(57)【要約】【課題】艶消感の制御が容易であり、且つ艶消感の異なる領域を容易に形成できる建築材料の製造方法を提供する。【解決手段】本発明に係る建築材料１の製造方法では、基材１０上に設けられた塗膜構成体１３に電磁波を照射することで、塗膜構成体１３の表面における電磁波の照射部分の光沢を、電磁波の照射前よりも低減される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に設けられた塗膜構成体の表面に電磁波を照射することで、前記塗膜構成体の表面における前記電磁波の照射部分の光沢を、前記電磁波の照射前よりも低減させる、
建築材料の製造方法。
【請求項２】
前記照射部分に、前記電磁波の照射量が異なる複数の領域を形成する、
請求項１に記載の建築材料の製造方法。
【請求項３】
前記基材の表面に凹凸が形成されており、
電磁波源が、前記基材の表面の最も高い位置よりも所定距離高い位置に設置され、
前記電磁波源と前記基材との相対位置を変えながら、前記電磁波源が前記塗膜構成体の表面に前記電磁波を照射する、
請求項１または２に記載の建築材料の製造方法。
【請求項４】
前記電磁波が、エキシマランプから照射されたエキシマ光である、
請求項１から３のいずれか一項に記載の建築材料の製造方法。
【請求項５】
前記電磁波のピーク波長が、１２０〜３１０ｎｍの範囲内である、
請求項１から４のいずれか一項に記載の建築材料の製造方法。
【請求項６】
前記塗膜構成体の表面がクリヤー塗膜で形成されている、
請求項１から５のいずれか一項に記載の建築材料の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、建築材料の製造方法に関し、より詳細には、基材上に塗膜構成体が設けられた建築材料の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、建築材料の表面には種々の処理が施される。この処理の一例として艶消加工が挙げられる。この艶消加工によって、建築材料に自然な風合いを付与することができる。
【０００３】
例えば、特許文献１には、基材の表面上にクリヤ−層が設けられ、このクリヤー層がシリカ粒子を含有することによって、艶消表面を形成した化粧基材が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１５−７７６９１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載の化粧基材では、シリカ粒子を含有するクリヤー層によって艶消感を表現しているため、艶消感を変更するためにはシリカ粒子の含有量を調整する必要があり、艶消感の制御が難しいという問題がであった。
【０００６】
また特許文献１の化粧基材の表面内において、艶消感の異なる領域を形成するためには、シリカ粒子の含有量が異なる複数の塗料を使用する必要があり、艶消感の異なる領域を形成するには手間が掛かるという問題があった。
【０００７】
本発明は、上記の点に鑑みてなされたものであり、艶消感の制御が容易であり、且つ艶消感の異なる領域を容易に形成できる建築材料の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る建築材料の製造方法は、
基材上に設けられた塗膜構成体の表面に電磁波を照射することで、前記塗膜構成体の表面における前記電磁波の照射部分の光沢を、前記電磁波の照射前よりも低減させることを特徴とするものである。
【０００９】
本発明に係る建築材料の製造方法では、
前記照射部分に、前記電磁波の照射量が異なる複数の領域を形成することが好ましい。
【００１０】
本発明に係る建築材料の製造方法では、
前記基材の表面に凹凸が形成されており、
電磁波源が、前記基材の表面の最も高い位置よりも所定距離高い位置に設置され、
前記電磁波源と前記基材との相対位置を変えながら、前記電磁波源が前記塗膜構成体の表面に前記電磁波を照射することが好ましい。
【００１１】
本発明に係る建築材料の製造方法では、
前記電磁波が、エキシマランプから照射されたエキシマ光であることが好ましい。
【００１２】
本発明に係る建築材料の製造方法では、
前記電磁波のピーク波長が、１２０〜３１０ｎｍの範囲内であることが好ましい。
【００１３】
本発明に係る建築材料の製造方法では、
前記塗膜構成体の表面がクリヤー塗膜で形成されていることが好ましい。
【発明の効果】
【００１４】
本発明では、艶消感の制御が容易であり、且つ艶消感の異なる領域を容易に形成できる建築材料の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係る建築材料の一例を示す概略の断面図である。
【図２】図２は、本発明の一実施形態に係る建築材料の製造方法を示す概略の断面図である。
【図３】図３は、本発明の他の実施形態に係る建築材料の一例を示す概略の断面図である。
【図４】図４は、本発明の他の実施形態に係る建築材料の製造方法を示す概略の断面図である。
【図５】図５は、本発明の他の実施形態に係る建築材料の一例を示す概略の平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明を実施するための形態を説明する。
【００１７】
図１に本実施形態に係る建築材料１の概略の断面図を示す。
【００１８】
建築材料１は、基材１０と、基材１０の上に形成された塗膜構成体１３と、を備え、この塗膜構成体１３は、その表面にクリヤー塗膜１１を備える。建築材料１は、基材１０及びクリヤー塗膜１１以外の層を備えていてもよい。
【００１９】
基材１０としては、窯業系基材、金属系基材のような無機質系基材であってもよく、樹脂系基材のような有機質系基材であってもよい。窯業系基材は、水硬性膠着材に無機充填剤、繊維質材料等を配合して成形した後に養生硬化させることで製造される。このような窯業系基材の表面には、溶剤系、水溶性あるいはエマルション系のシーラー塗料を塗布することも好ましい。更にシーラーの上に、意匠性や耐久性の向上のため、アクリル系やラテックス系の有機塗膜を形成してもよい。その他、基材１０としては、例えば、フレキシブルボード、珪酸カルシウム板、石膏スラグパーライト板、木片セメント板、プレキャストコンクリート板、ＡＬＣ板、石膏ボード等を用いることができる。
【００２０】
基材１０とクリヤー塗膜１１との間には、着色層１２が設けられてもよい。この場合の塗膜構成体１３は、着色層１２とクリヤー塗膜１１とを含み、塗膜構成体１３の表面がクリヤー塗膜１１で形成されている。着色層１２は、基材１０に着色することができれば特に限定されず、公知の着色塗料を用いることができる。この着色塗料の塗布方法も特に限定されず、例えば、スプレーガン、ロールコーター、フローコーター、カーテンコーター等を採用することができる。また着色層１２は、インクの定着性及び発色性を向上させるインク受理層と、インクジェット印刷によって形成される印刷層とによって構成されていてもよい。
【００２１】
クリヤー塗膜１１は、基材１０の表面上に設けられる。本実施形態のクリヤー塗膜１１は、着色層１２上に重ねて形成される。クリヤー塗膜１１は、公知のクリヤー塗料から形成することができる。クリヤー塗膜１１は、例えば、クリヤー塗料を、スプレーガン、ロールコーター、フローコーター、カーテンコーター等でクリヤー塗料を塗布するとともに、焼付乾燥を行うことによって形成することができる。クリヤー塗料としては、有機クリヤー塗料又は無系クリヤー塗料を使用することができる。
【００２２】
有機クリヤー塗料としては、公知のものを使用することができる。例えば、アクリル系樹脂塗料、アクリルシリコン系樹脂塗料、及びフッ素系樹脂塗料からなる群から選択される一種以上を使用することができる。有機クリヤー塗料は、紫外線吸収剤を含有することも好ましい。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を用いることができる。有機クリヤー塗料は、例えば、アクリル樹脂系塗料に対して、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を添加することによって調整される。
【００２３】
無機クリヤー塗料としては、公知のものを使用することができる。例えば、オルガノシランのシリカ分散オリゴマー溶液に、ポリオルガノシロキサンや、アルキルチタン酸塩等の縮合反応触媒を加え、或いは更にシリカを加えて調整されたケイ素アルコキシド系塗料を使用することができる。
【００２４】
本実施形態の建築材料１は、以下の方法によって製造することができる。
【００２５】
まず基材１０の上に塗膜構成体１３を形成する。本実施形態では、上記の着色層１２と、クリヤー塗膜１１を形成する。
【００２６】
次に図２に示すように、クリヤー塗膜１１に、電磁波源２から電磁波を照射する。これにより、クリヤー塗膜１１の電磁波が照射された部分（照射部分）の光沢が、電磁波の照射前よりも低減される。以下、クリヤー塗膜１１に対する電磁波の照射によって光沢を低減させることを艶消処理ともいい、電磁波の照射によって光沢が低減された領域を艶消領域ともいう。
【００２７】
本実施形態では、クリヤー塗膜１１にシリカビーズ等の艶消材を配合しなくても、クリヤー塗膜１１の表面を艶消処理することができる。尚、クリヤー塗膜１１は艶消材を含んでいてもよい。
【００２８】
艶消領域は、電磁波の照射前よりも光沢が低減された領域を意味するが、艶消処理されていないクリヤー塗膜１１と比べて拡散反射率が異なっている領域でもある。クリヤー塗膜１１に電磁波を照射することによって艶消領域が形成されることの原理としては、電磁波の照射によってクリヤー塗膜１１を構成する材料の分子結合が切断されて、ＯＨ基、ＣＯＯＨ基等の官能基が形成されたり、これらの官能基が再結合したり、クリヤー塗膜１１の表面に微細な凹凸が形成されたりして、クリヤー塗膜１１の表面の拡散反射率が変化することが考えられる。
【００２９】
この艶消領域を物性等で特定するならば、例えば、拡散反射率によって艶消領域を特定することができる。しかし、クリヤー塗膜１１にシリカビーズ等の艶消材を配合することによっても同様の拡散反射率を実現することができることから、拡散反射率によっては、電磁波の照射で形成された艶消領域と、艶消材によって形成された艶消領域とを区別することはできない。このため、艶消領域を拡散反射率のみで特定することは実際的であるとはいえない。また艶消領域は、クリヤー塗膜１１に電磁波が照射されて、分子結合が切断されることによって形成されるため、艶消領域の組成を詳細に分析することによっても艶消領域を特定することができるかもしれない。しかしながら、艶消領域の組成は、クリヤー塗膜１１の組成や電磁波の種類等によって様々に変化するものであるため、組成によって艶消領域を特定することが実際的であるともいえない。
【００３０】
本実施形態では、電磁波がエキシマランプから照射されたエキシマ光であることが好ましい。すなわち、電磁波源２がエキシマランプであることが好ましい。エキシマ光は、クリヤー塗膜１１の表面の分子結合を特に切断しやすいため、エキシマ光を短時間照射することによって、クリヤー塗膜１１の表面を艶消処理することができる。
【００３１】
また本実施形態では、電磁波のピーク波長が１２０〜３１０ｎｍの範囲内であることが好ましい。この場合、クリヤー塗膜１１の表面の分子結合を特に切断しやすいため、クリヤー塗膜１１の艶消処理を容易に行うことができる。例えば電磁波がエキシマ光である場合、すなわち電磁波源２がエキシマランプである場合には、エキシマランプに充填されている放電ガスの種類を変更することによって、電磁波のピーク波長を変化させることができる。放電ガスとしては、例えば、Ａｒ２、Ｋｒ２、Ｘｅ２、ＫｒＣｌ、ＸｅＣｌ等を用いることができる。
【００３２】
また本実施形態では、基材１０の正面から電磁波を照射することが好ましい。電磁波を斜め方向から照射すると、クリヤー塗膜１１に対する電磁波の照射量が均一でなくなるため、基材１０の正面から電磁波を照射することによって、クリヤー塗膜１１に対する電磁波の照射量を一定にすることができる。これにより、クリヤー塗膜１１に対する電磁波の照射量を調整しやすくすることができる。
【００３３】
本実施形態では、クリヤー塗膜１１に対する電磁波の照射量を変化させることによって、艶消領域の艶消感を調整することができるため、クリヤー塗膜１１の艶消感を容易に制御することができるとともに、艶消感の異なる領域を容易に形成することができる。ここでいう艶消感とは、拡散反射率の高さを意味し、光沢の強さを意味する。すなわち、艶消感が強い場合は、拡散反射率が高いことを意味し、光沢が弱いことを意味する。また艶消感が弱い場合は、拡散反射率が低いこと意味し、光沢が強いことを意味する。
【００３４】
このため、クリヤー塗膜１１（塗膜構成体１３の表面における電磁波の照射部分）に、電磁波の照射量の異なる複数の領域を形成することも好ましい。クリヤー塗膜１１に対する電磁波の照射量は、電磁波の照射時間、クリヤー塗膜１１と電磁波源との距離、電磁波のピーク波長、基材１０の表面の形状等を変更することによって調整することができる。
【００３５】
例えば、クリヤー塗膜１１の一部分には長時間電磁波を照射し、且つクリヤー塗膜１１の他の部分には短時間電磁波を照射してもよい。例えば、クリヤー塗膜１１の一部分と他の部分とで、電磁波の照射回数を異ならせてもよい。これらの方法によって、クリヤー塗膜１１に電磁波の照射量の異なる複数の領域を形成することができる。またクリヤー塗膜１１に部分的に電磁波を照射してもよい。この場合、クリヤー塗膜１１を部分的に艶消処理することができ、クリヤー塗膜１１に艶消領域と非艶消領域とを形成することができる。尚、クリヤー塗膜１１全体に電磁波を照射して、クリヤー塗膜１１全体を艶消処理して、クリヤー塗膜１１全体を艶消領域としてもよい。
【００３６】
建築材料１の構成は、上記のものに限定されない。例えば、基材１０の化粧面に、凹凸が形成されることも好ましい。
【００３７】
図３に他の実施形態に係る建築材料１を示す。建築材料１において基材１０の化粧面には凹凸が形成され、この凹凸は、底部１００と、高さが底部１００よりも所定距離Ｘ高い頂部１０１と、底部１００と頂部１０１とを接続する傾斜部１０２とから構成される。傾斜部１０２は、底部１００と隣合う頂部１０１のうち一方とを接続しているものと、底部１００と隣合う頂部１０１のうち他方とを接続するものとを含む。底部１００及び傾斜部１０２によって凹部が構成され、頂部１０１及び傾斜部１０２によって凸部が構成される。
【００３８】
図３に示すような建築材料１のクリヤー塗膜１１に電磁波を照射すると、クリヤー塗膜１１の底部１００上の領域（以下、領域１１０ともいう）と、頂部１０１上の領域（以下、領域１１１ともいう）と、傾斜部１０２上の領域（以下、領域１１２ともいう）とでは、照射される電磁波の量が異なるため、領域１１０と、領域１１１と、領域１１２との艶消感を異ならせることができる。
【００３９】
図３に示す建築材料１は、例えば、以下の方法によって製造することができる。
【００４０】
まず、化粧面に凹凸が形成された基材１０上に、着色層１２とクリヤー塗膜１１とを形成する。
【００４１】
次に、クリヤー塗膜１１に対して電磁波源２から電磁波を照射する。この際、図４に示すように、電磁波源２と基材１０との相対位置を変えながら、電磁波源２が塗膜構成体１３の表面に、すなわち電磁波源２からクリヤー塗膜１１の表面に、電磁波を照射することが好ましい。より具体的には、電磁波源２を所定位置に固定した状態で、基材１０を水平方向に搬送することが好ましい。この場合の電磁波源２は、基材１０の表面の最も高い位置よりも所定距離高い位置に設置されることが好ましい。
【００４２】
電磁波源２と基材１０との相対位置を変えながら、クリヤー塗膜１１に電磁波を照射する場合について、図４を参照しながら説明する。図４では、電磁波源２の位置が固定された状態で、黒塗り矢印の方向に基材１０が搬送される。この際、クリヤー塗膜１１においては、主として頂部１０１に対応する領域１１１に多くの電磁波が照射される。一方で、底部１００に対応する領域１１０は、傾斜部１０２に対応する領域１１２によって電磁波が遮られやすいことから、領域１１０には領域１１１よりも少ない電磁波が照射される。また領域１１２は、領域１１０より多く、領域１１１より少なく電磁波が照射される。
【００４３】
このため図５に示すように、領域１１１は、領域１１０及び領域１１２よりも強く艶消処理され、領域１１２は、領域１１０よりも強く、領域１１１よりも弱く艶消処理され、領域１１０は、領域１１１及び領域１１２よりも弱く艶消処理される。
【００４４】
尚、本実施形態では、電磁波源２を固定した状態で、基材１０を搬送することによって、電磁波源２と基材１０との相対位置を変化させる態様に限定されない。例えば、基材１０を固定した状態で電磁波源２を水平方向に移動させる方法を採用してもよい。また基材１０を搬送させる方向、及び電磁波源２を移動させる方向は、水平方向に限られず、垂直方向であってもよい。
【００４５】
なお、上記実施形態では、塗膜構成体１３の表面に形成されたクリアー塗膜１１に電磁波を照射する例を説明したが、これに限定されず、例えば、塗膜構成体１３の最表面に形成されたエナメル塗膜に照射してもよい。
【実施例】
【００４６】
以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。
【００４７】
（実施例１）
まず、基材１０上に、着色層１２と、クリヤー塗膜１１とを順次積層することにより、図１に示すような建築材料１を製造した。
【００４８】
基材１０としては、セメントを主成分とし、平面視矩形状で平坦なものを用いた。また基材１０の化粧面には、シーラー塗装を施しておいた。
【００４９】
着色層１２は、基材１０上にアクリル樹脂系塗料をエアスプレーで塗布することにより形成した。
【００５０】
またクリヤー塗膜１１は、着色層１２上に、アクリル樹脂系のクリヤー塗料をエアスプレーで塗布し、加熱成膜することで形成した。
【００５１】
次に、エキシマランプ（浜松ホトニクス株式会社製、真空紫外光）を用いて、クリヤー塗膜１１の全面に対してエキシマ光を照射した。
【００５２】
（比較例１）
実施例１と同様の方法によって建築材料１を製造したが、クリヤー塗膜１１にはエキシマ光を照射しなかった。
【００５３】
（実施例２）
まず、基材１０上に、着色層１２と、クリヤー塗膜１１とを順次積層することにより、図３に示すような建築材料１を製造した。
【００５４】
基材１０としては、化粧面に凹凸が形成されたものを用いた。この凹凸は、底部１００と、底部１００よりも３ｍｍ高い頂部１０１と、底部１００と頂部１０１とを接続する傾斜部１０２とを備えていた。
【００５５】
着色層１２及びクリヤー塗膜１１は、実施例１と同様の方法によって形成した。
【００５６】
次に、図４に示すように、エキシマランプを建築材料１上に固定すると共に、エキシマランプからクリヤー塗膜１１に照射しながら、建築材料１を搬送した。これによりクリヤー塗膜１１の全面に対して光を照射した。
【００５７】
（比較例２）
実施例２と同様の方法によって建築材料１を製造したが、クリヤー塗膜１１にはエキシマ光を照射しなかった。
【００５８】
（評価）
実施例１〜２及び比較例１〜２の建築材料１の表面を目視で観察して、艶消の程度を評価した。
【００５９】
実施例１では、平坦なクリヤー塗膜１１の全面に対してエキシマ光が照射されため、クリヤー塗膜１１の全面が艶消処理された。
【００６０】
これに対して比較例１では、クリヤー塗膜１１にエキシマ光が照射されなかったため、クリヤー塗膜１１が艶消処理されなかった。
【００６１】
また実施例２では、クリヤー塗膜１１の全面にエキシマ光が照射されているため、クリヤー塗膜１１の全面が艶消処理された。特に実施例２の建築材料１は、基材１０の化粧面に凹凸が形成されているため、クリヤー塗膜１１の領域１１１は、領域１１０及び領域１１２よりも多くのエキシマ光が照射され、領域１１２は領域１１０よりも多くのエキシマ光が照射された。このため、領域１１１は領域１１０及び領域１１２よりも強く艶消処理され、領域１１２は領域１１０よりも強く艶消処理された。すなわち、領域１１０が最も弱く艶消処理された。
【００６２】
これに対して比較例２では、凹凸を有するクリヤー塗膜１１にエキシマ光が照射されなかったため、クリヤー塗膜１１が艶消処理されなかった。
【符号の説明】
【００６３】
１    建築材料
１０  基材
１３  塗膜構成体
【図１】
2018164901.tif 000003
【図２】
2018164901.tif 000004
【図３】
2018164901.tif 000005
【図４】
2018164901.tif 000006
【図５】
2018164901.tif 000007