(57)【要約】【課題】プリント基板に樹脂基板を実装した後の樹脂基板の平坦性を向上する。【解決手段】半導体装置は、第１電極を有するプリント基板と、前記プリント基板側を向いた第１面、前記第１面の第１部分を囲む第２部分に形成された第２電極、前記第１面の反対側の第２面及び前記第１部分と平面視で重なる前記第２面の第３部分に形成された第３電極を有する樹脂基板と、前記第３電極に接合された接続端子を有する半導体チップと、前記プリント基板と前記樹脂基板との間に形成され、樹脂及び導電性粒子を含む導電性部材と、前記プリント基板と前記樹脂基板との間に形成され、前記第１電極及び前記第２電極に接合された半田バンプと、を備え、前記導電性部材が前記プリント基板に接触すると共に、前記樹脂基板の前記第１面の前記第１部分に接触している。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１電極を有するプリント基板と、
前記プリント基板側を向いた第１面、前記第１面の第１部分を囲む第２部分に形成された第２電極、前記第１面の反対側の第２面及び前記第１部分と平面視で重なる前記第２面の第３部分に形成された第３電極を有する樹脂基板と、
前記第３電極に接合された接続端子を有する半導体チップと、
前記プリント基板と前記樹脂基板との間に形成され、導電性粒子及び樹脂を含む導電性部材と、
前記プリント基板と前記樹脂基板との間に形成され、前記第１電極及び前記第２電極に接合された半田バンプと、
を備え、
前記導電性部材が前記プリント基板に接触すると共に、前記樹脂基板の前記第１面の前記第１部分に接触していることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記導電性部材は、グラウンド線又は電源線であることを特徴とする請求項１に記載の半導体装置。
【請求項３】
前記導電性粒子の粒径が、前記半田バンプの高さよりも小さいことを特徴とする請求項１又は２に記載の半導体装置。
【請求項４】
前記第３電極、前記半導体チップ及び前記接続端子が、平面視で前記導電性部材と重なっていることを特徴とする請求項１から３の何れか一項に記載の半導体装置。
【請求項５】
第１電極を有するプリント基板と、
前記プリント基板側を向いた第１面、前記第１面の第１部分を囲む第２部分に形成された第２電極、前記第１面の反対側の第２面及び前記第１部分と平面視で重なる前記第２面の第３部分に形成された第３電極を有する樹脂基板と、
前記プリント基板と前記樹脂基板との間に形成され、導電性粒子及び樹脂を含む導電性部材と、
前記プリント基板と前記樹脂基板との間に形成され、前記第１電極及び前記第２電極に接合された半田バンプと、
を備え、
前記導電性部材が前記プリント基板に接触すると共に、前記樹脂基板の前記第１面の前記第１部分に接触していることを特徴とする電子装置。
【請求項６】
プリント基板の上面に形成された第１電極上に半田バンプを形成する工程と、
前記プリント基板の前記上面に導電性粒子及び樹脂を含む導電性ペーストを形成する工程と、
第１面、前記第１面の第１部分を囲む第２部分に形成された第２電極、前記第１面の反対側の第２面及び前記第１部分と平面視で重なる前記第２面の第３部分に形成された第３電極を有する樹脂基板の前記第１面の前記第１部分を前記導電性ペーストに接触させて、前記樹脂基板を前記プリント基板に搭載する工程と、
第１加熱処理を行うことにより、前記半田バンプを前記第１電極及び前記第２電極に接合する工程と、
第２加熱処理を行うことにより、前記導電性ペーストを硬化する工程と、
半導体チップが有する接続端子を前記第３電極に接触させて、前記半導体チップを前記樹脂基板に搭載する工程と、
第３加熱処理を行うことにより、前記接続端子を前記第３電極に接合する工程と、
を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項７】
プリント基板の上面に形成された第１電極上に半田バンプを形成する工程と、
前記プリント基板の前記上面に導電性粒子及び樹脂を含む導電性ペーストを形成する工程と、
第１面、前記第１面の第１部分を囲む第２部分に形成された第２電極、前記第１面の反対側の第２面及び前記第１部分と平面視で重なる前記第２面の第３部分に形成された第３電極を有する樹脂基板の前記第１面の前記第１部分を前記導電性ペーストに接触させて、前記樹脂基板を前記プリント基板に搭載する工程と、
第１加熱処理を行うことにより、前記半田バンプを前記第１電極及び前記第２電極に接合する工程と、
第２加熱処理を行うことにより、前記導電性ペーストを硬化する工程と、
を備えることを特徴とする電子装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置、電子装置、半導体装置の製造方法及び電子装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体チップ（半導体素子）の高速化、高集積化に伴い、半導体チップを搭載したサーバなどでは、半導体チップ間を微細配線で接続すると共に、半導体チップ間の伝送速度も高速化してきている。半導体チップに貫通ビア（Through Silicon Via：ＴＳＶ）などを
形成し、半導体チップを積層して微細なバンプで半導体チップを接続することで、高速伝送を実現する３次元実装技術が開発されている。３次元実装技術では、半導体チップにＴＳＶを形成するため、半導体チップの高コスト化やプロセス上の課題も多く、３次元実装技術は、メモリなどの一部の用途に限定されている。また、半導体チップとプリント基板との間に中間基板としてシリコンインターポーザ等を配置し、シリコンインターポーザを介して高速伝送する２．５次元実装技術も開発されている。
【０００３】
２．５次元実装技術においても、シリコンインターポーザにＴＳＶを形成するため、シリコンインターポーザが高コストになる。これに対して、低コスト化を実現するため、ガラスインターポーザも開発されているが、実用化には至っていない。また、低コスト化を実現するため、樹脂インターポーザ（樹脂基板）を用いることが検討されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−２４４１０４号公報
【特許文献２】特開２０１０−１６１１８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
図１１は、樹脂インターポーザを用いた実装技術の工程図である。樹脂インターポーザを用いた実装技術では、図１１の（Ａ）に示すように、プリント基板１０１上に半田バンプ１１１を形成する。その後、図１１の（Ｂ）に示すように、フリップチップボンダで樹脂インターポーザ１０２をプリント基板１０１に実装し、図１１の（Ｃ）に示すように、樹脂インターポーザ１０２上に半導体チップ１０３を実装する。半導体チップ１０３には、例えば、高さ２５μｍ、Φ２５μｍ、４５μｍピッチのマイクロバンプ１３１が形成されており、樹脂インターポーザ１０２と半導体チップ１０３とがマイクロバンプ１３１を介して接合されている。マイクロバンプ１３１のサイズは小さいため、樹脂インターポーザ１０２の表面１２１の反りやうねりに対する許容値が小さい。したがって、樹脂インターポーザ１０２の表面１２１が平坦であることが好ましい。
【０００６】
樹脂インターポーザ１０２の材料は樹脂である。そのため、樹脂インターポーザ１０２をプリント基板１０１に実装した際、樹脂インターポーザ１０２は、樹脂インターポーザ１０２を支持する部材の剛性の影響を受ける。図１１の（Ｂ）及び（Ｃ）に示すように、プリント基板１０１と樹脂インターポーザ１０２との間に半田バンプ１１０及びソルダーレジスト１１１が形成され、半田バンプ１１０及びソルダーレジスト１１１によって樹脂インターポーザ１０２が支持されている。半田パンプ１１０の剛性の大きさとソルダーレジスト１１１の剛性の大きさとの差異から、樹脂インターポーザ１０２の形状が半田パンプ１１０の形状に追従することにより樹脂インターポーザ１０２にうねりが発生する。そのため、樹脂インターポーザ１０２の表面１２１に凹凸が発生する。樹脂インターポーザ
１０２が薄くなるほど、樹脂インターポーザ１０２の表面１２１の凹凸が大きくなる。例えば、樹脂インターポーザ１０２の厚さが２５μｍであり、半田バンプ１１０の高さが９０μｍである場合、樹脂インターポーザ１０２の表面の凹凸の高低差は５０〜６０μｍとなる。そのため、例えば、高さ２５μｍのマイクロバンプ１３１を介して、半導体チップ１０３を樹脂インターポーザ１０２に実装することは困難である。
【０００７】
本願は、プリント基板に樹脂基板を実装した後の樹脂基板の平坦性を向上する技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本願の一観点によれば、第１電極を有するプリント基板と、前記プリント基板側を向いた第１面、前記第１面の第１部分を囲む第２部分に形成された第２電極、前記第１面の反対側の第２面及び前記第１部分と平面視で重なる前記第２面の第３部分に形成された第３電極を有する樹脂基板と、前記第３電極に接合された接続端子を有する半導体チップと、前記プリント基板と前記樹脂基板との間に形成され、樹脂及び導電性粒子を含む導電性部材と、前記プリント基板と前記樹脂基板との間に形成され、前記第１電極及び前記第２電極に接合された半田バンプと、を備え、前記導電性部材が前記プリント基板に接触すると共に、前記樹脂基板の前記第１面の前記第１部分に接触している、半導体装置が提供される。
【０００９】
本願の一観点によれば、プリント基板の上面に形成された第１電極上に半田バンプを形成する工程と、前記プリント基板の前記上面に樹脂及び導電性粒子を含む導電性ペーストを形成する工程と、第１面、前記第１面の第１部分を囲む第２部分に形成された第２電極、前記第１面の反対側の第２面及び前記第１部分と平面視で重なる前記第２面の第３部分に形成された第３電極を有する樹脂基板の前記第１面の前記第１部分を前記導電性ペーストに接触させて、前記樹脂基板を前記プリント基板に搭載する工程と、第１加熱処理を行うことにより、前記半田バンプを前記第１電極及び前記第２電極に接合する工程と、第２加熱処理を行うことにより、前記導電性ペーストを硬化する工程と、半導体チップが有する接続端子を前記第３電極に接触させて、前記半導体チップを前記樹脂基板に搭載する工程と、第３加熱処理を行うことにより、前記接続端子を前記第３電極に接合する工程と、を備える半導体装置の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１０】
本願の一観点によれば、プリント基板に樹脂基板を実装した後の樹脂基板の平坦性を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、半導体装置の断面図である。
【図２】図２は、半導体装置の断面図である。
【図３】図３は、半導体装置の製造方法の一例を示す工程図である。
【図４】図４は、半導体装置の製造方法の一例を示す工程図である。
【図５Ａ】図５Ａは、プリント基板の平面図である。
【図５Ｂ】図５Ｂは、プリント基板の平面図である。
【図５Ｃ】図５Ｃは、プリント基板の平面図である。
【図６】図６は、半導体装置の製造方法の一例を示す工程図である。
【図７】図７は、半導体装置の製造方法の一例を示す工程図である。
【図８Ａ】図８Ａは、半導体装置の平面図である。
【図８Ｂ】図８Ｂは、半導体装置の平面図である。
【図８Ｃ】図８Ｃは、半導体装置の平面図である。
【図９】図９は、電子装置の断面図である。
【図１０】図１０は、電子装置の断面図である。
【図１１】図１１は、樹脂インターポーザを用いた実装技術の工程図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、図面を参照して実施形態に係る半導体装置、電子装置、半導体装置の製造方法及び電子装置の製造方法について説明する。以下に示す半導体装置、電子装置、半導体装置の製造方法及び電子装置の製造方法の構成は例示であり、本願は、実施形態に係る半導体装置、電子装置、半導体装置の製造方法及び電子装置の製造方法の構成に限定されない。
【００１３】
〈半導体装置１の構成〉
図１は、半導体装置１の断面図である。半導体装置１は、プリント基板２と、プリント基板２に実装された樹脂インターポーザ３と、樹脂インターポーザ３に実装された半導体チップ４とを備える。樹脂インターポーザ３は、樹脂基板の一例である。プリント基板２は、樹脂層（図示せず）と、樹脂層の内部に形成された配線層（図示せず）とを有する。プリント基板２は、金属パッド５Ａ，５Ｂを有する。金属パッド５Ａ，５Ｂは、プリント基板２の上面２１に形成されている。金属パッド５Ａは、第１電極の一例である。
【００１４】
樹脂インターポーザ３は、プリント基板２側を向いた第１面（下面）３１と、第１面３１の反対側の第２面（上面）３２とを有する。プリント基板２の上面２１と樹脂インターポーザ３の第１面３１とが向かい合っている。樹脂インターポーザ３は、樹脂インターポーザ３の第１面３１に形成された金属パッド６Ａ，６Ｂと、樹脂インターポーザ３の第２面３２に形成された金属パッド７と、を有する。金属パッド６Ａは、第２電極の一例である。金属パッド７は、第３電極の一例である。金属パッド５Ａ，５Ｂ，６Ａ，６Ｂ，７として、例えば、銅（Ｃｕ）又は表面にニッケル（Ｎｉ）、金（Ａｕ）などがメッキされた銅を用いてもよい。
【００１５】
金属パッド６Ａは、樹脂インターポーザ３の第１面３１の中央部分を囲む外周部分に形成され、金属パッド６Ｂは、樹脂インターポーザ３の第１面３１の中央部分に形成されている。樹脂インターポーザ３の第１面３１の中央部分は、第１面の第１部分の一例である。樹脂インターポーザ３の第１面３１の中央部分を囲む外周部分は、第１面の第１部分を囲む第２部分の一例である。金属パッド７は、樹脂インターポーザ３の第２面３２の中央部分に形成されている。樹脂インターポーザ３の第２面３２の中央部分は、樹脂インターポーザ３の第１面３１の中央部分と平面視で重なっている。例えば、樹脂インターポーザ３の第２面３２の中央部分の外縁（外周）が、樹脂インターポーザ３の第１面３１の中央部分の外縁（外周）と平面視で一致又は略一致していてもよい。樹脂インターポーザ３の第２面３２の中央部分は、第２面の第３部分の一例である。樹脂インターポーザ３は、樹脂インターポーザ３の内部に形成された配線層８を有する。配線層８は、配線及びビアを有する。配線層８を介して、金属パッド６Ａと金属パッド７とが電気的に接続され、金属パッド６Ｂと金属パッド７とが電気的に接続されている。
【００１６】
プリント基板２と樹脂インターポーザ３との間に、導電性部材１１、半田バンプ１２及びソルダーレジスト１３が形成されている。導電性部材１１は、導電性粒子及び樹脂を含む混合物である。導電性部材１１は、導電性ペーストを硬化することにより形成される。導電性部材１１に含まれる導電性粒子として、例えば、錫（Ｓｎ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、鉛（Ｐｂ）、パラジウム（Ｐｄ）及びニッケル（Ｎｉ）などから選択される少なくとも１種の金属又はこれらの合金或いはカーボン（Ｃ）を用いてもよい。導電性部材１１に含まれる樹脂として、例えば、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂などの高耐熱性樹脂を用いてもよい。半田バンプ１２として、例えば、錫又は錫を含む合金を用いてもよい。ソルダーレジスト１３は、例えば、感光性の絶縁樹脂である。ソルダーレジスト１３は、半田バンプ１２の周囲に形成されている。
【００１７】
導電性部材１１に含まれる導電性粒子の粒径は、半田バンプ１２の高さよりも小さい。導電性部材１１に含まれる導電性粒子の粒径が、半田バンプ１２の高さよりも大きい場合、樹脂インターポーザ３の中央部分と外周部分との間で段差が発生する可能性がある。導電性部材１１に含まれる導電性粒子の粒径が、半田バンプ１２の高さよりも小さいことにより、樹脂インターポーザ３の平坦性が向上する。導電性部材１１に含まれる導電性粒子の粒径は、１μｍ以上２５μｍ以下であることが好ましい。
【００１８】
導電性部材１１は、プリント基板２の上面２１に接触すると共に、樹脂インターポーザ３の第１面３１の中央部分に接触している。導電性部材１１は、プリント基板２の上面２１に形成された金属パッド５Ｂに電気的に接続されていると共に、樹脂インターポーザ３の第１面３１の中央部分に形成された金属パッド６Ｂに電気的に接続されている。導電性部材１１は、プリント基板２の上面２１に形成された金属パッド５Ｂに接合されていてもよい。導電性部材１１は、樹脂インターポーザ３の第１面３１に形成された金属パッド６Ｂに接合されていてもよい。半田バンプ１２は、プリント基板２の上面２１に形成された金属パッド５Ａに接合されていると共に、樹脂インターポーザ３の第１面３１の中央部分を囲む外周部分に形成された金属パッド６Ａに接合されている。
【００１９】
半導体チップ４の材料として、例えば、シリコン、窒化ガリウム（ＧａＮ）、ガリウムヒ素（ＧａＡｓ）及び炭化ケイ素（ＳｉＣ）を用いてもよい。半導体チップ４の下面４１に接続端子１４が形成されている。半導体チップ４の下面４１は、回路が形成された回路面であってもよい。樹脂インターポーザ３の第２面３２と半導体チップ４の下面４１とが向かい合っている。接続端子１４は、半導体チップ４の下面４１に形成された電極（図示せず）に電気的に接続されている。接続端子１４は、金属ポストであってもよい。金属ポストは、銅、銀、錫及び金などから選択される少なくとも１種の金属又はこれらの合金を用いて形成される。接続端子１４は、半田バンプであってもよい。樹脂インターポーザ３と半導体チップ４との間にアンダーフィル１５が形成されている。接続端子１４は、マイクロバンプとも呼ばれる。
【００２０】
導電性部材１１は、プリント基板２と半導体チップ４との間に形成された電源経路の一部であってもよい。導電性部材１１が電源線又はグラウンド線であってもよい。導電性部材１１を電源線として用いることにより、樹脂インターポーザ３の第１面３１の外周部分に電源線を形成するためのスペースを設けなくてもよいため、樹脂インターポーザ３の大型化を抑制することができる。導電性部材１１をグラインド線として用いることにより、樹脂インターポーザ３の第１面３１の外周部分にグラウンド線を形成するためのスペースを設けなくてもよいため、樹脂インターポーザ３の大型化を抑制することができる。したがって、プリント基板２に対する樹脂インターポーザ３の実装エリアの拡大を抑制することができる。また、複数の半田バンプ１２の一つが、プリント基板２と半導体チップ４との間に形成された電源経路の一部であってもよい。複数の半田バンプ１２の一つが電源線又はグラウンド線であってもよい。
【００２１】
半田バンプ１２を介して、プリント基板２と樹脂インターポーザ３との間で信号伝送が行われてもよい。樹脂インターポーザ３及び半田バンプ１２を介して、プリント基板２と半導体チップ４との間で信号伝送が行われてもよい。半田バンプ１２が、プリント基板２と半導体チップ４との間に形成された信号経路の一部であってもよい。半田バンプ１２が、信号線であってもよい。
【００２２】
導電性部材１１は、プリント基板２の上面２１に接触すると共に、樹脂インターポーザ３の第１面３１の中央部分に接触している。導電性部材１１に含まれる導電性粒子と導電性粒子との間の隙間が小さいため、導電性部材１１の剛性が大きい。導電性部材１１が樹
脂インターポーザ３の中央部分を支持することにより、樹脂インターポーザ３をプリント基板２に実装した際、樹脂インターポーザ３の中央部分の変形が抑制される。したがって、樹脂インターポーザ３の第２面３２の中央部分の凹凸が抑制され、樹脂インターポーザ３の第２面３２の中央部分の平坦性が向上する。これにより、樹脂インターポーザ３の第２面３２の中央部分に半導体チップ４を実装した際、樹脂インターポーザ３と接続端子１４との接合が確保されると共に、半導体チップ４と接続端子１４との接合が確保される。樹脂インターポーザ３の第２面３２の中央部分の平坦性が向上しているため、接続端子１４として微細なマイクロバンプを用いて半導体チップ４を樹脂インターポーザ３に実装することができる。
【００２３】
導電性部材１１の外形サイズが大きくなるにつれて、樹脂インターポーザ３の第２面３２における平坦部分が大きくなるが、樹脂インターポーザ３の外形サイズも大きくなる。プリント基板２に対する樹脂インターポーザ３の実装エリアの拡大を抑制するため、樹脂インターポーザ３の第２面３２における半導体チップ４の実装領域のサイズと、導電性部材１１の外形サイズとが一致又は略一致していることが好ましい。樹脂インターポーザ３の第２面３２における半導体チップ４の実装領域は、樹脂インターポーザ３の第２面３２の中央部分である。したがって、樹脂インターポーザ３の第２面３２の中央部分のサイズと、導電性部材１１の外形サイズとが一致又は略一致していることが好ましい。金属パッド７、半導体チップ４及び接続端子１４が、平面視で導電性部材１１と重なっていてもよい。金属パッド７、半導体チップ４及び接続端子１４が、平面視で導電性部材１１と重なることにより、樹脂インターポーザ３の第２面３２における半導体チップ４の実装領域の平坦性が向上する。
【００２４】
図２に示すように、プリント基板２と樹脂インターポーザ３との間に導電性部材１１Ａ，１１Ｂを形成してもよい。図２は、半導体装置１の断面図である。図２に示す半導体チップ４Ａ，４Ｂ、金属パッド７Ａ，７Ｂ、導電性部材１１Ａ，１１Ｂ及び接続端子１４Ａ，１４Ｂの各構成は、図１に示す半導体チップ４、金属パッド７、導電性部材１１及び接続端子１４の各構成と同様である。例えば、導電性部材１１Ａが電源線であり、導電性部材１１Ｂがグラウンド線であってもよい。また、例えば、導電性部材１１Ａがグラウンド線であり、導電性部材１１Ｂが電源線であってもよい。
【００２５】
導電性部材１１Ａは、プリント基板２の上面２１に形成された金属パッド５Ｂに電気的に接続されていると共に、樹脂インターポーザ３の第１面３１に形成された金属パッド６Ｂに電気的に接続されている。導電性部材１１Ｂは、プリント基板２の上面２１に形成された金属パッド５Ｃに電気的に接続されていると共に、樹脂インターポーザ３の第１面３１に形成された金属パッド６Ｃに電気的に接続されている。導電性部材１１Ａは、プリント基板２の上面２１に形成された金属パッド５Ｂに接合されていてもよい。導電性部材１１Ａは、樹脂インターポーザ３の第１面３１に形成された金属パッド６Ｂに接合されていてもよい。導電性部材１１Ｂは、プリント基板２の上面２１に形成された金属パッド５Ｃに接合されていてもよい。導電性部材１１Ｂは、樹脂インターポーザ３の第１面３１に形成された金属パッド６Ｃに接合されていてもよい。金属パッド５Ｃ，６Ｃの各構成は、金属パッド５Ｂ，６Ｂの各構成と同様である。
【００２６】
導電性部材１１Ａを電源線として用い、導電性部材１１Ｂをグラウンド線として用いることにより、樹脂インターポーザ３の第１面３１の外周部分に電源線及びグラウンド線を形成するためのスペースを設けなくてもよいため、樹脂インターポーザ３の大型化を抑制することができる。導電性部材１１Ａをグラウンド線として用い、導電性部材１１Ｂを電源線として用いることにより、樹脂インターポーザ３の第１面３１の外周部分に電源線及びグラウンド線を形成するためのスペースを設けなくてもよいため、樹脂インターポーザ３の大型化を抑制することができる。したがって、プリント基板２に対する樹脂インター
ポーザ３の実装エリアの拡大を抑制することができる。
【００２７】
樹脂インターポーザ３の第２面３２における半導体チップ４Ａの実装領域のサイズと、導電性部材１１Ａの外形サイズとが一致又は略一致していることが好ましい。樹脂インターポーザ３の第２面３２における半導体チップ４Ｂの実装領域のサイズと、導電性部材１１Ｂの外形サイズとが一致又は略一致していることが好ましい。金属パッド７Ａ、半導体チップ４Ａ及び接続端子１４Ａが、平面視で導電性部材１１Ａと重なっていてもよい。金属パッド７Ａ、半導体チップ４Ａ及び接続端子１４Ａが、平面視で導電性部材１１Ａと重なることにより、樹脂インターポーザ３の第２面３２における半導体チップ４Ａの実装領域における平坦性が向上する。金属パッド７Ｂ、半導体チップ４Ｂ及び接続端子１４Ｂが、平面視で導電性部材１１Ｂと重なっていてもよい。金属パッド７Ｂ、半導体チップ４Ｂ及び接続端子１４Ｂが、平面視で導電性部材１１Ｂと重なることにより、樹脂インターポーザ３の第２面３２における半導体チップ４Ｂの実装領域の平坦性が向上する。
【００２８】
〈半導体装置１の製造方法〉
図３から図８Ｃを参照して、半導体装置１の製造方法の一例を説明する。図３に示すように、プリント基板２を配置した後、プリント基板２の上面２１に半田バンプ１２を形成する。この場合、プリント基板２の上面２１に金属パッド５Ａが形成されているので、半田バンプ１２は、金属パッド５Ａ上に形成される。例えば、メタルマスクを用いて半田ペーストを印刷した後、リフロー加熱処理を行い、半田ペーストをバンプ形状に成形することにより、金属パッド５Ａ上に半田バンプ１２を形成してもよい。また、例えば、半田ボールを金属パッド５Ａ上に載置することにより、金属パッド５Ａ上に半田バンプ１２を形成してもよい。次に、プリント基板２の上面２１にソルダーレジスト１３を形成する。ソルダーレジスト１３は、半田バンプ１２を覆っている。半田バンプ１２の頭頂部分は、ソルダーレジスト１３から露出している。感光性のソルダーレジスト１３を用いてもよい。感光性のソルダーレジスト１３を用いる場合、露光及び現像を行うことにより、ソルダーレジスト１３のパターニングが行われる。
【００２９】
図４に示すように、プリント基板２の上面２１に導電性ペースト５１を形成する。導電性ペースト５１は、導電性粒子及び樹脂を含む。導電性ペースト５１に含まれる導電性粒子は分散している。例えば、メタルマスクを用いて導電性ペースト５１を印刷することによりプリント基板２の上面２１に導電性ペースト５１を形成する。導電性ペースト５１は、金属パッド５Ｂを覆っている。図５Ａは、プリント基板２の平面図である。図５Ａに示すプリント基板２の一例では、ソルダーレジスト１３の図示が省略されている。図５Ａに示すように、複数の半田バンプ１２によって囲まれた領域内に導電性ペースト５１が形成されている。
【００３０】
図４及び図５Ａに示す例に限らず、プリント基板２の上面２１に複数の導電性ペースト５１を形成してもよい。例えば、図５Ｂに示すように、プリント基板２の上面２１に導電性ペースト５１Ａ，５１Ｂを形成してもよい。図５Ｂは、プリント基板２の平面図である。図５Ｂに示すプリント基板２の一例では、ソルダーレジスト１３の図示が省略されている。図５Ｂに示すように、複数の半田バンプ１２によって囲まれた領域内に導電性ペースト５１Ａ，５１Ｂが形成されている。例えば、図５Ｃに示すように、プリント基板２の上面２１に導電性ペースト５１Ａ〜５１Ｄを形成してもよい。図５Ｃは、プリント基板２の平面図である。図５Ｃに示すプリント基板２の一例では、ソルダーレジスト１３の図示が省略されている。図５Ｃに示すように、複数の半田バンプ１２によって囲まれた領域内に導電性ペースト５１Ａ〜５１Ｄが形成されている。導電性ペースト５１Ａ〜５１Ｄの各構成は、導電性ペースト５１の構成と同様である。
【００３１】
図６に示すように、プリント基板２に樹脂インターポーザ３を実装する。樹脂インター
ポーザ３の実装を以下のように行ってもよい。フリップチップボンダやマウンターを用いて、樹脂インターポーザ３の位置合わせを行った後、プリント基板２に樹脂インターポーザ３を搭載する。この場合、導電性ペースト５１が樹脂インターポーザ３の第１面３１の中央部分に接触し、半田バンプ１２が樹脂インターポーザ３の第１面３１の外周部分に形成されている金属パッド６Ａに接触する。このように、樹脂インターポーザ３の第１面３１の中央部分を導電性ペースト５１に接触させ、かつ、金属パッド６Ａを半田バンプ１２に接触させて、樹脂インターポーザ３をプリント基板２に搭載する。
【００３２】
次に、リフロー加熱処理を行うことにより、金属パッド５Ａに半田バンプ１２を接合する共に、金属パッド６Ａに半田バンプ１２を接合する。リフロー加熱処理を行うことで、半田バンプ１２が溶融し、半田バンプ１２が金属パッド５Ａ，６Ａに接合する。半田バンプ１２を金属パッド５Ａ，５Ｂに接合するときのリフロー加熱処理は、第１加熱処理の一例である。
【００３３】
次いで、加熱処理を行い、導電性ペースト５１を硬化することにより導電性部材１１を形成する。加熱処理を行うことで、導電性ペースト５１に含まれる樹脂が硬化することにより、導電性ペースト５１が硬化する。加熱処理を行うことにより、導電性ペースト５１に含まれる導電性粒子を溶融させてもよい。半田バンプ１２が溶融するのに要する時間は短く、導電性ペースト５１が硬化するのに要する時間は長いので、半田バンプ１２を金属パッド５Ａ，５Ｂに接合するときのリフロー加熱処理の処理時間は、導電性ペースト５１を硬化するときの加熱処理の処理時間よりも短い。導電性ペースト５１を硬化するときの加熱処理は、第２加熱処理の一例である。
【００３４】
図７に示すように、樹脂インターポーザ３に半導体チップ４を実装する。半導体チップ４の実装を以下のように行ってもよい。フリップチップボンダやマウンターを用いて、半導体チップ４の位置合わせを行った後、樹脂インターポーザ３に半導体チップ４を搭載する。この場合、半導体チップ４の接続端子１４が樹脂インターポーザ３の金属パッド７に接触する。このように、半導体チップ４が有する接続端子１４を樹脂インターポーザ３の金属パッド７に接触させて、半導体チップ４を樹脂インターポーザ３に搭載する。
【００３５】
次いで、リフロー加熱処理を行うことにより、金属パッド７に接続端子１４を接合する。リフロー加熱処理を行うことで、接続端子１４が溶融し、接続端子１４が金属パッド７に接合する。接続端子１４を金属パッド７に接合するときのリフロー加熱処理は、第３加熱処理の一例である。次に、樹脂インターポーザ３と半導体チップ４との間にアンダーフィル１５を流し込んだ後、キュア（加熱処理）を行うことにより、アンダーフィル１５を硬化する。図３、図４、図６及び図７に示す工程が行われることにより、半導体装置１が製造される。
【００３６】
図８Ａから図８Ｃは、半導体装置１の平面図である。図８Ａから図８Ｃに示す半導体装置１の各例では、樹脂インターポーザ３の外形部分が点線で示されており、ソルダーレジスト１３の図示が省略されている。図８Ａに示す半導体装置１は、一つの半導体チップ４を備える。図８Ｂに示す半導体装置１は、２つの半導体チップ４を備える。図８Ｃに示す半導体装置１は、４つの半導体チップ４を備える。
【００３７】
〈電子装置１０の構成〉
図９は、電子装置１０の断面図である。電子装置１０は、プリント基板２と、プリント基板２に実装された樹脂インターポーザ３とを備える。樹脂インターポーザ３は、樹脂インターポーザ３の第１面３１に形成された金属パッド６Ａ，６Ｂと、樹脂インターポーザ３の第２面３２に形成された金属パッド７と、を有する。樹脂インターポーザ３に半導体チップ４が実装される際、樹脂インターポーザ３の金属パッド７に半導体チップ４の接続
端子１４が接合される。
【００３８】
プリント基板２と樹脂インターポーザ３との間には導電性部材１１、半田バンプ１２及びソルダーレジスト１３が形成されている。導電性部材１１は、プリント基板２の上面２１に接触すると共に、樹脂インターポーザ３の第１面３１の中央部分に接触している。導電性部材１１は、プリント基板２の上面２１に形成された金属パッド５Ｂに電気的に接続されていると共に、樹脂インターポーザ３の第１面３１の中央部分に形成された金属パッド６Ｂに電気的に接続されている。導電性部材１１は、プリント基板２の上面２１に形成された金属パッド５Ｂに接合されていてもよい。導電性部材１１は、樹脂インターポーザ３の第１面３１に形成された金属パッド６Ｂに接合されていてもよい。半田バンプ１２は、プリント基板２の上面２１に形成された金属パッド５Ａに接合されていると共に、樹脂インターポーザ３の第１面３１であって中央部分を囲む外周部分に形成された金属パッド６Ａに接合されている。
【００３９】
導電性部材１１は、プリント基板２と樹脂インターポーザ３との間に形成された電源経路の一部であってもよい。導電性部材１１が電源線又はグラウンド線であってもよい。複数の半田バンプ１２の一つが、プリント基板２と樹脂インターポーザ３との間に形成された電源経路の一部であってもよい。複数の半田バンプ１２の一つが電源線又はグラウンド線であってもよい。
【００４０】
半田バンプ１２を介して、プリント基板２と樹脂インターポーザ３との間で信号伝送が行われてもよい。半田バンプ１２が、プリント基板２と樹脂インターポーザ３との間に形成された信号経路の一部であってもよい。半田バンプ１２が、信号線であってもよい。
【００４１】
導電性部材１１は、プリント基板２の上面２１に接触すると共に、樹脂インターポーザ３の第１面３１の中央部分に接触している。導電性部材１１に含まれる導電性粒子と導電性粒子との間の隙間が小さいため、導電性部材１１の剛性が大きい。導電性部材１１が樹脂インターポーザ３の中央部分を支持することにより、樹脂インターポーザ３の中央部分の変形が抑制される。したがって、樹脂インターポーザ３の第２面３２の中央部分の凹凸が抑制され、樹脂インターポーザ３の第２面３２の中央部分の平坦性が向上する。これにより、樹脂インターポーザ３の第２面３２の中央部分に半導体チップ４を実装した際、樹脂インターポーザ３と接続端子１４との接合が確保されると共に、半導体チップ４と接続端子１４との接合が確保される。樹脂インターポーザ３の第２面３２の中央部分の平坦性が向上しているため、接続端子１４として微細なマイクロバンプを用いて半導体チップ４を樹脂インターポーザ３に実装することができる。
【００４２】
金属パッド７、半導体チップ４及び接続端子１４が、平面視で導電性部材１１と重なっていてもよい。金属パッド７、半導体チップ４及び接続端子１４が、平面視で導電性部材１１と重なることにより、樹脂インターポーザ３の第２面３２における半導体チップ４の実装領域の平坦性が向上する。
【００４３】
図１０に示すように、プリント基板２と樹脂インターポーザ３との間に導電性部材１１Ａ，１１Ｂを形成してもよい。図１０は、電子装置１０の断面図である。樹脂インターポーザ３に半導体チップ４が実装される際、樹脂インターポーザ３の金属パッド７Ａに半導体チップ４Ａの接続端子１４Ａが接合される。樹脂インターポーザ３に半導体チップ４Ｂが実装される際、樹脂インターポーザ３の金属パッド７Ｂに半導体チップ４Ｂの接続端子１４Ｂが接合される。
【００４４】
例えば、導電性部材１１Ａが電源線であり、導電性部材１１Ｂがグラウンド線であってもよい。また、例えば、導電性部材１１Ａがグラウンド線であり、導電性部材１１Ｂが電
源線であってもよい。導電性部材１１Ａは、プリント基板２の上面２１に形成された金属パッド５Ｂに電気的に接続されていると共に、樹脂インターポーザ３の第１面３１に形成された金属パッド６Ｂに電気的に接続されている。導電性部材１１Ｂは、プリント基板２の上面２１に形成された金属パッド５Ｃに電気的に接続されていると共に、樹脂インターポーザ３の第１面３１に形成された金属パッド６Ｃに電気的に接続されている。導電性部材１１Ａは、プリント基板２の上面２１に形成された金属パッド５Ｂに接合されていてもよい。導電性部材１１Ａは、樹脂インターポーザ３の第１面３１に形成された金属パッド６Ｂに接合されていてもよい。導電性部材１１Ｂは、プリント基板２の上面２１に形成された金属パッド５Ｃに接合されていてもよい。導電性部材１１Ｂは、樹脂インターポーザ３の第１面３１に形成された金属パッド６Ｃに接合されていてもよい。
【００４５】
導電性部材１１Ａを電源線として用い、導電性部材１１Ｂをグラウンド線として用いることにより、樹脂インターポーザ３の第１面３１の外周部分に電源線及びグラウンド線を形成するためのスペースを設けなくてもよいため、樹脂インターポーザ３の大型化を抑制することができる。導電性部材１１Ａをグラウンド線として用い、導電性部材１１Ｂを電源線として用いることにより、樹脂インターポーザ３の第１面３１の外周部分に電源線及びグラウンド線を形成するためのスペースを設けなくてもよいため、樹脂インターポーザ３の大型化を抑制することができる。したがって、プリント基板２に対する樹脂インターポーザ３の実装エリアの拡大を抑制することができる。
【００４６】
金属パッド７Ａが、平面視で導電性部材１１Ａと重なっていてもよい。金属パッド７Ａ、半導体チップ４Ａ及び接続端子１４Ａが、平面視で導電性部材１１Ａと重なことにより、樹脂インターポーザ３の第２面３２における半導体チップ４Ａの実装領域における平坦性が向上する。金属パッド７Ｂが、平面視で導電性部材１１Ｂと重なっていてもよい。金属パッド７Ｂ、半導体チップ４Ｂ及び接続端子１４Ｂが、平面視で導電性部材１１Ｂと重なることにより、樹脂インターポーザ３の第２面３２における半導体チップ４Ｂの実装領域の平坦性が向上する。
【００４７】
〈電子装置１０の製造方法〉
電子装置１０は、半導体装置１の製造方法と同様の方法によって製造される。例えば、図３、図４及び図６に示す工程と同様の工程が行われることにより、電子装置１０が製造される。
【００４８】
〈実施例１〉
以下、半導体装置１について、実施例を挙げて説明する。厚さ０．３ｍｍのプリント基板２を用意し、Φ９０μｍの金属パッド５Ａ上に鉛フリー半田ペースト（千住金属工業社製、型番：Ｍ７０５）を印刷により形成した。金属パッド５Ａは、銅、ニッケル及び金を有する。リフロー加熱処理を行い、半田ペーストをバンプ形状に成形することにより、金属パッド５Ａ上に半田バンプ１２を形成した。半田バンプ１２の直径はΦ９０μｍであり、半田バンプ１２の高さは９０μｍである。銀ペースト（バンドー化学社製）を印刷することによりプリント基板２の上面２１に銀ペーストを形成した。
【００４９】
樹脂インターポーザ３を用意し、フリップチップボンダを用いて樹脂インターポーザ３の位置合わせを行い、プリント基板２に樹脂インターポーザ３を搭載した。樹脂インターポーザ３の第１面３１の外周部分にΦ９０μｍの金属パッド６Ａが形成され、樹脂インターポーザ３の第２面３２の中央部分にΦ２５μｍの金属パッド７が形成されている。リフロー加熱処理を行い、金属パッド５Ａに半田バンプ１２を接合した。リフロー加熱処理の処理温度は２６０℃とし、リフロー加熱処理の処理時間は６０秒とした。加熱処理を行い、銀ペーストを硬化することにより導電性部材１１を形成した。
【００５０】
接続端子１４を有する半導体チップ４を用意し、リフロー加熱処理を行い、半導体チップ７の接続端子１４を金属パッド７に接合した。接続端子１４は、Φ２５μｍ、高さ２０μｍの銅ポストと、銅ポスト上に形成された高さ１０μｍのＳｎＡｇ半田とを有する。樹脂インターポーザ３と半導体チップ４との間にアンダーフィル１５を流し込んだ後、１６５℃のキュア（加熱処理）を行うことにより、アンダーフィル１５を硬化して、半導体装置１を製造した。
【００５１】
〈実施例２〉
以下、電子装置１０について、実施例を挙げて説明する。厚さ０．３ｍｍのプリント基板２を用意し、Φ９０μｍの金属パッド５Ａ上に鉛フリー半田ペースト（千住金属工業社製、型番：Ｍ７０５）を印刷により形成した。金属パッド５Ａは、銅、ニッケル及び金を有する。リフロー加熱処理を行い、半田ペーストをバンプ形状に成形することにより、金属パッド５Ａ上に半田バンプ１２を形成した。半田バンプ１２の直径はΦ９０μｍであり、半田バンプ１２の高さは９０μｍである。銀ペースト（バンドー化学社製）を印刷することによりプリント基板２の上面２１に銀ペーストを形成した。
【００５２】
樹脂インターポーザ３を用意し、フリップチップボンダを用いて樹脂インターポーザ３の位置合わせを行い、プリント基板２に樹脂インターポーザ３を搭載した。樹脂インターポーザ３の第１面３１の外周部分にΦ９０μｍの金属パッド６Ａが形成され、樹脂インターポーザ３の第２面３２の中央部分にΦ２５μｍの金属パッド７が形成されている。リフロー加熱処理を行い、金属パッド５Ａに半田バンプ１２を接合した。リフロー加熱処理の処理温度は２６０℃とし、リフロー加熱処理の処理時間は６０秒とした。加熱処理を行い、銀ペーストを硬化することにより導電性部材１１を形成して、電子装置１０を製造した。
【符号の説明】
【００５３】
１    半導体装置
２    プリント基板
３    樹脂インターポーザ
４    半導体チップ
５Ａ、５Ｂ、６Ａ、６Ｂ、７、７Ａ、７Ｂ    金属パッド
８    配線層
１０    電子装置
１１、１１Ａ、１１Ｂ  導電性部材
１２  半田バンプ
１３  ソルダーレジスト
１４、１４Ａ、１４Ｂ  接続端子
１５  アンダーフィル
５１  導電性ペースト
【図１】
2018037520.tif 000003
【図２】
2018037520.tif 000004
【図３】
2018037520.tif 000005
【図４】
2018037520.tif 000006
【図５Ａ】
2018037520.tif 000007
【図５Ｂ】
2018037520.tif 000008
【図５Ｃ】
2018037520.tif 000009
【図６】
2018037520.tif 000010
【図７】
2018037520.tif 000011
【図８Ａ】
2018037520.tif 000012
【図８Ｂ】
2018037520.tif 000013
【図８Ｃ】
2018037520.tif 000014
【図９】
2018037520.tif 000015
【図１０】
2018037520.tif 000016
【図１１】
2018037520.tif 000017