(57)【要約】【課題】筋状の輝度ムラを抑えることの可能なパネルの有機ＥＬ素子の製造方法および有機電界発光パネルを提供する。【解決手段】本開示の一実施の形態の有機電界発光パネルの製造方法は、サブピクセルごとに有機電界発光素子を備えた有機電界発光パネルの製造方法であって、以下の塗布工程を含む。  主成分が互いに共通の第１有機材料層および第２有機材料層を重ね塗りすることにより前記有機電界発光素子を製造する塗布工程。  上記塗布工程において、第１有機材料層を塗布した後、第１有機材料層に対して不溶化処理を行うことにより第１有機材料層に含まれる分子の構造に変化を与え、不溶化処理のなされた後の第１有機材料層上に、第２有機材料層を塗布する。【選択図】図８
2018081824.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サブピクセルごとに有機電界発光素子を備えた有機電界発光パネルの製造方法であって、
主成分が互いに共通の第１有機材料層および第２有機材料層を重ね塗りすることにより前記有機電界発光素子を製造する塗布工程を含み、
前記塗布工程において、前記第１有機材料層を塗布した後、前記第１有機材料層に対して不溶化処理を行うことにより前記第１有機材料層に含まれる分子の構造に変化を与え、前記不溶化処理のなされた後の前記第１有機材料層上に、前記第２有機材料層を塗布する
有機電界発光パネルの製造方法。
【請求項２】
前記有機電界発光素子は、正孔輸送層、有機発光層および電子輸送層を含んで構成され、
前記塗布工程を実施することにより、前記正孔輸送層、前記有機発光層または前記電子輸送層を形成する
請求項１に記載の有機電界発光パネルの製造方法。
【請求項３】
前記第１有機材料層および前記第２有機材料層は、互いに共通のインクによって構成されている
請求項１または請求項２に記載の有機電界発光パネルの製造方法。
【請求項４】
前記第１有機材料層において、前記主成分および前記主成分以外の成分のうち、少なくとも一方に、熱解離可溶性基、架橋性基または脱離性保護基を有する材料を含み、
前記不溶化処理として、前記熱解離可溶性基の熱解離反応、前記架橋性基の重合反応、または前記脱離性保護基の脱離反応を促す処理を用いる
請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の有機電界発光パネルの製造方法。
【請求項５】
前記塗布工程において、互いに平行な２つのラインバンクの間隙に、前記第１有機材料層および前記第２有機材料層を重ね塗りする
請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載の有機電界発光パネルの製造方法。
【請求項６】
前記間隙は、５０μｍ以下の大きさとなっている
請求項５に記載の有機電界発光パネルの製造方法。
【請求項７】
前記間隙は、ＲＧＢの前記サブピクセルがストライプ配列となっているときに精細度が１５０ｐｐｉ以上となるような大きさとなっている
請求項５に記載の有機電界発光パネルの製造方法。
【請求項８】
インクジェット装置を用いたインクの液滴の吐出により、前記第１有機材料層および前記第２有機材料層を重ね塗りし、
前記液滴の吐出間隙は、前記液滴の直径の２倍以上となっている
請求項５ないし請求項７のいずれか一項に記載の有機電界発光パネルの製造方法。
【請求項９】
サブピクセルごとに有機電界発光素子を備え、
前記有機電界発光素子は、正孔輸送層、有機発光層および電子輸送層を含んで構成され、
前記正孔輸送層、前記有機発光層または前記電子輸送層は、互いに積層された、主成分が互いに共通の第１有機材料層および第２有機材料層を有する
有機電界発光パネル。
【請求項１０】
前記第１有機材料層および前記第２有機材料層のうち、少なくとも一方の層は、熱解離可溶性基、架橋性基または脱離性保護基を有する材料を含む
請求項９に記載の有機電界発光パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、有機電界発光パネルの製造方法および有機電界発光パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
インクジェット装置を用いて、有機電界発光素子を画素ごとに形成することにより、有機電界発光パネルを製造する方法が知られている。近年の高精細化に伴い、画素サイズが小さくなり、単位面積当たりの保液量が少なくなってきている。しかし、溶解性や、印刷可能な物性（粘度など）の観点から、インク濃度を過度に高くすることは難しい。そのため、例えば、特許文献１に記載の発明では、複数回に分けて、重ね塗りすることが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−２５７６６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、複数回に分けて、重ね塗りした場合には、既に塗られた層が、次に重ね塗りしたインクに溶解する。この溶解が、インクの液滴が着弾した箇所の近傍のみで局地的に発生するので、インクの液滴が着弾した箇所の膜厚が局所的に薄くなる。特に、画素間にインクが流動可能なラインバンクが用いられている場合には、この膜厚ムラが、複数の画素に渡り、筋状の輝度ムラとして視認されてしまう。そのため、筋状の輝度ムラを抑えることの可能な有機電界発光パネルの製造方法および有機電界発光パネルを提供することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本開示の一実施の形態の有機電界発光パネルの製造方法は、サブピクセルごとに有機電界発光素子を備えた有機電界発光パネルの製造方法であって、以下の塗布工程を含む。
主成分が互いに共通の第１有機材料層および第２有機材料層を重ね塗りすることにより有機電界発光素子を製造する塗布工程
上記塗布工程において、第１有機材料層を塗布した後、第１有機材料層に対して不溶化処理を行うことにより第１有機材料層に含まれる分子の構造に変化を与え、不溶化処理のなされた後の第１有機材料層上に、第２有機材料層を塗布する。
【０００６】
本開示の一実施の形態の有機電界発光パネルは、サブピクセルごとに有機電界発光素子を備えている。有機電界発光素子は、正孔輸送層、有機発光層および電子輸送層を含んで構成されている。正孔輸送層、有機発光層または電子輸送層は、互いに積層された、主成分が互いに共通の第１有機材料層および第２有機材料層を有する。
【０００７】
本開示の一実施の形態の有機電界発光パネルの製造方法では、塗布した第１有機材料層に対して、第１有機材料層に含まれる分子の構造に変化を与える不溶化処理が行われた後に、第２有機材料層が塗布される。これにより、第１有機材料層が、第２有機材料層によって溶解し難くなる。
【０００８】
本開示の一実施の形態の有機電界発光パネルでは、正孔輸送層、有機発光層または電子輸送層は、互いに積層された、主成分が互いに共通の第１有機材料層および第２有機材料層を有する。これにより、例えば、塗布した第１有機材料層に対して、第１有機材料層に含まれる分子の構造に変化を与える不溶化処理を行った後に、第２有機材料層を塗布することができる。これにより、第１有機材料層を、第２有機材料層によって溶解し難くすることができる。
【発明の効果】
【０００９】
本開示の一実施の形態の有機電界発光パネルの製造方法によれば、第１有機材料層が、第２有機材料層によって溶解し難くなるようにしたので、筋状の輝度ムラを抑えることができる。なお、本開示の効果は、ここに記載された効果に必ずしも限定されず、本明細書中に記載されたいずれの効果であってもよい。
【００１０】
本開示の一実施の形態の有機電界発光パネルによれば、第１有機材料層を、第２有機材料層によって溶解し難くすることができるので、筋状の輝度ムラを抑えることができる。なお、本開示の効果は、ここに記載された効果に必ずしも限定されず、本明細書中に記載されたいずれの効果であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本開示の一実施の形態に係る有機電界発光装置の概略構成例を表す図である。
【図２】図１の各画素に含まれるサブピクセルの回路構成例を表す図である。
【図３】図１の有機電界発光パネルの概略構成例を表す図である。
【図４】図３の有機電界発光パネルのＡ−Ａ線での断面構成例を表す図である。
【図５】図３の有機電界発光パネルのＢ−Ｂ線での断面構成例を表す図である。
【図６】不溶化基を有する有機材料の分子構造の例を表す図である。
【図７】不溶化基を有する有機材料の分子構造の例を表す図である。
【図８】図４の有機電界発光パネルの製造手順の一例を表す図である。
【図９】図４の有機電界発光パネルの製造過程の一例を表す図である。
【図１０】図９に続く製造過程の一例を表す図である。
【図１１】図１０に続く製造過程の一例を表す図である。
【図１２】インクの液滴を滴下したときの様子を模式的に表す図である。
【図１３】図１１に続く製造過程の一例を表す図である。
【図１４】図１３に続く製造過程の一例を表す図である。
【図１５】図１４に続く製造過程の一例を表す図である。
【図１６Ａ】従来の有機材料層の製造過程の一例を表す図である。
【図１６Ｂ】図１６Ａに続く有機材料層の製造過程の一例を表す図である。
【図１６Ｃ】図１６Ｂに続く有機材料層の製造過程の一例を表す図である。
【図１６Ｄ】図１６Ｃに続く有機材料層の製造過程の一例を表す図である。
【図１７】図１の有機電界発光パネルのＡ−Ａ線での断面構成の一変形例を表す図である。
【図１８】図１７の有機電界発光パネルの製造手順の一例を表す図である。
【図１９】図１の有機電界発光パネルのＡ−Ａ線での断面構成の一変形例を表す図である。
【図２０】図１９の有機電界発光パネルの製造手順の一例を表す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本開示を実施するための形態について、図面を参照して詳細に説明する。以下に説明する実施の形態は、いずれも本開示の好ましい一具体例を示すものである。したがって、以下の実施の形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置及び接続形態などは、一例であって本開示を限定する主旨ではない。よって、以下の実施の形態における構成要素のうち、本開示の最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。なお、各図は、模式図であり、必ずしも厳密に図示されたものではない。また、各図において、実質的に同一の構成に対しては同一の符号を付しており、重複する説明は省略又は簡略化する。
【００１３】
＜実施の形態＞
[構成]
図１は、本開示の一実施の形態に係る有機電界発光装置１の概略構成例を表したものである。図２は、有機電界発光装置１に設けられた各画素１１の回路構成の一例を表したものである。有機電界発光装置１は、例えば、有機電界発光パネル１０、コントローラ２０およびドライバ３０を備えている。ドライバ３０は、例えば、有機電界発光パネル１０の外縁部分に実装されている。有機電界発光パネル１０は、行列状に配置された複数の画素１１を有している。コントローラ２０およびドライバ３０は、外部から入力された映像信号Ｄｉｎおよび同期信号Ｔｉｎに基づいて、有機電界発光パネル１０を駆動する。
【００１４】
（有機電界発光パネル１０）
有機電界発光パネル１０は、コントローラ２０およびドライバ３０によって各画素１１がアクティブマトリクス駆動されることにより、外部から入力された映像信号Ｄｉｎおよび同期信号Ｔｉｎに基づく画像を表示する。有機電界発光パネル１０は、行方向に延在する複数の走査線ＷＳＬと、列方向に延在する複数の信号線ＤＴＬおよび複数の電源線ＤＳＬと、行列状に配置された複数の画素１１とを有している。
【００１５】
走査線ＷＳＬは、各画素１１の選択に用いられるものであり、各画素１１を所定の単位（例えば画素行）ごとに選択する選択パルスを各画素１１に供給するものである。信号線ＤＴＬは、映像信号Ｄｉｎに応じた信号電圧Ｖｓｉｇの、各画素１１への供給に用いられるものであり、信号電圧Ｖｓｉｇを含むデータパルスを各画素１１に供給するものである。電源線ＤＳＬは、各画素１１に電力を供給するものである。
【００１６】
各画素１１は、例えば、赤色光を発するサブピクセル１２、緑色光を発するサブピクセル１２、および青色光を発するサブピクセル１２を含んで構成されている。なお、各画素１１は、例えば、さらに、他の色（例えば、白色や、黄色など）を発するサブピクセル１２を含んで構成されていてもよい。
【００１７】
各信号線ＤＴＬは、後述の水平セレクタ３１の出力端に接続されている。各画素列には、例えば、複数の信号線ＤＴＬが１本ずつ、割り当てられている。各走査線ＷＳＬは、後述のライトスキャナ３２の出力端に接続されている。各画素行には、例えば、複数の走査線ＷＳＬが１本ずつ、割り当てられている。各電源線ＤＳＬは、電源の出力端に接続されている。各画素行には、例えば、複数の電源線ＤＳＬが１本ずつ、割り当てられている。
【００１８】
各サブピクセル１２は、画素回路１２−１と、有機電界発光素子１２−２とを有している。有機電界発光素子１２−２の構成については、後に詳述する。
【００１９】
画素回路１２−１は、有機電界発光素子１２−２の発光・消光を制御する。画素回路１２−１は、後述の書込走査によって各サブピクセル１２に書き込んだ電圧を保持する機能を有している。画素回路１２−１は、例えば、駆動トランジスタＴｒ１、書込トランジスタＴｒ２および保持容量Ｃｓを含んで構成されている。
【００２０】
書込トランジスタＴｒ２は、駆動トランジスタＴｒ１のゲートに対する、映像信号Ｄｉｎに対応した信号電圧Ｖｓｉｇの印加を制御する。具体的には、書込トランジスタＴｒ２は、信号線ＤＴＬの電圧をサンプリングするとともに、サンプリングにより得られた電圧を駆動トランジスタＴｒ１のゲートに書き込む。駆動トランジスタＴｒ１は、有機電界発光素子１２−２に直列に接続されている。駆動トランジスタＴｒ１は、有機電界発光素子１２−２を駆動する。駆動トランジスタＴｒ１は、書込トランジスタＴｒ２によってサンプリングされた電圧の大きさに応じて有機電界発光素子１２−２に流れる電流を制御する。保持容量Ｃｓは、駆動トランジスタＴｒ１のゲート−ソース間に所定の電圧を保持するものである。保持容量Ｃｓは、所定の期間中に駆動トランジスタＴｒ１のゲート−ソース間電圧Ｖｇｓを一定に保持する役割を有する。なお、画素回路１２−１は、上述の２Ｔｒ１Ｃの回路に対して各種容量やトランジスタを付加した回路構成となっていてもよいし、上述の２Ｔｒ１Ｃの回路構成とは異なる回路構成となっていてもよい。
【００２１】
各信号線ＤＴＬは、後述の水平セレクタ３１の出力端と、書込トランジスタＴｒ２のソースまたはドレインとに接続されている。各走査線ＷＳＬは、後述のライトスキャナ３２の出力端と、書込トランジスタＴｒ２のゲートとに接続されている。各電源線ＤＳＬは、電源回路と、駆動トランジスタＴｒ１のソースまたはドレインに接続されている。
【００２２】
書込トランジスタＴｒ２のゲートは、走査線ＷＳＬに接続されている。書込トランジスタＴｒ２のソースまたはドレインが信号線ＤＴＬに接続されている。書込トランジスタＴｒ２のソースおよびドレインのうち信号線ＤＴＬに未接続の端子が駆動トランジスタＴｒ１のゲートに接続されている。駆動トランジスタＴｒ１のソースまたはドレインが電源線ＤＳＬに接続されている。駆動トランジスタＴｒ１のソースおよびドレインのうち電源線ＤＳＬに未接続の端子が有機電界発光素子２１−２の陽極２１に接続されている。保持容量Ｃｓの一端が駆動トランジスタＴｒ１のゲートに接続されている。保持容量Ｃｓの他端が駆動トランジスタＴｒ１のソースおよびドレインのうち有機電界発光素子２１−２側の端子に接続されている。
【００２３】
（ドライバ３０）
ドライバ３０は、例えば、水平セレクタ３１およびライトスキャナ３２を有している。水平セレクタ３１は、例えば、制御信号の入力に応じて（同期して）、コントローラ２０から入力されたアナログの信号電圧Ｖｓｉｇを、各信号線ＤＴＬに印加する。ライトスキャナ３２は、複数のサブピクセル１２を所定の単位ごとに走査する。
【００２４】
（コントローラ２０）
次に、コントローラ２０について説明する。コントローラ２０は、例えば、外部から入力されたデジタルの映像信号Ｄｉｎに対して所定の補正を行い、それにより得られた映像信号に基づいて、信号電圧Ｖｓｉｇを生成する。コントローラ２０は、例えば、生成した信号電圧Ｖｓｉｇを水平セレクタ３１に出力する。コントローラ２０は、例えば、外部から入力された同期信号Ｔｉｎに応じて（同期して）、ドライバ３０内の各回路に対して制御信号を出力する。
【００２５】
次に、図３、図４、図５を参照して、有機電界発光素子１２−２について説明する。図３は、有機電界発光パネル１０の概略構成例を表したものである。図４は、図３の有機電界発光パネル１０のＡ−Ａ線での断面構成例を表したものである。図５は、図３の有機電界発光パネル１０のＢ−Ｂ線での断面構成例を表したものである。
【００２６】
有機電界発光パネル１０は、行列状に配置された複数の画素１１を有している。各画素１１は、例えば、上述したように、赤色光を発するサブピクセル１２（１２Ｒ）、緑色光を発するサブピクセル１２（１２Ｇ）、および青色光を発するサブピクセル１２（１２Ｂ）を含んで構成されている。サブピクセル１２Ｒでは、赤色の光を発する有機電界発光素子１２−２（１２ｒ）を含んで構成されている。サブピクセル１２Ｇでは、緑色の光を発する有機電界発光素子１２−２（１２ｇ）を含んで構成されている。サブピクセル１２Ｂでは、青色の光を発する有機電界発光素子１２−２（１２ｂ）を含んで構成されている。サブピクセル１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂは、例えば、ストライプ配列となっている。各画素１１において、例えば、サブピクセル１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂが、列方向に並んで配置されている。さらに、各画素行において、例えば、同一色の光を発するサブピクセル１２が、行方向に並んで配置されている。
【００２７】
有機電界発光パネル１０は、基板１４上に、行方向に延在する複数のラインバンク１３を有している。有機電界発光パネル１０は、さらに、基板１４上に、複数のラインバンク１３の端部を互いに連結する複数のバンク１５を有している。各バンク１５は、列方向に延在している。基板１４は、例えば、各有機電界発光素子１２−２や各ラインバンク１３などを支持する基材と、基材上に設けられた配線層とによって構成されている。基板１４内の基材は、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラスまたは石英などによって形成されている。基板１４内の基材は、例えば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン、ポリエステル、シリコーン系樹脂、またはアルミナなどによって形成されている。基板１４内の配線層には、例えば、各画素１１の画素回路１２−１が形成されている。
【００２８】
ラインバンク１３およびバンク１５は、例えば、絶縁性の有機材料によって形成されている。絶縁性の有機材料としては、例えば、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂などが挙げられる。ラインバンク１３およびバンク１５は、例えば、耐熱性、溶媒に対する耐性を持つ絶縁性樹脂によって形成されていることが好ましい。ラインバンク１３およびバンク１５は、例えば、絶縁性樹脂をフォトリソグラフィおよび現像によって所望のパターンに加工することによって形成される。ラインバンク１３の断面形状は、例えば、図４に示したような順テーパ型であってもよく、裾が狭くなった逆テーパ型であってもよい。
【００２９】
互いに平行で、かつ互いに隣接する２つのラインバンク１３および両端のバンク１５によって囲まれた領域が、溝部１６なっている。各サブピクセル１２において、各有機電界発光素子１２−２は、互いに平行で、かつ互いに隣接する２つのラインバンク１３の間隙に１つずつ配置されている。つまり、各サブピクセル１２において、各有機電界発光素子１２−２は、溝部１６の中に１つずつ配置されている。互いに平行で、かつ互いに隣接する２つのラインバンク１３の間隙（溝部１６の幅Ｄ１）は、例えば、５０μｍ以下の大きさとなっている。互いに平行で、かつ互いに隣接する２つのラインバンク１３の間隙（溝部１６の幅Ｄ１）は、例えば、ＲＧＢのサブピクセル１２がストライプ配列となっているときに、精細度が１５０ｐｐｉ以上となるような大きさとなっている。
【００３０】
各有機電界発光素子１２−２は、例えば、陽極２１、正孔注入層２２、正孔輸送層２３、有機発光層２４、電子輸送層２５、電子注入層２６および陰極２７を基板１４側からこの順に備えたものである。正孔注入層２２は、正孔注入効率を高めるための層である。正孔輸送層２３は、陽極２１から注入された正孔を有機発光層２４へ輸送するための層である。有機発光層２４は、電子と正孔との再結合により、所定の色の光を発する層である。電子輸送層２５は、陰極２７から注入された電子を有機発光層２４へ輸送するための層である。電子注入層２６は、電子注入効率を高めるための層である。正孔注入層２２および電子注入層２６の少なくとも一方が省略されていてもよい。各有機電界発光素子１２−２は、上述以外の層をさらに有していてもよい。
【００３１】
陽極２１は、例えば、基板１４の上に形成されている。陽極２１は、透光性を有する透明電極であって、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）又はＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）等の透明導電性材料からなる透明導電膜が用いられる。なお、陽極２１は、透明電極に限るものではなく、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、アルミニウムもしくは銀の合金等、または、反射性を有する反射電極であってもよい。陽極２１は、反射電極と透明電極とが積層されたものであってもよい。
【００３２】
正孔輸送層２３は、陽極２１から注入された正孔を有機発光層２４へ輸送する機能を有する。正孔輸送層２３は、例えば、塗布膜である。正孔輸送層２３は、例えば、正孔輸送性を有する有機材料（以下、「正孔輸送性材料２３Ｍ」と称する。）を溶質の主成分とする溶液を塗布および乾燥することにより形成されている。正孔輸送層２３は、正孔輸送性材料２３Ｍを主成分として含んで構成されている。正孔輸送層２３は、例えば、正孔輸送性材料２３Ｍおよび正孔輸送性材料２３Ｍ以外の成分のうち、少なくとも一方に、不溶化する機能を有している。不溶化する機能とは、熱解離可溶性基、架橋性基または脱離性保護基などの不溶化基が、熱あるいは紫外光等の照射もしくはその組み合わせにより、化学変化し、有機溶媒や水への溶解性を低下させる機能のことをいう。従って、正孔輸送層２３が、正孔輸送性材料２３Ｍおよび正孔輸送性材料２３Ｍ以外の成分のうち、少なくとも一方に、不溶化基を有する材料を含んでいる場合には、正孔輸送層２３は、不溶化処理のなされた正孔輸送層である。不溶化は、例えば、残膜率で評価される。不溶化基については、後に詳述する。
【００３３】
正孔輸送層２３は、蒸着膜であってもよい。この場合には、正孔輸送層２３は、例えば、正孔輸送性材料２３Ｍを蒸着することにより形成されている。
【００３４】
正孔輸送層２３の原料（材料）である正孔輸送性材料２３Ｍは、例えば、アリールアミン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ブタジエン化合物、ポリスチレン誘導体、ヒドラゾン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、テトラフェニルベンジン誘導体等、または、これらの組み合わせからなる材料である。正孔輸送性材料２３Ｍは、さらに、例えば、溶解性および不溶化の機能のために、その分子構造中に、可溶性基と、熱解離可溶性基、架橋性基または脱離性保護基などの不溶化基とを有している。
【００３５】
有機発光層２４は、正孔と電子との再結合により、所定の色の光を発する機能を有する。有機発光層２４は、塗布膜である。有機発光層２４は、正孔と電子との再結合により励起子を生成し発光する有機材料（以下、「有機発光材料２４Ｍ」と称する。）を溶質の主成分とする溶液の塗布および乾燥により形成されている。有機発光層２４は、有機発光材料２４Ｍを主成分として含んで構成されている。サブピクセル１２Ｒに含まれる有機電界発光素子１２ｒでは、有機発光材料２４Ｍが赤色有機発光材料を含んで構成されている。サブピクセル１２Ｇに含まれる有機電界発光素子１２ｇでは、有機発光材料２４Ｍが緑色有機発光材料を含んで構成されている。サブピクセル１２Ｂに含まれる有機電界発光素子１２ｂでは、有機発光材料２４Ｍが青色有機発光材料を含んで構成されている。
【００３６】
有機発光層２４は、例えば、有機発光材料２４Ｍおよび有機発光材料２４Ｍ以外の成分のうち、少なくとも一方に、不溶化する機能を有している。従って、有機発光層２４が、有機発光材料２４Ｍおよび有機発光材料２４Ｍ以外の成分のうち、少なくとも一方に、不溶化基を有する材料を含んでいる場合には、有機発光層２４は、不溶化処理のなされた有機発光層である。
【００３７】
有機発光層２４は、例えば、積層された複数の有機発光層によって構成されている。有機発光層２４は、例えば、図４、図５に示したように、主成分が互いに共通の有機発光層２４Ａおよび有機発光層２４Ｂを正孔輸送層２３側からこの順に積層したものである。有機発光層２４は、例えば、互いに積層された、主成分が互いに共通の有機発光層２４Ａおよび有機発光層２４Ｂを有している。有機発光層２４Ａおよび有機発光層２４Ｂは、ともに、塗布膜である。有機発光層２４Ａおよび有機発光層２４Ｂは、ともに、有機発光材料２４Ｍを溶質の主成分とする溶液の塗布および乾燥により形成されている。有機発光層２４Ａおよび有機発光層２４Ｂは、ともに、有機発光材料２４Ｍを主成分として含んで構成されている。有機発光層２４Ａおよび有機発光層２４Ｂは、ともに、例えば、互いに共通のインクを塗布することにより形成されている。
【００３８】
有機発光層２４Ａおよび有機発光層２４Ｂのうち、少なくとも一方の層（具体的には、有機発光層２４Ａ）は、例えば、有機発光材料２４Ｍおよび有機発光材料２４Ｍ以外の成分のうち、少なくとも一方に、不溶化する機能（不溶化基を有する材料）を有している。従って、有機発光層２４Ａおよび有機発光層２４Ｂのうち、不溶化する機能を有している層は、不溶化処理のなされた有機発光層である。
【００３９】
有機発光層２４の原料（材料）である有機発光材料２４Ｍは、例えば、ドーパント材料単独であってもよいが、より好ましくは、ホスト材料とドーパント材料との組み合わせがよい。つまり、有機発光層２４は、有機発光材料２４Ｍとして、ホスト材料およびドーパント材料を含んで構成されている。ホスト材料は、主に電子又は正孔の電荷輸送の機能を担っており、ドーパント材料は、発光の機能を担っている。ホスト材料およびドーパント材料は１種類のみに限られるものではなく、２種類以上の組み合わせであってもよい。ドーパント材料の量は、ホスト材料に対して、０．０１重量％以上３０重量％以下であるとよく、より好ましくは、０．０１重量％以上１０重量％以下である。
【００４０】
有機発光層２４のホスト材料としては、例えば、アミン化合物、縮合多環芳香族化合物、ヘテロ環化合物が用いられる。アミン化合物としては、例えば、モノアミン誘導体、ジアミン誘導体、トリアミン誘導体、テトラアミン誘導体が用いられる。縮合多環芳香族化合物としては、例えば、アントラセン誘導体、ナフタレン誘導体、ナフタセン誘導体、フェナントレン誘導体、クリセン誘導体、フルオランテン誘導体、トリフェニレン誘導体、ペンタセン誘導体、または、ペリレン誘導体等が挙げられる。ヘテロ環化合物としては、例えば、カルバゾール誘導体、フラン誘導体、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、トリアジン誘導体、イミダゾール誘導体、ピラゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピロール誘導体、インドール誘導体、アザインドール誘導体、アザカルバゾール、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、または、フタロシアニン誘導体等が挙げられる。
【００４１】
また、有機発光層２４のドーパント材料としては、例えば、ピレン誘導体、フルオランテン誘導体、アリールアセチレン誘導体、フルオレン誘導体、ペリレン誘導体、オキサジアゾール誘導体、アントラセン誘導体、または、クリセン誘導体が用いられる。また、有機発光層２４のドーパント材料としては、金属錯体が用いられてもよい。金属錯体としては、例えば、イリジウム（Ｉｒ）、白金（Ｐｔ）、オスミウム（Ｏｓ）、金（Ａｕ）、レニウム（Ｒｅ）、もしくは、ルテニウム（Ｒｕ）等の金属原子と配位子とを有するものが挙げられる。
【００４２】
有機発光層２４は、蒸着膜であってもよい。この場合には、有機発光層２４は、例えば、有機発光材料２４Ｍを蒸着することにより形成されている。
【００４３】
電子輸送層２５は、陰極２７から注入された電子を有機発光層２４へ輸送する機能を有する。電子輸送層２５は、例えば、塗布膜である。電子輸送層２５は、電子輸送性を有する有機材料（以下、「電子輸送性材料２５Ｍ」と称する。）主成分として含んで構成されている。
【００４４】
電子輸送層２５は、有機発光層２４と陰極２７との間に介在し、陰極２７から注入された電子を有機発光層２４へ輸送する機能を有する。電子輸送層２５の原料（材料）である電子輸送性材料２５Ｍは、例えば、分子内にヘテロ原子を１個以上含有する芳香族ヘテロ環化合物である。芳香族ヘテロ環化合物としては、例えば、ピリジン環、ピリミジン環、トリアジン環、ベンズイミダゾール環、フェナントロリン環、キナゾリン環等を骨格に含む化合物が挙げられる。また、電子輸送層２５は、電子輸送性を有する金属を含んでもよい。電子輸送層２５は、電子輸送性を有する金属を含むことで、電子輸送層２５の電子輸送性を向上できる。電子輸送層２５に含まれる金属としては、例えば、バリウム（Ｂａ）、リチウム（Ｌｉ）、カルシウム（Ｃａ）、カリウム（Ｋ）、セシウム（Ｃｓ）、ナトリウム（Ｎａ）、ルビジウム（Ｒｂ）等を用いることができる。
【００４５】
電子輸送層２５は、例えば、電子輸送性材料２５Ｍおよび電子輸送性材料２５Ｍ以外の成分のうち、少なくとも一方に、不溶化する機能を有している。従って、電子輸送層２５が、電子輸送性材料２５Ｍおよび電子輸送性材料２５Ｍ以外の成分のうち、少なくとも一方に、不溶化基を有する材料を含んでいる場合には、電子輸送層２５は、不溶化処理のなされた電子輸送層である。
【００４６】
電子輸送層２５は、蒸着膜であってもよい。この場合には、電子輸送層２５は、例えば、電子輸送性材料２５Ｍを蒸着することにより形成されている。
【００４７】
陰極２７は、例えば、光反射性を有する反射電極であり、例えば反射性を有する金属材料を用いて形成された金属電極である。陰極２７の材料としては、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、銀（Ａｇ）、アルミニウム−リチウム合金、マグネシウム−銀合金等が用いられる。なお、陰極２７は、反射電極に限るものではなく、陽極２１と同様に、ＩＴＯ膜等の透明電極であってもよい。基板１４及び陽極２１が透光性を有し、陰極２７が反射性を有する場合には、有機電界発光素子１２−２は、基板１４側から光が放出するボトムエミッション構造となっている。陽極２１が反射性を有し、陰極２７が透光性を有する場合には、有機電界発光素子１２−２は、トップエミッション構造となっている。
【００４８】
有機電界発光パネル１０は、さらに、例えば、各有機電界発光素子１２−２を封止する封止層２８を有していてもよい。封止層２８は、例えば、各有機電界発光素子１２−２の陰極２７の表面に接して設けられている。
【００４９】
（不溶化基）
次に、上述した不溶化基について説明する。図６、図７は、不溶化基を有する有機材料の分子構造の例を表したものである。正孔輸送層２３、有機発光層２４および電子輸送層２５のうち、少なくとも１つの層が、塗布膜となっており、不溶化基を有する材料を含んでいる。不溶化基は、熱解離可溶性基、架橋性基または脱離性保護基である。
【００５０】
（熱解離可溶性基）
熱解離可溶性基とは、結合している芳香族炭化水素環から７０℃以上で解離し、さらに溶媒に対して可溶性を示す基をいう。ここで、「溶媒に対して可溶性を示す」とは、化合物が熱および活性エネルギー線のうち少なくとも一方の照射によって反応する前の状態で、常温でトルエンに０．１重量％以上溶解することをいう。化合物のトルエンへの溶解性は、好ましくは０．５重量％以上、より好ましくは１重量％以上である。このような熱解離可溶性基として好ましくは、芳香族炭化水素環側に極性基を形成せずに熱解離する基であり、逆ディールスアルダー反応により熱解離する基であることがより好ましい。熱解離可溶性基としては、例えば、図６に示したものが挙げられる。なお、熱解離可溶性基は、図６に示したものに限定されるものではない。
【００５１】
（架橋性基）
架橋性基とは、熱および活性エネルギー線のうち少なくとも一方の照射により、近傍に位置する他の分子の同一又は異なる基と反応して、新規な化学結合を生成する基をいう。熱および活性エネルギー線のうち少なくとも一方の照射によって起こる反応（不溶化反応）の前後で、溶媒に対する溶解性に大きな差を生じさせることができる点で、架橋性基は、熱解離可溶性基や脱離性保護基よりも好ましい。架橋性基としては、例えば、図７に示したものが挙げられる。なお、架橋性基は、図７に示したものに限定されるものではない。
【００５２】
カチオン重合によって不溶化反応する基が、反応性が高く不溶化が容易な点で好ましい。カチオン重合によって不溶化反応する基としては、例えば、環状エーテル基（例えば、エポキシ基またはオキセタン基など）、または、ビニルエーテル基などが挙げられる。カチオン重合の速度を制御しやすい点では、オキセタン基が特に好ましい。カチオン重合の際に素子の劣化をまねくおそれのあるヒドロキシル基が生成しにくい点では、ビニルエーテル基が好ましい。
【００５３】
（脱離性保護基）
脱離性保護基とは、加熱処理により脱離性保護基を脱離させることで分子構造変化をもたらす基をいう。脱離性保護基の脱離により、有機溶媒に対する溶解性が変化する。アミノ基を有する材料は、有機電界発光素子１２−２の正孔輸送層２３や電子輸送層２５の材料として広く用いられる。脱離性保護基としては、ｔ−ＢＯＣ、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、メトキシメチル基などが好ましい。
【００５４】
（不溶化について）
不溶化は、例えば、不溶化される有機材料層を構成する材料の少なくとも一部を、エネルギーを加えることによって架橋することにより行われ得る。このような材料を含む塗布液を塗布して成膜した後に、エネルギーとして光または熱を加え、架橋させることによって膜を不溶化することができる。なお、本明細書においては、架橋とは、低分子の架橋剤が互いに重合することも含む概念である。不溶化される有機材料層を主に構成する材料が、エネルギーを加えることによって架橋するものであってもよい。また、不溶化される有機材料層を構成する材料のうちの、有機材料層を主に構成する材料を除く残余の材料の少なくとも一部が、エネルギーを加えることによって架橋するものであってもよい。不溶化は、例えば、脱離性保護基、熱解離可溶性基等にエネルギーを加えることによって置換基そのものが構造を変えることによっても行われ得る。
【００５５】
[製造方法]
次に、有機電界発光パネル１０の製造方法について説明する。図８は、有機電界発光パネル１０の製造手順の一例を表したものである。図９〜図１５は、有機電界発光パネル１０の製造過程の一例を表したものである。
【００５６】
まず、基板１４上に、複数のラインバンク１３および複数のバンク１５を形成する（図９）。これにより、行方向に延在する溝部１６が形成される。互いに平行で、かつ互いに隣接する２つのラインバンク１３の間隙（溝部１６の幅Ｄ１）を、有機電界発光パネル１０として要求される精細度の大きさに応じて設定する。ＲＧＢのサブピクセル１２がストライプ配列となっているときに、精細度を１５０ｐｐｉ以上とする場合には、互いに平行で、かつ互いに隣接する２つのラインバンク１３の間隙（溝部１６の幅Ｄ１）を、５０μｍ以下の大きさにする。
【００５７】
次に、溝部１６の底面に陽極２１を形成する。続いて、例えば、インクジェット装置を用いて、インクの液滴を吐出したのち、吐出後のインクを乾燥させることにより、正孔注入層２２および正孔輸送層２３を形成する（図１０）。次に、例えば、インクジェット装置を用いて、インクの液滴を吐出することにより、主成分が互いに共通の液状の有機材料層２４Ａｉおよび液状の有機材料層２４Ｂｉを重ね塗りする。有機材料層２４Ａｉおよび有機材料層２４Ｂｉは、ともに、有機発光材料２４Ｍを溶質の主成分とする液状の有機材料層である。有機材料層２４Ａｉおよび有機材料層２４Ｂｉは、ともに、有機発光材料２４Ｍを主成分として含んで構成されている。有機材料層２４Ａｉおよび有機材料層２４Ｂｉは、ともに、互いに共通のインクによって構成されている。有機材料層２４Ａｉおよび有機材料層２４Ｂｉのうち、少なくとも有機材料層２４Ａｉにおいて、有機発光材料２４Ｍおよび有機発光材料２４Ｍ以外の成分のうち、少なくとも一方に、不溶化基を有する材料を含んでいる。
【００５８】
具体的には、まず、有機発光層２４Ａの原料である液状の有機材料層２４Ａｉを、溝部１６内に塗布する（ステップＳ１０１、図１１）。このとき、例えば、図１２に示したように、インクジェット装置からは、液滴ＬＱの直径Ｒ１の２倍以上の吐出間隔Ｄ２で、液滴ＬＱを溝部１６内に滴下する。つまり、液滴の吐出間隙Ｄ２は、液滴ＬＱの直径Ｒ１の２倍以上となっている。間隔Ｄ２は、例えば、溝部１６内に滴下された全ての液滴ＬＱにおいて等間隔となっている。なお、間隔Ｄ２が、例えば、溝部１６内において、部分的に広くなったり、狭くなったりしていてもよい。
【００５９】
次に、有機材料層２４Ａｉに対して不溶化処理を行うことにより有機材料層２４Ａｉに含まれる分子の構造に変化を与える（ステップＳ１０２）。これにより、有機材料層２４Ａｉに含まれる溶媒が揮発するとともに、有機材料層２４Ａｉに含まれる分子の構造の変化により、有機材料層２４Ａｉが不溶化する。その結果、有機発光層２４Ａが形成される（図１３）。なお、ステップＳ１０２の不溶化処理において、有機材料層２４Ａｉに含まれる溶媒を揮発させると同時に、有機材料層２４Ａｉに含まれる分子の構造に変化を与えてもよい。また、ステップＳ１０２の不溶化処理において、有機材料層２４Ａｉに含まれる溶媒を揮発させた後に、有機材料層２４Ａｉに含まれる分子の構造に変化を与えてもよい。
【００６０】
次に、有機発光層２４Ｂの原料である液状の有機材料層２４Ｂｉを、溝部１６内に塗布する（ステップＳ１０３、図１４）。このとき、例えば、図１２に示したように、インクジェット装置からは、液滴ＬＱの直径Ｒ１の２倍以上の吐出間隔Ｄ２で、液滴ＬＱを溝部１６内に滴下する。つまり、液滴の吐出間隙Ｄ２は、液滴ＬＱの直径Ｒ１の２倍以上となっている。間隔Ｄ２は、例えば、溝部１６内に滴下された全ての液滴ＬＱにおいて等間隔となっている。なお、間隔Ｄ２が、例えば、溝部１６内において、部分的に広くなったり、狭くなったりしていてもよい。
【００６１】
次に、有機材料層２４Ｂｉに対して不溶化処理を行う（ステップＳ１０４）。このとき、有機材料層２４Ｂｉが不溶化基を有する材料を含んでいる場合には、不溶化処理により、有機材料層２４Ｂｉに含まれる分子の構造に変化を与える。その結果、有機材料層２４Ｂｉに含まれる溶媒が揮発するとともに、有機材料層２４Ｂｉに含まれる分子の構造の変化により、有機材料層２４Ｂｉが不溶化する。その結果、有機発光層２４Ｂが形成される（図１５）。なお、ステップＳ１０４の不溶化処理において、有機材料層２４Ｂｉに含まれる溶媒を揮発させると同時に、有機材料層２４Ｂｉに含まれる分子の構造に変化を与えてもよい。また、ステップＳ１０４の不溶化処理において、有機材料層２４Ｂｉに含まれる溶媒を揮発させた後に、有機材料層２４Ｂｉに含まれる分子の構造に変化を与えてもよい。有機材料層２４Ｂｉが不溶化基を有する材料を含んでいない場合には、有機材料層２４Ｂｉに対して、不溶化処理の代わりに揮発処理を行う。その結果、有機発光層２４Ｂが形成される（図１５）。
【００６２】
次に、例えば、インクジェット装置を用いて、インクの液滴を吐出したのち、吐出後のインクを乾燥させることにより、電子輸送層２５および電子注入層２６を形成する。続いて、電子注入層２６上に、陰極２７および封止層２８をこの順に形成する。このようにして、サブピクセル１２ごとに有機電界発光素子１２−２を有する有機電界発光パネル１０が製造される。
【００６３】
[効果]
次に、比較例と対比しつつ、本実施の形態の有機電界発光パネル１０の製造方法の効果について説明する。
【００６４】
インクジェット装置を用いて、有機電界発光素子を画素ごとに形成することにより、有機電界発光パネルを製造する方法が知られている。近年の高精細化に伴い、画素サイズが小さくなり、単位面積当たりの保液量が少なくなってきている。しかし、溶解性や、印刷可能な物性（粘度など）の観点から、インク濃度を過度に高くすることは難しい。そのため、例えば、特許文献１に記載の発明では、複数回に分けて、重ね塗りすることが提案されている。
【００６５】
ところで、複数回に分けて、重ね塗りした場合には、既に塗られた層が、次に重ね塗りしたインクに溶解する。例えば、図１６Ａ、図１６Ｂに示したように、基材１００上に、一層目１１０を塗布した後、一層目１１０を乾燥させる。続いて、一層目１１０の上に、二層目１２０を塗布すると、例えば、図１６Ｃに示したように、一層目１１０の一部が溶解し、二層目１２０と混じり合う。このとき、一層目１１０の溶解は、二層目１２０を形成する際に吐出したインクの液滴が着弾した箇所の近傍のみで局地的に発生する。このように、溶解が、インクの液滴が着弾した箇所の近傍のみで局地的に発生した状態で、二層目１２０を乾燥させると、例えば、図１６Ｄに示したように、インクの液滴が着弾した箇所の膜厚が局所的に薄い有機材料層１３０が形成される。特に、画素間にインクが流動可能なラインバンクが用いられている場合には、この膜厚ムラが、複数の画素に渡り、筋状の輝度ムラとして視認されてしまう
【００６６】
一方、本実施の形態では、塗布した有機材料層２４Ａｉに対して、有機材料層２４Ａｉに含まれる分子の構造に変化を与える不溶化処理が行われた後に、有機材料層２４Ｂｉが塗布される。これにより、有機材料層２４Ａｉが、有機材料層２４Ｂｉによって溶解し難くなる。その結果、筋状の輝度ムラを抑えることができる。
【００６７】
また、本実施の形態において、有機材料層２４Ａｉおよび有機材料層２４Ｂｉが、互いに共通のインクによって構成されている場合には、有機材料層２４Ｂｉを塗布する際に、インクジェット装置のインクタンクを取り換える手間を省略することができる。その結果、有機電界発光パネル１０の製造コストの上昇を低く抑えることができる。
【００６８】
また、本実施の形態において、有機材料層２４Ａｉにおいて、有機発光材料２４Ｍおよび有機発光材料２４Ｍ以外の成分のうち、少なくとも一方に、架橋性基を有する材料を含んでいる場合に、不溶化処理として、架橋性基の重合反応を促す処理を用いたとする。この場合、熱および活性エネルギー線のうち少なくとも一方の照射によって起こる反応（不溶化反応）の前後で、溶媒に対する溶解性に大きな差を生じさせることができる。そのため、有機材料層２４Ａｉを、有機材料層２４Ｂｉによって極めて溶解し難くすることができる。従って、筋状の輝度ムラを確実に抑えることができる。
【００６９】
また、本実施の形態において、有機材料層２４Ａｉにおいて、有機発光材料２４Ｍおよび有機発光材料２４Ｍ以外の成分のうち、少なくとも一方に、熱解離可溶性基を有する材料を含んでいる場合に、不溶化処理として、熱解離可溶性基の熱解離反応を促す処理を用いたとする。この場合、比較的、低エネルギーで不溶化処理を行うことができる。これにより、意図せぬ副次的な反応の発生を抑制できるので、有機発光材料２４Ｍに対して悪影響を与えることなく、筋状の輝度ムラを抑えることができる。
【００７０】
また、本実施の形態において、有機材料層２４Ａｉにおいて、有機発光材料２４Ｍおよび有機発光材料２４Ｍ以外の成分のうち、少なくとも一方に、脱離性保護基を有する材料を含んでいる場合に、不溶化処理として、脱離性保護基の脱離反応を促す処理を用いたとする。この場合、比較的、低エネルギーで不溶化処理を行うことができる。これにより、意図せぬ副次的な反応の発生を抑制できるので、有機発光材料２４Ｍに対して悪影響を与えることなく、筋状の輝度ムラを抑えることができる。
【００７１】
また、本実施の形態において、塗布工程において、互いに平行な２つのラインバンクの間隙（溝部１６内）に、有機材料層２４Ａｉおよび有機材料層２４Ｂｉを重ね塗りする場合には、サブピクセル１２ごとに、有機材料層２４Ａｉおよび有機材料層２４Ｂｉを重ね塗りする場合と比べて、インクジェット装置の位置決め精度を低くすることができる。従って、低コストで、筋状の輝度ムラが抑えられた有機電界発光パネル１０を製造することができる。
【００７２】
また、本実施の形態において、互いに平行な２つのラインバンクの間隙（溝部１６内）が、５０μｍ以下の大きさとなっている場合には、本実施の形態の重ね塗りを行うことで、筋状の輝度ムラを抑えることができる。
【００７３】
また、本実施の形態において、互いに平行な２つのラインバンクの間隙（溝部１６内）が、ＲＧＢのサブピクセルがストライプ配列となっているときに精細度が１５０ｐｐｉ以上となるような大きさとなっている場合には、本実施の形態の重ね塗りを行うことで、筋状の輝度ムラを抑えることができる。
【００７４】
＜変形例＞
以下に、上記実施の形態の有機電界発光パネル１０の製造方法の変形例について説明する。
【００７５】
[変形例Ａ]
上記実施の形態の有機電界発光パネル１０において、電子輸送層２５が、例えば、積層された複数の電子輸送層によって構成されていてもよい。
【００７６】
電子輸送層２５は、例えば、図１７に示したように、主成分が互いに共通の電子輸送層２５Ａおよび電子輸送層２５Ｂを有機発光層２４側からこの順に積層したものである。電子輸送層２５は、例えば、互いに積層された、主成分が互いに共通の電子輸送層２５Ａおよび電子輸送層２５Ｂを有している。電子輸送層２５Ａおよび電子輸送層２５Ｂは、ともに、塗布膜である。電子輸送層２５Ａおよび電子輸送層２５Ｂは、ともに、電子輸送性材料２５Ｍを溶質の主成分とする溶液の塗布および乾燥により形成されている。電子輸送層２５Ａおよび電子輸送層２５Ｂは、ともに、電子輸送性材料２５Ｍを主成分として含んで構成されている。電子輸送層２５Ａおよび電子輸送層２５Ｂは、ともに、例えば、互いに共通のインクを塗布することにより形成されている。
【００７７】
電子輸送層２５Ａおよび電子輸送層２５Ｂのうち、少なくとも一方の層（具体的には、電子輸送層２５Ａ）は、例えば、電子輸送性材料２５Ｍおよび電子輸送性材料２５Ｍ以外の成分のうち、少なくとも一方に、不溶化する機能（不溶化基を有する材料）を有している。従って、電子輸送層２５Ａおよび電子輸送層２５Ｂのうち、不溶化する機能を有している層は、不溶化処理のなされた有機発光層である。
【００７８】
次に、有機電界発光パネル１０の製造方法について説明する。図１８は、有機電界発光パネル１０の製造手順の一例を表したものである。以下では、陽極２１を形成した後の工程から説明を始める。
【００７９】
ます、例えば、インクジェット装置を用いて、インクの液滴を吐出したのち、吐出後のインクを乾燥させることにより、正孔注入層２２、正孔輸送層２３および有機発光層２４を形成する。次に、例えば、インクジェット装置を用いて、インクの液滴を吐出することにより、主成分が互いに共通の液状の有機材料層２５Ａｉおよび液状の有機材料層２５Ｂｉを重ね塗りする。有機材料層２５Ａｉおよび有機材料層２５Ｂｉは、ともに、電子輸送性材料２５Ｍを溶質の主成分とする液状の有機材料層である。有機材料層２５Ａｉおよび有機材料層２５Ｂｉは、ともに、電子輸送性材料２５Ｍを主成分として含んで構成されている。有機材料層２５Ａｉおよび有機材料層２５Ｂｉは、ともに、互いに共通のインクによって構成されている。有機材料層２５Ａｉおよび有機材料層２５Ｂｉのうち、少なくとも有機材料層２５Ａｉにおいて、電子輸送性材料２５Ｍおよび電子輸送性材料２５Ｍ以外の成分のうち、少なくとも一方に、不溶化基を有する材料を含んでいる。
【００８０】
具体的には、まず、電子輸送層２５Ａの原料である液状の有機材料層２５Ａｉを、溝部１６内に塗布する（ステップＳ２０１）。このとき、例えば、インクジェット装置からは、液滴ＬＱの直径Ｒ１の２倍以上の吐出間隔Ｄ２で、液滴ＬＱを溝部１６内に滴下する。つまり、液滴の吐出間隙Ｄ２は、液滴ＬＱの直径Ｒ１の２倍以上となっている。間隔Ｄ２は、例えば、溝部１６内に滴下された全ての液滴ＬＱにおいて等間隔となっている。なお、間隔Ｄ２が、例えば、溝部１６内において、部分的に広くなったり、狭くなったりしていてもよい。
【００８１】
次に、有機材料層２５Ａｉに対して不溶化処理を行うことにより有機材料層２５Ａｉに含まれる分子の構造に変化を与える（ステップＳ２０２）。これにより、有機材料層２５Ａｉに含まれる溶媒が揮発するとともに、有機材料層２５Ａｉに含まれる分子の構造の変化により、有機材料層２５Ａｉが不溶化する。その結果、電子輸送層２５Ａが形成される。なお、ステップＳ２０２の不溶化処理において、有機材料層２５Ａｉに含まれる溶媒を揮発させると同時に、有機材料層２５Ａｉに含まれる分子の構造に変化を与えてもよい。また、ステップＳ２０２の不溶化処理において、有機材料層２５Ａｉに含まれる溶媒を揮発させた後に、有機材料層２５Ａｉに含まれる分子の構造に変化を与えてもよい。
【００８２】
次に、電子輸送層２５Ｂの原料である液状の有機材料層２５Ｂｉを、溝部１６内に塗布する（ステップＳ２０３）。このとき、例えば、インクジェット装置からは、液滴ＬＱの直径Ｒ１の２倍以上の吐出間隔Ｄ２で、液滴ＬＱを溝部１６内に滴下する。つまり、液滴の吐出間隙Ｄ２は、液滴ＬＱの直径Ｒ１の２倍以上となっている。間隔Ｄ２は、例えば、溝部１６内に滴下された全ての液滴ＬＱにおいて等間隔となっている。なお、間隔Ｄ２が、例えば、溝部１６内において、部分的に広くなったり、狭くなったりしていてもよい。
【００８３】
次に、有機材料層２５Ｂｉに対して不溶化処理を行う（ステップＳ２０４）。このとき、有機材料層２５Ｂｉが不溶化基を有する材料を含んでいる場合には、不溶化処理により、有機材料層２５Ｂｉに含まれる分子の構造に変化を与える。その結果、有機材料層２５Ｂｉに含まれる溶媒が揮発するとともに、有機材料層２５Ｂｉに含まれる分子の構造の変化により、有機材料層２５Ｂｉが不溶化する。その結果、電子輸送層２５Ｂが形成される。有機材料層２５Ｂｉが不溶化基を有する材料を含んでいない場合には、不溶化処理により、有機材料層２５Ｂｉに含まれる溶媒が揮発することにより、有機材料層２５Ｂｉが不溶化する。その結果、電子輸送層２５Ｂが形成される。なお、ステップＳ２０４の不溶化処理において、有機材料層２５Ｂｉに含まれる溶媒を揮発させると同時に、有機材料層２５Ｂｉに含まれる分子の構造に変化を与えてもよい。また、ステップＳ２０４の不溶化処理において、有機材料層２５Ｂｉに含まれる溶媒を揮発させた後に、有機材料層２５Ｂｉに含まれる分子の構造に変化を与えてもよい。有機材料層２５Ｂｉが不溶化基を有する材料を含んでいない場合には、有機材料層２５ｉに対して、不溶化処理の代わりに揮発処理を行う。その結果、有機発光層２５Ｂが形成される。
【００８４】
次に、例えば、インクジェット装置を用いて、インクの液滴を吐出したのち、吐出後のインクを乾燥させることにより、電子注入層２６を形成する。続いて、電子注入層２６上に、陰極２７および封止層２８をこの順に形成する。このようにして、サブピクセル１２ごとに有機電界発光素子１２−２を有する有機電界発光パネル１０が製造される。
【００８５】
次に、本変形例に係る有機電界発光パネル１０の製造方法の効果について説明する。
【００８６】
本変形例では、塗布した有機材料層２５Ａｉに対して、有機材料層２５Ａｉに含まれる分子の構造に変化を与える不溶化処理が行われた後に、有機材料層２５Ｂｉが塗布される。これにより、有機材料層２５Ａｉが、有機材料層２５Ｂｉによって溶解し難くなる。その結果、筋状の輝度ムラを抑えることができる。
【００８７】
また、本変形例において、有機材料層２５Ａｉおよび有機材料層２５Ｂｉが、互いに共通のインクによって構成されている場合には、有機材料層２５Ｂｉを塗布する際に、インクジェット装置のインクタンクを取り換える手間を省略することができる。その結果、有機電界発光パネル１０の製造コストの上昇を低く抑えることができる。
【００８８】
また、本変形例において、有機材料層２５Ａｉにおいて、電子輸送性材料２５Ｍおよび電子輸送性材料２５Ｍ以外の成分のうち、少なくとも一方に、架橋性基を有する材料を含んでいる場合に、不溶化処理として、架橋性基の重合反応を促す処理を用いたとする。この場合、熱および活性エネルギー線のうち少なくとも一方の照射によって起こる反応（不溶化反応）の前後で、溶媒に対する溶解性に大きな差を生じさせることができる。そのため、有機材料層２５Ａｉを、有機材料層２５Ｂｉによって極めて溶解し難くすることができる。従って、筋状の輝度ムラを確実に抑えることができる。
【００８９】
また、本変形例において、有機材料層２５Ａｉにおいて、電子輸送性材料２５Ｍおよび電子輸送性材料２５Ｍ以外の成分のうち、少なくとも一方に、熱解離可溶性基を有する材料を含んでいる場合に、不溶化処理として、熱解離可溶性基の熱解離反応を促す処理を用いたとする。この場合、比較的、低エネルギーで不溶化処理を行うことができる。これにより、意図せぬ副次的な反応の発生を抑制できるので、有機発光材料２５Ｍに対して悪影響を与えることなく、筋状の輝度ムラを抑えることができる。
【００９０】
また、本変形例において、有機材料層２５Ａｉにおいて、電子輸送性材料２５Ｍおよび電子輸送性材料２５Ｍ以外の成分のうち、少なくとも一方に、脱離性保護基を有する材料を含んでいる場合に、不溶化処理として、脱離性保護基の脱離反応を促す処理を用いたとする。この場合、比較的、低エネルギーで不溶化処理を行うことができる。これにより、意図せぬ副次的な反応の発生を抑制できるので、有機発光材料２５Ｍに対して悪影響を与えることなく、筋状の輝度ムラを抑えることができる。
【００９１】
また、本変形例において、塗布工程において、互いに平行な２つのラインバンクの間隙（溝部１６内）に、有機材料層２５Ａｉおよび有機材料層２５Ｂｉを重ね塗りする場合には、サブピクセル１２ごとに、有機材料層２５Ａｉおよび有機材料層２５Ｂｉを重ね塗りする場合と比べて、インクジェット装置の位置決め精度を低くすることができる。従って、低コストで、筋状の輝度ムラが抑えられた有機電界発光パネル１０を製造することができる。
【００９２】
また、本変形例において、互いに平行な２つのラインバンクの間隙（溝部１６内）が、５０μｍ以下の大きさとなっている場合には、本変形例の重ね塗りを行うことで、筋状の輝度ムラを抑えることができる。
【００９３】
また、本変形例において、互いに平行な２つのラインバンクの間隙（溝部１６内）が、ＲＧＢのサブピクセルがストライプ配列となっているときに精細度が１５０ｐｐｉ以上となるような大きさとなっている場合には、本変形例の重ね塗りを行うことで、筋状の輝度ムラを抑えることができる。
【００９４】
[変形例Ｂ]
上記実施の形態の有機電界発光パネル１０において、正孔輸送層２３が、例えば、積層された複数の正孔輸送層によって構成されていてもよい。
【００９５】
正孔輸送層２３は、例えば、図１９に示したように、主成分が互いに共通の正孔輸送層２３Ａおよび正孔輸送層２３Ｂを陽極２１または正孔注入層２２側からこの順に積層したものである。正孔輸送層２３は、例えば、互いに積層された、主成分が互いに共通の正孔輸送層２３Ａおよび正孔輸送層２３Ｂを有している。正孔輸送層２３Ａおよび正孔輸送層２３Ｂは、ともに、塗布膜である。正孔輸送層２３Ａおよび正孔輸送層２３Ｂは、ともに、正孔輸送性材料２３Ｍを溶質の主成分とする溶液の塗布および乾燥により形成されている。正孔輸送層２３Ａおよび正孔輸送層２３Ｂは、ともに、正孔輸送性材料２３Ｍを主成分として含んで構成されている。正孔輸送層２３Ａおよび正孔輸送層２３Ｂは、ともに、例えば、互いに共通のインクを塗布することにより形成されている。
【００９６】
正孔輸送層２３Ａおよび正孔輸送層２３Ｂのうち、少なくとも一方の層（具体的には、正孔輸送層２３Ａ）は、例えば、正孔輸送性材料２３Ｍおよび正孔輸送性材料２３Ｍ以外の成分のうち、少なくとも一方に、不溶化する機能（不溶化基を有する材料）を有している。従って、正孔輸送層２３Ａおよび正孔輸送層２３Ｂのうち、不溶化する機能を有している層は、不溶化処理のなされた有機発光層である。
【００９７】
次に、有機電界発光パネル１０の製造方法について説明する。図２０は、有機電界発光パネル１０の製造手順の一例を表したものである。以下では、陽極２１を形成した後の工程から説明を始める。
【００９８】
ます、例えば、インクジェット装置を用いて、インクの液滴を吐出したのち、吐出後のインクを乾燥させることにより、正孔注入層２２を形成する。次に、例えば、インクジェット装置を用いて、インクの液滴を吐出することにより、主成分が互いに共通の液状の有機材料層２３Ａｉおよび液状の有機材料層２３Ｂｉを重ね塗りする。有機材料層２３Ａｉおよび有機材料層２３Ｂｉは、ともに、正孔輸送性材料２３Ｍを溶質の主成分とする液状の有機材料層である。有機材料層２３Ａｉおよび有機材料層２３Ｂｉは、ともに、正孔輸送性材料２３Ｍを主成分として含んで構成されている。有機材料層２３Ａｉおよび有機材料層２３Ｂｉは、ともに、互いに共通のインクによって構成されている。有機材料層２３Ａｉおよび有機材料層２３Ｂｉのうち、少なくとも有機材料層２３Ａｉにおいて、正孔輸送性材料２３Ｍおよび正孔輸送性材料２３Ｍ以外の成分のうち、少なくとも一方に、不溶化基を有する材料を含んでいる。
【００９９】
具体的には、まず、正孔輸送層２３Ａの原料である液状の有機材料層２３Ａｉを、溝部１６内に塗布する（ステップＳ３０１）。このとき、例えば、インクジェット装置からは、液滴ＬＱの直径Ｒ１の２倍以上の吐出間隔Ｄ２で、液滴ＬＱを溝部１６内に滴下する。つまり、液滴の吐出間隙Ｄ２は、液滴ＬＱの直径Ｒ１の２倍以上となっている。間隔Ｄ２は、例えば、溝部１６内に滴下された全ての液滴ＬＱにおいて等間隔となっている。なお、間隔Ｄ２が、例えば、溝部１６内において、部分的に広くなったり、狭くなったりしていてもよい。
【０１００】
次に、有機材料層２３Ａｉに対して不溶化処理を行うことにより有機材料層２３Ａｉに含まれる分子の構造に変化を与える（ステップＳ３０２）。これにより、有機材料層２３Ａｉに含まれる溶媒が揮発するとともに、有機材料層２３Ａｉに含まれる分子の構造の変化により、有機材料層２３Ａｉが不溶化する。その結果、正孔輸送層２３Ａが形成される。なお、ステップＳ３０２の不溶化処理において、有機材料層２３Ａｉに含まれる溶媒を揮発させると同時に、有機材料層２３Ａｉに含まれる分子の構造に変化を与えてもよい。また、ステップＳ３０２の不溶化処理において、有機材料層２３Ａｉに含まれる溶媒を揮発させた後に、有機材料層２３Ａｉに含まれる分子の構造に変化を与えてもよい。
【０１０１】
次に、正孔輸送層２３Ｂの原料である液状の有機材料層２３Ｂｉを、溝部１６内に塗布する（ステップＳ３０３）。このとき、例えば、インクジェット装置からは、液滴ＬＱの直径Ｒ１の２倍以上の吐出間隔Ｄ２で、液滴ＬＱを溝部１６内に滴下する。つまり、液滴の吐出間隙Ｄ２は、液滴ＬＱの直径Ｒ１の２倍以上となっている。間隔Ｄ２は、例えば、溝部１６内に滴下された全ての液滴ＬＱにおいて等間隔となっている。なお、間隔Ｄ２が、例えば、溝部１６内において、部分的に広くなったり、狭くなったりしていてもよい。
【０１０２】
次に、有機材料層２３Ｂｉに対して不溶化処理を行う（ステップＳ３０４）。このとき、有機材料層２３Ｂｉが不溶化基を有する材料を含んでいる場合には、不溶化処理により、有機材料層２３Ｂｉに含まれる分子の構造に変化を与える。その結果、有機材料層２３Ｂｉに含まれる溶媒が揮発するとともに、有機材料層２３Ｂｉに含まれる分子の構造の変化により、有機材料層２３Ｂｉが不溶化する。その結果、正孔輸送層２３Ｂが形成される。なお、ステップＳ３０４の不溶化処理において、有機材料層２３Ｂｉに含まれる溶媒を揮発させると同時に、有機材料層２３Ｂｉに含まれる分子の構造に変化を与えてもよい。また、ステップＳ３０４の不溶化処理において、有機材料層２３Ｂｉに含まれる溶媒を揮発させた後に、有機材料層２３Ｂｉに含まれる分子の構造に変化を与えてもよい。有機材料層２３Ｂｉが不溶化基を有する材料を含んでいない場合には、有機材料層２３Ｂｉに対して、不溶化処理の代わりに揮発処理を行う。その結果、正孔輸送層２３Ｂが形成される。
【０１０３】
次に、例えば、インクジェット装置を用いて、インクの液滴を吐出したのち、吐出後のインクを乾燥させることにより、有機発光層２４、電子輸送層２５および電子注入層２６を形成する。続いて、電子注入層２６上に、陰極２７および封止層２８をこの順に形成する。このようにして、サブピクセル１２ごとに有機電界発光素子１２−２を有する有機電界発光パネル１０が製造される。
【０１０４】
次に、本変形例に係る有機電界発光パネル１０の製造方法の効果について説明する。
【０１０５】
本変形例では、塗布した有機材料層２３Ａｉに対して、有機材料層２３Ａｉに含まれる分子の構造に変化を与える不溶化処理が行われた後に、有機材料層２３Ｂｉが塗布される。これにより、有機材料層２３Ａｉが、有機材料層２３Ｂｉによって溶解し難くなる。その結果、筋状の輝度ムラを抑えることができる。
【０１０６】
また、本変形例において、有機材料層２３Ａｉおよび有機材料層２３Ｂｉが、互いに共通のインクによって構成されている場合には、有機材料層２３Ｂｉを塗布する際に、インクジェット装置のインクタンクを取り換える手間を省略することができる。その結果、有機電界発光パネル１０の製造コストの上昇を低く抑えることができる。
【０１０７】
また、本変形例において、有機材料層２３Ａｉにおいて、正孔輸送性材料２３Ｍおよび正孔輸送性材料２３Ｍ以外の成分のうち、少なくとも一方に、架橋性基を有する材料を含んでいる場合に、不溶化処理として、架橋性基の重合反応を促す処理を用いたとする。この場合、熱および活性エネルギー線のうち少なくとも一方の照射によって起こる反応（不溶化反応）の前後で、溶媒に対する溶解性に大きな差を生じさせることができる。そのため、有機材料層２３Ａｉを、有機材料層２３Ｂｉによって極めて溶解し難くすることができる。従って、筋状の輝度ムラを確実に抑えることができる。
【０１０８】
また、本変形例において、有機材料層２３Ａｉにおいて、正孔輸送性材料２３Ｍおよび正孔輸送性材料２３Ｍ以外の成分のうち、少なくとも一方に、熱解離可溶性基を有する材料を含んでいる場合に、不溶化処理として、熱解離可溶性基の熱解離反応を促す処理を用いたとする。この場合、比較的、低エネルギーで不溶化処理を行うことができる。これにより、意図せぬ副次的な反応の発生を抑制できるので、有機発光材料２３Ｍに対して悪影響を与えることなく、筋状の輝度ムラを抑えることができる。
【０１０９】
また、本変形例において、有機材料層２３Ａｉにおいて、正孔輸送性材料２３Ｍおよび正孔輸送性材料２３Ｍ以外の成分のうち、少なくとも一方に、脱離性保護基を有する材料を含んでいる場合に、不溶化処理として、脱離性保護基の脱離反応を促す処理を用いたとする。この場合、比較的、低エネルギーで不溶化処理を行うことができる。これにより、意図せぬ副次的な反応の発生を抑制できるので、有機発光材料２３Ｍに対して悪影響を与えることなく、筋状の輝度ムラを抑えることができる。
【０１１０】
また、本変形例において、塗布工程において、互いに平行な２つのラインバンクの間隙（溝部１６内）に、有機材料層２３Ａｉおよび有機材料層２３Ｂｉを重ね塗りする場合には、サブピクセル１２ごとに、有機材料層２３Ａｉおよび有機材料層２３Ｂｉを重ね塗りする場合と比べて、インクジェット装置の位置決め精度を低くすることができる。従って、低コストで、筋状の輝度ムラが抑えられた有機電界発光パネル１０を製造することができる。
【０１１１】
また、本変形例において、互いに平行な２つのラインバンクの間隙（溝部１６内）が、５０μｍ以下の大きさとなっている場合には、本変形例の重ね塗りを行うことで、筋状の輝度ムラを抑えることができる。
【０１１２】
また、本変形例において、互いに平行な２つのラインバンクの間隙（溝部１６内）が、ＲＧＢのサブピクセルがストライプ配列となっているときに精細度が１５０ｐｐｉ以上となるような大きさとなっている場合には、本変形例の重ね塗りを行うことで、筋状の輝度ムラを抑えることができる。一般に、精細度が高くなると、間隙に保持できるインキ量も少なくなってしまう。従って、一回の印刷で必要な膜厚を得ようとする場合、インキの高濃度化が必要とされる。ところが、上述したように、印刷可能な物性（粘度など）の観点から、インク濃度を過度に高くすることは難しい。そこで、有機材料を複数回重ね塗りすることにより、精細度の高いパネルにおいても、有機材料層を厚く形成しつつ、筋状の輝度ムラを抑えることができる。
【０１１３】
＜その他＞
ところで、有機電界発光素子１２−２の製造過程において、正孔輸送層２３、有機発光層２４および電子輸送層２５のうち、少なくとも１つの層を厚く形成したとする。このとき、厚く形成した層を乾燥させるためには、薄く形成した層と比べて、乾燥時間を長めにするか、または、乾燥温度を高めにすることが必要となる。しかし、厚く形成した層を完全に乾燥させることは容易ではなく、厚く形成した層の下部の乾燥が不十分となってしまうことがある。この場合、厚く形成した層内に残留する溶媒によって、有機電界発光素子１２−２の劣化が早まったりするなどの不具合が生じやすくなる。
【０１１４】
しかし、上記実施の形態では、有機発光層２４が、複数の有機発光層（例えば、有機発光層２４Ａ、有機発光層２４Ｂ）で構成され、有機発光層２４が、複数の有機発光層（例えば、有機発光層２４Ａ、有機発光層２４Ｂ）の重ね塗りで形成されている。これにより、有機発光層２４を厚く形成した場合であっても、重ね塗りした複数の有機発光層を、一層ずつ乾燥させることができる。その結果、有機発光層２４を一度の乾燥工程によって乾燥させた場合と比べて、有機発光層２４内に残留する溶媒を極めて容易に少なくすることができる。従って、有機電界発光素子１２−２の劣化が早まったりするなどの不具合を低減することができる。
【０１１５】
また、上記変形例Ａでは、電子輸送層２５が、複数の電子輸送層（例えば、電子輸送層２５Ａ、電子輸送層２５Ｂ）で構成され、電子輸送層２５が、複数の電子輸送層（例えば、電子輸送層２５Ａ、電子輸送層２５Ｂ）の重ね塗りで形成されている。これにより、電子輸送層２５を厚く形成した場合であっても、重ね塗りした複数の電子輸送層を、一層ずつ乾燥させることができる。その結果、電子輸送層２５を一度の乾燥工程によって乾燥させた場合と比べて、電子輸送層２５内に残留する溶媒を極めて容易に少なくすることができる。従って、有機電界発光素子１２−２の劣化が早まったりするなどの不具合を低減することができる。
【０１１６】
また、上記変形例Ｂでは、正孔輸送層２３が、複数の正孔輸送層（例えば、正孔輸送層２３Ａ、正孔輸送層２３Ｂ）で構成され、正孔輸送層２３が、複数の正孔輸送層（例えば、正孔輸送層２３Ａ、正孔輸送層２３Ｂ）の重ね塗りで形成されている。これにより、正孔輸送層２３を厚く形成した場合であっても、重ね塗りした複数の正孔輸送層を、一層ずつ乾燥させることができる。その結果、正孔輸送層２３を一度の乾燥工程によって乾燥させた場合と比べて、正孔輸送層２３内に残留する溶媒を極めて容易に少なくすることができる。従って、有機電界発光素子１２−２の劣化が早まったりするなどの不具合を低減することができる。
【０１１７】
以上、実施の形態および変形例を挙げて本開示を説明したが、本開示は実施の形態等に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、上記実施の形態、変形例Ａおよび変形例Ｂでは、基板１４上に複数のラインバンク１３および複数のバンク１５が設けられていたが、それらの代わりに、サブピクセル１２ごとに１つずつピクセルバンクが設けられていてもよい。
【０１１８】
なお、本明細書中に記載された効果は、あくまで例示である。本開示の効果は、本明細書中に記載された効果に限定されるものではない。本開示が、本明細書中に記載された効果以外の効果を持っていてもよい。
【０１１９】
また、例えば、本開示は以下のような構成を取ることができる。
（１）
サブピクセルごとに有機電界発光素子を備えた有機電界発光パネルの製造方法であって、
主成分が互いに共通の第１有機材料層および第２有機材料層を重ね塗りすることにより前記有機電界発光素子を製造する塗布工程を含み、
前記塗布工程において、前記第１有機材料層を塗布した後、前記第１有機材料層に対して不溶化処理を行うことにより前記第１有機材料層に含まれる分子の構造に変化を与え、前記不溶化処理のなされた後の前記第１有機材料層上に、前記第２有機材料層を塗布する
有機電界発光パネルの製造方法。
（２）
前記有機電界発光素子は、正孔輸送層、有機発光層および電子輸送層を含んで構成され、
前記塗布工程を実施することにより、前記正孔輸送層、前記有機発光層または前記電子輸送層を形成する
（１）に記載の有機電界発光パネルの製造方法。
（３）
前記第１有機材料層および前記第２有機材料層は、互いに共通のインクによって構成されている
（１）または（２）に記載の有機電界発光パネルの製造方法。
（４）
前記第１有機材料層において、前記主成分および前記主成分以外の成分のうち、少なくとも一方に、熱解離可溶性基、架橋性基または脱離性保護基を有する材料を含み、
前記不溶化処理として、前記熱解離可溶性基の熱解離反応、前記架橋性基の重合反応、または前記脱離性保護基の脱離反応を促す処理を用いる
（１）ないし（３）のいずれか一項に記載の有機電界発光パネルの製造方法。
（５）
前記塗布工程において、互いに平行な２つのラインバンクの間隙に、前記第１有機材料層および前記第２有機材料層を重ね塗りする
（１）ないし（４）のいずれか一項に記載の有機電界発光パネルの製造方法。
（６）
前記間隙は、５０μｍ以下の大きさとなっている
（５）に記載の有機電界発光パネルの製造方法。
（７）
前記間隙は、ＲＧＢの前記サブピクセルがストライプ配列となっているときに精細度が１５０ｐｐｉ以上となるような大きさとなっている
（５）に記載の有機電界発光パネルの製造方法。
（８）
インクジェット装置を用いたインクの液滴の吐出により、前記第１有機材料層および前記第２有機材料層を重ね塗りし、
前記液滴の吐出間隙は、前記液滴の直径の２倍以上となっている
（５）ないし（７）のいずれか一項に記載の有機電界発光パネルの製造方法。
（９）
サブピクセルごとに有機電界発光素子を備え、
前記有機電界発光素子は、正孔輸送層、有機発光層および電子輸送層を含んで構成され、
前記正孔輸送層、前記有機発光層または前記電子輸送層は、互いに積層された、主成分が互いに共通の第１有機材料層および第２有機材料層を有する
有機電界発光パネル。
（１０）
前記第１有機材料層および前記第２有機材料層のうち、少なくとも一方の層は、熱解離可溶性基、架橋性基または脱離性保護基を有する材料を含む
（９）に記載の有機電界発光パネル。
【符号の説明】
【０１２０】
１…有機電界発光装置、１０…有機電界発光パネル、１１…画素、１２，１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂ…サブピクセル、１２−１…画素回路、１２−２，１２ｒ，１２ｇ，１２ｂ…有機電界発光素子、１３…ラインバンク、１４…基板、１５…バンク、１６…溝部、２０…コントローラ、２１…陽極、２２…正孔注入層、２３，２３Ａ，２３Ｂ…正孔輸送層、２４，２４Ａ，２４Ｂ，２４ｉ…有機発光層、２５，２５Ａ，２５Ｂ…電子輸送層、２６…電子注入層、２７…陰極、２８…封止層、３０…ドライバ、３１…水平セレクタ、３２…ライトスキャナ、１００…基材、１１０…一層目、１２０…二層目、１３０…有機材料層、Ｔｒ１…駆動トランジスタ、Ｔｒ２…選択トランジスタ、Ｃｓ…保持容量、Ｄ１…幅、Ｄ２…吐出間隙、ＤＳＬ…電源線、ＤＴＬ…信号線、ＬＱ…液滴、Ｒ１…直径、Ｖｇｓ…ゲート−ソース間電圧、Ｖｓｉｇ…信号電圧、ＷＳＬ…選択線。
【図１】
2018081824.tif 000003
【図２】
2018081824.tif 000004
【図３】
2018081824.tif 000005
【図４】
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【図５】
2018081824.tif 000007
【図６】
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【図７】
2018081824.tif 000009
【図８】
2018081824.tif 000010
【図９】
2018081824.tif 000011
【図１０】
2018081824.tif 000012
【図１１】
2018081824.tif 000013
【図１２】
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【図１３】
2018081824.tif 000015
【図１４】
2018081824.tif 000016
【図１５】
2018081824.tif 000017
【図１６Ａ】
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【図１６Ｂ】
2018081824.tif 000019
【図１６Ｃ】
2018081824.tif 000020
【図１６Ｄ】
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【図１７】
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【図１８】
2018081824.tif 000023
【図１９】
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【図２０】
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