(57)【要約】【課題】非磁性層と磁性層との合計厚みが０．６０μｍ以下の磁気テープであって、低温高湿環境において走行を繰り返しても電磁変換特性の低下が少ない磁気テープの提供。【解決手段】非磁性層と磁性層との合計厚みは、０．６０μｍ以下、磁性層は研磨剤および脂肪酸エステルを含み、ＳＥＭを用いて行われる平面観察によって磁性層の表面の４．３μｍ×６．３μｍ角の領域で確認される研磨剤の平面視最大面積の上記領域の総面積に対する割合は０．０２％以上０．０６％未満、磁気テープを真空加熱する前および後にそれぞれ磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は０ｎｍ超かつ７．０ｎｍ以下、真空加熱前後のスペーシングの差分は０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である磁気テープ。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体上に非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を有し、前記非磁性層上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有する磁気テープであって、
前記非磁性層と前記磁性層との合計厚みは、０．６０μｍ以下であり、
前記磁性層は研磨剤および脂肪酸エステルを含み、
走査型電子顕微鏡を用いて行われる平面観察によって前記磁性層の表面の４．３μｍ×６．３μｍ角の領域で確認される前記研磨剤の平面視最大面積の前記領域の総面積に対する割合は、０．０２％以上０．０６％未満であり、
前記磁気テープを真空加熱する前に前記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、０ｎｍ超かつ７．０ｎｍ以下であり、
前記磁気テープを真空加熱した後に前記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、０ｎｍ超かつ７．０ｎｍ以下であり、かつ
前記磁気テープを真空加熱した後に前記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳａｆｔｅｒと、前記磁気テープを真空加熱する前に前記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳｂｅｆｏｒｅとの差分、Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ、は、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である、磁気テープ。
【請求項２】
走査型電子顕微鏡を用いて行われる平面観察によって前記磁性層の表面の４．３μｍ×６．３μｍ角の領域で確認される前記研磨剤の平面視最大面積の前記領域の総面積に対する割合は、０．０２％以上０．０５％以下である、請求項１に記載の磁気テープ。
【請求項３】
前記非磁性層と前記磁性層との合計厚みは、０．２０μｍ以上０．６０μｍ以下である、請求項１または２に記載の磁気テープ。
【請求項４】
前記磁気テープを真空加熱する前に前記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、３．０ｎｍ以上７．０ｎｍ以下である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気テープ。
【請求項５】
前記磁気テープを真空加熱した後に前記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、３．０ｎｍ以上７．０ｎｍ以下である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の磁気テープ。
【請求項６】
前記差分、Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ、は、２．０ｎｍ以上８．０ｎｍ以下である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の磁気テープ。
【請求項７】
前記研磨剤のＢＥＴ比表面積は、１４〜４０ｍ２／ｇの範囲である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の磁気テープ。
【請求項８】
前記研磨剤はアルミナ粉末である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の磁気テープ。
【請求項９】
前記磁性層は、フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族炭化水素化合物を含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の磁気テープ。
【請求項１０】
前記強磁性粉末は、強磁性六方晶フェライト粉末である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の磁気テープ。
【請求項１１】
前記強磁性六方晶フェライト粉末は、Ａｌを含む、請求項１０に記載の磁気テープ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気テープに関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録媒体にはテープ状のものとディスク状のものがあり、データバックアップ等のデータストレージ用途には、テープ状の磁気記録媒体、即ち磁気テープが主に用いられている。磁気テープへの情報の記録および／または再生は、通常、磁気テープが収容された磁気テープカートリッジをドライブに装着し、磁気テープをドライブ内で走行させて磁気テープ表面（磁性層表面）と磁気ヘッドとを接触させ摺動させることにより行われる。以下において、磁気テープを単に「テープ」ともいい、磁気ヘッドを単に「ヘッド」ともいう。
【０００３】
例えば磁気テープに記録された情報を連続的または断続的に繰り返し再生するために、磁気テープをドライブ内で繰り返し走行（以下、単に「繰り返し走行」とも記載する。）させることが行われる。このような繰り返し走行における電磁変換特性の低下を抑制することは、データストレージ用途における磁気テープの信頼性を高めるうえで望ましい。繰り返し走行における電磁変換特性の低下が少ない磁気テープは、ドライブ内で連続的または断続的に走行を繰り返しても優れた電磁変換特性を発揮し続けることができるからである。
【０００４】
繰り返し走行によって電磁変換特性が低下する原因としては、磁性層表面とヘッドとの距離が広がる現象（「スペーシングロス」と呼ばれる。）が発生することが挙げられる。このスペーシングロスの原因としては、繰り返し走行において磁性層表面とヘッドとが摺動し続ける間にテープ由来の異物がヘッドに付着すること、即ちヘッド付着物の発生が挙げられる。ヘッド付着物の発生に対する対策としては、従来より、ヘッド付着物を除去する機能を磁性層表面に持たせるために、磁性層に研磨剤を含有させることが行われてきた（例えば特許文献１参照）。以下において、磁性層表面におけるヘッド付着物を除去する機能を、「磁性層表面の磨耗性」または単に「磨耗性」と記載する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１４−１７９１４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１には、同文献に記載の磁気テープは、優れた電磁変換特性を発揮できることが記載されている。このような優れた電磁変換特性を発揮できる磁気テープのデータストレージ用途における信頼性を高めるためには、繰り返し走行における電磁変換特性の低下を抑制することが望ましい。そこで本発明者らは、磁気テープの繰り返し走行における電磁変換特性の低下を抑制するための手段を見出すために検討を重ねた。かかる検討の中で、本発明者らは、ヘッド付着物の発生のみがスペーシングロスの原因になり得るのではなく、ヘッドの部分的な削れもスペーシングロスの原因になり得ることに着目した。詳しくは、次の通りである。磁性層表面の磨耗性を高くすることによって、ヘッド付着物を原因とするスペーシングロスを低減することはできる。しかし、磁性層表面の磨耗性を高くするほど磁性層表面との摺動によりヘッドが部分的に削れ易くなる。ヘッドの部分的な削れが生じると、削れた部分では磁性層表面とヘッドとの距離が広がってしまう。このことも、スペーシングロスの原因となり得るのである。
【０００７】
磁性層表面の磨耗性に関しては、特許文献１に記載されているように磁性層において研磨剤を微細な状態で存在させるほど、磨耗性は低下する傾向がある。磨耗性の低下によってヘッドの部分的な削れは抑制できるものの、ヘッド付着物は除去され難くなる。このようにヘッド付着物の低減とヘッドの部分的な削れの抑制はトレードオフの関係にある。
【０００８】
ところで、磁気テープについては、磁気テープカートリッジ１巻あたりの記録容量を高めるために、磁気テープの総厚を薄くして（即ち、磁気テープを薄型化して）磁気テープカートリッジ１巻に収められるテープ全長を長くすることが望ましい。磁気テープの薄型化のための手段の１つとして、非磁性支持体上に非磁性層と磁性層とをこの順に有する磁気テープについては、非磁性層と磁性層との合計厚みを薄くすることが挙げられる。しかるに、本発明者らの検討によって、非磁性層と磁性層との合計厚みを０．６０μｍ以下に薄くした磁気テープでは、非磁性層と磁性層との合計厚みが０．６０μｍ超の磁気テープと比べて、上記のトレードオフの関係を克服して繰り返し走行における電磁変換特性の低下を抑制することが、低温高湿環境では困難であることが判明した。以下において、電磁変換特性の低下とは、特記しない限り低温高湿環境における電磁変換特性の低下をいうものとする。低温高湿環境とは、例えば雰囲気温度１０〜２０℃かつ相対湿度７０〜９０％の環境であることができる。磁気テープは低温高湿環境でも使用され得るため、かかる環境において繰り返し走行における電磁変換特性の低下を抑制することが望まれる。
【０００９】
そこで本発明の目的は、非磁性層と磁性層との合計厚みが０．６０μｍ以下の磁気テープであって、低温高湿環境において走行を繰り返しても電磁変換特性の低下が少ない磁気テープを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一態様は、
非磁性支持体上に非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を有し、上記非磁性層上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有する磁気テープであって、
上記非磁性層と上記磁性層との合計厚みは、０．６０μｍ以下であり、
上記磁性層は研磨剤および脂肪酸エステルを含み、
走査型電子顕微鏡を用いて行われる平面観察によって上記磁性層の表面の４．３μｍ×６．３μｍ角の領域で確認される上記研磨剤の平面視最大面積の上記領域の総面積に対する割合は、０．０２％以上０．０６％未満であり、
上記磁気テープを真空加熱する前に上記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、０ｎｍ超かつ７．０ｎｍ以下であり、
上記磁気テープを真空加熱した後に上記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、０ｎｍ超かつ７．０ｎｍ以下であり、かつ
上記磁気テープを真空加熱した後に上記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳａｆｔｅｒと、上記磁気テープを真空加熱する前に上記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳｂｅｆｏｒｅとの差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）は、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である、磁気テープ、
に関する。
【００１１】
上記磁気テープは、磁性層に研磨剤を含む。そして研磨剤は磁性層において、走査型電子顕微鏡（Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ；ＳＥＭ）を用いて行われる平面観察によって磁性層の表面の４．３μｍ×６．３μｍ角の領域で確認される研磨剤の平面視最大面積の割合が、上記領域の総面積（１００％）に対して０．０２％以上０．０６％未満である状態で存在する。上記領域の総面積に対する上記研磨剤の平面視最大面積の割合（以下、「研磨剤の平面視最大面積割合」または単に「割合」とも記載する。）の測定方法の詳細は、後述する。
【００１２】
以下において、磁気テープを真空加熱する前に磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅（Ｆｕｌｌ  Ｗｉｄｔｈ  ａｔ  Ｈａｌｆ  Ｍａｘｉｍｕｍ；ＦＷＨＭ）を「ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅ」とも記載し、磁気テープを真空加熱した後に磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅を「ＦＷＨＭａｆｔｅｒ」とも記載する。また、磁気テープを真空加熱した後に磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳａｆｔｅｒと、磁気テープを真空加熱する前に磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳｂｅｆｏｒｅとの差分を、「差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）」とも記載する。ＦＷＨＭａｆｔｅｒ、および差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）を求めるためのスペーシングＳａｆｔｅｒは、磁気テープを真空加熱した後に求められる値である。本発明および本明細書において、磁気テープの「真空加熱」とは、磁気テープを２００Ｐａ以上０．０１ＭＰａ以下の圧力かつ７０〜９０℃の雰囲気温度の環境下に２４時間保持することにより行われる。
本発明および本明細書において、磁気テープの磁性層表面において光学干渉法により測定されるスペーシングとは、以下の方法により測定される値とする。
磁気テープと透明な板状部材（例えばガラス板等）を、磁気テープの磁性層表面が透明な板状部材と対向するように重ね合わせた状態で、磁気テープの磁性層側とは反対側から５．０５×１０４Ｎ／ｍ（０．５ａｔｍ）の圧力で押圧部材を押しつける。この状態で、透明な板状部材を介して磁気テープの磁性層表面に光を照射し（照射領域：１５００００〜２０００００μｍ２）、磁気テープの磁性層表面からの反射光と透明な板状部材の磁気テープ側表面からの反射光との光路差によって発生する干渉光の強度（例えば干渉縞画像のコントラスト）に基づき、磁気テープの磁性層表面と透明な板状部材の磁気テープ側表面との間のスペーシング（距離）を求める。ここで照射される光は特に限定されるものではない。照射される光が、複数波長の光を含む白色光のように、比較的広範な波長範囲にわたり発光波長を有する光の場合には、透明な板状部材と反射光を受光する受光部との間に、干渉フィルタ等の特定波長または特定波長域以外の光を選択的にカットする機能を有する部材を配置し、反射光の中の一部の波長または一部の波長域の光を選択的に受光部に入射させる。照射させる光が単一の発光ピークを有する光（いわゆる単色光）の場合には、上記の部材は用いなくてもよい。受光部に入射させる光の波長は、一例として、例えば５００〜７００ｎｍの範囲にあることができる。ただし、受光部に入射させる光の波長は、上記範囲に限定されるものではない。また、透明な板状部材は、この部材を介して磁気テープに光を照射し干渉光が得られる程度に、照射される光を透過する透明性を有する部材であればよい。
以上の測定は、例えばＭｉｃｒｏ  Ｐｈｙｓｉｃｓ社製Ｔａｐｅ  Ｓｐａｃｉｎｇ  Ａｎａｌｙｚｅｒ等の市販のテープスペーシングアナライザー（ＴＳＡ；Ｔａｐｅ  Ｓｐａｃｉｎｇ  Ａｎａｌｙｚｅｒ）を用いて行うことができる。実施例におけるスペーシング測定は、Ｍｉｃｒｏ  Ｐｈｙｓｉｃｓ社製Ｔａｐｅ  Ｓｐａｃｉｎｇ  Ａｎａｌｙｚｅｒを用いて実施した。
また、本発明および本明細書におけるスペーシング分布の半値全幅とは、上記スペーシングの測定により得られる干渉縞画像を３０００００ポイントに分割して各ポイントのスペーシング（磁気テープの磁性層表面と透明な板状部材の磁気テープ側表面との間の距離）を求め、これをヒストグラムとし、このヒストグラムをガウス分布でフィッティングしたときの半値全幅（ＦＷＨＭ；Ｆｕｌｌ  Ｗｉｄｔｈ  ａｔ  Ｈａｌｆ  Ｍａｘｉｍｕｍ）である。
また、差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）は、上記３０００００ポイントにおける真空加熱後の最頻値から真空加熱前の最頻値を差し引いた値をいうものとする。
【００１３】
一態様では、走査型電子顕微鏡を用いて行われる平面観察によって上記磁性層の表面の４．３μｍ×６．３μｍ角の領域で確認される上記研磨剤の平面視最大面積の上記領域の総面積に対する割合は、０．０２％以上０．０５％以下である。
【００１４】
一態様では、上記非磁性層と上記磁性層との合計厚みは、０．２０μｍ以上０．６０μｍ以下である。
【００１５】
一態様では、ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅは、３．０ｎｍ以上７．０ｎｍ以下である。
【００１６】
一態様では、ＦＷＨＭａｆｔｅｒは、３．０ｎｍ以上７．０ｎｍ以下である。
【００１７】
一態様では、差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）は、２．０ｎｍ以上８．０ｎｍ以下である。
【００１８】
一態様では、上記研磨剤のＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ−Ｅｍｍｅｔｔ−Ｔｅｌｌｅｒ）比表面積は、１４〜４０ｍ２／ｇの範囲である。
【００１９】
一態様では、上記研磨剤は、アルミナ粉末である。
【００２０】
一態様では、上記磁性層は、フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族炭化水素化合物を含む。
【００２１】
一態様では、上記強磁性粉末は、強磁性六方晶フェライト粉末である。
【００２２】
一態様では、上記強磁性六方晶フェライト粉末は、Ａｌを含む。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の一態様によれば、非磁性層と磁性層との合計厚みが０．６０μｍ以下であって、低温高湿環境での繰り返し走行における電磁変換特性の低下が少ない磁気テープを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】実施例で用いた振動付与装置の概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
本発明の一態様は、非磁性支持体上に非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を有し、上記非磁性層上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有する磁気テープであって、上記非磁性層と上記磁性層との合計厚みは０．６０μｍ以下であり、上記磁性層は研磨剤および脂肪酸エステルを含み、走査型電子顕微鏡を用いて行われる平面観察によって上記磁性層の表面の４．３μｍ×６．３μｍ角の領域で確認される上記研磨剤の平面視最大面積の上記領域の総面積に対する割合は０．０２％以上０．０６％未満であり、上記磁気テープを真空加熱する前に上記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅（ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅ）は０ｎｍ超かつ７．０ｎｍ以下であり、上記磁気テープを真空加熱した後に上記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅（ＦＷＨＭａｆｔｅｒ）は０ｎｍ超かつ７．０ｎｍ以下であり、かつ上記磁気テープを真空加熱した後に上記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳａｆｔｅｒと、上記磁気テープを真空加熱する前に上記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳｂｅｆｏｒｅとの差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）は０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である磁気テープに関する。
【００２６】
以下の記載には、本発明者らの推察が含まれる。かかる推察によって本発明は何ら限定されるものではない。
【００２７】
上記磁気テープに関する本発明者らの推察は、以下の通りである。
（１）先に記載したように、非磁性層と磁性層との合計厚みを０．６０μｍ以下に薄くした磁気テープでは、非磁性層と磁性層との合計厚みが０．６０μｍ超の磁気テープと比べて、繰り返し走行における電磁変換特性の低下を抑制することが低温高湿環境では困難であることが判明した。その理由としては、非磁性層と磁性層との合計厚みが薄くなることにより磁性層表面とヘッドとの接触状態が変化することが考えられる。この接触状態の変化により、磁性層に存在する研磨剤によってヘッドが部分的に削られ易くなることが、スペーシングロスの原因の１つではないかと本発明者らは推察している。この点に関して、磁性層における研磨剤の存在状態が詳細を後述する割合を満たす状態にあることは、磁性層に研磨剤が微細な状態で存在することを意味すると本発明者らは考えている。そしてこのことが、繰り返し走行におけるヘッドの部分的な削れを抑制することに寄与すると、本発明者らは推察している。
（２）ただし、単に磁性層に研磨剤を微細に存在させるのみでは、磁性層表面の磨耗性は低下してしまう。即ち、磁性層表面がヘッド付着物を除去する機能は低下してしまう。この点に関して本発明者らは、テープ由来の異物の発生を抑制することにより、磁性層に微細な状態で研磨剤が存在するとしても、ヘッド付着物を原因とするスペーシングロスが発生することを抑制するために検討を重ねた結果、ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅ、ＦＷＨＭａｆｔｅｒおよび差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）をそれぞれ上記範囲とすることに至った。より詳しくは後述する。
【００２８】
以上のようにヘッドの部分的な削れの抑制とヘッド付着物の低減とを両立することによりスペーシングロスの低減が可能になる結果、非磁性層と磁性層との合計厚みを０．６０μｍ以下に薄くした磁気テープにおいて繰り返し走行における電磁変換特性の低下を抑制することができると、本発明者らは推察している。
ただし上記推察に、本発明は何ら限定されるものではない。
【００２９】
以下、上記磁気テープについて、更に詳細に説明する。
【００３０】
本発明および本明細書において、「磁性層（の）表面」とは、磁気テープの磁性層側表面と同義である。また、本発明および本明細書において、「強磁性粉末」とは、複数の強磁性粒子の集合を意味するものとする。「集合」とは、集合を構成する粒子が直接接触している態様に限定されず、結合剤、添加剤等が、粒子同士の間に介在している態様も包含される。以上の点は、本発明および本明細書における非磁性粉末等の各種粉末についても同様とする。なお粒子との語が、粉末を表すために用いられることもある。
【００３１】
［非磁性層と磁性層との合計厚み］
上記磁気テープの非磁性層と磁性層との合計厚みは、磁気テープの薄型化の観点から、０．６０μｍ以下であり、好ましくは０．５０μｍ以下である。また、非磁性層と磁性層との合計厚みは、例えば０．１０μｍ以上、または０．２０μｍ以上であることができる。
非磁性層の厚み、磁性層の厚み等の各種厚みについて、詳細は後述する。磁気テープの各層および非磁性支持体の厚みは、公知の膜厚測定法により求めることができる。一例として、例えば、磁気テープの厚み方向の断面を、イオンビーム、ミクロトーム等の公知の手法により露出させた後、露出した断面において走査型電子顕微鏡を用いて断面観察を行う。断面観察において厚み方向の１箇所において求められた厚み、または無作為に抽出した２箇所以上の複数箇所、例えば２箇所、において求められた厚みの算術平均として、各種厚みを求めることができる。または、各層の厚みは、製造条件から算出される設計厚みとして求めてもよい。
【００３２】
［磁性層における研磨剤の存在状態］
上記磁気テープは、磁性層に研磨剤を含む。そして研磨剤は磁性層において、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて行われる平面観察によって磁性層の表面の４．３μｍ×６．３μｍ角の領域で確認される研磨剤の平面視最大面積の割合（研磨剤の平面視最大面積割合）が、上記領域の総面積（１００％）に対して０．０２％以上０．０６％未満である状態で存在する。上記割合が０．０２％以上の状態で研磨剤が磁性層に存在することがヘッド付着物除去に寄与し、上記割合が０．０６％未満の状態で研磨剤が磁性層に存在することがヘッドの部分的な削れを抑制することに寄与すると、本発明者らは推察している。そして、これらによってスペーシングロスの発生を抑制できることが、低温高湿環境での繰り返し走行における電磁変換特性の低下を抑制することに寄与すると、本発明者らは考えている。上記割合は、０．０２％以上０．０５％以下であることが好ましく、０．０２％以上０．０４％以下であることがより好ましい。
【００３３】
非磁性層と磁性層との合計厚みが０．６０μｍ以下の磁気テープでは、上記割合が０．０２％以上０．０６％未満の状態で研磨剤を磁性層に存在させることに加えて、ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅ、ＦＷＨＭａｆｔｅｒおよび差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）をそれぞれ上記範囲とすることが、低温高湿環境での繰り返し走行における電磁変換特性の低下を抑制することにつながる。この点について詳細は更に後述する。
【００３４】
＜測定方法＞
上記の研磨剤の平面視最大面積は、走査型電子顕微鏡を用いて行われる平面観察によって求められる。走査型電子顕微鏡としては、電界放出型（Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ；ＦＥ）の走査型電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ）が使用される。ＦＥ−ＳＥＭを、加速電圧５ｋＶ、作動距離（ｗｏｒｋｉｎｇ  ｄｉｓｔａｎｃｅ；Ｗ．Ｄ．）８ｍｍおよび撮影倍率２万倍の条件で用いて、磁性層の表面を上方から平面観察して撮像した走査型電子顕微鏡画像（ＳＥＭ画像）を画像解析することにより、上記の研磨剤の平面視最大面積を求める。求められた平面視最大面積から、上記割合を算出する。具体的手順は、以下の通りである。
１．ＳＥＭ画像の取得
撮像前の試料コーティング処理なしにて、加速電圧を５ｋＶ、作動距離（ｗｏｒｋｉｎｇ  ｄｉｓｔａｎｃｅ；Ｗ．Ｄ．）を８ｍｍ、撮像倍率を２万倍に設定し、２次電子像としてＳＥＭ画像を取得する。走査型電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ）としては、例えば日立社製ＦＥ−ＳＥＭ  Ｓ４８００を使用することができる。後述の実施例および比較例の値は、ＦＥ−ＳＥＭとして、日立社製ＦＥ−ＳＥＭ  Ｓ４８００を、プローブ電流をＮｏｒｍａｌに設定して用いて得られた値である。
２．画像解析
画像解析ソフトとして、三谷商事株式会社製ＷｉｎＲＯＯＦを用いて以下の手順により上記１．で取得したＳＥＭ画像の画像解析を実施する。下記の各部分の面積は、ｐｉｘｅｌを単位とする値で求められる。
（１）上記１．で取得したＳＥＭ画像の画像データ（ＳＥＭ（２０Ｋ）ｊｐｇ画像）を、ＷｉｎＲＯＯＦにドラッグおよびドロップする。
（２）画像上、倍率およびスケールが表示されている部分を除き、４．３μｍ×６．３μｍ角の領域を、解析領域として選択する。
（３）解析領域において画像を２値化処理する。具体的には、下限値として１５０諧調、上限値として２５５諧調を選択し、これら下限値および上限値を閾値とする２値化処理を実行する。
（４）２値化処理により、解析領域上の白く光る各部分の面積が求められる。具体的には、画像解析ソフトＷｉｎＲＯＯＦにおいて、計測→形状特徴→面積、のコマンドを実行する。
（５）解析領域の総面積（４．３μｍ×６．３μｍ）を１００％として、この総面積に対する（４）で求めた各部分の面積の割合を算出し、各部分の面積の割合の最大値を求める。
（６）上記（２）〜（５）の手順を、解析領域の位置を変えて４回実施する（Ｎ＝４）。
（７）４回の実施においてそれぞれ上記（５）で求められた最大値の算術平均（即ち４つの最大値の算術平均）を算出し、算出された値を研磨剤の平面視最大面積とする。こうして求められた平面視最大面積が解析領域の総面積に占める割合を算出し、研磨剤の平面視最大面積割合とする。
【００３５】
＜調整方法＞
研磨剤を磁性層において微細な状態で存在させることにより、上記割合が０．０２％以上０．０６％未満の状態で磁性層に研磨剤が存在している状態を実現することができる。研磨剤を磁性層において微細な状態で存在させるためには、粒子サイズの小さな研磨剤を使用し、研磨剤の凝集を抑制し、かつ偏在させずに均一に磁性層に分散させることが好ましい。そのための手段の一つとしては、磁性層形成用組成物調製時の研磨剤の分散条件を強化することが挙げられる。例えば、研磨剤を強磁性粉末と別分散することは、分散条件強化の一態様である。別分散とは、より詳しくは、研磨剤および溶媒を含む研磨剤液（但し、強磁性粉末を実質的に含まない）を強磁性粉末、溶媒および結合剤を含む磁性液と混合する工程を経て磁性層形成用組成物を調製する方法である。このように研磨剤と強磁性粉末とを別分散した後に混合することにより、磁性層形成用組成物における研磨剤の分散性を高めることができる。上記の「強磁性粉末を実質的に含まない」とは、研磨剤液の構成成分として強磁性粉末を添加しないことを意味するものであって、意図せず混入した不純物として微量の強磁性粉末が存在することは許容されるものとする。また、別分散のほかに、または別分散とともに、サイズの小さな分散メディアの使用（例えばビーズ分散における分散ビーズの小径化）、分散機における分散メディアの高充填化、長時間の分散処理等の手段を任意に組み合わせることにより、分散条件を強化することができる。また、磁性層形成用組成物の調製においてフィルタろ過を行う場合には、孔径の小さなフィルタを用いるほど研磨剤を磁性層において微細な状態で存在させやすくなる傾向がある。
【００３６】
（分散剤）
更に、研磨剤の分散性向上のための分散剤の使用も、研磨剤の分散条件強化の一態様として挙げることができる。ここで研磨剤の分散性向上のための分散剤とは、この剤が存在しない状態と比べて、磁性層形成用組成物および／または研磨液における研磨剤の分散性を高めることができる成分をいう。かかる分散剤として機能し得る化合物としては、フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族炭化水素化合物を挙げることができる。「フェノール性ヒドロキシ基」とは、芳香環に直接結合したヒドロキシ基をいう。上記芳香族炭化水素化合物に含まれる芳香環は、単環であってもよく、多環構造であってもよく、縮合環であってもよい。研磨剤の分散性向上の観点からは、ベンゼン環またはナフタレン環を含む芳香族炭化水素化合物が好ましい。また、上記芳香族炭化水素化合物は、フェノール性ヒドロキシ基以外の置換基を有していてもよい。フェノール性ヒドロキシ基以外の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、ニトロ基、ニトロソ基、ヒドロキシアルキル基等を挙げることができ、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、ヒドロキシアルキル基が好ましい。上記芳香族炭化水素化合物１分子中に含まれるフェノール性ヒドロキシ基は、１つであってもよく、２つ、３つ、またはそれ以上であってもよい。
【００３７】
フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族炭化水素化合物の好ましい一態様としては、下記一般式１００で表される化合物を挙げることができる。
【００３８】
【化１】
2018170063.tif 000002
［一般式１００中、Ｘ１０１〜Ｘ１０８のうちの２つはヒドロキシ基であり、他の６つはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。］
【００３９】
一般式１００で表される化合物において、２つのヒドロキシ基（フェノール性ヒドロキシ基）の置換位置は特に限定されるものではない。
【００４０】
一般式１００で表される化合物は、Ｘ１０１〜Ｘ１０８のうちの２つがヒドロキシ基（フェノール性ヒドロキシ基）であり、他の６つはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。また、Ｘ１０１〜Ｘ１０８のうち、２つのヒドロキシ基以外の部分がすべて水素原子であってもよく、一部またはすべてが置換基であってもよい。置換基としては、先に記載した置換基を例示することができる。２つのヒドロキシ基以外の置換基として、１つ以上のフェノール性ヒドロキシ基が含まれていてもよい。研磨剤の分散性向上の観点からは、Ｘ１０１〜Ｘ１０８のうちの２つのヒドロキシ基以外はフェノール性ヒドロキシ基ではないことが好ましい。即ち、一般式１００で表される化合物は、ジヒドロキシナフタレンまたはその誘導体であることが好ましく、２，３−ジヒドロキシナフタレンまたはその誘導体であることがより好ましい。Ｘ１０１〜Ｘ１０８で表される置換基として好ましい置換基としては、ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子）、アミノ基、炭素数１〜６（好ましくは１〜４）のアルキル基、メトキシ基およびエトキシ基、アシル基、ニトロ基およびニトロソ基、ならびに−ＣＨ２ＯＨ基を挙げることができる。
【００４１】
また、研磨剤の分散性向上のための分散剤については、特開２０１４−１７９１４９号公報の段落００２４〜００２８も参照できる。
【００４２】
以上説明した研磨剤の分散性向上のための分散剤は、磁性層形成用組成物の調製時、好ましくは研磨剤液の調製時に、研磨剤１００．０質量部に対して、例えば０．５〜２０．０質量部の割合で使用することができ、１．０〜１０．０質量部の割合で使用することが好ましい。
【００４３】
（研磨剤）
「研磨剤」とは、モース硬度８超の非磁性粉末を意味し、モース硬度９以上の非磁性粉末であることが好ましい。研磨剤は、無機物質の粉末（無機粉末）であっても有機物質の粉末（有機粉末）であってもよい。研磨剤は、モース硬度８超の無機粉末であることがより好ましく、モース硬度９以上の無機粉末であることが更に好ましい。なおモース硬度の最大値は、ダイヤモンドの１０である。具体的には、研磨剤としては、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、炭化珪素、ボロンカーバイド（Ｂ４Ｃ）、ＴｉＣ、酸化セリウム、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、ダイヤモンド等の粉末を挙げることができ、中でもアルミナ粉末が好ましい。なお先に記載したフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族炭化水素化合物は、アルミナ粉末の分散性向上のための分散剤として特に好ましい。アルミナには、結晶形態が主としてアルファ型とガンマ型の２種類ある。いずれも使用可能であり、より高硬度であり磨耗性向上および磁性層の強度向上に寄与するという観点からアルファ型の結晶形態のアルミナ（α−アルミナ）の使用が好ましい。α−アルミナにおけるアルファ化率は５０％以上であることが硬度の観点から好ましい。研磨剤の粒子の形状は、針状、球状、サイコロ状等のいずれの形状でもよい。
【００４４】
研磨剤が微細な状態で存在する磁性層を得るためには、研磨剤として粒子サイズの小さな研磨剤を用いることが好ましい。研磨剤の粒子サイズの指標としては、ＢＥＴ比表面積を挙げることができる。ＢＥＴ比表面積が大きいほど粒子サイズが小さいことを意味する。粒子サイズが小さいという観点から、研磨剤のＢＥＴ比表面積は、１４ｍ２／ｇ以上であることが好ましく、１５ｍ２／ｇ以上であることがより好ましく、１８ｍ２／ｇ以上であることが更に好ましく、２０ｍ２／ｇ以上であることが一層好ましい。また、分散性向上の容易性の観点からは、ＢＥＴ比表面積が４０ｍ２／ｇ以下の研磨剤を用いることが好ましい。
【００４５】
研磨剤を含む磁性層形成用組成物の調製方法等の詳細は、後述する。
【００４６】
［差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）］
上記磁気テープにおいて測定される真空加熱前後のスペーシングの差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）は、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である。差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）に関しては、この値が磁性層に含まれる脂肪酸エステルによって磁性層表面に形成される液膜の厚みの指標になり得ると本発明者らは考えている。詳しくは、以下の通りである。
磁性層表面には、通常、磁気テープとヘッドとが摺動する際にヘッドと主に接触（いわゆる真実接触）する部分（突起）と、この部分より低い部分（以下、「素地部分」と記載する。）とが存在する。先に説明したスペーシングは、磁気テープとヘッドとが摺動する際のヘッドと素地部分との距離の指標になる値であると、本発明者らは考えている。ただし磁性層に含まれる脂肪酸エステルが磁性層表面に液膜を形成していると、素地部分とヘッドとの間に液膜が存在することにより、液膜の厚み分、スペーシングは狭くなると考えられる。
ところで、潤滑剤は、一般に流体潤滑剤と境界潤滑剤とに大別され、脂肪酸エステルは流体潤滑剤として機能し得る成分と言われている。脂肪酸エステルは、それ自身が磁性層表面に液膜を形成することにより、磁性層を保護する役割を果たすことができると考えられる。この脂肪酸エステルの液膜が存在することによって磁性層表面が保護されることが、ヘッドとの摺動により磁性層表面が削れて削れ屑がヘッド付着物となることを抑制することにつながると考えられる。ただし、脂肪酸エステルが磁性層表面に過剰に存在すると、脂肪酸エステルにより磁性層表面とヘッドとの間にメニスカス（液架橋）により強い密着力が働き貼り付きの原因になると考えられる。
以上の点に関して本発明者らは、脂肪酸エステルが真空加熱により揮発する性質を有する成分であることに着目し、真空加熱後（脂肪酸エステルの液膜が揮発し除去された状態）と真空加熱前（脂肪酸エステルの液膜が存在している状態）のスペーシングの差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）を、磁性層表面における脂肪酸エステルにより形成される液膜の厚みの指標として採用した。この値が０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下となるように磁性層表面に脂肪酸エステルの液膜を存在させることが、貼り付きの発生を抑制しつつ、ヘッドとの摺動により磁性層表面が削れて削れ屑が発生することを抑制することにつながると、本発明者らは推察している。磁性層表面の削れをより一層抑制する観点から、差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）は、０．１ｎｍ以上であることが好ましく、１．０ｎｍ以上であることがより好ましく、１．５ｎｍ以上であることが更に好ましく、２．０ｎｍ以上であることが一層好ましく、２．５ｎｍ以上であることがより一層好ましく、３．０ｎｍ以上であることが更に一層好ましい。一方、貼り付きの発生をより一層抑制する観点からは、差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）は、７．５ｎｍ以下であることが好ましく、７．０ｎｍ以下であることがより好ましく、６．５ｎｍ以下であることが更に好ましく、６．０ｎｍ以下であることが一層好ましく、５．０ｎｍ以下であることがより一層好ましく、４．５ｎｍ以下であることが更に一層好ましく、４．０ｎｍ以下であることが更により一層好ましい。差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）は、磁性層形成用組成物に添加する脂肪酸エステル量によって制御することができる。また、非磁性支持体と磁性層との間に非磁性層を有する磁気テープについては、非磁性層形成用組成物に添加する脂肪酸エステル量によっても差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）を制御することができる。非磁性層は、潤滑剤を保持し磁性層に供給する役割を果たすことができ、非磁性層に含まれる脂肪酸エステルは磁性層に移行し磁性層表面に存在し得るからである。
【００４７】
［ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅ、ＦＷＨＭａｆｔｅｒ］
上記のスペーシング分布の半値全幅は、この値が小さいほど、磁性層表面の各部において測定されるスペーシングの値にばらつきが少ないことを意味する。本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、走行中の磁気テープの磁性層表面とヘッドとの貼り付きおよび磁性層表面の削れの発生を抑制するには、磁性層表面に存在する突起の高さの均一性を高め、かつ脂肪酸エステルの液膜の厚みの均一性を高めることにより、磁性層表面とヘッドとの接触状態の均一性を高めることが有効であると考えるに至った。更に磁性層表面とヘッドとの接触状態の均一性を高めることは、スペーシング変動による電磁変換特性低下を抑制することにもつながるため、電磁変換特性の向上にも有効であると、本発明者らは考えている。
以上の点に関し、上記のスペーシングの値がばらつく要因は、磁性層表面の突起の高さのばらつきと、脂肪酸エステルの液膜の厚みのばらつきにあると考えられる。真空加熱前、即ち磁性層表面に脂肪酸エステルの液膜が存在する状態で測定されるスペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅは、突起の高さのばらつきと脂肪酸エステルの液膜の厚みのばらつきが大きいほど大きくなり、中でも脂肪酸エステルの液膜の厚みのばらつきが大きく影響すると、本発明者らは推察している。これに対し、真空加熱後、即ち磁性層表面から脂肪酸エステルの液膜が除去された状態で測定されるスペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭａｆｔｅｒは、突起の高さのばらつきが大きいほど大きくなると本発明者らは考えている。即ち、スペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅおよびＦＷＨＭａｆｔｅｒがともに小さいほど、磁性層表面の脂肪酸エステルの液膜の厚みのばらつきも突起の高さのばらつきも小さいことを意味すると、本発明者らは推察している。そしてスペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅおよびＦＷＨＭａｆｔｅｒがともに０ｎｍ超かつ７．０ｎｍ以下となるように、突起の高さおよび脂肪酸エステルの液膜の厚みの均一性を高めることにより、走行中の磁気テープの磁性層表面とヘッドとの貼り付きおよび磁性層表面の削れの発生を抑制することが可能になり、しかも電磁変換特性の向上も可能になると、本発明者らは考えている。
【００４８】
上記磁気テープにおいて測定される真空加熱前のスペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅ、および真空加熱後のスペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭａｆｔｅｒは、ともに０ｎｍ超かつ７．０ｎｍ以下である。このことが、走行中の磁気テープの磁性層表面とヘッドとの貼り付きおよび磁性層表面の削れの発生を抑制することに寄与すると考えられる、上記の貼り付きおよび磁性層表面の削れの発生をより一層抑制する観点から、ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅおよびＦＷＨＭａｆｔｅｒは、６．５ｎｍ以下であることが好ましく、６．０ｎｍ以下であることがより好ましく、５．５ｎｍ以下であることが更に好ましく、５．０ｎｍ以下であることが一層好ましく、４．５ｎｍ以下であることが更に一層好ましい。ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅおよびＦＷＨＭａｆｔｅｒは、例えば０．５ｎｍ以上、１．０ｎｍ以上、２．０ｎｍ以上、または３．０ｎｍ以上であることができる。ただし、値が小さいほど、上記の貼り付きおよび磁性層表面の削れの発生を抑制する観点から好ましい傾向があるため、上記の例示した下限を下回ってもよい。
真空加熱前に測定されるＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅは、主に脂肪酸エステルの液膜の厚みのばらつきを低減することにより小さくすることができる。具体的な手段の一例は後述する。一方、真空加熱後に測定されるＦＷＨＭａｆｔｅｒは、磁性層表面の突起の高さのばらつきを低減することにより小さくすることができる。そのためには、磁性層に含まれる粉末成分、例えば詳細を後述する非磁性フィラーの磁性層における存在状態を制御することが好ましい。具体的な手段の一例は後述する。
【００４９】
次に、上記磁気テープの磁性層等について、更に詳細に説明する。
【００５０】
［磁性層］
＜強磁性粉末＞
磁性層に含まれる強磁性粉末としては、各種磁気記録媒体の磁性層において通常用いられる強磁性粉末を使用することができる。強磁性粉末として平均粒子サイズの小さいものを使用することは、磁気テープの記録密度向上の観点から好ましい。この点から、強磁性粉末としては、平均粒子サイズが５０ｎｍ以下の強磁性粉末を用いることが好ましい。一方、磁化の安定性の観点からは、強磁性粉末の平均粒子サイズは１０ｎｍ以上であることが好ましい。
【００５１】
強磁性粉末の好ましい具体例としては、強磁性六方晶フェライト粉末を挙げることができる。強磁性六方晶フェライト粉末の平均粒子サイズは、記録密度向上と磁化の安定性の観点から、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００５２】
強磁性六方晶フェライト粉末の一態様としては、Ａｌを含む強磁性六方晶フェライト粉末を挙げることもできる。強磁性六方晶フェライト粉末はＡｌを含むことで硬くなり磁性層の強度向上等に寄与すると考えられる。強磁性六方晶フェライト粉末のＡｌ含有量は、強磁性六方晶フェライト粉末の総質量を１００．０質量％として、Ａｌ2Ｏ3換算で０．６質量％以上であることが好ましく、１．０質量％以上であることがより好ましく、２．０質量％以上であることが更に好ましく、３．０質量％以上であることが一層好ましい。また、強磁性六方晶フェライト粉末のＡｌ含有量は、強磁性六方晶フェライト粉末の総質量を１００．０質量％として、Ａｌ２Ｏ３換算で１２．０質量％以下であることが好ましく、１０．０質量％以下であることがより好ましく、８．０質量％以下であることが更に好ましく、６．０質量％以下であることが一層好ましい。
【００５３】
Ａｌは、強磁性六方晶フェライト粉末の粒子内部に存在していてもよく、粒子表面に被着していてもよく、粒子内部および表面に存在していてもよい。
強磁性六方晶フェライト粉末のＡｌ含有量は、誘導結合プラズマ（Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｐｌａｓｍａ；ＩＣＰ）分析によって求められるＡｌ／Ｆｅ比から算出することができる。また、粒子表面にＡｌが被着していることは、
Ｘ線光電子分光（Ｘ−ｒａｙ  Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ；ＸＰＳ）分析により求められる粒子表層におけるＡｌ／Ｆｅ比が、上記ＩＣＰ分析によって求められるＡｌ／Ｆｅ比より大きくなること；
オージェ電子分光（Ａｕｇｅｒ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ；ＡＥＳ）分析において粒子表層にＡｌの局在が見られること；および、
透過型電子顕微鏡（Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ；ＴＥＭ）を用いて行われる断面観察において粒子表面に被膜が確認されること、
の１つ以上の分析方法によって確認することができる。なお粒子表面に存在するＡｌは、通常、酸化物の状態にあると推察される。
【００５４】
Ａｌを含む強磁性六方晶フェライト粉末の調製方法については、特開２０１１−２２５４１７号公報の段落００１２〜００３０を参照できる。特開２０１１−２２５４１７号公報に記載されている調製方法によれば、ガラス結晶化法によって、六方晶フェライト粒子の一次粒子の表面にＡｌが被着した強磁性六方晶フェライト粉末を得ることもできる。また、Ａｌを含む強磁性六方晶フェライト粉末の調製方法については、特開２０１４−１７９１４９号公報の段落００３５も参照できる。
【００５５】
強磁性六方晶フェライト粉末の詳細については、例えば、特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１３４〜０１３６および特開２０１２−２０４７２６号公報の段落００１３〜００３０も参照できる。
【００５６】
強磁性粉末の好ましい具体例としては、強磁性金属粉末を挙げることもできる。強磁性金属粉末の平均粒子サイズは、記録密度向上と磁化の安定性の観点から、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましい。強磁性金属粉末の詳細については、例えば特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１３７〜０１４１および特開２００５−２５１３５１号公報の段落０００９〜００２３を参照できる。
【００５７】
本発明および本明細書において、特記しない限り、強磁性粉末等の各種粉末の平均粒子サイズは、透過型電子顕微鏡を用いて、以下の方法により測定される値とする。
粉末を、透過型電子顕微鏡を用いて撮影倍率１０００００倍で撮影し、総倍率５０００００倍になるように印画紙にプリントして粉末を構成する粒子の写真を得る。得られた粒子の写真から目的の粒子を選びデジタイザーで粒子の輪郭をトレースし粒子（一次粒子）のサイズを測定する。一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
以上の測定を、無作為に抽出した５００個の粒子について行う。こうして得られた５００個の粒子の粒子サイズの算術平均を、粉末の平均粒子サイズとする。上記透過型電子顕微鏡としては、例えば日立製透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型を用いることができる。また、粒子サイズの測定は、公知の画像解析ソフト、例えばカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ−４００を用いて行うことができる。後述の実施例に示す平均粒子サイズは、特記しない限り、透過型電子顕微鏡として日立製透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型、画像解析ソフトとしてカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ−４００を用いて測定された値である。
【００５８】
粒子サイズ測定のために磁気テープから試料粉末を採取する方法としては、例えば特開２０１１−０４８８７８号公報の段落００１５に記載の方法を採用することができる。
【００５９】
本発明および本明細書において、特記しない限り、粉末を構成する粒子のサイズ（粒子サイズ）は、上記の粒子写真において観察される粒子の形状が、
（１）針状、紡錘状、柱状（ただし、高さが底面の最大長径より大きい）等の場合は、粒子を構成する長軸の長さ、即ち長軸長で表され、
（２）板状または柱状（ただし、厚みまたは高さが板面または底面の最大長径より小さい）の場合は、その板面または底面の最大長径で表され、
（３）球形、多面体状、不特定形等であって、かつ形状から粒子を構成する長軸を特定できない場合は、円相当径で表される。円相当径とは、円投影法で求められるものを言う。
【００６０】
また、粉末の平均針状比は、上記測定において粒子の短軸の長さ、即ち短軸長を測定し、各粒子の（長軸長／短軸長）の値を求め、上記５００個の粒子について得た値の算術平均を指す。ここで、特記しない限り、短軸長とは、上記粒子サイズの定義で（１）の場合は、粒子を構成する短軸の長さを、同じく（２）の場合は、厚みまたは高さを各々指し、（３）の場合は、長軸と短軸の区別がないから、（長軸長／短軸長）は、便宜上１とみなす。
そして、特記しない限り、粒子の形状が特定の場合、例えば、上記粒子サイズの定義（１）の場合、平均粒子サイズは平均長軸長であり、同定義（２）の場合、平均粒子サイズは平均板径であり、平均板状比とは、（最大長径／厚みまたは高さ）の算術平均である。同定義（３）の場合、平均粒子サイズは、平均直径（平均粒径、平均粒子径ともいう）である。
【００６１】
磁性層における強磁性粉末の含有量（充填率）は、好ましくは５０〜９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０〜９０質量％の範囲である。磁性層の強磁性粉末以外の成分は結合剤、研磨剤および脂肪酸エステルであり、任意に一種以上の更なる添加剤が含まれ得る。磁性層において強磁性粉末の充填率が高いことは、記録密度向上の観点から好ましい。
【００６２】
＜結合剤＞
上記磁気テープは塗布型磁気テープであって、磁性層に、強磁性粉末および研磨剤とともに結合剤を含む。結合剤としては、一種以上の樹脂を使用する。樹脂は、ホモポリマーでもよく、コポリマー（共重合体）でもよい。結合剤としては、塗布型磁気記録媒体の結合剤として通常使用される各種樹脂を用いることができる。例えば、結合剤としては、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレート等を共重合したアクリル樹脂、ニトロセルロース等のセルロース樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルキラール樹脂等から選ばれる樹脂を単独で用いるか、または複数の樹脂を混合して用いることができる。これらの中で好ましいものはポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、セルロース樹脂、および塩化ビニル樹脂である。これらの樹脂は、後述する非磁性層および／またはバックコート層においても結合剤として使用することができる。以上の結合剤については、特開２０１０−２４１１３号公報の段落００２８〜００３１を参照できる。また、結合剤は、電子線硬化型樹脂等の放射線硬化型樹脂であってもよい。放射線硬化型樹脂については、特開２０１１−０４８８７８号公報の段落００４４〜００４５を参照できる。
結合剤として使用される樹脂の平均分子量は、重量平均分子量として、例えば１０，０００以上２００，０００以下であることができる。本発明および本明細書における重量平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定された値をポリスチレン換算して求められる値である。測定条件としては、下記条件を挙げることができる。後述の実施例に示す重量平均分子量は、下記測定条件によって測定された値をポリスチレン換算して求めた値である。
ＧＰＣ装置：ＨＬＣ−８１２０（東ソー社製）
カラム：ＴＳＫ ｇｅｌ Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＸＬ−Ｍ（東ソー社製、７．８ｍｍＩＤ(ｉｎｎｅｒ ｄｉａｍｅｔｅｒ（内径）)×３０．０ｃｍ）
溶離液：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
【００６３】
また、結合剤とともに硬化剤を使用することもできる。硬化剤は、一態様では加熱により硬化反応（架橋反応）が進行する化合物である熱硬化性化合物であることができ、他の一態様では光照射により硬化反応（架橋反応）が進行する光硬化性化合物であることができる。硬化剤は、磁性層形成工程の中で硬化反応が進行することにより、少なくとも一部は、結合剤等の他の成分と反応（架橋）した状態で磁性層に含まれ得る。好ましい硬化剤は、熱硬化性化合物であり、ポリイソシアネートが好適である。ポリイソシアネートの詳細については、特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１２４〜０１２５を参照できる。硬化剤は、磁性層形成用組成物中に、結合剤１００．０質量部に対して例えば０〜８０．０質量部、磁性層等の各層の強度向上の観点からは好ましくは５０．０〜８０．０質量部の量で使用することができる。
【００６４】
＜脂肪酸エステル＞
上記磁気テープは、磁性層に脂肪酸エステルを含む。脂肪酸エステルは、一種のみ含まれていてもよく、二種以上が含まれていてもよい。脂肪酸エステルとしては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ベヘン酸、エルカ酸、エライジン酸等のエステルを挙げることができる。具体例としては、例えば、ミリスチン酸ブチル、パルミチン酸ブチル、ステアリン酸ブチル（ブチルステアレート）、ネオペンチルグリコールジオレエート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタントリステアレート、オレイン酸オレイル、ステアリン酸イソセチル、ステアリン酸イソトリデシル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸イソオクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸ブトキシエチル等を挙げることができる。
脂肪酸エステル含有量は、磁性層形成用組成物における含有量として、強磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０．１〜１０.０質量部であり、好ましくは１．０〜７．０質量部である。脂肪酸エステルとして二種以上の異なる脂肪酸エステルを使用する場合、含有量とは、それらの合計含有量をいうものとする。この点は、本発明および本明細書において、特記しない限り、他の成分の含有量についても同様である。また、本発明および本明細書において、特記しない限り、ある成分は、一種のみ用いてもよく二種以上用いてもよい。
また、上記磁気テープが非磁性支持体と磁性層との間に非磁性層を有する場合、非磁性層形成用組成物における脂肪酸エステル含有量は、非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜１０．０質量部であり、好ましくは０．１〜８．０質量部である。
【００６５】
＜その他潤滑剤＞
上記磁気テープは、少なくとも磁性層に、潤滑剤の一種である脂肪酸エステルを含む。脂肪酸エステル以外の潤滑剤が、任意に磁性層および／または非磁性層に含まれていてもよい。上記の通り、非磁性層に含まれる潤滑剤は、磁性層に移行し磁性層表面に存在し得る。任意に含まれ得る潤滑剤としては、脂肪酸を挙げることができる。また、脂肪酸アミド等を挙げることもできる。なお脂肪酸エステルは流体潤滑剤として機能することができる成分と言われているのに対し、脂肪酸および脂肪酸アミドは、境界潤滑剤として機能することができる成分と言われている。境界潤滑剤は、粉末（例えば強磁性粉末等）の表面に吸着し強固な潤滑膜を形成することで接触摩擦を下げることのできる潤滑剤と考えられる。
脂肪酸としては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ベヘン酸、エルカ酸、エライジン酸等を挙げることができ、ステアリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸が好ましく、ステアリン酸がより好ましい。脂肪酸は、金属塩等の塩の形態で磁性層に含まれていてもよい。
脂肪酸アミドとしては、上記の各種脂肪酸のアミド、例えば、ラウリン酸アミド、ミリスチン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド等を挙げることができる。
脂肪酸と脂肪酸の誘導体（アミド、エステル等）については、脂肪酸誘導体の脂肪酸由来部位は、併用される脂肪酸と同様または類似の構造を有することが好ましい。例えば、一例として、脂肪酸としてステアリン酸を用いる場合にステアリン酸エステルおよび／またはステアリン酸アミドを使用することは好ましい。
磁性層形成用組成物における脂肪酸含有量は、強磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜１０.０質量部であり、好ましくは０．１〜１０.０質量部であり、より好ましくは１．０〜７．０質量部である。磁性層形成用組成物における脂肪酸アミド含有量は、強磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜３.０質量部であり、好ましくは０〜２．０質量部であり、より好ましくは０〜１．０質量部である。
また、上記磁気テープが非磁性支持体と磁性層との間に非磁性層を有する場合、非磁性層形成用組成物における脂肪酸含有量は、非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜１０．０質量部であり、好ましくは１．０〜１０．０質量部であり、より好ましくは１．０〜７．０質量部である。非磁性層形成用組成物における脂肪酸アミド含有量は、非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜３．０質量部であり、好ましくは０〜１．０質量部である。
【００６６】
＜添加剤＞
磁性層には、強磁性粉末、結合剤、研磨剤および脂肪酸エステルが含まれ、必要に応じて一種以上の添加剤が更に含まれていてもよい。添加剤は、所望の性質に応じて、市販品または公知の方法により製造されたものを適宜選択して使用することができる。
【００６７】
添加剤の具体例として、先に説明した分散剤、硬化剤および各種潤滑剤が挙げられる。なお研磨剤の分散性向上のための分散剤が、強磁性粉末の分散性向上のために寄与することもあり得る。強磁性粉末の分散性向上のための分散剤が、研磨剤の分散性の向上に寄与することもあり得る。また、磁性層に含まれ得る添加剤としては、非磁性フィラー、分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤等を挙げることができる。非磁性フィラーとは、非磁性粉末と同義である。非磁性フィラーとしては、磁性層表面に適度に突出する突起を形成する突起形成剤として機能することができる非磁性フィラー（以下、「突起形成剤」と記載する。）を挙げることができる。
【００６８】
突起形成剤は、無機物質の粉末（無機粉末）であっても有機物質の粉末（有機粉末）であってもよく、無機物質の粉末が好ましい。また、カーボンブラックも好ましい。カーボンブラックとしては、平均粒子サイズが２０ｎｍ以上のものが好ましく、３０ｎｍ以上のものがより好ましい。また、カーボンブラックの平均粒子サイズは、１５０ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００６９】
無機粉末としては、金属酸化物等の無機酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の粉末を挙げることができ、具体例としては、二酸化珪素等の珪素酸化物、酸化クロム、α−酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、二酸化チタン、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデン等の粉末またはこれらの二種以上の複合無機粉末を挙げることができる。無機酸化物粉末がより好ましく、珪素酸化物粉末が更に好ましい。
【００７０】
突起形成剤は、電磁変換特性の一層の向上の観点からは、粒子サイズの均一性が高いことが好ましい。粒子サイズの均一性が高い粒子の入手容易性の観点から、突起形成剤はコロイド粒子であることが好ましい。本発明および本明細書において、「コロイド粒子」とは、少なくとも、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、トルエンもしくは酢酸エチル、または上記溶媒の二種以上を任意の混合比で含む混合溶媒の少なくとも１つの有機溶媒１００ｍＬあたり１ｇ添加した際に、沈降せず分散しコロイド分散体をもたらすことのできる粒子をいうものとする。コロイド粒子については、平均粒子サイズは、特開２０１１−０４８８７８号公報の段落００１５に平均粒径の測定方法として記載されている方法により求められる値とする。磁性層に含まれる非磁性フィラーがコロイド粒子であることは、磁性層の形成に用いた非磁性フィラーが入手可能であれば、かかる非磁性フィラーが、先に記載したコロイド粒子の定義に当てはまる性質を有するかを評価すればよい。または、磁性層から取りだした非磁性フィラーが、先に記載したコロイド粒子の定義に当てはまる性質を有するかを評価することもできる。磁性層からの非磁性フィラーの取り出しは、例えば、以下の方法で行うことができる。
１．磁性層を約１ｇ削り取る。削り取りは、例えば、かみそり刃などにより行うことができる。
２．削り取って得られた磁性層試料を、ナスフラスコ等の容器に入れ、この容器にテトラヒドロフランを１００ｍｌ添加する。なおテトラヒドロフランは、安定剤を添加し市販されているものと安定剤無添加で市販されているものがある。ただしここでは安定剤無添加のテトラヒドロフランを用いる。以下に記載の洗浄に用いるテトラヒドロフランについても、同様である。
３．上記容器に還流管を取り付けて、水温６０℃の湯浴において９０分間加熱する。加熱後の容器内の内容物をろ紙によりろ過後、ろ紙上に残った固形分を数回テトラヒドロフランで洗浄し、洗浄後の固形分をビーカー等の容器に移す。この容器に４Ｎ（４ｍｏｌ／Ｌ）塩酸水溶液を添加して溶解せずに残った残渣をフィルタろ過により取り出す。フィルタとしては、孔径が０．０５μｍより小さいものを用いる。例えば、クロマトグラフィー分析用に使用されるメンブレンフィルタ (例えば、メルク社製のＭＦミリポア)を用いることができる。フィルタろ過により取り出した残渣は、数回、純水で洗浄後、乾燥させる。
上記操作により強磁性粉末および有機物（結合剤等）が溶解し、非磁性フィラーが残渣として回収される。
以上の工程により、磁性層から非磁性フィラーを取り出すことができる。こうして取り出した非磁性フィラーの中に、複数種の非磁性フィラーが含まれている場合には、密度の違いによって複数種の非磁性フィラーを分別することができる。
【００７１】
好ましいコロイド粒子としては、無機酸化物コロイド粒子を挙げることができる。無機酸化物コロイド粒子としては、先に例示した無機酸化物のコロイド粒子を挙げることができ、ＳｉＯ２・Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２・Ｂ２Ｏ３、ＴｉＯ２・ＣｅＯ２、ＳｎＯ２・Ｓｂ２Ｏ３、ＳｉＯ２・Ａｌ２Ｏ３・ＴｉＯ２、ＴｉＯ２・ＣｅＯ２・ＳｉＯ２等の複合無機酸化物コロイド粒子を挙げることもできる。好ましいものとしては、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｆｅ２Ｏ３等の無機酸化物コロイド粒子を挙げることができ、シリカコロイド粒子（コロイダルシリカ）が特に好ましい。ところで、一般的なコロイド粒子は表面が親水性であるため水を分散媒とするコロイド溶液の作製に適する。例えば一般的な合成法により得られるコロイダルシリカは、表面が分極した酸素原子（Ｏ２−）で覆われているため水中で水を吸着してヒドロキシ基を形成して安定化している。しかしこれら粒子は、磁性層形成用組成物に通常用いられる有機溶媒中では、コロイド状態で存在することは困難である。これに対し、本発明および本明細書におけるコロイド粒子は、先に記載した有機溶媒１００ｍＬあたり１ｇ添加した際に、沈降せず分散しコロイド分散体をもたらすことのできる粒子をいう。かかるコロイド粒子は、表面処理により表面を疎水化する等の公知の方法により調製することができる。そのような疎水化処理の詳細については、例えば特開平５−２６９３６５号公報、特開平５−２８７２１３号公報、特開２００７−６３１１７号公報等に記載されている。
【００７２】
好ましいコロイド粒子であるシリカコロイド粒子（コロイダルシリカ）については、製造方法は、一般的に、水ガラス法とゾルゲル法の２種類が知られている。水ガラス法とは、原料に珪酸ソーダ（珪酸ナトリウム、いわゆる水ガラス）を用いて、これをイオン交換させることで活性珪酸を発生させ、そこで粒子成長させる方法である。一方、ゾルゲル法は、テトラアルコキシシランを原料として用い、塩基性触媒下で加水分解させるのと同時に粒子成長させる方法である。シリカコロイド粒子を用いる場合、シリカコロイド粒子は、いずれの製造方法で製造されたものであってもよい。
【００７３】
突起形成剤の平均粒子サイズは、５０〜２００ｎｍの範囲であることが好ましく、５０〜１５０ｎｍの範囲であることがより好ましい。
【００７４】
突起形成剤の磁性層における含有量は、強磁性粉末１００．０質量部に対して、１．０〜４．０質量部であることが好ましく、１．５〜３．５質量部であることがより好ましい。
【００７５】
［非磁性層］
次に非磁性層について説明する。上記磁気テープは、非磁性支持体と磁性層との間に、非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を有する。非磁性層に使用される非磁性粉末は、無機粉末でも有機粉末でもよい。また、カーボンブラック等も使用できる。無機粉末としては、例えば金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の粉末が挙げられる。これらの非磁性粉末は、市販品として入手可能であり、公知の方法で製造することもできる。その詳細については、特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１４６〜０１５０を参照できる。非磁性層に使用可能なカーボンブラックについては、特開２０１０−２４１１３号公報の段落００４０〜００４１も参照できる。非磁性層における非磁性粉末の含有量（充填率）は、好ましくは５０〜９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０〜９０質量％の範囲である。
【００７６】
非磁性層の結合剤、添加剤等のその他詳細は、非磁性層に関する公知技術が適用できる。また、例えば、結合剤の種類および含有量、添加剤の種類および含有量等に関しては、磁性層に関する公知技術も適用できる。
【００７７】
本発明および本明細書における非磁性層には、非磁性粉末とともに、例えば不純物として、または意図的に、少量の強磁性粉末を含む実質的に非磁性な層も包含されるものとする。ここで実質的に非磁性な層とは、この層の残留磁束密度が１０ｍＴ以下であるか、保磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であるか、または、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であり、かつ保磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下である層をいうものとする。非磁性層は、残留磁束密度および保磁力を持たないことが好ましい。
【００７８】
［バックコート層］
上記磁気テープは、非磁性支持体の磁性層を有する側とは反対側に、非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を有することもできる。バックコート層には、カーボンブラックおよび無機粉末のいずれか一方または両方が含有されていることが好ましい。バックコート層に含まれる結合剤および任意に含まれ得る各種添加剤については、磁性層および／または非磁性層の処方に関する公知技術を適用することができる。
【００７９】
［非磁性支持体］
次に、非磁性支持体（以下、単に「支持体」とも記載する。）について説明する。非磁性支持体としては、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド等の公知のものが挙げられる。これらの中でもポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、およびポリアミドが好ましい。これらの支持体には、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理等を行ってもよい。
【００８０】
［各種厚み］
上記磁気テープにおける磁性層と非磁性層との合計厚みについては、先に記載した通りである。
上記磁気テープにおける非磁性支持体の厚みは、好ましくは３．００〜６．００μｍであり、より好ましくは３．００〜４．５０μｍである。
磁性層の厚みは、用いる磁気ヘッドの飽和磁化量、ヘッドギャップ長、記録信号の帯域等に応じて最適化することができる。磁性層の厚みは、一般には０．０１μｍ〜０．１５μｍであり、高密度記録化の観点から、好ましくは０．０２μｍ〜０．１２μｍであり、更に好ましくは０．０３μｍ〜０．１０μｍである。磁性層は少なくとも一層あればよく、磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。２層以上に分離する場合の磁性層の厚みとは、これらの層の合計厚みとする。
非磁性層の厚みは、例えば０．１０〜０．５５μｍであり、０．１０〜０．５０μｍであることが好ましい。
バックコート層の厚みは、０．９０μｍ以下であることが好ましく、０．１０〜０．７０μｍの範囲であることが更に好ましい。
また、磁気テープの総厚は、磁気テープカートリッジ１巻あたりの記録容量向上の観点から、６．００μｍ以下であることが好ましく、５．７０μｍ以下であることがより好ましく、５．５０μｍ以下であることが更に好ましい。一方、磁気テープの取り扱いの容易性（ハンドリング性）等の観点からは、磁気テープの総厚は１．００μｍ以上であることが好ましい。
【００８１】
［磁気テープの製造方法］
＜各層形成用組成物の調製＞
磁性層、非磁性層またはバックコート層を形成するための組成物は、先に説明した各種成分とともに、通常、溶媒を含む。溶媒としては、塗布型磁気テープを製造するために一般に使用される各種有機溶媒を用いることができる。中でも、塗布型磁気記録媒体に通常使用される結合剤の溶解性の観点からは、各層形成用組成物には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン溶媒の一種以上が含まれることが好ましい。各層形成用組成物における溶媒量は特に限定されるものではなく、通常の塗布型磁気記録媒体の各層形成用組成物と同様にすることができる。また、各層を形成するための組成物を調製する工程は、通常、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程を含む。個々の工程はそれぞれ２段階以上に分かれていてもかまわない。本発明で用いられる全ての原料は、どの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。磁性層形成用組成物の調製においては、先に記載した通り、研磨剤と強磁性粉末とを別分散することが好ましい。別分散における研磨剤液および磁性液の調製方法、ならびに磁性層形成用組成物の調製方法については、特開２０１４−１７９１４９号公報の段落００４２〜００４８も参照できる。また、磁気テープを製造するためには、公知の製造技術を用いることができる。混練工程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、エクストルーダ等の強い混練力をもつニーダを使用することが好ましい。これらの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３８号公報および特開平１−７９２７４号公報に記載されている。また、各層形成用組成物を分散させるためには、分散メディアとして、ガラスビーズおよびその他の分散ビーズの一種以上を用いることができる。このような分散ビーズとしては、高比重の分散ビーズであるジルコニアビーズ、チタニアビーズ、およびスチールビーズが好適である。これら分散ビーズの粒径（ビーズ径）と充填率は最適化して用いることができる。分散機は公知のものを使用することができる。各層形成用組成物を、塗布工程に付す前に公知の方法によってろ過してもよい。ろ過は、例えばフィルタろ過によって行うことができる。ろ過に用いるフィルタとしては、例えば孔径０．０１〜３μｍのフィルタを用いることができる。
【００８２】
また、真空加熱後に測定されるＦＷＨＭａｆｔｅｒは、磁性層形成用組成物の分散条件を強化する（例えば分散回数を増やす、分散時間を延ばす等）、および／または、ろ過条件を強化する（例えばろ過に用いるフィルタとして孔径の小さいフィルタを用いる、フィルタろ過回数を増やす等）ことによって、小さくなる傾向がある。これらによって、磁性層形成用組成物に含まれる粉末、中でも先に記載した突起形成剤として機能し得る非磁性フィラーの分散性および／または粒子サイズの均一性が向上することにより、磁性層表面に存在する突起の高さの均一性が向上するためと、本発明者らは推察している。一態様では、分散条件および／またはろ過条件を、実製造前に予備実験を行い最適化することもできる。
【００８３】
更に、非磁性フィラーとしてカーボンブラックを含む磁性層を有する磁気テープについては、カーボンブラックの分散性を向上させるための分散剤を磁性層成分として用いることは、真空加熱後に測定されるＦＷＨＭａｆｔｅｒを小さくするために有効である。例えば一例として、カーボンブラックの分散剤としては、有機三級アミンを挙げることができる。有機三級アミンについては、特開２０１３−０４９８３２号公報の段落００１１〜００１８および００２１を参照できる。上記有機三級アミンは、より好ましくはトリアルキルアミンである。トリアルキルアミンが有するアルキル基は、好ましくは炭素数１〜１８のアルキル基である。トリアルキルアミンが有する３つのアルキル基は、同一であっても異なっていてもよい。アルキル基の詳細については、特開２０１３−０４９８３２号公報の段落００１５〜００１６を参照できる。トリアルキルアミンとしては、トリオクチルアミンが特に好ましい。
【００８４】
（塗布工程）
磁性層は、磁性層形成用組成物を、非磁性層形成用組成物と逐次または同時に重層塗布することにより形成することができる。バックコート層は、バックコート層形成用組成物を、非磁性支持体の磁性層を有する（または磁性層が追って設けられる）側とは反対側に塗布することにより形成することができる。各層形成のための塗布の詳細については、特開２０１０−２３１８４３号公報の段落００６６を参照できる。
【００８５】
（その他工程）
磁気テープ製造のためのその他の各種工程については、特開２０１０−２３１８４３号公報の段落００６７〜００７０を参照できる。
【００８６】
（好ましい製造方法の一態様）
好ましい製造方法としては、磁性層表面における脂肪酸エステルにより形成された液膜の厚みの均一性向上のために、磁性層に振動を加える製造方法を挙げることができる。振動を加えることにより、磁性層表面の脂肪酸エステルにより形成された液膜が流動し、液膜の厚みの均一性が向上されると、本発明者らは推察している。
即ち、上記磁気テープは、磁性層を、強磁性粉末、結合剤、研磨剤および脂肪酸エステルを含む磁性層形成用組成物を非磁性層形成用組成物と逐次または同時に塗布して乾燥させることにより形成し、形成した磁性層に振動を加えることを含む製造方法により製造することができる。上記製造方法は、磁性層に振動を加える点以外は、通常の磁気テープの製造方法と同様であり、その詳細は先に記載した通りである。
【００８７】
上記振動を加える手段は特に限定されるものではない。例えば、磁性層を形成した非磁性支持体の磁性層とは反対側の面を、振動付与ユニットと接触させることにより、磁性層に振動を加えることができる。磁性層を形成した非磁性支持体を振動付与ユニットと接触させながら走行させてもよい。振動付与ユニットは、例えば、内部に超音波振動子を備えることにより、このユニットと接触した物品に振動を加えることができる。超音波振動子の振動周波数、強度、および／または振動付与ユニットとの接触時間によって、磁性層に加える振動を調整することができる。例えば接触時間は、磁性層を形成した非磁性支持体の振動付与ユニットとの接触中の走行速度によって調整することができる。これらの振動付与条件は特に限定されるものではなく、先に記載したスペーシング分布の半値全幅、特に、ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅを制御できるように設定すればよい。振動付与条件の設定のために実製造前に予備実験を行い、条件を最適化することもできる。
【００８８】
以上により、本発明の一態様にかかる磁気テープを得ることができる。ただし上記の製造方法は例示であって、磁性層における研磨剤の存在状態、ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅ、ＦＷＨＭａｆｔｅｒおよび差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）を調整可能な任意の手段によって、磁性層における研磨剤の存在状態、ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅ、ＦＷＨＭａｆｔｅｒおよび差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）をそれぞれ先に記載したように制御することができ、そのような態様も本発明に包含される。
【００８９】
以上説明した本発明の一態様にかかる磁気テープは、通常、磁気テープカートリッジに収容され、磁気テープカートリッジがドライブに装着される。磁気テープカートリッジおよびドライブの構成は公知である。ドライブ内で磁気テープが走行し（搬送され）、情報の記録および／または再生を行うための磁気ヘッドと磁性層表面とが接触し摺動して、磁気テープへの情報の記録および／または記録された情報の再生が行われる。上記磁気テープは、非磁性層と磁性層との合計厚みが０．６０μｍ以下であるにもかかわらず、低温高湿環境において走行を繰り返すうちに電磁変換特性が低下することを抑制することができる。
【実施例】
【００９０】
以下に、本発明を実施例に基づき説明する。ただし、本発明は実施例に示す態様に限定されるものではない。なお、以下に記載の「部」、「％」の表示は、特に断らない限り、「質量部」、「質量％」を示す。また、以下に記載の工程および評価は、特記しない限り、雰囲気温度２３℃±１℃の環境において行った。
【００９１】
［強磁性六方晶フェライト粉末の調製例］
特開２０１１−２２５４１７号公報の実施例１に記載の方法において、原料混合物に添加するＡｌ２Ｏ３量を変えることによりＡｌ被着量を調整し、かつ結晶化させる温度を変えることにより粒子サイズを調整し、粒子表面にＡｌ２Ｏ３が被着した強磁性六方晶フェライト粉末（バリウムフェライト粉末）を作製した。
作製された強磁性六方晶フェライト粉末について、先に記載した方法により平均粒子サイズ（平均板径）を求めたところ、２５ｎｍであった。
また、作製された強磁性六方晶フェライト粉末について、特開２０１４−１７９１４９号公報の段落００７０に記載の方法によりＡｌ含有量の測定およびＡｌ存在状態の確認を行った。作製された強磁性六方晶フェライト粉末のＡｌ含有量が、測定に用いた強磁性六方晶フェライト粉末の総質量１００．０質量％に対してＡｌ２Ｏ３換算で３．０質量％であった。また、作製された強磁性六方晶フェライト粉末では、一次粒子上にＡｌが被着（詳しくは、Ａｌを含む被膜が存在）していることが確認された。
【００９２】
［実施例１］
１．アルミナ分散物（研磨剤液）の調製
アルファ化率約６５％、表１に示すＢＥＴ比表面積のアルミナ粉末（モース硬度９）１００．０部に対し、表１に示す量の２，３−ジヒドロキシナフタレン（東京化成社製）、極性基としてＳＯ３Ｎａ基を有するポリエステルポリウレタン樹脂（東洋紡社製ＵＲ−４８００（極性基量：８０ｍｅｑ／ｋｇ））の３２％溶液（溶媒はメチルエチルケトンとトルエンの混合溶媒）を３１．３部、溶媒としてメチルエチルケトンとシクロヘキサノン１：１（質量比）の混合液５７０．０部を混合し、ジルコニアビーズ存在下で、ペイントシェーカーにより、表１に示す時間（ビーズ分散時間）、分散させた。分散後、メッシュにより分散液とビーズとを分け、アルミナ分散物（研磨剤液）を得た。
【００９３】
２．磁性層形成用組成物処方
（磁性液）
上記調製例で作製された強磁性六方晶バリウムフェライト粉末    １００．０部
ＳＯ３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂                             １４．０部
（重量平均分子量：７０，０００、ＳＯ３Ｎａ基：０．２ｍｅｑ／ｇ）
シクロヘキサノン                                            １５０．０部
メチルエチルケトン                                          １５０．０部
（研磨剤液）
上記１．で調製したアルミナ分散物                                ６．０部
（シリカゾル（突起形成剤液））
コロイダルシリカ（平均粒子サイズ：１００ｎｍ）                  ２．０部
メチルエチルケトン                                              １．４部
（その他成分）
ステアリン酸                                                    ２．０部
ブチルステアレート                                              表１参照
ポリイソシアネート（日本ポリウレタン社製コロネート（登録商標））２．５部
（仕上げ添加溶媒）
シクロヘキサノン                                            ２００．０部
メチルエチルケトン                                          ２００．０部
【００９４】
３．非磁性層形成用組成物処方
非磁性無機粉末：α−酸化鉄                                  １００．０部
平均粒子サイズ（平均長軸長）：０．１５μｍ
平均針状比：７
ＢＥＴ比表面積：５２ｍ２／ｇ
カーボンブラック                                              ２０．０部
平均粒子サイズ：２０ｎｍ
電子線硬化型塩化ビニル共重合体                                １３．０部
電子線硬化型ポリウレタン樹脂                                    ６．０部
ステアリン酸                                                    １．０部
ブチルステアレート                                              表１参照
シクロヘキサノン                                            ３００．０部
メチルエチルケトン                                          ３００．０部
【００９５】
４．バックコート層形成用組成物処方
非磁性無機粉末：α−酸化鉄                                    ８０．０部
平均粒子サイズ（平均長軸長）：０．１５μｍ
平均針状比：７
ＢＥＴ比表面積：５２ｍ２／ｇ
カーボンブラック                                              ２０．０部
平均粒子サイズ：２０ｎｍ
塩化ビニル共重合体                                            １３．０部
スルホン酸塩基含有ポリウレタン樹脂                              ６．０部
フェニルホスホン酸                                              ３．０部
メチルエチルケトン                                          １５５．０部
ステアリン酸                                                    ３．０部
ブチルステアレート                                              ３．０部
ポリイソシアネート                                              ５．０部
シクロヘキサノン                                            ３５５．０部
【００９６】
５．各層形成用組成物の調製
（１）磁性層形成用組成物の調製
磁性層形成用組成物を、以下の方法により調製した。
上記の磁性液成分をバッチ式縦型サンドミルにおいて分散メディアとしてビーズを用いてビーズ分散することにより、磁性液を調製した。具体的には、ジルコニアビーズ（ビーズ径：０．１ｍｍ）を用いて、表１に示すビーズ分散時間でビーズ分散を行った。
こうして得られた磁性液、上記の研磨剤液、シリカゾル、その他成分および仕上げ添加溶媒をディゾルバー攪拌機に導入し、周速１０ｍ／秒で３０分間攪拌した。その後、フロー式超音波分散機により流量７．５ｋｇ／分で表１に示すパス回数で処理を行った後に、表１に示す孔径のフィルタで表１に示す回数ろ過して磁性層形成用組成物を調製した。（２）非磁性層形成用組成物の調製
非磁性層形成用組成物を、以下の方法により調製した。
ステアリン酸、ブチルステアレート、シクロヘキサノンおよびメチルエチルケトンを除いた各成分を、バッチ式縦型サンドミルを用いてビーズ分散（分散メディア：ジルコニアビーズ（ビーズ径：０．１ｍｍ）、分散滞留時間：２４時間）して分散液を得た。その後、得られた分散液に残りの成分を添加し、ディゾルバーで攪拌した。次いで、得られた分散液をフィルタ（孔径０．５μｍ）を用いてろ過し、非磁性層形成用組成物を調製した。
（３）バックコート層形成用組成物の調製
バックコート層形成用組成物を、以下の方法により調製した。
ステアリン酸、ブチルステアレート、ポリイソシアネートおよびシクロヘキサノンを除いた各成分をオープンニーダにより混練および希釈した。その後、得られた混合液に対して横型ビーズミルにより、ビーズ径１．０ｍｍのジルコニアビーズを用い、ビーズ充填率８０体積％およびローター先端周速１０ｍ／秒で、１パスあたりの滞留時間を２分とし、１２パスの分散処理を行った。その後、得られた分散液に残りの成分を添加し、ディゾルバーで攪拌した。次いで、得られた分散液をフィルタ（孔径：１．０μｍ）を用いてろ過し、バックコート層形成用組成物を調製した。
【００９７】
６．磁気テープの作製
表１に示す厚みのポリエチレンナフタレート支持体上に、乾燥後の厚みが表１に示す厚みになるように非磁性層形成用組成物を塗布し乾燥させた後、１２５ｋＶの加速電圧で４０ｋＧｙのエネルギーとなるように電子線を照射した。その上に乾燥後の厚みが表１に示す厚みになるように磁性層形成用組成物を塗布し乾燥させて磁性層形成用組成物の塗布層を形成した。
その後、上記塗布層を形成した支持体を、図１に示す振動付与装置に、上記塗布層を形成した表面とは反対側の表面が振動付与ユニットと接するように設置し、上記塗布層を形成した支持体（図１中、符号１）を搬送速度０．５ｍ／秒で搬送させて上記塗布層に振動を付与した。図１中、符号２はガイドローラ（符号２は２つのガイドローラの一方に付した）、符号３は振動付与装置（超音波振動子を含む振動付与ユニット）、矢印は搬送方向を示す。上記塗布層を形成した支持体の任意の箇所が振動付与ユニットとの接触を開始してから接触が終了するまでの時間を振動付与時間として、表１に示す。使用した振動付与ユニットは内部に超音波振動子を備えている。超音波振動子の振動周波数および強度を表１に示す値として振動付与を行った。
その後、上記支持体の、非磁性層および磁性層を形成した表面とは反対側の表面上に、バックコート層形成用組成物を乾燥後の厚みが表１に示す厚みになるように塗布し乾燥させた。
その後、金属ロールのみから構成されるカレンダロールを用いて、カレンダ処理速度８０ｍ／ｍｉｎ、線圧３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）、およびカレンダロールの表面温度９５℃にて、表面平滑化処理（カレンダ処理）を行った。
その後、雰囲気温度７０℃の環境で３６時間熱処理を行った。熱処理後、１／２インチ（０．０１２７メートル）幅にスリットし、スリット品の送り出しおよび巻き取り装置を持った装置に不織布とカミソリブレードが磁性層表面に押し当たるように取り付けたテープクリーニング装置で磁性層の表面のクリーニングを行った。
以上により、磁気テープを作製した。
【００９８】
［実施例２〜８、比較例１〜１２］
表１に示すように各種条件を変更した点以外は実施例１と同様の方法により実施例２〜８および比較例１〜１２の各磁気テープを得た。振動付与時間は、磁性層形成用組成物の塗布層を形成した支持体の搬送速度を変えることにより調整した。
【００９９】
以上の工程により得られた実施例１〜８および比較例１〜１２の各磁気テープの一部を下記物性評価のために使用し、他の一部を後述する性能評価のために使用した。また、実施例１〜８および比較例１〜１２の各磁気テープの各層および非磁性支持体の厚みを、以下の方法により求めた。形成した各層および非磁性支持体の厚みが表１に示す厚みであることが確認された。
磁気テープの厚み方向の断面を、イオンビームにより露出させた後、露出した断面において走査型電子顕微鏡によって断面観察を行った。断面観察において厚み方向の２箇所において求められた厚みの算術平均として、各種厚みを求めた。
【０１００】
７．物性評価
（１）磁性層における研磨剤の存在状態（研磨剤の平面視最大面積割合）
先に記載した方法により、磁性層の表面において４．３μｍ×６．３μｍ角の領域で確認される研磨剤の平面視最大面積を求めた。
【０１０１】
（２）ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅ、ＦＷＨＭａｆｔｅｒ
ＴＳＡ（Ｔａｐｅ  Ｓｐａｃｉｎｇ  Ａｎａｌｙｚｅｒ（Ｍｉｃｒｏ  Ｐｈｙｓｉｃｓ社製））を用いて、以下の方法により、真空加熱前後のスペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅおよびＦＷＨＭａｆｔｅｒを求めた。
磁気テープの磁性層表面上に、ＴＳＡに備えられたガラス板を配置した状態で、押圧部材としてＴＳＡに備えられているウレタン製の半球を用いて、この半球を磁気テープのバックコート層表面に、５．０５×１０４Ｎ／ｍ（０．５ａｔｍ）の圧力で押しつけた。この状態で、ＴＳＡに備えられているストロボスコープから白色光を、ガラス板を通して磁気テープの磁性層表面の一定領域（１５００００〜２０００００μｍ２）に照射し、得られる反射光を、干渉フィルタ（波長６３３ｎｍの光を選択的に透過するフィルタ）を通してＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ−Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｄｅｖｉｃｅ）で受光することで、この領域の凹凸で生じた干渉縞画像を得た。
この画像を３０００００ポイントに分割して各ポイントのガラス板の磁気テープ側の表面から磁気テープの磁性層表面までの距離（スペーシング）を求めこれをヒストグラムとし、ヒストグラムをガウス分布でフィッティングしたときの半値全幅をスペーシング分布の半値全幅とした。
真空加熱は、磁気テープを、２００Ｐａ以上０．０１ＭＰａ以下の真空度かつ内部雰囲気温度７０〜９０℃の真空定温乾燥機に２４時間保存することにより行った。
【０１０２】
（３）差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）
上記（２）で得た真空加熱後のヒストグラムの最頻値から、真空加熱前のヒストグラムの最頻値を差し引いて、差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）とした。
【０１０３】
８．性能評価（低温高湿環境での繰り返し走行後の電磁変換特性（ＳＮＲ（Ｓｉｇｎａｌ−ｔｏ−Ｎｏｉｓｅ−Ｒａｔｉｏ））の変化（ＳＮＲ低下））
電磁変換特性（ＳＮＲ）は、ヘッドを固定した１／２インチ（０．０１２７メートル）リールテスターを用いて以下の方法により測定した。
ヘッド／テープ相対速度を５．５ｍ／秒とし、記録はＭＩＧ（Ｍｅｔａｌ−Ｉｎ−Ｇａｐ）ヘッド（ギャップ長０．１５μｍ、トラック幅１．０μｍ）を使い、記録電流は各磁気テープの最適記録電流に設定した。再生ヘッドには素子厚み１５ｎｍ、シールド間隔０．１μｍおよびリード幅０．５μｍのＧＭＲ（Ｇｉａｎｔ−Ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔｉｖｅ）ヘッドを用いた。２７０ｋｆｃｉの線記録密度で信号の記録を行い、再生信号をシバソク社製のスペクトラムアナライザーで測定した。なお単位ｋｆｃｉとは、線記録密度の単位（ＳＩ単位系に換算不可）である。信号は、磁気テープの走行開始後に信号が十分に安定した部分を使用した。キャリア信号の出力値と、スペクトル全帯域の積分ノイズとの比をＳＮＲとした。
以上の条件で、１パスあたりのテープ長を１，０００ｍとして、雰囲気温度１３℃相対湿度８０％の環境において５，０００パス往復走行させて再生（ヘッド／テープ相対速度：６．０ｍ／秒）を行いＳＮＲを測定した。１パス目のＳＮＲと５，０００パス目のＳＮＲとの差分（５，０００パス目のＳＮＲ−１パス目のＳＮＲ）を求めた。差分が−２．０ｄＢ未満であれば、データバックアップテープに望まれる優れた電磁変換特性を示す磁気テープと判断することができる。
【０１０４】
以上の結果を、表１に示す。
【０１０５】
【表１−１】
2018170063.tif 000003
【０１０６】
【表１−２】
2018170063.tif 000004
【０１０７】
比較例同士の対比により、非磁性層と磁性層との合計厚みが０．６０μｍ超の場合（比較例１および２）と比べ、非磁性層と磁性層との合計厚みが０．６０μｍ以下の場合（比較例３〜１２）では、低温高湿環境における繰り返し走行によりＳＮＲが顕著に低下することが確認された。
比較例の磁気テープの評価後の再生ヘッドを目視で観察したところ、比較例３、４および１１の評価後の再生ヘッド（ＧＭＲヘッド）では、ＧＭＲヘッドの素子部分と摺動面との段差が広がるＰＴＲ（Ｐｏｌｅ  Ｔｉｐ  Ｒｅｃｅｓｓｉｏｎ）と呼ばれる現象が発生していることが確認された。このＰＴＲは、磁性層表面との摺動によりＧＭＲヘッドの素子部分が削れたことにより生じたものと推察される。一方、比較例５〜８、１０および１２の評価後の再生ヘッドでは、ＧＭＲヘッドにヘッド付着物が付着していることが確認された。比較例５〜８および１０では、磁性層表面が削れて発生した削れ屑がヘッド付着物となっていると推察される。また、比較例１２では、磁性層表面の磨耗性が十分発揮されなかったことによりヘッド付着物が十分に除去されなかったと考えられる。
比較例９において低温高湿環境における繰り返し走行によりＳＮＲが顕著に低下した理由は、磁性層表面と再生ヘッドとの貼り付きが発生したことにあると考えられる。
これに対し実施例１〜８の磁気テープは、非磁性層と磁性層との合計厚みが０．６０μｍ以下であるものの、比較例３〜１２の磁気テープと比べてＳＮＲの低下が抑制された。
【産業上の利用可能性】
【０１０８】
本発明は、高密度記録用磁気テープの技術分野において有用である。
【図１】
2018170063.tif 000005