(57)【要約】【課題】有効発光面積比を増加させることができる表示装置及び有機発光表示装置並びにヘッドマウント表示装置を提供する。【解決手段】本発明による表示装置は、基板と、前記基板上に配置される第１表示素子と、前記第１表示素子から出射される光路上に配置され、一方向に沿って第１周期を有するように配列される複数の回折パターンと、を有し、前記複数の回折パターンのうちのいずれか一つの断面の幅を第１長さと定義した時、前記第１周期及び前記第１長さは、下記に示す数式１を満足することを特徴とする。    （数１）  ０．４≦ｄ１／ＤＰ１≦１  ・・・数式１  （式中、ＤＰ１は第１周期、ｄ１は第１長さ、を表す。）【選択図】  図１
2018189959.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に配置される第１表示素子と、
前記第１表示素子から出射される光路上に配置され、一方向に沿って第１周期を有するように配列される複数の回折パターンと、を有し、
前記複数の回折パターンのうちのいずれか一つの断面の幅を第１長さと定義した時、
前記第１周期及び前記第１長さは、下記に示す数式１を満足することを特徴とする表示装置。
（数１）
０．４≦ｄ１／ＤＰ１≦１  ・・・数式１
（式中、ＤＰ１は第１周期、ｄ１は第１長さ、を表す。）
【請求項２】
前記第１表示素子と前記複数の回折パターンとの間に配置される封止層をさらに有することを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記封止層は、ガラス基板であることを特徴とする請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記複数の回折パターンの材料は、封止層の材料と同一であることを特徴とする請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
前記封止層は、有機層及び無機層のうちの少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項２に記載の表示装置。
【請求項６】
前記複数の回折パターンは、前記第１表示素子から出射される光を回折させて基準発光パターン及び第１複製発光パターンを生成することを特徴とする請求項２に記載の表示装置。
【請求項７】
前記第１複製発光パターンの輝度は、前記基準発光パターンの輝度の３％以上であることを特徴とする請求項６に記載の表示装置。
【請求項８】
前記基準発光パターンと前記第１複製発光パターンとの距離を回折距離として定義し、前記第１表示素子と前記複数の回折パターンとの距離を離隔距離として定義した時、
前記回折距離は、下記に示す数式２を満足することを特徴とする請求項６に記載の表示装置。
【数２】
2018189959.tif 000026
（式中、βは回折距離、ｚは離隔距離、ＤＰ１は第１周期、λは第１表示素子から出射される光の波長、ｎＥＮは封止層の屈折率、を表す。）
【請求項９】
前記基板上に配置される第２表示素子をさらに有し、
前記第２表示素子は、前記第１表示素子と同じ色を表示し、
前記第１表示素子と前記第２表示素子との距離を表示素子間の距離として定義し、前記基準発光パターンと前記第１複製発光パターンとの距離を回折距離として定義した時、
前記表示素子間の距離及び前記回折距離は、下記に示す数式３を満足することを特徴とする請求項６に記載の表示装置。
（数３）
０．１≦β／ＰＰ１≦１．９  ・・・数式３
（式中、ＰＰ１は表示素子間の距離、βは回折距離、を表す。）
【請求項１０】
前記複数の回折パターンは第１屈折率を有し、
前記複数の回折パターン上に配置され、第２屈折率を有する中間層をさらに有し、
前記第１屈折率と、前記第２屈折率と、前記複数の回折パターンのうちのいずれか一つの厚さと、は下記に示す数式４を満足することを特徴とする請求項１に記載の表示装置。    （数４）
（ｍ＊λ）−６０（ｎｍ）≦Ａ（ｎｍ）≦（ｍ＊λ）＋６０（ｎｍ）
Ａ≠△ｎ・ｔ１（ｎｍ）                                      ・・・数式４
（式中、△ｎ＝｜ｎ１−ｎ２｜、ｎ１は第１屈折率、ｎ２は第２屈折率、ｔ１は複数の回折パターンのうちのいずれか一つの厚さ、λは第１表示素子から出射される光の波長、ｍは０以上の整数、を表す。）
【請求項１１】
前記複数の回折パターンの断面形状は、円形または方形を含むことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項１２】
基板と、
前記基板上に配置される第１有機発光素子と、
前記第１有機発光素子上に配置される封止層と、
前記封止層上に配置され、前記第１有機発光素子から出射された光を回折させて基準発光パターン及び第１複製発光パターンを生成する複数の回折パターンと、を有し、
前記複数の回折パターンは、一方向に沿って第１周期を有するように配列され、
前記基準発光パターンと前記第１複製発光パターンとの距離を回折距離として定義し、前記第１有機発光素子と前記複数の回折パターンとの距離を離隔距離として定義した時、
前記回折距離は、下記に示す数式２を満足することを特徴とする有機発光表示装置。
【数２】
2018189959.tif 000027
（式中、βは回折距離、ｚは離隔距離、ＤＰ１は第１周期、λは第１表示素子から出射される光の波長、ｎＥＮは封止層の屈折率、を表す。）
【請求項１３】
前記複数の回折パターンのうちのいずれか一つの断面の幅を第１長さとして定義した時、
前記第１周期及び前記第１長さは、下記に示す数式１を満足することを特徴とする請求項１２に記載の有機発光表示装置。
（数１）
０．４≦ｄ１／ＤＰ１≦１  ・・・数式１
（式中、ＤＰ１は第１周期、ｄ１は第１長さ、を表す。）
【請求項１４】
前記複数の回折パターン上に配置され、第１屈折率を有する中間層をさらに有し、
前記複数の回折パターンは第２屈折率を有し、
前記第１屈折率と、前記第２屈折率と、前記複数の回折パターンのうちのいずれか一つの厚さと、は下記に示す数式４を満足することを特徴とする請求項１３に記載の有機発光表示装置。
（数４）
（ｍ＊λ）−６０（ｎｍ）≦Ａ（ｎｍ）≦（ｍ＊λ）＋６０（ｎｍ）
Ａ≠△ｎ・ｔ１（ｎｍ）                                        ・・・数式４
（式中、△ｎ＝｜ｎ１−ｎ２｜、ｎ１は第２屈折率、ｎ２は第１屈折率、ｔ１は複数の回折パターンのうちのいずれか一つの厚さ、λは第１有機発光素子から出射される光の波長、ｍは０以上の整数、を表す。）
【請求項１５】
前記第１複製発光パターンの輝度は、前記基準発光パターンの輝度の３％以上であることを特徴とする請求項１４に記載の有機発光表示装置。
【請求項１６】
前記基板上に配置される第２有機発光素子をさらに有し、
前記第２有機発光素子は前記第１有機発光素子と同じ色を発光し、
前記第１有機発光素子と前記第２有機発光素子との距離を有機発光素子間の距離として定義した時、
前記有機発光素子間の距離及び前記回折距離は、下記に示す数式３を満足することを特徴とする請求項１２に記載の有機発光表示装置。
（数３）
０．１≦β／ＰＰ１≦１．９  ・・・数式３
（式中、ＰＰ１は有機発光素子間の距離、βは回折距離、を表す。）
【請求項１７】
前記第１有機発光素子と前記複数の回折パターンとの間に配置される封止層をさらに有することを特徴とする請求項１２に記載の有機発光表示装置。
【請求項１８】
前記封止層は、ガラス基板であることを特徴とする請求項１２に記載の有機発光表示装置。
【請求項１９】
前記封止層は、有機層及び無機層のうちの少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項１２に記載の有機発光表示装置。
【請求項２０】
第１表示素子、及び前記第１表示素子から出射される光路上に配置される複数の回折パターンを有する表示部と、
前記表示部から出射される光路上に配置されるレンズ部と、を有し、
前記複数の回折パターンは、一方向に沿って第１周期を有するように配列され、前記複数の回折パターンのうちのいずれか一つの断面の幅を第１長さとして定義した時、
前記第１周期及び前記第１長さは、下記に示す数式１を満足することを特徴とするヘッドマウント表示装置。
（数１）
０．４≦ｄ１／ＤＰ１≦１  ・・・数式１
（式中、ＤＰ１は第１周期、ｄ１は第１長さ、を表す。）
【請求項２１】
前記第１表示素子と前記複数の回折パターンとの間に配置される封止層をさらに有することを特徴とする請求項２０に記載のヘッドマウント表示装置。
【請求項２２】
前記封止層は、ガラス基板であることを特徴とする請求項２１に記載のヘッドマウント表示装置。
【請求項２３】
前記封止層は、有機層及び無機層のうちの少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項２１に記載のヘッドマウント表示装置。
【請求項２４】
前記表示部は、前記複数の回折パターン上に前記複数の回折パターンを覆うように配置される保護層を含むことを特徴とする請求項２３に記載のヘッドマウント表示装置。
【請求項２５】
前記複数の回折パターンは、前記第１表示素子から出射される光を回折させて基準発光パターン及び第１複製発光パターンを生成することを特徴とする請求項２１に記載のヘッドマウント表示装置。
【請求項２６】
前記基準発光パターンと前記第１複製発光パターンとの距離を回折距離として定義し、前記第１表示素子と前記複数の回折パターンとの距離を離隔距離として定義した時、
前記回折距離は、下記に示す数式２を満足することを特徴とする請求項２５に記載のヘッドマウント表示装置。
【数２】
2018189959.tif 000028
（式中、βは回折距離、ｚは離隔距離、ＤＰ１は第１周期、λは第１表示素子から出射される光の波長、ｎＥＮは封止層の屈折率、を表す。）
【請求項２７】
前記表示部は、前記第１表示素子と同じ色を表示する第２表示素子をさらに含み、
前記第１表示素子と前記第２表示素子との距離を表示素子間の距離として定義し、前記基準発光パターンと前記第１複製発光パターンとの距離を回折距離として定義した時、
前記表示素子間の距離及び前記回折距離は、下記に示す数式３を満足することを特徴とする請求項２５に記載のヘッドマウント表示装置。
（数３）
０．１≦β／ＰＰ１≦１．９  ・・・数式３
（式中、ＰＰ１は表示素子間の距離、βは回折距離、を表す。）
【請求項２８】
前記複数の回折パターンと前記レンズ部との間に配置され、第１屈折率を有する中間層をさらに有し、
前記複数の回折パターンは第２屈折率を有し、
前記第１屈折率と、前記第２屈折率と、前記複数の回折パターンのうちのいずれか一つの厚さと、は下記に示す数式４を満足することを特徴とする請求項２０に記載のヘッドマウント表示装置。
（数４）
（ｍ＊λ）−６０（ｎｍ）≦Ａ（ｎｍ）≦（ｍ＊λ）＋６０（ｎｍ）
Ａ≠△ｎ・ｔ１（ｎｍ）                                      ・・・数式４
（式中、△ｎ＝｜ｎ１−ｎ２｜、ｎ１は第２屈折率、ｎ２は第１屈折率、ｔ１は複数の回折パターンのうちのいずれか一つの厚さ、λは第１表示素子から出射される光の波長、ｍは０以上の整数、を表す。）
【請求項２９】
前記複数の回折パターンの断面形状は、円形または方形を含むことを特徴とする請求項２０に記載のヘッドマウント表示装置。
【請求項３０】
第１表示素子と、
前記第１表示素子と同じ色を表示する第２表示素子と、
前記第１及び第２表示素子から出射される光路上に配置され、前記第１表示素子から出射される光を回折させて基準発光パターン及び第１複製発光パターンを生成する複数の回折パターンと、
前記複数の回折パターン上に配置される第１屈折率を有する中間層と、を有し、
前記複数の回折パターンは、一方向に沿って第１周期を有するように配列され、第２屈折率を有し、
前記複数の回折パターンのうちのいずれか一つの断面の幅を第１長さと定義した時、前記第１周期及び前記第１長さは、下記に示す数式１を満足し、
前記基準発光パターンと前記第１複製発光パターンとの距離を回折距離として定義し、前記第１表示素子と前記複数の回折パターンとの距離を離隔距離として定義した時、前記回折距離は、下記に示す数式２を満足し、
前記第１表示素子と前記第２表示素子との距離を表示素子間の距離として定義した時、前記表示素子間の距離及び前記回折距離は、下記に示す数式３を満足し、
前記第１屈折率と、前記第２屈折率と、前記複数の回折パターンのうちのいずれか一つの厚さと、は下記に示す数式４を満足することを特徴とするヘッドマウント表示装置。
（数１）
０．４≦ｄ１／ＤＰ１≦１  ・・・数式１
（式中、ＤＰ１は第１周期、ｄ１は第１長さ、を表す。）
【数２】
2018189959.tif 000029
（式中、βは回折距離、ｚは離隔距離、ＤＰ１は第１周期、λは第１表示素子から出射される光の波長、ｎＥＮは封止層の屈折率、を表す。）
（数３）
０．１≦β／ＰＰ１≦１．９  ・・・数式３
（式中、ＰＰ１は表示素子間の距離、βは回折距離をそれぞれ示す。）
（数４）
（ｍ＊λ）−６０（ｎｍ）≦Ａ（ｎｍ）≦（ｍ＊λ）＋６０（ｎｍ）
Ａ≠△ｎ・ｔ１（ｎｍ）                                      ・・・数式４
（式中、△ｎ＝｜ｎ１−ｎ２｜、ｎ１は第２屈折率、ｎ２は第１屈折率、ｔ１は複数の回折パターンのうちのいずれか一つの厚さ、λは第１表示素子から出射される光の波長、ｍは０以上の整数、を表す。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置及び有機発光表示装置並びにヘッドマウント表示装置に関し、特に、有効発光面積比を増加させることができる表示装置及び有機発光表示装置並びにヘッドマウント表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置は、マルチメディアの発達に伴ってその重要性が増大しつつある。
これに応えて、液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ：ＬＣＤ）、有機発光表示装置（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｓｐｌａｙ：ＯＬＥＤ）などの様々な種類の表示装置が用いられている。
【０００３】
表示装置の中でも、有機発光表示装置は、電子と正孔との再結合によって光を発生する有機発光素子を用いて画像を表示する。
有機発光表示装置は、応答速度が速く、輝度及び視野角が大きいうえ、低い消費電力で駆動されるという利点がある。
また、ヘッドマウント表示装置は、ユーザーの頭部に装着でき、眼鏡やヘルメットなどの形状を有することができる。
ヘッドマウント表示装置は、ユーザーの目の前方で画像を表示することにより、ユーザーが画像を認識することができるようにする。
【０００４】
しかしながら、従来の表示装置に対し有効発光面積比においては、さらなる改善、向上が必要であるという課題がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は上記従来の有機発光表示装置における問題点に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、有効発光面積比を増加させることができる表示装置及び有機発光表示装置並びにヘッドマウント表示装置を提供することにある。
本発明の他の目的は、ブラーリング（ｂｌｕｒｒｉｎｇ）視認程度を最小化させることができる表示装置及び有機発光表示装置並びにヘッドマウント表示装置を提供することにある。
また、本発明の別の目的は、スクリーンドア効果を改善することができるヘッドマウント表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するためになされた本発明による表示装置は、基板と、前記基板上に配置される第１表示素子と、前記第１表示素子から出射される光路上に配置され、一方向に沿って第１周期を有するように配列される複数の回折パターンと、を有し、前記複数の回折パターンのうちのいずれか一つの断面の幅を第１長さと定義した時、前記第１周期及び前記第１長さは、下記に示す数式１を満足することを特徴とする。
（数１）
０．４≦ｄ１／ＤＰ１≦１  ・・・数式１
（式中、ＤＰ１は第１周期、ｄ１は第１長さ、を表す。）
【０００７】
上記目的を達成するためになされた本発明による有機発光表示装置は、基板と、前記基板上に配置される第１有機発光素子と、前記第１有機発光素子上に配置される封止層と、前記封止層上に配置され、前記第１有機発光素子から出射された光を回折させて基準発光パターン及び第１複製発光パターンを生成する複数の回折パターンと、を有し、前記複数の回折パターンは、一方向に沿って第１周期を有するように配列され、前記基準発光パターンと前記第１複製発光パターンとの距離を回折距離として定義し、前記第１有機発光素子と前記複数の回折パターンとの距離を離隔距離として定義した時、前記回折距離は、下記に示す数式２を満足することを特徴とする。
【数２】
2018189959.tif 000003
（式中、βは回折距離、ｚは離隔距離、ＤＰ１は第１周期、λは第１表示素子から出射される光の波長、ｎＥＮは封止層の屈折率、を表す。）
【０００８】
上記目的を達成するためになされた本発明によるヘッドマウント表示装置は、第１表示素子、及び前記第１表示素子から出射される光路上に配置される複数の回折パターンを有する表示部と、前記表示部から出射される光路上に配置されるレンズ部と、を有し、前記複数の回折パターンは、一方向に沿って第１周期を有するように配列され、前記複数の回折パターンのうちのいずれか一つの断面の幅を第１長さとして定義した時、前記第１周期及び前記第１長さは、下記に示す数式１を満足することを特徴とする。
（数１）
０．４≦ｄ１／ＤＰ１≦１  ・・・数式１
（式中、ＤＰ１は第１周期、ｄ１は第１長さ、を表す。）
【０００９】
また、上記目的を達成するためになされた本発明によるヘッドマウント表示装置は、第１表示素子と、前記第１表示素子と同じ色を表示する第２表示素子と、前記第１及び第２表示素子から出射される光路上に配置され、前記第１表示素子から出射される光を回折させて基準発光パターン及び第１複製発光パターンを生成する複数の回折パターンと、前記複数の回折パターン上に配置される第１屈折率を有する中間層と、を有し、前記複数の回折パターンは、一方向に沿って第１周期を有するように配列され、第２屈折率を有し、前記複数の回折パターンのうちのいずれか一つの断面の幅を第１長さと定義した時、前記第１周期及び前記第１長さは、下記に示す数式１を満足し、前記基準発光パターンと前記第１複製発光パターンとの距離を回折距離として定義し、前記第１表示素子と前記複数の回折パターンとの距離を離隔距離として定義した時、前記回折距離は、下記に示す数式２を満足し、前記第１表示素子と前記第２表示素子との距離を表示素子間の距離として定義した時、前記表示素子間の距離及び前記回折距離は、下記に示す数式３を満足し、前記第１屈折率と、前記第２屈折率と、前記複数の回折パターンのうちのいずれか一つの厚さと、は下記に示す数式４を満足することを特徴とする。
（数１）
０．４≦ｄ１／ＤＰ１≦１  ・・・数式１
（式中、ＤＰ１は第１周期、ｄ１は第１長さ、を表す。）
【数２】
2018189959.tif 000004
（式中、βは回折距離、ｚは離隔距離、ＤＰ１は第１周期、λは第１表示素子から出射される光の波長、ｎＥＮは封止層の屈折率、を表す。）
（数３）
０．１≦β／ＰＰ１≦１．９  ・・・数式３
（式中、ＰＰ１は表示素子間の距離、βは回折距離をそれぞれ示す。）
（数４）
（ｍ＊λ）−６０（ｎｍ）≦Ａ（ｎｍ）≦（ｍ＊λ）＋６０（ｎｍ）
Ａ≠△ｎ・ｔ１（ｎｍ）                                      ・・・数式４
（式中、△ｎ＝｜ｎ１−ｎ２｜、ｎ１は第２屈折率、ｎ２は第１屈折率、ｔ１は複数の回折パターンのうちのいずれか一つの厚さ、λは第１表示素子から出射される光の波長、ｍは０以上の整数、を表す。）
【発明の効果】
【００１０】
本発明に係る表示装置及び有機発光表示装置並びにヘッドマウント表示装置によれば、
表示素子から出射される光路上に配置される回折パターンにより、有効発光面積比を増加させることができる。
それにより、ブラーリング（ｂｌｕｒｒｉｎｇ）視認程度を最小化させることができるという効果がある。
さらに、ヘッドマウント表示装置におけるスクリーンドア効果を改善することができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置の構成を示す概略断面図である。
【図２】図１に示した第１画素部の平面図及びＩ１−Ｉ１’線に沿った断面図である。
【図３】図１に示した封止層及び回折パターン層を示す斜視図である。
【図４】図３に示した封止層及び回折パターン層を示す平面図である。
【図５】図４に示したＩ２−Ｉ２’線に沿った断面図である。
【図６】図５に示した第１仮想線ｃｌ１に沿った断面図である。
【図７】本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置の発光面積の拡大を説明するための図である。
【図８】本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置で有効発光面積比が増加したことを説明するための写真である。
【図９】図４に示したＩ２−Ｉ２’線に沿った断面をより詳細に示す断面図である。
【図１０】（ａ）〜（ｃ）は、有機発光素子の発光色に応じてｄ１／ＤＰ１値による輝度を示すグラフである。
【図１１】（ａ）〜（ｃ）は、図１０の（ａ）〜（ｃ）それぞれを、基準発光パターンの輝度を基準に、第１複製発光パターン及び第５複製発光パターンにおける輝度を正規化させたグラフである。
【図１２】（ａ）は有機発光素子が青色を発光する場合、△ｎ・ｔ１値による輝度（強度）を、（ｂ）は有機発光素子が緑色を発光する場合、△ｎ・ｔ１値による輝度を、（ｃ）は有機発光素子が赤色を発光する場合、△ｎ・ｔ１値による輝度を示すグラフである。
【図１３】（ａ）〜（ｃ）は、図１２の（ａ）〜（ｃ）それぞれを、基準発光パターンの輝度を基準に、第１複製発光パターン及び第５複製発光パターンの輝度を正規化させたグラフである。
【図１４】回折距離を決定する要素を説明するための部分断面図である。
【図１５】本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置の画素配置を示す平面図である。
【図１６】図１に示した回折パターン層の第２の実施形態を示す斜視図である。
【図１７】図１６に示した回折パターン層を示す平面図である。
【図１８】図１７に示したＩ３−Ｉ３’線に沿った断面図である。
【図１９】図１８に示した第２仮想線ｃｌ２に沿った断面図である。
【図２０】図１に示した回折パターン層の第３の実施形態を示す斜視図である。
【図２１】図２０に示した回折パターン層を示す平面図である。
【図２２】図２０に示したＩ４−Ｉ４’線に沿った断面図である。
【図２３】図２２に示した第３仮想線ｃｌ３に沿った断面図である。
【図２４】図１に示した回折パターン層の第４の実施形態を示す斜視図である。
【図２５】図２４に示した回折パターン層を示す平面図である。
【図２６】図２５に示したＩ５−Ｉ５’線に沿った断面図である。
【図２７】図２６に示した第４仮想線ｃｌ４に沿った断面図である。
【図２８】複数の回折パターン層の上部面の面積と下部面の面積とが互いに異なる場合の実施形態を示す図であり、（ａ）は本発明の第５の実施形態に係る回折パターン層を示す断面図であり、（ｂ）は（ａ）の第５仮想線ｃｌ５に沿った断面図である。
【図２９】複数の回折パターン層の上部面の面積と下部面の面積とが互いに異なる場合の実施形態を示す図であり、（ａ）は本発明の第６の実施形態に係る回折パターン層を示す断面図であり、（ｂ）は（ａ）の第６仮想線ｃｌ６に沿った断面図である。
【図３０】複数の回折パターン層の上部面の面積と下部面の面積とが互いに異なる場合の実施形態を示す図であり、（ａ）は本発明の第７の実施形態に係る回折パターン層を示す断面図であり、（ｂ）は（ａ）の第７仮想線ｃｌ７に沿った断面図である。
【図３１】図１に示した封止層及び複数の回折パターンの第８の実施形態を示す斜視図である。
【図３２】図３１に示した複数の回折パターンと一体に形成された封止層を示す平面図である。
【図３３】図３２に示したＩ６−Ｉ６’線に沿った断面図である。
【図３４】図３３に示した第８仮想線ｃｌ８に沿った断面図である。
【図３５】図３１に示した封止層と一つに形成された回折パターン層の他の実施形態（第９の実施形態）を示す略断面図である。
【図３６】図３１に示した封止層と一つに形成された回折パターン層の他の実施形態（第１０の実施形態）を示す略断面図である。
【図３７】図１に示した回折パターン層の第１１の実施形態を示す断面図である。
【図３８】図１に示した回折パターン層の第１２の実施形態を示す断面図である。
【図３９】本発明の第１３の実施形態に係る有機発光表示装置の回折パターン層の形状、周期及び配置形態の実施例、及び該実施例に対応する第２発光パターンの形状及び回折距離を示す図であり、（ａ）は回折パターン層を示す平面図であり、（ｂ）は（ａ）に示したＩＩ１−ＩＩ１’線に沿った断面図であり、（ｃ）は（ｂ）に示した第９仮想線ｃｌ９に沿った断面図である。
【図４０】本発明の第１３の実施形態に係る有機発光表示装置の回折パターン層の回折距離を示す図である。
【図４１】本発明の第１４の実施形態に係る有機発光表示装置の回折パターン層の形状、周期及び配置形態の実施例、及び該実施例に対応する第２発光パターンの形状及び回折距離を示す図であり、（ａ）は回折パターン層を示す平面図であり、（ｂ）は（ａ）に示したＩＩ２−ＩＩ２’線に沿った断面図であり、（ｃ）は（ｂ）に示した第１０仮想線ｃｌ１０に沿った断面図である。
【図４２】本発明の第１４の実施形態に係る有機発光表示装置の回折パターン層の回折距離を示す図である。
【図４３】本発明の第１５の実施形態に係る有機発光表示装置の回折パターン層の形状、周期及び配置形態の実施例、及び該実施例に対応する第２発光パターンの形状及び回折距離を示す図であり、（ａ）は回折パターン層を示す平面図であり、（ｂ）は（ａ）に示したＩＩ３−ＩＩ３’線に沿った断面図であり、（ｃ）は（ｂ）に示した第１１仮想線ｃｌ１１に沿った断面図である。
【図４４】本発明の第１５の実施形態に係る有機発光表示装置の回折パターン層の回折距離を示す図である。
【図４５】本発明の第１６の実施形態に係る有機発光表示装置の回折パターン層の形状、周期及び配置形態の実施例、及び該実施例に対応する第２発光パターンの形状及び回折距離を示す図であり、（ａ）は、回折パターン層の平面図であり、（ｂ）は（ａ）に示したＩＩ４−ＩＩ４’線に沿った断面図であり、（ｃ）は（ｂ）に示した第１２仮想線ｃｌ１２に沿った断面図である。
【図４６】本発明の第１６の実施形態に係る有機発光表示装置の回折パターン層の回折距離を示す図である。
【図４７】本発明の第１７の実施形態に係る有機発光表示装置の画素配置を示す平面図である。
【図４８】本発明の第１８の実施形態に係る有機発光表示装置の画素配置を示す平面図である。
【図４９】本発明の他の実施形態に係る有機発光表示装置の構成を示す概略断面図である。
【図５０】図４９に示した有機発光表示装置における回折距離を決定する要素を説明するための部分断面図である。
【図５１】図１に示した有機発光表示装置を含むヘッドマウント表示装置の斜視図及び表示部及びレンズ部の断面図である。
【図５２】図４９に示した有機発光表示装置を含むヘッドマウント表示装置の斜視図及び表示部及びレンズ部の断面図である。
【図５３】従来技術によるヘッドマウント表示装置におけるスクリーンドア現象を示す写真である。
【図５４】本発明の一実施形態に係るヘッドマウント表示装置におけるスクリーンドア現象が改善されたことを示す写真である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
次に、本発明に係る表示装置及び有機発光表示装置並びにヘッドマウント表示装置を実施するための形態の具体例を図面を参照しながら説明する。
【００１３】
図１は、本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置の構成を示す概略断面図であり、図２は図１に示した第１画素部の平面図及びＩ１−Ｉ１’線に沿った断面図である。
図１及び図２を参照すると、本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置は、第１基板１１０、第１画素電極１２１を含む複数の画素電極１２０、画素定義膜１３０、第１有機発光素子１４１を含む複数の有機発光素子１４０、共通電極１５０、バッファ層１５１、封止層１６０、及び回折パターン層１７０を含む。
以下、第１画素電極１２１及び第１有機発光素子１４１を含む画素部を第１画素部ＰＸ１として表す。
【００１４】
第１基板１１０は、絶縁基板であり得る。
第１基板１１０は、一実施形態として、ガラス、石英、高分子樹脂などの物質を含むことができる。
ここで、高分子物質は、ポリエーテルスルホン（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｓｕｌｐｈｏｎｅ：ＰＥＳ）、ポリアクリレート（ｐｏｌｙａｃｒｙｌａｔｅ：ＰＡ）、ポリアリレート（ｐｏｌｙａｒｙｌａｔｅ：ＰＡＲ）、ポリエーテルイミド（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｉｍｉｄｅ：ＰＥＩ）、ポリエチレンナフタレート（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｎａｐｔｈａｌａｔｅ：ＰＥＮ）、ポリエチレンテレフタルレート（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｔｅｒｅｐｔｈａｌａｔｅ：ＰＥＴ）、ポリフェニレンスルファイド（ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｅｎｅｓｕｌｆｉｄｅ：ＰＰＳ）、ポリアリレート（ｐｏｌｙａｌｌｙｌａｔｅ）、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ：ＰＩ）、ポリカーボネート（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ：ＰＣ）、セルローストリアセテート（ｃｅｌｌｕｌｏｓｅｔｒｉａｃｅｔａｔｅ：ＣＡＴ）、セルロースアセテートプロピオネート（ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ  ａｃｅｔａｔｅ  ｐｒｏｐｉｏｎａｔｅ：ＣＡＰ）、またはこれらの組み合わせであり得る。
第１基板１１０は、他の実施形態として、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ：ＰＩ）を含むフレキシブル（ｆｌｅｘｉｂｌｅ）基板であり得る。
【００１５】
複数の画素電極１２０は、第１基板１１０上に配置される。
図に示してはいないが、第１基板１１０と複数の画素電極１２０との間には複数の構成がさらに配置できる。
上記複数の構成は、一実施形態として、バッファ層、複数の導電性配線、絶縁層、及び複数の薄膜トランジスタなどを含むことができる。
ここで、複数の薄膜トランジスタは、アモルファスシリコン、ポリシリコン、低温ポリシリコン（Ｌｏｗ  Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ  Ｐｏｌｙ  Ｓｉｌｉｃｏｎ：ＬＴＰＳ）、酸化物半導体、有機半導体などをチャネル層として使用する。
複数の薄膜トランジスタそれぞれのチャネル層の種類は互いに異なってもよい。
一実施形態として、薄膜トランジスタの役割又は工程順序を考慮して、酸化物半導体を含む薄膜トランジスタ及び低温ポリシリコンを含む薄膜トランジスタが一つの画素部に全て含まれることも可能である。
【００１６】
複数の画素電極１２０については、第１画素電極１２１を基準に説明する。
第１画素電極１２１は、一実施形態として、アノード（ａｎｏｄｅ）電極であり得る。
第１画素電極１２１がアノード電極である場合、第１画素電極１２１は反射性材料を含むことができる。
反射性材料は、一実施形態として、銀（Ａｇ）、マグネシウム（Ｍｇ）、クロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、タングステン（Ｗ）、及びアルミニウム（Ａｌ）よりなる群から選択された一つ以上の反射膜と、該反射膜上に形成された透明又は半透明電極を含むことができる。
ここで、透明又は半透明電極は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、ＺｎＯ（Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、Ｉｎ２Ｏ３（Ｉｎｄｉｕｍ（III）  Ｏｘｉｄｅ）、ＩＧＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｇａｌｌｉｕｍ  Ｏｘｉｄｅ）及びＡＺＯ（Ａｌｕｍｉｎｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）よりなる群から選択された一つ以上を含んで構成できる。
【００１７】
画素定義膜１３０は、第１画素電極１２１上に配置される。
画素定義膜１３０は、第１画素電極１２１の少なくとも一部を露出させる開口部ＯＰ１を含む。
画素定義膜１３０は、有機物質又は無機物質を含むことができる。
一実施形態として、画素定義膜１３０は、フォトレジスト、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、シリコン化合物、ポリアクリル系樹脂などの材料を含むことができる。
第１画素電極１２１の形状は、一実施形態として、菱形であり得る。
また、画素定義膜１３０の開口部ＯＰ１の形状は、一実施形態として、菱形であり得る。
但し、第１画素電極１２１の形状及び画素定義膜１３０の開口部ＯＰ１の形状は、図２に示したものに限定されない。すなわち、第１画素電極１２１の形状及び画素定義膜１３０の開口部ＯＰ１の形状は、複数の画素部の配置形態などによって異なり得る。
【００１８】
複数の有機発光素子１４０は、複数の画素電極１２０及び画素定義膜１３０上に配置される。
複数の有機発光素子１４０については、第１有機発光素子１４１を基準に説明する。
第１有機発光素子１４１は、第１画素電極１２１のうち、画素定義膜１３０の開口部ＯＰ１を介して露出する領域上に配置される。
すなわち、第１有機発光素子１４１は、画素定義膜１３０の開口部ＯＰ１と重畳される。
第１有機発光素子１４１は、一実施形態として、画素定義膜１３０の開口部ＯＰ１の少なくとも一部を覆うことができる。
【００１９】
第１有機発光素子１４１は、一実施形態として、赤色（ｒｅｄ）光、緑色（ｇｒｅｅｎ）光、及び青色（ｂｌｕｅ）光のうちのいずれかを発光することができる。
赤色光の波長は、約６２０ｎｍ〜７５０ｎｍ、緑色光の波長は約４９５ｎｍ〜５７０ｎｍであり得る。また、青色光の波長は約４５０ｎｍ〜４９５ｎｍであり得る。
他の実施形態として、第１の有機発光素子１４１は、白色（ｗｈｉｔｅ）を発光することができる。
第１有機発光素子１４１が白色を発光する場合、第１有機発光素子１４１は、一実施形態として、赤色発光層、緑色発光層、及び青色発光層が積層された形態を持つことができる。
また、赤色、緑色及び青色を表示するための別途のカラーフィルター（Ｃｏｌｏｒ  Ｆｉｌｔｅｒ）をさらに含むことができる。
図に示してはいないが、第１有機発光素子１４１は、正孔注入層ＨＩＬ、正孔輸送層ＨＴＬ、電子輸送層ＥＴＬ、及び電子注入層ＥＩＬなどを含む多層構造であってもよい。
【００２０】
共通電極１５０は、第１有機発光素子１４１及び画素定義膜１３０上に配置される。
共通電極１５０は、一実施形態として、第１有機発光素子１４１及び画素定義膜１３０上に全面的に形成される。
共通電極１５０は、一実施形態として、カソード（ｃａｔｈｏｄｅ）電極であり得る。
共通電極１５０は、一実施形態として、Ｌｉ、Ｃａ、Ｌｉｆ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、及びＭｇよりなる群から選択された少なくとも一つを含むことができる。
また、共通電極１５０は、仕事関数の低い金属薄膜からなってもよい。
共通電極１５０は、一実施形態として、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、ＺｎＯ（Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、Ｉｎ２Ｏ３（Ｉｎｄｉｕｍ（ＩＩＩ）  Ｏｘｉｄｅ）、ＩＧＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｇａｌｌｉｕｍ  Ｏｘｉｄｅ）及びＡＺＯ（Ａｌｕｍｉｎｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）よりなる群から選択された一つ以上を含む透明又は半透明電極であり得る。
【００２１】
バッファ層（ｂｕｆｆｅｒ  ｌａｙｅｒ）１５１は、共通電極１５０上に配置される。
バッファ層１５１の材料は特に限定されない。
一実施形態として、バッファ層１５１は、無機物質又は有機物質を含むことができる。
又は、バッファ層１５１は、有機層及び無機層のうちの少なくとも１つが単層又は積層構造で積層された形態であってもよい。
他の実施形態として、バッファ層１５１は空気層であってもよい。
ここで、バッファ層１５１が空気層である場合は、共通電極１５０と封止層１６０との間に特別な構成が配置されないことを意味する。
一方、図に示してはいないが、共通電極１５０上にはキャッピング層が配置してもよい。
キャッピング層は、共通電極１５０に入射した光が全反射によって失われることを防止する。キャッピング層は、一実施形態として、有機膜又は無機膜で形成され得る。
【００２２】
封止層１６０は、複数の有機発光素子１４０を覆うように第１基板１１０上に配置される。
すなわち、複数の有機発光素子１４０は、第１基板１１０と封止層１６０との間に配置される。
封止層１６０は、複数の有機発光素子１４０を外部の酸素及び水分から遮断させることができる。
封止層１６０は、一実施形態として、透明絶縁基板であり得る。
封止層１６０は、ガラス基板、石英基板、透明樹脂基板などであってもよい。
封止層１６０と第１基板１１０との間には、封止層１６０及び第１基板１１０の合着のために、シーリング（ｓｅａｌｉｎｇ）部材が形成され得る。
以下、封止層１６０が透明絶縁基板である場合を例に挙げて説明する。
【００２３】
回折パターン層１７０は、封止層１６０上に配置される。
より詳しくは、複数の有機発光素子１４０から出射される光路上に配置される。
回折パターン層１７０が複数の有機発光素子１４０から出射される光路上に配置される場合であれば、回折パターン層１７０の位置は限定されない。
例えば、回折パターン層１７０は、図１を基準に封止層１６０の上部又は下部に配置され得る。
本明細書では、回折パターン層１７０が封止層１６０の上部に配置されることを例に挙げて説明する。
複数の回折パターン１７１は、複数の有機発光素子１４０から出射される光を回折させて発光面積を拡大させることができる。
これについては図７を参照して後述する。
複数の回折パターン１７１は、周期性を有するパターンであり得る。
複数の回折パターン１７１は、一実施形態として、いずれも同じ形状を有することができる。
以下、複数の回折パターン１７１の周期性及び形状について、図３〜図５を参照してより詳細に説明する。
【００２４】
図３は、図１に示した封止層及び回折パターン層を示す斜視図であり、図４は図３に示した封止層及び回折パターン層を示す平面図であり、図５は図４に示したＩ２−Ｉ２’線に沿った断面図である。
図３〜図５を参照すると、回折パターン層１７０は、封止層１６０上に配置される複数の回折パターン１７１を含む。
【００２５】
回折パターン層１７０は、複数の回折パターン１７１を含む。
複数の回折パターン１７１は、一実施形態として、封止層１６０から図５を基準に上部方向に突出される。
ここで、上部方向は、複数の有機発光素子１４０（図１参照）から出射される光路の方向である。
複数の回折パターン１７１の形状は、一実施形態として、円柱状であり得る。
すなわち、複数の回折パターン１７１の上部面と下部面の形状が円形であってもよい。
ここで、円形は、平面視で実質的に円形に近い形状を含むという概念である。
たとえば、円形は、楕円形又は実質的に円形に近い多角形も含むことができる。
【００２６】
複数の回折パターン１７１は、第１厚さｔ１を有する。
第１厚さｔ１は、図５を基準に、複数の回折パターン１７１の下部面から上部面までの距離を意味する。
複数の回折パターン１７１は、第１周期ＤＰ１を有するように配置される。
また、複数の回折パターン１７１は、第１長さｄ１を有する。
第１周期ＤＰ１及び第１長さｄ１の定義について、図５及び図６を参照して、第１回折パターン１７１ａ及び第２回折パターン１７１ｂを基準に説明する。
【００２７】
図６は図５に示した第１仮想線ｃｌ１に沿った断面図である。
より詳細には、図６は図５に示した第１仮想線ｃｌ１に沿った断面領域ｃｓ１を示すものである。
ここで、第１仮想線ｃｌ１は、複数の回折パターン１７１の第１厚さｔ１の半分の地点を通る線を意味する。
符号１７１ａ１は、第１仮想線ｃｌ１に沿った第１回折パターン１７１ａの断面を示し、符号１７１ｂ１は、第１仮想線ｃｌ１に沿った第２回折パターン１７１ｂの断面を示す。
【００２８】
図６を参照すると、第１周期ＤＰ１は、第２回折パターン１７１ｂの断面の一側に隣接する第１回折パターン１７１ａの断面の一側から、第２回折パターン１７１ｂの断面の一側に対向する他側までの距離と定義される。
また、第２回折パターン１７１ｂを例に挙げると、第１長さｄ１は、第２回折パターン１７１ｂの断面の幅を意味する。
すなわち、複数の回折パターン１７１の第１周期ＤＰ１及び第１長さｄ１は、複数の回折パターン１７１を第１仮想線ｃｌ１に沿って切った断面を基準に定義される。
【００２９】
再び図３及び図４を参照すると、複数の回折パターン１７１のうち、第１方向Ｘに沿って配置される回折パターン間の周期と、第２方向Ｙに沿って配置される回折パターン間の周期とは、一実施形態として、いずれも第１周期ＤＰ１である。
また、第１方向Ｘに沿って配置される回折パターンの数と、第２方向Ｙに沿って配置される回折パターンの数とは、一実施形態として、互いに同一である。
ここで、第１方向Ｘは、図３及び図４を基準に行方向と定義される。
第２方向Ｙは、図３及び図４を基準に第１方向Ｘと直交する列方向と定義される。
【００３０】
複数の回折パターン１７１の第１周期ＤＰ１、第１長さｄ１、及び第１厚さｔ１のうちの少なくとも一つが変更される場合、複数の有機発光素子１４０から出射される光の第１回折角θ１（図７参照）、回折パターン層１７０を通過した光の第２回折角θ２（図７参照）、回折距離β（図７参照）及び輝度などが変更される。
これについては後述する。
【００３１】
図７は、本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置の発光面積の拡大を説明するための図である。
図１及び図７を参照して、第１有機発光素子１４１から出射された光Ｌ１の回折により発光面積が拡大されることを、第１画素部ＰＸ１を基準に説明する。
説明の便宜のために、図７では図１に示した一部の構成を省略する。
【００３２】
第１有機発光素子１４１から出射された光Ｌ１により第１領域ＴＡ１に生成された発光パターンを第１発光パターンＥＰ１として定義する。
また、回折パターン層１７０を通過した光（Ｌ２ａ、Ｌ２ｂ、Ｌ２ｃ）により第２領域ＴＡ２に生成された発光パターンを第２発光パターンＥＰ２として定義する。
ここで、回折パターン層１７０を通過した光（Ｌ２ａ、Ｌ２ｂ、Ｌ２ｃ）を回折光と呼ぶ。
第１有機発光素子１４１から出射された光Ｌ１は、封止層１６０を通過して回折パターン層１７０に提供される。
第１有機発光素子１４１から出射された光Ｌ１は、封止層１６０及びバッファ層１５１の屈折率により所定の角度で光路が変更される。
但し、封止層１６０及びバッファ層１５１の屈折率により光路が変更される内容は、後述する回折距離βとの関係で説明する。
【００３３】
回折パターン層１７０は、第１有機発光素子１４１から出射された光Ｌ１を回折させ、第１〜第３回折光（Ｌ２ａ、Ｌ２ｂ、Ｌ２ｃ）を生成する。
第１〜第３回折光（Ｌ２ａ、Ｌ２ｂ、Ｌ２ｃ）は、それぞれ０次（ｏｒｄｅｒ）及び１次回折光を含む。
ここで、０次回折光は、回折パターン層１７０によって回折される前と後の光路が同じである光を意味する。
また、１次回折光は、光路が回折パターン層１７０によって変更されるが、０次回折光を基準として第２回折角θ２を有する光を意味する。
【００３４】
図７を基準に例えば、符号Ｌ２ｂ１、Ｌ２ａ１及びＬ２ｃ１は、０次回折光である。
また、符号Ｌ２ｂ２、Ｌ２ｂ３、Ｌ２ａ２、Ｌ２ａ３、Ｌ２ｃ２、及びＬ２ｃ３は、１次回折光である。
他の実施例として、第１〜第３回折光（Ｌ２ａ、Ｌ２ｂ、Ｌ２ｃ）は、２次以上の回折光をさらに含むこともできる。
本明細書では、第１〜第３回折光（Ｌ２ａ、Ｌ２ｂ、Ｌ２ｃ）が０次回折光及び１次回折光を含むものと例を挙げて説明する。
【００３５】
第１〜第３回折光（Ｌ２ａ、Ｌ２ｂ、Ｌ２ｃ）は、それぞれ、第１基板１１０に対して垂直方向の光路を有する第１〜第３有効光（Ｌ２ａ１、Ｌ２ｂ３、Ｌ２ｃ２）を含み得る。
ここで、垂直方向は、第１基板１１０を基準に完全に垂直である場合のみならず、実質的に垂直に近い方向も含むことができる。
一方、有効光は、第１基板１１０に対して垂直方向の光路を有する場合であれば、回折光の次数は限定されない。
すなわち、有効光は、垂直方向の光路を有する場合であれば、０次回折光及び１次回折光を両方とも含むこともできる。
【００３６】
回折パターン層１７０は、第１有機発光素子１４１から出射された光Ｌ１を回折させることにより、第１〜第３有効光（Ｌ２ａ１、Ｌ２ｂ３、Ｌ２ｃ２）を生成する。
これにより、第２発光パターンＥＰ２は、基準発光パターンＰｒｅｆ、及び基準発光パターンＰｒｅｆから複製された複数の複製発光パターン（Ｐ１〜Ｐ８）を含むことができる。
但し、基準発光パターンＰｒｅｆの輝度と第１複製発光パターンＰ１の輝度とは互いに異なり得る。
以下、複数の複製発光パターン（Ｐ１〜Ｐ８）については、第１複製発光パターンＰ１を基準に説明する。
【００３７】
一方、第１領域ＴＡ１と第２領域ＴＡ２は面積が同一である。
これに対し、第２領域ＴＡ２に含まれる発光パターンの数は、第１領域ＴＡ１に含まれる発光パターンの数よりも多い。
これは、第２領域ＴＡ２の発光領域の面積が第１領域ＴＡ１の面積よりも広いことを意味する。
すなわち、第２領域ＴＡ２は、第１領域ＴＡ１と比較して、発光しない領域（すなわち、非発光領域）の面積が少ないものとも表現できる。
【００３８】
また、発光領域の面積が広いものは、有効発光面積比が大きいものと表現することができる。
有効発光面積比は、一領域の面積に対して、一領域内に存在する発光パターンの面積の比と定義される。
ここで、有効発光面積比を計算するための発光パターンは、基準発光パターン及び複製発光パターを両方とも含むことができる。
例を挙げて説明すると、第２領域ＴＡ２は、基準発光パターンＰｒｅｆ及び複数の複製発光パターン（Ｐ１〜Ｐ８）、の９つの発光パターンが存在するのに対し、第１領域ＴＡ１は、一つの発光パターンが存在する。
【００３９】
これにより、第２領域ＴＡ２の有効発光面積比は、第１領域ＴＡ１の有効発光面積比よりも大きい。
但し、有効発光面積比を算出するための複製発光パターンは、基準発光パターンの輝度の約３％以上の輝度を有する複製発光パターンと定義できる。
例を挙げて説明すると、複数の複製発光パターン（Ｐ１〜Ｐ８）が基準発光パターンＰｒｅｆの輝度の約３％以上の輝度を有する場合、有効発光面積比を算出する要素として使用できる。
一方、複製発光パターンが基準発光パターンの輝度の約３％以上の輝度を有する場合であれば、複製発光パターンの輝度が基準発光パターンの輝度よりも高いこともある。
【００４０】
図８は、本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置で有効発光面積比が増加したことを説明するための写真である。
ここで、図８の（ａ）は、回折パターン層１７０を通過する前の発光パターンが配置された領域を示すものであり、図８の（ｂ）は回折パターン層１７０を通過した後の発光パターンが配置された領域を示すものである。
ＴＡ１’は、第１領域ＴＡ１（図７参照）の例示を示すものである。また、図８の（ｂ）に示したＴＡ２’は第２領域ＴＡ２（図７参照）の例示を示すものである。
以下、互いに同じ面積を持つＴＡ１’及びＴＡ２’を例に挙げて説明する。
【００４１】
図８を参照すると、第１領域ＴＡ１’に比べて、第２領域ＴＡ２’の場合は同じ面積で発光領域が増加したことが分かる。
これは有効発光面積比が増加したことを意味する。
すなわち、本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置は、複数の有機発光素子１４０から出射された光Ｌ１を回折させることにより、有効発光面積比を増加させることができる。
また、本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置は、有効発光面積比が増加するにつれて、複数の有機発光素子１４０から出射された光Ｌ１の発光効率を向上させることができる。
【００４２】
以下、図９〜図１１を参照して、複数の複製発光パターン（Ｐ１〜Ｐ８）のうちの少なくとも一つの輝度が基準発光パターンＰｒｅｆの輝度の約３％以上を満足するための要素についてまず説明する。
図９は、図４に示したＩ２−Ｉ２’線に沿った断面をより詳細に示す断面図であり、図１０は、発光領域を満足するための輝度を説明するために、図７に示した基準発光パターン、第１複製発光パターン、及び第５複製発光パターンにおける輝度を表示色ごとに示すグラフであり、図１１は、図７に示した基準発光パターンを基準に第１複製発光パターン及び第５複製発光パターンにおける輝度を正規化させたグラフである。
但し、図９では空気層ＡＬが回折パターン層１７０上に配置されることを例として挙げて説明する。
【００４３】
基準発光パターンＰｒｅｆ及び複数の複製発光パターン（Ｐ１〜Ｐ８）の輝度は、第１周期ＤＰ１、第１長さｄ１、第１厚さｔ１、並びに複数の回折パターン１７１の屈折率ｎ１、及び空気層ＡＬの屈折率ｎ２に影響を受ける。
ここで、第１周期ＤＰ１と第１長さｄ１との関係が下記に示す数式１を満足し、第１厚さｔ１と複数の回折パターン１７１の屈折率ｎ１と空気層ＡＬの屈折率ｎ２との関係が下記に示す数式２を満足する場合、複数の複製発光パターン（Ｐ１〜Ｐ８）のうちの少なくとも一つの発光パターンの輝度が基準発光パターンＰｒｅｆの輝度の約３％以上であり得る。
【００４４】
一方、複数の複製発光パターン（Ｐ１〜Ｐ８）のうち、基準発光パターンＰｒｅｆと同じ行又は同じ列に配置される第１〜第４複製発光パターン（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４）は、一実施形態として、互いに輝度が同じであり得る。
また、複数の複製発光パターン（Ｐ１〜Ｐ８）のうち、基準発光パターンＰｒｅｆに対して対角線方向に配置される第５〜第８複製発光パターン（Ｐ５、Ｐ６、Ｐ７、Ｐ８）は、一実施形態として、互いに輝度が同じであり得る。
但し、第１〜第４複製発光パターン（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４）及び第５〜第８複製発光パターン（Ｐ５、Ｐ６、Ｐ７、Ｐ８）は、他の実施形態として、互いに輝度が異なり得る。
以下、基準発光パターンＰｒｅｆ、第１複製発光パターンＰ１、及び第５複製発光パターンＰ５を基準に説明する。
【００４５】
まず、第１周期ＤＰ１と第１長さｄ１との関係について説明する。
図５及び図６で前述した第１周期ＤＰ１及び第１長さｄ１は、下記に示す数式１を満足しなければならない。
（数１）
０．４≦ｄ１／ＤＰ１≦１  ・・・数式１
【００４６】
上記の数式１について、図７、図１０及び図１１を参照してより詳細に説明する。
図１０の（ａ）は有機発光素子が青色を発光する場合、ｄ１／ＤＰ１値による輝度を示すグラフであり、図１０の（ｂ）は有機発光素子が緑色を発光する場合、ｄ１／ＤＰ１値による輝度を示すグラフであり、図１０の（ｃ）は有機発光素子が赤色を発光する場合、ｄ１／ＤＰ１値による輝度を示すグラフである。
図１１の（ａ）〜（ｃ）は、図１０の（ａ）〜（ｃ）それぞれを、基準発光パターンＰｒｅｆの輝度を基準に、第１複製発光パターンＰ１及び第５複製発光パターンＰ５の輝度を正規化させたグラフである。
図１０及び図１１の強度（ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ）は、輝度の強度を意味する。
【００４７】
図１０の（ａ）〜（ｃ）を参照すると、ｄ１／ＤＰ１値が増加するとき、基準発光パターンＰｒｅｆの輝度が概ね減少するのに対し、第１複製発光パターンＰ１及び第５複製発光パターンＰ５の輝度は概ね増加することが分かる。
基準発光パターンＰｒｅｆを基準に輝度を正規化させた図１１の（ａ）〜（ｃ）を参照すると、ｄ１／ＤＰ１値が約０．４以上であるとき、第１複製発光パターンＰ１の輝度は基準発光パターンＰｒｅｆの輝度の約３％以上であることが分かる。
ｄ１／ＤＰ１値が約０．７〜０．９である場合、第１複製発光パターンＰ１の輝度は基準発光パターンＰｒｅｆの輝度よりも高いことがある。
ｄ１／ＤＰ１値が１である場合は、最終的に、第１周期ＤＰ１及び第１長さｄ１が同一であることを意味する。
但し、本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置は、複数の回折パターン１７１の断面の形状が円形であるので、第１周期ＤＰ１及び第１長さｄ１が互いに同一であっても、複数の回折パターン１７１の断面は、隣接する回折パターンの断面と接しない領域を有する。
よって、ｄ１／ＤＰ１値は１を含むことができる。
【００４８】
次に、複数の回折パターン１７１の第１厚さｔ１、複数の回折パターン１７１の屈折率ｎ１、及び空気層ＡＬの屈折率ｎ２は、下記に示す数式４を満足しなければならない。
前述したように、図７では複数の回折パターン１７１上に空気層ＡＬが配置されるものを例として示したが、複数の回折パターン１７１上に空気層ＡＬの代わりに中間層（例えば、保護層１９１（図４７参照）が配置されることもある。
複数の回折パターン１７１上に空気層ＡＬの代わりに他の構成（前記中間層）が配置される場合、下記に示すｎ２は前記他の構成の屈折率で置換できる。
（数４）
（ｍ＊λ）−６０（ｎｍ）≦Ａ≦（ｍ＊λ）＋６０（ｎｍ）
Ａ≠△ｎ・ｔ１                                      ・・・数式４
（△ｎ・ｔ１及びＡの単位：ｎｍ、△ｎ＝｜ｎ１−ｎ２｜、ｍは０以上の整数）
【００４９】
上記数式４について、図７、図９、図１２、及び図１３を参照してより詳細に説明する。
図１２の（ａ）は、有機発光素子が青色を発光する場合、△ｎ・ｔ１値による輝度（強度）を示すグラフであり、図１２の（ｂ）は、有機発光素子が緑色を発光する場合、△ｎ・ｔ１値による輝度を示すグラフであり、図１２の（ｃ）は、有機発光素子が赤色を発光する場合、△ｎ・ｔ１値による輝度を示すグラフであり、図１３の（ａ）〜（ｃ）は、図１２の（ａ）〜（ｃ）それぞれを、基準発光パターンＰｒｅｆの輝度を基準に、第１複製発光パターンＰ１及び第５複製発光パターンＰ５の輝度を正規化させたグラフである。
【００５０】
図１２の（ａ）〜（ｃ）を参照すると、基準発光パターンＰｒｅｆは、△ｎ・ｔ１値が大きくなるにつれて輝度の増減が繰り返される。
基準発光パターンＰｒｅｆの△ｎ・ｔ１値による輝度は、グラフ上、概ね正弦形状を有する。
基準発光パターンＰｒｅｆを基準に輝度を正規化させた図１３の（ａ）〜（ｃ）を参照すると、△ｎ・ｔ１値が大きくなるにつれて、第１複製発光パターンＰ１及び第５複製発光パターンＰ５それぞれの輝度の増減が繰り返される。
すなわち、第１複製発光パターンＰ１及び第５複製発光パターンＰ５それぞれの△ｎ・ｔ１値による輝度は、グラフ上、概ね正弦形状を有する。
【００５１】
以下、図１３の（ｃ）を基準に説明する。
図１３の（ｃ）に示している「ｍ１」〜「ｍ３」区間は、第１複製発光パターンＰ１及び第５複製発光パターンＰ５の両方ともの輝度が基準発光パターンＰｒｅｆの輝度の約３％未満を示す領域である。
すなわち、「ｍ１」〜「ｍ３」区間は、数式４のＡの範囲に含まれる。
よって、△ｎ・ｔ１値の範囲は、数式４のＡの範囲を除いた残りの範囲に該当する。
例えば、図１３の（ｃ）の「ｍ２」区間は、ｍ＝１のときのＡ値の範囲を示す区間である。
【００５２】
一方、図１３の（ｃ）におけるλは、６２０ｎｍなので、上記の値を数式４に反映すると、次のとおり表現できる。
（１＊６２０ｎｍ）−６０（ｎｍ）≦Ａ≦（１＊６２０ｎｍ）＋６０（ｎｍ）
⇒５６０ｎｍ≦Ａ≦６８０ｎｍ
【００５３】
図１３の（ｃ）を参照すると、Ａの範囲（５６０ｎｍ≦Ａ≦６８０ｎｍ）で、第１複製発光パターンＰ１及び第５複製発光パターンＰ５の両方ともの輝度が基準発光パターンＰｒｅｆの輝度の約３％未満であることが分かる。
これにより、△ｎ・ｔ１値が数式４のＡの範囲を除いた残りの範囲に該当する場合、第１複製発光パターンＰ１及び第５複製発光パターンＰ５のうちの少なくとも一つは、基準発光パターンＰｒｅｆの輝度の約３％以上を満足することができる。
すなわち、本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置は、第１周期ＤＰ１と第１長さｄ１との関係が数式１を満足することができ、第１厚さｔ１と複数の回折パターン１７１の屈折率ｎ１と空気層ＡＬの屈折率ｎ２との関係が数式４を満足することができる。
これにより、複数の複製発光パターン（Ｐ１〜Ｐ８）のうちの少なくとも一つの発光パターンの輝度が基準発光パターンＰｒｅｆの輝度の約３％以上であり得る。
【００５４】
但し、第１周期ＤＰ１と第１長さｄ１との関係が数式１を満足する場合であれば、第１周期ＤＰ１及び第１長さｄ１の範囲は特に限定されない。
一実施形態として、第１周期ＤＰ１は約３．５μｍ以上２０μｍ以下であり得る。
この場合、第１長さｄ１は約１．４μｍ以上２０μｍ以下であり得る。
また、第１厚さｔ１と、複数の回折パターン１７１の屈折率ｎ１と、空気層ＡＬの屈折率ｎ２との関係が数式４を満足する場合であれば、△ｎ及びｔ１の値は特に限定されない。
一実施形態として、△ｎは約０．４７であり得る。また、第１厚さｔ１は約５００ｎｍ以上乃至６５０ｎｍ以下であり得る。
【００５５】
一方、図１１を参照すると、ｄ１／ＤＰ１値が０．４５以上１以下である場合、第１複製発光パターンＰ１及び第５複製発光パターンＰ５の両方ともが基準発光パターンＰｒｅｆの輝度の約３％以上であり得る。
すなわち、ｄ１／ＤＰ１値が０．４５以上１以下の範囲を満足し、△ｎ・ｔ１値が数式４のＡの範囲と異なる場合であれば、第１複製発光パターンＰ１及び第５複製発光パターンＰ５の両方ともが基準発光パターンＰｒｅｆの輝度の約３％以上であり得る。
これは、複数の複製発光パターン（Ｐ１〜Ｐ８）のいずれも基準発光パターンＰｒｅｆの輝度の約３％以上であり得ることを意味する。
【００５６】
以下、有効発光面積比と回折距離βとの関係について説明する。
下記に示す表１を参照すると、有効発光面積比は、回折距離βが大きいほど概ね増加することが分かる。
ここで、回折距離βは、基準発光パターンＰｒｅｆと複数の複製発光パターン（Ｐ１〜Ｐ８）（図７参照）のいずれか一つとの最短距離と定義される。
例えば、回折距離βは、基準発光パターンＰｒｅｆから第１複製発光パターンＰ１までの距離と定義できる。
【表１】
2018189959.tif 000005
すなわち、有効発光面積比は回折距離βに影響を受ける。
以下、回折距離βに影響を与える要素について説明する。
【００５７】
図１４を参照して、回折距離βを決定する要素について説明する。
図１４は回折距離を決定する要素を説明するための部分断面図である。
図１４を参照すると、回折距離βは、一実施形態として、第１有機発光素子１４１の発光色や、回折パターン層１７０と複数の有機発光素子１４０との間の距離Ｚ、回折パターン層１７０と複数の有機発光素子１４０との間に配置される構成の屈折率、すなわち封止層１６０の屈折率ｎＥＮ、及びバッファ層１５１の屈折率ｎ１５１、複数の回折パターン１７１の第１周期ＤＰ１、第１回折角θ１及び第２回折角θ２などによって決定され得る。
もし、前述したようにバッファ層１５１が空気層である場合であれば、バッファ層１５１の屈折率ｎ１５１は空気層の屈折率（約１）で表される。
【００５８】
より詳細に説明すると、回折距離βは、下記に示す数式５で表される。
【数５】
2018189959.tif 000006
式中、第１有機発光素子１４１と回折パターン層１７０との離隔距離ｚはｚ１及びｚ２の和と定義される。
ｚ１は第１有機発光素子１４１と封止層１６０との最短距離を意味し、ｚ２は封止層１６０と回折パターン層１７０との最短距離を意味する。
すなわち、ｚ２は封止層１６０の厚さとも定義できる。
前述したように、θ１及びθ２はそれぞれ第１回折角及び第２回折角を意味する。
【００５９】
第１回折角θ１は、下記に示す数式６で表される。
【数６】
2018189959.tif 000007
式中、λは第１有機発光素子１４１の発光色の波長を意味する。
【００６０】
また、第２回折角θ２は、下記に示す数式７で表される。
【数７】
2018189959.tif 000008
すなわち、第１回折角θ１は、第１周期ＤＰ１及びバッファ層１５１の屈折率ｎ１５１によって決定される。
また、第２回折角θ２は、第１周期ＤＰ１及び封止層１６０の屈折率ｎＥＮによって決定される。
【００６１】
前記数式５に数式６及び数式７を代入すると、回折距離βは下記に示す数式８で表される。
【数８】
2018189959.tif 000009
【００６２】
一実施形態として、バッファ層１５１の代わりに、封止層１６０と第１有機発光素子１４１との間に他の構成が存在する場合であれば、数式８のｎ１５１は、前記他の構成の屈折率で置換できる。
他の実施形態として、バッファ層１５１が省略され、封止層１６０と第１有機発光素子１４１との間に空気層が存在する場合であれば、数式８のｎ１５１は空気層の屈折率（約１）で置換できる。
【００６３】
別の実施形態として、バッファ層１５１の厚さが無視できるほどに小さい場合であれば、結局、第１有機発光素子１４１と回折パターン層１７０との最短距離Ｚは、封止層１６０の厚さと定義できる。
この場合、回折距離β’は、下記に示す数式９でも表される。
【数９】
2018189959.tif 000010
【００６４】
本発明の一実施形態に係る有機発光表示は、第１有機発光素子１４１の発光色や、回折パターン層１７０と複数の有機発光素子１４０との距離Ｚ、封止層１６０の屈折率ｎＥＮ、複数の回折パターン１７１の第１周期ＤＰ１、第１回折角θ１及び第２回折角θ２などを調節することにより、回折距離βを制御することができる。
前述したように、有効発光面積比は、回折距離βが長くなるときに概ね増加し得る。
但し、回折距離βが長くなる場合、ブラーリング（ｂｌｕｒｒｉｎｇ）が発生するおそれがある。
ブラーリングは、隣接する画素との表示色が重なることにより発生しうる画像滲み現象をいう。
したがって、有効発光面積比の増加とブラーリングに対するバランスのために、適切な回折距離βを算出することが要求される。
【００６５】
一方、有効発光面積比及びブラーリングそれぞれは、画素間の距離からも影響を受ける。
例えば、画素配置が互いに異なる２つの有機発光表示装置が同じ回折距離βを有する場合でも、画素配置が異なるため、隣接する画素間の距離が互いに異なり得る。
これにより、２つの有機発光表示装置は、有効発光面積比及びブラーリング発生程度が互いに異なることがある。
すなわち、有効発光面積比及びブラーリングのバランスのために、回折距離βだけでなく、隣接する画素間の距離も考慮に入れる必要がある。
【００６６】
図１５を参照して、画素間の距離についてまず定義する。
図１５は、本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置の画素配置を示す平面図である。
ここで、図１５では画素配置構造を説明するために第１画素部ＰＸ１を示したが、図１に示した第１画素部ＰＸ１と、図１５に示した第１画素部ＰＸ１とが同じ構成を示すものではない。
図１５を参照して、第１画素部ＰＸ１〜第４画素部ＰＸ４の配置関係について説明する。
【００６７】
第１画素部ＰＸ１は、第３画素部ＰＸ３と第１方向Ｘに沿って隣り合うように配置される。
第２画素部ＰＸ２は、第４画素部ＰＸ４と第１方向Ｘに沿って隣り合うように配置される。
第１画素部ＰＸ１は、第２画素部ＰＸ２と第１方向Ｘ及び第２方向Ｙを基準に対角線方向に沿って隣り合うように配置される。
第３画素部ＰＸ３は、第４画素部ＰＸ４と第２方向Ｙに沿って隣り合うように配置される。
すなわち、第１画素部ＰＸ１〜第４画素部ＰＸ４は、一実施形態として、平行四辺形の形状に配置される。
本明細書において「第１構成と第２構成とが隣り合う」と表現する場合、第１構成と第２構成との間に、第１構成及び第２構成と同じ構成が配置されないことを意味する。
第１画素部ＰＸ１〜第４画素部ＰＸ４は、一実施形態として、いずれも菱形として示したが、画素部の形状及び大きさなどは図１３に示したものに限定されない。
【００６８】
第１画素部ＰＸ１は、一実施形態として、赤色を表示する。
すなわち、第１画素部ＰＸ１は、赤色を発光する赤色有機発光層を含む。
第２及び第４画素部ＰＸ２、ＰＸ４は、一実施形態として、緑色を表示する。
すなわち、第２及び第４画素部ＰＸ２、ＰＸ４は、緑色を発光する緑色有機発光層を含む。
第３画素部ＰＸ３は、一実施形態として、青色を表示する。
すなわち、第３画素部ＰＸ３は、青色を発光する青色有機発光層を含む。
【００６９】
第１〜第４画素部（ＰＸ１〜ＰＸ４）は、一つの画素部を構成する。
すなわち、第１〜第４画素部（ＰＸ１〜ＰＸ４）は、ＲＧＢＧペンタイル（ｐｅｎｔｉｌｅ）方式で画素領域ＤＡ１に配置される。
但し、画素領域ＤＡに配置される複数の画素部の配置関係は、図１５に示したものに限定されない。
例えば、複数の画素部の配置関係は、画素部の表示色、適用される有機発光表示装置の解像度及び開口率などによって異なり得る。
ここで、画素間の距離ＰＰ１は、同じ色を表示する画素部間の距離と定義される。
より詳細には、同じ色を表示する画素部に含まれる画素電極の中心点間の距離と定義される。
【００７０】
以下、緑色を発光する第２画素部ＰＸ２及び第４画素部ＰＸ４を例に挙げて説明する。
画素間の距離ＰＰ１は、第２画素部ＰＸ２内に位置する第１中心点ｃｐ１と、第４画素部ＰＸ４内に位置する第２中心点ｃｐ２との最短距離と定義できる。
一実施形態として、第１中心点ｃｐ１及び第２中心点ｃｐ２は、それぞれ、第２画素部ＰＸ２及び第４画素部ＰＸ４に含まれる画素電極の中心点であり得る。
【００７１】
次に、回折距離βと画素間の距離ＰＰ１と有効発光面積比との関係について説明する。
下記に示す表２は、回折距離β／画素間の距離ＰＰ１の値による有効発光面積比を示すものである。
【表２】
2018189959.tif 000011
表２を参照すると、有効発光面積比は、回折距離β／画素間の距離ＰＰ１が大きくなるほど、概ね増加している。
【００７２】
次に、表３を参照して、回折距離βと画素間の距離ＰＰ１とブラーリングとの関係について説明する。
下記に示す表３は、回折距離β／画素間の距離ＰＰ１の値によるブラーリング認知点数を示すものである。
ここで、ブラーリング認知点数は、回折距離β／画素間の距離ＰＰ１の値を変更しながら、これに対するブラーリング認知程度をユーザーに実験した結果であって、ユーザーそれぞれのブラーリング認知程度を平均値として示したものである。
ここで、ブラーリング視認点数が５点以上である場合は、ユーザーが画面を見るときに不便さを感じる程度にブラーリングが認知される場合である。
【表３】
2018189959.tif 000012
【００７３】
表３を参照すると、回折距離β／画素間の距離ＰＰ１の値が約１．８９以上であるとき、ユーザーのブラーリング認知点数は５点以上になる。
これは、回折距離β／画素間の距離ＰＰ１の値が約１．９よりも大きい場合、ほとんどのユーザーがブラーリングを認知して不便さを感じることを意味する。
したがって、表２及び表３を考慮すると、回折距離β／画素間の距離ＰＰ１の値は、下記に示す数式１０を満足することができる。
（数１０）
０．１≦β／ＰＰ１≦１．９  ・・・数式１０
【００７４】
すなわち、回折距離β／画素間の距離ＰＰ１の値は、有効発光面積比及びブラーリング視認程度のバランスのために、０．１以上１．９以下とすることができる。
これにより、本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置は、ブラーリング視認による不便さがない上に、有効発光面積比を増加させて発光効率を向上させることができる。
一方、回折距離β／画素間の距離ＰＰ１の値が０．１以上１．９以下を満足する場合であれば、回折距離β及び画素間の距離ＰＰ１それぞれの値は特に限定されない。
【００７５】
一実施形態として、封止層１６０と回折パターン層１７０との最短距離ｚ２、すなわち封止層１６０の厚さｚ２と第１周期ＤＰ１は、下記に示す表４に記載された値を持つことができる。
【表４】
2018189959.tif 000013
【００７６】
次に、回折パターン層１７０の第２の実施形態について説明する。
図１６は図１に示した回折パターン層の第２の実施形態を示す斜視図であり、図１７は図１６に示した回折パターン層を示す平面図であり、図１８は図１７に示したＩ３−Ｉ３’線に沿った断面図であり、図１９は図１８に示した第２仮想線ｃｌ２に沿った断面図である。
但し、図１〜図１５で説明した内容と重複する説明は省略する。
【００７７】
図１６〜図１９を参照すると、回折パターン層１７０ａは封止層１６０上に配置される。
複数の回折パターン１７２は、回折パターン層１７０ａを貫通するように形成される。
複数の回折パターン１７２の形状は、一実施形態として、陰刻（ｉｎｔａｇｌｉｏ）形態の円柱状であり得る。
すなわち、図３〜図５に示した複数の回折パターン１７１は、封止層１６０から光出射方向に突出した形態であるのに対し、図１６〜図１８に示した複数の回折パターン１７２は、回折パターン層１７０ａから封止層１６０の方向に貫通したホールの形態である。
【００７８】
複数の回折パターン１７２は、第２厚さｔ２を有する。
第２厚さｔ２は、図１８を基準に、複数の回折パターン１７２の下部面（すなわち、封止層１６０の上部面）から上部面（すなわち、複数の回折パターン１７２の上部面）までの距離を意味する。
複数の回折パターン１７２は、第２周期ＤＰ２を有するように配置される。
また、複数の回折パターン１７２は、第２長さｄ２を有する。
ここで、第２周期ＤＰ２及び第２長さｄ２は、第２仮想線ｃｌ２に沿った断面領域ｃｓ２を基準に定義される。
第２仮想線ｃｌ２は、複数の回折パターン１７２の第２厚さｔ２の半分地点を通る線を意味する。
符号１７２ａ１は、第２仮想線ｃｌ２に沿った第１回折パターン１７２ａの断面を示し、符号１７２ｂ１は、第２仮想線ｃｌ２に沿った第２回折パターン１７２ｂの断面を示す。
【００７９】
図１９を参照すると、第２周期ＤＰ２は、第２回折パターン１７２ｂの断面１７２ｂ１の一側に隣接した第１回折パターン１７２ａの断面１７２ａ１の一側から、第２回折パターン１７２ｂの断面１７２ｂ１の一側に対向する他側までの距離と定義される。
また、第２回折パターン１７２ｂを例とすれば、第２長さｄ２は第２回折パターン１７２ｂの断面１７２ｂ１の幅を意味する。
【００８０】
再び図１６〜図１８を参照すると、複数の回折パターン１７２のうち、第１方向Ｘに沿って配置される回折パターン間の周期及び第２方向Ｙに沿って配置される回折パターン間の周期は、一実施形態として、いずれも第２周期ＤＰ２である。
また、第１方向Ｘに沿って配置される回折パターンの数及び第２方向Ｙに沿って配置される回折パターンの数は、一実施形態として、互いに同じである。
【００８１】
図２０は、図１に示した回折パターン層の第３の実施形態を示す斜視図であり、図２１は図２０に示した回折パターン層を示す平面図であり、図２２は図２０に示したＩ４−Ｉ４’線に沿った断面図であり、図２３は図２２に示した第３仮想線ｃｌ３に沿った断面図である。
但し、図１〜図１９で説明した内容と重複する説明は省略する。
【００８２】
回折パターン層１７０ｂは複数の回折パターン１７３を含む。
複数の回折パターン１７３は、一実施形態として、封止層１６０から図２０を基準に上部方向に突出している。
複数の回折パターン１７３の形状は平面視で方形であり得る。
一実施形態として、複数の回折パターン１７３の形状は平面視で正方形であり得る。
すなわち、複数の回折パターン１７３は、一実施形態として、形状が立方体であり得る。
複数の回折パターン１７３は、第３厚さｔ３を有する。
第３厚さｔ３は、図２２を基準に、複数の回折パターン１７３の下部面（すなわち、封止層１６０の上部面）から上部面（すなわち、複数の回折パターン１７３の上部面）までの距離を意味する。
【００８３】
複数の回折パターン１７３は、第３周期ＤＰ３を有するように配置される。
また、複数の回折パターン１７３は、第３長さｄ３を有する。
ここで、第３周期ＤＰ３及び第３長さｄ３は、第３仮想線ｃｌ３に沿った断面領域ｃｓ３を基準に定義される。
第３仮想線ｃｌ３は、複数の回折パターン１７３の第３厚さｔ３の半分地点を通る線を意味する。
符号１７３ａ１は、第３仮想線ｃｌ３に沿った第１回折パターン１７３ａの断面を示し、符号１７３ｂ１は、第３仮想線ｃｌ３に沿った第２回折パターン１７３ｂの断面を示す。
【００８４】
図２３を参照すると、第３周期ＤＰ３は、第２回折パターン１７３ｂの断面１７３ｂ１の一側に隣接した第１回折パターン１７３ａの断面１７３ａ１の一側から、第２回折パターン１７３ｂの断面１７３ｂ１の一側に対向する他側までの距離と定義される。
また、第２回折パターン１７３ｂを例にすれば、第３長さｄ３は第２回折パターン１７３ｂの断面１７３ｂ１の幅を意味する。
【００８５】
再び図２０〜図２２を参照すると、複数の回折パターン１７３のうち、第１方向Ｘに沿って配置される回折パターン間の周期及び第２方向Ｙに沿って配置される回折パターン間の周期は、一実施形態として、いずれも第３周期ＤＰ３である。
また、第１方向Ｘに沿って配置される回折パターンの数及び第２方向Ｙに沿って配置される回折パターンの数は、一実施形態として、互いに同じである。
【００８６】
一方、図２０〜図２３に示すように、複数の回折パターン１７３の断面形状が正方形である場合、数式１は次のとおりに変更できる。
（変更された数式１）
０．４≦ｄ１／ＤＰ１＜１  ・・・変更された数式１
【００８７】
本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置は、複数の回折パターン１７３の断面の形状が方形なので、第１周期ＤＰ１及び第１長さｄ１が互いに同じであれば、回折に必要な最小限の空間を含まない。
これにより、ｄ１／ＤＰ１値が１である場合は除外される。
【００８８】
図２４は図１に示した回折パターン層の第４の実施形態を示す斜視図であり、図２５は図２４に示した回折パターン層を示す平面図であり、図２６は図２５に示したＩ５−Ｉ５’線に沿った断面図であり、図２７は図２６に示した第４仮想線ｃｌ４に沿った断面図である。
但し、図１〜図２３で説明した内容と重複する説明は省略する。
【００８９】
図２４〜図２７を参照すると、回折パターン層１７０ｃは封止層１６０上に配置される。
複数の回折パターン１７４は、回折パターン層１７０ｃを貫通するように形成される。
複数の回折パターン１７４の形状は、一実施形態として、陰刻形態の四角柱状であり得る。
すなわち、図２４〜図２７に示した複数の回折パターン１７４は、上部面及び下部面の断面形状が方形であり、回折パターン層１７０ｃから封止層１６０の方向に貫通したホールの形態であり得る。
複数の回折パターン１７４は、第４厚さｔ４を有する。
第４厚さｔ４は、図２６を基準に、複数の回折パターン１７４の下部面（すなわち、封止層１６０の上部面）から上部面（すなわち、複数の回折パターン１７４の上部面）までの距離を意味する。
【００９０】
複数の回折パターン１７４は、第４周期ＤＰ４を有するように配置される。
また、複数の回折パターン１７４は、第４長さｄ４を有する。
ここで、第４周期ＤＰ４及び第４長さｄ４は、第４仮想線ｃｌ４に沿った断面領域ｃｓ４を基準に定義される。
第４仮想線ｃｌ４は、複数の回折パターン１７４の第４厚さｔ４の半分地点を通る線を意味する。
符号１７４ａ１は、第４仮想線ｃｌ４に沿った第１回折パターン１７４ａの断面を示し、符号１７４ｂ１は第４仮想線ｃｌ４に沿った第２回折パターン１７４ｂの断面を示す。
【００９１】
図２７を参照すると、第４周期ＤＰ４は、第２回折パターン１７４ｂの断面１７４ｂ１の一側に隣接した第１回折パターン１７４ａの断面１７４ａ１の一側から、第２回折パターン１７４ｂの断面１７４ｂ１の一側に対向する他側までの距離と定義される。
また、第２回折パターン１７４ｂを例にすれば、第４長さｄ４は第２回折パターン１７４ｂの断面１７４ｂ１の幅を意味する。
【００９２】
再び図２４〜図２６を参照すると、複数の回折パターン１７４のうち、第１方向Ｘに沿って配置される回折パターン間の周期及び第２方向Ｙに沿って配置される回折パターン間の周期は、一実施形態として、いずれも第４周期ＤＰ４である。
また、第１方向Ｘに沿って配置される回折パターンの数及び第２方向Ｙに沿って配置される回折パターンの数は、一実施形態として、互いに同じである。
また、図３〜図６、図１６〜図２７で説明した複数の回折パターン（１７１、１７２、１７３、１７４）は、一実施形態として、上部面の面積と下部面の面積とが同じである。
【００９３】
以下、複数の回折パターンの上部面の面積と下部面の面積とが互いに異なる場合を、図２８〜図３０を参照して説明する。
図２８〜図３０は、複数の回折パターン層の上部面の面積と下部面の面積とが異なる場合の実施形態を示す図である。
図２８の（ａ）は本発明の第５の実施形態に係る回折パターン層１７０ｄを示す断面図であり、図２８の（ｂ）は図２８の（ａ）の第５仮想線ｃｌ５に沿った断面図である。
【００９４】
図２８の（ａ）及び（ｂ）を参照すると、回折パターン層１７０ｄは、封止層１６０上に配置されるが、半球形状を有する複数の回折パターン１７５を含む。
すなわち、複数の回折パターン１７５は、封止層１６０から光出射方向へ半球形状に突出している。
複数の回折パターン１７５は、第５厚さｔ５を有する。
第５厚さｔ５は、図２８の（ａ）を基準に、複数の回折パターン１７５の下部面（すなわち、封止層１６０の上部面）から上部面（すなわち、複数の回折パターン１７５の上部面）までの距離を意味する。
【００９５】
複数の回折パターン１７５は、第５周期ＤＰ５を有するように配置される。
また、複数の回折パターン１７５は、第５長さｄ５を有する。
ここで、第５周期ＤＰ５及び第５長さｄ５は、第５仮想線ｃｌ５に沿った断面領域ｃｓ５を基準に定義される。
第５仮想線ｃｌ５は、複数の回折パターン１７５の第５厚さｔ５の半分地点を通る線を意味する。
符号１７５ａ１は、第５仮想線ｃｌ５に沿った第１回折パターン１７５ａの断面を示し、符号１７５ｂ１は、第５仮想線ｃｌ５に沿った第２回折パターン１７５ｂの断面を示す。
図２８の（ｂ）を参照すると、第５周期ＤＰ５は、第２回折パターン１７５ｂの断面１７５ｂ１の一側に隣接した第１回折パターン１７５ａの断面１７５ａ１の一側から、第２回折パターン１７５ｂの断面１７５ｂ１の一側に対向する他側までの距離と定義される。
また、第２回折パターン１７５ｂを例にすれば、第５長さｄ５は第５仮想線ｃｌ５に沿った第２回折パターン１７５ｂの断面１７５ｂ１の幅を意味する。
【００９６】
図２９の（ａ）は本発明の第６の実施形態に係る回折パターン層１７０ｅを示す断面図であり、図２９の（ｂ）は図２９の（ａ）の第６仮想線ｃｌ６に沿った断面図である。
図２９の（ａ）及び（ｂ）を参照すると、回折パターン層１７０ｅは、封止層１６０上に配置されるが、台形形状を有する複数の回折パターン１７６を含む。
すなわち、複数の回折パターン１７６は、封止層１６０から光出射方向へ台形形状に突出される。
複数の回折パターン１７６は、第６厚さｔ６を有する。
第６厚さｔ６は、図２９の（ａ）を基準に、複数の回折パターン１７６の下部面（すなわち、封止層１６０の上部面）から上部面（すなわち、複数の回折パターン１７６の上部面）までの距離を意味する。
【００９７】
複数の回折パターン１７６は、第６周期ＤＰ６を有するように配置される。
また、複数の回折パターン１７６は、第６長さｄ６を有する。
ここで、第６周期ＤＰ６及び第６長さｄ６は、第６仮想線ｃｌ６に沿った断面領域ｃｓ６を基準に定義される。
第６仮想線ｃｌ６は、複数の回折パターン１７６の第６厚さｔ６の半分地点を通る線を意味する。
符号１７６ａ１は、第６仮想線ｃｌ６に沿った第１回折パターン１７６ａの断面を示し、符号１７６ｂ１は、第６仮想線ｃｌ６に沿った第２回折パターン１７６ｂの断面を示す。
【００９８】
図２９の（ｂ）を参照すると、第６周期ＤＰ６は、第２回折パターン１７６ｂの断面１７６ｂ１の一側に隣接した第１回折パターン１７６ａの断面１７６ａ１の一側から、第２回折パターン１７６ｂの断面１７６ｂ１の一側に対向する他側までの距離と定義される。
また、第２回折パターン１７６ｂを例にすれば、第６長さｄ６は第６仮想線ｃｌ６に沿った第２回折パターン１７６ｂの断面１７６ｂ１の幅を意味する。
【００９９】
図３０の（ａ）は本発明の第７の実施形態に係る回折パターン層１７０ｆを示す断面図であり、図３０の（ｂ）は（ａ）の第７仮想線ｃｌ７に沿った断面図である。
図３０の（ａ）及び（ｂ）を参照すると、回折パターン層１７０ｆは、封止層１６０上に配置されるが、陰刻で形成された台形形状の複数の回折パターン１７７を含む。
すなわち、図２９に示した複数の回折パターン１７６は、封止層１６０から光出射方向へ突出した形態であるのに対し、図３０に示した複数の回折パターン１７７は、回折パターン層１７０ｆから封止層１６０の方向に貫通したホールの形態である。
【０１００】
一方、複数の回折パターン１７７が陰刻で形成される場合でも、第７仮想線ｃｌ７に沿った断面領域ｃｓ７を基準に、複数の回折パターン１７７の第７長さｄ７及び第７周期ＤＰ７が定義される。
すなわち、回折パターン層の下部面の面積と上部面の面積とが互いに異なる場合でも、回折パターン層の厚さの中心を通る仮想線に沿った断面を基準に、回折パターンの周期及び長さを定義する。
【０１０１】
なお、回折パターン層（１７０、１７０ａ、１７０ｂ、１７０ｃ、１７０ｄ、１７０ｅ、１７０ｆ）の形成方法は、特に限定されない。
一実施形態として、回折パターン層（１７０、１７０ａ、１７０ｂ、１７０ｃ、１７０ｄ、１７０ｅ、１７０ｆ）は、封止層１６０上に無機層を成膜した後、エッチング工程によって形成することができる。
ここで、無機層は、シリコンオキサイド（ＳｉＯｘ）、シリコンナイトライド（ＳｉＮｘ）、シリコンオキシナイトライド（ＳｉＯＮｘ）よりなる群から選択されたいずれか一つを含んでなることができる。
また、エッチング工程は、特に限定されないが、一実施形態としてドライエッチングが使用できる。
【０１０２】
また、図１〜図３０では、回折パターン層（１７０、１７０ａ、１７０ｂ、１７０ｃ、１７０ｄ、１７０ｅ、１７０ｆ）が封止層１６０とは別に形成されることを例に挙げて説明したが、必ずしもこれに限定されるものではない。
以下、図３１〜図３６を参照して、封止層と回折パターン層とが一体に形成された場合を説明する。
本明細書において「第１構成と第２構成が一体に形成されたもの」と表現する場合、第１構成及び第２構成が互いに同じ材料を含むことを意味する。
但し、「第１構成と第２構成が一体に形成されたもの」は、同じ工程によって同時に形成されることを意味するものではない。
【０１０３】
図３１は、図１に示した封止層及び複数の回折パターンの第８の実施形態を示す斜視図であり、図３２は図３１に示した複数の回折パターンと一体に形成された封止層を示す平面図であり、図３３は図３２に示したＩ６−Ｉ６’線に沿った断面図であり、図３４は図３３に示した第８仮想線ｃｌ８に沿った断面図である。
但し、図１〜図３０で説明した内容と重複する内容は省略する。
【０１０４】
図３１〜図３４を参照すると、複数の回折パターン１７８は、封止層１６１と一体に形成される。
すなわち、複数の回折パターン１７８は封止層１６１に陰刻で形成される。
複数の回折パターン１７８の形状は、一実施形態として、平面視で方形であり得る。
また、複数の回折パターン１７８の形状は、一実施形態として立方体状であり得る。
但し、これに限定されるものではなく、複数の回折パターン１７８の形状は平面視で円形であってもよい。
また、複数の回折パターン１７８の形状は一実施形態として円柱状であり得る。
【０１０５】
複数の回折パターン１７８は、第８厚さｔ８を有する。
第８厚さｔ８は、図３３を基準に、複数の回折パターン１７８の下部面から上部面までの距離を意味する。
複数の回折パターン１７８は、第８周期ＤＰ８を有するように配置される。
また、複数の回折パターン１７８は、第８長さｄ８を有する。
ここで、第８周期ＤＰ８及び第８長さｄ８は、第８仮想線ｃｌ８に沿った断面領域ｃｓ８を基準に定義される。
第８仮想線ｃｌ８は、複数の回折パターン１７８の第８厚さｔ８の半分地点を通る線を意味する。
符号１７８ａ１は第８仮想線ｃｌ８に沿った第１回折パターン１７８ａの断面を示し、符号１７８ｂ１は第８仮想線ｃｌ８に沿った第２回折パターン１７８ｂの断面を示す。
【０１０６】
図３４を参照すると、第８周期ＤＰ８は、第２回折パターン１７８ｂの断面１７８ｂ１の一側に隣接した第１回折パターン１７８ａの断面１７８ａ１の一側から、第２回折パターン１７８ｂの断面１７８ｂ１の一側に対向する他側までの距離と定義される。
また、第２回折パターン１７８ｂを例にすれば、第８長さｄ８は第２回折パターン１７８ｂの断面１７８ｂ１の幅を意味する。
【０１０７】
再び図３１〜図３３を参照すると、複数の回折パターン１７８のうち、第１方向Ｘに沿って配置される回折パターン間の周期及び第２方向Ｙに沿って配置される回折パターン間の周期は、一実施形態として、いずれも第８周期ＤＰ８である。
また、第１方向Ｘに沿って配置される回折パターンの数及び第２方向Ｙに沿って配置される回折パターンの数は、一実施形態として、互いに同じである。
すなわち、本発明の第８の実施形態に係る有機発光表示装置は、封止層１６１と複数の回折パターン１７８が一体に形成される場合でも、第８仮想線ｃｌ８に沿った断面を基準に、複数の回折パターン１７８の周期及び長さを定義することができる。
【０１０８】
図３５及び図３６は、図３１に示した封止層と一つに形成された回折パターン層の他の実施形態（第９、第１０の実施形態）を示す略断面図である。
図３５を参照すると、複数の回折パターン１７９ａは、封止層１６２と一体に形成されるが、一実施形態として、半球形状を有する。
また、図３６を参照すると、複数の回折パターン１７９ｂは、封止層１６３と一体に形成されるが、一実施形態として、陰刻で形成された半球形状である。
但し、複数の回折パターンの形状は、平面視で、三角形、五角形、及び六角形などを含む多角形であり得る。
また、複数の回折パターンの形状は正弦曲線（ｓｉｎｅ  ｃｕｒｖｅ）型であってもよい。
【０１０９】
図３７及び図３８は、図１に示した回折パターン層の第１１、第１２の実施形態を示す断面図である。
図３７を参照すると、複数の回折パターン１７９ｃは、ベース部材１７９ｃ１、及びベース部材１７９ｃ１から図３７を基準に上部方向に突出した複数の突出パターン１７９ｃ２を含む。
ベース部材１７９ｃ１は、封止層１６０上に配置され、複数の突出パターン１７９ｃ２と一体に形成される。
複数の突出パターン１７９ｃ２は断面形状が方形である。
【０１１０】
図３８を参照すると、複数の回折パターン１７９ｄは、ベース部材１７９ｄ１、及びベース部材１７９ｄ１から図３７を基準に上部方向に突出した複数の突出パターン１７９ｄ２を含む。
ベース部材１７９ｄ１は、封止層１６０上に配置され、複数の突出パターン１７９ｄ２と一体に形成される。
複数の突出パターン１７９ｄ２は断面形状が半球状である。
【０１１１】
すなわち、図３７及び図３８に示すように、複数の回折パターン（１７９ｃ、１７９ｄ）は、ベース部材（１７９ｃ１、１７９ｄ１）を含むことにより、複数の突出パターン（１７９ｃ２、１７９ｄ２）の間に位置する封止層１６０の上部面をベース部材（１７９ｃ１、１７９ｄ１）によって覆うことができる。
複数の回折パターン（１７９ｃ、１７９ｄ）の大きさ及び形状などは、図３７及び図３８に示したものに限定されるものではない。
また、複数の回折パターン（１７８、１７９）の形成方法は特に限定されない。
一実施形態として、封止層１６０がガラス絶縁基板である場合、回折パターン層（１７８、１７９）は、ガラス絶縁基板の上部をエッチング工程によってエッチングすることにより形成することができる。
エッチング工程は、特に限定されないが、一実施形態としてウェットエッチングが使用できる。
【０１１２】
図３９〜図４６は、本発明の他の実施形態に係る有機発光表示装置の回折パターン層の形状、周期及び配置形態の実施例、及び実施例に対応する第２発光パターンの形状及び回折距離を示す図である。
但し、図１〜図３８で説明した内容と重複する説明は省略する。
【０１１３】
図３９及び図４０をまず参照して、第２方向Ｙに沿って延びる複数の回折パターン２１０ａを有する有機発光表示装置についてまず説明する。
図３９の（ａ）は回折パターン層の第１３の実施形態を示す平面図であり、図３９の（ｂ）は図３９の（ａ）に示したＩＩ１−ＩＩ１’線に沿った断面図であり、図３９の（ｃ）は図３９の（ｂ）に示した第９仮想線ｃｌ９に沿った断面図である。
図３９の（ａ）〜（ｃ）を参照すると、回折パターン層２００ａは、封止層１６０上に配置される複数の回折パターン２１０ａを含む。
複数の回折パターン２１０ａは第２方向Ｙに沿って延長される。
また、複数の回折パターン２１０ａは、第１方向Ｘに沿って互いに隣り合うように配置される。
【０１１４】
複数の回折パターン２１０ａは、一実施形態として直方体状であり得る。
複数の回折パターン２１０ａは第９厚さｔ９を有する。
また、複数の回折パターン２１０ａは、第９周期ＤＰ９を有する。
ここで、第９周期ＤＰ９の定義は、前述したように、第９仮想線ｃｌ９に沿った断面領域ｃｓ９を基準に定義される。
すなわち、第１回折パターン２１１ａの断面２１１ａ１と第２回折パターン２１２ａの断面２１２ａ１を基準に、第９周期ＤＰ９が定義される。
【０１１５】
図１４及び図４０を参照すると、第２領域ＴＡ２上には、基準発光パターンＰｒｅｆと同じ行に配置される第１複製発光パターンＰ１及び第２複製発光パターンＰ２が生成される。
以下、第１複製発光パターンＰ１を基準に説明する。
基準発光パターンＰｒｅｆと第１複製発光パターンＰ１との回折距離β１ａは、下記に示す数式１１で表される。
【数１１】
2018189959.tif 000014
【０１１６】
図１４、図４１及び図４２を参照して、所定の周期を有するが、任意の配置形態を有する複数の回折パターン２１０ｂを含む有機発光表示装置について説明する。
以下、図３９及び図４０で説明した内容と重複する説明は省略する。
図４１の（ａ）は回折パターン層の第１４の実施形態を示す平面図であり、図４１の（ｂ）は図４１の（ａ）に示したＩＩ２−ＩＩ２’線に沿った断面図であり、図４１の（ｃ）は図４１の（ｂ）に示した第１０仮想線ｃｌ１０に沿った断面図である。
図４１の（ａ）〜（ｃ）を参照すると、回折パターン層２００ｂは、封止層１６０上に配置される複数の回折パターン２１０ｂを含む。
複数の回折パターン２１０ｂは第１〜第３回折パターン（２１１ｂ、２１２ｂ、２１３ｂ）を含む。
【０１１７】
第１〜第３回折パターン（２１１ｂ、２１２ｂ、２１３ｂ）の配置形態については図４１を基準に説明する。
第１回折パターン２１１ｂは、第３回折パターン２１３ｂと第１方向Ｘに沿って隣り合うように配置される。
第１回折パターン２１１ｂは、第２回折パターン２１２ｂと対角線方向に沿って隣り合うように配置される。
第１回折パターン２１１ｂの中心と第２回折パターン２１２ｂの中心とを結ぶ仮想線ｖｌ１ａと、第１回折パターン２１１ｂの中心と第３回折パターン２１３ｂの中心とを結ぶ仮想線ｖｌ２ａとの間に形成される角度は、φ１で表される。
すなわち、第２回折パターン２１２ｂと第３回折パターン２１３ｂは、第１回折パターン２１１ｂを中心にφ１の夾角を有するように配置される。
【０１１８】
複数の回折パターン２１０ｂは、第１０厚さｔ１０を有する。
図４１の（ｂ）及び（ｃ）を参照すると、第１回折パターン２１１ｂと第２回折パターン２１２ｂ間の周期は、第１０ａ周期ＤＰ１０ａを有する。
また、第１回折パターン２１１ｂと第３回折パターン２１３ｂ間の周期は、第１０ｂ周期ＤＰ１０ｂを有する。
ここで、第１０ａ周期ＤＰ１０ａ及び第１０ｂ周期ＤＰ１０ｂの定義は、前述したように、第１０仮想線ｃｌ１０に沿った断面領域ｃｓ１０を基準に定義される。
【０１１９】
これにより、第１回折角θ１ａ及び第２回折角θ２ａは、下記に示す数式１２及び数式１３でそれぞれ表される。
【数１２】
2018189959.tif 000015
【数１３】
2018189959.tif 000016
【０１２０】
第１回折角θ１ａ及び第２回折角θ２ａが変わるにつれて、第２領域ＴＡ２上に配置される複製発光パターンの形状及び数も変わってくる。
図４２を参照すると、第１複製発光パターンＰ１ｂは、基準発光パターンＰｒｅｆと第１回折距離β２ａを有するように離隔される。
また、第５複製発光パターンＰ５ｂは、基準発光パターンＰｒｅｆと第２回折距離β２ｂを有するように離隔される。
一方、図４２のａ１の角度は、一実施形態として（１８０−φ１）度である。
【０１２１】
第１回折距離β２ａ及び第２回折距離β２ｂは、下記に示す数式１４及び数式１５でそれぞれ表される。
【数１４】
2018189959.tif 000017
【数１５】
2018189959.tif 000018
【０１２２】
図１４、図４３及び図４４を参照して、平面視で長方形である複数の回折パターン２１０ｃを含む有機発光表示装置について説明する。
図４３の（ａ）は回折パターン層の第１５の実施形態を示す平面図であり、図４３の（ｂ）は図４３の（ａ）に示したＩＩ３−ＩＩ３’線に沿った断面図であり、図４３の（ｃ）は図４３の（ｂ）に示した第１１仮想線ｃｌ１１に沿った断面図である。
図４３の（ａ）〜（ｃ）を参照すると、回折パターン層２００ｃは、封止層１６０上に配置される複数の回折パターン２１０ｃを含む。
複数の回折パターン２１０ｃは、第１〜第３回折パターン（２１１ｃ、２１２ｃ、２１３ｃ）を含む。
【０１２３】
図４３を基準に、第１方向Ｘに沿って配置される回折パターンの数と第２方向Ｙに沿って配置される回折パターンの数とは、一実施形態において、互いに同じである。
第１回折パターン２１１ｃは、第３回折パターン２１３ｃと第１方向Ｘに沿って隣り合うように配置される。
第１回折パターン２１１ｃは、第２回折パターン２１２ｃと第２方向Ｙに沿って隣り合うように配置される。
第１回折パターン２１１ｃの中心と第２回折パターン２１２ｃの中心とを結ぶ仮想線ｖｌ１ｂと、第１回折パターン２１１ｂの中心と第３回折パターン２１３ｂの中心とを結ぶ仮想線ｖｌ２ｂとの間に形成される角度は約９０度である。
【０１２４】
複数の回折パターン２１０ｃは、第１１厚さｔ１１を有する。
図４３の（ｂ）及び（ｃ）を参照すると、第１回折パターン２１１ｃと第２回折パターン２１２ｃ間の周期は、第１１ａ周期ＤＰ１１ａを有する。
また、第１回折パターン２１１ｃと第３回折パターン２１３ｃ間の周期は、第１１ｂ周期ＤＰ１１ｂを有する。
ここで、第１１ａ周期ＤＰ１１ａ及び第１１ｂ周期ＤＰ１１ｂの定義は、前述したように、第１１仮想線ｃｌ１１に沿った断面領域ｃｓ１１を基準に定義される。
一実施形態として、第１１ａ周期ＤＰ１１ａ及び第１１ｂ周期ＤＰ１１ｂは互いに異なり得る。
【０１２５】
図４４を参照すると、第２領域ＴＡ２上には、基準発光パターンＰｒｅｆと第１回折距離β３ａを有するように離隔する第１複製発光パターンＰ１ｃ、及び基準発光パターンＰｒｅｆと第２回折距離β３ｂを有するように離隔する第４複製発光パターンＰ４ｃが生成される。
基準発光パターンＰｒｅｆと第１複製発光パターンＰ１ｃとの間の第１回折距離β３ａは、下記に示す数式１６で表される。
【数１６】
2018189959.tif 000019
また、基準発光パターンＰｒｅｆと第４複製発光パターンＰ４ｃとの間の第２回折距離β３ｂは、下記に示す数式１７で表される。
【数１７】
2018189959.tif 000020
【０１２６】
図１４、図４５及び図４６を参照して、六角形（ｈｅｘａｇｏｎａｌ）状に配置される複数の回折パターン２１０ｂを含む有機発光表示装置について説明する。
図４５の（ａ）は、回折パターン層の第１６の実施形態を示す平面図であり、図４５の（ｂ）は図４５の（ａ）に示したＩＩ４−ＩＩ４’線に沿った断面図であり、図４５の（ｃ）は図４５の（ｂ）に示した第１２仮想線ｃｌ１２に沿った断面図である。
【０１２７】
図４５の（ａ）〜（ｃ）を参照すると、回折パターン層２００ｄは、封止層１６０上に配置される複数の回折パターン２１０ｄを含む。
複数の回折パターン２１０ｄは、第１〜第３パターン（２１１ｄ、２１２ｄ、２１３ｄ）を含む。
複数の回折パターン２１０ｄの配置形態については第１〜第３回折パターン（２１１ｄ、２１２ｄ、２１３ｄ）を基準に説明する。
複数の回折パターン２１０ｄは、六角形状の配置構造を持つ。
【０１２８】
より詳細には、第１回折パターン２１１ｄは、第３回折パターン２１３ｄと第１方向Ｘに沿って隣り合うように配置される。
第１回折パターン２１１ｄは、第２回折パターン２１２ｄと対角線方向に沿って隣り合うように配置される。
第１回折パターン２１１ｄの中心と第２回折パターン２１２ｄの中心とを結ぶ仮想線ｖｌ１ｃと、第１回折パターン２１１ｄの中心と第３回折パターン２１３ｄの中心とを結ぶ仮想線ｖｌ２ｃとの間に形成される角度はφ２で表される。
ここで、φ２は約６０度である。
すなわち、第２回折パターン２１２ｄと第３回折パターン２１３ｄは第１回折パターン２１１ｄを中心にφ２（約６０度）の夾角を有するように配置される。
【０１２９】
複数の回折パターン２１０ｄは、第１２厚さｔ１２を有する。
図４５の（ｂ）及び（ｃ）を参照すると、第１回折パターン２１１ｄと第２回折パターン２１２ｄ間の周期は、第１２ａ周期ＤＰ１２ａを有する。
また、第１回折パターン２１１ｄと第３回折パターン２１３ｄ間の周期は、第１２ｂ周期ＤＰ１２ｂを有する。
ここで、第１２ａ周期ＤＰ１２ａ及び第１２ｂ周期ＤＰ１２ｂの定義は、前述したように、第１２仮想線ｃｌ１２に沿った断面領域ｃｓ１２を基準に定義される。
【０１３０】
これにより、第１回折角θ１ｂ及び第２回折角θ２ｂは、下記に示す数式１８及び数式１９でそれぞれ表される。
【数１８】
2018189959.tif 000021
【数１９】
2018189959.tif 000022
【０１３１】
第１回折角θ１ｂ及び第２回折角θ２ｂが変わるにつれて、第２領域ＴＡ２上に配置される複製発光パターンの形状及び数も変わってくる。
図４６を参照すると、第１複製発光パターンＰ１ｄは基準発光パターンＰｒｅｆと第１回折距離β４ａを有するように離隔される。
また、第５複製発光パターンＰ５ｄは基準発光パターンＰｒｅｆと第２回折距離β４ｂを有するように離隔される。
ここで、第１２ａ周期ＤＰ１２ａは、第１２ｂ周期ＤＰ１２ｂと同じであり得る。
これにより、第１回折距離β４ａは第２回折距離β４ｂと同じであり得る。
【０１３２】
したがって、第１回折距離β４ａ（または第２回折距離β４ｂ）は、下記に示す数式２０で表される。
【数２０】
2018189959.tif 000023
【０１３３】
すなわち、複数の回折パターンの周期、形状及び配置構造などを変更させることにより、複数の有機発光素子１４０（図７参照）から出射される光の第１回折角θ１（図７参照）、回折パターン層１７０を通過した光の第２回折角θ２（図７参照）、回折距離β（図７参照）及び輝度を制御することができる。
一方、前述したように、画素間の距離が変更される場合には、有効発光面積比及びブラーリングのうちの少なくとも一つが変更できる。
【０１３４】
以下、図４７及び図４８を参照して、画素間の距離を定義する画素配置形態の他の実施形態について説明する。
図４７及び図４８は、それぞれ本発明の第１７、第１８の実施形態に係る有機発光表示装置の画素配置を示す平面図である。
図４７を参照すると、第１〜第４画素部（ＰＸ１ａ〜ＰＸ４ａ）は、同一の行で隣り合うように配置される。
第１〜第４画素部（ＰＸ１ａ〜ＰＸ４ａ）は、一実施形態として、長方形の形状を有することができる。
但し、第１〜第４画素部（ＰＸ１ａ〜ＰＸ４ａ）の形状及び各画素部の大きさは、図４７に示したものに限定されない。
【０１３５】
第１画素部ＰＸ１ａは一実施形態として赤色を表示することができる。
すなわち、第１画素部ＰＸ１ａは、赤色を発光する赤色有機発光層を含むことができる。
第２及び第４画素部ＰＸ２ａ、ＰＸ４ａは、一実施形態として緑色を表示することができる。
すなわち、第２及び第４画素部ＰＸ２ａ、ＰＸ４ａは、緑色を発光する緑色有機発光層を含むことができる。
第３画素部ＰＸ３ａは一実施形態として青色を表示することができる。
すなわち、第３画素部ＰＸ３ａは、青色を発光する青色有機発光層を含むことができる。
第１〜第４画素部（ＰＸ１ａ〜ＰＸ４ａ）は、一つの画素部を構成する。
すなわち、第１〜第４画素部（ＰＸ１〜ＰＸ４）は、ＲＧＢＧペンタイル（ｐｅｎｔｉｌｅ）方式で配置される。
【０１３６】
画素間の距離ＰＰ２は、同じ色を表示する画素部間の距離と定義される。
以下、緑色を発光する第２画素部ＰＸ２ａ及び第４画素部ＰＸ４ａを例に挙げて説明する。
画素間の距離ＰＰ２は、第２画素部ＰＸ２ａ内に位置する仮想の第１中心点ｃｐ１ｂと、第４画素部ＰＸ４ａ内に位置する仮想の第２中心点ｃｐ２ｂとの間の最短距離と定義できる。
【０１３７】
図４８を参照すると、第１〜第６画素部（ＰＸ１ｂ〜ＰＸ６ｂ）は、同一の行で隣り合うように配置される。
第１〜第６画素部（ＰＸ１ｂ〜ＰＸ６ｂ）は一実施形態として長方形の形状を有することができる。
第１〜第３画素部（ＰＸ１ｂ〜ＰＸ３ｂ）は、一実施形態として、それぞれ赤色、緑色、及び青色を表示する。
また、第４〜第６画素部（ＰＸ４ｂ〜ＰＸ６ｂ）は、一実施形態として、それぞれ赤色、緑色、及び青色を表示する。
第１〜第３画素部（ＰＸ１ｂ〜ＰＸ３ｂ）は、一つの画素部を構成する。
また、第４〜第６画素部（ＰＸ４ｂ〜ＰＸ６ｂ）は、一つの画素部を構成する。
【０１３８】
画素間の距離ＰＰ３は、同じ色を表示する画素部間の距離と定義される。
これにより、画素間の距離ＰＰ３は、第２画素部ＰＸ２ｂ内に位置する仮想の第１中心点ｃｐ１ｃと、第５画素部ＰＸ５ｂ内に位置する仮想の第２中心点ｃｐ２ｃとの間の最短距離と定義できる。
すなわち、画素間の最短距離は、同じ色を表示する画素部間の最短距離と定義されるものであり、画素配置形態に応じて値が変わり得る。
【０１３９】
図４９は、本発明の他の実施形態に係る有機発光表示装置の構成を示す概略断面図である。
図１〜図４８で説明した内容と重複する説明は省略する。
また、図１６〜図４８で説明した本発明の一実施形態に適用できる他の実施形態も、図４９に示した有機発光表示装置に適用できる。
すなわち、図４９に示した本発明の他の実施形態に係る有機発光表示装置も、回折パターン層１７０を含むことにより、有効発光面積比を増加させることができる。
また、複数の回折パターンの周期、形状、長さ、厚さ、有機発光素子との距離及び配置構造などを変更させることにより、複数の有機発光素子１４０（図７参照）から出射される光の第１回折角θ１（図７参照）、回折パターン層１７０を通過した光の第２回折角θ２（図７参照）、回折距離β（図７参照）及び輝度を制御することができる。
【０１４０】
図４９を参照すると、本発明の他の実施形態に係る有機発光表示装置は、封止層１８０、バッファ層１９０及び保護層１９１を含む。
封止層１８０は、一実施形態として、有機層及び無機層のうちの少なくとも１つが単層または多層構造で積層された形態である。
より詳細に説明すると、封止層１８０は、第１無機層１８１、有機層１８２、及び第２無機層１８３を含む。
第１無機層１８１は、共通電極１５０上に配置される。
第１無機層１８１は、シリコンオキサイド（ＳｉＯｘ）、シリコンナイトライド（ＳｉＮｘ）、シリコンオキシナイトライド（ＳｉＯＮｘ）よりなる群から選択された少なくとも一つを含んで構成される。
【０１４１】
有機層１８２は、第１無機層１８１上に配置される。
有機層１８２は、エポキシ、アクリレート、またはウレタンアクリレートよりなる群から選択されたいずれか一つを含んで構成される。
有機層１８２は、画素定義膜１３０による段差を平坦化させることができる。
第２無機層１８３は、有機層１８２上に配置される。
第２無機層１８３は、シリコンオキサイド（ＳｉＯｘ）、シリコンナイトライド（ＳｉＮｘ）、シリコンオキシナイトライド（ＳｉＯＮｘ）よりなる群から選択された少なくとも一つを含んで構成される。
一方、図４９では第１無機層１８１、有機層１８２、及び第２無機層１８３が単一層であると示したが、これに限定されるものではない。
すなわち、第１無機層１８１、有機層１８２及び第２無機層１８３は多層構造で積層されてもよい。
【０１４２】
バッファ層１９０は、第２無機層１８３上に配置される。
バッファ層１９０の材料は特に限定されない。
すなわち、バッファ層１９０は、無機物質または有機物質を含むことができる。
または、バッファ層１９０は、有機層及び無機層の少なくとも一つが単層または多層構造で積層された形態であり得る。
バッファ層１９０は、所定の厚さを有することにより、複数の有機発光素子１４０と回折パターン層１７０を一定距離離隔させる。
バッファ層１９０の厚さは、一実施形態として約２００μｍ以下であり得る。
バッファ層１９０は省略されてもよい。
【０１４３】
保護層１９１は、回折パターン層１７０上に配置される。
保護層１９１は、一実施形態として、複数の回折パターン１７１を覆うように形成される。
保護層１９１の材料は特に限定されない。
一実施形態として、保護層１９１は、ＬｉＦ、ＭｇＦ２、及びＣａＦ２よりなる群から選択された少なくとも一つを含み得る。
【０１４４】
本明細書では、回折パターン層１７０が封止層１８０上に形成されるものと示したが、これに限定されるものではない。
すなわち、回折パターン層１７０は、封止層１７０と同じ材料を含むが、封止層１７０に含まれる有機膜または無機膜の上部面に形成することもできる。
例えば、第２無機層１８３の上部面をエッチングすることにより、回折パターン層１７０を形成することもできる。
【０１４５】
図５０は、図４９に示した有機発光表示装置における回折距離を決定する要素を説明するための部分断面図である。
但し、図１４で説明した内容と重複する説明は省略する。
また、図５０では、説明の便宜のために、第１有機発光素子１４１から出射された光が封止層１８０を通過しながら屈折することは示さないこととする。
【０１４６】
第１有機発光素子１４１と回折パターン層１７０との距離Ｚ’は、図３６の符号ｚ３、ｚ４、ｚ５、及びｚ６の和と定義できる。
ｚ３は第１有機発光素子１４１から有機層１８２の最下面までの最短距離と定義される。
ここで、有機層１８２の最下面は、第１無機層１８１と直接接触する面のうち、第１有機発光素子１４１との最短距離が最も短い面を意味する。
ｚ４は有機層１８２の最下面から有機層１８２の上面までの最短距離と定義される。
有機層１８２の上面は、第２無機層１８３と直接接触する面を意味する。
ｚ５は有機層１８２の上面からバッファ層１９０までの最短距離と定義される。
ｚ５は第２無機層１８３の厚さとも定義できる。
ｚ６は第２無機層１８３の上面から回折パターン層１７０までの最短距離と定義される。
ｚ６はバッファ層１９０の厚さとも定義できる。
【０１４７】
また、第１無機層１８１、有機層１８２、第２無機層１８３、及びバッファ層１９０の屈折率をそれぞれｎ１８１、ｎ１８２、ｎ１８３、及びｎ１９０で表わす。
これにより、回折距離βは、下記に示す数式２１で表される。
【数２１】
2018189959.tif 000024
【０１４８】
一実施形態として、回折パターン層１７０と第１有機発光素子１４１との間に他の構成が存在する場合であれば、他の構成の屈折率及び厚さを考慮して回折距離βが変動する。  他の実施形態として、封止層１８０及びバッファ層１９０の屈折率がすべて同じである場合（封止層１８０の屈折率をｎ１８０と表す）であれば、第１有機発光素子１４１と回折パターン層１７０との間の回折距離β”は、下記に示す数式２２でも表すことができる。
【数２２】
2018189959.tif 000025
【０１４９】
本発明の他の実施形態に係る有機発光表示は、第１有機発光素子１４１の発光色、回折パターン層１７０と複数の有機発光素子１４０との間の距離Ｚ’、回折パターン層１７０と複数の有機発光素子１４０との間に配置される構成の屈折率（ｎ１８１、ｎ１８２、ｎ１８３、及びｎ１９０）、第１周期ＤＰ１、第１回折角θ１及び第２回折角θ２などを調節することにより、回折距離βを制御することができる。
【０１５０】
一方、図に示してはいないが、回折パターン層１７０に光を提供する表示素子は、複数の有機発光素子１４０に限定されない。
すなわち、表示素子は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）、電界発光（ＥＬ）素子、半導体発光素子、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）、及び量子ドットレーザなどを含むことができる。
【０１５１】
また、本明細書では、封止層１６０（図１参照）がガラス基板であって、封止層１８０（図４９）が有／無機層が積層された形態であるものと例を挙げて説明したが、これに限定されない。
すなわち、表示素子の種類及び表示装置の種類などに応じて、封止層が省略されてもよく、一般な基板または絶縁層などで置換されてもよい。
【０１５２】
図５１は、図１に示した有機発光表示装置を含むヘッドマウント表示装置の斜視図及び表示部及びレンズ部の断面図である。
但し、図１〜図５０で説明した内容と重複する説明は省略する。
図１及び図５１を参照すると、本発明の一実施形態に係るヘッドマウント表示装置は、第１表示部１１とレンズ部１２を含む。
図に示してはいないが、本発明の一実施形態に係るヘッドマウント表示装置は、カメラ、赤外線センサー、信号処理部、及びユーザーの頭部に装着できる形態のフレームなどをさらに含み得る。
【０１５３】
レンズ部１２は、第１表示部１１から光の提供を受ける。
レンズ部１２は、一実施形態として、対象体とユーザーとの間に配置される。
レンズ部１２は、一実施形態として、仮想現実を実現するために、不透明レンズから構成される。
レンズ部１２は、他の実施形態として、拡張現実を実現するために、透明レンズまたは半透明レンズで構成される。
また、レンズ部１２は一実施形態として凸レンズであり得る。
【０１５４】
第１表示部１１は、封止層１６０上に配置される回折パターン層１７０を含む。
ここで、封止層１６０は、一実施形態として、ガラス絶縁基板であり得る。
有機発光素子１４０から出射された光が回折パターン層１７０を通過することにより発生しうる光の干渉現象により、第１表示部１１は発光面積が拡大される。
これは有効発光面積比が増加することを意味する。
【０１５５】
一方、ユーザーは、レンズ部１２によって第１表示部１１のイメージを拡大して見ることができる。
但し、拡大環境によりスクリーンドア効果（ＳＤＥ：Ｓｃｒｅｅｎ  Ｄｏｏｒ  Ｅｆｆｅｃｔ）が発生し得る。
すなわち、拡大環境により表示部内の画素定義膜間の間隔などがユーザーに視認される可能性がある。
但し、拡大環境によりユーザーに視認される領域は非発光領域に該当する。
前述したように、有効発光面積比は、一領域内での発光領域の割合を意味する。
有効発光面積比を増加させることは、発光領域の面積を増やすことを意味する。
これは、非発光領域の面積が減少するものと表現できる。
すなわち、本発明の一実施形態に係るヘッドマウント表示装置は、非発光領域の面積を減少させることができ、拡大環境によりユーザーに視認される非発光領域の面積を減らすことができる。
これにより、スクリーンドア効果を改善することができる。
【０１５６】
図５２は、図４９に示した有機発光表示装置を含むヘッドマウント表示装置の斜視図及び表示部及びレンズ部の断面図である。
図５１で説明した内容と重複する説明は省略する。
図５２を参照すると、第２表示部１３は，封止層１８０、及び封止層１８０上に配置されるバッファ層１９０を含む。
封止層１８０は、一実施形態として、有／無機層が積層された形態を有し得る。
【０１５７】
有機発光素子１４０から出射された光が回折パターン層１７０を通過することにより発生しうる光の干渉現象により、第２表示部１３は発光面積が拡大される。
これは有効発光面積比が増加できることを意味する。
したがって、本発明の他の実施形態に係るヘッドマウント表示装置は、有効発光面積比を増加させることにより、スクリーンドア効果を改善させることができる。
【０１５８】
図５３は、従来技術に係るヘッドマウント表示装置におけるスクリーンドア現象を示す写真であり、図５４は本発明の一実施形態に係るヘッドマウント表示装置におけるスクリーンドア現象が改善されたことを示す写真である。
図５３を参照すると、画素定義膜間の間隔などがクモの巣のように視認されることが分かる。
すなわち、スクリーンドア効果が視認されることが分かる。
これに対し、図５４を参照すると、図５３と比較して、画素定義膜間の間隔の視認程度が改善されたことが分かる。
これはスクリーンドア効果が改善されたことを意味する。
【０１５９】
尚、本発明は、上述の実施形態に限られるものではない。本発明の技術的範囲から逸脱しない範囲内で多様に変更実施することが可能である。
【符号の説明】
【０１６０】
１１０    第１基板
１２０    画素電極
１２１    第１画素電極
１３０    画素定義膜
１４０    有機発光素子
１４１    第１有機発光素子
１５０    共通電極
１５１、１９０    バッファ層
１６０、１８０    封止層
１７０、１７０ａ、１７０ｂ    回折パターン層
１７１、１７２、１７３    回折パターン
１８１    第１無機層
１８２    有機層
１８３    第２無機層
【図１】
2018189959.tif 000030
【図２】
2018189959.tif 000031
【図３】
2018189959.tif 000032
【図４】
2018189959.tif 000033
【図５】
2018189959.tif 000034
【図６】
2018189959.tif 000035
【図７】
2018189959.tif 000036
【図８】
2018189959.tif 000037
【図９】
2018189959.tif 000038
【図１０】
2018189959.tif 000039
【図１１】
2018189959.tif 000040
【図１２】
2018189959.tif 000041
【図１３】
2018189959.tif 000042
【図１４】
2018189959.tif 000043
【図１５】
2018189959.tif 000044
【図１６】
2018189959.tif 000045
【図１７】
2018189959.tif 000046
【図１８】
2018189959.tif 000047
【図１９】
2018189959.tif 000048
【図２０】
2018189959.tif 000049
【図２１】
2018189959.tif 000050
【図２２】
2018189959.tif 000051
【図２３】
2018189959.tif 000052
【図２４】
2018189959.tif 000053
【図２５】
2018189959.tif 000054
【図２６】
2018189959.tif 000055
【図２７】
2018189959.tif 000056
【図２８】
2018189959.tif 000057
【図２９】
2018189959.tif 000058
【図３０】
2018189959.tif 000059
【図３１】
2018189959.tif 000060
【図３２】
2018189959.tif 000061
【図３３】
2018189959.tif 000062
【図３４】
2018189959.tif 000063
【図３５】
2018189959.tif 000064
【図３６】
2018189959.tif 000065
【図３７】
2018189959.tif 000066
【図３８】
2018189959.tif 000067
【図３９】
2018189959.tif 000068
【図４０】
2018189959.tif 000069
【図４１】
2018189959.tif 000070
【図４２】
2018189959.tif 000071
【図４３】
2018189959.tif 000072
【図４４】
2018189959.tif 000073
【図４５】
2018189959.tif 000074
【図４６】
2018189959.tif 000075
【図４７】
2018189959.tif 000076
【図４８】
2018189959.tif 000077
【図４９】
2018189959.tif 000078
【図５０】
2018189959.tif 000079
【図５１】
2018189959.tif 000080
【図５２】
2018189959.tif 000081
【図５３】
2018189959.tif 000082
【図５４】
2018189959.tif 000083