(57)【要約】      （修正有）【課題】隔壁によって区画された各セル内に充填された電気泳動分散液に含まれる電気泳動粒子の含有量の均一化を図り得る電気泳動表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】電気泳動表示装置の製造方法は、第１基板３１上に、電気泳動粒子と分散媒とを含む電気泳動分散液３７を充填する複数のセルに区画する隔壁３５を形成する工程と、前記電気泳動分散液を前記セルに注入する工程と、前記第１基板に第２基板を、前記隔壁と前記第２基板に設けられた封止層４２とが接触しない状態で、対向して配置させつつ、前記第１基板と前記第２基板４１とが対向する方向に、正電界と負電界とを交互に生じさせる工程とを有する。【選択図】図１５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板上に、電気泳動粒子と分散媒とを含む電気泳動分散液を充填する複数のセルに区画する隔壁を形成する工程と、
前記電気泳動分散液を前記セルに注入する工程と、
前記第１基板に第２基板を、前記隔壁と前記第２基板に設けられた封止層とが接触しない状態で、対向して配置させつつ、前記第１基板と前記第２基板とが対向する方向に、正電界と負電界とを交互に生じさせる工程とを有することを特徴とする電気泳動表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記第１基板は画素電極を備え、前記第２基板は対向電極を備え、
前記正電界と負電界とを交互に生じさせる工程において、前記画素電極と前記対向電極との間に電圧を印加する請求項１に記載の電気泳動表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記画素電極と前記対向電極との間に、正負の電圧を交互に印加する請求項２に記載の電気泳動表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記正電界と負電界とを交互に生じさせる工程において、前記隔壁と、前記封止層との間の離間距離が１μｍ以上３０μｍ以下に設定される請求項１ないし３のいずれか１項に記載の電気泳動表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記正電界と負電界とを交互に生じさせる工程の後に、前記第２基板に設けられた前記封止層に、前記隔壁を食い込ませることで、前記第１基板と前記第２基板とを接合する工程を有する請求項１ないし４のいずれか１項に記載の電気泳動表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記封止層は、前記第２基板側に位置する第１封止層と、前記電気泳動分散液側に位置する第２封止層とを有する積層体として設けられている請求項１ないし５のいずれか１項に記載の電気泳動表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記第１封止層は、平均膜厚が２．５μｍ以上２０μｍ以下である請求項６に記載の電気泳動表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記第２封止層は、平均膜厚が０．０５μｍ以上１．０μｍ以下である請求項６または７に記載の電気泳動表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気泳動表示装置の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、粒子の電気泳動を利用した電気泳動表示装置が知られており、この電気泳動表示装置は、可搬性および省電力性を有している点で優れている。
【０００３】
この電気泳動表示装置では、電気泳動粒子を含む電気泳動分散液を挟んで対向する画素電極と共通電極との間に電圧を印加して、帯電した黒粒子や白粒子等の電気泳動粒子を空間的に移動させることで表示領域に画像を形成している。電気泳動表示装置としては、例えば、対をなす画素基板と対向基板との間を隔壁によって複数の空間に区画し、各空間内に電気泳動粒子および分散媒を含む電気泳動分散液を封入した構成のものが知られている。
【０００４】
このような電気泳動表示装置は、例えば、特許文献１に記載のように、電気泳動分散液（電気泳動インク）を空間（セル）の内部に隙間なく封止するために、画素基板上に設けられた隔壁の頂部を、対向基板に接着された接着層に食い込ませて、前記セルの封止性を高めている技術が開示されている。
【０００５】
かかる構成の電気泳動表示装置は、隔壁が設けられた画素基板を用意し、その後、画素基板上の隔壁に電気泳動分散液を充填させた後に、接着層が設けられた対向基板を貼り合わせて、接着層に隔壁の頂部を食い込ませることにより製造される。
【０００６】
ところが、このような製造方法では、基板上に設けられた隔壁に電気泳動分散液が充填された状態で、接着層が設けられた対向基板を貼り合わせる際に、電気泳動分散液が接着層に接触すると、電気泳動分散液の表面張力により電気泳動分散液が接着層側に引き寄せられ、これに起因して、隔壁によって区画された各セル内に充填された電気泳動分散液内に含まれる電気泳動粒子の濃度にバラツキが生じてしまう。その結果、電気泳動表示装置の表示領域において線状の表示斑が発生することから、電気泳動表示装置の表示品質が損ねられると言う問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１３−４１０３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、隔壁によって区画された各セル内に充填された電気泳動分散液に含まれる電気泳動粒子の含有量の均一化を図り得る電気泳動表示装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
このような目的は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、下記の本発明により達成される。
【００１０】
本発明の電気泳動表示装置の製造方法は、第１基板上に、電気泳動粒子と分散媒とを含む電気泳動分散液を充填する複数のセルに区画する隔壁を形成する工程と、
前記電気泳動分散液を前記セルに注入する工程と、
前記第１基板に第２基板を、前記隔壁と前記第２基板に設けられた封止層とが接触しない状態で、対向して配置させつつ、前記第１基板と前記第２基板とが対向する方向に、正電界と負電界とを交互に生じさせる工程とを有することを特徴とする。
【００１１】
これにより、隔壁によって区画された各セル内に充填された電気泳動分散液に含まれる電気泳動粒子の含有量の均一化を図ることができる。
【００１２】
本発明の電気泳動表示装置の製造方法では、前記第１基板は画素電極を備え、前記第２基板は対向電極を備え、前記正電界と負電界とを交互に生じさせる工程において、前記画素電極と前記対向電極との間に電圧を印加することが好ましい。
【００１３】
このように、第１基板および第２基板がそれぞれ備える画素電極および対向電極を用いて、正電界および負電界を生じさせる構成とすることで、新たな装置等を用意する必要がないため、手間と時間との簡略化が図られる。
【００１４】
本発明の電気泳動表示装置の製造方法では、前記画素電極と前記対向電極との間に、正負の電圧を交互に印加することが好ましい。
【００１５】
これにより、電気泳動分散液を、正電界および負電界に交互に配置させることができる。
【００１６】
本発明の電気泳動表示装置の製造方法では、前記正電界と負電界とを交互に生じさせる工程において、前記隔壁と、前記封止層との間の離間距離が１μｍ以上３０μｍ以下に設定されることが好ましい。
【００１７】
これにより、隔壁を越えて、隣接するセル同士の間を、電気泳動分散液中に含まれる電気泳動粒子が移動し得るスペースが確保されるため、正電界および負電界における電気泳動分散液の交互の配置により、電気泳動分散液中に含まれる電気泳動粒子の含有量をより均一なものとし得る。
【００１８】
本発明の電気泳動表示装置の製造方法では、前記正電界と負電界とを交互に生じさせる工程の後に、前記第２基板に設けられた前記封止層に、前記隔壁を食い込ませることで、前記第１基板と前記第２基板とを接合する工程を有することが好ましい。
【００１９】
これにより、電気泳動分散液内に含まれる電気泳動粒子の濃度にバラツキが生じるのを的確に抑制または防止した状態で、セル毎に電気泳動分散液を封止することができる。そのため、優れた表示品質を備える電気泳動表示装置を製造することができる。
【００２０】
本発明の電気泳動表示装置の製造方法では、前記封止層は、前記第２基板側に位置する第１封止層と、前記電気泳動分散液側に位置する第２封止層とを有する積層体として設けられていることが好ましい。
【００２１】
このような積層体において、第１封止層と第２封止層との接触面のうち頂部が食い込んでいない部分と頂部とを比較した際、隔壁の頂部の方が第２基板側に位置するように食い込ませることで、電気泳動分散液が、隣接するセル同士の間で、行き来するのをより的確に抑制または防止することができる。
【００２２】
本発明の電気泳動表示装置の製造方法では、前記第１封止層は、平均膜厚が２．５μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましい。
【００２３】
これにより、積層体において、第１封止層と第２封止層との接触面のうち頂部が食い込んでいない部分と頂部とを比較した際、頂部の方が第２基板側に位置している構成に比較的容易に設定することができる。
【００２４】
本発明の電気泳動表示装置の製造方法では、前記第２封止層は、平均膜厚が０．０５μｍ以上１．０μｍ以下であることが好ましい。
【００２５】
これにより、積層体において、第１封止層と第２封止層との接触面のうち頂部が食い込んでいない部分と頂部とを比較した際、頂部の方が第２基板側に位置している構成に比較的容易に設定することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の電気泳動表示装置の製造方法を適用して製造された電気泳動表示装置が搭載された電子機器の実施形態を示す斜視図である。
【図２】本発明の電気泳動表示装置の製造方法を適用して製造された電気泳動表示装置の電気的な構成の実施形態を示す等価回路図である。
【図３】本発明の電気泳動表示装置の製造方法を適用して製造された電気泳動表示装置の構造の実施形態を示す模式平面図である。
【図４】図３に示す電気泳動表示装置のＡ−Ａ’線断面図である。
【図５】図３に示す電気泳動表示装置のうち封止層、およびシール部周辺の構造を示す模式平面図である。
【図６】図５に示す電気泳動表示装置のＢ−Ｂ’線断面図である。
【図７】図５に示す電気泳動表示装置のＣ部を拡大して示す拡大平面図である。
【図８】図６に示す電気泳動表示装置のＦ部を拡大して示す拡大断面図である。
【図９】電気泳動表示装置の製造方法を工程順に示すフローチャートである。
【図１０】本発明の電気泳動表示装置の製造方法を説明するための図である。
【図１１】本発明の電気泳動表示装置の製造方法を説明するための図である。
【図１２】本発明の電気泳動表示装置の製造方法を説明するための図である。
【図１３】本発明の電気泳動表示装置の製造方法を説明するための図である。
【図１４】本発明の電気泳動表示装置の製造方法を説明するための図である。
【図１５】本発明の電気泳動表示装置の製造方法を説明するための図である。
【図１６】本発明の電気泳動表示装置の製造方法を説明するための図である。
【図１７】本発明の電気泳動表示装置の製造方法を説明するための図である。
【図１８】本発明の電気泳動表示装置の製造方法を説明するための図である。
【図１９】本発明の電気泳動表示装置の製造方法を説明するための図である。
【図２０】画素電極および共通電極により、正負の電圧を交互に印加するパターンの一例を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、本発明の電気泳動表示装置の製造方法を添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
【００２８】
なお、以下の形態において、例えば「基板上に」と記載された場合、基板の上に接するように配置される場合、または基板の上に他の構成物を介して配置される場合、または基板の上に一部が接するように配置され、一部が他の構成物を介して配置される場合を含むものとする。
【００２９】
＜電子機器＞
まず、本発明の電気泳動表示装置の製造方法を説明するのに先立って、本発明の電気泳動表示装置の製造方法を適用して製造された電気泳動表示装置を備える電子機器について説明する。
【００３０】
図１は、本発明の電気泳動表示装置の製造方法を適用して製造された電気泳動表示装置が搭載された電子機器の実施形態を示す斜視図である。なお、使用する図面（図１および以下で示す図を含む）は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大または縮小して表示している。
【００３１】
図１に示すように、電子機器１００は、電気泳動表示装置１０と、電子機器１００を操作するためのインターフェイスとを備えている。このインターフェイスは、具体的には、例えば、操作部１１０で、スイッチ等から構成される。
【００３２】
電気泳動表示装置１０は、本発明の電気泳動表示装置の製造方法を適用して製造された電気泳動表示装置で構成され、表示領域Ｅを有するディスプレイモジュールである。表示領域Ｅは複数の画素から成り、これらの画素が電気的に制御されることで表示領域Ｅに画像が表示される。
【００３３】
なお、電気泳動表示装置１０を備えた電子機器１００として、図１に示す、電子ペーパー（ＥＰＤ：Electronic Paper Display）の他、ウォッチ、リスタブル機器、スマートフォン、タブレット端末、テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、電子新聞、ワードプロセッサ、パーソナルコンピュータ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネル等に適用することができる。
【００３４】
＜電気泳動表示装置＞
次に、かかる電子機器１００が備える電気泳動表示装置１０について説明する。
図２は、本発明の電気泳動表示装置の製造方法を適用して製造された電気泳動表示装置の電気的な構成の実施形態を示す等価回路図、図３は、本発明の電気泳動表示装置の製造方法を適用して製造された電気泳動表示装置の構造の実施形態を示す模式平面図、図４は、図３に示す電気泳動表示装置のＡ−Ａ’線断面図、図５は、図３に示す電気泳動表示装置のうち封止層、およびシール部周辺の構造を示す模式平面図、図６は、図５に示す電気泳動表示装置のＢ−Ｂ’線断面図、図７は、図５に示す電気泳動表示装置のＣ部を拡大して示す拡大平面図、図８は、図６に示す電気泳動表示装置のＦ部を拡大して示す拡大断面図である。なお、図５〜図８においては、絶縁層や配線、電極等の図示は省略する。
【００３５】
図２に示すように、電気泳動表示装置１０は、複数のデータ線１２と、複数の走査線１３とを有し、データ線１２と走査線１３とが交差する部分に画素１１が配置される。具体的には、電気泳動表示装置１０は、データ線１２と走査線１３とに沿ってマトリクス状に配置された複数の画素１１を有している。各画素１１は、画素電極２１と共通電極２２との間に配置された分散媒１５と電気泳動粒子３４とを含む電気泳動分散液を有する。
【００３６】
画素電極２１は、トランジスター１６（ＴＦＴ１６）を介してデータ線１２に接続されている。また、ＴＦＴ１６のゲート電極は、走査線１３に接続されている。なお、図２は、例示であり、必要に応じて保持容量等の他の素子が組み込まれてもよい。
【００３７】
また、図３および図４に示すように、電気泳動表示装置１０は、素子基板５１（第１基板）と、対向基板５２（第２基板）と、隔壁３５と、封止層４２と、電気泳動層３３とを有する。
【００３８】
素子基板５１が備える、例えば、透光性を有するガラス基板からなる第１基材３１上には、各画素１１に対応して画素電極２１が配置されている。
【００３９】
詳述すると、図３および図４に示すように、画素１１（画素電極２１）は、例えば、平面視でマトリクス状に形成されている。画素電極２１の材料としては、例えば、ＩＴＯ（錫を添加した酸化インジウム：Indium Tin Oxide）等の光透過性材料が用いられる。
【００４０】
第１基材３１と画素電極２１との間には、図示しない回路部が設けられており、回路部の中にＴＦＴ１６等が形成されている。ＴＦＴ１６は、図示しないコンタクト部を介して、各画素電極２１と電気的に接続されている。なお、図示しないが、回路部の中には、ＴＦＴ１６の他、各種配線（例えば、データ線１２や走査線１３等）や素子（例えば、容量素子）等が配置されている。画素電極２１上を含む第１基材３１上の全面には、第１絶縁層３２が形成されている。なお、第１絶縁層３２を設けない構成でもよい。
【００４１】
対向基板５２が備える、例えば、透光性を有するガラス基板からなる第２基材４１上（図４における分散媒１５側）には、複数の画素１１に対応して共通に設けられた共通電極２２が形成されている。共通電極２２としては、例えば、ＩＴＯ等の光透過性材料が用いられる。
【００４２】
また、対向基板５２が備える共通電極２２上（図４における分散媒１５側）には、本実施形態では、第１封止層４２ａが形成されている。さらに、第１封止層４２ａの上には、第２封止層４２ｂが形成されている。なお、第１封止層４２ａと第２封止層４２ｂとを合せて封止層４２と称する。なお、この封止層４２については、後に詳述する。
【００４３】
第１絶縁層３２と封止層４２との間には、電気泳動層３３が設けられている。
電気泳動層３３は、少なくとも１以上の電気泳動粒子３４と、電気泳動粒子３４が分散された分散媒１５とを含む電気泳動分散液３７で構成され、この電気泳動分散液３７（分散媒１５および電気泳動粒子３４）は、第１絶縁層３２と、第２封止層４２ｂと、第１基材３１上に設けられた隔壁３５（リブ）と、により仕切られた（分割された）空間（領域）であるセル３６内に充填されている。
【００４４】
隔壁３５は、図３に示すように、素子基板５１と、対向基板５２との間に介挿され、碁盤目状に形成されている。なお、隔壁３５は、透光性材料（アクリルやエポキシ樹脂等）であることが好ましい。また、隔壁３５の幅は、好ましくは３μｍ以上１０μｍ以下に設定される。
【００４５】
なお、本実施形態では、各画素１１に画素電極２１が配置され、各画素電極２１に前記隔壁３５（リブ）が配置されている構成としたが、これに限定されず、複数の画素毎（例えば２〜２０画素毎）に、隔壁（リブ）が形成されても良い。
【００４６】
また、素子基板５１と対向基板５２とを貼り合せた際、隔壁３５の上部が対向基板５２（具体的には、封止層４２）に接触することにより、隔壁３５の高さ（実際には、図６に示す額縁隔壁６１）を基準に素子基板５１と対向基板５２との間のセルギャップを決めることができる。
【００４７】
なお、以下では、隔壁３５によって囲まれた領域をセル３６と言う。一つのセル３６は、画素電極２１と、共通電極２２と、電気泳動層３３とを含む。
【００４８】
さらに、隔壁３５の高さは、この隔壁３５により区画される電気泳動層３３の厚さとほぼ等しくなり、例えば、１０μｍ以上１５０μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以上１００μｍ以下であることがより好ましく、特に好ましくは３０μｍ程度に設定される。これにより、電気泳動粒子３４の移動による白表示と黒表示とを優れたコントラストで表示することが可能となる。
【００４９】
また、本実施形態では、図４に示すように、電気泳動粒子３４として、白色粒子と黒色粒子とを示している。
【００５０】
例えば、画素電極２１と共通電極２２との間に電圧を印加すると、これらの間に生じる電界にしたがって、電気泳動粒子３４は、いずれかの電極（画素電極２１、共通電極２２）に向かって電気泳動する。例えば、白色粒子が正荷電を有する場合、画素電極２１を負電位とすると、白色粒子は、画素電極２１側（下側）に移動して集まり、黒表示となる。逆に、画素電極２１を正電位とすると、白色粒子は、共通電極２２側（上側）に移動して集まり、白表示となる。このように、表示側の電極に集合する白色粒子の有無や数等に応じて、所望の情報（画像）が表示される。なお、ここでは、電気泳動粒子３４として白色粒子や黒色粒子を用いたが、他の有色粒子を用いてもよい。
【００５１】
また、電気泳動粒子３４としては、無機顔料系の粒子、有機顔料系の粒子または高分子微粒子等を用いることができ、各種粒子を２種以上混合して用いてもよい。また、電気泳動粒子３４の平均粒子径は、例えば、０．０５μｍ以上１０μｍ以下程度のものが用いられ、好ましくは、０．２μｍ以上２μｍ以下程度のものが用いられる。
【００５２】
また、白色粒子の含有量は、分散媒１５、白色粒子および黒色粒子の全重量、すなわち電気泳動分散液に対して３０％以内であり、黒色粒子の含有量は、分散媒１５、白色粒子、黒色粒子の全重量、すなわち電気泳動分散液に対して１０％以内である。このように配分することにより、反射率が４０％以上、および黒色反射率が２％以下になり、表示性能を高くすることができる。
【００５３】
また、本実施形態では、電気泳動粒子３４を分散させた電気泳動分散液３７とするための分散媒１５として、−３０℃程度の温度でも電気泳動粒子３４の移動が可能なシリコーンオイルを用いる。シリコーンオイルの粘度は、例えば、１０ｃＰ以下である。シリコーンオイルは、低粘度溶媒であるので、例えば、−３０℃程度の低温でも、電気泳動粒子は５００ｍｓ以下の速度で電極間を泳動することができる。
【００５４】
なお、分散媒１５としては、シリコーンオイルの他、例えば、ブタノールやグリセリン等のアルコール類、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類、酢酸ブチル等のエステル類、ジブチルケトン等のケトン類、ペンタン等の脂肪族炭化水素類（流動パラフィン）、アセトニトリル等のニトリル類を用いることもできる。
【００５５】
また、図５および図６に示すように、電気泳動表示装置１０は、表示領域Ｅと、この表示領域Ｅを囲む額縁領域Ｅ１（外周領域）とを有する。この額縁領域Ｅ１には、電気泳動層３３のうち表示に寄与しない領域であるダミー画素領域Ｄと、ダミー画素領域Ｄの外側に配置された額縁隔壁６１（外周隔壁）と、額縁隔壁６１の外側に配置されたシール部１４とを含む。
【００５６】
なお、額縁領域Ｅ１の幅は、例えば、１ｍｍ程度である。また、ダミー画素領域Ｄの幅は、例えば、８０μｍである。ダミー画素領域Ｄの表示領域Ｅ側には、表示領域Ｅに配置された隔壁３５と同じ形状で形成された隔壁３５ａが設けられている隔壁のリブ幅（頂部３５’の幅）は、３μｍ以上１０μｍ以下程度であるのが好ましい。また、隣り合う隔壁と隔壁との距離は、好ましくは１００μｍ以上３００μｍ以下程度に設定される。
【００５７】
ダミー画素領域Ｄの外側には、額縁隔壁６１が設けられている。額縁隔壁６１は、分散媒１５が外側に流れ出ないように堰き止めることができると共に、セルギャップを調整するために用いられており、ダミー画素領域Ｄを囲むように配置されている。なお、額縁隔壁６１は、通常、表示領域Ｅの隔壁３５と同じ材料で構成されている。
【００５８】
額縁隔壁６１の幅Ｗ１は、好ましくは１００μｍ以上３００μｍ以下程度に設定される。また、額縁隔壁６１の厚みは、好ましくは１０μｍ以上５０μｍ以下程度の範囲に設定される。
【００５９】
なお、額縁隔壁６１は、隣接して配置される第１シール材１４ａが表示領域Ｅにはみ出さないようにするためにも用いられる。
【００６０】
シール部１４は、本実施形態では、図６に示すように、第１シール材１４ａと、第２シール材１４ｂとを有する。第１シール材１４ａは、素子基板５１と対向基板５２とを貼り合わせる際に接着するために用いられ、額縁隔壁６１を囲むように設けられている。
【００６１】
第１シール材１４ａの幅Ｗ２は、好ましくは１５０μｍ以上６００μｍ以下程度に設定される。また、第１シール材１４ａの粘度は、例えば、３０万Ｐａ・ｓ以上１００万Ｐａ・ｓ以下であり、好ましくは、４０万Ｐａ・ｓ程度である。このような粘度の第１シール材１４ａを用いることにより、素子基板５１と対向基板５２との貼り合せの際に、素子基板５１と対向基板５２との接触面積を大きく保つことができる。
【００６２】
また、第２シール材１４ｂは、素子基板５１と対向基板５２との間を封止するために用いられ、第１シール材１４ａを囲むように配置されている。
【００６３】
第２シール材１４ｂの幅Ｗ３は、好ましくは１５０μｍ以上６００μｍ以下程度に設定される。また、第２シール材１４ｂの粘度は、例えば、１００Ｐａ・ｓ以上５００Ｐａ・ｓ以下であり、好ましくは、４００Ｐａ・ｓ程度である。このような粘度の第２シール材１４ｂを用いることにより、第１シール材１４ａの周囲の素子基板５１と対向基板５２との間に、第２シール材１４ｂを入り込ませることが可能となる。そのため、第２シール材１４ｂの接着強度を向上させることができる。また、外部から第２シール材１４ｂおよび第１シール材１４ａを介して内部に水分が侵入することを抑えることが可能となり、信頼性の高いシール構造を得ることができる。
【００６４】
なお、シール部１４は、第１シール材１４ａと、第２シール材１４ｂとのように別体として設ける場合の他、第２シール材１４ｂの構成材料によっては、第１シール材１４ａを省略して、第２シール材１４ｂの単体で構成されるものであってもよい。
【００６５】
図６および図８に示すように、表示領域Ｅにおいて、対向基板５２には封止層４２が設けられ、これにより、封止層４２は、隔壁３５の頂部３５’と対向基板５２との間に配置されている。
【００６６】
これにより、封止層４２と、第１絶縁層３２と、隔壁３５（リブ）とにより区画された空間（閉空間）が形成され、この空間に分散媒１５と電気泳動粒子３４とを含む電気泳動分散液３７が充填されることで、分散媒１５および電気泳動粒子３４を含む電気泳動分散液３７が隣接するセル３６同士の間で、行き来できないようになっている。
【００６７】
この際、図６、図８に示すように、封止層４２と電気泳動層３３との接触面（第１封止層４２ａと第２封止層４２ｂとの接触面）のうち、隔壁３５と平面視で重なる部分は、隔壁３５と平面視で重ならない部分よりも断面視において第２基材４１（対向基板５２）側に位置しており、これにより、隔壁３５は、その頂部３５’が封止層４２に食い込んでいる。このように、頂部３５’を封止層４２に食い込ませることで、封止層４２と、第１絶縁層３２と、隔壁３５とにより区画された閉空間すなわちセル３６内に充填された電気泳動分散液３７が、隣接するセル３６同士の間で、行き来するのを的確に抑制または防止することができる。
【００６８】
このような封止層４２は、本実施形態では、図４でも説明したように、対向基板５２（第２基板）側から第１封止層４２ａと第２封止層４２ｂとが、この順に積層された積層体で構成されている。
【００６９】
このような積層体において、第１封止層４２ａと第２封止層４２ｂとの接触面のうち頂部３５’が食い込んでいない部分（隔壁３５と平面視で重ならない部分）と頂部３５’とを比較した際、図８に示すように頂部３５’の方が第２基材４１側に位置している。そして、隔壁３５の封止層４２への食い込み量ｔ２、すなわち第２封止層４２ｂの電気泳動層３３側の面のうち、頂部３５’が食い込んでいない部分と頂部３５’との間の距離は、例えば、１μｍ〜５μｍであることが好ましい。これにより、電気泳動分散液３７が、隣接するセル３６同士の間で、行き来するのをより的確に抑制または防止することができる。
【００７０】
また、第１封止層４２ａと第２封止層４２ｂとからなる封止層４２において、第１封止層４２ａの弾性率は、５ＭＰａ以上４０ＭＰａ以下であることが好ましい。また、第２封止層４２ｂの弾性率は、５０ＭＰａ以上１０ＧＰａ以下であることが好ましい。第１封止層４２ａと、第２封止層４２ｂとを、上記のような弾性率を有するものとすることにより、積層体、すなわち、封止層４２全体としての弾性率を、１ＭＰａ以上１００ＭＰａ以下の範囲内に容易に設定することができるとともに、隔壁３５の頂部３５’が折れ曲がったり、第２封止層４２ｂが破損することなく、隔壁３５の頂部３５’を封止層４２に食い込ませること、換言すれば、隔壁３５の頂部３５’により封止層４２を変形させることができる。
【００７１】
さらに、第１封止層４２ａの厚みは、２．５μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましく、第２封止層４２ｂの厚みは、０．０５μｍ以上１．０μｍ以下であることが好ましい。これにより、積層体において、第１封止層４２ａと第２封止層４２ｂとの接触面のうち頂部３５’が食い込んでいない部分と頂部３５’とを比較した際、図８に示すように頂部３５’の方が第２基材４１側に位置している構成に比較的容易に設定することができる。また、第１封止層４２ａと、第２封止層４２ｂとの積層体、すなわち、封止層４２全体としての弾性率を、１ＭＰａ以上１００ＭＰａ以下の範囲内に容易に設定することができる。なお、第２封止層４２ｂの厚みが０．５μｍ以下のように薄いものである場合には、第２封止層４２ｂの弾性率が１０ＧＰａ程度のように高く、第２封止層４２ｂが硬いものであったとしても、封止層４２全体としての弾性率には影響を与えないことがある。
【００７２】
なお、第１封止層４２ａと第２封止層４２ｂとの膜厚が上記のように設定される場合には、第１封止層４２ａは、第２封止層４２ｂよりも弾性率の低い材料を用いて形成されていること、すなわち、第１封止層４２ａの弾性率は、第２封止層４２ｂの弾性率よりも低いことが好ましい。これにより、隔壁３５の頂部３５’の幅を３μｍ〜１０μｍの範囲内のように細くしたとしても、頂部３５’が折れ曲がったり、第２封止層４２ｂが破損したりすることなく、隔壁３５の頂部３５’を封止層４２に食い込ませることができる。
【００７３】
また、第１封止層４２ａの体積抵抗率は、１×１０7Ω・ｃｍ以上５×１０10Ω・ｃｍ以下であることが好ましく、第２封止層４２ｂの体積抵抗率は１×１０7Ω・ｃｍ以上２×１０11Ω・ｃｍ以下であることが好ましい。第１封止層４２ａと、第２封止層４２ｂとを、上記のような体積抵抗率を有するものとすることにより、積層体、すなわち、封止層４２全体としての体積抵抗率を、１×１０7Ω・ｃｍ以上１×１０1２Ω・ｃｍ以下の範囲内に容易に設定することができることから、画素電極２１と共通電極２２との間に封止層４２が介在することに起因して、電気泳動粒子３４の移動度が低下するのを的確に抑制または防止することができる。
【００７４】
以上のような封止層４２（積層体）において、第１封止層４２ａは、第２封止層４２ｂよりも柔軟であり隔壁３５の頂部３５’が、より食い込みやすい材料が好ましく用いられ、具体的には、第１封止層４２ａの構成材料としては、例えば、ＮＢＲ（アクリロニトリル・ブタジエンゴム）、ウレタンゴム、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、スチレン・ブタジエンゴム、ヒドリンゴム、ニトリルゴム等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。中でも、ＮＢＲまたはヒドリンゴムであることが好ましい。ＮＢＲおよびヒドリンゴムによれば、その加硫条件の変更、および、第１封止層４２ａへのフィラーの添加により、第１封止層４２ａの弾性率を容易に調整することができる。したがって、頂部３５’を封止層４２に食い込ませることができる。
【００７５】
なお、第１封止層４２ａに添加するフィラーとしては、例えば、シリカ、マイカ、アルミナ、酸化チタン、窒化珪素等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００７６】
また、第２封止層４２ｂは、例えば、第１封止層４２ａが分散媒１５に溶出しないようにするための封止層として機能し得るように第２封止層４２ｂの構成材料が選択され、具体的には、第２封止層４２ｂの構成材料としては、例えば、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）の他、ポリエチレン、ポリプロピレンのような非極性ポリマー等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。中でも、ＰＶＡであることが好ましい。これらの材料（特に、ＰＶＡ）は、分散媒１５に溶出するおそれが少ないことから、電気泳動表示装置１０の不具合を好適に軽減することができる。また、ＰＶＡは、接着性が低い材料であるため、第２封止層４２ｂに電気泳動粒子３４が固着することを防止することができる。
【００７７】
なお、第２封止層４２ｂには、第２封止層４２ｂの材料を柔らかくするための添加剤が含まれていてもよい。この添加剤としては、例えば、グリセリンが挙げられる。添加剤は、ＰＶＡの固形分に対して５ｗｔ％以上５０ｗｔ％以下程度添加されることが好ましい。これにより、第２封止層４２ｂの材料として弾性率が６００ＭＰａ以上の材料を選択したとしても、第２封止層４２ｂとして好適に用いることができる。本実施形態では、第２封止層４２ｂの材料として、室温（２５℃）における弾性率が６９２ＭＰａのＰＶＡにグリセリンを添加し、室温における弾性率が７５ＭＰａとしたものが用いられている。
【００７８】
また、添加剤は、グリセリンに限定されず、例えば、ポリエチレングリコール、グリセリン、尿素、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレングリコールから選択される１種または２種以上を混合したものを用いてもよい。
【００７９】
なお、封止層４２の光線透過率は、ＰＶＡが９９％であり、ＮＢＲも９９％である。
また、封止層４２は、第１封止層４２ａと、第２封止層４２ｂとの積層体として設ける場合の他、第２封止層４２ｂの構成材料によっては、第１封止層４２ａを省略して、第２封止層４２ｂの単層で構成されるものであってもよいし、さらには、３層以上の積層体で構成されていてもよい。
【００８０】
また、封止層４２の平均膜厚ｔ１は、例えば、２．５μｍ以上３０μｍ以下程度であることが好ましく、２．５μｍ以上１０μｍ以下程度であることがより好ましい。
【００８１】
さらに、封止層４２は、その体積抵抗率が電気泳動分散液の体積抵抗率よりも低いことが好ましい。これにより、画素電極２１と共通電極２２との間に封止層４２が介在したとしても、封止層４２における抵抗値が大きくなり過ぎることに起因して、電気泳動層３３中において、電気泳動粒子３４の移動度が低下するのを的確に抑制または防止することができる。具体的には、封止層４２の体積抵抗率は、１×１０7Ω・ｃｍ以上１×１０1２Ω・ｃｍ以下であることが好ましく、１×１０８Ω・ｃｍ以上１×１０10Ω・ｃｍ以下であることがより好ましい。
【００８２】
さらに、図６および図７に示すように、封止層４２の端部は、例えば、表示領域Ｅの最外周の隔壁３５ａと額縁隔壁６１との間、つまり、ダミー画素領域Ｄの範囲に配置されている。封止層４２は、表示領域Ｅより一回り大きく、大きさにばらつきが生じたとしても、表示領域Ｅに端部が入り込まないような大きさになっている。
【００８３】
また、封止層４２を形成する材料として接着剤を用いた場合、接着剤に含まれる例えば、完全に硬化しない反応性モノマー等の不純物が分散液の中に溶出することにより、この接着剤が電気泳動分散液に含まれる電気泳動粒子３４に付着して、電気泳動粒子３４の泳動性に影響を与えるおそれがある。しかしながら、本実施形態においては、封止層４２を、第１封止層４２ａと第２封止層４２ｂとを有するものとし、電気泳動粒子３４と接触する部分に第２封止層４２ｂを配置している。そのため、このような不具合も軽減することができる。
【００８４】
また、封止層４２を、弾性率の高い材料のみで形成した場合、隔壁３５の頂部３５’の幅が狭すぎると、頂部３５’が封止層４２に食い込まず、折れ曲がるおそれがある。そうすると、隔壁３５の頂部３５’と封止層４２との間には隙間が生じ、電気泳動粒子３４が隣合うセル３６間を移動してしまうことが考えられる。しかしながら、本実施形態のように、封止層４２を第１封止層４２ａと第２封止層４２ｂとで形成し、それぞれの弾性率や膜厚を好適な範囲に設定することで、このような不具合も抑制することができる。
【００８５】
以下、かかる構成の電気泳動表示装置１０を製造するための製造方法（本発明の電気泳動表示装置の製造方法）を説明する。
【００８６】
＜電気泳動表示装置の製造方法＞
次に、上述した電気泳動表示装置１０を製造するための製造方法について説明する。
図９は、電気泳動表示装置の製造方法を工程順に示すフローチャートである。図１０〜図１９は、本発明の電気泳動表示装置の製造方法を説明するための図、図２０は、画素電極および共通電極により、正負の電圧を交互に印加するパターンの一例を示すグラフである。
【００８７】
以下、電気泳動表示装置の製造方法を、図９〜図１９を参照しながら説明する。
［１］まず、素子基板５１（第１基板）を用意し、その後、この素子基板５１上に、電気泳動分散液３７を充填するための複数のセル３６を区切る（設ける）ための隔壁３５を形成する。
【００８８】
［１−１］まず、ガラス等の透光性材料からなる第１基材３１上に、ＴＦＴ１６や、ＩＴＯ等の光透過性材料からなる画素電極２１等を形成する（ステップＳ１１）。
【００８９】
具体的には、周知の成膜技術、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いて、第１基材３１上にＴＦＴ１６および画素電極２１等を形成する。なお、以降の断面図を用いた説明においては、画素電極２１を除く、ＴＦＴ１６等の説明および図示を省略する。
【００９０】
［１−２］次いで、第１基材３１上に第１絶縁層３２を形成する（ステップＳ１２）。
第１絶縁層３２の製造方法としては、特に限定されず、例えば、第１基材３１上に絶縁性材料を、スピンコート法等を用いて塗布し、その後、絶縁性材料を乾燥させることにより形成することができる。
以上により、素子基板５１（第１基板）が完成する。
【００９１】
［１−３］次いで、図１０に示すように、素子基板５１（具体的には、第１絶縁層３２）上に隔壁３５を形成する（ステップＳ１３）。
【００９２】
より具体的には、表示領域Ｅの隔壁３５と、表示領域Ｅの最外周の隔壁３５ａと、その外側に設ける額縁隔壁６１と、を同時に形成する。
【００９３】
隔壁３５，３５ａ、額縁隔壁６１は、例えば、周知の成膜技術、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いて形成することができる。
【００９４】
このように、隔壁３５，３５ａ、額縁隔壁６１を、同じ材料で同時に形成することにより、これらを、効率よく製造することができる。
【００９５】
なお、隔壁３５は、分散媒１５に溶解しない材質からなり、その材質は有機物か無機物かは問われない。具体的に、有機物材料の例としては、ウレタン樹脂、ウレア樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、アクリルシリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレンアクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ブチラール樹脂、塩化ビニリデン樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂等が挙げられる。これらの樹脂単体または二種類以上の複合剤を使用する。
以上により、隔壁３５が設けられた素子基板５１（第１基板）が完成する。
【００９６】
［２］次に、対向基板５２を用意し、その後、この対向基板５２上に、電気泳動分散液３７をセル３６内に封止するための封止層４２を形成する。
【００９７】
［２−１］まず、第２基材４１上に共通電極２２を形成する（ステップＳ２１）。
具体的には、ガラス基板等の透光性材料からなる第２基材４１上の全面に、周知の成膜技術を用いて共通電極２２を形成する。
以上により、対向基板５２（第２基板）が完成する。
【００９８】
［２−２］次いで、共通電極２２上に封止層４２、すなわち第１封止層４２ａおよび第２封止層４２ｂを形成する（ステップＳ２２、ステップＳ２３）。
【００９９】
第１封止層４２ａおよび第２封止層４２ｂの形成方法としては、図１１に示すように、例えば、対向基板５２上にＮＢＲ（アクリロニトリル ブタジエン ゴム）をスピンコート等の塗布法で成膜し、その後、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）を同様に塗布法で成膜する。ＰＶＡには、上記したように、グリセリン等の添加剤が添加されている。
【０１００】
さらに、エッチング法を用いて、形成すべき第１封止層４２ａおよび第２封止層４２ｂの形状に対応して、ＰＶＡおよびＮＢＲをパターニングすることで、第１封止層４２ａおよび第２封止層４２ｂを得る。なお、塗布法に限定されず、印刷法を用いて形成するようにしてもよい。
以上により、封止層４２が形成された対向基板５２（第２基板）が完成する。
【０１０１】
［３］次に、図９〜図１９を参照しながら、素子基板５１と対向基板５２とを貼り合わせることで電気泳動表示装置１０を得る方法を説明する。
【０１０２】
［３−１］まず、図１２に示すように、大気中において、額縁隔壁６１の外周に第１シール材１４ａを塗布する（ステップＳ３１）。
第１シール材１４ａの材料は、例えば、比較的粘度の高い液性エポキシ樹脂であるカヤトロンである。第１シール材１４ａの粘度は、例えば、３０万Ｐａ・ｓ〜１００万Ｐａ・ｓであり、好ましくは４０万Ｐａ・ｓである。塗布したときの第１シール材１４ａの幅は、真空に耐えられる程度の幅であり、例えば、２００μｍ以上６００μｍ以下程度である。
【０１０３】
［３−２］次いで、図１３に示すように、素子基板５１上の表示領域Ｅ、すなわち、額縁隔壁６１で囲まれた領域内に、白色粒子および黒色粒子を含む電気泳動粒子３４と分散媒１５とを含有する電気泳動分散液３７を塗布する（ステップＳ３２）。
これにより、素子基板５１と隔壁３５とで区画されたセル３６内に、電気泳動分散液３７が注入される。
【０１０４】
塗布方法としては、例えば、ディスペンサーを用いる。また、ダイコーター等も適用することができる。なお、分散媒１５として、シリコーンオイルを用いる場合、このシリコーンオイルの粘度は、例えば、１０ｃＰ以下である。分散媒１５の量としては、素子基板５１と対向基板５２とを貼り合せたときに、額縁隔壁６１で囲まれた中を満たすような液量である。本実施形態において額縁隔壁６１の高さは、例えば、１５μｍ以上４５μｍ以下程度である。
【０１０５】
なお、額縁隔壁６１が形成されていることにより、第１シール材１４ａが表示領域Ｅ側に入り込んで広がることを防ぐことができる。また、第１シール材１４ａの幅が所定の幅より広がらないように規制することができる。これにより、第１シール材１４ａの強度を十分に確保することができる。
【０１０６】
［３−３］次いで、図１４に示すように、素子基板５１（第１基板）に対向基板５２（第２基板）を、隔壁３５と対向基板５２に設けられた封止層４２とが接触しない状態とする。
【０１０７】
そして、図１５、１６に示すように、素子基板５１と対向基板５２とを対向して配置させつつ、素子基板５１と対向基板５２とが対向する方向、すなわち素子基板５１の面方向に直交する方向に、正電界と負電界とを交互に生じさせる（ステップＳ３３）。
【０１０８】
ここで、本工程［３−３］における、正・負電界における電気泳動分散液３７の交互の配置を省略して、次工程［３−４］に移行して、第１シール材１４ａを介して、素子基板５１と対向基板５２とを貼り合わせることで、素子基板５１と対向基板５２との間に形成されたセル３６内に電気泳動分散液３７を封止すると、電気泳動分散液３７が対向基板５２に接触した際に、電気泳動分散液３７の表面張力により電気泳動分散液３７が対向基板５２側に引き寄せられる。そのため、これに起因して、電気泳動分散液３７に含まれる電気泳動粒子３４が対向基板５２に引き寄せられた側に偏在するため、各セル３６内に充填された電気泳動分散液３７内に含まれる電気泳動粒子３４の濃度にバラツキが生じ、その結果、電気泳動表示装置１０の表示領域において線状の表示斑が発生することから、電気泳動表示装置１０の表示品質が損ねられると言う問題があった。
【０１０９】
これに対して、本発明では、本工程［３−３］において、図１５、図１６に示すように、電気泳動分散液３７を正電界および負電界に交互に配置させることで、電気泳動分散液３７中の電気泳動粒子３４を移動させる。そのため、電気泳動分散液３７が対向基板５２に接触した際に、電気泳動分散液３７の表面張力により電気泳動分散液３７が対向基板５２側に引き寄せられたとしても、電気泳動分散液３７に含まれる電気泳動粒子３４の含有量をほぼ均一なものとすることができる。したがって、この状態で、次工程［３−４］に移行して、素子基板５１と対向基板５２との間に形成されたセル３６内に、電気泳動分散液３７を封止することで、隣接するセル３６毎に充填された電気泳動分散液３７内に含まれる電気泳動粒子３４の濃度にバラツキが生じるのを的確に抑制または防止できることから、セル３６毎における電気泳動粒子３４の含有量の均一化が図られる。そのため、電気泳動表示装置１０の表示領域における線状の表示斑の発生が的確に抑制または防止され、その結果、優れた表示品質を備える電気泳動表示装置１０を製造することができる。
【０１１０】
なお、隔壁３５と封止層４２とが接触しない状態で、素子基板５１と対向基板５２とを対向して配置させるときには、封止層４２と電気泳動分散液３７とは、接触していても、接触していなくてもよいが、図１４に示すように、接触していないことが好ましい。すなわち、封止層４２と電気泳動分散液３７との間には、エアーギャップ（空間）が形成されていることが好ましい。このように、エアーギャップを形成した状態で、素子基板５１の面方向に直交する方向に、正電界と負電界とを交互に生じさせることにより、封止層４２が電気泳動分散液３７に接触する前の状態で、電気泳動分散液３７内の電気泳動粒子３４を拡散させることができるため、セル３６毎に含まれる電気泳動粒子３４の含有量に分布ムラが生じるのをより的確に抑制または防止することができる。
【０１１１】
また、本工程［３−３］での正電界および負電界における電気泳動分散液３７の交互の配置は、本実施形態では、素子基板５１が備える画素電極２１と対向基板５２が備える共通電極２２（対向電極）との間に電圧を印加することにより実施される。このように、素子基板５１および対向基板５２がそれぞれ備える画素電極２１および共通電極２２を用いて、正電界および負電界を生じさせる構成とすることで、新たな装置等を用意する必要がないため、手間と時間との簡略化が図られる。
【０１１２】
そして、これら画素電極２１および共通電極２２を用いて、画素電極２１と共通電極２２との間に、正負の電圧を交互に印加する。これにより、電気泳動分散液３７を、正電界および負電界に交互に配置させることができる。
【０１１３】
また、画素電極２１および共通電極２２により、正負の電圧を交互に印加するパターンは、特に限定されないが、例えば、図２０に示すように、画素電極２１と共通電極２２との間に電圧＋Ｖ１が印加される第１状態とし、その後、画素電極２１と共通電極２２との間に電圧−Ｖ１が印加される第２状態とする切り替えを、繰り返して行うことが好ましい。このような第１状態と第２状態との切り替えを繰り返して実施することで、画素電極２１と共通電極２２との間に印加される正負の電圧は、矩形状をなすパルス波を示すこととなる。このようなパルス波を形成するパターンで正負の電圧を交互に印加することにより、電気泳動分散液３７に含まれる電気泳動粒子３４の含有量を、確実にほぼ均一なものとすることができる。
【０１１４】
また、パルス波で正負の電圧を交互に印加する場合、第１の状態とした後に第２の状態とする動作を繰り返す回数は、特に限定されないが、２〜２０回程度であるのが好ましく、２〜１０回程度であるのがより好ましい。これにより、前述したような効果をより顕著に発揮させることができる。
【０１１５】
また、画素電極２１と共通電極２２との間に印加する電圧Ｖ１の大きさは、電気泳動分散液３７中に含まれる電気泳動粒子３４の種類によっても若干異なり、特に限定されないが、１０Ｖ以上５５Ｖ以下程度であるのが好ましく、１５Ｖ以上３０Ｖ以下程度であるのがより好ましい。これにより、画素電極２１と共通電極２２との間に正および負の電界を生じさせて、電気泳動分散液３７中において電気泳動粒子３４を確実に移動させることができる。
【０１１６】
さらに、第１の状態とする時間ｔ１および第２の状態とする時間ｔ２は、ほぼ同一であるのが好ましく、その長さは、１ｍｓｅｃ以上３００ｍｓｅｃ以下程度であるのが好ましく、５ｍｓｅｃ以上１００ｍｓｅｃ以下程度であるのがより好ましい。これにより、電気泳動分散液３７中において、白色粒子と黒色粒子との双方の電気泳動粒子３４を確実に移動させて、電気泳動粒子３４を均一に分散させることができる。
【０１１７】
また、本工程［３−３］では、隔壁３５および隔壁３５ａ（以下、隔壁３５で代表する。）と封止層４２との間の離間距離は、特に限定されないが、１μｍ以上３０μｍ以下に設定されているのが好ましく、５μｍ以上２０μｍ以下に設定されているのがより好ましい。これにより、隔壁３５を越えて、隣接するセル３６同士の間を、電気泳動分散液３７中に含まれる電気泳動粒子３４が移動し得るスペースが確保されるため、正電界および負電界における電気泳動分散液３７の交互の配置により、電気泳動分散液３７中に含まれる電気泳動粒子３４の含有量をより均一なものとし得る。
【０１１８】
さらに、本工程［３−３］におけるセル３６内への気泡が混入することを防ぐために、本工程［３−３］および次工程［３−４］における電気泳動分散液３７の封止は、真空負圧環境下で押圧するのが好ましい。ただし、分散媒１５としてシリコーンオイルを用いた場合、シリコーンオイルは揮発性が高いので、大気圧より低い低真空の状態にする。この圧力は、具体的には、３００Ｐａ以上７００Ｐａ以下程度に設定される。
【０１１９】
［３−４］次いで、図１７に示すように、素子基板５１と対向基板５２との間に電気泳動分散液３７を封止する（第１封止；ステップＳ３４）。
【０１２０】
すなわち、低真空の状態において、第１シール材１４ａを介して、素子基板５１と対向基板５２とを貼り合わせる。
【０１２１】
このとき、封止層４２に隔壁３５の頂部３５’が食い込む（埋没する）よう、素子基板５１と対向基板５２とを接近させる。換言すれば、第１封止層４２ａと第２封止層４２ｂとの接触面のうち、隔壁３５と平面視で重なる部分と、隔壁３５と平面視で重ならない部分とを断面視で比較した際に、隔壁３５と平面視で重なる部分がそうでない部分よりも第２基材４１側に位置するまで、対向基板５２を素子基板５１に圧力Ｘを付与することで押圧していく。
【０１２２】
このとき、額縁隔壁６１が素子基板５１と対向基板５２との間のセルギャップを規定するスペーサーとしても機能する。
【０１２３】
素子基板５１に対向基板５２を押圧していくと、第１シール材１４ａが潰されると共に、分散媒１５が額縁隔壁６１および第１シール材１４ａ側に押され充填される。このとき、表示領域Ｅに設けられた隔壁３５の頂部３５’は、対向基板５２側に設けられた封止層４２に食い込むことにより、隣接するセル３６間で電気泳動分散液３７が移動することを防ぐことができ、その結果、セル３６毎に電気泳動分散液３７が封止される。
【０１２４】
以上のようにして、対向基板５２に設けられた封止層４２に、隔壁３５を食い込ませることで、素子基板５１と対向基板５２とが接合される。
【０１２５】
この際、前記工程［３−３］を経ることで、電気泳動分散液３７に含まれる電気泳動粒子３４の含有量がほぼ均一なものとなっており、この状態を維持したまま、本工程［３−４］に移行することにより、電気泳動分散液３７内に含まれる電気泳動粒子３４の濃度にバラツキが生じるのを的確に抑制または防止して、セル３６毎に電気泳動分散液３７を充填することができる。そのため、優れた表示品質を備える電気泳動表示装置１０が製造される。
【０１２６】
その後、図１８に示すように、第１シール材１４ａが紫外線硬化型樹脂であれば紫外線Ｙを照射して、第１シール材１４ａを硬化させる。また、熱硬化型樹脂であれば、加熱することにより硬化させる。
【０１２７】
素子基板５１と対向基板５２とを貼り合せたときのセルギャップは、２０μｍ以上５０μｍ以下程度であり、潰された第１シール材１４ａの幅は、例えば、２００μｍ以上５００μｍ以下である。
【０１２８】
［３−５］次いで、図１９に示すように、大気中において、第１シール材１４ａの外周に第２シール材１４ｂを塗布して接着する（第２封止；ステップＳ３５）。
これにより、素子基板５１と対向基板５２とを強固に接着固定することができる。
【０１２９】
具体的には、第２シール材１４ｂは、水分が入らず比較的低い粘度であり、隙間に入り込むことが重要であり、例えば、アクリルやエポキシ樹脂等である。なお、第２シール材１４ｂの粘度は、第１シール材１４ａの粘度よりも低く、例えば、１００Ｐａ・ｓ以上５００Ｐａ・ｓ以下であり、好ましくは、４００Ｐａ・ｓ程度である。第２シール材１４ｂの幅は、例えば、３００μｍ以上５００μｍ以下程度である。
【０１３０】
第２シール材１４ｂを塗布する方法としては、例えば、ディスペンサーやダイコーター等が用いられる。以上により、図１９に示すように、素子基板５１と対向基板５２とによって挟持された空間が封止される。その後、必要に応じて、製品の形状に切断する。
以上のような工程を経ることで、電気泳動表示装置１０が得られる。
【０１３１】
以上、本発明の電気泳動表示装置の製造方法を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明の電気泳動表示装置の製造方法を適用して製造された電気泳動表示装置は、これに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を有する任意の構成のものに置換することができる。また、本発明に他の任意の構成物が付加されていてもよい。
【０１３２】
また、前述した実施形態では、隔壁３５が格子状をなしていたが、隔壁３５の平面視形状としては、特に限定されない。例えば、ハニカム状、多角形状、丸形状、三角形状等に構成されていてもよい。
【０１３３】
また、素子基板５１側に隔壁３５や額縁隔壁６１を配置することに限定されず、対向基板５２側に隔壁３５や額縁隔壁６１を配置するようにしてもよい。
【０１３４】
また、第１基材３１および第２基材４１は、表示側に光透過性を有する材料を用いればよく、ガラス基板の他、プラスチック基板を用いるようにしてもよい。
【０１３５】
さらに、額縁隔壁６１をスペーサーとして利用することに限定されない。素子基板５１と対向基板５２との間のセルギャップを規定するために、例えば別の部材をスペーサーとして設ける場合は、額縁隔壁６１の高さは隔壁３５の高さと等しくてもよい。
【０１３６】
また、本発明の電気泳動表示装置の製造方法では、任意の目的で、工程［１］の前工程、工程［１］と［２］との間、工程［２］と［３］との間に存在する中間工程、または工程[３]の後工程を追加するようにしてもよい。
【０１３７】
さらに、隔壁３５を、フォトリソグラフィ法を用いて形成することに限定されず、例えば、ナノインプリント法やスクリーン印刷法、凸版印刷法、グラビア印刷法等の印刷プロセスで形成するようにしてもよい。
【実施例】
【０１３８】
次に、本発明の具体的実施例について説明する。
１．評価用サンプルの製造
（サンプルＮｏ．１；実施例相当）
＜１＞まず、平均厚さ０．５ｍｍのガラス基板を第１基材３１として備え、その下面側に平板電極を備えるものを用意した。次に、この第１基材３１上に、ウレタン樹脂で構成される樹脂層（３１μｍ）を形成した後、この樹脂層をエッチングすることにより、幅５μｍ・高さ３１μｍの隔壁３５を格子状に形成した。
【０１３９】
＜２＞次いで、平均厚さ０．５ｍｍのガラス基板を第２基材４１として備え、その下面側に平板電極を備えるものを用意した。次に、この第２基材４１上に、第１封止層４２ａおよび第２封止層４２ｂを成膜することで封止層４２を形成した。
【０１４０】
なお、第１封止層４２ａおよび第２封止層４２ｂの成膜は、第２基材４１上にＮＢＲをスピンコート法で成膜し、その後、ＰＶＡをスピンコート法で成膜することにより行った。なお、この際に得られた、第１封止層４２ａおよび第２封止層４２ｂの膜厚は、それぞれ、２μｍおよび０．３μｍであった。また、第１封止層４２ａの２５℃における弾性率は、１５ＭＰａであった。
【０１４１】
＜３＞次いで、第１基材３１上の隔壁３５の外周に、液性エポキシ樹脂であるカヤトロンを第１シール材１４ａとして塗布した。その後、第１基材３１と隔壁３５とで形成された凹部内に電気泳動粒子３４と、分散媒１５としてのシリコーンオイル（粘度：２ｃｐｓ）とを含有する電気泳動分散液３７を塗布することで注入した。
【０１４２】
＜４＞次いで、前記工程＜３＞において、第１基材３１と隔壁３５により形成された凹部内に電気泳動分散液が充填された第１基材３１に対して、前記工程＜２＞において、封止層４２が形成された第２基材４１を、隔壁３５と封止層４２との間の離間距離が１５μｍとなるように配置することで、隔壁３５と封止層４２とが接触せず、かつ、電気泳動分散液３７が封止層４２に接触しない状態とした。
【０１４３】
そして、この状態を維持したまま、第１基材３１および第２基材４１にそれぞれ設けられた平板電極同士の間に、矩形状をなすパルス波を示す、正負の電圧を交互に印加することで、電気泳動分散液３７を正電界および負電界に交互に配置させた。
【０１４４】
なお、平板電極同士の間に印加した電圧は、±３０Ｖであり、正負の電圧の切り替えは、合計１０回繰り返し行い、さらに、１度に正または負の電圧を印加する時間は、１００ｍｓｅｃとした。なお、この正負の電圧の印加は、５００Ｐａの真空負圧環境下で実施した。
【０１４５】
＜５＞次いで、凹部内に電気泳動分散液３７が充填された第１基材３１に対して、封止層４２が形成された第２基材４１を貼り合わせた。なお、この貼り合わせは、５００Ｐａの真空負圧環境下で、封止層４２に隔壁３５の頂部３５’が食い込むまで、素子基板５１に対向基板５２を押圧した後に、第１シール材１４ａに紫外線を照射して硬化させることにより行った。なお、封止層４２に隔壁３５の頂部３５’が食い込むことで形成された電気泳動層３３の膜厚は、３０μｍであった。
以上のような工程を経ることで、サンプルＮｏ．１の評価用サンプルを製造した。
【０１４６】
なお、第２封止層４２ｂの厚みが０．３μｍであり、第１封止層４２ａに対して第２封止層４２ｂが薄いことから、本実施例では、第２封止層４２ｂの弾性率の考慮は省略して、第１封止層４２ａの弾性率を、封止層４２全体としての弾性率として取り扱うこととする。
【０１４７】
（サンプルＮｏ．２；比較例相当）
前記工程＜４＞を省略したこと以外は、前記サンプルＮｏ．１と同様にしてサンプルＮｏ．２の評価用サンプルを製造した。
【０１４８】
２．評価
サンプルＮｏ．１の評価用サンプルについて、第１基材３１および第２基材４１から平板電極を除去した後、第１基材３１側から電気泳動分散液３７の状態を確認したところ、電気泳動分散液３７に線状の表示斑を生じることなく、隔壁３５で区画されたセル３６内に電気泳動分散液３７が充填されていた。
【０１４９】
これに対して、サンプルＮｏ．２の評価用サンプルでは、第１基材３１および第２基材４１から平板電極を除去した後、第１基材３１側から電気泳動分散液３７を確認したところ、明らかな線状の表示斑が発生した状態で、隔壁３５で区画されたセル３６内に電気泳動分散液３７が充填されていた。
【符号の説明】
【０１５０】
１０…電気泳動表示装置、１１…画素、１２…データ線、１３…走査線、１４…シール部、１４ａ…第１シール材、１４ｂ…第２シール材、１５…分散媒、１６…トランジスター、２１…画素電極、２２…共通電極、３１…第１基材、３２…第１絶縁層、３３…電気泳動層、３４…電気泳動粒子、３５…隔壁、３５'…頂部、３５ａ…隔壁、３６…セル、３７…電気泳動分散液、４１…第２基材、４２…封止層、４２ａ…第１封止層、４２ｂ…第２封止層、５１…素子基板、５２…対向基板、６１…額縁隔壁、１００…電子機器、１１０…操作部、Ｄ…ダミー画素領域、Ｅ…表示領域、Ｅ１…額縁領域、ｔ１…平均膜厚、ｔ２…食い込み量、Ｗ１…幅、Ｗ２…幅、Ｗ３…幅、Ｘ…圧力、Ｙ…紫外線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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