(57)【要約】      （修正有）【課題】画像の空間的な偏りを抑制しつつ、スループットを向上した記録を行う。【解決手段】中央領域との境界に位置する端部領域内の単位領域に対し、量子化パターンの端部が対応するように、量子化パターンをオフセットして適用する。これにより各単位領域に対して互いに同期が行われた量子化パターンとマスクパターンのを適用することとなり、各単位領域における空間的な偏りが小さい画像を記録することができ、またスループットの不要な低下を抑制することが可能となる。【選択図】図１１
2018052020.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インクを吐出するための複数の吐出口が配列方向に配列された記録ヘッドを用いて記録を行う記録装置であって、
前記記録ヘッドを記録媒体上の単位領域に対して前記配列方向と交差する走査方向へ相対的に複数回走査させる走査手段と、
前記記録媒体に対する記録動作を開始した後、前記走査手段による第１の走査を行うまでは第１の搬送量で、前記走査手段による前記第１の走査を行ってからは前記第１の搬送量よりも長い第２の搬送量で前記記録媒体を前記走査方向と交差する搬送方向に搬送する搬送手段と、
前記記録媒体上に記録する画像に対応する多値データを取得する取得手段と、
前記多値データに対して量子化パターンを前記配列方向に繰り返し適用することにより、量子化データを生成する量子化手段と、
前記複数回の走査に対応する複数のマスクパターンであって、それぞれ前記量子化パターンと互いに対応付けて定められた前記複数のマスクパターンに基づいて、前記量子化手段により生成された前記量子化データを前記複数回の走査それぞれに分配することにより、前記複数回の走査それぞれで用いる記録データを生成する分配手段と、
前記分配手段によって生成された前記記録データにしたがってインクを吐出するように、記録動作を制御する制御手段と、を有し、
前記量子化手段は、前記第１の走査の次の走査で初めて記録を行う第１の単位領域に対し、前記量子化パターンの前記搬送方向の上流側端部の領域が対応するように、前記量子化パターンを前記配列方向にオフセットして前記多値データに対して適用することを特徴とする記録装置。
【請求項２】
前記分配手段は、前記量子化データのうちの、前記量子化パターン内の一部の領域を用い、且つ、前記量子化パターン内の他部の領域を用いずに量子化された領域に対しては、前記複数のマスクパターンのそれぞれを前記配列方向に分割して得られる複数のマスクパターン部分であって、前記量子化パターン内の前記一部の領域に対応する前記複数のマスクパターン部分のそれぞれを適用することを特徴とする請求項１に記載の記録装置。
【請求項３】
前記量子化パターンの前記配列方向における長さは、前記第１の搬送量の整数倍であることを特徴とする請求項１または２に記載の記録装置。
【請求項４】
前記複数のマスクパターンそれぞれの前記配列方向における長さは、前記第１の搬送量の整数倍であることを特徴とする請求項３に記載の記録装置。
【請求項５】
前記量子化パターンの前記配列方向における長さは、前記第２の搬送量の整数倍であることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の記録装置。
【請求項６】
前記複数のマスクパターンそれぞれの前記配列方向における長さは、前記第２の搬送量の整数倍であることを特徴とする請求項５に記載の記録装置。
【請求項７】
前記記録ヘッドよりも前記搬送方向の上流側に設けられた第１の搬送ローラ対と、前記記録ヘッドよりも前記搬送方向の下流側に設けられた第２の搬送ローラ対と、を更に有し、
前記搬送手段は、（ｉ）前記走査手段による前記第１の走査を行うまでは前記第２の搬送ローラ対を用いずに前記第１の搬送ローラ対を用いて前記記録媒体を搬送し、（ｉｉ）前記走査手段による前記第１の走査を行ってからは前記第１の搬送ローラ対と前記第２の搬送ローラ対の両方を用いて前記記録媒体を搬送することを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の記録装置。
【請求項８】
前記搬送手段は、前記記録媒体に対する記録動作を終了する前、前記走査手段による前記第１の走査よりも後の第２の走査を行ってからは前記第１の搬送量で前記記録媒体を搬送し、
前記量子化手段は、前記第２の走査の次の走査で初めて記録を行う第２の単位領域に対し、前記量子化パターンの前記搬送方向の下流側端部の領域が対応するように、前記量子化パターンを前記配列方向にオフセットして前記多値データに対して適用することを特徴とする請求項７に記載の記録装置。
【請求項９】
前記搬送手段は、（ｉｉ）前記走査手段による前記第１の走査を行ってから前記第２の走査を行うまでは前記第１の搬送ローラ対と前記第２の搬送ローラ対の両方を用いて前記記録媒体を搬送し、（ｉｉｉ）前記走査手段による前記第２の走査を行ってからは前記第１の搬送ローラ対を用いずに前記第２の搬送ローラ対を用いて前記記録媒体を搬送することを特徴とする請求項８に記載の記録装置。
【請求項１０】
前記量子化パターンは、複数の画素それぞれに対してインクの吐出または非吐出を定めるための閾値が定められており、
前記複数のマスクパターンそれぞれは、前記複数の画素それぞれに対するインクの吐出の許容または非許容が定められていることを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の記録装置。
【請求項１１】
前記量子化パターンは、複数の画素それぞれに対してインクの吐出回数を定めるための閾値が定められており、
前記複数のマスクパターンそれぞれは、前記複数の画素それぞれに対するインクの吐出回数に応じたインクの吐出の許容または非許容が定められていることを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の記録装置。
【請求項１２】
前記取得手段によって取得された前記多値データが示す値が第１の値である場合に前記量子化手段によって生成される量子化データと、前記複数のマスクパターンのうちの第１のマスクパターンと、に基づいて前記分配手段によって生成される記録データに基づくドットの配置が、ホワイトノイズ特性とならないように、前記量子化パターンと前記第１のマスクパターンが互いに対応付けて定められていることを特徴とする請求項１から１１のいずれか１項に記載の記録装置。
【請求項１３】
前記取得手段によって取得された前記多値データが示す値が前記第１の値である場合に前記量子化手段によって生成される量子化データと、前記第１のマスクパターンと、に基づいて前記分配手段によって生成される記録データに基づくドットの配置が、レッドノイズ特性とならないように、前記量子化パターンと前記第１のマスクパターンが互いに対応付けて定められていることを特徴とする請求項１２に記載の記録装置。
【請求項１４】
前記取得手段によって取得された前記多値データが示す値が前記第１の値である場合に前記量子化手段によって生成される量子化データと、前記第１のマスクパターンと、に基づいて前記分配手段によって生成される記録データに基づくドットの配置が、ブルーノイズ特性となるように、前記量子化パターンと前記第１のマスクパターンが互いに対応付けて定められていることを特徴とする請求項１３に記載の記録装置。
【請求項１５】
前記取得手段によって取得された前記多値データが示す値が前記第１の値と異なる第２の値である場合に前記量子化手段によって生成される量子化データと、前記第１のマスクパターンと、に基づいて前記分配手段によって生成される記録データに基づくドットの配置が、ホワイトノイズ特性とならないように、前記量子化パターンと前記第１のマスクパターンが互いに対応付けて定められていることを特徴とする請求項１２から１４のいずれか１項に記載の記録装置。
【請求項１６】
前記取得手段によって取得された前記多値データが示す値が前記第１の値である場合に前記量子化手段によって生成される量子化データと、前記第１のマスクパターンと異なる第２のマスクパターンと、に基づいて前記分配手段によって生成される記録データに基づくドットの配置が、ホワイトノイズ特性とならないように、前記量子化パターンと前記第２のマスクパターンが互いに対応付けて定められていることを特徴とする請求項１２から１５のいずれか１項に記載の記録装置。
【請求項１７】
インクを吐出するための複数の吐出口が配列方向に配列された記録ヘッドを用いて記録を行う記録装置であって、
前記記録ヘッドを記録媒体上の単位領域に対して前記配列方向と交差する走査方向へ相対的に複数回走査させる走査手段と、
前記記録媒体に対する記録動作を終了する前、前記走査手段による第１の走査を行うまでは第１の搬送量で、前記走査手段による前記第１の走査を行ってからは前記第１の搬送量よりも短い第２の搬送量で前記記録媒体を前記走査方向と交差する搬送方向に搬送する搬送手段と、
前記記録媒体上に記録する画像に対応する多値データを取得する取得手段と、
前記多値データに対して量子化パターンを前記配列方向に繰り返し適用することにより、量子化データを生成する量子化手段と、
前記複数回の走査に対応する複数のマスクパターンであって、それぞれ前記量子化パターンと互いに対応付けて定められた前記複数のマスクパターンに基づいて、前記量子化手段により生成された前記量子化データを前記複数回の走査それぞれに分配することにより、前記複数回の走査それぞれで用いる記録データを生成する分配手段と、
前記分配手段によって生成された前記記録データにしたがってインクを吐出するように、記録動作を制御する制御手段と、を有し、
前記量子化手段は、前記第１の走査の次の走査で初めて記録を行う第１の単位領域に対し、前記量子化パターンの前記搬送方向の下流側端部の領域が対応するように、前記量子化パターンを前記配列方向にオフセットして前記多値データに対して適用することを特徴とする記録装置。
【請求項１８】
前記記録ヘッドよりも前記搬送方向の上流側に設けられた第１の搬送ローラ対と、前記記録ヘッドよりも前記搬送方向の下流側に設けられた第２の搬送ローラ対と、を更に有し、
前記搬送手段は、（ｉ）前記走査手段による前記第１の走査を行うまでは前記第１の搬送ローラ対と前記第２の搬送ローラ対の両方を用いて前記記録媒体を搬送し、（ｉｉ）前記走査手段による前記第１の走査を行ってからは前記第１の搬送ローラ対を用いずに前記第２の搬送ローラ対を用いて前記記録媒体を搬送することを特徴とする請求項１７に記載の記録装置。
【請求項１９】
インクを吐出するための複数の吐出口が配列方向に配列された記録ヘッドを用いて記録を行う記録方法であって、
前記記録ヘッドを記録媒体上の単位領域に対して前記配列方向と交差する走査方向へ相対的に複数回走査させ、
前記記録媒体に対する記録動作を開始した後、第１の走査を行うまでは第１の搬送量で、前記第１の走査を行ってからは前記第１の搬送量よりも長い第２の搬送量で前記記録媒体を前記走査方向と交差する搬送方向に搬送し、
前記記録媒体上に記録する画像に対応する多値データを取得し、
前記多値データに対して量子化パターンを前記配列方向に繰り返し適用することにより、量子化データを生成し、
前記複数回の走査に対応する複数のマスクパターンであって、それぞれ前記量子化パターンと互いに対応付けて定められた前記複数のマスクパターンに基づいて、前記量子化データを前記複数回の走査それぞれに分配することにより、前記複数回の走査それぞれで用いる記録データを生成し、
生成された前記記録データにしたがってインクを吐出するように、記録動作を制御し、
前記量子化データの生成において、前記第１の走査の次の走査で初めて記録を行う第１の単位領域に対し、前記量子化パターンの前記搬送方向の上流側端部の領域が対応するように、前記量子化パターンを前記配列方向にオフセットして前記多値データに対して適用することを特徴とする記録方法。
【請求項２０】
インクを吐出するための複数の吐出口が配列方向に配列された記録ヘッドを用いて記録を行う記録方法であって、
前記記録ヘッドを記録媒体上の単位領域に対して前記配列方向と交差する走査方向へ相対的に複数回走査させ、
前記記録媒体に対する記録動作を終了する前、第１の走査を行うまでは第１の搬送量で、前記第１の走査を行ってからは前記第１の搬送量よりも短い第２の搬送量で前記記録媒体を前記走査方向と交差する搬送方向に搬送し、
前記記録媒体上に記録する画像に対応する多値データを取得し、
前記多値データに対して量子化パターンを前記配列方向に繰り返し適用することにより、量子化データを生成し、
前記複数回の走査に対応する複数のマスクパターンであって、それぞれ前記量子化パターンと互いに対応付けて定められた前記複数のマスクパターンに基づいて、前記量子化データを前記複数回の走査それぞれに分配することにより、前記複数回の走査それぞれで用いる記録データを生成し、
生成された前記記録データにしたがってインクを吐出するように、記録動作を制御し、
前記量子化データの生成において、前記第１の走査の次の走査で初めて記録を行う第１の単位領域に対し、前記量子化パターンの前記搬送方向の下流側端部の領域が対応するように、前記量子化パターンを前記配列方向にオフセットして前記多値データに対して適用することを特徴とする記録方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、記録装置および記録方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
インクを吐出する複数の吐出口を配列した吐出口列を有する記録ヘッドを記録媒体上の単位領域に対して相対的に移動させながらインクの吐出を行う記録走査と、記録媒体の搬送と、を繰り返し行うことで画像の記録を行う記録装置が知られている。このような記録装置において、単位領域に対する複数回の走査を行うことによって画像を形成する、いわゆるマルチパス記録方式が知られている。このようなマルチパス記録方式では、一般に記録する画像に対応する多値データを量子化して量子化データを生成し、更に量子化データを複数回の走査に分配することで記録に用いる記録データを生成する。なお、量子化処理の際には量子化パターンを、分配処理の際には複数回の走査に対応する複数のマスクパターンを用いることが知られている。
【０００３】
特許文献１には、上述の量子化パターン、マスクパターンを用いる場合において、記録媒体の１回の搬送量に応じたサイズの２値化処理パターンを適用して２値化処理を行うことが開示されている。同文献によれば、搬送量が２値化処理パターンの吐出口の配列方向における幅の整数倍となるようなサイズの２値化処理パターンを搬送量ごとに複数有し、搬送量に応じて異なる２値化処理パターンを適用することにより、得られる画像の画質低下を抑制できることが記載されている。
【０００４】
一方、記録媒体の搬送方向における端部を記録する際、中央部を記録する場合に比べて記録媒体の搬送ずれが大きく生じ、結果として記録媒体端部の記録画像において画質が低下してしまう虞があることが知られている。これに対し、特許文献２には、記録媒体端部を記録する際には使用する吐出口の数を減らし、１回当たりの搬送量を短くすることが開示されている。同文献によれば、記録媒体の搬送ずれの影響を低減した記録を行うことが可能となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−０３９９４４号公報
【特許文献２】特開２００３−１２７３４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ここで、量子化処理を行うための量子化パターンと分配処理を行うためのマスクパターンを用いる場合、それぞれのパターンを無相関に定めてしまうと生成された記録データに基づく画像に空間的な偏りが生じてしまう虞がある。このような偏りを低減するために、量子化パターンとマスクパターンを互いに対応付けて定める必要がある。
【０００７】
図１は量子化パターンとマスクパターンを無相関に定めた場合と互いに対応付けて定めた場合に生成される記録データの一例を示す図である。なお、ここでは一例として量子化パターンとマスクパターンがそれぞれ１２８画素×１２８画素の大きさを有する場合について示している。また、量子化の一例として２値化処理が実行された場合について示している。
【０００８】
図１（ａ）はある量子化パターンを用いて量子化された際の記録デューティが２５％の量子化データを示す図である。
【０００９】
また、図１（ｂ−１）、（ｂ−２）はそれぞれ量子化パターンと無相関に定められた１、２回目の走査用のマスクパターンを用い、図１（ａ）に示す量子化データがそれぞれ１、２回目の走査に分配されて生成された１、２回目の走査用の記録データを示す図である。
【００１０】
また、図１（ｃ−１）、（ｃ−２）はそれぞれ量子化パターンと対応付けて定められた１、２回目のマスクパターンを用い、図１（ａ）に示す量子化データがそれぞれ１、２回目の走査に分配されて生成された１、２回目の走査用の記録データを示す図である。なお、ここでは量子化パターンを用いて生成された量子化データと各マスクパターンの論理積において分散性が高くなるように、量子化パターンと各マスクパターンの対応付けが為されている。
【００１１】
図１（ｂ−１）、（ｂ−２）からわかるように、量子化パターンとマスクパターンが互いに無相関に定められた場合、記録される画像に空間的な偏りが生じてしまう虞がある。なお、記録画像の空間的な偏りとは、記録データによってインクの吐出が定められる画素が分散せず、局所的に集中してしまうことを指す。
【００１２】
これに対し、図１（ｃ−１）、（ｃ−２）に示すように、互いに対応付けて定められた量子化パターンとマスクパターンを用いることにより、記録データの空間的な偏りを低減し、分散性の高い記録データを生成することが可能となる。
【００１３】
しかしながら、特許文献２に記載されたような記録媒体上の領域に応じて搬送量を変更する場合において、スループットを向上しつつ、上述のような互いに対応付けて定められた量子化パターンとマスクパターンを用いて記録を行う方法は見出されていない。
【００１４】
本発明は上記の課題を鑑みて為されたものであり、画像の空間的な偏りを抑制しつつ、スループットを向上した記録を行うことを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
そこで、本発明は、インクを吐出するための複数の吐出口が配列方向に配列された記録ヘッドを用いて記録を行う記録装置であって、前記記録ヘッドを記録媒体上の単位領域に対して前記配列方向と交差する走査方向へ相対的に複数回走査させる走査手段と、前記記録媒体に対する記録動作を開始した後、前記走査手段による第１の走査を行うまでは第１の搬送量で、前記走査手段による前記第１の走査を行ってからは前記第１の搬送量よりも長い第２の搬送量で前記記録媒体を前記走査方向と交差する搬送方向に搬送する搬送手段と、前記記録媒体上に記録する画像に対応する多値データを取得する取得手段と、前記多値データに対して量子化パターンを前記配列方向に繰り返し適用することにより、量子化データを生成する量子化手段と、前記複数回の走査に対応する複数のマスクパターンであって、それぞれ前記量子化パターンと互いに対応付けて定められた前記複数のマスクパターンに基づいて、前記量子化手段により生成された前記量子化データを前記複数回の走査それぞれに分配することにより、前記複数回の走査それぞれで用いる記録データを生成する分配手段と、前記分配手段によって生成された前記記録データにしたがってインクを吐出するように、記録動作を制御する制御手段と、を有し、前記量子化手段は、前記第１の走査の次の走査で初めて記録を行う第１の単位領域に対し、前記量子化パターンの前記搬送方向の上流側端部の領域が対応するように、前記量子化パターンを前記配列方向にオフセットして前記多値データに対して適用することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
本発明に係る記録装置によれば、画像の空間的な偏りを抑制しつつ、スループットを向上した記録を行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】記録データの空間的な偏りを説明するための模式図である。
【図２】実施形態で適用する記録装置の斜視図である。
【図３】実施形態で適用する記録ヘッドの模式図である。
【図４】実施形態における記録制御系を示す模式図である。
【図５】実施形態における領域分割を説明するための図である。
【図６】実施形態におけるマルチパス記録方式を説明するための図である。
【図７】実施形態におけるデータの処理過程を示す図である。
【図８】実施形態におけるディザパターンを示す模式図である。
【図９】実施形態におけるマスクパターンを示す模式図である。
【図１０】実施形態におけるマスクパターン部分を示す模式図である。
【図１１】実施形態での量子化処理、分配処理の詳細を説明するための図である。
【図１２】比較形態での量子化処理、分配処理の詳細を説明するための図である。
【図１３】比較形態での量子化処理、分配処理の詳細を説明するための図である。
【図１４】実施形態における量子化処理の過程を示す図である。
【図１５】実施形態における量子化処理を説明するための図である。
【図１６】実施形態におけるディザパターンを示す模式図である。
【図１７】実施形態における量子化処理を説明するための図である。
【図１８】実施形態における分配処理を説明するための図である。
【図１９】実施形態における分配処理を説明するための図である。
【図２０】実施形態におけるマスクパターンを示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下に図面を参照し、本発明の実施形態について詳細に説明する。
【００１９】
（第１の実施形態）
図２（ａ）は、本実施形態に係るインクジェット記録装置（以下、記録装置、プリンタとも称する）１００の内部を上方（Ｚ方向下流側）から示す模式図である。また、図２（ｂ）は、記録装置１００の内部のＹ−Ｚ平面での断面図である。
【００２０】
キャリッジ１は、複数色のインクを吐出する記録ヘッド７（後述）を支持しており、Ｙ方向（搬送方向）と交差するＸ方向（走査方向）に対してキャリッジベルト２に沿って記録ヘッド７を走査させる。このような記録ヘッド７の走査を行いながら、プラテン４に支持された記録媒体３上に記録ヘッド７からインクを吐出することで、記録媒体３上に記録を行う。
【００２１】
記録ヘッドのＹ方向近傍には、２つの搬送ローラ対が設けられている。１つは記録ヘッドよりもＹ方向上流側（搬送方向上流側）に設けられた給紙ローラ対であり、給紙ローラ５とピンチローラ６から構成されている。もう１つは記録ヘッドよりもＹ方向下流側（搬送方向下流側）に設けられた排紙ローラ対であり、排紙ローラ８とピンチローラ９から構成されている。なお、給紙ローラ５、排紙ローラ８はＸ方向に一続きの部材により形成されており、また、ピンチローラ６、９はＸ方向に分割して形成されている。これらの給紙ローラ対と排紙ローラ対で記録媒体３を挟持しながら、上述の記録ヘッド７の走査の間に給紙ローラ５と排紙ローラ８を回転させることにより、記録媒体３をＹ方向下流側に搬送する。
【００２２】
図３は本実施形態で使用する記録ヘッドを示す。
【００２３】
記録ヘッド７は、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、フォトマゼンタ（Ｐｍ）、シアン（Ｃ）、フォトシアン（Ｐｃ）、ブラック（Ｂｋ）、グレイ（Ｇｙ）、フォトグレイ（Ｐｇｙ）、レッド（Ｒ）、ブルー（Ｂ）、記録面の保護や光沢の均一性向上等の着色以外の目的を有する処理液（Ｐ）の各インクをそれぞれ吐出可能な１１個の吐出口列２２Ｙ、２２Ｍ、２２Ｐｍ、２２Ｃ、２２Ｐｃ、２２Ｂｋ、２２Ｇｙ、２２Ｐｇｙ、２２Ｒ、２２Ｂ、２２Ｐ（以下、これらの吐出口列のうちの１つの吐出口列を吐出口列２２とも称する）がこの順にＸ方向に並んで配置されることにより構成される。これらの吐出口列２２は、それぞれのインクを吐出する７６８個の吐出口（以下、ノズルとも称する）３０が１２００ｄｐｉの密度でＹ方向（配列方向）に配列されることで構成されている。したがって、吐出口列２２はＹ方向に７６８画素に相当する長さを有している。なお、Ｙ方向に互いに隣接する位置にある吐出口３０同士はＸ方向に互いにずれた位置に配置される。ここで、本実施形態における一つの吐出口３０から一度に吐出されるインクの吐出量は約４．５ｎｇである。
【００２４】
なお、以下の説明では簡単のため、各吐出口列２２内の７６８個の吐出口のうちの最もＹ方向上流側に位置する吐出口３０をｎ１と称する。また、ｎ１とＹ方向下流側に隣接する吐出口３０をｎ２と称する。更に、ｎ２とＹ方向下流側に隣接する吐出口をｎ３と称する。同様にして各吐出口をｎ４〜ｎ７６８と称する。各吐出口列２２内の７６８個の吐出口のうちの最もＹ方向下流側に位置する吐出口３０はｎ７６８となる。
【００２５】
これらの吐出口列２２は、それぞれ対応するインクを貯蔵する不図示のインクタンクに接続され、インクの供給が行われる。なお、本実施形態にて用いる記録ヘッド７とインクタンクは一体的に構成されるものでも良いし、それぞれが分離可能な構成のものでも良い。
【００２６】
図４は、本実施形態における制御系の概略構成を示すブロック図である。主制御部３００は、演算、選択、判別、制御などの処理動作、記録動作を実行するＣＰＵ３０１と、ＣＰＵ３０１によって実行すべき制御プログラム等を格納するＲＯＭ３０２と、記録データのバッファ等として用いられるＲＡＭ３０３、および入出力ポート３０４等を備えている。メモリ３１３には、後述する画像データやマスクパターン部分、量子化パターン等が格納されている。そして、入出力ポート３０４には、搬送モータ（ＬＦモータ）３０９、キャリッジモータ（ＣＲモータ）３１０、記録ヘッド７及び切断ユニットにおけるアクチュエータなどの各駆動回路３０５、３０６、３０７、３０８が接続されている。さらに、主制御部３００はインターフェイス回路３１１を介してホストコンピュータであるＰＣ３１２に接続されている。
【００２７】
（マルチパス記録方式）
本実施形態では、記録媒体上の単位領域に対して記録ヘッドを複数回走査させることで記録を行う、所謂マルチパス記録方式に従って画像を形成する。マルチパス記録方式においては、記録ヘッドの走査と走査の間に記録媒体を搬送することが一般的であるが、記録媒体の搬送ずれを鑑み、本実施形態では記録媒体上の位置に応じて搬送量を異ならせて記録媒体の搬送を行う。
【００２８】
図２を用いて示したように、本実施形態では通常記録ヘッド７よりもＹ方向上流側の給紙ローラ対と記録ヘッド７よりもＹ方向下流側の排紙ローラ対の２つの搬送ローラ対によって記録媒体３を挟持しながら搬送動作を行う。このように２つの搬送ローラ対で挟持されている状態であれば、記録媒体３の搬送ずれは生じにくい。
【００２９】
但し、記録媒体３のＹ方向下流側端部（以下、先端部とも称する）に記録ヘッド７からインクを吐出する際には、排紙ローラ対では記録媒体３を挟持できず、給紙ローラ対のみによって記録媒体３を挟持することになる。同様に、記録媒体のＹ方向上流側端部（以下、後端部とも称する）にインクを吐出する際は、給紙ローラ対による記録媒体３の挟持ができない。このように、記録媒体３の先端部、後端部に記録を行う際には、いずれか１つの搬送ローラ対のみによって記録媒体を搬送することになるため、搬送ずれが生じ易くなってしまう。
【００３０】
したがって、本実施形態では、記録媒体３をＹ方向に沿って中央領域、先端領域、後端領域の３つの領域に分割し、領域ごとに搬送量を異ならせて搬送動作を実行する。
【００３１】
図５は本実施形態における記録媒体３上の領域分割を説明するための図である。
【００３２】
本実施形態では、記録媒体３上の先端領域２０１、中央領域２０２、後端領域２０３の３つの領域に分割する。ここで、先端領域２０１は上述のように排紙ローラ対による挟持ができず、搬送ずれが生じ易くなる領域である。また、後端領域２０３は記録時に給紙ローラ対による挟持ができず、先端領域２０１と同じように搬送ずれが生じ易くなる領域である。一方、中央領域２０２は排紙ローラ対、給紙ローラ対の両方によって記録媒体を挟持できるため、搬送ずれが生じにくい領域である。
【００３３】
なお、本実施形態では記録媒体上の各単位領域を記録するために複数回の搬送を介在させることになるが、複数回の搬送のうちの少なくとも１回の搬送において搬送ずれが生じ易い、すなわち搬送ローラ対の一方のみで挟持する単位領域を先端領域２０１、後端領域２０３に含むものとする。例えば、先端領域２０１内の単位領域２１２は１回目の走査の直前には記録媒体３の先端部が排紙ローラ対に届かず、給紙ローラ対のみによって挟持が行われているため、搬送ずれが生じ易い。しかし、記録媒体３の搬送を行い、単位領域２１２に対する１回目の走査を行う際には記録媒体３の先端部が排紙ローラ対に届くため、それ以降では搬送ずれが生じにくい。本実施形態では、このような単位領域であっても先端領域２０１に含むものとする。
【００３４】
以上の点を鑑み、本実施形態ではマルチパス記録方式において、先端領域２０１、後端領域２０３に対して記録する際の搬送量を中央領域２０２に対して記録する際の搬送量よりも短くし、上述の搬送ずれの影響を小さくする。
【００３５】
図６は本実施形態で実行するマルチパス記録方式について説明するための図である。
【００３６】
インクを吐出する吐出口列２２に設けられたそれぞれの吐出口３０は、Ｙ方向に沿って１２個の吐出口群Ｇ１〜Ｇ１２に分割される。ここで、吐出口群Ｇ１〜Ｇ１２それぞれのＹ方向における長さは、吐出口列２２のＹ方向における長さをＬとした場合、Ｌ／１２となる。なお、吐出口列２２は、図３に示したように７６８個の吐出口３０を有している。したがって、１つの吐出口群には６４（＝７６８／１２）個の吐出口が属している。
【００３７】
まず、不図示のＫ回目の記録走査（Ｋパス）が終了した後、記録媒体３が記録ヘッド７に対してＹ方向下流側に２つの吐出口群の幅に対応する距離Ｌ／６（＝Ｌ／１２×２）だけ相対的に搬送され、単位領域２１１が記録ヘッド７と対向する位置となる。吐出口列２２はＹ方向に７６８画素に相当する長さを有しているので、この搬送量（第１の搬送量）は、１２８（＝７６８／６）画素に相当する。
【００３８】
次に、Ｋ＋１回目の記録走査（Ｋ＋１パス）では、記録媒体３上の単位領域２１１に対して吐出口群Ｇ１〜Ｇ２からインクが吐出される。そして、記録媒体３を記録ヘッド７に対して距離Ｌ／６だけ相対的に搬送する。なお、上述したように、この搬送を行った後には記録媒体３の先端部が排紙ローラ対に挟持される。
【００３９】
次に、Ｋ＋２回目の記録走査（Ｋ＋２パス）では、記録媒体上の単位領域２１１に対しては吐出口群Ｇ３〜Ｇ４から、単位領域２１２に対しては吐出口群Ｇ１〜Ｇ２からインクが吐出される。この段階では、既に２つの搬送ローラ対により記録媒体の挟持が行われている。したがって、Ｋ＋２パス目が終了した後には、３つの吐出口群の幅に対応する距離Ｌ／４（＝Ｌ／１２×３）だけ、記録媒体を相対的に搬送する。この搬送量（第２の搬送量）は、１９２画素に相当する。
【００４０】
以下、後端領域２０３に到達するまでは記録ヘッド７の記録走査と記録媒体３の距離Ｌ／４だけの搬送を交互に繰り返し、先端領域２０１、中央領域２０２に対する記録を完了させる。なお、後端領域２０３に到達してからについては省略するが、先端領域２０１と同じように、給紙ローラ対による挟持が行われていない場合には走査間の搬送距離をＬ／６とする。
【００４１】
この結果、記録媒体上の各単位領域には記録ヘッドの４回の走査によってインクが吐出されることになる。例えば、単位領域２１１に対しては、Ｋ＋１パス目で吐出口群Ｇ１〜Ｇ２、Ｋ＋２パス目で吐出口群Ｇ３〜Ｇ４、Ｋ＋３パス目で吐出口群Ｇ６〜Ｇ７からインクが吐出され、最後にＫ＋４パス目で吐出口群Ｇ９〜Ｇ１０からインクが吐出されて記録が完了する。また、単位領域２１２に対しては、Ｋ＋２パス目で吐出口群Ｇ１〜Ｇ２、Ｋ＋３パス目で吐出口群Ｇ４〜Ｇ５、Ｋ＋４パス目で吐出口群Ｇ７〜８からインクが吐出され、最後にＫ＋５パス目で吐出口群Ｇ１０〜Ｇ１１からインクが吐出されて記録が完了する。また、単位領域２１３に対しては、Ｋ＋３パス目で吐出口群Ｇ１〜Ｇ３、Ｋ＋４パス目で吐出口群Ｇ４〜Ｇ６、Ｋ＋５パス目で吐出口群Ｇ７〜９からインクが吐出され、最後にＫ＋６パス目で吐出口群Ｇ１０〜Ｇ１２からインクが吐出されて記録が完了する。
【００４２】
なお、ここでは４回の走査で記録を行う場合について説明したが、他の回数だけ走査を行って記録する場合であっても同様の過程によって記録を行うことができる。
【００４３】
（データの処理過程）
図７は本実施形態における制御プログラムにしたがってＣＰＵ３０１が実行する記録に用いられる記録データ生成処理のフローチャートである。
【００４４】
まず、ステップＳ４０１にてインクジェット記録装置１００はホストコンピュータであるＰＣ３１２から入力されたＲＧＢ形式の入力データを取得する。
【００４５】
次に、ステップＳ４０２では、ＲＧＢ形式の入力データを記録に用いるインクの色に対応する多値データに変換する色変換処理を行う。この色変換処理により、複数の画素からなる画素群それぞれにおける階調を定める８ビット２５６値の情報によって表される多値データが生成される。
【００４６】
次に、ステップＳ４０３では後述する量子化パターンを用いて多値データを量子化する量子化処理を行う。この量子化処理により、各画素に対するインクの吐出または非吐出を定める１ビット２値の情報により表される量子化データが生成される。
【００４７】
そして、ステップＳ４０４では後述するマスクパターンを用いて量子化データを複数回の走査に分配する分配処理を行う。この分配処理により、複数回の走査それぞれにおける各画素に対するインクの吐出または非吐出を定める１ビット２値の情報により表される記録データが生成される。
【００４８】
なお、ここではＳ４０１〜Ｓ４０４の処理のすべてを記録装置１００内のＣＰＵ３０１が実行する形態について記載したが、他の形態による実施も可能である。例えば、Ｓ４０１〜Ｓ４０４の処理のすべてをＰＣ３１２が実行する形態であっても良い。また、例えば量子化処理（Ｓ４０３）までをＰＣ３１２が、分配処理（Ｓ４０４）を記録装置１００が実行する形態であっても良い。
【００４９】
（量子化処理の詳細）
図８（ａ）は本実施形態における量子化処理で用いる量子化パターン８０を示す模式図である。また、図８（ｂ）は図８（ａ）に示す量子化パターンのうちのある領域８０ａの拡大図である。なお、本実施形態では量子化パターンとして複数の画素それぞれに対するインクの吐出または非吐出を決定するための閾値が定められたディザパターンを用いる。
【００５０】
図８（ａ）に示すように、本実施形態で用いるディザパターン８０は、Ｘ方向に３８４画素、Ｙ方向に３８４画素の大きさを有している。このディザパターン８０のＹ方向における大きさは、中央領域内の単位領域のＹ方向における長さと同じである。これらの３８４×３８４個の画素それぞれに対し、図８（ｂ）の拡大図に示すように、１〜２５５までの２５５個のいずれかの値がその画素における閾値として定められている。
【００５１】
本実施形態のステップＳ４０３における量子化処理では、ある画素における多値データが示す階調値と、対応する画素におけるディザパターン８０が示す閾値と、を比較し、階調値が閾値以上である場合にはその画素に対してインクの吐出を定め、階調値が閾値未満である場合にはその画素に対してインクの非吐出を定める量子化データを生成する。
【００５２】
ここで、図８に示すディザパターンは、多値データが示す０〜２５５の２５６値の階調値に応じて２５６段階のインクの吐出量を再現可能なように、３８４×３８４個の画素に対する閾値が定められている。
【００５３】
例えば、量子化パターン８０と対応する３８４×３８４個の画素のすべてに対して６４（＝２５６÷４）の階調値を有する多値データが入力された場合、約３６８６４（＝３８４×３８４÷４）個の画素に対してインクの吐出を定めるような量子化データを生成するように、各閾値が定められている。すなわち、図８（ａ）に示すディザパターン８０は６４以下の閾値が定められた画素が約３６８６４個となるように定められている。
【００５４】
また、例えば量子化パターン８０と対応する３８４×３８４個の画素のすべてに対して１２８（＝２５６÷２）の階調値を有する多値データが入力された場合、約７３７２８（＝３８４×３８４÷２）個の画素に対してインクの吐出を定めるような量子化データを生成するように、各閾値が定められている。すなわち、図８（ａ）に示すディザパターン８０は１２８以下の閾値が定められた画素が約７３７２８個となるように定められている。
【００５５】
これらのことを言い換えると、ディザパターン８０内には１〜２５５それぞれの閾値が定められた画素が互いにほぼ同じ数となるように定められている。
【００５６】
なお、上記のディザパターンは本実施形態を適用できるディザパターンのうちの一例であり、他の要素を鑑みて適宜異なるディザパターンを設定することができる。
【００５７】
（分配処理の詳細）
図９（ａ１）は本実施形態における分配処理で用いる単位領域に対する１回目の走査に対応するマスクパターン８１を示す模式図である。また、図９（ａ２）はマスクパターン８１のうちのある領域８１ａの拡大図である。
【００５８】
また、図９（ｂ１）は本実施形態における分配処理で用いる単位領域に対する２回目の走査に対応するマスクパターン８２を示す模式図である。また、図９（ｂ２）はマスクパターン８２のうちのある領域８２ａの拡大図である。
【００５９】
また、図９（ｃ１）は本実施形態における分配処理で用いる単位領域に対する３回目の走査に対応するマスクパターン８３を示す模式図である。また、図９（ｃ２）はマスクパターン８３のうちのある領域８３ａの拡大図である。
【００６０】
また、図９（ｄ１）は本実施形態における分配処理で用いる単位領域に対する４回目の走査に対応するマスクパターン８４を示す模式図である。また、図９（ｄ２）はマスクパターン８４のうちのある領域８４ａの拡大図である。
【００６１】
図９（ａ１）、（ｂ１）、（ｃ１）、（ｄ１）に示すように、本実施形態で用いるマスクパターン８１〜８４は、それぞれＸ方向に３８４画素、Ｙ方向に３８４画素の大きさを有している。これは、本実施形態で用いるディザパターン８０の大きさと同じである。これらの３８４×３８４個の画素のそれぞれに対し、図９（ａ２）、（ｂ２）、（ｃ２）、（ｄ２）の拡大図に示すように、それぞれの画素に対する記録の許容または非許容が定められている。なお、図９（ａ２）、（ｂ２）、（ｃ２）、（ｄ２）のうち、黒く塗り潰された画素がインクの吐出を許容する記録許容画素を、白抜けで示された画素がインクの吐出を許容しない非記録許容画素をそれぞれ示している。
【００６２】
本実施形態のステップＳ４０４における分配処理では、ある画素における量子化データが定めるインクの吐出／非吐出と、対応する画素におけるマスクパターン８１〜８４それぞれが定めるインクの吐出の許容／非許容と、に基づいて記録データを生成する。詳細には、ある画素において量子化データがインクの吐出を定めており、且つ、マスクパターンがインクの吐出の許容を定めている場合にそのマスクパターンに対応する走査においてその画素に対してインクを吐出するような記録データを生成する。一方、ある画素において量子化データがインクの吐出を定めており、且つ、マスクパターンがインクの吐出の非許容を定めている場合には、そのマスクパターンに対応する走査においてその画素に対してインクを吐出しないような記録データを生成する。また、ある画素において量子化データがインクの非吐出を定めている場合、マスクパターンが定めるインクの吐出の許容／非許容に関わらず、インクを吐出しないような記録データを生成する。
【００６３】
ここで、図９に示すマスクパターン８１〜８４は、互いに補完的且つ排他的な位置に記録許容画素が配置されている。すなわち、各画素に対し、４つのマスクパターン８１〜８４のうちのいずれか１つのマスクパターンではインクの吐出の許容が定められ、且つ、他の３つのマスクパターンではインクの吐出の非許容が定められている。これにより、例えばマスクパターン８１〜８４と対応する３８４×３８４個の画素のすべてに対してインクの吐出を定めた量子化データが入力された場合、それぞれの画素領域に対して１〜４回目の走査のうちのいずれか１回の走査においてインクを吐出することが可能となる。
【００６４】
また、図９に示すマスクパターン８１〜８４は、互いにほぼ同じ数の記録許容画素が定められている。これにより、例えばマスクパターン８１〜８４と対応する３８４×３８４個の画素のすべてに対してインクの吐出を定めた量子化データが入力された場合、１〜４回目の走査それぞれにおけるインクの吐出回数をほぼ同じ回数とすることができる。
【００６５】
以上の構成から、図９に示すマスクパターン８１〜８４それぞれは、記録許容画素の数と非記録許容画素の数の和に対する記録許容画素の数の比率で定義される記録許容比率はいずれも２５％に定められていることがわかる。
【００６６】
なお、上記のマスクパターンは本実施形態を適用できるマスクパターンのうちの一例であり、他の要素を鑑みて適宜異なるマスクパターンを設定することができる。
【００６７】
（ディザパターンとマスクパターンの同期）
本実施形態で使用するディザパターン８０とマスクパターン８１〜８４のそれぞれは、互いに対応付けて定められている。なお、以降の説明ではディザパターンの各閾値が定められている画素の配置とマスクパターンの記録許容画素の配置を互いに対応付けて定めることをディザパターンとマスクパターンの同期とも称する。
【００６８】
詳細には、本実施形態では、２５％の階調値である６４（＝２５６×０．２５）の階調値を定める多値データに対してディザパターン８０を用いて量子化し、生成された量子化データをマスクパターン８１を用いて１回目の走査に分配した場合、生成された１回目の走査に対応する記録データが示すインクの吐出を定めた画素の分散性がある程度高くなるように、ディザパターン８０とマスクパターン８１が互いに対応付けられて定められている。すなわち、図１（ｂ−１）に示したようなインクの吐出を定めた画素に空間的な偏りが目立つような画像を示す記録データではなく、図１（ｃ−１）に示したようなインクの吐出を定めた画素が空間的に均等に生じるような画像を示す記録データを生成できるように、ディザパターン８０とマスクパターン８１が定められている。
【００６９】
更に、本実施形態では、５０％の階調値である１２８（＝２５６×０．５）の階調値を定める多値データ、７５％の階調値である１９２（＝２５６×０．７５）の階調値を定める多値データ、１００％の階調値である２５６（＝２５６×１）の階調値を定める多値データのそれぞれが入力された場合においても同様に、生成された１回目の走査に対応する記録データが示すインクの吐出を定めた画素の分散性がある程度高くなるように、ディザパターン８０とマスクパターン８１が互いに対応付けられて定められている。
【００７０】
ここで、分散性の評価としては、記録データに基づくドットの配置がホワイトノイズ特性とならないようにディザパターン８０とマスクパターン８１が定められていることが好ましい。また、記録データに基づくドットの配置がレッドノイズ特性とならないようにディザパターン８０とマスクパターン８１が定められていることがより好ましい。そして、記録データに基づくドットの配置がブルーノイズ特性となるようにディザパターン８０とマスクパターン８１が定められていることが更に好ましい。
【００７１】
つまり、ディザパターン８０とマスクパターン８１は、生成される記録データに基づくドットの配置が、空間周波数領域において低周波成分に比べて高周波成分が多くなっていることが好ましい。こうすれば、記録データに基づくドットの配置を局所的に集中させず、空間的に分散させることが可能となる。
【００７２】
また、ここではＸ方向に３８４画素、Ｙ方向に３８４画素からなるディザパターン、マスクパターンで同期を行う場合について記載したが、この同期を行うディザパターン、マスクパターンそれぞれのサイズは適宜異なるものとして良い。但し、分散性を評価するためにはある程度大きなサイズでディザパターン、マスクパターンの同期を行うことが好ましく、少なくともＸ方向に１０画素、Ｙ方向に１０画素のサイズ以上で行うことが好ましい。
【００７３】
また、ここでは１回目の走査に対応するマスクパターン８１とディザパターン８０の同期について説明したが、２回目の走査に対応するマスクパターン８２、３回目の走査に対応するマスクパターン８３、４回目の走査に対応するマスクパターン８４のそれぞれについても同様にして、ディザパターン８０との同期が行われている。
【００７４】
したがって、本実施形態で用いるディザパターン８０と、マスクパターン８１〜８４のそれぞれと、は、２５％、５０％、７５％、１００％の各階調において互いに対応付けて定められていることとなる。
【００７５】
なお、本実施形態における対応付けはマスクパターンのデータの作成時においてなされる。例えば、まず、階調データと比較するための閾値が配置されたディザパターンを用意する。そして、このディザパターンの各画素の閾値を考慮し、各走査で形成される画素が各パス単独で見た場合に上述した分散の状態となるように、マスクパターンを定めるのである。
【００７６】
具体的には、ディザパターンの各画素の閾値を考慮しながら、各走査において、単位領域内の位置への画素形成を許可とする位置を決定する。あるいは各位置へ形成することを許可とするドットの個数を決定するのである。
【００７７】
例えば、あるディザパターンを既定のものとし、ある１回の走査に対応するマスクパターンにおいて所定の位置へのドット形成画素を決定する。そして、次は残りの位置において、さらにドット形成画素を決定するわけであるが、このときは、先に形成した所定の位置のドットにさらにドットが加えられた場合の分散性が最も高くなる位置を、次のドット形成位置とするのである。分散性の評価は所定の条件でおこなえばよい。
【００７８】
また、ここではディザパターンを既定のものとして説明したが、マスクパターンを既定のものとして、ディザパターンの閾値を順次決定していく際に、各階調において形成され得るドットとマスクパターンとの論理積から得られる量子化データを評価し、閾値を決定しても良い。
【００７９】
（マスクパターンの記憶形式）
本実施形態では、ディザパターン８０との同期が行われた図９に示すマスクパターン８１〜８４それぞれをＹ方向に２通りに分割して得られるマスクパターン部分をＲＯＭ３０２に記憶している。
【００８０】
図１０は本実施形態におけるマスクパターン部分を説明するための図である。なお、以下の説明では簡単のため、マスクパターン８１、８２、８３、８４をそれぞれマスクパターンＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄと称する。
【００８１】
まず、本実施形態では、図９に示すマスクパターンＡ〜ＤのそれぞれをＹ方向に２分割し、マスクパターン部分Ａ１＿１〜Ｄ１＿１、Ａ１＿２〜Ｄ１＿２を得る。
【００８２】
例えば、１回目の走査に対応するマスクパターンＡはＹ方向下流側に対応し、Ｘ方向に３８４画素、Ｙ方向に１９２画素の大きさからなるマスクパターン部分Ａ１＿１と、Ｙ方向上流側に対応し、Ｘ方向に３８４画素、Ｙ方向に１９２画素の大きさからなるマスクパターン部分Ａ１＿２とに分割される。
【００８３】
同様にして、２、３、４回目の走査に対応するマスクパターンＢ、Ｃ、Ｄは、Ｙ方向下流側に対応し、Ｘ方向に３８４画素、Ｙ方向に１９２画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｂ１＿１、Ｃ１＿１、Ｄ１＿１と、Ｙ方向上流側に対応し、Ｘ方向に３８４画素、Ｙ方向に１９２画素の大きさからなるマスクパターン部分Ｂ１＿２、Ｃ１＿２、Ｄ１＿２とにそれぞれ２分割される。
【００８４】
更に、本実施形態では、図９に示すマスクパターンＡ〜ＤのそれぞれをＹ方向に３分割し、マスクパターン部分Ａ２＿１〜Ｄ２＿１、Ａ２＿２〜Ｄ２＿２、Ａ２＿３〜Ｄ２＿３を得る。
【００８５】
例えば、１回目の走査に対応するマスクパターンＡはＹ方向下流側に対応し、Ｘ方向に３８４画素、Ｙ方向に１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ａ２＿１と、Ｙ方向中央側に対応し、Ｘ方向に３８４画素、Ｙ方向に１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ａ２＿２と、Ｙ方向上流側に対応し、Ｘ方向に３８４画素、Ｙ方向に１２８画素の大きさからなるマスクパターン部分Ａ２＿３とに分割される。
【００８６】
同様にして、２、３、４回目の走査に対応するマスクパターンＢ、Ｃ、Ｄは、それぞれＸ方向に３８４画素、Ｙ方向に１２８画素の大きさからなり、Ｙ方向下流側に対応するマスクパターン部分Ｂ２＿１、Ｃ２＿１、Ｄ２＿１と、Ｙ方向中央側に対応するマスクパターン部分Ｂ２＿２、Ｃ２＿２、Ｄ２＿２と、Ｙ方向上流側に対応するマスクパターン部分Ｂ２＿３、Ｃ２＿３、Ｄ２＿３と、にそれぞれ３分割される。
【００８７】
なお、マスクパターン部分のそれぞれにおける上述の記録許容比率がいずれもほぼ２５％となるように、マスクパターンＡ〜Ｄが定められている。言い換えると、マスクパターンＡ〜ＤはＹ方向における位置によらずほぼ２５％の記録許容比率となるように定められている。
【００８８】
ここで、マスクパターン部分Ａ１＿１、Ｂ１＿１、Ｃ１＿１、Ｄ１＿１はディザパターンＱ（以下、簡単のためディザパターン８０をディザパターンＱとも称する）のうちのＹ方向下流側に位置するＹ方向に１９２画素の領域と同期されて設定された領域である。
【００８９】
したがって、量子化データのうちのディザパターンＱのＹ方向下流側に位置するＹ方向に１９２画素の領域によって量子化された量子化データに対しては、マスクパターン部分Ａ１＿１、Ｂ１＿１、Ｃ１＿１、Ｄ１＿１を用いて分配処理を行うことによりインクの吐出が定められた画素が高分散となるような記録データを生成することができる。
【００９０】
一方、量子化データのうちのディザパターンＱのＹ方向下流側に位置するＹ方向に１９２画素の領域によって量子化された量子化データに対して他のマスクパターン部分、例えばマスクパターン部分Ａ１＿２、Ｂ１＿２、Ｃ１＿２、Ｄ１＿２を用いて分配処理を行うと、マスクパターンとディザパターンの同期が行われていないため、インクの吐出が定められた画素が空間的に偏った記録データが生成される虞がある。
【００９１】
ここではマスクパターン部分Ａ１＿１、Ｂ１＿１、Ｃ１＿１、Ｄ１＿１はディザパターンＱ内のＹ方向下流側に位置する領域との同期について説明したが、他のマスクパターン部分についても同様となる。
【００９２】
本実施形態では、上述したマスクパターン部分Ａ１＿１〜Ｄ１＿１、Ａ１＿２〜Ｄ１＿２、Ａ２＿１〜Ｄ２＿１、Ａ２＿２〜Ｄ２＿２、Ａ２＿３〜Ｄ２＿３をＲＯＭ３０２に記憶しておき、後述するようにして各マスクパターン部分を適用する。
【００９３】
（ディザパターン、マスクパターンの適用方法）
本実施形態では、図６に示すマルチパス記録方式において、図８に示すディザパターン、図１０に示すマスクパターン部分を用いて生成された記録データにしたがって記録を行う。
【００９４】
図１１は本実施形態におけるＣＰＵ３０１が行うディザパターン、マスクパターンの適用方法を示す模式図である。
【００９５】
本実施形態では、量子化処理Ｓ４０３においてディザパターンのオフセットを行う。
【００９６】
図５、図６を用いて説明したように、本実施形態では先端領域内の単位領域２１２に記録を開始するＫ＋２パス目を行うまでは、排紙ローラによる狭持が為されないため、搬送ずれが起こり易い。そのため、図５、図６に示すように、Ｋ＋２パス目を行うまではＫ＋２パス目を行ってからに比べて搬送量を小さくする。その結果、Ｋ＋２パス目を行った時点で少なくとも１回記録が行われた先端領域内の単位領域２１１、２１２は、Ｋ＋２パス目以降に初めて記録が行われる中央領域内の単位領域２１３、２１４、２１５に比べてＹ方向の長さが小さくなる。
【００９７】
このように、先端領域と中央領域で単位領域のＹ方向における長さが異なると、後述する比較形態１、２に示すように、記録時間を延長するか、若しくはマスクパターンとディザパターンの同期を諦めるかしなければならなくなってしまう。
【００９８】
そこで、本実施形態では量子化処理Ｓ４０３においてディザパターンのＹ方向へのオフセットを行い、先端領域と中央領域の境界にある単位領域２１２に対応する多値データと、ディザパターンＱのＹ方向上流側の端部に位置する領域と、が対応する位置となるようにする。
【００９９】
ここで、ディザパターンＱのＹ方向下流側端部と記録媒体３のＹ方向下流側端部を一致させ、その後ディザパターンＱをＹ方向に沿って繰り返し適用する場合、記録媒体や記録画像のサイズによって単位領域２１２に対してディザパターン内のどの領域を適用することになるかは異なってくる。
【０１００】
例えば、図１１の破線に示すように、単位領域２１２に対応する多値データに対してディザパターンＱのＹ方向中央部が対応する場合がある。本実施形態では、このような場合にディザパターンＱのオフセットを行い、図１１の実線（実線にて２つ記載されたディザパターンＱのうち、上側のディザパターンＱ）に示すように、単位領域２１２に対応する多値データに対してディザパターンＱのＹ方向上流側端部が対応するように調整する。このオフセット後の単位領域２１２と対応するディザパターンＱを基準とし、多値データに対してＹ方向に繰り返しディザパターンＱを適用し、量子化データを生成する。
【０１０１】
次に、分配処理Ｓ４０４では、各単位領域に対応する量子化データに対し、量子化処理の際に適用されたディザパターンＱ内の領域と対応するマスクパターン部分を適用し、各単位領域における記録データを生成する。
【０１０２】
例えば、単位領域２１１に対応する量子化データは、図１１に示すように、ディザパターンＱを３分割した際のＹ方向中央部を用いて量子化されている。そのため、単位領域２１１に対応する量子化データに対しては、ディザパターンＱのＹ方向中央部と対応する図１０に示すマスクパターン部分Ａ２＿２〜Ｄ２＿２を適用する。ディザパターンＱのＹ方向中央部とマスクパターン部分Ａ２＿２〜Ｄ２＿２とは互いに同期が行われているため、分散性の高いドット配置となるような記録データを生成することができる。
【０１０３】
また、単位領域２１２に対応する量子化データは、図１１に示すように、ディザパターンＱを３分割した際のＹ方向上流側端部を用いて量子化されている。そのため、単位領域２１２に対応する量子化データに対しては、ディザパターンＱのＹ方向上流側端部と対応する図１０に示すマスクパターン部分Ａ２＿３〜Ｄ２＿３を適用する。
【０１０４】
また、単位領域２１３に対応する量子化データは、図１１に示すように、ディザパターンＱを２分割した際のＹ方向下流側端部を用いて量子化されている。そのため、単位領域２１３に対応する量子化データに対しては、ディザパターンＱのＹ方向下流側端部と対応する図１０に示すマスクパターン部分Ａ１＿１〜Ｄ１＿１を適用する。
【０１０５】
以上の構成によれば、各単位領域に対して互いに同期が行われたディザパターンとマスクパターン部分を適用するため、各単位領域において空間的な偏りが小さい画像を記録することができる。また、搬送ずれが生じる虞がある場合のみにおいて搬送量を小さくするため、スループットを不要に低下させることを抑制することもまた可能となる。
【０１０６】
（比較形態１）
次に、本実施形態に対する比較形態１について詳細に説明する。
【０１０７】
比較形態１では、本実施形態で実行したディザパターンＱのオフセットを行わず、且つ、図６で説明した搬送量でマルチパス記録を行う。なお、特に記載のない限り、図１１で説明した本実施形態と同様の記録条件で記録を行う。
【０１０８】
図１２は比較形態１におけるディザパターン、マスクパターンの適用方法を示す模式図である。
【０１０９】
ここでは図１１の破線で示した箇所と同様に、図１２においても単位領域２３２（図１１に示す単位領域２１２に相当）に対応する多値データに対してディザパターンＱのＹ方向中央部が対応する。但し、図１１で説明した本実施形態と異なり、比較形態１ではディザパターンＱのオフセットは行わない。
【０１１０】
そのため、例えば単位領域２３１（図１１に示す単位領域２１１に相当）に対応する多値データに対しては、ディザパターンＱ内のＹ方向下流側端部を用いて量子化され、その後、対応するマスクパターン部分Ａ２＿１〜Ｄ２＿１を用いて分配される。また、単位領域２３２（図１１に示す単位領域２１２に相当）に対応する多値データに対しては、ディザパターンＱ内のＹ方向中央部を用いて量子化され、その後、対応するマスクパターン部分Ａ２＿２〜Ｄ２＿２を用いて分配される。
【０１１１】
このように、単位領域２３１、２３２については比較形態１でも互いに同期が行われたディザパターンとマスクパターンを用いることができる。
【０１１２】
しかし、単位領域２３３（図１１に示す単位領域２１３に相当）に対応する量子化データを見ると、量子化に用いたディザパターンＱ内の領域と対応するマスクパターン部分は存在しない。これは、単位領域２３３に対応する量子化データは、２つのディザパターンＱによって分担して量子化が行われているためである。
【０１１３】
これに対し、例えばマスクパターン部分Ａ１＿１〜Ｄ１＿１を単位領域２３３に対応する量子化データに適用することで分配処理を行うこと自体は可能である。但し、量子化に用いられた量子化パターン内の領域とマスクパターン部分Ａ１＿１〜Ｄ１＿１は互いに同期が行われたものではない。したがって、記録される画像において空間的な偏りが生じてしまう虞がある。
【０１１４】
（比較形態２）
次に、本実施形態に対する比較形態２について詳細に説明する。
【０１１５】
比較形態２では、本実施形態で実行したディザパターンＱのオフセットを行わず、且つ、互いに同期されたディザパターンとマスクパターンを必ず用いて記録を行う。なお、特に記載のない限り、図１１で説明した本実施形態、および図１２で説明した比較形態１と同様の記録条件にて記録を行う。
【０１１６】
図１３は比較形態２におけるディザパターン、マスクパターンの適用方法を示す模式図である。
【０１１７】
図１１の破線で示した箇所と同様に、図１３においても単位領域２２２（図１１に示す単位領域２１２に相当）に対応する多値データに対してディザパターンＱのＹ方向中央部が対応する。但し、比較形態２においてもディザパターンＱのオフセットは行わない。
【０１１８】
そのため、例えば単位領域２２１（図１１に示す単位領域２１１に相当）に対応する多値データに対しては、ディザパターンＱ内のＹ方向下流側端部を用いて量子化され、その後、対応するマスクパターン部分Ａ２＿１〜Ｄ２＿１を用いて分配される。また、単位領域２２２（図１１に示す単位領域２１２に相当）に対応する多値データに対しては、ディザパターンＱ内のＹ方向中央部を用いて量子化され、その後、対応するマスクパターン部分Ａ２＿２〜Ｄ２＿２を用いて分配される。ここまでは比較形態１と同様である。
【０１１９】
ここで、比較形態２では、単位領域２２２（図１１に示す単位領域２１２に相当）と単位領域２２３（図１１に示す単位領域２１３）の間に、もうひとつＹ方向に１２８画素の大きさを有する単位領域２２０を介在させる。そして、単位領域２２１、２２２に対応する多値データへの量子化に用いたディザパターンＱの残りの領域であるディザパターンＱ内のＹ方向上流側端部を用い、上述の新たに介在させた単位領域２２０に対応する多値データを量子化する。更に、ディザパターンＱのＹ方向上流側端部に対応するマスクパターン部分Ａ２＿３〜Ｄ２＿３を適用して分配処理を行えば、単位領域２２０についても互いに同期が行われたディザパターンとマスクパターンを用いて記録を行うことができる。
【０１２０】
そして、単位領域２２３（図１１に示す単位領域２１３に相当）以降については、本実施形態と同様にディザパターン、マスクパターン部分を適用することができる。そのため、比較形態２によれば、記録媒体の全域にわたって空間的な偏りの少ない画像を記録することが可能となる。
【０１２１】
しかしながら、比較形態２では、本来単位領域２２２（図１１に示す単位領域２１２に相当）までを１２８画素と短い搬送量で搬送すれば搬送ずれの影響を十分小さくできるにもかかわらず、単位領域２２０を介在させることで短い搬送量での搬送を行う回数を１回多くしてしまっている。そのため、本実施形態に比べて比較形態２では記録媒体に対する記録を完了するまでの時間が長くなり、スループットの低下に繋がってしまう。
【０１２２】
以上記載したように、比較形態１では記録画像の空間的な偏りが生じ、また、比較形態２ではスループットの低下が発生してしまう虞がある。
【０１２３】
これに対し、本実施形態のようにディザパターンをオフセットすることにより記録画像の空間的な偏りを抑制しつつ、スループットの低下もまた抑制して記録を行うことが可能となる。
【０１２４】
（第２の実施形態）
第１の実施形態では、量子化処理にて多値データを１ビット２値の情報で表される２値データに変換し、分配処理にて２値データを複数回の走査に分配することにより、２値の記録データを生成する形態について記載した。
【０１２５】
これに対し、本実施形態では、量子化データをｎ（ｎ≧２）ビットＭ（Ｍ≧３）値の情報で表されるＭ値データに変換し、分配処理にてＭ値データを複数回の走査に分配することにより、２値の記録データを生成する形態について記載する。
【０１２６】
なお、上述した第１の実施形態と同様の部分については説明を省略する。
【０１２７】
本実施形態では、図７に示す量子化処理Ｓ４０３および分配処理Ｓ４０４を第１の実施形態と異ならせる。
【０１２８】
なお、ここではｎビットＭ値データの一例として、量子化処理により２ビット４値の情報（「００」、「０１」、「１０」、「１１」）により表される量子化データを生成する。ここで、量子化データの２ビット４値の情報は、画素に対するインクの吐出回数を定めている。詳細には、量子化データの２ビット４値の情報が「００」である場合、画素に対してインクを１回も吐出しない。また、量子化データの２ビット４値の情報が「０１」である場合、画素に対してインクを１回吐出する。また、量子化データの２ビット４値の情報が「１０」である場合、画素に対してインクを２回吐出する。また、量子化データの２ビット４値の情報が「１１」である場合、画素に対してインクを３回吐出する。
【０１２９】
なお、以降の説明では簡単のため、インクの吐出回数を示す２ビット４値の情報（「００」、「０１」、「１０」、「１１」）を画素値とも称する。
【０１３０】
（量子化処理）
図１４は本実施形態における制御プログラムにしたがって量子化処理Ｓ４０３における量子化データ生成のフローチャートである。
【０１３１】
本実施形態において量子化処理Ｓ４０３が開始されると、まずステップＳ５０１にて、各画素における多値データが示す階調値Ｉｎを予め定められた所定閾値Ｔｈで除算し、その商Ｉｎと余りＩｎ´が算出される。
【０１３２】
ここで、量子化処理にてＭ値の量子化データを生成し、且つ、多値データが表現可能な階調値がＬ段階である場合、所定閾値Ｔｈは下記の（式１）で算出される値であることが好ましい。
（式１）
Ｔｈ＝（Ｌ−１）／（Ｍ−１）
上述のように本実施形態ではＭ＝４である。また、多値データは０〜２５５の２５６段階の階調値を表現可能であるため、Ｌ＝２５６である。したがって、本実施形態では所定閾値Ｔｈ＝８５（＝（２５６−１）／（４−１））に設定する。
【０１３３】
なお、上述の所定閾値Ｔｈの算出方法は一例であり、適宜異なる方法を用いて設定しても良い。
【０１３４】
図１５は多値データの階調値Ｉｎが０〜２５５のそれぞれである場合において取得される商Ｎと余りＩｎ´を示す表である。
【０１３５】
図１５に示すように、多値データの階調値Ｉｎが０〜８４のそれぞれの値の場合、階調値Ｉｎを所定閾値Ｔｈ＝８５で割った商Ｎは０、余りＩｎ´はそれぞれ０〜８４となる。また、多値データの階調値Ｉｎが８５〜１６９のそれぞれの値の場合、階調値Ｉｎを所定閾値Ｔｈ＝８５で割った商Ｎは１、余りＩｎ´はそれぞれ０〜８４となる。また、多値データの階調値Ｉｎが１７０〜２５４のそれぞれの値の場合、階調値Ｉｎを所定閾値Ｔｈ＝８５で割った商Ｎは２、余りＩｎ´はそれぞれ０〜８４となる。また、多値データの階調値Ｉｎが２５５の場合、階調値Ｉｎを所定閾値Ｔｈ＝８５で割った商は３、余りは０となる。
【０１３６】
次に、ステップＳ５０２にてディザパターンを参照し、ステップＳ５０１において取得された余りＩｎ´とディザパターン内の各画素において定められた閾値Ｄｔｈとの比較が行われる。
【０１３７】
図１６（ａ）は本実施における量子化処理で用いるディザパターン９０を示す模式図である。また、図１６（ｂ）は図１６（ａ）に示すディザパターンのうちの一部の領域９０ａの拡大図である。なお、本実施形態ではディザパターンとして複数の画素領域それぞれに対するインクの吐出回数を決定するための閾値が定められたディザパターンを用いる。
【０１３８】
図１６（ａ）に示すように、本実施形態で用いるディザパターン９０は、Ｘ方向に１２８画素、Ｙ方向に１２８画素の大きさを有している。これらの１２８×１２８個の画素それぞれに対し、図１６（ｂ）の拡大図に示すように、１〜８４までの８４個のいずれかの値がその画素における閾値として定められている。
【０１３９】
本実施形態におけるステップＳ４０３における量子化処理では、ある画素における多値データが示す階調値Ｉｎに基づいて取得された余りＩｎ´と、対応する画素におけるディザパターン９０が示す閾値と、を比較し、余りＩｎ´が閾値以上である場合にはステップＳ５０３に進む。そして、ステップＳ５０３おいてステップＳ５０２にて取得された商Ｎに対して１を加え、その値を量子化データの階調値Ｎ´（＝Ｎ＋１）とする。
【０１４０】
一方、余りＩｎ´が閾値未満である場合にはステップＳ５０４に進み、ステップＳ５０２にて取得された商Ｎを量子化データの階調値Ｎ´（＝Ｎ）とする。
【０１４１】
ここで、図１５からわかるように、多値データの階調値が０〜８４のいずれかである場合、商Ｎは０であり、余りＩｎ´は０〜８４のいずれかになる。したがって、対応する画素に対して定められた閾値に応じて量子化データの階調値Ｎ´は１または０となる。余りＩｎ´が大きいほど閾値以上となる画素が多くなるため、階調値Ｎ´として１が定められる画素の数が多くなる。
【０１４２】
また、多値データの階調値が８５〜１６９のいずれかである場合、商Ｎは１であり、余りＩｎ´は０〜８４のいずれかになる。したがって、対応する画素に対して定められた閾値に応じて量子化データの階調値Ｎ´は２または１となる。余りＩｎ´が大きいほど閾値以上となる画素が多くなるため、階調値Ｎ´として２が定められる画素の数が多くなる。
【０１４３】
また、多値データの階調値が１７０〜２５４のいずれかである場合、商Ｎは２であり、余りＩｎ´は０〜８４のいずれかになる。したがって、対応する画素に対して定められた閾値に応じて量子化データの階調値Ｎ´は２または３となる。余りＩｎ´が大きいほど閾値以上となる画素が多くなるため、階調値Ｎ´として３が定められる画素の数が多くなる。
【０１４４】
また、多値データの階調値が２５５の場合、商Ｎは３であり、余りＩｎ´は０であるため、量子化データの階調値は対応する画素に対して定められた閾値にかかわらず３となる。
【０１４５】
このように、多値データの階調値が大きくなるほど、階調値Ｎ´として大きな値が定められる画素の数が多くなることがわかる。
【０１４６】
そして、ステップＳ５０５にて階調値Ｎ´をｎ（ｎ≧２）ビットの情報へと変換する。本実施形態では、上述のようにｎ＝２であるため、階調値Ｎ´を「００」、「０１」、「１０」、「１１」のいずれかの画素値に変換する。詳細には、ある画素において階調値Ｎ´＝０である場合、当該画素に対するインクの吐出回数が０回であることを示す「００」の情報に変換する。また、ある画素において階調値Ｎ´＝１である場合、当該画素に対するインクの吐出回数が１回であることを示す「０１」の情報に変換する。また、ある画素において階調値Ｎ´＝２である場合、当該画素に対するインクの吐出回数が２回であることを示す「１０」の情報に変換する。また、ある画素において階調値Ｎ´＝３である場合、当該画素に対するインクの吐出回数が３回であることを示す「１１」の情報に変換する。
【０１４７】
図１７は図１６に示すディザパターン９０内の領域９０ａに対し、互いに異なる階調値を有する多値データが入力された場合に生成される量子化データを模式的に示す図である。
【０１４８】
ここで、図１７（ａ）は図１６（ｂ）に示すディザパターンと同様であり、ディザパターン内の一部の領域９０ａを示している。また、図１７（ｂ）は一部の領域９０ａに対して各画素の階調値が１２８である多値データが入力された際に生成される量子化データ９０ａ−１２８を示している。また、図１７（ｃ）は一部の領域９０ａに対して階調値が１２９である多値データが一様に入力された際に生成される量子化データ９０ａ−１２９を示している。また、図１７（ｄ）は一部の領域９０ａに対して階調値が１３０である多値データが入力された際に生成される量子化データ９０ａ−１３０を示している。
【０１４９】
図１７（ａ）に示すディザパターン内の一部の領域９０ａに対して階調値Ｉｎが１２８である多値データが一様に入力された場合、ステップＳ５０１にて商Ｎ＝１、余りＩｎ´＝４３が取得される。したがって、ステップＳ５０２〜Ｓ５０４にてディザパターン９０内の一部の領域９０ａのうちの４３以上の閾値Ｄｔｈが定められた画素においては階調値Ｎ´＝２、４２以下の閾値Ｄｔｈが定められた画素においては階調値Ｎ´＝１が決定される。そして、ステップＳ５０５にて階調値Ｎ´＝２と決定された画素には「１０」の画素値を、階調値Ｎ´＝１と決定された画素には「０１」の画素値を割り当てる。したがって、図１７（ｂ）のようなＭ値データが生成される。
【０１５０】
次に、図１７（ａ）に示すディザパターン内の一部の領域９０ａに対して階調値Ｉｎが１２９である多値データが一様に入力された場合、ステップＳ５０１にて商Ｎ＝１、余りＩｎ´＝４４が取得される。したがって、ステップＳ５０２〜Ｓ５０４にてディザパターン９０内の一部の領域９０ａのうちの４４以上の閾値Ｄｔｈが定められた画素においては階調値Ｎ´＝２、４３以下の閾値Ｄｔｈが定められた画素においては階調値Ｎ´＝１が決定される。そして、ステップＳ５０５にて階調値Ｎ´＝２と決定された画素には「１０」の画素値を、階調値Ｎ´＝１と決定された画素には「０１」の画素値を割り当てる。したがって、図１７（ｃ）のようなＭ値データが生成される。
【０１５１】
ここで、図１７（ｂ）、（ｃ）に示すＭ値データは画素２００１以外の画素においては同じ画素値が定められている。しかしながら、図１７（ｂ）に示すＭ値データでは画素２００１に対して１回のインクの吐出を示す「０１」の画素値が定められている一方で、図１７（ｃ）に示すＭ値データは画素２００１に対して２回のインクの吐出を示す「１０」の画素値が定められていることがわかる。ここから、階調値が１２９の多値データが入力された場合、階調値が１２８の多値データが入力された場合に比べて、ディザパターン９０内の一部の領域９０ａに対応する記録媒体上の領域に対して１回だけインクを多く吐出することが可能となることがわかる。
【０１５２】
次に、図１７（ａ）に示すディザパターン内の一部の領域９０ａに対して階調値Ｉｎが１３０である多値データが入力された場合、ステップＳ５０１にて商Ｎ＝１、余りＩｎ´＝４５が取得される。したがって、ステップＳ５０２〜Ｓ５０４にてディザパターン９０内の一部の領域９０ａのうちの４５以上の閾値Ｄｔｈが定められた画素においては階調値Ｎ´＝２、４４以下の閾値Ｄｔｈが定められた画素においては階調値Ｎ´＝１が決定される。そして、ステップＳ５０５にて階調値Ｎ´＝２と決定された画素には「１０」の画素値を、階調値Ｎ´＝１と決定された画素には「０１」の画素値を割り当てる。したがって、図１７（ｄ）のようなＭ値データが生成される。
【０１５３】
ここで、図１７（ｃ）、（ｄ）に示すＭ値データは画素２００２以外の画素においては同じ画素値が定められている。しかしながら、図１７（ｃ）に示すＭ値データでは画素２００ｃに対して１回のインクの吐出を示す「０１」の画素値が定められている一方で、図１７（ｄ）に示すＭ値データは画素２００２に対して２回のインクの吐出を示す「１０」の画素値が定められていることがわかる。ここから、階調値が１３０の多値データが入力された場合、階調値が１２９の多値データが入力された場合に比べて、ディザパターン９０内の一部の領域９０ａに対応する記録媒体上の領域に対して１回だけインクを多く吐出することが可能となることがわかる。
【０１５４】
このように、本実施形態による量子化処理によれば、多値データが示す階調値が多くなるほどインクの吐出回数が多くなるような量子化データを生成することが可能となる。
【０１５５】
（分配処理）
上述の量子化処理により生成されたｎ（ｎ≧２）ビットＭ（Ｍ≧３）値の量子化データに対し、複数の画素それぞれに対するインクの吐出の許容回数を定めた複数のマスクパターンを適用することにより、複数回の走査への量子化データの分配を行う。
【０１５６】
図１８はそれぞれ２ビットの情報を有する量子化データとインクの吐出の許容回数を定めたマスクパターンを用いて記録データを生成する過程を説明するための図である。また、図１９は図１８に示すような記録データの生成に際して用いるデコードテーブルを示す図である。
【０１５７】
２１（ａ）はある領域内の１６個の画素７００〜７１５を模式的に示す図である。なお、ここでは簡単のため１６個の画素相当の画素領域からなる領域を用いて説明する。
【０１５８】
図１８（ｂ）は単位領域に対応する量子化データの一例を示す図である。
【０１５９】
ここで、本実施形態では一例としてｎ＝２の場合について記載する。上述のように本実施形態にてある画素に対応する多値データを構成する２ビットの情報（画素値）が「００」である場合には、当該画素に対してインクは１回も吐出されない。また、画素値が「０１」である場合には、対応する画素に対してインクは１回吐出される。また、画素値が「１０」である場合には、対応する画素に対してインクは２回吐出される。また、画素値が「１１」である場合には、対応する画素に対してインクは３回吐出される。
【０１６０】
図１８（ｂ）に示す多値データに関しては、例えば画素７０３、７０７、７１１、７１５における画素値は「００」であるため、画素７０３、７０７、７１１、７１５に対応する画素領域にはインクが１回も吐出されないこととなる。また、例えば画素７００、７０４、７０８、７１２における画素値は「１１」であるため、画素７００、７０４、７０８、７１２に対応する画素領域にはインクが３回吐出されることとなる。
【０１６１】
図１８（ｃ−１）〜（ｃ−４）はそれぞれ１〜４回目の走査に対応し、図１８（ｂ）に示す多値データに適用するためのマスクパターンの一例を示す図である。すなわち、図１８（ｂ）に示す多値データに対して図１８（ｃ−１）に示す１回目の走査に対応するマスクパターン５０５を適用することにより、１回目の走査で用いる記録データを生成する。同様にして、図１８（ｂ）に示す多値データに対して図１８（ｃ−２）、（ｃ−３）、（ｃ−４）それぞれに示すマスクパターン５０６、５０７、５０８を適用することにより、それぞれ２、３、４回目の走査で用いる記録データを生成する。
【０１６２】
ここで、図１８（ｃ−１）〜（ｃ−４）それぞれに示すマスクパターン内の各画素には、「００」、「０１」、「１０」、「１１」のいずれかが２ビットの情報が示す値（以下、コード値とも称する）として割り当てられている。
【０１６３】
ここで、図１９に示すデコードテーブルを参照するとわかるように、コード値が「００」である場合、対応する画素における画素値が「００」、「０１」、「１０」、「１１」のいずれであっても、インクを吐出しない。すなわち、マスクパターン内の「００」のコード値はインクの吐出をまったく許容しない（インクの吐出の許容回数が０回）ということに対応する。以下の説明では、「００」のコード値が割り当てられたマスクパターン内の画素を非記録許容画素とも称する。
【０１６４】
一方、図１９に示すデコードテーブルを参照するとわかるように、コード値が「０１」である場合、対応する画素における画素値が「００」、「０１」、「１０」である場合にはインクを吐出しないが、「１１」である場合にはインクを吐出する。言い換えると、「０１」のコード値は、４通りの画素値（「００」、「０１」、「１０」、「１１」）に対して１回だけインクの吐出を許容する（インクの吐出の許容回数が１回）、ということに対応する。
【０１６５】
また、コード値が「１０」である場合、対応する画素における画素値が「００」、「０１」である場合にはインクを吐出しないが、「１０」、「１１」である場合にはインクを吐出する。すなわち、「１０」のコード値は４通りの画素値に対して２回インクの吐出を許容する（インクの吐出の許容回数が２回）ということに対応する。
【０１６６】
更に、コード値が「１１」である場合、対応する画素における画素値が「００」の場合にはインクを吐出しないが、「０１」、「１０」、「１１」である場合にはインクを吐出する。すなわち、「１１」のコード値は４通りの画素値に対して３回インクの吐出を許容する（インクの吐出の許容回数が３回）ということに対応する。なお、以下の説明では「０１」、「１０」、「１１」のいずれかのコード値が割り当てられたマスクパターン内の画素を記録許容画素とも称する。
【０１６７】
ここで、本実施形態にて用いられるｎビットの情報を有するマスクパターンは、下記の（条件１）、（条件２）に基づいて設定される。
【０１６８】
（条件１）
ここで、複数のマスクパターン内の同じ位置にある複数の画素には、記録許容画素が（２＾ｍ）−１個配置されるように設定される。この（２＾ｍ）−１個の記録許容画素は互いに異なる数だけインクの吐出を許容する。詳細には、本実施形態ではｍ＝２であるため、図１８（ｃ−１）〜（ｃ−４）に示す４つのマスクパターン内の同じ位置にある４つの画素のうちの３（＝２＾２−１）つの画素に対しては「０１」、「１０」、「１１」のいずれかのコード値が１つずつ割り当てられ（記録許容画素）、残りの１（＝４−３）つの画素に対しては「００」のコード値が割り当てられる（非記録許容画素）。
【０１６９】
例えば、画素７００に対しては、図１８（ｃ−３）に示すマスクパターンにて「０１」、図１８（ｃ−２）に示すマスクパターンにて「１０」、図１８（ｃ−１）に示すマスクパターンにて「１１」のコード値が割り当てられている。そして、残りの図１８（ｃ−４）に示すマスクパターンにて「００」のコード値が割り当てられている。言い換えると、画素７００は、図１８（ｃ−１）、（ｃ−２）、（ｃ−３）に示すマスクパターンでは記録許容画素であり、図１８（ｃ−４）に示すマスクパターンでは非記録許容画素である。
【０１７０】
また、画素７０１に対しては、図１８（ｃ−２）に示すマスクパターンにて「０１」、図１８（ｃ−１）に示すマスクパターンにて「１０」、図１８（ｃ−４）に示すマスクパターンにて「１１」のコード値が割り当てられている。そして、残りの図１８（ｃ−３）に示すマスクパターンにて「００」のコード値が割り当てられている。言い換えると、画素７０１は、図１８（ｃ−１）、（ｃ−２）、（ｃ−４）に示すマスクパターンでは記録許容画素であり、図１８（ｃ−３）に示すマスクパターンでは非記録許容画素である。
【０１７１】
このような構成により、ある画素における画素値が「００」、「０１」、「１０」、「１１」のいずれであったとしても、その画素値に対応するインクの吐出回数だけ当該画素に対応する画素領域にインクを吐出するような記録データを生成することができる。
【０１７２】
（条件２）
また、図１８（ｃ−１）〜（ｃ−４）それぞれに示すマスクパターンには、「０１」のコード値に対応する記録許容画素が互いにほぼ同数となるように配置されている。より詳細には、図１８（ｃ−１）に示すマスクパターンには画素７０２、７０７、７０８、７１３の４つの画素に「０１」のコード値が割り当てられている。また、図１８（ｃ−２）に示すマスクパターンには画素７０１、７０６、７１１、７１２の４つの画素に「０１」のコード値が割り当てられている。また、図１８（ｃ−３）に示すマスクパターンには画素７００、７０５、７１０、７１５の４つの画素に「０１」のコード値が割り当てられている。また、図１８（ｃ−４）に示すマスクパターンには画素７０３、７０４、７０９、７１４の４つの画素に「０１」のコード値が割り当てられている。すなわち、図１８（ｃ−１）〜（ｃ−４）それぞれに示す４つのマスクパターンには、「０１」のコード値に対応する記録許容画素が４つずつ配置されている。
【０１７３】
同様に、図１８（ｃ−１）〜（ｃ−４）それぞれに示すマスクパターンには、「１０」のコード値に対応する記録許容画素も互いに同じ数となるように配置されている。更に、図１８（ｃ−１）〜（ｃ−４）それぞれに示すマスクパターンには、「１１」のコード値に対応する記録許容画素もまた互いに同じ数となるように配置されている。
【０１７４】
なお、ここでは各マスクパターンにおける「０１」、「１０」、「１１」それぞれにコード値に対応する記録許容画素がそれぞれ互いに同じ数だけ配置されている場合について記載していたが、実際には互いにほぼ同じ数だけ配置されていれば良い。
【０１７５】
これにより、図１８（ｃ−１）〜（ｃ−４）それぞれに示すマスクパターンを用いて多値データを４回の走査に分配して記録データを生成する際に、４回の走査それぞれにおける記録率を互いにほぼ等しくすることができる。
【０１７６】
図１８（ｄ−１）〜（ｄ−４）のそれぞれは、図１８（ｂ）に示す多値データに対して図１８（ｃ−１）〜（ｃ−４）それぞれに示すマスクパターンを適用して生成される記録データを示す図である。
【０１７７】
例えば、図１８（ｄ−１）に示す１回目の走査に対応する記録データにおける画素７００では、多値データの画素値は「１１」、マスクパターンのコード値は「１１」である。そのため、図７に示すデコードテーブルを参照してわかるように、画素７００ではインクの吐出（「１」）が定められる。また、画素７０１では、多値データの画素値は「１０」、マスクパターンのコード値は「１０」であるため、インクの吐出（「１」）が定められる。また、画素７０４では、多値データの画素値は「１１」、マスクパターンのコード値は「００」であるため、インクの非吐出（「０」）が定められる。
【０１７８】
このようにして生成された図１８（ｄ−１）〜（ｄ−４）それぞれに示す記録データにしたがって１〜４回目の走査にてインクが吐出される。例えば、１回目の走査では図１８（ｄ−１）に示す記録データからわかるように、画素７００、７０１、７０５、７０８、７１０、７１２に対応する記録媒体上の画素領域にインクが吐出される。
【０１７９】
図１８（ｅ）は図１８（ｄ−１）〜（ｄ−４）それぞれに示す記録データの論理和を示す図である。図１８（ｄ−１）〜（ｄ−４）それぞれに示す記録データにしたがってインクを吐出することにより、各画素に対応する画素領域には図１８（ｅ）に示す回数だけインクが吐出されることになる。
【０１８０】
例えば、画素７００においては、図１８（ｄ−１）、（ｄ−２）、（ｄ−３）に示す１、２、３回目の走査に対応する記録データにおいてインクの吐出が定められている。したがって、図１８（ｅ）に示すように、画素７００に対応する画素領域に対しては合計で３回インクが吐出されることになる。
【０１８１】
また、画素７０１においては、図１８（ｄ−１）、（ｄ−４）に示す１、４回目の走査に対応する記録データにおいてインクの吐出が定められている。したがって、図１８（ｅ）に示すように、画素７０１に対応する画素領域に対しては合計で２回インクが吐出されることになる。
【０１８２】
図１８（ｅ）に示す記録データと図１８（ｂ）に示す多値データを比較すると、いずれの画素においても多値データの画素値に対応する吐出回数だけインクが吐出されるように記録データが生成されることがわかる。例えば、画素７００、７０５、７０８、７１２では図１８（ｂ）に示す多値データの画素値は「１１」であるが、生成された記録データの論理和により示されるインクの吐出回数も３回となる。
【０１８３】
以上の構成によれば、複数ビットの情報を有する多値データおよびマスクパターンに基づいて、複数回の走査それぞれで用いる１ビットの記録データを生成することが可能となる。
【０１８４】
本実施形態において実際に用いるマスクパターンを図２０を参照しながら詳細に説明する。
【０１８５】
図２０（ａ１）は本実施形態における分配処理で用いる単位領域に対する１回目の走査に対応するマスクパターン９１を示す模式図である。また、図２０（ａ２）はマスクパターン９１のうちの一部の領域９１ａの拡大図である。
【０１８６】
また、図２０（ｂ１）は本実施形態における分配処理で用いる単位領域に対する２回目の走査に対応するマスクパターン９２を示す模式図である。また、図２０（ｂ２）はマスクパターン９２のうちの一部の領域９２ａの拡大図である。
【０１８７】
また、図２０（ｃ１）は本実施形態における分配処理で用いる単位領域に対する３回目の走査に対応するマスクパターン９３を示す模式図である。また、図２０（ｃ２）はマスクパターン９３のうちの一部の領域９３ａの拡大図である。
【０１８８】
また、図２０（ｄ１）は本実施形態における分配処理で用いる単位領域に対する４回目の走査に対応するマスクパターン９４を示す模式図である。また、図２０（ｄ２）はマスクパターン９４のうちの一部の領域９４ａの拡大図である。
【０１８９】
図２０（ａ１）、（ｂ１）、（ｃ１）、（ｄ１）に示すように、本実施形態で用いるマスクパターン９１〜９４は、それぞれＸ方向に１２８画素、Ｙ方向に１２８画素の大きさを有している。これは、本実施形態で用いる図１７に示すディザパターン９０の大きさと同じである。これらの１２８×１２８個の画素のそれぞれに対し、図２０（ａ２）、（ｂ２）、（ｃ２）、（ｄ２）の拡大図に示すように、それぞれの画素に対する記録の許容回数を示す情報（コード値）が定められている。それぞれの画素に対するコード値（「００」、「０１」、「１０」、「１１」）は、上述と同様の定義であり、図１９に示すデコードテーブルに示すようなインクの吐出の許容回数に対応している。
【０１９０】
ここで、図２０に示すマスクパターン９１〜９４は、互いに補完的且つ排他的な位置に記録許容画素が配置されている。すなわち、各画素に対し、４つのマスクパターン９１〜９４のうちのいずれか１つのマスクパターンでは０回のインクの吐出の許容が定められ（「００」）、いずれか１つのマスクパターンでは１回のインクの吐出の許容が定められ（「０１」）、いずれか１つのマスクパターンでは２回のインクの吐出の許容が定められ（「１０」）、いずれか１つのマスクパターンでは３回のインクの吐出の許容が定められている（「１１」）。
【０１９１】
これにより、例えばマスクパターン９１〜９４と対応する１２８×１２８個の画素のすべてに対して１回のインクの吐出を定めた量子化データが入力された場合、それぞれの画素領域に対して１〜４回目の走査のうちのいずれか１回の走査においてインクを吐出することが可能となる。また、マスクパターン９１〜９４と対応する１２８×１２８個の画素のすべてに対して２回のインクの吐出を定めた量子化データが入力された場合、それぞれの画素領域に対して１〜４回目の走査のうちのいずれか２回の走査においてインクを吐出することが可能となる。また、マスクパターン９１〜９４と対応する１２８×１２８個の画素のすべてに対して３回のインクの吐出を定めた量子化データが入力された場合、それぞれの画素領域に対して１〜４回目の走査のうちのいずれか３回の走査においてインクを吐出することが可能となる。
【０１９２】
また、図２０に示すマスクパターン９１〜９４は、「０１」のコード値が定められた画素の数が互いにほぼ同じ数となるように定められている。これにより、例えばマスクパターン８１〜８４と対応する１２８×１２８個の画素のすべてに対して１回のインクの吐出を定めた量子化データ（画素値が「０１」）が入力された場合、１〜４回目の走査それぞれにおけるインクの吐出回数をほぼ同じ回数とすることができる。同様にして、「１０」のコード値が定められた画素の数も互いにほぼ同じ数となるように定められている。更に、「１１」のコード値が定められた画素の数も互いにほぼ同じ数となるように定められている。
【０１９３】
なお、上記のマスクパターンは本実施形態を適用できるマスクパターンのうちの一例であり、他の要素を鑑みて適宜異なるマスクパターンを設定することができる。
【０１９４】
（ディザパターンとマスクパターンの同期）
本実施形態では、図１６に示したディザパターン９０と、図２０に示したマスクパターン９１〜９４と、を用いて記録データを生成する。ここで、第１の実施形態と同様に、ディザパターン９０とマスクパターン９１〜９４のそれぞれは、互いに対応付けて定められている。
【０１９５】
詳細には、本実施形態では、２５％の階調値である６４（＝２５６×０．２５）の階調値を定める多値データに対してディザパターン９０を用いて量子化し、生成された量子化データをマスクパターン９１を用いて１回目の走査に分配した場合、生成された１回目の走査に対応する記録データが示すインクの吐出を定めた画素の分散性がある程度高くなるように、ディザパターン９０とマスクパターン９１が互いに対応付けられて定められている。すなわち、図１（ｂ−１）に示したようなインクの吐出を定めた画素に空間的な偏りが目立つような記録データではなく、図１（ｃ−１）に示したようなインクの吐出を定めた画素が空間的に均等に生じるような記録データを生成できるように、ディザパターン９０とマスクパターン９１が定められている。
【０１９６】
より詳細には、生成された記録データに基づくドットの配置がホワイトノイズ特性とならないようにディザパターン９０とマスクパターン９１が定められていることが好ましい。また、生成された記録データに基づくドットの配置がレッドノイズ特性とならないようにディザパターン９０とマスクパターン９１が定められていることがより好ましい。そして、生成された記録データに基づくドットの配置がブルーノイズ特性となるようにディザパターン９０とマスクパターン９１が定められていることが更に好ましい。
【０１９７】
更に、本実施形態では、５０％の階調値である１２８（＝２５６×０．５）の階調値を定める多値データ、７５％の階調値である１９２（＝２５６×０．７５）の階調値を定める多値データ、１００％の階調値である２５６（＝２５６×１）の階調値を定める多値データのそれぞれが入力された場合においても同様に、生成された１回目の走査に対応する記録データが示すインクの吐出を定めた画素の分散性がある程度高くなるように、ディザパターン９０とマスクパターン９１が互いに対応付けられて定められている。
【０１９８】
また、ここでは１回目の走査に対応するマスクパターン９１とディザパターン９０の同期について説明したが、２回目の走査に対応するマスクパターン９２、３回目の走査に対応するマスクパターン９３、４回目の走査に対応するマスクパターン９４のそれぞれについても同様にして、ディザパターン９０との同期が行われている。
【０１９９】
したがって、本実施形態で用いるディザパターン９０と、マスクパターン９１〜９４のそれぞれとは、２５％、５０％、７５％、１００％の各階調において互いに対応付けて定められていることとなる。
【０２００】
以上記載したようなディザパターン９０およびマスクパターン９１〜９４を用いる場合であっても、第１の実施形態に記載したような効果を得ることができる。
【０２０１】
例えば、図６に示すようなマルチパス記録を行う場合においては、図２０（ａ１）〜（ｄ１）に示すマスクパターン９１〜９４それぞれをＹ方向に２分割したマスクパターン部分、また、Ｙ方向に３分割したマスクパターン部分をＲＯＭ３０２に記憶する。量子化の際には図１１を用いて説明したように、単位領域２１２に対応する多値データに対してディザパターン９０のＹ方向上流側端部が対応するように、ディザパターン９０をＹ方向にオフセットして適用する。そして、分配処理において、量子化データに対して量子化の際に適用されたディザパターン９０内の領域と対応するマスクパターン部分を適用し、記録データを生成する。これにより、スループットの低下を抑制しつつ、記録画像の空間的な偏りを低減した記録を行うことが可能となる。
【０２０２】
（その他の実施形態）
なお、以上に説明した各実施形態では、排紙ローラ対による挟持が為されない記録媒体の先端領域に着目し、先端領域のうちのＹ方向上流側端部に位置する単位領域に対してディザパターンのＹ方向上流側端部の領域が対応するように、ディザパターンをオフセットする形態について記載したが、他の形態による実施も可能である。記録媒体の後端領域も給紙ローラ対による挟持が為されないため、先端領域と同じく搬送ずれが生じる虞がある。したがって、後端領域についても各実施形態と同様の制御を行えば、各実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０２０３】
詳細には、後端領域のうちのＹ方向下流側端部に位置する単位領域に対し、ディザパターンのＹ方向下流側端部の領域が対応するようにディザパターンをオフセットすれば良い。ここで言う後端領域のうちのＹ方向下流側端部に位置する単位領域とは、Ｌパス目を行うまでは給紙ローラ対、排紙ローラ対の両方で記録媒体を挟持し、Ｌパス目を行ってからは給紙ローラ対による挟持が為されないとした場合、Ｌ＋１パス目にて初めて記録が行われる単位領域に対応している。
【０２０４】
なお、各実施形態における制御は先端領域に対してのみ行っても良いし、後端領域に対してのみ行っても良いし、先端領域と後端領域の両方に対して行っても良い。また、先端領域や後端領域を３つ以上に分割しても良い。
【０２０５】
また、以上に説明した各実施形態では、ディザパターンのＹ方向における大きさ（３８４画素）がマルチパス記録における２通りの搬送量（１２８画素、１９２画素）の整数倍である形態について記載したが、多少であれば搬送量の整数倍からずれていても良い。但し、搬送量の整数倍からのずれが大きくなるほどディザパターンと量子化データの間のずれが大きくなり、画質に与える影響が大きくなる。そのため、本実施形態に記載したように、ディザパターンのＹ方向における大きさは搬送量の整数倍であることが好ましい。
【０２０６】
また、以上に説明した各実施形態では、マスクパターンはディザパターンと比べてＹ方向における大きさが同じとなる形態について記載したが、ディザパターンとの同期が実行できていればどのような大きさであっても良い。但し、好適にマスクパターンとディザパターンの同期を行うためには、互いに同じ大きさを有していることが好ましい。
【０２０７】
また、以上に説明した各実施形態では、量子化パターンとしてディザパターンを用いる形態について記載したが、他の形態による実施も可能である。例えば、多値データの階調値に応じてインクを吐出する数および位置を定めたドット配置パターンを量子化パターンとして用いるような形態であっても良い。
【０２０８】
また、以上に説明した各実施形態は、量子化パターン自体をオフセットする形態について記載したが、量子化パターンと単位領域の位置関係を同じように制御することができれば他の形態による実施も可能である。例えば、量子化パターン自体をオフセットするのではなく、量子化パターンに定められた各閾値をオフセットしても良い。また、例えば記憶された量子化パターンをＹ方向に順次読み出して量子化処理に用いる系において、量子化パターンの読み出しタイミングを異ならせても良い。
【０２０９】
また、各実施形態には記録装置、および記録装置を用いた記録方法について記載したが、各実施形態に記載の記録方法を行うためのデータを生成する画像処理装置または画像処理方法にも適用できる。また、各実施形態に記載の記録方法を行うためのプログラムを記録装置と別体に用意する形態にも適用できる。
【符号の説明】
【０２１０】
３  記録媒体
７  記録ヘッド
８０、９０  ディザパターン
８１〜８４、９１〜９４  マスクパターン
３０２  ＲＯＭ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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