(57)【要約】【課題】テーブル回転時の遠心力による意図しないクランプピンの移動を防止し、ウェーハスリップの発生を防止することで、液跳ねによる処理不良及びウェーハのキズの発生を防止できるウェーハ保持装置及びウェーハ処理装置を提供する。【解決手段】ウェーハを水平に保持し、回転させることが可能なウェーハ保持装置であって、上方にウェーハを保持するテーブルと、テーブルの上面にウェーハを囲繞するように配置され、ウェーハを側面から保持する複数のクランプピンと、テーブル内にテーブルの上面を貫通するよう配設され、回転可能であり、上部にクランプピンが回転軸に対して偏心して立設されたクランプピン回転機構と、クランプピン回転機構の回転を制動する制動機構と、テーブルを下方から支持し、回転させることが可能なテーブル支持軸と、を具備するものであることを特徴とするウェーハ保持装置。【選択図】  図１
2018067684.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェーハを水平に保持し、該保持したウェーハを回転させることが可能なウェーハ保持装置であって、
上方に前記ウェーハを保持するテーブルと、
前記テーブルの上面に前記ウェーハを囲繞するように配置され、前記ウェーハの側面に接触して、前記ウェーハを側面から保持することが可能な複数のクランプピンと、
前記テーブル内に前記テーブルの上面を貫通するよう配設され、回転可能であり、上部に前記クランプピンが回転軸に対して偏心して立設されたクランプピン回転機構と、
前記クランプピン回転機構の回転を制動することが可能な制動機構と、
前記テーブルを下方から支持し、前記テーブルを回転させることが可能なテーブル支持軸と、
を具備し、
前記クランプピン回転機構が回転し、前記クランプピン回転機構に偏心して立設された複数のクランプピンが前記ウェーハの側面に接触するように前記クランプピン回転機構の回転軸周りに公転移動して、前記ウェーハを側面から保持し、該保持後に前記制動機構が前記クランプピン回転機構の回転を制動することで、前記クランプピンを固定するものであることを特徴とするウェーハ保持装置。
【請求項２】
前記クランプピン回転機構が、前記テーブル内に配設された動力伝達ギアに噛合するクランプ駆動ギアを有し、前記動力伝達ギアの回転によって前記クランプ駆動ギアが回転し、前記クランプピン回転機構が回転するものであることを特徴とする請求項１に記載のウェーハ保持装置。
【請求項３】
前記動力伝達ギアが穴を有し、前記制動機構が、前記動力伝達ギアの穴に制動ピンが嵌まることで、前記動力伝達ギアを固定し、前記クランプピン回転機構の回転を制動することが可能なものであることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のウェーハ保持装置。
【請求項４】
さらに、前記制動ピンを前記動力伝達ギアの穴の下方から突き上げることで穴から外すことが可能な突き上げピンを有し、該突き上げピンによって、前記ウェーハのクランプ及びアンクランプ時に、前記制動ピンを前記動力伝達ギアの穴から外すことで、前記クランプピンの固定を解除することが可能なものであることを特徴とする請求項３に記載のウェーハ保持装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のウェーハ保持装置の前記テーブルが内部に収容されたチャンバを具備するものであることを特徴とするウェーハ処理装置。
【請求項６】
前記ウェーハ処理装置は、枚葉スピン式のウェット処理装置であることを特徴とする請求項５に記載のウェーハ処理装置。
【請求項７】
前記ウェーハ処理装置は、ウェーハの洗浄処理装置、スピンエッチング処理装置、スピンコート処理装置、レジスト剥離処理装置、ポリマー除去処理装置のいずれかのものであることを特徴とする請求項５又は請求項６に記載のウェーハ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェーハ保持装置及びウェーハ処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ウェーハの表面に薬液を供給しながらウェーハを回転させるスピン洗浄処理などの枚葉式のウェット処理では、ウェーハを保持したまま、ウェーハを回転させることが可能なウェーハ保持装置が用いられている（特許文献１参照）。例えば、図５に示すように、一般的なウェーハ保持装置１０１は、上方にウェーハＷを保持するテーブル１０２と、テーブル１０２を下方から支持し、回転させることができるテーブル支持軸１０３とを具備している。
【０００３】
また、ウェーハ保持装置１０１は、テーブル１０２の上面に、ウェーハＷを側面から保持することが可能な複数のクランプピン１０４を具備している。これら複数のクランプピン１０４は、図６の上面図に示すように、ウェーハＷを囲繞するように配置されている。また、複数のクランプピン１０４は、それぞれ、クランプピン回転機構１０５によって下方から支持されており、クランプピン回転機構１０５が自転することで、クランプピン１０４がクランプピン回転機構１０５の自転軸周りに公転するよう偏心して配置されている。この公転によって、複数のクランプピン１０４は、ウェーハＷの側面に接触し、ウェーハＷの側面を保持することができ、クランプピン回転機構１０５を逆回りに回転させることで、クランプピン１０５はウェーハＷと非接触となり、ウェーハＷを解放することができる。なお、クランプピン回転機構１０５は、図５のように、動力を伝達する円環状の動力伝達ギア１０６の外歯に噛合するクランプ駆動ギア１０７を有する機構とすることができる。このような機構では、動力伝達ギア１０６の回転がクランプ駆動ギア１０７を介して伝わり、クランプピン回転機構１０５が自転する。
【０００４】
そして、スピン洗浄処理などのプロセス処理時には、ウェーハＷを保持したまま、テーブル支持軸１０３によってテーブル１０２を回転させることで、保持されたウェーハＷを回転させながら洗浄処理することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−３６７９４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記のような、ウェーハ保持装置１０１では、複数のクランプピン１０４でウェーハＷを保持した後、プロセス処理のためにテーブル１０２を回転させると、テーブル１０２の回転を開始する際の加速時、あるいはテーブルの回転を停止する際の減速時の遠心力によって、クランプピン１０４がアンクランプ方向に一時的に動いてしまうことがあった。そのため、クランプピン１０４によるウェーハの保持力が低下し、クランプピン１０４に対してウェーハＷが空転するウェーハスリップが発生してしまうという問題があった。ウェーハスリップが発生すると、例えば、スピン洗浄処理においては洗浄液の液跳ねが起きてしまい、ウェーハＷの洗浄不良が発生してしまうとともに、ウェーハがスリップして上テーブルやクランプと擦れることによりウェーハにキズが生じてしまう。
【０００７】
本発明は前述のような問題に鑑みてなされたもので、テーブル回転時の遠心力による意図しないクランプピンの移動を防止し、ウェーハスリップの発生を防止することで、液跳ねによる処理不良及びウェーハのキズの発生を防止できるウェーハ保持装置及びウェーハ処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明は、ウェーハを水平に保持し、該保持したウェーハを回転させることが可能なウェーハ保持装置であって、上方に前記ウェーハを保持するテーブルと、前記テーブルの上面に前記ウェーハを囲繞するように配置され、前記ウェーハの側面に接触して、前記ウェーハを側面から保持することが可能な複数のクランプピンと、前記テーブル内に前記テーブルの上面を貫通するよう配設され、回転可能であり、上部に前記クランプピンが回転軸に対して偏心して立設されたクランプピン回転機構と、前記クランプピン回転機構の回転を制動することが可能な制動機構と、前記テーブルを下方から支持し、前記テーブルを回転させることが可能なテーブル支持軸と、を具備し、前記クランプピン回転機構が回転し、前記クランプピン回転機構に偏心して立設された複数のクランプピンが前記ウェーハの側面に接触するように前記クランプピン回転機構の回転軸周りに公転移動して、前記ウェーハを側面から保持し、該保持後に前記制動機構が前記クランプピン回転機構の回転を制動することで、前記クランプピンを固定するものであることを特徴とするウェーハ保持装置を提供する。
【０００９】
本発明のウェーハ保持装置は、クランプピンでウェーハを保持した後に、制動機構によってクランプピン回転機構を制動し、クランプピンを固定することができるため、テーブル回転による遠心力が発生してもクランプピンがアンクランプ方向にずれることがない。従って、本発明のウェーハ保持装置は、ウェーハスリップの発生を防止できるので、液跳ねによる処理不良及びウェーハのキズの発生を防止できる。
【００１０】
このとき、前記クランプピン回転機構が、前記テーブル内に配設された動力伝達ギアに噛合するクランプ駆動ギアを有し、前記動力伝達ギアの回転によって前記クランプ駆動ギアが回転し、前記クランプピン回転機構が回転するものであることが好ましい。
【００１１】
本発明のウェーハ保持装置は、このようにしてクランプピン回転機構が回転するものとできる。
【００１２】
またこのとき、前記動力伝達ギアが穴を有し、前記制動機構が、前記動力伝達ギアの穴に制動ピンが嵌まることで、前記動力伝達ギアを固定し、前記クランプピン回転機構の回転を制動することが可能なものであることが好ましい。
【００１３】
このようなものであれば、動力伝達ギアの意図しない回転を簡単かつ確実に防止でき、それによって、クランプピン回転機構の自転及びクランプピンの意図しない公転を制動することができる。
【００１４】
また、本発明のウェーハ保持装置は、さらに、前記制動ピンを前記動力伝達ギアの穴の下方から突き上げることで穴から外すことが可能な突き上げピンを有し、該突き上げピンによって、前記ウェーハのクランプ及びアンクランプ時に、前記制動ピンを前記動力伝達ギアの穴から外すことで、前記クランプピンの固定を解除することが可能なものであることが好ましい。
【００１５】
このようなものであれば、突き上げピンにより、クランプピンの固定、及び固定の解除が簡単かつ確実に行える。
【００１６】
また、上記目的を達成するために、本発明は、上記のウェーハ保持装置の前記テーブルが内部に収容されたチャンバを具備するものであることを特徴とするウェーハ処理装置を提供する。
【００１７】
本発明のウェーハ保持装置のテーブルによりウェーハを保持回転させるものであれば、ウェーハスリップが起きにくく、液跳ねの発生を防止できるウェーハ処理装置となる。
【００１８】
また、前記ウェーハ処理装置は、枚葉スピン式のウェット処理装置であることが好ましい。
【００１９】
本発明のウェーハ処理装置は、枚葉スピン式のウェット処理時のウェーハスリップによる薬液の液跳ねの防止に好適なものである。
【００２０】
また、前記ウェーハ処理装置は、ウェーハの洗浄処理装置、スピンエッチング処理装置、スピンコート処理装置、レジスト剥離処理装置、ポリマー除去処理装置のいずれかのものであることが好ましい。
【００２１】
本発明のウェーハ処理装置は、より具体的には、これらのような処理に特に好適なものであり、薬液の液跳ねとウェーハのキズの発生を防止することで、洗浄、エッチング、スピンコート、レジスト剥離、ポリマー除去処理における処理不良の発生を防止できる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明のウェーハ保持装置及びウェーハ処理装置であれば、テーブル回転時の遠心力による意図しないクランプピンの移動を防止し、ウェーハスリップを防止することができる。その結果、液跳ねによる処理不良及びウェーハのキズの発生を防止できる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明のウェーハ保持装置の概略を示した側方断面図である。
【図２】本発明のウェーハ保持装置の概略を示した上面図である。
【図３】本発明のウェーハ保持装置において、制動機構によりクランプピンを固定した態様を示した側方断面図である。
【図４】本発明のウェーハ処理装置の一例を示した概略図である。
【図５】従来のウェーハ保持装置の概略を示した側方断面図である。
【図６】従来のウェーハ保持装置の概略を示した上面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明について実施の形態を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００２５】
まず、本発明のウェーハ保持装置について説明する。本発明のウェーハ保持装置は、ウェーハを水平に保持し、該保持したウェーハを回転させることができる。図１に示すように、本発明のウェーハ保持装置１は、上方にウェーハＷを保持するテーブル２と、テーブル２を下方から支持し、テーブル２を回転させることが可能なテーブル支持軸３とを具備する。
【００２６】
図２のように、テーブル２の上面には、ウェーハＷを囲繞するように複数のクランプピン４が配置されている。これらのクランプピン４は、ウェーハＷの側面に接触して、ウェーハＷを側面から保持することが可能である。また、クランプピン４がウェーハＷの側面から離脱すればウェーハＷの保持を解除できる。
【００２７】
また、図１、２のように、本発明のウェーハ保持装置１は、テーブル２内にテーブル２の上面を貫通するよう配設されたクランプピン回転機構５を具備している。このクランプピン回転機構５は、回転可能であり、その上部にクランプピン４がクランプピン回転機構５の回転軸に対して偏心して立設されている。
【００２８】
クランプピン回転機構５は、特に限定されることはないが、テーブル２内に配設された動力伝達ギア６に噛合するクランプ駆動ギア７を有するものとできる。このようなものであれば、動力伝達ギア６の回転によってクランプ駆動ギア７が回転し、これにより、クランプピン回転機構５が回転する。
【００２９】
また、本発明のウェーハ保持装置１は、クランプピン回転機構５の回転を制動することが可能な制動機構を有する。この制動機構は、例えば、以下のようなものとすることができる。
【００３０】
図３に示すように、制動機構８は、動力伝達ギア６の穴９に制動機構８の制動ピン１０が嵌まることで、動力伝達ギア６を固定し、クランプピン回転機構５の回転を制動することができるものとすることができる。このようにして、簡単かつ確実にクランプピン４を固定することができる。
【００３１】
また、図１のように、本発明のウェーハ保持装置１が、制動ピン１０を動力伝達ギア６の穴９の下方から突き上げることで穴９から外すことが可能な突き上げピン１１を有することが好ましい。このようなものであれば、突き上げピン１１によって、ウェーハＷのクランプ及びアンクランプ時に、制動ピン１０を動力伝達ギア６の穴９から外すことで、クランプピン４の固定を解除することができる。また、ウェーハＷの保持後などにクランプピン４を固定する際には、図３のように、突き上げピン１１を下降させれば、制動ピン１０を穴９に嵌めて、クランプピン４を固定できる。このように、突き上げピン１１によって、クランプピン４の固定、及び固定の解除を簡便な手法で切り替えることができる。なお、突き上げピン１１の上下動はシリンダー１２によって行うことができる。
【００３２】
なお、図１、３では、制動機構８を一個だけ図示しているが、制動機構８の数はこれに限定されることはなく、本発明のウェーハ保持装置１が制動機構８を複数具備していてもよい。制動機構８を複数具備する場合、制動機構８の数に応じた数の、穴９、突き上げピン１１、及びシリンダー１２などを適宜設ければよい。
また、制動機構８も上記のように、制動ピン１０によるものに限定されず、クランプピン回転機構５の回転を制動可能なものであればよい。例えば、動力伝達ギア６を、上下から挟み込んで制動するいわゆるブレーキ機構のようなものであってもよい。
【００３３】
また、上記の通り、ウェーハＷのクランプ時及びアンクランプ時にはクランプピン４の固定を解除し、動力伝達ギア６を回転させる。この際、図１のように、突き上げピン１１が穴９に挿入されているが、穴９を動力伝達ギア６の回転方向に延びる長穴としておき、突き上げピン１１を長穴の幅よりも細くして、突き上げピン１１が動力伝達ギア６に干渉しないようにすれば、突き上げピン１１が動力伝達ギア６の回転を阻害することがない。この場合、長穴の長さは、クランプピン４のクランプ及びアンクランプが可能な程度にクランプピン回転機構５を回転させることができればよい。
【００３４】
以上のような本発明のウェーハ保持装置１では、クランプピン回転機構５が回転し、クランプピン回転機構５に偏心して立設された複数のクランプピン４がウェーハＷの側面に接触するようにクランプピン回転機構５の回転軸周りに公転移動して、ウェーハＷを側面から保持する。その後、制動機構８がクランプピン回転機構５の回転を制動することで、クランプピン４を固定できる。このような本発明のウェーハ保持装置１であれば、ウェーハ処理時のテーブル回転の加速時及び減速時に遠心力が発生しても、クランプピン４が制動機構８により固定されているため、アンクランプ方向にずれることがない。従って、本発明のウェーハ保持装置１は、ウェーハスリップの発生を防止できる。
【００３５】
次に、本発明のウェーハ処理装置について説明する。図４のように、本発明のウェーハ処理装置２０は、上記の本発明のウェーハ保持装置１のテーブル２が内部に収容されたチャンバ２１を具備するものである。なお、チャンバ２１の内部にはウェーハ保持装置１のテーブル２が複数収容されていてもよい。このようなウェーハ処理装置２０であれば、ウェーハＷの処理時にウェーハスリップの発生を防止できるものとなる。
【００３６】
このようなウェーハ処理装置２０は、例えば、枚葉スピン式のウェット処理装置とすることができる。例えば、ノズル２２からウェーハＷにウェット処理用の薬液を供給しながら、ウェーハＷを水平に保持し、回転させながら所定の処理をすることができる。このウェット処理時に、本発明のウェーハ処理装置２０はウェーハスリップの発生を防止できるため、薬液の液跳ねによる処理不良及びウェーハのキズの発生を防止できる。
【００３７】
例えば、本発明のウェーハ保持装置を適用可能なウェーハ処理装置２０は、ウェーハの洗浄処理装置、スピンエッチング処理装置、スピンコート処理装置、レジスト剥離処理装置、ポリマー除去処理装置のいずれかのものとすることができるが、これらに限定されることはない。本発明のウェーハ処理装置２０は、これらのような処理に特に好適なものであり、各処理に用いる薬液の液跳ねを防止することで、洗浄、エッチング、スピンコート、レジスト剥離、ポリマー除去処理における処理不良の発生を防止できる。また、ウェーハのキズの発生も防止できる。
尚、保持されて、処理されるウェーハについては、特に限定されないが、例えば、シリコンウェーハ、ＳｉＣウェーハ、ＧａＮウェーハ、石英基板等が挙げられる。
【実施例】
【００３８】
以下、本発明の実施例及び比較例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
【００３９】
（実施例）
図１に示すような本発明のウェーハ保持装置を用いて直径３００ｍｍのシリコンウェーハを水平に保持し、回転させながら、混酸を用いた枚葉式のスピン洗浄処理を行った。この際、まず、制動機構の制動ピンを突き上げピンにより突き上げて、動力伝達ギアの穴から外した状態で動力伝達ギアをクランプ方向に回転させて、複数のクランプピンを洗浄対象のシリコンウェーハの側面に接触するよう公転移動させることで、シリコンウェーハを水平に保持した。次に、突き上げピンをシリンダーによって下降させて、制動ピンを動力伝達ギアの穴に嵌めることで、複数のクランプピンを固定した。次に、テーブルを回転させ、シリコンウェーハの表面に洗浄液を供給しながらスピン洗浄を行った。スピン洗浄終了後、制動機構の制動ピンを突き上げピンにより上方に突き上げて、動力伝達ギアの穴から外して、複数のクランプピンの固定を解除した。次に、動力伝達ギアをアンクランプ方向に回転させて、複数のクランプピンによるシリコンウェーハの固定を解除し、シリコンウェーハを取り出した。
【００４０】
以上のような、枚葉式のスピン洗浄処理を１００枚のシリコンウェーハに施した。次に、洗浄後のシリコンウェーハの清浄度及びキズを光学顕微鏡により検査した。その結果、全てのウェーハで十分な清浄度が得られており、洗浄不良の発生が確認されなかった。さらに、キズの発生も確認されなかった。この結果から、スピン洗浄中のウェーハのスリップを防止できたと考えられる。
【００４１】
（比較例）
図５のような、制動機構を有していない従来のウェーハ保持装置を用いてシリコンウェーハを保持、回転させながら、枚葉式でスピン洗浄処理を行ったこと以外、実施例と同様な条件で１００枚のシリコンウェーハをスピン洗浄した。
【００４２】
その結果、一部のウェーハで輝点が観察され洗浄不良が発生していた。さらに、５枚のシリコンウェーハにキズの発生も観察された。この結果から、スピン洗浄中にウェーハのスリップが生じたと考えられる。
【００４３】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【符号の説明】
【００４４】
１…ウェーハ保持装置、  ２…テーブル、  ３…テーブル支持軸、
４…クランプピン、  ５…クランプピン回転機構、  ６…動力伝達ギア、
７…クランプ駆動ギア、  ８…制動機構、  ９…穴、  １０…制動ピン、
１１…突き上げピン、  １２…シリンダー、
２０…ウェーハ処理装置、  ２１…チャンバ、  ２２…ノズル、
Ｗ…ウェーハ。
【図１】
2018067684.tif 000003
【図２】
2018067684.tif 000004
【図３】
2018067684.tif 000005
【図４】
2018067684.tif 000006
【図５】
2018067684.tif 000007
【図６】
2018067684.tif 000008
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月29日(2017.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
また、ウェーハ保持装置１０１は、テーブル１０２の上面に、ウェーハＷを側面から保持することが可能な複数のクランプピン１０４を具備している。これら複数のクランプピン１０４は、図６の上面図に示すように、ウェーハＷを囲繞するように配置されている。また、複数のクランプピン１０４は、それぞれ、クランプピン回転機構１０５によって下方から支持されており、クランプピン回転機構１０５が自転することで、クランプピン１０４がクランプピン回転機構１０５の自転軸周りに公転するよう偏心して配置されている。この公転によって、複数のクランプピン１０４は、ウェーハＷの側面に接触し、ウェーハＷの側面を保持することができ、クランプピン回転機構１０５を逆回りに回転させることで、クランプピン１０４はウェーハＷと非接触となり、ウェーハＷを解放することができる。なお、クランプピン回転機構１０５は、図５のように、動力を伝達する円環状の動力伝達ギア１０６の外歯に噛合するクランプ駆動ギア１０７を有する機構とすることができる。このような機構では、動力伝達ギア１０６の回転がクランプ駆動ギア１０７を介して伝わり、クランプピン回転機構１０５が自転する。
【手続補正書】
【提出日】平成30年1月24日(2018.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェーハを水平に保持し、該保持したウェーハを回転させることが可能なウェーハ保持装置であって、
上方に前記ウェーハを保持するテーブルと、
前記テーブルの上面に前記ウェーハを囲繞するように配置され、前記ウェーハの側面に接触して、前記ウェーハを側面から保持することが可能な複数のクランプピンと、
前記テーブル内に前記テーブルの上面を貫通するよう配設され、回転可能であり、上部に前記クランプピンが回転軸に対して偏心して立設されたクランプピン回転機構と、
前記クランプピン回転機構の回転を制動することが可能な制動機構と、
前記テーブルを下方から支持し、前記テーブルを回転させることが可能なテーブル支持軸と、
を具備し、
前記クランプピン回転機構が回転し、前記クランプピン回転機構に偏心して立設された複数のクランプピンが前記ウェーハの側面に接触するように前記クランプピン回転機構の回転軸周りに公転移動して、前記ウェーハを側面から保持し、該保持後に前記制動機構が前記クランプピン回転機構の回転を制動することで、前記クランプピンを固定するものであり、
前記クランプピン回転機構が、前記テーブル内に配設された動力伝達ギアに噛合するクランプ駆動ギアを有し、前記動力伝達ギアの回転によって前記クランプ駆動ギアが回転し、前記クランプピン回転機構が回転するものであり、
前記動力伝達ギアが穴を有し、前記制動機構が、前記動力伝達ギアの穴に制動ピンが嵌まることで、前記動力伝達ギアを固定し、前記クランプピン回転機構の回転を制動することが可能なものであり、
さらに、前記制動ピンを前記動力伝達ギアの穴の下方から突き上げることで穴から外すことが可能な突き上げピンを有し、該突き上げピンによって、前記ウェーハのクランプ及びアンクランプ時に、前記制動ピンを前記動力伝達ギアの穴から外すことで、前記クランプピンの固定を解除することが可能なものであることを特徴とするウェーハ保持装置。
【請求項２】
請求項１に記載のウェーハ保持装置の前記テーブルが内部に収容されたチャンバを具備するものであることを特徴とするウェーハ処理装置。
【請求項３】
前記ウェーハ処理装置は、枚葉スピン式のウェット処理装置であることを特徴とする請求項２に記載のウェーハ処理装置。
【請求項４】
前記ウェーハ処理装置は、ウェーハの洗浄処理装置、スピンエッチング処理装置、スピンコート処理装置、レジスト剥離処理装置、ポリマー除去処理装置のいずれかのものであることを特徴とする請求項２又は請求項３に記載のウェーハ処理装置。