(57)【要約】【課題】本発明は、成形性に優れた着色アルミニウム板を提供することを課題とする。【解決手段】アルミニウム基材と、アルミニウム基材上に設けられる樹脂層とを有する、着色アルミニウム板であって、  樹脂層が無機顔料を含有し、  アルミニウム基材と樹脂層とが直接接しており、  アルミニウム基材の樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａが０．２〜０．８μｍであり、  アルミニウム基材の樹脂層側の表面が、平均開口径が５μｍ超１００μｍ以下の凹部を含む凹凸構造、平均開口径が０．５μｍ超５μｍ以下の凹部を含む凹凸構造、および、平均開口径が０．０１μｍ超０．５μｍ以下の凹部を含む凹凸構造からなる群から選択される少なくとも１つの凹凸構造を有する、着色アルミニウム板。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミニウム基材と、前記アルミニウム基材上に設けられる樹脂層とを有する、着色アルミニウム板であって、
前記樹脂層が無機顔料を含有し、
前記アルミニウム基材と前記樹脂層とが直接接しており、
前記アルミニウム基材の前記樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａが０．２〜０．８μｍであり、
前記アルミニウム基材の前記樹脂層側の表面が、平均開口径が５μｍ超１００μｍ以下の凹部を含む凹凸構造、平均開口径が０．５μｍ超５μｍ以下の凹部を含む凹凸構造、および、平均開口径が０．０１μｍ超０．５μｍ以下の凹部を含む凹凸構造からなる群から選択される少なくとも１つの凹凸構造を有する、着色アルミニウム板。
【請求項２】
前記樹脂層が、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、および、シリコーン系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂材料を含有する、請求項１に記載の着色アルミニウム板。
【請求項３】
前記無機顔料が、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２、および、Ａｌ２Ｏ３からなる群から選択される少なくとも１種を含有する、請求項１または２に記載の着色アルミニウム板。
【請求項４】
前記無機顔料の平均粒子径が０．０１〜１００μｍである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の着色アルミニウム板。
【請求項５】
前記樹脂層の平均厚みが０．５〜１００μｍである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の着色アルミニウム板。
【請求項６】
前記アルミニウム基材の平均厚みが０．００６〜１０ｍｍである、請求項１〜５のいずれか１項に記載の着色アルミニウム板。
【請求項７】
前記アルミニウム基材の前記樹脂層側の表面が、平均開口径が５μｍ超１００μｍ以下の凹部を含む凹凸構造に、平均開口径が０．５μｍ超５μｍ以下の凹部を含む凹凸構造が重畳された凹凸構造である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の着色アルミニウム板。
【請求項８】
前記樹脂層が、少なくともアクリル系樹脂を含有する、請求項７に記載の着色アルミニウム板。
【請求項９】
白色度Ｌ＊値が８０以上である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の着色アルミニウム板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、着色アルミニウム板に関する。
【背景技術】
【０００２】
アルミニウム製品またはアルミニウム合金製品（例えば、携帯電話の外装部材など）に用いられるアルミニウム板は、表面保護、外観の美麗さを高めるために着色されている。
【０００３】
アルミニウム板を着色する方法として、例えば、特許文献１には、「（ｉ）アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる基材をリン酸を含む処理溶液中で陽極酸化を行って基材表面に複数の細孔を有する陽極酸化皮膜を形成する工程と、（ｉｉ）基材を４０〜１００℃の温水により処理する工程と、（ｉｉｉ）基材を顔料粒子、分散剤および水を含む着色用顔料組成物に浸漬して基材表面の陽極酸化皮膜の複数の細孔に顔料粒子を充填し、着色する工程とを含むことを特徴とする着色アルミニウム製品または着色アルミニウム合金製品の製造方法。」が記載されている（［請求項１］）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−０８２９９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明者らは、特許文献１に記載された製造方法について検討したところ、着色された陽極酸化皮膜に対して曲げ加工を施すと、曲げ加工の程度によっては皮膜に割れが生じる場合があり、製品の形状によっては成形できないことを明らかとした。
そこで、本発明は、成形性に優れた着色アルミニウム板を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意研究した結果、陽極酸化皮膜を設けず、アルミニウム基材と樹脂層とが直接接するように設けられたアルミニウム板において、アルミニウム基材の樹脂層側の表面を所定の算術平均粗さとし、かつ、アルミニウム基材の樹脂層側の表面に所定の凹凸構造を設けることにより、成形性が向上することを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。
【０００７】
［１］  アルミニウム基材と、アルミニウム基材上に設けられる樹脂層とを有する、着色アルミニウム板であって、
樹脂層が無機顔料を含有し、
アルミニウム基材と樹脂層とが直接接しており、
アルミニウム基材の樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａが０．２〜０．８μｍであり、
アルミニウム基材の樹脂層側の表面が、平均開口径が５μｍ超１００μｍ以下の凹部を含む凹凸構造、平均開口径が０．５μｍ超５μｍ以下の凹部を含む凹凸構造、および、平均開口径が０．０１μｍ超０．５μｍ以下の凹部を含む凹凸構造からなる群から選択される少なくとも１つの凹凸構造を有する、着色アルミニウム板。
［２］  樹脂層が、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、および、シリコーン系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂材料を含有する、［１］に記載の着色アルミニウム板。
［３］  無機顔料が、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２、および、Ａｌ２Ｏ３からなる群から選択される少なくとも１種を含有する、［１］または［２］に記載の着色アルミニウム板。
［４］  無機顔料の平均粒子径が０．０１〜１００μｍである、［１］〜［３］のいずれかに記載の着色アルミニウム板。
［５］  樹脂層の平均厚みが０．５〜１００μｍである、［１］〜［４］のいずれかに記載の着色アルミニウム板。
［６］  アルミニウム基材の平均厚みが０．００６〜１０ｍｍである、［１］〜［５］のいずれかに記載の着色アルミニウム板。
［７］  アルミニウム基材の樹脂層側の表面が、平均開口径が５μｍ超１００μｍ以下の凹部を含む凹凸構造に、平均開口径が０．５μｍ超５μｍ以下の凹部を含む凹凸構造が重畳された凹凸構造である、［１］〜［６］のいずれかに記載の着色アルミニウム板。
［８］  樹脂層が、少なくともアクリル系樹脂を含有する、［７］に記載の着色アルミニウム板。
［９］  白色度Ｌ＊値が８０以上である、［１］〜［８］のいずれかに記載の着色アルミニウム板。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、成形性に優れた着色アルミニウム板を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、本発明の着色アルミニウム板の一例を示す模式的な断面図である。
【図２】図２は、アルミニウム基材の樹脂層側表面における凹凸構造の一例を示す模式的な断面図である。
【図３】図３は、アルミニウム基材の樹脂層側表面における凹凸構造の他の一例を示す模式的な断面図である。
【図４】図４は、アルミニウム基材の樹脂層側表面における凹凸構造の他の一例を示す模式的な断面図である。
【図５】図５は、アルミニウム基材の電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。
【図６】図６は、アルミニウム基材の作製における交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本願明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
【００１１】
本発明の着色アルミニウム板は、アルミニウム基材と、アルミニウム基材上に設けられる樹脂層とを有する。
また、本発明の着色アルミニウム板は、樹脂層が無機顔料を含有し、アルミニウム基材と樹脂層とが直接接している。
また、本発明の着色アルミニウム板は、アルミニウム基材の樹脂層が設けられた側の表面（以下、「樹脂層側表面」ともいう。）の算術平均粗さＲａが０．２〜０．８μｍであり、アルミニウム基材の樹脂層側表面が、平均開口径が５μｍ超１００μｍ以下の凹部を含む凹凸構造、平均開口径が０．５μｍ超５μｍ以下の凹部を含む凹凸構造、および、平均開口径が０．０１μｍ超０．５μｍ以下の凹部を含む凹凸構造からなる群から選択される少なくとも１つの凹凸構造（以下、「所定の凹凸構造」ともいう。）を有する。
【００１２】
図１に、本発明の着色アルミニウム板の一例を模式的な断面図で示す。
図１に示す着色アルミニウム１０は、アルミニウム基材１と、アルミニウム基材１上に設けられる樹脂層２とを有する。
また、図１に示す着色アルミニウム板１０は、樹脂層２が無機顔料３を含有しており、アルミニウム基材１と樹脂層２とが直接接するように設けられている。
また、図１に示す着色アルミニウム板１０は、アルミニウム基材１の樹脂層側表面４の算術平均粗さＲａが０．２〜０．８μｍであり、アルミニウム基材１の樹脂層側表面４が所定の凹凸構造を有している。
【００１３】
本発明においては、上述した通り、陽極酸化皮膜を設けず、アルミニウム基材の樹脂層側表面の算術平均粗さＲａを０．２〜０．８μｍとし、かつ、アルミニウム基材の樹脂層側表面に所定の凹凸構造を設けることにより、成形性が良好となる。
これは、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
すなわち、アルミニウム基材の樹脂層側表面が、所定の算術平均粗さＲａおよび凹凸構造を満たすことにより、陽極酸化皮膜を用いなくても、無機顔料を含有する樹脂層との密着性が良好となるため、着色アルミニウム板に曲げ加工を施した際に、応力の集中が緩和されたためであると考えられる。
以下、本発明の着色アルミニウム板の各構成要件について詳細に説明する。
【００１４】
［アルミニウム基材］
本発明の着色アルミニウム板が有するアルミニウム基材は、特に限定されず、その具体例としては、純アルミニウム基材；アルミニウムを主成分（５０質量％超）とし、微量の異元素を含む合金基材；低純度のアルミニウム（例えば、リサイクル材料）に高純度アルミニウムを蒸着させた基材；シリコンウエハー、石英およびガラスなどの表面に、蒸着およびスパッタなどの方法により高純度アルミニウムを被覆させた基材；等が挙げられる。
また、基材を構成するアルミニウムは、後述する表面処理の均一性などの観点から、その純度が９７％以上であるのが好ましく、９８％以上がより好ましく、９９％以上が更に好ましく、９９．５％以上が特に好ましい。
また、アルミニウム基材の形状は、板状またはシート状であるのが好ましい。
【００１５】
アルミニウム基材の厚さは、着色アルミニウム板の用途などに応じて適宜設計できるため特に限定されないが、取り扱いの容易性および作業性などの観点から、平均厚みが０．００６〜１０ｍｍであることが好ましく、０．０１〜５ｍｍであることがより好ましく、０．０５〜２．５ｍｍであることが更に好ましい。
ここで、アルミニウム基材の「平均厚み」は、アルミニウム基材の厚さを高精度デジマチックマイクロメータ（Ｍｉｔｓｕｔｏｙｏ社製、ＭＤＨ−２５Ｍ）で１０点測定した平均値として算出した。
【００１６】
〔樹脂層側表面〕
＜算術平均粗さＲａ＞
アルミニウム基材の樹脂層側表面の算術平均粗さＲａは、０．２〜０．８μｍであれば特に限定されず、０．２〜０．７μｍであることが好ましく、０．３〜０．６μｍであることがより好ましい。
ここで、算術平均粗さＲａは、触針式の表面粗さ計（例えば、ミツトヨ社製の表面粗さ測定機ＳＪ−４０１など）を用いて測定した、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１に準拠する算術平均粗さである。
【００１７】
＜凹凸構造＞
アルミニウム基材の樹脂層側表面は、平均開口径が５μｍ超１００μｍ以下の凹部を含む凹凸構造（以下、「大波構造」ともいう。）、平均開口径が０．５μｍ超５μｍ以下の凹部を含む凹凸構造（以下、「中波構造」ともいう。）、および、平均開口径が０．０１μｍ超０．５μｍ以下の凹部を含む凹凸構造（以下、「小波構造」ともいう。）からなる群から選択される少なくとも１つの凹凸構造を有する。
【００１８】
ここで、上記大波構造、上記中波構造および上記小波構造の平均開口径の測定方法は、以下の通りである。
（１）大波構造の平均開口径
触針式粗さ計で２次元粗さ測定を行い、ＩＳＯ４２８７に規定されている平均山間隔Ｓｍを５回測定し、その平均値を平均開口径とする。
なお、大波構造の平均開口径は、８〜８０μｍであることが好ましく、１０〜７０μｍであることがより好ましい。
（２）中波構造の平均開口径
高分解能走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いてアルミニウム基材の表面を真上から倍率２０００倍で撮影し、得られたＳＥＭ写真において、周囲が環状に連なっている中波構造の凹部を少なくとも５０個抽出し、その直径を読み取って開口径とし、平均開口径を算出する。
なお、中波構造の平均開口径は、１〜５μｍであることが好ましく、２〜４μｍであることがより好ましい。
（３）小波構造の平均開口径（平均波長）
高分解能走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いてアルミニウム基材の表面を真上から倍率５００００倍で撮影し、得られたＳＥＭ写真において、小波構造の凹部を少なくとも５０個抽出し、その直径を読み取って開口径とし、平均開口径を算出する。
なお、小波構造の平均開口径は、０．０２〜０．４０μｍであることが好ましく、０．０５〜０．２０μｍであることがより好ましい。
【００１９】
図２〜図４に、アルミニウム基材の樹脂層側表面における凹凸構造の一例を模式的な断面図で示す。
図２に示すアルミニウム基材１の樹脂層側表面４は、平均開口径５μｍ超１００μｍ以下の凹部５ａを含む凹凸構造（大波構造）５の表面を有するものである。
ここで、図２に示す通り、凹部５ａの開口径は、凹部５ａ（凹部５ａを形成する環状に連なる周囲）の直径であり、平均開口径とは、その平均である。
また、凹部を含む凹凸構造とは、図２に示すように波型の構造のものであってもよく、図３に示すように凸部５ｂが表面の平坦部分で構成される凹部の繰り返し構造であってもよい。
【００２０】
本発明においては、成形性がより良好となる理由から、図４に示す通り、アルミニウム基材１の樹脂層側表面４が、平均開口径が５μｍ超１００μｍ以下の凹部５ａおよび凸部５ｂを含む凹凸構造（大波構造）５に、平均開口径が０．５μｍ超５μｍ以下の凹部６ａおよび凸部６ｂを含む凹凸構造（中波構造）６が重畳された凹凸構造を有していることが好ましい。
ここで、大波構造に中波構造が重畳された凹凸構造は、図４に示す通り、大波構造および中波構造が、それぞれが略正弦波形を形成し、かつ、全体として１つ（大波構造）の略正弦波形を構成していることが好ましい。
【００２１】
〔アルミニウム基材の作製方法〕
アルミニウム基材の作製方法は、樹脂層側表面の算術平均粗さＲａおよび凹凸構造を形成することができれば特に限定されないが、例えば、粗面化処理を含む表面処理を施す方法が挙げられる。
【００２２】
＜表面処理＞
上述した表面形状を形成させるための代表的方法として、例えば、アルミニウム基材にアルカリエッチング処理、酸によるデスマット処理および電解液を用いた電気化学的粗面化処理を順次施す方法；アルミニウム基材にアルカリエッチング処理、酸によるデスマット処理および異なる電解液を用いた電気化学的粗面化処理を複数回施す方法；等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。これらの方法において、電気化学的粗面化処理の後、更に、アルカリエッチング処理および酸によるデスマット処理を施してもよい。
【００２３】
具体的には、他の処理（アルカリエッチング処理等）の条件にもよるが、大波構造または中波構造を有する表面形状を形成させるためには、例えば、硝酸を主体とする電解液を用い、周波数を小さくした電気化学的粗面化処理を施す方法などが挙げられ、小波構造を有する表面形状を形成させるためには、例えば、塩酸を主体とする電解液を用いた電気化学的粗面化処理を施す方法などが挙げられる。
一方、大波構造および中波構造が重畳した表面形状を形成させるには、例えば、硝酸を主体とする電解液を用い、周波数を小さくした電気化学的粗面化処理を施した後、硝酸を主体とする電解液を用い、周波数を大きくした電気化学的粗面化処理を施す方法；硝酸を主体とする電解液を用い、アノード反応にあずかる電気量の総和を大きくした電気化学的粗面化処理のみを施して一括して形成する方法；等が好適に挙げられる。
また、大波構造および小波構造が重畳した表面形状を形成させるには、例えば、硝酸を主体とする電解液を用い、周波数を小さくした電気化学的粗面化処理を施した後、塩酸を主体とする電解液を用いた電気化学的粗面化処理を施す方法；塩酸を主体とする電解液を用い、アノード反応にあずかる電気量の総和を大きくした電気化学的粗面化処理のみを施して一括して形成する方法；等が好適に挙げられる。
また、中波構造および小波構造が重畳した表面形状を形成させるには、例えば、硝酸を主体とする電解液を用い、周波数および電気量を大きくした電気化学的粗面化処理を施した後、塩酸を主体とする電解液を用いた電気化学的粗面化処理を施す方法；硝酸を主体とする電解液を用い、周波数および電気量を大きくした電気化学的粗面化処理を施した後、塩酸を主体とする電解液を用いた電気化学的粗面化処理を施す方法；硝酸を主体とする電解液を用い、周波数および電気量を大きくした電気化学的粗面化処理を施した後、塩酸を主体とする電解液を用いた電気化学的粗面化処理を施す方法；等が好適に挙げられる。
また、大波構造、中波構造および小波構造が重畳した表面形状を形成させるには、例えば、上述した方法により大波構造および中波構造を重畳した表面形状を形成した後に、塩酸を主体とする電解液を用いた電気化学的粗面化処理を施す方法が好適に挙げられる。
以下、表面処理の各工程について、詳細に説明する。
【００２４】
（電気化学的粗面化処理）
電気化学的粗面化処理（以下、「電解粗面化処理」ともいう。）には、通常の交流を用いた電気化学的粗面化処理に用いられる電解液を用いることができる。中でも、塩酸または硝酸を主体とする電解液を用いるのが、上述した表面形状を得やすいので好ましい。
【００２５】
電解粗面化処理は、例えば、特公昭４８−２８１２３号公報および英国特許第８９６，５６３号明細書に記載されている電気化学的グレイン法（電解グレイン法）に従うことができる。この電解グレイン法は、正弦波形の交流電流を用いるものであるが、特開昭５２−５８６０２号公報に記載されているような特殊な波形を用いて行ってもよい。また、特開平３−７９７９９号公報に記載されている波形を用いることもできる。また、特開昭５５−１５８２９８号、特開昭５６−２８８９８号、特開昭５２−５８６０２号、特開昭５２−１５２３０２号、特開昭５４−８５８０２号、特開昭６０−１９０３９２号、特開昭５８−１２０５３１号、特開昭６３−１７６１８７号、特開平１−５８８９号、特開平１−２８０５９０号、特開平１−１１８４８９号、特開平１−１４８５９２号、特開平１−１７８４９６号、特開平１−１８８３１５号、特開平１−１５４７９７号、特開平２−２３５７９４号、特開平３−２６０１００号、特開平３−２５３６００号、特開平４−７２０７９号、特開平４−７２０９８号、特開平３−２６７４００号、特開平１−１４１０９４の各公報に記載されている方法も適用できる。また、前述のほかに、電解コンデンサーの製造方法として提案されている特殊な周波数の交番電流を用いて電解することも可能である。例えば、特開昭５８−２０７４００号公報、米国特許第４，２７６，１２９号明細書および同第４，６７６，８７９号明細書に記載されている。
【００２６】
電解槽および電源については、種々提案されているが、米国特許第４２０３６３７号明細書、特開昭５６−１２３４００号、特開昭５７−５９７７０号、特開昭５３−１２７３８号、特開昭５３−３２８２１号、特開昭５３−３２８２２号、特開昭５３−３２８２３号、特開昭５５−１２２８９６号、特開昭５５−１３２８８４号、特開昭６２−１２７５００号、特開平１−５２１００号、特開平１−５２０９８号、特開昭６０−６７７００号、特開平１−２３０８００号、特開平３−２５７１９９号の各公報等に記載されているものを用いることができる。また、特開昭５２−５８６０２号、特開昭５２−１５２３０２号、特開昭５３−１２７３８号、特開昭５３−１２７３９号、特開昭５３−３２８２１号、特開昭５３−３２８２２号、特開昭５３−３２８３３号、特開昭５３−３２８２４号、特開昭５３−３２８２５号、特開昭５４−８５８０２号、特開昭５５−１２２８９６号、特開昭５５−１３２８８４号、特公昭４８−２８１２３号、特公昭５１−７０８１号、特開昭５２−１３３８３８号、特開昭５２−１３３８４０号号、特開昭５２−１３３８４４号、特開昭５２−１３３８４５号、特開昭５３−１４９１３５号、特開昭５４−１４６２３４号の各公報等に記載されているもの等も用いることができる。
【００２７】
電解液である酸性溶液としては、硝酸、塩酸のほかに、米国特許第４，６７１，８５９号、同第４，６６１，２１９号、同第４，６１８，４０５号、同第４，６００，４８２号、同第４，５６６，９６０号、同第４，５６６，９５８号、同第４，５６６，９５９号、同第４，４１６，９７２号、同第４，３７４，７１０号、同第４，３３６，１１３号、同第４，１８４，９３２号の各明細書等に記載されている電解液を用いることもできる。
【００２８】
酸性溶液の濃度は０．５〜２．５質量％であるのが好ましいが、上記のスマット除去処理での使用を考慮すると、０．７〜２．０質量％であるのが特に好ましい。また、液温は２０〜８０℃であるのが好ましく、３０〜６０℃であるのがより好ましい。
【００２９】
塩酸または硝酸を主体とする水溶液は、濃度１〜１００ｇ／Ｌの塩酸または硝酸の水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等の硝酸イオンを有する硝酸化合物または塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩化アンモニウム等の塩酸イオンを有する塩酸化合物の少なくとも一つを１ｇ／Ｌから飽和するまでの範囲で添加して使用することができる。また、塩酸または硝酸を主体とする水溶液には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中に含まれる金属が溶解していてもよい。好ましくは、塩酸または硝酸の濃度０．５〜２質量％の水溶液にアルミニウムイオンが３〜５０ｇ／Ｌとなるように、塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム等を添加した液を用いることが好ましい。
【００３０】
更に、Ｃｕと錯体を形成しうる化合物を添加して使用することによりＣｕを多く含有するアルミニウム基材に対しても均一な砂目立てが可能になる。Ｃｕと錯体を形成しうる化合物としては、例えば、アンモニア；メチルアミン、エチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、トリメチルアミン、シクロヘキシルアミン、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、ＥＤＴＡ（エチレンジアミン四酢酸）等のアンモニアの水素原子を炭化水素基（脂肪族、芳香族等）等で置換して得られるアミン類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸塩類が挙げられる。また、硝酸アンモニウム、塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、リン酸アンモニウム、炭酸アンモニウム等のアンモニウム塩も挙げられる。温度は１０〜６０℃が好ましく、２０〜５０℃がより好ましい。
【００３１】
電気化学的粗面化処理に用いられる交流電源波は、特に限定されず、サイン波、矩形波、台形波、三角波等が用いられるが、矩形波または台形波が好ましく、台形波が特に好ましい。台形波とは、図５に示したものをいう。この台形波において電流がゼロからピークに達するまでの時間（ＴＰ）は１〜３ｍｓｅｃであるのが好ましい。１ｍｓｅｃ未満であると、アルミニウム基材の進行方向と垂直に発生するチャタマークという処理ムラが発生しやすい。ＴＰが３ｍｓｅｃを超えると、特に硝酸電解液を用いる場合、電解処理で自然発生的に増加するアンモニウムイオン等に代表される電解液中の微量成分の影響を受けやすくなり、均一な砂目立てが行われにくくなる。
【００３２】
台形波交流のｄｕｔｙ比は１：２〜２：１のものが使用可能であるが、特開平５−１９５３００号公報に記載されているように、アルミニウムにコンダクタロールを用いない間接給電方式においてはｄｕｔｙ比が１：１のものが好ましい。台形波交流の周波数は０．１〜１２０Ｈｚのものを用いることが可能であるが、５０〜７０Ｈｚが設備上好ましい。５０Ｈｚよりも低いと、主極のカーボン電極が溶解しやすくなり、また、７０Ｈｚよりも高いと、電源回路上のインダクタンス成分の影響を受けやすくなり、電源コストが高くなる。
【００３３】
電解槽には１個以上の交流電源を接続することができる。主極に対向するアルミニウム基材に加わる交流の陽極と陰極との電流比をコントロールし、均一な砂目立てを行うことと、主極のカーボンを溶解することとを目的として、図６に示したように、補助陽極を設置し、交流電流の一部を分流させることが好ましい。図６において、１１はアルミニウム基材であり、１２はラジアルドラムローラであり、１３ａおよび１３ｂは主極であり、１４は電解処理液であり、１５は電解液供給口であり、１６はスリットであり、１７は電解液通路であり、１８は補助陽極であり、１９ａおよび１９ｂはサイリスタであり、２０は交流電源であり、２１は主電解槽であり、２２は補助陽極槽である。整流素子またはスイッチング素子を介して電流値の一部を二つの主電極とは別の槽に設けた補助陽極に直流電流として分流させることにより、主極に対向するアルミニウム基材上で作用するアノード反応にあずかる電流値と、カソード反応にあずかる電流値との比を制御することができる。主極に対向するアルミニウム基材上で、陰極反応と陽極反応とにあずかる電気量の比（陰極時電気量／陽極時電気量）は、０．３〜０．９５であるのが好ましい。
【００３４】
電解槽は、縦型、フラット型、ラジアル型等の公知の表面処理に用いる電解槽が使用可能であるが、特開平５−１９５３００号公報に記載されているようなラジアル型電解槽が特に好ましい。電解槽内を通過する電解液は、アルミニウムウェブの進行方向に対してパラレルであってもカウンターであってもよい。
【００３５】
（硝酸電解）
硝酸を主体とする電解液を用いた電気化学的粗面化処理により、平均開口径０．５μｍ超５μｍ以下の中波構造を形成させることができる。ただし、電気量を比較的多くしたときは、電解反応が集中し、波長５μｍを超える大波構造も生成する。
このような表面形状を得るためには、電解反応が終了した時点でのアルミニウム基材のアノード反応にあずかる電気量の総和が、１〜１０００Ｃ／ｄｍ２であるのが好ましく、５０〜３００Ｃ／ｄｍ２であるのがより好ましい。この際の電流密度は２０〜１００Ａ／ｄｍ２であるのが好ましい。
また、例えば、高濃度、例えば、硝酸濃度１５〜３５質量％の硝酸電解液を用いて３０〜６０℃で電解を行ったり、硝酸濃度０．７〜２質量％の硝酸電解液を用いて高温、例えば、８０℃以上で電解を行ったりすることで、平均波長０．２０μｍ以下の小波構造を形成させることもできる。
【００３６】
（塩酸電解）
塩酸はそれ自身のアルミニウム溶解力が強いため、わずかな電解を加えるだけで表面に微細な小波構造を形成させることが可能である。この微細な小波構造は、平均開口径０．０１μｍ超０．５μｍ以下であり、アルミニウム基材の表面の全面に均一に生成する。
このような表面形状を得るためには電解反応が終了した時点でのアルミニウム基材のアノード反応にあずかる電気量の総和が、１〜１００Ｃ／ｄｍ２であるのが好ましく、２０〜７０Ｃ／ｄｍ２であるのがより好ましい。この際の電流密度は２０〜５０Ａ／ｄｍ２であるのが好ましい。
【００３７】
このような塩酸を主体とする電解液での電気化学的粗面化処理では、アノード反応にあずかる電気量の総和を４００〜２０００Ｃ／ｄｍ２と大きくすることでクレーター状の大きなうねりを同時に形成することも可能である。この場合は平均開口径５μｍ超１００μｍ以下の大波構造に重畳して平均開口径０．０１μｍ超０．５μｍ以下の微細な小波構造が全面に生成する。
【００３８】
上記の硝酸、塩酸等の電解液中で行われる電解粗面化処理の前および／または後に、アルミニウム基材に陰極電解処理を行うことが好ましい。この陰極電解処理により、アルミニウム基材表面にスマットが生成するとともに、水素ガスが発生してより均一な電解粗面化処理が可能となる。
陰極電解処理は、酸性溶液中で陰極電気量が好ましくは３〜８０Ｃ／ｄｍ２、より好ましくは５〜３０Ｃ／ｄｍ２で行われる。陰極電気量が３Ｃ／ｄｍ２未満であると、スマット付着量が不足する場合があり、また、８０Ｃ／ｄｍ２を超えると、スマット付着量が過剰となる場合がある。電解液は、電解粗面化処理で使用する溶液と同一であっても異なっていてもよい。
【００３９】
（アルカリエッチング処理）
アルカリエッチング処理は、上記アルミニウム基材をアルカリ溶液に接触させることにより、表層を溶解させる処理である。
電解粗面化処理より前に行われるアルカリエッチング処理は、アルミニウム基材の表面の圧延油、汚れ、自然酸化皮膜等を除去することを目的として行われる。
【００４０】
アルカリエッチング処理のエッチング量は、０．０５〜１０ｇ／ｍ２であるのが好ましく、１〜５ｇ／ｍ２であるのがより好ましい。エッチング量が０．０５ｇ／ｍ２未満であると、表面の圧延油、汚れ、自然酸化皮膜等が残存する場合があるため、後段の電解粗面化処理において均一な波構造が生成できずムラが発生してしまう場合がある。一方、エッチング量が１〜１０ｇ／ｍ２であると、表面の圧延油、汚れ、自然酸化皮膜等の除去が十分に行われる。上記範囲を超えるエッチング量とするのは、経済的に不利となる。
【００４１】
電解粗面化処理の直後に行うアルカリエッチング処理は、酸性電解液中で生成したスマットを溶解させることと、電解粗面化処理により形成された波構造のエッジ部分を溶解させることを目的として行われる。電解粗面化処理で形成される波構造は電解液の種類によって異なるためにその最適なエッチング量も異なるが、電解粗面化処理後に行うアルカリエッチング処理のエッチング量は、０．１〜５ｇ／ｍ２であるのが好ましい。硝酸電解液を用いた場合、塩酸電解液を用いた場合よりもエッチング量は多めに設定する必要がある。電解粗面化処理が複数回行われる場合には、それぞれの処理後に、必要に応じてアルカリエッチング処理を行うことができる。
【００４２】
アルカリ溶液に用いられるアルカリとしては、例えば、カセイアルカリ、アルカリ金属塩が挙げられる。具体的には、カセイアルカリとしては、例えば、カセイソーダ、カセイカリが挙げられる。また、アルカリ金属塩としては、例えば、タケイ酸ソーダ、ケイ酸ソーダ、メタケイ酸カリ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩；炭酸ソーダ、炭酸カリ等のアルカリ金属炭酸塩；アルミン酸ソーダ、アルミン酸カリ等のアルカリ金属アルミン酸塩；グルコン酸ソーダ、グルコン酸カリ等のアルカリ金属アルドン酸塩；第二リン酸ソーダ、第二リン酸カリ、第三リン酸ソーダ、第三リン酸カリ等のアルカリ金属リン酸水素塩が挙げられる。中でも、エッチング速度が速い点および安価である点から、カセイアルカリの溶液、および、カセイアルカリとアルカリ金属アルミン酸塩との両者を含有する溶液が好ましい。特に、カセイソーダの水溶液が好ましい。
【００４３】
アルカリ溶液の濃度は、エッチング量に応じて決定することができるが、１〜５０質量％であるのが好ましく、１０〜３５質量％であるのがより好ましい。アルカリ溶液中にアルミニウムイオンが溶解している場合には、アルミニウムイオンの濃度は、０．０１〜１０質量％であるのが好ましく、３〜８質量％であるのがより好ましい。アルカリ溶液の温度は２０〜９０℃であるのが好ましい。処理時間は１〜１２０秒であるのが好ましい。
【００４４】
アルミニウム基材をアルカリ溶液に接触させる方法としては、例えば、アルミニウム基材をアルカリ溶液を入れた槽の中を通過させる方法、アルミニウム基材をアルカリ溶液を入れた槽の中に浸せきさせる方法、アルカリ溶液をアルミニウム基材の表面に噴きかける方法が挙げられる。
【００４５】
（デスマット処理）
電解粗面化処理またはアルカリエッチング処理を行った後、表面に残留する汚れ（スマット）を除去するために酸洗い（デスマット処理）が行われるのが好ましい。
用いられる酸としては、例えば、硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ化水素酸、ホウフッ化水素酸が挙げられる。上記デスマット処理は、例えば、上記アルミニウム基材を塩酸、硝酸、硫酸等の濃度０．５〜３０質量％の酸性溶液（アルミニウムイオン０．０１〜５質量％を含有する。）に接触させることにより行う。アルミニウム基材を酸性溶液に接触させる方法としては、例えば、アルミニウム基材を酸性溶液を入れた槽の中を通過させる方法、アルミニウム基材を酸性溶液を入れた槽の中に浸せきさせる方法、酸性溶液をアルミニウム基材の表面に噴きかける方法が挙げられる。デスマット処理においては、酸性溶液として、上述した電解粗面化処理において排出される硝酸を主体とする水溶液もしくは塩酸を主体とする水溶液の廃液、または、後述する陽極酸化処理において排出される硫酸を主体とする水溶液の廃液を用いることができる。デスマット処理の液温は、２５〜９０℃であるのが好ましい。また、処理時間は、１〜１８０秒であるのが好ましい。デスマット処理に用いられる酸性溶液には、アルミニウムおよびアルミニウム合金成分が溶け込んでいてもよい。
【００４６】
（機械的粗面化処理）
上述した電解粗面化処理の前に、アルミニウム基材の表面にブラシグレイン等の機械的粗面化処理を施してもよい。
【００４７】
［樹脂層］
本発明の着色アルミニウム板が有する樹脂層は、樹脂材料（バインダー）および無機顔料を含有し、上述したアルミニウム基材と直接接するように設けられる層である。
【００４８】
〔樹脂材料〕
本発明においては、上記樹脂層の可撓性が向上し、成形性がより良好となる理由から、上記樹脂層が、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、および、シリコーン系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂材料を含有していることが好ましい。
これらのうち、アクリル系樹脂またはウレタン系樹脂を含有していることが好ましく、アクリル系樹脂を含有していることがより好ましい。
【００４９】
上記アクリル系樹脂としては、具体的には、例えば、メチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルメタクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２エチルヘキシルアクリレート、ヒドロキシメチルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルメチルアクリレート等のアクリルモノマーが重合したポリマーが挙げられる。
また、上記アクリル系樹脂は、上述したアクリルモノマーと、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、スチレン、アクリロニトリル、酢酸ビニル、アクリルアミド、ジビニルベンゼンなどの共重合可能な他のモノマーとが共重合したものであってもよい。
【００５０】
上記ポリウレタン系樹脂としては、具体的には、例えば、ジイソシアネート成分と、ジオール成分と、必要により多価アミン類などの鎖伸長剤との反応により得られるポリウレタン系樹脂などが挙げられる。
また、上記ポリウレタン系樹脂は、通常、これらの単量体成分の少なくとも一部として、親水性基を有する単量体成分を用いた反応により得られるポリウレタン系樹脂であってもよい。
【００５１】
このような樹脂材料の含有量は、樹脂層の質量に対して２０〜８０質量％であることが好ましく、３０〜６０質量％であることがより好ましい。
【００５２】
〔無機顔料〕
樹脂層に含まれる無機顔料は、着色アルミニウム板の用途などに応じて適宜変更できるため特に限定されず、白色無機顔料、黒色無機顔料、その他の色の無機顔料を用いることができる。
これらのうち、黒色または白色無機顔料が好ましく、白色無機顔料がより好ましい。
【００５３】
上記無機顔料は、可視光域の全領域において反射率が高くなるなどの理由から、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、および、酸化アルミ（Ａｌ２Ｏ３）からなる群から選択される少なくとも１種の白色無機顔料を含有していることが好ましい。
具体的には、白色度が高くなる理由から、ＴｉＯ２を含有していることが好ましい。
【００５４】
本発明においては、無機顔料の平均粒子径が０．０１〜１００μｍであることが好ましく、０．０１〜５５μｍであることがより好ましく、光の散乱効率を高くするなどの理由から、０．０１〜２５μｍであることが更に好ましい。
ここで、「平均粒子径」とは、粒子径の平均値をいい、樹脂層に含まれる無機顔料を分散させ、樹脂材料を溶解または除去した状態の分散液を調製し、レーザー回折・散乱式粒子径分布測定装置を用いて測定した５０％体積累積径（Ｄ５０）をいう。なお、無機顔料の分散液が調製できない場合には、樹脂層の断面を走査電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope：ＳＥＭ）により観察し、得られたＳＥＭ画像を画像解析し、無機顔料の粒径と頻度（個数）とから算出される平均径を平均粒子径と見積もることができる。また、平均値を算出する基になる粒子径は、無機顔料の断面が楕円形である場合はその長径と短径の合計値を２で割った平均値をいい、正円形である場合はその直径をいう。
【００５５】
このような無機顔料の含有量は、樹脂層の質量に対して１０〜７０質量％であることが好ましく、３０〜６０質量％であることがより好ましい。
また、無機顔料の含有量は、樹脂材料１００質量部に対して１２．５〜３００質量部であることが好ましく、５０〜２００質量部であることがより好ましい。
【００５６】
〔任意成分〕
上記樹脂層は、他の成分が含まれてもよく、他の成分としては、架橋剤、界面活性剤、フィラー等が挙げられる。
【００５７】
＜架橋剤＞
架橋剤としては、エポキシ系、イソシアネート系、メラミン系、カルボジイミド系、オキサゾリン系等の架橋剤を挙げることができる。
これらのうち、水酸基と反応する反応性基を有する架橋剤であることが好ましく、加水分解性基を有する架橋剤であることがより好ましく、イソシアネート基を有する架橋剤であることが更に好ましい。
また、架橋剤は、水酸基と反応する反応性基以外の有機官能基を有していることが好ましく、例えば、アミノ基、エポキシ基、メタクリル基、ビニル基、および、メルカプト基からなる群から選択される少なくとも１つの有機官能基を有していることが好ましい。
【００５８】
任意の架橋剤を含有する場合の含有量は、樹脂材料１００質量部に対して０．５〜３０質量部であることが好ましく、３〜１５質量部であることがより好ましい。
【００５９】
＜界面活性剤＞
界面活性剤としては、アニオン系やノニオン系等の公知の界面活性剤を用いることができる。
任意の界面活性剤を含有する場合の含有量は、０．１〜１０ｍｇ／ｍ２であることが好ましく、０．５〜３ｍｇ／ｍ２であることがより好ましい。
【００６０】
＜フィラー＞
フィラーとしては、コロイダルシリカなどの公知のフィラーを用いることができる。
任意のフィラーを含有する場合の含有量は、樹脂材料１００質量部に対して２０質量部以下であることが好ましく、１５質量％以下であることがより好ましい。
【００６１】
上記樹脂層の厚さは、着色アルミニウム板の用途などに応じて適宜設計できるため特に限定されないが、取り扱いの容易性および作業性などの観点から、平均厚みが０．５〜１００μｍであることが好ましく、１〜５０μｍであることがより好ましく、５〜４０μｍであることが更に好ましい。
ここで、樹脂層の「平均厚み」は、樹脂層を厚さ方向に対して集束イオンビーム（Focused Ion Beam：ＦＩＢ）で切削加工し、その断面を電界放射型走査電子顕微鏡（Field Emission Scanning Electron Microscope：ＦＥ−ＳＥＭ）により表面写真（倍率５００００倍）を撮影し、１０点測定した平均値として算出した。
【００６２】
〔樹脂層の形成方法〕
樹脂層の形成方法は特に限定されず、塗布および貼合などの公知の方法で形成することができる。中でも、塗布により、アルミニウム基材上に樹脂層を形成することが好ましい。
塗布方法としては、例えば、グラビアコーター、バーコーターなどの公知の塗布方法を利用することができる。
塗布液は、塗布溶媒として水を用いた水系でもよいし、トルエンやメチルエチルケトン等の有機溶媒を用いた溶剤系でもよい。中でも、環境負荷の観点から、水を溶媒とすることが好ましい。塗布溶媒は、１種類を単独で用いてもよいし、水に水混和性有機溶剤を混合して用いてもよい。
【００６３】
本発明の着色アルミニウム板は、無機顔料の散乱による発色、表面の金属光沢、樹脂層の硬度などの性能のバランスが良好となる理由から、上述した無機顔料として白色無機顔料を用い、白色度Ｌ＊値を８０以上とした白色アルミニウム板であることが好ましい。
ここで、本明細書においては、「Ｌ＊値」とは、分光濃度計（ＦＤ−７、コニカミノルタ社製）を用いて測定される、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系による明度（Ｌ＊：ＳＣＥ法）をいう。
【実施例】
【００６４】
以下に、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。
【００６５】
［実施例１］
〔アルミニウム基材の作製〕
厚み０．５ｍｍ、幅１００ｍのアルミニウム板（１０８５材、ＵＡＣＪ社製）の表面に、以下に示す表面処理を施し、表面に凹凸構造を有するアルミニウム基材を作製した。
【００６６】
（１−１）電気化学的粗面化処理（大波構造の形成）
まず、直流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸１０．４ｇ／Ｌ水溶液（アルミニウムイオンを４．５ｇ／Ｌ含む。）、液温５０℃であった。カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。使用した電解槽は図６に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ２、電気量はアルミニウム箔が陽極時の電気量の総和で７７０Ｃ／ｄｍ２であった。補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。その後、スプレーによる水洗を行った。
【００６７】
（１−２）電気化学的粗面化処理（中波構造の形成）
次いで、６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸９．２ｇ／Ｌ水溶液（アルミニウムイオンを４．５ｇ／Ｌ含む。）、温度５０℃であった。交流電源波形は図５に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ＴＰが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。使用した電解槽は図６に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で２５Ａ／ｄｍ２、電気量はアルミニウム箔が陽極時の電気量の総和で１８５Ｃ／ｄｍ２であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
【００６８】
（２）アルカリエッチング処理
次いで、アルミニウム箔をカセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を３２℃で行い、アルミニウム箔を０．５ｇ／ｍ２溶解し、前段の交流を用いて電気化学的粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成した中波構造のエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。
【００６９】
（３）デスマット処理
次いで、温度６０℃の硫酸濃度２５質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマット処理を１０秒間行った。
その後、スプレーによる水洗を行い、５０℃で１時間乾燥し、アルミニウム基材を作製した。
【００７０】
〔白色アルミニウム板の作製〕
＜二酸化チタン分散液の調製＞
下記組成中の各成分を混合し、その混合物をダイノミル型分散機により１時間、分散処理を施した。二酸化チタン分散液の組成は下記の通りである。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・二酸化チタン（タイペークＣＲ９５、平均粒子径：０．２８μｍ、
石原産業社製、固形分１００質量％）                      ４０質量部
・ポリビニルアルコール水溶液（１０質量％）
（ＰＶＡ−１０５、クラレ社製）                      ２０．０質量部
・界面活性剤（デモールＥＰ、花王社製、
固形分：２５質量％）                                  ０．５質量部
・蒸留水                                            ３９．５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【００７１】
＜樹脂層形成用塗布液１の調製＞
下記組成中の各成分を混合し、樹脂層形成用塗布液１を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・蒸留水                                          ４０８．８質量部
・ボンロンＸＰＳ−００２（アクリルバインダー（ＰＡ−１）、
３９質量％、三井化学社製）                        ３６３．７質量部
・上記二酸化チタン分散液                          ４９４．０質量部
・オキサゾリン系架橋剤（２５質量％）
（エポクロスＷＳ−７００、日本触媒社製）          １１２．０質量部
・リン酸水素二アンモニウム（３５質量％）            １２．０質量部
・フッ素系界面活性剤（１質量％）
（ナトリウム＝（３、３、４、４、５、５、６、６ノナフロロ）
＝２−スルホナイトオキシスクナート）                １８．２質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【００７２】
＜樹脂層の形成＞
先に作製したアルミニウム基材の表面に、上記の樹脂層形成層塗布液１を塗布し、１８０℃で１分間乾燥させて、厚み３０μｍの樹脂層を形成し、白色アルミニウム板を作製した。
【００７３】
［実施例２］
樹脂層の厚みを６５μｍに変更した以外は、実施例１と同様の方法で、白色アルミニウム板を作製した。
【００７４】
［実施例３］
樹脂層の厚みを０．５μｍに変更した以外は、実施例１と同様の方法で、白色アルミニウム板を作製した。
【００７５】
［実施例４］
上記（１−２）電気化学的粗面化処理（中波構造の形成）を施さなかった以外は、実施例１と同様の方法で、白色アルミニウム板を作製した。
【００７６】
［実施例５］
上記（１−１）電気化学的粗面化処理（大波構造の形成）を施さなかった以外は、実施例１と同様の方法で、白色アルミニウム板を作製した。
【００７７】
［実施例６］
上記（１−１）電気化学的粗面化処理（大波構造の形成）および上記（１−２）電気化学的粗面化処理（中波構造の形成）を施さず、下記（１−３）電気化学的粗面化処理（大波構造の形成）を施した以外は、実施例１と同様の方法で、白色アルミニウム板を作製した。
（１−３）電気化学的粗面化処理（小波構造の形成）
６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩酸８．２ｇ／Ｌ水溶液（アルミニウムイオンを４．５ｇ／Ｌ含む。）、温度３５℃であった。交流電源波形は図５に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ＴＰが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。使用した電解槽は図６に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で２５Ａ／ｄｍ２、電気量はアルミニウム箔が陽極時の電気量の総和で６３Ｃ／ｄｍ２であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
【００７８】
［実施例７］
樹脂層形成用塗布液１に代えて、樹脂層形成用塗布液２を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、白色アルミニウム板を作製した。
【００７９】
＜樹脂層形成用塗布液２の調製＞
下記組成中の各成分を混合し、樹脂層形成用塗布液２を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・ウレタン樹脂（オレスターＵＤ３５０、
三井化学社製、固形分３８％）                      ３６２．３質量部
・オキサゾリン化合物（架橋剤Ｈ−１）（エポクロスＷＳ７００、
日本触媒社製、固形分：２５質量％）                  ８７．０質量部
・界面活性剤（ナロアクティーＣＬ９５、
三洋化成工業社製、固形分１質量％）                    ９．７質量部
・上記二酸化チタン分散液                          １５７．０質量部
・蒸留水                                          ３８４．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【００８０】
［比較例１］
上記（３）デスマット処理を施した後に、下記（４）陽極酸化処理を施し、樹脂層を形成しなかった以外は、実施例１と同様の方法で、白色アルミニウム板を作製した。
【００８１】
（４）陽極酸化処理
次いで、直流を用いて陽極酸化処理を施した。このときの電解液は、硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液（アルミニウムイオンを７ｇ／Ｌ含む。）、液温５０℃であった。アルミ電極を対極として電気化学的な陽極酸化処理を行った。電流密度は電流のピーク値で２０Ａ／ｄｍ２、電気量はアルミニウム箔が陽極時の電気量の総和で２７００Ｃ／ｄｍ２であった。その後、スプレーによる水洗を行った。陽極酸化アルミナ膜厚はおよそ１０μｍとした。
【００８２】
［比較例２］
表面処理を施さなかった以外は、実施例１と同様の方法で、白色アルミニウム板を作製した。
【００８３】
［比較例３］
上記（１−３）電気化学的粗面化処理（小波構造の形成）において、陽極時の電気量の総和を２０Ｃ／ｄｍ２にした以外は、実施例６と同様の方法で、白色アルミニウム板を作製した。
【００８４】
［比較例４］
樹脂層形成用塗布液１から上記二酸化チタン分散液を除いた塗布液を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、アルミニウム板を作製した。
【００８５】
〔アルミニウム基材の表面形状の測定〕
作製した各アルミニウム基材の表面（樹脂層側表面）の表面形状について、上述した方法で、算術平均粗さＲａ、ならびに、大波構造、中波構造および小波構造の平均開口径を算出した。結果を下記表１に示す。なお、表１中、「−」は、該当する平均開口径の波構造がなかったことを示す。
【００８６】
〔評価〕
（１）表面硬度
作製した白色アルミニウム板の樹脂層側の表面硬度を測定した。
具体的には、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４の「引っかき硬度（鉛筆法）」に準じて、鉛筆硬度試験器（オールグッド社製）を用いて測定した。結果を下記表１に示す。
（２）白色度
作製した白色アルミニウム板の樹脂層側の白色度Ｌ＊値を、分光濃度計（ＦＤ−７、コニカミノルタ社製）を用いて測定した。結果を下記表１に示す。なお、白色度が８０以上であれば、白色に着色されていると評価できる。
（３）成形性
作製した白色アルミニウム板の成形性を評価した。
具体的には、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−１の「耐屈曲性（円筒形マンドレル法）」に準じて、円筒形マンドレル屈曲試験器（オールグッド社製）を用いて測定し、以下の基準で評価した。結果を下記表１に示す。
＜基準＞
ＡＡ：マンドレル直径が５ｍｍ以下で破断
Ａ：マンドレル直径が５ｍｍ超１０ｍｍ以下で破断
Ｂ：マンドレル直径が１０ｍｍ超２０ｍｍ以下で破断
Ｃ：マンドレル直径が２０ｍｍ超３２ｍｍ以下で破断
（４）光沢度
作製した白色アルミニウム板の樹脂層側の光沢度を、ＪＩＳ Ｋ ５６００−４−７およびＪＩＳ Ｚ ８７４１に準じて、光沢度計（ＩＧ−３２０、堀場製作所製）で測定した。結果を下記表１に示す。
【００８７】
【表１】
2018168464.tif 000002
【００８８】
上記表１に示す通り、樹脂層を設けず、アルミニウムの陽極酸化皮膜（陽極酸化アルミナ膜）を設けた場合には、成形性が劣ることが分かった（比較例１）。
また、アルミニウム基材の表面の算術平均粗さＲａが小さく、また、凹凸構造がない場合は、アルミニウム基材上に樹脂層を設けても成形性が劣ることが分かった（比較例２）。同様に、アルミニウム基材の表面の凹凸構造が、所定の平均開口径を満たす凹部を含んでいない場合には、樹脂層を設けても成形性が劣ることが分かった（比較例３）。
更に、樹脂層に無機顔料を配合しない場合には、成形性に優れるが、鉛筆硬度が低く、また、白色度が８０未満となり、着色されていないことが分かった（比較例４）。
【００８９】
これに対し、陽極酸化皮膜を設けず、アルミニウム基材の樹脂層側表面の算術平均粗さＲａを０．２〜０．８μｍとし、かつ、アルミニウム基材の樹脂層側表面に所定の凹凸構造を設けた場合には、成形性に優れた白色アルミニウム板となることが分かった（実施例１〜７）。
特に、実施例１と実施例４〜６とを対比すると、アルミニウム基材の樹脂層側表面が、平均開口径が５μｍ超１００μｍ以下の凹部を含む凹凸構造に、平均開口径が０．５μｍ超５μｍ以下の凹部を含む凹凸構造が重畳された凹凸構造であると、成形性がより良好となることが分かった。
また、実施例１と実施例７とを対比すると、樹脂層の材料として、アクリル系樹脂を用いると、白色度が高くなり、成形性がより良好となることが分かった。
【符号の説明】
【００９０】
１  アルミニウム基材
２  樹脂層
３  無機顔料
４  樹脂層側表面
５、６  凹凸構造
５ａ、６ａ  凹部
５ｂ、６ｂ  凸部
１０  着色アルミニウム板
１１  アルミニウム基材
１２  ラジアルドラムローラ
１３ａ、１３ｂ  主極
１４  電解処理液
１５  電解液供給口
１６  スリット
１７  電解液通路
１８  補助陽極
１９ａ、１９ｂ  サイリスタ
２０  交流電源
２１  主電解槽
２２  補助陽極槽
【図１】
2018168464.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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