(57)【要約】【課題】生産性が向上されると共に、良好な光学特性及び耐擦傷性を示す反射防止フィルムを提供する。【解決手段】透明基材フィルムの少なくとも一方面に第１中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層、第２中屈折率層の順に４層の光学調整層を積層した反射防止フィルムであって、前記第１中屈折率層が、無機材料を含む層であり、前記高屈折材料が、無機材料を含む層であり、前記低屈折率層がバインダー樹脂と無機微粒子とを含む硬化層であり、前記第２中屈折率層が、酸化珪素、フッ化マグネシウム、フッ化リチウムから選ばれる１つまたは複数の材料を主成分とする層であり、前記第２中屈折率層の表面に、シランカップリング基を有するフッ素系滑剤を主成分とする滑剤層が形成されてあることを特徴とする反射防止フィルム。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材フィルムの少なくとも一方面に第１中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層、第２中屈折率層の順に４層の光学調整層を積層した反射防止フィルムであって、
前記第１中屈折率層が、無機材料を含む層であり、
前記高屈折材料が、無機材料を含む層であり、
前記低屈折率層がバインダー樹脂と無機微粒子とを含む硬化層であり、
前記第２中屈折率層が、酸化珪素、フッ化マグネシウム、フッ化リチウムから選ばれる１つまたは複数の材料を主成分とする層であり、
前記第２中屈折率層の表面に、シランカップリング基を有するフッ素系滑剤を主成分とする滑剤層が形成されてあることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
前記第１中屈折率層の膜厚は８５〜１５０ｎｍであり、屈折率は１．５５〜１．６０であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記高屈折率層の膜厚は２０〜５５ｎｍであり、屈折率は１．６５〜１．７５であることを特徴とする請求項１又は２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記低屈折率層の膜厚は５０〜１００ｎｍであり、屈折率は１．３０〜１．４０であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
前記第２中屈折率層の膜厚は１０〜５０ｎｍであり、屈折率は１．４１〜１．５０であることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
前記無機材料を含む層が、バインダー樹脂と無機微粒子とを含む硬化層であることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
前記第２中屈折率層、前記高屈折率層、前記低屈折率層、前記第１中屈折率層の順に膜厚が大きいことを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
荷重４００ｇ／ｃｍ２のスチールウール摺動耐久性が往復１００回以上であることを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
反射防止フィルムは、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プロジェクションディスプレイ、エレクトロルミネセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等の様々な表示装置、タッチパネル、光学レンズ、眼鏡レンズ、フォトリソグラフィープロセスにおける反射防止処理、太陽電池パネル表面の反射防止処理等の様々な分野で利用されている。
【０００３】
このような反射防止フィルムとしては、透明基材フィルム上に無機化合物の透明薄膜を積層させた多層反射防止フィルムが従来から用いられている。例えば、特許文献１には、無機化合物の透明薄膜を乾式法により形成し、積層する方法が開示されている。乾式法としては、真空蒸着、スパッタ法、ＣＶＤ法等をあげることができる。
【０００４】
また、乾式法に代えて、湿式法により反射防止フィルムを形成する方法が提案されている。特許文献２には、湿式法により、透明基材フィルム上に、低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層の各層の形成材料成分の、光学的機能層を塗布により形成し、反射防止フィルムを形成する方法が開示されている。モノマーを塗布する工程と、モノマーを重合させてポリマー形成する工程を繰り返すことで各光学的機能層を順次形成する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開昭６１−２４５４４９号公報
【特許文献２】特開平２−２４５７０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に開示された乾式法による無機化合物の多層蒸着膜は、反射防止フィルムとしては優れた光学特性を有しているが、基材サイズの限定や処理時間を有するため、生産性が低く大量生産には適していないという問題があった。また、特許文献２に開示された、湿式法により反射防止フィルムを形成する方法は、製造が容易で生産性が高いとの特徴があるが、乾式法で製造した反射防止フィルムよりも光学特性、耐擦傷性が低いという問題があった。
【０００７】
本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであって、生産性が向上されると共に、良好な光学特性及び耐擦傷性を示す反射防止フィルムの提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の上記目的は、透明基材フィルムの少なくとも一方面に第１中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層、第２中屈折率層の順に４層の光学調整層を積層した反射防止フィルムであって、前記第１中屈折率層が、無機材料を含む層であり、前記高屈折材料が、無機材料を含む層であり、前記低屈折率層がバインダー樹脂と無機微粒子とを含む硬化層であり、前記第２中屈折率層が、酸化珪素、フッ化マグネシウム、フッ化リチウムから選ばれる１つまたは複数の材料を主成分とする層であり、前記第２中屈折率層の表面に、シランカップリング基を有するフッ素系滑剤を主成分とする滑剤層が形成されてあることを特徴とする反射防止フィルムにより達成される。
【０００９】
また、この反射防止フィルムにおいて、前記第１中屈折率層の膜厚は８５〜１５０ｎｍであり、屈折率は１．５５〜１．６０であることが好ましい。
【００１０】
また、前記高屈折率層の膜厚は２０〜５５ｎｍであり、屈折率は１．６５〜１．７５であることが好ましい。
【００１１】
また、前記低屈折率層の膜厚は５０〜１００ｎｍであり、屈折率は１．３０〜１．４０であることが好ましい。
【００１２】
また、前記第２中屈折率層の膜厚は１０〜５０ｎｍであり、屈折率は１．４１〜１．５０であることが好ましい。
【００１３】
また、前記無機材料を含む層が、バインダー樹脂と無機微粒子とを含む硬化層であることが好ましい。
【００１４】
また、  前記第２中屈折率層、前記高屈折率層、前記低屈折率層、前記第１中屈折率層の順に膜厚が大きいことが好ましい。
【００１５】
また、荷重４００ｇ／ｃｍ２のスチールウール摺動耐久性が往復１００回以上であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、生産性が向上されると共に、良好な光学特性及び耐擦傷性を示す反射防止フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明に係る反射防止フィルムの概略構成断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態に係る反射防止フィルムについて、添付図面を参照して説明する。なお、図面においては、構成の理解を容易ならしめるために部分的に拡大・縮小している。本発明に係る反射防止フィルム１は、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プロジェクションディスプレイ、エレクトロルミネセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等の様々な表示装置、タッチパネル、光学レンズ、眼鏡レンズ、フォトリソグラフィープロセスにおける反射防止処理、太陽電池パネル表面の反射防止処理等の様々な分野で利用されるものであり、図１の概略構成断面図に示すように、透明基材フィルム２の少なくとも一方面に、第１中屈折率層３と、高屈折率層４と、低屈折率層５と、第２中屈折率層６と、滑剤層７とを備えている。ここで、第１中屈折率層３、高屈折率層４、低屈折率層５及び第２中屈折率層６の４層からなる積層体は、反射防止特性を発揮する光学調整層である。また、この光学調整層を有する反射防止フィルム１は、フィルム表面での視感度平均反射率が１．０％以下であることが好ましい。なお、本実施形態においては、透明基材フィルム２の一方面側に第１中屈折率層３、高屈折率層４、低屈折率層５及び第２中屈折率層６の順に４層の光学調整層を配置する構成であるが、この光学調整層に加えて、透明基材フィルム２の他方面側に、第１中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層、第２中屈折率層の順に４層の第２の光学調整層を更に配置する構成を採用することもできる。
【００１９】
透明基材フィルム２は、フィルム本体２１と、第１ハードコート層２２と、第２ハードコート層２３とを備えて構成されている。フィルム本体２１としては、透明有機高分子材料を用いることが好ましい。透明有機高分子材料は、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、有機高分子化合物をフィルムとしたものを用いる事ができる。この有機高分子化合物としては、透明な有機高分子であれば特に限定されないが、優れた反射防止性能をしめすためには透明基板２の透過率は８０％以上、さらには８６％以上であることが好ましく、ヘイズは、２．０％以下、さらには１．０％以下であることが好ましく、屈折率は１．５０〜１．６０であることが好ましい。なお、有機高分子化合物としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等をあげることができる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。
【００２０】
第１ハードコート層２２は、フィルム本体２１の一方面側に形成されており、第２ハードコート層２３は、フィルム本体２１の他方面側に形成されている。第１中屈折率層３は、第２ハードコート層２３の上に積層されており、高屈折率層４は、第１中屈折率層３上に積層されて構成されている。また、低屈折率層５は、高屈折率層４上に積層されており、第２中屈折率層６は、低屈折率層５上に積層されて構成されている。また、滑剤層７は、第２中屈折率層６上に積層されて構成されている。ここで、第２中屈折率層６、高屈折率層４、低屈折率層５、第１中屈折率層３の順に膜厚が大きくなるように形成されることが好ましい。
【００２１】
透明基材フィルム２におけるフィル本体２１の膜厚は、通常１３〜４００μｍ程度、好ましくは２５〜３００μｍ程度である。また、フィル本体２１には、第１ハードコート層２２及び第２ハードコート層２３との密着力を高めるため、易接着層と呼ばれる層を設けることもできる。フィル本体２１には、各種の添加剤が含有されていてもよい。そのような添加剤として、例えば紫外線吸収剤、帯電防止剤、安定剤、可塑剤、滑剤、難燃剤等が挙げられる。
【００２２】
第１ハードコート層２２及び第２ハードコート層２３は、反射防止フィルム１の表面強度を担保するための層であり、フィルムへの傷防止のために、第１ハードコート層２２及び第２ハードコート層２３は形成しておくことが好ましい。第１ハードコート層２２の屈折率は、１．５０〜１．６０の範囲内のものが好ましい。また、第２ハードコート層２３の屈折率は、１．５０〜１．６５の範囲内のものが好ましく、１．５０〜１．６０がさらに好ましい。なお、第１ハードコート層２２及び第２ハードコート層２３の屈折率が、上記数値範囲に含まれない場合、フィル本体２１と第１ハードコート層２２（第２ハードコート層２３）の屈折率差から生じる干渉により、干渉ムラが顕著に表れたり、反射防止フィルム１の反射特性として色相の設計が難しくなる場合があるため、好ましくない。
【００２３】
第１ハードコート層２２及び第２ハードコート層２３の厚みは、共に、１〜５０μｍが好ましい。ハードコート層の膜厚が１μｍ未満の場合には、十分な表面強度が得られないため好ましくない。その一方、膜厚が５０μｍを超える場合には、耐屈曲性の低下等の問題が生じるため好ましくない。
【００２４】
また、第１ハードコート層２２及び第２ハードコート層２３を形成する材料としては、電離放射線硬化型材料や、熱硬化型材料を用いることができる。電離放射線硬化型材料は、例えばアクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような単官能、２官能または３官能以上の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線硬化型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。なお、本発明において「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示している。たとえば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタアクリレート」の両方を示している。
【００２５】
また、電離放射線硬化型材料は紫外線により硬化されるため、ハードコート層形成用塗液には光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであれば良く、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類を用いることができる。
【００２６】
また、熱硬化性材料としては、例えばオルガノポリシロキサンを用いることができる。オルガノポリシロキサンからなる層は、オルガノシロキサンを出発原料として湿式法に従い加水分解および脱水重縮合によりえられた層であり、シロキサン（Ｓｉ−Ｏ）骨格に基づく三次元網目構造のポリマーネットワークをなすように構成されている。
【００２７】
さらに、ハードコート層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール類の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。また、塗液には添加剤として、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤等を加えることもできる。
【００２８】
また、ハードコート層形成用塗液にはその他添加剤を加えても良い。添加剤としては、例えば消泡剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤などが挙げられる。
【００２９】
また、第１ハードコート層２２及び第２ハードコート層２３の硬度としては、それぞれ、鉛筆硬度でＨ以上であることが実用上好ましいが、フィル本体２１の影響も受けるためこの限りではない。第１ハードコート層２２及び第２ハードコート層２３は、フィル本体２１に直接接して設けてもよく、フィル本体２１との密着性を向上するための層を介してフィル本体２１の上に設けてもよい。また、第１ハードコート層２２及び第２ハードコート層２３を形成するにあたっては、表面を平滑にしてもよい。
【００３０】
第１ハードコート層２２及び第２ハードコート層２３の形成方法としては、ウェットコーティング法とされる、ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等を採用することができ、フィル本体２１の面上にハードコート層形成用塗液を塗布することにより形成することができる。特に、第１ハードコート層２２及び第２ハードコート層２３は、薄く、均一に層を形成する必要性があることから、マイクログラビアコーティング法を用いることが好ましい。また、第１ハードコート層２２及び第２ハードコート層２３として、厚い層を構成する必要が生じた場合には、ダイコーティング法を用いることが好ましい。
【００３１】
なお、本実施形態においては、図１に示すように、フィルム本体２１の両面にそれぞれ第１ハードコート層２２及び第２ハードコート層２３を形成するように構成しているが、いずれか一方のハードコート層、或いは、両方のハードコート層を省略して透明基材フィルム２を構成してもよい。
【００３２】
次に、第１中屈折率層３について説明する。第１中屈折率層３は、無機材料を含む層であり、第１中屈折率層形成塗液を第２ハードコート層２３の表面に塗布して、湿式成膜法により形成することができる。なお、このとき中屈折率層単層の膜厚（ｄ１）は、光学シミュレーションにより最適な値になるように設計される。中屈折率層形成塗液としては、バインダマトリックス形成材料に高屈折率微粒子を分散させたものを用いることができる。本発明の第１中屈折率層３の膜厚（ｄ１）は、光学干渉層としての特性から、８５ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内にあることが好ましく、１０５ｎｍ〜１３０ｎｍの範囲内にあることがさらに好ましい。また、第１中屈折率層３の屈折率（ｎ１）は１．５５〜１．６０までの範囲内にあることが望ましい。第１中屈折率層３の屈折率（ｎ１）は、低屈折率層５の屈折率と、高屈折率層４の屈折率との間の値であって、第２中屈折率層６の屈折率よりも大きい値となるように調整される。
【００３３】
第１中屈折率層形成塗液に分散される高屈折率微粒子としては、例えば、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＩＴＯ、ＡＴＯ、Ｓｂ２Ｏ５、Ｓｂ２Ｏ３、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ等の高屈折率材料からなる無機微粒子を用いることができる。本発明で使用される高屈折率微粒子の形状は、特に限定されないが、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状または不定形状が好ましい。本発明における無機微粒子は、単独で用いてもよいが、２種類以上を併用して用いることもできる。
【００３４】
また、高屈折率微粒子の平均粒子径は、１ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下であることが好ましい。高屈折率微粒子の平均粒子径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、第１中屈折率層３のヘイズ値が高くなってしまい、反射防止フィルム１の透明性が低下するおそれがある。一方、高屈折率微粒子の平均粒子径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集により、第１中屈折率層３における粒子の不均一性等の問題が生じるおそれがある。
【００３５】
また、第１中屈折率層３を形成するためのバインダマトリックス形成材料としては、紫外線硬化型材料を含む。紫外線硬化型材料としては、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能性モノマー、または単官能性モノマーを含有する紫外線硬化型材料が用いられる。紫外線硬化型材料としては、例えば、第１及び第２ハードコート層２３に用いられる電離放射線硬化型材料として例示した、単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物であるアクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料の中でも、所望する分子量および分子構造を設計することができ、形成される第１中屈折率層３の物性のバランスを容易にとることが可能である点から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネートおよび水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。
【００３６】
なお、第１中屈折率層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒を加えることができる。溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン等の炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から、塗工適性等を考慮して適宜選択して用いることができる。
【００３７】
また、第１中屈折率層３を形成するためのバインダマトリックス形成材料として紫外線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより第１中屈折率層３を形成する場合には、第１中屈折率層形成用塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであればよく、具体例としては、アセトフェノン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、オキシムエステル系化合物、チオキサンソン系化合物、トリアジン系化合物、ホスフィン系化合物、キノン系化合物、ボレート系化合物、カルバゾール系化合物、イミダゾール系化合物、チタノセン系化合物等が挙げられる。アセトフェノン系化合物としては、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オン等が例示できる。また、ベンゾイン系化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール等が例示できる。ベンゾフェノン系化合物としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド等が例示できる。オキシムエステル系化合物としては、エタノン,１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−(０−アセチルオキシム)、１，２−オクタジオン−１−[４−(フェニルチオ)−，２−(Ｏ−ベンゾイルオキシム)]等が例示できる。チオキサンソン系化合物としては、チオキサンソン、２−クロルチオキサンソン、２−メチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、２，４−ジイソプロピルチオキサンソン等が例示できる。トリアジン系化合物としては、２，４，６−トリクロロ−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ピペニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−スチリルｓ−トリアジン、２−（ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−（ピペロニル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル（４’−メトキシスチリル）−６−トリアジン等が例示できる。ホスフィン系化合物としては、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が���示できる。また、キノン系化合物としては、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアントラキノン等を例示できる。光重合開始剤は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３８】
また、第１中屈折率層形成用塗液にはその他添加剤を加えてもよい。添加剤としては、例えば消泡剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤、光増感剤等が挙げられる。
【００３９】
第１中屈折率層３を形成する方法としては、第１中屈折率層形成用塗液を第２ハードコート層２３の表面に塗布し、第１中屈折率層３を形成する湿式成膜法による方法と、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法といった真空中で第１中屈折率層３を形成する真空成膜法による方法とに分けられるが、特に限定されるものではない。しかしながら、本発明においては、安価に反射防止フィルム１を製造することができるという点から、湿式成膜法を採用することが好ましい。
【００４０】
次に、第１中屈折率層３上に形成される高屈折率層４について説明する。 高屈折率層４は、無機材料を含む層であり、高屈折率層形成塗液を第１中屈折率層３上の表面に塗布し、湿式成膜法により形成することができる。なお、このとき高屈折率層４単層の膜厚（ｄ２）は、光学シミュレーションにより最適な値になるように設計される。また、高屈折率層４の膜厚（ｄ２）は、光学干渉層としての特性から、２０ｎｍ〜５５ｎｍの範囲内にあることが好ましく、３０ｎｍ〜４５ｎｍの範囲内にあることがさらに好ましい。
【００４１】
本発明の高屈折率層４の屈折率（ｎ２）は、反射防止フィルム１の色付きを抑制する観点からは、１．６５〜１．７５の範囲内にあることが特に好ましい。高屈折率層４の屈折率（ｎ２）を調整する手段は、高屈折率微粒子の添加量が支配的である。高屈折率微粒子としては、第１中屈折率層形成塗液に記載した高屈折率材料を用いることができる。また、高屈折率微粒子は、第１中屈折率層形成塗液に記載した無機化合物および／または有機化合物での表面処理を行うことができる。
【００４２】
高屈折率層４を形成するためのバインダマトリックス形成材料としては、紫外線硬化型材料を含む。紫外線硬化型材料としては、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能性モノマー、または単官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂が用いられる。紫外線硬化型材料としては、第１中屈折率層３に用いられる紫外線硬化型材料として例示したアクリル系材料を用いることができる。
【００４３】
なお、高屈折率層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、例えば、第１中屈折率層３の用いられる溶媒として例示したものを用いることができる。また、添加剤としては、添加剤としては、例えば消泡剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤、光増感剤等が挙げられる。
【００４４】
また、高屈折率層４を形成するためのバインダマトリックス形成材料として紫外線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより高屈折率層４を形成する場合には、高屈折率層形成用塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、第１中屈折率層形成用塗液に加えられる光重合開始剤として例示したものを用いることができる。
【００４５】
高屈折率層４を形成する方法としては、高屈折率層形成用塗液を第１中屈折率層３の表面に塗布し、高屈折率層４を形成する湿式成膜法による方法と、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法といった真空中で高屈折率層４を形成する真空成膜法による方法とに分けられるが、特に限定されるものではない。しかしながら、本発明においては、安価に反射防止フィルム１を製造することができるという点から、湿式成膜法を採用することが好ましい。
【００４６】
次に、高屈折率層４上に形成される低屈折率層５について説明する。低屈折率層５は、バインダー樹脂と無機微粒子とを含む硬化層であり、低屈折率層形成塗液を、高屈折率層４の表面に塗布し、湿式成膜法により形成することができる。なお、このとき低屈折率層５単層の膜厚（ｄ３）は、光学シミュレーションにより最適な値になるように設計される。また、低屈折率層５の膜厚（ｄ３）は、光学干渉層としての特性から、５０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内にあることが好ましく、７０ｎｍ〜９０ｎｍの範囲内にあることがさらに好ましい。
【００４７】
本発明の低屈折率層５の屈折率（ｎ３）は、１．３０から１．４０までの範囲内にあることが望ましく、１．３２から１．３８であることがさらに望ましい。低屈折率層５の屈折率（ｎ３）は、できるだけ低い方が空気（屈折率＝１）の屈折率に近づき低反射率を実現しやすいものの、低屈折率材料（低屈折率微粒子）を低屈折率層形成塗液中に多量に添加する必要があるため、機械強度が低くなり傷がつきやすくなる。一方、低屈折率層５の屈折率（ｎ３）が１．４０以上の場合、空気との屈折率の差が大きくなり、反射率が上昇してしまうため好ましくない。
【００４８】
低屈折率層形成塗液に含まれる低屈折率微粒子としては、例えば、ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦまたはＡｌＦ（いずれも、屈折率１．４）、もしくはＮａ３ＡｌＦ６（氷晶石、屈折率１．３３）等の低屈折率材料からなる微粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有するシリカ粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有するシリカ粒子は、空隙の部分を空気の屈折率（約１．０）とすることができるので、非常に低い屈折率を備える低屈折率微粒子とすることができる。具体的には、多孔質シリカ粒子、シェル（殻）構造のシリカ粒子を用いることができる。
【００４９】
低屈折率微粒子の平均粒子径は、１ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下であることが好ましい。低屈折率微粒子の平均粒子径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層５が白化して反射防止フィルム１の透明性が低下するおそれがある。一方、低屈折率微粒子の平均粒子径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集により、低屈折率層５における粒子の不均一性等の問題が生じるおそれがある。
【００５０】
低屈折率層５を形成するためのバインダマトリックス形成材料としては、紫外線硬化型材料や、熱硬化型材料を用いることができ、紫外線硬化型材料としては、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能性モノマー、または単官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂が用いられる。紫外線硬化型材料としては、第１中屈折率層３に用いられる紫外線硬化型材料として例示したアクリル系材料を用いることができ、熱硬化型材料としては、例えばオルガノポリシロキサンを用いることができる。オルガノポリシロキサンからなる層は、オルガノシロキサンを出発原料として湿式法に従い加水分解および脱水重縮合によりえられた層であり、シロキサン（Ｓｉ−Ｏ）骨格に基づく三次元網目構造のポリマーネットワークをなすように構成されている。
【００５１】
なお、低屈折率層５を形成するための低屈折率層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、例えば、第１中屈折率層３に用いられる溶媒として例示したものを用いることができる。また、添加剤としては、例えば消泡剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤、光増感剤等が挙げられる。
【００５２】
また、低屈折率層５を形成するためのバインダマトリックス形成材料として紫外線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより低屈折率層５を形成する場合には、低屈折率層形成用塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、第１中屈折率層形成用塗液に加えられる光重合開始剤として例示したものを用いることができる。
【００５３】
低屈折率層５を形成する方法としては、低屈折率層形成用塗液を高屈折率層４の表面に塗布し、第１中屈折率層３を形成する方法として例示した方法を採用することができる。
【００５４】
次に、低屈折率層５上に形成される第２中屈折率層６について説明する。第２中屈折率層６は、低屈折率層５よりも屈折率が高く、第１中屈折率層３やフィル本体２１よりも屈折率が低い層である。この第２中屈折率層６は、酸化珪素、フッ化マグネシウム、フッ化リチウムから選ばれる１つまたは複数の材料を主成分とする層であり、乾式法を用いて形成することが好ましい。この乾式法によれば、一般的に、湿式法に比べ、より精密な膜厚制御が可能であり、成膜の密着性、均一性が良い等の利点がある。特に密着性においては、湿式法による場合は、接する他の層の濡れ性に依存する事が多く、他の層の材料によっては十分に密着性が得られない場合もある。しかし、乾式法を用いた場合は、比較的他の層の濡れ性に関わらず高い密着性を得る事が出来る。
【００５５】
第２中屈折率層６の材料としては、酸化珪素、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム等があげられるが、特に酸化珪素が好ましい。酸化珪素は低屈折率層５とも高い密着性を示し、さらに、第２中屈折率層６上の最表面に滑剤層７を設けるが、酸化珪素は、他の材料よりもシランカップリング基を有するフッ素系滑剤を主成分とする滑剤層７と高い密着性を示すので好ましい。第２中屈折率層６を形成する方法としては特に限定されないが、例えば、真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法などの真空成膜プロセスを用いることができるが、特に密着性の面からスパッタリング法が好ましい。
【００５６】
本発明の第２中屈折率層６の屈折率（ｎ４）は、１．４０から１．５０までの範囲内にあることが望ましい。第２中屈折率層６の屈折率（ｎ４）は、できるだけ低い方が空気（屈折率＝１）の屈折率に近づき低反射率を実現しやすいものの、第２中屈折率層６としての特性発現に好適な材料の屈折率に制限がある。一方、第２中屈折率層６の屈折率（ｎ４）が１．５０以上の場合、空気との屈折率の差が大きくなり、反射率が上昇してしまうため好ましくない。
【００５７】
第２中屈折率層６の膜厚は、低屈折率層５の最表面に形成されるため、反射防止性を得られる膜厚であることに加え、耐擦傷性を示す膜厚でなければならない。反射防止性、耐擦傷性を得られる膜厚であれば限定されないが、第２中屈折率層６の膜厚は、１０ｎｍ〜５０ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍ〜４０ｎｍの範囲内にあることがさらに好ましい。
【００５８】
次に、第２中屈折率層６上に形成される滑剤層７について説明する。滑剤層７は、第２中屈折率層６を汚れから保護し、耐擦傷性を向上させるために設けられるものであり、反射防止フィルム１の最表面を構成する。この滑剤層７は、フッ素含有シラン化合物を滑剤コート層形成用組成物に含有することが好ましく、フルオロアルキル基またはフルオロアルキルエーテル基を有するシラン化合物溶液をコーティングして作製する。特に、フッ素含有シラン化合物がポリシラザンもしくはアルコキシシランであることが好ましい。なお、滑剤層７の膜厚は、０．１ｎｍ〜１５ｎｍであることが好ましい。更には、１ｎｍ〜１０ｎｍであることが好ましい。
【００５９】
また、上述のフルオロアルキル基またはフルオロアルキルエーテル基を有するシラン化合物のなかでも、シラン化合物中のフルオロアルキル基が、Ｓｉ原子１つに対し、１つ以下の割合でＳｉ原子と結合されており、残りは加水分解性基もしくはシロキサン結合基であるシラン化合物が好ましい。ここでいう加水分解性の基としては、例えばアルコキシ基等の基であり、加水分解によりヒドロキシル基となり、それにより前記シラン化合物は重縮合物を形成する。
【００６０】
例えば、上記シラン化合物は水と（必要なら酸触媒の存在下）、副生するアルコールを留去しながら、通常、室温〜１００℃の範囲で反応させる。これによりアルコキシシランは（部分的に）加水分解し、一部縮合反応が起こり、ヒドロキシル基を有する加水分解物として得ることができる。加水分解、縮合の程度は、反応させる水の量により適宜調節することができるが、本発明においては、滑剤層７に用いるシラン化合物溶液に積極的には水を添加せず、調製後、主として乾燥時に、空気中の水分等により加水分解反応を起こさせるため溶液の固形分濃度を薄く希釈して用いることが好ましい。
【００６１】
なお、好ましくは、滑剤層７形成用組成物において、上述のフルオロアルキル基を有するシラン化合物は下記一般式（１）で表され、かつ該シラン化合物の濃度を０．０１〜５質量％に希釈した溶液として用いることができる。
【００６２】
一般式（１）  ＣＦ３（ＣＦ２）ｍ（ＣＨ２）ｎ−Ｓｉ−（ＯＲａ）３
ここにおいて、ｍは１〜１０の整数。ｎは０〜１０の整数。Ｒａは同一もしくは異なるアルキル基を表す。
【００６３】
前記一般式（１）で表される化合物中、Ｒａは炭素原子数３つ以下であり炭素と水素のみからなるアルキル基、例えば、メチル、エチル、イソプロピル等の基が好ましい。
【００６４】
これら本発明において好ましく用いられるフルオロアルキル基またはフルオロアルキルエーテル基を有するシラン化合物としては、ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ3Ｈ7）3、ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ4Ｈ9）3、ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ3Ｈ7）3、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ3Ｈ7）3、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）（ＯＣ3Ｈ7）2、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）2ＯＣ3Ｈ7、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣ2Ｈ5）2、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣ3Ｈ7）2、（ＣＦ3）2ＣＦ（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、Ｃ7Ｆ15ＣＯＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、Ｃ8Ｆ17ＳＯ2ＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2ＯＣＯＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣ2Ｈ5）2、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣ3Ｈ7）2、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（Ｃ2Ｈ5）（ＯＣＨ3）2、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（Ｃ2Ｈ5）（ＯＣ3Ｈ7）2、ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣ2Ｈ5）2、ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣ3Ｈ7）2、ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣ3Ｈ7）2、ＣＦ3（ＣＦ2）2Ｏ（ＣＦ2）3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ3Ｈ7）、Ｃ7Ｆ15ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、Ｃ8Ｆ17ＳＯ2Ｏ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2ＯＣＨＯ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3などがあげられるが、この限りでない。
【００６５】
上記フッ素系シラン化合物としては、例えば信越化学工業株式会社製ＫＰ８０１Ｍ、ダイキン工業株式会社製オプツールＤＳＸ、フロロテクノロジー株式会社製ＦＧ５０１０などがあげられる。
【００６６】
上記構成を有する反射防止フィルム１は、第１中屈折率層３、高屈折率層４、低屈折率層５が湿式法によって形成されると共に、第２中屈折率層６が乾式法によって形成されるため、生産性を向上させることが可能であり、また、製造コストを低減させることが可能となる。また、第１中屈折率層３、高屈折率層４、低屈折率層５、第２中屈折率層６をこの順で積層して構成される光学調整層の表面に滑剤層７を積層して反射防止フィルム１を構成しているため、極めて優れた反射防止特性を発揮しつつ、高い耐擦傷性を発揮することが可能となる。
【００６７】
以下に実施例を揚げて本発明の具体的な態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【００６８】
（実施例１）
[フィル本体２１]
フィル本体２１として、厚さ１８８μｍ、幅３００ｍｍのＰＥＴフィルム（東レ株式会社製「ルミラー」）を用意する。
【００６９】
[第１ハードコート層２２及び第２ハードコート層２３の形成]
荒川化学工業株式会社製「オプスター」（屈折率 １．５）をテスター産業株式会社製SA-203 バーコーターROD No.１０でフィル本体２１の両面にそれぞれ塗布形成後、８０℃２分にて有機溶媒を揮発させた。次に、高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射することで約５μｍの厚みを有する第１ハードコート層２２及び第２ハードコート層２３を形成した。
【００７０】
[第１中屈折率層３の形成]
東洋インキ株式会社製「リオデュラス」（屈折率 １．６）をメチルイソブチルケトンを用い濃度を６．０重量％に希釈する。次に、第２ハードコート層２３上にこの塗料をオーエスジーシステムプロダクツ株式会社製  D-Bar#2で塗布形成後、８０℃２分間有機溶媒を揮発させた。次に、高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射することで、１１５ｎｍの第１中屈折率層３を形成した。
【００７１】
[高屈折率層４の形成]
東洋インキ株式会社製「リオデュラス」（屈折率 １．６５）をメチルイソブチルケトンを用い濃度を２．０重量％に希釈する。次に、第１中屈折率層３上にこの塗料をオーエスジーシステムプロダクツ株式会社製  D-Bar#2で塗布形成後、８０℃２分間有機溶媒を揮発させた。次に、高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射することで、４０ｎｍの高屈折率層４を形成した。
【００７２】
[低屈折率層５の形成]
荒川工業株式会社製「オプスター」 (屈折率 １．３２)をメチルイソブチルケトンを用い濃度を３．５重量％に希釈する。次に、高屈折率層４の上にこの塗料をオーエスジーシステムプロダクツ株式会社製  D-Bar#2で塗布形成後、８０℃２分間有機溶媒を揮発させた。次に、高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射することで、７０ｎｍの低屈折率層５を形成した。
【００７３】
[第２中屈折率層６の形成]
成膜装置内部に、成膜対象のシートを載置する。装置内部を十分に減圧した後にアルゴンガスと酸素ガスを導入し、ターゲットにＳｉ材料を用いてスパッタリングを実施した。これにより低屈折率層５の上に、厚さ３０ｎｍの酸化珪素膜を成膜し、第２中屈折率層６を形成した。この第２中屈折率層６の屈折率は、１．４６である。
【００７４】
[滑剤層７の形成]
ダイキン工業株式会社製「オプツール」を、パーフルオロヘキサンを用い、濃度を０．１重量％に希釈する。次に、この塗料を第２中屈折率層６５の酸化珪素膜表面にテスター産業株式会社製SA-203 バーコーターROD No.４にて塗布して１２０℃５分間乾燥することで、最終厚み約２ｎｍの滑剤層７８を得た。
【００７５】
上記の作製工程を得て、第１ハードコート層２２／フィル本体２１／第２ハードコート層２３／第１中屈折率層３／高屈折率層４／低屈折率層５／第２中屈折率層６／滑剤層７からなる実施例１に係る反射防止フィルム１を作製した。
【００７６】
（実施例２）
高屈折率層４の屈折率１．７５に変更し、加えて、塗料濃度を適宜調整し、第１中屈折率層３を１２５ｎｍ、高屈折率層４を３５ｎｍに変更した。その他の構成は実施例１と同じである。
【００７７】
（実施例３）
高屈折率層４の屈折率１．７０に変更し、加えて、塗料濃度を適宜調整し、第１中屈折率層３を８５ｎｍ、高屈折率層４を５５ｎｍ、低屈折率層５を６５ｎｍに変更した。その他の構成は実施例１と同じである。
【００７８】
（実施例４）
高屈折率層４の屈折率１．７０に変更し、加えて、塗料濃度を適宜調整し、第１中屈折率層３を１５０ｎｍ、高屈折率層４を２０ｎｍ、低屈折率層５を１００ｎｍ、第２中屈折率層６を１０ｎｍに変更した。その他の構成は実施例１と同じである。
【００７９】
（実施例５）
高屈折率層４の屈折率１．７０に変更し、加えて、塗料濃度を適宜調整し、高屈折率層４を５５ｎｍ、低屈折率層５を５０ｎｍ、第２中屈折率層６を５０ｎｍに変更した。その他の構成は実施例１と同じである。
【００８０】
（実施例６）
高屈折率層４の屈折率１．７０に変更し、加えて、第１中屈折率層３の屈折率１．５５、低屈折率層５の屈折率を１．３８に変更し、加えて、塗料濃度を適宜調整し、第１中屈折率層３を１１５ｎｍ、高屈折率層４を４５ｎｍ、低屈折率層５を７５ｎｍに変更した。その他の構成は実施例１と同じである。
【００８１】
ここで、実施例１〜６は、第２中屈折率層６、高屈折率層４、低屈折率層５、第１中屈折率層３の順に膜厚が大きくなるように構成されている。
【００８２】
（比較例１）
高屈折率層４の屈折率１．７０に変更し、加えて、塗料濃度を適宜調整し、第１中屈折率層３を１２５ｎｍ、高屈折率層４を３５ｎｍ、低屈折率層５を８５ｎｍ、第２低屈折率層５を５ｎｍに変更した。その他の構成は実施例１と同じである。
【００８３】
（比較例２）
高屈折率層４の屈折率１．７０に変更し、加えて、塗料濃度を適宜調整し、第１中屈折率層３を１３０ｎｍ、高屈折率層４を５０ｎｍ、低屈折率層５を５０ｎｍ、第２中屈折率層６を６０ｎｍに変更した。その他の構成は実施例１と同じである。
【００８４】
（比較例３）
高屈折率層４の屈折率１．７０に変更し、加えて、塗料濃度を適宜調整し、第１中屈折率層３を８０ｎｍ、高屈折率層４を３５ｎｍ、低屈折率層５を８５ｎｍ、第２中屈折率層６を３０ｎｍに変更した。その他の構成は実施例１と同じである。
【００８５】
（比較例４）
塗料濃度を適宜調整し、第１中屈折率層３を１６０ｎｍに変更した。その他の構成は比較例３と同じである。
【００８６】
（比較例５）
塗料濃度を適宜調整し、第１中屈折率層３を１２５ｎｍ、高屈折率層４を１５ｎｍに記変更した。その他の構成は比較例３と同じである。
【００８７】
（比較例６）
塗料濃度を適宜調整し、高屈折率層４を６０ｎｍに変更した。その他の構成は比較例５と同じである。
【００８８】
（比較例７）
塗料濃度を適宜調整し、高屈折率層４を３５ｎｍ、低屈折率層５１を４０ｎｍに変更した。その他の構成は比較例６と同じである。
【００８９】
（比較例８）
塗料濃度を適宜調整し、低屈折率層５を１１０ｎｍに変更した。その他の構成は比較例７と同じである。
【００９０】
[耐擦傷性の評価]
実施例と、比較例の反射防止フィルム１について、摺動試験機を用いて、以下の各条件で反射防止フィルム１表層のこすりテストを行った。
こすり材：試料と接触するテスターのこすり先端部（1ｃｍ×2ｃｍ）にスチールウール（日本スチールウール株式会社製、Ｎｏ．００００）を巻いて、動かないようバンド固定した。
＜条件１＞ 移動距離（片道）：７ｃｍ、こすり速度：１４ｃｍ／秒、荷重：４００ｇ／ｃｍ２、先端部接触面積：１ｃｍ×２ｃｍ、こすり往復回数：０往復〜１００往復
＜条件２＞移動距離（片道）：７ｃｍ、こすり速度：１４ｃｍ／秒、荷重：６００ｇ／ｃｍ２、先端部接触面積：１ｃｍ×２ｃｍ、こすり往復回数：０往復〜１００往復
反射光で目視観察して、こすり部分の傷を、以下の基準で評価した。
○：非常に注意深く確認しても、全く傷が見えない。
△：注意深く確認すると、傷が見える。
×：明らかな傷が確認できる。
その実験結果を表１に示す。なお、この表１においては、上述の実施例１〜６、及び、比較例１〜８に係る反射防止フィルム１における第１中屈折率層３、高屈折率層４、低屈折率層５、第２中屈折率層６の屈折率及び膜厚の関係を併せて記載している。
【００９１】
【表１】
2018173447.tif 000003
【００９２】
この表１に示す結果より、本発明に係る実施例１〜６の反射防止フィルム１は、荷重４００ｇ／ｃｍ２のスチールウール摺動耐久性が往復１００回以上であり、耐擦傷性の耐久性が高いことが分かる。特に、第２中屈折率層６の膜厚が、３０ｎｍ以上の実施例１，２，３，５，６については、荷重６００ｇ／ｃｍ２のスチールウール摺動耐久性が往復１００回以上であり、極めて優れた耐擦傷性の耐久性を有することが分かる。
【００９３】
[視感反射率の評価]
実施例と、比較例の反射防止フィルム１について、ＪＩＳ  Ｚ８７０１に基づき視感反射率を計算より求めた。視感反射率は、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲の反射防止層の反射スペクトルから標準の光Ｃにおける３刺激値（ＸＹＺ）を求め、そのＹの値が視感反射率となる。実施例、比較例の各反射防止フィルム１の視感反射率を求め表２に示す。なお、この表２においては、上述の実施例１〜６、及び、比較例１〜８に係る反射防止フィルム１における第１中屈折率層３、高屈折率層４、低屈折率層５、第２中屈折率層６の屈折率及び膜厚の関係を併せて記載している。
【００９４】
【表２】
2018173447.tif 000004
【００９５】
この表２に示す結果より、本発明に係る実施例１〜６の反射防止フィルム１は、視感度反射率が、いずれも１％以下となっており、極めて優れた反射防止特性を示すことが確認された。
【００９６】
一方、第２中屈折率層６の厚みが１０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲に含まれない比較例２（第２中屈折率層６の厚み：６０ｎｍ）は、視感度反射率が１．２０となり、実施例１〜６と比較して反射防止特性が劣ることがわかる。また、低屈折率層５の厚みが５０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲に含まれない比較例７（低屈折率層５の厚み：４０ｎｍ）や比較例８（低屈折率層５の厚み：１１０ｎｍ）は、視感度反射率が、それぞれ、１．６７、２．５５となり、実施例１〜６と比較して反射防止特性が劣ることがわかる。また、高屈折率層４の厚みが２０ｎｍ〜５５ｎｍの範囲に含まれない比較例５（高屈折率層４の厚み：１５ｎｍ）は、視感度反射率が、１．４２となり、実施例１〜６と比較して反射防止特性が劣ることがわかる。また、第１中屈折率層３の厚みが８５ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲に含まれない比較例４（第１中屈折率層３の厚み：８０ｎｍ）は、視感度反射率が、１．０８となり、実施例１〜６と比較して反射防止特性がやや劣ることがわかる。
【００９７】
なお、比較例１、比較例４及び比較例６に係る反射防止フィルム１については、視感度反射率が１．０以下であり、反射防止特性が、実施例１〜６に係る反射防止フィルム１と同等である結果であるが、比較例１は、耐擦傷性が低く、また、比較例４及び比較例６は、反射色相におけるａ＊及びｂ＊が、−１５≦ａ*≦１５、−１５≦ｂ*≦１５の数値範囲に入っておらず、反射光に対して色味が付くことを効果的に抑制することが難しいことが分かる。
【００９８】
［反射色相の評価］
実施例と、比較例の反射防止フィルム１の第２中屈折率層６表面について、分光光度計（日立製作所製、U-4100）を用い、入射角５°における分光反射率を測定し、得られた分光反射率曲線から反射光の色相を求め、この色相がCIE1976L*a*b*色空間において、−１５≦ａ*≦１５、−１５≦ｂ*≦１５を満たすかどうかを判定した。なお、測定の際にはフィル本体２１であるＰＥＴフィルムのうち第１中屈折率層３が形成されてない側の面に粘着層を介して黒色アクリル板を貼り合せ、反射防止の処置をおこなった。判定基準を以下に示す。
【００９９】
○：目的の反射色相を満たす。
【０１００】
×：目的の反射色相を満たさない。
その実験結果を表３に示す。なお、この表３においては、上述の実施例１〜６、及び、比較例１〜８に係る反射防止フィルム１における第１中屈折率層３、高屈折率層４、低屈折率層５、第２中屈折率層６の屈折率及び膜厚の関係を併せて記載している。
【０１０１】
【表３】
2018173447.tif 000005
【０１０２】
この表３に示す結果より、本発明に係る実施例１〜６の反射防止フィルム１は、色相がＣＩＥ１９７６Ｌ*ａ*ｂ*色空間において、−１５≦ａ*≦１５、−１５≦ｂ*≦１５を満たすことから、いずれも、反射光に対しても色味が付くことを効果的に抑制する効果が認められる。
【０１０３】
一方、第２中屈折率層６の厚みが１０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲に含まれない比較例２（第２中屈折率層６の厚み：６０ｎｍ）は、反射色相におけるｂ＊が−２０．５８となり、−１５≦ｂ*≦１５の数値範囲に入っておらず、反射光に対して色味が付くことを抑制することが難しいことが分かる。また、低屈折率層５の厚みが５０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲に含まれない比較例８（低屈折率層５の厚み：１１０ｎｍ）は、反射色相におけるｂ＊が−１８．５３となり、−１５≦ｂ*≦１５の数値範囲に入っておらず、反射光に対して色味が付くことを抑制することが難しいことが分かる。また、高屈折率層４の厚みが２０ｎｍ〜５５ｎｍの範囲に含まれない比較例６（高屈折率層４の厚み：６０ｎｍ）は、反射色相におけるａ＊が１９．４１となり、ｂ＊が−３２．２６となり、−１５≦ａ*≦１５、−１５≦ｂ*≦１５の数値範囲に入っておらず、反射光に対して色味が付くことを抑制することが難しいことが分かる。また、第１中屈折率層３の厚みが８５ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲に含まれない比較例３（第１中屈折率層３の厚み：８０ｎｍ）は、反射色相におけるｂ＊が−１９．０１となり、−１５≦ｂ*≦１５の数値範囲に入っておらず、反射光に対しても色味が付くことを抑制することが難しいことが分かる。また、比較例４（第１中屈折率層３の厚み：１６０ｎｍ）は、反射色相におけるａ＊が２２．５３となり、ｂ＊が−３１．９１となり、−１５≦ａ*≦１５、−１５≦ｂ*≦１５の数値範囲に入っておらず、反射光に対しても色味が付くことを抑制することが難しいことが分かる。
【０１０４】
なお、比較例１、比較例５及び比較例７に係る反射防止フィルム１については、反射色相におけるａ＊及びｂ＊が、−１５≦ａ*≦１５、−１５≦ｂ*≦１５の数値範囲を満たすものであり、反射光に対して色味が付くことを抑制できるものではあるが、比較例１は、上述のように、耐擦傷性が低く、また、比較例５及び比較例７は、視感度反射率が、１．０よりも大きいため、実施例１〜６と比較して反射防止特性が劣る。
【符号の説明】
【０１０５】
１  反射防止フィルム
２  透明基材フィルム
２１  フィルム本体
２２  第１ハードコート層
２３  第２ハードコート層
５  第１中屈折率層
６  高屈折率層
７  低屈折率層
８  第２中屈折率層
９  滑剤層
【図１】
2018173447.tif 000006
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月20日(2017.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材フィルムの少なくとも一方面に第１中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層、第２中屈折率層の順に４層の光学調整層を積層した反射防止フィルムであって、
前記第１中屈折率層が、無機材料を含む層であり、
前記高屈折材料が、無機材料を含む層であり、
前記低屈折率層がバインダー樹脂と無機微粒子とを含む硬化層であり、
前記第２中屈折率層が、酸化珪素、フッ化マグネシウム、フッ化リチウムから選ばれる１つまたは複数の材料を主成分とする層であり、
前記第２中屈折率層の表面に、シランカップリング基を有するフッ素系滑剤を主成分とする滑剤層が形成されており、
前記第１中屈折率層の膜厚は８５〜１５０ｎｍであり、
前記高屈折率層の膜厚は２０〜５５ｎｍであり、
前記低屈折率層の膜厚は５０〜１００ｎｍであり、
前記第２中屈折率層の膜厚は１０〜５０ｎｍであり、
前記第１中屈折率層の屈折率は１．５５〜１．６０であり、前記第２中屈折率層の屈折率は１．４１〜１．５０であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
前記高屈折率層の屈折率は１．６５〜１．７５であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記低屈折率層の屈折率は１．３０〜１．４０であることを特徴とする請求項１又は２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記無機材料を含む層が、バインダー樹脂と無機微粒子とを含む硬化層であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
前記第２中屈折率層、前記高屈折率層、前記低屈折率層、前記第１中屈折率層の順に膜厚が大きいことを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
荷重４００ｇ／ｃｍ２のスチールウール摺動耐久性が往復１００回以上であることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の上記目的は、透明基材フィルムの少なくとも一方面に第１中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層、第２中屈折率層の順に４層の光学調整層を積層した反射防止フィルムであって、前記第１中屈折率層が、無機材料を含む層であり、前記高屈折材料が、無機材料を含む層であり、前記低屈折率層がバインダー樹脂と無機微粒子とを含む硬化層であり、前記第２中屈折率層が、酸化珪素、フッ化マグネシウム、フッ化リチウムから選ばれる１つまたは複数の材料を主成分とする層であり、前記第２中屈折率層の表面に、シランカップリング基を有するフッ素系滑剤を主成分とする滑剤層が形成されており、前記第１中屈折率層の膜厚は８５〜１５０ｎｍであり、前記高屈折率層の膜厚は２０〜５５ｎｍであり、前記低屈折率層の膜厚は５０〜１００ｎｍであり、前記第２中屈折率層の膜厚は１０〜５０ｎｍであり、前記第１中屈折率層の屈折率は１．５５〜１．６０であり、前記第２中屈折率層の屈折率は１．４１〜１．５０であることを特徴とする反射防止フィルムにより達成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、前記高屈折率層の屈折率は１．６５〜１．７５であることが好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、前記低屈折率層の屈折率は１．３０〜１．４０であることが好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】