(57)【要約】      （修正有）【課題】反応容器に恒温水よりも低い温度の液体を吐出する場合であっても、恒温水の恒温性を維持することが可能な自動分析装置を提供する。【解決手段】自動分析装置は、搬送部、恒温槽２０２２、加熱ユニット、及び放出部２１６を具備する。搬送部は、所定の経路に沿って整列した複数の反応容器２０１１を、前記所定の経路に沿って搬送する。恒温槽２０２２は、恒温に保持された第１の熱媒体２０２１を収容し、前記搬送部によって搬送される反応容器２０１１を前記第１の熱媒体２０２１中に浸漬させる。加熱ユニットは、前記第１の熱媒体２０２１を恒温に保持するよりも高い温度に、第２の熱媒体を加熱する。放出部２１６は、前記恒温槽２０２２で前記第１の熱媒体２０２１中に浸漬される反応容器の外壁へ、前記加熱された第２の熱媒体を放出する。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の経路に沿って整列した複数の反応容器を、前記所定の経路に沿って搬送する搬送部と、
恒温に保持された第１の熱媒体を収容し、前記搬送部によって搬送される反応容器を前記第１の熱媒体中に浸漬させる恒温槽と、
前記第１の熱媒体を恒温に保持するよりも高い温度に、第２の熱媒体を加熱する加熱ユニットと、
前記恒温槽で前記第１の熱媒体中に浸漬される反応容器の外壁へ、前記加熱された第２の熱媒体を放出する放出部と
を具備する自動分析装置。
【請求項２】
前記放出部は、前記反応容器の外壁のうち、予め設定される範囲に前記第２の熱媒体を放出するための加工が施されている請求項１記載の自動分析装置。
【請求項３】
前記恒温槽で前記第１の熱媒体中に浸漬される反応容器内へ、前記浸漬させている第１の熱媒体よりも低温の液体を吐出する吐出部をさらに具備し、
前記放出部は、前記吐出部による前記液体の吐出時に前記反応容器内において前記液体が到達する高さまで前記第２の熱媒体を放出するための加工が施されている請求項２記載の自動分析装置。
【請求項４】
前記放出部の放出口は、少なくとも高さ方向に前記第２の熱媒体を拡げて放出するための形状を有し、
前記放出口の断面積は、前記第２の熱媒体を供給する経路の断面積よりも小さい請求項２又は３に記載の自動分析装置。
【請求項５】
前記経路上の所定の位置に設けられ、前記恒温槽で前記第１の熱媒体中に浸漬される反応容器内へ、前記浸漬させている第１の熱媒体よりも低温の液体を吐出する吐出部をさらに具備し、
前記放出部は、前記吐出部と対応する前記経路上の位置に設けられる請求項１記載の自動分析装置。
【請求項６】
前記吐出部は、前記反応容器内へ試薬を吐出する試薬分注プローブであり、
前記放出部は、前記試薬分注プローブが前記反応容器へ試薬を吐出する試薬吐出位置の下方に設けられる請求項５記載の自動分析装置。
【請求項７】
前記吐出部は、前記反応容器の内部を洗浄する洗浄ユニットに設けられる洗浄ノズルであり、
前記放出部は、前記洗浄ユニットが前記反応容器の内部を洗浄するための洗浄位置に設けられる請求項５記載の自動分析装置。
【請求項８】
前記吐出部は、ブランク測定を実施するためのブランク液を前記反応容器内へ吐出するノズルであり、
前記放出部は、前記ブランク液を前記反応容器内へ吐出するためのブランク位置に設けられる請求項５記載の自動分析装置。
【請求項９】
前記恒温槽で前記第１の熱媒体中に浸漬される反応容器内へ、前記浸漬させている第１の熱媒体よりも低温の液体を吐出する吐出部をさらに具備し、
前記加熱ユニットは、前記吐出部からの前記液体の吐出に応じて前記第２の熱媒体を加熱し、
前記放出部は、前記恒温槽で前記第１の熱媒体中に浸漬される反応容器の外壁へ、前記加熱された第２の熱媒体を、前記吐出部からの前記液体の吐出に応じて放出する請求項１記載の自動分析装置。
【請求項１０】
前記恒温槽で前記第１の熱媒体中に浸漬される反応容器内へ、前記浸漬させている第１の熱媒体よりも低温の液体を吐出する吐出部と、
前記液体の供給元の温度を検出する温度センサと
をさらに具備し、
前記加熱ユニットは、前記吐出部からの前記液体の吐出に応じ、前記第２の熱媒体を、前記温度センサの検出結果に基づいて加熱する請求項１記載の自動分析装置。
【請求項１１】
前記恒温槽で前記第１の熱媒体中に浸漬される反応容器内へ、前記浸漬させている第１の熱媒体よりも低温の液体を吐出する吐出部と、
前記恒温槽内において、前記液体が吐出された反応容器の周囲の第１の熱媒体の温度を検出する温度センサと
をさらに具備し、
前記加熱ユニットは、前記第２の熱媒体を、前記温度センサの検出結果に基づいて加熱する請求項１記載の自動分析装置。
【請求項１２】
前記第１の熱媒体を恒温に保持するために、前記恒温槽に収容されている第１の熱媒体を加熱して循環させる恒温ユニットをさらに具備し、
前記加熱ユニットは、前記恒温ユニットで加熱された第１の熱媒体を前記第２の熱媒体としてさらに加熱する請求項１乃至１１のいずれかに記載の自動分析装置。
【請求項１３】
前記加熱ユニットは、
前記第２の熱媒体を加熱するヒータと、
前記ヒータの後段に設けられ、前記ヒータにより加熱された第２の熱媒体を前記放出部へ送出するポンプと
を備える請求項１乃至１２のいずれかに記載の自動分析装置。
【請求項１４】
前記第２の熱媒体は、前記恒温槽に収容されている第１の熱媒体から吸引されたものである請求項１乃至１１、及び１３のいずれかに記載の自動分析装置。
【請求項１５】
恒温に保持された第１の熱媒体を収容し、前記第１の熱媒体中に、所定の経路に沿って整列させた複数の反応容器を浸漬させる恒温槽と、前記恒温槽で前記第１の熱媒体中に浸漬される反応容器内へ、前記浸漬させている第１の熱媒体よりも低温の液体を吐出する吐出部とを具備する自動分析装置で用いられる恒温性維持方法において、
前記複数の反応容器を前記所定の経路に沿って搬送し、
前記搬送される反応容器内へ、前記液体を前記吐出部により吐出し、
前記液体の前記反応容器内への吐出に応じ、第２の熱媒体を、前記第１の熱媒体を恒温に保持するよりも高い温度に加熱し、
前記加熱した第２の熱媒体を、前記恒温槽で前記第１の熱媒体中に浸漬される反応容器の外壁へ放出する恒温性維持方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、自動分析装置及び恒温性維持方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
自動分析装置は、血液等の検査試料と種々検査項目に対応する試薬とを混合することで得られる混合液を、例えば光学的に測定することで、検査項目に対応した検査試料の成分を分析する装置である。
【０００３】
自動分析装置では、環状の反応ラインに沿って一列に整列した反応容器が搬送される。反応容器の搬送に合わせ、反応容器には、検査試料、及び試薬が分注される。反応容器に分注された検査試料、及び試薬は、攪拌されることで混合されて混合液となる。混合液を収容する反応容器には光が照射され、検査項目に対応した検査試料の成分が光学的に測定される。測定が完了した反応容器は、反応ラインに沿って設けられる洗浄ユニットにより内壁が洗浄される。
【０００４】
通常、自動分析装置では、分析の精度を高めるために、混合液の温度を一定に保つことが必要とされている。そのため、反応容器は恒温水中に浸漬されている。しかしながら、反応容器へ低温の試薬を分注すること、及び、反応容器内壁を常温の洗浄水で洗浄すること等により、反応容器の周囲の恒温水の温度が下がるおそれがある。恒温水の温度の低下は、隣又は近くに位置する反応容器に悪い影響を及ぼす可能性がある。
【０００５】
なお、吸引した液体の温度を分注前に上げる技術には、例えば、液体を吸引するプローブの温度を予め上げるプレヒート等がある。しかしながら、温度を上げたプローブが液体に接触する際、プローブと吸引する液体との温度差によりプローブ内の温度が不安定になる。分注量の微量化が進む昨今において、プローブ内の温度が不安定になることは、分注の精度を損なう要因となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１４−８５３０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
そこで、目的は、反応容器に恒温水よりも低い温度の液体を吐出する場合であっても、恒温水の恒温性を維持することが可能な自動分析装置、及び恒温性維持方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
実施形態によれば、自動分析装置は、搬送部、恒温槽、加熱ユニット、及び放出部を具備する。搬送部は、所定の経路に沿って整列した複数の前記反応容器を、前記所定の経路に沿って搬送する。恒温槽は、恒温に保持された第１の熱媒体を収容し、前記搬送部によって搬送される反応容器を前記第１の熱媒体中に浸漬させる。加熱ユニットは、前記第１の熱媒体を恒温に保持するよりも高い温度に、第２の熱媒体を加熱する。放出部は、前記恒温槽で前記第１の熱媒体中に浸漬される反応容器の外壁へ、前記加熱された第２の熱媒体を放出する。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、本実施形態に係る自動分析装置の機能構成を示すブロック図である。
【図２】図２は、図１に示される分析機構の構成を示す図である。
【図３】図３は、図２に示される恒温部の機能構成を示すブロック図である。
【図４】図４は、図２に示される第１試薬分注プローブについて設けられる分注ユニットの構成を示す図である。
【図５】図５は、図２に示される洗浄ユニットの構成を示す図である。
【図６】図６は、図２に示される分析機構における放出部の設置位置を表す図である。
【図７】図７は、図６に示される反応ディスク及び反応容器のＡ−Ａ’断面における断面図を表す図である。
【図８】図８は、図７に示される放出ノズルの放出口を表す図である。
【図９】図９は、図７に示される放出ノズルの放出口のその他の例を表す図である。
【図１０】図１０は、図１に示される制御回路が恒温部の恒温性を維持する動作の第１の例を説明するためのブロック図である。
【図１１】図１１は、図１に示される制御回路が恒温部の恒温性を維持する動作の第２の例を説明するためのブロック図である。
【図１２】図１２は、図１に示される制御回路が恒温部の恒温性を維持する動作の第３の例を説明するためのブロック図である。
【図１３】図１３は、図１に示される制御回路が恒温部の恒温性を維持する動作の第４の例を説明するためのブロック図である。
【図１４】図１４は、図１３に示される温度センサの設置位置を表す図である。
【図１５】図１５は、図２に示される反応容器内部の水温の変動を表す図である。
【図１６】図１６は、図２に示される恒温部の機能構成のその他の例を示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、実施の形態について、図面を参照して説明する。
【００１１】
図１は、本実施形態に係る自動分析装置１の機能構成の例を示すブロック図である。図１に示される自動分析装置１は、分析機構２、解析回路３、駆動機構４、入力インタフェース５、出力インタフェース６、記憶回路７、及び制御回路８を具備する。
【００１２】
分析機構２は、標準試料、又は被検試料等の試料と、この試料に設定される各検査項目で用いられる試薬とを混合する。分析機構２は、試料と試薬との混合液を測定し、例えば吸光度で表される標準データ、及び被検データを生成する。
【００１３】
解析回路３は、分析機構２により生成される標準データ、及び被検データを解析することで、検量データ、及び分析データ等を生成するプロセッサである。解析回路３は、記憶回路７から動作プログラムを読み出し、読み出した動作プログラムに従って検量データ、及び分析データ等を生成する。例えば、解析回路３は、標準データに基づき、標準データと標準試料について予め設定された標準値との関係を示す検量データを生成する。また、解析回路３は、被検データと、この被検データに対応する検査項目の検量データとに基づき、濃度値、及び酵素の活性値として表される分析データを生成する。解析回路３は生成した検量データ、及び分析データ等を制御回路８へ出力する。
【００１４】
駆動機構４は、制御回路８の制御に従い、分析機構２を駆動させる。駆動機構４は、例えば、ギア、ステッピングモータ、ベルトコンベア、及びリードスクリュー等により実現される。
【００１５】
入力インタフェース５は、例えば、操作者から測定を依頼された試料に係る各検査項目の分析パラメータ等の設定を受け付ける。入力インタフェース５は、例えば、マウス、キーボード、及び、操作面へ触れることで指示が入力されるタッチパッド等により実現される。入力インタフェース５は、制御回路８に接続され、操作者から入力される操作指示を電気信号へ変換し、電気信号を制御回路８へ出力する。なお、本明細書において入力インタフェース５はマウス、及びキーボード等の物理的な操作部品を備えるものだけに限られない。例えば、自動分析装置１とは別体に設けられた外部の入力機器から入力される操作指示に対応する電気信号を受け取り、この電気信号を制御回路８へ出力する電気信号の処理回路も入力インタフェース５の例に含まれる。
【００１６】
出力インタフェース６は、制御回路８に接続され、制御回路８から供給される信号を出力する。出力インタフェース６は、例えば、表示回路、及び印刷回路等により実現される。表示回路には、例えば、ＣＲＴディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、ＬＥＤディスプレイ、及びプラズマディスプレイ等が含まれる。なお、表示対象を表すデータをビデオ信号に変換し、ビデオ信号を外部へ出力する処理回路も表示回路に含まれる。印刷回路は、例えば、プリンタ等を含む。なお、印刷対象を表すデータを外部へ出力する出力回路も印刷回路に含まれる。
【００１７】
記憶回路７は、磁気的、若しくは光学的記録媒体、又は半導体メモリ等の、プロセッサにより読み取り可能な記録媒体等を含む。なお、記憶回路７は、必ずしも単一の記憶装置により実現される必要は無い。例えば、記憶回路７は、複数の記憶装置により実現されても構わない。
【００１８】
記憶回路７は、解析回路３で実行される動作プログラム、及び制御回路８で実行される動作プログラムを記憶している。記憶回路７は、解析回路３により生成される検量データを検査項目毎に記憶する。記憶回路７は、解析回路３により生成される分析データを被検試料毎に記憶する。
【００１９】
制御回路８は、自動分析装置１の中枢として機能するプロセッサである。制御回路８は、記憶回路７に記憶されている動作プログラムを実行することで、この動作プログラムに対応する機能を実現する。なお、制御回路８は、記憶回路７で記憶されているデータの少なくとも一部を記憶する記憶領域を備えても構わない。
【００２０】
図２は、図１に示される分析機構２の構成の一例を示す模式図である。図２に示される分析機構２は、反応ディスク２０１、恒温部２０２、サンプルディスク２０３、第１試薬庫２０４、及び第２試薬庫２０５を備える。
【００２１】
反応ディスク２０１は、反応容器２０１１を所定の経路に沿って搬送する搬送部の一例である。具体的には、反応ディスク２０１は、複数の反応容器２０１１を、環状に配列させて保持する。反応ディスク２０１は、駆動機構４により、既定の時間間隔で回動と停止とが交互に繰り返される。
【００２２】
反応容器２０１１は、例えば、ガラスにより形成されている。反応容器２０１１は、四角柱状を有し、上部に開口部を有している。四角柱を形成する第１乃至第４側壁のうち、第１側壁の外面からは、測光ユニット２１４に設けられる光源から照射される光が入射される。第１乃至第４側壁のうち、第１側壁と対向する第２側壁の外面からは、第１側壁の外面から入射された光が出射される。
【００２３】
恒温部２０２は、反応容器２０１１に収容される混合液を昇温する。図３は、図２に示される恒温部２０２の機能構成の一例を示すブロック図である。図３に示される恒温部２０２は、熱媒体２０２１、恒温槽２０２２、供給ポンプ２０２３、排液ポンプ２０２４、恒温ユニット２０２５、加熱ユニット２０２６、及び電磁弁２０２７，２０２８，２０２９を有する。
【００２４】
熱媒体２０２１は、反応容器２０１１に収容される混合液を測定温度Ｔｍに昇温するための熱を伝達する媒体である。測定温度Ｔｍは、室温よりも高い温度、例えば３７℃である。本実施形態において、熱媒体２０２１は、液体である。
【００２５】
恒温槽２０２２は、環状に形成され、内部に熱媒体２０２１を収容する。恒温槽２０２２は、上面が開口されており、収容される熱媒体２０２１に、環状に配列された複数の反応容器２０１１が浸漬される。
【００２６】
供給ポンプ２０２３は、恒温槽２０２２へ熱媒体２０２１を供給するための供給ラインに設けられている。供給ポンプ２０２３は、制御回路８からの制御に従って供給ラインへ熱媒体２０２１を送出することで、熱媒体２０２１を恒温槽２０２２へ供給する。
【００２７】
電磁弁２０２７は、供給ライン上の供給ポンプ２０２３と恒温槽２０２２との間の位置に設けられている。電磁弁２０２７は、制御回路８からの制御に従い、開状態、又は閉状態となる。供給ポンプ２０２３から供給された熱媒体２０２１は、開状態となっている電磁弁２０２７を通過して恒温槽２０２２へ供給される。
【００２８】
排液ポンプ２０２４は、恒温槽２０２２から熱媒体２０２１を排出するための排液ラインに設けられている。排液ポンプ２０２４は、制御回路８からの制御に従い、恒温槽２０２２に収容されている熱媒体２０２１を排液ラインへ排出する。
【００２９】
電磁弁２０２９は、排液ライン上の恒温槽２０２２と排液ポンプ２０２４との間の位置に設けられている。電磁弁２０２９は、制御回路８からの制御に従い、開状態、又は閉状態となる。恒温槽２０２２に収容されている熱媒体２０２１は、開状態となっている電磁弁２０２９を介して排液ポンプ２０２４により排出される。
【００３０】
恒温ユニット２０２５は、恒温槽２０２２に収容される熱媒体２０２１を循環させるための循環ラインに設けられている。恒温ユニット２０２５は、恒温槽２０２２から供給される熱媒体２０２１を加熱し、所定の温度まで昇温する。
【００３１】
恒温ユニット２０２５は、循環ポンプ２０２５１、及び加熱器２０２５２を有する。循環ポンプ２０２５１は、制御回路８からの制御に従い、恒温槽２０２２と加熱器２０２５２との間で熱媒体２０２１を循環させる。具体的には、循環ポンプ２０２５１は、制御回路８からの制御に従い、恒温槽２０２２に収容されている熱媒体２０２１を吸引し、吸引した熱媒体２０２１を、加熱器２０２５２を介して恒温槽２０２２へ戻す。
【００３２】
加熱器２０２５２は、循環ポンプ２０２５１により循環される熱媒体２０２１を加熱する。加熱器２０２５２は、ヒータＤ１、及び温度センサＤ２を有する。温度センサＤ２は、加熱器２０２５２内の熱媒体２０２１の温度を検出し、検出した温度に基づく検出信号を制御回路８へ出力する。制御回路８は、検出信号に基づき、熱媒体２０２１の温度が所定の温度に保持されるようにヒータＤ１を発熱させる。
【００３３】
加熱ユニット２０２６は、恒温ユニット２０２５を介して送出された熱媒体２０２１をさらに加熱し、加熱した熱媒体２０２１を後述する放出部２１６へ送出する。加熱ユニット２０２６は、加熱後の熱媒体２０２１を放出部２１６へ供給するための加熱水供給ラインに設けられている。加熱水供給ラインは、循環ラインが恒温ユニット２０２５の後に分岐されてなる。
【００３４】
加熱ユニット２０２６は、ヒータ２０２６１、及びポンプ２０２６２を有する。ヒータ２０２６１は、恒温ユニット２０２５を介して送出された熱媒体２０２１を加熱する。ヒータ２０２６１により熱媒体２０２１に与えられる熱量は、制御回路８からの制御に従って変動してもよいし、予め設定されていてもよい。
【００３５】
ポンプ２０２６２は、ヒータ２０２６１により加熱された熱媒体２０２１を、放出部２１６へ送出する。ポンプ２０２６２により送出される熱媒体２０２１の量は、制御回路８からの制御に従って変動してもよいし、予め設定されていてもよい。
【００３６】
電磁弁２０２８は、加熱水供給ライン上の加熱ユニット２０２６の前段に設けられている。電磁弁２０２８は、制御回路８からの制御に従い、開状態、又は閉状態となる。恒温ユニット２０２５を介して送水された熱媒体２０２１は、開状態となっている電磁弁２０２８を通過して加熱ユニット２０２６へ供給される。
【００３７】
図２に示されるサンプルディスク２０３は、試料を収容する試料容器を複数保持する。サンプルディスク２０３は、駆動機構４により回動される。
【００３８】
第１試薬庫２０４は、標準試料、及び被検試料に含まれる所定の成分と反応する第１試薬を収容する試薬容器を複数保冷する。第１試薬庫２０４内には、試薬ラック２０４１が回転自在に設けられている。試薬ラック２０４１は、複数の試薬容器を円環状に配列して保持する。試薬ラック２０４１は、駆動機構４により回動される。
【００３９】
第１試薬庫２０４上の所定の位置には、第１試薬吸引位置が設定されている。第１試薬吸引位置は、例えば、第１試薬分注プローブ２０９の回動軌道と、試薬ラック２０４１に円環状に配列される試薬容器の開口部の移動軌道とが交差する位置に設けられる。
【００４０】
第２試薬庫２０５は、２試薬系の第１試薬と対をなす第２試薬を収容する試薬容器を複数保冷する。第２試薬庫２０５内には、試薬ラック２０５１が回転自在に設けられている。試薬ラック２０５１は、複数の試薬容器を円環状に配列して保持する。なお、第２試薬庫２０５で保冷される第２試薬は、第１試薬庫２０４で保冷される第１試薬と同一成分、かつ、同一濃度の試薬であっても構わない。
【００４１】
第２試薬庫２０５上の所定の位置には、第２試薬吸引位置が設定されている。第２試薬吸引位置は、例えば、第２試薬分注プローブ２１１の回動軌道と、試薬ラック２０５１に円環状に配列される試薬容器の開口部の移動軌道とが交差する位置に設けられる。
【００４２】
また、図２に示される分析機構２は、サンプル分注アーム２０６、サンプル分注プローブ２０７、第１試薬分注アーム２０８、第１試薬分注プローブ２０９、第２試薬分注アーム２１０、第２試薬分注プローブ２１１、第１攪拌ユニット２１２、第２攪拌ユニット２１３、測光ユニット２１４、及び洗浄ユニット２１５を備える。
【００４３】
サンプル分注アーム２０６は、反応ディスク２０１とサンプルディスク２０３との間に設けられている。サンプル分注アーム２０６は、駆動機構４により、鉛直方向に上下動自在、かつ、水平方向に回動自在に設けられている。サンプル分注アーム２０６は、一端にサンプル分注プローブ２０７を保持する。
【００４４】
サンプル分注プローブ２０７は、サンプル分注アーム２０６の回動に伴い、円弧状の回動軌道に沿って回動する。この回動軌道上には、サンプルディスク２０３で保持される試料容器の開口部が位置するようになっている。また、サンプル分注プローブ２０７の回動軌道上には、サンプル分注プローブ２０７が吸引した試料を反応容器２０１１へ吐出するためのサンプル吐出位置が設けられている。サンプル吐出位置は、サンプル分注プローブ２０７の回動軌道と、反応ディスク２０１に保持されている反応容器２０１１の移動軌道との交点に相当する。
【００４５】
サンプル分注プローブ２０７は、駆動機構４によって駆動され、サンプルディスク２０３で保持される試料容器の開口部の直上、又は、サンプル吐出位置において上下方向に移動する。また、サンプル分注プローブ２０７は、制御回路８の制御に従い、直下に位置する試料容器から試料を吸引する。また、サンプル分注プローブ２０７は、制御回路８の制御に従い、吸引した試料を、サンプル吐出位置の直下に位置する反応容器２０１１へ吐出する。
【００４６】
第１試薬分注アーム２０８は、第１試薬庫２０４の外周近傍に設けられている。第１試薬分注アーム２０８は、駆動機構４により、鉛直方向に上下動自在、かつ、水平方向に回動自在に設けられている。第１試薬分注アーム２０８は、一端に第１試薬分注プローブ２０９を保持する。
【００４７】
第１試薬分注プローブ２０９は、第１試薬分注アーム２０８の回動に伴い、円弧状の回動軌道に沿って回動する。この回動軌道上には、第１試薬吸引位置が設けられている。また、第１試薬分注プローブ２０９の回動軌道上には、第１試薬分注プローブ２０９が吸引した試薬を反応容器２０１１へ吐出するための第１試薬吐出位置が設定されている。第１試薬吐出位置は、第１試薬分注プローブ２０９の回動軌道と、反応ディスク２０１に保持されている反応容器２０１１の移動軌道との交点に相当する。
【００４８】
第１試薬分注プローブ２０９は、駆動機構４によって駆動され、回動軌道上の第１試薬吸引位置、又は第１試薬吐出位置において上下方向に移動する。また、第１試薬分注プローブ２０９は、制御回路８の制御に従い、第１試薬吸引位置の直下に位置する試薬容器から第１試薬を吸引する。また、第１試薬分注プローブ２０９は、制御回路８の制御に従い、吸引した第１試薬を、第１試薬吐出位置の直下に位置する反応容器２０１１へ吐出する。すなわち、第１試薬分注プローブ２０９は、本実施形態における吐出部の一例である。
【００４９】
第１試薬分注プローブ２０９による第１試薬の正確な吸引、及び吐出は、例えば、図４に示される分注ユニット２１７により実現される。図４は、分注ユニット２１７の構成例を示す模式図である。図４に示される分注ユニット２１７は、一端が第１試薬分注プローブ２０９に接続されるチューブ２１７１、チューブ２１７１の他端部に接続されるシリンジ２１７２、及びシリンジ２１７２の下端部に設けられる開口に勘合するプランジャ２１７３を備える。第１試薬分注プローブ２０９、チューブ２１７１、及びシリンジ２１７２の各内部には、圧力を伝達させる圧力伝達媒体が充填されている。
【００５０】
第１試薬吸引位置において第１試薬分注プローブ２０９を所定距離だけ下降させると、駆動機構４は、プランジャ２１７３を矢印Ｌ１方向へ吸引駆動する。第１試薬分注プローブ２０９は、圧力伝達媒体によって伝達される圧力を利用し、第１試薬吸引位置で停止している試薬容器から第１試薬を吸引する。また、第１試薬吐出位置において第１試薬分注プローブ２０９を所定距離だけ下降させると、駆動機構４は、プランジャ２１７３を矢印Ｌ２方向へ吐出駆動する。第１試薬分注プローブ２０９は、圧力伝達媒体によって伝達される圧力を利用し、第１試薬吐出位置で停止している反応容器２０１１へ、吸引した第１試薬を吐出する。
【００５１】
第２試薬分注アーム２１０は、第１試薬庫２０４の外周近傍に設けられている。第２試薬分注アーム２１０は、駆動機構４により、鉛直方向に上下動自在、かつ、水平方向に回動自在に設けられている。第２試薬分注アーム２１０は、一端に第２試薬分注プローブ２１１を保持する。
【００５２】
第２試薬分注プローブ２１１は、第２試薬分注アーム２１０の回動に伴い、円弧状の回動軌道に沿って回動する。この回動軌道上には、第２試薬吸引位置が設けられている。また、第２試薬分注プローブ２１１の回動軌道上には、第２試薬分注プローブ２１１が吸引した試薬を反応容器２０１１へ吐出するための第２試薬吐出位置が設定されている。第２試薬吐出位置は、第２試薬分注プローブ２１１の回動軌道と、反応ディスク２０１に保持されている反応容器２０１１の移動軌道との交点に相当する。
【００５３】
第２試薬分注プローブ２１１は、駆動機構４によって駆動され、回動軌道上の第２試薬吸引位置、又は第２試薬吐出位置において上下方向に移動する。また、第２試薬分注プローブ２１１は、制御回路８の制御に従い、第２試薬吸引位置の直下に位置する試薬容器から第２試薬を吸引する。また、第２試薬分注プローブ２１１は、制御回路８の制御に従い、吸引した第２試薬を、第２試薬吐出位置の直下に位置する反応容器２０１１へ吐出する。すなわち、第２試薬分注プローブ２１１は、本実施形態における吐出部の一例である。
【００５４】
第１攪拌ユニット２１２は、反応ディスク２０１の外周近傍に設けられている。第１攪拌ユニット２１２は、第１攪拌アーム２１２１、及び第１攪拌アーム２１２１の先端に設けられる第１攪拌子を有する。第１攪拌ユニット２１２は、第１攪拌子により、反応ディスク２０１上の第１攪拌位置に位置する反応容器２０１１内に収容されている試料と第１試薬とを攪拌する。
【００５５】
第２攪拌ユニット２１３は、反応ディスク２０１の外周近傍に設けられている。第２攪拌ユニット２１３は、第２攪拌アーム２１３１、及び第２攪拌アーム２１３１の先端に設けられる第２攪拌子を有する。第２攪拌ユニット２１３は、第２攪拌子により、反応ディスク２０１上の第２攪拌位置に位置する反応容器２０１１内に収容されている試料、第１試薬、及び第２試薬を攪拌する。
【００５６】
測光ユニット２１４は、反応容器２０１１内に吐出された試料と試薬との混合液における所定の成分を光学的に測定する。測光ユニット２１４は、光源、及び光検出器を有する。測光ユニット２１４は、制御回路８の制御に従い、光源から光を照射する。照射された光は、反応容器２０１１の第１側壁から入射され、第１側壁と対向する第２側壁から出射される。測光ユニット２１４は、反応容器２０１１から出射された光を、光検出器により検出する。
【００５７】
具体的には、例えば、光検出器は、反応容器２０１１内の標準試料と試薬との混合液を通過した光を検出し、検出した光の強度に基づき、吸光度等により表される標準データを生成する。また、光検出器は、反応容器２０１１内の被検試料と試薬との混合液を通過した光を検出し、検出した光の強度に基づき、吸光度等により表される被検データを生成する。測光ユニット２１４は、生成した標準データ、及び被検データを解析回路３へ出力する。
【００５８】
洗浄ユニット２１５は、測光ユニット２１４で混合液の測定が終了した反応容器２０１１の内部を洗浄する。図５は、図２に示される洗浄ユニット２１５の構成例を示す模式図である。
【００５９】
図５に示される洗浄ユニット２１５は、洗浄液供給ポンプ２１５１、ブランク液供給ポンプ２１５２、洗浄ノズル２１５３、排液ポンプ２１５４、第１の洗剤容器２１５５、及び第２の洗剤容器２１５６を備えている。第１の洗剤容器２１５５は、例えばアルカリ性の第１の洗剤を収容している。第２の洗剤容器２１５６は、例えば酸性の第２の洗剤を収容している。
【００６０】
洗浄液供給ポンプ２１５１は、制御回路８の制御に従い、洗浄液を反応容器２０１１へ供給するポンプである。洗浄液供給ポンプ２１５１は、供給する洗浄液の種類に応じ、例えば、ポンプ２１５１１〜２１５１３を備えている。ポンプ２１５１１は、純水装置２１８で精製された純水を吸引し、吸引した純水を洗浄液として洗浄ノズル２１５３へ供給する。ポンプ２１５１２は、純水装置２１８から純水を吸引すると共に、第１の洗剤容器２１５５から第１の洗剤を吸引し、吸引した第１の洗剤を純水で希釈した希釈液を洗浄液として洗浄ノズル２１５３へ供給する。ポンプ２１５１３は、純水装置２１８から純水を吸引する共に、第２の洗剤容器２１５６から第２の洗剤を吸引し、吸引した第２の洗剤を純水で希釈した希釈液を洗浄液として洗浄ノズル２１５３へ供給する。
【００６１】
ブランク液供給ポンプ２１５２は、制御回路８の制御に従い、反応容器２０１１毎にブランク測定を行うためのブランク液を供給するポンプである。
【００６２】
洗浄ノズル２１５３は、洗浄液供給ポンプ２１５１から供給された洗浄液、又はブランク液供給ポンプ２１５２から供給されたブランク液を反応容器２０１１内へ吐出する。すなわち、洗浄ノズル２１５３は、本実施形態における吐出部の一例である。また、洗浄ノズル２１５３は、反応容器２０１１内の混合液、洗浄液、又はブランク液を吸引する。洗浄ノズル２１５３は、例えば、ノズル２１５３１〜２１５３８を備えている。ノズル２１５３１〜２１５３８は、例えば、上下移動可能に設けられている。
【００６３】
排液ポンプ２１５４は、制御回路８の制御に従い、反応容器２０１１に収容されている混合液、洗浄液、又はブランク液を洗浄ノズル２１５３に吸引させるためのポンプである。排液ポンプ２１５４は、例えば、ポンプ２１５４１，２１５４２を備えている。ポンプ２１５４１，２１５４２の排液動作により、洗浄ノズル２１５３のノズル２１５３１〜２１５３８は、反応容器２０１１に収容されている混合液、洗浄液、又はブランク液を吸引する。
【００６４】
洗浄ユニット２１５による反応容器２０１１の洗浄動作の具体例を以下に説明する。
【００６５】
測光ユニット２１４での測定を終えて反応容器２０１１が洗浄位置Ｗ１に到達すると、制御回路８は、ポンプ２１５４１に吸引動作を実施させる。これにより、ノズル２１５３１が、洗浄位置Ｗ１で停止している反応容器２０１１内の混合液を吸引する。混合液の吸引が完了すると、制御回路８は、ポンプ２１５１１に純水の供給動作を実施させる。これにより、ノズル２１５３１が、洗浄位置Ｗ１で停止している反応容器２０１１へ、純水を洗浄液として吐出する。
【００６６】
ノズル２１５３１により洗浄液が吐出された後、反応容器２０１１が洗浄位置Ｗ２に到達すると、制御回路８は、ポンプ２１５４１に吸引動作を実施させる。これにより、ノズル２１５３２が、洗浄位置Ｗ２で停止している反応容器２０１１内の洗浄液を吸引する。洗浄液の吸引が完了すると、制御回路８は、第１の洗剤を純水で希釈した希釈液の供給動作を、ポンプ２１５１２に実施させる。これにより、ノズル２１５３２が、洗浄位置Ｗ２で停止している反応容器２０１１へ、第１の洗剤を純水で希釈した希釈液を洗浄液として吐出する。
【００６７】
ノズル２１５３２により洗浄液が吐出された後、反応容器２０１１が洗浄位置Ｗ３に到達すると、制御回路８は、ポンプ２１５４１に吸引動作を実施させる。これにより、ノズル２１５３３が、洗浄位置Ｗ３で停止している反応容器２０１１内の洗浄液を吸引する。洗浄液の吸引が完了すると、制御回路８は、第２の洗剤を純水で希釈した希釈液の供給動作を、ポンプ２１５１３に実施させる。これにより、ノズル２１５３３が、洗浄位置Ｗ３で停止している反応容器２０１１へ、第２の洗剤を純水で希釈した希釈液を洗浄液として吐出する。
【００６８】
ノズル２１５３３により洗浄液が吐出された後、反応容器２０１１が洗浄位置Ｗ４に到達すると、制御回路８は、ポンプ２１５４１に吸引動作を実施させる。これにより、ノズル２１５３４が、洗浄位置Ｗ４で停止している反応容器２０１１内の洗浄液を吸引する。洗浄液の吸引が完了すると、制御回路８は、ポンプ２１５１１に純水の供給動作を実施させる。これにより、ノズル２１５３４が、洗浄位置Ｗ４で停止している反応容器２０１１へ、純水を洗浄液として吐出する。
【００６９】
ノズル２１５３４により洗浄液が吐出された後、反応容器２０１１が洗浄位置Ｗ５に到達すると、制御回路８は、ポンプ２１５４１に吸引動作を実施させる。これにより、ノズル２１５３５が、洗浄位置Ｗ５で停止している反応容器２０１１内の洗浄液を吸引する。洗浄液の吸引が完了すると、制御回路８は、ポンプ２１５１１に純水の供給動作を実施させる。これにより、ノズル２１５３５が、洗浄位置Ｗ５で停止している反応容器２０１１へ、純水を洗浄液として吐出する。
【００７０】
ノズル２１５３５により洗浄液が吐出された後、反応容器２０１１がブランク位置Ｂに到達すると、制御回路８は、ポンプ２１５４１に吸引動作を実施させる。これにより、ノズル２１５３６が、ブランク位置Ｂで停止している反応容器２０１１内の洗浄液を吸引する。この吸引により、ブランク位置Ｂの反応容器２０１１は洗浄が終了して空になる。反応容器２０１１の洗浄が完了すると、制御回路８は、この反応容器２０１１に割り当てられる検査項目用に設定された試料及び試薬の分注量から算出された合計量のブランク液を供給するように、ブランク液供給ポンプ２１５２を制御する。これにより、ノズル２１５３６が、ブランク位置Ｂで停止している反応容器２０１１へブランク液を吐出する。ブランク位置Ｂでブランク液が吐出された反応容器２０１１についてのブランク測定は、洗浄位置Ｗ７まで移動する間の測定位置を通過するタイミングで実施される。
【００７１】
ブランク測定を終えて反応容器２０１１が洗浄位置Ｗ７に到達すると、制御回路８は、ポンプ２１５４１に吸引動作を実施させる。これにより、ノズル２１５３７が、洗浄位置Ｗ７で停止している反応容器２０１１内のブランク液を吸引する。ノズル２１５３７によりブランク液が吸引された後、反応容器２０１１が洗浄位置Ｗ８に到達すると、制御回路８は、ポンプ２１５４２に吸引動作を実施させる。これにより、ノズル２１５３８が、洗浄位置Ｗ８で停止している反応容器２０１１内に残留しているブランク液を吸引する。この吸引により、洗浄位置Ｗ８の反応容器２０１１は空になる。
【００７２】
また、分析機構２は、加熱された熱媒体を放出する放出部２１６を備える。図６は、図２に示される分析機構２における放出部２１６の設置位置の例を表す模式図である。
【００７３】
反応容器２０１１の周囲の熱媒体２０２１の温度は、反応容器２０１１に低温の試薬が吐出された際、及び反応容器２０１１に洗浄液、若しくはブランク液が吐出された際に低下する。そこで、本実施形態では、試薬が吐出される位置に停止している反応容器２０１１、及び容器内部が洗浄される位置に停止している反応容器２０１１の外壁へ向けて、加熱後の熱媒体２０２１を送出可能な位置に放出部２１６が設けられている。具体的には、例えば、図６に示される、第１試薬吐出位置の直下、第２試薬吐出位置の直下、洗浄位置Ｗ１〜Ｗ５、及びブランク位置Ｂに、放出部２１６が設けられている。
【００７４】
なお、放出部２１６は、第１試薬吐出位置の直下、第２試薬吐出位置の直下、洗浄位置Ｗ１〜Ｗ５、及びブランク位置Ｂの全てに必ずしも設けられなくてもよい。例えば、検査全体をとおして吐出する試薬の量が熱媒体２０２１の温度低下を生じさせない程度ならば、この試薬の吐出位置の直下には、放出部２１６を設けないようにしてもよい。なお、このことは、検査全体をとおして吐出する試薬の量が所定の量よりも少ない試薬吐出位置の直下には、放出部２１６を設けないと換言することが可能である。また、例えば、洗浄位置Ｗ１〜Ｗ５、及びブランク位置Ｂのうち、供給される洗浄液、及びブランク液の量が熱媒体２０２１の温度低下を生じさせない程度の位置には、放出部２１６を設けないようにしてもよい。なお、このことは、供給される洗浄液、及びブランク液の量が所定の量よりも少ない位置には、放出部２１６を設けないと換言することが可能である。
【００７５】
図７は、図６に示される反応ディスク２０１、及び反応容器２０１１のＡ−Ａ’断面における断面図の例を表す図である。なお、図７では、洗浄ユニット２１５の洗浄ノズル２１５３により洗浄液が反応容器２０１１へ供給された際の断面図を表している。
【００７６】
図７に示される放出部２１６は、放出ノズル２１６１−１，２１６１−２を備えている。放出ノズル２１６１−１，２１６１−２は、加熱された熱媒体を反応容器２０１１の外壁面へ向けて放出するためのノズルである。放出ノズル２１６１−１，２１６１−２は、恒温槽２０２２の内壁に反応容器２０１１を挟むように設けられている。また、放出ノズル２１６１−１，２１６１−２は、供給される熱媒体２０２１を、反応容器２０１１の外壁表面の所定の領域へ放出可能な高さに設けられている。また、放出ノズル２１６１−１，２１６１−２の放出口は、供給される熱媒体２０２１を、反応容器２０１１の外壁表面の所定の領域へ放出可能な形状に形成されている。
【００７７】
洗浄ユニット２１５の洗浄ノズル２１５３から吐出された洗浄液は、反応容器２０１１内において、所定の高さまで到達する。洗浄液は、接触している内壁面を介して恒温槽２０２２に貯留されている熱媒体２０２１から熱量を奪う。そこで、本実施形態では、反応容器２０１１内において洗浄液が到達しうる高さまで、反応容器２０１１の外部から熱媒体２０２１を放出するための加工が、放出ノズル２１６１−１，２１６１−２に施されている。
【００７８】
具体的には、例えば、反応容器２０１１内において、洗浄液が到達しうる高さの最大値が予め設定される。放出ノズル２１６１−１，２１６１−２は、例えば、反応容器２０１１の底部から、設定された高さの略中間の位置に設けられる。
【００７９】
また、放出ノズル２１６１−１，２１６１−２の放出口は、熱媒体２０２１を反応容器２０１１の底部から、設定された高さまで拡げて放出するための形状に加工されている。このため、放出ノズル２１６１−１，２１６１−２の放出口は、熱媒体２０２１を少なくとも高さ方向に拡散させて放出するための形状に加工されている。図８は、図７に示される放出ノズル２１６１−１，２１６１−２の放出口の例を表す模式図である。図８に示される放出ノズル２１６１−１，２１６１−２の放出口は、形状が反応容器２０１１の高さ方向に長く、かつ、断面積が供給経路の断面積よりも小さくなるように形成されている。これにより、ポンプ２０２６２への負担をへらしつつ、高さ方向に広い範囲へ、高圧力で熱媒体２０２１を放出させることが可能となる。放出ノズル２１６１−１，２１６１−２により放出される熱媒体２０２１の軌道は、例えば、図８の破線により表される。
【００８０】
なお、放出ノズル２１６１−１，２１６１−２の放出口の形状は、これに限定されない。放出ノズル２１６１−１，２１６１−２の放出口は、熱媒体２０２１を高さ方向以外に拡散させて放出可能な形状であっても構わない。例えば、図９に示されるように、放出ノズル２１６１−１，２１６１−２の放出口は、シャワーヘッド状の形状をしていても構わない。
【００８１】
なお、図５乃至図９では、放出部２１６が、１本の反応容器２０１１に対して熱媒体２０２１を放出する場合を例に説明した。しかしながら、これに限定されない。洗浄位置Ｗ１〜Ｗ５、及びブランク位置Ｂのように、熱媒体２０２１を吹き付ける反応容器２０１１が隣接して存在している場合には、放出部２１６は、複数の反応容器２０１１に対して熱媒体２０２１を放出するようにしても構わない。この場合、放出ノズル２１６１−１，２１６１−２の放出口は、高さ方向のみでなく、水平方向へも熱媒体２０２１を拡散させて放出可能な形状となることが望ましい。
【００８２】
また、図７では、放出ノズル２１６１−１，２１６１−２が恒温槽２０２２の両内壁に設けられる場合を例に説明した。しかしながら、これに限定されない。放出ノズル２１６１は、必ずしも両内壁に設けられる必要はない。一方の内壁に設けられ、反応容器２０１１の所定の領域へ向けて熱媒体２０２１を放出してもよい。
【００８３】
また、図７では、放出ノズル２１６１−１，２１６１−２が水平方向へ熱媒体２０２１を放出する場合を例に説明した。しかしながら、これに限定されない。放出ノズル２１６１−１，２１６１−２は、熱媒体２０２１を、下方向に所定の傾斜を付けて放出しても構わない。この場合、放出ノズル２１６１−１，２１６１−２は、反応容器２０１１の底部から、設定された高さまでの略中間の位置よりも、上方に設けられる。また、放出ノズル２１６１−１，２１６１−２は、熱媒体２０２１を、上方向に所定の傾斜を付けて放出しても構わない。この場合、放出ノズル２１６１−１，２１６１−２は、反応容器２０１１の底部から、設定された高さまでの略中間の位置よりも、下方に設けられる。
【００８４】
図１に示される制御回路８は、記憶回路７に記憶されている動作プログラムを実行することで、当該プログラムに対応する機能を実現する。例えば、制御回路８は、動作プログラムを実行することで、システム制御機能８１、及び恒温性維持機能８２を有する。なお、本実施形態では、単一のプロセッサによってシステム制御機能８１、及び恒温性維持機能８２が実現される場合を説明するが、これに限定されない。例えば、複数の独立したプロセッサを組み合わせて制御回路を構成し、各プロセッサが動作プログラムを実行することによりシステム制御機能８１、及び恒温性維持機能８２を実現しても構わない。
【００８５】
システム制御機能８１は、入力インタフェース５から入力される入力情報に基づき、自動分析装置１における各部を統括して制御する機能である。
【００８６】
恒温性維持機能８２は、恒温部２０２の恒温性を維持するための機能である。具体的には、恒温性維持機能８２において、制御回路８は、電磁弁２０２８、加熱ユニット２０２６を制御し、恒温部２０２の恒温性を維持する。
【００８７】
次に、以上のように構成された自動分析装置１が恒温部２０２の恒温性を維持する動作を詳細に説明する。
【００８８】
図１０は、図１に示される制御回路８が恒温部２０２の恒温性を維持する動作の第１の例を説明するためのブロック図である。図１０では、放出部２１６が洗浄位置Ｗ１〜Ｗ５のいずれかに設けられる場合を例に説明する。
【００８９】
図１０において、制御回路８は、システム制御機能８１を実行することで、図５に示される洗浄液供給ポンプ２１５１に洗浄液の供給動作を実施させる。これにより、洗浄ユニット２１５の洗浄ノズル２１５３から所定量の洗浄液が反応容器２０１１へ吐出される。
【００９０】
制御回路８は、洗浄ノズル２１５３から反応容器２０１１への洗浄液の吐出に応じ、恒温性維持機能８２により、放出ノズル２１６１−１，２１６１−２から熱媒体２０２１を放出させる。例えば、制御回路８は、洗浄ノズル２１５３からの洗浄液の吐出と同期させて、放出ノズル２１６１−１，２１６１−２から熱媒体２０２１を放出させる。
【００９１】
具体的には、例えば、制御回路８は、洗浄液供給ポンプ２１５１に洗浄液の供給動作を実施させると同時に、電磁弁２０２８を開状態とすると共に、加熱ユニット２０２６のポンプ２０２６２に熱媒体２０２１の供給動作を実施させる。このとき、例えば、制御回路８は、予め設定された量の熱媒体２０２１が供給されるように、ポンプ２０２６２を制御する。
【００９２】
なお、制御回路８は、洗浄ノズル２１５３から洗浄液が吐出されるタイミングに対して所定の時間だけ遅らせて、放出ノズル２１６１−１，２１６１−２から熱媒体２０２１を放出させるようにしてもよい。このとき、例えば、制御回路８は、洗浄液供給ポンプ２１５１の制御から所定の時間だけ遅らせて、電磁弁２０２８、及び加熱ユニット２０２６のポンプ２０２６２を制御する。また、制御回路８は、洗浄ノズル２１５３から洗浄液が吐出されるタイミングに対して所定の時間だけ早めて、放出ノズル２１６１−１，２１６１−２から熱媒体２０２１を放出させるようにしてもよい。このとき、例えば、制御回路８は、洗浄液供給ポンプ２１５１の制御から所定の時間だけ早めて、電磁弁２０２８、及び加熱ユニット２０２６のポンプ２０２６２を制御する。
【００９３】
なお、図１０では、放出部２１６が洗浄位置Ｗ１〜Ｗ５のいずれかに設けられる場合を例に説明したが、放出部２１６はブランク位置Ｂに設けられても構わない。この場合、制御回路８は、システム制御機能８１により、図５に示されるブランク液供給ポンプ２１５２にブランク液の供給動作を実施させる。これにより、洗浄ユニット２１５の洗浄ノズル２１５３から所定量のブランク液が反応容器２０１１へ吐出される。そして、制御回路８は、恒温性維持機能８２により、ブランク液供給ポンプ２１５２のブランク液の供給動作に応じ、電磁弁２０２８、及び加熱ユニット２０２６のポンプ２０２６２を制御する。
【００９４】
また、図１０では、放出部２１６が洗浄位置Ｗ１〜Ｗ５のいずれかに設けられる場合を例に説明したが、放出部２１６は第１及び第２試薬吐出位置に設けられても構わない。この場合、制御回路８は、システム制御機能８１により、図４に示される分注ユニット２１７に設けられるプランジャ２１７３を矢印Ｌ２方向へ駆動させるように駆動機構４を制御する。これにより、第１試薬分注プローブ２０９、又は第２試薬分注プローブ２１１から検査項目に応じた量の試薬が反応容器２０１１へ吐出される。そして、制御回路８は、恒温性維持機能８２により、図４に示されるプランジャ２１７３の矢印Ｌ２方向への駆動に応じ、電磁弁２０２８、及び加熱ユニット２０２６のポンプ２０２６２を制御する。
【００９５】
図１１は、図１に示される制御回路８が恒温部２０２の恒温性を維持する動作の第２の例を説明するためのブロック図である。図１１では、放出部２１６が洗浄位置Ｗ１〜Ｗ５のいずれかに設けられる場合を例に説明する。
【００９６】
図１１に示される純水装置２１８には、温度センサ２１８１が設けられている。なお、純水装置２１８は、純水の供給元である。温度センサ２１８１は、図５に示される洗浄液供給ポンプ２１５１が純水装置２１８から純水を吸引する吸引口の近傍に設けられている。温度センサ２１８１は、純水装置２１８で精製される、環境温度又は常温の純水の温度を検出し、検出した温度に関する温度データを制御回路８へ送信する。
【００９７】
制御回路８は、洗浄ノズル２１５３から反応容器２０１１への洗浄液の吐出に応じ、恒温性維持機能８２により、放出ノズル２１６１−１，２１６１−２から熱媒体２０２１を放出させる。このとき、制御回路８は、洗浄ノズル２１５３から吐出された洗浄液により奪われる熱量に相当する熱量を有する熱媒体２０２１を供給するように、加熱ユニット２０２６を制御する。
【００９８】
具体的には、例えば、記憶回路７には、制御回路８が自動分析装置１の各部を制御する際に用いる種々のパラメータの一つとして、洗浄時に供給する洗浄液の量が予め記憶されている。制御回路８は、洗浄ノズル２１５３から反応容器２０１１への洗浄液の吐出に応じ、この洗浄位置において供給される洗浄液の量を、記憶回路７から読み出す。制御回路８は、温度センサ２１８１から送信される温度データと、読み出した洗浄液の量とに基づき、恒温部２０２の恒温性を維持するために必要な熱量を算出する。
【００９９】
制御回路８は、算出した熱量を有する熱媒体２０２１を発生させるのに必要な、加熱ユニット２０２６のヒータ２０２６１の発熱量、及びポンプ２０２６２の排出量を算出する。なお、記憶回路７に所定の熱量の熱媒体２０２１を発生させるのに必要な制御データが予め記憶され、制御回路８が算出した熱量に応じた制御データを読み出すことで、ヒータ２０２６１の発熱量、及びポンプ２０２６２の排出量を取得しても構わない。制御回路８は、洗浄液供給ポンプ２１５１による洗浄液の供給動作に応じ、電磁弁２０２８を開状態とすると共に、取得した発熱量をヒータ２０２６１に対して設定し、かつ、取得した排出量での熱媒体２０２１の供給動作をポンプ２０２６２に実施させる。
【０１００】
なお、図１１では、放出部２１６が洗浄位置Ｗ１〜Ｗ５のいずれかに設けられる場合を例に説明したが、放出部２１６はブランク位置Ｂに設けられても構わない。この場合、制御回路８は、洗浄ノズル２１５３から反応容器２０１１へのブランク液の吐出に応じ、恒温性維持機能８２により、放出ノズル２１６１−１，２１６１−２から熱媒体２０２１を放出させる。このとき、制御回路８は、洗浄ノズル２１５３から吐出されたブランク液により奪われる熱量に相当する熱量を有する熱媒体２０２１を供給するように、電磁弁２０２８、並びに、加熱ユニット２０２６のヒータ２０２６１及びポンプ２０２６２を制御する。このとき、例えば、記憶回路７には、制御回路８が自動分析装置１の各部を制御する際に用いる種々のパラメータの一つとして、ブランク測定時に供給するブランク液の量が予め記憶されている。
【０１０１】
図１２は、図１に示される制御回路８が恒温部２０２の恒温性を維持する動作の第３の例を説明するためのブロック図である。図１２では、放出部２１６が第１試薬吐出位置に設けられる場合を例に説明する。
【０１０２】
図１２では、第１試薬庫２０４の内部に温度センサ２０４２が設けられている。なお、第１試薬庫２０４は、第１試薬の供給元である。温度センサ２０４２は、第１試薬庫２０４内の温度を検出し、検出した温度に関する温度データを制御回路８へ送信する。
【０１０３】
制御回路８は、第１試薬分注プローブ２０９から反応容器２０１１への試薬の吐出に応じ、恒温性維持機能８２により、放出ノズル２１６１−１，２１６１−２から熱媒体２０２１を放出させる。このとき、制御回路８は、第１試薬分注プローブ２０９から吐出された洗浄液により奪われる熱量に相当する熱量を有する熱媒体２０２１を供給するように、加熱ユニット２０２６を制御する。
【０１０４】
具体的には、例えば、記憶回路７には、測定が予定されている試料に関するオーダ情報が記憶されている。オーダ情報には、例えば、試料毎に測定される検査項目が含まれている。また、記憶回路７には、検査項目毎に用いられる試薬の量等の情報が記憶されている。制御回路８は、第１試薬分注プローブ２０９から反応容器２０１１への試薬の吐出に応じ、このときに吐出される試薬の量を、記憶回路７から読み出す。制御回路８は、温度センサ２０４２から送信される温度データと、読み出した試薬の量とに基づき、恒温部２０２の恒温性を維持するために必要な熱量を算出する。
【０１０５】
制御回路８は、算出した熱量を有する熱媒体２０２１を発生させるのに必要な、加熱ユニット２０２６のヒータ２０２６１の発熱量、及びポンプ２０２６２の排出量を算出する。制御回路８は、図４に示される分注ユニット２１７の駆動動作に応じ、電磁弁２０２８を開状態とすると共に、取得した発熱量をヒータ２０２６１に対して設定し、かつ、取得した排出量での熱媒体２０２１の供給動作をポンプ２０２６２に実施させる。
【０１０６】
なお、図１２では、放出部２１６が第１試薬吐出位置に設けられる場合を例に説明したが、放出部２１６は第２試薬吐出位置に設けられても構わない。このとき、第２試薬庫２０５の内部には、温度センサ２０５２が設けられている。なお、第２試薬庫２０５は、第２試薬の供給元である。温度センサ２０５２は、第２試薬庫２０５内の温度を検出し、検出した温度に関する温度データを制御回路８へ送信する。
【０１０７】
制御回路８は、第２試薬分注プローブ２１１から反応容器２０１１への試薬の吐出に応じ、恒温性維持機能８２により、放出ノズル２１６１−１，２１６１−２から熱媒体２０２１を放出させる。このとき、制御回路８は、第２試薬分注プローブ２１１から吐出された試薬により奪われる熱量に相当する熱量を有する熱媒体２０２１を供給するように、電磁弁２０２８、並びに、加熱ユニット２０２６のヒータ２０２６１及びポンプ２０２６２を制御する。
【０１０８】
図１３は、図１に示される制御回路８が恒温部２０２の恒温性を維持する動作の第４の例を説明するためのブロック図である。図１３では、放出部２１６が洗浄位置Ｗ１〜Ｗ５のいずれかに設けられる場合を例に説明する。
【０１０９】
図１３に示される恒温槽２０２２には、温度センサ２０２１０が設けられている。温度センサ２０２１０は、洗浄位置の下方における、恒温槽２０２２の底部に設けられている。温度センサ２０２１０は、洗浄位置における熱媒体２０２１の温度を検出し、検出した温度に関する温度データを制御回路８へ送信する。
【０１１０】
なお、温度センサ２０２１０は、洗浄位置で停止される反応容器２０１１の底部の中心位置の直下に対応する位置に設けられていてもよいし、図１４に示されるように、反応ディスク２０１の回動方向に、中心位置から所定の距離だけずれていてもよい。温度センサ２０２１０が反応ディスク２０１の回動方向に所定の距離だけずれて設けられることにより、恒温槽２０２２内の熱媒体２０２１の流れを考慮して熱媒体２０２１の温度を計測することが可能となる。
【０１１１】
制御回路８は、恒温性維持機能８２により、洗浄ノズル２１５３から吐出された洗浄液により奪われる熱量に相当する熱量を有する熱媒体２０２１を放出ノズル２１６１−１，２１６１−２から放出するように、加熱ユニット２０２６を制御する。
【０１１２】
具体的には、例えば、制御回路８は、反応容器２０１１の近傍の温度が予め設定される温度を超えるか否かを、温度センサ２０２１０から送信される温度データに基づき、予め設定される周期で判定する。予め設定される温度を超えると判定する場合、制御回路８は、温度センサ２０２１０から送信される温度データに基づき、恒温部２０２の恒温性を維持するために必要な熱量を算出する。
【０１１３】
制御回路８は、算出した熱量を有する熱媒体２０２１を発生させるのに必要な、加熱ユニット２０２６のヒータ２０２６１の発熱量、及びポンプ２０２６２の排出量を算出する。なお、記憶回路７に所定の熱量の熱媒体２０２１を発生させるのに必要な制御データが予め記憶され、制御回路８が算出した熱量に応じた制御データを読み出すことで、ヒータ２０２６１の発熱量、及びポンプ２０２６２の排出量を取得しても構わない。制御回路８は、電磁弁２０２８を開状態とすると共に、取得した発熱量をヒータ２０２６１に対して設定し、かつ、取得した排出量での熱媒体２０２１の供給動作をポンプ２０２６２に実施させる。
【０１１４】
なお、制御回路８は、反応容器２０１１の近傍の温度が予め設定される温度を超えるか否かを、例えば、洗浄ノズル２１５３から反応容器２０１１への洗浄液の吐出に応じて判定しても構わない。
【０１１５】
なお、図１３では、放出部２１６が洗浄位置Ｗ１〜Ｗ５のいずれかに設けられる場合を例に説明したが、放出部２１６はブランク位置Ｂに設けられても構わない。この場合、制御回路８は、恒温性維持機能８２により、洗浄ノズル２１５３から吐出されたブランク液により奪われる熱量に相当する熱量を有する熱媒体２０２１を供給するように、電磁弁２０２８、並びに、加熱ユニット２０２６のヒータ２０２６１及びポンプ２０２６２を制御する。
【０１１６】
また、図１３では、放出部２１６が洗浄位置Ｗ１〜Ｗ５のいずれかに設けられる場合を例に説明したが、放出部２１６は第１及び第２試薬吐出位置に設けられても構わない。この場合、制御回路８は、恒温性維持機能８２により、第１試薬分注プローブ２０９、又は第２試薬分注プローブ２１１から吐出された試薬により奪われる熱量に相当する熱量を有する熱媒体２０２１を供給するように、電磁弁２０２８、並びに、加熱ユニット２０２６のヒータ２０２６１及びポンプ２０２６２を制御する。
【０１１７】
以上のように、本実施形態では、加熱ユニット２０２６により、恒温槽２０２２に収容される熱媒体２０２１を、恒温部２０２の恒温性を維持するよりも高い温度に加熱する。そして、加熱した熱媒体２０２１を反応容器２０１１へ放出する放出部２１６を、恒温槽２０２２の内壁に設けるようにしている。これより、反応容器２０１１に熱媒体２０２１よりも低い温度の液体を吐出する場合であっても、恒温槽２０２２に貯留されている熱媒体２０２１の温度変化を抑えることが可能となる。
【０１１８】
したがって、本実施形態によれば、反応容器２０１１に熱媒体２０２１よりも低い温度の液体を吐出する場合であっても、恒温部２０２の恒温性を維持できる。恒温槽２０２２に貯留されている熱媒体２０２１よりも低温の液体を反応容器２０１１へ吐出した場合、この反応容器２０１１の隣の反応容器２０１１の内部の水温は、例えば、図１５に示されるように変動する。本実施形態によれば、反応容器２０１１に熱媒体２０２１よりも低い温度の液体を吐出する場合であっても、恒温部２０２の恒温性を維持できるため、周囲の反応容器２０１１の温度が低下することを抑えることができる。
【０１１９】
また、本実施形態では、反応容器２０１１内に吐出された液体が到達しうる高さまで、反応容器２０１１の外部から熱媒体２０２１を放出するための加工が、放出部２１６に施されている。これにより、反応容器２０１１の周囲の熱媒体２０２１を効率的に温めることが可能となる。
【０１２０】
また、本実施形態では、放出部２１６から熱媒体２０２１が放出される範囲には、測光ポイントが含まれるようになっている。測光ポイントとは、入射側においては、光源から照射される光が反応容器２０１１の外壁から入射されるポイントを表す。また、測光ポイントとは、出射側においては、入射された光が反応容器２０１１の外壁から出射されるポイントを表す。これにより、測光に影響するような反応容器表面に付着する気泡、及び汚れの付着を防ぐことが可能となる。
【０１２１】
また、本実施形態では、試薬吐出位置と対応する恒温槽２０２２内の位置に放出部２１６を設けるようにしている。これにより、加熱された熱媒体２０２１を、試薬が吐出される反応容器２０１１へ直接放出することが可能となる。
【０１２２】
また、本実施形態では、洗浄位置と対応する恒温槽２０２２内の位置に放出部２１６を設けるようにしている。これにより、加熱された熱媒体２０２１を、洗浄液が吐出される反応容器２０１１へ直接放出することが可能となる。
【０１２３】
また、本実施形態では、ブランク位置と対応する恒温槽２０２２内の位置に放出部２１６を設けるようにしている。これにより、加熱された熱媒体２０２１を、ブランク液が吐出される反応容器２０１１へ直接放出することが可能となる。
【０１２４】
また、本実施形態では、加熱ユニット２０２６は、ヒータ２０２６１の後段にポンプ２０２６２を備えるようにしている。これにより、放出部２１６から放出される熱媒体２０２１の放出量を高精度に調整することが可能となる。
【０１２５】
また、本実施形態では、制御回路８は、第１試薬分注プローブ２０９、第２試薬分注プローブ２１１、又は洗浄ノズル２１５３からの液体の吐出に応じ、加熱された熱媒体２０２１を、放出部２１６から放出するようにしている。これにより、恒温槽２０２２に貯留される熱媒体２０２１より低温の液体が反応容器２０１１に吐出されたタイミングで、反応容器２０１１の周囲の熱媒体２０２１を温めることが可能となる。
【０１２６】
また、本実施形態では、純水装置２１８に温度センサ２１８１を設ける。そして、制御回路８は、反応容器２０１１への洗浄液の吐出に応じたタイミングで、温度センサ２１８１の検出結果に基づいて加熱した熱媒体２０２１を、放出部２１６から放出するようにしている。これにより、吐出された洗浄液により奪われる熱量に相当する熱量を有する熱媒体２０２１を、放出部２１６から反応容器２０１１の表面へ放出させることが可能となる。
【０１２７】
また、本実施形態では、第１試薬庫２０４の内部に温度センサ２０４２を設け、かつ／若しくは、第２試薬庫２０５の内部に温度センサ２０５２を設ける。そして、制御回路８は、反応容器２０１１への試薬の吐出に応じたタイミングで、温度センサ２０４２，２０５２の検出結果に基づいて加熱した熱媒体２０２１を、放出部２１６から放出するようにしている。これにより、吐出された試薬により奪われる熱量に相当する熱量を有する熱媒体２０２１を、放出部２１６から反応容器２０１１の表面へ放出させることが可能となる。
【０１２８】
また、本実施形態では、恒温槽２０２２内における、試薬吐出位置、洗浄位置、又はブランク位置で停止する反応容器２０１１の近傍に温度センサ２０２１０を設ける。そして、制御回路８は、温度センサ２０２１０の検出結果に基づいて加熱した熱媒体２０２１を、放出部２１６から放出するようにしている。これにより、吐出された液体により奪われる熱量に相当する熱量を有する熱媒体２０２１を、放出部２１６から反応容器２０１１の表面へ放出させることが可能となる。
【０１２９】
また、本実施形態では、恒温ユニット２０２５の後段に加熱ユニット２０２６を設けるようにしている。これにより、恒温ユニット２０２５で温められた熱媒体２０２１に対して加熱処理を施すことになるため、加熱ユニット２０２６の負担を抑えることが可能となる。
【０１３０】
なお、上記実施形態では、放出ノズル２１６１−１，２１６１−２が、反応容器２０１１の底部から、設定された高さの略中間の位置に設けられる場合を例に説明した。しかしながら、これに限定されない。放出ノズル２１６１−１，２１６１−２は、例えば、反応容器２０１１における測光ポイントと略同一の高さに設けられても構わない。
【０１３１】
また、上記実施形態では、制御回路８の制御により、放出部２１６から放出される熱媒体２０２１の量が制御される場合を例に説明した。しかしながら、これに限定されない。放出部２１６からは加熱された熱媒体２０２１が常に放出されていても構わない。
【０１３２】
また、上記実施形態では、恒温部２０２において、恒温ユニット２０２５と加熱ユニット２０２６とが直列している場合を例に説明した。しかしながら、恒温部２０２の構成は、これに限定されない。恒温部２０２ａは、例えば、図１６に示される構造を有していても構わない。具体的には、図１６に示される恒温部２０２ａは、熱媒体２０２１、恒温槽２０２２、供給ポンプ２０２３、排液ポンプ２０２４、恒温ユニット２０２５、加熱ユニット２０２６ａ、及び電磁弁２０２７，２０２８ａ，２０２９を有する。
【０１３３】
加熱ユニット２０２６ａは、恒温ユニット２０２５の循環ポンプ２０２５１から供給される熱媒体２０２１を加熱し、加熱した熱媒体２０２１を放出部２１６へ送出する。加熱ユニット２０２６ａは、放出部２１６へ加熱後の熱媒体２０２１を供給するための加熱水供給ラインに設けられている。加熱水供給ラインは、循環ラインが恒温ユニット２０２５の循環ポンプ２０２５１の後に分岐されてなる。
【０１３４】
加熱ユニット２０２６ａは、ヒータ２０２６１ａ、及びポンプ２０２６２ａを有する。ヒータ２０２６１ａは、恒温ユニット２０２５の循環ポンプ２０２５１から送出された熱媒体２０２１を加熱する。ヒータ２０２６１ａにより熱媒体２０２１に与えられる熱量は、図３に示される加熱ユニット２０２６のヒータ２０２６１により熱媒体２０２１に与えられる熱量よりも大きい。ヒータ２０２６１ａにより熱媒体２０２１に与えられる熱量は、制御回路８からの制御に従って変動してもよいし、予め設定されていてもよい。
【０１３５】
ポンプ２０２６２ａは、ヒータ２０２６１ａにより加熱された熱媒体２０２１を、放出部２１６へ送出する。ポンプ２０２６２ａにより送出される熱媒体２０２１の量は、制御回路８からの制御に従って変動してもよいし、予め設定されていてもよい。
【０１３６】
電磁弁２０２８ａは、加熱水供給ライン上の加熱ユニット２０２６ａの前段に設けられている。電磁弁２０２８ａは、制御回路８からの制御に従い、開状態、又は閉状態となる。恒温ユニット２０２５の循環ポンプ２０２５１から送出された熱媒体２０２１は、開状態となっている電磁弁２０２８ａを通過して加熱ユニット２０２６ａへ供給される。
【０１３７】
また、上記実施形態では、恒温部２０２に、加熱ユニット２０２６が設けられる場合を例に説明した。しかしながら、これに限定されない。加熱ユニットは、恒温部２０２から独立して設けられていても構わない。例えば、加熱ユニットは、恒温槽２０２２から熱媒体２０２１を独自に吸引し、吸引した熱媒体２０２１を加熱する。そして、加熱ユニットは、加熱した熱媒体２０２１を、放出部２１６から反応容器２０１１の表面へ放出する。また、自動分析装置１は、例えば、熱媒体２０２１と同一の成分の熱媒体を貯留するタンクを備えてもよい。加熱ユニットは、このタンクに貯留されている熱媒体を吸引し、吸引した熱媒体を加熱してもよい。そして、加熱ユニットは、加熱した熱媒体を、放出部２１６から反応容器２０１１の表面へ放出する。
【０１３８】
上記説明において用いた「プロセッサ」という文言は、例えば、ＣＰＵ（central processing unit）、ＧＰＵ(Graphics Processing Unit)、或いは、特定用途向け集積回路（Application Specific Integrated Circuit：ＡＳＩＣ））、プログラマブル論理デバイス（例えば、単純プログラマブル論理デバイス（Simple Programmable Logic Device：ＳＰＬＤ）、複合プログラマブル論理デバイス（Complex Programmable Logic Device：ＣＰＬＤ）、及びフィールドプログラマブルゲートアレイ（Field Programmable Gate Array：ＦＰＧＡ））等の回路を意味する。プロセッサは記憶回路に保存されたプログラムを読み出し実行することで機能を実現する。なお、本実施形態の各プロセッサは、プロセッサ毎に単一の回路として構成される場合に限らず、複数の独立した回路を組み合わせて１つのプロセッサとして構成し、その機能を実現するようにしてもよい。さらに、図１における複数の構成要素を１つのプロセッサへ統合してその機能を実現するようにしてもよい。
【０１３９】
本発明の実施形態を説明したが、この実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。この実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。この実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
【符号の説明】
【０１４０】
１…自動分析装置、２…分析機構、２０１…反応ディスク、２０１１…反応容器、２０２，２０２ａ…恒温部、２０２１…熱媒体、２０２２…恒温槽、２０２３…供給ポンプ、２０２４…排液ポンプ、２０２５…恒温ユニット、２０２５１…循環ポンプ、２０２５２…加熱器、Ｄ１…ヒータ、Ｄ２…温度センサ、２０２６，２０２６ａ…加熱ユニット、２０２６１，２０２６１ａ…ヒータ、２０２６２，２０２６２ａ…ポンプ、２０２７，２０２８，２０２８ａ，２０２９…電磁弁、２０２１０…温度センサ、２０３…サンプルディスク、２０４…第１試薬庫、２０４１…試薬ラック、２０４２…温度センサ、２０５…第２試薬庫、２０５１…試薬ラック、２０５２…温度センサ、２０６…サンプル分注アーム、２０７…サンプル分注プローブ、２０８…第１試薬分注アーム、２０９…第１試薬分注プローブ、２１０…第２試薬分注アーム、２１１…第２試薬分注プローブ、２１２…第１攪拌ユニット、２１２１…第１攪拌アーム、２１３…第２攪拌ユニット、２１３１…第２攪拌アーム、２１４…測光ユニット、２１５…洗浄ユニット、２１５１…洗浄液供給ポンプ、２１５１１〜２１５１３…ポンプ、２１５２…ブランク液供給ポンプ、２１５３…洗浄ノズル、２１５３１〜２１５３８…ノズル、２１５４…排液ポンプ、２１５４１，２１５４２…ポンプ、２１５５…第１の洗剤容器、２１５６…第２の洗剤容器、２１６…放出部、２１６１，２１６１−１，２１６１−２…放出ノズル、２１７…分注ユニット、２１７１…チューブ、２１７２…シリンジ、２１７３…プランジャ、２１８…純水装置、２１８１…温度センサ、３…解析回路、４…駆動機構、５…入力インタフェース、６…出力インタフェース、７…記憶回路、８…制御回路、８１…システム制御機能、８２…恒温性維持機能。
【図１】
2018189605.tif 000003
【図２】
2018189605.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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