(57)【要約】【課題】複数枚の薄板をカセットに高密度で収納する際に、薄板の損傷を低減する。【解決手段】保持部は、カセットを保持する。カセットは、第１方向において対向し且つ間隔をあけて並ぶ複数の薄板のそれぞれの第１方向に直交する第２方向の第１端部を支持できる、第１方向に沿って並んでいる複数の第１凸部を有する。カセットは、複数の薄板のそれぞれの第２方向とは逆方向の第２端部を支持できる、第１方向に沿って並んでいる複数の第２凸部を有する。ガス供給部は、カセットの上方から、１組目の第１および第２凸部から（Ｎ＋１）組目（Ｎは自然数）の第１および第２凸部によって、第１の薄板から第（Ｎ＋１）の薄板のそれぞれの第１および第２端部が支持されている状態で、薄板が、カセットの（Ｎ＋１）組目の第１および第２凸部と、（Ｎ＋２）組目の第１および第２凸部との間に挿入される際に、第Ｎの薄板と第（Ｎ＋１）の薄板との間隙にガスを供給する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１方向において対向するように間隔をあけて並ぶ複数の薄板のそれぞれの前記第１方向に直交する第２方向の第１端部をそれぞれ支持することが可能であり且つ前記第１方向に沿って並んでいる複数の第１凸部と、前記複数の薄板のそれぞれの前記第２方向とは逆の第３方向の第２端部をそれぞれ支持することが可能であり且つ前記第１方向に沿って並んでいる複数の第２凸部と、を有するカセットを保持する保持部と、
薄板を支持する支持部と、
前記第１方向、前記第２方向および前記第３方向に直交する第４方向および該第４方向の逆の第５方向に沿って、前記保持部および前記支持部の少なくとも一方を移動させることで、前記保持部に保持されている前記カセットの外側の第１領域および該カセットの内側の第２領域の何れか一方の領域に、前記支持部を位置させる移動機構と、
少なくとも前記支持部に対して前記保持部を相対的に上昇させる昇降機構と、
前記カセットにおける上方から、第１組目の前記第１凸部および前記第２凸部から第（Ｎ＋１）組目（Ｎは自然数）の前記第１凸部および前記第２凸部によって、第１の薄板から第（Ｎ＋１）の薄板のそれぞれの前記第１端部および前記第２端部が支持されている状態で、前記移動機構によって、前記支持部が支持している薄板が、前記カセットにおける前記第（Ｎ＋１）組目の前記第１凸部および前記第２凸部と、第（Ｎ＋２）組目の前記第１凸部および前記第２凸部との間に挿入される際に、第Ｎの薄板と前記第（Ｎ＋１）の薄板との間隙にガスを供給するガス供給部と、を備える、薄板収納システム。
【請求項２】
請求項１に記載の薄板収納システムであって、
前記ガス供給部は、前記間隙のうちの前記第２方向における中央部にガスを供給する、薄板収納システム。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の薄板収納システムであって、
前記保持部に保持されている前記カセットにおいて前記第１組目の前記第１凸部および前記第２凸部によって前記第１の薄板の前記第１端部および前記第２端部が支持されている状態で、前記第１の薄板の直上に位置しており、且つ前記第１の薄板を上方に吸い寄せる吸引部、をさらに備える、薄板収納システム。
【請求項４】
請求項３に記載の薄板収納システムであって、
前記吸引部は、前記第１の薄板を非接触で上方に吸い寄せる、ベルヌーイ吸着部を含む、薄板収納システム。
【請求項５】
請求項１から請求項４の何れか１つの請求項に記載の薄板収納システムであって、
前記ガスは、非酸化性ガスを含む、薄板収納システム。
【請求項６】
請求項５に記載の薄板収納システムであって、
前記非酸化性ガスは、不活性ガスを含む、薄板収納システム。
【請求項７】
請求項６に記載の薄板収納システムであって、
前記不活性ガスは、窒素ガスを含む、薄板収納システム。
【請求項８】
請求項１から請求項７の何れか１つの請求項に記載の薄板収納システムであって、
前記カセットは、前記移動機構によって、前記支持部が支持している薄板が、前記カセットにおける最も下方の組の前記第１凸部および前記第２凸部と、前記カセットにおける下方から２番目の組の前記第１凸部および前記第２凸部との間に挿入される際に、前記第１領域から前記第２領域にかけて前記支持部が通過可能な開口部を有する、薄板収納システム。
【請求項９】
請求項１から請求項８の何れか１つの請求項に記載の薄板収納システムであって、
前記支持部は、前記薄板を非接触で吸着することが可能であるベルヌーイ吸着部を含む、薄板収納システム。
【請求項１０】
請求項１から請求項９の何れか１つの請求項に記載の薄板収納システムであって、
前記ガス供給部は、前記間隙に対して前記第１領域から前記第２領域に向けた方向に前記ガスを吐出するノズルを有する、薄板収納システム。
【請求項１１】
請求項１０に記載の薄板収納システムであって、
前記ノズルは、前記間隙のうちの前記第２方向の中央部に向けて、該中央部に沿った方向に前記ガスを吐出する吐出口を有する、薄板収納システム。
【請求項１２】
請求項１から請求項１１の何れか１つの請求項に記載の薄板収納システムと、
前記薄板収納システムによって前記複数の薄板が収納された前記カセットを用いて、該カセットに収納された前記複数の薄板に対して一括処理を施す薄板処理部と、を備える、薄板処理システム。
【請求項１３】
(a)第１方向において対向するように間隔をあけて並ぶ複数の薄板のそれぞれの前記第１方向に直交する第２方向の第１端部をそれぞれ支持することが可能であり且つ前記第１方向に沿って並んでいる複数の第１凸部と、前記複数の薄板のそれぞれの前記第２方向とは逆の第３方向の第２端部をそれぞれ支持することが可能であり且つ前記第１方向に沿って並んでいる複数の第２凸部と、を有するカセットを保持部に保持させる第１工程と、
(b)支持部に薄板を支持させる第２工程と、
(c)移動機構によって、前記第１方向、前記第２方向および前記第３方向に直交する第４方向および該第４方向の逆の第５方向の少なくとも１つの方向に沿って、前記保持部および前記支持部の少なくとも一方を移動させることで、前記支持部で支持されている薄板が存在している領域を、前記保持部に保持されている前記カセットの外側の第１領域から該カセットの内側の第２領域に変更する第３工程と、
(d)昇降機構によって、少なくとも前記支持部に対して前記保持部を相対的に上昇させることで、前記カセットにおける一組の前記第１凸部および前記第２凸部によって、前記支持部で支持されていた薄板を支持させる第４工程と、を有し、
前記第３工程において、
前記カセットにおける上方から、第１組目の前記第１凸部および前記第２凸部から第（Ｎ＋１）組目（Ｎは自然数）の前記第１凸部および前記第２凸部によって、第１の薄板から第（Ｎ＋１）の薄板のそれぞれの前記第１端部および前記第２端部が支持されている状態で、前記移動機構によって、前記支持部が支持している薄板が、前記カセットにおける前記第（Ｎ＋１）組目の前記第１凸部および前記第２凸部と、第（Ｎ＋２）組目の前記第１凸部および前記第２凸部との間に挿入される際に、ガス供給部によって第Ｎの薄板と前記第（Ｎ＋１）の薄板との間隙にガスを供給する、薄板収納方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、薄板収納システム、薄板処理システムおよび薄板収納方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
各種電子素子に用いられる半導体基板およびガラス基板等の薄板の厚さは、例えば、薄くなれば、材料の使用量が低減され得る。
【０００３】
一方、薄板を対象としたエッチングおよび洗浄等の処理には、同一のバスケット（カセット）に平行に配された多数の薄板に対して一括して処理が施されるバッチ処理が適用される場合がある（例えば、特許文献１等）。
【０００４】
このバッチ処理は、原子層堆積（ＡＬＤ：Atomic Layer Deposition）による成膜等の他の処理にも適用され得る。そして、より多く枚数の薄板が高密度に収納されたカセットが採用されると、１回のバッチ処理において処理される薄板の枚数が増加する。つまり、単位時間に処理される薄板の枚数が増加することで、処理の効率が向上し得る。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平８−３３０４０８号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
複数枚の薄板を高密度でカセットに収納する際における、薄板の損傷の低減には改善の余地がある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
薄板収納システム、薄板処理システムおよび薄板収納方法が開示される。
【０００８】
薄板収納システムの一態様は、保持部と、支持部と、移動機構と、昇降機構と、ガス供給部と、を備える。前記保持部は、第１方向において対向するように間隔をあけて並ぶ複数の薄板のそれぞれの前記第１方向に直交する第２方向の第１端部をそれぞれ支持することが可能であり且つ前記第１方向に沿って並んでいる複数の第１凸部と、前記複数の薄板のそれぞれの前記第２方向とは逆の第３方向の第２端部をそれぞれ支持することが可能であり且つ前記第１方向に沿って並んでいる複数の第２凸部と、を有するカセットを保持する。前記支持部は、薄板を支持する。前記移動機構は、前記第１方向、前記第２方向および前記第３方向に直交する第４方向および該第４方向の逆の第５方向に沿って、前記保持部および前記支持部の少なくとも一方を移動させることで、前記保持部に保持されている前記カセットの外側の第１領域および該カセットの内側の第２領域の何れか一方の領域に、前記支持部を位置させる。前記昇降機構は、少なくとも前記支持部に対して前記保持部を相対的に上昇させる。ガス供給部は、前記カセットにおける上方から、第１組目の前記第１凸部および前記第２凸部から第（Ｎ＋１）組目（Ｎは自然数）の前記第１凸部および前記第２凸部によって、第１の薄板から第（Ｎ＋１）の薄板のそれぞれの前記第１端部および前記第２端部が支持されている状態で、前記移動機構によって、前記支持部が支持している薄板が、前記カセットにおける前記第（Ｎ＋１）組目の前記第１凸部および前記第２凸部と、第（Ｎ＋２）組目の前記第１凸部および前記第２凸部との間に挿入される際に、第Ｎの薄板と前記第（Ｎ＋１）の薄板との間隙にガスを供給する。
【０００９】
薄板処理システムの一態様は、薄板収納システムの一態様と、該薄板収納システムによって複数の薄板が収納されたカセットを用いて、該カセットに収納された複数の薄板に対して一括処理を施す薄板処理部と、を備える。
【００１０】
薄板収納方法の一態様は、第１工程と、第２工程と、第３工程と、第４工程と、を有する。前記第１工程において、第１方向において対向するように間隔をあけて並ぶ複数の薄板のそれぞれの前記第１方向に直交する第２方向の第１端部をそれぞれ支持することが可能であり且つ前記第１方向に沿って並んでいる複数の第１凸部と、前記複数の薄板のそれぞれの前記第２方向とは逆の第３方向の第２端部をそれぞれ支持することが可能であり且つ前記第１方向に沿って並んでいる複数の第２凸部と、を有するカセットを保持部に保持させる。前記第２工程において、支持部に薄板を支持させる。前記第３工程において、移動機構によって、前記第１方向、前記第２方向および前記第３方向に直交する第４方向および該第４方向の逆の第５方向の少なくとも１つの方向に沿って、前記保持部および前記支持部の少なくとも一方を移動させることで、前記支持部で支持されている薄板が存在している領域を、前記保持部に保持されている前記カセットの外側の第１領域から該カセットの内側の第２領域に変更する。前記第４工程において、昇降機構によって、少なくとも前記支持部に対して前記保持部を相対的に上昇させることで、前記カセットにおける一組の前記第１凸部および前記第２凸部によって、前記支持部で支持されていた薄板を支持させる。前記第３工程において、前記カセットにおける上方から、第１組目の前記第１凸部および前記第２凸部から第（Ｎ＋１）組目（Ｎは自然数）の前記第１凸部および前記第２凸部によって、第１の薄板から第（Ｎ＋１）の薄板のそれぞれの前記第１端部および前記第２端部が支持されている状態で、前記移動機構によって、前記支持部が支持している薄板が、前記カセットにおける前記第（Ｎ＋１）組目の前記第１凸部および前記第２凸部と、第（Ｎ＋２）組目の前記第１凸部および前記第２凸部との間に挿入される際に、ガス供給部によって第Ｎの薄板と前記第（Ｎ＋１）の薄板との間隙にガスを供給する。
【発明の効果】
【００１１】
複数枚の薄板をカセットに高密度で収納する際に、薄板の損傷を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、薄板収納システムの概略的な一構成例を示す側面図である。
【図２】図２は、薄板収納システムの概略的な一構成例の一部を示す平面図である。
【図３】図３は、薄板収納システムの概略的な一構成例の一部を示す平面図である。
【図４】図４は、カセットの一例の構成を示す正面図である。
【図５】図５は、カセットの一例の構成を示す側面図である。
【図６】図６は、カセットに薄板が収納される様子を示す正面図である。
【図７】図７は、カセットに薄板が収納される様子を示す側面図である。
【図８】図８は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する正面図である。
【図９】図９は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する正面図である。
【図１０】図１０は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する正面図である。
【図１１】図１１は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する正面図である。
【図１２】図１２は、薄板がカセットに収納する途中の状態を例示する正面図である。
【図１３】図１３は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する正面図である。
【図１４】図１４は、薄板がカセットに収納された状態を例示する正面図である。
【図１５】図１５は、第１の実施形態に係る薄板収納方法の一例の流れ図である。
【図１６】図１６は、第１の実施形態に係る薄板収納方法の一例の流れ図である。
【図１７】図１７は、第１の実施形態に係る薄板収納方法の一例の流れ図である。
【図１８】図１８は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する側面図である。
【図１９】図１９は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する側面図である。
【図２０】図２０は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する平面図である。
【図２１】図２１は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する側面図である。
【図２２】図２２は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する平面図である。
【図２３】図２３は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する側面図である。
【図２４】図２４は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する側面図である。
【図２５】図２５は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する側面図である。
【図２６】図２６は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する平面図である。
【図２７】図２７は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する側面図である。
【図２８】図２８は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する平面図である。
【図２９】図２９は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する側面図である。
【図３０】図３０は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する側面図である。
【図３１】図３１は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する側面図である。
【図３２】図３２は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する平面図である。
【図３３】図３３は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する側面図である。
【図３４】図３４は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する平面図である。
【図３５】図３５は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する側面図である。
【図３６】図３６は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する側面図である。
【図３７】図３７は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する側面図である。
【図３８】図３８は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する平面図である。
【図３９】図３９は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する側面図である。
【図４０】図４０は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する平面図である。
【図４１】図４１は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する側面図である。
【図４２】図４２は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する側面図である。
【図４３】図４３は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する側面図である。
【図４４】図４４は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する側面図である。
【図４５】図４５は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する側面図である。
【図４６】図４６は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する側面図である。
【図４７】図４７は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する側面図である。
【図４８】図４８は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する側面図である。
【図４９】図４９は、薄板をカセットに収納する途中の状態を例示する側面図である。
【図５０】図５０は、薄板収納システムの概略的な一構成例の一部を示す平面図である。
【図５１】図５１は、薄板処理システムの概略的な一構成例を示す側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
＜１．基礎技術＞
複数枚の薄板に対して効率良く処理を施すことが可能なバッチ処理では、より多くの枚数の薄板が高密度でカセットに収納されれば、処理の効率が向上する。
【００１４】
ところで、カセットに複数枚の薄板が収納される際に、各薄板が水平な状態でカセットに上から順に収納されれば、仮にカセットへの収納中の薄板が破損しても、該カセットに収納されている他の薄板は、破損した薄板よりも上方に位置している。このため、他の薄板は、破損した薄板の破片等によって傷付けられ難い。
【００１５】
しかしながら、例えば、材料の使用量の低減を目的として、薄板の厚さが低減される場合がある。この場合、バッチ処理のためにカセットにおいて各薄板の端部が支持されれば、各薄板が自重で下方向に湾曲するように撓むおそれがある。このため、カセットに収納される複数枚の薄板の間隔が低減されると、カセットにおいて下方向に撓んでいる薄板の直ぐ下に次の薄板が収納される際に、上下で隣り合う薄板が接触し易くなる。これにより、上下で隣り合う薄板同士が、例えば、擦れ合うことで傷付くおそれがある。このように、複数枚の薄板を高密度でカセットに収納する際における、薄板の損傷の低減には改善の余地がある。
【００１６】
そこで、本願発明者らは、複数枚の薄板を高密度でカセットに収納する際に、薄板の損傷を低減することができる技術を創出した。これについて、以下、各実施形態を図面に基づいて説明する。
【００１７】
なお、図面においては同様な構成および機能を有する部分については同じ符号が付されており、下記説明では重複説明が省略される。また、図面は模式的に示されたものである。図１から図１４および図１８から図５１には、右手系のＸＹＺ座標系が付されている。該ＸＹＺ座標系では、カセットＣ１に対して薄板Ｗ１が挿入される方向に沿った方向が＋Ｘ方向とされ、カセットＣ１において複数枚の薄板Ｗ１が平行に並ぶ方向が−Ｚ方向とされ、＋Ｘ方向および−Ｚ方向の双方に直交する方向が＋Ｙ方向とされている。
【００１８】
＜２．第１の実施形態＞
＜２−１．薄板収納システム＞
第１の実施形態に係る薄板収納システム１００を、図１から図３に基づいて説明する。
【００１９】
第１の実施形態に係る薄板収納システム１００は、カセットＣ１に複数枚の薄板Ｗ１を収納することができる。薄板Ｗ１には、例えば、半導体基板またはガラス板等が含まれ得る。半導体基板には、例えば、シリコンウエハ等が含まれ得る。カセットＣ１に複数枚の薄板Ｗ１が収納されれば、薄板Ｗ１を対象とした各種処理が、カセットＣ１に収納されている複数枚の薄板Ｗ１に対して一括して行われ得る。各種の一括処理（バッチ処理）には、例えば、薄板Ｗ１上への薄膜の堆積処理、薄板Ｗ１の表面に対する酸化または還元処理、薄板Ｗ１の表層に対する元素の拡散処理、薄板Ｗ１の表面の洗浄処理、ならびに薄板Ｗ１のエッチング液への浸漬処理等が含まれ得る。また、例えば、複数枚の薄板Ｗ１を互いに接しないように高密度に保管することを目的として、カセットＣ１に複数枚の薄膜Ｗ１が収納されてもよい。
【００２０】
図１から図３で示されるように、薄板収納システム１００は、例えば、保持部１、支持部２、移動機構３、昇降機構４およびガス供給部５を備えている。また、薄板収納システム１００は、例えば、吸引部６、搬入機構７および制御装置８を備えている。
【００２１】
＜２−１−１．保持部＞
保持部１は、カセットＣ１を保持することができる。保持部１は、例えば、上部１ｕおよび下部１ｂを有している。例えば、上部１ｕと下部１ｂとは、垂直方向としての＋Ｚ方向において離れており且つ対向するように位置している。ここで、例えば、上部１ｕと下部１ｂとの間の距離が短縮されることで、上部１ｕと下部１ｂとによってカセットＣ１が挟持され得る。また、例えば、上部１ｕと下部１ｂとの間の距離が拡大されることで、上部１ｕと下部１ｂとの間からカセットＣ１が開放され得る。ここでは、例えば、油圧シリンダーまたはエアーシリンダー等の直線的な運動を行う構成によって、下部１ｂに対して上部１ｕを相対的に近づけたり、遠ざけたりすることができる。
【００２２】
カセットＣ１は、複数枚の薄板Ｗ１を収納することができる。ここでは、カセットＣ１には、１辺が例えば１５０ｍｍから１６０ｍｍ程度の略正方形状の盤面を有する薄板Ｗ１が収納され得る。薄板Ｗ１の盤面の形状は、例えば、角部が面取りされた正方形または長方形であってもよい。第１の実施形態では、カセットＣ１は、骨組みが組み合わされたような構造（フレーム構造ともいう）を有している。
【００２３】
図１から図７で示されるように、カセットＣ１は、例えば、上部Ｃ１ｕ、下部Ｃ１ｂ、第１側部Ｐｓ１、第２側部Ｐｓ２、第１奥部Ｐｂ１および第２奥部Ｐｂ２を有している。図１から図３、図６および図７には、カセットＣ１において薄板Ｗ１が収納される位置が二点鎖線で描かれている。
【００２４】
上部Ｃ１ｕは、ＸＹ平面に略平行に位置し且つ−Ｘ方向に開口している部分（上方開口部ともいう）Ｏｕ１を有するＵ字状の部分である。具体的には、上部Ｃ１ｕは、例えば、−Ｙ方向の側の部分と＋Ｘ方向の側の部分と＋Ｙ方向の側の部分とがこの順に連結されているようなＵ字状の形状を有する。
【００２５】
下部Ｃ１ｂは、上部Ｃ１ｕから−Ｚ方向に離れて位置しており、ＸＹ平面に略平行に位置し且つ−Ｘ方向に開口している部分（下方開口部ともいう）Ｏｂ１を有するＵ字状の部分である。具体的には、下部Ｃ１ｂは、例えば、上部Ｃ１ｕと同様に、−Ｙ方向の側の部分と＋Ｘ方向の側の部分と＋Ｙ方向の側の部分とがこの順に連結されているようなＵ字状の形状を有する。
【００２６】
第１側部Ｐｓ１は、上部Ｃ１ｕの−Ｙ方向の側の部分と、下部Ｃ１ｂの−Ｙ方向の側の部分とを連結している状態で位置している。第１側部Ｐｓ１は、＋Ｙ方向を向いた面において複数の凸部（第１凸部ともいう）１Ｐを有している。第１の実施形態では、各第１凸部１Ｐは、＋Ｙ方向に向けて突出しており且つ＋Ｘ方向に沿って延びている形状を有している。また、複数の第１凸部１Ｐは、第１方向としての−Ｚ方向に沿って並んでいる。具体的には、複数の第１凸部１Ｐは、第１方向（−Ｚ方向）において予め設定された間隔で順に並んでいる。ここで、予め設定された間隔が一定の値であれば、複数の第１凸部１Ｐは、第１方向（−Ｚ方向）において、一定のピッチ（第１ピッチともいう）で並んでいる。つまり、第１側部Ｐｓ１は、櫛歯状の凹凸部を有している。
【００２７】
ここで、カセットＣ１には、例えば、複数枚の薄板Ｗ１が第１方向（−Ｚ方向）において対向するように間隔をあけて並べられた状態で収納され得る。カセットＣ１に複数枚の薄板Ｗ１が収納される際には、複数の第１凸部１Ｐは、複数枚の薄板Ｗ１の第１方向（−Ｚ方向）に直交する第２方向としての−Ｙ方向の端部（第１端部ともいう）をそれぞれ支持することが可能である。
【００２８】
第２側部Ｐｓ２は、上部Ｃ１ｕの＋Ｙ方向の側の部分と、下部Ｃ１ｂの＋Ｙ方向の側の部分とを連結している状態で位置している。第２側部Ｐｓ２は、−Ｙ方向を向いた面において複数の凸部（第２凸部ともいう）２Ｐを有している。第１の実施形態では、各第２凸部２Ｐは、−Ｙ方向に向けて突出しており且つ＋Ｘ方向に沿って延びている形状を有している。また、複数の第２凸部２Ｐは、第１方向（−Ｚ方向）に沿って並んでいる。具体的には、複数の第２凸部２Ｐは、第１方向（−Ｚ方向）において予め設定された間隔で順に並んでいる。ここで、予め設定された間隔が一定の値であれば、複数の第２凸部２Ｐは、第１方向（−Ｚ方向）において、一定のピッチ（第２ピッチともいう）で並んでいる。つまり、第２側部Ｐｓ２は、櫛歯状の凹凸部を有している。第１の実施形態では、第１ピッチと第２ピッチとは、略同一に設定されている。
【００２９】
また、ここで、カセットＣ１に複数枚の薄板Ｗ１が収納される際には、複数の第２凸部２Ｐは、複数枚の薄板Ｗ１の第２方向（−Ｙ方向）とは逆の第３方向としての＋Ｙ方向の端部（第２端部ともいう）をそれぞれ支持することが可能である。
【００３０】
第１の実施形態では、例えば、第１側部Ｐｓ１と第２側部Ｐｓ２とが対向している状態で位置している。そして、例えば、各薄板Ｗ１のうち、第１端部が第１凸部１Ｐに支持され、第２端部が第２凸部２Ｐに支持されることで、複数枚の薄板Ｗ１がカセットＣ１に収納され得る。ここで、薄板Ｗ１の厚さは、例えば、０．１５ｍｍから０．２ｍｍ程度に設定され得る。第１ピッチおよび第２ピッチは、例えば、１ｍｍから４ｍｍ程度に設定され得る。なお、例えば、第１ピッチおよび第２ピッチが、１ｍｍ程度に設定されれば、カセットＣ１に複数枚の薄板Ｗ１が格納されている状態で、各薄板Ｗ１に対して原子層堆積（ＡＬＤ）法等による成膜処理等が行われ得る。また、例えば、第１ピッチおよび第２ピッチが、３ｍｍから４ｍｍ程度に設定されれば、カセットＣ１に複数枚の薄板Ｗ１が格納された状態で、各薄板Ｗ１に対して化学薬品を用いたエッチング処理等が行われ得る。つまり、例えば、第１ピッチおよび第２ピッチが適宜設定されることで、１回の一括処理で処理が施される薄板Ｗ１の枚数が増加し得る。
【００３１】
第１奥部Ｐｂ１は、上部Ｃ１ｕの＋Ｘ方向の側の部分と下部Ｃ１ｂの＋Ｘ方向の側の部分とを連結している状態で位置している。第１奥部Ｐｂ１は、−Ｘ方向を向いた面において複数の凸部（第３凸部とも言う）３Ｐを有している。ここでは、各第３凸部３Ｐは、−Ｘ方向に向けて突出しており且つ＋Ｙ方向に沿って延びている形状を有している。
【００３２】
また、複数の第３凸部３Ｐは、第１方向（−Ｚ方向）に沿って並んでいる。具体的には、複数の第３凸部３Ｐは、第１方向（−Ｚ方向）において予め設定された間隔で順に並んでいる。ここで、予め設定された間隔が一定の値であれば、複数の第３凸部３Ｐは、第１方向（−Ｚ方向）において、一定のピッチで並んでいる。また、カセットＣ１に複数枚の薄板Ｗ１が収納される際には、複数の第３凸部３Ｐは、複数枚の薄板Ｗ１の＋Ｘ方向の端部（第３端部ともいう）をそれぞれ支持することが可能である。
【００３３】
第２奥部Ｐｂ２は、例えば、第１奥部Ｐｂ１と同様な構成を有している。具体的には、第２奥部Ｐｂ２は、上部Ｃ１ｕの＋Ｘ方向の側の部分と下部Ｃ１ｂの＋Ｘ方向の側の部分とを連結している状態で位置している。第２奥部Ｐｂ２は、第１奥部Ｐｂ１から＋Ｙ方向に離れている状態で位置している。第２奥部Ｐｂ２は、−Ｘ方向を向いた面において複数の凸部（第４凸部ともいう）４Ｐを有している。ここでは、各第４凸部４Ｐは、−Ｘ方向に向けて突出しており且つ＋Ｙ方向に沿って延びている形状を有している。
【００３４】
また、複数の第４凸部４Ｐは、第１方向（−Ｚ方向）に沿って並んでいる。具体的には、複数の第４凸部４Ｐは、第１方向（−Ｚ方向）において予め設定された間隔で順に並んでいる。ここで、予め設定された間隔が一定の値であれば、複数の第４凸部４Ｐは、第１方向（−Ｚ方向）において、一定のピッチで並んでいる。また、カセットＣ１に複数枚の薄板Ｗ１が収納される際には、複数の第４凸部４Ｐは、複数枚の薄板Ｗ１の＋Ｘ方向の端部（第３端部）をそれぞれ支持することが可能である。
【００３５】
なお、ここでは、例えば、第１側部Ｐｓ１と第２側部Ｐｓ２とが±Ｘ方向に相対的にずれている状態で位置していてもよい。また、例えば、第１奥部Ｐｂ１および第２奥部Ｐｂ２のうちの一方の部分が削除されてもよい。
【００３６】
＜２−１−２．支持部＞
支持部２は、カセットＣ１に収納する対象物としての薄板Ｗ１を支持することができる。図１から図３には、支持部２によって支持され得る複数枚の薄板Ｗ１の位置が二点鎖線で描かれている。支持部２には、第１支持部２ａ、第２支持部２ｂ、第３支持部２ｃおよび第４支持部２ｄが存在している。各支持部２は、例えば、上部の平坦な面上に薄板Ｗ１が載置され得るテーブル状の構成を有している。ここで、各支持部２では、例えば、＋Ｚ方向を向いた上面に薄板Ｗ１を吸引する開口が存在していれば、薄板Ｗ１が安定して支持され得る。また、例えば、各支持部２は、ベルヌーイ吸着によって薄板Ｗ１を非接触で吸着することが可能である部分（ベルヌーイ吸着部ともいう）を含んでいれば、例えば、カセットＣ１に収納する対象物としての薄板Ｗ１が、非接触で支持部２に支持され得る。その結果、薄板Ｗ１が汚染され難い。
【００３７】
＜２−１−３．移動機構＞
移動機構３は、支持部２を移動させることができる。第１の実施形態では、移動機構３は、第１方向（−Ｚ方向）、第２方向（−Ｙ方向）および第３方向（＋Ｙ方向）の全てに直交する第４方向としての＋Ｘ方向および該第４方向の逆の第５方向としての−Ｘ方向に沿って、支持部２を移動させることができる。このため、図２および図３で示されるように、移動機構３は、例えば、第１領域Ａ１および第２領域Ａ２の何れか一方の領域に、第４支持部２ｄを位置させることができる。第１領域Ａ１は、保持部１に保持されているカセットＣ１の外側の領域である。第２領域Ａ２は、保持部１に保持されているカセットＣ１の内側の領域である。
【００３８】
移動機構３は、例えば、基準部３１、可動部３２、連結部３３、第１リフト部３Ｌａ、第２リフト部３Ｌｂ、第３リフト部３Ｌｃ、第４リフト部３Ｌｄ、側方調整部３Ｓｒ、前方調整部３Ａｆおよび後方調整部３Ａｒを備えている。
【００３９】
基準部３１は、例えば、基部１００ｂ上に固定されている。
【００４０】
可動部３２は、連結部３３によって、基準部３１内の駆動部に連結されている。駆動部は、基準部３１に対して可動部３２および連結部３３を±Ｘ方向に沿って往復運動させることができる。駆動部としては、例えば、直線的な往復運動を行うことが可能なエアーシリンダー等が採用され得る。可動部３２は、＋Ｘ方向に沿った長手方向を有している。可動部３２上には、第１〜４支持部２ａ〜２ｄが、＋Ｘ方向に沿って順に位置している。
【００４１】
ここでは、基準部３１に対する可動部３２の移動によって、図３で示された第４支持部２ｄが第２領域Ａ２内へ進出している状態（進出状態ともいう）に設定され得る。または、基準部３１に対する可動部３２の移動によって、図２で示された第４支持部２ｄが第１領域Ａ１へ後退している状態（後退状態ともいう）に設定され得る。ここで、後退状態と進出状態との間で可動部３２が移動する距離は、薄板Ｗ１の一辺の長さよりも長くなるように設定されている。例えば、薄板Ｗ１の一辺の長さが１５０ｍｍから１６０ｍｍ程度であれば、後退状態と進出状態との間で可動部３２が移動する距離は、例えば２００ｍｍ程度に設定され得る。
【００４２】
第１リフト部３Ｌａは、例えば、後退状態において第１支持部２ａを側方から囲む位置に、３つ以上（ここでは、４つ）の昇降可能なリフトピンを有している。第１リフト部３Ｌａは、例えば、進出状態において、搬入機構７によって薄板収納システム１００に搬入される薄板Ｗ１を受け取ることができる。このとき、薄板Ｗ１は、下方から第１リフト部３Ｌａのリフトピンによって上方に持ち上げることができる。
【００４３】
第２リフト部３Ｌｂは、例えば、進出状態において第１支持部２ａを側方から囲む位置であり且つ後退状態において第２支持部２ｂを側方から囲む位置に、３つ以上（ここでは、４つ）の昇降可能なリフトピンを有している。第２リフト部３Ｌｂは、例えば、進出状態において、第１支持部２ａ上に位置している薄板Ｗ１を下方からリフトピンによって上方に持ち上げることができる。
【００４４】
第３リフト部３Ｌｃは、例えば、進出状態において第２支持部２ｂを側方から囲む位置であり且つ後退状態において第３支持部２ｃを側方から囲む位置に、３つ以上（ここでは、４つ）の昇降可能なリフトピンを有している。第３リフト部３Ｌｃは、例えば、進出状態において、第２支持部２ｂ上に位置している薄板Ｗ１を下方からリフトピンによって上方に持ち上げることができる。
【００４５】
第４リフト部３Ｌｄは、例えば、進出状態において第３支持部２ｃを側方から囲む位置であり且つ後退状態において第４支持部２ｄを側方から囲む位置に、３つ以上（ここでは、４つ）の昇降可能なリフトピンを有している。第４リフト部３Ｌｄは、例えば、進出状態において、第３支持部２ｃ上に位置している薄板Ｗ１を下方からリフトピンによって上方に持ち上げることができる。なお、第１〜４リフト部３Ｌａ〜３Ｌｄでは、例えば、エアーシリンダーまたはモーター等を備えた駆動部によってリフトピンが昇降され得る。
【００４６】
ここで、例えば、次の第１動作から第４動作が順に行われる一連の動作が繰り返されることで、支持部２と移動機構３とによって複数枚の薄板Ｗ１がカセットＣ１に向けて順に運ばれ得る。
【００４７】
［第１動作］後退状態において第１〜４支持部２ａ〜２ｄのそれぞれによって薄板Ｗ１が支持されている状態で、進出状態に移行させる。このとき、例えば、各支持部２によって、薄板Ｗ１が吸引されていれば、薄板Ｗ１が安定して支持され得る。また、このとき、例えば、第４支持部２ｄによって支持されている薄板Ｗ１がカセットＣ１内に挿入され得る。この際には、例えば、＋Ｚ方向における略同一の高さに位置する上から１組目の第１〜４凸部１Ｐ〜４Ｐの直ぐ上方に位置する間隙に、薄板Ｗ１が挿入され得る。あるいは、例えば、＋Ｚ方向における略同一の高さに位置する上からｎ組目（ｎは自然数）の第１〜４凸部１Ｐ〜４Ｐと（ｎ＋１）組目の第１〜４凸部１Ｐ〜４Ｐとの間隙に、薄板Ｗ１が挿入され得る。
【００４８】
［第２動作］進出状態後の停止状態において、薄板Ｗ１の吸引が解除され、第１〜３支持部２ａ〜２ｃによって支持されている薄板Ｗ１が、第２〜４リフト部３Ｌｂ〜３Ｌｄによって上方に持ち上げられる。
【００４９】
［第３動作］進出状態から後退状態に移行されるとともに、搬入機構７によって第１リフト部３Ｌａ上に薄板Ｗ１が載置される。
【００５０】
［第４動作］第１〜４リフト部３Ｌａ〜３Ｌｄの下降によって、第１〜４支持部２ａ〜２ｄによってそれぞれ薄板Ｗ１が支持される。
【００５１】
側方調整部３Ｓｒは、第４支持部２ｄ上における薄板Ｗ１の±Ｙ方向における位置を調整することができる。側方調整部３Ｓｒは、例えば、第４支持部２ｄによって支持されている薄板Ｗ１を±Ｙ方向の両側から挟み込むことで、第４支持部２ｄ上における薄板Ｗ１の±Ｙ方向における位置を調整することができる。第１の実施形態では、側方調整部３Ｓｒは、後退状態において第４支持部２ｄの＋Ｙ方向に位置する２つのローラーと、後退状態において第４支持部２ｄの−Ｙ方向に位置する２つのローラーとを有している。各ローラーは＋Ｚ軸を中心として回転可能な構成を有している。また、ここでは、第４支持部２ｄの＋Ｙ方向に位置する２つのローラーと、第４支持部２ｄの−Ｙ方向に位置する２つのローラーとの間隔は、拡大および縮小させることが可能である。これにより、後退状態において第４支持部２ｄ上に載置される薄板Ｗ１が４つのローラーによって±Ｙ方向の両側から挟み込まれることで、第４支持部２ｄ上における薄板Ｗ１の±Ｙ方向における位置が調整され得る。
【００５２】
前方調整部３Ａｆおよび後方調整部３Ａｒは、第４支持部２ｄ上における薄板Ｗ１の±Ｘ方向における位置を調整することができる。前方調整部３Ａｆと後方調整部３Ａｒとは、例えば、後退状態において第４支持部２ｄによって支持されている薄板Ｗ１を±Ｘ方向の両側から挟み込むことで、第４支持部２ｄ上における薄板Ｗ１の±Ｘ方向における位置を調整することができる。第１の実施形態では、前方調整部３Ａｆは、カセットＣ１に薄板Ｗ１が収納される際に移動機構３によって薄板Ｗ１が移動される方向において、後退状態における第４支持部２ｄよりも前方に位置している。また、後方調整部３Ａｒは、カセットＣ１に薄板Ｗ１が収納される際に移動機構３によって薄板Ｗ１が移動される方向において、後退状態における第４支持部２ｄよりも後方に位置している。前方調整部３Ａｆは、例えば、Ｙ方向に沿った回転軸を中心として回転可能な丸棒状の部材と、該丸棒状の部材の外周部の軸方向に沿った領域に径方向に突起しているストッパーとを有する。後方調整部３Ａｒは、例えば、前方調整部３Ａｆと同様に、Ｙ方向に沿った回転軸を中心として回転可能な丸棒状の部材と、該丸棒状の部材の外周部の軸方向に沿った領域に径方向に突起しているストッパーとを有する。ストッパーの形状としては、例えば平板状の形状が採用され得る。
【００５３】
ここでは、例えば、移動機構３によって、薄板Ｗ１が側方調整部３Ｓｒの４つのローラーの間に薄板Ｗ１が移動される際には、前方調整部３Ａｆおよび後方調整部３Ａｒのストッパーが、上方に退避することで、薄板Ｗ１の通過を可能とする。また、側方調整部３Ｓｒの４つのローラーの間において、第４支持部２ｄによって支持されている薄板Ｗ１が、前方調整部３Ａｆおよび後方調整部３Ａｒのストッパーで前後から挟まれることで、薄板Ｗ１の±Ｘ方向における位置が調整され得る。
【００５４】
このように、前方調整部３Ａｆ、後方調整部３Ａｒおよび側方調整部３Ｓｒによって、第４支持部２ｄで支持されている薄板Ｗ１の位置が調整される場合には、第４支持部２ｄによる薄板Ｗ１の吸引は解除され、位置の調整後は第４支持部２ｄによって薄板Ｗ１が吸引されることが望ましい。これにより、薄板Ｗ１の位置調整が迅速に行われる。また、第４支持部２ｄによって支持されている薄板Ｗ１をある程度高速で移動させても、薄板Ｗ１がカセットＣ１内に挿入されるまでの間の位置ずれが抑制される。
【００５５】
＜２−１−４．昇降機構＞
昇降機構４は、支持部２に対して保持部１を＋Ｚ方向に上昇させることができる。昇降機構４は、例えば、基部１００ｂ上に固定される。昇降機構４としては、例えば、油圧シリンダーまたはエアーシリンダーあるいはモーターとボールねじの組合せ等と言った＋Ｚ方向に直線的に対象物を昇降させる構成が採用され得る。昇降機構４は、例えば、保持部１を＋Ｚ方向に上昇させることで、カセットＣ１を＋Ｚ方向に上昇させることができる。例えば、進出状態において、第４支持部２ｄに薄板Ｗ１が支持されていれば、第４支持部２ｄにおける薄板Ｗ１の吸着を解除した状態で、カセットＣ１が上昇されれば、カセットＣ１のうちの＋Ｚ方向における略同一の高さに位置する第１〜４凸部１Ｐ〜４Ｐの組によって、薄板Ｗ１が持ち上げられる。このとき、例えば、昇降機構４によってカセットＣ１が１回に上昇される距離は、第１凸部１Ｐおよび第２凸部２Ｐの第１および第２ピッチに対応する。これにより、薄板Ｗ１が第４支持部２ｄからカセットＣ１に受け渡されて、カセットＣ１に収納され得る。
【００５６】
＜２−１−５．ガス供給部＞
ガス供給部５は、カセットＣ１内の第２領域Ａ２に向けて、ガスを供給することができる。例えば、ガス供給部５は、＋Ｘ方向に沿ってガスを供給することができる。
【００５７】
ここで、材料の使用量の低減を目的として、薄板の厚さが低減される場合、一括処理（バッチ処理）のためにカセットＣ１において各薄板Ｗ１の端部が支持されれば、各薄板Ｗ１が自重で下方向に湾曲するように撓むことがある。例えば、図８で示されるように、各薄板Ｗ１は、盤面の第２方向（−Ｙ方向）における中央部Ｃａ１付近が最も下方に変位するように湾曲し得る。図８には、カセットＣ１に、上から１番目の第１の薄板Ｗ１１と、上から２番目の第２の薄板Ｗ１２とを含む２枚の薄板Ｗ１が収納されている様子が示されている。ここで、薄板Ｗ１が、１辺が約１５６ｍｍの略正方形状の盤面と、約０．１７ｍｍの厚さを有する結晶シリコンウエハであって、第１〜４凸部１Ｐ〜４Ｐによって、薄板Ｗ１の端縁部から約２．５ｍｍの範囲の部分が支持される場合を想定する。この場合、薄板Ｗ１の中央部Ｃａ１の下方への変位量は、約０．２ｍｍから０．７ｍｍ程度となる。仮に、第１〜４凸部１Ｐ〜４Ｐの第１方向（−Ｚ方向）におけるピッチが、約１ｍｍであれば、上から３番目の第３の薄板Ｗ１３がカセットＣ１に挿入される際に、第２の薄板Ｗ１２と第３の薄板Ｗ１３とが接触するおそれがある。
【００５８】
そこで、ガス供給部５によって、第１の薄板Ｗ１１と第２の薄板Ｗ１２との間隙Ｇｐ１に、ガスが供給されれば、該間隙Ｇｐ１において、ベルヌーイの定理に従って、流速の上昇に伴う圧力の低下が生じる。これにより、第２の薄板Ｗ１２を上方に引き上げる力が働き、図９で示されるように、第２の薄板Ｗ１２の下方への撓みが緩和され得る。その結果、図１０で示されるように、上から３番目の第３の薄板Ｗ１３がカセットＣ１に挿入される際に、第２の薄板Ｗ１２と第３の薄板Ｗ１３とが接触し難い。
【００５９】
ここで、自然数Ｎを用いて、カセットＣ１に、上方から第１の薄板Ｗ１１から第（Ｎ＋１）の薄板Ｗ１（Ｎ＋１）が収納されている場合を想定する。このとき、第１の薄板Ｗ１１の第１端部および第２端部は、カセットＣ１における上方から第１組目の第１凸部１Ｐおよび第２凸部２Ｐによって支持されている。また、第（Ｎ＋１）の薄板Ｗ１（Ｎ＋１）の第１端部および第２端部は、カセットＣ１における上方から第（Ｎ＋１）組目の第１凸部１Ｐおよび第２凸部２Ｐによって支持されている。つまり、第１組目の第１凸部１Ｐおよび第２凸部２Ｐから、第（Ｎ＋１）組目の第１凸部１Ｐおよび第２凸部２Ｐによって、第１の薄板Ｗ１１から第（Ｎ＋１）の薄板Ｗ１（Ｎ＋１）のそれぞれの第１端部および第２端部が支持されている状態にある。この状態で、移動機構３によって、第４支持部２ｄが支持している薄板Ｗ１が、カセットＣ１における第（Ｎ＋１）組目の第１凸部１Ｐおよび第２凸部２Ｐと、第（Ｎ＋２）組目の第１凸部１Ｐおよび第２凸部２Ｐとの間に挿入される。この際、第Ｎの薄板Ｗ１Ｎと第（Ｎ＋１）の薄板Ｗ１（Ｎ＋１）との間隙Ｇｐ１にガス供給部５によってガスが供給される。
【００６０】
これにより、例えば、カセットＣ１に対して上方から順に複数枚の薄板Ｗ１が収納される場合に、３枚目以降の（Ｎ＋２）枚目（Ｎは自然数）の薄板Ｗ１（Ｎ＋２）がカセットＣ１に挿入される際に、ガス供給部５によってガスが供給される。このとき、カセットＣ１に既に収納されたＮ枚目の薄板Ｗ１Ｎと（Ｎ＋１）枚目の薄板Ｗ１（Ｎ＋１）との間隙Ｇｐ１にガスが供給される。これにより、例えば、Ｎ枚目の薄板Ｗ１Ｎと（Ｎ＋１）枚目の薄板Ｗ１（Ｎ＋１）との間隙Ｇｐ１における圧力がベルヌーイの効果によって低下し得る。このため、例えば、（Ｎ＋１）枚目の薄板Ｗ１（Ｎ＋１）において自重で下方向に湾曲している撓みが低減され得る。その結果、例えば、カセットＣ１内において、（Ｎ＋１）枚目の薄板Ｗ１（Ｎ＋１）と（Ｎ＋２）枚目の薄板Ｗ１（Ｎ＋２）とが接触し難い。したがって、複数枚の薄板Ｗ１がカセットＣ１に高密度で収納される際に、薄板Ｗ１の損傷が低減され得る。
【００６１】
ここで、ガス供給部５から供給されるガスとしては、例えば、非酸化性ガスが採用され得る。非酸化性ガスは、例えば、接触によって物体を酸化させ難い性質を有するガスである。このように、ガス供給部５から供給されるガスとして、例えば、非酸化性ガスが採用されれば、薄板Ｗ１の表面が酸化し難い。また、非酸化性ガスには、例えば、窒素ガス等を含む不活性ガスが含まれ得る。例えば、ガス供給部５から供給されるガスとして、不活性ガスが採用されれば、薄板Ｗ１の表面が変質し難い。そして、不活性ガスとして、例えば、容易に調達が可能な窒素ガスが採用されれば、複数枚の薄板Ｗ１がカセットＣ１に高密度で収納される際に、薄板Ｗ１の損傷が容易に低減され得る。なお、例えば、薄板Ｗ１が、酸化等の反応が生じ難い表面の性質を有する場合には、ガス供給部５から供給されるガスは、コンプレッサー等で生成される圧縮された空気であってもよい。
【００６２】
図１から図３で示されるように、ガス供給部５は、例えば、ガス供給源５ｓ、第１バルブＶ１、第２バルブＶ２、ガス供給管５ｔおよびノズル５ｎを備えている。
【００６３】
ガス供給源５ｓは、例えば、ガスボンベ等のガスを貯蔵する容器である。
【００６４】
第１バルブＶ１は、ガス供給源５ｓから第２バルブＶ２へ向けてガスが供給されるタイミングを、弁の開閉等によって制御することができる。これにより、ノズル５ｎからガスが吐出されるタイミングが制御され得る。
【００６５】
第２バルブＶ２は、ノズル５ｎから吐出されるガスの流量および圧力等を調整することができる。ここでは、例えば、ノズル５ｎに入る直前のガスの圧力が、０．２ＭＰａから１ＭＰａ程度に調整され得る。
【００６６】
ガス供給管５ｔは、第２バルブＶ２から供給されるガスをノズル５ｎまで供給することができる。
【００６７】
ノズル５ｎは、カセットＣ１に向けてガスを吐出することができる。第１の実施形態では、ノズル５ｎは、円筒がＬ字状に湾曲しているような形状を有している。ノズル５ｎの素材としては、例えば、耐久性に優れたステンレス鋼等が採用され得る。ノズル５ｎは、移動機構３によって移動される薄板Ｗ１に接触しない寸法を有している。例えば、ノズル５ｎの外径は、０．７ｍｍから１．５ｍｍ程度とされ、ノズル５ｎの内径は、０．３ｍｍから１ｍｍ程度とされている。
【００６８】
ここでは、図２および図３で二点鎖線の矢印で示されるように、例えば、ガス供給部５によって、間隙Ｇｐ１のうちの第２方向（−Ｙ方向）における中央部にガスが供給される。これにより、例えば、薄板Ｗ１のうちの最も下方に撓み得る部分である中央部Ｃａ１が直接的に上方に持ち上げられ得る。その結果、例えば、カセットＣ１に（Ｎ＋２）枚目の薄板Ｗ１（Ｎ＋２）が挿入される際に、（Ｎ＋１）枚目の薄板Ｗ１（Ｎ＋１）と（Ｎ＋２）枚目の薄板Ｗ１（Ｎ＋２）とが接触し難い状況が効率良く実現され得る。したがって、例えば、複数枚の薄板Ｗ１がカセットＣ１に高密度で収納される際に、薄板Ｗ１の損傷が効率良く低減され得る。なお、ここでは、例えば、ガス供給部５が、第４方向（＋Ｘ方向）に向けてガスを供給してもよいし、第５方向（−Ｘ方向）に向けてガスを供給してもよい。
【００６９】
また、ここで、間隙Ｇｐ１に対して第１領域Ａ１から第２領域Ａ２に向けた方向にガスを吐出する態様が考えられる。具体的には、ノズル５ｎが、移動機構３によって薄板Ｗ１がカセットＣ１に挿入される方向（挿入方向ともいう）に沿った方向にガスを吐出する態様が考えられる。このような態様が採用されれば、例えば、薄板Ｗ１の位置がカセットＣ１の外部の第１領域Ａ１から内部の第２領域Ａ２に変わる際に、ノズル５ｎから吐出されるガスの流れによる風圧によって第４支持部２ｄによる薄板Ｗ１の支持が不安定になり難い。その結果、例えば、薄板Ｗ１同士が接触し難くなる。したがって、複数枚の薄板Ｗ１がカセットＣ１に高密度で収納される際に、薄板Ｗ１の損傷が低減され得る。
【００７０】
さらに、ここで、ノズル５ｎが、間隙Ｇｐ１のうちの第２方向（−Ｙ方向）の中央部に向けて、該中央部に沿った第４方向（＋Ｘ方向）にガスを吐出する吐出口を有する態様が考えられる。このような態様が採用されれば、例えば、薄板Ｗ１のうちの最も下方に撓み得る部分（中央部Ｃａ１）が直接的に上方に持ち上げられ得る。その結果、例えば、カセットＣ１に（Ｎ＋２）枚目の薄板Ｗ１（Ｎ＋２）が挿入される際に、（Ｎ＋１）枚目の薄板Ｗ１（Ｎ＋１）と（Ｎ＋２）枚目の薄板Ｗ１（Ｎ＋２）とが接触し難い状況が効率良く実現され得る。したがって、例えば、複数枚の薄板Ｗ１がカセットＣ１に高密度で収納される際に、薄板Ｗ１の損傷が効率良く低減され得る。
【００７１】
＜２−１−６．吸引部＞
吸引部６は、保持部１に保持されているカセットＣ１において第１組目の第１凸部１Ｐおよび第２凸部２Ｐによって第１の薄板Ｗ１１の第１端部および第２端部が支持されている状態で、第１の薄板Ｗ１１の直上に位置している。該吸引部６は、第１の薄板Ｗ１１を上方に吸い寄せることができる。このため、例えば、上方から順に２枚目の薄板Ｗ１２がカセットＣ１に挿入される際に、図１１および図１２で示されるように、カセットＣ１で最も上方に位置している１枚目の薄板Ｗ１１において自重で下方向に湾曲している撓みが吸引部６によって低減され得る。これにより、例えば、図１３で示されるように、２枚目の薄板Ｗ１２がカセットＣ１に収納される際に、１枚目の薄板Ｗ１１と２枚目の薄板Ｗ１２とが接触し難い。したがって、例えば、２枚目の薄板Ｗ１２がカセットに収納される際に、１枚目の薄板Ｗ１１および２枚目の薄板Ｗ１２の損傷が生じ難い。
【００７２】
吸引部６は、例えば、第１の薄板Ｗ１１と接触する単純な吸引を行う接触タイプの構成を有していてもよいし、第１の薄板Ｗ１１と接触しない非接触タイプの構成を有していてもよい。ここで、例えば、吸引部６が、第１の薄板Ｗ１１を非接触で上方に吸い寄せる、ベルヌーイ吸着部を含んでいれば、例えば、１枚目の薄板Ｗ１１の損傷および汚染が低減され得る。このとき、例えば、カセットＣ１において最も上方に位置している１枚目の薄板Ｗ１１において自重で下方向に湾曲している撓みが、ベルヌーイ吸着部による非接触で上方に吸い寄せられる力によって低減され得る。ベルヌーイ吸着部は、流体の流速の上昇に伴って圧力が減少するベルヌーイの効果を利用して、対象物を非接触で吸着する部分である。
【００７３】
なお、ここで、例えば、薄板Ｗ１が、プラスチックス等のある程度の汚染が許容されるものであれば、吸引部６が、接触タイプの構成を有していてもよい。また、例えば、薄板Ｗ１が、シリコンウエハ等の汚染の許容範囲が小さいものであれば、吸引部６が、非接触タイプの構成を有していれば、１枚目の薄板Ｗ１１の損傷および汚染が低減され得る。
【００７４】
＜２−１−７．搬入機構＞
搬入機構７は、薄板Ｗ１を薄板収納システム１００に搬入することができる。例えば、薄板収納システム１００の外側に位置している薄板Ｗ１を保持し、第１リフト部３Ｌａに対して薄板Ｗ１を受け渡すことで、薄板Ｗ１を薄板収納システム１００に搬入することができる。搬入機構７には、例えば、基板Ｗ１を保持あるいは開放することが可能なロボットアーム等が適用され得る。
【００７５】
＜２−１−８．制御装置＞
制御装置８は、薄板収納システム１００の他の構成要素を制御することによって、薄板収納システム１００の動作を統括的に管理することが可能である。制御装置８は、以下にさらに詳細に述べられるように、種々の機能を実行するための制御および処理能力を提供するために、少なくとも１つのプロセッサを含む。
【００７６】
種々の実施形態によれば、少なくとも１つのプロセッサは、単一の集積回路（ＩＣ）として、または複数の通信可能に接続された集積回路ＩＣおよび／またはディスクリート回路（discrete circuits）として実行されてもよい。少なくとも１つのプロセッサは、種々の既知の技術に従って実行されることが可能である。
【００７７】
１つの実施形態において、プロセッサは、例えば、関連するメモリに記憶された指示を実行することによって１以上のデータ計算手続又は処理を実行するように構成された１以上の回路またはユニットを含む。他の実施形態において、プロセッサは、１以上のデータ計算手続きまたは処理を実行するように構成されたファームウェア（例えば、ディスクリートロジックコンポーネント）であってもよい。
【００７８】
種々の実施形態によれば、プロセッサは、１以上のプロセッサ、コントローラ、マイクロプロセッサ、マイクロコントローラ、特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）、デジタル信号処理装置、プログラマブルロジックデバイス、フィールドプログラマブルゲートアレイ、またはこれらのデバイス若しくは構成の任意の組み合わせ、または他の既知のデバイスおよび構成の組み合わせを含み、以下に説明される機能を実行してもよい。
【００７９】
制御装置８は、保持部１、支持部２、移動機構３、昇降機構４、ガス供給部５、吸引部６および搬入機構７の動作を制御することができる。制御装置８は、例えば、コントローラＣｒ１、表示部Ｄｓ１および入力部Ｏｐ１を備えている。コントローラＣｒ１は、例えば、プロセッサＰｒ１および記憶部Ｓｔ１等の電気回路を有している。コントローラＣｒ１では、例えば、プロセッサＰｒ１が、記憶部Ｓｔ１に記憶されているプログラムを読み出して実行することで、情報処理に応じた各種の制御を実現することができる。表示部Ｄｓ１は、例えば、コントローラＣｒ１の制御に応じて各種の情報を可視的に出力することができる。入力部Ｏｐ１は、例えば、オペレーターによる操作に応じて、各種の情報を入力することができる。入力部Ｏｐ１は、例えば、表示部Ｄｓ１におけるタッチパネルによって実現されてもよい。
【００８０】
ところで、薄板収納システム１００では、カセットＣ１に対して上から順に複数枚の薄板Ｗ１が収納される。このとき、最終的には、図１４で示されるように、移動機構３によって、第４支持部２ｄが支持している薄板Ｗ１が、カセットＣ１の最も下方の組の第１凸部１Ｐおよび第２凸部２Ｐと、カセットＣ１の下方から２番目の組の第１凸部１Ｐおよび第２凸部２Ｐとの間に挿入される。この際、カセットＣ１は、第１領域Ａ１から第２領域Ａ２にかけて第４支持部２ｄが通過可能な下方開口部Ｏｂ１を有している。これにより、例えば、カセットＣ１の下面に近接している部分まで薄板Ｗ１が収納され得る。
【００８１】
＜２−２．薄板収納方法＞
次に、薄板収納システム１００による薄板収納方法について、図１５から図４９に基づいて説明する。
【００８２】
薄板収納システム１００では、制御装置８による制御によって、例えば、図１５のステップＳＴ１〜ＳＴ９、図１６のステップＳＴ１１〜ＳＴ２０および図１７のステップＳＴ２１〜ＳＴ３１の動作フローが実行される。これにより、カセットＣ１に複数枚の薄板Ｗ１が収納され得る。ここでは、薄板収納システム１００において、カセットＣ１に対して複数枚の薄板Ｗ１を収納する動作（薄板収納動作ともいう）の開始が指示されることで、薄板収納動作が開始され、図１５のステップＳＴ１に進む。このとき、薄板収納システム１００は、初期状態としての、第４支持部２ｄが第１領域Ａ１へ後退している後退状態にある。
【００８３】
ステップＳＴ１では、保持部１にカセットＣ１を保持させる工程（第１工程ともいう）が行われる。例えば、図１８および図１９で示されるように、保持部１の上部１ｕと下部１ｂとの間にカセットＣ１が配置された状態で、上部１ｕと下部１ｂとによってカセットＣ１を挟持させることで、保持部１にカセットＣ１を保持させることができる。
【００８４】
ステップＳＴ２では、薄板収納システム１００への薄板Ｗ１の搬入が開始される。このとき、例えば、搬入機構７および第１リフト部３Ｌａが、第１支持部２ａに薄板Ｗ１を受け渡す。これにより、図２０および図２１で示されるように、第１支持部２ａによって薄板Ｗ１が支持されている状態となる。
【００８５】
ステップＳＴ３では、制御装置８が、薄板収納システム１００に搬入された薄板Ｗ１の枚数に応じたカウントｉを初期値である１に設定する。
【００８６】
ステップＳＴ４では、移動機構３が、基準部３１に対して可動部３２を第４方向（＋Ｘ方向）に移動させる。これにより、例えば、図２２および図２３で示されるように、第４支持部２ｄが第２領域Ａ２内へ進出している進出状態に移行する。このとき、例えば、第１支持部２ａは、吸着によって薄板Ｗ１を安定して支持することができる。
【００８７】
ステップＳＴ５では、第１〜４リフト部３Ｌａ〜３Ｌｄが上昇する。このとき、例えば、図２４で示されるように、第２リフト部３Ｌｂが薄板Ｗ１を持ち上げている状態となる。このとき、例えば、第１〜４リフト部３Ｌａ〜３Ｌｄのうちの第２リフト部３Ｌｂが選択的に上昇されてもよい。
【００８８】
ステップＳＴ６では、移動機構３が、基準部３１に対して可動部３２を第５方向（−Ｘ方向）に移動させる。これにより、第４支持部２ｄが第２領域Ａ２から第１領域Ａ１へ後退している後退状態に移行する。このとき、例えば、図２５で示されるように、第２リフト部３Ｌｂが薄板Ｗ１を持ち上げている状態が維持される。
【００８９】
ステップＳＴ７では、薄板収納システム１００に薄板Ｗ１が搬入される。このとき、例えば、搬入機構７が第１リフト部３Ｌａ上に薄板Ｗ１を載置し、第１〜４リフト部３Ｌａ〜３Ｌｄが下降することで、第１支持部２ａに薄板Ｗ１を受け渡す。これにより、例えば、図２６および図２７で示されるように、第１支持部２ａおよび第２支持部２ｂのそれぞれによって薄板Ｗ１が支持されている状態となる。
【００９０】
ステップＳＴ８では、制御装置８が、薄板収納システム１００に搬入された薄板Ｗ１の枚数に応じたカウントｉに１を加算する。
【００９１】
ステップＳＴ９では、制御装置８が、カウントｉが４であるか否か判定する。ここで、カウントｉが４でなければ、ステップＳＴ４に戻る。そして、カウントｉが４になるまで、ステップＳＴ４からステップＳＴ９の動作を繰り返す。
【００９２】
例えば、カウントｉが２のときには、例えば、図２８および図２９で示されるように、進出状態に移行する（ステップＳＴ４）。このとき、例えば、第１支持部２ａおよび第２支持部２ｂは、それぞれ吸着によって薄板Ｗ１を安定して支持することができる。次に、第１〜４リフト部３Ｌａ〜３Ｌｄが上昇する（ステップＳＴ５）。このとき、例えば、図３０で示されるように、第２リフト部３Ｌｂおよび第３リフト部３Ｌｃのそれぞれが薄板Ｗ１を持ち上げている状態となる。次に、第４支持部２ｄが第２領域Ａ２から第１領域Ａ１へ後退している後退状態に移行する（ステップＳＴ６）。このとき、例えば、図３１で示されるように、第２リフト部３Ｌｂおよび第３リフト部３Ｌｃのそれぞれが薄板Ｗ１を持ち上げている状態が維持される。次に、薄板収納システム１００に薄板Ｗ１が搬入される（ステップＳＴ７）。このとき、例えば、搬入機構７が第１リフト部３Ｌａ上に薄板Ｗ１を載置し、第１〜４リフト部３Ｌａ〜３Ｌｄが下降することで、第１支持部２ａに薄板Ｗ１を受け渡す。これにより、例えば、図３２および図３３で示されるように、第１支持部２ａ、第２支持部２ｂおよび第３支持部２ｃのそれぞれによって薄板Ｗ１が支持されている状態となる。次に、制御装置８が、薄板収納システム１００に搬入された薄板Ｗ１の枚数に応じたカウントｉに１を加算する（ステップＳＴ８）。このとき、カウントｉが３になる。そして、制御装置８が、カウントｉが４であるか否か判定する（ステップＳＴ９）。
【００９３】
また、例えば、カウントｉが３のときには、例えば、図３４および図３５で示されるように、進出状態に移行する（ステップＳＴ４）。このとき、例えば、第１〜３支持部２ａ〜２ｃは、それぞれ吸着によって薄板Ｗ１を安定して支持することができる。次に、第１〜４リフト部３Ｌａ〜３Ｌｄが上昇する（ステップＳＴ５）。このとき、例えば、図３６で示されるように、第２〜４リフト部３Ｌｂ〜３Ｌｄのそれぞれが薄板Ｗ１を持ち上げている状態となる。次に、第４支持部２ｄが第２領域Ａ２から第１領域Ａ１へ後退している後退状態に移行する（ステップＳＴ６）。このとき、例えば、図３７で示されるように、第２〜４リフト部３Ｌｂ〜３Ｌｄのそれぞれが薄板Ｗ１を持ち上げている状態が維持される。次に、薄板収納システム１００に薄板Ｗ１が搬入される（ステップＳＴ７）。このとき、例えば、搬入機構７が第１リフト部３Ｌａ上に薄板Ｗ１を載置し、第１〜４リフト部３Ｌａ〜３Ｌｄが下降することで、第１支持部２ａに薄板Ｗ１を受け渡す。これにより、例えば、図３８および図３９で示されるように、第１〜４支持部２ａ〜２ｄのそれぞれによって薄板Ｗ１が支持されている状態となる。つまり、第４支持部２ｄに薄板Ｗ１を支持させる工程が実行される。このとき、側方調整部３Ｓｒによって、第４支持部２ｄで支持されている薄板Ｗ１の±Ｙ方向における位置が調整されるとともに、前方調整部３Ａｆおよび後方調整部３Ａｒによって、第４支持部２ｄで支持されている薄板Ｗ１の±Ｘ方向における位置が調整される。次に、制御装置８が、薄板収納システム１００に搬入された薄板Ｗ１の枚数に応じたカウントｉに１を加算する（ステップＳＴ８）。このとき、カウントｉが４になる。そして、制御装置８が、カウントｉが４であるか否か判定する（ステップＳＴ９）。このとき、カウントｉが４であるため、図１５のステップＳＴ９から図１６のステップＳＴ１１に進む。
【００９４】
図１６のステップＳＴ１１では、移動機構３が、基準部３１に対して可動部３２を第４方向（＋Ｘ方向）に移動させる。これにより、例えば、図４０および図４１で示されるように、第４支持部２ｄが第２領域Ａ２内へ進出している進出状態に移行する。ここでは、第４方向（＋Ｘ方向）に沿って、第１〜４支持部２ａ〜２ｄを移動させることで、第４支持部２ｄで支持されている薄板Ｗ１が存在している領域を、第１領域Ａ１から第２領域Ａ２に変更する工程が実行される。このとき、例えば、第１〜４支持部２ａ〜２ｄのそれぞれは、吸着によって薄板Ｗ１を安定して支持することができる。
【００９５】
ステップＳＴ１２では、移動機構３が第１〜４リフト部３Ｌａ〜３Ｌｄを上昇させ、昇降機構４が、保持部１を上昇させる。このとき、例えば、図４２で示されるように、第２〜４リフト部３Ｌｂ〜３Ｌｄのそれぞれが薄板Ｗ１を持ち上げる。また、図４２で示されるように、昇降機構４によって、第４支持部２ｄに対して保持部１を上昇させることで、カセットＣ１の上から１番目の一組の第１凸部１Ｐおよび第２凸部２Ｐによって、第４支持部２ｄで支持されていた薄板Ｗ１を支持させる。このとき、図１１で示されたように、カセットＣ１の上から１番目の一組の第１凸部１Ｐおよび第２凸部２Ｐによって、薄板Ｗ１が支持されている状態となる。
【００９６】
ステップＳＴ１３では、移動機構３が、基準部３１に対して可動部３２を第５方向（−Ｘ方向）に移動させる。これにより、第４支持部２ｄが第２領域Ａ２から第１領域Ａ１へ後退している後退状態に移行する。このとき、第２〜４リフト部３Ｌｂ〜３Ｌｄのそれぞれが薄板Ｗ１を持ち上げている状態が維持される。
【００９７】
ステップＳＴ１４では、薄板収納システム１００に薄板Ｗ１が搬入される。このとき、例えば、搬入機構７が第１リフト部３Ｌａ上に薄板Ｗ１を載置し、第１〜４リフト部３Ｌａ〜３Ｌｄが下降することで、第１支持部２ａに薄板Ｗ１を受け渡す。これにより、例えば、図４３で示されるように、第１〜４支持部２ａ〜２ｄのそれぞれによって薄板Ｗ１が支持されている状態となる。つまり、第４支持部２ｄに薄板Ｗ１を支持させる工程が実行される。
【００９８】
ステップＳＴ１５では、制御装置８が、薄板収納システム１００に搬入された薄板Ｗ１の枚数に応じたカウントｉに１を加算する。
【００９９】
ステップＳＴ１６では、吸引部６が、カセットＣ１に収納されている第１の薄板Ｗ１１を上方に吸い寄せながら、移動機構３が、基準部３１に対して可動部３２を第４方向（＋Ｘ方向）に移動させる。これにより、図４４で示されるように、第４支持部２ｄが第２領域Ａ２内へ進出している進出状態に移行する。このとき、図１１で示されたように、カセットＣ１で最も上方に位置している１枚目の薄板Ｗ１１において自重で下方向に湾曲している撓みが、図１２で示されたように、吸引部６による第１の薄板Ｗ１１の上方への吸い寄せによって低減され得る。これにより、例えば、図１３で示されたように、２枚目の第２の薄板Ｗ１２がカセットＣ１に収納される際に、１枚目の第１の薄板Ｗ１１と２枚目の第２の薄板Ｗ１２とが接触し難い。その結果、１枚目の第１の薄板Ｗ１１および２枚目の第２の薄板Ｗ１２の損傷が低減され得る。なお、このとき、例えば、第１〜４支持部２ａ〜２ｄのそれぞれは、吸着によって薄板Ｗ１を安定して支持することができる。
【０１００】
ステップＳＴ１７では、上記ステップＳＴ１２と同様に、移動機構３が第１〜４リフト部３Ｌａ〜３Ｌｄを上昇させ、昇降機構４が、保持部１を上昇させる。このとき、例えば、図４５で示されるように、第２〜４リフト部３Ｌｂ〜３Ｌｄのそれぞれが薄板Ｗ１を持ち上げる。また、図４５で示されるように、昇降機構４によって、第４支持部２ｄに対して保持部１を上昇させることで、カセットＣ１の上から２番目の組の第１凸部１Ｐおよび第２凸部２Ｐによって、第４支持部２ｄで支持されていた薄板Ｗ１を支持させる。このとき、図８で示されたように、カセットＣ１の上から１番目および２番目の組の第１凸部１Ｐおよび第２凸部２Ｐのそれぞれによって、薄板Ｗ１が支持されている状態となる。
【０１０１】
ステップＳＴ１８では、上記ステップＳＴ１３と同様に、移動機構３が、基準部３１に対して可動部３２を第５方向（−Ｘ方向）に移動させる。これにより、第４支持部２ｄが第２領域Ａ２から第１領域Ａ１へ後退している後退状態に移行する。このとき、第２〜４リフト部３Ｌｂ〜３Ｌｄのそれぞれが薄板Ｗ１を持ち上げている状態が維持される。
【０１０２】
ステップＳＴ１９では、上記ステップＳＴ１４と同様に、薄板収納システム１００に薄板Ｗ１が搬入される。このとき、例えば、搬入機構７が第１リフト部３Ｌａ上に薄板Ｗ１を載置し、第１〜４リフト部３Ｌａ〜３Ｌｄが下降することで、第１支持部２ａに薄板Ｗ１を受け渡す。これにより、例えば、図４６で示されるように、第１〜４支持部２ａ〜２ｄのそれぞれによって薄板Ｗ１が支持されている状態となる。つまり、第４支持部２ｄに薄板Ｗ１を支持させる工程（第２工程ともいう）が実行される。
【０１０３】
ステップＳＴ２０では、制御装置８が、薄板収納システム１００に搬入された薄板Ｗ１の枚数に応じたカウントｉに１を加算する。ステップＳＴ２０の処理が行われると、図１７のステップＳＴ２１に進む。
【０１０４】
ステップＳＴ２１では、ガス供給部５が、カセットＣ１内の第２領域Ａ２に向けてガスを供給しながら、移動機構３が、基準部３１に対して可動部３２を第４方向（＋Ｘ方向）に移動させる。ここでは、カセットＣ１における上方から、第１組目から第（Ｎ＋１）組目（Ｎは自然数）の第１凸部１Ｐおよび第２凸部２Ｐによって、第１の薄板Ｗ１１から第（Ｎ＋１）の薄板Ｗ１（Ｎ＋１）のそれぞれの第１端部および第２端部が支持されている。この状態で、移動機構３が、第４方向（＋Ｘ方向）に沿って、第４支持部２ｄを移動させることで、第４支持部２ｄで支持されている薄板Ｗ１が存在している領域を、第１領域Ａ１から第２領域Ａ２に変更する工程（第３工程ともいう）を実行する。このとき、移動機構３が、第４支持部２ｄが支持している薄板Ｗ１を、カセットＣ１における第（Ｎ＋１）組目の第１凸部１Ｐおよび第２凸部２Ｐと、第（Ｎ＋２）組目の第１凸部１Ｐおよび第２凸部２Ｐとの間に挿入させる。そして、この際に、図４７で示されるように、ガス供給部によって第Ｎの薄板Ｗ１Ｎと前記第（Ｎ＋１）の薄板Ｗ１（Ｎ＋１）との間隙Ｇｐ１にガスを供給する。このとき、図９で示されたように、第（Ｎ＋１）の薄板Ｗ１（Ｎ＋１）の下方への撓みが緩和されつつ、図１０で示されたように、上から（Ｎ＋２）番目の第（Ｎ＋２）の薄板Ｗ１（Ｎ＋２）がカセットＣ１に挿入される。これにより、第（Ｎ＋１）の薄板Ｗ１（Ｎ＋１）と第（Ｎ＋２）の薄板Ｗ１（Ｎ＋２）とが接触し難い。
【０１０５】
ステップＳＴ２２では、上記ステップＳＴ１２と同様に、移動機構３が第１〜４リフト部３Ｌａ〜３Ｌｄを上昇させ、昇降機構４が、保持部１を上昇させる。このとき、例えば、図４８で示されるように、第２〜４リフト部３Ｌｂ〜３Ｌｄのそれぞれが薄板Ｗ１を持ち上げる。また、図４８で示されるように、昇降機構４が、第４支持部２ｄに対して保持部１を上昇させることで、カセットＣ１の一組の第１凸部１Ｐおよび第２凸部２Ｐによって、第４支持部２ｄで支持されていた薄板Ｗ１を支持させる工程（第４工程ともいう）を実行する。ここでは、例えば、カセットＣ１の上から（Ｎ＋２）番目の一組の第１凸部１Ｐおよび第２凸部２Ｐによって、第４支持部２ｄで支持されていた薄板Ｗ１が支持される。このとき、カセットＣ１の上から順に１番目から（Ｎ＋２）番目のそれぞれの組の第１凸部１Ｐおよび第２凸部２Ｐによって、薄板Ｗ１が支持されている状態となる。
【０１０６】
ステップＳＴ２３では、上記ステップＳＴ１３と同様に、移動機構３が、基準部３１に対して可動部３２を第５方向（−Ｘ方向）に移動させる。これにより、第４支持部２ｄが第２領域Ａ２から第１領域Ａ１へ後退している後退状態に移行する。このとき、第２〜４リフト部３Ｌｂ〜３Ｌｄのそれぞれが薄板Ｗ１を持ち上げている状態が維持される。
【０１０７】
ステップＳＴ２４では、上記ステップＳＴ１４と同様に、薄板収納システム１００に薄板Ｗ１が搬入される。これにより、例えば、第１〜４支持部２ａ〜２ｄのそれぞれによって薄板Ｗ１が支持されている状態となる。つまり、第４支持部２ｄに薄板Ｗ１を支持させる工程が実行される。
【０１０８】
ステップＳＴ２５では、上記ステップＳＴ１５と同様に、制御装置８が、薄板収納システム１００に搬入された薄板Ｗ１の枚数に応じたカウントｉに１を加算する。
【０１０９】
ステップＳＴ２６では、制御装置８が、カウントｉが予め設定された数値Ｍであるか否か判定する。ここで、カウントｉが数値Ｍでなければ、ステップＳＴ２１に戻る。そして、カウントｉが数値Ｍになるまで、ステップＳＴ２１からステップＳＴ２６の動作を繰り返す。数値Ｍは、例えば、カセットＣ１に収納可能な薄板Ｗ１の数に設定される。ここで、カウントｉが数値Ｍであれば、ステップＳＴ２７に進む。
【０１１０】
ステップＳＴ２７では、上記ステップＳＴ２１と同様な動作を行う。ここでは、ステップＳＴ２７の処理が３回目の場合には、図１４および図４９で示されるように、カセットＣ１に対してＭ枚目の薄板Ｗ１が挿入される。
【０１１１】
ステップＳＴ２８では、上記ステップＳＴ２２と同様な動作を行う。但し、例えば、ステップＳＴ２８の動作が１回目の場合には、第２〜４リフト部３Ｌｂ〜３Ｌｄのそれぞれが薄板Ｗ１を持ち上げる。例えば、ステップＳＴ２８の動作が２回目の場合には、第３および第４リフト部３Ｌｃ，３Ｌｄのそれぞれが薄板Ｗ１を持ち上げる。例えば、ステップＳＴ２８の動作が３回目の場合には、第４リフト部３Ｌｄが薄板Ｗ１を持ち上げる。
【０１１２】
ステップＳＴ２９では、上記ステップＳＴ２３と同様な動作を行う。但し、例えば、ステップＳＴ２９の動作が１回目の場合には、第２〜４リフト部３Ｌｂ〜３Ｌｄのそれぞれが薄板Ｗ１を持ち上げている状態が維持される。例えば、ステップＳＴ２９の動作が２回目の場合には、第３および第４リフト部３Ｌｃ，３Ｌｄのそれぞれが薄板Ｗ１を持ち上げている状態が維持される。例えば、ステップＳＴ２９の動作が３回目の場合には、第４リフト部３Ｌｄが薄板Ｗ１を持ち上げている状態が維持される。
【０１１３】
ステップＳＴ３０では、上記ステップＳＴ２６と同様な動作を行う。
【０１１４】
ステップＳＴ３１では、制御装置８が、カウントｉが数値（Ｍ＋３）であるか否か判定する。ここで、カウントｉが数値（Ｍ＋３）でなければ、ステップＳＴ２７に戻る。そして、カウントｉが数値（Ｍ＋３）になるまで、ステップＳＴ２７からステップＳＴ３１の動作を繰り返す。ここで、カウントｉが数値（Ｍ＋３）であれば、本動作フローが終了する。
【０１１５】
このようにして、例えば、カセットＣ１に対して上方から順に複数枚（ここでは、Ｍ枚）の薄板Ｗ１が収納される。そして、この際に、３枚目以降の（Ｎ＋２）枚目（Ｎは自然数）の薄板Ｗ１がカセットＣ１に挿入される際に、カセットＣ１に既に収納された第Ｎの薄板Ｗ１Ｎと第（Ｎ＋１）の薄板Ｗ１（Ｎ＋１）との間隙Ｇｐ１にガスが供給される。これにより、例えば、第Ｎの薄板Ｗ１Ｎと第（Ｎ＋１）の薄板Ｗ１（Ｎ＋１）との間隙Ｇｐ１における圧力がベルヌーイの効果によって低下し得る。このため、例えば、第（Ｎ＋１）の薄板Ｗ１（Ｎ＋１）において自重で下方向に湾曲している撓みが低減され得る。その結果、例えば、（Ｎ＋２）枚目の薄板Ｗ１をカセットＣ１に収納する際に、第（Ｎ＋１）の薄板Ｗ１（Ｎ＋１）と第（Ｎ＋２）の薄板Ｗ１（Ｎ＋２）とが接触し難い。したがって、複数枚の薄板Ｗ１がカセットＣ１に高密度で収納される際に、薄板Ｗ１の損傷が低減され得る。
【０１１６】
＜２−３．第１の実施形態のまとめ＞
第１の実施形態に係る薄板収納システム１００では、例えば、カセットＣ１に対して上方から順に複数枚の薄板Ｗ１が収納される。このとき、３枚目以降の（Ｎ＋２）枚目の薄板Ｗ１がカセットＣ１に挿入される際に、カセットＣ１に既に収納されたＮ枚目の第Ｎの薄板Ｗ１Ｎと（Ｎ＋１）枚目の第（Ｎ＋１）の薄板Ｗ１（Ｎ＋１）との間隙Ｇｐ１にガスが供給される。これにより、例えば、第Ｎの薄板Ｗ１Ｎと第（Ｎ＋１）の薄板Ｗ１（Ｎ＋１）との間隙Ｇｐ１における圧力がベルヌーイの効果によって低下し得る。このため、例えば、第（Ｎ＋１）の薄板Ｗ１（Ｎ＋１）において自重で下方向に湾曲している撓みが低減され得る。その結果、例えば、（Ｎ＋１）枚目の第（Ｎ＋１）の薄板Ｗ１（Ｎ＋１）と（Ｎ＋２）枚目の第（Ｎ＋２）の薄板Ｗ１（Ｎ＋２）とが接触し難い。したがって、複数枚の薄板Ｗ１がカセットＣ１に高密度で収納される際に、薄板Ｗ１の損傷が低減され得る。
【０１１７】
＜３．他の実施形態＞
本開示は上記の第１の実施形態に限定されるものではなく、本開示の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更、改良等が可能である。
【０１１８】
＜３−１．第２の実施形態＞
上記第１の実施形態において、例えば、図５０で示されるように、ガス供給部５が２つ以上のノズル５ｎを有していてもよい。この場合、例えば、２つのノズル５ｎによって、間隙Ｇｐ１のうちの第２方向（−Ｙ方向）における中央部を挟む両側の部分にガスがそれぞれ供給されれば、薄板Ｗ１のうちの下方に撓んでいる部分が上方に持ち上げられ得る。
【０１１９】
＜３−２．第３の実施形態＞
上記第１の実施形態において、例えば、図５１で示されるように、薄板収納システム１００によって複数枚の薄板Ｗ１が収納されたカセットＣ１を用いて、カセットＣ１に収納された複数枚の薄板Ｗ１に対して一括処理を施す部分（薄板処理部ともいう）２００が加えられてもよい。この場合、薄板収納システム１００と、薄板処理部２００とを備えるシステム（薄板処理システムともいう）７００が実現され得る。このような構成が採用されれば、例えば、損傷が低減された複数枚の薄板Ｗ１が高密度で収納されたカセットＣ１を用いて一括処理が行われる。これにより、所望の処理が施された所望の状態の複数枚の薄板Ｗ１が効率良く取得され得る。ここで、一括処理（バッチ処理）には、例えば、薄板Ｗ１上への薄膜の堆積処理、薄板Ｗ１の表面における酸化還元処理、薄板Ｗ１の表層に対する元素の拡散処理、薄板Ｗ１の表面の洗浄処理および薄板Ｗ１のエッチング液への浸漬処理等が含まれ得る。
【０１２０】
＜３−３．その他＞
上記各実施形態において、例えば、３枚目以降の（Ｎ＋２）枚目の薄板Ｗ１がカセットＣ１に挿入される際に、局所的な排気によって、カセットＣ１に収納された第Ｎの薄板Ｗ１Ｎと第（Ｎ＋１）の薄板Ｗ１（Ｎ＋１）との間隙Ｇｐ１にガスが引き入れられてもよい。この場合にも、間隙Ｇｐ１にガスが供給される。そして、間隙Ｇｐ１におけるガスの流速が高められ得る。このため、例えば、第Ｎの薄板Ｗ１Ｎと第（Ｎ＋１）の薄板Ｗ１（Ｎ＋１）との間隙Ｇｐ１における圧力がベルヌーイの効果によって低下し得る。
【０１２１】
上記各実施形態において、例えば、各支持部２が、搬送用のロボットアーム等で構成されてもよい。
【０１２２】
上記各実施形態において、例えば、移動機構３が、第４方向（＋Ｘ方向）および第５方向（−Ｘ方向）に沿って、保持部１および支持部２の少なくとも一方を移動させることが可能であってもよい。この場合にも、移動機構３は、保持部１に保持されているカセットＣ１の外側の第１領域Ａ１およびカセットＣ１の内側の第２領域Ａ２の何れか一方の領域に、第４支持部２ｄを位置させることができる。
【０１２３】
上記各実施形態において、例えば、リフト部３Ｌｂ〜３Ｌｄの高さを固定して、可動部３２を±Ｚ方向にも移動可能な構造にすることによって、支持部２を±Ｚ方向に沿って昇降させてもよい。つまり、例えば、昇降機構４が、少なくとも支持部２に対して保持部１を相対的に上昇させることができてもよい。
【０１２４】
このような態様が採用される場合は、例えば、第４支持部２ｄに薄板Ｗ１が支持された状態で、第４支持部２ｄがカセットＣ１内に挿入されて、第１〜４凸部１Ｐ〜４Ｐの直ぐ上方に位置する間隙に薄板Ｗ１が挿入されてもよい。この場合には、第４支持部２ｄによる薄板Ｗ１の吸着が解除された状態で、支持部２を−Ｚ方向に沿って降ろすことによって、薄板Ｗ１は第１〜４凸部１Ｐ〜４Ｐに支持される。その後、第４支持部２ｄが後退状態に移行した後（または、後退状態に移行すると同時に）、カセットＣ１（保持部１）を＋Ｚ方向に上昇させてもよい。例えば、支持部２が第１領域Ａ１に達してから、カセットＣ１（保持部１）を上昇させてもよい。
【０１２５】
上記各実施形態において、例えば、ノズル５ｎは、楕円筒がＬ字状に湾曲している形状を有するものであってもよいし、ＸＹ平面に略平行なスリット状のガスの吐出口を有するものであってもよい。
【０１２６】
なお、上記各実施形態をそれぞれ構成する全部または一部を、適宜、矛盾しない範囲で組み合わせ可能であることは、いうまでもない。
【符号の説明】
【０１２７】
１  保持部
１Ｐ〜４Ｐ  第１〜４凸部
２  支持部
２ａ〜２ｄ  第１〜４支持部
３  移動機構
３Ｌａ〜３Ｌｄ  第１〜４リフト部
４  昇降機構
５  ガス供給部
５ｎ  ノズル
６  吸引部
７  搬入機構
８  制御装置
１００  薄板収納システム
２００  薄板処理部
７００  薄板処理システム
Ａ１  第１領域
Ａ２  第２領域
Ｃ１  カセット
Ｃａ１  中央部
Ｇｐ１  間隙
Ｏｂ１  下方開口部
Ｏｕ１  上方開口部
Ｐｓ１  第１側部
Ｐｓ２  第２側部
Ｗ１  薄板
Ｗ１Ｎ  第Ｎの薄板
【図１】
2018037467.tif 000003
【図２】
2018037467.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【図４２】
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【図４３】
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【図４４】
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【図４５】
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【図４６】
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【図４７】
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【図４８】
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【図４９】
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【図５０】
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【図５１】
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