(57)【要約】【課題】高性能の露光装置を提供する。【解決手段】露光装置（１０）は、紫外域波長の光を発する光源（１２）と、板状に構成された複数の偏光ビームスプリッタ（１４）と、を備える。複数の偏光ビームスプリッタ（１４）のうち、第１の偏光ビームスプリッタ（１４Ａ）と第２の偏光ビームスプリッタ（１４Ｂ）とが山形に組まれて山形部（２０）を構成する。そして、光源（１２）の光軸（Ｌ）上に山形部（２０）の頂点（２０ａ）が位置している。【選択図】図１
2018025638.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外域波長の光を発する光源と、
板状に構成された複数の偏光ビームスプリッタと、
を備え、
前記複数の偏光ビームスプリッタのうち、第１の偏光ビームスプリッタと第２の偏光ビームスプリッタとが山形に組まれて山形部を構成し、
前記光源と対向する前記山形部の頂点が前記光源の光軸上にあって、前記第１の偏光ビームスプリッタと前記第２の偏光ビームスプリッタとが、前記光軸に対して対称に配置されることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
請求項１記載の露光装置において、
第１および第２の焦点を有するシリンドリカルミラーを更に備え、
前記第１の焦点に前記光源が位置し、
前記第２の焦点が前記山形部の内側であって前記光軸上にあることを特徴とする露光装置。
【請求項３】
請求項１または２記載の露光装置において、
第１および第２の板状の反射ミラーを更に備え、
前記第１の板状の反射ミラーと前記第２の板状の反射ミラーとが、前記光源側から末広がりに開口するように、前記山形部の外側で前記光軸に対して対称に配置されることを特徴とする露光装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記複数の偏光ビームスプリッタには、第３、第４、第５および第６の偏光ビームスプリッタが含まれ、
前記第３の偏光ビームスプリッタと前記第４の偏光ビームスプリッタとが山形に組まれ、前記山形部の一方側で連なる第１の連結山形部を構成し、
前記第５の偏光ビームスプリッタと前記第６の偏光ビームスプリッタとが山形に組まれ、前記山形部の他方側で連なる第２の連結山形部を構成し、
前記第１の連結山形部と前記第２の連結山形部とが、前記光軸に対して対称に配置されることを特徴とする露光装置。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置において、
第１および第２のλ／２位相差板を更に備え、
前記第１のλ／２位相差板が前記山形部の一方側で連なるように配置され、
前記第２のλ／２位相差板が前記山形部の他方側で連なるように配置され、
前記第１のλ／２位相差板と前記第２のλ／２位相差板とは、前記光軸に対して対称に配置されることを特徴とする露光装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記偏光ビームスプリッタは、紫外域の光を透過する基板と、前記基板に誘電体膜材が多層に形成された誘電体多層膜と、を備えることを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置に関し、特に、露光対象に対して偏光を用いた露光を行う露光装置に適用して有効な技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
特開２０１１−２０３６６９号公報（特許文献１）には、露光装置において、ワイヤグリッド偏光子を用いることが記載されている。特開２０１３−２２２１８８号公報（特許文献２）には、露光装置において、紫外域短波長光源から発する光のうちＰ波を透過し、Ｓ波を反射して分離するＰＳビームスプリッタ素子を用いることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−２０３６６９号公報
【特許文献２】特開２０１３−２２２１８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に記載のようなワイヤグリッド偏光子は、グリッド構造が微細加工により製造されるため、高価であり、外力からの損傷に弱く耐久性がない。また、ワイヤグリッド偏光子では、Ｐ波のみを透過させる一方、Ｓ波を反射させて光源側へ戻してしまう。このため、光源の光量に対して露光に用いられる光量の利用効率（露光効率となる）が全体の半分のＰ波分のみであり、高いとはいえない。例えば、ワイヤグリッド偏光子の光透過率を７０％とした場合、光源の光量を１００％とすると、その全体（Ｐ波およびＳ波）の半分（Ｐ波）が透過して露光として利用されるので、利用効率は３５％（１×０．５×０．７）となる。
【０００５】
この点、特許文献２に記載のようなＰＳビームスプリッタ素子は、基板に膜材を多層に蒸着して製造されるため、ワイヤグリッド偏光子よりも安価であり、光透過率も９０％以上を得ることもできる。このため、ＰＳビームスプリッタ素子では、Ｐ波分のみの利用効率であっても例えば４５％（１×０．５×０．９）となり、ワイヤグリッド偏光子よりも優れたものとなり得る。しかしながら、実際には、光源に対してＰＳビームスプリッタ素子の配置などの工夫が必要となる。
【０００６】
本発明の一目的は、高性能の露光装置を提供することにある。本発明の一目的および他の目的ならびに新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかにしていく。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。
【０００８】
本発明の一解決手段に係る露光装置は、紫外域波長の光を発する光源と、板状に構成された複数の偏光ビームスプリッタと、を備え、前記複数の偏光ビームスプリッタのうち、第１の偏光ビームスプリッタと第２の偏光ビームスプリッタとが山形に組まれて山形部を構成し、前記光源と対向する前記山形部の頂点が前記光源の光軸上にあって、前記第１の偏光ビームスプリッタと前記第２の偏光ビームスプリッタとが、前記光軸に対して対称に配置されることを特徴とする。
【０００９】
このように山形配置とすることで、第１および第２の偏光ビームスプリッタのそれぞれの表面に光源からの光を入射させることができ、光源の光量に対して露光に用いられる光量の利用効率を高めることができる。
【００１０】
ここで、第１および第２の焦点を有するシリンドリカルミラーを更に備え、前記第１の焦点に前記光源が位置し、前記第２の焦点が前記山形部の内側であって前記光軸上にあることがより好ましい。これによれば、集光させて山形部に効率良く入射させることができる。
【００１１】
また、第１および第２の板状の反射ミラーを更に備え、前記第１の板状の反射ミラーと前記第２の板状の反射ミラーとが、前記光源側から末広がりに開口するように、前記山形部の外側で前記光軸に対して対称に配置されることがより好ましい。これによれば、光源からの光が光源側へ戻ってしまうのを防止し、露光対象側へ光が向かうようにすることができる。
【００１２】
また、前記複数の偏光ビームスプリッタには、第３、第４、第５および第６の偏光ビームスプリッタが含まれ、前記第３の偏光ビームスプリッタと前記第４の偏光ビームスプリッタとが山形に組まれ、前記山形部の一方側で連なる第１の連結山形部を構成し、前記第５の偏光ビームスプリッタと前記第６の偏光ビームスプリッタとが山形に組まれ、前記山形部の他方側で連なる第２の連結山形部を構成し、前記第１の連結山形部と前記第２の連結山形部とが、前記光軸に対して対称に配置されることがより好ましい。これによれば、光源からの光が幅の広い平行光であっても、山形部の他に、第１および第２の連結山形部の表面にも入射されるので、光源の光量に対する利用効率を高めることができる。
【００１３】
また、第１および第２のλ／２位相差板を更に備え、前記第１のλ／２位相差板が前記山形部の一方側で連なるように配置され、前記第２のλ／２位相差板が前記山形部の他方側で連なるように配置され、前記第１のλ／２位相差板と前記第２のλ／２位相差板とは、前記光軸に対して対称に配置されることがより好ましい。これによれば、第１および第２の偏光ビームスプリッタから反射されたＳ波を第１および第２のλ／２位相差板で９０°捻ってＰ波変換して露光対象への露光に利用することができる。
【００１４】
また、前記偏光ビームスプリッタは、紫外域の光を透過する基板と、前記基板に誘電体膜材が多層に形成された誘電体多層膜と、を備えることがより好ましい。これによれば、高温下でも耐久性に優れ、紫外域波長に対応した偏光ビームスプリッタを用いることができる。
【発明の効果】
【００１５】
本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次のとおりである。本発明の一解決手段によれば、高性能の露光装置を提供するができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施形態１に係る露光装置の概略構成図である。
【図２】偏光ビームスプリッタの光学的特性図である。
【図３】偏光ビームスプリッタの概略説明図である。
【図４】偏光ビームスプリッタの概略構成図である。
【図５】本発明の実施形態２に係る露光装置の概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下の本発明における実施形態では、必要な場合に複数のセクションなどに分けて説明するが、原則、それらはお互いに無関係ではなく、一方は他方の一部または全部の変形例、詳細などの関係にある。このため、全図において、同一の機能を有する部材には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。また、構成要素の数（個数、数値、量、範囲などを含む）については、特に明示した場合や原理的に明らかに特定の数に限定される場合などを除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でも良い。また、構成要素などの形状に言及するときは、特に明示した場合および原理的に明らかにそうではないと考えられる場合などを除き、実質的にその形状などに近似または類似するものなどを含むものとする。
【００１８】
（実施形態１）
本発明の実施形態１に係る露光装置１０について図面を参照して説明する。図１は、本実施形態に係る露光装置１０の概略構成図である。露光装置１０は、光源１２と、複数の偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ：Polarizing Beam Splitter）１４と、を備える。図２は、波長Ｗ（ｎｍ）が横軸、透過率Ｔ（％）が縦軸とした、偏光ビームスプリッタ１４の光学的特性図である。図３は、偏光ビームスプリッタ１４の概略説明図である。図４は、偏光ビームスプリッタ１４の概略構成図である。
【００１９】
露光装置１０は、光源１２から発する光が偏光ビームスプリッタ１４によって偏光分光され、露光対象Ｗに対して露光するものである。露光対象Ｗは、露光装置１０が備える搬送部６（例えば、ベルトコンベア）の搬送面上にセットされ、搬送される。このような露光装置１０は、例えば、大型の液晶ディスプレイの製造工程において、露光対象Ｗとしての配向膜に対して光配向させる場合に用いられる。
【００２０】
光源１２は、紫外域の所定波長の光を発する、例えば長尺状の高圧水銀ランプ（ロングアーク型放電ランプ）である。図１では、長尺状であって光軸面（光軸Ｌ）を有する光源１２の長手方向に対して直交面視（断面視）した状態で露光装置１０を示している。高圧水銀ランプからは所定波長（２５４ｎｍ、３１３ｎｍ、３６５ｎｍなど）の多数の水銀スペクトルが放出される。このため、露光対象Ｗとしての配向膜には、所定波長に合わせて配向するものが用いられる。本実施形態では、波長２５４ｎｍの場合について説明する。
【００２１】
複数の偏光ビームスプリッタ１４は、板状に構成される。例えば、光源１２が長尺状の場合、その長手方向に延びる短冊のように板状の偏光ビームスプリッタ１４が配置される。板状形態は、プリズム状形態よりも耐熱性、軽量化などに優れたものとなる。これら複数の偏光ビームスプリッタ１４は、露光装置１０が備えるフレーム１８（図１中、点線で示す）に配置され、他の光学器材とともに維持される。なお、フレーム１８には、露光開口部が設けられており、ここから露光対象Ｗを露光することができる。
【００２２】
複数の偏光ビームスプリッタ１４は、所定波長（２５４ｎｍ）の光のＰ波を透過し、Ｓ波を反射する光学的特性（機能）を有している。具体的に図２を参照して説明する。図２では、入射角をそれぞれ５６°、６６°、７６°のパラメータとして入射させた場合の偏光ビームスプリッタ１４の光学的特性を示す。波長２５４ｎｍ（この前後の範囲）においては、Ｐ波（Ｐ５６°、Ｐ６６°、Ｐ７６°）が透過され、Ｓ波（Ｓ５６°、Ｓ６６°、Ｓ７６°）が透過されず（反射され）、Ｐ波とＳ波が分離される。すなわち、偏光ビームスプリッタ１４は、入射角が少なくとも５６°〜７６°の範囲でＰ波とＳ波とを分離することができる入射角度依存性を有している。なお、Ｐ波が透過され、Ｓ波が反射されるときの入射角をブリュスター角という。
【００２３】
露光装置１０では、図１に示すように、複数の偏光ビームスプリッタ１４のうち、第１の偏光ビームスプリッタ１４Ａと第２の偏光ビームスプリッタ１４Ｂとが山形（三角形状）に組まれて山形部２０（稜線を有する立体的な形状）を構成する。この山形部２０の底部は、露光対象Ｗに対して開口された領域となる。ここでは、光源１２と対向する山形部２０の頂点２０ａが光源１２の光軸Ｌ上にあって、偏光ビームスプリッタ１４Ａと偏光ビームスプリッタ１４Ｂとが、光軸Ｌに対して対称に配置される。すなわち、山形部２０の頂点２０ａが光源１２の光軸Ｌ上に位置している。なお、光軸Ｌは、図１に示すように、光源１２の中心（後述する焦点Ｆ１）と、山形部２０の頂点２０ａを通る（結ぶ）直線である。
【００２４】
これによれば、光源１２からの光が幅の広い平行光であっても、山形部２０の表面（外側面）、すなわち山形配置とされた偏光ビームスプリッタ１４Ａ、１４Ｂのそれぞれの表面に所定の角度で入射される。そして、Ｐ波が透過され、Ｓ波が反射される。露光対象Ｗに対しては、山形部２０の開口領域（底部）からＰ波が露光される。このため、光源１２の光量に対して露光に用いられる光量（積算光量）の利用効率を高めることができ、高性能の露光装置１０とすることができる。
【００２５】
ところで、山形部２０の内側をプリズムのように基材で満たした場合では、容積が大きくなり、高温下での膨張によって耐久性が得られなくなってしまう。この点、山形部２０を板状の偏光ビームスプリッタ１４Ａ、１４Ｂで構成することで、高温下であっても耐久性を得ることができる。また、山形部２０の重量の大型化を防止することができる。また、山形部２０を水没させて水冷とし、効率的に冷却することもできる。
【００２６】
本実施形態では、ブリュスター角θｂ＋山形部２０の頂角θｔの二等分＝直角の関係式（θｂ＋θｔ／２＝９０°）が成り立つように、偏光ビームスプリッタ１４Ａ、１４Ｂを傾斜させている（図３参照）。例えば、ブリュスター角θｂを６５°とした場合では、頂角θｔが５０°の角度となるように、山形部２０を構成する偏光ビームスプリッタ１４Ａ、１４Ｂが傾斜して配置される。
【００２７】
本実施形態では、偏光ビームスプリッタ１４が入射角度依存性を有し、Ｐ波とＳ波との分離可能範囲５６°〜７６°であるので、その中間の６５°をブリュスター角θｂとして用いている。山形部２０の頂角θｔは、偏光ビームスプリッタ１４Ａ、１４Ｂが持つ偏光分光に適した入射角度依存性に合わせて、関係式（θｂ＋θｔ／２＝９０°）に従って決定される。このため、図３に示したように、頂角θｔは、５０°に限らず、偏光ビームスプリッタ１４の入射角度依存性に準じて例えば４０°〜９０°の範囲とすることもできる。
【００２８】
また、図３では、偏光ビームスプリッタ１４Ａ、１４Ｂの仰角θｅが６５°となる。光軸Ｌと平行（山形部２０の底面に対して９０°）で照射された光は、入射角が６５°で偏光ビームスプリッタ１４Ａに入射する。また、山形部２０の底面に対して１００°（８０°）の角度で照射された光は、５５°で偏光ビームスプリッタ１４Ｂに入射する。前述したように、偏光ビームスプリッタ１４は、Ｐ波を透過し、Ｓ波を反射させる入射角度依存性を有している。このため、偏光ビームスプリッタ１４Ｂに対して入射角が５５°であっても、Ｐ波を透過し、Ｓ波を反射させることができる。したがって、光源１２の光量に対して露光に用いられる光量の利用効率を高めることができ、高性能の露光装置１０とすることができる。
【００２９】
このような偏光ビームスプリッタ１４は、紫外域の光を透過する基板２２と、基板２２に誘電体膜材が多層に形成された誘電体多層膜２４（ＰＢＳ膜ともいう）と、を備える（図４参照）。基板２２として石英を用いることで、耐熱性や、紫外域波長の光の透過性に優れた偏光ビームスプリッタ１４とすることができる。また、誘電体多層膜２４として屈折率の異なる２種類以上の誘電体膜材（例えば、酸化タンタル、酸化シリコンなど）を多層に形成することで、図２に示すような光学的特性を得ることができる。
【００３０】
ところで、波長によってブリュスター角は異なってくるが、石英の場合、波長２５４ｎｍでのブリュスター角は５６．３°近傍となる。このため、誘電体多層膜２４を形成せずに基板２２（石英）を用いた場合、入射角が５６．３°のときにＰ波の反射率は０となり、Ｓ波の一部とが分離される。本実施形態では、誘電体多層膜２４を形成することで、一定の入射角の範囲（例えば、図２では５６°〜７６°の範囲）でＰ波の透過率を維持したまま、Ｓ波の透過率を限りなく０に近づけることができる。これにより、偏光ビームスプリッタ１４が要求スペックを満たすこととなる。Ｓ波の透過率を阻止することで、光源１２の光量に対して露光に用いられる光量の利用効率を高めることができ、高性能の露光装置１０とすることができる。
【００３１】
また、偏光ビームスプリッタ１４が厚み均一な（平行な）板材であると、入射角と出射角が等しくなるため、任意のブリュスター角を構成することができる。この点、プリズムにおいて入射角をブリュスター角に設定した場合は、プリズム中を通過して出射する光が入射角以外の角度となるため、プリズムへのＰＢＳ膜の設計は困難となる。
【００３２】
図４に示すように、山形部２０の頂点２０ａ（頂部）では、偏光ビームスプリッタ１４Ａと偏光ビームスプリッタ１４Ｂとの間に遊びを持たせて、偏光ビームスプリッタ１４Ａの端面２２ａと偏光ビームスプリッタ１４Ｂの端面２２ａとが接している。偏光ビームスプリッタ１４（基板２２）の端面２２ａはシャープなエッジ（山形部２０の表面に対して鋭角）に面取りされている。これにより、偏光ビームスプリッタ１４Ａの端面２２ａと偏光ビームスプリッタ１４Ｂの端面２２ａとが接することで、山形部２０の頂点２０ａ（頂部）を構成することができる。なお、偏光ビームスプリッタ１４の他方の端面２２ｂが山形部２０の表面に対して鈍角に面取りされ、図４の側面視（断面視）では偏光ビームスプリッタ１４は平行四辺形に構成され、端面２２ａ、２２ｂが光軸Ｌと平行に配置される。
【００３３】
また、露光装置１０は、図１に示すように、第１の焦点Ｆ１および第２の焦点Ｆ２を有するシリンドリカルミラー２６を備える。シリンドリカルミラー２６の焦点Ｆ１に光源１２が位置し、焦点Ｆ２が山形部２０の内側であって光軸Ｌ上にある。これによれば、集光させて山形部２０に効率良く入射させることができる。なお、偏光ビームスプリッタ１４が入射角度依存性を有しているので、山形部２０の内側に焦点Ｆ２がない場合には、Ｓ波が漏れ出し（透過され）、Ｐ波とＳ波が分離できなくなるおそれがある。
【００３４】
ところで、本実施形態では、複数の偏光ビームスプリッタ１４には、第１の偏光ビームスプリッタ１４Ａ、第２の偏光ビームスプリッタ１４Ｂの他に、第３の偏光ビームスプリッタ１４Ｃ、第４の偏光ビームスプリッタ１４Ｄ、第５の偏光ビームスプリッタ１４Ｅ、第６の偏光ビームスプリッタ１４Ｆが含まれる。これら偏光ビームスプリッタ１４Ｃ、１４Ｄ、１４Ｅ、１４Ｆは、偏光ビームスプリッタ１４Ａ、１４Ｂとは光学的特性が同じであるが、大きさが異なる（図２、図４参照）。
【００３５】
露光装置１０では、偏光ビームスプリッタ１４Ｃと偏光ビームスプリッタ１４Ｄとが山形に組まれ、山形部２０の一方側で連なる連結山形部３０Ａ（立体的な形状）を構成している。山形部２０と同様に構成（図４参照）される連結山形部３０Ａの底部は、露光対象Ｗに対して開口された領域となる。また、偏光ビームスプリッタ１４Ｅと偏光ビームスプリッタ１４Ｆとが山形に組まれ、山形部２０の他方側で連なる連結山形部３０Ｂ（立体的な形状）を構成している。山形部２０と同様に構成（図４参照）される連結山形部３０Ｂの底部は、露光対象Ｗに対して開口された領域となる。
【００３６】
そして、連結山形部３０Ａと連結山形部３０Ｂとは、光軸Ｌに対して対称に配置される。本実施形態では、連結山形部３０Ａ、３０Ｂの高さ方向が山形部２０の高さ方向と平行となるようにしているが、利用効率を高めるなどを考慮すれば、この限りではない。また、山形部２０と連結山形部３０Ａとは谷部（裾部）において、偏光ビームスプリッタ１４Ａの端面２２ｂと偏光ビームスプリッタ１４Ｄの端面２２ｂとが接する。また、山形部２０と連結山形部３０Ｂとは谷部（裾部）において、偏光ビームスプリッタ１４Ｂの端面２２ｂと偏光ビームスプリッタ１４Ｅの端面２２ｂとが接する。なお、端面２２ｂどうしが接する際には、図４を参照して説明した端面２２ｂどうしの場合と同様に遊びを持たせている。
【００３７】
このように連結山形部３０Ａ、３０Ｂを設けることで、光源１２からの光が幅の広い平行光であっても、山形部２０の他に、連結山形部３０Ａ、３０Ｂの表面にも入射される。連結山形部３０Ａ、３０Ｂの底部も露光対象Ｗに対して開口された領域となるため、光源１２の光量に対する利用効率を高めることができる。なお、連結山形部３０Ａ、３０Ｂは、山形部２０と相似であってもよいし、そうでなくともよく、光量の利用効率が高められるような山形部２０をサポートできる形状であることが好ましい。
【００３８】
また、露光装置１０は、複数の板状の反射ミラー２８を備える。複数の反射ミラー２８のうち、第１の反射ミラー２８Ａと第２の反射ミラー２８Ｂとは、光源１２側から末広がりに開口する（光源１２より露光側が広く開口する）ように、山形部２０の外側で光軸Ｌに対して対称に配置される。これによれば、光源１２からの光が光源１２側へ戻ってしまうのを防止し、露光対象Ｗ側へ光が向かうようにすることができる。したがって、光源１２の光量に対して露光に用いられる光量の利用効率を高めることができ、高性能の露光装置１０とすることができる。
【００３９】
（実施形態２）
本発明の実施形態２に係る露光装置１０Ａ（１０）ついて図面を参照して説明する。図５は、本実施形態に係る露光装置１０Ａの概略構成図である。
【００４０】
図５に示すように、露光装置１０Ａは、複数のλ／２位相差板４０（例えば、水晶）を備える。複数のλ／２位相差板４０のうち、第１のλ／２位相差板４０Ａが山形部２０の一方側（偏光ビームスプリッタ１４Ａ側）で連なるように配置され、第２のλ／２位相差板４０Ｂが山形部２０の他方側（偏光ビームスプリッタ１４Ｂ側）で連なるように配置される。第１のλ／２位相差板４０Ａと第２のλ／２位相差板４０Ｂとは、光軸Ｌ（山形部２０の高さ方向）に対して対称に配置される。
【００４１】
これによれば、山形部２０を構成する偏光ビームスプリッタ１４Ａ、１４Ｂから反射されたＳ波をλ／２位相差板４０Ａ、４０Ｂで９０°捻ってＰ波変換して露光対象Ｗへの露光に利用することができる。なお、本実施形態では、λ／２位相差板４０Ａ、４０Ｂが光軸Ｌ（山形部２０の高さ方向）に対して直交となるようにしているが、利用効率を高めるなどを考慮すれば、この限りではない。
【００４２】
また、露光装置１０Ａでは、山形部２０およびλ／２位相差板４０Ａ、４０Ｂの外側に、光源１２側より露光側（露光対象Ｗ側）が広く開口するように、光軸Ｌに対して対称に反射ミラー２８Ａおよび反射ミラー２８Ｂが配置される。これにより、山形部２０から反射されたＳ波をλ／２位相差板４０Ａ、４０Ｂに向かわせることができる。
【００４３】
したがって、光源１２の光量に対して露光に用いられる光量の利用効率を高めることができ、高性能の露光装置１０Ａとすることができる。また、利用効率が高くなることで生じる余裕を利用することで、光源１２への印加電圧を下げて光源寿命を延ばしたり、高速露光により露光対象Ｗの熱膨張、劣化を防止することで歩留まりを向上させたりすることもできる。また、これらと同時に加工コストを削減することもできる。
【００４４】
以上、本発明を実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
【００４５】
前記実施形態では、露光対象として液晶ディスプレイ用の配向膜を適用する場合について説明した。これに限らず、例えば、視野角補償フィルムのような、ロールに巻かれた長尺帯状のものに適用することもできる。
【００４６】
前記実施形態では、偏光ビームスプリッタから構成される１つの山形部および２つの連結山形部を用いる場合について説明した。これに限らず、１つの山形部のみを用いる場合であってもよい。例えば、平行光で、かつその幅が狭い光源を用いるのであれば、１つの山形部のみであっても利用効率を高くすることができる。なお、２つの連結山形部の開口領域分については、山形部を相対的に大きくすることで確保することもできる。
【００４７】
前記実施形態では、基板の表面（山形部の外側面）に誘電体多層膜（ＰＢＳ膜）が形成された板状の偏光ビームスプリッタについて説明した。これに限らず、多層膜をガラス板の表面のみならず、裏面（山形部の内側面）に形成してもよい。これによれば、偏光ビームスプリッタの光学的特性を得るために、表面、裏面に分けて膜材の層数を減らすことで、多層膜自身の応力によるクラックを防止したり、シワを防止したりすることができる。また、基板の表面に誘電体多層膜、裏面に反射防止膜を形成してもよい。
【符号の説明】
【００４８】
１０、１０Ａ  露光装置
１２  光源
１４、１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃ、１４Ｄ、１４Ｅ、１４Ｆ  偏光ビームスプリッタ
１６  搬送部
１８  フレーム
２０  山形部
２０ａ  頂点
２２  基板
２２ａ、２２ｂ  端面
２４  誘電体多層膜
２６  シリンドリカルミラー
２８、２８Ａ、２８Ｂ  反射ミラー
３０Ａ、３０Ｂ  連結山形部
４０、４０Ａ、４０Ｂ  λ／２位相差板
Ｗ  露光対象
【図１】
2018025638.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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