(57)【要約】      （修正有）【課題】オゾン流量を正確に出力可能なオゾン用マスフローコントローラの出力検査方法を提供する。【解決手段】オゾン発生器をオフにし、オゾン発生器に供給される酸素の流量を計測する酸素用マスフローコントローラが出力する第１の流量と、オゾン発生器から分流した複数の流路に設けられたオゾン用マスフローコントローラが出力する第２の流量とを記憶する工程と、オゾン発生器から複数の流路を介して処理容器内にオゾンを供給しながら、処理容器内で所定の処理を複数回行う工程と、複数回の前記所定の処理の合間に、オゾン発生器をオフにし、酸素用マスフローコントローラが出力する第３の流量と、オゾン用マスフローコントローラが出力する第４の流量とを取得する工程と、第１の流量及び第２の流量と、第３の流量及び第４の流量とをそれぞれ比較し、第４の流量が正常値であるか否かを判定する工程とを有する検査方法。【選択図】図４
2018195102.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オゾン発生器から分流した複数の流路に供給するオゾンの流量を制御するオゾン用マスフローコントローラの出力検査方法であって、
前記オゾン発生器をオフにした状態で酸素を供給し、前記オゾン発生器に供給される酸素の流量を計測する酸素用マスフローコントローラが出力する第１の流量と、前記複数の流路に設けられた少なくとも１つのオゾン用マスフローコントローラが出力する第２の流量とを記憶する工程と、
前記オゾン発生器から前記複数の流路を介して処理容器内にオゾンを供給しながら、前記処理容器内でオゾンを用いた所定の処理を複数回行う工程と、
複数回の前記所定の処理の合間の所定時期に、前記オゾン発生器をオフにした状態で酸素を供給し、前記酸素用マスフローコントローラが出力する第３の流量と、前記少なくとも１つのオゾン用マスフローコントローラが出力する第４の流量とを取得する工程と、
前記第１の流量及び前記第２の流量と、前記第３の流量及び前記第４の流量とをそれぞれ比較し、前記第４の流量が正常値であるか否かを判定する工程と、を有するオゾン用マスフローコントローラの出力検査方法。
【請求項２】
前記第４の流量が正常値であるか否かの判定は、前記第１の流量と前記第３の流量とを略同一に設定したときに、前記第２の流量と前記第４の流量との出力差が所定範囲内にあるか否かにより判定する請求項１に記載のオゾン用マスフローコントローラの出力検査方法。
【請求項３】
前記第４の流量が正常値でないと判定したときには、エラーを発報する工程を更に有する請求項１又は２に記載のオゾン用マスフローコントローラの出力検査方法。
【請求項４】
前記第４の流量が正常値でないと判定したときには、前記少なくとも１つのオゾン用マスフローコントローラを較正する工程を更に有する請求項１乃至３のいずれか一項に記載のオゾン用マスフローコントローラの出力検査方法。
【請求項５】
前記複数の流路の各々にオゾン用マスフローコントローラが設けられ、該オゾン用マスフローコントローラは、前記第２の流量が記憶される前記少なくとも１つのオゾン用マスフローコントローラの他、流量設定が行われない調整用のオゾン用マスフローコントローラを１つ含む請求項１乃至４のいずれか一項に記載のオゾン用マスフローコントローラの出力検査方法。
【請求項６】
前記流量設定が行われない調整用のオゾン用マスフローコントローラ以外の前記第２の流量が記憶される前記少なくとも１つのオゾン用マスフローコントローラの設定流量の合計は、前記酸素用マスフローコントローラの設定流量よりも小さい請求項５に記載のオゾン用マスフローコントローラの出力検査方法。
【請求項７】
前記第２の流量が記憶される前記少なくとも１つのオゾン用マスフローコントローラが複数設けられている請求項１乃至６のいずれか一項に記載のオゾン用マスフローコントローラの出力検査方法。
【請求項８】
前記所定の処理は、前記処理容器内に基板を収容して処理する基板処理である請求項１乃至７のいずれか一項に記載のオゾン用マスフローコントローラの出力検査方法。
【請求項９】
前記基板処理は、前記基板上に成膜を行う成膜処理である請求項８に記載のオゾン用マスフローコントローラの出力検査方法。
【請求項１０】
前記複数回の前記所定の処理の合間の所定時期は、前記所定の処理を所定回数行った後である請求項１乃至９のいずれか一項に記載のオゾン用マスフローコントローラの出力検査方法。
【請求項１１】
前記第３の流量と前記第４の流量とを取得する工程は、前記所定回数毎に繰り返される請求項１０に記載のオゾン用マスフローコントローラの出力検査方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、オゾン用マスフローコントローラの出力検査方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、窒化添加レス・オゾン発生器と、オゾン電源と、オゾン発生器に関連した制御手段とを集約して一体化構造で形成した窒素添加レス・オゾン発生ユニットが知られている（例えば、特許文献１参照）。ここで、制御手段は、窒化添加レス・オゾン発生器に供給される原料ガス流量を制御するマスフローコントローラを含む流量検出・流量調整手段と、窒素添加レス・オゾン発生器内の圧力である内部圧力を自動制御するオートプレッシャコントローラを含む圧力検出・圧力調整手段とを有する。
【０００３】
このように、オゾン発生器に供給される原料ガス流量は、マスフローコントローラにより制御されるのが一般的である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許５８２４０６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述の特許文献１にも開示されている通り、オゾン発生器の二次側、つまり出力側にはマスフローコントローラは特に設けられていない。これは、マスフローコントローラは質量流量を計測し、流量制御を行うが、オゾン発生器の場合、原料である酸素から発生するオゾンは、１００％濃度ではなく、オゾン発生器の性能に応じて５〜１５ｖｏｌ％Ｏ３／Ｏ２の範囲で変化するため、当然に質量流量も変化し、固定濃度で用いるマスフローコントローラを搭載できないためである。また、オゾンは酸化力が非常に強いため、マスフローコントローラの部品が短期間で腐食するため、マスフローコントローラの製造・販売業者も、オゾン用マスフローコントローラの流量は保証できず、製品としての期間保障も設けないのが一般的である。
【０００６】
しかしながら、種々の業種、例えば半導体製造業では、オゾンの濃度、流量を一定に制御する需要は非常に高い。例えば、成膜プロセスでは、基板上に酸化膜を堆積させる場合にオゾンが用いられるが、一定の成膜条件で同一成膜を行うべく、オゾンの濃度、流量を一定にして製造プロセスを実施するケースが圧倒的に多い。
【０００７】
そこで、本発明は、オゾン流量を正確に出力することを可能とするオゾン用マスフローコントローラの出力検査方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明の一態様に係るオゾン用マスフローコントローラの出力検査方法は、オゾン発生器から分流した複数の流路に供給するオゾンの流量を制御するオゾン用マスフローコントローラの出力検査方法であって、
前記オゾン発生器をオフにし、前記オゾン発生器に供給される酸素の流量を計測する酸素用マスフローコントローラが出力する第１の流量と、前記複数の流路に設けられた少なくとも１つのオゾン用マスフローコントローラが出力する第２の流量とを記憶する工程と、
前記オゾン発生器から前記複数の流路を介して処理容器内にオゾンを供給しながら、前記処理容器内でオゾンを用いた所定の処理を複数回行う工程と、
複数回の前記所定の処理の合間の所定時期に、前記オゾン発生器をオフにし、前記酸素用マスフローコントローラが出力する第３の流量と、前記少なくとも１つのオゾン用マスフローコントローラが出力する第４の流量とを取得する工程と、
前記第１の流量及び前記第２の流量と、前記第３の流量及び前記第４の流量とをそれぞれ比較し、前記第４の流量が正常値であるか否かを判定する工程と、を有する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、オゾン流量を正確に制御することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の実施形態に係るオゾン用マスフローコントローラの出力検査方法を実施するためのオゾン流量制御装置の一例を示した図である。
【図２】オゾン用マスフローコントローラの較正方法の一例について説明するための図である。
【図３】オゾン用マスフローコントローラのキャリブレーションを、酸素流量を用いて行う理由について説明するための図である。
【図４】本実施形態に係るオゾン用マスフローコントローラの検査方法を、基板処理のプロセスに適用する場合の例をより詳細に説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、図面を参照して、本発明を実施するための形態の説明を行う。
【００１２】
図１は、本発明の実施形態に係るオゾン用マスフローコントローラの出力検査方法を実施するためのオゾン流量制御装置の一例を示した図である。
【００１３】
図１に示される通り、オゾン流量制御装置は、オゾン発生器１０と、酸素用マスコントローラ（ＭＦＣ、Mass Flor Controller）２０と、オゾナイザ３０と、酸素供給配管４０と、オゾン供給元配管５０と、オゾン供給分岐配管５１、５２と、オゾン用マスフローコントローラ（ＭＦＣ、Mass Flor Controller）６１、６２と、制御部７０と、記憶部７１と、記録媒体７２と、処理容器８０とを有する。
【００１４】
オゾン発生器３０は、酸素からオゾンを発生するための装置である。オゾン発生器３０は、原料の酸素からオゾンを発生できれば、その構成は問わない。性能にもよるが、オゾン発生器３０で発生されるオゾンは、酸素に対して、１０〜１５ｖｏｌ％である。よって、オゾン発生器３０からオゾンのみが出力される訳ではなく、酸素とオゾンの混合ガスが出力される。
【００１５】
酸素用マスフローコントローラ２０は、オゾン発生器１０に供給される酸素の流量を制御するための流量制御手段である。酸素用マスフローコントローラ２０は、酸素の質量流量を計測することにより流量制御を行うので、環境温度や使用圧力等の変化による補正を行う必要が無く、高精度で安定した酸素の計測及び制御が可能である。
【００１６】
オゾナイザ３０は、オゾン発生器１０及び酸素用マスフローコントローラ２０を一体化して構成したオゾン発生装置である。但し、オゾン発生器１０と酸素用マスフローコントローラ２０とが一体化して構成される必要は無く、オゾン発生器１０と酸素用マスフローコントローラ２０は独立して設けられていてもよい。本実施形態においては、オゾン発生器１０と酸素用マスフローコントローラ２０とが一体化してオゾナイザ３０として構成された例を挙げて説明する。
【００１７】
酸素供給配管４０は、オゾン発生器１０に原料となる酸素を供給するための配管である。酸素用マスフローコントローラ２０は、酸素供給配管４０に設けられる。
【００１８】
オゾン供給元配管５０及びオゾン供分岐配管５１、５２は、オゾン発生器１０から出力されたオゾン（及び酸素）を処理容器８０に供給するための配管であり、オゾンの流路を形成する。オゾン供給元配管５０は、オゾン発生器１０の吐出口に接続されている配管であり、オゾン供給分岐配管５１、５２は、元配管５０から分岐しているオゾン供給用の分流配管である。オゾン供給分岐配管５１、５２は、オゾンを複数箇所に供給するために設けられる。オゾナイザ３０は高価であるので、複数箇所にオゾンを供給する必要がある場合には、このような分流構造を採用することが好ましい。本実施形態に係るオゾン用マスフローコントローラの出力検査方法は、このような分流構造を有するオゾン供給装置に適用される。
【００１９】
オゾン用マスフローコントローラ６１、６２は、オゾン供給分岐配管５１、５２にそれぞれ設けられたマスフローコントローラである。オゾン用マスフローコントローラ６１、６２も構造的には酸素用マスフローコントローラ２０とほぼ同様であり、オゾン及び酸素の質量流量を計測することにより流量制御を行う。しかしながら、オゾンは酸化力が強いため、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２内の腐食等の物質変化が速く、状態が変動し易い。また、オゾン発生器１０から吐出されるオゾンは、正確な濃度を知ることができないため、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２で正確なオゾン流量制御を行うことは難しい。そこで、本実施形態に係るオゾン用マスフローコントローラの出力検査方法では、酸素用マスフローコントローラ２０と協働してオゾン流量が正確となるように制御を行うが、この点の詳細は後述する。
【００２０】
制御部７０は、オゾン発生器１０、酸素用マスフローコントローラ２０、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２、処理容器８０等の装置全体を制御するための手段である。制御部７０は、例えば、コンピュータからなる演算処理手段として構成されてよい。
【００２１】
制御部７０のメモリ内には、制御部７０の制御の下に、本実施形態に係るオゾン用マスフローコントローラの出力検査方法を実施するためのプログラムが格納されている。このプログラムは、所定の処理を実行するようにステップ群が組まれており、ハードディスク、コンパクトディスク、光磁気ディスク、メモリカード、フレキシブルディスクなどの記録媒体７２に記憶されており、所定の読み取り装置により記憶部７１へ読み込まれ、制御部７０内にインストールされる。また、制御部７０のメモリ内には、処理容器８０内で行う所定の処理を実施するためのプログラムが格納されていてもよい。このプログラムも、所定の処理を実行するようにステップ群が組まれており、ハードディスク、コンパクトディスク、光磁気ディスク、メモリカード、フレキシブルディスクなどの媒体７２に記憶されており、所定の読み取り装置により記憶部７１へ読み込まれ、制御部７０内にインストールされる点は、上述の通りである。
【００２２】
処理容器８０は、オゾンを用いた所定の処理を行うための容器である。例えば、処理容器８０内に基板を収容し、オゾンを用いて基板処理を行うようにしてもよい。本実施形態においては、ウエハを処理容器８０内に収納し、ウエハの表面に酸化膜を堆積させる成膜処理を行う内容について説明する。但し、成膜処理は一例に過ぎず、処理容器８０内で行う処理は、オゾンを用いた処理であれば種々の処理を行うことができる。
【００２３】
次に、かかるオゾン流量制御装置を用いたオゾン用マスフローコントローラの出力検査方法について説明する。上述のように、処理容器８０内では、ウエハに成膜処理を行う例を挙げて説明する。
【００２４】
まず、事前工程として、ウエハの成膜処理を行う前に、オゾン発生器１０をオフとした状態でオゾン発生器１０に酸素を供給し、酸素用マスフローコントローラ２０が出力する酸素流量と、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２が出力する酸素流量を記憶する。なお、酸素流量は、酸素用マスフローコントローラ２０で任意の値に設定できる。オゾン発生器１０をオフとしてオゾン発生器１０に酸素を供給した場合には、供給した酸素の流量がそのままオゾン発生器１０から出力され、オゾン供給元配管５０に出力される。オゾン供給元配管５０に吐出された酸素は、オゾン供給分岐配管５１、５２に分流し、各オゾン用マスフローコントローラ６１、６２を介して処理容器８０に供給される。ここで、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２の流量を確認しておくことにより、正常状態におけるオゾン用マスフローコントローラ６１、６２の流量出力を知ることが出来る。
【００２５】
なお、酸素用マスフローコントローラ２０及びオゾン用マスフローコントローラ６１、６２の流量出力は、制御部７０内のメモリ又は記憶部７１に記憶される。
【００２６】
次いで、ウエハを処理容器８０内に導入し、ウエハの成膜処理を行う。ウエハの成膜処理では、処理容器８０内にオゾンが供給され、酸化膜等の成膜が行われる。
【００２７】
成膜処理を所定の数ロット繰り返したら、成膜処理の合間にオゾン用マスフローコントローラ６１、６２の流量が正常値を示しているか否かの検査を行う。この検査工程では、再度オゾン発生器１０をオフとした状態で、酸素をオゾン発生器１０に供給する。この時、酸素用マスフローコントローラ２０で酸素の流量の調整を行う。酸素の流量は、事前工程で設定した流量と同一流量に設定してもよいし、異なる流量に設定してもよい。ここでは、理解の容易のため、事前工程と同一の流量に酸素流量を設定した例を挙げて説明する。
【００２８】
同一の酸素流量を供給し、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２の酸素流量の出力を取得する。オゾン用マスフローコントローラ６１、６２の出力が、事前工程と大きく変化していなければ、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２の出力する流量値は正常であると判定できる。一方、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２の出力が大きく異なっている場合には、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２の出力が正常でないと判定できる。オゾン用マスフローコントローラ６１、６２が正常であるか否かの判定は、例えば、事前工程におけるオゾン用マスフローコントローラ６１、６２の出力と、処理間におけるオゾンマスフローコントローラ６１、６２の出力との差が所定範囲内であるか否かに基づいて判定してもよい。所定範囲内であれば、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２の出力は正常であると判定でき、所定範囲外であれば、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２の出力は正常ではない（異常である）と判定できる。なお、このような判定処理は、制御部７０で行うようにしてよい。
【００２９】
このように、流量を正確に知ることができる酸素を用いて、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２の流量出力が適正か否かを判定することができる。なお、上述の説明では、理解の容易のため、酸素を固定流量のみとする例を挙げて説明したが、事前工程及び検査工程の双方とも、複数の酸素流量について計測を行い、近似曲線を描くようにしてもよい。これにより、より正確な検査を行うことができる。
【００３０】
なお、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２の出力が正常でない場合には、エラーを発報したり、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２のキャリブレーションを行ったりする等の措置をとるようにする。これにより、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２のキャリブレーションを再度行うことができ、正確なオゾン流量で成膜処理を再開することができる。
【００３１】
図２は、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２の較正方法の一例について説明するための図である。
【００３２】
図２に示されるように、オゾン発生器１０をオフとして酸素を供給したときの、酸素用マスフローコントローラ２０の出力の増加に対するオゾン用マスフローコントローラ６１、６２の出力の増加率、即ち、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２の出力対酸素用マスフローコントローラ２０の出力の比例定数は、直線Ａ、Ｂの傾きは、各々ａ、ｂで表される。事前工程における事前計測の比例定数ａが、検査工程における工程間計測の比例定数ｂに増加している。この場合、成膜処理工程で供給する酸素の流量をＱとすれば、流量Ｑにおいてオゾン用マスフローコントローラ６１、６２のシフト量はβとなる。よって、オゾンマスフローコントローラ６１、６２の較正は、シフト量βを戻し、比例定数ｂが比例定数ａに一致又は近付くように較正を行えばよい。
【００３３】
このように、酸素用マスフローコントローラ２０の出力とオゾン用マスフローコントローラ６１、６２の出力との関係から、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２の計測出力が適正か否か、適正でない場合にはどの程度補正しなければならないかを知ることができ、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２が正確な流量を示すようにキャリブレーションを行うことができる。
【００３４】
なお、図２に示すキャリブレーションは一例であり、他のキャリブレーション法によりオゾン用マスフローコントローラ６１、６２のキャリブレーションを行うようにしてもよい。
【００３５】
また、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２のキャリブレーションは、制御部７０の制御により行うようにしてもよいし、作業者が行うようにしてもよい。
【００３６】
図３は、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２のキャリブレーションを、酸素流量を用いて行っても正確に行える理由について説明するための図である。オゾン用マスフローコントローラ６１、６２は、オゾンの流量を計測及び制御するための手段であるので、オゾンを流した際にオゾン用マスフローコントローラ６１、６２のキャリブレーションを行うことが本来的には望ましい。しかしながら、本実施形態に係るオゾン用マスフローコントローラの検査方法においては、オゾンの酸化力の強さによりマスフローコントローラが短期間に劣化し、単独では十分なキャリブレーションができないという理由から、酸素流量を用いてオゾン用マスフローコントローラ６１、６２の流量検査を行い、キャリブレーションを行っている。以下、このような酸素を用いたキャリブレーションであっても、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２のキャリブレーションを正確に行える理由について説明する。
【００３７】
図３において、Ｏ３、１０ｖｏｌ％Ｏ３／Ｏ２、Ｏ２の比重及びガス密度が示されている。まず、オゾン発生器１０から吐出されるオゾンの濃度は、５〜１５ｖｏｌ％であり、残りの８５〜９５％は酸素が占める。つまり、オゾン発生器１０で発生されるオゾンは、酸素が主成分であり、比重等は酸素に相当に近似したものになる。図３において、１０ｖｏｌ％Ｏ３／Ｏ２の比重は１．１７であり、オゾンの比重１．６６よりも、酸素の比重１．１１に近い。更に、ガス密度においても、１０ｖｏｌ％Ｏ３／Ｏ２のガス密度は１．５０であり、オゾンのガス密度２．１４（０℃、０．１ＭＰａの条件下）よりも、酸素のガス密度１．４３の方が近い（０℃、０．１ＭＰａの条件下）。よって、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２で計測するオゾン及び酸素の混合ガスの質量流量は、酸素単独の質量流量と近似しており、酸素ガス単独でキャリブレーションを行った場合でも、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２のキャリブレーションを正確に行うことができる。
【００３８】
このように、本実施形態に係るオゾン用マスフローコントローラの検査方法は、このような性質を利用したものであり、オゾン単独でオゾン用マスフローコントローラの出力の検査が行えなくても、酸素を用いて正確にオゾン用マスフローコントローラ６１、６２の出力検査及び較正を行うことができる。
【００３９】
図４は、本実施形態に係るオゾン用マスフローコントローラの検査方法を、基板処理のプロセスに適用する場合の例をより詳細に説明するための図である。
【００４０】
図４において、オゾン用マスフローコントローラ検査装置が基板処理装置に適用された例が示されている。図４においては、図１と同様に、オゾナイザ３０内のオゾン発生器１０に接続されたオゾン供給元配管５０からオゾン供給分岐配管５１、５２が分岐して設けられて各々処理容器８０に接続され、オゾン供給分岐配管５１、５２に各々オゾン用マスフローコントローラ６１、６２が設けられている。処理容器８０内には、ウエハＷが設けられ、ウエハＷにオゾン供給手段９１、９２からオゾンを供給し、基板処理を行う構成となっている。
【００４１】
ここで、オゾンは、３Ｏ２→２Ｏ３の化学式で発生するため、３分子の酸素から、２分子のオゾンしか発生しない。よって、オゾン発生器１０に供給される酸素の流量と、オゾン発生器１０から出力されるオゾン（及び酸素）の流量は、当然に一致しない。つまり、オゾン発生器１０がオンの場合には、酸素用マスフローコントローラ２０の酸素流量の出力と、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２の流量の出力の合計は一致せず、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２のオゾン（及び酸素）流量の出力の合計は、酸素用マスフローコントローラ２０の酸素流量の出力よりも必ず小さくなる。
【００４２】
よって、酸素用マスフローコントローラ２０の流量設定が例えば５ｓｌｍの場合に、オゾン用マスフローコントローラ６１の流量設定を３ｓｌｍ、オゾン用マスフローコントローラ６２の流量設定を２ｓｌｍとすると、オゾンの流量は合計で５ｓｌｍは無いので、オゾン用マスフローコントローラ６２で流量調整弁が全開となる制御が行われてしまい、それでも設定流量が出力できないので、ハンチングが発生してしまう。
【００４３】
そこで、そのような事態を回避すべく、一方を主マスフローコントローラとして必要な流量設定を行い、他方を従マスフローコントローラとし、こちらは流量設定を行わず、主マスフローコントローラの設定流量以外の余ったオゾンを供給するように設定する。これにより、ハンチングを防止するとともに、主マスフローコントローラにおいては、正確に設定流量でオゾンを供給することが可能となる。
【００４４】
よって、図４においては、例えば、オゾン用マスフローコントローラ６１を主マスフローコントローラとして設定し、オゾン用マスフローコントローラ６２を従マスフローコントローラとして設定するようにする。酸素用マスフローコントローラ２０の流量が５ｓｌｍのときに、オゾン用マスフローコントローラ６１を４ｓｌｍに設定し、オゾン用マスフローコントローラ６２の流量を設定せずに流量調整弁を絞り、オゾン用マスフローコントローラ６１で供給されない４ｓｌｍを超える余ったオゾンを供給するような構成とすれば、正確な流量で、ハンチングを発生させること無く処理容器８０へのオゾン供給を行うことができる。
【００４５】
図４においては、オゾン供給分岐配管５１、５２の２本のみの場合を例示しているが、オゾン供給分岐配管５１、５２は、オゾン発生器１０の能力に応じて、３本以上の任意の本数（ｎ本）を設定でき、その数に応じてオゾン用マスフローコントローラ６１、６２を配置することができる。その場合であっても、（ｎ−１）本のオゾン供給分岐配管の流量を、合計が酸素用マスフローコントローラ２０の流量より小さくなるように主マスフローコントローラの流量として設定し、１本を従マスフローコントローラとして流量設定を行わず、流量調整弁を絞って調整用とすれば、（ｎ−１）本については正確な流量でオゾンを供給できる。
【００４６】
なお、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２のキャリブレーションについては上述の通りであり、基板処理の間にオゾン発生器１０を停止させ、酸素を供給した状態で、酸素用マスフローコントローラ２０の出力、主マスフローコントローラとなるオゾン用マスフローコントローラ６１の出力を計測し、事前工程で計測した酸素用マスフローコントローラ２０の出力及びオゾン用マスフローコントローラ６１の出力と比較することにより、オゾン用マスフローコントローラ６１の出力が正確か否かを検査する。その際、従マスフローコントローラとなるオゾン用マスフローコントローラ６２の検査は行ってもよいし、行わなくてもよいが、従マスフローコントローラについても正確な状態を把握するためには、行うことが好ましい。また、従マスフローコントローラについて、出力検査を行わない場合には、マスフローコントローラを配置せず、バルブのみを配置する構成としてもよい。
【００４７】
また、検査工程は、基板処理の合間であって、オゾン発生器１０をオフとして何ら問題無い状態であれば、どの時期に行ってもよいが、基板処理を連続的に行う回数を予め定めておき、その回数毎に検査工程を行うようにしてもよい。
【００４８】
本実施形態に係るオゾン用マスフローコントローラの検査方法によれば、基板処理工程を停止させること無く、基板が処理容器８０から搬出された基板処理の合間にオゾン用マスフローコントローラ６１、６２の検査を行うことができるので、生産性を高めることができる。また、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２の出力に問題があった場合には、オゾン用マスフローコントローラ６１、６２のキャリブレーションを実施し、正常な状態に戻すことができるので、オゾンの供給流量を正確にして基板処理を行うことができ、基板処理の品質を高めることができる。
【００４９】
なお、上述のように、基板処理は、成膜処理以外の処理であってもよいし、基板処理以外のオゾン供給を行う処理であれば、種々の処理であってよい。
【００５０】
以上、本発明の好ましい実施形態について詳説したが、本発明は、上述した実施形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、上述した実施形態に種々の変形及び置換を加えることができる。
【符号の説明】
【００５１】
１０    オゾン発生器
２０    酸素用マスフローコントローラ
３０    オゾナイザ
４０    酸素供給配管
５０    オゾン供給元配管
５１、５２    オゾン供給分岐配管
６１、６２    オゾン用マスフローコントローラ
７０    制御部
７１    記憶部
７２    記録媒体
８０    処理容器
９１、９２    オゾン供給手段
【図１】
2018195102.tif 000003
【図２】
2018195102.tif 000004
【図３】
2018195102.tif 000005
【図４】
2018195102.tif 000006