(57)【要約】【課題】固体撮像装置の特性を向上するのに有利な技術を提供する。【解決手段】基板に形成された光電変換部を含む画素領域を備える固体撮像装置であって、光電変換部の少なくとも一部を覆うように第１の窒化シリコン層が配され、第１の窒化シリコン層に含まれる塩素の濃度が、１ａｔｏｍｉｃ％以上かつ３ａｔｏｍｉｃ％以下である。【選択図】図２
2018041836.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に形成された光電変換部を含む画素領域を備える固体撮像装置であって、
前記光電変換部の少なくとも一部を覆うように第１の窒化シリコン層が配され、
前記第１の窒化シリコン層に含まれる塩素の濃度が、１ａｔｏｍｉｃ％以上かつ３ａｔｏｍｉｃ％以下であることを特徴とする固体撮像装置。
【請求項２】
前記画素領域は、第１のトランジスタを更に含み、
前記第１の窒化シリコン層のうち前記光電変換部を覆う部分の下面と前記基板の表面との距離が、前記第１のトランジスタのゲート電極の上面と前記基板の表面との距離よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の固体撮像装置。
【請求項３】
前記第１の窒化シリコン層の塩素の濃度が、２ａｔｏｍｉｃ％以上かつ２．５ａｔｏｍｉｃ％以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の固体撮像装置。
【請求項４】
前記固体撮像装置は、前記基板に形成された第２のトランジスタを含む周辺回路領域を更に含み、
前記第２のトランジスタの少なくとも一部を覆い、導電部材が配されるコンタクトホールを備える第２の窒化シリコン層が配され、
前記第２の窒化シリコン層が塩素を含むことを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項５】
前記第２の窒化シリコン層に含まれる塩素の濃度が、前記第１の窒化シリコン層の塩素の濃度以上であることを特徴とする請求項４に記載の固体撮像装置。
【請求項６】
前記第２のトランジスタは、ソース・ドレイン領域およびゲート電極の少なくとも一方にシリサイド層を含み、
前記第２の窒化シリコン層が、前記シリサイド層の少なくとも一部を覆うことを特徴とする請求項４または５に記載の固体撮像装置。
【請求項７】
前記第２の窒化シリコン層が、前記画素領域のうち少なくとも前記光電変換部を覆わないことを特徴とする請求項４乃至６の何れか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項８】
前記第２のトランジスタは、ゲート電極の側面に第３の窒化シリコン層を含むサイドウォールを備え、
前記第３の窒化シリコン層に含まれる塩素の濃度が、１ａｔｏｍｉｃ％以上かつ３ａｔｏｍｉｃ％以下であることを特徴とする請求項４乃至７の何れか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項９】
前記第１の窒化シリコン層に含まれる塩素の濃度と、前記第３の窒化シリコン層に含まれる塩素の濃度と、が互いに同じことを特徴とする請求項８に記載の固体撮像装置。
【請求項１０】
前記第１の窒化シリコン層は、シリコン、窒素、水素および塩素を含み、
前記第１の窒化シリコン層の塩素の組成比が、シリコン、窒素および水素のそれぞれの組成比よりも低いことを特徴とする請求項１乃至９の何れか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１１】
前記画素領域に、前記第１の窒化シリコン層と接し、前記基板と前記第１の窒化シリコン層との間に配された第１の酸化シリコン層が更に配され、
前記第１の窒化シリコン層の厚みが、前記第１の酸化シリコン層の厚み以上であることを特徴とする請求項１乃至１０の何れか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１２】
前記第１の窒化シリコン層が、反射防止膜として機能することを特徴とする請求項１乃至１１の何れか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１３】
請求項１乃至１２の何れか１項に記載の固体撮像装置と、
前記固体撮像装置から出力される信号を処理する処理部と、
を備えることを特徴とするカメラ。
【請求項１４】
光電変換部および第１のトランジスタを含む画素領域と、第２のトランジスタを含む周辺回路領域と、を備える固体撮像装置の製造方法であって、
基板に前記画素領域および前記周辺回路領域を形成する工程と、
前記光電変換部の少なくとも一部を覆う第１の窒化シリコン層を形成する第１の工程と、
を含み、
前記第１の窒化シリコン層の塩素の濃度が、１ａｔｏｍｉｃ％以上かつ３ａｔｏｍｉｃ％以下であることを特徴とする固体撮像装置の製造方法。
【請求項１５】
前記第１の工程において、前記第１の窒化シリコン層が、ヘキサクロロジシランを含む第１のプロセスガスを用いて形成されることを特徴とする請求項１４に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項１６】
前記第１の工程において、前記第２のトランジスタが前記第１の窒化シリコン層によって覆われ、
前記第２のトランジスタのゲート電極およびソース・ドレイン領域のうち少なくとも一部が露出するように前記第１の窒化シリコン層をエッチングする工程と、
前記エッチングする工程の後、前記第２のトランジスタの少なくとも一部を覆う第２の窒化シリコン層を形成する第２の工程と、を更に含むことを特徴とする請求項１５に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項１７】
前記第１のプロセスガスが、アンモニアを更に含み、
前記第２の工程において、前記第２の窒化シリコン層が、ヘキサクロロジシランおよびアンモニアを含む第２のプロセスガスを用いて形成され、
前記第１のプロセスガスのヘキサクロロジシラン／アンモニア比が、前記第２のプロセスガスのヘキサクロロジシラン／アンモニア比以下であることを特徴とする請求項１６に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項１８】
前記第２の窒化シリコン層に含まれる塩素の濃度が、前記第１の窒化シリコン層の塩素の濃度以上であることを特徴とする請求項１７に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項１９】
前記第１のプロセスガスのヘキサクロロジシラン／アンモニア比が１／１６０以上かつ１／２０以下であり、前記第２のプロセスガスのヘキサクロロジシラン／アンモニア比が１／２０以上かつ１５／８０以下であることを特徴とする請求項１７に記載の固体撮像装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、固体撮像装置およびその製造方法ならびにカメラに関する。
【背景技術】
【０００２】
光電変換部に入射した光を効率的に利用するために、光電変換部の上に反射防止膜として機能する窒化シリコンを形成することが知られている。特許文献１には、原料ガスとしてヘキサクロロジシラン（ＨＣＤ）を用いて、減圧ＣＶＤ（ＬＰ−ＣＶＤ）法によって、光電変換部の上に窒化シリコンを形成することが記載されている。また、特許文献２には、半導体装置の製造において、配線溝を埋め込むための窒化シリコンの成膜に、ＨＣＤを用いることが示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１３−８４６９３号公報
【特許文献２】特開２００１−１６８０９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明者は、成膜の際に窒化シリコンに取り込まれる塩素の濃度によって、発生する暗電流や感度など固体撮像装置の特性が変化することを見出した。
【０００５】
本発明は、固体撮像装置の特性を向上するのに有利な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題に鑑みて、本発明の実施形態に係る撮像装置は、基板に形成された光電変換部を含む画素領域を備える固体撮像装置であって、光電変換部の少なくとも一部を覆うように第１の窒化シリコン層が配され、第１の窒化シリコン層に含まれる塩素の濃度が、１ａｔｏｍｉｃ％以上かつ３ａｔｏｍｉｃ％以下であることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
上記手段によって、固体撮像装置の特性を向上するのに有利な技術を提供する。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の実施形態に係る固体撮像装置の構成例および固体撮像装置に配される画素の回路構成例を説明する図。
【図２】図１の固体撮像装置の構成例を示す平面図および断面図。
【図３】窒化シリコン層の塩素濃度と暗電流および光吸収係数との関係を説明する図。
【図４】図１の固体撮像装置の製造方法の例を示す断面図。
【図５】図１の固体撮像装置の製造方法の例を示す断面図。
【図６】図１の固体撮像装置の製造方法の例を示す断面図。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明に係る撮像装置の具体的な実施形態及び実施例を、添付図面を参照して説明する。なお、以下の説明及び図面において、複数の図面に渡って共通の構成については共通の符号を付している。そのため、複数の図面を相互に参照して共通する構成を説明し、共通の符号を付した構成については適宜説明を省略する。
【００１０】
図１〜６を参照して、本発明の実施形態による撮像装置の構成、および、その製造方法について説明する。図１（ａ）は、本発明の実施形態における固体撮像装置１０００の構成例を示す図である。固体撮像装置１０００には、複数の画素１０が配された画素領域１と、画素１０から出力された信号の処理などを行う周辺回路が配された周辺回路領域２と、を備える。画素領域１と周辺回路領域２とは、同じ基板１００に形成される。基板１００は、例えばシリコンなどの半導体基板でありうる。図１（ａ）において、一点鎖線で囲まれた領域が画素領域１であり、一点鎖線と二点鎖線との間の領域が周辺回路領域２である。周辺回路領域２は、画素領域１の周囲、画素領域１と基板１００の縁との間に位置するとも言える。図１（ａ）に示す画素領域１は、複数の画素１０が２次元アレイ状に配されたエリアセンサの例を示すが、画素領域１は、複数の画素１０が１次元方向に配されたリニアセンサであってもよい。
【００１１】
図１（ｂ）は、画素領域１に配される個々の画素１０の回路構成例を示す図である。画素１０は、光電変換部１１、転送素子１２、容量素子１３、増幅素子１５、リセット素子１６、および、選択素子１７を含む。光電変換部１１は、入射した光を電気信号に変換し、本実施形態において、基板１００に形成されたフォトダイオードが用いられる。
【００１２】
増幅素子１５、リセット素子１６、および、選択素子１７には、それぞれ基板１００に形成されたトランジスタが用いられる。本明細書において、画素１０に配される各トランジスタを画素トランジスタと呼ぶ。
【００１３】
画素トランジスタには、絶縁ゲート型電界効果トランジスタ（Ｍｅｔａｌ−Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ−Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  Ｆｉｅｌｄ−Ｅｆｆｅｃｔ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ：ＭＩＳＦＥＴ）が、用いられうる。例えば、ＭＩＳＦＥＴのうちゲート絶縁膜に酸化シリコンを用いたＭＯＳＦＥＴ（Ｍｅｔａｌ−Ｏｘｉｄｅ−Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  Ｆｉｅｌｄ−Ｅｆｆｅｃｔ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）を用いてもよい。しかしながら、ゲート絶縁膜はこれに限られることはなく、例えば、窒化シリコンであってもよい。また例えば、ゲート絶縁膜は、酸化ハフニウムなどのいわゆる高誘電率ゲート絶縁膜であってもよい。また、ゲート絶縁膜は、これらを積層してもよいし、例えば酸窒化シリコンのように化合物であってもよい。
【００１４】
転送素子１２はＭＯＳ型ゲート構造を有する。このため、転送素子１２をゲート、光電変換部１１をソース、容量素子１３をドレインとした場合、トランジスタとみなすことができる。このため、光電変換部１１、転送素子１２、および、容量素子１３は、画素トランジスタと呼ばれうる。
【００１５】
転送素子１２は、光電変換部１１で生じた信号電荷を容量素子１３に転送する。容量素子１３は、その容量と信号電荷の量に応じた電圧をノード１４に生じさせる電荷電圧変換素子として機能する。増幅素子１５のゲートは、ノード１４を介して容量素子１３に接続される。また、増幅素子１５のドレインは電源線２１に接続され、増幅素子１５のソースは、選択素子１７を介して出力線２２に接続される。容量素子１３および増幅素子１５のゲートは、リセット素子１６を介して電源線２１に接続される、リセット素子１６をオン動作させることによって、ノード１４の電位が、電源線２１の電位に応じた電位にリセットされる。また、選択素子１７をオン動作させることによって、ノード１４の電位に応じた信号が、増幅素子１５から出力線２２に出力される。画素１０の構成は、図１（ｂ）に示される構成に限られることはなく、入射した光に応じて光電変換部１１で生成される電気信号を周辺回路領域２に出力できればよい。
【００１６】
本実施形態において、画素トランジスタに、チャネル（反転層）がｎ型のＭＯＳＦＥＴ（ｎＭＯＳＦＥＴ）をそれぞれ用いるが、チャネルがｐ型のｐＭＯＳＦＥＴが含まれてもよい。また、画素トランジスタにＭＩＳＦＥＴ以外のトランジスタが含まれていてもよい。例えば、増幅素子１５が、接合型電界効果トランジスタ（Ｊａｎｃｔｉｏｎ  ＦＥＴ：ＪＦＥＴ）であってもよいし、バイポーラトランジスタであってもよい。
【００１７】
本明細書の以下の説明において、画素領域１において信号電荷として取り扱う電荷を多数キャリアとする導電型と一致する導電型を第１の導電型、また、信号電荷として取り扱う電荷を少数キャリアとする導電型に一致する導電型を第２の導電型と呼ぶ。例えば、信号電荷として電子を用いる場合、ｎ型が第１の導電型、ｐ型が第２の導電型となる。
【００１８】
再び図１（ａ）に戻り、周辺回路領域２について説明する。周辺回路領域２には、画素１０で生成された電気信号を処理するための信号処理ユニット４０が配される。また、周辺回路領域２には、信号処理ユニット４０で処理された信号を固体撮像装置１０００の外部に出力するための出力ユニット５０や、複数の画素１０が配された画素領域１や信号処理ユニット４０を制御するための制御ユニット６０を含む。信号処理ユニット４０、出力ユニット５０、および、制御ユニット６０は、周辺回路と呼ばれうる。
【００１９】
本実施形態において、信号処理ユニット４０は、複数の列アンプを有する増幅回路４１、複数のＡＤコンバータを有する変換回路４２、および、変換回路４２からの出力を選択して出力ユニット５０に出力するための水平走査回路４３を含む。信号処理ユニット４０は、相関二重サンプリング（ＣＤＳ）処理や、パラレル−シリアル変換処理、アナログ−デジタル変換処理などを行いうる。出力ユニット５０は、電極パッドや保護回路を含む。制御ユニット６０は、垂直走査回路６１やタイミング生成回路６２を含む。周辺回路領域２の構成は、これに限られることはなく、画素領域１のそれぞれの画素１０で生成された電気信号を適宜処理し、固体撮像装置１０００の外部に出力できればよい。
【００２０】
周辺回路は、複数のトランジスタ、例えば画素トランジスタと同様にＭＩＳＦＥＴなどを用いて構成することができ、ｎＭＯＳＦＥＴとｐＭＯＳＦＥＴとを含む相補型ＭＯＳ（Ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ  ＭＯＳ：ＣＭＯＳ）回路で構成されうる。本明細書において、周辺回路を構成するトランジスタを周辺トランジスタと呼び、導電型を特定する場合は周辺ｎＭＯＳＦＥＴ、周辺ｐＭＯＳＦＥＴと呼ぶ。また、周辺回路には、トランジスタやダイオードのような能動素子だけでなく、抵抗素子や容量素子などの受動素子が含まれうる。
【００２１】
次に、図２を用いて本実施形態の固体撮像装置１０００について、より詳細に説明する。図２（ａ）、（ｂ）は、それぞれ、画素領域１および周辺回路領域２の一部を示す平面図および断面図である。
【００２２】
図２（ａ）において、領域１０１は光電変換部１１、領域１０３は容量素子１３および電荷を検出するためのノード１４、領域１０６はリセット素子１６のドレイン領域にそれぞれ相当する。領域１０４は増幅素子１５のソース領域、領域１０５は増幅素子１５のドレイン領域、領域１０７は選択素子１７のソースにそれぞれ相当する。また、領域１０３はリセット素子１６のソースを兼ね、領域１０４は選択素子１７のドレイン領域を兼ねる。ゲート電極１１１は転送素子１２のゲート、ゲート電極１２０はリセット素子１６のゲート、ゲート電極１１２は増幅素子１５のゲート、ゲート電極１３１は選択素子１７のゲートにそれぞれ相当する。領域１０８、１０９は、それぞれ、周辺ｎＭＯＳＦＥＴ、周辺ｐＭＯＳＦＥＴのソース・ドレイン領域に相当する。また、ゲート電極１２１、１２２は、周辺ｎＭＯＳＦＥＴ、周辺ｐＭＯＳＦＥＴのゲートに相当する。本実施形態において、それぞれのゲート電極は、ポリシリコン（多結晶シリコン）によって構成される。また、本実施形態において、ゲート電極１２１およびゲート電極１２２は、一体で形成されるが、それぞれ独立して形成されてもよい。それぞれのゲート電極、ソース・ドレイン領域に相当する領域１０３〜１０９は、コンタクトホール３０１、３０２、３０３、３０４に埋め込まれた導電部材３１１、３１２、３１３、３１４を介して配線（不図示）に接続される。
【００２３】
図２（ａ）において、画素領域１には、画素１０の基準コンタクト領域１０２が配されうる。基準コンタクト領域１０２は、配線（不図示）を介して画素１０に、例えば接地電位などの基準電位を供給する。画素領域１に、複数の基準コンタクト領域１０２を配することによって、画素領域１において、基準電位がばらつくことを抑制し、撮像された画像にシェーディングが発生することを抑制することができる。
【００２４】
また、図２（ａ）において、周辺回路領域２には、抵抗素子１１０が配されうる。抵抗素子１１０は、基板１００に形成された不純物領域であり、不純物領域の両端にコンタクトを設けることによって、不純物濃度、コンタクト間の距離および不純物領域の幅に応じた抵抗を得ることができる。本実施形態において、抵抗素子１１０の不純物領域は、第２の導電型であるｐ型のウェルに形成された第１の導電型であるｎ型の不純物領域であるが、ｎ型のウェルに形成されたｐ型の不純物領域であってもよい。また、ｎ型の不純物領域によって構成される抵抗素子とｐ型の不純物領域によって構成される抵抗素子とが混在していてもよい。周辺回路領域２には、例えば、ポリシリコンによって構成されたＭＯＳ構造を有する容量素子や抵抗素子など、抵抗素子１１０以外の受動素子が配されてもよい。
【００２５】
本実施形態において、領域１０１、１０３や画素トランジスタのソース・ドレイン領域に相当する領域１０４、１０５、１０６、１０７、基準コンタクト領域１０２、周辺ｎＭＯＳＦＥＴのソース・ドレイン領域に相当する領域１０８は、ｎ型の不純物領域である。また、周辺ｐＭＯＳＦＥＴのソース・ドレイン領域に相当する領域１０９は、ｐ型の不純物領域である。
【００２６】
図２（ｂ）は、図２（ａ）に示すＡ−Ｂ線における断面図を示す。基板１００は、上述のようにシリコンなどの半導体基板である。基板１００は、素子分離領域９９によって複数の活性領域に区分される。素子分離領域９９は、シャロートレンチアイソレーション（ＳＴＩ）法や選択酸化（ＬＯＣＯＳ）法などによって形成された素子分離用の絶縁物によって構成されうる。それぞれの活性領域は、不純物領域が形成され、それぞれの不純物領域が半導体素子を構成する。このため、素子分離領域として、ｐｎ接合分離をするための不純物領域（例えばｐ型の不純物領域）を設けてもよい。
【００２７】
基板１００の活性領域には、それぞれの素子の導電型に応じた導電型を有するウェルが配される。画素領域１にはｐ型のウェル１１８が、周辺回路領域２にはｐ型のウェル１２９およびｎ型のウェル１３０が、それぞれ配される。また、図２（ａ）に示す基準コンタクト領域１０２には、ｐ型のウェル１１８よりも不純物濃度が高いｐ型の不純物領域が配される。基準コンタクト領域１０２に接続された配線から、基準コンタクト領域１０２を介してウェル１１８に基準電位が供給される。
【００２８】
次いで、図２（ｂ）を用いて、画素領域１および周辺回路領域２の断面構造について説明する。図２（ｂ）および後述する図４〜６において、説明のため、画素領域１と周辺回路領域２とを隣接させて示す。まず、画素領域１の断面構造について説明する。領域１０１には、光電変換部１１を構成するｎ型の蓄積領域１１５が配される。蓄積領域１１５は、ｐ型のウェル１１８とともにｐｎ接合を構成し、光電変換部１１のフォトダイオードとして機能する。蓄積領域１１５と基板１００の表面との間には、光電変換部１１を埋め込み型のフォトダイオードとするためのｐ型の表面領域１１９が配される。領域１０３には、容量素子１３を構成する不純物領域１１６が配される。不純物領域１１６は、浮遊拡散領域となっている。増幅素子１５、リセット素子１６、および、選択素子１７のソース・ドレイン領域は、それぞれｎ型の不純物領域１１７が配される。図２（ｂ）には、増幅素子１５の断面が示されているが、リセット素子１６および選択素子１７も、同様の構成を有しうる。
【００２９】
ゲート絶縁膜１１３、１１４および画素１０の他の画素トランジスタなどの素子のゲート絶縁膜は、酸化シリコンを主たる材料とするが、プラズマ窒化法や熱酸窒化法によって微量（例えば、１０％未満）の窒素を含む酸化シリコンでありうる。窒素を含有する酸化シリコンは、誘電率が純粋な酸化シリコンと比較して高いため、トランジスタの駆動能力が向上しうる。しかしながら、ゲート絶縁膜の構成はこれに限られることはなく、ゲート絶縁膜は、純粋な酸化シリコンであってもよいし、窒化シリコンであってもよい。また、上述のように酸化ハフニウムなどの高誘電率材料を用いてもよいし、これらの材料の化合物や積層膜であってもよい。ゲート絶縁膜１１３、１１４を介して基板１００の上に配されたゲート電極１１１、１１２の上面は、酸化シリコンや窒化シリコンを含む絶縁層２０１、２０２によって覆われる。
【００３０】
画素領域１の上には、酸化シリコン層２１１および窒化シリコン層２１２（第１の窒化シリコン層）を含む絶縁膜２１０が配される。絶縁膜２１０は、絶縁層２０１、２０２を介してゲート電極１１１、１１２の上面および側面を覆う。また、絶縁膜２１０は、図２（ｂ）には示されないが、同様に絶縁層を介してゲート電極１２０、１３１の上面および側面を覆う。また、絶縁膜２１０は、光電変換部１１を構成する領域１０１、それぞれの画素トランジスタのソース・ドレイン領域に相当する領域１０３〜１０７を覆う。このとき、窒化シリコン層２１２のうち光電変換部１１を構成する領域１０１を覆う部分の下面と基板１００の表面との距離は、画素トランジスタのゲート電極の上面と基板１００の表面との距離よりも小さくなりうる。
【００３１】
絶縁膜２１０は、酸化シリコン層２１１と窒化シリコン層２１２との積層膜であり、酸化シリコン層２１１と窒化シリコン層２１２とは互いに接する界面を有する。本実施形態において、酸化シリコン層２１１は、ゲート電極１１１、１１２、１２０、１３１の側面と接しているが、酸化シリコン層２１１とゲート電極１１１、１１２、１２０、１３１の側面との間に別の層が挟まっていてもよい。また、酸化シリコン層２１１は、光電変換部１１を構成する領域１０１、および、それぞれの画素トランジスタのソース・ドレイン領域に相当する領域１０３〜１０７に接し、基板１００との界面を構成しているが、間に別の層が介在していてもよい。
【００３２】
屈折率が約１．６の酸化シリコン層２１１と屈折率が約２．０の窒化シリコン層２１２との積層膜である絶縁膜２１０が、光電変換部１１を構成する領域１０１を覆う。これによって、絶縁膜２１０は、光電変換部１１に入射する光の反射防止膜として用いることができる。良好な反射防止特性を得るために、窒化シリコン層２１２の厚みは、酸化シリコン層２１１の厚み以上であってもよい。
【００３３】
絶縁膜２１０の上には、絶縁膜２１０を覆うように保護膜２４０が配される。保護膜２４０は、酸化シリコンや窒化シリコンなどの絶縁体の単層膜や積層膜でありうる。保護膜２４０の上には、保護膜２４０を覆うように酸化シリコン層２２１が配される。酸化シリコン層２２１の上には、酸化シリコン層２２１を覆うように絶縁膜２３０が配される。絶縁膜２３０は、例えばＢＰＳＧ、ＢＳＧ、ＰＳＧなどのケイ酸塩ガラスや酸化シリコンでありうる。絶縁膜２３０の上面は、下地の表面の凸凹を実質的に反映しない平坦面となりうる。
【００３４】
絶縁膜２３０、酸化シリコン層２２１、保護膜２４０および絶縁膜２１０には、それぞれを貫通するコンタクトホール３０１、３０３が形成される。コンタクトホール３０１、３０３には、配線（不図示）と画素トランジスタとの間を電気的に接続するための導電部材３１１、３１３が配される。図２（ａ）に示す構成では、導電部材３１１は、それぞれ画素トランジスタのソース・ドレイン領域に相当する領域１０３〜１０７および基準コンタクト領域１０２に接続され、導電部材３１３は、ゲート電極１１１、１１２、１２０、１３１にそれぞれ接続される。導電部材３１１、３１３は、例えばタングステンなどの金属を主として構成されるコンタクトプラグである。
【００３５】
ここで、絶縁膜２１０の窒化シリコン層２１２に含まれる塩素の濃度について説明する。本発明者らは、窒化シリコン層２１２に含まれる塩素の濃度によって、固体撮像装置の特性が変化することを実験によって見出した。具体的には、塩素を含む窒化シリコン層２１２が、領域１０１を覆うことによって、光電変換部１１のダングリングボンドが窒化シリコン層２１２に含まれる水素または塩素で終端され、固体撮像装置１０００の暗電流を低下させることができる。一方、窒化シリコン層２１２が多量の塩素を含む場合、光の短波長側の光吸収係数（ｋ値）が増大する。このため、多量の塩素を含む窒化シリコン層２１２が、領域１０１を覆った場合、窒化シリコン層２１２によって入射光が吸収され、光電変換部１１へ入射する光の光量が低下し、感度が著しく低下する。このため、窒化シリコン層２１２は、少なくとも塩素を含み、かつ、塩素の濃度に上限値を設定する必要がある。
【００３６】
図３は、窒化シリコン層２１２中の塩素濃度と、暗電流およびｋ値の関係を説明する図である。丸のプロットが暗電流、三角のプロットがｋ値をそれぞれ示す。図３から、窒化シリコン層２１２中の塩素濃度が増加するにしたがって、光電変換部１１の暗電流が低下することがわかる。暗電流のレベルを塩素が含まれない窒化シリコン層を用いた場合と比較して２割以上低減するために、窒化シリコン層２１２に含まれる塩素濃度を１ａｔｏｍｉｃ％以上にするとよい。また、塩素濃度を２ａｔｏｍｉｃ％にすることによって、暗電流のレベルを塩素が含まれない窒化シリコン層を用いた場合と比較して、４〜５割程度低減することが可能となる。窒化シリコン層２１２の塩素濃度を２ａｔｏｍｉｃ％にした場合、窒化シリコン層２１２に含まれる塩素の濃度のばらつきは、±０．３ａｔｏｍｉｃ％であった。更に、塩素濃度を３ａｔｏｍｉｃ％にすることによって、暗電流のレベルを塩素が含まれない窒化シリコン層を用いた場合と比較して、６〜７割程度低減することが可能となり、この場合の塩素の濃度のばらつきは、±０．３ａｔｏｍｉｃ％であった。一方、図３から、塩素濃度を３ａｔｏｍｉｃ％よりも高くすると、波長４５０ｎｍにおける入射光のｋ値が増大することがわかる。したがって、暗電流の低減および感度の向上を実現するために、窒化シリコン層２１２に含まれる塩素の濃度は、１ａｔｏｍｉｃ％以上かつ３ａｔｏｍｉｃ％以下の範囲にするとよい。上述のように暗電流の低減の効果をより得るために窒化シリコン層２１２の塩素の濃度を、例えば２ａｔｏｍｉｃ％以上としてもよい。また、感度の低下を抑制するマージンを考慮して、窒化シリコン層２１２の塩素の濃度を、例えば２．５ａｔｏｍｉｃ％以下としてもよい。
【００３７】
次に、周辺回路領域２の断面構造について説明する。周辺ｎＭＯＳＦＥＴのソース・ドレイン領域に相当する領域１０８には、ｎ型の不純物領域１２５、ｎ型の不純物領域１２６、シリサイド層１３４が配される。不純物領域１２５は、不純物領域１２６よりも不純物濃度が高い。シリサイド層１３４は、不純物領域１２５を覆う。周辺ｐＭＯＳＦＥＴのソース・ドレイン領域に相当する領域１０９には、ｐ型の不純物領域１２７、ｐ型の不純物領域１２８、シリサイド層１３５が配される。不純物領域１２７は、不純物領域１２８よりも不純物濃度が高い。シリサイド層１３５は、不純物領域１２７を覆う。このように、周辺トランジスタは、高濃度の不純物領域１２５、１２７と、低濃度の不純物領域１２６、１２８によって低濃度不純物ドレイン（Ｌｉｇｈｔｌｙ  Ｄｏｐｅｄ  Ｄｒａｉｎ：ＬＤＤ）構造を有することができる。
【００３８】
ゲート電極１２１、１２２は、ゲート絶縁膜１２３、１２４を介して基板１００の上に配される。本実施形態において、ゲート絶縁膜は画素１０の画素トランジスタと同様に、酸化シリコンを主たる材料とし、プラズマ窒化法や熱酸窒化法によって微量（例えば、１０％未満）の窒素を含む酸化シリコンである。周辺トランジスタのゲート絶縁膜１２３、１２４の厚みは、画素トランジスタのゲート絶縁膜１１３、１１４の厚み以下であってもよい。例えば、ゲート絶縁膜１１３、１１４の厚みが５．０ｎｍ以上かつ１０ｎｍ以下であり、ゲート絶縁膜１２３、１２４の厚みが１．０ｎｍ以上かつ５．０ｎｍ以下であってもよい。画素トランジスタと周辺トランジスタとでゲート絶縁膜の厚みを異ならせることによって、画素トランジスタの耐圧向上と周辺トランジスタの駆動速度向上とを両立できる。ゲート電極１２１、１２２の上面には、ゲート電極１２１、１２２の一部を構成するシリサイド層１３２、１３３が配される。このように、周辺トランジスタは、シリサイド層１３２、１３３、１３４、１３５が形成されたサリサイド（Ｓｅｌｆ  ＡＬＩｇｎｅｄ  ｓｉｌｉＣＩＤＥ）構造を有することができる。シリサイド層を構成する金属成分として、チタン、ニッケル、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロム、パラジウム、プラチナなどが用いられうる。
【００３９】
周辺トランジスタのゲート電極１２１、１２２の側面は、サイドウォール２１５に覆われる。サイドウォール２１５は、領域１０８、１０９の低濃度の不純物領域１２６、１２８も覆う。本実施形態において、サイドウォール２１５は、酸化シリコン層２１３と窒化シリコン層２１４を含む積層構造となっている。酸化シリコン層２１３は、窒化シリコン層２１４とゲート電極１２１、１２２との間、および、窒化シリコン層２１４と領域１０８、１０９との間に位置する。酸化シリコン層２１３と窒化シリコン層２１４とは、互いに接する界面を有する。
【００４０】
周辺回路領域２の上には、酸化シリコン層２２１および窒化シリコン層２２２（第２の窒化シリコン層）を含む絶縁膜２２０が配される。本実施形態において、絶縁膜２２０は、酸化シリコン層２２１と窒化シリコン層２２２との積層膜であり、酸化シリコン層２１１と窒化シリコン層２１２とは互いに接する界面を有する。しかしながら、絶縁膜２２０は、窒化シリコン層２２２の単層膜であってもよい。酸化シリコン層２２１は、窒化シリコン層２１４と窒化シリコン層２２２との間に位置する。窒化シリコン層２１４と酸化シリコン層２２１とは、互いに接する界面を有する。つまり、サイドウォール２１５と絶縁膜２２０とは、互いに接する界面を有する。更に、絶縁膜２２０は、領域１０８、１０９のシリサイド層１３４、１３５を覆い、絶縁膜２２０と領域１０８、１０９のシリサイド層１３４、１３５とは、互いに接する界面を有する。本実施形態において、シリサイド層１３４、１３５が配されるが、シリサイド層１３４、１３５は配されなくてもよい。この場合、絶縁膜２２０は、高濃度の不純物領域１２５、１２７を覆い、絶縁膜２２０と高濃度の不純物領域１２５、１２７とは、互いに接する界面を有しうる。絶縁膜２２０の上には、画素領域１と同様に、絶縁膜２３０が配される。絶縁膜２３０、酸化シリコン層２２１および窒化シリコン層２２２を含む絶縁膜２２０には、それぞれを貫通するコンタクトホール３０２、３０４が形成される。コンタクトホール３０２、３０４には、配線（不図示）と周辺トランジスタのソース・ドレイン領域である領域１０８およびゲート電極１２１、１２２との間を電気的に接続する導電部材３１２、３１４が配される。導電部材３１２、３１４は、導電部材３１１、３１３と同様に、例えばタングステンなどの金属を主として構成されるコンタクトプラグである。
【００４１】
絶縁膜２３０の上には、導電部材３１１、３１２、３１３、３１４と接続される配線を含む配線パターン（不図示）が配される。配線パターンは、層間絶縁層を介して複数の配線パターンが層間絶縁膜を介して積層されうる。配線パターンは、アルミニウムや銅などの金属によって構成されうる。また、基板１００の光を入射させる受光面の側には、カラーフィルタ（不図示）やマイクロレンズ（不図示）などが配されうる。これらの構成は、既存の技術を用いて形成できるため、ここでは説明を省略する。固体撮像装置１０００は、例えばパッケージに収容され、このパッケージを組み込んだカメラや情報端末などの撮像システムを構築することができる。
【００４２】
次に、固体撮像装置１０００の製造方法について図４〜６を用いて説明する。図４〜６は、固体撮像装置１０００のそれぞれの製造過程での断面図である。まず、図４（ａ）に示すように、画素トランジスタおよび周辺トランジスタを形成する。画素トランジスタおよび周辺トランジスタを形成する工程は、基板１００に、ＳＴＩ法やＬＯＣＯＳ法などを用いて素子分離領域９９を形成する。基板１００は、シリコンインゴットから切り出したシリコンウェーハでもよいし、シリコンウェーハの上に単結晶シリコン層をエピタキシャル成長させたウェーハを用いてもよい。素子分離領域９９を形成した後、第２の導電型（ｐ型）のウェル１１８、１２９および第１の導電型（ｎ型）のウェル１３０を形成する。
【００４３】
ウェル１１８、１２９、１３０の形成後、ゲート絶縁膜１１３、１１４、１２３、１２４を形成し、ゲート絶縁膜１１３、１１４、１２３、１２４の上にポリシリコンを成膜する。ゲート絶縁膜１１３、１１４、１２３、１２４は、画素領域１と周辺回路領域２とで、同時に形成してもよい。また、上述のように、画素領域１と周辺回路領域２とで、膜厚を異ならせるため、別々の工程を用いて形成してもよい。次いで、対応するトランジスタの導電型に合わせ、ポリシリコンのゲート電極となる各部分に、イオン注入法などを用いて不純物を注入する。不純物の注入後、ポリシリコンのゲート電極１１１、１１２、１２１、１２２となる各部分の上にハードマスクとなる絶縁層２０１、２０２、２０３、２０４を形成する。その後、絶縁層２０１、２０２、２０３、２０４をマスクとして開口部のポリシリコンのエッチングを行う。この工程によって、ｎ型のゲート電極１１１、１１２、１２１およびｐ型のゲート電極１２２が形成される。
【００４４】
次に、ｎ型の蓄積領域１１５およびｐ型の表面領域１１９を形成する。また、領域１０３の不純物領域１１６、画素トランジスタのソース・ドレイン領域となるシングルドレイン構造のｎ型の不純物領域１１７を形成する。更に、周辺トランジスタのＬＤＤ構造の低濃度のｎ型の不純物領域１２６およびｐ型の不純物領域１２８を形成する。画素１０の不純物領域１１６、１１７を形成する際のドーズ量は、５×１０１２〜５×１０１４（ｉｏｎｓ／ｃｍ２）であってもよく、更に、１×１０１３〜１×１０１４（ｉｏｎｓ／ｃｍ２）であってもよい。また、ＬＤＤ構造を構成する低濃度の不純物領域１２６、１２８を形成する際のドーズ量は、５×１０１２〜５×１０１４（ｉｏｎｓ／ｃｍ２）であってもよく、更に、１×１０１３〜１×１０１４（ｉｏｎｓ／ｃｍ２）であってもよい。このため、不純物領域１１６、１１７および不純物領域１２６の不純物の注入は、並行して行ってもよい。また、蓄積領域１１５、不純物領域１１６、１１７、１２６、１２８、および、表面領域１１９に不純物を注入する順番は、どのような順番で行ってもよい。
【００４５】
次いで、図４（ｂ）に示すように、酸化シリコン層２１１および窒化シリコン層２１２を含む絶縁膜２１０を形成する。絶縁膜２１０は、ゲート電極１１１、１１２、１２１、１２２の上面および側面と、それぞれ画素トランジスタおよび周辺トランジスタのソース・ドレイン領域となる領域１０３、１０４、１０５、１０８、１０９と、領域１０１と、を覆う。ソース・ドレイン領域には、図４（ａ）に示す工程によって、不純物領域１１６、１１７、１２６、１２８がそれぞれ形成されており、絶縁膜２１０は不純物領域１１６、１１７、１２６、１２８を覆うことになる。
【００４６】
絶縁膜２１０は、酸化シリコン層２１１と窒化シリコン層２１２との積層膜であり、酸化シリコン層２１１と窒化シリコン層２１２とが、互いに接するように形成される。絶縁膜２１０を形成する工程は、酸化シリコン層２１１を形成する工程と窒化シリコン層２１２を形成する工程とを含む。上述のように、絶縁膜２１０は、反射防止膜として用いるため光電変換部１１となる少なくとも領域１０１を覆い、良好な反射防止特性を得るために、窒化シリコン層２１２の厚みは、酸化シリコン層２１１の厚み以上であってもよい。例えば、酸化シリコン層２１１の厚みが５ｎｍ以上かつ２０ｎｍ以下、窒化シリコン層２１２の厚みが２０ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下であってもよい。
【００４７】
本実施形態において、酸化シリコン層２１１および窒化シリコン層２１２は、化学気相成長（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ：ＣＶＤ）法を用いて形成される。酸化シリコン層２１１は、例えばＴＥＯＳなどのソースガスを含むプロセスガスの圧力（生成圧力）を２０Ｐａ以上かつ２００Ｐａ以下の範囲とした熱ＣＶＤ法である減圧ＣＶＤ（ＬＰＣＶＤ）法を用いて形成される。このとき、成膜温度（基板温度）は、５００℃以上かつ８００℃以下の範囲であってもよい。ここでプロセスガスとは、少なくともソースガスを含み、必要に応じて添加されたキャリアガスを含む成膜チャンバ内のガス全体を意味する。キャリアガスには、ヘリウムやアルゴンなどの希ガスや窒素などが用いられうる。また、生成圧力とは、成膜チャンバ内のプロセスガスの圧力（全圧）を意味する。
【００４８】
窒化シリコン層２１２は、例えばソースガスとしてアンモニア（ＮＨ３）とヘキサクロロジシラン（ＨＣＤ）とを含むプロセスガスを用いてＬＰＣＶＤ法を用いて形成される。このとき、プロセスガスの圧力（生成圧力）を２０Ｐａ以上かつ２００Ｐａ以下の範囲であり、成膜温度（基板温度）は、５００℃以上かつ８００℃以下の範囲であってもよい。
【００４９】
上述したように、暗電流の低減および感度の向上を実現するために、反射防止膜として用いる窒化シリコン層２１２の塩素の濃度は、１ａｔｏｍｉｃ％以上かつ３ａｔｏｍｉｃ％以下にするとよい。窒化シリコン層２１２に含まれる塩素の濃度を１ａｔｏｍｉｃ％にする場合の窒化シリコン層２１２の成膜条件は、例えば、以下のような成膜条件を採用することができる。
成膜温度：５００〜７００℃
ＨＣＤ：１０〜２０ｓｃｃｍ
ＮＨ３：８００〜１６００ｓｃｃｍ
生成圧力：１０〜２００Ｐａ
また、窒化シリコン層２１２に含まれる塩素の濃度を２ａｔｏｍｉｃ％にする場合の窒化シリコン層２１２の成膜条件は、例えば、以下のような成膜条件を採用することができる。
成膜温度：５００〜７００℃
ＨＣＤ：２０〜４０ｓｃｃｍ
ＮＨ３：８００〜１６００ｓｃｃｍ
生成圧力：１０〜２００Ｐａ
また、窒化シリコン層２１２に含まれる塩素の濃度を３ａｔｏｍｉｃ％にする場合の窒化シリコン層２１２の成膜条件は、例えば、以下のような成膜条件を採用することができる。
成膜温度：５００〜７００℃
ＨＣＤ：４０〜６０ｓｃｃｍ
ＮＨ３：８００〜１６００ｓｃｃｍ
生成圧力：１０〜２００Ｐａ
上述のように、窒化シリコン層２１２の塩素濃度は、ターゲットとする塩素濃度に対して±０．３ａｔｏｍｉｃ％で制御可能である。また、プロセスガス中のＨＣＤの流量を増減させることによって、窒化シリコン層２１２に含まれる塩素濃度を容易に変更することが可能である。
【００５０】
ここで、ＨＣＤおよびＮＨ３をソースガスに含むプロセスガスを用いて形成された窒化シリコン層２１２には、シリコン、窒素、塩素に加えて、特許文献１に示されるように、多くの水素が含まれる。このため、窒化シリコン層２１２は、画素トランジスタのダングリングボンドを終端するための水素供給源となりうる。また、少なくとも窒化シリコン層２１２を形成した際、窒化シリコン層２１２の塩素の組成比は、シリコン、窒素および水素のそれぞれの組成比よりも低くなりうる。
【００５１】
絶縁膜２１０の形成後、周辺トランジスタのゲート電極１２１、１２２の側面にサイドウォール２１５を形成する。まず、図４（ｂ）に示すように、絶縁膜２１０の上に例えばフォトレジストを用いてマスクパターン４１０を形成する。マスクパターン４１０は、画素領域１の光電変換部１１となる領域１０１の少なくとも一部を覆うように形成される。マスクパターン４１０が、領域１０１の少なくとも一部を覆うことによって、暗電流低減のための塩素を含む窒化シリコン層２１２が、領域１０１の少なくとも一部の上に残存することになる。本実施形態において、マスクパターン４１０は、領域１０１、１０３、１０４、１０５を含む画素領域１を覆い、周辺回路領域２に開口部を有する。次いで、マスクパターン４１０の開口部の絶縁膜２１０をエッチング（エッチバック）する。エッチング後にマスクパターン４１０を除去することによって、図４（ｃ）に示される周辺トランジスタのゲート電極１２１、１２２の側面を覆うサイドウォール２１５が形成される。サイドウォール２１５は、酸化シリコン層２１３および窒化シリコン層２１４（第３の窒化シリコン層）の積層体でありうる。酸化シリコン層２１３は、絶縁膜２１０の酸化シリコン層２１１の一部であり、窒化シリコン層２１４は、絶縁膜２１０の窒化シリコン層２１２の一部である。このため、絶縁膜２１０の窒化シリコン層２１２に含まれる塩素の濃度と、サイドウォール２１５の窒化シリコン層２１４に含まれる塩素の濃度は、互いに同じであり、１ａｔｏｍｉｃ％以上かつ３ａｔｏｍｉｃ％以下の塩素濃度でありうる。
【００５２】
このサイドウォール２１５を形成するエッチングにおいて、領域１０８のうち不純物領域１２５、１２７を形成する領域が露出する。また、このエッチング工程において、図２（ａ）に示す抵抗素子１１０が形成される領域が露出する。
【００５３】
サイドウォール２１５を形成するエッチングの間、マスクパターン４１０が領域１０１を覆うことによって、絶縁膜２１０の領域１０１の上の部分が残存する。これによって、光電変換部１１へのエッチングの際のダメージが抑制され、光電変換部１１で生じるノイズを低減することができる。また、マスクパターン４１０がゲート電極１１１、１１２や領域１０３、１０４を覆うことで、画素トランジスタのチャネル領域１４１、１４２やソース・ドレイン領域の上に配された絶縁膜２１０が残存する。これによって、画素トランジスタへのエッチングの際のダメージが抑制され、それぞれの画素トランジスタで生じるノイズを低減することができる。
【００５４】
サイドウォール２１５を形成するエッチングにおいて、領域１０８のうち不純物領域１２５、１２７を形成する領域が露出させた後、サイドウォール２１５の側面に沿って自己整合された高濃度の不純物領域１２５、１２７を形成する。画素領域１および周辺ｐＭＯＳＦＥＴを覆うマスクパターンを形成し、当該マスクパターン、ゲート電極１２１およびサイドウォール２１５をマスクとして、イオン注入法などを用いてｎ型の不純物を注入する。これによって、周辺ｎＭＯＳＦＥＴの不純物領域１２５が形成される。また、画素領域１および周辺ｎＭＯＳＦＥＴを覆うマスクパターンを形成し、当該マスクパターン、ゲート電極１２２およびサイドウォール２１５をマスクとして、イオン注入法などを用いてｐ型の不純物を注入する。これによって、周辺ｐＭＯＳＦＥＴの不純物領域１２７が形成される。不純物領域１２５および不純物領域１２７を形成する順序は任意である。ＬＤＤ構造を構成する高濃度の不純物領域１２５、１２７を形成する際のドーズ量は、５×１０１４〜５×１０１６（ｉｏｎｓ／ｃｍ２）であってもよく、更に、１×１０１５〜１×１０１６（ｉｏｎｓ／ｃｍ２）であってもよい。不純物領域１２５、１２７を形成する際のドーズ量は、上述の不純物領域１２６、１２８を形成する際のドーズ量よりも高い。結果として、不純物領域１２５、１２７の不純物濃度は、不純物領域１２６、１２８の不純物濃度よりも高くなる。
【００５５】
不純物領域１２５および不純物領域１２７の少なくとも一方を形成する際、抵抗素子１１０を形成するための領域に、同時に不純物が注入されてもよい。これによって、拡散抵抗としての抵抗素子１１０が形成される。不純物領域１２６、１２８を形成する際のドーズ量では不純物濃度が低く、抵抗素子１１０の抵抗値を実用的な範囲まで低くできない可能性がある。一方、不純物領域１２５、１２７を形成する際のドーズ量は、実用的な抵抗値の抵抗素子１１０の不純物領域を形成しうる。そこで、サイドウォール２１５を形成するエッチングの際に抵抗素子１１０を形成する領域を露出させ、不純物領域１２５または不純物領域１２７への不純物の注入と同時に抵抗素子１１０の不純物領域を形成する。
【００５６】
周辺トランジスタのＬＤＤ構造を形成した後、図５（ａ）に示すように、画素領域１および周辺回路領域２を覆うように保護膜２４０を形成する。保護膜２４０は、例えば酸化シリコンなどを用い、厚さは３０ｎｍ以上かつ１３０ｎｍ以下程度である。保護膜２４０の形成後、フォトレジストなどを用いて画素領域１を覆うマスクパターン４２０を形成する。マスクパターン４２０の形成後、マスクパターン４２０の開口部分の保護膜２４０をエッチングする。このエッチングによって、保護膜２４０のうち領域１０８、１０９の上に位置する部分およびゲート電極１２１、１２２の上に位置する部分が除去される。このとき、保護膜２４０のうち画素領域１の上に位置する部分および抵抗素子１１０の上に位置する部分は残存させる。保護膜２４０のエッチングに続いて、ゲート電極１２１、１２２の上面を覆う絶縁層２０３、２０４を除去する。絶縁層２０３、２０４のエッチングは、保護膜２４０のエッチングと同時に行ってもよいし、別々に行ってもよい。保護膜２４０および絶縁層２０３、２０４のエッチングの後、マスクパターン４２０は除去される。
【００５７】
次いで、図５（ｂ）に示すように、基板１００を覆うようにスパッタ法やＣＶＤ法などを用いて金属膜２５０を形成する。金属膜２５０は、領域１０８、１０９およびゲート電極１２１、１２２の上面に接するように形成され、領域１０８、１０９およびゲート電極１２１、１２２の上面をシリサイド化する金属を含む。また、金属膜２５０は、シリサイド化しない画素領域１や抵抗素子１１０の上では、保護膜２４０と接する。金属膜２５０は、シリサイド化のための金属と、その金属の酸化を抑制するための金属化合物との積層構造であってもよい。例えば、金属膜２５０は、コバルトとコバルトの酸化を抑制するための窒化チタンとの積層膜であってもよい。
【００５８】
金属膜２５０の形成後、基板１００を５００℃程度に加熱することによって、金属膜２５０と金属膜２５０と接する領域１０８、１０９およびゲート電極１２１、１２２とを反応させる。これによって、モノシリサイド状態のシリサイド層１３２、１３３、１３４、１３５が形成される。その後、保護膜２４０やサイドウォール２１５の上に位置する未反応の金属膜２５０を除去する。また、金属膜２５０に金属の酸化を抑制するための金属化合物の層を形成した場合、この金属化合物の層も除去する。未反応の金属膜２５０を除去した後、１度目のシリサイド化よりも高い８００℃程度に基板１００を加熱し、シリサイド層１３２、１３３、１３４、１３５をモノシリサイド状態からダイシリサイド状態に変化させる。本実施形態において、温度の異なる２度の加熱を行うが、１度の加熱でシリサイド層１３２、１３３、１３４、１３５を形成してもよい。シリサイド化の条件は、シリサイドを形成するための金属の種類などによって、適宜選択すればよい。
【００５９】
シリサイド化の工程において、保護膜２４０を残存させた画素領域１や抵抗素子１１０では、金属膜２５０と基板１００やゲート電極とが接しないため、シリサイド層が形成されない。保護膜２４０は、このようにシリサイドブロックとして機能する。シリサイド層は、画素領域１においてノイズの原因となりうるため、画素領域１はシリサイド化の際に保護膜２４０によって覆われる。特に、光電変換部１１となる領域１０１、電荷を検出するためのノード１４となる領域１０３、増幅素子１５のソース・ドレイン領域となる領域１０４、１０５はシリサイド化しない。また、抵抗素子１１０においても、抵抗値が小さくなりすぎる可能性があるため、保護膜２４０によって保護する。シリサイド層１３２、１３３、１３４、１３５を形成した後、保護膜２４０は除去してもよい。また、画素領域１への不要なダメージを避けるため、保護膜２４０は除去しなくてもよい。本実施形態において、保護膜２４０は、図５（ｃ）に示すように残存させる。
【００６０】
シリサイド層１３２、１３３、１３４、１３５の形成後、図６（ａ）に示すように、酸化シリコン層２２１および窒化シリコン層２２２を含む絶縁膜２２０を形成する。絶縁膜２２０は、ゲート電極１１１、１１２、１２１、１２２の上面と、サイドウォール２１５と、それぞれ画素トランジスタおよび周辺トランジスタのソース・ドレイン領域となる領域１０３、１０４、１０５、１０８、１０９と、領域１０１と、を覆う。
【００６１】
絶縁膜２２０は、酸化シリコン層２２１と窒化シリコン層２２２との積層膜であり、酸化シリコン層２２１と窒化シリコン層２２２とが、互いに接するように形成される。絶縁膜２２０を形成する工程は、酸化シリコン層２２１を形成する工程と窒化シリコン層２２２を形成する工程とを含む。窒化シリコン層２２２の厚みは、酸化シリコン層２２１の厚み以上であってもよい。窒化シリコン層２２２の厚みが、酸化シリコン層２２１の厚みの２倍以上であってもよい。例えば、酸化シリコン層２１１の厚みが１０ｎｍ以上かつ３０ｎｍ以下、窒化シリコン層２１２の厚みが２０ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下であってもよい。
【００６２】
酸化シリコン層２１１は、例えばＴＥＯＳなどのソースガスを含むプロセスガスの圧力（生成圧力）を２００Ｐａ以上かつ６００Ｐａ以下の範囲とした熱ＣＶＤ法である準常圧ＣＶＤ（ＳＡ−ＣＶＤ）法を用いて形成される。このとき、成膜温度（基板温度）は、４００℃以上かつ５００℃以下の範囲であってもよい。このように、酸化シリコン層２１１と酸化シリコン層２２１とは、ともに熱ＣＶＤ法を用いて形成されうる。
【００６３】
窒化シリコン層２２２は、例えばソースガスとしてＮＨ３とＨＣＤとを含むプロセスガスを用いてＬＰＣＶＤ法を用いて形成される。このとき、プロセスガスの圧力（生成圧力）を２０Ｐａ以上かつ２００Ｐａ以下の範囲であり、成膜温度（基板温度）は、５００℃以上かつ８００℃以下の範囲であってもよい。
【００６４】
窒化シリコン層２２２は、周辺トランジスタに対して塩素を安定的に供給する塩素供給膜としても機能しうる。厚い窒化シリコン層２２２は、塩素を豊富に含むことができ、薄い酸化シリコン層２２１は、塩素を適切に透過させることができる。また、上述したようにＨＣＤおよびＮＨ３をソースガスに含むプロセスガスを用いて形成された窒化シリコン層２２２は、多くの水素を含む。このため、ノイズ特性の優れた周辺トランジスタを形成することが可能となる。また、周辺トランジスタにおいて、ｋ値の増大を考慮する必要がないため、窒化シリコン層２２２に含まれる塩素の濃度は、窒化シリコン層２１２に含まれる塩素の濃度以上であってもよい。例えば、窒化シリコン層２１２に含まれる塩素の濃度が、３ａｔｏｍｉｃ％以上であってもよい。更に、窒化シリコン層２１２に含まれる塩素の濃度が、５ａｔｏｍｉｃ％以上であってもよい。窒化シリコン層２１２に含まれる塩素の濃度を５ａｔｏｍｉｃ％にする場合の窒化シリコン層２１２の成膜条件は、例えば、以下のような成膜条件を採用することができる。
成膜温度：５００〜７００℃
ＨＣＤ：６０〜１５０ｓｃｃｍ
ＮＨ３：８００〜１６００ｓｃｃｍ
生成圧力：１０〜２００Ｐａ
【００６５】
このように、窒化シリコン層２１２を形成する際のプロセスガスのヘキサクロロジシラン／アンモニア比が、窒化シリコン層２２２を形成する際のプロセスガスのヘキサクロロジシラン／アンモニア比以下になってもよい。例えば、窒化シリコン層２１２を形成する際のプロセスガスのＨＣＤ／ＮＨ３比が１／１６０以上かつ１／２０以下であり、窒化シリコン層２２２を形成する際のプロセスガスのＨＣＤ／ＮＨ３比が１／２０以上かつ１５／８０以下であってもよい。更に、例えば、窒化シリコン層２１２を形成する際のプロセスガスのＨＣＤ／ＮＨ３比が１／１６０以上かつ１／１００未満であり、窒化シリコン層２２２を形成する際のプロセスガスのＨＣＤ／ＮＨ３比が１／１０以上かつ１５／８０以下であってもよい。
【００６６】
絶縁膜２２０の形成後、図６（ａ）に示すように、絶縁膜２２０の周辺回路領域２に位置する部分を覆うように、フォトレジストなどを用いてマスクパターン４３０を形成する。次いで、マスクパターン４３０の開口部を介して、窒化シリコン層２１２の画素領域１に配された部分をエッチングし除去する。窒化シリコン層２１２の除去される部分は、窒化シリコン層２１２のうち光電変換部１１、転送素子１２、容量素子１３、増幅素子１５、リセット素子１６、および、選択素子１７の上に位置する部分を含む。このとき、酸化シリコン層２２１は、画素領域１を覆う窒化シリコン層２２２をエッチングによって除去するためのエッチングストッパとして機能しうる。また、酸化シリコン層２２１は、画素領域１をエッチングによるダメージから保護する保護層としても機能しうる。画素領域１のうち少なくとも光電変換部１１の上に配される窒化シリコン層２２２を除去することによって、光電変換部１１に過剰な塩素が供給され、ｋ値が上昇してしまうことが抑制されうる。
【００６７】
次に、画素領域１および周辺回路領域２を覆うように絶縁膜２３０を形成する。絶縁膜２３０は、例えば、高密度プラズマ（Ｈｉｇｈ  Ｄｅｎｓｉｔｙ  Ｐｌａｓｍａ：ＨＰＤ）ＣＶＤ法などのプラズマＣＶＤ法によって成膜された酸化シリコンの単層膜である。絶縁膜２３０は、ＢＰＳＧ膜、ＢＳＧ膜、ＰＳＧ膜などの任意の材料から形成可能である。また、単層膜に限らず複層膜であってもよい。
【００６８】
次いで、図６（ｂ）に示されるように、絶縁膜２３０の表面を平坦化する。平坦化の手法としては、化学機械研磨（ＣＭＰ）法や、リフロー法、エッチバック法などが用いられる。これらの手法を組み合わせて用いてもよい。平坦化前の絶縁膜２３０の厚みは、例えば、２００ｎｍ以上かつ１７００ｎｍ以下の範囲でありうる。本実施形態において、窒化シリコン層２２２の画素領域１の上に位置する部分が上述の工程によって除去されているため、絶縁膜２３０の下地の画素領域１と周辺回路領域２との高低差が小さい。このため、平坦化後の絶縁膜２３０の厚みを１０００ｎｍ以下とすることができる。例えば、絶縁膜２３０の厚みは、４５０ｎｍ以上かつ８５０ｎｍ以下であってもよい。絶縁膜２３０の厚みを薄くすることによって、コンタクトプラグの抵抗の低減や感度の向上を図ることができる。ここで、平坦化後の絶縁膜２３０の厚みは、絶縁膜２１０および絶縁膜２２０の厚みよりも大きくてもよい。
【００６９】
絶縁膜２３０の平坦化後、画素トランジスタや周辺トランジスタと配線との間を電気的に接続するための導電部材３１１、３１２、３１３、３１４を形成する。まず、画素領域１において、絶縁膜２３０を覆うフォトレジストなどを用いたマスクパターンの開口部を介して、絶縁膜２３０を異方性ドライエッチングによって開口し、導電部材３１１を設けるためのコンタクトホール３０１を形成する。コンタクトホール３０１を形成する際、画素領域１において絶縁膜２１０の窒化シリコン層２１２をエッチングストッパとして用いてもよい。コンタクトホール３０１は、絶縁膜２３０、酸化シリコン層２２１、保護膜２４０、窒化シリコン層２１２および酸化シリコン層２１１を貫通して設けられる。コンタクトホール３０１は、容量素子１３、増幅素子１５、リセット素子１６、選択素子１７のそれぞれソース・ドレイン領域や基準コンタクト領域１０２を露出する。
【００７０】
コンタクトホール３０１の形成に並行して、容量素子１３、増幅素子１５、リセット素子１６、選択素子１７のそれぞれゲート電極を露出するコンタクトホール３０３を形成する。導電部材３１３を設けるためのコンタクトホール３０３は、絶縁膜２３０、酸化シリコン層２２１、保護膜２４０、窒化シリコン層２１２および酸化シリコン層２１１を貫通する。更に、導電部材３１３を設けるためのコンタクトホールは、絶縁層２０１、２０２も貫通する。コンタクトプラグの接触抵抗を低減するために、コンタクトホールを介して基板１００の不純物領域およびゲート電極に不純物を注入してもよい。
【００７１】
コンタクトホール３０１の形成前に、上述したように画素領域１の上に位置する窒化シリコン層２２２は除去される。このため、エッチストッパとして用いる窒化シリコン層２１２よりも上の層に窒化シリコン層が存在しない。したがって、コンタクトホール３０１を形成する際、窒化シリコン層２１２以外の窒化シリコン層でコンタクトホール３０１の形成が妨げられることを抑制できる。
【００７２】
次いで、図６（ｃ）に示すように、周辺回路領域２において、絶縁膜２３０を覆い、コンタクトホール３０２、３０４を形成する領域に開口部を有するマスクパターン４４０を用いて、絶縁膜２３０を異方性ドライエッチングし開口する。これによって、導電部材３１２、３１４を設けるためのコンタクトホール３０２、３０４が形成される。コンタクトホール３０２を形成する際に、周辺回路領域２において絶縁膜２２０の窒化シリコン層２２２をエッチングストッパとして用いることができる。コンタクトホール３０２、３０４は絶縁膜２３０、窒化シリコン層２２２、および、酸化シリコン層２２１を貫通して設けられる。コンタクトホール３０２は、周辺トランジスタのソース・ドレイン領域となる領域１０８、１０９に位置するシリサイド層１３４、１３５を露出する。コンタクトホール３０２の形成に並行して、導電部材３１４を設けるためのゲート電極１２１、１２２のシリサイド層１３２、１３３を露出するコンタクトホール３０４を形成する。
【００７３】
コンタクトホール３０１、３０２、３０３、３０４の開口後、コンタクトホール３０１、３０２、３０３、３０４に金属などの導電体を充填し、コンタクトプラグとして機能する導電部材３１１、３１２、３１３、３１４が形成される。コンタクトホール３０１、３０２、３０３、３０４への導電部材の充填は、一括して行うことができる。
【００７４】
画素領域１にコンタクトホール３０１、３０３を形成し導電部材３１１、３１３を充填する工程と、周辺回路領域２にコンタクトホール３０２、３０４を形成し導電部材３１２、３１４を充填する工程と、を別々の工程としてもよい。コンタクトプラグを形成する工程を画素領域１と周辺回路領域２とで別々にすることによって、シリサイド層１３２、１３３、１３４、１３５に含まれる金属が、コンタクトホール３０１、３０３を介して画素領域１の不純物領域を汚染することを抑制できる。画素領域１と周辺回路領域２とのコンタクトホールの形成および導電部材の充填によってコンタクトプラグを形成する順序は、どちらが先であってもよい。
【００７５】
以上の工程によって、図２（ａ）、（ｂ）に示す構造が得られる。その後、配線パターン、カラーフィルタ、マイクロレンズなどを形成し、固体撮像装置１０００が完成する。また、周辺トランジスタが絶縁膜２２０で覆われた状態で、画素トランジスタおよび周辺トランジスタへの水素供給を促進させるための水素アニール処理を追加してもよい。水素アニール処理とは、水素雰囲気中にて基板１００を加熱することによって、基板１００の表面を水素終端することを意味する。水素アニール処理は、導電部材３１１、３１２、３１３、３１４の形成の後、さらに配線パターンを形成してから行ってもよい。
【００７６】
以上、本発明に係る実施形態を示したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、上述した実施形態は適宜変更、組み合わせが可能である。例えば、上述の実施形態では、半導体装置のうち固体撮像装置を例に挙げて本発明を説明した。しかし、本発明は、絶縁ゲート型電界効果トランジスタを備える半導体装置であれば、固体撮像装置に限らず、演算装置や記憶装置、制御装置、信号処理装置、検知装置、表示装置などに適用することができる。
【００７７】
以下、上述の実施形態に係る固体撮像装置の応用例として、固体撮像装置１０００が組み込まれたカメラについて例示的に説明する。カメラの概念には、撮影を主目的とする装置のみならず、撮影機能を補助的に備える装置（例えば、パーソナルコンピュータ、携帯端末）も含まれる。カメラは、上記の実施形態として例示された本発明に係る固体撮像装置１０００と、固体撮像装置１０００から出力される信号に基づく情報を処理する処理部とを含む。該処理部は、画像データであるデジタルデータを処理するプロセッサを含みうる。該プロセッサは、固体撮像装置１０００の焦点検出機能を有する画素からの信号に基づいてデフォーカス量を計算し、これに基づいて撮像レンズの焦点調節を制御するための処理を行いうる。上記画像データを生成するＡ／Ｄ変換器は、固体撮像装置１０００が備えることができる他、固体撮像装置１０００とは別に設けることができる。
【符号の説明】
【００７８】
１：画素領域、１１：光電変換部、１００：基板、２１２：窒化シリコン層、１０００：固体撮像装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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