(57)【要約】【課題】基板の姿勢を適切に維持することが可能な露光装置および基板処理装置を提供する。【解決手段】基板が載置される載置板が、一対の支持軸１５２により支持される。各支持軸１５２の下端部は、固定部材１５２ａにより連結部材３１０にそれぞれ固定される。これにより、一対の支持軸１５２が互いに連結される。連結部材３１０は、駆動機構１５３により昇降される。支持板３３１の一面上には、一対のガイドレール３４０がそれぞれ上下方向に延びるように設けられる。一対のガイドレール３４０に沿ってそれぞれ上下方向に直線的に移動可能に、連結部材３１０に一対の移動部材３４５が設けられる。【選択図】図４
2018200420.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を収容する処理室と、
前記処理室内に向けて下方に真空紫外線を照射可能に設けられた光源部と、
前記処理室内でかつ前記光源部の下方で基板が載置される載置部と、
前記処理室内への基板の搬入および前記処理室外への基板の搬出の際に前記載置部が第１の位置にあり、前記光源部による基板への真空紫外線の照射の際に前記載置部が前記第１の位置よりも上方の第２の位置にあるように、前記載置部を昇降させる昇降部とを備え、
前記昇降部は、
前記載置部を支持する複数の支持軸と、
前記複数の支持軸を互いに連結する連結部材と、
前記連結部材を昇降させる昇降駆動機構と、
上下方向に延びる案内部材と、
前記案内部材に沿って上下方向に移動可能に前記連結部材に設けられる移動部とを含む、露光装置。
【請求項２】
前記昇降駆動機構は、
上下方向に延びるねじ軸と、
前記ねじ軸を回転させる回転駆動部と、
前記ねじ軸の回転により上下方向に移動するように前記ねじ軸に取り付けられるねじ移動部材とを含み、
前記連結部材は、前記ねじ移動部材と一体的に上下方向に移動するように構成される、請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記回転駆動部は、前記ねじ軸と平行に延びる回転軸を有し、
前記昇降駆動機構は、
前記ねじ軸と一体的に回転する第１のプーリと、
前記回転軸と一体的に回転する第２のプーリと、
前記第１のプーリの外周面と前記第２のプーリの外周面とに巻き掛けられるベルトとを含む、請求項２記載の露光装置。
【請求項４】
前記載置部が前記第１の位置にあるときに前記載置部を冷却するように前記処理室に設けられる冷却部をさらに備える、請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記載置部は下面を有し、
前記冷却部は、前記載置部の下面に接触する接触面を有する、請求項４記載の露光装置。
【請求項６】
前記冷却部から上方に延びる複数の支持ピンをさらに備え、
前記載置部は、基板が載置される上面を有し、
前記複数の支持ピンの各々の上端は前記第１の位置にある前記載置部の前記上面よりも高くかつ前記第２の位置にある前記載置部の前記上面よりも低く、
前記載置部は、前記複数の支持ピンが通過可能な複数の貫通孔を有し、
前記複数の支持ピンは、前記載置部が前記第１の位置にあるときに前記載置部の前記複数の貫通孔を貫通する、請求項４または５記載の露光装置。
【請求項７】
前記光源部を支持する第１の架台と、
前記処理室を支持する第２の架台と、
前記第１の架台に対して前記第２の架台を移動させる架台移動機構とをさらに備える、請求項１〜６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記架台移動機構は、
回転操作可能な第１のハンドルと、
前記第２の架台を支持しつつ前記第２の架台と一体的に昇降可能な支持昇降部材と、
前記第１のハンドルの回転力を前記支持昇降部材に伝達することにより前記支持昇降部材を昇降させるように構成された昇降伝達機構とを含む、請求項７記載の露光装置。
【請求項９】
前記架台移動機構は、
回転操作可能な第２のハンドルと、
前記第２の架台を支持しつつ前記第２の架台と一体的に水平方向に移動可能な支持移動部材と、
前記第２のハンドルの回転力を前記支持移動部材に伝達することにより前記支持移動部材を水平方向に移動させるように構成された水平伝達機構とを含む、請求項７または８記載の露光装置。
【請求項１０】
基板に処理液を塗布することにより基板に膜を形成する塗布処理部と、
前記塗布処理部により膜が形成された基板を熱処理する熱処理部と、
前記熱処理部により熱処理された基板を露光する請求項１〜９のいずれか一項に記載の露光装置と、
前記露光装置により露光された基板に現像処理を行う現像処理部とを備える、基板処理装置。
【請求項１１】
処理液は、誘導自己組織化材料を含む、請求項１０記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板に露光処理を行う露光装置およびそれを備えた基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、基板に形成されるパターンを微細化するために、ブロック共重合体の誘導自己組織化（ＤＳＡ：Directed Self Assembly）を利用したフォトリソグラフィ技術の開発が進められている。このようなフォトリソグラフィ技術においては、ブロック重合体が塗布された基板に加熱処理が施された後、基板の一面が露光されることによりブロック重合体が改質される。この処理においては、基板の露光量を正確に調整することが求められる。
【０００３】
特許文献１には、基板上の誘導自己組織化材料を含む膜（ＤＳＡ膜）に露光処理を行う露光装置が記載されている。露光装置は、断面帯状の真空紫外線を出射可能な光出射部を有し、基板が光出射部からの真空紫外線の経路を横切るように光出射部の前方位置から後方位置に移動可能に構成される。露光処理前に、真空紫外線の照度が照度センサにより予め検出され、所望の露光量の真空紫外線が照射されるように、検出された照度に基づいて基板の移動速度が算出される。露光処理時に、基板が算出された移動速度で移動することにより、所望の露光量の真空紫外線が基板上のＤＳＡ膜に照射される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１６−１８３９９０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記の露光装置において、光照射部に対する基板の姿勢が適切でないと、基板の全面に均一に真空紫外線を照射することができない。したがって、基板の処理精度を高めるためには、基板の姿勢を適切に維持する必要がある。
【０００６】
本発明の目的は、基板の姿勢を適切に維持することが可能な露光装置および基板処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
（１）本発明に係る露光装置は、基板を収容する処理室と、処理室内に向けて下方に真空紫外線を照射可能に設けられた光源部と、処理室内でかつ光源部の下方で基板が載置される載置部と、処理室内への基板の搬入および処理室外への基板の搬出の際に載置部が第１の位置にあり、光源部による基板への真空紫外線の照射の際に載置部が第１の位置よりも上方の第２の位置にあるように、載置部を昇降させる昇降部とを備え、昇降部は、載置部を支持する複数の支持軸と、複数の支持軸を互いに連結する連結部材と、連結部材を昇降させる昇降駆動機構と、上下方向に延びる案内部材と、案内部材に沿って上下方向に移動可能に連結部材に設けられる移動部とを含む。
【０００８】
この露光装置においては、載置部が第１の位置にあるときに、処理室内への基板の搬入および処理室外への基板の搬出が行われ、載置部が第２の位置にあるときに、光源部により載置部上の基板に真空紫外線が照射される。載置部は複数の支持軸によって支持され、その複数の支持軸を連結する連結部材が昇降駆動機構によって昇降されることにより、載置部が第１の位置と第２の位置との間で昇降される。
【０００９】
この場合、複数の支持軸によって載置部が支持され、かつ複数の支持軸が一体的に昇降されるので、１つの支持軸のみによって載置部が支持される場合、あるいは複数の支持軸がそれぞれ個別に昇降される場合に比べて、載置部の姿勢を安定に維持することができる。また、連結部材に設けられた移動部材が案内部材に沿って上下方向に移動するので、連結部材の上下方向の移動が補助され、載置部が安定的に昇降する。それにより、光源部に対する基板の姿勢を適切に維持することができ、真空紫外線による基板の処理精度を高めることができる。
【００１０】
（２）昇降駆動機構は、上下方向に延びるねじ軸と、ねじ軸を回転させる回転駆動部と、ねじ軸の回転により上下方向に移動するようにねじ軸に取り付けられるねじ移動部材とを含み、連結部材は、ねじ移動部材と一体的に上下方向に移動するように構成されてもよい。この場合、簡単な構成で連結部材を昇降させることができる。
【００１１】
（３）回転駆動部は、ねじ軸と平行に延びる回転軸を有し、昇降駆動機構は、ねじ軸と一体的に回転する第１のプーリと、回転軸と一体的に回転する第２のプーリと、第１のプーリの外周面と第２のプーリの外周面とに巻き掛けられるベルトとを含んでもよい。
【００１２】
この場合、ねじ軸が回転駆動部に直接的に接続される場合に比べて、回転駆動部の配置の自由度が高くなる。これにより、昇降駆動機構のコンパクト化が可能となる。
【００１３】
（４）露光装置は、載置部が第１の位置にあるときに載置部を冷却するように処理室に設けられる冷却部をさらに備えてもよい。この場合、冷却された載置部上に基板が載置されるので、真空紫外線の照射時における基板の温度上昇が抑制される。そのため、真空紫外線の照射後の基板を処理室から即座に搬出することができる。
【００１４】
（５）載置部は下面を有し、冷却部は、載置部の下面に接触する接触面を有してもよい。この場合、載置部と冷却部とが面接触するので、載置部を効率良く冷却することができる。
【００１５】
（６）露光装置は、冷却部から上方に延びる複数の支持ピンをさらに備え、載置部は、基板が載置される上面を有し、複数の支持ピンの各々の上端は第１の位置にある載置部の上面よりも高くかつ第２の位置にある載置部の上面よりも低く、載置部は、複数の支持ピンが通過可能な複数の貫通孔を有し、複数の支持ピンは、載置部が第１の位置にあるときに載置部の複数の貫通孔を貫通してもよい。
【００１６】
この場合、載置部が第１の位置にある状態で、処理室内に搬入された基板が複数の支持ピン上に載置され、載置部が第１の位置から第２の位置に上昇されることにより、支持ピンから載置部に基板が渡される。また、載置部が第２の位置から第１の位置に下降されることにより、載置部から複数の支持ピン上に基板が渡され、複数の支持ピン上から処理室外に基板が搬出される。このようにして、処理室内への基板の搬入および処理室外への基板の搬出を容易に行うことができる。
【００１７】
（７）光源部を支持する第１の架台と、処理室を支持する第２の架台と、第１の架台に対して第２の架台を移動させる架台移動機構とをさらに備えてもよい。
【００１８】
この場合、光源部が処理室と別個に支持されるので、光源部の重量が大きい場合であっても、光源部の設置が容易となる。また、第１の架台に対して第２の架台を移動させることにより、光源部に対して処理室を位置決めすることができる。それにより、光源部と処理室との位置関係を精度良く調整することができる。
【００１９】
（８）架台移動機構は、回転操作可能な第１のハンドルと、第２の架台を支持しつつ第２の架台と一体的に昇降可能な支持昇降部材と、第１のハンドルの回転力を支持昇降部材に伝達することにより支持昇降部材を昇降させるように構成された昇降伝達機構とを含んでもよい。
【００２０】
この場合、作業者が第１のハンドルの回転操作を行うことにより支持昇降部材が昇降し、それに伴い第２の架台が昇降する。それにより、処理室の上下方向の位置決めを容易に行うことができる。
【００２１】
（９）位置決め機構は、回転操作可能な第２のハンドルと、第２の架台を支持しつつ第２の架台と一体的に水平方向に移動可能な支持移動部材と、第２のハンドルの回転力を支持移動部材に伝達することにより支持移動部材を水平方向に移動させるように構成された水平伝達機構とを含んでもよい。
【００２２】
この場合、作業者が第２のハンドルの回転操作を行うことにより支持移動部材が水平移動し、それに伴い第２の架台が水平移動する。それにより、処理室の水平方向の位置決めを容易に行うことができる。
【００２３】
（１０）本発明に係る基板処理装置は、基板に処理液を塗布することにより基板に膜を形成する塗布処理部と、塗布処理部により膜が形成された基板を熱処理する熱処理部と、熱処理部により熱処理された基板を露光する上記の露光装置と、露光装置により露光された基板に現像処理を行う現像処理部とを備える。
【００２４】
この基板処理装置においては、塗布処理部により基板に膜が形成された後、熱処理部により基板に熱処理が行われる。熱処理部により熱処理された基板が上記の露光装置により露光され、露光後の基板に現像処理部により現像処理が行われる。この場合、露光装置において、光源部に対する基板の姿勢を適切に維持することができ、真空紫外線による基板の処理精度を高めることができる。
【００２５】
（１１）処理液は、誘導自己組織化材料を含んでもよい。この場合、熱処理部による熱処理によって基板上でミクロ相分離が生じる。また、露光装置による露光処理および現像処理部による現像処理により、複数種類の重合体のうち不要な重合体が基板から除去され、基板上に微細なパターンが形成される。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、光源部に対する基板の姿勢を適切に維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る露光装置の構成を示す模式的断面図である。
【図２】照度計の配置を説明するための模式図である。
【図３】載置板と支持軸との連結位置について説明するための模式的平面図である。
【図４】駆動機構の構成例を示す模式的側面図である。
【図５】駆動機構の構成例を示す模式的側面図である。
【図６】駆動機構の外観斜視図である。
【図７】冷却部の構成例を示す模式的断面図である。
【図８】制御部の構成を示す機能ブロック図である。
【図９】露光装置の動作を説明するための模式図である。
【図１０】露光装置の動作を説明するための模式図である。
【図１１】露光装置の動作を説明するための模式図である。
【図１２】露光装置の動作を説明するための模式図である。
【図１３】制御部により行われる露光処理の一例を示すフローチャートである。
【図１４】制御部により行われる露光処理の一例を示すフローチャートである。
【図１５】露光装置の変形例を示す外観斜視図である。
【図１６】位置決め機構の外観斜視図である。
【図１７】水平駆動機構の構成を示す図である。
【図１８】上下駆動機構の構成を示す図である。
【図１９】ボールねじ機構およびその周辺部の断面図である。
【図２０】ステージの下面側における水平駆動機構および上下駆動機構の配置を示す図である。
【図２１】露光装置を備えた基板処理装置の全体構成を示す模式的ブロック図である。
【図２２】基板処理装置による基板の処理の一例を示す模式図である。
【図２３】支持軸および連結部材の他の例を示す模式的平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
（１）露光装置の構成
以下、本発明の実施の形態に係る露光装置について図面を用いて説明する。以下の説明において、基板とは、半導体基板、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板またはフォトマスク用基板等をいう。
【００２９】
図１は、本発明の実施の形態に係る露光装置の構成を示す模式的断面図である。図１に示すように、露光装置１００は、制御部１１０、処理室１２０、閉塞部１３０、投光部１６０、置換部１７０および昇降部３００を備える。制御部１１０は、処理室１２０、閉塞部１３０、投光部１６０、置換部１７０および昇降部３００の動作を制御する。制御部１１０の機能については後述する。
【００３０】
処理室１２０は、上部開口および内部空間を有する筐体１２１、環状部材１２２および被覆部材１２３を含む。筐体１２１の側面には、筐体１２１の内部と外部との間で処理対象の基板Ｗを搬送するための搬送開口１２１ａが形成される。なお、本実施の形態においては、処理対象の基板Ｗには、誘導自己組織化材料を含む膜（以下、ＤＳＡ（Directed Self Assembly）膜と呼ぶ。）が形成されている。また、筐体１２１の底面には、後述する一対の支持軸１５２がそれぞれ通過する一対の開口部１２１ｂが形成される。
【００３１】
後述する投光部１６０のハウジング１６１が環状部材１２２を介して筐体１２１の上部に配置されることにより、筐体１２１の上部開口が閉塞される。筐体１２１と環状部材１２２との間、および環状部材１２２とハウジング１６１との間には、それぞれシール部材ｓ１，ｓ２が取り付けられる。また、環状部材１２２の外周面を覆うように筐体１２１とハウジング１６１との間に被覆部材１２３が取り付けられる。
【００３２】
閉塞部１３０は、シャッタ１３１、棒形状の連結部材１３２および駆動装置１３３を含む。連結部材１３２は、シャッタ１３１と駆動装置１３３とを連結する。駆動装置１３３は、例えばステッピングモータである。駆動装置１３３は、シャッタ１３１が搬送開口１２１ａを開放する開放位置と、シャッタ１３１が搬送開口１２１ａを閉塞する閉塞位置との間でシャッタ１３１を移動させる。
【００３３】
シャッタ１３１には、シール部材１３１ａが取り付けられる。シャッタ１３１が閉塞位置にある状態においては、シール部材１３１ａが筐体１２１における搬送開口１２１ａを取り囲む部分に密着することにより筐体１２１の内部が密閉される。なお、シール部材１３１ａと筐体１２１との摩擦を防止するため、駆動装置１３３は、シャッタ１３１を開放位置と閉塞位置との間で移動させる際には、シャッタ１３１を筐体１２１から離間させた状態で上下方向に移動させる。
【００３４】
駆動装置１３３には、シャッタ１３１の上限位置および下限位置をそれぞれ検出する位置センサ１３３ａ，１３３ｂが取り付けられる。位置センサ１３３ａ，１３３ｂは、検出結果を制御部１１０に与える。本実施の形態においては、駆動装置１３３および後述する駆動機構１５３は、処理室１２０の外に設けられる。そのため、駆動装置１３３および駆動機構１５３の駆動により塵埃が発生する場合でも、筐体１２１内に塵埃が直接侵入することが防止される。
【００３５】
処理室１２０の筐体１２１内に、受渡部１４０、載置板１５１および計測部１８０が設けられる。受渡部１４０は、例えば円板形状の冷却部１４１および複数（本例では３個）の支持ピン１４２を含む。冷却部１４１は、筐体１２１内に水平姿勢で配置される。冷却部１４１には、後述する一対の支持軸１５２がそれぞれ通過する一対の開口部１４１ａが形成される。冷却部１４１の詳細については後述する。複数の支持ピン１４２は、冷却部１４１の上面から上方に延びる。複数の支持ピン１４２の上端部に、処理対象の基板Ｗを載置することができる。
【００３６】
載置板１５１は、筐体１２１内において、冷却部１４１の上方に水平姿勢で配置される。載置板１５１には、冷却部１４１上の複数の支持ピン１４２にそれぞれ対応する複数の貫通孔１５１ａが形成される。載置板１５１は、昇降部３００によって昇降されることにより、載置板１５１は、複数の支持ピン１４２の上端部よりも上方の処理位置と、複数の支持ピン１４２の上端部よりも下方の待機位置とに移動される。
【００３７】
昇降部３００は、一対の支持軸１５２、連結部材３１０および駆動機構１５３を含む。一対の支持軸１５２は筐体１２１の一対の開口部１２１ｂおよび冷却部１４１の一対の開口部１４１ａを通して上下方向に延びるように配置される。一対の支持軸１５２の上端部に載置板１５１が固定される。支持軸１５２の外周面と開口部１２１ｂの内周面との間には、支持軸１５２が上下方向に摺動可能にシール部材ｓ３が配置される。筐体１２１の下方において、一対の支持軸１５２は連結部材３１０により連結される。連結部材３１０および駆動機構１５３の詳細については後述する。
【００３８】
載置板１５１が待機位置にある状態では、複数の支持ピン１４２が複数の貫通孔１５１ａにそれぞれ挿通される。また、載置板１５１が待機位置にある状態で、載置板１５１が冷却部１４１により冷却される。
【００３９】
計測部１８０は、酸素濃度計１８１、オゾン濃度計１８２および照度計１８３を含む。酸素濃度計１８１、オゾン濃度計１８２および照度計１８３は、筐体１２１に設けられた接続ポートｐ１，ｐ２，ｐ３をそれぞれ通して制御部１１０に接続される。酸素濃度計１８１は、例えばガルバニ電池式酸素センサまたはジルコニア式酸素センサであり、筐体１２１内の酸素濃度を計測する。オゾン濃度計１８２は、筐体１２１内のオゾン濃度を計測する。
【００４０】
照度計１８３は、フォトダイオード等の受光素子を含み、受光素子の受光面に照射される真空紫外線の照度を計測する。ここで、照度とは、受光面の単位面積当たりに照射される真空紫外線の仕事率である。照度の単位は、例えば「Ｗ／ｍ２」で表される。本実施の形態においては、照度計１８３は、受光素子の受光面が基板Ｗの被処理面と略同一の高さに位置するように載置板１５１に取り付けられる。
【００４１】
投光部１６０は、下部開口および内部空間を有するハウジング１６１、透光板１６２、光源部１６３および電源装置１６４を含む。本実施の形態では、透光板１６２は石英ガラス板である。透光板１６２の材料として、後述する真空紫外線を透過する他の材料が用いられてもよい。上記のように、ハウジング１６１は、筐体１２１の上部開口を閉塞するように筐体１２１の上部に配置される。透光板１６２は、ハウジング１６１の下部開口を閉塞するようにハウジング１６１に取り付けられる。筐体１２１の内部空間とハウジング１６１の内部空間とは、透光板１６２により光学的にアクセス可能に隔てられる。
【００４２】
光源部１６３および電源装置１６４は、ハウジング１６１内に収容される。本実施の形態においては、波長約１２０ｎｍ以上約２３０ｎｍ以下の真空紫外線を出射する複数の棒形状の光源が所定の間隔で水平に配列されることにより光源部１６３が構成される。各光源は、例えばキセノンエキシマランプであってもよいし、他のエキシマランプまたは重水素ランプ等であってもよい。光源部１６３は、透光板１６２を通して筐体１２１内に略均一な光量分布を有する真空紫外線を出射する。光源部１６３における真空紫外線の出射面の面積は、基板Ｗの被処理面の面積よりも大きい。電源装置１６４は、光源部１６３に電力を供給する。
【００４３】
筐体１２１内において、透光板１６２の下方に遮光部材１９１が設けられる。遮光部材１９１は、図示しない駆動装置によって遮光位置と非遮光位置との間で移動される。遮光部材１９１は、遮光位置において、光源部１６３から照度計１８３に照射される真空紫外線を遮光し、非遮光位置において、光源部１６３から照度計１８３に照射される真空紫外線を遮光しない。図１においては、遮光部材１９１が遮光位置にある。
【００４４】
置換部１７０は、配管１７１ｐ，１７２ｐ，１７３ｐ、バルブ１７１ｖ，１７２ｖおよび吸引装置１７３を含む。配管１７１ｐ，１７２ｐは筐体１２１の給気口と不活性ガスの供給源との間に接続される。本実施の形態では、不活性ガスは窒素ガスである。配管１７１ｐ，１７２ｐにはバルブ１７１ｖ，１７２ｖが介挿される。
【００４５】
配管１７１ｐを通して冷却部１４１の側方から筐体１２１内に不活性ガスが供給される。配管１７２ｐを通して冷却部１４１の下方から筐体１２１内に不活性ガスが供給される。不活性ガスの流量は、バルブ１７１ｖ，１７２ｖにより調整される。
【００４６】
配管１７３ｐは、枝管１７３ａと枝管１７３ｂとに分岐する。枝管１７３ａは筐体１２１の排気口に接続され、枝管１７３ｂの端部は筐体１２１とシャッタ１３１との間に配置される。配管１７３ｐには、吸引装置１７３が介挿される。枝管１７３ｂにはバルブ１７３ｖが介挿される。吸引装置１７３は、例えばエジャクタである。配管１７３ｐは、排気設備に接続される。吸引装置１７３は、筐体１２１内の雰囲気を枝管１７３ａおよび配管１７３ｐを通して排出する。また、吸引装置１７３は、筐体１２１とシャッタ１３１との間の雰囲気をシャッタ１３１の移動により発生する塵埃等とともに枝管１７３ｂおよび配管１７３ｐを通して排出する。吸引装置１７３により排出された気体は、排気設備により無害化される。
【００４７】
図２は、照度計１８３の配置を説明するための模式図である。図２に示すように、透光板１６２は矩形状を有し、基板Ｗは円形状を有する。そのため、透光板１６２の角部近傍は、平面視において、処理位置の基板Ｗとは重ならない。載置板１５１は、平面視において、透光板１６２の中央部に重なる円形部１５１ｂと、透光板１６２の１つの角部近傍に重なる角部１５１ｃとを含む。露光処理時には、基板Ｗは円形部１５１ｂに載置される。照度計１８３は、角部１５１ｃに取り付けられる。この配置によれば、照度計１８３は、基板Ｗと干渉することなく真空紫外線の照度を計測することができる。
【００４８】
図３は、載置板１５１と支持軸１５２との連結位置について説明するための模式的平面図である。図３には、載置板１５１の円形部１５１ｂの中心ＣＴを通る直線ＤＬが示される。一対の支持軸１５２は、平面視において直線ＤＬと重なるようにそれぞれ配置される。また、平面視において、一方の支持軸１５２と中心ＣＴとの間の距離と、他方の支持軸１５２と中心ＣＴとの間の距離とは互いに等しい。この場合、一対の支持軸１５２が、中心ＣＴに関して互いに点対称の位置にある。そのため、載置板１５１を安定して支持することができる。
【００４９】
（２）昇降部の詳細
図４および図５は、図１の昇降部３００の詳細な構成例を示す模式的側面図である。図６は、昇降部３００の外観斜視図である。以下の説明では、水平面上で図３の直線ＤＬと平行な方向を幅方向と呼び、水平面上で直線ＤＬと直交する方向を前後方向と呼ぶ。
【００５０】
図４および図５の例では、筐体１２１の下面と重なるように上面部３３０が設けられ、上面部３３０から下方に一定距離離間するように底面部３３５が設けられる。上面部３３０と底面部３３５との間に駆動機構１５３が設けられる。
【００５１】
連結部材３１０は、幅方向に延びるように設けられる。各支持軸１５２の下端部が、固定部材１５２ａにより連結部材３１０にそれぞれ固定される。これにより、一対の支持軸１５２が連結部材３１０により互いに連結される。連結部材３１０の中央部には、貫通孔３１１が形成される。
【００５２】
駆動機構１５３は、ボールねじ機構３２０、駆動装置３６０（図５）、およびベルト３６５（図５）を含む。ボールねじ機構３２０は、ねじ軸３２１およびナット３２２を含む。ねじ軸３２１は、ねじ部３２１ａおよび取付部３２１ｂを含み、ねじ部３２１ａの上端部と取付部３２１ｂの下端部とが連結されている。ねじ部３２１ａの外周面にはねじ山が形成されている。ナット３２２は連結部材３１０の貫通孔３１１に取り付けられおり、ねじ軸３２１のねじ部３２１ａがナット３２２に挿入される。ねじ軸３２１のねじ山とナット３２２のねじ山との間で図示しない複数のボールが転がり運動を行う。
【００５３】
底面部３３５から上方に延びるように支持板３３１が設けられる。支持板３３１の一面は、連結部材３１０に対向する。支持板３３１の一面上に、一対のガイドレール３４０が幅方向に並ぶように設けられる。一対のガイドレール３４０は、それぞれ上下方向に延びる。
【００５４】
連結部材３１０には、一対の移動部材３４５がそれぞれ固定される。一対の移動部材３４５は、一対のガイドレール３４０に沿ってそれぞれ上下方向に直線的に移動可能に設けられる。具体的には、各移動部材３４５に上下方向に延びる溝部が形成されており、その溝部にガイドレール３４０が嵌め込まれる。移動部材３４５の溝部とガイドレール３４０との間に、転がり運動を行う複数のボールが配置されてもよい。
【００５５】
図５に示すように、支持板３３１の上端部から前後方向に延びるように支持板３３２が設けられる。支持板３３２は、連結板３３３，３３４を介して上面部３３０に連結される。図４に示すように、支持板３３２には、円筒状の軸受け部材３３６が取り付けられる。ねじ軸３２１の取付部３２１ｂは、支持板３３２の下方から軸受け部材３３６に挿入される。支持板３３２の上面側において、ねじ軸３２１の取付部３２１ｂには円環状の固定部材３２３および円環状のプーリ３５０ａが固定される。固定部材３２３が軸受け部材３３６上で係止されることにより、ねじ軸３２１が支持板３３２に対して回転可能に支持される。
【００５６】
図５に示すように、駆動装置３６０は、支持板３３１を挟んでボールねじ機構３２０と前後方向に並ぶように設けられる。駆動装置３６０の上端部は、支持板３３２に取り付けられる。駆動装置３６０は、上方に突出する回転軸３６１を有し、回転軸３６１にプーリ３５０ｂが固定される。回転軸３６１とねじ軸３２１とは互いに平行であり、これらの上端部に取り付けられるプーリ３５０ａ，３５０ｂに無端のベルト３６５が巻き掛けられる。駆動装置３６０は、回転軸３６１をプーリ３５０ｂとともに回転させる。
【００５７】
図６においては、連結板３３３，３３４が透過的に示されている。連結板３３４には孔部３３４ａが形成される。ベルト３６５は、孔部３３４ａを通って前後方向に延びる。駆動装置３６０の回転軸３６１の回転は、ベルト３６５によってねじ軸３２１に伝達される。ねじ軸３２１の回転に伴い、連結部材３１０に取り付けられたナット３２２がねじ軸３２１の外周面上で上下方向に移動する。これにより、連結部材３１０が一対の支持軸１５２とともに昇降する。この場合、連結部材３１０に固定された一対の移動部材３４５がガイドレール３４０に沿ってそれぞれ上下方向に直線的に移動する。これにより、連結部材３１０が水平姿勢を維持して上下方向に安定的に移動する。その結果、図１の載置板１５１は、水平姿勢を維持して安定的に待機位置と処理位置との間で昇降する。
【００５８】
（３）冷却部
図７は、冷却部１４１の構成例を示す模式的断面図である。図７の冷却部１４１は、略円板形状の冷却板１４６および伝熱シート１４８を含む。冷却板１４６は、アルミニウム等の金属からなる。冷却板１４６の内部には冷却路１４７が形成されている。冷却路１４７は、例えば、冷却板１４６内でスパイラル状に延びる。冷却路１４７を通して冷却媒体（例えば、恒温水）が循環されることにより、冷却板１４６が冷却される。伝熱シート１４８は、非金属でかつ高い熱伝導性を有する材料（例えばシリコン）からなり、冷却板１４６の上面を覆うように設けられる。開口部１４１ａは、冷却板１４６に形成された開口１４６ａおよび伝熱シート１４８に形成された開口１４８ａを含む。
【００５９】
伝熱シート１４８の上面が、接触面に相当する。図１の載置板１５１が待機位置にある場合、載置板１５１の下面が伝熱シート１４８の上面に接触する。
【００６０】
図１の載置板１５１および図７の冷却板１４６がともに金属からなる場合、これらが直接的に接触すると、いわゆるメタルタッチによりパーティクルが発生しやすい。それに対して、冷却板１４６上に伝熱シート１４８が設けられることにより、載置板１５１が冷却板１４６と直接的に接触することが防止される。その結果、メタルタッチによるパーティクルの発生が防止される。
【００６１】
載置板１５１および冷却板１４６のうち少なくとも一方が非金属からなる場合、あるいはパーティクルの発生に対して他の対策が講じられている場合には、伝熱シート１４８が設けられず、載置板１５１の下面が冷却板１４６の上面に直接的に接触されてもよい。
【００６２】
（４）露光装置の概略動作
図１の露光装置１００においては、光源部１６３から基板Ｗに真空紫外線が照射されることにより露光処理が行われる。しかしながら、筐体１２１内の酸素濃度が高い場合、酸素分子が真空紫外線を吸収して酸素原子に分離するとともに、分離した酸素原子が他の酸素分子と再結合することによりオゾンが発生する。この場合、基板Ｗに到達する真空紫外線が減衰する。真空紫外線の減衰は、約２３０ｎｍよりも長い波長の紫外線の減衰に比べて大きい。
【００６３】
そこで、露光処理の前に、筐体１２１内の雰囲気が置換部１７０により不活性ガスに置換される。これにより、筐体１２１内の酸素濃度が低減する。酸素濃度計１８１により計測される酸素濃度が予め定められた濃度まで低減した場合に、光源部１６３から基板Ｗに真空紫外線が照射される。ここで、予め定められた濃度は、光源部１６３により出射される真空紫外線によってはオゾンが発生しない酸素濃度（例えば１％）であることが好ましい。
【００６４】
基板Ｗ上での真空紫外線の露光量が予め定められた設定露光量に到達した場合、真空紫外線の照射が停止され、露光処理が終了する。ここで、露光量とは、露光処理時に基板Ｗの被処理面の単位面積当たりに照射される真空紫外線のエネルギーである。露光量の単位は、例えば「Ｊ／ｍ２」で表される。真空紫外線の露光量は、照度計１８３により計測される真空紫外線の照度の積算により取得される。
【００６５】
上記の露光処理において、真空紫外線が基板Ｗに照射されることにより基板Ｗが加熱される。この場合において、基板Ｗの温度が所定の温度（例えば５０度）以上に上昇すると、基板Ｗを処理室１２０から搬出することができず、基板Ｗの温度が所定の温度未満に低下するまで待機する必要がある。そのため、基板Ｗの露光処理の効率が低下する。
【００６６】
本実施の形態においては、露光処理前に載置板１５１が待機位置に移動され、冷却部１４１と接触することにより予め冷却される。露光処理時に、基板Ｗが載置板１５１に載置されるとともに載置板１５１が処理位置に移動され、基板Ｗが光源部１６３に近接した状態で基板Ｗに真空紫外線が照射される。この場合、基板Ｗが冷却された載置板１５１に載置されているので、基板Ｗの温度が所定の温度以上に上昇することが防止される。それにより、基板Ｗの温度を低下させるために基板Ｗを待機させなくてもよい。
【００６７】
また、本実施の形態では、昇降部３００によって載置板１５１が水平姿勢を維持して安定的に昇降されるので、載置板１５１の下面の全体が冷却部１４１の上面（伝熱シート１４８の上面）に接触する。それにより、載置板１５１の全体が十分に冷却されるため、載置板１５１上に載置される基板Ｗの温度上昇が十分に抑制される。
【００６８】
上記のように、本実施の形態においては、照度計１８３が、受光素子の受光面が基板Ｗの被処理面と略同一の高さに位置するように載置板１５１上に設けられる。したがって、基板Ｗと光源部１６３との間に残存する酸素分子により真空紫外線が部分的に吸収されて減衰する場合でも、基板Ｗの被処理面と照度計１８３の受光面とに略同程度の真空紫外線が到達することとなる。そのため、照度計１８３により計測される照度が、基板Ｗの被処理面に照射される真空紫外線の照度とほぼ等しくなる。
【００６９】
また、本実施の形態では、昇降部３００によって載置板１５１が水平姿勢を維持して安定的に昇降されるので、光源部１６３における真空紫外線の出射面と載置板１５１とが平行に維持される。そのため、基板Ｗの被処理面における照度と照度計１８３により計測される照度との間に誤差が生じることが防止される。これらにより、基板Ｗに到達する真空紫外線の照度を簡単な構成で正確に計測することができる。
【００７０】
一方で、照度計１８３に真空紫外線を長期間照射し続けると、照度計１８３が劣化しやすくなり、照度計１８３の寿命が低下する。また、照度計１８３の校正等の保守作業を行う頻度が増加する。本実施の形態においては、露光処理中に、遮光部材１９１が遮光位置と非遮光位置との間で移動する。この場合、照度計１８３に真空紫外線が断続的に照射され、照度計１８３に真空紫外線が連続的に照射される場合に比べて照度計１８３の劣化の速度が低下する。これにより、照度計１８３が長寿命化する。また、照度計１８３の保守作業の頻度を低減することができる。なお、遮光部材１９１が遮光位置にある期間の真空紫外線の照度が、その前後の期間の照度に基づいて補間されることが好ましい。
【００７１】
（５）制御部
図８は、図１の制御部１１０の構成を示す機能ブロック図である。図８に示すように、制御部１１０は、閉塞制御部１、昇降制御部２、排気制御部３、給気制御部４、濃度取得部５、濃度比較部６、照度取得部７、露光量算出部８、露光量比較部９および投光制御部１０を含む。
【００７２】
制御部１１０は、例えばＣＰＵ（中央演算処理装置）およびメモリにより構成される。制御部１１０のメモリには、制御プログラムが予め記憶されている。制御部１１０のＣＰＵがメモリに記憶された制御プログラムを実行することにより、制御部１１０の各部の機能が実現される。
【００７３】
閉塞制御部１は、図１の位置センサ１３３ａ，１３３ｂの検出結果に基づいて、シャッタ１３１が閉塞位置と開放位置との間で移動するように駆動装置１３３を制御する。昇降制御部２は、載置板１５１が待機位置と処理位置との間で移動するように図５の駆動装置３６０を制御する。
【００７４】
排気制御部３は、図１の筐体１２１内の雰囲気および筐体１２１とシャッタ１３１との間の雰囲気を排気するように吸引装置１７３およびバルブ１７３ｖを制御する。給気制御部４は、筐体１２１内に不活性ガスを供給するように図１のバルブ１７１ｖ，１７２ｖを制御する。
【００７５】
濃度取得部５は、図１の酸素濃度計１８１により計測された酸素濃度の値を取得する。濃度比較部６は、濃度取得部５により計測された酸素濃度と、予め定められた濃度とを比較する。
【００７６】
照度取得部７は、図１の照度計１８３により計測された真空紫外線の照度の値を取得する。露光量算出部８は、照度取得部７により取得された真空紫外線の照度と、図１の光源部１６３から基板Ｗへの真空紫外線の照射時間とに基づいて基板Ｗに照射される真空紫外線の露光量を算出する。露光量比較部９は、露光量算出部８により算出された露光量と予め定められた設定露光量とを比較する。
【００７７】
投光制御部１０は、濃度比較部６による比較結果に基づいて光源部１６３が真空紫外線を出射するように図１の電源装置１６４から光源部１６３への電力の供給を制御する。また、投光制御部１０は、露光量比較部９による比較結果に基づいて光源部１６３が真空紫外線の出射を停止するように電源装置１６４を制御する。
【００７８】
（６）露光処理
図９〜図１２は、露光装置１００の動作を説明するための模式図である。図９〜図１２においては、一部の構成要素の図示が省略されるとともに、筐体１２１およびハウジング１６１が一点鎖線で示される。図１３および図１４は、図８の制御部１１０により行われる露光処理の一例を示すフローチャートである。以下、図９〜図１２を参照しながら制御部１１０による露光処理を説明する。
【００７９】
図９に示すように、露光処理の初期状態においては、シャッタ１３１が閉塞位置にあり、載置板１５１が待機位置にある。そのため、載置板１５１の下面と冷却部１４１の上面（伝熱シート１４８の上面）とが接触する。これにより、載置板１５１が冷却部１４１により予め冷却される。また、筐体１２１内の酸素濃度は、酸素濃度計１８１により常時または定期的に計測され、濃度取得部５により取得されている。この時点においては、酸素濃度計１８１により計測される筐体１２１内の酸素濃度は大気中の酸素濃度に等しい。
【００８０】
まず、閉塞制御部１は、図１０に示すように、シャッタ１３１を開放位置に移動させる（ステップＳ１）。これにより、搬送開口１２１ａを通して処理対象の基板Ｗを複数の支持ピン１４２の上端に載置することができる。本例では、後述する図２１の搬送装置２２０により基板Ｗが複数の支持ピン１４２の上端に載置される。
【００８１】
次に、昇降制御部２は、基板Ｗが複数の支持ピン１４２の上端に載置されたか否かを判定する（ステップＳ２）。基板Ｗが載置されていない場合、昇降制御部２は、基板Ｗが複数の支持ピン１４２の上端に載置されるまで待機する。基板Ｗが載置された場合、昇降制御部２は、図１１に示すように、シャッタ１３１を閉塞位置に移動させる（ステップＳ３）。
【００８２】
続いて、排気制御部３は、図１の吸引装置１７３により筐体１２１内の雰囲気を排出させる（ステップＳ４）。また、給気制御部４は、図１の配管１７１ｐ，１７２ｐを通して筐体１２１内に不活性ガスを供給させる（ステップＳ５）。ステップＳ４，Ｓ５の処理は、いずれが先に開始されてもよいし、同時に開始されてもよい。
【００８３】
その後、濃度比較部６は、筐体１２１内の酸素濃度が所定濃度まで低下したか否かを判定する（ステップＳ６）。酸素濃度が所定濃度まで低下していない場合、濃度比較部６は、酸素濃度が所定濃度まで低下するまで待機する。酸素濃度が所定濃度まで低下した場合、投光制御部１０は、光源部１６３により真空紫外線を出射させる（ステップＳ７）。
【００８４】
次に、昇降制御部２は、図１２に示すように、載置板１５１を処理位置に移動させる（ステップＳ８）。これにより、基板Ｗが複数の支持ピン１４２から載置板１５１に受け渡される。この場合、基板Ｗは、載置板１５１により冷却されつつ透光板１６２に近接される。この状態で、光源部１６３から透光板１６２を通して真空紫外線が基板Ｗに照射され、被処理面に形成されたＤＳＡ膜が露光される。
【００８５】
本実施の形態では、昇降部３００によって載置板１５１が水平姿勢を維持して安定的に処理位置に移動される。それにより、図１の光源部１６３における真空紫外線の出射面と載置板１５１上の基板Ｗの被処理面とが平行に維持される。したがって、光源部１６３から基板Ｗの被処理面に均一に真空紫外線が照射される。その結果、ＤＳＡ膜の露光処理の精度が高められる。
【００８６】
ここで、照度取得部７は、照度計１８３に真空紫外線の照度の計測を開始させ、計測された照度を照度計１８３から取得する（ステップＳ９）。露光量算出部８は、照度取得部７により取得される真空紫外線の照度を積算することにより基板Ｗに照射される真空紫外線の露光量を算出する（ステップＳ１０）。
【００８７】
続いて、露光量比較部９は、露光量算出部８により算出された露光量が設定露光量に到達したか否かを判定する（ステップＳ１１）。露光量が設定露光量に到達していない場合、露光量比較部９は、露光量が設定露光量に到達するまで待機する。
【００８８】
露光量が設定露光量に到達した場合、昇降制御部２は、図１１に示すように、載置板１５１を待機位置に移動させる（ステップＳ１２）。これにより、基板Ｗが載置板１５１から複数の支持ピン１４２に受け渡される。また、載置板１５１の下面と冷却部１４１の上面（伝熱シート１４８の上面）とが接触する。これにより、載置板１５１は、次に露光装置１００に搬入される基板Ｗの露光処理に備えて冷却管１４３ａにより予め冷却されることとなる。
【００８９】
次に、投光制御部１０は、光源部１６３からの真空紫外線の出射を停止させる（ステップＳ１３）。また、照度取得部７は、照度計１８３による照度の計測を停止させる（ステップＳ１４）。続いて、排気制御部３は、吸引装置１７３による筐体１２１内の雰囲気の排出を停止させる（ステップＳ１５）。また、給気制御部４は、配管１７１ｐ，１７２ｐからの筐体１２１内への不活性ガスの供給を停止させる（ステップＳ１６）。ステップＳ１３〜Ｓ１６の処理は、いずれが先に開始されてもよいし、同時に開始されてもよい。
【００９０】
その後、閉塞制御部１は、図１０に示すように、シャッタ１３１を開放位置に移動させる（ステップＳ１７）。これにより、搬送開口１２１ａを通して露光後の基板Ｗを複数の支持ピン１４２上から筐体１２１の外部へ搬出することができる。本例では、後述する図２１の搬送装置２２０により基板Ｗが複数の支持ピン１４２上から筐体１２１の外部へ搬出される。
【００９１】
次に、閉塞制御部１は、基板Ｗが複数の支持ピン１４２上から搬出されたか否かを判定する（ステップＳ１８）。基板Ｗが搬出されていない場合、閉塞制御部１は、基板Ｗが複数の支持ピン１４２上から搬出されるまで待機する。基板Ｗが搬出された場合、閉塞制御部１は、図９に示すように、シャッタ１３１を閉塞位置に移動させ（ステップＳ１９）、露光処理を終了する。上記の動作が繰り返されることにより、複数の基板Ｗに露光処理を順次行うことができる。
【００９２】
上記の露光処理においては、載置板１５１が処理位置に移動される前に光源部１６３から基板Ｗに真空紫外線が照射される。この場合、載置板１５１が待機位置から処理位置へ移動する過程においても基板Ｗに真空紫外線が照射される。そのため、基板Ｗの露光がより短時間で終了する。これにより、基板Ｗの露光処理の効率をより向上させることができる。
【００９３】
一方で、筐体１２１内の酸素濃度を低下させつつ載置板１５１を処理位置に移動させ、酸素濃度が所定濃度まで低下しかつ載置板１５１が処理位置に到達した後に光源部１６３から基板Ｗに真空紫外線が照射されてもよい。この場合、基板Ｗの露光がより短時間で終了する。
【００９４】
また、上記の露光処理においては、基板Ｗの露光量が設定露光量に到達した後に載置板１５１が処理位置から待機位置に移動するが、本発明はこれに限定されない。基板Ｗの露光量が設定露光量に到達する前に載置板１５１が処理位置から待機位置に移動してもよい。この場合、基板Ｗの露光量が設定露光量に到達した後、より早い時点で基板Ｗを処理室１２０から搬出することができる。
【００９５】
（７）露光装置の変形例
図１５は、露光装置１００の変形例を示す外観斜視図である。図１５の露光装置１００について、図１の露光装置１００と異なる点を説明する。図１５の露光装置１００は、架台４００，４５０および位置決め機構５００を含む。
【００９６】
架台４００は、矩形の底面部４０５、４本の支柱４１０および矩形の上部枠４１５を含む。底面部４０５の上面の四隅から４本の支柱４１０がそれぞれ上方に延びる。これらの支柱４１０の上端部に上部枠４１５が固定される。上部枠４１５上に投光部１６０が載置される。これにより、投光部１６０が架台４００によって単独で支持される。
【００９７】
架台４５０は、矩形の底面部４５５、４本の支柱４６０および矩形の上面部４６５を含む。底面部４５５は、後述の昇降板５５０上に設けられる。底面部４５５の上面の四隅から４本の支柱４６０がそれぞれ上方に延びる。これらの支柱４６０の上端部に上面部４６５が固定される。底面部４５５は、図４の底面部３３５に相当し、上面部４６５は、図４の上面部３３０に相当する。上面部４６５上に処理室１２０の筐体１２１が載置され、図４〜図６の駆動機構１５３が、底面部４５５と上面部４６５との間に設けられる。駆動機構１５３に加えて、図１の閉塞部１３０の駆動装置１３３が、底面部４５５と上面部４６５との間に設けられてもよい。
【００９８】
位置決め機構５００は、架台４００の底面部４０５と架台４５０の底面部４５５との間に設けられる。位置決め機構５００は、架台４００に対して架台４５０を水平方向および上下方向に移動させる。これにより、投光部１６０に対して処理室１２０を位置決めすることができる。
【００９９】
投光部１６０が単独で大きい重量を有する場合、投光部１６０を他の要素（処理室１２０および昇降部３００等）とともに取り扱うことは困難である。本例では、架台４００によって投光部１６０が単独で支持されるので、投光部１６０を他の要素とは別個に搬送および設置することができる。それにより、投光部１６０および他の要素をそれぞれ容易に設置することができ、かつ投光部１６０および他の要素のメンテナンスも行いやすくなる。また、位置決め機構５００により投光部１６０に対して処理室１２０を位置決めすることができるので、投光部１６０と処理室１２０との位置関係を精度良く調整することができる。それにより、基板Ｗの処理精度を高めることができる。特に、投光部１６０の光源部１６３における真空紫外線の出射面と処理室１２０内の載置板１５１との平行度を高く維持することができる。それにより、載置板１５１上の基板Ｗに対して光源部１６３から均一に真空紫外線を照射することが可能となる。
【０１００】
位置決め機構５００の具体的な構成について説明する。図１６は、位置決め機構５００の外観斜視図である。図１６に示すように、位置決め機構５００は、水平に配置される板状のステージ５１０を含む。ステージ５１０は、矩形部５１１と、矩形部５１１の一辺から突出する突出部５１２とを有する。後述のボールねじ機構５３６および複数のリニアガイド５４５により、矩形部５１１の上方に昇降板５５０が支持される。昇降板５５０の形状および寸法は、図１５の架台４５０の底面部４５５の形状および寸法と略等しい。
【０１０１】
位置決め機構５００は、架台４５０を水平方向に移動させるための水平駆動機構５２０、ならびに架台４５０を上下方向に移動させるための上下駆動機構５３０を含む。図１７は、水平駆動機構５２０の構成を示す図である。図１７においては、ステージ５１０が透過的に示される。図１７に示すように、水平駆動機構５２０は、水平用ハンドル５２１、ボールねじ機構５２２および一対のリニアガイド５２５を含む。ボールねじ機構５２２は、ねじ軸５２３および移動部５２４を含む。ねじ軸５２３は、水平面上の一方向（以下、規定方向と呼ぶ。）に延び、一対の軸受け部５４０により回転可能に支持される。一対の軸受け部５４０は、図１５の底面部４０５の上面に設けられる。一対の軸受け部５４０の間におけるねじ軸５２３の外周面の部分にねじ山が形成されている。ねじ軸５２３の一端部に水平用ハンドル５２１が連結され、ねじ軸５２３と水平用ハンドル５２１は一体的に回転する。
【０１０２】
移動部５２４は、ステージ５１０の下面に固定されている。移動部５２４には貫通孔５２４ａが形成されており、貫通孔５２４ａの内周面にはねじ軸５２３に対応するねじ山が形成されている。移動部５２４の貫通孔５２４ａにねじ軸５２３が挿入されている。ねじ軸５２３のねじ山と移動部５２４のねじ山との間には、転がり運動を行う複数のボール（図示せず）が配置される。
【０１０３】
水平用ハンドル５２１が回転されることにより、ねじ軸５２３が回転される。ねじ軸５２３の回転に伴い、移動部５２４がねじ軸５２３の外周面上で規定方向に移動する。これにより、ステージ５１０が規定方向に移動する。
【０１０４】
各リニアガイド５２５は、ガイドレール５２６、および一対のガイド部材５２７を含む。各ガイドレール５２６は、固定部材５２８を介してステージ５１０の下面に固定される。ガイドレール５２６および固定部材５２８は、ともに規定方向に長尺状に延びる。一対のガイド部材５２７は、規定方向に並ぶように固定部材５２９を介して図１５の底面部４０５の上面に固定される。ガイドレール５２６は、一対のガイド部材５２７に対して規定方向に直線的に移動可能である。具体的には、各ガイド部材５２７に軸方向に延びる溝部が形成されており、その溝部にガイドレール５２６が嵌め込まれる。ガイドレール５２６とガイド部材５２７との間に、転がり運動を行う複数のボールが配置されてもよい。ステージ５１０の規定方向の移動は、一対のリニアガイド５２５によって補助される。これにより、ステージ５１０が規定方向に安定的に移動する。
【０１０５】
図１８は、上下駆動機構５３０の構成を示す図である。図１８に示すように、上下駆動機構５３０は、上下用ハンドル５３１、ギア５３２，５３３、プーリ５３５、ボールねじ機構５３６、プーリ５３７、ベルト５３８および複数（本例では４つ）のリニアガイド５４５を含む。上下用ハンドル５３１にギア５３２が連結されている。上下用ハンドル５３１およびギア５３２は、水平方向の軸の周りで一体的に回転する。ギア５３３は、ステージ５１０の突出部５１２の上方に位置し、ギア５３２と噛み合わされている。プーリ５３５は、突出部５１２の下方に配置されている。ギア５３３は、突出部５１２を貫通するように上下方向に延びる連結軸５３３ａを介してプーリ５３５に連結される。ギア５３２の回転に伴い、ギア５３３、連結軸５３３ａおよびプーリ５３５は、上下方向の軸の周りで一体的に回転する。
【０１０６】
図１９は、ボールねじ機構５３６およびその周辺部の断面図である。図１９に示すように、ボールねじ機構５３６は、ねじ軸５３６ａ、ナット５３６ｂおよび円筒状の昇降部材５３６ｃを含む。ステージ５１０の矩形部５１１の略中央部に、軸受け部材５１３が取り付けられている。ねじ軸５３６ａは、軸受け部材５１３を通して上下方向に延びる。軸受け部材５１３は、ねじ軸５３６ａを回転可能に支持する。ステージ５１０の下方において、ねじ軸５３６ａの下端部にプーリ５３７が取り付けられる。ステージ５１０の上方において、ねじ軸５３６ａにナット５３６ｂが取り付けられる。ねじ軸５３６ａのねじ山とナット５３６ｂのねじ山との間には、転がり運動を行う複数のボール（図示せず）が配置される。ナット５３６ｂの外周面上に昇降部材５３６ｃが取り付けられる。昇降部材５３６ｃの上端部は、昇降板５５０の下面に固定される。
【０１０７】
プーリ５３５およびプーリ５３７に、無端のベルト５３８が巻き掛けられる。プーリ５３５の回転は、ベルト５３８によってプーリ５３７に伝達される。プーリ５３７とともにねじ軸５３６ａが回転されることにより、ナット５３６ｂおよび昇降部材５３６ｃがねじ軸５３６ａの外周面上で上下方向に移動する。それにより、昇降板５５０が昇降されるとともに、昇降板５５０上に載置された架台４５０（図１５）が昇降される。
【０１０８】
図１８に示すように、ボールねじ機構５３６を取り囲むように、ステージ５１０の矩形部５１１の上面の四隅に４つのリニアガイド５４５がそれぞれ設けられる。各リニアガイド５４５は、上下方向に延びる支持軸５４５ａおよび円筒状のガイド部材５４５ｂを含む。支持軸５４５ａはガイド部材５４５ｂの孔部に挿入されている。ガイド部材５４５ｂはステージ５１０の上面に固定され、支持軸５４５ａの上端部は昇降板５５０（図１６）の下面に固定される。各支持軸５４５ａはガイド部材５４５ｂによって鉛直姿勢に維持される。また、昇降板５５０の昇降時に、各支持軸５４５ａはガイド部材５４５ｂによって上下方向に直線的に移動する。昇降板５５０の上下方向の移動は、複数のリニアガイド５４５によって補助される。それにより、昇降板５５０が水平姿勢に維持されるとともに上下方向に安定的に移動する。その結果、図１５の架台４５０の傾きが防止され、架台４５０が安定的に昇降される。
【０１０９】
図２０は、ステージ５１０の下面側における水平駆動機構５２０および上下駆動機構５３０の配置を示す図である。図２０に示すように、水平用ハンドル５２１と上下用ハンドル５３１とは互いに隣り合うように配置される。これにより、作業者は、大きく移動することなく水平用ハンドル５２１および上下用ハンドル５３１をそれぞれ操作することができる。したがって、投光部１６０に対する処理室１２０の位置決めを効率良く行うことができる。また、ねじ軸５２３および一対のガイドレール５２６がそれぞれ規定方向に延びるとともに、プーリ５３５，５３７が規定方向に並ぶように配置される。これにより、ステージ５１０の下方において、水平駆動機構５２０のボールねじ機構５２２および一対のリニアガイド５２５、ならびに上下駆動機構５３０のプーリ５３５，５３７およびベルト５３８がコンパクトに配置される。それにより、位置決め機構５００の大型化が抑制される。
【０１１０】
（８）基板処理装置
図２１は、図１の露光装置１００を備えた基板処理装置の全体構成を示す模式的ブロック図である。以下に説明する基板処理装置２００においては、ブロック共重合体の誘導自己組織化（ＤＳＡ）を利用した処理が行われる。具体的には、基板Ｗの被処理面上に誘導自己組織化材料を含む処理液が塗布される。その後、誘導自己組織化材料に生じるミクロ相分離により基板Ｗの被処理面上に２種類の重合体のパターンが形成される。２種類の重合体のうち一方のパターンが溶剤により除去される。
【０１１１】
誘導自己組織化材料を含む処理液をＤＳＡ液と呼ぶ。また、ミクロ相分離により基板Ｗの被処理面上に形成される２種類の重合体のパターンのうち一方を除去する処理を現像処理と呼び、現像処理に用いられる溶剤を現像液と呼ぶ。
【０１１２】
図２１に示すように、基板処理装置２００は、露光装置１００に加えて、制御装置２１０、搬送装置２２０、熱処理装置２３０、塗布装置２４０および現像装置２５０を備える。制御装置２１０は、例えばＣＰＵおよびメモリ、またはマイクロコンピュータを含み、搬送装置２２０、熱処理装置２３０、塗布装置２４０および現像装置２５０の動作を制御する。また、制御装置２１０は、図１の露光装置１００の各部を制御するための指令を図１の制御部１１０に与える。
【０１１３】
搬送装置２２０は、処理対象の基板Ｗを保持しつつその基板Ｗを露光装置１００、熱処理装置２３０、塗布装置２４０および現像装置２５０の間で搬送する。熱処理装置２３０は、塗布装置２４０による塗布処理および現像装置２５０による現像処理の前後に基板Ｗの熱処理を行う。
【０１１４】
塗布装置２４０は、基板Ｗの被処理面にＤＳＡ液を供給することにより、膜の塗布処理を行う。本実施の形態では、ＤＳＡ液として、２種類の重合体から構成されるブロック共重合体が用いられる。２種類の重合体の組み合わせとして、例えば、ポリスチレン−ポリメチルメタクリレート（ＰＳ−ＰＭＭＡ）、ポリスチレン−ポリジメチルシロキサン（ＰＳ−ＰＤＭＳ）、ポリスチレン−ポリフェロセニルジメチルシラン（ＰＳ−ＰＦＳ）、ポリスチレン−ポリエチレンオキシド（ＰＳ−ＰＥＯ）、ポリスチレン−ポリビニルピリジン（ＰＳ−ＰＶＰ）、ポリスチレン−ポリヒドロキシスチレン（ＰＳ−ＰＨＯＳＴ）、およびポリメチルメタクリレート−ポリメタクリレートポリヘドラルオリゴメリックシルスセスキオキサン（ＰＭＭＡ−ＰＭＡＰＯＳＳ）等が挙げられる。
【０１１５】
現像装置２５０は、基板Ｗの被処理面に現像液を供給することにより、膜の現像処理を行う。現像液の溶媒として、例えば、トルエン、ヘプタン、アセトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、シクロヘキサノン、酢酸、テトラヒドロフラン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）または水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）等が挙げられる。
【０１１６】
図２２は、図２１の基板処理装置２００による基板Ｗの処理の一例を示す模式図である。図２２では、処理が行われるごとに変化する基板Ｗの状態が断面図で示される。本例では、基板Ｗが基板処理装置２００に搬入される前の初期状態として、図２２（ａ）に示すように、基板Ｗの被処理面を覆うように下地層Ｌ１が形成され、下地層Ｌ１上に例えばフォトレジストからなるガイドパターンＬ２が形成されている。以下、図２１および図２２を用いて基板処理装置２００の動作を説明する。
【０１１７】
搬送装置２２０は、処理対象の基板Ｗを、熱処理装置２３０および塗布装置２４０に順に搬送する。この場合、熱処理装置２３０において、基板Ｗの温度がＤＳＡ膜の形成に適した温度に調整される。また、塗布装置２４０において、基板Ｗの被処理面にＤＳＡ液が供給され、塗布処理が行われる。それにより、図２２（ｂ）に示すように、ガイドパターンＬ２が形成されていない下地層Ｌ１上の領域に、２種類の重合体から構成されるＤＳＡ膜Ｌ３が形成される。
【０１１８】
次に、搬送装置２２０は、ＤＳＡ膜Ｌ３が形成された基板Ｗを、熱処理装置２３０および露光装置１００に順に搬送する。この場合、熱処理装置２３０において、基板Ｗの加熱処理が行われることにより、ＤＳＡ膜Ｌ３にミクロ相分離が生じる。これにより、図２２（ｃ）に示すように、一方の重合体からなるパターンＱ１および他方の重合体からなるパターンＱ２が形成される。本例では、ガイドパターンＬ２に沿うように、線状のパターンＱ１および線状のパターンＱ２が指向的に形成される。
【０１１９】
その後、熱処理装置２３０において、基板Ｗが冷却される。また、露光装置１００において、ミクロ相分離後のＤＳＡ膜Ｌ３の全体にＤＳＡ膜Ｌ３を改質させるための真空紫外線が照射され、露光処理が行われる。これにより、一方の重合体と他方の重合体との間の結合が切断され、パターンＱ１とパターンＱ２とが分離される。
【０１２０】
続いて、搬送装置２２０は、露光装置１００による露光処理後の基板Ｗを、熱処理装置２３０および現像装置２５０に順に搬送する。この場合、熱処理装置２３０において、基板Ｗが冷却される。また、現像装置２５０において、基板Ｗ上のＤＳＡ膜Ｌ３に現像液が供給され、現像処理が行われる。これにより、図２２（ｄ）に示すように、パターンＱ１が除去され、最終的に、基板Ｗ上にパターンＱ２が残存する。最後に、搬送装置２２０は、現像処理後の基板Ｗを現像装置２５０から回収する。
【０１２１】
（９）効果
本実施の形態に係る露光装置１００においては、載置板１５１が待機位置にあるときに、処理室１２０内への基板Ｗの搬入および処理室１２０外への基板Ｗの搬出が行われ、載置板１５１が処理位置にあるときに、光源部１６３により載置板１５１上の基板Ｗに真空紫外線が照射される。載置板１５１は一対の支持軸１５２によって支持され、その一対の支持軸１５２を連結する連結部材３１０が駆動機構１５３によって昇降されることにより、載置板１５１が待機位置と処理位置との間で昇降される。
【０１２２】
この場合、一対の支持軸１５２によって載置板１５１が支持され、かつ一対の支持軸１５２が一体的に昇降されるので、１つの支持軸１５２のみによって載置板１５１が支持される場合、あるいは複数の支持軸１５２がそれぞれ個別に昇降される場合に比べて、載置板１５１の姿勢を安定に維持することができる。また、連結部材３１０に設けられた移動部材３４５がガイドレール３４０に沿って上下方向に移動するので、連結部材３１０の上下方向の移動が補助され、載置板１５１が安定的に昇降する。それにより、光源部１６３に対する基板Ｗの姿勢を適切に維持することができ、真空紫外線による基板Ｗの処理精度を高めることができる。
【０１２３】
また、本実施の形態では、駆動装置３６０の回転軸３６１の回転力がプーリ３５０ｂ、ベルト３６５およびプーリ３５０ａを介してボールねじ機構３２０のねじ軸３２１に伝達される。これにより、簡単な構成で連結部材３１０を昇降させることができる。また、駆動装置３６０からねじ軸３２１に間接的に回転力が伝達されるので、ねじ軸３２１が駆動装置３６０に直接的に接続される場合に比べて、駆動装置３６０の配置の自由度が高くなる。これにより、駆動機構１５３のコンパクト化が可能となる。
【０１２４】
（１０）他の実施の形態
（ａ）上記実施の形態において、載置板１５１が一対の支持軸１５２により支持されるが、３以上の支持軸１５２により載置板１５１が支持されてもよい。図２３は、支持軸１５２および連結部材３１０の他の例を示す模式的平面図である。図２３においては、載置板１５１が一点鎖線で示される。図２３の例では、載置板１５１が３本の支持軸１５２により支持される。３本の支持軸１５２は、連結部材３１５により連結される。連結部材３１５は、連結部３１５ａ，３１５ｂ，３１５ｃを含む。連結部３１５ａは、幅方向に延びる。連結部３１５ｂ，３１５ｃは、連結部３１５ａの両端部から駆動装置３６０を挟みかつ互いに近づくように前後方向に延びる。連結部３１５ｂの一端部と連結部３１５ｃの一端部とは互いに連結される。２本の支持軸１５２の下端部が連結部３１５ａの両端部に固定され、残り１本の支持軸１５２の下端部が連結部３１５ｂと連結部３１５ｃとの連結部分に固定される。
【０１２５】
連結部３１５ａには、ボールねじ機構３２０のナット３２２および一対の移動部材３４５が取り付けられる。ナット３２２にねじ軸３２１が挿入され、移動部材３４５にガイドレール３４０が嵌め込まれる。図４〜図６の例と同様に、駆動装置３６０の回転力がねじ軸３２１に伝達されることにより、ナット３２２とともに連結部材３１５が昇降される。この場合、移動部材３４５がガイドレール３４０に沿って上下方向に移動することにより、連結部材３１５の移動が補助される。それにより、載置板１５１が安定的に昇降される。
【０１２６】
平面視において、３本の支持軸１５２は、載置板１５１の円形部１５１ｂの中心ＣＴに関して等角度間隔で配置され、かつ基板Ｗの中心ＣＴから３本の支持軸１５２までの距離は互いに等しい。このように、中心ＣＴに関して対称的に配置された３以上の支持軸１５２によって載置板１５１が支持されることにより、載置板１５１の姿勢がさらに安定しやすくなる。
【０１２７】
（ｂ）上記実施の形態において、一対のガイドレール３４０および一対の移動部材３４５が設けられるが、ガイドレール３４０および移動部材３４５の数は、これに限らない。ガイドレール３４０および移動部材３４５が１組のみ設けられてもよく、ガイドレール３４０および移動部材３４５が３組以上設けられてもよい。
【０１２８】
（ｃ）上記実施の形態において、駆動装置３６０の回転力がプーリ３５０ｂ、ベルト３６５およびプーリ３５０ａを介してボールねじ機構３２０のねじ軸３２１に伝達されるが、駆動装置３６０がねじ軸３２１を直接的に回転させてもよい。この場合、例えば、ねじ軸３２１の下端部が駆動装置３６０に直接的に接続される。
【０１２９】
（ｄ）上記実施の形態において、真空紫外線の出射面は基板Ｗの被処理面よりも大きく、基板Ｗの全面露光が行われるが、本発明はこれに限定されない。真空紫外線の出射面は基板Ｗの被処理面よりも小さくてもよい。また、真空紫外線が帯状に出射され、かつ真空紫外線の出射面と基板Ｗの被処理面とが相対的に移動されることにより基板Ｗの被処理面の全体に真空紫外線が照射される。
【０１３０】
（ｅ）上記実施の形態において、露光処理時に筐体１２１内に不活性ガスが供給されるが、本発明はこれに限定されない。露光処理時に筐体１２１内の酸素濃度が十分に低減可能である場合には、筐体１２１内に不活性ガスが供給されなくてもよい。
【０１３１】
（ｆ）上記実施の形態において、照度計１８３が載置板１５１に取り付けられるが、本発明はこれに限定されない。例えば、照度計１８３が載置板１５１とは別個に上下方向に移動可能に設けられてもよく、照度計１８３が筐体１２１内に固定的に設けられてもよい。ただし、処理位置にある載置板１５１に載置される基板Ｗの被処理面と略同じ高さに照度計１８３の受光面を配置可能であることが好ましい。
【０１３２】
（ｇ）上記実施の形態において、処理液としてＤＳＡ液が用いられるが、本発明はこれに限定されない。ＤＳＡ液とは異なる他の処理液が用いられてもよい。
【０１３３】
（１１）請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応関係
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各構成要素との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
【０１３４】
上記実施の形態においては、露光装置１００が露光装置の例であり、処理室１２０が処理室の例であり、光源部１６３が光源部の例であり、載置板１５１が載置部の例であり、昇降部３００が昇降部の例であり、待機位置が第１の位置の例であり、処理位置が第２の位置の例であり、支持軸１５２が支持軸の例であり、連結部材３１０が連結部材の例であり、駆動機構１５３が昇降駆動機構の例であり、ガイドレール３４０が案内部材の例であり、移動部材３４５が移動部の例である。
【０１３５】
また、ねじ軸３２１がねじ軸の例であり、駆動装置３６０が回転駆動部の例であり、ナット３２２が移動部材の例であり、回転軸３６１が回転軸の例であり、プーリ３５０ａが第１のプーリの例であり、プーリ３５０ｂが第２のプーリの例であり、ベルト３６５がベルトの例であり、冷却部１４１が冷却部の例であり、支持ピン１４２が支持ピンの例であり、貫通孔１５１ａが貫通孔の例であり、架台４００が第１の架台の例であり、架台４５０が第２の架台の例であり、位置決め機構５００が架台移動機構の例であり、上下用ハンドル５３１が第１のハンドルの例であり、昇降板５５０が支持昇降部材の例であり、ギア５３２，５３３、プーリ５３５、ボールねじ機構５３６、プーリ５３７およびベルト５３８が昇降伝達機構の例であり、水平用ハンドル５２１が第２のハンドルの例であり、ステージ５１０が支持移動部材の例であり、ボールねじ機構５２２が水平伝達機構の例である。
【０１３６】
また、基板処理装置２００が基板処理装置の例であり、塗布装置２４０が塗布処理部の例であり、熱処理装置２３０が熱処理部の例であり、現像装置２５０が現像処理部の例である。
【０１３７】
請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の構成要素を用いることもできる。
【符号の説明】
【０１３８】
１…閉塞制御部，２…昇降制御部，３…排気制御部，４…給気制御部，５…濃度取得部，６…濃度比較部，７…照度取得部，８…露光量算出部，９…露光量比較部，１０…投光制御部，１００…露光装置，１１０…制御部，１２０…処理室，１２１…筐体，１２１ａ…搬送開口，１２１ｂ，１４１ａ…開口部，１２２…環状部材，１２３…被覆部材，１３０…閉塞部，１３１…シャッタ，１３１ａ，ｓ１〜ｓ３…シール部材，１４０…受渡部，１４１…冷却部，１４２…支持ピン，１５１…載置板，１５１ａ…貫通孔，１５１ｂ…円形部，１５１ｃ…角部，１５２…支持軸，１５３…駆動機構，１６０…投光部，１６１…ハウジング，１６２…透光板，１６３…光源部，１６４…電源装置，１７０…置換部，１７１ｐ〜１７３ｐ…配管，１７１ｖ〜１７３ｖ…バルブ，１７３…吸引装置，１７３ａ，１７３ｂ…枝管，１８０…計測部，１８１…酸素濃度計，１８２…オゾン濃度計，１８３…照度計，２００…基板処理装置，２１０…制御装置，２２０…搬送装置，２３０…熱処理装置，２４０…塗布装置，２５０…現像装置，３００…昇降部，３１０…連結部材，３２０，５２２，５３６…ボールねじ機構，３４０…ガイドレール，３４５…移動部材，３５０ａ，３５０ｂ，５３５，５３７…プーリ，３６０…駆動装置，３６１…回転軸，３６５，５３８…ベルト，４００，４５０…架台，５００…位置決め機構，５１０…ステージ，５２０…水平駆動機構，５２１…水平用ハンドル，５２５，５４５…リニアガイド，５３１…上下用ハンドル，５３２，５３３…ギア，Ｌ１…下地層，Ｌ２…ガイドパターン，Ｌ３…ＤＳＡ膜，Ｑ１，Ｑ２…パターン，Ｗ…基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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