(57)【要約】【課題】ノズル形成面の撥液膜の劣化を抑制することが可能な払拭部材、液体噴射装置、払拭機構の払拭方法、および、液体噴射装置の制御方法を提供する。【解決手段】液体を噴射するノズル（４０）が開口したノズル形成面（２３）を有する液体噴射ヘッド（２）のノズル形成面を第１の方向に沿って払拭する繊維素材（９）を含む払拭部材であって、繊維の間隙（６４）の第１の方向における大きさの平均値をμｆ、当該間隙の大きさの標準偏差をσｆ、ノズル形成面に付着した液体の溶質が凝集してなる凝集物（６５）の第１の方向における大きさの平均値をμａ、当該凝集物の大きさの標準偏差をσａとしたとき、  μａ＋３σａ≦μｆ＋３σｆ  を満たすことを特徴とする。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を噴射するノズルが開口したノズル形成面を有する液体噴射ヘッドの前記ノズル形成面を第１の方向に沿って払拭する繊維素材を含む払拭部材であって、
繊維の間隙の前記第１の方向における大きさの平均値をμｆ、当該間隙の大きさの標準偏差をσｆ、前記ノズル形成面に付着した前記液体の溶質が凝集してなる凝集物の前記第１の方向における大きさの平均値をμａ、当該凝集物の大きさの標準偏差をσａとしたとき、
μａ＋３σａ≦μｆ＋３σｆ
を満たすことを特徴とする払拭部材。
【請求項２】
前記間隙の大きさの平均値μｆが、
μａ−２σａ≦μｆ≦μａ＋２σａ
を満たすことを特徴とする請求項１に記載の払拭部材。
【請求項３】
前記間隙の面密度が、前記ノズル形成面における前記凝集物の面密度よりも大きいことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の払拭部材。
【請求項４】
液体を噴射するノズルが開口したノズル形成面を有する液体噴射ヘッドの前記ノズル形成面を第１の方向に沿って払拭する繊維素材を含む払拭部材であって、
前記ノズル形成面に付着した前記液体の溶質が凝集してなる凝集物を収容可能な空間が繊維の間に形成され、
前記空間の前記第１の方向における幅の平均値をμｓ１、当該空間の幅の標準偏差をσｓ１、前記払拭部材の厚さ方向に沿った第２の方向における前記空間の深さの平均値をμｓ２、当該空間の深さの標準偏差をσｓ２、前記凝集物の前記第１の方向における大きさの平均値をμａ１、当該凝集物の大きさの標準偏差をσａ１、前記凝集物の前記第２の方向における厚さの平均値をμａ２、前記凝集物の厚さの標準偏差をσａ２としたとき、
μａ１＋３σａ１≦μｓ１＋３σｓ１
μａ２＋３σａ２≦μｓ２＋３σｓ２
をそれぞれ満たすことを特徴とする払拭部材。
【請求項５】
前記空間の幅の平均値μｓ１、及び、前記空間の深さの平均値μｓ２が、それぞれ、
μａ１−２σａ１≦μｓ１≦μａ１＋２σａ１
μａ２−２σａ２≦μｓ２≦μａ２＋２σａ２
を満たすことを特徴とする請求項４に記載の払拭部材。
【請求項６】
前記空間の面密度が、前記ノズル形成面における前記凝集物の面密度よりも大きいことを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の払拭部材。
【請求項７】
前記第２の方向に複数の層を有し、
少なくとも前記ノズル形成面と接触する層が、前記空間を有することを特徴とする請求項４から請求項６の何れか一項に記載の払拭部材。
【請求項８】
液体を噴射するノズルが開口したノズル形成面を有する液体噴射ヘッドと、
請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の払拭部材により前記ノズル形成面を払拭する払拭機構と、
を備えることを特徴とする液体噴射装置。
【請求項９】
液体を噴射するノズルが開口したノズル形成面を有する液体噴射ヘッドの前記ノズル形成面を請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の払拭部材により払拭する払拭機構の払拭方法であって、
当該払拭部材の繊維の間隔が前記凝集物の前記第１の方向における大きさよりも広がるように前記払拭部材に力を付与し、前記払拭部材が前記ノズル形成面を払拭することを特徴とする払拭機構の払拭方法。
【請求項１０】
前回実行した払拭動作からの経過時間又は液体噴射ヘッドから噴射された液体の総噴射量に応じて、前記力を異ならせることを特徴とする請求項９に記載の払拭機構の払拭方法。
【請求項１１】
前記払拭部材が前記ノズル形成面に接触する前に前記ノズル形成面または前記払拭部材に前記液体の溶媒と同種の洗浄液を供給することを特徴とする請求項９または請求項１１に記載の払拭機構の払拭方法。
【請求項１２】
液体を噴射するノズルが開口したノズル形成面を有する液体噴射ヘッドと、払拭部材により前記ノズル形成面を払拭する払拭機構と、を備える液体噴射装置の制御方法であって、
請求項９から請求項１１の何れか一項に記載の払拭機構の払拭方法が適用されることを特徴とする液体噴射装置の制御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばインクジェット式記録ヘッド等の液体噴射ヘッドのノズル形成面の払拭に使用される払拭部材、液体噴射装置、払拭機構の払拭方法、および、液体噴射装置の制御方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液体噴射装置は液体噴射ヘッドを備え、この液体噴射ヘッドから各種の液体を噴射（吐出）する装置である。この液体噴射装置の代表的なものとして、例えば、液体噴射ヘッドとしてのインクジェット式記録ヘッド（以下、単に記録ヘッドという）を備え、この記録ヘッドから着弾対象としての記録紙等の記録媒体に対して液体状のインクを液滴として噴射・着弾させてドットを形成することで画像等の記録を行うインクジェット式記録装置（以下、単にプリンターという）等の画像記録装置を挙げることができる。この液体噴射装置は、近年においては、画像記録装置に限らず、例えばディスプレイ製造装置等の各種の製造装置にも応用されている。
【０００３】
液体噴射ヘッドを搭載した液体噴射装置では、ノズルから噴射された液体が当該ノズル形成面に付着して汚染されることがあるため、ノズル形成面を払拭する払拭機構が設けられている。例えば、特許文献１には、払拭部材（清掃部材）におけるノズル形成面に接触する部分に、複数の毛を立毛させた立毛部が設けられた払拭機構（清掃装置）が開示されている。布等からなる清掃部材の毛は、２０μｍよりも小さな直径を有する繊維により形成されている。これにより、毛がノズル内に入り込み、当該ノズル内の固形物を排出しやすくしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１５−８９６５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ここで、上記のような液体噴射ヘッドでは、ノズル周辺に付着した液体に起因する飛行曲がり等の噴射不良の防止や、払拭部材によるノズル形成面の拭き取り性の向上の観点から、ノズル形成面には撥液膜が形成され、当該ノズル形成面の撥液性が高められている。ところが、ノズル形成面に液体が付着した場合、ノズル形成面において次第に凝集して、当該液体に含まれる溶質の凝集物（集塊）を生じさせることがある。このような凝集物が生じた状態で、何らの対策することなく払拭部材でノズル形成面を払拭した場合、凝集物がノズル形成面を摺動することにより撥液膜を傷つけやすい。特に、溶質として酸化チタン等の比較的硬質な成分を含む液体を噴射する用途に液体噴射ヘッドが使用される場合、このような硬い凝集物（固着物）をノズル形成面上で引きずることでノズル形成面上の撥液膜に傷がついて次第に摩耗し、撥液性が劣化するという問題があった。
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、ノズル形成面の撥液膜の劣化を抑制することが可能な払拭部材、液体噴射装置、払拭機構の払拭方法、および、液体噴射装置の制御方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上記目的を達成するために提案されたものであり、液体を噴射するノズルが開口したノズル形成面を有する液体噴射ヘッドの前記ノズル形成面を第１の方向に沿って払拭する繊維素材を含む払拭部材であって、
繊維の間隙の前記第１の方向における大きさの平均値をμｆ、当該間隙の大きさの標準偏差をσｆ、前記ノズル形成面に付着した前記液体の溶質が凝集してなる凝集物の前記第１の方向における大きさの平均値をμａ、当該凝集物の大きさの標準偏差をσａとしたとき、
μａ＋３σａ≦μｆ＋３σｆ
を満たすことを特徴とする。
【０００８】
本発明によれば、上記条件を満たした状態で払拭動作が行われることにより、ノズル形成面にある凝集物が払拭部材の間隙に捕捉されやすくなる。そして、間隙に凝集物が捕捉されるので、払拭部材の繊維とノズル形成面との間で凝集物が挟まれた状態でノズル形成面を摺動することが抑制される。これにより、凝集物によりノズル形成面の撥液膜が傷つけられて摩耗することによる撥液性の低下が抑制される。
【０００９】
上記構成において、前記間隙の大きさの平均値μｆが、
μａ−２σａ≦μｆ≦μａ＋２σａ
を満たすことがより望ましい。
【００１０】
この構成によれば、間隙の大きさの平均値μｆと凝集物の大きさの平均値μａとが互いに乖離することなく近い範囲内の値となるので、払拭動作時に凝集物をより確実に間隙に捕捉することができる。
【００１１】
上記構成において、前記間隙の面密度が、前記ノズル形成面における前記凝集物の面密度よりも大きい構成を採用することが望ましい。
【００１２】
この構成によれば、間隙の面密度が、ノズル形成面における凝集物の面密度よりも大きいことで、より多くの凝集物をより確実に間隙に捕捉することができる。
【００１３】
また、本発明は、液体を噴射するノズルが開口したノズル形成面を有する液体噴射ヘッドの前記ノズル形成面を第１の方向に沿って払拭する繊維素材を含む払拭部材であって、
前記ノズル形成面に付着した前記液体の溶質が凝集してなる凝集物を収容可能な空間が繊維の間に形成され、
前記空間の前記第１の方向における幅の平均値をμｓ１、当該空間の幅の標準偏差をσｓ１、前記払拭部材の厚さ方向に沿った第２の方向における前記空間の深さの平均値をμｓ２、当該空間の深さの標準偏差をσｓ２、前記凝集物の前記第１の方向における大きさの平均値をμａ１、当該凝集物の大きさの標準偏差をσａ１、前記凝集物の前記第２の方向における厚さの平均値をμａ２、前記凝集物の厚さの標準偏差をσａ２としたとき、
μａ１＋３σａ１≦μｓ１＋３σｓ１
μａ２＋３σａ２≦μｓ２＋３σｓ２
をそれぞれ満たすことを特徴とする。
【００１４】
本発明によれば、上記条件を満たした状態で払拭動作が行われることにより、ノズル形成面にある凝集物が払拭部材の空間に捕捉されやすくなる。そして、空間に凝集物が捕捉されるので、払拭部材の繊維とノズル形成面との間で凝集物が挟まれた状態でノズル形成面を摺動することが抑制される。これにより、凝集物によりノズル形成面の撥液膜が傷つけられて摩耗することによる撥液性の低下が抑制される。
【００１５】
上記構成において、前記空間の幅の平均値μｓ１、及び、前記空間の深さの平均値μｓ２が、それぞれ、
μａ１−２σａ１≦μｓ１≦μａ１＋２σａ１
μａ２−２σａ２≦μｓ２≦μａ２＋２σａ２
を満たすことがより望ましい。
【００１６】
この構成によれば、空間の幅の平均値μｓ１と凝集物の大きさの平均値μａ、及び、空間の深さの平均値μｓ２と凝集物の厚さの平均値μａ２が、それぞれ互いに乖離することなく近い範囲内の値となるので、払拭動作時に凝集物をより確実に間隙に捕捉することができる。
【００１７】
上記構成において、前記空間の面密度が、前記ノズル形成面における前記凝集物の面密度よりも大きい構成を採用することが望ましい。
【００１８】
この構成によれば、空間の面密度が、ノズル形成面における凝集物の面密度よりも大きいことで、より多くの凝集物をより確実に間隙に捕捉することができる。
【００１９】
上記構成において、前記第２の方向に複数の層を有し、
少なくとも前記ノズル形成面と接触する層が、前記空間を有する構成を採用することができる。
【００２０】
この構成によれば、凝集物を捕捉する機能を有する層の他に別の層を備えることにより、例えば弾性の向上等の他の機能を払拭部材に付与することができる。
【００２１】
さらに本発明の液体噴射装置は、液体を噴射するノズルが開口したノズル形成面を有する液体噴射ヘッドと、
上記いずれか一に記載の払拭部材により前記ノズル形成面を払拭する払拭機構と、
を備えることを特徴とする。
【００２２】
本発明によれば、凝集物によりノズル形成面の撥液膜が傷つけられて摩耗することによる撥液性の低下が抑制されるので、液体噴射ヘッドの耐久性が向上する。
【００２３】
また、本発明は、液体を噴射するノズルが開口したノズル形成面を有する液体噴射ヘッドの前記ノズル形成面を請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の払拭部材により払拭する払拭機構の払拭方法であって、
当該払拭部材の繊維の間隔が前記凝集物の前記第１の方向における大きさよりも広がるように前記払拭部材に力を付与し、前記払拭部材が前記ノズル形成面を払拭することを特徴とする。
【００２４】
本発明によれば、払拭部材の繊維の第１の方向における間隔を凝集物の第１の方向における大きさよりも広げた状態で払拭動作が行われることにより、ノズル形成面にある凝集物が払拭部材の間隙に捕捉されやすくなる。特に、上記力が付与されていない状態で繊維の間隔が、払拭時における凝集物の大きさよりも小さい払拭部材に好適である。
【００２５】
上記方法において、前回実行した払拭動作からの経過時間又は液体噴射ヘッドから噴射された液体の総噴射量に応じて、前記力を異ならせることが望ましい。
【００２６】
この方法によれば、前回実行した払拭動作からの経過時間が長いほど、又は、液体噴射ヘッドから噴射された液体の総噴射量が多いほど、凝集物の大きさが大きくなるため、これに応じて上記力を異ならせることにより、凝集物をより効果的に捕捉することができる。
【００２７】
上記方法において、前記払拭部材が前記ノズル形成面に接触する前に前記ノズル形成面または前記払拭部材に前記液体の溶媒と同種の洗浄液を供給することが望ましい。
【００２８】
この方法によれば、ノズル形成面に付着した凝集物をより取り除きやすくすることができる。
【００２９】
そして、本発明の液体噴射装置の制御方法は、液体を噴射するノズルが開口したノズル形成面を有する液体噴射ヘッドと、払拭部材により前記ノズル形成面を払拭する払拭機構と、を備える液体噴射装置の制御方法であって、
上記何れかに記載の払拭機構の払拭方法が適用されることを特徴とする。
【００３０】
本発明によれば、凝集物によりノズル形成面の撥液膜が傷つけられて摩耗することによる撥液性の低下が抑制されるので、液体噴射ヘッドの耐久性が向上する。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】液体噴射装置（プリンター）の一形態の構成を説明する正面図である。
【図２】液体噴射装置の電気的構成を説明するブロック図である。
【図３】液体噴射ヘッド（記録ヘッド）の一形態の構成を説明する断面図である。
【図４】ノズルの断面図である。
【図５】払拭機構（ワイピング機構）の一形態の構成を説明する断面図である。
【図６】払拭部材（ワイパー）の一形態の構成を説明する平面図である。
【図７】繊維の間隙の大きさの正規分布を示す図である。
【図８】凝集物の大きさの正規分布を示す図である。
【図９】払拭動作（ワイピング動作）について説明するフローチャートである。
【図１０】第２の実施形態における払拭部材の構成を説明する断面図である。
【図１１】払拭機構の変形例の構成を説明する断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
以下、本発明を実施するための形態を、図面を参照して説明する。なお、以下に述べる実施の形態では、本発明の好適な具体例として種々の限定がされているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの態様に限られるものではない。なお、本実施形態では、液体噴射装置の一形態である画像記録装置、詳しくは、液体噴射ヘッドとしてインクジェット式記録ヘッド（以下、単に記録ヘッドという）を搭載したインクジェット式プリンター（以下、プリンターという）を例に挙げて説明する。
【００３３】
図１は、プリンター１の構成を説明する正面図、図２は、プリンター１の電気的な構成を説明するブロック図である。液体噴射ヘッドの一種である記録ヘッド２は、インクカートリッジ（液体供給源）を搭載したキャリッジ３の底面側に取り付けられている。そして、当該キャリッジ３は、キャリッジ移動機構１８によってガイドロッド４に沿って往復移動可能に構成されている。すなわち、プリンター１は、紙送り機構１７によって記録媒体をプラテン５上に順次搬送すると共に、記録ヘッド２を記録媒体の幅方向（主走査方向）に相対移動させながら当該記録ヘッド２のノズル４０（図３及び図４参照）から本発明における液体の一種であるインクを噴射させて、記録媒体上に着弾させることにより画像等を記録する。なお、インクカートリッジがプリンターの本体側に配置され、当該インクカートリッジのインクが供給チューブを通じて記録ヘッド２側に送られる構成を採用することもできる。
【００３４】
本実施形態におけるプリンター１においては、インクとして、色材や、当該色材を分散または溶解させる溶剤などを含むものが使用される。色材は、例えば顔料であり、不溶性アゾ顔料、縮合アゾ顔料、アゾレーキ、キレートアゾ顔料などのアゾ顔料、フタロシアニン顔料、ペリレン及びペリノン顔料、アントラキノン顔料、キナクリドン顔料、ジオキサン顔料、チオインジゴ顔料、イソインドリノン顔料、キノフタロン顔料などの多環式顔料、染料キレート、染色レーキ、ニトロ顔料、ニトロソ顔料、アニリンブラック、昼光蛍光顔料、カーボンブラック、卑金属顔料などを使用することができる。さらに、顔料としては、例えば酸化銅や二酸化マンガンなどの無機材料（黒色顔料）、並びに、例えば亜鉛華、酸化チタン、アンチモン白、硫化亜鉛、などの無機材料などを使用することができる。また、染料としては、直接染料、酸性染料、食用染料、塩基性染料、反応性染料、分散染料、建染染料、可溶性建染染料、反応分散染料などを使用することができる。水系インクの溶媒としては、イオン交換水、限外ろ過水、逆浸透水、蒸留水などの純水または超純水を使用することができる。油性インクの溶剤としては、エチレングリコールやプロピレングリコールなどの揮発性の有機溶剤を含んだものを使用することができる。さらに、インクは、上述した色材や溶剤の他に、塩基性触媒、界面活性剤、第三級アミン、熱可塑性樹脂、ｐＨ調整剤、緩衝液、定着剤、防腐剤、酸化防止剤・紫外線吸収剤、キレート剤、酸素吸収剤などを含んでいてもよい。
【００３５】
このようなインクのうち、特に、溶質として酸化チタン（ＴｉＯｘ）等の比較的硬質な成分を含むインクは、ノズル４０から噴射された際や上記のメンテナンス処理（クリーニング処理）が行われた際にノズル形成面２３に付着した場合、ノズル形成面２３において次第に凝集して、当該インクに含まれる成分（溶質）が集塊した凝集物を生じさせる。凝集物は、時間の経過と共に大きくなる。このような凝集物が生じた状態で、何らの対策することなくワイピング機構７で当該ノズル形成面２３を払拭した場合、凝集物がノズル形成面２３を摺動することにより撥液膜４７を傷つけやすい。本発明に係るプリンター１では、このような凝集物が生じた状態においてワイピング機構７で当該ノズル形成面２３を払拭した場合においても、凝集物によってノズル形成面２３を傷つけにくくするように構成されている。この点の詳細については後述する。
【００３６】
プリンター１の内部において、プラテン５に対して主走査方向の一端側（図２中、右側）に外れた位置には、記録ヘッド２の待機位置であるホームポジションが設定されている。このホームポジションには、一端側から順にキャッピング機構６（封止機構の一種）、および、ワイピング機構７（本発明の払拭機構の一種）が設けられている。キャッピング機構６は、例えば、エラストマー等の弾性部材からなるキャップ８を有しており、当該キャップ８を記録ヘッド２のノズル形成面２３に対して当接させて封止した状態（キャッピング状態）あるいは当該ノズル形成面２３から離隔した待避状態に変換可能に構成されている。このキャッピング機構６では、キャップ８内の空間が封止空部として機能し、この封止空部内に記録ヘッド２のノズル４０を臨ませた状態でノズル形成面２３を封止する。また、このキャッピング機構６には、図示しないポンプユニット（吸引手段）が接続されており、このポンプユニットの作動によって封止空部内を負圧化することができる。そして、メンテナンス処理（クリーニング処理）においては、ノズル形成面２３への密着状態でポンプユニットが作動され、封止空部内が負圧化されると、ノズル４０から記録ヘッド２内のインクや気泡が吸引されてキャップ８の封止空部内に排出される。
【００３７】
本実施形態におけるワイピング機構７は、記録ヘッド２の主走査方向に対して交差する方向、換言すると後述するノズル列方向に沿って払拭部材の一形態であるワイパー９を摺動可能に有している。そして、ワイピング機構７は、ワイパー９をノズル形成面２３に当接させた状態で摺動させることでノズル形成面２３を払拭する払拭動作（ワイピング動作）を行う。なお、ワイピング機構７の詳細については後述する。
【００３８】
本実施形態におけるプリンター１は、プリンターコントローラー１１により各部の制御が行われる。本実施形態におけるプリンターコントローラー１１は、インターフェース（Ｉ／Ｆ）部１２と、ＣＰＵ１３と、記憶部１４と、駆動信号発生回路１５と、を有する。インターフェース部１２は、コンピューターや携帯情報端末機等の外部機器から印刷データや印刷命令を受け取ったり、プリンター１の状態情報を外部機器側に出力したりする。記憶部１４は、ＣＰＵ１３のプログラムや各種制御に用いられるデータを記憶する素子であり、ＲＯＭ、ＲＡＭ、ＮＶＲＡＭ（不揮発性記憶素子）を含む。
【００３９】
ＣＰＵ１３は、記憶部１４に記憶されているプログラムに従って、各ユニットを制御する。また、本実施形態におけるＣＰＵ１３は、外部機器等からの印刷データに基づき、記録動作時に記録ヘッド２のどのノズル４０からどのタイミングでどの大きさ（量）のインクを噴射させるかを示す噴射データを生成し、当該噴射データを記録ヘッド２のヘッドコントローラー１６に送信する。また、ＣＰＵ１３は、リニアエンコーダー１９から出力されるエンコーダーパルスからラッチ信号ＬＡＴ等のタイミング信号を生成して記録ヘッド２のヘッドコントローラー１６に出力する。ヘッドコントローラー１６は、上記噴射データおよびタイミング信号に基づき駆動信号中の駆動パルスを選択的に圧電素子２８（図３参照）に印加する。これにより圧電素子２８が駆動されてノズル４０からインク滴が噴射されたり、あるいは、インク滴が噴射されない程度に微振動動作が行われたりする。駆動信号発生回路１５は、記録媒体に対してインク滴を噴射して画像等を記録するための駆動パルスを含む駆動信号を発生する。
【００４０】
図３は、液体噴射ヘッドの一形態である記録ヘッド２の構成を説明する断面図である。本実施形態における記録ヘッド２は、ノズルプレート２４、連通基板２５、圧力室形成基板２６、振動板２７、圧電素子２８、および保護基板２９が積層された状態で接着剤等により接合されてなる吐出ユニット３０を有し、この吐出ユニット３０がユニットケース３１に取り付けられている。ユニットケース３１は、インクカートリッジ側からのインクを導入する導入口３２と、当該導入口３２から導入されたインクを共通液室３４側に導入するケース流路３５が形成された部材である。このユニットケース３１の平面視における中央部には配線空部３６が形成されている。この配線空部３６は、後述する保護基板２９の配線接続空部４４と連通する。また、ユニットケース３１の下面側には、当該下面からユニットケース３１の高さ方向の途中まで直方体状に窪んだ収納空部３７が形成されている。この収納空部３７は、吐出ユニット３０のうち、圧力室形成基板２６、振動板２７、圧電素子２８、および保護基板２９が収容されるように構成されている。この状態で、ユニットケース３１の下面には、吐出ユニット３０における連通基板２５の上面が接合される。
【００４１】
本実施形態における圧力室形成基板２６は、例えばシリコン基板から作製されている。この圧力室形成基板２６には、圧力室３８を区画する圧力室空部が、ノズルプレート２４の各ノズル４０に対応して異方性エッチングによって複数形成されている。圧力室形成基板２６における圧力室空部の一方（上面側）の開口部は、振動板２７によって封止される。また、圧力室形成基板２６における振動板２７とは反対側の面には、連通基板２５が接合され、当該連通基板２５によって圧力室空部の他方の開口部が封止される。これにより、圧力室３８が区画形成される。ここで、圧力室３８の上部開口が振動板２７により封止された部分は、圧電素子２８の駆動により変位する可撓面である。
【００４２】
本実施形態における圧力室３８は、ノズル４０の並設方向に直交する方向に長尺な空部である。この圧力室３８の長尺方向の一端部は、連通基板２５のノズル連通口４１を介してノズル４０と連通する。また、圧力室３８の長尺方向の他端部は、連通基板２５の個別連通口４２を介して共通液室３４と連通する。そして、圧力室３８は、ノズル４０毎に対応して複数並設されている。連通基板２５は、圧力室形成基板２６と同様にシリコン基板から作製された板材である。この連通基板２５には、圧力室形成基板２６の複数の圧力室３８に共通に設けられる共通液室３４（リザーバーあるいはマニホールドとも呼ばれる）となる空部が、異方性エッチングによって形成されている。この共通液室３４は、各圧力室３８の並設方向に沿って長尺な空部である。各圧力室３８は、それぞれ個別連通口４２を介してこの共通液室３４と連通している。
【００４３】
ノズルプレート２４は、複数のノズル４０が列状に開設された板材である。本実施形態では、ドット形成密度に対応したピッチでノズル４０が複数列設されてノズル列が構成されている。本実施形態における記録ヘッド２では、主走査方向に交差する副走査方向（記録媒体の搬送方向）に沿ってノズル４０が並設されたノズル列が形成されている。また、本実施形態におけるノズルプレート２４は、例えばシリコン基板から作製され、当該基板に対してドライエッチングにより円筒形状のノズル４０が形成されている。また、ノズルプレート２４のインクが噴射される側の面（連通基板２５が接合されている面とは反対側の面）が、ノズル形成面２３である。なお、ノズルプレート２４の周囲に記録ヘッド２を固定するための固定板が配置される構成においては、ノズルプレート２４と固定版とで構成される面（記録動作時に記録媒体等と対向する面）がノズル形成面２３として機能する。
【００４４】
図４は、ノズル４０の中心軸方向（インク噴射方向）に沿った断面図である。なお、同図において上側がインク噴射方向における上流側（圧力室３８側）であり、下側がインク噴射方向における下流側（記録動作時における記録媒体側）である。本実施形態におけるノズル４０は、下流側の第１ノズル部４１と上流側の第２ノズル部４２とにより２段の円筒状を呈し、第１ノズル部４１の流路断面積は、第２ノズル部４２の流路断面積よりも小さくなっている。これらの第１ノズル部４１と第２ノズル部４２とは、平面視においていずれも円形状を呈している。第１ノズル部４１における第２ノズル部４２側とは反対側の開口からインクが噴射される。なお、第２ノズル部４２の内径が、下流側（第１ノズル部４１側）から上流側（圧力室３８側）に向けて拡大するように内壁面が傾斜したテーパー形状のものであってもよい。
【００４５】
ノズルプレート２４のノズル形成面２３には、保護膜４６を介して撥液膜４７が形成されている。この保護膜４６は、ノズル４０の内壁面も含むノズルプレート２４の表面全体を図示しない酸化膜（ＳｉＯｘ）を介して被覆するように形成されており、ノズルプレート２４の基材をインクから保護するための膜である。また、この保護膜４６は、ノズルプレート２４の基材と保護膜４６とを結び付ける下地膜としての機能も有する。これにより、撥液膜４７がノズル形成面２３から剥がれにくくなっている。撥液膜４７は、保護膜４６の上に重ねて形成された撥液性を有する膜である。この撥液膜４７は、例えばフッ素を含む撥液剤（シランカップリング剤）が塗布されることで形成されている。この撥液剤としては、フルオロアルキル基を含むシラン化合物、例えば、トリフルオロプロピルトリメトキシシランが用いられる。また、塗布によるものではなく、例えば、ＰＶＤ，ＣＶＤ，あるいはＡＬＤ等の気相成長法によって撥液膜４７が成膜されてもよい。
【００４６】
圧力室形成基板２６の上面に形成された振動板２７は、例えば厚さが約１μｍの二酸化シリコンから構成される。また、この振動板２７上には、図示しない絶縁膜が形成される。この絶縁膜は、例えば、酸化ジルコニウムから成る。そして、この振動板２７および絶縁膜上における各圧力室３８に対応する位置に、圧電素子２８がそれぞれ形成されている。本実施形態における圧電素子２８、振動板２７および絶縁膜上に、金属製の下電極膜、チタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）等からなる圧電体層、および、金属製の上電極膜（何れも図示せず）が順次積層されて構成される（何れも図示せず）。この構成において、上電極膜または下電極膜の一方が共通電極とされ、他方が個別電極とされる。また、個別電極となる電極膜および圧電体層が圧力室３８毎にパターニングされる。
【００４７】
圧力室形成基板２６および圧電素子２８が積層された連通基板２５の上面には、保護基板２９が配置される。この保護基板２９は、例えば、ガラス、セラミックス材料、シリコン単結晶基板、金属、合成樹脂等から作製される。この保護基板２９の内部には、圧電素子２８に対向する領域に当該圧電素子２８の駆動を阻害しない程度の大きさの凹部４３が形成されている。さらに、保護基板２９の中央部分には、基板厚さ方向を貫通した配線接続空部４４が形成されている。この配線接続空部４４内には、圧電素子２８の素子端子とフレキシブル基板４５の一端部とが配置される。プリンターコントローラー１１側からフレキシブル基板４５を通じて駆動信号（駆動電圧）が圧電素子２８に印加されると、当該圧電素子２８は印加電圧の変化に応じて圧電能動部が撓み変形することにより、圧力室３８の一面を区画する可撓面、すなわち、振動板２７が、ノズル４０に近づく側またはノズル４０から遠ざかる方向に変位する。これにより、圧力室３８内のインクに圧力変動が生じ、この圧力変動を利用してノズル４０からインクが噴射される。
【００４８】
ここで、記録ヘッド２のノズル４０から噴射されるインク（インク滴）は、数〔ｎｇ〕から十数〔ｎｇ〕と微小であるため、噴射に伴ってさらに微小なミストが生じ、このようなミストがノズル形成面２３に付着する場合がある。また、キャップ８によりノズル形成面２３が封止された状態でノズル４０からインクを排出させる上記クリーニング処理においてもノズル形成面２３にインクが付着する。ノズル形成面２３に付着したインクは、当該ノズル形成面２３において凝集し、インクの溶質、すなわち顔料等の含有成分からなる凝集物（集塊）が生じる。この凝集物はノズル４０からインクの噴射を繰り返すほどに時間の経過と共に大きくなる。例えば、インクに上記の酸化チタン（ＴｉＯｘ）粒子が含まれる場合、この酸化チタンの粒子が０．２５μｍ程度であったとして、当該酸化チタンによる凝集物の大きさは、前回のワイピング動作から次回のワイピング動作までの経過時間やノズル４０からの総噴射回数（総噴射量）によっては、例えば１００μｍ程度になる場合もある。このような凝集物が生じた状態でワイピング機構７によりノズル形成面２３を払拭する際に、ワイパー９が凝集物をノズル形成面２３に対し押し付けて引き摺ることにより、撥液膜４７を撥液膜に傷をつける等、撥液膜４７を劣化させるおそれがある。本発明に係るワイパー９は、このような凝集物がノズル形成面２３に生じた状態でワイピング動作を行った場合においても、当該凝集物でノズル形成面２３の撥液膜４７を損傷しにくいように構成されている。以下、この点について説明する。
【００４９】
図５は、払拭機構の一形態であるワイピング機構７の構成について説明する模式図である。なお、同図において、ワイピング機構７については、主走査方向に交差する副走査方向（本実施形態においては記録ヘッド２のノズル列方向）における断面で表されている。本実施形態におけるワイピング機構７は、副走査方向に沿って配設されたレール５２にユニット本体５１が摺動可能に取り付けられて構成されている。ユニット本体５１は、図示しないラックギア、ピニオンギア、および駆動源等からなるワイパー移動機構によってレール５２に案内されつつ、図中白抜きの矢印で示される副走査方向に沿った払拭方向（本発明における第１の方向に相当）に往復移動することが可能となっている。このユニット本体５１は、織物・編物・不織布等の布、すなわち繊維素材からなるシート状のワイパー９が巻き回された第１ロール５６と、払拭後のワイパー９が巻き取られる第２ロール５７と、が収容されている。
【００５０】
第１ロール５６と第２ロール５７とは、払拭方向において互いに所定の距離を隔てた状態で軸支されている。第１ロール５６は、第１軸５８に未使用のワイパー９が巻装されており、ワイピングの際にワイパー９を第２ロール５７側に順次繰り出す。また、第２ロール５７は、第２軸５９に使用済み（ノズル形成面２３に対する払拭後）のワイパー９を巻き取る。払拭方向における第１ロール５６および第２ロール５７との間であって、上方（ノズル形成面２３側）の位置には、一対の押圧ローラー６０ａ，６０ｂが払拭方向に並設されている。第１ロール５６から繰り出されたワイパー９は、押圧ローラー６０ａ，６０ｂに架け渡され、その先が第２ロール５７に巻き取られるようになっている。
【００５１】
押圧ローラー６０ａ，６０ｂは、第１ロール５６と第２ロール５７の回動に応じて回転可能にそれぞれ遊転軸６１ａ，６１ｂに軸支されている。ケーシング５３の上面、すなわち、記録ヘッド２のノズル形成面２３と相対する面の中央部には、開口部６２が開設されている。そして、ケーシング５３の内部から当該開口部６２を介して押圧ローラー６０ａ，６０ｂの一部（上部）が外側のノズル形成面２３側にそれぞれ突出している。このため、ワイパー９において押圧ローラー６０ａ，６０ｂに架け渡された部分（払拭領域）もケーシング５３の上面よりノズル形成面２３側に突出して、ノズル形成面２３と相対している。上記押圧ローラー６０の遊転軸６１ａ，６１ｂは、図示しないばね等の付勢部材により、上方、すなわちノズル形成面２３側へ付勢されている。このため、ワイパー９の払拭領域は、押圧ローラー６０ａ，６０ｂを介してノズル形成面２３に当接する側へ付勢されている。本実施形態において、これらの押圧ローラー６０ａ，６０ｂの払拭方向における間隔（軸間の距離）は、第１ロール５６と第２ロール５７との払拭方向における間隔（軸間の距離）よりも狭く、且つ、ノズル形成面２３の払拭方向における寸法よりも大きく設定されている。このようにすることで、後述するように、ワイパー９の払拭方向両側からテンションを付与して間隙６４を広げやすくすることができる。
【００５２】
第１ロール５６と押圧ローラー６０ａとの間には、洗浄液を貯留すると共に当該洗浄液をワイパー９の表面に供給する洗浄液ディスペンサー６３が設けられている。洗浄液は、記録ヘッド２のノズル４０から噴射されるインクの溶媒と同種（同じ成分）の液体から構成されており、例えばポリエチレングリコールからなる。そして、ワイパー９の上記払拭領域がノズル形成面２３に接触する前（ノズル形成面２３と対向する位置に送り出される前）に洗浄液ディスペンサー６３からワイパー９の払拭領域に洗浄液が供給される。これにより、ノズル形成面２３に付着したインクやその凝集物をより取り除きやすくすることができる。なお、本実施形態においては、洗浄液をワイパー９に供給する構成を例示したが、これには限られず、ノズル形成面２３に洗浄液を供給する構成を採用することもできる。
【００５３】
図６は、ワイパー９について説明する平面図である。なお、同図においてワイパー９の一部を拡大して示している。また、図中の矢印は、ワイピング動作時の払拭方向を示している。本実施形態におけるワイパー９は、織物（布帛）、編物、または不織布等の天然繊維あるいは化学繊維を含む薄手の繊維素材（布材）である。ワイパー９の幅（主走査方向における寸法）は、記録ヘッド２のノズル形成面２３の主走査方向の寸法よりも長くなっている。これにより、ワイピング動作時においてワイパー９によりノズル形成面２３の全面を払拭することができるようになっている。また、ワイパー９は繊維素材からなるため、繊維同士の間には間隙６４が形成されている。なお、繊維素材は、上記繊維の他に繊維同士を接着する接着剤等を含んでいてもよい。
【００５４】
図７は、ワイパー９の繊維の払拭方向における間隔（間隙６４の大きさ）についての正規分布の一例を示すグラフである。より具体的には、ワイパー９においてワイピング動作時にノズル形成面２３と接触する範囲内に分布する間隙６４の払拭方向の大きさについての正規分布を示している。また、図８は、ノズル形成面２３の凝集物６５の払拭方向における大きさについての正規分布の一例を示すグラフである。なお、凝集物６５の払拭方向における大きさに関し、ワイピング機構７によってノズル形成面２３のワイピング動作が行われる時点での大きさを意味する。本実施形態におけるワイパー９における間隙６４の大きさに関し、以下のように規定することで、凝集物６５が生じた状態でワイピング動作を行ってもノズル形成面２３を損傷しにくいように構成されている。すなわち、払拭方向における間隙６４の大きさ（繊維の間隔）の平均値をμｆ、払拭方向における間隙６４の大きさの標準偏差をσｆ、ノズル形成面２３に付着している凝集物６５の払拭方向における大きさの平均値をμａ、凝集物の前記払拭方向における大きさの標準偏差をσａとしたとき、以下の条件（１）を満たすように構成されている。
μａ＋３σａ≦μｆ＋３σｆ  …（１）
【００５５】
すなわち、図７におけるＭｘ１（＝μｆ＋３σｆ）が、図８におけるＭｘ２（＝μａ＋３σａ）以上であれば、ノズル形成面２３における殆どの凝集物６５を間隙６４に捕捉することができる。つまり、正規分布に従えば、殆ど（約９９．７％）の凝集物６５の大きさはμａ±３σａの範囲内であり、同様に、殆どの間隙６４の大きさはμｆ±３σｆの範囲内であるため、間隙６４の大きさの平均値μｆと凝集物６５の大きさの平均値μａとが極端に異ならなければ、上記条件（１）を満たすことで、ワイピング動作時にほぼ全ての凝集物６５を間隙６４に捕捉することができる。そして、このような間隙６４のワイパー９における面密度が、ノズル形成面２３における凝集物６５の面密度よりも大きいことが望ましい。これにより、より多くの凝集物６５をより確実に間隙６４に捕捉することができる。
【００５６】
なお、間隙６４の大きさの平均値μｆに関し、以下の条件（２）を満たすことがより望ましい。
μａ−２σａ≦μｆ≦μａ＋２σａ  …（２）
これにより、間隙６４の大きさの平均値μｆと凝集物６５の大きさの平均値μａとが互いに乖離することなく近い範囲内の値となるので、ワイピング動作時にほぼ全ての凝集物６５をより確実に間隙６４に捕捉することができる。なお、間隙６４の大きさの平均値μｆが（μａ＋２σａ）を超えた場合、間隙６４が必要以上に大きくなりすぎるために無駄となるばかりかワイピング動作時の払拭性が低下して逆効果となる虞があるため、平均値μｆは、（μａ＋２σａ）以下であることが好ましい。
【００５７】
なお、凝集物６５の大きさの平均値μａは、前回実行されたワイピング動作から今回のワイピング動作まで間（その経過時間）において記録ヘッド２から噴射されたインクの総噴射量（総噴射回数に応じて推定することができる。この経過時間あるいは総噴射量と凝集物６５の大きさの平均値μａとの関係は、予め試験等により取得され、その算出式あるいはその関係が記述されたテーブル等が凝集物サイズ情報として記憶部１４等に記憶されている。そして、ワイピング動作の実行時には、前回ワイピング動作の実行時から今回のワイピング動作の実行までの経過時間又は総噴射量に基づき凝集物６５の大きさの平均値μａを推測することができる。そして、本実施形態においては、推測された平均値μａにより、上記条件（１）が満たされていない場合、ワイパー９に付与するテンションを高めることで、間隙６４を払拭方向に広げて条件（１）を満たすように構成されている。この点については後述する。
【００５８】
図９は、ワイピング機構７によるワイピング動作、すなわち、本発明の払拭機構の払拭方法、および、液体噴射装置の制御方法について説明するフローチャートである。ワイピング動作は、例えば、定期的、すなわち、前回実行されたワイピング動作からの経過時間が閾値を超えた場合、又は、前回ワイピング動作からの記録ヘッド２から噴射されたインクの総噴射量が閾値を超えた場合等、所定の条件が成立した場合に実行される。本実施形態においては、上記の経過時間が閾値を超えた場合がワイピング動作の実行条件とされている。そして、ワイピング動作の実行タイミングが到来すると、ＣＰＵ１３は、キャリッジ移動機構１８を制御して、記録ヘッド２が搭載されたキャリッジ３をワイピング機構７の上方のワイピング位置まで移動させる（ステップＳ１）。続いて、ＣＰＵ１３は、凝集物サイズ情報を記憶部１４から取得して、現時点における凝集物６５の大きさの平均値μａを推定する（ステップＳ２）。
【００５９】
上記のように凝集物６５の大きさの平均値μａが推定されたならば、次に、推定された平均値μａに基づき上記の条件（１）が成立するか否かが判定される（ステップＳ３）。条件（１）が成立する（Ｙｅｓ）と判定された場合、ステップＳ４をスキップしてステップＳ５の工程に進む。一方、条件（１）が成立しないと判定された場合（Ｎｏ）、続いてＣＰＵ１３は、ワイピング機構７を制御して、ワイパー９に付与する払拭方向のテンションを高めることで、間隙６４を当該払拭方向に広げて条件（１）を満たすように調整する（ステップＳ４）。すなわち、ワイパー９の繊維の払拭方向における間隔が凝集物６５の払拭方向における大きさよりも広がるようにワイパー９に力を付与する。より具体的には、図５においてハッチングの矢印で示されるように、第１ロール５６と第２ロール５７を、それぞれワイパー９を巻き取る側に回転させることで、図５において黒矢印で示されるように、ワイパー９に対し払拭方向における両側から互いに反対向きのテンションを付与する。この際、ワイピング機構７は、前回実行したワイピング動作からの経過時間又は総噴射量に応じてテンションを異ならせる。すなわち、前回実行したワイピング動作からの経過時間が長いほど、又は、記録ヘッド２から噴射されたインクの総噴射量が多いほど、凝集物６５の大きさが大きくなるため、これに応じてテンションの強さを高める。本実施形態において、ワイピング機構７は、条件（１）が成立するように間隙６４を広げ、当該条件（１）が成立したならば、それよりも間隙６４を広げない（テンションをそれ以上強めない）。このように、前回実行したワイピング動作からの経過時間又は総噴射量に応じてテンションを異ならせることにより、ワイピング動作において凝集物６５をより効果的にワイパー９の間隙６４に捕捉することができる。特に、テンション（力）が付与されていない状態で繊維の間隔（間隙６４）が、ワイピング時における凝集物６５の大きさよりも小さいワイパー９に好適である。そして、必要以上に間隙６４を広げないので、ワイパー９の払拭性が低下することが抑制される。
【００６０】
次に、洗浄液ディスペンサー６３からワイパー９の表面（払拭領域）に洗浄液が供給される（ステップＳ５）。洗浄液が供給された後、第１ロール５６がワイパー９を送り出す側に回動すると共に、第２ロール５７がワイパー９を巻き取る側に回動することにより、ワイパー９における洗浄液が染み込んだ払拭領域が、押圧ローラー６０ａと押圧ローファー６０ｂとの間のノズル形成面２３に対抗する位置まで送り出される。この状態で、ワイパー９がノズル形成面２３に当接した状態でユニット本体５１が払拭方向に移動してワイピング動作が行われる（ステップＳ６）。すなわち、ワイパー９によってノズル形成面２３が払拭される。
【００６１】
このように、上記条件（１）を満たした状態でワイピング動作が行われることにより、ノズル形成面２３にある凝集物６５がワイパー９の間隙６４に捕捉されやすくなる。そして、間隙６４に凝集物６５が捕捉されるので、ワイパー９の繊維とノズル形成面２３との間で凝集物６５が挟まれた状態でノズル形成面２３を摺動することが抑制される。これにより、凝集物６５によりノズル形成面２３の撥液膜４７が傷つけられて摩耗することによる撥液膜４７の劣化（撥液性の低下）が抑制される。その結果、撥液膜４７の撥液性の低下によるインク滴の飛翔曲がり等の不具合が抑制される。そして、このようなワイパー９を備えたワイピング機構７を有するプリンター１では、凝集物６５により記録ヘッド２のノズル形成面２３の撥液膜４７が傷つけられて摩耗することによる撥液性の低下が抑制されるので、記録ヘッド２の耐久性が向上する。
【００６２】
また、本実施形態においては、前回実行されたワイピング動作からの経過時間、又は、その間において記録ヘッド２から噴射されたインクの総噴射量に応じて凝集物６５の大きさを推定し、これに応じて条件（１）が成立するようにワイピング動作を行うので、ワイピング動作の実行頻度を可及的に低減することができる。これにより、その分、プリンター１のスループットを向上させることができる。その結果、プリンター１による印刷物等の生産性が向上する。
【００６３】
次に、本発明の第２の実施形態について説明する。
図１０は、第２の実施形態におけるワイパー６８（払拭部材の一種）の厚さ方向の断面図である。上記第１の実施形態では、比較的薄手の布からなるワイパー９を例示したがこれには限られず、より厚手のワイパー６８を採用することもできる。また、ワイパー６８は、複数の層構造を有してもよい。本実施形態におけるワイパー６８は、ワイピング動作時にノズル形成面２３と接触する側の第１層６９と、押圧ローラー６０ａ，６０ｂと接触する側の第２層７０との２層構造となっている。第１層６９は、上記第１の実施形態におけるワイパー９と同様な繊維素材からなり、より厚みがある。このため、第１層６９には、繊維の間にノズル形成面２３における凝集物６５を収容することが可能な空間７１が形成されている。また、本実施形態における第２層７０は、押圧ローラー６０ａ，６０ｂに対して滑りにくく、尚且つ弾性を有する素材、例えば、多孔質エラストマー等から構成される。なお、ワイパー６８は、３つ以上の層構造を採用することもできる。この場合においても少なくともワイピング動作時にノズル形成面２３と接触する層に凝集物６５を収容することが可能な空間７１を有していればよい。このように、ワイパー６８が、凝集物６５を捕捉する機能を有する層（第１層６９）の他に別の層（第２層７０）を備えることにより、例えば弾性の向上等の他の機能をワイパー６８に付与することができる。
【００６４】
本実施形態においては、ワイピング動作時の払拭方向における空間７１の寸法（幅）ｗの平均値をμｓ１、この幅ｗの標準偏差をσｓ１、ワイパー６８の厚さ方向（本発明における第２の方向に相当）における空間７１の深さｄの平均値をμｓ２、深さｄの標準偏差をσｓ２、凝集物６５の払拭方向における大きさａの平均値をμａ１、凝集物６５の大きさａの標準偏差をσａ１、凝集物６５の厚さ（ノズル形成面２３からの突出長）ｔの平均値をμａ２、厚さｔの標準偏差をσａ２としたとき、以下の条件（３）および（４）を満たすように構成されている。
μａ１＋３σａ１≦μｓ１＋３σｓ１  …（３）
μａ２＋３σａ２≦μｓ２＋３σｓ２  …（４）
【００６５】
上記条件（３）および（４）を満たすことにより、ワイピング動作時にノズル形成面２３における凝集物６５をワイパー６８の空間７１に捕捉しやすくなる。そして、このような条件を満たす空間７１の面密度が、ノズル形成面２３における凝集物６５の面密度よりも大きいことが望ましい。これにより、より多くの凝集物６５をより確実に捕捉することができる。
なお、上記第１の実施形態と同様に、空間７１の幅ｗの平均値μｓ１、および、空間７１の深さｄの平均値μｓ２に関し、以下の条件（５）および（６）をそれぞれ満たすことがより望ましい。
μａ１−２σａ１≦μｓ１≦μａ１＋２σａ１  …（５）
μａ２−２σａ２≦μｓ２≦μａ２＋２σａ２  …（６）
これにより、空間７１の幅ｗの平均値μｓ１と凝集物６５の大きさの平均値μａ１、及び、空間７１の深さｄの平均値μｓ２と凝集物６５の厚さｔの平均値μａ２がそれぞれ互いに乖離することなく近い範囲内の値となるので、ワイピング動作時にほぼ全ての凝集物６５をより確実に空間７１に捕捉することができる。なお、上記第１の実施形態における間隙６４の大きさの平均値μｆと同様に、空間７１の幅ｗの平均値μｓ１、および、空間７１の深さｄの平均値μｓ２が、それぞれ（μａ１＋２σａ１）、（μａ２＋２σａ２）を超えた場合、ワイピング動作時の払拭性が低下する虞があるため、平均値μｓ１およびμｓ２は、それぞれ（μａ１＋２σａ１）以下、（μａ２＋２σａ２）以下であることが好ましい。
【００６６】
そして、本実施形態のワイパー５８を採用するワイピング機構７は、前回実行したワイピング動作からの経過時間又は総噴射量に応じてワイパー５８に付与するテンションを異ならせる場合、条件（３）および（４）が成立するように空間７１を広げる。
【００６７】
本実施形態においても、上記条件（３）および（４）を満たした状態でワイピング動作が行われることにより、ノズル形成面２３にある凝集物６５がワイパー５８の空間７１に捕捉される。空間７１に凝集物６５が捕捉されることにより、ワイパー５８の繊維とノズル形成面２３との間で凝集物６５が挟まれた状態でノズル形成面２３を摺動することが抑制される。これにより、凝集物６５によりノズル形成面２３の撥液膜４７が傷つけられて摩耗することによる撥液性の低下が抑制される。その結果、撥液膜４７の撥液性の低下によるインク滴の飛翔曲がり等の不具合が抑制される。なお、他の構成については第１の実施形態と同様である。
【００６８】
図１１は、ワイピング機構の変形例について説明する図である。
図５に例示したワイピング機構７では、２つの押圧ローラー６０ａ，６０ｂにワイパー９が架け渡された構成であったが、本変形例のワイピング機構７２では、押圧ローラー７３が１つだけ設けられている点で上記ワイピング機構７と異なっている。この構成では、ワイピング動作の際、ノズル形成面２３と押圧ローラー７３との間の狭い範囲で払拭されることになり、上記ワイピング機構７の場合と比較してノズル形成面２３に対する面圧が大きくなる。この構成においては、上記第２の実施形態におけるワイパー６８を採用することが望ましい。すなわち、上記ワイパー６８の第２層７０が弾性を有するため、当該第２層７０が払拭時の面圧を緩和する。これにより、ワイパー６８とノズル形成面２３との間に凝集物６５が挟まれて引き摺られたとしても、撥液膜４７へのダメージを低減することが可能となる。また、第１層６９が厚さ方向に押しつぶされて空間７１の寸法（見かけ上の容積）が小さくなることが抑制されるので、より確実にノズル形成面２３における凝集物６５を捕捉することができる。なお、他の構成については図５に例示したワイピング機構７と同様である。
【００６９】
なお、上記第１の実施形態では、凝集物６５の大きさの推定された平均値μａに基づき上記の条件（１）が成立しないと判定された場合に、ワイパー９に付与する払拭方向のテンションを高めることで、間隙６４を当該払拭方向に広げて条件（１）を満たすように調整する構成を例示したが、これには限られず、ワイパー９に付与するテンション（力）を高めずにワイピング動作を行うようにしてもよい。この場合、例えば、前回実行されたワイピング動作からの経過時間、又は、その間において記録ヘッド２から噴射されたインクの総噴射量（総噴射回数）から推定される凝集物６５の大きさの平均値μｓに基づき、ワイパー９の間隙６４を広げることなくμａ＋３σａ＝μｆ＋３σｆとなったタイミング（あるいはこれよりも少し前のタイミング）でワイピング動作を実行するように構成することも可能である。この構成によれば、テンションを高めても間隙６４が広がりにくい繊維素材の払拭部材においてもワイピング動作時にノズル形成面２３における凝集物６５を間隙６４に捕捉することができる。
【００７０】
上記第２の実施形態でも同様に、推定される凝集物６５に係る平均値μｓ１，μｓ２に基づき、ワイパー６８の空間７１を広げることなく、μａ１＋３σａ１＝μｓ１＋３σｓ１、又は、μａ２＋３σａ２＝μｓ２＋３σｓ２のいずれか一方が成立したタイミング（あるいはいずれか一方が成立するよりも少し前のタイミング）でワイピング動作を実行することができる。この構成でも同様に、テンションを高めても空間７１が広がりにくい繊維素材の払拭部材においてもワイピング動作時にノズル形成面２３における凝集物６５を空間７１に捕捉することができる。
【００７１】
また、上記条件（１）に関し、凝集物６５が比較的柔らかい等のように、ノズル形成面２３からより除去しやすい場合、以下のように条件を緩和してもよい。
μａ＋２σａ≦μｆ＋２σｆ  …（７）
上記条件（３）および（４）についても同様であり、それぞれ以下のように緩和することができる。
μａ１＋２σａ１≦μｓ１＋２σｓ１  …（８）
μａ２＋２σａ２≦μｓ２＋２σｓ２  …（９）
このように各条件を緩和することにより、ワイピング動作の実行頻度をより低減することができる。これにより、その分、プリンター１のスループットをさらに向上させることができる。その結果、プリンター１による印刷物等の生産性が向上する。
【００７２】
さらに、上記各実施形態においては、ワイパー９がノズル形成面２３に当接した状態でユニット本体５１が払拭方向に移動してワイピング動作が行われる構成を例示したが、これには限られず、ノズル形成面２３とユニット本体５１との相対位置を維持した状態で、ワイパー９を回動させることによりワイピング動作が行われてもよい。あるいは、ワイピング機構７は駆動せずに、記録ヘッド２を払拭方向に移動させることによりワイピング動作を行う構成を採用することができる。要するに、ワイパー９とノズル形成面２３とが相対的に移動することでワイピング動作を行えばよい。
【００７３】
なお、以上では、プリンター１の記録ヘッド２のノズル形成面２３を払拭する払拭部材（ワイパー９）に本発明を適用した例を説明したが、これに限定されるものではない。本発明は、液体を噴射する液体噴射ヘッドのノズル形成面を払拭するものであれば、例えば、液晶ディスプレイ等のカラーフィルターの製造に用いられる色材噴射ヘッド、有機ＥＬ（Electro Luminescence）ディスプレイ、ＦＥＤ（面発光ディスプレイ）等の電極形成に用いられる電極材噴射ヘッド、バイオチップ（生物化学素子）の製造に用いられる生体有機物噴射ヘッド等のノズル形成面を払拭する払拭部材にも適用することができる。
【符号の説明】
【００７４】
１…プリンター，２…記録ヘッド，３…キャリッジ，４…ガイドロッド，５…プラテン，６…キャッピング機構，７…ワイピング機構，８…キャップ，９…ワイパー，１１…プリンターコントローラー，１２…インターフェース部，１３…ＣＰＵ，１４…記憶部，１５…駆動信号発生回路，１６…ヘッドコントローラー，１７…紙送り機構，１８…キャリッジ移動機構，２３…ノズル形成面，２４…ノズルプレート，２５…連通基板，２６…圧力室形成基板，２７…振動板，２８…圧電素子，２９…保護基板，３０…吐出ユニット，３１…ユニットケース，３２…導入口，３４…共通液室，３６…配線空部，３７…収納空部，３８…圧力室，４０…ノズル，４１…第１ノズル部，４２…第２ノズル部，４３…凹部，４４…配線接続空部，４５…フレキシブル基板，４６…保護膜，４７…撥液膜，４９…凝集物，５１…ユニット本体，５２…レール，５３…ケーシング，５６…第１ロール，５７…第２ロール，５８…第１軸，５９…第２軸，６０…押圧ローラー，６１…遊転軸，６２…開口部，６３…洗浄液ディスペンサー，６４…間隙，６５…凝集物，６８…ワイパー，６９…第１層，７０…第２層，７１…空間，７２…ワイピング機構，７３…押圧ローラー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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