(57)【要約】【課題】ＴＶＯＣの発生が低減された細胞培養施設を提供する。【解決手段】［１］床部、壁部、天井部及びシーリング材によって形成された作業空間を備えた細胞培養施設であって、前記作業空間におけるＪＩＳ  Ａ  １９６６：２０１５で規定された方法で測定される総揮発性有機化合物の濃度が４００μｇ／ｍ３未満であることを特徴とする細胞培養施設。［２］前記シーリング材がウレタン樹脂又はこれを主成分とする樹脂組成物によって形成されている、［１］に記載の細胞培養施設。［３］前記天井部又は壁部の少なくとも表面がエチレンビニルアルコール樹脂又はこれを主成分とする樹脂組成物によって形成されている、［１］又は［２］に記載の細胞培養施設。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
床部、壁部、天井部及びシーリング材によって形成された作業空間を備えた細胞培養施設であって、
前記作業空間におけるＪＩＳ  Ａ  １９６６：２０１５で規定された方法で測定される総揮発性有機化合物の濃度が４００μｇ／ｍ３未満であることを特徴とする細胞培養施設。
【請求項２】
前記シーリング材がウレタン樹脂又はこれを主成分とする樹脂組成物によって形成されている、請求項１に記載の細胞培養施設。
【請求項３】
前記天井部又は壁部の少なくとも表面がエチレンビニルアルコール樹脂又はこれを主成分とする樹脂組成物によって形成されている、請求項１又は２に記載の細胞培養施設。
【請求項４】
前記作業空間内に、電力又は通信に用いるケーブルが配置されており、前記ケーブルの少なくとも表面がエチレン系共重合体又はエチレン系共重合体を１４質量％超含む樹脂組成物によって形成されている、請求項１〜３のいずれか一項に記載の細胞培養施設。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アウトガスが低減された細胞培養施設に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、細胞を扱う新たな医療分野として著しい進歩を遂げている再生医療がある。CPC（Cell Processing Center）又はCPF（Cell Processing Facility）と呼ばれる施設で種々の細胞が培養されている。培養された細胞の品質が患者の回復の成否に関与する場合も多い。このため、コンタミネーションを防止しつつ、健全な細胞を安定して培養することが求められている。このような細胞を培養する施設として、例えばＨＥＰＡフィルタ、ＵＬＰＡフィルタ等を備えた細胞培養施設が知られている。
【０００３】
上記のフィルタは、培養空間中の微生物や塵などの微粒子を捕集することができるが、細胞培養に悪影響を与え得るアンモニア等の揮発性化学物質は捕集し難い。このため、培養空間中に浮遊する微粒子だけでなく、揮発性化学物質を除去することが可能なケミカルフィルタを備えた細胞培養施設が提案されている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１６−９３１１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ケミカルフィルタを備えていない細胞培養施設におけるインキュベータ内部や作業室内の空気には、医療用に細胞を培養するうえで看過できない程のガス状有機物質が含まれていることがある。本発明者らが調べたケースでは、総揮発性有機化合物（ＴＶＯＣ）の濃度が４００μｇ／ｍ３を超える空気が満たされたインキュベータがあった。この数値は、シックハウス症候群を防止するために厚生労働省が定める暫定目標値を超えている。このＴＶＯＣの成分をガスクロマトグラフ質量分析装置で分析したところ、図１に示すように、シロキサン系ガスが主成分であることが分かった。
【０００６】
さらに、ケミカルフィルタ（ＣＦ）を備えていない施設の細胞培養装置で培養したヒト臍帯由来血管内皮細胞（ＨＵＶ-ＥＣ -Ｃ）と、ＣＦを備えた施設における細胞培養装置で培養した同種類の細胞について、それぞれ遺伝子解析を行った。その結果、図２に示すように、「ＣＦあり」の細胞培養装置で培養した場合と比べて、「ＣＦなし」のＴＶＯＣの高い装置で培養された細胞は、酸化ストレスを受けていることが分かった。
【０００７】
これらの結果から、ケミカルフィルタを備えた細胞培養施設を用いることが大事であることが理解される。しかしながら、設備内で発生したＴＶＯＣを除去可能なケミカルフィルタを設置するだけでなく、ＴＶＯＣの発生自体を低減した細胞培養施設が求められている。
【０００８】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、ＴＶＯＣの発生が低減された細胞培養施設を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
［１］  床部、壁部、天井部及びシーリング材によって形成された作業空間を備えた細胞培養施設であって、前記作業空間におけるＪＩＳ  Ａ  １９６６：２０１５で規定された方法で測定される総揮発性有機化合物の濃度が４００μｇ／ｍ３未満であることを特徴とする細胞培養施設。
［２］  前記シーリング材がウレタン樹脂又はこれを主成分とする樹脂組成物によって形成されている、［１］に記載の細胞培養施設。
［３］  前記天井部又は壁部の少なくとも表面がエチレンビニルアルコール樹脂又はこれを主成分とする樹脂組成物によって形成されている、［１］又は［２］に記載の細胞培養施設。
［４］  前記作業空間内に、電力又は通信に用いるケーブルが配置されており、前記ケーブルの少なくとも表面がエチレン系共重合体又はエチレン系共重合体を１４質量％超含む樹脂組成物によって形成されている、［１］〜［３］のいずれか一項に記載の細胞培養施設。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の細胞培養施設によれば、ＴＶＯＣが低減された作業空間を備えているため、細胞に化学的なストレスを与えることなく安定に培養することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】ケミカルフィルタを有しない施設の一例における細胞培養装置内の空気の分析結果である。
【図２】ケミカルフィルタを有する施設と、有しない施設とでそれぞれ培養した細胞における酸化ストレスを遺伝子解析で分析した結果である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明に係る細胞培養施設は、床部、壁部、天井部及びシーリング材によって形成された作業空間を備えている。細胞培養施設としては、例えば、細胞培養用クリーンルーム、ＣＯ２インキュベータ、安全キャビネット、アイソレータ等の細胞培養装置が挙げられる。
【００１３】
前記作業空間におけるＪＩＳ  Ａ  １９６６：２０１５で規定された方法で測定される総揮発性有機化合物（ＴＶＯＣ）の濃度が４００μｇ／ｍ３未満である。このＴＶＯＣ濃度は、低いほど好ましく、例えば、１００μｇ／ｍ３未満が好ましく、１０μｇ／ｍ３未満がより好ましく、１μｇ／ｍ３未満がさらに好ましい。ＴＶＯＣ濃度が低いほど、培養細胞に対する化学的なストレスを低減することができる。
【００１４】
本発明におけるＴＶＯＣ濃度は、ＪＩＳ  Ａ  １９６６：２０１５「室内空気中の揮発性有機化合物（ＶＯＣ）の吸着捕集・加熱脱離・キャピラリーガスクロマトグラフィーによるサンプリング及び分析‐ポンプサンプリング」で規定された方法で測定された値である。
【００１５】
前記作業空間を形成するシーリング材とは、前記床部、壁部及び天井部の少なくとも何れか１つに密着して配置され、部材同士の接合に寄与するか、又は部材間の隙間を埋めることができる部材である。
【００１６】
前記シーリング材は、ウレタン樹脂又はこれを主成分とする樹脂組成物によって形成されていることが好ましい。これらの樹脂はシール材として求められる、密着性、気密性等の特性を満たすことができる。また、これらの樹脂によって形成されたシーリング材は、揮発性有機化合物（ＶＯＣ）を発生し難いので、前記作業空間中のＴＶＯＣを低減することに寄与する。一方、従来のシーリング材として多用されているシリコーン系樹脂製のシーリング材は、シロキサン系のＶＯＣを発生し易いので、避けるべきである。
【００１７】
ウレタン樹脂（ポリウレタン樹脂ともいう。）としては、例えば、特開２００１−３５４８４８号公報に記載のポリウレタン系一液型湿気硬化性組成物が硬化されてなるポリウレタン樹脂等が挙げられる。
具体的な前記組成物としては「空気中の水分で硬化するポリウレタン系一液型湿気硬化性組成物であって、硬化後にポリウレタン樹脂となる主成分と、添加剤とを有してなり、有機溶剤が配合されないで用いられるものであることを特徴とするポリウレタン系一液型湿気硬化性組成物。」が好ましい。
また、前記添加剤として、次の一般式：
Ｒ１（ＮＨＣＯＮ−Ｒ２，−Ｒ３）ｍ
（ただし、式中、Ｒ１は、ポリイソシアネート由来のポリイソシアネートの残基であり、Ｒ２及びＲ３は、モノアミン由来の残基で、このうち一つの基は水素であってもよい。ｍは２〜４の整数を表す。）で表されるポリ尿素化合物からなる揺変性付与剤が配合されていることが好ましい。
また、前記揺変性付与剤は、可塑剤中に分散されて形成された揺変性付与剤分散ペーストとして、前記組成物中に添加されていることが好ましい。
また、前記可塑剤は、ジイソデシルフタレートであることが好ましい。前記「硬化後にポリウレタン樹脂となる」のポリウレタン樹脂は、ポリプロピレンオキサイドを主鎖骨格とし、末端にイソシアネート基を有するプレポリマーが好ましい。
前記モノアミンとしては、例えば、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン等が挙げられる。
上記で説明した硬化性組成物には有機溶剤が実質的には含有されていないため、当該組成物の硬化物からなるシーリング材から発生するＶＯＣは少ない。
【００１８】
ウレタン樹脂を主成分とする前記樹脂組成物において、ウレタン樹脂と混合して用いることが可能な樹脂としては、例えば、硬化前のウレタン樹脂と相溶可能な公知の樹脂等が挙げられる。
ここで、「ウレタン樹脂を主成分とする」とは、前記樹脂組成物の総質量に対して、ウレタン樹脂が４５質量％超であることをいう。
【００１９】
前記作業空間を形成する床部の少なくとも表面は、エポキシ樹脂又はこれを主成分とする樹脂組成物によって形成されていることが好ましい。これらの樹脂は床部材として求められる、剛性、堅牢性、耐久性、耐擦過性等の特性を満たすことができる。また、これらの樹脂によって形成された床部は、揮発性有機化合物（ＶＯＣ）を発生し難いので、前記作業空間中のＴＶＯＣを低減することに寄与する。
【００２０】
エポキシ樹脂としては、例えば、特開平１１−４３６４３号公報に記載のエポキシ樹脂組成物が硬化されてなるエポキシ樹脂等が挙げられる。
具体的な前記組成物としては、液状エポキシ樹脂、反応性希釈剤、及び、経時的に分解してアンモニアになることが抑制されたアミンからなる硬化剤を含む組成物が好ましい。
前記液状エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡタイプエポキシ樹脂（例えば、商品名：エピコート８２８、油化シェルエポキシ株式会社製）、ビスフェノールＡタイプジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦタイプグリシジルエーテル、ビスフェノールＡＤタイプグリシジルエーテル等が挙げられる。
前記反応性希釈剤としては、例えば、末端にエポキシ環を１以上有するグリシジルエーテルやグリシジルエステル、２重結合を有するアクリルオリゴマー等が挙げられる。具体的には、例えば、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル（例えば、商品名：アデカグリシロールＥＤ５０３、旭電化株式会社製）等が挙げられる。
前記アミンからなる硬化剤としては、有機成分にて変性された低揮発性アミンが好ましく、例えば、フェノールホルマリン変性及びシアノエチル化変性メタキシレンジアミンとフェノールホルマリン変性及びシアノエチル化変性イソホロンジアミンとの混合物（例えば、大日本インキ化学工業株式会社製）等が挙げられる。
上記で説明したエポキシ樹脂組成物には、経時的にアンモニアに分解されるアミンが殆ど含まれていないため、当該組成物の硬化物からなる床材から発生するＶＯＣは少ない。
【００２１】
エポキシ樹脂を主成分とする前記樹脂組成物において、エポキシ樹脂と混合して用いることが可能な樹脂としては、例えば、硬化前のエポキシ樹脂と相溶可能な公知の樹脂等が挙げられる。
ここで、「エポキシ樹脂を主成分とする」とは、前記樹脂組成物の総質量に対して、エポキシ樹脂が４０質量％超であることをいう。
【００２２】
前記床部を構成する好適な床材料として、例えば、株式会社エービーシー商会のケミクリートＥＸが挙げられる。
【００２３】
前記作業空間を形成する天井部又は壁部の少なくとも表面は、エチレンビニルアルコール樹脂（ＥＶＯＨ）又はこれを主成分とする樹脂組成物によって形成されていることが好ましい。天井部及び壁部の両方がＥＶＯＨ又はこれを主成分とする樹脂組成物によって形成されていることがより好ましい。これらの樹脂は、天井材又は壁材として用いられる部材（例えば、クロス等）の表面をコーティングする用途に適しており、クロスからＴＶＯＣが漏れ出すことを防止するガスバリア性に優れている。また、これらの樹脂によってコーティングされた天井部及び壁部は、揮発性有機化合物（ＶＯＣ）を発生し難いので、前記作業空間中のＴＶＯＣを低減することに寄与する。
【００２４】
ＥＶＯＨのエチレンの含有率は２０〜６０モル％が好ましい。
また、「ＥＶＯＨを主成分とする樹脂組成物」とは、前記樹脂組成物の総質量に対して、ＥＶＯＨ樹脂が４０質量％超であることをいう。
【００２５】
前記壁部を構成する好適な壁材料として、例えば、リリカラ株式会社製の防塵壁紙（商品名：ケミカルフリークロス）が挙げられる。
【００２６】
前記作業空間内に、電力又は通信に用いるケーブルが配置されている場合、前記ケーブルの少なくとも表面がエチレン系共重合体又はエチレン系共重合体を１４質量％超含む樹脂組成物によって形成されていることが好ましい。ここで、前記樹脂組成物の総質量は１００質量％である。これらの樹脂は、金属ケーブルを被覆する用途に求められる、柔軟性、耐久性、絶縁性等の特性を満たすことができる。また、これらの樹脂によって被覆されたケーブルは、揮発性有機化合物（ＶＯＣ）を発生し難いので、前記作業空間中のＴＶＯＣを低減することに寄与する。
【００２７】
エチレン系共重合体としては、例えば、ポリエチレンが挙げられる。ポリエチレンとしては、例えば、比重０．９１以上０．９２未満の低密度ポリエチレン、比重０．９２以上０．９６未満の高密度ポリエチレンが挙げられる。
前記樹脂組成物において、エチレン系共重合体と混合して用いることが可能な樹脂としては、例えば、硬化前のエチレン系共重合体と相溶可能な公知の樹脂等が挙げられる。
【００２８】
前記ケーブルとして、例えば、特開２００６−１４７２３６号公報に記載の低アウトガスケーブルが挙げられる。この低アウトガスケーブルは、エチレン系共重合体を含有する樹脂成分に、特定量の金属水和物および炭酸カルシウムを配合した樹脂組成物からなる最外層およびポリオレフィンからなる中間層を設けたシース層と、非架橋のポリエチレンからなる絶縁層を有するケーブルである。
より具体的には、前記低アウトガスケーブルは「導体上に順次、絶縁層およびシース層を有するケーブルであって、前記シース層の最外層が、エチレン系共重合体５０〜１００質量％を含有する樹脂成分１００質量部に対して、炭酸カルシウム１０〜５０質量部および金属水和物５０〜２００質量部を含有する層からなり、前記シース層の最外層以外の層がポリオレフィン系樹脂からなり、前記絶縁層が非架橋のポリエチレンからなる。」ことが好ましい。また、前記シース層の最外層以外の層はポリエチレンであることが好ましく、前記シース層の最外層に金属石鹸が配合されていることが好ましい。
前記エチレン系共重合体としては、例えば、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・アクリル酸共重合体、エチレン・メタクリル酸共重合体、エチレン・アクリル酸エチル共重合体、エチレン・アクリル酸エチル共重合体、エチレン・メタクリル酸メチル共重合体、エチレン・メタクリル酸エチル共重合体等が挙げられる。前記エチレン系共重合体以外の樹脂を含有していてもよく、このような樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−αオレフィン共重合体、エチレン−プロピレンゴム、アクリルゴム等が挙げられる。前記金属水和物としては、例えば、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、ハイドロたるサイト等が挙げられる。前記炭酸カルシウムは重炭酸カルシウムでもよいし、軽炭酸カルシウムでもよい。前記金属石鹸としては、例えば、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ラウリン酸亜鉛、ｐ−ｔ−ブチル安息香酸亜鉛等が挙げられる。
前記中間層を構成するポリオレフィンとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン‐αオレフィン共重合体、エチレン‐プロピレンゴム、エチレン酢酸ビニル共重合体、エチレン（メタ）アクリル酸エステル共重合体等が挙げられる。
【実施例】
【００２９】
［試験例１］
日本シーカ株式会社製のウレタン樹脂製シーリング材（商品名：シーカフレックスＳＣＲ）から発生するＴＶＯＣが、シリコーン樹脂製のシーリング材から発生するＴＶＯＣよりも少ないことをＪＡＣＡ（空気清浄協会）Ｎｏ．３４−１９９９「クリーンルーム構成材料から発生する分子状汚染物質の測定方法指針」に準拠して確認した。
その結果、上記のウレタン樹脂製シーリング材から発生するＴＶＯＣは、従来のシリコーン系樹脂製のシーリング材よりもガス状有機物質発生速度が明らかに低かった。
【００３０】
［壁材の選定］
ＥＶＯＨでコーティングされたリリカラ株式会社性の壁材（防塵壁紙：ケミカルフリークロス）から発生するＴＶＯＣが、ＥＶＯＨでコーティングされていない無コーティングの壁材から発生するＴＶＯＣよりも少ないことは、リリカラ株式会社がそのデータを公表している。この壁材を以下の実施例で用いた。
【００３１】
［ケーブルの選定］
ポリエチレンで表面が被覆された古河電工産業電線株式会社製のクリーンルーム用低アウトガスケーブル（商品名：Ｃ９０１）から発生するＴＶＯＣが極めて少ないことは、古河電工産業電線株式会社がそのデータを公表している。このケーブルを以下の実施例で用いた。
【００３２】
［実施例１］
前記リリカラ社製のケミカルフリークロスによって形成された天井部及び壁部と、日本シーカ株式会社製のシーカフレックスＳＣＲによって形成されたシーリング材と、株式会社エービーシー商会製のケミクリートＥＸによって形成された床材（公知の低アウトガス性塗床材）と、を備えた評価室（部屋容積５０００リットル）を作製した。この評価室は、四方を壁部に囲まれ、天井部と床部がそれぞれ上方と下方を覆い、各部材の隙間を前記シーリング材でシールした密閉空間である。
前記評価室内に、さらに前記古河電工産業株式会社製ケーブル（２０ｍ）を設置した。ケミカルフィルタで処理したＴＶＯＣを含まない空気によって２８日間の換気（１０万リットル／１時間）を行った。その後、小型ポンプに接続されたガストラップ管（固体吸着剤：ＴｅｎａｘＧＲ）とを設置して評価室（２３℃）を密閉した後、約４５リットルの室内空気をサンプリングした。その後、ガストラップ管に吸着したガスをＪＩＳ  Ａ  １９６６：２０１５で規定されたガスクロマトグラフ法で分析した。
その結果、評価室内のＴＶＯＣ濃度は、約１μｇ／ｍ３であった。
【００３３】
以上の結果から、本発明にかかる実施例１の作業空間を備えた細胞培養施設におけるＴＶＯＣは充分に低減されており、細胞培養に適した作業空間を提供できることは明らかである。
【図１】
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【図２】
2018099102.tif 000004