(57)【要約】      （修正有）【課題】時間当たりのデバイスの生産量を増やすことができ、時間的、費用効果が優れているウェハ分割方法を提供する。【解決手段】ウェハＷ上のデバイスを保護する接着テープ４をウェハの一面に付けるステップと、接続手段によって、ウェハの反対側にある接着テープ４の面に、接着テープを支える為のキャリア７を付けるステップと、ウェハの厚さを調整する為に、一面の反対側にある面を研削するステップと、一面の反対側にあるウェハの面に保護層２０を加えるステップと、ウェハを分割ラインに沿って切断するステップとを有し、一面の反対側にあるウェハの面は、機械的に第１切断幅ｗ１で部分的に切断され、部分的切断が形成された領域でウェハの残部２１は、一面の反対側にあるウェハの面から、機械的に切断および／またはレーザによって切断および／またはプラズマによって第２切断幅ｗ２で切断され、第２切断幅ｗ２は、第１切断幅より小さいか等しい。【選択図】図１０
2018113449.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の分割ラインによって区切られた複数のデバイスを備えたデバイス領域（２）を一面（１）に有するウェハ（Ｗ）をダイに分割する為の方法であって、
前記ウェハ（Ｗ）上のデバイスを保護する為の接着テープ（４）を前記ウェハ（Ｗ）の前記一面（１）に付けるステップと、
付ける手段（１０）によって、前記ウェハ（Ｗ）の前記一面（１）に面する面の反対側にある接着テープ（４）の面に、接着テープ（４）を支える為のキャリア（７）を付けるステップと、
前記ウェハの厚さを調整する為に、前記一面（１）の反対側にある前記ウェハ（Ｗ）の前記面（６）を研削するステップと、
研削後に前記一面（１）の反対側にある前記ウェハ（Ｗ）の前記面（６）に保護層（２０）を加えるステップと、
前記ウェハ（Ｗ）を前記分割ラインに沿って切断するステップと、
を有し、
前記一面（１）の反対側にある前記ウェハ（Ｗ）の前記面（６）は、機械的に第１切断幅（ｗ１）で部分的に切断され、
前記厚さの方向において、前記部分的に切断が形成された領域で前記ウェハ（Ｗ）の残部（２１）は、前記一面（１）の反対側にある前記ウェハ（Ｗ）の前記面（６）から、機械的に切断および／またはレーザによって切断および／またはプラズマによって第２切断幅（ｗ２）で切断され、
前記第２切断幅（ｗ２）は、前記第１切断幅（ｗ１）より小さいか等しくなっている、方法。
【請求項２】
前記第２切断幅（ｗ２）は、前記第１切断幅（ｗ１）より小さくなっている、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記付ける手段（１０）は、上面視において、前記ウェハ（Ｗ）の前記デバイス領域（２）の完全に外側で配置される、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記付ける手段（１０）は、前記キャリア（７）の平坦上面（１７）に配置されるか、或いは、前記付ける手段（１０）は、凹部（８）、好ましくは環状凹部に受容され、前記キャリア（７）内に形成され、或いは、前記付ける手段（１０）は、前記キャリア（７）の周辺側面（９）および接着テープ（４）の周辺側面（１８）に配置される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記一面（１）の反対側にある前記ウェハ（Ｗ）の前記面（６）に前記保護層（２０）を加える前記ステップは、前記ウェハ（Ｗ）を切断する前に行われる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
機械的な切断は、前記ウェハ（Ｗ）の一部を貫通して行われる前に、前記保護層（２０）を貫通して前記分割ラインに沿って行われる、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記一面（１）の反対側にある前記ウェハ（Ｗ）の前記面（６）に前記保護層（２０）を加える前記ステップは、前記ウェハ（Ｗ）を切断するステップの後に行われる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記ウェハ（Ｗ）を切断する前に、前記分割ラインが配置された場所でラインに沿って前記保護装置（２０）を切断するステップを更に有する、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記保護層（２０）を取り外す為に、前記保護層（２０）を加えるステップの後に前記一面（１）の反対側にある前記ウェハ（Ｗ）の前記面（６）を研削するステップを更に有する、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記保護層（２０）は、耐熱性および／またはプラズマ耐性および／または耐湿性を有する、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記保護層（２０）は、固体シート形式または液状成形材料形式で加えられる、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
低ｋ層が前記ウェハ（Ｗ）の前記一面に設けられ、前記低ｋ層は、前記一面（１）の反対側にある前記ウェハ（Ｗ）の面（６）から、機械的に切断および／またはレーザによって切断および／またはプラズマによって切断される、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記ウェハ（Ｗ）の前記一面（１）に面する面の上にある前記接着テープ（４）の接着材は、熱、ＵＶ線、電界および／または化学剤のような外部刺激によって硬化可能である、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記接着材の前記接着力を低下させる為に前記ウェハ（Ｗ）の前記一面（１）に面する前記面の上にある前記接着テープ（４）の前記接着材に前記外部刺激を加えるステップを更に有する、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記ウェハ（Ｗ）を切断するステップの後に前記一面（１）の反対側にある前記ウェハ（Ｗ）の前記面（６）にプラズマエッチング（Ｂ）を加えるステップを更に有する、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の分割ラインによって区切られた複数のデバイスを備えたデバイス領域を一面に有する（半導体ウェハのような）ウェハをダイに分割する方法に関する。
【０００２】
【技術的背景】
【０００３】
半導体デバイス製造処理では、複数の分割ラインによって区切られた複数のデバイスを備えたデバイス領域と、そのデバイス領域の周りにデバイスが形成されない周辺限界領域とを一面に有するウェハが個々のダイに分割される。この製造処理は、一般的に、ウェハの厚さを調整する研削ステップと、個々のダイを得る為に分割ラインに沿ってウェハを切断する切断ステップとを有する。この製造処理中、ウェハに形成されたデバイスを保護し、個々のダイを適切に位置決めするため、上部にデバイスが形成されたウェハの面に接着テープが付けられる。
【０００４】
フリップチップ実装、ウェハーレベルチップスケールパッケージ（ＷＬＣＳＰ）、組込型ウェハ・レベル・ボール・グリッド・アレイ（eWLB）のような既知の半導体デバイス製造処理において、前に参照された切断ステップは、デバイスが形成されるウェハの表面から行われる。この切断処理において、低ｋ層（例えば、低い誘電率を備えた層）のような表面層は、ウェハ表面に形成されるが、レーザ溝削りによって、分割ラインに沿って最初に除去される。後に、ウェハは、ウェハの表面からブレードダイシングによって、結果として生じるレーザ溝に沿って完全に切断される。
【０００５】
このレーザ溝削り処理によって形成される溝は、後のブレードダイシングステップにおいて、残りの表面層を損傷することなく切断ブレードが安全に通過することを可能にするため、十分な広さを有する必要がある。このため、レーザ溝幅は、ブレードダイシング処理における切断幅より著しく大きくなるように選択される。比較的に広いレーザ溝幅の要求は、隣接するデバイス間の広い間隔に結びつくので、ウェハ上に配置可能なデバイス数（すなわち、実装密度）を制限する。さらに、複数のレーザの通過は、そのような広いレーザ溝を提供する為に必要なので、レーザ溝削り処理に時間を浪費し、非効率的になる。
【０００６】
そのため、時間当たりの処理済みデバイスの生産量が減少され、生産性が低下する。
【０００７】
さらに、レーザ溝削り処理で生じる熱のため、ウェハの表面に形成される低ｋ層のような表面層の残りは、少なくとも一部に層割れが生じ、デバイスおよび／またはウェハ基板に対する損傷を引き起こす場合がある。そのような損傷は、デバイスの機能性に影響を与えるばかりか、結果として生じるデバイスチップのダイ強度も減少させる。
【０００８】
このため、時間的かつ費用効果が優れているウェハ分割方法であって、ウェハに対する損傷リスクを最小限にするウェハ分割方法が必要である。
【発明の概要】
【０００９】
したがって、本発明は、ウェハに対するリスクが最小限になる、ウェハをダイに分割する時間的かつ費用効果が優れている方法を提供することを目的とする。この目的は、請求項１の技術的特徴を備えたウェハ分割方法によって達成される。本発明の好ましい実施形態は、従属形式請求項から続く。
【００１０】
本発明は、複数の分割ラインによって区切られた複数のデバイスを備えたデバイス領域を一面に有するウェハを、ダイに分割する方法を提供する。当該方法は、ウェハ上のデバイスを保護する為の接着テープをウェハの一面に付けるステップと、付ける手段によって、ウェハの一面に面する面と反対側にある接着テープの面に、接着テープを支持する為のキャリアを付けるステップと、ウェハの厚さを調整する為に、一面の反対側にあるウェハの面を研削するステップと、を有する。当該方法は、研削して分割ラインに沿ってウェハを切断するステップの後、一面の反対側にあるウェハの面に保護層を加えるステップを更に有する。この切断処理において、一面の反対側にあるウェハの面は、第１切断幅で機械的に部分的に切断され、ウェハの残部は、部分的切断部（または複数の切断部）が形成された領域（または複数の領域）において、その厚さ方向で、一面の反対側にあるウェハの面から、第２切断幅で、機械的に切断および／またはレーザで切断および／またはプラズマで切断される。第２切断幅は、第１切断幅より小さいか等しくなっている。
【００１１】
一面の反対側にあるウェハの面を部分的に機械的に切断するステップにおいて、一面の反対側にあるウェハの面は、ウェハの厚さ方向で、すなわち、ウェハの厚さの一部に沿って、機械的に部分的に切断される。
【００１２】
本発明のウェハ分割方法によると、ウェハは、分割ラインに沿って一面の反対側から、すなわち、デバイスが形成されないウェハの裏面から、ウェハが切断される。特に、ウェハの裏面は、第１切断幅で機械的に部分的に切断され、ウェハの残部は、裏面から第２切断幅で、機械的に切断および／またはレーザで切断および／またはプラズマで切断されるが、第２切断幅は第１切断幅より小さいか等しくなっている。
【００１３】
このため、機械的切断処理において、切断幅より大きな溝幅での、ウェハの表面におけるレーザ溝削りは不要である。したがって、デバイス領域において隣接したデバイス間の間隔が減少可能なので、ウェハ上に配置可能なデバイスの数を増加することができ、実装密度は改善される。
【００１４】
そのため、時間当たりの処理済みデバイスの生産量を増やすことができ、生産性を強化できるので、時間的、費用効果が優れているウェハ分割方法が達成される。
【００１５】
また、ウェハは、その裏面から分割ラインに沿って切断されることから、ウェハの表面には、上部に形成される表面層（例えば、低ｋ層）の層割れのような損傷が生じない。このため、デバイスおよび／またはウェハ基板に対する損傷は、確実に防止され、高いダイ強度を備えた頑丈なデバイスチップを得ることができる。
【００１６】
さらに、ウェハの残部がレーザによって切断される場合、ウェハ表面において、大きな溝幅でのレーザ溝削りが不要になることから、切断処理ではレーザが通る本数を著しく減少できる。そのため、ウェハ分割方法の効率は更に改善される。
【００１７】
ウェハの残部は、単一の機械的切断ステップ（例えば、ブレードダイシング、鋸引き）で切断されてもよく、或いは、単一のレーザ切断ステップまたは（例えば、プラズマ源を用いることによる）単一のプラズマ切断ステップで切断されてもよい。ウェハの残部は、一連の機械的切断および／またはレーザ切断および／またはプラズマ切断ステップによって切断されてもよい。例えば、機械的切断ステップに、レーザ切断ステップまたはプラズマ切断ステップが続いてもよい。
【００１８】
一面の反対側にあるウェハの面を機械的に部分的に切断するステップにおいて、ウェハは、５０％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上、更により好ましくは、９０％以上の厚さに沿って切断されてもよい。
【００１９】
特に好ましい本発明の方法の実施形態において、第２切断幅は第１切断幅より小さくなっている。
【００２０】
前述されたように、ウェハは、デバイスが形成されていないウェハの裏面から分割ラインに沿って切断される。そのため、機械的に部分的にウェハ裏面を切断するステップにおいて、第１切断幅は、ウェハの反対面（すなわち、その表面）に形成されるデバイスに必要な間隔に影響を与えない。
【００２１】
さらに、好ましい実施形態に従う方法において、ウェハの残部は、その厚さ方向において、第１切断幅より小さい第２切断幅で切断される。このため、ウェハの一面（すなわち、表面）におけるデバイス領域は、減少された切断幅でウェハ裏面から切断される。そのため、発明の好ましい実施形態の方法は、デバイス領域における隣接デバイス間の間隔を更に減少させることを可能にし、デバイスの実装密度の追加の増加に結びつく。
【００２２】
このように、時間当たりの処理済みデバイスの生産量および生産性を更に高めることができる。
【００２３】
ウェハの残部がレーザによって切断される場合、レーザ経路の数は、減少された第２切断幅のため、更に減少可能なので、ウェハ分割方法の効率を更に改善する。特に、この場合、単一のレーザ通過が切断処理にとって十分である。
【００２４】
ウェハは、例えば、半導体ウェハ、ガラスウェハ、サファイヤウェハ、アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）のようなセラミックウェハ、石英ウェハ、ジルコニアウェハ、ＰＺＴ（ジルコン酸チタン酸鉛）ウェハ、ポリカーボネートウェハ、金属（例えば、銅、鉄、鋼、アルミニウムなど）または金属で被覆された材料のウェハ、フェライトウェハ、光学的結晶ウェハ、樹脂（例えば、エポキシ樹脂）、被覆または成形されたウェハなどでもよい。
【００２５】
特に、ウェハは、例えば、Ｓｉウェハ、ＧａＡｓウェハ、ＧａＮウェハ、ＧａＰウェハ、ＩｎＡｓウェハ、ＩｎＰウェハ、ＳｉＣウェハ、ＳｉＮウェハ、ＬＴ（タンタル酸リチウム）ウェハ、ＬＮ（ニオブ酸リチウム）ウェハなどでもよい。
【００２６】
ウェハは、単一材料で形成されてもよく、或いは、異なる材料の組合せ（例えば、２種以上の上記識別された材料）で形成されてもよい。例えば、ウェハは、Ｓｉで形成されたウェハ要素がガラスで形成されたウェハ要素に結合されるＳｉ・ガラス結合ウェハでもよい。
【００２７】
接着テープは、デバイス領域に形成されたデバイスの少なくとも一部または全部に接着してもよい。あるいは、接着テープは、デバイス領域に形成されたデバイスに接着しなくてもよい。
【００２８】
ウェハの一面に面する面の上にある接着テープの接着材は、最上面視においてウェハのデバイス領域の外側に完全に配置されてもよい。このように、接着材が確実に保証することができるのは、接着材がデバイス領域に形成されたデバイスに接着しないことである。このため、接着テープがウェハから剥がされないときのデバイスに対する損傷は、安全に防止可能である。
【００２９】
接着材は、環状形状においてウェハの一面に面する面上に配置されてもよい。
【００３０】
ウェハの一面に面する面の上にある接着テープの接着材は、ウェハの周辺限界領域を越えて延びないように配置されてもよい。
【００３１】
接着テープは、柔軟あるいはしなやかな材料で形成されてもよい。この場合、テープは、確実な方法で、デバイス領域に形成されたデバイスに適合し、研削ステップにおけるウェハの特に薄い研削を可能にするように変形可能である。
【００３２】
接着テープは、耐熱性および／またはプラズマ耐性および／または耐湿性であってもよい。このように、以下の処理ステップにおいてテープが損傷（熱硬化、プラズマエッチングなど）を受けないので、デバイス領域におけるデバイスに特に有効な保護を与えることが保証できる。
【００３３】
ウェハは、デバイス領域の周りに、デバイスが形成されない周辺限界領域を一面に有してもよい。
【００３４】
付ける手段は、接着材料で形成された接着層でもよい。接着材料は、外部刺激（熱、ＵＶ線、電界および／または化学剤）によって硬化可能でもよい。このように、キャリアは、処理後、簡単に接着テープから取り外せる。接着材料には、その材料の接着力を低下させるように外部刺激が加えられ、キャリアの簡単な取り外しを可能にしてもよい。
【００３５】
特に、接着材料は、アクリル樹脂またはエポキシ樹脂でもよい。接着材料の為のＵＶ硬化型樹脂の好ましい実施例は、例えば、ウレタンアクリレートオリゴマーである。
【００３６】
さらに、接着材料は、例えば、水溶性樹脂でもよい。
【００３７】
付ける手段は、最上面視において、ウェハのデバイス領域の外側に完全に配置されてもよい。そのような配置は、以下の利点を与える。
【００３８】
ウェハをキャリアから剥がす処理において、ウェハは大きな曲げ応力を受けるが、これは、ウェハの破壊および／またはウェハ上に形成されたデバイスに対する損傷になる場合がある。キャリアの剥離処理におけるウェハの曲げのため、特に分離されたダイが互いに接触するので、損傷を受ける。さらに、大きな曲げ応力は、キャリアの剥離の際、キャリアにも作用する。そのため、取り外し処理において、キャリアも同様に、危うくされ、或いは、壊れさえする場合があり、その再使用ができなくなる。これらの理由のため、ウェハは、とてもゆっくりと慎重にキャリアから剥がされなければならず、これが、生産性の減少、すなわち、１時間当たりの処理済みユニットの生産量の減少、したがって、処理コストの増加になる。
【００３９】
最上面視において、付ける手段をウェハのデバイス領域の外側に完全に配置することによって、キャリアおよび接着テープが互いに付けられる領域は著しく減少される。そのため、キャリアは、簡単にウェハから剥がされなければならず、剥離の際にキャリアまたはウェハに対する損傷リスクは最小限にできる。
【００４０】
さらに、付ける手段が、簡単なキャリア剥離を可能にするように処置される場合、デバイスは、付ける手段が存在する領域から離間されて配置されることから、簡単に損傷を受けない。
【００４１】
さらに、本発明者等が発見したことは、ウェハのデバイス領域の外側に完全に配置することによって、ウェハの裏面が特に高精度に研削可能になることである。この場合、付ける手段は、研削処理におけるクッションとして機能する。
【００４２】
付ける手段は、ウェハの周辺限界領域を越えて延びないように配置されてもよい。
【００４３】
付ける手段は、環状形状を有してもよい。このような形状は、所定位置に接着テープを固定する為の十分に大きな付ける領域と、ウェハ及びキャリアに対する損傷リスクを最小限にキャリア剥離を可能にする為の十分に小さな付ける領域との間で良好な歩み寄りが達成されるという利点を与える。さらに、環状形状は、費用効果が優れており、付ける手段の簡単な処理を可能にする。さらに、環状形状は、キャリアに対する接着テープの良好な固定を与えるので、ダイのずれは、特に確実に防止可能である。
【００４４】
付ける手段は、キャリアの平らな上面に設けられてもよい。そのような配置は、キャリアおよび付ける手段の、特に簡単な構造を現す。
【００４５】
付ける手段は、５〜１００μｍの範囲の厚さを有してもよい。
【００４６】
付ける手段は、キャリアに形成された凹部、好ましくは、環状凹部に受容されてもよい。そのような配置は、付ける手段のキャリアへの一体化を可能にする。そのため、簡単に取り扱えるウェハ及びキャリアのセットが提供される。さらに、特に、キャリアが比較的に硬い剛性材料で形成される場合、凹部は、内部に高精度で簡単に形成可能になる。したがって、当該方法は良好な処理品質を可能にする。
【００４７】
あるいは、凹部は、接着テープに、或いは、接着テープ及びキャリアを組み合わせて形成されてもよい。
【００４８】
付ける手段は、キャリアの周辺側面および接着テープの周辺側面に、例えば、キャリア及び接着テープの全周に沿って配置されてもよい。この場合、付ける手段の、どの部分も、キャリア及び接着テープの境界に存在しない。このため、特に円滑な、一様かつ均質な境界が確実になる。
【００４９】
一面の反対側にあるウェハの面に保護層を加えるステップは、ウェハを切断するステップの前に行われてもよい。この場合、ウェハの裏面は、切断処理中、特に確実に保護される。
【００５０】
機械的切断は、ウェハの一部を貫通して行われる前に保護層を貫通する分割ラインに沿って行われてもよい。そのため、機械的にウェハの裏面を部分的に切断する処理は、特に効率の良い方法（最初に保護層が機械的に切断され、直ちに、同一の切断ステップにおいて、機械的にウェハ裏面を部分的に切断すること）で行うことができる。
【００５１】
一面の反対側にあるウェハの面に保護層を加えるステップは、ウェハを切断するステップの後で行われてもよい。この場合、保護層の材料は、特に、保護層が液状成形材料の形で加えられるなら、切断処理で作成されるダイ間の切断にまで深く入り込む。このため、保護層は、ダイの側面にも加えることができるので、実質的にダイを包囲し、特に確実な保護を与える。例えば、この方法は、組込型ウェハ・レベル・ボール・グリッド・アレイ（eWLB）状のデバイス製造処理に使用可能である。
【００５２】
保護層が、ウェハ切断ステップ後にウェハの裏面に加えられるなら、本発明のウェハ分割方法は、ウェハを切断するステップの前に、分割ラインが配置される場所でラインに沿って保護層を切断するステップを更に有する。このように、裏面と側面に保護層が加えられるダイは、互いに確実に分離される。
【００５３】
本発明のウェハ分割方法は、保護層にレーザマーキングを与えるステップを更に有してもよい。
【００５４】
本発明のウェハ分割方法は、保護層を取り外すために、保護層を加えるステップの後で、一面の反対側にあるウェハの面を研削するステップを更に有してもよい。このように、保護層は、切断、プラズマエッチングのような処理ステップ中、ウェハを保護するのに役立ち得るが、完成したダイには残らない。例えば、この方法は、フリップチップ実装処理の為に使用可能であるが、完成した製品に保護層は望まれない。
【００５５】
保護層の取り外しは、ウェハの切断および／またはウェハのプラズマエッチングの後で実行されてもよい。
【００５６】
保護層は、耐熱性および／またはプラズマ耐性および／または耐湿性でもよい。このように、確実なことは、プラズマエッチングのような処理ステップで保護層が損傷を受けないので、ウェハにとって特に有効な保護を与えることである。
【００５７】
保護層は、固体シート（例えば、接着テープ）の形、または、液状成形材料の形で加えられてもよい。
【００５８】
固体シート（例えば、接着テープ）の形で保護層を加えるステップは、単純な方法であり、保護層の特に高い精度および均一性の達成が可能になる。
【００５９】
詳細に説明されたように、保護層の為に液状成形材料を使用することにより、ウェハの切断ステップの後にウェハの裏面に材料が加えられるなら、材料は、確実かつ効率良く、切断処理で作成されるダイ間の切断部に深く入り込むことができる。したがって、保護層は、ダイの側面にも確実に加えられるので、特に確実な保護が与えられる。
【００６０】
保護層は、外部刺激（熱、ＵＶ線、電界および／または化学剤など）によって硬化可能な材料から形成されてもよく、そのような材料を有してもよい。特に、保護層は、熱硬化性材料および／またはエネルギ線硬化可能な材料から形成されてもよく、そのような材料を有してもよい。
【００６１】
本発明のウェハ分割方法は、外部刺激を加えることによって保護層を硬化するステップを更に有してもよい。
【００６２】
表面層、特に、低ｋ層、すなわち、低い誘電率の層は、ウェハの一面に設けられてもよい。表面層、特に、低ｋ層は、一面の反対側にあるウェハの面から、機械的に切断および／またはレーザによって切断および／またはプラズマによって切断されてもよい。
【００６３】
前述されたように、ウェハは、その裏面から分割ラインに沿って切断されることから、上部に形成された表面層の層割れは生じない。このため、デバイスおよび／またはウェハ基板に対する損傷は確実に防止可能であり、高いダイ強度を備えた頑丈なデバイスチップを得ることができる。
【００６４】
本発明のウェハ分割方法は、ウェハの表面に設けられた低ｋ層を有するウェハに対し、特に有利に使用可能である。低ｋ層は、一般的に非常に砕けやすく、簡単に損傷を受け、さらに／または、ウェハの表面からウェハを切断するとき、層割れが生じる。しかしながら、そのようなウェハを本発明の方法を使用して分割するとき、そのような損傷および／または層割れが生じない。
【００６５】
ウェハの一面に面する面の上にある接着テープの接着材は、熱、ＵＶ線、電界および／または化学剤のような外部刺激によって硬化可能でもよい。このように、接着テープは、処理の後、簡単にウェハから取り外すことができる。ウェハの一面に面する面の上にある、接着テープの接着材に外部刺激が加えられ、接着材の接着力を低下させ、接着テープの簡単な取り外しを可能にしてもよい。
【００６６】
特に、接着材は、アクリル樹脂またはエポキシ樹脂でもよい。接着材の為のＵＶ硬化型樹脂の好ましい実施例は、例えば、ウレタンアクリレートオリゴマーである。
【００６７】
さらに、接着材は、例えば、水溶性樹脂でもよい。
【００６８】
本発明のウェハ分割方法は、ウェハを切断するステップの後に一面の反対側にあるウェハの面にプラズマエッチングを加えるステップを更に有してもよい。このように、切断処理によってウェハに生じる機械的損傷は除去可能なので、その切断処理中にウェハに発生する機械的応力は軽減され、結果として生じるデバイスチップのダイ強度は高められる。
【００６９】
プラズマエッチングは、保護層を加えるステップの後に一面の反対側にあるウェハの面に加えられてもよい。このように、保護層は、プラズマエッチング中、マスクとして役立ち、プラズマからウェハ裏面を保護し、切断処理で作成されるダイ間の切断部にプラズマを効率良く導くので、ダイの側面を確実にエッチングする。
【００７０】
本発明のウェハ分割方法は、ウェハの切断ステップの後、一面の反対側にあるウェハの面に、接着性ピックアップテープを付けるステップを更に有してもよい。
【００７１】
このステップは、接着性ピックアップテープによってダイが保持されることから、ウェハの一面から接着性テープ、接着テープからキャリアの特に簡単な剥離を可能にする。
【００７２】
接着性ピックアップテープは、径方向に拡張可能または伸ばせるように更に構成されてもよい。当該方法は、ダイ間の距離を増加し、簡単なダイピックアップを可能にする為に、例えば、拡張ドラムを使用することによって、接着性ピックアップテープを径方向に拡張するステップを更に有してもよい。
【００７３】
本発明のウェハ分割方法は、ウェハの一面に面する表面の反対側の接着テープの表面を、一面の反対側にあるウェハの表面と平行にするステップを更に有してもよい。このように、処理品質を高めることにもなる、より高い処理精度が達成可能である。
【００７４】
キャリアは、シリコンおよび／またはガラスのような剛性材料で形成されてもよい。キャリアがガラスで形成される場合、付ける手段へのエネルギ入力は、ガラスを通して送ることができる放射線、例えば、ＵＶ線を用いて可能である。キャリアがシリコンで形成される場合、費用効果が優れているキャリアが提供される。また、２つの材料の組合せも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
以下、添付図面を参照して、本発明の非限定的実施例を説明する。
【図１】図１は、本発明の第１実施形態に従うウェハを分割する方法の第１ステップを示す横断面図である。
【図２】図２は、本発明の第１実施形態に従うウェハを分割する方法の第２ステップを示す横断面図である。
【図３】図３は、本発明の第１実施形態に従うウェハを分割する方法の第１ステップの代替え案を示す横断面図である。
【図４】図４は、本発明の第１実施形態に従うウェハを分割する方法の第１ステップの第３ステップ、第４ステップ、第５ステップを示す横断面図である。
【図５】図５は、図４の領域Ａの拡大図である。
【図６】図６は、付ける手段の配置の代替え案の為の、図４における領域Ａの拡大図である。
【図７】図７は、付ける手段の配置の他の代替え案の為の、図４における領域Ａの拡大図である。
【図８】図８は、本発明の第１実施形態に従うウェハを分割する方法の第６ステップを示す横断面図である。
【図９】図９は、本発明の第１実施形態に従うウェハを分割する方法の第７ステップを示す横断面図である。
【図１０】図１０は、本発明の第１実施形態に従うウェハを分割する方法の第８ステップおよび第９ステップを示す横断面図である。
【図１１】図１１は、本発明の第１実施形態に従うウェハを分割する方法の第１０ステップを示す横断面図である。
【図１２】図１２は、本発明の第１実施形態に従うウェハを分割する方法の第１１ステップを示す横断面図である。
【図１３】図１３は、本発明の第１実施形態に従うウェハを分割する方法の第１２ステップを示す横断面図である。
【図１４】図１４は、本発明の第２実施形態に従うウェハを分割する方法の第７ステップおよび第８ステップを示す横断面図である。
【図１５】図１５は、本発明の第２実施形態に従うウェハを分割する方法の第９ステップを示す横断面図である。
【図１６】図１６は、本発明の第２実施形態に従うウェハを分割する方法の第１０ステップを示す横断面図である。
【図１７】図１７は、本発明の第２実施形態に従うウェハを分割する方法によって得られた分離ダイを示す横断面図である。
【図１８】図１８は、本発明の第３実施形態に従うウェハを分割する方法の第１１ステップを示す横断面図である。
【図１９】図１９は、本発明の第３実施形態に従うウェハを分割する方法の第１２ステップを示す横断面図である。
【図２０】図２０は、本発明の第３実施形態に従うウェハを分割する方法の第１３ステップを示す横断面図である。
【好ましい実施形態の詳細な説明】
【００７６】
以下、添付図面を参照して、本発明の好ましい実施形態を説明する。好ましい実施形態は、ウェハＷをダイに分割する為の方法に関する。
【００７７】
ウェハＷは、例えば、ＭＥＭＳデバイスがウェハの表面（以下の説明において、パターン面１という）に形成されるＭＥＭＳウェハである。しかしながら、ウェハＷは、ＭＥＭＳウェハに限定されるものではなく、好ましくは固体撮像装置のようなＣＭＯＳデバイスが、ウェハのパターン面１に形成されるＣＭＯＳウェハや、パターン面１上に他の型式のデバイスを備えたウェハである。
【００７８】
ウェハＷは、半導体（例えば、シリコン）で形成されてもよい。そのようなシリコンウェハＷは、ＩＣ（集積回路）、ＬＳＩ（大規模集積回路）のようなデバイスをシリコン基板上に含むことができる。あるいは、ウェハは、ＬＥＤ（発光ダイオード）のような光学デバイスを、例えば、セラミック、ガラス、サファイヤの無機材料基板上に形成することによって構成された光学デバイスウェハでもよい。ウェハＷは、これに限定されず、他の方法で形成可能である。さらに、前述された例示的なウェハ設計の組合せも可能である。
【００７９】
ウェハＷは、μｍ範囲、好ましくは６２５〜９２５μｍの範囲で研削するステップの前に一定の厚さを有し得る。ウェハＷは、円形状を呈するのが好ましい。ウェハＷは、そのパターン面１に形成されたストリートと呼ばれる複数の交差分割ライン（図示せず）を備え、それによって、前述されたようなデバイスがそれぞれ形成される複数の矩形領域へとウェハＷを区切る。これらのデバイスは、ウェハＷのデバイス領域２に形成される。円形ウェハの場合、このデバイス領域２は、好ましくは円形であり、ウェハＷの外周と同心に配置される。デバイス領域２は、環状の周辺限界領域３によって囲まれ、周辺限界領域３はデバイス領域２を囲む。この周辺限界領域３にデバイスは形成されない。周辺限界領域３は、ウェハＷの外周および／またはデバイス領域２に対して同心で配置されるのが好ましい。周辺限界領域３の径方向拡張部は、ｍｍ範囲でもよく、好ましくは、１−３ｍｍである。
【００８０】
ウェハＷのパターン面１は、分離されたダイにおいて、デバイス領域２のデバイスとの電気的な接触を確立する為に、バンプ又は壊れやすい構造が更に設けられる。
【００８１】
以下、図１−図１３を参照して、本発明の第１実施形態に従うウェハＷを分割する方法を説明する。
【００８２】
図１は、本発明の第１実施形態に従うウェハを分割する方法の第１ステップの結果を表す。第１ステップにおいて、接着テープ４はウェハＷのパターン面１に付けられる。換言すると、パターン面１は、接着テープ４で積層される。接着テープ４は、好ましくは、ウェハＷと同一形状であり、同心で、ウェハＷに付けられる。接着テープ４は、ウェハＷに付けられるとき、パターン面１のデバイス領域２に形成されたデバイスに接着する。
【００８３】
接着テープ４は、ウェハＷのデバイス領域２に形成されたデバイスの保護を可能にする。
【００８４】
接着テープ４の、ウェハＷのパターン面１に面する面の上にある接着材は、熱、ＵＶ線、電界および／または化学剤のような外部刺激によって硬化可能であってもよい。このように、接着テープ４は、処理の後、ウェハＷから簡単に取り外すことができる。
【００８５】
特に、接着テープ４の接着材は、アクリル樹脂またはエポキシ樹脂でもよい。接着材料の為のＵＶ硬化型樹脂の好ましい実施例は、例えば、ウレタンアクリレートオリゴマーである。さらに、接着材は、例えば、水溶性樹脂でもよい。
【００８６】
図２は、本発明の第１実施形態に従うウェハを分割する方法の第２ステップを示す。留意すべき点は、この第２ステップが、この第１実施形態に従う方法に対して任意的であるという点である。この第２ステップにおいて、接着テープ４の表面は、ウェハＷから離れた位置に置かれ、ウェハＷの表面に対して平行にされ、ウェハＷの表面は、接着テープ４から離れた位置に置かれる。デバイスはウェハＷのパターン面１に形成されるという点に起因して、接着テープ４の最上面５は、その下に形成されるデバイスのため、不均一な表面プロファイルを呈する場合がある。この最上面５の最下地点（ウェハＷに最も近い表面地点）と、この最上面５の最高地点（ウェハＷから最も遠い地点）との間の距離は、およそ７０μｍである。この第２ステップにおける平行化（parallelization）を通じて、この距離は、例えば、およそ２μｍまで減少される。平行化はチャックテーブルでウェハＷをチャックすること、圧延デバイス１５の機械加工平面がウェハＷの裏面６に対して平行に向けられるように最上面５に沿って圧延デバイス１５を移動させることによって達成されるのが好ましい。積層された接着テープ４を備えたウェハＷの全体の厚さの値は、この第２ステップによって著しく改善可能である。
【００８７】
図３は、本発明の第１実施形態に従うウェハを分割する方法の代替えの第１ステップを示す。この代替えの第１ステップにおいて、異なる形式の接着テープ４がウェハＷに付けられる。ウェハＷのパターン面１に面する面の上にある、この接着テープ４の接着材１６は、環状に配置され、最上面視において、ウェハＷのデバイス領域２の完全な外側に配置されている。接着材１６は、ウェハＷの周辺限界領域３を越えて延びない。
【００８８】
図４および図５は、この第１実施形態に従うウェハを分割する方法の第３ステップ、第４ステップ、第５ステップの結果を示す。
【００８９】
第３ステップにおいて、硬いキャリア７が設けられる。硬いキャリア７は、好ましくは、接着テープ４の材料より著しく硬く、より剛性である材料から形成される。硬いキャリア７は、例えば、シリコン、ガラス、これらの組合せで形成される。好ましくは、硬いキャリア７は、図４に示されるように、接着テープ４と一致して形成され、同心に配置される。硬いキャリア７は、例えば、５００−１０００μｍの高さを呈してもよい。
【００９０】
この第１実施形態のオプションである第４ステップにおいて、環状凹部８（例えば、切欠き部）は、図４および図５に示されるように、硬いキャリア７に同心で形成される。好ましくは、環状凹部８は、横断面で矩形プロファイルを有し、更に／又は、硬いキャリア７の外周面９から径方向内側に延びている。硬いキャリア７の高さ方向において、凹部８は、キャリアの高さの、およそ半分に沿って延びている。
【００９１】
硬いキャリア７は、外環状部分ｓを呈し、これは、ウェハＷの外周囲９から径方向内側に延びている。環状部分ｓは、硬いキャリア７が接着テープ４に同心で付けられるとき、ウェハＷの周辺限界領域３と一致する。凹部８の拡張及び配置は、外環状部分ｓの範囲内になるように定められている。したがって、硬いキャリア７が接着テープ４に同心で付けられるとき、凹部８は、図４および図５に示されるように、その最上面視において、ウェハＷのデバイス領域２に延びない。凹部８も同様に、硬いキャリア７の外周囲９から径方向内側にずらされる径方向位置から始まる点に留意されたい。さらに、矩形プロファイルとは異なるプロファイル、例えば、三角形プロファイル又は半円形プロファイル等も可能である。
【００９２】
この第１実施形態の第５ステップにおいて、硬いキャリア７は、接着テープ４の最上面５に同心で付けられる。硬いキャリア７と接着テープ４は一致して形成されるという点で、これら２つの部分は、連続した周囲面を形成する。硬いキャリア７を接着テープ４に付けることは、付ける手段１０によって達成され、付ける手段１０は、硬いキャリア７に損傷を与えることなく、接着テープ４から硬いキャリア７の後の剥離を可能にする。
【００９３】
付ける手段１０は、エネルギ（例えば、ＵＶ線）の適用によって影響される接着特性を呈してもよい。付ける手段１０は、ＵＶ硬化性接着剤を、好ましくは、両面接着テープ型式で有することができる。付ける手段１０は、硬いキャリア７を接着テープ４に付ける為に硬いキャリア７の凹部８に設けられる。凹部８の構成のため、付ける手段１０は、ウェハＷの周辺限界領域３内部に全体的に置かれるので、図４および図５に示されるように、デバイス領域２に延びない。
【００９４】
ウェハＷ、接着テープ４、硬いキャリア７は、この第５ステップの後、一定の、ほぼ一定の直径を備えたユニットを形成する。このユニット、および特に接着テープ４は、構造的に剛性の硬いキャリア７によって支持され、キャリア７は、凹部８に設けられた付ける手段１０のＵＶ硬化性接着剤を用いて接着テープ４に付けられる。ＵＶ硬化性接着剤は、付ける手段１０の為に使用され、硬いキャリア７は、好ましくはガラスで形成される。接着剤がその接着特性を失い損傷を受けることなくキャリア７が簡単に剥離可能になるように凹部８内の接着剤１０を硬化させるため、これが、ＵＶ線のキャリア７の貫通を可能にする。
【００９５】
あるいは、ＵＶ硬化性接着剤の代わりに、熱硬化性接着テープ、好ましくは、両面接着テープは、接着テープ４に硬いキャリア７を付ける為に、付ける手段１０として使用可能である。このテープは、硬いキャリア７の凹部８に配置されるのが好ましい。そのような熱硬化性接着テープは、熱を熱硬化性接着テープに加えることによって、キャリア７に損傷を有することなく、接着テープ４から硬いキャリア７の簡単な剥離を可能にする。この構成は、何も透過性を必要としないので、硬いキャリア７の為の材料としてシリコンの使用を可能にする。あるいは、水溶性接着剤が、付ける手段１０の為に使用可能である。
【００９６】
付ける手段１０の為に、投与される液体接着剤を使用することも可能である。液体接着剤は、乾燥し、接着テープ４と硬いキャリア７を互いに接続する。この接着剤は、凹部８に配置可能である。凹部８は、接着テープ４の周囲面、硬いキャリア７の周囲面、或いは、両方に設けることができる。液体接着剤は、その後、凹部の範囲内で、接着テープ４と硬いキャリア７の境界に設けることができる。凹部８は、三角形横断面を呈してもよい。
【００９７】
付ける手段１０の代替え配置を示す図６および図７を参照として、以下に詳細に説明されるように、何も凹部が設けられないことも可能である。
【００９８】
図６に概略的に示されるように、付ける手段１０は、キャリア７の平坦上面１７上の環状配置で設けられてもよい。そのような配置は、何も凹部が設けられる必要がないことから、付ける手段１０およびキャリア７の特に単純構造を提供する。付ける手段１０は、５〜１００μｍの範囲の厚さを有してもよい。
【００９９】
あるいは、図７に概略的に示されるように、付ける手段１０は、例えば、接着テープ４およびキャリア７の全周に沿って、接着テープ４の周辺側面１８およびキャリア７の周辺側面９に配置されてもよい。この場合、付ける手段１０の、どの部分も、キャリア７および接着テープ４の間の境界に存在しない。そのため、これら２つの要素の間に、特に円滑、均等、均質な境界を得ることができる。
【０１００】
付ける手段１０の上記構成の全てにおいて、付ける手段１０は、ウェハＷのデバイス領域２には延びない。
【０１０１】
接着テープ４から硬いキャリア７を剥がすため、ナイフや他の機械的切断デバイスを使用でき、損傷を与えることなく接着テープ４から硬いキャリア７を剥がすように、付ける手段１０を切断する。あるいは、付ける手段１０として使用される、液体接着剤のような接着剤は、ＵＶ線や熱のような外部刺激によって硬化可能であってもよい。この場合、硬いキャリア７は、接着剤に外部刺激を加えること、それによって、接着剤を硬化させること、このように、その接着力を低下させること、続いて、接着テープ４から硬いキャリア７を取り外すことによって、接着テープ４から剥がすことができる。さらに、液体接着剤のような接着剤は水溶性接着剤でもよく、水を接着剤に加えることによって接着テープ４から硬いキャリア７を取り外すことを可能にする。
【０１０２】
図８は、この第１実施形態の第６ステップの結果を示す。この第６ステップにおいて、接着テープ４が付けられたウェハＷは、硬いキャリア７が接着テープ４に装着される場合、研削デバイスで裏面６から所望の厚さまで研削される。この厚さは、ダイの最終的な厚さでもよい。そのような研削デバイスは、一つ以上の、ダイヤモンドホィールのような研削ホィールを含んでもよい。
【０１０３】
この第１実施形態の第７ステップにおいて、保護層２０は、図９に示されるように、研削の後、ウェハＷの裏面に加えられる。
【０１０４】
保護層２０は、例えば、固体シート形式（例えば、接着テープ）で、或いは、液体成形材料の形式で、加えられてもよい。
【０１０５】
本発明のウェハ分割方法の第１実施形態において、保護層２０は、熱、ＵＶ線、電界および／または化学剤のような外部刺激によって硬化可能な材料を、それに付けた固体シート形式、すなわち、テープで加えられるのが好ましい。特に、テープは、それに、熱硬化性材料および／またはエネルギ線硬化性材料を付けてもよい。例えば、リンテック株式会社によって製造されるAdwill LCテープが保護層として使用されてもよい。
【０１０６】
保護層２０は、それに外部刺激を加えることによって、たとえば、熱硬化可能（例えば、熱硬化性材料）である場合、オーブンで加熱することによって、硬化される。
【０１０７】
この方法は、特に高度の精度および均一性の保護層２０を達成可能にする。
【０１０８】
第１実施形態のウェハ分割方法の第８ステップおよび第９ステップにおいて、ウェハＷは、図１０に示されるように、その研削済み裏面から分割ラインに沿って切断される。
【０１０９】
特に、ウェハＷの研削済み裏面は、ブレードまたは鋸のような機械的切断デバイスを使用して、第１切断幅ｗ１で、最初に機械的に部分的に切断される（部分的切断を概略的に示す図１０の左手側を参照）。図１０に概略的に示されるように、ウェハＷは、その厚さの８０％以上に沿って機械的に切断される。機械的切断は、ウェハＷの一部を通して行われる前に、保護層２０を通して分割ラインに沿って行われる。
【０１１０】
後に、ウェハＷの残部２１は、部分的切断が形成された領域で、その厚さ方向において第２切断幅ｗ２で（ウェハＷの全体の厚さを通して達する切断２２を概略的に示す図１０の右手側を参照）、ウェハＷの裏面から、機械的に切断および／またはレーザによって切断および／またはプラズマによって切断される。
【０１１１】
図１０に示されるように、第２切断幅ｗ２は、第１切断幅ｗ１より小さくなっている。
【０１１２】
この第１実施形態において、ウェハＷの残部２１は、好ましくは、レーザによって切断される。しかしながら、代替えで、ウェハＷの残部２１は、例えば、ブレードや鋸のような機械的切断デバイスによって、部分的切断の為に使用された機械的切断デバイスの幅より小さい幅で、機械的に切断されてもよい。さらに、更なる代替えとして、ウェハＷの残部２１は、例えば、プラズマ源を使用することによって、プラズマによって切断されてもよい。さらに、これら異なる切断方法の組合せも使用可能である。
【０１１３】
ウェハＷの残部２１を切断することによって、ダイ２３は、互いに完全に分離される。
【０１１４】
本発明の方法は、ウェハＷが表面層（図示せず）、特に、低ｋ層をそのパターン面１に呈する場合、特に有利である。低ｋ層は、一般的に非常に砕けやすく、簡単に損傷を受け、さらに／または、ウェハの表面からウェハを切断するとき、層割れが生じる。しかしながら、そのようなウェハＷを本発明の方法を使用して分割するとき、ウェハＷは、前述した方式で、その裏面から切断されることから、そのような損傷および／または層割れは生じない。
【０１１５】
ダイ２３が互いに完全に分離された後、それらは、図１１に示されるように、それぞれ、接着テープ４に接着し、この接着テープ４に硬いキャリア７が付けられる。第１実施形態の第１０ステップにおいて、ウェハＷの切断後、図１１における矢印Ｂによって表示されるように、プラズマエッチングがウェハ裏面に加えられる。このように、切断処理によってウェハＷに生じる機械的損傷が除去可能なので、その切断中にウェハＷに発生する機械的応力を軽減し、結果として生じるデバイスチップのダイ強度を高める。プラズマエッチング処理において、保護層２０は、マスクとして役立ち、プラズマからウェハ裏面を保護し、切断処理で作成されるダイ２３間の切断部２２にプラズマを効率良く導くので、ダイ２３の側面を確実にエッチングする。
【０１１６】
第１実施形態の第１１ステップにおいて、その結果が図１２に示されるが、接着テープ４および硬いキャリア７によってそれぞれ保持される個々のダイ２３は、環状フレーム２５に装着されるピックアップテープ２４に配置される。ダイ２３，接着テープ４，硬いキャリア７のユニットは、図１２に示されるように、保護層２０の上面が接着性ピックアップテープ２４に接触するように、接着性ピックアップテープ２４上に配置される。
【０１１７】
第１実施形態の第１２ステップにおいて、その結果が図１３に示されるが、キャリア７および接着テープ４がウェハＷから取り外される。特に、前述されてきたように、接着材の接着力を低下させ、接着テープ４およびキャリア７の、ウェハＷからの簡単な取り外しを可能にするように、ウェハＷのパターン面に面する、接着テープ４の面の上にある接着材は、それに対して外部刺激を加えることによって硬化されてもよい。
【０１１８】
その後、個々の分離されたダイ２３は、ピックアップデバイスによって、接着性ピックアップテープ２４からピックアップ可能である。ピックアップ処理を容易にするため、径方向にピックアップテープを引き延ばすことによって個々のダイの間の間隔を増やすことができる。
【０１１９】
以下、図１４〜図１７を参照して、本発明の第２実施形態に従うウェハＷの分割方法を説明する。第２実施形態の方法は、図１４〜図１７に示される第７ステップから第１０ステップにおいて、第１実施形態の方法とは異なる。
【０１２０】
特に、図１４に示されるように、第２実施形態の方法において、ウェハＷの切断は、保護層２０を加えるステップの前の痔７ステップおよび第８ステップで行われる。
【０１２１】
後で、図１５に概略的に示されるように、保護層のための液体成形材料が、第９ステップにおいて、ウェハＷの裏面に加えられる。液体成形材料は、切断処理で作成されたダイ２３の間の切断部２２に深く入り込む。このため、保護層２０は、確実に、ダイ２３の側面にも加えられるので、特に確実な保護を与える。
【０１２２】
液体成形材料は、熱、ＵＶ線、電界および／または化学剤のような外部刺激によって硬化可能である。保護層２０の為の液体成形材料がウェハＷの裏面に加えられた後、液体成形材料は、それに外部刺激を加えることによって（例えば、熱硬化性（例えば、熱硬化性材料）の場合にはオーブンで加熱することによって）硬化される。
【０１２３】
任意で、硬化ステップの後、保護層２０は、保護層２０の最上面を特に平坦かつ均一にする為に研削処理を受けてもよい。
【０１２４】
図１６に概略的に示される第２実施形態の第１０ステップにおいて、保護層２０は、ウェハＷを切断するステップの前に分割ラインが配置された場所でラインに沿って切断される。このように、ダイ２３は、保護層２０が裏面および側面に加えられ、互いに確実に分離される。この切断処理は、例えば、ブレードまたは鋸を使用して機械的に切断、および／またはレーザによって切断および／またはプラズマによって切断することによって行われてもよい。
【０１２５】
任意で、レーザマーキングが保護層２０に設けられてもよい。
【０１２６】
後に、分離されたダイ２３が、第１実施形態の為に詳述されたような同一の方法でピックアップされてもよい。第２実施形態の方法によって得られる個々に分離されたダイ２３は、図１７に示されている。
【０１２７】
以下、図１８〜図２０を参照して、本発明の第３実施形態に従うウェハＷを分割する方法を説明する。図１８〜図２０に示された方法の第１１ステップから第１３ステップにおいて、第３実施形態の方法は、第１実施形態の方法と実質的に異なる。
【０１２８】
特に、第３実施形態の方法において、ウェハＷは、図８における第１実施形態の為に示された研削ステップにおいて、研削される。しかしながら、第３実施形態の、このステップにおいて、ウェハＷは最終的な厚さまでは研削されないが、むしろ、例えば、２００〜４００μｍの厚さまで事前に研削される。
【０１２９】
後で、保護層２０は、ウェハＷの事前研削面に加えられ、硬化され（図９を参照）、ウェハＷは、その裏面から切断される（図１０を参照）。さらに、ウェハＷの切断後、プラズマエッチングがウェハ裏面に加えられる。これらのステップの全ては、第１実施形態の為の方法と同一の方法で実行される。
【０１３０】
プラズマエッチングの後、ウェハＷは、第１１ステップとして、更なる研削ステップを受け、ウェハＷから保護層２０を削り取り、その最終的な所望の厚さ（例えば、１０〜５０μｍ）までウェハＷを研削する。この研削ステップの結果は、図１８に示される。
【０１３１】
この更なる研削ステップの後、例えば、裏面の研磨によって（例えば、乾式研磨パッドを使用して）応力軽減処置がウェハ裏面に加えられてもよい。
【０１３２】
第３実施形態の方法の第１２ステップにおいて、その結果が図１９に示されるが、接着テープおよび硬いキャリア７によってそれぞれが保持される個々のダイ２３は、環状フレーム２５に装着された接着性ピックアップテープ２４に配置されている。第１実施形態とは対照的に、ダイ２３，接着テープ４，硬いキャリア７のユニットは、図１９に示されるように、ダイ２３の研削済み面が接着性ピックアップテープ２４と接触するように、接着性ピックアップテープ２４に配置される。
【０１３３】
第３実施形態の第１３ステップにおいて、その結果が図２０に示されるが、キャリア７および接着テープ４はウェハＷから取り外される。特に、ウェハＷのパターン面１に面する面の上にある、接着テープ４の接着材は、前述されたように、接着材の接着力を低下させるために、それに外部刺激を加えることによって硬化され、もって、ウェハＷからキャリア７および接着テープ４の簡単な取り外しを可能にしてもよい。
【０１３４】
後に、個々の分離されたダイ２３は、第２実施形態および第２実施形態の為の方法と同一方式で、ピックアップデバイスによって、接着性ピックアップテープ２４から、ピックアップが可能である。ピックアップ処理を容易にするため、ピックアップテープ２４を径方向に引き延ばすことによって、個々のダイ２３の間の間隔を増やすことができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
2018113449.tif 000019
【図１８】
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【図１９】
2018113449.tif 000021
【図２０】
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【外国語明細書】
2018113449000001.pdf