(57)【要約】【課題】作業工数の増大を抑制しつつ、液晶表示素子の基板を精度良く平坦にすることを可能とする。【解決手段】液晶表示素子１００の製造方法は、第１基板及び第２基板を、液晶注入口が設けられるように、画像表示領域の外側においてシール材により貼り合わせる工程と、液晶注入口から、第１基板、第２基板及びシール材で形成された空間内に、液晶を注入する工程と、液晶表示素子の周囲の温度及び圧力をそれぞれ常温より高い所定温度及び大気圧より高い所定圧力に設定する工程と、液晶表示素子の周囲の圧力を所定圧力に設定したまま、液晶表示素子の周囲の温度を常温以下に設定することにより、空間内に注入された液晶を収縮させる工程と、液晶表示素子の周囲の温度を常温以下に設定したまま、液晶表示素子の周囲の圧力を大気圧以下に設定することにより、空間内に注入された液晶を膨張させる工程と、を含む。【選択図】図４
2018087912.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶表示素子の製造方法であって、
第１基板及び第２基板を、液晶注入口が設けられるように、画像表示領域の外側においてシール材により貼り合わせる工程と、
前記液晶注入口から、前記第１基板、前記第２基板及び前記シール材で形成された空間内に、液晶を注入する工程と、
前記液晶表示素子の周囲の温度及び圧力をそれぞれ常温より高い所定温度及び大気圧より高い所定圧力に設定する工程と、
前記液晶表示素子の周囲の圧力を前記所定圧力に設定したまま、前記液晶表示素子の周囲の温度を常温以下に設定することにより、前記空間内に注入された液晶を収縮させる工程と、
前記液晶表示素子の周囲の温度を常温以下に設定したまま、前記液晶表示素子の周囲の圧力を大気圧以下に設定することにより、前記空間内に注入された液晶を膨張させる工程と、
を含む液晶表示素子の製造方法。
【請求項２】
液晶表示素子の製造方法であって、
第１基板及び第２基板を、液晶注入口が設けられるように、画像表示領域の外側においてシール材により貼り合わせる工程と、
前記液晶表示素子の周囲の温度及び圧力をそれぞれ常温より高い所定温度及び大気圧より高い所定圧力に設定し、前記液晶注入口から、前記第１基板、前記第２基板及び前記シール材で形成された空間内に、液晶を注入する工程と、
前記液晶表示素子の周囲の圧力を前記所定圧力に設定したまま、前記液晶表示素子の周囲の温度を常温以下に設定することにより、前記空間内に注入された液晶を収縮させる工程と、
前記液晶表示素子の周囲の温度を常温以下に設定したまま、前記液晶表示素子の周囲の圧力を大気圧以下に設定することにより、前記空間内に注入された液晶を膨張させる工程と、
を含む液晶表示素子の製造方法。
【請求項３】
液晶表示素子の製造方法であって、
第１基板及び第２基板を、液晶注入口が設けられるように、画像表示領域の外側においてシール材により貼り合わせる工程と、
前記液晶表示素子の周囲の温度及び圧力をそれぞれ常温より高い所定温度及び大気圧以下に設定し、前記液晶注入口から、前記第１基板、前記第２基板及び前記シール材で形成された前記空間内に、液晶を注入する工程と、
前記液晶表示素子の周囲の温度を前記所定温度に設定したまま、前記液晶表示素子の周囲の圧力を大気圧より高い所定圧力に設定する工程と、
前記液晶表示素子の周囲の圧力を前記所定圧力に設定したまま、前記液晶表示素子の周囲の温度を常温以下に設定することにより、前記空間内に注入された液晶を収縮させる工程と、
前記液晶表示素子の周囲の温度を常温以下に設定したまま、前記液晶表示素子の周囲の圧力を大気圧以下に設定することにより、前記空間内に注入された液晶を膨張させる工程と、
を含む液晶表示素子の製造方法。
【請求項４】
前記液晶を膨張させる工程において、前記空間内に注入された液晶が膨張することにより、前記空間の幅が均一になる、請求項１〜３の何れか一項に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項５】
前記所定圧力は、２ｋｇ／ｃｍ2以上であり且つ１０ｋｇ／ｃｍ2以下である、請求項１〜４の何れか一項に記載の液晶表示素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子は、薄型で低消費電力である特長を生かし、幅広い分野において使用されている。特に、近年、応答時間が早い強誘電性液晶を使用した液晶表示素子の使用が増加している。
【０００３】
このような液晶表示素子の製造方法として、真空注入法が知られている。真空注入法では、液晶表示素子を形成する２枚の基板の間の空間内の空気が真空引きにより排出された後、加熱されて液体状態となった強誘電性液晶がその空間への液晶注入口近傍に塗布又は滴下されて供給される。液晶注入口近傍に供給された液晶は、毛細管現象と、液晶表示素子内外に発生する圧力差とにより基板間の空間に注入され、その後、液晶注入口は封止される。
【０００４】
しかしながら、上記方法では、加熱されて液体状態で注入された液晶が室温に戻る際に収縮し、液晶注入後の基板間の間隔が不均一（基板の中央部が凹み、液晶層が薄くなる）になる可能性がある。基板間の間隔が不均一になると、液晶表示素子により表示される画像に色むらが発生する。特に、このような液晶表示素子は、略４００〜８００ｎｍの波長を有する可視光の透過を制御しており、基板間の間隔が数十ｎｍずれるだけで、画像に発生する影響は大きくなる。なお、このような問題は、粘度が高い液晶である強誘電性液晶を用いた液晶表示素子において発生し易いが、その他の液晶を用いた液晶表示素子においても生じ得る。
【０００５】
ここで、上述の問題を解決するために、特許文献１には、強誘電性液晶表示素子の一対の基板側面を跨いで硬化収縮率の高い接着剤を塗布し、硬化させてから、強誘電性液晶表示素子に、高温にした強誘電性液晶を注入する強誘電性液晶表示素子の製造方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１０−３２７７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１に開示された製造方法では、基板側面を跨いで硬化収縮率の高い接着剤を塗布し、硬化させることにより基板中央が凸状態になる。強誘電性液晶表示素子に注入された強誘電性液晶は温度の低下とともに収縮し、強誘電性液晶表示素子の基板は最終的に平坦になる。
【０００８】
しかしながら、この方法では、基板側面に接着剤を塗布する必要があるため、製造作業工数が増大してしまう。また、強誘電性液晶表示素子の基板が最終的に平坦になるように、基板中央を凸状態にしておく度合いを調整する必要があるが、製造する素子毎に、基板の平坦性に対するばらつきが発生してしまう。また、基板を凸状態にできる度合いには限度があり、基板及び強誘電性液晶の特性によっては、強誘電性液晶表示素子の基板が最終的に平坦になる程度まで、基板を事前に凸状態にできない可能性もある。
【０００９】
そこで、本発明は、作業工数の増大を抑制しつつ、液晶表示素子の基板を精度良く平坦にすることを可能とする液晶表示素子の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に係る液晶表示素子の製造方法は、第１基板及び第２基板を、液晶注入口が設けられるように、画像表示領域の外側においてシール材により貼り合わせる工程と、液晶注入口から、第１基板、第２基板及びシール材で形成された空間内に、液晶を注入する工程と、液晶表示素子の周囲の温度及び圧力をそれぞれ常温より高い所定温度及び大気圧より高い所定圧力に設定する工程と、液晶表示素子の周囲の圧力を所定圧力に設定したまま、液晶表示素子の周囲の温度を常温以下に設定することにより、空間内に注入された液晶を収縮させる工程と、液晶表示素子の周囲の温度を常温以下に設定したまま、液晶表示素子の周囲の圧力を大気圧以下に設定することにより、空間内に注入された液晶を膨張させる工程と、を含む。
【００１１】
本発明に係る液晶表示素子の製造方法は、第１基板及び第２基板を、液晶注入口が設けられるように、画像表示領域の外側においてシール材により貼り合わせる工程と、液晶表示素子の周囲の温度及び圧力をそれぞれ常温より高い所定温度及び大気圧より高い所定圧力に設定し、液晶注入口から、第１基板、第２基板及びシール材で形成された空間内に、液晶を注入する工程と、液晶表示素子の周囲の圧力を所定圧力に設定したまま、液晶表示素子の周囲の温度を常温以下に設定することにより、空間内に注入された液晶を収縮させる工程と、液晶表示素子の周囲の温度を常温以下に設定したまま、液晶表示素子の周囲の圧力を大気圧以下に設定することにより、空間内に注入された液晶を膨張させる工程と、を含む。
【００１２】
または、本発明に係る液晶表示素子の製造方法は、第１基板及び第２基板を、液晶注入口が設けられるように、画像表示領域の外側においてシール材により貼り合わせる工程と、液晶表示素子の周囲の温度及び圧力をそれぞれ常温より高い所定温度及び大気圧以下に設定し、液晶注入口から、第１基板、第２基板及びシール材で形成された空間内に、液晶を注入する工程と、液晶表示素子の周囲の温度を所定温度に設定したまま、液晶表示素子の周囲の圧力を大気圧より高い所定圧力に設定する工程と、液晶表示素子の周囲の圧力を所定圧力に設定したまま、液晶表示素子の周囲の温度を常温以下に設定することにより、空間内に注入された液晶を収縮させる工程と、液晶表示素子の周囲の温度を常温以下に設定したまま、液晶表示素子の周囲の圧力を大気圧以下に設定することにより、空間内に注入された液晶を膨張させる工程と、を含む。
【００１３】
また、本発明に係る液晶表示素子の製造方法では、液晶を膨張させる工程において、空間内に注入された液晶が膨張することにより、空間の幅が均一になることが好ましい。
【００１４】
また、本発明に係る液晶表示素子の製造方法では、所定の圧力は、２ｋｇ／ｃｍ2以上であり且つ１０ｋｇ／ｃｍ2以下であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明では、基板の間に高い圧力を加えながら基板間に注入された液晶の温度を下げて液晶を収縮させるため、加えていた圧力を解除したときに基板の間から外側に向かう力が働いて、基板は平坦になる。したがって、作業工数の増大を抑制しつつ、液晶表示素子の基板を精度良く平坦にすることが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】（Ａ）〜（Ｃ）は液晶表示素子１００の概略構成図である。
【図２】マザー基板１０を示す模式図である。
【図３】（Ａ）〜（Ｄ）は従来の液晶表示素子の製造方法を説明するための模式図である。
【図４】（Ａ）〜（Ｅ）は本発明の実施形態に係る液晶表示素子の製造方法を説明するための模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、添付図面を参照して、本発明の実施形態に係る液晶表示素子の製造方法について詳細に説明する。ただし、本発明の技術的範囲はそれらの実施の形態に限定されず、特許請求の範囲に記載された発明とその均等物に及ぶ点に留意されたい。
【００１８】
図１は、液晶表示素子１００の概略構成図である。図１（Ａ）は液晶表示素子１００の上面図であり、図１（Ｂ）は図１（Ａ）の１Ｂ−１Ｂ’断面図であり、図１（Ｃ）は図１（Ａ）の１Ｃ−１Ｃ’断面図である。
【００１９】
液晶表示素子１００は、例えば０．２インチ〜１インチ程度のサイズを有するマイクロディスプレイである。図１に示す様に、液晶表示素子１００は、第１基板１、第２基板２、シール材３及び液晶４等を有する。
【００２０】
第１基板１は、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）及び回路網が形成された白色又はシルバー色等の単結晶シリコン基板である。第１基板１の外形は略９．４５×１５．３１ｍｍであり、厚さＴ１は略０．６２５ｍｍである。第１基板１上には、複数の画素電極（不図示）を有するアルミニウム膜５が形成され、アルミニウム膜５上には、ポリイミドによる第１配向制御膜６が形成されている。第１基板１において画素電極が配置される領域５ａは、画像表示領域となる。
【００２１】
第２基板２は、透明なガラス基板である。第２基板２の外形は略９．４５×１５．３１ｍｍであり、厚さＴ２は略０．７２５ｍｍである。第２基板２上には、画素電極５ａに対向する位置に透明な共通電極７が形成され、共通電極７上には、第２配向制御膜８が形成されている。
【００２２】
シール材３は、第１基板１及び第２基板２（第１配向制御膜６及び第２配向制御膜８）を貼り合わせるための部材である。シール材３の寸法は略８．４５×１５．３１ｍｍである。第１基板１及び第２基板２は、液晶注入口４ａが設けられるように、画像表示領域の外側においてシール材３により貼り合わされる。図１（Ｂ）、（Ｃ）に示す様に、シール材３により貼り合わされた第１基板１と第２基板２は水平方向へオフセットされ、第１基板１と第２基板２の間には隙間（ギャップ）が形成される。第１基板１と第２基板２の間のギャップは、例えば１μｍである。なお、第１基板１と第２基板２の間のギャップは１μｍに限定されず、それ以外（例えば１μｍ以下）であってもよい。
【００２３】
液晶４は、例えば強誘電性液晶であり、第１基板１と第２基板２の間のギャップに注入される。
【００２４】
なお、上記した各部の大きさ等は一例であり、第１基板１、第２基板２、シール材３、液晶４等の各特性により適宜変更される。
【００２５】
以下、液晶表示素子１００の製造方法について説明する。まず、従来の液晶表示素子の製造方法について説明する。
【００２６】
図２は、第１基板及び第２基板の元となる２枚のマザー基板１０を示す模式図（上面図）である。
【００２７】
図２に示す様に、マザー基板１０には、複数の液晶表示素子領域（Ｄ１〜Ｄ９）が形成される。次に、２枚のマザー基板１０は、液晶注入口が設けられるように、各画像表示領域の外側においてシール材により貼り合わされる。次に、シール材が硬化した後、マザー基板１０は、液晶表示素子を形成するように各シール材の外側において切断（分断）される。
【００２８】
図３は、従来の液晶表示素子２００の製造方法を説明するための模式図（断面図）である。図３に示す製造工程において、液晶表示素子２００は、温度及び圧力を任意に設定可能な恒温槽（チャンバ）２０内で製造される。
【００２９】
まず、図３（Ａ）に示す様に、第１基板２０１及び第２基板２０２は、液晶注入口２０４ａが設けられるように、画像表示領域の外側においてシール材２０３により貼り合わされた状態で、恒温槽２０内に配置される。恒温槽２０内の温度は常温に設定され、圧力は大気圧に設定される。
【００３０】
次に、図３（Ｂ）に示す様に、恒温槽２０内の温度は常温に設定されたまま、圧力が真空状態の圧力、即ち真空圧（略０ａｔｍ）に設定され、第１基板２０１と第２基板２０２の間のギャップ２０９内の空気が真空引きにより排出される。また、液晶注入口２０４ａの近傍に設けられた液晶供給部２０４ｂに液晶２０４がセットされる（ここでは図３（Ａ）に示す時点で予めセットされている）。強誘電性液晶は常温では流動性を有していないため、液晶供給部２０４ｂにセットされた液晶２０４は、この時点ではギャップ２０９に注入されない。なお、液晶２０４は、図３（Ａ）に示す時点で、液晶供給部２０４ｂにセットされていてもよい。
【００３１】
次に、図３（Ｃ）に示す様に、恒温槽２０内の温度が常温より高い所定温度に設定され、圧力が大気圧に設定される。これにより、液晶供給部２０４ｂにセットされた液晶２０４は、加熱されて液状化し、毛細管現象と、ギャップ２０９の内側及び外側に発生する圧力差とにより、液晶注入口２０４ａからギャップ２０９内に注入される。
【００３２】
次に、図３（Ｄ）に示す様に、恒温槽２０内の圧力は大気圧に設定されたまま、温度が常温に設定される。これにより、ギャップ２０９内に注入された液晶２０４の温度は低下する。液晶２０４は、高温ではＩｓｏ相（アイソトロピック相）の構造を有し、低温ではＳｍＣ相（スメクチックＣ相）の構造を有し、温度が低下すると収縮していく（体積が小さくなる）。また、ギャップ２０９内に注入された液晶２０４が収縮することにより、ギャップ２０９が収縮する。そのため、ギャップ２０９の内側から外側に加わる圧力は小さくなる（１ａｔｍ以下）。
【００３３】
一方、温度が低下すると、ギャップ２０９内に注入された液晶２０４は硬化していく（粘度が高くなる）。ギャップ２０９内に注入された液晶２０４は収縮するが硬化していくため、液晶供給部２０４ｂにセットされた液晶２０４が新たにギャップ２０９に注入されることはない。そのため、液晶２０４の温度が低下すると、第１基板２０１及び第２基板２０２の中央部が凹み、ギャップ２０９の幅（厚み）が不均一になる（中央部において狭くなる）。
【００３４】
最後に、液晶注入口２０４ａが封口材（不図示）により封止され、液晶表示素子２００の製造は完了する。
【００３５】
以下、本発明の実施形態に係る液晶表示素子１００の製造方法について説明する。
【００３６】
まず、図２を用いて説明した様に、マザー基板１０に、複数の液晶表示素子領域（Ｄ１〜Ｄ９）が形成される。次に、２枚のマザー基板１０（第１基板１及び第２基板２）は、液晶注入口４ａが設けられるように、各画像表示領域の外側においてシール材３により貼り合わされる。次に、シール材３が硬化した後、マザー基板１０は、図１に示す液晶表示素子１００を形成するように各シール材３の外側において切断（分断）される。
【００３７】
図４は、本発明の実施形態に係る液晶表示素子１００の製造方法を説明するための模式図（断面図）である。図４に示す製造工程において、液晶表示素子１００は、温度及び圧力を任意に設定可能な恒温槽２０内で製造される。
【００３８】
まず、図４（Ａ）に示す様に、第１基板１及び第２基板２は、液晶注入口４ａが設けられるように、画像表示領域の外側においてシール材３により貼り合わされた状態で、恒温槽２０内に配置される。恒温槽２０内、即ち液晶表示素子１００の周囲の温度は常温に設定され、圧力は大気圧に設定される。なお、常温は、例えば１５℃であり、一般的なマイクロディスプレイが使用される温度範囲（例えば０℃以上且つ３０℃以下）を含む。また、大気圧は、例えば１ａｔｍであり、一般的なマイクロディスプレイが使用される高度又は緯度における気圧を含む。
【００３９】
次に、図４（Ｂ）に示す様に、恒温槽２０内の温度は常温に設定されたまま、圧力が真空圧に設定され、第１基板１と第２基板２の間のギャップ９、即ち、第１基板１、第２基板２及びシール材３で形成された空間内の空気が真空引きにより排出される。また、液晶注入口４ａの近傍に設けられた液晶供給部４ｂ（図１（Ａ）参照）に液晶４がセットされる（ここでは図４（Ａ）に示す時点で予めセットされている）。強誘電性液晶は常温では流動性を有していないため、液晶供給部４ｂにセットされた液晶４は、この時点ではギャップ９に注入されない。
【００４０】
次に、図４（Ｃ）に示す様に、恒温槽２０内の温度が所定温度に設定され、圧力が所定圧力に設定される。なお、所定温度は、常温より高い温度であり、液晶４の融点以上且つ沸点以下に定められ、例えば１２０℃に定められる。また、所定圧力は、大気圧より高い圧力であり、２ｋｇ／ｃｍ2以上且つ１０ｋｇ／ｃｍ2以下に定められ、例えば５ｋｇ／ｃｍ2に定められる。これにより、第１基板１と第２基板２の間には大気圧より高い圧力が加えられる。液晶供給部４ｂにセットされた液晶４は加熱されて液状化し、毛細管現象と、ギャップ９の内側及び外側に発生する圧力差とにより、液晶注入口４ａからギャップ９内に注入される。
【００４１】
ギャップ９内に注入された液晶４は、高温では軟化している（粘度が低くなっている）ため、第１基板１と第２基板２の間に高い圧力が加えられている状態でも、ギャップ９の幅は均一になるように保持される。
【００４２】
次に、図４（Ｄ）に示す様に、恒温槽２０内の圧力は所定圧力（高圧）に設定されたまま、恒温槽２０内の温度が常温に設定される。これにより、ギャップ９内に注入された液晶４の温度は低下し、液晶４は収縮していくとともに、硬化していく。また、ギャップ９内に注入された液晶４が収縮することにより、ギャップ９が収縮し、図３（Ｄ）に示した状態と同様に、第１基板１及び第２基板２の中央部が凹み、ギャップ９の大きさが面内において不均一になる（中央部において狭くなる）。なお、この工程において、恒温槽２０内の温度は、常温よりも低い温度に設定されてもよい。
【００４３】
次に、図４（Ｅ）に示す様に、恒温槽２０内の温度は常温に設定されたまま、圧力が大気圧に設定される。恒温槽２０内の圧力が大気圧に設定されることにより、第１基板１と第２基板２の間に加えられていた所定の圧力が解除される。これにより、ギャップ９の内側から外側に加わる圧力は大気圧に戻ろうとするが、ギャップ９内に注入された液晶４は硬化しているため、すぐには大気圧に戻れず、ギャップ９内に注入された液晶４は膨張し、ギャップ９の内側から外側には大気圧以上の圧力が加わり続ける。
【００４４】
この圧力と、第１基板１及び第２基板２が平坦に戻ろうとする力（復元力）とにより、第１基板１及び第２基板２は平坦になり、ギャップ９の幅は均一になる。なお、この工程において、恒温槽２０内の圧力は、大気圧よりも低い圧力に設定されてもよい。
【００４５】
最後に、図４（Ｅ）に示す状態のまま、液晶注入口４ａが封口材（不図示）により封止され、液晶表示素子１００の製造は完了する。なお、液晶注入口４ａの封止は、図４（Ｃ）に示す工程の後であって図４（Ｅ）に示す工程の前に行われてもよい。
【００４６】
なお、図４（Ｃ）に示した液晶注入口４ａからギャップ９内に液状の液晶４を注入する工程において、恒温槽２０内の圧力を所定圧力（高圧）に設定するのではなく、図３（Ｃ）に示す様に、恒温槽２０内の圧力を大気圧に設定してもよく、また、大気圧よりも低い圧力に設定してもよい。その場合には、液晶注入口４ａからギャップ９内に液状の液晶４を注入した後で、図４（Ｃ）に示す様に、恒温槽２０内の温度を所定温度（高温）に設定したまま、恒温槽２０内の圧力を所定圧力（高圧）に設定する。その場合も、図４に示した工程で製造される場合と同様に、第１基板１及び第２基板２は平坦になり、ギャップ９の幅は均一になる。
【００４７】
以上説明してきたように、本実施形態に係る液晶表示素子１００の製造方法では、第１基板１及び第２基板２の間に高い圧力を加えながら基板間に注入された液晶４の温度を下げて液晶４を硬化させるため、加えていた圧力を解除したときに各基板の間から外側に向かう力が働いて、各基板は平坦になる。したがって、作業工数の増大を抑制しつつ、液晶表示素子１００の第１基板１及び第２基板２を精度良く平坦にすることが可能となった。これにより、液晶表示素子１００により表示される画像に色むらが発生することを抑制することが可能となった。
【００４８】
特に、この製造方法では、各基板の間に加える圧力を変化させる以外の特別な作業が発生しない。真空注入法を利用する場合、本製造方法を用いるか否かに関わらず、圧力を変化させる作業が発生するため、特に真空注入法を利用する製造方法において、作業工数の増大を抑制することが可能となる。
【００４９】
また、この製造方法では、ギャップ９の内側から外側に加わる圧力が十分に大きければ、第１基板１及び第２基板２が平坦になった時に、その圧力と、第１基板１及び第２基板２が平坦に戻ろうとする力と、ギャップ９の外側から内側に加わる大気圧とが略釣り合う。したがって、ギャップ９内に液晶４を注入する際に加えておく所定の圧力を十分に大きくしておくことにより、第１基板１及び第２基板２を精度良く平坦にすることが可能となり、第１基板１及び第２基板２の平坦性に対するばらつきの発生を抑制することが可能となる。
【００５０】
即ち、所定の圧力は、第１基板１及び第２基板２を破損させない範囲で、可能な限り大きい値に設定することが望ましい。これにより、第１基板１、第２基板２及び液晶４の特性の影響を受けずに、第１基板１及び第２基板２を精度良く平坦にすることができる。
【００５１】
また、強誘電性液晶は、粘度が高く、常温では流動性を有していないため、本実施形態の製造方法は、特に、強誘電性液晶を用いた液晶表示素子に適している。ただし、本実施形態の製造方法は、強誘電性液晶以外の液晶を用いた液晶表示素子にも適用が可能である。
【００５２】
また、サイズの小さいマイクロディスプレイでは、画素が高密度に設けられており、１画素あたりの大きさが小さい。したがって、第１基板１と第２基板２の間に、基板間のギャップを一定にするためのスペーサを配置させると、スペーサにより画像の品質が低下する可能性が高い。また、第１基板１と第２基板２の間にスペーサを配置させると液晶に配向欠陥が発生しやすくなる。本実施形態の製造方法では、スペーサを使用せずに、第１基板１と第２基板２の間のギャップを一定に保つことができるので、画像の品質の低下及び液晶の配向欠陥の発生を抑制することが可能となる。
【符号の説明】
【００５３】
１００    液晶表示素子
１    第１基板
２    第２基板
３    シール材
４    液晶
４ａ    液晶注入口
９    ギャップ
【図１】
2018087912.tif 000003
【図２】
2018087912.tif 000004
【図３】
2018087912.tif 000005
【図４】
2018087912.tif 000006