(57)【要約】【課題】光路長を短くし、装置が小型化できる光和演算装置を提供する。【解決手段】複数の光信号を平行にそれぞれ出射する複数の光出力部と、複数の前記光信号を反射させて集光する集光部と、集光した光信号を電流に変換して出力する電流出力部とを備え、前記光出力部は、複数の光信号のそれぞれに対応した光強度を伝搬する複数の光ファイバと、複数の前記光ファイバのそれぞれから出射される光信号を平行光に調整する複数のコリメータレンズとを備える。【選択図】図１
2018087840.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光信号を平行にそれぞれ出射する光出力部と、
複数の前記光信号を反射させて集光する集光部と、
集光した光信号を電流に変換して出力する電流出力部と
を備えることを特徴とする光和演算装置。
【請求項２】
請求項１に記載した光和演算装置において、
前記光出力部は、
複数の光信号のそれぞれの光強度を伝搬する複数の光ファイバと、
複数の前記光ファイバのそれぞれに接続され平行光の光信号を生成する複数のコリメータレンズと、
複数の前記コリメータレンズを、前記光信号の方向と直交する面に、隣接するコリメータレンズ同士を接触させて配列する結束固定部と
を備えることを特徴とする光和演算装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載した光和演算装置において、
前記集光部は、
前記光出力部から出射した複数の光信号を反射し、該反射した後の複数の光信号を前記電流出力部の受光面に集光する凹面鏡
を備えることを特徴とする光和演算装置。
【請求項４】
請求項３に記載した光和演算装置において、
前記電流出力部の受光面の中心は、前記受光面の中心から一端部分までの長さをａ、前記一端部分に入射する前記受光面の垂線に対する入射角度をθとした場合に、前記凹面鏡の底と直交する軸上の焦点から、次式で表されるｂの長さ凹面鏡側の位置までの範囲内に配置されることを特徴とする光和演算装置。
【数６】
2018087840.tif 000008
【請求項５】
請求項３又は４に記載した光和演算装置において、
前記凹面鏡は、中央部分を除く外側の円環部分のみに鏡が形成され、
前記光出力部の複数のコリメータレンズは、前記鏡と対向する位置に配置されることを特徴とする光和演算装置。
【請求項６】
請求項５に記載した光和演算装置において、
前記光出力部の前記凹面鏡と対向する面の中央部分から前記凹面鏡の方向に延伸し、前記受光面を前記凹面鏡に向けた向きで前記電流出力部を支持する支持部
を備えることを特徴とする光和演算装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光信号を和演算する光和演算装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、インターネットや様々なセンサから大量のデータを取得する環境が構築されるに伴い、そのデータを解析して高精度な知識処理や未来予測を行う研究及びビジネスが活発に行われている。この潮流の中で特に注目を集めている解析技術のひとつに、ディープラーニング（深層学習）と称されるものがある。
【０００３】
ディープラーニングとは、ニューラルネットワークを基本とした機械学習技術であり、ニューロンを多層に配置した人工神経回路網にデータを学習させることで、識別や判断を行う機能を有している。このディープラーニングの演算速度を高速化する要素としてアナログ光演算器が注目されている。
【０００４】
アナログ光演算器を用いてニューラルネットワークの学習を高速化する際に留意すべきは、光の伝播時間を短縮するために装置を小型化することである。
【０００５】
従来の光和演算装置の構成は、光ファイバアレイを束ね、各々の光ファイバから光ビームを空間に出射し、光ファイバアレイの光ビームの位置調整を精密に行うことで、受光素子の同一平面上に光ビームを集光するのが一般的である（例えば特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１１−２８２３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、従来の光和演算装置は、装置が大型化する課題がある。大型化する理由を簡単に説明する。
【０００８】
空間中を伝播する際の損失をなるべく少なくするために、光演算に用いる光には強い指向性が求められる。また、光演算におけるクロック周波数はMHz〜GHzオーダーであるため、受光素子の大きさが3mm以下である必要がある。また、受光素子には、受光面に光りが入射する角度と感度との間に依存性がある。よって、全ての光ビームに対する感度を同一にするには、受光面への入射角度を、所定の範囲内に収める必要がある。つまり、光の入射角度が光ビームによって大きく変わることが無いように、受光素子との間の距離を大きくする必要がある。そのために光路長が長くなり装置が大型化してしまう課題がある。
【０００９】
本発明は、この課題に鑑みてなされたものであり、光学系をコンパクトに構成できる光和演算装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本実施形態の一態様に係る光和演算装置は、複数の光信号を平行にそれぞれ出射する光出力部と、複数の前記光信号を反射させて集光する集光部と、集光した光信号を電流に変換して出力する電流出力部とを備えることを要旨とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、光学系をコンパクトに構成できる光和演算装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】第１実施形態に係る光和演算装置の機能構成例を示す図である。
【図２】第１実施形態に係る光和演算装置の斜視図である。
【図３】第１実施形態に係る光和演算装置の正面図である。
【図４】第１実施形態に係る光和演算装置の光出力部の側面図である。
【図５】第１実施形態に係る光和演算装置の光出力部を正面から見た正面図である。
【図６】第１実施形態に係る光和演算装置の上面図である。
【図７】凹面鏡の焦点の例を示す図である。
【図８】受光面と焦点との関係を示す図であり、（ａ）は受光面が焦点よりも光出力部の側にある例を示す図、（ｂ）は受光面が焦点よりも集光部の側にある例を示す図である。
【図９】電流出力部の受光面に入射する光信号の入射角度と焦点との関係を模式的に示す図である。
【図１０】第２実施形態に係る光和演算装置の集光部の正面図である。
【図１１】図１０の側面図である。
【図１２】第２実施形態に係る光和演算装置のＡ−Ａ断面図（図３参照）を示す図である。
【図１３】ファイバフォルダを備えた比較例の光和演算装置の光路長を模式的に示す図である。
【図１４】本実施形態に係る光和演算装置１の主要構成部の具体的な配置例を示す上面図である。
【図１５】図１４に示す光和演算装置の光路長を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の実施形態について図面を用いて説明する。複数の図面中同一のものに
は同じ参照符号を付し、説明は繰り返さない。
【００１４】
〔第１実施形態〕
図１に第１実施形態に係る光和演算装置１の機能構成例、図２に光和演算装置１の斜視図、及び図３に光和演算装置１の正面図を示す。図１〜図３を参照して光和演算装置１の構成を説明する。
【００１５】
光和演算装置１は、光出力部１０、集光部２０、及び電流出力部３０を備える。集光部２０と電流出力部３０は、空間１００内に収容される。
【００１６】
図２に示すように光出力部１０は、空間１００内に配置された集光部２０に、複数の光信号をそれぞれ平行に出射する。この例の光信号は、100個（10×10）の例で示す。
【００１７】
光信号は、例えば階層型ニューラルネットワークの学習を並列演算する信号である。100個の光信号は、空間１００内のｘ−ｙ平面上のｘ軸方向にα１１〜αＡ１の10個、ｙ軸方向にα１１〜α１Ａの10個がアレイ状に配列される（図３）。光信号αＡ１とα１Ａの表記は、図面が煩雑になるので省略している。光出力部１０について詳しくは後述する。
【００１８】
集光部２０は、この例では100個の光信号α１１〜αＡＡを反射させて集光する。集光部２０は、光出力部１０の空間１００側のｘ−ｙ平面に対向して配置される。
【００１９】
電流検出部３０は、集光した光信号を電流に変換して出力する。電流検出部３０は、光出力部１０と集光部２０の間に配置される。また、電流検出部３０は、光出力部１０の空間１００側のｘ−ｙ平面の中央部分に配置される。
【００２０】
なお、図１〜図３において、集光部２０と電流検出部３０を支持する構成、及び変換した電流を外部に取り出す電気線の図示は省略している。
【００２１】
本実施形態の光和演算装置１によれば、光信号を反射させて集光するので光出力部１０と集光部２０との間隔を短縮することができる。よって、光和演算装置１の光学系をコンパクトに構成できる。
【００２２】
（光出力部）
図４と図５を参照して光出力部１０について詳しく説明する。図４は、光出力部１０の側面図である。図５は、光出力部１０を集光部２０側から見た正面図である。
【００２３】
光出力部１０は、複数の光信号のそれぞれの光強度を伝搬する複数の光ファイバ１１１１〜１１ＡＡと、複数の光ファイバ１１１１〜１１ＡＡのそれぞれに接続され平行光の光信号を生成する複数のコリメータレンズ１２１１〜１２ＡＡと、当該コリメータレンズ１２１１〜１２ＡＡを、光信号の方向と直交する面（ｘ−ｙ面）に配列する結束固定部１３とを備える。以降において、それぞれの部品の位置を明確にする必要の無い場合は添え字の表記を省略する。
【００２４】
光ファイバ１１を伝搬する光信号の波長は、例えば1550nmである。光信号は、光ファイバ１１を経由して外部から入力される。
【００２５】
光ファイバ１１とコリメータレンズ１２は、一体化されたコリメータレンズ付き光ファイバを用いても良い。例えばＴＨＯＲＬＡＢ社製のコリメータレンズ付き光ファイバを用いることができる。
【００２６】
結束固定部１３は、例えば金属ブロックで構成する。金属ブロックは、穴あけ加工等を高精度に行えるので、コリメータレンズ１２と光ファイバ１１を固定するのに好適である。材料としては、例えばアルミを用いることができる。
【００２７】
結束固定部１３には、ｚ軸方向の孔が開けられ、その孔にコリメータレンズ１２と光ファイバ１１が挿入されて固定される。光ファイバ１１と結束固定部１３は、例えば接着剤で固定する。
【００２８】
図５に示す様に、コリメータレンズ１２は、隣接するコリメータレンズ１２同士を接触させて配列することができる。図５において、ｘ−ｙ面の隅に位置するコリメータレンズ１２１１の−ｙ軸方向の外周の一点は、隣接するコリメータレンズ１２１２の外周の一点と接触する。また、コリメータレンズ１２１１のｘ軸方向の外周の一点は、隣接するコリメータレンズ１２２１の外周の一点と接触する。
【００２９】
ｘ−ｙ面の中央付近に位置するコリメータレンズ１２６５のｙ軸方向の外周の一点は、隣接するコリメータレンズ１２６４の外周の一点と接触する。コリメータレンズ１２６５の−ｙ軸方向の外周の一点は、隣接するコリメータレンズ１２６６の外周の一点と接触する。コリメータレンズ１２６５のｘ軸方向の外周の一点は、隣接するコリメータレンズ１２７５の外周の一点と接触する。コリメータレンズ１２６５の−ｘ軸方向の外周の一点は、隣接するコリメータレンズ１２５５の外周の一点と接触する。
【００３０】
このようにコリメータレンズ１２は、隣接するコリメータレンズ同士を接触させて配置される。この配置は、高精度に加工されたコリメータレンズ１２と、高精度に加工できる結束固定部１３の組み合わせによって容易に実現できる。
【００３１】
また、コリメータレンズ１２は、周知のように平行光が得られるように収差補正されたレンズである。したがって、コリメータレンズ１２を、結束固定部１３の光信号の方向と直交する面に対して平行に固定することで、複数の平行光を容易に生成することができる。
【００３２】
また、本実施形態の光出力部１０によれば、コリメータレンズ１２のそれぞれの一部を接触させて配列するので、ｘ−ｙ面上の光信号の間隔を短くできる。光信号の間隔を短くすることで、コリメータレンズ１２と電流出力部３０の間の光路長を短くする効果も得られる。つまり、和計算の時間を高速化する効果も奏する。光路長を短くする定量値を含む詳しい説明は後述する。
【００３３】
（集光部）
図６を参照して集光部２０について詳しく説明する。図６は、本実施形態に係る光和演算装置１の上面図を示す図である。
【００３４】
集光部２０は、光出力部１０から出射した複数の光信号を反射し、該反射した後の複数の光信号を電流出力部３０の受光面３１に集光する凹面鏡２１を備える。図６においては、100個ある光信号の内の光信号α１１、α１２、α１３、α１４、及びα１Ａのみを示し他の表記を省略している。
【００３５】
電流出力部３０の受光面３１は、凹面鏡２１の焦点に配置する。凹面鏡２１の焦点について、図７を参照して説明する。図７は、ｘ軸方向の凹面鏡２１の放物線をｚ＝ｃｘ２、ｙ軸方向の同放物線をｚ＝ｃｙ２で表す。
【００３６】
この場合の凹面鏡２１の底Ｏから焦点Ｆまでの距離ｚＦは次式で表せる。ｃは２次係数である。
【００３７】
【数１】
2018087840.tif 000003
つまり、凹面鏡２１の底Ｏの座標を次式としたときに、
【００３８】
【数２】
2018087840.tif 000004
電流出力部３０の受光面３１は、次式で表せる座標に配置する。
【００３９】
【数３】
2018087840.tif 000005
電流出力部３０の受光面３１を底Ｏから距離ｚＦの位置に配置すれば、集光部２０で反射した光信号のすべてを電流に変換することができる。つまり、電流出力部３０の受光面３１を焦点Ｆに配置すれば、すべての光信号の和を求めることができる。
【００４０】
電流出力部３０の受光面３１は、凹面鏡２１の底Ｏと直交する軸（ｚ軸）上の焦点Ｆ以内に配置する。受光面３１を凹面鏡２１の焦点Ｆ以内に配置する理由を、図８を参照して説明する。
【００４１】
図８は、焦点Ｆと受光面３１のｚ軸方向の位置関係を模式的に示す図である。図８（ａ）は、受光面３１を焦点Ｆ以上離れた位置に配置した場合を示す。図８（ｂ）は、受光面３１を焦点Ｆ以内に配置した場合を示す。
【００４２】
図８（ａ）の場合は、受光面３１の手前で光信号が集光する。その場合、それぞれの光信号の位相が一致していないと集光した部分で光信号の減衰又は増大（干渉）が生じ、光信号の正しい和を求めることができない。図８（ｂ）の場合は、受光面３１の手前で光信号が集光しないので、光信号の正しい和を求めることができる。
【００４３】
なお、受光面３１に光信号が入射する角度と感度との間に依存性があるので、受光面３１を底Ｏに近づければ良いという事ではない。受光面３１が凹面鏡２１に近いと、受光面３１の垂線と光信号とが成す入射角度が大きくなり電流出力部３０の感度が悪化する。したがって、受光面３１は、電流出力部３０の感度が得られる位置に配置する必要がある。
【００４４】
図９を参照して受光面３１の配置について更に詳しく説明する。図９は、電流出力部３０の受光面３１に入射する光信号の入射角度と焦点Ｆの関係を模式的に示す図である。
【００４５】
図９は、受光面３１の中心を焦点Ｆよりも底Ｏ側に配置した例を示す。Ｐは受光面３１の垂線、θは垂線Ｐと光信号とが成す入射角度を表す。
【００４６】
図９において、入射角度θが最も大きくなるのは、凹面鏡２１の底Ｏから最も離れた位置で反射して来る光信号である。本実施形態においては、アレイ状に配列されたコリメータレンズ１２１１〜１２ＡＡの内の４隅に配置されたコリメータレンズ１２１１，１２１Ａ，１２Ａ１，１２ＡＡから出射して凹面鏡２１で反射した光信号α１１，α１Ａ，αＡ１，αＡＡの入射角度θが最も大きくなる。以降、光信号α１１，α１Ａ，αＡ１，αＡＡは、それらを代表して光信号α１１と表記する。
【００４７】
光信号α１１は、受光面３１の端部に入射する。したがって、受光面３１の端部に入射する光信号α１１の入射角度θを、電流出力部３０の感度が得られる範囲に収める必要がある。
【００４８】
光信号α１１の入射角度θは、受光面３１が底Ｏに近づくほど大きくなる。よって、受光面３１を、底Ｏ側に近づけて良い焦点Ｆからの距離は、受光面３１の大きさと電流出力部３０の感度が許す最大の入射角度θによって求めることができる。
【００４９】
電流出力部３０の受光面３１の中心は、受光面３１の中心から一端部分までの長さをａ、一端部分に入射する受光面の垂線Ｐに対する入射角度をθとした場合に、凹面鏡２１の底Ｏと直交するｚ軸上の焦点Ｆから、次式で表されるｂの長さ凹面鏡２１寄りの位置までの範囲内に配置する。
【００５０】
【数４】
2018087840.tif 000006
つまり、受光面３１は、焦点Ｆからｂの長さ凹面鏡２１側の位置の範囲に配置すれば良い。このように配置することで、電流出力部３０は光信号を集光した正しい電流値を出力することができる。
【００５１】
なお、図９を参照する説明では、光信号α１１のビーム径を０として説明を行った。実際の光信号α１１のビーム径は、有限の値を持つ。したがって、実際は光信号α１１のビーム径を考慮する必要がある。ビーム径を考慮する場合は、長さａからビーム径を減じて計算すれば良い。
【００５２】
〔第２実施形態〕
図１０に第２実施形態に係る集光部２０の正面図、図１１に当該集光部２０の側面図を示す。また、図１２に、第２実施形態に係る光和演算装置２のＡ−Ａ断面（図３参照）の断面図を示す。
【００５３】
図１０と図１１に示すように凹面鏡２１は、中央部分２３を除く外側の円環部分２２のみに鏡が形成され、図１２に示すように光出力部１０の複数のコリメータレンズ１２１６〜１２Ａ６は、円環部分２２（鏡）と対向する位置に配置する。
【００５４】
図１２に示すように、凹面鏡２１の中央部分２３の鏡の無い部分と対向する光出力部１０のコリメータレンズ１２５６，１２６６と光ファイバ１１５６，１１６６は存在しない。その代わりに光和演算装置２は支持部１４を備える。
【００５５】
支持部１４は、光出力部１０の凹面鏡２１と対向する面の中央部分から凹面鏡２１の方向に延伸し、受光面３１を凹面鏡２１に向けた向きで電流出力部３０を支持する。電流出力部３０は、支持部１４に沿って配置される図示しない電気線を介して電流を出力する。
【００５６】
このように電流出力部３０を支持することで、電流出力部３０が光信号を遮光することが無い。また、光信号を変換した電流を外部に出力する電気線を、支持部１４に沿って外部に導出することで、電気線と光信号との干渉を防止することができる。電気線の図示は省略している。
【００５７】
本実施形態の光和演算装置２は、電流出力部３０の配置を容易にする効果を奏する。また、電気線の位置を光信号に干渉しないように細かく調整する手間を不要にするので光和演算装置２をコストダウンすることができる。また、電気線と光信号との干渉を完全に無くすことができるので、光和演算装置２の信頼性を向上させることができる。
【００５８】
（比較例の光路長）
図１３に、集光部２０を備えない比較例の光和演算装置の光路長を模式的に示す。図１３は、電流出力部３０と対向して配置される２本の光ファイバ１１１５，１１１６のみを示す。
【００５９】
光ファイバ１１１５，１１１６は、コリメータ付き光ファイバ（ＴＨＯＲＬＡＢＳ社製：ＣＦＳ２−１５５０−ＡＰＣ）を用いた。それぞれの光ファイバ１１１５，１１１６から出射される光信号α１５，α１６の方向は、光ファイバ１１１５，１１１６を保持するファイバフォルダ１５１５，１５１６で調整する。
【００６０】
ファイバフォルダ１５１５，１５１６は、電流出力部３０の受光面３１への光信号α１５，α１６の入射角度θを例えば4°に位置調整する。ファイバフォルダ１５１５，１５１６は、例えばＴＨＯＲＬＡＢＳ社製のＫＭ１００Ｖ／Ｍを用いることができる。その大きさは、１辺が50mmの正方形である。
【００６１】
受光面３１の中心から、例えば5個の光ファイバを並べた場合の一方の端の光ファイバ１１１１の中心は、ｘ軸方向に225mm（50×5-25mm）離れた位置である。そこから出射される光信号の受光面３１への入射角度を4°にするためには、受光面３１とコリメータレンズの間を3217mm（3217=225×sin4°）離す必要がある。
【００６２】
（本実施形態の光路長）
図１４に、本実施形態の具体的な光路長の例を示す。図１４は、光和演算装置１の凹面鏡２１の２次係数ｃを、例えばc=0.926×10-3とした場合の主要構成部の配置を示す上面図である。
【００６３】
c=0.926×10-3とした場合の凹面鏡２１の焦点Ｆは、式（１）から270mmである。よって、電流出力部３０の受光面３１は、凹面鏡２１の底Ｏと直交するｚ軸上の底Ｏから270mmの位置に配置する。
【００６４】
直径が4mmのコリメータ付き光ファイバを、ｚ軸を中心にｘ軸方向に５本（１１１１〜１１１５）配置し、−ｘ方向に５本（１１１６〜１１１Ａ）配置した。それぞれの光ファイバに接続されている参照符号を省略したコリメータレンズの直径は、光ファイバの直径と同じである。コリメータ付き光ファイバ１１１１〜１１１Ａは、隣接するコリメータレンズ同士を接触させて配列する。
【００６５】
このように光ファイバ１１１１〜１１１Ａを配置した場合のｘ軸方向の両外側の光ファイバ１１１１と１１１Ａの中心は、18mmと-18mmである。つまり、光ファイバ１１１１は、（x=18, y=0, Z≧270）に配置する。また、光ファイバ１１１Ａは、（x=-18, y=0, Z≧270）に配置する。
【００６６】
ここでZ≧270mmは、コリメータレンズ１２が、集光部２０で反射して来る光信号を遮断しない位置を表す。この例ではz=300mmに配置した。
【００６７】
電流出力部３０の受光面３１への光信号の入射角度θが最も大きくなるのは、光信号α１１とα１Ａである。光信号α１１で検証する。
【００６８】
光信号α１１は、次式で表されるｘ座標から出射する必要がある。
【００６９】
【数５】
2018087840.tif 000007
例えば、入射角度θ=4°とするとX≒18.88mmである。この例では光信号α１１の出射位置の座標は、（x=18, y=0, Z=300）であるので式（５）の条件を満たす。光信号α１Ａについても条件を満たす。
【００７０】
図１５に、本実施形態の具体例の光路長を示す。横軸は凹面鏡２１の底Ｏからの距離（ｘ又はｙ）、縦軸は光路長（ｚ）であり、それぞれの単位はmmである。それぞれのプロットの横軸は、光ファイバ１１１１〜１１１Ａの中心の座標（-18〜18mmの4mm間隔）を表す。
【００７１】
本実施形態の光和演算装置１の光路長は、570mmである。この光路長は、凹面鏡２１と光信号の出射位置の間隔300mmにした場合である。したがって、あと30mm（焦点との差分）は更に短くすることが可能である。
【００７２】
このように本実施形態の光和演算装置１は、光路長を比較例の５分の１以下に短縮することができる。したがって、和演算の速度を５倍以上に高速化することができる。
【００７３】
以上説明したように本実施形態の光和演算装置１，２によれば、光学系をコンパクトに構成でき、和演算時間を短縮することができる。
【００７４】
なお、光和演算装置１は、コリメータレンズ１２と光ファイバ１１の数を10×10の100個の例で説明を行ったが、本発明はこの例に限定されない。光信号の数は幾つであっても良い。
【００７５】
また、電流出力部３０の受光面３１への光信号の入射角度θを4°の例で説明を行ったが、この例に限定されない。入射角度θは、受光素子の大きさに依存する。用いる受光素子によっては、より大きな角度（又は小さな角度）で有っても良い。
【００７６】
また、集光部２０の凹面鏡２１はオフセット型を用いても良い。オフセット型を用いることで、焦点を光出力部１０と対向する範囲の外に配置することができ、電流出力部３０の配置を容易にすることができる。このように本発明は、上記の実施形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で変形が可能である。
【産業上の利用可能性】
【００７７】
本実施の形態は、例えば階層型ニューラルネットワークの学習装置に適用することができ、光コンピューティングなどの分野に利用可能である。
【符号の説明】
【００７８】
１、２：光和演算装置
１０：光出力部
１１、１１１１〜１１ＡＡ：光ファイバ
１２、１２１１〜１２ＡＡ：コリメータレンズ
１３：結束固定部
１４；支持部
１５、１５１５、１５１６：ファイバフォルダ
２０：集光部
２１：凹面鏡
２２：円環部分
２３：中央部分
３０：電流出力部
３１：受光面
【図１】
2018087840.tif 000009
【図２】
2018087840.tif 000010
【図３】
2018087840.tif 000011
【図４】
2018087840.tif 000012
【図５】
2018087840.tif 000013
【図６】
2018087840.tif 000014
【図７】
2018087840.tif 000015
【図８】
2018087840.tif 000016
【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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