(57)【要約】【課題】フィルム５４を見栄え良く貼り付けることを目的とする。【解決手段】表示装置は、表示領域ＤＡ及び表示領域ＤＡを囲む周辺領域ＰＡを含む基板１０と、表示領域ＤＡに設けられた複数の発光素子４０と、複数の発光素子４０を封止するように、表示領域ＤＡから周辺領域ＰＡに至るように設けられ、表示領域ＤＡよりも周辺領域ＰＡにおいて低くなった上面を有する封止層４２と、少なくとも周辺領域ＰＡで封止層４２に積層して、表示領域ＤＡから周辺領域ＰＡに連続的に平坦面５０を形成するためのスペーサ層４８と、表示領域ＤＡから周辺領域ＰＡにわたって平坦面５０に貼り付けられたフィルム５４と、を有する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域及び前記表示領域外の周辺領域を含む基板と、
前記表示領域に設けられた複数の発光素子と、
前記複数の発光素子を封止するように、前記表示領域及び前記周辺領域に設けられ、前記表示領域よりも前記周辺領域において低くなった上面を有する封止層と、
少なくとも前記周辺領域で前記封止層に積層して、前記表示領域から前記周辺領域に連続的に平坦面を形成するためのスペーサ層と、
前記表示領域から前記周辺領域にわたって前記平坦面に貼り付けられたフィルムと、
を有することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載された表示装置において、
前記スペーサ層は、前記表示領域を避けて設けられ、
前記平坦面は、前記封止層の前記上面と前記スペーサ層の上面とを含むことを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１に記載された表示装置において、
前記スペーサ層は、前記表示領域及び前記周辺領域に連続的に設けられ、
前記平坦面は、前記スペーサ層の上面であることを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記封止層は、前記表示領域及び前記周辺領域に連続的に設けられて前記周辺領域で先端に向けて膜厚が薄くなる有機膜と、前記有機膜を上下で挟み前記有機膜の周囲で相互に接触する一対の無機膜と、を含むことを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記表示領域から前記周辺領域にわたって、前記フィルムと前記平坦面の間に連続的に介在する粘着層をさらに有することを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記スペーサ層の周縁は、前記フィルムの周縁と一致していることを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項１から５のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記スペーサ層の周縁は、前記フィルムの周縁から突出していることを特徴とする表示装置。
【請求項８】
請求項６又は７に記載された表示装置において、
前記基板の周縁は、前記スペーサ層の前記周縁と一致していることを特徴とする表示装置。
【請求項９】
請求項６又は７に記載された表示装置において、
前記基板の周縁は、前記スペーサ層の前記周縁から突出していることを特徴とする表示装置。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記スペーサ層は、黒色材料からなることを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記スペーサ層は、導電材料からなることを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、水分の影響を受けやすいため、表示素子が封止膜で覆われるようになっている（特許文献１）。また、バリア性を向上させるために、有機膜の上下を一対の無機膜で挟んだ構造の封止膜が知られている。有機膜は、表示領域からその周囲の額縁領域まで設けられており、額縁領域では、一対の無機膜が有機膜の周囲で接触して重なっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１３−１０５１４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
有機膜は、インクジェット法や印刷法などで厚く成膜するので、有機膜がある表示領域と、有機膜が無い額縁領域とで、封止膜の上面の高さに差が生じる。この状態で封止膜に偏光板等のフィルムを貼付すると、貼りつける面が平坦ではないため、フィルムがゆがんで貼付されて外観の不具合を生じる。
【０００５】
本発明は、フィルムを見栄え良く貼り付けることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る表示装置は、表示領域及び前記表示領域外の周辺領域を含む基板と、前記表示領域に設けられた複数の発光素子と、前記複数の発光素子を封止するように、前記表示領域及び前記周辺領域に設けられ、前記表示領域よりも前記周辺領域において低くなった上面を有する封止層と、少なくとも前記周辺領域で前記封止層に積層して、前記表示領域から前記周辺領域に連続的に平坦面を形成するためのスペーサ層と、前記表示領域から前記周辺領域にわたって前記平坦面に貼り付けられたフィルムと、を有することを特徴とする。
【０００７】
本発明によれば、スペーサ層によって平坦面が形成されるので、フィルムを見栄え良く貼り付けることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る表示装置の斜視図である。
【図２】図１に示す表示装置のII−II線断面図である。
【図３】図３(Ａ）〜図３（Ｃ）は、本発明の第１の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明するための図である。
【図４】図４(Ａ）〜図４（Ｂ）は、本発明の第１の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明するための図である。
【図５】本発明の第２の実施形態に係る表示装置を示す断面図である。
【図６】本発明の第３の実施形態に係る表示装置を示す断面図である。
【図７】本発明の第４の実施形態に係る表示装置を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。但し、本発明は、その要旨を逸脱しない範囲において様々な態様で実施することができ、以下に例示する実施形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。
【００１０】
図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。本明細書と各図において、既出の図に関して説明したものと同様の機能を備えた要素には、同一の符号を付して、重複する説明を省略することがある。
【００１１】
さらに、本発明の詳細な説明において、ある構成物と他の構成物の位置関係を規定する際、「上に」「下に」とは、ある構成物の直上あるいは直下に位置する場合のみでなく、特に断りの無い限りは、間にさらに他の構成物を介在する場合を含むものとする。
【００１２】
［第１の実施形態］
図１は、本発明の第１の実施形態に係る表示装置の斜視図である。表示装置として、有機エレクトロルミネッセンス表示装置を例に挙げる。表示装置は、例えば、赤、緑及び青からなる複数色の単位画素（サブピクセル）を組み合わせて、フルカラーの画素を形成し、フルカラーの画像を表示するようになっている。表示装置は、基板１０を有する。基板１０は、複数の画素がマトリクス状に配置された表示領域ＤＡを有する。基板１０は、表示領域ＤＡを囲む周辺領域ＰＡをさらに含む。基板１０には、外部との電気的接続のためにフレキシブルプリント基板１２が接続されている。
【００１３】
図２は、図１に示す表示装置のII−II線断面図である。基板１０は、樹脂又はガラスからなり、ポリイミドやポリエチレンテレフタラート等の可撓性を有するフィルムであってもよい。基板１０には、それ自体が含有する不純物に対するバリアとなるアンダーコート層（図示せず）が形成される。アンダーコート層は、シリコン酸化膜又はシリコン窒化膜等からなり、それらの積層構造であっても良い。アンダーコート層の上には半導体層１４が形成されている。半導体層１４にソース電極１６及びドレイン電極１８が電気的に接続し、半導体層１４を覆ってゲート絶縁膜２０が形成されている。ゲート絶縁膜２０の上にはゲート電極２２が形成され、ゲート電極２２を覆って層間絶縁膜２４が形成されている。ソース電極１６及びドレイン電極１８は、ゲート絶縁膜２０及び層間絶縁膜２４を貫通している。半導体層１４、ソース電極１６、ドレイン電極１８及びゲート電極２２によって薄膜トランジスタ２６が構成される。薄膜トランジスタ２６を覆うようにパッシベーション膜２８が設けられている。
【００１４】
パッシベーション膜２８の上には、平坦化層３０が設けられている。平坦化層３０の上には、複数の単位画素（サブピクセル）それぞれに対応するように構成された複数の画素電極３２（例えば陽極）が設けられている。平坦化層３０は、少なくとも画素電極３２が設けられる面が平坦になるように形成される。平坦化層３０としては、感光性アクリル樹脂等の有機材料が多く用いられる。画素電極３２は、平坦化層３０及びパッシベーション膜２８を貫通するコンタクトホールによって、半導体層１４上のソース電極１６及びドレイン電極１８の一方に電気的に接続している。
【００１５】
平坦化層３０及び画素電極３２上に、絶縁層３４が形成されている。絶縁層３４は、画素電極３２の周縁部に載り、画素電極３２の一部（例えば中央部）を開口させるように形成されている。絶縁層３４によって、画素電極３２の一部を囲むバンクが形成される。
【００１６】
画素電極３２上に発光層３６が設けられている。発光層３６は、画素電極３２ごとに別々に（分離して）設けられ、絶縁層３４にも載るようになっている。この場合は各画素に対応して青、赤又は緑で発光層３６が発光するようになる。各画素に対応する色はこれに限られず、例えば、黄又は白等でもよい。あるいは、発光層３６は、表示領域ＤＡ（図１参照）の全面を覆うように形成してもよい。つまり、発光層３６を絶縁層３４上で連続するように形成してもよい。発光層３６を複数の画素に亘るように形成する場合は、全サブピクセルにおいて白色で発光し、図示しないカラーフィルタを通して所望の色波長部分を取り出す構成になる。
【００１７】
発光層３６の上には、対向電極３８（共通電極又は陰極）が設けられている。対向電極３８は、バンクとなる絶縁層３４の上に載る。発光層３６並びに発光層３６を挟む画素電極３２及び対向電極３８を含む発光素子４０が構成される。複数の画素のそれぞれが発光素子４０を有する。表示領域ＤＡに複数の発光素子４０が設けられている。発光層３６は、画素電極３２及び対向電極３８に挟まれ、両者間を流れる電流によって輝度が制御されて発光する。発光層３６と画素電極３２との間には、図示しない正孔輸送層及び正孔注入層の少なくとも一層を設けてもよい。発光層３６と対向電極３８との間には、図示しない電子輸送層及び電子注入層の少なくとも一層を設けてもよい。
【００１８】
複数の発光素子４０は、封止層４２によって封止されることで水分から遮断される。封止層４２は、表示領域ＤＡから周辺領域ＰＡに至るように設けられる。封止層４２は、一対の無機膜４４の間に有機膜４６が挟まれる構造を有する。有機膜４６は、アクリル樹脂又はエポキシ樹脂などからなり、異物等を被覆することで封止性能を高めている。有機膜４６を上下で挟む一対の無機膜４４は、有機膜４６の周囲で相互に接触する。有機膜４６は、表示領域ＤＡ及び周辺領域ＰＡに連続的に設けられ、表示領域ＤＡでは数μｍ〜１０数μｍの厚みを有する。有機膜４６は、周辺領域ＰＡでは先端に向けて膜厚が徐々に薄くなっている。そのため、封止層４２の上面４２ａは、表示領域ＤＡよりも周辺領域ＰＡにおいて低くなっている。周辺領域ＰＡでは、上面４２ａは外方向に傾斜している。
【００１９】
少なくとも周辺領域ＰＡでは、スペーサ層４８が封止層４２に積層している。本実施形態では、スペーサ層４８は、表示領域ＤＡを避けて設けられている。スペーサ層４８は、黒色材料から形成して装飾を加えてもよいし、導電材料から形成して外部からの静電気を遮断してもよい。スペーサ層４８があることで、表示領域ＤＡから周辺領域ＰＡに連続的に平坦面５０が形成される。平坦面５０は、封止層４２の上面４２ａとスペーサ層４８の上面４８ａとを含む。基板１０の周縁は、スペーサ層４８の周縁と一致している。
【００２０】
表示領域ＤＡから周辺領域ＰＡにわたって、粘着層５２を介して、フィルム５４が平坦面５０に貼り付けられている。粘着層５２は、表示領域ＤＡから周辺領域ＰＡにわたって、フィルム５４と平坦面５０の間に連続的に介在する。スペーサ層４８の周縁は、フィルム５４の周縁と一致している。本実施形態によれば、スペーサ層４８によって平坦面５０が形成されるので、フィルム５４を見栄え良く貼り付けることができる。
【００２１】
図３(Ａ）〜図４（Ｂ）は、本発明の第１の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明するための図である。
【００２２】
本実施形態では、図３（Ａ）に示すように、基板１０に、薄膜トランジスタ２６及び発光素子４０を形成する。発光層３６は、画素電極３２ごとに分離するのであれば、蒸着により形成する。発光層３６は、表示領域ＤＡ（図１参照）を覆う全面に複数の画素に亘るように形成するのであれば、溶媒分散による塗布により形成する。
【００２３】
図３（Ｂ）に示すように、例えばＳｉＨ４やＮＨ３等を原料として化学気相成長によって、発光素子４０を覆うように無機膜４４を成膜する。続いて、図３（Ｃ）に示すように、無機膜４４の上に、紫外線硬化型樹脂又は熱硬化型樹脂のアクリル樹脂又はエポキシ樹脂などから有機膜４６を成膜する。材料の粘度が数ｍＰｓ・ｓ程度であればインクジェット法を適用し、数百ｍＰｓ・ｓ程度であれば、印刷法（スクリーン印刷または凹版印刷など）を適用する。有機膜４６は、表示領域ＤＡでは数μｍ〜１０数μｍの厚みで形成し、周辺領域ＰＡでは端部が流動して外方向に向けて徐々に薄くなる。
【００２４】
図４（Ａ）に示すように、有機膜４６の上に、例えばＳｉＨ４やＮＨ３等を原料として化学気相成長によって無機膜４４を成膜する。図４（Ｂ）に示すように、封止膜の上に、フォトレジスト材料などの樹脂を使用して、フォトリソグラフィを適用するか直接描画方式によってスペーサ層４８を形成する。その後、図２に示すように、粘着層５２を介して、平坦面５０を構成する封止膜の上面及びスペーサ層４８の上面にフィルム５４を貼り付ける。
【００２５】
［第２の実施形態］
図５は、本発明の第２の実施形態に係る表示装置を示す断面図である。本実施形態では、基板２１０の周縁が、スペーサ層２４８の周縁から突出している。なお、スペーサ層２４８の周縁はフィルム２５４の周縁と一致している。
【００２６】
製造プロセスにおいて多面取りを行う場合であっても、基板２１０を切り出した後にスペーサ層２４８を設けるのであれば、基板２１０からはみ出さないように余裕をもってスペーサ層２４８を設けると本実施形態の構造になる。これに対して、多面取りプロセスで、マザー基板をスペーサ層とともに切り出すと、基板とスペーサ層の周縁が一致して第１の実施形態で示す構造になる。
【００２７】
［第３の実施形態］
図６は、本発明の第３の実施形態に係る表示装置を示す断面図である。本実施形態では、スペーサ層３４８の周縁が、フィルム３５４の周縁から突出している。基板３１０の周縁は、スペーサ層３４８の周縁と一致している。
【００２８】
［第４の実施形態］
図７は、本発明の第４の実施形態に係る表示装置を示す断面図である。本実施形態では、スペーサ層４４８は、表示領域ＤＡ及び周辺領域ＰＡに連続的に設けられている。フィルム４５４が貼り付けられる平坦面４５０は、スペーサ層４４８の上面４４８ａである。
【００２９】
なお、表示装置は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置には限定されず、量子ドット発光素子（ＱＬＥＤ：Quantum‐Dot Light Emitting Diode）のような発光素子を各画素に備えた表示装置であってもよいし、液晶表示装置であってもよい。
【００３０】
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく種々の変形が可能である。例えば、実施形態で説明した構成は、実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成で置き換えることができる。
【符号の説明】
【００３１】
１０  基板、１２  フレキシブルプリント基板、１４  半導体層、１６  ソース電極、１８  ドレイン電極、２０  ゲート絶縁膜、２２  ゲート電極、２４  層間絶縁膜、２６  薄膜トランジスタ、２８  パッシベーション膜、３０  平坦化層、３２  画素電極、３４  絶縁層、３６  発光層、３８  対向電極、４０  発光素子、４２  封止層、４２ａ  上面、４４  無機膜、４６  有機膜、４８  スペーサ層、４８ａ  上面、５０  平坦面、５２  粘着層、５４  フィルム、２１０  基板、２４８  スペーサ層、２５４  フィルム、３１０  基板、３４８  スペーサ層、３５４  フィルム、４４８  スペーサ層、４４８ａ  上面、４５０  平坦面、４５４  フィルム、ＤＡ  表示領域、ＰＡ  周辺領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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