(57)【要約】      （修正有）【課題】消耗品を使用せずに、反応容器の表面を効果的に洗浄することが可能な自動分析装置を提供する。【解決手段】自動分析装置は、反応容器２０１１、搬送部、恒温槽２０２２、及び反応容器洗浄ユニットを具備する。反応容器２０１１は、混合液を収容するためのものである。搬送部は、所定の経路に沿って整列した複数の前記反応容器を、前記所定の経路に沿って搬送する。恒温槽２０２２は、恒温に保持された熱媒体２０２１を収容して熱媒体２０２１中に反応容器２０１１を浸漬させるためのものである。恒温槽２０２２は、収容する熱媒体２０２１の量が、反応容器２０１１の外壁が空中に露出する程度に調整される。反応容器洗浄ユニットは、露出した反応容器２０１１の外壁に向けて洗浄用の液体を放出する。【選択図】図６
2018087794.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
混合液を収容するための反応容器と、
所定の経路に沿って整列した複数の前記反応容器を、前記所定の経路に沿って搬送する搬送部と、
恒温に保持された熱媒体を収容して前記熱媒体中に前記反応容器を浸漬させるための恒温槽であって、前記収容する熱媒体の量が、前記反応容器の外壁が空中に露出する程度に調整される恒温槽と、
前記露出した反応容器の外壁に向けて洗浄用の液体を放出する反応容器洗浄ユニットと
を具備する自動分析装置。
【請求項２】
前記露出した反応容器の表面の汚れを光学的に測定する測光ユニットをさらに具備し、
前記反応容器洗浄ユニットは、前記測光ユニットにより測定した前記露出した反応容器の表面の汚れに基づき、前記露出した反応容器の外壁に向けて前記洗浄用の液体を放出する請求項１記載の自動分析装置。
【請求項３】
前記測光ユニットは、前記反応容器内へ吐出される試料と試薬との混合液における所定の成分の光学的測定にも用いられる請求項２記載の自動分析装置。
【請求項４】
前記洗浄用の液体を所定の温度まで昇温する加熱器をさらに具備し、
前記反応容器洗浄ユニットは、前記加熱器により昇温された前記洗浄用の液体を、前記露出した反応容器の外壁に向けて放出する請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の自動分析装置。
【請求項５】
前記洗浄用の液体は、前記恒温槽に収容される熱媒体が循環されたものである請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の自動分析装置。
【請求項６】
前記恒温槽に収容される熱媒体を恒温に保持するための恒温ユニットをさらに具備し、
前記洗浄用の液体は、前記恒温槽に収容される熱媒体が循環されたものであり、
前記加熱器は、前記恒温ユニットに設けられる請求項４記載の自動分析装置。
【請求項７】
前記反応容器洗浄ユニットは、前記洗浄用の液体を、前記恒温槽の底部へ向けて放出する請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の自動分析装置。
【請求項８】
前記反応容器洗浄ユニットは、前記反応容器が前記反応容器洗浄ユニットから前記測光ユニットへ到達するまでの距離が長い位置に設けられる請求項２記載の自動分析装置。
【請求項９】
前記反応容器洗浄ユニットは、前記測光ユニットにより測定した前記露出した反応容器の表面の汚れに基づいて同一の反応容器の外壁に向けて前記洗浄用の液体を複数回放出する場合、２回目以降の液体の温度を１回目よりも高くする、若しくは、２回目以降の液体の放出強度を１回目よりも強くする請求項２記載の自動分析装置。
【請求項１０】
恒温に保持された熱媒体を収容する恒温槽から、前記熱媒体を排出し、
所定の経路に沿って整列し、かつ、前記熱媒体の排出により外壁が空中に露出した複数の反応容器を、前記所定の経路に沿って搬送し、
前記複数の反応容器うち、少なくともいずれかの反応容器において空中に露出した外壁へ洗浄用の液体を放出する反応容器洗浄方法。
【請求項１１】
前記熱媒体の排出は、前記恒温槽に収容される熱媒体の交換に伴うものである請求項１０記載の反応容器洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、自動分析装置、及び反応容器洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
自動分析装置は、血液等の検査試料と種々検査項目に対応する試薬とを混合することで得られる混合液を、例えば光学的に測定することで、検査項目に対応した検査試料の成分を分析する装置である。
【０００３】
自動分析装置では、環状の反応ラインに沿って一列に整列した反応容器が搬送される。反応容器の搬送に合わせ、反応容器には、検査試料、及び試薬が分注される。反応容器に分注された検査試料、及び試薬は、攪拌されることで混合されて混合液となる。混合液を収容する反応容器には光が照射され、検査項目に対応した検査試料の成分が光学的に測定される。
【０００４】
通常、自動分析装置では、分析の精度を高めるために、混合液の温度を一定に保つことが必要とされている。そのため、反応容器は恒温水中に浸漬されている。反応容器が恒温水中に浸漬されているため、反応容器表面に気泡、及び／又は水垢等が付着することがある。反応容器表面への気泡、及び／又は水垢等の付着は、検査試料の成分を光学的に測定する際の障害になる。そこで、従来の自動分析装置では、恒温水を収容している恒温槽の一部にワイパを設け、反応容器表面にワイパを圧接することで、反応容器表面を洗浄している。
【０００５】
しかしながら、反応容器表面とワイパとの摩擦によりワイパが劣化し、ワイパの劣化の度合いによっては反応容器表面に悪影響を及ぼす場合がある。そのため、自動分析装置のユーザは、ワイパを定期的に交換する必要がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特公平１−４３２６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
そこで、目的は、消耗品を使用せずに、反応容器の表面を効果的に洗浄することが可能な自動分析装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
実施形態によれば、自動分析装置は、反応容器、搬送部、恒温槽、及び反応容器洗浄ユニットを具備する。反応容器は、混合液を収容するためのものである。搬送部は、所定の経路に沿って整列した複数の前記反応容器を、前記所定の経路に沿って搬送する。恒温槽は、恒温に保持された熱媒体を収容して前記熱媒体中に前記反応容器を浸漬させるためのものである。恒温槽は、前記収容する熱媒体の量が、前記反応容器の外壁が空中に露出する程度に調整される。反応容器洗浄ユニットは、前記露出した反応容器の外壁に向けて洗浄用の液体を放出する。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、本実施形態に係る自動分析装置の機能構成を示すブロック図である。
【図２】図２は、図１に示される分析機構の構成を示す図である。
【図３】図３は、図２に示される反応容器の構成を示す斜視図である。
【図４】図４は、図２に示される恒温部の機能構成を示すブロック図である。
【図５】図５は、図２に示される分析機構における反応容器洗浄ユニットの配置例を表す図である。
【図６】図６は、図５に示される反応容器洗浄ユニットのＡ−Ａ’断面における断面図である。
【図７】図７は、図１に示される自動分析装置が反応容器の表面を洗浄する際の制御回路の動作を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、実施の形態について、図面を参照して説明する。
【００１１】
図１は、本実施形態に係る自動分析装置１の機能構成の例を示すブロック図である。図１に示される自動分析装置１は、分析機構２、解析回路３、駆動機構４、入力インタフェース回路５、出力インタフェース回路６、記憶回路７、及び制御回路８を具備する。
【００１２】
分析機構２は、標準試料、又は被検試料等の試料と、この試料に設定される各検査項目で用いられる試薬とを混合する。分析機構２は、試料と試薬との混合液を測定し、例えば吸光度で表される標準データ、及び被検データを生成する。
【００１３】
解析回路３は、分析機構２により生成される標準データ、及び被検データを解析することで、検量データ、及び分析データ等を生成するプロセッサである。解析回路３は、記憶回路７から動作プログラムを読み出し、読み出した動作プログラムに従って検量データ、及び分析データ等を生成する。例えば、解析回路３は、標準データに基づき、標準データと標準試料について予め設定された標準値との関係を示す検量データを生成する。また、解析回路３は、被検データと、この被検データに対応する検査項目の検量データとに基づき、濃度値、及び酵素の活性値として表される分析データを生成する。解析回路３は生成した検量データ、及び分析データ等を制御回路８へ出力する。
【００１４】
駆動機構４は、ギア、ステッピングモータ、ベルトコンベア、及びリードスクリュー等により実現される。駆動機構４は、制御回路８の制御に従い、分析機構２を駆動させる。
【００１５】
入力インタフェース回路５は、例えば、マウス、キーボード、及び、操作面へ触れることで指示が入力されるタッチパッド等により実現される。入力インタフェース回路５は、例えば、操作者から測定を依頼された試料に係る各検査項目の分析パラメータ等の設定を受け付ける。入力インタフェース回路５は、制御回路８に接続され、操作者から入力される操作指示を電気信号へ変換し、電気信号を制御回路８へ出力する。なお、本明細書において入力インタフェース回路５はマウス、及びキーボード等の物理的な操作部品を備えるものだけに限られない。例えば、自動分析装置１とは別体に設けられた外部の入力機器から入力される操作指示に対応する電気信号を受け取り、この電気信号を制御回路８へ出力する電気信号の処理回路も入力インタフェース回路５の例に含まれる。
【００１６】
出力インタフェース回路６は、表示回路、及び印刷回路等により実現される。表示回路には、例えば、ＣＲＴディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、ＬＥＤディスプレイ、及びプラズマディスプレイ等が含まれる。なお、表示対象を表すデータをビデオ信号に変換し、ビデオ信号を外部へ出力する処理回路も表示回路に含まれる。印刷回路は、例えば、プリンタ等を含む。なお、印刷対象を表すデータを外部へ出力する出力回路も印刷回路に含まれる。出力インタフェース回路６は、制御回路８に接続され、制御回路８から供給される信号を出力する。
【００１７】
記憶回路７は、磁気的、若しくは光学的記録媒体、又は半導体メモリ等の、プロセッサにより読み取り可能な記録媒体等を含む。記憶回路７は、解析回路３で実行される動作プログラム、及び制御回路８で実行される動作プログラムを記憶する。記憶回路７は、解析回路３により生成される検量データを検査項目毎に記憶する。記憶回路７は、解析回路３により生成される分析データを被検試料毎に記憶する。
【００１８】
制御回路８は、自動分析装置１の中枢として機能するプロセッサである。制御回路８は、記憶回路７に記憶されている動作プログラムを実行することで、この動作プログラムに対応する機能を実現する。
【００１９】
図２は、図１に示される分析機構２の構成の一例を示す模式図である。図２に示される分析機構２は、反応ディスク２０１、恒温部２０２、サンプルディスク２０３、第１試薬庫２０４、及び第２試薬庫２０５を備える。
【００２０】
反応ディスク２０１は、反応容器２０１１を所定の経路に沿って搬送する搬送部の一例である。具体的には、反応ディスク２０１は、複数の反応容器２０１１を、環状に配列させて保持する。反応ディスク２０１は、駆動機構４により、既定の時間間隔で回動と停止とが交互に繰り返される。反応容器２０１１は、例えば、ガラスにより形成されている。
【００２１】
図３は、図２に示される反応容器２０１１の構成の一例を示す斜視図である。図３に示される反応容器２０１１は、四角柱状を有し、上部に開口部を有している。反応容器２０１１は、第１乃至第４側壁を有している。反応容器２０１１の第１側壁の外面からは、測光ユニット２１４に設けられる光源から照射される光が入射される。図３において、第１側壁の外面に示される破線は、光源から照射された光が入射する入射領域である。
【００２２】
反応容器２０１１の第２側壁は、第１側壁と対向する。第２側壁の外面からは、第１側壁の外面から入射された光が出射される。図３において、第２側壁の外面に示される一点鎖線は、反応容器２０１１に入射された光が出射する出射領域である。
【００２３】
恒温部２０２は、反応容器２０１１に収容される混合液を昇温する。図４は、図２に示される恒温部２０２の機能構成の一例を示すブロック図である。図４に示される恒温部２０２は、熱媒体２０２１、恒温槽２０２２、供給ポンプ２０２３、排液ポンプ２０２４、恒温ユニット２０２５、電磁弁２０２６，２０２８、及び三方電磁弁２０２７を有する。
【００２４】
熱媒体２０２１は、反応容器２０１１に収容される混合液を測定温度Ｔｍに昇温するための熱を伝達する媒体である。測定温度Ｔｍは、室温よりも高い温度、例えば３７℃である。本実施形態において、熱媒体２０２１は、液体である。
【００２５】
恒温槽２０２２は、環状に形成され、内部に熱媒体２０２１を収容する。恒温槽２０２２は、上面が開口されており、収容される熱媒体２０２１に、環状に配列された複数の反応容器２０１１が浸漬される。
【００２６】
供給ポンプ２０２３は、恒温槽２０２２へ熱媒体２０２１を供給するための供給ラインに設けられている。供給ポンプ２０２３は、制御回路８からの制御に従って供給ラインへ熱媒体２０２１を送出することで、熱媒体２０２１を恒温槽２０２２へ供給する。
【００２７】
電磁弁２０２６は、供給ライン上の供給ポンプ２０２３と恒温槽２０２２との間の位置に設けられている。電磁弁２０２６は、制御回路８からの制御に従い、開状態、又は閉状態となる。供給ポンプ２０２３から供給された熱媒体２０２１は、開状態となっている電磁弁２０２６を通過して恒温槽２０２２へ供給される。
【００２８】
排液ポンプ２０２４は、恒温槽２０２２から熱媒体２０２１を排出するための排液ラインに設けられている。排液ポンプ２０２４は、制御回路８からの制御に従い、恒温槽２０２２に収容されている熱媒体２０２１を排液ラインへ排出する。
【００２９】
電磁弁２０２８は、排液ライン上の恒温槽２０２２と排液ポンプ２０２４との間の位置に設けられている。電磁弁２０２８は、制御回路８からの制御に従い、開状態、又は閉状態となる。恒温槽２０２２に収容されている熱媒体２０２１は、開状態となっている電磁弁２０２８を介して排液ポンプ２０２４により排出される。
【００３０】
恒温ユニット２０２５は、恒温槽２０２２に収容される熱媒体２０２１を循環させるための循環ラインに設けられている。恒温ユニット２０２５は、恒温槽２０２２から供給される熱媒体２０２１を加熱し、所定の温度まで昇温する。
【００３１】
恒温ユニット２０２５は、循環ポンプ２０２５１、及び加熱器２０２５２を有する。循環ポンプ２０２５１は、制御回路８からの制御に従い、恒温槽２０２２と加熱器２０２５２との間で熱媒体２０２１を循環させる。具体的には、循環ポンプ２０２５１は、制御回路８からの制御に従い、恒温槽２０２２に収容されている熱媒体２０２１を吸引し、吸引した熱媒体２０２１を、加熱器２０２５２を介して恒温槽２０２２へ戻す。
【００３２】
加熱器２０２５２は、循環ポンプ２０２５１により循環される熱媒体２０２１を加熱する。加熱器２０２５２は、ヒータＤ１、及び温度センサＤ２を有する。温度センサＤ２は、加熱器２０２５２内の熱媒体２０２１の温度を検出し、検出した温度に基づく検出信号を制御回路８へ出力する。制御回路８は、検出信号に基づき、熱媒体２０２１の温度が所定の温度に保持されるようにヒータＤ１を発熱させる。
【００３３】
三方電磁弁２０２７は、循環ラインにおける洗浄水供給ラインの分岐位置に設けられている。洗浄水供給ラインは、後述する反応容器洗浄ユニット２１６へ熱媒体２０２１を供給するための経路である。三方電磁弁２０２７は、循環ラインの恒温ユニット２０２５側に「ＣＯＭ（共通孔）」の電磁弁が設けられている。また、三方電磁弁２０２７は、循環ラインの恒温槽２０２２側に「ＮＯ（ノーマルオープン）」、すなわち、非通電時に開状態となり、通電時に閉状態となる電磁弁が設けられている。また、三方電磁弁２０２７は、洗浄水供給ラインへ向けて「ＮＣ（ノーマルクローズ）」、すなわち、非通電時に閉状態となり、通電時に開状態となる電磁弁が設けられている。なお、三方電磁弁２０２７は、「ＮＯ」の電磁弁と、「ＮＣ」の電磁弁とが逆に設けられていても構わない。
【００３４】
三方電磁弁２０２７は、制御回路８からの制御に従い、恒温ユニット２０２５により昇温された熱媒体２０２１を、循環ライン、又は洗浄水供給ラインへ送出する。三方電磁弁２０２７を介して循環ラインへ送出された熱媒体２０２１は、測定温度Ｔｍまで昇温されており、恒温槽２０２２へ戻される。一方、三方電磁弁２０２７を介して洗浄水供給ラインへ送出された熱媒体２０２１は、反応容器２０１１の洗浄に適した温度まで昇温されており、反応容器洗浄ユニット２１６へ洗浄水として供給される。
【００３５】
なお、恒温ユニット２０２５により昇温された熱媒体２０２１を、循環ライン、又は洗浄水供給ラインへ送出する際に用いる電磁弁は、三方電磁弁２０２７に限定されない。通常の電磁弁を複数台用いるようにしても構わない。
【００３６】
サンプルディスク２０３は、試料を収容する試料容器を複数保持する。サンプルディスク２０３は、駆動機構４により回動される。
【００３７】
第１試薬庫２０４は、標準試料、及び被検試料に含まれる所定の成分と反応する第１試薬を収容する試薬容器を複数保冷する。第１試薬庫２０４内には、試薬ラック２０４１が回転自在に設けられている。試薬ラック２０４１は、複数の試薬容器を円環状に配列して保持する。試薬ラック２０４１は、駆動機構４により回動される。
【００３８】
第１試薬庫２０４上の所定の位置には、第１試薬吸引位置が設定されている。第１試薬吸引位置は、例えば、第１試薬分注プローブ２０９の回動軌道と、試薬ラック２０４１に円環状に配列される試薬容器の開口部の移動軌道とが交差する位置に設けられる。
【００３９】
第２試薬庫２０５は、２試薬系の第１試薬と対をなす第２試薬を収容する試薬容器を複数保冷する。第２試薬庫２０５内には、試薬ラック２０５１が回転自在に設けられている。試薬ラック２０５１は、複数の試薬容器を円環状に配列して保持する。なお、第２試薬庫２０５で保冷される第２試薬は、第１試薬庫２０４で保冷される第１試薬と同一成分、かつ、同一濃度の試薬であっても構わない。
【００４０】
第２試薬庫２０５上の所定の位置には、第２試薬吸引位置が設定されている。第２試薬吸引位置は、例えば、第２試薬分注プローブ２１１の回動軌道と、試薬ラック２０５１に円環状に配列される試薬容器の開口部の移動軌道とが交差する位置に設けられる。
【００４１】
また、図２に示される分析機構２は、サンプル分注アーム２０６、サンプル分注プローブ２０７、第１試薬分注アーム２０８、第１試薬分注プローブ２０９、第２試薬分注アーム２１０、第２試薬分注プローブ２１１、第１攪拌ユニット２１２、第２攪拌ユニット２１３、測光ユニット２１４、及び洗浄ユニット２１５を備える。
【００４２】
サンプル分注アーム２０６は、反応ディスク２０１とサンプルディスク２０３との間に設けられている。サンプル分注アーム２０６は、駆動機構４により、鉛直方向に上下動自在、かつ、水平方向に回動自在に設けられている。サンプル分注アーム２０６は、一端にサンプル分注プローブ２０７を保持する。
【００４３】
サンプル分注プローブ２０７は、サンプル分注アーム２０６の回動に伴い、円弧状の回動軌道に沿って回動する。この回動軌道上には、サンプルディスク２０３で保持される試料容器の開口部が位置するようになっている。また、サンプル分注プローブ２０７の回動軌道上には、サンプル分注プローブ２０７が吸引した試料を反応容器２０１１へ吐出するためのサンプル吐出位置が設けられている。サンプル吐出位置は、サンプル分注プローブ２０７の回動軌道と、反応ディスク２０１に保持されている反応容器２０１１の移動軌道との交点に相当する。
【００４４】
サンプル分注プローブ２０７は、駆動機構４によって駆動され、サンプルディスク２０３で保持される試料容器の開口部の直上、又は、サンプル吐出位置において上下方向に移動する。また、サンプル分注プローブ２０７は、制御回路８の制御に従い、直下に位置する試料容器から試料を吸引する。また、サンプル分注プローブ２０７は、制御回路８の制御に従い、吸引した試料を、サンプル吐出位置の直下に位置する反応容器２０１１へ吐出する。
【００４５】
第１試薬分注アーム２０８は、第１試薬庫２０４の外周近傍に設けられている。第１試薬分注アーム２０８は、駆動機構４により、鉛直方向に上下動自在、かつ、水平方向に回動自在に設けられている。第１試薬分注アーム２０８は、一端に第１試薬分注プローブ２０９を保持する。
【００４６】
第１試薬分注プローブ２０９は、第１試薬分注アーム２０８の回動に伴い、円弧状の回動軌道に沿って回動する。この回動軌道上には、第１試薬吸引位置が設けられている。また、第１試薬分注プローブ２０９の回動軌道上には、第１試薬分注プローブ２０９が吸引した試薬を反応容器２０１１へ吐出するための第１試薬吐出位置が設定されている。第１試薬吐出位置は、第１試薬分注プローブ２０９の回動軌道と、反応ディスク２０１に保持されている反応容器２０１１の移動軌道との交点に相当する。
【００４７】
第１試薬分注プローブ２０９は、駆動機構４によって駆動され、回動軌道上の第１試薬吸引位置、又は第１試薬吐出位置において上下方向に移動する。また、第１試薬分注プローブ２０９は、制御回路８の制御に従い、第１試薬吸引位置の直下に位置する試薬容器から第１試薬を吸引する。また、第１試薬分注プローブ２０９は、制御回路８の制御に従い、吸引した第１試薬を、第１試薬吐出位置の直下に位置する反応容器２０１１へ吐出する。
【００４８】
第２試薬分注アーム２１０は、第１試薬庫２０４の外周近傍に設けられている。第２試薬分注アーム２１０は、駆動機構４により、鉛直方向に上下動自在、かつ、水平方向に回動自在に設けられている。第２試薬分注アーム２１０は、一端に第２試薬分注プローブ２１１を保持する。
【００４９】
第２試薬分注プローブ２１１は、第２試薬分注アーム２１０の回動に伴い、円弧状の回動軌道に沿って回動する。この回動軌道上には、第２試薬吸引位置が設けられている。また、第２試薬分注プローブ２１１の回動軌道上には、第２試薬分注プローブ２１１が吸引した試薬を反応容器２０１１へ吐出するための第２試薬吐出位置が設定されている。第２試薬吐出位置は、第２試薬分注プローブ２１１の回動軌道と、反応ディスク２０１に保持されている反応容器２０１１の移動軌道との交点に相当する。
【００５０】
第２試薬分注プローブ２１１は、駆動機構４によって駆動され、回動軌道上の第２試薬吸引位置、又は第２試薬吐出位置において上下方向に移動する。また、第２試薬分注プローブ２１１は、制御回路８の制御に従い、第２試薬吸引位置の直下に位置する試薬容器から第２試薬を吸引する。また、第２試薬分注プローブ２１１は、制御回路８の制御に従い、吸引した第２試薬を、第２試薬吐出位置の直下に位置する反応容器２０１１へ吐出する。
【００５１】
第１攪拌ユニット２１２は、反応ディスク２０１の外周近傍に設けられている。第１攪拌ユニット２１２は、第１攪拌アーム２１２１、及び第１攪拌アーム２１２１の先端に設けられる第１攪拌子を有する。第１攪拌ユニット２１２は、第１攪拌子により、反応ディスク２０１上の第１攪拌位置に位置する反応容器２０１１内に収容されている試料と第１試薬とを攪拌する。
【００５２】
第２攪拌ユニット２１３は、反応ディスク２０１の外周近傍に設けられている。第２攪拌ユニット２１３は、第２攪拌アーム２１３１、及び第２攪拌アーム２１３１の先端に設けられる第２攪拌子を有する。第２攪拌ユニット２１３は、第２攪拌子により、反応ディスク２０１上の第２攪拌位置に位置する反応容器２０１１内に収容されている試料、第１試薬、及び第２試薬を攪拌する。
【００５３】
測光ユニット２１４は、反応容器２０１１内に吐出された試料と試薬との混合液における所定の成分を光学的に測定する。測光ユニット２１４は、光源、及び光検出器を有する。測光ユニット２１４は、制御回路８の制御に従い、光源から光を照射する。照射された光は、図３に示される反応容器２０１１の入射領域から入射され、出射領域から出射される。光検出器は、反応容器２０１１から出射された光を検出する。
【００５４】
具体的には、例えば、光検出器は、反応容器２０１１内の標準試料と試薬との混合液を通過した光を検出し、検出した光の強度に基づき、吸光度等により表される標準データを生成する。また、光検出器は、反応容器２０１１内の被検試料と試薬との混合液を通過した光を検出し、検出した光の強度に基づき、吸光度等により表される被検データを生成する。測光ユニット２１４は、生成した標準データ、及び被検データを解析回路３へ出力する。
【００５５】
また、測光ユニット２１４は、反応容器２０１１の表面の汚れ具合を光学的に測定する。具体的には、例えば、光検出器は、反応容器２０１１の第１、及び第２側壁を通過した光を検出し、検出した光の強度に基づき、吸光度等により表される測定データを生成する。測光ユニット２１４は、生成した測定データを制御回路８へ出力する。
【００５６】
洗浄ユニット２１５は、例えば、廃液ノズル、洗浄ノズル、及び乾燥ノズルを備える。洗浄ユニット２１５は、反応ディスク２０１の回動により配送される反応容器２０１１内の混合液を、廃液ノズルにより廃液として吸引する。洗浄ユニット２１５は、洗浄ノズルにより、混合液が吸引された反応容器２０１１へ純水、又は洗剤を吐出することで、反応容器２０１１を洗浄する。洗浄ユニット２１５は、乾燥ノズルにより、洗浄された反応容器２０１１へ乾燥空気を供給することで、反応容器２０１１を乾燥させる。
【００５７】
また、分析機構２は、反応容器洗浄ユニット２１６を備える。反応容器洗浄ユニット２１６は、反応容器２０１１の表面を洗浄する。図５は、図２に示される分析機構２における反応容器洗浄ユニット２１６の配置例を表す模式図である。図５では、反応ディスク２０１上における、測光ユニット２１４と、反応容器洗浄ユニット２１６との位置関係が表されている。
【００５８】
本実施形態において、反応容器２０１１は、表面が熱媒体２０２１から露出された状態で洗浄される。そのため、測光ユニット２１４により反応容器２０１１の表面の汚れを測光する場合、反応容器２０１１の表面に水滴等が残っていないことが望ましい。そこで、反応容器洗浄ユニット２１６は、測光ユニット２１４までなるべく遠い位置、例えば、図５におけるＢ−Ｂの範囲に配置するのが好ましい。
図６は、図５に示される反応容器洗浄ユニット２１６のＡ−Ａ’断面における断面図である。なお、図６では、熱媒体２０２１が恒温槽２０２２から所定量排出された場合の反応容器洗浄ユニット２１６の断面図を表している。図６に示される反応容器洗浄ユニット２１６は、放出部２１６１を有している。
【００５９】
放出部２１６１は、恒温槽２０２２の内壁に反応容器２０１１を挟むように設けられている。放出部２１６１は、洗浄水供給ラインを介して供給される熱媒体２０２１を、反応容器２０１１の表面へ放出可能な形状に形成されている。好ましくは、放出部２１６１は、反応容器２０１１における入射領域、及び出射領域へ向けて、熱媒体２０２１を放出可能な形状に形成されている。より好ましくは、放出部２１６１は、反応容器２０１１における入射領域、及び出射領域へ、上方から下方へ向けて熱媒体２０２１を放出可能な形状に形成されている。
【００６０】
図６に示される例によれば、放出部２１６１は、シャワーノズル２１６１−１，２１６１−２で表される。シャワーノズル２１６１−１，２１６１−２は、恒温槽２０２２の内壁における、反応容器２０１１の入射領域、及び出射領域よりも上方の位置に設けられる。シャワーノズル２１６１−１，２１６１−２は、その放出口が下方に向くように形成されている。シャワーノズル２１６１−１は、反応容器２０１１の入射領域へ向けて熱媒体２０２１を放出する。また、シャワーノズル２１６１−２は、反応容器２０１１の出射領域へ向けて熱媒体２０２１を放出する。シャワーノズル２１６１−１，２１６１−２により放出される熱媒体２０２１の軌道は図６の破線により表される。
【００６１】
放出部２１６１の放出口が恒温槽２０２２の底方向へ向けて傾けられていることにより、放出部２１６１から放出される熱媒体２０２１が、恒温槽２０２２の開口部から噴出することを防ぐことが可能となる。
【００６２】
放出部２１６１から放出される熱媒体２０２１の温度は、制御回路８が恒温ユニット２０２５の加熱器２０２５２についての設定を変更することで変更可能である。また、放出部２１６１から放出される熱媒体２０２１の放出強度は、制御回路８が恒温ユニット２０２５の循環ポンプ２０２５１についての設定を変更することで変更可能である。
【００６３】
なお、放出部２１６１は、恒温槽２０２２の内壁に１対で設けられてもよいし、恒温槽２０２２の内壁に沿って複数対で設けられてもよい。放出部２１６１が恒温槽２０２２の内壁に沿って複数対設けられる場合、複数本の反応容器２０１１に対して熱媒体２０２１が放出されることになる。
【００６４】
また、放出部２１６１は、必ずしも両内壁に設けられる必要はない。一方の内壁に設けられ、反応容器２０１１の入射領域、又は出射領域へ熱媒体２０２１を放出してもよい。
【００６５】
また、放出部２１６１は、熱媒体２０２１の代わりに、より洗浄能力の高い洗浄用の液体を放出しても構わない。ただし、このとき、洗浄液供給ラインを循環ラインとは別に設ける必要がある。また、放出される洗浄液は、十分に脱気される必要がある。
【００６６】
図１に示される制御回路８は、記憶回路７に記憶されている動作プログラムを実行することで、当該プログラムに対応する機能を実現する。例えば、制御回路８は、動作プログラムを実行することで、システム制御機能８１、及び反応容器洗浄機能８２を有する。なお、本実施形態では、単一のプロセッサによってシステム制御機能８１、及び反応容器洗浄機能８２が実現される場合を説明するが、これに限定されない。例えば、複数の独立したプロセッサを組み合わせて制御回路を構成し、各プロセッサが動作プログラムを実行することによりシステム制御機能８１、及び反応容器洗浄機能８２を実現しても構わない。
【００６７】
システム制御機能８１は、入力インタフェース回路５から入力される入力情報に基づき、自動分析装置１における各部を統括して制御する機能である。
【００６８】
反応容器洗浄機能８２は、反応容器２０１１の表面を洗浄する機能である。具体的には、制御回路８は、恒温部２０２を制御し、恒温槽２０２２から熱媒体２０２１を排出する。制御回路８は、反応容器洗浄ユニット２１６を制御し、表面が熱媒体２０２１から露出した反応容器２０１１を洗浄する。
【００６９】
また、制御回路８は、測光ユニット２１４を制御し、反応容器２０１１についての測定データを取得する。制御回路８は、取得した測定データに基づき、汚れの残存している反応容器２０１１の表面を洗浄する。
【００７０】
次に、以上のように構成された自動分析装置１による反応容器２０１１の表面の洗浄動作を、制御回路８の処理手順に従い説明する。図７は、図１に示される自動分析装置１が反応容器２０１１の表面を洗浄する際の制御回路８の動作の例を示すフローチャートである。なお、通常の状態において、恒温部２０２の電磁弁２０２６は閉状態であり、供給ポンプ２０２３は駆動していない。また、電磁弁２０２８は閉状態であり、排液ポンプ２０２４は駆動していない。また、三方電磁弁２０２７は、循環ライン方向が開状態であり、循環ポンプ２０２５１は駆動している。
【００７１】
制御回路８は、反応容器２０１１の表面を洗浄する旨の指示を受信すると、反応容器洗浄機能８２を実行する。なお、この洗浄指示は、入力インタフェース回路５を介して操作者から入力されてもよいし、予め設定された時刻に達したことを契機として発生してもよい。また、洗浄指示は、メンテナンス処理等の所定の処理が実施されることを契機として発生してもよい。なお、メンテナンス処理には、例えば、恒温槽２０２２の熱媒体２０２１を交換すること等が含まれる。
【００７２】
反応容器洗浄機能８２が実行されると、制御回路８は、恒温槽２０２２に収容されている熱媒体２０２１を排水する（ステップＳ７１）。具体的には、制御回路８は、電磁弁２０２８が開状態となるように電磁弁２０２８を制御し、かつ、排液ポンプ２０２４が駆動するように排液ポンプ２０２４を制御する。排液ポンプ２０２４は、開状態となった電磁弁２０２８を介し、恒温槽２０２２から熱媒体２０２１を排水する。
【００７３】
制御回路８は、恒温槽２０２２における熱媒体２０２１の水位を所定のセンサ等により監視する。制御回路８は、恒温槽２０２２の水位が予め設定する水位に達すると、電磁弁２０２８が閉状態となるように電磁弁２０２８を制御し、かつ、排液ポンプ２０２４が動作を停止するように排液ポンプ２０２４を制御する。なお、予め設定される水位とは、例えば、恒温槽２０２２の底部に所定の深さで熱媒体２０２１が存在し、かつ、反応容器２０１１における入射領域、及び出射領域が露出する程度の水位を表す。これにより、恒温槽２０２２に収容される熱媒体２０２１の量が、反応容器２０１１の外壁が空中に露出する程度に調整されることになる。
【００７４】
熱媒体２０２１の排水が完了すると、制御回路８は、反応容器２０１１の表面を洗浄する（ステップＳ７２）。具体的には、制御回路８は、洗浄水供給ラインが開状態となるように恒温部２０２の三方電磁弁２０２７を制御する。これにより、循環ラインを介した恒温槽２０２２の熱媒体２０２１の循環が停止され、反応容器洗浄ユニット２１６の放出部２１６１から熱媒体２０２１が反応容器２０１１へ放出される。反応容器２０１１へ放出された熱媒体２０２１は、反応容器２０１１の表面を洗浄する。
【００７５】
このとき、反応容器洗浄ユニット２１６の放出口が下方に傾けられて設けられているため、熱媒体２０２１が恒温槽２０２２の外部へ飛び散ることはない。また、恒温槽２０２２の底に熱媒体２０２１が残されているため、放出部２１６１から放出された熱媒体２０２１が、恒温槽２０２２の底ではじき返されることを抑えることが可能となる。
【００７６】
また、洗浄水として測定温度Ｔｍより高い温度の熱媒体が使用される場合には、制御回路８に洗浄温度Ｔｗが設定されている。制御回路８は、三方電磁弁２０２７を制御する際に、温度センサＤ２から出力される検出信号に基づき、熱媒体２０２１の温度が洗浄温度ＴｗとなるようにヒータＤ１を発熱させる。また、放出部２１６１から放出される熱媒体２０２１の放出強度を強化する場合には、制御回路８は、循環ポンプ２０２５１に対し、送出量を増大させるように制御する。
【００７７】
また、熱媒体２０２１の排水が完了すると、制御回路８は、反応ディスク２０１の回動を開始する。制御回路８は、反応ディスク２０１に保持されている反応容器２０１１が、反応容器洗浄ユニット２１６が設けられる位置に到達する度に、反応ディスク２０１の回動を所定期間停止させる。反応ディスク２０１に保持されている反応容器２０１１は、反応容器洗浄ユニット２１６の設置位置で停止している間、反応容器洗浄ユニット２１６から放出される熱媒体２０２１により表面が洗浄される。
【００７８】
このとき、制御回路８は、反応ディスク２０１が停止されている間のみで、反応容器洗浄ユニット２１６の放出部２１６１から熱媒体２０２１が放出されるように、恒温部２０２の三方電磁弁２０２７を制御してもよい。すなわち、制御回路８は、反応ディスク２０１が停止されている間のみで、洗浄水供給ラインが開状態となるように三方電磁弁２０２７を制御してもよい。また、制御回路８は、反応ディスク２０１の回動、及び停止に関わらず、反応容器洗浄ユニット２１６の放出部２１６１から熱媒体２０２１が放出されるように、恒温部２０２の三方電磁弁２０２７を制御してもよい。すなわち、制御回路８は、反応ディスク２０１の回動、及び停止に関わらず、洗浄水供給ラインが開状態となるように三方電磁弁２０２７を制御してもよい。
【００７９】
なお、制御回路８は、反応ディスク２０１の回動を停止させず、全ての反応容器２０１１の表面が洗浄されるまで反応ディスク２０１の回動を継続させても構わない。
【００８０】
制御回路８は、表面が洗浄された反応容器２０１１の表面の汚れ具合を、測光ユニット２１４に光学的に測定させる（ステップＳ７３）。具体的には、制御回路８は、測光ユニット２１４が設けられている測光位置に位置する反応容器２０１１へ光を照射するように光源を制御する。光源から照射された光は、図３に示される反応容器２０１１の入射領域から入射され、出射領域から出射される。光検出器は、反応容器２０１１から出射された光を検出する。
【００８１】
光検出器は、検出した光の強度に基づき、吸光度等により表される測定データを生成する。測光ユニット２１４は、生成した測定データを制御回路８へ出力する。
【００８２】
制御回路８は、測光ユニット２１４から出力される測定データに基づき、反応容器２０１１の表面を十分に洗浄できたか否かを判断する（ステップＳ７４）。具体的には、制御回路８は、測定データに含まれる、例えば、吸光度等の値が予め設定した値より低いか否かを判断する。なお、反応容器２０１１の表面を十分に洗浄できたか否かの判断は、閾値との比較に限られない。例えば、複数の反応容器２０１１について測定された複数の測定データ同士を比較し、他の測定データよりも明らかに値の低い反応容器２０１１の存在を確認することで、反応容器２０１１の表面を十分に洗浄できたか否か判断してもよい。
【００８３】
反応容器２０１１の表面が十分に洗浄されていない場合（ステップＳ７４のＮｏ）、制御回路８は、汚れが残存している反応容器２０１１の表面を再度洗浄する（ステップＳ７５）。具体的には、反応容器２０１１は、駆動機構４を制御して反応ディスク２０１を回動させ、表面が十分に洗浄されていないと判断した反応容器２０１１を、反応容器洗浄ユニット２１６が設けられる位置へ移動させる。移動された反応容器２０１１は、反応容器洗浄ユニット２１６から放出される熱媒体２０２１により表面が洗浄される。
【００８４】
再洗浄の際に反応容器洗浄ユニット２１６から放出される熱媒体２０２１の温度は、１回目に放出された熱媒体２０２１の温度よりも高くしても構わない。また、再洗浄の際に反応容器洗浄ユニット２１６から放出される熱媒体２０２１の放出強度は、１回目に放出された熱媒体２０２１の放出強度よりも強くしても構わない。これにより、１回目の洗浄で除去できなかった汚れを、洗浄力を高めて洗浄することが可能となる。
【００８５】
ステップＳ７４において汚れが残存していると判断した反応容器２０１１を洗浄すると、制御回路８は、処理をステップＳ７４へ移行する。制御回路８は、反応容器２０１１の表面が十分に洗浄されるまで、ステップＳ７４，Ｓ７５の処理を繰り返す。
【００８６】
反応容器２０１１の表面が十分に洗浄されている場合（ステップＳ７４のＹｅｓ）、制御回路８は、恒温槽２０２２に熱媒体２０２１を貯留する（ステップＳ７６）。具体的には、制御回路８は、電磁弁２０２６が開状態となるように電磁弁２０２６を制御し、かつ、供給ポンプ２０２３が駆動するように供給ポンプ２０２３を制御する。供給ポンプ２０２３は、開状態となった電磁弁２０２６を介し、恒温槽２０２２へ熱媒体２０２１を供給する。制御回路８は、恒温槽２０２２における熱媒体２０２１の水位が、分析に必要な水位に達すると、電磁弁２０２６が閉状態となるように電磁弁２０２６を制御し、かつ、供給ポンプ２０２３が動作を停止するように供給ポンプ２０２３を制御する。
【００８７】
制御回路８は、恒温槽２０２２に熱媒体２０２１が所定量貯留されると、処理を終了させる。
【００８８】
なお、制御回路８の動作は、図７に示される動作に限定されない。例えば、制御回路８は、ステップＳ７５で反応容器２０１１を再度洗浄した後、ステップＳ７４に示される測光動作を経ずに処理を終了させてもよい。また、予め設定した回数だけ反応容器２０１１を再洗浄しても構わない。
【００８９】
また、例えば、制御回路８は、ステップＳ７２で実施する反応容器２０１１の洗浄を省略してもよい。すなわち、制御回路８は、ステップＳ７１で熱媒体２０２１を排水した後、ステップＳ７３における反応容器２０１１の表面の汚れ具合を測定してもよい。そして、制御回路８は、ステップＳ７４で測定データに基づいて反応容器２０１１の表面が汚れているか否かを判断し、表面が汚れていると判断した反応容器２０１１の表面をステップＳ７５で洗浄する。これにより、制御回路８は、汚れている反応容器２０１１の表面のみを洗浄することが可能となる。
【００９０】
また、例えば、制御回路８は、ステップＳ７２で反応容器２０１１を洗浄した後、測光を経ずに処理を終了させてもよい。これにより、洗浄処理の短縮を図ることが可能となる。
【００９１】
以上のように、本実施形態では、自動分析装置１は、恒温槽２０２２の水位を低下させて反応容器２０１１の外壁を露出させる。そして、反応容器洗浄ユニット２１６は、露出された外壁へ洗浄用の液体を放出するようにしている。これにより、汚れが付着した反応容器２０１１の表面へ洗浄用の液体を直接衝突させることが可能となる。
【００９２】
したがって、本実施形態に係る自動分析装置１によれば、消耗品を使用せずに、反応容器の表面を効果的に洗浄することができる。
また、本実施形態では、測光ユニット２１４は、反応容器２０１１の表面の汚れを光学的に測定する。そして、反応容器洗浄ユニット２１６は、反応容器２０１１の表面の汚れに基づき、反応容器２０１１の表面を洗浄するようにしている。これにより、汚れの付着した反応容器２０１１のみを洗浄することが可能となるため、洗浄にかかる時間を短縮させることが可能となる。
【００９３】
また、本実施形態では、反応容器洗浄ユニット２１６は、メンテナンス処理等の、恒温槽２０２２に収容されている熱媒体２０２１が排出されるときに合わせて反応容器２０１１を洗浄するようにしている。これにより、定期的に反応容器２０１１の表面を洗浄することが可能となる。また、恒温槽２０２２から熱媒体２０２１を排出する回数が削減されるため、水の使用量を抑えることが可能となる。
【００９４】
また、本実施形態では、反応容器洗浄ユニット２１６は、所定の温度まで昇温された液体を反応容器２０１１へ放出するようにしている。これにより、洗浄力を向上させることが可能となる。
【００９５】
また、本実施形態では、反応容器洗浄ユニット２１６は、恒温槽２０２２内の熱媒体２０２１を循環させる循環ラインを介して供給される熱媒体２０２１を、洗浄用の液体として反応容器２０１１へ放出するようにしている。これにより、洗浄用の液体を供給するための経路を別途設ける必要がない。
【００９６】
また、本実施形態では、洗浄用の液体を、恒温ユニット２０２５のヒータＤ１を利用して昇温させるようにしている。これにより、洗浄液を昇温させるためのヒータを別途設ける必要がなくなる。
【００９７】
また、本実施形態では、反応容器洗浄ユニット２１６における放出部２１６１の放出口を、恒温槽２０２２の底方向へ向けて傾けるようにしている。これにより、反応容器洗浄ユニット２１６から放出される洗浄液が恒温槽２０２２外へ飛散するのを抑えることが可能となる。
【００９８】
また、本実施形態では、反応容器洗浄ユニット２１６を、反応容器洗浄ユニット２１６から測光ユニット２１４へ到達するまで距離がなるべく長い位置に設けるようにしている。これにより、測光時に、反応容器２０１１の表面に水滴等が残ることを抑えることが可能となる。
【００９９】
なお、本実施形態では、反応容器洗浄ユニット２１６が、熱媒体２０２１から露出した反応容器２０１１の表面を洗浄する場合を例に説明した。しかしながら、これに限定されない。反応容器洗浄ユニット２１６は、混合液の分析中においても反応容器２０１１の表面を洗浄してもよい。このとき、反応容器洗浄ユニット２１６は、熱媒体２０２１内で水流を発生させ、この水流により反応容器２０１１の表面を洗浄する。
【０１００】
ただし、混合液の分析中においても反応容器２０１１の表面を洗浄する場合、あまりにも測光ユニット２１４に近い位置で反応容器２０１１を洗浄すると、洗浄による水流、及び洗浄によって掃き出された汚れ等の影響により、正確な分析結果を得られなくなる。そこで、反応容器洗浄ユニット２１６は、恒温槽２０２２の水流の変化による測光への影響が小さい位置、例えば、図５におけるＢ−Ｂの範囲のうち、サンプル吐出位置近傍に配置するのが好ましい。
【０１０１】
上記説明において用いた「プロセッサ」という文言は、例えば、ＣＰＵ（central processing unit）、ＧＰＵ(Graphics Processing Unit)、或いは、特定用途向け集積回路（Application Specific Integrated Circuit：ＡＳＩＣ））、プログラマブル論理デバイス（例えば、単純プログラマブル論理デバイス（Simple Programmable Logic Device：ＳＰＬＤ）、複合プログラマブル論理デバイス（Complex Programmable Logic Device：ＣＰＬＤ）、及びフィールドプログラマブルゲートアレイ（Field Programmable Gate Array：ＦＰＧＡ））等の回路を意味する。プロセッサは記憶回路に保存されたプログラムを読み出し実行することで機能を実現する。なお、本実施形態の各プロセッサは、プロセッサ毎に単一の回路として構成される場合に限らず、複数の独立した回路を組み合わせて１つのプロセッサとして構成し、その機能を実現するようにしてもよい。さらに、図１における複数の構成要素を１つのプロセッサへ統合してその機能を実現するようにしてもよい。
【０１０２】
本発明の実施形態を説明したが、この実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。この実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。この実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
【符号の説明】
【０１０３】
１…自動分析装置、２…分析機構、２０１…反応ディスク、２０１１…反応容器、２０２…恒温部、２０２１…熱媒体、２０２２…恒温槽、２０２３…供給ポンプ、２０２４…排液ポンプ、２０２５…恒温ユニット、２０２５１…循環ポンプ、２０２５２…加熱器、Ｄ１…ヒータ、Ｄ２…温度センサ、２０２６…電磁弁、２０２７…三方電磁弁、２０２８…電磁弁、２０３…サンプルディスク、２０４…第１試薬庫、２０４１…試薬ラック、２０５…第２試薬庫、２０５１…試薬ラック、２０６…サンプル分注アーム、２０７…サンプル分注プローブ、２０８…第１試薬分注アーム、２０９…第１試薬分注プローブ、２１０…第２試薬分注アーム、２１１…第２試薬分注プローブ、２１２…第１攪拌ユニット、２１２１…第１攪拌アーム、２１３…第２攪拌ユニット、２１３１…第２攪拌アーム、２１４…測光ユニット、２１５…洗浄ユニット、２１６…反応容器洗浄ユニット、２１６１…放出部、２１６１−１，２１６１−２…シャワーノズル、３…解析回路、４…駆動機構、５…入力インタフェース回路、６…出力インタフェース回路、７…記憶回路、８…制御回路、８１…システム制御機能、８２…反応容器洗浄機能。
【図１】
2018087794.tif 000003
【図２】
2018087794.tif 000004
【図３】
2018087794.tif 000005
【図４】
2018087794.tif 000006
【図５】
2018087794.tif 000007
【図６】
2018087794.tif 000008
【図７】
2018087794.tif 000009