(57)【要約】【課題】ｇ線〜ｉ線の波長範囲の少なくとも一部と重なる波長範囲において高い光透過性を有し，感光性ペースト法による十分な高さの隔壁を形成可能とし，かつ，隣接セルへの光散乱を低減する隔壁材料を提供すること。【解決手段】セルの隔壁形成用材料であって，酸化物換算のモル％で，ＳｉＯ２を３０〜７５モル％，Ｂ２Ｏ３を０〜４０モル％，Ａｌ２Ｏ３を０〜３０モル％，ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３＋Ａｌ２Ｏ３を５０〜９０モル％，Ｒ１２Ｏ（アルカリ金属酸化物）＋Ｒ２Ｏ（アルカリ土類金属酸化物）を５〜３５モル％，及びＣｏＯ＋ＮｉＯを０．５〜２０モル％，含んでなるガラス粉末である，隔壁形成用材料。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルの隔壁形成用材料であって，
酸化物換算のモル％で，
ＳｉＯ２を３０〜７５モル％，
Ｂ２Ｏ３を０〜４０モル％，
Ａｌ２Ｏ３を０〜３０モル％，
ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３＋Ａｌ２Ｏ３を５０〜９０モル％，
Ｒ１２Ｏ（アルカリ金属酸化物）＋Ｒ２Ｏ（アルカリ土類金属酸化物）を５〜３５モル％，及び
ＣｏＯ＋ＮｉＯを０．５〜２０モル％，
含んでなるガラス粉末である，隔壁形成用材料。
【請求項２】
ＳｎＯ＋Ｓｂ２Ｏ３を０．０１〜１０モル％含んでなるものである，請求項１の隔壁形成用材料。
【請求項３】
ＣｏＯを０．５〜２０モル％含んでなり，
５５０ｎｍにおける吸収係数βａ１が２．０ｍｍ−１以上であり，
４３６ｎｍ，４０５ｎｍ及び３６５ｎｍにおける吸収係数のうちの最小値をβｔ１で表したとき，βａ１／βｔ１が１０以上である，請求項１又は２の隔壁形成用材料。
【請求項４】
ＮｉＯを０．５〜２０モル％含んでなり，
４５０ｎｍにおける吸収係数βａ２が２．０ｍｍ−１以上であり，
３６５ｎｍにおける吸収係数をβｔ２で表したとき，βａ２／βｔ２が１０以上である，請求項１又は２の隔壁形成用材料。
【請求項５】
ＳｉＯ２を３０〜６５モル％，
Ｂ２Ｏ３を０〜４０モル％，
Ａｌ２Ｏ３を０〜１５モル％，
ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３＋Ａｌ２Ｏ３を５０〜８９．４９モル％，
Ｌｉ２Ｏを１０〜３０モル％，及び
Ｒ１２Ｏ（アルカリ金属酸化物）＋Ｒ２Ｏ（アルカリ土類金属酸化物）を１０〜３５モル％
含んでなるものである，請求項１〜３の何れかの隔壁形成用材料。
【請求項６】
ＳｉＯ２を３５〜６０モル％，
Ｂ２Ｏ３を２〜１５モル％，
Ａｌ２Ｏ３を１５〜３０モル％，
ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３＋Ａｌ２Ｏ３を５２〜７９．４９モル％，
Ｌｉ２Ｏを１８〜３１モル％，及び
Ｒ１２Ｏ（アルカリ金属酸化物）＋Ｒ２Ｏ（アルカリ土類金属酸化物）を２０〜３５モル％，
含んでなるものである，請求項１〜３の何れかの隔壁形成用材料。
【請求項７】
ＳｉＯ２を３０〜６０モル％，
Ｂ２Ｏ３を８〜２５モル％，
Ａｌ２Ｏ３を７〜１８モル％，
ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３＋Ａｌ２Ｏ３を５０〜７７．４９モル％，
Ｒ１２Ｏ（アルカリ金属酸化物）を２〜１５モル％，
ＢａＯを１０〜３０モル％，及び
Ｒ１２Ｏ（アルカリ金属酸化物）＋Ｒ２Ｏ（アルカリ土類金属酸化物）を１２〜３５モル％，
含んでなり，且つ
ハロゲン原子を更に含み，該ハロゲン原子が酸素原子と共にモル比で次の関係：
Ｏ／（Ｏ＋Ｆ＋Ｃｌ＋Ｂｒ＋Ｉ）が０．５〜０．９，及び
Ｆ／（Ｏ＋Ｆ＋Ｃｌ＋Ｂｒ＋Ｉ）が０．１〜０．５，
をそれぞれ満たすものである，請求項１〜３の何れかの隔壁形成用材料。
【請求項８】
ＳｉＯ２を５０〜７５モル％，
Ｂ２Ｏ３を０〜１５モル％，
Ａｌ２Ｏ３を０〜３０モル％，
ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３＋Ａｌ２Ｏ３を６０〜９０モル％，
Ｒ１２Ｏ（アルカリ金属酸化物）を０〜１８モル％
Ｒ２Ｏ（アルカリ土類金属酸化物）を３〜３０モル％，及び
Ｒ１２Ｏ（アルカリ金属酸化物）＋Ｒ２Ｏ（アルカリ土類金属酸化物）を５〜３５モル％，
含んでなるものである，請求項１〜３の何れかの隔壁形成用材料。
【請求項９】
該ガラス粉末の体積基準の粒度分布における５０％粒子径が０．１〜１０μｍである，請求項９の隔壁形成用材料。
【請求項１０】
光重合性多官能モノマー又はオリゴマー，光重合開始剤，及び，請求項１〜９の何れかの隔壁形成用材料を含んでなる，感光性ペースト。
【請求項１１】
配列されたセルを構成する隔壁の製造方法であって，次のステップ：
ａ．基板上に請求項１０の感光性ペーストを塗布して塗膜を形成するステップ，
ｂ．該感光性ペースト塗膜を，配列されたセルを構成する隔壁のパターンに対応する開口部を有するフォトマスクを介して露光するものである露光ステップ，
ｃ．露光後の該塗膜に現像液を接触させてこれに可溶な部分を該現像液で溶解除去して，隔壁状の塗膜部分を基板上に残すものである現像ステップ，
ｄ．基板上の該隔壁形状の塗膜部分を加熱しこれに含まれるガラス粉末を軟化及び焼結させて，隔壁を形成するものである焼成ステップ，
ｅ．形成された該隔壁を酸処理して隔壁の表面を脱色する脱色ステップ
を含む，隔壁の製造方法。
【請求項１２】
請求項１〜９の何れかの隔壁形成用材料を含んでなる隔壁により，蛍光体セルが区画されているものである，シンチレータパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，画素配列を構成するセルのような微小なセルを区画する隔壁の形成用材料，これを含む感光性ペースト，隔壁の製造方法及びシンチレータパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
医療用途やその他の非破壊検査用途でＸ線透過画像が用いられている。Ｘ線透過画像として主として利用されているのは，従来，Ｘ線により感光したフィルムを現像することによって得られるアナログ画像であった。これに対し，近年では，デジタル画像方式としてフラットパネル型の放射線ディテクタ（放射線検出装置）が開発されている。
【０００３】
フラットパネル型の放射線ディテクタでは，放射線を可視光に変換するためにシンチレータパネルが使用されている。シンチレータパネルは，ヨウ化セシウム等のＸ線蛍光体を用いたＸ線蛍光体部（シンチレータ層）を含んでおり，照射されたＸ線に応じて，当該Ｘ線蛍光体が可視光を発光し，その可視光がＴＦＴ又はＣＣＤで電気信号に変換されることでデジタル画像情報が得られるものである。
【０００４】
放射線ディテクタとしては，高精細な画像を得るために隔壁で仕切られたセル内に蛍光体を充填したシンチレータパネル構造において，隔壁がガラス粉末を含有した感光性ペーストを用いる方法（感光性ペースト法）で形成されたものが提案されている（特許文献１）。
【０００５】
感光性ペーストを用いる場合，１）低融点ガラス粉末と感光性有機成分を含有し，場合により更に，隔壁の形状を整え又は熱膨張係数を調整するためのフィラー（結晶であっても高融点ガラスであってもよい）をも含有した感光性ペーストをガラス基板上に塗布して，感光性ペースト塗布膜を形成する工程，２）得られた感光性ペースト塗布膜を所定の開口部を有するフォトマスクを介して露光するものである露光工程，３）露光後の感光性ペースト塗布膜の，現像液に可溶な部分を溶解除去する現像工程，４）現像後の感光性ペースト塗布膜パターンを高温に加熱して有機成分を除去するとともに低融点ガラスを軟化及び焼結させ，隔壁を形成する工程によって，隔壁形成が行われている。
【０００６】
また，Ｘ線撮像装置において，鮮明な撮影を実現するため，隔壁の一部（最上部）に黒色のガラスや顔料を用いて隣接セルへの光散乱を低減させたシンチレータパネルが知られている（特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】国際公開ＷＯ２０１２／１６１３０４号公報
【特許文献２】特開２０１４−１０６０２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
黒色の隔壁形成用材料で形成された隔壁は，シンチレータ結晶からこれに入射する蛍光を吸収して隣接セルへの散乱を低減することで，シンチレータパネルとしての鮮明な撮影を可能にする。他方，そのような隔壁形成用材料は，隔壁の形成に際して露光に用いるｇ線〜ｉ線の波長範囲の光も吸収してしまうため，感光性ペースト法では，形成可能な黒色の隔壁の高さが限られ，十分な高さの黒色隔壁を形成することは難しい。
【０００９】
そこで，本発明は，ｇ線〜ｉ線の波長範囲の少なくとも一部と重なる波長範囲において高い光透過性を有し，感光性ペースト法による十分な高さの隔壁を形成可能とし，かつ，隣接セルへの光散乱を低減する隔壁材料を提供すること，及び該隔壁材料を用いたシンチレータパネルを提供することである。更には，感光性ペースト法に用いるにより好適な屈折率，熱膨張係数，軟化点をも備えた隔壁形成用材料を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は，露光に用いるｇ線〜ｉ線の波長範囲の少なくとも一部と重なる波長範囲において高い光透過性を有し，かつ，蛍光体材料が発する蛍光の波長である４００〜６５０ｎｍの範囲のうち特定の範囲で光吸収性が高い着色ガラスを用いることで，隣接セルへの蛍光の散乱の低減が可能になることを見出した。更には，ＣｏＯ又はＮｉＯを着色成分として含有するＳｉＯ２系ガラスにおいて，その組成を特定範囲に制御することで，ｇ線〜ｉ線の波長範囲の少なくとも一部と重なる波長範囲における高い光透過性，蛍光に対する高い吸収性，並びに感光性ペーストに用いるに適した屈折率，熱膨張係数及び軟化点を達成できること，更には，酸処理により隔壁表面の光反射率を高めることが可能なことを見出し，更に検討を加えて本発明を完成するに至った。すなわち，本発明の着色ガラス，これを含む感光性ペースト，セルの隔壁の製造方法及びシンチレータは以下の通りである。
【００１１】
１．セルの隔壁形成用材料であって，
酸化物換算のモル％で，
ＳｉＯ２を３０〜７５モル％，
Ｂ２Ｏ３を０〜４０モル％，
Ａｌ２Ｏ３を０〜３０モル％，
ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３＋Ａｌ２Ｏ３を５０〜９０モル％，
Ｒ１２Ｏ（アルカリ金属酸化物）＋Ｒ２Ｏ（アルカリ土類金属酸化物）を５〜３５モル％，及び
ＣｏＯ＋ＮｉＯを０．５〜２０モル％，
含んでなるガラス粉末である，隔壁形成用材料。
２．ＳｎＯ＋Ｓｂ２Ｏ３を０．０１〜１０モル％含んでなるものである，上記１の隔壁形成用材料。
３．ＣｏＯを０．５〜２０モル％含んでなり，
５５０ｎｍにおける吸収係数βａ１が２．０ｍｍ−１以上であり，
４３６ｎｍ，４０５ｎｍ及び３６５ｎｍにおける吸収係数のうちの最小値をβｔ１で表したとき，βａ１／βｔ１が１０以上である，上記１又は２の隔壁形成用材料。
４．ＮｉＯを０．５〜２０モル％含んでなり，
４５０ｎｍにおける吸収係数βａ２が２．０ｍｍ−１以上であり，
３６５ｎｍにおける吸収係数をβｔ２で表したとき，βａ２／βｔ２が１０以上である，上記１又は２の隔壁形成用材料。
５．ＳｉＯ２を３０〜６５モル％，
Ｂ２Ｏ３を０〜４０モル％，
Ａｌ２Ｏ３を０〜１５モル％，
ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３＋Ａｌ２Ｏ３を５０〜８９．４９モル％，
Ｌｉ２Ｏを１０〜３０モル％，及び
Ｒ１２Ｏ（アルカリ金属酸化物）＋Ｒ２Ｏ（アルカリ土類金属酸化物）を１０〜３５モル％
含んでなるものである，上記１〜３の何れかの隔壁形成用材料。
６．ＳｉＯ２を３５〜６０モル％，
Ｂ２Ｏ３を２〜１５モル％，
Ａｌ２Ｏ３を１５〜３０モル％，
ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３＋Ａｌ２Ｏ３を５２〜７９．４９モル％，
Ｌｉ２Ｏを１８〜３１モル％，及び
Ｒ１２Ｏ（アルカリ金属酸化物）＋Ｒ２Ｏ（アルカリ土類金属酸化物）を２０〜３５モル％，
含んでなるものである，上記１〜３の何れかの隔壁形成用材料。
７．ＳｉＯ２を３０〜６０モル％，
Ｂ２Ｏ３を８〜２５モル％，
Ａｌ２Ｏ３を７〜１８モル％，
ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３＋Ａｌ２Ｏ３を５０〜７７．４９モル％，
Ｒ１２Ｏ（アルカリ金属酸化物）を２〜１５モル％，
ＢａＯを１０〜３０モル％，及び
Ｒ１２Ｏ（アルカリ金属酸化物）＋Ｒ２Ｏ（アルカリ土類金属酸化物）を１２〜３５モル％，
含んでなり，且つ
ハロゲン原子を更に含み，該ハロゲン原子が酸素原子と共にモル比で次の関係：
Ｏ／（Ｏ＋Ｆ＋Ｃｌ＋Ｂｒ＋Ｉ）が０．５〜０．９，及び
Ｆ／（Ｏ＋Ｆ＋Ｃｌ＋Ｂｒ＋Ｉ）が０．１〜０．５，
をそれぞれ満たすものである，上記１〜３の何れかの隔壁形成用材料。
８．ＳｉＯ２を５０〜７５モル％，
Ｂ２Ｏ３を０〜１５モル％，
Ａｌ２Ｏ３を０〜３０モル％，
ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３＋Ａｌ２Ｏ３を６０〜９０モル％，
Ｒ１２Ｏ（アルカリ金属酸化物）を０〜１８モル％
Ｒ２Ｏ（アルカリ土類金属酸化物）を３〜３０モル％，及び
Ｒ１２Ｏ（アルカリ金属酸化物）＋Ｒ２Ｏ（アルカリ土類金属酸化物）を５〜３５モル％，
含んでなるものである，上記１〜３の何れかの隔壁形成用材料。
９．該ガラス粉末の体積基準の粒度分布における５０％粒子径が０．１〜１０μｍである，上記９の隔壁形成用材料。
１０．光重合性多官能モノマー又はオリゴマー，光重合開始剤，及び，上記１〜９の何れかの隔壁形成用材料を含んでなる，感光性ペースト。
１１．配列されたセルを構成する隔壁の製造方法であって，次のステップ：
ａ．基板上に上記１０の感光性ペーストを塗布して塗膜を形成するステップ，
ｂ．該感光性ペースト塗膜を，配列されたセルを構成する隔壁のパターンに対応する開口部を有するフォトマスクを介して露光するものである露光ステップ，
ｃ．露光後の該塗膜に現像液を接触させてこれに可溶な部分を該現像液で溶解除去して，隔壁状の塗膜部分を基板上に残すものである現像ステップ，
ｄ．基板上の該隔壁形状の塗膜部分を加熱しこれに含まれるガラス粉末を軟化及び焼結させて，隔壁を形成するものである焼成ステップ，
ｅ．形成された該隔壁を酸処理して隔壁の表面を脱色する脱色ステップ
を含む，隔壁の製造方法。
１２．上記１〜９の何れかの隔壁形成用材料を含んでなる隔壁により，蛍光体セルが区画されているものである，シンチレータパネル。
【発明の効果】
【００１２】
上記１の隔壁形成用材料は，ｇ線〜ｉ線の波長範囲の少なくとも一部と重なる波長範囲において高い光透過性を有するため，厚みを増した感光性ペースト塗膜を用いて十分な高さの隔壁を形成するのに適しており，また４００〜６５０ｎｍの波長の光の吸収性は高いため，当該材料を用いて形成された隔壁は，Ｘ線蛍光体が発するそのような波長の蛍光をよく吸収して隣接セルへの散乱光の入射を効率よく遮断することができる。更には当該材料を用いて形成された隔壁は，酸処理することで高い光反射性表面を併せ持つこともできる。
上記２の隔壁形成用材料は，露光に用いるｇ線〜ｉ線の波長範囲の少なくとも一部と重なる波長範囲において特に優れた光透過性を有する。
上記３の隔壁形成用材料は，４８０〜６５０ｎｍの蛍光を発する蛍光体を使用したシンチレータパネルに特に適した光吸収特性を有する。
上記４の隔壁形成用材料は，４００〜４８０ｎｍの蛍光を発する蛍光体を使用したシンチレータパネルに特に適した光吸収特性を有する。
上記５の隔壁形成用材料は，ソーダライムガラス基板を使用したシンチレータパネルに特に適した熱膨張係数を有し，且つ低融点を示す。
上記６の隔壁形成用材料は，無アルカリガラス基板を使用したシンチレータパネルに特に適した熱膨張係数を有し，且つ低融点を示す。
上記７の隔壁形成用材料は，Ｘ線吸収特性を兼ね備え，且つ低融点を示す。
上記８の隔壁形成用材料は，高融点を示すため，隔壁形成においてフィラーとして使用するのに特に適している。
上記９の隔壁形成用材料は，厚みの特に薄い隔壁の形成を可能にする。
上記１０の感光性ペーストは，隔壁形成性に優れ，且つ，隣接セルへの散乱光の入射を効果的に遮断できる隔壁の形成を可能にする。そのため，得られる隔壁は，厚みが薄くても隣接セル間での滲みを防いで鮮明な画像を与えることができるため，セルの隔壁の断面積に対する蛍光体充填領域の断面積の比率を高めた，従って感度の向上に有利な，シンチレータパネルの作製を可能にする。
上記１１の製造方法は，表面より内部に入射した蛍光に対して高い吸収率を示すと同時に，表面での高い反射率を示して，同一セル内に蛍光を閉じ込めやすい隔壁の製造の可能にする。
上記１２のシンチレータパネルは，セルの隔壁の断面積に対する蛍光体充填領域の断面積の比率を高めたものとすることができるため，また十分に高くした隔壁に囲まれた深いセル内により厚く蛍光体を充填できるため，好感度の，従ってそれだけ身体のＸ線被曝を抑えることができるものとして，提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１は，本発明の隔壁形成用材料を用いて隔壁を形成したシンチレータパネルを備えた放射線検出装置の一部分の縦断面を示す概略図である
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明の隔壁形成用材料は，結晶質でなくガラスであり，複屈折を生じないから，感光性ペースト法においてこれを用いた際に露光時の光散乱を抑制できるため，線幅の狭い隔壁形成が可能となる。また，ガラスであるため，加熱により粉末粒子が軟化・融着するため，機械的強度の高い隔壁を形成することができる。
【００１５】
以下，本発明の隔壁形成用材料の各成分及びその含有量について説明する。本明細書中において，各成分の含有率は特に断りがない場合は，全て酸化物換算のモル％で表す。ここで，「酸化物換算のモル％で表す」とは，本発明のガラス構成成分の原料として使用される酸化物，水酸化物，炭酸塩，ハロゲン化物等が溶融時にすべて分解され酸化物へ変化すると仮定した場合に，その生成した酸化物の総モル数を１００モル％として，ガラス中に含有される各カチオン成分の組成を表すことである。但し，ハロゲンイオンに関しては実際にはそのほとんどが分解されずにガラス中に残留する。そこで，構成成分としてハロゲン化物を含有する場合には，上記酸化物換算のモル％によってカチオン成分の比率を表したうえで，さらに，全アニオン中の各アニオンのモル分率を用いて組成を表す。
【００１６】
本発明の隔壁形成用材料の成分のうち，ガラス形成に与る成分（以下，「主成分」という。）の組成は，ＳｉＯ２を３０〜７５モル％，Ｂ２Ｏ３を０〜４０モル％，Ａｌ２Ｏ３を０〜３０モル％，ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３＋Ａｌ２Ｏ３を５０〜９０モル％，Ｒ１２Ｏ（アルカリ金属酸化物）＋Ｒ２Ｏ（アルカリ土類金属酸化物）を５〜３０モル％とする。主成分の組成を上記範囲とすることで，副成分（着色成分，短波長域の透過率向上成分）を多量に加えても安定的にガラス化することができる。また，本発明の隔壁形成用材料を焼成して隔壁とした後には，分相や結晶化により化学的耐久性の低い相が生じているため，副成分由来のＣｏ２＋イオン又はＮｉ２＋イオンを溶解しやすい酸などの溶液を用いることで，隔壁の表面を脱色させて，反射率を高めることができる。
【００１７】
本発明の隔壁形成用材料は，着色成分としてＣｏＯ＋ＮｉＯを０．５〜２０モル％含有する。ＣｏＯは４８０〜６５０ｎｍにおける光を特に吸収し，ｇ線（４３６ｎｍ），ｈ線（４０５ｎｍ），ｉ線（３６５ｎｍ）は透過させる成分である。ＮｉＯは４００〜４８０ｎｍにおける光を特に吸収し，ｉ線は透過させる成分である。ＣｏＯとＮｉＯのどちらを着色成分として含有させるかは，シンチレーション結晶の発光波長を吸収するように選択すればよい。例えば，ＣｓＩ（Ｔｌ）やＧｄ２Ｏ２Ｓ（Ｔｂ）結晶は５５０ｎｍ付近の蛍光を発するため，ガラスにはＣｏＯを着色成分として含有させるとよい。ＺｎＳ（Ａｇ）結晶は４５０ｎｍ付近の蛍光を発するため，ガラスにはＮｉＯを着色成分として含有させるとよい。
【００１８】
本発明の隔壁形成用材料は，ｇ線〜ｉ線領域の光透過率の向上のためには，ＳｎＯ＋Ｓｂ２Ｏ３＋ＣｕＯ＋ＣｅＯ２を０．０１〜１０モル％含有することが好ましい。光透過率の向上するメカニズムは不明であるが，これらの成分は共通して，急冷したガラス中において還元剤として働くことから，Ｃｏ３＋やＮｉ３＋の発生を抑えているためと推測される。
【００１９】
これらの成分のうちでも，ＳｎＯ，Ｓｂ２Ｏ３は，多量に含有させても短波長域の吸収を生じさせず，屈折率を高める成分である。ＳｎＯ＋Ｓｂ２Ｏ３を０．０１〜１０モル％を含有させることが好ましく，０．１〜５モル％含有させることがより好ましい。一方，ＣｕＯ，ＣｅＯ２については，これらを多量に含有させると短波長域の吸収を生じさせるおそれがあるため，ＣｕＯ＋ＣｅＯ２の含有率は０．５モル％以下とすることが好ましく，０．１モル％以下とすることがより好ましい。
【００２０】
主成分のうちＳｉＯ２は必須成分である。ＳｉＯ２はガラスのネットワークフォーマーであり，ガラスの安定性を高め，屈折率を下げる成分である。一方，その含有率が高くなると粘性を高めガラスの溶融を困難にする。そのため，ＳｉＯ２の含有率は３０〜７５モル％の範囲とすべきである。
【００２１】
主成分のうちＢ２Ｏ３は任意成分である。Ｂ２Ｏ３はガラスのネットワークフォーマーであり，ガラスの安定性を高め，軟化点を下げ，熱膨張係数を上げる成分である。一方，その含有率が高くなると短波長域の透過率低下を招くおそれがある。そのため，Ｂ２Ｏ３の含有率は，０〜４０モル％とすべきであり，好ましくは０〜３５モル％，より好ましくは０〜３０モル％である。
【００２２】
主成分のうちＡｌ２Ｏ３は任意成分である。Ａｌ２Ｏ３はガラスのネットワークフォーマーであり，軟化点を上げる成分である。Ａｌ２Ｏ３は溶融後冷却過程でのガラスの分相を抑制してガラスの白濁を防止する効果がある。Ａｌ２Ｏ３をＬｉ２Ｏとともに含有する場合には，加熱によりβ−石英系結晶を析出するガラスにすることができる。β−石英系結晶は低熱膨張率の隔壁形成を可能にする。そのため，Ａｌ２Ｏ３の含有率は０〜３０モル％とすべきであり，好ましくは０〜２５モル％，より好ましくは０〜１８モル％である。
【００２３】
安定なガラス形成と溶融の容易性の両立のため，ネットワークフォーマーであるＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３＋Ａｌ２Ｏ３の含有率は５０〜９０モル％とすべきであり，好ましくは５５〜８７モル％，より好ましくは６０〜８５モル％である。
【００２４】
アルカリ金属酸化物Ｒ１２Ｏ（Ｌｉ２Ｏ，Ｎａ２Ｏ，Ｋ２Ｏ，Ｒｂ２Ｏ，Ｃｓ２Ｏ）は任意成分である。これらは，ガラスの軟化点を下げ，熱膨張係数を上げる成分である。特に，アルカリ金属酸化物の中でもＬｉ２Ｏは軟化点を下げ，熱膨張係数を下げることができる成分である。アルカリ金属酸化物の中でもＫ２Ｏは熱膨張係数を上げるものの，溶融後冷却過程でのガラスの分相を抑制してガラスの白濁を防止する効果，耐酸性を向上させる効果がある。短時間の酸処理であっても，脱色を隔壁の表面のみに確実に限定できるようにするためには，Ｋ２Ｏの含有率は，好ましくは０〜１モル％である。
【００２５】
アルカリ土類金属酸化物Ｒ２Ｏ（ＭｇＯ，ＣａＯ，ＳｒＯ，ＢａＯ）は任意成分である。ガラスを安定化させ，屈折率を上げる成分である。ガラスの溶融を容易にしつつ，フィラーとして用いる軟化点の高いガラス（フィラーガラス）にしたい場合に，Ｒ１２Ｏの代わりに含有させることができる。アルカリ土類金属酸化物の中でもＢａＯは，Ｘ線を吸収する成分である。隔壁のＸ線吸収性を高めるとＴＦＴやＣＣＤ検出器へＸ線が入射することによるノイズの発生や検出器の故障を防止することができる。
【００２６】
安定なガラス形成と溶融の容易性の両立のためには，Ｒ１２Ｏ＋Ｒ２Ｏの含有率は５〜３０モル％とするのが好ましい。
【００２７】
ＺｎＯは任意成分である。ＺｎＯはガラスの溶融を容易にする。一方，ＺｎＯを多量に含有させると屈折率が高くなりすぎるおそれがある。ＺｎＯの含有率は好ましくは１５モル％以下，より好ましくは７モル％以下である。
【００２８】
Ｂｉ２Ｏ３は任意成分である。Ｂｉ２Ｏ３はガラスの軟化点を下げる効果があるが，屈折率を高め，着色を生じ短波長域の透過率を低下させるおそれがあるため，Ｂｉ２Ｏ３の含有率は，好ましくは３モル％以下，より好ましくは０．３モル％以下，更に好ましくは０．１モル％以下である。
【００２９】
その他の元素も本件発明の隔壁形成用材料の特性を損なわない範囲で加えることができる。３族元素酸化物，ＴｉＯ２，ＺｒＯ２，ＨｆＯ２，Ｔａ２Ｏ５，Ｇａ２Ｏ３，Ｉｎ２Ｏ３，ＧｅＯ２，Ｐ２Ｏ５，ＴｅＯ２は機械的特性の改善などのために加えることができる。
【００３０】
４族〜１１族の遷移金属酸化物（但しＣｏＯ，ＮｉＯ，ＴｉＯ２，ＺｒＯ２，ＨｆＯ２，Ｔａ２Ｏ５を除く）は着色を生じ短波長域の透過率を低下させるおそれがあるため，これらの酸化物の含有率は，合計で，好ましくは３モル％以下，より好ましくは０．３モル％以下，更に好ましくは０．１モル％以下である。
【００３１】
ＰｂＯは環境有害成分であり，実質的に含有しないことが好ましい。ここに，「実質的に含有しない」とは不可避的に不純物として含有する場合であっても，質量濃度で１０００ｐｐｍ未満であることをいう。
【００３２】
本明細書において隔壁形成用材料の組成は，当該材料を個々の酸化物の集合体として把握して，酸化物換算のモル％で表しているが，その酸化物の一部をハロゲン化物に置換してもよい。ハロゲン化物への置換はガラスの軟化点を下げ，熱膨張係数を上げる効果がある。ハロゲンのうちでもフッ化物への置換は，屈折率を下げ，短波長域の透過率を向上させるという更なる効果がある。ハロゲンを含有させる場合，隔壁形成用材料において，ハロゲン原子と酸素原子は，それらのモル比で，Ｏ／（Ｏ＋Ｆ＋Ｃｌ＋Ｂｒ＋Ｉ）が好ましくは０．５〜１．０，Ｆ／（Ｏ＋Ｆ＋Ｃｌ＋Ｂｒ＋Ｉ）が好ましくは０〜０．５，（Ｏ＋Ｆ）／（Ｏ＋Ｆ＋Ｃｌ＋Ｂｒ＋Ｉ）が好ましくは０．９〜１．０，より好ましくは０．９５〜１．０，という関係をそれぞれ満たすように，原料が選択され調整される。
【００３３】
本発明の隔壁形成用材料の光吸収は吸光係数（β）を用いて表す。吸光係数は外部透過率（Ｔ）と透過率測定時の試料の厚み（ｘ），及び屈折率（ｎ）を式１〜式３に代入することで求められる。式中，τは内部透過率であり，Ｒは試料−空気界面での反射率である。
【００３４】
【数１】
2018008836.tif 000002
【００３５】
【数２】
2018008836.tif 000003
【００３６】
【数３】
2018008836.tif 000004
【００３７】
本発明の隔壁形成用材料の光吸収特性としては，隔壁がシンチレーション結晶の蛍光を一定量吸収することが必要であるから，当該蛍光の波長域での吸収係数（βａ）が高いほうが望ましい。また，露光には超高圧水銀ランプやＵＶ−ＬＥＤが用いられる。これらの光源からの光が感光性ペーストの底部まで露光するためには，ｇ線，ｈ線，ｉ線のうち少なくとも１つの波長での吸収係数（βｔ）をペースト膜厚に応じて許容される一定の値以下に抑える必要がある。このため，βｔを一定の値以下に抑えた上で，なるべく高いβａを有する材料が好ましい，すなわち，両吸収係数の比βａ／βｔが高い材料が好ましい。βａは単位体積中の着色成分の濃度に概ね比例する。βａ／βｔは，主成分の組成及び短波長域の透過率向上成分の含有量を本発明の好ましい範囲内にすることで，向上させることができる。
【００３８】
着色成分としてＣｏＯを含有する場合には，本発明の隔壁形成用材料の５５０ｎｍにおける吸収係数βａ１が２．０ｍｍ−１以上であることが好ましく，５．０ｍｍ−１以上であることがより好ましい。また，４３６ｎｍ，４０５ｎｍ，３６５ｎｍにおける吸収係数のうちの最小値βｔ１は，βａ１／βｔ１が，好ましくは１０以上，より好ましくは３０以上，更に好ましくは８０以上となるものである。
【００３９】
着色成分としてＮｉＯを含有する場合には，４５０ｎｍにおける吸収係数βａ２が２．０ｍｍ−１以上であることが好ましく，４．０ｍｍ−１以上であることがより好ましい。また，３６５ｎｍにおける吸収係数βｔ２は，βａ２／βｔ２が，好ましくは１０以上，より好ましくは２０以上，更に好ましくは５０以上となるものである。
【００４０】
本発明の隔壁形成用材料の屈折率は，感光性ペーストを露光する際の照射光の散乱を抑制するため，感光性ペーストに用いられる有機成分と同等の値であることが望ましい。例えば，ｇ線（４３６ｎｍ）における屈折率は，好ましくは１．４９〜１．７０，より好ましくは１．５１〜１．６７，更に好ましくは１．５２〜１．６５である。
【００４１】
本発明において，隔壁形成用材料の軟化点（後述する測定条件におけるＤＴＡの軟化点）は，低温で軟化するガラス（低融点ガラス）が望ましい場合は，５００〜７００℃である。この範囲の軟化点とすることにより，隔壁に用いる低融点ガラスとして優れたものとなる。隔壁作製プロセスにおける焼成を比較的低温側で行うには，軟化点は例えば６５０℃以下であることが好ましい。軟化点は，上記した各成分の特徴に基づいて適宜調整することができる。
【００４２】
他方，フィラーガラスとする場合に適した軟化点は，これと組み合わせる低融点ガラスの軟化点により定まる。フィラーガラスの軟化点は，低融点ガラスよりも少なくとも５０℃高ければ十分である。多くの低融点ガラスに適合するフィラーガラスとして好ましい軟化点は，６５０〜８５０℃である。この温度範囲にしておけば低融点ガラスを焼成する際の温度では軟化しないため，低融点ガラスと組み合わせるフィラー用ガラスとして優れている。
【００４３】
本発明の隔壁形成用材料の熱膨張係数には，特に制限はない。シンチレータパネルの基板材料には各種あり，それらの熱膨張係数は異なっており，また，低融点ガラスとフィラーとを混合した結果の熱膨張係数が，シンチレータパネルの基板材料と近い熱膨張係数であれば足りるためである。例えば，無アルカリガラス基板の熱膨張係数は約３０×１０−７／Ｋ，ソーダライムガラス基板の熱膨張係数は約９０×１０−７／Ｋ，アルミナ基板の熱膨張係数は約７０×１０−７／Ｋである。
【００４４】
本発明の隔壁形成用材料として，光学特性に加え，特定の熱物性やＸ線吸収能を付与する場合は，下記の組成の範囲内にも属させることが好ましい。
【００４５】
ソーダライムガラス基板に適合する，比較的高い熱膨張係数（５０〜１２０）×１０−７／Ｋを有する低融点ガラスとする場合：
ＳｉＯ２を３０〜６５モル％，
Ｂ２Ｏ３を０〜４０モル％，
Ａｌ２Ｏ３を０〜１５モル％，
ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３＋Ａｌ２Ｏ３を５０〜８９．４９モル％，
Ｌｉ２Ｏを１０〜３０モル％，及び
Ｒ１２Ｏ（アルカリ金属酸化物）＋Ｒ２Ｏ（アルカリ土類金属酸化物）を１０〜３５モル％
【００４６】
無アルカリガラス基板に適合する，比較的低い熱膨張係数（０〜５０）×１０−７／Ｋを有する低融点ガラスとする場合：
ＳｉＯ２を３５〜６０モル％，
Ｂ２Ｏ３を２〜１５モル％，
Ａｌ２Ｏ３を１５〜３０モル％，
ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３＋Ａｌ２Ｏ３を５２〜７９．４９モル％，
Ｌｉ２Ｏを１８〜３１モル％，及び
Ｒ１２Ｏ（アルカリ金属酸化物）＋Ｒ２Ｏ（アルカリ土類金属酸化物）を２０〜３５モル％
【００４７】
Ｘ線吸収性が高い低融点ガラスとする場合：
ＳｉＯ２を３０〜６０モル％，
Ｂ２Ｏ３を８〜２５モル％，
Ａｌ２Ｏ３を７〜１８モル％，
ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３＋Ａｌ２Ｏ３を５０〜７７．４９モル％，
Ｒ１２Ｏ（アルカリ金属酸化物）を２〜１５モル％，
ＢａＯを１０〜３０モル％，及び
Ｒ１２Ｏ（アルカリ金属酸化物）＋Ｒ２Ｏ（アルカリ土類金属酸化物）を１２〜３５モル％，
ハロゲン原子を更に含み，該ハロゲン原子が酸素原子と共にモル比で：
Ｏ／（Ｏ＋Ｆ＋Ｃｌ＋Ｂｒ＋Ｉ）を０．５〜０．９，
Ｆ／（Ｏ＋Ｆ＋Ｃｌ＋Ｂｒ＋Ｉ）を０．１〜０．５
【００４８】
フィラーガラスとする場合：
ＳｉＯ２を５０〜７５モル％，
Ｂ２Ｏ３を０〜１５モル％，
Ａｌ２Ｏ３を０〜３０モル％，
ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３＋Ａｌ２Ｏ３を６０〜９０モル％，
Ｒ１２Ｏ（アルカリ金属酸化物）を０〜１８モル％
Ｒ２Ｏ（アルカリ土類金属酸化物）を３〜３０モル％，及び
Ｒ１２Ｏ（アルカリ金属酸化物）＋Ｒ２Ｏ（アルカリ土類金属酸化物）を５〜３５モル％
【００４９】
本発明の隔壁形成用材料はガラスであるから，慣用のガラスの製造方法によって製造することができる。材料としては，本発明におけるガラスの各成分の供給源となる化合物を出発原料として使用すればよい。例えばＢ２Ｏ３のためには，Ｈ３ＢＯ３，Ｂ２Ｏ３等を用いることができる。また例えばＡｌ２Ｏ３のためには，Ａｌ（ＯＨ）３，Ａｌ２Ｏ３，ＡｌＦ３等を用いることができる。他の成分についても，ＳｉＯ２，ＢａＣＯ３，Ｌｉ２ＣＯ３等のように，各種酸化物，水酸化物，炭酸塩，硝酸塩等，ガラスの製造で通常に用いられる出発原料を採用することができ，これらを所定の割合で含有する混合物を出発原料として用い，これを溶融させればよい。
【００５０】
ガラスは，例えば，原料化合物を混合することにより混合物を得る第１工程，及び得られた混合物を溶融することにより溶融物を得る第２工程を含む，慣用の製造方法によって，製造できる。
【００５１】
第１工程では，意図するガラスの組成・比率となるように前記出発原料を秤量し，混合することにより混合物を調製する。この場合，各成分の原料の混合順序等は特に制限されず，同時に配合してもよく，特定の化合物順に配合してもよい。原料は，通常は粉末の形態でガラス溶融炉に供給される。そのための原料粉末は，各成分を含む原料を慣用の方法で粉砕，混合等することにより得ることができる。
【００５２】
第２工程では，上記の混合物を溶融することにより溶融物を得る。溶融に際しては，原料の組成に応じてガラス溶融温度を設定すればよいが，通常は１３００〜１６００℃程度とすればよい。得られた溶融物は，必要に応じて，溶融物からそのまま粉末を製造する工程に供してもよい。例えば，溶融物を冷却ロールにて冷却しながらフレーク状粉末を得ることができる。また，溶融物を冷却した後，必要に応じて粉砕，分級等の処理をすることにより粉末を得ることもできる。このように本発明の隔壁形成用材料は，慣用の適宜の方法により粉末状にして好適に提供することができる。
【００５３】
本発明において「Ｘ％粒子径」とは，レーザー回折・散乱式粒度分布計を用いて測定した体積基準の粒度分布において小粒子径側から数えて累積Ｘ％となる粒子径をいう。また，本発明において「最大粒子径」の語は，９９．９％粒子径をいう。
【００５４】
本発明において隔壁形成用材料粉末の５０％粒子径（Ｄ５０）は，特に限定されないが，通常は０．１〜１０μｍとし，特に０．５〜５μｍとすることが好ましい。５０％粒子径が０．１μｍ未満である場合には，粒子の強固な凝集によりペースト中での分散性が悪化する恐れがある。５０％粒子径が１０μｍ以上では線幅の細いパターンを作製することが困難になる。
【００５５】
また前記粉末の最大粒子径も，特に限定されないが，通常は３０μｍ以下，好ましくは２０μｍ以下，より好ましくは１５μｍ以下である。
【００５６】
本発明における低融点ガラス隔壁形成用材料粉末を用いて，感光性ペーストを調製することができる。即ち，バインダーの少なくとも１種と溶剤と本発明の低融点ガラス隔壁形成用材料粉末と，必要に応じてフィラー粉末とを用い，主としてバインダーポリマー，光重合性多官能モノマー（又はオリゴマー），光重合開始剤，その他の添加物からなるビヒクル中に，前記粉末を均一に分散させればよい。
【００５７】
また，本発明におけるフィラー用ガラス隔壁形成用材料粉末を用いて感光性ペーストを調製することもできる。即ち，バインダーの少なくとも１種と溶剤と本発明のフィラー用ガラス隔壁形成用材料粉末と，必要に応じて低融点ガラス粉末とを用い，主としてバインダーポリマー，光重合性多官能モノマー（又はオリゴマー），光重合開始剤，その他の添加物からなるビヒクル中に，前記粉末を均一に分散させればよい。
【００５８】
ペースト中の隔壁形成用材料粉末の割合は，特に制限されず，通常はペースト中５０〜９０重量％程度の範囲内で適宜設定することができる。
【００５９】
前記バインダーポリマーとしては，主成分であるメチルメタアクリレートと各種アクリレート，メタアクリレート，アクリルアミド，スチレン，アクリロニトリル等とアクリル酸，メタクリル酸等との共重合体及びこれにさらに各種不飽和基を付加させたもの等が挙げられる。また，前記光重合性多官能モノマー（又はオリゴマー）としては，トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート，ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート，ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート，ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート，（ジ）ペンタエリスリトール（トリ〜ヘキサ）アクリレート等が挙げられる。これら光重合性多官能モノマー（又はオリゴマー）は，１種のみでは特性（感度，解像度，接着性，パターニング性，現像性等）のバランスがとり難い場合があるため，２種以上を混合して使用することが好ましい。
【００６０】
光重合開始剤としては，例えばベンゾフェノン系，チオキサントン系，アンスラキノン系，アセトフェノン系，ベンゾインエーテル系等が挙げられる。
【００６１】
その他，感光性ペーストの調製においては，必要に応じて熱重合禁止剤，可塑剤，増粘剤，増感剤，分散剤，溶剤等を添加物として加えることができる。
【００６２】
本発明の配列されたセルを構成する隔壁の製造方法は，基板上に感光性ペーストを塗布して塗膜を形成するステップ，得られた塗膜を，配列されたセルを構成する隔壁のパターンに対応する開口部を有するフォトマスクを介して露光するものである露光ステップ，露光後の該塗膜に現像液を接触させてこれに可溶な部分を現像液で溶解除去して，隔壁状の塗膜部分を基板上に残すものである現像ステップを含む。基板上に残された配列されたセルを構成しているこの隔壁状の塗膜部分を，そのまま（即ち，焼結を起こすような加熱処理はせずに）隔壁として用いることもできる。但し，高強度の隔壁を要する場合には，加熱して低融点ガラスを軟化及び焼結させて隔壁を形成する焼成ステップを更に含むことが好ましい。
【００６３】
さらに，配列されたセルを構成している各隔壁の表層のみを脱色する脱色ステップを含むことが好ましい。脱色ステップは，例えば，Ｃｏ２＋イオン又はＮｉ２＋イオンを溶解する溶液に隔壁を浸すことにより行うことができる。例えば，ｐＨ５以下の酸に，１分〜１００時間の間浸漬することで，隔壁の表面を脱色することができる。酸には硝酸，塩酸，酢酸等を用いることができる。酸が隔壁の厚みの内部に浸透することを抑制するため，酸にゲル化剤等を混合しておいてもよい。脱色ステップにより，隔壁の厚みの内部の光吸収率は高く維持したまま，表面の反射率を高めることができるため，隣接セルに散乱光が入射するのを抑制しつつ，蛍光の利用効率を高めることができる。
【００６４】
本発明のシンチレータパネルは，隔壁により区画された各セルの空隙内に蛍光体を充填することで製造することができる。蛍光体の充填には蛍光体を分散させたスラリーやペースト塗布する方法を用いることができる。
【００６５】
図１は，放射線検出装置の構造の一部分の縦断面を示す概略図である。この放射線検出装置１０は，放射線透過性基板１１上に緩衝層１６を介して隔壁１３が形成されており，隔壁で囲まれた領域（セル）に蛍光体（シンチレータ）１２が収容され，さらにその上に光電変換層（図示せず）を有する出力基板１５が設けられている。シンチレータパネル１４は，図１に示すように，放射線透過性基板１１，蛍光体１２及び隔壁１３から構成されている。図１では，より効果的に隔壁を形成するための緩衝層１６が設けられているが，緩衝層１６が省略された構造であっても良い。また，図１では，隔壁は，各セルの側面のみに形成されているが，必要に応じて各セルの底面（緩衝層側）も隔壁で構成することもできる。
【００６６】
図１の隔壁において，隔壁を構成する材質以外の構成・構造自体は，公知又は市販の放射線検出装置（あるいはシンチレータパネル）と同様とすることができる。
【実施例】
【００６７】
以下，実施例を参照して本発明の特徴をより具体的に説明するが，本発明がそれらの実施例に限定されることは意図しない。
【００６８】
〔ガラスの製造〕
表１−１〜表３−１にそれぞれ示した出発原料を用いて，１００ｇのガラスが得られるよう原料粉末を調合し，混合した後，５００ｃｃの 白金質のルツボを用いて１４００〜１５５０℃の温度で０．５〜１時間溶融した。融液をステンレススチール製の冷却ロールにて急冷し，厚さ０．３〜０．６ｍｍのガラスフレークを作製した。次いでこのガラスフレークを粉砕し，気流分級により，平均粒径（Ｄ５０）１〜４μｍ，最大粒径２０μｍ以下の粉末ガラスを得た。なお，表中の出発原料ＣｏＯ１．２は，ＣｏＯとＣｏＯ１．３３とがモル比４：６の割合で存在する混合物である。
【００６９】
また，同様にして溶融した融液をカーボン製の型に流し出し，徐冷した後，所定形状に切り出して屈折率測定，又は熱膨張係数測定用の試験片とした。
【００７０】
〔各物性の評価方法〕
１．屈折率
溶融して得られた上記ガラスを７ｍｍ以上×７ｍｍ以上×７ｍｍ以上の直方体状に加工し，屈折率測定用試料とした。各ガラスのｇ線，ｈ線，ｉ線における屈折率を，精密屈折計（型名「ＫＰＲ−２０００」，（株）島津デバイス製造製）を用いて，Ｖブロック法により測定した。５５０ｎｍ及び４５０ｎｍにおける屈折率は光吸収が強くＶブロック法では測定できないため，ｇ線の屈折率（ｎｇ）を用いて，次のように推定した。
ｎ５５０ｎｍ＝ｎｇ−０．００８
ｎ４５０ｎｍ＝ｎｇ−０．００２
また，ＣｏＯ濃度が高い場合，光吸収が強く，ｇ線における屈折率をＶブロック法では測定できない場合があった。その場合には，前記屈折率については，次のように推定した。
ｎｇ＝ｎｈ−０．００３
結果を表１−３〜表３−３に示す。
【００７１】
２．吸収係数（β）
溶融して得られた上記ガラスを所定の厚みに研磨して吸収係数測定用試料とした。着色成分濃度が５モル％未満の実施例のガラスは０．２〜０．６ｍｍ厚に研磨した。着色成分濃度５モル％以上の実施例のガラスは０．１〜０．２ｍｍ厚に研磨した。比較例のガラスは約８ｍｍ厚に研磨した。分光光度計（型名「Ｕ−３０１０」、（株）日立ハイテクノロジーズ製）に積分球を付属させた装置を用いて，入射光角度は０度として外部透過率を測定した。屈折率の実測値又は推定値と式１〜式３に基づいて吸収係数βを算出した。結果を表１−３〜表３−３に示す。
【００７２】
３．ガラス転移点，軟化点，結晶化ピーク温度
気流分級により得られた上記粉末ガラスを示差熱分析（ＤＴＡ）用試料とした。各ガラスの粉末状試料の約５０ｍｇを白金セルに入れ，アルミナ粉末を標準試料として，大気雰囲気下に，示差熱分析装置（型名「ＴＧ−８１２０」，（株）リガク製）を用いて室温から２０Ｋ／分の昇温速度でＤＴＡ曲線を得た。最初の吸熱ピークの開始点（外挿点）をガラス転移点とし，第２の吸熱ピークの開始点（外挿点）を軟化点とした。最初の発熱ピークの頂点（外挿点）の温度を結晶化ピーク温度とした。結果を表１−３〜表３−３に示す。
【００７３】
４．熱膨張係数（α）
溶融して得られた上記ガラスを５ｍｍ径×１５ｍｍ長のロッド状に加工し，熱膨張係数測定用試料とした。また，結晶化ピーク温度が７００℃以下のガラスについては気流分級により得られた上記粉末ガラスをペレット成型し，６５０℃１時間の熱処理により結晶化させたもの（ガラス焼成物）についても同様のロッド状に加工して熱膨張係数測定用試料とした。各ガラス及びガラス焼成物の実施例及び比較例のロッド状試料と石英ガラスにより形成された標準試料とを，熱機械測定装置（型名「ＴＭＡ８３１０」，（株）リガク製）を用いて，室温から１０Ｋ／分で昇温して熱膨張曲線の測定を行い，５０℃〜４００℃までに観測される熱膨張係数の値を平均して各試料の熱膨張係数とした。結果を表１−３〜表３−３に示す。
【００７４】
５．焼成膜の外部透過率及び拡散反射率
メタクリル酸エステル系ポリマー（根上工業株式会社製ＭＡ−４６２０）と溶剤（γ−ブチロラクトン）とを重量比３：７で混合し，ビヒクルを作製した。気流分級により得られた上記粉末ガラスと前記ビヒクルとを重量比１：２で混合し，ペーストを作製した。前記ペーストを基板（スライドガラス）へ塗布し乾燥させ，塗布膜を得た。塗布膜を６５０℃１時間の条件で焼成し，焼成膜を得た。焼成膜の膜厚は断面を顕微鏡で観察して測定した。
【００７５】
分光光度計（型名「Ｕ−３０１０」，（株）日立ハイテクノロジーズ製）に積分球を付属させた装置を用いて，焼成膜側から光を入射させるようにして，５５０ｎｍ又は４５０ｎｍにおける外部透過率を測定した。同装置を用いて，入射光角度は１０度として，焼成膜側から光を入射させるようにして，５５０ｎｍ又は４５０ｎｍにおける拡散反射率を測定した。拡散反射率測定の標準サンプルにはＡｌ２Ｏ３からなる標準白色板を用いた。焼成膜を表４又は５に示した条件で硝酸水溶液に浸漬した後，イオン交換水で洗浄し，乾燥させ，酸処理済み焼成膜を得た。酸処理済み焼成膜の外部透過率及び拡散反射率を測定した。表４，５に測定結果を示す。膜１〜１７，１９については５５０ｎｍにおけるデータ，膜１８については４５０ｎｍにおけるデータである。
【００７６】
【表１−１】
2018008836.tif 000005
【００７７】
【表１−２】
2018008836.tif 000006
【００７８】
【表１−３】
2018008836.tif 000007
【００７９】
【表２−１】
2018008836.tif 000008
【００８０】
【表２−２】
2018008836.tif 000009
【００８１】
【表２−３】
2018008836.tif 000010
【００８２】
【表３−１】
2018008836.tif 000011
【００８３】
【表３−２】
2018008836.tif 000012
【００８４】
【表３−３】
2018008836.tif 000013
【００８５】
【表４】
2018008836.tif 000014
【表５】
2018008836.tif 000015
【００８６】
表１−１〜３−３に示すとおり，実施例１〜２０は４５０ｎｍ又は５５０ｎｍにおける吸収係数が大きく，かつ，ｇ線，ｈ線，ｉ線の吸収係数が小さい。また，屈折率ｎｇが１．４９〜１．７０の範囲内にあり，感光性ペースト法に適している。更に，実施例１〜１１，２０は軟化点が低く，結晶化前後の熱膨張係数が５０〜１２０の範囲内であり，ソーダライムガラス基板上に隔壁を形成するための材料として適している。実施例１２，１３は軟化点が低く，結晶化後の熱膨張係数が５０以下であり，無アルカリガラス基板上に隔壁を形成するための材料として適している。実施例１４，１５は軟化点が低く，Ｂａを多く含有しており，Ｘ線吸収能を備えた低融点の隔壁形成用材料として適している。実施例１６〜１９は軟化点が高く，フィラーガラスに適している。
【００８７】
表４，５に示すとおり，本発明の隔壁形成用材料を用いた焼成膜は透過率が低いため，シンチレータパネルの隔壁に適している。特に，膜１２，１４，１７は酸処理によって透過率が低く，かつ，反射率の高い膜となった。このような透過率が低く反射率の高い膜はシンチレータパネルの隔壁に特に適している。
【産業上の利用可能性】
【００８８】
本発明の隔壁形成用材料は，感光性ペースト法に用いることができ，シンチレータパネルの製造に有用である。
【符号の説明】
【００８９】
１０  放射線検出装置
１１  放射線透過性基板
１２  シンチレータ（蛍光体）
１３  隔壁 
１４  シンチレータパネル
１５  出力基板
１６  緩衝層
【図１】
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