(57)【要約】      （修正有）【課題】基板へのパターンの転写精度を向上させるために有利な技術を提供する。【解決手段】走査露光装置１００は、原版ステージ１２と原版１１との相対位置を計測する計測部２１と、前記原版ステージ１２および基板ステージ１５の駆動を制御する制御部２２とを備える。前記基板１４の走査露光の前に前記原版ステージ１５が試験駆動され、前記試験駆動による前記原版ステージ１２と前記原版１１との相対位置の変化量が前記計測部２２を使って検出される。前記制御部２２は、前記相対位置の変化量に基づいて、走査露光における前記原版ステージ１２および前記基板ステージ１５の駆動を制御する。前記試験駆動は、前記原版ステージ１２の速度を増加させる加速駆動と、速度を減少させる減速駆動とを含む。前記減速駆動における前記原版ステージ１２の加速度の絶対値の最大値が前記加速駆動における前記原版ステージ１２の加速度の絶対値の最大値より小さい。【選択図】図１
2018081238.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版を保持する原版ステージおよび基板を保持する基板ステージを走査しながら前記基板を走査露光する走査露光装置であって、
前記原版ステージと前記原版との相対位置を計測する計測部と、
前記原版ステージおよび前記基板ステージの駆動を制御する制御部と、を備え、
前記基板の走査露光の前に前記原版ステージが試験駆動され、前記試験駆動による前記原版ステージと前記原版との相対位置の変化量が前記計測部を使って検出され、
前記制御部は、前記相対位置の変化量に基づいて、前記基板の走査露光における前記原版ステージおよび前記基板ステージの駆動を制御し、
前記試験駆動は、前記原版ステージの速度を増加させるように前記原版ステージを駆動する加速駆動と、前記原版ステージの速度を減少させるように前記原版ステージを駆動する減速駆動とを含み、
前記減速駆動における前記原版ステージの加速度の絶対値の最大値が前記加速駆動における前記原版ステージの加速度の絶対値の最大値より小さい、
ことを特徴とする走査露光装置。
【請求項２】
前記加速駆動における前記原版ステージの最大加速度が、前記基板の走査露光のために前記原版ステージを駆動する走査期間のうち前記原版ステージの速度を増加させるように前記原版ステージを駆動する加速駆動期間における前記原版ステージの最大加速度と等しい、
ことを特徴とする請求項１に記載の走査露光装置。
【請求項３】
前記加速駆動における前記原版ステージの駆動プロファイルが、前記基板の走査露光のために前記原版ステージを駆動する走査期間のうち前記原版ステージの速度を増加させるように前記原版ステージを駆動する加速駆動期間における前記原版ステージの駆動プロファイルと等しい、
ことを特徴とする請求項１に記載の走査露光装置。
【請求項４】
前記減速駆動における前記原版ステージの加速度の絶対値の最大値が、前記基板の走査露光のために前記原版ステージを駆動する走査期間のうち前記原版ステージの速度を減少させるように前記原版ステージを駆動する減速駆動期間における前記原版ステージの加速度の絶対値の最大値より小さい、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の走査露光装置。
【請求項５】
前記減速駆動における前記原版ステージの加速度の絶対値の最大値が、前記基板の走査露光のために前記原版ステージを駆動する走査期間のうち前記原版ステージの速度を減少させるように前記原版ステージを駆動する減速駆動期間における前記原版ステージの加速度の絶対値の７０％以下である、
ことを特徴とする請求項４に記載の走査露光装置。
【請求項６】
前記減速駆動における前記原版ステージの加速度の絶対値の最大値が、前記基板の走査露光のために前記原版ステージを駆動する走査期間のうち前記原版ステージの速度を減少させるように前記原版ステージを駆動する減速駆動期間における前記原版ステージの加速度の絶対値の５０％以下である、
ことを特徴とする請求項４に記載の走査露光装置。
【請求項７】
前記計測部は、前記原版ステージに設けられたマークと前記原版に設けられたマークとの相対位置を前記試験駆動の前と後とにおいて検出することによって前記相対位置の変化量を計測する、
ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の走査露光装置。
【請求項８】
前記制御部は、前記相対位置の変化量に基づいて、前記基板の走査露光における前記原版ステージおよび前記基板ステージの少なくとも一方の目標位置を補正する、
ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の走査露光装置。
【請求項９】
原版を保持する原版ステージおよび基板を保持する基板ステージを走査しながら前記基板を走査露光する走査露光装置の制御方法であって、
前記基板の走査露光の前に、前記原版ステージの試験駆動を行い、前記試験駆動による前記原版ステージと前記原版との相対位置の変化量を検出し、
前記相対位置の変化量に基づいて、前記基板の走査露光のための前記原版ステージおよび前記基板ステージの駆動を制御しながら前記基板を走査露光し、
前記試験駆動は、前記原版ステージの速度を増加させるように前記原版ステージを駆動する加速駆動と、前記加速駆動の後に前記原版ステージの速度を減少させるように前記原版ステージを駆動する減速駆動とを含み、
前記減速駆動における前記原版ステージの加速度の絶対値が前記加速駆動における前記原版ステージの加速度の絶対値より小さい、
ことを特徴とする走査露光装置の制御方法。
【請求項１０】
物品製造方法であって、
請求項１乃至８のいずれか１項に記載の走査露光装置を使って基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とする物品製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、走査露光装置およびその制御方法ならびに物品製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板にパターンを形成するための装置として走査露光装置が知られている。走査露光装置では、原版と基板とを走査しながらスリット光を使って基板を走査露光することによって基板に原版のパターンを転写する。走査露光装置では、原版は原版ステージに搭載されて高速駆動がなされるため、走査露光中の原版の位置を直接に計測することは困難である。したがって、原版を搭載した原版ステージの位置を計測することが一般的である。このため、原版が原版ステージに対してどのように載置されているかを計測によって求め、原版ステージまたは基板ステージの位置を補正することが必要である（特許文献１参照）。
【０００３】
しかしながら、近年ではスループット向上に対する要求から、走査露光において原版ステージが大きい加速度で駆動されるため、加速や減速に伴って原版を保持するための摩擦力を上回る力が生じ、原版と原版ステージとの間に位置ずれが発生しうる。このため、事前に加減速駆動を実施した後に、ずれ量を計測して、その計測結果に基づいて走査露光中に補正を行うことで転写精度を向上させる技術がある（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開2000-003855号公報
【特許文献２】特開2015-231035号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
走査露光装置では、一般に、原版ステージに対する原版のずれの計測は静止状態で行われる。このため、ずれ量の計測前に原版ステージを駆動した場合に、原版に対して最後に加わる力は減速による力となる。しかしながら、走査露光の際は加速による力が原版に加わった後に走査露光が実施される。以上の理由から、従来は、走査露光中のずれを正確に求めることが困難であり、そのため基板へのパターンの転写精度が悪かった。
本発明は、基板へのパターンの転写精度を向上させるために有利な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の１つの側面は、原版を保持する原版ステージおよび基板を保持する基板ステージを走査しながら前記基板を走査露光する走査露光装置に係り、前記走査露光装置は、前記原版ステージと前記原版との相対位置を計測する計測部と、前記原版ステージおよび前記基板ステージの駆動を制御する制御部と、を備え、前記基板の走査露光の前に前記原版ステージが試験駆動され、前記試験駆動による前記原版ステージと前記原版との相対位置の変化量が前記計測部を使って検出され、前記制御部は、前記相対位置の変化量に基づいて、前記基板の走査露光における前記原版ステージおよび前記基板ステージの駆動を制御し、前記試験駆動は、前記原版ステージの速度を増加させるように前記原版ステージを駆動する加速駆動と、前記原版ステージの速度を減少させるように前記原版ステージを駆動する減速駆動とを含み、前記減速駆動における前記原版ステージの加速度の絶対値の最大値が前記加速駆動における前記原版ステージの加速度の絶対値の最大値より小さい。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、基板へのパターンの転写精度を向上させるために有利な技術が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の一実施形態の走査露光装置の構成を示す図。
【図２】原版、原版に設けられたマーク、原版ステージ、および、原版ステージに設けられたマークを示す平面図。
【図３】走査露光のための原版ステージの駆動プロファイルを例示する図。
【図４】比較例における原版ステージの駆動プロファイルを例示する図。
【図５】本発明の一実施形態における原版ステージの駆動プロファイルを例示する図。
【図６】本発明の一実施形態の走査露光装置の制御方法を示す図。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、添付図面を参照して、本発明をその例示的な実施形態を通して説明する。なお、各図において、同一の部材ないし要素については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【００１０】
図１を参照しながら本発明の一実施形態の走査露光装置１００について説明する。走査露光装置１００は、スリットによって整形されたスリット光により基板１４を走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の露光装置である。走査露光装置１００は、照明光学系１０、原版ステージ１２、原版ステージ駆動部２３、投影光学系１３、基板ステージ１５、基板ステージ駆動部２４、原版ステージ位置計測部１７、基板ステージ位置計測部１８、相対位置計測部２１および制御部２２を含む。
【００１１】
制御部２２は、照明光学系１０、原版ステージ１２、原版ステージ駆動部２３、投影光学系１３、基板ステージ１５、基板ステージ駆動部２４、原版ステージ位置計測部１７、基板ステージ位置計測部１８、相対位置計測部２１を制御する。制御部２２は、原版１１に形成されたパターンを基板１４に転写する処理（基板１４を走査露光する処理）を制御する。制御部２２は、例えば、ＦＰＧＡ（Ｆｉｅｌｄ  Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ  Ｇａｔｅ  Ａｒｒａｙの略。）などのＰＬＤ（Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ  Ｌｏｇｉｃ  Ｄｅｖｉｃｅの略。）、又は、ＡＳＩＣ（Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ  Ｓｐｅｃｉｆｉｃ  Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔの略。）、又は、プログラムが組み込まれた汎用コンピュータ、又は、これらの全部または一部の組み合わせによって構成されうる。
【００１２】
原版ステージ位置計測部１７は、原版ステージ１２の位置を計測する。相対位置計測部（計測部）２１は、原版１１と原版ステージ１２との相対位置を計測する。相対位置計測部２１によって計測された原版１１と原版ステージ１２との相対位置は、走査露光中に原版ステージ１２および基板ステージ１５のいずれかの目標位置を補正するために用いられる。
【００１３】
照明光学系１０は、原版１１を照明する。照明光学系１０は、マスクキングブレードなどの遮光部材により、光源（不図示）から射出された光を、例えばＸ方向に長い帯状または円弧状の形状を有するスリット光に整形し、そのスリット光で原版１１の一部を照明する。原版１１および基板１４は、原版ステージ１２および基板ステージ１５によってそれぞれ保持されており、投影光学系１３を介して光学的にほぼ共役な位置（投影光学系１３の物体面および像面）にそれぞれ配置される。
【００１４】
投影光学系１３は、所定の投影倍率（例えば１／２倍や１／４倍）を有し、原版１１のパターンをスリット光により基板１４上に投影する。原版１１のパターンが投影された基板１４上の領域（スリット光が照射される領域）は、照射領域と呼ばれうる。原版ステージ１２および基板ステージ１５は、投影光学系１３の光軸方向（Ｚ方向）に直交する方向（Ｙ方向）に移動可能に構成されている。原版ステージ１２は、原版ステージ駆動部２３によって駆動され、基板ステージ１５は、基板ステージ駆動部２４によって駆動される。原版ステージ１２および基板ステージ１５は、互いに同期しながら、それぞれ原版ステージ駆動部２３および基板ステージ駆動部２４によって、投影光学系１３の投影倍率に応じた速度比で相対的に走査される。これにより、照射領域に対して基板１４がＹ方向に走査され、原版１１に形成されたパターンが基板１４上のショット領域に転写される。そして、このような走査露光を、基板ステージ１５を移動させながら、基板１４の複数のショット領域の各々について順次に行うことにより、１枚の基板１４における露光処理が完了する。
【００１５】
原版ステージ位置計測部１７は、例えばレーザ干渉計を含み、原版ステージ１２の位置を計測する。レーザ干渉計は、例えば、レーザ光を原版ステージ１２に設けられた反射板（不図示）に向けて照射し、反射板で反射されたレーザ光と基準面で反射されたレーザ光との干渉によって原版ステージ１２の変位（基準位置からの変位）を検出する。原版ステージ位置計測部１７は、当該変位に基づいて原版ステージ１２の現在位置を取得することができる。ここで、原版ステージ位置計測部１７は、レーザ光を用いたレーザ干渉計によって原版ステージ１２の位置を計測しているが、それに限られるものではなく、例えば、エンコーダによって原版ステージ１２の位置を計測してもよい。
【００１６】
相対位置計測部２１は、例えば撮像素子を含み、原版１１に設けられたマーク１１ａと原版ステージ１２に設けられたマーク１２ａとを同時または個別に検出することができる。これにより、原版１１と原版ステージ１２との相対位置が計測される。ここで、本実施形態の相対位置計測部２１は、撮像素子によってマークが検出されるが、それに限られるものではなく、例えば透過型センサによってマークが検出されてもよい。
【００１７】
図２は、原版１１、原版に設けられたマーク１１ａ、原版ステージ１２、および原版ステージ１２に設けられたマーク１２ａを示す平面図である。なお、マーク１１ａ、１２ａは、図２において重なって示されている。相対位置計測部２１は、例えば、原版１１に設けられたマーク１１ａと原版ステージ１２に設けられたマーク１２ａとの重なり度合いを検出し、原版ステージ１２に対する原版１１の相対位置を求める。
【００１８】
走査露光装置１００では、原版１１のパターンを基板１４の目標位置に正確に転写することが求められる。そのためには、走査露光中における基板ステージ１５上の基板１４に対する原版１１の相対位置を正確に制御することが重要である。そこで、走査露光装置１００では、事前に原版ステージ１２に対する原版１１の相対位置の計測が相対位置計測部２１により行わる。しかしながら、走査露光の際には、原版ステージ１２が加速駆動されるため、原版１１に力が加わり、原版ステージ１２に対する原版１１の相対位置が静止状態とは異なるものとなりうる。このため、原版ステージ位置計測部１７によって計測された原版ステージ１２の位置と事前に計測された相対位置とに基づいて得られる走査露光中の原版１１の位置は誤差を有しうる。これにより、原版１１のパターンを正確に基板１４に転写することが困難となってしまいうる。そこで、原版ステージ１２を加速駆動することによって原版ステージ１２と原版１１との相対位置のずれを再現した後に、原版ステージ１２と原版１１との相対位置の計測が相対位置計測部２１により行われうる。
【００１９】
以下、図３、図４、図５を参照しながら、原版ステージ１２と原版１１との相対位置の計測のために行われる原版ステージ１２の駆動（以下、試験駆動）について説明する。原版ステージ１２と原版１１との相対位置の計測および試験駆動は、制御部２２によって制御され、基板１４の走査露光の前に行われる。制御部２２は、原版ステージ１２と原版１１との相対位置の変化量に基づいて、基板１４の走査露光における原版ステージ１２および基板ステージ１５の駆動を制御する。
【００２０】
図３、図４、図５において、横軸は時刻を示し、縦軸は、原版ステージ１２の加速度プロファイルおよび原版ステージ１２の速度プロファイルを示す。原版ステージ１２の加速度プロファイルは、原版ステージ駆動部２３によって原版ステージ１２の駆動を制御するための原版ステージ１２の目標加速度の時間的な変化を示す。原版ステージ１２の速度プロファイルは、原版ステージ駆動部２３によって原版ステージ１２の駆動を制御するための原版ステージ１２の目標速度の時間的な変化を示す。
【００２１】
図３には、走査露光のための原版ステージ１２の駆動プロファイルが例示されている。図３に示されるように、基板の走査露光のために原版ステージ１２を駆動する走査期間６００は、加速駆動期間６０１、等速駆動期間６０２および減速駆動期間６０３を含みうる。加速駆動期間６０１は、原版ステージ１２の速度を増加させるように原版ステージ１２を駆動する期間（原版ステージ１２を走査方向に正の加速度で加速させる期間）である。等速駆動期間６０２は、原版ステージ１２を等速(即ち、加速度０)で駆動する期間である。減速駆動期間６０３は、加速駆動期間６０１および等速駆動期間６０２の後に、原版ステージ１２の速度を減少させるように原版ステージ１２を駆動する期間（原版ステージ１２を走査方向に負の加速で加速させる期間）である。通常は、等速駆動期間６０２の全部または一部において基板１４が走査露光されるが、例えば、加速駆動期間６０１の途中から走査露光が開始され、減速駆動期間６０３の途中で走査露光が終了されてもよい。
【００２２】
加速駆動期間６０１において、原版ステージ１２が等速駆動期間６０２における走査速度Ｖｓまで加速され、減速駆動期間６０３において、原版ステージ１２が等速駆動期間６０２における走査速度Ｖｓから速度０まで減速される。原版１１には、加速度プロファイルに示される加速度に相当する力（慣性力）が加わり、これによって原版ステージ１２と原版１１との相対位置が変化しうる。
【００２３】
図４には、比較例における原版ステージ１２の駆動プロファイルが示されている。図４に示される１つの比較例では、試験駆動（試験駆動期間）６１０は、加速駆動（加速駆動期間）６１１および減速駆動（減速駆動期間）６１２を含みうる。試験駆動（試験駆動期間）６１０の前に相対位置計測部２１による相対位置計測６１３が行われ、試験駆動６１０の後に相対位置計測部２１による相対位置計測６１４が行われうる。図４には示されていないが、相対位置計測６１３と試験駆動６１０との間には、相対位置計測部２１によって相対位置計測６１３が実施される位置から試験駆動６１０を開始する位置までの原版ステージ１２の移動が含まれうる。また、試験駆動６１０と相対位置計測６１４との間には、試験駆動６１０を終了した位置から相対位置計測部２１によって相対位置計測６１３が実施される位置までの原版ステージ１２の移動が含まれうる。
【００２４】
相対位置計測６１３、６１４は、原版１１のマーク１１ａと原版ステージ１２のマーク１２ａとの相対位置の計測である。以下、相対位置というときは、原版１１のマーク１１ａと原版ステージ１２のマーク１２ａとの相対位置を意味するものとする。制御部２２は、相対位置計測６１３によって得られた相対位置と相対位置計測６１４によって得られた相対位置との差分を、試験駆動６１０によって生じた相対位置の変化量として検出することができる。試験駆動６１０の減速駆動６１２における駆動プロファイルは、走査期間６００のうち加速駆動期間６０１における駆動プロファイルと同一にされうる。
【００２５】
この場合に注意すべきことは、加速駆動６１１によって相対位置が−｜ΔＲＰ｜だけ変化し、減速駆動６１２によって相対位置が＋｜ΔＲＰ｜だけ変化した場合、試験駆動６１０によって生じた相対位置の変化量が０として検出されることである。試験駆動６１０によって生じた相対位置の変化量が０として検出されると、＋｜ΔＲＰ｜は、原版ステージ１２（および基板ステージ１５）の駆動のための補正には反映されない。したがって、実際に基板１４に転写されるパターンの目標位置からのずれは、＋｜ΔＲＰ｜に投影光学系１３の投影倍率を乗じた値となる。また、加速駆動６１１によって相対位置が−｜ΔＲＰ１｜だけ変化し、減速駆動６１２によって相対位置が＋｜ΔＲＰ２｜だけ変化した場合も、走査期間６００における加速駆動期間６０１による相対位置の変化量を正しく検出することができない。
【００２６】
図５には、本発明の一実施形態における原版ステージ１２の駆動プロファイルが示されている。図５に示される実施形態では、試験駆動（試験駆動期間）６２０は、加速駆動（加速駆動期間）６２１および減速駆動（減速駆動期間）６２２を含みうる。試験駆動（試験駆動期間）６２０の前に相対位置計測部２１による相対位置計測６２３が行われ、試験駆動６２０の後に相対位置計測部２１による相対位置計測６２４が行われうる。相対位置計測６２３、６２４は、原版１１のマーク１１ａと原版ステージ１２のマーク１２ａとの相対位置の計測である。制御部２２は、相対位置計測６２３によって得られた相対位置と相対位置計測６２４によって得られた相対位置との差分を、試験駆動６２０によって生じた相対位置の変化量として検出することができる。試験駆動６２０の加速駆動６２１における駆動プロファイルは、走査期間６００のうち加速駆動期間６０１における駆動プロファイルと同一にされうる。一例において、試験駆動６２０の加速駆動６２１における原版ステージ１２の最大加速度はＡｍａｘであり、走査期間６００の加速駆動期間６０１における原版ステージ１２の最大加速度はＡｍａｘと同一である。
【００２７】
試験駆動６２０の減速駆動６２２における原版ステージ１２の加速度の絶対値｜−Ａｍａｘ’｜は、試験駆動６２０の加速駆動６２１における原版ステージ１２の加速度の絶対値の最大値｜−Ａｍａｘ｜より小さい。
【００２８】
試験駆動６２０の減速駆動６２２における原版ステージ１２の加速度の絶対値の最大値｜−Ａｍａｘ’｜は、走査期間６００のうち減速駆動期間６０３における原版ステージ１２の加速度の絶対値の最大値｜−Ａｍａｘ｜より小さい。試験駆動６２０の減速駆動６２２における原版ステージ１２の加速度の絶対値の最大値｜−Ａｍａｘ’｜は、例えば、走査期間６００のうち減速駆動期間６０３における原版ステージ１２の加速度の絶対値の最大値｜−Ａｍａｘ｜の７０％以下でありうる。あるいは、試験駆動６２０の減速駆動６２２における原版ステージ１２の加速度の絶対値の最大値｜−Ａｍａｘ’｜は、例えば、走査期間６００のうち減速駆動期間６０３における原版ステージ１２の加速度の絶対値の最大値｜−Ａｍａｘ｜の５０％以下でありうる。あるいは、試験駆動６２０の減速駆動６２２における原版ステージ１２の加速度の絶対値の最大値｜−Ａｍａｘ’｜は、例えば、走査期間６００のうち減速駆動期間６０３における原版ステージ１２の加速度の絶対値の最大値｜−Ａｍａｘ｜の３０％以下でありうる。あるいは、試験駆動６２０の減速駆動６２２における原版ステージ１２の加速度の絶対値の最大値｜−Ａｍａｘ’｜は、例えば、走査期間６００のうち減速駆動期間６０３における原版ステージ１２の加速度の絶対値の最大値｜−Ａｍａｘ｜の２０％以下でありうる。あるいは、試験駆動６２０の減速駆動６２２における原版ステージ１２の加速度の絶対値の最大値｜−Ａｍａｘ’｜は、例えば、走査期間６００のうち減速駆動期間６０３における原版ステージ１２の加速度の絶対値の最大値｜−Ａｍａｘ｜の１０％以下でありうる。
【００２９】
本実施形態によれば、減速駆動期間６０３における相対位置の変化を０または許容レベル以下に抑えることができる。したがって、加速駆動期間６０１による相対位置の変化を正確に検出することができる。制御部２２は、前述のように、相対位置計測６２３によって得られた相対位置と相対位置計測６２４によって得られた相対位置との差分を、試験駆動６２０によって生じた相対位置の変化量として検出することができる。そして、制御部２２は、試験駆動６２０によって生じた相対位置の変化量に基づいて、走査期間６００における原版ステージ１２および基板ステージ１５の目標位置を決定し、その目標位置に基づいて原版ステージ１２および基板ステージ１５を制御する。ここで、前記差分をΔｅとすると、制御部２２は、Δｅに基づいて原版ステージ１２の目標位置を補正すればよい。また、これに代えて、制御部２２は、Δｅに投影光学系１３の倍率を乗じて得られる値に基づいて基板ステージ１５の目標位置を補正してもよい。あるいは、Δｅに基づいて、基板１４の目標位置にパターンが転写されるように、原版ステージ１２および基板ステージ１５の双方の目標位置を補正してもよい。
【００３０】
一例において、図３に示す駆動プロファイルに従って原版ステージ１２を駆動した場合に、加速駆動期間６０１において原版１１の位置が元の位置（加速前の位置）から１０ｎｍ変化した。この変化量は、基板１４に転写されたパターンの位置を評価することによって得られた。また、図４に示す比較例の駆動プロファイルに従って試験駆動６１０を行った場合に、相対位置の変化量は８ｎｍとして検出された。この場合の誤差は２ｎｍである。また、図５に示す本実施形態の駆動プロファイルに従って試験駆動６２０を行った場合に、相対位置の変化量は９ｎｍとして検出された。この場合の誤差は１ｎｍであり、比較例よりも結果が良好であることを示している。
【００３１】
図６には、走査露光装置１００の制御方法が示されている。この制御方法は、制御部２２によって制御される。工程Ｓ７１０では、制御部２２は、相対位置計測部２１を用いて、原版ステージ１２と原版１１との相対位置を計測する。工程Ｓ７２０では、制御部２２は、図５に例示される駆動プロファイルに従って原版ステージ１２の試験駆動を行う。工程Ｓ７３０では、制御部２２は、相対位置計測部２１を用いて、原版ステージ１２と原版１１との相対位置を計測する。工程Ｓ７４０では、制御部２２は、工程Ｓ７１０で得た相対位置と工程Ｓ７３１０で得た相対位置との差分を求めることによって相対位置の変化量を検出する。工程Ｓ７５０では、制御部２２は、工程Ｓ７４で検出した相対位置の変化量に基づいて原版ステージ１２および基板ステージ１５の少なくとも一方の目標位置を補正する。工程Ｓ７６０では、工程Ｓ７５０で補正された目標位置に基づいて原版ステージ１２および基板ステージ１５を制御しながら基板１４の複数のショット領域を走査露光する。
【００３２】
以下、物品製造方法を説明する。本発明の一実施形態にかかる物品製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の走査露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程（基板を露光する工程）と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【００３３】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
【符号の説明】
【００３４】
１００：走査露光装置、１２：原版ステージ、１５：基板ステージ、２１：相対位置計測部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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