(57)【要約】【課題】厚みを最小限に抑え、コントラスト比を向上させたタッチスクリーン一体型表示装置を提供すること。【解決手段】ブラックマトリックスを用いて、タッチ電極の抵抗を減少させることができる本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置は、基板上に配置された有機発光素子、有機発光素子上に配置された複数のカラーフィルタ、複数のカラーフィルタの境界部と重畳するように配置され、少なくとも３層の金属膜を備えるブラックマトリックス、およびブラックマトリクス上に配置された第１タッチ電極および第２タッチ電極を備える。【選択図】図５
2018107123.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に配置された有機発光素子の層と、
前記有機発光素子層上に配置された複数のカラーフィルタと、
前記複数のカラーフィルタの境界部と重畳するように配置され、少なくとも３層の金属膜を備えるブラックマトリックスと、
前記ブラックマトリックス上に配置された第１タッチ電極および第２タッチ電極と、
を含む、タッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項２】
前記ブラックマトリックスが、
前記有機発光素子層から入射する光を半透過させる第１半透過層と、
前記第１半透過層上に形成され、前記第１半透過層を透過した光の経路を変更させる第１光経路変更層と、
前記第１光経路変更層上に形成され、前記第１光経路変更層によって経路が変更された光を反射する第１反射層と、
を含むことを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項３】
前記第１半透過層と前記第１反射層が、同一な物質からなることを特徴とする、請求項２に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項４】
前記第１半透過層が、前記第１反射層よりも薄いことを特徴とする、請求項２に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項５】
前記第１光経路変更層が、ＩＴＯまたはＩＺＯからなることを特徴とする、請求項２に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項６】
前記第１半透過層および前記第１反射層が、クロム（Cr）、モリブデン（Mo）、モリブデンとチタンの合金（MoTi）、タングステン（W）、バナジウム（V）、ニオブ（Nb）、タンタル（Ta）、マンガン（Mn）、コバルト（Co）とニッケル（Ni）の中のいずれか一つからなることを特徴とする、請求項２に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項７】
前記第１反射層上に形成された補助金属層をさらに含むことを特徴とする、請求項２に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項８】
前記補助金属層が、アルミニウム（Al）からなることを特徴とする、請求項７に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項９】
前記第１半透過層が、前記有機発光素子層から入射する光の一部を反射し、残りの光を透過させるように前記複数のカラーフィルタのそれぞれの上面に配置されることを特徴とする、請求項２に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項１０】
前記第１反射層が、前記第１タッチ電極及び前記第２タッチ電極と接触することを特徴とする、請求項２に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項１１】
前記第１タッチ電極および前記第２タッチ電極上に配置され、少なくとも３層の金属膜を含む反射防止パターンをさらに含む、請求項１に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項１２】
前記反射防止パターンと同一な層に形成された絶縁膜をさらに含み、
前記絶縁膜は、前記反射防止パターンの間に配置される
ことを特徴とする、請求項１１に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項１３】
前記反射防止パターンが
外部から入射する光を半透過させる第２半透過層と、
前記第２半透過層の下に形成され、前記第２半透過層を透過した光の経路を変更させる第２光経路変更層と、
前記第２光経路変更層の下に形成され、前記第２光経路変更層によって経路が変更された光を反射する第２反射層と、
を含む、請求項１１に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項１４】
前記第２半透過層と前記第２反射層が、同一な物質からなることを特徴とする、請求項１３に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項１５】
前記第２半透過層が、前記第２反射層よりも薄いことを特徴とする、請求項１３に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項１６】
前記第２光経路変更層が、ＩＴＯまたはＩＺＯからなることを特徴とする、請求項１３に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項１７】
前記第２半透過層および前記第２反射層が、クロム（Cr）、モリブデン（Mo）、モリブデンとチタンの合金（MoTi）、タングステン（W）、バナジウム（V）、ニオブ（Nb）、タンタル（Ta）、マンガン（Mn）、コバルト（Co）とニッケル（Ni）の中のいずれか一つからなることを特徴とする、請求項１３に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項１８】
前記反射防止パターンが、前記ブラックマトリックスの少なくとも一部と重畳するように配置されていることを特徴とする、請求項１１に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項１９】
前記第１タッチ電極及び前記第２タッチ電極が配置された層と異なる層に配置され、互いに隣接する第１タッチ電極を、コンタクトホールを通じて電気的に接続するブリッジ電極をさらに含み、
前記反射防止パターンが、前記ブリッジ電極と重畳する
ことを特徴とする、請求項１１に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項２０】
前記第１反射層上に配置された補助金属層をさらに含み、
前記反射防止パターンが、前記ブラックマトリックスと重畳するように配置される
ことを特徴とする、請求項１１に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項２１】
前記反射防止パターンを覆うように形成された反射低減層をさらに含み、
前記反射低減層が、外部から入射する光の一部を遮断する
ことを特徴とする、請求項１１に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項２２】
前記ブラックマトリクス上に形成された第１絶縁膜と、
前記第１タッチ電極および前記第２タッチ電極上に形成された第２絶縁膜と、
前記第２絶縁膜上に配置され、前記第１タッチ電極を電気的に接続するブリッジ電極と、
をさらに含み、
前記ブリッジ電極が、前記第１絶縁膜、前記第１タッチ電極、および前記第２絶縁膜を貫通するコンタクト部を通じて前記第１タッチ電極及び前記ブラックマトリックスと接続される
ことを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項２３】
前記有機発光素子層上に形成された封止層をさらに含み、
前記複数のカラーフィルタが、前記封止層上に形成される
ことを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項２４】
前記第１タッチ電極および前記第２タッチ電極上に配置され、外部から入射する光の一部を遮断する反射低減層をさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項２５】
前記反射低減層が、ブラック顔料を含む有機膜で形成されることを特徴とする、請求項２４に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項２６】
前記ブラックマトリックスと、前記第１タッチ電極及び前記第２タッチ電極の間に前記複数のカラーフィルタと前記ブラックマトリックスとを覆うように形成された絶縁膜をさらに含み、
前記第１タッチ電極及び前記第２タッチ電極が、前記絶縁膜上に配置される
ことを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項２７】
前記第１タッチ電極及び前記第２タッチ電極が、前記カラーフィルタの上面に配置されることを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項２８】
前記第１タッチ電極および前記第２タッチ電極の間に配置され、前記第１タッチ電極および前記第２タッチ電極上に配置された絶縁膜をさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項２９】
前記第１タッチ電極及び前記第２タッチ電極が配置された層と異なる層に配置され、互いに隣接する第１タッチ電極をコンタクトホールを通じて電気的に接続するブリッジ電極をさらに含み、
前記ブリッジ電極が、前記第２タッチ電極と交差する
ことを特徴とする、請求項２８に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項３０】
前記ブリッジ電極が、前記ブラックマトリックスと重畳するように配置されることを特徴とする、請求項２９に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項３１】
前記第１タッチ電極と接続した第１タッチラインおよび前記第２タッチ電極と接続した第２タッチラインをさらに含み、
前記第１タッチラインが、前記第１タッチ電極から延長され、前記第２タッチラインが、前記第２タッチ電極から延長される
ことを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項３２】
保護膜を有する薄膜トランジスタ層をさらに含み、
前記第１タッチライン及び前記第２タッチラインのそれぞれが、前記保護膜を貫通するコンタクトホールを通じてパッドに接続される
ことを特徴とする、請求項３１に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項３３】
前記ブラックマトリックスが、前記第１タッチ電極および前記第２タッチ電極のそれぞれから延長されることを特徴とする、請求項１に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項３４】
保護膜を有する薄膜トランジスタ層をさらに含み、
前記ブラックマトリックスが、前記保護膜を貫通するコンタクトホールを通じてパッドに接続される
ことを特徴とする、請求項３３に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチスクリーン一体型表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
情報化社会が発展するにつれて、画像を表示するための表示装置への要求が様々な形で高まっている。これにより、最近では液晶表示装置（LCD：Liquid Crystal Display）、プラズマ表示装置（PDP：Plasma Display Panel）、有機発光表示装置（OLED：Organic Light Emitting Display）などの様々な表示装置が活用されている。これらの中で、有機発光表示装置は、低電圧駆動が可能で薄型であり、視野角に優れて応答速度が速いという特徴がある。
【０００３】
有機発光表示装置は、データライン、スキャンライン、データラインとスキャンラインの交差部に形成された多数の画素を備える表示パネル、スキャンラインにスキャン信号を供給するスキャン駆動部、及びデータラインにデータ電圧を供給するデータ駆動部を備える。画素の各々は、有機発光素子、ゲート電極の電圧に応じて有機発光素子に供給される電流の量を調節する駆動トランジスタ（transistor）、スキャンラインのスキャン信号に応答してデータラインのデータ電圧を駆動トランジスタのゲート電極に供給するスキャントランジスタを備える。
【０００４】
最近、有機発光表示装置は、使用者のタッチを認識できるタッチスクリーンパネルを含むタッチスクリーン一体型表示装置として形成される。この場合、有機発光表示装置は、タッチスクリーン装置としても機能する。最近タッチスクリーン装置は、ナビゲーション（navigation）、産業用端末機、ノートパソコン、金融自動化機器、ゲーム機などのようなモニター、スマートフォン、タブレット、携帯電話、ＭＰ３、ＰＤＡ、ＰＭＰ、ＰＳＰ、携帯ゲーム機、ＤＭＢ受信機、タブレットＰＣなどの携帯端末、および冷蔵庫、電子レンジ、洗濯機などの家電製品などに適用されている。また、タッチスクリーン装置は、誰でも簡単に操作することができるという利点によって適用が徐々に拡大している。
【０００５】
図１は、従来のタッチスクリーン一体型表示装置を示す断面図である。
【０００６】
図１を参照すると、従来のタッチスクリーン一体型表示装置は、第１基板１、第２基板７、有機発光素子層２、封止層３、接着層４、タッチセンシング層５、およびカラーフィルタ層６を備える。
【０００７】
従来のタッチスクリーン一体型表示装置は、第１基板１と第２基板７とが接着層４によって互いに接着される。ここで、第１基板１上に有機発光素子層２と有機発光素子層２とを覆う封止層３が形成され、第２基板７上にタッチセンシング層５とカーリーフィルタ層６とが形成される。
【０００８】
上述したような従来のタッチスクリーン一体型表示装置は、第１基板１と第２基板７との間に形成された接着層４によって厚みが大きくなるという問題がある。
【０００９】
また、従来のタッチスクリーン一体型表示装置は、第１基板１と第２基板７との間に形成された接着層４によって有機発光素子２とカラーフィルタ層６との間の距離が大きくなるという他の問題がある。これにより、従来のタッチスクリーン一体型表示装置は、以下のような問題が発生し得る。
【００１０】
図２ａ及び図２ｂは、有機発光素子２とカラーフィルタ層６との間の距離による混色の発生と輝度視野角の一例を示す図である。図２ａ及び図２ｂは、説明の便宜上、有機発光素子層２とカラーフィルタ層６だけを概略的に示している。
【００１１】
図２ａには、有機発光素子層２の有機発光層（ＯＬ）とカラーフィルタ層６のブラックマトリックス（ＢＭ）との間の距離が「ａ」である場合の、有機発光素子層２による混色の発生と輝度視野角が示されており、図２ｂには、有機発光素子層２の有機発光層（ＯＬ）とカラーフィルタ層６のブラックマトリックス（ＢＭ）との間の距離が「ｂ」である場合の、有機発光素子層２による混色の発生と輝度視野角が示されている。距離「ａ」は、距離「ｂ」よりも長い。有機発光素子層２は、アノード電極（ＡＮＤ）、有機発光層（ＯＬ）、及びカソード電極（ＣＡＴ）を備える。
【００１２】
図２ａ及び図２ｂを参照すると、有機発光層（ＯＬ）とブラックマトリックス（ＢＭ）との間の距離が「ａ」である場合には、いずれか一つの画素の有機発光層（ＯＬ）から放射された光がブラックマトリックス（ＢＭ）に遮断されずに、隣接する画素のカラーフィルタ（ＣＦ）に進行する混色が発生し得る。しかし、有機発光層（ＯＬ）とブラックマトリックス（ＢＭ）との間の距離が「ｂ」である場合には、混色がほとんど発生しないことがあり得る。
【００１３】
また、有機発光層（ＯＬ）とブラックマトリックス（ＢＭ）との間の距離が「ａ」である場合には、有機発光層（ＯＬ）から放射された光が第１角度（θ１）で出光するのと比較して、有機発光層（ＯＬ）とブラックマトリックス（ＢＭ）との間の距離が「ｂ」である場合には、有機発光層（ＯＬ）から放射された光が第１角度（θ１）よりも大きい第２角度（θ２）で出光する。
【００１４】
つまり、有機発光素子２の有機発光層（ＯＬ）とカラーフィルタ層６のブラックマトリックス（ＢＭ）との間の距離が大きくなるほど混色が発生すると同時に、輝度視野角と色視野角が減少するという問題が発生する。
【００１５】
一方、従来のタッチスクリーン一体型表示装置には、外部から入射する光によって画質が低下することを防止するために偏光板が形成される。この場合、従来のタッチスクリーン一体型表示装置は、偏光板によって厚さが大きくなるだけでなく、外部光が偏光板に反射して、屋外において画面が鏡のように見えるなど、屋外での画像の視認性が低下する別の問題がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
本発明は、有機発光層とブラックマトリックスとの間の距離を最小化させることができるタッチスクリーン一体型表示装置を提供することを技術的課題とする。
【００１７】
また、本発明は、厚みを最小限に抑えることができるタッチスクリーン一体型表示装置を提供することを別の技術的課題とする。
【００１８】
また、本発明は、コントラスト比（contrast ratio）を向上させることができるタッチスクリーン一体型表示装置を提供することを更に別の技術的課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置は、基板上に配置された有機発光素子、有機発光素子上に配置された複数のカラーフィルタ、複数のカラーフィルタの境界部と重畳するように配置され、少なくとも３層の金属膜を備えるブラックマトリックス、およびブラックマトリクス上に配置された第１タッチ電極および第２タッチ電極を備える。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の実施例は、封止層上にカラーフィルタ層を直接形成し、カラーフィルタ層上にタッチセンシング層を直接形成することにより、第１基板と第２基板の合着時に整列する必要がなく、別途の接着層が必要ない。これにより、表示パネルの厚みを小さくすることができる。
【００２１】
また、本発明の実施例は、封止層とカラーフィルタ層との間に接着層が形成されないので、有機発光素子層の有機発光層とカラーフィルタ層のブラックマトリックスとの間の距離が小さくなり、混色が発生せず、輝度視野角と色視野角が改善され得る。
【００２２】
また、本発明の実施例は、カラーフィルタとタッチ電極との間に形成された少なくとも３層以上の金属膜を用いて、有機発光素子層から放出された光が混色することを防止することができると同時に、タッチ電極の抵抗を減少させることができる。
【００２３】
また、本発明の実施例は、別途のタッチ補助電極を形成しなくても、ブラックマトリクスを用いて、タッチ電極の抵抗を減少させることができるので、製造コストを削減することができるだけでなく、表示パネルの厚みを最小限に抑えることができる。
【００２４】
また、本発明の実施例は、タッチ電極上に形成された少なくとも３層以上の金属膜を用いて、外光反射率を減少させることができる。これにより、本発明の実施例は、偏光板なしでコントラスト比を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】従来のタッチスクリーン一体型表示装置を示す断面図である。
【図２ａ】有機発光素子層とカラーフィルタ層との間の距離による混色の発生と輝度視野角を示す例示図である。
【図２ｂ】有機発光素子層とカラーフィルタ層との間の距離による混色の発生と輝度視野角を示す例示図である。
【図３】本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置を示す斜視図である。
【図４】本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置を示すブロック図である。
【図５】図３の表示パネルの一側を概略的に示す断面図である。
【図６】図３のタッチスクリーン一体型表示装置のタッチセンシング層を示す平面図である。
【図７】図３のタッチスクリーン一体型表示装置のタッチセンシング層およびカラーフィルタ層を拡大して示す平面図である。
【図８】図７のII−II’の第１実施例を示す断面図である。
【図９】図７のIII−III’の第１実施例を示す断面図である。
【図１０ａ】ブラックマトリックスの一例を示す断面図である。
【図１０ｂ】ブラックマトリックスの他の例を示す断面図である。
【図１１】外光反射防止層の一例を示す断面図である。
【図１２】図７のＩ−Ｉ’の第１実施例を示す断面図である。
【図１３】図７のII−II’の第２実施例を示す断面図である。
【図１４】図７のIII−III’の第２実施例を示す断面図である。
【図１５】図７のII−II’の第３実施例を示す断面図である。
【図１６】図７のIII−III’の第３実施例を示す断面図である。
【図１７】図７のII−II’の第４実施例を示す断面図である。
【図１８】図７のIII−III’の第４実施例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
本発明の利点および特徴、そしてそれらを達成する方法は、添付の図と共に詳細に後述する実施例を参照すると明確になるだろう。しかし、本発明は、以下で開示する実施例に限定されるものではなく、異なる多様な形態で具現されるものであり、単に本実施例は、本発明の開示を完全にし、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供するものであり、本発明は、請求項の範疇によってのみ定義される。
【００２７】
本発明の実施例を説明するために図で開示された形状、大きさ、比率、角度、数などは例示的なものなので、本発明は、図に示された事項に限定されるものではない。明細書全体にわたって同一参照符号は同一の構成要素を指す。また、本発明を説明するにおいて、関連する公知技術に対する具体的な説明が本発明の要旨を不必要に曖昧にすると判断された場合、その詳細な説明は省略する。
【００２８】
本明細書で言及した「含む」、「有する」、「からなる」などが使用されている場合は、「〜だけ」が使用されていない限り、他の部分が追加され得る。構成要素を単数で表現する場合に特に明示的な記載事項がない限り、複数が含まれる場合を含む。
【００２９】
構成要素を解釈するに当たり、別途の明示的な記載がなくても誤差の範囲を含むものと解釈する。
【００３０】
位置関係の説明である場合には、例えば、「〜上に」、「〜の上部に」、「〜の下部に」、「〜の隣に」など２つの部分の位置関係が説明されている場合は、「すぐに」または「直接」が使用されていない限り、二つの部分の間に１つ以上の他の部分が位置することもできる。
【００３１】
時間の関係に対する説明である場合には、例えば、「〜の後」、「〜に続いて」、「〜次に」、「〜前に」などで時間的前後関係が説明されている場合は、「すぐに」または「直接」が使用されていない以上連続していない場合も含むことができる。
【００３２】
第１、第２などがさまざまな構成要素を記述するために使用されるが、これらの構成要素はこれらの用語によって制限されない。これらの用語は、ただ一つの構成要素を他の構成要素と区別するために使用されるものである。したがって、以下に記載されている第１構成要素は、本発明の技術的思想内で第２構成要素であることもある。
【００３３】
「Ｘ軸方向」、「Ｙ軸方向」および「Ｚ軸方向」は、互いの関係が垂直方向からなる幾何学的な関係だけに解釈してはならず、本発明の構成は、機能的に作用することができる範囲内で、より広い方向性を有することを意味することができる。
【００３４】
「少なくとも一つ」の用語は、一つ以上の関連項目から提示可能なすべての組み合わせを含むものと理解されなければならない。たとえば、「第１項目、第２項目及び第３項目のうち少なくとも一つ」の意味は、第１項目、第２項目または第３項目のそれぞれのみならず、第１項目、第２項目及び第３項目の中で２つ以上から提示することができるすべての項目の組み合わせを意味する。
【００３５】
本発明のいくつかの実施例のそれぞれの特徴が部分的または全体的に互いに結合または組み合わせ可能で、技術的に様々な連動と駆動が可能であり、各実施例が互いに独立して実施可能であり、連関関係で一緒に実施することもできる。
【００３６】
以下、添付の図を参照して、本発明の好ましい実施例を詳細に説明することにする。
【００３７】
図３は、本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置を示す斜視図である。図４は、本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置を示すブロック図である。
【００３８】
図３及び図４を参照すると、本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置１００は、表示パネル１１０、スキャン駆動部１２０、データ駆動部１３０、タイミングコントローラ１６０、ホストシステム１７０、タッチ駆動部１８０、およびタッチ座標算出部１９０を備える。
【００３９】
本発明の実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置は、液晶表示装置（Liquid Crystal Display、LCD）、電界放出表示装置（Field Emission Display：FED）、プラズマ表示装置（Plasma Display Panel、PDP）、有機発光表示装置（Organic Light Emitting Display、OLED）、電気泳動表示装置（Electrophoresis、EPD）などの平板表示装置として実装され得る。以下の実施例では、本発明の実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置が有機発光表示装置に実装された例を中心に説明するが、これに限定されないことに注意しなければならない。
【００４０】
表示パネル１１０は、第１基板１１１と第２基板１１２を備える。第２基板１１２は、封止基板であり得る。第１基板１１１は、プラスチックフィルム（plastic film）またはガラス基板（glass substrate）であり得る。第２基板１１２は、プラスチックフィルム、ガラス基板、または封止フィルム（保護フィルム）であり得る。
【００４１】
表示パネル１１０は、画素（Ｐ）が設けられ画像を表示する領域である表示領域を備える。表示パネル１１０には、データライン（Ｄ１〜Ｄｍ、ｍは２以上の正の整数）とスキャンライン（Ｓ１〜Ｓｎ、ｎは２以上の正の整数）が形成される。データライン（Ｄ１〜Ｄｍ）は、スキャンライン（Ｓ１〜Ｓｎ）と交差するように形成することができる。画素（Ｐ）は、ゲートラインとデータラインの交差構造によって定義される領域に形成され得る。
【００４２】
表示パネル１１０の画素（Ｐ）のそれぞれは、データライン（Ｄ１〜Ｄｍ）のいずれか一つとスキャンライン（Ｓ１〜Ｓｎ）のいずれか一つに接続され得る。表示パネル１１０の画素（Ｐ）のそれぞれは、ゲート電極に印加されたデータ電圧に応じてドレイン・ソース間電流を調整する駆動トランジスタ（transistor）、スキャンラインのスキャン信号によってターンオンされ、データラインのデータ電圧を駆動トランジスタのゲート電極に供給するスキャントランジスタ、駆動トランジスタのドレイン・ソース間電流に応じて発光する有機発光ダイオード（organic light emitting diode）、及び前記駆動トランジスタのゲート電極の電圧を保存するためのコンデンサ（capacitor）を含むことができる。これにより、画素（Ｐ）のそれぞれは、有機発光ダイオードに供給される電流に応じて発光することができる。
【００４３】
スキャン駆動部１２０は、タイミングコントローラ１６０からスキャン制御信号（ＧＣＳ）の入力を受ける。スキャン駆動部１２０は、スキャン制御信号（ＧＣＳ）に基づいてスキャン信号をスキャンライン（Ｓ１〜Ｓｎ）に供給する。
【００４４】
スキャン駆動部１２０は、表示パネル１１０の表示領域の一側または両側の外側の非表示領域にＧＩＰ（gate driver in panel）方式で形成され得る。または、スキャン駆動部１２０は、駆動チップにて製作され、軟性フィルムを用いて実装され、ＴＡＢ（tape automated bonding）方式で表示パネル１１０の表示領域の一側または両側の外側の非表示領域に付着させることもできる。
【００４５】
データ駆動部１３０は、タイミングコントローラ１６０からのデジタルビデオデータ（ＤＡＴＡ）とデータ制御信号（ＤＣＳ）の入力を受ける。データ駆動部１３０は、データ制御信号（ＤＣＳ）に基づいて、デジタルビデオデータ（ＤＡＴＡ）をアナログ正極性／負極性データ電圧に変換してデータラインに供給する。つまり、スキャン駆動部１２０のスキャン信号によってデータ電圧が供給される画素が選択され、選択された画素にデータ電圧が供給される。
【００４６】
データ駆動部１３０は、図２に示すように、複数のソースドライブＩＣ１３１を含むことができる。複数のソースドライブＩＣ１３１のそれぞれは、ＣＯＦ（chip on film）またはＣＯＰ（chip on plastic）方式で軟性フィルム１４０に実装され得る。軟性フィルム１４０は、異方性導電フィルム（antisotropic conducting film）を用いて、表示パネル１１０の非表示領域に設けられたパッド上に付着し、これにより、複数のソースドライブＩＣ１３１は、パッドに接続ことができる。
【００４７】
回路基板１５０は、軟性フィルム１４０に付着することができる。回路基板１５０は、駆動チップに実装された多数の回路が実装され得る。例えば、回路基板１５０には、タイミングコントローラ１６０が実装され得る。回路基板１５０は、プリント回路基板（printed circuit board）またはフレキシブルプリント回路基板（flexible printed circuit board）であり得る。
【００４８】
タイミングコントローラ１６０は、ホストシステム１７０からのデジタルビデオデータ（ＤＡＴＡ）とタイミング信号の入力を受ける。タイミング信号は、垂直同期信号（vertical synchronization signal）、水平同期信号（horizontal synchronization signal）、データイネーブル信号（data enable signal）、ドットクロック（dot clock）などを含むことができる。垂直同期信号は、１フレーム期間を定義する信号である。水平同期信号は、表示パネル（ＤＩＳ）の１水平ラインの画素にデータ電圧を供給するのに必要な１水平期間を定義する信号である。データイネーブル信号は、有効なデータが入力される期間を定義する信号である。ドットクロックは、所定の短い周期で反復する信号である。
【００４９】
タイミングコントローラ１６０は、スキャン駆動部１２０と、データ駆動部１３０の動作タイミングを制御するために、タイミング信号に基づいて、データ駆動部１３０の動作タイミングを制御するためのデータ制御信号（ＤＣＳ）と、スキャン駆動部１２０の動作タイミングを制御するためのスキャン制御信号（ＧＣＳ）とを発生する。タイミングコントローラ１６０は、スキャン駆動部１２０にスキャン制御信号（ＧＣＳ）を出力し、データ駆動部１３０にデジタルビデオデータ（ＤＡＴＡ）とデータ制御信号（ＤＣＳ）とを出力する。
【００５０】
ホストシステム１７０は、ナビゲーションシステム、セットトップボックス、ＤＶＤプレーヤー、ブルーレイプレーヤー、パーソナルコンピュータ（ＰＣ）、ホームシアターシステム、放送受信機、携帯電話システム（Phone system）などで実装され得る。ホストシステム１７０は、スケーラー（scaler）を内蔵したＳｏＣ（System on chip）を含む入力映像のデジタルビデオデータ（ＤＡＴＡ）を表示パネル１１０に表示するのに適した形式に変換する。ホストシステム１７０は、デジタルビデオデータ（ＤＡＴＡ）とタイミング信号とをタイミングコントローラ１６０に伝送する。
【００５１】
表示パネル１１０には、データライン（Ｄ１〜Ｄｍ）とスキャンライン（Ｓ１〜Ｓｎ）以外に、第１タッチ電極及び第２タッチ電極が形成され得る。第１タッチ電極は、第２タッチ電極と交差するように形成され得る。第１タッチ電極は、第１タッチライン（Ｔ１〜Ｔｊ、ｊは２以上の正の整数）を通じて、第１タッチ駆動部１８１に接続され得る。第２タッチ電極は、第２タッチライン（Ｒ１〜Ｒｉ、ｉは２以上の正の整数）を通じて第２タッチ駆動部１８２に接続され得る。第１タッチ電極と第２タッチ電極の交差部のそれぞれには、タッチセンサが形成され得る。本発明の実施例では、タッチセンサが相互容量（mutual capacitance）で実装された例を例示したが、これに限定されないことに注意しなければならない。第１タッチ電極及び第２タッチ電極の詳細な説明は、図５を参照に後述する。
【００５２】
タッチ駆動部１８０は、第１タッチライン（Ｔ１〜Ｔｊ）を通じて、第１タッチ電極に駆動パルスを供給し、第２タッチライン（Ｒ１〜Ｒｉ）を通じてタッチセンサのそれぞれの占める変化量をセンシングする。すなわち、図３は、第１タッチライン（Ｔ１〜Ｔｊ）が駆動パルスを供給するＴｘラインであり、第２タッチライン（Ｒ１〜Ｒｉ）がタッチセンサそれぞれの占める変化量をセンシングするＲｘラインであることを中心に説明した。
【００５３】
タッチ駆動部１８０は、第１タッチ駆動部１８１、第２タッチ駆動部１８２、およびタッチコントローラ１８３を備える。第１タッチ駆動部１８１、第２タッチ駆動部１８２、およびタッチコントローラ１８３は、一つのＲＯＩＣ（Read-out IC）内に集積され得る。
【００５４】
第１タッチ駆動部１８１は、タッチコントローラ１８３の制御下に駆動パルスを出力する第１タッチラインを選択して、選択された第１タッチラインに駆動パルスを供給する。例えば、第１タッチ駆動部１８１は、第１タッチライン（Ｔ１〜Ｔｊ）に順次駆動パルスを供給することができる。
【００５５】
第２タッチ駆動部１８２は、タッチコントローラ１８３の制御下にタッチセンサの占める変化量を受信する第２タッチラインを選択して、選択された第２タッチラインを通じてタッチセンサの占める変化量を受信する。第２タッチ駆動部１８２は、第２タッチライン（Ｒ１〜Ｒｉ）を通じて受信されたタッチセンサの占める変化量をサンプリングしてデジタルデータであるタッチローデータ（touch raw data、TRD）に変換する。
【００５６】
タッチコントローラ１８３は、第１タッチ駆動部１８１で駆動パルスが出力される第１タッチラインを設定するためのＴｘセットアップ信号と、第２タッチ駆動部１８２でタッチセンサ電圧を受信する第２タッチラインを設定するためのＲｘセットアップ信号とを発生することができる。また、タッチコントローラ１８３は、第１タッチ駆動部１８１と第２タッチ駆動部１８２の動作タイミングを制御するためのタイミング制御信号とを発生する。
【００５７】
タッチ座標算出部１９０は、タッチ駆動部１８０からのタッチローデータ（ＴＲＤ）の入力を受ける。タッチ座標算出部１９０は、タッチ座標の算出方法に基づいて、タッチ座標（複数）を算出し、タッチ座標（複数）の情報を含むタッチ座標データ（ＨＩＤｘｙ）をホストシステム１７０に出力する。
【００５８】
タッチ座標算出部１９０は、ＭＣＵ（Micro Controller Unit、MCU）で実装され得る。ホストシステム１７０は、タッチ座標算出部１９０から入力するタッチ座標データ（ＨＩＤｘｙ）を分析して、使用者によってタッチが発生した座標と連携した応用プログラム（application program）を実行する。ホストシステム１７０は、実行された応用プログラムに応じて、デジタルビデオデータ（ＤＡＴＡ）とタイミング信号をタイミングコントローラ１６０に伝送する。
【００５９】
タッチ駆動部１８０は、ソースドライブＩＣ１３１に含まれるか、または別途の駆動チップにて製作して回路基板１５０上に実装し得る。また、タッチ座標算出部１９０は、駆動チップにて製作して回路基板１５０上に実装し得る。
【００６０】
図５は、図３の表示パネルの一側を概略的に示す断面図である。
【００６１】
図５を参照すると、表示パネル１１０は、第１基板１１１、第２基板１１２、第１基板及び第２基板１１１、１１２の間に配置された薄膜トランジスタ層１０、有機発光素子層２０、封止層３０、カラーフィルタ層４０およびタッチセンシング層５０を含むことができる。
【００６２】
第１基板１１１は、プラスチックフィルムまたはガラス基板であり得る。
【００６３】
第１基板１１１上に薄膜トランジスタ層１０が形成される。薄膜トランジスタ層１０は、スキャンライン、データライン、及び薄膜トランジスタを含むことができる。薄膜トランジスタの各々は、ゲート電極、半導体層、ソース電極、およびドレイン電極を備える。スキャン駆動部がＧＩＰ（gate driver in panel）方式で形成される場合には、スキャン駆動部は、薄膜トランジスタ層１０と一緒に形成することができる。
【００６４】
薄膜トランジスタ層１０上には、有機発光素子層２０が形成される。有機発光素子層２０は、第１電極、有機発光層、第２電極、およびバンクを備える。有機発光層の各々は、正孔輸送層（hole transporting layer）、発光層（organic light emitting layer）、および電子輸送層（electron transporting layer）を含むことができる。この場合、第１電極と第２電極に電圧が印加されると正孔と電子がそれぞれ正孔輸送層と電子輸送層を通じて発光層に移動し、発光層で互いに結合して発光するようになる。有機発光素子層２０が形成された領域には、画素が設けられるので、有機発光素子層２０が形成された領域は、表示領域と定義することができる。表示領域の周辺領域は、非表示領域として定義することができる。
【００６５】
有機発光素子層２０上には、封止層３０が形成される。封止層３０は、有機発光素子層２０に酸素または水分が浸透することを防止する役割をする。封止層３０は、少なくとも一つの無機膜を含むことができる。
【００６６】
封止層３０上には、カラーフィルタ層４０が形成される。カラーフィルタ層４０は、カラーフィルタとブラックマトリクスを含むことができる。ここで、ブラックマトリックスを金属多層膜で形成する。カラーフィルタ層４０の断面構造の詳細な説明は、図８〜図１６を参照に後述する。
【００６７】
カラーフィルタ層４０上には、タッチセンシング層５０が形成される。タッチセンシング層５０は、使用者のタッチをセンシングするための第１タッチ電極及び第２タッチ電極を備える。タッチセンシング層５０の平面構造は、図４及び図５を参照に後述する。また、タッチセンシング層５０の平面構造は、図６及び図７を参照に後述する。また、タッチセンシング層５０の断面構造の詳細な説明は、図８〜図１６を参照に後述する。
【００６８】
タッチセンシング層５０上には、第２基板１１２が形成される。第２基板１１２は、第１基板１１１を覆うカバー（cover）基板またはカバーウィンドウ（window）のような役割をする。第２基板１１２は、プラスチックフィルム、ガラス基板または封止フィルム（保護フィルム）であり得る。
【００６９】
図６は、図３のタッチスクリーン一体型表示装置のタッチセンシング層を示す平面図である。
【００７０】
図６を参照すると、タッチセンシング層５０は、第１タッチ電極（ＴＥ）に、第２タッチ電極（ＲＥ）及びブリッジ電極（ＢＥ）を含む。第１タッチ電極（ＴＥ）は、第１方向（ｙ軸方向）に配置されて相互に接続され、第２タッチ電極（ＲＥ）は、第２方向（ｘ軸方向）に配置されて相互に接続される。第１方向（ｙ軸方向）は、スキャンライン（Ｓ１〜Ｓｎ）と平行方向であり、第２方向（ｘ軸方向）は、データライン（Ｄ１〜Ｄｍ）と平行方向であり得る。または、第１方向（ｙ軸方向）は、データライン（Ｄ１〜Ｄｍ）と平行方向であり、第２方向（ｘ軸方向）は、スキャンライン（Ｓ１〜Ｓｎ）と平行方向であり得る。
【００７１】
第１タッチ電極（ＴＥ）と第２タッチ電極（ＲＥ）とは、それらの交差領域で互いに短絡することを防止するために、第１方向に互いに隣接し、第１タッチ電極（ＴＥ）はブリッジ電極（ＢＥ）を通じて電気的に接続することができる。ブリッジ電極（ＢＥ）は、第１タッチ電極及び第２タッチ電極（ＴＥ、ＲＥ）と互いに異なる層に配置され、コンタクト部（ＣＴ）を通じて互いに隣接した第１タッチ電極（ＴＥ）に接続することができる。ブリッジ電極（ＢＥ）は、第２タッチ電極（ＲＥ）と交差することができる。
【００７２】
第１方向に接続された第１タッチ電極（ＴＥ）のそれぞれは、第２方向に隣接する第１タッチ電極（ＴＥ）と電気的に絶縁される。第２方向に接続された第２タッチ電極（ＲＥ）のそれぞれは、第１方向に隣接する第２タッチ電極（ＲＥ）と電気的に絶縁される。
【００７３】
これにより、第１タッチ電極（ＴＥ）と第２タッチ電極（ＲＥ）との交差領域には、タッチセンサに対応する相互容量（mutual capacitance）が形成され得る。
【００７４】
第１方向に互いに接続された第１タッチ電極（ＴＥ）中の一側端に配置された第１タッチ電極（ＴＥ）は、第１タッチライン（ＴＬ）と接続することができる。第１タッチライン（ＴＬ）は、パッド（ＰＡＤ）３３０を通じて第１タッチ駆動部１８１に接続することができる。パッド（ＰＡＤ）３３０は、第１タッチ駆動部１８１に接続されたリンクライン３５０と接続することができる。したがって、第１方向に互いに接続された第１タッチ電極（ＴＥ）は、第１タッチライン（ＴＬ）を使用して、第１タッチ駆動部１８１から駆動パルスの入力を受けることができる。
【００７５】
第２方向に互いに接続された第２タッチ電極（ＲＥ）中の一側端に配置された第２タッチ電極（ＲＥ）は、第２タッチライン（ＲＬ）と接続することができる。第２タッチライン（ＲＬ）は、パッド（ＰＡＤ）を通じて第２タッチ駆動部１８２に接続することができる。パッド（ＰＡＤ）３３０は、第２タッチ駆動部１８２に接続されたリンクライン３５０と接続することができる。したがって、第２タッチ駆動部１８２は、第２方向に互いに接続された第２タッチ電極（ＴＥ２）のタッチセンサの占める変化量の入力を受けることができる。
【００７６】
第１実施例
図７は、図３のタッチスクリーン一体型表示装置のタッチセンシング層とカラーフィルタ層を拡大して示す平面図である。図８は、図７のII−II’の第１実施例を示す断面図であり、図９は、図７のIII−III’の第１実施例を示す断面図である。図１０ａは、ブラックマトリックスの一例を示す断面図であり、図１０ｂは、ブラックマトリックスの他の例を示す断面図である。図１１は、外光反射防止層の一例を示す断面図である。図１２は、図７のＩ−Ｉ’の第１実施例を示す断面図である。
【００７７】
図７〜図１２を参照すると、第１基板１１１上には、薄膜トランジスタ層１０が形成される。薄膜トランジスタ層１０は、薄膜トランジスタ２１０、ゲート絶縁膜２２０、層間絶縁膜２３０、保護膜２４０、および平坦化膜２５０を備える。
【００７８】
第１基板１１１の一面上には、バッファ膜が形成される。バッファ膜は、透湿性の第１基板１１１を通じて浸透する水分から薄膜トランジスタ２１０及び有機発光素子２６０を保護するために、第１基板１１１の一面上に形成される。第１基板１１１の一面は、第２基板１１２と向き合う面であり得る。バッファ膜は、交互に積層された複数の無機膜からなり得る。たとえば、バッファ膜は、シリコン酸化膜（SiOx）、シリコン窒化膜（SiNx）、SiONの中のいずれか一つまたは複数の無機膜が交互に積層された多重膜で形成することができる。バッファ膜は省略することができる。
【００７９】
バッファ膜上には、薄膜トランジスタ２１０が形成される。薄膜トランジスタ２１０は、アクティブ層２１１、ゲート電極２１２、ソース電極２１４、およびドレイン電極２１５を備える。図８は、ゲート電極２１２がアクティブ層２１１の上部に位置する上部ゲート（トップゲート、top gate）方式で形成された薄膜トランジスタ２１０を例示したが、これに限定されないことに注意しなければならない。つまり、薄膜トランジスタ２１０は、ゲート電極２１２がアクティブ層２１１の下部に位置する下部ゲート（ボトムゲート、bottom gate）方式またはゲート電極２１２がアクティブ層２１１の上部と下部の両方に位置するダブルゲート（double gate）方式で形成され得る。
【００８０】
バッファ膜上には、アクティブ層２１１が形成される。アクティブ層２１１は、シリコン系半導体物質または酸化物系半導体物質で形成することができる。バッファ膜とアクティブ層２１１との間には、アクティブ層２１１に入射する外部光を遮断するための遮光層が形成され得る。
【００８１】
アクティブ層２１１上には、ゲート絶縁膜２２０が形成され得る。ゲート絶縁膜２２０は、無機膜、例えばシリコン酸化膜（SiOx）、シリコン窒化膜（SiNx）、またはそれらの多重膜で形成することができる。
【００８２】
ゲート絶縁膜２２０上には、ゲート電極２１２とゲートラインとが形成され得る。ゲート電極２１２とゲートラインは、モリブデン（Mo）、アルミニウム（Al）、クロム（Cr）、金（Au）、チタニウム（Ti）、ニッケル（Ni）、ネオジム（Nd）および銅（Cu）の中のいずれか一つまたはこれらの合金からなる単一層または多重層で形成され得る。
【００８３】
ゲート電極２１２とゲートライン上には、層間絶縁膜２３０が形成され得る。層間絶縁膜２３０は、無機膜、例えばシリコン酸化膜（SiOx）、シリコン窒化膜（SiNx）、またはそれらの多重膜で形成することができる。
【００８４】
層間絶縁膜２３０上には、ソース電極２１４、ドレイン電極２１５、およびデータラインが形成され得る。ソース電極２１４とドレイン電極２１５のそれぞれは、ゲート絶縁膜２２０と層間絶縁膜２３０とを貫通するコンタクトホールを通じて、アクティブ層２１１に接続され得る。ソース電極２１４、ドレイン電極２１５、およびデータラインはモリブデン（Mo）、アルミニウム（Al）、クロム（Cr）、金（Au）、チタニウム（Ti）、ニッケル（Ni）、ネオジム（Nd）および銅（Cu）の中のいずれか一つ、またはこれらの合金からなる単一層または多重層で形成され得る。
【００８５】
ソース電極２１４、ドレイン電極２１５、およびデータライン上には、薄膜トランジスタ２２０を絶縁するための保護膜２４０が形成され得る。保護膜２４０は、無機膜、例えばシリコン酸化膜（SiOx）、シリコン窒化膜（SiNx）、またはそれらの多重膜で形成することができる。
【００８６】
保護膜２４０上には、薄膜トランジスタ２１０に起因する段差を平坦にするための平坦化膜２５０が形成され得る。平坦化膜２５０は、アクリル樹脂（acryl resin）、エポキシ樹脂（epoxy resin）、フェノール樹脂（phenolic resin）、ポリアミド樹脂（polyamide resin）、ポリイミド樹脂（polyimide resin）などの有機膜で形成され得る。
【００８７】
薄膜トランジスタ層１０上には、有機発光素子層２０が形成される。有機発光素子層２０は、有機発光素子２６０とバンク２７０とを備える。
【００８８】
有機発光素子２６０とバンク２７０は、平坦化膜２５０上に形成される。有機発光素子は、第１電極２６１、有機発光層２６２、及び第２電極２６３を備える。第１電極２６１は、アノード電極であり、第２電極２６３は、カソード電極であり得る。
【００８９】
第１電極２６１は、平坦化膜２５０上に形成され得る。第１電極２６１は、保護膜２４０と平坦化膜２５０とを貫通するコンタクトホールを通じて薄膜トランジスタ２１０のソース電極２１４に接続される。第１電極２６１は、アルミニウムとチタンの積層構造（Ti/Al/Ti）、アルミニウムとＩＴＯの積層構造（ITO/Al/ITO）、ＡＰＣ合金、およびＡＰＣ合金とＩＴＯの積層構造（ITO/APC/ITO）のような反射率の高い金属物質で形成することができる。ＡＰＣ合金は、銀（Ag）、パラジウム（Pd）、および銅（Cu）の合金である。
【００９０】
バンク２７０は、画素（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３）を区画するために平坦化膜２５０上で第１電極２６１の端を覆うように形成され得る。つまり、バンク２７０は、画素（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３）を定義する画素定義膜としての役割をする。
【００９１】
画素（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３）のそれぞれは、アノード電極に対応する第１電極、有機発光層、及びカソード電極に対応する第２電極が順次積層され、第１電極からの正孔と第２電極からの電子が有機発光層で互いに結合して発光する領域を示す。ここで、第１画素（Ｐ１）は、赤色サブ画素と定義することができ、第２画素（Ｐ２）は、緑色サブ画素と定義することができ、第３画素（Ｐ３）は、青色サブ画素と定義することができる。そして、第１、第２および第３画素（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３）は、一つの単位画素として定義することができる。しかし、本発明の実施例は、これに限定されず、白色サブ画素を追加で定義することもできる。
【００９２】
バンク２７０は、アクリル樹脂（acryl resin）、エポキシ樹脂（epoxy resin）、フェノール樹脂（phenolic resin）、ポリアミド樹脂（polyamide resin）、ポリイミド樹脂（polyimide resin）などの有機膜で形成することができる。
【００９３】
一方、バンク２７０は、ブラックバンクであり得る。ブラックバンクは、光を吸収する物質で構成するか、光吸収剤が塗布されていて外部から流入した光を吸収することができる。ブラックバンクは、後述するブラックマトリックス（ＢＭ）と重畳するように配置され得る。ここで、ブラックバンクは、その幅をブラックマトリックス（ＢＭ）と同一またはより大きく形成することにより、ブラックマトリックス（ＢＭ）に吸収されずに流入した光を吸収することができる。このようなブラックバンクは、黒色系の物質からなることができ、例えば、カーボン系のブラック顔料を含むことができる。
【００９４】
第１電極２６１とバンク２７０上には、有機発光層２６２が形成される。有機発光層２６２は、画素（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３）に共通的に形成される共通層であり、白色光を発光する白色発光層であり得る。この場合、有機発光層２６２は、２スタック（stack）以上のタンデム構造で形成することができる。スタックはそれぞれ、正孔輸送層（hole transporting layer）、少なくとも一つの発光層（light emitting layer）、および電子輸送層（electron transporting layer）を含むことができる。
【００９５】
また、スタックの間には、電荷生成層が形成され得る。電荷生成層は、下部スタックと隣接して位置するｎ型電荷生成層とｎ型電荷生成層上に形成されて上部スタックと隣接して位置するｐ型電荷生成層を含むことができる。ｎ型電荷生成層は、下部スタックに電子（electron）を注入して、ｐ型電荷生成層は、上部スタックに正孔（hole）を注入する。ｎ型電荷生成層は、電子輸送能力がある有機ホスト物質にLi、Na、K、またはCsなどのアルカリ金属、またはMg、Sr、Ba、またはRaなどのアルカリ土類金属がドープされた有機層であり得る。ｐ型電荷生成層は、正孔輸送能力がある有機ホスト物質にドーパントがドープされた有機層であり得る。
【００９６】
第２電極２６３は、有機発光層２６２上に形成される。第２電極２６３は、有機発光層２６２を覆うように形成され得る。第２電極２６３は、画素（ＲＰ、ＧＰ、ＢＰ、ＷＰ）に共通的に形成される共通層であり得る。
【００９７】
第２電極２６３は、光を透過させることができるＩＴＯ、ＩＺＯのような透明な金属物質（TCO、Transparent Conductive Material）、またはマグネシウム（Mg）、銀（Ag）、またはマグネシウム（Mg）と銀（Ag）の合金のような半透過金属物質（Semi-transmissive Conductive Material）で形成され得る。第２電極２６３が、半透過金属物質で形成されている場合には、マイクロキャビティ（micro cavity）によって出光効率が高くなり得る。第２電極２６３上には、キャッピング層（capping layer）が形成され得る。
【００９８】
有機発光素子層２０上には、封止層３０が形成される。封止層３０は、封止膜２８０を備える。
【００９９】
具体的には、第２電極２６３上には、封止膜２８０が配置される。封止膜２８０は、有機発光層２６２と第２電極２６３に酸素または水分が浸透することを防止する役割をする。このため、封止膜２８０は、少なくとも一つの無機膜と少なくとも一つの有機膜を含むことができる。例えば、封止膜２８０は、第１無機膜２８１、有機膜２８２、及び第２無機膜２８３を含むことができる。
【０１００】
第２電極２６３上には、第１無機膜２８１が配置され得る。第１無機膜２８１は、第２電極２６３を覆うように形成され得る。第１無機膜２８１上に有機膜２８２が配置され得る。有機膜２８２は、異物（particles）が第１無機膜２８１を突破し、有機発光層２６２と第２電極２６３に投入されることを防止するために十分な厚さで形成することができる。これらの有機膜２８２は、図１２に示すようにパッド３３０を覆わないようにダム３４０によって遮断され得る。有機膜２８２上に第２無機膜２８３が配置され得る。第２無機膜２８３は、有機膜２８２を覆うように形成され得る。
【０１０１】
第１無機膜および第２無機膜２８１、２８３のそれぞれは、シリコン窒化物、窒化アルミニウム、ジルコニウム窒化物、チタン窒化物、ハフニウム窒化物、タンタル窒化物、シリコン酸化物、アルミニウム酸化物、または酸化チタンで形成され得る。有機膜２８２は、アクリル樹脂（acryl resin）、エポキシ樹脂（epoxy resin）、フェノール樹脂（phenolic resin）、ポリアミド樹脂（polyamide resin）またはポリイミド樹脂（polyimide resin）で形成され得る。
【０１０２】
封止層３０上には、カラーフィルタ層４０が形成される。カラーフィルタ層４０は、第１〜第３カラーフィルタ（ＣＦ１、ＣＦ２、ＣＦ３）とオーバーコート層２９０を備える。
【０１０３】
具体的には、封止膜２８０上に、異なる透過波長範囲を有する第１〜第３カラーフィルタ（ＣＦ１、ＣＦ２、ＣＦ３）が配置される。第１カラーフィルタ（ＣＦ１）は、第１画素（Ｐ１）に対応するように配置される赤色カラーフィルタであり、第２カラーフィルタ（ＣＦ２）は、第２画素（Ｐ２）に対応するように配置される緑色カラーフィルタであり、第３カラーフィルタ（ＣＦ３）は、第３画素（Ｐ３）に対応するように配置される青色カラーフィルタであり得る。このような場合、第１カラーフィルタ（ＣＦ１）は、赤色顔料を含む有機膜で形成され、第２カラーフィルタ（ＣＦ２）は、緑色顔料を含む有機膜で形成され、第３カラーフィルタ（ＣＦ３）は青色顔料を含む有機膜で形成することができる。
【０１０４】
図に示していないが、カラーフィルタ層４０は、白色サブ画素に対応するように配置される透明有機膜をさらに含むことができる。ここで、透明有機膜は、アクリル樹脂（acryl resin）、エポキシ樹脂（epoxy resin）、フェノール樹脂（phenolic resin）、ポリアミド樹脂（polyamide resin）またはポリイミド樹脂（polyimide resin）で形成され得る。
【０１０５】
第１〜第３カラーフィルタ（ＣＦ１、ＣＦ２、ＣＦ３）上には、ブラックマトリックス（ＢＭ）が形成される。ブラックマトリックス（ＢＭ）は、いずれか一つの画素の光が、隣接する画素のカラーフィルタに進んで混色が発生することを防止するために、第１〜第３カラーフィルタ（ＣＦ１、ＣＦ２、ＣＦ３）の境界部に配置され得る。
【０１０６】
ブラックマトリックス（ＢＭ）は、少なくとも３層の金属膜を備える。本発明の一実施例に係るブラックマトリックス（ＢＭ）は、図１０ａに示すように、第１半透過層３１１、第１光経路変更層３１２と、第１反射層３１３を含むことができる。
【０１０７】
第１半透過層３１１は、第１〜第３カラーフィルタ（ＣＦ１、ＣＦ２、ＣＦ３）上面に直接配置されて、有機発光素子層２０から入射する光の一部を反射させ、残りの光を透過させる。第１半透過層３１１は、吸収率が高い金属、例えば、クロム（Cr）、モリブデン（Mo）、モリブデンとチタンの合金（MoTi）、タングステン（W）、バナジウム（V）、ニオブ（Nb）、タンタル（Ta）、マンガン（Mn）、コバルト（Co）またはニッケル（Ni）で形成され得る。特に、モリブデンとチタンの合金（MoTi）は接着力が高いため、第１〜第３カラーフィルタ（ＣＦ１、ＣＦ２、ＣＦ３）との剥離を防止することができる。
【０１０８】
第１光経路変更層３１２は、第１半透過層３１１上に配置されて、第１半透過層３１１を透過した光の経路を変更する。第１光経路変更層３１２は、ＩＴＯ、ＩＺＯのような透明な金属物質を含むことができる。
【０１０９】
第１反射層３１３は、第１光経路変更層３１２上に配置されて、第１光経路変更層３１２によって経路が変更された光を反射させる。第１反射層３１３は、吸収率が高い金属、例えば、クロム（Cr）、モリブデン（Mo）、モリブデンとチタンの合金（MoTi）、タングステン（W）、バナジウム（V）、ニオブ（Nb）、タンタル（Ta）、マンガン（Mn）、コバルト（Co）またはニッケル（Ni）で形成され得る。
【０１１０】
第１半透過層３１１と、第１反射層３１３は、同一な材質からなり得る。ここで、本発明の実施例は、第１半透過層３１１を第１反射層３１３よりも薄く形成することにより、相殺干渉条件を満足させることができる。
【０１１１】
より具体的に説明すると、本発明の実施例は、第１光経路変更層３１２を第１半透過層３１１と、第１反射層３１３との間に配置して光路差による相殺干渉を起こすことができる。図１０ａに示すように、有機発光素子層２０から第１半透過層３１１に入射する光（Ｌ）の一部は、第１反射光（ＲＬ１）として反射される。そして残りの光の部分は、第１半透過層３１１を透過して第１光経路変更層３１２によって光の経路が変更される。経路が変更された光は、第１反射層３１３で第２反射光（ＲＬ２）として反射される。ここで、第１反射光（ＲＬ１）と第２反射光（ＲＬ２）は、互いに逆位相を有するようになり、これにより、相殺干渉によって消滅する。このため、第１光経路変更層３１２の厚さは、第１反射光（ＲＬ１）と第２反射光（ＲＬ２）が相殺干渉によって消滅することができるように設定することができる。そして、本発明の一実施例は、第１半透過層３１１を第１反射層３１３より薄く形成することにより、有機発光素子層２０から入射する光（Ｌ）が、第１半透過層３１１に半透過して、第１反射層３１３で反射するようにすることができる。
【０１１２】
これにより、第１半透過層３１１、第１光経路変更層３１２および、第１反射層３１３で構成されブラックマトリックス（ＢＭ）は、有機発光素子層２０から入射する光（Ｌ）を相殺干渉によって消滅させることで、第１〜第３カラーフィルタ（ＣＦ１、ＣＦ２、ＣＦ３）の境界部で混色が発生することを防止することができる。
【０１１３】
一方、第１反射層３１３は、後述する第１及び第２タッチ電極（ＴＥ、ＲＥ）と接触して第１及び第２タッチ電極（ＴＥ、ＲＥ）の抵抗を減少させる役割もなすことができる。
【０１１４】
一方、本発明の他の実施例に係るブラックマトリックス（ＢＭ）は、図１０ｂに示すように、第１半透過層３１１、第１光経路変更層３１２、第１反射層３１３および補助金属層３１４を含むことができる。図１０ｂに示されたブラックマトリックス（ＢＭ）は、図１０ａに示されたブラックマトリックス（ＢＭ）と比較して、補助金属層３１４が追加で形成されることを特徴とする。
【０１１５】
補助金属層３１４は、第１反射層３１３上に配置され、第１反射層３１３を透過した光を反射させる。これらの補助金属層３１４は、アルミニウム（Al）で形成され、第１反射層３１３よりも第１及び第２タッチ電極（ＴＥ、ＲＥ）の抵抗減少効果を向上させることができる。
【０１１６】
カラーフィルタ層４０上には、タッチセンシング層５０が形成される。タッチセンシング層５０は、第１タッチ電極（ＴＥ）、第２タッチ電極（ＲＥ）、第１絶縁膜（ＩＮＳ１）、およびブリッジ電極（ＢＥ）を含む。一実施例において、タッチセンシング層５０は、第２絶縁膜（ＩＮＳ２）、反射防止パターン３２０及び第３絶縁膜（ＩＮＳ３）のうち少なくとも一つをさらに含むことができる。
【０１１７】
第１タッチ電極（ＴＥ）及び第２タッチ電極（ＲＥ）は、カラーフィルタ層４０の上面に直接形成することができる。第１タッチ電極（ＴＥ）及び第２タッチ電極（ＲＥ）は、ＩＴＯ、ＩＺＯのような透明な金属物質で形成され得る。このような場合、ＩＴＯ、ＩＺＯが高抵抗の特性を有しているので、第１タッチ電極（ＴＥ）及び第２タッチ電極（ＲＥ）は、高抵抗によって抵抗（Ｒ）とキャパシタンス（Ｃ）の影響を受けるＲＣ遅延時間（delay time）が発生することになる。これを解決するために、本発明の実施例は、第１タッチ電極（ＴＥ）及び第２タッチ電極（ＲＥ）を少なくとも３層以上の金属膜で形成されたブラックマトリックス（ＢＭ）と接触するように形成することにより、抵抗を減少させてＲＣ遅延時間が発生することを防止することができる。
【０１１８】
第１タッチ電極（ＴＥ）、第２タッチ電極（ＲＥ）、第１タッチライン（ＴＬ）、及び第２タッチライン（ＲＬ）は、同一な層に配置され得る。第１絶縁膜（ＩＮＳ１）は、第１タッチ電極（ＴＥ）、第２タッチ電極（ＲＥ）、第１タッチライン（ＴＬ）、及び第２タッチライン（ＲＬ）を覆うように配置され得る。ここで、第１絶縁膜（ＩＮＳ１）は、第１タッチ電極（ＴＥ）のそれぞれと第２タッチ電極（ＲＥ）のそれぞれとの間に配置され得る。第１タッチ電極（ＴＥ）のそれぞれは、第１絶縁膜（ＩＮＳ１）によって第２タッチ電極（ＲＥ）のそれぞれと絶縁され得る。また、第１絶縁膜（ＩＮＳ１）は、第１タッチ電極（ＴＥ）と第２タッチ電極（ＲＥ）の上に配置され得る。第２タッチ電極（ＲＥ）は、第１絶縁膜（ＩＮＳ１）によってブリッジ電極（ＢＥ）と絶縁され得る。
【０１１９】
第１タッチライン（ＴＬ）は、第１タッチ電極（ＴＥ）から延長され、図１２に示すように、第１タッチ電極（ＴＥ）と接触したブラックマトリックス（ＢＭ）から延長され得る。第２タッチライン（ＲＬ）は、第２タッチ電極（ＲＥ）から延長され、図１２に示すように、第２タッチ電極（ＲＥ）と接触したブラックマトリックス（ＢＭ）から延長され得る。第１タッチライン及び第２タッチライン（ＴＬ、ＲＬ）のそれぞれは、非表示領域に延長され、非表示領域のパッド３３０に接続され得る。第１タッチライン（ＴＬ）及び第２タッチライン（ＲＬ）のそれぞれは、保護膜２４０を貫通するコンタクトホールを通じてパッド３３０に接続し得る。ブラックマトリックス（ＢＭ）は、第１タッチ電極（ＴＥ）及び第２タッチ電極（ＲＥ）それぞれから延長され得る。ブラックマトリックス（ＢＭ）は、保護膜２４０を貫通するコンタクトホールを通じてパッド３３０と接続し得る。
【０１２０】
ブリッジ電極（ＢＥ）のそれぞれは、コンタクト部（ＣＴ）を通じて互いに隣接し、第１タッチ電極（ＴＥ）と接続し得る。ブリッジ電極（ＢＥ）は、第２タッチ電極（ＲＥ）と交差し得る。ここで、コンタクト部（ＣＴ）は、第１絶縁膜（ＩＮＳ１）を貫通して形成され得る。
【０１２１】
一方、ブリッジ電極（ＢＥ）は、第１タッチ電極（ＴＥ）及び第２タッチ電極（ＲＥ）と同様にＩＴＯ、ＩＺＯのような透明な金属物質で形成され得るが、必ずしもこれに限定されない。ブリッジ電極（ＢＥ）は、第１タッチ電極（ＴＥ）及び第２タッチ電極（ＲＥ）を間に置いてブラックマトリックス（ＢＭ）と重畳するように配置され得る。このような場合、ブリッジ電極（ＢＥ）は非発光部に形成されるので、導電性を有する半透明金属物質または不透明金属物質で形成され得る。
【０１２２】
反射防止パターン３２０は、ブリッジ電極（ＢＥ）の上にブラックマトリックス（ＢＭ）と対応するように配置され、外部から入射する光が反射することを防止する。外部から入射する光は、ブリッジ電極（ＢＥ）又はブラックマトリックス（ＢＭ）が補助金属層３１４を備える場合、補助金属層３１４に反射し得る。反射防止パターン３２０は、このような外光の反射を防止する。
【０１２３】
反射防止パターン３２０は、少なくとも３層の金属膜を含む。本発明の一実施例に係る反射防止パターン３２０は、図１１に示すように、第２半透過層３２１、第２光経路変更層３２２及び第２反射層３２３を含むことができる。
【０１２４】
第２半透過層３２１は、第２基板１１２の下に配置され、外部から入射する光（Ｌ）の一部を反射させ、光（Ｌ）の残り部分を透過させる。第２半透過層３２１は、吸収率が高い金属、例えば、クロム（Cr）、モリブデン（Mo）、モリブデンとチタンの合金（MoTi）、タングステン（W）、バナジウム（V）、ニオブ（Nb）、タンタル（Ta）、マンガン（Mn）、コバルト（Co）またはニッケル（Ni）で形成され得る。
【０１２５】
第２光経路変更層３２２は、第２半透過層３２１の下に配置され、第２半透過層３２１を透過した光の経路を変更する。第２光経路変更層３２２は、ＩＴＯ、ＩＺＯのような透明な金属物質を含むことができる。
【０１２６】
第２反射層３２３は、第２光経路変更層３２２の下に配置され、第２光経路変更層３２２によって経路が変更された光を反射させる。第２反射層３２３は、吸収率が高い金属、例えば、クロム（Cr）、モリブデン（Mo）、モリブデンとチタンの合金（MoTi）、タングステン（W）、バナジウム（V）、ニオブ（Nb）、タンタル（Ta）、マンガン（Mn）、コバルト（Co）またはニッケル（Ni）で形成され得る。
【０１２７】
第２半透過層３２１と第２反射層３２３は、同一な材質からなり得る。ここで、本発明の実施例は、第２半透過層３２１を第２反射層３２３よりも薄く形成することにより、相殺干渉条件を満足することができる。
【０１２８】
より具体的に説明すると、本発明の実施例は、第２光経路変更層３２２を第２半透過層３２１と第２反射層３２３との間に配置して光経路の差による相殺干渉を起こすことができる。図１１に示すように、外部から第２半透過層３２１に入射する光（Ｌ）の一部は、第１反射光（ＲＬ１）として反射する。そして光（Ｌ）の残り部分は、第２半透過層３２１を透過して第２光経路変更層３２２によって光経路が変更される。経路が変更された光は、第２反射層３２３で第２反射光（ＲＬ２）として反射する。ここで、第１反射光（ＲＬ１）と第２反射光（ＲＬ２）は、互いに逆位相を有するようになり、これにより、相殺干渉によって消滅する。このため、第２光経路変更層３２２の厚さは、第１反射光（ＲＬ１）と第２反射光（ＲＬ２）が相殺干渉によって消滅し得るように設定することができる。そして、本発明の一実施例は、第２半透過層３２１を第２反射層３２３より薄く形成することにより、外部から入射する光（Ｌ）が第２半透過層３２１を半透過して第２反射層３２３で反射するようにすることができる。
【０１２９】
このような第２半透過層３２１、第２光経路変更層３２２及び第２反射層３２３で構成される反射防止パターン３２０は、外部から入射する光（Ｌ）を相殺干渉によって消滅させることで外光反射率を減少させることができる。これにより、本願発明は、偏光板なしで画像の視認性が低下することを防止して、画像品位が向上し得る。
【０１３０】
第２絶縁膜（ＩＮＳ２）は、ブリッジ電極（ＢＥ）を覆うように配置され得る。ここで、第２絶縁膜（ＩＮＳ２）は、ブリッジ電極（ＢＥ）の間に配置され得る。ブリッジ電極（ＢＥ）は、第２絶縁膜（ＩＮＳ２）によって互いに絶縁され得る。また、第２絶縁膜（ＩＮＳ２）は、ブリッジ電極（ＢＥ）の上に配置することができる。ブリッジ電極（ＢＥ）は、第２絶縁膜（ＩＮＳ２）によって反射防止パターン３２０と絶縁され得る。図８及び図９は、反射防止パターン３２０とブリッジ電極（ＢＥ）の間に第２絶縁膜（ＩＮＳ２）が形成される例を示しているが、これに限定されない。他の一実施例では、第２絶縁膜（ＩＮＳ２）が省略され得る。
【０１３１】
第３絶縁膜（ＩＮＳ３）は、反射防止パターン３２０と同一の層に形成され得る。ここで、第３絶縁膜（ＩＮＳ３）は反射防止パターン３２０の間に配置され得る。反射防止パターン３２０は、第３絶縁膜（ＩＮＳ３）によって互いに絶縁され得る。図８及び図９では、反射防止パターン３２０の間に第３絶縁膜（ＩＮＳ３）が形成される例を示しているが、これに限定されない。他の一実施例では、第３絶縁膜（ＩＮＳ３）が省略され得る。
【０１３２】
第１基板１１１の反射防止パターン３２０と第２基板１１２は、接着層（未図示）を用いて接着することができ、これにより、第１基板１１１と第２基板１１２は合着され得る。接着層（未図示）は、透明な接着レジン（optically clear resin、OCR）または透明な接着レジンフィルム（optically clear adhesive film、OCA）であり得る。
【０１３３】
本発明の実施例は、封止層３０上にカラーフィルタ層４０を直接形成し、カラーフィルタ層４０上にタッチセンシング層５０を直接形成することにより、第１基板１１１と第２基板１１２とを合着時に整列する必要がなく、別途の接着層が必要ない。
【０１３４】
さらに、本発明の実施例は、封止層３０とカラーフィルタ層４０との間に接着層が形成されないので、有機発光素子層２０の有機発光層とカラーフィルタ層４０のブラックマトリックス（BM）との間の距離が小さくなり、混色が発生せず、輝度視野角と色視野角が改善され得る。
【０１３５】
また、本発明の実施例は、カラーフィルタとタッチ電極との間に形成された少なくとも３層以上の金属膜を用いて、有機発光素子層２０から放出された光が混色することを防止することができると同時に、タッチ電極の抵抗を低減させることができる。
【０１３６】
また、本発明の実施例は、タッチ電極上に形成された少なくとも３層以上の金属膜を用いて、外光反射率を減少させることができる。これにより、本発明の実施例は、偏光板なしで外光の反射を防止することができ、画像の視認性を向上させることができる。
【０１３７】
第２実施例
図１３は、図７のII−II’の第２実施例を示す断面図であり、図１４は、図７のIII−III’の第２実施例を示す断面図である。
【０１３８】
図１３及び図１４に示された断面図は、ブラックマトリックス（ＢＭ）と第１タッチ電極及び第２タッチ電極（ＴＥ、ＲＥ）との間に第４絶縁膜（ＩＮＳ４）が形成されていることを除いて、図８及び図９を参照して説明したのと実質的に同一である。したがって、図８および図９に示された第１基板１１１、第２基板１１２、薄膜トランジスタ層１０、有機発光素子層２０、封止層３０およびカラーフィルタ層４０に対する詳細な説明は省略する。
【０１３９】
カラーフィルタ層４０上には、タッチセンシング層５０が形成される。タッチセンシング層５０は、第１タッチ電極（ＴＥ）、第２タッチ電極（ＲＥ）、第１絶縁膜（ＩＮＳ１）、ブリッジ電極（ＢＥ）及び第４絶縁膜（ＩＮＳ４）を含むことができる。
【０１４０】
第４絶縁膜（ＩＮＳ４）は、カラーフィルタ層４０の上面に直接形成することができる。第４絶縁膜（ＩＮＳ４）は、第１〜第３カラーフィルタ（ＣＦ１、ＣＦ２、ＣＦ３）およびブラックマトリックス（ＢＭ）を覆うように配置され得る。ここで、第４絶縁膜（ＩＮＳ４）は、ブラックマトリックス（ＢＭ）と第１タッチ電極および第２タッチ電極（ＴＥ、ＲＥ）の間に配置され、第１タッチ電極及び第２タッチ電極（ＴＥ、ＲＥ）がブラックマトリックス（ＢＭ）から剥離することを防止することができる。
【０１４１】
第１タッチ電極（ＴＥ）及び第２タッチ電極（ＲＥ）は、第４絶縁膜（ＩＮＳ４）上に形成され得る。第１タッチ電極（ＴＥ）及び第２タッチ電極（ＲＥ）は、ＩＴＯ、ＩＺＯのような透明な金属物質で形成され得る。
【０１４２】
第１絶縁膜（ＩＮＳ１）は、第１タッチ電極（ＴＥ）、第２タッチ電極（ＲＥ）、第１タッチライン（ＴＬ）、および第２タッチライン（ＲＬ）を覆うように配置され得る。ここで、第１絶縁膜（ＩＮＳ１）は、第１タッチ電極（ＴＥ）のそれぞれと第２タッチ電極（ＲＥ）のそれぞれとの間に配置され得る。第１タッチ電極（ＴＥ）のそれぞれは、第１絶縁膜（ＩＮＳ１）によって第２タッチ電極（ＲＥ）のそれぞれと絶縁され得る。また、第１絶縁膜（ＩＮＳ１）は、第１タッチ電極（ＴＥ）と第２タッチ電極（ＲＥ）の上に配置され得る。第２タッチ電極（ＲＥ）は、第１絶縁膜（ＩＮＳ１）によりブリッジ電極（ＢＥ）と絶縁され得る。
【０１４３】
ブリッジ電極（ＢＥ）のそれぞれは、コンタクト部（ＣＴ）を通じて互いに隣接し、第１タッチ電極（ＴＥ）、及び第１タッチ電極（ＴＥ）の下に形成されたブラックマトリックス（ＢＭ）と接続され得る。ブリッジ電極（ＢＥ）は、第２タッチ電極（ＲＥ）と交差され得る。ここで、コンタクト部（ＣＴ）は、第１絶縁膜（ＩＮＳ１）、第１タッチ電極（ＴＥ）及び第４絶縁膜（ＩＮＳ４）を貫通して形成され得る。
【０１４４】
一方、ブリッジ電極（ＢＥ）は、第１タッチ電極（ＴＥ）及び第２タッチ電極（ＲＥ）と同様ＩＴＯ、ＩＺＯのような透明な金属物質で形成され得るが、必ずしもこれに限定されない。ブリッジ電極（ＢＥ）は、第１タッチ電極（ＴＥ）及び第２タッチ電極（ＲＥ）を間に置いてブラックマトリックス（ＢＭ）と重畳するように配置され得る。このような場合、ブリッジ電極（ＢＥ）は非発光部に形成されるので、導電性を有する半透明金属物質または不透明金属物質で形成し得る。
【０１４５】
第３実施例
図１５は、図７のII−II’の第３実施例を示す断面図であり、図１６は、図７のIII−III’の第３実施例を示す断面図である。
【０１４６】
図１５及び図１６に示された断面図は、反射防止パターン３２０がブリッジ電極（ＢＥ）が形成された領域のみに配置されることを除いては、図８及び図９を参照して説明したのと実質的に同一である。したがって、図８および図９に示された第１基板１１１、第２基板１１２、薄膜トランジスタ層１０、有機発光素子層２０、封止層３０およびカラーフィルタ層４０に対する詳細な説明は省略する。
【０１４７】
カラーフィルタ層４０上には、タッチセンシング層５０が形成される。タッチセンシング層５０は、第１タッチ電極（ＴＥ）、第２タッチ電極（ＲＥ）、第１絶縁膜（ＩＮＳ１）、ブリッジ電極（ＢＥ）、第２絶縁膜（ＩＮＳ２）、反射防止パターン３２０及び第３絶縁膜（ＩＮＳ３）を含むことができる。
【０１４８】
第１タッチ電極（ＴＥ）及び第２タッチ電極（ＲＥ）は、カラーフィルタ層４０の上面に直接形成され得る。第１タッチ電極（ＴＥ）及び第２タッチ電極（ＲＥ）は、ＩＴＯ、ＩＺＯのような透明な金属物質で形成され得る。
【０１４９】
第１絶縁膜（ＩＮＳ１）は、第１タッチ電極（ＴＥ）、第２タッチ電極（ＲＥ）、第１タッチライン（ＴＬ）、及び第２タッチライン（ＲＬ）を覆うように配置され得る。ここで、第１絶縁膜（ＩＮＳ１）は、第１タッチ電極（ＴＥ）のそれぞれと第２タッチ電極（ＲＥ）のそれぞれとの間に配置され得る。第１タッチ電極（ＴＥ）のそれぞれは、第１絶縁膜（ＩＮＳ１）によって第２タッチ電極（ＲＥ）のそれぞれと絶縁され得る。また、第１絶縁膜（ＩＮＳ１）は、第１タッチ電極（ＴＥ）と第２タッチ電極（ＲＥ）の上に配置され得る。第２タッチ電極（ＲＥ）は、第１絶縁膜（ＩＮＳ１）によってブリッジ電極（ＢＥ）と絶縁され得る。
【０１５０】
ブリッジ電極（ＢＥ）のそれぞれは、コンタクト部（ＣＴ）を通じて互いに隣接し、第１タッチ電極（ＴＥ）と接続され得る。ブリッジ電極（ＢＥ）は、第２タッチ電極（ＲＥ）と交差され得る。ここで、コンタクト部（ＣＴ）は、第１絶縁膜（ＩＮＳ１）を貫通して形成され得る。
【０１５１】
一方、ブリッジ電極（ＢＥ）は、第１タッチ電極（ＴＥ）及び第２タッチ電極（ＲＥ）と同様にＩＴＯ、ＩＺＯのような透明な金属物質で形成され得るが、必ずしもこれに限定されない。ブリッジ電極（ＢＥ）は、第１タッチ電極（ＴＥ）及び第２タッチ電極（ＲＥ）を間に置いてブラックマトリックス（ＢＭ）と重畳するように配置され得る。このような場合、ブリッジ電極（ＢＥ）は非発光部に形成されるので、導電性を有する半透明金属物質または不透明金属物質で形成され得る。
【０１５２】
反射防止パターン３２０は、ブリッジ電極（ＢＥ）の上に配置され、外部から入射する光が反射することを防止する。外部から入射する光は、ブリッジ電極（ＢＥ）に反射し得る。
【０１５３】
本発明の第１実施例では、反射防止パターン３２０をブラックマトリックス（ＢＭ）が形成された領域と対応するように配置する。ブラックマトリックス（ＢＭ）が補助金属層３１４を備える場合は、外部から入射する光が補助金属層３１４に反射し得るので、反射防止パターン３２０は、ブラックマトリックス（ＢＭ）が形成された領域と対応するように配置されなければならない。
【０１５４】
これとは異なり、ブラックマトリックス（ＢＭ）が補助金属層３１４を含まない場合は、反射防止パターン３２０は、ブラックマトリックス（ＢＭ）が形成されたすべての領域と対応するように配置する必要がない。この場合、反射防止パターン３２０は、ブリッジ電極（ＢＥ）が形成された領域のみに配置すればよい。これにより、反射防止パターン３２０が形成されるのに必要な面積を減らすことができ、製造コストが削減され得る。
【０１５５】
第４の実施例
図１７は、図７のII−II’の第４実施例を示す断面図であり、図１８は、図７のIII−III’の第４実施例を示す断面図である。
【０１５６】
図１７及び図１８に示した断面図は、反射防止パターン３２０を覆うように反射低減層３６０を形成することを除いては、図８および図９を結びつけて説明したのと実質的に同一である。したがって、図８および図９に示された第１基板１１１、第２基板１１２、薄膜トランジスタ層１０、有機発光素子層２０、封止層３０およびカラーフィルタ層４０に対する詳細な説明は省略する。
【０１５７】
カラーフィルタ層４０上には、タッチセンシング層５０が形成される。タッチセンシング層５０は、第１タッチ電極（ＴＥ）、第２タッチ電極（ＲＥ）、第１絶縁膜（ＩＮＳ１）、ブリッジ電極（ＢＥ）、第２絶縁膜（ＩＮＳ２）、反射防止パターン３２０および反射低減層３６０を含むことができる。
【０１５８】
第１タッチ電極（ＴＥ）及び第２タッチ電極（ＲＥ）は、カラーフィルタ層４０の上面に直接形成され得る。第１タッチ電極（ＴＥ）及び第２タッチ電極（ＲＥ）は、ＩＴＯ、ＩＺＯのような透明な金属物質で形成され得る。
【０１５９】
第１絶縁膜（ＩＮＳ１）は、第１タッチ電極（ＴＥ）、第２タッチ電極（ＲＥ）、第１タッチライン（ＴＬ）、及び第２タッチライン（ＲＬ）を覆うように配置され得る。ここで、第１絶縁膜（ＩＮＳ１）は、第１タッチ電極（ＴＥ）のそれぞれと第２タッチ電極（ＲＥ）のそれぞれとの間に配置され得る。第１タッチ電極（ＴＥ）のそれぞれは、第１絶縁膜（ＩＮＳ１）により第２タッチ電極（ＲＥ）のそれぞれと絶縁され得る。また、第１絶縁膜（ＩＮＳ１）は、第１タッチ電極（ＴＥ）と第２タッチ電極（ＲＥ）の上に配置され得る。第２タッチ電極（ＲＥ）は、第１絶縁膜（ＩＮＳ１）によってブリッジ電極（ＢＥ）と絶縁され得る。
【０１６０】
ブリッジ電極（ＢＥ）のそれぞれは、コンタクト部（ＣＴ）を通じて互いに隣接し、第１タッチ電極（ＴＥ）と接続され得る。ブリッジ電極（ＢＥ）は、第２タッチ電極（ＲＥ）と交差され得る。ここで、コンタクト部（ＣＴ）は、第１絶縁膜（ＩＮＳ１）を貫通して形成され得る。
【０１６１】
一方、ブリッジ電極（ＢＥ）は、第１タッチ電極（ＴＥ）及び第２タッチ電極（ＲＥ）と同様にＩＴＯ、ＩＺＯのような透明な金属物質で形成され得るが、必ずしもこれに限定されない。ブリッジ電極（ＢＥ）は、第１タッチ電極（ＴＥ）及び第２タッチ電極（ＲＥ）を間に置いてブラックマトリックス（ＢＭ）と重畳するように配置され得る。このような場合、ブリッジ電極（ＢＥ）は非発光部に形成されるので、導電性を有する半透明金属物質または不透明金属物質で形成することもできる。
【０１６２】
反射防止パターン３２０は、ブリッジ電極（ＢＥ）の上にブラックマトリックス（ＢＭ）と対応するように配置され、外部から入射する光が反射することを防止する。外部から入射する光は、ブリッジ電極（ＢＥ）又はブラックマトリックス（ＢＭ）が補助金属層３１４を備える場合、補助金属層３１４に反射し得る。反射防止パターン３２０は、このような外光の反射を防止する。
【０１６３】
反射防止パターン３２０は、少なくとも３層の金属膜を備える。反射防止パターン３２０は、第２半透過層３２１、第２光経路変更層３２２及び第２反射層３２３を含むことができる。このような第２半透過層３２１、第２光経路変更層３２２及び第２反射層３２３で構成された反射防止パターン３２０は、外部から入射する光（L）を相殺干渉によって消滅させることで外光反射率を減少させることができる。これにより、本願発明は、偏光板なしで画像の視認性が低下することを防止して、画像品位が向上され得る。
【０１６４】
反射低減層３６０は、反射防止パターン３２０を覆うように配置され得る。反射低減層３６０は、外部から入射する光がブリッジ電極（ＢＥ）又はブラックマトリックス（ＢＭ）が補助金属層３１４を備える場合、補助金属層３１４に反射することを低減するために光の一部を遮断する。このため、反射低減層３６０は、カーボン系のブラック顔料を含む有機膜で形成され得る。
【０１６５】
このような反射低減層３６０は、その透過率が高いほど表示パネル１１０の平均反射率が低くなる。反射低減層３６０の透過率は、反射低減層３６０の厚さに反比例する。つまり、反射低減層３６０が厚いほど、反射低減層３６０の透過率は低くなり得る。
【０１６６】
しかし、反射低減層３６０の透過率が低くなる場合、有機発光素子層２０の出光効率が低くなる。したがって、反射低減層３６０の透過率は、表示パネル１１０の平均反射率だけでなく、有機発光素子層２０の出光効率を考慮しなければならない。
【０１６７】
本発明の第４実施例は、反射低減層３６０を追加で形成して外光の反射をより効率的に遮断し得る。
【０１６８】
一方、図１７及び図１８は、反射低減層３６０が反射防止パターン３２０を覆うように示されているが、これに限定されない。他の一実施例では、反射低減層３６０は、ブリッジ電極（ＢＥ）を覆うができる。ここで、反射防止パターン３２０及び第２絶縁膜（ＩＮＳ２）が省略され得る。
【０１６９】
以上、添付された図面を参照して、本発明の実施例をさらに詳細に説明したが、本発明は、必ずしもこのような実施例で限定されているわけではなく、本発明の技術思想を逸脱しない範囲内で多様に変形実施され得る。したがって、本発明に開示された実施例は、本発明の技術思想を限定するためのものではなく説明するためのものであり、このような実施例により、本発明の技術思想の範囲が限定されるものではない。従って、以上で記述した実施例は、すべての面で例示的なものであり限定的ではないと理解されなければならない。本発明の保護範囲は、特許請求の範囲によって解釈されるべきであり、その同等の範囲内にあるすべての技術思想は、本発明の権利範囲に含まれるものと解釈されなければならない。
【符号の説明】
【０１７０】
１００：タッチスクリーン一体型表示装置
１１０：表示パネル
１１１：下部基板
１１２：上部基板
１２０：スキャン駆動部
１３０：データ駆動部
１３１：ソースドライブＩＣ
１４０：軟性フィルム
１５０：回路基板
１６０：タイミングコントローラ
１７０：ホストシステム
１８０：タッチ駆動部
１８１：第１タッチ駆動部
１８２：第２タッチ駆動部第２タッチ駆動部
１８３：タッチコントローラ
１９０：タッチ座標算出部
１０：薄膜トランジスタ層
２０：有機発光素子層
３０：封止層
４０：カラーフィルタ層
５０：タッチセンシング層
２１０：薄膜トランジスタ
２１１：アクティブ層
２１２：ゲート電極
２１４：ソース電極
２１５：ドレイン電極
２２０：ゲート絶縁膜
２３０：層間絶縁膜
２４０：保護膜
２５０：平坦化膜
２６０：有機発光素子
２６１：第１電極
２６２：有機発光層
２６３：第２電極
【図１】
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【図２ａ】
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【図２ｂ】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０ａ】
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【図１０ｂ】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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