(57)【要約】【課題】高輝度で軽量化された３次元表示装置を提供することを目的とする。【解決手段】表示装置は、複数の発光領域ＬＲの直下でそれぞれ発光層４０に電流を供給して発光させるための複数の露出領域ＥＲを有して光を反射する複数の画素電極３４と、を有する。画像の表示領域１０の横方向の幅の中心を通る中心法線Ｎｃがある。複数の発光領域ＬＲは、発光強度がピークになる方向Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３，Ｄ４と中心法線Ｎｃとのなす一般角による角度β１，β２，β３，β４が異なる複数のグループＧ１，Ｇ２，Ｇ３，Ｇ４に分けられることで多眼式の立体表示を可能にする。中心法線Ｎｃとは不一致の方向で発光強度がピークになる発光領域ＬＲの直下にある各露出領域ＥＲは、対応する表面領域ＳＲと法線Ｎ同士が平行になる第１領域Ｒ１と、対応する表面領域ＳＲと法線Ｎ同士が交差する第２領域Ｒ２と、を含む。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の発光領域を有する発光層と、
前記複数の発光領域の直下に位置する露出領域を有し、前記発光層の光を反射する複数の画素電極と、
前記発光層の上にある共通電極と、
前記複数の発光領域の直下にそれぞれ複数の表面領域を有し、前記複数の画素電極、前記発光層及び前記共通電極が上に積層された基板と、
を有し、
前記複数の発光領域は、
発光強度がピークになる方向と、画像の表示領域の第１の方向の幅の中心を通る中心法線と、のなす一般角による角度が異なる複数のグループを有し、
前記中心法線とは不一致の方向で前記発光強度がピークになる前記発光領域の直下にある前記露出領域の各々は、対応する前記表面領域と法線同士が平行になる第１領域と、対応する前記表面領域と前記法線同士が交差する第２領域と、を含むことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載された表示装置において、
前記一般角による前記角度の回転の向きが同じで大きさが異なる前記グループの前記発光領域に対応する前記露出領域で、前記第１領域と前記第２領域の割合が異なることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項２に記載された表示装置において、
前記複数の画素電極は、全て、対応する前記表面領域に対する前記第２領域の傾斜角度が同じであることを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項２に記載された表示装置において、
前記一般角による前記角度の回転の向きが同じで大きさが異なる前記グループの前記の発光領域に対応する前記露出領域で、対応する前記表面領域に対する前記第２領域の傾斜角度が異なることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
複数の発光領域を有する発光層と、
前記複数の発光領域の直下に位置する露出領域を有し、前記発光層の光を反射する複数の画素電極と、
前記発光層の上にある共通電極と、
前記複数の発光領域の直下にそれぞれ複数の表面領域を有し、前記複数の画素電極、前記発光層及び前記共通電極が上に積層された基板と、
を有し、
前記複数の発光領域は、
発光強度がピークになる方向と、画像の表示領域の第１の方向の幅の中心を通る中心法線と、のなす一般角による角度が異なる複数のグループを有し、
前記中心法線とは不一致の方向で前記発光強度がピークになる前記発光領域の直下にある前記露出領域の各々は、対応する前記表面領域と法線同士が平行になる第１領域と、対応する前記表面領域と前記法線同士が交差する第２領域と、を含み、
前記一般角による前記角度の回転の向きが同じで大きさが異なる前記グループの前記の発光領域に対応する前記露出領域において、前記第１領域と前記第２領域の割合が同じであり、且つ対応する前記表面領域に対する前記第２領域の傾斜角度が異なることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記第２領域の直下にある下地領域を含む下地層をさらに有し、
前記下地領域は、前記基板の前記表面領域に対して傾斜することを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記基板は、平坦表面を有し、前記複数の表面領域は、前記平坦表面にあり、
前記第１領域は、平坦であることを特徴とする表示装置。
【請求項８】
請求項１から６のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記基板は、前記幅に沿った軸を曲げるように凹状になった湾曲表面を有し、前記複数の表面領域は、前記湾曲表面にあり、
前記第１領域は、前記湾曲表面に対応して湾曲していることを特徴とする表示装置。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか１項に記載された表示装置において、
多眼式の立体表示が可能であることを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
メガネを使用しない３次元画像の表示方式のひとつとして、レンチキュラ方式及びパララックスバリア方式が知られている。レンチキュラ方式とは、レンチキュラレンズとよばれる縦方向に延びる半円筒型のレンズを横に並べたものの後方に、右眼からの視野の画像と、左眼からの視野の画像とを縦に短冊状に切り取って交互に並べた画像を設置し、その画像を、レンチキュラレンズを介して観察することにより、右眼と左眼に異なる画像が提供され、３次元の画像を表示する方式である。
【０００３】
一方、パララックスバリア方式とは、パララックスバリアと呼ばれる、複数の縦方向の細かいスリットが入った板をレンチキュラレンズの代りに用い、右眼と左眼に異なる画像が提供され、３次元の画像を表示する方式である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−２２４１９１号公報
【特許文献２】特開２０１０−２１７５８１号公報
【特許文献３】特開２０１５−５００２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１には、液晶レンズによりレンチキュラ方式のレンズを実現した例について示されている。しかし、この方式では、画像分離手段（レンチキュラレンズ／パララックスバリア）を追加するため、輝度の低下および厚み・重量の増加という問題がある。
【０００６】
特許文献２には、発光層が基板の主面に対して傾いていることが開示されている。特許文献３には、発光層が載るバンクの側面のテーパー角が異なることが開示されている。これらの技術では、発光層の傾斜のみで光の発光角度を調整しているが、高精細化に伴って対応が難しくなってきている。
【０００７】
本発明は、高輝度で軽量化された３次元表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る表示装置は、複数の発光領域を有する発光層と、前記複数の発光領域の直下でそれぞれ前記発光層に電流を供給して発光させるための複数の露出領域を有して光を反射する複数の画素電極と、前記発光層の上にある共通電極と、前記複数の発光領域の直下にそれぞれ複数の表面領域を有し、前記複数の画素電極、前記発光層及び前記共通電極が上に積層された基板と、を有し、画像の表示領域の横方向の幅の中心を通る中心法線があり、前記複数の発光領域は、発光強度がピークになる方向と前記中心法線とのなす一般角による角度が異なる複数のグループに分けられることで多眼式の立体表示を可能にし、前記中心法線とは不一致の方向で前記発光強度がピークになる前記発光領域の直下にある各露出領域は、対応する前記表面領域と法線同士が平行になる第１領域と、対応する前記表面領域と前記法線同士が交差する第２領域と、を含むことを特徴とする。本発明によれば、第１領域と前記第２領域の割合によって、発光強度がピークになる方向を変えられるので、発光角度を細かく調整することができ、高輝度で軽量化された３次元表示装置を提供することができる。
【０００９】
本発明に係る表示装置は、複数の発光領域を有する発光層と、前記複数の発光領域の直下でそれぞれ前記発光層に電流を供給して発光させるための複数の露出領域を有して光を反射する複数の画素電極と、前記発光層の上にある共通電極と、前記複数の発光領域の直下にそれぞれ複数の表面領域を有し、前記複数の画素電極、前記発光層及び前記共通電極が上に積層された基板と、を有し、画像の表示領域の横方向の幅の中心を通る中心法線があり、前記複数の発光領域は、発光強度がピークになる方向と前記中心法線とのなす一般角による角度が異なる複数のグループに分けられることで多眼式の立体表示を可能にし、前記中心法線とは不一致の方向で前記発光強度がピークになる前記発光領域の直下にある各露出領域は、対応する前記表面領域と法線同士が平行になる第１領域と、対応する前記表面領域と前記法線同士が交差する第２領域と、を含み、前記一般角による前記角度の回転の向きが同じで大きさが異なる前記グループの前記の発光領域に対応する前記露出領域で、前記第１領域と前記第２領域の割合が同じであるが、対応する前記表面領域に対する前記第２領域の傾斜角度が異なることを特徴とする。本発明によれば、第２領域の傾斜角度によって、発光強度がピークになる方向を決めることができるが、第１領域と前記第２領域の割合によって、発光角度を細かく調整することができ、高輝度で軽量化された３次元表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る表示装置の斜視図である。
【図２】図１に示す表示装置のII−II線断面の拡大図である。
【図３】第１の実施形態の複数の画素それぞれで発光強度がピークとなる方向を示す図である。
【図４】第１の実施形態で発光強度がピークとなる方向を変えるための構造を示す概略断面図である。
【図５】第２の実施形態に係る表示装置を示す図である。
【図６】第３の実施形態に係る表示装置を示す図である。
【図７】第４の実施形態で発光強度がピークになる方向を示す図である。
【図８】第４の実施形態に係る表示装置の構造の概略を示す断面図である。
【図９】第５の実施形態で発光強度がピークになる方向を示す図である。
【図１０】第６の実施形態に係る表示装置を示す図である。
【図１１】第７の実施形態に係る表示装置を示す図である。
【図１２】図１１に示す表示装置を構成するためのディスプレイを示す図である。
【図１３】第７の実施形態に係る表示装置の構造を示す断面図である。
【図１４】第８の実施形態に係る表示装置の画素配列を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。但し、本発明は、その要旨を逸脱しない範囲において様々な態様で実施することができ、以下に例示する実施形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。
【００１２】
図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。本明細書と各図において、既出の図に関して説明したものと同様の機能を備えた要素には、同一の符号を付して、重複する説明を省略することがある。
【００１３】
さらに、本発明の詳細な説明において、ある構成物と他の構成物の位置関係を規定する際、「上に」「下に」とは、ある構成物の直上あるいは直下に位置する場合のみでなく、特に断りの無い限りは、間にさらに他の構成物を介在する場合を含むものとする。
【００１４】
［第１の実施形態］
図１は、本発明の第１の実施形態に係る表示装置の斜視図である。表示装置として、有機エレクトロルミネッセンス表示装置を例に挙げる。表示装置は、例えば、赤、緑及び青からなる複数色の画素（サブピクセル）を組み合わせて、横方向に幅Ｗを有する表示領域１０に、フルカラーの画像を表示するようになっている。幅Ｗの中心には中心法線Ｎｃが通る。表示装置は、樹脂などの柔軟性を有する材料からなる第１基板１２を有する。
【００１５】
図２は、図１に示す表示装置のII−II線断面の拡大図である。第１基板１２には、それ自体が含有する不純物に対するバリアとなるアンダーコート１４が形成され、その上に半導体層１６が形成されている。半導体層１６にソース電極１８及びドレイン電極２０が電気的に接続し、半導体層１６を覆ってゲート絶縁膜２２が形成されている。ゲート絶縁膜２２の上にはゲート電極２４が形成され、ゲート電極２４を覆って層間絶縁膜２６が形成されている。ソース電極１８及びドレイン電極２０は、ゲート絶縁膜２２及び層間絶縁膜２６を貫通している。半導体層１６、ソース電極１８、ドレイン電極２０及びゲート電極２４によって薄膜トランジスタ２８が構成される。薄膜トランジスタ２８を覆うようにパッシベーション膜３０が設けられている。
【００１６】
パッシベーション膜３０の上には、平坦化層３２が設けられている。平坦化層３２の上には、複数の単位画素それぞれに対応するように構成された複数の画素電極３４（例えば陽極）が設けられている。画素電極３４は、下層３４ａ及び上層３４ｂを含む。下層３４ａは、平坦化層３２及びパッシベーション膜３０を貫通するコンタクトホール３６によって、半導体層１６上のソース電極１８及びドレイン電極２０の一方に電気的に接続している。平坦化層３２は、少なくとも画素電極３４が設けられる面が平坦になるように形成される。
【００１７】
平坦化層３２及び画素電極３４上に、絶縁層３８が形成されている。絶縁層３８は、画素電極３４（下層３４ａ）の周縁部に載り、画素電極３４（下層３４ａ）の一部（例えば中央部）を露出させるように形成されている。画素電極３４のうち、絶縁層３８によって露出された領域が、図２に示す露出領域ＥＲである。画素電極３４の上層３４ｂは、少なくとも一部が絶縁層３８に載るようになっている。例えば、画素電極３４の上層３４ｂは、周縁が絶縁層３８に載り、それ以外の部分が下層３４ａに接触して積層する。上層３４ｂは酸化物半導体などからなる透明導電膜である。下層３４ａはニッケルやアルミニウムなどの金属膜であって光を反射するようになっている。
【００１８】
画素電極３４上に発光層４０が設けられている。発光層４０は、画素電極３４ごとに別々に（分離して）設けられ、端部が絶縁層３８にも載るようになっている。各画素に対応して青、赤、緑で発光層４０が発光する。発光層４０は、複数の画素それぞれに対応して複数の発光領域ＬＲを有する。画素電極３４は、発光領域ＬＲの直下で発光層４０に電流を供給して発光させるための露出領域ＥＲを有する。発光層４０で発生した光は、露出領域ＥＲ（例えば下層３４ａと上層３４ｂの界面）で反射する。第１基板１２は、発光領域ＬＲの直下に表面領域ＳＲを有する。図１に示す表示領域１０の幅Ｗの中心を通る中心法線Ｎｃは、幅Ｗの中心にある画素の表面領域ＳＲの法線である。
【００１９】
発光層４０の上には、共通電極４２（例えば陰極）が設けられている。共通電極４２は、絶縁層３８の上方にも載るように形成する。発光層４０並びに発光層４０を挟む画素電極３４（陽極）及び共通電極４２（陰極）から発光素子４４が構成される。発光層４０は、画素電極３４及び共通電極４２に挟まれ、両者間を流れる電流によって輝度が制御されて発光する。発光層４０と画素電極３４（陽極）との間には、図示しない正孔輸送層及び正孔注入層の少なくとも一層を設けてもよい。発光層４０と共通電極４２（陰極）との間には、図示しない電子輸送層及び電子注入層の少なくとも一層を設けてもよい。
【００２０】
発光素子４４は、共通電極４２に積層する封止層４６によって覆われることで封止されて、水分から遮断される。封止層４６には、粘着層４８を介して、樹脂などの柔軟性を有する材料からなる第２基板５０が貼り付けられている。
【００２１】
図３は、本実施形態の複数の画素それぞれで発光強度がピークとなる方向を示す図である。図３には、表示領域１０（図１参照）の幅Ｗの方向に並ぶ複数の画素Ｐが示されている。中央に位置する画素Ｐｃでは、発光強度がピークとなる方向が、幅Ｗの中心を通る中心法線Ｎｃと一致する。発光強度がピークとなる方向が異なることで、位置や角度が異なる複数の映像を同時に映し出すことができ、多眼式の立体表示が可能になっている。図３に示す例は、インテグラルイメージング方式と呼ばれる。
【００２２】
図４は、本実施形態で発光強度がピークとなる方向を変えるための構造を示す概略断面図である。第１基板１２は、複数の発光領域ＬＲの直下にそれぞれ複数の表面領域ＳＲを有する。第１基板１２は、平坦表面５２を有する。複数の表面領域ＳＲは、平坦表面５２にある。画像の表示領域１０（図１参照）の横方向の幅Ｗの中心にある表面領域ＳＲ（図２参照）の法線が中心法線Ｎｃである。
【００２３】
図４には、中心法線Ｎｃとは不一致の方向で発光強度がピークになる発光領域ＬＲが示してある。画素電極３４は、発光領域ＬＲの直下で発光層４０に電流を供給して発光させるための露出領域ＥＲを有する。なお、露出領域ＥＲの大きさは、全てのグループＧ１，Ｇ２，Ｇ３，Ｇ４で同じである。露出領域ＥＲは、第１領域Ｒ１を含む。第１領域Ｒ１の法線Ｎ１は、その画素電極３４に対応する表面領域ＳＲの法線Ｎｓと平行になっている（一致している）。第１領域Ｒ１は、平坦である。
【００２４】
露出領域ＥＲは、第２領域Ｒ２を含む。第２領域Ｒ２の法線Ｎ２は、その画素電極３４に対応する表面領域ＳＲの法線Ｎｓと交差する。複数の画素電極３４は、全て、対応する表面領域ＳＲに対する第２領域Ｒ２の傾斜角度αが同じである。ここで、傾斜角度αは、回転の向きを考慮しない角の大きさである。第２領域Ｒ２は、上述した絶縁層３８の上にある。すなわち、絶縁層３８が第２領域Ｒ２の下地層である。下地層は、第２領域Ｒ２の直下に下地領域ＵＲを有する。下地領域ＵＲは、第１基板１２の表面領域ＳＲに対して傾斜する。
【００２５】
複数の発光領域ＬＲは、複数のグループグループＧ１，Ｇ２，Ｇ３，Ｇ４に分けられる。異なるグループＧ１，Ｇ２，Ｇ３，Ｇ４の発光領域ＬＲは、発光強度がピークになる方向Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３，Ｄ４が異なる。詳しくは、発光強度がピークになる方向Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３，Ｄ４と中心法線Ｎｃとのなす角度β１，β２，β３，β４が異なる。角度β１，β２，β３，β４は、一般角で表され、角の大きさが同じでも、回転の向きが異なれば別の角度になる。例えば、グループＧ１，Ｇ４では、角度β１，β４の大きさは同じであるが、回転の向きがそれぞれ負の回転（時計回り）及び正の回転（反時計回り）である。グループＧ２，Ｇ３では、角度β２，β３の大きさは同じであるが、回転の向きがそれぞれ負の回転（時計回り）及び正の回転（反時計回り）である。
【００２６】
発光強度がピークになる方向Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３，Ｄ４は、いずれも、中心法線Ｎｃに近づく方向である。そのため、第２領域Ｒ２の傾斜角度αの回転の向きは、中心法線Ｎｃに近づく２方向のいずれかである。図４の例では、グループＧ１，Ｇ２では負の回転（時計回り）の向きであり、グループＧ３，Ｇ４では正の回転（反時計回り）の向きである。ただし、上述したように、傾斜角度αは、回転の向きを考慮しなければ、全てのグループＧ１，Ｇ２，Ｇ３，Ｇ４で同じ大きさである。
【００２７】
第２領域Ｒ２の傾斜角度αの回転の向きが同じグループＧ１，Ｇ２又はグループＧ３，Ｇ４では、第１領域Ｒ１と第２領域Ｒ２の割合が異なる。なお、第２領域Ｒ２の傾斜角度αの回転の向きが異なるグループＧ１，Ｇ４又はグループＧ２，Ｇ３では、第１領域Ｒ１と第２領域Ｒ２の割合が同じである。
【００２８】
本実施形態では、角度β１，β２，β３，β４の回転の向きが同じで大きさが異なるグループＧ１，Ｇ２又はグループＧ３，Ｇ４の発光領域ＬＲに対応する露出領域ＥＲで、第１領域Ｒ１と第２領域Ｒ２の割合が異なる。こうすることで、発光強度がピークになる方向Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３，Ｄ４を細かく調整することができ、高輝度で軽量化された３次元表示装置を提供することができる。
【００２９】
［第２の実施形態］
図５は、第２の実施形態に係る表示装置を示す図である。本実施形態では、角度β１，β２，β３，β４の回転の向きが同じで大きさが異なるグループＧ１，Ｇ２，Ｇ３，Ｇ４の発光領域ＬＲに対応する露出領域ＥＲで、対応する表面領域ＳＲに対する第２領域Ｒ２の傾斜角度α１，α２，α３，α４が異なる。言い換えると、本実施形態では、第２領域Ｒ２の傾斜角度α１，α２，α３，α４が異なることで、発光強度がピークになる方向Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３，Ｄ４が異なるようになっている。さらに、角度β１，β２，β３，β４の回転の向きが同じで大きさが異なるグループＧ１，Ｇ２，Ｇ３，Ｇ４の発光領域ＬＲに対応する露出領域ＥＲで、第１領域Ｒ１と第２領域Ｒ２の割合が異なる。つまり、発光強度がピークになる方向Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３，Ｄ４は、第２領域Ｒ２の傾斜角度α１，α２，α３，α４と、第１領域Ｒ１及び第２領域Ｒ２の割合との組み合わせで決まるようになっている。なお、露出領域ＥＲの大きさは、全てのグループＧ１，Ｇ２，Ｇ３，Ｇ４で同じである。その他の内容は、第１の実施形態で説明した内容が該当する。
【００３０】
［第３の実施形態］
図６は、第３の実施形態に係る表示装置を示す図である。本実施形態では、角度β１，β２，β３，β４の回転の向きが同じで大きさが異なるグループＧ１，Ｇ２又はグループＧ３，Ｇ４の発光領域ＬＲに対応する露出領域ＥＲで、第１領域Ｒ１と第２領域Ｒ２の割合が同じであるが、対応する表面領域ＳＲに対する第２領域Ｒ２の傾斜角度α１，α２が異なる。つまり、本実施形態では、発光強度がピークになる方向Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３，Ｄ４は、第２領域Ｒ２の傾斜角度α１，α２で決まるようになっている。第１領域Ｒ１と第２領域Ｒ２の割合は、発光強度がピークになる方向Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３，Ｄ４を異ならせることには寄与しない。ただし、第１領域Ｒ１と第２領域Ｒ２の割合によって、発光角度を細かく調整することはできる。これにより、高輝度で軽量化された３次元表示装置を提供することができる。その他の内容は、第１の実施形態で説明した内容が該当する。
【００３１】
［第４の実施形態］
第４の実施形態に係る表示装置は、二視点の３次元ディスプレイである。図７には、発光強度がピークになる方向Ｄ１，Ｄ２が示されている。詳しくは、それぞれの画素Ｐを、発光強度がピークになる方向Ｄ１，Ｄ２が異なる２つの視点画素Ｐ１，Ｐ２に分割してある。２つの視点画素Ｐ１，Ｐ２は、それぞれ、左右の目に対応し、３次元表示が可能になっている。
【００３２】
図８は、第４の実施形態に係る表示装置の構造の概略を示す断面図である。１つの画素Ｐから分割された視点画素Ｐ１，Ｐ２のそれぞれで、露出領域ＥＲは、対応する表面領域ＳＲの法線Ｎｓと平行な法線Ｎ１を有する第１領域Ｒ１と、法線Ｎｓと交差する法線Ｎ２を有する第２領域Ｒ２と、を含む。
【００３３】
［第５の実施形態］
第５の実施形態に係る表示装置は、多眼式の３次元ディスプレイである。図９には、発光強度がピークになる方向Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３，Ｄ４，Ｄ５が示されている。この例では、５つの視点領域ＶＲ１，ＶＲ２，ＶＲ３，ＶＲ４，ＶＲ５が形成される。異なる視点領域ＶＲ１，ＶＲ２，ＶＲ３，ＶＲ４，ＶＲ５で、物体Ｏ１，Ｏ２の画像を、異なる角度から見ることができる。５つの視点領域ＶＲ１，ＶＲ２，ＶＲ３，ＶＲ４，ＶＲ５のうち２つの画像を左右の目で認識することで、物体Ｏ１，Ｏ２の画像を立体的に認識することができる。
【００３４】
［第６の実施形態］
図１０は、第６の実施形態に係る表示装置を示す図である。本実施形態では、幅Ｗの方向の両端において、第１基板１２を湾曲させている。これにより、表示領域の中央に対して端部で発光角度（視角範囲ＶＡ）を調節することが可能となり、正常な立体に見える視域ＮＶＡを拡大することができる。
【００３５】
［第７の実施形態］
図１１は、第７の実施形態に係る表示装置を示す図である。図１１に示すように、本実施形態に係る表示装置１００は、複数の視点ＶＰで集光するようになった多眼式である。図１２は、図１１に示す表示装置１００を構成するためのディスプレイ１０２を示す図である。図１２に示すディスプレイ１０２は、インテグラルイメージング方式のディスプレイであり、これを湾曲させることで、図１１に示す表示装置１００を得ることができる。
【００３６】
図１３は、本実施形態に係る表示装置の構造を示す断面図である。第１基板１２は、画像の表示領域１０（図１参照）の幅Ｗに沿った軸を曲げるように凹状になった湾曲表面５４を有する。複数の表面領域ＳＲは、湾曲表面５４にある。第１領域Ｒ１は、湾曲表面５４に対応して湾曲している。そのため、第１領域Ｒ１の法線Ｎ１は、幅Ｗの中心にある第１領域Ｒ１を除き、中心法線Ｎｃとは平行にならない。その他の詳細は、上述した第１〜第３の実施形態で説明した内容を適用することができる。本実施形態によれば、図１１に示す複数の視点ＶＰで集光するように、発光強度がピークになる方向Ｄを調整することができる。
【００３７】
［第８の実施形態］
第１の実施形態から第７の実施形態で説明した構造は、多眼式の立体表示が可能表示装置だけではなく、観察者が表示画面を見る方向が異なると、異なる映像が表示される表示装置、所謂マルチビューディスプレイにおいても好適である。第１の実施形態から第７の実施形態で説明した構造は、例えば図３に示すように、複数の画素それぞれで発光強度がピークとなる方向を異ならせることができる。従って、第１の方向が発光強度のピークとなる方向である第１の画素群で第１の映像を表示し、第２の方向が発光強度のピークとなる方向である第２の画素群で第２の映像を表示しすることが可能である。更に、第３の方向が発光強度のピークとなる方向である第３の画素群で第３の映像を表示することも可能である。例えば、第１の方向は表示画面の法線方向に対して右側の方向とし、第２の方向は表示画面の法線方向に対して左側の方向とし、第３の方向は表示画面の法線方向とすることができる。
【００３８】
図１４（ａ）に示すように、第１の画素群Ａと第２の画素群Ｂとは、交互に縦ストライプ状に配列してもよい。図１４（ｂ）に示すように、第１の画素群Ａと第２の画素群Ｂとは、交互に横ストライプ状に配列してもよい。図１４（ｃ）に示すように、第１の画素群Ａと第２の画素群Ｂとは、千鳥状に配列してもよい。第８の実施形態においては、第１の実施形態から第７の実施形態で説明した画素の構造を用いることで、特別な光学的機構を付加せずにマルチビューディスプレイを実現できる。従って、マルチビューディスプレイの薄型化、軽量化が可能となる。
【００３９】
なお、表示装置は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置には限定されず、量子ドット発光素子（ＱＬＥＤ：Quantum‐Dot Light Emitting Diode）のような発光素子を各画素に備えた表示装置であってもよいし、液晶表示装置であってもよい。
【００４０】
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく種々の変形が可能である。例えば、実施形態で説明した構成は、実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成で置き換えることができる。
【符号の説明】
【００４１】
１０  表示領域、１２  第１基板、１４  アンダーコート、１６  半導体層、１８  ソース電極、２０  ドレイン電極、２２  ゲート絶縁膜、２４  ゲート電極、２６  層間絶縁膜、２８  薄膜トランジスタ、３０  パッシベーション膜、３２  平坦化層、３４  画素電極、３４ａ  下層、３４ｂ  上層、３６  コンタクトホール、３８  絶縁層、４０  発光層、４２  共通電極、４４  発光素子、４６  封止層、４８  粘着層、５０  第２基板、５２  平坦表面、５４  湾曲表面、１００  表示装置、１０２  ディスプレイ、Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３，Ｄ４  方向、ＥＲ  露出領域、Ｇ１，Ｇ２，Ｇ３，Ｇ４  グループ、ＬＲ  発光領域、Ｎ１  法線、Ｎ２  法線、ＮＶＡ  視域、Ｎｃ  中心法線、Ｎｓ  法線、Ｏ１，Ｏ２  物体、Ｐ  画素、Ｐｃ  画素、Ｒ１  第１領域、Ｒ２  第２領域、ＳＲ  表面領域、ＶＡ  視角範囲、ＶＰ  視点、ＶＲ１，ＶＲ２，ＶＲ３，ＶＲ４，ＶＲ５  視点領域、Ｗ  幅、α  傾斜角度、α１，α２，α３，α４  角度、β１，β２，β３，β４  角度。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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