(57)【要約】      （修正有）【課題】画像表示装置に適用した場合に、表示素子の劣化を抑制することができ、かつ高い透明性を有し、さらに厳しい環境条件下における耐久性にも優れる光学部材を形成することができる光学部材用組成物を提供する。【解決手段】ベースポリマー及び下記一般式（１）：2018200463.tif 000038で表される新規化合物を含有する光学部材用組成物。（一般式（１）中、ｍは１〜６の整数を表し，Ｑ１は、ｍが１のとき水素原子を表し，ｍが２〜６のとき２〜６価の連結基を表し，Ｄ１は、特定の式で表わされる化合物から水素原子が１つ外れた基を表し，ｍが２〜６のとき，複数のＤ１は、全く同じであってもよく、異っていてもよい。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベースポリマー及び下記一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とする光学部材用組成物。
【化１】
2018200463.tif 000032
（一般式（１）中、ｍは１〜６の整数を表し、
Ｑ１は、ｍが１のとき水素原子を表し、ｍが２〜６のとき２〜６価の連結基を表し、
Ｄ１は、下記一般式（２）で表される化合物から水素原子が１つ外れた基を表し、ｍが２〜６のとき、複数のＤ１は、全て同じであってもよく、異なっていてもよい。
【化２】
2018200463.tif 000033
（一般式（２）中、Ｒ１は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。Ｒ２は、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７又は−ＳＯ２−Ｒ８を表す。Ｒ７は、ヒドロキシ基又は−ＯＲ７１を表し、Ｒ８は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＲ８１、−ＮＲ８２Ｒ８３又は−Ｒ８４を表す。Ｒ７１及びＲ８１〜Ｒ８４は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。
Ｒ３は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。
Ｒ４０２及びＲ４０３は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、−ＮＲ４０６Ｒ４０７、−ＯＲ４０８、シアノ基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４０９、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１０又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４１１を表し、
Ｒ４０４〜Ｒ４１１は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。Ｒ４０４と、Ｒ４０５と、Ｒ４０４及びＲ４０５が結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい４〜８員の含窒素複素環を形成してもよい。））
【請求項２】
前記一般式（１）におけるｍが１又は２であることを特徴とする請求項１に光学部材用組成物。
【請求項３】
前記一般式（１）で表される化合物が、下記一般式（３）で表される化合物であることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学部材用組成物。
【化３】
2018200463.tif 000034
（一般式（３）中、Ｒ１ａは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表し、Ｒ２ａは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７ａ又は−ＳＯ２−Ｒ８ａを表す。Ｒ７ａは、ヒドロキシ基又は−ＯＲ７１ａを表し、Ｒ８ａは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＲ８１ａ、−ＮＲ８２ａＲ８３ａ又は−Ｒ８４ａを表す。Ｒ７１ａ及びＲ８１ａ〜Ｒ８４ａは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ３ａは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ４０２ａは、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、−ＮＲ４０６ａＲ４０７ａ、−ＯＲ４０８ａ、シアノ基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４０９ａ、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１０ａ又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４１１ａを表し、Ｒ４０４ａ〜Ｒ４１１ａは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。Ｒ４０４ａと、Ｒ４０５ａと、Ｒ４０４ａ及びＲ４０５ａが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい４〜８員の含窒素複素環を形成してもよい。
Ｒ４１３は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表すか、又は、下記一般式（４）で表される基を表す。
【化４】
2018200463.tif 000035
（一般式（４）中、Ｑ２は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基を表し、＊は一般式（３）との結合部位を表す。
Ｒ１ｂは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表し、Ｒ２ｂは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７ｂ又は−ＳＯ２−Ｒ８ｂを表す。Ｒ７ｂは、ヒドロキシ基又は−ＯＲ７１ｂを表し、Ｒ８ｂは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＲ８１ｂ、−ＮＲ８２ｂＲ８３ｂ又は−Ｒ８４ｂを表す。Ｒ７１ｂ及びＲ８１ｂ〜Ｒ８４ｂは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ３ｂは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ４０２ｂは、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、−ＮＲ４０６ｂＲ４０７ｂ、−ＯＲ４０８ｂ、シアノ基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４０９ｂ、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１０ｂ又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４１１ｂを表し、Ｒ４０４ｂ〜Ｒ４１１ｂは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。Ｒ４０４ｂと、Ｒ４０５ｂと、Ｒ４０４ｂ及びＲ４０５ｂが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい４〜８員の含窒素複素環を形成してもよい。））
【請求項４】
前記Ｒ４１３が、前記一般式（４）で表される基であることを特徴とする請求項３に記載の光学部材用組成物。
【請求項５】
前記一般式（１）で表される化合物が、下記一般式（５）で表される化合物であることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学部材用組成物。
【化５】
2018200463.tif 000036
（一般式（５）中、Ｒ２ｃは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７ｃ又は−ＳＯ２−Ｒ８ｃを表す。Ｒ７ｃは、ヒドロキシ基又は−ＯＲ７１ｃを表し、Ｒ８ｃは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＲ８１ｃ、−ＮＲ８２ｃＲ８３ｃ又は−Ｒ８４ｃを表す。Ｒ７１ｃ及びＲ８１ｃ〜Ｒ８４ｃは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ３ｃは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ４０２ｃ及びＲ４０３ｃは、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、−ＮＲ４０６ｃＲ４０７ｃ、−ＯＲ４０８ｃ、シアノ基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４０９ｃ、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１０ｃ又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４１１ｃを表し、Ｒ４０４ｃ〜Ｒ４１１ｃは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。Ｒ４０４ｃと、Ｒ４０５ｃと、Ｒ４０４ｃ及びＲ４０５ｃが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい４〜８員の含窒素複素環を形成してもよい。
Ｒ５０１は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、又は、下記一般式（６）で表される基を表す。
【化６】
2018200463.tif 000037
（一般式（６）中、Ｑ３は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基を表し、＊は一般式（５）との結合部位を表す。
Ｒ２ｄは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７ｄ又は−ＳＯ２−Ｒ８ｄを表す。Ｒ７ｄは、ヒドロキシ基又は−ＯＲ７１ｄを表し、Ｒ８ｄは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＲ８１ｄ、−ＮＲ８２ｄＲ８３ｄ又は−Ｒ８４ｄを表す。Ｒ７１ｄ及びＲ８１ｄ〜Ｒ８４ｄは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ３ｄは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ４０２ｄ及びＲ４０３ｄは、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、−ＮＲ４０６ｄＲ４０７ｄ、−ＯＲ４０８ｄ、シアノ基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４０９ｄ、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１０ｄ又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４１１ｄを表し、Ｒ４０４ｄ〜Ｒ４１１ｄは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。Ｒ４０４ｄと、Ｒ４０５ｄと、Ｒ４０４ｄ及びＲ４０５ｄが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい４〜８員の含窒素複素環を形成してもよい。））
【請求項６】
前記Ｒ５０１が、前記一般式（６）で表される基であることを特徴とする請求項５に記載の光学部材用組成物。
【請求項７】
前記一般式（１）で表される化合物は、吸収スペクトルの吸収極大波長が３８０〜４３０ｎｍの波長領域に存在する色素化合物であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の光学部材用組成物。
【請求項８】
さらに、紫外線吸収剤を含有することを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の光学部材用組成物。
【請求項９】
前記紫外線吸収剤の吸収スペクトルの吸収極大波長が、３００〜４００ｎｍの波長領域に存在することを特徴とする請求項８に記載の光学部材用組成物。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載の光学部材用組成物から形成されることを特徴とする光学部材。
【請求項１１】
光学フィルムとして用いられることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の光学部材。
【請求項１２】
光学フィルム用粘着剤層又は接着剤層として用いられることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の光学部材。
【請求項１３】
前記光学フィルム用粘着剤層を形成する組成物が含有するベースポリマーが、（メタ）アクリル系ポリマーであることを特徴とする請求項１２に記載の光学部材。
【請求項１４】
光学フィルムに設けられる表面処理層として用いられることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の光学部材。
【請求項１５】
前記光学フィルムが、偏光フィルム、偏光子、偏光子用透明保護フィルム、又は位相差フィルムであることを特徴とする請求項１１〜１４のいずれかに記載の光学部材。
【請求項１６】
偏光子及び位相差フィルムを含む光学積層体であって、
前記光学積層体が、請求項１０〜１５のいずれかに記載の光学部材を含有する光学積層体（１）であることを特徴とする光学積層体。
【請求項１７】
画像表示部及び請求項１０〜１５のいずれかに記載の光学部材又は請求項１６記載の光学積層体（１）を有することを特徴とする画像表示装置。
【請求項１８】
前記光学部材又は光学積層体（１）は画像表示部よりも視認側に設けられていることを特徴とする請求項１７記載の画像表示装置。
【請求項１９】
画像表示装置が、
視認側から、少なくとも、偏光子及び位相差フィルムをこの順に含む光学積層体、並びに前記画像表示部として有機ＥＬパネルを、含む有機ＥＬ表示装置であって、
前記光学積層体が、請求項１０〜１５のいずれかに記載の光学部材又は請求項１６記載の光学積層体（１）を含有することを特徴とする請求項１７又は１８記載の画像表示装置。
【請求項２０】
透明基材フィルム及び透明導電層を有する透明導電性フィルムにおいて、前記透明基材フィルム、又は前記透明基材フィルムと透明導電層との間に設けられる中間層として用いられることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の光学部材。
【請求項２１】
前記中間層が、屈折率調整層、易接着剤層、ハードコート層及びクラック防止層から選ばれるいずれか少なくとも１つであることを特徴とする請求項２０記載の光学部材。
【請求項２２】
透明基材フィルム及び透明導電層を有する透明導電性フィルムであって、前記透明基材フィルム、又は前記透明基材フィルムとの間に設けられる中間層として、請求項２０又は２１記載の光学部材を含有することを特徴とする透明導電性フィルム。
【請求項２３】
画像表示部及び請求項２２記載の透明導電性フィルムを含有することを特徴とする画像表示装置。
【請求項２４】
前記透明導電性フィルムは画像表示部よりも視認側に設けられていることを特徴とする請求項２３記載の画像表示装置。
【請求項２５】
画像表示装置が、前記画像表示部として有機ＥＬパネルを含む有機ＥＬ表示装置であることを特徴とする請求項２３又は２４記載の画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学部材用組成物、及び当該光学部材用組成物から形成された光学部材に関する。また本発明は、前記光学部材用組成物を用いた画像表示装置に関する。
【０００２】
本発明が適用される光学部材は、各種の光学用途に適用される部材であり、例えば、光学フィルムそのもの、光学フィルム用粘着剤層又は接着剤層、光学フィルムに設けられる表面処理層、光学フィルムに設けられる機能層等が挙げられる。前記光学フィルムとしては、例えば、偏光フィルム、偏光子、偏光子用透明保護フィルム、位相差フィルム、光拡散フィルム、輝度向上フィルム、レンチキュラーフィルム、カバーウィンドウフィルム（前面板）、飛散防止フィルム、加飾印刷フィルム等を例示することができる。前記光学部材は、偏光子及び位相差フィルムを含む光学積層体として用いることができる。また前記表面処理層としては、例えば、ハードコート層、アンチグレア層、反射防止層、屈折率調整層等を例示することができる。前記機能層としては、例えば、易接着層、帯電防止層、ブロッキング防止層、オリゴマー防止層、バリア層等を例示する事ができる。また、前記光学部材は、透明基材フィルム及び透明導電層を有する透明導電性フィルムにおいて、前記透明基材フィルム、又は前記透明基材フィルムとの間に設けられる中間層として用いることができる。前記中間層としては、屈折率調整層、易接着剤層、ハードコート層、クラック防止層等を例示する事ができる。これら光学部材は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置（ＯＬＥＤ）などの画像表示装置を形成しうる。
【背景技術】
【０００３】
近年、光学部材は各種分野で用いられており、例えば、画像表示装置を構成部材として広く用いられている。画像表示装置は、携帯電話、カーナビゲーション装置、パソコン用モニタ、テレビ等の各種用途において広く用いられるようになっている。画像表示装置が有機ＥＬ表示装置の場合に用いる光学部材としては、外光が金属電極（陰極）で反射されて鏡面のように視認されることを抑止するために、有機ＥＬパネルの視認側表面に円偏光フィルム（偏光フィルムと１／４波長板の積層体等）が配置される。また、有機ＥＬパネルの視認側表面に積層された円偏光フィルムには、光学部材として、さらに加飾パネル等が積層される場合がある。また透明導電性フィルムは透明電極フィルムとして用いられて、タッチパネル等を形成する。前記円偏光フィルムや加飾パネル等の有機ＥＬ表示装置の構成部材や、透明電極フィルム等は、通常、光学部材として粘着剤層や接着剤層等の接合材料を介して積層される。
【０００４】
有機ＥＬ表示装置等の画像表示装置においては、入射する紫外光により画像表示装置内の構成部材等が劣化する場合があり、当該紫外光による劣化を抑制するために、紫外線吸収剤を含有する層を設けることが知られている。具体的には、例えば、少なくとも１層の紫外線吸収層を有し、波長３８０ｎｍの光線透過率が３０％以下であり、かつ波長４３０ｎｍよりも長波長側における可視光透過率が８０％以上である画像表示装置用透明両面粘着シート（例えば、特許文献１参照）や、アクリル系ポリマー及びトリアジン系紫外線吸収剤を含有する粘着剤層を有する粘着シートが知られている（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１２−２１１３０５号公報
【特許文献２】特開２０１３−７５９７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１、２に記載の粘着シートは、波長３８０ｎｍの光の透過率を制御することができるものであるが、当該粘着シートを有機ＥＬ表示装置で用いた場合、長時間使用によって有機ＥＬ素子が劣化してしまう場合があり、十分なものではなかった。これは、特許文献１、２に記載の粘着シートでは、波長３８０ｎｍの光を吸収することができるものの、有機ＥＬ素子の発光領域（４３０ｎｍよりも長波長側）より短波長側の波長領域（３８０ｎｍ〜４３０ｎｍ）の光が十分に吸収されておらず、当該透過光により劣化が生じると考えられる。
【０００７】
従って、有機ＥＬ素子の劣化抑制のためには、有機ＥＬ素子の発光領域（４３０ｎｍよりも長波長側）より短波長側の波長（３８０ｎｍ〜４３０ｎｍ）の光の透過を抑制し、前記有機ＥＬ素子の発光領域における可視光の透過率を十分に確保でき、かつ、高い透明性を有する層を有機ＥＬ表示装置に用いることが必要とされる。また、画像表示装置は、高温、高湿の環境下で用いられるため、厳しい環境条件下における耐久性についても求められる。
【０００８】
本発明は、画像表示装置に適用した場合には、表示素子の劣化を抑制することができ、かつ高い透明性を有し、さらに厳しい環境条件下における耐久性にも優れる光学部材を形成することができる、光学部材用組成物を提供することを目的とする。
【０００９】
また、本発明は、前記組成物から形成される光学部材を提供すること、さらには当該光学部材を用いた画像表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、下記光学部材用組成物を見出し、本発明を完成するに至った。
【００１１】
即ち、本発明は、ベースポリマー及び下記一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とする光学部材用組成物、に関する。
【００１２】
【化１】
2018200463.tif 000002
【００１３】
（一般式（１）中、ｍは１〜６の整数を表し、
Ｑ１は、ｍが１のとき水素原子を表し、ｍが２〜６のとき２〜６価の連結基を表し、
Ｄ１は、下記一般式（２）で表される化合物から水素原子が１つ外れた基を表し、ｍが２〜６のとき、複数のＤ１は、全て同じであってもよく、異なっていてもよい。
【００１４】
【化２】
2018200463.tif 000003
【００１５】
（一般式（２）中、Ｒ１は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。Ｒ２は、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７又は−ＳＯ２−Ｒ８を表す。Ｒ７は、ヒドロキシ基又は−ＯＲ７１を表し、Ｒ８は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＲ８１、−ＮＲ８２Ｒ８３又は−Ｒ８４を表す。Ｒ７１及びＲ８１〜Ｒ８４は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。
Ｒ３は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。
Ｒ４０２及びＲ４０３は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、−ＮＲ４０６Ｒ４０７、−ＯＲ４０８、シアノ基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４０９、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１０又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４１１を表し、
Ｒ４０４〜Ｒ４１１は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。Ｒ４０４と、Ｒ４０５と、Ｒ４０４及びＲ４０５が結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい４〜８員の含窒素複素環を形成してもよい。））
【００１６】
本発明においては、上記一般式（１）におけるｍが１又は２であることが好ましい。
【００１７】
上記一般式（１）で表される化合物は、下記一般式（３）で表される化合物であることが好ましい。
【００１８】
【化３】
2018200463.tif 000004
【００１９】
（一般式（３）中、Ｒ１ａは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表し、Ｒ２ａは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７ａ又は−ＳＯ２−Ｒ８ａを表す。Ｒ７ａは、ヒドロキシ基又は−ＯＲ７１ａを表し、Ｒ８ａは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＲ８１ａ、−ＮＲ８２ａＲ８３ａ又は−Ｒ８４ａを表す。Ｒ７１ａ及びＲ８１ａ〜Ｒ８４ａは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ３ａは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ４０２ａは、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、−ＮＲ４０６ａＲ４０７ａ、−ＯＲ４０８ａ、シアノ基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４０９ａ、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１０ａ又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４１１ａを表し、Ｒ４０４ａ〜Ｒ４１１ａは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。Ｒ４０４ａと、Ｒ４０５ａと、Ｒ４０４ａ及びＲ４０５ａが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい４〜８員の含窒素複素環を形成してもよい。
Ｒ４１３は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表すか、又は、下記一般式（４）で表される基を表す。
【００２０】
【化４】
2018200463.tif 000005
【００２１】
（一般式（４）中、Ｑ２は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基を表し、＊は一般式（３）との結合部位を表す。
Ｒ１ｂは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表し、Ｒ２ｂは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７ｂ又は−ＳＯ２−Ｒ８ｂを表す。Ｒ７ｂは、ヒドロキシ基又は−ＯＲ７１ｂを表し、Ｒ８ｂは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＲ８１ｂ、−ＮＲ８２ｂＲ８３ｂ又は−Ｒ８４ｂを表す。Ｒ７１ｂ及びＲ８１ｂ〜Ｒ８４ｂは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ３ｂは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ４０２ｂは、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、−ＮＲ４０６ｂＲ４０７ｂ、−ＯＲ４０８ｂ、シアノ基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４０９ｂ、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１０ｂ又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４１１ｂを表し、Ｒ４０４ｂ〜Ｒ４１１ｂは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。Ｒ４０４ｂと、Ｒ４０５ｂと、Ｒ４０４ｂ及びＲ４０５ｂが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい４〜８員の含窒素複素環を形成してもよい。））
【００２２】
本発明の一態様においては、上記Ｒ４１３が、上記一般式（４）で表される基であることが好ましい。
【００２３】
上記一般式（１）で表される化合物が、下記一般式（５）で表される化合物であることも好ましい。
【００２４】
【化５】
2018200463.tif 000006
【００２５】
（一般式（５）中、Ｒ２ｃは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７ｃ又は−ＳＯ２−Ｒ８ｃを表す。Ｒ７ｃは、ヒドロキシ基又は−ＯＲ７１ｃを表し、Ｒ８ｃは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＲ８１ｃ、−ＮＲ８２ｃＲ８３ｃ又は−Ｒ８４ｃを表す。Ｒ７１ｃ及びＲ８１ｃ〜Ｒ８４ｃは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ３ｃは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ４０２ｃ及びＲ４０３ｃは、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、−ＮＲ４０６ｃＲ４０７ｃ、−ＯＲ４０８ｃ、シアノ基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４０９ｃ、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１０ｃ又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４１１ｃを表し、Ｒ４０４ｃ〜Ｒ４１１ｃは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。Ｒ４０４ｃと、Ｒ４０５ｃと、Ｒ４０４ｃ及びＲ４０５ｃが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい４〜８員の含窒素複素環を形成してもよい。
Ｒ５０１は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、又は、下記一般式（６）で表される基を表す。
【００２６】
【化６】
2018200463.tif 000007
【００２７】
（一般式（６）中、Ｑ３は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基を表し、＊は一般式（５）との結合部位を表す。
Ｒ２ｄは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７ｄ又は−ＳＯ２−Ｒ８ｄを表す。Ｒ７ｄは、ヒドロキシ基又は−ＯＲ７１ｄを表し、Ｒ８ｄは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＲ８１ｄ、−ＮＲ８２ｄＲ８３ｄ又は−Ｒ８４ｄを表す。Ｒ７１ｄ及びＲ８１ｄ〜Ｒ８４ｄは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ３ｄは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ４０２ｄ及びＲ４０３ｄは、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、−ＮＲ４０６ｄＲ４０７ｄ、−ＯＲ４０８ｄ、シアノ基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４０９ｄ、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１０ｄ又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４１１ｄを表し、Ｒ４０４ｄ〜Ｒ４１１ｄは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。Ｒ４０４ｄと、Ｒ４０５ｄと、Ｒ４０４ｄ及びＲ４０５ｄが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい４〜８員の含窒素複素環を形成してもよい。））
【００２８】
本発明の一態様においては、上記Ｒ５０１は、上記一般式（６）で表される基であることが好ましい。
【００２９】
前記光学部材用組成物において、前記一般式（１）で表される化合物は、吸収スペクトルの吸収極大波長が３８０〜４３０ｎｍの波長領域に存在する色素化合物であることが好ましい。
【００３０】
前記光学部材用組成物において、さらに、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。前記紫外線吸収剤の吸収スペクトルの吸収極大波長が、３００〜４００ｎｍの波長領域に存在することが好ましい。
【００３１】
また本発明は、前記光学部材用組成物から形成されることを特徴とする光学部材、に関する。
【００３２】
前記光学部材は、例えば、光学フィルムとして用いることができる。
【００３３】
前記光学部材は、例えば、光学フィルム用粘着剤層又は接着剤層として用いることができる。前記光学フィルム用粘着剤層を形成する組成物が含有するベースポリマーは、（メタ）アクリル系ポリマーであることが好ましい。
【００３４】
前記光学部材は、例えば、光学フィルムに設けられる表面処理層として用いることができる。
【００３５】
前記光学部材に係る前記光学フィルムとしては、例えば、偏光フィルム、偏光子、偏光子用透明保護フィルム、又は位相差フィルムを挙げることができる。
【００３６】
また本発明は、偏光子及び位相差フィルムを含む光学積層体であって、
前記光学積層体が、前記光学部材を含有する光学積層体（１）であることを特徴とする光学積層体、に関する。
【００３７】
また本発明は、画像表示部及び前記光学部材又は前記光学積層体（１）を有することを特徴とする画像表示装置、に関する。本発明の前記画像表示装置は、前記光学部材又は光学積層体（１）が画像表示部よりも視認側に設けられている場合に好適である。
【００３８】
前記画像表示装置としては、例えば、視認側から、少なくとも、偏光子及び位相差フィルムをこの順に含む光学積層体、並びに有機ＥＬパネルを、前記画像表示部として含む有機ＥＬ表示装置が挙げられ、前記光学積層体が、前記光学部材又は光学積層体（１）を含有するものを好適で用いることができる。
【００３９】
前記光学部材は、透明基材フィルム及び透明導電層を有する透明導電性フィルムにおいて、前記透明基材フィルム、又は前記透明基材フィルムと透明導電層との間に設けられる中間層として用いることができる。
【００４０】
前記中間層としては、屈折率調整層、易接着剤層、ハードコート層及びクラック防止層から選ばれるいずれか少なくとも１つを挙げることができる。
【００４１】
また本発明は、透明基材フィルム及び透明導電層を有する透明導電性フィルムであって、前記透明基材フィルム、又は前記透明基材フィルムとの間に設けられる中間層として、前記光学部材を含有することを特徴とする透明導電性フィルム、に関する。
【００４２】
また本発明は、画像表示部及び前記透明導電性フィルムを含有することを特徴とする画像表示装置、に関する。本発明の前記画像表示装置は、前記透明導電性フィルムが画像表示部よりも視認側に設けられている場合に好適である。
【００４３】
前記画像表示装置としては、例えば、前記画像表示部として有機ＥＬパネルを含む有機ＥＬ表示装置が挙げられる。
【発明の効果】
【００４４】
本発明の光学部材用組成物は、光学部材を有する形成するベースポリマーの他に、上記一般式（１）で表される化合物を含有する。当該化合物は、吸収スペクトルの吸収極大波長が４００ｎｍ付近に存在するため、色素として好適に用いられ、当該化合物（色素化合物）と紫外線吸収剤を組み合わせて用いることで、有機ＥＬパネル等の表示素子に影響しない領域の光を十分に吸収することができ、かつ、前記領域よりも長波長側は十分に透過することができる。さらに、上記一般式（１）で表される化合物は、高温、高湿の環境下の厳しい環境条件下における耐久性にも優れている。その結果、本発明の光学部材用組成物から形成される光学部材は、表示素子の外光による劣化を抑制することができ、かつ、優れた耐候劣化性を有し、長寿命化することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明の光学部材を適用することができる光学積層体の一実施形態を模式的に示す断面図である。
【図２】本発明の光学部材を適用することができる有機ＥＬ表示装置の一実施形態を模式的に示す断面図である。
【図３】本発明の光学部材を適用することができる透明導電性フィルムの一実施形態を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００４６】
＜光学部材用組成物＞
以下、本発明の光学部材用組成物が含有する各成分については説明する。本発明の光学部材用組成物は、光学部材を有する形成するベースポリマーの他に、上記一般式（１）で表される化合物を含有する。その他、本発明の光学部材用組成物は、各種の用途に応じて、上記一般式（１）で表される化合物以外の各種の添加剤を含有することができる。
【００４７】
＜ベースポリマー＞
前記ベースポリマーは、光学部材が適用される用途に応じて適宜に選択される。前記ベースポリマーに用いる樹脂は特に限定されず、熱可塑性樹脂、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂等が挙げられる。例えば、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、低密度ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリシクロオレフィン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂等の樹脂が挙げられる。これらは１種のみ使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００４８】
なお、光学用途に応じた、具体的なベースポリマーについては、当該光学用途において用いられているものを用いることができる。ベースポリマーは、各光学部材を形成する主成分であり、光学用途の説明とともに後述する。ベースポリマーに係る材料は、各種用途における周知標記としても示される。例えば、粘着剤の用途において、アクリル系粘着剤であれば、（メタ）アクリル系ポリマーをベースポリマーと認識する事ができる。
【００４９】
＜一般式（１）で表される化合物＞
上記一般式（１）で表される化合物を、本明細書中、化合物（１）ともいう。他の式番号の化合物についても同様であり、例えば一般式（２）で表される化合物を、化合物（２）ともいう。
【００５０】
本発明の化合物（１）において幾何学異性が存在する場合、本発明はその幾何学異性体のいずれも包含する。また、本発明の化合物（１）において１つ以上の不斉炭素原子が存在する場合、本発明は各々の不斉炭素原子がＲ配置の化合物、Ｓ配置の化合物及びそれらの任意の組み合せの化合物のいずれも包含する。またそれらのラセミ化合物、ラセミ混合物、単一のエナンチオマー、ジアステレオマー混合物のいずれも本発明に包含される。
【００５１】
上記一般式（１）中、ｍは１〜６の整数を表す。ｍが２〜６であると、化合物（１）の耐熱性が向上するため好ましい。本発明の一態様においては、ｍは、好ましくは１又は２であり、より好ましくは２である。
【００５２】
Ｑ１は、ｍが１のとき水素原子を表し、ｍが２〜６のとき２〜６価の連結基を表す。
２〜６価の連結基として、例えば、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２〜６価の炭化水素基、−ＳＯ２−等が挙げられる。
置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２〜６価の炭化水素基として、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の直鎖、分岐又は環状の２〜６価のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の２〜６価のアリーレン基が挙げられる。Ｑ１は、好ましくは水素原子又は２価の連結基である。
【００５３】
２価の連結基として、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、−ＳＯ２−等が好ましく、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基がより好ましい。置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基は、好ましくは、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の直鎖、分岐又は環状の２価のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の２価のアリーレン基である。
炭素数１〜２０の直鎖、分岐又は環状の２価のアルキル基は、炭素−炭素間に酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよいアリーレン基が挿入された２価のアルキル基であってもよく、好ましくは、−（ＣＨ２）ｋ１−（ｋ１は、１〜２０の整数を表す）で表される炭素数１〜２０の直鎖状の２価のアルキル基であり、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、デシレン基等が挙げられる。また、１個以上のハロゲン原子で置換された２価のアルキル基であることも好ましく、例えば、ビストリフルオロメチルメチレン基等が挙げられる。直鎖状の２価のアルキル基の炭素数は２〜１０（上記式中のｋ１が２〜１０）がより好ましく、４〜８（上記式中のｋ１が４〜８）がさらに好ましい。
【００５４】
置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の２価のアリーレン基として、例えば、下記一般式（２０）で表される基が好ましい。
【００５５】
【化７】
2018200463.tif 000008
【００５６】
上記一般式（２０）中、Ｘは、互いに独立に、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシ基、スルホ基、炭素数１〜３のアルキル基又は炭素数１〜３のアルコキシ基を表し、ｓは０〜４の整数を表す。ベンゼン環の２カ所の結合手は、ｏ−、ｍ−、ｐ−配向のいずれでもよい。また、ベンゼン環が置換基を有していない（ｓ＝０である）ことが好ましい。
【００５７】
一般式（１）中、Ｄ１は、化合物（２）から水素原子が１つ外れた基を表す。化合物（２）から水素原子が１つ外れた基は、化合物（２）から水素原子を１つ除いた基ということもできる。化合物（２）は、含窒素芳香環及び電子求引性基を含み、色素となり得るメチン構造を含む。化合物（１）は、このようなメチン構造を含むことから、色素化合物として使用され得る。ｍが２〜６のとき、複数のＤ１は、全て同じであってもよく、異なっていてもよい。一態様においては、複数のＤ１は、全て同じであることが好ましい。
一般式（１）において、ｍが１である化合物（１）は、化合物（２）である。ｍが１である化合物（１）を単量体化合物ともいう。ｍが２〜６である化合物（１）は、連結基（Ｑ１）により、化合物（２）から水素原子が外れた基が２〜６連結した２〜６量体構造を有する化合物である。ｍが２〜６である化合物（１）を、２〜６量体化合物ということもできる。
Ｄ１は、化合物（２）の、Ｒ１、Ｒ４０３又はＲ４０４から水素原子が１つ外れた基（Ｒ１が水素原子の場合は、Ｒ１が外れた基）であることが好ましく、Ｒ１又はＲ４０３から水素原子が１つ外れた基であることがより好ましい。換言すると、一般式（１）において、Ｑ１は、一般式（２）中のＲ１、Ｒ４０３又はＲ４０４の部分に結合していることが好ましく、Ｒ１又はＲ４０３の部分に結合していることがより好ましい。
【００５８】
一般式（２）中、Ｒ１は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。置換基を有していてもよいアルキル基として、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基が挙げられる。置換基を有していてもよいアリール基として、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基が挙げられる。一般式（２）中の−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｒ１は、電子求引性基である。Ｒ１は、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基であり、より好ましくは置換基を有していてもよい炭素数１〜２０アルキル基である。
【００５９】
Ｒ２は、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基（ＣＦ３基）、複素環含有基、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７又は−ＳＯ２−Ｒ８を表す。Ｒ７は、ヒドロキシ基又は−ＯＲ７１を表し、Ｒ８は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＲ８１、−ＮＲ８２Ｒ８３又は−Ｒ８４を表す。Ｒ７１及びＲ８１〜Ｒ８４は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。
【００６０】
Ｒ２における複素環含有基として、ピロール環、ピリジン環、キノリン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピラジン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、トリアジン環、トリアゾール環、テトラゾール環等の含窒素複素環；フラン環、ベンゾフラン環等の含酸素複素環；チオフェン環、ベンゾチオフェン環等の含硫黄複素環；オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環等の酸素原子及び窒素原子を含む複素環；チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チアジアゾール環等の含硫黄複素環等が挙げられ、これらの環は更に他の炭素環（例えば、ベンゼン環）や複素環（例えば、ピリジン環）と縮合環を形成していてもよく、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環が好ましい。
【００６１】
本発明の一態様においては、Ｒ２における複素環含有基として、ベンゾオキサゾール環又はオキサゾール環の窒素と酸素の間の炭素（２位）から水素原子が外れた基（水素原子を除いた基ということもできる）が好ましく、より好ましくは、ベンゾオキサゾール環の窒素と酸素の間の炭素（２位）から水素原子が外れた基である。
また、例えば、一般式（１）において、ｍが２〜６であり、Ｒ２がベンゾオキサゾール環又はオキサゾール環から水素原子が外れた基であり、Ｑ１とＤ１とが、化合物（２）のＲ２の部位で結合している場合、Ｒ２は、ベンゾオキサゾール環又はオキサゾール環の窒素と酸素の間の炭素（２位）以外の炭素原子でＱ１と結合していることが好ましい。
【００６２】
Ｒ１、Ｒ７１、Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３及びＲ８４における置換基を有していてもよいアルキル基として、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基が挙げられる。置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基として、後述する置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が挙げられる。本発明の一態様において、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基は、好ましくは炭素数４〜２０の直鎖、分岐又は環状のアルキル基であり、炭素数が４以上の分岐又は環状の立体的に嵩高いアルキル基が好ましく、より好ましくは、炭素数６〜２０の環状のアルキル基であり、特に好ましくは、直鎖又は分岐アルキル基を置換基として有してもよい環状のアルキル基である。Ｒ１、Ｒ７１、Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３及びＲ８４における炭素数１〜２０のアルキル基として、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル基、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシル等が好ましく、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル基、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシル基等がより好ましく、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル基、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシル基等がさらに好ましい。
Ｒ１、Ｒ７１、Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３及びＲ８４における置換基を有していてもよいアリール基として、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基が挙げられる。置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基として、後述する置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基が挙げられ、例えば、アルキル基で置換されていてもよいフェニル基（例えば、フェニル基、３−メチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基等）等が好ましい。
【００６３】
Ｒ１は、好ましくは、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル基、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシル基等であり、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル基、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシル基等がより好ましい。
Ｒ２は、好ましくは、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７又は−ＳＯ２−Ｒ８であり、より好ましくはシアノ基、複素環含有基、又は、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７であり、さらに好ましくは、シアノ基又は−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ７１である。
【００６４】
Ｒ７１及びＲ８１は、同一又は異なって、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル基、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシル基等が好ましく、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル基、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシル基等がより好ましい。Ｒ８２は、好ましくは、水素原子である。Ｒ８３は、好ましくは、水素原子、フェニル基、３−メチルフェニル基又は２，６−ジメチルフェニル基である。Ｒ８４は、好ましくは、メチル基、エチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等である。
【００６５】
一般式（２）中、Ｒ３は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。
Ｒ４０２及びＲ４０３は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、−ＮＲ４０６Ｒ４０７、−ＯＲ４０８、シアノ基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４０９、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１０又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４１１を表す。
Ｒ４０４〜Ｒ４１１は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。Ｒ４０４と、Ｒ４０５と、Ｒ４０４及びＲ４０５が結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい４〜８員の含窒素複素環を形成してもよい。
【００６６】
Ｒ３、Ｒ４０２及びＲ４０３におけるアルキル基としては、例えば、炭素数１〜２０の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が挙げられる。
炭素数１〜２０の直鎖、分岐又は環状のアルキル基として、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−メチルブチル基、１−メチルブチル基、ｎｅｏ−ペンチル基、１、２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、１−エチルブチル基、１，１，２−トリメチルブチル基、１−エチル−２−メチルプロピル基、シクロヘキシル基、ｎ−へプチル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、４−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル基、２，４−ジメチルペンチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、２，５−ジメチルヘキシル基、２，４−ジメチルヘキシル基、２，２，４−トリメチルペンチル基、ｔ−オクチル基、ｎ−ノニル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、ｎ−デシル基、４−エチルオクチル基、４−エチル−４，５−ジメチルヘキシル基、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、１，３，５，７−テトラメチルオクチル基、４−ブチルオクチル基、６，６−ジエチルオクチル基、ｎ−トリデシル基、６−メチル−４−ブチルオクチル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、３，５−ジメチルヘプタデシル基、２，６−ジメチルヘプタデシル基、２，４−ジメチルヘプタデシル基、２，２，５，５−テトラメチルヘキシル基、１−シクロペンチル−２，２−ジメチルプロピル基、１−シクロヘキシル−２，２−ジメチルプロピル基、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシル基、ｎ−オクタデシル基等が挙げられる。
【００６７】
置換基を有していてもよいアルキル基における置換基は特に限定されず、炭素数６〜１０の単環又は多環の芳香環基（フェニル基、ナフチル基等）、炭素数１〜８の直鎖、分岐又は環状のアルコキシ基、アミノ基、モノ−又はジ−アルキルアミノ基（アルキルの炭素数は１〜８）、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、炭素数１〜８のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１０のアシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バレリル基、ピバロイル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、ベンゾイル基、トルオイル基、シンナモイル基、アニソイル基、ナフトイル基等）、炭素数２〜１０のアシルオキシ基等が挙げられる。
【００６８】
Ｒ３、Ｒ４０２及びＲ４０３におけるアリール基として、炭素数６〜２０の単環又は多環の芳香環基が挙げられる。
炭素数６〜２０の単環又は多環の芳香環基として、具体的には、フェニル基等の単環の芳香族炭化水素基；ナフチル基、アントラセニル基、ナフタセニル基、ペンタセニル基、フェナントレニル基、ピレニル基等の多環の芳香族炭化水素基が挙げられる。
置換基を有していてもよいアリール基における置換基は特に限定されず、例えば、炭素数１〜８の直鎖、分岐又は環状のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基、アミノ基、モノ−又はジ−アルキルアミノ基（アルキルの炭素数は１〜８）、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、炭素数１〜８のハロゲン化炭化水素基、カルボキシ基、炭素数１〜８のアルコキシカルボニル基等が挙げられる。好ましくは、炭素数１〜８の直鎖、分岐又は環状のアルキル基である。例えば、置換基を有するフェニル基及びナフチル基の一例を挙げると、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェニル基、ニトロナフチル基、シアノナフチル基、ヒドロキシナフチル基、メチルナフチル基、フルオロナフチル基、クロロナフチル基、ブロモナフチル基、トリフルオロメチルナフチル基等が挙げられる。
【００６９】
一般式（２）において、Ｒ４０４と、Ｒ４０５と、Ｒ４０４及びＲ４０５が結合している窒素原子とで形成される、４〜８員の含窒素複素環は、酸素原子を含む含窒素複素環であってもよい。含窒素複素環としては、非芳香族性含窒素複素環が挙げられる。４〜８員の含窒素複素環として、例えば、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環等の非芳香族性含窒素複素環が挙げられる。
置換基を有していてもよい４〜８員の含窒素複素環における置換基は特に限定されず、例えば、炭素数１〜８の直鎖、分岐又は環状のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基、アミノ基、モノ−又はジ−アルキルアミノ基（アルキルの炭素数は１〜８）、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、炭素数１〜８のハロゲン化炭化水素基、カルボキシ基、炭素数１〜８のアルコキシカルボニル基等が挙げられる。好ましくは、炭素数１〜８の直鎖、分岐又は環状のアルキル基である。
【００７０】
アルキル基、アリール基、含窒素複素環、複素環等の環が置換基を有する場合において、置換基が２以上ある場合には、それぞれの置換基は同一であっても異なっていてもよい。
【００７１】
一般式（２）中の各基の好ましい態様についてさらに説明する。
Ｒ３は、好ましくは水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又はシアノ基であり、より好ましくは水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜５のアルキル基であり、さらに好ましくは水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基であり、特に好ましくは水素原子である。
【００７２】
Ｒ４０２は、好ましくは水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基又はアルコキシ基であり、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基がより好ましい。より好ましくは、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜５のアルキル基であり、さらに好ましくは、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基であり、特に好ましくはメチル基である。
【００７３】
Ｒ４０３は、好ましくは−ＯＲ４０８である。Ｒ４０８は、好ましくは水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基であり、より好ましくは、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜５のアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数１〜３のアルキル基であり、特に好ましくはエチル基である。
本発明の一態様において、Ｒ４０２及びＲ４０３は、少なくともどちらか一方が水素原子以外の置換基であることが好ましく、Ｒ４０２及びＲ４０３が、同一又は異なって、水素原子以外の置換基であることがより好ましい。
【００７４】
Ｒ４０４及びＲ４０５は、同一又は異なって、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基であり、より好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数６〜１０のアリール基であり、さらに好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基であり、特に好ましくはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基である。
Ｒ４０６、Ｒ４０７、Ｒ４０８、Ｒ４０９、Ｒ４１０及びＲ４１１は、同一又は異なって、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基である。
【００７５】
一般式（１）においてｍが１又は２である化合物として、上記一般式（３）で表される化合物（化合物（３））、一般式（５）で表される化合物（化合物（５））等が好ましい。
【００７６】
本発明の一態様においては、化合物（１）として化合物（３）が好ましい。化合物（３）は、耐光性に優れるため好ましい。
一般式（３）中、Ｒ１ａは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表し、Ｒ２ａは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７ａ又は−ＳＯ２−Ｒ８ａを表す。Ｒ７ａは、ヒドロキシ基又は−ＯＲ７１ａを表し、Ｒ８ａは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＲ８１ａ、−ＮＲ８２ａＲ８３ａ又は−Ｒ８４ａを表す。Ｒ７１ａ及びＲ８１ａ〜Ｒ８４ａは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
【００７７】
Ｒ１ａの好ましい態様は、上述したＲ１の好ましい態様と同じである。
Ｒ２ａは、シアノ基、複素環含有基、又は、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７ａが好ましく、シアノ基又は−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ７１ａがより好ましい。Ｒ７１ａ、Ｒ８１ａ、Ｒ８２ａ、Ｒ８３ａ及びＲ８４ａの好ましい態様は、上述したＲ７１、Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３及びＲ８４の好ましい態様とそれぞれ同じである。
【００７８】
一般式（３）中、Ｒ３ａは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ４０２ａは、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、−ＮＲ４０６ａＲ４０７ａ、−ＯＲ４０８ａ、シアノ基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４０９ａ、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１０ａ又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４１１ａを表し、Ｒ４０４ａ〜Ｒ４１１ａは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。Ｒ４０４ａと、Ｒ４０５ａと、Ｒ４０４ａ及びＲ４０５ａが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい４〜８員の含窒素複素環を形成してもよい。
Ｒ３ａ、Ｒ４０２ａ、Ｒ４０４ａ、Ｒ４０５ａ、Ｒ４０６ａ、Ｒ４０７ａ、Ｒ４０８ａ、Ｒ４０９ａ、Ｒ４１０ａ及びＲ４１１ａの好ましい態様は、上述したＲ３、Ｒ４０２、Ｒ４０４、Ｒ４０５、Ｒ４０６、Ｒ４０７、Ｒ４０８、Ｒ４０９、Ｒ４１０及びＲ４１１の好ましい態様とそれぞれ同じである。
【００７９】
一般式（３）中、Ｒ４１３は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表すか、又は、上記一般式（４）で表される基を表す。Ｒ４１３は、好ましくは、置換基を有していてもよい炭素数１〜５のアルキル基又は一般式（４）で表される基であり、より好ましくは炭素数１〜３のアルキル基又は一般式（４）で表される基であり、さらに好ましくはエチル基又は上記一般式（４）で表される基である。本発明の一態様においては、Ｒ４１３は、一般式（４）で表される基であることが好ましい。
【００８０】
一般式（４）中、Ｑ２は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基を表し、＊は一般式（３）との結合部位を表す。一般式（４）において、Ｑ２が一般式（３）に結合している。Ｑ２における置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基及びその好ましい態様は、上述したＱ１における置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基及びその好ましい態様と同じである。
【００８１】
一般式（４）中、Ｒ１ｂは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表し、Ｒ２ｂは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７ｂ又は−ＳＯ２−Ｒ８ｂを表す。Ｒ７ｂは、ヒドロキシ基又は−ＯＲ７１ｂを表し、Ｒ８ｂは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＲ８１ｂ、−ＮＲ８２ｂＲ８３ｂ又は−Ｒ８４ｂを表す。Ｒ７１ｂ及びＲ８１ｂ〜Ｒ８４ｂは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ１ｂの好ましい態様は、上述したＲ１の好ましい態様と同じである。
Ｒ２ｂは、シアノ基、複素環含有基、又は、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７ｂが好ましく、シアノ基又は−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ７１ｂがより好ましい。Ｒ７１ｂ、Ｒ８１ｂ、Ｒ８２ｂ、Ｒ８３ｂ及びＲ８４ｂの好ましい態様は、上述したＲ７１、Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３及びＲ８４の好ましい態様とそれぞれ同じである。
【００８２】
一般式（４）中、Ｒ３ｂは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ４０２ｂは、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、−ＮＲ４０６ｂＲ４０７ｂ、−ＯＲ４０８ｂ、シアノ基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４０９ｂ、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１０ｂ又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４１１ｂを表し、Ｒ４０４ｂ〜Ｒ４１１ｂは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。Ｒ４０４ｂと、Ｒ４０５ｂと、Ｒ４０４ｂ及びＲ４０５ｂが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい４〜８員の含窒素複素環を形成してもよい。
Ｒ３ｂ、Ｒ４０２ｂ、Ｒ４０４ｂ、Ｒ４０５ａ、Ｒ４０６ｂ、Ｒ４０７ｂ、Ｒ４０８ｂ、Ｒ４０９ｂ、Ｒ４１０ｂ及びＲ４１１ｂの好ましい態様は、上述したＲ３、Ｒ４０２、Ｒ４０４、Ｒ４０５、Ｒ４０６、Ｒ４０７、Ｒ４０８、Ｒ４０９、Ｒ４１０及びＲ４１１の好ましい態様とそれぞれ同じである。
【００８３】
化合物（１）として、化合物（５）も好ましい。
一般式（５）中、Ｒ２ｃは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７ｃ又は−ＳＯ２−Ｒ８ｃを表す。Ｒ７ｃは、ヒドロキシ基又は−ＯＲ７１ｃを表し、Ｒ８ｃは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＲ８１ｃ、−ＮＲ８２ｃＲ８３ｃ又は−Ｒ８４ｃを表す。Ｒ７１ｃ及びＲ８１ｃ〜Ｒ８４ｃは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。Ｒ２ｃは、シアノ基、複素環含有基、又は−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７ｃが好ましく、シアノ基又は−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ７１ｃがより好ましい。
Ｒ７１ｃ、Ｒ８１ｃ、Ｒ８２ｃ、Ｒ８３ｃ及びＲ８４ｃの好ましい態様は、上述したＲ７１、Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３及びＲ８４の好ましい態様とそれぞれ同じである。
【００８４】
一般式（５）中、Ｒ３ｃは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ４０２ｃ及びＲ４０３ｃは、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、−ＮＲ４０６ｃＲ４０７ｃ、−ＯＲ４０８ｃ、シアノ基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４０９ｃ、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１０ｃ又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４１１ｃを表し、Ｒ４０４ｃ〜Ｒ４１１ｃは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。Ｒ４０４ｃと、Ｒ４０５ｃと、Ｒ４０４ｃ及びＲ４０５ｃが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい４〜８員の含窒素複素環を形成してもよい。
Ｒ３ｃ、Ｒ４０２ｃ、Ｒ４０３ｃ、Ｒ４０４ｃ、Ｒ４０５ｃ、Ｒ４０６ｃ、Ｒ４０７ｃ、Ｒ４０８ｃ、Ｒ４０９ｃ、Ｒ４１０ｃ及びＲ４１１ｃの好ましい態様は、上述したＲ３、Ｒ４０２、Ｒ４０３、Ｒ４０４、Ｒ４０５、Ｒ４０６、Ｒ４０７、Ｒ４０８、Ｒ４０９、Ｒ４１０及びＲ４１１の好ましい態様とそれぞれ同じである。
【００８５】
一般式（５）中、Ｒ５０１は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、又は、上記一般式（６）で表される基を表す。Ｒ５０１は、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル基、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシル基等）、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基（例えば、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基等）、又は、上記一般式（６）で表される基である。本発明の一態様においては、Ｒ５０１は、上記一般式（６）で表される基であることが好ましい。
【００８６】
一般式（６）中、Ｑ３は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基を表し、＊は一般式（５）との結合部位を表す。一般式（６）において、Ｑ３が一般式（５）に結合している。Ｑ３における置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基及びその好ましい態様は、上述したＱ１における置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基及びその好ましい態様と同じである。一態様においては、Ｑ３は、より好ましくは、上記一般式（２０）で表され、ｓが０である２価のアリール基である。
【００８７】
一般式（６）中、Ｒ２ｄは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７ｄ又は−ＳＯ２−Ｒ８ｄを表す。Ｒ７ｄは、ヒドロキシ基又は−ＯＲ７１ｄを表し、Ｒ８ｄは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＲ８１ｄ、−ＮＲ８２ｄＲ８３ｄ又は−Ｒ８４ｄを表す。Ｒ７１ｄ及びＲ８１ｄ〜Ｒ８４ｄは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ２ｄは、シアノ基、複素環含有基、又は、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７ｄが好ましく、シアノ基又は−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ７１ｄがより好ましい。Ｒ７１ｄ、Ｒ８１ｄ、Ｒ８２ｄ、Ｒ８３ｄ及びＲ８４ｄの好ましい態様は、上述したＲ７１、Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３及びＲ８４の好ましい態様とそれぞれ同じである。
【００８８】
Ｒ３ｄは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ４０２ｄ及びＲ４０３ｄは、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、−ＮＲ４０６ｄＲ４０７ｄ、−ＯＲ４０８ｄ、シアノ基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４０９ｄ、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１０ｄ又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４１１ｄを表し、Ｒ４０４ｄ〜Ｒ４１１ｄは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。Ｒ４０４ｄと、Ｒ４０５ｄと、Ｒ４０４ｄ及びＲ４０５ｄが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい４〜８員の含窒素複素環を形成してもよい。
Ｒ３ｄ、Ｒ４０２ｄ、Ｒ４０３ｄ、Ｒ４０４ｄ、Ｒ４０５ｄ、Ｒ４０６ｄ、Ｒ４０７ｄ、Ｒ４０８ｄ、Ｒ４０９ｄ、Ｒ４１０ｄ及びＲ４１１ｄの好ましい態様は、上述したＲ３、Ｒ４０２、Ｒ４０３、Ｒ４０４、Ｒ４０５、Ｒ４０６、Ｒ４０７、Ｒ４０８、Ｒ４０９、Ｒ４１０及びＲ４１１の好ましい態様とそれぞれ同じである。
【００８９】
化合物（３）は、Ｒ４１３が一般式（４）で表される基である場合は、一般式（１）においてＱ１がＱ２（置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基）であり、該Ｑ２により、一般式（３）で表される基及び一般式（４）で表される基が両側に連結した２量体構造を有する化合物である。一般式（３）で表される基及び一般式（４）で表される基は、メチン構造を含み、いずれも色素となる構造である。このような色素となる構造が２量体構造となっていることにより分子量が増大するため、化合物が昇華しにくくなって、耐熱性に優れた色素化合物となる。Ｒ４１３が一般式（４）で表される基である化合物（３）は、下記一般式（３−１）で表される化合物である。
【００９０】
【化８】
2018200463.tif 000009
【００９１】
上記式（３−１）中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３ａ、Ｒ４０２ａ、Ｒ４０４ａ及びＲ４０５ａ、並びに、Ｑ２、Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ、Ｒ４０２ｂ、Ｒ４０４ｂ及びＲ４０５ｂは、それぞれ上記と同義である。
【００９２】
化合物（５）は、Ｒ５０１が一般式（６）で表される基である場合は、一般式（１）においてＱ１がＱ３（置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基）であり、該Ｑ３により、一般式（５）で表される基及び一般式（６）で表される基が両側に連結した２量体構造を有する化合物である。一般式（５）で表される基及び一般式（６）で表される構造は、メチン構造を含み、色素となる構造である。このような色素となる構造が２量体構造となっていることにより分子量が増大するため、化合物が昇華しにくくなって、耐熱性に優れた色素化合物となる。
Ｒ５０１が一般式（６）で表される基である化合物（５）は、下記一般式（５−１）で表される化合物である。
【００９３】
【化９】
2018200463.tif 000010
【００９４】
上記一般式（５−１）中、Ｒ２ｃ、Ｒ３ｃ、Ｒ４０２ｃ、Ｒ４０３ｃ、Ｒ４０４ｃ及びＲ４０５ｃ、並びに、Ｑ３、Ｒ２ｄ、Ｒ３ｄ、Ｒ４０２ｄ、Ｒ４０３ｄ、Ｒ４０４ｄ及びＲ４０５ｄは、上記と同義である。
【００９５】
本発明の化合物（１）の好ましい態様の一例として、例えば、実施例で製造した化合物Ｃ１〜Ｃ５等が挙げられる。中でも、耐光性が高いことから、化合物Ｃ１、Ｃ２及びＣ５が好ましい。耐熱性が高い点から、化合物Ｃ１〜Ｃ３が好ましい。有機溶媒への溶解度が高い点では、化合物Ｃ１〜Ｃ５が好ましい。化合物Ｃ１〜Ｃ５は、化合物（３）の一例である。
【００９６】
本発明の化合物（１）の製造方法は特に限定されず、例えば、以下の方法により製造することができる。本発明の化合物の製造方法について、以下に合成方法の一例を挙げて説明するが、本発明の化合物（１）の製造方法は下記方法に限定されるものではない。また、後述の反応を行う際に、当該部位以外の官能基については、必要に応じてあらかじめ適当な保護基により保護しておき、適当な段階においてこれを脱保護してもよい。
【００９７】
本発明の一態様として、一般式（１）で表される化合物が下記一般式（１１）で表される化合物（化合物（１１））である場合、例えば、次のような方法により合成することができる。化合物（１１）は、本発明の化合物（１）の一例であり、一般式（１）においてｍが２である化合物（二量体化合物）である。化合物（１１）は、化合物（３）において、Ｒ４１３が一般式（４）で表される基である化合物の一例ともいえる。下記では、化合物（Ｍ４）に化合物（Ｍ２１）を脱水縮合反応させることにより化合物（１１）が得られる。
【００９８】
【化１０】
2018200463.tif 000011
【００９９】
上記反応式中、Ｑｆは、２価の連結基を表す。Ｒ１ｆ、Ｒ２ｆ及びこれらの好ましい態様は、上述したＲ１、Ｒ２及びこれらの好ましい態様とそれぞれ同じである。Ｒ４０２ｆ、Ｒ４０４ｆ及びＲ４０５ｆ並びにこれらの好ましい態様は、上述したＲ４０２、Ｒ４０４及びＲ４０５並びにこれらの好ましい態様とそれぞれ同じである。Ｑｆにおける２価の連結基は、Ｑ１における２価の連結基と同じである。Ｑｆは、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基である。
【０１００】
【化１１】
2018200463.tif 000012
【０１０１】
で表される波線（上記の波線は化学式中の波線に同じ）は、単結合であって、それが結合している二重結合についての立体配置が、それぞれ独立して、Ｅ配置若しくはＺ配置又はそれらの混合であることを示す。以下も同様である。
【０１０２】
化合物（Ｍ４）は、例えば、下記一般式（Ｍ１）で表される化合物（Ｍ１）にジハロゲン化アルキル化合物を反応させて化合物（Ｍ１）のヒドロキシ基をアルコキシ化することにより得ることができる。化合物（Ｍ１）は、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ  １９５７，４８４５に記載の方法に従って得ることができる。
【０１０３】
【化１２】
2018200463.tif 000013
【０１０４】
上記一般式（Ｍ１）中、Ｒ４０２ｆ、Ｒ４０４ｆ及びＲ４０５ｆは、上記と同義である。
また、化合物（１１）は、化合物（Ｍ１）と化合物（Ｍ２１）とを脱水縮合させた後、アルコキシ化により二量化して得ることも可能である。
【０１０５】
一般式（１）で表される化合物が下記一般式（１２）で表される化合物（化合物（１２））である場合は、例えば、次のような方法により合成することができる。化合物（１２）は、本発明の化合物（１）の一例であり、二量体化合物である。化合物（１２）は、化合物（５）において、Ｒ５０１が一般式（６）で表される基である化合物の一例ともいえる。下記では、化合物（Ｍ２−１）に化合物（Ｍ２２）を脱水縮合反応させることにより化合物（１２）が得られる。
【０１０６】
【化１３】
2018200463.tif 000014
【０１０７】
上記反応式中、Ｒ２ｇ及びその好ましい態様は、上述したＲ２ｃ及びこれらの好ましい態様とそれぞれ同じである。Ｗｇは、−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｑｇ−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−を表し、Ｑｇは、２価の連結基を表す。Ｑｇにおける２価の連結基は、Ｑ１における２価の連結基と同じである。Ｑｇは、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基である。Ｒ４０２ｇ、Ｒ４０３ｇ、Ｒ４０４ｇ及びＲ４０５ｇ並びにこれらの好ましい態様は、上述したＲ４０２、Ｒ４０３、Ｒ４０４及びＲ４０５並びにこれらの好ましい態様とそれぞれ同じである。
化合物（Ｍ２−１）及び後記の化合物（Ｍ２−２）は、例えば、上記化合物（Ｍ１）のヒドロキシ基をアルコキシ化することにより得ることができる。
また、化合物（１２）は、上記の化合物（Ｍ２１）と化合物（Ｍ２−１）とを脱水縮合させた後、Ｒ１ｆで連結させてＷｇとして二量化して得ることも可能である。
【０１０８】
一般式（１）で表される化合物が下記一般式（１３）で表される化合物（化合物（１３））である場合は、例えば、次のような方法により合成することができる。化合物（１３）は、本発明の化合物（１）の一例であり、単量体化合物（一般式（１）中のｍが１）である。化合物（１３）は、化合物（３）において、Ｒ４１３が水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す化合物の一例でもある。下記では、化合物（Ｍ２−２）に化合物（Ｍ２３）を脱水縮合反応させることにより化合物（１３）が得られる。
【０１０９】
【化１４】
2018200463.tif 000015
【０１１０】
上記式中、Ｒ４０２ｈ、Ｒ４０３ｈ、Ｒ４０４ｈ及びＲ４０５ｈ並びにこれらの好ましい態様は、上述したＲ４０２、Ｒ４０３、Ｒ４０４及びＲ４０５並びにこれらの好ましい態様とそれぞれ同じである。Ｒ１ｈ、Ｒ２ｈ及びこれらの好ましい態様は、上述したＲ１、Ｒ２及びこれらの好ましい態様とそれぞれ同じである。
【０１１１】
上記の製造方法における各生成物の単離や精製は、通常の有機合成で用いられる方法、例えば濾過、抽出、洗浄、乾燥、濃縮、結晶化、各種クロマトグラフィー等を適宜組み合わせて行うことができる。また、中間体においては、特に精製せずに次の反応に供することも可能である。
【０１１２】
本発明の化合物（１）は、通常３６０〜４３０ｎｍに吸収極大波長を有するものである。３６０〜４３０ｎｍに吸収極大波長を有すると、紫外線、青色の光を選択的に吸収することができる。本発明の化合物（１）は、３７０〜４２０ｎｍに吸収極大波長を有することが好ましく、３８０〜４００ｎｍに吸収極大波長を有することがより好ましい。また、本発明の化合物（１）は、４００ｎｍのグラム吸光係数が３０以上であることも好ましい。吸収極大波長及びグラム吸光係数は、実施例に記載の方法で測定することができる。
また、本発明の化合物（１）は、通常、有機溶媒への溶解性が良好である。
【０１１３】
本発明の化合物（１）は、以下の有機溶媒に溶解する化合物であることが好ましい。
有機溶媒としては、例えば、芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン等）、ケトン類（メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン等）、エーテル類（例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル等）、エステル類（例えば、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、乳酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル等）及びこれらの２種以上の混合溶媒が挙げられる。
化合物（１）は、上記有機溶媒の少なくとも１種に対し、０．１質量％以上溶解することが好ましく、例えば、０．１質量％以上５０質量％以下溶解することが好ましく、１質量％以上４０質量％以下溶解することがより好ましく、３質量％以上３０質量％以下溶解することが更に好ましい。より好ましくは、２０℃における有機溶媒に対する溶解性がこのような範囲にあることである。有機溶媒に対する溶解性がこのような範囲にあると、本発明の化合物（１）を、例えば、光学部材の製造に使用する際に、製造性が良好であるため好ましい。
【０１１４】
本発明の化合物（１）は、その熱分解温度が２００℃以上であることが好ましく、２１０℃以上がより好ましく、例えば、２５０〜４００℃であることが好ましい。熱分解温度は、熱重量測定装置により測定することができる。
【０１１５】
本発明の化合物（１）は、通常、３６０〜４３０ｎｍに吸収極大波長を持ち、この波長の光を効果的に吸収することができる。本発明の化合物（１）は４００ｎｍ付近の光を効果的に吸収することができる。一態様として、本発明の化合物（１）は、２〜６量体化合物（一般式（１）においてｍが２〜６）であると、耐熱性を向上させることができる。また、本発明の好ましい態様において、本発明の化合物（１）は、有機溶媒への溶解性に優れるものである。このため本発明の化合物（１）は、例えば、光学部材等に好適に使用される。
【０１１６】
＜色素化合物＞
前記の吸収極大波長を３６０〜４３０ｎｍに持つ化合物（１）は、色素化合物として使用することができる。前記化合物（１）のなかでも吸収スペクトルの吸収極大波長が３８０〜４３０ｎｍの波長領域に存在する色素化合物が好適に用いられる。色素化合物の吸収スペクトルの吸収極大波長は、３８０〜４２０ｎｍの波長領域に存在することがより好ましい。本発明においては、このような色素化合物と前記紫外線吸収剤を組み合わせて用いることで、例えば、有機ＥＬ素子の発光に影響しない領域（波長３８０ｎｍ〜４３０ｎｍ）の光を十分に吸収することができ、かつ、有機ＥＬ素子の発光領域（４３０ｎｍよりも長波長側）は十分に透過することができるものであり、その結果、有機ＥＬ素子の外光による劣化を抑制することができる。また、色素化合物は前記波長特性を有するものであれば特に限定されないが、有機ＥＬ素子の表示性を阻害しないような、蛍光及び燐光性能（フォトルミネセンス）を有しない材料が好ましい。
【０１１７】
また、前記色素化合物の半値幅は、特に限定されるものではないが、８０ｎｍ以下であることが好ましく、５〜７０ｎｍであることがより好ましく、１０〜６０ｎｍであることがさらに好ましい。色素化合物の半値幅が、前記範囲にあることで、有機ＥＬ素子の発光に影響しない領域の光を十分に吸収しつつ、４３０ｎｍよりも長波長側の光は十分に透過するコントロールが可能となるため好ましい。なお、半値幅の測定方法は、以下に記載の方法による。
＜半値幅の測定方法＞
色素化合物の半値幅は、紫外可視分光光度計（Ｕ−４１００、（株）日立ハイテクサイエンス製）を使用し、以下の条件で色素化合物の溶液の透過吸光スペクトルから測定した。吸収極大波長の吸光度が１．０となるよう濃度を調整して測定した分光スペクトルから、ピーク値の５０％になる２点間の波長の間隔（半値全幅）をその色素化合物の半値幅とした。
（測定条件）
溶媒：トルエン又はクロロホルム
セル：石英セル
光路長：１０ｍｍ
【０１１８】
前記化合物（１）、特に前記色素化合物は、単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよいが、全体としての含有量は、前記ベースポリマー（又はそのポリマーを形成するモノマー成分）１００重量部に対して、０．０１〜１０重量部程度であることが好ましく、０．０２〜５重量部程度であることがより好ましい。前記化合物（１）、特に前記色素化合物の添加量を前記範囲とすることで、例えば、有機ＥＬ素子の発光に影響しない領域の光を十分に吸収することができ、当該粘着剤組成物から形成される粘着剤層を用いることで、有機ＥＬ素子の劣化を抑制することができるため、好ましい。
【０１１９】
＜紫外線吸収剤＞
前記紫外線吸収剤としては、特に限定されないが、例えば、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、オキシベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸エステル系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤等を挙げることができ、これらを１種単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が好ましく、１分子中にヒドロキシル基を２個以下有するトリアジン系紫外線吸収剤、及び、１分子中にベンゾトリアゾール骨格を１個有するベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤からなる群から選択される少なくとも１種の紫外線吸収剤であることが、例えば、光学部材として、アクリル系粘着剤組成物を用いる場合にはその形成に用いられるモノマーへの溶解性が良好であり、かつ、波長３８０ｎｍ付近での紫外線吸収能力が高いため好ましい。
【０１２０】
１分子中にヒドロキシル基を２個以下有するトリアジン系紫外線吸収剤としては、具体的には、２，４−ビス−［｛４−（４−エチルヘキシルオキシ）−４−ヒドロキシ｝−フェニル］−６−（４−メトキシフェニル）−１,３,５−トリアジン（Ｔｉｎｏｓｏｒｂ  Ｓ、ＢＡＳＦ製）、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル］−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１,３,５−トリアジン（ＴＩＮＵＶＩＮ  ４６０、ＢＡＳＦ製）、２−（４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−ヒドロキシフェニルと［（Ｃ１０−Ｃ１６（主としてＣ１２−Ｃ１３）アルキルオキシ）メチル］オキシランとの反応生成物（ＴＩＮＵＶＩＮ４００、ＢＡＳＦ製）、２−［４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン−２−イル］−５−［３−（ドデシルオキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ］フェノール）、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジンと（２−エチルヘキシル）−グリシド酸エステルの反応生成物（ＴＩＮＵＶＩＮ４０５、ＢＡＳＦ製）、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−フェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ１５７７、ＢＡＳＦ製）、２−（４，６−ジフェニルー１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［２−（２−エチルヘキサノイルオキシ）エトキシ］−フェノール（ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＬＡ４６、ＡＤＥＫＡ製）、２−（２−ヒドロキシ−４−［１−オクチルオキシカルボニルエトキシ］フェニル）−４，６−ビス（４−フェニルフェニル）−１，３，５−トリアジン（ＴＩＮＵＶＩＮ４７９、ＢＡＳＦ社製）等を挙げることができる。
【０１２１】
また、１分子中にベンゾトリアゾール骨格を１個有するベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ  ９２８、ＢＡＳＦ製）、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール（ＴＩＮＵＶＩＮ  ＰＳ、ＢＡＳＦ製）、ベンゼンプロパン酸及び３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ（Ｃ７−９側鎖及び直鎖アルキル）のエステル化合物（ＴＩＮＵＶＩＮ３８４−２、ＢＡＳＦ製）、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ９００、ＢＡＳＦ製）、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ９２８、ＢＡＳＦ製）、メチル−３−（３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート／ポリエチレングリコール３００の反応生成物（ＴＩＮＵＶＩＮ１１３０、ＢＡＳＦ製）、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−ｐ−クレゾール（ＴＩＮＵＶＩＮ  Ｐ、ＢＡＳＦ製）、２（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ２３４、ＢＡＳＦ製）、２−〔５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル〕−４−メチル−６−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ３２６、ＢＡＳＦ製）、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ３２８、ＢＡＳＦ製）、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ３２９、ＢＡＳＦ製）、メチル３−（３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートとポリエチレングリコール３００との反応生成物（ＴＩＮＵＶＩＮ２１３、ＢＡＳＦ製）、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−ドデシル−４−メチルフェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ５７１、ＢＡＳＦ製）、２−［２−ヒドロキシ−３−（３、４、５，６−テトラヒドロフタルイミドーメチル）−５−メチルフェニル］ベンゾトリアゾール（Ｓｕｍｉｓｏｒｂ２５０、住友化学工業（株）製）、２−(２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル)−５−クロロベンゾトリアゾール（ＳｅｅＳｏｒｂ ７０３、シプロ化成（株）製、又は、ＫＥＭＩＳＯＲＢ  ７３、シプロ化成（株）製）等を挙げることができる。
【０１２２】
また、前記ベンゾフェノン系紫外線吸収剤（ベンゾフェノン系化合物）、オキシベンゾフェノン系紫外線吸収剤（オキシベンゾフェノン系化合物）としては、例えば、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸（無水及び三水塩）、２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノン、４−ドデシルオキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、２，２´，４，４´−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２´−ジヒドロキシ−４，４−ジメトキシベンゾフェノン、２，２´，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン（ＳｅｅＳｏｒｂ  １０６、シプロ化成（株）製）、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン（ＫＥＭＩＳＯＲＢ  １１１、ケミプロ化成（株）製）等を挙げることができる。
【０１２３】
また前記サリチル酸エステル系紫外線吸収剤（サリチル酸エステル系化合物）としては、例えば、フェニル−２−アクリロイルオキシベンゾエ−ト、フェニル−２−アクロリイルオキシ−３−メチルベンゾエ−ト、フェニル−２−アクリロイルオキシ−４−メチルベンゾエ−ト、フェニル−２−アクリロイルオキシ−５−メチルベンゾエ−ト、フェニル−２−アクリロイルオキシ−３−メトキシベンゾエ−ト、フェニル−２−ヒドロキシベンゾエ−ト、フェニル−２−ヒドロキシ−３−メチルベンゾエ−ト、フェニル−２−ヒドロキシ−４メチルベンゾエ−ト、フェニル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンゾエ−ト、フェニル２−ヒドロキシ−３−メトキシベンゾエ−ト、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート（ＴＩＮＵＶＩＮ１２０、ＢＡＳＦ製）等を挙げることができる。
【０１２４】
前記シアノアクリレート系紫外線吸収剤（シアノアクリレート系化合物）としては、例えば、アルキル−２−シアノアクリレート、シクロアルキル−２−シアノアクリレート、アルコキシアルキル−２−シアノアクリレート、アルケニル−２−シアノアクリレート、アルキニル−２−シアノアクリレート等を挙げることができる。
【０１２５】
前記紫外線吸収剤の吸収スペクトルの吸収極大波長は、３００〜４００ｎｍの波長領域に存在することが好ましく、３００〜３８０ｎｍの波長領域に存在することがより好ましい。ここで、吸収極大波長とは、３００〜４６０ｎｍの波長領域での分光吸収スペクトルにおいて、複数の吸収極大が存在する場合には、その中で最大の吸光度を示す吸収極大波長を意味するものである。吸収極大波長の測定方法は、色素系化合物の測定方法と同様である。
【０１２６】
前記紫外線吸収剤は、単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよいが、全体としての含有量は、前記ベースポリマー（又はそのポリマーを形成するモノマー成分１００重量部に対して、０．１〜８重量部程度であることが好ましく、０．２〜６重量部程度であることがより好ましい。紫外線吸収剤の添加量を前記範囲とすることで、光学部材の紫外線吸収機能を十分に発揮することできる。また、光学部材のベースポリマーが、例えば、アクリル系ポリマーの場合には、アクリル系ポリマーを紫外線重合する場合は、当該重合の妨げとはならないため、好ましい。
【０１２７】
＜その他添加剤＞
本発明の光学部材用組成物には、前記成分の他に、用途に応じて、適宜な添加剤が含まれていてもよい。
【０１２８】
＜光学部材用組成物の調製＞
本発明の光学部材用組成物は、少なくとも、光学部材を有する形成するベースポリマー、紫外線吸収剤、及び、上記一般式（１）で表される化合物を混合することにより調製することができる。例えば、ベースポリマーに紫外線吸収剤、及び上記の化合物（１）を混練したり、溶剤に溶解して混合することができ、また、ベースポリマーを形成するモノマー成分に予め紫外線吸収剤、及び上記の化合物（１）を配合して、その配合物を重合してポリマー得ることにより、前記組成物を調製することができる。また、光学部材の形成に当たっては、光学部材用組成物は適宜に溶剤を含有することができ、また、光学部材に応じた各種の添加剤を含有することができる。上記溶媒としては、特に制限されないが、上述した有機溶媒等が挙げられる。
【０１２９】
本発明の光学部材用組成物は、光学部材に応じた各種方法により、各種の光学部材を形成することができうる。例えば、形成方法としては、光学部材用組成物を射出成形法、圧縮成形法、押出成形法等により成形する方法や、後述の支持体上に本発明の光学部材用組成物を塗布し形成する方法等の各種の方法を採ることができる。前記塗布方法としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法等の塗工方法によって支持体上に塗膜形成する方法が挙げられる。
【０１３０】
＜光学部材＞
光学部材としては、例えば、光学フィルムが挙げられる。具体的には、本発明の光学部材として適用できる光学フィルムとしては、偏光子用透明保護フィルム、位相差フィルム、光拡散フィルム、集光フィルム、輝度向上フィルム、レンチキュラーフィルム、カバーウィンドウフィルム（前面板）、飛散防止フィルム、加飾印刷フィルム等が挙げられる。
【０１３１】
また、光学部材としては、光学フィルムに適用される粘着剤層又は接着剤層が挙げられる。これら粘着剤層又は接着剤層は、偏光フィルム、偏光子、偏光子用透明保護フィルム、位相差フィルム、光拡散フィルム、集光フィルム、輝度向上フィルム、レンチキュラーフィルム、カバーウィンドウフィルム（前面板）、飛散防止フィルム、加飾印刷フィルム等の光学フィルムに設けることで適用することができる。前記光学部材は、偏光子及び位相差フィルムを含む光学積層体として用いることができる。
【０１３２】
また、光学部材としては、光学フィルムに設けられる表面処理層等が挙げられる。これら表面処理層としては、ハードコート層、反射防止層、防眩処理層、反射防止層、屈折率調整層等が挙げられ、偏光フィルム、偏光子、偏光子用透明保護フィルム、位相差フィルム、光拡散フィルム、集光フィルム、輝度向上フィルム、レンチキュラーフィルム、カバーウィンドウフィルム（前面板）、飛散防止フィルム、加飾印刷フィルム等の光学フィルムに設けることで適用することができる。
【０１３３】
また、光学部材としては、光学フィルムに設けられる機能層等が挙げられる。これら機能層としては、易接着層、帯電防止層、ブロッキング防止層、オリゴマー防止層、バリア層等が挙げられ、偏光フィルム、偏光子、偏光子用透明保護フィルム、位相差フィルム、光拡散フィルム、集光フィルム、輝度向上フィルム、レンチキュラーフィルム、カバーウィンドウフィルム（前面板）、飛散防止フィルム、加飾印刷フィルム等の光学フィルムに設けることで適用することができる。
【０１３４】
また、前記光学部材は、透明基材フィルム及び透明導電層を有する透明導電性フィルムにおいて、前記透明基材フィルム、又は前記透明基材フィルムとの間に設けられる中間層として用いることができる。前記中間層としては、屈折率調整層、易接着剤層、ハードコート層、クラック防止等を例示する事ができる。
【０１３５】
＜画像表示装置＞
本発明の画像表示装置は、画像表示部及び前記光学部材を備える。画像表示部を備える画像表示装置の代表例としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネセンス（ＥＬ）表示装置が挙げられる。前記光学部材は画像表示部よりも視認側に設けられていることが好ましい。
【０１３６】
例えば、有機ＥＬ表示装置においては、前記画像表示部として有機ＥＬパネルを有し、当該有機ＥＬパネルの視認側には、視認側から、少なくとも、偏光子及び位相差フィルムをこの順に含む光学積層体を含む。本発明の光学部材は、例えば、前記光学積層体を形成する部材として使用することができる。
【０１３７】
以下、本発明の一般式（１）で表される化合物を含有する光学部材を、有機ＥＬ表示装置に用いる光学積層体に用いる場合を、代表例として説明する。前記光学積層体は、偏光子及び位相差フィルムを含む。
【０１３８】
図１に示すように、光学積層体１は、視認側から、少なくとも、粘接着剤層２／透明保護フィルム３／偏光子４／位相差フィルム５／粘着剤層６がこの順に積層されたものを例示することができる。粘接着剤層２／（視認側）透明保護フィルム３／偏光子４／有機ＥＬパネル側透明保護フィルム／層間粘着剤層（又は接着剤層）／位相差フィルム５／（有機ＥＬパネル側）粘着剤層６がこの順に積層されたものであってもよい。また、これら以外にも、例えば、ハードコート層、防眩処理層、反射防止層等の機能層や、センサー層、またこれらを積層するための粘着剤層や接着剤層等を含むことができる。前記透明保護フィルム４／偏光子５を偏光フィルムということもある。本発明の一般式（１）で表される化合物を含有する光学部材は、前記光学積層体を形成する各種の部材または層として用いることができる。前記光学積層体としは、本発明の一般式（１）で表される化合物を含有する光学部材を含有する光学積層体（１）であることが好ましい。
【０１３９】
（１−１）粘接着剤層２
本発明において「接着剤層」とは、粘着剤層又は接着剤層のことをいう。
【０１４０】
（１−１−１）接着剤層
接着剤層としては、任意の適切な接着剤からなる層を採用し得る。このような接着剤としては、例えば、天然ゴム接着剤、α−オレフィン系接着剤、ウレタン樹脂系接着剤、エチレン−酢酸ビニル樹脂エマルション接着剤、エチレン−酢酸ビニル樹脂系ホットメルト接着剤、エポキシ樹脂系接着剤、塩化ビニル樹脂溶剤系接着剤、クロロプレンゴム系接着剤、シアノアクリレート系接着剤、シリコーン系接着剤、スチレン−ブタジエンゴム溶剤系接着剤、ニトリルゴム系接着剤、ニトロセルロース系接着剤、反応性ホットメルト接着剤、フェノール樹脂系接着剤、変性シリコーン系接着剤、ポリエステル系ホットメルト接着剤、ポリアミド樹脂ホットメルト接着剤、ポリイミド系接着剤、ポリウレタン樹脂ホットメルト接着剤、ポリオレフィン樹脂ホットメルト接着剤、ポリ酢酸ビニル樹脂溶剤系接着剤、ポリスチレン樹脂溶剤系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤、ポリビニルピロリドン樹脂系接着剤、ポリビニルブチラール系接着剤、ポリベンズイミダゾール接着剤、ポリメタクリレート樹脂溶剤系接着剤、メラミン樹脂系接着剤、ユリア樹脂系接着剤、レゾルシノール系接着剤等が挙げられる。このような接着剤は、１種単独又は２種以上を混合して使用することができる。前記接着剤の種類に応じたベースポリマーが用いられる。
【０１４１】
接着剤としては、接着形態で分類すると、例えば、熱硬化型接着剤、ホットメルト接着剤等が挙げられる。このような接着剤は、１種のみであっても良いし、２種以上であっても良い。
【０１４２】
熱硬化型接着剤は、加熱により熱硬化して固化することにより接着力を発現する。熱硬化型接着剤としては、例えば、エポキシ系熱硬化型接着剤、ウレタン系熱硬化型接着剤、アクリル系熱硬化型接着剤等が挙げられる。熱硬化型接着剤の硬化温度は、例えば、１００〜２００℃である。
【０１４３】
ホットメルト接着剤は、加熱により溶融又は軟化して、被着体に熱融着し、その後の冷却によって、固化することにより、被着体に接着する。ホットメルト接着剤としては、例えば、ゴム系ホットメルト接着剤、ポリエステル系ホットメルト接着剤、ポリオレフィン系ホットメルト接着剤、エチレン−酢酸ビニル樹脂系ホットメルト接着剤、ポリアミド樹脂ホットメルト接着剤、ポリウレタン樹脂ホットメルト接着剤等が挙げられる。ホットメルト接着剤の軟化温度（環球法）は、例えば、１００〜２００℃である。また、ホットメルト接着剤の溶融粘度は、１８０℃で、例えば、１００〜３００００ｍＰａ・ｓである。
【０１４４】
接着剤層の厚みは、特に限定されるものではないが、例えば、０．０１〜１０μｍ程度であることが好ましく、０．０５〜８μｍ程度であることがより好ましい。
【０１４５】
（１−１−２）粘着剤層
粘着剤層を形成する粘着剤組成物の種類としては、特に限定されるものではなく、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤等を挙げることができる。これら粘着剤の中でも、光学的透明性に優れ、適宜な密着性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性等に優れる点から、アクリル系粘着剤が好ましく使用される。前記粘着剤の種類に応じたベースポリマーが用いられる。本発明においては、（メタ）アクリル系ポリマーをベースポリマーとして含有するアクリル系粘着剤組成物であることが好ましい。
【０１４６】
前記アクリル系粘着剤組成物は、例えば、アルキル（メタ）アクリレートを含有するモノマー成分の部分重合物及び／又は前記モノマー成分から得られる（メタ）アクリル系ポリマーを含むことが好ましく、当該アクリル系粘着剤組成物に色素化合物（さらには紫外線吸収剤）を添加することができる。
【０１４７】
（モノマー成分の部分重合物、及び（メタ）アクリル系ポリマー）
前記アクリル系粘着剤組成物は、アルキル（メタ）アクリレートを含有するモノマー成分の部分重合物及び／又は前記モノマー成分から得られる（メタ）アクリル系ポリマーを含む。
【０１４８】
前記アルキル（メタ）アクリレートとしては、直鎖状又は分岐鎖状の炭素数１〜２４のアルキル基をエステル末端に有するものを例示できる。アルキル（メタ）アクリレートは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。なお、「アルキル（メタ）アクリレート」は、アルキルアクリレート及び／又はアルキルメタクリレートをいい、本発明の（メタ）とは同様の意味である。
【０１４９】
前記アルキル（メタ）アクリレートとしては、前述の直鎖状又は分岐鎖状の炭素数１〜２４のアルキル（メタ）アクリレートを挙げることができ、これらの中でも、炭素数１〜９のアルキル（メタ）アクリレートが好ましく、炭素数４〜９の分岐を有するアルキル（メタ）アクリレートを好ましく例示することができる。当該アルキル（メタ）アクリレートは、粘着特性のバランスがとりやすい点で好ましい。炭素数４〜９の分岐を有するアルキル（メタ）アクリレートとしては、具体的には、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、イソペンチル（メタ）アクリレート、イソヘキシル（メタ）アクリレート、イソヘプチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート等が挙げられ、これらを１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【０１５０】
本発明において、前記炭素数１〜２４のアルキル基をエステル末端に有するアルキル（メタ）アクリレートは、（メタ）アクリル系ポリマーを形成する単官能性モノマー成分の全量に対して４０重量％以上であることが好ましく、５０重量％以上がより好ましく、６０重量％以上がさらに好ましい。
【０１５１】
前記モノマー成分には、単官能性モノマー成分として、前記アルキル（メタ）アクリレート以外の共重合モノマーを含有することができる。共重合モノマーは、モノマー成分における前記アルキル（メタ）アクリレートの残部として用いることができる。
【０１５２】
共重合モノマーとしては、例えば、環状窒素含有モノマーを含むことができる。上記環状窒素含有モノマーとしては、（メタ）アクリロイル基又はビニル基等の不飽和二重結合を有する重合性の官能基を有し、かつ環状窒素構造を有するものを特に制限なく用いることができる。環状窒素構造は、環状構造内に窒素原子を有するものが好ましい。環状窒素含有モノマーとしては、例えば、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル−ε−カプロラクタム、メチルビニルピロリドン等のラクタム系ビニルモノマー；ビニルピリジン、ビニルピペリドン、ビニルピリミジン、ビニルピペラジン、ビニルピラジン、ビニルピロール、ビニルイミダゾール、ビニルオキサゾール、ビニルモルホリン等の窒素含有複素環を有するビニル系モノマー等が挙げられる。また、モルホリン環、ピペリジン環、ピロリジン環、ピペラジン環等の複素環を含有する（メタ）アクリルモノマーが挙げられる。具体的には、Ｎ−アクリロイルモルホリン、Ｎ−アクリロイルピペリジン、Ｎ−メタクリロイルピペリジン、Ｎ−アクリロイルピロリジン等が挙げられる。前記環状窒素含有モノマーの中でも、ラクタム系ビニルモノマーが好ましい。
【０１５３】
本発明において、環状窒素含有モノマーは、（メタ）アクリル系ポリマーを形成する単官能性モノマー成分の全量に対して、０．５〜５０重量％であるのが好ましく、０．５〜４０重量％がより好ましく、０．５〜３０重量％がさらに好ましい。
【０１５４】
本発明で用いるモノマー成分には、単官能性モノマー成分として、ヒドロキシル基含有モノマーを含むことができる。ヒドロキシル基含有モノマーとしては、（メタ）アクリロイル基又はビニル基等の不飽和二重結合を有する重合性の官能基を有し、かつヒドロキシル基を有するものを特に制限なく用いることができる。ヒドロキシル基含有モノマーとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、８−ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、１０−ヒドロキシデシル（メタ）アクリレート、１２−ヒドロキシラウリル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート；（４−ヒドロキシメチルシクロへキシル）メチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキルシクロアルカン（メタ）アクリレートが挙げられる。その他、ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、アリルアルコール、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル等が挙げられる。これらは単独で又は組み合わせて使用できる。これらの中でもヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートが好適である。
【０１５５】
本発明において、前記ヒドロキシル基含有モノマーは、（メタ）アクリル系ポリマーを形成する単官能性モノマー成分の全量に対して、接着力、凝集力を高める点から１重量％以上であるのが好ましく、２重量％以上であるがより好ましく、３重量％以上であるのがさらに好ましい。一方、前記ヒドロキシル基含有モノマーが多くなりすぎると、粘着剤層が固くなり、接着力が低下する場合があり、また、粘着剤の粘度が高くなりすぎたり、ゲル化したりする場合があることから、前記ヒドロキシル基含有モノマーは、（メタ）アクリル系ポリマーを形成する単官能性モノマー成分の全量に対して、３０重量％以下であるのが好ましく、２７重量％以下がより好ましく、２５重量％以下がさらに好ましい。
【０１５６】
また、（メタ）アクリル系ポリマーを形成するモノマー成分には、単官能性モノマーとして、その他の官能基含有モノマーを含有することができ、例えば、カルボキシル基含有モノマー、環状エーテル基を有するモノマーが挙げられる。
【０１５７】
カルボキシル基含有モノマーとしては、（メタ）アクリロイル基又はビニル基等の不飽和二重結合を有する重合性の官能基を有し、かつカルボキシル基を有するものを特に制限なく用いることができる。カルボキシル基含有モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、カルボキシエチル（メタ）アクリレート、カルボキシペンチル（メタ）アクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、イソクロトン酸等が挙げられ、これらは単独で又は組み合わせて使用できる。イタコン酸、マレイン酸はこれらの無水物を用いることができる。これらの中でも、アクリル酸、メタクリル酸が好ましく、特にアクリル酸が好ましい。なお、本発明の（メタ）アクリル系ポリマーの製造に用いるモノマー成分にはカルボキシル基含有モノマーを任意に用いることができ、一方では、カルボキシル基含有モノマーを用いなくともよい。
【０１５８】
環状エーテル基を有するモノマーとしては、（メタ）アクリロイル基又はビニル基等の不飽和二重結合を有する重合性の官能基を有し、かつエポキシ基又はオキセタン基等の環状エーテル基を有するものを特に制限なく用いることができる。エポキシ基含有モノマーとしては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル等が挙げられる。オキセタン基含有モノマーとしては、例えば、３−オキセタニルメチル（メタ）アクリレート、３−メチル−オキセタニルメチル（メタ）アクリレート、３−エチル−オキセタニルメチル（メタ）アクリレート、３−ブチル−オキセタニルメチル（メタ）アクリレート、３−ヘキシル−オキセタニルメチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらは単独で又は組み合わせて使用できる。
【０１５９】
本発明において、前記カルボキシル基含有モノマー、環状エーテル基を有するモノマーは、（メタ）アクリル系ポリマーを形成する単官能性モノマー成分の全量に対して、３０重量％以下であるのが好ましく、２７重量％以下がより好ましく、２５重量％以下がさらに好ましい。
【０１６０】
本発明の（メタ）アクリル系ポリマーを形成するモノマー成分には、共重合モノマーとしては、例えば、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）ＣＯＯＲ２（前記Ｒ１は水素又はメチル基、Ｒ２は炭素数１〜３の置換されたアルキル基、環状のシクロアルキル基を表す。）で表されるアルキル（メタ）アクリレートが挙げられる。
【０１６１】
ここで、Ｒ２としての、炭素数１〜３の置換されたアルキル基の置換基としては、炭素数３〜８個のアリール基又は炭素数３〜８個のアリールオキシ基であることが好ましい。アリール基としては、限定はされないが、フェニル基が好ましい。
【０１６２】
このようなＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）ＣＯＯＲ２で表されるモノマーの例としては、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、３，３，５−トリメチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらは単独で又は組み合わせて使用できる。
【０１６３】
本発明において、前記ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）ＣＯＯＲ２で表される（メタ）アクリレートは、（メタ）アクリル系ポリマーを形成する単官能性モノマー成分の全量に対して、５０重量％以下で用いることができ、４５重量％以下が好ましく、４０重量％以下がより好ましく、３５重量％以下がさらに好ましい。
【０１６４】
他の共重合モノマーとしては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、スチレン、α−メチルスチレン；（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸ポリプロピレングリコール、（メタ）アクリル酸メトキシエチレングリコール、（メタ）アクリル酸メトキシポリプロピレングリコール等のグリコール系アクリルエステルモノマー；（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル、フッ素（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレートや２−メトキシエチルアクリレート等のアクリル酸エステル系モノマー；アミド基含有モノマー、アミノ基含有モノマー、イミド基含有モノマー、Ｎ−アクリロイルモルホリン、ビニルエーテルモノマー等も使用することができる。また、共重合モノマーとしては、テルペン（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート等の環状構造を有するモノマーを用いることができる。
【０１６５】
さらに、ケイ素原子を含有するシラン系モノマー等が挙げられる。シラン系モノマーとしては、例えば、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、４−ビニルブチルトリメトキシシラン、４−ビニルブチルトリエトキシシラン、８−ビニルオクチルトリメトキシシラン、８−ビニルオクチルトリエトキシシラン、１０−メタクリロイルオキシデシルトリメトキシシラン、１０−アクリロイルオキシデシルトリメトキシシラン、１０−メタクリロイルオキシデシルトリエトキシシラン、１０−アクリロイルオキシデシルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【０１６６】
本発明の（メタ）アクリル系ポリマーを形成するモノマー成分には、前記例示の単官能性モノマーの他に、粘着剤の凝集力を調整するために、必要に応じて多官能性モノマーを含有することができる。
【０１６７】
多官能性モノマーは、（メタ）アクリロイル基又はビニル基等の不飽和二重結合を有する重合性の官能基を少なくとも２つ有するモノマーであり、例えば、（ポリ）エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２−エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１２−ドデカンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート等の多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化合物；アリル（メタ）アクリレート、ビニル（メタ）アクリレート、ジビニルベンゼン、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、ブチルジ（メタ）アクリレート、ヘキシルジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの中でも、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートを好適に使用することができる。多官能性モノマーは、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【０１６８】
多官能性モノマーの使用量は、その分子量や官能基数等により異なるが、単官能性モノマーの合計１００重量部に対して、３重量部以下で用いることが好ましく、２重量部以下がより好ましく、１重量部以下がさらに好ましい。また、下限値としては特に限定されないが、０重量部以上であることが好ましく、０．００１重量部以上であることがより好ましい。多官能性モノマーの使用量が前記範囲内であることにより、接着力を向上することができる。
【０１６９】
前記（メタ）アクリル系ポリマーの製造は、溶液重合、紫外線（ＵＶ）重合等の放射線重合、塊状重合、乳化重合等の各種ラジカル重合等の公知の製造方法を適宜選択できる。また、得られる（メタ）アクリル系ポリマーは、ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体等のいずれでもよい。
【０１７０】
また、本発明においては、前記モノマー成分の部分重合物も好適に用いることができる。
【０１７１】
前記（メタ）アクリル系ポリマーをラジカル重合により製造する場合には、前記モノマー成分に、ラジカル重合に用いられる重合開始剤、連鎖移動剤、乳化剤等を適宜添加して、重合を行うことができる。前記ラジカル重合に用いられる重合開始剤、連鎖移動剤、乳化剤等は特に限定されず適宜選択して使用することができる。なお、（メタ）アクリル系ポリマーの重量平均分子量は、重合開始剤、連鎖移動剤の使用量、反応条件により制御可能であり、これらの種類に応じて適宜その使用量が調整される。
【０１７２】
例えば、溶液重合等においては、重合溶媒として、例えば、酢酸エチル、トルエン等が用いられる。具体的な溶液重合例としては、反応は窒素等の不活性ガス気流下で、重合開始剤を加え、通常、５０〜７０℃程度で、５〜３０時間程度の反応条件で行われる。
【０１７３】
溶液重合等に用いられる、熱重合開始剤としては、例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス−２−メチルブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオン酸）ジメチル、４，４’−アゾビス−４−シアノバレリアン酸、アゾビスイソバレロニトリル、２，２’−アゾビス（２−アミジノプロパン）ジヒドロクロライド、２，２’−アゾビス［２−（５−メチル−２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］ジヒドロクロライド、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミジン）二硫酸塩、２，２’−アゾビス（Ｎ，Ｎ’−ジメチレンイソブチルアミジン）、２，２’−アゾビス［Ｎ−（２−カルボキシエチル）−２−メチルプロピオンアミジン］ハイドレート（ＶＡ−０５７、和光純薬工業（株）製）等のアゾ系開始剤；過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩、ジ（２−エチルヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ−ｓｅｃ−ブチルパーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシピバレート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ジラウロイルパーオキシド、ジ−ｎ−オクタノイルパーオキシド、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ジ（４−メチルベンゾイル）パーオキシド、ジベンゾイルパーオキシド、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、１，１−ジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、ｔ−ブチルハイドロパーオキシド、過酸化水素等の過酸化物系開始剤、過硫酸塩と亜硫酸水素ナトリウムの組み合わせ、過酸化物とアスコルビン酸ナトリウムの組み合わせ等の過酸化物と還元剤とを組み合わせたレドックス系開始剤等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０１７４】
前記重合開始剤は、単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよいが、モノマー成分の全量１００重量部に対して、１重量部以下程度であることが好ましく、０．００５〜１重量部程度であることがより好ましく、０．０２〜０．５重量部程度であることがさらに好ましい。
【０１７５】
なお、重合開始剤として、２，２’−アゾビスイソブチロニトリルを用いる場合、重合開始剤の使用量は、モノマー成分の全量１００重量部に対して、０．２重量部以下程度であることが好ましく、０．０６〜０．２重量部程度とするのがより好ましい。
【０１７６】
連鎖移動剤としては、例えば、ラウリルメルカプタン、グリシジルメルカプタン、メルカプト酢酸、２−メルカプトエタノール、チオグリコール酸、チオグルコール酸２−エチルヘキシル、２，３−ジメルカプト−１−プロパノール等が挙げられる。連鎖移動剤は、単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよいが、全体としての含有量はモノマー成分の全量１００重量部に対して、０．３重量部程度以下である。
【０１７７】
また、乳化重合する場合に用いる乳化剤としては、例えば、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸ナトリウム等のアニオン系乳化剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンブロックポリマー等のノニオン系乳化剤等が挙げられる。これらの乳化剤は、単独で用いてもよく２種以上を併用してもよい。
【０１７８】
さらに、反応性乳化剤として、プロペニル基、アリルエーテル基等のラジカル重合性官能基が導入された乳化剤として、具体的には、例えば、アクアロンＨＳ−１０、ＨＳ−２０、ＫＨ−１０、ＢＣ−０５、ＢＣ−１０、ＢＣ−２０（以上、いずれも第一工業製薬（株）製）、アデカリアソープＳＥ１０Ｎ（ＡＤＥＫＡ社製）等がある。乳化剤の使用量は、モノマー成分の全量１００重量部に対して、５重量部以下であることが好ましい。
【０１７９】
また、前記（メタ）アクリル系ポリマーを放射線重合により製造する場合には、前記モノマー成分に、電子線、紫外線（ＵＶ）等の放射線を照射することにより重合して製造することができる。これらの中でも、紫外線重合が好ましい。以下、放射線重合の中で好ましい態様である紫外線重合について説明する。
【０１８０】
紫外線重合を行う際には、重合時間を短くすることができる利点等から、モノマー成分に光重合開始剤を含有させることが好ましい。
【０１８１】
前記光重合開始剤としては、波長４００ｎｍ未満に吸収帯を有する光重合開始剤（Ｂ）を挙げることができる。また、光重合開始剤（Ｂ）は、波長４００ｎｍ以上に吸収帯を有さないことが好ましい。当該光重合開始剤（Ｂ）としては、紫外線によりラジカルを発生し、光重合を開始するものであって、波長４００ｎｍ未満に吸収帯を有するものであれば特に制限されず、通常用いられる光重合開始剤をいずれも好適に用いることができる。例えば、ベンゾインエーテル系光重合開始剤、アセトフェノン系光重合開始剤、α−ケトール系光重合開始剤、光活性オキシム系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンジル系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、ケタール系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤等を用いることができる。
【０１８２】
具体的には、ベンゾインエーテル系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、アニソールメチルエーテル等が挙げられる。
【０１８３】
アセトフェノン系光重合開始剤としては、例えば、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン等が挙げられる。
【０１８４】
α−ケトール系光重合開始剤としては例えば、２−メチル−２−ヒドロキシプロピオフェノン、１−［４−（２−ヒドロキシエチル）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン等が挙げられる。
【０１８５】
光活性オキシム系光重合開始剤としては例えば、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（Ｏ−エトキシカルボニル）−オキシム等が挙げられる。
【０１８６】
ベンゾイン系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン等が挙げられる。
【０１８７】
ベンジル系光重合開始剤としては、例えば、ベンジル等が含まれる。
【０１８８】
ベンゾフェノン系光重合開始剤には、例えば、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、ポリビニルベンゾフェノン、α−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が含まれる。
【０１８９】
ケタール系光重合開始剤には、ベンジルジメチルケタール等が含まれる。
【０１９０】
チオキサントン系光重合開始剤には、例えば、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、ドデシルチオキサントン等が含まれる。
【０１９１】
アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤には、例えば、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド等が含まれる。
【０１９２】
前記波長４００ｎｍ未満に吸収帯を有する光重合開始剤（Ｂ）は、単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。前記波長４００ｎｍ未満に吸収帯を有する光重合開始剤（Ｂ）は、本発明の効果を損なわない範囲で添加することができるが、添加量としては、（メタ）アクリル系ポリマーを形成する単官能性モノマー成分１００重量部に対して、０．００５〜０．５重量部程度であることが好ましく、０．０２〜０．１重量部程度であることがより好ましい。
【０１９３】
また、前記粘着剤層に、色素化合物（さらには紫外線吸収剤）を含む場合であって、紫外線重合を行う場合、例えば、前記アルキル（メタ）アクリレートを含有するモノマー成分及び／又は前記モノマー成分の部分重合物、色素化合物（さらには紫外線吸収剤）、及び光重合開始剤を含む紫外線硬化型アクリル系粘着剤組成物を紫外線重合することにより形成されることが好ましい。前記紫外線硬化型アクリル系粘着剤組成物を紫外線重合することにより形成された粘着剤層は、１５０μｍ以上の厚手のものも形成が可能になり、幅広い厚みの粘着剤層を形成することができるため好ましい。
【０１９４】
その際の光重合開始剤としては、波長４００ｎｍ以上に吸収帯を有する光重合開始剤（Ａ）を含むものであることが好ましい。粘着剤組成物に色素化合物（さらには紫外線吸収剤）を含む場合、紫外線重合を行うと、前記色素化合物（さらには紫外線吸収剤）により紫外線が吸収されてしまい十分に重合できない場合があった。しかしながら、波長４００ｎｍ以上に吸収帯を有する光重合開始剤（Ａ）であれば、色素化合物（さらには紫外線吸収剤）を含んでいても、十分に重合することができるため、好ましい。
【０１９５】
波長４００ｎｍ以上に吸収帯を有する光重合開始剤（Ａ）としては、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、ＢＡＳＦ製）、２,４,６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル-フォスフィンオキサイド（ＬＵＣＩＲＩＮ  ＴＰＯ、ＢＡＳＦ製）等を挙げることができる。
【０１９６】
前記波長４００ｎｍ以上に吸収帯を有する光重合開始剤（Ａ）は、単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。
【０１９７】
また、前記波長４００ｎｍ以上に吸収帯を有する光重合開始剤（Ａ）の添加量は、特に限定されるものではないが、色素化合物（さらには紫外線吸収剤）の添加量よりも少ないことが好ましく、（メタ）アクリル系ポリマーを形成する単官能性モノマー成分１００重量部に対して、０．００５〜１重量部程度であることが好ましく、０．０２〜０．８重量部程度であることがより好ましい。光重合開始剤（Ａ）の添加量が前記範囲であることで、紫外線重合を十分に進行することができるため好ましい。
【０１９８】
また、前記粘着剤層に、色素化合物（さらには紫外線吸収剤）を含む場合であって、紫外線重合を行う場合、前記モノマー成分に波長４００ｎｍ未満に吸収帯を有する光重合開始剤（Ｂ）を先に添加して、紫外線を照射して一部重合したモノマー成分の部分重合物（プレポリマー組成物）に、前記波長４００ｎｍ以上に吸収帯を有する光重合開始剤（Ａ）、色素化合物（さらには紫外線吸収剤）を添加して紫外線重合することが好ましい。紫外線照射をして一部重合したモノマー成分の部分重合物（プレポリマー組成物）に、前記波長４００ｎｍ以上に吸収帯を有する光重合開始剤（Ａ）を添加する際には、前記光重合開始剤をモノマーに溶解した後添加することが好ましい。
【０１９９】
前記アクリル系ポリマーの他に、ゴム系ポリマーがベースポリマーとして公的である。ゴム系ポリマーは、１種の共役ジエン化合物を重合することによって得られる共役ジエン系重合体、２種以上の共役ジエン化合物を重合することによって得られる共役ジエン系共重合体、共役ジエン化合物と芳香族ビニル化合物とを共重合することによって得られる共役ジエン系共重合体を含むことができる。また、これらの水添物も好適に用いることができる。ジエン系共重合体は、ランダム共重合体であってもブロック共重合体であってもよく、また、共役ジエン化合物、芳香族ビニル化合物以外の化合物を共重合してもよい。
【０２００】
このような共役ジエン系（共）重合体としては、具体的には、ブタジエンゴム（ＢＲ）、イソプレンゴム（ＩＲ）、スチレン−ブタジエン共重合体（ＳＢＲ）、ブタジエン−イソプレン−スチレンランダム共重合体、イソプレン−スチレンランダム共重合体、スチレン−イソプレンブロック共重合体（ＳＩＳ）、ブタジエン−スチレン共重合体、スチレン−エチレン−ブタジエンブロック共重合体（ＳＥＢＳ）、アクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ）等を挙げることができ、これらを１種単独で、又は２種以上を混合して用いることができる。これらの中でも、イソプレン−スチレン共重合体が好ましい。また、これらの水添物も好適に用いることができる。
【０２０１】
（シランカップリング剤）
さらに、本発明の粘着剤組成物にはシランカップリング剤を含有することができる。シランカップリング剤の配合量は、ベースポリマー（例えば、上記（メタ）アクリル系ポリマー）１００重量部に対して１重量部以下であるのが好ましく、０．０１〜１重量部がより好ましく、０．０２〜０．６重量部がさらに好ましい。
【０２０２】
前記シランカップリング剤としては、例えば、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３，４エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等のエポキシ基含有シランカップリング剤、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ基含有シランカップリング剤、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等の（メタ）アクリル基含有シランカップリング剤、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のイソシアネート基含有シランカップリング剤等が挙げられる。
【０２０３】
（架橋剤）
本発明の粘着剤組成物は、架橋剤を含有することができる。架橋剤としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、シリコーン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、シラン系架橋剤、アルキルエーテル化メラミン系架橋剤、金属キレート系架橋剤、過酸化物等の架橋剤が含まれる。架橋剤は１種を単独で又は２種以上を組み合わせることができる。これらの中でも、イソシアネート系架橋剤が好ましく用いられる。
【０２０４】
上記架橋剤は１種を単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよいが、全体としての含有量は、（メタ）アクリル系ポリマーを形成する単官能性モノマー成分１００重量部に対し、５重量部以下であることが好ましく、０．０１〜５重量部であることがより好ましく、０．０１〜４重量部がさらに好ましく、０．０２〜３重量部が特に好ましい。
【０２０５】
イソシアネート系架橋剤は、イソシアネート基（イソシアネート基をブロック剤又は数量体化等により一時的に保護したイソシアネート再生型官能基を含む）を１分子中に２つ以上有する化合物をいう。イソシアネート系架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート等の芳香族イソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の脂環族イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族イソシアネート等が挙げられる。
【０２０６】
より具体的には、例えば、ブチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の低級脂肪族ポリイソシアネート類、シクロペンチレンジイソシアネート、シクロヘキシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の脂環族イソシアネート類、２，４−トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート類、トリメチロールプロパン／トリレンジイソシアネート３量体付加物（商品名：コロネートＬ、日本ポリウレタン工業（株）製）、トリメチロールプロパン／ヘキサメチレンジイソシアネート３量体付加物（商品名：コロネートＨＬ、日本ポリウレタン工業（株）製）、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体（商品名：コロネートＨＸ、日本ポリウレタン工業（株）製）等のイソシアネート付加物、キシリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパン付加物（商品名：Ｄ１１０Ｎ、三井化学（株）製）、ヘキサメチレンジイソシアネートのトリメチロールプロパン付加物（商品名：Ｄ１６０Ｎ、三井化学（株）製）；ポリエーテルポリイソシアネート、ポリエステルポリイソシアネート、ならびにこれらと各種のポリオールとの付加物、イソシアヌレート結合、ビューレット結合、アロファネート結合等で多官能化したポリイソシアネート等を挙げることができる。
【０２０７】
（その他の添加剤）
本発明の粘着剤組成物には、前記成分の他に、用途に応じて、適宜な添加剤が含まれていてもよい。例えば、粘着付与剤（例えば、ロジン誘導体樹脂、ポリテルペン樹脂、石油樹脂、油溶性フェノール樹脂等からなる常温で固体、半固体、あるいは液状のもの）；中空ガラスバルーン等の充填剤；可塑剤；老化防止剤；酸化防止剤；光安定剤（ＨＡＬＳ）等が挙げられる。
【０２０８】
本発明において、前記粘着剤組成物は、基材上に塗布等する作業に適した粘度に調整するのが好ましい。粘着剤組成物の粘度の調整は、例えば、増粘性添加剤等の各種ポリマーや多官能性モノマー等の添加や、粘着剤組成物中のモノマー成分を部分重合させることにより行う。なお、当該部分重合は、増粘性添加剤等の各種ポリマーや多官能性モノマー等を添加する前に行っても良く、その後に行っても良い。上記粘着剤組成物の粘度は添加剤の量等によって変わるため、粘着剤組成物中のモノマー成分を部分重合させる場合の重合率は、一意に決めることはできないが、目安としては２０％以下程度であることが好ましく、３〜２０％程度がより好ましく、５〜１５％程度がさらに好ましい。２０％を超えると粘度が高くなりすぎるため、基材へ塗布が難しくなる。
【０２０９】
（粘着剤層の形成方法）
粘着剤層の形成方法としては、特に限定されるものではなく、通常本分野において用いられる方法により形成することができる。具体的には、前記粘着剤組成物を基材の少なくとも片面に塗工し、当該粘着剤組成物から形成される塗布膜を乾燥して形成するか、又は、紫外線等の活性エネルギー線を照射して形成することができる。また、前記基材に形成した粘着剤層を、偏光フィルム等に転写することもできる。
【０２１０】
前記基材としては、特に限定されるものではなく、例えば、離型フィルム、透明樹脂フィルム基材等の各種基材や、後述する偏光フィルムも基材として好適に用いることができる。
【０２１１】
前記離型フィルムの構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステルフィルム等の樹脂フィルム、紙、布、不織布等の多孔質材料、ネット、発泡シート、金属箔、及びこれらのラミネート体等の適宜な薄葉体等を挙げることができるが、表面平滑性に優れる点から樹脂フィルムが好適に用いられる。
【０２１２】
その樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリウレタンフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム等が挙げられる。
【０２１３】
前記離型フィルムの厚さは、通常５〜２００μｍであり、好ましくは５〜１００μｍ程度である。前記離型フィルムには、必要に応じて、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系もしくは脂肪酸アミド系の離型剤、シリカ粉等による離型及び防汚処理や、塗布型、練り込み型、蒸着型等の帯電防止処理をすることもできる。特に、前記離型フィルムの表面にシリコーン処理、長鎖アルキル処理、フッ素処理等の剥離処理を適宜行うことにより、前記粘着剤層からの剥離性をより高めることができる。
【０２１４】
前記透明樹脂フィルム基材としては、特に制限されないが、透明性を有する各種の樹脂フィルムが用いられる。当該樹脂フィルムは１層のフィルムにより形成されている。例えば、その材料として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。これらの中で特に好ましいのは、ポリエステル系樹脂、ポリイミド系樹脂及びポリエーテルスルホン系樹脂である。
【０２１５】
前記フィルム基材の厚さは、１５〜２００μｍであることが好ましく、２５〜１８８μｍであることがより好ましい。
【０２１６】
上記粘着剤組成物を上記基材上に塗布する方法は、ロールコート、キスロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、ディップロールコート、バーコート、ナイフコート、エアーナイフコート、カーテンコート、リップコート、ダイコーター等公知適宜な方法を用いることができ、特に制限されない。
【０２１７】
前記粘着剤層は、前記粘着剤組成物から形成される塗布膜を乾燥して形成する場合、その乾燥条件（温度、時間）は、特に限定されるものではなく、粘着剤組成物の組成、濃度等により適宜設定することができるが、例えば、６０〜１７０℃程度、好ましくは６０〜１５０℃で、１〜６０分間、好ましくは２〜３０分間である。
【０２１８】
前記粘着剤組成物が紫外線硬化型粘着剤組成物であって、当該紫外線硬化型粘着剤組成物から形成される塗布膜に紫外線を照射して形成する場合、照射する紫外線の照度は、５ｍＷ／ｃｍ２以上が好ましい。当該紫外線の照度が５ｍＷ／ｃｍ２未満であると、重合反応時間が長くなり、生産性に劣ることがある。なお、当該紫外線の照度は２００ｍＷ／ｃｍ２以下が好ましい。当該紫外線の照度が２００ｍＷ／ｃｍ２を超えると、光重合開始剤が急激に消費されるため、重合体の低分子量化が起こり、特に高温での保持力が低下することがある。また、紫外線の積算光量は、１００ｍＪ／ｃｍ２〜５０００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましい。
【０２１９】
本発明に用いられる紫外線ランプは、特に限定されるものではないが、ＬＥＤランプが好ましい。ＬＥＤランプは他の紫外線ランプに比べて放出熱が低いランプであるため、粘着剤層の重合中の温度を抑えることができる。そのため、重合体の低分子量化を防ぐことができ、粘着剤層の凝集力の低下を防ぐとともに粘着シートとした場合の高温における保持力を高めることができる。また、複数の紫外線ランプを組み合わせることも可能である。また、紫外線を間欠的に照射し、紫外線を照射する明期と紫外線を照射しない暗期とを設けることもできる。
【０２２０】
本発明において、紫外線硬化型粘着剤組成物中のモノマー成分の最終的な重合率は９０％以上が好ましく、９５％以上がより好ましく、９８％以上が更に好ましい。
【０２２１】
本発明において、上記紫外線硬化型粘着剤組成物に照射する紫外線のピーク波長は、２００〜５００ｎｍの範囲内にあることが好ましく、３００〜４５０ｎｍの範囲内にあることがより好ましい。紫外線のピーク波長が５００ｎｍを超えると、光重合開始剤が分解せず、重合反応が開始しないことがある。また、紫外線のピーク波長が２００ｎｍ未満であると、ポリマー鎖が切断され、接着特性が低下することがある。
【０２２２】
反応は空気中の酸素に阻害されるため、酸素を遮断するために、紫外線硬化型アクリル系粘着剤組成物から形成される塗布膜上に離型フィルム等を形成したり、光重合反応を窒素雰囲気下で行ったりすることが好ましい。離型フィルムとしては、前述のものを挙げることができる。なお、離型フィルムを用いた場合、当該離型フィルムはそのまま粘着剤層付き偏光フィルムのセパレータとして用いることができる。
【０２２３】
また、本発明で用いる紫外線硬化型粘着剤組成物が、色素化合物（さらには紫外線吸収剤）を含む場合、アルキル（メタ）アクリレートを含有するモノマー成分と前記光重合開始剤（Ｂ）（「前添加重合開始剤」ということもある）を含む組成物に紫外線を照射して、前記モノマー成分の部分重合物を形成し、前記モノマー成分の部分重合物に、色素化合物（さらには紫外線吸収剤）、並びに波長４００ｎｍ以上に吸収帯を有する光重合開始剤（Ａ）（「後添加重合開始剤」ということもある）を添加して、紫外線硬化型粘着剤組成物を作製することが好ましい。部分重合物の重合率は、２０％以下程度であることが好ましく、３〜２０％程度がより好ましく、５〜１５％程度がさらに好ましい。紫外線の照射条件は前述の通りである。
【０２２４】
前述の通り、色素化合物（さらには紫外線吸収剤）を含有する紫外線硬化型粘着剤組成物から粘着剤層を形成する場合、前述のような２段階で重合することにより、モノマー成分の重合率を上げることができ、かつ、最終的に作製された粘着剤層の紫外線吸収機能を向上することができる。
【０２２５】
粘着剤層の厚さは、１２μｍ以上であることが好ましく、５０μｍ以上であることがより好ましく、１００μｍ以上であることがさらに好ましく、１５０μｍ以上であることが特に好ましい。粘着剤層の厚さの上限値は特に限定されないが、１ｍｍ以下であることが好ましい。粘着剤層の厚さが１ｍｍを超えると紫外線の透過が困難になり、モノマー成分の重合に時間がかかる他、加工性や工程での巻き取り、搬送性に問題を生じ、生産性が劣る場合があるため、好ましくない。
【０２２６】
本発明の粘着剤層のゲル分率は、特に限定されるものではないが、３５％以上であることが好ましく、５０％以上であることがより好ましく、７５％以上であることがさらに好ましく、８５％以上であることが特に好ましい。粘着剤層のゲル分率が小さい場合には、加工性やハンドリング性に問題が出る場合がある。
【０２２７】
前記粘着剤層は、厚さ２５μｍで測定したヘイズ値が２％以下であることが好ましく、０〜１．５％であることがより好ましく、０〜１．０％であることがさらに好ましい。ヘイズが前記範囲にあることで、粘着剤層が高い透明性を有するため好ましい。
【０２２８】
前記粘着剤層が露出する場合には、実用に供されるまで離型フィルムで粘着剤層を保護してもよい。
【０２２９】
（１−２）偏光フィルム
前記偏光フィルムは、偏光子の少なくとも一方の面に透明保護フィルムを有するものを挙げることができる。
【０２３０】
（１−２−１）偏光子４
偏光子は、特に限定されず、各種のものを使用できる。偏光子としては、例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。これらの中でも、ポリビニルアルコール系フィルムとヨウ素等の二色性物質からなる偏光子が好適である。これらの偏光子の厚さは特に制限されないが、一般的に５〜８０μｍ程度である。
【０２３１】
ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸した偏光子は、例えば、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の３〜７倍に延伸することで作製することができる。必要に応じてホウ酸や硫酸亜鉛、塩化亜鉛等を含んでいても良いヨウ化カリウム等の水溶液に浸漬することもできる。さらに必要に応じて染色前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗してもよい。ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することでポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるほかに、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることで染色のムラ等の不均一を防止する効果もある。延伸はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら延伸しても良いし、また延伸してからヨウ素で染色しても良い。ホウ酸やヨウ化カリウム等の水溶液や水浴中でも延伸することができる。
【０２３２】
また、本発明においては、厚さが１０μｍ以下の薄型偏光子も用いることができる。薄型化の観点から言えば当該厚さは１〜７μｍであるのが好ましい。このような薄型の偏光子は、厚みムラが少なく、視認性が優れており、また寸法変化が少ないため耐久性に優れ、さらには偏光フィルムとしての厚さも薄型化が図れる点が好ましい。
【０２３３】
薄型の偏光子としては、代表的には、特開昭５１−０６９６４４号公報や特開２０００−３３８３２９号公報や、国際公開第２０１０／１００９１７号パンフレット、国際公開第２０１０／１００９１７号パンフレット、又は特許４７５１４８１号明細書や特開２０１２−０７３５６３号公報に記載されている薄型偏光膜を挙げることができる。これら薄型偏光膜は、ポリビニルアルコール系樹脂（以下、ＰＶＡ系樹脂ともいう）層と延伸用樹脂基材を積層体の状態で延伸する工程と染色する工程を含む製法により得ることができる。この製法であれば、ＰＶＡ系樹脂層が薄くても、延伸用樹脂基材に支持されていることにより延伸による破断等の不具合なく延伸することが可能となる。
【０２３４】
前記薄型偏光膜としては、積層体の状態で延伸する工程と染色する工程を含む製法の中でも、高倍率に延伸できて偏光性能を向上させることのできる点で、国際公開第２０１０／１００９１７号パンフレット、国際公開第２０１０／１００９１７号パンフレット、又は特許４７５１４８１号明細書や特開２０１２−０７３５６３号公報に記載のあるようなホウ酸水溶液中で延伸する工程を含む製法で得られるものが好ましく、特に特許４７５１４８１号明細書や特開２０１２−０７３５６３号公報に記載のあるホウ酸水溶液中で延伸する前に補助的に空中延伸する工程を含む製法により得られるものが好ましい。
【０２３５】
（１−２−２）透明保護フィルム３
本発明で用いる透明保護フィルム３は、偏光子４の視認側に配置されるものであるが、偏光子４の有機ＥＬパネル側にも透明保護フィルムを配置することができる。
【０２３６】
透明保護フィルムについては、従来から用いられているものを適宜用いることができる。具体的には、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性等に優れる材料（ベースポリマー）から形成される透明保護フィルムが好ましく、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー等が挙げられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロ系ないしはノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、又は、前記ポリマーのブレンド物等も前記透明保護フィルムを形成するポリマーの例として挙げられる。透明保護フィルムは、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型、紫外線硬化型の樹脂の硬化層として形成することもできる。
【０２３７】
透明保護フィルムの厚さは、適宜に決定しうるが、一般には強度や取扱性等の作業性、薄膜性等の点より１〜５００μｍ程度である。
【０２３８】
（１−２−３）接着剤層
前記偏光子と透明保護フィルムとは、水系接着剤等を介して密着することが好ましい。水系接着剤としては、イソシアネート系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤、ゼラチン系接着剤、ビニル系ラテックス系、水系ポリウレタン、水系ポリエステル等を例示できる。上記の他、偏光子と透明保護フィルムとの接着剤としては、紫外硬化型接着剤、電子線硬化型接着剤等が挙げられる。電子線硬化型偏光フィルム用接着剤は、上記各種の視認側透明保護フィルムに対して、好適な接着性を示す。また本発明で用いる接着剤には、金属化合物フィラーを含有させることができる。
【０２３９】
（１−２−４）表面処理層：機能層
前記透明保護フィルムの偏光子を接着させない面には、ハードコート層や反射防止層、スティッキング防止層等の機能層を形成することができ、また、拡散ないしアンチグレアを目的とした処理を施したものであっても良い。
【０２４０】
前記ハードコート層としては、例えば、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂等をベースポリマーとする硬化型樹脂からなる硬化被膜が、好ましく用いられる。前記硬化型樹脂は、分子中に少なくとも一つの重合性二重結合を有する官能基を有する活性エネルギー線硬化型化合物として用いることができる。前記ハードコート層の厚みとしては、０．１〜３０μｍが好ましい。
【０２４１】
前記機能層に光安定剤（ＨＡＬＳ）、酸化防止剤等を添加することもできる。
【０２４２】
（１−３）位相差フィルム５
前記位相差フィルムは、遅相軸方向の屈折率をｎｘ、面内の進相軸方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈折率をｎｚとした場合に、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙ、ｎｚ＝ｎｘ＞ｎｙ、ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙ、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙ、の関係を満足するものが、各種用途に応じて選択して用いられる。なお、ｎｘ＝ｎｙとは、ｎｘとｎｙが完全に同一である場合だけでなく、実質的にｎｘとｎｙが同じ場合も含む。また、ｎｙ＝ｎｚとは、ｎｙとｎｚが完全に同一である場合だけでなく、実質的にｎｙとｎｚが同じ場合も含む。
【０２４３】
本発明においては、有機ＥＬ表示装置に用いるため、前記位相差フィルムは、正面レターデーションを１／４波長（約１００〜１７０ｎｍ）とした１／４波長板であることが好ましい。前記偏光フィルムと１／４波長板を積層することで、有機ＥＬ表示装置の反射防止用の円偏光フィルムとして機能するため好ましい。
【０２４４】
すなわち、この有機ＥＬ表示装置に入射する外部光は、偏光フィルムにより直線偏光成分のみが透過する。この直線偏光は位相差フィルムにより一般に楕円偏光となるが、とくに位相差板が１／４波長板で、しかも位相差フィルムとの偏光方向のなす角がπ／４のときには円偏光となる。
【０２４５】
この円偏光は、有機ＥＬパネル中の透明基板、透明電極、有機薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び有機薄膜、透明電極、透明基板を透過して、位相差フィルムで再び直線偏光となる。そして、この直線偏光は、偏光フィルムの偏光方向と直交しているので、偏光板を透過できない。その結果、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
【０２４６】
位相差フィルムとしては、高分子素材を一軸または二軸延伸処理してなる複屈折性フィルム、液晶ポリマーの配向フィルム、液晶ポリマーの配向層をフィルムにて支持したものなどが挙げられる。
【０２４７】
高分子素材（ベースポリマー）としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリメチルビニルエーテル、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリアリルスルホン、ポリアミド、ポリイミド、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、セルロース系重合体、シクロオレフィン系樹脂、またはこれらの二元系、三元系各種共重合体、グラフト共重合体、ブレンド物などが挙げられる。これらの高分子素材は延伸等により配向物（延伸フィルム）となる。
【０２４８】
液晶ポリマー（ベースポリマー）としては、例えば、液晶配向性を付与する共役性の直線状原子団（メソゲン）がポリマーの主鎖や側鎖に導入された主鎖型や側鎖型の各種のものなどが挙げられる。主鎖型の液晶ポリマーの具体例としては、屈曲性を付与するスペーサ部でメソゲン基を結合した構造の、例えばネマチック配向性のポリエステル系液晶性ポリマー、ディスコティックポリマーやコレステリックポリマーなどが挙げられる。側鎖型の液晶ポリマーの具体例としては、ポリシロキサン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート又はポリマロネートを主鎖骨格とし、側鎖として共役性の原子団からなるスペーサ部を介してネマチック配向付与性のパラ置換環状化合物単位からなるメソゲン部を有するものなどが挙げられる。これらの液晶ポリマーは、例えば、ガラス板上に形成したポリイミドやポリビニルアルコール等の薄膜の表面をラビング処理したもの、酸化ケイ素を斜方蒸着したものなどの配向処理面上に液晶性ポリマーの溶液を展開して熱処理することにより行われる。
【０２４９】
（１−４）粘着剤層６、層間粘着剤層（又は接着剤層）
本発明で用いる粘着剤層６（有機ＥＬパネル側の粘着剤層）としては、層間粘着剤層（又は接着剤層）、前記粘接着剤層の粘着剤層と同様のものを挙げることができるが、その中でも、（メタ）アクリル系ポリマーをベースポリマーとする（メタ）アクリル系粘着剤組成物から形成されるアクリル系粘着剤層が好ましい。また、ゴム系ポリマーをベースポリマーとするゴム系粘着剤組成物から形成されるゴム粘着剤層を好ましく適用できる。また、粘着剤層の製造方法や好ましい態様等も同様のものを挙げることができる。
【０２５０】
粘着剤層の厚みとしては、特に限定されるものではないが、１０〜７５μｍ程度であることが好ましく、１２〜５０μｍ程度であることがより好ましい。
【０２５１】
（１−５）その他の層
前記（有機ＥＬパネル側）透明保護フィルムとしては、透明保護フィルム３と同様のものを例示することができ、前記有機ＥＬパネル側第１粘着剤層（又は接着剤層）としては、本明細書中のいかなる粘着剤層、接着剤層も好適に使用することができる。
【０２５２】
≪光学部材の透過率≫
本発明の組成物から形成される光学部材（各層）の波長３８０ｎｍにおける透過率は、１５％以下であることが好ましく、１０％以下であることがより好ましく、７％以下であることがさらに好ましく、３％以下であることが特に好ましい。波長３８０ｎｍにおける透過率が前記範囲であることにより、入射する紫外線をより高度に遮断することができるため、有機ＥＬ素子の劣化を著しく抑制することができる。
【０２５３】
また本発明の組成物から形成される光学部材（各層）の波長４００ｎｍにおける透過率は、１５％以下であることが好ましく、１０％以下であることがより好ましく、７％以下であることがさらに好ましく、３％以下であることが特に好ましい。波長４００ｎｍにおける透過率が前記範囲であることにより、入射する紫外線をより高度に遮断することができるため、有機ＥＬ素子の劣化を著しく抑制することができる。
【０２５４】
一方、本発明の組成物から形成される光学部材（各層）の波長４４０ｎｍにおける透過率は、６０％以上であることが好ましく、７５％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましい。波長４４０ｎｍにおける透過率が前記範囲であることにより、有機ＥＬ素子の発光を十分に透過することができ、有機ＥＬ表示装置において十分な表示性能を確保できるため好ましい。
【０２５５】
≪光学積層体の透過率≫
前記光学積層体の波長３８０ｎｍにおける透過率が、９％以下であることが好ましく、７％以下であることがより好ましく、５％以下であることがさらに好ましく、３％以下であることが特に好ましい。波長３８０ｎｍにおける透過率が前記範囲であることにより、入射する紫外線をより高度に遮断することができるため、有機ＥＬ素子の劣化を著しく抑制することができるため、好ましい。
【０２５６】
また、前記光学積層体の波長４００ｎｍにおける透過率は、２０％以下であることが好ましく、１５％以下であることが好ましく、１０％以下であることがより好ましい。波長４００ｎｍにおける透過率が前記範囲であることにより、入射する紫外線をより高度に遮断することができるため、有機ＥＬ素子の劣化を著しく抑制することができるため、好ましい。
【０２５７】
また、前記光学積層体の波長４４０ｎｍにおける透過率は、２５％以上であることが好ましく、３０％以上であることが好ましく、３３％以上であることがより好ましい。波長４４０ｎｍにおける透過率が前記範囲であることにより、有機ＥＬ素子の発光を十分に透過することができ、有機ＥＬ表示装置において十分な表示性能を確保できるため好ましい。
【０２５８】
≪有機ＥＬ表示装置≫
本発明の有機ＥＬ表示装置は、前記光学積層体１と、有機ＥＬパネルを含むものであって、その他の層を含むこともできる。具体的には、図２に示すように、視認側から、カバー部材７／粘接着剤層２／保護フィルム３／偏光子４／位相差フィルム５／粘着剤層６／有機ＥＬパネル８がこの順に積層された有機ＥＬ表示装置１０が好ましく、カバー部材７／粘接着剤層２／（視認側）保護フィルム３／偏光子４／有機ＥＬパネル側保護フィルム／有機ＥＬパネル側第１粘着剤層（又は接着剤層）／位相差フィルム５／（有機ＥＬパネル側第２）粘着剤層６／有機ＥＬパネル８がこの順に積層された有機ＥＬ表示装置等も挙げることができる。また、これら以外にも、ハードコート層、防眩処理層、反射防止層等の機能層や、センサー層、またこれらを積層するための粘着剤層や接着剤層等を含む構成を挙げることができる。
【０２５９】
前記カバー部材は、特に限定されるものではなく、本分野において通常用いられているものを好適に用いることができ、カバーガラス、カバープラスチック等を挙げることができる。また、有機ＥＬパネルは、特に限定されるものではなく、本分野において通常用いられているものを好適に用いることができ、例えば、基材と、前記基材の上に並んで設けられた複数の有機ＥＬ素子と、前記有機ＥＬ素子の上に設けられた保護層と、前記保護層の上に設けられた封止フィルムと、を有するパネルを挙げることができる。  
【０２６０】
以下では、本発明の一般式（１）で表される化合物を含有する光学部材を、透明導電性フィルムに用いる場合を説明する。前記透明導電性フィルムは、透明基材フィルム及び透明導電層を含む。
【０２６１】
図３に示すように、透明導電性フィルム２０として、例えば、透明導電層２２／中間層２３／透明基材フィルム２１、がこの順に積層されたものを例示することができる。中間層２３は任意に設けることができる。前記中間層としては、屈折率調整層、易接着剤層、ハードコート層、クラッキング防止層等が挙げられ、これらから選ばれるいずれか少なくとも１つを用いることができる。本発明の一般式（１）で表される化合物を含有する光学部材は、前記透明導電性フィルムを形成する透明基材フィルム、又は中間層として用いることができる。また、透明導電性フィルム２０には、透明基材フィルム２１において、透明導電層２２を設けていない側に、アンチブロッキング層２４を設けることができる。アンチブロッキング層を本発明の一般式（１）で表される化合物を含有する光学部材として用いることができる。
【０２６２】
透明導電性フィルム２０が、中間層２３、アンチブロッキング層２４を有する場合には、例えば、下記態様を例示できる。
態様１：透明導電層２２／中間層２３（屈折率調整層）／透明基材フィルム２１／アンチブロッキング層２４。
態様２：透明導電層２２／中間層２３（屈折率調整層／ハードコート層）／透明基材フィルム２１／アンチブロッキング層２４。
態様３：透明導電層２２／中間層２３（クラック防止層）／透明基材フィルム２１／アンチブロッキング層２４。
態様４：透明導電層２２／中間層２３（クラック防止層／易接着剤層）／透明基材フィルム２１／アンチブロッキング層２４。
態様５：透明導電層２２／中間層２３（屈折率調整層／ハードコート層／易接着剤層）／透明基材フィルム２１／アンチブロッキング層２４。
【０２６３】
前記透明導電性フィルムにおいて、本発明の一般式（１）で表される化合物を含有する光学部材は、前記透明導電性フィルムを形成する透明基材フィルム、又は中間層として用いることが好ましい。本発明の一般式（１）で表される化合物を含有する光学部材を、アンチブロッキング層に適用した場合には、アンチブロッキング層中のアンチブロッキング粒子の密着性への不具合により、耐擦傷性の確保が困難になるおそれがある。
【０２６４】
（２−１）透明基材フィルム２１
透明基材フィルムの材料（ベースポリマー）としては、特に制限されないが、透明性を有する各種のプラスチック材料があげられる。例えば、その材料（ベースポリマー）として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂などのポリシクロオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。これらの中で特に好ましいのは、ポリシクロオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂である。
【０２６５】
前記透明基材フィルムの厚さは、通常、３０〜２５０μｍであるのが好ましく、より好ましくは４５〜２００μｍである。
【０２６６】
（２−２）透明導電層２２
透明導電層の構成材料としては特に限定されず、インジウム、スズ、亜鉛、ガリウム、アンチモン、チタン、珪素、ジルコニウム、マグネシウム、アルミニウム、金、銀、銅、パラジウム、タングステンからなる群より選択される少なくとも１種の金属の金属酸化物が用いられる。当該金属酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属原子を含んでいてもよい。例えば酸化スズを含有する酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンを含有する酸化スズ（ＡＴＯ）などが好ましく用いられる。
【０２６７】
透明導電層の厚さは特に制限されないが、その表面抵抗を１×１０３Ω／□以下の良好な導電性を有する連続被膜とするには、厚さ１０ｎｍ以上とするのが好ましい。膜厚が、厚くなりすぎると透明性の低下などをきたすため、１５〜３５ｎｍであることが好ましく、より好ましくは２０〜３０ｎｍの範囲内である。
【０２６８】
透明導電層の形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を採用することができる。具体的には、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法を例示できる。また、必要とする膜厚に応じて適宜の方法を採用することもできる。なお、透明導電層を形成した後、必要に応じて、１００〜１５０℃の範囲内でアニール処理を施して結晶化することができる。
【０２６９】
（２−３−１）中間層２３：屈折率調整層
屈折率調整層は、無機物、有機物または無機物と有機物との混合物により形成することができる。例えば、無機物として、ＮａＦ（１．３）、Ｎａ３ＡｌＦ６（１．３５）、ＬｉＦ（１．３６）、ＭｇＦ２（１．３８）、ＣａＦ２（１．４）、ＢａＦ２（１．３）、ＳｉＯ２（１．４６）、ＬａＦ３（１．５５）、ＣｅＦ３（１．６３）、Ａｌ２Ｏ３（１．６３）などの無機物〔上記各材料の（ ）内の数値は光の屈折率である〕があげられる。また有機物としてはアクリル樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系ポリマー、有機シラン縮合物などがあげられ、これら有機物をベースポリマーとして用いることができる。これらベースポリマーは、少なくとも１種が用いられる。
【０２７０】
屈折率調整層は、平均粒径が１ｎｍ〜５００ｎｍ、好ましくは、５ｎｍ〜３００ｎｍのナノ微粒子を有していてもよい。屈折率調整層中のナノ微粒子の含有量は好ましくは０．１重量％〜９０重量％、より好ましくは１０重量％〜８０重量％が、さらに好ましくは２０重量％〜７０重量％である。屈折率調整層中にナノ微粒子を含有することによって、屈折率調整層自体の屈折率の調整を容易に行うことができる。
【０２７１】
ナノ微粒子を形成する無機酸化物としては、例えば、酸化ケイ素（シリカ）、中空ナノシリカ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム等の微粒子があげられる。これらの中でも、酸化ケイ素（シリカ）、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウムの微粒子が好ましい。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０２７２】
前記屈折率調整層の厚さは、特に制限されるものではないが、光学設計、前記透明基材フィルムからのオリゴマー発生防止効果の点から、通常、１０ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍ〜１５０ｎｍであることがより好ましく、２０ｎｍ〜１３０ｎｍであることがさらに好ましい。
【０２７３】
（２−３−２）中間層２３：ハードコート層
ハードコート層は、有機成分（ベースポリマー）等を含む塗工液により形成され、ハードコート層は、有機成分（ベースポリマー）等を含む塗工液により形成され、ハードコート層を形成することにより局所的に過大な凹凸が埋められ、これにより透明導電層の表面一様性を高めることができ、透明導電性フィルムの耐屈曲性を高めることができる。
【０２７４】
前記ハードコート層の厚みは特に限定されないものの、０．５μｍ以上３μｍ以下であることが好ましく、０．８μｍ以上２μｍ以下であることがより好ましい。
【０２７５】
前記有機成分としては特に限定されず、紫外線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂等が用いられる。加工速度の早さや透明基材フィルムへの熱ダメージを抑制する観点からは、紫外線硬化型樹脂を用いることが特に好ましい。このような紫外線硬化型樹脂としては、例えば、光（紫外線）により硬化するアクリレート基およびメタクリレート基の少なくとも一方の基を有する硬化型化合物を用いることができる。硬化型化合物としては、例えば、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物のアクリレートやメタクリレート等のオリゴマーまたはプレポリマー等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０２７６】
ハードコート層には、無機成分を含有することができる。無機成分としては、例えば、酸化ケイ素（シリカ）、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム等の無機酸化物の微粒子ないし微粉末があげられる。無機成分は、ハードコート層の着色防止及び透明性の点等から、最頻粒子径が１ｎｍ〜１００ｎｍのナノ粒子であることが好ましく、５ｎｍ〜８０ｎｍの範囲のナノ粒子であることがより好ましく、１０ｎｍ〜６０ｎｍの範囲のナノ粒子であることがさらに好ましい。このように、ナノ粒子の最頻粒子径が小さければ、可視光の散乱が生じ難く、有機成分とナノ粒子の屈折率が異なる場合であっても、ハードコート層のヘイズが大幅に増大することが抑制される。
【０２７７】
ハードコート層は、上記ナノ粒子に加え、又はナノ粒子に代えて、表面凹凸や光学特性の制御等を目的として、ナノ粒子より粒径の大きい粗粒子を含んでいてもよい。粗粒子の最頻粒子径は、ハードコート層の厚みとの関係を考慮する必要があるものの、０．５μｍ〜３．０μｍの範囲であることが好ましく、１．０μｍ〜２．５μｍであることがより好ましく、１．５μｍ〜２．０μｍであることがさらに好ましい。
【０２７８】
ハードコート層の形成材料には、有機成分、無機成分及び粗粒子に加えて、さらに各種の添加剤を加えることもできる。添加剤としては、例えば有機成分を硬化してハードコート層を形成するための重合開始剤や、レベリング剤、顔料、充填剤、分散剤、可塑剤、紫外線吸収剤、界面活性剤、酸化防止剤、チクソトロピー化剤等を使用することができる。ハードコート層の形成材料は、適宜に溶媒を含むことができる。
【０２７９】
（２−３−３）中間層２３：クラック防止層
クラック防止層は、例えば、特開２０１７−２２４２６９号公報において硬化樹脂層として記載されているものを用いることができる。クラック防止層は、上記透明基材フィルムの厚みが大きい場合にも透明導電層のクラックを防止して所期の電気特性を発揮することができる。
【０２８０】
クラック防止層の厚みは特に制限されるものではないが、耐湿熱性、前記透明樹脂フィルム１からのオリゴマー発生防止効果、及び光学特性の点から、１５０ｎｍ以下であり、好ましくは２０〜１００ｎｍ程度であり、より好ましくは３０〜５０ｎｍである。なお、クラック防止層２を２層以上設ける場合、各層の厚みは、２０〜６０ｎｍ程度であり、好ましくは２５〜５５ｎｍである。
【０２８１】
クラック防止層は、例えば、重量平均分子量が１５００以上のエポキシ樹脂を含む樹脂組成物を硬化したクラック防止層を用いることができる。前記エポキシ樹脂は、ゴム変性エポキシ樹脂であることが好ましい。これによりクラック防止層に靭性や耐衝撃性を好適に付与することができる。エポキシ樹脂を変性するためのゴム成分としては特に限定されず、ブタジエンゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブチルゴム、ニトリルゴム、天然ゴム、イソプレンゴム、クロロプレンゴム、エチレン−プロピレンゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム、エチレン−酢酸ビニルゴム、エピクロルヒドリンゴム等が挙げられる。中でも、靭性や耐薬品性の点で、ブタジエンゴムが好ましい。ゴム変性エポキシ樹脂は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０２８２】
上記樹脂組成物は、硬化促進剤を含むことが好ましい。これによりエポキシ樹脂の硬化反応を迅速かつ十分に進行させることができ、膜強度の高い硬化物膜を形成することができる。硬化促進剤としては特に限定されず、例えば、オクタン酸，ステアリン酸，アセチルアセトネート，ナフテン酸，サリチル酸等の有機酸の亜鉛，銅，鉄、アンチモン等の有機金属塩；金属キレート等が挙げられる。中でも、硬化促進剤はアンチモンを含むことが好ましい。アンチモン含有硬化促進剤は、樹脂組成物の硬化反応を迅速かつ十分に進行させることができ、より強固な硬化物膜を効率的に形成することができる。なお、硬化促進剤は単独で、又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【０２８３】
硬化促進剤の含有量は、特に限定されないが、樹脂組成物中に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量（１００重量部）に対して、０．００５〜５重量部が好ましく、より好ましくは０．０１〜４重量部、さらに好ましくは０．０１〜１重量部である。硬化促進剤の含有量が上記下限を下回ると、硬化促進効果が不十分となる場合がある。
【０２８４】
前記樹脂組成物には、エポキシ樹脂のほか、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、アミド樹脂、シリコーン樹脂等を適宜配合してもよい。さらに樹脂組成物には各種の添加剤を加えることもできる。添加剤としては、例えばレベリング剤、顔料、充填剤、分散剤、可塑剤、紫外線吸収剤、界面活性剤、酸化防止剤、チクソトロピー化剤等を使用することができる。
【０２８５】
（２−３−４）中間層２３：易接着剤層
前記易接着層を形成するベースポリマーとしては、例えば、ポリエステル骨格、ポリエーテル骨格、ポリカーボネート骨格、ポリウレタン骨格、シリコーン系、ポリアミド骨格、ポリイミド骨格、ポリビニルアルコール骨格等を有する各種樹脂を用いることができる。これらポリマー樹脂は１種を単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０２８６】
また易接着層の形成にあたっては、前記ベースポリマーには添加剤を加えてもよい。具体的にはさらには粘着付与剤、紫外線吸収剤、耐熱安定剤などの安定剤等を用いてもよい。易接着層の膜厚は０．０１〜２０μｍであることが好ましい。
【０２８７】
（２−４）アンチブロッキング層２４
アンチブロッキング層は、バインダー樹脂（ベースポリマー）及び粒子を含む樹脂組成物の硬化物層であり、表面に平坦部及び隆起部を有しており、これらによりハンドリング性と低反射特性とを高いレベルで発揮することができる。アンチブロッキング層の平坦部の厚みは、特に限定されないものの、２００ｎｍ以上３０μｍ以下であることが好ましく、５００ｎｍ以上１０μｍ以下であることがより好ましく、８００ｎｍ以上５μｍ以下であることがさらに好ましい。
【０２８８】
粒子の最頻粒子径は、最表面層の隆起部のサイズやアンチブロッキング層の平坦部の厚みとの関係などを考慮して適宜設定することができ、特に限定されない。なお、透明導電性フィルムに耐ブロッキング性を十分に付与し、かつ光散乱等を十分に抑制するという観点から、粒子の最頻粒子径は５００ｎｍ以上３０μｍ以下であることが好ましく、８００ｎｍ以上２０μｍ以下であることがより好ましく、１μｍ以上１０μｍ以下であることがより好ましい。なお、本明細書において、「最頻粒子径」とは、粒子分布の極大値を示す粒径をいい、フロー式粒子像分析装置（Ｓｙｓｍｅｘ社製、製品名「ＦＰＩＡ−３０００Ｓ」）を用いて、所定条件下（Ｓｈｅａｔｈ液：酢酸エチル、測定モード：ＨＰＦ測定、測定方式：トータルカウント）で測定することによって求められる。測定試料は、粒子を酢酸エチルで１．０重量％に希釈し、超音波洗浄機を用いて均一に分散させたものを用いる。
【０２８９】
隆起部の高さは、要求される滑り性等を考慮して設定される。隆起部、すなわちアンチブロッキング層の平坦部から上に突出する部分の高さは、アンチブロッキング層の平坦部の厚みや粒子の最頻粒子径等によって制御することができる。隆起部の高さは、好ましくは１００ｎｍ以上３μｍ以下であり、より好ましくは２００ｎｍ以上２μｍ以下であり、さらに好ましくは３００ｎｍ以上１．５μｍ以下である。隆起部の高さを上記範囲に設定することで、透明導電性フィルムの耐ブロッキング性を満足すると同時に、光散乱や偏光解消を十分に抑えることができる。
【０２９０】
粒子は多分散粒子及び単分散粒子のいずれでもよいが、隆起部の付与の容易性や光散乱防止性等を考慮すると単分散粒子が好ましい。単分散粒子の場合は、粒子の粒径と最頻粒子径とが実質的に同一と見なすことができる。
【０２９１】
アンチブロッキング層中の粒子の含有量は、樹脂組成物の固形分１００重量部に対して０．０１〜５重量部であることが好ましく、０．０２〜１重量部であることがより好ましく、０．０５〜０．５重量部であることがさらに好ましい。
【０２９２】
アンチブロッキング層を形成する樹脂組成物におけるバインダー樹脂としては粒子の分散が可能で、アンチブロッキング層形成後の皮膜として十分な強度を持ち、透明性のあるものを特に制限なく使用できる。用いるバインダー樹脂としては熱硬化型樹脂、熱可塑型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、二液混合型樹脂などがあげられるが、これらのなかでも紫外線照射による硬化処理にて、簡単な加工操作にて効率よく皮膜を形成することができる紫外線硬化型樹脂が好適である。
【０２９３】
紫外線硬化型樹脂としては、ポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アミド系、シリコーン系、エポキシ系等の各種のものがあげられ、紫外線硬化型のモノマー、オリゴマー、ポリマー等が含まれる。好ましく用いられる紫外線硬化型樹脂は、例えば紫外線重合性の官能基を有するもの、なかでも当該官能基を２個以上、特に３〜６個有するアクリル系のモノマーやオリゴマー成分を含むものがあげられる。また、紫外線硬化型樹脂には、紫外線重合開始剤が配合されている。
【０２９４】
樹脂組成物には、前記材料に加えて、レベリング剤、チクソトロピー剤、帯電防止剤、可塑剤、界面活性剤、酸化防止剤、硬化触媒、及び紫外線吸収剤等の添加剤を用いることができる。チクソトロピー剤を用いると、微細凹凸形状表面における突出粒子の形成に有利であるこれら添加剤の含有量は、通常、紫外線硬化型樹脂１００重量部に対して、１５重量部以下程度、好ましくは０．０１〜１５重量部、とするのが好適である。アンチブロッキング層を形成する樹脂組成物は、適宜に溶媒を含むことができる。
【０２９５】
アンチブロッキング層２に含有される粒子としては、各種金属酸化物、ガラス、プラスチックなどの透明性を有するものを特に制限なく使用することができる。例えばシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化カルシウム等の無機系粒子、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリル系樹脂、アクリル−スチレン共重合体、ベンゾグアナミン、メラミン、ポリカーボネート等の各種ポリマーからなる架橋又は未架橋の有機系粒子やシリコーン系粒子などがあげられる。前記粒子は、１種または２種以上を適宜に選択して用いることができるが、有機系粒子が好ましい。有機系粒子としては、屈折率の観点から、アクリル系樹脂が好ましい。
【実施例】
【０２９６】
以下に、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。なお、各例中の部及び％はいずれも特記を除き重量基準である。
【０２９７】
以下で、得られた化合物の物性を測定する際に使用した機器及び測定条件は次の通りである。
（ＧＣ−ＭＳ）  （株）島津製作所製  ガスクロマトグラフ質量分析計ＧＣＭＳ−ＱＰ２０１０Ｐｌｕｓ（ＥＩ法）
（ＬＣ／ＭＳ）  （株）島津製作所製  高速液体クロマトグラフ質量分析計ＬＣＭＳ−２０１０ＥＶ（ＥＳＩ法）
【０２９８】
＜製造例１＞
化合物ＩＭ３、化合物ＩＭ５及び化合物ＩＭ６の合成
化合物ＩＭ３は、以下の方法で合成した。反応式を以下に示す。
【０２９９】
【化１５】
2018200463.tif 000016
【０３００】
（化合物ＩＭ２の合成）
冷却管及び温度計を付した１Ｌ四つ口フラスコに、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  １９５４，７６，１８７９に記載の２−ジメチルアミノ−４−ヒドロキシ−６−メチルピリミジンの合成において、Ｎ，Ｎ−ジメチルグアニジン硫酸塩を、ＢＥ６３９３８６に記載の方法と同様にして得た１，１−ジブチルグアニジン塩酸塩に代えた以外は同様にして、化合物ＩＭ１を得た。化合物ＩＭ１を用い、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  １９５７，４８４５ に記載の方法と同様の手順で、ライマー・チーマン（Ｒｅｉｍｅｒ−Ｔｉｅｍａｎｎ）反応によってホルミル化し、化合物ＩＭ２（１８．４ｇ，収率６９％）を得た。
ＧＣ−ＭＳ：ｍ／ｚ＝２６５（［Ｍ］＋）
【０３０１】
（化合物ＩＭ３の合成）
冷却管及び温度計を付した１００ｍＬ四つ口フラスコ中で、化合物ＩＭ２（１５．８ｇ）、ヨウ化エチル（１４ｇ）（東京化成工業株式会社製）、炭酸カリウム（１４ｇ）、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（６０ｍＬ）の混合液を７０℃で３時間撹拌した後、室温まで放冷させた。反応液を水（３００ｍＬ）に排出し、トルエン（３００ｍＬ）で抽出した。有機層を減圧濃縮することで化合物ＩＭ３（１７．３ｇ，収率９９％）を得た。
ＧＣ−ＭＳ：ｍ／ｚ＝２９３（［Ｍ］＋）
【０３０２】
化合物ＩＭ５及び化合物ＩＭ６は、以下の方法で合成した。反応式を以下に示す。下記式中のｐが５の化合物が、化合物ＩＭ５であり、ｐが６の化合物が、化合物ＩＭ６である。
【０３０３】
【化１６】
2018200463.tif 000017
【０３０４】
（化合物ＩＭ５の合成）
冷却管及び温度計を付した５０ｍＬ四つ口フラスコ中に、化合物ＩＭ２（２．７ｇ）、１，５−ジブロモペンタン（１．１ｇ）（東京化成工業株式会社製）、炭酸カリウム（１．７ｇ）、ＤＭＦ（２０ｍＬ）を仕込み、８０℃で２．５時間撹拌した。反応液を水に排出し、析出した結晶を濾過して取り出した。この結晶をメタノールで洗浄し、化合物ＩＭ５を２．１ｇ得た（収率７１％）。
【０３０５】
（化合物ＩＭ６の合成）
化合物ＩＭ５の合成における１，５−ジブロモペンタンを１，６−ジブロモヘキサン（東京化成工業株式会社製）に代えた以外は同様の手順で、化合物ＩＭ６を得た（収率８２％）。
【０３０６】
＜製造例２＞
化合物Ｃ１〜Ｃ５を合成した。化合物Ｃ１は、下記式で表される化合物である。
【０３０７】
【化１７】
2018200463.tif 000018
【０３０８】
化合物Ｃ２〜Ｃ４は、下記式で表される化合物である。化合物Ｃ２は、下記式中のＲが２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシル基である。化合物Ｃ３は、下記式中のＲが４−ｔ−ブチルシクロヘキシル基である。化合物Ｃ４は、下記式中のＲがｔ−ブチル基である。
【０３０９】
【化１８】
2018200463.tif 000019
【０３１０】
化合物Ｃ５は、下記式で表される化合物である。
【０３１１】
【化１９】
2018200463.tif 000020
【０３１２】
化合物Ｃ１〜Ｃ４を得た反応式を以下に示す。式中のｐ及び対応する化合物を、表１に示す。合成に使用した化合物ＩＭ１２、化合物ＩＭ１３及び化合物ＩＭ１４の構造を以下に示す。
【０３１３】
【化２０】
2018200463.tif 000021
【０３１４】
【表１】
2018200463.tif 000022
【０３１５】
【化２１】
2018200463.tif 000023
【０３１６】
（化合物Ｃ１の合成）
冷却管及び温度計を付した５０ｍＬ四つ口フラスコ中に、化合物ＩＭ６（２．０ｇ）、特開２０００−３１０８４１号公報に記載の方法と同様にして合成した化合物ＩＭ１２（２．０ｇ）、ピペリジン（０．０６ｇ）、エタノール（１３ｍＬ）を混合し、７５℃で１８時間撹拌した。室温まで放冷し、析出した結晶を濾過して取り出し、エタノールで洗浄して、化合物Ｃ１（３．５ｇ，収率９３％）を得た。
ＬＣ−ＭＳ：ｍ／ｚ＝１１６４（［Ｍ＋Ｈ］＋）
【０３１７】
（化合物Ｃ２の合成）
化合物Ｃ１の合成における化合物ＩＭ６を化合物ＩＭ５に代えた以外は同様の手順で、化合物Ｃ２を得た（収率８１％）。
ＬＣ−ＭＳ：ｍ／ｚ１１５０（［Ｍ＋Ｈ］＋）
【０３１８】
（化合物Ｃ３の合成）
化合物Ｃ１の合成における化合物ＩＭ６を化合物ＩＭ５に代え、化合物ＩＭ１２を、化合物ＩＭ１２の合成と同様にして得た化合物ＩＭ１３に代えた以外は同様の手順で、化合物Ｃ３を得た（収率６１％）。
ＬＣ−ＭＳ：ｍ／ｚ＝１０１０（［Ｍ＋Ｈ］＋）
【０３１９】
（化合物Ｃ４の合成）
化合物Ｃ１の合成における化合物ＩＭ６を化合物ＩＭ５に代え、化合物ＩＭ１２を化合物ＩＭ１４（東京化成工業株式会社製）に代えた以外は同様の手順で、化合物Ｃ４を得た（収率８０％）。
ＬＣ−ＭＳ：ｍ／ｚ＝８４６（［Ｍ＋Ｈ］＋）
【０３２０】
（化合物Ｃ５の合成）
冷却管及び温度計を付した２５ｍＬ四つ口フラスコ中で、化合物ＩＭ３（１．２ｇ）、ＩＭ１２（１．５ｇ）、ピペリジン（０．０２ｇ）、エタノール（４ｍＬ）の混合液を７５℃で１時間撹拌した。室温まで放冷し、析出している結晶を濾過して取り出した。得られた結晶をエタノールで洗浄し、化合物Ｃ５を１．９ｇ得た（収率８０％）。以下に反応式を示す。
ＬＣ−ＭＳ：ｍ／ｚ＝５６９（［Ｍ＋Ｈ］＋）
【０３２１】
【化２２】
2018200463.tif 000024
【０３２２】
＜比較製造例（比較例化合物）＞
【０３２３】
【化２３】
2018200463.tif 000025
【０３２４】
（比較例化合物Ｚ１の合成）
特開２０１１−１８４４１４号公報に記載の方法と同様にして、比較例化合物Ｚ１を得た。
【０３２５】
（比較例化合物Ｚ２の合成）
特開２０１４−１９４５０８号公報に記載の方法と同様にして、比較例化合物Ｚ２を得た。
【０３２６】
（比較例化合物Ｚ３の合成）
【０３２７】
特開２００９−０６７９７３号公報に記載の方法と同様にして、比較例化合物Ｚ３を得た。
（比較例化合物Ｚ４の合成）
ＵＳ２９８６５２８号公報に記載の方法と同様にして、比較例化合物Ｚ４を得た。
【０３２８】
各製造例で得られた化合物について、以下の評価を行った。結果を表２に示す。
＜分光特性試験＞
各化合物のクロロホルム中での吸収スペクトルを測定し、吸収極大波長（λｍａｘ）及び４００ｎｍにおけるグラム吸光係数を測定し下記基準により評価した。
測定機器：日本分光社製紫外可視分光光度計Ｖ−５６０
Ａ：グラム吸光係数が３０以上
Ｂ：グラム吸光係数が２０以上、３０未満
Ｃ：グラム吸光係数が１０以上、２０未満
Ｄ：グラム吸光係数が１０未満
【０３２９】
＜耐光性試験＞
製造例及び比較製造例で得た一部の化合物について、耐光性試験を行った。各化合物１０ｍｇを、ポリメタクリレート８重量％トルエン溶液５ｍＬに溶融し、ガラス基板上にスピンコート法により塗布し、乾燥させることで膜厚１．５μｍの薄膜を作製した。
作製した薄膜にキセノンランプ（１４２ｋｌｕｘ）の光を連続的に９６時間照射し、照射前（０時間）、照射後の薄膜の透過率を分光光度計で測定し、下記式（１）に従って色素残存率を測定した。
色素残存率（％）＝{（１−Ｔ１）／（１−Ｔ０）}×１００      （１）
［ただし、Ｔ０はキセノンランプ照射前の透過率、Ｔ１はキセノンランプ照射後の透過率であり、Ｔ０及びＴ１は０〜１である。］
なお、「透過率」とは、各化合物の吸収極大波長における透過率を表しており、色素残存率が高い程、化合物が光によって分解されにくく、耐光性が高いことを示す。
耐光性は、下記基準により評価した。
Ａ：色素残存率が６５％以上
Ｂ：色素残存率が４０％以上、６５％未満
Ｃ：色素残存率が１０％以上、４０％未満
Ｄ：色素残存率が１０％未満
【０３３０】
＜耐熱性＞
製造例及び比較製造例で得た一部の化合物について、（株）島津製作所製の熱重量測定装置ＴＧＡ−５０を使用して下記の測定条件で熱分解による重量減少を測定し、初期重量から１％減量した温度を分解開始温度として測定した。
（測定条件）
試料量５ｍｇ、昇温速度１０℃／分（最高到達温度４００℃）、窒素雰囲気中、流量１０ｍＬ／分の条件で測定した。
耐熱性は、分解開始温度から下記基準により評価した。
Ａ：２５０℃以上
Ｂ：２１０℃以上２５０℃未満
Ｃ：２１０℃未満
【０３３１】
＜溶解度試験＞
製造例で得た化合物及び比較製造例で得た一部の化合物について、それぞれ２０℃におけるトルエン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）に対する溶解度（重量％）を、以下の方法により測定した。
各化合物をガラス製試験管に秤り取り、溶媒を混合し２０℃で撹拌して溶解させ、その溶液の状態を目視観察し、溶解可能な重量濃度を評価した。
Ａ：３重量％以上溶解する
Ｂ：１重量％以上３重量％未満溶解する
Ｃ：１重量％未満しか溶解しない
【０３３２】
【表２】
2018200463.tif 000026
【０３３３】
上記結果から、各製造例で製造した化合物Ｃ１〜Ｃ５は、４００ｎｍ付近に吸収極大波長を持ち、４００ｎｍにおいて高いグラム吸光係数を持つことが分かった。これらの化合物は、４００ｎｍ付近の光を効果的に吸収できるものである。化合物Ｃ１〜Ｃ５は、有機溶媒への溶解性が良好であった。また、これらの化合物は、耐久性も良好であった。例えば、化合物Ｃ１〜Ｃ２は、耐光性、溶解度、耐熱性にともに優れる。
【０３３４】
製造例３（アクリル系粘着剤組成物（ａ）の調製）
アクリル酸２−エチルヘキシル（２ＥＨＡ）７６重量部、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン（ＮＶＰ）１８重量部、及びアクリル酸２−ヒドロキシエチル（ＨＥＡ）１６重量部から構成されるモノマー混合物に、光重合開始剤として、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（商品名：イルガキュア１８４，波長２００〜３７０ｎｍに吸収帯を有する，ＢＡＳＦ社製）０．０３５重量部、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（商品名：イルガキュア６５１，波長２００〜３８０ｎｍに吸収帯を有する，ＢＡＳＦ社製）０．０３５重量部を配合した後、粘度（計測条件：ＢＨ粘度計Ｎｏ.５ローター，１０ｒｐｍ，測定温度３０℃）が約２０Ｐａ・ｓになるまで紫外線を照射して、上記モノマー成分の一部が重合したプレポリマー組成物（重合率：９％）を得た。次に、該プレポリマー組成物に、ヘキサンジオールジアクリレート（ＨＤＤＡ）０．０８０重量部、シランカップリング剤（商品名：ＫＢＭ−４０３，信越化学工業（株）製）０．３重量部を添加して混合し、アクリル系粘着剤組成物（ａ）を得た。
【０３３５】
（粘着剤組成物（Ａ１）の製造）
製造例３で得られたアクリル系粘着剤組成物（ａ）に対して（アクリル系ポリマーを形成するモノマー成分を１００重量部とする）、ブチルアクリレートに固形分１５％となるように溶解させた２，４−ビス−[｛４−（４−エチルヘキシルオキシ）−４−ヒドロキシ｝−フェニル]−６−（４−メトキシフェニル）−１,３,５-トリアジン（商品名：Ｔｉｎｏｓｏｒｂ  Ｓ，表３中の「紫外線吸収剤（ｂ１）」，吸収スペクトルの吸収極大波長：３４６ｎｍ，ＢＡＳＦジャパン社製）０．８重量部（固形分重量）と、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド（商品名：イルガキュア８１９、波長２００〜４５０ｎｍに吸収帯域を有する、ＢＡＳＦジャパン社製）０．３重量部を添加し撹拌することにより粘着剤組成物（Ａ１）を得た。
【０３３６】
（粘着剤層（Ａ１）の製造）
前記粘着剤組成物（Ａ１）を、離型フィルムの剥離処理されたフィルム上に、粘着剤層形成後の厚さが１００μｍとなるように塗布し、次いで、該粘着剤組成物層の表面に、離型フィルムを貼り合わせた。その後、照度：６．５ｍＷ／ｃｍ２、光量：２０００ｍＪ／ｃｍ２、ピーク波長：３５０ｎｍの条件で紫外線照射を行い、粘着剤組成物層を光硬化させて、粘着剤層（Ａ１）を形成した。粘着剤層（Ａ１）中のアクリル系ポリマー重量（１００重量％）に対して、紫外線吸収剤の添加量は、０．８重量％であった。
【０３３７】
製造例４
（粘着剤組成物（Ｂ１）の製造）
温度計、攪拌機、還流冷却管及び窒素ガス導入管を備えたセパラブルフラスコに、ブチルアクリレート９５重量部、アクリル酸５重量部、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル０．２重量部、及び酢酸エチル２３３重量部を投入した後、窒素ガスを流し、攪拌しながら約１時間窒素置換を行った。その後、６０℃にフラスコを加熱し、７時間反応させて、重量平均分子量（Ｍｗ）１１０万のアクリル系ポリマーを得た。上記アクリル系ポリマー溶液（固形分を１００重量部とする）に、イソシアネート系架橋剤として、トリメチロールプロパントリレンジイソシアネート（商品名：コロネートＬ，日本ポリウレタン工業（株）製）０．８重量部、シランカップリング剤（商品名：ＫＢＭ−４０３、信越化学工業（株）製）０．１重量部を加えて粘着剤組成物（溶液）を調製した。
【０３３８】
（粘着剤層（Ｂ１）の製造）
前記粘着剤組成物（Ｂ１：溶液）を、厚さ３８μｍのセパレータ（表面が剥離処理されたポリエチレンテレフタレート系フィルム：離型フィルム）上に、乾燥後の厚さが１５μｍとなるように塗布し、１００℃で３分間乾燥層させて溶媒を除去し、粘着剤層を得た。その後、５０℃で４８時間加熱して架橋処理を行った。以下、この粘着剤層を「粘着剤層（Ｂ１）」と言う。なお、粘着剤層の露出面に、他の離型フィルムを貼り合わせた。
【０３３９】
製造例５
（粘着剤層（Ｂ２）の製造）
製造例４の粘着剤層（Ｂ１）の製造において、乾燥後の厚さが２０μｍとなるように塗布したこと以外は、製造例４と同様にして粘着剤層を形成した。その後、５０℃で４８時間加熱して架橋処理を行った。以下、この粘着剤層を「粘着剤層（Ｂ２）」と言う。
【０３４０】
実施例１
（粘着剤組成物（Ａ１‐１）の製造）
製造例３の粘着剤組成物（Ａ１）の製造において、ビス(２，４，６−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド（商品名：イルガキュア８１９、ＢＡＳＦジャパン社製）の添加量を０．６重量部に変え、さらに製造例２で得られた色素化合物（Ｃ５）「吸収スペクトルの吸収極大波長：３９４ｎｍ，半値全幅４８．５ｎｍ」０．４８重量部（固形分重量）を直接添加し撹拌したこと以外は、製造例３と同様にして粘着剤組成物（Ａ１‐１）を得た。
【０３４１】
（粘着剤層（Ａ１‐１）の製造）
前記粘着剤組成物（Ａ１‐１）を、離型フィルムの剥離処理されたフィルム上に、粘着剤層形成後の厚さが１００μｍとなるように塗布した以外は製造例１と同様にして粘着剤層（Ａ１‐１）を形成した。粘着剤層（Ａ１‐１）中のアクリル系ポリマー重量（１００重量％）に対して、紫外線吸収剤の添加量は、０．８重量％、色素化合物（Ｃ５）の添加量は、０．４８重量％であった。
【０３４２】
実施例２
（粘着剤組成物（Ａ１‐２）の製造）
製造例３の粘着剤組成物（Ａ１）の製造において、紫外線吸収剤を、２‐（２Ｈ‐ベンゾトリアゾール‐２‐イル）‐６‐（１‐メチル‐１‐フェニルエチル）‐４‐（１，１，３，３‐テトラメチルブチル)フェノール（商品名：Ｔｉｎｕｖｉｎ ９２８、表３中の「紫外線吸収剤ｂ２」、吸収スペクトルの吸収極大波長：３４９ｎｍ，ＢＡＳＦジャパン社製）１．０重量部（固形分重量）に変え、ビス(２，４，６−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド（商品名：イルガキュア８１９、ＢＡＳＦジャパン社製）の添加量を０．６重量部に変え、さらに製造例２で得られた色素化合物（Ｃ５）０．５重量部（固形分重量）を直接添加し撹拌したこと以外は、製造例３と同様にして粘着剤組成物（Ａ１‐２）を得た。
【０３４３】
（粘着剤層（Ａ１‐２）の製造）
前記粘着剤組成物（Ａ１‐２）を、離型フィルムの剥離処理されたフィルム上に、粘着剤層形成後の厚さが１７５μｍとなるように塗布した以外は製造例１と同様にして粘着剤層（Ａ１‐２）を形成した。粘着剤層（Ａ１‐２）中のアクリル系ポリマー重量（１００重量％）に対して、紫外線吸収剤の添加量は、１．０重量％、色素化合物（Ｃ５）の添加量は、０．５０重量％であった。
【０３４４】
実施例３
（粘着剤組成物（Ｂ１‐１）の製造）
製造例４の粘着剤組成物（Ｂ１）の製造において、上記アクリル系ポリマー溶液（固形分を１００重量部とする）に、イソシアネート系架橋剤、シランカップリング剤と共に、紫外線吸収剤として、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン（商品名：Ｓｅｅｓｏｒｂ  １０６，表３中の「紫外線吸収剤ｂ３」，吸収スペクトルの吸収極大波長：３４８ｎｍ、シプロ化成株式会社製）３．０重量部（固形分重量）を加え、さらに製造例２で得られた色素化合物（Ｃ１）「吸収極大波長：３９３ｎｍ，半値全幅４９．５ｎｍ）」３．０重量部（固形分重量）を加えたこと以外は製造例４と同様にして粘着剤組成物（溶液）を調製した。
【０３４５】
（粘着剤層（Ｂ１‐１）の製造）
前記粘着剤組成物（Ｂ１‐１：溶液）を、厚さ３８μｍのセパレータ（表面が剥離処理されたポリエチレンテレフタレート系フィルム）上に、乾燥後の厚さが１５μｍとなるように塗布し、１００℃で３分間乾燥層させて溶媒を除去し、粘着剤層を得た。その後、５０℃で４８時間加熱して架橋処理を行った。以下、この粘着剤層を「粘着剤層（Ｂ１−１）」と言う。粘着剤層（Ｂ１−１）中のアクリル系ポリマー重量（１００重量％）に対して、紫外線吸収剤の添加量は、３．０重量％、色素化合物（Ｃ１）の添加量は、３．０重量％であった。
【０３４６】
実施例４
（粘着剤組成物（Ｂ１‐２）の製造）
実施例３の粘着剤組成物（Ｂ１−１）の製造において、製造例２で得られた色素化合物（Ｃ１）の代わりに、製造例２で得られた色素化合物（Ｃ２）「吸収スペクトルの吸収極大波長３９３ｎｍ、半値全幅４９．５ｎｍ）を３．０重量部（固形分重量）用いたこと以外は、実施例３と同様にして粘着剤組成物（溶液）を調製した。
【０３４７】
（粘着剤層（Ｂ１‐２）の製造）
また、当該粘着剤組成物（溶液）を用いて、乾燥後の厚さを２０μｍとした以外は、実施例３と同様にして粘着剤層を形成した。その後、５０℃で４８時間加熱して架橋処理を行った。以下、この粘着剤層を「粘着剤層（Ｂ１‐２）」と言う。粘着剤層（Ｂ１‐２）中のアクリル系ポリマー重量（１００重量％）に対して、紫外線吸収剤の添加量は、３．０重量％、色素化合物（Ｃ２）の添加量は、３．０重量％であった。
【０３４８】
実施例５
（粘着剤組成物（Ｂ１‐３）の製造）
実施例３の粘着剤組成物（Ｂ１−１）の製造において、紫外線吸収剤（ｂ３）を添加しなかったこと以外は、実施例３と同様にして粘着剤組成物（溶液）を調製した。
【０３４９】
（粘着剤層（Ｂ１‐３）の製造）
また、当該粘着剤組成物（溶液）を用いて、乾燥後の厚さを２０μｍとした以外は、実施例３と同様にして粘着剤層を形成した。その後、５０℃で４８時間加熱して架橋処理を行った。以下、この粘着剤層を「粘着剤層（Ｂ２−２）」と言う。粘着剤層（Ｂ１‐３）中のアクリル系ポリマー重量（１００重量％）に対して、色素化合物（Ｃ２）の添加量は、３．０重量％であった。
【０３５０】
比較例２
（粘着剤組成物（Ａ１‐３）の製造）
実施例１の粘着剤組成物（Ａ１−１）の製造において、紫外線吸収剤ｂ１の使用量を１．０重量部に変え、製造例２で得られた色素化合物（Ｃ５）の代わりに、色素化合物（Ｃ６）（「ＢＯＮＡＳＯＲＢ  ＵＡ３９１１」、クロロホルム溶媒中での吸収スペクトルの吸収極大波長：３９５ｎｍ，半値全幅４８ｎｍ，オリエント工業株式会社製）０．４５重量部をＮ−ビニル−２−ピロリドン（ＮＶＰ）で６重量％になるよう溶解して添加したこと以外は、実施例１と同様にして粘着剤組成物を調製した。
【０３５１】
（粘着剤層（Ａ１‐３）の製造）
また、当該粘着剤組成物を用いて、実施例１と同様にして粘着剤層（Ａ１−３）を形成した。
粘着剤層（Ａ１−３）中のアクリル系ポリマー重量（１００重量％）に対して、紫外線吸収剤の添加量は、１．０重量％、色素化合物（Ｃ６）の添加量は、０．４５重量％であった。
【０３５２】
比較例３
（粘着剤組成物（Ｂ１‐４）の製造）
実施例３の（粘着剤組成物（Ｂ１−１）の製造において、紫外線吸収剤ｂ３の使用量を２．０重量部に変え、製造例２で得られた色素化合物（Ｃ１）の代わりに、色素化合物（Ｃ６）（「ＢＯＮＡＳＯＲＢ  ＵＡ３９１１」、クロロホルム溶媒中での吸収スペクトルの吸収極大波長：３９５ｎｍ、半値全幅４８ｎｍ、オリエント工業株式会社製）２．５重量部をＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミドに１０重量％になるよう溶解して添加し、乾燥温度を１００℃で３分間、１５５℃で５分間としたこと以外は、実施例３と同様にして粘着剤組成物を調製した。
【０３５３】
（粘着剤層（Ｂ１‐４）の製造）
また、当該粘着剤組成物（溶液）を用いて、乾燥後の厚さを２０μｍとした以外は、実施例３と同様にして粘着剤層を形成した。その後、５０℃で４８時間加熱して架橋処理を行った。以下、この粘着剤層を「粘着剤層（Ｂ１‐４）」と言う。粘着剤層（Ｂ１‐４）中のアクリル系ポリマー重量（１００重量％）に対して、紫外線吸収剤の添加量は、２．０重量％、色素化合物（Ｃ６）の添加量は、２．５重量％であった。
【０３５４】
（評価）
実施例１〜５及び比較例２〜３で得られて粘着剤層について、以下の評価を行った。結果を表３、表４に示す。なお、比較例１には、製造例３で得られた粘着剤層（Ａ１）を用いた評価した。
【０３５５】
＜透過率、色相の測定：初期値＞
実施例及び比較例で得られた粘着剤層の離型フィルムを剥離して、スライドガラス（商品名：白研磨 Ｎｏ．１、厚さ：０．８〜１．０ｍｍ、全光線透過率：９２％、ヘイズ：０．２％、松浪硝子工業（株）製）に貼り合わせた。さらに他方の離型フィルムを剥離して、同じスライドガラスを貼り合せ、オートクレーブ処理（５０℃、０．５ＭＰａ、１５分）を経て、スライドガラス／粘着剤層／スライドガラスの層構成を有する試験片を作製した。作成した試験片を、分光光度計（製品名：Ｕ４１００、（株）日立ハイテクノロジーズ製）で測定した。波長３５０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲における透過率（表３には、３８０ｎｍ、４００ｎｍ、４２０ｎｍ、４４０ｎｍの測定値を示す）を測定し、透過Ｙ値、透過色相（Ｌ＊, ａ*, ｂ＊）はＤ６５光源、視野２度での色相を測定した。
【０３５６】
＜信頼性の評価＞
前述の手法で初期測定を行った試験片を８５℃、８５％ＲＨのオーブン中に５００時間投入し、耐熱性試験を実施した。また同様にして紫外線フェード試験機（装置名；紫外線フェードメーター試験機Ｕ４８、スガ試験機株式会社製）に試験片を投入し、１００時間連続照射して耐光性試験を実施した。試験後の試験片を、初期測定と同様にして、透過Ｙ値、透過色相（Ｌ＊, ａ*, ｂ＊）の測定を実施した。試験前後のＹ値の変化ΔＹ，色相変化ΔＥ＊を計算で求め、ΔＹ≦０．３、ΔＥ＊≦１．０の場合を合格（ＯＫ）、それ以外を不合格（ＮＧ）とした。
【０３５７】
＜接着性＞
実施例及び比較例で得られた粘着剤層から、長さ１００ｍｍ、幅２０ｍｍのシート片を切り出した。次いで、粘着剤層の一方の離型フィルムを剥離して、ＰＥＴフィルム（商品名：ルミラー Ｓ−１０、厚さ：２５μｍ、東レ（株）製）を貼付（裏打ち）した。次に、他方の離型フィルムを剥離して、試験板としてガラス板（商品名：ソーダライムガラス♯００５０、松浪硝子工業（株）製）に、２ｋｇローラー、１往復の圧着条件で圧着し、試験板／粘着剤層／ＰＥＴフィルムから構成されるサンプルを作製した。得られたサンプルについて、オートクレーブ処理（５０℃、０．５ＭＰａ、１５分）し、その後、２３℃、５０％Ｒ．Ｈ．の雰囲気下で３０分間放冷した。放冷後、引張試験機（装置名：オートグラフ ＡＧ−ＩＳ、（株）島津製作所製）を用い、ＪＩＳ Ｚ０２３７に準拠して、２３℃、５０％Ｒ．Ｈ．の雰囲気下、引張速度３００ｍｍ／分、剥離角度１８０°の条件で、試験板から粘着シート（粘着剤層／ＰＥＴフィルム）を引きはがし、１８０°引き剥がし接着力（Ｎ／２０ｍｍ）を測定した。
【０３５８】
＜全光線透過率、ヘイズ＞
実施例及び比較例で得られた粘着剤層から、一方の離型フィルムを剥離して、スライドガラス（商品名：白研磨 Ｎｏ．１、厚さ：０．８〜１．０ｍｍ、全光線透過率：９２％、ヘイズ：０．２％、松浪硝子工業（株）製）に貼り合わせた。さらに他方の離型フィルムを剥離して、粘着剤層（Ａ）／スライドガラスの層構成を有する試験片を作製した。上記試験片の可視光領域における全光線透過率、ヘイズ値を、ヘイズメーター（装置名：ＨＭ−１５０、（株）村上色彩研究所製）を用いて測定した。
【０３５９】
【表３】
2018200463.tif 000027
【０３６０】
【表４】
2018200463.tif 000028
【０３６１】
以下では、粘着剤層付き偏光フィルムを作製して評価した。
【０３６２】
（シクロオレフィンポリマーフィルム（Ｇ））
厚さ２５μｍのシクロオレフィンポリマーフィルム（商品名ゼオノアフィルム，日本ゼオン株式会社製）を用いた。
【０３６３】
（偏光子（Ｐ１）の製造）
ヨウ素が含浸された厚さ５μｍの延伸ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光子を用いた。偏光子（又は保護フィルムを貼り合わせた偏光フィルム）の単体透過率Ｙ値は、４２．４％、偏光度は９９．９９５であった。
【０３６４】
（アクリル系樹脂フィルム（Ｅ））
特開２０１０−２８４８４０号公報の製造例１に記載のイミド化ＭＳ樹脂１００重量部からなる樹脂ペレットを、１００．５ｋＰａ、１００℃で１２時間乾燥させ、単軸の押出機にてダイス温度２７０℃でＴダイから押出してフィルム状に成形した（厚さ８０μｍ）。さらに当該フィルムを、その搬送方向に１５０℃の雰囲気下に延伸し（厚さ４０μｍ）、次いでフィルム搬送方向と直交する方向に１５０℃の雰囲気下に延伸して、厚さ２０μｍのアクリル系樹脂フィルムを得た。
【０３６５】
（位相差フィルム（Ｈ））
厚み５６μｍのポリカーボネートフィルム（日東電工株式会社製「ＮＲＦ」、面内位相差Ｒｅ（５５０）：１３５ｎｍ）を用いた。
【０３６６】
比較例４
粘着剤層（Ａ１）／シクロオレフィンポリマーフィルム（Ｇ）／偏光子（Ｐ１）／アクリル系樹脂フィルム（Ｅ）／粘着剤層（Ｂ１：層間接着剤層）／位相差フィルム（Ｈ）／粘着剤層（Ｂ２）の構成を有する粘着剤層付き偏光フィルムを作製した。
粘着剤層（Ａ１）は、製造例３で製造したものを用いた。
粘着剤層（Ｂ１）は、製造例４で製造したものを用いた。
粘着剤層（Ｂ２）は、製造例５で製造したものを用いた。
粘着剤層付き偏光フィルムを作製にあたっては、各粘着剤層を介して、各フィルムを貼り合わせた。なお、偏光子（Ｐ１）の両側のシクロオレフィンポリマーフィルム（Ｇ）及びアクリル系樹脂フィルム（Ｅ）は、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合せた。
得られた、粘着剤層付き偏光フィルムは、有機ＥＬ表示装置に用いる光学積層体とし用いることができ、粘着剤層（Ａ１）が視認側、粘着剤層（Ｂ２）が有機ＥＬパネル側に対応する。
【０３６７】
実施例６
比較例４において、粘着剤層（Ａ１）の代わりに、実施例１で製造した粘着剤層（Ａ１−１）を用いたこと以外は比較例４と同様にして、粘着剤層（Ａ１−１）／シクロオレフィンポリマーフィルム（Ｇ）／偏光子／アクリル系樹脂フィルム（Ｅ）／粘着剤層（Ｂ１）／位相差フィルム（Ｈ）／粘着剤層（Ｂ２）の構成を有する粘着剤層付き偏光フィルムを作製した。
【０３６８】
実施例７
比較例４において、粘着剤層（Ｂ２）の代わりに、実施例４で製造した粘着剤層（Ｂ１−２）を用いたこと以外は比較例４と同様にして、粘着剤層（Ａ１）／シクロオレフィンポリマーフィルム（Ｇ）／偏光子／アクリル系樹脂フィルム（Ｅ）／粘着剤層（Ｂ１）／位相差フィルム（Ｈ）／粘着剤層（Ｂ１−２）の構成を有する粘着剤層付き偏光フィルムを作製した。
【０３６９】
実施例８
比較例４において、粘着剤層（Ａ１）の代わりに、実施例１で製造した粘着剤層（Ａ１−１）を用いたこと、シクロオレフィンポリマーフィルム（Ｇ）の代わりに、表面処理層付保護フィルム（Ｄ−１）を用いたこと以外は比較例４と同様にして、粘着剤層（Ａ１−１）／表面処理層付保護フィルム（Ｄ−１）／偏光子（Ｐ１）／アクリル系樹脂フィルム（Ｅ）／粘着剤層（Ｂ１）／位相差フィルム（Ｈ）／粘着剤層（Ｂ２）の構成を有する粘着剤層付き偏光フィルムを作製した。
【０３７０】
なお、表面処理層付保護フィルム（Ｄ−１）は下記に示す。表面処理層付保護フィルム（Ｄ−１）は下記基材フィルムＡ側が偏光子（Ｐ１）と接するように、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、貼り合せた。
【０３７１】
（基材フィルムＡの作製）
特開２０１０−２８４８４０号公報の製造例１に記載のイミド化ＭＳ樹脂１００重量部、及び６，６’，６’’−（１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリイル）トリス（３−ヘキシルオキシ−２−メチルフェノール）（商品名：ＬＡ−Ｆ７０、表１中の「紫外線吸収剤（ｂ４）」、吸収スペクトルの最大吸収波長：３５７ｎｍ、（株）ＡＤＥＫＡ製）０．６５重量部を、２軸混練機にて２２０℃にて混合し、樹脂ペレットを作製した。得られた樹脂ペレットを、１００．５ｋＰａ、１００℃で１２時間乾燥させ、単軸の押出機にてダイス温度２７０℃でＴダイから押出してフィルム状に成形した（厚み１６０μｍ）。さらに当該フィルムを、その搬送方向に１５０℃の雰囲気下に延伸し（厚み８０μｍ）、次いでフィルム搬送方向と直交する方向に１５０℃の雰囲気下に延伸して、厚み４０μｍの基材フィルムＡ（（メタ）アクリル系樹脂フィルム）を得た。得られた基材フィルムＡの波長３８０ｎｍの光の透過率は７％、波長４００ｎｍの光の透過率は６８％、４２０ｎｍの光の透過率は９０％、４４０ｎｍの光の透過率は９１％であった。
【０３７２】
（表面処理層付保護フィルム（Ｄ−１）の作成）
イソシアヌル酸トリアクリレート１３部、ペンタエリスリトールトリアクリレート１６部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート６２部、及びイソホロンジイソシアネートポリウレタン９部を含む紫外線硬化型樹脂（商品名：ユニディック１７−８０６、固形分：８０％、溶媒：酢酸ブチル、ＤＩＣ（株）製）１００部に、製造例２で得られた色素化合物（Ｃ２）３．０重量部と、レベリング剤（商品名：ＧＲＡＮＤＩＣ  ＰＣ−４１００、ＤＩＣ（株）製）５部、光重合開始剤として、ビス(２，４，６−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド（商品名：イルガキュア８１９、波長２００〜４５０ｎｍに吸収帯域を有する、ＢＡＳＦジャパン社製）５重量部を混合し、固形分濃度が５０％となるように、メチルイソブチルケトンで希釈して、ハードコート層形成用組成物を調製した。得られた基材フィルムＡ上に、前記ハードコート層形成用組成物を塗布して塗布層を形成し、当該塗布層を１２０℃で１分間加熱した。加熱後の塗布層に窒素雰囲気化で高圧水銀ランプにて積算光量２０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させて、８μｍのハードコート層を形成した。得られた表面処理層付保護フィルム（Ｄ−１）の波長３８０ｎｍの光の透過率は、０．２％、波長４００ｎｍの光の透過率は３．０％、４２０ｎｍの光の透過率は６５％、４４０ｎｍの光の透過率は８９％であり、表面処理層付保護フィルム（Ｄ−１）全重量（１００重量％）に対して、色素化合物（Ｃ２）の添加量は、０．５重量％であった。
【０３７３】
実施例９
比較例４において、アクリル系樹脂フィルム（Ｅ）の代わりに、下記に示すアクリル系樹脂フィルム（Ｅ−１）を用いたこと、粘着剤層（Ｂ１）の代わりに、実施例３で製造した粘着剤層（Ｂ１−１）を用いたこと以外は比較例４と同様にして、粘着剤層（Ａ１）／シクロオレフィンポリマーフィルム（Ｇ）／偏光子（Ｐ１）／アクリル系樹脂フィルム（Ｅ−１）／粘着剤層（Ｂ１−１）／位相差フィルム（Ｈ）／粘着剤層（Ｂ２）の構成を有する粘着剤層付き偏光フィルムを作製した。
【０３７４】
なお、アクリル系樹脂フィルム（Ｅ−１）は下記に示す。
【０３７５】
（アクリル系樹脂フィルム（Ｅ−１）の作製）
特開２０１０−２８４８４０号公報の製造例１に記載のイミド化ＭＳ樹脂１００重量部を塩化メチレンに溶解させて１２重量％のドープ溶液を作製した。製造例２で得られた色素化合物（Ｃ１）１．２重量部を添加してアクリル系樹脂溶液を調製した。その後、離型処理を施したガラス板上に、前記アクリル系樹脂溶液を、乾燥後の厚さが４０μｍとなるように塗布し、６０℃で２分間、さらに１００℃で３分間乾燥させて溶媒を除去し、厚み４０μｍのアクリル系樹脂フィルム（Ｅ−１）を得た。得られたアクリル系樹脂フィルム（Ｅ−１）の波長３８０ｎｍの光の透過率は、０．２％、波長４００ｎｍの光の透過率は１．２％、４２０ｎｍの光の透過率は５９％、４４０ｎｍの光の透過率は８９％であった。アクリル系樹脂フィルム（Ｅ−１）中のべースポリマー重量（１００重量％）に対して、色素化合物（Ｃ１）の添加量は、１．２重量％であった。
【０３７６】
実施例１０
比較例４において、アクリル系樹脂フィルム（Ｅ）の代わりに、下記に示すトリアセチルセルロースフィルム（Ｆ−１）を用いたこと、粘着剤層（Ｂ２）の代わりに実施例４で製造した粘着剤層（Ｂ１−２）を用いたこと以外は比較例４と同様にして、粘着剤層（Ａ１）／シクロオレフィンポリマーフィルム（Ｇ）／偏光子（Ｐ１）／トリアセチルセルロースフィルム（Ｆ−１）／粘着剤層（Ｂ１）／位相差フィルム（Ｈ）／粘着剤層（Ｂ１−２）の構成を有する粘着剤層付き偏光フィルムを作製した。
【０３７７】
なお、トリアセチルセルロースフィルム（Ｆ−１）は下記に示す。
【０３７８】
（トリアセチルセルロースフィルム（Ｆ−１）の作製）
ＵＶ吸収能を有する厚さ４０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（商品名：ＫＣ４ＵＹ，コニカミノルタ社製）１００重量部をジクロロメタン：エタノール：ｎ−ブタノール＝８０：１５：５の重量比率で調整した混合溶媒に撹拌溶解させ、固形分が２０重量％になるように溶解液を調整し、さらに製造例２で得られた色素化合物（Ｃ５）を１．０重量部添加してトリアセチルセルロース溶解液を調製した。前記溶解液を、離型処理を施したガラス板上に乾燥後の厚みが２０μｍになるように塗布し、８０℃で３分間、続いて１２０℃で３分間乾燥させて溶媒を除去し、ガラス板から剥離することで厚み２０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（Ｆ１）を得た。得られたトリアセチルセルロースフィルム（Ｆ−１）の波長３８０ｎｍの光の透過率は０．２％、波長４００ｎｍの光の透過率は８．８％、４２０ｎｍの光の透過率は６４％、４４０ｎｍの光の透過率は９０％であった。トリアセチルセルロースフィルム（Ｆ−１）中のべースポリマー重量（１００重量％）に対して、色素化合物（Ｃ５）の添加量は、１．０重量％であった。
【０３７９】
実施例１１
比較例４において、粘着剤層（Ａ１）の代わりに、実施例１で製造した粘着剤層（Ａ１−１）を用いたこと、シクロオレフィンポリマーフィルム（Ｇ）の代わりに、実施例８で作成した表面処理層付保護フィルム（Ｄ−１）を用いたこと、アクリル系樹脂フィルム（Ｅ）の代わりに、下記に示すシクロオレフィンポリマーフィルム（Ｇ−１）を用いたこと、粘着剤層（Ｂ１）の代わりに、下記に示す粘着剤層（Ｂ３−１）を用いたこと以外は比較例４と同様にして、粘着剤層（Ａ１−１）／表面処理層付保護フィルム（Ｄ−１）／偏光子（Ｐ１）／シクロオレフィンポリマーフィルム（Ｇ−１）／粘着剤層（Ｂ３−１）／位相差フィルム（Ｈ）／粘着剤層（Ｂ２）の構成を有する粘着剤層付き偏光フィルムを作製した。
【０３８０】
なお、シクロオレフィンポリマーフィルム（Ｇ−１）、粘着剤層（Ｂ３−１）は下記に示す。表面処理層付保護フィルム（Ｄ１）は基材フィルムＡ側が偏光子（Ｐ１）と接するように、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、貼り合せた。
【０３８１】
（シクロオレフィンポリマーフィルム（Ｇ−１）の作製）
材料樹脂として、シクロオレフィンポリマー（ノルボルネン系モノマーの開環重合体の水素添加物、商品名「ＺＥＯＮＯＲ１４２０Ｒ」、日本ゼオン社製、ガラス転移温度（Ｔｇ）は１３６℃）のペレットを用意し、１００．５ｋＰａ、１００℃で１２時間乾燥させた。樹脂重量（１００重量部）に対して、製造例２で得られた色素化合物（Ｃ２）を１．５重量部添加し、単軸押出機にてダイス温度２６０℃でＴダイ式のフィルム溶融押出成形機を使用して、厚さ２０μｍのシクロオレフィンポリマー樹脂フィルム（Ｇ１）を得た。得られたシクロオレフィンポリマー樹脂フィルム（Ｇ１）の波長３８０ｎｍの光の透過率は、２．５％、波長４００ｎｍの光の透過率は１８％、４２０ｎｍの光の透過率は７５％、４４０ｎｍの光の透過率は９１％であった。シクロオレフィンポリマーフィルム（Ｇ−１）中のべースポリマー重量（１００重量％）に対して、色素化合物（Ｃ２）の添加量は、１．５重量％であった。
【０３８２】
（粘着剤組成物（Ｂ３−１）の製造）
ゴム系ポリマーとしてスチレン−エチレン−プロピレン−スチレンブロック共重合体（ＳＥＰＳ、商品名：ＳＥＰＴＯＮ  ２０６３、スチレン含有量：１３％、（株）クラレ製）１００重量部と、粘着付与剤として水添テルペンフェノール（商品名：ＹＳポリスターＴＨ１３０、軟化点：１３０℃、水酸基価：６０、ヤスハラケミカル（株）製）４０．４重量部、石油系粘着付与剤（商品名：ピコラスチックＡ５、ビニルトルエン系粘着付与剤、軟化点：５℃、イーストマンコダック社製）６１．７部、軟化剤としてポリブテン（商品名：ＨＶ−３００、重量平均分子量：３０００、ＪＸ日鉱日石エネルギー（株）製）２１．３部を配合したトルエン溶液（粘着剤溶液）を固形分が３０重量％になるように調整し、さらに製造例２で得られた色素化合物（Ｃ１）を２．０重量部添加して粘着剤組成物（Ｂ３−１：溶液）を調製した。
【０３８３】
（粘着剤層（Ｂ３−１）の製造）
前記粘着剤組成物（Ｂ２−１：溶液）を、厚さ３８μｍのセパレータ（表面が剥離処理されたポリエチレンテレフタレート系フィルム）上に、乾燥後の厚さが１５μｍとなるように塗布し、１２０℃で３分間乾燥層させて溶媒を除去し、粘着剤層を得た。以下、この粘着剤層を「粘着剤層（Ｂ３−１）」と言う。粘着剤層（Ｂ３−１）中のゴム系ポリマー重量（１００重量％）に対して、色素化合物（Ｃ１）の添加量は、２．０重量％であった。
【０３８４】
実施例１２
比較例４において、位相差フィルム（Ｈ）の代わりに、下記に示す位相差フィルム（Ｈ−１）を用いたこと、粘着剤層（Ｂ２）の代わりに、実施例４で製造した粘着剤層（Ｂ１−２）を用いたこと以外は比較例４と同様にして、粘着剤層（Ａ１）／シクロオレフィンポリマーフィルム（Ｇ）／偏光子（Ｐ１）／アクリル系樹脂フィルム（Ｅ）／粘着剤層（Ｂ１）／位相差フィルム（Ｈ−１）／粘着剤層（Ｂ１−２）の構成を有する粘着剤層付き偏光フィルムを作製した。
【０３８５】
なお、位相差フィルム（Ｈ−１）は下記に示す。
【０３８６】
（位相差フィルム（Ｈ−１）の作製）
イソソルビド（ＩＳＢ）２６．２重慮部、９，９−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＢＨＥＰＦ）１００．５重量部、１，４−シクロヘキサンジメタノール（１，４−ＣＨＤＭ）１０．７重量部、ジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）１０５．１重量部、および、触媒として炭酸セシウム（０．２重量％水溶液）０．５９１重量部をそれぞれ反応容器に投入し、窒素雰囲気下にて、反応の第１段目の工程として、反応容器の熱媒温度を１５０℃にし、必要に応じて攪拌しながら、約１５分原料を溶解させた。次いで、反応容器内の圧力を常圧から１３．３ｋＰａにし、反応容器の熱媒温度を１９０℃まで１時間で上昇させながら、発生するフェノールを反応容器外へ抜き出した。
反応容器内温度を１９０℃で１５分保持した後、第２段目の工程として、反応容器内の圧力を６．６７ｋＰａとし、反応容器の熱媒温度を２３０℃まで、１５分で上昇させ、発生するフェノールを反応容器外へ抜き出した。攪拌機の攪拌トルクが上昇してくるので、８分で２５０℃まで昇温し、さらに発生するフェノールを取り除くため、反応容器内の圧力を０．２００ｋＰａ以下に減圧した。所定の攪拌トルクに到達後、反応を終了し、生成した反応物を水中に押し出した後に、ペレット化を行い、ＢＨＥＰＦ／ＩＳＢ／１，４−ＣＨＤＭ＝４７．４モル％／３７．１モル％／１５．５モル％のポリカーボネート樹脂を得た。
得られたポリカーボネート樹脂のガラス転移温度は１３６．６℃であり、還元粘度は０．３９５ｄＬ／ｇであった。得られたポリカーボネート樹脂を８０℃で５時間真空乾燥をした後、樹脂重量（１００重量部）に対して、色素化合物（Ｃ２）を１．０重量部添加し、単軸押出機にてダイス温度２２０℃でＴダイ式のフィルム溶融押出成形機を使用して、厚さ１２０μｍのポリカーボネート樹脂フィルムを作製した。得られたポリカーボネート樹脂フィルムを、テンター延伸機を用いて横延伸し、厚み５０μｍの位相差フィルム（Ｈ−１）を得た。その際、延伸倍率は２５０％であり、延伸温度を１３７〜１３９℃とした。
得られた位相差フィルム（Ｈ１）のＲｅ（５５０）は１３７〜１４７ｎｍであり、Δｎxyは０．００２７〜０．００２９であった。位相差フィルム（Ｈ−１）中のべースポリマー重量（１００重量％）に対して、色素化合物（Ｃ２）の添加量は１．０重量％であった。
【０３８７】
（評価）
実施例６〜１２及び比較例４で得られた粘着剤層付き偏光フィルムについて、以下の評価を行った。評価は以下の手法で行った。結果を表５、表６に示す。
【０３８８】
＜粘着剤層付き偏光フィルムの透過率、色相の測定：初期値＞
実施例及び比較例で得られた粘着剤層付き偏光フィルムの離型フィルムを剥離して、スライドガラス（商品名：白研磨 Ｎｏ．１、厚さ：０．８〜１．０ｍｍ、全光線透過率：９２％、ヘイズ：０．２％、松浪硝子工業（株）製）に貼り合わせた。さらに他方の離型フィルムを剥離して、同じスライドガラスを貼り合せ、オートクレーブ処理（５０℃、０．５ＭＰａ、１５分）を経て、スライドガラス／粘着剤層付き偏光フィルム／スライドガラスの層構成を有する試験片を作製した。試験片を有機ＥＬ表示パネル側の粘着剤層側（Ｂ１側）から測定光が入光するように測定用治具に取り付け、自動偏光フィルム測定装置（製品名：Ｖ７１００、日本分光株式会社製）で測定した。波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲における透過率（表５には、３８０ｎｍ、４００ｎｍ、４２０ｎｍ、４４０ｎｍの測定値を示す）、単体Ｙ値、単体色相（Ｌ＊, ａ*, ｂ＊）を測定した。
【０３８９】
＜信頼性の評価＞
前述の手法で初期測定を行った試験片を８５℃のオーブン中に５００時間投入し、耐熱性試験を実施した。また同様にして紫外線フェード試験機（装置名；紫外線フェードメーター試験機Ｕ４８、スガ試験機株式会社製）に視認側粘着剤層側（Ａ１側）から紫外線を照射するように試験片を投入し、１００時間連続照射して耐光性試験を実施した。試験後の試験片を、初期測定と同様にして、単体Ｙ値、単体色相（Ｌ＊, ａ*, ｂ＊）の測定を実施した。試験前後の単体Ｙ値の変化ΔＹ，単体色相変化ΔＥ＊を計算で求め、ΔＹ≦０．５、ΔＥ＊≦１．０の場合を合格（ＯＫ）、それ以外を不合格（ＮＧ）とした。
【０３９０】
【表５】
2018200463.tif 000029
【０３９１】
【表６】
2018200463.tif 000030
【０３９２】
以下では、透明導電性フィルムを作製して評価した。
【０３９３】
比較例５
（シクロオレフィンポリマーフィルム（Ｚ１））
長尺な透明基材として、厚み４０μｍのシクロオレフィンポリマーフィルム（Ｚ１）（ＣＯＰフィルム、日本ゼオン社製、「ゼオノアＺＦ１６」）を用意した。
【０３９４】
（アンチブロッキング層の形成）
紫外線硬化性ハードコート樹脂（ＤＩＣ社製、商品名「ＵＮＩＤＩＣ（登録商標）ＲＳ２９−１２０」）固形分１００重量部に対し、直径３μｍの複数の粒子（積水樹脂社製、商品名「ＳＳＸ１０５」）を０．０７重量部添加して、固形分濃度が３０重量％となるように、酢酸エチルで希釈して、アンチブロッキング層形成用組成物を調製した。当該組成物を、上記シクロオレフィンポリマーフィルム（Ｚ１）の片面に塗布した後、８０℃で１分間の条件で乾燥後、積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線（高圧水銀灯）を照射することでＣＯＰフィルムの片面に膜厚１．５μｍのアンチブロッキング層（ＡＢ層）を形成した。
【０３９５】
（ハードコート層（Ｙ）の形成）
紫外線硬化型アクリル樹脂（ＤＩＣ社製、「ＥＬＳ８８８」）１００重量部および光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４」）２重量部および酢酸エチル１６０重量部を混合して、組成物溶液（Ｙ）を調製した。次いで、上記シクロオレフィンポリマーフィルム（Ｚ１）において上記アンチブロッキング層を形成した面とは逆面に、前記組成物溶液（Ｙ）を塗布して、８０℃で１分間の条件で乾燥させて、積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線（高圧水銀灯）を照射した。これにより、厚み１．０μｍのハードコート層をシクロオレフィンポリマーフィルム（Ｚ１）の上面に形成した。
【０３９６】
（屈折率調整層（Ｘ）の形成）
無機粒子含有樹脂溶液（ＪＳＲ社製、「ＫＺ７４１４」）１００重量部に、プロピレングリコールモノメチルエーテル７００重量部を混合して、組成物溶液（Ｘ）を調製した。次いで、上記ハードコート層（Ｙ１）の上面に、前記組成物溶液（Ｘ）を塗布して、６０℃で１分間の条件で乾燥させて、積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線（高圧水銀灯）を照射した。これにより、厚み１００ｎｍの屈折率調整層（Ｘ）をハードコート層の上面に形成した。
【０３９７】
（ＩＴＯ層の形成）
次いで、上記で得られた、屈折率調整層（Ｘ）／ハードコート層（Ｙ）／シクロオレフィンポリマーフィルム（Ｚ１）／アンチブロッキング層、の構成の積層体を、巻き取り式スパッタリング装置に投入して、屈折率調整層（Ｘ１）の上面に、厚みが３０ｎｍのＩＴＯ層（非晶質）を形成した。具体的には、アルゴンガス９８％および酸素ガス２％を導入した気圧０．４Ｐａの真空雰囲気下で、９７質量％の酸化インジウムおよび３質量％の酸化スズの焼結体からなるＩＴＯターゲットを用いて、屈折率調整層（Ｘ１）に対してスパッタリングを実施した。
上記のようにして、ＩＴＯ層／屈折率調整層（Ｘ）／ハードコート層（Ｙ）／シクロオレフィンポリマーフィルム（Ｚ１）／アンチブロッキング層、の構成の透明導電性フィルムを作製した。
【０３９８】
実施例１３
比較例５において、ハードコート層（Ｙ）の代わりに、ハードコート層（Ｙ−１）を形成したこと以外は比較例５と同様にして、ＩＴＯ層／屈折率調整層（Ｘ１）／ハードコート層（Ｙ−１）／シクロオレフィンポリマーフィルム（Ｚ１）／アンチブロッキング層、の構成の透明導電性フィルムを作製した。
を作製した。
【０３９９】
なお、ハードコート層（Ｙ−１）の形成は、ハードコート層（Ｙ）の形成において、紫外線硬化型アクリル樹脂（ＤＩＣ社製、「ＥＬＳ８８８」）１００重量部に対して、さらに、製造例２で得られた色素化合物（Ｃ２）を２重量部添加して調製した組成物溶液（Ｙ−１）を用いたこと以外はハードコート層（Ｙ）の形成と同様の操作を行った。ハードコート層（Ｙ−１）中のベースポリマー（１００重量％）に対して、色素化合物（Ｃ２）の添加量は２．０重量％であった。
【０４００】
実施例１４
比較例５において、屈折率調整層（Ｘ）の代わりに、屈折率調整層（Ｘ−１）を形成したこと以外は比較例５と同様にして、ＩＴＯ層／屈折率調整層（Ｘ−１）／ハードコート層（Ｙ）／シクロオレフィンポリマーフィルム（Ｚ１）／アンチブロッキング層、の構成の透明導電性フィルムを作製した。
を作製した。
【０４０１】
なお、屈折率調整層（Ｘ−１）の形成は、屈折率調整層（Ｘ）の形成において、組成物溶液（Ｘ）の代わりに、無機粒子含有樹脂溶液（ＪＳＲ社製、「ＫＺ７４１２」）１００重量部に、プロピレングリコールモノメチルエーテル７００重量部を混合して、さらに、製造例２で得られた色素化合物（Ｃ２）を前記樹脂溶液中の樹脂固形成分に対して、５重量部となるように混合して調整した組成物溶液（Ｘ−１）を用いたこと以外は屈折率調整層（Ｘ）の形成と同様の操作を行った。屈折率調整層（Ｘ−１）中のベースポリマー重量（１００重量％）に対して、色素化合物（Ｃ２）の添加量は５．０重量％であった。
【０４０２】
実施例１５
比較例５において、屈折率調整層（Ｘ）の代わりに、屈折率調整層（Ｘ−２）を形成したこと以外は比較例５と同様にして、ＩＴＯ層／屈折率調整層（Ｘ−２）／ハードコート層（Ｙ）／シクロオレフィンポリマーフィルム（Ｚ１）／アンチブロッキング層、の構成の透明導電性フィルムを作製した。
を作製した。
【０４０３】
なお、屈折率調整層（Ｘ−２）の形成は、屈折率調整層（Ｘ）の形成において、組成物溶液（Ｘ）の代わりに、無機粒子含有樹脂溶液（東洋インキ社製、「ＴＹＺ６８−Ａ１２」）１００重量部に、プロピレングリコールモノメチルエーテル７００重量部を混合して、さらに、製造例２で得られた色素化合物（Ｃ２）２重量部を前記樹脂溶液中の樹脂固形成分に対して、５重量部となるように混合して調製した組成物溶液（Ｘ−２）を用いたこと以外は屈折率調整層（Ｘ１）の形成と同様の操作を行った。屈折率調整層（Ｘ−２）中のベースポリマー重量（１００重量％）に対して、色素化合物（Ｃ２）の添加量は５．０重量％であった。
【０４０４】
比較例６
（ポリエステルフィルム（Ｚ２）の調製）
テレフタル酸ジメチルおよびエチレングリコールから、三酸化アンチモンを触媒として常法により重合を行い、溶融重合ポリエチレンテレフタレートを得た。得られたポリエチレンテレフタレートを１６０℃で２時間真空乾燥した後、フィルム溶融押出成形機に投入し、２９０℃で溶融させ、キャスティングドラム上に押出後、延伸することで、厚み５０μｍのポリエステルフィルム（Ｚ２）を得た。
【０４０５】
（アンチブロッキング層の形成）
上記ポリエステルフィルム（Ｚ２）の片面に、比較例５と同様にして、膜厚１．５μｍのアンチブロッキング層（ＡＢ層）を形成した。
【０４０６】
（クラック防止層（Ｑ）の形成）
ゴム変性エポキシ樹脂（エポキシ樹脂骨格部分の重量平均分子量：２０００）を主成分とするアデカフィルテラＢＵＲ−１２Ａ（ＡＤＥＫＡ社製）を１０重量部、アンチモン系硬化促進剤であるアデカフィルテラＢＵＲ−１２Ｂ（ＡＤＥＫＡ社製）を０．００１部混合し、この混合物に対してメチルイソブチルケトンを９０重量部添加して全体が１００重量部となるように組成物溶液（Ｑ）を調製した。当該組成物溶液（Ｑ）を１７０℃にて加熱した際のゲル化時間は１０秒であった。次いで、上記ポリエステルフィルム（Ｚ２）において上記アンチブロッキング層を形成した面とは逆面に、前記組成物溶液（Ｑ）を塗布して、１９５℃で１分間の条件で乾燥させることにより、厚み３０ｎｍのクラック防止層（Ｑ）をポリエステルフィルム（Ｚ２）の上面に形成した。
【０４０７】
（ＩＴＯ層の形成）
次いで、上記で得られた、クラック防止層（Ｑ）／ポリエステルフィルム（Ｚ２）／アンチブロッキング層、の構成の積層体を、巻き取り式スパッタリング装置に投入して、クラック防止層（Ｙ２）の上面に、厚みが３０ｎｍのＩＴＯ層（非晶質）を形成した。具体的には、アルゴンガス９８％および酸素ガス２％を導入した気圧０．４Ｐａの真空雰囲気下で、９７質量％の酸化インジウムおよび３質量％の酸化スズの焼結体からなるＩＴＯターゲットを用いて、クラック防止層（Ｑ）に対してスパッタリングを実施した。
上記のようにして、ＩＴＯ層／クラック防止層（Ｑ）／ポリエステルフィルム（Ｚ２）／アンチブロッキング層、の構成の透明導電性フィルムを作製した。
【０４０８】
実施例１６
比較例６において、ポリエステルフィルム（Ｚ２）の代わりに、ポリエステルフィルム（Ｚ２−１）を用いたこと以外は比較例６と同様にして、ＩＴＯ層／クラック防止層（Ｑ）／ポリエステルフィルム（Ｚ２−１）／アンチブロッキング層、の構成の透明導電性フィルムを作製した。
【０４０９】
なお、ポリエステルフィルム（Ｚ２−１）は、ポリエステルフィルム（Ｚ２）の調製にあたり、得られたポリエチレンテレフタレート１００重量部に対して、さらに、製造例２で得られた色素化合物（Ｃ２）を１重量部添加した組成物を用いて成膜したこと以外は、ポリエステルフィルム（Ｚ２）の調製と同様の操作を行って得たものを用いた。ポリエステルフィルム（Ｚ２−１）中のべースポリマー重量（１００重量％）に対して、色素化合物（Ｃ２）の添加量は、１重量％であった。
【０４１０】
実施例１７
比較例６において、易接着層（Ｒ−１）をさらに設けたこと以外は比較例６と同様にして、ＩＴＯ層／クラック防止層（Ｑ）／易接着層（Ｒ−１）／ポリエステルフィルム（Ｚ２）／アンチブロッキング層、の構成の透明導電性フィルムを作製した。
を作製した。
【０４１１】
なお、易接着層（Ｒ−１）は下記方法で設けた。易接着層形成用組成物（Ｒ−１）は、フタル酸エステル（フタル酸／エチレングリコール・プロピレングリコールの反応物）、メタクリル酸、オキサゾリン、エチレングリコール、プロピレングリコール、メラミンから形成された樹脂１００重量部に対し、製造例２で得られた色素化合物（Ｃ２）を５重量部添加することで調製した。次いで、上記ポリエステルフィルム（Ｚ２）において上記アンチブロッキング層を形成した面とは逆面に、前記易接着組成物（Ｒ−１）を塗布して、１９５℃で１分間の条件で乾燥させることにより、厚み０．１μｍの易接着層（Ｒ−１）を形成した。次いで、クラック防止層（Ｙ２）を、易接着層（Ｒ−１）上に設けた。易接着層（Ｒ−１）中のベースポリマー重量（１００重量％）に対して、色素化合物（Ｃ２）の添加量は５重量％であった。
【０４１２】
実施例１８
比較例６において、クラック防止層（Ｙ２）の代わりに、クラック防止層（Ｑ−１）を形成したこと以外は比較例６と同様にして、ＩＴＯ層／クラック防止層（Ｑ−１）／ポリエステルフィルム（Ｚ２）／アンチブロッキング層、の構成の透明導電性フィルムを作製した。
を作製した。
【０４１３】
なお、クラック防止層（Ｑ−１）の形成は、クラック防止層（Ｑ）の形成において、組成物溶液（Ｑ−１）の代わりに、ゴム変性エポキシ樹脂１００重量部に対して、さらに、製造例２で得られた色素化合物（Ｃ２）を５重量部添加して調製した組成物溶液（Ｑ−１）を用いたこと、さらに厚みを７０ｎｍとしたこと以外はクラック防止層（Ｑ）の形成と同様の操作を行った。
【０４１４】
（評価）
実施例１３〜１８及び比較例５，６で得られた透明導電性フィルムについて、以下の評価を行った。評価は以下の手法で行った。結果を表４、表５に示す。
【０４１５】
＜透明導電性フィルムの透過率、色相の測定：初期値＞
実施例及び比較例で得られた透明導電性フィルムを、切り出して試験片を作製した。試験片を透明導電層（ＩＴＯ層）側から測定光が入光するように測定用治具に取り付け、反射型分光光度計（製品名：Ｕ４１００、日立ハイテクノロジーズ社製）で測定した。波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲における透過率（表５には、３８０ｎｍ、４００ｎｍ、４２０ｎｍの測定値を示す）、単体Ｙ値、単体色相（Ｌ＊, ａ*, ｂ＊）を測定した。
【０４１６】
＜透明導電性フィルムのＩＴＯ層の表面抵抗値＞
ＩＴＯ層を成膜後に１４０℃で９０分間の加熱処理を行ってＩＴＯ層を結晶化することで、結晶質の透明導電性フィルムを作製した。結晶質の透明導電層の表面抵抗値（Ω／□）はＪＩＳ  Ｋ７１９４（１９９４年）に準じて四端子法により測定した。
【０４１７】
【表７】
2018200463.tif 000031
【符号の説明】
【０４１８】
１    光学積層体
２    粘接着剤層
３    透明保護フィルム
４    偏光子
５    位相差フィルム
６    粘着剤層
７    カバー部材
８    有機ＥＬパネル
１０    有機ＥＬ表示装置
２０    透明導電性フィルム
２１    透明基材フィルム
２２    透明導電層を
２３    中間層
２４    アンチブロッキング層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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