(57)【要約】【課題】キャリアガス供給部の末端に設けられる継手であって、樹脂製の逆止弁に簡単に接続することができ、腐食による極微細なパーティクルの発生を抑制した継手及びその継手を備えたガス気化供給システムを提供する。【解決手段】本発明の継手Ａ１は、腐食性の材料ＬＩを有する液体タンクＬＴ内にキャリアガスを供給して材料ＬＩを気化させてキャリアガスとともに気化した材料ＬＩを供給するガス気化供給システム１０のキャリアガス供給部１２の末端に設けられる継手Ａ１であって、継手Ａ１は、キャリアガスの流入口３３を有する本体部３０と、キャリアガスの流出口３７を有し、本体部３０から突出する接続部３６と、接続部３６の先端側の外周面に形成された外ネジ部３９Ａと、を備えている。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
腐食性の材料を有する液体タンク内にキャリアガスを供給して前記材料を気化させて前記キャリアガスとともに気化した前記材料を供給するガス気化供給システムのキャリアガス供給部の末端に設けられる継手であって、
前記継手は、
前記キャリアガスの流入口を有する本体部と、
前記キャリアガスの流出口を有し、前記本体部から突出する接続部と、
前記接続部の先端側の外周面に形成された外ネジ部と、を備えていることを特徴とする継手。
【請求項２】
前記流出口は、先端側に向けて拡径されてフェルールが挿入される形状に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の継手。
【請求項３】
前記接続部は、前記外ネジ部よりも本体部側の部分に対向する一対の平行面が形成されていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の継手。
【請求項４】
前記本体部は、四角柱形状を有し、
前記接続部は、前記流入口が開口する前記本体部の面に対して平行な方向に本体部から突出していることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の継手。
【請求項５】
腐食性の材料を有する液体タンク内にキャリアガスを供給して前記材料を気化させて前記キャリアガスとともに気化した前記材料を供給するガス気化供給システムであって、
前記キャリアガスの流れ方向で見て、キャリアガス供給源側を上流側とし、キャリアガス供給源側から離れる側を下流側とすると、
前記ガス気化供給システムは、
キャリアガス供給部と、
前記キャリアガス供給部から前記キャリアガスが供給される樹脂製の逆止弁を有し、前記逆止弁より下流側の配管が全て樹脂製である液体気化供給部と、を備え、
前記キャリアガス供給部は、下流側の末端に請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の前記継手を備えており、
前記継手を介してキャリアガスが前記逆止弁に供給されることを特徴とするガス気化供給システム。
【請求項６】
前記逆止弁に接続される樹脂製の配管が、前記外ネジ部に螺合するナットによって、前記継手に接続されることを特徴とする請求項５に記載のガス気化供給システム。
【請求項７】
前記キャリアガス供給部は、
前記継手より上流側に設けられた流量制御器と、
前記流量制御器より上流側に設けられたパーティクルフィルタと、を備え、
前記流量制御器より下流側にパーティクルフィルタを有していないことを特徴とする請求項５又は請求項６に記載のガス気化供給システム。
【請求項８】
前記キャリアガス供給部は、
前記キャリアガスが流れる流路を有し、第１方向に並べられた複数のベースブロックと、
隣接する前記ベースブロック間を橋渡しするように前記ベースブロック上に配置される複数の流体用パーツと、を備え、
前記流体用パーツは、前記流量制御器及び前記パーティクルフィルタを含み、
前記ベースブロックは前記継手と同じ材質で形成されており、
前記継手が前記ベースブロックのうちの１つであることを特徴とする請求項７に記載のガス気化供給システム。
【請求項９】
前記液体気化供給部は、
流路を形成する配管に樹脂製の配管が用いられ、前記逆止弁から下流側に延在する第１流路と、
前記第１流路上に設けられた第１自動弁と、
流路を形成する配管に樹脂製の配管が用いられ、前記第１自動弁より上流側の前記第１流路と前記液体タンクの間を繋ぐ第２流路と、
前記第２流路上に設けられた第２自動弁と、
前記第２流路から前記キャリアガスの供給を受ける前記液体タンクと、
流路を形成する配管に樹脂製の配管が用いられ、前記第１自動弁より下流側の前記第１流路と前記液体タンクの間を繋ぎ、前記液体タンクから前記キャリアガスとともに前記気化した前記材料が供給される第３流路と、
前記第３流路上に設けられた第３自動弁と、
前記第１流路上に設けられ、前記第３流路が繋がる前記第１流路の位置よりも下流側に位置する第４自動弁と、を備えていることを特徴とする請求項５から請求項８のいずれか１項に記載のガス気化供給システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は継手及びその継手を備えたガス気化供給システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、キャリアガスによって液体の材料をバブリングし、材料を気化させ、キャリアガスとともに気化した材料をチャンバに供給するガス気化供給システムが知られている（特許文献１参照）。
【０００３】
このガス気化供給システムでは、キャリアガスの流れる方向で見て、マスフローコントローラより下流側に配置された材料の液体が充填された液体タンクに向けてマスフローコントローラからキャリアガスを供給するキャリアガス供給路が設けられており、そのキャリアガス供給路の途中には逆止弁が設けられている。
【０００４】
また、液体タンクからキャリアガスとともに気化した材料をチャンバに供給するガス供給路が設けられている。
【０００５】
そして、逆止弁からマスフローコントローラ側のキャリアガス供給路に耐久性及び耐圧性に優れリークの可能性も少ないステンレス等の金属性の配管を用いるとともに、逆止弁から下流側のキャリアガス供給路及びガス供給路にフッ素系樹脂の配管を用いるようにすることで、金属（特にステンレス）に対する腐食性が強い材料による配管の腐食を防止する構成になっている。
【０００６】
しかしながら、液体タンクから逆止弁までの間の配管内の気体に、液体タンク内の材料が蒸気の状態になって含まれていることがある。
【０００７】
そして、逆止弁自体は、気体の逆流に伴う圧が係ることで弁が閉じる構造になっているため、圧力のあまり係らない流体の染み出るような逆流に対しては逆止効果を発揮することができない。
【０００８】
このため、その蒸気の状態の材料が逆止弁の近傍で液化すると、液化した材料が逆止弁を通り抜け金属性の配管側に染み出し、金属性の配管の部分に材料が到達する場合がある。
そうすると、金属性の配管の内部が腐食し、異物となるパーティクルが発生するという問題がある。
【０００９】
そこで、特許文献１では、逆止弁前後の配管の高さ位置の関係を液化した材料が液体タンク側に流れるようにすることで、液化した材料が逆止弁よりも上流側に流れることを防止している。
【００１０】
一方、半導体製造装置では、各種のガスを供給する供給ラインに集積化流体供給装置が用いられており、具体的には、１つのガス供給ラインには、手動バルブ、圧力トランスデューサー、レギュレータ、フィルタ、マスフローコントローラ及びエアオペレーションバルブ等の流体用パーツが使用されるが、その流体用パーツの流体流入口及び流体流出口を下側に位置するように形成するとともに、流体用パーツ間を接続する流路を形成したベースブロックを流体用パーツの下側に配置することで流体用パーツの並び方向の幅をコンパクトに集積化している（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開平１１−１１１６３０号公報
【特許文献２】特開２００２−１３０４７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
ところで、金属を腐食する材料を供給する場合には、逆止弁自体が腐食しないようにするために、逆止弁にもフッ素系樹脂のものを用いることが好ましいが、そのためには、逆止弁より上流側の金属性の配管にフッ素系樹脂の逆止弁を取り付ける必要がある。
【００１３】
そこで、集積化流体供給装置と同様の構成のキャリアガス供給部にフッ素系樹脂の逆止弁が取り付けられるようにするために、キャリアガス供給部の下流側の末端に配置されるベースブロックに長さの長い単管を設けるようにしたところ、逆止弁の近傍で材料が液化していなくても、腐食による極微細なパーティクルが発生することを発見した。
【００１４】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、キャリアガス供給部の末端に設けられる継手であって、樹脂製の逆止弁に簡単に接続することができ、腐食による極微細なパーティクルの発生を抑制した継手及びその継手を備えたガス気化供給システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は、上記目的を達成するために、以下の構成によって把握される。
（１）本発明の継手は、腐食性の材料を有する液体タンク内にキャリアガスを供給して前記材料を気化させて前記キャリアガスとともに気化した前記材料を供給するガス気化供給システムのキャリアガス供給部の末端に設けられる継手であって、前記継手は、前記キャリアガスの流入口を有する本体部と、前記キャリアガスの流出口を有し、前記本体部から突出する接続部と、前記接続部の先端側の外周面に形成された外ネジ部と、を備えている。
【００１６】
（２）上記（１）の構成において、前記流出口は、先端側に向けて拡径されてフェルールが挿入される形状に形成されている。
【００１７】
（３）上記（１）又は（２）の構成において、前記接続部は、前記外ネジ部よりも本体部側の部分に対向する一対の平行面が形成されている。
【００１８】
（４）上記（１）から（３）のいずれか１つの構成において、前記本体部は、四角柱形状を有し、前記接続部は、前記流入口が開口する前記本体部の面に対して平行な方向に本体部から突出している。
【００１９】
（５）本発明のガス気化供給システムは、腐食性の材料を有する液体タンク内にキャリアガスを供給して前記材料を気化させて前記キャリアガスとともに気化した前記材料を供給するガス気化供給システムであって、前記キャリアガスの流れ方向で見て、キャリアガス供給源側を上流側とし、キャリアガス供給源側から離れる側を下流側とすると、前記ガス気化供給システムは、キャリアガス供給部と、前記キャリアガス供給部から前記キャリアガスが供給される樹脂製の逆止弁を有し、前記逆止弁より下流側の配管が全て樹脂製である液体気化供給部と、を備え、前記キャリアガス供給部は、下流側の末端に上記（１）から（４）のいずれか１つの構成を有する前記継手を備えており、前記継手を介してキャリアガスが前記逆止弁に供給される。
【００２０】
（６）上記（５）の構成において、前記逆止弁に接続される樹脂製の配管が、前記外ネジ部に螺合するナットによって、前記継手に接続される。
【００２１】
（７）上記（５）又は（６）の構成において、前記キャリアガス供給部は、前記継手より上流側に設けられた流量制御器と、前記流量制御器より上流側に設けられたパーティクルフィルタと、を備え、前記流量制御器より下流側にパーティクルフィルタを有していない。
【００２２】
（８）上記（７）の構成において、前記キャリアガス供給部は、前記キャリアガスが流れる流路を有し、第１方向に並べられた複数のベースブロックと、隣接する前記ベースブロック間を橋渡しするように前記ベースブロック上に配置される複数の流体用パーツと、を備え、前記流体用パーツは、前記流量制御器及び前記パーティクルフィルタを含み、前記ベースブロックは前記継手と同じ材質で形成されており、前記継手が前記ベースブロックのうちの１つである。
【００２３】
（９）上記（５）から（８）のいずれか１つの構成において、前記液体気化供給部は、流路を形成する配管に樹脂製の配管が用いられ、前記逆止弁から下流側に延在する第１流路と、前記第１流路上に設けられた第１自動弁と、流路を形成する配管に樹脂製の配管が用いられ、前記第１自動弁より上流側の前記第１流路と前記液体タンクの間を繋ぐ第２流路と、前記第２流路上に設けられた第２自動弁と、前記第２流路から前記キャリアガスの供給を受ける前記液体タンクと、流路を形成する配管に樹脂製の配管が用いられ、前記第１自動弁より下流側の前記第１流路と前記液体タンクの間を繋ぎ、前記液体タンクから前記キャリアガスとともに前記気化した前記材料が供給される第３流路と、前記第３流路上に設けられた第３自動弁と、前記第１流路上に設けられ、前記第３流路が繋がる前記第１流路の位置よりも下流側に位置する第４自動弁と、を備えている。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、キャリアガス供給部の末端に設けられる継手であって、樹脂製の逆止弁に簡単に接続することができ、腐食による極微細なパーティクルの発生を抑制した継手及びその継手を備えたガス気化供給システムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明に係る実施形態のガス気化供給システムを説明するための図である。
【図２】本発明に係る実施形態のキャリアガス供給部を説明するための斜視図である。
【図３】本発明に係る実施形態の金属継手の斜視図である。
【図４】本発明に係る実施形態の金属継手の図３のＤ−Ｄ線に沿った断面図である。
【図５】本発明に係る実施形態の金属継手に逆止弁を接続するときの一例を示した平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、本発明を実施するための形態(以下、「実施形態」という)を、添付図面に基づいて詳細に説明する。
なお、実施形態の説明の全体を通して同じ要素には同じ番号を付している。
【００２７】
図１は本発明に係る実施形態のガス気化供給システム１０を説明するための図であり、図２は本発明に係る実施形態のキャリアガス供給部１２を説明するための斜視図である。
【００２８】
図１に示すように、本発明に係る実施形態のガス気化供給システム１０は、半導体を処理する半導体処理部１に半導体を処理するための材料ＬＩを気化状態で供給するシステムであり、液体気化供給部１１と、キャリアガス供給部１２と、を備えている。
【００２９】
半導体処理部１は、特に限定されるものではなく、一般的な半導体を処理する装置を用いることができ、例えば、半導体処理部１は、真空チャンバ２と、真空チャンバ２内に配置された半導体ウェハＳＷを載置する載置台３と、ガス気化供給システム１０によって供給されるガス（気化した材料ＬＩ）で半導体ウェハＳＷを処理するための電極４等を備えている。
【００３０】
また、半導体処理部１には、商用電源５によって電力が供給されるとともに、真空チャンバ２には、排気手段６が接続されている。
なお、排気手段６は、集塵機６Ａと、真空チャンバ２と集塵機６Ａの間を繋ぐ排気配管６Ｂと、排気配管６Ｂ上に設けられた開閉弁６Ｃ等を備えている。
【００３１】
なお、図１では、図示を省略しているが真空チャンバ２には、以降で説明するガス気化供給システム１０以外にも、各種の処理を行うガス等を供給するための供給系（供給システム）からガス等が供給されるようになっている。
【００３２】
（液体気化供給部１１）
本実施形態の液体気化供給部１１は、キャリアガス（例えば、Ｎ２やＡｒ等）によって、半導体を処理するため液体状態で液体タンクに保存されている材料ＬＩを気化（ガス化）させて、キャリアガスとともに気化した材料ＬＩを供給する、いわゆる、バブリング方式の供給部になっている。
【００３３】
なお、以下の説明では、キャリアガスの流れ方向で見て、キャリアガス供給源側（図１の左側）を上流側とし、キャリアガス供給源側から離れる側（つまり、半導体処理部１側）を下流側と記載する。
【００３４】
具体的には、図１に示すように、液体気化供給部１１は、その最も上流側に配置されるキャリアガス供給部１２からキャリアガスが供給される逆止弁２１を有している。
【００３５】
また、液体気化供給部１１は、逆止弁２１から下流側に延在し、真空チャンバ２に接続される第１流路２２と、第１流路２２上に設けられた第１自動弁２２Ａと、第１自動弁２２Ａより上流側の第１流路２２と液体タンクＬＴの間を繋ぐ第２流路２３と、第２流路２３上に設けられた第２自動弁２３Ａと、を備えている。
【００３６】
さらに、液体気化供給部１１は、第２流路２３からキャリアガスの供給を受ける液体タンクＬＴと、第１自動弁２２Ａより下流側の第１流路２２と液体タンクＬＴの間を繋ぎ、液体タンクＬＴからキャリアガスとともに気化した材料ＬＩが供給される第３流路２４と、第３流路２４上に設けられた第３自動弁２４Ａと、第１流路２２上に設けられ、第３流路２４が繋がる第１流路２２の位置よりも下流側に位置する第４自動弁２２Ｂと、を備えている。
【００３７】
本実施形態では、液体タンクＬＴに充填され、キャリアガスによるバブリングで気化される材料ＬＩがステンレス（ＳＵＳ）等の金属を腐食するような腐食性の材料ＬＩの場合を想定しているため、第１流路２２、第２流路２３及び第３流路２４を形成する配管には、化学的に安定し高い耐食性を有するテフロン（登録商標）等のフッ素系樹脂を用いた樹脂製の配管を用いている。
【００３８】
つまり、液体気化供給部１１は、逆止弁２１より下流側の流路を形成する配管が全て樹脂製である。
また、逆止弁２１にもフッ素系樹脂を用いた樹脂製の逆止弁を用いている。
【００３９】
そして、第１自動弁２２Ａの弁を閉の状態とし、第２自動弁２３Ａ、第３自動弁２４Ａ及び第４自動弁２２Ｂの弁を開の状態とすることで、キャリアガスが液体タンクＬＴに供給されるとともに、そのキャリアガスによってバブリングされ、気化した材料ＬＩがキャリアガスとともに半導体処理部１に供給されることになる。
【００４０】
一方、第１自動弁２２Ａ及び第４自動弁２２Ｂの弁を開の状態とし、第２自動弁２３Ａ及び第３自動弁２４Ａの弁を閉の状態とすることで、キャリアガスは液体タンクＬＴを経由せずに、半導体処理部１に供給されるので、設備が停止中のときのパージ状態が実現できる。
なお、言うまでもないことであるが、上記のようにキャリアガスが流れるためには、後述するキャリアガス供給部１２の自動弁Ｂ１及び手動弁Ｂ６の弁が開の状態になっている必要がある。
【００４１】
（キャリアガス供給部１２）
次に、図２を参照しながら、本実施形態のキャリアガス供給部１２について説明を行う。
図２に示すように、キャリアガス供給部１２は、第１方向（Ｘ軸方向）に並べられた複数のベースブロックＡと、隣接するベースブロックＡ間を橋渡しするようにベースブロックＡ上に配置される複数の流体用パーツＢと、を備えている。
【００４２】
なお、ベースブロックＡは、耐久性及び耐圧性に優れリークの可能性も少ないステンレス（ＳＵＳ）等の金属で形成されており、後ほど詳細に説明するが、ベースブロックＡ１が逆止弁２１（図１参照）との接続を行うための、本発明に係る実施形態の継手であり、以下、金属継手Ａ１とも記載する。
【００４３】
具体的には、キャリアガス供給部１２は、キャリアガス供給部１２の下流側の末端に設けられる金属継手Ａ１を含む複数のベースブロックＡと、キャリアガスの流量を制御するための基本構成として、金属継手Ａ１より上流側に設けられたキャリアガスの流量を制御する流量制御器であるマスフローコントローラＢ２と、マスフローコントローラＢ２より上流側に設けられ、キャリアガスの供給圧である１次圧をマスフローコントローラＢ２の動作保障圧である２次圧に減圧する減圧弁Ｂ４と、減圧弁Ｂ４より上流側に設けられ、パーティクルがキャリアガスに混入した場合に、そのパーティクルを除去するためのパーティクルフィルタＢ５と、を備えている。
【００４４】
なお、マスフローコントローラＢ２には、外部の機器と信号（制御信号や流量に関する信号等）の送受信を行うための入出力ポートＢ２ａが設けられており、例えば、外部に設けられたモニタＭ（図１参照）にキャリアガスの流量を表示することができるようになっている。
【００４５】
また、本実施形態では、キャリアガス供給部１２は、金属継手Ａ１より上流側でマスフローコントローラＢ２より下流側に設けられた自動弁Ｂ１と、マスフローコントローラＢ２より上流側で減圧弁Ｂ４よりも下流側に設けられ、減圧状態を確認するための圧力計Ｂ３と、パーティクルフィルタＢ５より上流側に設けられた手動弁Ｂ６と、を備えている。
【００４６】
なお、図１を見るとわかるように、パーティクルフィルタＢ５は、マスフローコントローラＢ２より上流側に設けられ、マスフローコントローラＢ２より下流側にパーティクルフィルタＢ５を有していないようにしている。
【００４７】
パーティクルフィルタＢ５をマスフローコントローラＢ２より下流側に設けることも可能であるが、パーティクルフィルタＢ５は圧力損失が大きいため、キャリアガスを通過させるためにキャリアガスの圧力を高めに設定する必要がある。
【００４８】
このため、パーティクルフィルタＢ５をマスフローコントローラＢ２より下流側に設けるとマスフローコントローラＢ２を通過するキャリアガスの圧力がマスフローコントローラＢ２の動作保障圧よりも高くなる場合がある。
【００４９】
そうすると、マスフローコントローラＢ２の流量制御性が低下するおそれがあるが、本実施形態のように、マスフローコントローラＢ２より下流側にパーティクルフィルタＢ５を有していないようにすることで高い精度でキャリアガスの流量制御を行うことができる。
【００５０】
そして、それら流体用パーツＢは、キャリアガスの導入口（図示せず）及び排出口（図示せず）が鉛直方向下側（Ｚ軸方向）に開口するようになっており、ベースブロックＡ２からベースブロックＡ６は、鉛直方向上側（Ｚ軸方向の逆方向）に開口し、隣接する流体用パーツＢの一方の流体用パーツＢの排出口に対応する第１流路開口（図示せず）と、他方の流体用パーツＢの導入口に対応する第２流路開口（図示せず）を備え、第１流路開口と第２流路開口を繋げる流路（図示せず）を内部に有している。
【００５１】
したがって、キャリアガスは、ベースブロックに形成された流路内を流れて、一方の流体用パーツＢから他方の流体用パーツＢに供給されることになる。
【００５２】
また、ベースブロックＡ７は、上流側に向くベースブロックの側面Ｓから延在し、キャリアガスを受け入れる第１流路開口Ａ７ａが設けられたキャリアガス導入部Ａ７ａａを有するとともに、鉛直方向上側（Ｚ軸方向の逆方向）に開口し、流体用パーツＢ（手動弁Ｂ６）の導入口（図示せず）に対応する第２流路開口（図示せず）を備えており、第１流路開口Ａ７ａと第２流路開口（図示せず）を繋げる流路（図示せず）を内部に有している。
【００５３】
なお、キャリアガス導入部Ａ７ａａは、位置Ｐよりも上流側の部分を別に作製して、位置Ｐで溶接するようにして形成されている。
これは、ベースブロックＡが加工精度を高めるために、基材となる金属インゴットから切削加工によって形成されているため、長い単管部を形成するために切削部分を多くしたり、複雑な構造を形成するようにしたりすると加工費が大幅に高くなるためである。
【００５４】
さらに、後ほど説明するので、ここでは詳細な説明は省略するが、金属継手Ａ１も流体用パーツＢ（自動弁Ｂ１）の排出口（図示せず）に対応する開口が鉛直方向上側（Ｚ軸方向の逆方向）に開口するとともに、下流側を向く側面３１（図３参照）側から第１方向（Ｘ軸方向）にキャリアガスを排出するように形成されている。
【００５５】
そして、金属継手Ａ１においても、ベースブロックＡ７と同様に、別に作製しておいた単管を溶接できる程度の単管を切削加工で形成しておき、樹脂製の逆止弁２１（図１参照）を接続するための単管部の長さを得るために、別に作製しておいた単管を溶接で繋げるようにしたところ、腐食による極微細なパーティクルの発生があった。
【００５６】
その原因を調査した結果、本実施形態の金属継手Ａ１のようにすることに至り、以下、具体的に説明する。
半導体用の装置では、装置に必要なスペースを少なくするために、各部の小型化が要求されているだけでなく、半導体に施される加工が微細化するのに連れて、装置の制御性を高めることが求められている。
【００５７】
つまり、半導体処理部１に供給されるガス等は、その流量の制御がマスフローコントローラＢ２で行われるため、このマスフローコントローラＢ２と真空チャンバ２までの距離を短くして制御にタイムラグが起こらないようにする必要がある。
【００５８】
このため、逆止弁２１と液体タンクＬＴまでの距離は短く、かつ、逆止弁２１と金属継手Ａ１までの距離も短くする必要があり、キャリアガスの逆流が起きたときに、逆止弁２１に蒸気の状態の材料ＬＩが到達しやすい状況になっている。
【００５９】
逆止弁２１は、気体の逆流を防止するための部品であるが、完全に気体の逆流が停止するまでの間には、微量に逆止弁２１を通過してキャリアガス供給部１２側に蒸気の状態の材料ＬＩが進入する。
【００６０】
しかしながら、そのようにキャリアガス供給部１２側に侵入する材料ＬＩの量は極微量であり、また、侵入する頻度も低いことから、それによる腐食は微々たるものであり、極めて小さいパーティクルが微量に発生するに留まる。
【００６１】
しかし、半導体の微細加工が進むに連れて、パーティクルの大きさ及び量も従来では許されていた程度のものが許されない状況になっており、このため、上述のような極めて小さいパーティクルが極微量に発生しても問題になるようになってきているため、今回のような問題が発生した。
【００６２】
そして、腐食部分について調べていくと、上述した単管を溶接した部分で腐食が発生しており、切削加工によって形成されている部分では、ほとんど腐食が確認されなかった。
【００６３】
そこで、以下で説明する金属継手Ａ１を切削加工だけで形成することでパーティクルの発生を抑制するものとした。
また、さらに、金属継手Ａ１の形状を工夫することでより一層腐食がおき難いものとしており、以下詳細に説明する。
【００６４】
図３は本実施形態の金属継手Ａ１の斜視図であり、図４は金属継手Ａ１の図３のＤ−Ｄ線に沿った断面図であり、図５は金属継手Ａ１に逆止弁２１を接続するときの一例を示した平面図である。
【００６５】
図３及び図４に示すように、金属継手Ａ１は、金属継手Ａ１を形成する金属インゴットから切削加工によって削り出された四角柱形状を有する本体部３０と、本体部３０の第１方向側（Ｘ軸方向側）となる下流側を向く側面３１から下流側に向かって突出し、金属インゴットから切削加工によって削り出された接続部３６（切削部とも言う。）と、を備えている。
【００６６】
そして、本体部３０は、鉛直方向上側（Ｚ軸方向と逆方向）の上面３２に、自動弁Ｂ１（図２参照）のキャリアガスの排出口（図示せず）に対応するように設けられ、自動弁Ｂ１の排出口から排出されるキャリアガスが流入する流入口３３を有している。
なお、流入口３３の外周にはリング状の溝部３３Ａが形成されており、このリング状の溝部３３Ａには、自動弁Ｂ１との間で気密を取るためのシール部材が収容される。
【００６７】
また、本体部３０は、図３に示すように、第１方向（Ｘ軸方向）及び鉛直方向となる第２方向（Ｚ軸方向）の両方に直交する第３方向（Ｙ軸方向）に離間して設けられ、本体部３０の上面３２から鉛直方向下側（Ｙ軸方向下側）の下面まで貫通する一対の貫通孔３４を有している。
【００６８】
なお、金属継手Ａ１を含むそれぞれのベースブロックＡ（図２参照）は、所定の位置に配置されるように、図示しないベースプレートに固定されるが、この貫通孔３４は、そのベースプレートに固定するための固定部材を取り付けるための孔である。
【００６９】
さらに、図３に示すように、本体部３０は、第３方向（Ｙ軸方向）に離間して設けられ、自動弁Ｂ１（図２参照）をネジ３５Ａ（図２参照）で固定するための、ネジ螺合部３５を有している。
【００７０】
一方、図３及び図４に示すように、接続部３６は、本体部３０の有する流入口３３が開口する本体部３０の面（上面３２）に対して平行な第１方向（Ｘ軸方向）に本体部３０から突出しており、接続部３６は、その第１方向に開口（つまり、下流側に開口）するキャリアガスの流出口３７を有している。
【００７１】
そして、図４に示すように、流出口３７は、流入口３３と流出口３７を繋ぐ金属継手Ａ１内に形成された流路３８の直径ｄ１より大きい直径ｄ２を有し、ストレート孔状の上流側孔部３７Ａと、上流側孔部３７Ａから接続部３６の先端側（下流側）に向けて拡径した形状に形成された下流側孔部３７Ｂと、を備えている。
【００７２】
例えば、直径ｄ２は、図５に示す逆止弁２１に一端が接続されたフッ素系樹脂を用いた樹脂製の配管ＰＩの外径に応じた内径に形成されている。
【００７３】
また、下流側孔部３７Ｂの拡径状態は、その配管ＰＩの外周に設けられる、フロントリングＦＬ１及びバックリングＦＬ２を有するフェルールＦＬに合わせた形状に形成されている。
つまり、流出口３７は、先端側に向けて拡径されてフェルールＦＬが挿入される形状に形成されている。
【００７４】
そして、接続部３６の先端側（下流側）の外周面には、外ネジ部３９Ａが形成されており、配管ＰＩの他端側の外周にフェルールＦＬとナット３９Ｂを設けて、ナット３９Ｂを外ネジ部３９Ａに螺合させることで、配管ＰＩの他端を、直接、接続部３６に接続することができるようになっている。
【００７５】
また、図３に示すように、接続部３６は、外ネジ部３９Ａよりも本体部３０側の部分に対向する一対の平行面ＦＰが形成されており、ナット３９Ｂを外ネジ部３９Ａに螺合させるときに、スパナ等で本体部３０をしっかりと掴むことができるようになっている。
【００７６】
上記のように、金属継手Ａ１を切削加工だけで作製し、溶接部をなくすようにすると、腐食しやすい箇所をなくすことができるため、極微細なパーティクルの発生を抑制できるようになる。
【００７７】
また、金属継手Ａ１を単に切削加工で作製するのみのではなく、その形状を工夫することでより一層極微細なパーティクルの発生を抑制するものとした。
【００７８】
具体的には、逆止弁２１を取り付けるときに、金属継手から延在する金属性の単管を形成するようにしたのではなく、本実施形態では、逆止弁２１に一端が接続されたフッ素系樹脂を用いた樹脂製の配管ＰＩを直接接続できるようにした。
【００７９】
この場合、単管とする部分を配管ＰＩとすればよいため、逆止弁２１と金属継手Ａ１の間の距離を金属継手に金属性の単管を設けるようにした場合と同程度の距離にしつつ、逆止弁２１を通過した材料ＬＩが金属製の部分に到達し難くすることが可能であるため、より一層、極微細なパーティクルの発生が抑制される。
【００８０】
以上、本発明を実施形態に基づき説明したが、本発明は実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲での種々の変更が可能であることも言うまでもない。
【００８１】
したがって、そのような要旨を逸脱しない範囲での種々の変更を行ったものも本発明の技術的範囲に含まれるものであり、そのことは、当業者にとって特許請求の範囲の記載から明らかである。
【符号の説明】
【００８２】
１  半導体処理部
２  真空チャンバ
３  載置台
４  電極
５  商用電源
６  排気手段
６Ａ  集塵機
６Ｂ  排気配管
６Ｃ  開閉弁
１０  ガス気化供給システム
１１  液体気化供給部
１２  キャリアガス供給部
２１  逆止弁
２２  第１流路
２２Ａ  第１自動弁
２２Ｂ  第４自動弁
２３  第２流路
２３Ａ  第２自動弁
２４  第３流路
２４Ａ  第３自動弁
３０  本体部
３１  側面
３２  上面
３３  流入口
３３Ａ  溝部
３４  貫通孔
３５  ネジ螺合部
３５Ａ  ネジ
３６  接続部
３７  流出口
３７Ａ  上流側孔部
３７Ｂ  下流側孔部
３８  流路
３９Ａ  外ネジ部
３９Ｂ  ナット
Ａ、Ａ１〜Ａ７  ベースブロック
Ａ１  金属継手
Ａ７ａ  第１流路開口
Ａ７ａａ  キャリアガス導入部
Ｂ  流体用パーツ
Ｂ１  自動弁
Ｂ２  マスフローコントローラ
Ｂ２ａ  入出力ポート
Ｂ３  圧力計
Ｂ４  減圧弁
Ｂ５  パーティクルフィルタ
Ｂ６  手動弁
ｄ１、ｄ２  直径
ＦＬ  フェルール
ＦＬ１  フロントリング
ＦＬ２  バックリング
ＦＰ  平行面
ＬＩ  材料
ＬＴ  液体タンク
Ｍ  モニタ
Ｐ  位置
ＰＩ  配管
Ｓ  側面
ＳＷ  半導体ウェハ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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