(57)【要約】      （修正有）【課題】コンタクトの安定性を高めることが可能な半導体装置、その製造方法及びこの半導体装置を用いた表示装置を提供する。【解決手段】半導体装置の製造方法は、所定の方向に沿って、第１領域、第２領域１０−２及び第３領域１０−３がこの順に隣接して設けられた基板の、少なくとも第３領域に第１配線を形成し、第１配線を覆うように、第１絶縁膜１４を形成し、第１絶縁膜を介して、第１領域及び第２領域に半導体膜１５を形成し、半導体膜を覆うように、第２絶縁膜１６を形成し、第２領域で半導体膜に達するとともに、第３領域で第１配線に達する接続孔Ｈを第２及び第１絶縁膜に形成し、接続孔を形成した後、半導体膜に低抵抗化処理を行い、低抵抗化処理を行った後、第２絶縁膜を間にして基板上の第１領域、第２領域及び第３領域に第２配線を形成し、接続孔を用いて第２配線を、第２領域で半導体膜に接続するとともに、第３領域で第１配線に接続する。【選択図】図６Ａ
2018170319.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の方向に沿って、第１領域、第２領域および第３領域がこの順に隣接して設けられた基板の、少なくとも前記第３領域に第１配線を形成し、
前記第１配線を覆うように、前記基板上に第１絶縁膜を形成し、
前記第１絶縁膜を介して、前記基板上の前記第１領域および前記第２領域に半導体膜を形成し、
前記半導体膜を覆うように、前記基板上に第２絶縁膜を形成し、
前記第２領域で前記半導体膜に達するとともに、前記第３領域で前記第１配線に達する接続孔を前記第２絶縁膜および前記第１絶縁膜に形成し、
前記接続孔を形成した後、前記半導体膜に低抵抗化処理を行い、
前記低抵抗化処理を行った後、前記第２絶縁膜を間にして前記基板上の前記第１領域、前記第２領域および前記第３領域に第２配線を形成し、前記接続孔を用いて前記第２配線を、前記第２領域で前記半導体膜に接続するとともに、前記第３領域で前記第１配線に接続する
半導体装置の製造方法。
【請求項２】
更に、トランジスタを形成し、
前記半導体膜には、前記トランジスタのチャネル領域が設けられている
請求項１記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記トランジスタとして、前記基板上に、前記半導体膜、ゲート絶縁膜およびゲート電極をこの順に形成する
請求項２記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記ゲート絶縁膜は、前記第２絶縁膜と同一工程で形成し、
前記ゲート電極は、前記第２配線と同一工程で形成する
請求項３記載の半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記ゲート電極および前記第２配線を形成した後に、前記半導体膜に接する金属酸化膜を形成する
請求項４記載の半導体装置の製造方法。
【請求項６】
更に、保持容量を形成し、
前記第１配線は、前記保持容量の一方の電極である
請求項１記載の半導体装置の製造方法。
【請求項７】
前記保持容量の他方の電極を、前記半導体膜と同一工程で形成する
請求項６記載の半導体装置の製造方法。
【請求項８】
前記一方の電極と前記他方の電極との間に、前記第１絶縁膜を形成する
請求項７記載の半導体装置の製造方法。
【請求項９】
前記低抵抗化処理として、プラズマ照射を行う
請求項１記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
前記低抵抗化処理として、熱処理を行う
請求項１記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１１】
所定の方向に沿って、第１領域、第２領域および第３領域がこの順に隣接して設けられた基板と、
前記基板上の、少なくとも前記第３領域に設けられた第１配線と、
前記第１配線を覆う第１絶縁膜と、
前記第１絶縁膜を介して、前記基板上の前記第１領域および前記第２領域に設けられ、低抵抗状態の半導体膜と、
前記半導体膜を覆う第２絶縁膜と、
前記第２絶縁膜を間にして前記基板上の前記第１領域、前記第２領域および前記第３領域に設けられ、前記第２絶縁膜および前記第１絶縁膜に設けられた接続孔を介して、前記第２領域で前記半導体膜に接するとともに、前記第３領域で前記第１配線に接する第２配線と
を備えた半導体装置。
【請求項１２】
前記半導体膜は酸化物半導体材料を含む
請求項１１記載の半導体装置。
【請求項１３】
表示素子および前記表示素子を駆動する半導体装置を備え、
前記半導体装置は、
所定の方向に沿って、第１領域、第２領域および第３領域がこの順に隣接して設けられた基板と、
前記基板上の、少なくとも前記第３領域に設けられた第１配線と、
前記第１配線を覆う第１絶縁膜と、
前記第１絶縁膜を介して、前記基板上の前記第１領域および前記第２領域に設けられ、低抵抗状態の半導体膜と、
前記半導体膜を覆う第２絶縁膜と、
前記第２絶縁膜を間にして前記基板上の前記第１領域、前記第２領域および前記第３領域に設けられ、前記第２絶縁膜および前記第１絶縁膜に設けられた接続孔を介して、前記第２領域で前記半導体膜に接するとともに、前記第３領域で前記第１配線に接する第２配線とを含む
表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ:Thin Film Transistor）と保持容量とを接続するためのコンタクト部を有する半導体装置およびその製造方法、並びに、この半導体装置を用いた表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、アクティブマトリクス駆動方式のディスプレイの大画面化および高速駆動化に伴い、酸化物半導体膜をチャネルに用いた薄膜トランジスタの開発が活発に行われている（例えば、特許文献１）。例えば、表示装置等を駆動するための半導体装置には、このような薄膜トランジスタとともに、保持容量が設けられ、薄膜トランジスタと保持容量とが電気的に接続される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１５−１０８７３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
半導体装置では、このようなコンタクト（接続）の安定性を高めることが望まれている。
【０００５】
コンタクトの安定性を高めることが可能な半導体装置およびその製造方法、並びに、この半導体装置を用いた表示装置を提供することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本技術の一実施の形態に係る半導体装置の製造方法は、所定の方向に沿って、第１領域、第２領域および第３領域がこの順に隣接して設けられた基板の、少なくとも前記第３領域に第１配線を形成し、第１配線を覆うように、基板上に第１絶縁膜を形成し、第１絶縁膜を介して、基板上の第１領域および第２領域に半導体膜を形成し、半導体膜を覆うように、基板上に第２絶縁膜を形成し、第２領域で半導体膜に達するとともに、第３領域で第１配線に達する接続孔を第２絶縁膜および第１絶縁膜に形成し、接続孔を形成した後、半導体膜に低抵抗化処理を行い、低抵抗化処理を行った後、第２絶縁膜を間にして基板上の第１領域、第２領域および第３領域に第２配線を形成し、接続孔を用いて第２配線を、第２領域で半導体膜に接続するとともに、第３領域で第１配線に接続するものである。
【０００７】
本技術の一実施の形態に係る半導体装置の製造方法では、第２領域および第３領域の第２配線を介して、半導体膜と第１配線とのコンタクトが形成される。ここで、第１領域の半導体膜上に第２絶縁膜を形成するので、半導体膜より上の配線を形成する際に第１領域の半導体膜が保護される。また、第２配線を形成する前に、半導体膜に低抵抗化処理を行うので、第１領域の半導体膜の抵抗値が低くなる（低抵抗状態）。
【０００８】
本技術の一実施の形態に係る半導体装置は、所定の方向に沿って、第１領域、第２領域および第３領域がこの順に隣接して設けられた基板と、基板上の、少なくとも第３領域に設けられた第１配線と、第１配線を覆う第１絶縁膜と、第１絶縁膜を介して、基板上の第１領域および第２領域に設けられ、低抵抗状態の半導体膜と、半導体膜を覆う第２絶縁膜と、第２絶縁膜を間にして基板上の第１領域、第２領域および第３領域に設けられ、第２絶縁膜および第１絶縁膜に設けられた接続孔を介して、第２領域で半導体膜に接するとともに、第３領域で第１配線に接する第２配線とを備えたものである。
【０００９】
本技術の一実施の形態に係る表示装置は、表示素子および表示素子を駆動する半導体装置を備え、半導体装置は、所定の方向に沿って、第１領域、第２領域および第３領域がこの順に隣接して設けられた基板と、基板上の、少なくとも第３領域に設けられた第１配線と、第１配線を覆う第１絶縁膜と、第１絶縁膜を介して、基板上の第１領域および第２領域に設けられ、低抵抗状態の半導体膜と、半導体膜を覆う第２絶縁膜と、第２絶縁膜を間にして基板上の第１領域、第２領域および第３領域に設けられ、第２絶縁膜および第１絶縁膜に設けられた接続孔を介して、第２領域で半導体膜に接するとともに、第３領域で第１配線に接する第２配線とを含むものである。
【００１０】
本技術の一実施の形態に係る半導体装置および表示装置は、例えば、上記本技術の一実施の形態に係る半導体装置の製造方法により製造されたものであり、第２領域および第３領域の第２配線を介して、半導体膜と第１配線とのコンタクトが形成されている。ここで、第１領域の第２配線と半導体膜との間に第２絶縁膜が設けられているので、半導体膜より上の配線を形成する際に第１領域の半導体膜が保護される。また、第１領域および第２領域の半導体膜は、低抵抗状態となっている。
【発明の効果】
【００１１】
本技術の一実施の形態に係る半導体装置およびその製造方法、並びに表示装置によれば、第２配線を形成する前に半導体膜に低抵抗化処理を行って、半導体膜を低抵抗状態にするようにしたので、半導体膜をより確実に導電体として機能させることができる。よって、コンタクトの安定性を高めることができる。なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれの効果であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本技術の一実施の形態に係る半導体装置の概略構成を表す断面模式図である。
【図２】（Ａ）は図１に示したコンタクト部の構成を表す平面模式図、（Ｂ）はその断面模式図である。
【図３】図２（Ｂ）に示したコンタクト部の他の構成を表す断面模式図である。
【図４】（Ａ）は図２に示した接続孔の他の構成について説明するための平面模式図、（Ｂ）はその断面模式図である。
【図５Ａ】図１に示した半導体装置の製造の一工程を表す断面模式図である。
【図５Ｂ】図５Ａに続く工程を表す断面模式図である。
【図６Ａ】図５Ｂに続く工程を表す断面模式図である。
【図６Ｂ】図６Ａに続く工程を表す断面模式図である。
【図７Ａ】図６Ｂに続く工程を表す断面模式図である。
【図７Ｂ】図７Ａに続く工程を表す断面模式図である。
【図８Ａ】図７Ｂに続く工程を表す断面模式図である。
【図８Ｂ】図８Ａに続く工程を表す断面模式図である。
【図９】（Ａ）は比較例に係るコンタクト部の構成を表す平面模式図、（Ｂ）はその断面模式図である。
【図１０】図１に示した半導体装置を適用した表示装置の機能構成を表すブロック図である。
【図１１】図１に示した半導体装置を適用した撮像装置の構成を表すブロック図である。
【図１２】電子機器の構成を表すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本技術の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．実施の形態（半導体膜に低抵抗化処理が施された半導体装置の例）
２．変形例（半導体膜が酸化物半導体材料以外の材料により構成されている例）
３．適用例１（表示装置および撮像装置の例）
４．適用例２（電子機器の例）
【００１４】
＜実施の形態＞
［構成］
図１は、本技術の一実施の形態に係る半導体装置（半導体装置１）の断面構成を模式的に表したものである。半導体装置１は、例えば表示装置および撮像装置（後述の図１０の表示装置２Ａおよび図１１の撮像装置２Ｂ）等の駆動回路に用いられるものである。この半導体装置１には、トップゲート型の薄膜トランジスタ（トランジスタＴｒ）および保持容量（保持容量Ｃｓ）が設けられ、トランジスタＴｒと保持容量Ｃｓとはコンタクト部１０により電気的に接続されている。
【００１５】
トランジスタＴｒは、基板１１上に、ＵＣ（Under Coat）膜１２および第１絶縁膜１４を介して半導体膜１５、第２絶縁膜１６およびゲート電極１７をこの順に有している。半導体膜１５（後述の低抵抗領域１５ｂ）にはソース・ドレイン電極２１が電気的に接続されている。
【００１６】
保持容量Ｃｓは、基板１１上に、ＵＣ膜１２を介して下部電極１３（第１配線）および上部電極１５Ｃを有しており、下部電極１３と上部電極１５Ｃとの間には第１絶縁膜１４が設けられている。コンタクト部１０には、ゲート配線１７Ｗが設けられており、このゲート配線１７Ｗ（第２配線）を介して、半導体膜１５と下部電極１３とが電気的に接続されている。半導体装置１は、ゲート電極１７およびゲート配線１７Ｗ上に、金属酸化膜１８および層間絶縁膜１９をこの順に有している。ソース・ドレイン電極２１は、層間絶縁膜１９上に設けられており、層間絶縁膜１９および金属酸化膜１８の貫通孔を介して半導体膜１５に接続されている。
【００１７】
半導体膜１５のうち、ゲート電極１７と対向する領域は、トランジスタＴｒのチャネル領域１５ａであり、このチャネル領域１５ａに隣接してチャネル領域１５ａよりも電気抵抗の低い低抵抗領域１５ｂが設けられている。
【００１８】
基板１１は、例えば、ガラス，石英およびシリコンなどから構成されている。あるいは、基板１１は、例えば、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート），ＰＩ（ポリイミド），ＰＣ（ポリカーボネート）またはＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）などの樹脂材料から構成されていてもよい。この他にも、ステンレス鋼（ＳＵＳ）などの金属板に絶縁材料を成膜したものを基板１１に用いることもできる。
【００１９】
ＵＣ膜１２は、基板１１から、上層に例えばナトリウムイオン等の物質が移動するのを防ぐためのものであり、窒化シリコン（ＳｉＮ）膜および酸化シリコン（ＳｉＯ）膜等の絶縁材料により構成されている。例えば、ＵＣ膜１２では、基板１１に近い位置から順にＵＣ膜１２ＡおよびＵＣ膜１２Ｂがこの順に積層されていてもよい。例えば、ＵＣ膜１２Ａは窒化シリコン（ＳｉＮ）膜、ＵＣ膜１２Ｂは酸化シリコン（ＳｉＯ）膜により構成されている。ＵＣ膜１２は、基板１１全面にわたって設けられている。
【００２０】
（保持容量Ｃｓ）
下部電極１３は、ＵＣ膜１２上の選択的な領域に設けられている。下部電極１３の一部は、上部電極１５Ｃから露出してコンタクト部１０に延在している。下部電極１３は、例えば、モリブデン（Ｍｏ），タングステン（Ｗ），アルミニウム（Ａｌ），銅（Ｃｕ），銀（Ａｇ）およびチタン（Ｔｉ）等の金属を含んで構成されている。下部電極１３は、合金により構成されていてもよく、複数の金属膜を含む積層膜により構成されていてもよい。下部電極１３は、金属以外の導電性材料により構成されていてもよい。
【００２１】
第１絶縁膜１４は、下部電極１３と上部電極１５Ｃとの間に介在している。この保持容量Ｃｓに設けられた第１絶縁膜１４は、トランジスタＴｒの第２絶縁膜１６とは、別の層に設けられているので、第２絶縁膜１６とは異なる厚みに調整することができる。したがって、第１絶縁膜１４の厚みを小さくして、保持容量Ｃｓの占有面積を小さくすることが可能となる。即ち、半導体装置１の高精細化を実現することが可能となる。第１絶縁膜１４は、例えばシリコン酸化膜（ＳｉＯｘ）、シリコン窒化膜（ＳｉＮｘ）、酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）および酸化アルミニウム膜（ＡｌＯｘ）等の無機絶縁膜により構成されており、例えば２０ｎｍ〜３００ｎｍの厚みを有している。
【００２２】
上部電極１５Ｃは、第１絶縁膜１４を間にして下部電極１３に対向している。後述するように、この上部電極１５Ｃは、例えば半導体膜１５と同一工程で形成されるものであり、半導体膜１５と同一の構成材料を含むとともに、半導体膜１５の低抵抗領域１５ｂと同一の厚みを有している。上部電極１５Ｃには、例えば低抵抗化された酸化物半導体材料を用いることができる。
【００２３】
（トランジスタＴｒ）
半導体膜１５は、第１絶縁膜１４上の選択的な領域に設けられている。半導体膜１５は、例えば、インジウム（Ｉｎ），ガリウム（Ｇａ），亜鉛（Ｚｎ），スズ（Ｓｎ），チタン（Ｔｉ）およびニオブ（Ｎｂ）のうちの少なくとも１種の元素の酸化物を主成分として含む酸化物半導体から構成されている。具体的には、半導体膜１５に酸化インジウムスズ亜鉛（ＩＴＺＯ），酸化インジウムガリウム亜鉛（ＩＧＺＯ：ＩｎＧａＺｎＯ），酸化亜鉛（ＺｎＯ），酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ），酸化インジウムガリウム（ＩＧＯ），酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）および酸化インジウム（ＩｎＯ）等を用いることができる。半導体膜１５の厚みは、例えば１０ｎｍ〜３００ｎｍであり、６０ｎｍ以下であることが好ましい。半導体膜１５の厚みを薄くすることにより、半導体中に含まれる欠陥の絶対量が減少し、しきい値電圧の負シフトが抑えられる。したがって、オンオフ比の高い、優れたトランジスタ特性を実現することができる。また、半導体膜１５の成膜に要する時間が短縮されるので、生産性を向上させることができる。
【００２４】
半導体膜１５の低抵抗領域１５ｂは、チャネル領域１５ａの両側に設けられている。一方の低抵抗領域１５ｂには、ソース・ドレイン電極２１が接続されている。他方の低抵抗領域１５ｂは、コンタクト部１０に延在し、ゲート配線１７Ｗを介して保持容量Ｃｓの下部電極１３に接続されている。この低抵抗領域１５ｂは、ｎ+拡散領域であり、例えばチャネル領域１５ａよりも酸素（Ｏ）濃度が低くなっている。あるいは、低抵抗領域１５ｂは、チャネル領域１５ａよりも水素（Ｈ）濃度が高くなっていてもよい。
【００２５】
半導体膜１５とゲート電極１７との間に設けられた第２絶縁膜１６は、ゲート絶縁膜として機能するものである。この第２絶縁膜１６は、平面視でゲート電極１７と同一形状を有している。即ち、トランジスタＴｒは、セルフアライン構造を有する薄膜トランジスタである。第２絶縁膜１６は、例えばシリコン酸化膜（ＳｉＯx）、シリコン窒化膜（ＳｉＮx）、シリコン窒化酸化膜（ＳｉＯＮ）および酸化アルミニウム膜（ＡｌＯx）のうちの１種よりなる単層膜、またはそれらのうちの２種以上よりなる積層膜により構成されている。第２絶縁膜１６の厚みは、例えば１００ｎｍ〜５００ｎｍである。
【００２６】
第２絶縁膜１６上のゲート電極１７は、印加されるゲート電圧（Ｖｇ）によってチャネル領域１５ａ中のキャリア密度を制御すると共に、電位を供給する配線としての機能を有するものである。このゲート電極１７の構成材料は、例えば、チタン（Ｔｉ），タングステン（Ｗ），タンタル（Ｔａ），アルミニウム（Ａｌ），モリブデン（Ｍｏ），銀（Ａｇ），ネオジウム（Ｎｄ）および銅（Ｃｕ）のうちの１種を含む単体および合金が挙げられる。あるいは、それらのうちの少なくとも１種を含む化合物および２種以上を含む積層膜であってもよい。また、例えばＩＴＯ等の透明導電膜が用いられても構わない。
【００２７】
金属酸化膜１８は、例えば基板１１の全面に設けられ、ゲート電極１７およびゲート配線１７Ｗを覆うとともに、半導体膜１５の低抵抗領域１５ｂに接している。この金属酸化膜１８としては、例えば、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）膜を用いることができる。このような低抵抗領域１５ｂに接する金属酸化膜１８を設けることにより、低抵抗領域１５ｂの電気抵抗を安定して維持することができる。金属酸化膜１８には、酸化チタン（ＴｉＯ2），酸化タングステン（ＷＯ3），タンタルオキサイド（Ｔａ2Ｏ5）またはジルコニウムオキサイド（ＺｒＯ2）等を用いるようにしてもよい。
【００２８】
層間絶縁膜１９は、例えば基板１１の全面に設けられている。層間絶縁膜１９は、例えば、金属酸化膜１８に近い位置から順に、層間絶縁膜１９Ａ，層間絶縁膜１９Ｂおよび層間絶縁膜１９Ｃがこの順に積層された積層膜により構成されている。層間絶縁膜１９Ａには、例えば酸化シリコン（ＳｉＯ2）膜を用いることができる。層間絶縁膜１９Ａには、窒化シリコン（ＳｉＮ）膜または酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）膜等を用いるようにしてもよい。層間絶縁膜１９Ｂには、例えば酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）膜を用いることができる。層間絶縁膜１９Ｃには、例えば感光性を有する樹脂膜を用いることができる。具体的には、層間絶縁膜１９Ｃは、例えばポリイミド樹脂膜により構成されている。層間絶縁膜１９Ｃには、ノボラック樹脂またはアクリル樹脂等を用いるようにしてもよい。
【００２９】
ソース・ドレイン電極２１は、トランジスタＴｒのソースまたはドレインとして機能するものであり、例えば、上記ゲート電極１７の構成材料として列挙したものと同様の金属または透明導電膜を含んで構成されている。このソース・ドレイン電極としては、電気伝導性の良い材料が選択されることが望ましい。
【００３０】
（コンタクト部１０）
図２を用いてコンタクト部１０の構成を説明する。図２（Ａ）はコンタクト部１０の平面構成、図２（Ｂ）はコンタクト部１０の断面構成をそれぞれ表している。コンタクト部１０には、配線の延在方向（トランジスタＴｒおよび保持容量Ｃｓの配列方向、図２ではＸ方向）に沿って、トランジスタＴｒに近い位置から順に、第１領域１０−１、第２領域１０−２および第３領域１０−３が互いに隣接して設けられている。第２領域１０−２および第３領域１０−３に接続孔Ｈが設けられている。第２領域１０−２で半導体膜１５とゲート配線１７Ｗとが接し、第３領域１０−３で下部電極１３とゲート配線１７Ｗとが接している。図２では、ＵＣ膜１２の図示を省略している。
【００３１】
第１領域１０−１は、基板１１上に、ＵＣ膜１２、第１絶縁膜１４、半導体膜１５、第２絶縁膜１６およびゲート配線１７Ｗがこの順に設けられた領域である。即ち、第１領域１０−１では、半導体膜１５が第２絶縁膜１６に覆われている。後述するように、この第１領域１０−１に第２絶縁膜１６を設けることにより、半導体膜１５よりも上の層を形成する際の半導体膜１５への影響を抑え、コンタクトの安定性を高めることができる。
【００３２】
半導体膜１５は、コンタクト部１０のうち、第１領域１０−１および第２領域１０−２に設けられている。この半導体膜１５には、第１領域１０−１および第２領域１０−２にわたって低抵抗領域１５ｂが設けられている。即ち、第１領域１０−１および第２領域１０−２の半導体膜１５は、低抵抗状態となっている。後述するように、この低抵抗状態はゲート配線１７Ｗを形成する前に、低抵抗化処理を行うことにより形成されたものである。このような低抵抗状態の半導体膜１５をコンタクト部１０に設けることにより、より確実にコンタクト部１０の半導体膜１５が導電体として機能する。
【００３３】
第２絶縁膜１６は、製造工程での膜減り等から半導体膜１５を保護するためのものであり、コンタクト部１０のうち、第１領域１０−１のみに設けられている。換言すれば、この第２絶縁膜１６が設けられた領域が第１領域１０−１である。第１領域１０−１の長さ（Ｘ方向の大きさ、長さＬ1）は例えば１μｍ〜５μｍである。第１領域１０−１の長さＬ1は、電流の流れに平行な方向の第１領域１０−１の大きさを表す。第１領域１０−１の第２絶縁膜１６は、トランジスタＴｒの第２絶縁膜１６と同一工程で形成されるものである。即ち、トランジスタＴｒの第２絶縁膜１６（ゲート絶縁膜）と同一材料により構成され、同一の厚みを有している。
【００３４】
ゲート配線１７Ｗは、コンタクト部１０の第１領域１０−１、第２領域１０−２および第３領域１０−３にわたって設けられており、第１領域１０−１のゲート配線１７Ｗの端面は、第２絶縁膜１６の端面と、平面視で同じ位置に設けられている。ゲート配線１７Ｗは、トランジスタＴｒのゲート電極１７と同一工程で形成されるものである。即ち、トランジスタＴｒのゲート電極１７と同一材料により構成され、同一の厚みを有している。
【００３５】
図３に示したように、第２絶縁膜１６およびゲート配線１７Ｗの断面形状がテーパ状であってもよい。
【００３６】
第２領域１０−２は、基板１１上に、ＵＣ膜１２、第１絶縁膜１４、半導体膜１５およびゲート配線１７Ｗがこの順に設けられた領域である（図２（Ｂ））。即ち、第２領域１０−２では、第２絶縁膜１６に設けられた接続孔Ｈにより、半導体膜１５とゲート配線１７Ｗとが接している。
【００３７】
第３領域１０−３は、基板１１上に、ＵＣ膜１２、下部電極１３およびゲート配線１７Ｗがこの順に設けられた領域である。即ち、第３領域１０−３では、第１絶縁膜１４および第２絶縁膜１６に設けられた接続孔Ｈにより、下部電極１３とゲート配線１７Ｗとが接している。下部電極１３は、例えば第３領域１０−３から第２領域１０−２の一部に延在しているが、少なくとも第３領域１０−３に設けられていればよい。第２領域１０−２では、下部電極１３と半導体膜１５との間に第１絶縁膜１４が設けられている。
【００３８】
下部電極１３、半導体膜１５およびゲート配線１７Ｗの幅（Ｙ方向の大きさ、配線幅Ｗ10）は、例えば２μｍ〜１０μｍである。配線幅Ｗ10は、電流の流れに直交する方向の下部電極１３、半導体膜１５およびゲート配線１７Ｗの大きさを表す。接続孔Ｈの幅（Ｙ方向の大きさ、幅ＷH）は、例えば２μｍ〜１３μｍである。接続孔Ｈの長さ（Ｘ方向の大きさ、長さＬ2+3）は、例えば２μｍ〜１５μｍである。幅ＷHは、電流の流れに直交する方向の接続孔Ｈの大きさ、長さＬ2+3は、電流の流れに平行な方向の接続孔Ｈの大きさをそれぞれ表す。
【００３９】
図４に示したように、接続孔Ｈの幅ＷHが、配線幅Ｗ10よりも大きくなっていてもよい。図４（Ａ）は、接続孔Ｈの幅ＷHを配線幅Ｗ10よりも大きくしたときのコンタクト部１０の平面構成、図４（Ｂ）はその断面構成をそれぞれ表している。後述するように、半導体装置１では、コンタクト部１０において半導体膜１５の膜減りが抑えられるので、接続孔Ｈの幅ＷHが、配線幅Ｗ10よりも大きくなっていても、安定的に半導体膜１５と下部電極１３とを接続することができる。したがって、本技術は、小さい配線幅Ｗ10を有する高精細な半導体装置に好適に用いることができる。
【００４０】
例えば、コンタクト部１０以外の領域にもゲート配線１７Ｗが設けられていてもよい。このゲート配線１７Ｗと第１絶縁膜１４との間には、平面視でゲート配線１７Ｗと同一形状の第２絶縁膜１６が設けられている。
【００４１】
［製造方法］
上記のような半導体装置１は、例えば次のようにして製造することができる（図５Ａ〜図８Ｂ）。
【００４２】
まず、図５Ａに示したように、基板１１上に、ＵＣ膜１２、下部電極１３、第１絶縁膜１４、半導体膜１５および第２絶縁膜１６をこの順に形成する。具体的には、例えば以下のようにして形成する。まず、基板１１の全面にＵＣ膜１２を形成する。次いで、このＵＣ膜１２上に、例えば金属膜を成膜し、この金属膜をドライエッチングにより所定の形状にパターニングして下部電極１３を形成する。続いて、下部電極１３を覆うようにして、基板１１の全面に第１絶縁膜１４を形成する。次に、第１絶縁膜１４上に、例えば酸化物半導体材料を例えばスパッタ法等により成膜した後、例えばフォトリソグラフィおよびエッチングにより、所定の形状にパターニングして半導体膜１５を形成する。その後、半導体膜１５を覆うように、基板１１の全面に第２絶縁膜１６を成膜する。
【００４３】
第２絶縁膜１６を形成した後、図５Ｂに示したように、第２領域１０−２および第３領域１０−３の第２絶縁膜１６と、第３領域１０−３の第１絶縁膜１４とを選択的に除去し、接続孔Ｈを形成する。接続孔Ｈは、例えばドライエッチングを用いて形成する。このとき、第２領域１０−２の半導体膜１５がドライエッチングに曝され、第２領域１０−２に低抵抗領域１５ｂが形成される。
【００４４】
接続孔Ｈを形成した後、本実施の形態では、図６Ａに示したように、半導体膜１５に低抵抗化処理を行う。これにより、半導体膜１５の低抵抗領域１５ｂが接続孔Ｈ近傍で拡がり、第１領域１０−１の半導体膜１５が低抵抗化される。したがって、コンタクト部１０の半導体膜１５が、より確実に導電体として機能するようになり、コンタクトの安定性を高めることができる。低抵抗化処理として、例えば、アルゴン（Ａｒ）または水素（Ｈ）等を用いたプラズマ照射を行う。あるいは、低抵抗化処理として熱処理を行うようにしてもよい。このような低抵抗化処理を行うことにより、接続孔Ｈ近傍、即ち、第１領域１０−１および第２領域１０−２の半導体膜１５の酸素濃度が低くなり、あるいは水素濃度が高くなり、低抵抗化状態となる。
【００４５】
低抵抗化処理を行った後、基板１１の全面に例えば金属材料からなる導電膜１７Ａを成膜する。続いて、この導電膜１７Ａ上に所定のパターンを有するフォトレジストＰｒ１，Ｐｒ２，Ｐｒ３を形成する（図６Ｂ）。フォトレジストＰｒ１は、トランジスタＴｒのゲート電極１７および第２絶縁膜１６を形成するためのものである。フォトレジストＰｒ２は、コンタクト部１０のゲート配線１７Ｗおよび第２絶縁膜１６（第１領域１０−１）を形成するためのものである。フォトレジストＰｒ３は、コンタクト部１０以外の領域のゲート配線１７Ｗおよび第２絶縁膜１６を形成するためのものである。
【００４６】
このフォトレジストＰｒ１，Ｐｒ２，Ｐｒ３を用いて、導電膜１７Ａおよび第２絶縁膜１６のパターニングを連続して行う（図７Ａ，７Ｂ）。図７Ａに示したように、まず、導電膜１７Ａを、ドライエッチングを用いてパターニングし、ゲート電極１７およびゲート配線１７Ｗを形成する。このとき、第１領域１０−１の半導体膜１５が第２絶縁膜１６により覆われているので、半導体膜１５がドライエッチングに曝されない。したがって、第１領域１０−１の半導体膜１５は膜減りせず、所定の厚みで存在する。ゲート電極１７およびゲート配線１７Ｗを形成した後、続けて第２絶縁膜１６のパターニングを行う（図７Ｂ）。これにより、平面視でゲート電極１７と同一形状の第２絶縁膜１６と、第１領域１０−１の第２絶縁膜１６と、平面視でゲート配線１７Ｗと同一形状の第２絶縁膜１６とが形成される。このとき、半導体膜１５の第２絶縁膜１６から露出した領域が、ドライエッチングにより低抵抗化され、トランジスタＴｒの低抵抗領域１５ｂおよび保持容量Ｃｓの上部電極１５Ｃが形成される。
【００４７】
この後、図８Ａ，８Ｂに示したように、基板１１の全面に、金属酸化膜１８および層間絶縁膜１９をこの順に形成する。最後に層間絶縁膜１９上に、ソース・ドレイン電極２１を形成することにより、図１に示した半導体装置１が完成する。
【００４８】
［作用、効果］
本実施の形態の半導体装置１では、ゲート電極１７に閾値電圧以上のオン電圧が印加されると、半導体膜１５のチャネル領域１５ａが活性化される。これにより、一対の低抵抗領域１５ｂ間に電流が流れる。これに応じて、コンタクト部１０では、ゲート配線１７Ｗを介して、半導体膜１５から下部電極１３に電流が流れ保持容量Ｃｓに電荷が保持される。
【００４９】
本実施の形態の半導体装置１では、低抵抗化処理を行うことにより、コンタクト部１０の半導体膜１５が低抵抗状態（低抵抗領域１５ｂ）になっているので、より確実に導電体として機能する。以下、これについて比較例を用いて説明する。
【００５０】
図９は、比較例にかかる半導体装置のコンタクト部（コンタクト部１００）の模式的な構成を表したものである。図９（Ａ）は、コンタクト部１００の模式的な平面構成、図９（Ｂ）は、コンタクト部１００の模式的な断面構成をそれぞれ表している。このコンタクト部１００では、接続孔Ｈを形成した後に、接続孔Ｈ近傍の半導体膜１５に低抵抗化処理が施されていない。この点において、コンタクト部１００は、コンタクト部１０と異なっている。
【００５１】
コンタクト部１００では、コンタクト部１０と同様に、第１領域１０−１の半導体膜１５が第２絶縁膜１６に覆われているので、ゲート配線１７Ｗをパターニングする際（図７Ａ参照）に、半導体膜１５が保護される。したがって、半導体膜１５が、複数回ドライエッチングに曝されることに起因した、膜減りおよび消失等の発生が抑えられる。即ち、薄い半導体膜１５を用いる際にも、安定して半導体膜１５と下部電極１３とを電気的に接続することができる。
【００５２】
コンタクト部１００の第１領域１０−１では、半導体膜１５上に第２絶縁膜１６およびゲート配線１７Ｗが積層されているので、第１領域１０−１の半導体膜１５のキャリア密度は低くなっている。この第１領域１０−１の半導体膜１５の導電性は、低抵抗領域１５ｂからの高濃度キャリア拡散に依存する。低抵抗領域１５ｂは、トランジスタＴｒおよび第２領域１０−２に設けられている。
【００５３】
このように、第１領域１０−１の半導体膜１５の導電性は、低抵抗領域１５ｂからの高濃度キャリアの拡散に依存するため、キャリアの拡散が不十分な場合、半導体膜１５が導電体として機能しなくなるおそれがある。例えば、接続孔Ｈおよびゲート配線１７Ｗ等に合わせずれが生じ、第１領域１０−１の長さＬ１が大きくなると、十分に高濃度キャリアが拡散されないおそれがある。また、第１領域１０−１の長さＬ１が設計通りであったとしても、高濃度キャリアの拡散に何らかの不具合が生じるおそれもある。
【００５４】
トランジスタＴｒの低抵抗領域１５ｂを拡大することにより、コンタクト部１０の半導体膜１５の導電性を高める方法も考え得る。しかしながら、この方法ではトランジスタＴｒにデプレッションシフトが生じるおそれがあるため、プロセスウィンドウ（製造条件の適用範囲）が狭くなる。
【００５５】
これに対し、コンタクト部１０では、接続孔Ｈを形成した後に、半導体膜１５に低抵抗化処理を行っているので、第１領域１０−１および第２領域１０−２の半導体膜１５が、より確実に低抵抗状態となる。即ち、コンタクト部１０の半導体膜１５が、より確実に導電体として機能する。また、このコンタクト部１０の半導体膜１５の導電性は、トランジスタＴｒの低抵抗領域１５ｂからのキャリア拡散に依存しないので、トランジスタＴｒの低抵抗領域１５ｂの長さとコンタクト部１０の低抵抗領域１５ｂの長さとを、別々に調整することができる。よって、トランジスタＴｒの特性に影響を及ぼすことなく、コンタクト部１０での半導体膜１５の導電性を高めることができる。
【００５６】
以上説明したように本実施の形態では、第１領域１０−１のゲート配線１７Ｗと半導体膜１５との間に第２絶縁膜１６を設けるようにしたので、半導体膜１５の膜減り等を抑え、半導体膜１５と下部電極１３とを安定的に接続することができる。また、低抵抗化処理を行うことにより、コンタクト部１０の半導体膜１５の低抵抗状態を形成しているので、コンタクト部１０の半導体膜１５をより確実に導電体として機能させることができる。よって、コンタクト部１０の安定性を高めることができる。
【００５７】
例えば、半導体装置１を表示装置（後述の図１０の表示装置２Ａ）に適用すると、コンタクト部１０の抵抗上昇が抑えられるので、電圧降下、画素への信号書き込み不良および階調不良等を防ぐことができる。よって、表示装置の表示品質を向上させることが可能となる。
【００５８】
また、コンタクト部１０を設けることにより、下部電極１３と上部電極１５Ｃとの間の第１絶縁膜１４を、第２絶縁膜１６（ゲート絶縁膜）とは別に設け、かつ、フォトリソグラフィ工程の増加を抑えることができる。したがって、複雑な製造工程を用いることなく、第１絶縁膜１４の厚みを小さくすることができる。即ち、保持容量Ｃｓの占有面積を小さくし、高精細な半導体装置１を実現することが可能となる。
【００５９】
＜変形例＞
上記実施の形態では、半導体膜１５が酸化物半導体材料により構成されている場合について説明したが、半導体膜１５は、アモルファスシリコン，微結晶シリコン，多結晶シリコンまたは有機半導体等の他の半導体材料を用いて構成するようにしてもよい。
【００６０】
例えば、シリコンを用いて半導体膜１５を形成するとき、接続孔Ｈを形成した後の低抵抗化処理として、不純物注入を行う。ｐ型不純物としては例えば、アルミニウム（Ａｌ）およびホウ素（Ｂ）等が挙げられる。ｎ型不純物としてはリン（Ｐ）およびヒ素（Ａｓ）等が挙げられる。
【００６１】
＜適用例１＞
上記実施の形態および変形例において説明した半導体装置１は、例えば表示装置（後述の図１０の表示装置２Ａ）および撮像装置（後述の図１１の撮像装置２Ｂ）等の駆動回路に用いることができる。
【００６２】
図１０は、表示装置２Ａの機能ブロック構成を示したものである。表示装置２Ａは、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、映像として表示するものであり、上述した有機ＥＬディスプレイの他にも、例えば液晶ディスプレイなどにも適用される。表示装置２Ａは、例えばタイミング制御部３１と、信号処理部３２と、駆動部３３と、表示画素部３４とを備えている。
【００６３】
タイミング制御部３１は、各種のタイミング信号（制御信号）を生成するタイミングジェネレータを有しており、これらの各種のタイミング信号を基に、信号処理部３２等の駆動制御を行うものである。信号処理部３２は、例えば、外部から入力されたデジタルの映像信号に対して所定の補正を行い、それにより得られた映像信号を駆動部３３に出力するものである。駆動部３３は、例えば走査線駆動回路および信号線駆動回路などを含んで構成され、各種制御線を介して表示画素部３４の各画素を駆動するものである。表示画素部３４は、例えば有機ＥＬ素子または液晶表示素子等の表示素子と、表示素子を画素毎に駆動するための画素回路とを含んで構成されている。これらのうち、例えば、駆動部３３または表示画素部３４の一部を構成する各種回路に、上述の半導体装置が用いられる。
【００６４】
図１１は、撮像装置２Ｂの機能ブロック構成を示したものである。撮像装置２Ｂは、例えば画像を電気信号として取得する固体撮像装置であり、例えばＣＣＤ(Charge Coupled Device)またはＣＭＯＳ(Complementary Metal Oxide Semiconductor)イメージセンサなどから構成されている。撮像装置２Ｂは、例えばタイミング制御部３５と、駆動部３６と、撮像画素部３７と、信号処理部３８とを備えている。
【００６５】
タイミング制御部３５は、各種のタイミング信号（制御信号）を生成するタイミングジェネレータを有しており、これらの各種のタイミング信号を基に、駆動部３６の駆動制御を行うものである。駆動部３６は、例えば行選択回路、ＡＤ変換回路および水平転送走査回路などを含んで構成され、各種制御線を介して撮像画素部３７の各画素から信号を読み出す駆動を行うものである。撮像画素部３７は、例えばフォトダイオードなどの撮像素子（光電変換素子）と、信号読み出しのための画素回路とを含んで構成されている。信号処理部３８は、撮像画素部３７から得られた信号に対して様々な信号処理を施すものである。これらのうち、例えば、駆動部３６または撮像画素部３７の一部を構成する各種回路に、上述の半導体装置が用いられる。
【００６６】
＜電子機器の例＞
上記表示装置２Ａおよび撮像装置２Ｂ等は、様々なタイプの電子機器に用いることができる。図１２に、電子機器３の機能ブロック構成を示す。電子機器３としては、例えばテレビジョン装置、パーソナルコンピュータ（ＰＣ）、スマートフォン、タブレット型ＰＣ、携帯電話機、デジタルスチルカメラおよびデジタルビデオカメラ等が挙げられる。
【００６７】
電子機器３は、例えば上述の表示装置２Ａ（または撮像装置２Ｂ）と、インターフェース部４０とを有している。インターフェース部４０は、外部から各種の信号および電源等が入力される入力部である。このインターフェース部４０は、また、例えばタッチパネル、キーボードまたは操作ボタン等のユーザインターフェースを含んでいてもよい。
【００６８】
以上、実施の形態等を挙げて説明したが、本技術は上記実施の形態等に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、上記実施の形態等に記載した各層の材料および厚みは列挙したものに限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよい。
【００６９】
また、上記実施の形態等では、コンタクト部１０が、トランジスタＴｒと保持容量Ｃｓとを接続する場合を例に挙げて説明したが、コンタクト部１０は、その他の素子間に適用させることも可能である。
【００７０】
上記実施の形態等において説明した効果は一例であり、本開示の効果は、他の効果であってもよいし、更に他の効果を含んでいてもよい。
【００７１】
尚、本技術は以下のような構成を取ることも可能である。
（１）
所定の方向に沿って、第１領域、第２領域および第３領域がこの順に隣接して設けられた基板の、少なくとも前記第３領域に第１配線を形成し、
前記第１配線を覆うように、前記基板上に第１絶縁膜を形成し、
前記第１絶縁膜を介して、前記基板上の前記第１領域および前記第２領域に半導体膜を形成し、
前記半導体膜を覆うように、前記基板上に第２絶縁膜を形成し、
前記第２領域で前記半導体膜に達するとともに、前記第３領域で前記第１配線に達する接続孔を前記第２絶縁膜および前記第１絶縁膜に形成し、
前記接続孔を形成した後、前記半導体膜に低抵抗化処理を行い、
前記低抵抗化処理を行った後、前記第２絶縁膜を間にして前記基板上の前記第１領域、前記第２領域および前記第３領域に第２配線を形成し、前記接続孔を用いて前記第２配線を、前記第２領域で前記半導体膜に接続するとともに、前記第３領域で前記第１配線に接続する
半導体装置の製造方法。
（２）
更に、トランジスタを形成し、
前記半導体膜には、前記トランジスタのチャネル領域が設けられている
前記（１）記載の半導体装置の製造方法。
（３）
前記トランジスタとして、前記基板上に、前記半導体膜、ゲート絶縁膜およびゲート電極をこの順に形成する
前記（２）記載の半導体装置の製造方法。
（４）
前記ゲート絶縁膜は、前記第２絶縁膜と同一工程で形成し、
前記ゲート電極は、前記第２配線と同一工程で形成する
前記（３）記載の半導体装置の製造方法。
（５）
前記ゲート電極および前記第２配線を形成した後に、前記半導体膜に接する金属酸化膜を形成する
前記（３）または（４）記載の半導体装置の製造方法。
（６）
更に、保持容量を形成し、
前記第１配線は、前記保持容量の一方の電極である
前記（１）ないし（５）のうちいずれか１つに記載の半導体装置の製造方法。
（７）
前記保持容量の他方の電極を、前記半導体膜と同一工程で形成する
前記（６）記載の半導体装置の製造方法。
（８）
前記一方の電極と前記他方の電極との間に、前記第１絶縁膜を形成する
前記（７）記載の半導体装置の製造方法。
（９）
前記低抵抗化処理として、プラズマ照射を行う
前記（１）ないし（８）のうちいずれか１つに記載の半導体装置の製造方法。
（１０）
前記低抵抗化処理として、熱処理を行う
前記（１）ないし（８）のうちいずれか１つ記載の半導体装置の製造方法。
（１１）
所定の方向に沿って、第１領域、第２領域および第３領域がこの順に隣接して設けられた基板と、
前記基板上の、少なくとも前記第３領域に設けられた第１配線と、
前記第１配線を覆う第１絶縁膜と、
前記第１絶縁膜を介して、前記基板上の前記第１領域および前記第２領域に設けられ、低抵抗状態の半導体膜と、
前記半導体膜を覆う第２絶縁膜と、
前記第２絶縁膜を間にして前記基板上の前記第１領域、前記第２領域および前記第３領域に設けられ、前記第２絶縁膜および前記第１絶縁膜に設けられた接続孔を介して、前記第２領域で前記半導体膜に接するとともに、前記第３領域で前記第１配線に接する第２配線と
を備えた半導体装置。
（１２）
前記半導体膜は酸化物半導体材料を含む
前記（１１）記載の半導体装置。
（１３）
表示素子および前記表示素子を駆動する半導体装置を備え、
前記半導体装置は、
所定の方向に沿って、第１領域、第２領域および第３領域がこの順に隣接して設けられた基板と、
前記基板上の、少なくとも前記第３領域に設けられた第１配線と、
前記第１配線を覆う第１絶縁膜と、
前記第１絶縁膜を介して、前記基板上の前記第１領域および前記第２領域に設けられ、低抵抗状態の半導体膜と、
前記半導体膜を覆う第２絶縁膜と、
前記第２絶縁膜を間にして前記基板上の前記第１領域、前記第２領域および前記第３領域に設けられ、前記第２絶縁膜および前記第１絶縁膜に設けられた接続孔を介して、前記第２領域で前記半導体膜に接するとともに、前記第３領域で前記第１配線に接する第２配線とを含む
表示装置。
【符号の説明】
【００７２】
１…半導体装置、Ｔｒ…トランジスタ、Ｃｓ…保持容量、１０…コンタクト部、１０−１…第１領域、１０−２…第２領域、１０−３…第３領域、１１…基板、１２，１２Ａ，１２Ｂ…ＵＣ膜、１３…下部電極、１４…第１絶縁膜、１５…半導体膜、１５ａ…チャネル領域、１５ｂ…低抵抗領域、１５Ｃ…上部電極、１６…第２絶縁膜、１７…ゲート電極、１７Ｗ…ゲート配線、１８…金属酸化膜、１９，１９Ａ，１９Ｂ，１９Ｃ…層間絶縁膜、２１…ソース・ドレイン電極、２Ａ…表示装置、２Ｂ…撮像装置、３…電子機器、３１，３５…タイミング制御部、３２，３８…信号処理部、３３，３６…駆動部、３４…表示画素部、３７…撮像画素部、４０…インターフェース部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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