(57)【要約】【課題】基板を支持するステージの各ポストの位置調整を向上させることにある。【解決手段】回転治具によって調整される、基板を支持するためのステージであって、ベースと、前記ベースに対して位置決めされ、前記基板を支持するための複数のポストと、を備え、前記ベースは、前記ベースの中心にあり、前記回転治具の中心と係合する第１係合部と、前記第１係合部から離間した複数の第２係合部と、を有し、前記ポストは、前記基板を支持するように構成された支持部と、前記支持部と偏心して設けられ、前記ベースの前記第２係合部に回転可能に係合される第３係合部と、前記回転治具と係合する第４係合部と、を有し、前記回転治具が前記ベースの前記第１係合部の周りを回転可能である、ステージ。【選択図】図２４
2018032727.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転治具によって調整される、基板を支持するためのステージであって、
ベースと、
前記ベースに対して位置決めされ、前記基板を支持するための複数のポストと、
を備え、
前記ベースは、
前記回転治具の中心と係合する第１係合部と、
前記第１係合部から離間した複数の第２係合部と、を有し、
前記ポストは、
前記基板を支持するように構成された支持部と、
前記支持部と偏心して設けられ、前記ベースの前記第２係合部に回転可能に係合される第３係合部と、
前記回転治具の外周側にある外周係合部と係合する第４係合部と、を有し、
前記回転治具が前記ベースの前記第１係合部の周りを回転可能である、
ステージ。
【請求項２】
請求項１に記載のステージにおいて、
前記第１係合部は前記ベースに設けられた穴であり、前記回転治具はその中心に前記穴に回転可能に挿入可能な挿入突起を有するか、または、前記第１係合部は挿入突起であり、前記回転治具はその中心に前記挿入突起に回転可能に嵌合可能な穴を有する、ステージ。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のステージにおいて、
前記第２係合部は挿入穴であり、前記第３係合部は前記挿入穴に回転可能に挿入可能な挿入軸部であるか、または、前記第２係合部は挿入軸部であり、前記第３係合部は前記挿入突起に回転可能に嵌合可能な挿入穴である、ステージ。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れかに記載のステージにおいて、
前記第４係合部は、前記ポストの軸に略直交する方向に延びる突起であり、該突起が前記回転治具の前記外周係合部と係合するように構成される、ステージ。
【請求項５】
請求項１乃至３の何れかに記載のステージにおいて、
前記第４係合部は、前記ポストの側面に設けられた凹部であり、前記凹部に前記回転治具の前記外周係合部が係合する、ステージ。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れかに記載のステージにおいて、
前記ポストの前記支持部は、
前記ポストの前記ベースへの挿入側とは反対側に向かって縮径する第１支持区画と、
前記第１支持区画の前記挿入側とは反対側に位置する略一定の径を有する第２支持区画と、
を有するステージ。
【請求項７】
基板を支持するためのステージを調整するための治具であって、
前記ステージのベースに対して位置決めされ前記基板を支持するための複数のポストに係合し、各ポストを回転させる回転治具を備え、
前記回転治具は、
前記ベースに回転可能に係合する中心係合部と、
前記中心係合部の外周側にある前記複数のポストに係合する複数の外周係合部と、
を有する、治具。
【請求項８】
請求項７に記載の治具において、
前記回転治具は、
前記中心係合部を備えた本体と、
前記本体から径方向外側に延び、先端に前記外周係合部を備える複数の延長部と、有する治具。
【請求項９】
請求項７又は８に記載の治具において、
前記回転治具は、前記本体から径方向外側に延び、前記回転治具を回転させるためのハンドルを更に有する、治具。
【請求項１０】
請求項９に記載の治具において、
前記ハンドルは、前記延長部よりも径方向外方まで延びている、治具。
【請求項１１】
請求項７乃至１０の何れかに記載の治具において、
前記ステージに支持される前記基板の径よりも大きい径を有する調整用基板を更に備える、治具。
【請求項１２】
基板を支持するためのステージの調整方法であって、
ベースと複数のポストとを備え、前記ポストは前記基板の支持部及び回転軸を有し、支持部が回転軸に対して偏心しているステージを準備するステップと、
各ポストを前記ベースに回転可能に係合するステップと、
前記ベースに回転治具の中心を回転可能に係合するステップと、
前記基板の径よりも大きい径を有する調整用基板を前記ポストによって支持するステップと、
前記ポストに前記回転治具を係合させた状態で、前記回転治具を回転させることによって前記各ポストを回転させて、前記調整用基板と前記ポストとの当接位置を調整するステップと、
を含む方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の方法において、
前記調整用基板と前記ポストとの当接位置を調整するステップの後に、前記複数のポストを前記ベースに対して固定するステップを更に含む、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウェハ等の基板を支持又は保持するためのステージ、ステージの調整方法、及び、ステージを調整するための治具に関する。なお、基板には、ガラス基板上に半導体ウェハを接着したワークも含まれる。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造装置では、半導体ウェハ等の基板に何らかの処置(化学的・機械的な処理、次工程へ搬送)を施す場合、装置内で基板を現在の位置から次の工程の位置へ搬送する必要がある。このとき、基板は、基板搬送用ロボット、または様々な動力装置を利用した搬送機構を使って移動される。基板の移動先には基板を置く為のステージが用意されており、そこから更に、搬送用ロボットが基板を取り出して別の場所へ移動させ、又は、ステージ自体が移動して基板を別の場所へ移動させる。このように、ステージ上の基板は次の受け渡しを確実に実施する為、ステージ上で位置がずれない様に保持される必要がある。
【０００３】
最も簡単なステージの構造としては、段差を付けた支持部品（例えば、ポスト）を基板の周囲に配置されるように板状の台座（ベース）に数個取付けるものがある。このポストは製作が簡単かつ基板との接触面積を極力小さくする為、円筒状にする場合が多い。そして、ポストと基板との隙間は極力小さくした方が基板の位置ずれが小さく、基板の受け渡しを確実に実施できる。
【０００４】
従来、この様な構造のステージでは、ポストと基板との隙間はポストの加工精度と、ポストを固定するベースの穴位置の加工精度に依存していた。従って、各々の部品の機械加工精度の影響でポストと基板との隙間の大きさがばらつき、基板の位置ずれが大きくなってしまう場合があった。そのようなステージを使用すると、基板を上手く受け渡せず、搬送ミスとなってしまう場合があった。
【０００５】
なお、従来のステージの例としては、特許文献１及び特許文献２に記載されたものがある。特許文献１には、搬送用のハンド１の収納部１１の周囲に８カ所のガイド片２３を設け、これらのガイド片２３でウェハ１００を案内し、支持する構成が記載されている（特許文献１の図１）。しかし、この構成では、ガイド片２３の加工精度等に起因してガイド片２３とウェハ１００との隙間がばらつくおそれがある。また、特許文献２の図２３及び図２４には、ベースプレート１３１の四隅に設けられたポスト１３２によってウェハＷを支持する構成の仮置部１３０が記載されている。この構成も、ポスト１３２の加工精度、取付穴の加工精度に起因して、ポスト１３２とウェハＷとの間の隙間がばらつくおそれがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平９−２７７１６１号公報
【特許文献２】国際公開第２００７／０９９９７６号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
半導体製造装置において基板の搬送ミスを低減するためには、基板を保持するステージ（ベースにポストを取付けたもの）において、基板とポストの隙間を所定の値に保ち、基板のずれを小さくしなければならない。ずれを小さくする為に高精度の機械加工を施した
部品を使用する場合は、コストが増加するという問題が発生する。
【０００８】
また、各々の部品の加工精度を向上させれば隙間のばらつきを小さくする事は可能であるが、複数のステージにて隙間の大きさを完全に一致させることは困難である。
【０００９】
更に、近年、半導体製造装置に使用されるウェハは大径化する傾向にあり、ポストを取り付けるベースの穴を十分な精度で加工することが、従来よりも困難になっている。穴の相互の間隔が小さい場合より大きい場合の方が、同じ精度（±〜mm以内）に収めるのが難しいためである。
【００１０】
また、ポストに可動域を設け、調整することで、基板の位置のずれを小さくする方法も考えられる。この場合、複数のポストを均等に動かして調整しないと、ベースの中心と基板の中心がずれてしまう。また、調整する作業者の技量により出来不出来が発生する他、熟練した作業者であっても、全ての製品において同一の調整とする事は困難である。
本発明の目的は、上述した課題の少なくとも一部を解決することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
［１］  本発明の一実施形態は、回転治具によって調整される、基板を支持するためのステージに関する。ステージは、ベースと、前記ベースに対して位置決めされ、前記基板を支持するための複数のポストと、を備える。前記ベースは、前記回転治具の中心と係合する第１係合部と、前記第１係合部から離間した複数の第２係合部と、を有する。前記ポストは、前記基板を支持するように構成された支持部と、前記支持部と偏心して設けられ、前記ベースの前記第２係合部に回転可能に係合される第３係合部と、前記回転治具の外周側にある外周係合部と係合する第４係合部と、を有する。前記回転治具が前記ベースの前記第１係合部の周りを回転可能である。
【００１２】
このステージによれば、回転治具の中心をステージの第１の位置（基板の中心と位置合わせする特定の位置、基板位置決め位置）に合わせた状態で回転治具を回転させ、回転治具の外周係合部によって各ポストを同時かつ均等に回転させることができる。したがって、各ポストとステージの第１の位置との間の最短距離を各ポストで均一に保持した状態で、各ポストを回転して、各ポストとステージの第１の位置との間の距離を調整することが可能である。実際の工程に使用する基板よりも若干半径が大きい調整用基板をポストに保持させた状態で回転治具を回転して、調整用基板と各ポストとの当接位置を調整すれば、各ポストと実際の工程に使用する基板との間の隙間が各ポスト間で均一になるように調整することが可能である。第１の位置は、例えば、ステージ又はベースの中心または中心線上の位置であるが、これらに限定されず、第１の位置の周りに基板を支持するためのポストを配置できる限り、ステージ又はベースの任意の位置とすることが可能である。
製造後のステージにおいてポストの回転位置を調整することによって基板の正確な位置決めを行うことができるので、ステージの製造において高精度の機械加工に依存する場合に比較して、コストの増加を抑制または防止することができる。
また、回転治具により各ポストを同時かつ均等に回転させることができるので、複数のステージにて隙間の大きさのばらつきを抑制または防止することができる。
更に、製造後のステージにおいてポストの回転位置を調整することによって基板の正確な位置決めを行うことができるので、大径の基板に対しても、ポストの調整精度のばらつきを抑制または防止することができる。
また、回転治具により各ポストを同時に回転させるので、複数のポストを均等に回転することができ、ベースの第１の位置と基板の中心がずれることを抑制または防止できる（複数のステージにおいてベース上の特定の位置（第１の位置）に基板を置くことができる）。また、調整する作業者の技量によらず、製品ごとの調整のばらつきを抑制または防止することができる。
【００１３】
［２］  ［１］に記載のステージにおいて、前記第１係合部は前記ベースに設けられた穴であり、かつ前記回転治具はその中心に前記穴に回転可能に挿入可能な挿入突起を有するか、または、前記第１係合部は挿入突起であり、かつ前記回転治具はその中心に前記挿入突起に回転可能に嵌合可能な穴を有する。
回転治具がベースに対して回転可能な係合は、穴と挿入突起との組み合わせによって容易に行うことが可能である。
【００１４】
［３］  ［１］又は［２］に記載のステージにおいて、前記第２係合部は挿入穴であり、前記第３係合部は前記挿入穴に回転可能に挿入可能な挿入軸部であるか、または、前記第２係合部は挿入軸部であり、前記第３係合部は前記挿入突起に回転可能に嵌合可能な挿入穴である。
ポストがベースに対して回転可能な係合は、挿入穴と挿入軸部との組み合わせによって容易に行うことが可能である。
【００１５】
［４］  ［１］乃至［３］の何れかに記載のステージにおいて、前記第４係合部は、前記ポストの軸に略直交する方向に延びる突起であり、該突起が前記回転治具の前記外周係合部と係合するように構成される。
この構成によれば、簡易な構成で回転治具とポストとの間の係合行うことができ、回転治具の回転を確実にポストの回転として伝達することができる。
【００１６】
［５］  ［１］乃至［３］の何れかに記載のステージにおいて、前記第４係合部は、前記ポストの側面に設けられた凹部であり、前記凹部に前記回転治具の前記外周係合部が係合する。
この構成によれば、簡易な構成で回転治具とポストとの間の係合行うことができ、回転治具の回転を確実にポストの回転として伝達することができる。
【００１７】
［６］  ［１］乃至［５］の何れかに記載のステージにおいて、前記ポストの前記支持部は、前記ポストの前記ベースへの挿入側とは反対側に向かって縮径する第１支持区画と、前記第１支持区画の前記挿入側とは反対側に位置する略一定の径を有する第２支持区画と、を有する。
この場合、調整用基板の外縁がポストの第２支持区画に当接するように調整し、実際の工程で使用する基板を第１支持区画によって支持することができる。よって、調整用基板によるポストの調整位置を容易かつ正確に確認することができる。
【００１８】
［７］  本発明の一実施形態は、基板を支持するためのステージを調整するための治具に関する。この治具は、前記ステージのベースに対して位置決めされ前記基板を支持するための複数のポストに係合し、各ポストを回転させる回転治具を備える。前記回転治具は、前記ベースに回転可能に係合する中心係合部と、前記中心係合部の外周側にある前記複数のポストに係合する複数の外周係合部と、を有する。
【００１９】
この治具によれば、回転治具の中心をステージの第１の位置（基板の中心と位置合わせする特定の位置、基板位置決め位置）に合わせた状態で回転治具を回転させ、回転治具の外周係合部によって各ポストを同時かつ均等に回転させることができる。したがって、各ポストとステージの第１の位置との間の最短距離を各ポストで均一に保持した状態で、各ポストを回転して、各ポストとステージの第１の位置との間の最短距離を調整することが可能である。実際の工程に使用する基板よりも若干半径が大きい調整用基板をポストに保持させた状態で回転治具を回転して、調整用基板と各ポストとの当接位置を調整すれば、各ポストと実際の工程に使用する基板との間の隙間が各ポスト間で均一になるように調整することが可能である。第１の位置は、例えば、ステージ又はベースの中心または中心線
上の位置であるが、これらに限定されず、第１の位置の周りに基板を支持するためのポストを配置できる限り、ステージ又はベースの任意の位置とすることが可能である。
製造後のステージにおいてポストの回転位置を調整することによって基板の正確な位置決めを行うことができるので、ステージの製造において高精度の機械加工に依存する場合に比較して、コストの増加を抑制または防止することができる。
また、回転治具により各ポストを同時かつ均等に回転させることができるので、複数のステージにて隙間の大きさのばらつきを抑制または防止することができる。
更に、製造後のステージにおいてポストの回転位置を調整することによって基板の正確な位置決めを行うことができるので、大径の基板に対しても、ポストの調整精度のばらつきを抑制または防止することができる。
また、回転治具により各ポストを同時に回転させるので、複数のポストを均等に回転することができ、ベースの第１の位置と基板の中心がずれることを抑制または防止できる（複数のステージにおいてベース上の特定の位置（第１の位置）に基板を置くことができる）。また、調整する作業者の技量によらず、製品ごとの調整のばらつきを抑制または防止することができる。
【００２０】
［８］  ［７］に記載の治具において、前記回転治具は、前記中心係合部を備えた本体と、前記本体から径方向外側に延び、先端に前記外周係合部を備える複数の延長部と、有する。
この場合、外周係合部を備えた延長部を少なくともポストの数だけ設ければよいので、回転治具の重量及びコストを低減することができる。
【００２１】
［９］  ［７］又は［８］に記載の治具において、前記回転治具は、前記本体から径方向外側に延び、前記回転治具を回転させるためのハンドルを更に有する。
作業者がハンドルを把持して回転治具を回転させることができるので、作業者の調整作業が容易になる。
【００２２】
［１０］  ［９］に記載の治具において、前記ハンドルは、前記延長部よりも径方向外方まで延びている。
ポストに係合する延長部よりもハンドルが径方向外方まで延びているため、作業者によるハンドルの把持及び回転作業が容易である。
【００２３】
［１１］  ［６］乃至［９］の何れかに記載の治具において、前記ステージに支持される前記基板の径よりも大きい径を有する調整用基板を更に備える。
調整用基板を使用してポストの回転位置を調整することによって、実際の工程で使用する基板と、ポストとの間の隙間を正確かつ容易に調整することができる。
【００２４】
［１２］  本発明の一実施形態は、基板を支持するためのステージの調整方法に関する。この調整方法は、ベースと複数のポストとを備え、前記ポストは前記基板の支持部及び回転軸を有し、支持部が回転軸に対して偏心しているステージを準備するステップと、各ポストを前記ベースに回転可能に係合するステップと、前記ベースに回転治具の中心を回転可能に係合するステップと、前記基板の径よりも大きい径を有する調整用基板を前記ポストによって支持するステップと、前記ポストに前記回転治具を係合させた状態で、前記回転治具を回転させることによって前記各ポストを回転させて、前記調整用基板と前記ポストとの当接位置を調整するステップと、を含む。
【００２５】
この調整方法によれば、回転治具の中心をステージの第１の位置（基板の中心と位置合わせする特定の位置、基板位置決め位置）に合わせた状態で回転治具を回転させ、回転治具の外周係合部によって各ポストを同時かつ均等に回転させることができる。したがって、各ポストとステージの第１の位置との間の最短距離を各ポストで均一に保持した状態で
、各ポストを回転して、各ポストとステージの第１の位置との間の最短距離を調整することが可能である。実際の工程に使用する基板よりも若干半径が大きい調整用基板をポストに保持させた状態で回転治具を回転して、調整用基板と各ポストとの当接位置を調整すれば、各ポストと実際の工程に使用する基板との間の隙間が各ポスト間で均一になるように調整することが可能である。第１の位置は、例えば、ステージ又はベースの中心または中心線上の位置であるが、これらに限定されず、第１の位置の周りに基板を支持するためのポストを配置できる限り、ステージ又はベースの任意の位置とすることが可能である。
製造後のステージにおいてポストの回転位置を調整することによって基板の正確な位置決めを行うことができるので、ステージの製造において高精度の機械加工に依存する場合に比較して、コストの増加を抑制または防止することができる。
また、回転治具により各ポストを同時かつ均等に回転させることができるので、複数のステージにて隙間の大きさのばらつきを抑制または防止することができる。
更に、製造後のステージにおいてポストの回転位置を調整することによって基板の正確な位置決めを行うことができるので、大径の基板に対しても、ポストの調整精度のばらつきを抑制または防止することができる。
また、回転治具により各ポストを同時に回転させるので、複数のポストを均等に回転することができ、ベースの第１の位置と基板の中心がずれることを抑制または防止できる（複数のステージにおいてベース上の特定の位置（第１の位置）に基板を置くことができる）。また、調整する作業者の技量によらず、製品ごとの調整のばらつきを抑制または防止することができる。
【００２６】
［１３］  ［１２］に記載の方法において、前記調整用基板と前記ポストとの当接位置を調整するステップの後に、前記複数のポストを前記ベースに対して固定するステップを更に含む。
調整用基板を使用してポストの回転位置を調整した後に、ポストをベースに固定することによって、実際の工程で使用する基板と各ポストとの間の隙間を均一にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】一実施形態による例示的な研磨装置の全体構成を示す平面図である。
【図２】研磨装置の概略を示す斜視図である。
【図３】例示的なスイングトランスポータを示す斜視図である。
【図３Ａ】仮置部を示す斜視図である。
【図３Ｂ】仮置部が下降した状態を示す斜視図である。
【図４Ａ】スイングトランスポータの把持部を示す上面図である。
【図４Ｂ】スイングトランスポータの把持部の側面図である。
【図４Ｃ】スイングトランスポータの把持部のコマの拡大側面図である。
【図５】例示的なリニアトランスポータの正面図である。
【図６】リニアトランスポータの平面図である。
【図７Ａ】リニアトランスポータの搬送ステージの上面図である。
【図７Ｂ】リニアトランスポータの搬送ステージの側面図である。
【図７Ｃ】リニアトランスポータの搬送ステージのピンの拡大側面図である。
【図８】例示的な反転機を示す斜視図である。
【図９】反転機の平面図である。
【図１０】反転機の側面図である。
【図１１】反転機の開閉機構を示す縦断面図である。
【図１２】反転機の開閉機構を示す縦断面図であり、ウェハをリリースする状態を示す図である。
【図１３】リフタを示す縦断面図である。
【図１４Ａ】リフタのステージを示す上面図である。
【図１４Ｂ】リフタのステージを示す側面図である。
【図１４Ｃ】リフタのステージの爪を示す部分拡大側面図である。
【図１５】洗浄部の搬送ユニットを示す斜視図である。
【図１６】比較例に係るステージの斜視図である。
【図１７】比較例に係るステージの一部切り欠き側面図である。
【図１８Ａ】一実施例に係るポストの挿入側と反対側からみた斜視図である。
【図１８Ｂ】一実施例に係るポストの挿入側からみた斜視図である。
【図１９】ベースの斜視図である。
【図２０Ａ】基板を支持した状態のステージの平面図である。
【図２０Ｂ】基板を支持した状態のステージの斜視図である。
【図２１Ａ】回転治具の第１側からみた斜視図である。
【図２１Ｂ】回転治具の第２側からみた斜視図である。
【図２２】調整用基板の斜視図である。
【図２３】治具が設置されたステージの平面図である。
【図２４】治具が設置されたステージの斜視図である。
【図２５】回転治具及び調整用基板を設置したステージの斜視図である。
【図２６】回転治具及び調整用基板を設置したステージの平面図である。
【図２７】回転治具及び調整用基板によるポストの回転位置調整を示すステージの平面図である。
【図２８】ベースの第２面側からみた斜視図であり、締結部材によるポストの固定を示す。
【図２９】ベースの第２面側における締結部材の拡大斜視図である。
【図３０】実際の工程で使用する基板を支持した状態の調整後のステージの平面図である。
【図３１】実際の工程で使用する基板を支持した状態のポストの拡大平面図である。
【図３２】回転治具とベースとの係合構造の変形例を示す斜視図である。
【図３３】ポストとベースとの係合構造の変形例を示す斜視図である。
【図３４】回転治具に対するポストの係合構造の他の例を示す斜視図である。
【図３５】回転治具の中心がステージの中心と異なる位置にある場合のステージの平面図である。
【図３６Ａ】回転治具の他の例を示す斜視図である。
【図３６Ｂ】回転治具の他の例を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、本発明の実施形態を添付図面とともに説明する。一例として、国際公開第２００７／０９９９７６号パンフレット（特許文献２）に開示されるものと類似の半導体ウェハの研磨装置を取り挙げる。なお、添付図面において、同一または相当する構成要素には、同一の符号を付して重複した説明を省略する。また、以下に説明される研磨装置において、搬送ステージに関する構造以外については、公知の構成または国際公開第２００７／０９９９７６号パンフレットに開示されている構成を採用できるので、それらの詳細な説明は省略する。
【００２９】
（第１実施形態）
図１は、一実施形態による例示的な研磨装置の全体構成を示す平面図である。図２は、研磨装置の概略を示す斜視図である。図１に示すように、研磨装置は、略矩形状のハウジング１を備えており、ハウジング１の内部は隔壁１ａ，１ｂ，１ｃによってロード／アンロード部２と研磨部３（３ａ，３ｂ）と洗浄部４とに区画されている。これらのロード／アンロード部２、研磨部３ａ，３ｂ、および洗浄部４は、それぞれ独立に組み立てられ、独立に排気されるものである。なお、以下の説明では、半導体ウェハを例に挙げて説明するが、ガラス基板上に半導体ウェハを接着したワーク、その他の基板に適用可能である。
【００３０】
ロード／アンロード部２は、多数の半導体ウェハをストックするウェハカセットを載置する２つ以上（本実施形態では４つ）のフロントロード部２０を備えている。これらのフロントロード部２０は、研磨装置の幅方向（長手方向と垂直な方向）に隣接して配列されている。フロントロード部２０には、オープンカセット、ＳＭＩＦ（Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ  Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ）ポッド、またはＦＯＵＰ（Ｆｒｏｎｔ  Ｏｐｅｎｉｎｇ  Ｕｎｉｆｉｅｄ  Ｐｏｄ）を搭載することができる。ここで、ＳＭＩＦ、ＦＯＵＰは、内部にウェハカセットを収納し、隔壁で覆うことにより、外部空間とは独立した環境を保つことができる密閉容器である。
【００３１】
研磨部３は、半導体ウェハの研磨が行われる領域であり、第１研磨ユニット３０Ａと第２研磨ユニット３０Ｂとを内部に有する第１研磨部３ａと、第３研磨ユニット３０Ｃと第４研磨ユニット３０Ｄとを内部に有する第２研磨部３ｂとを備えている。これらの第１研磨ユニット３０Ａ、第２研磨ユニット３０Ｂ、第３研磨ユニット３０Ｃ、および第４研磨ユニット３０Ｄは、図１に示すように、装置の長手方向に沿って配列されている。
【００３２】
図１に示すように、第１研磨ユニット３０Ａは、研磨面を有する研磨テーブル３００Ａと、半導体ウェハを保持しかつ半導体ウェハを研磨テーブル３００Ａに対して押圧しながら研磨するためのトップリング３０１Ａと、研磨テーブル３００Ａに研磨液やドレッシング液（例えば、水）を供給するための研磨液供給ノズル３０２Ａと、研磨テーブル３００Ａのドレッシングを行うためのドレッサ３０３Ａと、液体（例えば純水）と気体（例えば窒素）の混合流体または液体（例えば純水）を霧状にして、１または複数のノズルから研磨面に噴射するアトマイザ３０４Ａと、を備えている。また、同様に、第２研磨ユニット３０Ｂは、研磨テーブル３００Ｂと、トップリング３０１Ｂと、研磨液供給ノズル３０２Ｂと、ドレッサ３０３Ｂと、アトマイザ３０４Ｂとを備えており、第３研磨ユニット３０Ｃは、研磨テーブル３００Ｃと、トップリング３０１Ｃと、研磨液供給ノズル３０２Ｃと、ドレッサ３０３Ｃと、アトマイザ３０４Ｃとを備えており、第４研磨ユニット３０Ｄは、研磨テーブル３００Ｄと、トップリング３０１Ｄと、研磨液供給ノズル３０２Ｄと、ドレッサ３０３Ｄと、アトマイザ３０４Ｄとを備えている。
【００３３】
第１研磨部３ａの第１研磨ユニット３０Ａおよび第２研磨ユニット３０Ｂと洗浄部４との間には、長手方向に沿った４つの搬送位置（ロード／アンロード部２側から順番に第１搬送位置ＴＰ１、第２搬送位置ＴＰ２、第３搬送位置ＴＰ３、第４搬送位置ＴＰ４とする）の間でウェハを搬送する第１リニアトランスポータ５が配置されている。この第１リニアトランスポータ５の第１搬送位置ＴＰ１の上方には、ロード／アンロード部２の搬送ロボット２２から受け取ったウェハを反転する反転機３１が配置されており、その下方には上下に昇降可能なリフタ３２が配置されている。また、第２搬送位置ＴＰ２の下方には上下に昇降可能なプッシャ３３が、第３搬送位置ＴＰ３の下方には上下に昇降可能なプッシャ３４がそれぞれ配置されている。なお、第３搬送位置ＴＰ３と第４搬送位置ＴＰ４との間にはシャッタ１２が設けられている。
【００３４】
また、第２研磨部３ｂには、第１リニアトランスポータ５に隣接して、長手方向に沿った３つの搬送位置（ロード／アンロード部２側から順番に第５搬送位置ＴＰ５、第６搬送位置ＴＰ６、第７搬送位置ＴＰ７とする）の間でウェハを搬送する第２リニアトランスポータ６が配置されている。この第２リニアトランスポータ６の第６搬送位置ＴＰ６の下方にはプッシャ３７が、第７搬送位置ＴＰ７の下方にはプッシャ３８が配置されている。なお、第５搬送位置ＴＰ５と第６搬送位置ＴＰ６との間にはシャッタ１３が設けられている。
【００３５】
洗浄部４は、研磨後の半導体ウェハを洗浄する領域であり、ウェハを反転する反転機４
１と、研磨後の半導体ウェハを洗浄する４つの洗浄機４２〜４５と、反転機４１および洗浄機４２〜４５の間でウェハを搬送する搬送ユニット４６とを備えている。これらの反転機４１および洗浄機４２〜４５は、長手方向に沿って直列に配置されている。また、これらの洗浄機４２〜４５の上部には、クリーンエアフィルタを有するフィルタファンユニット（図示せず）が設けられており、このフィルタファンユニットによりパーティクルが除去されたクリーンエアが常時下方に向かって吹き出している。また、洗浄部４の内部は、研磨部３からのパーティクルの流入を防止するために研磨部３よりも高い圧力に常時維持されている。
【００３６】
図１に示すように、第１リニアトランスポータ５と第２リニアトランスポータ６との間には、第１リニアトランスポータ５、第２リニアトランスポータ６、および洗浄部４の反転機４１の間でウェハを搬送するスイングトランスポータ（ウェハ搬送機構）７が配置されている。このスイングトランスポータ７は、第１リニアトランスポータ５の第４搬送位置ＴＰ４から第２リニアトランスポータ６の第５搬送位置ＴＰ５へ、第２リニアトランスポータ６の第５搬送位置ＴＰ５から反転機４１へ、第１リニアトランスポータ５の第４搬送位置ＴＰ４から反転機４１にそれぞれウェハを搬送できるようになっている。
以下、それぞれの搬送機構について説明する。
【００３７】
スイングトランスポータ
スイングトランスポータ７について説明する。
【００３８】
図３は、例示的なスイングトランスポータを示す斜視図である。より詳細には、洗浄部４の反転機４１とともにスイングトランスポータ７を示す斜視図である。図３に示すように、本実施形態におけるスイングトランスポータ７は、第１研磨部３ａの筐体のフレーム１０２に設置されており、上下に延びる断面略コ字状のフレーム１０２の内部に配置されたロボシリンダ１０４と、ロボシリンダ１０４上を上下動するベースブラケット１０６と、ロボシリンダ１０４を上下動させるモータ１０７と、ベースブラケット１０６に取り付けられたモータカバー１０８と、モータカバー１０８内に収容されたモータの回転軸に取り付けられた旋回アーム１１０と、旋回アーム１１０の先端に取り付けられたウェハ把持機構１１２と、を備えている。
【００３９】
ウェハ把持機構１１２は、ウェハＷの周縁を両側から把持する一対の把持部１１４と、把持部１１４のロッド１１４ａをウェハＷの径方向（矢印Ａ）に開閉させる開閉機構１１６とを備えている。一対の把持部１１４は、ウェハＷの中心を挟んで互いに対向するように配置されており、それぞれの把持部１１４の両端には、ウェハＷの外周部に点接触するコマ（チャック機構）１１８がそれぞれ２つ設けられている。これらのコマ１１８は把持部１１４の両端から下方に突出して設けられている。
【００４０】
開閉機構１１６は、例えばエアシリンダにより構成されており、把持部１１４を互いに近接する方向に移動させてウェハＷを把持し、把持部１１４を互いに離間する方向に移動させてウェハＷをリリースする。
【００４１】
図４Ａは、スイングトランスポータの把持部を示す上面図である。図４Ｂは、スイングトランスポータの把持部の側面図である。図４Ｃは、スイングトランスポータの把持部のコマの拡大側面図である。
【００４２】
なお、図４Ａ、図４Ｂ、図４Ｃにおいて、図示および説明の明瞭化のために、把持部１１４以外の構造を省略している。図４Ｃに示されるように、コマ１１８は異なる傾斜角のテーパー部１２０ａ、１２０ｂが形成されており、それぞれのテーパー部１２０ａ、１２０ｂにおいて、寸法の異なるウェハ（Ｗ１、Ｗ２）を支持することができる。そのため、
かかる実施形態のスイングトランスポータ７においては、寸法の異なるウェハを搬送することができる。なお、本実施形態では、それぞれの把持部１１４に２つのコマ１１８を設けた例を説明したが、これに限られるものではなく、それぞれの把持部１１４に３つ以上のコマ１１８を設けてもよい。
【００４３】
このように、本実施形態のスイングトランスポータ７のウェハ把持機構１１２は、一対の把持部１１４を１方向に互いに反対向きに移動することによってウェハＷの把持とリリースとを行っているため、確実にウェハＷを把持することができる。
【００４４】
ロボシリンダ１０４内にはボール螺子とスライドガイドが設けられており、モータ１０７の駆動によりロボシリンダ１０４上のベースブラケット１０６が上下動するようになっている（矢印Ｂ）。これによりベースブラケット１０６とともにウェハ把持機構１１２が上下動するようになっており、フレーム１０２に沿ってウェハ把持機構１１２を上下動させる上下動機構がロボシリンダ１０４およびベースブラケット１０６によって構成されている。
【００４５】
また、旋回アーム１１０は、モータカバー１０８内のモータの駆動により該モータの回転軸を中心として旋回するようになっている（矢印Ｃ）。これにより、ウェハ把持機構１１２が、第１リニアトランスポータ５、第２リニアトランスポータ６、および洗浄部４の反転機４１の間で移動されるようになっており、フレーム１０２に隣接するモータ１０８の回転軸を中心としてウェハ把持機構１１２を旋回させる旋回機構がモータカバー１０８内のモータおよび旋回アーム１１０によって構成されている。なお、本実施形態では、フレーム１０２に隣接するモータカバー１０８内のモータの回転軸を中心としてウェハ把持機構１１２を旋回する例を説明したが、これに限られるものではなく、フレーム１０２を中心としてウェハ把持機構１１２を旋回してもよい。
【００４６】
ウェハＷを把持する場合には、把持部１１４を開いた状態で、把持部１１４のコマ１１８がウェハＷの下方に位置するまでベースブラケット１０６を下降させる。そして、開閉機構１１６を駆動して把持部１１４を互いに近接する方向に移動させ、把持部１１４のコマ１１８の最内周部をウェハＷの最外周よりも内側に位置させる。この状態で、ベースブラケット１０６を上昇させ、ウェハＷを把持部１１４のコマ１１８に把持した状態で持ち上げる。本実施形態では、コマ１１８とウェハＷとが点接触し、ウェハＷの接触面積を極力小さくすることができるので、ウェハを把持する際にウェハＷの表面に付着するごみを低減することができる。
【００４７】
リニアトランスポータ
次に、第１研磨部３ａの第１リニアトランスポータ５について説明する。
【００４８】
図５は、例示的なリニアトランスポータの正面図である。図６は、リニアトランスポータの平面図である。図７Ａは、リニアトランスポータの搬送ステージの上面図である。図７Ｂは、リニアトランスポータの搬送ステージの側面図である。図７Ｃは、リニアトランスポータの搬送ステージのピンの拡大側面図である。
【００４９】
図５および図６に示すように、第１リニアトランスポータ５は、直線往復移動可能な４つの搬送ステージＴＳ１，ＴＳ２，ＴＳ３，ＴＳ４を備えており、これらのステージは上下に２段の構成となっている。すなわち、下段には第１搬送ステージＴＳ１、第２搬送ステージＴＳ２、第３搬送ステージＴＳ３が配置され、上段には第４搬送ステージＴＳ４が配置されている。
【００５０】
下段の搬送ステージＴＳ１，ＴＳ２，ＴＳ３と上段の搬送ステージＴＳ４とは、図６の
平面図上では同じ軸上を移動するが、設置される高さが異なっているため、下段の搬送ステージＴＳ１，ＴＳ２，ＴＳ３と上段の搬送ステージＴＳ４とは互いに干渉することなく自由に移動可能となっている。第１搬送ステージＴＳ１は、反転機３１とリフタ３２とが配置された第１搬送位置ＴＰ１と、プッシャ３３が配置された（ウェハの受け渡し位置である）第２搬送位置ＴＰ２との間でウェハを搬送する。第２搬送ステージＴＳ２は、第２搬送位置ＴＰ２と、プッシャ３４が配置された（ウェハの受け渡し位置である）第３搬送位置ＴＰ３との間でウェハを搬送する。第３搬送ステージＴＳ３は、第３搬送位置ＴＰ３と第４搬送位置ＴＰ４との間でウェハを搬送する。また、第４搬送ステージＴＳ４は、第１搬送位置ＴＰ１と第４搬送位置ＴＰ４との間でウェハを搬送する。
【００５１】
図６に示すように、各搬送ステージＴＳ１，ＴＳ２，ＴＳ３，ＴＳ４には、それぞれ４本のピン（ポストとも称す）５０が固定されており、このピン５０により搬送ステージに載置されたウェハの外周縁がガイドされて位置決めされた状態でウェハが搬送ステージ上に支持されるようになっている。これらのピン５０は、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）やポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）などの樹脂から形成される。また、各搬送ステージには、透過型センサなどによりウェハの有無を検知するセンサ（図示せず）が構成されており、各搬送ステージ上のウェハの有無を検知することができるようになっている。
【００５２】
図７Ｃに示されるように、ピン５０は異なる傾斜角のテーパー部５０ａ、５０ｂが形成されており、それぞれのテーパー部５０ａ、５０ｂおいて、寸法の異なるウェハ（Ｗ１、Ｗ２）を支持することができる。そのため、かかる実施形態のリニアトランスポータ５においては、寸法の異なるウェハを搬送することができる。
【００５３】
反転機
次に、第１研磨部３ａの反転機３１について説明する。第１研磨部３ａの反転機３１は、ロード／アンロード部２の搬送ロボット２２のハンドが到達可能な位置に配置され、研磨前のウェハを搬送ロボット２２から受け取り、このウェハの上下を反転してリフタ３２に渡すものである。
【００５４】
図８は、例示的な反転機を示す斜視図である。図９は、反転機の平面図である。図１０は、反転機の側面図である。
【００５５】
図８から図１０に示すように、反転機３１は、ウェハＷの周縁を両側から把持する一対の円弧状の把持部３１０と、把持部３１０に取り付けられたシャフト３１４と、シャフト３１４をその軸方向に移動させ把持部３１０を開閉させる開閉機構３１２とを備えている。一対の把持部３１０は、ウェハＷの中心を挟んで互いに対向するように配置されており、それぞれの把持部３１０の両端には、ウェハＷの外周部に線接触するチャック部３１１がそれぞれ２つ設けられている。なお、本実施形態では、それぞれの把持部３１０に２つのチャック部３１１を設けた例を説明するが、これに限られるものではなく、それぞれの把持部３１０に３つ以上のチャック部３１１を設けてもよい。
【００５６】
図１１は、反転機の開閉機構を示す縦断面図である。図１２は、反転機の開閉機構を示す縦断面図であり、ウェハをリリースする状態を示す図である。
【００５７】
図１１に示すように、開閉機構３１２は、それぞれのシャフト３１４および把持部３１０を閉方向に付勢する圧縮ばね３１５と、それぞれのシャフト３１４に連結されたスライド式エアシリンダ３１３とを備えている。この開閉機構３１２は、圧縮ばね３１５により把持部３１０を互いに近接する方向に移動させてウェハＷを把持するようになっており、このときエアシリンダ３１３の可動部３１３ａはメカストッパ３１７に当接するようにな
っている。また、開閉機構３１２は、エアシリンダ３１３の駆動により把持部３１０を互いに離間する方向に移動させてウェハＷをリリースするようになっている。このときの状態を図１２に示す。
【００５８】
すなわち、ウェハＷを把持する場合には、片方のエアシリンダ３１３を加圧し、他方のエアシリンダ３１３は圧縮ばね３１５の付勢力のみによって閉じられる。このとき、加圧されたエアシリンダ３１３の可動部３１３ａのみがメカストッパ３１７に押し付けられ、その位置に固定される。このとき、圧縮ばね３１５によって付勢される他方のエアシリンダ３１３に接続された把持部３１０の位置がセンサ３１９により検出される。ウェハＷがない場合には、加圧されない方のエアシリンダ３１３はフルストローク位置にあり、センサ３１９の応答がないため、ウェハＷが把持されていないことが検出される。
【００５９】
上述したように、圧縮ばね３１５をウェハＷの把持に用い、エアシリンダ３１３をウェハＷのリリースに用いることにより、エアシリンダ３１３の空気圧によりウェハＷが破損することを防止することができる。
【００６０】
図８から図１０に示すように、開閉機構３１２には、ウェハＷの中心軸と垂直な軸周りに回転する回転軸３１６が取り付けられている。この回転軸３１６は反転機構３１８に連結されており、反転機構３１８により回転されるようになっている。したがって、反転機構３１８が駆動されると、回転軸３１６を中心として開閉機構３１２および把持部３１０が回転し、把持部３１０に把持したウェハＷが反転されるようになっている。
【００６１】
リフタ
次に、第１研磨部３ａのリフタ３２について説明する。第１研磨部３ａのリフタ３２は、搬送ロボット２２および第１リニアトランスポータ５がアクセス可能な位置に配置されており、これらの間でウェハを受け渡す受け渡し機構として機能する。すなわち、反転機３１により反転されたウェハを第１リニアトランスポータ５の第１搬送ステージＴＳ１または第４搬送ステージＴＳ４に受け渡すものである。
【００６２】
図１３は、リフタを示す縦断面図である。図１４Ａは、リフタのステージを示す上面図である。図１４Ｂは、リフタのステージを示す側面図である。図１４Ｃは、リフタのステージの爪を示す部分拡大側面図である。
【００６３】
リフタ３２は、ウェハを載置するステージ３２２と、ステージ３２２の上昇下降動作を行うシリンダ３２３とを備えており、シリンダ３２３とステージ３２２とはスライド可能なシャフト３２４で連結されている。図１４Ａに示されるように、ステージ３２２は複数の爪３２５に分かれていて、それぞれの爪３２５はオリフラ付きウェハを載置した場合でも搬送に影響しない範囲内にウェハを保持できるような間隔で配置される。この爪３２５は反転機３１のチャック部３１１と位相が一致しない向きに配置されている。つまりチャック部３１１がウェハを保持する第１のウェハエッジ部と、リフタ３２の爪３２５が保持する第２のウェハエッジ部は一致しない。また、反転機３１や第１リニアトランスポータ５とのウェハ受け渡しを行う爪３２５にはウェハが載置される面があり、それより上方はウェハが載置される際に搬送位置決め誤差を吸収し、ウェハを求芯するようにテーパー状になっている。図１４Ｃに示されるように、爪３２５はウェハ支持部材３２６を備える。好ましくは、ウェハ支持部材３２６は、エラストマ材料から形成されることが好ましい。より好ましくは、ウェハ支持部材３２６はデュロメータＤスケール３０から５０、最も好ましくは４０の硬度のエラストマ材料から形成することができる。
【００６４】
洗浄部の搬送ユニット
次に、洗浄部４の搬送ユニット４６について説明する。
【００６５】
図１５は、洗浄部の搬送ユニットを示す斜視図である。図１５に示すように、搬送ユニット４６は、洗浄機内のウェハを着脱自在に把持するウェハ把持機構としての４つのチャッキングユニット４６１〜４６４を備えており、これらのチャッキングユニット４６１〜４６４は、メインフレーム４６５から水平方向に延びるガイドフレーム４６６に取り付けられている。メインフレーム４６５には、鉛直方向に延びるボールねじ（図示せず）が取り付けられており、このボールねじに連結されたモータ４６８の駆動により、チャッキングユニット４６１〜４６４が上下に昇降するようになっている。したがって、モータ４６８およびボールねじは、チャッキングユニット４６１〜４６４を上下動させる上下動機構を構成する。
【００６６】
また、メインフレーム４６５には、洗浄機４２〜４５の並びと平行に延びるボール螺子４６９が取り付けられており、このボール螺子４６９に連結されたモータ４７０の駆動により、メインフレーム４６５およびチャッキングユニット４６１〜４６４が水平方向に移動するようになっている。したがって、モータ４７０およびボール螺子４６９は、チャッキングユニット４６１〜４６４を洗浄機４２〜４５の配列方向（チャッキングユニット４６１〜４６４の配列方向）に沿って移動させる移動機構を構成する。
【００６７】
仮置部
図３Ａは、仮置部を示す斜視図である。図３Ｂは、仮置部が下降した状態を示す斜視図である。
【００６８】
図３に示すように、洗浄部４の反転機４１は、把持部１１４の下方に仮置部１３０を有している。図３Ａに示すように、仮置部１３０は、矩形状のベースプレート１３１と、ベースプレート１３１の四隅に設けられたコマ（ポスト）１３２と、ベースプレート１３１を支持する支持筒１３３と、支持筒１３３を上下動するエアシリンダ１３４とを備えている。それぞれのポスト１３２の上部には略半球状の突起１３２ａが設けられており、この突起１３２ａによりウェハＷの位置決めがなされる。支持筒１３３はロッド１３５を介してエアシリンダ１３４に連結されており、エアシリンダ１３４の駆動により支持筒１３３とともにベースプレート１３１が上下動するようになっている。
【００６９】
ウェハＷが反転されると、仮置部１３０のエアシリンダ１３４が駆動され、ベースプレート１３１がウェハＷの受取位置まで上昇される。ベースプレート１３１がウェハＷの受取位置まで上昇されると、開閉機構３１２が駆動され、把持部３１０を互いに離間する方向に移動させる。これにより、ウェハＷが把持部３１０からリリースされ、ベースプレート１３１のポスト１３２上に載置される。その後、仮置部１３０のエアシリンダ１３４が駆動され、図３Ｂに示すように、ベースプレート１３１が所定の位置まで下げられる。この仮置部１３０のポスト１３２上に載置されたウェハＷは、後述する搬送ユニット４６に受け渡され、各洗浄機４２〜４５に順次搬送され、それぞれの洗浄機で洗浄される。
【００７０】
このような仮置部１３０は、洗浄前のウェハのバッファとして利用することができるので、プロセス全体のタクトタイムを向上することができる。また、反転機４１に洗浄機構を設ければ、各洗浄機４２〜４５による洗浄の前にウェハＷの仮洗浄を行うこともできる。
【００７１】
本実施形態では、洗浄機４２〜４５と同数のチャッキングユニットを用いている。チャッキングユニット４６１，４６２とチャッキングユニット４６３，４６４とは基本的に同一構造であり、メインフレーム４６５に対して対称であるため、以下ではチャッキングユニット４６１，４６２についてのみ説明する。
【００７２】
チャッキングユニット４６１は、ウェハＷを保持する開閉自在の１対のアーム４７１ａ，４７１ｂを備え、チャッキングユニット４６２は１対のアーム４７２ａ，４７２ｂを備えている。それぞれのチャッキングユニットのアームには、少なくとも３つ（本実施形態では４つ）のチャックコマ４７３が設けられている。これらのチャックコマ４７３によりウェハＷの周縁部を挟み込んで保持し、ウェハを次の洗浄機に搬送できるようになっている。
【００７３】
図１５に示すように、ガイドフレーム４６６には、チャッキングユニット４６１のアーム４７１ａ，４７１ｂとチャッキングユニット４６２のアーム４７２ａ，４７２ｂとを互いに近接する方向または互いに離間する方向に開閉するためのエアシリンダ４７４が設けられている。また、詳細には説明しないがエアシリンダ４７４の運動をアーム４７１ａ、４７１ｂ、４７２ａ、４７２ｂへ伝達するリンク機構などが設けられる。したがって、エアシリンダ４７４によりアーム４７１ａ，４７１ｂ，４７２ａ，４７２ｂを閉じることにより、ウェハＷの端面をアーム４７１ａ，４７１ｂ，４７２ａ，４７２ｂに挟み込んでウェハＷを保持することができるようになっている。このように、エアシリンダ４７４は、各チャッキングユニット４６１〜４６４のアームを互いに近接する方向または互いに離間する方向に開閉する開閉機構を構成する。なお、各チャッキングユニットは、エアシリンダのストロークを検知することによってウェハの有無を検知可能となっている。なお、真空吸着によりウェハを保持することとしてもよく、この場合には、真空圧力を測定することによってウェハ有無の検知を行うことができる。
【００７４】
また、チャッキングユニット４６１のアーム４７１ａ，４７１ｂとチャッキングユニット４６２のアーム４７２ａ，４７２ｂは、ガイドフレーム４６６に回転可能に設けられた回転軸４７５に取り付けられている。また、ガイドフレーム４６６には、回転軸４７５を中心としてこれらのアーム４７１ａ，４７１ｂ，４７２ａ，４７２ｂを回転させるエアシリンダ４７６が設けられている。このエアシリンダ４７６のロッドの先端にはピン４７７を中心として回転可能なリンク部材４７８が設けられている。このリンク部材４７８はロッド４７９を介して回転軸４７５に連結されている。このように、エアシリンダ４７６、リンク部材４７８、およびロッド４７９は、各チャッキングユニット４６１〜４６４のアームを、回転軸４７５を中心として回転させる回転機構を構成する。
【００７５】
ステージ
図１６は、比較例に係るステージの斜視図である。図１７は、比較例に係るステージの一部切り欠き側面図である。この比較例に係るステージ７００は、例えば、図３、図５、及び図７Ａ−７Ｃに示す第１〜第４搬送ステージＴＳ１〜ＴＳ４、図１、図３、図３Ａ、図３Ｂの仮置部１３０、及び／又は、図１３、及び図１４Ａ−１４Ｃのステージ３２２の代わりに使用することが可能である。ただし、ステージ７００は、上記に示したステージに限らず、半導体製造装置または半導体製造設備の任意の場所に配置されるものである。また、ステージ７００は、研磨装置に限らず、めっき装置等の半導体製造装置または半導体製造設備の任意の場所に配置されるものである。
【００７６】
ステージ７００は、ベース７１０と、ベース７１０に対して固定された複数のポスト７２０とを備えている。ポスト７２０は、支持部７２１と、本体部７２２と、挿入部７２３とを備え、支持部７２１と、本体部７２２と、挿入部７２３とは同軸上に形成されている。４つのポスト７２０が、ベース７１０の四隅に配置されている。半導体ウェハ等の基板Ｗは、ポスト７２０の支持部７２１において支持される。ベース７１０には、ポスト７２０に対応して挿入穴７１１が設けられている。挿入穴７１１は、基板Ｗの寸法に適合するようにポスト７２０を移動可能なように、基板Ｗの径方向に対応する方向に延びる長穴として形成されている。ベース７１０の挿入穴７１１の底部には、ベース７１０の反対側の面に貫通する、ボルト等の締結部材７３０挿入用の長穴７１３が形成されている。ステー
ジ７００の組み立ては、ポスト７２０の挿入部７２３をベース７１０の挿入穴７１１に挿入し、ベース７１０の反対側の面から締結部材７３０によってポスト７２０をベース７１０に仮止めする。仮止めの状態で、基板Ｗをポスト７２０に支持させて各ポスト７２０の位置を挿入穴７１１内で調整する。調整後に、締結部材７３０を締め付けて、各ポスト７２０をベース７１０にしっかりと固定する。このステージ７００では、各ポスト７２０の移動のさせ方によっては、図１６及び図１７に示すように、基板Ｗの中心Ｃｗの位置と、ステージ７００の中心Ｃｂの中心がずれてしまい、その結果、ステージ７００上における基板Ｗの位置がばらつく問題がある。言い換えれば、複数のステージ７００間で、基板Ｗの中心Ｃｗの位置がステージ７００上でばらつき、基板Ｗのステージ７００上での位置が一定にならない。ステージ７００上の基板Ｗの位置ずれの大きさによっては、基板Ｗの受け渡しが失敗するおそれがある。
【００７７】
図１８Ａは、一実施例に係るポストの挿入側と反対側からみた斜視図である。図１８Ｂは、一実施例に係るポストの挿入側からみた斜視図である。図１９は、ベースの斜視図である。図２０Ａは、基板を支持した状態のステージの平面図である。図２０Ｂは、基板を支持した状態のステージの斜視図である。
【００７８】
一実施形態に係るステージ５００は、ベース５１０と、ベース５１０に対して固定された複数のポスト５２０とを備えている。このステージ５００には、図２０Ａ及び図２０Ｂに示すように、半導体ウェハ等の基板Ｗが複数のポスト５２０上に載置され、支持または保持される。なお、基板Ｗは、位置合わせ用のオリエーションフラットやノッチ等を有する場合があるが、全体としては一定の半径Ｒ０を有する略円形である。
【００７９】
ベース５１０は、図１９に示すように、略矩形の板状部材である。ベース５１０は、ポスト５２０が挿入される側の面である第１面５１０ａと、第１面５１０ａに対向する反対側の面である第２面５１０ｂとを有する。ベース５１０は、ポスト５２０を挿入するための挿入穴５１１と、ベース５１０の中心Ｃｂに設けられ、後述する回転治具６００の挿入突起６１１（図２１Ｂ参照）を挿入するための中心穴５１２と、を有している。挿入穴５１１は、ベース５１０の四隅それぞれの近傍に設けられている。各挿入穴５１１は、長穴にする必要はなく、ポスト５２０の後述する挿入軸部５２３を回転可能に受け入れる寸法及び形状を有する。各挿入穴５１１の底部には、後述する締結部材５３０（図２８参照）を第２面５１０ｂ側から挿通させるための貫通穴５１３が形成されている。貫通穴５１３は、ベース５１０の第２面５１０ｂから挿入穴５１１の底部まで貫通している。中心穴５１２は、ベース５１０の中心Ｃｂにおいて、後述する回転治具６００の挿入突起６１１（図２１Ｂ参照）が回転可能に挿入される径を有する。本実施形態では、中心穴５１２は、ベース５１０の第１面５１０ａから第２面５１０ｂまで貫通する貫通穴として形成される。但し、中心穴５１２は、必ずしも貫通穴である必要はなく、有底の穴であってもよい。
【００８０】
なお、ここでは、回転治具６００の中心（挿入突起６１１（図２１Ｂ参照））を挿入する中心穴５１２をベース５１０の中心Ｃｂに設けた場合を例に挙げて説明する。つまり、基板Ｗの中心に位置合わせすべきステージ（ベース）上の特定の位置（第１の位置、基板位置決め位置）をステージ（ベース）の中心Ｃｂとした場合を例に挙げる。しかしながら、基板Ｗの中心に位置合わせすべきステージ（ベース）上の特定の位置は、ステージ（ベース）の中心Ｃｂに限定されず、特定の位置（第１の位置、基板位置決め位置）の周りに基板を支持するためのポストを配置できる限り、ステージ（ベース）上の任意の位置とすることが可能である。本実施形態によれば、特定の位置（第１の位置、基板位置決め位置）を何れの位置に設定した場合であっても、複数のステージ間で、基板Ｗの中心が特定の位置に整列するように基板Ｗを支持できるので、基板Ｗの位置ずれを抑制ないし防止できる。
【００８１】
図３５は、回転治具の中心がステージの中心と異なる位置にある場合のステージの平面図である。同図に示すように、回転治具６００の中心（挿入突起６１１（図２１Ｂ参照））に係合するベース５１０上の穴５１２ｂは、ベース５１０の中心線上において中心Ｃｂとは異なる第１の位置Ｐ１にある。この場合、基板Ｗがポスト５２０に支持された際に、基板Ｗの中心Ｃｗは、穴５１２ｂに一致または整列する。なお、後述する図３２の変形例のように、第１の位置Ｐ１に穴５１２ｂに代えて突起５１２ａを設けても良い。
【００８２】
なお、第１の位置Ｐ１は、基板の中心に位置合わせすべきステージ５００（ベース５１０）上の基板位置決め位置であり、図１９は、第１の位置Ｐ１がベースの中心Ｃｂである場合を示すものとする。
【００８３】
この例では、４つのポスト５２０が設けられ、それに対応して４つの挿入穴５１１が設けられている。なお、ポスト５２０及び挿入穴５１１の数は４つに限らず、３つ以下でも、５つ以上でもよい。また、挿入穴５１１の数は、ポスト５２０の数以上であればよい。また、ベース５１０は、略矩形の板状部材に限らず、中心穴５１２及び挿入穴５１１を設けることが可能である限り、ステージ３２２のように、周縁部の１または複数の箇所が切り欠かれた形状、又は、中央部の本体から放射状に複数の延長部分が延びる形状であってもよい。
【００８４】
ポスト５２０は、図１８Ａ及び図１８Ｂに示すように、支持部５２１と、本体部５２２と、挿入軸部５２３と、係合突起部５２４とを備えている。支持部５２１と、本体部５２２と、挿入軸部５２３と、係合突起部５２４とは、一体に形成されてもよいし、一部または全部が別体で形成されたのちに互いに接続されてもよい。
【００８５】
挿入軸部５２３は、略円筒状をなす部材である。挿入軸部５２３は、挿入穴５１１に挿入され、ボルト等の締結部材５３０によってベース５１０に対して固定される。挿入軸部５２３の挿入側端面（底面）には、図１８Ｂに示すように、締結部材５３０のねじに螺合する螺子穴５２３ａが設けられている。ベース５１０の第２面５１０ｂ側から貫通穴５１３に挿通された締結部材５３０（図２８参照）が、ポスト５２０の螺子穴５２３ａに螺合することによって、ポスト５２０がベース５１０に対して固定される。
【００８６】
本体部５２２は、図１８Ａ及び図１８Ｂに示すように、挿入軸部５２３よりも大きい径の略円筒状をなし、挿入軸部５２３に対して偏心して配置されている。係合突起部５２４は、本体部５２２から軸方向に略直交して延びるように設けられ、後述する回転治具６００の係合部６２０ａに係合する係合面５２４ａを有する。係合面５２４ａは、例えば、ポスト５２０の軸方向に平行に延びる平面である。回転治具６００の回転力が係合面５２４ａに伝達されることによって、ポスト５２０が回転治具６００で回転されるようになっている。
【００８７】
支持部５２１は、本体部５２２の挿入軸部５２３とは反対側に本体部５２２と同軸に設けられる。支持部５２１は、本体部５２２と連続して配置され、挿入側とは反対方向に向かって縮径するテーパー形状の第１支持区画５２１ａと、第１支持区画５２１ａの本体部５２２とは反対側に位置する概ね一定の径を有する略円筒状の第２支持区画５２１ｂと、を有している。第１支持区画５２１ａ及び第２支持区画５２１ｂは、本体部５２２と同軸に、かつ、挿入軸部５２３に対して偏心して配置されている。第２支持区画５２１ｂの先端側には、挿入側とは反対の方向に向かって縮径するテーパー部５２５が形成され、このテーパー部５２５は、基板Ｗを支持部５２１へ案内する案内部として機能する。
【００８８】
図１８Ａ及び図１８Ｂのポスト５２０において、支持部５２１は、挿入軸部５２３（ポスト５２０のベース５１０に対する位置決め箇所）に対して偏心している。図２０Ａ及び
図２０Ｂに示すように、基板Ｗは、複数のポスト５２０の支持部５２１に載置され、支持または保持される。このとき、ポスト５２０の支持部５２１が挿入軸部５２３に対して偏心しているため、ポスト５２０を挿入軸部５２３の周りに回転させると、支持部５２１の面と、ベース５１０の中心Ｃｂ（または基板Ｗの中心Ｃｗ）との距離が変化する。図３５の例では、支持部５２１の面と、ベース５１０の穴５１２ｂ（または基板Ｗの中心Ｃｗ）との距離が変化する。これにより、各ポスト５２０（支持部５２１の第２支持区画５２１ｂ）と、基板Ｗとの間の隙間Ｓ（図３１）の大きさを調整することができる。
【００８９】
ステージ調整用の治具
図２１Ａは、回転治具の第１側からみた斜視図である。図２１Ｂは、回転治具の第２側からみた斜視図である。図２２は、調整用基板の斜視図である。図２３は、治具が設置されたステージの平面図である。図２４は、治具が設置されたステージの斜視図である。
【００９０】
回転治具６００は、本体部６１０と、本体部６１０から放射状に延び、先端に係合部６２０ａを有する複数の延長部６２０と、本体部６１０から放射状に延びるハンドル６３０とを備えている。本体部６１０、延長部６２０及びハンドル６３０は、一体に形成されてもよいし、一部または全部が別体で形成された後に互いに接続されてもよい。回転治具６００は、図２１Ａに示す第１側と、図２１Ｂに示す第２側とを有する。
【００９１】
本体部６１０は、本実施形態では略円板状の部材であるが、矩形、楕円等の他の形状であってもよい。本体部６１０の第２側には、図２１Ｂに示すように、本体部６１０の中心（回転治具６００の中心）に挿入突起６１１を有する。挿入突起６１１は、本体部６１０と一体に形成されてもよいし、別体で形成された後に互いに接続されてもよい。挿入突起６１１は、本体部６１０の第２側の面から略鉛直に延びる。この挿入突起６１１は、ベース５１０の中心穴５１２に回転可能に挿入される。これにより、図２３及び図２４に示すように、回転治具６００がステージ５００に設置される。挿入突起６１１は、ベース５１０の中心穴５１２に挿入された際に、中心穴５１２内で回転することができる外径を有する。挿入突起６１１は、一例では、ベース５１０の厚さよりも小さい長さを有する。挿入突起６１１は、他の例では、ベース５１０の厚さよりも大きい長さを有する。ベース５１０の中心穴５１２が貫通穴である場合には、挿入突起６１１がベース５１０の第１面５１０ａ側から挿入され、第２面５１０ｂ側から突出するように挿入されてもよい。ハンドル６３０は、作業者が把持して回転治具６００を挿入突起６１１の周りに回転するために設けられている。ハンドル６３０の長さは、図２３及び図２４に示すように、ハンドルの把持及び回転操作の容易性を考慮して、延長部６２０の長さよりも長く形成されている。
【００９２】
各延長部６２０は、図２３及び図２４に示すように、本体部６１０から放射状に径方向外方に延びる細長い板状または棒状の部材である。各延長部６２０は、回転治具６００がステージ５００に設置された際に、各延長部６２０の先端の係合部６２０ａが各ポスト５２０の係合突起部５２４の係合面５２４ａに当接、係合可能である長さ及び方向に形成されている。また、回転治具６００の円滑な回転を確保するために、各延長部６２０は、係合部６２０ａの先端と、各ポスト５２０の本体部５２２との間に所定の隙間を有して配置される長さを有する。図２４の例では、回転治具６００の延長部６２０の側面が、ポスト５２０の係合突起部５２４の側面（係合面５２４ａ）に係合している。
【００９３】
調整用基板Ｗａは、図２２に示すように、実際の工程で使用する基板Ｗの半径Ｒ０よりも所定の長さΔＲだけ大きい半径Ｒ１（＝Ｒ０＋ΔＲ）を有する。所定の長さΔＲは、実際の工程で使用する基板Ｗをステージ５００に載置した際に、基板Ｗと各ポスト５２０との間に形成される隙間Ｓ（図３１）に対応する。
【００９４】
図２５は、回転治具及び調整用基板を設置したステージの斜視図である。図２６は、回
転治具及び調整用基板を設置したステージの平面図である。図２７は、回転治具及び調整用基板によるポストの回転位置調整を示すステージの平面図である。図２８は、ベースの第２面側からみた斜視図であり、締結部材によるポストの固定を示す。図２９は、ベースの第２面側における締結部材の拡大斜視図である。図３０は、実際の工程で使用する基板を支持した状態の調整後のステージの平面図である。図３１は、実際の工程で使用する基板を支持した状態のポストの拡大平面図である。
【００９５】
ステージ５００の調整は、以下のように行われる。
先ず、ステージ５００のベース５１０の各挿入穴５１１に各ポスト５２０を挿入して設置する。このとき、締結部材５３０は、未だ取り付けないか、又は、ポスト５２０が回転可能な程度に仮止めする。
次に、図２５及び図２６のように、ステージ５００上に回転治具６００を設置した後、複数のポスト５２０の支持部５２１上に調整用基板Ｗａを載置し、支持または保持させる。調整用基板Ｗａは、実際の工程で使用する基板Ｗの半径Ｒ０よりも大きい半径Ｒ１（＝Ｒ０＋ΔＲ）を有する。
この状態で、図２６の矢印Ｃに示すように回転治具６００を回転させる。このとき、回転治具６００の延長部６２０の係合部６２０ａがポスト５２０の係合突起部５２４の係合面５２４ａと係合するため、各ポスト５２０が、回転治具６００の回転とは反対方向に、同時にかつ均等に回転する。各ポスト５２０の挿入軸部５２３と支持部５２１とは偏心しているため、各ポスト５２０の回転に伴い、ポスト５２０の支持部５２１の面と、ベース５１０の中心Ｃｂ（調整用基板Ｗａの中心Ｃｗａと一致する）との間の距離、つまり、支持部５２１とベース５１０の中心Ｃｂとの間の最短距離が変化する。図３５の例では、各ポスト５２０の回転に伴い、ポスト５２０の支持部５２１の面と、ベース５１０の穴５１２ｂ（調整用基板Ｗａの中心Ｃｗａと一致する）との間の距離、つまり、支持部５２１とベース５１０の穴５１２ｂとの間の最短距離が変化する。この結果、第２支持区画５２１ｂと、調整用基板Ｗａとの間の隙間の大きさが変化する。
そして、図２７に示すように、調整用基板Ｗａが各ポスト５２０の第２支持区画５２１ｂの側面と当接する位置まで回転させた状態で、回転治具６００及び各ポスト５２０の回転を停止させる。
【００９６】
調整後の各ポストの位置で、図２８及び図２９に示すように、ポスト５２０に対して締結部材５３０を締め付けて、ポスト５２０をベース５１０に対してしっかりと固定する。このようにポストの回転位置を調整した後、調整用基板Ｗａ及び回転治具６００をステージ５００から取り外す。
【００９７】
ポスト回転位置の調整後、図３０に示すように、実際の工程に使用する基板Ｗをステージ５００上に載置し、ポスト５２０によって支持又は保持すると、基板Ｗと各ポスト５２０の支持部５２１の第２支持区画５２１ｂとの間には所定の隙間Ｓ＝ΔＲ（調整用基板Ｗａの半径Ｒ１と基板Ｗの半径Ｒ０との差、図３１参照）が均一に形成される。実際の工程に使用する基板Ｗは、調整用基板Ｗａよりも小径であるため、ポスト５２０の第１支持区画５２１ａで支持される。
【００９８】
本実施形態では、回転治具６００の中心にある挿入突起６１１をステージ５００のベース５１０の中心穴５１２（または穴５１２ｂ）に挿入して、実際の工程に使用する基板Ｗの半径よりもΔＲ大きい調整用基板Ｗａを各ポスト５２０が支持し、調整用基板Ｗａが各ポスト５２０に均一に当接するまで、回転治具６００によって各ポスト５２０を同時かつ均等に回転させる。このため、ステージ５００（ベース５１０）の特定の位置（基板の中心と位置合わせする特定の位置。第１の位置Ｐ１。例えば中心Ｃｂ、穴５１２ｂ）と、調整用基板Ｗａの中心Ｃｗａとが一致し、かつ、各ポスト５２０と中心穴５１２（または穴５１２ｂ）との距離（最短距離）が均一となる。このため、調整用基板ＷａよりΔＲ小さ
い半径Ｒ０の基板Ｗをステージ５００が保持した際に、基板Ｗとステージ５００の特定の位置（第１の位置Ｐ１。例えば、中心Ｃｂ、穴５１２ｂ）も一致し、各ポスト５２０と基板Ｗとの隙間も一定かつ均一となる。この結果、複数のステージ間でのばらつきを抑制し、基板Ｗをステージ５００に対して一定の位置に正確に合わせることができる。
【００９９】
各ポストが均等に回転されるため、基板Ｗをステージ５００で保持した際に、基板Ｗの中心がステージ５００の特定の位置（第１の位置Ｐ１。例えば、中心Ｃｂ、穴５１２ｂ）と一致し、かつ、基板Ｗと各ポスト５２０との間の隙間が均一になるので、基板Ｗがステージ５００上において正確に位置決めされる。また、調整用基板Ｗａを用いて、基板Ｗと各ポスト５２０との間の一定の隙間を、予め許容可能な小さな値に設定しておけば、基板Ｗのステージ５００上でのずれの範囲は許容可能な小さな範囲内に抑制することができる。
【０１００】
また、本実施形態のステージは、比較例に係るステージ（図１６）において、ベース５１０に回転治具６００の挿入突起６１１を挿入する中心穴５１２または穴５１２ｂを設け、ポスト５２０の支持部５２１を挿入軸部５２３に対して偏心させればよく、ステージ５００の構成を大幅に変更する必要がない。また、ポスト５２０を挿入する挿入穴５１１を長穴にする必要がない。
また、ポスト５２０には、テーパ部からなる第１支持区画５２１ａと、略一定の径からなる第２支持区画５２１ｂとを設け、第２支持区画５２１ｂを調整用基板Ｗａの外縁を当接させて各ポストの位置決めを行い、実際の工程に使用する基板Ｗを第１支持区画５２１ａに支持させるようにしてので、ポストの位置調整を容易かつ正確に行うことができ、各ポストと基板との間の隙間を均一にすることができる。
【０１０１】
製造後のステージにおいてポストの回転位置を調整することによって基板の正確な位置決めを行うことができるので、ステージの製造において高精度の機械加工に依存する場合に比較して、コストの増加を抑制または防止することができる。
また、回転治具により各ポストを同時かつ均等に回転させることができるので、複数のステージにて隙間の大きさのばらつきを抑制または防止することができる。
更に、製造後のステージにおいてポストの回転位置を調整することによって基板の正確な位置決めを行うことができるので、大径の基板に対しても、ポストの調整精度のばらつきを抑制または防止することができる。
また、回転治具の中心をベースの特定の位置（第１の位置Ｐ１。例えば、中心Ｃｂ、穴５１２ｂ）に係合させた状態で、各ポストを同時に回転させるので、ベースの中心と基板の中心がずれることを抑制または防止できるとともに、複数のポストを均等に回転することができる。また、調整する作業者の技量によらず、製品ごとの調整のばらつきを抑制または防止することができる。
【０１０２】
回転治具６００は、ベース５１０の特定の位置（第１の位置Ｐ１。例えば、中心Ｃｂ、穴５１２ｂ）に配置される本体部６１０と、本体部６１０から係合部６２０ａを備えた延長部６２０を少なくともポスト５２０の数だけ設ければよいので、回転治具６００の構成が簡易であり、回転治具６００の重量及びコストを低減することができる。
【０１０３】
（変形例）
（１）図３２は、回転治具とベースとの係合構造の変形例を示す斜視図である。
上記実施形態では、回転治具６００のステージ５００への設置は、回転治具６００の挿入突起６１１と、ステージ５００のベース５１０の中心穴５１２または穴５１２ｂとによって行ったが、図３２に示すように、ステージ５００のベース５１０の特定の位置（第１の位置Ｐ１。例えば、中心Ｃｂ、穴５１２ｂの位置）に中心突起５１２ａを設け、回転治具６００において挿入突起６１１に代えてその位置に挿入穴６１１ａを設けても良い。な
お、中心突起５１２ａは、ベース５１０に取り外し可能とし、ベース５１０にねじ止め、嵌合固定するようにしてもよい。この場合、回転治具６００の挿入穴６１１ａをベース５１０の中心突起５１２ａに嵌合させ、回転治具６００を中心突起５１２ａの周りに回転させる。なお、中心突起５１２ａの高さは、基板Ｗと干渉しないようにポスト５２０の支持部５２１よりも低くする。
【０１０４】
（２）図３３は、ポストとベースとの係合構造の変形例を示す斜視図である。
上記実施形態では、ポスト５２０のベース５１０への設置は、ポスト５２０の挿入軸部５２３と、ベース５１０の挿入穴５１１とによって行ったが、図３３に示すように、ベース５１０において挿入穴５１１に代えてその位置に挿入軸部５１１ａを設け、ポスト５２０の挿入軸部５２３の底面に挿入穴５２３ｂを設けても良い。この場合、ポスト５２０の挿入穴５２３ｂをベース５１０の挿入軸部５１１ａに嵌合させ、ポスト５２０を挿入軸部５１１ａの周りに回転可能とする。この例では、締結部材５３０を挿通するベース５１０の貫通穴５１３は、ベース５１０の第２面５１０ｂから第１面５１０ａ側に延び、さらに、挿入軸部５１１ａの内部を軸方向に延び、挿入軸部５１１ａの先端面で開口する。また、ポスト５２０の挿入穴５２３ｂの底部には螺子穴５２３ｃが設けられている。ポスト５２０の挿入穴５２３ｂをベース５１０の挿入軸部５１１ａに嵌合させたとき、ポスト５２０の挿入穴５２３ｂの底部の螺子穴５２３ｃが、ベース５１０の先端面の貫通穴５１３に合致する。この状態で、ベース５１０の第２面５１０ｂ側から締結部材５３０を挿入し、締結部材５３０をポスト５２０の螺子穴５２３ｃに螺合させ、これにより、ポスト５２０をベース５１０に固定する。
【０１０５】
（３）図３４は、回転治具に対するポストの係合構造の他の例を示す斜視図である。
上記実施形態では、回転治具６００とポスト５２０との係合は、回転治具６００の延長部６２０の係合部６２０ａを、ポスト５２０の係合突起部５２４の係合面５２４ａに係合させることによって行ったが、係合突起部５２４に代えて、図３４に示すように、ポスト５２０の本体部５２２に係合凹部５２６を設けてもよい。この場合、回転治具６００の延長部６２０の先端部（係合部６２０ａ）を、ポスト５２０の係合凹部５２６に挿入してポスト５２０に係合させる。回転治具６００の回転力は、係合凹部５２６の側面に加えられる。
【０１０６】
（４）図３６Ａ、図３６Ｂは、回転治具の他の例を示す斜視図である。
図３６Ａでは、回転治具６００の挿入突起６１１を本体部６１０と別体で形成し、挿入突起６１１の小径部６１１ｂにねじ溝を設け、この小径部６１１ｂを本体部６１０のねじ溝が設けられた穴６１０ａに螺合させて両者を固定する。この場合、挿入突起６１１を本体部６１０から取り外した状態では、本体部６１０が平板状になるので、回転治具６００の保管、搬送が容易になる。また、延長部６２０、ハンドル６３０も本体部６１０から取り外し可能に構成すれば、更に、回転治具６００の保管、搬送が容易になる。なお、挿入突起６１１の小径部６１１ｂ及び本体部６１０の穴６１０ａにねじ溝を設けず、挿入突起６１１の小径部６１１ｂを、本体部６１０の穴６１０ａに挿し込んで固定（嵌合固定）するようにしてもよい。また、挿入突起６１１の小径部６１１ｂを、本体部６１０の穴６１０ａに挿し込んだ後に、両者をねじ止めするようにしてもよい。例えば、本体部６１０の反対側から小径部６１１ｂをねじで固定するようにしてもよい。
図３６Ｂでは、挿入突起６１１に、ねじ溝を有する穴６１１ｃを設け、本体部６１０から突出する突起部６１０ｂにねじ溝を設け、突起部６１０ｂを、挿入突起６１１の穴６１１ｃに螺合させて両者を固定する。この場合、挿入突起６１１を本体部６１０取り外した状態では、本体部６１０の突出する部分の高さが低減されるので、回転治具６００の保管、搬送が容易になる。また、延長部６２０、ハンドル６３０も本体部６１０から取り外し可能に構成すれば、更に、回転治具６００の保管、搬送が容易になる。なお、本体部６１０の突起部６１０ｂ及び挿入突起６１１の穴６１１ｃにねじ溝を設けず、本体部６１０の
突起部６１０ｂを、挿入突起６１１の穴６１１ｃに挿し込んで固定（嵌合固定）するようにしてもよい。また、本体部６１０の突起部６１０ｂを、挿入突起６１１の穴６１１ｃに挿し込んだ後に、両者をねじ止めするようにしてもよい。例えば、挿入突起６１１の先端面又は側面から突起部６１０ｂをねじで固定するようにしてもよい。
【０１０７】
以上、いくつかの例に基づいて本発明の実施形態について説明してきたが、上記した発明の実施形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得るとともに、本発明には、その均等物が含まれることはもちろんである。また、上述した課題の少なくとも一部を解決できる範囲、または、効果の少なくとも一部を奏する範囲において、特許請求の範囲および明細書に記載された各構成要素の任意の組み合わせ、または、省略が可能である。
【符号の説明】
【０１０８】
ＴＳ１〜ＴＳ４…第１〜第４搬送ステージ
３２２…ステージ
５００…ステージ
５１０…ベース
５１０ａ…第１面
５１０ｂ…第２面
５１１…挿入穴
５１１ａ…挿入軸部
５１２…中心穴
５１２ａ…中心突起
５１３…貫通穴
５２０…ポスト
５２１…支持部
５２１ａ…第１支持区画
５２１ｂ…第２支持区画
５２２…本体部
５２３…挿入軸部
５２３ａ…螺子穴
５２３ｂ…挿入穴
５２３ｃ…螺子穴
５２４…係合突起部
５２４ａ…係合面
５２５…テーパー部
５２６…係合凹部
５３０…締結部材
６００…回転治具
６１０…本体部
６１０ａ…ねじ穴
６１０ｂ…ねじ部
６１１…挿入突起
６１１ａ…挿入穴
６１１ｂ…ねじ部
６１１ｃ…ねじ穴
６２０…延長部
６２０ａ…係合部
６３０…ハンドル
７００…ステージ
７１０…ベース
７１１…挿入穴
７２０…ポスト
７２１…支持部
７２２…本体部
７２３…挿入部
７３０…締結部材
【図１】
2018032727.tif 000003
【図２】
2018032727.tif 000004
【図３】
2018032727.tif 000005
【図３Ａ】
2018032727.tif 000006
【図３Ｂ】
2018032727.tif 000007
【図４Ａ】
2018032727.tif 000008
【図４Ｂ】
2018032727.tif 000009
【図４Ｃ】
2018032727.tif 000010
【図５】
2018032727.tif 000011
【図６】
2018032727.tif 000012
【図７Ａ】
2018032727.tif 000013
【図７Ｂ】
2018032727.tif 000014
【図７Ｃ】
2018032727.tif 000015
【図８】
2018032727.tif 000016
【図９】
2018032727.tif 000017
【図１０】
2018032727.tif 000018
【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４Ａ】
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【図１４Ｂ】
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【図１４Ｃ】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８Ａ】
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【図１８Ｂ】
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【図１９】
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【図２０Ａ】
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【図２０Ｂ】
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【図２１Ａ】
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【図２１Ｂ】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６Ａ】
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【図３６Ｂ】
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