(57)【要約】【課題】塵埃の付着が抑制され、光学性能を長期に亘って発揮できる光学素子を提供する。【解決手段】光変調素子３４１（光学素子）は、表面５Ｓの光学有効領域内に微細な凹凸７を有し、凹凸７における頂部７ｕは、凹凸７における底部７ｂの抵抗率より大きな抵抗率を有している。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
入射する光を光学的に変換する光学素子であって、
表面の光学有効領域内に微細な凹凸を有し、
前記凹凸における頂部は、前記凹凸における底部の抵抗率より大きな抵抗率を有していることを特徴とする光学素子。
【請求項２】
請求項１に記載の光学素子であって、
前記頂部は、撥水性を有していることを特徴とする光学素子。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の光学素子であって、
前記底部には、導電体が設けられていることを特徴とする光学素子。
【請求項４】
請求項３に記載の光学素子であって、
前記導電体は、前記光学有効領域の外側に延出していることを特徴とする光学素子。
【請求項５】
請求項１〜請求項４のいずれか一項に記載の光学素子であって、
当該光学素子は、入射する光を変調する光変調素子であることを特徴とする光学素子。
【請求項６】
画像を投写するプロジェクターであって、
光源と、
前記光源から射出された光が入射する請求項１〜請求項５のいずれか一項に記載の光学素子と、
前記光学素子から射出された光を投写する投写光学装置と、
前記光学素子に空気を送風する送風装置と、
を備えることを特徴とするプロジェクター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学素子、およびこの光学素子を備えたプロジェクターに関する。
【背景技術】
【０００２】
光学素子を備えた撮像装置やプロジェクター等の装置が知られている。これらの装置においては、光学素子に塵埃が付着すると、撮影された画像や、投写される画像に塵埃による影が発生するため、塵埃の付着を低減させる技術が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
特許文献１に記載の撮像装置は、光学ローパスフィルター（光学素子）を有している。そして、この光学ローパスフィルターは、表面に撥水性の薄膜が形成され、空気中に浮遊する塵埃の付着を低減するように形成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−３５２８３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載の技術では、光学素子の表面が何らかの原因で帯電する恐れがある。表面が帯電すると、帯電により発生した静電気によって塵埃が表面に引き寄せられて付着し、撮影された画像や、投写される画像に塵埃による影が発生するという課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００７】
［適用例１］本適用例に係る光学素子は、入射する光を光学的に変換する光学素子であって、表面の光学有効領域内に微細な凹凸を有し、前記凹凸における頂部は、前記凹凸における底部の抵抗率より大きな抵抗率を有していることを特徴とする。
【０００８】
ここで、微細な凹凸とは、本光学素子が、この凹凸を有さない光学素子と同様な光学性能を発揮できる大きさの凹凸をいう。
この構成によれば、光学素子の周囲の空気中に混在する塵埃が光学素子の表面に接触したとしても、その塵埃は、表面の頂部に接触し易いものとなる。頂部に接触した塵埃の接触面積は小さいので、この塵埃の表面への付着が抑制される。
また、底部より頂部の方が帯電しやすいので、塵埃は、静電気によって底部より頂部に付着しやすくなる。頂部に付着した塵埃は、平坦な面に付着した塵埃に比べて表面への付着面積が小さく、すなわち、付着力が弱く、また、表面における突出した部位に付着するので、この塵埃の容易な除去が可能となる。
したがって、塵埃による悪影響が排除され、自身が有する光学性能を長期に亘って発揮できる光学素子の提供が可能となる。
【０００９】
［適用例２］上記適用例に係る光学素子において、前記頂部は、撥水性を有していることが好ましい。
【００１０】
この構成によれば、頂部には、水分が付着しづらくなるので、水分を介した塵埃の付着が防止される。よって、頂部に塵埃が付着したとしても、その塵埃の付着力は、水分を介した付着力に比べて弱いので、塵埃のさらに容易な除去が可能となる。
【００１１】
［適用例３］上記適用例に係る光学素子において、前記底部には、導電体が設けられていることが好ましい。
【００１２】
この構成によれば、底部の帯電が抑えられるので、表面に凹凸を有する構成であっても、静電気によって凹部に塵埃が入り込むことが抑制される。よって、表面への塵埃の付着がさらに抑制される光学素子の提供が可能となる。
【００１３】
［適用例４］上記適用例に係る光学素子において、前記導電体は、前記光学有効領域の外側に延出していることが好ましい。
【００１４】
この構成によれば、光学有効領域の外側から導電性の部材を導電体に電気的に接続させることが可能となる。例えば、光学素子を保持する保持部材を金属製で形成し、この保持部材と導電体とを接続する構成が可能となる。これによって、保持部材を介して導電体の接地が可能なので、導電体の帯電を確実に抑えることが可能となる。よって、底部への静電気による塵埃の引き寄せが確実に防止される光学素子の提供が可能となる。
【００１５】
［適用例５］上記適用例に係る光学素子において、当該光学素子は、入射する光を変調する光変調素子であることが好ましい。
【００１６】
この構成によれば、光変調素子は、上述した微細な凹凸を有している。これによって、表面への塵埃の付着が抑制されると共に、塵埃が付着したとしてもこの塵埃が容易に除去可能な光変調素子の提供が可能となる。よって、塵埃による悪影響を排除し、自身が有する光学性能を長期に亘って発揮できる光変調素子の提供が可能となる。
【００１７】
［適用例６］本適用例に係るプロジェクターは、画像を投写するプロジェクターであって、光源と、前記光源から射出された光が入射する上記のいずれか一項に記載の光学素子と、前記光学素子から射出された光を投写する投写光学装置と、前記光学素子に空気を送風する送風装置と、を備えることを特徴とする。
【００１８】
この構成によれば、プロジェクターは、上述した光学素子および送風装置を備えているので、光学素子の表面に塵埃が付着したとしても送風装置によって、表面からこの塵埃を除去することが可能となる。よって、プロジェクターは、塵埃による影や色むら等が抑制された画質の良好な画像を長期に亘って投写することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】第１実施形態のプロジェクターの主な構成を示す模式図。
【図２】第１実施形態の光変調素子を光入射側から見た斜視図。
【図３】第１実施形態における防塵ガラスの表面側の一部を模式的に示す断面図。
【図４】第２実施形態における防塵ガラスの表面側の一部を模式的に示す断面図。
【図５】第３実施形態における防塵ガラスの表面側の一部を模式的に示す断面図。
【図６】第４実施形態における防塵ガラスの表面側の一部を模式的に示す断面図。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下に示す各図においては、各構成要素を図面上で認識され得る程度の大きさとするため、各構成要素の寸法や比率を実際のものとは適宜異ならせてある。
【００２１】
（第１実施形態）
以下、本実施形態に係るプロジェクターについて説明する。
本実施形態のプロジェクターは、光源から射出された光を画像情報に応じて変調し、変調した光をスクリーン等の投写面に拡大投写する。
【００２２】
〔プロジェクターの主な構成〕
図１は、本実施形態のプロジェクター１の主な構成を示す模式図である。
プロジェクター１は、図１に示すように、外装を構成する外装筐体２、制御部（図示省略）、光源装置３１を有する光学ユニット３、および冷却装置８を備えている。なお、図示は省略するが、プロジェクター１は、光源装置３１や制御部等に電力を供給する電源装置等を備えている。
【００２３】
外装筐体２は、詳細な図示は省略するが、複数の部材が組み合わされて構成されている。そして、外装筐体２には、図示は省略するが、外気を取り込むための吸気口、および外装筐体２内部の温まった空気を外部に排気する排気口等が設けられている。
【００２４】
制御部は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）やＲＯＭ（Read Only Memory）、ＲＡＭ（Random Access Memory）等を備え、コンピューターとして機能するものであり、プロジェクター１の動作の制御、例えば、画像の投写に関わる制御や、冷却装置８の駆動に関わる制御等を行う。
【００２５】
光学ユニット３は、制御部による制御の下、光源装置３１から射出された光を光学的に処理して投写する。
光学ユニット３は、図１に示すように、光源装置３１に加え、インテグレーター照明光学系３２、色分離光学系３３、後述する光変調素子３４１を有する電気光学装置３４、色合成光学装置としてのクロスダイクロイックプリズム３４４、投写光学装置３５、およびこれらの光学部品を光路上の所定位置に配置する光学部品用筐体３６を備える。
【００２６】
光源装置３１は、超高圧水銀ランプやメタルハライドランプ等からなる放電型の光源３１１、およびリフレクター３１２等を備える。光源装置３１は、光源３１１から射出された光をリフレクター３１２にて反射し、インテグレーター照明光学系３２に向けて射出する。
【００２７】
インテグレーター照明光学系３２は、第１レンズアレイ３２１、第２レンズアレイ３２２、偏光変換素子３２３、および重畳レンズ３２４を備える。
第１レンズアレイ３２１は、小レンズがマトリクス状に配列された構成を有しており、光源装置３１から射出された光を複数の部分光に分割する。第２レンズアレイ３２２は、第１レンズアレイ３２１と略同様の構成を有しており、重畳レンズ３２４とともに、部分光を光変調素子３４１に略重畳させる。偏光変換素子３２３は、第２レンズアレイ３２２から射出されたランダム光を光変調素子３４１で利用可能な略１種類の偏光光に揃える機能を有している。
【００２８】
色分離光学系３３は、ダイクロイックミラー３３１，３３２、および反射ミラー３３３〜３３６を備え、インテグレーター照明光学系３２から射出された光を赤色光（以下「Ｒ光」という）、緑色光（以下「Ｇ光」という）、青色光（以下「Ｂ光」という）の３色の色光に分離し、光変調素子３４１に導く機能を有する。
【００２９】
電気光学装置３４は、各色光用に設けられた３つの光変調素子３４１、各光変調素子３４１の光入射側、光射出側にそれぞれ配置された入射側偏光板３４２、射出側偏光板３４３、各光変調素子３４１を保持する保持部（図示省略）を備えている。Ｒ光用の光変調素子を３４１Ｒ、Ｇ光用の光変調素子を３４１Ｇ、Ｂ光用の光変調素子を３４１Ｂとする。光変調素子３４１は、入射する光を光学的に変換する光学素子に相当する。
【００３０】
図２は、光変調素子３４１を光入射側から見た斜視図である。
光変調素子３４１は、図２に示すように、透過型の液晶パネル３４０、液晶パネル３４０の光入射側、光射出側にそれぞれ配置された防塵ガラス５、およびフレキシブル基板３４０Ｆを備えている。
液晶パネル３４０は、ガラス等からなる素子基板、および素子基板に対向して配設された対向基板の間に液晶が密閉封入され、複数の微小画素がマトリクス状に形成された矩形状の画像形成領域（図示省略）を有している。
【００３１】
防塵ガラス５は、液晶パネル３４０の光入射側の面、光射出側の面にそれぞれ接着剤によって固定され、液晶パネル３４０の表面に塵埃が付着することを防止する機能を有している。これによって、防塵ガラス５の表面５Ｓに塵埃が付着したとしても、この塵埃は、投写光学装置３５の焦点位置からずれているので、投写された画像は、塵埃の影が目立ちにくいものとなる。
各防塵ガラス５それぞれの一方の表面５Ｓは、光変調素子３４１の表面（光が入射する面、光が射出する面）となる。そして、表面５Ｓは、液晶パネル３４０の画像形成領域に対応する光学有効領域５Ｓａを有している。すなわち、液晶パネル３４０の光入射側に配置された防塵ガラス５の光学有効領域５Ｓａを透過した光は、液晶パネル３４０の画像形成領域に入射する。そして、画像形成領域で変調された光は、液晶パネル３４０の光射出側に配置された防塵ガラス５の光学有効領域５Ｓａから射出される。
【００３２】
図３は、防塵ガラス５の表面５Ｓ側の一部を模式的に示す断面図である。
防塵ガラス５は、図３に示すように、平坦面を有する基材５１、およびこの平坦面に設けられた光透過膜６を有している。
基材５１は、例えば、石英ガラス、サファイア、水晶等で板状に形成されている。光透過膜６は、表面５Ｓを形成する。表面５Ｓには、光透過膜６によって微細な凹凸７が形成されており、光変調素子３４１の周囲の空気中に混在する塵埃が表面５Ｓに付着しにくいように構成されている。このように、防塵ガラス５は、液晶パネル３４０の表面に塵埃が付着することを防止すると共に、自身の表面５Ｓにも塵埃が付着しにくいように構成されている。表面５Ｓの構成については後で詳細に説明する。
【００３３】
フレキシブル基板３４０Ｆは、一端が液晶パネル３４０の素子基板に接続され、他端が制御部に接続されている。光変調素子３４１は、フレキシブル基板３４０Ｆを介して制御部から画像情報に応じた駆動信号が入力され、画像形成領域の液晶の配向状態が制御され、入射する色光を変調する。
【００３４】
図１に戻って、クロスダイクロイックプリズム３４４は、４つの直角プリズムを貼り合わせた平面視略正方形状をなし、直角プリズム同士を貼り合わせた界面には、誘電体多層膜が形成されている。クロスダイクロイックプリズム３４４は、誘電体多層膜が光変調素子３４１Ｒ，３４１Ｂにて変調されたＲ光およびＢ光を反射し、光変調素子３４１Ｇにて変調されたＧ光を透過して、３色の変調光を合成する。
【００３５】
投写光学装置３５は、複数のレンズを備え、クロスダイクロイックプリズム３４４にて合成された光をスクリーン上に拡大投写する。
【００３６】
冷却装置８は、詳細な図示は省略するが、第１冷却装置８１および第２冷却装置８２を備えている。
第１冷却装置８１は、送風装置としての冷却ファン８１１、およびダクト部材８１２等を備えている。
ダクト部材８１２は、プロジェクター１が机上等に設置された姿勢において、電気光学装置３４の下方に延出している。第１冷却装置８１は、冷却ファン８１１が外装筐体２の吸気口から取り込んだ冷却空気をダクト部材８１２によって電気光学装置３４に導き、光変調素子３４１等を冷却する。
第２冷却装置８２は、外装筐体２の排気口近傍に配置された排気ファン、およびダクト部材等を備え、外装筐体２内の暖まった空気を外装筐体２の排気口から外部に排出させる。
【００３７】
〔光変調素子の表面の構成〕
ここで、防塵ガラス５の表面５Ｓの構成について詳細に説明する。
表面５Ｓには、図３に示すように、また、前述したように、光透過膜６によって複数の微細な凹凸７が設けられている。複数の凹凸７は、光学有効領域５Ｓａ（図２参照）内に形成され、光変調素子３４１の光軸に直交する面内で互いに直交する２方向に沿って、すなわち縦横に規則的に配設されている。
【００３８】
光透過膜６は、基材５１における表面５Ｓ側の平坦面に形成された第１層６１、および第１層６１上に断続的に形成された第２層６２を有している。
第１層６１は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の導電体で、光学有効領域５Ｓａ、および光学有効領域５Ｓａの外側の環状領域５Ｓｂ（図２参照）に形成されている。第２層６２は、例えば、フッ素系の撥水剤が混合されたアクリル系の感光性材料によって形成されている。第２層６２は、例えば、この感光性材料がスピンコート等によって第１層６１上にコートされた後、フォトリソグラフィー技術を用いて、第１層６１上に、縦横に断続的に形成されている。
【００３９】
そして、図３に示すように、表面５Ｓには、複数の微細な凹凸７が形成されている。すなわち、凹凸７における凸部は、第２層６２（アクリル系の材料）で形成され、凹凸７における底部７ｂは、第１層６１（導電体）で形成されている。また、第１層６１（導電体）は、光学有効領域５Ｓａの外側（環状領域５Ｓｂ）に延出している。
本実施形態における凹凸７は、例えば、凸部の抵抗率が１×１０15Ω・ｃｍ程度、底部７ｂの抵抗率が１．５×１０-4Ω・ｃｍ程度となる。すなわち、凹凸７は、凸部が底部７ｂより帯電しやすいように形成されている。ここで、凹凸７における凸部の先端部、すなわち、凸部の先端面およびこの先端面の内側の部位を頂部７ｕという。また、底部７ｂとは、凹凸７における底面およびこの底面の内側の部位をいう。
【００４０】
また、凹凸７形成後の加熱処理によって、凹凸７における凸部は、頂部７ｕが底部７ｂ側の部位より撥水剤の密度が高められている。このように、凹凸７は、頂部７ｕが撥水性を有し、底部７ｂが導電性を有して形成されている。そして、頂部７ｕは、底部７ｂの抵抗率より大きな抵抗率を有している。
【００４１】
また、凹凸７における凸部の幅ｗ１、凹部の幅ｗ２、および凹部の深さｔ（頂部７ｕの先端面から底部７ｂにおける底面までの距離）は、例えば、以下のように例示することができる。幅ｗ１，ｗ２それぞれは、液晶パネル３４０の微小画素のサイズの１／５程度以下であることが好ましい。具体的に、幅ｗ１，ｗ２それぞれは、数μｍ程度以下を例示することができ、１μｍ程度以下がより好ましい。また、深さｔにおいては、例えば、１μｍ〜１０μｍ程度を例示することができる。このように、凹凸７は、投写される画像の品質に悪影響を及ぼさない大きさに形成されている。
なお、図３には、凹凸７の形状を断面矩形状で示したが、この形状に限らず、前述した大きさに形成されていれば、ランダムな形状であってもよい。また、複数の凹凸７は、縦横に規則的に配設された構成に限定されるものではなく、ランダムに配設された構成や、一方向に併設された構成であってもよい。
【００４２】
光変調素子３４１は、前述したように、光学部品用筐体３６内に配置され、冷却ファン８１１（図１参照）から送風された空気で冷却される。また、プロジェクター１の非動作時等に、光変調素子３４１周囲の空気中に混在する塵埃が表面５Ｓに付着したとしても、この塵埃は、プロジェクター１の動作時に、冷却ファン８１１から送風された空気で表面５Ｓから除去される。
【００４３】
以上述べたように、本実施形態によれば、以下の効果を得ることができる。
（１）塵埃が光変調素子３４１の表面５Ｓに接触したとしても、その塵埃は、頂部７ｕに接触し易いものとなる。頂部７ｕに接触した塵埃の接触面積は小さいので、この塵埃の表面５Ｓへの付着が抑制される。
また、底部７ｂより頂部７ｕの方が帯電しやすいので、塵埃は、静電気によって底部７ｂより頂部７ｕに付着しやすくなる。頂部７ｕに付着した塵埃は、平坦な面に付着した塵埃に比べて表面５Ｓへの付着面積が小さく、すなわち、付着力が弱く、また、表面５Ｓにおける突出した部位に付着するので、冷却ファン８１１から送風された空気で、この塵埃の容易な除去が可能となる。
したがって、塵埃による悪影響が排除され、自身が有する光学性能を長期に亘って発揮できる光変調素子３４１の提供が可能となる。
【００４４】
（２）頂部７ｕは撥水性を有しているので、この頂部７ｕへの水分を介した塵埃の付着が防止される。よって、頂部７ｕに塵埃が付着したとしても、その塵埃の付着力は、水分を介した付着力に比べて弱いので、塵埃のさらに容易な除去が可能となる。
【００４５】
（３）底部７ｂには、導電体（第１層６１）が設けられているので、底部７ｂの帯電が抑えられる。よって、表面５Ｓに凹凸７を有する構成であっても、静電気によって凹部に塵埃が入り込むことが抑制されるので、表面５Ｓへの塵埃の付着がさらに抑制される光変調素子３４１の提供が可能となる。
【００４６】
（４）塵埃による悪影響が排除され、自身が有する光学性能を長期に亘って発揮できる光変調素子３４１の提供が可能となる。
【００４７】
（５）プロジェクター１は、光変調素子３４１の表面５Ｓに塵埃が付着したとしても冷却ファン８１１によって、表面５Ｓからこの塵埃を除去することができる。よって、プロジェクター１は、塵埃による影や色むら等が抑制された画質の良好な画像を長期に亘って投写することが可能となる。
【００４８】
（第２実施形態）
以下、第２実施形態に係る光学素子としての光変調素子４００について、図面を参照して説明する。以下の説明では、第１実施形態と同様の構成要素には、同一符号を付し、その詳細な説明は省略または簡略化する。
本実施形態の光変調素子４００は、第１実施形態の防塵ガラス５とは異なる防塵ガラス１５を備えている。
【００４９】
図４は、本実施形態における防塵ガラス１５の表面１５Ｓ側の一部を模式的に示す断面図である。
防塵ガラス１５は、図４に示すように、第１実施形態の表面５Ｓ（図３参照）に第３層６３が積層されたような表面１５Ｓを有している。すなわち、防塵ガラス１５の光透過膜１６は、第１実施形態の第１層６１および第２層６２に加え、第３層６３を有している。そして、防塵ガラス１５の表面１５Ｓには、凹凸１７が形成されている。なお、凹凸１７の大きさは、第１実施形態の凹凸７と同様な大きさに形成されている。
【００５０】
第３層６３は、例えば、導電性を有する高分子材料や、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）で形成されている。具体的に、第３層６３は、第１実施形態における防塵ガラス５の表面５Ｓに設けられた後、凹凸１７における凸部に積層された部位がフォトリソグラフィー技術等を用いて除去されて形成されている。
そして、第３層６３（導電体）は、第１実施形態における凹凸７の底部７ｂの底面（第１層６１）、および凸部の側面（第２層６２）に積層されている。そして、凹凸１７は、撥水性を有する頂部１７ｕの先端面が露出し、底部１７ｂには、導電体で形成された２つの層（第１層６１および第３層６３）が設けられている。
このように、頂部１７ｕは撥水性を有し、底部１７ｂには、導電体が設けられている。そして、頂部１７ｕは、底部１７ｂの抵抗率より大きな抵抗率を有している。そして、本実施形態の凹凸１７は、第１実施形態の凹凸７に比べ、凸部の側面に導電性を有すると共に、底部１７ｂの導電性がより高まるように形成されている。
【００５１】
以上述べたように、本実施形態に係る光変調素子４００によれば、以下の効果を得ることができる。
凹凸１７は、凸部の側面に導電性を有すると共に、底部１７ｂの導電性がより高まるように形成されている。これによって、凹凸１７における底部１７ｂを含む凹部の帯電がさらに抑えられる。よって、静電気によって凹部に塵埃が入り込むことがさらに抑制されるので、表面１５Ｓへの塵埃の付着がさらに抑制される光変調素子３４１の提供が可能となる。
【００５２】
（第３実施形態）
以下、第３実施形態に係る光学素子としての光変調素子５００について、図面を参照して説明する。以下の説明では、前述した実施形態と同様の構成要素には、同一符号を付し、その詳細な説明は省略または簡略化する。
本実施形態の光変調素子５００は、前述した防塵ガラス５，１５とは異なる防塵ガラス２５を備えている。
【００５３】
図５は、本実施形態における防塵ガラス２５の表面２５Ｓ側の一部を模式的に示す断面図である。
防塵ガラス２５は、図５に示すように、第２実施形態の表面１５Ｓ（図４参照）に第４層６４が積層されたような表面２５Ｓを有している。すなわち、防塵ガラス２５の光透過膜２６は、第２実施形態の光透過膜１６が有する第１層６１〜第３層６３に加え、第４層６４を有している。そして、防塵ガラス２５の表面２５Ｓには、凹凸２７が形成されている。なお、凹凸２７の大きさは、第１実施形態の凹凸７と同様な大きさに形成されている。
【００５４】
具体的に、第４層６４は、第２実施形態における光変調素子４００の表面１５Ｓに、例えば、フッ素系の撥水剤が混合されたアクリル系の感光性材料がスピンコート等によって形成されている。なお、本実施形態においては、第１実施形態で述べた第２層６２形成後の凹凸７における凸部の撥水剤の密度を高めるための加熱処理を省略することができる。
そして、防塵ガラス２５の表面２５Ｓには、全面に撥水性を有する凹凸２７が形成されている。また、底部２７ｂにおいては、表面に撥水性を有し、内部に導電体で形成された２つの層（第１層６１および第３層６３）が設けられている。
このように、凹凸２７における頂部２７ｕは、凹凸２７における底部２７ｂの抵抗率より大きな抵抗率を有している。
【００５５】
以上述べたように、本実施形態に係る光変調素子５００によれば、以下の効果を得ることができる。
光変調素子５００の表面２５Ｓは、全面に撥水性を有しているので、この全面への水分を介した塵埃の付着が防止される。よって、塵埃の付着がさらに抑制されると共に、塵埃が付着したとしても、さらに容易な除去が可能な光変調素子３４１の提供が可能となる。
【００５６】
（第４実施形態）
以下、第４実施形態に係る光学素子としての光変調素子６００について、図面を参照して説明する。以下の説明では、前述した実施形態と同様の構成要素には、同一符号を付し、その詳細な説明は省略または簡略化する。
本実施形態の光変調素子６００は、前述した防塵ガラス５，１５，２５とは異なる防塵ガラス４５を備えている。
【００５７】
図６は、本実施形態における防塵ガラス４５の表面４５Ｓ側の一部を模式的に示す断面図である。
防塵ガラス４５の表面４５Ｓには、図６に示すように、光透過膜４６で形成された凹凸４７が形成されている。
光透過膜４６は、基材５１上に順次積層された第１層４６１、第２層４６２、および第３層４６３を有している。
【００５８】
第１層４６１は、例えば、アクリル系の感光性材料によって形成され、スピンコート等によって基材５１上にコートされた後、フォトリソグラフィー技術を用いて、断続的に形成されている。
第２層４６２は、例えば、導電性を有する高分子材料等で形成され、スピンコート等によって第１層４６１および基材５１上に塗布されている。また、第２層４６２は、凹凸４７の凸部となる第１層４６１の側面にも塗布されている。
【００５９】
第３層４６３は、第１層４６１に積層された第２層４６２上に、シート材の一方の面に設けられた撥水性の部材が転写されて形成されている。そして、防塵ガラス４５の表面４５Ｓには、凹凸４７が形成されている。凹凸４７の大きさは、第１実施形態の凹凸７と同様な大きさに形成されている。
このように、凹凸４７は、頂部４７ｕが第１層４６１、第２層４６２（導電体）、および第３層４６３で形成され、底部４７ｂが第２層４６２（導電体）で形成されている。そして、凹凸４７は、凸部の側面に導電性を有すると共に、頂部４７ｕの抵抗率が底部４７ｂの抵抗率より大きく形成されている。
【００６０】
以上述べたように、本実施形態に係る光変調素子６００によれば、以下の効果を得ることができる。
凹凸４７は、底部４７ｂに加え、頂部４７ｕおよび凸部の側面に導電体が設けられているので、静電気による塵埃の付着がより抑制される。
【００６１】
（変形例）
なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、上述した実施形態に種々の変更や改良などを加えることが可能である。変形例を以下に述べる。
光学有効領域５Ｓａから環状領域５Ｓｂに延出する導電体（第１層６１、第３層６３や、第２層４６２）に、環状領域５Ｓｂ内で電気的に接続される部材（例えば、光変調素子３４１を保持する金属部材等）を設け、この部材が外装筐体２内で接地されるように構成してもよい。これによって、導電体で形成された部位の帯電を確実に防止し、静電気による光変調素子３４１への塵埃の付着を確実に防止することが可能となる。
【００６２】
前記実施形態の微細な凹凸７，１７，２７，４７は、平坦面を有する基材５１上に設けられた光透過膜６，１６，２６，４６で形成されているが、粗面を有する基材と、この粗面上に設けられた光透過膜とで微細な凹凸が形成される構成であってもよい。
【００６３】
前記実施形態では、微細な凹凸を有する光学素子として光変調素子３４１を例示したが、光変調素子３４１以外の光学部品を光学素子として構成してもよい。例えば、光変調素子３４１の近傍に配置される光学部品や投写光学装置３５が備えるレンズ（例えば、最も光射出側に配置されるレンズ）を光学素子とし、この光学部品やレンズの表面に複数の微細な凹凸を設けるように構成してもよい。この構成の場合、液晶パネル３４０の画像形成領域からの距離が大きく、投写される画像への悪影響が減るため、凹凸の大きさは前述した大きさより大きく形成することが可能となる。
【００６４】
第２実施形態の防塵ガラス１５（図４参照）は、第３層６３の一部（凹凸１７における凸部の上部（基材とは反対側））が除去されているが、この部位を除去せずに、凸部に積層された第３層６３上にさらに撥水性を有する第４層（図示せず）を転写などによって積層する構成であってもよい。
同様に、第３実施形態の防塵ガラス２５（図５参照）は、第３層６３の一部（凹凸２７における凸部の上部（基材とは反対側））が除去されているが、この部位を除去せずに、第４層６４を積層する構成であってもよい。
【００６５】
前述した表面に微細な凹凸を有する光学素子は、プロジェクター１以外、例えば、撮像装置等の光学機器に搭載される光学部品にも適用することが可能である。
【００６６】
前記実施形態の光源装置３１は、放電型の光源３１１を有して構成されているが、放電型に限らず、その他の方式のランプや、発光ダイオードやレーザー等の固体光源等を備える構成であってもよい。
また、前記実施形態の光学ユニット３は、図１に示すように、光源装置３１が光を射出する方向と、投写光学装置３５が投写する方向とが同一方向になるように構成されているが、光源装置３１が光を射出する方向と、投写光学装置３５が投写する方向とが異なる方向となるように構成してもよい。
【００６７】
前記実施形態のプロジェクター１は、Ｒ光、Ｇ光、およびＢ光に対応する３つの光変調素子３４１Ｒ，３４１Ｇ，３４１Ｂを備えた、いわゆる３板方式を採用しているが、これに限らず、単板方式を採用してもよく、あるいは、２つまたは４つ以上の光変調素子３４１を備える構成であってもよい。
また、前記実施形態の光変調素子３４１は、透過型の液晶パネル３４０を有して構成されているが、反射型の液晶パネルで構成された態様であってもよい。また、光変調素子としてマイクロミラー型の光変調素子、例えば、ＤＭＤ（Digital Micromirror Device）等を利用したものであってもよい。
【符号の説明】
【００６８】
１…プロジェクター、５，１５，２５，４５…防塵ガラス、５Ｓ，１５Ｓ、２５Ｓ，４５Ｓ…表面、５Ｓａ…光学有効領域、６，１６，２６，４６…光透過膜、７，１７，２７，４７…凹凸、７ｂ，１７ｂ，２７ｂ，４７ｂ…底部、７ｕ，１７ｕ，２７ｕ，４７ｕ…頂部、３５…投写光学装置、５１…基材、６１…第１層（導電体）、６３…第３層（導電体）、３１１…光源、３４０…液晶パネル、３４１，３４１Ｂ，３４１Ｇ，３４１Ｒ，４００，５００，６００…光変調素子（光学素子）、４６２…第２層（導電体）、８１１…冷却ファン（送風装置）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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