(57)【要約】【課題】ガラス板の端面検査の精度向上を図ることによって、端面から発生するガラス粉の極めて少ないガラス板をより確実に提供する。【解決手段】検査用ガラス板Ｓの端面Ｓ１に形成された研磨面Ｓ１ａの特定領域Ｒを拡大観察して第一拡大画像を取得する第一観察工程と、特定領域Ｒに外的刺激を付与しながら特定領域Ｒを洗浄する洗浄工程と、特定領域Ｒを再び拡大観察して第二拡大画像を取得する第二観察工程と、第一拡大画像および第二拡大画像を比較し、第一観察工程後に新たに特定領域Ｒ内に形成された微小凹部の数を計数する評価工程と、をこの順に備えている。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
端面に研磨面を有するガラス板の端面検査方法であって、
前記研磨面の特定領域を観察する第一観察工程と、
前記特定領域に外的刺激を付与する外的刺激付与工程と、
前記特定領域を洗浄する洗浄工程と、
前記特定領域を再び観察する第二観察工程と、
前記第一観察工程の観察結果および前記第二観察工程の観察結果を比較して、前記第一観察工程後に新たに前記特定領域内に形成された微小凹部の数を計数する評価工程と、をこの順に備えていることを特徴とするガラス板の端面検査方法。
【請求項２】
前記洗浄工程が、前記外的刺激付与工程を兼ねており、前記特定領域が前記外的刺激を付与されながら洗浄されることを特徴とする請求項１に記載のガラス板の端面検査方法。
【請求項３】
前記外的刺激付与工程を兼ねる前記洗浄工程が、超音波洗浄であることを特徴とする請求項２に記載のガラス板の端面検査方法。
【請求項４】
前記外的刺激付与工程を兼ねる前記洗浄工程が、化学洗浄であることを特徴とする請求項２又は３に記載のガラス板の端面検査方法。
【請求項５】
前記第一観察工程で、前記特定領域を拡大観察して第一拡大画像を取得すると共に、前記第二観察工程で、前記特定領域を拡大観察して第二拡大画像を取得し、前記評価工程で、前記第一拡大画像および前記第二拡大画像を比較することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のガラス板の端面検査方法。
【請求項６】
前記特定領域の設定基準となるマーキング部を前記研磨面に形成することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のガラス板の端面検査方法。
【請求項７】
複数枚の元ガラス板からそれぞれガラス板を切り出し、複数枚のガラス板を取得する切断工程と、
前記複数枚のガラス板の端面を研磨する研磨工程と、
前記複数枚のガラス板の中から検査用ガラス板を抜き取ると共に、前記検査用ガラス板を請求項１〜６のいずれか１項に記載のガラス板の端面検査方法で検査する抜き取り検査工程と、を備えていることを特徴とするガラス板の製造方法。
【請求項８】
端面に研磨面を有するガラス板であって、
前記研磨面を、温度４０℃のアルカリ洗浄液を用いて１５分間超音波洗浄した場合に、前記研磨面において、前記超音波洗浄により新たに形成され、かつ、ガラス粉に対応する大きさの微小凹部の密度が０〜１０００個／ｍｍ２となることを特徴とするガラス板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス板、ガラス板の端面検査方法及びガラス板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイなどのフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）は、高精細化が推進されている。これに伴い、ＦＰＤ用の基板として用いられるガラス板には、ＦＰＤの製造工程で緻密な電気回路が形成される。
【０００３】
ＦＰＤ用のガラス板の端面には、砥石を用いて研磨加工（研削加工を含む）が施されるのが通例であるが、端面の研磨面には、研磨加工に伴う微小クラック（例えば、マイクロクラック）が発生する場合が多い。この微小クラックは、時間の経過と共に成長し、研磨面からガラス粉（パーティクル）が発生する原因となり得る。このようなガラス粉は、例えば、粒径が０．１〜１０μｍ程度である。また、ガラス粉は、研磨加工後に行われる端面検査時には存在しない隠れたガラス粉である場合が多く、端面に既に付着しているガラス粉を対象とした端面検査では見逃されやすい。その結果、端面検査をクリアしたガラス板を用いてＦＰＤを製造した場合であっても、微小クラックから発生したガラス粉によってＦＰＤの製造不良を招くことがあった。特に、高精細化されたＦＰＤの場合、緻密な電気回路を形成する必要があるため、微量かつ微小のガラス粉でも電気回路が断線等を引き起こしやすく、ＦＰＤの製造不良を招きやすい。
【０００４】
そこで、特許文献１には、微小クラックから発生する可能性のあるガラス粉を考慮したガラス板の端面検査方法が開示されている。具体的には、同文献では、ガラス板の端面に樹脂チューブの先端を押し当てながらスライドさせることにより、ガラス板の端面に摩擦を加えて端面のパーティクルを擦り取り、その擦り取ったパーティクルを樹脂チューブの先端から吸引して、パーティクルカウンタでその数を計数することが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１０−２３０６４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に開示の端面検査方法では、樹脂チューブの先端から空気中の微小異物も一緒に吸引してしまうため、微小異物もガラス粉として計数され、ガラス板の端面検査の精度が非常に悪くなるという問題がある。その結果、特許文献１に開示の端面検査をクリアしたガラス板であっても、微小クラックから発生したガラス粉に起因したＦＰＤの製造不良を依然として引き起こすおそれがある。従って、端面から発生するガラス粉の極めて少ないガラス板をより確実に提供することが望まれている。
【０００７】
本発明は、ガラス板の端面検査の精度向上を図ることによって、端面から発生するガラス粉の極めて少ないガラス板をより確実に提供することを技術的課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するために創案された本発明は、ガラス板の端面に研磨面を有するガラス板の端面検査方法であって、研磨面の特定領域を観察する第一観察工程と、ガラス板の研磨面に外的刺激を付与する外的刺激付与工程と、特定領域を洗浄する洗浄工程と、特定領域を再び観察する第二観察工程と、第一観察工程の観察結果および第二観察工程の観察結果を比較して、第一観察工程後に新たに特定領域内に形成された微小凹部の数を計数する評価工程と、をこの順に備えていることを特徴とする。このような構成によれば、ガラス板の研磨面に設けられる特定領域に微小クラックが存在する場合でも、外的刺激付与工程で付与される外的刺激によって、微小クラックが強制的に成長し、ガラス粉として出現しやすい。そして、このようにして発生したガラス粉は、洗浄工程で研磨面の特定領域から洗浄により除去されるため、研磨面の特定領域のうち、微小クラックから発生したガラス粉に対応する部分には、微小凹部が形成される。従って、評価工程において、外的刺激付与工程及び洗浄工程よりも前の第一観察工程における研磨面の特定領域の観察結果と、外的刺激付与工程及び洗浄工程よりも後の第二観察工程における研磨面の特定領域の観察結果とを比較すれば、第一観察工程後に新たに特定領域内に形成された微小凹部の数を正確に計数することができる。この微小凹部の数は、上述のように、微小クラックから発生したガラス粉の数を正確に反映したものであるので、ガラス粉の数を直接計数しなくても、微小クラックから発生する可能性のあるガラス粉を正確に考慮したガラス板の端面検査を行うことができる。
【０００９】
上記の構成において、洗浄工程が、外的刺激付与工程を兼ねており、特定領域が外的刺激を付与されながら洗浄されることが好ましい。このようにすれば、洗浄工程の中で外的刺激付与工程も同時に行われることになるので、これら両工程を個別に行う場合に比べて検査効率が向上する。
【００１０】
上記の構成において、外的刺激付与工程を兼ねる洗浄工程は、超音波洗浄であってもよい。このようにすれば、超音波洗浄に伴う振動によって、研磨面の特定領域が外的刺激を付与されながら洗浄される。
【００１１】
上記の構成において、外的刺激付与工程を兼ねる洗浄工程は、化学洗浄であってもよい。このようにすれば、化学洗浄に伴う化学反応によって、研磨面の特定領域が外的刺激を付与されながら洗浄される。ここで、化学洗浄は、酸洗浄であってもよいし、アルカリ洗浄であってもよい。また、化学洗浄液を用いて超音波洗浄を行うことにより、化学洗浄と超音波洗浄を併用してもよい。
【００１２】
上記の構成において、第一観察工程で、特定領域を拡大観察して第一拡大画像を取得すると共に、第二観察工程で、特定領域を拡大観察して第二拡大画像を取得し、評価工程で、第一拡大画像および第二拡大画像を比較することが好ましい。このようにすれば、研磨面の特定領域の正確な情報を画像で取得することができるので、評価工程での微小欠陥の数の計数精度を高めることができる。
【００１３】
上記の構成において、特定領域の設定基準となるマーキング部を研磨面に形成することが好ましい。このようにすれば、第一観察工程および第二観察工程の間での特定領域の設定ずれを可及的に低減することができる。従って、評価工程における微小欠陥の数の計数精度の向上にも繋がる。
【００１４】
上記の課題を解決するために創案された本発明は、ガラス板の製造方法であって、複数枚の元ガラス板からそれぞれガラス板を切り出し、複数枚のガラス板を取得する切断工程と、複数枚のガラス板の端面を研磨する研磨工程と、複数枚のガラス板の中から検査用ガラス板を抜き取ると共に、検査用ガラス板を上記のガラス板の端面検査方法で検査する抜き取り検査工程と、を備えていることを特徴とする。ここで、検査用ガラス板には、切断工程で取得されたガラス板をそのまま使用する場合と、そのガラス板を小さく切断した小片を使用する場合とが含まれるものとする。このような構成によれば、上述の理由により、ガラス板の端面検査の精度向上を図ることができるので、端面から発生するガラス粉の極めて少ないガラス板を提供することができる。
【００１５】
上記の課題を解決するために創案された本発明は、端面に研磨面を有するガラス板であって、研磨面を、温度４０℃のアルカリ洗浄液を用いて１５分間超音波洗浄した場合に、研磨面において、超音波洗浄により新たに形成され、かつ、ガラス粉に対応する大きさの微小凹部の密度が０〜１０００個／ｍｍ２となることを特徴とする。このような構成によれば、時間の経過によらず、端面から発生するガラス粉の極めて少ないガラス板となる。すなわち、例えば、ＦＰＤの製造工程に含まれる洗浄工程等で外的刺激を受けたとしても、その後のＦＰＤの製造工程で、端面から発生するガラス粉を可及的に低減することができる。
【発明の効果】
【００１６】
以上のような本発明によれば、ガラス板の端面検査の精度向上を図ることができる。従って、端面から発生するガラス粉の極めて少ないガラス板をより確実に提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】切断工程を説明するための平面図である。
【図２】研磨工程を説明するための平面図である。
【図３】研磨工程で用いられる研磨工具を示す側面図である。
【図４】検査用ガラス板を示す斜視図である。
【図５】洗浄工程を説明するための縦断面図である。
【図６】研磨面が粗い面の場合に、第一観察工程で得られる特定領域の第一拡大画像の一例を示す図である。
【図７】研磨面が粗い面の場合に、第二観察工程で得られる特定領域の第二拡大画像の一例を示す図である。
【図８】研磨面が平滑な面の場合に、第一観察工程で得られる特定領域の第一拡大画像の一例を示す図である。
【図９】研磨面が平滑な面の場合に、第二観察工程で得られる特定領域の第二拡大画像の一例を示す図である。
【図１０】研磨面が粗い面の場合に、第一観察工程で得られる特定領域の第一拡大画像の一例を示す図である。
【図１１】研磨面が粗い面の場合に、第二観察工程で得られる特定領域の第二拡大画像の一例を示す図である。
【図１２】研磨面が平滑な面の場合に、第一観察工程で得られる特定領域の第一拡大画像の一例を示す図である。
【図１３】研磨面が平滑な面の場合に、第二観察工程で得られる特定領域の第二拡大画像の一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明に係るガラス板の製造方法の実施形態を説明する。なお、以下では、ガラス板の製造方法を説明する過程で、ガラス板の端面検査方法も併せて説明するが、ガラス板の端面検査方法はガラス板の製造方法から独立して単独実施することもできる。
【００１９】
本実施形態に係るガラス板の製造方法は、切断工程と、研磨工程と、抜き取り検査工程と、を備えている。
【００２０】
切断工程では、図１に示すように、元ガラス板Ｍを切断予定線ＣＬに沿って切断することで、一枚の元ガラス板Ｍから複数枚（図示例では四枚）のガラス板Ｇを取得する、いわゆる多面取りが行われる。なお、切断工程では、元ガラス板Ｍの周縁部をトリミングし、一枚の元ガラス板Ｍから一枚のガラス板Ｇを取得するようにしてもよい。
【００２１】
本実施形態では、元ガラス板Ｍは、オーバーフローダウンドロー法によって成形されたものであるが、これに限定されない。例えば、スロットダウンドロー法やリドロー法などの他のダウンドロー法や、フロート法によって成形されたものであってもよい。
【００２２】
元ガラス板Ｍの切断方法としては、元ガラス板Ｍの切断予定線ＣＬ上にスクライブ線を形成した後、そのスクライブ線に沿って折り割る、いわゆる曲げ応力割断が利用される。なお、元ガラス板Ｍの切断方法として、熱応力割断（例えばレーザー割断）、溶断（例えばレーザー溶断）等を利用してもよい。
【００２３】
研磨工程では、図２に示すように、切断工程で切断された複数枚のガラス板Ｇの端面（切断面）を研磨する。なお、本発明において、研磨には研削が含まれるものとする。詳細には、まず、上流側ステージ１の上で、ガラス板Ｇの対向二辺に沿って第一研磨工具２（例えば砥石）を走行させ、その対向二辺の端面Ｇ１を研磨する。次に、旋回ステージ３の上で、ガラス板Ｇを９０度旋回させた後、下流側ステージ４の上で、旋回したガラス板Ｇの残りの対向二辺に沿って第二研磨工具５（例えば砥石）を走行させ、その残りの対向二辺の端面Ｇ２を研磨する。これにより、ガラス板Ｇの四辺の各端面Ｇ１，Ｇ２が研磨される。なお、図２に示す研磨手順はあくまで一例であり、ガラス板Ｇの四辺の各端面Ｇ１，Ｇ２が研磨される限り、ガラス板Ｇや研磨工具２，５の移動手順や、研磨工具２，５の数などは特に限定されない。例えば、ガラス板Ｇの一辺の端面を、目の粗さや結合材が異なる研磨工具で複数回に亘って研磨し、粗研磨の後に仕上げ研磨が行われるようにしてもよい。
【００２４】
図３に示すように、第一研磨工具２は、ガラス板Ｇの板厚方向に延びる円筒面状の第一加工面２１と、第一加工面２１の両端部に設けられ、ガラス板Ｇの板厚方向に対して互いに逆向きの傾斜を有する一対の円錐面状の第二加工面２２とを備えている。従って、第一研磨工具２によって研磨されたガラス板Ｇの端面Ｇ１は、第一研磨工具２の第一加工面２１及び第二加工面２２に倣った形状に研磨される。すなわち、第一研磨工具２によって研磨されたガラス板Ｇの端面Ｇ１は、板厚方向に延びる第一研磨面Ｇ１ａと、第一研磨面Ｇ１ａの両端部に設けられ、板厚方向に対して互いに逆向きの傾斜を有する一対の第二研磨面Ｇ１ｂとを備えている。図示は省略するが、第二研磨工具５も第一研磨工具２と同様の構成であるので、第二研磨工具５によって研磨されたガラス板Ｇの端面Ｇ２も、第一研磨工具２によって研磨されたガラス板Ｇの端面Ｇ１と同様の形状をなす。ここで、図３において、クロスハッチングを付した部分Ｘは、研磨によって除去されるガラス部分を示している。
【００２５】
なお、一つの第一研磨工具２で同時に、ガラス板Ｇの第一研磨面Ｇ１ａと第二研磨面Ｇ１ｂとを形成する場合を説明したが、これらの研磨面Ｇ１ａ，Ｇ１ｂを別々の研磨工具で個別に形成してもよい。これは第二研磨工具５についても同様である。また、研磨されたガラス板Ｇの端面Ｇ１，Ｇ２の断面形状は特に限定されるものではなく、半円形状、円弧状、半楕円形状、複数の直線で構成される形状等であってもよい。あるいは、ガラス板Ｇの端面Ｇ１，Ｇ２の断面形状は、前記図３に示す断面形状において、第二研磨面Ｇ１ｂの断面形状を円弧状に変更した形状であってもよい。
【００２６】
研磨工具２，５の送り速度は、好ましくは１〜１５ｍ／ｍｉｎ、より好ましくは１〜１０ｍ／ｍｉｎである。すなわち、一般的なガラス板の研磨では研磨工具の送り速度は、１５ｍ／ｍｉｎを上回り、かつ、６０ｍ／ｍｉｎ以下であるので、上記の研磨工具２，５の送り速度の好適な範囲は、一般的な送り速度と比べて遅い。なお、研磨工具２，５の送り速度は、ガラス板Ｇを移動させながら研磨する場合には、ガラス板Ｇに対する研磨工具２，５の相対速度を意味するものとする。
【００２７】
抜き取り検査工程では、研磨工程で研磨された複数枚のガラス板Ｇの中（同一ロットの中）から、一枚又は複数枚のガラス板Ｇを検査用ガラス板Ｓ（図４を参照）として抜き取り、その検査用ガラス板Ｓに対して端面検査を行う。なお、抜き取りは、所定の時間間隔ごとに行ってもよい。あるいは、研磨条件といった製造条件を変更する都度に行ってもよい。また、この検査用ガラス板Ｓの端面検査が、ガラス板の端面検査方法に相当する。
【００２８】
端面検査は、第一観察工程と、洗浄工程と、第二観察工程と、評価工程と、を備えている。
【００２９】
第一観察工程では、図４に示すように、検査用ガラス板Ｓの端面Ｓ１に形成された研磨面Ｓ１ａ（ガラス板Ｇの第一研磨面に相当），Ｓ１ｂ（ガラス板Ｇの第二研磨面に相当）の特定領域ＲをＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）により拡大観察し、特定領域Ｒの第一拡大画像を取得する。
【００３０】
検査用ガラス板Ｓは、抜き取ったガラス板Ｇをそのまま用いてもよいが、本実施形態では、その抜き取ったガラス板Ｇをその研磨面を含むように更に小さく切断した小片からなる。
【００３１】
本実施形態では、特定領域Ｒは、第一研磨面Ｓ１ａに設けられている。これは、第一研磨面Ｓ１ａが第二研磨面Ｓ１ｂよりも他部材と接触する可能性があり、ガラス粉の発生リスクが高いと考えられるためである。なお、特定領域Ｒは、第一研磨面Ｓ１ａではなく、第二研磨面Ｓ１ｂに設けてもよいし、第一研磨面Ｓ１ａ及び第二研磨面Ｓ１ｂの双方に設けてもよい。
【００３２】
特定領域Ｒが設けられる第一研磨面Ｓ１ａには、特定領域Ｒの設定基準となるマーキング部（不図示）を形成することが好ましい。マーキング部は、例えば、第一研磨面Ｓ１ａに凹状の溝（キズ）を形成したり、膜（スパッタ膜など）を成膜したりすることで形成する。なお、マーキング部は、これらの方法で形成されたものに限定されないが、洗浄工程で除去され難い方法で形成されたものが好ましい。マーキング部は、例えば、特定領域Ｒの矩形状の外縁に沿って形成する。
【００３３】
洗浄工程では、図５に示すように、検査用ガラス板Ｓの研磨面Ｓ１ａ，Ｓ１ｂに設けられた特定領域Ｒが外的刺激を付与されながら洗浄される。洗浄工程で洗浄する部分は、特定領域Ｒのみでもよいし、特定領域Ｒを含む部分でもよい。図示例は洗浄態様のあくまで一例であるが、詳細に説明すると、検査用ガラス板Ｓは、支持部材６によって吊り下げ支持された状態で、第一研磨面Ｓ１ａに設けられた特定領域Ｒを含む部分（図示例では検査用ガラス板Ｓの約下半分）が容器７内の洗浄液８に浸漬される。この際、特定領域Ｒが設けられる第一研磨面Ｓ１ａは、洗浄液８との接触効率を高めるために、容器７と接触しないようにすることが好ましい。容器７は超音波伝達媒体としての水９が貯留された超音波洗浄機１０内に配置され、水９を介して洗浄液８に伝搬した超音波振動によって、検査用ガラス板Ｓの特定領域Ｒを含む部分が超音波洗浄される。
【００３４】
超音波洗浄の時間は、１〜６０分が好ましく、３〜３０分がより好ましい。超音波洗浄の温度は、１５〜８０℃が好ましく、２５〜６０℃がより好ましい。超音波洗浄の周波数は、１０〜１０００ｋＨｚが好ましく、２０〜２００ｋＨｚがより好ましい。
【００３５】
洗浄液８としては、純水にアルカリ洗剤（例えば、（ＣＨ３）４ＮＯＨ、ＮａＯＨ、ＫＯＨなど）を混ぜたものや、純水に酸洗剤（例えば、ＨＣｌ、ＨＮＯ３、Ｈ２ＳＯ４など）を混ぜたものを使用し、検査用ガラス板Ｓを化学洗浄することが好ましい。ただし、超音波洗浄を用いる場合には、超音波洗浄時の振動によって検査用ガラス板Ｓの研磨面Ｓ１ａ，Ｓ１ｂに外的刺激が付与されるので、化学反応による外的刺激を更に付与しなくてもよい。すなわち、超音波洗浄を用いる場合には、洗浄液８は、純水など、検査用ガラス板Ｓの研磨面Ｓ１ａ，Ｓ１ｂに化学反応による外的刺激を付与しないものを用いてもよい。
【００３６】
なお、洗浄工程は、検査用ガラス板Ｓの特定領域Ｒ又は特定領域Ｒを含む部分に高圧水等の高圧液体を噴射して洗浄する高圧洗浄を用いてもよい。この場合も、検査用ガラス板Ｓの研磨面Ｓ１ａ，Ｓ１ｂが、高圧液体によって外的刺激を付与されながら洗浄される。
【００３７】
第二観察工程では、第一観察工程で観察した検査用ガラス板Ｓの特定領域Ｒを再びＳＥＭにより拡大観察し、特定領域Ｒの第二拡大画像を取得する。なお、第二観察工程におけるＳＥＭによる拡大観察は、第一観察工程におけるＳＥＭによる拡大観察と同条件（加速電圧や観察倍率など）であることが好ましい。
【００３８】
評価工程では、第一観察工程の観察結果である第一拡大画像と、第二観察工程の観察結果である第二拡大画像とを比較して、第一観察工程後に新たに特定領域Ｒ内に形成された微小凹部の数を計数する。
【００３９】
本実施形態では、平面視（特定領域Ｒの垂線方向からの視野）でガラス粉に対応する大きさの凹部を微小凹部と判定し、計数する。微小凹部の判定基準は、要求される品質に応じて適宜設定すればよい。例えば、平面視で０．１〜１０μｍ程度の長さの凹部を微小凹部と判定すればよい。あるいは、平面視で０．１〜５μｍ程度の長さの凹部を微小凹部と判定してもよい。微小凹部の数は、画像処理等によって微小凹部を自動で計数するようにしてもよいし、作業者が手動で計数するようにしてもよい。
【００４０】
特定領域Ｒの大きさは、評価工程で計数された微小凹部の数から、ガラス板Ｇの第一研磨面Ｇ１ａ（及び／又は第二研磨面Ｇ１ｂ）全体の微小凹部の数をある程度予想可能な大きさであればよい。従って、特定領域Ｒは、一辺が１０〜５００μｍの矩形状の領域に設定することが好ましい。
【００４１】
特定領域Ｒの拡大観察の倍率は、微小凹部の検出精度に関係する。従って、拡大観察の倍率は、１０００〜５００００倍であることが好ましく、５０００〜５００００倍であることがより好ましい。
【００４２】
ここで、第一拡大画像と第二拡大画像を図６〜１３に例示する。図６と図７、図８と図９、図１０と図１１、図１２と図１３がそれぞれ同じ特定領域の観察結果である。このうち、図６と図７、図１０と図１１では、微小クラックから時間の経過と共にガラス粉が発生する可能性を疑似的に高めるために、特定領域Ｒが設けられた第一研磨面Ｓ１ａの面粗さを粗くしている。
【００４３】
特定領域Ｒが設けられた研磨面が粗い面の場合には、拡大観察の倍率を上げてみると（１００００倍）、図６に示す第一拡大画像では確認されなかった微小凹部が、図７に示す第二拡大画像において新たに確認された（図７において円Ｃ１で囲んだ部分）。一方、特定領域Ｒが設けられた研磨面が平滑な面の場合には、図８に示す第一拡大画像では確認されなかった微小凹部が、図９に示す第二拡大画像において新たに確認されることはなかった。
【００４４】
また、拡大観察の倍率を下げてみると（１０００倍）、特定領域Ｒが設けられた研磨面が粗い面の場合には、図１０に示す第一拡大画像では確認されなかった微小凹部が、図１１に示す第二拡大画像において新たに多数箇所で確認された（図１１において円Ｃ２で囲んだ部分）。一方、特定領域Ｒが設けられた研磨面が平滑な面の場合には、図１２に示す第一拡大画像では確認されなかった微小凹部が、図１３に示す第二拡大画像において新たに確認されることはなかった。
【００４５】
このような結果からも、微小クラックからガラス粉が発生する可能性が高い検査用ガラス板において、微小凹部の数が増加する傾向があることが確認できる。従って、本実施形態に係る端面検査によれば、ガラス粉の数を直接計数しなくても、評価工程で微小凹部の数を計数することにより、将来的にガラス粉が多く発生する可能性のあるガラス板であるか否かを正確に判断することができる。また、微小凹部の大きさから発生したガラス粉の大きさもある程度予想することができる。
【００４６】
評価工程において、計数された微小凹部の数（好ましくは、（微小凹部の数）／（特定領域の面積）で表した微小凹部の密度）が所定の判定値（例えば、１０００個／ｍｍ２、好ましくは５００個／ｍｍ２）以下であれば、検査用ガラス板Ｓと同一ロットに含まれるガラス板Ｇも将来的にガラス粉が発生しにくいと評価することができる。従って、この場合には、同一ロットに含まれるガラス板Ｇの品質を「合格」と判定し、そのまま製品として出荷する。
【００４７】
このように合格と判断されたガラス板Ｇは、研磨面を、温度４０℃のアルカリ洗浄液を用いて１５分間超音波洗浄した場合に、研磨面において、超音波洗浄により新たに形成され、かつ、ガラス粉に対応する大きさの微小凹部の密度（微小凹部の個数／研磨面の面積）が０〜１０００個／ｍｍ２（好ましくは、０〜５００個／ｍｍ２）となる。このようなガラス板Ｇであれば、ＦＰＤの製造工程で洗浄やエッチング等を繰り返し行っても、各成膜工程でガラス粉による電極形成不良などが生じにくい。従って、ＩＧＺＯなどの高精細ＦＰＤ用のガラス基板として好適に利用できる。
【００４８】
ここで、合格と判断されたガラス板Ｇの上記特性の評価は、次のようにして行う。すなわち、微小凹部の密度の測定は、上記の端面検査と同様の方法で行う。この際、微小凹部の観察（ＳＥＭ観察）には、ＦＥＩ社製のＱｕａｎｔａ２５０ＦＥＧを用いる。また、倍率は１００００倍とし、特定領域Ｒは、一辺が１０μｍの矩形状の領域とする。超音波洗浄には、ＶＥＬＶＯ−ＣＬＥＡＲ社のＵｌｔｒａｓｏｎ  ＶＳ−３０を用い、超音波の周波数は３５ｋＨｚとする。アルカリ洗浄液には、ＫＯＨを０．２質量％で含有する水溶液を用いる。微小凹部の判定では、平面視で０．１〜５μｍ程度の長さの凹部を微小凹部と判定する。
【００４９】
一方、評価工程において、計数された微小凹部の数が判定値を超えれば、検査用ガラス板Ｓと同一ロットに含まれるガラス板Ｇの品質を「不合格」と判定し、例えば、研磨工程における研磨条件（研磨工具の送り速度や研磨工具の種類）を変更する。そして、評価工程において、計数される微小凹部の数が判定値以下となるまで、上記の端面検査と研磨条件の変更を繰り返す。ここで、研磨工具２，５の送り速度を、上述のように、１〜１５ｍ／ｍｉｎの範囲に設定すれば、品質が合格基準を満たすガラス板Ｇを製造しやすくなる。
【００５０】
ここで、上記の端面検査は、着眼点を変えれば、研磨工具の選定にも利用することができる。すなわち、評価工程で微小凹部の数が判定値以下となったときに利用された研磨工具は「合格」とし、評価工程で微小凹部の数が判定値を超えたときに利用された研磨工具は「不合格」とすることで、研磨工具の選定をすることができる。
【００５１】
なお、本発明は、上記の実施形態の構成に限定されるものではなく、上記した作用効果に限定されるものでもない。本発明は、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
【００５２】
上記の実施形態では、ガラス板の研磨面に外的刺激を付与しながらガラス板の研磨面を洗浄する洗浄工程、すなわち外的刺激付与工程を兼ねる洗浄工程を説明したが、ガラス板の研磨面に外的刺激を付与する外的刺激付与工程と、ガラス板の研磨面を洗浄する洗浄工程とは個別に行ってもよい。この場合、外的刺激付与工程において、ガラス板の研磨面に樹脂材等からなる接触子を押し当てながら移動させることで、ガラス板の研磨面に外的刺激を付与してもよい。また、ガラス板の研磨面に高圧ガスや微粒子を噴射することで、ガラス板の研磨面に外的刺激を付与してもよい。
【００５３】
上記の実施形態では、ＳＥＭを用いて特定領域を観察する場合を説明したが、光学顕微鏡やレーザー顕微鏡、Ｘ線ＣＴ等を用いて特定領域を観察するようにしてもよい。
【符号の説明】
【００５４】
１          上流側ステージ
２          第一研磨工具
３          旋回ステージ
４          下流側ステージ
５          第二研磨工具
８          洗浄液
１０        超音波洗浄機
Ｇ          ガラス板
Ｇ１，Ｇ２  端面
Ｇ１ａ      第一研磨面
Ｇ１ｂ      第二研磨面
Ｍ          元ガラス板
Ｒ          特定領域
Ｓ          検査用ガラス板
Ｓ１        端面
Ｓ１ａ      第一研磨面
Ｓ１ｂ      第二研磨面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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