(57)【要約】【課題】回転テーブルに対するウェハの出し入れを容易に行うことができる技術を提供する。【解決手段】ウェハ支持装置は、ウェハが上に配置される回転テーブルと、前記回転テーブルを回転させる回転機構と、前記回転テーブルにヒンジを介して連結されている少なくとも３個のストッパを備えている。各前記ストッパは、前記ヒンジよりも上側に突出している突出部と、前記ヒンジよりも下側かつ外側に位置している重心を備えている。前記回転テーブルの上にウェハが配置された状態で、前記回転テーブルが回転していない場合は、各前記ストッパの前記突出部がウェハの外周面よりも外側に位置しており、前記回転テーブルが回転した場合は、各前記ストッパの前記重心が遠心力によって外側へ移動する一方で、各前記ストッパの前記突出部が内側へ移動してウェハの外周面に接触する。【選択図】図４
2018170428.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェハが上に配置される回転テーブルと、
前記回転テーブルを回転させる回転機構と、
前記回転テーブルにヒンジを介して連結されている少なくとも３個のストッパを備えており、
各前記ストッパは、前記ヒンジよりも上側に突出している突出部と、前記ヒンジよりも下側かつ外側に位置している重心を備えており、
前記回転テーブルの上にウェハが配置された状態で、前記回転テーブルが回転していない場合は、各前記ストッパの前記突出部がウェハの外周面よりも外側に位置しており、前記回転テーブルが回転した場合は、各前記ストッパの前記重心が遠心力によって外側へ移動する一方で、各前記ストッパの前記突出部が内側へ移動してウェハの外周面に接触する、ウェハ支持装置。
【請求項２】
前記回転テーブルを高周波誘導加熱する加熱源と、
前記回転テーブルの上面よりも上側に突出している少なくとも３個の支持突起を更に備えており、
少なくとも３個の前記支持突起の上にウェハが配置された状態で前記回転テーブルの上面とウェハの間に隙間が形成されている、請求項１に記載のウェハ支持装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本明細書に開示する技術は、ウェハ支持装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１に開示されているウェハ支持装置は、回転テーブルと、回転テーブルを回転させる回転機構と、回転テーブルに固定されているストッパを備えている。回転テーブルの上にはウェハが配置されている。ウェハ支持装置のストッパは、上側に突出している押圧爪と、下側に突出している振り子を備えている。このウェハ支持装置では、回転テーブルが回転していないときは、ストッパの押圧爪がウェハの上面の外縁部を覆っている。そして、回転テーブルが回転すると、ストッパの振り子が遠心力によって外側へ移動する一方で、ストッパの押圧爪が下側へ移動してウェハの上面の外縁部を押圧する。ストッパの押圧爪がウェハの上面を押圧することによってウェハが支持されてウェハの動きが規制される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１１−９７５１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１のウェハ支持装置では、回転テーブルが回転していないときにストッパの押圧爪がウェハの上面の外縁部を覆っている。そのため、回転テーブルの上からウェハを取り出すときに押圧爪が邪魔になるという問題がある。また、回転テーブルの上方から回転テーブルの上にウェハを配置するときにも押圧爪が邪魔になるという問題がある。そこで本明細書は、回転テーブルに対するウェハの出し入れを容易に行うことができる技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本明細書に開示するウェハ支持装置は、ウェハが上に配置される回転テーブルと、前記回転テーブルを回転させる回転機構と、前記回転テーブルにヒンジを介して連結されている少なくとも３個のストッパを備えている。各前記ストッパは、前記ヒンジよりも上側に突出している突出部と、前記ヒンジよりも下側かつ外側に位置している重心を備えている。前記回転テーブルの上にウェハが配置された状態で、前記回転テーブルが回転していない場合は、各前記ストッパの前記突出部がウェハの外周面よりも外側に位置しており、前記回転テーブルが回転した場合は、各前記ストッパの前記重心が遠心力によって外側へ移動する一方で、各前記ストッパの前記突出部が内側へ移動してウェハの外周面に接触する。
【０００６】
このような構成によれば、回転テーブルが回転していない場合は、各ストッパの突出部がウェハの外周面よりも外側に位置しているので、ウェハの上方が開放された状態になる。そのため、回転テーブルの上からウェハを取り出すときに突出部が邪魔にならない。また、回転テーブルの上方から回転テーブルの上にウェハを配置するときにも突出部が邪魔にならない。したがって、回転テーブルに対するウェハの出し入れを容易に行うことができる。
【０００７】
また、上記のウェハ支持装置は、前記回転テーブルを高周波誘導加熱する加熱源と、前記回転テーブルの上面よりも上側に突出している少なくとも３個の支持突起を更に備えていてもよい。少なくとも３個の前記支持突起の上にウェハが配置された状態で前記回転テーブルの上面とウェハの間に隙間が形成されてもよい。
【０００８】
このような構成によれば、高周波誘導加熱によって回転テーブルが自己発熱し、回転テーブルの熱が輻射熱としてウェハに伝達される。回転テーブルからの輻射熱によってウェハが加熱される。このとき、ウェハを支持するための部材として支持突起が用いられているので、ウェハの下面に対する接触面積が小さくなる。そのため、回転テーブルからウェハに対して部材を介して直接的に伝達される熱量が小さくなる。また、回転テーブルの上面とウェハの間に隙間が形成されることによって、回転テーブルからの輻射熱がウェハに均等に伝達される。これによって、ウェハの温度がばらつくことが抑制される。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】ウェハ支持装置の概略を示す断面図。
【図２】回転テーブルの概略を示す斜視図。
【図３】回転テーブルの断面を示す斜視図。
【図４】図１の要部IVを示す断面図。
【図５】図４の要部Vを示す断面図。
【図６】ストッパの概略を示す斜視図。
【図７】図４の要部VIIを示す断面図（ストッパの開状態を示す図）。
【図８】図４の要部VIIを示す断面図（ストッパの閉状態を示す図）。
【図９】回転テーブルの変形例を示す断面図（１）。
【図１０】回転テーブルの変形例を示す断面図（２）。
【図１１】回転テーブルの変形例を示す断面図（３）。
【図１２】回転テーブルの変形例を示す断面図（４）。
【図１３】回転テーブルの変形例を示す断面図（５）。
【図１４】回転テーブルの変形例を示す断面図（６）。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
実施例に係るウェハ支持装置２は、図１に示すように、処理ハウジング１０と、処理ハウジング１０内に配置されているガスガイド４０を備えている。また、ウェハ支持装置２は、処理ハウジング１０内に配置されている回転テーブル２０と、回転テーブル２０を回転させる回転機構６０を備えている。
【００１１】
図１に示すウェハ支持装置２は、例えばＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）装置に用いられる。ＣＶＤ装置は、例えば金属系の原料ガスを用いて半導体ウェハの上面に薄膜を形成する装置である。原料ガスは、例えばガリウムを原料としたガスや、アルミニウムを原料としたガス等である。
【００１２】
処理ハウジング１０は、ガスガイド４０と回転テーブル２０を収容している。処理ハウジング１０の上部にガス供給管９１が接続されている。処理ハウジング１０の上部から処理ハウジング１０内に原料ガスが供給される。ガス供給管９１は、ガス供給源９２に接続されている。ガス供給管９１は、ガス供給源９２から供給される原料ガスを処理ハウジング１０内に供給する。処理ハウジング１０内に供給された原料ガスは、処理ハウジング１０の下部に接続されているポンプ９３によって吸引される。
【００１３】
また、処理ハウジング１０の下部には、軸支ハウジング１５が固定されている。軸支ハウジング１５には上開口部１６と下開口部１７が形成されている。また、軸支ハウジング１５内には、上ベアリング８４と下ベアリング８６が配置されている。
【００１４】
処理ハウジング１０の周りには、加熱コイル５０が配置されている。加熱コイル５０は、処理ハウジング１０を囲んでいる。加熱コイル５０は、処理ハウジング１０の内部に配置されている回転テーブル２０を非接触で加熱する。加熱コイル５０は、高周波誘導加熱の原理によって回転テーブル２０を加熱する。高周波誘導加熱では、コイル（加熱コイル５０）に電流が流れることによって磁界が発生し、その磁界の作用によって被加熱物（回転テーブル２０）に電流が流れ、それによって被加熱物にジュール熱が発生する。高周波誘導加熱によって回転テーブル２０が自己発熱する。高周波誘導加熱の原理については、公知であるので詳細な説明を省略する。
【００１５】
処理ハウジング１０の内部に配置されているガスガイド４０は、回転テーブル２０よりも上側に配置されている。ガスガイド４０には原料ガスを供給するためのガス流路４３が形成されている。ガスガイド４０は、接続部材６１を介して処理ハウジング１０の上部に固定されている。ガスガイド４０は、接続部材６１を介してガス供給管９１に接続されている。接続部材６１にはガス流路６２が形成されている。ガスガイド４０のガス流路４３が、接続部材６１のガス流路６２を介してガス供給管９１と連通している。ガス供給管９１によって供給された原料ガスが、接続部材６１とガスガイド４０を介して処理ハウジング１０の内部に供給される。原料ガスは、回転テーブル２０の上に配置されたウェハｗに向かって供給される。
【００１６】
ガスガイド４０は、カバー部材４１と軸部材４２を備えている。ガス流路４３がカバー部材４１と軸部材４２を貫通している。カバー部材４１は、円板状に形成されている。カバー部材４１は、回転テーブル２０よりも上側に配置されている。カバー部材４１は、回転テーブル２０の上面２３を覆っている。回転テーブル２０の上にウェハｗが配置された場合は、カバー部材４１はウェハｗの上面１０１を覆うことになる。軸部材４２は、カバー部材４１から上側に向かって延びている。軸部材４２が接続部材６１に接続されている。
【００１７】
処理ハウジング１０の内部に配置されている回転テーブル２０は、図２に示すように、円板状に形成されている。回転テーブル２０は、導電体（例えば、金属、カーボン等）から形成されている。回転テーブル２０は、熱伝導性を有している。この回転テーブル２０の上に円板状の半導体ウェハｗが配置される。
【００１８】
図３及び図４に示すように、回転テーブル２０の下面２６には下カバー７３が固定されている。下カバー７３は、回転テーブル２０の下面２６を覆っている。下カバー７３の外周面には開当接部７４が形成されている。開当接部７４は、後述するストッパ３０の回動を規制する部分である。また、回転テーブル２０の外周面には閉当接部７５が形成されている。閉当接部７５は、後述するストッパ３０の回動を規制する部分である。
【００１９】
図２に示すように、回転テーブル２０には３個の貫通孔２４が形成されている。３個の貫通孔２４は、回転テーブル２０を上から視たときに回転テーブル２０の回転中心２２からそれぞれが異なる方向に離れて形成されている。３個の貫通孔２４は、いずれも同様の構成を備えている。したがって、３個の貫通孔２４のうち、代表として１個について以下に説明する。
【００２０】
図３及び図４に示すように、貫通孔２４は、回転テーブル２０の上下方向に延びている。貫通孔２４は、回転テーブル２０を貫通している。貫通孔２４は、回転テーブル２０の上面２３から下面２６まで延びている。
【００２１】
貫通孔２４の内部には支持部材７０が配置されている。図５に示すように、支持部材７０は、胴体部７１と先端部７２（支持突起の一例）を備えている。胴体部７１と先端部７２は一体的に形成されている。胴体部７１は、貫通孔２４に沿って上下方向に延びている。胴体部７１は、回転テーブル２０の下面２６に固定された下カバー７３によって支持されている。支持部材７０の先端部７２は、胴体部７１から上側に向かって突出している。先端部７２は、先端が細くなるようにテーパ状に形成されている。先端部７２の先端が回転テーブル２０の上面２３よりも上側に突出している。先端部７２の先端は、回転テーブル２０の上に配置されたウェハｗの下面１０３に接触する。回転テーブル２０の上面２３とウェハｗの下面１０３との間には、隙間９５が形成されている。
【００２２】
回転テーブル２０に形成された３個の貫通孔２４のそれぞれの内部に支持部材７０が配置されており、３個の支持部材７０によってウェハｗが支持される。３個の支持部材７０の先端部７２の上にウェハｗが配置される。３個の支持部材７０は、支持するウェハｗのたわみが小さくなるように配置位置が調整されている。
【００２３】
図１及び図２に示すように、回転テーブル２０には回転軸２１が固定されている。回転軸２１は、回転テーブル２０の回転中心２２と同軸になるように配置されている。回転軸２１の上端部が回転テーブル２０に固定されている。回転軸２１は、上下方向に延びている。回転軸２１の下端部が回転機構６０に固定されている。また、回転軸２１は、軸支ハウジング１５に挿入されている。回転軸２１は、軸支ハウジング１５の上開口部１６、上ベアリング８４、下ベアリング８６および下開口部１７に挿入されている。回転軸２１と軸支ハウジング１５の上開口部１６との間には、シール部材１８が配置されている。
【００２４】
回転機構６０は、回転軸２１を介して回転テーブル２０を回転させる機構である。回転機構６０は、例えばモータを備えており、モータの回転によって回転軸２１を回転させる。回転軸２１が回転すると、回転軸２１に固定されている回転テーブル２０が回転する。回転テーブル２０の上にウェハｗが配置されている状態で回転テーブル２０が回転する。
【００２５】
図２に示すように、回転テーブル２０には複数（３個）のストッパ３０が固定されている。３個のストッパ３０（第１ストッパ３０ａと第２ストッパ３０ｂと第３ストッパ３０ｃ）は、回転テーブル２０の周方向に沿って間隔をあけて並んで配置されている。３個のストッパ３０は等間隔で並んでいる。３個のストッパ３０は、回転テーブル２０を上から視たときに回転テーブル２０の回転中心２２からそれぞれが異なる方向に離れて配置されている。より具体的には、３個のストッパ３０は以下のように配置されている。まず、第１ストッパ３０ａと回転テーブル２０の回転中心２２を結んだ線分を第１線分９０ａとし、第２ストッパ３０ｂと回転テーブル２０の回転中心２２を結んだ線分を第２線分９０ｂとし、第３ストッパ３０ｃと回転テーブル２０の回転中心２２を結んだ線分を第３線分９０ｃとする。また、第１線分９０ａと第２線分９０ｂがなす角度を第１角度θ１とし、第２線分９０ｂと第３線分９０ｃがなす角度を第２角度θ２とする。この場合に、第１角度θ１と第２角度θ２の合計（θ１＋θ２）が１８０°より大きくなるように、３個のストッパ３０が配置されている。本実施例では、θ１とθ２が共に１２０°である。３個のストッパ３０（第１ストッパ３０ａと第２ストッパ３０ｂと第３ストッパ３０ｃ）は、いずれも同様の構成を備えている。したがって、３個のストッパ３０のうち、代表として１個のストッパ３０について以下に説明する。
【００２６】
図４に示すように、ストッパ３０は、ヒンジ８０を介して回転テーブル２０に連結されている。ヒンジ８０は、回転テーブル２０の外縁部の一部を切り欠いた部分に固定されている。ストッパ３０は、回転テーブル２０に対してヒンジ８０を中心にして回動するように構成されている。ストッパ３０は、胴体部３１と突出部３２と連結部３８を備えている。胴体部３１と突出部３２と連結部３８は一体的に形成されている。
【００２７】
図６、図７及び図８に示すように、胴体部３１は、主にヒンジ８０よりも下側かつ外側の位置に存在している。なお、本明細書では、回転テーブル２０の回転中心２２側を内側とし、回転中心２２から回転テーブル２０の径方向に離れる側を外側とする。胴体部３１は、ストッパ３０の重心３３を備えている。ストッパ３０の重心３３が胴体部３１の中に位置している。ストッパ３０の重心３３は、ヒンジ８０よりも下側かつ外側に位置している。また、胴体部３１は、開ストッパ部３６を備えている。開ストッパ部３６は、胴体部３１の内側の側面に形成されている。開ストッパ部３６は、ヒンジ８０よりも下側かつ内側に位置している。
【００２８】
ストッパ３０の突出部３２は、胴体部３１から上側に向かって突出している。突出部３２は、ヒンジ８０よりも上側かつ外側に位置している。ヒンジ８０よりも上側に突出部３２が突出している。突出部３２は、接触部３４とカバー部３５を備えている。接触部３４は、突出部３２の内側の側面に形成されている。接触部３４は、外側に向かって窪んで湾曲している。カバー部３５は、内側に向かって突出している。また、突出部３２は、閉ストッパ部３７を備えている。閉ストッパ部３７は、突出部３２の内側の側面に形成されている。閉ストッパ部３７は、接触部３４よりも下側に形成されている。
【００２９】
ストッパ３０の連結部３８は、胴体部３１から内側に向かって突出している。連結部３８は、ヒンジ８０を囲んでおり、ヒンジ８０に連結されている。ストッパ３０の連結部３８がヒンジ８０を介して回転テーブル２０に連結されている。
【００３０】
このストッパ３０は、開状態と閉状態をとり得る。図７は、開状態にあるストッパ３０を示している。図８は、閉状態にあるストッパ３０を示している。ストッパ３０が固定されている回転テーブル２０の回転が停止しているときは、ストッパ３０が図７の開状態の位置にくる。ストッパ３０が開状態にある場合は、突出部３２の全体がウェハｗの外周面１０２よりも外側に位置している。そのため、突出部３２の接触部３４が、回転テーブル２０の上に配置されたウェハｗの外周面１０２に接触しておらず、ウェハｗの外周面１０２から離間している。また、突出部３２のカバー部３５が、ウェハｗの外周面１０２よりも外側に位置しており、ウェハｗの上面１０１の外縁部１０４を覆っていない。また、胴体部３１の開ストッパ部３６が、下カバー７３の外周面に形成されている開当接部７４に当接する。
【００３１】
一方、図７に示すストッパ３０の開状態から、ストッパ３０が固定されている回転テーブル２０が回転すると、ストッパ３０の重心３３が遠心力によって矢印Ｐ１で示すように外側へ移動する。その結果として、図７に示すストッパ３０が矢印Ｒ１で示すようにヒンジ８０を中心にして図７の時計回りに回動する。そのため、ストッパ３０の突出部３２が矢印Ｐ２で示すように内側へ移動する。回転テーブル２０が所定の回転速度以上の速度で回転すると、ストッパ３０が図８の閉状態の位置にくる。ストッパ３０が閉状態にある場合は、突出部３２の接触部３４が、回転テーブル２０の上に配置されているウェハｗの外周面１０２に接触する。また、突出部３２のカバー部３５が、ウェハｗの上面１０１の外縁部１０４を覆う。また、突出部３２の閉ストッパ部３７が、回転テーブル２０の外周面に形成されている閉当接部７５に当接する。
【００３２】
その後、ストッパ３０が固定されている回転テーブル２０の回転が停止すると、ストッパ３０の重心３３が重力によって矢印Ｐ３で示すように下側へ移動する。その結果として、図８に示すストッパ３０が矢印Ｒ２で示すようにヒンジ８０を中心にして図８の反時計回りに回動する。そのため、ストッパ３０の重心３３が内側へ移動する。また、その反動でストッパ３０の突出部３２が矢印Ｐ４で示すように外側へ移動する。そして、ストッパ３０が図７に示す開状態の位置に戻る。
【００３３】
このように、ストッパ３０が固定されている回転テーブル２０が回転するとストッパ３０が閉状態になり、回転テーブル２０の回転が停止するとストッパ３０が開状態になる。ストッパ３０がヒンジ８０を中心にして開状態と閉状態の間で揺動する。
【００３４】
回転テーブル２０が回転して３個のストッパ３０（第１ストッパ３０ａと第２ストッパ３０ｂと第３ストッパ３０ｃ）が閉状態になると、回転テーブル２０の上に配置されているウェハｗが３個のストッパ３０によって支持される。３個のストッパ３０は、回転テーブル２０の上に配置されたウェハｗを囲んでいる。３個のストッパ３０の各突出部３２の各接触部３４がウェハｗの外周面１０２に接触することによって、回転テーブル２０の上に配置されているウェハｗが支持され、ウェハｗの動きが規制される。
【００３５】
上記のウェハ支持装置２によれば、回転テーブル２０が回転していない場合は、各ストッパ３０の突出部３２がウェハｗの外周面１０２よりも外側に位置しているので、ウェハｗの上方が開放された状態になる。そのため、回転テーブル２０の上からウェハｗを取り出すときに突出部３２が邪魔にならない。また、回転テーブル２０の上方から回転テーブル２０の上にウェハｗを配置するときにも突出部３２が邪魔にならない。したがって、回転テーブル２０に対するウェハｗの出し入れを容易に行うことができる。
【００３６】
また、上記のウェハ支持装置２は、回転テーブル２０を高周波誘導加熱する加熱コイル５０を備えている。そのため、高周波誘導加熱によって回転テーブル２０が自己発熱し、回転テーブル２０の熱が輻射熱としてウェハｗに伝達される。回転テーブル２０からの輻射熱によってウェハｗが加熱される。また、上記のウェハ支持装置２では、３個の支持部材７０の先端部７２の上にウェハｗが配置された状態で回転テーブル２０の上面２３とウェハｗの下面１０３との間に隙間９５が形成されている。このような構成によれば、ウェハｗを支持するための部材として支持部材７０の先端部７２を用いることによって、ウェハｗの下面１０３に対する接触面積が小さくなる。そのため、回転テーブル２０から支持部材７０を介してウェハｗに伝達される熱量が小さくなる。また、回転テーブル２０の上面２３とウェハｗの間に隙間９５が形成されることによって、回転テーブル２０からの輻射熱がウェハｗに均等に伝達される。これによって、ウェハｗの温度がばらつくことが抑制される。
【００３７】
また、ストッパ３０の接触部３４が外側に向かって窪んで湾曲していることによって、ストッパ３０が閉状態の位置となったとき、ウェハｗに縮径方向のストレスがかかることを抑制できる。
【００３８】
以上、一実施例について説明したが、具体的な態様は上記実施例に限定されるものではない。以下の説明において、上述の説明における構成と同様の構成については、同一の符号を付して説明を省略する。
【００３９】
上記の実施例では３個のストッパ３０（第１ストッパ３０ａと第２ストッパ３０ｂと第３ストッパ３０ｃ）が用いられていたが、ストッパ３０の個数は４個以上であってもよい。ウェハ支持装置２におけるストッパ３０の個数は少なくとも３個である。
【００４０】
また、上記の実施例では３個の支持部材７０が用いられていたが、支持部材７０の個数は４個以上であってもよい。ウェハ支持装置２における支持部材７０の個数は少なくとも３個である。すなわち、支持突起の個数は少なくとも３個である。
【００４１】
また、回転テーブル２０の構成は上記の実施例に限定されるものではない。以下に回転テーブル２０の変形例について説明する。
【００４２】
（変形例１）
変形例１では、図９又は図１０に示すように、上下方向における回転テーブル２０の厚さＴが、回転テーブル２０の径方向に沿って変化している構成であってもよい。高周波誘導加熱によって回転テーブル２０が自己発熱する際に、回転テーブル２０の発熱量が回転テーブル２０の径方向に沿って変化する。図９に示す変形例では、上下方向における回転テーブル２０の厚さＴが、回転テーブル２０の中心部から外側に向かうにしたがって厚くなっている。一方、図１０に示す変形例では、上下方向における回転テーブル２０の厚さＴが、回転テーブル２０の中心部から外側に向かうにしたがって薄くなっている。回転テーブル２０の厚さＴが厚い部分では、薄い部分に比べて、回転テーブル２０の発熱量が大きくなる。回転テーブル２０の厚さＴが薄い部分では、厚い部分に比べて、回転テーブル２０の発熱量が小さくなる。このような構成によれば、回転テーブル２０の厚さを調整することによって、回転テーブル２０からの輻射熱によってウェハｗを加熱する際に、ウェハｗの径方向に沿って熱量を変化させることができる。例えば、ウェハｗが加熱され難い部分の熱量を大きくする一方で、ウェハｗが加熱され易い部分の熱量を小さくすることができる。これによって、ウェハｗを均一に加熱することができる。
【００４３】
（変形例２）
変形例２では、図１１又は図１２に示すように、回転テーブル２０の上面２３に複数の凹部２７が形成されている。複数の凹部２７は、回転テーブル２０の径方向に沿って間隔をあけて並んで形成されている。複数の凹部２７のそれぞれは、回転テーブル２０の周方向に沿って延びている。回転テーブル２０における複数の凹部２７の密度は、回転テーブル２０の径方向に沿って変化している。すなわち、隣り合う凹部２７と凹部２７の間隔が、回転テーブル２０の径方向に沿って変化している。図１１に示す変形例では、隣り合う凹部２７と凹部２７の間隔が、回転テーブル２０の中心部から外側に向かうにしたがって広くなっている。すなわち、回転テーブル２０における複数の凹部２７の密度が、回転テーブル２０の中心部から外側に向かうにしたがって低くなっている。一方、図１２に示す変形例では、隣り合う凹部２７と凹部２７の間隔が、回転テーブル２０の中心部から外側に向かうにしたがって狭くなっている。すなわち、回転テーブル２０における複数の凹部２７の密度が、回転テーブル２０の中心部から外側に向かうにしたがって高くなっている。隣り合う凹部２７と凹部２７の間隔が狭い部分では、広い部分に比べて、回転テーブル２０の上面２３の表面積が大きくなるので、回転テーブル２０からの輻射熱が多くなる。隣り合う凹部２７と凹部２７の間隔が広い部分では、狭い部分に比べて、回転テーブル２０の上面２３の表面積が小さくなるので、回転テーブル２０からの輻射熱が少なくなる。このような構成によれば、凹部２７の個数を変えることによって、回転テーブル２０からの輻射熱によってウェハｗを加熱する際に、ウェハｗの径方向に沿ってウェハｗに伝達される熱量を変化させることができる。例えば、ウェハｗが加熱され難い部分の伝達熱量を大きくする一方で、ウェハｗが加熱され易い部分の伝達熱量を小さくすることができる。これによって、ウェハｗを均一に加熱することができる。
【００４４】
（変形例３）
変形例３では、図１３又は図１４に示すように、回転テーブル２０の上面２３とウェハｗの下面１０３との距離Ｌが、回転テーブル２０の径方向に沿って変化している。図１３に示す変形例では、回転テーブル２０の上面２３とウェハｗの下面１０３との距離Ｌが、回転テーブル２０の中心部から外側に向かうにしたがって長くなっている。一方、図１４に示す変形例では、回転テーブル２０の上面２３とウェハｗの下面１０３との距離Ｌが、回転テーブル２０の中心部から外側に向かうにしたがって短くなっている。回転テーブル２０の上面２３とウェハｗの下面１０３との距離Ｌが長い部分では、短い部分に比べて、回転テーブル２０からウェハｗに伝達される熱量が小さくなる。回転テーブル２０の上面２３とウェハｗの下面１０３との距離Ｌが短い部分では、長い部分に比べて、回転テーブル２０からウェハｗに伝達される熱量が大きくなる。このような構成によれば、回転テーブル２０からの輻射熱によってウェハｗを加熱する際に、ウェハｗの径方向に沿ってウェハｗに伝達される熱量を変化させることができる。例えば、距離Ｌを調整することによって、ウェハｗが加熱され難い部分の伝達熱量を大きくする一方で、ウェハｗが加熱され易い部分の伝達熱量を小さくすることができる。これによって、ウェハｗを均一に加熱することができる。
【００４５】
以上、本発明の具体例を詳細に説明したが、これらは例示に過ぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組合せに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成し得るものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。
【符号の説明】
【００４６】
２      ：ウェハ支持装置
１０    ：処理ハウジング
１５    ：軸支ハウジング
２０    ：回転テーブル
２１    ：回転軸
２４    ：貫通孔
３０    ：ストッパ
３１    ：胴体部
３２    ：突出部
３３    ：重心
３４    ：接触部
３５    ：カバー部
３６    ：開ストッパ部
３７    ：閉ストッパ部
３８    ：連結部
４０    ：ガスガイド
４１    ：カバー部材
４２    ：軸部材
４３    ：ガス流路
５０    ：加熱コイル
６０    ：回転機構
６１    ：接続部材
６２    ：ガス流路
７０    ：支持部材
７１    ：胴体部
７２    ：先端部
７３    ：下カバー
７４    ：開当接部
７５    ：閉当接部
８０    ：ヒンジ
９１    ：ガス供給管
９２    ：ガス供給源
９３    ：ポンプ
９５    ：隙間
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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