(57)【要約】【課題】エッジ精度の要求を満たして精度よく膜パターンを形成することができるインクジェット塗布装置、及び、膜パターン形成方法を提供する。【解決手段】基材に対し相対的に移動しつつ、基材上に液滴を吐出する液滴ユニットと、基材に対し相対的に移動しつつ、基材上に前記液滴ユニットで形成された塗布膜にＵＶ光を照射するＵＶランプユニットとを備え、前記液滴ユニットは、基材に対する移動方向と直交する塗布幅方向に一方向に延びる形状を有しており、前記ＵＶランプユニットは、その照射範囲が前記液滴ユニットの塗布幅方向の塗布範囲を含むように一方向に延びる形状を有しており、その光源には、ＬＥＤ照明が設けられている構成にする。【選択図】図１
2018099634.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材に対し相対的に移動しつつ、基材上に液滴を吐出する液滴ユニットと、
基材に対し相対的に移動しつつ、基材上に前記液滴ユニットで形成された塗布膜にＵＶ光を照射するＵＶランプユニットと、
を備え、
前記液滴ユニットは、基材に対する移動方向と直交する塗布幅方向に一方向に延びる形状を有しており、
前記ＵＶランプユニットは、その照射範囲が前記液滴ユニットの塗布幅方向の塗布範囲を含むように一方向に延びる形状を有しており、その光源には、ＬＥＤ照明が設けられていることを特徴とするインクジェット塗布装置。
【請求項２】
前記ＵＶランプユニットは、複数のＬＥＤランプが長手方向に配列されて設けられており、それぞれのＬＥＤランプは、照射及び非照射が独立して切り替えられることを特徴とするインクジェット塗布装置。
【請求項３】
基材上に液滴を吐出する液滴ユニットと、基材上に前記液滴ユニットで形成された塗布膜にＬＥＤ照明を光源とするＵＶ光を照射するＵＶランプユニットと、を備え、基材に対して前記液滴ユニットと前記ＵＶランプユニットとを相対的に移動させて基材上に膜パターンを形成する膜パターン方法において、
前記液滴ユニットから液滴を吐出して形成する膜パターンの外縁部を形成する外縁部形成工程と、
前記外縁部形成工程で形成された外縁部に対してＵＶ光を照射して、形成直後の外縁部の流動性を抑える流動抑制工程と、
前記流動抑制工程後の外縁部で囲われた内側領域に液滴を吐出する内側領域形成工程と、
を有することを特徴とする膜パターン形成方法。
【請求項４】
前記流動抑制工程では、前記外縁部形成工程で形成された外縁部を対象としてＵＶ光を照射することを特徴とする膜パターン形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＵＶ硬化型の流動性の高い材料でも精度よく膜パターンを形成することができるインクジェット塗布装置、及び、膜パターン形成方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ガラスやフィルム等の基材上に線分、矩形状等、様々な形状の塗布膜（膜パターンという）、例えば、プリント基板やパッケージ基板のような配線基板（基材）における配線パターン、パワー半導体の絶縁膜パターンがインクジェット塗布装置により形成されている（例えば特許文献１参照）。
【０００３】
インクジェット塗布装置は、図９に示すように、基材Ｗを載置するステージ１００と、液滴を吐出する液滴ユニット１０１を備えており、基材Ｗ上の膜形成領域１０３に液滴を吐出することにより膜パターンが形成される。具体的には、基材Ｗ上に膜パターンに応じた膜形成領域１０３が設定されており、基材Ｗに対して液滴ユニット１０１を相対的に移動させつつ、液滴ユニット１０１から膜形成領域１０３に塗布材料である一定粒径の液滴を多数吐出することにより塗布膜Ｃが形成される。そして、インクジェット塗布装置から基材Ｗを乾燥装置に搬送し、所定時間、塗布膜を乾燥させることにより、基材Ｗ上に所定の膜パターンが形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−１３３６４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年では、比較的流動性の高いＵＶ硬化型の塗布材料が用いられるようになり、また、塗布材料の濡れ広がりに対する膜形成領域１０３のエッジ精度の要求が厳しくなっている。ところが、流動性の高い塗布材料で塗布膜Ｃ（膜パターン）を形成すると、乾燥装置で乾燥させる前に、膜形成領域１０３に着弾した液滴（塗布材料）が基材Ｗの表面に沿って濡れ広がることにより着弾直後の形状より僅かに大きな領域に広がってしまう。そのため、設定された膜形成領域１０３に応じた膜パターンを精度よく形成することができず、塗布精度の要求を満たすことができないという問題があった。
【０００６】
そこで、本発明は、流動性の高い塗布材料であっても、エッジ精度の要求を満たして精度よく膜パターンを形成することができるインクジェット塗布装置、及び、膜パターン形成方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために本発明のインクジェット塗布装置は、基材に対し相対的に移動しつつ、基材上に液滴を吐出する液滴ユニットと、基材に対し相対的に移動しつつ、基材上に前記液滴ユニットで形成された塗布膜にＵＶ光を照射するＵＶランプユニットと、を備え、前記液滴ユニットは、基材に対する移動方向と直交する塗布幅方向に一方向に延びる形状を有しており、前記ＵＶランプユニットは、その照射範囲が前記液滴ユニットの塗布幅方向の塗布範囲を含むように一方向に延びる形状を有しており、その光源には、ＬＥＤ照明が設けられていることを特徴としている。
【０００８】
上記本発明のインクジェット塗布装置によれば、吐出された基材上の液滴を硬化させるＵＶランプユニットを備えているため、液滴ユニットから吐出された液滴に対し、ＵＶ光を照射して吐出された塗布材料の濡れ広がりを抑えることができる。すなわち、ＵＶランプユニットは、液滴ユニットの塗布範囲を含む範囲を照射範囲にしているため、液滴ユニットから塗布材料が液滴されるとすぐに塗布幅方向に亘ってＵＶ光を照射することができるため、従来の乾燥装置に搬送して乾燥させる場合に比べて塗布材料を硬化させるタイミングを早めることができ、塗布材料の濡れ広がりを抑えることができる。さらに、ＵＶランプユニットの光源には、ＬＥＤ照明が設けられているため、ハロゲンランプを用いる場合に比べて点灯させた直後から照度を安定させることができ、速やかに塗布材料の濡れ広がりを抑えることができる。したがって、流動性の高い塗布材料であっても、膜パターンのエッジ精度の要求を満たすことができ、精度よく膜パターンを形成することができる。
【０００９】
また、前記ＵＶランプユニットは、複数のＬＥＤランプが長手方向に配列されて設けられており、それぞれのＬＥＤランプは、照射及び非照射が独立して切り替えられる構成にしてもよい。
【００１０】
この構成によれば、基材上に形成された塗布膜の形成位置に対応したＬＥＤランプのみを照射させて、その塗布膜のみを硬化させることができる。したがって、塗布膜が形成されていない領域にＵＶ光が照射されることによる基材へのダメージを軽減させることができる。
【００１１】
また、上記課題を解決するために本発明の膜パターン形成方法は、基材上に液滴を吐出する液滴ユニットと、基材上に前記液滴ユニットで形成された塗布膜にＬＥＤ照明を光源とするＵＶ光を照射するＵＶランプユニットと、を備え、基材に対して前記液滴ユニットと前記ＵＶランプユニットとを相対的に移動させて基材上に膜パターンを形成する膜パターン方法において、前記液滴ユニットから液滴を吐出して形成する膜パターンの外縁部を形成する外縁部形成工程と、前記外縁部形成工程で形成された外縁部に対してＵＶ光を照射して、形成直後の外縁部の流動性を抑える流動抑制工程と、前記流動抑制工程後の外縁部で囲われた内側領域に液滴を吐出する内側領域形成工程と、を有することを特徴としている。
【００１２】
上記本発明の膜パターン形成方法によれば、流動性の高い塗布材料でも精度よく膜パターンを形成することができる。すなわち、外縁部形成工程で膜パターンの外縁部を形成した後、流動抑制工程によってＬＥＤ光を照射して形成された外縁部を硬化させ、濡れ広がりを抑制する。すなわち、ＬＥＤ光を照射することにより、ハロゲンランプを用いる場合に比べて点灯させた直後から照度を安定させることができ、速やかに塗布材料の濡れ広がりを抑えることができる。そして、内側領域形成工程によって、濡れ広がりを抑える程度に硬化させた外縁部の内側に液滴を吐出することにより、濡れ広がりを抑えつつ膜パターンを形成することができる。したがって、流動性の高い塗布材料であっても、膜パターンのエッジ精度の要求を満たすことができ、精度よく膜パターンを形成することができる。
【００１３】
また、前記流動抑制工程では、前記外縁部形成工程で形成された外縁部を対象としてＵＶ光を照射する構成にしてもよい。
【００１４】
この構成によれば、基材上に形成された外縁部を対象としてＵＶ光を照射させて硬化させることにより、基材へのダメージを軽減させることができる。すなわち、外縁部を形成した後、基材全体に亘ってＵＶ光を照射すると、外縁部が形成されていない領域（他の薄膜層）にもＵＶ光が照射されるため、その領域にダメージを与えることになる。そこで、外縁部を対象として、すなわち、外縁部のみ、又は、外縁部を含むその周辺領域に限定してＵＶ光を照射することにより、外縁部（塗布膜）が形成されていない領域にＵＶ光が照射されることによる基材へのダメージを軽減させることができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、流動性の高い塗布材料であっても、エッジ精度の要求を満たして精度よく膜パターンを形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明のインクジェット塗布装置を概略的に示す側面図である。
【図２】上記インクジェット塗布装置の上面図である。
【図３】基材とヘッドユニットとを示す図である。
【図４】ヘッドユニットのノズル配置を示す図である。
【図５】基材上に膜パターンを形成過程を示す図であり、（ａ）は液滴ユニットとＵＶランプユニットが走行する前の状態を示す図、（ｂ）は液滴ユニットにより膜形成領域の外枠に塗布膜が形成された状態を示す図である。
【図６】基材上に膜パターンを形成過程を示す図であり、（ａ）はＵＶランプユニットが外縁部のＹ軸方向に延びる部分を通過する状態を示す図、（ｂ）はＵＶランプユニットが外縁部のＸ軸方向に延びる部分を通過する状態を示す図である。
【図７】基材上に膜パターンを形成過程を示す図であり、（ａ）は液滴ユニットとＵＶランプユニットが元の位置に戻った状態を示す図であり、（ｂ）は液滴ユニットにより外縁部で囲まれた内側領域に塗布液が塗布された状態を示す図である。
【図８】基材上に膜パターンを形成過程を示す図であり、（ａ）はＵＶランプユニットにより内側領域に光を照射している状態を示す図であり、（ｂ）は膜形成領域に形成された塗布膜が硬化された状態を示す図である。
【図９】従来のインクジェット塗布装置を示す図であり、（ａ）は側面図、（ｂ）は上面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明のインクジェット塗布装置に係る実施の形態を図面を用いて説明する。
【００１８】
図１は、インクジェット塗布装置の一実施形態を示す側面図であり、図２は、インクジェット塗布装置の上面図である。
【００１９】
インクジェット塗布装置は、図１、図２に示すように、基材Ｗを載置するステージ１０と、基材Ｗに液滴（塗布材料）を塗布する液滴ユニット２とを有しており、液滴ユニット２がステージ１０に載置された基材Ｗ上を移動しつつ、液滴を所定の着弾位置（膜形成領域Ｓ）に吐出することにより、基材Ｗ上に塗布膜Ｃ（膜パターンともいう。図３参照）が形成される。
【００２０】
ここで、基材Ｗは、図３に示すように、塗布膜Ｃを形成すべき膜形成領域Ｓが複数箇所形成されている。図３の例では、矩形状の膜形成領域Ｓが複数箇所設けられており、それぞれの膜形成領域Ｓにインクジェット塗布装置により塗布材料である液滴を吐出することにより、膜形成領域Ｓに塗布膜Ｃ（膜パターン）が形成される。
【００２１】
なお、以下の説明では、この液滴ユニット２が移動する方向をＸ軸方向（本実施形態の主走査方向）、これと水平面上で直交する方向をＹ軸方向（本実施形態の副走査方向）、Ｘ軸およびＹ軸方向の双方に直交する方向をＺ軸方向として説明を進めることとする。
【００２２】
インクジェット塗布装置は、基台１を有しており、この基台１上にステージ１０、液滴ユニット２が設けられている。具体的には、基台１上に直方体形状のステージ１０が設けられており、このステージ１０をＹ軸方向に跨ぐように液滴ユニット２が設けられている。
【００２３】
ステージ１０は、基材Ｗを載置するものであり、載置された基材Ｗが水平な姿勢を維持した状態で載置されるようになっている。具体的には、ステージ１０の表面は、平坦に形成されており、その表面には、吸引孔が複数形成されている。この吸引孔には真空ポンプが接続されており、ステージ１０の表面に基材Ｗを載置した状態で真空ポンプを作動させることにより、吸引孔に吸引力が発生し、基材Ｗが水平な姿勢でステージ１０の表面に吸着保持できるようになっている。
【００２４】
また、液滴ユニット２は、基材Ｗ上に塗布材料である液滴を着弾させて塗布するものであり、塗布材料を吐出するヘッドユニット２１と、このヘッドユニット２１を支持するガントリ部２２とを有している。このガントリ部２２は、ステージ１０のＹ軸方向両外側に配置される脚部２２ａと、これらの脚部２２ａを連結しＹ軸方向に延びるビーム部材２２ｂとを有する略門型形状に形成されている。そして、このビーム部材２２ｂにヘッドユニット２１が取付けられており、ガントリ部２２は、ステージ１０をＹ軸方向に跨いだ状態でＸ軸方向に移動可能に取り付けられている。本実施形態では、基台１のＹ軸方向両端部分にはそれぞれＸ軸方向に延びるレール（不図示）が設置されており、脚部２２ａがこのレールにスライド自在に取り付けられている。そして、脚部２２ａにはリニアモータが取り付けられており、このリニアモータを駆動制御することにより、ガントリ部２２がＸ軸方向に移動し、任意の位置で停止できるようになっている。
【００２５】
また、ビーム部材２２ｂは、両脚部２２ａを連結する柱状部材である。このビーム部材２２ｂには、ヘッドユニット２１が取付けられている。具体的には、ビーム部材２２ｂのＸ軸方向一方側の側面に、ヘッドユニット２１が取り付けられており、このヘッドユニット２１に設けられたノズル３１ａ，４１ａ（図４参照）がステージ１０の表面に向く姿勢で取付けられている。したがって、ガントリ部２２がＸ軸方向に移動又は停止するにしたがって、ヘッドユニット２１もそれに付随して移動又は停止を行うことができ、ガントリ部２２の移動量を調節することにより、ステージ１０の表面に載置された基材Ｗ上にヘッドユニット２１を位置させて基材Ｗ上に塗布材料である液滴を吐出できるようになっている。
【００２６】
また、ヘッドユニット２１は、図４に示すように、複数のノズル３１ａ，４１ａを一体化させたものであり、第１ノズルユニット３０と、第２ノズルユニット４０とを有している。本実施形態では、第１ノズルユニット３０と第２ノズルユニット４０とがＸ軸方向に互いに隣接して配置された状態で固定されている。すなわち、図４に示す例では、第１ノズルユニット３０は、第２ノズルユニット４０対して進行方向前側（塗布方向前側ともいう）に配置されており、Ｘ軸方向に移動して塗布する際に最初に基材Ｗと対面する側に配置されている。
【００２７】
第１ノズルユニット３０は、通常液滴ノズル３１ａを有する複数のヘッドモジュール３１を備えている。本実施形態では、複数のヘッドモジュール３１がＹ軸方向に沿って配列されており、塗布方向に対して直交する方向に配置されている。ヘッドモジュール３１は、複数の通常液滴ノズル３１ａを有しており、通常液滴ノズル３１ａが一方向に所定の配列ピッチで整列した状態で設けられている。この通常液滴ノズル３１ａは、微少液滴ノズル４１ａよりも大径の液滴を吐出するノズルであり、汎用性のあるノズルが使用されている。すなわち、ヘッドモジュール３１に駆動電圧が印加されると、各通常液滴ノズル３１ａに共通の駆動電圧が印加され、各通常液滴ノズル３１ａから所定の液量の液滴が吐出されるようになっている。
【００２８】
また、ヘッドモジュール３１は、それぞれが互いに重複する部分を有するようにずらして配置されている。図４の例では、隣接するヘッドモジュール３１がＸ軸方向に交互にずらして配置されている。すなわち、これらのヘッドモジュール３１は、通常液滴ノズル３１ａの配置間隔とヘッドモジュール３１の両端部分とでは寸法が異なっているため、この両端部分の寸法分を相殺できるようにＸ軸方向にずらしつつＹ軸方向に配列される。すなわち、第１ノズルユニット３０は、Ｘ軸方向に見て通常液滴ノズル３１ａがＹ軸方向に等間隔で配置されており、第１ノズルユニット３０全体としてＸ軸方向に見て、すべての通常液滴ノズル３１ａがＹ軸方向に沿って一定の配列ピッチで配列され、Ｘ軸方向から見てＹ軸方向に亘って等間隔で配置されている。
【００２９】
また、第２ノズルユニット４０は、複数の微少液滴ノズル４１ａを有しており、一方向（本実施形態ではＹ軸方向）に所定ピッチで整列した状態で配置されている。この微少液滴ノズル４１ａは、通常液滴ノズル３１ａが吐出する液滴よりも小径の液滴を吐出するノズルであり、通常液滴ノズル３１ａよりも少ない液量の液滴を吐出することができる。本実施形態では、例えば、微少液滴ノズル４１ａから、通常液滴ノズル３１ａの１／１００の量の液滴が吐出されるようになっている。
【００３０】
また、第２ノズルユニット４０は、上述の第１ノズルユニット３０と同様の構成を有しており、微少液滴ノズル４１ａの配置は第１ノズルユニット３０の通常液滴ノズル３１ａ配置と同一に形成されている。すなわち、隣接するヘッドモジュール４１は、ヘッドモジュール４１の両端部分の寸法分を相殺できるようにＸ軸方向に交互にずれるように配置されている。また、この第２ノズルユニット４０の各微少液滴ノズル４１ａは、ヘッドユニット２１に搭載された状態では、各微少液滴ノズル４１ａがＸ軸方向から見て第１ノズルユニット３０のそれぞれの通常液滴ノズル３１ａと同じ位置に位置するように取り付けられている。なお、本実施形態では、通常液滴ノズル３１ａと微少液滴ノズル４１ａとを区別する必要がない場合は、単にノズル３１ａ、４１ａともいう。
【００３１】
また、基台１上には、ＵＶ光を照射するＵＶランプユニット５が設けられている。このＵＶランプユニット５は、ステージ１０をＹ軸方向に跨ぐように設けられており、照射されたＵＶ光がステージ１０上の基材Ｗを照射できるようになっている。具体的には、ＵＶランプユニット５は、ＵＶ光を照射する照射ユニット６０と、照射ユニット６０を支持する支持フレーム部５０とを有している。支持フレーム部５０は、基台１上に配置される支柱部５１と、これらの支柱部５１を連結してＹ軸方向に伸びる梁部５２とを有しており、全体として門型形状に形成されている。そして、梁部５２には照射ユニット６０が取り付けられており、支持フレーム部５０はステージ１０をＹ軸方向に跨いだ状態でＸ軸方向に移動可能に取り付けられている。本実施形態では、基台１のＹ軸方向両端部分にはそれぞれＸ軸方向に延びるレール（不図示）が設置されており、支柱部５１がこのレールにスライド自在に取り付けられている。そして、支柱部５１にはリニアモータが取り付けられており、このリニアモータを駆動制御することにより、支持フレーム部５０がＸ軸方向に移動し、任意の位置で停止できるようになっている。
【００３２】
また、梁部５２には、照射ユニット６０が取り付けられており、照射方向がステージ１０の表面に向く姿勢で取り付けられている。したがって、支持フレーム部５０がＸ軸方向に移動又は停止するにしたがって、照射ユニット６０もそれに付随して移動又は停止を行うことができ、支持フレーム部５０の移動量を調節することにより、ステージ１０の表面に載置された基材Ｗ上に照射ユニット６０を位置させて基材Ｗ上に塗布材料に対してＵＶ光を照射できるようになっている。
【００３３】
また、照射ユニット６０は、ＵＶ光を照射するものであり、一方向に延びる形状を有している。本実施形態では、照射ユニット６０は、液滴ユニット２の塗布幅方向を含むように形成されており、液滴ユニット２が吐出したＹ軸方向における塗布範囲（塗布領域）を含むように、一方向に延びて形成されている。また、図５〜図８に示すように、照射ユニット６０には、ＵＶ光源であるＬＥＤランプ６１が複数個長手方向に配列されて設けられており、照射ユニット６０がＵＶ光を照射すると、液滴ユニット２のＹ軸方向における塗布範囲（塗布領域）をすべて照射できるように形成されている。
【００３４】
また、照射ユニット６０のＬＥＤランプ６１は、個々に照射状態、非照射状態が制御できるように形成されている。すなわち、ＬＥＤランプ６１が個々に点灯、消灯を切り替えることができ、すべてのＬＥＤランプ６１を点灯させると、ある位置における塗布領域のＹ軸方向全体がＵＶ光で照射されるようになっている。また、ＬＥＤランプ６１を部分的に点灯、又は、消灯させて、支持フレーム部５０を移動させると、ＬＥＤランプ６１を点灯させた位置における領域がＸ軸方向に亘ってＵＶ光が照射される。すなわち、ＬＥＤランプ６１直下の基材Ｗ上の特定位置に対してのみ、ＵＶ光を照射できるようになっている。なお、特定位置のみにＵＶ光が照射されるとは、技術的に可能な程度に、特定位置のみにＵＶ光が照射されるという意味であり、実際は、特定位置と、その特定位置の周辺領域を含む領域に照射される。
【００３５】
次にこのインクジェット塗布装置の動作について説明する。
【００３６】
まず、ステップＳ１により基材Ｗが搬入される。具体的には、ロボットハンド等により基材Ｗがステージ１０上に載置される。そして、吸引口に吸引力を発生させることにより、基材Ｗが水平な姿勢でステージ１０の表面に吸着保持される。このとき、液滴ユニット２及びＵＶランプユニット５は、図５（ａ）に示すように同じ側に位置している。
【００３７】
次に、外縁部形成工程が行われる。具体的には、液滴ユニット２を走行させて、第２ノズルユニット４０の微少液滴ノズル４１ａから液滴を吐出させて膜形成領域Ｓの外縁部７１（外枠部分）を形成する。すなわち、矩形状の膜形成領域Ｓの外枠（縁部分）に沿って液滴を吐出させることにより、膜形成領域Ｓを囲う外縁部７１を形成する。この外縁部７１の形成には、通常液滴ノズル３１ａではなく、微少液滴ノズル４１ａを用いることにより、膜形成領域Ｓの外枠部分が複雑な形状であっても精度よく外縁部７１を形成することができる。そして、すべての膜形成領域Ｓに対して外縁部７１を形成し、膜形成領域Ｓの縁部分で内側領域Ｓ１と外側領域とを隔てる外縁部７１を形成する（図５（ｂ））。
【００３８】
次に、流動抑制工程が行われる。すなわち、上記外縁部形成工程で基材Ｗ上に吐出された塗布材料は濡れ広がろうとするため、塗布材料にＵＶ照射することで流動性を抑制する。具体的には、ＵＶランプユニット５を走行させて、形成された外縁部７１にＵＶ光を照射する。本実施形態では、基材Ｗ上に形成された外縁部７１に対応するＬＥＤランプ６１のみを点灯し、ＵＶランプユニット５を走行させる。すなわち、図６（ａ）に示すように、ＵＶランプユニット５がＹ軸方向に延びる外縁部７１上に位置する状態では、その外縁部７１に対応するＬＥＤランプ６１のみ（図６（ａ）に示す例では黒色に着色された４つずつのＬＥＤランプ６１が点灯。）を点灯させて外縁部７１の塗布材料の流動性を停止させる。ここで、塗布材料の流動性を停止させるとは、塗布材料の流動性を弱めて硬化させる程度であればよく、吐出された塗布材料が要求されたエッジ精度を維持できる程度に硬化できていればよい。そして、後工程で吐出される塗布材料と混ざり合い、膜パターンが完全に乾燥させられたときに外縁部７１と内側領域Ｓ１の塗布膜Ｃとが一体化できる程度に乾燥できていればよい。
【００３９】
そして、さらに図６（ｂ）に示すように、Ｘ軸方向に延びる外縁部７１上に位置する状態では、その外縁部７１に対応するＬＥＤランプ６１のみ（図６（ｂ）に示す例では黒色に着色された１つずつのＬＥＤランプ６１が点灯。）を点灯させて外縁部７１の塗布材料の流動性を停止させる。このようにして、基材Ｗ上に形成された外縁部７１の形状に応じて、外縁部７１に対応するＬＥＤランプ６１のみを点灯させて外縁部７１の流動性を停止させる。すなわち、不必要なＵＶ光が照射されることにより、外縁部７１が形成された領域以外の基材Ｗの領域がＵＶ光でダメージを受けるのを極力抑えることができる。なお、図６〜８では、硬化された外縁部７１は、グレー色で示されている。
【００４０】
次に、内側領域形成工程が行われる。すなわち、外縁部７１が形成された膜形成領域Ｓの内側領域Ｓ１に液滴を吐出して膜パターンを形成する。具体的には、図７（ａ）に示すように、液滴ユニット２を元の位置に戻し、液滴ユニット２を走行させて、第１ノズルユニット３０の通常液滴ノズル３１ａから液滴を吐出させて外縁部７１（外枠部分）で囲まれた内側領域Ｓ１に塗布膜Ｃを形成する（図７（ｂ））。形成された塗布膜Ｃは、先に形成された外縁部７１と混ざり合うことにより一体化されるが、外縁部７１が流動抑制工程により、ある程度硬化しているため、内側領域Ｓ１に吐出された塗布材料が流出することなく内側領域Ｓ１に留まって外縁部７１と一体化する。なお、内側領域Ｓ１には、微少液滴ノズル４１ａではなく、通常液滴ノズル３１ａで塗布するため、微少液滴ノズル４１ａで塗布する場合に比べて短時間で内側領域Ｓ１に塗布膜Ｃを形成することができる。
【００４１】
次に、再度、ＵＶ光を照射することにより、膜形成領域Ｓに塗布された塗布材料を硬化させる。具体的には、図８（ａ）に示すように、ＵＶランプユニット５を走行させて、基材Ｗ上の塗布膜ＣにＵＶ光を照射する。これにより、内側領域形成工程で形成された内側領域Ｓ１の塗布膜Ｃを硬化させる（図８（ｂ））。ここで、膜形成領域Ｓに形成された塗布膜Ｃ（外縁部７１、及び、内側領域Ｓ１の塗布膜Ｃ）については、完全に乾燥させてもよいし、後工程の乾燥装置で完全に乾燥させてもよい。すなわち、膜形成領域Ｓには、外縁部７１と内側領域Ｓ１に流動性の高い塗布膜Ｃが形成されているが、この内側領域Ｓ１に形成された塗布膜Ｃの流動性を止める程度に硬化させて、後工程の乾燥装置によって膜形成領域Ｓ上に形成された塗布膜Ｃを乾燥させてもよく、ＵＶランプユニット５により外縁部７１と一体化した膜形成領域Ｓ上の塗布膜Ｃを完全に硬化（乾燥）させてもよい。
【００４２】
このように、上記実施形態の膜パターン形成方法によれば、流動性の高い塗布材料でも精度よく膜パターンを形成することができる。すなわち、外縁部形成工程で膜パターンの外縁部７１を形成した後、流動抑制工程によってＬＥＤ光を照射して形成された外縁部７１を硬化させ、濡れ広がりを抑制する。すなわち、ＬＥＤ光を照射することにより、ハロゲンランプを用いる場合に比べて点灯させた直後から照度を安定させることができ、速やかに塗布材料の濡れ広がりを抑えることができる。そして、内側領域形成工程によって、濡れ広がりを抑える程度に硬化させた外縁部７１の内側に液滴を吐出することにより、濡れ広がりを抑えつつ膜パターンを形成することができる。したがって、流動性の高い塗布材料であっても、膜パターンのエッジ精度の要求を満たすことができ、精度よく膜パターンを形成することができる。
【００４３】
上記実施形態では、外縁部７１は微少液滴ノズル４１ａから吐出された液滴で形成し、内側領域Ｓ１は、通常液滴ノズル３１ａから吐出された液滴で形成する例について説明したが、外縁部７１、及び、内側領域Ｓ１、いずれも通常液滴ノズル３１ａによって形成してもよい。この場合、ヘッドユニット２１に搭載されるノズルがすべて共通のノズルでよいため、インクジェット塗布装置のコストダウンを図ることができる。
【００４４】
上記実施形態では、ＵＶランプユニット５に複数のＬＥＤランプ６１が設けられる例について説明したが、塗布領域を含む一方向に延びる形状のＬＥＤランプ６１を１つを有するものであってもよい。この場合、塗布膜Ｃが形成されていない基材Ｗの表面を照射することになるが、ＵＶランプユニット５の構成を簡単にすることができる。
【００４５】
上記実施形態では、静止した基材Ｗに対し、液滴ユニット２、及び、ＵＶランプユニット５が移動する例について説明したが、搬送される基材Ｗに対し、固定された液滴ユニット２、及び、ＵＶランプユニット５により、膜パターンが形成されるものであってもよい。いずれにせよ、基材Ｗと、液滴ユニット２、及び、ＵＶランプユニット５が相対的に移動するように構成されていればよい。
【００４６】
また、上記実施形態では、液滴ユニット２及びＵＶランプユニット５が往路でのみ機能する例について説明したが、往路、復路共に機能させるものであってもよい。なお、往路でのみ機能させることにより、液滴ユニット２で外縁部７１又は塗布膜Ｃを形成した後、すぐにＵＶランプユニット５でＵＶ光を照射できるため、基材Ｗ上に形成された直後の外縁部７１又は塗布膜Ｃが濡れ広がるのを極力抑えることができる。
【００４７】
また、上記実施形態では、ＬＥＤランプ６１の照射、非照射をＬＥＤランプ６１自体を点灯、又は消灯させる場合について説明したが、ＬＥＤランプ６１を常に点灯させておき、遮蔽板等を用いて照射状態、又は非照射状態を切り替えるように構成してもよい。
【符号の説明】
【００４８】
２  液滴ユニット
５  ＵＶランプユニット
１０  ステージ
２１  ヘッドユニット
３０  第１ノズルユニット
４０  第２ノズルユニット
６０  照射ユニット
６１  ＬＥＤランプ
７１  外縁部
Ｃ  塗布膜
Ｓ  膜形成領域
Ｓ１  内側領域
Ｗ  基材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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