(57)【要約】      （修正有）【課題】電波透過性を有する金属薄膜を備えるレーダカバーの製造方法において、金属薄膜の形成材料を削減可能なレーダカバーの製造方法の提供。【解決手段】隙間を空けて配置される複数の島部を有する構造の金属薄膜１２ｃを真空蒸着により基材１２ａの表面に形成するレーダカバーの製造方法。島部の基材１２ａの表面に沿う方向の寸法と基材の表面と直交する方向の寸法との比をイオンビームにより調整して金属薄膜１２ｃを形成する金属薄膜形成工程を有するレーダカバー前記蒸着材料が、Ｉｎであるの製造方法。【選択図】図５
2018070901.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
隙間を空けて配置される複数の島部を有する構造の金属薄膜を真空蒸着により基材の表面に形成するレーダカバーの製造方法であって、
前記島部の前記基材の表面に沿う方向の寸法と前記基材の表面と直交する方向の寸法との比をイオンビームにより調整して前記金属薄膜を形成する金属薄膜形成工程を有することを特徴とするレーダカバーの製造方法。
【請求項２】
前記金属薄膜形成工程にて、蒸着材料を前記イオンビームにより加速させて前記基材に衝突させることで、前記島部の前記基材の表面に沿う方向の寸法と前記基材の表面と直交する方向の寸法との比を調整することを特徴とする請求項１記載のレーダカバーの製造方法。
【請求項３】
前記金属薄膜形成工程は、
前記真空蒸着により前記基材の表面に前記金属薄膜を形成する成膜工程と、
前記成膜工程にて形成された前記金属薄膜の前記島部にイオンビームを照射して前記島部の前記基材の表面に沿う方向の寸法と前記基材の表面と直交する方向の寸法との比を調整する形状調整工程と
を有することを特徴とする請求項１記載のレーダカバーの製造方法。
【請求項４】
蒸着材料がインジウムであることを特徴とする請求項１〜３いずれか一項に記載のレーダカバーの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーダカバーの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、ミリ波等の電波を用いて車両の周囲の障害物等を検知するレーダユニットが車両に搭載されている。このようなレーダユニットは、車両の前面に設けられるラジエータグリルやエンブレムの内側に配置されており、エンブレム等を透過する電波の送受信を行う。このため、上述のようなレーダユニットを備える車両においては、エンブレム等は、電波の減衰を抑制しつつ当該電波を透過可能に形成する必要がある。
【０００３】
一方で、エンブレム等は、車両の前面に配置されることから、車両の意匠上、極めて重要な部分であり、高級感や質感を向上させるために金属光輝性を付与することが多い。従来は、このような金属光輝性を付与するため、めっき処理を施すことが一般的であったが、めっき層は電波を透過しない。このため、近年、金属光輝性を付与しかつ電波を透過可能とするため、電波が透過可能なインジウム（Ｉｎ）等の薄膜を真空蒸着にて形成する技術が用いられている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１１−４６１８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、上述のような電波が透過可能な金属製の薄膜は、隙間を空けて配置される複数の島部を有する不連続膜であることにより電波透過性を有している。真空蒸着では、これらの島部は、蒸着時間に応じて成長する。したがって、蒸着時間を長くすることにより、島部の蒸着面と直交する方向から見た面積が増加して光輝性が増すことになる。しかしながら、島部は、上記面積が広がると同時に蒸着面に直交する方向にも成長する。このため、従来、真空蒸着により光輝性の高い電波透過性の金属薄膜を形成しようとすると、必然的に金属薄膜の膜厚が厚くなり、レアメタルであるインジウム等の使用量が増加することになる。
【０００６】
本発明は、上述する問題点に鑑みてなされたもので、電波透過性を有する金属薄膜を備えるレーダカバーの製造方法において、金属薄膜の形成材料を削減可能とすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上記課題を解決するための手段として、以下の構成を採用する。
【０００８】
第１の発明は、隙間を空けて配置される複数の島部を有する構造の金属薄膜を真空蒸着により基材の表面に形成するレーダカバーの製造方法であって、上記島部の上記基材の表面に沿う方向の寸法と上記基材の表面と直交する方向の寸法との比をイオンビームにより調整して上記金属薄膜を形成する金属薄膜形成工程を有するという構成を採用する。
【０００９】
第２の発明は、上記第１の発明において、上記金属薄膜形成工程にて、蒸着材料を上記イオンビームにより加速させて上記基材に衝突させることで、上記島部の上記基材の表面に沿う方向の寸法と上記基材の表面と直交する方向の寸法との比を調整するという構成を採用する。
【００１０】
第３の発明は、上記第１の発明において、上記金属薄膜形成工程が、上記真空蒸着により上記基材の表面に上記金属薄膜を形成する成膜工程と、上記成膜工程にて形成された上記金属薄膜の上記島部にイオンビームを照射して上記島部の上記基材の表面に沿う方向の寸法と上記基材の表面と直交する方向の寸法との比を調整する形状調整工程とを有するという構成を採用する。
【００１１】
第４の発明は、上記第１〜第３のいずれかの発明において、蒸着材料がインジウムであるという構成を採用する。
【発明の効果】
【００１２】
真空蒸着により電波透過性を有する金属薄膜を形成する場合には、金属薄膜を構成する島部は、蒸着時間に依存して成長する。このとき、島部の幅寸法と厚さ寸法との比は蒸着時間によって略一義的に決定される。つまり、従来通りの真空蒸着では、蒸着時間が定まれば、その蒸着時間における島部の幅寸法と厚さ寸法は調整することができない。本発明によれば、島部の基材の表面に沿う方向の寸法（以下、幅寸法）と基材の表面と直交する方向の寸法（以下、厚さ寸法）との比をイオンビームにより調整して金属薄膜を形成する。このため、島部の幅寸法と厚さ寸法との比を単に真空蒸着を行う場合と比較して変化させることができる。したがって、本発明によれば、島部の厚さ寸法を抑えつつ、幅寸法を増加させることができ、金属薄膜の形成材料を削減することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の一実施形態におけるエンブレムの製造方法にて製造されたエンブレムを備えるラジエータグリルの正面図である。
【図２】本発明の一実施形態におけるエンブレムの製造方法にて製造されたエンブレムの拡大正面図である。
【図３】（ａ）は本発明のエンブレムの断面図であり、（ｂ）はエンブレムが備えるインナエンブレムの断面図である。
【図４】本発明の一実施形態におけるエンブレムの製造工程を説明するための模式図である。
【図５】本発明の一実施形態におけるエンブレムの製造工程で用いる真空蒸着装置の模式図である。
【図６】本発明の一実施形態におけるエンブレムの製造方法で形成される光輝性膜と、従来の製造方法で形成される光輝性膜とを比較した模式図である。
【図７】条件を変えて真空蒸着により光輝性膜を形成した場合の明度（Ｌ値）と、島部の厚さ寸法（膜厚）と、島部の平均幅寸法（島サイズ）とを比較した表である。
【図８】本発明の一実施形態におけるエンブレムの製造方法の変形例を説明するための模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、図面を参照して、本発明に係るレーダカバーの製造方法の一実施形態について説明する。なお、以下の図面において、各部材を認識可能な大きさとするために、各部材の縮尺を適宜変更している。
【００１５】
図１は、本発明に係るレーダカバーの製造方法により製造されるエンブレム１０（レーダカバー）を備えるラジエータグリル１の正面図である。また、図２は、本実施形態のエンブレム１０の拡大正面図である。また、図３は、（ａ）が、エンブレム１０の断面図であり、（ｂ）が、エンブレム１０が備えるインナエンブレム１２の断面図である。
【００１６】
ラジエータグリル１は、車両のエンジンルームに通じる開口を塞ぐように車両の前面に設けられており、エンジンルームへの通気を確保しかつエンジンルームへの異物の進入を防止している。ラジエータグリル１の中央には、エンジンルーム内に配置されるレーダユニットＲに対向するようにしてエンブレム１０が設けられている。レーダユニットＲ（図３（ａ）参照）は、例えばミリ波を発信する発信部、反射波を受信する受信部、及び、演算処理を行う演算部等を有している。このレーダユニットＲは、エンブレム１０を透過する電波の送受信を行い、受信した電波に基づいて車両の周囲状況を検知する。例えば、レーダユニットＲは、障害物までの距離や障害物の相対速度等を算出して出力する。
【００１７】
エンブレム１０は、レーダユニットＲを車両の正面側から見て覆うように配置されている。このエンブレム１０は、図２に示すように、車両の正面側から見て、車両メーカのエンブレムを示す図形や文字等を表す光輝領域１０Ａと、当該光輝領域１０Ａの視認性を向上させる黒色領域１０Ｂを有する部品である。このようなエンブレム１０は、図３（ａ）に示すように、透明部材１１と、インナエンブレム１２と、ベース部材１３とを備えている。
【００１８】
透明部材１１は、最も車両の外側に配置される略矩形状の透明材料により形成される部位である。この透明部材１１は、車両の外部からのインナエンブレム１２の視認性を高めるため、表側の面が円滑面とされている。また、透明部材１１の裏側の面には、インナエンブレム１２が配置される凹部１１ａが形成されている。また、透明部材１１の裏側の面の凹部１１ａが設けられていない領域は、ベース部材１３との固着面とされている。
【００１９】
凹部１１ａは、インナエンブレム１２を収容する部位であり、収容されたインナエンブレム１２を車両の前方側から立体的に視認可能とする。この凹部１１ａは、車両メーカのエンブレム等の図形や文字等の形状に沿って設けられている。このような凹部１１ａにインナエンブレム１２が収容されることによって、上述の光輝領域１０Ａが形成される。
【００２０】
このような透明部材１１は、例えば、無色のＰＣ（ポリカーボネート）やＰＭＭＡ（ポリメタクリル酸メチル樹脂）等の透明合成樹脂によって形成されており、１．５ｍｍ〜１０ｍｍ程度の厚さとされている。また、透明部材１１の表側の面には、必要に応じて、傷付き防止のためのハードコート処理、又はウレタン系塗料のクリヤコート処理が施される。なお、耐傷性を備える透明合成樹脂であれば、これらの傷付き防止処理は不要である。
【００２１】
インナエンブレム１２は、図３（ｂ）に示すように、基部１２ａと、ベースコート層１２ｂと、光輝性膜１２ｃ（金属薄膜）と、トップコート層１２ｄとを備えている。基部１２ａは射出成形等によって成形されており、例えばＡＢＳ、ＰＣ又はＰＥＴ等の合成樹脂によって形成されている。この基部１２ａは、透明部材１１の凹部１１ａを埋設する凸状の形状とされており、透明部材１１の凹部１１ａに嵌合される。ベースコート層１２ｂは、基部１２ａと光輝性膜１２ｃとの間に形成されており、基部１２ａと光輝性膜１２ｃとの密着性を向上させるためのものである。このベースコート層１２ｂは、例えば、透明（着色透明を含む）な合成樹脂を用いたクリヤー塗装によって形成されている。
【００２２】
光輝性膜１２ｃは、基部１２ａの表側の面（透明部材１１側の面）に形成されており、基部１２ａに被さるように配置された金属光輝性を備える層である。この光輝性膜１２ｃは、インジウム（Ｉｎ）からなる金属製の薄膜である。この光輝性膜１２ｃは、互いの間に隙間を有して配置される複数の島部１２ｃ１（図６参照）を有する構造であり、多数の微細な隙間を有する不連続膜である。このような光輝性膜１２ｃは、これらの隙間を通じて電波を透過可能とされている。
【００２３】
トップコート層１２ｄは、光輝性膜１２ｃを覆うように光輝性膜１２ｃ上に形成されており、光輝性膜１２ｃを保護するためのものである。このトップコート層１２ｄも、ベースコート層１２ｂと同様に、透明（着色透明を含む）な合成樹脂を用いたクリヤー塗装によって形成されている。
【００２４】
ベースコート層１２ｂ及びトップコート層１２ｄは、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）からなる透明セラミックコート層とすることもできる。この場合には、クリヤー塗装等によって形成される樹脂からなるベースコート層やトップコート層と比較して高い耐熱性を有すると共に、高い電波透過性を有する。
【００２５】
また、本実施形態において光輝性膜１２ｃは、ベースコート層１２ｂが形成された基部１２ａの表面に形成される。このため、本実施形態において、基材はベースコート層１２ｂ及び基部１２ａにより構成されている。なお、耐食性の高い光輝性膜１２ｃを用いる場合には、ベースコート層１２ｂを省略することも可能である。このような場合には、光輝性膜１２ｃが基部１２ａの表面に直接的に形成されるため、基材は基部１２ａにより構成されることになる。
【００２６】
ベース部材１３は、透明部材１１の裏側に固着される部位であり、黒色の樹脂材料から形成されている。このベース部材１３は、エンジンルーム側に突出する係合部１３ａを有している。この係合部１３ａは、先端部が爪状に成形されており、当該先端部が例えばラジエータグリル本体に係止される。このように透明部材１１の裏側の面に対して固着されたベース部材１３は、透明部材１１の外側から視認可能とされており、上述の黒色領域１０Ｂを形成している。このベース部材１３は、光輝領域１０Ａ以外の領域を黒色に視認させ、相対的に光輝領域１０Ａの視認性を向上させる。
【００２７】
このようなベース部材１３は、ＡＢＳ（アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合合成樹脂）、ＡＥＳ（アクリロニトリル・エチレン・スチレン共重合合成樹脂）、ＡＳＡ（アクリロニトリル・スチレン・アクリレート）、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）、有色のＰＣ、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）等の合成樹脂、又はこれらの複合樹脂からなり、０．５ｍｍ〜１０ｍｍ程度の厚さとされている。
【００２８】
続いて、本実施形態のエンブレム１０の製造方法について、図４〜図６を参照して説明する。図４は、本実施形態のエンブレム１０の製造方法について説明するための概略図である。また、図５は、本実施形態のエンブレム１０の製造方法において用いられる真空蒸着装置２０の模式図である。
【００２９】
まず、本実施形態のエンブレム１０の製造方法では、図４（ａ）に示すように、透明部材１１を形成する。例えば、透明部材１１は、射出成形により形成される。この射出成形により、凹部１１ａを有する透明部材１１を形成することができるため、後工程により凹部１１ａを形成する必要はない。なお、必要に応じて、透明部材１１の表面側（車両外側に向く面）あるいは全面には、耐傷性等を向上させるためのハードコート処理を施しても良い。
【００３０】
次に、図４（ｂ）に示すように、インナエンブレム１２の基部１２ａを形成する。例えば、基部１２ａは、射出成形により形成される。続いて、図４（ｃ）に示すように、ベースコート塗布工程を行う。ここでは、基部１２ａに対してクリヤー塗装を行い、その後乾燥させることによりベースコート層１２ｂを形成する。
【００３１】
続いて、図４（ｄ）に示すように、インジウム成膜工程（金属薄膜形成工程）を行う。ここでは、図５に示す真空蒸着装置２０によって、図４（ｄ）に示すように、ベースコート層１２ｂ上に光輝性膜１２ｃを形成する。図５に示すように、真空蒸着装置２０は、チャンバ２１と、蒸発源２２と、イオン照射部２３と、ホルダ２４と、ガス供給装置２５と、排気装置２６と、制御部２７とを備えている。なお、図５には示していないが、真空蒸着装置２０は、上記構成の他、シャッタ、ヒータ等の一般の真空蒸着装置と同様の構成を有している。また、図５は概念的な図であることから、インナエンブレム１２の基部１２ａを大きく１つのみ図示しているが、実際は多数の基部１２ａがホルダ２４に保持された状態でチャンバ２１の内部に配置される。
【００３２】
チャンバ２１は、蒸発源２２やイオン照射部２３が内部に配置され、蒸着対象の基部１２ａを収容する容器である。蒸発源２２は、蒸着材料であるインジウム（Ｉｎ）を保持する部材であり、チャンバ２１の底部に配置されている。イオン照射部２３は、チャンバ２１の底部であって蒸発源２２の側方に配置されている。このイオン照射部２３は、ガス供給装置２５から供給される導入ガス（例えばアルゴン（Ａｒ）ガス）をイオン化してイオンビームとしてホルダ２４に保持された基部１２ａに向けて照射する。
【００３３】
ホルダ２４は、チャンバ２１の上部に配置されており、不図示の支持機構により支持されている。このホルダ２４は、ベースコート層１２ｂが形成された基部１２ａを、ベースコート層１２ｂが下側（蒸発源２２側）に向くように保持する。なお、ホルダ２４は、複数の基部１２ａを保持可能とされている。ガス供給装置２５は、イオン照射部２３と接続されており、制御部２７の制御の下、定められた量の導入ガスをイオン照射部２３に供給する。排気装置２６は、チャンバ２１に接続されており、チャンバ２１の内部の空気を外部に排気し、チャンバ２１の内部を真空状態とする。制御部２７は、イオン照射部２３やガス供給装置２５に電気的に接続されており、イオン照射部２３やガス供給装置２５を制御する。
【００３４】
このような真空蒸着装置２０では、ホルダ２４が基部１２ａを保持した状態で、不図示のヒータによって蒸発源２２に保持された蒸着材料を蒸発させると共に、イオン照射部２３から基部１２ａに向けてイオンビームを照射する。このように、イオンビームを基部１２ａに向けて照射すると、イオン照射部２３にてイオン化された分子が、蒸発された蒸着材料を加速させ、蒸着材料の基部１２ａへの衝突速度を高める。このため、イオンビームを照射しない場合と比較して、蒸着材料を薄くかつ広く基部１２ａのベースコート層１２ｂ上に付着させることができる。
【００３５】
図６は、本実施形態の製造方法で形成される光輝性膜１２ｃと、従来の製造方法で形成される光輝性膜３０とを比較した模式図である。なお、本実施形態の製造方法は、インジウム（Ｉｎ）をベースコート層１２ｂ上に蒸着する場合に、上述のようにイオン照射部２３によってイオンの照射を行う製造方法である。また、従来の製造方法は、インジウム（Ｉｎ）をベースコート層１２ｂ上に蒸着するときに、イオンの照射を行わない製造方法である。図６では、実線にて本実施形態の製造方法で形成される光輝性膜１２ｃを示し、仮想線にて従来の製造方法で形成される光輝性膜３０を示している。
【００３６】
本実施形態の製造方法により形成される光輝性膜１２ｃは、隙間を空けて配置される複数の島部１２ｃ１によって形成されている。このような島部１２ｃ１の同士の隙間を電波が透過することにより、本実施形態の製造方法により形成される光輝性膜１２ｃは、電波透過性を有している。また、従来の製造方法で形成される光輝性膜３０も、隙間を空けて配置される複数の島部３１によって形成されており、電波透過性を有している。なお、図６は、模式図であり、実際には、光輝性膜１２ｃ及び光輝性膜３０の隙間は図６と比較して不規則に並んでいる。
【００３７】
一般的に、隙間を空けて配置される複数の島部を有する構造のインジウム（Ｉｎ）からなる金属薄膜は、厚さ寸法が１０ｎｍ以上でないと、車両の外装部品として要求される金属光沢が得られない。これは、真空蒸着により島部の厚さ寸法（基材の表面と直交する方向の寸法）に比例して島部の幅寸法（基材の表面に沿う方向の寸法）が大きくなるため、厚さ寸法が１０ｎｍまで成長しないと蒸着面に垂直な方向から見た島部の面積が金属光沢として人が知覚できる程度に成長しないためである。つまり、従来の製造方法で形成される光輝性膜３０は、図６において示す島部３１の厚さ寸法ｄ１が１０ｎｍ以上でないと、金属光沢が得られる幅寸法Ｄａが得られない。
【００３８】
一方で、本実施形態の製造方法で形成される光輝性膜１２ｃは、図６において示す島部１２ｃ１の厚さ寸法Ｄ１が、従来の製造方法で形成される光輝性膜３０の島部３１の厚さ寸法ｄ１よりも小さい状態で、金属光沢が得られる幅寸法Ｄａとなる。このように、本実施形態の製造方法では、イオンビームの照射により蒸着材料の衝突速度を調整することにより、島部の厚さ寸法Ｄ１が小さな状態で、金属光沢が得られる幅寸法Ｄａが得られる。つまり、本実施形態の製造方法では、イオンビームを照射しない場合と比較して、蒸着材料を薄くかつ広く基部１２ａのベースコート層１２ｂ上に付着させることができる。
【００３９】
図４に戻り、上述のように光輝性膜１２ｃの形成が完了すると、図４（ｅ）に示すように、光輝性膜１２ｃの表面に対してクリヤー塗装を行い、その後乾燥させることにより、トップコート層１２ｄを形成する。なお、これらの図４（ｂ）〜図４（ｅ）及び図５で示した工程によってインナエンブレム１２が形成される。なお、図４（ｂ）〜図４（ｅ）で示すインナエンブレム１２の形成工程は、図４（ａ）で示した透明部材１１の形成工程を待って行う必要はない。図４（ａ）で示した透明部材１１の形成工程と並行して、インナエンブレム１２を形成することによって、エンブレム１０の製造時間を短縮することができる。
【００４０】
次に、図４（ｆ）に示すように、インナエンブレム１２を透明部材１１の凹部１１ａに嵌合する。次に、図４（ｇ）に示すように、ベース部材１３を形成する。ここでは、凹部１１ａにインナエンブレム１２が設置された透明部材１１を、射出成形用の金型の内部に配置し、透明部材１１の背面側に溶融した樹脂を射出するインサート成形を行うことで、ベース部材１３を形成する。このようなベース部材１３は、インサート成形時の熱により透明部材１１と溶着され、インナエンブレム１２を覆うように配置される。これによって、インナエンブレム１２が透明部材１１に対して固定される。
【００４１】
以上のような工程で本実施形態のエンブレム１０が製造される。従来の製造方法では、図６に示す、金属光沢が得られる幅寸法Ｄａとするためには、島部３１の厚さ寸法を図６に示す厚さ寸法ｄ１以外に調整することができない。これに対して、本実施形態の製造方法によれば、島部１２ｃ１の幅寸法と厚さ寸法との比をイオンビームにより調整して光輝性膜１２ｃを形成する。このため、島部１２ｃ１の幅寸法と厚さ寸法との比を単に真空蒸着を行う場合と比較して変化させることができる。したがって、本実施形態の製造方法によれば、島部１２ｃ１の厚さ寸法を図６に示す厚さ寸法Ｄ１に抑えつつ、所望の金属光沢が得られる幅寸法Ｄａにすることができ、光輝性膜１２ｃの形成材料を削減することが可能となる。
【００４２】
図７は、条件を変えて真空蒸着により光輝性膜を形成した場合の明度（Ｌ値）と、島部の厚さ寸法（膜厚）と、島部の平均幅寸法（島サイズ）とを比較した表である。図７の「Ｎｏ．１」で示す光輝性膜は、従来の製造方法で形成し、インジウム（Ｉｎ）の使用量を１ｇとしたものである。また、図７の「Ｎｏ．２」で示す光輝性膜は、従来の製造方法で形成し、インジウム（Ｉｎ）の使用量を０．５ｇとしたものである。また、図７の「Ｎｏ．３」で示す光輝性膜は、本実施形態の製造方法で形成し、インジウム（Ｉｎ）の使用量を０．５ｇとし、イオン化されるガスをアルゴン（Ａｒ）ガスとし、イオンビームのエネルギ量を３００ｅＶとしたものである。また、図７の「Ｎｏ．４」で示す光輝性膜は、従来の製造方法で形成し、インジウム（Ｉｎ）の使用量を０．１５ｇとしたものである。また、図７の「Ｎｏ．５」で示す光輝性膜は、本実施形態の製造方法で形成し、インジウム（Ｉｎ）の使用量を０．１ｇとし、イオン化されるガスをアルゴン（Ａｒ）ガスとし、イオンビームのエネルギ量を３００ｅＶとしたものである。
【００４３】
「Ｎｏ．１」と「Ｎｏ．２」とを比較すると、「Ｎｏ．１」の明度（Ｌ値）が８１．２４であるのに対して、「Ｎｏ．２」の明度（Ｌ値）が６７．４７となっている。これは、インジウム（Ｉｎ）の使用量を減少させると、明度（Ｌ値）が低下することを示している。つまり、島サイズ（幅寸法）が少ないと、明度（Ｌ値）が低下し、金属光沢が失われることが分かる。
【００４４】
「Ｎｏ．２」と「Ｎｏ．３」とを比較すると、「Ｎｏ．２」の明度（Ｌ値）が６７．４７、厚さ寸法（膜厚）が４８ｎｍ、島サイズ（幅寸法）が４６ｎｍであるのに対して、「Ｎｏ．３」の明度（Ｌ値）が８０．４９、厚さ寸法（膜厚）が３０ｎｍ、島サイズ（幅寸法）が７２ｎｍとなっている。これは、本実施形態の製造方法によれば、島部の厚さ寸法が小さくても、島部の幅寸法を従来の製造方法よりも広く確保し、明度（Ｌ値）が高くなることを示している。つまり、本実施形態の製造方法によれば、蒸着材料の使用量を少なくしても、所望の金属光沢が得られることが分かる。
【００４５】
「Ｎｏ.４」と「Ｎｏ．５」とを比較すると、「Ｎｏ．４」の明度（Ｌ値）が４１．５３、厚さ寸法（膜厚）が１０ｎｍであるのに対して、「Ｎｏ．５」の明度（Ｌ値）が５３．３６、厚さ寸法（膜厚）が６ｎｍとなっている。これは、本実施形態の製造方法によれば、厚さ寸法（膜厚）が６ｎｍ程度で、従来金属光沢性を発揮できる下限の厚さ寸法（膜厚）である１０ｎｍと同様の明度（Ｌ値）が得られることを示している。つまり、本実施形態の製造方法によれば、６ｎｍ程度の膜厚で金属光沢を得ることができることが分かった。
【００４６】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されないことは言うまでもない。上述した実施形態において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の趣旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
【００４７】
例えば、上記実施形態においては、エンブレム１０を製造するときに、基部１２ａ側に光輝性膜１２ｃを形成した後に、基部１２ａを凹部１１ａに嵌合する構成について説明した。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、凹部１１ａの内面に光輝性膜１２ｃを形成し、その後、基部１２ａを嵌合させる構成を採用することも可能である。この場合には、透明部材１１（トップコート層１２ｄを形成する場合にはトップコート層１２ｄも含む）が基材となる。
【００４８】
また、上記実施形態においては、蒸着材料を真空蒸着するときに同時にイオンビームを照射することにより、島部の厚さ寸法と幅寸法とを調整する構成を採用した。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではない。金属薄膜を形成する成膜工程と、島部の厚さ寸法と幅寸法との比を調整する形状調整工程とを別工程で行うことも可能である。このような場合には、例えば、まず図８（ａ）に示すように、イオンビームの照射を行わずに、幅寸法が所望の金属光沢が得られる幅寸法よりも狭い島部４０を形成する（成膜工程）。このような島部４０が形成された後、イオンビームを島部４０に照射すると、図８（ｂ）に示すように、島部４０がイオンの衝突により扁平状に潰される。この結果、島部４０の厚さ寸法が減少すると共に、島部４０の幅寸法が増加する。そして、島部４０の幅寸法が所望の金属光沢が得られる幅寸法となるまでイオンビームの照射を行う（形状調整工程）。このように、成膜工程と形状調整工程とを別工程で行うことにより、島部の厚さ寸法と幅寸法とを島部の形成と切り離して行うことができ、島部の厚さ寸法と幅寸法とをより細かく調整することが可能となる。
【００４９】
さらに、成膜工程と形状調整工程とを別工程で行うと、島部４０にイオン分子が衝突することにより、島部４０の表面に微小な凹凸を形成することができる。このため、島部４０の表面積を増加し、トップコート層１２ｄと光輝性膜１２ｃとの密着性を向上させることができる。また、島部４０の表面に微小な凹凸を形成することにより、島部４０の表面の光の反射状態を変化させることができ、光輝性膜１２ｃの視認性を調整することが可能となる。
【００５０】
また、上記実施形態においては、蒸着材料がインジウム（Ｉｎ）である構成について説明した。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、蒸着材料をアルミニウム（Ａｌ）等の他の材料とすることも可能である。
【００５１】
また、上記実施形態においては、本発明のレーダカバーをエンブレム１０に適用した構成について説明した。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、エンブレム以外の箇所に設置されるレーダカバーに適用することも可能である。
【符号の説明】
【００５２】
１０……エンブレム（レーダカバー）、１２……インナエンブレム、１２ａ……基部、１２ｂ……ベースコート層、１２ｃ……光輝性膜（金属薄膜）、１２ｃ１……島部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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