(57)【要約】【課題】１対の直流磁場用磁極と１対の交流磁場用磁極を設けるだけの比較的簡易な流動制御装置で高品質のスラブを鋳造する。【解決手段】１対の上部磁極３と１対の下部磁極４を備えるとともに、鋳型１内の中心位置に挿入され、鋳型短辺方向に溶鋼を吐出する２孔式の浸漬ノズル２を備え、鋳型上下方向において上部磁極３がメニスカス近傍に位置し、且つ下部磁極４の交流磁界のピーク位置が浸漬ノズル２の溶鋼吐出孔２０よりも下方に位置する連続鋳造機を用い、上部磁極３に直流磁界を印加して溶鋼流を制動し、且つ下部磁極４に交流磁界を印加して溶鋼に旋回流を与えつつ、鋼の連続鋳造を行う方法であって、上部磁極３の下端と下部磁極４の上端との間の距離を１５０ｍｍ以上とし、浸漬ノズル２の浸漬深さを２００ｍｍ超３００ｍｍ以下、溶鋼吐出孔２０の水平方向から下向きの溶鋼吐出角度を５〜５０°とする。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
水平断面が矩形状の連続鋳造用の鋳型（１）の外側に、鋳型長辺部を挟んで対向する１対の上部磁極（３）と１対の下部磁極（４）を備えるとともに、鋳型（１）内の中心位置に挿入され、鋳型短辺方向に溶鋼を吐出する２孔式の浸漬ノズル（２）を備え、鋳型上下方向において上部磁極（３）がメニスカス近傍に位置し、且つ下部磁極（４）の交流磁界のピーク位置が浸漬ノズル（２）の溶鋼吐出孔（２０）よりも下方に位置する連続鋳造機を用い、上部磁極（３）により直流磁界を印加して溶鋼流を制動し、且つ下部磁極（４）により交流磁界を印加して溶鋼に旋回流を与えつつ、鋼の連続鋳造を行う方法であって、
上部磁極（３）の下端と下部磁極（４）の上端との間の距離を１５０ｍｍ以上とし、浸漬ノズル（２）の浸漬深さ（但し、メニスカスから溶鋼吐出孔（２０）上端までの距離）を２００ｍｍ超３００ｍｍ以下、溶鋼吐出孔（２０）の水平方向から下向きの溶鋼吐出角度を５°以上５０°以下とすることを特徴とする鋼の連続鋳造方法。
【請求項２】
下部磁極（４）により印加する交流磁界の磁束密度Ｒが０．０２Ｔ以上０．１０Ｔ以下、上部磁極（３）により印加する直流磁界の磁束密度Ｄが０．１０Ｔ以上０．３５Ｔ以下であり、前記交流磁界の磁束密度Ｒと前記直流磁界の磁束密度Ｄの比Ｒ／Ｄが０．１５以上０．７０以下であることを特徴とする請求項１に記載の鋼の連続鋳造方法。
【請求項３】
水平断面が矩形状の連続鋳造用の鋳型（１）の外側に、鋳型長辺部を挟んで対向する直流磁界印加用の１対の上部磁極（３）と交流磁界印加用の１対の下部磁極（４）を備えるとともに、鋳型（１）内の中心位置に挿入され、鋳型短辺方向に溶鋼を吐出する２孔式の浸漬ノズル（２）を備え、鋳型上下方向において上部磁極（３）がメニスカス近傍に位置し、且つ下部磁極（４）の交流磁界のピーク位置が浸漬ノズル（２）の溶鋼吐出孔（２０）よりも下方に位置する連続鋳造機であって、
上部磁極（３）の下端と下部磁極（４）の上端との間の距離が１５０ｍｍ以上であり、浸漬ノズル（２）の浸漬深さ（但し、メニスカスから溶鋼吐出孔（２０）上端までの距離）が２００ｍｍ超３００ｍｍ以下、溶鋼吐出孔（２０）の水平方向から下向きの溶鋼吐出角度が５°以上５０°以下であることを特徴とする鋼の連続鋳造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、鋼の連続鋳造技術、詳細には高品質のスラブを連続鋳造により製造するための鋳型内での溶鋼流動制御技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、自動車用鋼板、缶用鋼板、高機能厚板材などの高級鋼製品の品質要求が厳格化しており、このため、連続鋳造されるスラブ自体にも高品質化が求められている。スラブに要求される品質の１つとして、スラブ表層・内部の介在物量が少ないことが挙げられる。スラブ表層・内部に捕捉される介在物には、下記のようなものがある。
（1）アルミニウムなどによる溶鋼の脱酸工程で生成し、溶鋼中に懸濁している脱酸生成物
（2）タンディッシュや浸漬ノズルで溶鋼内に吹き込まれるＡｒガス気泡
（3）鋳型内の溶鋼湯面上に散布したモールドパウダーが溶鋼中に巻き込まれて懸濁したもの
【０００３】
これらの介在物は何れも製品段階で表面欠陥や内部欠陥となるため、スラブ表層・内部に捕捉される量を極力少なくすることが重要である。
従来、溶鋼中の非金属介在物、モールドフラックス、気泡が凝固シェルに捕捉され、製品欠陥となることを防止するために、鋳型内で溶鋼流に磁界を印加し、磁界による電磁気力を利用して溶鋼の流動を制御することが行われており、この技術に関して数多くの提案がなされている。
例えば、特許文献１には、浸漬ノズルからの吐出流に移動磁場を印加し、鋳型内の溶鋼流速が介在物付着臨界流速以上でモールドパウダー巻込み臨界流速以下の範囲となるように、吐出流に制動力あるいは水平方向の回転力を与える技術が開示されている。
【０００４】
また、特許文献２には、鋳型長辺部を挟んで対向する１対の上部磁極と１対の下部磁極を設け、メニスカス近傍の上部磁極により交流磁界と直流磁界を重畳印加して表面の溶鋼を撹拌しつつ制動し、下部磁極により直流磁界を印加して溶鋼を制動することにより、介在物や気泡、モールドパウダーのスラブへの混入を防止する技術が開示されている。
また、特許文献３には、メニスカス近傍の上部磁極により溶鋼を撹拌する交流磁界を印加し、下部磁極により直流磁界を印加するとともに、鋳型長辺壁の浸漬ノズルに対向する位置に湾曲部を設けて浸漬ノズルと鋳型間の距離を大きくとる流動制御方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第４３８０１７１号公報
【特許文献２】特許第４５６９７１５号公報
【特許文献３】特許第４５０５５３０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記従来技術には以下のような問題がある。
特許文献１の方法は、磁場印加による流動制御装置は移動磁場のための磁極１対だけであるため、設備費は安いものの、溶鋼吐出流に対して制動力あるいは水平方向の撹拌力を与えるだけであり、鋼板の表面品質に最も影響を及ぼすメニスカス近傍の溶鋼流動を完全にコントロールするのには限界がある。このため、近年の高級鋼製品の厳格な品質要求に十分に対応することができない。
【０００７】
また、特許文献２の方法は、上部磁極による交流磁界と直流磁界の重畳印加、下部磁極による直流磁界の印加により飛躍的な品質向上が認められるものの、コイル構造が複雑・大型化するため設置できる連続鋳造機に制約があり、また、設備投資費が高額になる難点がある。
特許文献３の方法は、上部交流磁界と下部直流磁界の印加に加え、鋳型長辺形状に湾曲部を設けているため、磁場印加コイルの設置位置との干渉などを回避する必要性があり、設備が複雑となる。また、鋳型内で鋳片形状を矯正するため鋳型銅板への摩擦力負荷が大きくなり、銅板寿命の低下や凝固シェルの破断によるブレークアウト等の操業阻害も懸念される。
【０００８】
したがって本発明の目的は、以上のような従来技術の課題を解決し、１対の直流磁場用磁極と１対の交流磁場用磁極を設けるだけの比較的簡易な流動制御装置で高品質のスラブを鋳造することが可能な連続鋳造方法及び装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するための本発明の要旨は以下のとおりである。
［1］水平断面が矩形状の連続鋳造用の鋳型（１）の外側に、鋳型長辺部を挟んで対向する１対の上部磁極（３）と１対の下部磁極（４）を備えるとともに、鋳型（１）内の中心位置に挿入され、鋳型短辺方向に溶鋼を吐出する２孔式の浸漬ノズル（２）を備え、鋳型上下方向において上部磁極（３）がメニスカス近傍に位置し、且つ下部磁極（４）の交流磁界のピーク位置が浸漬ノズル（２）の溶鋼吐出孔（２０）よりも下方に位置する連続鋳造機を用い、上部磁極（３）により直流磁界を印加して溶鋼流を制動し、且つ下部磁極（４）により交流磁界を印加して溶鋼に旋回流を与えつつ、鋼の連続鋳造を行う方法であって、
上部磁極（３）の下端と下部磁極（４）の上端との間の距離を１５０ｍｍ以上とし、浸漬ノズル（２）の浸漬深さ（但し、メニスカスから溶鋼吐出孔（２０）上端までの距離）を２００ｍｍ超３００ｍｍ以下、溶鋼吐出孔（２０）の水平方向から下向きの溶鋼吐出角度を５°以上５０°以下とすることを特徴とする鋼の連続鋳造方法。
［2］上記［1］の連続鋳造方法において、下部磁極（４）により印加する交流磁界の磁束密度Ｒが０．０２Ｔ以上０．１０Ｔ以下、上部磁極（３）により印加する直流磁界の磁束密度Ｄが０．１０Ｔ以上０．３５Ｔ以下であり、前記交流磁界の磁束密度Ｒと前記直流磁界の磁束密度Ｄの比Ｒ／Ｄが０．１５以上０．７０以下であることを特徴とする鋼の連続鋳造方法。
【００１０】
［3］水平断面が矩形状の連続鋳造用の鋳型（１）の外側に、鋳型長辺部を挟んで対向する直流磁界印加用の１対の上部磁極（３）と交流磁界印加用の１対の下部磁極（４）を備えるとともに、鋳型（１）内の中心位置に挿入され、鋳型短辺方向に溶鋼を吐出する２孔式の浸漬ノズル（２）を備え、鋳型上下方向において上部磁極（３）がメニスカス近傍に位置し、且つ下部磁極（４）の交流磁界のピーク位置が浸漬ノズル（２）の溶鋼吐出孔（２０）よりも下方に位置する連続鋳造機であって、
上部磁極（３）の下端と下部磁極（４）の上端との間の距離が１５０ｍｍ以上であり、浸漬ノズル（２）の浸漬深さ（但し、メニスカスから溶鋼吐出孔（２０）上端までの距離）が２００ｍｍ超３００ｍｍ以下、溶鋼吐出孔（２０）の水平方向から下向きの溶鋼吐出角度が５°以上５０°以下であることを特徴とする鋼の連続鋳造装置。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、１対の直流磁場用磁極と１対の交流磁場用磁極を設けるだけの比較的簡易な流動制御装置で高品質のスラブを安定して鋳造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】２孔式浸漬ノズルを鋳型短辺方向に溶鋼を吐出するように鋳型内の中心位置に挿入し、この浸漬ノズルの溶鋼吐出孔位置において、浸漬ノズルからの溶鋼吐出流に交流磁界を直接的に作用させて水平方向の回転撹拌力を与えるケースを示す説明図
【図２】図１のケースにおける鋳型内での溶鋼の流動と渦流の発生状況を示す説明図
【図３】図１と同様に、浸漬ノズルの溶鋼吐出孔位置において、浸漬ノズルからの溶鋼吐出流に交流磁界を直接的に作用させて水平方向の回転撹拌力を与えるとともに、メニスカス近傍に直流磁界を作用させて溶鋼流を制動するケースを示す説明図
【図４】図３と同様に、メニスカス近傍に直流磁界を作用させて溶鋼流を制動するとともに、浸漬ノズルの溶鋼吐出孔よりも下方位置において、浸漬ノズルからの溶鋼吐出流に交流磁界を作用させて水平方向の回転撹拌力を与えるケースを示す説明図
【図５】本発明の実施に供される連続鋳造機の鋳型及び浸漬ノズルの一実施形態を示す縦断面図
【図６】図５に示す鋳型の平面図
【図７】図５中のVII-VII線に沿う断面図
【図８】実施例２における比Ｒ／Ｄと製品欠陥指数との関係を示すグラフ
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明者らは、水平断面が矩形状の鋳型を用いた鋼の連続鋳造法において、図１に示すように、２孔式浸漬ノズルを鋳型短辺方向に溶鋼を吐出するように、鋳型内の中心位置に挿入し、この浸漬ノズルの溶鋼吐出孔位置において、浸漬ノズルからの溶鋼吐出流に交流磁界（移動磁場）を直接的に作用させて水平方向の回転撹拌力を与えるケースについて、鋳型内流動状況に関する調査を行った。このケースにおける鋳型内の流速分布を数値計算や実機１／４サイズの低融点合金（Ｂｉ、Ｐｂ、Ｓｎ、Ｃｄ合金：融点７０℃）装置による流速測定により繰り返し調査した結果、図２に示すように、溶鋼吐出流に対して印加された水平方向の回転力によって上昇した流れがメニスカス面において反対側からの流れと衝突して流れが乱れ、しばしば渦流が発生する挙動が確認された。このようなケースで実際に鋳造した製品の欠陥分布を調査すると、渦流発生が確認された領域において欠陥発生率が高く、また欠陥要因分析によりモールドパウダー性の欠陥であることを突き止めた。つまり、メニスカス面での流れの乱れによって渦流が発生してモールドパウダーを巻き込むことが、製品欠陥発生のメカニズムであると推定された。
【００１４】
そこで本発明者らは、上記課題の解決策として、図１に示すような浸漬ノズルの溶鋼吐出孔位置での交流磁界の印加に加えて、図３に示すようにメニスカス近傍に直流磁界を作用させて溶鋼流を制動する手法を考案し、その効果を検証したが、モールドパウダーの巻込みは低減しなかった。この要因を明らかにするために種々の調査を行ったところ、上部の直流磁界と下部の交流磁界の位置が近すぎるために磁場が干渉し合い、想定していた効果を発揮できていないことが判った。
【００１５】
さらなる調査・検討の結果、本発明者らは図４に示すような解決策を見出した。すなわち、メニスカス面での溶鋼流を制動するために、上部磁極はメニスカス近傍に設置して直流磁界を印加する必要がある。一方、交流磁界と直流磁界との干渉を避けるために下部磁極を下方へ移動させ、下部磁極による交流磁界のピーク位置が浸漬ノズルの溶鋼吐出孔よりも下方に位置するようにする。上部磁極と下部磁極間の距離について鋭意調査を行ったところ、上部磁極の下端と下部磁極の上端の間の距離が１５０ｍｍ以上離れていれば、相互に干渉し合わず、狙いとする効果を発揮できることが判った。
【００１６】
下部磁極を下方に移動させたために、浸漬ノズルからの溶鋼吐出流に直接的には交流磁界を印加できなくなったが、溶鋼吐出孔からの溶鋼吐出角度が、水平方向から下向き５°以上５０°以下の浸漬ノズルを用いれば、溶鋼吐出孔から吐出された後の溶鋼流に対して交流磁界を印加して水平方向の旋回力を与えることができるため、交流磁界印加の効果を享受できることも明らかとなった。
一般的な連続鋳造機の鋳型の長さは８００〜１０００ｍｍ程度である。このような鋳型制約のなかで図４に示す装置を実現するには、浸漬ノズルの浸漬深さ（メニスカスから溶鋼吐出孔上端までの距離）は２００ｍｍ超３００ｍｍ以下が好ましいことも確認した。
【００１７】
図５〜図７は、本発明の実施に供される連続鋳造機の鋳型および浸漬ノズルの一実施形態を示すもので、図５は鋳型及び浸漬ノズルの縦断面図、図６は鋳型の平面図、図７は図５中のVII-VII線に沿う断面図である。
図において、１は連続鋳造用の鋳型であり、この鋳型１は鋳型長辺部１０（鋳型側壁）と鋳型短辺部１１（鋳型側壁）とにより水平断面が矩形状に構成されている。
２は鋳型１内の中心位置に挿入された２孔式の浸漬ノズルであり、この浸漬ノズル２を通じて鋳型１の上方に設置されたタンディッシュ（図示せず）内の溶鋼を鋳型１内に注入する。この浸漬ノズル２は、筒状のノズル本体の下端に底部２１を有するとともに、この底部２１の直上の側壁部に、両鋳型短辺部１１と対向するように１対の溶鋼吐出孔２０が貫設されており、この１対の溶鋼吐出孔２０から鋳型短辺方向に溶鋼を吐出する。
【００１８】
なお、溶鋼中のアルミナなどの非金属介在物が浸漬ノズル２の内壁面に付着・堆積してノズル閉塞を生じることを防止するため、通常、浸漬ノズル２のノズル本体内部や上ノズル（図示せず）の内部に設けられたガス流路にＡｒガスなどの不活性ガスが導入され、この不活性ガスがノズル内壁面からノズル内に吹き込まれる。
タンディッシュから浸漬ノズル２に流入した溶鋼は、浸漬ノズル２の１対の溶鋼吐出孔２０から鋳型１内の鋳型短辺方向に吐出される。吐出された溶鋼は、鋳型１内で冷却されて凝固シェル５を形成し、鋳型１の下方に連続的に引き抜かれ鋳片となる。鋳型１内のメニスカス６には、溶鋼の保温剤および凝固シェル５と鋳型１との潤滑剤として、モールドフラックスが添加される。
【００１９】
上述したような調査・検討により得られた知見に基づき、本発明では、鋳型１の外側（鋳型側壁の背面）に、鋳型長辺部を挟んで対向する１対の上部磁極３a，３bと１対の下部磁極４a，４bを設け、上部磁極３a，３bにより直流磁界を印加して溶鋼流を制動し、且つ下部磁極４a，４bにより交流磁界を印加して溶鋼に旋回流を与えつつ、鋼の連続鋳造を行う。
上部磁極３a，３bと下部磁極４a，４bは、それぞれ鋳型長辺部１０の幅方向において、その全幅に沿うように配置される。
【００２０】
上部磁極３a，３bと下部磁極４a，４bは、鋳型上下方向において、上部磁極３a，３bがメニスカス近傍に位置し、且つ下部磁極４a，４bの交流磁界のピーク位置が浸漬ノズル２の溶鋼吐出孔２０よりも下方に位置するように配置する。ここで、上部磁極３a，３bは、その鉄心上端位置がメニスカスの上方１００ｍｍ〜メニスカスの下方１００ｍｍ程度の範囲内に存在するように配置されることが好ましい。
【００２１】
さらに、上述した理由から、上部磁極３a，３bの各下端と下部磁極４a，４bの各上端との間の距離Ｌを１５０ｍｍ以上とし、浸漬ノズル２の浸漬深さｄ（但し、メニスカス６から溶鋼吐出孔２０上端までの距離）を２００ｍｍ超３００ｍｍ以下、溶鋼吐出孔２０の水平方向から下向きの溶鋼吐出角度αを５°以上５０°以下とする。
上述したように溶鋼吐出角度αが５°未満では、溶鋼吐出孔から吐出された後の溶鋼流に対して交流磁界を適切に印加できない。一方、溶鋼吐出角度αが５０°を超えると、溶鋼中の介在物が鋳型下方へと潜り込みやすくなり、これが内部欠陥となって、例えばコイルをプレス加工する際のプレス割れの起点となる可能性が懸念される。
【００２２】
上部磁極３a，３bの各下端と下部磁極４a，４bの各上端との間の距離Ｌは、１５０ｍｍ以上を確保することが重要である。一般的な連続鋳造装置の鋳型長さは８００〜１０００ｍｍ程度であるため、電磁石コイルの鋳造方向での長さによって距離Ｌの上限はおのずと決まってくる。ここで、連続鋳造装置で用いられる電磁石コイルの鋳造方向での長さは、用途にもよるが一般的には２００〜４００ｍｍ程度である。
【００２３】
さらに、本発明者らは鋭意実験を重ね、直流磁界の磁束密度と交流磁界の磁束密度に最適な範囲が存在することを見出した。すなわち、下部磁極４a，４bにより印加する交流磁界の磁束密度Ｒを０．０２Ｔ（テスラ）以上０．１０Ｔ（テスラ）以下、上部磁極３a，３bにより印加する直流磁界の磁束密度Ｄを０．１０Ｔ（テスラ）以上０．３５Ｔ（テスラ）以下とし、且つその交流磁界の磁束密度Ｒと直流磁界の磁束密度Ｄの比Ｒ／Ｄを０．１５以上０．７０以下とする条件が最適であることが判った。交流磁界の磁束密度Ｒが０．０２Ｔ未満では、溶鋼に付与する旋回力が弱いため気泡や介在物の洗浄効果を発揮しにくい。一方、交流磁界の磁束密度Ｒが０．１０Ｔを超える旋回力では、上部に直流磁界を印加したとしてもモールドパウダーの巻込みを完全に抑制することが難しくなる。また、直流磁界の磁束密度Ｄが０．１０Ｔ未満ではメニスカス面での溶鋼制動力が不足するため、モールドパウダーの巻き込み抑制効果がやや小さくなる。一方、直流磁界の磁束密度Ｄが０．３５Ｔを超えるような磁極の場合、鉄芯やコイルの構造が大型化し、連続鋳造鋳型内に交流磁極と併用して収めることが困難となる。また、交流磁界の磁束密度Ｒと直流磁界の磁束密度Ｄが上述したような範囲であっても、Ｒ／Ｄが０．１５未満では、直流磁界による制動力に対して交流磁界の旋回力が弱いため、気泡や介在物の洗浄効果がやや小さくなる。一方、Ｒ／Ｄが０．７０を超えると、交流磁界の旋回力が直流磁界の制動力に対して強すぎるため、モールドパウダーの巻き込み抑制効果がやや小さくなる。
【００２４】
このため本発明では、下部磁極４a，４bにより印加する交流磁界の磁束密度Ｒを０．０２Ｔ以上０．１０Ｔ以下、上部磁極３a，３bにより印加する直流磁界の磁束密度Ｄを０．１０Ｔ以上０．３５Ｔ以下とし、前記交流磁界の磁束密度Ｒと前記直流磁界の磁束密度Ｄの比Ｒ／Ｄを０．１５以上０．７０以下とすることが好ましい。
【実施例】
【００２５】
［実施例１］
図５〜図７に示すような構成の連続鋳造機を用いて、約３００トンのアルミキルド溶鋼を鋳造した。鋳造厚みを２５０ｍｍ、鋳造幅を１０００〜２２００ｍｍ、溶鋼スループットを４．０〜７．５ｔｏｎ／ｍｉｎとした。
浸漬ノズルは、外径１５０ｍｍ、内径９０ｍｍの２孔式であり、溶鋼吐出孔の形状は１辺の長さを８０ｍｍの正方形状とした。浸漬ノズルからの吹き込み不活性ガスにはＡｒガスを使用した。
【００２６】
本発明例と比較例８〜２３では、図４に示すように上部磁極によりメニスカス近傍に直流磁界を印加し、下部磁極により交流磁界を印加した。一方、比較例１〜７では、図１に示すように浸漬ノズルの溶鋼吐出孔位置にのみ磁極（表２では便宜上「下部磁極」としている）を配置し、浸漬ノズルからの溶鋼吐出流に直接的に交流磁場を印加した。
鋳造されたスラブに対して熱間圧延、冷間圧延、合金化溶融亜鉛めっき処理を順次施し、この合金化溶融亜鉛めっき鋼板の表面欠陥をオンライン表面欠陥計測で連続的に測定し、そのなかから欠陥外観及びＳＥＭ分析、ＩＣＰ分析等により製鋼性欠陥（気泡性、介在物性、モールドパウダー性欠陥）を判別し、コイル長さ１００ｍあたりの欠陥個数を求め、これを製品欠陥指数として品質を評価した。
【００２７】
その結果を、本発明例及び比較例の鋳造条件とともに表１〜表３に示す。
本発明例１〜２６は、いずれも製品欠陥指数が０．２６〜０．３６個／１００ｍと良好な結果であった。
これに対して、比較例１〜７は製品欠陥指数が０．７２〜０．８４個／１００ｍと劣位であった。
また、比較例８〜１７は上部磁極下端と下部磁極上端間の距離を本発明範囲外としたものであるが、製品欠陥指数が０．６１〜０．７４個／１００ｍと劣位であった。これは、上部磁極下端と下部磁極上端間の距離が小さいため、直流磁界と交流磁界の干渉によりそれぞれの効果を発揮できなかった影響と考えられる。
【００２８】
また、比較例１８、１９は溶鋼吐出角度を本発明範囲外としたものであるが、製品欠陥指数は０．６３〜０．６５個／１００ｍと劣位であった。
また、比較例２０〜２３は浸漬ノズルの浸漬深さを本発明範囲外としたものであるが、製品欠陥指数は０．４５〜０．７１個／１００ｍと、本発明例と比較して劣位であった。
なお、表１〜表３では鋳造厚みが２５０ｍｍのものだけを記載したが、鋳造厚み２２０〜３００ｍｍでも同等の効果が得られることが確認された。また、浸漬ノズルの条件についても、溶鋼吐出角度が５°以上５０°以下の範囲であれば、同等の効果が得られることが確認された。
【００２９】
【表１】
2018103238.tif 000003
【００３０】
【表２】
2018103238.tif 000004
【００３１】
【表３】
2018103238.tif 000005
【００３２】
［実施例２］
実施例１と同様に、図５〜図７に示すような構成の連続鋳造機を用いて、約３００トンのアルミキルド溶鋼を鋳造した。鋳造厚みを２５０ｍｍ、鋳造幅を１６００ｍｍ、溶鋼スループットを５．５〜６．５ｔｏｎ／ｍｉｎとした。
浸漬ノズルは、外径１５０ｍｍ、内径９０ｍｍの２孔式であり、溶鋼吐出孔の形状は１辺の長さを８０ｍｍの正方形状とした。浸漬ノズルからの吹き込み不活性ガスにはＡｒガスを使用した。
【００３３】
本発明条件の下で、上部磁極の直流磁束密度と下部磁極の交流磁束密度を変化させて鋳造を行った。
鋳造されたスラブに対して熱間圧延、冷間圧延、合金化溶融亜鉛めっき処理を順次施し、この合金化溶融亜鉛めっき鋼板の表面欠陥をオンライン表面欠陥計測で連続的に測定し、そのなかから欠陥外観及びＳＥＭ分析、ＩＣＰ分析等により製鋼性欠陥（気泡性、介在物性、モールドパウダー性欠陥）を判別し、コイル長さ１００ｍあたりの欠陥個数を求め、これを製品欠陥指数として品質を評価した。
【００３４】
その結果を鋳造条件とともに表４に示す。また、表４における比Ｒ／Ｄと製品欠陥指数との関係をグラフ化したものを図８に示す。本発明例２７〜３１、３４〜３９、４２〜４５はＲ／Ｄが好適範囲（Ｒ／Ｄ：０．１５〜０．７０）のものであるが、製品欠陥指数は０．２６〜０．３０個／１００ｍと安定して良好であった。一方、本発明例３２、３３、４０、４１はＲ／Ｄが好適範囲から外れており、製品欠陥指数は０．３４〜０．３８個／１００ｍであったが、これらも比較例よりは十分に品質の良い製品であった。
なお、表４では鋳造厚みや鋳造幅が一定の条件のものだけを記載したが、鋳造厚み２２０〜３００ｍｍ、鋳造幅１０００〜２２００ｍｍでも同等の効果が得られることが確認された。
【００３５】
【表４】
2018103238.tif 000006
【符号の説明】
【００３６】
１  鋳型
２  浸漬ノズル
３a，３b  上部磁極
４a，４b  下部磁極
５  凝固シェル
６  メニスカス
１０  鋳型長辺部
１１  鋳型短辺部
２１  底部
２０  溶鋼吐出孔
【図１】
2018103238.tif 000007
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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