(57)【要約】【課題】複数の荷電粒子ビームを発生する複数のカラム部にビーム制御データを分配する露光装置および露光データ構造を提供する。【解決手段】第１の方向に配列した複数の荷電粒子ビームを発生する複数のカラム部と、荷電粒子ビームの照射タイミングを個別に制御するカラム制御部と、デバイスパターンの配置座標を記述した設計データをもとに、１本の荷電粒子ビームの幅を有し第２の方向に伸びた帯状の領域に分割してなる第２のデータと第１の方向の位置に基づいて当該第２のデータを特定する第１のデータとよりなる露光データに変換する変換部と、露光データを格納する第１保存部と、露光順序に従って露光データを再構成してカラム部のそれぞれに分配する分配部と、を備える露光装置、およびそのような露光装置用の露光データ構造およびビーム制御データの作成方法を提供する。【選択図】図１
2018041790.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラインパターンが形成された試料にカットパターンを形成する露光装置であって、
第１の方向に一定間隔を開けて一列に並んだ第１の荷電粒子ビーム群と、前記第１の荷電粒子ビーム群の隣に並列して配置され、前記第１の荷電粒子ビーム群と同じサイズ及びピッチで配置された第２の荷電粒子ビーム群と、を生成するカラム部と、
前記第１の荷電粒子ビーム群及び第２の荷電粒子ビーム群に含まれる各荷電粒子ビームの照射タイミングを個別に制御するカラム制御部と、
前記試料上に形成されるデバイスパターンの配置座標を記述した設計データをもとに、１本の荷電粒子ビームの幅を有し第２の方向に伸びた帯状の領域に分割してなる第２のデータと第１の方向の位置に基づいて前記第２のデータを特定する第１のデータとよりなる露光データに変換する変換部と、
前記露光データを格納する第１保存部と、
前記ステージの上の試料の位置と前記カラム部との相対的な位置関係に基づいて、前記第１のデータ及び第２のデータよりなる露光データを、前記カラム部が試料に露光する順序に従って再構成して前記各カラム部に対するビーム制御データを作成する分配部と、
を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
さらに、前記カラム部を複数備え、隣接するカラム部はそれぞれが担当する照射可能領域の一部が互いに重複していることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記第１のデータは、前記カラム部の照射可能領域の重複領域幅よりも小さな第１の方向のサイズを有するグリッドグループの単位でまとめられるとともに、前記第２のデータは、前記カラム部の照射可能領域の重複領域幅よりも小さな第２の方向のサイズを有するサブグリッドごとにまとめられていることを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記分配部は、前記カラム部と前記試料の位置関係に基づいて、前記第１のデータを前記グリッドグループ単位で再構成するとともに、前記第２のデータを前記サブグリッド単位で再構成することにより、各カラム部に対するビーム制御データを作成することを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記カラム部のそれぞれに設けられ、前記分配部が分配した前記ビーム制御データを一時保存する第２保存部を備えることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記第２保存部は、少なくとも２つの保存部分を備え、
一方の前記保存部分は、露光中の試料の１回の第２の方向への移動によって露光される領域の前記ビーム制御データを一時保存して露光を行うとともに、他方の前記保存部分は、次回の第２の方向への移動によって露光される領域の前記ビーム制御データを読み込むことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記カラム部のそれぞれと対応させて、前記カラム部が露光する順序に、前記グリッドグループおよび前記サブグリッドのデータからなる履歴データを収集する収集部と、
すべてのカラム部に対する前記履歴データを保存する第３保存部と、
を備えることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項８】
試料に予め形成されたラインパターンの長手方向である第２の方向に試料を移動させながら、前記ラインパターンの長手方向に直交する第１の方向に並んだ複数の荷電粒子ビーム群を照射してカットパターンを形成する露光装置用の露光データ構造であって、
前記ラインパターンの最小幅と同一の幅を有し前記第２の方向に延伸するグリッドに含まれるパターンのうち、前記第２の方向に一定の長さのサブグリッドに含まれるパターンの配置座標を指定するサブグリッドデータと、
一本の前記グリッドに含まれるサブグリッドデータを指定するグリッドデータと、
前記第１の方向に一定の範囲毎に区分されたグリッドグループに属するグリッドデータを指定するグリッドグループデータと、
により構成される露光データ構造。
【請求項９】
前記サブグリッドの前記第２の方向のサイズ及び前記グリッドグループの前記第１の方向のサイズは、隣接するカラムの照射可能領域の重複領域の幅と同等又はそれ以下のサイズに設定されていることを特徴とする請求項８に記載の露光データ構造
【請求項１０】
試料に予め形成されたラインパターンの長手方向である第２の方向に試料を移動させながら、前記ラインパターンの長手方向に直交する第１の方向に並んだ複数の荷電粒子ビーム群を照射してカットパターンを形成する露光装置用の露光データの作成方法であって、
パターン配置が定義された設計データを取得し、ラインパターンの最小幅と同一の幅を有し、前記第２の方向に一定の長さの領域であるサブグリッドに分割して前記サブグリッド毎にカットパターンの配置座標を指定するサブグリッドデータを変換部において生成するステップと、
前記第２の方向に連続したグリッドに属するサブグリッドデータをグリッドごとに指定するグリッドデータを変換部において生成するステップと、
前記設計データを前記第１の方向に所定の長さの範囲毎に分割するグリッドグループに属するグリッドデータをグリッドグループごとに指定するグリッドグループデータを変換部において生成するステップと、
前記設計データの前記第１の方向の全域にわたるグリッドグループデータを変換部において生成するステップと、
前記サブグリッドデータ、グリッドデータ、およびグリッドグループデータを第１保存部に保存するステップと、
を有することを特徴とする露光データ作成方法。
【請求項１１】
配置データ保存部に保存された配置データを読み出して前記試料の上における露光データの配置を決定するステップと、
前記カラム部が生成する前記荷電粒子ビーム群と前記試料との位置関係を測定するステップと、
前記分配部が、前記第２の方向への一回のステージ移動で前記カラム部が露光する領域について露光データを抽出するとともに、前記カラム部が露光する順序にしたがって前記ビーム制御データとして再構成するステップと、
を有することを特徴とするビーム制御データの作成方法。
【請求項１２】
前記分配部は、前記露光データのうち、前記第１の方向に関しては前記グリッドグループデータ単位で前記第１のデータの抽出を行うとともに、前記第２の方向についてはサブグリッドデータ単位で前記第２のデータの抽出を行い、前記カラム部が担当する範囲の露光データを再構成することを特徴とする、請求項１１に記載のビーム制御データの作成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置および露光データ構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、線幅が十ｎｍ程度の光露光技術で形成した単純なラインパターンに、電子ビーム等の荷電粒子ビームを用いた露光技術を用いて加工することで、微細な回路パターンを形成するコンプリメンタリ・リソグラフィが知られている（例えば、特許文献１参照）。また、複数の荷電粒子ビームを用いるマルチビーム露光技術も知られている（例えば、特許文献２参照）。さらに、複数の荷電粒子カラムを備えたマルチカラム露光技術も知られている（例えば、特許文献３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１３−１５７５４７号公報
【特許文献２】特開２０１５−１３３４００号公報
【特許文献３】特開２０１５−０１２０３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
コンプリメンタリ・リソグラフィにおいて、荷電粒子ビームが露光するパターンは、ラインパターンと組み合わせるために、その位置および大きさなどに制限を受ける。このような制限のもとで、デバイスの設計データは、例えば、当該デバイスに設定された座標系のもとで個々のデバイスパターンの頂点位置の座標値を記述する。デバイスの設計データにおけるデータの並びは、デバイスの設計に使用した設計ツールに依存したものであり、必ずしも露光装置による露光順序を反映したものになっていない。デバイスの設計データから、複数の荷電粒子カラムの複数の荷電粒子ビームを個別に制御する制御データを作成するのは困難であった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の第１の態様において、試料に予め形成されたラインパターンの長手方向である第２の方向に試料を移動させながら、ラインパターンの長手方向に直交する第１の方向に並んだ複数の荷電粒子ビームを照射して、ラインパターンが形成された試料にカットパターンを形成する露光装置であって、第１の方向に配列した複数の荷電粒子ビームを発生する複数のカラム部と、荷電粒子ビームの照射タイミングを個別に制御するカラム制御部と、デバイスパターンの配置座標を記述した設計データをもとに、１本の荷電粒子ビームの幅を有し第２の方向に伸びた帯状の領域に分割してなる第２のデータと第１の方向の位置に基づいて当該第２のデータを特定する第１のデータとよりなる露光データに変換する変換部と、露光データを格納する第１保存部と、露光順序に従って露光データを再構成してカラム部のそれぞれに分配する分配部と、を備える露光装置を提供する。
【０００６】
本発明の第２の態様において、前記露光装置の露光データの構造であって、ラインパターンの最小幅と同一の幅を有し第２の方向に延伸するグリッドに含まれるパターンのうち、第２の方向に一定の長さのサブグリッドに含まれるパターンの配置座標を指定するサブグリッドデータと、一本のグリッドに含まれるサブグリッドデータを指定するグリッドデータと、第１の方向に一定の範囲毎に区分されたグリッドグループに属するグリッドデータを指定するグリッドグループデータと、により構成される露光データ構造を提供する。
【０００７】
本発明の第３の態様において、デバイスパターンの配置座標を記述した設計データを露光データに変換する方法、およびカラム部の露光順序に従って露光データを再構成して、カラム部の荷電粒子ビームを制御するビーム制御データとして分配する方法を提供する。
【０００８】
なお、上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではない。また、これらの特徴群のサブコンビネーションもまた、発明となりうる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本実施形態に係る露光装置１００の構成例を示す。
【図２】本実施形態に係る露光装置１００がアレイビームを走査して、試料１０の表面の一部に形成する照射可能領域２００の一例を示す。
【図３】本実施形態に係る露光装置１００がアレイビーム５００を走査して、パターン４１０，４２０，４３０を露光する動作の一例を示す。
【図４】デバイス６００に含まれる露光パターン６１０の一例を示す。
【図５】露光パターン６１０を、グリッド構造と対応づける一例を示す。
【図６】露光データ１６２を構成する第１のデータ１６４の構成例を示す。
【図７】露光データ１６２を構成する第２のデータ１６６の構成例を示す。
【図８】設計データ１５０から露光データ１６２を作成する変換フローの例である。
【図９】試料１０に配置した複数のデバイス６００と照射可能領域２００との位置関係の例を示す。
【図１０】ビーム制御データ１８４の構成例を示す。
【図１１】フレーム露光の一部を示す露光フローの例である。
【図１２】履歴データ１９４の構成例を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲にかかる発明を限定するものではない。また、実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。
【００１１】
図１は、本実施形態に係る露光装置１００の構成例を示す。露光装置１００は、予め定められたグリッドに基づいて試料上に形成されたラインパターンに応じた位置に、当該グリッドに対応した照射領域を有する荷電粒子ビームを照射して、カットパターンまたはビアパターンなどのデバイスパターンを形成する。
【００１２】
露光装置１００は、図１に示された試料１０に近い側に、一つのステージ部１１０および複数のカラム部１２０を備える。また、露光装置１００は、これら一つのステージ部１１０と複数のカラム部１２０とを制御するために、一つのステージ制御部１４０と複数のカラム制御部１３０とを備える。複数のカラム制御部１３０のそれぞれは、対応するカラム部１２０を個別に制御する。ステージ制御部１４０は、ステージ部１１０の位置を検出するとともに、ステージ部１１０の位置の検出結果をもとに、ステージ部１１０の移動を制御する。
【００１３】
ステージ部１１０に載置される試料１０は、一例として、シリコン等で形成された半導体ウエハであり、その表面に金属等の導電体で互いに平行な複数のラインパターンが形成されている。本実施形態に係る露光装置１００は、当該ラインパターンに対して微細な加工（カッテングによる電極や配線の形成、および／またはビアホールによるコンタクトの形成）をすべく、ラインパターン上に塗布されたレジストに荷電粒子ビームを照射する。以下の明細書では、露光装置１００を制御する第１の方向が当該ラインパターンの長手方向と直交する方向を表し、露光装置１００を制御する第２の方向が当該ラインパターンの長手方向を表すものとして記載する。
【００１４】
試料１０は、図１に示すＸＹ平面内で、試料１０表面に形成されたラインパターンの長手方向がＸ軸方向と略平行になるように、ステージ部１１０上に載置される。また、露光中においてステージ部１１０は、Ｘ軸方向に移動する。これにより、露光中のステージ部１１０は、試料１０表面に形成されたラインパターンの長手方向と略平行な方向に試料１０を移動させる。
【００１５】
複数のカラム部１２０のそれぞれは、電子またはイオンなどを有する荷電粒子ビームを発生し、ステージ部１１０上に載置された試料１０を照射する。本実施形態において、カラム部１２０が、電子ビームを発生する例を説明する。カラム部１２０の数は、一例として８８である。複数のカラム部１２０は、ＸＹ平面内で、例えば略３０ｍｍピッチで配置されている。ステージ部１１０に載置された直径略３００ｍｍの半導体ウエハである試料１０の表面は、ステージ部１１０の可動範囲において、少なくとも一つのカラム部１２０から発生された電子ビームにより照射される。
【００１６】
複数のカラム部１２０のそれぞれは、一定の間隔を開けて一列に並んだ複数の電子ビームからなるアレイビームを発生する。それぞれのカラム部１２０は、Ｚ軸回りに、アレイビームの配列方向が露光中のステージ部１１０の移動方向と直交する方向に略一致するように設置される。露光中のステージ部１１０の移動方向と試料１０の表面に形成されたラインパターンの長手方向とが略一致するように試料１０はステージ１１０上に搭載されているので、それぞれのカラム部１２０は、ラインパターンの長手方向と直交するラインパターンの幅方向に、照射位置が異なる複数の電子ビームからなるアレイビームを発生することになる。
【００１７】
アレイビーム全体のビーム幅は、例えば６０ｕｍである。アレイビームに含まれる電子ビームの数は、例えば４０９８である。露光装置１００は、アレイビームをラインパターンの長手方向に移動しながら、ラインパターンの幅方向に照射位置が異なる複数の電子ビームのそれぞれを試料１０に照射するか（ＯＮ状態）、否か（ＯＦＦ状態）を個別に切り換えて、試料１０にパターンを露光する。
【００１８】
図１に露わには記載していないが、露光装置１００は、露光装置１００全体を統合して制御する中央演算処理ユニット（ＣＰＵ）、および中央演算処理ユニットと装置を構成する各ユニットとの間で命令やデータの授受を行うためのバスを備える。中央演算処理ユニットは、例えばワークステーションであり、ユーザからの操作指示を入力する端末の機能も有する。
【００１９】
図１の左側から右側に向かう露光データの処理の流れに沿った露光装置１００の構成を次に説明する。設計データ１５０は、露光装置１００に入力されるデバイスパターンのデータである。設計データ１５０は、ＣＡＤ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ−Ａｉｄｅｄ  Ｄｅｓｉｇｎ）ツールを用いて設計されたデバイスパターンの位置、大きさ、および／または形状を示すデータである。設計データ１５０は、デバイスに設定された座標系で、一例として個々のデバイスパターンの頂点位置の座標値であるデバイスパターンの配置座標を記述したものである。
【００２０】
露光装置１００に入力された設計データ１５０は、変換部１５２によって露光データ１６２に変換される。変換部１５２は、設計データ１５０から露光データ１６２へのデータ変換を行うデータ変換装置である。また、変換部１５２は、設計データ１５０から露光データ１６２へのデータ変換機能を有するソフトウェアであってもよい。露光データ１６２は、設計データ１５０と同等なパターン内容を表すデータであるが、本実施形態に係る露光装置１００のビーム制御データを構成するために適切なデータ形式に変換されたデータである。
【００２１】
露光データ１６２は、ラインパターンの長手方向と直交する第１の方向の露光データを指定する第１のデータと、ラインパターンの長手方向と平行な第２の方向の露光データを指定する第２のデータと、から構成される。第１のデータは、アレイビームが配列する方向の露光データを指定する。第２のデータは、露光中にステージ部１１０が移動する方向の露光データを指定する。第１のデータおよび第２のデータは、ともに露光装置１００の露光動作において、特徴的な方向と対応するデータである。
【００２２】
第１のデータおよび第２のデータはデータ内部に階層構造を有し、デバイスの相対的に広い領域を指定するデータが、その中に含まれる相対的に狭い領域を指定する。露光データ１６２は、露光に先立って作成され、露光装置１００の第１保存部１６０に保存される。本明細書の後半で後程、露光データ１６２の構成例、および変換部１５２による露光データ１６２の作成方法の例について説明する。
【００２３】
図１に示される配置データ１７２も露光に先立って決定され、露光装置１００の配置データ保存部１７０に保存される。配置データ１７２は、試料１０の表面に形成されるデバイスの大きさ、デバイスの配置ピッチ、およびデバイスの配置位置などに関するデータである。配置データ１７２は、デバイスの設計データ１５０、および試料１０である半導体ウエハ表面の有効露光範囲などに応じて決定される。尚、配置データ１７２のデータ容量は露光データ１６２のデータ容量と比較すると十分に小さいため、露光装置１００は、配置データ１７２に対する専用の保存部１７０を持たなくてもよい。配置データ１７２は、例えば中央演算処理ユニット（ＣＰＵ）の記憶部に保存してもよい。
【００２４】
分配部１８０は、配置データ１７２に基づいてデバイスの露光データ１６２の位置を決定することで、試料１０の上のパターンの位置が確定する。その後、分配部１８０は、上記のデバイスの配置データ１７２および複数のカラム部１２０のそれぞれが生成する電子ビームと試料１０との位置関係の測定結果などを用いて、露光データ１６２から、複数のカラム部１２０のそれぞれに対するビーム制御データ１８４を作成する。分配部１８０は、露光データ１６２を構成する上記の第１のデータおよび第２のデータから各カラム１２０の照射可能領域と重複する部分のデータを、露光の順序に従って抽出して再構成することで、カラム部１２０のそれぞれに対するビーム制御データ１８４を作成する。複数のカラム部１２０が、試料１０表面の異なる位置に異なるパターンを略同時に露光することと対応して、分配部１８０は、カラム部１２０のそれぞれに対して異なるビーム制御データ１８４を分配する。なお、第１のデータおよび第２のデータは個々のパターンの位置座標データを直接的に含むものではなく、後述する所定の領域に含まれるパターンのデータ群を呼び出すポインタとして規定されたものである。これにより、直接パターンの位置座標データを収集して再構成するよりも高速にビーム制御データ１８４を作成できるようになっている。
【００２５】
カラム部１２０のそれぞれに分配されるビーム制御データ１８４は、カラム部１２０のそれぞれと対応する第２保存部１８２に保存される。第２保存部１８２は、試料１０に対するビーム制御データ１８４を露光前に予めすべて求めて保存しておいてよい。これに代えて、第２保存部１８２は、それぞれのカラム部１２０が露光する試料１０上の一部の領域に対するビーム制御データ１８４を一時的に保存してもよい。ビーム制御データ１８４を一時的に保存する場合、第２保存部１８２のそれぞれは、少なくとも２つの保存部分を備えてよい。２つの保存部分は、カラム部１２０のそれぞれが連続して露光する試料１０上の２つの領域（後程説明する２フレームに相当する）に対するビーム制御データ１８４を交互に保存してよい。
【００２６】
第２保存部１８２の一方の保存部分が、それぞれのカラム部１２０が１回のＸ軸方向へのステージ移動によって露光する領域である第１フレームのビーム制御データ１８４を一時保存し、カラム制御部１３０に出力して露光している間に、第２保存部１８２の他方の保存部分は、当該カラム部１２０の次回のＸ軸方向へのステージ移動によって露光される領域である第２フレームに対するビーム制御データ１８４を分配部１８０から受け取って読み込んでよい。
【００２７】
試料１０に対するビーム制御データ１８４を予めすべて求めて保存する場合に比べて、試料１０の一部の領域に対するビーム制御データ１８４を一時的に保存する場合は、第２保存部１８２に保存すべきデータ容量が削減される。本明細書の後半で後程、ビーム制御データ１８４の構成例、および分配部１８０によるビーム制御データ１８４の作成方法の例について説明する。カラム制御部１３０は、第２保存部１８２から出力されたビーム制御データ１８４に従って、照射位置が指定された位置に到着したタイミングで、一定時間電子ビームを出力させてパターンの露光を行う。
【００２８】
収集部１９０は、第２保存部１８２とカラム制御部１３０との接続部から、カラム部１２０のそれぞれに対する履歴データ１９４を収集する。収集部１９０は、第２保存部１８２からカラム制御部１３０へ出力されるビーム制御データ１８４の一部を、カラム部のそれぞれが露光する順序に応じて収集する。収集部１９０は、複数のカラム部１２０のそれぞれと対応させて、収集した履歴データ１９４を第３保存部１９２に保存する。第３保存部１９２に保存される履歴データ１９４は、試料１０の表面に露光されたパターンについて、どのカラム部１２０が、どのような順序で露光したものであるかを露光中に記録するデータである。本明細書の後半で後程、履歴データ１９４の構成例を説明する。
【００２９】
以上のような、図１に示す露光装置１００は、設計データ１５０の入力部から、変換部１５２を経て露光動作を行うステージ部１１０およびカラム部１２０までの構成を含んでいる。これに代えて、露光装置１００は、変換部１５２を除いた構成としてもよい。この場合には、露光装置１００は、露光データ１６２を保存する第１保存部１６０から、露光動作を行うステージ部１１０およびカラム部１２０までの構成とすればよい。後者の場合、変換部１５２は、露光装置１００とは切り離して設置すればよい。変換部１５２は、デバイスの設計工程において設計データ１５０が作成された後の適切な時期に、露光に先立って、設計データ１５０を露光データ１６２に変換する。この場合に変換部１５２は、例えば、露光装置１００が設置された施設のローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）に接続しておき、ローカルエリアネットワークを介して露光データ１６２を露光装置１００の第１保存部１６０に転送すればよい。
【００３０】
露光データ１６２の構成例および作成方法の例、ビーム制御データ１８４の構成例および作成方法の例、および履歴データ１９４の構成例などを説明する前に、その前提となる、カラム部１２０の露光動作について次に説明する。
【００３１】
図２は、本実施形態に係る露光装置１００が一つのカラム部１２０から出力されるアレイビームを走査して、試料１０の表面の一部に形成する照射可能領域２００の一例を示す。ステージ制御部１４０がステージ部１１０をラインパターンの長手方向である第２の方向と略平行なＸ軸方向に移動させる例を示す。すなわち、露光に先立って、試料１０はラインパターンの長手方向をステージ部１１０の連続移動方向であるＸ軸方向に揃えて設置する。ここで、ステージ部１１０は、ステージ制御部１３０の制御の下に、連続移動方向について極めて高い位置精度及び速度安定性を保ちつつ試料１０を移動させることができる。
【００３２】
一つのカラム部１２０が発生するアレイビームの照射位置２１０は、図示のようにＹ軸方向細長く伸びた領域である。その照射位置２１０は、ステージ部１１０の移動に伴って試料１０の表面を＋Ｘ方向に移動する。これによりアレイビームは、帯状の領域２２０を電子ビームで照射する。ステージ制御部１４０は、ステージ部１１０を予め定められた距離だけ−Ｘ方向に移動させて、第１フレーム２３２を照射可能領域とする。第１フレーム２３２は、一例として、ステージ部１１０の移動方向であるＸ軸方向に３０ｍｍの長さ、アレイビームのビーム幅方向であるＹ軸方向に６０μｍの幅（ｆｗ）を有し、３０ｍｍ×６０μｍの面積を有する。
【００３３】
ステージ制御部１４０は、次に、−Ｙ方向にステージ部１１０をアレイビームのビーム幅（図２のｆｗで示す幅）だけ移動させ、さらに、ステージ部１１０を戻すように＋Ｘ方向に移動させる。これにより、アレイビームの照射位置２１０は、試料１０の表面を第１フレーム２３２とは異なる経路を通って−Ｘ方向に移動し、第１フレーム２３２と略同一面積で＋Ｙ方向に隣り合う第２フレーム２３４を照射する。同様に、ステージ制御部１４０は、−Ｙ方向にステージ部１１０をアレイビームのビーム幅だけ移動させ、再び、当該予め定められた距離だけ−Ｘ方向にステージ部１１０を移動させて第３フレーム２３６を照射する。
【００３４】
ステージ制御部１４０は、ラインパターンの長手方向である第２の方向と略平行なＸ軸方向においてステージ部１１０を往復動作させ、試料１０の表面における予め定められた領域である照射可能領域２００を、一つのカラム部１２０で照射する。照射可能領域２００は、例えば略３０×３０ｍｍの正方形状の領域とすることができる。この照射可能領域２００のサイズは、ステージ制御部１４０の制御動作によって決定されるが、カラム部１２０の配置間隔と同程度にしておけば、全カラム部１２０で同時並行して露光を行うことで試料１０表面の全体の露光を行えるので好適である。
【００３５】
それぞれのカラム部１２０およびそれを制御するカラム制御部１３０は、フレームごとに露光を進める。即ち、カラム制御部１３０は、当該カラム制御部１３０に接続された第２保存部１８２の一方の保存部分に一時的に保存された第１フレーム２３２に対するビーム制御データ１８４を取得して、カラム部１２０を制御することにより、第１フレーム２３２を露光する。カラム制御部１３０が、第１フレーム２３２の露光動作を制御している間に、同じカラム部１２０の第２保存部１８２の他方の保存部分は、第２フレーム２３４に対するビーム制御データ１８４を分配部１８０から受け取り保存する。
【００３６】
カラム制御部１３０が、第２フレーム２３４の露光動作を制御している間に、同じカラム部１２０の第２保存部１８２の一方の保存部分は、第３フレーム２３６に対するビーム制御データ１８４を分配部１８０から受け取り保存する。第２保存部１８２の一方の保存部分と他方の保存部分とが、少なくとも２フレーム分のビーム制御データ１８４の入力と出力を繰り返すことにより、カラム部１２０およびカラム制御部１３０は、複数のフレームに対して切れ目なく露光動作を進める。
【００３７】
図３は、一つのカラム部１２０から出力されるアレイビームが、図２の一本のフレーム２３２に含まれるカットパターンを露光する動作を、より詳細に示した図である。図３は、ラインパターンの長手方向である第２の方向がＸ軸方向であり、ラインパターンの長手方向と直交する方向である第１の方向がＹ軸方向である。
【００３８】
Ｘ軸方向に平行で、Ｙ軸方向には間隔ｇを有する複数の破線は、グリッドライン４００と呼ばれる。グリッドライン４００で挟まれたＹ軸方向に幅ｇを有するＸ軸方向に細長い区画は、グリッド４０１と呼ばれる。幅ｇはグリッド幅である。また、試料１０の表面に予め形成されたラインパターン４０２は、グリッド４０１の長手方向であるＸ軸方向と一致する長手方向を有する。ラインパターン４０２のＹ軸方向幅の最小値は、グリッド幅ｇと略等しい。
【００３９】
本実施形態に係る露光装置１００が露光するパターンは、グリッドライン４００およびグリッド４０１に基づいて設計される。図３において、第１パターン４１０、第２パターン４２０、および第３パターン４３０と記した矩形は、当該露光パターンの例を示す。露光パターンのＹ軸方向の長さ、およびパターン間のＹ軸方向の間隔は、グリッド幅ｇの（１以上の）整数倍の値が用いられる。
【００４０】
例えば、図３の第１パターン４１０のＹ軸方向の長さは４ｇに略等しく、第２パターン４２０のＹ軸方向の長さは２ｇに略等しく、第３パターン４３０のＹ軸方向の長さは４ｇに略等しい。また、第１パターン４１０および第２パターン４２０のＹ軸方向のパターン間隔は２ｇに略等しい。
【００４１】
また、露光パターンは、その第１の方向のＹ座標値がグリッドライン４００の第１の方向のＹ座標値と略一致するように配置されてよい。例えば、第１パターン４１０の下端（−Ｙ方向の端）のＹ座標値は、図の最下端のグリッドラインから数えて５番目のグリッドラインのＹ座標値と略一致し、第１パターン４１０の上端（＋Ｙ方向の端）のＹ座標値は、最下端のグリッドラインから数えて９番目のグリッドラインのＹ座標値と略一致する。第２パターン４２０の下端のＹ座標値は、最下端のグリッドラインのＹ座標値と略一致し、第２パターン４２０の上端のＹ座標値は、最下端のグリッドラインから数えて３番目のグリッドラインのＹ座標値と略一致する。
【００４２】
図３は、試料１０の表面に予め形成されたラインパターン４０２と、露光パターンの例である第１パターン４１０、第２パターン４２０、および第３パターン４３０との位置関係の一例を示すＸＹ平面図である。第１パターン４１０は、最上部から２本のラインパターン４０２を同時にカットするパターンであり、第２パターン４２０は、最下部のラインパターン４０２をカットするパターンであり、第３パターン４３０は、中央の２本のラインパターン４０２を同時にカットするパターンである。
【００４３】
図３は、試料１０の表面に予め形成されるラインパターン４０２と、一つのカラム部１２０から出力されるアレイビーム５００の照射領域５０２との位置関係の一例を示すＸＹ平面図でもある。カラム部１２０は、第１の方向であるＹ軸に一定間隔を開けて一列に並んだ第１の電子ビーム群（例えば、左側の照射領域５０２の列に対応する電子ビーム群）と、第１の電子ビーム群の隣にＸ軸方向に距離δ離れて並列して配置され、第１の電子ビーム群と同じサイズ及びピッチで配置された第２の電子ビーム群（例えば、右側の照射領域５０２の列に対応する電子ビーム群）とを生成する。
【００４４】
カラム部１２０から出力されるアレイビーム５００の照射領域５０２が、フレームの開始点（フレームの−Ｘ方向側の端部）に移動した場合の例を示す。カラム部１２０から出力されるアレイビーム５００は、ステージ部１１０の移動に伴い試料１０表面上を移動してフレームを形成する。図では、フレームは、４本のラインパターン４０２を有し、それぞれのラインパターン４０２のライン幅および隣り合うラインパターン４０２の間の間隔が、共にグリッド幅ｇと略等しい例を示す。
【００４５】
アレイビーム５００は、Ｂ１からＢ８の合計８の電子ビームが示されている。Ｂ１、Ｂ３、Ｂ５、Ｂ７が第１の電子ビーム群に属し、Ｂ２、Ｂ４、Ｂ６、Ｂ８が第２の電子ビーム群に属する。アレイビーム５００は、複数の照射領域５０２のそれぞれに電子ビームを照射する。電子ビームＢ１からＢ８それぞれのＹ軸方向ビーム幅はグリッド幅ｇと略等しい。また、電子ビームＢ１からＢ８の照射位置は、Ｙ軸方向においてそれぞれグリッド幅ｇずつずらして配列されている。アレイビーム５００は、全体で略８ｇのビーム幅を露光する。
【００４６】
アレイビーム５００に含まれる複数の電子ビームの照射領域５０２は、ステージ部１１０の連続移動に伴って、対応するグリッド４０１をそれぞれ移動する。図示の例では、電子ビームＢ１の照射領域は、−Ｙ方向側から１番目のグリッドを移動し、電子ビームＢ２の照射位置は、−Ｙ方向側から２番目のグリッドを移動する例を示す。
【００４７】
カラム制御部１３０は、第２保存部１８２から取得したビーム制御データ１８４をもとに、露光するパターンの第１の方向のＹ座標の値を検出する。カラム制御部１３０は、パターンのＹ座標値に応じて、露光に用いる電子ビームを選択する。図３の第２パターン４２０を例に説明する。ビーム制御データ１８４をもとに検出した第２パターン４２０のＹ座標値が、−Ｙ方向側から１番目および２番目のグリッド４０１の範囲にあることに応じて、カラム制御部１３０は、当該Ｙ座標値の範囲が照射領域となる電子ビームＢ１およびＢ２を選択する。電子ビームＢ１は、第２パターン４２０の一部であるパターン４２２を露光するのに用いられ、電子ビームＢ２は、第２パターン４２０の一部であるパターン４２４を露光するのに用いられる。
【００４８】
また、カラム制御部１３０は、第２保存部１８２から取得したビーム制御データ１８４をもとに、露光するパターンの第２の方向のＸ座標の値を検出する。カラム制御部１３０は、図３の照射領域５０２を構成する第１の電子ビーム群および第２の電子ビーム群に含まれる電子ビームのそれぞれに対して、パターンのＸ座標の値に応じて電子ビームをＯＮ状態またはＯＦＦ状態に切り替える照射タイミングを設定する。
【００４９】
即ち、カラム制御部１３０は、パターンの第２方向のＸ座標値、ラインパターンの長手方向に予め設定した基準位置（図３参照）のＸ座標値、およびステージ部１１０の移動速度を用いて、アレイビーム５００の照射領域５０２が基準位置を通過してからパターンのＸ座標値に到達するまでの経過時間を設定する。カラム制御部１３０は、アレイビーム５００の照射領域５０２が基準位置を通過するタイミングをステージ制御部１４０から取得する。カラム制御部１３０は、基準位置を通過した時点から当該経過時間後に、対応する電子ビームのＯＮ／ＯＦＦ状態を切り替える。
【００５０】
図３の第２パターン４２０を例に説明する。カラム制御部１３０は、第２保存部１８２のビーム制御データ１８４をもとに、第２パターン４２０の両端のＸ座標値ＸｃおよびＸｃ＋Ｓｘを検出する。アレイビーム５００の照射領域５０２は、ステージ部１１０の移動により、ラインパターンの長手方向である＋Ｘ方向または−Ｘ方向に所定の速度で走査される。
【００５１】
ステージ部１１０が＋Ｘ方向に照射領域５０２を移動させる場合、カラム制御部１３０は、図３の第１基準位置から第２パターン４２０のＸ座標値Ｘｃにステージ部１１０が達するまでの経過時間、および第１基準位置から第２パターン４２０のＸ座標値Ｘｃ＋Ｓｘにステージ部１１０が達するまでの経過時間を設定する。カラム制御部１３０は、アレイビーム５００の照射領域５０２が第１基準位置を通過するタイミングをステージ制御部１４０から得て、Ｘ座標値Ｘｃに達する経過時間後に電子ビームＢ１およびＢ２をＯＦＦ状態からＯＮ状態に切り替える。カラム制御部１３０は、Ｘ座標値Ｘｃ＋Ｓｘに達する経過時間後に電子ビームＢ１およびＢ２をＯＮ状態からＯＦＦ状態に切り替える。これにより、ラインパターンの長手方向で第２パターン４２０の範囲に電子ビームが照射される。
【００５２】
ステージ部１１０が−Ｘ方向に照射領域５０２を移動させる場合、カラム制御部１３０は、図３の第２基準位置から第２パターンのＸ座標値Ｘｃ＋Ｓｘにステージ部１１０が達するまでの経過時間、および第２基準位置から第２パターンのＸ座標値Ｘｃにステージ部１１０が達するまでの経過時間を設定する。カラム制御部１３０は、アレイビーム５００の照射領域５０２が第２基準位置を通過するタイミングをステージ制御部１４０から得て、Ｘ座標値Ｘｃ＋Ｓｘに達する経過時間後に電子ビームＢ１およびＢ２をＯＦＦ状態からＯＮ状態に切り替える。カラム制御部１３０は、Ｘ座標値Ｘｃに達する経過時間後に電子ビームＢ１およびＢ２をＯＮ状態からＯＦＦ状態に切り替える。これにより、ラインパターンの長手方向で第２パターン４２０の範囲に電子ビームが照射される。
【００５３】
図３は、一つのカラム部１２０が、合計８個の電子ビームＢ１からＢ８を有するアレイビームを出力する場合を示した。一つのカラム部１２０が、一般にｎ個の電子ビームを有するアレイビームを出力する場合も同様な露光動作を行ってよい。
【００５４】
即ち、本実施形態に係る露光装置１００は、第１の方向に並んだ第１の電子ビーム群および第２の電子ビーム群から構成されるアレイビームの照射領域をラインパターンの長手方向である第２の方向に走査することで、１番目からｎ番目までのグリッド４０１に相当するｎ×ｇの幅を有するフレームに存在するパターンを露光する。アレイビームに含まれる電子ビームＢｋ（１≦ｋ≦ｎ）の照射領域は、ｋ番目のグリッド４０１を移動するように設定され、カラム制御部１３０は、パターンの第１の方向のＹ座標値をもとに、当該パターンを露光する電子ビームを選択してよい。また、カラム制御部１３０は、選択した電子ビームのそれぞれに対して、パターンの第２の方向のＸ座標値に基づいて電子ビームをＯＮ状態またはＯＦＦ状態に切り替える照射タイミングを設定してよい。
【００５５】
さらに、本実施形態に係る露光装置１００は、例えば８８個のカラム部１２０を備える。露光装置１００は、８８個のカラム部１２０のそれぞれが図２および図３で示す露光動作を行う。露光装置１００は、８８個のカラム部１２０が試料１０の表面全体を並行して露光する。それぞれのカラム部１２０が、例えば略３０×３０ｍｍの正方形の照射可能領域２００（図２参照）を露光する時間で、８８個のカラム部１２０を備える露光装置１００は、試料１０表面の全体を露光する。
【００５６】
これにより、複数のカラム部１２０を備える露光装置１００は、単一のカラム部１２０を有する露光装置に比べて、露光のスループットを大幅に向上することが可能である。また、露光装置１００は、試料１０が直径３００ｍｍを超える大口径の半導体ウエハ等であっても、カラム部１２０の数を増加させることで、スループットが著しく低下することを防止できる。
【００５７】
本実施形態に係る露光データ１６２、ビーム制御データ１８４および履歴データ１９４の構成例、ならびに露光データ１６２およびビーム制御データ１８４の作成方法の例を説明する。
【００５８】
（露光データ１６２の構成例および露光データ１６２の作成方法の例）
設計データ１５０を変換した露光データ１６２の構成例について説明する。
【００５９】
図４は、本実施形態に係る露光装置１００が露光するカットパターン６１０の一例を示す。露光パターン６１０は、複数の矩形をデバイス６００の範囲内に配置したものである。露光パターン６１０は、ＣＡＤツールを用いて設計された設計データ１５０が記述するデバイスパターンの一例である。設計データ１５０におけるデータの並びは、通常、露光装置１００による露光順序を反映したものにはなっていない。このため、露光装置１００は、設計データ１５０を複数のカラム部１２０と複数の電子ビームとを有する露光装置１００を制御する制御データに変換する必要がある。しかし、以下の理由により、設計データ１５０から直接に制御データを作成するのは困難である。
【００６０】
第１の理由は、設計データ１５０のデータ容量の問題である。設計データ１５０のデータ容量は、デバイス６００の規模やパターンの複雑さに依存するが、最近のデバイス６００では例えば１〜２ＴＢ（テラバイト）である。膨大な容量を有する設計データ１５０を個別に読み出してデータの順序を組み替える作業を露光中に実施するのは困難である。第２の理由は、デバイスサイズの問題である。露光すべきデバイス６００のサイズは、通常はカラム部１２０の配置ピッチとは一致していない。このため、デバイス６００の設計データ１５０を、複数のカラム部１２０のそれぞれに単純に振り分けることはできない。
【００６１】
一方、コンプリメンタリ・リソグラフィに適用される露光パターン６１０は、ラインパターン（所定の幅および間隔を有するライン・アンド・スペースパターン）と組み合せることにより、当該ラインパターンを切断するカットパターンや、当該ラインパターンとコンタクトするビアパターンを形成する。このため、露光パターン６１０を構成するそれぞれの矩形は、ラインパターンの長手方向に沿って配置される。露光パターン６１０を構成するそれぞれの矩形のラインパターンの長手方向と直交する方向の幅および間隔は、ラインパターンの幅および間隔の最小値の整数倍の値となっている。
【００６２】
図４において、ラインパターンの長手方向と平行する第２の方向は、デバイス６００に設定した座標系のＸ軸方向と対応する。ラインパターンの長手方向と直交する第１の方向は、デバイス６００に設定した座標系のＹ軸方向と対応する。破線６２０は、Ｘ軸方向に延伸し、Ｙ軸方向に間隔ｇを有する直線である。隣り合う破線６２０の間隔ｇは、露光パターン６１０と組み合わせるラインパターンの最小幅と一致する。
【００６３】
露光パターン６１０を構成するそれぞれの矩形は、Ｘ軸方向には、破線６２０に沿って配列されている。露光パターン６１０を構成するそれぞれの矩形は、Ｙ軸方向には、その端部が破線６２０のＹ座標値と一致するように配置してよい。即ち、図４の露光パターン６１０と破線６２０との関係は、その一部を拡大すると、図３のパターン４１０、４２０および４３０とグリッドライン４００との関係と同等である。図４の破線６２０と図３のグリッドライン４００とを一致させると、図４の露光パターン６１０並びに図３のパターン４１０、４２０及び４３０はそれぞれ、図４の破線６２０及び図３のグリッドライン４００のうちＹ軸方向に一つ置きに並んでいる破線及びグリッドラインと重なって配置されるラインパターンを切断するカットパターンとなっている。
【００６４】
図５は、図４に示す露光パターン６１０の配置をもとに、露光パターン６１０をグリッド構造と対応づける一例を示す。図５（Ａ）は、デバイス６００のＹ軸方向の全域をグリッドラインによって複数のグリッドに分割したものである。グリッドのＹ軸方向の幅ｇは、露光パターン６１０の最小幅と同程度であり、例えば略１０ｎｍである。それぞれのグリッドは、その範囲内に、Ｘ軸方向に沿って並び、露光パターン６１０を構成する矩形または少なくともその一部分を含んでいる。即ち、それぞれのグリッドは、そのグリッドに含まれる露光パターン６１０と対応づけることができる。尚、本明細書において、露光パターン６１０という用語は、図４に示すパターン全体およびそれを構成する個々の矩形だけでなく、その一部分をも意味するものとする。
【００６５】
図５（Ａ）は、Ｙ軸方向に隣接する複数個のグリッドがグリッドグループを構成する例を示す。グリッドグループは、例えば１００〜１０００個の隣接するグリッドの集合として定義される。グリッドグループのＹ軸方向幅は、後程示す理由により、例えば１μｍ〜１０μｍである。任意のグリッドグループであるグリッドグループ＿ｋは、そのグリッドグループに属する複数のグリッドであるグリッド＿１、グリッド＿２、・・グリッド＿ｍ、・・グリッド＿Ｍから構成される。
【００６６】
図４に示す露光パターン６１０のそれぞれは、Ｙ軸方向には、グリッドグループ＿１、グリッドグループ＿２、・・グリッドグループ＿ｋ、・・グリッドグループ＿Ｋのいずれかに含まれる。デバイス６００の露光パターン６１０は、これらのグリッドグループのいずれかと対応づけることができる。
【００６７】
一方、図５（Ｂ）は、グリッド内部における露光パターン６１０の構成例を示す。任意のグリッドであるグリッド＿ｍは、グリッドに含まれ、Ｘ軸方向に所定の長さを持つ複数のサブグリッド、即ちサブグリッド＿１、サブグリッド＿２、・・サブグリッド＿ｎ、・・サブグリッド＿Ｎから構成される。サブグリッドのＸ軸方向の長さは、後程示す理由により、例えば５μｍ〜５０μｍである。
【００６８】
グリッド内部の露光パターン６１０は、これらサブグリッドのいずれかと対応づけることができる。図５（Ｂ）は、グリッド内部の露光パターン６１０であるパターン＿１、パターン＿２、・・パターン＿ｐ、・・パターン＿Ｐが、サブグリッド＿ｎと対応づけられる例を示す。
【００６９】
グリッドグループ、グリッド、およびサブグリッドは、本実施形態に係る露光装置１００の露光動作に係る特徴的な領域と対応する。第１の方向であるＹ軸方向に連続する複数のグリッドグループが占める領域は、カラム部１２０から出力されるアレイビームのビーム幅を有するフレーム（図２参照）と対応する。グリッドグループを構成する個々のグリッドは、アレイビームに含まれるそれぞれの電子ビームがステージ部１１０の移動によって照射可能な領域と対応する。第２の方向であるＸ軸方向に延伸するグリッドに含まれるサブグリッドは、ステージ部１１０の移動中に電子ビームを照射する露光パターンを指定する。
【００７０】
図６および図７は、図５の関係に基づいて構成した露光装置１００用の露光データ１６２の構成例を示す。露光データ１６２は、アレイビームに含まれる１本の電子ビームの幅を有し第２の方向であるＸ軸方向に伸びた帯状の領域に分割してなる第２のデータ１６６と、第１の方向であるＹ軸方向の位置に基づいて前記第２のデータ１６６を特定する第１のデータ１６４とから構成される。
【００７１】
図６は、第１のデータ１６４の構成例を示す。第１のデータ１６４は、第１の方向であるＹ軸方向に一定の範囲毎にデバイス６００を区分するグリッドグループであって、第２の方向であるＸ軸方向に延伸する複数のグリッドを指定するグリッドグループと対応して、例えば、グリッドグループデータＧｒｉｄｇｒｏｕｐ＿１〜Ｇｒｉｄｇｒｏｕｐ＿Ｋ（図６の符号７１１〜７１９）を有する。
【００７２】
任意のグリッドグループ＿ｋのデータＧｒｉｄｇｒｏｕｐ＿ｋ（符号７１５）は、デバイス６００における、Ｙ軸方向のグリッドグループ＿ｋの位置データＰｏｓｉｔｉｏｎ  Ｙと、グリッドグループ＿ｋを構成する複数のグリッドを指示するポインターデータＰｏｉｎｔｅｒ  ｔｏ  Ｇｒｉｄと、を有する。
【００７３】
グリッドグループデータＧｒｉｄｇｒｏｕｐ＿ｋ（符号７１５）のポインターデータＰｏｉｎｔｅｒ  ｔｏ  Ｇｒｉｄは、複数のグリッドデータＧｒｉｄ＿１〜Ｇｒｉｄ＿Ｍ（符号７２１〜７２９）を指定する。これによりグリッドグループ＿ｋは、このグリッドグループのＹ軸方向幅をさらに細かく区切るグリッド＿１、グリッド＿２、・・グリッド＿ｍ、・・グリッド＿Ｍと対応付けられる。
【００７４】
任意のグリッド＿ｍのデータＧｒｉｄ＿ｍ（符号７２５）は、グリッドグループ＿ｋ内における、Ｙ軸方向のグリッド＿ｍの相対的な位置データＰｏｓｉｔｉｏｎ  Ｙと、Ｘ軸方向にグリッド＿ｍを構成する複数のサブグリッドを指示するポインターデータＰｏｉｎｔｅｒ  ｔｏ  Ｓｕｂｇｒｉｄと、を有する。
【００７５】
図７は、第２のデータ１６６の構成例を示す。第２のデータは、グリッドに含まれる露光データの構成例である。例えばグリッド＿ｍのデータＧｒｉｄ＿ｍ（図７の符号７２５）は、ポインターデータＰｏｉｎｔｅｒ  ｔｏ  Ｓｕｂｇｒｉｄによって、複数のサブグリッドデータＳｕｂｇｒｉｄ＿１〜Ｓｕｂｇｒｉｄ＿Ｎ（符号７３１〜７３９）を指定する。これによりグリッド＿ｍは、グリッドを構成する複数のサブグリッドであるサブグリッド＿１、サブグリッド＿２、・・サブグリッド＿ｎ、・・サブグリッド＿Ｎと対応付けられることになる。
【００７６】
任意のサブグリッド＿ｎのデータＳｕｂｇｒｉｄ＿ｎ（符号７３５）は、グリッド＿ｍ内における、Ｘ軸方向のサブグリッド＿ｎの相対的な位置データＰｏｓｉｔｉｏｎ  Ｘと、サブグリッド＿ｎを構成する複数のパターンを指示するポインターデータＰｏｉｎｔｅｒ  ｔｏ  Ｐａｔｔｅｒｎと、を有する。
【００７７】
サブグリッドデータＳｕｂｇｒｉｄ＿ｎ（符号７３５）のポインターデータＰｏｉｎｔｅｒ  ｔｏ  Ｐａｔｔｅｒｎは、複数のパターンのデータＰａｔｔｅｒｎ＿１〜Ｐａｔｔｅｒｎ＿Ｐ（符号７４１〜７４９）を指定する。サブグリッドデータは、Ｘ軸方向に一定の長さのサブグリッドに含まれるパターンの配置座標のデータを少なくとも１つ含む。サブグリッド＿ｎは、サブグリッド内に配置される露光パターン６１０であるパターン＿１、パターン＿２、・・パターン＿ｐ、・・パターン＿Ｐと対応付けられることになる。
【００７８】
任意のパターン＿ｐのデータＰａｔｔｅｒｎ＿ｐ（符号７４５）は、サブグリッド＿ｎ内における、Ｘ軸方向のパターン＿ｐの相対的な位置データＰｏｓｉｔｉｏｎ  Ｘと、Ｘ軸方向のパターン＿ｐのサイズデータＳｘを有する。また、データＰａｔｔｅｒｎ＿ｐ（符号７４５）は、同じパターンの繰り返しを指定するＡｒｒａｙ  Ｄａｔａを有してよい。
【００７９】
即ち、露光データ１６２は、ラインパターンの長手方向と直交する第１の方向には、第１のデータ１６４から構成される。第１のデータ１６４は、階層構造を有し、グリッドグループデータおよびグリッドデータを有する。また、露光データ１６２は、ラインパターンの長手方向と平行な第２の方向には、第２のデータ１６６から構成される。第２のデータ１６６は、階層構造を有し、サブグリッドデータおよびパターンデータを有する。相対的に広い領域であるグリッドグループデータは、相対的に狭い領域であるグリッドデータを指定する。また、相対的に広い領域であるグリッドデータは、相対的に狭い領域であるサブグリッドデータを指定する。更に、相対的に広い領域であるサブグリッドデータは、相対的に狭い領域であるパターンデータを指定する。
【００８０】
変換部１５２が、設計データ１５０から露光データ１６２を作成する方法の例を説明する。
【００８１】
図８は、変換部１５２が、設計データ１５０から露光データ１６２を作成する方法を示すデータ変換フローの例である。変換部１５２は、図８に示すＳ８００ないしＳ８５０のデータ変換フローを実行することにより、設計データ１５０をもとに露光データ１６２を作成する。
【００８２】
変換部１５２は、露光パターン６１０の配置座標が定義された設計データ１５０を取得する（Ｓ８００）。変換部１５２は、ラインパターンの最小幅と同一の幅を有し、第２の方向であるＸ軸方向に一定の長さの領域に分割したサブグリッド毎にパターンの配置座標を指定するサブグリッドデータを生成する（Ｓ８１０）。次に変換部１５２は、第２の方向であるＸ軸方向に連続したグリッドに属するサブグリッドデータをグリッドごとに指定するグリッドデータを生成する（Ｓ８２０）。
【００８３】
次に変換部１５２は、設計データ１５０をＹ軸方向に所定の長さの範囲であるグリッドグループに分割したグリッドグループごとに、グリッドデータを指定するグリッドグループデータを生成する（Ｓ８３０）。更に変換部１５２は、設計データ１５０のＹ軸方向の全域にわたってグリッドグループデータを生成する（Ｓ８４０）。最後に、変換部１５２は、カットパターンの配置座標データ、ならびに、それを階層的に指定するサブグリッドデータ、グリッドデータ、およびグリッドグループデータを第１保存部１６０に保存する（Ｓ８５０）。
【００８４】
第１保存部１６０に保存された露光データ１６２は、露光装置１００を制御する第１の方向および第２の方向に基づいて設計データ１５０を変換した第１のデータ１６４および第２のデータ１６６を有する。露光データ１６２は、個々の露光パターン６１０の配置座標を指定するパターンデータに加えて、それを階層的に指定するサブグリッドデータ、グリッドデータ、およびグリッドグループデータを含んでいる。露光データ１６２全体のデータ容量は、設計データ１５０のデータ容量とそれほど変わらず、最近のデバイス６００では例えば１〜２ＴＢ（テラバイト）である。
【００８５】
（ビーム制御データ１８４の構成例およびビーム制御データ１８４の作成方法の例）
露光データ１６２を再構成して得られるビーム制御データ１８４の構成例について、次に説明する。
【００８６】
図９（Ａ）は、複数のデバイス６００を試料１０の表面に露光する例を示す。複数のデバイス６００のそれぞれは、すべて同じ露光パターン６１０を有するものとする。複数のデバイス６００は、ＸＹ面と略平行な試料１０の表面に、予め決められた位置に配置される。試料１０の表面上における複数のデバイス６００の配置位置は、配置データ保存部１７０に保存された配置データ１７２（図１参照）に基づいて決定される。
【００８７】
図９（Ａ）の領域２００は、任意のカラム部１２０に対応して、試料１０表面の一部に設定される照射可能領域２００（図２参照）の一例を示す。照射可能領域２００のＸ軸方向の大きさは略３０ｍｍ、Ｙ軸方向の大きさは略３０ｍｍである。複数のカラム部１２０を有する露光装置１００では、複数のカラム部１２０のそれぞれに対応する照射可能領域２００は、試料１０の表面上の異なる領域を占める。試料１０の表面は、複数のカラム部１２０の照射可能領域２００で覆われることになる。図９（Ａ）の領域２００は、任意の一つのカラム部１２０に対する照射可能領域２００を示すものである。
【００８８】
照射可能領域２００のＸ軸方向およびＹ軸方向の大きさは、デバイス６００のＸ軸方向およびＹ軸方向の大きさと一致しなくともよい。照射可能領域２００の大きさは、隣接するカラム部１２０間の間隔に依存して決まり、デバイス６００の大きさは、設計されたデバイスの大きさに依存して決まるからである。従って、通常、照射可能領域２００の左右上下の４隅の位置はデバイス６００の内部に存在する。また、複数のカラム部１２０それぞれの照射可能領域２００とデバイス６００との相対的な位置関係は、照射可能領域２００ごとに異なっている。
【００８９】
図９（Ｂ）は、任意のカラム部１２０の照射可能領域２００と露光されるデバイス６００との位置関係の例を示す。任意のカラム部１２０の照射可能領域２００は、左下、右下、右上、および左上の隅がそれぞれ、符号６００ａ、６００ｂ、６００ｃ、および６００ｄで示すデバイス６００の内部に存在する例を示す。これらのデバイス６００を、デバイス６００ａ、デバイス６００ｂ、デバイス６００ｃ、およびデバイス６００ｄと区別して呼ぶことにする。
【００９０】
露光装置１００は、Ｙ軸方向に略６０ｕｍのビーム幅を有するアレイビームを、Ｘ軸方向のフレームに沿って往復させながら、−Ｙ側から＋Ｙ側にフレーム毎に露光範囲を広げることにより照射可能領域２００を露光する。即ち、任意のカラム部１２０は、最初のフレームでは、例えば、左下のデバイス６００ａの内部から露光を開始し、右下のデバイス６００ｂの内部で露光を終了する。任意のカラム部１２０は、最終のフレームでは、例えば、右上のデバイス６００ｃの内部から露光を開始し、左上のデバイス６００ｄの内部で露光を終了する。
【００９１】
任意のカラム部１２０は、フレーム途中で、左側のデバイス６００ａおよび６００ｄと右側のデバイス６００ｂおよび６００ｃとの間の境界を横切る。また、任意のカラム部１２０は、上下に隣接するフレームの間で、下側のデバイス６００ａおよび６００ｂと、上側のデバイス６００ｄおよび６００ｃとの間の境界を横切る。
【００９２】
図９（Ｂ）をもとに、露光の順序と露光データ１６２との対応関係について説明する。露光データ１６２は、露光装置１００を制御する第１の方向であるＹ軸方向にはグリッドグループ単位にまとめられた第１のデータ１６４を有し、露光装置１００を制御する第２の方向であるＸ軸方向にはサブグリッド単位にまとめられた第２のデータ１６６を有する。
【００９３】
図９（Ｂ）に示すグリッドグループ＿ｋ１、グリッドグループ＿Ｋ、グリッドグループ＿１およびグリッドグループ＿ｋ２、ならびにサブグリッド＿ｎ１、サブグリッド＿Ｎ、サブグリッド＿１およびサブグリッド＿ｎ２は、任意のカラム部１２０の照射可能領域２００の４隅およびデバイスの境界に対応する、Ｙ軸方向のグリッドグループおよびＸ軸方向のサブグリッドを示す。
【００９４】
最初のフレームでは、任意のカラム部１２０に対するビーム制御データ１８４は、露光データ１６２を次のように再構成して作成される。最初のフレームの−Ｘ側の端において、任意のカラム部１２０に対するビーム制御データ１８４は、Ｙ軸方向には、第１のデータ１６４から抽出された、グリッドグループ＿ｋ１を下端にしてアレイビームのビーム幅（フレーム幅ｆｗ）の範囲に相当するグリッドグループデータと、そのグリッドグループデータが指定するグリッドデータとによって構成される。つまり、Ｙ軸方向に関して、グリッドグループ単位で照射可能領域２００と重複するデータが抽出される。
【００９５】
また、最初のフレームの−Ｘ側の端において、任意のカラム部１２０に対するビーム制御データ１８４は、Ｘ軸方向には、第２のデータ１６６から抽出された、サブグリッド＿ｎ１と同等の位置にあるフレーム内のサブグリッドデータと、そのサブグリッドデータが指定するパターンデータとによって構成される。このように、Ｘ軸方向に関してサブグリッド単位で照射可能領域２００と重複するデータが抽出される。
【００９６】
最初のフレームにおける露光の進行に応じて、任意のカラム部１２０に対するビーム制御データ１８４は、Ｙ軸方向には、フレームの−Ｘ側端と同じグリッドグループおよびグリッドと対応する第１のデータ１６４から構成される。任意のカラム部１２０に対するビーム制御データ１８４は、Ｘ軸方向には、Ｘ座標に応じて更新されるデバイス６００のサブグリッドおよびパターンと対応する第２のデータ１６６から構成される。
【００９７】
最初のフレームのデバイス６００ａと６００ｂとの境界において、任意のカラム部１２０に対するビーム制御データ１８４は、Ｙ軸方向には、フレームの−Ｘ側端と同じグリッドグループおよびグリッドと対応する第１のデータ１６４から構成される。任意のカラム部１２０に対するビーム制御データ１８４は、Ｘ軸方向には、デバイス６００の右端のサブグリッド＿Ｎと同等の位置にあるフレーム内のサブグリッドおよびパターンと対応する第２のデータ１６６から、デバイス６００の左端のサブグリッド＿１と同等の位置にあるフレーム内のサブグリッドおよびパターンと対応する第２のデータ１６６に切り替わるように構成される。
【００９８】
最初のフレームの＋Ｘ側の端において、任意のカラム部１２０に対するビーム制御データ１８４は、Ｙ軸方向には、フレームの−Ｘ側端と同じグリッドグループおよびグリッドと対応する第１のデータ１６４から構成される。任意のカラム部１２０に対するビーム制御データ１８４は、Ｘ軸方向には、デバイス６００のサブグリッド＿ｎ２と同等の位置にあるフレーム内のサブグリッドおよびパターンと対応する第２のデータ１６６から構成される。
【００９９】
２番目以降のフレームにおいても、任意のカラム部１２０に対するビーム制御データ１８４は、アレイビームによる露光の順序に応じて、Ｙ軸方向には、グリッドグループの単位で第１のデータ１６４に含まれる露光データを抽出し、Ｘ軸方向にはサブグリッドの単位で第２のデータ１６６に含まれるデータを抽出して構成される。
【０１００】
図１０は、このようにして第１のデータ１６４および第２のデータ１６６からグリッドグループの単位およびサブグリッド単位でデータを抽出し、再構成したビーム制御データ１８４の構成例を示す。ビーム制御データ１８４ａは、第１フレームに対するビーム制御データ１８４の例であり、ビーム制御データ１８４ｂは、第２フレームに対するビーム制御データ１８４の例である。
【０１０１】
Ｇｒｉｄｇｒｏｕｐ、Ｇｒｉｄ、Ｓｕｂｇｒｉｄ、およびＰａｔｔｅｒｎなどは、それぞれ第１のデータ１６４および第２のデータ１６６に含まれるグリッドグループデータ、グリッドデータ、サブグリッドデータおよびパターンデータを表す。Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、第１フレーム、第２フレーム、グリッドグループ、グリッド、サブグリッドおよびパターンなどの用語は、データの内容を示すコメントでありデータそのものではない。図１１も同じである。
【０１０２】
図１０の第１フレームに対するビーム制御データ１８４ａについて説明する。第１フレームは、グリッドグループ＿ｋ１を下端にしてアレイビームのビーム幅の範囲に含まれるグリッドグループ＿ｋ１〜グリッドグループ＿ｋｆ−１から構成される。このとき、第１フレームのビーム制御データ１８４ａは、Ｙ軸方向に、複数のグリッドグループデータＧｒｉｄｇｒｏｕｐ＿ｋ１〜Ｇｒｉｄｇｒｏｕｐ＿ｋｆ−１を有する。
【０１０３】
第１フレームのビーム制御データ１８４ａは、第１フレームに属するグリッドグループとグリッドとの指定および被指定の関係を表すデータも含む。これにより、グリッドグループデータＧｒｉｄｇｒｏｕｐ＿ｋ１〜Ｇｒｉｄｇｒｏｕｐ＿ｋｆ−１が指定するグリッドデータが特定される。
【０１０４】
第１フレームに対するビーム制御データ１８４ａは、ステージの移動と対応してＸ軸方向に、サブグリッドデータＳｕｂｇｒｉｄ＿ｎ１，ｋ１、Ｓｕｂｇｒｉｄ＿ｎ１＋１，ｋ１・・などを有する。ここで、例えばサブグリッドデータＳｕｂｇｒｉｄ＿ｎ１，ｋ１は、データＧｒｉｄｇｒｏｕｐ＿ｋ１が指定するグリッドデータに対するｎ１番目のサブグリッドデータを示す。
【０１０５】
図の太線矢印は、第１フレームのビーム制御データ１８４が、太線矢印の順序のサブグリッドデータから構成されることを表す。また、第１フレームのビーム制御データ１８４ａは、第１フレームに属する範囲のサブグリッドとパターンとの指定および被指定の関係を表すデータも含む。これにより、グリッドグループデータＧｒｉｄｇｒｏｕｐ＿ｋ１〜Ｇｒｉｄｇｒｏｕｐ＿ｋｆ−１が指定するグリッドデータに対して、サブグリッドデータＳｕｂｇｒｉｄ＿ｎ１，ｋ１、Ｓｕｂｇｒｉｄ＿ｎ１＋１，ｋ１・・などが指定するパターンデータが特定される。
【０１０６】
第２フレームのビーム制御データ１８４ｂも同様な構成例を有する。ビーム制御データ１８４ｂは、Ｙ軸方向のグリッドグループデータＧｒｉｄｇｒｏｕｐ＿ｋｆ〜Ｇｒｉｄｇｒｏｕｐ＿ｋｆｆ−１をもとに、第２フレームに含まれるＹ軸方向のグリッドデータを特定する。ビーム制御データ１８４ｂは、Ｘ軸方向のサブグリッドデータＳｕｂｇｒｉｄ＿ｎ２，ｋｆ、Ｓｕｂｇｒｉｄ＿ｎ２−１，ｋｆ・・などをもとに、第２フレームに含まれるそれぞれのグリッドに対するパターンデータを特定する。
【０１０７】
太線矢印で示されているサブグリッドデータの順序は、第１フレームのビーム制御データ１８４ａと第２フレームのビーム制御データ１８４ｂとで逆向きである。ステージ部１１０の移動による露光順序が、第１フレームと第２フレームとでＸ軸方向に逆向きになっていることと対応する。ビーム制御データ１８４の構成は、第３フレーム以降についても同様である。ビーム制御データ１８４は、フレームごとに作成されてよく、フレームごとに第２保存部１８２に保存されてよい。
【０１０８】
照射可能領域２００とビーム制御データ１８４との関係について更に記載する。複数のカラム部１２０を有する露光装置１００において、照射可能領域２００の大きさは、隣接するカラム部１２０どうしの間隔より大きくとってよい。隣接するカラム部１２０のそれぞれが担当する照射可能領域２００の一部が互いに重複しあい、試料１０の表面全体を切れ目なく覆うことができるからである。
【０１０９】
この場合、照射可能領域２００の重複領域に対するビーム制御データ１８４を構成するために、第１のデータ１６４は、照射可能領域２００の重複領域よりも小さな領域のグリッドグループの単位でまとめられるとともに、第２のデータ１６６は照射可能領域２００の重複領域よりも小さな領域のサブグリッドの単位でまとめられてよい。即ち、グリッドグループのＹ軸方向のサイズおよびサブグリッドのＸ軸方向のサイズは、隣接するカラム部１２０の照射可能領域２００の重複領域の幅と同等またはそれ以下のサイズに設定されてよい。
【０１１０】
これにより、照射可能領域２００の重複領域に対するビーム制御データ１８４は、グリッドグループおよびサブグリッドを単位として、どちらかのカラム部１２０のビーム制御データ１８４に含める再構成を行うことができる。サブグリッドのＸ軸方向のサイズは、例えば５μｍ〜５０μｍとするのが望ましい。隣接するカラム部１２０の照射可能領域２００の重なり幅を適切な範囲に設定するためである。
【０１１１】
また、ビーム制御データ１８４は、照射可能領域２００における電子ビームの走査方向とラインパターンの長手方向であるＸ軸方向との間の角度に依存して、グリッドグループ単位でＹ軸方向のビーム制御データ１８４の再構成が行われてよい。ビーム制御データ１８４は、グリッドグループのデータをフレームの途中で別のグリッドグループのデータに切り替える再構成が行われてよい。これにより、電子ビームの走査方向とラインパターンの長手方向であるＸ軸方向との間の角度が大きい場合も、照射可能領域２００の右端から左端までを１つのフレームで露光できる。
【０１１２】
グリッドグループのＹ軸方向幅は、例えば１μｍ〜１０μｍとするのが望ましい。グリッドグループのＹ軸方向のサイズを、カラム部１２０に備えた偏向器（図示せず）によるアレイビームの偏向幅と略一致させるためである。電子ビームの走査方向とラインパターンの長手方向との非平行性に起因するアレイビームのＹ軸方向位置とラインパターンのＹ軸方向位置との位置ずれが、例えば１μｍ〜１０μｍの変更幅を有する当該偏向器による偏向で追随できない場合であっても、露光装置１００は、グリッドグループ単位でＹ軸方向にデータを切り替えることにより、照射可能領域２００の右端から左端までを１つのフレームで露光できる。
【０１１３】
ビーム制御データ１８４のデータ容量は、１フレームに含まれる露光パターン６１０を記述する設計データ１５０の容量と同程度である。ビーム制御データ１８４のデータ容量は、例えば２〜４ＧＢ（ギガバイト）である。一つの第２保存部１８２が、２フレーム分のビーム制御データ１８４を保存する場合、一つの第２保存部１８２が保存すべきデータの容量は、例えば４〜８ＧＢである。８８個のカラム部１２０を有する露光装置１００の第２保存部１８２全体が保存すべきデータの容量は、例えば３５０〜７００ＧＢである。
【０１１４】
分配部１８０が、露光データ１６２を再構成してビーム制御データ１８４を作成する方法の例を説明する。
【０１１５】
図１１は、露光装置１００がフレーム毎に試料１０を露光する露光フローの一部を示す。図１１は、分配部１８０が、第１のデータ１６４および第２のデータ１６６からそれぞれグリッドグループ単位およびサブグリッド単位に抽出した露光データを再構成してビーム制御データ１８４を作成するフローを含んでいる。分配部１８０は、図１１に示すフローの中で、露光データ１６２を再構成したビーム制御データ１８４を各カラム部１２０に分配する。露光装置１００は、フレーム毎に、露光とビーム制御データ１８４の分配とを並列して実施する。
【０１１６】
露光装置１００は、配置データ保存部１７０に保存された配置データ１７２を読み出して試料１０の上におけるデバイス６００の配置を決定する（Ｓ１１００）。露光装置１００は、それぞれのカラム部１２０が生成する電子ビーム群（アレイビーム）と試料１０との位置関係を、マーク測定などのビーム位置検出手段を使って測定する（Ｓ１１１０）。
【０１１７】
分配部１８０は、第１フレーム２３２（図２参照）および隣接カラム部１２０との第１フレームの重複領域について、カラム部１２０が第１フレームを露光する順序に従って、第１の方向であるＹ軸方向に関しては第１のデータ１６４からグリッドグループ単位で露光データを抽出し、第２の方向であるＸ軸方向に関しては第２のデータ１６６からサブグリッド単位で露光データを抽出し、それらのデータが指定するグリッドデータおよびパターンデータとともに、第２の保存部１８２に転送する（Ｓ１１２０）。露光装置１００は、露光フレーム番号ｆｎと転送フレーム番号ｆｔについて、初期値ｆｎ←１、ｆｔ←ｆｎ＋１を設定する（Ｓ１１３０）。
【０１１８】
露光装置１００は、第ｆｎフレームを露光する。これと並行して分配部１８０は、第ｆｔフレームおよび隣接カラム部１２０との第ｆｔフレームの重複領域について、カラム部１２０が第ｆｔフレームを露光する順序に従って、第１の方向に関しては第１のデータ１６４からグリッドグループ単位で露光データを抽出し、第２の方向に関しては第２のデータ１６６からサブグリッド単位で露光データを抽出し、グリッドデータおよびパターンデータとともに第２の保存部１８２に第ｆｔフレームのデータを転送する（Ｓ１１４０）。
【０１１９】
露光装置１００は、全てのフレームを露光終了したかを判断する（Ｓ１１５０）。すべてのフレームを露光しおわっていれば（Ｓ１１５０；Ｙｅｓ）露光動作を終了する。すべてのフレームを露光し終わっていなければ（Ｓ１１５０；Ｎｏ）、次のフレームの始点にステージ移動するとともに、露光フレーム番号ｆｎと転送フレーム番号ｆｔについて、ｆｎ←ｆｎ＋１、ｆｔ←ｆｎ＋１を設定する（Ｓ１１６０）。第ｆｎフレームを露光し、第ｆｔフレームのデータを転送するステップ（Ｓ１１４０）に戻る。
【０１２０】
分配部１８０は、カラム部１２０がフレーム露光中に、露光データの抽出、露光データの再構成によるビーム制御データの作成、および第２の保存部１８２へのデータの転送を行う。第１のデータ１６４および第２のデータ１６６は露光前に予め作成されているため、分配部１８０は、第１のデータ１６４および第２のデータ１６６からぎりっどグループ単位及びサブグリッド単位でデータを抽出して、抽出されたデータについて露光順序に沿ったデータの再構成とデータの転送を行えばよい。膨大な設計データ１５０を組み替える必要はなくなり、露光装置１００は、露光の進行に合わせてビーム制御データ１８４を作成できる。
【０１２１】
また、分配部１８０は、露光すべきデバイス６００のサイズがカラム部１２０の配置ピッチと一致していない場合でもビーム制御データ１８４を作成できる。分配部１８０は、露光可能領域２００の境界が露光デバイス６００の内部にある場合にも、サイズ１μｍ〜１０μｍのグリッドグループ単位およびサイズ５μｍ〜５０μｍのサブグリッド単位で、第１のデータ１６４および第２のデータ１６６から露光データを抽出できるからである。
【０１２２】
（履歴データ１９４の構成例）
履歴データ１９４の構成例について説明する。
【０１２３】
ビーム制御データ１８４は、フレームごとに第２保存部１８２に一時的に上書き保存される。露光終了時点で第２保存部１８２に、カラム部１２０を制御したビーム制御データ１８４のすべては残されていない。
【０１２４】
図１２は、カラム部１２０で露光に使われたビーム制御データ１８４を露光順序の履歴として残す履歴データ１９４の構成例である。履歴データ１９４は、カラム部１２０を区別するデータ１９５とそれぞれのカラム部１２０が露光した順序のグリッドグループデータおよびサブグリッドデータ１９６のみを含んでいる。
【０１２５】
データ１９５がＣＮ１であるカラム部１２０の履歴データ１９４について説明する。データ１９６は、第１フレームの第１の方向には、グリッドグループデータＧｒｉｄｇｒｏｕｐ＿ｋ１〜Ｇｒｉｄｇｒｏｕｐ＿ｋｆ−１などを有するグリッドグループによって指定されたデータが露光されたことを示す。データ１９６は、第１フレームの第２の方向には、サブグリッドデータＳｕｂｇｒｉｄ＿ｎ１，ｋ１、Ｓｕｂｇｒｉｄ＿ｎ１＋１，ｋ１・・などを有するサブグリッドによって指定されたパターンが太線矢印の向きに露光されたことを示す。
【０１２６】
また、データ１９６は、第２フレームの第１の方向には、グリッドグループデータＧｒｉｄｇｒｏｕｐ＿ｋｆ〜Ｇｒｉｄｇｒｏｕｐ＿ｋｆｆ−１などを有するグリッドグループによって指定されたデータが露光されたことを示す。データ１９６は、第２フレームの第２の方向には、サブグリッドデータＳｕｂｇｒｉｄ＿ｎ２，ｋｆ、Ｓｕｂｇｒｉｄ＿ｎ２＋１，ｋｆ・・などを有するサブグリッドによって指定されたパターンが太線矢印の向きに露光されたことを示す。
【０１２７】
履歴データ１９４は、試料１０上の露光パターン６１０を、そのパターンを露光したカラム部１２０およびカラム部１２０の露光順序と対応づける。即ち、履歴データ１９４は、露光した順序のグリッドグループデータおよびサブグリッドデータ１９６を記録しているため、もとの露光データ１６２とを対比することによって、試料１０に形成された複数のデバイス６００のそれぞれの露光パターン６１０が、どのカラム部１２０を使ってどの露光順序で露光されたかを露光後に知ることができる。履歴データ１９４に残るグリッドグループデータ及びサブグリッドデータ１９６は、グリッドグループデータ間の関係を示す第１のデータ１６４及びサブグリッドデータとパターンとの関係を示す第２のデータ１６６を参照すれば、どの露光パターン６１０を指定しているかをたどることができるからである。
【０１２８】
履歴データ１９４は、露光パターン６１０を露光後に検査するときに有用な情報を提供する。履歴データ１９４はグリッドグループデータ及びサブグリッドデータ１９６のみであるため、そのデータ容量は、例えば５０〜１００ＭＢ（メガバイト）である。履歴データ１９４のデータ容量は、露光データ１６２のデータ容量と比べると十分に小さい。
【０１２９】
履歴データ１９４は、露光順序に並べられたグリッドグループデータおよびサブグリッドデータ１９５を保存するだけでなく、カラム部１２０の状態に係るデータを保存してよい。カラム部１２０の状態に係るデータは、例えば、それぞれのカラム部１２０が生成する電子ビームの電流密度、ビームサイズ、および／またはビームの結像状態などに関するデータである。カラム部１２０の状態に係るデータは、フレーム露光とフレーム露光との間のフレームの切り換わり時に定期的に検出してよい。これによって、履歴データ１９４は、露光パターン６１０の検査においてさらに有用な情報を提供する。
【０１３０】
以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更または改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
【０１３１】
特許請求の範囲、明細書、および図面中において示した装置、システム、プログラム、および方法における動作、手順、ステップ、および段階等の各処理の実行順序は、特段「より前に」、「先立って」等と明示しておらず、また、前の処理の出力を後の処理で用いるのでない限り、任意の順序で実現しうることに留意すべきである。特許請求の範囲、明細書、および図面中の動作フローに関して、便宜上「まず、」、「次に、」等を用いて説明したとしても、この順で実施することが必須であることを意味するものではない。
【符号の説明】
【０１３２】
１０…試料、１００…露光装置、１１０…ステージ部、１２０…カラム部、１３０…カラム制御部、１４０…ステージ制御部、１５０…設計データ、１５２…変換部、１６０…第１保存部、１６２…露光データ、１６４…第１のデータ、１６６…第２のデータ、１７０…配置データ保存部、１７２…配置データ、１８０…分配部、１８２…第２保存部、１８４、１８４ａ、１８４ｂ…ビーム制御データ、１９０…収集部、１９２…第３保存部、１９４…履歴データ、１９５、１９６…データ、２００…照射可能領域、２１０…照射位置、２２０…領域、２３２…第１フレーム、２３４…第２フレーム、２３６…第３フレーム、４００…グリッドライン、４０１…グリッド、４０２…ラインパターン、４１０…第１パターン、４１２、４１４、４１６、４１８…パターン、４２０…第２パターン、４２２、４２４…パターン、４３０…第３パターン、４３２、４３４、４３６、４３８…パターン、５００…アレイビーム、５０２…照射領域、６００、６００ａ、６００ｂ、６００ｃ、６００ｄ…デバイス、６１０…露光パターン、６２０…破線、７１１、７１２、７１５、７１９…グリッドグループデータ、７２１、７２２、７２５、７２９…グリッドデータ、７３１、７３２、７３５、７３９…サブグリッドデータ、７４１、７４２、７４５、７４９…パターンデータ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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