(57)【要約】【課題】薄型化でき、かつ、厚み分布のムラを小さくできる偏光子の製造方法を提供する。【解決手段】本発明の偏光子の製造方法の一つの態様は、ポリビニルアルコール系樹脂中に二色性色素が配向された偏光子の製造方法であって、偏光子の厚みは、１０μｍ以下であり、基材上にポリビニルアルコール系樹脂を形成材料とする樹脂層を形成する樹脂層形成工程と、基材と共に樹脂層を延伸する延伸工程と、樹脂層に二色性色素を吸着させる染色工程と、を含み、樹脂層形成工程は、基材上にポリビニルアルコール系樹脂を含む樹脂層用塗工液を塗布する工程と、塗布された樹脂層用塗工液を乾燥させる工程と、を含み、樹脂層用塗工液を乾燥させる工程の長さは、１８０秒以下であることを特徴とする。【選択図】図２
2018041113.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリビニルアルコール系樹脂中に二色性色素が配向された偏光子の製造方法であって、
前記偏光子の厚みは、１０μｍ以下であり、
基材上にポリビニルアルコール系樹脂を形成材料とする樹脂層を形成する樹脂層形成工程と、
前記基材と共に前記樹脂層を延伸する延伸工程と、
前記樹脂層に前記二色性色素を吸着させる染色工程と、
を含み、
前記樹脂層形成工程は、
前記基材上にポリビニルアルコール系樹脂を含む樹脂層用塗工液を塗布する工程と、
塗布された前記樹脂層用塗工液を乾燥させる工程と、
を含み、
前記樹脂層用塗工液を乾燥させる工程の長さは、１８０秒以下であることを特徴とする偏光子の製造方法。
【請求項２】
前記樹脂層形成工程よりも前に、前記基材上にプライマー層を形成するプライマー層形成工程をさらに含み、
前記プライマー層形成工程は、
前記基材上にプライマー層用塗工液を塗布する工程と、
塗布された前記プライマー層用塗工液を乾燥させる工程と、
を含む、請求項１に記載の偏光子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光子、偏光フィルム、および偏光子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ：ＰｏｌｙＶｉｎｙｌ  Ａｌｃｏｈｏｌ）系樹脂を形成材料とする親水性高分子層に、二色性物質を吸着させて得られる偏光子が知られている（例えば、特許文献１）。このような偏光子を用いた偏光フィルムは、パソコン、ＴＶ、モニター、携帯電話およびＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ａｓｓｉｓｔａｎｔ）等の液晶表示装置に使用されている。近年では、液晶表示装置の高性能化、薄型化に伴い、液晶表示装置に使用される偏光フィルムの偏光子に対しても、薄型化が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−０９８６５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
比較的薄型の偏光子を製造するためには、例えば、特許文献１に記載されているように、基材層に親水性高分子を含有する水溶液を塗工した後に、親水性高分子を含有する水溶液を乾燥し、基材層上に親水性高分子層が積層された積層体を形成する。そして、この積層体に対して、延伸処理および染色処理を行い、偏光子を製造する。しかし、このような方法を用いて偏光子を製造すると、透過軸方向（幅方向）における偏光子の厚み分布のムラが大きくなる問題があった。また近年では、視認性向上を目的としたバックライトの高輝度化が進んでおり、従来よりも偏光子の厚み分布ムラが視認されやすい状況となっている。
【０００５】
本発明の一つの態様は、上記問題点に鑑みて、薄型で、かつ、厚み分布のムラが小さい偏光子、およびそのような偏光子を備える偏光フィルムを提供することを目的の一つとする。また、本発明の一つの態様は、薄型化でき、かつ、厚み分布のムラを小さくできる偏光子の製造方法を提供することを目的の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の偏光子の一つの態様は、ポリビニルアルコール系樹脂中に二色性色素が配向された偏光子であって、前記偏光子の厚みは、１０μｍ以下であり、前記偏光子の透過軸方向において、厚み分布の最大振幅が、０．４μｍ以下であることを特徴とする。
【０００７】
前記偏光子の透過軸方向において、厚み分布の周期強度が、０．１３μｍ以下である構成としてもよい。
【０００８】
本発明の偏光子の一つの態様は、ポリビニルアルコール系樹脂中に二色性色素が配向された偏光子であって、前記偏光子の厚みは、１０μｍ以下であり、前記偏光子の透過軸方向において、厚み分布の周期強度が、０．１３μｍ以下であることを特徴とする。
【０００９】
前記偏光子の透過軸方向において、前記ポリビニルアルコール系樹脂の位相差分布の最大振幅が、１０ｎｍ以下である構成としてもよい。
【００１０】
本発明の偏光子の一つの態様は、ポリビニルアルコール系樹脂中に二色性色素が配向された偏光子であって、前記偏光子の厚みは、１０μｍ以下であり、前記偏光子の透過軸方向において、前記ポリビニルアルコール系樹脂の位相差分布の最大振幅が、１０ｎｍ以下であることを特徴とする。
【００１１】
前記偏光子の透過軸方向において、前記ポリビニルアルコール系樹脂の位相差分布の周期強度が、２ｎｍ以下である構成としてもよい。
【００１２】
本発明の偏光子の一つの態様は、ポリビニルアルコール系樹脂中に二色性色素が配向された偏光子であって、前記偏光子の厚みは、１０μｍ以下であり、前記偏光子の透過軸方向において、前記ポリビニルアルコール系樹脂の位相差分布の周期強度が、２ｎｍ以下であることを特徴とする。
【００１３】
本発明の偏光フィルムの一つの態様は、上記の偏光子と、前記偏光子の少なくとも一方の面に設けられた保護フィルムと、を備えることを特徴とする。
【００１４】
本発明の偏光子の製造方法の一つの態様は、ポリビニルアルコール系樹脂中に二色性色素が配向された偏光子の製造方法であって、前記偏光子の厚みは、１０μｍ以下であり、基材上にポリビニルアルコール系樹脂を形成材料とする樹脂層を形成する樹脂層形成工程と、前記基材と共に前記樹脂層を延伸する延伸工程と、前記樹脂層に前記二色性色素を吸着させる染色工程と、を含み、前記樹脂層形成工程は、前記基材上にポリビニルアルコール系樹脂を含む樹脂層用塗工液を塗布する工程と、塗布された前記樹脂層用塗工液を乾燥させる工程と、を含み、前記樹脂層用塗工液を乾燥させる工程の長さは、１８０秒以下であることを特徴とする。
【００１５】
前記樹脂層形成工程よりも前に、前記基材上にプライマー層を形成するプライマー層形成工程をさらに含み、前記プライマー層形成工程は、前記基材上にプライマー層用塗工液を塗布する工程と、塗布された前記プライマー層用塗工液を乾燥させる工程と、を含む製造方法としてもよい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の一つの態様によれば、薄型で、かつ、透過軸方向の厚み分布のムラが小さい偏光子、およびそのような偏光子を備える偏光フィルムが提供される。また、本発明の一つの態様によれば、薄型化でき、かつ、ムラを小さくできる偏光子の製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本実施形態の偏光フィルムを示す断面図である。
【図２】本実施形態の偏光フィルムの製造方法の手順を示すフローチャートである。
【図３】本実施形態の偏光フィルムの製造方法の手順の一部を示す模式図である。
【図４】本実施形態の偏光フィルムの製造方法の手順の一部を示す断面図である。
【図５】本実施形態の偏光フィルムの製造方法の手順の一部を示す断面図である。
【図６】本実施形態の偏光フィルムの製造方法の手順の一部を示す断面図である。
【図７】本実施形態の偏光フィルムの製造方法の手順の一部を示す断面図である。
【図８】本実施形態の偏光フィルムの製造方法の手順の一部を示す断面図である。
【図９】検証例の積層体を示す断面図である。
【図１０】幅方向位置に対する樹脂層の厚みを示すグラフである。
【図１１】幅方向位置に対する偏光子の厚みを示すグラフである。
【図１２】偏光子の厚み分布のムラ周期に対する、偏光子の厚み分布の周期強度を示すグラフである。
【図１３】幅方向位置に対する、偏光子におけるポリビニルアルコール系樹脂の位相差を示すグラフである。
【図１４】偏光子の厚み分布のムラ周期に対する、偏光子におけるポリビニルアルコール系樹脂の位相差分布の周期強度を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態に係る偏光フィルムについて説明する。なお、本発明の範囲は、以下の実施の形態に限定されず、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、各構造における縮尺および数等を、実際の構造における縮尺および数等と異ならせる場合がある。
【００１９】
図１は、本実施形態の偏光フィルム１を示す断面図である。図１に示すように、偏光フィルム１は、偏光子１０と、保護フィルム１１と、接着層１２と、を備えている。偏光子１０と、接着層１２と、保護フィルム１１と、はこの順で積層されている。図示は省略するが、本実施形態の偏光フィルム１は、長尺帯状である。偏光フィルム１は、例えば、芯材に巻き取られ、ロールとして保管等されている。
【００２０】
なお、以下の説明においては、偏光フィルム１における各層が積層された方向を、単に「積層方向」と呼ぶ場合があり、偏光フィルム１における積層方向と直交する長手方向を、単に「長手方向」と呼ぶ場合があり、偏光フィルム１における積層方向と長手方向との両方と直交する幅方向を、単に「幅方向」と呼ぶ場合がある。
【００２１】
また、図面では、適宜３次元直交座標系（ＸＹＺ座標系）を示す。３次元直交座標系において、Ｚ軸方向は、積層方向と平行な方向とし、Ｙ軸方向は、幅方向と平行な方向とし、Ｘ軸方向は、長手方向と平行な方向とする。また、積層方向において、Ｚ軸方向の正の側を「上側」と呼ぶ場合があり、Ｚ軸方向の負の側を「下側」と呼ぶ場合がある。上側および下側とは、単に各部の相対的な位置関係を説明するために用いる名称であり、偏光フィルムの製造時における各部の姿勢、偏光フィルムの実際の姿勢、および偏光フィルムの使用態様等を限定しない。
【００２２】
偏光子１０は、ポリビニルアルコール系樹脂中に二色性色素が配向された層である。本実施形態において偏光子１０の吸収軸は、例えば、長手方向（Ｘ軸方向）と平行であり、偏光子１０の透過軸は、例えば、幅方向（Ｙ軸方向）と平行である。
【００２３】
偏光子１０の形成材料であるポリビニルアルコール系樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂誘導体、およびポリビニルアルコール樹脂誘導体の変性体等が挙げられる。ポリビニルアルコール樹脂誘導体としては、例えば、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール等が挙げられる。ポリビニルアルコール樹脂誘導体の変性体としては、例えば上述したポリビニルアルコール樹脂誘導体を、エチレン、プロピレン等のオレフィン；アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等の不飽和カルボン酸；不飽和カルボン酸のアルキルエステル；またはアクリルアミド等で変性したものが挙げられる。
【００２４】
ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は、１００以上、１００００以下が好ましく、１０００以上、１００００以下がより好ましく、１５００以上、８０００以下がさらに好ましく、２０００以上、５０００以下がよりさらに好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度が１００未満の場合には、好適な光学特性が得られにくく、１００００よりも大きい場合には、水への溶解性が低くなり、後述する樹脂層用塗工液３３を作製することが困難になるためである。本明細書において、ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は、例えば、ＪＩＳ  Ｋ  ６７２７（１９９４）によって定められた方法によって求められる。
【００２５】
偏光子１０の形成材料であるポリビニルアルコール系樹脂は、ケン化されたものであることが好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、８０．０モル％以上、１００．０モル％以下が好ましく、９０．０モル％以上、９９．５％モル以下がより好ましく、９３．０モル％以上、９９．５モル％以下であることがさらに好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度を８０モル％以上とすることにより、好適な光学特性が得られやすい。
【００２６】
なお、ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度とは、ポリビニルアルコール系樹脂の原料であるポリ酢酸ビニル系樹脂に含まれる酢酸基がケン化工程により水酸基に変化した割合をモル％で表したものであり、下記の（式１）で定義される。
（式１）  ケン化度（モル％）＝（水酸基の数）÷（水酸基の数＋酢酸基の数）×１００
本明細書において、ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、例えば、ＪＩＳ  Ｋ  ６７２７（１９９４）によって定められた方法によって求められる。
【００２７】
偏光子１０には、可塑剤、界面活性剤等の添加剤が含まれていてもよい。可塑剤としては、例えば、ポリオールおよびポリオールの縮合物が挙げられる。ポリオールおよびポリオールの縮合物としては、例えば、グリセリン、ジグリセリン、トリグリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール等が挙げられる。偏光子１０中の可塑剤の含有量は、特に制限されないが、例えば、２０質量％以下が好ましい。
【００２８】
偏光子１０の厚みＴ１は、１０μｍ以下であり、好ましくは５μｍ以下である。偏光子１０の幅方向（透過軸方向，Ｙ軸方向）において、偏光子１０の厚み分布の最大振幅は、０．４μｍ以下であり、好ましくは０．２μｍ以下であり、より好ましくは０．１μｍ以下である。測定装置の分解能を考慮すると偏光子１０の厚み分布の最大振幅は通常０．０１μｍ以上である。厚み分布の最大振幅とは、偏光子１０の厚みＴ１のうちの最大値と最小値との差である。本明細書において、偏光子１０の厚みＴ１は、例えば、白色干渉式の非接触膜厚計（例えば、Ｆｉｌｍｅｔｒｉｃｓ社製、型番：Ｆ２０）を用いて測定される。これにより、測定する対象（偏光子１０）に触れることなく精緻な測定が可能であり、測定する対象が積層体の一部の層であっても、各層を剥離することなく対象の膜厚を測定することができる。
【００２９】
偏光子１０の幅方向（透過軸方向，Ｙ軸方向）において、偏光子１０の厚み分布の周期強度は、好ましくは０．１３μｍ以下であり、より好ましくは０．０５μｍ以下であり、さらに好ましくは０．０４μｍ以下である。また、偏光子１０の厚み分布の周期強度は、通常０．００２５μｍ以上である。本明細書において偏光子１０の厚み分布の周期強度は、例えば、以下のようにして求める。
【００３０】
幅方向の偏光子１０の厚み分布を高速フーリエ変換（ＦＦＴ：Ｆａｓｔ  Ｆｏｕｒｉｅｒ  Ｔｒａｎｓｆｏｒｍ）する。高速フーリエ変換のアルゴリズムとしては、例えば、Ｃｏｏｌｅｙ−Ｔｕｋｅｙ型ＦＦＴアルゴリズムを用いる。Ｃｏｏｌｅｙ−Ｔｕｋｅｙ型ＦＦＴアルゴリズムを用いた高速フーリエ変換は、例えば、マイクロソフト社製表計算ソフト「Ｅｘｃｅｌ（登録商標）２０１０」のアドインである「ＡＴＰＶＢＡＥＮ．ＸＬＡＭ！Ｆｏｕｒｉｅｒ」を実行することで行うことができる。測定した偏光子１０の厚みＴ１の素点データを対象として、このアドインを実行することで、幅方向の偏光子１０の厚み分布を高速フーリエ変換することができる。
【００３１】
一般的に、高速フーリエ変換は、時間の波形関数を周波数の分布関数に変換する。本実施形態の場合、幅方向位置Ｌ（Ｙ軸方向位置）における偏光子１０の厚み分布を表す波形関数ｆ（Ｌ）を高速フーリエ変換することで、偏光子１０の厚み分布の周波数ωの分布関数ｆ（ω）が得られる。なお、サンプリング周期は、１／ωである。
【００３２】
本明細書において、偏光子１０の厚み分布の周期強度は、｜ｆ（ωＮ）｜／（Ｎ／２）で表される。｜ｆ（ωＮ）｜は、Ｎ番目の標本点に対応する波形関数ｆ（ＬＮ）を高速フーリエ変換して得られる分布関数の絶対値である。ＬＮは、Ｎ番目の標本点の幅方向位置Ｌである。偏光子１０の厚み分布の周期強度の物理量は、偏光子１０の厚み分布の物理量と等しい。なお、標本点の最大数は、得られた膜厚分布の素点数Ａ以下で、かつ、Ａに最も近い２のべき乗値である。
【００３３】
上記のようにして得られる偏光子１０の厚み分布の周期強度を縦軸、標本点の周期を横軸として、パワースペクトルを得られる。標本点の周期は、ＬＮ／Ｎである。
【００３４】
なお、本明細書において、周期強度が所定値以下であるとは、周期が１０ｍｍ以上、７０ｍｍ以下の領域における周期強度が所定値以下であることを含む。すなわち、偏光子１０の厚み分布の周期強度が０．０５μｍ以下であるとは、周期が１０ｍｍ以上、７０ｍｍ以下の領域における偏光子１０の厚み分布の周期強度が０．０５μｍ以下であることを含む。言い換えると、偏光子１０の厚み分布の周期強度が０．０５μｍ以下であるとは、周期が１０ｍｍ以上、７０ｍｍ以下の領域において、偏光子１０の厚み分布の周期強度の最大値が０．０５μｍ以下であることを含む。
【００３５】
また、本明細書において、あるフィルム（層）の厚みとは、あるフィルム（層）の積層方向（Ｚ軸方向）の寸法であり、あるフィルム（層）の平均厚みも含む。すなわち、偏光子の厚みとは、偏光子の平均厚みも含む。
【００３６】
偏光子１０の幅方向（透過軸方向，Ｙ軸方向）において、ポリビニルアルコール系樹脂の位相差分布の最大振幅は、好ましくは１０ｎｍ以下であり、より好ましくは５．７ｎｍ以下であり、さらに好ましくは５．３ｎｍ以下である。また、ポリビニルアルコール系樹脂の位相差分布の最大振幅は、通常０．３ｎｍ以上である。位相差分布の最大振幅とは、周期が１０ｍｍ以上、２０ｍｍ以下の領域におけるポリビニルアルコール系樹脂の位相差Ｒｐｖａの最大値である。
【００３７】
ポリビニルアルコール系樹脂の位相差Ｒｐｖａは、二色性色素の吸収帯のない波長領域における偏光子１０の位相差Ｒ（λ）から求めることができる。なお、本明細書において、ポリビニルアルコール系樹脂の位相差Ｒｐｖａは、波長１０００ｎｍにおける位相差のことをいう。具体的には、波長８５０ｎｍ以上の複数の波長λごとに偏光子１０の位相差Ｒ（λ）を測定し、測定した波長λと測定された位相差Ｒ（λ）とのプロットを行い、下記のセルマイヤー式（式２）に最小二乗法でフィッティングさせる。ここで、（式２）におけるＥおよびＦは、フィッティングパラメータであり、最小二乗法により決定される係数である。
（式２）Ｒ（λ）＝Ｅ＋Ｆ／（λ２−６００２）
（式２）におけるＥが、ポリビニルアルコール系樹脂の位相差Ｒｐｖａに相当する。なお、Ｆ／（λ２−６００２）は、二色性色素の位相差に相当する。本明細書において、偏光子１０の位相差Ｒ（λ）の測定は、例えば、位相差測定装置（王子計測機器株式会社製、形式：ＫＯＢＲＡ−ＷＰＲ／ＩＲ）を用いて行う。
【００３８】
偏光子１０の幅方向（透過軸方向，Ｙ軸方向）において、ポリビニルアルコール系樹脂の位相差分布の周期強度は、好ましくは２ｎｍ以下であり、より好ましくは０．９ｎｍ以下であり、さらに好ましくは０．８ｎｍ以下である。また、ポリビニルアルコール系樹脂の位相差分布の周期強度は、通常０．０７５ｎｍ以上である。ポリビニルアルコール系樹脂の位相差分布の周期強度とは、幅方向のポリビニルアルコール系樹脂の位相差分布を高速フーリエ変換にかけて得られる波数スペクトルのうち、周期が１０ｍｍ以上、２０ｍｍ以下の領域における最大の振幅の値である。位相差分布の周期強度の算出方法は、上述した偏光子１０の厚み分布の周期強度と同様である。
【００３９】
ポリビニルアルコール系樹脂中に配向された二色性色素としては、例えば、ヨウ素、有機染料等が挙げられる。
【００４０】
保護フィルム１１は、偏光子１０の上面１０ａに設けられている。より詳細には、本実施形態において保護フィルム１１は、接着層１２を介して偏光子１０の上面１０ａに接着されている。保護フィルム１１は、光学機能を有しない単なる保護フィルムであってもよく、位相差フィルムおよび輝度向上フィルムといった光学機能を併せ持つ保護フィルムであってもよい。
【００４１】
保護フィルム１１の形成材料としては、特に限定されず、例えば、環状ポリオレフィン系樹脂フィルム；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース等の樹脂からなる酢酸セルロース系樹脂フィルム；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等の樹脂からなるポリエステル系樹脂フィルム；ポリカーボネート系樹脂フィルム；アクリル系樹脂フィルム；およびポリプロピレン系樹脂フィルム等が挙げられる。
【００４２】
環状ポリオレフィン系樹脂フィルムは、一軸延伸されたものであってもよいし、二軸延伸されたものであってもよい。延伸することで、環状ポリオレフィン系樹脂フィルムに任意の位相差を付与することができる。
【００４３】
環状ポリオレフィン系樹脂フィルムは、一般に表面活性が劣る。そのため、保護フィルム１１が環状ポリオレフィン系樹脂フィルムである場合、保護フィルム１１における偏光子１０と接着される下面には、プラズマ処理、コロナ処理、紫外線照射処理、フレーム（火炎）処理、ケン化処理等の表面処理を行うのが好ましい。特に、比較的容易に実施可能なプラズマ処理、コロナ処理が好適である。
【００４４】
保護フィルム１１が酢酸セルロース系樹脂フィルムの場合、保護フィルム１１の表面には、視野角特性を改良するために液晶層等を形成してもよい。また、保護フィルム１１は、位相差を付与するため酢酸セルロース系樹脂フィルムを延伸させたものであってもよい。保護フィルム１１が酢酸セルロース系樹脂フィルムである場合、偏光フィルム１との接着性を高めるため、保護フィルム１１の下面には、通常、ケン化処理が施される。ケン化処理としては、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムのようなアルカリの水溶液に浸漬する方法が採用できる。
【００４５】
保護フィルム１１の表面には、ハードコート層、防眩層、反射防止層等の光学層を形成することもできる。保護フィルム１１の表面にこれらの光学層を形成する方法は特に限定されず、公知の方法を用いることができる。
【００４６】
保護フィルム１１の厚みＴ２は、薄型化の要求から、できるだけ薄いものが好ましく、９０μｍ以下が好ましく、５０μｍ以下がより好ましい。保護フィルム１１の厚みＴ２が薄すぎると、保護フィルム１１の強度が低下して加工性に劣るため、保護フィルム１１の厚みＴ２は、５μｍ以上であることが好ましい。
【００４７】
本実施形態において保護フィルム１１は、偏光子１０の上面１０ａにのみ設けられているが、これに限られない。保護フィルム１１は、偏光子１０の少なくとも一方の面に設けられていればよく、偏光子１０の上面１０ａと下面１０ｂとの両方に設けられていてもよい。
【００４８】
接着層１２は、偏光子１０の上面１０ａに積層されている。接着層１２は、偏光子１０と保護フィルム１１とを互いに接着する層である。接着層１２の形成材料としては、例えば、水系接着剤、紫外硬化型接着剤および電子線硬化型接着剤等が好ましく、水系接着剤がより好ましい。水系接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂の水溶液、ポリビニルアルコール系樹脂の水溶液に一般的な架橋剤を配合した水溶液、およびウレタン系エマルジョン接着剤等が挙げられる。また、接着層１２の形成材料には、金属化合物フィラーを含有させることができる。
【００４９】
次に、本実施形態の偏光フィルム１の製造方法について説明する。図２は、本実施形態の偏光フィルム１の製造方法の手順を示すフローチャートである。図３は、偏光フィルム１の製造方法の手順の一部を示す模式図である。図４から図８は、偏光フィルム１の製造方法の手順の一部を示す断面図である。図４は、図３に示すＰ１の位置における断面図である。図５は、図３に示すＰ２の位置における断面図である。図６は、図３に示すＰ３の位置における断面図である。図７は、図３に示すＰ４の位置における断面図である。なお、図５から図８においては、後述する基材フィルム２０の熱収縮による凹凸形状および基材フィルム２０の熱収縮に伴う各層の凹凸形状を模式的に強調して示している。
【００５０】
本実施形態の偏光フィルム１の製造方法は、図２に示すように、樹脂層形成工程Ｓ２と、延伸工程Ｓ３と、染色工程Ｓ４と、貼合工程Ｓ５と、剥離工程Ｓ６と、を含む。図２に示すように、樹脂層形成工程Ｓ２の前に、プライマー層形成工程Ｓ１を含んでいてもよい。図３に示すように、本実施形態においては、ロール状の基材フィルム（基材）２０をニップロールおよび搬送ロールによって長手方向に搬送しつつ、偏光フィルム１を製造する。なお、図３は各工程を連続で行なう形態を示しているが、工程が終了するごとにフィルムを一旦ロールに巻き取ってもよい。
【００５１】
基材フィルム２０の材質は、延伸工程Ｓ３において後述する樹脂層３４と共に延伸できるならば、特に限定されない。基材フィルム２０の材質は、例えば、熱可塑性樹脂である。基材フィルム２０の材質として用いられる熱可塑性樹脂としては、透明性、機械的強度、熱安定性、および延伸性等に優れていることが好ましい。
【００５２】
具体的に、基材フィルム２０の材質として用いられる熱可塑性樹脂としては、例えば、鎖状ポリオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂（ノルボルネン系樹脂等）等のポリオレフィン系樹脂；ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂；（メタ）アクリル系樹脂；セルローストリアセテート、セルロースジアセテート等のセルロースエステル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；ポリビニルアルコール系樹脂；ポリ酢酸ビニル系樹脂；ポリアリレート系樹脂；ポリスチレン系樹脂；ポリエーテルスルホン系樹脂；ポリスルホン系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリイミド系樹脂；およびこれらの樹脂の混合物、共重合物等が挙げられる。
【００５３】
基材フィルム２０は、上述した熱可塑性樹脂のうち１種または２種以上の熱可塑性樹脂から構成される。基材フィルム２０は、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。
【００５４】
基材フィルム２０の厚みは、特に限定されないが、強度および取扱い性等の観点から、１μｍ以上、５００μｍ以下が好ましく、１μｍ以上、３００μｍ以下がより好ましく、５μｍ以上、２００μｍ以下がさらに好ましく、５μｍ以上、１５０μｍ以下がよりさらに好ましい。基材フィルム２０の幅方向（Ｙ軸方向）の寸法は、例えば、５００ｍｍ以上である。
【００５５】
基材フィルム２０の長手方向における引張弾性率は、例えば、８０℃において１４０ＭＰａ以上である。基材フィルム２０の長手方向における引張弾性率は、８０℃において１５０ＭＰａ以上が好ましく、１５５ＭＰａ以上がより好ましい。このような基材フィルムを使用することにより、後述する第１乾燥工程Ｓ１ｂおよび第２乾燥工程Ｓ２ｂにおける基材フィルム２０の熱収縮を抑制することができる。本明細書において、基材フィルム２０の長手方向における引張弾性率は、例えば、オートグラフ（登録商標）（株式会社島津製作所製、型番：ＡＧ−ＩＳ）によって測定される。具体的には、ＪＩＳ  Ｋ７１６３に準拠して測定される。
【００５６】
プライマー層形成工程Ｓ１は、基材フィルム２０上にプライマー層３２（図５参照）を形成する工程である。プライマー層３２は、基材フィルム２０と後述する樹脂層３４との密着力を向上させるために設けられる層である。プライマー層形成工程Ｓ１は、図２に示すように、第１塗布工程Ｓ１ａと、第１乾燥工程Ｓ１ｂと、を含む。図３に示すように、第１塗布工程Ｓ１ａにおいては、第１塗布装置４１によって、基材フィルム２０の上面２０ａにプライマー層用塗工液３１が塗布される。
【００５７】
プライマー層用塗工液３１は、例えば、樹脂の粉末を溶媒に溶解させて得られる樹脂溶液である。プライマー層用塗工液３１に含まれる樹脂は、上述した密着力を向上させることができる成分を含む樹脂であり、透明性、熱安定性、延伸性等に優れた熱可塑性樹脂であることが好ましい。プライマー層用塗工液３１に含まれる樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂等が挙げられる。特に、プライマー層用塗工液３１に含まれる樹脂としては、ポリビニルアルコール系樹脂が好ましい。基材フィルム２０と後述する樹脂層３４との密着力を良好に得られるためである。
【００５８】
プライマー層用塗工液３１に含まれる樹脂として用いられるポリビニルアルコール系樹脂は、上述した偏光子１０のポリビニルアルコール系樹脂と同様に選択することができる。プライマー層用塗工液３１に含まれる樹脂は、偏光子１０のポリビニルアルコール系樹脂と同じであってもよいし、異なっていてもよい。
【００５９】
プライマー層用塗工液３１の溶媒としては、上述した樹脂を溶解できる有機溶媒および水系溶媒等が挙げられる。有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸イソブチル等のエステル類；塩化メチレン、トリクロロエチレン、クロロホルム等の塩素化炭化水素類；およびエタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール等のアルコール類が挙げられる。プライマー層用塗工液３１の溶媒としては、例えば、水が好ましい。基材フィルム２０の材質によらず基材フィルム２０が溶解しにくく、環境への影響も小さくできるためである。プライマー層用塗工液３１における樹脂の濃度は、１質量％以上、２５質量％以下程度が好ましい。
【００６０】
第１塗布装置４１を用いたプライマー層用塗工液３１の塗布方法は、基材フィルム２０の上面２０ａにプライマー層用塗工液３１を塗布できるならば、特に限定されない。第１塗布装置４１を用いたプライマー層用塗工液３１の塗布方法としては、例えば、ワイヤーバーコーティング法、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、ダイコート法、コンマコート法、リップコート法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法等が挙げられる。第１塗布装置４１としては、各塗布方法に応じた塗布装置を適宜選択できる。
【００６１】
第１塗布工程Ｓ１ａにより、図４に示すように、基材フィルム２０の上面２０ａにプライマー層用塗工液３１の層が形成される。
【００６２】
第１乾燥工程Ｓ１ｂは、図３に示すように、第１乾燥炉５１を用いて、基材フィルム２０上に塗布されたプライマー層用塗工液３１を乾燥させる工程である。第１乾燥炉５１内においては、例えば、吹き付けられる熱風等により、プライマー層用塗工液３１に熱が加えられ、プライマー層用塗工液３１が乾燥して硬化する。第１乾燥炉５１は、プライマー層用塗工液３１を乾燥できるならば、特に限定されない。第１乾燥炉５１における乾燥温度は、例えば、５０℃以上、２００℃以下であり、６０℃以上、１５０℃以下が好ましい。第１乾燥炉５１における乾燥温度は、プライマー層用塗工液３１に含まれる溶媒の種類に応じて適宜設定できる。プライマー層用塗工液３１の溶媒が水を含む場合、第１乾燥炉５１の乾燥温度は、８０℃以上であることが好ましい。
【００６３】
第１乾燥炉５１における乾燥時間、すなわち第１乾燥工程Ｓ１ｂの長さは、例えば、３０秒以上、２０分以下である。第１乾燥工程Ｓ１ｂの長さは、プライマー層用塗工液３１が塗布されてから、プライマー層用塗工液３１が乾燥してプライマー層３２が形成されるまでの間の長さである。
【００６４】
第１乾燥工程Ｓ１ｂにより、図５に示すように、基材フィルム２０上に、プライマー層用塗工液３１が乾燥して硬化したプライマー層３２が形成される。
【００６５】
ここで、第１乾燥工程Ｓ１ｂにおいては、プライマー層用塗工液３１と共に基材フィルム２０にも熱が加えられる。基材フィルム２０の材質は熱可塑性樹脂であるため、基材フィルム２０は、熱を加えられることで幅方向（Ｙ軸方向）に熱収縮する。これにより、基材フィルム２０が波状となり、基材フィルム２０の上面２０ａおよび下面２０ｂは、凹凸形状となる。基材フィルム２０の上面２０ａの凹凸形状と、基材フィルム２０の下面２０ｂの凹凸形状とは、幅方向に沿って、凹部と凸部とが互い違いになるように設けられている。すなわち、幅方向において、上面２０ａの凹部が形成されている位置には、下面２０ｂの凸部が形成されており、上面２０ａの凸部が形成されている位置には、下面２０ｂの凹部が形成されている。
【００６６】
プライマー層３２は、基材フィルム２０の上面２０ａに形成されているため、上面２０ａの凹凸形状に沿って、波状に形成されている。プライマー層３２の厚みは、例えば、０．０５μｍ以上、１μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ以上、０．４μｍ以下であることがより好ましい。プライマー層３２の厚みが０．０５μｍよりも小さい場合、基材フィルム２０と後述する樹脂層３４との密着力が小さくなり、１μｍよりも大きい場合、製造される偏光フィルム１の厚みが大きくなりやすいことがある。
【００６７】
樹脂層形成工程Ｓ２は、基材フィルム２０上にポリビニルアルコール系樹脂を形成材料とする樹脂層３４（図７参照）を形成する工程である。図２に示すように、樹脂層形成工程Ｓ２は、第２塗布工程Ｓ２ａと、第２乾燥工程Ｓ２ｂと、を含む。
【００６８】
第２塗布工程Ｓ２ａは、基材フィルム２０上にポリビニルアルコール系樹脂を含む樹脂層用塗工液３３を塗布する工程である。図３に示すように、第２塗布工程Ｓ２ａにおいては、第２塗布装置４２によって、基材フィルム２０の上面２０ａに、プライマー層３２を介して樹脂層用塗工液３３が塗布される。
【００６９】
樹脂層用塗工液３３は、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂の粉末を溶媒に溶解させて得られるポリビニルアルコール系樹脂溶液である。ポリビニルアルコール系樹脂としては、偏光子１０の形成材料の説明において上述した通りである。溶媒は、例えば、水である。樹脂層用塗工液３３中のポリビニルアルコール系樹脂の濃度は、５質量％以上が好ましく、５質量％以上、１５質量％以下がより好ましく、５質量％以上、１０質量％以下がさらに好ましい。樹脂層用塗工液３３中のポリビニルアルコール系樹脂の濃度が５質量％未満の場合、樹脂層用塗工液３３中の液体成分の割合が多くなるため第２乾燥工程Ｓ２ｂにおいて乾燥の効率が低下することがある。また、樹脂層用塗工液３３中のポリビニルアルコール系樹脂の濃度が１５質量％以上の場合、樹脂層用塗工液３３の粘度が大きくなり過ぎて、樹脂層用塗工液３３を塗布しにくくなることがある。
【００７０】
樹脂層用塗工液３３の粘度は、基材フィルム２０上に塗布しやすく、かつ、基材フィルム２０上に形成される樹脂層用塗工液３３の層の厚みにムラが生じにくい範囲であれば、特に限定されない。樹脂層用塗工液３３の粘度は、基材フィルム２０上に塗布する際において、例えば、０．５Ｐａ・ｓ以上、１０Ｐａ・ｓ以下が好ましく、０．８Ｐａ・ｓ以上、７Ｐａ・ｓ以下がより好ましく、１Ｐａ・ｓ以上、５Ｐａ・ｓ以下がさらに好ましい。樹脂層用塗工液３３の粘度が０．５Ｐａ・ｓ未満である場合、塗布した樹脂層用塗工液３３が流動して樹脂層３４の厚み精度が低下することがある。また、樹脂層用塗工液３３の粘度が１０Ｐａ・ｓよりも大きい場合、樹脂層用塗工液３３を塗布する第２塗布装置４２において使用できるフィルターが制限される等により、形成される樹脂層３４の品質が低下することがある。
【００７１】
なお、樹脂層用塗工液３３の粘度は、基材フィルム２０上に塗布する際に上記数値範囲内となればよい。そのため、例えば、第２塗布装置４２に接続された樹脂層用塗工液３３を溜めるタンク（図示せず）内において、樹脂層用塗工液３３の粘度は上記数値範囲外であってもよい。この場合、例えば、樹脂層用塗工液３３を加温もしくは冷却することで、樹脂層用塗工液３３の粘度を上記数値範囲内とすることができる。
【００７２】
樹脂層用塗工液３３は、可塑剤、界面活性剤等の添加材を含んでいてもよい。可塑剤の種類は、上述した通りである。樹脂層用塗工液３３における添加材の配合量は、ポリビニルアルコール系樹脂の量に対して、２０質量％以下とすることが好ましい。
【００７３】
第２塗布装置４２を用いた樹脂層用塗工液３３の塗布方法は、基材フィルム２０上に樹脂層用塗工液３３を塗布できるならば、特に限定はされない。第２塗布装置４２を用いた樹脂層用塗工液３３の塗布方法としては、上述したプライマー層用塗工液３１の塗布方法と同様の方法が挙げられる。第２塗布装置４２を用いた樹脂層用塗工液３３の塗布方法は、第１塗布装置４１を用いたプライマー層用塗工液３１の塗布方法と同じであってもよいし、異なっていてもよい。第２塗布装置４２としては、各塗布方法に応じた塗布装置を適宜選択できる。
【００７４】
第２塗布工程Ｓ２ａにより、図６に示すように、基材フィルム２０の上面２０ａに、プライマー層３２を介して樹脂層用塗工液３３の層が形成される。樹脂層用塗工液３３の層は、基材フィルム２０の上面２０ａに沿って波状に形成される。樹脂層用塗工液３３の層の厚みは、例えば、５０μｍ以上、２００μｍ以下であり、好ましくは１５０μｍ以下である。
【００７５】
第２乾燥工程Ｓ２ｂは、基材フィルム２０上に塗布された樹脂層用塗工液３３を乾燥させる工程である。第２乾燥工程Ｓ２ｂにおいては、図３に示すように、第２乾燥炉５２を用いて、基材フィルム２０上に塗布された樹脂層用塗工液３３を乾燥させる。第２乾燥炉５２内においては、例えば、吹き付けられる熱風等により、樹脂層用塗工液３３の層に熱が加えられ、樹脂層用塗工液３３が乾燥して硬化する。第２乾燥炉５２は、樹脂層用塗工液３３を乾燥できるならば、特に限定されない。第２乾燥炉５２における乾燥温度は、例えば、５０℃以上、２００℃以下であり、６０℃以上、１５０℃以下が好ましい。第２乾燥炉５２における乾燥温度は、樹脂層用塗工液３３に含まれる溶媒の種類に応じて適宜設定できる。樹脂層用塗工液３３の溶媒が水を含む場合、第２乾燥炉５２の乾燥温度は、８０℃以上であることが好ましい。
【００７６】
第２乾燥炉５２における乾燥時間、すなわち第２乾燥工程Ｓ２ｂの長さは、例えば、１８０秒以下であり、好ましくは１５０秒以下であり、より好ましくは１４０秒以下である。詳しくは後述するが、第２乾燥工程Ｓ２ｂの長さをこのように設定することで、偏光子１０の厚み分布のムラを小さくできる。第２乾燥工程Ｓ２ｂの長さは、樹脂層用塗工液３３が塗布されてから、樹脂層用塗工液３３が乾燥して樹脂層３４が形成されるまでの間の長さである。すなわち、例えば、樹脂層用塗工液３３が塗布されてから第２乾燥炉５２内から樹脂層３４が出てくるまでの時間が１５０秒より大きい場合であっても、樹脂層用塗工液３３が塗布されてから樹脂層３４が形成されるまでの時間が１８０秒以下であればよい。
【００７７】
第２乾燥工程Ｓ２ｂの長さを１８０秒以下にする方法は、１８０秒以下で樹脂層用塗工液３３を乾燥して樹脂層３４を形成できるならば、特に限定されない。例えば、第２乾燥炉５２の出力（例えば、風量）を大きくしてもよいし、樹脂層用塗工液３３の層の厚みを小さくしてもよいし、樹脂層用塗工液３３の溶媒を例えばアルコール等の揮発しやすい物質としてもよい。例えば、樹脂層用塗工液３３の乾燥速度は、１．６質量％／秒以上であることが好ましく、２．０質量％／秒以上であることが好ましい。なお、樹脂層用塗工液３３が塗布された基材フィルム２０の搬送される速度は、第２乾燥工程Ｓ２ｂの長さに応じて適宜調整されてもよい。
【００７８】
なお、本明細書における乾燥速度とは、例えば、樹脂層用塗工液３３の乾燥が開始された後、比較的初期の段階における乾燥速度である。具体的には、本明細書における乾燥速度とは、例えば、樹脂層用塗工液３３に含まれる溶媒が３０質量％から１０質量％まで低減するまでの間における乾燥速度である。
【００７９】
第２乾燥工程Ｓ２ｂにより、図７に示すように、基材フィルム２０上、好ましくはプライマー層３２上に、樹脂層３４が形成される。これにより、基材フィルム２０とプライマー層３２と樹脂層３４とが積層された積層フィルム７０が形成される。樹脂層３４の上面３４ａは、凹凸形状である。樹脂層３４の上面３４ａの凹凸形状は、図６に示す樹脂層用塗工液３３の層の上面３３ａの凹凸形状よりも、平坦化されている。樹脂層用塗工液３３が塗布された直後から、樹脂層用塗工液３３が乾燥して樹脂層３４となるまでの間に、樹脂層用塗工液３３が流動して上面３３ａが平坦化されるためである。乾燥時間を短くすることができるという点で、樹脂層３４の厚みＴ４は、例えば、３μｍ以上、２０μｍ以下であり、好ましくは５μｍ以上、２０μｍ以下である。
【００８０】
延伸工程Ｓ３は、基材フィルム２０と共に樹脂層３４を延伸する工程である。延伸工程Ｓ３においては、図３に示すように、延伸装置６０を用いて積層フィルム７０を長手方向に一軸延伸する。これにより、樹脂層３４が延伸される。樹脂層３４の厚みＴ４は、延伸されることで小さくなる。延伸工程Ｓ３の前において樹脂層３４の厚みＴ４が１０μｍよりも大きい場合、延伸工程Ｓ３によって、樹脂層３４の厚みＴ４は、１０μｍ以下となる。
【００８１】
樹脂層３４の延伸倍率は、所望する偏光子１０の偏光特性に応じて適宜選択することができる。樹脂層３４の延伸倍率は、延伸する前の樹脂層３４の長手方向の寸法に対して、５倍より大きく、１７倍以下が好ましく、５倍より大きく、８倍以下であることがより好ましい。樹脂層３４の延伸倍率が５倍以下である場合、樹脂層３４の配向が不十分となり製造される偏光子１０の偏光度が十分に大きくならないことがある。また、樹脂層３４の延伸倍率が１７倍よりも大きい場合、積層フィルム７０が破断しやすくなったり、積層フィルム７０の厚みが小さくなり過ぎて、後工程における加工性および取扱い性が低下したりすることがある。
【００８２】
延伸装置６０は、樹脂層３４を所定の延伸倍率に延伸できるならば、特に限定されない。延伸装置６０を用いた積層フィルム７０の延伸方法は、搬送ロールの周速差をつけて延伸を行うロール間延伸であってもよいし、テンター延伸であってもよい。また、延伸処理は、多段階に亘って行われてもよい。この場合、多段階に亘った延伸処理のすべてを染色工程Ｓ４の前に行ってもよいし、２段階目以降の延伸処理の一部、あるいは全てを染色工程Ｓ４中に行ってもよい。
【００８３】
延伸装置６０を用いて積層フィルム７０（樹脂層３４）を延伸する際の延伸温度は、基材フィルム２０および樹脂層３４が延伸可能な程度に流動性を示す温度以上に設定される。延伸温度は、例えば、基材フィルム２０の相転移温度（融点またはガラス転移温度）の−３０℃以上、＋３０℃以下の範囲が好ましく、−３０℃以上、＋５℃以下の範囲がより好ましく、−２５℃以上、±０℃以下の範囲がさらに好ましい。延伸温度が、基材フィルム２０の相転移温度の−３０℃よりも小さい場合、基材フィルム２０の流動性が小さすぎて、基材フィルム２０および樹脂層３４を延伸しにくいことがある。また、延伸温度が、基材フィルム２０の相転移温度の＋３０℃よりも大きい場合、基材フィルム２０の流動性が大きすぎて、基材フィルム２０および樹脂層３４を延伸しにくいことがある。基材フィルム２０が多層である場合、基材フィルム２０の相転移温度とは、複数の層の相転移温度のうち最も高い温度のことを言う。
【００８４】
染色工程Ｓ４は、樹脂層３４に二色性色素を吸着させる工程である。染色工程Ｓ４においては、図３に示すように、延伸された積層フィルム７０全体を、二色性色素を含む染色溶液８０に浸漬する。染色溶液８０は、二色性色素を溶媒に溶解させた溶液である。染色溶液８０の溶媒は、例えば、水である。染色溶液８０の溶媒には、水に加えて、水と相溶性のある有機溶媒が添加されていてもよい。染色溶液８０における二色性色素の濃度は、０．０１質量％以上、１０質量％以下が好ましく、０．０２質量％以上、７質量％以下がより好ましく、０．０２５質量％以上、５質量％以下がさらに好ましい。
【００８５】
二色性色素をヨウ素とする場合、ヨウ素が含まれた染色溶液８０にヨウ化物をさらに添加することが好ましい。染色効率を向上できるためである。ヨウ化物としては、例えば、ヨウ化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化亜鉛、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化鉛、ヨウ化銅、ヨウ化バリウム、ヨウ化カルシウム、ヨウ化錫、ヨウ化チタン等が挙げられる。染色溶液８０におけるヨウ化物の濃度は、０．０１質量％以上、２０質量％以下が好ましい。
【００８６】
ヨウ化物の中でも、ヨウ化カリウムを添加することが好ましい。ヨウ化カリウムを添加する場合、ヨウ素の質量に対するヨウ化カリウムの質量の比は、５以上、１００以下が好ましく、６以上、８０以下がより好ましく、７以上、７０以下がさらに好ましい。
【００８７】
染色溶液８０への積層フィルム７０の浸漬時間は、特に限定されないが、１５秒以上、１５分以下が好ましく、１分以上、３分以下がより好ましい。染色溶液８０の温度は、１０℃以上、６０℃以下が好ましく、２０℃以上、４０℃以下がより好ましい。
【００８８】
上記の染色処理を行うことで、樹脂層３４には、配向された二色性色素が吸着され、図８に示すように、基材フィルム２０上にプライマー層３２を介して積層された偏光子１０が得られる。これにより、基材フィルム２０とプライマー層３２と偏光子１０とが積層された偏光性積層フィルム７１が得られる。
【００８９】
なお、染色工程Ｓ４は、上述した染色処理に続いて実施される架橋処理工程を含んでいてもよい。架橋処理工程は、染色された積層フィルム７０の全体を、架橋剤を含む架橋溶液中に浸漬する。架橋剤としては、例えば、ホウ酸、ホウ砂等のホウ素化合物；グリオキザール；およびグルタルアルデヒド等が挙げられる。架橋剤は１種類でもよいし、２種類以上を併用してもよい。
【００９０】
架橋溶液として、架橋剤を溶媒に溶解した溶液を使用できる。架橋溶液の溶媒は、例えば、水である。架橋溶液の溶媒には、水に加えて、水と相溶性のある有機溶媒が添加されていてもよい。架橋溶液における架橋剤の濃度は、例えば、１質量％以上、２０質量％以下が好ましく、６質量％以上、１５質量％以下がより好ましい。
【００９１】
架橋溶液中には、ヨウ化物を添加してもよい。ヨウ化物の添加により、樹脂層３４の面内における偏光特性をより均一化させることができる。架橋溶液に添加されるヨウ化物としては、例えば、上述した染色溶液８０に添加されるヨウ化物と同様のヨウ化物が挙げられる。架橋溶液に添加されるヨウ化物と染色溶液８０に添加されるヨウ化物とは、同じであってもよいし、異なっていてもよい。架橋溶液におけるヨウ化物の濃度は、０．０５質量％以上、１５質量％以下が好ましく、０．５質量％以上、８質量％以下がより好ましい。
【００９２】
架橋溶液への積層フィルム７０の浸漬時間は、１５秒以上、２０分以下が好ましく、３０秒以上、１５分以下がより好ましい。架橋溶液の温度は、１０℃以上、８０℃以下が好ましい。
【００９３】
なお、架橋処理は、架橋剤を染色溶液８０中に配合することにより、染色処理と同時に行ってもよい。また、組成の異なる２種以上の架橋溶液を用いて、架橋溶液に浸漬する処理を２回以上行ってもよい。
【００９４】
貼合工程Ｓ５は、偏光子１０上に保護フィルム１１を貼合する工程である。偏光子１０の上面１０ａに接着層１２を形成し、接着層１２を介して保護フィルム１１を偏光子１０の上面１０ａに貼合する。接着層１２の形成方法は、特に限定されず、例えば、プライマー層形成工程Ｓ１および樹脂層形成工程Ｓ２等において各層を形成した方法と同様の方法を採用できる。
【００９５】
保護フィルム１１の貼合方法は、特に限定されない。例えば、ロール状に巻かれた保護フィルム１１を巻き出して、接着層１２上に保護フィルム１１を載せた状態で、保護フィルム１１と偏光性積層フィルム７１とを挟みこむ２つのローラー間を通過させることで、保護フィルム１１を貼合することができる。
【００９６】
剥離工程Ｓ６は、保護フィルム１１が貼合された偏光性積層フィルム７１から基材フィルム２０を剥離除去する工程である。基材フィルム２０を剥離除去する方法は、特に限定されず、例えば、粘着剤付き偏光板で行われるセパレータ（剥離フィルム）の剥離工程と同様の方法を採用できる。基材フィルム２０は、貼合工程Ｓ５の後、そのまますぐに剥離してもよいし、貼合工程Ｓ５の後、一度、保護フィルム１１が貼合された偏光性積層フィルム７１をロール状に巻き取り、その後の工程で巻き出しながら剥離してもよい。
【００９７】
剥離工程Ｓ６によって、基材フィルム２０が剥離除去されることで、図１に示す本実施形態の偏光フィルム１が製造される。偏光フィルム１を所定の大きさに切り出すことで、偏光板が得られる。
【００９８】
本実施形態によれば、薄型で、かつ、透過軸方向の厚み分布のムラが小さい偏光子１０が得られる。以下、詳細に説明する。
【００９９】
厚みが１０μｍ以下の薄型の偏光子を製造する場合、上述したように、基材フィルム上にポリビニルアルコール系樹脂を含む樹脂層用塗工液を塗布し、樹脂層用塗工液を乾燥させて樹脂層を形成する。そして、樹脂層を基材フィルムと共に延伸する製造方法（以下、薄型偏光子製造方法と呼ぶ）が採用される。この方法を用いる場合、製造される偏光子のムラが大きい問題があった。その理由は、以下のような理由によるものと考えられる。
【０１００】
薄型偏光子製造方法を採用する場合、基材フィルムは、樹脂層と共に延伸可能な材質である必要があるため、熱が加えられることで熱収縮しやすい。そのため、例えば、上述したプライマー層形成工程Ｓ１の第１乾燥工程Ｓ１ｂ等で基材フィルムに熱が加えられると、基材フィルムが熱収縮して、図５に示す基材フィルム２０のように、上下面に凹凸形状が生じる。この状態で、基材フィルム上に樹脂層用塗工液の層が形成されると、樹脂層用塗工液の層の上面も基材フィルムの上面の形状に沿って凹凸形状となる。
【０１０１】
樹脂層用塗工液は流動性を有しているため、樹脂層用塗工液が乾燥して樹脂層が形成されるまでの間、樹脂層用塗工液の上面は、徐々に平坦化されていく。ここで、例えば、第２乾燥工程Ｓ２ｂの長さが十分に大きい場合、第２塗布工程Ｓ２ａで塗布された樹脂層用塗工液３３が乾燥して樹脂層３４となるまでの間に、樹脂層用塗工液３３の上面３３ａが完全に平坦化される。これにより、樹脂層３４の上面が、図７に二点鎖線で示すような平坦面３５となる。
【０１０２】
この場合、樹脂層の下面のうち上側に凹となる部分の最上点３４ｃと平坦面３５との間の積層方向の距離である厚みＴ３ａと、樹脂層の下面のうち下側に凸となる部分の最下点３４ｄと平坦面３５との間の積層方向の距離である厚みＴ３ｂと、の差が大きくなる。厚みＴ３ｂは、厚みＴ３ａよりも大きい。したがって、従来、薄型偏光子製造方法を用いる場合においては、樹脂層の厚み分布のムラが大きくなり、結果として偏光子の厚み分布のムラが大きくなる問題が生じていたものと思われる。
【０１０３】
なお、例えば、比較的厚みの大きい偏光子を製造する場合には、上述した薄型製造方法を採用する必要はなく、基材フィルムを使用しないことから、熱収縮した基材フィルムの形状が樹脂層に転写されることがなく、上記の問題は生じない。
【０１０４】
また、その他、第２乾燥炉５２内において樹脂層用塗工液に吹き付けられる熱風の風量が幅方向において不均一になりやすいこと、第２乾燥工程Ｓ２ｂにおいて基材フィルムが搬送時に振動しやすいこと等により、樹脂層用塗工液が流動して樹脂層の厚み分布のムラが大きくなり、結果として偏光子の厚み分布のムラが大きくなる問題が生じていたものと思われる。
【０１０５】
なお、例えば、比較的厚みの大きい偏光子を製造する場合には、上述した薄型製造方法を採用する必要はないため、搬送される基材フィルム上で樹脂層を形成する必要がなく、上記の問題は生じない。
【０１０６】
以上説明した、薄型偏光子製造方法においてムラが生じる原因に関する知見は、本発明者らによって新たに得られた知見である。
【０１０７】
これに対して、本実施形態によれば、第２乾燥工程Ｓ２ｂの長さは、好ましくは１５０秒以下である。そのため、第２乾燥工程Ｓ２ｂの長さが比較的小さく、樹脂層用塗工液３３の上面３３ａが平坦化されて平坦面３５となる前に、樹脂層用塗工液３３の層は乾燥して樹脂層３４となる。これにより、樹脂層３４の上面３４ａは、樹脂層用塗工液３３の上面３３ａよりは平坦化されているものの、凹凸形状を有したままとなる。したがって、樹脂層３４の下面３４ｂにおける最上点３４ｃと上面３４ａとの距離である厚みＴ４ａと、樹脂層３４の下面３４ｂにおける最下点３４ｄと上面３４ａとの距離である厚みＴ４ｂと、の差が小さくなる。すなわち、幅方向において樹脂層３４の厚みＴ４が均一に近くなり、樹脂層３４の厚み分布のムラが小さくなる。したがって、偏光子１０の厚み分布のムラを小さくできる。
【０１０８】
なお、厚みＴ４ａは、下面３４ｂの最上点３４ｃと上面３４ａのうち上側に凸となる部分の最上点３４ｅとの間の距離である。厚みＴ４ｂは、下面３４ｂの最下点３４ｄと上面３４ａのうち下側に凹となる部分の最下点３４ｆとの間の距離である。
【０１０９】
また、第２乾燥工程Ｓ２ｂの長さが比較的小さいことで、第２乾燥炉５２において樹脂層用塗工液３３に熱風が吹き付けられる時間が短くなり、かつ、樹脂層用塗工液３３が塗布されてから乾燥して樹脂層３４となるまでの基材フィルム２０が搬送される時間が短くなる。したがって、第２乾燥炉５２において吹き付けられる熱風および基材フィルム２０の振動による樹脂層用塗工液３３の流動が抑制され、樹脂層３４の厚み分布のムラが小さくなる。したがって、偏光子１０の厚み分布のムラを小さくできる。
【０１１０】
以上により、本実施形態によれば、厚みが１０μｍ以下の薄型の偏光子を得るために、薄型偏光子製造方法を採用する場合であっても、厚み分布のムラが小さい偏光子１０を得ることができる。具体的には、厚みＴ１が１０μｍ以下で、かつ、厚み分布の最大振幅が０．４μｍ以下の偏光子１０を得ることができる。厚みＴ１が１０μｍ以下で、かつ、厚み分布の周期強度が０．１３μｍ以下の偏光子１０を得ることができる。厚みＴ１が１０μｍ以下で、かつ、ポリビニルアルコール系樹脂の位相差分布の最大振幅が、１０ｎｍ以下の偏光子１０を得ることができる。厚みＴ１が１０μｍ以下で、かつ、ポリビニルアルコール系樹脂の位相差分布の周期強度が、２ｎｍ以下の偏光子１０を得ることができる。
【０１１１】
これらの特徴を有する偏光子１０は、薄型偏光子製造方法において偏光子の厚み分布のムラが大きくなる原因に関する新たな知見に基づいて、上述した本実施形態の製造方法を採用することで得られた新たな偏光子である。言い換えれば、厚みが１０μｍ以下の薄型の偏光子を製造する場合、薄型偏光子製造方法を採用する必要があるものの、従来は、上述した厚み分布のムラが大きくなる原因についての知見はなく、本実施形態の偏光子の製造方法も採用されていなかった。そのため、従来、本実施形態の偏光子１０を実現することはできなかった。
【０１１２】
また、薄型偏光子製造方法において、偏光子の厚み分布のムラが生じる原因としては、熱収縮した基材フィルムの形状が樹脂層用塗工液に転写され、樹脂層用塗工液が平坦化することが最も大きいと考えられる。そのため、本実施形態のように、樹脂層形成工程Ｓ２よりも前に、第１乾燥工程Ｓ１ｂを含むプライマー層形成工程Ｓ１が設けられていることで、基材フィルムが熱収縮し、偏光子の厚み分布のムラが特に大きくなりやすい。したがって、上述した偏光子１０の厚み分布のムラを小さくできる効果は、プライマー層形成工程Ｓ１が設けられている場合に、特に効果が高い。また、プライマー層形成工程Ｓ１以外に、樹脂層形成工程Ｓ２よりも前に、基材フィルム２０に熱が加えられる工程を含む場合も同様である。
【０１１３】
なお、本実施形態においては、以下の方法を採用することもできる。
【０１１４】
上記説明においては、第２乾燥工程Ｓ２ｂの長さを調整する方法により、偏光子１０の厚み分布のムラを小さくしたが、これに限られない。上述した厚み分布のムラが大きくなる原因に関する新たな知見の一つに基づけば、基材フィルム２０上に塗布された樹脂層用塗工液３３の上面３３ａが完全に平坦化する前に、樹脂層用塗工液３３を乾燥して樹脂層３４を形成できれば、厚み分布のムラが小さい偏光子１０を得ることができる。そのため、例えば、樹脂層用塗工液３３の粘度を比較的大きくして、樹脂層用塗工液３３の上面３３ａが平坦化する速度を遅くしたり、樹脂層用塗工液３３の塗工量を調整して、得られる樹脂層３４の厚みを小さくしたりしてもよい。この場合には、樹脂層用塗工液３３の上面３３ａが完全に平坦化する前に、樹脂層用塗工液３３を乾燥して樹脂層３４を形成しやすい。したがって、厚み分布のムラが小さい偏光子１０を製造することができる。また、上記説明した方法を組み合わせることも、厚み分布のムラが小さい偏光子１０を製造しやすいという点で好ましい。
【０１１５】
また、プライマー層形成工程Ｓ１よりも前に、プライマー層用塗工液３１が塗布される基材フィルム２０の上面２０ａにコロナ処理を施す工程を設けてもよい。
【０１１６】
また、樹脂層形成工程Ｓ２における樹脂層３４の形成に可塑剤を用いている場合には、染色工程Ｓ４よりも前に、可塑剤を除去する処理を行ってもよい。可塑剤の除去は、例えば、積層フィルム７０を室温以上、５０℃以下程度の水に浸漬し、積層フィルム７０に水を膨潤させることにより、積層フィルム７０から可塑剤を溶出させることで行う。
【０１１７】
また、染色工程Ｓ４において架橋処理が設けられる場合、架橋処理の後には、偏光性積層フィルム７１を、純水、イオン交換水、蒸留水、水道水等の水に浸漬して水洗浄して、ホウ酸等を洗い流す処理を行ってもよい。洗浄液はヨウ化物を含んでいてもよい。そして、その後、偏光性積層フィルム７１を乾燥させる処理を行ってもよい。乾燥処理は、自然乾燥、加熱乾燥、送風乾燥、減圧乾燥等、公知の方法を採用することができる。
【０１１８】
また、染色工程Ｓ４は、延伸工程Ｓ３より前に行われてもよいし、染色工程Ｓ４と延伸工程Ｓ３とが同時に行われてもよい。また、プライマー層形成工程Ｓ１は、設けられていなくてもよい。
【０１１９】
なお、上述した各方法および各構成は、矛盾しない範囲内において、相互に組み合わせることができる。
【実施例】
【０１２０】
薄型偏光子製造方法において、偏光子の厚み分布のムラが大きくなる原因のうち、基材フィルムの熱収縮形状に対する樹脂層用塗工液の平坦化について検証を行った。図９は、検証例として製造した検証用積層体２を示す断面図である。なお、図９においては、上述した実施形態と同様の構成については、同一の符号を付している。
【０１２１】
検証用積層体２は、基材フィルム２０と、プライマー層３２と、樹脂層１３４ａ，１３４ｂと、を備えている。樹脂層１３４ａは、基材フィルム２０の上面２０ａにプライマー層３２を介して形成されている。樹脂層１３４ｂは、基材フィルム２０の下面２０ｂにプライマー層３２を介して形成されている。樹脂層１３４ａの上面および樹脂層１３４ｂの下面は、平坦面である。
【０１２２】
本検証例において基材フィルム２０の材質は、ポリプロピレンとした。本検証例においてプライマー層３２の平均厚みは、０．２μｍとした。また、第１乾燥工程Ｓ１ｂにおいては、乾燥温度を９０℃とし、基材フィルム２０の搬送速度を２０ｍ／分とした。本検証例において樹脂層用塗工液の溶媒は、水とした。樹脂層用塗工液におけるポリビニルアルコール系樹脂の濃度は、８質量％とした。第２塗布工程Ｓ２ａにおいて、塗布した際の樹脂層用塗工液の層の平均厚みは、１４０μｍとした。
【０１２３】
第２乾燥工程Ｓ２ｂの長さを、第２塗布工程Ｓ２ａで塗布した樹脂層用塗工液の層の上面が完全に平坦化される長さとして、樹脂層１３４ａ，１３４ｂを形成し、樹脂層１３４ａの厚みＴ５ａと樹脂層１３４ｂの厚みＴ５ｂとを幅方向（Ｙ軸方向）ごとに測定した。結果を図１０に示す。
【０１２４】
図１０は、幅方向（Ｙ軸方向）位置に対する樹脂層１３４ａ，１３４ｂの厚みＴ５を示すグラフである。図１０において、縦軸は、樹脂層１３４ａ，１３４ｂの厚みＴ５を示しており、横軸は、樹脂層１３４ａ，１３４ｂの幅方向位置を示している。図１０においては、樹脂層１３４ａの厚みＴ５ａと樹脂層１３４ｂの厚みＴ５ｂとをそれぞれ示している。
【０１２５】
図１０から、樹脂層１３４ａの厚みＴ５ａと樹脂層１３４ｂの厚みＴ５ｂとは、互い違いに増減を繰り返していることが確かめられた。すなわち、樹脂層１３４ａの厚みＴ５ａが大きくなる幅方向位置においては、樹脂層１３４ｂの厚みＴ５ｂは小さくなり、樹脂層１３４ａの厚みＴ５ａが小さくなる幅方向位置においては、樹脂層１３４ｂの厚みＴ５ｂは大きくなることが確かめられた。
【０１２６】
図１０に示す結果は、樹脂層用塗工液の平坦化によって、偏光子の厚み分布のムラが生じることを裏付ける結果である。図９に示すように、基材フィルム２０が熱収縮して表面に凹凸形状が形成される場合、基材フィルム２０の上面２０ａの凹凸形状と、基材フィルム２０の下面２０ｂの凹凸形状とは、幅方向（Ｙ軸方向）に沿って、凹部と凸部とが互い違いになる。そのため、基材フィルム２０の両面に樹脂層が形成されると、樹脂層１３４ａの下面の凹凸形状と樹脂層１３４ｂの上面の凹凸形状とでは、幅方向に沿って、凹部と凸部とが互い違いになる。これにより、樹脂層１３４ａの厚みＴ５ａが最大となる幅方向位置では、樹脂層１３４ｂの厚みＴ５ｂが最小となり、樹脂層１３４ａの厚みＴ５ａが最小となる幅方向位置では、樹脂層１３４ｂの厚みＴ５ｂが最大となる。その結果、樹脂層１３４ａの厚みＴ５ａと樹脂層１３４ｂの厚みＴ５ｂとは、幅方向位置に応じて、図１０に示す変化をするものと考えられる。
【０１２７】
以上により、偏光子の厚み分布のムラが大きくなる原因の少なくとも一つが、熱収縮した基材フィルム２０上に形成された樹脂層用塗工液が平坦化されることであることが、確かめられた。
【０１２８】
次に、上述した実施形態の偏光フィルム１の製造方法を用いて実施例１〜３の偏光フィルムを製造し、比較例の偏光フィルムとの比較を行った。
【０１２９】
実施例１において基材フィルムは、以下のようにして作製した。まず、プロピレンの単独重合体であるホモポリプロピレン（住友化学株式会社製「住友ノーブレン（登録商標）ＦＬＸ８０Ｅ４」、融点１６３℃）に、高密度ポリエチレンからなる造核剤を１質量％配合して、造核剤入りポリプロピレンを作製した。このポリプロピレンと、エチレンユニットを約５質量％含むプロピレン／エチレンのランダム共重合体「住友ノーブレン（登録商標）  Ｗ１５１」とから、多層押出成形機を用いた共押出成形によって長尺のポリプロピレン系積層フィルムを作製し、これを基材フィルムとした。ポリプロピレン系積層フィルムは、「住友ノーブレン（登録商標）  Ｗ１５１」からなる樹脂層の両側に、上述した造核剤入りポリプロピレンからなる樹脂層が配置された３層構造とした。実施例１の基材フィルムの平均厚みは、１００μｍとした。基材フィルムにおける各層の厚みの比は、造核剤入りポリプロピレン：住友ノーブレン（登録商標）  Ｗ１５１：造核剤入りポリプロピレン＝３：４：３とした。基材フィルムの長手方向の引張弾性率は、２１０ＭＰａであった。
【０１３０】
実施例１においてプライマー層用塗工液は、以下のようにして作製した。ポリビニルアルコール粉末（日本合成化学工業株式会社製「Ｚ−２００」、平均分子量１１００、平均ケン化度９９．５モル％）を９５℃の熱水に溶解し、濃度３質量％のポリビニルアルコール水溶液とした。得られた水溶液に架橋剤（住友化学製「スミレーズレジン（登録商標）６５０」）を、２質量部のポリビニルアルコールに対して１質量部混合して、プライマー層用塗工液を作製した。
【０１３１】
実施例１において樹脂層用塗工液は、以下のようにして作製した。ポリビニルアルコール粉末（株式会社クラレ製「ＰＶＡ１２４」、平均重合度２４００、平均ケン化度９８．０モル％以上、９９．０モル％以下）を９５℃の熱水に溶解し、濃度８質量％のポリビニルアルコール水溶液とし、これを樹脂層用塗工液とした。
【０１３２】
上述したようにして得られた基材フィルムを連続的に搬送しつつ、その片面にコロナ処理を施し、コロナ処理された面にマイクログラビアコーター（第１塗布装置）を用いて上述したプライマー層用塗工液を連続的に塗布した。塗布したプライマー層用塗工液を、第１乾燥装置において、６０℃で３分乾燥させることにより、平均厚み０．２μｍのプライマー層を形成した。
【０１３３】
プライマー層が形成された基材フィルムを連続的に搬送しつつ、プライマー層上にリップコーター（第２塗布装置）を用いて上述した樹脂層用塗工液を連続的に塗布した。塗布した樹脂層用塗工液を、第２乾燥装置を用いて、９０℃で１３０秒乾燥させることにより、プライマー層上に樹脂層を形成した。このとき、樹脂層用塗工液の乾燥速度は２．１質量％／秒であった。形成した樹脂層において、乾燥ムラ等は確認されず、不具合は認められなかった。偏光子の平均厚みは、３．６μｍであった。
【０１３４】
基材フィルム上にプライマー層および樹脂層が形成された積層フィルムを、連続的に搬送しつつ、ロール間空中延伸装置を用いて長手方向（フィルム搬送方向）に自由端一軸延伸した。延伸温度は、１５０℃とした。延伸倍率は、５．３倍とした。
【０１３５】
上記延伸された積層フィルムをヨウ素とヨウ化カリウムとを含む３０℃の染色溶液に滞留時間が１５０秒間程度となるように浸漬してポリビニルアルコール系樹脂からなる樹脂層の染色処理を行った。次いで、１０℃の純水により余分な染色溶液を洗い流した。引き続き、ホウ酸とヨウ化カリウムとを含む７６℃の架橋溶液に滞留時間が６００秒間となるように浸漬して架橋処理を行った。その後、１０℃の純水で４秒間洗浄し、８０℃で３００秒間乾燥させることにより、基材フィルムとプライマー層と偏光子とが積層された偏光性積層フィルムを得た。
【０１３６】
上記で得られた偏光性積層フィルムを連続的に搬送しつつ、接着剤溶液を偏光子上に塗布し、接着層を形成した。貼合面にケン化処理が施されたトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（コニカミノルタオプト株式会社製「ＫＣ４ＵＹ」、厚み４０μｍ）を、接着層を介して偏光子に貼合した。
【０１３７】
接着剤溶液は、以下のように作製した。ポリビニルアルコール粉末（株式会社クラレ製「ＫＬ−３１８」、平均重合度１８００）を９５℃の熱水に溶解し、濃度３質量％のポリビニルアルコール水溶液とした。得られた水溶液に架橋剤（住友化学株式会社製「スミレーズレジン（登録商標）６５０」）を２質量部のポリビニルアルコールに対して１質量部の割合で混合し、接着剤溶液とした。
【０１３８】
ＴＡＣフィルム（保護フィルム）が貼合された偏光性積層フィルムから基材フィルムを剥離除去して、実施例１の偏光フィルムを得た。
【０１３９】
実施例２においては、プライマー層を介して基材フィルム上に塗布した樹脂層用塗工液を、第２乾燥装置を用いて、９０℃で１５０秒乾燥させることにより、プライマー層上に樹脂層を形成した。このとき、樹脂層用塗工液の乾燥速度は１．９質量％／秒であった。形成した樹脂層において、乾燥ムラ等は確認されず、不具合は認められなかった。偏光子の平均厚みは、４．０μｍであった。実施例２のそれ以外の点については、実施例１と同様とした。
【０１４０】
実施例３においては、プライマー層を介して基材フィルム上に塗布した樹脂層用塗工液を、第２乾燥装置を用いて、９０℃で１７０秒乾燥させることにより、プライマー層上に樹脂層を形成した。このとき、樹脂層用塗工液の乾燥速度は１．７質量％／秒であった。形成した樹脂層において、乾燥ムラ等は確認されず、不具合は認められなかった。偏光子の平均厚みは、４．５μｍであった。実施例３のそれ以外の点については、実施例１と同様とした。
【０１４１】
比較例においては、プライマー層を介して基材フィルム上に塗布した樹脂層用塗工液を、第２乾燥装置を用いて、９０℃で１８８秒乾燥させることにより、プライマー層上に樹脂層を形成した。このとき、樹脂層用塗工液の乾燥速度は１．５質量％／秒であった。形成した樹脂層において、乾燥ムラ等は確認されず、不具合は認められなかった。偏光子の平均厚みは、５．０μｍであった。比較例のそれ以外の点については、実施例１と同様とした。
【０１４２】
実施例１〜３の偏光フィルムおよび比較例の偏光フィルムのそれぞれを、長手方向（吸収軸方向）に１００ｍｍ切り出し、偏光板とした。各偏光板について、幅方向位置ごとに、偏光子の厚みおよび波長ごとの位相差を測定した。偏光子の厚みの測定は、偏光子における幅方向中央の約２００ｍｍ幅部分において、測定位置を幅方向（透過軸方向）に５ｍｍ間隔で変化させて測定した。測定位置は、測定器を自動ステージによって移動させることで変化させた。
【０１４３】
偏光子の厚み分布から、高速フーリエ変換を用いて厚み分布の周期強度を算出した。偏光子の波長ごとの位相差から、幅方向位置ごとにポリビニルアルコール系樹脂の位相差を算出した。ポリビニルアルコール系樹脂の位相差分布から、高速フーリエ変換を用いてポリビニルアルコール系樹脂の位相差分布の周期強度を算出した。また、各偏光板を１０５℃の環境下に３０分置いた後、バックライト上で他の偏光板とクロスニコルとして、偏光板のムラを目視により観察した。結果を表１、表２および図１１から図１４に示す。
【０１４４】
【表１】
2018041113.tif 000003
【０１４５】
【表２】
2018041113.tif 000004
【０１４６】
表１においては、実施例１〜３および比較例について、第２乾燥工程の長さ（秒）と、厚み分布の最大振幅（μｍ）と、厚み分布の周期強度の最大値と、を示している。表２においては、実施例１〜３および比較例について、第２乾燥工程の長さ（秒）と、位相差分布の最大振幅（ｎｍ）と、位相差分布の周期強度の最大値と、を示している。また、表１および表２においては、実施例１〜３および比較例について、ムラの外観評価を示している。ムラの外観評価において、「○」は、ムラがほとんど視認されなかったことを示しており、「×」は、強く、視認しやすいスジ状のムラが視認されたことを示している。
【０１４７】
図１１は、幅方向位置に対する偏光子の厚みを示すグラフである。図１１において、縦軸は、偏光子の厚み（μｍ）を示しており、横軸は、偏光子の幅方向位置（ｍｍ）を示している。
【０１４８】
図１２は、偏光子の厚み分布のムラ周期に対する、偏光子の厚み分布の周期強度を示すグラフである。縦軸は、偏光子の厚み分布の周期強度を示しており、横軸は、偏光子の厚み分布のムラ周期（ｍｍ）を示している。
【０１４９】
図１３は、幅方向位置に対する、偏光子におけるポリビニルアルコール系樹脂の位相差Ｒｐｖａを示すグラフである。図１３において、縦軸は、ポリビニルアルコール系樹脂の位相差Ｒｐｖａ（ｎｍ）を示しており、横軸は、偏光子の幅方向位置（ｍｍ）を示している。
【０１５０】
図１４は、偏光子の厚み分布のムラ周期に対する、偏光子におけるポリビニルアルコール系樹脂の位相差分布の周期強度を示すグラフである。縦軸は、ポリビニルアルコール系樹脂の位相差分布の周期強度を示しており、横軸は、偏光子の厚み分布のムラ周期（ｍｍ）を示している。
【０１５１】
図１１から図１４においては、それぞれ実施例１，２および比較例の結果について、まとめて示している。
【０１５２】
図１１から、比較例においては偏光子の厚みが幅方向位置によって比較的大きく変動しているのに対して、実施例１，２においては幅方向位置によらず偏光子の厚みが比較的均一であることが確認できた。これにより、比較例の厚み分布のムラに対して、実施例１，２の厚み分布のムラが小さいことが確認できた。また、表１から、比較例の厚み分布の最大振幅は、０．６７μｍであるのに対し、実施例１〜３の厚み分布の最大振幅は、０．４μｍ以下であることが確認できた。以上により、第２乾燥工程の長さを制御することで、偏光子の厚み分布のムラを小さくでき、偏光子の厚み分布の最大振幅を０．４μｍ以下にできることが確かめられた。
【０１５３】
また、実施例２における厚み分布の最大振幅が実施例３における厚み分布の最大振幅よりも小さく、かつ、実施例１における厚み分布の最大振幅が実施例２における厚み分布の最大振幅よりも小さいことから、第２乾燥工程の長さを小さくするほど、偏光子の厚み分布の最大振幅を小さくでき、偏光子の厚み分布のムラを小さくできることが確かめられた。
【０１５４】
図１２から、比較例では、ムラ周期が１２ｍｍ以上、１７ｍｍ以下程度の範囲で、厚み分布の周期強度が大きくなっているのに対して、実施例１，２では、ムラ周期によらず厚み分布の周期強度がほぼ同じであることが確かめられた。これは、比較例において、幅方向に沿って、１２ｍｍ以上、１７ｍｍ以下程度の周期で厚みが比較的大きく変動していることを示しており、偏光子の厚み分布のムラが大きいことを示している。一方、実施例１，２では、特定の周期で厚みが大きく変動することがなく、偏光子の厚み分布のムラが小さいことを示している。また、表１から、比較例の厚み分布の周期強度の最大値は、０．１５μｍであるのに対して、実施例１〜３の厚み分布の周期強度の最大値は、０．１３μｍ以下であることが確認できた。以上により、第２乾燥工程の長さを制御することで、偏光子の厚み分布のムラを小さくでき、偏光子の厚み分布の周期強度を０．１３μｍ以下にできることが確かめられた。
【０１５５】
また、実施例２における厚み分布の周期強度の最大値が実施例３における厚み分布の周期強度の最大値よりも小さく、かつ、実施例１における厚み分布の周期強度の最大値が実施例２における厚み分布の周期強度の最大値よりも小さいことから、第２乾燥工程の長さを小さくするほど、偏光子の厚み分布の周期強度を小さくでき、偏光子の厚み分布のムラを小さくできることが確かめられた。
【０１５６】
図１３から、比較例においては位相差Ｒｐｖａが幅方向位置によって比較的大きく変動しているのに対して、実施例１，２においては幅方向位置によらず位相差Ｒｐｖａが比較的均一であることが確認できた。これにより、比較例の位相差Ｒｐｖａのムラに対して、実施例１，２の位相差Ｒｐｖａのムラが小さいことが確認できた。位相差Ｒｐｖａのムラは、偏光子の厚み分布のムラに起因して生じるため、比較例の偏光子の厚み分布のムラに対して、実施例１，２の偏光子の厚み分布のムラが小さいことが確認できた。また、表２から、比較例の位相差分布の最大振幅は、１８ｎｍであるのに対し、実施例１〜３の位相差分布の最大振幅は、１０ｎｍ以下であることが確かめられた。以上により、第２乾燥工程の長さを制御することで、偏光子の厚み分布のムラを小さくでき、偏光子におけるポリビニルアルコール系樹脂の位相差分布の最大振幅を１０ｎｍ以下にできることが確かめられた。
【０１５７】
また、実施例２における位相差分布の最大振幅が実施例３における位相差分布の最大振幅よりも小さく、かつ、実施例１における位相差分布の最大振幅が実施例２における位相差分布の最大振幅よりも小さいことから、第２乾燥工程の長さを小さくするほど、偏光子の位相差分布の最大振幅を小さくでき、偏光子の厚み分布のムラを小さくできることが確かめられた。
【０１５８】
図１４から、比較例では、ムラ周期が１２ｍｍ以上、１７ｍｍ以下程度の範囲で、位相差分布の周期強度が大きくなっているのに対して、実施例１，２では、ムラ周期によらず位相差分布の周期強度がほぼ同じであることが確かめられた。これは、比較例においては、幅方向に沿って、１２ｍｍ以上、１７ｍｍ以下程度の周期で位相差Ｒｐｖａが比較的大きく変動していることを示しており、偏光子の厚み分布のムラが大きいことを示している。一方、実施例１，２では、特定の周期で位相差Ｒｐｖａが大きく変動することがなく、偏光子の厚み分布のムラが小さいことを示している。また、表２から、比較例の位相差分布の周期強度の最大値は、４．８ｎｍであるのに対し、実施例１〜３の位相差分布の周期強度の最大値は、２ｎｍ以下であることが確認できた。これより、第２乾燥工程の長さを制御することで、偏光子の厚み分布のムラを小さくでき、偏光子におけるポリビニルアルコール系樹脂の位相差分布の周期強度を２ｎｍ以下にできることが確かめられた。
【０１５９】
また、実施例２における位相差分布の周期強度の最大値が実施例３における位相差分布の周期強度の最大値よりも小さく、かつ、実施例１における位相差分布の周期強度の最大値が実施例２における位相差分布の周期強度の最大値よりも小さいことから、第２乾燥工程の長さを小さくするほど、偏光子の位相差分布の周期強度を小さくでき、偏光子の厚み分布のムラを小さくできることが確かめられた。
【０１６０】
表１および表２から、比較例では、強く、視認しやすいスジ状のムラが視認されたのに対して、実施例１〜３では、ムラがほとんど視認されなかったことが確かめられた。これにより、第２乾燥工程の長さを制御することで、偏光子の厚み分布のムラを小さくできることが確かめられた。
【０１６１】
以上の各結果より、実施例１〜３によれば、薄型で、かつ、厚み分布のムラが小さい偏光子が得られることが確かめられた。
【符号の説明】
【０１６２】
１…偏光フィルム、１０…偏光子、１１…保護フィルム、２０…基材フィルム（基材）、３１…プライマー層用塗工液、３２…プライマー層、３３…樹脂層用塗工液、３４…樹脂層、Ｓ１…プライマー層形成工程、Ｓ２…樹脂層形成工程、Ｓ３…延伸工程、Ｓ４…染色工程
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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