(57)【要約】【課題】表面波伝播中のマイクロ波エネルギー分布の制御を行って、被加熱物の所望の領域に焦げ目を付けることができる高周波加熱装置を提供する。【解決手段】本発明の高周波加熱装置は、マイクロ波発生部から空間伝播するマイクロ波を表面波としてスタブ周期構造を伝播させる表面波伝送部とスタブ周期構造に近接して配置される被加熱物を収容可能に構成された加熱室と、を備え、表面波伝送部のスタブ周期構造と被加熱物との間に表面波の伝播方向を変更する表面波調整部が配設されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロ波を発生するマイクロ波発生部、および
前記発生したマイクロ波を表面波として伝播させる周期構造を有し、前記周期構造に近接して配置される被加熱物を収容可能に構成された加熱室、を備え、
前記周期構造と前記被加熱物との間の領域に表面波調整部を配設して、表面波の伝播方向を変更するよう構成された高周波加熱装置。
【請求項２】
前記表面波調整部は、前記周期構造における少なくとも一部を覆い、前記被加熱物の直下に配置される請求項１に記載の高周波加熱装置。
【請求項３】
前記表面波調整部は、表面波を集中または拡散する非直線の境界面を有する誘電体で構成された請求項１または２に記載の高周波加熱装置。
【請求項４】
前記表面波調整部は、表面波を集中または拡散する曲線の境界面を有する誘電体で構成された請求項１または２に記載の高周波加熱装置。
【請求項５】
前記表面波調整部は、表面波を集中または拡散する屈曲した境界面を有する誘電体で構成された請求項１または２に記載の高周波加熱装置。
【請求項６】
前記表面波調整部は、前記周期構造における表面波が伝播する面に対して斜行した面を有する誘電体で構成された請求項１または２に記載の高周波加熱装置。
【請求項７】
前記周期構造に近接して、被加熱物を載置する被加熱物載置部が配置され、
前記表面波調整部は、前記周期構造と前記被加熱物載置部との間の隙間に対して挿入可能に構成された請求項１から６のいずれか一項に記載の高周波加熱装置。
【請求項８】
前記表面波調整部は、形状および／または誘電率の異なる複数の調整体を有し、前記周期構造と前記被加熱物載置部との間の隙間に対して前記複数の調整体から選択された少なくとも１つの調整体が挿入可能に構成された請求項７に記載の高周波加熱装置。
【請求項９】
実質的に同じ構成を有する複数のスタブを所定間隔を有して並設して構成されたスタブにより前記周期構造を構成した請求項１から８のいずれか１項に記載の高周波加熱装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
マイクロ波を用いた高周波加熱装置に関し、特に表面波を用いて加熱処理を行う高周波加熱装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
マイクロ波を用いて被加熱物を加熱処理する装置としては、所謂、電子レンジがある。電子レンジにおいては、被加熱物を短時間で均一に加熱することができるという大きな利点を有する一方、被加熱物に焦げ目を付けることができないという欠点を有している。このため、焦げ目を付ける必要のある被加熱物に対しては、例えば、ガス、ヒータなどの火力を用いて被加熱物を直接的に加熱して焦げ目を付ける加熱調理が行われている。
【０００３】
マイクロ波を用いて被加熱物に対して焦げ目を付ける加熱装置としては、表面波加熱を用いた構成が提案されている（例えば、特許文献１〜３参照）。表面波加熱は、マイクロ波の表面波モード伝播を利用するものであり、表面波伝送線路の近傍に集中するマイクロ波エネルギーにより被加熱物に焦げ目を付ける加熱方式である。表面波伝送線路を表面波モードで伝播するマイクロ波エネルギーは、当該表面波伝送線路から離れるに従って指数関数的に減衰するため、被加熱物は表面波伝送線路の近傍に配置する必要がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開昭４９−１６９４４号公報
【特許文献２】特開平５−６６０１９号公報
【特許文献３】特開平８−２１０６５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
表面波加熱を行う高周波加熱装置は、マイクロ波発生手段において発生されたマイクロ波を導波管を介して表面波伝送線路に送り、表面波伝送線路の近傍にマイクロ波エネルギーを集中させる構成である。このため、表面波伝送線路において、表面波伝播の分布を最適化して、表面波伝送線路の近傍に配置された被加熱物に対して所望の焦げ目を付けることが望まれている。
【０００６】
本発明は、従来の表面波加熱を行う高周波加熱装置においては考慮されていなかった表面波伝播中のマイクロ波エネルギー分布の制御を行うことができる構成を提供し、被加熱物に対して所望の焦げ目を付けることができる高周波加熱装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る一態様の高周波加熱装置は、
マイクロ波を発生するマイクロ波発生部、および
前記発生したマイクロ波を表面波として伝播させる周期構造を有し、前記周期構造に近接して配置される被加熱物を収容可能に構成された加熱室、を備え、
前記周期構造と前記被加熱物との間の領域に表面波調整部を配設して、表面波の伝播方向を変更するよう構成されている。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、表面波伝播中のマイクロ波エネルギー分布の制御を行って、被加熱物に対して所望の焦げ目を付けることが可能な高周波加熱装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明に係る実施の形態１の高周波加熱装置の全体構成を模式的に示す図
【図２】実施の形態１の高周波加熱装置における表面波変換部および表面波伝送部で構成されたスタブ周期構造上に表面波調整部が配設された状態を示す斜視図
【図３】実施の形態１の高周波加熱装置における表面波伝送線路であるスタブ周期構造における電流流路および電界分布について説明する模式図
【図４】比較例としてスタブ周期構造において並設された複数のスタブの突出端に被加熱物が直接載置された状態を示す模式図
【図５】比較例としてスタブ周期構造における複数のスタブの突出端から所定距離だけ離して被加熱物が配置された状態を示す模式図
【図６】実施の形態１の高周波加熱装置において、スタブ周期構造と被加熱物との間の空気層に表面波調整部が設けられた状態を示す模式図
【図７】実施の形態１の高周波加熱装置において、スタブ周期構造と被加熱物との間の空気層に表面波調整部が設けられた状態を示す模式図
【図８】本発明に係る別の構成の実施の形態の高周波加熱装置において、スタブ周期構造を複数の棒状部材で構成した例を示す斜視図
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明に係る第１の態様の高周波加熱装置は、
マイクロ波を発生するマイクロ波発生部、および
前記発生したマイクロ波を表面波として伝播させる周期構造を有し、前記周期構造に近接して配置される被加熱物を収容可能に構成された加熱室、を備え、
前記周期構造と前記被加熱物との間の領域に表面波調整部を配設して、表面波の伝播方向を変更するよう構成されている。
このように構成された第１の態様の高周波加熱装置は、効率の高い表面波伝播を行って、少ない消費電力で被加熱物に対して所望の領域に焦げ目を付けることができる。
【００１１】
本発明に係る第２の態様の高周波加熱装置は、前記の第１の態様において、前記表面波調整部が、前記周期構造における少なくとも一部を覆い、前記被加熱物の直下に配置されてもよい。
【００１２】
本発明に係る第３の態様の高周波加熱装置は、前記の第１または第２の態様において、前記表面波調整部が、表面波を集中または拡散する非直線の境界面を有する誘電体で構成されてもよい。
【００１３】
本発明に係る第４の態様の高周波加熱装置は、前記の第１または第２の態様において、前記表面波調整部が、表面波を集中または拡散する曲線の境界面を有する誘電体で構成されてもよい。
【００１４】
本発明に係る第５の態様の高周波加熱装置は、前記の第１または第２の態様において、前記表面波調整部が、表面波を集中または拡散する屈曲した境界面を有する誘電体で構成されてもよい。
【００１５】
本発明に係る第６の態様の高周波加熱装置は、前記の第１または第２の態様において、前記表面波調整部が、前記周期構造における表面波が伝播する面に対して斜行した面を有する誘電体で構成されてもよい。
【００１６】
本発明に係る第７の態様の高周波加熱装置は、前記の第１から第６の態様のいずれかの態様において、前記周期構造に近接して、被加熱物を載置する被加熱物載置部が配置され、前記表面波調整部を、前記周期構造と前記被加熱物載置部との間の隙間に対して挿入可能に構成されてもよい。
【００１７】
本発明に係る第８の態様の高周波加熱装置は、前記の第７の態様において、前記表面波調整部が、形状および／または誘電率の異なる複数の調整体を有し、前記周期構造と前記被加熱物載置部との間の隙間に対して前記複数の調整体から選択された少なくとも１つの調整体が挿入可能に構成されてもよい。
【００１８】
本発明に係る第９の態様の高周波加熱装置は、前記の第１から第８の態様のいずれかの態様において、実質的に同じ構成を有する複数のスタブを所定間隔を有して並設して構成されたスタブにより前記周期構造を構成されてもよい。
【００１９】
以下、本発明の高周波加熱装置に係る一態様の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、同じ要素には同じ符号を付して、説明が重複する場合にはその説明を省略する場合がある。また、図面は、理解しやすくするために、それぞれの構成要素を主体に模式的に示している。
【００２０】
なお、以下で説明する実施の形態は、いずれも本発明の高周波加熱装置の一例を示すものであり、例えば実施の形態において示される数値、形状、構成、ステップ、およびステップの順序などは例示であり、本発明を限定するものではない。以下の実施の形態における構成要素のうち、最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。全ての実施の形態において、各々の変形例における構成も同様であり、各変形例に記載した構成をそれぞれ組み合わせて構成することも可能であり、それぞれの構成の効果を奏するものである。
【００２１】
[実施の形態１]
図１は、本発明に係る実施の形態１の高周波加熱装置の全体構成を模式的に示す図である。図１において、加熱室１の内部は被加熱物７が載置可能に構成されており、加熱室１の前面開口部分に開閉自在な扉（図示省略）が設けられて、被加熱物７を収容可能に構成されている。実施の形態１の高周波加熱装置の構成においては、加熱室１の底面にマイクロ波を低損失で透過させる材料、例えばガラス、樹脂などで構成された被加熱物載置部である載置板９が収容可能に設けられている。なお、図１に示す構成においては、被加熱物７を保持するための陶器などの載置皿８が載置板９の上に置かれている。
【００２２】
図１に示すように、実施の形態１の高周波加熱装置においては、加熱室１の底面側に設けた開口部に面して表面波加熱手段が設けられている。表面波加熱手段は、被加熱物７の加熱処理に適した所望の周波数のマイクロ波を発生するマイクロ波発生部２と、マイクロ波発生部２から導波管４の内部を空間伝播するマイクロ波を加熱室１の直下において表面波が伝播するように効率高く変換する表面波変換部５と、表面波変換部５において変換された表面波を加熱室１の直下において伝播させるスタブ周期構造を有する表面波伝送部６と、を備えている。
【００２３】
また、実施の形態１の高周波加熱装置においては、加熱室１の底面となる載置板９と、表面波加熱手段における表面波伝送部６との間に誘電材料、例えばセラミック、マイカ、樹脂などで構成された表面波調整部１２が設けられている。実施の形態１の高周波加熱装置の構成においては、表面波伝送線路であるスタブ周期構造の表面波伝送部６が、加熱室１の底面となる載置板９から所定距離を有して設けられており、表面波伝送部６のスタブ先端と載置板９の底面との間に空気層が形成されている。即ち、この空気層に表面波調整部１２が設けられており、この表面波調整部１２が加熱室１の内部に収容される被加熱物７の直下の位置となるように配設されている。表面波調整部１２の詳細については後述する。
【００２４】
マイクロ波発生部２は被加熱物７に対する加熱処理に適した周波数のマイクロ波を発生する高周波発振器である。マイクロ波発生部２としては、マグネトロンおよびインバータ電源回路により構成してもよく、若しくは固体発振器と電力増幅器により構成してもよい。
【００２５】
マイクロ波発生部２の出力端３（アンテナ）は、導波管４の内部に導出するよう形成されており、マイクロ波発生部２の出力端３から放射されたマイクロ波が、導波管４の内部を伝送して表面波変換部５に送られる。実施の形態１における導波管４は、断面形状が方形（例えば、横長の長方形）の金属製の中空導波管である。
【００２６】
導波管４は、マイクロ波発生部２からのマイクロ波を表面波変換部５に供給する。表面波変換部５においては、次段である表面波伝送部６に供給し、表面波伝送部６の周期構造では表面波モードで伝播する。
【００２７】
図２は、実施の形態１の高周波加熱装置における表面波変換部５および表面波伝送部６で構成されたスタブ周期構造上に表面波調整部１２が配設された状態を示す斜視図である。図２において、表面波変換部５および表面波伝送部６は、導電体で構成されており、金属平板上に複数の板状部材である金属平板を所定間隔を有して連続的に並設されたスタブ周期構造である。表面波調整部１２は、スタブ周期構造における表面波伝送部６の少なくとも一部を覆うように配設されている。
【００２８】
表面波変換部５は、鉛直方向の突出高さが異なる複数の板状部材である変換スタブ１０が所定間隔を有して並設されたスタブ周期構造であり、変換スタブ１０の突出高さ（ｈ）は、マイクロ波発生部２から導波管４を通って伝送したマイクロ波の伝送方向（図２における右から左への方向）に沿って、段階的に構成が異なっており、即ち徐々に高くなっている。表面波変換部５における最後の変換スタブ１０、即ち、マイクロ波の伝送方向における終端にある終端変換スタブ１０ｚの突出高さ（ｈ）は、表面波伝送部６における伝送スタブ１１の突出高さ（Ｈ）と同じである。
【００２９】
表面波伝送部６は、表面波加熱手段の底面である金属板上に複数の金属平板である伝送スタブ１１を加熱室１の方向に突出（鉛直上方に突設）するように設けられている。表面波伝送部６を構成する複数の伝送スタブ１１は、同じ形状、構成であり、同じ突出高さ（Ｈ）を有している。このため、複数の伝送スタブ１１の突出端部が同一平面に含まれる構成であり、複数の伝送スタブ１１の突出端部は、加熱室１の底面となる被加熱物載置部に対して一定間隔を有して配設されている。
【００３０】
なお、実施の形態１の高周波加熱装置においては、表面波変換部５の変換スタブ１０（第１のスタブ）および表面波伝送部６の伝送スタブ１１（第２のスタブ）は、マイクロ波の伝送方向、即ち、表面波の伝播方向に直交する長手方向の長さである幅（Ｗ）は同じである。本発明において、表面波変換部５における変換スタブ１０を第１のスタブと称し、表面波伝送部６における伝送スタブ１１を第２のスタブと称する。また、表面波変換部５において、複数の変換スタブ１０（第１のスタブ）を並設して構成されたスタブ周期構造を第１のスタブ周期構造とする。また、表面波伝送部６において、複数の伝送スタブ１１（第２のスタブ）を所定間隔を有して並設して構成されたスタブ周期構造を第２のスタブ周期構造とする。
【００３１】
図２に示すように、表面波伝送部６の少なくとも一部を覆うように配設された表面波調整部１２は、湾曲した構成を有しており、加熱室側、即ち鉛直上方側に持ち上がった二次曲面の形状を有する。なお、本実施の形態１における表面波調整部１２は、表面波の伝播方向に切断すると曲線となる可展面の二次曲面を有する形状で説明するが、表面波の伝播方向に直交する方向で切断した場合も曲線となる可展面でない三次元曲面の形状で構成してもよい。表面波調整部１２の形状としては、非直線の外面（境界面）を有する誘電体、曲線の外面（境界面）を有する誘電体、屈曲した外面（境界面）を有する誘電体、および／または、表面波伝送部６のスタブ周期構造における複数のスタブ先端を含む同一平面に対して斜行した面を有する誘電体などの各種形状を用いることができる。なお、表面波調整部１２の形状としては、加熱室１の内部において加熱処理される被加熱物７の形状、構成、および焦げ目の状態などを考慮して適宜選択されるものである。
【００３２】
実施の形態１の高周波加熱装置においては、表面波調整部１２は、表面波伝送部６のスタブ周期構造と、加熱室１の底面となる載置板９との間の隙間（空気層）の所定位置に装着されるように構成されている。本実施の形態１の構成において、表面波伝送部６のスタブ先端と、被加熱物７底面までの鉛直方向の距離としては、数ｍｍの範囲が好ましい。表面波調整部１２が装着されるスタブ周期構造のスタブ先端と被加熱物載置部の下面との間の隙間（空気層）は、１ｍｍ程度の距離になる。また、シート状の表面波調整部１２の厚みは、０．３ｍｍ程度のマイカ板などが好ましく、湾曲は０．３ｍｍ程度になる。
【００３３】
次に、実施の形態１の高周波加熱装置において、表面波加熱手段において表面波を伝播させるスタブ周期構造の少なくとも一部を覆うように設けられる表面波調整部１２の機能について説明する。
【００３４】
図３は、表面波伝送線路であるスタブ周期構造１３に生じる電流流路および電界分布について説明する模式図である。図３に示すように、スタブ周期構造１３には電流流路が形成され、その電流流路の始端と終端がスタブ１４の先端付近となる。スタブ先端付近では、電位が逆転し、電位が異なるスタブ先端間に電界が分布する。スタブ周期構造１３に形成される電流流路の長さは、マイクロ波の波長（λ）の１／２となる。このため、表面波伝送部６における第２のスタブである伝送スタブ１１の高さは、λ／４以下となる。
【００３５】
図４および図５は、比較例として模式的に示した図である。図４は、スタブ周期構造１３において並設された複数のスタブ１４の突出端と被加熱物７が直接接触して載置された状態を示している。図５は、スタブ周期構造１３において並設された複数のスタブ１４の突出端と被加熱物７が隙間を空けて載置された状態を示している。スタブ周期構造において、表面波は、スタブ先端間近傍に生じる電界によりスタブ周期構造１３の表面波線路を伝播する。伝播する表面波のマイクロ波エネルギーは、スタブ１４先端近傍に集中し、離れるに従い指数関数的に減少する分布となっている。よって、被加熱物７がスタブ１４先端に近づくほど強く加熱される。
【００３６】
図４に示すように、被加熱物７がスタブ１４の突出端である先端に直接接触して、載置された状態においては、スタブ周期構造１３を伝播してきた表面波が被加熱物７との接触部分においてマイクロ波エネルギーが集中的に被加熱物７に吸収される。このように被加熱物７の表面波伝播が集中した部分７aのみが加熱されて焦げる。また、多くのマイクロ波エネルギーが集中した部分７aで吸収されるため、その先はほとんど加熱されず、被加熱物７においては極端な加熱むらが生じることになる。
【００３７】
図５は、スタブ周期構造１３における複数のスタブ１４の先端から所定距離だけ離して空間層を介して被加熱物７が配置された状態を示している。図５が示したように、表面波伝送線路のスタブ周期構造１３と被加熱物７との間に隙間（空気層）が形成されている場合には、表面波が伝播する経路が確保でき、被加熱物７は広い範囲７ｂでむらの少ない焦げ目付け処理を行うことが可能となる。
【００３８】
本発明に係る実施の形態１の高周波加熱装置においては、スタブ周期構造１３と被加熱物７との間の隙間（空気層）に表面波調整部１２が設けられた構成である。図６は、実施の形態１の高周波加熱装置の構成において、スタブ周期構造１３と被加熱物７との間の隙間（空気層）に、加熱室側（鉛直上方側）に膨らむ湾曲形状の表面波調整部１２（１２ａ）が設けられた状態を模式的に示している。図７は、スタブ周期構造１３と被加熱物７との間の隙間（空気層）に、鉛直下方側に膨らむ湾曲形状の表面波調整部１２（１２ｂ）が設けられた状態を模式的に示している。
【００３９】
図６および図７に示す構成では、表面波調整部１２が設けられていない場合、スタブ周期構造１３と被加熱物７との間の隙間（空気層）を最適に選ぶことで、伝播する表面波により、スタブ周期構造１３のスタブ先端にマイクロ波エネルギーが集中して伝播方向に広く分布し、被加熱物７に対する焦げ目付け処理を広範囲に行うことが出来る。しかし、表面波が伝播する空気層（伝播経路）に複数のスタブ先端を含む同一平面とは平行ではない外面（境界面）を有する誘電体を設けることにより、表面波の反射、屈折が生じる。このような誘電体の境界面において生じる表面波の反射、屈折により、表面波伝播の分布に偏りが生じる。
【００４０】
図６および図７に示した表面波調整部１２（１２ａ，１２ｂ）は、スタブ周期構造１３と被加熱物７との間の空気層を伝播する表面波を反射、屈折により伝播方向を変更して、表面波伝播するマイクロ波エネルギーの分布を変更している。このように表面波調整部１２（１２ａ，１２ｂ）を設けることにより、表面波の伝播方向が変わり、マイクロ波エネルギー分布が変更され、被加熱物７の加熱領域が、例えば中央部分に集中させたり、周囲部分に拡散させたり、所望の領域に対して焦げ目を付ける加熱領域とすることが可能となる。
【００４１】
なお、実施の形態１の高周波加熱装置の構成においては、スタブ周期構造１３と被加熱物７との間の空気層を伝播する表面波を集中、拡散させるために、表面波調整部１２の形状を、例えば、非直線の境界面を有する誘電体、曲線の境界面を有する誘電体、屈曲した境界面を有する誘電体、および／または表面波伝送部のスタブ周期構造における複数のスタブ先端を含む同一平面に対して斜行した面を有する誘電体で構成し、それぞれの表面波調整部１２を、被加熱物７の形状、材質、加熱内容、調理内容などに対応してスタブ周期構造１３と被加熱物７との間の隙間（空気層）に選択的に脱着可能に構成してもよい。
【００４２】
また、本発明に係る別の構成の実施の形態として、上記のように表面波調整部１２において形状の異なる複数の調整体を予め準備し、および／または表面波調整部１２において誘電率の異なる誘電体で構成された複数の調整体を予め準備しておき、被加熱物７の形状、材質、加熱内容、調理内容などを考慮して、表面波調整部１２における上記の複数の調整体から所望の調整体を選択し、選択した調整体をスタブ周期構造１３と被加熱物７との間の空間（空気層）に装着できるように構成してもよい。
【００４３】
上記の実施の形態の構成においては、表面波伝送部６のスタブ周期構造と、加熱室１の底面となる載置板９との間の隙間を空気層として説明したが、この隙間は空気層でなく、隣接する領域と異なる誘電率を有して境界面を持つ誘電体で構成されたものでも本発明の構成としては適用可能である。また、高周波加熱装置の構成としては、表面波調整部１２が載置板９を兼ねる構成としてもよい。さらに、高周波加熱装置における周期構造としては、金属平板に折り返しスリットを設けたインターディジタル型の周期構造体を使用してもよい。
【００４４】
また、上記の実施の形態においては、表面波変換部５の変換スタブ１０（第１のスタブ）および表面波伝送部６の伝送スタブ１１（第２のスタブ）を複数の板状部材（平板）で構成したスタブ周期構造で説明したが、複数の棒状部材（丸柱または角柱）を金属平板上に平行に突設して構成したスタブ周期構造でも同様の効果を奏する。図８は、表面波変換部５の変換スタブ１０および表面波伝送部６の伝送スタブ１１を複数の角柱である棒状部材で構成したスタブ周期構造（１０，１１）を示す斜視図である。なお、このように棒状部材のスタブでスタブ周期構造を構成する場合、１枚の平板で構成していたスタブ部分が複数の棒状部材を所定間隔を有して一列に並設して構成される。
【００４５】
上記のように構成された本発明に係る実施の形態の高周波加熱装置においては、表面波伝送部のスタブ周期構造で表面波伝播中のマイクロ波エネルギー分布の制御を行って、被加熱物に対して所望の分布の焦げ目を確実に付けることが可能となる。
【００４６】
本発明をある程度の詳細さをもって各実施の形態において説明したが、これらの実施の形態の開示内容は構成の細部において変化してしかるべきものであり、各実施の形態における要素の組合せや順序の変化は請求された本発明の範囲及び思想を逸脱することなく実現し得るものである。
【産業上の利用可能性】
【００４７】
本発明の高周波加熱装置は、表面波伝播中のマイクロ波エネルギー分布の制御を行って、被加熱物に対して所望の分布の焦げ目を付けることが可能となり、調理器具として汎用性の高い装置となる。
【符号の説明】
【００４８】
１  加熱室
２  マイクロ波発生部
３  出力部
４  導波管
５  表面波変換部
６  表面波伝送部
７  被加熱物
８  載置皿
９  載置板
１０  変換スタブ（第１のスタブ）
１１  伝送スタブ（第２のスタブ）
１２  表面波調整部
１３  スタブ周期構造
１４  スタブ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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