(57)【要約】【課題】少ない工程で製造することができるタッチ電極を有する表示装置の提供を目的とする。【解決手段】表示装置は、表示領域ＤＡから周辺領域ＰＡまで第１方向Ｄ１にそれぞれ連続して延び、回路層１８に載る複数の第１タッチ電極６０と、複数の第１タッチ電極６０のうち第２方向Ｄ２に隣り合う一対の第１タッチ電極６０の間に第１方向Ｄ１に配列され、表示領域ＤＡで回路層１８に載る複数のパッド部７４と、複数のパッド部７４にそれぞれ接続され、表示領域ＤＡから周辺領域ＰＡまで第１方向Ｄ１にそれぞれ連続して延び、回路層１８に載る複数のライン部７６と、を有する。複数のパッド部７４及び複数のライン部７６は、複数の第２タッチ電極６２を構成する。複数の配線は、複数の第１タッチ電極６０及び複数の第２タッチ電極６２の少なくとも一方のタッチ電極群に接続される複数の下部センシング配線８２を含む。【選択図】図３
2018200572.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域に表示回路を有し、前記表示領域の外側にある周辺領域に複数の配線を有する回路層と、
前記表示領域から前記周辺領域まで第１方向にそれぞれ連続して延び、前記第１方向に交差する第２方向に並列して、前記回路層に載る複数の第１タッチ電極と、
前記複数の第１タッチ電極のうち前記第２方向に隣り合う一対の第１タッチ電極の間に前記第１方向に少なくとも一列で配列され、前記表示領域で前記回路層に載る複数のパッド部と、
前記複数のパッド部にそれぞれ接続され、前記表示領域から前記周辺領域まで前記第１方向にそれぞれ連続して延び、前記第２方向に並列して、前記回路層に載る複数のライン部と、
を有し、
前記複数のパッド部及び前記複数のライン部は、複数の第２タッチ電極を構成し、
前記複数の第１タッチ電極及び前記複数の第２タッチ電極は、少なくとも相互容量方式によるタッチセンシングのための電極群であり、
前記複数の配線は、前記表示回路に接続される複数の表示用配線と、前記複数の第１タッチ電極及び前記複数の第２タッチ電極の少なくとも一方のタッチ電極群に接続される複数の下部センシング配線と、を含むことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載された表示装置において、
前記周辺領域で前記回路層に載る複数の上部センシング配線をさらに有し、
前記複数の第１タッチ電極は、前記複数の上部センシング配線に接続され、
前記複数の下部センシング配線は、前記複数の第１タッチ電極には接続されずに、前記複数の第２タッチ電極に接続されることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項２に記載された表示装置において、
前記周辺領域は、前記表示領域を前記第１方向に挟む第１周辺領域及び第２周辺領域を含み、
前記複数の下部センシング配線は、少なくとも前記第１周辺領域にあり、
前記複数の上部センシング配線は、少なくとも前記第２周辺領域にあることを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項１に記載された表示装置において、
前記複数の下部センシング配線は、前記複数の第１タッチ電極に接続される第１群の配線と、前記複数の第２タッチ電極に接続される第２群の配線と、を含み、
前記第１群の配線及び前記第２群の配線は、前記表示領域から同じ方向の側にあることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記複数の下部センシング配線のそれぞれは、前記少なくとも一方のタッチ電極群のうち、１つ又はそれ以上のタッチ電極に接続されて残りの複数のタッチ電極とは接続されないことを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項５に記載された表示装置において、
前記少なくとも一方のタッチ電極群と前記複数の下部センシング配線の間に介在する絶縁層をさらに有し、
前記複数の下部センシング配線のそれぞれと、前記１つ又はそれ以上のタッチ電極とは、前記絶縁層を貫通して接続され、
前記複数の下部センシング配線のそれぞれと、前記残りの複数のタッチ電極の少なくとも１つとは、前記絶縁層で絶縁されて立体交差することを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記複数のパッド部は、前記第２方向に隣り合う前記一対の第１タッチ電極の間に前記第１方向に複数列で配列され、
前記複数のライン部は、前記第２方向に隣り合う前記パッド部の間に位置することを特徴とする表示装置。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記複数の第１タッチ電極のそれぞれは、前記第２方向に相対的に広い複数の拡大部及び狭い複数の縮小部を前記第１方向に交互に有し、
前記第２方向に隣り合う前記第１タッチ電極は、前記拡大部を前記第２方向に隣り合うように有し、前記縮小部を前記第２方向に隣り合うように有し、
前記第２方向に隣り合う前記縮小部の間に、前記複数のパッド部のそれぞれが配置されていることを特徴とする表示装置。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記複数の第１タッチ電極のそれぞれは、前記第２方向に隣り合う前記複数のパッド部のそれぞれに向けて突出する凸部を有し、
前記複数のパッド部のそれぞれは、前記凸部を避けるように凹部を有することを特徴とする表示装置。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記複数の第１タッチ電極及び前記複数の第２タッチ電極のうち第１群の電極にパルス電圧を印加するためのパルス発生器と、
前記複数の第１タッチ電極及び前記複数の第２タッチ電極のうち第２群の電極のそれぞれを通して前記パルス電圧に対応する物理量を測定する測定器と、
をさらに有することを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記複数の第１タッチ電極のそれぞれの少なくとも一部及び前記複数の第２タッチ電極のそれぞれの少なくとも一部は、画像を構成するための複数の画素を避けるように、メッシュ状に構成されていることを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
スマートフォンなどの携帯端末は、タッチセンサを備えていることが一般的になってきている。特許文献１及び２には、相互容量方式のタッチ電極を有機エレクトロルミネッセンス素子の封止膜に設けることが開示されている。相互容量方式では、縦方向に延びる縦電極と、横方向に延びる横電極と、を使用してタッチセンシングを行う。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１５−５０２４５号公報
【特許文献２】特開２０１５−１０３４６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
縦電極と横電極を同一層に形成しようとすると、層間絶縁層を介して、ジャンパ配線が必要になる。つまり、相互容量方式のタッチ電極を実現するためには２層の導電層、層間絶縁膜、層間スルーホール等の構造が必要であり、３層以上のフォトエッチングプロセスを必要とするという課題があった。
【０００５】
本発明は、少ない工程で製造することができるタッチ電極を有する表示装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る表示装置は、表示領域に表示回路を有し、前記表示領域の外側にある周辺領域に複数の配線を有する回路層と、前記表示領域から前記周辺領域まで第１方向にそれぞれ連続して延び、前記第１方向に交差する第２方向に並列して、前記回路層に載る複数の第１タッチ電極と、前記複数の第１タッチ電極のうち前記第２方向に隣り合う一対の第１タッチ電極の間に前記第１方向に少なくとも一列で配列され、前記表示領域で前記回路層に載る複数のパッド部と、前記複数のパッド部にそれぞれ接続され、前記表示領域から前記周辺領域まで前記第１方向にそれぞれ連続して延び、前記第２方向に並列して、前記回路層に載る複数のライン部と、を有し、前記複数のパッド部及び前記複数のライン部は、複数の第２タッチ電極を構成し、前記複数の第１タッチ電極及び前記複数の第２タッチ電極は、少なくとも相互容量方式によるタッチセンシングのための電極群であり、前記複数の配線は、前記表示回路に接続される複数の表示用配線と、前記複数の第１タッチ電極及び前記複数の第２タッチ電極の少なくとも一方のタッチ電極群に接続される複数の下部センシング配線と、を含むことを特徴とする。
【０００７】
本発明によれば、第１タッチ電極及び第２タッチ電極がいずれも第１方向に延びるので、表示領域で立体交差させる必要がなく、少ない工程で製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る表示装置の平面図である。
【図２】図１に示す表示装置のII−II線断面の一部を拡大して示す図である。
【図３】図１に示す表示装置のIIIで示す部分の拡大図である。
【図４】回路層の配線並びに第１タッチ電極及び第２タッチ電極の概略を示す図である。
【図５】下部センシング配線の接続構造を示す平面図である。
【図６】図５に示す下部センシング配線の接続構造のVI−VI線断面図である。
【図７】第１の実施形態に係る表示装置のタッチセンシングのための回路を示す図である。
【図８】第１の実施形態に係る表示装置のタッチセンシングのフローを示す図である。
【図９】本発明の第２の実施形態に係る表示装置の概略図である。
【図１０】ライン部の一部分を拡大した図である。
【図１１】下部センシング配線を示す断面図である。
【図１２】本発明の第３の実施形態に係る表示装置の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。但し、本発明は、その要旨を逸脱しない範囲において様々な態様で実施することができ、以下に例示する実施形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。
【００１０】
図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。本明細書と各図において、既出の図に関して説明したものと同様の機能を備えた要素には、同一の符号を付して、重複する説明を省略することがある。
【００１１】
さらに、本発明の詳細な説明において、ある構成物と他の構成物の位置関係を規定する際、「上に」「下に」とは、ある構成物の直上あるいは直下に位置する場合のみでなく、特に断りの無い限りは、間にさらに他の構成物を介在する場合を含むものとする。
【００１２】
［第１の実施形態］
図１は、本発明の第１の実施形態に係る表示装置の平面図である。表示装置は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置である。表示装置は、例えば、赤、緑及び青からなる複数色の単位画素（サブピクセル）を組み合わせて、フルカラーの画像を表示するようになっている。表示装置は、表示領域ＤＡ及び表示領域ＤＡを囲む周辺領域ＰＡを含む。周辺領域ＰＡは表示領域ＤＡの外側にある。周辺領域ＰＡは、表示領域ＤＡを第１方向Ｄ１に挟む第１周辺領域ＰＡ１及び第２周辺領域ＰＡ２を含む。表示領域ＤＡから、第１方向Ｄ１に直交する第２方向Ｄ２の側で、周辺領域ＰＡには、フレキシブルプリント基板１０が接続されている。フレキシブルプリント基板１０には、画像を表示するための素子を駆動するための集積回路チップ１２が搭載される。
【００１３】
図２は、図１に示す表示装置のII−II線断面の一部を拡大して示す図である。基板１４は、ポリイミド樹脂やポリエチレンテレフタラート等からなり、可撓性を有する。基板１４には、基板１４自体が含有する不純物に対するバリアとなる下地絶縁膜１６が形成されている。下地絶縁膜１６は、シリコン酸化膜又はシリコン窒化膜などであり、それらの積層構造であってもよい。
【００１４】
下地絶縁膜１６の上に回路層１８が積層する。回路層１８は、表示領域ＤＡに画像を表示するための回路を含む。詳しくは、回路層１８において、下地絶縁膜１６の上には半導体層２０が形成されている。半導体層２０にソース電極２２及びドレイン電極２４が電気的に接続し、半導体層２０を覆ってゲート絶縁膜２６が形成されている。ゲート絶縁膜２６の上にはゲート電極２８が形成され、ゲート電極２８を覆って層間絶縁層３０が形成されている。ソース電極２２及びドレイン電極２４は、ゲート絶縁膜２６を貫通している。ソース電極２２及びドレイン電極２４は、表示領域ＤＡでは、層間絶縁層３０の直上にあって層間絶縁層３０を貫通する。
【００１５】
半導体層２０、ソース電極２２、ドレイン電極２４及びゲート電極２８並びにゲート絶縁膜２６から、薄膜トランジスタ３２の少なくとも一部が構成される。薄膜トランジスタ３２は、表示領域ＤＡに設けられる。表示領域ＤＡでは、ゲート絶縁膜２６の直上にゲート電極２８がある。薄膜トランジスタ３２を覆うように平坦化層３４が設けられている。平坦化層３４は、ポリイミド樹脂や感光性アクリル樹脂等の有機材料によって形成する。
【００１６】
平坦化層３４の上には、複数の単位画素（サブピクセル）それぞれに対応するように構成される複数の画素電極３６（例えば陽極）が設けられている。画素電極３６は、電極膜と光反射膜の積層構造になっている。画素電極３６は、平坦化層３４を貫通するコンタクトホール３８によって、層間絶縁層３０の上でソース電極２２及びドレイン電極２４の一方に電気的に接続している。
【００１７】
画素電極３６は、キャパシタＣの一方の電極にもなっている。キャパシタＣは、画素電極３６と、その下方にある容量電極４０と、画素電極３６と容量電極４０の間に介在する誘電絶縁膜４２と、を含む。キャパシタＣは、画素電極３６に供給する電流を制御するための信号を保持する。
【００１８】
画素電極３６上に、ポリイミド樹脂やアクリル系樹脂などで絶縁層４４が形成されている。絶縁層４４は、画素電極３６の周縁部に載り、画素電極３６の一部（例えば中央部）を開口させるように形成されている。絶縁層４４によって、画素電極３６の一部を囲むバンクが形成される。
【００１９】
複数の画素電極３６の上に有機エレクトロルミネッセンス層４６が設けられている。有機エレクトロルミネッセンス層４６は、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層及び電子注入層を含む。発光層は、画素電極３６ごとに別々に（分離して）設けられ、各画素に対応して青、赤又は緑で発光層が発光する。各画素に対応する色はこれに限られず、例えば、黄又は白等でもよい。有機エレクトロルミネッセンス層４６を構成する層のうち発光層を除く層は、表示領域ＤＡを覆う全面に、複数の画素に亘るように形成されても良い。その場合、有機エレクトロルミネッセンス層４６は絶縁層４４上でも連続する。
【００２０】
有機エレクトロルミネッセンス層４６の上には、共通電極４８（例えば陰極）が設けられている。共通電極４８は、バンクとなる絶縁層４４の上に載る。有機エレクトロルミネッセンス層４６並びにこれを挟む画素電極３６及び共通電極４８から発光素子５０の少なくとも一部が構成される。有機エレクトロルミネッセンス層４６は、画素電極３６及び共通電極４８に挟まれ、両者間を流れる電流によって輝度が制御されて発光する。複数の発光素子５０は、表示領域ＤＡに設けられて、複数の薄膜トランジスタ３２によって駆動される。複数の発光素子５０のそれぞれに対応してキャパシタＣが設けられている。
【００２１】
有機エレクトロルミネッセンス層４６は、封止膜５２によって封止されて水分から遮断される。複数の発光素子５０は、封止膜５２によって封止されている。封止膜５２は、窒化ケイ素などからなる一対の無機層５４，５６の間に、樹脂などからなる少なくとも一層の有機層５８を挟む構造である。封止膜５２は表示領域ＤＡを覆う。
【００２２】
封止膜５２には、タッチセンシングのための複数の第１タッチ電極６０及び複数の第２タッチ電極６２が積層する。これらを覆うように、粘着層６４を介して、円偏光板６６及びカバーガラス６８が積層されている。複数の第１タッチ電極６０及び複数の第２タッチ電極６２は、例えば相互容量方式によるタッチセンシングのための電極群である。自己容量方式など他の方式でタッチセンシングを行ってもよい。
【００２３】
図３は、図１に示す表示装置のIIIで示す部分の拡大図である。図３に示す例では、複数の第１タッチ電極６０のそれぞれの少なくとも一部及び複数の第２タッチ電極６２のそれぞれの少なくとも一部は、金属材料を用いて形成され、画像を構成するための複数の画素Ｐをそれぞれ避けるように、メッシュ状に構成されている。なお、メッシュの開口の一つに含まれる画素Ｐは、単一色の画素（サブピクセル）であってもよいし、複数色のサブピクセルから構成されるフルカラー画素であってもよい。
【００２４】
複数の第１タッチ電極６０は、図２に示すように、回路層１８に載る。第１タッチ電極６０は、表示領域ＤＡから周辺領域ＰＡまで、第１方向Ｄ１にそれぞれ連続して延びる。図１には省略されているが、第１タッチ電極６０は、周辺領域ＰＡに配置される部分を有する。複数の第１タッチ電極６０は、第２方向Ｄ２に並列する。
【００２５】
第１タッチ電極６０は、複数の拡大部７０及び複数の縮小部７２を第１方向Ｄ１に交互に有している。拡大部７０は、縮小部７２よりも第２方向Ｄ２に広い。拡大部７０がメッシュ状になっている。第２方向Ｄ２に隣り合う第１タッチ電極６０（図１参照）は、拡大部７０を第２方向Ｄ２に隣り合うように有する。また、第２方向Ｄ２に隣り合う第１タッチ電極６０（図１参照）は、縮小部７２を第２方向Ｄ２に隣り合うように有している。したがって、第２方向Ｄ２に隣り合う縮小部７２の間の領域は、第２方向Ｄ２に隣り合う拡大部７０の間の領域よりも大きい。
【００２６】
第２タッチ電極６２はパッド部７４を有する。パッド部７４は、表示領域ＤＡで回路層１８（図２参照）に載る。パッド部７４は、第２方向Ｄ２に隣り合う一対の第１タッチ電極６０（一対の縮小部７２）の間に配列されている（図１参照）。複数のパッド部７４が、第１方向Ｄ１に少なくとも一列（この例では複数列の一例で２列）で配列されている。
【００２７】
第２タッチ電極６２はライン部７６を有する。ライン部７６は、回路層１８に載る（図２参照）。ライン部７６はパッド部７４に接続されている。ライン部７６は、表示領域ＤＡから周辺領域ＰＡまで第１方向Ｄ１に連続して延びている。ライン部７６は、周辺領域ＰＡに配置される部分を有する。複数のライン部７６が第２方向Ｄ２に並列している。複数のライン部７６は、第２方向Ｄ２に隣り合うパッド部７４の間に位置する。
【００２８】
本実施形態によれば、第１タッチ電極６０及び第２タッチ電極６２（ライン部７６）がいずれも第１方向Ｄ１に延びるので、表示領域ＤＡで立体交差させる必要がなく、少ない工程で製造することができる。
【００２９】
図４は、回路層１８の配線並びに第１タッチ電極６０及び第２タッチ電極６２の概略を示す図である。周辺領域ＰＡで回路層１８（図２参照）に複数の上部センシング配線７８が載る。複数の第１タッチ電極６０が、それぞれ、複数の上部センシング配線７８に接続されている。複数の上部センシング配線７８は、少なくとも第２周辺領域ＰＡ２にあり、第１周辺領域ＰＡ１を避けて第２周辺領域ＰＡ２のみにあってもよいし、第１周辺領域ＰＡ１及び第２周辺領域ＰＡ２にあってもよい。
【００３０】
回路層１８は、図２に示す薄膜トランジスタ３２及び発光素子５０などを含む表示回路ＤＣを表示領域ＤＡに有する。また、回路層１８は、周辺領域ＰＡに、複数の配線を有する。複数の配線は、表示回路ＤＣに接続される複数の表示用配線８０を含む。また、複数の配線は、複数の第１タッチ電極６０及び複数の第２タッチ電極６２の少なくとも一方のタッチ電極群に接続される複数の下部センシング配線８２を含む。本実施形態では、複数の下部センシング配線８２は、複数の第２タッチ電極６２に接続され、複数の第１タッチ電極６０には接続されない。複数の下部センシング配線８２は、少なくとも第１周辺領域ＰＡ１にあり、第２周辺領域ＰＡ２を避けて第１周辺領域ＰＡ１のみにあってもよいし、第１周辺領域ＰＡ１及び第２周辺領域ＰＡ２にあってもよい。
【００３１】
図５は、下部センシング配線８２の接続構造を示す平面図である。図６は、図５に示す下部センシング配線８２の接続構造のVI−VI線断面図である。複数の下部センシング配線８２のそれぞれは、複数の第１タッチ電極６０及び複数の第２タッチ電極６２の少なくとも一方のタッチ電極群のうち、１つ又はそれ以上のタッチ電極（この例では第２タッチ電極６２）に接続されており、残りの複数のタッチ電極（この例では第１タッチ電極６０）とは接続されない。
【００３２】
複数の第１タッチ電極６０及び複数の第２タッチ電極６２の少なくとも一方のタッチ電極群（この例では第２タッチ電極６２）と複数の下部センシング配線８２の間に、絶縁層８４が介在する。複数の下部センシング配線８２のそれぞれと、１つ又はそれ以上の第２タッチ電極６２とは、絶縁層８４を貫通して接続されている。相互に接続されない下部センシング配線８２と第２タッチ電極６２とは、絶縁層８４で絶縁されて立体交差するようになっている。この構造は、薄膜トランジスタ３２などを形成するときに同時に形成することができるので、製造プロセスを増やす必要がない。
【００３３】
図７は、第１の実施形態に係る表示装置のタッチセンシングのための回路を示す図である。表示装置は、センシング回路８６を有する。例えば、図１に示す集積回路チップ１２にセンシング回路８６が内蔵されている。
【００３４】
センシング回路８６は、第１選択回路８８を含む。第１選択回路８８は、複数の第１タッチ電極６０及び複数の第２タッチ電極６２のうち一方の電極群（この例では第１タッチ電極６０）からその１つを選択する。センシング回路８６は、第２選択回路９０を含む。第２選択回路９０は、複数の第１タッチ電極６０及び複数の第２タッチ電極６２のうち他方の電極群（この例では複数の第２タッチ電極６２）からその１つを選択する。
【００３５】
複数の第１タッチ電極６０及び複数の第２タッチ電極６２からなる電極群のそれぞれに第１静電容量が寄生する。例えば、選択された１つの第１タッチ電極６０及び選択された１つの第２タッチ電極６２の間には、静電容量が形成される。指などの導電体のタッチがあると、第１タッチ電極６０と指との間、及び第２タッチ電極６２と指との間にも静電容量が形成され、この静電容量の存在が第１タッチ電極６０と第２タッチ電極６２との間の容量性カップリングを一部阻害する。このため、指などの導電体のタッチが無い場合とある場合とで、第１タッチ電極６０と第２タッチ電極６２との間の容量性カップリングの大きさが異なる。
【００３６】
センシング回路８６は、パルス発生器９２を含む。パルス発生器９２から出力されたパルス電圧は、選択された第１タッチ電極６０及び第２タッチ電極６２の一方（この例では第２タッチ電極６２）に印加される。選択された第１タッチ電極６０及び第２タッチ電極６２の他方（この例では第１タッチ電極６０）は測定器９４に接続されている。測定器９４（例えば電流計）は、パルス電圧に対応する物理量（例えばカップリングに伴う電位変動や電流値）を測定する。
【００３７】
図８は、第１の実施形態に係る表示装置のタッチセンシングのフローを示す図である。図７に示す測定器９４で物理量（例えばカップリングに伴う電位変動や電流値）が測定される（Ｓ１１）と、その測定によって得られた測定値は、判別回路９６に入力される。判別回路９６では、測定値が所定範囲から外れるか否かを判定する。所定範囲は、指などの導電体のタッチがないときの設計値に誤差を考慮した範囲である。測定値が所定範囲内にあればタッチがないことになる。測定値が所定範囲から外れると、指などの導電体の接近に起因して静電容量の有意な変化があったこと（すなわちタッチがあったこと）を検知する。
【００３８】
本実施形態では、タッチがあれば測定値が下がる相互容量方式が採用されているため、測定値が所定範囲から外れるか否かの判定として、測定値が所定値よりも小さいか否かを判別回路で判別する（Ｓ１２）。判別の結果がＮＯであれば、タッチはなかったことを検知する（Ｓ１３）。ＹＥＳであれば、タッチがあったことを検知する（Ｓ１４）。
【００３９】
［第２の実施形態］
図９は、本発明の第２の実施形態に係る表示装置の概略図である。本実施形態では、第１方向Ｄ１が縦方向であり、第２方向Ｄ２が横方向である。第１タッチ電極２６０が第１方向Ｄ１に延びている。複数のパッド部２７４は、第２方向Ｄ２に隣り合う一対の第１タッチ電極２６０の間に、第１方向Ｄ１に１列に並ぶように配列されている。第１タッチ電極２６０は、第１方向Ｄ１に隣り合うパッド部２７４の間にそれぞれ位置するように、第２方向Ｄ２にそれぞれ突出する複数の突出部２９６を有している。これにより、第１タッチ電極２６０の端部と第２タッチ電極２７４の端部とが互いに対面する長さを長くすることができ、タッチセンシング感度を高めることができる。第２タッチ電極２６２のライン部２７６も第１方向Ｄ１に延びている。
【００４０】
図１０は、第１タッチ電極２６０、パッド部２７４、及びライン部２７６の一部分を拡大した図である。ライン部２７６は、隣り合う画素Ｐの間を通る一本のラインとしてのみでなく、複数の画素Ｐを避けるようにメッシュ状（例えば梯子状）として形成されても良く、このことは第１の実施形態にも適用することができる。一方、パッド部２７４をメッシュ状にすることは第１の実施形態で述べた通りである。
【００４１】
図９に示すように、複数の下部センシング配線２８２のそれぞれは、複数の第１タッチ電極２６０及び複数の第２タッチ電極２６２の対応する１つに接続されている。詳しくは、複数の下部センシング配線２８２は、複数の第１タッチ電極２６０に接続される第１群の配線と、複数の第２タッチ電極２６２に接続される第２群の配線と、を含む。第１群の配線及び第２群の配線は、表示領域ＤＡから同じ方向の側にある。
【００４２】
図１１は、下部センシング配線２８２の引き出し部分を示す断面図であり、図９におけるXI−XI線断面を示している。下部センシング配線２８２は、回路層２１８にある。下部センシング配線２８２は、フレキシブルプリント基板２１０と異方性導電フィルム２９８などで接合される端子部２００と、コンタクト部２０２で接続されている。なお、図９に示す第１タッチ電極２６０及び第２タッチ電極２６２は、いずれも回路層２１８の上に配置されている。
【００４３】
本実施形態では、図７に示す第１の実施形態とは異なり、タッチセンシングを行うときにパルス電圧を第１タッチ電極２６０に印加し、第２タッチ電極２６２を介して物理量（電流値）を測定する。本実施形態のその他の内容は、第１の実施形態で説明した内容が該当する。
【００４４】
［第３の実施形態］
図１２は、本発明の第３の実施形態に係る表示装置の概略図である。本実施形態では、第１タッチ電極３６０は、第２方向Ｄ２に隣り合うパッド部３７４に向けて突出する凸部３０４を有する。パッド部３７４は、凸部３０４を避けるように凹部３０６を有する。本実施形態のその他の内容は、第２の実施形態で説明した内容（第１の実施形態への言及を含む）が該当する。
【００４５】
なお、表示装置は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置には限定されず、量子ドット発光素子（ＱＬＥＤ：Quantum‐Dot Light Emitting Diode）のような発光素子を各画素に備えた表示装置であってもよいし、液晶表示装置であってもよい。
【００４６】
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく種々の変形が可能である。例えば、実施形態で説明した構成は、実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成で置き換えることができる。
【符号の説明】
【００４７】
１０  フレキシブルプリント基板、１２  集積回路チップ、１４  基板、１６  下地絶縁膜、１８  回路層、２０  半導体層、２２  ソース電極、２４  ドレイン電極、２６  ゲート絶縁膜、２８  ゲート電極、３０  層間絶縁層、３２  薄膜トランジスタ、３４  平坦化層、３６  画素電極、３８  コンタクトホール、４０  容量電極、４２  誘電絶縁膜、４４  絶縁層、４６  有機エレクトロルミネッセンス層、４８  共通電極、５０  発光素子、５２  封止膜、５４  無機層、５６  無機層、５８  有機層、６０  第１タッチ電極、６２  第２タッチ電極、６４  粘着層、６６  円偏光板、６８  カバーガラス、７０  拡大部、７２  縮小部、７４  パッド部、７６  ライン部、７８  上部センシング配線、８０  表示用配線、８２  下部センシング配線、８４  絶縁層、８６  センシング回路、８８  第１選択回路、９０  第２選択回路、９２  パルス発生器、９４  測定器、９６  判別回路、２００  端子部、２０２  コンタクト部、２１０  フレキシブルプリント基板、２１８  回路層、２６０  第１タッチ電極、２６２  第２タッチ電極、２７４  パッド部、２７６  ライン部、２８２  下部センシング配線、２９６  突出部、２９８  異方性導電フィルム、３０４  凸部、３０６  凹部、３６０  第１タッチ電極、３７４  パッド部、Ｃ  キャパシタ、Ｄ１  第１方向、Ｄ２  第２方向、ＤＡ  表示領域、ＤＣ  表示回路、Ｐ  画素、ＰＡ  周辺領域、ＰＡ１  第１周辺領域、ＰＡ２  第２周辺領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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