(57)【要約】【課題】容器内の汚染源を減らし、より保守が容易な基板回転装置を提供すること。【解決手段】磁場発生手段を備え、発生した磁場を中心軸の周りに回転可能な外枠体２０と、前記外枠体の内側に配置された容器４０と、前記容器内に配置され、基板６０保持手段と周方向に分散配置された磁石または強磁性体とを備える内枠体５０と、前記外枠体と前記内枠体を磁気的に結合して、該内枠体を浮上させるとともに、該内枠体を前記磁場の回転変化に追随させて回転させる磁気結合手段と、前記外枠体と前記内枠体の間隔を一定に保ち、該内枠体を該外枠体と同心に維持するギャップ調整手段とを有する基板回転装置１０。【選択図】図１
2018029164.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁場発生手段を備え、発生した磁場を中心軸の周りに回転可能な外枠体と、
前記外枠体の内側に配置された容器と、
前記容器内に配置され、基板保持手段と周方向に分散配置された磁石または強磁性体とを備える内枠体と、
前記外枠体と前記内枠体を磁気的に結合して、該内枠体を浮上させるとともに、該内枠体を前記磁場の回転変化に追随させて回転させる磁気結合手段と、
前記外枠体と前記内枠体の間隔を一定に保ち、該内枠体を該外枠体と同心に維持するギャップ調整手段と、
を有する基板回転装置。
【請求項２】
前記磁場発生手段が、前記内枠体の前記磁石または強磁性体と対向するように前記外枠体の周方向に分散配置された電磁石であり、
前記磁場の回転が前記外枠体の回転運動によって実現され、
前記磁気結合手段が前記内枠体の磁石または強磁性体と前記外枠体の電磁石とで構成される、
請求項１に記載の基板回転装置。
【請求項３】
前記磁場発生手段が前記外枠体の周方向に整列配置された電磁石であり、
前記磁場の回転が前記整列配置された電磁石の極性を順次変化させることにより実現され、
前記磁気結合手段が前記内枠体の磁石または強磁性体と前記外枠体の電磁石とで構成される、
請求項１に記載の基板回転装置。
【請求項４】
前記外枠体は、該外枠体の外周側を占める非回転部と、該外枠体の内周側を占め、透磁率の異なる部分が周方向に繋ぎ合わされて形成された回転部からなり、
前記非回転部は、前記磁場発生手段として、周方向に整列配置された電磁石を備え、
前記磁場の回転が前記回転部の回転運動によって実現され、
前記磁気結合手段が前記内枠体の磁石または強磁性体、前記回転部および前記非回転部の電磁石で構成される、
請求項１に記載の基板回転装置。
【請求項５】
前記外枠体はさらに、前記中心軸と交差する直線の周りに回動して傾斜可能である、
請求項１〜４のいずれか一項に記載の基板回転装置。
【請求項６】
前記外枠体はさらに、前記中心軸方向に並進可能である、
請求項１〜５のいずれか一項に記載の基板回転装置。
【請求項７】
前記容器は、底部に薬液供給手段および排液手段を有し、内部に薬液を貯留して前記内枠体に保持された基板を浸漬して処理可能である、
請求項１〜６のいずれか一項に記載の基板回転装置。
【請求項８】
磁場発生手段を備え、発生した磁場を中心軸の周りに回転可能な外枠体と、
前記外枠体の内側に配置され、内部に処理薬液を収容可能な容器と、
前記容器内に配置され、基板保持手段と周方向に分散配置された磁石または強磁性体とを備える内枠体と、
前記外枠体と前記内枠体を磁気的に結合して、該内枠体を浮上させるとともに、該内枠体を前記磁場の回転変化に追随させて回転させる磁気結合手段と、
前記外枠体と前記内枠体の間隔を一定に保ち、該内枠体を該外枠体と同心に維持するギャップ調整手段と、
を有する基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体製造工程などで利用可能な基板回転装置ないし基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造工程は、フォトレジストの塗布・現像、エッチング、洗浄など、ウェハを薬液等で処理する工程を多く含む。これらの工程には、枚葉式の基板回転装置や、薬液で満たされた処理槽にウェハを浸漬する浸漬装置が用いられ、それぞれに一長一短がある。浸漬方式では、静電気の発生がない点、超音波振動の付加により洗浄効率を上げられる点などが長所として、処理槽内の薬液の不均一などが短所として挙げられる。回転方式では、処理条件の制御パラメータが多い点、ウェハ面内での処理の均一性に優れる点などが長所として挙げられる。
【０００３】
一方、従来の基板回転装置では、ウェハを固定するステージの回転軸（シャフト）が容器底部を貫通するため、貫通部のシール部分の腐食や、シール部分からの汚染などの問題があった。これに対して、特許文献１には、密閉容器内に収容する回転板を、容器外部下方に配置された第二種超電導体により磁気浮上させ、容器周囲に配置された回転磁界コイルにより回転駆動する、磁気的浮上回転処理装置が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−７３６３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、特許文献１に記載された装置では、超伝導体を冷却するために設備が大がかりになるという問題があり、また、容器形状が複雑なため清掃等の保守作業の作業性に改善の余地があった。
【０００６】
本発明は、上記を考慮してなされたものであり、容器内の汚染源を減らし、より保守が容易な基板回転装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の基板回転装置は、磁場発生手段を備え、発生した磁場を中心軸の周りに回転可能な外枠体と、前記外枠体の内側に配置された容器と、前記容器内に配置され、基板保持手段と周方向に分散配置された磁石または強磁性体とを備える内枠体と、前記外枠体と前記内枠体を磁気的に結合して、該内枠体を浮上させるとともに、該内枠体を前記磁場の回転変化に追随させて回転させる磁気結合手段と、前記外枠体と前記内枠体の間隔を一定に保ち、該内枠体を該外枠体と同心に維持するギャップ調整手段とを有する。
【０００８】
ここで、外枠体の中心軸とは、外枠体の中心を通り、外枠体の面に垂直な直線である。また、磁場を中心軸の周りに回転させるとは、磁束密度の分布が中心軸の周りに回転しているかのように磁場を変化させることをいう。
【０００９】
この構成により、基板を保持した内リングを容器内に浮上させて回転させられるので、回転シャフト等が容器を貫通することがなく、容器内の汚染源を減らすことができる。また、内リングと外リングが同一平面内で同心に配されるので、容器形状としてより単純な形状を採用することができる。
【００１０】
本発明の一つの態様において、前記磁場発生手段が、前記内枠体の前記磁石または強磁性体と対向するように前記外枠体の周方向に分散配置された電磁石であり、前記磁場の回転が前記外枠体の回転運動によって実現され、前記磁気結合手段が前記内枠体の磁石または強磁性体と前記外枠体の電磁石とで構成される。
【００１１】
本発明の他の態様において、前記磁場発生手段が前記外枠体の周方向に整列配置された電磁石であり、前記磁場の回転が前記整列配置された電磁石の極性を順次変化させることにより実現され、前記磁気結合手段が前記内枠体の磁石または強磁性体と前記外枠体の電磁石とで構成される。
【００１２】
本発明の他の態様において、前記外枠体は、該外枠体の外周側を占める非回転部と、該外枠体の内周側を占め、透磁率の異なる部分が周方向に繋ぎ合わされて形成された回転部からなる。そして、前記非回転部は、前記磁場発生手段として、周方向に整列配置された電磁石を備え、前記磁場の回転が前記回転部の回転運動によって実現され、前記磁気結合手段が前記内枠体の磁石または強磁性体、前記回転部および前記非回転部の電磁石で構成される。
【００１３】
上記いずれかの基板回転装置において、好ましくは、前記外枠体はさらに、前記中心軸と交差する直線の周りに回動して傾斜可能である。この構成により、基板を水平面から傾斜させた状態で回転させることができる。
【００１４】
好ましくは、前記外枠体はさらに、前記中心軸方向に並進可能である。これにより、基板の装着や取り外し作業がより容易になる。
【００１５】
好ましくは、前記容器は、底部に薬液供給手段および排液手段を有し、内部に薬液を貯留して前記内枠体に保持された基板を浸漬して処理可能である。ここで、薬液には純水を含む。この構成により、基板を薬液に浸漬した状態で回転させることができる。
【００１６】
本発明の基板処理装置は、磁場発生手段を備え、発生した磁場を中心軸の周りに回転可能な外枠体と、前記外枠体の内側に配置され、内部に処理薬液を収容可能な容器と、前記容器内に配置され、基板保持手段と周方向に分散配置された磁石または強磁性体とを備える内枠体と、前記外枠体と前記内枠体を磁気的に結合して、該内枠体を浮上させるとともに、該内枠体を前記磁場の回転変化に追随させて回転させる磁気結合手段と、前記外枠体と前記内枠体の間隔を一定に保ち、該内枠体を該外枠体と同心に維持するギャップ調整手段とを有する。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の基板回転装置または基板処理装置によれば、基板を保持した内枠体を容器内に浮上させて回転させられるので、回転シャフト等が容器を貫通することがなく、容器内の汚染源を減らすことができる。また、内枠体と外枠体が同一平面内で同心状に配されるので、より単純な容器形状を採用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の第１実施形態の基板回転装置の斜視図である。
【図２】本発明の第１実施形態の基板回転装置を内リングおよび外リングの厚さ方向の中央で切断した断面図である。
【図３】図２のＡＡ線に沿った垂直断面図である。
【図４】外リングの回転機構の例を示す図である。
【図５】内リングの構成を示す図である。
【図６】本発明の第１実施形態の基板回転装置の使用方法を説明するための図である。
【図７】本発明の第２実施形態の基板回転装置を内リングおよび外リングの厚さ方向の中央で切断した断面図である。
【図８】本発明の第３実施形態の基板回転装置を内リングおよび外枠体の厚さ方向の中央で切断した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明の第１実施形態を図１〜図６に基づいて説明する。この実施形態の基板回転装置は、円形の基板を薬液に浸漬しながら回転させることができる。
【００２０】
図１を参照して、本実施形態の基板回転装置１０は、外リング（外枠体）２０と、外リングの内側に配置された容器４０と、容器内に配置された内リング（内枠体）５０とを有する。内リングには基板６０が保持される。
【００２１】
図２および図３を参照して、外リング２０は、外リング上部材２１と外リング下部材２２の間に、複数の磁気結合用電磁石２３と複数の保持爪駆動用電磁石２４とを備える。なお、本明細書中で単に「電磁石」というときは「磁気結合用電磁石２３」を指す。
【００２２】
電磁石２３は、外リング２０の周方向に分散配置されている。電磁石２３としては、空芯のソレノイドや、永久磁石または強磁性体のコアを有するソレノイド等を用いることができる。この電磁石２３によって磁場が発生する。電磁石２３は図示しない制御装置によって磁力の大小が制御される。電磁石２３の数は３個以上である。電磁石２３の数の上限は特に限定されないが、構造が複雑になり過ぎないよう、好ましくは７個以下であり、より好ましくは３個である。電磁石２３は、３個の電磁石を頂点とする三角形のうち、少なくとも１つが鋭角三角形となるように配置される。電磁石２３は、好ましくは、外リングの周を等分するように配置される。
【００２３】
保持爪駆動用電磁石２４は、後述する内リング５０の保持爪５４を駆動するためのものである。
【００２４】
外リング２０は、中心軸Ｚの周りに回転可能である。外リングが回転することにより、電磁石２３によって発生した磁場が中心軸Ｚの周りに回転する。外リングはさらに、中心軸Ｚと交差する直線を軸として回動して傾斜可能である。かかる動作はジンバル機構によって実現できる。一例として、図４では次のとおりである。第１支持枠６１は図示しない支持機構に水平に支持されている。第２支持枠６２はＸ軸周りに回動可能に第１支持枠に支持され、第１モーター６３によってＸ軸周りに回動して傾斜可能である（Ｔ）。外リング２０は、第２支持枠から延びる支柱６４に固定されたベアリング６５上に配され、第２モーター６６によって、ベルト（６８）駆動等によりＺ軸周りに回転する（Ｒ）。これにより、外リングはＸ軸周りに回動して傾斜可能で、Ｚ軸周りに回転可能となる。
【００２５】
図１および図３を参照して、容器４０は外リング２０の内側に配置され、図示しない支持機構に支持されている。容器の形状は、外リングおよび内リングの傾斜・回転に干渉しないことを要する。本実施形態の容器形状は上下が切断された球状であり、外リングが傾斜・回転しても、外リングおよび内リングと干渉することがない。容器４０は側壁部４１と蓋部４２と底部４３からなり、側壁部が球面を構成している。底部４３は側壁部下端と液密に接合される。底部には薬液供給管４４および排液管４５が接続されている。好ましくは、蓋部４２も側壁部上端と液密に接合可能とする。容器内部に薬液を貯留した状態で、容器自体を傾けられるからである。
【００２６】
容器４０の材質は、比透磁率が１に近い誘電体であって、使用する薬液によって腐食せず、基板の汚染源とならないものを用いる。容器の材質は、好ましくは石英である。容器内に充填される処理薬液として、例えば基板洗浄処理であれば、純水、アンモニア、アンモニア・過酸化水素混合液、塩酸、塩酸・過酸化水素混合液、硫酸、硫酸・過酸化水素混合液、過酸化水素、オゾン水、フッ酸・オゾン水混合液、硫酸・オゾン水混合液等が使用される。エッチング処理であれば、硝酸、フッ酸、酢酸、フッ酸・過酸化水素混合液、フッ酸・硝酸混合液、フッ酸・硝酸・酢酸混合液、フッ酸・塩酸混合液、硫酸・塩酸混合液、硫酸・硝酸混合液、硝酸・塩酸混合液等が使用される。基板乾燥処理であれば、イソプロピルアルコール、エタノール、メタノール等が使用される。
【００２７】
図２、図３および図５を参照して、内リング５０は、容器４０内に配置される。内リング５０は、内リング上部材５１と内リング下部材５２の間に、複数の磁気結合用永久磁石５３と、基板を把持するための複数の保持爪５４とを備える。なお、本明細書中で単に「永久磁石」というときは、この「磁気結合用永久磁石５３」を指す。
【００２８】
内リング上部材５１および内リング下部材５２の材質は、使用する薬液によって腐食しないもので、基板の汚染源とならないものを用いる。内リング上部材および内リング下部材の材質は、好ましくは石英である。
【００２９】
永久磁石５３は、内リング５０の周方向に分散配置されている。永久磁石５３の数は３個以上である。永久磁石は５３、外リング２０の電磁石２３と一対一に対向可能であるように配置される。永久磁石５３は石英管に封入される。この構造は、例えば、永久磁石を石英管に挿入し、石英管の両端部を石英板で塞ぎ、石英管端面と石英板周縁部を溶接することにより実現できる。
【００３０】
保持爪５４は、内リング５０の周方向に分散配置されている。保持爪は、内リングの面に垂直な貫通孔５５を有し、貫通孔に挿通されたピン５６の周りに回動可能である。ピンは内リング上部材５１および内リング下部材５２に溶接等で固定されている。保持爪の基端部５７には保持爪駆動用永久磁石５８が埋め込まれており、外リング２０の保持爪駆動用電磁石２４との吸引または反発によって、保持爪全体がピン５６の周りに回動する。保持爪の先端部５９は、基板６０を把持する。
【００３１】
保持爪５４の数は３個以上である。保持爪の数の上限は特に限定されないが、構造が複雑になり過ぎないよう、好ましくは７個以下であり、より好ましくは３個である。保持爪は、３つの先端部５９を頂点とする三角形のうち、少なくとも１つが鋭角三角形となるように配置される。保持爪は、好ましくは、先端部５９が基板６０の外周を等分するように配置される。
【００３２】
保持爪５４およびピン５６の材質は、使用する薬液によって腐食しないもので、基板の汚染源とならないものを用いる。保持爪およびピンの材質は、好ましくは石英である。
【００３３】
図２および図３を参照して、外リング２０の周方向に分散配置された電磁石２３と内リング５０の永久磁石５３は一対一に対向して磁気結合手段と構成する。これにより、外リングと内リングは容器４０の側壁を挟んで磁気的に結合され、内リングは容器内で宙に浮いた状態に保持される。外リングと内リングの間隔は、それが大きいほど装置設計の自由度が増すので好ましい。実現可能な間隔は、内リングの重さ、電磁石２３と永久磁石５３の磁力の大きさなどによるが、本発明者らの実験結果からは、一般に入手可能な材料を用いて４０ｍｍ程度まで大きくすることができる。
【００３４】
内リング５０が容器４０内で宙に浮いた状態で、外リング２０が中心軸Ｚの周りに回転運動すると、内リングは外リングの回転運動に追随して回転する。
【００３５】
しかし、上記磁気結合手段のみによっては、外リング２０と内リング５０の間隔は不安定である。そこで、外リングと内リングの間隔をセンサーで検出し、電磁石２３の磁力を調整することによって、当該間隔が一定に保たれる。これにより、内リングが外リングと同一平面内で同心に維持される。センサーは、外リングと内リングの間隔を、少なくとも３か所で検出する。好ましくは電磁石２３と永久磁石５３の位置で検出することで、電磁石２３の磁力の制御が容易になる。センサーとしては、例えば、外リングにレーザー式変位センサーを設けることができる。
【００３６】
次に、本実施形態の基板回転装置の使用方法を、図６を参照して説明する。
【００３７】
まず、容器４０の蓋部を外して上方に開放し、ロボットアーム７１等により基板６０を保持して容器内に挿入し、基板を所定の位置まで下降させる（図６Ａ）。内リング５０の保持爪で基板を把持する。基板を内リングに受け渡した後、ロボットアームを上方に引き抜く。容器に蓋部４２を液密に装着して、外リング２０を傾斜させることにより、内リングおよび基板６０を傾斜させる。容器底部の薬液供給管４４から薬液４６（硫酸・過酸化水素混合液等）を供給して、容器内を満たす（図６Ｂ）。基板６０を薬液に浸漬した状態で、外リングの中心軸Ｚの周りに回転させて基板を処理する（図６Ｃ）。基板処理終了後、容器４０および外リング２０を傾斜させ、基板をさらに傾け、好ましくは垂直に立てる（図６Ｄ）。容器底部の排液管４５から薬液を排出する（図６Ｅ）。基板６０を水平に戻す（図６Ｆ）。その後、容器の蓋部を外して、ロボットアーム等により基板を取り出す。
【００３８】
本発明の第２実施形態を図７に基づいて説明する。本実施形態は、リニアモーターの原理を利用して磁場を回転させる点で第１実施形態と異なる。
【００３９】
図７を参照して、本実施形態の基板処理装置１１における外リング２５は、磁場発生手段として、周方向に整列配置された電磁石２６を備える。そして、外リング自体が中心軸の周りに回転運動するのではなく、外リングが静止した状態で、電磁石２６を周方向に順次オンオフしたり、極性を反転させることにより、磁場を回転させる。これにより、電磁石２６と永久磁石５３との吸引および／または反発により、内リング５０を磁場の回転変化に追随させて回転させる。
【００４０】
保持爪５４は、上記電磁石２６のうち、保持爪駆動用永久磁石５８と対向する位置にある電磁石（図７の２６Ａ）によって駆動される。具体的には、内リング５０の停止時に保持爪５４を開閉するときは、保持爪駆動用永久磁石５８と対向する位置にある電磁石２６Ａの極性を適当に反転させる。そして、内リング回転中は、保持爪が基板を保持した状態を維持できるように、電磁石２６の極性や磁力を制御する。
【００４１】
外リング２０のその他の部分、容器４０および内リング５０の構成は、第１実施形態と同様である。
【００４２】
本実施形態によれば、外リングの回転機構等が不要となり、装置構造を単純化できる。
【００４３】
本発明の第３実施形態を図８に基づいて説明する。本実施形態は、外枠体が非回転部と回転部からなる点で第１実施形態と異なる。
【００４４】
図８を参照して、本実施形態の基板処理装置１２における外枠体３０は、その外周側を占める非回転部３１と、内周側を占める回転部３３からなる。回転部３３は、図示しないベアリング等の支持機構を介して非回転部と機械的に接合されており、両者は同一平面内で同心に配置され、相対的な位置関係は不変である。
【００４５】
非回転部３１は、磁場発生手段として、周方向に整列配置された電磁石３２を備える。回転部３３は、周方向に沿って透磁率の異なる部分が繋ぎ合わせれて形成されている。図８の濃色部は透磁率の高い部分３４であって、例えば、強磁性体や永久磁石からなる。図８の淡色部は透磁率の低い部分３５であって、例えば、各種誘電体からなる。電磁石３２による磁力線は高透磁率部分３４を通りやすいので、回転部３３の高透磁率部分３４の内側は磁束密度が高くなる。逆に、回転部３３の低透磁率部分３５の内側は磁束密度が低くなる。高透磁率部分３４は、内リング５０の周方向に分散配置された永久磁石５３および保持爪駆動用永久磁石５８と対向可能なように配置される。
【００４６】
非回転部３１の電磁石３２、回転部３３の高透磁率部分３４および内リング５０の永久磁石５３は磁気的に結合され、内リングは容器４０内で宙に浮いた状態に保持される。また、非回転部３１が静止した状態で、回転部３３が中心軸Ｚの周りに回転運動することにより、磁場が回転し、内リングが磁場の回転変化に追随して回転する。
【００４７】
保持爪５４の駆動方法は第２実施形態と同様である。すなわち、内リング５０の停止時に保持爪５４を開閉するときは、保持爪駆動用永久磁石５８と対向する位置にある電磁石３２Ａの極性を適当に反転させる。
【００４８】
本実施形態によれば、電磁石３２が配置された非回転部３１が回転運動しないので、電磁石３２の配線を簡素化できる。
【００４９】
上記第１〜第３実施形態の基板回転装置は、従来の浸漬式基板処理装置と回転式基板処理装置の長所を併せ持つ。例えば、浸漬方式の長所として、静電気の問題がなく、超音波振動の付加により洗浄効果の向上が可能である。そして、回転方式の長所として、基板を回転させることにより基板面内での処理の均一性が改善される。また、基板を薬液に浸漬した状態で回転させるので、特に洗浄工程において、基板表面に付着した汚れが表面から剥がれやすくなるリフトオフ効果が期待できる。
【００５０】
本発明は上記の実施形態に限られるものではなく、その技術的思想の範囲内で種々の変形が可能である。以下にいくつかの変形例を説明する。
【００５１】
上記各実施形態の内枠体および外枠体は円環状であったが、内枠体および外枠体の形状はこれに限定されず、例えば、正８角形その他の多角形であってもよい。
【００５２】
また、上記各実施形態では、内枠体が磁気結合用永久磁石５３と保持爪駆動用永久磁石５８を備えるが、永久磁石に代えて強磁性体を備えるようにしてもよい。
【００５３】
また、外枠体の回転または回動の軸の数を「回転の自由度」と呼ぶことにすると、上記各実施形態の外枠体の回転の自由度は２であったが、外枠体の回転の自由度は３であってもよい。すなわち、外枠体は中心軸の周りに回転可能で、中心軸と交差する２本の直線の周りに回動して傾斜可能であってもよい。これにより、基板をより複雑に運動させながら処理することができる。
【００５４】
あるいは、外枠体の回転の自由度は１であってもよい。すなわち、外枠体は中心軸周りに回転可能であるが、外枠体は傾斜せず、中心軸の向きが固定されていてもよい。これにより、装置構造を単純化できる。また、容器形状を球形ではなく略円筒形にすることもできる。容器が円筒形でも外枠体および内枠体の回転に干渉しないからである。この場合、好ましくは、中心軸を鉛直ではなく斜めにしておくことで、薬液排出時に基板上に薬液等が残留しにくい。
【００５５】
また、外枠体は、その中心軸の方向に並進可能であってもよい。これにより、基板の装着や取り外し作業が容易になる。
【００５６】
また、本発明の基板回転装置は、基板を薬液に浸漬しないで、スピンコーター等の従来の基板回転装置の代替として用いることができる。その場合、回転の自由度が２であれば、基板を水平から傾斜させた状態で回転できるので、より最適に近い処理条件を選択することができる。回転の自由度が１であっても、回転シャフト等が容器を貫通することがなく、容器内の汚染源を減らすことができる。
【００５７】
また、本発明の基板回転装置は、薬液を使用しないドライプロセスに用いることができる。その場合は、容器に所要の気密性を持たせる。
【符号の説明】
【００５８】
１０−１２  基板回転装置
２０  外リング（外枠体）
２１  外リング上部材
２２  外リング下部材
２３  磁気結合用電磁石（電磁石）
２４  保持爪駆動用電磁石
２５  外リング（外枠体）
２６、２６Ａ  電磁石
３０  外枠体
３１  非回転部
３２、３２Ａ  電磁石
３３  回転部
３４  高透磁率部分
３５  低透磁率部分
４０  容器
４１  側壁部
４２  蓋部
４３  底部
４４  薬液供給管
４５  排液管
４６  薬液
５０  内リング（内枠体）
５１  内リング上部材
５２  内リング下部材
５３  磁気結合用永久磁石（永久磁石）
５４  保持爪（基板保持手段）
５５  貫通孔
５６  ピン
５７  基端部
５８  保持爪駆動用永久磁石
５９  先端部
６１  第１支持枠
６２  第２支持枠
６３  第１モーター（回動・傾斜用）
６４  支柱
６５  ベアリング
６６  第２モーター（回転用）
６８  ベルト
６０  基板
７１  ロボットアーム
Ｚ    外リング・外枠体の中心軸
【図１】
2018029164.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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