(57)【要約】      （修正有）【課題】シート状マスク材の蛇行を補正できる機構を備えるマスク材走行ユニットの提供。【解決手段】シート状基材のＳｗ走行方向をＸ軸方向、シート状基材の幅方向をＹ軸方向、シート状基材とシート状マスク材Ｓｍとの対面方向をＺ軸方向、シート状基材からシート状マスク材に向かう方向をＺ軸方向下方とし、シート状基材の部分のＺ軸方向下方に配置され、所定位置を回転中心として下枠部に対して駆動手段を取り付けた相対回転自在な首振り手段７を有する支持体Ｍｓを備え、支持体の上部にＸ軸方向に間隔を存して設けられてシート状基材に対してその下側に位置するシート状マスク材の部分を平行に走行させるＸ軸方向前後一対のガイド手段８ａ，８ｂと、支持体の下部に設けられてＸ軸方向に間隔を存して設けられ所定の張力を加えつつシート状マスク材をシート状基材に同期させ走行させるＸ軸方向前後一対の駆動手段８ｃ，８ｄを備えるマスク材走行ユニットＭｕ。【選択図】図１
2018031066.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方向に沿って走行されるシート状の基材の片面に対面させてシート状のマスク材を走行させるマスク材走行ユニットであって、
シート状の基材の走行方向をＸ軸方向、シート状の基材の幅方向をＹ軸方向、シート状の基材とシート状のマスク材との対面方向をＺ軸方向、シート状の基材からシート状のマスク材に向かう方向をＺ軸方向下方とし、
シート状の基材の部分のＺ軸方向下方に配置される支持体と、
支持体の上部にＸ軸方向に間隔を存して設けられてシート状の基材の部分に対してその下側に位置するシート状のマスク材の部分を平行に走行させるＸ軸方向前後一対のガイド手段と、
支持体の下部に設けられてＸ軸方向に間隔を存して設けられて所定の張力を加えつつシート状のマスク材をシート状の基材に同期させて走行させるＸ軸方向前後一対の駆動手段とを備え、
前記支持体はその所定位置を回転中心として下枠部に対して相対回転自在な首振り手段を備え、首振り手段に駆動手段を取り付けたことを特徴とするマスク材走行ユニット。
【請求項２】
前記首振り手段が支持体に設けた軸受で支承される回転軸とこの回転軸を介して吊設される回転台とを備えることを特徴とする請求項１記載のマスク材走行ユニット。
【請求項３】
前記一対の駆動手段の一方が母線方向をＹ軸方向に一致させて配置されるローラであり、ローラの回転軸の両端部を夫々独立してローラが回転台から離間する方向に付勢する付勢手段が設けられることを特徴とする請求項１または請求項２記載のマスク材走行ユニット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マスク材走行ユニットに関し、より詳しくは、上部空間を一方向に沿ってシート状の基材の部分が走行される真空チャンバ内に配置され、シート状の基材の片面に対面させてシート状のマスク材を走行させてマスク越しに基材の片面に対して所定処理を連続して施すためのものに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、真空チャンバ内を所定速度でシート状の基材を走行させながら基材の片面に連続して成膜処理などの所定処理を施す真空処理処置が知られている。そして、シート状の基材に対して所定処理を施すのに際しては、シート状のマスク材を走行させてシート状の基材の部分に対する処理範囲を制限しながら所定処理を施す場合がある。
【０００３】
ここで、シート状の基材の部分が走行される一方向をＸ軸方向、シート状の基材の幅方向をＹ軸方向、上下方向をＺ軸方向として、シート状のマスク材を走行させるマスク材走行ユニットとしては、Ｘ軸方向及びＺ軸方向に間隔を存して配置されるＹ軸方向に長手の４本のローラと、各ローラを支持する支持体とを備え、各ローラに、無端状に形成されたシート状のマスク材を巻き掛けて構成したものが例えば特許文献１で知られている。このものでは、４本のローラで画成される内部空間にスパッタリングカソードを配置し、真空チャンバ内でシート状の基材の部分を所定速度で走行させ、これに同期させて少なくとも１本のローラを駆動ローラとしたマスク材走行ユニットによりシート状のマスク材を走行させ、マスク越しに基材の片面にスパッタリングにより生じたスパッタ粒子（成膜材料）を供給してシート状の基材の片面に所定のパターンで成膜処理される。
【０００４】
ところで、各ローラにシート状のマスク材を巻き掛けて走行させる場合、例えば、各ローラの組付不良等に起因して、各ローラを支持する支持体に対してシート状のマスク材が蛇行したり（つまり、ローラの母線に対して直交する線に対して所定角度を持ってシート状のマスク材が走行される）、または、所定処理が施されるシート状の基材の部分に対してシート状のマスク材が蛇行したりする（つまり、シート状の基材の部分に対して所定角度を持ってシート状のマスク材が走行される）場合がある。また、例えば、シート状の基材への成膜時、シート状のマスク材にもスパッタ粒子が付着、堆積し、これに起因して上記同様にシート状の基材の部分に対してシート状のマスク材が蛇行する場合もある。このようにシート状の基材の部分に対してシート状のマスク材が蛇行していると、所定のパターンを持って高精度で成膜できないという問題を招来する。このことから、シート状のマスク材の蛇行を補正できるようにマスク材走行ユニットを構成することが要請されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−２２５９３２号公報（例えば、図４参照）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、以上の点に鑑み、シート状のマスク材の蛇行を補正できる機構を備えるマスク材走行ユニットを提供することをその課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、一方向に沿って走行されるシート状の基材の片面に対面させてシート状のマスク材を走行させる本発明のマスク材走行ユニットは、シート状の基材の走行方向をＸ軸方向、シート状の基材の幅方向をＹ軸方向、シート状の基材とシート状のマスク材との対面方向をＺ軸方向、シート状の基材からシート状のマスク材に向かう方向をＺ軸方向下方とし、シート状の基材の部分のＺ軸方向下方に配置される支持体と、支持体の上部にＸ軸方向に間隔を存して設けられてシート状の基材の部分に対してその下側に位置するシート状のマスク材の部分を平行に走行させるＸ軸方向前後一対のガイド手段と、支持体の下部に設けられてＸ軸方向に間隔を存して設けられて所定の張力を加えつつシート状のマスク材をシート状の基材に同期させて走行させるＸ軸方向前後一対の駆動手段とを備え、前記支持体はその所定位置を回転中心として下枠部に対して相対回転自在な首振り手段を備え、首振り手段に駆動手段を取り付けたことを特徴とする。
【０００８】
本発明によれば、支持体に対して首振り手段を相対回転させれば、支持体に固定のガイド手段に対して回転中心回りに一対の駆動手段が相対移動することで、シート状の基材または支持体に対するシート状のマスク材の蛇行を補正することが実現できる。この場合、例えば、前記首振り手段が支持体に設けた軸受で支承される回転軸とこの回転軸を介して吊設される回転台とを備える構成を採用すればよい。
【０００９】
ところで、シート状のマスク材として所定材質のシート状の金属箔が一般に用いられ、所定の張力を加えた状態でセットされる。このため、上記のように、回転中心回りに一対のガイド手段の間を走行されるシート状のマスク材の部分を移動させてシート状のマスク材の蛇行を補正すると、シート状のマスク材に幅方向の張力差が生じてしまう。このような状態では、所定のパターンを持って高精度で所定処理ができない場合がある。そこで、本発明においては、前記一対の駆動手段の一方が母線方向をＹ軸方向に一致させて配置されるローラであり、ローラの回転軸の両端部を夫々独立してローラが回転台から離間する方向に付勢する付勢手段を設けた構成を採用することが好ましい。これによれば、付勢手段の付勢力を適宜調整すれば、シート状のマスク材の蛇行補正により生じた幅方向における張力差を可及的に小さくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の実施形態の真空処理装置を一部を省略して示す正面側から視た斜視図。
【図２】一部を断面とした真空処理装置の正面図。
【図３】マスク材走行ユニットの平面図。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、図面を参照して、処理ユニットを成膜ユニットとし、シート状の基材Ｓｗを所定速度で走行させながらシート状のマスク材Ｓｍ越しに所定の処理としての成膜処理を行う場合を例に本発明の真空処理装置の実施形態を説明する。以下において、成膜が行われるメインチャンバ（真空チャンバ）１ａ内でシート状の基材Ｓｗの部分Ｓｗ１が一方向に移送される方向をＸ軸方向（図２中の左右方向）、シート状の基材Ｓｗの幅方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向を含む平面に対し直交する方向をＺ軸方向（図１，２中、上下方向と同じ）とし、また、Ｘ軸方向及びＺ軸方向における上、下、左、右、前、後といった方向を示す用語は図２を基準とする。
【００１２】
図１〜図３を参照して、ＰＭは、本発明の実施形態の真空処理装置である。真空処理装置ＰＭは、成膜処理が行われる略直方体形状のメインチャンバ１ａを備える。メインチャンバ１ａのＸ軸方向の両側面には、上流側の補助チャンバ１ｂと、下流側の補助チャンバ１ｃとが夫々連設されている。メインチャンバ１ａの前面には開閉扉１１が設けられている。なお、特に図示して説明しないが、各補助チャンバ１ｂ，１ｃのいずれかの側面にも開閉扉が夫々設けられ、また、各チャンバ１ａ，１ｂ，１ｃには真空ポンプが夫々接続され、所定圧力に真空引きできるようになっている。
【００１３】
上流側の補助チャンバ１ｂには、シート状の基材Ｓｗを巻回した状態で保持し、モータＤＭ１で回転駆動される繰出ローラ２１と、繰出ローラ２１から繰り出されたシート状の基材Ｓｗが巻き掛けられてメインチャンバ１ａの上部空間へと案内する上流側ガイドローラ２２及び下流側ガイドローラ２３とが設けられている。また、上流側の補助チャンバ１ｂには、上流側ガイドローラ２２と下流側ガイドローラ２３との間に位置してＺ軸方向に移動自在なダンサーローラ２４が設けられている。ダンサーローラ２４の回転軸２４ａには、この回転軸２４ａを上方に向けて付勢するばね２４ｂが付設され、メインチャンバ１ａ内を挿通するシート状の基材Ｓｗの張力を所定値に保持するようにしている。なお、シート状の基材Ｓｗの張力を所定値に保持する構成はこれに限定されるものではなく、公知のアクチュエータによりシート状の基材Ｓｗの張力を可変としてもよい。また、下流側ガイドローラ２３には、その回転速度を検出する速度検出手段としてのセンサ２５が付設され、回転速度に基づいてメインチャンバ１ａへと送られるシート状の基材Ｓｗの送り速度を検出できるようにしている。
【００１４】
下流側の補助チャンバ１ｃには、メインチャンバ１ａを通して成膜処理された処理済みのシート状の基材Ｓｗを巻き取って回収する、モータＤＭ２で回転駆動される巻取ローラ３１と、メインチャンバ１ａから巻取ローラ３１へとシート状の基材Ｓｗを案内するガイドローラ３２とが設けられている。そして、上流側の補助チャンバ１ｂ内の下流側ガイドローラ２３と下流側の補助チャンバ１ｃ内のガイドローラ３２とにより、シート状の基材Ｓｗの部分Ｓｗ１がメインチャンバ１ａの上部空間をＸ軸方向に水平に移送され、その下面が成膜面となる。
【００１５】
メインチャンバ１ａ内には、シート状の基材Ｓｗの部分Ｓｗ１に対して成膜処理を施す成膜ユニット４と、シート状の基材Ｓｗの部分Ｓｗ１に対する処理範囲を制限するシート状のマスク材Ｓｍを走行するマスク材走行ユニットＭｕと、シート状の基材Ｓｗを冷却する冷却ユニット５とが設けられている。成膜ユニット４は、シート状の基材Ｓｗに成膜しようする薄膜の組成に応じて選択させる成膜材料（図示せず）が収納でき、この成膜材料を抵抗加熱により蒸発させる抵抗ボード４１と、抵抗ボード４１が格納され、上面に蒸発した成膜材料の通過を許容する開口を有するボックス４２とを備え、メインチャンバ１ａのＹ軸方向の側壁面で支持されて後述の枠組みの内部空間内に配置される。この場合、ボックス４２をメインチャンバ１ａに対して出没自在に構成し、成膜材料の補充やメンテナンスを容易にできるようにしてもよい。冷却ユニット５は、メインチャンバ１ａの上壁内側に吊設され、シート状の基材Ｓｗの部分Ｓｗ１の上面に間隔を存して対向配置される矩形の輪郭を持つ冷却パネル５１と、冷却パネル５１に冷媒を供給する冷媒供給源（図示せず）とを備え、一方向に沿って走行されるシート状の基材Ｓｗの部分Ｓｗ１を所定長さの範囲に亘って冷却できるようになっている。
【００１６】
マスク材走行ユニットＭｕは、シート状の基材Ｓｗの部分Ｓｗ１に対する処理範囲を制限するシート状のマスク材Ｓｍを走行するためのものであり、支持体Ｍｓを有する。なお、本実施形態では、シート状のマスク材Ｓｍとしては、所定材質のシート状の金属箔の両自由端を接合して無端状に形成し、シート状の基材Ｓｗに成膜しようとするパターンに応じて厚み方向に貫通する孔またはスリットがマスクパターンとして開設されたものが用いられる。
【００１７】
マスク材走行ユニットＭｕの支持体Ｍｓは、成膜ユニット４を囲う内部空間６０が画成されるように複数本の板状の枠材を略直方体の輪郭を持つように組み付けた枠組み６とこの枠組み６に回転自在に吊設される回転台７とを備える。枠組み６の上枠部６ａには、Ｙ軸方向前後で夫々対を成すように４本の上支持アーム６１ａ，６１ｂ，６２ａ，６２ｂがＸ軸方向左上方及び右上方に向けて夫々突設されている。夫々対を成す上支持アーム６１ａ，６１ｂと６２ａ，６２ｂの間には、Ｚ軸方向の高さ位置を互いに一致させかつ母線方向をＹ軸方向に夫々一致させて、シート状のマスク材Ｓｍが巻き掛けられる第１及び第２の各ローラ８ａ，８ｂが夫々軸架されている。また、枠組み６の下枠部６ｂの内側には枠板６３が組み付けられ、枠板６３の中央には軸受６４が設けられている。そして、軸受６４で回転台７の中心に立設した所定長さの回転軸７１が支承されて回転台７が枠組み６に吊設される。
【００１８】
回転台７は矩形の輪郭を持ち、そのＸ軸方向の長さが、枠組み６の下枠部６ｂからＸ軸方向両側に夫々突出するように定寸され、Ｙ軸方向の長さが、枠組み６の下枠部６ｂからＹ軸方向両側に夫々突出しないように定寸されている。また、回転台７には、Ｙ軸方向前後で夫々対を成す４本の下支持アーム７２ａ，７２ｂ，７３ａ，７３ｂがＸ軸方向左下方及び右下方に向けて夫々突設されている。各対の下支持アーム７２ａ，７２ｂと７３ａ，７３ｂの間には、Ｚ軸方向の高さ位置を互いに一致させかつ母線方向をＹ軸方向に夫々一致させて、シート状のマスク材Ｓｍが巻き掛けられる第３及び第４の各ローラ８ｃ，８ｄが夫々軸架されている。
【００１９】
Ｘ軸方向右側（シート状の基材の移送方向下流側）に位置する第４のローラ８ｄの回転軸８１は、回転台７に取り付けたモータＤＭ３にベルトＤＶを介して連結され、所定の回転数で回転駆動されるようになっている。また、Ｘ軸方向左側に位置する第３のローラ８ｃが軸架される一対の下支持アーム７２ａ，７２ｂは、旋回機構Ｐｍを介在させて回転台７に夫々取り付けられ、下支持アーム５２ｄの取付箇所としての旋回機構Ｐｍを支点にして、枠組み６に対して接離方向（Ｘ軸−Ｚ軸方向）に旋回自在となっている。即ち、各ローラ８ａ〜８ｄの周囲にシート状のマスク材Ｓｍを巻き掛けたときに、枠組み６に対して離間方向に旋回させてシート状のマスク材Ｓｍに張力を加える加張位置と、枠組み６に対して近接方向に旋回してシート状のマスク材Ｓｍに全く張力が加わらない退避位置との間で一対の下支持アーム７２ａ，７２ｂが同期して旋回され、加張位置及び退避位置で夫々保持されるようにしている。この場合、旋回機構Ｐｍに、例えば、枠組み６に対する旋回角を段階的に変化できる公知の機構が付設され、各ローラ８ａ〜８ｄの周囲にシート状のマスク材Ｓｍを巻き掛けたときにシート状のマスク材Ｓｍに加えるべき張力に応じて加張位置を適宜調整できるようにしている。旋回機構Ｐｍとしては、油圧やギアを利用した公知のものが利用できる。
【００２０】
また、回転台７の上面には、枠組み６に取り付けた駆動源ＤＭ４の駆動軸ＤＭｓが連結され、駆動源ＤＭ４により、軸受６４で支承された回転軸７１を回転中心としてＸ軸−Ｙ軸方向に回転自在となっている（図３参照）。この場合、駆動源ＤＭ４としては、例えばモータと送りねじ機構とを備える公知のものが利用できる。更に、回転台７には２個の付勢機構Ｂｍが取り付けられている。各付勢機構Ｂｍは、Ｘ軸方向左側に位置する第３のローラ８ｃの回転軸８１の両端に近接配置され、Ｘ軸方向で回転台７から離間する方向に夫々独立して回転軸８１の両端に対して所定の付勢力を作用できるようにしている。付勢機構Ｂｍとしては、例えばコイルばねや板ばねのようにその付勢力が外力で受動的に変化するもの、または、例えばエアー式または油圧式のアクチュエータや直動モータのようにその付勢力を能動的に変化できるものを用いることができる。例えば、付勢機構Ｂｍとしての同一形態のコイルばねを第３のローラ８ｃの回転軸８１の両端に配置した場合、回転軸７１回りに所定の回転角で回転台７が回転されると、その回転角に応じて両コイルばねによって回転軸８１の両端に作用する付勢力が夫々変化してシート状のマスク材Ｓｍの幅方向での張力差を可及的小さくすることができる。また、シート状のマスク材Ｓｍが、例えば加熱されることで熱膨張したような場合でも、付勢機構Ｂｍによりシート状のマスク材Ｓｍに所定の張力が常時加えられる。
【００２１】
シート状のマスク材Ｓｍをセットする場合、一対の下支持アーム７２ａ，７２ｂを退避位置に旋回させた状態で、第１、第２及び第４の各ローラ８ａ、８ｂ、８ｄの周囲にシート状のマスク材Ｓｍを巻き掛ける。次に、図２に示すように、一対の下支持アーム７２ａ，７２ｂを、シート状のマスク材Ｓｍに加えようとする張力に応じた加張位置に旋回させる。これにより、第３のローラ８ｃの周囲にもシート状のマスク材Ｓｍが巻き掛けられる。そして、付勢機構Ｂｍにより回転軸８１の両端に付勢力を作用させてシート状のマスク材Ｓｍに加わる張力を、その幅方向で張力差が小さくなるように調整してシート状のマスク材Ｓｍのセットが完了する。この場合、第３、第４の各ローラ８ｃ，８ｄに位置するシート状のマスク材の部分は、回転台７から間隔を置いて走行することになる。
【００２２】
上記のようにシート状のマスク材Ｓｍが第１〜第４の各ローラ８ａ〜８ｄの周囲に巻き掛けられた（セットされた）状態で、モータＤＭ３により第４のローラ８ｄが回転駆動されると、所定速度でシート状のマスク材Ｓｍが走行される。この場合、センサ２５での検知値に応じたシート状の基材Ｓｗの送り速度から、モータＤＭ３の回転速度を算出し、シート状の基材Ｓｗの送り速度がシート状のマスク材Ｓｍの送り速度と同等になるように制御される。本実施形態では、第１及び第２の各ローラ８ａ，８ｂが、シート状の基材Ｓｗの部分Ｓｗ１に対してＺ軸方向に間隔をおいてシート状のマスク材Ｓｍの部分Ｓｍ１を平行に走行させるガイド手段を構成し、第４のローラ８ｄがシート状のマスク材Ｓｍをシート状の基材Ｓｗに同期させて走行させる駆動手段を構成し、第３のローラ８ｃによってシート状のマスク材Ｓｍに所定の張力が加えられる。
【００２３】
また、メインチャンバ１ａ内には、支持体Ｍｕが設置されてこの支持体ＭｕのＹ軸方向への移動及び、支持体Ｍｕのθｚ方向への回転を行い得る公知の構造を持つＹ−θｚステージ９が設けられている。本実施形態では、Ｙ−θｚステージ９の上面がメインチャンバ１ａに対して支持体Ｍｓが設置される部分を構成するようにしている。Ｙ−θｚステージ９には、特に図示して説明しないが、上下動自在な直動アクチュエータが付設され、支持体ＭｕをＹ−θｚステージ毎上下動できるようにしている。
【００２４】
更に、Ｙ−θｚステージ９の上面にはブラケット９１が立設され、ブラケット９１には、各ローラ８ａ〜８ｄの周囲に巻き掛けられたシート状のマスク材Ｓｍが支持体Ｍｓに対して蛇行している否かを検出するセンサ９２が設けられている。センサ９２としては、例えば、光学式のものが用いられ、シート状のマスク材Ｓｍを走行させたときにその幅方向の端部を連続して検知し、支持体Ｍｓに対する幅方向（Ｙ軸方向）の偏差が算出される。また、メインチャンバ１ａの上壁には、Ｙ軸方向に所定間隔を存して２個の覗き窓（図示せず）が設けられ、覗き窓の上方にはＣＣＤカメラ等の撮像手段Ｉｓ１，Ｉｓ２が配置され、シート状の基材Ｓｗとシート状のマスク材ＳｍとのＹ軸方向両端部を撮像できるようにしている。以下に、シート状の基材Ｓｗとシート状のマスク材Ｓｍとを、シート状の基材Ｓｗとシート状のマスク材Ｓｍとの幅方向（Ｙ軸方向）の両端に、同一Ｘ軸上に位置させてアライメントマーク（図示せず）がＹ軸方向に所定間隔（例えば、５〜１０ｍｍの範囲）で夫々列設されているものとして、シート状の基材Ｓｗの部分Ｓｗ１に対するシート状のマスク材Ｓｍの部分Ｓｗ１の蛇行を補正する場合の一例を説明する。
【００２５】
上述のようにして各ローラ８ａ〜８ｄにシート状のマスク材Ｓｍを巻き掛けて走行させた状態で、撮像手段Ｉｓ１，Ｉｓ２によりアライメントマークを撮像し、シート状の基材Ｓｗの部分Ｓｗ１に対するシート状のマスク材Ｓｍの部分Ｓｍ１のＸ軸方向の相対変位量ΔＸと、シート状の基材Ｓｗの部分Ｓｗ１に対するシート状のマスク材Ｓｍの部分Ｓｍ１のＹ軸方向の相対変位量ΔＹまたはシート状の基材Ｓｗの走行方向とシート状のマスク材Ｓｍの走行方向とのなす角度Δθｚとを検出する。そして、Ｙ−θｚステージ９を適宜移動させて補正する（所謂粗動による蛇行補正）。具体的には、例えば、シート状の基材Ｓｗ１の部分Ｓｗ１に対してシート状のマスク材Ｓｍの部分Ｓｍ１がＹ軸方向一方に変位している場合、撮像手段Ｉｓ１，Ｉｓ２で撮像した画像を公知の画像解析手段で解析して変位量ΔＹを算出し、これに応じてＹ−θｚステージ９をＹ軸方向一方に移動させる。他方、シート状の基材Ｓｗの走行方向とシート状のマスク材Ｓｍの走行方向とのなす角度（Ｘ−Ｙ平面におけるシート状の基材Ｓｗに対するシート状のマスク材Ｓｍの傾き）がずれている場合、当該角度Δθｚを算出し、これに応じてＹ−θｚステージ９をθｚ軸方向に適宜移動させることでＹ−θｚステージ９をＺ軸回りに回転させて補正する。
【００２６】
次に、センサ９２によりシート状のマスク材Ｓｍの幅方向の端部を連続して検知し、支持体Ｍｓに対するシート状のマスク材Ｓｍの幅方向の偏差を算出し、これに応じて駆動源ＤＭ４により回転軸７１を回転中心として枠組み６の下枠部６ｂに対して回転台７を相対回転させることで、支持体Ｍｓに対するシート状のマスク材Ｓｍの位置を補正する（所謂微動による蛇行補正）。最後に、撮像手段Ｉｓ１，Ｉｓ２で撮像した画像を同様に解析し、この解析した値（検出値）に応じてモータＤＭ１，ＤＭ２またはモータＤＭ３の回転数を増加または減少させて、シート状の基材Ｓｗとシート状のマスク材Ｓｍとの各アライメントマークをＺ軸方向上下で一致させ（つまり、シート状の基材Ｓｗとシート状のマスク材ＳｍとのＸ軸方向での相対位置が補正され）、これにより、シート状の基材Ｓｗとシート状のマスク材Ｓｍとが同期して走行される。
【００２７】
なお、メインチャンバ１ａに、他のＣＣＤカメラ等の撮像手段を配置し、シート状の基材Ｓｗの部分Ｓｗ１とシート状のマスク材Ｓｍの部分Ｓｍ１とが上下に位置する領域にて、シート状の基材Ｓｗとシート状のマスク材Ｓｍとの上下方向の間隙を検出し、シート状の基材Ｓｗに対するシート状のマスク材Ｓｍの高さ位置を補正するようにしてもよい。シート状の基材Ｓｗの送り速度とシート状のマスク材Ｓｍの送り速度とを一致させる制御や、成膜室１ａ内を水平に移送されるシート状の基材Ｓｗの部分Ｓｗ１に対するシート状のマスク材Ｓｍの部分Ｓｍ１のＸ軸方向及びＹ軸方向の相対位置の補正及び、シート状の基材Ｓｗとシート状のマスク材Ｓｍとの上下方向の間隙の補正は、成膜中、常時行うことができる。これにより、シート状の基材Ｓｗに対してシート状のマスク材Ｓｍが高精度で位置合わせされ、精密なパターンの成膜を行うことができると共に、上下方向の間隙が広がり過ぎて基材Ｓｗに成膜した薄膜にマスクボケが生じることを防止できる。
【００２８】
上記真空処理装置ＰＭは、その全体的な動作を統括制御するパーソナルコンピュータやシーケンサー等からなる制御手段Ｃｕを備え、制御手段Ｃｕは、上述したシート状の基材Ｓｗとシート状のマスク材Ｓｍとの同期した走行の制御、センサ９２の検知に基づく枠組み６の下枠部６ｂに対する回転台７を回転制御、及び、撮像手段Ｉｓ１，Ｉｓ２で撮像した画像データに基づくＹ−θｚステージ９の移動制御等を行う。
【００２９】
また、上記真空処理装置ＰＭでは、シート状のマスク材Ｓｍの交換作業性等を考慮して、メインチャンバ１に設けた開閉扉１１の位置と同方位とならないＹ方向後側でＸ軸方向に沿ってのびる枠組み６の下枠部６ｂの部分に、Ｘ軸方向に所定間隔で２本の支柱６５を下方に向けて突設した。そして、各支柱６５を介して、シート状の基材Ｓｗの部分Ｓｗ１とその下側のシート状のマスク材Ｓｍの部分Ｓｍ１とが平行になる起立姿勢でＹ−θｚステージ９上に設置されるようにした。この場合、特に図示して説明しないが、Ｙ−θｚステージ９上面には、各支柱６５の下端が嵌合する窪み部が凹設され、各支柱６５が各窪み部に嵌合して真空チャンバ内にてマスク材走行ユニットＭｓが位置決めされるようにしている。
【００３０】
また、開閉扉１１の位置と同方位となるＹ方向前側のＹ−θｚステージ９上面には、Ｘ軸方向にのびるように軸体６６が固定され、軸体６６には支持竿６７が連結されている。この場合、支持竿６７は、軸体６６を旋回中心とし、この旋回中心を支点にしてＹ方向前側に位置する枠組み６の下枠６ｂの部分に対して接離方向に旋回自在に構成されている。また、支持竿６７には、枠組み６の下枠６ｂを挟み込むようにして係合する係合爪６７ａが形成されている。そして、支持竿６７がＹ−θｚステージ９上面に横たわる退避位置と支持竿６７の係合爪６７ａが下枠６ｂの部分に係合する係合位置との間で支持竿６７が手動で旋回される。
【００３１】
以上の実施形態によれば、支持体Ｍｓの枠組み６に対して首振り手段として回転台７を相対回転させれば、枠組み６に固定の各ローラ８ａ，８ｂに対して、回転中心としての回転軸７１回りに回転台７に設けた各ローラ８ｃ，８ｄが相対移動することで、支持体Ｍｓに対するシート状のマスク材Ｓｍの蛇行を補正することが実現でき、Ｙ−θｚステージ９の移動によりシート状の基材Ｓｗの部分Ｓｗ１に対するシート状のマスク材Ｓｍの部分Ｓｍ１の相対変位量または角度が補正されることと相俟って、シート状のマスク材Ｓｍの蛇行を確実に補正することができる。しかも、付勢機構Ｂｍを設けたため、その付勢力を適宜調整すれば、シート状のマスク材Ｓｍの蛇行補正により生じた幅方向における張力差を可及的に小さくすることができる。
【００３２】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記のものに限定されるものではない。上記実施形態では、メインチャンバ１ａ内にＹ−θｚステージ９を予め設置したものを例に説明したが、これに限定されるものではなく、マスク材走行手段ＭｕとＹ−θｚステージ９とを図外の台車上に設置し、メインチャンバ１ａに出し入れできるように構成してもよい。また、上記実施形態では、シート状のマスク材Ｓｍを無端状に各ローラ８ａ〜８ｄに巻き掛けたものを例に説明したが、これに限定されるものではなく、各対の下支持アーム７２ａ，７２ｂと７３ａ，７３ｂの間に、繰出軸と巻取軸とを夫々軸架し、繰出軸に予め巻回したシート状のマスク材を繰り出し、巻取軸に巻き取るように構成することもできる。また、上記実施形態では、処理ユニットとして抵抗ボードを用いて蒸着するための成膜ユニット４を設けるものを例に説明したが、これに限定されるものではなく、処理ユニットは、スパッタリングカソードや、ＣＶＤ法により所定の薄膜を形成するための原料ガス供給手段であってもよい。
【００３３】
更に、上記実施形態では、ガイド手段と駆動手段とをローラで構成したものを例に説明したが、これに限定されるものではなく、また、ローラの個数についても上記のものに限定されるものではない。また、上記実施形態では、センサ９２を設けて枠組み６に対して回転台７を相対回転させることで、支持体Ｍｓに対するシート状のマスク材Ｓｍの蛇行を補正する例に説明したが、これに限定されるものではなく、例えば、撮像手段Ｉｓ１，Ｉｓ２で撮像した画像を解析したとき角度Δθｚのみがずれているような場合には、枠組み６に対して回転台７を相対回転させてシート状の基材Ｓｗの部分Ｓｗ１に対するシート状のマスク材Ｓｍの部分Ｓｍ１の蛇行を補正することもできる。
【符号の説明】
【００３４】
ＰＭ…真空処理装置、１ａ…メインチャンバ（真空チャンバ）、４…成膜ユニット（処理ユニット）、２２，２３，３２…ガイドローラ（基材走行手段）、３１…巻取ローラ（基材走行手段）、ＤＭ１，ＤＭ２，ＤＭ３…モータ、Ｍｕ…マスク材走行手段、Ｍｓ…支持体、６…枠組み、６ａ…枠組みの上枠、６ｂ…枠組みの下枠、６５…支柱、６６…軸体（旋回軸）、６７…支持竿、６７ａ…爪部（係合部分）、８ａ，８ｂ…ローラ（ガイド手段）、７…回転台、７１…回転軸７２ａ，７２ｂ…一対の下支持アーム（支持アーム）、８ｄ…ローラ（駆動手段）、Ｂｍ…付勢機構（付勢手段）、Ｐｍ…旋回機構、Ｓｍ…シート状のマスク材、Ｓｍ１…シート状のマスク材の部分。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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