(57)【要約】      （修正有）【課題】レベリングが完了したウエハステージを確実に固定し、レベリングの歪みを防止するマスクアライナ用ステージレベラリング装置を提供する。【解決手段】レベリングロッド４０の外側に挟まれているロッキングリング８０が傾斜状態を維持する時には、ロッキングリング８０の内周面がレベリングロッド４０の両側を加圧固定しながらロッキングし、前記ロッキングリングが水平状態を維持する時には、ロッキングリング８０の内周面がレベリングロッド４０と離隔しながらロッキングを解除する。【選択図】図５
2018029166.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベース板（１０）の上端に円周方向に沿って離隔設置され、中央にロッドガイドホール（２１）が上下に貫通して形成されている複数のガイドブロック（２０）と、
前記ベース板（１０）の底面に取り付けられ、ピストンロッド（３１）がベース板（１０）を貫通してロッドガイドホール（２１）に挿入されている複数のレベリングエアショックアブソーバ（３０）と、
前記ピストンロッド（３１）の上端に安着された状態でロッドガイドホール（２１）に挿入設置され、上部に形成されている接地ピン（４１）は外部に露出設置されている複数のレベリングロッド（４０）と、
前記レベリングロッド（４０）の上端に安着されるウエハステージ（５０）と、
前記ガイドブロック（２０）に下側が一体として結合され、上側はウエハステージ（５０）の上下を貫通して結合されている複数のガイドボルト（６０）と、
前記レベリングエアショックアブソーバ（３０）のピストンロッド（３１）に貫通された状態でガイドブロック（２０）の上端に固定設置されているリングハウジング（７０）と、
前記ピストンロッド（３１）に貫通された状態でリングハウジング（７０）の内部に挿入され、一側に形成されている回転支持具（８１）がリングハウジング（７０）の内周面に形成されている支持ホール（７１）に嵌められて支持されているロッキングリング（８０）と、
前記ガイドブロック（２０）の上端に陥没形成されているシリンダ溝２４に挿入設置され、上部に形成されているピストンロッド（９１）がロッキングリング（８０）の底面に接地されるロッキング制御シリンダ（９０）とからなることを特徴とするレベリング維持力の向上した高性能マスクアライナ用ステージレベリング装置。
【請求項２】
ベース板（１０）の上端に円周方向に沿って離隔設置され、中央にロッドガイドホール（２１）が上下に貫通して形成されている複数のガイドブロック（２０）と、
前記ベース板（１０）の底面に取り付けられ、ピストンロッド（３１）がベース板（１０）を貫通してロッドガイドホール（２１）に挿入されている複数のレベリングエアショックアブソーバ（３０）と、
前記ピストンロッド（３１）の上端に安着された状態でロッドガイドホール（２１）に挿入設置され、上部に形成されている接地ピン（４１）は外部に露出設置されている複数のレベリングロッド（４０）と、
底面に取り付けられている複数のサポート（５２）が前記レベリングロッド（４０）の上端に安着されるウエハステージ（５０）と、
前記ガイドブロック（２０）に下側が一体として結合され、上側はサポート（５２）の上下を貫通して結合されている複数のガイドボルト（６０）と、
前記レベリングエアショックアブソーバ（３０）のピストンロッド（３１）に貫通された状態でガイドブロック（２０）の上端に固定設置されているリングハウジング（７０）と、
前記ピストンロッド（３１）に貫通された状態でリングハウジング（７０）の内部に挿入され、一側に形成されている回転支持具（８１）がリングハウジング（７０）の内周面に形成されている支持ホール（７１）に嵌められて支持されているロッキングリング（８０）と、
前記ガイドブロック（２０）の上端に陥没形成されているシリンダ溝（２４）に挿入設置され、上部に形成されているピストンロッド（９１）がロッキングリング（８０）の底面に接地されるロッキング制御シリンダ（９０）とからなることを特徴とするレベリング維持力の向上した高性能マスクアライナ用ステージレベリング装置。
【請求項３】
前記レベリングエアショックアブソーバ（３０）は、低摩擦シリンダを適用したことを特徴とする請求項１に記載のレベリング維持力の向上した高性能マスクアライナ用ステージレベリング装置。
【請求項４】
前記ロッキング制御シリンダ（９０）の後進作動時のロッキングリング（８０）は、回転支持具（８１）を基点として下向回転しながら傾斜状態を維持すると共に、前記ロッキングリング（８０）の内周面（８３）の両側がレベリングロッド（４０）の外周面の両側を加圧固定しながらロッキングする一方、前記ロッキング制御シリンダ（９０）の前進作動時のロッキングリング（８０）は、回転支持具（８１）を基点として上向回転しながら水平状態を維持すると共に、前記ロッキングリング（８０）の内周面（８３）は、レベリングロッド（４０）の外周面と離隔しながらロッキングを解除することを特徴とする請求項１に記載のレベリング維持力の向上した高性能マスクアライナ用ステージレベリング装置。
【請求項５】
前記ロッキングリング（８０）は、内周面（８３）の中央に形成されているリング溝（８４）に圧着リング（８５）が嵌められて設けられ、前記内周面（８３）の上下の角部には、干渉防止部（８６）がそれぞれ陥没形成されていることを特徴とする請求項１に記載のレベリング維持力の向上した高性能マスクアライナ用ステージレベリング装置。
【請求項６】
前記回転支持具（８１）は、ロッキングリング（８０）の一側に形成されている結合突部（８２）に複数個が間隔をおいて一体としてねじ結合され、前記支持ホール（７１）に挿入される部分は矩形で形成されていることを特徴とする請求項１に記載のレベリング維持力の向上した高性能マスクアライナ用ステージレベリング装置。
【請求項７】
前記ロッキングリング（８０）の一側の上部面及びリングハウジング（７０）の上部の内面には、それぞれスプリング支持溝（８７）が陥没形成され、前記スプリング支持溝（８７）には、ロッキングリング（８０）を下向きに弾性バイアスさせるスプリング（８８）が嵌められて支持されていることを特徴とする請求項１に記載のレベリング維持力の向上した高性能マスクアライナ用ステージレベリング装置。
【請求項８】
前記リングハウジング（７０）の一側には、ストッパ（１００）が内部に露出するようにねじ結合され、前記ストッパ（１００）は、ロッキングリング（８０）の上向回転時に水平状態から外れないように過度な回転を制限することを特徴とする請求項１に記載のレベリング維持力の向上した高性能マスクアライナ用ステージレベリング装置。
【請求項９】
前記ロッキング制御シリンダ（９０）を前進作動すると、ロッキングリング（８０）は、レベリングロッド（４０）のロッキングを解除し、ウエハの正常なレベリングを行い、ウエハの正常なレベリングを行う過程でピーエルシー（ＰＬＣ）は、レベリングエアショックアブソーバ（３０）に設けられている圧力センサ（１１０）を通じてレベリングロッド（４０）に加えられる圧力値がフィードバックされ、設定圧力値と比較判断し、レベリングが完了した時点に前記ロッキング制御シリンダ（９０）を後進作動させ、ロッキングリング（８０）がレベリングロッド（４０）をロッキングするように制御することを特徴とする請求項１に記載のレベリング維持力の向上した高性能マスクアライナ用ステージレベリング装置。
【請求項１０】
前記ガイドブロック（２０）には、ウエハステージ（５０）のセンタリングを維持する３組のセンタリングモジュール（１３０、１４０）が備えられている一方；
前記３組のセンタリングモジュール（１３０、１４０）のうち２組のセンタリングモジュール（１３０）は、ガイドブロック（２０）の外面に固定センタリングバー（１３１）が一体として取り付けられ、固定センタリングバー（１３１）の上部に結合されているボールプランジャ（１３３）は、サポート５２の外面を密着支持しており；
前記３組のセンタリングモジュール（１３０、１４０）のうち１組のセンタリングモジュール（１４０）は、ガイドブロック（２０）の外面に回転センタリングバー（１４１）の下側が連結ピン（１４２）で貫通されて回転可能に設けられ、前記回転センタリングバー（１４１）の上部に結合されているボールプランジャ（１４３）は、サポート（５２）の外面を密着支持しており、前記回転センタリングバー（１４１）を貫通して設けられているスプリング支持ボルト（１４４）には、引張スプリング（１４５）の一側が連結され、前記引張スプリング（１４５）の他側は、ガイドブロック（２０）に形成されているスプリング挿入部（２６）に挿入された状態でスプリング固定具（１４６）に連結されていることを特徴とする請求項２に記載のレベリング維持力の向上した高性能マスクアライナ用ステージレベリング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レベリングが完了したウエハステージを確実に固定して、レベリングの歪みを防止し、レベリング可能なウエハの最大容量（重さ）を増やし、性能を改善する新規な技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
最近、半導体素子は、競争力の確保に必要な低コスト・高品質を達成するために高集積化が必須である。高集積化のためには、トランジスタ素子のゲート酸化膜厚を薄く、チャンネル長を短くする作業などを含むスケールダウンが伴われ、それに従い、半導体製造工程の技術及び製造システムも様々な形態に発展している。
【０００３】
半導体製造工程の１つであるフォトリソグラフィ（ｐｈｏｔｏ−ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）工程は、ウエハの表面に付いた異物質を除去するウエハ洗浄工程、感光膜がウエハにちゃんと接着されるようにウエハの表面を処理する表面処理工程、感光膜をウエハに所望の厚さで均一に塗布する感光膜塗布工程、マスク或いはレチクル（以下、「マスク」と称する）を感光膜が塗布されたウエハの上に位置させ、上記マスクの上で光を露光させることにより、マスクに描かれた回路パターンがウエハ上に形成されるようにする整列及び露光工程、露光によって変形された感光膜を洗浄液で除去する現像工程で構成されるが、特に整列／露光工程を行う核心的な半導体装置をマスクアライナ（Ｍａｓｋ  ａｌｉｇｎｅｒ）という。
【０００４】
上記した通常のマスクアライナには、所定パターンが彫られたマスクが安着されるマスクステージ（Ｍａｓｋ  ｓｔａｇｅｓ）と、上記マスクのパターンが食刻されるウエハが安着されるウエハステージ（Ｗａｐｅｒ  ｓｔａｇｅ）と、これらの間に設けられる投影光学系とが含まれる。
【０００５】
上記マスクステージには回路パターンが形成されているマスクを安着し、上記ウエハステージには真空吸着されたウエハを安着した後、水平及び垂直に移動することで、露光する位置を選定するようになる。
【０００６】
このようなマスクアライナに係る先行技術としては、本発明の出願人の先登録発明である「韓国特許登録第１３６０９５４号、名称／レベリング性能の向上したマスクアライナ用ステージレベリング装置」が開示されている。
【０００７】
上記先行技術は、複数のレベリングエアショックアブソーバを用いて、ウエハステージを上下に自由に動かしながらレベリングを行い、１つのセンタリングモジュールを用いて、ウエハステージの中央を１点支持することでセンタリングを維持し、レベリングが終わった後、ステージ固定シリンダがレベリングロッドの側面を加圧固定しながらレベリングを維持する効果を提供する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】韓国特許登録第１３６０９５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
このようなレベリングは、如何に精密に行われても、レベリングが完了した後にウエハステージの微細な動きが発生すると、レベリングが歪んで無駄になる。
【００１０】
上記先行技術は、レベリングロッドの側面を部分的に加圧する方法でレベリングが完了したウエハステージを固定することにより、上記レベリングロッドが上下左右に流動しながら発生する偏差（エラー）によってレベリングが歪み、上記レベリングロッドの固定力が弱まってスリップが発生し、最大レベリングが可能なウエハ（サンプル）の重さがその分減るのが現状である。
【００１１】
また、上記先行技術に適用されているエアショックアブソーバは、一般のエアシリンダを用いることで、初期設定値が高くて、作動による柔軟性が低下するだけでなく、微細圧力の調節が難しいという問題点を引き起こす。
【００１２】
更に、上記ウエハステージの中央を１点支持するセンタリングモジュールは、加工及び組立具合によってセンタリングの性能が著しく左右されるので、製作過程において必ず高度な熟練度及び超精密度が要求されることになり、このような要件を満たさない場合、センタリングが正確に行われないという問題点を引き起こす。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、上記した課題を解決するための手段として、レベリングロッドの外側に挟まれているロッキングリングが傾斜状態を維持する時には、ロッキングリングの内周面がレベリングロッドの両側を加圧固定しながらロッキングすることができるようにし、上記ロッキングリングが水平状態を維持する時には、ロッキングリングの内周面がレベリングロッドと離隔しながらロッキングを解除することができるようにする技術を提供する。
【００１４】
また、本発明は、ロッキング制御シリンダを前進作動させ、ロッキングリングのロッキングを解除した状態でウエハのレベリングを行う過程で、低摩擦シリンダを適用したレベリングエアショックアブソーバの圧力値がフィードバックされ、これに基づき、レベリングが完了した正確な時点にロッキング制御シリンダを後進作動させ、ロッキングリングがレベリングロッドをロッキングすることができるようにする技術を提供する。
【００１５】
また、本発明は、ウエハステージの周りに３箇所設けられているセンタリングモジュールが、ウエハステージの外周面を３点支持することで、センタリングを精密に維持することができるようにする技術を提供する。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によると、レベリングロッドの外側に嵌められて設けられているロッキングリングの内周面が、上記レベリングロッドの両側を加圧固定することで、レベリングロッドが動くことなくレベリングエアショックアブソーバをロッキングしてウエハステージを固定することにより、露光作業時に精密なレベリングを維持して、作業品質が向上するだけでなく、上記ウエハステージの固定力を強化し、レベリング可能なウエハの最大容量（重さ）を増やして、レベリング装置の性能を大幅に向上させる効果を提供する。
【００１７】
また、上記レベリングロッドの両側を均等な圧力で固定することにより、レベリングロッドの左右の動きを防止することはもちろん、ある一方に傾いて曲げられたり歪んだりすることを防止して、レベリングロッドの耐久性を大幅に向上させる。
【００１８】
更に、本発明は、レベリングを行うレベリングエアショックアブソーバに低摩擦シリンダを適用することにより、微細圧力の調節、コンタクトフォース（Ｃｏｎｔａｃｔ  Ｆｏｒｃｅ）の制御が可能であるだけでなく、上記レベリングエアショックアブソーバに設けられている圧力センサを通じてウエハのレベリングを行う過程で圧力値がフィードバックされ、上記レベリングエアショックアブソーバのロッキングを制御することにより、レベリングが完了した正確な時点にロッキング制御シリンダを作動させてロッキングが行われる効果を提供する。
【００１９】
また、本発明は、上記ウエハステージの周りに設けられている３組のセンタリングモジュールが、上記ウエハステージの外周面を３点支持する方式でセンタリングを維持することにより、上記センタリングモジュールの加工及び組立具合による誤差の発生が非常に少なく、センタリングモジュールの製作時に高度な熟練度や精密度が必要とされず、製作が容易なだけでなく、製作コストを低減しながらも、非常に精密なセンタリング性能が発揮できる効果を提供する。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明を適用したステージレベリング装置の平面図である。
【図２】本発明のステージレベリング装置の正面図である。
【図３】本発明のベース板の平面図である。
【図４】本発明の図１のＡ−Ａ線部分の拡大断面図である。
【図５】本発明のレベリングロッド、リングハウジング、ロッキングリング及びロッキング制御シリンダの設置状態の正断面図である。
【図６】本発明のレベリングロッド、リングハウジング及びロッキングリングの設置状態の平断面図である。
【図７】本発明のロッキングリングの平面図及び正断面図である。
【図８】本発明のロッキングリングがロッキング解除された状態の正断面図である。
【図９】本発明のロッキングリングがロッキングされた状態の正断面図である。
【図１０】本発明のストッパの設置状態の正断面図である。
【図１１】本発明の固定センタリングバーを適用したセンタリングモジュールの正面図である。
【図１２】本発明の回転センタリングバーを適用したセンタリングモジュールの正断面図である。
【図１３】本発明の回転センタリングバーを適用したセンタリングモジュールの平断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本発明が解決しようとする課題の解決手段を更に具体的に具現するための好ましい実施例に対して説明する。
【００２２】
本発明の好ましい実施例に係る全体構成を添付した図面に基づき概略的に説明すると、複数のガイドブロック２０、複数のレベリングエアショックアブソーバ３０、複数のレベリングロッド４０、ウエハステージ５０、複数のガイドボルト６０、リングハウジング７０、ロッキングリング８０、ロッキング制御シリンダ９０の構成要素で大きく分けられることが分かる。
【００２３】
以下、上記概略的な構成からなる本発明を、実施が容易になるように更に詳しく説明する。
本発明のベース板１０は、公知の上下移動装置によって上下方向に移動可能に設けられるもので、このようなベース板１０の上端には円周方向に沿って１２０°の間隔をおいて複数のガイドブロック２０が離隔設置され、ガイドブロック２０は、中央にレベリングロッド４０の上下移動を案内するロッドガイドホール２１が上下に貫通して形成されている。
【００２４】
上記ベース板１０の底面には、ガイドブロック２０と互いに１組になる複数のレベリングエアショックアブソーバ３０が取り付けられ、レベリングエアショックアブソーバ３０のピストンロッド３１は、ベース板１０に形成されているロッド通路１１を通過し、ガイドブロック２０に形成されているロッドガイドホール２１の下側の内部に挿入される。
【００２５】
このようなレベリングエアショックアブソーバ３０は、一般のエアシリンダを適用することではなく、ピストンの摺動抵抗が小さく設計されて低圧力でもスムーズに作動する特性を有する低摩擦シリンダを適用することにより、微細圧力の調節はもちろんコンタクトフォース（Ｃｏｎｔａｃｔ  Ｆｏｒｃｅ）が制御できる効果を提供する。
【００２６】
上記ロッドガイドホール２１の上部には、ピストンロッド３１の上端に安着されるレベリングロッド４０が挿入設置され、上記レベリングロッド４０の上部に突出形成されている接地ピン４１は外部に露出されることにより、接地ピン４１の上端にはウエハステージ５０が安着できるようになる。
【００２７】
ここにおいて、上記レベリングロッド４０の下端にはマグネチック４２が埋設され、上記マグネチック４２の磁力によってレベリングエアショックアブソーバ３０のピストンロッド３１が密着接地されることで、上記レベリングロッド４０及びピストンロッド３１は、相互一体化した動きを成し、レベリングの性能を画期的に向上させる。
【００２８】
また、上記ガイドブロック２０の底面に形成されているボルト挿入溝２２に挿入されている複数のガイドボルト６０は、下側がガイドブロック２０の上部を貫通して一体としてねじ結合され、上側はウエハステージ５０の上下を貫通して上部にナット２３がねじ結合されることにより、ウエハステージ５０は、ガイドブロック２０と分離されない一体性を維持するだけでなく、レベリングを行う時にはウエハステージ５０の下部移動をスムーズに案内できるようになる。
【００２９】
したがって、上記ウエハステージ５０に衝撃が伝わっても、レベリングエアショックアブソーバ２０は衝撃をスムーズに吸収する緩衝力を発揮し、特に本発明では、レベリングエアショックアブソーバ３０が３箇所に設けられていることにより、最も安定的にウエハステージ５０を３点支持しながら、レベリングをスムーズに行うことができるようになる。
【００３０】
上記ウエハステージ５０は、レベリングロッド４０の上端に直接安着されることもできるが、この場合、ウエハステージ５０の規格が必要以上に大きくなることを防止するように、上記ウエハステージ５０の底面には外向きに突出した複数のサポート５２が取り付けられ、上記サポート５２がレベリングロッド４０の上端に安着されており、上記複数のガイドボルト６０は、サポート５２の上下を貫通して結合されている状態で、サポート５２の上面に密着するナット２３がねじ結合されるようになる。
【００３１】
また、本発明は、レベリングが完了した後、レベリングロッド４０の両側を同時に加圧固定する方式でレベリングエアショックアブソーバ３０をロッキングすることにより、ウエハステージ５０が流動することなく固定され得るようにする本発明の核心技術が導入される。
【００３２】
このための技術構成として、上記ガイドブロック２０の上端には、下部が開放されているリングハウジング７０が固定設置され、上記レベリングエアショックアブソーバ３０のピストンロッド３１は、リングハウジング７０を貫通して外部に露出される。
【００３３】
上記リングハウジング７０の内部には、ピストンロッド３１に貫通された状態でロッキングリング８０が挿入設置され、上記ロッキングリング８０の一側に形成されている回転支持具８１は、リングハウジング７０の内周面に形成されている支持ホール７１に嵌められて支持されることにより、ロッキングリング８０は回転支持具８１を基点として上下に回転できるようになっている。
【００３４】
ここにおいて、上記ロッキングリング８０は、円板の形態からなり、一側に結合突部８２が突出形成され、上記結合突部８２には、リングハウジング７０の内面に形成されている複数の支持ホール７１にそれぞれ嵌められて支持される複数の回転支持具８１が間隔をおいて一体としてねじ結合されており、上記回転支持具８１は、支持ホール７１に挿入される部分が矩形で形成されることにより、支持ホール７１との接触面積が小さくなり、回転作動時の摩擦抵抗を減らし、スムーズな作動性を提供する。
【００３５】
上記ガイドブロック２０の上端には、ロッドガイドホール２１と隣接してシリンダ溝２４が陥没形成され、シリンダ溝２４には、ロッキングリング８０のロッキング／アンロッキングを選択的に制御するロッキング制御シリンダ９０が挿入設置されており、ロッキング制御シリンダ９０に形成されているピストンロッド９１は、外部に露出されてロッキングリング８０の底面に接地されることで、上記ロッキング制御シリンダ９０の上下線形運動にしたがい、ロッキングリング８０は回転支持具８１を基点として上下に回転できるようになる。
【００３６】
このような構成からなる本発明は、ウエハステージ５０のウエハチャックに安着されるウエハがマスクと超精密の平行度を維持するレベリングを行った後、上記ウエハステージ５０を上下自由流動状態で支持していたレベリングロッド４０を一時的に固定することにより、マスクとウエハの相互間の平行度が歪むことを防止するレベリングが維持できるようになる。
【００３７】
ここにおいて、ロッキングリング８０は、レベリング作業の際、図８のように、水平状態を維持することにより、ロッキングリング８０の内周面８３とレベリングロッド４０の外周面との間には隙間が形成され、レベリングロッド４０が上下に自由に流動しながら正常なレベリングが可能になり、レベリングが完了した後には、レベリングロッド４０を加圧固定するようになる。
【００３８】
このようなレベリングロッド４０を固定する方法は、図９のように、上記ロッキング制御シリンダ９０を後進作動させると、ロッキングリング８０が回転支持具８１を基点として下向回転しながら傾斜状態を維持すると共に、上記ロッキングリング８０の内周面８３の両側はレベリングロッド４０の外周面の両側を加圧固定することにより、ロッキングを維持するようになる。
【００３９】
したがって、上記ロッキングリング８０は、レベリングロッド４０の外周面の両側を加圧固定し、レベリングロッド４０の微細な動きはもちろん、ある一方への傾きや歪みなしにウエハステージを固定することにより、露光作業時の精密なレベリングを維持し、作業品質を画期的に向上させる効果を提供する。
【００４０】
また、上記レベリングロッド４０の固定状態を解除する方法は、上記ロッキング制御シリンダ９０を前進作動させると、ロッキングリング８０が回転支持具８１を基点として上向回転しながら水平状態の本来の位置を維持すると共に、上記ロッキングリング８０の内周面８３は、レベリングロッド４０の外周面と離隔しながら隙間を形成することにより、ロッキングが自動で解除できるようになる。
【００４１】
上記ロッキングリング８０は、内周面８３の中央にリング溝８４が陥没形成され、リング溝８４に嵌められて設けられている圧着リング８５は、レベリングロッド４０の外周面を更に圧着固定することで、ロッキングリング８０の固定力を大幅に強化し、上記内周面の上下の角部には、それぞれの干渉防止部８６が陥没形成されていることにより、ロッキングリング８０が傾斜状態を維持している際、干渉防止部８６によって角部が外周面に引っかかる干渉現象を効果的に防止できるようになる。
【００４２】
また、本発明のロッキングリング８０は、図７乃至図８のように、一側の上部面にスプリング支持溝８７が陥没形成され、これと対応するリングハウジング７０の上部の内面にはスプリング支持溝８７が陥没形成されており、上記スプリング支持溝８７には、ロッキングリング８０を下向きに弾性バイアスさせるスプリング８８が嵌められて支持されることにより、ロッキング制御シリンダ９０のピストンロッド９１が下向きに後進作動する際、弾性力を発揮し、ロッキングリング８０の下向回転を更にスムーズにする効果を提供する。
【００４３】
また、本発明は、上記ロッキングリング８０が上向きに回転する際、過度に回転して水平状態から外れないように、上記リングハウジング７０の一側に、図１０のように、ストッパ１００が内部に露出するようにねじ結合され、該ストッパ１００は、上向きに回転するロッキングリング８０の過度な回転を制限することにより、ロッキングリング８０は、正確な水平状態を維持しながらロッキングを解除することができるようになる。
【００４４】
一方、本発明は、レベリングを行う過程でレベリングロッド４０に加えられる圧力値がフィードバックされ、更に正確な時点にロッキングリング８０のロッキングが制御できるようにする技術が導入されている。
【００４５】
このための技術構成として、上記ロッキング制御シリンダ９０を前進作動させると、ロッキングリング８０は、レベリングロッド４０のロッキングを解除することにより、ウエハの正常なレベリングを行うようになる。このような過程においてピーエルシー（ＰＬＣ）は、上記レベリングエアショックアブソーバ３０に設けられている圧力センサ１１０を通じてレベリングロッド４０に加えられる圧力値がフィードバックされ、設定圧力値と比較判断し、上記ロッキング制御シリンダ９０を後進作動させ、ロッキングリング８０がレベリングロッド４０をロッキングするように制御することにより、ウエハのレベリングが完了した正確な時点にロッキングリング８０のロッキングが速かに行われ、レベリング維持力を向上させることができるようになる。
【００４６】
また、本発明は、ウエハステージ５０の周り３箇所に設けられているセンタリングモジュール１３０、１４０を用いて、ウエハステージ５０の外周面を３点支持し、センタリングを更に精密に維持可能にする３組のセンタリングモジュール１３０、１４０の技術が更に導入されている。
【００４７】
このための３組のセンタリングモジュール１３０、１４０は、上記ガイドブロック２０にそれぞれ備えられることにより、ウエハステージ５０のセンタリングを維持するもので、上記３組のセンタリングモジュール１３０、１４０のうち２組のセンタリングモジュール１３０は、図１１に示すように、ガイドブロック２０の外面に固定センタリングバー１３１が一体的に取り付けられ、固定センタリングバー１３１の上部に結合されているボールプランジャ１３３は、サポート５２の外面を密着状態で２点支持しており、上記２組のセンタリングモジュール１３０は常に固定された状態を維持することにより、センタリングのための基準点を提供する。
【００４８】
更に、３組のセンタリングモジュール１３０、１４０のうち残りの１組のセンタリングモジュール１４０は、図１２乃至図１３に示すように、ガイドブロック２０の外面に突出形成されている連結ブラケット２０ａに回転センタリングバー１４１の下側が連結ピン１４２で貫通されて回転可能に設けられ、上記回転センタリングバー１４１の上部に結合されているボールプランジャ１４３は、サポート５２の外面を密着支持しており、上記回転センタリングバー１４１を貫通して設けられているスプリング支持ボルト１４４は、ガイドブロック２０に形成されているスプリング挿入部２６に挿入されている引張スプリング１４５の一側と連結され、上記引張スプリング１４５の他側は、スプリング挿入部２６を直交状態で貫通し、ガイドブロック２０にねじ結合されて設けられているスプリング固定具１４６に連結設置される。
【００４９】
したがって、上記回転センタリングバー１４１は、引張スプリング１４５の引張力によって、基準点を提供する２組の固定センタリングバー１３１側にウエハステージ５０を加圧支持することにより、常に正確なセンタリングを更に精密に維持することができる効果を提供する。
【符号の説明】
【００５０】
１０：ベース板
２０：ガイドブロック
２１：ガイドホール
３０：レベリングエアショックアブソーバ
３１、９１：ピストンロッド
４０：レベリングロッド
４１：接地ピン
５０：ウエハステージ
５２：サポート
６０：ガイドボルト
７０：リングハウジング
７１：支持ホール
８０：ロッキングリング
８１：回転支持具
８２：結合突部
８３：内周面
８５：圧着リング
８６：干渉防止部
８７：スプリング支持溝
８８：スプリング
９０：ロッキング制御シリンダ
１００：ストッパ
１１０：圧力センサ
１３０、１４０：センタリングモジュール
１３１：固定センタリングバー
１３３、１４３：ボールプランジャ
１４１：回転センタリングバー
１４４：スプリング支持ボルト
１４５：引張スプリング
１４６：スプリング固定具
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【外国語明細書】
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2018029166000002.pdf
2018029166000003.pdf
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