(57)【要約】      （修正有）【課題】Ｎｂ２Ｏ５粒子層が表面に形成された軟磁性金属粉末を有する複合磁性シートを容易かつ効率的に製造する。【解決手段】複合磁性シート１０の製造方法は、扁平状の軟磁性金属粉末１２の表面に被覆層を形成する工程と、被覆層が形成された軟磁性金属粉末１２と有機結合剤１６とを混合してスラリーを形成する工程と、スラリーをシート状に成形する工程とを備える。被覆層を形成する工程は、水性溶媒中にＮｂ２Ｏ５粒子を分散させたｐＨ≧７．０のゾルと軟磁性金属粉末１２とを混合して混合物を得る工程と、減圧雰囲気下において混合物を攪拌しつつ加熱する工程とを含む。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
扁平状の軟磁性金属粉末の表面に被覆層を形成する工程と、
前記被覆層が形成された前記軟磁性金属粉末と有機結合剤とを混合してスラリーを作製する工程と、
前記スラリーをシート状に成形する工程と、を備える複合磁性シートの製造方法であって、
前記被覆層を形成する工程は、
水性溶媒中にＮｂ２Ｏ５粒子を分散させたｐＨ≧７．０のゾルと前記軟磁性金属粉末とを混合して混合物を得る工程と、
減圧雰囲気下において前記混合物を攪拌しつつ加熱する工程と、を含む
複合磁性シートの製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の複合磁性シートの製造方法であって、
前記混合物を攪拌しつつ加熱する工程は、０．１ＭＰａ以下に減圧した雰囲気下において、９５℃以上１５０℃以下に加熱して、４０分以上行われる
複合磁性シートの製造方法。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の複合磁性シートの製造方法であって、
前記Ｎｂ２Ｏ５粒子の比表面積は、前記軟磁性金属粉末の比表面積の２倍以上である
複合磁性シートの製造方法。
【請求項４】
請求項１から請求項３までのいずれか一つに記載の複合磁性シートの製造方法であって、
前記Ｎｂ２Ｏ５粒子の平均粒径は、前記軟磁性金属粉末の平均厚みよりも小さい
複合磁性シートの製造方法。
【請求項５】
請求項４に記載の複合磁性シートの製造方法であって、
前記Ｎｂ２Ｏ５粒子の二次粒子の平均粒径は１５ｎｍ以下である
複合磁性シートの製造方法。
【請求項６】
請求項１から請求項５までのいずれか一つに記載の複合磁性シートの製造方法であって、前記水性溶媒は、水である
複合磁性シートの製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載の複合磁性シートの製造方法であって、
前記ゾルは、分散剤としてアルコールを含んでいる
複合磁性シートの製造方法。
【請求項８】
有機結合剤と、前記有機結合剤内に分散された扁平状の軟磁性金属粉末とを備える複合磁性シートであって、
前記軟磁性金属粉末は、その表面が絶縁被覆層で覆われており、
前記絶縁被覆層は、Ｎｂ２Ｏ５粒子からなる
複合磁性シート。
【請求項９】
請求項８に記載の複合磁性シートであって、
前記絶縁被覆膜は、５ｎｍ以上６０ｎｍ以下の膜厚を有している
複合磁性シート。
【請求項１０】
請求項９に記載の複合磁性シートであって、
前記絶縁被覆膜は、５ｎｍ以上３０ｎｍ以下の膜厚を有している
複合磁性シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁ノイズを抑制する複合磁性シートの製造方法及び複合磁性シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の複合磁性シートの製造方法は、例えば、特許文献１に記載されている。
【０００３】
特許文献１に記載された方法は、扁平状の軟磁性粉末の表面に表面改質用微粉末をコーティングし、表面改質用微粉末がコーティングされた軟磁性粉末と結合剤とを混合し、得られた混合物を乾燥硬化させる、というものである。
【０００４】
また、特許文献２は、ノイズ抑制用複合磁性粉を製造する方法として、金属粉と高誘電率微粒子とバインダー樹脂とを混合し、その後、バインダー樹脂を硬化させる方法を開示している。
【０００５】
さらに、特許文献３は、扁平状軟磁性金属粉の表面に絶縁膜を形成する方法として、扁平状軟磁性金属粉と酸化物ゾルとを直接混合する方法を開示している。
【０００６】
特許文献４は、ニオブ酸アンモニウムを含有する薄膜を基材上に形成し、アンモニアが完全に分解する温度（５００℃以上）で加熱処理することにより、酸化ニオブからなる薄膜を形成する方法を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平１０−０９２６２１号公報
【特許文献２】特開２０１４−１９９８６２号公報
【特許文献３】特許第３７８５３５０号公報
【特許文献４】特開２０１１−１９０１１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献１に記載の方法は、軟磁性粉末の表面に表面改質用微粉末をコーティングする方法として、熱プラズマ法を採用している。そのため、装置が大掛かりで工程が複雑であるという問題点がある。
【０００９】
また、特許文献２に記載の方法は、バインダー樹脂を用いて金属粉と高誘電率微粒子とを結びつけるものである。そのため、金属粉の表面と高誘電率微粒子との間にバインダー樹脂が存在し、所望の特性を得ることが難しい上、粒子径が大きくなりやすいという問題点がある。
【００１０】
また、特許文献３に記載の方法は、絶縁材料が酸化物ゾルである場合、混合装置を用いて扁平状軟磁性金属粉と絶縁材料を直接混合（乾式混合）する絶縁処理工程を行い、それに続いて圧延配向工程を行うというものである。この方法では、扁平状軟磁性金属粉の表面全体を均一に絶縁材料で覆うことが難しいという問題点がある。
【００１１】
加えて、上述した、特許文献１から特許文献３までには、軟磁性金属粉末の表面にＮｂ２Ｏ５粉末からなる被覆層を形成することについて全く開示されていない。
【００１２】
また、特許文献４に開示された方法は、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）を生成するためには、アンモニアが完全に分解する温度（５００℃以上）で加熱処理を行わなければならないという問題点がある。
【００１３】
本発明は、簡易な工程でありながら、アンモニアを完全分解させるような高温での加熱処理を必要とせず、効率的に軟磁性金属粉末の表面全体を被覆層で覆うことができ、それによって、所望の特性を持つ複合磁性シートを効率的に製造することができる複合磁性シートの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、第１の複合磁性シートの製造方法として、
扁平状の軟磁性金属粉末の表面に被覆層を形成する工程と、
前記被覆層が形成された前記軟磁性金属粉末と有機結合剤とを混合してスラリーを作製する工程と、
前記スラリーをシート状に成形する工程と、を備える複合磁性シートの製造方法であって、
前記被覆層を形成する工程は、
水性溶媒中にＮｂ２Ｏ５粒子を分散させたｐＨ≧７．０のゾルと前記軟磁性金属粉末とを混合して混合物を得る工程と、
減圧雰囲気下において前記混合物を攪拌しつつ加熱する工程と、を含む
複合磁性シートの製造方法を提供する。
【００１５】
また、本発明は第２の複合磁性シートの製造方法として、第１の複合磁性シートの製造方法であって、
前記混合物を攪拌しつつ加熱する工程は、０．１ＭＰａ以下に減圧した雰囲気下において、９５℃以上１５０℃以下に加熱して、４０分以上行われる
複合磁性シートの製造方法を提供する。
【００１６】
また、本発明は第３の複合磁性シートの製造方法として、第１又は第２の複合磁性シートの製造方法であって、
前記Ｎｂ２Ｏ５粒子の比表面積は、前記軟磁性金属粉末の比表面積の２倍以上である
複合磁性シートの製造方法を提供する。
【００１７】
また、本発明は第４の複合磁性シートの製造方法として、第１から第３の複合磁性シートの製造方法のいずれか一つであって、
前記Ｎｂ２Ｏ５粒子の平均粒径は、前記軟磁性金属粉末の平均厚みよりも小さい
複合磁性シートの製造方法を提供する。
【００１８】
また、本発明は第５の複合磁性シートの製造方法として、第４の複合磁性シートの製造方法であって、
前記Ｎｂ２Ｏ５粒子の二次粒子の平均粒径は１５ｎｍ以下である
複合磁性シートの製造方法を提供する。
【００１９】
また、本発明は第６の複合磁性シートの製造方法として、第１から第５の複合磁性シートの製造方法のいずれか一つであって、
前記水性溶媒は、水である
複合磁性シートの製造方法を提供する。
【００２０】
また、本発明は第７の複合磁性シートの製造方法として、第６の複合磁性シートの製造方法であって、
前記ゾルは、分散剤としてアルコールを含んでいる
複合磁性シートの製造方法を提供する。
【００２１】
また、本発明は第１の複合磁性シートとして、
有機結合剤と、前記有機結合剤内に分散された扁平状の軟磁性金属粉末とを備える複合磁性シートであって、
前記軟磁性金属粉末は、その表面が絶縁被覆層で覆われており、
前記絶縁被覆層は、Ｎｂ２Ｏ５粒子からなる
複合磁性シートを提供する。
【００２２】
また、本発明は第２の複合磁性シートとして、第１の複合磁性シートであって、
前記絶縁被覆膜は、５ｎｍ以上６０ｎｍ以下の膜厚を有している
複合磁性シートを提供する。
【００２３】
また、本発明は第３の複合磁性シートとして、第２の複合磁性シートであって、
前記絶縁被覆膜は、５ｎｍ以上３０ｎｍ以下の膜厚を有している
複合磁性シートを提供する。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、熱プラズマ法に比べて簡易な方法で、扁平状の軟磁性金属粉末の表面を覆う被覆層を形成することができる。この方法は、アンモニアを完全分解させるような高温加熱処理を必要としない。また、軟磁性金属製粉末の表面全体にＮｂ２Ｏ５粒子からなる被覆層を形成することができる。よって、本発明の複合磁性シートの製造方法は、良好な特性を有する複合磁性シートを効率的に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の一実施の形態による複合磁性シートの概略構成を示す断面図である。
【図２】本発明の実施例１による複合磁性シートと比較例１による複合磁性シートにおける周波数と透磁率（実部透磁率μ′及び虚部透磁率μ″）との関係を示すグラフである。
【図３】モバイル機器の内部構成の一例を部分的に示す断面図である。
【図４】図３のモバイル機器の内部構成を模した非共振評価系を示す概略図である。
【図５】本発明の実施例１による複合磁性シートと比較例１による複合磁性シートにおける周波数と結合（カップリング）との関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
図１に示されるように、本発明の一実施の形態による複合磁性シート１０は、扁平状軟磁性金属粉末１２と、その表面を覆う絶縁被覆層であるＮｂ２Ｏ５粒子層１４と、有機結合剤１６とを有している。図１から理解されるように、扁平状軟磁性金属粉末１２は、有機結合剤１６中に分散配置されている。
【００２７】
複合磁性シート１０の製造方法は、扁平状軟磁性金属粉末１２を製造する工程と、扁平状軟磁性金属粉末１２の表面にＮｂ２Ｏ５粒子層１４を形成する工程と、Ｎｂ２Ｏ５粒子層１４が形成された扁平状軟磁性金属粉末１２と有機結合剤１６とを混錬してスラリーを形成する工程と、スラリーをシート状に成形する工程と、得られたシートをさらに加工して複合磁性シート１０を得る工程とを備えている。以下、各工程について詳述する。
【００２８】
まず、扁平状軟磁性金属粉末１２を製造する。出発原料として、一次粒子径（Ｄ５０）が１０μｍ以下の軟磁性金属粉末を用いる。このような軟磁性金属粉末として、市販の鉄粉等を用いることができる。あるいは、アトマイズ法などにより製造した軟磁性金属粉末を分級して用いてもよい。軟磁性金属粉末として、カルボニル鉄粉（ＣＩＰ）、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金（センダスト）、Ｆｅ−Ｓｉ合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｒ合金、Ｆｅ−Ａｌ合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃｒ合金、Ｆｅ−Ｃｒ合金、Ｆｅ−Ｎｉ合金（パーマロイ）、Ｆｅ−Ｃｏ合金（パーメンジュール）、Ｆｅ基非晶質合金、Ｃｏ基非晶質合金、及びＦｅ基ナノ結晶材料などを用いることができる。出発原料である軟磁性金属粉末を、ボールミル等の扁平化装置を用いて扁平化処理し、扁平状軟磁性金属粉末１２を得る。
【００２９】
次に、扁平状軟磁性金属粉末１２の表面に被覆層としてＮｂ２Ｏ５粒子層１４を形成する。詳しくは、扁平状軟磁性金属粉末１２とＮｂ２Ｏ５ゾルとを混合し、加熱乾燥させて、扁平状軟磁性金属粉末１２の表面を被覆するＮｂ２Ｏ５粒子層１４を形成する。この工程では、水性溶媒中にＮｂ２Ｏ５粒子を分散させたｐＨ≧７．０のＮｂ２Ｏ５ゾルを用いる。詳しくは、水を溶媒とし、アルコールを分散剤とするＮｂ２Ｏ５ゾルを用いる。このＮｂ２Ｏ５ゾルは、中性又は弱アルカリ性なので、扁平状軟磁性金属粉末１２を腐食させない。また、Ｎｂ２Ｏ５ゾルが弱アルカリ性のとき、Ｎｂ２Ｏ５粒子は、アニオンとして振る舞い、カチオンである扁平状軟磁性金属粉末１２に対して電気的な力で引き寄せられる。一方、ｐＨ＜７の場合は、Ｎｂ２Ｏ５ゾルが扁平状軟磁性金属粉末１２を酸化させ、その結果、扁平状軟磁性金属粉末１２の一部が非磁性部分となり、複合磁性シート１０における透磁率を低下させる。
【００３０】
扁平状軟磁性金属粉末１２とＮｂ２Ｏ５ゾルとの混合比は、扁平状軟磁性金属粉末１２の表面全体がＮｂ２Ｏ５粒子で覆われるように設定する。ここで、扁平状軟磁性金属粉末１２の表面上に形成されるＮｂ２Ｏ５粒子層１４の層数ｎは、Ｎｂ２Ｏ５粒子の比表面積Ｓｎｂと扁平状軟磁性金属粉末１２の比表面積Ｓｐとを用いて、数式１で表される。
【数１】
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つまり、ｎ≧１の場合、扁平状軟磁性金属粉末１２の表面全体がＮｂ２Ｏ５粒子で覆われる。一方、ｎ＜１の場合、扁平状軟磁性金属粉末１２の表面にＮｂ２Ｏ５粒子層１４で覆われていない部分が残る。よって、ｎ≧１となるように、Ｎｂ２Ｏ５粒子の比表面積Ｓｎｂを扁平状軟磁性金属粉末１２の比表面積Ｓｐの２倍以上とすればよい。ここで、Ｎｂ２Ｏ５粒子の比表面積Ｓｎｂは、その粒径（二次粒子の粒径）に依存する。即ち、粒径が小さいほどＮｂ２Ｏ５粒子の比表面積Ｓｎｂは大きい。したがって、Ｎｂ２Ｏ５粒子の比表面積Ｓｎｂを大きくするには、その粒径を小さくすればよい。また、別の観点から、Ｎｂ２Ｏ５粒子の平均粒径（二次粒子の平均粒径）は、扁平状軟磁性金属粉末１２の平均厚さよりも小さいことが望ましい。Ｎｂ２Ｏ５粒子の粒径が扁平状軟磁性金属粉末１２の厚み以上の場合、周縁部において扁平状軟磁性金属粉末１２の表面がＮｂ２Ｏ５粒子で覆われない部分が生じる可能性があるからである。
【００３１】
扁平状軟磁性金属粉末１２とＮｂ２Ｏ５ゾルとの混合物の加熱乾燥は、減圧雰囲気下で混合物を攪拌しつつ液分が残存しないように十分に行う。詳しくは、０．１ＭＰａ以下の減圧雰囲気下で、９５℃以上１５０℃以下に加熱し、加熱状態を４０分以上維持する。加熱温度が９５℃未満では、扁平状軟磁性金属粉末１２にＮｂ２Ｏ５粒子が付着しない。また、加熱温度が１５０℃を超えると扁平状軟磁性金属粉末１２に錆が生じる。また、４０分未満では、扁平状軟磁性金属粉末１２を十分に乾燥させることができない。
【００３２】
Ｎｂ２Ｏ５粒子は、加熱により自己結着性を示し、混合攪拌により扁平状軟磁性金属粉末１２の表面に結着する。その結果、扁平軟磁性金属粉末１２の表面にＮｂ２Ｏ５粒子層１４が形成される。Ｎｂ２Ｏ５粒子層１４の膜厚は、５ｎｍ以上６０ｎｍ以下であることが好ましく、５ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることがより好ましい。５ｎｍより薄いと、必要な電気的絶縁性が得られず、６０ｎｍより厚いと製造される複合磁性シートにおける扁平状軟磁性金属粉末１２の占積率が低くなるからである。扁平状軟磁性金属粉末１２の占積率が低いと、減結合に関わる磁気損失（虚部透磁率）μ″の値が著しく低下する。また、３０ｎｍ以下であれば、隣接する扁平状軟磁性金属粉末１２間の絶縁を確保しつつ、隣接する扁平状軟磁性金属粉末１２間の距離を概ね６０ｎｍ以下にすることができ、複合磁性シートにおいて所望の透磁率μ（＝μ′＋ｊμ″）を実現することができる。
【００３３】
次に、Ｎｂ２Ｏ５粒子層１４が形成された扁平状軟磁性金属粉末１２と有機結合剤１６とを混錬してスラリーを作製する。有機結合剤１６は特に限定されず、種々の有機結合剤を用いることができる。例えば、アクリルゴム、アクリル酸アルキル共重合体等の（メタ）アクリル系ポリマー、アクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ）、フッ素系樹脂、シリコーンゴム、ポリウレタン、ポリエチレン、エチレン・プロピレンゴム（ＥＰＭ）やエチレン・プロピレン・ジエンゴム（ＥＰＤＭ）などのオレフィン系ゴム、ポリフェニレンオキシド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフマレート、及びビスマストリアジンレジンなどを用いることができる。また、難燃性向上等を目的とする非磁性フィラーを有機結合座１６に添加してもよい。非磁性フィラーとして、例えば、赤燐、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、メラミンシアヌレート、及びホスファゼン類などを用いることができる。
【００３４】
次に、作製されたスラリーをシート状に成形する。詳しくは、成膜装置を用いてスラリーをキャリアフィルム上に塗布して乾燥させて、均一な厚さのグリーンシートを作製する。そして、作製したグリーンシートを所定のサイズに切断し、所定サイズのグリーンシートを複数枚積層する。積層された複数枚のグリーンシートに圧力を加えつつ加熱することで、それらのグリーンシートを熱圧着させ、複合磁性シート１０とする。
【００３５】
以上のように、本実施の形態による複合磁性シートの製造方法では、水溶性溶媒にＮｂ２Ｏ５粒子を分散させたＮｂ２Ｏ５ゾルが用いられる。そのため、扁平状軟磁性金属粉末１２の表面を容易かつ効率的にＮｂ２Ｏ５粒子層１４で被覆することができる。また、ｐＨ≧７のＮｂ２Ｏ５ゾルを使用するので、Ｎｂ２Ｏ５粒子が扁平軟磁性金属粉末１２に電気的に引き寄せられ、扁平軟磁性金属粉末１２の表面全体を均等に覆うことができる。その結果、Ｎｂ２Ｏ５粒子層１４は、扁平軟磁性金属粉末１２の表面全体を欠陥なく緻密に覆い、扁平軟磁性金属粉末１２とその周囲との間を確実に絶縁することができる。また、Ｎｂ２Ｏ５粒子層１４は、高硬度で対薬品性にも優れ、フッ酸以外の酸及びアルカリに侵されず、扁平軟磁性金属粉末１２を保護するとともに錆の発生を防ぐ。また、上記のように形成されたＮｂ２Ｏ５粒子層１４の表面は、平滑性に優れる。これにより、扁平軟磁性金属粉末１２と有機結合剤１６とを混合する際、扁平軟磁性金属粉末１２の各々が他の扁平軟磁性金属粉末１２の移動の障害となり難くし、Ｎｂ２Ｏ５粒子層１４の存在によって生じる複合磁性シート１０における扁平軟磁性金属粉末１２の占積率の低下を抑制することができる。
【００３６】
扁平軟磁性金属粉末１２の表面をＮｂ２Ｏ５粒子層１４で被覆すると、被覆しなかった場合に比べて複合磁性シート１０の面内方向の複素誘電率ε＝ε′−ｊε″が減少する。その結果、複合磁性シート１０の高周波ノイズに対する反射係数が低下する。また、複合磁性シート１０における扁平軟磁性金属粉末１２の占積率が向上すると、複素透磁率μ＝μ′−ｊμ″が増加する。本実施の形態では、扁平軟磁性金属粉末１２の表面をＮｂ２Ｏ５粒子層１４で被覆したことによる扁平軟磁性金属粉末１２の占積率の低下は抑制されている。これらのことから、本実施の形態による複合磁性シート１０は、より高い周波数帯（ＧＨｚ帯）の高周波ノイズを低減することができる。
【実施例１】
【００３７】
扁平状軟磁性金属粉末１２として、扁平状カルボニル鉄粉を用いた。扁平状カルボニル鉄粉の比表面積Ｓｐは、Ｓｐ＝２．２ｍ２／ｇであった。また、Ｎｂ２Ｏ５粒子の一次粒子径（メジアン径Ｄ５０）は５ｎｍであり、二次粒子径（Ｄ５０）は、１５ｎｍであった。さらに、Ｎｂ２Ｏ５粒子の比表面積Ｓｎｂは、Ｓｎｂ＝８９．５ｍ２／ｇであった。このとき、（Ｓｎｂ／２）／Ｓｐ≒２０．３≧１である。
【００３８】
ｐＨ＝８のＮｂ２Ｏ５粒子ゾルを用意し、扁平状カルボニル鉄粉の各粒子表面に１層のＮｂ２Ｏ５粒子層が形成されるように、扁平状カルボニル鉄粉とＮｂ２Ｏ５粒子ゾルを秤量した。秤量したＮｂ２Ｏ５粒子ゾルと、秤量した扁平状カルボニル鉄粉とを混合しつつ、０．１ＭＰａの雰囲気下においてオーブンで、加熱温度１００℃、６０分の条件で十分に加熱乾燥させた。走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）及びエネルギー分散型Ｘ線分光（ＥＤＳ）で観察したところ、扁平状カルボニル鉄粉の表面がＮｂ２Ｏ５層で覆われていることを確認できた。確認されたＮｂ２Ｏ５層の表面は平滑であった。また、Ｎｂ２Ｏ５層で被覆された扁平状カルボニル鉄粉に錆びは確認されなかった。
【００３９】
次に、Ｎｂ２Ｏ５粒子層で被覆された扁平状カルボニル鉄粉、アクリルゴム及びシランカップリング剤を、夫々、５０ｖｏｌ．％、４０ｖｏｌ．％及び１０ｖｏｌ．％の割合で混錬しスラリー（塗液）を作製した。そして、成膜装置を用いて作製したスラリーをキャリアフィルム上に塗布し、乾燥させて均一な膜厚のグリーンシートを作製した。次に、作製したグリーンシートを所定サイズに切断し、所定数の切断されたグリーンシートを積層し、熱圧着を行って厚み１００μｍの複合磁性シートを得た。得られた複合磁性シートの表面抵抗は、５．９×１０５Ω／ｓｑ．であり、シート密度は３．４ｇ／ｃｃであり、磁性粉占積率は３４ｖｏｌ．％であった。また、磁気共鳴周波数は１３９ＭＨｚであった。
【００４０】
比較のため、表面にＮｂ２Ｏ５粒子層が形成されていない扁平状カルボニル鉄粉を用いて複合磁性シート（比較例１）を作製した。比較例１の作製は、実施例１と同様に行った。詳しくは、まず、扁平状カルボニル鉄粉（Ｓｐ＝２．２ｍ２/ｇ）、アクリルゴム、及びシランカップリング剤を、夫々、５０ｖｏｌ．％、４０ｖｏｌ．％及び１０ｖｏｌ．％の割合で混錬しスラリー（塗液）を作製した。次に、成膜装置を用いて作製したスラリーをキャリアフィルムに塗布し、乾燥させて均一な膜厚のグリーンシートを作製した。次に、成膜したグリーンシートを所定のサイズに切断し、所定枚数の切断されたグリーンシートを積層し、熱圧着を行って厚み１００μｍの複合磁性シートを得た。得られた複合磁性シートの表面抵抗は２．５×１０２Ω／ｓｑ．であり、シート密度は４．３ｇ／ｃｃであり、磁性粉占積率は４８ｖｏｌ．％であった。また、磁気共鳴周波数は１２３ＭＨｚであった。
【００４１】
得られた２種類の複合磁性シート（実施例１及び比較例１）の夫々について、面内の透磁率を測定した。測定には、インピーダンスマテリアルアナライザＥ４９９１Ａ（Agilent technologies社製）と磁性体測定治具１６４５４Ａ（Agilent technologies社製）を用いた。また、測定試料として、各複合磁性シートを打ち抜き加工して作製した、外径７．９ｍｍ、内径３．０５ｍｍ、厚さ１００μｍのトロイダル形状の試料を用いた。図２に示されるように、実施例１の複合磁性シートにおいて、周波数に対しフラットな実部透磁率μ′２１１の値は１４であった。一方、比較例１の複合磁性シートにおいて、周波数に対しフラットな実部透磁率μ′２２１の値は２４であった。つまり、実施例１の実部透磁率μ′２１１は、比較例１の実部透磁率μ′２２１の５８％程度であった。実施例１の虚部透磁率μ″２１２と比較例１の虚部透磁率μ″２２２との関係も同様であった。
【００４２】
また、得られた複合磁性シート（実施例１及び比較例１）のイントラデカップリング（減結合）の周波数特性を測定した。測定には、図３に示されるモバイル機器３０の内部を模した図４に示される非共振評価系４０を用いた。図３に示されるモバイル機器（携帯電話機、スマートフォン）３０は、金属筐体３０１、ガラスプレート３０２及び樹脂筐体３０３で囲まれた機器の内部に半導体チップ３０４やアンテナ３０５を備えている。金属筐体３０１は、半導体チップ３０４等の内部機器（ノイズ源）から放射される不要電磁波３１１が外部へ漏れないように反射する。金属筐体３０１で反射された不要電磁波３１２は、他の内部機器（被害者）、例えばアンテナ３０５に入射し、誤動作等の原因となる。図４に示される非共振評価系４０は、金属筐体３０１を模した銅板４０１と、ノイズ源を模した送信アンテナ（Ｔｘ）４０２と、被害者を模した受信アンテナ（Ｒｘ）４０３とを有している。送信アンテナ４０２から送信された信号４１０を受信アンテナ４０３で受信したときの透過係数（または伝送係数）（ｄＢ）を、銅板４０１の表面に複合磁性シート４０５を貼り付けた場合と銅板４０１の表面に何も貼り付けていない場合の夫々について求め、その差を複合磁性シート４０５の結合レベルとした。測定試料として、実施例１及び比較例１の複合磁性シートの各々から縦１０ｍｍ、横１０ｍｍ、厚さ１００μｍのシート片を切り出した。図５に示されるように、比較例１の複合磁性シートの結合レベル５２０は、２００ＭＨｚ〜４ＧＨｚの周波数範囲において負である。これに対して、実施例１の複合磁性シートの結合レベル５１０は、２００ＭＨｚ〜９ＧＨｚの周波数範囲において負である。これにより、実施例１の複合磁性シートは、比較例１の複合磁性シートに比べて、減結合している周波数（結合レベルが負の周波数）が高周波側へ伸びていることが確認された。
【符号の説明】
【００４３】
１０    複合磁性シート
１２    扁平状軟磁性金属粉末
１４    Ｎｂ２Ｏ５粒子層
１６    有機結合剤
２１１    実施例１の実部透磁率
２１２    実施例１の虚部透磁率
２２１    比較例１の実部透磁率
２２２    比較例１の虚部透磁率
３０    モバイル機器
３０１    金属筐体
３０２    ガラスプレート
３０３    樹脂筐体
３０４    半導体チップ
３０５    アンテナ
３１１    不要電磁波
３１２    反射された不要電磁波
４０    非共振評価系
４０１    銅板
４０２    送信アンテナ
４０３    受信アンテナ
４０５    複合磁性シート
４１０    信号
５１０    実施例１の結合レベル
５２０    比較例１の結合レベル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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