(57)【要約】【課題】シリカを含有する原水を逆浸透膜で処理する水処理方法において、逆浸透膜の酸化劣化およびファウリングを抑制して、シリカの阻止率を向上させることができる、逆浸透膜を用いる水処理方法を提供する。【解決手段】シリカを含有する原水を逆浸透膜で処理する、逆浸透膜を用いる水処理方法であって、原水中に、臭素系酸化剤とスルファミン酸化合物とを含む安定化次亜臭素酸組成物を存在させる、逆浸透膜を用いる水処理方法である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリカを含有する原水を逆浸透膜で処理する、逆浸透膜を用いる水処理方法であって、
前記原水中に、臭素系酸化剤とスルファミン酸化合物とを含む安定化次亜臭素酸組成物を存在させることを特徴とする、逆浸透膜を用いる水処理方法。
【請求項２】
シリカを含有する原水を逆浸透膜で処理する、逆浸透膜を用いる水処理方法であって、
前記原水中に、臭素とスルファミン酸化合物とを含む安定化次亜臭素酸組成物を存在させることを特徴とする、逆浸透膜を用いる水処理方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の逆浸透膜を用いる水処理方法であって、
前記原水中のシリカ濃度が、０．１〜４００ｍｇ／Ｌの範囲であることを特徴とする、逆浸透膜を用いる水処理方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の逆浸透膜を用いる水処理方法であって、
前記安定化次亜臭素酸組成物の前記逆浸透膜への１日あたりの曝露量（ＣＴ値）が、有効塩素換算で、０．０１〜１０００ｍｇＣｌ／Ｌ・ｈｒの範囲であることを特徴とする、逆浸透膜を用いる水処理方法。
【請求項５】
臭素系酸化剤とスルファミン酸化合物とを含む安定化次亜臭素酸組成物を含有することを特徴とする、逆浸透膜におけるシリカの阻止率向上剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、逆浸透膜（ＲＯ膜）を用いる水処理方法、および逆浸透膜におけるシリカの阻止率向上剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
逆浸透膜（ＲＯ膜）を用いる水処理方法において、各種のスライム抑制剤（殺菌剤）が使用される。次亜塩素酸等の塩素系酸化剤は代表的なスライム抑制剤であり、系内のスライム抑制目的で通常は逆浸透膜の前段に添加される。塩素系酸化剤は酸化力が強いことから、特に逆浸透膜への曝露量（濃度×時間）が大きくなると逆浸透膜を酸化劣化させる可能性が高い。そこで、一般的には、逆浸透膜への曝露量を低く抑えるため、逆浸透膜の直前で塩素系酸化剤を還元分解するか、間欠的に塩素系酸化剤を逆浸透膜に流入させることで運用されている（特許文献１参照）。
【０００３】
また、逆浸透膜のスライム抑制剤として、安定化次亜臭素酸組成物も知られている（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平９−０５７０７６号公報
【特許文献２】特開２０１５−０６２８８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
シリカを含有する原水を逆浸透膜で処理する場合、シリカは非荷電物質であるため一般的に逆浸透膜で除去し難く、逆浸透膜が酸化劣化すると透過水（処理水）により透過し易くなる。一方、逆浸透膜の表面にファウリング（閉塞）が起こった場合、膜近傍での水の流れが悪くなるため、膜近傍での溶質物（シリカ等）の濃度分極が大きくなり、透過水への溶質物の透過が大きくなる傾向にある。これらのことから、逆浸透膜でシリカを含有する原水からシリカを除去する方法において、「逆浸透膜の酸化劣化」と「逆浸透膜のファウリング」がシリカの阻止率を低下させる大きな要因であることが本発明者らの検討により明らかとなった。
【０００６】
逆浸透膜の酸化劣化を抑制するために、上記の通り、次亜塩素酸等の塩素系酸化剤を間欠注入しても、殺菌効果が不十分であるため、膜のファウリングを十分に抑えることが出来ない場合が多い。結果として、膜のファウリングが発生し、シリカの阻止率が低下してしまう。このことから、シリカを含む原水を処理する逆浸透膜を次亜塩素酸等の塩素系酸化剤で殺菌すると、どのような方法であっても、「逆浸透膜の酸化劣化」か「逆浸透膜のファウリング」のいずれかを引き起こしてしまう可能性が高いことも、本発明者らの検討により明らかとなった。
【０００７】
本発明の目的は、シリカを含有する原水を逆浸透膜で処理する水処理方法において、逆浸透膜の酸化劣化およびファウリングを抑制して、シリカの阻止率を向上させることができる、逆浸透膜を用いる水処理方法、および逆浸透膜におけるシリカの阻止率向上剤を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、シリカを含有する原水を逆浸透膜で処理する、逆浸透膜を用いる水処理方法であって、前記原水中に、臭素系酸化剤とスルファミン酸化合物とを含む安定化次亜臭素酸組成物を存在させる、逆浸透膜を用いる水処理方法である。
【０００９】
また、本発明は、シリカを含有する原水を逆浸透膜で処理する、逆浸透膜を用いる水処理方法であって、前記原水中に、臭素とスルファミン酸化合物とを含む安定化次亜臭素酸組成物を存在させる、逆浸透膜を用いる水処理方法である。
【００１０】
前記逆浸透膜を用いる水処理方法において、前記原水中のシリカ濃度が、０．１〜４００ｍｇ／Ｌの範囲であることが好ましい。
【００１１】
前記逆浸透膜を用いる水処理方法において、前記安定化次亜臭素酸組成物の前記逆浸透膜への１日あたりの曝露量（ＣＴ値）が、有効塩素換算で、０．０１〜１０００ｍｇＣｌ／Ｌ・ｈｒの範囲であることが好ましい。
【００１２】
また、本発明は、臭素系酸化剤とスルファミン酸化合物とを含む安定化次亜臭素酸組成物を含有する、逆浸透膜におけるシリカの阻止率向上剤である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明では、シリカを含有する原水を逆浸透膜で処理する水処理方法において、逆浸透膜の酸化劣化およびファウリングを抑制して、シリカの阻止率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】実施例１および比較例１の水処理に用いた実験装置を示す概略構成図である。
【図２】比較例１および実施例１におけるシリカの阻止率および導電率（ＥＣ）の阻止率の経時変化を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明の実施の形態について以下説明する。本実施形態は本発明を実施する一例であって、本発明は本実施形態に限定されるものではない。
【００１６】
＜逆浸透膜を用いる水処理方法＞
本発明の実施形態に係る逆浸透膜を用いる水処理方法は、原水中に、臭素系酸化剤とスルファミン酸化合物とを含む安定化次亜臭素酸組成物を存在させる方法であり、「臭素系酸化剤とスルファミン酸化合物とを含む安定化次亜臭素酸組成物」は、「臭素系酸化剤」と「スルファミン酸化合物」との混合物を含む安定化次亜臭素酸組成物であってもよいし、「臭素系酸化剤とスルファミン酸化合物との反応生成物」を含む安定化次亜臭素酸組成物であってもよい。
【００１７】
すなわち、本発明の実施形態に係る逆浸透膜を用いる水処理方法は、シリカを含有する原水を逆浸透膜で処理する方法であって、原水中に、「臭素系酸化剤」と「スルファミン酸化合物」との混合物を存在させる方法である。これにより、原水中で、安定化次亜臭素酸組成物が生成すると考えられる。
【００１８】
また、本発明の実施形態に係る逆浸透膜を用いる水処理方法は、シリカを含有する原水を逆浸透膜で処理する方法であって、原水中に、「臭素系酸化剤とスルファミン酸化合物との反応生成物」である安定化次亜臭素酸組成物を存在させる方法である。
【００１９】
具体的には本発明の実施形態に係る逆浸透膜を用いる水処理方法は、シリカを含有する原水を逆浸透膜で処理する方法であって、原水中に、「臭素」、「塩化臭素」、「次亜臭素酸」または「臭化ナトリウムと次亜塩素酸との反応物」と、「スルファミン酸化合物」との混合物を存在させる方法である。
【００２０】
また、本発明の実施形態に係る逆浸透膜を用いる水処理方法は、シリカを含有する原水を逆浸透膜で処理する方法であって、原水中に、例えば、「臭素とスルファミン酸化合物との反応生成物」、「塩化臭素とスルファミン酸化合物との反応生成物」、または「臭化ナトリウムと次亜塩素酸との反応物と、スルファミン酸化合物と、の反応生成物」である安定化次亜臭素酸組成物を存在させる方法である。
【００２１】
これらの方法により、シリカを含有する原水を逆浸透膜で処理する水処理方法において、逆浸透膜の酸化劣化およびファウリングを抑制して、シリカの阻止率を向上させることができる。
【００２２】
このように、本実施形態に係る逆浸透膜を用いる水処理方法において、安定化次亜臭素酸組成物は次亜塩素酸等の塩素系酸化剤と同等以上のスライム抑制効果を発揮するにも関わらず、塩素系酸化剤と比較すると、逆浸透膜への劣化影響が低く、特にシリカ阻止率への影響が極めて小さいため、逆浸透膜でのファウリングを抑制しながら、逆浸透膜の酸化劣化を抑制でき、シリカの阻止率を向上させることができる。また、逆浸透膜に直接流入させてスライムを抑制することができる。このため、本実施形態に係る逆浸透膜を用いる水処理方法で用いられる安定化次亜臭素酸組成物は、シリカを含有する原水を逆浸透膜で処理する水処理方法で用いるスライム抑制剤としては好適である。
【００２３】
本実施形態に係る逆浸透膜を用いる水処理方法のうち、「臭素系酸化剤」が、臭素である場合、塩素系酸化剤が存在しないため、逆浸透膜への劣化影響が著しく低く、シリカの阻止率の低下をより抑制することができる。塩素系酸化剤を含む場合は、塩素酸の生成が懸念される。
【００２４】
本実施形態に係る逆浸透膜を用いる水処理方法では、例えば、シリカを含有する原水中に、「臭素系酸化剤」と「スルファミン酸化合物」とを薬注ポンプ等により注入してもよい。「臭素系酸化剤」と「スルファミン酸化合物」とは別々に原水に添加してもよく、または、原液同士で混合させてから原水に添加してもよい。
【００２５】
また、例えば、シリカを含有する原水中に、「臭素系酸化剤とスルファミン酸化合物との反応生成物」を薬注ポンプ等により注入してもよい。
【００２６】
本実施形態に係る逆浸透膜を用いる水処理方法において、「臭素系酸化剤」の当量に対する「スルファミン酸化合物」の当量の比は、１以上であることが好ましく、１以上２以下の範囲であることがより好ましい。「臭素系酸化剤」の当量に対する「スルファミン酸化合物」の当量の比が１未満であると、膜を劣化させる可能性があり、２を超えると、製造コストが増加する場合がある。
【００２７】
逆浸透膜に接触する有効ハロゲン濃度は有効塩素濃度換算で、０．０１〜１００ｍｇ／Ｌであることが好ましい。０．０１ｍｇ／Ｌ未満であると、十分なスライム抑制効果を得ることができない場合があり、１００ｍｇ／Ｌより多いと、逆浸透膜の劣化、配管等の腐食を引き起こす可能性がある。
【００２８】
原水中のシリカ濃度は、０．１〜４００ｍｇ／Ｌの範囲であることが好ましく、１．０〜１００ｍｇ／Ｌの範囲であることがより好ましい。原水中のシリカ濃度が０．１ｍｇ／Ｌ未満の場合、シリカ阻止率が低く、安定化次亜臭素酸組成物であってもシリカ阻止率低下の影響が出る場合がある。原水中のシリカ濃度が４００ｍｇ／Ｌを超えると、逆浸透膜面上でシリカスケールが発生し、スライム抑制剤の種類に関わらず、シリカ阻止率が低下し、安定化次亜臭素酸組成物の優位性が発揮されない場合がある。
【００２９】
安定化次亜臭素酸組成物の逆浸透膜への１日あたりの曝露量（ＣＴ値：Ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ（濃度）×Ｔｉｍｅ（時間））は、有効塩素換算で、０．０１〜１０００ｍｇＣｌ／Ｌ・ｈｒの範囲であることが好ましく、０．０５〜１００ｍｇＣｌ／Ｌ・ｈｒの範囲であることがより好ましい。安定化次亜臭素酸組成物の１日あたりの投入量（ＣＴ値）が０．０１ｍｇＣｌ／Ｌ・ｈｒ未満では、ファウリングが抑制されない場合があり、１０００ｍｇＣｌ／Ｌ・ｈｒを超えると、シリカの阻止率がやや低下する場合がある。
【００３０】
臭素系酸化剤としては、臭素（液体臭素）、塩化臭素、臭素酸、臭素酸塩、次亜臭素酸等が挙げられる。次亜臭素酸は、臭化ナトリウム等の臭化物と次亜塩素酸等の塩素系酸化剤とを反応させて生成させたものであってもよい。
【００３１】
これらのうち、臭素を用いた「臭素とスルファミン酸化合物（臭素とスルファミン酸化合物の混合物）」または「臭素とスルファミン酸化合物との反応生成物」の製剤は、「次亜塩素酸と臭素化合物とスルファミン酸」の製剤および「塩化臭素とスルファミン酸」の製剤等に比べて、臭素酸の副生が少なく、逆浸透膜をより劣化させないため、逆浸透膜用スライム抑制剤としてはより好ましい。
【００３２】
すなわち、本発明の実施形態に係る逆浸透膜を用いる水処理方法は、シリカを含有する原水中に、臭素と、スルファミン酸化合物とを存在させる（臭素とスルファミン酸化合物の混合物を存在させる）ことが好ましい。また、シリカを含有する原水中に、臭素とスルファミン酸化合物との反応生成物を存在させることが好ましい。
【００３３】
臭素化合物としては、臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭化リチウム、臭化アンモニウムおよび臭化水素酸等が挙げられる。これらのうち、製剤コスト等の点から、臭化ナトリウムが好ましい。
【００３４】
塩素系酸化剤としては、例えば、塩素ガス、二酸化塩素、次亜塩素酸またはその塩、亜塩素酸またはその塩、塩素酸またはその塩、過塩素酸またはその塩、塩素化イソシアヌル酸またはその塩等が挙げられる。これらのうち、塩としては、例えば、次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸カリウム等の次亜塩素酸アルカリ金属塩、次亜塩素酸カルシウム、次亜塩素酸バリウム等の次亜塩素酸アルカリ土類金属塩、亜塩素酸ナトリウム、亜塩素酸カリウム等の亜塩素酸アルカリ金属塩、亜塩素酸バリウム等の亜塩素酸アルカリ土類金属塩、亜塩素酸ニッケル等の他の亜塩素酸金属塩、塩素酸アンモニウム、塩素酸ナトリウム、塩素酸カリウム等の塩素酸アルカリ金属塩、塩素酸カルシウム、塩素酸バリウム等の塩素酸アルカリ土類金属塩等が挙げられる。これらの塩素系酸化剤は、１種を単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。塩素系酸化剤としては、取り扱い性等の点から、次亜塩素酸ナトリウムを用いるのが好ましい。
【００３５】
スルファミン酸化合物は、以下の一般式（１）で示される化合物である。
Ｒ２ＮＳＯ３Ｈ      （１）
（式中、Ｒは独立して水素原子または炭素数１〜８のアルキル基である。）
【００３６】
スルファミン酸化合物としては、例えば、２個のＲ基の両方が水素原子であるスルファミン酸（アミド硫酸）の他に、Ｎ−メチルスルファミン酸、Ｎ−エチルスルファミン酸、Ｎ−プロピルスルファミン酸、Ｎ−イソプロピルスルファミン酸、Ｎ−ブチルスルファミン酸等の２個のＲ基の一方が水素原子であり、他方が炭素数１〜８のアルキル基であるスルファミン酸化合物、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファミン酸、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファミン酸、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファミン酸、Ｎ，Ｎ−ジブチルスルファミン酸、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルスルファミン酸、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルスルファミン酸等の２個のＲ基の両方が炭素数１〜８のアルキル基であるスルファミン酸化合物、Ｎ−フェニルスルファミン酸等の２個のＲ基の一方が水素原子であり、他方が炭素数６〜１０のアリール基であるスルファミン酸化合物、またはこれらの塩等が挙げられる。スルファミン酸塩としては、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、カルシウム塩、ストロンチウム塩、バリウム塩等のアルカリ土類金属塩、マンガン塩、銅塩、亜鉛塩、鉄塩、コバルト塩、ニッケル塩等の他の金属塩、アンモニウム塩およびグアニジン塩等が挙げられる。スルファミン酸化合物およびこれらの塩は、１種を単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。スルファミン酸化合物としては、環境負荷等の点から、スルファミン酸（アミド硫酸）を用いるのが好ましい。
【００３７】
本実施形態に係る逆浸透膜を用いる水処理方法において、さらにアルカリを存在させてもよい。アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ等が挙げられる。低温時の製品安定性等の点から、水酸化ナトリウムと水酸化カリウムとを併用してもよい。また、アルカリは、固形でなく、水溶液として用いてもよい。
【００３８】
本実施形態に係る逆浸透膜を用いる水処理方法は、逆浸透膜として昨今主流であるポリアミド系高分子膜に好適に適用することができる。ポリアミド系高分子膜は、酸化剤に対する耐性が比較的低く、遊離塩素等をポリアミド系高分子膜に連続的に接触させると、膜性能の著しい低下が起こる。しかしながら、本実施形態に係る逆浸透膜を用いる水処理方法ではポリアミド高分子膜においても、このような著しい膜性能の低下はほとんど起こらない。
【００３９】
本実施形態に係る逆浸透膜を用いる水処理方法において、逆浸透膜を備える逆浸透膜装置へ給水される原水のｐＨが５．５以上であることが好ましく、６．０以上であることがより好ましく、６．５以上であることがさらに好ましい。原水のｐＨが５．５未満であると、透過水量が低下する場合がある。また、原水のｐＨの上限値については、通常の逆浸透膜の適用上限ｐＨ（例えば、ｐＨ１０）以下であれば特に制限はないが、カルシウム等の硬度成分のスケール析出を考慮すると、ｐＨは例えば９．０以下で運転することが好ましい。本実施形態に係る逆浸透膜を用いる水処理方法を用いる場合、原水のｐＨが５．５以上で運転することにより、逆浸透膜の劣化、処理水（透過水）の水質悪化を抑制し、十分なスライム抑制効果を発揮しつつ、十分な透過水量の確保も可能となる。
【００４０】
逆浸透膜装置において、原水のｐＨ５．５以上でスケールが発生する場合には、スケール抑制のために分散剤を安定化次亜臭素酸組成物と併用してもよい。分散剤としては、例えば、ポリアクリル酸、ポリマレイン酸、ホスホン酸等が挙げられる。分散剤の原水への添加量は、例えば、ＲＯ濃縮水中の濃度として０．１〜１，０００ｍｇ／Ｌの範囲である。
【００４１】
また、分散剤を使用せずにスケールの発生を抑制するためには、例えば、ＲＯ濃縮水中のシリカ濃度を溶解度以下に、カルシウムスケールの指標であるランゲリア指数を０以下になるように、逆浸透膜装置の回収率等の運転条件を調整することが挙げられる。
【００４２】
逆浸透膜装置の用途としては、例えば、海水淡水化、排水回収等が挙げられる。
【００４３】
＜逆浸透膜におけるシリカの阻止率向上剤＞
本実施形態に係る逆浸透膜におけるシリカの阻止率向上剤は、「臭素系酸化剤」と「スルファミン酸化合物」との混合物を含む安定化次亜臭素酸組成物を含有するものであり、さらにアルカリを含有してもよい。
【００４４】
また、本実施形態に係る逆浸透膜におけるシリカの阻止率向上剤は、「臭素系酸化剤とスルファミン酸化合物との反応生成物」を含む安定化次亜臭素酸組成物を含有するものであり、さらにアルカリを含有してもよい。
【００４５】
臭素系酸化剤、臭素化合物、塩素系酸化剤およびスルファミン酸化合物については、上述した通りである。
【００４６】
本実施形態に係る逆浸透膜におけるシリカの阻止率向上剤としては、逆浸透膜をより劣化させないため、臭素と、スルファミン酸化合物とを含有するもの（臭素とスルファミン酸化合物の混合物を含有するもの）、例えば、臭素とスルファミン酸化合物とアルカリと水との混合物、または、臭素とスルファミン酸化合物との反応生成物を含有するもの、例えば、臭素とスルファミン酸化合物との反応生成物と、アルカリと、水との混合物が好ましい。
【００４７】
本実施形態に係る逆浸透膜におけるシリカの阻止率向上剤は、クロロスルファミン酸等の結合塩素系スライム抑制剤と比較すると、酸化力が高く、スライム抑制力、スライム剥離力が著しく高いにもかかわらず、同じく酸化力の高い次亜塩素酸のような著しい膜劣化をほとんど引き起こすことがない。通常の使用濃度では、膜劣化への影響は実質的に無視することができる。このため、逆浸透膜におけるシリカの阻止率向上剤としては最適である。
【００４８】
本実施形態に係る逆浸透膜におけるシリカの阻止率向上剤は、次亜塩素酸とは異なり、逆浸透膜をほとんど透過しないため、処理水水質への影響がほとんどない。また、次亜塩素酸等と同様に現場で濃度を測定することができるため、より正確な濃度管理が可能である。
【００４９】
シリカの阻止率向上剤のｐＨは、例えば、１３．０超であり、１３．２超であることがより好ましい。シリカの阻止率向上剤のｐＨが１３．０以下であると組成物中の有効ハロゲンが不安定になる場合がある。
【００５０】
逆浸透膜におけるシリカの阻止率向上剤中の臭素酸濃度は、５ｍｇ／ｋｇ未満であることが好ましい。シリカの阻止率向上剤中の臭素酸濃度が５ｍｇ／ｋｇ以上であると、ＲＯ透過水の臭素酸イオンの濃度が高くなる場合がある。
【００５１】
＜逆浸透膜におけるシリカの阻止率向上剤の製造方法＞
本実施形態に係る逆浸透膜におけるシリカの阻止率向上剤は、臭素系酸化剤とスルファミン酸化合物とを混合することにより得られ、さらにアルカリを混合してもよい。
【００５２】
臭素と、スルファミン酸化合物とを含む安定化次亜臭素酸組成物を含有する、逆浸透膜におけるシリカの阻止率向上剤の製造方法としては、水、アルカリおよびスルファミン酸化合物を含む混合液に臭素を不活性ガス雰囲気下で添加して反応させる工程、または、水、アルカリおよびスルファミン酸化合物を含む混合液に臭素を不活性ガス雰囲気下で添加する工程を含むことが好ましい。不活性ガス雰囲気下で添加して反応させる、または、不活性ガス雰囲気下で添加することにより、シリカの阻止率向上剤中の臭素酸イオン濃度が低くなり、ＲＯ透過水中の臭素酸イオン濃度が低くなる。
【００５３】
用いる不活性ガスとしては限定されないが、製造等の面から室素およびアルゴンのうち少なくとも１つが好ましく、特に製造コスト等の面から窒素が好ましい。
【００５４】
臭素の添加の際の反応器内の酸素濃度は６％以下が好ましいが、４％以下がより好ましく、２％以下がさらに好ましく、１％以下が特に好ましい。臭素の反応の際の反応器内の酸素濃度が６％を超えると、反応系内の臭素酸の生成量が増加する場合がある。
【００５５】
臭素の添加率は、シリカの阻止率向上剤全体の量に対して２５重量％以下であることが好ましく、１重量％以上２０重量％以下であることがより好ましい。臭素の添加率がシリカの阻止率向上剤全体の量に対して２５重量％を超えると、反応系内の臭素酸の生成量が増加する場合がある。１重量％未満であると、殺菌力が劣る場合がある。
【００５６】
臭素添加の際の反応温度は、０℃以上２５℃以下の範囲に制御することが好ましいが、製造コスト等の面から、０℃以上１５℃以下の範囲に制御することがより好ましい。臭素添加の際の反応温度が２５℃を超えると、反応系内の臭素酸の生成量が増加する場合があり、０℃未満であると、凍結する場合がある。
【実施例】
【００５７】
以下、実施例および比較例を挙げ、本発明をより具体的に詳細に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。
【００５８】
逆浸透膜におけるシリカの阻止率向上剤として「臭素とスルファミン酸化合物との反応生成物」である安定化次亜臭素酸組成物を使用した場合（実施例１）と、一般的なスライム抑制剤である次亜塩素酸ナトリウムを使用した場合（比較例１）との逆浸透膜（ＲＯ膜）のシリカの阻止率への影響について比較した。
【００５９】
［安定化次亜臭素酸組成物（組成物１）の調製］
窒素雰囲気下で、液体臭素：１６．９重量％（ｗｔ％）、スルファミン酸：１０．７重量％、水酸化ナトリウム：１２．９重量％、水酸化カリウム：３．９４重量％、水：残分を混合して、安定化次亜臭素酸組成物（組成物１）を調製した。安定化次亜臭素酸組成物のｐＨは１４、有効ハロゲン濃度（有効塩素換算濃度）は７．５重量％であった。安定化次亜臭素酸組成物の詳細な調製方法は以下の通りである。
【００６０】
反応容器内の酸素濃度が１％に維持されるように、窒素ガスの流量をマスフローコントローラでコントロールしながら連続注入で封入した２Ｌの４つ口フラスコに１４３６ｇの水、３６１ｇの水酸化ナトリウムを加え混合し、次いで３００ｇのスルファミン酸を加え混合した後、反応液の温度が０〜１５℃になるように冷却を維持しながら、４７３ｇの液体臭素を加え、さらに４８％水酸化カリウム溶液２３０ｇを加え、組成物全体の量に対する重量比でスルファミン酸１０．７％、臭素１６．９％、臭素の当量に対するスルファミン酸の当量比が１．０４である、目的の安定化次亜臭素酸組成物を得た。生じた溶液のｐＨは、ガラス電極法にて測定したところ、１４であった。生じた溶液の臭素含有率は、臭素をヨウ化カリウムによりヨウ素に転換後、チオ硫酸ナトリウムを用いて酸化還元滴定する方法により測定したところ１６．９％であり、理論含有率（１６．９％）の１００．０％であった。また、臭素反応の際の反応容器内の酸素濃度は、株式会社ジコー製の「酸素モニタＪＫＯ−０２  ＬＪＤＩＩ」を用いて測定した。なお、臭素酸濃度は５ｍｇ／ｋｇ未満であった。
【００６１】
なお、ｐＨの測定は、以下の条件で行った。
電極タイプ：ガラス電極式
ｐＨ測定計：東亜ディーケーケー社製、ＩＯＬ−３０型
電極の校正：関東化学社製中性リン酸塩ｐＨ（６．８６）標準液（第２種）、同社製ホウ酸塩ｐＨ（９．１８）標準液（第２種）の２点校正で行った
測定温度：２５℃
測定値：測定液に電極を浸漬し、安定後の値を測定値とし、３回測定の平均値
【００６２】
［組成物２］
１２重量％次亜塩素酸ナトリウム水溶液を組成物２として使用した。
【００６３】
＜実施例１、比較例１＞
図１に示す実験装置を用いて、以下の条件で、逆浸透膜装置の原水にまず組成物２を添加して、逆浸透膜でのシリカの阻止率および導電率（ＥＣ）の阻止率を測定し、２９０日後に安定化次亜臭素酸組成物（組成物１）の添加に切り替えて、シリカの阻止率および導電率（ＥＣ）の阻止率を測定し、比較した。図１に示す実験装置において、原水を除濁膜装置１０に通し、原水槽１２に貯留した後、組成物１または組成物２を添加し、安全フィルタ１４を通した後、逆浸透膜装置１６に通水し、逆浸透膜処理を行った。原水とＲＯ濃縮水の水質データを表１に示し、シリカの阻止率および導電率（ＥＣ）の阻止率の経時変化を図２に示す。
【００６４】
（試験条件）
原水：地下水
除濁膜：旭化成ケミカルズ社製、ＵＮＡ−６００Ａ
安全フィルタ：ミクロポアー社製、１０Ｎ−１ＴＳ
逆浸透膜装置吸水量：１９ｍ３／ｈｒ
逆浸透膜装置給水圧：０．７５ＭＰａ
逆浸透膜装置回収率：７５％
逆浸透膜：Ｄｏｗ製、ＢＷ３０  ＸＦＲ
水温：１９〜２８℃
薬剤：
（比較例１）
次亜塩素酸ナトリウム（組成物２）を間欠注入（０．５ｍｇＣｌ／Ｌ×１ｈｒ／ｄａｙ）
（実施例１）
安定化次亜臭素酸組成物（組成物１）を連続注入（０．２ｍｇＣｌ／Ｌ・ｈｒ）
【００６５】
なお、シリカの阻止率の測定は、分光光度計装置（ＨＡＣＨ製、ＤＲ−４０００）を用いて、モリブドケイ酸法の方法で行った。導電率は、電気伝導率計（東亜ディーケーケー社製、ＡＯＬ−１０）により測定した。
【００６６】
【表１】
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【００６７】
図２に示すように、実施例１の安定化次亜臭素酸組成物（組成物１）の添加を行うことにより、シリカを含有する原水を逆浸透膜で処理する水処理方法において、逆浸透膜の酸化劣化およびファウリングを抑制して、シリカの阻止率を向上させることができた。なお、導電率（ＥＣ）の阻止率には大きな変化はなく、導電率（ＥＣ）阻止率の向上はほとんど認められなかったことから、この阻止率の向上効果はシリカに特有なものであることがわかる。
【符号の説明】
【００６８】
１０  除濁膜装置、１２  原水槽、１４  安全フィルタ、１６  逆浸透膜装置。
【図１】
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【図２】
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