(57)【要約】【課題】多様な形態の表示装置を製作することが可能なマスク組立体、表示装置の製造装置、表示装置の製造方法、及び表示装置を提供する。【解決手段】(1)マスクフレームと、(2)前記マスクフレームの一側からその対向側へと掛け渡されて取り付けられ、それぞれ複数個の開口部が配列された複数のマスクシートと、(3)マスクシートと交差するように前記マスクフレームの他の一側からその対向側へと掛け渡されるとともに、互いに離隔されるようにしてマスクフレームに取り付けられ、複数個の開口部のうちの一部を遮蔽する少なくとも２つの遮蔽薄板と、を含み、(4)各マスクシートには、前記遮蔽薄板との交差箇所により複数の蒸着領域が形成されており、マスクシート及び遮蔽薄板の少なくとも一方は、前記各蒸着領域について、長方形または正方形から、少なくとも隅角部が少なくとも部分的に省かれた形状となるようにする遮蔽部、を含む。【選択図】図１
2018026344.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクフレームと、
前記マスクフレームの一側からその対向側へと掛け渡されて、両端部が前記マスクフレームに取り付けられ、それぞれ、両端部を除き複数個の開口部が配列された少なくとも２つのマスクシートと、
前記マスクシートと交差するように前記マスクフレームの他の一側からその対向側へと掛け渡されるとともに、互いに離隔されるようにして、両端部が前記マスクフレームに取り付けられ、前記マスクシートの複数個の開口部のうちの一部を遮蔽する少なくとも２つの遮蔽薄板と、を含み、
前記各マスクシートには、前記複数個の開口部の配列領域が、前記遮蔽薄板との交差箇所により区切られて、複数の蒸着領域が形成されており、
前記マスクシート及び前記遮蔽薄板の少なくとも一方は、前記各蒸着領域について、長方形または正方形から、少なくとも隅角部が少なくとも部分的に省かれた形状となるようにする遮蔽部、を含むマスク組立体。
【請求項２】
前記遮蔽部は、前記遮蔽薄板の一部として、前記蒸着領域の側へと突設される第１遮蔽部を含むこと、を特徴とする、請求項１に記載のマスク組立体。
【請求項３】
前記遮蔽部は、前記開口部が省かれた領域、または、前記開口部に代えて非貫通孔が配置された領域として、前記マスクシートに具備された第２遮蔽部を含むこと、を特徴とする、請求項１または２に記載のマスク組立体。
【請求項４】
前記第２遮蔽部の少なくとも一部分の厚みは、前記マスクシートの厚みより薄いことを特徴とする、請求項３に記載のマスク組立体。
【請求項５】
前記遮蔽部は、前記遮蔽薄板の一部として、前記蒸着領域の側へと突設される第１遮蔽部と、前記開口部が省かれた領域、または、前記開口部に代えて非貫通孔が配置された領域として、前記マスクシートに具備された第２遮蔽部と、を含み、
前記第１遮蔽部と前記第２遮蔽部は、少なくとも一部分が互いに重なり合うように配置されること、を特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載のマスク組立体。
【請求項６】
前記蒸着領域は、長方形または正方形から、少なくとも一部の隅角部にて、角を丸めるか、もしくは面取りして得られる形状であるか、長円形、楕円形もしくは円形であるか、または、六角形、八角形、台形、三角形もしくはその他の、長方形または正方形でない多角形であること、を特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載のマスク組立体。
【請求項７】
前記遮蔽部は、前記複数個の開口部のうち、前記蒸着領域の境界に配置された前記少なくとも１つの開口部について、その少なくとも一部分を遮蔽すること、を特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載のマスク組立体。
【請求項８】
前記マスクシートと前記遮蔽薄板は、互いに異なる材質から形成されること、を特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載のマスク組立体。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載のマスク組立体と、
前記マスク組立体と対向するように配置され、蒸着物質を供給するソース部と、
前記マスク組立体を基準に、前記ソース部と反対側に配置され、前記マスク組立体をディスプレイ基板に近接させる磁力部と、を含み、
前記マスク組立体は、
マスクフレームと、を含む表示装置の製造装置。
【請求項１０】
ディスプレイ基板に対向するように請求項１〜８のいずれかに記載のマスク組立体を配置するステップと、
磁力部で、前記マスク組立体を前記ディスプレイ基板の側に密着させるステップと、
ソース部から蒸着物質を噴射し、前記マスク組立体における前記蒸着領域を通過させ、前記ディスプレイ基板に蒸着するステップと、を含む表示装置の製造方法。
【請求項１１】
前記蒸着物質は、真空状態で、前記ディスプレイ基板に蒸着されること、を特徴とする請求項１０に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記蒸着領域の境界に配置された前記開口部を介して蒸着される前記蒸着物質は、前記ディスプレイ基板の非発光領域に蒸着されること、を特徴とする、請求項１０または１１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１３】
ディスプレイ基板に対向するように、請求項１〜８のいずれかに記載のマスク組立体を配置するステップと、
磁力部で、前記マスク組立体を前記ディスプレイ基板の側に密着させるステップと、
ソース部から蒸着物質を噴射し、前記マスク組立体における前記蒸着領域を通過させ、前記ディスプレイ基板に複数層の中間層を形成して前記蒸着領域に対応する表示領域を形成することで、前記ディスプレイ基板の画素定義膜上にダミー中間層を形成するステップと、を含むこと、を特徴とする、表示装置の製造方法。
【請求項１４】
前記中間層のパターンの面積と、前記ダミー中間層のパターンの面積とは、互いに異なること、を特徴とする、請求項１３に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１５】
前記ダミー中間層のパターンの面積は、前記中間層のパターンの面積より小さく形成されること、を特徴とする、請求項１３または１４に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１６】
前記中間層と前記ダミー中間層は、同一材質であること、を特徴とする、請求項１３〜１５のいずれかに記載の表示装置の製造方法。
【請求項１７】
前記ダミー中間層のパターンは、非発光領域に配置されること、を特徴とする、請求項１３〜１６のいずれかに記載の表示装置の製造方法。
【請求項１８】
ディスプレイ基板と、
前記ディスプレイ基板上に配置され、一部が開口した画素定義膜と、
前記画素定義膜の開口した部分に配置される中間層と、
前記画素定義膜上に配置されたダミー中間層のパターンと、を含む表示装置。
【請求項１９】
前記中間層のパターンと、前記ダミー中間層のパターンの面積は、互いに異なること、を特徴とする、請求項３１に記載の表示装置。
【請求項２０】
前記ダミー中間層のパターンの面積は、前記中間層のパターンの面積より小さく形成されること、を特徴とする、請求項１８または１９に記載の表示装置。
【請求項２１】
前記ダミー中間層のパターンは、非発光領域に配置されること、を特徴とする、請求項１８〜２０のいずれかに記載の表示装置。
【請求項２２】
前記中間層と前記ダミー中間層は、同一物質で形成されていること、を特徴とする、請求項１８〜２１のいずれかに記載の表示装置。
【請求項２３】
前記中間層のパターンと前記ダミー中間層のパターンは、それぞれ複数個具備され、
前記複数個のダミー中間層のパターンは、前記複数個の中間層のパターンが配列された領域の外郭に沿って、その外側に配列されること、を特徴とする、請求項１８〜２２のいずれかに記載の表示装置。
【請求項２４】
前記中間層は、複数層具備され、
前記複数個の中間層のパターンは、互いに離隔されるように配列され、長方形または正方形から、少なくとも隅角部が少なくとも部分的に省かれた形状の表示領域を形成すること、を特徴とする、請求項１８〜２３のいずれかに記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、マスク組立体、表示装置の製造装置、表示装置の製造方法、及び表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
移動性に優れる電子機器が幅広く使用されている。移動型電子機器としては、モバイルフォンのような小型電子機器以外にも、近年では、タブレットＰＣ（ｐｅｒｓｏｎａｌｃｏｍｐｕｔｅｒ）などが広く使用されている。
【０００３】
上記のような移動型電子機器は、多様な機能をサポートするために、また、イメージや映像のような視覚情報をユーザに提供するために、表示装置を含む。また、近年では、表示装置を駆動するための部品の小型化に伴い、移動型電子機器における表示装置の比重がだんだんと増大しており、平らな状態で所定の角度を有するように曲げることができる構造も開発されている。
【０００４】
一方、既存のマスク組立体を利用する場合、表示装置の表示領域は、長方形または正方形に限定され、多様な製品への適用が困難であるという問題があった。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、多様な形態の表示装置を製作することが可能なマスク組立体、表示装置の製造装置、表示装置の製造方法、及び表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、(1)マスクフレームと、(2)前記マスクフレームの一側からその対向側へと掛け渡されて、両端部が前記マスクフレームに取り付けられ、それぞれ、両端部を除き複数個の開口部が配列された少なくとも２つのマスクシートと、(3)前記マスクシートと交差するように前記マスクフレームの他の一側からその対向側へと掛け渡されるとともに、互いに離隔されるようにして、両端部が前記マスクフレームに取り付けられ、前記マスクシートの複数個の開口部のうちの一部を遮蔽する少なくとも２つの遮蔽薄板と、を含み、(4)前記各マスクシートには、前記複数個の開口部の配列領域が、前記遮蔽薄板との交差箇所により区切られて、複数の蒸着領域が形成されており、前記マスクシート及び前記遮蔽薄板の少なくとも一方は、前記各蒸着領域について、長方形または正方形から、少なくとも隅角部が少なくとも部分的に省かれた形状となるようにする遮蔽部、を含むマスク組立体が提供される。
【０００７】
前記遮蔽部は、前記遮蔽薄板の一部として、前記蒸着領域側に突設される第１遮蔽部を含んでもよい。
【０００８】
前記遮蔽部は、前記開口部が省かれた領域、または、前記開口部に代えて非貫通孔が配置された領域として、前記マスクシートに具備された第２遮蔽部を含んでもよい。
【０００９】
前記遮蔽部は、前記遮蔽薄板の一部として、前記蒸着領域側に突設される第１遮蔽部と、前記開口部が省かれた領域、または、前記開口部に代えて非貫通孔が配置された領域として、前記マスクシートに具備された第２遮蔽部と、を含んでもよい。
【００１０】
前記第１遮蔽部と前記第２遮蔽部は、少なくとも一部分が互いに重畳するように配置されてもよい。
【００１１】
前記第２遮蔽部の少なくとも一部分の厚みは、前記マスクシートの厚みより薄くてもよい。
【００１２】
前記遮蔽部は、前記複数個の開口部のうち、前記蒸着領域の境界に配置された前記少なくとも１つの開口部について、その少なくとも一部分を遮蔽してもよい。
【００１３】
前記マスクシートと前記遮蔽薄板は、互いに異なる材質から形成されてもよい。
【００１４】
また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、上記のとおりのマスク組立体と、前記マスク組立体と対向するように配置され、蒸着物質を供給するソース部と、前記マスク組立体を基準に、前記ソース部と反対側に配置され、前記マスク組立体をディスプレイ基板に近接させる磁力部と、を含む表示装置の製造装置が提供される。
【００１５】
また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、ディスプレイ基板に対向するように上記のとおりのマスク組立体を配置するステップと、磁力部で、前記マスク組立体を前記ディスプレイ基板側に密着させるステップと、ソース部から蒸着物質を噴射し、前記マスク組立体を通過させ、前記ディスプレイ基板に蒸着するステップと、を含む表示装置の製造方法が提供される。
【００１６】
前記蒸着物質は、真空状態で、前記ディスプレイ基板に蒸着されてもよい。
【００１７】
前記蒸着領域の境界に配置された前記開口部を介して蒸着される前記蒸着物質は、前記ディスプレイ基板の非発光領域に蒸着されてもよい。
【００１８】
また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、ディスプレイ基板に対向するように上記のとおりのマスク組立体を配置するステップと、磁力部で、前記マスク組立体を前記ディスプレイ基板側に密着させるステップと、ソース部から蒸着物質を噴射し、前記マスク組立体を通過させ、前記ディスプレイ基板に複数層の中間層を形成して表示領域を形成しながら、前記ディスプレイ基板の画素定義膜上にダミー中間層を形成するステップと、を含み、前記表示領域は、長方形及び正方形以外の形状であること、を特徴とする、表示装置の製造方法が提供される。
【００１９】
前記中間層のパターンの面積と、前記ダミー中間層のパターンの面積は、異なってもよい。
【００２０】
前記ダミー中間層のパターンの面積は、前記中間層のパターンの面積より小さく形成されてもよい。
【００２１】
前記中間層と前記ダミー中間層は、同一材質であってもよい。
【００２２】
前記ダミー中間層のパターンは、非発光領域に配置されてもよい。
【００２３】
また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、ディスプレイ基板と、前記ディスプレイ基板上に配置され、一部が開口した画素定義膜と、前記画素定義膜の開口した部分に配置される中間層と、前記画素定義膜上に配置されたダミー中間層と、を含む表示装置が提供される。
【００２４】
前記中間層のパターンと、前記ダミー中間層のパターンの面積は、互いに異なってもよい。
【００２５】
前記ダミー中間層のパターンの面積は、前記中間層のパターンの面積より小さく形成されてもよい。
【００２６】
前記ダミー中間層のパターンは、非発光領域に配置されてもよい。
【００２７】
前記中間層と前記ダミー中間層は、同一物質であってもよい。
【００２８】
前記中間層のパターンと前記ダミー中間層のパターンは、それぞれ複数個具備され、前記複数個のダミー中間層のパターンは、前記複数層の中間層のパターンが配列された領域の外郭に沿って、その外側に配列されてもよい。
【００２９】
前記中間層パターンは、複数個具備され、前記複数個の中間層パターンは、互いに離隔されるように配列され、長方形または正方形から、少なくとも隅角部が少なくとも部分的に省かれた形状の表示領域を形成してもよい。
【発明の効果】
【００３０】
以上説明したように本発明によれば、多様な形態の表示装置を製作することが可能となる。また、本発明によれば、長方形または正方形ではない形態を蒸着することが可能となる。また、また、本発明によれば、ディスプレイ基板とマスクシートとの間隔を均一にさせることにより、蒸着効率及び蒸着精密性を向上させることができる。また、本発明によれば、蒸着時に発生する蒸着不良を最小化することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本発明の第１の実施形態に係るマスク組立体を示す斜視図である。
【図２】図１に示されるマスクシート及び遮蔽薄板の平面図である。
【図３】図１に示されるマスク組立体を含む表示装置の製造装置に係る断面図である。
【図４】図３に示される表示装置の製造装置により製造された表示装置を示す平面図である。
【図５】図４に示されるＶ−Ｖ’線に沿って切り取った表示装置の断面図である。
【図６】図５に示される中間層とダミー中間層との配列を示す平面図である。
【図７】本発明の第２の実施形態によるマスク組立体を示す斜視図である。
【図８】図７に示されるマスクシート及び遮蔽薄板の平面図である。
【図９】図８に示されるＩＸ−ＩＸ’線に沿って切り取ったマスクシートの断面図である。
【図１０】図７に示されるマスク組立体を含む表示装置の製造装置を示す断面図である。
【図１１】図１０に示される表示装置の製造装置により蒸着された、中間層とダミー中間層との配列を示す平面図である。
【図１２】本発明の第３の実施形態によるマスク組立体を示す斜視図である。
【図１３】図１２に示されるマスクシート及び遮蔽薄板の平面図である。
【図１４】図１２に示されるマスク組立体を含む表示装置の製造装置の断面図である。
【図１５】図１４に示される表示装置の製造装置により蒸着された、中間層及びダミー中間層の配列を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００３３】
また、本発明は、多様に変形でき、さまざまな実施形態を有することができるが、以下の説明においては、特定の一実施形態を図面に例示し、詳細に説明する。本発明の効果、特徴、及びそれらを達成する方法は、図面と共に詳細に説明する実施形態を参照すれば明確となる。しかし、本発明は、以下で開示される実施形態に限定されるものではなく、多様な形態によっても具現され得る。
【００３４】
また、以下の実施形態において、第１、第２のような用語は、限定的な意味ではなく、１つの構成要素を他の構成要素と区別する目的に使用される。
【００３５】
また、以下の実施形態において、単数の表現は、文脈上明確に異なった意味を持たない限り、複数の表現を含み得る。
【００３６】
また、以下の実施形態において、「含む」または「有する」というような用語は、明細書上に記載された特徴または構成要素が存在するということを意味するものであり、１以上の他の特徴または構成要素が付加される可能性をあらかじめ排除するものではない。
【００３７】
また、以下の実施形態において、膜、領域、構成要素などの部分が、他の部分の上に、または上部にあるとするとき、他の部分の真上にある場合だけではなく、その中間に、他の膜、領域、構成要素などが介在されている場合も含む。
【００３８】
また、図面では、説明の便宜のために、構成要素の大きさが誇張されていることもあり、縮小されていることもある。例えば、図面に示された各構成の大きさ及び厚みは、説明の便宜のために任意に示されており、本発明は、必ずしも図示されたところに限定されるものではない。
【００３９】
また、以下の実施形態において、ｘ軸、ｙ軸及びｚ軸は、直交座標系上の３つの軸に限定されるものではなく、それを含む広い意味に解釈されてもよい。例えば、ｘ軸、ｙ軸及びｚ軸は、互いに直交することもあるが、互いに直交しない異なる方向を指してもよい。
【００４０】
また、ある実施形態が変形のうえ具現可能な場合、特定の工程順序は、説明される順序と異なって遂行されてもよい。例えば、連続して説明される２つの工程が、実質的に同時に遂行されてもよく、あるいは説明される順序と反対の順序に進められてもよい。
【００４１】
図１は、本発明の第１の実施形態に係るマスク組立体を示す斜視図である。また、図２は、図１に示されるマスクシート及び遮蔽薄板の平面図である。また、図３は、図１に示されるマスク組立体を含む表示装置の製造装置に係る断面図である。
【００４２】
図１ないし図３を参考すれば、マスク組立体１５０は、マスクフレーム１５１、マスクシート１５２、遮蔽薄板１５３及び支持フレーム１５４を含んでよい。
【００４３】
マスク組立体１５０は、通常、内部に空間が形成されるように、複数個のフレームが互いに連結されて形成される。
【００４４】
マスクシート１５２は、少なくとも２個以上具備され、少なくとも２個以上のマスクシート１５２は、互いに離隔されるように、マスクフレーム１５１に取り付けられる。図示の実施形態において、各マスクシート１５２は、長方形のマスクフレーム１５１における一方の長辺の部分から、これに対向する長辺の部分へと、図１のＸ軸方向に掛け渡され、両端部がこれら長辺部分に取り付けられる。この際、マスクシート１５２は、その直線状の両縁が、接するか、または、ほぼ接するようにして、第１方向（図示の実施形態では、図１のＹ軸方向）に配列されてもよい。
【００４５】
また、マスクシート１５２には、その両端部を除き、長手方向の全領域にわたって、それぞれ貫通孔をなす複数個の開口部１５２−１が、マトリクス状に配列されるように形成されてもよい。この際、複数個の開口部１５２−１は、長手方向及び幅方向に、互いに一定間隔で離隔されるように配置され、マスクシート１５２の全面、または、その両端部を除く全面に形成されてもよい。
【００４６】
複数個の開口部１５２−１は、蒸着領域Ｓ内部に配置される第１開口部１５２−１Ａと、蒸着領域Ｓの縁に配列される第２開口部１５２−１Ｂと、を含んでもよい。
【００４７】
遮蔽薄板１５３は、マスクシート１５２と交差するように、マスクフレーム１５１に取り付けられる。図示の実施形態において、各遮蔽薄板１５３は、長方形のマスクフレーム１５１における一方の短辺の部分から、これに対向する短辺の部分へと、図１のＹ軸方向に掛け渡され、両端部がこれら短辺部分に取り付けられる。遮蔽薄板１５３は、複数枚具備され、マスクフレーム１５１に、互いに離隔されるように取り付けられてもよい。また、各マスクシート１５２における、互いに離隔されるように配置された遮蔽薄板１５３同士の間の領域は、蒸着領域Ｓとして定義（領域または形状の決定が）されてもよい。特に、上記のような蒸着領域Ｓは、長方形または正方形から、少なくとも隅角部が少なくとも部分的に省かれた形状を有することができる。例えば、蒸着領域Ｓは、長方形または正方形から、少なくとも一部の隅角部にて、角を丸めるか、もしくは面取りして得られる形状などであってもよく、長円形（race track shape; 小判形）、楕円形もしくは円形などであってもよく、六角形、八角形、台形、三角形もしくはその他の、長方形または正方形でない多角形などであってもよい。図示の実施形態では、四隅の角を丸めた長方形である。図１〜２に示す蒸着領域Ｓは、図４に示す表示領域ＤＡに対応する。
【００４８】
遮蔽薄板１５３は、マスクフレーム１５１の短辺部分に取り付けられる両端部の間を直線状に延びる遮蔽薄板ボディ部１５３−１と、遮蔽薄板ボディ部１５３−１からその幅方向（図１のＸ軸方向）に突出する第１遮蔽部１５３−２と、を含んでもよい。
【００４９】
遮蔽薄板ボディ部１５３−１は、直線状のプレートとして形成されてもよい。この際、遮蔽薄板ボディ部１５３−１は、マスクシート１５２の長手方向（例えば、図１のＸ軸方向）と垂直の方向（図１のＹ軸方向、すなわち、上述した第１方向）に延びるのであってもよい。すなわち、図示の実施形態によると、遮蔽薄板ボディ部１５３−１は、直線状で等幅のマスクシート１５２に直交して配置される、同様に直線状で等幅のプレートである。
【００５０】
第１遮蔽部１５３−２は、遮蔽薄板ボディ部１５３−１からマスクシート１５２の長手方向に突設されてもよい。この際、第１遮蔽部１５３−２は、遮蔽薄板ボディ部１５３−１と共に、蒸着領域Ｓの形状の縁（境界）を定義することができる。特に、第１遮蔽部１５３−２は、蒸着領域Ｓの縁のうち、遮蔽薄板ボディ部１５３−１と一定の角度をなす部分や、曲率を有するように湾曲した部分などを定義することができる。
【００５１】
第１遮蔽部１５３−２は、蒸着領域Ｓを上記のような形状とすべく、マスクシート１５２の両縁部と、２つの遮蔽薄板ボディ部１５３−１とに囲まれた、長方形または正方形の領域内にマトリクス状に配置された複数個の開口部１５２−１のうち、一部を遮蔽することができる。例えば、第１遮蔽部１５３−２は、上記の長方形または正方形の領域内にあって、遮蔽薄板ボディ部１５３−１の縁の近傍に配列された第２開口部１５２−１Ｂのうち、一部を遮蔽することができる。このような場合、蒸着物質は、第２開口部１５２−１Ｂのうちの、一部のもののみを通過することができる。
【００５２】
また、上記の遮蔽薄板１５３とマスクシート１５２は、互いに異なる材質から形成されてもよい。例えば、遮蔽薄板１５３は、オーステナイト系ステンレス鋼（ａｕｓｔｅｎｉｔｉｃ  ｓｔａｉｎｌｅｓｓ  ｓｔｅｅｌ）を含んでもよく、マスクシート１５２は、ニッケル−鉄合金（Ｉｎｖａｒ）を含んでもよい。
【００５３】
また、上記の遮蔽薄板１５３とマスクシート１５２は、マスクフレーム１５１に、引っ張られた状態で固定され得る。この際、遮蔽薄板１５３とマスクシート１５２は、マスクフレーム１５１に溶接により固定されうる。
【００５４】
支持フレーム１５４は、互いに隣接するマスクシート１５２の縁の間の間隙または突合せ部に沿って延びるように配置されてもよい。また、各支持フレーム１５４は、図３に示すように、両端がマスクフレーム１５１の内側に来るように、マスクフレーム１５１内に嵌め込むようにして取り付けられうる。この際、支持フレーム１５４は、マスクシート１５２の間の間隔を遮蔽し、マスクシート１５２を支持することにより、マスクシート１５２の反りを防止することができる。なお、支持フレーム１５４は、特には細幅の棒状の部材であり、マスクシート１５２の両縁部、すなわち、開口部１５２−１が設けられない領域と、重ねられるように配置して取り付けることができる。
【００５５】
表示装置の製造装置１００は、チャンバー１１０、第１支持部１２０、第２支持部１３０、マスク組立体１５０、ソース部１４０、磁力部１６０、撮影部１７０及び圧力調節部１８０を含んでよい。
【００５６】
チャンバー１１０は、内部に空間が形成され、また、一部が開口されてもよい。この際、チャンバー１１０の開口された部分には、ゲート弁１１０−１が設けられる。このような場合、ゲート弁１１０−１の作動によって、チャンバー１１０の開口された部分が開閉される。
【００５７】
第１支持部１２０は、載置されるディスプレイ基板Ｄを支持することができる。この際、第１支持部１２０は、チャンバー１１０内部に固定されたブラケット状であってもよい。また、他の例としては、第１支持部１２０は、ディスプレイ基板Ｄが載置され、チャンバー１１０内部において線形運動可能なシャトル状であってもよい。以下では、説明の便宜のために、第１支持部１２０は、チャンバー１１０内部に固定されるブラケット状である場合を中心に詳細に説明する。
【００５８】
第２支持部１３０には、マスク組立体１５０が載置されてもよい。この際、第２支持部１３０は、チャンバー１１０内部に配置されてもよい。第２支持部１３０は、マスク組立体１５０の位置を微細に調整することができる。この際、第２支持部１３０は、マスク組立体１５０を互いに異なる方向に移動できるように、別途の駆動部あるいはアラインユニットなどを具備することができる。
【００５９】
ソース部１４０は、マスク組立体１５０と対向するように配置されてもよい。この際、ソース部１４０には、蒸着物質が収納され、蒸着物質に熱を加えることにより、蒸着物質を蒸発させたり昇華させたりすることができる。
【００６０】
磁力部１６０は、ディスプレイ基板Ｄと対向するように、チャンバー１１０内部に配置されてもよい。この際、磁力部１６０は、マスクシート１５２に磁力を加え、マスク組立体１５０をディスプレイ基板Ｄ側に吸着することができる。特に、磁力部１６０は、マスクシート１５２の反りを防止するだけではなく、マスクシート１５２をディスプレイ基板Ｄに隣接させることができる。また、磁力部１６０は、マスクシート１５２とディスプレイ基板Ｄとの間隔を、マスクシート１５２の長手方向に対して均一に維持させることができる。
【００６１】
撮影部１７０は、チャンバー１１０に設けられ、ディスプレイ基板Ｄとマスク組立体１５０との位置を撮影することができる。この際、撮影部１７０は、ディスプレイ基板Ｄ及びマスク組立体１５０を撮影するカメラを含んでもよい。撮影部１７０で撮影されたイメージを基に、ディスプレイ基板Ｄとマスク組立体１５０との位置を把握することができ、また、当該イメージを基に、第２支持部１３０において、マスク組立体１５０の位置を微細に調整することができる。
【００６２】
圧力調節部１８０は、チャンバー１１０と連結され、チャンバー１１０内部の圧力を調節することができる。例えば、圧力調節部１８０は、チャンバー１１０内部の圧力を、大気圧と同一、または近似のレベルに調節することができる。また、圧力調節部１８０は、チャンバー１１０内部の圧力を、真空状態と同一、あるいは近似のレベルに調節することができる。
【００６３】
圧力調節部１８０は、チャンバー１１０と連結される連結配管１８１と、連結配管１８１に設けられるポンプ１８２を含んでもよい。この際、ポンプ１８２の作動によって、連結配管１８１を介して、外気を流入させるか、あるいはチャンバー１１０内部の気体を、連結配管１８１を介して、外部に排出することができる。
【００６４】
一方、上述のような表示装置の製造装置１００は、下記で説明する表示装置（図示せず）の製造にも使用される。具体的には、圧力調節部１８０が、チャンバー１１０内部を大気圧と同一、あるいは近似した状態にすることで、ゲート弁１１０−１が作動し、チャンバー１１０の開口された部分を開放することができる。
【００６５】
その後、ディスプレイ基板Ｄを、チャンバー１１０外部から内部に装入することができる。この際、ディスプレイ基板Ｄは、多様な方式で、チャンバー１１０に装入される。例えば、ディスプレイ基板Ｄは、チャンバー１１０外部に配置されたロボットアームなどにより、チャンバー１１０外部からチャンバー１１０内部に装入される。また、他の例としては、第１支持部１２０がシャトル状に形成される場合、第１支持部１２０が、チャンバー１１０内部からチャンバー１１０外部に搬出された後、チャンバー１１０外部に配置された別途のロボットアームなどにより、ディスプレイ基板Ｄを、第１支持部１２０に載置させ、第１支持部１２０が、チャンバー１１０外部からチャンバー１１０内部に装入することも可能である。以下では、説明の便宜のために、チャンバー１１０外部に配置されたロボットアームにより、ディスプレイ基板Ｄが、チャンバー１１０外部からチャンバー１１０内部に装入される場合を中心に詳細に説明する。
【００６６】
マスク組立体１５０は、上記のように、チャンバー１１０内部に配置された状態であってもよい。また、他の例としては、マスク組立体１５０は、ディスプレイ基板Ｄと同様あるいは類似の方法により、チャンバー１１０外部からチャンバー１１０内部に装入されてもよい。ただし、以下では、説明の便宜のために、マスク組立体１５０は、チャンバー１１０内部に配置された状態で、ディスプレイ基板Ｄだけが、チャンバー１１０外部からチャンバー１１０内部に装入される場合を中心に詳細に説明する。
【００６７】
ディスプレイ基板Ｄがチャンバー１１０内部に装入されれば、ディスプレイ基板Ｄは、第１支持部１２０に載置される。この際、撮影部１７０は、ディスプレイ基板Ｄとマスク組立体１５０との位置を撮影することができる。特に、撮影部１７０は、ディスプレイ基板Ｄの第１アラインマーク、及びマスク組立体１５０の第２アラインマークを撮影することができる。
【００６８】
また、上記のように撮影された第１アラインマーク及び第２アラインマークを基に、ディスプレイ基板Ｄとマスク組立体１５０との位置を把握することができる。この際、表示装置の製造装置１００には、別途の制御部（図示せず）が具備され、ディスプレイ基板Ｄとマスク組立体１５０との位置を把握することができる。
【００６９】
また、ディスプレイ基板Ｄとマスク組立体１５０との位置把握が完了すれば、第２支持部１３０は、マスク組立体１５０の位置を微細に調整することができる。
【００７０】
その後、ソース部１４０が作動し、蒸着物質をマスク組立体１５０側に供給し、複数個の開口部１５２−１を通過した蒸着物質は、ディスプレイ基板Ｄに蒸着される。この際、ポンプ１８２が、チャンバー１１０内部の気体を吸入して外部に排出することにより、チャンバー１１０内部の圧力を、真空と同一、あるいは近似した状態に維持することができる。
【００７１】
上記のような場合、蒸着物質は、蒸着領域Ｓに配置された第１開口部１５２−１Ａを通過し、ディスプレイ基板Ｄに蒸着される。また、蒸着物質は、蒸着領域Ｓの縁に配置された第２開口部１５２−１Ｂの一部を通過し、ディスプレイ基板Ｄに蒸着される。このような場合、蒸着領域Ｓは、長方形または正方形以外の形状を有することができる。
【００７２】
従って、マスク組立体１５０、表示装置の製造装置１００、及び表示装置の製造方法は、長方形または正方形以外の形状を有する表示領域をディスプレイ基板Ｄに蒸着することが可能である。
【００７３】
一方、以下では、上記のようなマスク組立体１５０、表示装置の製造装置１００、及び表示装置の製造方法を介して製造された表示装置について詳細に説明する。
【００７４】
図４は、図３に示される表示装置の製造装置により製造された表示装置を示す平面図である。また、図５は、図４に示されるＶ−Ｖ’線に沿って切り取った表示装置の断面図である。また、図６は、図５に示される中間層とダミー中間層との配列を示す平面図である。
【００７５】
図４ないし図６を参考すれば、表示装置２０は、基板２１上で、表示領域ＤＡと、表示領域ＤＡの外郭の非表示領域ＮＤＡとを定義することができる。表示領域ＤＡには、発光部が配置され、非表示領域には、電源配線（図示せず）などが配置される。また、非表示領域には、パッド部Ｃが配置される。
【００７６】
また、表示装置２０は、ディスプレイ基板Ｄ、ディスプレイ基板Ｄ上に配置された中間層２８−２及びダミー中間層Ｏ、並びに中間層２８−２及びダミー中間層Ｏの上に配置された対向電極２８−３を含んでもよい。また、表示装置２０は、対向電極２８−３の上部に形成される薄膜封止層Ｅを含んでもよい。
【００７７】
ディスプレイ基板Ｄは、基板２１、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、パッシベーション膜２７及び画素電極２８−１を含んでもよい。
【００７８】
基板２１には、プラスチック材を使用することができ、また、ステンレス鋼（ＳＵＳ；Ｓｔｅｅｌ  Ｕｓｅ  Ｓｔａｉｎｌｅｓｓ）、チタン（Ｔｉ）またはその合金といった金属材を使用することもできる。また、基板２１には、ポリイミド（ＰＩ）を使用することも可能である。以下では、説明の便宜のために、基板２１がポリイミドから形成される場合を中心に詳細に説明する。
【００７９】
基板２１上に、該薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が形成され、該薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を覆うように、パッシベーション膜２７が形成され、該パッシベーション膜２７上に、有機発光素子２８が形成される。
【００８０】
基板２１の上面には、有機化合物と無機化合物の両方、またはいずれか一方からなるバッファ層２２がさらに形成されるが、バッファ層２２は、ＳｉＯｘ（ｘ≧１）、ＳｉＮｘ（ｘ≧１）から形成されてもよい。
【００８１】
バッファ層２２上に、所定パターンに配列された活性層２３が形成された後、活性層２３が、ゲート絶縁層２４によって埋め込まれる。活性層２３は、ソース領域２３−１及びドレイン領域２３−３を有し、その間にチャネル領域２３−２をさらに含む。
【００８２】
上記のような活性層２３は、多様な物質を含むように形成される。例えば、活性層２３は、非晶質シリコンまたは結晶質シリコンのような無機半導体物質を含んでもよい。また、他の例としては、活性層２３は、酸化物半導体を含んでもよい。さらに他の例としては、活性層２３は、有機半導体物質を含んでもよい。ただし、以下では、説明の便宜のために、活性層２３が非晶質シリコンから形成される場合を中心に詳細に説明する。
【００８３】
上記のような活性層２３は、バッファ層２２上に、非晶質シリコン膜を形成した後、当該非晶質シリコン膜を結晶化させて多結晶質シリコン膜を形成し、当該多結晶質シリコン膜をパターニングすることで形成することができる。また、活性層２３のソース領域２３−１及びドレイン領域２３−３は、駆動ＴＦＴ（図示せず）、スイッチングＴＦＴ（図示せず）などのＴＦＴの種類によって、不純物によりドーピングされる。
【００８４】
ゲート絶縁層２４の上面には、活性層２３と対応するゲート電極２５と、ゲート電極２５を埋め込む層間絶縁層２６が形成される。
【００８５】
そして、層間絶縁層２６及びゲート絶縁層２４に、コンタクトホールＨ１を形成した後、層間絶縁層２６上に、ソース電極２７−１及びドレイン電極２７−２が、それぞれソース領域２３−１及びドレイン領域２３−３に接続するように形成する。
【００８６】
上記のように形成された薄膜トランジスタの上部には、パッシベーション膜２７が形成され、パッシベーション膜２７の上部に、有機発光素子（ＯＬＥＤ）２８の画素電極２８−１が形成される。画素電極２８−１は、パッシベーション膜２７に形成されたビアホールＨ２によって、ＴＦＴのドレイン電極２７−２に接続される。パッシベーション膜２７は、無機物と有機物の両方またはいずれか一方から成る単層、または２層以上に形成されるが、下部膜の屈曲にかかわらず、上面が平坦になるように、平坦化膜から形成され得る一方、下部に位置した膜の屈曲によって屈曲されるように形成されてもよい。また、パッシベーション膜２７は、共振効果を奏するように、透明絶縁体から形成されることが望ましい。
【００８７】
パッシベーション膜２７上に、画素電極２８−１を形成した後には、画素電極２８−１及びパッシベーション膜２７を覆うように、画素定義膜２９が、有機物と無機物の両方またはいずれか一方によって形成され、画素電極２８−１が露出されるように開口される。
【００８８】
そして、少なくとも画素電極２８−１上に、中間層２８−２及び対向電極２８−３が形成される。他の例としては、対向電極２８−３は、ディスプレイ基板Ｄの全面に形成されてもよい。このような場合、対向電極２８−３は、中間層２８−２、画素定義膜２９及びダミー中間層Ｏ上に形成される。以下では、説明の便宜のために、対向電極２８−３が中間層２８−２、画素定義膜２９及びダミー中間層Ｏの上に形成される場合を中心に詳細に説明する。
【００８９】
画素電極２８−１は、アノード電極の機能を担い、対向電極２８−３は、カソード電極の機能を担うが、ここで、画素電極２８−１と対向電極２８−３との極性が反対になってもよいということは言うまでもない。
【００９０】
画素電極２８−１と対向電極２８−３は、中間層２８−２によって互いに絶縁されており、中間層２８−２に互いに異なる極性の電圧を加え、有機発光層で発光がなされる。
【００９１】
中間層２８−２は、有機発光層を具備することができる。選択的な他の例として、中間層２８−２は、有機発光層（ｏｒｇａｎｉｃ  ｅｍｉｓｓｉｏｎ  ｌａｙｅｒ）を具備し、上記以外に、正孔注入層（ｈｏｌｅ  ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ  ｌａｙｅｒ）、正孔輸送層（ｈｏｌｅ  ｔｒａｎｓｐｏｒｔ  ｌａｙｅｒ）、電子輸送層（ｅｌｅｃｔｒｏｎ  ｔｒａｎｓｐｏｒｔ  ｌａｙｅｒ）及び電子注入層（ｅｌｅｃｔｒｏｎ  ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ  ｌａｙｅｒ）のうち少なくとも１層をさらに具備する多層膜とすることができる。なお、本実施形態は、上記の例に限定されるものではなく、中間層２８−２が有機発光層を具備し、その他多様な機能層（図示せず）をさらに具備することができる。この有機発光層のベース材料としては、例えば、オキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物及びアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、アンスラセン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、８−ヒドロキシキノリン化合物の金属鎖体、２−ビピリジン化合物の金属鎖体、シッフ塩とＩＩＩ族金属との鎖体、オキシン金属鎖体、希土類鎖体等の蛍光物質や、トリス(２-フェニルピリジン)イリジウムなどの燐光を発光する金属錯体等の公知の燐光物質を用いることができる。また、例えば正孔注入層は、銀（Ａｇ）、モリブデン（Ｍｏ）、クロム（Ｃｒ）、バナジウム（Ｖ）、タングステン（Ｗ）、ニッケル（Ｎｉ）、イリジウム（Ｉｒ）などの酸化物で形成することができる。
【００９２】
この際、上記のような中間層２８−２は、上記の表示装置の製造装置（図示せず）により形成される。
【００９３】
また、ダミー中間層Ｏは、中間層２８−２の形成時、画素定義膜２９上に形成される。具体的には、第１開口部１５２−１Ａを通過した蒸着物質が、ディスプレイ基板Ｄに蒸着されて中間層２８−２を形成する際、第２開口部１５２−１Ｂを通過した蒸着物質がディスプレイ基板Ｄに蒸着され、ダミー中間層Ｏが形成される。
【００９４】
このような場合、ダミー中間層Ｏと中間層２８−２は、互いに同一物質を含んでもよい。特に、ダミー中間層Ｏと中間層２８−２は、それぞれ有機発光層、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層及び機能層のうち少なくとも１層を含んでもよい。
【００９５】
上記のような中間層２８−２のパターンは、複数個具備され、複数個の中間層２８−２のパターンは、表示領域ＤＡを形成することができる。特に、複数個の中間層２８−２のパターンは、長方形及び正方形から隅角部などを除いた形状の表示領域ＤＡを形成することができる。この際、複数個の中間層２８−２のパターンは、表示領域ＤＡ内部に、互いに離隔されるように配置される。
【００９６】
上記のようなダミー中間層Ｏのパターンは、複数個具備され、複数個のダミー中間層Ｏのパターンは、表示領域ＤＡの縁（境界、外郭）に沿ってその外側に配置される。特には、複数個のダミー中間層Ｏのパターンが、複数個の中間層２８−２ののパターンが配列された領域の外郭に配置される。この際、複数個のダミー中間層Ｏのパターンは、非表示領域ＮＤＡに配置される。従って、ダミー中間層Ｏは、発光しない。
【００９７】
ダミー中間層Ｏのパターンのうちの少なくとも１つの面積は、１つの中間層２８−２のパターンの面積と異なるように形成される。特には、ダミー中間層Ｏのパターンのうちの少なくとも１個の面積は、中間層２８−２のパターンの面積より小さく形成される。例えば、中間層２８−２のパターンの面積の50〜95％、特には、60〜90％とすることができる。具体的には、このような面積比を実現するように、上記の第２開口部１５２−１Ｂのうち少なくとも一つは、第１遮蔽部１５３−２によって開口される面積が、第１開口部１５２−１Ａより小さい。このような場合、第１遮蔽部１５３−２によって一部が遮断された第２開口部１５２−１Ｂを通過した蒸着物質は、中間層２８−２よりも小さい面積に蒸着されることにより、ダミー中間層Ｏのパターンを形成することができる。
【００９８】
一方、１つの単位画素は、複数の副画素からなるが、複数の副画素は、多様な色の光を放出することができる。例えば、複数の副画素は、それぞれ赤色、緑色及び青色の光を放出する副画素を具備することができ、赤色、緑色、青色及び白色の光を放出する副画素（図示せず）を具備することができる。
【００９９】
上記のような副画素は、１個の中間層２８−２のパターンを含むものであってもよい。この際、１つの副画素を形成する場合には、上記の表示装置の製造装置１００により、中間層２８−２及びダミー中間層Ｏを形成することができる。
【０１００】
一方、上記のような薄膜封止層Ｅは、複数の無機層を含むか、あるいは無機層及び有機層を含んでもよい。
【０１０１】
薄膜封止層Ｅの有機層は、高分子から形成され、望ましくは、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリカーボネート、エポキシ、ポリエチレン及びポリアクリレートのうちいずれか一つから形成される単一膜または積層膜であり得る。さらに望ましくは、有機層は、ポリアクリレートから形成され、具体的には、ジアクリレート系モノマーとトリアクリレート系モノマーとを含むモノマー組成物が高分子化されたものを含んでもよい。また、上記のモノマー組成物には、モノアクリレート系モノマーがさらに含まれてもよい。また、上記のモノマー組成物には、ＴＰＯのような公知の光開始剤がさらに含まれてもよいが、それに限定されるものではない。
【０１０２】
薄膜封止層Ｅの無機層は、金属酸化物または金属窒化物を含む単一膜または積層膜であり得る。具体的には、無機層は、ＳｉＮｘ、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２のうちいずれか一つを含んでもよい。
【０１０３】
薄膜封止層Ｅにおいて、外部に露出された最上層は、有機発光素子に対する透湿を防止するために、無機層から形成される。
【０１０４】
薄膜封止層Ｅは、少なくとも２層の無機層間に、少なくとも１層の有機層が挿入されたサンドイッチ構造を少なくとも一つ含んでもよい。他の例としては、薄膜封止層Ｅは、少なくとも２層の有機層間に、少なくとも１層の無機層が挿入されたサンドイッチ構造を少なくとも一つ含んでもよい。さらに他の例として、薄膜封止層Ｅは、少なくとも２層の無機層間に、少なくとも１層の有機層が挿入されたサンドイッチ構造、及び少なくとも２層の有機層間に、少なくとも１層の無機層が挿入されたサンドイッチ構造を含んでもよい。
【０１０５】
薄膜封止層Ｅは、有機発光素子（ＯＬＥＤ）の上部から、順に、第１無機層、第１有機層、第２無機層を含んでもよい。
【０１０６】
他の例としては、薄膜封止層Ｅは、有機発光素子（ＯＬＥＤ）の上部から、順に、第１無機層、第１有機層、第２無機層、第２有機層、第３無機層を含んでもよい。
【０１０７】
さらに他の例として、薄膜封止層Ｅは、有機発光素子（ＯＬＥＤ）の上部から、順に、第１無機層、第１有機層、第２無機層、第２有機層、第３無機層、第３有機層、第４無機層を含んでもよい。
【０１０８】
また、有機発光素子（ＯＬＥＤ）と第１無機層との間に、ＬｉＦを含むハロゲン化金属層が追加して含まれてもよい。上記のハロゲン化金属層は、第１無機層をスパッタリング方式で形成するとき、有機発光素子（ＯＬＥＤ）の損傷を防止することができる。
【０１０９】
第１有機層は、第２無機層より面積が狭く、第２有機層も第３無機層より面積が狭くなる。
【０１１０】
従って、表示装置２０は、長方形及び正方形以外の形状を有する表示領域を具現することが可能である。
【０１１１】
図７は、本発明の第２の実施形態によるマスク組立体を示す斜視図である。図８は、図７に示されるマスクシート及び遮蔽薄板の平面図である。図９は、図８に示されるＩＸ−ＩＸ’線に沿って切り取ったマスクシートの断面図である。図１０は、図７に示されるマスク組立体を含む表示装置の製造装置を示す断面図である。図１１は、図１０に示される表示装置の製造装置により蒸着された、中間層パターンとダミー中間層パターンとの配列を示す平面図である。
【０１１２】
図７ないし図１１を参考すれば、マスク組立体１５０Ａは、マスクフレーム１５１Ａ、マスクシート１５２Ａ、遮蔽薄板１５３Ａ、及び支持フレーム１５４Ａを含んでもよい。この際、マスクフレーム１５１Ａ、支持フレーム１５４Ａは、上述した構成と実質同一であるため、詳細な説明は省略する。
【０１１３】
マスクシート１５２Ａは、複数個の開口部１５２Ａ−１を含んでもよい。この際、複数個の開口部１５２Ａ−１は、マスクシート１５２Ａの長手方向及び幅方向に配列されるようにして、マスクシート１５２Ａにおける、両端部及び両縁部を除く、ほぼ全面に形成される。
【０１１４】
マスクシート１５２Ａは、複数個の開口部１５２Ａ−１のうちの一部を、省くか、または遮蔽する第２遮蔽部１５２Ａ−３を含んでもよい。第２遮蔽部１５２Ａ−３は、開口部１５２Ａ−１が省かれた領域とすることができる。または、貫通孔としての開口部１５２Ａ−１に代えて非貫通孔が配置された領域とすることができる。すなわち、貫通孔としての開口部１５２Ａ−１を、それぞれ非貫通孔で置き換えた領域とすることができる。また、第２遮蔽部１５２Ａ−３の厚みは、マスクシート１５２Ａの厚み（開口部１５２Ａ−１以外での厚み）と異なるようにも形成され得る。すなわち、第２遮蔽部１５２Ａ−３の厚みは、開口部１５２Ａ−１が形成された領域におけるマスクシート１５２Ａの厚みより薄く形成され得る。例えば、第２遮蔽部１５２Ａ−３が、開口部１５２Ａ−１が省かれた領域である場合、この領域の厚みを全体的に薄くすることによって、開口部１５２Ａ−１が配列された領域と、同一または実質的に同一の剛性や延び特性を有するようにすることができる。したがって、マスクシート１５２Ａについて、マスクフレーム１５１Ａに取り付ける際、引っ張り応力を掛けても、歪みや反りが生じないようにすることができる。また、第２遮蔽部１５２Ａ−３が、非貫通孔が配置された領域であっても、非貫通孔の深さ及び径を適当に大きくすることにより、同様の作用効果を得ることができる。
【０１１５】
上記の第２遮蔽部１５２Ａ−３を形成するための非貫通孔は、開口部１５２Ａ−１とともに、エッチングにより形成されるのであってもよい。具体的には、開口部１５２Ａ−１は、必要に応じて、２回のエッチングにより形成される。すなわち、例えば、下面からのエッチングと、上面からのエッチングにより形成することができる。そして、非貫通孔は、このような下面からのエッチングを行う際に、同時に設けることができる。特には、図９に示すように、下面からのエッチングにより生じる孔部の径が、上面からのエッチングにより生じる孔部の径より大きくすることができる。また、下面からのエッチングの際、非貫通孔をなす孔部の径が、貫通孔としての開口部１５２Ａ−１をなす孔部の径よりも大きくなるようにすることができる。非貫通孔を配列させる場合も、第２遮蔽部１５２Ａ−３の平均の厚みは、残りの領域でのマスクシート１５２Ａの厚み（開口部１５２Ａ−１以外での厚み）より薄いということができる。なお、マスクシート１５２Ａが電鋳法により形成される場合にも、同様に、図９に示すような形状とすることができる。また、場合によっては、一旦、貫通孔を形成した後、電鋳法その他により、非貫通孔とすることもできる。
【０１１６】
具体的なマスクシート１５２Ａの製造方法について説明すると、まず、マスクシート１５２Ａを製造するための母材を準備する。その後、母材上に、フォトレジストを塗布した後、フォトレジストを露光させることで、フォトレジスト上に開口されたパターンを形成することができる。この際、第２遮蔽部１５２Ａ−３を形成する母材部分は、フォトレジストが配置されて母材を完全に遮蔽することができる。
【０１１７】
また、フォトレジストを露光させ、フォトレジストに開口されたパターンが形成された状態で、母材にエッチング液を噴射するか、あるいはレーザを照射してもよい。このような場合、開口されたパターンを介して、エッチング液またはレーザが母材に達し、母材の一面をエッチングすることができる。
【０１１８】
その後、フォトレジストを除去し、エッチングされた母材の一面に樹脂を塗布する。樹脂が塗布された母材一面の反対面に、フォトレジストをさらに塗布し、上記のように、フォトレジストに開口されたパターンを形成することができる。この際、第２遮蔽部１５２Ａ−３及び開口部１５２Ａ−１が形成される部分の母材が外部に露出される。
【０１１９】
その後、フォトレジスト及び樹脂を除去し、上記のように露出された母材をエッチングし、開口部１５２Ａ−１及び第２遮蔽部１５２Ａ−３を形成することができる。
【０１２０】
上記のような第２遮蔽部１５２Ａ−３は、複数個具備される。この際、複数個の第２遮蔽部１５２Ａ−３は、互いに離隔されるように配置される。例えば、複数個の第２遮蔽部１５２Ａ−３は、マスクシート１５２Ａの幅方向に互いに離隔されるように配置される。また、複数個の第２遮蔽部１５２Ａ−３は、マスクシート１５２Ａの長手方向に互いに離隔されるように配置される。特に、複数個の第２遮蔽部１５２Ａ−３のうち、マスクシート１５２Ａの長手方向に互いに離隔されるように配置される第２遮蔽部１５２Ａ−３は、遮蔽薄板１５３Ａによる第１遮蔽部１５３−２と同様に、各蒸着領域Ｓの一部の縁を定義することができる。
【０１２１】
遮蔽薄板１５３Ａは、一字形のプレートに形成される。この際、遮蔽薄板１５３Ａは、複数枚具備され、複数枚の遮蔽薄板１５３Ａは、いずれもマスクシート１５２Ａの長手方向に延びるとともに、互いに離隔されている。
【０１２２】
遮蔽薄板１５３Ａ及び第２遮蔽部１５２Ａ−３によって定義された蒸着領域Ｓは、正方形または長方形以外の形状であり得る。
【０１２３】
一方、表示装置の製造装置１００Ａは、チャンバー１１０Ａ、第１支持部１２０Ａ、第２支持部１３０Ａ、マスク組立体１５０Ａ、ソース部１４０Ａ、磁力部１６０Ａ、撮影部１７０Ａ及び圧力調節部１８０Ａを含んでもよい。この際、チャンバー１１０Ａ、第１支持部１２０Ａ、第２支持部１３０Ａ、ソース部１４０Ａ、磁力部１６０Ａ、撮影部１７０Ａ、及び圧力調節部１８０Ａは、上述した構成と実質同一であるか、あるいは類似しているため、詳細な説明は省略する。
【０１２４】
表示装置の製造方法について述べると、まず、ディスプレイ基板Ｄを、チャンバー１１０Ａ内部に装入させた後、マスク組立体１５０Ａとディスプレイ基板Ｄとを垂直方向に互いに対向させる。
【０１２５】
その後、撮影部１７０Ａにより、マスク組立体１５０Ａとディスプレイ基板Ｄとの位置を把握した後、第２支持部１３０Ａを介して、マスク組立体１５０Ａとディスプレイ基板Ｄとを整列させることができる。
【０１２６】
磁力部１６０Ａは、マスク組立体１５０Ａに磁力を加えることにより、マスクシート１５２Ａをディスプレイ基板Ｄに密着させることができる。この際、磁力部１６０Ａは、マスクシート１５２Ａに磁力を加えることができる。特に、遮蔽薄板１５３Ａの境界部分と、開口部１５２Ａ−１とが重畳する場合、磁力部１６０Ａがマスクシート１５２Ａに加える磁力が弱くなるか、あるいは遮蔽薄板１５３Ａの境界部分に斥力が発生しうる。この場合、第２遮蔽部１５２Ａ−３は、上記のような遮蔽薄板１５３Ａの境界部分の複数個の開口部１５２Ａ−１のうち一部を遮蔽することにより、遮蔽薄板１５３Ａの境界部分に発生する斥力を除去しうる。すなわち、磁力部１６０Ａが第２遮蔽部１５２Ａ−３に引力を加えることにより、遮蔽薄板１５３Ａの境界部分で発生する斥力を一部相殺させることができる。
【０１２７】
次に、ソース部１４０Ａが作動し、蒸着物質をディスプレイ基板Ｄに供給する。このような場合、該蒸着物質は、マスクシート１５２Ａの開口部１５２Ａ−１を通過し、ディスプレイ基板Ｄに蒸着される。
【０１２８】
上記のように、ディスプレイ基板Ｄに蒸着された蒸着物質は、ダミー中間層Ｏ及び中間層２８−２を形成することができる。この際、ダミー中間層Ｏと中間層２８−２は、それぞれ複数個具備され、複数個の中間層２８−２は、表示領域ＤＡを形成することができる。特に、表示領域ＤＡは、上述したように、正方形及び長方形から隅角部などを除いた形状であり得る。
【０１２９】
上記のような複数個のダミー中間層Ｏのパターンのうち少なくとも１つの面積は、中間層２８−２のパターンの面積以下であってよい。この際、複数個のダミー中間層Ｏのパターンは、複数個の中間層２８−２のパターンが配列された領域の外郭に配置される。特に、複数層のダミー中間層Ｏは、非表示領域ＮＤＡに配置されることにより、発光しない。
【０１３０】
以上説明したように、マスク組立体１５０Ａ、表示装置の製造装置１００Ａ、及び表示装置の製造方法は、長方形または正方形以外の形状に蒸着することが可能である。また、マスク組立体１５０Ａ、表示装置の製造装置１００Ａ、及び表示装置の製造方法は、ディスプレイ基板Ｄとマスクシート１５２Ａとの間の間隔を均一にすることにより、蒸着効率及び蒸着精密性を向上させることができる。さらには、マスク組立体１５０Ａ、表示装置の製造装置１００Ａ、及び表示装置の製造方法は、蒸着時に発生する蒸着不良を最小化することができる。
【０１３１】
図１２は、本発明の第３の実施形態によるマスク組立体を示す斜視図である。図１３は、図１２に示されるマスクシート及び遮蔽薄板の平面図である。図１４は、図１２に示されるマスク組立体を含む表示装置の製造装置の断面図である。図１５は、図１４に示される表示装置の製造装置により蒸着された、中間層及びダミー中間層のパターンの配列を示す平面図である。
【０１３２】
図１２ないし図１５を参考すれば、マスク組立体１５０Ｂは、マスクフレーム１５１Ｂ、マスクシート１５２Ｂ、遮蔽薄板１５３Ｂ及び支持フレーム１５４Ｂを含んでもよい。この際、マスクフレーム１５１Ｂ及び支持フレーム１５４Ｂは、上述した構成と実質同一、あるいは類似しているため、詳細な説明は省略する。
【０１３３】
マスクシート１５２Ｂ及び遮蔽薄板１５３Ｂのうち少なくとも一つは、蒸着領域Ｓを定義する遮蔽部（図示せず）を含んでもよい。この際、遮蔽部は、遮蔽薄板１５３Ｂに形成される第１遮蔽部１５３Ｂ−２と、マスクシート１５２Ｂに形成される第２遮蔽部１５２Ｂ−３と、を含んでもよい。
【０１３４】
マスクシート１５２Ｂは、複数個の開口部１５２Ｂ−１を具備することができる。この際、複数個の開口部１５２Ｂ−１は、マスクシート１５２Ｂの長手方向に、一定間隔に離隔されるように配置される。また、複数個の開口部１５２Ｂ−１は、マスクシート１５２Ｂの長手方向に、全面に形成される。
【０１３５】
第２遮蔽部１５２Ｂ−３は、複数個の開口部１５２Ｂ−１のうち一部を遮蔽することができる。この際、第２遮蔽部１５２Ｂ−３は、第１遮蔽部１５３Ｂ−２の境界に配置された少なくとも１以上の開口部１５２Ｂ−１を遮蔽することができる。
【０１３６】
遮蔽薄板１５３Ｂは、複数枚具備され、複数枚の遮蔽薄板１５３Ｂは、マスクシート１５２Ｂの長手方向に沿って互いに離隔されるように配置される。特に、互いに離隔される複数枚の遮蔽薄板１５３Ｂは、マスクシート１５２Ｂ同士の間の間隙などに沿って配置される支持フレーム１５４Ｂとともに、１つの表示領域ＤＡを定義することができる。
【０１３７】
遮蔽薄板１５３Ｂは、一字形に形成される遮蔽薄板ボディ部１５３Ｂ−１と、遮蔽薄板ボディ部１５３Ｂ−１から突設される第１遮蔽部１５３Ｂ−２と、を含んでもよい。第１遮蔽部１５３Ｂ−２は、互いに隣接する遮蔽薄板１５３Ｂの間に突設される。この際、互いに隣接する遮蔽薄板１５３Ｂの第１遮蔽部１５３Ｂ−２は、互いに対向するように配置される。
【０１３８】
第１遮蔽部１５３Ｂ−２と第２遮蔽部１５２Ｂ−３は、少なくとも一部分が互いに重畳するように配置される。具体的には、第１遮蔽部１５３Ｂ−２の縁部分に、第２遮蔽部１５２Ｂ−３が配置される。この際、第１遮蔽部１５３Ｂ−２の縁は、第２遮蔽部１５２Ｂ−３の領域内部に配置される。特に、このような場合、第２遮蔽部１５２Ｂ−３の一部は、第１遮蔽部１５３Ｂ−２と重畳し、第２遮蔽部１５２Ｂ−３の他の一部は、第１遮蔽部１５３Ｂ−２より蒸着領域Ｓに突出するように配置される。
【０１３９】
第２遮蔽部１５２Ｂ−３の少なくとも一部分（具体例では非貫通孔の箇所）の厚みは、マスクシート１５２Ｂの厚みと異なるように形成される。具体的には、第２遮蔽部１５２Ｂ−３の少なくとも一部分の厚みは、マスクシート１５２Ｂの厚みより薄く形成される。この際、第２遮蔽部１５２Ｂ−３の厚みを形成する方法は、上述した方法と実質同一、あるいは類似しているため、詳細な説明は省略する。
【０１４０】
表示装置の製造装置１００Ｂは、チャンバー１１０Ｂ、第１支持部１２０Ｂ、第２支持部１３０Ｂ、マスク組立体１５０Ｂ、ソース部１４０Ｂ、磁力部１６０Ｂ、撮影部１７０Ｂ及び圧力調節部１８０Ｂを含んでもよい。この際、チャンバー１１０Ｂ、第１支持部１２０Ｂ、第２支持部１３０Ｂ、ソース部１４０Ｂ、磁力部１６０Ｂ、撮影部１７０Ｂ、及び圧力調節部１８０Ｂは、上述した構成と実質同一、あるいは類似しているため、詳細な説明は省略する。
【０１４１】
表示装置の製造方法について述べると、まず、ディスプレイ基板Ｄをチャンバー１１０Ｂ内部に装入させた後、マスク組立体１５０Ｂとディスプレイ基板Ｄとを対向させるように配置する。また、マスク組立体１５０Ｂ及びディスプレイ基板Ｄを、撮影部１７０Ｂを介して撮影した後、マスク組立体１５０Ｂとディスプレイ基板Ｄとを位置調整することができる。この際、位置調整の方法は、上述した方法と実質同一、あるいは類似しているため、詳細な説明は省略する。
【０１４２】
ディスプレイ基板Ｄとマスク組立体１５０Ｂとの位置調整が完了すると、磁力部１６０Ｂとソース部１４０Ｂとを作動させることができる。この際、磁力部１６０Ｂは、マスク組立体１５０Ｂを、ディスプレイ基板Ｄに密着させることができる。この場合、磁力部１６０Ｂで発生した磁力により、マスクシート１５２Ｂを、ディスプレイ基板Ｄ側に密着させることができる。この際、遮蔽薄板１５３Ｂの境界と、開口部１５２Ｂ−１とが重畳する場合、遮蔽薄板１５３Ｂの上面に配置された遮蔽薄板１５３Ｂの境界部分では、斥力が発生する。このような場合、マスクシート１５２Ｂとディスプレイ基板Ｄは、他の部分でより離隔が発生することとなる。このため、開口部１５２Ｂ−１を通過した蒸着物質がディスプレイ基板Ｄに蒸着されても、蒸着パターンが均一ではないという問題が生じてしまう。しかし、第１遮蔽部１５３Ｂ−２は、磁力部１６０Ｂによって引力が加えられることにより、上記のような斥力による問題を解決することができる。特に、第１遮蔽部１５３Ｂ−２は、第２遮蔽部１５２Ｂ−３部分において、ディスプレイ基板Ｄとマスクシート１５２Ｂとの浮き上がりを防止することにより、ディスプレイ基板Ｄに、蒸着物質が均一に蒸着されるようにする。また、第１遮蔽部１５３Ｂ−２は、ディスプレイ基板Ｄに蒸着不良が発生することを防止することができる。
【０１４３】
上記のように、蒸着物質をディスプレイ基板Ｄに蒸着する場合、ディスプレイ基板Ｄには、ダミー中間層Ｏと中間層２８−２のパターンが形成される。この際、ダミー中間層Ｏ及び中間層２８−２のパターンは、それぞれ複数個具備され、互いに離隔されるように配置される。
【０１４４】
複数個のダミー中間層Ｏのパターンのうち少なくとも１層の面積は、複数個の中間層２８−２のパターンのうちの１つの面積より小さく形成される。特に、第１遮蔽部１５３Ｂ−２及び第２遮蔽部１５２Ｂ−３のうち少なくとも１つの境界に配置された開口部１５２Ｂ−１を介して、蒸着されたダミー中間層Ｏのパターンの面積は、中間層２８−２のパターンの面積より小さく形成される。
【０１４５】
上記のように、複数個の中間層２８−２のパターン、及び複数個のダミー中間層Ｏのパターンが形成されれば、複数個の中間層２８−２のパターンは、表示領域ＤＡを形成することができる。この際、複数層個のダミー中間層Ｏのパターンは、表示領域ＤＡの外郭である非表示領域ＮＤＡに配置される。また、表示領域ＤＡは、正方形または長方形から隅角部などが省かれた形状を有することができる。
【０１４６】
以上説明したように、マスク組立体１５０Ｂ、表示装置の製造装置１００Ｂ、及び表示装置の製造方法によれば、長方形または正方形以外の形状に蒸着することが可能である。また、マスク組立体１５０Ｂ、表示装置の製造装置１００Ｂ、及び表示装置の製造方法は、ディスプレイ基板Ｄとマスクシート１５２Ｂとの間隔を均一にさせることにより、蒸着効率及び蒸着精密性を向上させることができる。さらには、マスク組立体１５０Ｂ、表示装置の製造装置１００Ｂ、及び表示装置の製造方法は、蒸着時に発生する蒸着不良を最小化することができる。
【０１４７】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【産業上の利用可能性】
【０１４８】
本発明に係るマスク組立体、表示装置の製造装置、表示装置の製造方法、及び表示装置は、例えば、ディスプレイ関連の技術分野に効果的に適用可能である。
【符号の説明】
【０１４９】
１００、１００Ａ、１００Ｂ    表示装置の製造装置
１１０、１１０Ａ、１１０Ｂ    チャンバー
１２０、１２０Ａ、１２０Ｂ    第１支持部
１３０、１３０Ａ、１３０Ｂ    第２支持部
１４０、１４０Ａ、１４０Ｂ    ソース部
１５０、１５０Ａ、１５０Ｂ    マスク組立体
１６０、１６０Ａ、１６０Ｂ    磁力部
１７０、１７０Ａ、１７０Ｂ    撮影部
１８０、１８０Ａ、１８０Ｂ    圧力調節部
【図１】
2018026344.tif 000003
【図２】
2018026344.tif 000004
【図３】
2018026344.tif 000005
【図４】
2018026344.tif 000006
【図５】
2018026344.tif 000007
【図６】
2018026344.tif 000008
【図７】
2018026344.tif 000009
【図８】
2018026344.tif 000010
【図９】
2018026344.tif 000011
【図１０】
2018026344.tif 000012
【図１１】
2018026344.tif 000013
【図１２】
2018026344.tif 000014
【図１３】
2018026344.tif 000015
【図１４】
2018026344.tif 000016
【図１５】
2018026344.tif 000017