(57)【要約】【課題】配向欠陥の発生が抑制された光学デバイスを提供する。【解決手段】光学デバイス１００は、第一基板１０と、第二基板２０と、凹凸構造体３１と、第二電極層２２の表面に形成された配向膜６０ａと、凹凸構造体３１の凹部３４に配置された、複数の液晶分子３２ａを含む液晶層３２とを備える。複数の凸部３３のそれぞれは、Ｘ軸方向を長手方向とする長尺状であり、複数の凸部３３は、Ｚ軸方向に並ぶ。Ｙ軸方向から見た場合に、複数の液晶分子３２ａは、長手方向が第Ｘ軸方向に沿うように配置される。Ｚ軸方向から見た場合、複数の液晶分子３２ａは、第二基板２０の主面に対して同じ向きに傾斜している。【選択図】図７
2018138963.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一基材層及び第一電極層を有する透光性の第一基板と、
第二基材層及び第二電極層を有する透光性の第二基板と、
前記第一電極層及び前記第二電極層の間に配置され、前記第二電極層に向かって突出した複数の凸部を有する凹凸構造体と、
前記第二電極層の表面、及び、前記凹凸構造体の表面の少なくとも一方に形成された配向膜と、
前記凹凸構造体のうち前記複数の凸部の間の凹部に配置された、複数の液晶分子を含む液晶層とを備え、
前記複数の凸部のそれぞれは、前記第二基板の主面に沿う第一方向を長手方向とする長尺状であり、
前記複数の凸部は、前記第二基板の主面に沿う第二方向であって前記第一方向に交差する第二方向に並び、
前記第二基板の主面に垂直な第三方向から見た場合に、前記複数の液晶分子は、長手方向が前記第一方向に沿うように配置され、
前記第二方向から見た場合、前記複数の液晶分子は、前記第二基板の主面に対して同じ向きに傾斜している
光学デバイス。
【請求項２】
前記配向膜は、前記第二電極層の表面に形成される
請求項１に記載の光学デバイス。
【請求項３】
前記配向膜は、前記凹凸構造体の表面に形成される
請求項１に記載の光学デバイス。
【請求項４】
前記配向膜は、前記第二電極層の表面、及び、前記凹凸構造体の表面の両方に形成される
請求項１に記載の光学デバイス。
【請求項５】
前記配向膜は、前記凹凸構造体の前記凹部の表面に形成される
前記凹部は、前記第二方向の一端側が前記第二方向の他端側よりも低い第一傾斜面、及び、前記第二方向の前記一端側が前記第二方向の前記他端側よりも高い第二傾斜面を有し、
前記第三方向から見た場合に、
前記複数の液晶分子は、前記凹部の底面の上方に位置し、長手方向が前記第一方向に沿うように配置され、
前記液晶層に含まれる複数の液晶分子であって前記第一傾斜面の上方に位置する複数の液晶分子は、長手方向が前記第一方向と第一角度で交差するように配置され、
前記液晶層に含まれる複数の液晶分子であって前記第二傾斜面の上方に位置する複数の液晶分子は、長手方向が前記第一方向と第二角度で交差するように配置される
請求項３または４に記載の光学デバイス。
【請求項６】
前記第一角度及び前記第二角度のそれぞれは、０°より大きく４５°以下である
請求項５に記載の光学デバイス。
【請求項７】
前記凹凸構造体の表面のうち少なくとも前記凹部の底面には、前記配向膜としてＳｉＯ２膜が形成される
請求項３または４に記載の光学デバイス。
【請求項８】
第一基材層に第一電極層が形成された透光性の第一基板の前記第一電極層上に、複数の凸部を有する凹凸構造体を配置し、
前記凹凸構造体上に配向膜を形成し、
前記凹凸構造体のうち前記複数の凸部の間の凹部に形成された前記配向膜上に液晶層を配置し、
第二基材層に第二電極層が形成された透光性の第二基板を、前記第二電極層が前記液晶層側を向くように配置し、
前記第一基板と前記第二基板とを接着部材によって固定し、
前記複数の凸部のそれぞれは、前記第二電極層に向かって突出し、かつ、前記第二基板の主面に沿う第一方向を長手方向とする長尺状であり、
前記複数の凸部は、前記第二基板の主面に沿う第二方向であって前記第一方向に交差する第二方向に並び、
前記凹部は、前記第二方向の一端側が前記第二方向の他端側よりも低い第一傾斜面、及び、前記第二方向の前記一端側が前記第二方向の前記他端側よりも高い第二傾斜面を有し、
前記配向膜の形成においては、
前記第一傾斜面に配置された前記配向膜の基材に、第一偏光軸を有する偏光紫外光を照射し、かつ、
前記第二傾斜面に配置された前記配向膜の基材に、前記第一偏光軸と交差する第二偏光軸を有する偏光紫外光を照射する
光学デバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、入射する光の配光を制御することができる光学デバイス、及び、その製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶材料を用いた光学デバイスが知られている。このような光学素子として、特許文献１には、光源とリフレクタとレンズとを有する灯具において、光源とレンズとの間に配置されて灯具の配光制御を可能にする液晶光学素子が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−７９４５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、液晶材料を用いた光学デバイスにおいては、配光制御時に複数の液晶分子が異なる方向に回転することにより、配向欠陥（配光制御が行われない領域）が発生することが課題である。
【０００５】
本発明は、配向欠陥の発生が抑制された光学デバイス、及び、その製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一態様に係る光学デバイスは、第一基材層及び第一電極層を有する透光性の第一基板と、第二基材層及び第二電極層を有する透光性の第二基板と、前記第一電極層及び前記第二電極層の間に配置され、前記第二電極層に向かって突出した複数の凸部を有する凹凸構造体と、前記第二電極層の表面、及び、前記凹凸構造体の表面の少なくとも一方に形成された配向膜と、前記凹凸構造体のうち前記複数の凸部の間の凹部に配置された、複数の液晶分子を含む液晶層とを備え、前記複数の凸部のそれぞれは、前記第二基板の主面に沿う第一方向を長手方向とする長尺状であり、前記複数の凸部は、前記第二基板の主面に沿う第二方向であって前記第一方向に交差する第二方向に並び、前記第二基板の主面に垂直な第三方向から見た場合に、前記複数の液晶分子は、長手方向が前記第一方向に沿うように配置され、前記第二方向から見た場合、前記複数の液晶分子は、前記第二基板の主面に対して同じ向きに傾斜している。
【０００７】
本発明の一態様に係る光学デバイスの製造方法は、第一基材層に第一電極層が形成された透光性の第一基板の前記第一電極層上に、複数の凸部を有する凹凸構造体を配置し、前記凹凸構造体上に配向膜を形成し、前記凹凸構造体のうち前記複数の凸部の間の凹部に形成された前記配向膜上に液晶層を配置し、第二基材層に第二電極層が形成された透光性の第二基板を、前記第二電極層が前記液晶層側を向くように配置し、前記第一基板と前記第二基板とを接着部材によって固定し、前記複数の凸部のそれぞれは、前記第二電極層に向かって突出し、かつ、前記第二基板の主面に沿う第一方向を長手方向とする長尺状であり、前記複数の凸部は、前記第二基板の主面に沿う第二方向であって前記第一方向に交差する第二方向に並び、前記凹部は、前記第二方向の一端側が前記第二方向の他端側よりも低い第一傾斜面、及び、前記第二方向の前記一端側が前記第二方向の前記他端側よりも高い第二傾斜面を有し、前記配向膜の形成においては、前記第一傾斜面に配置された前記配向膜の基材に、第一偏光軸を有する偏光紫外光を照射し、かつ、前記第二傾斜面に配置された前記配向膜の基材に、前記第一偏光軸と交差する第二偏光軸を有する偏光紫外光を照射する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、配向欠陥の発生が抑制された光学デバイス、及び、その製造方法が実現される。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、実施の形態１に係る光学デバイスの平面図である。
【図２】図２は、図１のＩＩ−ＩＩ線における光学デバイスの断面図である。
【図３】図３は、第一モードの光学デバイスに入射した光の進行方向を説明するための図である。
【図４】図４は、第二モードの光学デバイスに入射した光の進行方向を説明するための図である。
【図５】図５は、光学デバイスの使用例を示す第一の図である。
【図６】図６は、光学デバイスの使用例を示す第二の図である。
【図７】図７は、第一モードの光学デバイスにおける液晶分子の配置を示す図である。
【図８】図８は、第二モードの光学デバイスにおける液晶分子の配置を示す図である。
【図９】図９は、実施の形態２に係る光学デバイスの第一モードにおける液晶分子の配置を示す図である。
【図１０】図１０は、実施の形態２に係る光学デバイスの製造方法のフローチャートである。
【図１１】図１１は、実施の形態２に係る光学デバイスの製造方法における、配向膜の形成方法を説明するための図である。
【図１２】図１２は、偏光紫外光の偏光方向を示す図である。
【図１３】図１３は、光軸を傾けることによる偏光紫外光の選択的な照射を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明の実施の形態について説明する。なお、以下に説明する実施の形態は、いずれも本発明の好ましい一具体例を示すものである。したがって、以下の実施の形態で示される、数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置及び接続形態、ステップ、ステップの順序などは、一例であって本発明を限定する主旨ではない。よって、以下の実施の形態における構成要素のうち、本発明の最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。
【００１１】
各図は、模式図であり、必ずしも厳密に図示されたものではない。したがって、各図において縮尺等は必ずしも一致していない。各図において、実質的に同一の構成に対しては同一の符号を付しており、重複する説明は省略または簡略化する。
【００１２】
また、本明細書及び図面において、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸は、三次元直交座標系の三軸を表しており、実施の形態では、Ｚ軸方向を鉛直方向とし、Ｚ軸に垂直な方向（ＸＹ平面に平行な方向）を水平方向としている。Ｘ軸及びＹ軸は、互いに直交し、かつ、いずれもＺ軸に直交する軸である。なお、Ｚ軸方向のプラス方向を鉛直下方としている。
【００１３】
また、本明細書において、Ｘ軸方向は、第一基板または第二基板の主面に沿う第一方向の一例であり、Ｚ軸方向は、第一基板または第二基板の主面に沿う第二方向であって、第一方向と交差する第二方向の一例である。Ｙ軸方向は、第一基板または第二基板の主面に垂直な第三方向の一例である。本明細書において、「平面視」とは、第三方向から見たときのことをいう。
【００１４】
（実施の形態１）
［全体構成］
まず、実施の形態１に係る光学デバイスの構成について、図１及び図２を用いて説明する。図１は、実施の形態１に係る光学デバイスの平面図である。図２は、図１のＩＩ−ＩＩ線における光学デバイスの断面図である。
【００１５】
光学デバイス１００は、光学デバイス１００に入射する光を制御する光制御デバイスである。具体的には、光学デバイス１００は、光学デバイス１００に入射する光の進行方向を変更して（つまり配光して）出射させることができる配光制御素子である。
【００１６】
図１に示されるように、平面視において、光学デバイス１００は、本体部１０１と、第一端子部１０ａと、第二端子部２０ａとを備える。
【００１７】
本体部１０１は、固定領域１０２によって囲まれた、平面視形状が矩形の部分であり、光学デバイス１００に入射する光の進行方向を制御することができる部分である。本体部１０１は、配光制御領域（アクティブ領域）を含む。配光制御領域は、光学デバイス１００に入射した光の配光制御が実質的に可能な領域（実効領域）である。
【００１８】
第一端子部１０ａ及び第二端子部２０ａは、固定領域１０２の外側に位置する、光学デバイス１００へ給電するための端子構造であり、ワイヤ等またはリード線等によって外部電源と電気的に接続される。第一端子部１０ａ及び第二端子部２０ａには、交流電圧が印加されてもよいし直流電圧が印加されてもよい。
【００１９】
図２に示されるように、光学デバイス１００は、具体的には、透光性の第一基板１０と、第一基板１０に対向して配置された透光性の第二基板２０と、第一基板１０及び第二基板２０の間に配置された光制御層３０と、接着部材４０と、封止部材５０と、配向膜６０ａと、配向膜６０ｂとを備える。以下、これらの各構成要素について、図１及び図２を参照しながら詳細に説明する。
【００２０】
［第一基板、第二基板］
第一基板１０は、透光性を有する基板であり、第一基材層１１及び第一電極層１２を有する。第一電極層１２は、第一基材層１１の一方の主面に配置されている。また、第二基板２０は、透光性を有する基板であり、第二基材層２１及び第二電極層２２を有する。第二電極層２２は、第二基材層２１の一方の主面に配置されている。
【００２１】
本体部１０１において、第一基板１０と第二基板２０とは、第一基板１０が有する第一電極層１２と、第二基板２０が有する第二電極層２２とが対向するように、所定の間隔をあけて配置されている。つまり、第一基板１０及び第二基板２０は、互いに一方が他方に対向して配置された対向基板である。
【００２２】
第一基材層１１及び第二基材層２１は、透光性を有する材料によって形成される。第一基材層１１及び第二基材層２１は、例えば、樹脂材料によって形成される。具体的な樹脂材料としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、アクリル（ＰＭＭＡ）またはエポキシ等が挙げられる。
【００２３】
第一基材層１１及び第二基材層２１は、シート状のリジッドな材料で形成されなくてもよい。第一基材層１１及び第二基材層２１は、可撓性を有するフィルム状のフレキシブルな材料で形成されてもよい。リジッドな材料としては、例えば、ＰＣまたはＰＭＭＡ等が挙げられ、また、フレキシブルな材料としては、ＰＥＴ、ＰＥＮ、ＰＳ、ＰＶＡ、ＴＡＣ等が挙げられる。
【００２４】
なお、第一基材層１１及び第二基材層２１は、ソーダガラス、無アルカリガラス、または高屈折率ガラス等のガラス材料によって形成されてもよい。第一基材層１１と第二基材層２１は、同じ材料で構成されていてもよいし、異なる材料で構成されていてもよい。
【００２５】
なお、第一基材層１１及び第二基材層２１の平面視形状は、例えば、矩形状（正方形または長方形）であるが、これに限るものではなく、円形または四角形以外の多角形であってもよく、任意の形状が採用され得る。実施の形態１において、第一基材層１１及び第二基材層２１は、ＰＥＴによって形成される。
【００２６】
第一電極層１２は、第一基材層１１と光制御層３０との間に配置されている。具体的には、第一電極層１２は、第一基材層１１の一方の主面（光制御層３０側の主面）に形成されている。第一電極層１２は、べた電極であり、第一基材層１１の一方の主面のほぼ全面に薄膜状に形成されている。
【００２７】
一方、第二電極層２２は、光制御層３０（配向膜６０ａ）と第二基材層２１との間に配置されている。具体的には、第二電極層２２は、第二基材層２１の一方の主面（光制御層３０側の主面）に形成されている。第二電極層２２は、べた電極であり、第二基材層２１の一方の主面のほぼ全面に薄膜状に形成されている。
【００２８】
第一電極層１２及び第二電極層２２は、電気的に対となっており、光制御層３０に電界を与えることができる。第一電極層１２及び第二電極層２２に印加される電圧が変更されることで光制御層３０の液晶層３２に含まれる液晶分子の配向状態を変化させることができる。これにより、液晶層３２の屈折率を変化させることができる。
【００２９】
第一電極層１２及び第二電極層２２は、透光性及び導電性を有する材料によって形成される。このような材料としては、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、ＺｎＯ（Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、ＺｎＯにＧａをドープしたＧＺＯ、ＺｎＯにＡｌをドープしたＡＺＯ等の透明金属酸化物、銀ナノワイヤや導電性粒子等の導電体を含有する樹脂からなる導電体含有樹脂、または、銀薄膜等の金属薄膜等が例示される。なお、第一電極層１２及び第二電極層２２は、これらの材料の単層構造であってもよし、これらの材料の積層構造（例えば、透明金属酸化物と金属薄膜との積層構造）であってもよい。
【００３０】
［光制御層］
光制御層３０は、透光性を有しており、入射した光を透過させる。また、光制御層３０は、入射した光を配光することができる配光層として機能する。つまり、光制御層３０は、光制御層３０を通過する際の光の進行方向を変更することができる。
【００３１】
光制御層３０は、第一電極層１２及び第二電極層２２の間に配置され、凹凸構造体３１及び液晶層３２を有する。凹凸構造体３１と液晶層３２とは接している。
【００３２】
凹凸構造体３１は、第一電極層１２及び第二電極層２２の間に配置され、第二電極層２２に向かって突出した複数の凸部を有する。複数の凸部のそれぞれは、マイクロオーダサイズまたはナノオーダサイズの凸部である。複数の凸部は、ストライプ状に形成されている。具体的には、複数の凸部のそれぞれは、断面形状が台形であって、Ｘ軸方向を長手方向とする長尺状の略四角柱形状である。複数の凸部は、Ｚ軸方向に等間隔に並んで配置されている。各凸部の高さは、例えば、１００ｎｍ以上１００μｍ以下である。また、隣り合う凸部の間隔は、例えば、１００μｍ以下の所定の間隔である。
【００３３】
複数の凸部のそれぞれの断面形状は、より具体的には、第一基板１０（第一電極層１２）から第二基板２０（第二電極層２２）に向かうにつれて細くなるテーパ形状である。一つの凸部が有する一対の側面の各々は、厚み方向に対して所定の傾斜角で傾斜する傾斜面であり、一対の側面の間隔（凸部の幅）は、第一基板１０から第二基板２０に向かって漸次小さくなっている。なお、凸部は、略四角柱形状に限定されず、断面形状が三角形の略三角柱形状であってもよいし、その他の形状であってもよい。
【００３４】
凸部の側面は、凸部と液晶層３２との界面となっている。第一基板１０側から凹凸構造体３１に入射した光は、凸部の側面（凸部と液晶層３２との界面）において、凹凸構造体３１と液晶層３２との屈折率差に応じて反射及び屈折したり、反射及び屈折せずにそのまま透過したりする。なお、凹凸構造体３１においては、隣り合う凸部は根元部分で互いに連結されているが、分離されていてもよい。
【００３５】
凹凸構造体３１（凸部）の材料は、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、または、シリコーン樹脂等の光透過性を有する樹脂材料である。凹凸構造体３１は、例えば、モールド成形、または、ナノインプリント等によって形成することができる。実施の形態１では、凹凸構造体３１（凸部）は、屈折率が１．５のアクリル樹脂によって構成されている。
【００３６】
液晶層３２は、凹凸構造体３１のうち複数の凸部の間の凹部に配置される。液晶層３２は、液晶分子を含む液晶材料によって構成されている。液晶材料は、例えば、液晶分子が棒状分子からなるネマティック液晶またはコレステリック液晶等である。なお、液晶材料は、ツイストネマティック液晶（ＴＮ液晶）等であってもよい。
【００３７】
液晶層３２の液晶分子は、複屈折性を有する。実施の形態１では、凹凸構造体３１の屈折率が１．５であるので、液晶層３２には、常光屈折率（ｎｏ）が１．５で、異常光屈折率（ｎｅ）が１．７であるポジ型の液晶材料が用いられている。なお、液晶層３２にはネガ型の液晶材料が用いられてもよい。
【００３８】
液晶層３２は、電界が与えられることによって可視光領域での屈折率が調整可能な屈折率調整層として機能する。具体的には、液晶層３２は、電界応答性を有する液晶分子を有する液晶によって構成されているので、液晶層３２に電界が与えられることにより（つまり、第一電極層１２及び第二電極層２２に電圧が印加されることにより）で液晶分子の配向状態が変化して液晶層３２の屈折率が変化する。
【００３９】
［接着部材］
接着部材４０は、レーザ光を吸収するレーザ光吸収材を含有する樹脂材料によって形成される。レーザ光吸収材は、例えば、ファイバーレーザ（１０７０ｎｍ）、Ｎｄ：ＹＡＧレーザ（１０６４ｎｍ）、または、半導体レーザ（８０８ｎｍ、８４０ｎｍ、９４０ｎｍ）等の赤外線のレーザ光を吸収できる材料によって構成されているとよい。レーザ光吸収材は、例えば、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、ジチオール金属錯体、ナフトキノン化合物、ジインモニウム化合物、または、アゾ化合物等の有機材料によって形成される。
【００４０】
図２に示されるように、接着部材４０は、第一基板１０と第二基板２０との間に配置されている。具体的には、接着部材４０は、第一基板１０の第一電極層１２と第二基板２０の第二電極層２２とに接触している。
【００４１】
また、接着部材４０は、図１に示される固定領域１０２に対応する位置に配置されている。つまり、接着部材４０は、矩形状の第一基板１０（第二基板２０）の外周端部に沿って、矩形環状に形成されている。
【００４２】
接着部材４０にレーザ光が照射されると、レーザ光吸収材がレーザ光を吸収して発熱する。この熱によって接着部材４０が溶融し、第一基板１０と第二基板２０とが接着部材４０によって接着される。このように、接着部材４０は、第一基板１０と第二基板２０とを接着する接着材として機能する。
【００４３】
なお、接着部材４０には、第一基板１０と第二基板２０とのギャップを一定の間隔に維持するための粒状のスペーサが分散されていてもよい。スペーサとしては、樹脂ビーズ、ガラスビーズまたはシリカ粒子等の粒状スペーサ等を用いることができる。
【００４４】
［封止部材］
封止部材５０は、接着剤等のシール樹脂であり、第一基板１０及び第二基板２０の端部に沿って、第一基板１０及び第二基板２０を囲むように第一基板１０及び第二基板２０の全周に形成される。具体的には、封止部材５０は、断面視において、第一基板１０のはみ出し部の表面から第二基板２０の端縁を覆うように形成されている。
【００４５】
封止部材５０は、固定領域１０２よりも外側の領域に形成されている。液晶層３２は、固定領域１０２において接着部材４０によって封止されているが、さらに封止部材５０を形成することによって液晶層３２の封止性能を補強することができる。つまり、封止部材５０は補強用シール部材であり、封止部材５０を形成することで液晶層３２を二重に封止することができる。また、このような二重の封止によれば、外部から光制御層３０内に水分等が侵入することを一層抑制することができる。このように、封止部材５０によれば、封止性能が向上し、信頼性を向上させることができる。
【００４６】
［配向膜］
配向膜６０ａは、第二電極層２２（第二基板）の表面に形成される透明の膜である。配向膜６０ａは、ポリイミドなどの有機材料である基材を第二電極層２２（第二基板）の表面に塗布した後、当該基材にラビング処理が施されることによって形成される。ラビング処理は、例えば、布が巻き付けられたローラーを回転させて、上記基材を一方向（ラビング方向）に沿ってこする処理である。布の材料としては、再生セルロース、レーヨン、ナイロン、または、ポリエチレン等が例示される。ラビング方向は、例えば、Ｘ軸方向に平行な方向である。このような配向膜６０ａによれば、液晶層３２に含まれる液晶分子にプレチルトを付与することができる。
【００４７】
配向膜６０ｂは、凹凸構造体３１の表面に形成される透明の膜である。配向膜６０ｂは、例えば、ＳｉＯ２膜であり、例えば、蒸着により凹凸構造体３１の表面に形成される。ＳｉＯ２膜は、いわゆるフリーサーフェス膜であり、液晶分子に分子間力を作用させにくい。言い換えれば、ＳｉＯ２膜は、ＳｉＯ２膜の近傍に配置された液晶分子３２ａの自由エネルギーを下げることができる。この結果、液晶分子は、凹凸構造体３１の凹部の形状と液晶分子自身の作用とに応じて配向する。このように、ＳｉＯ２膜は、凹凸構造体３１の凹部に配置されることによって配向膜６０ｂとして機能する。配向膜６０ｂによれば、液晶層３２に含まれる液晶分子を凹部の延伸方向（Ｘ軸方向）に沿って寝かせることができる。
【００４８】
なお、図２では、配向膜６０ｂは、凹凸構造体３１の表面のうち凹部の底面にのみ選択的に形成されているが、凹凸構造体３１の表面の全域に形成されてもよい。配向膜６０ｂは、凹凸構造体３１の表面のうち少なくとも凹部の底面に形成されればよい。
【００４９】
このように、凹凸構造体３１に形成される配向膜６０ｂとして配向処理が不要な無機配向膜が用いられることにより、配向処理によって凹凸構造体３１が劣化したり凹凸構造体３１を傷つけたりすることが抑制される。
【００５０】
なお、光学デバイス１００においては、配向膜は、第二電極層２２の表面、及び、凹凸構造体３１の表面の両方に形成されているが、配向膜は、第二電極層２２の表面、及び、凹凸構造体３１の表面の少なくとも一方に形成されればよい。
【００５１】
［光学デバイスの動作］
次に、光学デバイス１００の動作について説明する。光学デバイス１００は、第一端子部１０ａ（第一電極層１２）及び第二端子部２０ａ（第二電極層２２）に電圧が印加されていない電圧無印加状態において第一モードとなり、第一端子部１０ａ及び第二端子部２０ａに電圧が印加されている電圧印加状態において第二モードとなる。図３は、第一モードの光学デバイス１００に入射した光の進行方向を説明するための図であり、図４は、第二モードの光学デバイス１００に入射した光の進行方向を説明するための図である。
【００５２】
まず、第一モードについて説明する。実施の形態１では、液晶層３２の液晶材料は、異常光屈折率が１．７で、常光屈折率が１．５のポジ型である。また、凹凸構造体３１の屈折率は１．５である。第一モードの光学デバイス１００においては、液晶層３２の液晶分子３２ａは、第一基板１０及び第二基板２０に対して水平に配向し、液晶層３２の屈折率は、１．７である。この場合、凹凸構造体３１と液晶層３２との間には屈折率差がある。
【００５３】
したがって、図３に示されるように、第一モードの光学デバイス１００に対して斜め方向から入射する入射光（例えば太陽光）は、凹凸構造体３１と液晶層３２との界面（凹凸構造体３１の凸部の上側の側面）で全反射し、進行方向が曲げられて光学デバイス１００から外部に出射する。
【００５４】
一方、第二モードの光学デバイス１００においては、液晶層３２の液晶分子３２ａは、第一基板１０及び第二基板２０に対して垂直に配向する垂直配向となる。この場合、液晶層３２の屈折率は、１．５であり、凹凸構造体３１と液晶層３２との間の屈折率差はない。
【００５５】
したがって、図４に示されるように、第二モードの光学デバイス１００に対して斜め方向から入射する入射光は、凹凸構造体３１と液晶層３２との界面で屈折及び反射することなく直進して光学デバイス１００から外部に出射する。
【００５６】
このように、光学デバイス１００は、凹凸構造体３１と液晶層３２との屈折率のマッチングが電圧（電界）によって変化するアクティブ型の光制御デバイスである。
【００５７】
光学デバイス１００は、例えば、窓に貼り合わされて使用される。図５及び図６は、光学デバイスの使用例を示す図である。
【００５８】
図５及び図６に示されるように、光学デバイス１００が建物９０の窓９１に設置されることで、窓９１に配光機能が付与される。光学デバイス１００は、例えば、粘着層を介して窓９１の室内側に貼り合わされる。このとき、光学デバイス１００は、第一基板１０が室外側に位置し、第二基板２０が室内側に位置するように配置されている。
【００５９】
図５に示されるように、第一モードの光学デバイス１００は、太陽光を建物９０の室内の天井に照射する。一方、図６に示されるように、第二モードの光学デバイス１００は、太陽光を建物９０の室内の床面に照射する。
【００６０】
［液晶分子の配置］
光学デバイス１００においては、配向膜６０ａ及び配向膜６０ｂによって、液晶分子３２ａが配向されている。以下、液晶分子３２ａの配置（配向状態）について説明する。図７は、第一モードの光学デバイス１００における液晶分子３２ａの配置を示す図である。図７の（ａ）は、液晶層３２をＸ軸方向から見た図であり、図７の（ｂ）は、液晶層３２をＹ軸方向から見た図であり、図７の（ｃ）は、液晶層３２をＺ軸方向から見た図である。なお、図７では、液晶分子３２ａの配置を明示するために、液晶層３２はハッチングされていない。図７の（ｂ）では、配向膜６０ｂの図示が省略されている。また、図７の（ｂ）では凹凸を表現するために、凹部３４がハッチングされていないのに対して、凸部３３（凸部３３の頂部）は、ハッチングされている。
【００６１】
上述のように、複数の凸部３３のそれぞれは、第二基板２０の主面（Ｚ−Ｘ平面）に沿うＸ軸方向（第一方向）を長手方向とする長尺状であり、複数の凸部３３は、第二基板２０の主面に沿うＺ軸方向（第二方向）に並んでいる。
【００６２】
ここで、図７の（ｂ）に示されるように、第二基板２０の主面に垂直なＹ軸方向（第三方向）から見た場合に、複数の液晶分子３２ａは、長手方向がＸ軸方向に沿うように配置されている。
【００６３】
また、図７の（ｃ）に示されるように、Ｚ軸方向から見た場合、複数の液晶分子３２ａのうち、少なくとも配向膜６０ａの近傍に位置する（第二基板２０寄りに位置する）複数の液晶分子３２ａは、第二基板２０の主面に対して同じ向きに傾斜している。このときの傾斜角度θは、例えば、０．５°以上１０°以下程度である。傾斜角度は、液晶分子３２ａごとにばらついている。
【００６４】
このように配向膜６０ａの近傍に位置する液晶分子３２ａは、第二基板２０の一方の主面に対する傾斜の向きが揃っている。そうすると、第一端子部１０ａ及び第二端子部２０ａに電圧が印加されたときに、複数の液晶分子３２ａが同じ回転方向に回転するため、回転方向が揃わないことに起因する配向欠陥の発生を抑制することができる。言い換えれば、配向膜６０ａ及び配向膜６０ｂによれば、複数の液晶分子３２ａの配向を安定化させることができる。
【００６５】
なお、図７の（ｃ）に示されるように、配向膜６０ｂの近傍に位置する（第一基板１０寄りに位置する）液晶分子３２ａは、第二基板２０の主面に対してほぼ平行であり、傾斜していない。しかしながら、液晶層３２の有する弾性により、配向膜６０ａの近傍に位置する複数の液晶分子３２ａが同じ方向に回転すれば、配向膜６０ｂの近傍に位置する（第一基板１０寄りに位置する）液晶分子３２ａについても同じ方向に回転する。
【００６６】
第一端子部１０ａ及び第二端子部２０ａに電圧が印加されている状態の光学デバイス１００、つまり、第二モードの光学デバイス１００における液晶分子の配置は、図８に示される。図８は、第二モードの光学デバイス１００における液晶分子３２ａの配置を示す図である。図８の（ａ）は、液晶層３２をＸ軸方向から見た図であり、図８の（ｂ）は、液晶層３２をＹ軸方向から見た図であり、図８の（ｃ）は、液晶層３２をＺ軸方向から見た図である。なお、図８では、液晶分子３２ａの配置を明示するために、液晶層３２はハッチングされていない。図８の（ｂ）では、配向膜６０ｂの図示が省略されている。また、図８の（ｂ）では凹凸を表現するために、凸部３３（凸部３３の頂部）はハッチングされている。
【００６７】
図８の（ａ）〜（ｃ）に示されるように、第二モードの光学デバイス１００においては、複数の液晶分子３２ａは、長手方向がＹ軸方向に沿うように配置される。
【００６８】
（実施の形態２）
［実施の形態２に係る光学デバイスの構造］
上記実施の形態１では、凹凸構造体３１の表面に形成された配向膜６０ｂとして、配向処理が不要な無機配向膜が用いられたが、凹凸構造体３１の表面には、配向処理が必要な配向膜が形成されてもよい。実施の形態２では、光配向処理が施された配向膜を有する光学デバイスについて説明する。なお、実施の形態２では、実施の形態１との相違点を中心に説明が行われ、実施の形態１で既に説明された事項については適宜説明が省略される。
【００６９】
図９は、実施の形態２に係る光学デバイスの第一モードにおける液晶分子３２ａの配置を示す図である。図９の（ａ）は、液晶層３２をＸ軸方向から見た図であり、図９の（ｂ）は、液晶層３２をＹ軸方向から見た図であり、図９の（ｃ）は、液晶層３２をＺ軸方向から見た図である。なお、図９では、液晶分子３２ａの配置を明示するために、液晶層３２はハッチングされていない。図９の（ｂ）では、凹凸構造体３１の表面に形成された配向膜６０ｃの図示が省略されている。また、図９の（ｂ）では凹凸を表現するために、凹部３４がハッチングされていないのに対して、凸部３３（凸部３３の頂部）はハッチングされている。
【００７０】
まず、配向膜６０ｃについて説明する。図９の（ａ）に示されるように、光学デバイス１００ａは、第二電極層２２の表面に形成された配向膜６０ａに加えて、凹凸構造体３１の表面の全域に、凹凸に沿って形成された配向膜６０ｃを備える。配向膜６０ａは、実施の形態１で説明したように、ポリイミドなどの有機材料によって形成された基材に、ラビング処理が行われることにより形成される。なお、光学デバイス１００ａは、配向膜６０ａを備えなくてもよい。
【００７１】
配向膜６０ｃは、例えば、ポリイミドなどの有機材料によって形成された基材に、光配向処理として、偏光紫外光の照射が行われることにより形成される。
【００７２】
次に、液晶分子３２ａの配置について説明する。図９の（ｂ）に示されるように、凹凸構造体３１の凹部３４は、第一傾斜面３４ａと、底面３４ｂと、第二傾斜面３４ｃとを有する。第一傾斜面３４ａは、Ｚ軸方向の＋側（第二方向の一端側）がＺ軸方向の−側（第二方向の他端側）よりも低い傾斜面であり、第二傾斜面３４ｃは、Ｚ軸方向の＋側（第二方向の一端側）がＺ軸方向の−側（第二方向の他端側）よりも高い傾斜面である。
【００７３】
図９の（ｂ）に示されるように、第二基板２０の主面に垂直なＹ軸方向から見た場合に、凹部３４の底面３４ｂの上方に位置する複数の液晶分子３２ａは、長手方向がＸ軸方向に沿うように配置されている。
【００７４】
一方、Ｙ軸方向から見た場合に、第一傾斜面３４ａの上方に位置する複数の液晶分子３２ａは、長手方向がＸ軸方向と第一角度θ１で交差するように配置される。Ｙ軸方向から見た場合に、第二傾斜面３４ｃの上方に位置する複数の液晶分子３２ａは、長手方向がＸ軸方向と第二角度θ２で交差するように配置される。
【００７５】
Ｙ軸方向から見た場合に、第一傾斜面３４ａの上方に位置する液晶分子３２ａの長手方向と、第二傾斜面３４ｃの上方に位置する液晶分子３２ａの長手方向とは、第一角度θ１と第二角度θ２とを合わせた（加算した）角度（θ１＋θ２）で交差する。Ｙ軸方向から見た場合に、第一傾斜面３４ａの上方に位置する液晶分子３２ａの長手方向は、Ｚ−Ｘ平面上でＸ軸に対して正の傾き（反時計回り）を有し、第二傾斜面３４ｃの上方に位置する液晶分子３２ａの長手方向は、Ｚ−Ｘ平面上でＸ軸に対して負の傾き（時計回り）を有する。つまり、第一傾斜面３４ａの上方に位置する液晶分子３２ａと、第二傾斜面３４ｃの上方に位置する液晶分子３２ａとは、Ｘ軸方向を基準とした傾斜の向きが異なる。第一角度θ１及び第二角度θ２のそれぞれは、例えば、０°より大きく４５°以下の角度である。第一角度θ１及び第二角度θ２は、液晶分子３２ａごとにばらついている。
【００７６】
また、図９の（ｃ）に示されるように、Ｚ軸方向から見た場合、液晶層３２のほぼ全域において、複数の液晶分子３２ａは、第二基板２０の主面に対して同じ向きに傾斜している。このときの傾斜角度θは、例えば、０．５°以上１０°以下である。傾斜角度は、液晶分子３２ａごとにばらついている。
【００７７】
このように光学デバイス１００ａにおいても、液晶分子３２ａは、第二基板２０の一方の主面に対する傾斜の向きが揃っている。そうすると、第一端子部１０ａ及び第二端子部２０ａに電圧が印加されたときに、複数の液晶分子３２ａが同じ回転方向に回転するため、回転方向が揃わないことに起因する配向欠陥の発生を抑制することができる。
【００７８】
［実施の形態２に係る光学デバイスの製造方法］
次に、実施の形態２に係る光学デバイスの製造方法について説明する。図１０は、実施の形態２に係る光学デバイスの製造方法のフローチャートである。
【００７９】
まず、第一基材層１１に第一電極層１２が形成された透光性の第一基板１０の第一電極層１２上に、複数の凸部を有する凹凸構造体３１が配置される（Ｓ１１）。次に、凹凸構造体３１上に配向膜６０ｃが形成され（Ｓ１２）、凹凸構造体３１のうち複数の凸部３３の間に形成される凹部３４に形成された配向膜６０ｃ上に液晶層３２が配置される（Ｓ１３）。
【００８０】
続いて、第二基材層２１に第二電極層２２が形成され、第二電極層２２の表面に配向膜６０ａが形成された透光性の第二基板２０が、配向膜６０ａが液晶層３２と対向するように配置される（Ｓ１４）。つまり、第二基板２０は、第二電極層２２が液晶層３２側を向くように配置される。
【００８１】
そして、第一基板１０と第二基板２０とが接着部材４０によって固定される（Ｓ１５）。つまり、固定領域１０２が形成され、液晶層３２が封止される。なお、図１０では図示されないが、封止部材５０による封止も行われる。
【００８２】
なお、図１０のフローチャートに含まれる複数のステップの順序は一例であり、複数のステップの順序は適宜変更されてもよい。例えば、凹凸構造体３１は、凹凸構造体３１に配向膜６０ｃが形成された後に第一基板１０上に配置されてもよい。つまり、ステップＳ１１とステップＳ１２とは入れ替えられてもよい。
【００８３】
次に、上述したような光学デバイス１００ａにおける液晶分子３２ａの配置を実現するための配向膜６０ｃの形成方法について説明する。図１１は、配向膜６０ｃの形成方法を説明するための図である。
【００８４】
図１１に示されるように、配向膜６０ｃは、凹凸構造体３１に配向膜６０ｃの基材６０ｄが配置された状態で、基材６０ｄに偏光紫外光７０が照射されることによって形成される。つまり、凹凸構造体３１に配向膜６０ｃの基材６０ｄが配置された状態で、基材６０ｄに光配向処理が行われる。基材６０ｄは、例えば、ポリイミドである。
【００８５】
偏光紫外光７０の照射においては、例えば、ベルトコンベアなどによって凹凸構造体３１を移動させ、偏光紫外光７０の照射位置を通過させる。ここで、第一傾斜面３４ａに配置された基材６０ｄ、底面３４ｂに配置された基材６０ｄ、及び、第二傾斜面３４ｃに配置された基材６０ｄのそれぞれに、互いに偏光軸の異なる偏光紫外光７０が照射される。図１２は、偏光紫外光７０の偏光方向を示す図である。なお、図１２は、Ｙ軸方向から見たときの偏光軸の方向を示している。
【００８６】
第一傾斜面３４ａに配置された基材６０ｄには、図１２の（ａ）に示されるような偏光軸（第一偏光軸）を有する偏光紫外光７０が照射される。底面３４ｂに配置された基材６０ｄには、図１２の（ｂ）に示されるような偏光軸を有する偏光紫外光７０が照射される。第二傾斜面３４ｃに配置された基材６０ｄには、図１２の（ｃ）に示されるような偏光軸（第二偏光軸）を有する偏光紫外光７０が照射される。第二偏光軸は、第一偏光軸と交差する偏光軸である。なお、底面３４ｂに配置された基材６０ｄには、図１２の（ｂ）に示されるような偏光軸を有する偏光紫外光７０の代わりに、図１２の（ａ）に示されるような偏光軸を有する偏光紫外光７０と図１２の（ｃ）に示されるような偏光軸を有する偏光紫外光７０の両方が照射されてもよい。
【００８７】
なお、図１２に示される偏光軸の方向は、液晶分子３２ａの長手方向が偏光軸に沿う場合の方向である。基材６０ｄとして選択される材料によっては、液晶分子３２ａの長手方向が偏光軸と直交する方向に沿う場合もあり得る。この場合は、図１２に示される偏光軸と９０°方向が異なる偏光軸を有する偏光紫外光７０が照射されればよい。
【００８８】
偏光紫外光７０の選択的な照射は、例えば、マスクを用いて行われる。図１２の（ａ）に示されるような偏光軸（第一偏光軸）を有する偏光紫外光７０が照射されるときには、底面３４ｂに配置された基材６０ｄ、及び、第二傾斜面３４ｃに配置された基材６０ｄがマスクされた状態で偏光紫外光７０の照射が行われる。これにより、第一傾斜面３４ａに配置された基材６０ｄにのみ選択的に第一偏光軸を有する偏光紫外光７０を照射することができる。図１２の（ｂ）に示されるような偏光軸を有する偏光紫外光７０が照射されるとき、及び、図１２の（ｃ）に示されるような偏光軸（第二偏光軸）を有する偏光紫外光７０が照射されるときについても同様に、基材６０ｄのうち照射対象でない部分がマスクされる。
【００８９】
なお、偏光紫外光７０の光軸を第一基板１０の主面（Ｚ−Ｘ平面）に対して傾けることにより、偏光紫外光７０の選択的な照射が行われてもよい。図１３は、光軸を傾けることによる偏光紫外光７０の選択的な照射を説明するための図である。
【００９０】
図１３に示されるように偏光紫外光７０の光軸が傾けられた状態で、凹凸構造体３１を矢印方向（Ｚ軸＋側からＺ軸−側に向かう方向）に移動させると、第一傾斜面３４ａに配置された基材６０ｄにのみ選択的に偏光紫外光７０を照射することができる。なお、このときの光軸の傾きは、第一傾斜面３４ａの傾きなどを考慮して経験的または実験的に定められるとよい。
【００９１】
以上説明したように、配向膜６０ｃは、基材６０ｄに偏光紫外光７０が照射されることにより形成される。このような配向膜６０ｃによれば、図９に示される液晶分子３２ａの配置が実現される。このような液晶分子３２ａの配置によれば、第一端子部１０ａ及び第二端子部２０ａに電圧が印加されたときに、複数の液晶分子３２ａが同じ回転方向に回転するため、回転方向が揃わないことに起因する配向欠陥の発生を抑制することができる。
【００９２】
（まとめ）
以上説明したように、光学デバイス１００は、第一基材層１１及び第一電極層１２を有する透光性の第一基板１０と、第二基材層２１及び第二電極層２２を有する透光性の第二基板２０と、第一電極層１２及び第二電極層２２の間に配置され、第二電極層２２に向かって突出した複数の凸部３３を有する凹凸構造体３１と、第二電極層２２の表面、及び、凹凸構造体３１の表面の少なくとも一方に形成された配向膜と、凹凸構造体３１のうち複数の凸部３３の間の凹部３４に配置された、複数の液晶分子を３２ａ含む液晶層３２とを備える。複数の凸部３３のそれぞれは、第二基板２０の主面に沿う第一方向を長手方向とする長尺状であり、複数の凸部３３は、第二基板２０の主面に沿う第二方向であって第一方向に交差する第二方向に並ぶ。第二基板２０の主面に垂直な第三方向から見た場合に、複数の液晶分子３２ａは、長手方向が第一方向に沿うように配置される。第二方向から見た場合、複数の液晶分子３２ａは、第二基板２０の主面に対して同じ向きに傾斜している。第一方向、第二方向、及び、第三方向は、上記実施の形態では、Ｘ軸方向、Ｚ軸方向、及び、Ｙ軸方向である。
【００９３】
このように配向膜によって複数の液晶分子３２ａがプレチルトされることにより、モード切り替え時に複数の液晶分子３２ａが同じ回転方向に回転するため、回転方向が揃わないことに起因する配向欠陥の発生を抑制することができる。
【００９４】
例えば、配向膜６０ａは、第二電極層２２の表面に形成される。
【００９５】
これにより、第二電極層２２の表面に形成された配向膜６０ａによって、複数の液晶分子３２ａを、長手方向が第一方向に沿うように配置し、かつ、第二基板２０の主面に対して同じ向きに傾斜させることができる。
【００９６】
また、例えば、配向膜６０ｂは、凹凸構造体３１の表面に形成される。
【００９７】
これにより、凹凸構造体３１の表面に形成された配向膜６０ｂによって、複数の液晶分子３２ａを、長手方向が第一方向に沿うように配置し、かつ、第二基板２０の主面に対して同じ向きに傾斜させることができる。
【００９８】
また、例えば、配向膜は、第二電極層２２の表面、及び、凹凸構造体３１の表面の両方に形成される。
【００９９】
これにより、例えば、第二電極層２２の表面に形成された配向膜６０ａ、及び、凹凸構造体３１の表面に形成された配向膜６０ｂによって、複数の液晶分子３２ａを、長手方向が第一方向に沿うように配置し、かつ、第二基板２０の主面に対して同じ向きに傾斜させることができる。
【０１００】
また、光学デバイス１００ａにおいて、配向膜６０ｃは、凹凸構造体３１の凹部３４の表面に形成される。凹部３４は、第二方向の一端側が第二方向の他端側よりも低い第一傾斜面３４ａ、及び、第二方向の一端側が第二方向の他端側よりも高い第二傾斜面３４ｃを有する。第三方向から見た場合に、複数の液晶分子３２ａは、凹部３４の底面３４ｂの上方に位置し、長手方向が第一方向に沿うように配置される。液晶層３２に含まれる複数の液晶分子３２ａであって第一傾斜面３４ａの上方に位置する複数の液晶分子３２ａは、長手方向が第一方向と第一角度θ１で交差するように配置される。液晶層３２に含まれる複数の液晶分子３２ａであって第二傾斜面３４ｃの上方に位置する複数の液晶分子３２ａは、長手方向が第一方向と第二角度θ２で交差するように配置される。
【０１０１】
このように配向膜６０ｃによって複数の液晶分子３２ａがプレチルトされることにより、モード切り替え時に複数の液晶分子３２ａが同じ回転方向に回転するため、回転方向が揃わないことに起因する配向欠陥の発生を抑制することができる。
【０１０２】
また、例えば、第一角度θ１及び第二角度θ２のそれぞれは、０°より大きく４５°以下である。
【０１０３】
このように、配向膜６０ｃによって複数の液晶分子３２ａがプレチルトされることにより、第一角度θ１及び第二角度θ２のそれぞれは、例えば、０°より大きく４５°以下となる。
【０１０４】
また、光学デバイス１００においては、例えば、凹凸構造体３１の表面のうち少なくとも凹部３４の底面には、配向膜６０ｂとしてＳｉＯ２膜が形成されている。
【０１０５】
これにより、凹凸構造体３１の底面に形成されたＳｉＯ２膜によって、複数の液晶分子３２ａを、長手方向が第一方向に沿うように配置し、かつ、第二基板２０の主面に対して同じ向きに傾斜させることができる。
【０１０６】
また、光学デバイス１００ａの製造方法は、第一基材層１１に第一電極層１２が形成された透光性の第一基板１０の第一電極層１２上に、複数の凸部３３を有する凹凸構造体３１を配置し、凹凸構造体３１上に配向膜６０ｃを形成し、凹凸構造体３１のうち複数の凸部３３の間の凹部３４に形成された配向膜６０ｃ上に液晶層３２を配置し、第二基材層２１に第二電極層２２が形成された透光性の第二基板２０を、第二電極層２２が液晶層３２側を向くように配置し、第一基板１０と第二基板２０とを接着部材４０によって固定する。複数の凸部３３のそれぞれは、第二電極層２２に向かって突出し、かつ、第二基板２０の主面に沿う第一方向を長手方向とする長尺状であり、複数の凸部３３は、第二基板２０の主面に沿う第二方向であって第一方向に交差する第二方向に並ぶ。凹部３４は、第二方向の一端側が第二方向の他端側よりも低い第一傾斜面３４ａ、及び、第二方向の一端側が第二方向の他端側よりも高い第二傾斜面３４ｃを有する。配向膜６０ｃの形成においては、第一傾斜面３４ａに配置された配向膜６０ｃの基材６０ｄに、第一偏光軸を有する偏光紫外光７０を照射し、かつ、第二傾斜面３４ｃに配置された配向膜６０ｃの基材６０ｄに、第一偏光軸と交差する第二偏光軸を有する偏光紫外光７０を照射する。
【０１０７】
このような製造方法によれば、配向欠陥の発生が抑制された光学デバイス１００ａが実現される。
【０１０８】
（他の実施の形態）
以上、実施の形態について説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定されるものではない。
【０１０９】
上記実施の形態で説明された配向膜は、一例である。配向膜は、上記実施の形態で説明されたような複数の液晶分子の配置を実現できる範囲で適宜選択されればよい。具体的には、第二電極層に形成される配向膜、及び、凹凸構造体に形成される配向膜のそれぞれは、ラビング処理された配向膜であってもよいし、光配向処理された配向膜であってもよいし、配向処理が不要な配向膜であってもよい。
【０１１０】
また、複数の液晶分子は、配向膜が第二電極層、及び、凹凸構造体の少なくとも一方に形成されることにより同じ向きに傾斜していればよく、配向膜が第二電極層、及び、凹凸構造体の両方に形成されることは必須ではない。
【０１１１】
また、凹凸構造体において隣り合う凸部が分離されている場合、配向膜は、第一電極層の表面に形成されてもよい。
【０１１２】
上記実施の形態では、液晶層にはポジ型の液晶材料が用いられていたが、液晶層にはネガ型の液晶材料が用いられてもよい。
【０１１３】
また、例えば、上記の実施の形態において、凹凸構造体を構成する複数の凸部の各々は、長尺状であったが、複数の凸部は、ドット状に点在するように配置されていてもよい。また、複数の凸部は、互いに異なる形状であってもよい。
【０１１４】
その他、各実施の形態に対して当業者が思いつく各種変形を施して得られる形態、または、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で各実施の形態における構成要素及び機能を任意に組み合わせることで実現される形態も本発明に含まれる。
【符号の説明】
【０１１５】
１０  第一基板
１１  第一基材層
１２  第一電極層
２０  第二基板
２１  第二基材層
２２  第二電極層
３１  凹凸構造体
３２  液晶層
３２ａ  液晶分子
３３  凸部
３４  凹部
３４ａ  第一傾斜面
３４ｂ  底面
３４ｃ  第二傾斜面
４０  接着部材
６０ａ、６０ｂ、６０ｃ  配向膜
６０ｄ  基材
７０  偏光紫外光
１００、１００ａ  光学デバイス
【図１】
2018138963.tif 000003
【図２】
2018138963.tif 000004
【図３】
2018138963.tif 000005
【図４】
2018138963.tif 000006
【図５】
2018138963.tif 000007
【図６】
2018138963.tif 000008
【図７】
2018138963.tif 000009
【図８】
2018138963.tif 000010
【図９】
2018138963.tif 000011
【図１０】
2018138963.tif 000012
【図１１】
2018138963.tif 000013
【図１２】
2018138963.tif 000014
【図１３】
2018138963.tif 000015