(57)【要約】      （修正有）【課題】応答速度を向上することができる電気泳動表示装置とこの電気泳動表示装置を備えた電子機器を提供する。【解決手段】共通電極５が設けられた第１基板３と、共通電極側に対向して配置された第２基板４と、第２基板の第１基板側に設けられた画素電極８と、第２基板の第１基板側に設けられ、画素電極を囲む隔壁３５と、第１基板と第２基板との間において隔壁によって囲まれたセル領域内に配置され、電気泳動粒子が分散された分散媒３４を有する電気泳動層３１と、隔壁と共通電極との間に介在し、セル領域にわたって設けられた封止層６と、画素電極の電気泳動層側に設けられた絶縁層９と、を備え、セル領域において、封止層のうちセル領域の周縁側に位置する部分の厚みよりも、セル領域の中央側に位置する部分の厚みの方が厚く、絶縁層のうちセル領域の周縁側に位置する部分の厚みよりも、セル領域の中央側に位置する部分の厚みの方が厚い。【選択図】図３
2018081190.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
共通電極が設けられた第１基板と、
前記共通電極側に対向して配置された第２基板と、
前記第２基板の前記第１基板側に設けられた画素電極と、
前記第２基板の前記第１基板側に設けられ、前記画素電極を囲む隔壁と、
前記第１基板と前記第２基板との間において前記隔壁によって囲まれたセル領域内に配
置され、電気泳動粒子が分散された分散媒を有する電気泳動層と、
前記隔壁と前記共通電極との間に介在し、前記セル領域にわたって設けられた封止層と
、
前記画素電極の前記電気泳動層側に設けられた絶縁層と、を備え、
前記セル領域において、前記封止層のうち前記セル領域の周縁側に位置する部分の厚み
よりも、前記セル領域の中央側に位置する部分の厚みの方が厚く、前記絶縁層のうち前記
セル領域の周縁側に位置する部分の厚みよりも、前記セル領域の中央側に位置する部分の
厚みの方が厚い、
ことを特徴とする電気泳動表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の電気泳動表示装置であって、
前記第１基板側から前記第２基板に向かう向きに前記第２基板を平面視したときに、前
記画素電極が前記絶縁層で覆われていることを特徴とする電気泳動表示装置。
【請求項３】
請求項１に記載の電気泳動表示装置であって、
前記隔壁と、前記絶縁層とが一体で形成されていることを特徴とする電気泳動表示装置
。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の電気泳動表示装置を備えることを特徴
とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気泳動表示装置および電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電源を切っても画像を保持できるメモリー性を有する表示パネルが開発され、電
子時計等にも使用されている。メモリー性を有する表示パネルとしては、ＥＰＤ（Ｅｌｅ
ｃｔｒｏｐｈｏｒｅｔｉｃ  Ｄｉｓｐｌａｙ）すなわち電気泳動表示装置や、メモリー性
液晶表示装置等が知られている。電気泳動表示装置としては、特許文献１のように、対向
基板と素子基板と隔壁とによって区画された領域（以下、セル領域と呼ぶ）内に濃色の帯
電粒子を封入した構造のものが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１５−７５５１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１では、対向基板と隔壁との間に設けられた封止膜がセル領域内で凹凸を有し
ている構成が開示されている。この構成では、セル領域の隔壁近傍における封止膜の膜厚
よりも、セル領域の中央部での封止膜の膜厚が厚くなっている。この構成においてセル領
域に駆動電圧を印加した場合、セル領域の中央の電界強度がセル領域の隔壁近傍における
電界強度よりも強くなりやすい。このとき、セル領域内の電界強度に応じて電気泳動粒子
がセル領域の中央の封止膜に強く固着するため、表示を切り替える際、セル領域の隔壁近
傍にある電気泳動粒子は封止膜から剥がれ易く、セル領域の中央部側にある電気泳動粒子
は封止膜から剥がれ難い。その結果として、電気泳動表示装置の応答速度が低下する課題
があった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の一つの態様は、上記の課題を解決するためになされたものであって、応答速度
を向上することができる電気泳動表示装置とこの電気泳動表示装置を備えた電子機器を提
供することを目的とする。
【０００６】
［適用例１］本適用例に係る電気泳動表示装置は、共通電極が設けられた第１基板と、
前記共通電極側に対向して配置された第２基板と、前記第２基板の前記第１基板側に設け
られた画素電極と、前記第２基板の前記第１基板側に設けられ、前記画素電極を囲む隔壁
と、前記第１基板と前記第２基板との間において前記隔壁によって囲まれたセル領域内に
配置され、電気泳動粒子が分散された分散媒を有する電気泳動層と、前記隔壁と前記共通
電極との間に介在し、前記セル領域にわたって設けられた封止層と、前記画素電極の前記
電気泳動層側に設けられた絶縁層と、を備え、前記セル領域において、前記封止層のうち
前記セル領域の周縁側に位置する部分の厚みよりも、前記セル領域の中央側に位置する部
分の厚みの方が厚く、前記絶縁層のうち前記セル領域の周縁側に位置する部分の厚みより
も、前記セル領域の中央側に位置する部分の厚みの方が厚い、ことを特徴とする。
【０００７】
本適用例によれば、セル領域にわたって設けられた封止層が、隔壁と共通電極との間に
介在している。この構成では、封止層のうちセル領域の周縁側に位置する部分の厚みより
も、セル領域の中央側に位置する部分の厚みの方が厚くなる。このため、セル領域におい
て封止層と画素電極との間の距離が、セル領域の周縁側とセル領域の中央側とで異なる。
つまり、封止層と画素電極との間の距離は、セル領域の周縁側に比較してセル領域の中央
側において短くなる。これにより、封止層と画素電極との間に発生する電界の強度は、セ
ル領域の周縁側と比較してセル領域の中央側が高くなる。しかしながら、本適用例では、
画素電極の電気泳動層側に設けられた絶縁層のうちセル領域の中央側に位置する部分の厚
みが、セル領域の周縁側に位置する部分の厚みよりも厚い。この結果、セル領域内におい
て、封止層と絶縁層との間に発生する電界の強弱の差を軽減することができる。このため
、電気泳動表示装置において、表示を切り替えるときに、すなわち共通電極や画素電極の
電位を変化させたときに、電気泳動粒子を速やかに移動させやすい。よって、電気泳動表
示装置の応答速度を向上させることができる。
【０００８】
［適用例２］上記適用例に記載の電気泳動表示装置は、前記第１基板側から前記第２基
板に向かう向きに前記第２基板を平面視したときに、前記画素電極が前記絶縁層で覆われ
ていることが好ましい。
【０００９】
本適用例によれば、画素電極を絶縁層で保護することができる。
【００１０】
［適用例３］上記適用例に記載の電気泳動表示装置は、前記隔壁と、前記絶縁層とが一
体で形成されていることが好ましい。
【００１１】
本適用例によれば、隔壁と絶縁層が一体で形成されているため、隔壁の材料と絶縁層の
材料とを統一することができる。
【００１２】
［適用例４］本適用例に係る電子機器は、上記適用例に記載の電気泳動表示装置を備え
ることを特徴とする。
【００１３】
本適用例によれば、応答速度が優れた電気泳動表示装置を備えた電子機器が提供できる
。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】電気泳動表示装置が搭載された電子機器の一例である電子ブックを示す斜視図。
【図２】電気泳動表示装置の一部を示す模式平面図。
【図３】図２に示す電気泳動表示装置のＡ−Ａ‘線に沿う模式断面図。
【図４】電気泳動表示装置の製造方法を工程順に示すフローチャート図。
【図５】電気泳動表示装置の製造工程を説明する模式断面図。
【図６】電気泳動表示装置の製造工程を説明する模式断面図。
【図７】電気泳動表示装置の製造工程を説明する模式断面図。
【図８】電気泳動表示装置の製造工程を説明する模式断面図。
【図９】電気泳動表示装置の製造工程を説明する模式断面図。
【図１０】電気泳動表示装置の製造工程を説明する模式断面図。
【図１１】電気泳動表示装置の製造工程を説明する模式断面図。
【図１２】電気泳動表示装置の製造工程を説明する模式断面図。
【図１３】第２実施形態に係る電気泳動表示装置Ａ−Ａ‘線に沿う模式断面図断面図。
【図１４】第３実施形態に係る電気泳動表示装置Ａ−Ａ‘線に沿う模式断面図断面図。
【図１５】電気泳動表示装置の製造工程を説明する模式断面図。
【図１６】電気泳動表示装置の製造工程を説明する模式断面図。
【図１７】電気泳動表示装置の製造工程を説明する模式断面図。
【図１８】第４実施形態にかかる電気泳動表示装置の一部を示す模式平面図。
【図１９】図１８に示す電気泳動表示装置のＢ−Ｂ‘線に沿う模式断面図。
【図２０】電気泳動表示装置の製造工程を説明する模式断面図。
【図２１】電気泳動表示装置の製造工程を説明する模式断面図。
【図２２】第５実施形態に係る図１８に示す電気泳動表示装置のＢ−Ｂ‘線に沿う模式断面図。
【図２３】第６実施形態に係る図１８に示す電気泳動表示装置のＢ−Ｂ‘線に沿う模式断面図。
【図２４】電子機器の一例である腕時計を示す斜視図。
【図２５】電子機器の一例である電子ペーパーを示す斜視図。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の各図におい
ては、各層や各部材を認識可能な程度の大きさにするため、各層や各部材の尺度を実際と
は異ならせしめている。
【００１６】
＜電気泳動表示装置＞
（第１実施形態）
まず、本発明の第１実施形態に係る電気泳動表示装置について、図１〜図３を参照して
説明する。
図１は、電気泳動表示装置が搭載された電子機器の一例である電子ブック１００を示す
斜視図である。以下、電子ブック１００の構成を、図１を参照しながら説明する。
【００１７】
図１に示すように電子ブック１００は、電気泳動表示装置１０と電子ブック１００を操
作するためのインターフェイスとを備えている。インターフェイスとは、具体的には操作
部１０１でスイッチなどから構成されている。
【００１８】
電気泳動表示装置１０は表示領域Ｅを有するディスプレイモジュールである。表示領域
Ｅは複数の画素から成り、これら画素が電気的に制御されることで表示領域Ｅに画像が表
示される。
【００１９】
＜電気泳動表示装置の構造＞
図２は、電気泳動表示装置１０の一部を示す模式平面図である。図３は、図２に示す電
気泳動表示装置１０のＡ−Ａ‘線に沿う模式断面図である。以下、電気泳動表示装置１０
の構造を図２および図３を参照しながら説明する。
【００２０】
電気泳動表示装置１０は、図２に示すように、複数の画素１１を有している。画素１１
は、電気泳動表示装置１０における表示の最小単位である。また、電気泳動表示装置１０
は、複数のセル領域３６を有している。セル領域３６は、隔壁３５によって囲まれた領域
である。隔壁３５については、詳細を後述する。本実施形態では、１つのセル領域３６内
に、１つの画素１１が配置されている。
【００２１】
電気泳動表示装置１０は、図３に示すように、対向基板１と、素子基板２と、隔壁３５
と、電気泳動層３１と、を備えている。対向基板１と素子基板２とは、互いに対向して配
置されている。対向基板１は、第１基板３と、共通電極５と、封止層６と、を有している
。素子基板２は、第２基板４と、素子層７と、画素電極８と、絶縁層９と、隔壁３５と、
を有している。なお、素子層７は、図示しない走査線や、データ線、ＴＦＴを含む。共通
電極５は、第１基板３のうち素子基板２側に向いた面に設けられている。封止層６は、共
通電極５の第１基板３側と反対側に設けられている。第２基板４は、対向基板１の共通電
極５側に対向して配置されている。素子層７は、第２基板４の対向基板１側に設けられて
いる。画素電極８は、素子層７の第２基板４側と反対側に設けられている。隔壁３５は、
素子層７の第２基板側と反対側に設けられている。絶縁層９は、画素電極８の素子層７側
と反対側に設けられている。隔壁３５は、素子基板２から対向基板１側に向かって突出し
て設けられている。対向基板１から素子基板２に向かう向きに素子基板２を平面視したと
き、隔壁３５は、格子状（升目状）に形成されている。格子状に形成された隔壁３５によ
って囲まれた升目がセル領域３６である。電気泳動層３１は、対向基板１と素子基板２と
の間に配置されている。電気泳動層３１は、セル領域３６内に配置されている。
【００２２】
第１基板３は、ガラスやプラスチック等の透明基材から構成され、画像表示側、すなわ
ちユーザーによって視認される側に配置される。対向基板１の電気泳動層３１側には素子
基板２に設けられた複数の画素電極８と対向する平面形状の共通電極５が形成されている
。共通電極５は、複数のセル領域３６をまたいで一連して設けられている。共通電極５は
、ＭｇＡｇ、ＩＴＯ、ＩＺＯ（インジウム・亜鉛酸化物）等から形成された透明電極であ
る。
【００２３】
素子基板２は、電気泳動層３１側に設けられた複数の画素電極８を備えている。素子基
板２の第２基板４は、ガラスやプラスチック等からなる基板であり、画像表示面とは反対
側に配置されるため透明なものでなくてもよい。画素電極８は、画素１１ごとに設けられ
ている。画素１１の領域は、画素電極８と共通電極５とが重なりあう領域である。画素１
１の領域が、電気泳動表示装置１０における表示の最小単位となる。画素電極８は、Ｃｕ
箔上にニッケルめっきと金めっきとをこの順で積層したものや、Ａｌ、ＩＴＯ（インジウ
ム錫酸化物）等により形成された電極である。
【００２４】
絶縁層９は、画素電極８の電気泳動層３１側に設けられている。絶縁層９の材料は絶縁
性があり電気泳動層３１に影響を及ぼさず成形しやすい材料であれば特に限定されず、ガ
ラス、樹脂、酸化シリコンや窒化シリコンを用いることができる。本実施形態では、絶縁
層９の材料に、低融点ガラスを用いている。
【００２５】
隔壁３５は、セル領域３６を区画する側壁を成すものであり、電気泳動層３１を収容す
る領域を区切るものである。この隔壁３５によって、複数のセル領域３６が区画され、こ
れら複数のセル領域３６の各々に電気泳動層３１が配置されている。隔壁３５は、対向基
板１側の幅と素子基板２の幅がほぼ等しい柱状構造である。しかし、断面構造がそれぞれ
基板側と反対の先端側に向かうにつれて先細るテーパー形状であってもよい。
【００２６】
隔壁３５の平面視による形状（以下、平面形状ともいう。）は、例えば、正方格子状、
六角格子状、または、三角格子状である。隔壁３５の平面形状が正方格子状の場合は、図
２に示すように、セル領域３６の平面形状は正方形である。
【００２７】
隔壁３５を構成する材料としては、電気泳動層３１に溶解しない材質からなり、可撓性
を有するもの、硬質なものの何れであってもよく、例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系
樹脂、ウレタン系樹脂、ウレア樹脂、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、メラミン系樹
脂、フェノール系樹脂等の各種樹脂材料や、シリカ、アルミナ、チタニア等の各種セラミ
ックス材料が挙げられる。
【００２８】
電気泳動層３１は、分散媒３４と、この分散媒３４中に分散された複数の電気泳動粒子
３３と、を含む電気泳動分散液３２で構成される。本実施形態において、電気泳動粒子３
３は、例えば、黒色粒子３３ａおよび白色粒子３３ｂを含む。
【００２９】
黒色粒子３３ａは、例えば、アニリンブラック、カーボンブラック等の黒色顔料からな
る粒子（高分子あるいはコロイド）であり、例えば、負に帯電されて用いられる。これら
の顔料には、必要に応じ、電解質、界面活性剤、金属石鹸、樹脂、ゴム、油、ワニス、コ
ンパウンド等の粒子からなる荷電制御剤、チタン系カップリング剤、アルミニウム系カッ
プリング剤、シラン系カップリング剤等の分散剤、潤滑剤、安定化剤等を添加することが
できる。黒色粒子３３ａの粒径は、例えば３００〜５００ｎｍの範囲内から所望の平均粒
径ものを選択して使用すれば良い。
【００３０】
白色粒子３３ｂは、例えば、酸化チタン、亜鉛華、三酸化アンチモン等の白色顔料から
なる粒子（高分子あるいはコロイド）であり、例えば、正に帯電されて用いられる。白色
粒子３１ｂの粒径は、例えば３００〜５００ｎｍの範囲内から所望の平均粒径ものを選択
して使用すれば良い。なお、黒色粒子３３ａおよび白色粒子３３ｂの粒径は、例えば顔料
の平均粒径、あるいは電気泳動粒子３３のブラウン運動範囲の大きさである。
【００３１】
分散媒３４としては、例えば、親油性の炭化水素系の溶媒であり、例えば、アイソパー
（登録商標）を含む。すなわち、分散媒３４は、例えば、アイソパーＥ、アイソパーＧ、
アイソパーＨ、アイソパーＬ、アイソパーＭのうちのいずれか１種類を含む液体、若しく
はこれらのうちの２種類以上を混合した液体、あるいは、これらのうちのいずれか１種類
以上と他の種類の炭化水素系の溶媒とを混合した液体である。
【００３２】
あるいは、分散媒３４は、例えば、ペンタン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素
類、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素類、ベンゼン、トルエン
、キシレン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン
、デシルベンゼン、ウンデシルベンゼン、ドデシルベンゼン、トリデシルベンゼン、テト
ラデシルベンゼンのような長鎖アルキル基を有するベンゼン類（アルキルベンゼン誘導体
）等の芳香族炭化水素類、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン、メチル
ピロリドン等の芳香族復素環類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ギ酸エチル等の
エステル類、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン
、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、アセトニトリル、プロピ
オニトリル、アクリロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアセトアミド等のアミド類、カルボン酸塩、シリコーンオイルまたはその他の
各種油類等でもよく、これらを単独または混合物として用いることができる。
【００３３】
封止層６はセル領域３６内に電気泳動層３１を封止するための膜である。封止層６は、
柔軟性や弾力性を有し、隔壁３５の対向基板１側の端部が、食い込みやすい材料が用いら
れる。封止層６の材料としては例えばＮＢＲ（アクリルニトリル・ブタジエンゴム）であ
る。なお、封止層６の材料としてはウレタン、イソプレン、ブタジエン、クロロプレン、
スチレン・ブタジエンゴムなどを用いるようにしてもよい。また、封止層６としては、こ
れらの材料で構成される層を積層した複数の層を有する構成も採用され得る。
【００３４】
＜電気泳動表示装置の製造方法＞
図４は、電気泳動表示装置１０の製造方法を工程順に示すフローチャートである。図５
から図１２は電気泳動表示装置１０の製造方法のうち一部の製造方法示す模式断面図であ
る。以下、電気泳動表示装置１０の製造方法を、図４〜図１２を参照しながら説明する。
【００３５】
電気泳動表示装置１０の製造方法は、図４に示すように、対向基板１を製造する工程と
、素子基板２を製造する工程と、対向基板１と素子基板２とを貼り合わせる工程と、を含
む。対向基板１を製造する工程は、共通電極５を形成する工程（ステップＳ１１）と、封
止層６を形成する工程（ステップＳ１２）と、を含む。素子基板２を製造する工程は、素
子層７及び画素電極８を形成する工程（ステップＳ２１）と、絶縁層９を形成する工程（
ステップＳ２２）と、隔壁３５を形成する工程（ステップＳ２３）と、電気泳動分散液３
２を塗布する工程（ステップＳ２４）と、を含む。対向基板１を製造する工程と、素子基
板２を製造する工程とは、いずれが先でも後でも構わない。また、対向基板１を製造する
工程と、素子基板２を製造する工程とを同時に実施しても構わない。
【００３６】
対向基板１を製造する工程について説明する。共通電極５を形成する工程（ステップＳ
１１）において、図５に示すように、ガラス等の透光性材料で構成された第１基板３に、
共通電極５を形成する。このとき、第１基板３に、ＩＴＯなどをスパッタリング法等の成
膜法を用いて膜厚１００ｎｍ程度のＩＴＯ膜を形成してから、フォトリソグラフィー法及
びエッチング法によってＩＴＯ膜をパターニングして共通電極５を形成する。
【００３７】
次に、封止層６を形成する工程（ステップＳ１２）において、図６に示すように、共通
電極５の第１基板３側とは反対側に封止層６を形成する。封止層６はインクジェット法、
オフセット印刷、スクリーン印刷、フレキソ印刷等の凸版印刷、グラビア印刷等の凹版印
刷等の各種印刷法を用いて形成することができる。他にも、スピンコート法、ロールコー
ト法、ダイコート法、スリットコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ディッ
プコート法等を用いても良い。上記により、対向基板１が製造され得る。
【００３８】
素子基板２を製造する工程について説明する。素子層７及び画素電極８を形成する工程
（ステップＳ２１）において、図７に示すように、ガラス等で構成される第２基板４に素
子層７及び画素電極８を形成する。このとき、周知の成膜技術、フォトリソグラフィー技
術及びエッチング技術を用いて、第２基板４にＴＦＴや、走査線及びデータ線を含む素子
層７を形成してから、素子層７の第２基板４側とは反対側に画素電極８などを形成する。
【００３９】
次に、絶縁層９を形成する工程（ステップＳ２２）において、画素電極８の第２基板側
とは反対側に絶縁層９を形成する。ステップＳ２２では、まず、図８に示すように、画素
電極８の第２基板４側と反対側に絶縁層９Ａを形成する。絶縁層９Ａの製造方法としては
、画素電極上に低融点ガラス板を載置し加熱することで低融点ガラス板を素子基板２に固
着させることによって形成され得る。次に絶縁層９Ａの画素電極８側と反対側にレジスト
材料（図示せず）を塗布してからフォトリソグラフィー法によって、画素電極８ごとに個
別に島状にパターニングする。これにより、絶縁層９Ａの画素電極８側と反対側にレジス
トパターン１５が形成される。このとき、レジストパターン１５は、画素電極８の一部に
重なっている。換言すれば、絶縁層９Ａから第２基板４に向かう向きにレジストパターン
１５を平面視したときに、レジストパターン１５は、画素電極８の領域内に収まっている
。続いて、フッ酸やバッファードフッ酸等のエッチング液を用いて絶縁層９Ａをエッチン
グする。これにより、絶縁層９Ａから、図９に示す絶縁層９が形成され得る。本実施形態
では、絶縁層９は、画素電極８ごとに個別に島状にパターニングされる。第１実施形態で
は、絶縁層９が画素電極８の一部に重なっている。換言すれば、第１基板３から第２基板
４に向かう向きに素子基板２を平面視したときに、画素電極８は、絶縁層９よりも外側に
はみ出ている。
【００４０】
なお、ステップＳ２２では、エッチング条件を調整することにより低融点ガラス板をセ
ル領域３６の周縁側に位置する部分の厚みよりも、セル領域３６の中央側に位置する部分
の厚みを厚く形成する。エッチング条件の調整としては、例えば、オーバーエッチングが
挙げられる。オーバーエッチングを採用することによって、画素電極８に重なる絶縁層９
のうちこの画素電極８の周縁側に位置する部分の厚みよりも、画素電極８の中央側に位置
する部分の厚みを厚く形成することができる。これにより、セル領域３６において、絶縁
層９のうちセル領域３６の周縁側に位置する部分の厚みよりも、セル領域３６の中央側に
位置する部分の厚みを厚く形成することができる。換言すれば、オーバーエッチングを採
用することによって、絶縁層９のうち画素電極８の周縁側に位置する部分の厚みよりも、
画素電極８の中央側に位置する部分の厚みを厚く形成することができる。
【００４１】
次に、隔壁３５を形成する工程（ステップＳ２３）において、図１０に示すように、素
子層７の第２基板４側と反対側に隔壁３５を形成する。ステップＳ２３では、まず、素子
層７の第２基板４側と反対側に、隔壁３５の材料となる感光性樹脂材料を塗布する。感光
性樹脂材料の塗布方法はオフセット印刷、スクリーン印刷、凸版印刷等の各種印刷法など
の種々の印刷法が採用され得る。他にもスピンコート法やロールコート法等のコート法を
用いても良い。続いて感光性樹脂材料をフォトリソグラフィー法によってパターニングす
る。これにより、画素電極８ごとにセル領域３６を区画する隔壁３５が形成され得る。
【００４２】
次に、電気泳動分散液３２を塗布する工程（ステップＳ２４）において、図１１に示す
ように、セル領域３６内に電気泳動分散液３２を塗布する。電気泳動分散液３２は、前述
したように、黒色粒子３３ａおよび白色粒子３３ｂを含む電気泳動粒子３３が分散された
分散媒３４である。電気泳動分散液３２の塗布方法は、シリンジ等の塗布器具を用いてセ
ル領域３６内に電気泳動分散液３２を塗布する方法や、各種印刷方法、インクジェット法
などが採用され得る。これにより、素子基板２が製造され得る。
【００４３】
対向基板１と素子基板２とを貼り合わせる工程（ステップＳ３１）において、図１２に
示すように、対向基板１と素子基板２とを貼り合わせる。このとき、まず、電気泳動分散
液３２が供給された素子基板２に封止層６を構成する材料を各種の印刷法やインクジェッ
ト法などにより塗布する。このとき、封止層６を構成する材料は、素子基板２の電気泳動
分散液３２側に塗布する。次に、素子基板２を減圧チャンバー（図示せず）内に設置する
。次に、隔壁３５の第２基板４側と反対側に対向基板１を載置する。このとき、対向基板
１の封止層６側を素子基板２の電気泳動分散液３２側に向けて、対向基板１を素子基板２
に載置する。続いて、減圧チャンバー内を大気圧よりも低い圧力に減圧する。これにより
、隔壁３５の端部が封止層６に食い込む。その後、表示領域Ｅの外側において、素子基板
２と対向基板１とを紫外線硬化型シール材等により固定する。以上の工程により電気泳動
表示装置１０が完成する。なお、上記では素子基板２に封止層６を構成する材料を塗布し
たが、この塗布は行わず、ステップＳ１２で製造した対向基板１を素子基板２に押圧した
状態で、素子基板２と対向基板１とを貼り合わせ固定しても良い。
【００４４】
上記の製造方法によれば、セル領域３６にわたって設けられた封止層６が、隔壁３５と
共通電極５との間に介在している。この構成では、隔壁３５の端部が封止層６に食い込む
ことで、封止層６の第１基板３側と反対側が第２基板４側の方向に凸形状となる。セル領
域３６において、封止層６のうちセル領域３６の周縁側に位置する部分の厚みよりも、セ
ル領域３６の中央側に位置する部分の厚みが厚くなる。換言すれば、セル領域３６におい
て、封止層６のうちセル領域３６の周縁側に位置する部分よりも、セル領域３６の中央側
に位置する部分が第２基板４側に突出する。また絶縁層９はオーバーエッチングにより、
絶縁層９の第２基板４と反対側が第１基板３側の方向に凸形状となる。セル領域３６にお
いて、絶縁層９のうちセル領域３６の周縁側に位置する部分の厚みよりも、セル領域３６
の中央側に位置する部分の厚みが厚くなる。換言すれば、セル領域３６において、絶縁層
９のうちセル領域３６の周縁側に位置する部分よりも、セル領域３６の中央側に位置する
部分が第１基板３側に突出する。つまり、上記の製造方法によれば、封止層６の凸形状に
応じて、絶縁層９を、第１基板３側に向かって凸となる凸形状に形成することができる。
【００４５】
セル領域３６にわたって設けられた封止層６が隔壁３５と共通電極５との間に介在して
いる構成では、セル領域３６において封止層６と画素電極８との間の距離が、セル領域３
６の周縁側とセル領域３６の中央側とで異なる。つまり、封止層６と画素電極８との間の
距離は、セル領域３６の周縁側に比較してセル領域３６の中央側において短くなる。これ
により、封止層６と画素電極８との間に発生する電界の強度は、セル領域３６の周縁側に
比較してセル領域３６の中央側において高くなる。しかしながら、本実施形態における電
気泳動表示装置１０では、画素電極８の電気泳動層３１側に設けられた絶縁層９のうちセ
ル領域３６の中央側に位置する部分の厚みが、セル領域３６の周縁側に位置する部分の厚
みよりも厚い。この結果、絶縁層９が第１基板３側に凸形状を有することで、絶縁層９の
厚みに応じて電界を弱めることができる。よって、セル領域３６内において、封止層６と
絶縁層９との間に発生する電界の強弱の差を軽減することができる。これにより、セル領
域３６内の電界を均一化することができる。このため、電気泳動表示装置１０において、
表示を切り替えるときに、すなわち共通電極５や画素電極８の電位を変化させたときに、
電気泳動粒子３３を速やかに移動させやすい。よって、電気泳動表示装置１０の応答速度
を向上させることができる。
【００４６】
以上述べたように、本実施形態に係る電気泳動表示装置１０によれば、以下の効果を得
ることができる。
画素電極８の電気泳動層３１側に設けられた絶縁層９のうちセル領域３６の中央側に位
置する部分の厚みが、セル領域３６の周縁側に位置する部分の厚みよりも厚い。この結果
、セル領域３６内において、封止層６と絶縁層９との間に発生する電界の強弱の差を軽減
することができる。このため、電気泳動表示装置１０において、表示を切り替えるときに
、すなわち共通電極５や画素電極８の電位を変化させたときに、電気泳動粒子３３を速や
かに移動させやすい。よって、電気泳動表示装置１０の応答速度を向上させることができ
る。
【００４７】
（第２実施形態）
第２実施形態における電気泳動表示装置１０Ａについて説明する。第２実施形態におけ
る電気泳動表示装置１０Ａは、絶縁層９の構成が第１実施形態における電気泳動表示装置
１０と異なることを除いて、第１実施形態における電気泳動表示装置１０と同様の構成を
有している。このため、第２実施形態において、第１実施形態と同様の構成については、
第１実施形態と同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００４８】
電気泳動表示装置１０Ａでは、図１３に示すように、絶縁層９が画素電極８を覆ってい
るつまり、第１基板３側から第２基板４に向かう向きに素子基板２を平面視したときに、
画素電極８が絶縁層９で覆われている。この構成により、電気泳動表示装置１０Ａでは、
画素電極８を絶縁層９で保護することができる。
【００４９】
以上述べたように、本実施形態に係る電気泳動表示装置１０Ａによれば、実施形態１で
の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。画素電極８が絶縁層９で覆われている
ため、電気泳動粒子３３の画素電極８への付着を抑制することができる。また、画素電極
８の電極腐食を抑制することができる。このため良好な表示特性を得ることができる。
【００５０】
（第３実施形態）
＜電気泳動表示装置の構造＞
次に、本発明の第３実施形態に係る電気泳動表示装置１０Ｂについて、図１４を参照し
て説明する。なお、実施形態１と同一の構成部位については、同一の番号を使用し、重複
する説明は省略する。
【００５１】
本実施形態の電気泳動表示装置１０Ｂは、図１４に示すように、隔壁３５と絶縁層９と
が一体となって形成されている。この点を除いて、電気泳動表示装置１０Ｂは、第１実施
形態における電気泳動表示装置１０と同様の構成を有している。
【００５２】
＜電気泳動表示装置の製造方法＞
電気泳動表示装置１０Ｂの製造方法では、第１実施形態における製造方法（図４）にお
いて、絶縁層形成工程（ステップＳ２２）と、隔壁形成工程（ステップＳ２３）とが１つ
の工程で達成される。つまり、電気泳動表示装置１０Ｂでは、隔壁３５と絶縁層９とが同
じ工程で形成される。この点を除いて、電気泳動表示装置１０Ｂの製造方法は、第１実施
形態と同様の工程を有している。
【００５３】
電気泳動表示装置１０Ｂの製造方法では、隔壁３５と絶縁層９とを形成する工程におい
て、図１５に示すように、複数の画素電極８の素子層７側と反対側に、絶縁層９と隔壁３
５とを形成するための隔壁部形成材料４０を配置する。隔壁部形成材料４０としては、例
えば、ＰＭＭＡ（ポリメタクリル酸メチル）等の熱可塑性樹脂が用いられる。隔壁部形成
材料４０の配置方法としては、例えばスピンコート法、ロールコート法、ダイコート法、
スリットコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ディップコート法等よる成膜
法を例示することができる。
【００５４】
次に、図１６に示すように、隔壁部形成材料４０を配置した第２基板４を加熱し、イン
プリント加工用の型部材４１を隔壁部形成材料４０に押圧する。型部材４１は隔壁３５に
対応する凹部４２と、絶縁層９に対応する凸部４３とを備えている。型部材４１で隔壁部
形成材料４０を押圧した状態で第２基板４を冷却し、型部材４１を隔壁部形成材料４０か
ら引き離すことで、型部材４１のパターンを隔壁部形成材料４０に転写することができる
。これにより、図１７に示すように、隔壁３５および絶縁層９を一体で形成することがで
きる。
【００５５】
以上述べたように、本実施形態に係る電気泳動表示装置１０Ｂによれば、実施形態１で
の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。隔壁３５と絶縁層９とが一体で形成さ
れているため、隔壁３５の材料と絶縁層９の材料とを統一することができる。これにより
、隔壁３５の材料と絶縁層９の材料とを互いに異なる材料にする場合と比較して、電気泳
動表示装置１０Ｂの製造にかかる材料の種類を低減することができるので、電気泳動表示
装置１０Ｂにかかるコストを軽減することができる。
【００５６】
なお、本実施形態の隔壁形成方法は、熱可塑性樹脂を用いたインプリント法を例示した
が、この方法に限定されるものではなく、熱硬化性樹脂を用いたインプリント法やＵＶ硬
化樹脂を用いたインプリント法でもよい。
【００５７】
（第４実施形態）
次に、本発明の第４実施形態に係る電気泳動表示装置１０Ｃについて図１８及び図１９
を用いて説明する。図１８は、電気泳動表示装置１０Ｃの一部を示す模式平面図である。
図１９は、図１８に示す電気泳動表示装置１０ＣのＢ−Ｂ‘線に沿う模式断面図である。
なお、実施形態１と同一の構成部位については、同一の番号を使用し、重複する説明は省
略する。
【００５８】
本実施形態の電気泳動表示装置１０Ｃは、図１８に示すように、１つのセル領域３６ａ
内に複数（本実施形態では４つ）の画素電極８が配置されている。また図１９に示すよう
に、画素電極８の素子基板２とは反対側に、１つのセル領域３６ａ内の複数の画素電極８
を跨ぐように絶縁層９が配置されている。この点を除いて、電気泳動表示装置１０Ｃは、
第１実施形態における電気泳動表示装置１０と同様の構成を有している。
【００５９】
＜電気泳動表示装置の製造方法＞
電気泳動表示装置１０Ｃの製造方法では、第１実施形態における製造方法（図４）の絶
縁層形成工程（ステップＳ２２）において、画素電極８の第２基板側とは反対側に、複数
の画素電極８を跨ぐように絶縁層９を形成する。この点を除いて、電気泳動表示装置１０
Ｃの製造方法は、第１実施形態と同様の工程を有している。
【００６０】
絶縁層形成工程（ステップＳ２２）では、図２０に示すように、画素電極８の第２基板
４側と反対側に絶縁層９Ａを形成する。次に絶縁層９Ａの画素電極８側と反対側にレジス
ト材料（図示せず）を塗布してからフォトリソグラフィー法によって、複数の画素電極８
に跨って個別に島状にパターニングする。これにより、絶縁層９Ａの画素電極８側と反対
側に、１つのセル領域３６ａに包含させるべき複数の画素電極８に跨るようにレジストパ
ターン１５が形成される。このとき、レジストパターン１５は、１つのセル領域３６ａに
包含させるべき複数の画素電極８のそれぞれの一部に重なっている。続いて、フッ酸やバ
ッファードフッ酸等のエッチング液を用いて絶縁層９Ａをエッチングする。これにより、
絶縁層９Ａから、図２１に示す絶縁層９が形成され得る。本実施形態では、絶縁層９は、
１つのセル領域３６ａに包含させるべき複数の画素電極８に跨って個別に島状にパターニ
ングされる。第４実施形態では、絶縁層９が１つのセル領域３６ａに包含させるべき複数
の画素電極８のそれぞれの一部に重なっている。換言すれば、第１基板３から第２基板４
に向かう向きに素子基板２を平面視したときに、１つのセル領域３６ａに包含される複数
の画素電極８は、絶縁層９よりも外側にはみ出ている。
【００６１】
本実施形態においても、図１９に示すように、セル領域３６ａにわたって設けられた封
止層６が、隔壁３５と共通電極５との間に介在している。この構成では、隔壁３５の端部
が封止層６に食い込むことで、封止層６の第１基板３側と反対側が第２基板４側の方向に
凸形状となる。セル領域３６ａにおいても、封止層６のうちセル領域３６ａの周縁側に位
置する部分の厚みよりも、セル領域３６ａの中央側に位置する部分の厚みが厚くなる。換
言すれば、セル領域３６ａにおいて、封止層６のうちセル領域３６ａの周縁側に位置する
部分よりも、セル領域３６ａの中央側に位置する部分が第２基板４側に突出する。また絶
縁層９はオーバーエッチングにより、絶縁層９の第２基板４と反対側が第１基板３側の方
向に凸形状となる。セル領域３６ａにおいて、絶縁層９のうちセル領域３６ａの周縁側に
位置する部分の厚みよりも、セル領域３６ａの中央側に位置する部分の厚みが厚くなる。
換言すれば、セル領域３６ａにおいて、絶縁層９のうちセル領域３６ａの周縁側に位置す
る部分よりも、セル領域３６ａの中央側に位置する部分が第１基板３側に突出する。つま
り、本実施形態においても、封止層６の凸形状に応じて、絶縁層９を、第１基板３側に向
かって凸となる凸形状に形成することができる。
【００６２】
セル領域３６ａにわたって設けられた封止層６が隔壁３５と共通電極５との間に介在し
ている構成では、セル領域３６ａにおいて封止層６と画素電極８との間の距離が、セル領
域３６ａの周縁側とセル領域３６ａの中央側とで異なる。つまり、封止層６と画素電極８
との間の距離は、セル領域３６ａの周縁側に比較してセル領域３６ａの中央側において短
くなる。これにより、封止層６と画素電極８との間に発生する電界の強度は、セル領域３
６ａの周縁側に比較してセル領域３６ａの中央側において高くなる。しかしながら、本実
施形態における電気泳動表示装置１０では、画素電極８の電気泳動層３１側に設けられた
絶縁層９のうちセル領域３６ａの中央側に位置する部分の厚みが、セル領域３６ａの周縁
側に位置する部分の厚みよりも厚い。この結果、絶縁層９が第１基板３側に凸形状を有す
ることで、絶縁層９の厚みに応じて電界を弱めることができる。よって、セル領域３６ａ
内において、封止層６と絶縁層９との間に発生する電界の強弱の差を軽減することができ
る。これにより、セル領域３６ａ内の電界を均一化することができる。このため、電気泳
動表示装置１０において、表示を切り替えるときに、すなわち共通電極５や画素電極８の
電位を変化させたときに、電気泳動粒子３３を速やかに移動させやすい。よって、電気泳
動表示装置１０の応答速度を向上させることができる。
【００６３】
本実施形態に係る電気泳動表示装置１０Ｃにおいても、実施形態１と同様の効果が得ら
れる。つまり、１つのセル領域３６ａに複数の画素電極８が配置される形態においても、
電気泳動表示装置１０Ｃの応答速度を向上させることができる。
【００６４】
（第５実施形態）
＜電気泳動表示装置の構造＞
次に、本発明の第５実施形態に係る電気泳動表示装置１０Ｄについて説明する。第５実
施形態における電気泳動表示装置１０Ｄは、絶縁層９の構成が第４実施形態における電気
泳動表示装置１０Ｃと異なることを除いて、第４実施形態おける電気泳動表示装置１０Ｃ
と同様の構成を有している。このため、第５実施形態において、第４実施形態と同様の構
成については、第４実施形態と同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００６５】
電気泳動表示装置１０Ｄでは、図２２に示すように、絶縁層９が、１つのセル領域３６
ａに包含される複数の画素電極８を覆っている。つまり、第１基板３側から第２基板４に
向かう向きに素子基板２を平面視したときに、１つのセル領域３６ａに包含される複数の
画素電極８が、１つのセル領域３６ａ内の絶縁層９で覆われている。この構成により、電
気泳動表示装置１０Ｄでは、複数の画素電極８を絶縁層９で保護することができる。本実
施形態では、絶縁層９Ａに配置するレジストパターン１５を、１つのセル領域３６ａに包
含させるべき複数の画素電極８を覆う大きさにパターニングする。これにより、１つのセ
ル領域３６ａに包含される複数の画素電極８を、１つのセル領域３６ａ内の絶縁層９で覆
うことができる。
【００６６】
以上述べたように、本実施形態に係る電気泳動表示装置１０Ｄによれば、実施形態４で
の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。複数の画素電極８が絶縁層９で覆われ
ているため、電気泳動粒子３３の画素電極８への付着を抑制することができる。また、画
素電極８の電極腐食を抑制することができる。このため良好な表示特性を得ることができ
る。
【００６７】
（第６実施形態）
次に、本発明の第６実施形態に係る電気泳動表示装置１０Ｅについて、図２３を参照し
て説明する。なお、第６実施形態において、第４実施形態と同一の構成部位については、
同一の番号を使用し、重複する説明は省略する。
【００６８】
本実施形態の電気泳動表示装置１０Ｅは、図２３に示すように、隔壁３５と複数の画素
電極８を覆うように配置された絶縁層９とが一体となって形成されている。この点を除い
て、電気泳動表示装置１０Ｅは、第３実施形態や第４実施形態と同様の構成を有している
。本実施形態の電気泳動表示装置１０Ｅの製造方法は、第３実施形態に準ずる。つまり、
１つのセル領域３６ａが複数の画素電極８を包含するように、隔壁３５と絶縁層９とを一
体に形成すればよい。
【００６９】
以上述べたように、本実施形態に係る電気泳動表示装置１０Ｅによれば、実施形態５で
の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。隔壁３５と複数の画素電極８を覆うよ
うに配置された絶縁層９とが一体で形成されているため、隔壁３５の材料と絶縁層９の材
料とを統一することができる。これにより、隔壁３５の材料と絶縁層９の材料とを互いに
異なる材料にする場合に比較して、電気泳動表示装置１０Ｅの製造にかかる材料の種類を
低減することができるので、電気泳動表示装置１０Ｅにかかるコストを軽減することがで
きる。
【００７０】
＜電子機器＞
次に、上述の電気泳動表示装置１０を電子機器に適用した場合について説明する。
【００７１】
図２４は、電子機器の一例である腕時計を示す斜視図である。
この腕時計（電子機器）１１０は、本発明の電気泳動表示装置１０によって構成された
表示部１１１を備えている。
【００７２】
図２５は、電子機器の一例である電子ペーパーを示す斜視図である。
この電子ペーパー（電子機器）１２０は、紙と同様の質感および柔軟性を有するリライ
タブルシートで構成される本体部１２１と、本発明の電気泳動表示装置１０によって構成
された表示部１２２を備えている。
【００７３】
例えば、電子ブック１００や電子ペーパー１２０等は、白地の背景上に文字を繰り返し
書き込む用途が想定されるため、表示ムラの解消が必要とされる。
なお、本発明の電気泳動表示装置１０を適用可能な電子機器の範囲はこれに限定されず
、帯電粒子の移動に伴う視覚上の色調の変化を利用した装置を広く含むものである。
【００７４】
以上の電子ブック１００、腕時計１１０、および電子ペーパー１２０によれば、本発明
に係る電気泳動表示装置１０が採用されているので、表示切替にかかる応答速度を向上さ
せることができる信頼性に優れた高品位の電子機器を提供することができる。
【００７５】
なお、上記の電子機器は、本発明に係る電子機器を例示するものであって、本発明の技
術範囲を限定するものではない。例えば、携帯電話、携帯用オーディオ機器等の電子機器
の表示部や、マニュアル等の業務用シート、教科書、問題集、情報シート等にも、本発明
に係る電気泳動表示装置１０を好適に用いることができる。
【符号の説明】
【００７６】
１０…電気泳動表示装置、１…対向基板、２…素子基板、３…第１基板、４…第２基板
、５…共通電極、６…封止層、７…素子層、８…画素電極、９…絶縁層、１１…画素、３
１…電気泳動層、３２…電気泳動分散液、３３ａ…黒色粒子、３３ｂ…白色粒子、３４…
分散媒、３５…隔壁、３６…セル領域、１００…電子ブック、１０１…操作部、E…表示
領域、１１０…腕時計、１２０…電子ペーパー。
【図１】
2018081190.tif 000003
【図２】
2018081190.tif 000004
【図３】
2018081190.tif 000005
【図４】
2018081190.tif 000006
【図５】
2018081190.tif 000007
【図６】
2018081190.tif 000008
【図７】
2018081190.tif 000009
【図８】
2018081190.tif 000010
【図９】
2018081190.tif 000011
【図１０】
2018081190.tif 000012
【図１１】
2018081190.tif 000013
【図１２】
2018081190.tif 000014
【図１３】
2018081190.tif 000015
【図１４】
2018081190.tif 000016
【図１５】
2018081190.tif 000017
【図１６】
2018081190.tif 000018
【図１７】
2018081190.tif 000019
【図１８】
2018081190.tif 000020
【図１９】
2018081190.tif 000021
【図２０】
2018081190.tif 000022
【図２１】
2018081190.tif 000023
【図２２】
2018081190.tif 000024
【図２３】
2018081190.tif 000025
【図２４】
2018081190.tif 000026
【図２５】
2018081190.tif 000027