(57)【要約】【課題】フォトリソグラフィの露光工程において、迷光がペリクルフレームの内側面に当たった場合も、カーボンブラックやフィラー等の微粒子がフォトマスクを汚染しないペリクルフレーム及びそれを含むペリクルを提供する。【解決手段】フレーム母材と、前記フレーム母材の少なくとも内周面を被覆するポリマー被覆層を備え、前記ポリマー被覆層が、前記フレーム母材から最も遠い側に存在する最外ポリマー層と、前記最外ポリマー層以外の少なくとも１層の内側ポリマー層を備え、前記最外ポリマー層の微粒子濃度が、前記少なくとも１層の内側ポリマー層の各微粒子濃度のうちの最大微粒子濃度よりも低いペリクルフレームを提供する。また、このペリクルフレームと、前記ペリクルフレームの上端面に張設されたペリクル膜と、前記ペリクルフレームの下端面に付着された粘着剤とを少なくとも備えるペリクル等を提供する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フレーム母材と、前記フレーム母材の少なくとも内周面を被覆するポリマー被覆層を備え、前記ポリマー被覆層が、前記フレーム母材から最も遠い側に存在する最外ポリマー層と、前記最外ポリマー層以外の少なくとも１層の内側ポリマー層を備え、前記最外ポリマー層の微粒子濃度が、前記少なくとも１層の内側ポリマー層の各微粒子濃度のうちの最大微粒子濃度よりも低いペリクルフレーム。
【請求項２】
前記最外ポリマー層が、前記微粒子を含有しない請求項１に記載のペリクルフレーム。
【請求項３】
前記微粒子が、顔料及び／又はフィラーである請求項１又は請求項２に記載のペリクルフレーム。
【請求項４】
前記内側ポリマー層の少なくとも１層の可視光線透過率が、５０％以下である請求項１〜３のいずれかに記載のペリクルフレーム。
【請求項５】
前記最外ポリマー層の可視光線透過率が、５０％を超える請求項１〜４のいずれかに記載のペリクルフレーム。
【請求項６】
前記ポリマー被覆層に被覆された前記フレーム母材の内周面が、０．８０〜０．９９の放射率を有する請求項１〜５のいずれかに記載のペリクルフレーム。
【請求項７】
前記ポリマー被覆層の各層が、いずれも同一のポリマーを含んでなる請求項１〜６のいずれかに記載のペリクルフレーム。
【請求項８】
前記最外ポリマー層が、２μｍ以上の厚みを有する請求項１〜７のいずれかに記載のペリクルフレーム。
【請求項９】
前記ポリマー被覆層の各層が、電着塗装によって形成されている請求項１〜８のいずれかに記載のペリクルフレーム。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載のペリクルフレームと、前記ペリクルフレームの上端面に張設されたペリクル膜と、前記ペリクルフレームの下端面に付着された粘着剤とを備えるペリクル。
【請求項１１】
フレーム母材の少なくとも内周面に、第１ポリマーと第１微粒子の混合物を第１電着塗装して第１微粒子の濃度Ａの内側ポリマー層を形成する工程と、
前記内側ポリマー層の上に第２ポリマー又は第２ポリマーと第２微粒子の混合物を第２電着塗装して第２微粒子を含有しない又は前記第１微粒子の濃度Ａよりも低い第２微粒子の濃度を有する最外ポリマー層を形成する工程と
を少なくとも含むペリクルフレームの製造方法。
【請求項１２】
前記第１及び第２電着塗装が、アニオン電着塗装である請求項１１に記載のペリクルフレームの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体デバイスや液晶ディスプレイ等の製造において、フォトマスクのゴミ除けとして使用されるリソグラフィ用ペリクルと、それを構成するペリクルフレームに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体デバイスあるいは液晶ディスプレイ等の製造においては、半導体ウエハーまたは液晶用原板に光を照射してパターンを形成するフォトリソグラフィ技術が用いられる。
【０００３】
このフォトリソグラフィ工程において、フォトマスク（露光原板）にゴミが付着した場合、ゴミが光を吸収したり、光を曲げてしまうために、転写したパターンが変形する、エッジが荒れる、下地が黒く汚れる、等の寸法、品質、外観が損なわれる問題があった。このため、通常、これらの作業はクリーンルームで行われるが、クリーンルーム内においてもフォトマスクを完全に清浄に保つことは難しい。したがって、ゴミ除けのために、フォトマスクの表面に露光光をよく透過させるペリクルを装着する方法が一般的に行われている。これによって、ゴミはフォトマスクの表面上に直接付着せず、ペリクル膜上に付着するため、露光時に焦点をフォトマスク上のパターンに合わせておけば、ペリクル膜上のゴミは転写に無関係となる。
【０００４】
一般的なペリクルの構成を図２に示す。ペリクルフレーム１０２の上端面に、露光光を良く透過させるペリクル膜１０１が接着剤１０３を介して張設され、ペリクルフレーム１０２の下端面にはペリクルをフォトマスク１０５に貼付けるための粘着剤層１０４が形成されている。また、粘着剤層１０４の下端面には、粘着剤層１０４を保護するためのセパレータ（図示しない）が剥離可能に設けられてもよい。このようなペリクルは、フォトマスクの表面に形成されたパターン領域１０６を覆うように設置される。したがって、このパターン領域は、ペリクルによって外部から隔離され、フォトマスク上にゴミが付着することが防止される。
【０００５】
近年、ＬＳＩのデザインルールはサブクォーターミクロンへと微細化が進んでおり、それに伴って、コンタミネーション抑制対象のパーティクルサイズもさらに小さくなってきている。また、露光光源の波長も短波長化してきており、露光によってヘイズのような微細な粒子が発生しやすくなってきている。そのため、ペリクルフレームも従来のアルマイト処理（陽極酸化処理）が施されたフレームは、硫酸イオンを含むため敬遠されるようになってきており、硫酸イオンの溶出がないフレームにポリマーコートを施したペリクルが使用されるようになってきている（特許文献１）。また、ポリマーコートとして、黒色顔料により着色した艶消し塗料を用いて黒色艶消し電着塗料膜を用いる（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００７−３３３９１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
フォトリソグラフィの露光工程では、通常、ペリクルフレームに露光光が照射されないようにセッティングされているが、パターンにおけるエッジ等での反射や回折光の一部（迷光）がペリクルフレームの内側面に当たる可能性がある。このような迷光がポリマーコートを施したペリクルフレームの内側面に当たった場合、ポリマーコート層がエッチングされ、コート層中に散在している顔料微粒子等が脱落する懸念がある。
ペリクルフレームの内側面に当たる迷光は、最大で、フォトマスクのパターン領域に照射されるＡｒＦレーザー強度の約１．５％程度になると考えられる。現在、ＡｒＦ用ペリクル膜の耐光性は１０００００Ｊ程度が求められるため、ペリクルフレームの内側面に求められる耐光性は１５００Ｊ相当になる。
そこで、本発明は、フォトリソグラフィの露光工程において、迷光がペリクルフレームの内側面に当たった場合も、カーボンブラックやフィラー等の微粒子がフォトマスクを汚染しないペリクルフレーム及びそれを含むペリクルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一つの態様によれば、フレーム母材と、前記フレーム母材の少なくとも内周面を被覆するポリマー被覆層を備え、前記ポリマー被覆層が、前記フレーム母材から最も遠い側に存在する最外ポリマー層と、前記最外ポリマー層以外の少なくとも１層の内側ポリマー層を備え、前記最外ポリマー層の微粒子濃度が、前記少なくとも１層の内側ポリマー層の各微粒子濃度のうちの最大微粒子濃度よりも低いペリクルフレームを提供できる。
本発明の別の態様によれば、このペリクルフレームと、前記ペリクルフレームの上端面に張設されたペリクル膜と、前記ペリクルフレームの下端面に付着された粘着剤とを備えるペリクルを提供できる。
本発明の他の態様によれば、フレーム母材の少なくとも内周面に、第１ポリマーと第１微粒子の混合物を第１電着塗装して第１微粒子の濃度Ａの内側ポリマー層を形成する工程と、前記内側ポリマー層の上に第２ポリマー又は第２ポリマーと第２微粒子の混合物を第２電着塗装して第２微粒子を含有しない又は前記第１微粒子の濃度Ａよりも低い第２微粒子の濃度を有する最外ポリマー層を形成する工程とを少なくとも含むペリクルフレームの製造方法を提供できる。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、ペリクルフレームを、フレーム母材にポリマー層を２層以上に積層したポリマー被覆層を形成し、最外ポリマー層の微粒子濃度が、少なくとも１層の内側ポリマー層の各微粒子濃度のうちの最大微粒子濃度よりも低い構成にすることによって、迷光がペリクルフレームの内側面に当たった場合でもフォトマスクの汚染を防止することができる。また、従来構成のポリマーコートが施されたペリクルフレームと比較して、露光光の照射量を増大させたり、使用する露光光のエネルギーを大きくすることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明によるペリクルの具体例の断面模式図である。
【図２】従来のペリクルの一般的な構成を示す断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
ペリクルフレームは、ペリクルを貼付けるフォトマスクの形状に対応し、一般的には四角形枠状（長方形枠状又は正方形枠状）である。
また、ペリクルフレームには、気圧調整孔を設けてもよい。気圧調整孔を設けることで、ペリクルとフォトマスクとで形成された閉空間の内外の気圧差をなくし、ペリクル膜の膨らみや凹みを防止することができる。
【００１２】
気圧調整孔には、除塵用フィルターを取り付けることが好ましい。除塵用フィルターは、気圧調整孔からペリクルとフォトマスクとの閉空間内に外から異物が侵入するのを防ぐことができる。
除塵用フィルターの材質としては、樹脂、金属、セラミックス等が挙げられる。また、該除塵用フィルターの外側部分には環境中の化学物質を吸着や分解するケミカルフィルターを装備することも好ましい。
【００１３】
ペリクルフレームの内周面や気圧調整孔の内壁面には、ペリクルとフォトマスクとの閉空間内に存在する異物を捕捉するために粘着剤を塗布してもよい。
【００１４】
ペリクルフレームのフレーム母材としては、特に制限はなく、公知の材料を用いることができる。例えば、アルミニウム、アルミニウム合金、鉄、鉄系合金、セラミックス、セラミックス金属複合材料、炭素鋼、工具鋼、ステンレス鋼、炭素繊維複合材料等が挙げられる。なかでも、強度、剛性、軽量、加工性、コスト等の点からアルミニウム及びアルミニウム合金をはじめとした金属製のものが好ましい。
また、フレーム母材の表面は、ポリマー被覆層を設ける前に、サンドブラストや化学研磨によって粗化することが好ましい。フレーム母材の表面粗化方法については、従来公知の方法を採用できる。例えば、アルミニウム合金材に対して、ステンレス、カーボランダム、ガラスビーズ等によって表面をブラスト処理したり、ＮａＯＨ等のアルカリ溶液によって化学研磨を行う方法を採用することができる。
【００１５】
フレーム母材は、少なくとも２層以上に積層したポリマー被覆層によって被覆されており、ポリマー被覆層のうち、フレーム母材から最も遠い側に存在する最外ポリマー層の微粒子濃度が、最外ポリマー層以外の少なくとも１層の内側ポリマー層の各微粒子濃度のうちの最大微粒子濃度よりも低い。
フレーム母材は、ポリマー被覆層によりフレーム母材の全面を被覆される必要はなく、フレーム母材の少なくとも内周面を被覆されればよい。被覆される内周面は、好ましくは内周面の全面であるが、例えば内周面のうち迷光が当たりやすい部分を補強するための一部であってもよい。ポリマー被覆層は、フレーム母材から最も遠い側に存在する最外ポリマー層と、フレーム母材に近い側に存在し、最外ポリマー層よりも微粒子濃度の高い内側ポリマー層との少なくとも２層を備える積層とすればよい。例えば、フレーム母材の全面に顔料及び／又はフィラーを含む１層目のポリマー層を被覆して、ペリクルフレームの内周面のみに２層目のポリマー層を被覆してもよい。
【００１６】
ポリマー被覆層に用いられる樹脂は、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、アミノアクリル樹脂、ポリエステル樹脂など多岐にわたるが、耐熱性、耐光性、強度等を考慮して、公知の樹脂から選択すればよい。
ポリマー被覆層を構成する少なくとも２層の積層に関して、積層されている何れのポリマー層も、同一のポリマーを含んで構成されていることが好ましい。このようにすれば、ポリマー層の界面から剥離するなどの不具合が起こりにくい。
【００１７】
ポリマー被覆層を構成する各ポリマー層は、必要に応じて、微粒子が含まれていてもよいが、最外ポリマー層の微粒子濃度が、少なくとも１層の内側ポリマー層の各微粒子濃度のうちの最大微粒子濃度よりも低くする。内側ポリマー層のうち少なくとも１層が微粒子を含有してもよい。内側ポリマー層の各微粒子濃度のうちの最大微粒子濃度は、好ましくは５〜２０質量％である。また、最外ポリマー層の微粒子濃度は、好ましくは０.５〜５.０質量％であり、より好ましくは微粒子を含有しない。微粒子は、好ましくは顔料及び／又はフィラーである。
【００１８】
ポリマー被覆層を構成するポリマー層のうち、最外ポリマー層を除く少なくとも１層のポリマー層に顔料等を含ませることによって、可視光線透過率が好ましくは５０％以下、より好ましくは２０％以下とすることが好ましい。最外ポリマー層は、可視光線透過率が、好ましくは５０％超、より好ましくは８０％以上である。可視光線透過率は、市販の分光光度計を用いて測定できる。
このようにすれば、ポリマー被覆層に用いられる樹脂が可視光線を比較的よく透過させる材料であって、最外ポリマー層が顔料等の微粒子を含有せず透明であっても、ポリマー被覆層を黒色系の色調とすることができる。ポリマー被覆層を黒色系の色調であれば、異物検査においても異物の検出がし易く有利なペリクルを得ることができる。
【００１９】
このような構成によって、ペリクルフレームの内周面の放射率を０．８０〜０．９９にすることが好ましい。ここで、「放射率」とは、黒体（その表面に入射するあらゆる波長を吸収し、反射も透過もしない理想の物体）を基準とした全放射エネルギーＰと物体が放射するエネルギーＰ１との比率Ｐ１／Ｐで求められ、ジャパンセンサー社製の放射測定器ＴＳＳ−５Ｘで測定することができる。
顔料としてはカーボンブラック、フィラーとしてはカオリン、合成ＳｉＯ２、エポキシ樹脂等が例示され、必要に応じて適宜選択することができる。顔料やフィラー等の微粒子の平均粒子径は、動的光散乱法やＳＥＭ観察により測定でき、カーボンブラックの粒径範囲は好ましくは４０〜１００ｎｍであり、フィラーの粒径範囲は好ましくは１．０〜３．０μｍである。
ポリマー被覆層が、最外ポリマー層と内側ポリマー層との２層から形成される場合、内側ポリマー層中の顔料の微粒子濃度は、好ましくは０．５〜５．０質量％であり、内側ポリマー層中のフィラーの微粒子濃度は、好ましくは５〜２０質量％である。
【００２０】
また、ポリマー被覆層の厚みに制限はないが、一般的な露光光として用いられるＡｒＦレーザー光のエネルギーを勘案すると、ポリマー被覆層が、最外ポリマー層と内側ポリマー層との２層から形成される場合、最外ポリマー層の厚みは、好ましくは２μｍ以上、より好ましくは２．０〜１０．０μｍであり、内側ポリマー層の厚みは、好ましくは１．０〜５．０μｍである。ポリマー被覆層が、３層以上の積層の場合、最外ポリマー層と内側ポリマー層の好ましい厚さは、上記と同じであるが、ポリマー被覆層全体の厚さは、フレーム皮膜外観の点から好ましくは５．０〜１５．０μｍである。
【００２１】
各ポリマー層は、様々な方法によって設けることができる。一般的な手法としては、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装などが挙げられ、膜厚の均一性や平滑性等の利点から電着塗装を用いることが好ましい。
ペリクルフレームは、好ましくは、フレーム母材の少なくとも内周面に、ポリマーと微粒子の混合物を電着塗装して内側ポリマー層を形成する工程と、前記内側ポリマー層の上にポリマーを電着塗装して微粒子を含有しない最外ポリマー層を形成する工程とを少なくとも含む製造方法より得られる。
【００２２】
電着塗装については、熱硬化型樹脂や紫外線硬化型樹脂のいずれも使用できる。また、それぞれに対してアニオン電着塗装、カチオン電着塗装のいずれをも使用することができるが、被塗物を陽極とするアニオン電着塗装法の方が、発生する気体の量が少なく、塗装膜にピンホールなどの不具合が生成する可能性が少ないため好ましい。
電着塗装に使用する塗装装置や電着塗装用塗料はいくつかの会社から市販品として購入できる。例えば、株式会社シミズからエレコートの商品名で市販されている電着塗料が例示できる。
【００２３】
ペリクルは、ペリクルフレームと、ペリクルフレームの上端面に張設されたペリクル膜と、ペリクルフレームの下端面に付着された粘着剤とを少なくとも備える。
ペリクル膜の材質としては、特に制限はないが、露光光の波長における透過率が高く耐光性の高いものが好ましい。例えば、従来エキシマレーザー用に使用されている非晶質フッ素ポリマー等が用いられる。非晶質フッ素ポリマーの例としては、サイトップ（旭硝子社製商品名）、テフロン（登録商標）、ＡＦ（デュポン社製商品名）等が挙げられる。これらのポリマーは、ペリクル膜の作製時に必要に応じて溶媒に溶解して使用してもよく、例えばフッ素系溶媒などで適宜溶解し得る。また、露光光源としてＥＵＶ光を用いる場合は、膜厚が１μｍ以下の極薄のシリコン膜や、グラフェン膜を用いることができる。
【００２４】
ペリクル膜とペリクルフレームを接着する際は、ペリクルフレームにペリクル膜の良溶媒を塗布した後、風乾して接着してもよく、アクリル樹脂接着剤、エポキシ樹脂接着剤、シリコーン樹脂接着剤、含フッ素シリコーン接着剤等を用いて接着してもよい。
【００２５】
また、粘着剤層は、ペリクルをフォトマスクに貼付けるために、ペリクルフレームの下端面に設けられる。一般的には、粘着剤は、ペリクルフレームの下端面の周方向全周に亘って、ペリクルフレーム幅と同じ又はそれ以下の幅に形成される。好ましい厚さは、０．２〜０．５ｍｍである。
粘着剤層の材質としては、ゴム系粘着剤、ウレタン系粘着剤、アクリル系粘着剤、ＳＥＢＳ粘着剤、ＳＥＰＳ粘着剤、シリコーン粘着剤などの公知のものを使用することができる。露光光源としてＥＵＶ光を用いる場合は、耐光性等に優れたシリコーン粘着剤を用いることが好ましい。また、ヘイズの発生原因となり得るアウトガスが少ない粘着剤が好ましい。
【００２６】
通常、粘着剤層の下端面に設けられるセパレータは、ペリクル収納容器等を工夫することにより省略することもできる。セパレータを設ける場合、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）等からなるフィルムをセパレータとして使用することができる。また、必要に応じて、シリコーン系離型剤やフッ素系離型剤等の離型剤をセパレータの表面に塗布してもよい。
【００２７】
本発明によるペリクルの具体例の断面模式図を図１に示す。ペリクルフレーム２は、フレーム母材７と、フレーム母材７の全面を被覆するポリマー被覆層１０と備え、ポリマー被覆層１０は、フレーム母材７に近い側に存在して微粒子を含む内側ポリマー層８と、フレーム母材７から最も遠い側に存在して微粒子を含有しない最外ポリマー層９を備える。ペリクルフレーム２の上端面に、露光光を良く透過させるペリクル膜１が接着剤３を介して張設され、ペリクルフレーム２の下端面にはペリクルをフォトマスク５に貼付けるための粘着剤層４が形成されている。また、粘着剤層４の下端面には、粘着剤層を保護するためのセパレータ（図示しない）が剥離可能に設けられてもよい。このようなペリクルは、フォトマスクの表面に形成されたパターン領域６を覆うように設置される。したがって、このパターン領域は、ペリクルによって外部から隔離され、フォトマスク上にゴミが付着することが防止される。
【実施例】
【００２８】
以下、本発明を実施例及び参考例に基づき説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
実施例１
まず、ペリクルフレームとして、フレーム外寸１４９ｍｍ×１１５ｍｍ×３．１５ｍｍ、フレーム厚さ２ｍｍのアルミニウム製フレームを用意した。次に、株式会社シミズ社製エレコートＡＭ（商品名）中に、カーボンブラック１．０ｗｔ％と、フィラー６．０ｗｔ％の含有量（微粒子濃度）となるように混合した電着塗料を用いて、フレーム母材にアニオン電着塗装を施した。これによって、フレーム全面に厚み約５．２μｍの内側ポリマー層が形成された。この内側ポリマー層の可視光領域の透過率は、１〜１０％であった。さらに、顔料やフィラー等の微粒子を含まないエレコートＡＭを用いて、アニオン電着塗装を施し、２層目の最外ポリマー層を形成した。この最外ポリマー層の厚みは、約６．０μｍとした。この最外ポリマー層の可視光領域の透過率は、８０〜９０％であった。電着塗装が施されたフレームを、２００℃、６０分の条件で加熱して、最外ポリマー層を硬化させた。このようにして得られたペリクルフレームの内周面の放射率は０．９０〜０．９９であった。このようにして得られたペリクルフレームの上端面には、接着剤（旭硝子社製サイトップＡタイプ）を介して、ペリクル膜（旭硝子社製サイトップＳタイプで作成した膜厚０．２８μｍ）を張設し、下端面には粘着剤層をシリコーン粘着剤（信越化学社製Ｘ−４０−３２６４）で形成し、ペリクルを完成させた。
作製したペリクルのフレーム内側面に、５ｍＪ／ｃｍ２／ｐｕｌｓｅ、５００Ｈｚに設定したＡｒＦレーザーを照射した。ＡｒＦレーザーの照射を実施してから３０分経過後（積算エネルギー：４５００Ｊ）、フレーム内側面にセロテープ（登録商標）を貼り付け、顕微鏡で観察したが、カーボンブラックやフィラーは観察されなかった。
【００２９】
実施例２
最外ポリマー層の厚みを約２．１μｍとした以外は、実施例１と同様にペリクルを完成させた。この最外ポリマー層の可視光領域の透過率は、８０〜９０％であり、ペリクルフレームの内周面の放射率は０．９０〜０．９９であった。
作製したペリクルのフレーム内側面に、５ｍＪ／ｃｍ２／ｐｕｌｓｅ、５００Ｈｚに設定したＡｒＦレーザーを照射した。ＡｒＦレーザーの照射を実施してから１０分経過後（積算エネルギー：１５００Ｊ）、フレーム内側面にセロテープ（登録商標）を貼り付け、顕微鏡で観察したが、カーボンブラックやフィラーは観察されなかった。
【００３０】
実施例３
最外ポリマー層の厚みを約１．８μｍとした以外は、実施例１と同様にペリクルを完成させた。この最外ポリマー層の可視光領域の透過率は、８０〜９０％であり、ペリクルフレームの内周面の放射率は０．９０〜０．９９であった。
作製したペリクルのフレーム内側面に、５ｍＪ／ｃｍ２／ｐｕｌｓｅ、５００Ｈｚに設定したＡｒＦレーザーを照射した。ＡｒＦレーザーの照射を実施してから５分経過後（積算エネルギー：７５０Ｊ）と、１０分経過後（積算エネルギー：１５００Ｊ）に、フレーム内側面にセロテープ（登録商標）を貼り付け、顕微鏡で観察した。５分経過後では、カーボンブラックやフィラーは観察されなかったが、１０分経過後では、カーボンブラックとフィラーが観察された。この結果から、露光光としてＡｒＦレーザーを用いる場合は、最外層のポリマーの厚みは、２μｍ以上が好ましいことがわかる。
【００３１】
比較例１
まず、ペリクルフレームとして、フレーム外寸１４９ｍｍ×１１５ｍｍ×３．１５ｍｍ、フレーム厚さ２ｍｍのアルミニウム製フレームを用意した。次に、株式会社シミズ社製エレコートＡＭ（商品名）に、カーボンブラック０．５ｗｔ％と、フィラー１．０ｗｔ％を混合した電着塗料を用いて、フレーム母材にアニオン電着塗装を施した。これによって、フレーム全面に厚み約６．５μｍのポリマー層が形成された。電着塗装が施されたフレームを、２００℃、６０分の条件で加熱して、ポリマー層を硬化させた。このポリマー層の可視光領域の透過率は、１〜１０％であった。このようにして得られたペリクルフレームの内周面の放射率は０．９０〜０．９９であった。このようにして得られたペリクルフレームの上端面には接着剤を介してペリクル膜を張設し、下端面には粘着剤層を形成し、ペリクルを完成させた。
作製したペリクルのフレーム内側面に、５ｍＪ／ｃｍ２／ｐｕｌｓｅ、５００Ｈｚに設定したＡｒＦレーザーを照射した。ＡｒＦレーザーの照射を実施してから５分経過後（積算エネルギー：７５０Ｊ）と、１０分経過後（積算エネルギー：１５００Ｊ）に、フレーム内側面にセロテープ（登録商標）を貼り付け、顕微鏡で観察したところ、５分経過後でも１０分経過後でもカーボンブラックとフィラーが観察された。
【符号の説明】
【００３２】
１、１０１  ペリクル膜
２、１０２  ペリクルフレーム
３、１０３  接着剤
４、１０４  粘着剤層
５、１０５  フォトマスク
６、１０６  パターン領域
７  フレーム母材
８  内側ポリマー層
９  最外ポリマー層
１０  ポリマー被覆層
【図１】
2018031886.tif 000003
【図２】
2018031886.tif 000004