポート
１００ｂ  流出ポート
Ｆｒ１  上流側流体室
Ｆｒ２  下流側流体室
Ｐｒ１  第１圧力室
Ｐｒ２  第２圧力室
Ｓ      設置面
Ｘ      軸線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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