(57)【要約】【課題】  小型かつ簡素な構成でありながら、良好な画像を形成することができる光走査装置及びそれを備える画像形成装置を提供すること。【解決手段】  第１及び第２の光束を偏向して第１の被走査面７の有効領域を主走査方向に走査する偏向器５と、偏向器５により偏向された第１及び第２の光束の夫々を、有効領域の主走査方向において互いに異なる第１及び第２の領域７１，７２に導光する第１及び第２の結像光学系６１，６２と、を備え、主走査方向において、第１の領域７１の幅は、第１の結像光学系６１の光軸６１０に対して第２の領域７２の側よりも第２の領域７２とは反対側の方が長く、第２の領域７２の幅は、第２の結像光学系６２の光軸６２０に対して第１の領域７１の側の幅よりも第１の領域７１とは反対側の方が長いことを特徴とする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１及び第２の光束を偏向して第１の被走査面の有効領域を主走査方向に走査する偏向器と、
前記偏向器により偏向された前記第１及び第２の光束の夫々を、前記有効領域の主走査方向において互いに異なる第１及び第２の領域に導光する第１及び第２の結像光学系と、
を備え、
主走査方向において、前記第１の領域の幅は、前記第１の結像光学系の光軸に対して前記第２の領域の側よりも前記第２の領域とは反対側の方が長く、前記第２の領域の幅は、前記第２の結像光学系の光軸に対して前記第１の領域の側よりも前記第１の領域とは反対側の方が長いことを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
前記第１及び第２の光束は、前記偏向器の回転軸を含み主走査方向に垂直な基準面に対して、互いに異なる側から前記偏向器に入射することを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
前記有効領域において、前記第１の領域は、前記基準面に対して前記第１の光束が前記偏向器に入射する側の領域であり、前記第２の領域は、前記基準面に対して前記第２の光束が前記偏向器に入射する側の領域であることを特徴とする請求項２に記載の光走査装置。
【請求項４】
前記第１及び第２の結像光学系は、前記偏向器の回転軸を含み主走査方向に垂直な基準面に対して、互いに異なる側に配置されることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項５】
主走査断面内において、前記偏向器の外接円の半径をＲｄ［ｍｍ］、前記第１及び第２の領域の夫々の、他方の領域の側の幅及び他方の領域とは反対側の幅を各々Ｙｃ［ｍｍ］及びＹｅ［ｍｍ］、とするとき、
Ｙｃ＜Ｒｄ＜Ｙｅ
なる条件を満たすことを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項６】
主走査断面内における前記偏向器の外接円の半径をＲｄ［ｍｍ］、前記第１及び第２の光束の主光線の前記偏向器における入射位置と前記偏向器の回転軸との光軸方向での距離をＬｘ［ｍｍ］、とするとき、
−Ｒｄ／２≦Ｌｘ≦Ｒｄ／２
なる条件を満たすことを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項７】
前記第１及び第２の結像光学系は、互いに一体化した第１及び第２の結像素子を含むことを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項８】
前記偏向器は、前記第１及び第２の領域を互いに異なるタイミングで走査することを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項９】
共通の光源から出射する前記第１及び第２の光束を分離する分離素子を備えることを特徴とする請求項１乃至８の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項１０】
前記分離素子は、前記第１の光束を副走査断面内において集光する光学面を含むことを特徴とする請求項９に記載の光走査装置。
【請求項１１】
前記分離素子は前記第１の光束を偏向して前記偏向器に導光しており、前記分離素子を介さずに入射する前記第２の光束を反射して前記偏向器に導光する反射素子を備えることを特徴とする請求項９又は１０に記載の光走査装置。
【請求項１２】
共通の光源から出射する前記第１及び第２の光束の収束度を変換するカップリングレンズを備えることを特徴とする請求項１乃至１１の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項１３】
共通の光源から出射する前記第１及び第２の光束の夫々が通過する２つの開口が設けられた絞りを備えることを特徴とする請求項１乃至１２の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項１４】
前記第１の領域における軸上像高と軸外像高とで光束の走査速度が異なり、かつ前記第２の領域における軸上像高と軸外像高とで光束の走査速度が異なることを特徴とする請求項１乃至１３の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項１５】
前記偏向器は、第３及び第４の光束を偏向して第２の被走査面の有効領域を主走査方向に走査しており、前記偏向器により偏向された前記第３及び第４の光束の夫々を、該有効領域の主走査方向において互いに異なる第３及び第４の領域に導光する第３及び第４の結像光学系を備えることを特徴とする請求項１乃至８の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項１６】
主走査方向において、前記第３の領域の幅は、前記第３の結像光学系の光軸に対して前記第４の領域の側よりも前記第４の領域とは反対側の方が長く、前記第４の領域の幅は、前記第４の結像光学系の光軸に対して前記第３の領域の側の幅よりも前記第３の領域とは反対側の方が長いことを特徴とする請求項１５に記載の光走査装置。
【請求項１７】
第１の光源から出射する前記第１及び第３の光束を分離する第１の分離素子と、第２の光源から出射する前記第２及び第４の光束を分離する第２の分離素子と、を備えることを特徴とする請求項１５又は１６に記載の光走査装置。
【請求項１８】
副走査断面内において、前記第１及び第３の光束は前記偏向器の回転軸に垂直な平面に対して互いに異なる側から前記偏向器に入射し、前記第２及び第４の光束は前記平面に対して互いに異なる側から前記偏向器に入射することを特徴とする請求項１５乃至１７の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項１９】
請求項１乃至１８の何れか１項に記載の光走査装置と、該光走査装置により被走査面に形成された静電潜像をトナー像として現像する現像器と、現像された前記トナー像を被転写材に転写する転写器と、転写された前記トナー像を前記被転写材に定着させる定着器と、を備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２０】
請求項１乃至１８の何れか１項に記載の光走査装置と、外部機器から出力されたコードデータを画像信号に変換して前記光走査装置に入力するプリンタコントローラと、を備えることを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光走査装置に関し、例えばレーザビームプリンタやマルチファンクションプリンタ等の画像形成装置に好適なものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、画像形成装置に用いられる光走査装置として、光源から出射した光束を偏向器により偏向し、偏向された光束を結像光学系によって被走査面に導光することにより、被走査面を主走査方向に走査するものが知られている。また、光走査装置による走査方式として、被走査面の印字領域（有効領域）を主走査方向において２つに分割し、それぞれの領域を２本の光束により分担して走査する方式（カスケード走査方式）が知られている。
【０００３】
特許文献１には、共通の被走査面における２つの印字領域の夫々を、並列して配置された２つの光走査装置により分担して走査する画像形成装置が記載されている。この構成によれば、印字領域の全域を１つの光走査装置により同じ走査画角で走査する構成と比較して、偏向器から被走査面までの光路長を短くすることができるため、画像形成装置の小型化に寄与することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−２８１５８０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載の画像形成装置においては、２つの光走査装置が設けられているため、部品点数が多く、装置全体の小型化が十分ではない。また、この構成では、被走査面の位置が光軸方向にずれた場合に、２つの印字領域の境界における２本の光束の入射位置（印字位置）が主走査方向に大きくずれてしまい、良好な画像を形成することが困難になってしまう。
【０００６】
本発明の目的は、小型かつ簡素な構成でありながら、良好な画像を形成することができる光走査装置及びそれを備える画像形成装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するための、本発明の一側面としての光走査装置は、第１及び第２の光束を偏向して第１の被走査面の有効領域を主走査方向に走査する偏向器と、前記偏向器により偏向された前記第１及び第２の光束の夫々を、前記有効領域の主走査方向において互いに異なる第１及び第２の領域に導光する第１及び第２の結像光学系と、を備え、主走査方向において、前記第１の領域の幅は、前記第１の結像光学系の光軸に対して前記第２の領域の側よりも前記第２の領域とは反対側の方が長く、前記第２の領域の幅は、前記第２の結像光学系の光軸に対して前記第１の領域の側の幅よりも前記第１の領域とは反対側の方が長いことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、小型かつ簡素な構成でありながら、良好な画像を形成することができる光走査装置及びそれを備える画像形成装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の実施形態に係る光走査装置の要部概略図。
【図２】実施形態に係る光走査装置の作用を説明するための図。
【図３】本発明の実施例１に係る光走査装置の要部概略図。
【図４】実施例１に係る光走査装置の部分拡大図。
【図５】本発明の実施例２に係る光走査装置の要部概略図。
【図６】本発明の実施例３に係る光走査装置の要部概略図。
【図７】実施例３に係る光走査装置の部分拡大図。
【図８】本発明の実施形態に係る画像形成装置の要部概略図。
【図９】従来例に係る光走査装置の要部概略図。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明の好ましい実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、各図面は、便宜的に実際とは異なる縮尺で描かれている場合がある。また、各図面において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明を省略する。
【００１１】
なお、以下の説明において、主走査方向とは、偏向器の回転軸と光学系の光軸方向とに垂直な方向であり、副走査方向とは、偏向器の回転軸に平行な方向である。また、主走査断面とは、光軸方向及び主走査方向に平行な断面（副走査方向に垂直な断面）であり、副走査断面とは、光軸方向及び副走査方向に平行な断面（主走査方向に垂直な断面）である。すなわち、これらの各方向及び各断面は、光学系毎に異なる場合がある。
【００１２】
図１は、本発明の実施形態に係る光走査装置１００の要部概略図である。光走査装置１００は、第１及び第２の光束を偏向して被走査面（第１の被走査面）７の有効領域を主走査方向に走査する共通の偏向器５と、偏向器５により偏向された第１及び第２の光束を被走査面７に導光する結像光学系６と、を備えている。
【００１３】
図１では、被走査面７の有効領域の主走査方向における中心（中心像高）７１２と偏向器５の回転軸５１とを通るｘ軸と、ｘ軸と直交し偏向器５の偏向点（反射点）を通るｙ軸と、ｘ軸及びｙ軸と直交するｚ軸と、によって絶対座標系ｘｙｚを定めている。なお、ｙ軸を定める偏向点は、第１の光束が後述する印字位置７１１に向かうときの偏向点である。また、図１では、第１及び第２の光束が被走査面７における各像高に異なるタイミングで入射するときの様子を、便宜的に１つの図で示している。
【００１４】
第１及び第２の光束は、回転軸５１を含み主走査方向に垂直な基準面９（ｘ軸を含みｙ軸に垂直な面）に対して、互いに異なる側から偏向器５に入射する。具体的には、第１の光束はｙ軸方向におけるプラス側から偏向器５に入射し、第２の光束はｙ軸方向におけるマイナス側から偏向器５に入射している。なお、第１及び第２の光束は、２つの光源の夫々から出射するものであってもよいし、１つの共通の光源から出射する光束を分割して得られたものであってもよい。
【００１５】
結像光学系６は、基準面９に対して互いに異なる側に配置される第１の結像光学系６１及び第２の結像光学系６２を有している。第１及び第２の結像光学系６１，６２の夫々は、第１及び第２の光束の夫々を、有効領域の主走査方向において互いに異なる第１の領域７１及び第２の領域７２に導光する。本実施形態に係る第１及び第２の結像光学系６１，６２の夫々は、単一の結像素子（第１及び第２の結像素子）から成るが、必要に応じて複数の結像素子で構成してもよい。
【００１６】
第１の領域７１は、有効領域における基準面９に対して第１の光束が偏向器５に入射する側の領域、すなわちｙ軸方向におけるプラス側の最軸外像高７１０から中心像高７１２までの印字領域である。また、第２の領域７２は、有効領域における基準面９に対して第２の光束が偏向器５に入射する側の領域、すなわち中心像高７１２からｙ軸方向におけるマイナス側の最軸外像高７１４までの印字領域である。
【００１７】
このように、本実施形態に係る光走査装置１００は、第１及び第２の光束によって共通の被走査面７の主走査方向において互いに異なる印字領域を走査するカスケード走査方式を採用している。このとき、光走査装置１００は、第１及び第２の光束を共通の偏向器５によって走査する構成を採っているため、上述した特許文献１に記載の構成よりも部品点数を少なくして装置全体の小型化を実現することができる。
【００１８】
なお、ここでの「互いに異なる印字領域」とは、「少なくとも一部が互いに異なる印字領域」のことを示している。すなわち、第１及び第２の領域７１，７２は、図１に示すように完全に分離していなくてもよい。例えば、各部材の組み立て公差などを考慮して、第１及び第２の領域７１，７２の夫々が中心像高７１２を越えて、互いの一部が重複するように構成してもよい。
【００１９】
ここで、第１の領域７１を、第１の結像光学系６１の第１の光軸６１０に対して、領域７１Ｅ及び領域７１Ｃの２つの領域に分けて考える。領域７１Ｅは、第１の光軸６１０と被走査面７との交点７１１に対して第２の領域７２とは反対側、すなわち基準面９とは反対側（最軸外像高７１０〜交点７１１）の領域（外側印字領域）である。また、領域７１Ｃは、交点７１１に対して第２の領域７２の側、すなわち基準面９の側（交点７１１〜中心像高７１２）の領域（内側印字領域）である。このとき、図１に示す通り、主走査方向における領域７１Ｅの幅は領域７１Ｃの幅よりも長くなっている。
【００２０】
同様に、第２の領域７２を、第２の結像光学系６２の第２の光軸６２０に対して、領域７２Ｅ及び領域７２Ｃの２つの領域に分けて考える。領域７２Ｅは、第２の光軸６２０と被走査面７との交点７１３（軸上像高）に対して第１の領域７１とは反対側、すなわち基準面９とは反対側（交点７１３〜最軸外像高７１４）の領域（外側印字領域）である。また、領域７２Ｃは、交点７１３に対して第１の領域７１の側、すなわち基準面９の側（中心像高７１２〜交点７１３）の領域（内側印字領域）である。このとき、図１に示す通り、主走査方向における領域７２Ｅの幅は領域７２Ｃの幅よりも長くなっている。
【００２１】
すなわち、光走査装置１００は、第１及び第２の領域７１，７２の夫々について、他方の領域の側（基準面９の側）の幅をＹｃ［ｍｍ］、他方の領域とは反対側（基準面９とは反対側）の幅をＹｅ［ｍｍ］、とするとき、以下の条件式（１）を満たしている。ただし、Ｙｃ及びＹｅの値は、第１の領域７１と第２の領域７２とで互いに異なっていてもよい。
Ｙｃ＜Ｙｅ      ・・・（１）
【００２２】
条件式（１）を満たすことにより、第１及び第２の光束が、第１及び第２の結像光学系６１，６２の夫々の光軸に対して両側の印字領域を非対称に走査するように構成することができる。これにより、第１及び第２の領域７１，７２の境界である中心像高７１２に入射する光束と被走査面７への垂線（ｘ軸）とのなす角度を十分に小さくすることができる。よって、被走査面７の位置が光軸方向にずれた場合に、第１及び第２の領域７１，７２の境界における第１及び第２の光束の入射位置のずれを抑制することができ、良好な画像を形成することが可能になる。
【００２３】
ここで、本実施形態に係る光走査装置１００の効果について、図９を用いて説明する。図９は、上述した特許文献１に記載の構成と同様に、共通の被走査面における２つの印字領域の夫々を、並列して配置された２つの光走査装置により分担して走査する構成を示している。図９に示す各光走査装置は、本実施形態に係る光走査装置１００とは異なり、結像光学系の光軸に対して両側の印字領域の幅が互いに等しい構成を採っている。
【００２４】
図９に示す通り、被走査面の位置ずれが生じていない場合、すなわち被走査面が実線７ａの位置に配置されている場合は、２つの光走査装置からの中心像高の側の最軸外光束の夫々が、２つの印字領域の境界である中心像高７１２に入射する。しかし、被走査面７が破線７ｂの位置にずれた場合、２つの光走査装置からの最軸外光束の夫々は、中心像高７１２からずれた位置に入射してしまう。
【００２５】
例として、被走査面が感光ドラムの感光面であり、感光ドラムの回転軸が中心軸に対して光軸方向に０．０５ｍｍ偏心した場合を考える。このとき、感光ドラムが１回転する毎に、被走査面と光走査装置との間隔がｄ＝±０．０５ｍｍ変動する。例えば、中心像高の側の各最軸外光束と被走査面への垂線とのなす角度がε＝３５°であるとすると、各最軸外光束の相対的な入射位置ずれは、Δ＝ｄ×ｔａｎε×２＝±０．０５×ｔａｎ３５°×２＝±０．０７ｍｍとなる。
【００２６】
このように、被走査面の位置ずれが生じると、２つの印字領域の境界における光束の入射位置が大きくずれてしまい、良好な画像を形成することが困難になってしまう。そして、２つの印字領域の境界における光束の入射位置ずれは、その光束の入射角に比例して大きくなるため、特に光路長を短縮するために走査画角（偏向画角）を大きくした構成において顕著になる。
【００２７】
上述したように、本実施形態に係る光走査装置１００は、条件式（１）を満足することで、第１及び第２の領域７１，７２の夫々における光軸に対して他方の領域の側（内側）の走査画角を、他方の領域とは反対側（外側）の走査画角よりも小さく設定している。すなわち、領域７１Ｅに対する走査画角よりも領域７１Ｃに対する走査画角の方を小さくし、かつ領域７２Ｅに対する走査画角よりも領域７２Ｃに対する走査画角の方を小さくしている。これにより、領域７１Ｃ及び領域７２Ｃでの各光束の入射角εを小さくすることができるため、入射位置ずれΔ＝ｄ×ｔａｎε×２を低減することが可能になる。
【００２８】
なお、本実施形態に係る光走査装置１００は、主走査断面内における偏向器５の外接円の半径をＲｄ［ｍｍ］とするとき、以下の条件式（２）を満たすことが望ましい。
Ｙｃ＜Ｒｄ＜Ｙｅ      ・・・（２）
【００２９】
実施形態に係る光走査装置１００のように、被走査面に垂直入射する光束の主光線と結像光学系の光軸とが一致する構成においては、条件式（２）の下限を下回った場合にコマ収差が発生する可能性がある。このとき、結像光学系を複数の結像素子で構成することによりコマ収差を補正する方法が考えられるが、部品点数が増加してしまうため好ましくない。また、条件式（２）を上回ると、偏向器５が大きくなり過ぎてしまい、装置全体の小型化が困難になる。
【００３０】
次に、本実施形態に係る光走査装置１００の光学配置について詳細に説明する。
【００３１】
図２Ａは、本実施形態における、偏向器５が回転軸５１を中心として回転したときの状態と、各状態において偏向器５に入射する光束Ｌの主光線Ｌ１が偏向される様子とを示す図である。図２Ａでは、説明を簡素化するために、回転軸５１を通りｘ軸に垂直な基準線Ｌｐに平行な方向から、光束Ｌが偏向器５に入射する場合を想定している。
【００３２】
図２Ａにおいて、光線Ｌ０，Ｌ＋，Ｌ−の夫々は、偏向器５が第１の状態５００（実線），第２の状態５００＋（一点鎖線），第３の状態５００−（破線）の夫々である場合に偏向された主光線Ｌ１を示している。光線Ｌ０は有効領域における軸上像高に向かい、光線Ｌ＋，Ｌ−は有効領域の最軸外像高に向かっている。なお、偏向器５によって偏向された後の光束Ｌのマージナル光線Ｌ２，Ｌ３は省略している。
【００３３】
ここで、図２Ａの構成は、主光線Ｌ１がｘ軸に平行な方向へ偏向されるとき（第１の状態５００）の偏向器５における主光線Ｌ１の入射位置と回転軸５１（基準線Ｌｐ）との光軸方向での距離をＬｘ［ｍｍ］、とするとき、以下の条件式（３）を満たしている。
−Ｒｄ／２≦Ｌｘ≦Ｒｄ／２      ・・・（３）
【００３４】
条件式（３）を満たすことで、偏向器５における主光線Ｌ１の入射位置（偏向点の位置）が基準線Ｌｐに近づき、光線Ｌ−が光線Ｌ０に近づくため、光線Ｌ０と光線Ｌ＋とのなす角度ω＋に対して光線Ｌ０と光線Ｌ−とのなす角度ω−が十分に小さくなる。言い換えると、結像光学系の光軸に対してｘ軸側の走査画角ω−が、ｘ軸とは反対側の走査画角ω＋よりも十分に小さくなる。よって、本実施形態に係る光走査装置１００は、条件式（３）を満たすことが望ましい。
【００３５】
図２Ｂは、比較例における、偏向器５が回転したときの状態と、各状態において偏向器５に入射する主光線Ｌ１が偏向される様子とを示したものである。図２Ｂの構成は、上記条件式（１）及び（３）を満たしていないという点で、図２Ａの構成とは異なる。具体的に、図２Ｂの構成は、走査画角ω＋と走査画角ω−とが互いに等しくなるように、すなわち印字領域を光軸に対して対象に走査するように構成されているため、条件式（１）を満たさず、被走査面の位置ずれの影響を抑制することができない。
【００３６】
また、図２Ｂの構成においては、第２の状態５００＋における偏向器５の偏向面と第３の状態５００−における偏向器５の偏向面との交点に向けて主光線Ｌ１を入射させている。これにより、光束Ｌのマージナル光線Ｌ２を、第３の状態５００−における偏向面のエッジよりもｘ軸方向におけるプラス側に入射させ、光束Ｌが偏向器５の偏向面で蹴られないようにしている。このとき、各種公差を考慮すると、Ｌｘの値は０．５５Ｒｄ〜０．６０Ｒｄ程度となるため、図２Ｂの構成は上記条件式（３）を満たさない。
【００３７】
図２Ｃは、図２Ａにおける偏向器５の第２の状態５００＋の代わりに、第４の状態５００ｂａｃｋ（二点鎖線）を示したものである。偏向器５が時計回りに回転して、第１の状態５００、第３の状態５００−、第４の状態５００ｂａｃｋの順に変化した場合、偏向器５により偏向された主光線Ｌ１は、光線Ｌ０、光線Ｌ−、光線Ｌｂａｃｋの順に変化する。図２Ｃに示すように、光線Ｌ−及び光線Ｌｂａｃｋが向かう方向は互いに大きく異なる。これは、偏向器５が第３の状態５００−から時計回りに回転する際に、偏向面５３によって光束Ｌがマージナル光線Ｌ２の側から徐々に蹴られ始め、第４の状態５００ｂａｃｋになったときに隣接する偏向面５４に入射するからである。
【００３８】
光線Ｌｂａｃｋが向かう方向には結像光学系が配置されていないため、第４の状態５００ｂａｃｋにおいては被走査面に光線Ｌｂａｃｋが向かわない。つまり、光線Ｌ−が被走査面に入射した後のしばらくの間、被走査面に光束Ｌが入射しなくなる。このことを利用すれば、複数の光束によって被走査面における異なる領域を順次異なるタイミングで走査する時分割走査を行うことができる。
【００３９】
例えば、２本の光束をｘ軸の両側から偏向器５の互いに対向する２つの偏向面に入射させた場合を考える。この場合、偏向器５が図２Ａにおける第２の状態５００＋、第１の状態５００、第３の状態５００−、の順に変化することで、一方の光束によって被走査面におけるｘ軸に対する一方の側を走査することができる。そして、偏向器５が更に回転して第４の状態５００ｂａｃｋから第２の状態５００＋に変化するまでの間は、一方の光束が被走査面に向かわなくなるため、他方の光束によって被走査面におけるｘ軸に対する他方の側を走査することが可能になる。
【００４０】
このとき、１つの光源から出射した光束を複数の光束に分割して、その複数の光束によって時分割走査を行ってもよい。また、第４の状態５００ｂａｃｋから第２の状態５００＋に変化するまでの間に偏向された光束によって、他の被走査面を時分割走査するように構成してもよい。このように時分割走査を行うことにより、各被走査面の各印字領域に夫々異なる画像を形成することが可能になる。
【００４１】
なお、光走査装置１００は、図１に示したように、第１及び第２の光束がｙ軸に対して角度をもって（基準面９に対して非垂直な方向から）偏向器５に入射する構成を採ることが望ましい。第１及び第２の光束がｙ軸に対して平行（基準面９に対して垂直）な方向から偏向器に５に入射する場合、時分割走査を行う際に軸外光束が偏向面で蹴られてしまい、印字領域の全てを走査できなくなる可能性が生じる。
【００４２】
以上、本実施形態に係る光走査装置１００は、小型かつ簡素な構成でありながら、カスケード走査方式を採用した際の２つの印字領域の境界における光束の入射位置のずれを抑制し、良好な画像を形成することができる。
【００４３】
次に、本実施形態に係る光走査装置１００の実施例について詳細に説明する。
【００４４】
［実施例１］
以下、本発明の実施例１に係る光走査装置１１０について説明する。本実施例に係る光走査装置１１０において、上述した実施形態に係る光走査装置１００と同等の構成については説明を省略する。
【００４５】
図３は本実施例に係る光走査装置１１０の要部概略図であり、図４は図３の一部を拡大したものである。光走査装置１１０は、光源１、カップリングレンズ（コリメータレンズ）２、絞り３、分離素子（光路分離素子）４１、シリンダレンズ（シリンドリカルレンズ）４２、反射素子（折り返しミラー）８、偏向器５、及び結像光学系６を備えている。なお、本実施例において、第１の光束が印字位置７１１に向かうときの偏向器５における偏向点は、回転軸５１からｘ軸方向に２．３５９ｍｍ離れている。
【００４６】
本実施例において、光源１から出射した光束は、カップリングレンズ２により収束度が変えられて平行光束に変換された後、絞り３により規制されることで光束幅が決定される。絞り３には２つの開口が設けられているため、共通の光源１から出射した光束に２つの開口を通過させることで、第１及び第２の光束を生成することができる。絞り３を通過した後、第１の光束は分離素子４１に入射し、第２の光束は分離素子４１を介さずに反射素子８に入射する。分離素子４１は、主走査断面内においては第１の光束の進行方向を変えるプリズムの役割を果たしており、これにより第１及び第２の光束の光路を分離することができる。
【００４７】
分離素子４１により偏向された第１の光束はそのまま偏向器５に入射し、反射素子８により反射された第２の光束はシリンダレンズ４２を介して偏向器５に入射する。分離素子４１の出射面及びシリンダレンズ４２の入射面は、副走査断面内において屈折力（曲率）を有するシリンドリカル面である。この各シリンドリカル面によって、第１及び第２の光束が副走査断面内で集光されることで、偏向器５の基準面９に対して両側の偏向面の夫々の近傍に線像が形成される。
【００４８】
このように、本実施例では、１つの光源から出射した光束より第１及び第２の光束を生成する構成を採っており、光源１、カップリングレンズ２、及び絞り３を第１及び第２の光束で共用しているため、各部材を複数設ける必要がない。これにより、部品点数を少なくして、装置全体の小型化を実現することができる。
【００４９】
なお、分離素子４１により第１及び第２の光束を分離することができるのであれば、必要に応じて第２の光束が分離素子４１を通過するように構成してもよい。その際、シリンダレンズ４２の代わりに、分離素子４１によって第２の光束を副走査断面内で集光させるようにしてもよい。また、分離素子４１をハーフミラーなどで構成し、分離された第１及び第２の光束の光路の夫々にシリンダレンズを設けてもよい。このとき、分離素子４１によって第１及び第２の光束を生成することができるため、絞り３の代わりに、第１及び第２の光束の光路の夫々に１つの開口が設けられた絞りを配置してもよい。
【００５０】
本実施例に係る偏向器５は、４つの偏向面を有する回転多面鏡（ポリゴンミラー）であり、不図示の駆動部（モータ）の駆動力により一定速度で回転しながら第１及び第２の光束を偏向することで、被走査面７の有効領域を主走査方向に走査する。なお、偏向器５としては、５つ以上の偏向面を有する回転多面鏡や、１又は２つの偏向面を有する揺動ミラー等を採用してもよい。
【００５１】
偏向器５により偏向された第１及び第２の光束の夫々は、結像光学系６が有する第１及び第２の結像光学系６１，６２によって、被走査面７の有効領域における第１及び第２の領域７１，７２に導光される。本実施例に係る第１及び第２の結像光学系６１，６２は、上述した実施形態とは異なり、互いに一体化した複合素子（複合レンズ）である。よって、本実施例では、第１及び第２の結像光学系６１，６２をプラスチックモールドレンズとして一体成形することができるため、上述した実施形態と比較して部品点数を削減し、装置全体の製造及び組み立ての工数を低減することが可能になる。
【００５２】
本実施例に係る光走査装置１１０の設計例を表１乃至５に示す。ただし、各表においては、光源１から第１の領域７１までの光路中の各光学部材を第１光学系とし、光源１から第２の領域７２までの光路中の各光学部材を第２光学系としている。また、表２，４における角度α１，α２の夫々は、偏向器５に入射するときの第１及び第２の光束とｘ軸とのなす角度を示している。
【００５３】
【表１】
2018031865.tif 000003
【００５４】
【表２】
2018031865.tif 000004
【００５５】
【表３】
2018031865.tif 000005
【００５６】
【表４】
2018031865.tif 000006
【００５７】
【表５】
2018031865.tif 000007
【００５８】
次に、本実施例に係る各光学面（レンズ面）の面形状について説明する。
【００５９】
本実施例に係るカップリングレンズ２、分離素子４１、シリンダレンズ４２、第１の結像光学系６１、及び第２の結像光学系６２の夫々の入射面及び出射面の面頂点を含む主走査断面内での形状（母線形状）は、以下の式で表される。ここでは、各光学面の面頂点と各光軸との交点を原点とし、光軸方向の軸をＸ軸、主走査断面内においてＸ軸と直交する軸をＹ軸、Ｘ軸及びＹ軸に直交する軸をＺ軸、としたローカル座標系ＸＹＺを定めている。
【００６０】
【数１】
2018031865.tif 000008
【００６１】
但し、Ｒは光軸上における主走査断面内での曲率半径（母線曲率半径）であり、Ｋ，Ｂ２，Ｂ４，Ｂ６，Ｂ８，Ｂ１０，Ｂ１２，Ｂ１４，Ｂ１６は主走査断面内での非球面係数である。なお、非球面係数Ｂ２〜Ｂ１６は、各光軸（Ｘ軸）の両側で（Ｙ軸方向におけるプラス側とマイナス側とで）互いに数値を異ならせてもよい。これにより、母線形状を光軸に対して主走査方向に非対称な形状とすることができる。本実施例に係る第１及び第２の結像光学系６１，６２の各光学面の主走査断面内での形状は、表３，５に示す通り１２次までの項を含む非球面形状となっている。
【００６２】
表３おける各係数について、添え字ｕはＹ軸方向におけるプラス側（光源１と同じ側）を示し、添字ｌはＹ軸方向におけるマイナス側（光源１とは反対側）を示している。添え字ｕ及びｌが付いていない係数は、両側で共通の係数である。
【００６３】
また、本実施例に係る第１及び第２の結像光学系６１，６２の入射面及び出射面の、主走査方向の各位置における副走査断面内での形状（子線形状）は、以下の式で表される。なお、子線形状は、主走査方向における各位置（各像高）での母線上の面法線を含む主走査断面に垂直な断面内での面形状と言い換えることができる。
【００６４】
【数２】
2018031865.tif 000009
【００６５】
なお、ｍｊ＿ｋは副走査断面内での非球面係数である。また、ｒ´は、主走査方向において光軸からＹだけ離れた位置における副走査断面内での曲率半径（子線曲率半径）を示しており、以下の式で表される。
【００６６】
【数３】
2018031865.tif 000010
【００６７】
但し、ｒは光軸上での子線曲率半径であり、Ｅ２，Ｅ４，Ｅ６，Ｅ８，Ｅ１０，Ｅ１２，Ｅ１４，Ｅ１６は子線変化係数である。子線変化係数Ｅ２〜Ｅ１６をＹ軸方向におけるプラス側とマイナス側とで互いに異なる数値とすることで、子線形状の非球面量を主走査方向において非対称に設定することができる。なお、上記式は偶数項のみを含んでいるが、必要に応じて奇数項を加えてもよい。
【００６８】
また、子線形状Ｓの式におけるＺの１次の項は、副走査断面内でのレンズ面のチルト量（子線チルト量）に寄与する項である。よって、Ｙ軸方向におけるプラス側での非球面係数ｍ０＿１ｕ〜ｍ１６＿１ｕとマイナス側での非球面係数ｍ０＿１ｌ〜ｍ１６＿１ｌとを互いに異なる数値とすることで、子線チルト量を主走査方向において非対称に変化させることができる。
【００６９】
本実施例に係る第１及び第２の結像光学系６１，６２は、主走査断面内において、偏向器５により偏向された光束が被走査面７を非等速で走査するように、すなわちｆθ特性（等速特性）を満たさないように構成されている。各結像光学系にｆθ特性を持たせるためには、主走査断面内での光学面の形状を、軸上像高と軸外像高とで大きく異ならせる必要がある。ここで、各結像光学系を偏向器５に近づけ過ぎると、主走査断面内における光学面の形状変化が急峻になり、コマ収差が増大してしまう。よって、各結像光学系の光学性能とｆθ特性とを両立するためには、各結像光学系を偏向器５からある程度離して配置する必要がある。
【００７０】
これに対して、本実施例では、被走査面７において光束が等速性を満たさないような走査特性を第１及び第２の結像光学系６１，６２に持たせている。これにより、各結像光学系の光学性能を保ちつつ、各結像光学系をより偏向器５に近接して配置することを可能にし、各結像光学系及び装置全体の更なる小径化を実現している。また、この構成により、各結像光学系の設計自由度を高めることができるという効果も得られる。
【００７１】
本実施例に係る各結像光学系の走査特性は、偏向器５による走査角度（偏向角度）をθ、走査角度θで偏向された光束の被走査面７での主走査方向の集光位置（像高）をＹ［ｍｍ］、軸上像高での結像係数をＫ［ｍｍ］、とするとき以下の式（４）で表される。
Ｙ＝Ｋ×θ＋Ｐ×θ３      ・・・（４）
【００７２】
集光位置Ｙは、絶対座標系ｘｙｚにおける位置ではなく、ローカル座標系ＸＹＺでの位置を示している。すなわち、第１の光束の集光位置Ｙは、第１の結像光学系６１の光軸６１０と被走査面７との交点７１１からの距離を示し、第２の光束の集光位置Ｙは、第２の結像光学系の光軸６２０と被走査面７との交点７１３からの距離を示す。
【００７３】
また、結像係数Ｋは、各結像光学系に平行光束が入射する場合の走査特性であるｆθ特性：Ｙ＝ｆθにおけるｆに相当する係数（Ｋθ係数）であり、ｆθ特性を平行光束以外の光束に対して拡張するための係数である。すなわち、結像係数Ｋは、各結像光学系に平行光束を含むあらゆる収束度を持つ光束が入射する場合に、集光位置Ｙと走査角度θとを比例関係にするための係数である。本実例においては、各結像光学系に平行光束が入射しているため、結像係数Ｋは各結像光学系の光軸上での焦点距離に等しくなる。
【００７４】
なお、式（４）におけるＰは、本実施例に係る第１及び第２の結像光学系６１，６２の走査特性を決定するための係数（走査特性係数）である。表１に示す通り、本実施例においてはＰ＝９である。例えば、Ｐ＝０のときは、式（４）はＹ＝Ｋθとなりｆθ特性に相当するが、Ｐ≠０のときは、式（４）は集光位置Ｙと走査角度θとが比例関係にならない走査特性となる。
【００７５】
ここで、式（４）を走査角度θで微分すると、以下の式（５）に示すように、被走査面７での光束の走査角度θに対する走査速度が得られる。
ｄＹ／ｄθ＝Ｋ＋３Ｐ×θ２      ・・・（５）
【００７６】
さらに、式（５）を軸上像高における速度ｄＹ（０）／ｄθ＝Ｋで除すると、以下の式（６）に示すようになる。
（ｄＹ／ｄθ）／Ｋ＝１＋３Ｐ×θ２／Ｋ      ・・・（６）
【００７７】
式（６）は、軸上像高に対する各軸外像高での等速性のずれ量、すなわち軸上像高での部分倍率に対する軸外像高での部分倍率のずれ量（部分倍率ずれ）を表している。本実施例に係る光走査装置１１０は部分倍率を有するため、Ｐ≠０の場合は、軸上像高と軸外像高とで光束の走査速度が異なることになる。つまり、軸外像高における走査位置（単位時間あたりの走査距離）は部分倍率ずれに応じて間延びしてしまうため、この部分倍率ずれを考慮せずに被走査面７を光走査した場合は、被走査面７に形成される像の劣化（印字性能の劣化）を招いてしまう。
【００７８】
そこで、本実施例においては、不図示の制御部により、Ｐ≠０の場合に部分倍率ずれに応じて光源１の発光の制御、具体的には光源１の変調タイミング（発光タイミング）及び変調時間（発光時間）の制御を行っている。これにより、被走査面７における走査位置及び走査時間を電気的に補正することができるため、部分倍率ずれ及び像の劣化を補正し、ｆθ特性を満たす場合と同様に良好な印字性能を得ることが可能になる。
【００７９】
以上、本実施例に係る光走査装置１１０は、小型かつ簡素な構成でありながら、カスケード走査方式を採用した際の２つの印字領域の境界における光束の入射位置のずれを抑制し、良好な画像を形成することができる。更に、本実施例では、１つの光源から出射した光束より第１及び第２の光束を生成する構成、かつ第１及び第２の結像光学系を一体化した構成を採ることで、従来の構成と比較して部品点数を削減し、装置全体の更なる小型化及び簡素化を実現することができる。
【００８０】
［実施例２］
以下、本発明の実施例２に係る光走査装置１２０について説明する。本実施例に係る光走査装置１２０において、上述した実施例１に係る光走査装置１１０と同等の構成については説明を省略する。
【００８１】
図５は本実施例に係る光走査装置１２０の要部概略図である。本実施例に係る光走査装置１２０は、第１及び第２の結像光学系６１，６２の夫々が複数の結像素子から成るという点で、実施例１に係る光走査装置１１０とは異なる。また、光走査装置１２０の各設計値も光走査装置１１０とは異なり、光走査装置１２０の走査画角は光走査装置１１０の走査画角よりも大きくなっている。
【００８２】
本実施例に係る光走査装置１２０の設計例を表６乃至１０に示す。
【００８３】
【表６】
2018031865.tif 000011
【００８４】
【表７】
2018031865.tif 000012
【００８５】
【表８】
2018031865.tif 000013
【００８６】
【表９】
2018031865.tif 000014
【００８７】
【表１０】
2018031865.tif 000015
【００８８】
本実施例に係る光走査装置１２０は、実施例１に係る光走査装置１１０よりも走査画角が大きい構成を採っているため、光軸方向における光路長をより短縮して小型化を実現することができる。このように走査画角が大きな構成においては、被走査面の位置ずれに起因する２つの印字領域の境界における光束の入射位置ずれが顕著になるため、上記条件式（１）を満足することにより得られる効果が特に大きくなる。
【００８９】
［実施例３］
以下、本発明の実施例３に係る光走査装置１３０について説明する。本実施例に係る光走査装置１３０において、上述した実施例１，２に係る光走査装置１１０，１２０と同等の構成については説明を省略する。
【００９０】
図６は本実施例に係る光走査装置１３０の要部概略図であり、図７は図６の一部を拡大したものである。本実施例に係る光走査装置１３０は、２つの光源と４つの結像光学系とを備えており、２つの被走査面を共通の偏向器５によりカスケード走査しているという点で、実施例２に係る光走査装置１２０とは異なる。光走査装置１３０は、第１及び第２の光源１１，１２、第１及び第２の絞り（不図示）、第１及び第２のカップリングレンズ２１，２２、第１及び第２の分離素子４３，４４、偏向器５、第１乃至第４の結像光学系６１，６２，６３，６４、を備えている。
【００９１】
本実施例に係る光走査装置１３０の設計例を表１１乃至１７に示す。ただし、各表においては、第１の光源１１から第１の領域７１までの光路中の各光学部材を第１光学系とし、第２の光源１２から第２の領域７２までの光路中の各光学部材を第２光学系としている。また、第１の光源１１から第３の領域７３までの光路中の各光学部材を第３光学系とし、第２の光源１２から第４の領域７４までの光路中の各光学部材を第４光学系としている。
【００９２】
【表１１】
2018031865.tif 000016
【００９３】
【表１２】
2018031865.tif 000017
【００９４】
【表１３】
2018031865.tif 000018
【００９５】
【表１４】
2018031865.tif 000019
【００９６】
【表１５】
2018031865.tif 000020
【００９７】
【表１６】
2018031865.tif 000021
【００９８】
【表１７】
2018031865.tif 000022
【００９９】
なお、第１光学系の各光学面の形状と第３光学系の各光学面の形状とは、ｙ軸に対して互いに回転対称である。すなわち、第１光学系のローカル座標系ＸＹＺとｙ軸に対して回転対称な座標系を第３光学系のローカル座標系とすれば、第３光学系の各非球面係数の値は第１光学系と同じになる。同様に、第２光学系の各光学面の形状と第４光学系の各光学面の形状とは、ｙ軸に対して互いに回転対称である。すなわち、第２光学系のローカル座標系ＸＹＺとｙ軸に対して回転対称な座標系を第４光学系のローカル座標系とすれば、第４光学系の各非球面係数の値は第２光学系と同じになる。
【０１００】
本実施例において、第１の光源１１から出射した光束は、第１のカップリングレンズ２１により平行光束に変換された後、２つの開口が設けられた第１の絞りにより第１及び第３の光束に分割され、第１の分離素子４３に入射する。図７に示すように、第１の分離素子４３は、主走査断面内において第１及び第３の光束の夫々を偏向する光学素子４３１及び光学素子４３３で構成されており、第１及び第３の光束の夫々を互いに異なる入射角で偏向器５に入射させている。
【０１０１】
一方、第２の光源１２から出射した光束は、第２のカップリングレンズ２２により平行光束に変換された後、２つの開口が設けられた第２の絞りにより第２及び第４の光束に分割され、第２の分離素子４４に入射する。第２の分離素子４４は、主走査断面内において第２及び第４の光束の夫々を偏向する光学素子４４２及び光学素子４４４で構成されており、第２及び第４の光束の夫々を互いに異なる入射角で偏向器５に入射させている。
【０１０２】
なお、第１及び第２の絞りの夫々において、２つの開口のＺ方向の位置は互いに異なっている。そして、第１及び第２の分離素子４３，４４は、偏向点を含むｘｙ平面に対して異なる側から２本の光束を偏向器５に入射させる副走査斜入射系となっている。また、第１及び第２の分離素子４３，４４の夫々の出射面は、副走査断面内において屈折力を有するシリンドリカル面であり、各光束を副走査断面内で集光することで偏向器５の偏向面の近傍に線像を形成する。
【０１０３】
図６に示すように、第１及び第３光束は基準面９に対してｙ軸方向におけるプラス側から偏向器５に入射し、第２及び第４光束は基準面９に対してｙ軸方向におけるマイナス側から偏向器５に入射する。すなわち、第１の被走査面７０１を走査する第１及び第２の光束は基準面９に対して互いに異なる方向から偏向器５に入射し、第２の被走査面７０２を走査する第３及び第４光束は基準面９に対して互いに異なる方向から偏向器５に入射する。
【０１０４】
第１及び第２の光束の夫々は、偏向器５により偏向された後、基準面９に対して互いに異なる側に配置される第１及び第２の結像光学系６１，６２に入射する。第１の結像光学系６１は、２つの結像素子６１１，６１２で構成され、第１の光束を第１の被走査面７０１における第１の領域７１（７１０〜７１２）に導光する。第２の結像光学系６２は、２つの結像素子６２１，６２２で構成され、第２の光束を第１の被走査面７０１における第２の領域７２（７１２〜７１４）に導光する。
【０１０５】
また、第３及び第４の光束の夫々は、偏向器５により偏向された後、基準面９に対して互いに異なる側に配置される第３及び第４の結像光学系６３，６４に入射する。第３の結像光学系６３は、２つの結像素子６３１，６３２で構成され、第３の光束を第２の被走査面７０２における第３の領域７３（７２０〜７２２）に導光する。第４の結像光学系６４は、２つの結像素子６４１，６４２で構成され、第４の光束を第２の被走査面７０２における第４の領域７４（７２２〜７２４）に導光する。
【０１０６】
このように、本実施例に係る光走査装置１３０は、光源から出射した複数の光束を１つの偏向器により偏向して、２つの被走査面を互いに異なるタイミングで走査する構成を採っている。これにより、部品点数の増加を抑制しつつ、装置全体を小型化することができる。また、光走査装置１３０は、第１及び第２の光束によって第１の被走査面における互いに異なる印字領域を走査し、第３及び第４の光束によって第２の被走査面における互いに異なる印字領域を走査する、カスケード走査方式を採用している。これにより、偏向器５から各被走査面に至る光路長を短縮することができる。
【０１０７】
そして、光走査装置１３０では、第１乃至第４の領域７１，７２，７３，７４の夫々において、光軸に対して基準面９の側の印字領域の幅が、基準面９とは反対側の印字領域の幅よりも小さく設定されている。この構成によって、各被走査面の位置ずれに起因する各印字領域の境界における光束の入射位置ずれを抑制することが可能になる。
【０１０８】
なお、本実施例において、結像素子６１１及び結像素子６２１、結像素子６３１及び結像素子６４１、結像素子６１２及び結像素子６２２、結像素子６３２及び結像素子６４２、の夫々は、互いに一体化した複合素子である。また、第１及び第２の絞り、第１及び第２のカップリングレンズ２１，２２、第１及び第２の分離素子４３，４４の夫々を、複数の光束で共有している。この構成により、従来の構成と比較して部品点数を削減し、装置全体の更なる小型化及び簡素化を実現することができる。
【０１０９】
ここで、図７に示すように、第１の光源１１から出射する第１及び第３光束は、偏向器５における共通の偏向面に対して互いに異なる入射角で入射している。具体的に、偏向器５に入射するときの第１の光束とｘ軸とのなす角度はα１＝１０７．２度、偏向器５に入射するときの第３の光束とｘ軸とのなす角度はα３＝７２．８度であるため、第１及び第３光束は３４．４度の位相差をもって偏向される。このため、第１の光束によって第１の被走査面７０１を走査する際に、あるタイミングで第３の光束が第１の結像光学系６１に入射してゴースト光束になってしまう可能性がある。
【０１１０】
本実施例では、上述したように、第１及び第３の光束が偏向点を含むｘｙ平面に対して互いに異なる側から偏向器５に入射する構成を採っている。これにより、偏向器５と第１の被走査面７０１との間に遮光部材を設けることで、ゴースト光束となる第３の光束を遮光することができる。同様に、他の光束がゴースト光束になり得る場合にも、各光路に遮光部材を設ければよい。なお、遮光部材を設ける代わりに、各光束の走査画角及び偏向器への入射角を適切に設定することで、ゴースト光束が発生しないようにしてもよい。
【０１１１】
［画像形成装置］
図８は、本発明の実施形態に係る画像形成装置１０４の要部概略図（副走査断面図）である。画像形成装置１０４は、上述した実施形態に係る光走査装置（光走査ユニット）１００を備えている。
【０１１２】
図８に示すように、画像形成装置１０４には、パーソナルコンピュータ等の外部機器１１７から出力されたコードデータＤｃが入力される。このコードデータＤｃは、装置内のプリンタコントローラ１１１によって、画像データ（ドットデータ）Ｄｉに変換され、光走査ユニット１００に入力される。そして、この光走査ユニット１００からは、画像信号Ｄｉに応じて変調された光束１０３が出射され、この光束１０３によって感光ドラム１０１の感光面（被走査面）が主走査方向に走査される。なお、プリンタコントローラ１１１は、前述したデータの変換だけでなく、後述するモータ１０５などの画像形成装置内の各部の制御を行う。
【０１１３】
静電潜像担持体（感光体）としての感光ドラム１０１は、モータ１０５によって時計廻りに回転させられる。そして、この回転に伴って、感光ドラム１０１の感光面が光束１０３に対して副走査方向に移動する。感光ドラム１０１の上方には、感光面を一様に帯電させる帯電ローラ１０２が感光面に当接するように設けられている。そして、帯電ローラ１０２によって帯電した感光面上に、光走査ユニット１００からの光束１０３が照射されるように構成されている。
【０１１４】
上述したように、光束１０３は画像信号Ｄｉに基づいて変調されており、この光束１０３を照射することによって感光面上に静電潜像が形成される。この静電潜像は、光束１０３の照射位置よりもさらに感光ドラム１０１の回転方向の下流側で感光面に当接するように配設された現像器１０７によって、トナー像として現像される。
【０１１５】
現像器１０７によって現像されたトナー像は、感光ドラム１０１の下方で、感光ドラム１０１と対向するように配設された転写ローラ（転写器）１０８によって、被転写材としての用紙１１２上に転写される。用紙１１２は感光ドラム１０１の前方（図８において右側）の用紙カセット１０９内に収納されているが、手差しでも給紙が可能である。用紙カセット１０９端部には、給紙ローラ１０６が配設されており、これにより用紙カセット１０９内の用紙１１２が搬送路へ送り込まれる。
【０１１６】
未定着トナー像が転写された用紙１１２は、さらに感光ドラム１０１後方（図８において左側）の定着器へと搬送される。定着器は、内部に定着ヒータ（不図示）を有する定着ローラ１１３と、この定着ローラ１１３に圧接するように配設された加圧ローラ１１４とで構成されている。この定着器は、転写ローラ１０８から搬送されてきた用紙１１２を定着ローラ１１３と加圧ローラ１１４との圧接部にて加圧しながら加熱することにより、用紙１１２上の未定着トナー像を定着させる。さらに、定着ローラ１１３の後方には排紙ローラ１１５が配設されており、トナー像が定着された用紙１１２は画像形成装置１０４の外に排出される。
【０１１７】
なお、光走査ユニット１００、感光ドラム１０１、及び現像器１０７の夫々を複数設けることにより、画像形成装置１０４をカラー画像形成装置としてもよい。例えば、上述した実施例１又は２に係る光走査装置を４つ設けるか、或いは上述した実施例３に係る光走査装置を２つ設けることにより、並行して４つの感光ドラムに画像情報を記録するカラー画像形成装置を実現することができる。また、例えばＣＣＤセンサやＣＭＯＳセンサ等のラインセンサを備えたカラー画像読取装置を、外部機器１１７として画像形成装置１０４に接続することにより、カラーデジタル複写機を構成してもよい。
【０１１８】
［変形例］
以上、本発明の好ましい実施形態及び実施例について説明したが、本発明はこれらの実施形態及び実施例に限定されず、その要旨の範囲内で種々の組合せ、変形及び変更が可能である。
【０１１９】
例えば、各結像光学系を構成する結像素子の数は、上述した各実施例におけるものに限らず、適宜選択し得るものである。また、各実施例においては、光源が１つの発光点のみを有するシングルビームレーザであるとして説明したが、光源として複数の発光点を有するモノリシックマルチビームレーザを採用してもよい。なお、各実施例では、簡単のために、光源の発光タイミングを同期検知する同期検知系についての説明は省略したが、既知の同期検知系を設けることで光源の発光タイミングを制御するように構成してもよい。
【符号の説明】
【０１２０】
５  偏向器
７  第１の被走査面
６１  第１の結像光学系
６２  第２の結像光学系
７１  第１の領域
７２  第２の領域
６１０  第１の結像光学系の光軸
６２０  第２の結像光学系の光軸
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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