(57)【要約】【課題】画素を狭ピッチ化する場合であっても十分な視野角を確保可能とする。【解決手段】互いに隣り合う第１の発光素子及び第２の発光素子を含む発光層と、第１の発光素子に対応して設けられた第１のカラーフィルター、及び、第２の発光素子に対応して設けられた第２のカラーフィルターを含むカラーフィルター層と、を備え、第１の発光素子及び第２の発光素子の間の素子間距離は、１．５μｍ以下であり、発光層及びカラーフィルター層の間の距離は、素子間距離の６倍以下である、ことを特徴とする電気光学装置。【選択図】図５
2018081831.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに隣り合う第１の発光素子及び第２の発光素子を含む発光層と、
前記第１の発光素子に対応して設けられた第１のカラーフィルター、及び、前記第２の発光素子に対応して設けられた第２のカラーフィルターを含むカラーフィルター層と、
を備え、
前記第１の発光素子及び前記第２の発光素子の間の素子間距離は、１．５μｍ以下であり、
前記発光層及び前記カラーフィルター層の間の距離は、前記素子間距離の６倍以下である、
ことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記第１の発光素子を含み、第１の波長領域の光の強度を強める第１の共振器と、
前記第２の発光素子を含み、第２の波長領域の光の強度を強める第２の共振器と、
を備え、
前記第１のカラーフィルターは、前記第１の波長領域の光を透過し、
前記第２のカラーフィルターは、前記第２の波長領域の光を透過する、
ことを特徴とする、請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記カラーフィルター層を覆う充填層と、
前記充填層を覆う保護基板と、
を備え、
前記第１の発光素子から出射された光であって、前記第１のカラーフィルター及び前記充填層を透過した後に前記保護基板を透過した光の進行方向と、前記保護基板に垂直な方向と、のなす角の最大値は、１０度以上である、
ことを特徴とする、請求項１または２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記カラーフィルター層を覆う充填層を備え、
前記発光層及び前記充填層の間の距離は、前記素子間距離の９倍以下である、
ことを特徴とする、請求項１乃至３のうち何れか１項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記第２のカラーフィルターは、前記第１のカラーフィルターの少なくとも一部の上に形成され、
前記第１のカラーフィルターを透過する光は、前記第２のカラーフィルターを透過する光よりも視感度が高い、
ことを特徴とする、請求項１乃至４のうち何れか１項に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記発光層及び前記カラーフィルター層の間に形成された封止層と、
前記封止層及び前記カラーフィルター層の間であって、前記第１のカラーフィルター及び前記第２のカラーフィルターの間に形成された凸部と、
を備える、
ことを特徴とする、請求項１乃至５のうち何れか１項に記載の電気光学装置。
【請求項７】
互いに隣り合う第１の発光素子及び第２の発光素子を含む発光層を形成するステップと、
前記第１の発光素子に対応する第１のカラーフィルター、及び、前記第２の発光素子に対応する第２のカラーフィルターを含むカラーフィルター層を形成するステップと、
を備え、
前記第１の発光素子及び前記第２の発光素子の間の素子間距離は、１．５μｍ以下であり、
前記発光層及び前記カラーフィルター層の間の距離は、前記素子間距離の６倍以下である、
ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
請求項１乃至７のうち何れか１項に記載の電気光学装置を備える、
ことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び、電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ（electro luminescent）素子等の発光素子を含む電気光学装置において、カラー表示を実現するために、発光素子を覆う封止層の上に、所望の波長領域の光を透過するカラーフィルターが設けられた構成が知られている。例えば、特許文献１及び特許文献２には、発光素子を覆う封止層上に、赤色の光を透過させる赤色のカラーフィルターと、緑色の光を透過させる緑色のカラーフィルターと、青色の光を透過させる青色のカラーフィルターと、が設けられた構成が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−２３７３８４号公報
【特許文献２】特開２００４−２２７８５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、近年、電気光学装置に設けられる画素の狭ピッチ化が進み、例えば、画素のピッチが１０μｍ以下となるような、画素のピッチの狭い電気光学装置が開発されている。そして、画素の狭ピッチ化が進むと、発光素子の間隔が狭くなり、また、各発光素子に対応して設けられるカラーフィルターの幅も狭くなる。このため、画素の狭ピッチ化が進むと、発光素子から出射された光のうち当該発光素子に対応して設けられるカラーフィルターを透過する光の進行方向とカラーフィルターに垂直な方向とのなす角の最大値が小さくなり、その結果、電気光学装置の視野角が狭くなる、という問題があった。
【０００５】
本発明は、上述した事情を鑑みてなされたものであり、画素を狭ピッチ化する場合であっても十分な視野角を確保可能とする技術の提供を、解決課題の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
以上の課題を解決するために、本発明に係る電気光学装置は、互いに隣り合う第１の発光素子及び第２の発光素子を含む発光層と、前記第１の発光素子に対応して設けられた第１のカラーフィルター、及び、前記第２の発光素子に対応して設けられた第２のカラーフィルターを含むカラーフィルター層と、を備え、前記第１の発光素子及び前記第２の発光素子の間の素子間距離は、１．５μｍ以下であり、前記発光層及び前記カラーフィルター層の間の距離は、前記素子間距離の６倍以下である、ことを特徴とする。
【０００７】
本発明によれば、発光素子の間隔を１．５μｍ以下に狭める場合であっても、発光素子及びカラーフィルター層の間隔を、素子間距離の６倍以下に狭めるため、発光素子及びカラーフィルター層の間隔が、素子間距離の６倍よりも大きい場合と比較して、視野角特性を良好に維持することが可能となる。
【０００８】
上述した電気光学装置は、前記第１の発光素子を含み、第１の波長領域の光の強度を強める第１の共振器と、前記第２の発光素子を含み、第２の波長領域の光の強度を強める第２の共振器と、を備え、前記第１のカラーフィルターは、前記第１の波長領域の光を透過し、前記第２のカラーフィルターは、前記第２の波長領域の光を透過する、ことを特徴としてもよい。
【０００９】
この態様によれば、第１のカラーフィルターに対して第１の波長領域の光を入射させ、第２のカラーフィルターに対して第２の波長領域の光を入射させるため、第１のカラーフィルター及び第２のカラーフィルターに対して可視光の全ての波長領域の光を入射させる場合と比較して、電気光学装置における表示の色純度を高めることが可能となる。
【００１０】
上述した電気光学装置は、前記カラーフィルター層を覆う充填層と、前記充填層を覆う保護基板と、を備え、前記第１の発光素子から出射された光であって、前記第１のカラーフィルター及び前記充填層を透過した後に前記保護基板を透過した光の進行方向と、前記保護基板に垂直な方向と、のなす角の最大値は、１０度以上である、ことを特徴としてもよい。
【００１１】
この態様によれば、１０度以上の視野角を確保することができるため、１０度未満の視野角しか確保できない場合と比較して、電気光学装置の利用者の利便性を向上させることができる。
【００１２】
上述した電気光学装置は、前記カラーフィルター層を覆う充填層を備え、前記発光層及び前記充填層の間の距離は、前記素子間距離の９倍以下である、ことを特徴としてもよい。
【００１３】
この態様によれば、発光素子及び充電層の間隔を、素子間距離の９倍以下に狭めるため、発光素子及び充電層の間隔が、素子間距離の９倍よりも大きい場合と比較して、視野角特性を良好に維持することが可能となる。
【００１４】
上述した電気光学装置において、前記第２のカラーフィルターは、前記第１のカラーフィルターの少なくとも一部の上に形成され、前記第１のカラーフィルターを透過する光は、前記第２のカラーフィルターを透過する光よりも視感度が高い、ことを特徴としてもよい。
【００１５】
第１のカラーフィルターを透過する光は、第２のカラーフィルターを透過する光よりも視感度が高いため、第１のカラーフィルターの剥離が色変化として視認される可能性は、第２のカラーフィルターの剥離が色変化として視認される可能性よりも高い。これに対して、本態様によれば、第１のカラーフィルターの少なくとも一部を、第２のカラーフィルターにより保護するため、第１のカラーフィルターが剥離する可能性を低減させることが可能となる。よって、本態様によれば、カラーフィルターの剥離に起因する色変化が視認される可能性を低減することができる。
【００１６】
上述した電気光学装置は、前記発光層及び前記カラーフィルター層の間に形成された封止層と、前記封止層及び前記カラーフィルター層の間であって、前記第１のカラーフィルター及び前記第２のカラーフィルターの間に形成された凸部と、を備える、ことを特徴としてもよい。
【００１７】
この態様によれば、第１のカラーフィルターを形成すべき位置と、第２のカラーフィルターを形成すべき位置との間に凸部を設けるため、第１のカラーフィルターを形成すべき位置に第２のカラーフィルターを誤って形成し、または、第２のカラーフィルターを形成すべき位置に第１のカラーフィルターを誤って形成する可能性を低減することができる。これにより、製造誤差に起因して電気光学装置の表示品位が劣化する可能性を小さく抑えることができる。
【００１８】
また、本発明に係る電気光学装置の製造方法は、互いに隣り合う第１の発光素子及び第２の発光素子を含む発光層を形成するステップと、前記第１の発光素子に対応する第１のカラーフィルター、及び、前記第２の発光素子に対応する第２のカラーフィルターを含むカラーフィルター層を形成するステップと、を備え、前記第１の発光素子及び前記第２の発光素子の間の素子間距離は、１．５μｍ以下であり、前記発光層及び前記カラーフィルター層の間の距離は、前記素子間距離の６倍以下である、ことを特徴とする。
【００１９】
本発明によれば、発光素子の間隔を１．５μｍ以下に狭める場合であっても、発光素子及びカラーフィルター層の間隔を、素子間距離の６倍以下に狭めるため、発光素子及びカラーフィルター層の間隔が、素子間距離の６倍よりも大きい場合と比較して、視野角特性を良好に維持することが可能となる。
【００２０】
また、本発明は、電気光学装置のほか、当該電気光学装置を備える電子機器として概念することも可能である。電子機器としては、典型的にはヘッドマウント・ディスプレイ（ＨＭＤ）や電子ビューファイダーのなどの表示装置が挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の実施形態に係る電気光学装置１の構成の一例を示すブロック図である。
【図２】画素Ｐxの構成の一例を示す等価回路図である。
【図３】表示部１２の構成の一例を示す平面図である。
【図４】表示部１２の構成の一例を示す部分断面図である。
【図５】発光素子３から出射される光Ｌxを説明するための説明図である。
【図６】電気光学装置１の製造方法の一例を示すフローチャートである。
【図７】電気光学装置１の製造方法の一例を説明するための説明図である。
【図８】電気光学装置１の製造方法の一例を説明するための説明図である。
【図９】電気光学装置１の製造方法の一例を説明するための説明図である。
【図１０】変形例１に係る表示部１２の構成の一例を示す平面図である。
【図１１】変形例１に係る表示部１２の構成の一例を示す部分断面図である。
【図１２】本発明に係るヘッドマウントディスプレイ３００の斜視図である。
【図１３】本発明に係るパーソナルコンピューター４００の斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。ただし、各図において、各部の寸法及び縮尺は、実際のものと適宜に異ならせてある。また、以下に述べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるものではない。
【００２３】
＜＜Ａ．実施形態＞＞
以下、本実施形態に係る電気光学装置１を説明する。
【００２４】
＜＜１．電気光学装置の概要＞＞
図１は、本実施形態に係る電気光学装置１の構成の一例を示すブロック図である。
図１に例示するように、電気光学装置１は、複数の画素Ｐxを有する表示パネル１０と、表示パネル１０の動作を制御する制御回路２０とを備える。
【００２５】
制御回路２０には、図示省略された上位装置より、デジタルの画像データＶideoが同期信号に同期して供給される。ここで、画像データＶideoとは、表示パネル１０の各画素Ｐxが表示すべき階調レベルを規定するデジタルデータである。また、同期信号とは、垂直同期信号、水平同期信号、及び、ドットクロック信号等を含む信号である。
制御回路２０は、同期信号に基づいて、表示パネル１０の動作を制御するための制御信号Ｃtrを生成し、生成した制御信号Ｃtrを表示パネル１０に対して供給する。また、制御回路２０は、画像データＶideoに基づいて、アナログの画像信号Ｖidを生成し、生成した画像信号Ｖidを表示パネル１０に対して供給する。ここで、画像信号Ｖidとは、各画素Ｐxが画像データＶideoの指定する階調を表示するように、当該画素Ｐxが備える発光素子の輝度を規定する信号である。
【００２６】
図１に例示するように、表示パネル１０は、Ｘ方向に延在するＭ本の走査線１３と、Ｙ方向に延在するＮ本のデータ線１４と、Ｍ行の走査線１３とＮ列のデータ線１４との交差に対応して、Ｍ行×Ｎ列にマトリクス状に配列されたＭ×Ｎ個の画素Ｐxを有する表示部１２と、表示部１２を駆動する駆動回路１１と、を備える（Ｍは１以上の自然数。Ｎは３以上の自然数）。
なお、以下では、複数の画素Ｐx、複数の走査線１３、及び、複数のデータ線１４を互いに区別するために、＋Ｙ方向から−Ｙ方向（以下、＋Ｙ方向及び−Ｙ方向を「Ｙ軸方向」と総称する）に向けて順番に、第１行、第２行、…、第Ｍ行と称し、−Ｘ方向から＋Ｘ方向（以下、＋Ｘ方向及び−Ｘ方向を「Ｘ軸方向」と総称する）に向けて順番に、第１列、第２列、…、第Ｎ列と称する。
【００２７】
表示部１２に設けられる複数の画素Ｐxは、赤色（Ｒ）を表示可能な画素ＰxRと、緑色（Ｇ）を表示可能な画素ＰxGと、青色（Ｂ）を表示可能な画素ＰxBと、が含まれる。そして、本実施形態では、ｋを、３≦ｋ≦Ｎを満たす３の倍数の自然数を表す変数として、第１列〜第Ｎ列のうち、第（ｋ−２）列には画素ＰxRが配置され、第（ｋ−１）列には画素ＰxGが配置され、第ｋ列には画素ＰxBが配置される場合を、一例として想定する。
【００２８】
図１に例示するように、駆動回路１１は、走査線駆動回路１１１と、データ線駆動回路１１２と、を備える。
【００２９】
走査線駆動回路１１１は、第１行〜第Ｍ行の走査線１３を順番に走査（選択）する。具体的には、走査線駆動回路１１１は、１フレームの期間において、第１行〜第Ｍ行の走査線１３のそれぞれに対して出力する走査信号Ｇw[1]〜Ｇw[M]を、水平走査期間毎に順番に所定の選択電位に設定することで、走査線１３を行単位に水平走査期間毎に順番に選択する。換言すれば、走査線駆動回路１１１は、１フレームの期間のうち、ｍ番目の水平走査期間において、第ｍ行の走査線１３に出力する走査信号Ｇw[m]を、所定の選択電位に設定することで、第ｍ行の走査線１３を選択する（ｍは、１≦ｍ≦Ｍを満たす自然数）。なお、１フレームの期間とは、電気光学装置１が１個の画像を表示する期間である。
【００３０】
データ線駆動回路１１２は、制御回路２０より供給される画像信号Ｖid及び制御信号Ｃtrに基づいて、各画素Ｐxが表示すべき階調を規定するアナログのデータ信号Ｖd[1]〜Ｖd[N]を生成し、生成したデータ信号Ｖd[1]〜Ｖd[N]を、水平走査期間毎に、Ｎ本のデータ線１４に対して出力する。換言すれば、データ線駆動回路１１２は、各水平走査期間において、第ｎ列のデータ線１４に対して、データ信号Ｖd[n]を出力する（ｎは、１≦ｎ≦Ｎを満たす自然数）。
なお、本実施形態では、制御回路２０が出力する画像信号Ｖidはアナログの信号であるが、制御回路２０が出力する画像信号Ｖidはデジタルの信号であってもよい。この場合、データ線駆動回路１１２は、画像信号ＶidをＤ／Ａ変換し、アナログのデータ信号Ｖd[1]〜Ｖd[N]を生成する。
【００３１】
図２は、各画素Ｐxと１対１に対応して設けられる画素回路１００の構成の一例を示す等価回路図である。なお、本実施形態では、複数の画素Ｐxに対応する複数の画素回路１００は、電気的には互いに同一の構成であることとする。図２では、第ｍ行第ｎ列の画素Ｐxに対応して設けられる画素回路１００を例示して説明する。
【００３２】
画素回路１００は、当該画素回路１００に対応する画素Ｐxに含まれる発光素子３と、ＰチャネルＭＯＳ型のトランジスター４１及び４２と、保持容量４３と、を備える。なお、トランジスター４１及び４２の一方または両方は、ＮチャネルＭＯＳ型のトランジスターであってもよい。また、トランジスター４１及び４２は、薄膜トランジスターや電界効果トランジスターであってもよい。
【００３３】
発光素子３は、画素電極３１と、発光機能層３２と、対向電極３３とを備える。画素電極３１は、発光機能層３２に正孔を供給する陽極として機能する。対向電極３３は、画素回路１００の低電位側の電源電位である電位Ｖctに設定された給電線１６に電気的に接続され、発光機能層３２に電子を供給する陰極として機能する。そして、画素電極３１から供給される正孔と、対向電極３３から供給される電子とが発光機能層３２で結合し、発光機能層３２が白色に発光する。
なお、詳細は後述するが、画素ＰxRが有する発光素子３（以下、発光素子３Rと称する）には、赤色のカラーフィルター８Rが重ねて配置され、画素ＰxGが有する発光素子３（以下、発光素子３Gと称する）には、緑色のカラーフィルター８Gが重ねて配置され、画素ＰxBが有する発光素子３（以下、発光素子３Bと称する）には、青色のカラーフィルター８Bが重ねて配置される。このため、画素ＰxR、画素ＰxG、及び、画素ＰxBにより、フルカラーの表示が可能となる。
本実施形態において、発光素子３Gは、「第１の発光素子」の一例であり、発光素子３Gに対応して設けられるカラーフィルター８Gは、「第１のカラーフィルター」の一例である。また、第１の発光素子である発光素子３Gと＋Ｘ方向に隣り合う発光素子３Bまたは−Ｘ方向に隣り合う発光素子３Rの一方は、「第２の発光素子」の一例であり、第２の発光素子に対応して設けられるカラーフィルター、すなわち、カラーフィルター８Bまたはカラーフィルター８Rの一方は、「第２のカラーフィルター」の一例である。
【００３４】
トランジスター４１は、ゲートが、第ｍ行の走査線１３に電気的に接続され、ソースまたはドレインの一方が、第ｎ列のデータ線１４に電気的に接続され、ソースまたはドレインの他方が、トランジスター４２のゲートと、保持容量４３が有する２つの電極のうち一方の電極と、に電気的に接続されている。
トランジスター４２は、ゲートが、トランジスター４１のソースまたはドレインの他方と、保持容量４３の一方の電極と、に電気的に接続され、ソースまたはドレインの一方が、画素回路１００の高電位側の電源電位である電位Ｖelに設定された給電線１５に電気的に接続され、ソースまたはドレインの他方が、画素電極３１に電気的に接続されている。
保持容量４３は、保持容量４３が有する２つの電極のうち一方の電極が、トランジスター４１のソースまたはドレインの他方と、トランジスター４２のゲートと、に電気的に接続され、保持容量４３が有する２つの電極のうち他方の電極が、給電線１５に電気的に接続されている。保持容量４３は、トランジスター４２のゲートの電位を保持する保持容量として機能する。
【００３５】
走査線駆動回路１１１が、走査信号Ｇw[m]を所定の選択電位に設定し、第ｍ行の走査線１３を選択すると、第ｍ行第ｎ列の画素Ｐxに設けられたトランジスター４１がオンする。そして、トランジスター４１がオンすると、第ｎ列のデータ線１４から、トランジスター４２のゲートに対して、データ信号Ｖd[n]が供給される。この場合、トランジスター４２は、発光素子３に対して、ゲートに供給されたデータ信号Ｖd[n]の電位（正確には、ゲート及びソース間の電位差）に応じた電流を供給する。そして、発光素子３は、トランジスター４２から供給される電流の大きさに応じた輝度、すなわち、データ信号Ｖd[n]の電位に応じた輝度で発光する。
その後、走査線駆動回路１１１が、第ｍ行の走査線１３の選択を解除して、トランジスター４１がオフした場合、トランジスター４２のゲートの電位は、保持容量４３により保持される。このため、発光素子３は、トランジスター４１がオフした後も、データ信号Ｖd[n]に応じた輝度で発光することができる。
【００３６】
＜＜２．表示部の構成＞＞
以下、図３及び図４を参照しつつ、本実施形態に係る表示部１２の構成を説明する。
【００３７】
図３は、本実施形態に係る表示部１２の概略的な構造の一例を示す平面図である。
具体的には、図３は、電気光学装置１が光を出射する方向である＋Ｚ方向（以下、＋Ｚ方向及び−Ｚ方向を「Ｚ軸方向」と総称する）から、表示部１２の一部を平面視した場合を例示している。なお、Ｚ軸方向は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に交差する方向である。
【００３８】
図３に示すように、表示部１２の第（ｋ−１）列においてＹ軸方向に並ぶＭ個の画素ＰxGが有するＭ個の発光素子３Gの上（＋Ｚ方向）には、当該Ｍ個の発光素子３Gを覆うように、緑色のカラーフィルター８Gが配置される。カラーフィルター８Gは、緑色光、例えば、５４０ｎｍの波長の光の輝度が最大となる光を透過する。また、表示部１２の第ｋ列においてＹ軸方向に並ぶＭ個の画素ＰxBが有するＭ個の発光素子３Bの上（＋Ｚ方向）には、当該Ｍ個の発光素子３Bを覆うように、青色のカラーフィルター８Bが配置される。カラーフィルター８Bは、青色光、例えば、４７０ｎｍの波長の光の輝度が最大となる光を透過する。また、表示部１２の第（ｋ−２）列においてＹ軸方向に並ぶＭ個の画素ＰxRが有するＭ個の発光素子３Rの上（＋Ｚ方向）には、当該Ｍ個の発光素子３Rを覆うように、赤色のカラーフィルター８Rが配置される。カラーフィルター８Rは、赤色光、例えば、６１０ｎｍの波長の光の輝度が最大となる光を透過する。
なお、第１のカラーフィルターの一例であるカラーフィルター８Gを透過する緑色光は、「第１の波長領域の光」の一例である。また、第２のカラーフィルターの一例であるカラーフィルター８Bまたはカラーフィルター８Rを透過する光、すなわち、青色光または赤色光の一方は、「第２の波長領域の光」の一例である。すなわち、本実施形態では、第１の波長領域の光は、第２の波長領域の光よりも、視感度が高い。
【００３９】
図４は、表示部１２を、図３におけるＥ−ｅ線で破断した部分断面図の一例であり、画素ＰxRの断面と画素ＰxGの断面と画素ＰxBの断面とを含む。
【００４０】
図４に示すように、表示部１２は、素子基板５と、保護基板９と、素子基板５及び保護基板９の間に設けられた接着層９０（「充填層」の一例）と、を備える。なお、本実施形態では、電気光学装置１が保護基板９側（＋Ｚ側）から光を出射するトップエミッション方式である場合を想定する。
【００４１】
接着層９０は、素子基板５及び保護基板９を接着するための透明な樹脂層である。接着層９０は、例えば、エポキシ樹脂やアクリル樹脂等の透明な樹脂材料を用いて形成される。
保護基板９は、接着層９０の＋Ｚ側に配置される透明な基板である。保護基板９としては、例えば、石英基板やガラス基板等を採用することができる。
【００４２】
素子基板５は、基板５０と、基板５０上に積層された、反射層５１、距離調整層５２、発光層３０、封止層６０、及び、カラーフィルター層８と、を備える。詳細は後述するが、発光層３０は、上述した発光素子３（３R、３G、３B）を含む。発光素子３は、＋Ｚ方向及び−Ｚ方向に対して光を出射する。また、カラーフィルター層８は、上述したカラーフィルター８R、カラーフィルター８G、及び、カラーフィルター８Gを含む。
【００４３】
基板５０は、走査線１３やデータ線１４等の各種配線と、駆動回路１１や画素回路１００等の各種回路と、が実装された基板である。基板５０は、各種配線及び各種回路を実装可能な基板であればよい。基板５０としては、例えば、シリコン基板、石英基板、または、ガラス基板等を採用することができる。基板５０の＋Ｚ側には、反射層５１が積層される。
反射層５１は、発光層３０の発光素子３から出射された光を＋Ｚ方向側に反射するための構成要素である。反射層５１は、反射率の高い材料、例えば、アルミニウムや銀等を用いて形成される。反射層５１の＋Ｚ側には、距離調整層５２が積層されている。
距離調整層５２は、発光層３０の発光素子３と反射層５１との間の光学的距離を調整するための、絶縁性の透明層である。距離調整層５２は、絶縁性の透明材料、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）等を用いて形成される。距離調整層５２の＋Ｚ側には、発光層３０が積層されている。
【００４４】
発光層３０は、距離調整層５２上に積層された画素電極３１と、距離調整層５２及び画素電極３１上に積層された絶縁膜３４と、画素電極３１及び絶縁膜３４を覆うように積層された発光機能層３２と、発光機能層３２上に積層された対向電極３３と、を有する。
画素電極３１は、画素Ｐx毎に個別に島状に形成された、導電性を有する透明層である。画素電極３１は、導電性の透明材料、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）やＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）等を用いて形成される。
絶縁膜３４は、各画素電極３１の周縁部を覆うように配置された、絶縁性の構成要素である。絶縁膜３４は、絶縁性の材料、例えば、酸化シリコン等を用いて形成される。
対向電極３３は、複数の画素Ｐxに跨るように配置された、光透過性と光反射性とを有する導電性の構成要素である。対向電極３３は、例えば、ＭｇとＡｇとの合金等を用いて形成される。
発光機能層３２は、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層、及び、電子輸送層を備え、複数の画素Ｐxに跨るように配置されている。上述のとおり、発光機能層３２は、画素電極３１のうち絶縁膜３４により覆われていない部分から正孔が供給され、白色に発光する。すなわち、平面視した場合に、発光層３０のうち、画素電極３１が絶縁膜３４により覆われていない部分が、発光素子３に該当する。換言すれば、絶縁膜３４は、互いに隣り合う２個の発光素子３を区画する「区画部」として機能する。
また、本実施形態では、平面視した場合に、発光素子３が設けられる部分を、画素Ｐxと看做すこととする。換言すれば、平面視した場合に、絶縁膜３４は、表示部１２の有する複数の画素Ｐxを互いに区画するように配置される。なお、発光素子３から出射される白色の光とは、赤色の光、緑色の光、及び、青色の光を含む光である。
【００４５】
本実施形態では、反射層５１と対向電極３３とにより、光共振構造が形成されるように、距離調整層５２の膜厚が調整される。そして、発光機能層３２から出射された光は、反射層５１と対向電極３３との間で繰り返し反射され、反射層５１と対向電極３３との間の光学的距離に対応する波長の光の強度が強められ、当該強められた光が、対向電極３３〜保護基板９を介して＋Ｚ側に出射される。
本実施形態では、一例として、画素ＰxRにおいては、６１０ｎｍの波長の光の強度が強められ、画素ＰxGにおいては、５４０ｎｍの波長の光の強度が強められ、画素ＰxBにおいては、４７０ｎｍの波長の光の強度が強められるように、画素Ｐx毎に距離調整層５２の膜厚が設定される。このため、本実施形態において、画素ＰxRからは、６１０ｎｍの波長の光の輝度が最大となる赤色光が出射され、画素ＰxGからは、５４０ｎｍの波長の光の輝度が最大となる緑色光が出射され、画素ＰxBからは、４７０ｎｍの波長の光の輝度が最大となる青色光が出射されることになる。
なお、画素ＰxGに設けられた光共振構造、すなわち、発光素子３Gと反射層５１と距離調整層５２とを含む光共振構造を、共振構造３５Gと称する。共振構造３５Gは、第１の発光素子を含み、第１の波長領域の光の強度を強める「第１の共振器」の一例である。また、画素ＰxBに設けられた光共振構造、すなわち、発光素子３Bと反射層５１と距離調整層５２とを含む光共振構造を、共振構造３５Bと称する。また、画素ＰxRに設けられた光共振構造、すなわち、発光素子３Rと反射層５１と距離調整層５２とを含む光共振構造を、共振構造３５Rと称する。共振構造３５Bまたは共振構造３５Rの一方は、第２の発光素子を含み、第２の波長領域の光の強度を強める「第２の共振器」の一例である。
【００４６】
封止層６０は、対向電極３３上に積層された下側封止層６１と、下側封止層６１上に積層された平坦化層６２と、平坦化層６２上に積層された上側封止層６３と、を備える。
下側封止層６１及び上側封止層６３は、複数の画素Ｐxに跨るように配置された、絶縁性を有する透明層である。下側封止層６１及び上側封止層６３は、水分や酸素等の発光層３０への侵入を抑止するための構成要素であり、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）、または、酸化アルミニウム（ＡｌｘＯｙ）等の無機材料を用いて形成される。
平坦化層６２は、複数の画素Ｐxに跨るように配置された透明層であり、平坦な上面（＋Ｚ側の面）を提供するための構成要素である。平坦化層６２は、例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、若しくは、シリコン樹脂等の樹脂材料、または、シリコン酸化物等の無機材料を用いて形成される。
【００４７】
カラーフィルター層８は、カラーフィルター８R、カラーフィルター８G、及び、カラーフィルター８Bを含む。
図４に示すように、カラーフィルター８Gは、発光素子３Gの＋Ｚ側において、平面視して発光素子３Gを覆うように、上側封止層６３上に形成される。また、カラーフィルター８Bは、発光素子３Bの＋Ｚ側において、平面視して発光素子３Bを覆うように、上側封止層６３とカラーフィルター８Gとの上に形成される。また、カラーフィルター８Rは、発光素子３Rの＋Ｚ側において、平面視して発光素子３Rを覆うように、上側封止層６３とカラーフィルター８Gとカラーフィルター８Rとの上に形成される。
なお、カラーフィルター８Rは、赤色の色材を含む感光性樹脂材料から形成され、カラーフィルター８Gは、緑色の色材を含む感光性樹脂材料から形成され、カラーフィルター８Bは、青色の色材を含む感光性樹脂材料から形成される。
【００４８】
図４に示すように、カラーフィルター層８の＋Ｚ側には、カラーフィルター層８を覆うように接着層９０が設けられ、接着層９０の＋Ｚ側には、保護基板９が設けられる。
【００４９】
＜＜３．封止層及びカラーフィルター層の厚さと光の進行方向＞＞
【００５０】
以下、図５を参照しつつ、発光素子３から出射される光の進行方向と、カラーフィルター層８及び発光素子３の間隔と、の関係について説明する。
図５は、図４に示す部分断面図のうち、画素ＰxRの断面と画素ＰxGの断面とを含む部分を抜粋した図である。
【００５１】
なお、以下では、各画素Ｐxが備える封止層６０のＺ軸方向の厚さを厚さＺaと称する。そして、ＲＧＢによる区別が必要な場合には、画素ＰxRに対応する厚さＺaを厚さＺaRと称し、画素ＰxGに対応する厚さＺaを厚さＺaGと称し、画素ＰxBに対応する厚さＺaを厚さＺaBと称する。
また、以下では、各画素Ｐxが備えるカラーフィルターのＺ軸方向の厚さの最大値を厚さＺcと称する。そして、ＲＧＢによる区別が必要な場合には、画素ＰxRに対応する厚さＺcを厚さＺcRと称し、画素ＰxGに対応する厚さＺcを厚さＺcGと称し、画素ＰxBに対応する厚さＺcを厚さＺcBと称する。
また、以下では、各画素Ｐxに対応する厚さＺa及び厚さＺcの和を厚さＺtと称する。そして、ＲＧＢによる区別が必要な場合には、画素ＰxRに対応する厚さＺtを厚さＺtRと称し、画素ＰxGに対応する厚さＺtを厚さＺtGと称し、画素ＰxBに対応する厚さＺtを厚さＺtBと称する。
また、以下では、互いに隣り合う２個の発光素子３の間の間隔を間隔Ｘw（「素子間距離」の一例）と称する。そして、ＲＧＢによる区別が必要な場合には、互いに隣り合う発光素子３R及び発光素子３Gの間隔Ｘwを間隔ＸwRGと称し、互いに隣り合う発光素子３G及び発光素子３Bの間隔Ｘwを間隔ＸwGBと称し、互いに隣り合う発光素子３B及び発光素子３Rの間隔Ｘwを間隔ＸwBRと称する。
また、以下では、各画素Ｐxが備える発光素子３の＋Ｘ側の端部から出射された光であって、当該画素Ｐxが備えるカラーフィルター及び保護基板９を透過する光のうち最も＋Ｘ方向に広がる光、または、当該画素Ｐxが備える発光素子３の−Ｘ側の端部から出射された光であって、当該画素Ｐxが備えるカラーフィルター及び保護基板９を透過する光のうち最も−Ｘ方向に広がる光を、光Ｌxと称する。そして、ＲＧＢによる区別が必要な場合には、画素ＰxRに対応する光Ｌxを光ＬxRと称し、画素ＰxGに対応する光Ｌxを光ＬxGと称し、画素ＰxBに対応する光Ｌxを光ＬxBと称する。
また、以下では、各画素Ｐxから出射される光Ｌxが、当該画素Ｐxの備える発光素子３からＺ軸方向に厚さＺaだけ離れた位置に到達した場合の、当該位置と発光素子３と間のＸ軸方向の幅を幅Ｘaと称する。そして、ＲＧＢによる区別が必要な場合には、画素ＰxRに対応する幅Ｘaを幅ＸaRと称し、画素ＰxGに対応する幅Ｘaを幅ＸaGと称し、画素ＰxBに対応する幅Ｘaを幅ＸaBと称する。
また、以下では、発光素子３から出射された光ＬxとＺ軸方向とのなす角を角度θaと称し、保護基板９を透過した後の光ＬxとＺ軸方向とのなす各を角度θoと称する。そして、ＲＧＢによる区別が必要な場合には、画素ＰxRに対応する角度θa及び角度θoを、それぞれ、角度θaR及び角度θoRと称し、画素ＰxGに対応する角度θa及び角度θoを、それぞれ、角度θaG及び角度θoGと称し、画素ＰxBに対応する角度θa及び角度θoを、それぞれ、角度θaB及び角度θoBと称する。
【００５２】
本実施形態に係る電気光学装置１は、以下の２つの条件を充足することを特徴とする。
条件１：  隣り合う２個の発光素子３間の間隔Ｘwが１．５μｍ以下であること
条件２：  各画素Ｐxの視野角が１０度以上であること
ここで、画素Ｐxの視野角とは、当該画素Ｐxが備える発光素子３から出射された光であって、当該画素Ｐxが備えるカラーフィルター及び保護基板９を透過する光の進行方向とＺ軸方向とのなす角度の最大値である。
本実施形態では、説明の便宜上、画素Ｐxの角度θoを画素Ｐxの視野角と看做すことで、上述した条件２を以下の条件２Ａとして具体化する。すなわち、本実施形態では、電気光学装置１が、条件１及び以下の条件２Ａを充足することとする。
条件２Ａ：  各画素Ｐxの角度θoが１０度以上であること
【００５３】
以下、上述した条件１及び条件２Ａを充足するために、間隔Ｘw及び厚さＺaが満たすべき条件を検討する。
【００５４】
まず、厚さＺaと幅Ｘaとの関係は、以下の式（１）で表される。
【数１】
2018081831.tif 000003
【００５５】
本実施形態では、幅Ｘaが間隔Ｘwの半分以下であることとする。この場合、式（１）を、以下の式（２）に変形することができる。
【数２】
2018081831.tif 000004
【００５６】
ここで、封止層６０の絶対屈折率をＮaとし、空気の絶対屈折率をＮoとし、空気に対する封止層６０の相対屈折率をＮoa（＝Ｎa÷Ｎo）とする。このとき、スネルの法則より、以下の式（３）が成立し、式（３）を変形することで式（４）を得ることができる。
【数３】
2018081831.tif 000005
【００５７】
また、tanθaは、以下の式（５）のようにsinθaを用いて表現することができる。このため、式（４）及び式（５）より式（６）を得ることができる。
【数４】
2018081831.tif 000006
【００５８】
そして、式（２）及び式（６）より式（７）が導出される。
【数５】
2018081831.tif 000007
【００５９】
ここで、厚さＺaの間隔Ｘwに対する比率をα（＝Ｚa÷Ｘw）とすると、比率αは、式（７）を変形した式（８）で表される。
【数６】
2018081831.tif 000008
【００６０】
このように、式（７）または式（８）を満たすように、厚さＺaまたは比率αを決定することで、各画素Ｐxから出射される光Ｌxの角度θoを所望の角度以上の角度に設定することができる。
【００６１】
ところで、一般的に、封止層６０の相対屈折率Ｎoaは、「１．４≦Ｎoa≦１．９」の範囲となる。本実施形態では、封止層６０の相対屈折率Ｎoaを、「１．８」とする。この場合、条件２Ａを満たすための比率αは、「５．１」以下である。よって、本実施形態では、角度θoを１０度以上とするために、「α≦５」、すなわち、厚さＺaを間隔Ｘwの５倍以下とする。そして、本実施形態では、条件１（Ｘw≦１．５μｍ）を充足する必要があるため、厚さＺaは「Ｚa≦７．５μｍ」となる。
【００６２】
また、本実施形態では、カラーフィルターの厚さＺcは、「０．５*Ｘw≦Ｚc≦３．０*Ｘw」の範囲となるように定められる。更に、本実施形態では、厚さＺcR、厚さＺcG、及び、厚さＺcBが、「ＺcG＜ＺcB＜ＺcR」を満たすように定められる。このため、本実施形態において、厚さＺtは、間隔Ｘwの８倍以下となり、且つ、「ＺtG＜ＺtB＜ＺtR」を満たすように定められる。
【００６３】
なお、本実施形態では、画素Ｐxが備える発光素子３の端部から出射される光Ｌxの進行方向を示す角度θoを、画素Ｐxの視野角と看做した。しかし、実際には、画素Ｐxが備える発光素子３のうち端部以外の位置から出射される光が、カラーフィルター及び保護基板９を透過することがある。このため、視野角は、角度θoよりも例えば「２度」程度大きくなる場合がある。よって、条件２を、以下の条件２Ｂとして具体化してもよい。
条件２Ｂ：  各画素Ｐxの角度θoが８度以上であること
【００６４】
相対屈折率Ｎoaが「１．８」の場合、条件２Ｂを満たすための比率αは「６．４」以下である。よって、各画素Ｐxの視野角を１０度以上とするために、「α≦６」、すなわち、厚さＺaを間隔Ｘwの６倍以下としてもよい。そして、この場合、条件１（Ｘw≦１．５μｍ）を充足するために、厚さＺaは「Ｚa≦９μｍ」となる。また、この場合、厚さＺtは、間隔Ｘwの９倍以下となり、且つ、「ＺtG＜ＺtB＜ＺtR」を満たすように定められる。
【００６５】
＜＜４．電気光学装置の製造方法＞＞
以下、図６乃至図９を参照しつつ、本実施形態に係る電気光学装置１の製造方法の一例を説明する。
【００６６】
図６は、電気光学装置１の製造方法の一例を説明するためのフローチャートである。図６に示すように、電気光学装置１の製造方法は、基板５０上に反射層５１を形成する工程（Ｓ１）と、反射層５１上に距離調整層５２を形成する工程（Ｓ２）と、距離調整層５２上に発光素子３R、発光素子３G、及び、発光素子３Bを含む発光層３０を形成する工程（Ｓ３）と、発光層３０上に封止層６０を形成する工程（Ｓ４）と、封止層６０の上側封止層６３上であって、発光層３０が有する発光素子３Gの＋Ｚ側にカラーフィルター８Gを形成する工程（Ｓ５）と、上側封止層６３上、及び、カラーフィルター８G上であって、発光層３０が有する発光素子３Bの＋Ｚ側にカラーフィルター８Bを形成する工程（Ｓ６）と、上側封止層６３上、カラーフィルター８G上、及び、カラーフィルター８B上であって、発光層３０が有する発光素子３Rの＋Ｚ側にカラーフィルター８Rを形成する工程（Ｓ７）と、カラーフィルター層８上に接着層９０を形成し、接着層９０によって、素子基板５及び保護基板９を接着する工程（Ｓ８）と、を含む。
以下では、上記ステップＳ１〜Ｓ８のうち、カラーフィルター層８の製造工程であるステップＳ５〜Ｓ７の一例について説明する。
【００６７】
ステップＳ５の工程では、まず、上側封止層６３上に、緑色の色材を含む感光性樹脂材料をスピンコート法で塗布して、乾燥させることにより、緑色の感光性樹脂層を形成する。次に、緑色の感光性樹脂層のうち、カラーフィルター８Gを形成する部分に光を照射して露光し、当該感光性樹脂層に対して現像液等を吐出することにより、未露光の感光性樹脂層を除去する。その後、緑色の感光性樹脂層を焼成し、硬化させることで、図７に示すように、上側封止層６３上に、カラーフィルター８Gを形成する。
【００６８】
ステップＳ６の工程では、まず、上側封止層６３上、及び、カラーフィルター８G上に、青色の色材を含む感光性樹脂材料をスピンコート法で塗布して、乾燥させることにより、青色の感光性樹脂層を形成する。次に、青色の感光性樹脂層のうち、カラーフィルター８Bを形成する部分に光を照射して露光し、当該感光性樹脂層に対して現像液等を吐出することにより、未露光の感光性樹脂層を除去する。その後、青色の感光性樹脂層を焼成し、硬化させることで、図８に示すように、上側封止層６３上及びカラーフィルター８G上に、カラーフィルター８Bを形成する。
【００６９】
ステップＳ７の工程では、まず、上側封止層６３上、カラーフィルター８G上、及び、カラーフィルター８B上に、赤色の色材を含む感光性樹脂材料をスピンコート法で塗布して、乾燥させることにより、赤色の感光性樹脂層を形成する。次に、赤色の感光性樹脂層のうち、カラーフィルター８Rを形成する部分に光を照射して露光し、当該感光性樹脂層に対して現像液等を吐出することにより、未露光の感光性樹脂層を除去する。その後、赤色の感光性樹脂層を焼成し、硬化させることで、図９に示すように、上側封止層６３上、カラーフィルター８G上、及び、カラーフィルター８B上に、カラーフィルター８Rを形成する。
【００７０】
＜＜５．実施形態の効果＞＞
以上において説明したように、本実施形態では、発光素子３の間隔Ｘwを１．５μｍ以下とし、発光素子３及びカラーフィルター層８の間の封止層６０の厚さＺaを、間隔Ｘwの５倍以下または６倍以下とする。このため、本実施形態に係る電気光学装置１においては、各画素Ｐxにおいて１０度以上の視野角を確保することが可能となる。すなわち、本実施形態によれば、画素Ｐxを狭ピッチで設ける場合であっても、十分な視野角を確保することが可能となる。
【００７１】
＜＜Ｂ．変形例＞＞
以上の各形態は多様に変形され得る。具体的な変形の態様を以下に例示する。以下の例示から任意に選択された２以上の態様は、相互に矛盾しない範囲内で適宜に併合され得る。なお、以下に例示する変形例において作用や機能が実施形態と同等である要素については、以上の説明で参照した符号を流用して各々の詳細な説明を適宜に省略する。
【００７２】
＜＜変形例１＞＞
上述した実施形態では、表示部１２において、カラーフィルター層８が封止層６０の全部を覆うように形成されるが、本発明はこのような態様に限定されるものではなく、表示部１２において、封止層６０及びカラーフィルター層８の間に、凸状パターン７（「凸部」の一例）を形成してもよい。
【００７３】
図１０は、変形例１に係る表示部１２の概略的な構造の一例を示す平面図である。
図１０に示すように、本変形例に係る表示部１２には、Ｘ軸方向に隣り合う２個の発光素子３の間に、Ｙ軸方向に延在する複数の凸状パターン７が設けられる。より具体的には、本変形例に係る表示部１２には、第１列から第Ｎ列のＮ列の画素Ｐxを互いに区分するように、（Ｎ−１）列の凸状パターン７が設けられる。但し、第１列よりも−Ｘ側、及び、第Ｎ列よりも＋Ｘ側のうち、一方または双方に凸状パターン７を設けてもよい。
【００７４】
図１１は、変形例１に係る表示部１２を、図１０におけるＥ−ｅ線で破断した部分断面図の一例であり、画素ＰxRの断面と、画素ＰxGの断面と、画素ＰxBの断面とを含む。
凸状パターン７は、封止層６０上に形成される、透明な構成要素であり、封止層６０に接する平坦な底面７１と、カラーフィルター層８に接する曲面状の上面７２と、を有する。なお、図１１に示す凸状パターン７の形状は一例であり、凸状パターン７の上面７２は、多面体であってもよく、角を有する形状であってもよい。
凸状パターン７は、色材を含まない透明な感光性樹脂材料、例えば、アクリル系樹脂を用いて形成される。つまり、凸状パターン７の材料として採用される感光性樹脂材料は、カラーフィルター層８の主材料と同一の材料である。
【００７５】
本変形例において、カラーフィルター８Gは、図１１に示すように、上側封止層６３上と凸状パターン７上とに形成される。また、カラーフィルター８Bは、上側封止層６３上と凸状パターン７上とカラーフィルター８G上とに形成される。また、カラーフィルター８Rは、上側封止層６３上と凸状パターン７上とカラーフィルター８G上とカラーフィルター８B上とに形成される。
【００７６】
このように、本変形例では、封止層６０及びカラーフィルター層８の間に、凸状パターン７を設ける。上述のとおり、凸状パターン７は、色材を含まない感光性樹脂材料を主成分とする。一般的に、色材を含まない樹脂材料の接着強度は、色材を含む樹脂材料の接着強度よりも強い。よって、本変形例のように、封止層６０上に形成される構成要素（以下、「封止層上構成物」と称する）が、色材を含むカラーフィルター層８に加えて色材を含まない凸状パターン７を有する場合、色材を含むカラーフィルター層８のみから構成される場合と比較して、封止層上構成物の封止層６０に対する接着強度を強くすることができる。このため、本変形例によれば、電気光学装置１の製造工程等において、カラーフィルター層８等の封止層上構成物が封止層６０から剥離する可能性を低減させることが可能となる。
【００７７】
また、本変形例では、凸状パターン７及びカラーフィルター層８を、同一の感光性樹脂材料を主成分として形成する。一般的に、主成分が同一の構成要素同士の接着強度は、主成分が異なる構成要素同士の接着強度に比べて強い。このため、カラーフィルター層８及び凸状パターン７の間の接着強度は、カラーフィルター層８及び封止層６０の間の接着強度よりも強い。よって、本変形例のように、封止層上構成物が凸状パターン７を有することで、カラーフィルター層８が封止層６０から剥離する可能性を低減させることが可能となる。
【００７８】
また、本変形例では、凸状パターン７を、上面７２が曲面となるように形成する。そして、凸状パターン７の上面７２が曲面である場合、凸状パターン７の上面７２が多面体のような角を有する形状である場合と比較して、上面７２上に形成されるカラーフィルター層８と凸状パターン７との間の密着性が高くなる。このため、本変形例によれば、凸状パターン７の上面７２が角を有する場合と比較して、凸状パターン７及びカラーフィルター層８の接着強度を強くすることができる。これにより、カラーフィルター層８が凸状パターン７及び封止層６０から剥離する可能性を低減させることが可能となる。
【００７９】
＜＜変形例２＞＞
上述した実施形態及び変形例では、カラーフィルター８Gを形成した後に、カラーフィルター８Bを形成し、カラーフィルター８Bを形成した後に、カラーフィルター８Rを形成するが、本発明はこのような態様に限定されるものではなく、カラーフィルター８R、８G、８Bの形成順は任意である。
【００８０】
＜＜変形例３＞＞
上述した実施形態及び変形例では、緑色光を第１の波長領域の光の一例とし、青色光または赤色光を第２の波長領域の光の一例としたが、本発明はこのような態様に限定されるものではなく、第１の波長領域の光及び第２の波長領域の光は、互いに異なる色を有する可視光であればよい。そして、第１の発光素子を含む第１の共振器は、第１の波長領域の光を出射する光共振構造であればよく、第２の発光素子を含む第２の共振器は、第２の波長領域の光を出射する光共振構造であればよい。また、第１のカラーフィルターは、第１の波長領域の光を透過するカラーフィルターであればよく、第２のカラーフィルターは、第２の波長領域の光を透過するカラーフィルターであればよい。
【００８１】
＜＜変形例４＞＞
上述した実施形態及び変形例では、「条件１」として、隣り合う発光素子３間の間隔Ｘwが１．５μｍ以下であることとしたが、本発明はこのような態様に限定されるものではなく、間隔Ｘwが１．０μｍ以下であることを「条件１」としてもよいし、間隔Ｘwが０．７μｍ以下であることを「条件１」としてもよい。例えば、間隔Ｘwが１．０μｍ以下である場合、厚さＺaは、少なくとも６．０μｍ以下であることが必要であり、５．０μｍ以下であることが好ましい。間隔Ｘwが０．７μｍ以下である場合、厚さＺaは、少なくとも４．２μｍ以下であることが必要であり、３．５μｍ以下であることが好ましい。
なお、間隔ＸwRG、間隔ＸwGB、及び、間隔ＸwBRが互いに異なる長さであってもよい。
【００８２】
＜＜Ｃ．応用例＞＞
上述した実施形態及び変形例に係る電気光学装置１は、各種の電子機器に適用することができる。以下、本発明に係る電子機器について説明する。
【００８３】
図１２は本発明の電気光学装置１を採用した電子機器としてのヘッドマウントディスプレイ３００の外観を示す斜視図である。図１２に示されるように、ヘッドマウントディスプレイ３００は、テンプル３１０、ブリッジ３２０、投射光学系３０１Ｌ、及び、投射光学系３０１Ｒを備える。そして、図１２において、投射光学系３０１Ｌの奥には左眼用の電気光学装置１（図示省略）が設けられ、投射光学系３０１Ｒの奥には右眼用の電気光学装置１（図示省略）が設けられる。
図１３は、電気光学装置１を採用した可搬型のパーソナルコンピューター４００の斜視図である。パーソナルコンピューター４００は、各種の画像を表示する電気光学装置１と、電源スイッチ４０１及びキーボード４０２が設けられた本体部４０３と、を備える。
なお、本発明に係る電気光学装置１が適用される電子機器としては、図１２及び図１３に例示した機器のほか、携帯電話機、スマートフォン、携帯情報端末（ＰＤＡ：Personal Digital Assistants）、デジタルスチルカメラ、テレビ、ビデオカメラ、カーナビゲーション装置、車載用の表示器（インパネ）、電子手帳、電子ペーパー、電卓、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末等が挙げられる。更に、本発明に係る電気光学装置１は、プリンター、スキャナー、複写機、及び、ビデオプレーヤー等の電子機器に設けられる表示部として適用することができる。
【符号の説明】
【００８４】
１…電気光学装置、３…発光素子、５…素子基板、７…凸状パターン、８…カラーフィルター層、８R…カラーフィルター、８G…カラーフィルター、８B…カラーフィルター、９…保護基板、１０…表示パネル、１１…駆動回路、１２…表示部、１３…走査線、１４…データ線、３０…発光層、３１…画素電極、３２…発光機能層、３３…対向電極、３４…絶縁膜、５０…基板、５１…反射層、５２…距離調整層、６０…封止層、６１…下側封止層、６２…平坦化層、６３…上側封止層、２０…制御回路、９０…接着層、Ｐx…画素。
【図１】
2018081831.tif 000009
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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