(57)【要約】      （修正有）【課題】肌が局所的に熱を持ってしまうことを防止することができる高周波美容処理装置を提供する。【解決手段】第１の電極２２ａと、前記第１の電極２２ａの外側に位置する第２の電極２２ｂと、前記第１及び第２の電極間に位置する電気絶縁部と、電源部とを備える高周波高周波美容処理装置であって、前記第１の電極２２ａは、前記第１の面の反対側の第２の面と、前記第１の面及び第２の面を接続し、前記第１の面の外周を形成する前記閉曲線に接する第３の面をさらに有し、前記第２の電極２２ｂは、前記第４の面の反対側の第５の面と、前記第４の面及び第５の面を接続し、前記第４の面の内周を形成する前記閉曲線に接し、前記第３の面と相対する第６の面をさらに有し、前記第３の面の少なくとも一部及び前記第６の面の少なくとも一部ならびに前記第１及び第４の面は、前記電気絶縁部よりも前記第２の面から前記第１の面に向かう方向に突出する。【選択図】図１
2018149343.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内周を形成する閉曲線と外周を形成する閉曲線との間に被施術者の肌面に当接するための第１の面を有する第１の電極と、前記第１の電極の外側に位置し内周を形成する閉曲線と外周を形成する閉曲線との間に被施術者の肌面に当接するための第４の面を有する第２の電極を備える電極部と、
前記第１及び第２の電極間に位置する電気絶縁部と、
前記第１及び第２の電極間に高周波電圧を印加する電源部と
を具備し、
前記第１の電極は、前記第１の面の反対側の第２の面と、前記第１の面及び第２の面を接続し、前記第１の面の外周を形成する前記閉曲線に接する第３の面をさらに有し、
前記第２の電極は、前記第４の面の反対側の第５の面と、前記第４の面及び第５の面を接続し、前記第４の面の内周を形成する前記閉曲線に接し、前記第３の面と相対する第６の面をさらに有し、
前記第３の面の少なくとも一部及び前記第６の面の少なくとも一部ならびに前記第１及び第４の面は、前記電気絶縁部よりも前記第２の面から前記第１の面に向かう方向に突出する高周波美容処理装置。
【請求項２】
前記第１の面の一部及び前記第４の面の一部が互いに同心円環の関係にある請求項１に記載の高周波美容処理装置。
【請求項３】
前記第３の面の一部及び前記第６の面の一部が互いに同心円筒面の関係にある請求項１に記載の高周波美容処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高周波美容処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、一対の球状電極を有する高周波美容処理装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。この高周波美容処理装置では、被施術者の顔や手足などに一対の球状電極を接触させて、電極間の肌（皮膚）に高周波電流を流すことができる。このことにより、肌の老化防止やニキビの治癒、シミやそばかす、その他の肌のトラブルの改善を図ることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開第２０１１／１６２１７４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
高周波電流は、肌面において電極間の最短距離を流れることが知られている。すなわち、球状電極間の肌には、一様に高周波電流が流れるわけではなく、一対の球状電極を最短距離で結ぶ直線上の肌に集中して電流が流れる。
この高周波電流により肌が局所的に熱を持ちやすくなり、不快感を覚えたり火傷を負ってしまったりすることがあった。
本発明は、上記した事情を考慮してなされたものであり、高周波電流を流された肌が局所的に熱を持ってしまうことを防止することができる高周波美容処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の実施の形態の高周波美容処理装置は、携帯可能な筐体と、前記筐体の先端部に配置された、被施術者の肌に当接される並行電極と、前記筐体に内蔵された前記一対の並行電極間に高周波電流を通電させる第１の電源部とを具備する。
本発明の実施の形態の高周波美容処理装置は、携帯可能な筐体と、前記筐体の先端部に内蔵されたヒートシンクと、前記ヒートシンク上にペルチェ素子を介して配置された被施術者の肌に当接される並行電極と、前記筐体に内蔵された前記一対の並行電極間に高周波電流を供給する第１の電源部と、前記筐体に内蔵された前記ペルチェ素子に駆動電流を供給する第の電源部とを具備ことができる。
【０００６】
本発明の実施の形態の高周波美容処理装置は、前記一対の並行電極に流れる高周波電流の値を検知する電流検知部をさらに備え、前記第１の電源部は、前記電流検知部が検知した高周波電流の値が閾値以上だった場合に前記一対の並行電極への高周波電流の供給を行わないように構成してもよい。
本発明の実施の形態の高周波美容処理装置は、並行電極と肌面との接触を検知する接触検知部をさらに備え、前記第１の電源部は、前記接触検知部が前記一対の並行電極と肌面との接触を検知したことに対応して前記一対の並行電極への高周波電流の供給を行うように構成してもよい。前記一対の並行電極は、平行配置された一対の電極であることが望ましい。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の高周波美容処理装置によれば、高周波電流を流された肌が局所的に熱を持ってしまうことを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】第１の実施の形態の高周波美容処理装置１を示す斜視図。
【図２】高周波美容処理装置１の一部断面図。
【図３】制御回路基板７０の機能を示すブロック図。
【図４】一対の電極２２ａ及び電極２２ｂに流れる高周波電流について説明する図。
【図５】第２の実施の形態の高周波美容処理装置２を示す斜視図。
【図６】高周波美容処理装置２の一部断面図。
【図７】制御回路基板２７０の機能を示すブロック図。
【図８】高周波美容処理装置２の動作を示すフローチャート。
【図９】高周波美容処理装置１の変形例を示す一部断面図。
【図１０】電極２２ａ及び電極２２ｂの変形例を示す概略図。
【図１１】電極２２ａ及び電極２２ｂの変形例を示す概略図。
【図１２】電極２２ａ及び電極２２ｂの変形例を示す概略図。
【図１３】その他の変形例を示す概略図。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、実施の形態を図に基づき説明する。
［第１の実施の形態］
図１は、高周波美容処理装置１を示す斜視図である。図２は、高周波美容処理装置１の一部の断面を拡大して示す拡大断面図である。
（高周波美容処理装置１について）
図１及び図２に示すように第１の実施の形態の高周波美容処理装置１は、本体１０、電極ヘッド２０を有する。施術者が、電極ヘッド２０を被施術者の肌面に当接することにより、被施術者の肌面に対して高周波電流を流すことが出来る。この高周波電流によって被施術者の肌に対して美容処理を行うことができる。ここで「美容処理」とは、高周波電流によって肌の老化防止やニキビの治癒、シミやそばかす、その他の肌のトラブルの改善を図ることである。
【００１０】
（本体１０について）
図２に示すように、本体１０には、二次電池３０、ペルチェ素子４０、ヒートシンク５０、冷却ファン６０及びこれらを制御する制御回路基板７０が収容される。
本体１０は、略直方体形状を有する。本体１０は、プラスチックを射出成形することに形成される。本体１０は、塩化ビニル樹脂、ポリエチレン及びポリカーボネートなどを難燃性化したプラスチックにより形成することが望ましい。
本体１０は、電極ヘッド２０が取り付けられる表面部１０ａ及びこの表面部１０ａの反対側の面である裏面部１０ｂを有する。本体１０には、二次電池３０の充電回路を商用電源に接続するための電源コード１００が着脱自在に取り付けられる（図１参照）。
【００１１】
表面部１０ａの略中央部には、被施術者によって操作される操作ボタン８０が配置値される。操作ボタン８０は、液晶パネルに表示されたタッチ式のスイッチであってもよいし機械的なスイッチでもよい。表面部１０ａの略中央部には、表示部９０が設けられる。表示部９０は、ＬＥＤや液晶表示パネルを備えることができる。
裏面部１０ｂには、冷却ファン６０が送風した風を排気するための排気孔１０ｃが所定の間隔ごとに設けられている。
【００１２】
（電極ヘッド２０について）
電極ヘッド２０は、電極基台２１、一対の電極２２ａ及び電極２２ｂから構成されている。電極基台２１は、プラスチック、非金属またはセラミックなど種々の電気絶縁材料を用いて形成することができる。電極基台２１は、断面が台形状となるように形成される。電極基台２１は、矩形状の表面２１ａ及び裏面２１ｂを有する。電極基台２１は、本体１０の先端側に取り付けられている。ここで、裏面２１ｂは、本体１０の表面部１０ａと密着する。一対の電極２２ａ及び電極２２ｂ、二次電池３０、ペルチェ素子４０、ヒートシンク５０および冷却ファン６０は、電気配線７０aによってそれぞれ制御回路基板７０に電気的に接続される。
表面２１ａには、一対の電極２２ａ及び電極２２ｂを保持するための円環状の内側溝部２１ｃ及び外側溝部２１ｄが形成されている。ここでは、内側溝部２１ｃは、外側溝部２１ｄよりも小さい径となるように形成されている。
【００１３】
内側溝部２１ｃ及び外側溝部２１ｄは、周方向に並行している。「周方向に並行する」とは、内側溝部２１ｃ及び外側溝部２１ｄ間の距離がどこでも略同一であることを意味する。詳細には、図２に示すように、内側溝部２１ｃは、内側溝部２１ｃの外周縁を含む直径Ｌ１が、外側溝部２１ｄの内周縁間の直径Ｌ２よりも小さく形成されている。要するに、内側溝部２１ｃと外側溝部２１ｄは所定の間隔をおいて同心円状に形成されている。
電極２２ａは第１の電極である。電極２２ａは、略中央が開口する円環形状を有する。電極２２ａは、平面電極である。電極２２ａは、被施術者の肌面に当接する平坦状の肌接触面１２１を有する。電極２２ａは、電極基台２１の内側溝部２１ｃに装着される。電極２２ａは、肌接触面１２１を含む一部が電極基台２１の表面から突出している。
【００１４】
電極２２ｂは第２の電極である。電極２２ｂは、電極２２ａと同様に略中央が開口する円環形状に形成されている。電極２２ｂは、平面電極である。電極２２ｂは、被施術者の肌面に当接する平坦状の肌接触面１２２を有する。電極２２ｂは、電極基台２１の外側溝部２１ｄに装着される。電極２２ｂは、肌接触面１２２を含む一部が電極基台２１の表面から突出している。
以上説明したように構成された電極２２ａ及び電極２２ｂは、制御回路基板７０によって、例えば１［ＭＨｚ］〜４［ＭＨｚ］程度の高周波電圧（第１の周波数の高周波電圧：ＲＦ電圧）を印加される。したがって電極２２ａ及び電極２２ｂを被施術者の肌面に当てることで電極２２ａ及び電極２２ｂの間の肌に高周波電流を流すことができる。
【００１５】
（二次電池３０について）
二次電池３０は、一対の電極２２ａ及び電極２２ｂ、ペルチェ素子４０、冷却ファン６０、制御回路基板７０などに対して電力を供給するための予備電源である。二次電池３０は、商用電源から得られる電力によって予め充電可能である。二次電池３０によって、商用電源から電力を得ることが困難な屋外や風呂の中でも、高周波美容処理装置１を使用することができる。二次電池３０は、例えば、乾電池、キャパシタまたは燃料電池である。
【００１６】
（ペルチェ素子４０について）
ペルチェ素子４０は、異なる金属同士または半導体同士を接合した板状の熱熱電素子である。ペルチェ素子４０は発熱面４０ａ及び吸熱面４０ｂを有する。ペルチェ素子４０は、電極ヘッド２０の裏面２１ｂ側に配置される。発熱面４０ａは、ヒートシンク５０と密着する。吸熱面４０ｂは、電極ヘッド２０の裏面２１ｂと接着される。
ペルチェ素子４０の接合面に電流が流されることによって、発熱面４０ａ及び吸熱面４０ｂにおいて熱の偏りが起こる。すなわち、発熱面４０ａは熱くなり、吸熱面４０ｂは冷たくなる。
この構成により、ペルチェ素子４０では、電極ヘッド２０の一対の電極２２ａ、電極２２ｂ及び電極基台２１の熱が、吸熱面４０ｂに移動する。結果として、ペルチェ素子４０によって、電極ヘッド２０全体を冷やすことができる。なお、吸熱面４０ｂの周りを断熱材で囲うようにして本体１０に収容することが望ましい。このことのよって、発熱面４０ａの熱が吸熱面４０ｂに回り込み、吸熱面４０ｂの温度が上昇してしまうことを防止することができる。
【００１７】
（ヒートシンク５０について）
ヒートシンク５０は、略直方体状を有する。ヒートシンク５０は、熱伝導性の良い金属（例えば、アルミや銅）で形成されている。ヒートシンク５０は、電極ヘッド２０やペルチェ素子４０に比べて十分な肉厚を有しており、これらに比べて熱容量が大きい。ヒートシンク５０は、平坦面５０ａ及び平坦面５０ｂを備える。ヒートシンク５０は、ペルチェ素子４０を介して、電極ヘッド２０と熱的に接続されている。平坦面５０ａは、ペルチェ素子４０の発熱面４０ａと密着する。平坦面５０ｂは、冷却ファン６０と密着する。
【００１８】
したがって、ペルチェ素子４０の発熱面４０ａの熱が効率よくヒートシンク５０に移動する。結果として、ペルチェ素子４０を介して電極ヘッド２０の熱が効率よくヒートシンク５０に移動する。そして、ヒートシンク５０に移動した熱は、冷却ファン６０によって、排気孔１０ｃから排熱される。ここでは図示を省略したが、ヒートシンク５０の表面部には複数の放熱フィンを形成することが望ましい。複数の放熱フィンによって、ヒートシンク５０の空気との接触面積が増し、冷却ファン６０による排熱の効率が高まる。
冷却ファン６０は、排気孔１０ｃの近傍に配置される。冷却ファン６０は、モータ６２の軸を回転軸とするファン６３を有する送風装置である。
【００１９】
（制御回路基板７０について）
次に図３を用いて、制御回路基板７０について説明する。図３は制御回路基板７０の機能ブロック図である。
図３に示すように、制御回路基板７０は、電極制御部１７１、ペルチェ素子制御部１７２、ファン制御部１７３、肌温度検知部１７４、メモリ部１７５及びこれらを制御する制御部１７６を有する。これら電極制御部１７１〜制御部１７６は、電子素子（例えば、コンデンサ、コイル、ＩＣチップ、メモリなど）によって構成される。
電極制御部１７１は、第１の電源部である。電極制御部１７１は、一対の電極２２ａ及び電極２２ｂへ印加する高周波電圧を生成する発振回路、発振された電圧を昇圧する昇圧回路などを備える。電極制御部１７１は、１［ＭＨｚ］〜４［ＭＨｚ］の周波数の高周波電圧を一対の電極２２ａ及び電極２２ｂに印加できる。
【００２０】
ペルチェ素子制御部１７２は、ペルチェ素子４０に電圧を印加して電流を流すことによりペルチェ素子を駆動させることが出来る。この結果、ペルチェ素子４０の発熱面４０ａは発熱し、吸熱面４０ｂの温度は低下する。ペルチェ素子制御部１７２は、図示を省略したセンサによって、ペルチェ素子４０の発熱面４０ａまたは吸熱面４０ｂの温度を検出することができる。ペルチェ素子制御部１７２は、ペルチェ素子４０の発熱面４０ａまたは吸熱面４０ｂの温度が略一定となるようにペルチェ素子４０の温度制御を行うことが出来る。例えば、ペルチェ素子制御部１７２がペルチェ素子４０に印加する電圧の値を低くしていくにしたがって、ペルチェ素子４０の発熱面４０ａの温度は低下していく。ペルチェ素子４０の発熱面４０ａの温度を高くしたい場合には、ペルチェ素子４０に印加する電圧の値を高くすればよい。
ペルチェ素子４０に間欠的に電圧を印加することで発熱面４０ａの温度を一定に保つこともできる。
ファン制御部１７３は、冷却ファン６０を駆動させる。ファン制御部１７３は、図示を省略したセンサによって、電極ヘッド２０の電極基台２１やペルチェ素子４０の発熱面４０ａの温度を検出することができる。そして、ファン制御部１７３は、センサよって検出された発熱面４０ａや電極基台２１の温度に基づいて、これらの温度を一定温度以下にするために冷却ファン６０の回転数を可変させることができる。
このようにペルチェ素子制御部１７２及びまたはファン制御部１７３によって、ペルチェ素子４０の発熱面４０ａまたは吸熱面４０ｂの温度が略一定となるようにペルチェ素子４０の温度制御を行うことが出来る。
【００２１】
肌温度検知部１７４は、電流検知部として機能する。肌温度検知部１７４は、一対の電極２２ａ及び電極２２ｂと電気的に接続されており、一対の電極２２ａ及び電極２２ｂ間に流れる電流を検知する電流計である。
人体の肌に高周波電流を流した場合、肌が発熱する。このとき、肌の温度上昇に伴って肌内部のインピーダンスが徐々に減少することが知られている。したがって、肌の温度上昇に伴って、一対の電極２２ａ及び電極２２ｂ間に流れる電流量が増加する。
肌温度検知部１７４は、検知した電流を被施術者の肌温度を示す数値に変換する。肌温度検知部１７４は、変換した数値を制御部１７６に出力する。なお肌温度検知部１７４として赤外線検知センサを用いてもよい。
【００２２】
メモリ部１７５には高周波美容処理装置１が動作する為のファームウェアやペルチェ素子制御部１７２、ファン制御部１７３によって読み出される閾値、肌温度検知部１７４から出力された被施術者の肌温度を示す数値と比較される閾値などが予め記憶されている。
制御部１７６は、被施術者による操作ボタン８０の押下操作を検知して、電極制御部１７１などを制御する。制御部１７６は、肌温度検知部１７４から出力された被施術者の肌温度を示す数値とメモリ部１７５から読み出した閾値とを比較する。比較の結果、被施術者の肌温度を示す数値が閾値以上だった場合、制御部１７６は、電極制御部１７１を制御して一対の電極２２ａ及び電極２２ｂへの電圧の印加を停止させる。この結果、肌に流れていた高周波電流が流れなくなる。このことによって、被施術者が火傷してしまうことを防止することができる。
【００２３】
（高周波美容処理装置１によって得られる効果１）
高周波美容処理装置１によれば、施術者が、被施術者の肌に対して一対の電極２２ａ及び電極２２ｂを当接することによって、高周波電流を被施術者の肌に流すことができる。この高周波電流によって肌の老化防止やニキビの治癒、シミ・そばかすその他の肌のトラブルの改善を図ることが可能となる。
このとき、ペルチェ素子４０による熱交換により、一対の電極２２ａ及び電極２２ｂを含む電極ヘッド２０全体が冷やされる。
一般的に人間の肌は高周波電流が流されたことによって発熱するが、ペルチェ素子４０によって電極ヘッド２０全体を冷却することができるので、結果として高周波電流を流されたことによって発生した肌内の熱を除去することができる。
【００２４】
詳述すると、ペルチェ素子４０によって電極ヘッド２０を冷やすことにより、施術者が一対の電極２２ａ及び電極２２ｂを被施術者の肌面に接触させたとき、同時に一対の電極２２ａ及び電極２２ｂ近傍の肌を冷やすことができる。この結果、一対の電極２２ａ及び電極２２ｂを介して流れた高周波電流によって発熱した肌をペルチェ素子４０によって冷却された電極ヘッド２０によって直ちに冷却することができる。
要するに、ペルチェ素子４０及びこのペルチェ素子４０と熱的に接続する電極ヘッド２０は、一対の電極２２ａ及び電極２２ｂを介して流れた高周波電流による肌の過熱防止のための安全装置として機能する。
【００２５】
肌面に高周波電流を流した場合、最初に、肌面上から数［μｍ］〜数［ｍｍ］の肌内部が発熱することが知られている。高周波美容処理装置１によれば、ペルチェ素子４０によって冷やされた電極ヘッド２０表皮から徐々に内部を冷やしていく。
【００２６】
（高周波美容処理装置１によって得られる効果２）
ここで、図４を用いて高周波美容処理装置１によって得られる、さらなる効果について詳細に説明する。図４は一対の電極２２ａ及び電極２２ｂに流れる高周波電流について説明する図である。
この実施の形態の高周波美容処理装置１によれば、上述のように一対の電極２２ａ及び電極２２ｂが互いに並行かつ同心円状に配設されている。したがって、電極２２ａ及び電極２２ｂ間の距離ｄがどこでも略同一になる。この結果、電極２２ａ及び電極２２ｂ間には一様に高周波電流が流れるようになる（図４の斜線参照）。
【００２７】
このことから電極２２ａ及び電極２２ｂ間に位置する被施術者の肌に対して、広範囲に、かつ均等に高周波電流を流すことが可能となる。これに対応して、被施術者の肌の発熱面積も広く、かつ通電による刺激も均等になる。例えば、球状電極間に高周波電流を流す場合に比べて、肌の単位面積当たりの発熱量が小さくなる。この結果、従来問題とされていた高周波電流により肌が局所的に熱を持ちやすくなったり、被施術者が不快感を覚えたりすることを防止することができる。
（高周波美容処理装置１によって得られる効果３）
また、高周波美容処理装置１によれば、肌接触面１２１が平坦に形成されているので、肌接触面１２１が平坦に形成されていない球状電極よりも電極２２ａと被施術者の肌面との接触面積が広くなる（電極２２ｂも同様）。
【００２８】
この結果、一対の電極２２ａ及び電極２２ｂを被施術者の肌面にあてたときに、被施術者に対してチクチクとした不快感を与えてしまうことを防止することができる。
（高周波美容処理装置１によって得られる効果４）
さらに高周波美容処理装置１によれば、肌温度検知部１７４を備えることによって、被施術者の肌温度を監視することができる。したがって、被施術者が火傷を負ってしまったりすることをより確実に防止することができる。
【００２９】
［第２の実施の形態］
次に、図５〜図８を用いて本発明の第２の実施の形態の高周波美容処理装置２について説明する
【００３０】
まず、図５〜図７を用いて高周波美容処理装置２の構成について説明する。図５は、高周波美容処理装置２を示す斜視図である。図６は、高周波美容処理装置２の一部の断面を拡大して示す拡大断面図である。図７は、高周波美容処理装置２の機能を説明するブロック図である。以下、第１の実施の形態の高周波美容処理装置１と対応する箇所には同一の符号を付け詳細な説明は省略する。
【００３１】
図５及び図６に示すように、高周波美容処理装置２は、本体２１０、電極ヘッド２２０、フォトセンサ２２３ａ、フォトセンサ２２３ｂ、超音波振動子２２５及び制御回路基板２７０を備える。
【００３２】
本体２１０は、高周波美容処理装置１が備える本体１０と対応する形状や構造を有する。ただし、本体２１０は、ペルチェ素子４０、ヒートシンク５０及び冷却ファン６０を収容しない。したがって、本体２１０には、排気孔１０ｃが形成されていない。
【００３３】
電極ヘッド２２０は、電極ヘッド２０と対応する、形状、構造及び機能を有する。電極ヘッド２２０は、電極基台２２１、一対の電極２２ａ及び電極２２ｂ、中央電極２３０から構成されている。
【００３４】
一対の電極２２ａ及び電極２２ｂ、中央電極２３０、フォトセンサ２２３ａ、フォトセンサ２２３ｂおよび超音波振動子２２５は、電気配線７０aによってそれぞれ制御回路基板２７０に電気的に接続される。
【００３５】
電極基台２２１は、矩形状の表面２２１ａ及び裏面２２１ｂを有する。表面２２１ａには、一対の電極２２ａ及び電極２２ｂ、中央電極２３０をそれぞれ保持するための円環状の内側溝部２１ｃ，外側溝部２１ｄ及び中央孔２１ｅが形成されている。表面２２１ａには、センサ取付孔２１ｆ及びセンサ取付孔２１ｇが形成されている。
【００３６】
中央孔２１ｅは、略正円形状に形成される。中央孔２１ｅは、電極基台２２１の中央部に位置する。中央孔２１ｅは、表面２２１ａから裏面２２１ｂに向かって設けられる。中央孔２１ｅは、内側溝部２１ｃ及び外側溝部２１ｄと同心的に配設される。中央孔２１ｅの円周部は、内側溝部２１ｃの円周部と並行している。中央孔２１ｅの円周部と中央孔２１ｅの円周部の間隔は、図４の距離ｄと同様に、どこでも略同一になる。中央孔２１ｅには、中央電極２３０が挿入される。
【００３７】
センサ取付孔２１ｆ及びセンサ取付孔２１ｇは、内側溝部２１ｃ及び外側溝部２１ｄ間に配設される。センサ取付孔２１ｆ及びセンサ取付孔２１ｇは、本体２１０の長手方向において、中央孔２１ｅを挟むように配設される。センサ取付孔２１ｆには、フォトセンサ２２３ａが挿入される。センサ取付孔２１ｇには、フォトセンサ２２３ｂが挿入される。
【００３８】
中央電極２３０は、第３の電極である。中央電極２３０は、内部が空洞の略円柱形状を有する。中央電極２３０は、中央孔２１ｅと対応する形状を有する。中央電極２３０は、金属で形成することができる。中央電極２３０には、薄い金属プレートを用いることもできる。
【００３９】
中央電極２３０は、超音波振動子２２５と接着される。中央電極２３０は、超音波振動子２２５から振動が与えられ、超音波振動子２２５とともに振動する。
中央電極２３０は、フランジ部２３０aを備える。フランジ部２３０aが、電極基台２２１内部の凹部２２１cに配置されることで、中央電極２３０が中央孔２１ｅから脱落することを防止することができる。
【００４０】
中央電極２３０は、電極２２ｂの内径Ｌ３よりも小さい。中央電極２３０の周縁は、電極２２ａの周縁と並行する。
中央電極２３０は、肌接触面２３１を有する。肌接触面２３１は、被施術者の肌面に当接される。肌接触面２３１は、平坦形状に形成されている。肌接触面２３１は、曲面形状に形成することもできる。肌接触面２３１を曲面形状とすることで、被施術者の肌の曲面に合わせやすくなる。この結果、被施術者の肌と肌接触面２３１との当接面積を増やすことができる。
【００４１】
中央電極２３０は、肌接触面２３１を含む一部が表面２２１ａから突出する。
中央電極２３０と電極２２ｂには、制御回路基板２７０によって、例えば５［Ｈｚ］〜１００[ｋＨｚ]の電圧（第２の周波数の電圧：ＥＭＳ電圧)が印加される。ＥＭＳ電圧は、低〜中周波の電圧である。ＥＭＳ：Electrical Muscle Stimulationとは、筋肉に電気を流し、筋肉を強制的に収縮させることである。収縮した筋肉は、ＥＭＳ電圧の値が０の時点で元の状態に戻る。このことを繰り返すことによって筋肉の増強を図ることができる。なお、ＥＭＳ電圧を中央電極２３０と電極２２ａ間に印加してもよい。ＥＭＳ電圧を電極２２ａと電極２２ｂ間に印加してもよい。
【００４２】
フォトセンサ２２３ａは、第１の接触検知部である。フォトセンサ２２３ｂは、第２の接触検知部である。フォトセンサ２２３ａ及びフォトセンサ２２３ｂは、被施術者の肌面への一対の電極２２ａ及び電極２２ｂ、中央電極２３０の接触を検知する。フォトセンサ２２３ａ及びフォトセンサ２２３ｂは、例えばフォトダイオードである。フォトセンサ２２３ａ及びフォトセンサ２２３ｂは、周囲の照度に対応した大きさの電流を制御回路基板２７０に出力する。
【００４３】
超音波振動子２２５は、電圧を印加されることによって厚み方向に振動する。このとき、超音波振動子２２５と接着された中央電極２３０が超音波振動子２２５の振動に同期して振動する。
【００４４】
超音波振動子２２５の振動は、電極基台２２１にも伝播する。すなわち、超音波振動子２２５の振動によって、電極基台２２１全体が振動する。この振動によるマッサージ効果を被施術者の肌に与えることができる。
【００４５】
例えば、中央電極２３０と電極基台２２１との間に防振ゴムを介在させたり、中央電極２３０と電極基台２２１との間に空間を設けたりすることによって、中央電極２３０だけを振動させてもよい。
以上が、高周波美容処理装置２の主な構成の説明である。
【００４６】
ここで、各部材（一対の電極２２ａ及び電極２２ｂ、中央電極２３０及び超音波振動子２２５）への電圧の印加のパターンを説明する。高周波美容処理装置２は、下記１〜７のような電圧の印加パターン（以下、動作パターン[１]〜[７]と称す。）を有する。動作パターン[１]〜[６]によって、被施術者の肌に電流を流すことができる。動作パターン[７]によって、被施術者の肌に振動の刺激を与えることができる。
【００４７】
[１]ＲＦモード１  ：一対の電極２２ａ及び電極２２ｂ間にＲＦ電圧が印加される。
[２]ＲＦモード２  ：電極２２ｂ及び中央電極２３０間にＲＦ電圧が印加される。
[３]ＲＦモード３  ：電極２２ａ及び中央電極２３０間にＲＦ電圧が印加される。
[４]ＥＭＳモード１：一対の電極２２ａ及び電極２２ｂ間にＥＭＳ電圧が印加される。
[５]ＥＭＳモード２：電極２２ｂ及び中央電極２３０間にＥＭＳ電圧が印加される。
[６]ＥＭＳモード３：電極２２ａ及び中央電極２３０間にＥＭＳ電圧が印加される。
[７]振動モード    ：超音波振動子２２５が振動する。
【００４８】
高周波美容処理装置２では、上記動作パターン[１]〜[７]を所定時間ごとに順に実行できる。高周波美容処理装置２では、上記動作パターン[１]〜[７]ごとに、動作時間を設定できる。この動作時間は、適宜変更が可能である。
【００４９】
高周波美容処理装置２では、上記動作パターン[１]〜[７]を適宜組み合わせて実行することができる。すなわち、高周波美容処理装置２は、上記動作パターン[１]〜[７]のうち、いずれかの動作を行わないこともある。
高周波美容処理装置２では、動作パターン[７]は、他の動作パターン[１]〜[６]と同時に行うこともできる。
【００５０】
高周波美容処理装置２では、上記動作パターン[１]〜[７]において、各部材（一対の電極２２ａ及び電極２２ｂ、中央電極２３０及び超音波振動子２２５）に印加する電圧の強さ（レベル）を変更できる。例えば、高周波美容処理装置２では、各部材ごとに電圧の強さをレベル１（弱）〜レベル５（強）の５段階で変更が可能である。
【００５１】
（制御回路基板２７０について）
上記動作パターン[１]〜[７]の実行のＯＮまたはＯＦＦや電圧のレベルの変更は、制御回路基板２７０に形成された各種の電子回路によって制御される。
【００５２】
図７に示すように制御回路基板２７０は、電極制御部２７１、接触検知部２７２、操作受付部２７３、表示制御部２７４、タイマ部２７５、メモリ部２７６、電源制御部２７７及びこれらを制御する制御部２７８を有する。
【００５３】
電極制御部２７１〜制御部２７８は、電子素子（例えば、コンデンサ、コイル、ＩＣチップなど）によって構成される。
【００５４】
電極制御部２７１は、ＲＦ駆動部２７１ａ、ＥＭＳ駆動部２７１ｂ、中継部２７１ｃ、肌温度検知部２７１ｄ及び超音波振動子駆動部２７１eを備える。
電極制御部２７１は、電極制御部１７１と対応する機能を有する。ＲＦ駆動部２７１ａは、第１及び第３の電源部として機能する。ＲＦ駆動部２７１ａは、振動制御部として機能する。
【００５５】
ＲＦ駆動部２７１ａは、ＤＣ-ＡＣ変換機能を有しＲＦ電圧を生成する発振回路、電圧を昇圧する昇圧回路などを備える。ＲＦ駆動部２７１ａは、制御部２７８から、ＲＦ駆動部２７１ａが生成するＲＦ電圧の強さを指示する信号（ＲＦ電圧制御信号）を受信する。ここでは、ＲＦ駆動部２７１ａが生成するＲＦ電圧の強さは、レベル１〜レベル５で表される。ＲＦ電圧制御信号は、このレベル１〜レベル５を示す信号である。ＲＦ駆動部２７１ａが生成するＲＦ電圧の強さを示す値は、メモリ部２７６に予め保持されている。
【００５６】
ＲＦ駆動部２７１ａは、制御部２７８から受信した電圧制御信号に対応して、電源制御部２７７から入力された５[Ｖ]の直流電圧をＤＣ-ＡＣ変換し、６０〜１５０［Ｖ］の範囲で昇圧する。なお、ここで示す昇圧後の電圧の値は、Ｐｅａｋ−ｔｏ−Ｐｅａｋ−Ｖａｌｕｅである。例えば、ここで示した６０[Ｖ]の交流電圧は、最大値が+３０[Ｖ]から−３０[Ｖ]の交流電圧である。この電圧によって被施術者の肌に流れる電流の強さが変化する。ＲＦ駆動部２７１ａは、中継部２７１ｃを介して電極２２ａ、電極２２ｂまたは中央電極２３０にＲＦ電圧を印加する。
【００５７】
ＥＭＳ駆動部２７１ｂは、ＤＣ-ＡＣ変換機能を有しＥＭＳ電圧を生成する発振回路、電圧を昇圧する昇圧回路などを備える。ＥＭＳ駆動部２７１ｂは、制御部２７８から、ＥＭＳ駆動部２７１ｂが生成するＥＭＳ電圧の強さを指示する信号（ＥＭＳ電圧制御信号）を受信する。ここでは、ＥＭＳ駆動部２７１ｂが生成するＥＭＳ電圧の強さは、レベル１〜レベル５で表される。ＥＭＳ電圧制御信号は、このレベル１〜レベル５を示す信号である。ＥＭＳ電圧の強さを示す値は、メモリ部２７６に予め保持されている。
【００５８】
ＥＭＳ駆動部２７１ｂは、制御部２７８から受信した電圧制御信号に対応して、電源制御部２７７から入力された５[Ｖ]の直流電圧をＤＣ-ＡＣ変換し、１０〜１５０［Ｖ］の範囲で昇圧する。なお、ここで示す昇圧後の電圧の値は、Ｐｅａｋ−ｔｏ−Ｐｅａｋ−Ｖａｌｕｅである。例えば、ここで示した６０[Ｖ]の交流電圧は、最大値が+３０[Ｖ]から−３０[Ｖ]の交流電圧である。この電圧によって被施術者の肌に流れる電流の強さが変化する。ＥＭＳ駆動部２７１ｂは、中継部２７１ｃを介して電極２２ａ、電極２２ｂまたは中央電極２３０にＥＭＳ電圧を印加する。
【００５９】
中継部２７１ｃはトランジスタやコンデンサなどによって構成されるリレー回路を備える。中継部２７１ｃは、制御部２７８に制御されて、ＲＦ駆動部２７１ａに接続される電極（電極２２ａ、電極２２ｂまたは中央電極２３０）のパターンを切り替える。
【００６０】
（パターン１）
中継部２７１ｃは、ＲＦ駆動部２７１ａに対して、電極２２ａ及び電極２２ｂを接続する。この結果、ＲＦ駆動部２７１ａによって、電極２２ａ及び電極２２ｂ間にＲＦ電圧が印加される。このとき、中央電極２３０は、電極２２ａ及び電極２２ｂに対して、電気的に絶縁された状態となる。
【００６１】
（パターン２）
中継部２７１ｃは、ＲＦ駆動部２７１ａに対して、電極２２ａ及び中央電極２３０を接続する。この結果、ＲＦ駆動部２７１ａによって、電極２２ａ及び中央電極２３０間にＲＦ電圧が印加される。このとき、電極２２ｂは、電極２２ａ及び中央電極２３０に対して、電気的に絶縁される。
【００６２】
（パターン３）
中継部２７１ｃは、ＲＦ駆動部２７１ａに対して、電極２２ｂ及び中央電極２３０を接続する。この結果、ＲＦ駆動部２７１ａによって、電極２２ｂ及び中央電極２３０間にＲＦ電圧が印加される。このとき、電極２２ａは、電極２２ｂ及び中央電極２３０に対して、電気的に絶縁される。
【００６３】
同様に、中継部２７１ｃは、制御部２７８に制御されて、ＥＭＳ駆動部２７１ｂに接続される電極（電極２２ａ、電極２２ｂまたは中央電極２３０）のパターンを切り替える。ＥＭＳ駆動部２７１ｂと電極２２ａ、電極２２ｂまたは中央電極２３０が接続されているときには、ＲＦ駆動部２７１ａと電極２２ａ、電極２２ｂまたは中央電極２３０は、電気的に絶縁されている。
【００６４】
肌温度検知部２７１ｄは、肌温度検知部１７４と対応する機能を有する。肌温度検知部２７１ｄは、電流検知部として機能する。肌温度検知部２７１ｄは、ＲＦ駆動部２７１ａの駆動によって被施術者の肌に流れた電流の値を検知する。肌温度検知部２７１ｄは、検知した電流の値を被施術者の肌温度を示す数値に変換して制御部２７８に出力する。
【００６５】
超音波振動子駆動部２７１eは、４０［ｋＨｚ］〜４［ＭＨｚ］の周波数の高周波電圧を超音波振動子２２５に出力することができる。超音波振動子駆動部２７１eが、出力する高周波電圧は、超音波振動子２２５の固有振動数に合わせて、あらかじめ設定されている。
【００６６】
超音波振動子駆動部２７１eは、制御部２７８に制御されて、超音波振動子２２５に高周波電圧を印加する。超音波振動子駆動部２７１eは、ＤＣ-ＡＣ変換機能を有し高周波電圧を生成する発振回路、電圧を昇圧する昇圧回路などを備える。例えば、超音波振動子駆動部２７１eは、電源制御部２７７から入力された５[Ｖ]の直流電圧をＤＣ-ＡＣ変換し、２４［Ｖ］まで昇圧することができる。なお、ここで示す昇圧後の電圧の値は、Ｐｅａｋ−ｔｏ−Ｐｅａｋ−Ｖａｌｕｅである。すなわち、ここで示した２４[Ｖ]の交流電圧は、最大値が+１２[Ｖ]から−１２[Ｖ]の交流電圧である。
【００６７】
接触検知部２７２は、フォトセンサ２２３ａ及びフォトセンサ２２３ｂの出力を常時監視している。接触検知部２７２には、フォトセンサ２２３ａ及びフォトセンサ２２３ｂが出力した電流が入力される。
【００６８】
接触検知部２７２は、所定の閾値と入力された電流とを比較する。接触検知部２７２は、フォトセンサ２２３ａから入力された電流が、閾値よりも小さかった場合、制御部２７８に対して第１の接触検知信号を出力する。
【００６９】
接触検知部２７２は、フォトセンサ２２３ｂから入力された電流が、閾値よりも小さかった場合、制御部２７８に対して第２の接触検知信号を出力する。また、接触検知部２７２は、フォトセンサ２２３ａが電流を出力していない場合は、フォトセンサ２２３ａからの電流を０[ｍＡ]として扱う。同様に、接触検知部２７２は、フォトセンサ２２３ｂが電流を出力していない場合は、フォトセンサ２２３ｂからの電流を０[ｍＡ]として扱う。
【００７０】
なお、接触検知部２７２は、電流の値ではなく、フォトセンサ２２３ａ及びフォトセンサ２２３ｂが出力する信号の電圧の値によって、第１及び２の接触検知信号を制御部２７８に対して出力してもよい。また、接触検知部２７２は、閾値と入力された電流の値を比較するのではなく、フォトセンサ２２３ａまたはフォトセンサ２２３ｂから電流が入力されたか否かによって制御部２７８に対して第１または第２の接触検知信号を出力してもよい。
【００７１】
操作受付部２７３は、操作ボタン８０の押下操作を検知する。「押下操作」は、例えば、主電源のＯＮまたはＯＦＦである。操作受付部２７３は、高周波美容処理装置２の動作の切り替えを指示する操作、高周波美容処理装置２の動作時間を設定するための操作も受け付ける。操作受付部２７３は、電圧のレベルを変更する操作も受け付ける。
【００７２】
表示制御部２７４は、表示部９０を制御する。表示制御部２７４は、例えば、表示部９０がＬＥＤで構成されている場合、ＬＥＤの発光を制御する。表示制御部２７４は、例えば、表示部９０が液晶ディスプレイを備える場合、液晶ディスプレイに対して画像信号を出力する。
【００７３】
タイマ部２７５は、制御部２７８に制御されて、時間を計測する。タイマ部２７５が計測した時間に応じて、高周波美容処理装置２の動作パターン[１]〜[７]が順に切り替えられたり、一定時間経過後に主電源がＯＦＦになったりする。
【００７４】
メモリ部２７６には、高周波美容処理装置２が動作する為のファームウェア、各種の閾値、電圧のレベルを示す情報及びタイマ部２７５に計測させる時間の情報が予め記憶されている。
【００７５】
メモリ部２７６には、ＲＦ駆動部２７１ａ、ＥＭＳ駆動部２７１ｂ、肌温度検知部２７１ｄ及び超音波振動子駆動部２７１eが出力する信号の電圧の値を予め記憶しておくこともできる。メモリ部２７６には、中継部２７１ｃが接続する電極のパターンを示す情報を予め記憶しておくこともできる。
【００７６】
電源制御部２７７には、二次電池３０の充電回路や、電源コード１００を着脱可能とする電気接点などが形成される。電源制御部２７７に昇圧回路を設けてもよい。この場合、ＲＦ駆動部２７１ａなどに昇圧回路を設けなくてもよい。
【００７７】
制御部２７８は、制御部１７６と対応する機能を有する。制御部２７８は、操作受付部２７３が検知した操作ボタン８０の押下操作に基づいて、電極制御部２７１を制御する。
【００７８】
制御部２７８は、肌温度検知部２７１ｄが出力した被施術者の肌温度を示す数値に基づいて、電圧のレベルを変えるようにＲＦ駆動部２７１ａを制御する。制御部２７８は、接触検知部２７２が出力した第１または第２の接触検知信号に基づいて、電圧のレベルを変えるようにＲＦ駆動部２７１ａまたはＥＭＳ駆動部２７１ｂを制御する。
【００７９】
（動作説明）
次に図８を用いて、高周波美容処理装置２の動作について説明する。図８は、高周波美容処理装置２の動作を示すフローチャートである。
【００８０】
（１）初期設定（ステップＳ１００）
例えば、操作ボタン８０の押下操作により、主電源がＯＮになる。このとき、高周波美容処理装置２が、自動的に動作パターン[２]ＲＦモード２、動作パターン[７]振動モード及び動作パターン[５]ＥＭＳモード２の順に動作する場合がある。
【００８１】
この場合、制御部２７８は、まずメモリ部２７６から、ＲＦ電圧制御値や動作パターン[２]ＲＦモード２の駆動時間などを初期値として読み出す。ここでは一例として、初期値としてレベル３を示すＲＦ電圧制御値が読み出されるものとする。
【００８２】
（２）計時開始（ステップＳ１０１）
制御部２７８は、タイマ部２７５を制御して、読み出した動作パターン[２]ＲＦモード２の駆動時間を計測させる。
【００８３】
（３）出力停止処理（ステップＳ１０２のＮｏ、Ｓ１０３）
フォトセンサ２２３ａ及びフォトセンサ２２３ｂが出力した電流が閾値以上の場合がある。例えば、被施術者の肌面に、電極ヘッド２２０が接触していない場合である。例えば、被施術者の肌面に、電極ヘッド２２０が、少しだけ接触している場合である。
【００８４】
このような場合、接触検知部２７２は、第１及び第２の接触検知信号を制御部２７８に出力しない（ステップＳ１０２のＮｏ）。したがって、制御部２７８は、ＲＦ駆動部２７１ａを駆動させない。ＲＦ駆動部２７１ａがすでに駆動している場合には、制御部２７８は、ＲＦ駆動部２７１ａを停止させる。
この結果、電極２２ｂ及び中央電極２３０間へのＲＦ電圧の印加が停止する（ステップ１０３）。
【００８５】
（４）電極ヘッド２２０の接触１（ステップＳ１０２のＹｅｓ〜Ｓ１０５）
フォトセンサ２２３ａまたはフォトセンサ２２３ｂのどちらか一方が出力した電流が閾値以下の場合がある。例えば、被施術者の肌面に、電極ヘッド２２０の上側または下側が接触した場合である。
【００８６】
この場合、接触検知部２７２は、第１または第２の接触検知信の一方を制御部２７８に出力する（ステップＳ１０２のＹｅｓ，ステップＳ１０４のＮｏ）。
【００８７】
制御部２７８は、メモリ部２７６から、ＲＦ電圧の強さを示す値として、レベル１を示す値を読み出し、ＲＦ駆動部２７１ａにＲＦ電圧制御信号を出力する。この結果、ＲＦ駆動部２７１ａは、一番弱いＲＦ電圧を生成する。電極２２ｂ及び中央電極２３０間にレベル１のＲＦ電圧が印加される（ステップＳ１０５：第１の印加処理）。この結果、被施術者の肌面には、レベル１に対応する強さのＲＦ電流が流れる。
【００８８】
なお、制御部２７８は、ＲＦ駆動部２７１ａに対して、レベル２を示す信号を出力してもよい。
【００８９】
（５）電極ヘッド２２０の接触２（ステップＳ１０４のＹｅｓ）
フォトセンサ２２３ａ及びフォトセンサ２２３ｂの両方が出力した電流が閾値以下の場合がある。例えば、被施術者の肌面に、電極ヘッド２２０全体が密着した場合である。この場合、接触検知部２７２は、第１及び第２の接触検知信を制御部２７８に出力する（ステップＳ１０４のＹｅｓ）。
【００９０】
（６）肌温度検知処理（ステップＳ１０６Ｎｏ〜Ｓ１０８）
動作パターン[２]ＲＦモード２場合（ステップＳ１０６のＮｏ）、制御部２７８は、肌温度検知部２７１ｄから出力された被施術者の肌温度を示す数値と、メモリ部２７６に保持された閾値とを比較する（ステップＳ１０７）。
【００９１】
（７）第２の電圧印加処理（ステップＳ１０７のＹｅｓ，Ｓ１０８）
肌温度検知部２７１ｄから出力された被施術者の肌温度を示す数値が閾値以上の場合がある（ステップＳ１０７のＹｅｓ）。この場合、制御部２７８は、ステップＳ１００で読み込んだレベルよりも１段階弱いレベルの電圧を電極２２ｂ及び中央電極２３０間に印加するようにＲＦ駆動部２７１ａを制御する。
【００９２】
ここでは、制御部２７８は、レベル３よりも１段階弱いレベル２を示す信号をＲＦ駆動部２７１ａに出力する。この結果、ＲＦ駆動部２７１ａは、２番目に弱いＲＦ電圧を生成する。したがって、電極２２ｂ及び中央電極２３０間にレベル２のＲＦ電圧が印加される（ステップＳ１０８：第２の印加処理）。
【００９３】
この結果、被施術者の肌面には、レベル２に対応する強さのＲＦ電流が流れる。なお、ステップＳ１００〜ＳＳ１０７までの間に、操作受付部２７３が、高周波電圧の強さをレベル５に設定する指示を受け付けている場合がある。この場合、ステップＳ１０８において、制御部２７８は、レベル５よりも１段階低いレベル４を示す信号をＲＦ駆動部２７１ａに出力する。
【００９４】
（８）第３の電圧印加処理（ステップＳ１０７のＮｏ，Ｓ１０９）
肌温度検知部２７１ｄから出力された被施術者の肌温度を示す数値が閾値より低い場合がある（ステップＳ１０７のＮｏ）。この場合、制御部２７８は、ＲＦ電圧制御信号として、ステップＳ１００で読み込んだレベルを示す値をＲＦ駆動部２７１ａに出力する。
【００９５】
ここでは、制御部２７８は、レベル３を示す信号を出力する。この結果、ＲＦ駆動部２７１ａは、レベル３に対応するＲＦ電圧を生成する。したがって、電極２２ｂ及び中央電極２３０間にレベル３のＲＦ電圧が印加される（ステップＳ１０９：第３の印加処理）。
【００９６】
この結果、被施術者の肌面には、レベル３に対応する強さのＲＦ電流が流れる。なお、ステップＳ１００〜ＳＳ１０７までの間に、操作受付部２７３が、高周波電圧の強さをレベル５に設定する指示を受け付けている場合がある。この場合、ステップＳ１０９において、制御部２７８は、レベル５を示す信号をＲＦ駆動部２７１ａに出力する。
【００９７】
（９）ＥＭＳモードの場合（ステップＳ１０６のＹｅｓ及びステップＳ１０９）
動作パターンが[５]ＥＭＳモード２の場合がある。ＥＭＳ電圧を肌面に印加した場合、ＲＦ電圧を印加した場合に比べて、肌面の温度が上昇しないことが多い。したがって、動作パターンが[５]ＥＭＳモード２の場合、制御部２７８は、ステップＳ１０９を実行する。
【００９８】
（１０）繰り返し処理（ステップＳ１１０）
制御部２７８は、動作モード[２]ＲＦモード２の期間中は、ステップＳ１０２〜Ｓ１０９を繰り返し実行する。タイマ部２７５によって所定時間が経過した場合（ステップＳ１１０のＹｅｓ）、制御部２７８は、ステップＳ１０１〜Ｓ１１０を繰り返しながら、高周波美容処理装置２を動作パターン[７]、動作パターン[５]ＥＭＳモード２に順に切り替える。
【００９９】
例えば、高周波美容処理装置２が[５]ＥＭＳモード２で動作する場合、制御部２７８は、メモリ部２７６から、ＥＭＳ電圧の強さを示す値などを読み出す。
【０１００】
（高周波美容処理装置２によって得られる効果１）
高周波美容処理装置２によれば、高周波美容処理装置１と対応する効果を得ることができる。高周波美容処理装置２によれば、中央電極２３０を備えることによって、被施術者の肌面との接触面積を増やすことができる。結果として、被施術者の単位面積当たりの肌に流れる電流量が小さくなるので、ＥＭＳ電圧を肌に印加したときに感じる刺激を低減させやすくなる。
【０１０１】
（高周波美容処理装置２によって得られる効果２）
高周波美容処理装置２によれば、異なる動作パターンを順に自動的に切り替えることができる。すなわち、異なる刺激を順に被施術者の肌面に与えることができる。結果として、被施術者が高周波美容処理装置２の使用に飽きを感じにくくなり、高周波美容処理装置２を効率よく使用することができる。
【０１０２】
（高周波美容処理装置２によって得られる効果３）
高周波美容処理装置２では、被施術者の肌面に、電極ヘッド２２０が確実に接触しているときにＲＦ駆動部２７１ａが駆動するので安全性を高めることができる。
【０１０３】
（高周波美容処理装置２によって得られる効果４）
高周波美容処理装置２では、フォトセンサ２２３ａ及びフォトセンサ２２３ｂの出力に応じて、電極２２ｂ及び中央電極２３０などに印加する電圧の強さを変えることができる。例えば、被施術者と電極２２ｂの接触がわずかな面積だった場合、強い電圧を被施術者の肌面に印加することによって、被施術者が不快感を覚えることが多い。
【０１０４】
高周波美容処理装置２では、電極２２ｂ及び中央電極２３０などに印加する電圧を弱くできるので、被施術者が不快感を覚えることを防止することができる。
【０１０５】
（高周波美容処理装置２によって得られる効果５）
例えば、高周波美容処理装置２が、動作パターン[１]ＲＦモード１で動作する場合がある。被施術者と電極２２ｂの接触面積がわずかだった場合、被施術者の肌が局所的に発熱してしまう可能性がある。
【０１０６】
高周波美容処理装置２では、フォトセンサ２２３ａ及びフォトセンサ２２３ｂの出力に応じて、電極２２ｂ及び中央電極２３０などに印加する電圧の強さを変えることにより、被施術者の肌が局所的に発熱してしまうことを防止できる。
【０１０７】
［変形例について］
以上、第１及び２の実施の形態を具体的に説明したが、本発明はこの実施の形態にのみ限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。
以下、本発明の種々の変形例を説明する。以下の説明では、第１及び第２の実施の形態と対応する箇所には同一の符号をつけ、詳細な説明は省略する。
【０１０８】
［変形例１］
図９に示すように、電極基台２１にタッチセンサ２００を設けてもよい。タッチセンサ２００は、被施術者の肌面への一対の電極２２ａ及び電極２２ｂの接触を検知する。タッチセンサ２００によって、一対の電極２２ａ及び電極２２ｂの接触が検知されたことに対応して、一対の電極２２ａ及び電極２２ｂに高周波電圧が印加される。そしてタッチセンサ２００が、被施術者の肌面への一対の電極２２ａ及び電極２２ｂの接触を検知していない場合には、一対の電極２２ａ及び電極２２ｂには高周波電圧は印加されない。
【０１０９】
このことによって、被施術者の肌面に一対の電極２２ａ及び電極２２ｂが接触した後に、一対の電極２２ａ及び電極２２ｂに高周波電圧が印加されることになる。
【０１１０】
被施術者の肌面に一対の電極２２ａ及び電極２２ｂが接触する前に一対の電極２２ａ及び電極２２ｂに対して高周波電圧を印加した場合には、体毛などとの接触によって、極めて小さい接触面積で一対の電極２２ａ及び電極２２ｂから被施術者の肌面に高周波電流がながれてしまうことがある。
【０１１１】
この場合、被施術者はピリピリとした不快な感覚を覚えることが多い。
被施術者の肌面に一対の電極２２ａ及び電極２２ｂが接触した後に一対の電極２２ａ及び電極２２ｂに高周波電圧が印加されることによって、広い接触面積で、被施術者の肌面に高周波電流を流すことができる。この結果、被施術者が不快な感覚を覚えることを防止することができる。
【０１１２】
タッチセンサ２００は、抵抗膜方式、静電容量方式、音波式、赤外線検知式、機械式など種々の方式のものを適用できる。また、タッチセンサ２００に代えて、加速度センサを備えるようにしてもよい。例えば、加速度センサが高周波美容処理装置１が動かされたことを検知した場合に、一対の電極２２ａ及び電極２２ｂに高周波電圧が印加される。
［変形例２］
第１及び第２の実施の形態，変形例１では、一対の電極２２ａ及び電極２２ｂをそれぞれ円環状に形成したが、例えば、図１０に示す一対の電極２２２ａ及び電極２２２ｂのように略角環状としたり、図１１に示す一対の平行電極３２２ａ及び平行電極３２２ｂように棒状の電極を互いに平行に配置したり、図１２に示す一対の平行電極４２２ａ及び平行電極４２２ｂのように略三角形状としたりしてもよい。一対の電極２２ａ及び電極２２ｂの形状は略正円形状でもよいし、楕円形状でもよい。
【０１１３】
［変形例３］
その他の変形例として、例えば本体１０や電極ヘッド２０の所定の箇所に、一対のイオン導入用電極を設けて、イオン導入法またはイオン導出法によるトリートメントを行えるように構成してもよい。例えば、一対のイオン導入用電極の一方を一対の電極２２ａ及び電極２２ｂ間に配設し、他方のイオン導入用電極を本体１０の表面部１０ａに設けるように構成することもできる。
【０１１４】
［変形例４］
ペルチェ素子に流す電流の方向の正逆を切り替えるためのスイッチを備えるようにしてもよい。
【０１１５】
[変形例５]
本体１０または本体２１０の形状は、適宜変更可能である。例えば、図１３に示す高周波美容処理装置３のような形状でもよい。図１３は、本体１０または本体２１０のその他の変形例を示す概略図である。
高周波美容処理装置３は、施術者が手で持つハンドリング部３１１を上面側に有する本体３１０を備える。
本体３１０は、上下方向から押しつぶされた球形に類似の形状を有する。本体３１０の上面には、操作ボタン８０や表示部９０を配置することがでできる。一対の電極２２ａ及び電極２２ｂなどは、本体３１０の下面に配置される。
【０１１６】
［その他の変形例］
以上説明した第１及び２の実施の形態や変形例１〜変形例５に例示された部分的な構成同士を適宜組み合わせたり特定の構成を除くように構成したりすることもできる。
例えば、第１及び２の実施の形態の各要素を除外してもよい。
例えば、ＲＦ駆動部２７１ａを備えずともよい。
例えば、電極２２ａ、電極２２ｂ、フォトセンサ２２３ａまたはフォトセンサ２２３ｂなどを備えずともよい。電極２２ａを備えない場合、フォトセンサ２２３ａ及びフォトセンサ２２３ｂは、電極２２ｂ及び中央電極２３０の間に配置される。
操作ボタン８０や表示部９０などの配置位置も特に限定されない。電極２２ａなどを楕円形状に形成してもよい。中央電極２３０を円環形状に形成してもよい。
【符号の説明】
【０１１７】
１…高周波美容処理装置、１０…本体、１０ａ…表面部、１０ｂ…裏面部、１０ｃ…排気孔、２０…電極ヘッド、２１…電極基台、２１ａ…表面、２１ｂ…裏面、２１ｃ…内側溝部、２１ｄ…外側溝部、２２…裏面、２２ａ…電極、２２ｂ…電極、３０…二次電池、４０…ペルチェ素子、４０ａ…発熱面、４０ｂ…吸熱面、５０…ヒートシンク、５０ａ…平坦面、５０ｂ…平坦面、６０…冷却ファン、６２…モータ、６３…ファン、７０…制御回路基板、８０…操作ボタン、９０…表示部、１００…電源コード、１２１…肌接触面、１２２…肌接触面、１７１…電極制御部、１７２…ペルチェ素子制御部、１７３…ファン制御部、１７４…肌温度検知部、１７５…メモリ部、１７６…制御部、２００…タッチセンサ、２２２ａ…電極、２２２ｂ…電極、３２２ａ…平行電極、３２２ｂ…平行電極、４２２ａ…平行電極、４２２ｂ…平行電極。
２…高周波美容処理装置、外側溝部…２１ｅ、中央孔…２１ｆ、７０a…電気配線、１７４…肌温度検知部、１７６…制御部、２１０…本体、２２０…電極ヘッド、２２１…電極基台、２２１c      …凹部、２２１ａ…表面、２２１ｂ…裏面、２２３…肌接触面、２２３ａ…フォトセンサ、２２３ｂ…フォトセンサ、２２５…超音波振動子、２３０…中央電極、２３０a…フランジ部、２７０…制御回路基板、２７１ａ…ＲＦ駆動部、２７１ｂ…ＥＭＳ駆動部、２７１ｃ…中継部、２７１ｄ…肌温度検知部、２７１…電極制御部、２７１e…超音波振動子駆動部、２７２…接触検知部、２７３…操作受付部、２７４…表示制御部、２７５…タイマ部、２７６…メモリ部、２７７…電源制御部、２７８…制御部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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