(57)【要約】【課題】押出成形法を用いてメルトフローレートが小さい熱可塑性樹脂からなる透明フィルムを製造できる、透明フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】熱可塑性重合体を含み、温度１９０℃、荷重２．１６ｋｇにおけるメルトフローレートが２０ｇ／１０分〜１００ｇ／１０分であり、且つ、ガラス転移温度Ｔｇを有する熱可塑性樹脂を、Ｔｇ＋３０℃以上Ｔｇ＋７０℃未満の押出温度で押出成形することを含む、透明フィルムの製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱可塑性重合体を含み、温度１９０℃、荷重２．１６ｋｇにおけるメルトフローレートが２０ｇ／１０分〜１００ｇ／１０分であり、且つ、ガラス転移温度Ｔｇを有する熱可塑性樹脂を、Ｔｇ＋３０℃以上Ｔｇ＋７０℃未満の押出温度で押出成形することを含む、透明フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記熱可塑性重合体が、芳香族ビニル化合物及び鎖状共役ジエンのブロック共重合体、並びに、前記ブロック共重合体の水素化物からなる群より選ばれる一種類以上の重合体であって、
前記ブロック共重合体が、前記芳香族ビニル化合物単位を主成分とする、前記ブロック共重合体１分子あたり２個以上の重合体ブロック［Ａ］と、前記鎖状共役ジエン化合物単位を主成分とする、前記ブロック共重合体１分子あたり１個以上の重合体ブロック［Ｂ］とを有し、
前記ブロック共重合体全体に占める、全重合体ブロック［Ａ］の重量分率ｗＡと全重合体ブロック［Ｂ］の重量分率ｗＢとの比（ｗＡ／ｗＢ）が、２０／８０〜６０／４０である、請求項１記載の透明フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記熱可塑性重合体が、前記ブロック共重合体の水素化物であって、
前記水素化物の水素化率が、前記ブロック共重合体の全不飽和結合の９０％以上である、請求項２記載の透明フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記ブロック共重合体の水素化物が、アルコキシシリル基を有する、請求項２又は３に記載の透明フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
メルトフローレートが小さい熱可塑性樹脂が、従来から知られている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１４−２０８４７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明者は、押出成形法を用いて、メルトフローレートが小さい熱可塑性樹脂からなる透明フィルムを製造することを試みた。押出成形法では、一般に、樹脂を溶融させ、ダイスから押し出してフィルム状に成形し、冷却して、フィルムを得る。このような押出成形法は、生産性に優れることから、工業的に優れたフィルム製造方法である。
【０００５】
ところが、メルトフローレートが小さい前記の熱可塑性樹脂は、従来の一般的な温度条件での押出成形法によっては、透明フィルムを製造することが困難であった。具体的には、従来の一般的な温度条件での押出成形法によれば、流れムラ、ゲル化による異物、及び、表面凹凸がフィルムに形成され易かった。ここで、「流れムラ」とは、ランダムな位置に、フィルム流れ方向に不連続に形成されるスジを示す。また、「ゲル化による異物」とは、樹脂が熱劣化して形成されたゲルの塊りを示す。さらに、「表面凹凸」とは、フィルムの表面に形成される突起及び窪みを示す。前記の流れムラ、ゲル化による異物、及び、表面凹凸が形成されると、フィルムのヘイズが大きくなり易かったので、透明フィルムを製造することが難しかった。
【０００６】
本発明は、前記の課題に鑑みて創案されたものであって、押出成形法を用いてメルトフローレートが小さい熱可塑性樹脂からなる透明フィルムを製造できる、透明フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
従来の押出成形法では、樹脂のガラス転移温度よりも１００℃程度高温の押出温度で樹脂の押し出しを行うことが技術常識であった。仮に、前記の押出温度よりも低温で樹脂の押し出しを行った場合、得られるフィルムが白濁し易く、透明なフィルムが得られ難いことから、従来は、前記のように高い温度で樹脂の押し出しを行っていた。
【０００８】
これに対し、本発明者は、従来よりも低い所定の押出温度で、メルトフローレートが小さい熱可塑性樹脂を押し出し、フィルムを製造することを試みた。その結果、意外なことに、低温での押し出しを行いながらも白濁の発生を抑制でき、ヘイズの小さい透明フィルムを容易に製造することができた。この結果から、本発明者は、メルトフローレートが小さい熱可塑性樹脂を、当該熱可塑性樹脂のガラス転移温度を基準とした所定の押出温度で押出成形することにより、透明フィルムを容易に製造できることを見い出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、下記のものを含む。
【０００９】
〔１〕  熱可塑性重合体を含み、温度１９０℃、荷重２．１６ｋｇにおけるメルトフローレートが２０ｇ／１０分〜１００ｇ／１０分であり、且つ、ガラス転移温度Ｔｇを有する熱可塑性樹脂を、Ｔｇ＋３０℃以上Ｔｇ＋７０℃未満の押出温度で押出成形することを含む、透明フィルムの製造方法。
〔２〕  前記熱可塑性重合体が、芳香族ビニル化合物及び鎖状共役ジエンのブロック共重合体、並びに、前記ブロック共重合体の水素化物からなる群より選ばれる一種類以上の重合体であって、
前記ブロック共重合体が、前記芳香族ビニル化合物単位を主成分とする、前記ブロック共重合体１分子あたり２個以上の重合体ブロック［Ａ］と、前記鎖状共役ジエン化合物単位を主成分とする、前記ブロック共重合体１分子あたり１個以上の重合体ブロック［Ｂ］とを有し、
前記ブロック共重合体全体に占める、全重合体ブロック［Ａ］の重量分率ｗＡと全重合体ブロック［Ｂ］の重量分率ｗＢとの比（ｗＡ／ｗＢ）が、２０／８０〜６０／４０である、〔１〕記載の透明フィルムの製造方法。
〔３〕  前記熱可塑性重合体が、前記ブロック共重合体の水素化物であって、
前記水素化物の水素化率が、前記ブロック共重合体の全不飽和結合の９０％以上である、〔２〕記載の透明フィルムの製造方法。
〔４〕  前記ブロック共重合体の水素化物が、アルコキシシリル基を有する、〔２〕又は〔３〕に記載の透明フィルムの製造方法。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、押出成形法を用いてメルトフローレートが小さい熱可塑性樹脂からなる透明フィルムを製造できる、透明フィルムの製造方法を提供できる。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、実施形態及び例示物を示して本発明について詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施形態及び例示物に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
【００１２】
以下の説明において、「長尺」のフィルムとは、フィルムの幅に対して、５倍以上の長さを有するフィルムをいい、好ましくは１０倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するフィルムをいう。長尺のフィルムの幅の上限は、特に限定されないが、例えば、フィルムの幅に対して１００，０００倍以下としうる。
【００１３】
［１．透明フィルムの製造方法の概要］
本発明の透明フィルムの製造方法は、熱可塑性重合体を含み、所定のメルトフローレートを有する熱可塑性樹脂を、所定範囲の押出温度で押出成形することを含む。
【００１４】
［２．熱可塑性樹脂のメルトフローレート］
温度１９０℃、荷重２．１６ｋｇにおける熱可塑性樹脂のメルトフローレートは、通常２０ｇ／１０分〜１００ｇ／１０分、好ましくは３０ｇ／１０分〜９０ｇ／１０分、より好ましくは４０ｇ／１０分〜８０ｇ／１０分である。前記のように小さいメルトフローレートを有する熱可塑性樹脂で形成された透明フィルムを、押出成形法で製造できることが、本発明の利点の一つである。
【００１５】
樹脂のメルトフローレートは、ＪＩＳ−Ｋ−７２１０に基づき、メルトインデクサを用いて、温度１９０℃、荷重２．１６ｋｇの条件で測定しうる。
【００１６】
［３．熱可塑性重合体］
熱可塑性重合体としては、上述した範囲のメルトフローレートを有する熱可塑性樹脂が得られる範囲で、任意の重合体を用いうる。中でも、熱可塑性重合体としては、ブロック共重合体及びその水素化物が好ましい。また、前記のブロック共重合体及びその水素化物は、アルコキシシラン、カルボン酸、カルボン酸無水物等の化学種によって変性されていてもよい。通常、ブロック共重合体及びその水素化物は、その分子構造に含まれる重合体ブロックの種類及び比率により性状を調整できる。
【００１７】
前記のブロック共重合体としては、芳香族ビニル化合物及び共役ジエンのブロック共重合体が好ましい。ここで、芳香族ビニル化合物及び共役ジエンのブロック共重合体とは、芳香族ビニル化合物単位を主成分とする重合体ブロック［Ａ］と、鎖状共役ジエン化合物単位を主成分とする重合体ブロック［Ｂ］とを有するブロック共重合体のことをいう。また、芳香族ビニル化合物単位とは、芳香族ビニル化合物を重合して形成される構造を有する構造単位のことをいう。さらに、鎖状共役ジエン化合物単位とは、鎖状共役ジエン化合物を重合して形成される構造を有する構造単位のことをいう。
【００１８】
中でも、熱可塑性重合体としては、芳香族ビニル化合物単位を主成分とする、ブロック共重合体１分子あたり２個以上の重合体ブロック［Ａ］と、鎖状共役ジエン化合物単位を主成分とする、ブロック共重合体１分子あたり１個以上の重合体ブロック［Ｂ］とを有するブロック共重合体、並びに、そのブロック共重合体の水素化物からなる群より選ばれる一種類以上の重合体が好ましい。この際、前記のブロック共重合体の水素化物は、アルコキシシリル基を有していてもよい。
【００１９】
（２．１．ブロック共重合体）
ブロック共重合体が有する重合体ブロック［Ａ］は、芳香族ビニル化合物単位を有する。芳香族ビニル化合物単位に対応する芳香族ビニル化合物としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、２−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、２，４−ジイソプロピルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、４−ｔ−ブチルスチレン、５−ｔ−ブチル−２−メチルスチレン、４−モノクロロスチレン、ジクロロスチレン、４−モノフルオロスチレン、４−フェニルスチレンなどが挙げられる。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。中でも、吸湿性の面で極性基を含有しないものが好ましい。更に、工業的入手のし易さ、耐衝撃性の観点から、スチレンが特に好ましい。
【００２０】
重合体ブロック［Ａ］は、芳香族ビニル化合物単位のみを有していてもよく、芳香族ビニル化合物単位に組み合わせて任意の構造単位を含んでいてもよい。重合体ブロック［Ａ］における芳香族ビニル化合物単位の含有率は、好ましくは９０重量％以上、より好ましくは９５重量％以上、特に好ましくは９９重量％以上である。重合体ブロック［Ａ］において芳香族ビニル化合物単位の量を前記のように多くすることにより、透明フィルムの耐熱性を高めることができる。
【００２１】
重合体ブロック［Ａ］における任意の構造単位としては、例えば、鎖状共役ジエン化合物単位、芳香族ビニル化合物以外のビニル化合物を重合して形成される構造を有する構造単位、などが挙げられる。
【００２２】
鎖状共役ジエン化合物単位に対応する鎖状共役ジエン化合物としては、例えば、重合体ブロック［Ｂ］が有する鎖状共役ジエン化合物単位に対応する鎖状共役ジエン化合物の例として挙げるものと同じ例が挙げられる。また、鎖状共役ジエン化合物は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００２３】
芳香族ビニル化合物以外のビニル化合物としては、例えば、鎖状ビニル化合物；環状ビニル化合物；ニトリル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシカルボニル基、又はハロゲン基を有するビニル化合物；不飽和の環状酸無水物；不飽和イミド化合物などが挙げられる。中でも、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセン、１−ドデセン、１−エイコセン、４−メチル−１−ペンテン、４，６−ジメチル−１−ヘプテン等の鎖状オレフィン；ビニルシクロヘキサン等の環状オレフィン；などの、極性基を含有しないものが、吸湿性の面で好ましい。その中でも、鎖状オレフィンがより好ましく、エチレン及びプロピレンが特に好ましい。また、これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００２４】
重合体ブロック［Ａ］における任意の構造単位の含有率は、好ましくは１０重量％以下、より好ましくは５重量％以下、特に好ましくは１重量％以下である。
【００２５】
ブロック共重合体１分子における重合体ブロック［Ａ］の数は、好ましくは２個以上であり、好ましくは５個以下、より好ましくは４個以下、特に好ましくは３個以下である。１分子中に複数個ある重合体ブロック［Ａ］は、互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。
【００２６】
１分子のブロック共重合体に、異なる重合体ブロック［Ａ］が複数存在する場合、重合体ブロック［Ａ］の中で、重量平均分子量が最大の重合体ブロックの重量平均分子量をＭｗ（Ａ１）とし、重量平均分子量が最少の重合体ブロックの重量平均分子量をＭｗ（Ａ２）とする。このとき、Ｍｗ（Ａ１）とＭｗ（Ａ２）との比「Ｍｗ（Ａ１）／Ｍｗ（Ａ２）」は、好ましくは２．０以下、より好ましくは１．５以下、特に好ましくは１．２以下である。これにより、各種物性値のばらつきを小さく抑えることができる。
【００２７】
他方、ブロック共重合体が有する重合体ブロック［Ｂ］は、鎖状共役ジエン化合物単位を有する。鎖状共役ジエン化合物単位に対応する鎖状共役ジエン化合物としては、例えば、１，３−ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、１，３−ペンタジエンなどが挙げられる。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。中でも、吸湿性の面で極性基を含有しないものが好ましく、１，３−ブタジエン及びイソプレンが特に好ましい。
【００２８】
重合体ブロック［Ｂ］は、鎖状共役ジエン化合物単位のみを有していてもよく、鎖状共役ジエン化合物単位に組み合わせて任意の構造単位を含んでいてもよい。重合体ブロック［Ｂ］における鎖状共役ジエン化合物単位の含有率は、好ましくは９０重量％以上、より好ましくは９５重量％以上、特に好ましくは９９重量％以上である。重合体ブロック［Ｂ］において鎖状共役ジエン化合物単位の量を前記のように多くすることにより、透明フィルムの低温での耐衝撃性を向上させることができる。
【００２９】
重合体ブロック［Ｂ］における任意の構造単位としては、例えば、芳香族ビニル化合物単位、並びに、芳香族ビニル化合物以外のビニル化合物を重合して形成される構造を有する構造単位などが挙げられる。これらの芳香族ビニル化合物単位、並びに、芳香族ビニル化合物以外のビニル化合物を重合して形成される構造を有する構造単位としては、例えば、重合体ブロック［Ａ］に含まれていてもよいものとして例示したものが挙げられる。
【００３０】
重合体ブロック［Ｂ］における任意の構造単位の含有率は、好ましくは１０重量％以下、より好ましくは５重量％以下、特に好ましくは１重量％以下である。特に、重合体ブロック［Ｂ］における芳香族ビニル化合物単位の含有率を低くすることにより、透明フィルムの低温での柔軟性を向上させて、透明フィルムの低温での耐衝撃性を向上させることができる。
【００３１】
ブロック共重合体１分子における重合体ブロック［Ｂ］の数は、通常１個以上であるが、２個以上であってもよい。ブロック共重合体における重合体ブロック［Ｂ］の数が２個以上である場合、重合体ブロック［Ｂ］は、互いに同じでもよく、異なっていてもよい。
【００３２】
また、１分子のブロック共重合体に、異なる重合体ブロック［Ｂ］が複数存在する場合、重合体ブロック［Ｂ］の中で、重量平均分子量が最大の重合体ブロックの重量平均分子量をＭｗ（Ｂ１）とし、重量平均分子量が最少の重合体ブロックの重量平均分子量をＭｗ（Ｂ２）とする。このとき、Ｍｗ（Ｂ１）とＭｗ（Ｂ２）との比「Ｍｗ（Ｂ１）／Ｍｗ（Ｂ２）」は、好ましくは２．０以下、より好ましくは１．５以下、特に好ましくは１．２以下である。これにより、各種物性値のばらつきを小さく抑えることができる。
【００３３】
ブロック共重合体のブロックの形態は、鎖状型ブロックでもよく、ラジアル型ブロックでもよい。中でも、鎖状型ブロックが、機械的強度に優れ、好ましい。
ブロック共重合体が鎖状型ブロックの形態を有する場合、その両端が重合体ブロック［Ａ］であることにより、透明フィルムのベタツキを所望の低い値に抑えることができる。
【００３４】
ブロック共重合体の特に好ましいブロックの形態は、［Ａ］−［Ｂ］−［Ａ］で表されるように、重合体ブロック［Ｂ］の両端に重合体ブロック［Ａ］が結合したトリブロック共重合体；［Ａ］−［Ｂ］−［Ａ］−［Ｂ］−［Ａ］で表されるように、重合体ブロック［Ａ］の両端に重合体ブロック［Ｂ］が結合し、更に該両重合体ブロック［Ｂ］の他端にそれぞれ重合体ブロック［Ａ］が結合したペンタブロック共重合体；である。特に、［Ａ］−［Ｂ］−［Ａ］のトリブロック共重合体であることが、製造が容易であり且つ粘度等の物性を所望の範囲とすることができるため、特に好ましい。
【００３５】
ブロック共重合体全体に占める、全重合体ブロック［Ａ］の重量分率ｗＡと全重合体ブロック［Ｂ］の重量分率ｗＢとの比（ｗＡ／ｗＢ）は、所定の範囲に収まる。具体的には、前記の比（ｗＡ／ｗＢ）は、好ましくは２０／８０以上、より好ましくは３０／７０以上であり、好ましくは６０／４０以下、より好ましくは５５／４５以下である。前記の比ｗＡ／ｗＢを前記範囲の下限値以上にすることにより、透明フィルムの耐熱性を向上させることができる。また、上限値以下にすることにより、透明フィルムの柔軟性を高めることができる。よって、透明フィルムを封止材として用いた場合に、その封止能力を安定して良好に維持することができる。さらに、ブロック共重合体のガラス転移温度を下げることで封止温度を下げられるので、封止による発光素子の熱劣化を抑制することができる。
【００３６】
前記のブロック共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは４０，０００〜２００，０００、より好ましくは４５，０００〜１５０，０００、特に好ましくは５０，０００〜１００，０００である。
また、ブロック共重合体の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは３以下、より好ましくは２以下、特に好ましくは１．５以下であり、好ましくは１．０以上である。ここで、Ｍｎは、数平均分子量を表す。
前記重合体の重量平均分子量及び分子量分布は、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を溶媒として用いたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により、ポリスチレン換算の値として測定しうる。
【００３７】
ブロック共重合体の製造方法の例としては、例えば３つの重合体ブロックを有するブロック共重合体を製造する場合、下記の製造方法１及び２が挙げられる。ここで、「モノマー組成物」と称する材料は、２種類以上の物質の混合物のみならず、単一の物質からなる材料をも包含する。
【００３８】
（製造方法１）  芳香族ビニル化合物を含有するモノマー組成物（ａ１）を重合させて重合体ブロック［Ａ］を形成する第一工程と、
かかる重合体ブロック［Ａ］の一端において、鎖状共役ジエン化合物を含有するモノマー組成物（ｂ１）を重合させて重合体ブロック［Ｂ］を形成し、［Ａ］−［Ｂ］のジブロックの重合体を形成する第二工程と、
かかるジブロックの重合体の、ブロック［Ｂ］側の末端において、芳香族ビニル化合物を含有するモノマー組成物（ａ２）を重合させて、ブロック共重合体を得る第３工程とを有する方法。ただし、モノマー組成物（ａ１）とモノマー組成物（ａ２）とは、同一でも異なっていてもよい。
【００３９】
（製造方法２）  芳香族ビニル化合物を含有するモノマー組成物（ａ１）を重合させて重合体ブロック［Ａ］を形成する第一工程と、
かかる重合体ブロック［Ａ］の一端において、鎖状共役ジエン化合物を含有するモノマー組成物（ｂ１）を重合させて重合体ブロック［Ｂ］を形成し、［Ａ］−［Ｂ］のジブロックの重合体を形成する第二工程と、
かかるジブロックの重合体の、重合体ブロック［Ｂ］側の末端同士を、カップリング剤によりカップリングさせて、ブロック共重合体を得る第３工程とを有する方法。
【００４０】
モノマー組成物を重合してそれぞれの重合体ブロックを得る方法としては、例えば、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合、配位アニオン重合、配位カチオン重合などを用いうる。重合操作及び後工程での水素化反応を容易にする観点では、ラジカル重合、アニオン重合及びカチオン重合などを、リビング重合により行う方法が好ましく、リビングアニオン重合により行う方法が特に好ましい。
【００４１】
前記のモノマー組成物の重合は、重合開始剤の存在下で、好ましくは０℃以上、より好ましくは１０℃以上、特に好ましくは２０℃以上、また、好ましくは１００℃以下、より好ましくは８０℃以下、特に好ましくは７０℃以下の温度範囲において行いうる。
リビングアニオン重合を行う場合は、重合開始剤として、例えば、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、ヘキシルリチウム等のモノ有機リチウム；ジリチオメタン、１，４−ジリチオブタン、１，４−ジリチオ−２−エチルシクロヘキサン等の多官能性有機リチウム化合物；などを用いうる。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００４２】
重合反応の形態は、例えば溶液重合及びスラリー重合などを用いうる。中でも、溶液重合を用いると、反応熱の除去が容易である。
溶液重合を行う場合、溶媒としては、各工程で得られる重合体が溶解しうる不活性溶媒を用いうる。不活性溶媒としては、例えば、ｎ−ペンタン、イソペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、イソオクタン等の脂肪族炭化水素溶媒；シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロペンタン、メチルシクロヘキサン、デカリン等の脂環式炭化水素溶媒；ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素溶媒；などが挙げられる。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。中でも、溶媒として脂環式炭化水素溶媒を用いると、水素化反応にも不活性な溶媒としてそのまま使用でき、ブロック共重合体の溶解性も良好であるため、好ましい。溶媒の使用量は、全使用モノマー１００重量部に対して、好ましくは２００重量部〜２０００重量部である。
【００４３】
それぞれのモノマー組成物が２種以上のモノマーを含む場合、ある１成分の連鎖だけが長くなるのを抑制するために、例えばランダマイザーを使用しうる。特に重合反応をアニオン重合により行う場合には、例えばルイス塩基化合物等をランダマイザーとして使用することが好ましい。ルイス塩基化合物としては、例えば、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジフェニルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールメチルフェニルエーテル等のエーテル化合物；テトラメチルエチレンジアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン等の第３級アミン化合物；カリウム−ｔ−アミルオキシド、カリウム−ｔ−ブチルオキシド等のアルカリ金属アルコキシド化合物；トリフェニルホスフィン等のホスフィン化合物；などが挙げられる。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００４４】
（２．２．ブロック共重合体の水素化物）
ブロック共重合体の水素化物は、前述したブロック共重合体の不飽和結合を水素化して得られるものである。ブロック共重合体を水素化して用いることにより、透明フィルムからのアウトガスの発生量を効果的に少なくできる。ここで、ブロック共重合体の不飽和結合には、ブロック共重合体の主鎖の炭素−炭素不飽和結合及び側鎖の炭素−炭素不飽和結合をいずれも含む。さらに、ブロック共重合体の不飽和結合には、芳香族性の炭素−炭素不飽和結合及び非芳香族性の炭素−炭素不飽和結合をいずれも含む。
【００４５】
ブロック共重合体の水素化物の水素化率は、ブロック共重合体の全不飽和結合の、好ましくは９０％以上、より好ましくは９７％以上、特に好ましくは９９％以上である。水素化率が高いほど、透明フィルムの耐熱性及び耐光性を良好にできる。ここで、水素化物の水素化率は、１Ｈ−ＮＭＲによる測定により求めうる。
【００４６】
特に、非芳香族性の不飽和結合の水素化率は、好ましくは９５％以上、より好ましくは９９％以上である。非芳香族性の炭素−炭素不飽和結合の水素化率を高めることにより、透明フィルムの耐光性及び耐酸化性を更に高くできる。
【００４７】
また、芳香族性の炭素−炭素不飽和結合の水素化率は、好ましくは９０％以上、より好ましくは９３％以上、特に好ましくは９５％以上である。芳香環の炭素−炭素不飽和結合の水素化率を高めることにより、重合体ブロック［Ａ］を水素化して得られる重合体ブロックのガラス転移温度が高くなるので、透明フィルムの耐熱性を効果的に高めることができる。さらに、透明フィルムの光弾性係数を下げられるので、透明フィルムを封止材として用いる場合に、封止時の意図しないレターデーションの発現を抑制できる。
【００４８】
ブロック共重合体の水素化物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは４０，０００〜２００，０００、より好ましくは４５，０００〜１５０，０００、特に好ましくは５０，０００〜１００，０００である。
また、ブロック共重合体の水素化物の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは３以下、より好ましくは２以下、特に好ましくは１．５以下であり、好ましくは１．０以上である。
ブロック共重合体の水素化物の重量平均分子量Ｍｗ及び分子量分布Ｍｗ／Ｍｎが前記の範囲にあることにより、透明フィルムの機械強度及び耐熱性を向上させることができる。
【００４９】
ブロック共重合体の水素化物における、重合体ブロック［Ａ］を水素化して得られる全重合体ブロックが水素化物全体に占める重量分率ｗＡと、重合体ブロック［Ｂ］を水素化して得られる全重合体ブロックが水素化物全体に占める重量分率ｗＢとの比（ｗＡ／ｗＢ）は、通常、水素化する前のブロック共重合体における比ｗＡ／ｗＢと同じ値となる。
【００５０】
ブロック共重合体の水素化物は、その分子構造にアルコキシシリル基を有することが好ましい。ブロック共重合体のアルコキシシリル基を有する水素化物は、例えば、アルコキシシリル基を有さないブロック共重合体の水素化物に、アルコキシシリル基を結合させることにより得られる。この際、ブロック共重合体の水素化物にアルコキシシリル基を直接結合させてもよく、例えばアルキレン基などの２価の有機基を介して結合させてもよい。
【００５１】
アルコキシシリル基を有する水素化物は、ガラス、無機物、金属などの材料との接着性に特に優れる。そのため、透明フィルムによって発光素子を封止する場合に、透明フィルムと発光素子との接着性を特に高くできる。したがって、高温高湿環境に長時間暴露された後も、透明フィルムが十分な接着力を維持することができる。
【００５２】
アルコキシシリル基の導入量は、アルコキシシリル基の導入前のブロック共重合体の水素化物１００重量部に対し、好ましくは０．１重量部以上、より好ましくは０．２重量部以上、特に好ましくは０．３重量部以上であり、好ましくは１０重量部以下、より好ましくは５重量部以下、特に好ましくは３重量部以下である。アルコキシシリル基の導入量を前記範囲に収めると、水分で分解されたアルコキシシリル基同士の架橋度が過剰に高くなることを抑制できるので、透明フィルムの接着性を高く維持することができる。
アルコキシシリル基の導入量は、１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにて計測しうる。また、アルコキシシリル基の導入量の計測の際、導入量が少ない場合は、積算回数を増やして計測しうる。
【００５３】
ブロック共重合体のアルコキシシリル基を有する水素化物の分子量は、導入されるアルコキシシリル基の量が少ないため、通常は、アルコキシシリル基を導入する前のブロック共重合体の水素化物の分子量から大きく変化しない。ただし、アルコキシシリル基を導入する際には、通常、過酸化物の存在下でブロック共重合体の水素化物を変性反応させるので、その水素化物の架橋反応及び切断反応が進行し、分子量分布は大きく変化する傾向がある。
【００５４】
ブロック共重合体のアルコキシシリル基を有する水素化物の重量平均分子量は、好ましくは４０，０００〜２００，０００、より好ましくは４５，０００〜１５０，０００、特に好ましくは５０，０００〜１００，０００である。
また、ブロック共重合体のアルコキシシリル基を有する水素化物の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは３．５以下、より好ましくは２．５以下、特に好ましくは２．０以下であり、好ましくは１．０以上である。
ブロック共重合体のアルコキシシリル基を有する水素化物の重量平均分子量Ｍｗ及び分子量分布Ｍｗ／Ｍｎがこの範囲であると、透明フィルムの良好な機械強度及び引張り伸びが維持できる。
【００５５】
ブロック共重合体の水素化物の製造方法は、通常、前述したブロック共重合体を水素化することを含む。水素化方法としては、水素化率を高くでき、ブロック共重合体の鎖切断反応の少ない水素化方法が好ましい。このような好ましい水素化方法としては、例えば、ニッケル、コバルト、鉄、チタン、ロジウム、パラジウム、白金、ルテニウム、及びレニウムからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属を含む水素化触媒を用いて水素化を行う方法が挙げられる。水素化触媒は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。水素化触媒は、不均一系触媒、均一系触媒のいずれも使用可能である。また、水素化反応は、有機溶媒中で行うのが好ましい。
【００５６】
不均一系触媒は、例えば、金属又は金属化合物のままで用いてもよく、適切な担体に担持して用いてもよい。担体としては、例えば、活性炭、シリカ、アルミナ、炭酸カルシウム、チタニア、マグネシア、ジルコニア、ケイソウ土、炭化ケイ素、フッ化カルシウムなどが挙げられる。触媒の担持量は、触媒及び担体の合計量に対して、好ましくは０．１重量％以上、より好ましくは１重量％以上であり、好ましくは６０重量％以下、より好ましくは５０重量％以下である。また、担持型触媒の比表面積は、好ましくは１００ｍ２／ｇ〜５００ｍ２／ｇである。さらに、担持型触媒の平均細孔径は、好ましくは１００Å以上、より好ましくは２００Å以上であり、好ましくは１０００Å以下、好ましくは５００Å以下である。ここで、比表面積は、窒素吸着量を測定しＢＥＴ式を用いて求めうる。また、平均細孔径は、水銀圧入法により測定しうる。
【００５７】
均一系触媒としては、例えば、ニッケル、コバルト、チタン又は鉄の化合物と有機金属化合物とを組み合わせた触媒；ロジウム、パラジウム、白金、ルテニウム、レニウム等の有機金属錯体触媒；などを用いることができる。
ニッケル、コバルト、チタン又は鉄の化合物としては、例えば、各金属のアセチルアセトナト化合物、カルボン酸塩、シクロペンタジエニル化合物等が挙げられる。
また、有機金属化合物としては、例えば、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム等のアルキルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウムジクロリド等のハロゲン化アルミニウム、ジイソブチルアルミニウムハイドライド等の水素化アルキルアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物；並びに有機リチウム化合物などが挙げられる。
有機金属錯体触媒としては、例えば、ジヒドリド−テトラキス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、ジヒドリド−テトラキス（トリフェニルホスフィン）鉄、ビス（シクロオクタジエン）ニッケル、ビス（シクロペンタジエニル）ニッケル等の遷移金属錯体が挙げられる。
【００５８】
水素化触媒の使用量は、ブロック共重合体１００重量部に対して、好ましくは０．０１重量部以上、より好ましくは０．０５重量部以上、特に好ましくは０．１重量部以上であり、好ましくは１００重量部以下、より好ましくは５０重量部以下、特に好ましくは３０重量部以下である。
【００５９】
水素化反応の温度は、好ましくは１０℃以上、より好ましくは５０℃以上、特に好ましくは８０℃以上であり、好ましくは２５０℃以下、より好ましくは２００℃以下、特に好ましくは１８０℃以下である。このような温度範囲で水素化反応を行なうことにより、水素化率を高くでき、また、ブロック共重合体の分子切断を少なくできる。
【００６０】
また、水素化反応時の水素圧力は、好ましくは０．１ＭＰａ以上、より好ましくは１ＭＰａ以上、特に好ましくは２ＭＰａ以上であり、好ましくは３０ＭＰａ以下、より好ましくは２０ＭＰａ以下、特に好ましくは１０ＭＰａ以下である。このような水素圧力で水素化反応を行なうことにより、水素化率を高くでき、ブロック共重合体の分子鎖切断を少なくでき、操作性が良好となる。
【００６１】
前記のようにブロック共重合体を水素化することにより、ブロック共重合体の水素化物が生成物として得られる。この水素化反応後の生成物は、そのまま透明フィルムを形成するために用いてもよい。また、水素化反応後の生成物に対し、必要に応じてさらに任意の処理を施してから、透明フィルムを形成するために用いてもよい。例えば、水素化反応後の生成物に対し、必要に応じてアルコキシシリル基を導入する処理を行ってもよい。
【００６２】
ブロック共重合体の水素化物にアルコキシシリル基を導入する方法としては、例えば、アルコキシシリル基を導入する前のブロック共重合体の水素化物と、エチレン性不飽和シラン化合物とを、過酸化物の存在下で反応させる方法を用いうる。
【００６３】
エチレン性不飽和シラン化合物としては、ブロック共重合体の水素化物とグラフト重合でき、ブロック共重合体の水素化物にアルコキシシリル基を導入できるものを用いうる。このようなエチレン性不飽和シラン化合物の例としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、ジメトキシメチルビニルシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、ｐ−スチリルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、及び２−ノルボルネン−５−イルトリメトキシシランなどが挙げられる。中でも、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、ジメトキシメチルビニルシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシランが好ましい。また、エチレン性不飽和シラン化合物は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００６４】
エチレン性不飽和シラン化合物の量は、アルコキシシリル基を導入する前のブロック共重合体の水素化物１００重量部に対して、好ましくは０．１重量部以上、より好ましくは０．２重量部以上、特に好ましくは０．３重量部以上であり、好ましくは１０重量部以下、より好ましくは５重量部以下、特に好ましくは３重量部以下である。
【００６５】
過酸化物としては、例えば、ジベンゾイルパーオキシド、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、２，２−ジ−（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ブチルクミルパーオキシド、ジクミルパーオキサイド、ジ−ｔ−ヘキシルパーオキシド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシヘキサン）、ジ−ｔ−ブチルパーオキシド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３、ｔ−ブチルヒドロパーオキシド、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ラウロイルパーオキシド、ジプロピオニルパーオキシド、ｐ−メンタンハイドロパーオキサイドなどの有機過酸化物が挙げられる。中でも、１分間半減期温度が１７０℃〜１９０℃のものが好ましく、例えば、ｔ−ブチルクミルパーオキシド、ジクミルパーオキサイド、ジ−ｔ−ヘキシルパーオキシド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシヘキサン）、ジ−ｔ−ブチルパーオキシドなどが好ましい。また、過酸化物は、１種類を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００６６】
過酸化物の量は、アルコキシシリル基を導入する前のブロック共重合体の水素化物１００重量部に対して、好ましくは０．０１重量部以上、より好ましくは０．２重量部以上、特に好ましくは０．３重量部以上であり、好ましくは５重量部以下、より好ましくは３重量部以下、特に好ましくは２重量部以下である。
【００６７】
上記のブロック共重合体の水素化物とエチレン性不飽和シラン化合物とを過酸化物の存在下で反応させる方法は、例えば、加熱混練機及び反応器を用いて行いうる。具体例を挙げると、ブロック共重合体の水素化物とエチレン性不飽和シラン化合物と過酸化物との混合物を、二軸混練機にて、ブロック共重合体の水素化物の溶融温度以上で加熱溶融させて、所望の時間混練することにより、ブロック共重合体の水素化物にアルコキシシリル基を導入することができる。混練時の具体的な温度は、好ましくは１８０℃以上、より好ましくは１９０℃以上、特に好ましくは２００℃以上であり、好ましくは２４０℃以下、より好ましくは２３０℃以下、特に好ましくは２２０℃以下である。また、混練時間は、好ましくは０．１分以上、より好ましくは０．２分以上、特に好ましくは０．３分以上であり、好ましくは１５分以下、より好ましくは１０分以下、特に好ましくは５分以下である。二軸混練機、単軸押出し機などの連続混練設備を使用する場合は、滞留時間が上記範囲になるようにして、連続的に混練及び押出しを行いうる。
【００６８】
［４．任意の成分］
熱可塑性樹脂は、上述した熱可塑性重合体に組み合わせて、更に任意の成分を含みうる。
任意の成分としては、例えば、紫外線吸収剤が挙げられる。紫外線吸収剤を用いることにより、透明フィルムの耐光性を改善することができる。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤などが挙げられる。
【００６９】
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸３水和物、２−ヒドロキシ−４−オクチロキシベンゾフェノン、４−ドデカロキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。
【００７０】
サリチル酸系紫外線吸収剤としては、例えば、フェニルサリチレート、４−ｔ−ブチルフェニル−２−ヒドロキシベンゾエート、フェニル−２−ヒドロキシベンゾエート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。
【００７１】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−６−（３，４，５，６−テトラヒドロフタリミジルメチル）フェノール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−［（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］］などが挙げられる。
紫外線吸収剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００７２】
紫外線吸収剤の量は、熱可塑性重合体１００重量部に対して、好ましくは０．０１重量部以上、より好ましくは０．０２重量部以上、特に好ましくは０．０４重量部以上であり、好ましくは１重量部以下、より好ましくは０．７５重量部以下、特に好ましくは０．５重量部以下である。紫外線吸収剤を前記範囲の下限値以上用いることにより、透明フィルムの耐光性を改善することができ、上限を超えて過剰に用いても、更なる改善は得られ難い。
【００７３】
また、任意の成分としては、例えば、可塑剤が挙げられる。可塑剤を用いることにより、熱可塑性樹脂のメルトフローレート、ガラス転移温度及び弾性率等の物性を調整することができる。可塑剤としては、例えば、ポリイソブテン、水素化ポリイソブテン、水素化ポリイソプレン、水素化１，３−ペンタジエン系石油樹脂、水素化シクロペンタジエン系石油樹脂、水素化スチレン・インデン系石油樹脂などが挙げられる。
可塑剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００７４】
可塑剤の量は、熱可塑性樹脂１００重量部に対して、好ましくは４０重量部以下であり、樹脂特性を調整する目的に合わせて選択しうる。
【００７５】
また、任意の成分としては、例えば、酸化防止剤が挙げられる。酸化防止剤としては、例えば、リン系酸化防止剤、フェノ−ル系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤などが挙げられ、着色がより少ないリン系酸化防止剤が好ましい。
【００７６】
リン系酸化防止剤としては、例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイドなどのモノホスファイト系化合物；４，４’−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト）、４，４’−イソプロピリデン−ビス（フェニル−ジ−アルキル（Ｃ１２〜Ｃ１５）ホスファイト）などのジホスファイト系化合物；６−〔３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ〕−２，４，８，１０−テトラキス−ｔ−ブチルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１．３．２〕ジオキサフォスフェピン、６−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロポキシ〕−２，４，８，１０−テトラキス−ｔ−ブチルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１．３．２〕ジオキサフォスフェピンなどの化合物を挙げることができる。
【００７７】
フェノ−ル系酸化防止剤としては、例えば、ペンタエリスリチル・テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，２−チオ−ジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、３，９−ビス｛２−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１−ジメチルエチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼンなどの化合物を挙げることができる。
【００７８】
硫黄系酸化防止剤としては、例えば、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオ−プロピオネート）、３，９−ビス（２−ドデシルチオエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンなどの化合物を挙げることができる。
酸化防止剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００７９】
酸化防止剤の量は、熱可塑性重合体１００重量部に対して、好ましくは０．０１重量部以上、より好ましくは０．０５重量部以上、特に好ましくは０．１重量部以上であり、好ましくは１重量部以下、より好ましくは０．５重量部以下、特に好ましくは０．３重量部以下である。酸化防止剤を前記範囲の下限値以上用いることにより、透明フィルムの熱安定性を改善することができ、上限を超えて過剰に用いても、更なる改善は得られ難い。
【００８０】
さらに、任意の成分としては、例えば、無機金属化合物及び有機金属化合物等の金属化合物；水分捕捉剤；光安定剤；滑剤；無機フィラー；等が挙げられる。
任意の成分は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００８１】
［５．熱可塑性樹脂の物性］
熱可塑性樹脂のガラス転移温度Ｔｇは、好ましくは３０℃以上、より好ましくは５０℃以上、特に好ましくは７０℃以上であり、好ましくは２００℃以下、より好ましくは１８０℃以下、特に好ましくは１６０℃以下である。熱可塑性樹脂は複数のガラス転移温度を有する場合がありえる。その場合、樹脂の最も高いガラス転移温度が、前記の範囲に収まることが好ましい。熱可塑性樹脂のガラス転移温度Ｔｇが前記の範囲に収まっていると、透明フィルムの接着性と封止後の発光素子の性能維持のバランスを取ることができる。
【００８２】
樹脂のガラス転移温度は、下記の方法によって測定しうる。
樹脂のペレットをプレス成形して、長さ５０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ１ｍｍの試験片を作製する。この試験片を用いて、ＪＩＳ−Ｋ７２４４−４法に基づき、粘弾性測定装置を使用して、−１００℃から＋１５０℃の温度範囲で、昇温速度５℃／分で動的粘弾性特性を測定する。前記の動的粘弾性特性は、横軸を温度、縦軸を損失正接ｔａｎδとしたグラフとして得られた。この動的粘弾性特性における損失正接ｔａｎδの高温側のピークトップ温度より、ガラス転移温度Ｔｇを求めうる。
【００８３】
［６．押出成形工程］
透明フィルムの製造方法は、上述した熱可塑性樹脂を、押出成形することを含む。通常は、溶融状態の熱可塑性樹脂を、ダイスから押し出すことにより、フィルム状に成形する。そして、成形された熱可塑性樹脂が冷却されることにより、長尺の透明フィルムが得られる。
【００８４】
この際、熱可塑性樹脂の押出温度は、通常Ｔｇ＋３０℃以上、好ましくはＴｇ＋３５℃以上、より好ましくはＴｇ＋４０℃以上であり、通常Ｔｇ＋７０℃未満、好ましくはＴｇ＋６５℃未満、より好ましくはＴｇ＋６０℃未満である。ここで、Ｔｇは、熱可塑性樹脂のガラス転移温度を表す。また、熱可塑性樹脂が複数のガラス転移温度を有する場合、Ｔｇは、当該樹脂の最も高いガラス転移温度を表す。押出温度が前記範囲の下限値未満であると、押出成形によって得られるフィルムの表面に表面凹凸が形成されて、ヘイズが大きくなり、透明フィルムが得られ難い。また、押出温度が前記範囲の上限値以上であると、流れムラ及びゲル化による異物が多く発生し、ヘイズが大きくなるので、透明フィルムが得られ難い。これに対して、押出温度が前記範囲にあると、ヘイズが小さい透明フィルムを容易に製造できる。また、前記範囲の押出温度であれば、通常は、異物による欠陥の発生を効果的に抑制できる。
ここで、熱可塑性樹脂の押出温度とは、ダイスから押し出される時点での熱可塑性樹脂の温度であり、通常は、ダイス内における熱可塑性樹脂の温度として測定しうる。
【００８５】
通常、ダイスから押し出されたフィルム状の溶融状態の熱可塑性樹脂は、冷却ロールに密着させられる。樹脂を冷却ロールに密着させる方法は、特に制限されず、例えば、エアナイフ方式、バキュームボックス方式、静電密着方式などが挙げられる。
冷却ロールの数は特に制限されないが、好ましくは２本以上である。また、冷却ロールの配置方法としては、例えば、直線型、Ｚ型、Ｌ型などが挙げられるが特に制限されない。またダイスから押出された溶融樹脂の冷却ロールへの通し方も特に制限されない。
【００８６】
冷却ロールの温度により、押出されたフィルム状の樹脂の冷却ロールへの密着具合が変化することがある。具体的には、冷却ロールの温度が高いと密着は良好になる傾向があるが、温度が高すぎるとフィルム状の樹脂が冷却ロールから剥がれ難くなる可能性がある。そのため、冷却ロール温度は、好ましくはＴｇ℃以下、さらに好ましくはＴｇ−１０℃以下であり、好ましくはＴｇ−１００℃以上である。
【００８７】
［７．任意の工程］
透明フィルムの製造方法は、上述したように熱可塑性樹脂を押出成形する工程に組み合わせて、更に任意の工程を含みうる。例えば、透明フィルムの製造方法は、得られた透明フィルムを延伸する工程を含んでいてもよい。また、例えば、透明フィルムの製造方法は、得られた透明フィルムの表面に、コロナ処理、プラズマ処理、薬品処理、任意の塗工液の塗工処理、等の表面処理を施す工程を含んでいてもよい。
【００８８】
［８．透明フィルム］
上述した製造方法によって、透明フィルムが得られる。この透明フィルムは、透明性に優れる。ここで、透明性に優れるとは、ヘイズが小さいことをいう。透明フィルムの具体的なヘイズは、好ましくは０．５％以下、より好ましくは０．４％以下、特に好ましくは０．２％以下であり、理想的には０．０％である。
【００８９】
フィルムのヘイズは、下記の方法によって測定しうる。
フィルムの幅方向両端部及び幅方向中心部から、５０ｍｍ角のフィルム片を切り出す。得られた３つのフィルム片それぞれのヘイズを、ＪＩＳ  Ｋ  ７１３６に準拠して、ヘイズメーターを用いて測定する。そして、フィルム片のヘイズの平均として、フィルムのヘイズの値を求めうる。
【００９０】
透明フィルムは、通常、アウトガスが少ない。よって、透明フィルムを、１０℃／分の昇温条件で２５℃から１２０℃まで昇温させたときに、透明フィルムから発生する水分量は、通常、少ない。前記の水分量は、具体的には、好ましくは５０ｐｐｍ以下、より好ましくは４５ｐｐｍ以下、特に好ましくは４０ｐｐｍ以下である。ここで、前記の水分量の単位「ｐｐｍ」は、水分量の割合を重量基準で表すものであり、昇温前の透明フィルムの重量に対する割合を表す。
【００９１】
また、透明フィルムを、１０℃／分の昇温条件で２５℃から１２０℃まで昇温させたときに、透明フィルムから発生する水分以外のアウトガスの総量は、通常、少ない。前記の水分以外のアウトガスの総量は、具体的には、好ましくは５００ｐｐｍ以下、より好ましくは４５０ｐｐｍ以下、特に好ましくは４００ｐｐｍ以下である。ここで、前記の水分以外のアウトガスの総量の単位「ｐｐｍ」は、水分以外のアウトガスの総量の割合を重量基準で表すものであり、昇温前の透明フィルムの重量に対する割合を表す。水分以外のアウトガスとしては、例えば、透明フィルムに含まれる、可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の低分子量の添加剤由来の成分が挙げられる。
【００９２】
前記のようにアウトガスの少ない透明フィルムは、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、適宜「有機ＥＬ素子」ということがある。）用の封止材として用いた場合に、有機ＥＬ素子の封止直後のダークスポットの発生を効果的に抑制できる。
透明フィルムのアウトガスの量は、ガスクロマトグラフ質量分析計によって測定しうる。
【００９３】
透明フィルムの全光線透過率は、高いことが好ましい。具体的な全光線透過率は、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上、特に好ましくは９０％以上である。全光線透過率は、紫外・可視分光計を用いて、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲で測定しうる。
【００９４】
透明フィルムの厚みは、好ましくは４０μｍ以下、より好ましくは３０μｍ以下、特に好ましくは２０μｍ以下である。一般に、厚いフィルムでは、ゲル化による異物を含んでいても、当該異物はフィルム中に埋没し易い。そのため、従来の厚いフィルムでは、異物を含んでいても表面に突起が形成され難く、ヘイズが大きくなり難かった。しかし、従来の薄いフィルムでは、ゲル化による異物を含むと、その異物によって表面に突起が形成され、ヘイズが大きくなり易かった。これに対し、上述した製造方法では、ゲル化による異物の発生が抑制されているので、薄い透明フィルムであっても表面に突起が形成され難く、そのため、小さいヘイズを容易に達成できる。そこで、このように薄くてもヘイズを小さくできることの利点を有効に活用する観点から、透明フィルムは前記のように薄いことが好ましい。透明フィルムの厚みの下限は、特段の制限は無いが、封止材として用いる場合の封止性能を高める観点からは、好ましくは２μｍ以上、より好ましくは３μｍ以上、特に好ましくは５μｍ以上である。
【００９５】
透明フィルムは、その用途に制限は無く、任意の用途に用いうる。中でも、高い透明性を有効に活用する観点から、光学フィルムとして用いることが好ましい。光学フィルムとしては、例えば、偏光板保護フィルム等の保護フィルム；発光素子用の封止材フィルム；などが挙げられる。中でも、透明フィルムは、封止材フィルムとして用いることが好ましい。
【００９６】
透明フィルムによって発光素子を封止する場合、通常は、発光素子に透明フィルムを貼り合わせることにより、封止を行う。前記の貼り合わせの際、通常は、発光素子の表面に透明フィルムを沿わせ、透明フィルムを発光素子に所定の封止温度で圧着させる。これにより、透明フィルムが発光素子に密着し、発光素子の封止が達成される。
【００９７】
封止は、通常、透明フィルムに含まれる熱可塑性樹脂のガラス転移温度Ｔｇよりも高温で行う。具体的な封止温度は、好ましくはＴｇ＋５℃以上、より好ましくはＴｇ＋１０℃以上、特に好ましくはＴｇ＋２０℃以上である。このようにガラス転移温度Ｔｇよりも高い温度では、透明フィルムは十分に柔軟である。そのため、発光素子の表面が平坦でない場合でも、透明フィルムが素子表面に隙間無く密着し易いので、良好な封止を実現できる。封止温度の上限は、好ましくはＴｇ＋１５０℃以下、より好ましくはＴｇ＋１２０℃以下、特に好ましくはＴｇ＋１００℃以下である。これにより、封止の際の熱による発光素子の熱劣化を抑制できる。
【００９８】
圧着のために加えられる圧力は、好ましくは０．０１ＭＰａ以上、より好ましくは０．０５ＭＰａ以上、特に好ましくは０．１ＭＰａ以上であり、好ましくは１ＭＰａ以下、より好ましくは０．７５ＭＰａ以下、特に好ましくは０．５ＭＰａ以下である。圧力を前記範囲の下限値以上にすることにより、透明フィルムを発光素子に容易に密着させることができ、また、圧力を前記範囲の上限値以下にすることにより、ダークスポットの発生を効果的に抑制できる。
【００９９】
前記の封止は、減圧環境において行うことが好ましい。これにより、封止される発光素子への水分及び酸素の浸入を更に効果的に抑制できる。封止環境の具体的な真空度は、好ましくは１００Ｐａ以下、より好ましくは７５Ｐａ以下、特に好ましくは５０Ｐａ以下である。
【０１００】
また、前記の封止は、露点温度−４０℃以下のドライエアーを導入したドライルームにおいて行っても好ましい。これにより、封止される発光素子への水分及び酸素の浸入を更に効果的に抑制できる。
【０１０１】
前記のような封止の対象となる光学素子としては、例えば、有機ＥＬ素子及び太陽電池素子等の光電変換素子が挙げられる。中でも、有機ＥＬ素子が好ましい。
【実施例】
【０１０２】
以下、実施例を示して本発明について具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
以下の説明において、量を表す「％」及び「部」は、別に断らない限り重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温常圧大気中にて行った。
【０１０３】
［評価方法］
〔樹脂のメルトフローレートの測定方法〕
樹脂のメルトフローレートは、ＪＩＳ−Ｋ−７２１０に基づき、メルトインデクサ（東洋精機製作所社製「Ｆ−Ｆ０１」）を用いて、温度１９０℃、荷重２．１６ｋｇの条件で測定した。
【０１０４】
〔樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）の測定方法〕
樹脂のペレットをプレス成形して、長さ５０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ１ｍｍの試験片を作製した。この試験片を用いて、ＪＩＳ−Ｋ７２４４−４法に基づき、粘弾性測定装置（ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン社製「ＡＲＥＳ」）を使用して、−１００℃から＋１５０℃の温度範囲で、昇温速度５℃／分で動的粘弾性特性を測定した。この動的粘弾性特性における損失正接ｔａｎδの高温側のピークトップ温度より、ガラス転移温度Ｔｇを求めた。
【０１０５】
〔フィルムのヘイズの測定方法〕
フィルムの幅方向両端部及び幅方向中心部から、５０ｍｍ角のフィルム片を切り出した。得られた３つのフィルム片それぞれのヘイズを、ヘイズメーター（日本電色工業製「ＮＤＨ−２０００」）を用いて測定した。フィルム片のヘイズの平均として、フィルムのヘイズの値を得た。得られたヘイズの値に基づき、下記の基準で評価を行った。
「◎」：ヘイズが、０．２％以下。
「○」：ヘイズが、０．２％より大きく、０．５％以下。
「×」：ヘイズが、０．５％より大きい。
【０１０６】
〔フィルムの異物の評価方法〕
縦５０ｍｍ、横５０ｍｍ、厚み０．１ｍｍのガラス板を用意した。このガラス板とフィルムとを重ね、熱圧着することによって、異物評価サンプルを作製した。前記の熱圧着は、真空ラミネーター（常陽工学社製）を用いて、加熱温度１１０℃、加圧０．８ｋＮ、真空度１．３Ｐａ、保持時間５ｍｉｎの圧着条件にて実施した。作製したサンプルを、光学顕微鏡（オリンパス社製「ＢＸ５１」）を用いて倍率２００倍にて観察した。フィルムに異物がある部分では、フィルムとガラス板とが隙間無く密着できずに、気泡が形成されることがある。そこで、観察された像において長径３００μｍ以上の気泡の数を数えた。気泡の数に基づき、下記の基準で評価を行った。
「◎」：気泡の数が、２個未満。
「○」：気泡の数が、２個以上、５個未満。
「×」：気泡の数が、５個以上。
【０１０７】
［実施例１］
（ブロック共重合体の製造）
撹拌装置を備えた反応器を用意し、その内部を充分に窒素置換した。この反応器に、脱水シクロヘキサン５５０部、脱水スチレン２５．０部、及びｎ−ジブチルエーテル０．５９部を入れ、６０℃で撹拌しながら、ｎ−ブチルリチウム（１５％シクロヘキサン溶液）１．１４部を加えて、重合を開始した。その後、撹拌しながら、６０℃で６０分反応させた。その後、得られた反応混合物の重合転化率を測定したところ、この時点での重合転化率は、９９．５％であった（重合転化率は、ガスクロマトグラフィー分析により測定した。以下にて同じ。）。
【０１０８】
次に、反応器に脱水イソプレン５０．０部を加え、そのまま３０分撹拌を続けた。この時点での重合転化率は、９９．５％であった。
その後、更に、反応器に脱水スチレン２５．０部を加え、６０分撹拌した。この時点での重合転化率は、ほぼ１００％であった。ここで、反応器にイソプロピルアルコール０．５部を加えて反応を停止させて、ブロック共重合体を含む溶液（ｉ）を得た。得られたブロック共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は４７，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０３、スチレン重合体ブロックの重量分率ｗＡとイソプレン重合体ブロックの重量分率ｗＢとの比ｗＡ／ｗＢ＝５０／５０であった。
【０１０９】
（水素化処理）
次に、溶液（ｉ）を、撹拌装置を備えた耐圧反応器に移送した。この耐熱反応器に、水素化触媒として珪藻土担持型ニッケル触媒（ズードケミー触媒社製「Ｔ−８４００ＲＬ」）３．０部及び脱水シクロヘキサン１００部を添加した。反応器内部を水素ガスで置換し、さらに溶液を撹拌しながら水素を供給し、温度１９０℃、圧力４．５ＭＰａにて６時間水素化反応を行なった。これによりブロック共重合体を水素化して、ブロック共重合体の水素化物（ii）を含む溶液（iii）を得た。溶液（iii）中のブロック共重合体の水素化物（ii）の重量平均分子量（Ｍｗ）は４８，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０４であった。
【０１１０】
水素化反応の終了後、溶液（iii）をろ過して、水素化触媒を除去した。その後、ろ過された溶液（iii）に、フェノール系酸化防止剤であるペンタエリスリチル・テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（ＳＯＮＧＷＯＮ社製「Ｓｏｎｇｎｏｘ１０１０」）０．１部を溶解したキシレン溶液１．０部を添加して溶解させて、溶液（iv）を得た。
【０１１１】
次いで、溶液（iv）を、金属ファイバー製フィルター（孔径０．４μｍ、ニチダイ社製）にてろ過して微小な固形分を除去した。その後、ろ過された溶液（iv）から、溶媒であるシクロヘキサン、キシレン及びその他の揮発成分を、円筒型濃縮乾燥器（日立製作所社製「コントロ」）を用いて温度２６０℃、圧力０．００１ＭＰａ以下で除去し、溶融ポリマーを得た。この溶融ポリマーを、連続して、前記の濃縮乾燥器に連結した孔径５μｍのステンレス製焼結フィルターを備えたポリマーフィルター（富士フィルター製）により、温度２６０℃でろ過した。その後、ダイスから溶融ポリマーをストランド状に押し出し、冷却した後、ペレタイザーによりカットして、ブロック共重合体の水素化物（ｖ）のペレット９６部を製造した。得られたブロック共重合体の水素化物（ｖ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は４８，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０４であった。水素化率は、ほぼ１００％であった。
【０１１２】
（アルコキシシリル基の導入処理）
得られたブロック共重合体の水素化物（ｖ）のペレット１００部に対して、ビニルトリメトキシシラン２．０部及び２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン（日油社製「パーヘキサ（登録商標）２５Ｂ」）０．２部を添加して、混合物を得た。この混合物を、二軸押出機（東芝機械社製「ＴＥＭ３７Ｂ」）を用いて、樹脂温度２００℃、滞留時間６０秒〜７０秒で混練し、ストランド状に押し出し、空冷した後、ペレタイザーによりカットし、ブロック共重合体のアルコキシシリル基を有する水素化物（vi）のペレット９７部を得た。以下の説明において、アルコキシシリル基を有する水素化物（vi）を、適宜「変性水素化物（vi）」ということがある。
【０１１３】
得られた変性水素化物（vi）のペレット１０部を、シクロヘキサン１００部に溶解した後、脱水したメタノール４００部中に注いで、変性水素化物（vi）を凝固させた。凝固した変性水素化物（vi）を濾別した後、２５℃で真空乾燥して、変性水素化物（vi）のクラム９．５部を単離した。単離したクラムについて、ＦＴ−ＩＲスペクトル及び１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを観察した。ＦＴ−ＩＲスペクトルでは、１０９０ｃｍ−１にＳｉ−ＯＣＨ３基に由来する新たな吸収帯が観察され、８２５ｃｍ−１と７３９ｃｍ−１にＳｉ−ＣＨ２基に由来する新たな吸収帯が観察された。これらの吸収帯の位置は、ビニルトリメトキシシランの吸収帯の位置である１０７５ｃｍ−１、８０８ｃｍ−１、及び７６６ｃｍ−１と異なる位置である。また、１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中）では３．６ｐｐｍにメトキシ基のプロトンに基づく吸収帯が観察された。これらのスペクトルにおけるピーク面積比から、ブロック共重合体の水素化物（ｖ）の１００部に対してビニルトリメトキシシラン１．８部が結合したことが確認された。
【０１１４】
（フィルム製造用の樹脂ペレットの製造）
変性水素化物（vi）のペレット１００重量部に、紫外線吸収剤である２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン０．５部を添加し、混合物とした。この混合物を、液状物を添加できるサイドフィーダーを備えた二軸押出機（東芝機械社製「ＴＥＭ３７ＢＳ」）を用いて、樹脂温度１９０℃でストランド状に押し出した。この押し出しの際、二軸延伸機内の混合物には、前記サイドフィーダーを通して、可塑剤としてのポリイソブテン（ＪＸ日鉱日石エネルギー社製「日石ポリブテンＬＶ−１００」。数平均分子量５００）を、変性水素化物（vi）１００重量部に対して１０重量部の割合となるように、連続的に添加した。押し出された混合物を空冷した後、ペレタイザーによりカットして、変性水素化物（vi）及びポリイソブテンを含む樹脂のペレットを得た。このペレットを、空気を流通させた熱風乾燥機を用いて８０℃で、４時間加熱処理を行った。
【０１１５】
（透明フィルムの製造）
リーフディスク形状のポリマーフィルター（濾過精度１０μｍ）と、スクリュー径５０ｍｍの単軸押出機と、Ｔ型ダイスとを備える押出成形装置を用意した。この押出成形装置を用いて、前記の加熱処理を施されたペレットを、加熱処理後１時間以内に、押出温度１７０℃でフィルム状に溶融押出した。押出されたフィルム状の樹脂を、３本の冷却ドラム（直径２５０ｍｍ、ドラム温度３０℃、引取り速度０．３５ｍ／ｓ）に通して冷却し、厚み２０μｍ、６００ｍｍ幅の透明フィルムを得た。
【０１１６】
［実施例２］
透明フィルムの製造の際に、押出温度を１４０℃に変更した。以上の事項以外は、実施例１と同じ操作により、透明フィルムの製造及び評価を行った。
【０１１７】
［実施例３］
フィルム製造用の樹脂ペレットの製造の際に、変性水素化物（vi）１００重量部に対する可塑剤の量を、１５重量部に変更した。以上の事項以外は、実施例１と同じ操作により、透明フィルムの製造及び評価を行った。
【０１１８】
［実施例４］
フィルム製造用の樹脂ペレットの製造の際に、変性水素化物（vi）１００重量部に対する可塑剤の量を、１５重量部に変更した。また、透明フィルムの製造の際に、押出温度を１３５℃に変更した。以上の事項以外は、実施例１と同じ操作により、透明フィルムの製造及び評価を行った。
【０１１９】
［実施例５］
ブロック共重合体の水素化物（ｖ）に対するアルコキシシリル基の導入処理を行わなかった。すなわち、フィルム製造用の樹脂ペレットの製造の際に、変性水素化物（vi）のペレットの代わりに、ブロック共重合体の水素化物（ｖ）のペレットを用いた。また、透明フィルムの製造の際に、押出温度を１７５℃に変更した。以上の事項以外は、実施例１と同じ操作により、透明フィルムの製造及び評価を行った。
【０１２０】
［実施例６］
フィルム製造用の樹脂ペレットの製造の際に、可塑剤を用いなかった。また、透明フィルムの製造の際に、押出温度を１８０℃に変更した。以上の事項以外は、実施例１と同じ操作により、透明フィルムの製造及び評価を行った。
【０１２１】
［実施例７］
フィルム製造用の樹脂ペレットの製造の際に、変性水素化物（vi）１００重量部に対する可塑剤の量を、２０重量部に変更した。また、透明フィルムの製造の際に、押出温度を１５０℃に変更した。以上の事項以外は、実施例１と同じ操作により、透明フィルムの製造及び評価を行った。
【０１２２】
［比較例１］
透明フィルムの製造の際に、押出温度を１３０℃に変更した。以上の事項以外は、実施例１と同じ操作により、透明フィルムの製造及び評価を行った。
【０１２３】
［比較例２］
透明フィルムの製造の際に、押出温度を２００℃に変更した。以上の事項以外は、実施例１と同じ操作により、透明フィルムの製造及び評価を行った。
【０１２４】
［比較例３］
フィルム製造用の樹脂ペレットの製造の際に、変性水素化物（vi）１００重量部に対する可塑剤の量を、１５重量部に変更した。また、透明フィルムの製造の際に、押出温度を１２０℃に変更した。以上の事項以外は、実施例１と同じ操作により、透明フィルムの製造及び評価を行った。
【０１２５】
［比較例４］
フィルム製造用の樹脂ペレットの製造の際に、変性水素化物（vi）１００重量部に対する可塑剤の量を、１５重量部に変更した。また、透明フィルムの製造の際に、押出温度を１９０℃に変更した。以上の事項以外は、実施例１と同じ操作により、透明フィルムの製造及び評価を行った。
【０１２６】
［比較例５］
ブロック共重合体の水素化物（ｖ）に対するアルコキシシリル基の導入処理を行わなかった。すなわち、フィルム製造用の樹脂ペレットの製造の際に、変性水素化物（vi）のペレットの代わりに、ブロック共重合体の水素化物（ｖ）のペレットを用いた。また、フィルム製造用の樹脂ペレットの製造の際に、可塑剤を用いなかった。さらに、透明フィルムの製造の際に、押出温度を２００℃に変更した。以上の事項以外は、実施例１と同じ操作により、透明フィルムの製造及び評価を行った。
【０１２７】
［比較例６］
フィルム製造用の樹脂ペレットの製造の際に、変性水素化物（vi）１００重量部に対する可塑剤の量を、４０重量部に変更した。また、透明フィルムの製造の際に、押出温度を１３０℃に変更した。以上の事項以外は、実施例１と同じ操作により、透明フィルムの製造及び評価を行った。
【０１２８】
［結果］
前記の実施例及び比較例の結果を、下記の表１及び表２に示す。下記の表において、略称の意味は、下記のとおりである。
Ｓｔ−Ｉｐ−Ｓｔ：スチレン−イソプレン−スチレンのブロック共重合体。
ｗＡ／ｗＢ：ブロック共重合体全体に占める、全重合体ブロック［Ａ］の重量分率ｗＡと全重合体ブロック［Ｂ］の重量分率ｗＢとの比。
水素化率：ブロック共重合体の全不飽和結合を１００％に対する、ブロック共重合体の水素化物の水素化率。
シラン変性率：アルコキシシリル基の導入前のブロック共重合体の水素化物１００重量部に対する、アルコキシシリル基の導入量。
ＭＦＲ：樹脂のメルトフローレート。
Ｔｇ：樹脂のガラス転移温度。
【０１２９】
【表１】
2018051956.tif 000002
【０１３０】
【表２】
2018051956.tif 000003