(57)【要約】【課題】樹脂封止後の成形品を、金型構造や離型剤量によることなく容易に離型でき、かつ皺や欠け等の外観不良のない成形品を得ることができるとともに、金型の汚染を有効に抑制することができるプロセス用離型フィルムを提供する。【解決手段】離型層Ａと、耐熱樹脂層Ｂと、所望により離型層Ａ’と、を含む積層フィルムであるプロセス用離型フィルムであって、前記離型層Ａ（及び存在する場合離型層Ａ’）の水に対する接触角が、９０°から１３０°であり、前記積層フィルムの横（ＴＤ）方向の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率が３％以下であり、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２６に準じ、温度２０℃、湿度５０％Ｒ．Ｈ．の条件で測定した酸素透過度が１０００ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ＭＰａ以下であるか、又は所定の手順に従い測定したアウトガス透過度が１．０重量％以下である、上記プロセス用離型フィルム。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
離型層Ａと、耐熱樹脂層Ｂと、を含む積層フィルムであるプロセス用離型フィルムであって、
前記離型層Ａの水に対する接触角が、９０°から１３０°であり、
前記積層フィルムの横（ＴＤ）方向の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率が３％以下であり、
前記積層フィルムのＪＩＳ  Ｋ  ７１２６に準じ、温度２０℃、湿度５０％Ｒ．Ｈ．の条件で測定した酸素透過度が、１０００ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ＭＰａ以下である、プロセス用離型フィルム。
【請求項２】
離型層Ａと、耐熱樹脂層Ｂと、を含む積層フィルムであるプロセス用離型フィルムであって、
前記離型層Ａの水に対する接触角が、９０°から１３０°であり、
前記積層フィルムの横（ＴＤ）方向の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率が３％以下であり、
前記積層フィルムの以下の手順（１）から（３）に従い測定されたアウトガス透過度が１．０重量％以下である上記プロセス用離型フィルム： 
（１）エポキシ封止樹脂組成物１０ｍｇをバイアル瓶１の中に入れ、キャップとゴム栓で密栓後、１２０℃３０分間加熱し静的ヘッドスペース法によるＧＣ−ＭＳ測定を実施して、バイアル瓶１中アウトガス量１を測定する；
（２）封止樹脂１０ｍｇをバイアル瓶１の中に入れ、バイアル瓶１の口に、プロセス用離型フィルムを瓶口にかぶせて密栓したものを用意し、続いてバイアル瓶１が入る大きさのバイアル瓶２を用意し、このバイアル瓶２の中にバイアル瓶１を格納し、キャップとゴム栓で密栓後、１２０℃３０分間加熱し静的ヘッドスペース法によるＧＣ−ＭＳ測定を実施し、プロセス用離型フィルムを透過したバイアル瓶２中のアウトガス量２を測定する；
（３）下記（式１）に従い、プロセス用離型フィルムのアウトガス透過度を計算する。
アウトガス透過度＝アウトガス量２／アウトガス量１×１００（重量％）（式１）
【請求項３】
前記積層フィルムの横（ＴＤ）方向の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率と縦（ＭＤ）方向の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率の和が６％以下である、請求項１又は２に記載のプロセス用離型フィルム。
【請求項４】
前記耐熱樹脂層Ｂの横（ＴＤ）方向の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率が３％以下である、請求項１から３のいずれか一項に記載のプロセス用離型フィルム。
【請求項５】
前記耐熱樹脂層Ｂの横（ＴＤ）方向の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率と縦（ＭＤ）方向の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率の和が６％以下である、請求項４に記載のプロセス用離型フィルム。
【請求項６】
前記離型層Ａが、フッ素樹脂、４−メチル−１−ペンテン（共）重合体、及びポリスチレン系樹脂からなる群より選ばれる樹脂を含む、請求項１から５のいずれか一項に記載のプロセス用離型フィルム。
【請求項７】
前記耐熱樹脂層Ｂに、ガスバリア層Ｃが積層されている、請求項１から６のいずれか一項に記載のプロセス用離型フィルム。
【請求項８】
前記ガスバリア層Ｃが、無機層又は有機層である、請求項７に記載のプロセス用離型フィルム。
【請求項９】
前記ガスバリア層Ｃ上に、有機コーティングである保護樹脂層Ｄが積層されている、請求項７又は８に記載のプロセス用離型フィルム。
【請求項１０】
前記耐熱樹脂層ＢのＪＩＳＫ７２２１に準じて示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によって測定した第１回昇温工程での結晶融解熱量１５Ｊ／ｇ以上、６０Ｊ／ｇ以下である、請求項１から９のいずれか一項に記載のプロセス用離型フィルム。
【請求項１１】
前記積層フィルムが、更に離型層Ａ’を有し、かつ、該離型層Ａと、前記耐熱樹脂層Ｂと、前記離型層Ａ’と、をこの順で含み、
該離型層Ａ’の水に対する接触角が、９０°から１３０°である、請求項１から１０のいずれか一項に記載のプロセス用離型フィルム。
【請求項１２】
前記離型層Ａ及び前記離型層Ａ’の少なくとも一方が、フッ素樹脂、４−メチル−１−ペンテン（共）重合体、及びポリスチレン系樹脂からなる群より選ばれる樹脂を含む、請求項１１に記載のプロセス用離型フィルム。
【請求項１３】
熱硬化性樹脂による封止プロセスに用いる、請求項１から１２のいずれか一項に記載のプロセス用離型フィルム
【請求項１４】
半導体封止プロセスに用いる、請求項１から１３のいずれか一項に記載のプロセス用離型フィルム。
【請求項１５】
繊維強化プラスチック成形プロセス、またはプラスチックレンズ成形プロセスに用いる、請求項１から１２のいずれか一項に記載のプロセス用離型フィルム。
【請求項１６】
樹脂封止半導体の製造方法であって、
成形金型内の所定位置に、樹脂封止される半導体装置を配置する工程と、
前記成形金型内面に、請求項１から１４のいずれか一項に記載のプロセス用離型フィルムを、前記離型層Ａが前記半導体装置と対向するように配置する工程と、
前記成形金型を型締めした後、前記半導体装置と、前記プロセス用離型フィルムとの間に封止樹脂を注入成形する工程と、
を有する、上記樹脂封止半導体の製造方法。
【請求項１７】
樹脂封止半導体の製造方法であって、
成形金型内の所定位置に、樹脂封止される半導体装置を配置する工程と、
前記成形金型内面に、請求項１１又は１２に記載のプロセス用離型フィルムを、前記離型層Ａ’が前記半導体装置と対向するように配置する工程と、
前記成形金型を型締めした後、前記半導体装置と、前記プロセス用離型フィルムとの間に封止樹脂を注入成形する工程と、
を有する、上記樹脂封止半導体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プロセス用離型フィルム、好適には半導体封止プロセス用離型フィルムに関し、特に金型内に半導体チップ等を配置して樹脂を注入成形する際に、半導体チップ等と金型内面との間に配置されるプロセス用離型フィルム、及びそれを用いた樹脂封止半導体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体パッケージ等の小型軽量化に伴い、封止樹脂の使用量を減らすことが検討されている。そして、封止樹脂の使用量を減らしても、半導体チップ等と樹脂との界面を強固に接着できるようにするため、封止樹脂に含まれる離型剤の量を減らすことが望まれている。このため、硬化成形後の封止樹脂と金型との離型性を得る方法として、金型内面と半導体チップ等との間に離型フィルムを配置する方法が採られている。
【０００３】
このような離型フィルムとして、離型性および耐熱性に優れる、フッ素系樹脂フィルム（例えば、特許文献１〜２）、ポリ４−メチル−１−ペンテン樹脂フィルム（例えば、特許文献３）等が提案されている。しかしながら、これらの離型フィルムは、金型内面に装着された際に皺が発生し易く、この皺が成形品の表面に転写されて外観不良を生じるという問題があった。
【０００４】
これに対して、離型層と、耐熱層とを有する積層離型フィルムが提案されている。これらの離型フィルムは、離型層で離型性を得るとともに、耐熱層で皺を抑制しようとするものである。これらの提案の代表的なものは、離型層と、耐熱層との貯蔵弾性率の関係に着目したものである（例えば、特許文献４及び５ご参照。）。例えば、特許文献４には、離型層の貯蔵弾性率が比較的低く、耐熱層の貯蔵弾性率が比較的高い構成の積層離型フィルム、より具体的には、離型層の１７５℃における貯蔵弾性率Ｅ’が、４５ＭＰａ以上１０５ＭＰａ以下であり、耐熱層の１７５℃における貯蔵弾性率Ｅ’が１００ＭＰａ以上２５０ＭＰａ以下である、半導体封止プロセス用離型フィルムが記載されている。
【０００５】
しかしながら、当該技術分野の発展に伴い半導体封止プロセス用離型フィルム等のプロセス用離型フィルムに対する要求水準は年々高まっており、より過酷なプロセス条件においても皺の発生が抑制されたプロセス用離型フィルムが求められており、特に、離型性、皺の抑制、及び金型追従性が更に高いレベルでバランスしたプロセス用離型フィルムが強く求められている。
また、半導体封止樹脂の種類によっては、成形時加熱された封止樹脂から発生するオリゴマー等の低分子量の気体（以下、「アウトガス」という。）が離型フィルムを透過して金型を汚染が生ずる場合があり、その抑制が求められていた。特に、半導体封止プロセス用離型フィルムに皺が発生する場合、例えばガス透過抑制層に無機膜や有機膜を有する離型フィルムを使用する場合、そのガス透過抑制層自体がフィルムに比べ薄膜であるため、離型フィルムに皺が発生するとガス透過抑制層はクラックや破れ、穴などが生じやすくなる。その結果加熱によって発生する封止樹脂から穴などが生じやすくなった箇所からアウトガスがフィルムを透過して金型面に堆積し局所的な金型の汚染が顕著に発生する場合がある。このような金型の汚染の進行によりフィルムの皺が発生しやすくなることがあるため、金型の洗浄サイクルが短くなることから半導体パッケージ工程の生産効率の低下や製造コスト等の観点から、金型汚染防止が求められていた。（例えば特許文献６参照。）
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００１−３１０３３６号公報
【特許文献２】特開２００２−１１０７２２号公報
【特許文献３】特開２００２−３６１６４３号公報
【特許文献４】特開２０１０−２０８１０４号公報
【特許文献５】国際公開第２０１５／１３３６３１  Ａ１号パンフレット
【特許文献６】国際公開第２００７／１２５８３４  Ａ１号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、このような事情を鑑みてなされたものであり、樹脂封止後の成形品を、金型構造や離型剤量によることなく容易に離型でき、かつ皺や欠け等の外観不良のない成形品を得ることができるとともに、金型の汚染を効果的に抑制できるプロセス用離型フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、プロセス用離型フィルムの特定の温度における熱寸法変化率、とりわけプロセス用離型フィルムを構成する積層フィルムのＴＤ方向（フィルムの面内であって、フィルムの製造時の長手方向に対して直行する方向。以下、「横方向」ともいう。）の熱寸法変化率を適切に制御し、かつ該積層フィルムの酸素透過度を所定の値以下に制御することが結果的に該積層フィルムの封止樹脂からアウトガス透過度を所定の値以下に制御することができることから、金型内面に装着された際の皺の抑制及び金型の汚染の抑制に重要であることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち本発明及びその各態様は、下記［１］から［１７］に記載のとおりである。
【０００９】
［１］
離型層Ａと、耐熱樹脂層Ｂと、を含む積層フィルムであるプロセス用離型フィルムであって、
前記離型層Ａの水に対する接触角が、９０°から１３０°であり、
前記積層フィルムの横（ＴＤ）方向の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率が３％以下であり、
前記積層フィルムのＪＩＳ  Ｋ  ７１２６に準じ、温度２０℃、湿度５０％Ｒ．Ｈ．の条件で測定した酸素透過度が、１０００ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ＭＰａ以下である、プロセス用離型フィルム  。
［２］
離型層Ａと、耐熱樹脂層Ｂと、を含む積層フィルムであるプロセス用離型フィルムであって、
前記離型層Ａの水に対する接触角が、９０°から１３０°であり、
前記積層フィルムの横（ＴＤ）方向の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率が３％以下であり、
前記積層フィルムの以下の手順（１）から（３）に従い測定されたアウトガス透過度が１．０重量％以下である上記プロセス用離型フィルム：  
（１）封止樹脂１０ｍｇをバイアル瓶１の中に入れ、キャップとゴム栓で密栓後、１２０℃３０分間加熱し静的ヘッドスペース法によるＧＣ−ＭＳ測定を実施して、バイアル瓶１中アウトガス量１を測定する；
（２）封止樹脂１０ｍｇをバイアル瓶１の中に入れ、バイアル瓶１の口に、プロセス用離型フィルムを瓶口にかぶせて密栓したものを用意し、続いてバイアル瓶１が入る大きさのバイアル瓶２を用意し、このバイアル瓶２の中にバイアル瓶１を格納し、キャップとゴム栓で密栓後、１２０℃３０分間加熱し静的ヘッドスペース法によるＧＣ−ＭＳ測定を実施し、プロセス用離型フィルムを透過したバイアル瓶２中のアウトガス量２を測定する；
（３）下記（式１）に従い、プロセス用離型フィルムのアウトガス透過度を計算する。
アウトガス透過度＝アウトガス量２／アウトガス量１×１００（重量％）（式１）
［３］
前記積層フィルムの横（ＴＤ）方向の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率と縦（ＭＤ）方向の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率の和が６％以下である、［１］又は［２］に記載のプロセス用離型フィルム。
［４］
前記耐熱樹脂層Ｂの横（ＴＤ）方向の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率が３％以下である、［１］から［３］のいずれか一項に記載のプロセス用離型フィルム。
［５］
前記耐熱樹脂層Ｂの横（ＴＤ）方向の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率と縦（ＭＤ）方向の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率の和が６％以下である、［４］に記載のプロセス用離型フィルム。
［６］
前記離型層Ａが、フッ素樹脂、４−メチル−１−ペンテン（共）重合体、及びポリスチレン系樹脂からなる群より選ばれる樹脂を含む、［１］から［５］のいずれか一項に記載のプロセス用離型フィルム。
［７］
前記耐熱樹脂層Ｂに、ガスバリア層Ｃが積層されている、［１］から［６］のいずれか一項に記載のプロセス用離型フィルム。
［８］
前記ガスバリア層Ｃが、無機層又は有機層である、［７］に記載のプロセス用離型フィルム。
［９］
前記ガスバリア層Ｃ上に、有機コーティングである保護樹脂層Ｄが積層されている、［７］又は［８］に記載のプロセス用離型フィルム。
［１０］
前記耐熱樹脂層ＢのＪＩＳＫ７２２１に準じて示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によって測定した第１回昇温工程での結晶融解熱量１５Ｊ／ｇ以上、６０Ｊ／ｇ以下である、［１］から［９］のいずれか一項に記載のプロセス用離型フィルム。
［１１］
前記積層フィルムが、更に離型層Ａ’を有し、かつ、該離型層Ａと、前記耐熱樹脂層Ｂと、前記離型層Ａ’と、をこの順で含み、
該離型層Ａ’の水に対する接触角が、９０°から１３０°である、［１］から［１０］のいずれか一項に記載のプロセス用離型フィルム。
［１２］
前記離型層Ａ及び前記離型層Ａ’の少なくとも一方が、フッ素樹脂、４−メチル−１−ペンテン（共）重合体、及びポリスチレン系樹脂からなる群より選ばれる樹脂を含む、［１１］に記載のプロセス用離型フィルム。
［１３］
熱硬化性樹脂による封止プロセスに用いる、［１］から［１２］のいずれか一項に記載のプロセス用離型フィルム
［１４］
半導体封止プロセスに用いる、［１］から［１３］のいずれか一項に記載のプロセス用離型フィルム。
［１５］
繊維強化プラスチック成形プロセス、またはプラスチックレンズ成形プロセスに用いる、［１］から［１２］のいずれか一項に記載のプロセス用離型フィルム。
［１６］
樹脂封止半導体の製造方法であって、
成形金型内の所定位置に、樹脂封止される半導体装置を配置する工程と、
前記成形金型内面に、［１］から［１４］のいずれか一項に記載のプロセス用離型フィルムを、前記離型層Ａが前記半導体装置と対向するように配置する工程と、
前記成形金型を型締めした後、前記半導体装置と、前記プロセス用離型フィルムとの間に封止樹脂を注入成形する工程と、
を有する、上記樹脂封止半導体の製造方法。
［１７］
樹脂封止半導体の製造方法であって、
成形金型内の所定位置に、樹脂封止される半導体装置を配置する工程と、
前記成形金型内面に、［１１］又は［１２］に記載のプロセス用離型フィルムを、前記離型層Ａ’が前記半導体装置と対向するように配置する工程と、
前記成形金型を型締めした後、前記半導体装置と、前記プロセス用離型フィルムとの間に封止樹脂を注入成形する工程と、
を有する、上記樹脂封止半導体の製造方法。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のプロセス用離型フィルムは、従来技術では実現できなかった高いレベルの離型性、皺の抑制、及び金型追従性を兼ね備え、かつ金型の汚染を効果的に抑制できるので、これを用いることで、半導体チップ等を樹脂封止等して得られる成形品を容易に離型できるとともに、皺や欠けなどの外観不良のない成形品を、高い生産性かつ低いコストで製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明のプロセス用離型フィルムの一例を示す模式図である。
【図２】本発明のプロセス用離型フィルムの他の例を示す模式図である。
【図３】本発明のプロセス用離型フィルムの他の例を示す模式図である。
【図４】本発明のプロセス用離型フィルムの他の例を示す模式図である。
【図５】本発明のプロセス用離型フィルムを用いた樹脂封止半導体の製造方法の一例を示す模式図である。
【図６Ａ】本発明のプロセス用離型フィルムを用いた樹脂封止半導体の製造方法の一例を示す模式図である。
【図６Ｂ】本発明のプロセス用離型フィルムを用いた樹脂封止半導体の製造方法の一例を示す模式図である。
【図７】図６Ａおよび図６Ｂの樹脂封止半導体の製造方法で得られた樹脂封止半導体の一例を示す模式図である。
【図８】金型汚染性の評価の際の配置を示す模式図である。
【図９】アウトガス透過度の測定の際の配置を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
プロセス用離型フィルム
本発明のプロセス用離型フィルムは、以下の２態様を含む。
（第１態様）
離型層Ａと、耐熱樹脂層Ｂと、を含む積層フィルムであるプロセス用離型フィルムであって、
前記離型層Ａの水に対する接触角が、９０°から１３０°であり、
前記積層フィルムの横（ＴＤ）方向の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率が３％以下であり、
前記積層フィルムの酸素透過度が、１０００ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ＭＰａ以下である、上記プロセス用離型フィルム。なお、本発明における酸素透過度とはモコン社製ＯＸ−ＴＲＡＮ２／２１ＭＬを用いて、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２６に準じ、温度２０℃、湿度５０％Ｒ．Ｈ．の条件で測定した酸素透過度をいう。
酸素透過度としては、金型汚染を効果的に防止する観点から、５００ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ＭＰａ以下であることがより好ましく、２５０ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ＭＰａ以下であることが特に好ましい。
上記第１態様は、更に以下の条件をも具備することが好ましい。
離型層Ａと、耐熱樹脂層Ｂと、を含む積層フィルムであるプロセス用離型フィルムであって、
前記離型層Ａの水に対する接触角が、９０°から１３０°であり、
前記積層フィルムの横（ＴＤ）方向の２３℃から１７０℃までの熱寸法変化率が４％以下である、上記プロセス用離型フィルム。
（第２態様）
離型層Ａと、耐熱樹脂層Ｂと、を含む積層フィルムであるプロセス用離型フィルムであって、
前記離型層Ａ、及び前記離型層Ａ’の水に対する接触角が、９０°から１３０°であり、
前記積層フィルムの横（ＴＤ）方向の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率が３％以下であり、
後述の方法で測定された前記積層フィルムのアウトガス透過度が、１．０重量％以下である、上記プロセス用離型フィルム。
アウトガス透過度としては、金型汚染を効果的に防止する観点から、０．８重量％以下であることが好ましく、０．７重量％以下であることがより好ましく、０．５重量％未満であることが特に好ましい。
上記第２態様は、更に以下の条件をも具備する満たすことが好ましい。
離型層Ａと、耐熱樹脂層Ｂと、を含む積層フィルムであるプロセス用離型フィルムであって、
前記離型層Ａの水に対する接触角が、９０°から１３０°であり、
前記積層フィルムの横（ＴＤ）方向の２３℃から１７０℃までの熱寸法変化率が４％以下である、上記プロセス用離型フィルム。
上記第１対応及び第２態様は、更に離型層Ａ’を有し、離型層Ａと、耐熱樹脂層Ｂと、離型層Ａ’と、をこの順で含むものであってもよい。
【００１３】
上記各態様から明らかな様に、本発明のプロセス用離型フィルム（以下、単に「離型フィルム」ともいう）は、成形品や金型に対する離型性を有する離型層Ａ、及び所望により離型層Ａ’、並びに該離型層を支持する耐熱樹脂層Ｂ、を含む積層フィルムである。
【００１４】
本発明のプロセス用離型フィルムは、成形金型の内部で半導体素子等を樹脂封止するときに、成形金型の内面に配置される。このとき、離型フィルムの離型層Ａ（離型層Ａ’が存在する場合には離型層Ａ’であってもよい）を、樹脂封止される半導体素子等（成形品）側に配置することが好ましい。本発明の離型フィルムを配置することで、樹脂封止された半導体素子等を、金型から容易に離型することができる。
離型層Ａの水に対する接触角は、９０°から１３０°であり、この様な接触角を有することにより離型層Ａは濡れ性が低く、硬化した封止樹脂や金型表面に固着することなく、成形品を容易に離型することができる。
離型層Ａの水に対する接触角は、好ましくは９５°から１２０°であり、より好ましくは９８°から１１５°、更に好ましくは１００°から１１０°である。
【００１５】
前記の通り、離型層Ａ（場合によっては離型層Ａ’）は成形品側に配置されるので、樹脂封止工程における離型層Ａ（場合によっては離型層Ａ’）での皺の発生を抑制することが好ましい。発生した皺が成形品に転写されて、成形品の外観不良が生じる可能性が高いためである。
【００１６】
本発明においては、上記目的を達成するために、プロセス用離型フィルムを構成する積層フィルムとして、離型層Ａ（及び所望により離型層Ａ’）、並びに該離型層を支持する耐熱樹脂層Ｂ、を含む積層フィルムであって、その横（ＴＤ）方向の熱寸法変化率が特定の値を示す積層フィルムを用いる。
すなわち、離型層Ａ（及び所望により離型層Ａ’）、並びに該離型層を支持する耐熱樹脂層Ｂ、を含む積層フィルムは、そのＴＤ方向（横方向）の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率が３％以下である。また、そのＴＤ方向（横方向）の２３℃から１７０℃までの熱寸法変化率が４％以下であることが好ましい。
上記積層フィルムのＴＤ方向（横方向）の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率が３％以下であり、好ましくは更にそのＴＤ方向（横方向）の２３℃から１７０℃までの熱寸法変化率が４％以下であることにより、樹脂封止工程等における離型層の皺の発生を有効に抑制することができる。プロセス用離型フィルムを構成する積層フィルムとして横（ＴＤ）方向の熱寸法変化率が上記の特定の値を示すもの用いることで、離型層の皺の発生が抑制されるメカニズムは必ずしも明らかではないが、比較的熱膨張／収縮の小さい積層フィルムを用いることにより、プロセス時の加熱／冷却による離型層Ａ（又は離型層Ａ’）の熱膨張／収縮が抑制されることと関連があるものと推測される。
【００１７】
本発明のプロセス用離型フィルムを構成する積層フィルムは、そのＴＤ方向（横方向）の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率が２．５％以下であることが好ましく、２．０％以下であることより好ましく、１．５％以下であることが更に好ましくい。一方、積層フィルムは、そのＴＤ方向（横方向）の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率が−５．０％以上であることが好ましい。
本発明のプロセス用離型フィルムを構成する積層フィルムは、そのＴＤ方向（横方向）の２３℃から１７０℃までの熱寸法変化率が３．５％以下であることが好ましく、３．０％以下であることがより好ましく、２．０％以下であることが更に好ましくい。一方、積層フィルムは、そのＴＤ方向（横方向）の２３℃から１７０℃までの熱寸法変化率が−５．０％以上であることが好ましい。
【００１８】
離型層Ａ（及び所望により離型層Ａ’）、並びに該離型層を支持する耐熱樹脂層Ｂ、を含む積層フィルムである本発明のプロセス用離型フィルムは、そのＴＤ方向（横方向）の熱寸法変化率とＭＤ方向（フィルムの製造時の長手方向。以下、「縦方向」ともいう）の熱寸法変化率の和が特定の値以下であることが好ましい。
すなわち、上記積層フィルムの横（ＴＤ）方向の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率と縦（ＭＤ）方向の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率の和は、６％以下であることが好ましく、一方、前記積層フィルムは、そのＴＤ方向（横方向）の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率と縦（ＭＤ）方向の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率の和が−５．０％以上であることが好ましい。
離型層Ａ（及び所望により離型層Ａ’）、並びに耐熱樹脂層Ｂ、を含む積層フィルムの横（ＴＤ）方向の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率と縦（ＭＤ）方向の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率の和が６％以下であることにより、金型内面に装着された際の皺の発生を一層有効に抑制することができる。
【００１９】
また、離型層Ａ（及び所望により離型層Ａ’）、並びに耐熱樹脂層Ｂ、を含む積層フィルムの横（ＴＤ）方向の２３℃から１７０℃までの熱寸法変化率と縦（ＭＤ）方向の２３℃から１７０℃までの熱寸法変化率の和は、７％以下であることが好ましく、一方、前記積層フィルムは、そのＴＤ方向（横方向）の２３℃から１７０℃までの熱寸法変化率と縦（ＭＤ）方向の２３℃から１７０℃までの熱寸法変化率の和が−５．０％以上であることが好ましい。
上記積層フィルムの横（ＴＤ）方向の２３℃から１７０℃までの熱寸法変化率と縦（ＭＤ）方向の２３℃から１７０℃までの熱寸法変化率の和が７％以下であることにより、金型内面に装着された際の皺の発生を更に有効に抑制することができる。
【００２０】
本発明の第２態様においては、離型層Ａ（及び所望により離型層Ａ’）、並びに耐熱樹脂層Ｂ、を含む積層フィルムのアウトガス透過度は、１．０重量％以下である。金型汚染を効果的に防止する観点から、アウトガス透過度は、０．７重量％以下であることがより好ましく、０．５重量％未満であることが特に好ましい。
積層フィルムのアウトガス透過度が、１．０重量％以下であることにより、半導体封止プロセス等における金型の汚染を有効に抑制することができる。
従来技術においては、封止樹脂であるエポキシ樹脂等からの易揮発性成分等がフィルムを透過し、金型への汚染を起こしていると推定される。そのアウトガスの成分としては封止樹脂から加熱時に揮発する低分子量成分であり、その中でも特に例えばシリコーンオイルのような常温で非揮発性の物質が金型を汚染すると推定される。
アウトガス透過度が所定値以下である、第２態様のプロセス用離型フィルムを構成する積層体はアウトガス中の汚染物質も透過しにくいために、封止樹脂等からの汚染物質を遮断して汚染物質の金型への付着を防止しうるものと推定される。
ここで本態様のプロセス用離型フィルムを用いた製造プロセスで好ましく使用される封止樹脂は特に限定されず、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂のいずれであってもよいが、当該技術分野においては熱硬化性樹脂が広く用いられている。樹脂の材質にも特に限定は無いが、エポキシ系の熱硬化性樹脂、やシリコーン封止樹脂を好ましく使用することができ、特にエポキシ系の封止樹脂を用いることが好ましい。
本態様のプロセス用離型フィルムを用いた製造プロセスで好ましく特に好ましく使用されるエポキシ系の封止樹脂として、（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）フェノール樹脂、（Ｃ）硬化促進剤及び（Ｄ）無機充填材を含有するとするエポキシ樹脂組成物を挙げることができる。
上記エポキシ樹脂組成物で用いられるエポキシ樹脂（Ａ）は、１分子内に２個以上のエポキシ基を有するモノマー、オリゴマー、及びポリマー全般を言う。例えば、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂（フェニレン骨格、ビフェニル骨格等を含む）、ナフトール型エポキシ樹脂、アルキル変性トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、トリアジン核含有エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール型エポキシ樹脂等が挙げられるが、これらには限定されない。また、これらは１種類を単独で用いても２種類以上を併用してもよい。これらの内では、特に、溶融粘度が低く、無機充填材を高充填化することができ、ひいてはエポキシ樹脂組成物の低吸湿化が可能となり、耐半田クラック性を向上できる、結晶性のエポキシ樹脂が好ましい。  
【００２１】
上記エポキシ樹脂組成物で用いられるフェノール樹脂（Ｂ）は、１分子内に２個以上のフェノール性水酸基を有するモノマー、オリゴマー、及びポリマー全般を言う。例えば、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、フェノールアラルキル樹脂（フェニレン骨格、ビフェニル骨格等を含む）、ナフトールアラルキル樹脂（フェニレン骨格、ビフェニル骨格等を含む）、トリフェノールメタン樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂等が挙げられるが、これらには限定されない。また、これらは１種類を単独で用いても２種類以上を併用してもよい。  
【００２２】
上記エポキシ樹脂組成物で用いられる硬化促進剤（Ｃ）としては、前記エポキシ樹脂（Ａ）とフェノール樹脂（Ｂ）との架橋反応の触媒となり得るものを指し、例えば１，８−ジアザビシクロ（５，４，０）ウンデセン−７等のジアザビシクロアルケン及びその誘導体、トリブチルアミン、ベンジルジメチルアミン等のアミン化合物、トリフェニルホスフィン、テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート塩等の有機リン系化合物、２−メチルイミダゾール等のイミダゾール化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらは１種類を単独で用いても２種類以上を併用してもよい。  
【００２３】
上記エポキシ樹脂組成物で用いられる無機充填材（Ｄ）の種類については特に制限はなく、一般に封止材料に用いられているものを使用することができる。例えば溶融シリカ、結晶シリカ、２次凝集シリカ、アルミナ、チタンホワイト、水酸化アルミニウム、タルク、クレー、ガラス繊維等が挙げられ、これらは１種類を単独で用いても２種類以上を併用してもよい。特に溶融シリカが好ましい。溶融シリカは、破砕状、球状のいずれでも使用可能であるが、配合量を高め、且つエポキシ樹脂組成物の溶融粘度の上昇を抑えるためには、球状シリカを主に用いる方がより好ましい。  
【００２４】
本態様のプロセス用離型フィルムを用いた製造プロセスで好ましく特に好ましく使用される上記エポキシ樹脂組成物には、（Ａ）〜（Ｄ）成分の他、必要に応じて無機イオン交換体、カップリング剤、カーボンブラックに代表される着色剤、天然ワックス、合成ワックス、高級脂肪酸及びその金属塩類もしくはパラフィン等の離型剤、臭素化エポキシ樹脂、酸化アンチモン、リン化合物等の難燃剤、シリコーンオイル、ゴム等の低応力成分、酸化防止剤等の各種添加剤を適宜配合可能である。
【００２５】
積層フィルムのアウトガス透過度は、金型汚染を効果的に防止する観点から、０．７重量％以下であることがより好ましく、０．５重量％未満であることが特に好ましい。
積層フィルムのアウトガス透過度には特に下限は無いが、経済性、入手容易性当の観点から現実的な材料を使用する限り、通常０．０１重量％以上となる。
【００２６】
積層フィルムのアウトガス透過度は、以下の方法により測定することができる。
（アウトガス透過度［重量％］の測定）
エポキシ封止樹脂１０ｍｇをバイアル瓶１の中に入れ、キャップとゴム栓で密栓後、１２０℃３０分間加熱し静的ヘッドスペース法によるＧＣ−ＭＳ測定を実施して、バイアル瓶１中のアウトガス量１を測定する。（分析１）
続いて、別途エポキシ封止樹脂１０ｍｇをバイアル瓶１の中に入れ、バイアル瓶１の口に、ゴム栓に代えてフィルムを瓶口にかぶせてキャップで密栓したものを用意し、続いてこのバイアル瓶１が入る大きさのバイアル瓶２を用意し、このバイアル瓶２の中にバイアル瓶１を格納し、キャップとゴム栓で密栓後、１２０℃３０分間加熱し静的ヘッドスペース法によるＧＣ−ＭＳ測定を実施し、フィルムを透過したバイアル瓶２中のアウトガス量２を評価する。（分析２）
各フィルムに対し、分析１で得られたアウトガス量１と、分析２で得られた、フィルムを透過したアウトガス量２とから、下記（式１）に従って、アウトガス透過度を計算することができる。
アウトガス透過度＝アウトガス量２／アウトガス量１×１００  （重量％）  （式１）
【００２７】
積層フィルムのアウトガス透過度は、積層フィルムを構成する離型層Ａ及び耐熱樹脂層Ｂ、並びに存在する場合には離型層Ａ’のいずれかのアウトガス透過度を調整することで適宜調整することが可能であるが、  後述のように耐熱樹脂層Ｂのアウトガス透過度を調整することにより調整することが容易かつ実用的である。
また、ガスバリア層Ｃ等の層を設けることによっても、積層フィルムのアウトガス透過度を効果的に調整することが可能である。
【００２８】
本発明の第１態様のプロセス用離型フィルムを構成する、離型層Ａ（及び所望により離型層Ａ’）、並びに耐熱樹脂層Ｂ、を含む積層フィルムの酸素透過度は、１０００ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ＭＰａ以下である。
ここで、酸素透過度は、モコン社製ＯＸ−ＴＲＡＮ２／２１ＭＬを用いて、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２６に準じ、温度２０℃、湿度５０％Ｒ．Ｈ．の条件で測定される。
当該積層フィルムの酸素透過度が１０００ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ＭＰａ以下であることにより、半導体封止プロセス等における金型の汚染を有効に抑制することができる。
酸素透過度は、上述のアウトガス透過度と一定の正の相関関係が有り、酸素透過度が１０００ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ＭＰａ以下である場合、アウトガス透過度も金型の汚染を有効に抑制できるような低い値、例えば本発明の第２態様に規定するような値である可能性が高い。従って、本発明の第１態様における様に、より簡便に測定可能であり、また市販のフィルムについては測定済みで既知である場合も多い酸素透過度を指標とすることで、所定のアウトガス透過度を有する本発明の第２態様のプロセス用離型フィルムまたはその部材を、一層効率良く、設計、製造、又は入手することができる。
【００２９】
積層フィルムの酸素透過度は、５００ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ＭＰａ以下であることがより好ましく、２５０ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ＭＰａ以下であることがより好ましく、１００ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ＭＰａ以下であることがより好ましく、７５ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ＭＰａ以下であることがさらに好ましく、５０ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ＭＰａ未満であることが特に好ましい。
積層フィルムの酸素透過度には特に下限は無いが、経済性、入手容易性当の観点から現実的な材料を使用する限り、通常１ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ＭＰａ以上となる。
積層フィルムの酸素透過度は、例えばＪＩＳ  Ｋ  ７１２６に従い、ガスバリア試験装置を用いて測定することができる。
積層フィルムの酸素透過度は、積層フィルムを構成する離型層Ａ及び耐熱樹脂層Ｂ、並びに存在する場合には離型層Ａ’のいずれかの酸素透過度を調整することで適宜調整することが可能であるが、  後述のように耐熱樹脂層Ｂの酸素透過度を調整することにより調整することが容易かつ実用的である。
また、ガスバリア層Ｃ等の層を設けることによっても、積層フィルムの酸素透過度を効果的に調整することが可能である。
【００３０】
離型層Ａ
本発明のプロセス用離型フィルムを構成する離型層Ａは、水に対する接触角が、９０°から１３０°であり、好ましくは９５°から１２０°であり、より好ましくは９８°から１１５°、更に好ましくは１００°から１１０°である。成形品の離型性に優れること、入手の容易さなどから、フッ素樹脂、４−メチル−１−ペンテン（共）重合体、及びポリスチレン系樹脂からなる群より選ばれる樹脂を含むことが好ましい。
【００３１】
離型層Ａに用いることができるフッ素樹脂は、テトラフルオロエチレンに由来する構成単位を含む樹脂であってもよい。テトラフルオロエチレンの単独重合体であってもよいが、他のオレフィンとの共重合体であってもよい。他のオレフィンの例には、エチレンが含まれる。モノマー構成単位としてテトラフルオロエチレンとエチレンとを含む共重合体は好ましい一例であり、この様な共重合体においては、テトラフルオロエチレンに由来する構成単位の割合が５５〜１００重量％であり、エチレンに由来する構成単位の割合が０〜４５重量％であることが好ましい。
【００３２】
離型層Ａに用いることができる４−メチル−１−ペンテン（共）重合体は、４−メチル−１−ペンテンの単独重合体であってもよく、また４−メチル−１−ペンテンと、それ以外の炭素原子数２〜２０のオレフィン（以下「炭素原子数２〜２０のオレフィン」という）との共重合体であってもよい。
【００３３】
４−メチル−１−ペンテンと、炭素原子数２〜２０のオレフィンとの共重合体の場合、４−メチル−１−ペンテンと共重合される炭素原子数２〜２０のオレフィンは、４−メ
チル−１−ペンテンに可とう性を付与し得る。炭素原子数２〜２０のオレフィンの例には、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−デセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−ヘプタデセン、１−オクタデセン、１−エイコセン等が含まれる。これらのオレフィンは、１種のみを用いてもよいし、２種以上を組み合せて用いてもよい。
【００３４】
４−メチル−１−ペンテンと、炭素原子数２〜２０のオレフィンとの共重合体の場合、４−メチル−１−ペンテンに由来する構成単位の割合が９６〜９９重量％であり、それ以外の炭素原子数２〜２０のオレフィンに由来する構成単位の割合が１〜４重量％であることが好ましい。炭素原子数２〜２０のオレフィン由来の構成単位の含有量が少なくすることで、共重合体を硬く、すなわち貯蔵弾性率Ｅ’が高くすることができ、封止工程等における皺が発生の抑制に有利である。一方、炭素原子数２〜２０のオレフィン由来の構成単位の含有量が多くすることで、共重合体を軟らかく、すなわち貯蔵弾性率Ｅ’を低くすることができ、金型追従性を向上させるのに有利である。
【００３５】
４−メチル−１−ペンテン（共）重合体は、当業者において公知の方法で製造されうる。例えば、チーグラ・ナッタ触媒、メタロセン系触媒等の公知の触媒を用いた方法により製造されうる。４−メチル−１−ペンテン（共）重合体は、結晶性の高い（共）重合体であることが好ましい。結晶性の共重合体としては、アイソタクチック構造を有する共重合体、シンジオタクチック構造を有する共重合体のいずれであってもよいが、特にアイソタクチック構造を有する共重合体であることが物性の点からも好ましく、また入手も容易である。さらに、４−メチル−１−ペンテン（共）重合体は、フィルム状に成形でき、金型成形時の温度や圧力等に耐える強度を有していれば、立体規則性や分子量も、特に制限されない。４−メチル−１−ペンテン共重合体は、例えば、三井化学株式会社製ＴＰＸ（登録商標）等、市販の共重合体であってもよい。
【００３６】
離型層Ａに用いることができるポリスチレン系樹脂には、スチレンの単独重合体及び共重合体が包含され、その重合体中に含まれるスチレン由来の構造単位は少なくとも６０重量％以上であることが好ましく、より好ましくは８０重量％以上である。
ポリスチレン系樹脂は、アイソタクチックポリスチレンであってもシンジオタクチックポリスチレンであってもよいが、透明性、入手の容易さなどの観点からはアイソタクチックポリスチレンが好ましく、離型性、耐熱性などの観点からは、シンジオタクチックポリスチレンが好ましい。ポリスチレンは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００３７】
離型層Ａは、成形時の金型の温度（典型的には１２０〜１８０℃）に絶え得る耐熱性を有することが好ましい。かかる観点から、離型層Ａとしては、結晶成分を有する結晶性樹脂を含むことが好ましく、当該結晶性樹脂の融点は１９０℃以上であることが好ましく、２００℃以上３００℃以下がより好ましい。
離型層Ａに結晶性をもたらすため、例えばフッ素樹脂においてはテトラフルオロエチレンから導かれる構成単位を少なくとも含むことが好ましく、４−メチル−１−ペンテン（共）重合体においては４−メチル−１−ペンテンから導かれる構成単位を少なくとも含むことが好ましく、ポリスチレン系樹脂においてはシンジオタクチックポリスチレンを少なくとも含むことが好ましい。離型層Ａを構成する樹脂に結晶成分が含まれることにより、樹脂封止工程等において皺が発生し難く、皺が成形品に転写されて外観不良を生じることを抑制するのに好適である。
【００３８】
離型層Ａを構成する上記結晶性成分を含む樹脂は、ＪＩＳＫ７２２１に準じて示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によって測定した第１回昇温工程での結晶融解熱量が１５Ｊ／ｇ以上、６０Ｊ／ｇ以下であることが好ましく、２０Ｊ／ｇ以上、５０Ｊ／ｇ以下であることがより好ましい。１５Ｊ／ｇ以上であると、樹脂封止工程等での熱プレス成形に耐え得る耐熱性及び離型性をより効果的に発現することが可能であることに加え、寸法変化率も抑制することができるため、皺の発生も防止することができる。一方、前記結晶融解熱量が６０Ｊ／ｇ以下であると、離型層Ａが適切な硬度となるため、樹脂封止工程等においてフィルムの金型への十分な追随性を得ることができるため、フィルムの破損のおそれもない。
【００３９】
離型層Ａは、フッ素樹脂、４−メチル−１−ペンテン共重合体、及び／又はポリスチレン系樹脂の他に、さらに他の樹脂を含んでもよい。この場合、他の樹脂の硬度が比較的高いことが好ましい。他の樹脂の例には、ポリアミド−６、ポリアミド−６６、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレートが含まれる。このように、離型層Ａが、例えば柔らかい樹脂を多く含む場合（例えば、４−メチル−１−ペンテン共重合体において炭素原子数２〜２０のオレフィンを多く含む場合）でも、硬度の比較的高い樹脂をさらに含むことで、離型層Ａを硬くすることができ、封止工程等における皺が発生の抑制に有利である。
【００４０】
これらの他の樹脂の含有量は、離型層Ａを構成する樹脂成分に対して例えば３〜３０重量％であることが好ましい。他の樹脂の含有量を３重量以上とすることで、添加による効果を実質的なものとすることができ、３０重量％以下とすることで、金型や成形品に対する離型性を維持することができる。
【００４１】
また離型層Ａは、フッ素樹脂、４−メチル−１−ペンテン（共）重合体、及び／又はポリスチレン系樹脂に加えて、本発明の目的を損なわない範囲で、耐熱安定剤、耐候安定剤、発錆防止剤、耐銅害安定剤、帯電防止剤等、フィルム用樹脂に一般的に配合される公知の添加剤を含んでもよい。これらの添加剤の含有量は、フッ素樹脂、４−メチル−１−ペンテン共重合体、及び／又はポリスチレン系樹脂１００重量部に対して、例えば０．０００１〜１０重量部とすることができる。
【００４２】
離型層Ａの厚みは、成形品に対する離型性が十分であれば、特に制限はないが、通常１〜５０μｍであり、好ましくは５〜３０μｍである。
【００４３】
離型層Ａの表面は、必要に応じて凹凸形状を有していてもよく、それにより離型性を向
上させることができる。離型層Ａの表面に凹凸を付与する方法は、特に制限はないが、エ
ンボス加工等の一般的な方法が採用できる。
【００４４】
離型層Ａ’
本発明のプロセス用離型フィルムは、離型層Ａ及び耐熱樹脂層Ｂに加えて、更に離型層Ａ’を有していてもよい。すなわち、本発明のプロセス用離型フィルムは、離型層Ａと、耐熱樹脂層Ｂと、離型層Ａ’とをこの順で含む積層フィルムであるプロセス用離型フィルムであってもよい。
本発明のプロセス用離型フィルムを構成してもよい離型層Ａ’の水に対する接触角は、９０°から１３０°であり、好ましくは９５°から１２０°であり、より好ましくは９８°から１１５°、更に好ましくは１００°から１１０°である。そして、離型層Ａ’の好ましい材質、構成、物性等は、上記において離型層Ａについて説明したものと同様である。
【００４５】
プロセス用離型フィルムが、離型層Ａと、耐熱樹脂層Ｂと、離型層Ａ’とをこの順で含む積層フィルムである場合の離型層Ａと離型層Ａ’とは同一の構成の層であってもよいし、異なる構成の層であってもよい。
反りの防止や、いずれの面も同様の離型性を有することによる取り扱いの容易さ等の観点からは、離型層Ａと離型層Ａ’とは同一または略同一の構成であることが好ましく、離型層Ａと離型層Ａ’とを使用するプロセスとの関係でそれぞれ最適に設計する観点、例えば、離型層Ａを金型からの離型性に優れたものとし、離型層Ａ’を成形物からの剥離性に優れたものとする等の観点からは、離型層Ａと離型層Ａ’とを異なる構成のものとすることが好ましい。
離型層Ａと離型層Ａ’とを異なる構成のものとする場合には、離型層Ａと離型層Ａ’とを同一の材料であって厚み等の構成が異なるものとしてもよいし、材料もそれ以外の構成も異なるものとしてもよい。
【００４６】
耐熱樹脂層Ｂ
本発明のプロセス用離型フィルムを構成する耐熱樹脂層Ｂは、離型層Ａ（及び場合により離型層Ａ’）を支持し、かつ金型温度等による皺発生を抑制する機能を有する。
本発明のプロセス用離型フィルムにおいては、耐熱樹脂層Ｂは、ガスバリア性を有することが好ましく、また耐熱樹脂層Ｂの横（ＴＤ）方向の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率が３％以下であるか、又は耐熱樹脂層Ｂの横（ＴＤ）方向の２３℃から１７０℃までの熱寸法変化率が３％以下であることが好ましい。さらに、耐熱樹脂層Ｂは、その横（ＴＤ）方向の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率が３％以下であってかつ横（ＴＤ）方向の２３℃から１７０℃までの熱寸法変化率が３％以下であることがより好ましい。
耐熱樹脂層Ｂとして、横（ＴＤ）方向の熱寸法変化率が上記の特定の値を示す樹脂層を用いることで、より効果的に離型層の皺の発生が抑制されるメカニズムは必ずしも明らかではないが、比較的熱膨張／収縮の小さい耐熱樹脂層Ｂを用いることにより、プロセス時の加熱／冷却による離型層Ａ（又は離型層Ａ’）の熱膨張／収縮が抑制されることと関連があるものと推測される。
【００４７】
耐熱樹脂層Ｂには、無延伸フィルムも含め任意の樹脂層を用いることができるが、延伸フィルムを含んでなることが特に好ましい。
延伸フィルムは、製造のプロセスにおける延伸の影響で、熱膨張率が低いか又は負となる傾向があり、耐熱樹脂層Ｂの横（ＴＤ）方向の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率が３％以下であるか、又は耐熱樹脂層Ｂの横（ＴＤ）方向の２３℃から１７０℃までの熱寸法変化率が３％以下であるという特性を実現することが比較的容易であるので、耐熱樹脂層Ｂとして好適に使用することができる。
耐熱樹脂層Ｂの横（ＴＤ）方向の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率は、２％以下であることが好ましく、１．５％以下であることがより好ましく、１％以下であることが更に好ましく、一方、−１０％以上であることが好ましい。
耐熱樹脂層Ｂの横（ＴＤ）方向の２３℃から１７０℃までの熱寸法変化率は、２％以下であることが好ましく、１．５％以下であることがより好ましく、１％以下であることが更に好ましく、一方、−１０％以上であることが好ましい。
【００４８】
上記延伸フィルムは、一軸延伸フィルムであってもよく、二軸延伸フィルムであってもよい。一軸延伸フィルムである場合には、縦延伸、横延伸のいずれであっても良いが、少なくとも横（ＴＤ）方向に延伸が行われたものであることが望ましい。
上記延伸フィルムを得るための方法、装置にも特に限定は無く、当業界において公知の方法で延伸を行えばよい。例えば、加熱ロールやテンター式延伸機で延伸することができる。
【００４９】
上記延伸フィルムとしては、延伸ポリエステルフィルム、延伸ポリアミドフィルム、及び延伸ポリプロピレンフィルム、延伸ポリエチレンフィルムからなる群より選ばれる延伸フィルムを使用することが好ましい。これらの延伸フィルムは、延伸により、横（ＴＤ）方向の熱膨張率を低下させ、又は負とすることが比較的容易であり、機械的物性が本発明の用途に適したものであり、また低コストで入手が比較的容易であるため、耐熱樹脂層Ｂにおける延伸フィルムとして特に好適である。
【００５０】
延伸ポリエステルフィルムとしては、延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、延伸ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）フィルムが好ましく、二軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムが特に好ましい。
延伸ポリアミドフィルムを構成するポリアミドには特に限定は無いが、ポリアミド−６、ポリアミド−６６等を好ましく用いることができる。
延伸ポリプロピレンフィルムとしては、一軸延伸ポリプロピレンフィルム、二軸延伸ポリプロピレンフィルム等を好ましく用いることができる。
延伸ポリエチレンフィルムとしては、一軸延伸ポリエチレンフィルム、二軸延伸ポリエチレンフィルム等を好ましく用いることができる。
延伸倍率には特に限定はなく、熱寸法変化率を適切に制御し、好適な機械的性質を実現するために適切な値を適宜設定すれば良いが、例えば延伸ポリエステルフィルムの場合は、縦方向、横方向ともに２．７〜８．０倍の範囲であることが好ましく、延伸ポリアミドフィルムの場合は、縦方向、横方向ともに２．７〜５．０倍の範囲であることが好ましく、延伸ポリプロピレンフィルムの場合は、二軸延伸ポリプロピレンフィルムの場合は、縦方向、横方向ともに５．０〜１０．０倍の範囲であることが好ましく、一軸延伸ポリプロピレンフィルムの場合は、縦方向に１．５〜１０．０倍の範囲であることが好ましい。
【００５１】
耐熱樹脂層Ｂは、フィルムの強度や、その熱寸法変化率を適切な範囲に制御する観点から、成形時の金型の温度（典型的には１２０〜１８０℃）に絶え得る耐熱性を有することが好ましい。かかる観点から、耐熱樹脂層Ｂは、結晶成分を有する結晶性樹脂を含むことが好ましく、当該結晶性樹脂の融点は１２０℃以上であることが好ましく、融点が１５５℃以上３００℃以下であることがより好ましく、１８５以上２１０℃以下であることが更に好ましく、１８５以上２０５℃以下であることが特に好ましい。
【００５２】
上述の様に、耐熱樹脂層Ｂは結晶成分を有する結晶性樹脂を含むことが好ましい。耐熱樹脂層Ｂに含有させる結晶性樹脂として、例えばポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン樹脂等の結晶性樹脂をその一部または全部に用いることができる。具体的にはポリエステル樹脂においてはポリエチレンテレフタレートまたはポリブチレンテレフタレート、ポリアミド樹脂においてはポリアミド６やポリアミド６６、ポリプロピレン樹脂においてはアイソタクチックポリプロピレン、ポリエチレン樹脂においては高密度ポリエチレンや低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレンを用いることが好ましい。
【００５３】
耐熱樹脂層Ｂに前記結晶性樹脂の結晶成分を含ませることにより、樹脂封止工程等において皺が発生し難く、皺が成形品に転写されて外観不良を生じることを抑制するのにより有利となる。
耐熱樹脂層Ｂを構成する樹脂は、ＪＩＳＫ７２２１に準じて示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によって測定した第１回昇温工程での結晶融解熱量が２０Ｊ／ｇ以上、１００Ｊ／ｇ以下であることが好ましく、２５Ｊ／ｇ以上、６５Ｊ／ｇ以下であることがより好ましく、２５Ｊ／ｇ以上、５５Ｊ／ｇ以下であることがより好ましく、２８Ｊ／ｇ以上、５０Ｊ／ｇ以下であることがより好ましく、２８Ｊ／ｇ以上、４０Ｊ／ｇ以下であることがより好ましく、２８Ｊ／ｇ以上、３５Ｊ／ｇ以下であることがさらに好ましい。２０Ｊ／ｇ以上であると、樹脂封止工程等での熱プレス成形に耐え得る耐熱性及び離型性を効果的に発現させることができ、また寸法変化率も僅少に抑制することができるため、皺の発生も防止することができる。一方、前記結晶融解熱量が１００Ｊ／ｇ以下であることにより、耐熱樹脂層Ｂに適度な硬度を付与することができるため樹脂封止工程等においてフィルムの十分な金型への追随性が確保することができることに加えフィルムが破損しやすくなるおそれもない。なお、本実施形態において、結晶融解熱量とは、ＪＩＳＫ７２２１に準じて示差走査熱量測定（ＤＳＣ）による測定での第１回昇温工程で得られた縦軸の熱量（Ｊ／ｇ）と横軸の温度（℃）との関係を示すチャート図において、１２０℃以上でピークを有するピーク面積の和によって求められる数値をいう。
耐熱樹脂層Ｂの結晶融解熱量は、フィルム製造時の加熱、冷却の条件や、延伸の条件を適宜設定することで調節することができる。
【００５４】
耐熱樹脂層Ｂの厚みは、フィルム強度を確保できれば、特に制限はないが、通常１〜１
００μｍ、好ましくは５〜５０μｍである。
【００５５】
本発明の離型フィルムに所要のガスバリア性を付与するために、耐熱樹脂層Ｂ（又は耐熱樹脂層Ｂ及びそれに隣接する層）は、ガスバリア性を有することが好ましく、より具体的にはアウトガス透過度が１．０重量％以下であることが好ましい。耐熱樹脂層Ｂ（又は耐熱樹脂層Ｂ及びそれに隣接する層）がガスバリア性を有することで、離型層Ａ（及び存在する場合には離型層Ａ’）のガスバリア性が低い場合であっても、本発明の離型フィルムに所要のガスバリア性を付与することができる。とりわけ、離型層Ａ及び／又は離型層Ａ’に４−メチル−１−ペンテン（共）重合体を用いる場合、４−メチル−１−ペンテン（共）重合体のガスバリア性は一般に高くないので、耐熱樹脂層Ｂ（又は耐熱樹脂層Ｂ及びそれに隣接する層）が高いガスバリア性を有することが特に好ましく、これにより４−メチル−１−ペンテン（共）重合体によりもたらされる優れた離型性等と、耐熱樹脂層Ｂ（又は耐熱樹脂層Ｂ及びそれに隣接する層）によりもたらされる優れた耐金型汚染性とを両立することができる。
耐熱樹脂層Ｂ（又は耐熱樹脂層Ｂ及びそれに隣接する層）のアウトガス透過度は、０．７重量％以下であることがより好ましく、０．５重量％未満であることが特に好ましい。
耐熱樹脂層Ｂ（又は耐熱樹脂層Ｂ及びそれに隣接する層）の酸素透過度の測定方法は、離型層Ａと、耐熱樹脂層Ｂと、所望により離型層Ａ’とを含む積層フィルムの酸素透過殿測定方法として上記にて説明したものと同様である。
【００５６】
耐熱性樹脂層Ｂに好ましいガスバリア性を付与するための手段には特に制限はないが、例えば耐熱性樹脂層Ｂを構成する樹脂の種類又はそこに加える添加剤の種類、量を適宜選択してガスバリア性を向上してもよいし、耐熱性樹脂層Ｂを構成する高分子フィルムを延伸するなどしてガスバリア性を向上してもよい。当然ながら、耐熱性樹脂層Ｂの厚みを大きくすることで、ガスバリア性を更に向上させることができる。
【００５７】
ガスバリア層Ｃ
或いは、耐熱樹脂層Ｂに、ガスバリア層Ｃを積層することで、耐熱樹脂層Ｂ及びそれに隣接するガスバリア層Ｃの全体でのガスバリア性を向上させてもよい。
ガスバリア層Ｃは、無機層であっても有機層であってもよい。コスト、透明性、耐熱性などの観点からは無機層であることが好ましく、基材との密着性や割れが生じにくいことなどの観点からは有機層であることが好ましく、さらに無機層と有機層を積層することにより双方の特長を生かした構成とすることもできる。
【００５８】
好適な無機層を形成する無機物は、金型成型時等の加熱により他の層と反応せず、分解もせずかつ層を維持できれば特に制限はないが、１６５℃まで加熱しても金型成型時等の加熱により他の層と反応せず、分解もせずかつ層を維持できる物質が好ましく、より好ましくは１８５℃まで加熱しても金型成型時などの加熱により他の層と反応せず、分解もせずかつ層を維持できる物質であることが望ましい。
【００５９】
無機層としては、金属又はその金属の酸化物をアモルファス（非晶質）化した薄膜であることが好ましい。例えば、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、カリウム（Ｋ）、スズ（Ｓｎ）、ナトリウム（Ｎａ）、ホウ素（Ｂ）、チタン（Ｔｉ）、鉛（Ｐｂ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、イットリウム（Ｙ）等の金属又はその金属の酸化物をアモルファス（非晶質）化した薄膜を使用することができる。上記の中で、ガスバリア性、無機層の形成のし易さの観点から、アルミニウム、ケイ素、それらの酸化物、及びそれらの組み合わせが好ましく、離型性、ガス透過性、製造の容易さ、延展性（伸び易さ）の観点から、より好ましくはアルミニウム及びその酸化物である。
【００６０】
また、無機層は耐熱樹脂層Ｂの一方の面の全体に形成されていることが好ましく、少なくとも金型と接触する部分には無機層が連続膜として形成されていることが好ましい。
無機層の形成方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法等の物理気相成長法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＰＶＤ法）、あるいは、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＣＶＤ法）等を挙げることができる。
【００６１】
本実施形態において、無機層の形成方法について具体的に説明すると、上記のような金属又は金属の酸化物を原料とし、これを加熱して、耐熱樹脂層Ｂの上に蒸着する真空蒸着法、又は原料に金属又は金属の酸化物を使用し、酸素ガス等を導入して酸化させて耐熱樹脂層Ｂ上に蒸着する酸化反応蒸着法、さらに酸化反応をプラズマでアシストするプラズマアシスト式の酸化反応蒸着法等を用いて無機層を形成することができる。また、本発明においては、酸化ケイ素の蒸着膜を形成する場合、オルガノシロキサンを原料とするプラズマ化学気相成長法を用いて無機層を形成することができる。
【００６２】
無機層の厚さは、使用する材料等により異なるが、通常５〜２００ｎｍである。５ｎｍ以上であるとアウトガス透過度が低くなり、金型汚染ならびにフィルム吸着用の真空ラインの閉塞を有効に抑制できる。また、２００ｎｍ以下であると金型追従性の低下を防ぐことが容易である。
無機層の厚さは、５〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは８〜１８０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜１５０ｎｍである。
無機層としてアルミニウム層を使用した場合にも、５〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは８〜１８０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜１５０ｎｍである。
【００６３】
好適な有機層を形成する有機物にも特に限定は無いが、例えば、ビニルアルコール単位を有する重合体（以下、「重合体（ア）」ともいう。）および塩化ビニリデン単位を有する重合体（以下、「重合体（イ）」ともいう。）からなる群から選択される少なくとも１種の重合体を、特に好適に使用することができる。
なお、「ビニルアルコール単位」とは、酢酸ビニルの重合によって得られた重合体を化学変換することによって酢酸ビニル単位のアセトキシ基が水酸基に変換された単位である。
該重合体は、架橋構造を有してもよく、有しなくてもよい。
【００６４】
重合体（ア）は、ビニルアルコール単位のみからなるものでもよく、ビニルアルコール単位以外の単位をさらに有するものでもよい。
重合体（ア）中のビニルアルコール単位の割合には特に制限は無いが、全単位の合計に対し、６０モル％以上が好ましく、７０モル％以上がより好ましく、８０モル％以上が特に好ましい。ビニルアルコール単位の割合が前記の下限値以上であれば、ガスバリア性がより優れる。
【００６５】
重合体（ア）としては、以下の重合体（ア１）または重合体（ア２）が挙げられる。
重合体（ア１）：ビニルアルコール単位を有し、かつ架橋構造を有しない重合体。
重合体（ア２）：ビニルアルコール単位を有し、かつ架橋構造を有する重合体。
【００６６】
重合体（ア１）は、ビニルアルコール単位のみからなるものでもよく、ビニルアルコール単位以外の単位をさらに有するものでもよい。
重合体（ア１）としては、たとえばポリビニルアルコール（以下、「ＰＶＡ」ともいう。）、ビニルアルコール単位と、ビニルアルコール単位および酢酸ビニル単位以外の単位とを有する共重合体（以下、「共重合体（ア１１）」ともいう。）等が挙げられる。共重合体（ア１１）は、酢酸ビニル単位をさらに有してもよい。これらの重合体はいずれか１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００６７】
ＰＶＡは、ビニルアルコール単位のみからなる重合体、またはビニルアルコール単位と酢酸ビニル単位とからなる重合体である。
ＰＶＡとしては、ポリ酢酸ビニルの完全けん化物（けん化度９９モル％以上１００モル％以下）、準完全けん化物（けん化度９０モル％以上９９モル％未満）、部分けん化物（けん化度７０モル％以上９０モル％未満）等が挙げられる。
ＰＶＡのけん化度は、８０〜１００モル％が好ましく、８５〜１００モル％がより好ましく、９０〜１００モル％が特に好ましい。けん化度が高いほど、ガスバリア層Ｃのガスバリア性が高い傾向がある。
けん化度は、ＰＶＡの原料であるポリ酢酸ビニルに含まれるアセトキシ基がけん化により水酸基に変化した割合を単位比（モル％）で表したものであり、下式で定義される。けん化度は、ＪＩＳ  Ｋ６７２６：１９９４で規定されている方法で求めることができる。
けん化度（モル％）＝｛（水酸基の数）／（水酸基の数＋アセトキシ基の数）｝×１００
【００６８】
共重合体（ア１１）における他の単位としては、ジヒドロキシアルキル基、アセトアセチル基、オキシアルキレン基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基等を有する単位、エチレン等のオレフィン由来の単位等が挙げられる。共重合体（ア１１）が有する他の単位は１種でもよく２種以上でもよい。
【００６９】
重合体（イ）は、塩化ビニリデン単位のみからなるものでもよく、塩化ビニリデン単位以外の単位をさらに有するものでもよい。
【００７０】
重合体（イ）中の塩化ビニリデン単位の割合は、全単位の合計に対し、７０モル％以上が好ましく、８０モル％以上が特に好ましい。塩化ビニリデン単位の割合が前記の下限値以上であれば、ガスバリア層Ｃのガスバリア性がより優れる。
【００７１】
重合体（イ）としては、以下の重合体（イ１）または重合体（イ２）が挙げられる。
重合体（イ１）：塩化ビニリデン単位を有し、かつ架橋構造を有しない重合体。
重合体（イ２）：塩化ビニリデン単位を有し、かつ架橋構造を有する重合体。
【００７２】
重合体（イ１）としては、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン−アルキルアクリレート共重合体等が挙げられる。
重合体（イ２）としては、たとえば、重合体（イ１）と架橋剤とを反応させて得られる重合体が挙げられる。
架橋剤としては、ハロゲン基、あるいはアルキルアクリレートに結合した官能基と反応して架橋構造を形成する水溶性の架橋剤が好ましい。具体例として、有機金属化合物、イソシアネート基を２以上有するイソシアネート化合物、ビスビニルスルホン化合物等が挙げられる。これらの架橋剤の具体例としては、前記と同様のものが挙げられる。
【００７３】
さらに、有機層として、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸等のポリカルボン酸とポリエチレンイミン、ポリアリルイミン等のポリアミン化合物との混合液を加熱し硬化させることにより形成された層を用いてもよい。このとき、前記混合液のゲル化を未然に防ぐ観点から、５０〜１００当量％の中和度にしておくことが好ましい。
また、ポリカルボン酸ポリアクリル酸とポリアミン化合物の比率は（ガスバリア用塗材中のポリカルボン酸に含まれる−ＣＯＯ−基のモル数）／（ガスバリア用塗材中のポリアミン化合物に含まれるアミノ基のモル数）は、好ましくは１００／２２超、より好ましくは１００／２５以上、特に好ましくは１００／２９以上である。一方、（ガスバリア用塗材中のポリカルボン酸に含まれる−ＣＯＯ−基のモル数）／（ガスバリア用塗材中のポリアミン化合物に含まれるアミノ基のモル数）は、好ましくは１００／９９以下、より好ましくは１００／８６以下、特に好ましくは１００／７５以下である。
前記ポリカルボン酸の分子量は通常５０００〜１５０００００であり、好ましくは１００００〜１００００００である。
一方、ポリアミン化合物の重合平均分子量は通常１５００〜１００００００であり、好ましくは１５００〜５００００００であり、１５００〜２５００００がより好ましく、１５００〜１０００００が特に好ましい。
【００７４】
本発明のプロセス用離型フィルムにおいては、ガスバリア層Ｃが金属または金属酸化物からなる場合等に、ガスバリア層Ｃ上に、外部衝撃等からの保護のために保護樹脂層Ｄが形成されていることも好ましい態様である。  
【００７５】
かかる保護樹脂層Ｄの材質としては、耐熱樹脂層Ｂ上に形成されたガスバリア層Ｃ上に、例えば塗布、印刷、デッピング等のコーティング手段により形成できるものであればとくに限定されるものではなく、例えば、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン、エチレン−ビニルアルコール系樹脂及びポリビニルアルコール系樹脂、アクリル酸金属塩樹脂、ポリアミド架橋体樹脂、等の樹脂が好ましいものとして挙げられる。このうち、ウレタン樹脂、またはアクリル酸金属塩樹脂、ポリアミド架橋体樹脂がより好ましく、アクリル酸金属塩樹脂、ポリアミド架橋体樹脂が最も好ましい。
【００７６】
それ以外の層
本発明のプロセス用離型フィルムは、本発明の目的に反しない限りにおいて、離型層Ａ、耐熱樹脂層Ｂ、離型層Ａ’、及びガスバリア層Ｃ以外の層を有していてもよい。例えば、上述の保護樹脂層Ｄをガスバリア層Ｃ上に有していてもよいし、離型層Ａ（又は離型層Ａ’）と耐熱樹脂層Ｂとの間に、必要に応じて接着層を有してもよい。接着層に用いる材料は、離型層Ａと耐熱樹脂層Ｂとを強固に接着でき、樹脂封止工程や離型工程においても剥離しないものであれば、特に制限されない。
【００７７】
例えば、離型層Ａ（又は離型層Ａ’）が４−メチル−１−ペンテン共重合体を含む場合は、接着層は、不飽和カルボン酸等によりグラフト変性された変性４−メチル−１−ペンテン系共重合体樹脂、４−メチル−１−ペンテン系共重合体とα−オレフィン系共重合体とからなるオレフィン系接着樹脂等であることが好ましい。離型層Ａ（又は離型層Ａ’）がフッ素樹脂を含む場合は、接着層は、ポリエステル系、アクリル系、フッ素ゴム系等の粘着剤であることが好ましい。接着層の厚みは、離型層Ａ（又は離型層Ａ’）と耐熱樹脂層Ｂとの接着性を向上できれば、特に制限はないが、例えば０．５〜１０μｍである。
【００７８】
本発明のプロセス用離型フィルムの総厚みには特に制限は無いが、例えば１０〜３００μｍであることが好ましく、３０〜１５０μｍであることがより好ましい。離型フィルムの総厚みが上記範囲にあると、巻物として使用する際のハンドリング性が良好であるとともに、フィルムの廃棄量が少ないため好ましい。
【００７９】
以下、本発明のプロセス用離型フィルムの好ましい実施形態について更に具体的に説明する。図１は、３層構造のプロセス用離型フィルムの一例を示す模式図である。図１に示されるように、離型フィルム１０は、耐熱樹脂層１２と、その片面に接着層１４を介して形成された離型層１６とを有する。
【００８０】
離型層１６は前述の離型層Ａであり、耐熱樹脂層１２は前述の耐熱樹脂層Ｂであり、接着層１４は前述の接着層である。離型層１６は、封止プロセスにおいて封止樹脂と接する側に配置されることが好ましく；耐熱樹脂層１２は、封止プロセスにおいて金型の内面と接する側に配置されることが好ましい。
また、図３に示すように、耐熱樹脂層１２に隣接してガスバリア層１７を設けてもよい。
【００８１】
図２は、５層構造のプロセス用離型フィルムの一例を示す模式図である。図１と同一の機能を有する部材には同一の符号を付する。図２に示されるように、離型フィルム２０は、耐熱性樹脂層１２と、その両面に接着層１４を介して形成された離型層１６Ａおよび離型層１６Ｂとを有する。離型層１６Ａは前述の離型層Ａであり、耐熱樹脂層１２は前述の耐熱樹脂層Ｂであり、離型層１６Ｂは前述の離型層Ａ’であり、接着層１４はそれぞれ前述の接着層である。
【００８２】
離型層１６Ａおよび１６Ｂの組成は、互いに同一でも異なってもよい。離型層１６Ａおよび１６Ｂの厚みも、互いに同一でも異なってもよい。ただし、離型層１６Ａおよび１６Ｂが互いに同一の組成および厚みを有すると、対称な構造となり、離型フィルム自体の反りが生じ難くなるため好ましい。特に、本発明の離型フィルムには、封止プロセスにおける加熱により応力が生じることがあるので、反りを抑制することが好ましい。このように、離型層１６Ａおよび１６Ｂが、耐熱樹脂層１２の両面に形成されていると、成形品および金型内面のいずれおいても、良好な離型性が得られるため好ましい。
また、図４に示すように、耐熱樹脂層１２に隣接してガスバリア層１７を設けてもよい。
【００８３】
本発明のプロセス用離型フィルムを用いた製造プロセスで好ましく使用される封止樹脂は特に限定されず、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂のいずれであってもよいが、当該技術分野においては熱硬化性樹脂が広く用いられている。樹脂の材質にも特に限定は無いが、エポキシ系の熱硬化性樹脂、やシリコーン封止樹脂を好ましく使用することができ、特にエポキシ系の封止樹脂を用いることが好ましい。
本発明のプロセス用離型フィルムを用いた製造プロセスで好ましく特に好ましく使用されるエポキシ系の封止樹脂として、（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）フェノール樹脂、（Ｃ）硬化促進剤及び（Ｄ）無機充填材を含有するとするエポキシ樹脂組成物を挙げることができる。
上記エポキシ樹脂組成物で用いられるエポキシ樹脂（Ａ）は、１分子内に２個以上のエポキシ基を有するモノマー、オリゴマー、及びポリマー全般を言う。例えば、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂（フェニレン骨格、ビフェニル骨格等を含む）、ナフトール型エポキシ樹脂、アルキル変性トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、トリアジン核含有エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール型エポキシ樹脂等が挙げられるが、これらには限定されない。また、これらは１種類を単独で用いても２種類以上を併用してもよい。これらの内では、特に、溶融粘度が低く、無機充填材を高充填化することができ、ひいてはエポキシ樹脂組成物の低吸湿化が可能となり、耐半田クラック性を向上できる、結晶性のエポキシ樹脂が好ましい。  
【００８４】
上記エポキシ樹脂組成物で用いられるフェノール樹脂（Ｂ）は、１分子内に２個以上のフェノール性水酸基を有するモノマー、オリゴマー、及びポリマー全般を言う。例えば、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、フェノールアラルキル樹脂（フェニレン骨格、ビフェニル骨格等を含む）、ナフトールアラルキル樹脂（フェニレン骨格、ビフェニル骨格等を含む）、トリフェノールメタン樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂等が挙げられるが、これらには限定されない。また、これらは１種類を単独で用いても２種類以上を併用してもよい。  
【００８５】
上記エポキシ樹脂組成物で用いられる硬化促進剤（Ｃ）としては、前記エポキシ樹脂（Ａ）とフェノール樹脂（Ｂ）との架橋反応の触媒となり得るものを指し、例えば１，８−ジアザビシクロ（５，４，０）ウンデセン−７等のジアザビシクロアルケン及びその誘導体、トリブチルアミン、ベンジルジメチルアミン等のアミン化合物、トリフェニルホスフィン、テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート塩等の有機リン系化合物、２−メチルイミダゾール等のイミダゾール化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらは１種類を単独で用いても２種類以上を併用してもよい。  
【００８６】
上記エポキシ樹脂組成物で用いられる無機充填材（Ｄ）の種類については特に制限はなく、一般に封止材料に用いられているものを使用することができる。例えば溶融シリカ、結晶シリカ、２次凝集シリカ、アルミナ、チタンホワイト、水酸化アルミニウム、タルク、クレー、ガラス繊維等が挙げられ、これらは１種類を単独で用いても２種類以上を併用してもよい。特に溶融シリカが好ましい。溶融シリカは、破砕状、球状のいずれでも使用可能であるが、配合量を高め、且つエポキシ樹脂組成物の溶融粘度の上昇を抑えるためには、球状シリカを主に用いる方がより好ましい。  
【００８７】
本発明のプロセス用離型フィルムを用いた製造プロセスで好ましく特に好ましく使用される上記エポキシ樹脂組成物には、（Ａ）〜（Ｄ）成分の他、必要に応じて無機イオン交換体、カップリング剤、カーボンブラックに代表される着色剤、天然ワックス、合成ワックス、高級脂肪酸及びその金属塩類もしくはパラフィン等の離型剤、臭素化エポキシ樹脂、酸化アンチモン、リン化合物等の難燃剤、シリコーンオイル、ゴム等の低応力成分、酸化防止剤等の各種添加剤を適宜配合可能である。
【００８８】
プロセス用離型フィルムの製造方法
本発明のプロセス用離型フィルムは、任意の方法で製造されうる。例えば、１）離型層Ａと耐熱樹脂層Ｂを共押出成形して積層することにより、プロセス用離型フィルムを製造する方法（共押出し形成法）、２）耐熱樹脂層Ｂとなるフィルム上に、離型層Ａや接着層となる樹脂の溶融樹脂を塗布・乾燥したり、または離型層Ａや接着層となる樹脂を溶剤に溶解させた樹脂溶液を塗布・乾燥したりして、プロセス用離型フィルムを製造する方法（塗布法）、３）予め離型層Ａとなるフィルムと、耐熱樹脂層Ｂとなるフィルムとを製造しておき、これらのフィルムを積層（ラミネート）することにより、プロセス用離型フィルムを製造する方法（ラミネート法）などがある。
【００８９】
３）の方法において、各樹脂フィルムを積層する方法としては、公知の種々のラミネート方法が採用でき、例えば押出ラミネート法、ドライラミネート法、熱ラミネート法等が挙げられる。
ドライラミネート法では、接着剤を用いて各樹脂フィルムを積層する。接着剤としては、ドライラミネート用の接着剤として公知のものを使用できる。例えばポリ酢酸ビニル系接着剤；アクリル酸エステル（アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸２−エチルヘキシルエステル等）の単独重合体もしくは共重合体、またはアクリル酸エステルと他の単量体（メタクリル酸メチル、アクリロニトリル、スチレン等）との共重合体等からなるポリアクリル酸エステル系接着剤；シアノアクリレ−ト系接着剤；エチレンと他の単量体（酢酸ビニル、アクリル酸エチル、アクリル酸、メタクリル酸等）との共重合体等からなるエチレン共重合体系接着剤；セルロ−ス系接着剤；ポリエステル系接着剤；ポリアミド系接着剤；ポリイミド系接着剤；尿素樹脂またはメラミン樹脂等からなるアミノ樹脂系接着剤；フェノ−ル樹脂系接着剤；エポキシ系接着剤；ポリオール（ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール等）とイソシアネートおよび／またはイソシアヌレートと架橋させるポリウレタン系接着剤；反応型（メタ）アクリル系接着剤；クロロプレンゴム、ニトリルゴム、スチレン−ブタジエンゴム等からなるゴム系接着剤；シリコーン系接着剤；アルカリ金属シリケ−ト、低融点ガラス等からなる無機系接着剤；その他等の接着剤を使用できる。３）の方法で積層する樹脂フィルムは、市販のものを用いてもよく、公
知の製造方法により製造したものを用いてもよい。樹脂フィルムには、コロナ処理、大気圧プラズマ処理、真空プラズマ処理、プライマー塗工処理等の表面処理が施されてもよい。樹脂フィルムの製造方法としては、特に限定されず、公知の製造方法を利用できる。
【００９０】
１）共押出し成形法は、離型層Ａとなる樹脂層と耐熱樹脂層Ｂとなる樹脂層との間に、異物が噛み込む等による欠陥や、離型フィルムの反りが生じ難い点で好ましい。３）ラミネート法は、耐熱樹脂層Ｂに延伸フィルムを用いる場合に好適な製造方法である。この場合は、必要に応じてフィルム同士の界面に適切な接着層を形成することが好ましい。フィルム同士の接着性を高める上で、フィルム同士の界面に、必要に応じてコロナ放電処理等の表面処理を施してもよい。
【００９１】
プロセス用離型フィルムは、必要に応じて１軸または２軸延伸されていてもよく、それによりフィルムの膜強度を高めることができる。
【００９２】
上記２）塗布法における塗布手段は、特に限定されないが、例えばロールコータ、ダイコータ、スプレーコータ等の各種コータが用いられる。溶融押出手段は、特に限定されないが、例えばＴ型ダイやインフレーション型ダイを有する押出機などが用いられる。
【００９３】
製造プロセス
本発明のプロセス用離型フィルムは、金型内に半導体チップ等を配置して樹脂を注入成形する際に、半導体チップ等と金型内面との間に配置して使用することができる。本発明のプロセス用離型フィルムを用いることで、金型からの離型不良、バリの発生等を効果的に防止することができる。
上記製造プロセスに用いる樹脂は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂のいずれであってもよいが、当該技術分野においては熱硬化性樹脂が広く用いられており、特にエポキシ系の熱硬化性樹脂を用いることが好ましい。
上記製造プロセスとしては、半導体チップの封止が最も代表的であるが、これに限定されるものではなく、本発明は、繊維強化プラスチック成形プロセス、プラスチックレンズ成形プロセス等にも適用することができる。
【００９４】
図５、図６Ａおよび図６Ｂは、本発明の離型フィルムを用いた樹脂封止半導体の製造方法の一例を示す模式図である。
図５ａに示すように、本発明の離型フィルム１を、ロール状の巻物からロール１−２およびロール１−３により、成形金型２内に供給する。次いで、離型フィルム１を上型２の内面に配置する。必要に応じて、上型２内面を真空引きして、離型フィルム１を上型２内面に密着させてもよい。モールディング成形装置の下金型５に、基板上に配置した半導体チップ６が配置されており、その半導体チップ６上に封止樹脂を配するか、又は半導体チップ６を覆うように液状封止樹脂を注入することで、排気吸引され密着された離型フィルム１を配置した上金型２と下金５型との間に封止樹脂４が収容される。次に図５ｂに示すように、上金型２と下金型５とを、本発明の離型フィルム１を介して型閉じし、封止樹脂４を硬化させる。
【００９５】
型閉め硬化により、図５ｃに示すように封止樹脂４  が金型内に流動化し、封止樹脂４  が空間部に流入し半導体チップ６の側面周囲を囲むようにして充填され、封止された半導体チップ６を上金型２と下金型５とが型開きして取り出す。型開きし、成形品を取り出した後、離型フィルム１を複数回繰り返して利用するか、新たな離型フィルムを供給し、次の、樹脂モールディング成形に付される。
【００９６】
本発明の離型フィルムを上金型に密着させ、金型と封止樹脂との間に介在させ、樹脂モ
ールドすることにより金型への樹脂の付着を防ぎ、金型の樹脂モールド面を汚さず、かつ
成形品を容易に離型させることができる。
なお、離型フィルムは一回の樹脂モールド操作ごとに新たに供給して樹脂モールドする
こともできるし複数回の樹脂モールド操作ごとに新たに供給して樹脂モールドすることも
できる。
【００９７】
封止樹脂としては、液状樹脂であっても、常温で固体状の樹脂であってもよいが、樹脂封止時液状となるものなどの封止材を適宜採用できる。封止樹脂材料として、具体的には、主としてエポキシ系（ビフェニル型エポキシ樹脂、ビスフェノールエポキシ樹脂、ｏ−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂など）が用いられ、エポキシ樹脂以外の封止樹脂として、ポリイミド系樹脂（ビスマレイミド系）、シリコーン系樹脂（熱硬化付加型）など封止樹脂として通常使用されているものを用いることができる。また、樹脂封止条件としては、使用する封止樹脂により異なるが、例えば硬化温度１２０℃〜１８０℃、成形圧力１０〜５０ｋｇ／ｃｍ２、硬化時間１〜６０分の範囲で適宜設定することができる。
【００９８】
離型フィルム１を成形金型８の内面に配置する工程と、半導体チップ６を成形金型８内に配置する工程の前後は、特に限定されず、同時に行ってもよいし、半導体チップ６を配置した後、離型フィルム１を配置してもよいし、離型フィルム１を配置した後、半導体チップ６を配置してもよい。
【００９９】
このように、離型フィルム１は、離型性の高い離型層Ａ（及び所望により離型層Ａ’）を有するため、半導体パッケージ４−２を容易に離型することができる。また、離型フィルム１は、適度な柔軟性を有するので、金型形状に対する追従性に優れながらも、成形金型８の熱によって皺になり難い。このため、封止された半導体パッケージ４−２の樹脂封止面に皺が転写されたり、樹脂が充填されない部分（樹脂欠け）が生じたりすることなく、外観の良好な封止された半導体パッケージ４−２を得ることができる。
【０１００】
また、図５で示したような、固体の封止樹脂材料４を加圧加熱する圧縮成型法に限らず、後述の様に流動状態の封止樹脂材料を注入するトランスファーモールド法を採用してもよい。
【０１０１】
図６Ａおよび図６Ｂは、本発明の離型フィルムを用いた樹脂封止半導体の製造方法の一例であるトランスファーモールド法を示す模式図である。
【０１０２】
図６Ａに示されるように、本発明の離型フィルム２２を、ロール状の巻物からロール２４およびロール２６により、成形金型２８内に供給する（工程ａ）。次いで、離型フィルム２２を上型３０の内面３０Ａに配置する（工程ｂ）。必要に応じて、上型内面３０Ａを真空引きして、離型フィルム２２を上型内面３０Ａに密着させてもよい。次いで、成形金型２８内に、樹脂封止すべき半導体チップ３４（基板３４Ａに固定された半導体チップ３４）を配置するとともに、封止樹脂材料３６をセットし（工程ｃ）、型締めする（工程ｄ）。
【０１０３】
次いで、図６Ｂに示されるように、所定の加熱および加圧条件下、成形金型２８内に封止樹脂材料３６を注入する（工程ｅ）。このときの成形金型２８の温度（成形温度）は、例えば１６５〜１８５℃であり、成形圧力は、例えば７〜１２ＭＰａであり、成形時間は、例えば９０秒程度である。そして、一定時間保持した後、上型３０と下型３２を開き、樹脂封止された半導体パッケージ４０や離型フィルム２２、を同時にまたは順次離型する（工程ｆ）。
【０１０４】
そして、図７に示されるように、得られた半導体パッケージ４０のうち、余分な樹脂部分４２を除去することで、所望の半導体パッケージ４４を得ることができる。離型フィルム２２は、そのまま他の半導体チップの樹脂封止に使用してもよいが、成形が１回終了するごとにロールを操作してフィルムを送り、新たに離型フィルム２２を成形金型２８に供給することが好ましい。
【０１０５】
離型フィルム２２を成形金型２８の内面に配置する工程と、半導体チップ３４を成形金型２８内に配置する工程の前後は、特に限定されず、同時に行ってもよいし、半導体チップ３４を配置した後、離型フィルム２２を配置してもよいし、離型フィルム２２を配置した後、半導体チップ３４を配置してもよい。
【０１０６】
このように、離型フィルム２２は、離型性の高い離型層Ａ（及び所望により離型層Ａ’）を有するため、半導体パッケージ４０を容易に離型することができる。また、離型フィルム２２は、適度な柔軟性を有するので、金型形状に対する追従性に優れながらも、成形金型２８の熱によって皺になり難い。このため、半導体パッケージ４０の樹脂封止面に皺が転写されたり、樹脂が充填されない部分（樹脂欠け）が生じたりすることなく、外観の良好な半導体パッケージ４０を得ることができる。
【０１０７】
本発明の離型フィルムは、半導体素子を樹脂封止する工程に限らず、成型金型を用いて
各種成形品を成形および離型する工程、例えば繊維強化プラスチック成形および離型工程、プラスチックレンズ成形および離型工程等においても好ましく使用できる。
【実施例】
【０１０８】
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明は、これにより何ら限定
されるものではない。
【０１０９】
以下の実施例／比較例において、物性／特性の評価は下記の方法で行った。
（熱寸法変化率）
フィルムサンプルをフィルムの長手方向および幅方向にそれぞれ長さ２０ｍｍ、幅４ｍｍに切り出し、ＴＡインスツルメンツ社製ＴＭＡ（熱機械分析装置、製品名：Ｑ４００）を用い、チャック間距離８ｍｍにて０．００５Ｎの荷重をかけた状態で２３℃５分間保持後、２３℃から１２０℃まで１０℃／分の昇温速度で昇温させ、それぞれの方向の寸法変化を測定し、下記式（１）により寸法変化率を算出した。
熱寸法変化率（％）（２３→１２０℃）  ＝  ｛［（Ｌ２−Ｌ１）／Ｌ１］×１００｝
・・・（１）
Ｌ１：２３℃時のサンプル長（ｍｍ）
Ｌ２：１２０℃時のサンプル長（ｍｍ）
【０１１０】
水に対する接触角（水接触角）
ＪＩＳ  Ｒ３２５７に準拠して、接触角測定器（Ｋｙｏｗａ  Ｉｎｔｅｒ  ｆａｃｅ  Ｓｃｉｅｎｃｅ社製、ＦＡＣＥＣＡ−Ｗ）を用いて離型層Ａ、Ａ’の表面の水接触角を測定した。
【０１１１】
（融点（Ｔｍ）、結晶融解熱量）
示差走査熱量計（ＤＳＣ）としてティー・エイ・インスツルメント社製Ｑ１００を用い、重合体試料約５ｍｇを精秤し、ＪＩＳＫ７１２１に準拠し、窒素ガス流入量：５０ｍｌ／分の条件下で、２５℃から加熱速度：１０℃／分で２８０℃まで昇温して熱融解曲線を測定し、得られた熱融解曲線から、試料の融点（Ｔｍ）及び結晶融解熱量を求めた。
【０１１２】
（離型性）
各実施例／比較例で作製したプロセス用離型フィルムを、図５に示されるように、上型と下型との間に１０Ｎの張力を印加した状態で配置した後、上型のパーティング面に真空吸着させた。次いで、半導体チップを覆うように基板上に封止樹脂（商品名：Ｒ４２１２−２Ｃ、長瀬産業株式会社製）を充填後、基板に固定された半導体チップを下型に配置し、型締めした。このとき、成形金型の温度（成形温度）を１２０℃、成形圧力を１０ＭＰａ、成形時間を４００秒とした。そして、図５ｃに示されるように、半導体チップを封止樹脂で封止した後、樹脂封止された半導体チップ（半導体パッケージ）を離型フィルムから離型した。
離型フィルムの離型性を、以下の基準で評価した。
○：離型フィルムが、金型の開放と同時に自然に剥がれる。
△：離型フィルムは自然には剥がれないが、手で引っ張ると（張力を加えると）簡単に剥がれる。
×：離型フィルムが、半導体パッケージの樹脂封止面に密着しており、手では剥がせない。
【０１１３】
（耐皺性）
上記工程で離型を行った後の、離型フィルム、および半導体パッケージの樹脂封止面の皺の状態を、以下の基準で評価した。
○：離型フィルムおよび半導体パッケージのいずれにも皺が全くない。
△：離型フィルムにはわずかに皺があるが、半導体パッケージへの皺の転写はない。
×：離型フィルムはもちろん、半導体パッケージにも多数の皺あり。
【０１１４】
（金型追従性）
上記工程で離型を行った際の離型フィルムの金型追従性を、以下の基準で評価した。
○：半導体パッケージに、樹脂欠け（樹脂が充填されない部分）が全くない。
△：半導体パッケージの端部に、樹脂欠けが僅かにある（ただし皺による欠けは除く）  ×：半導体パッケージの端部に、樹脂欠けが多くある（ただし皺による欠けは除く）
【０１１５】
（金型汚染性）
図８に示すように、０．３ｍｍ厚みのＡｌ板、ロの字形状にした０．５ｍｍ厚みのＳＵＳの枠（内枠１００ｍｍ四角）、各実施例／比較例で作製したプロセス用離型フィルムを２枚、０．３ｍｍ厚みのＡｌ板を順に重ねて配置した。さらに、ロの字の形状に裁断した０．１ｍｍ厚みのＳＵＳの枠をスペーサーとして２枚の離型フィルムの間に、半導体用封止樹脂（商品名：Ｒ４２１２−２Ｃ、長瀬産業株式会社製）を注入し、１２０℃、１０ＭＰａ、４００秒環境下で平板プレスにて熱プレスした。プレス後、０．３ｍｍ厚みのＡｌ板は繰り返し使用し、それ以外は上記条件にてプレス成形を１０００回繰り返し、Ａｌ板表面に付着した汚れを、下記の基準に従い金型汚れとして評価した。評価の際の配置を、図８に示す。
○：Ａｌ表面の汚れが見られない
×：Ａｌ表面の汚れが見られた
【０１１６】
（アウトガス透過度［重量％］の測定）
図９（ａ）に示すように、上記半導体用封止樹脂１０ｍｇ（商品名：Ｒ４２１２−２Ｃ、長瀬産業株式会社製）をバイアル瓶１の中に入れ、キャップとゴム栓で密栓後、１２０℃３０分間加熱し静的ヘッドスペース法によるＧＣ−ＭＳ測定を実施して、バイアル瓶１中のアウトガス量１を測定した。（分析１）
＜分析条件＞
前処理装置：ヘッドスペースサンプラー  （アジレントテクノロジー社製）
測定装置  ：ＧＣ−ＭＳ（アジレントテクノロジー社製）
注入方法    ：スプリット法  （１０  ：  １）
カラム      ：ＤＢ−５ＭＳ  （３０ｍ×２５０μｍ×０．２５μｍ）
昇温条件    ：４０℃（０ｍｉｎ  ｈｏｌｄ）→３２０℃（０ｍｉｎ  ｈｏｌｄ）（１０℃／ｍｉｎ）
測定モード：ＳＣＡＮ（ｍ／ｚ  ＝  ３０〜６００）
続いて、図９（ｂ）に示すように、別途エポキシ封止樹脂１０ｍｇ（商品名：Ｒ４２１２−２Ｃ、長瀬産業株式会社製）をバイアル瓶１の中に入れ、ゴム栓に代えて各実施例／比較例で作製したプロセス用離型フィルムをバイアル瓶１の瓶口にかぶせ、該プロセス用離型フィルムとキャップで密栓したものを用意し、続いてバイアル瓶１が入る大きさのバイアル瓶２を用意し、このバイアル瓶２の中にバイアル瓶１を格納し、キャップとゴム栓で密栓後、１２０℃３０分間加熱し静的ヘッドスペース法によるＧＣ−ＭＳ測定を実施し、該プロセス用離型フィルムを透過したバイアル瓶２中のアウトガス量２を測定した。（分析２）
各実施例／比較例で作製したプロセス用離型フィルムについて、分析１で得られたアウトガス量１と、分析２で得られたプロセス用離型フィルムを透過したアウトガス量２から、下記（式１）に従い、アウトガス透過度を計算した。
アウトガス透過度＝アウトガス量２／アウトガス量１×１００（重量％）（式１）
【０１１７】
（酸素透過度［ｍｌ／（ｍ２・ｄａｙ・ＭＰａ）］の測定）  
各実施例／比較例で作製したプロセス用離型フィルムを、モコン社製ＯＸ−ＴＲＡＮ２／２１ＭＬを用いて、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２６に準じ、温度２０℃、湿度５０％Ｒ．Ｈ．の条件で測定した。
【０１１８】
［実施例１］
無機ガスバリア層Ｃを積層した耐熱樹脂層Ｂとして、フィルムの片面に酸化アルミ（ＡＬＯ膜）を蒸着した膜厚１２μｍの二軸延伸ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルムＢ１（三井化学東セロ株式会社製、製品名：ＴＬ−ＰＥＴ  Ｈ）を使用した。当該フィルムＢ１の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率は、縦（ＭＤ）方向で０．１％、横（ＴＤ）方向で０．４％であった。また、当該二軸延伸ＰＥＴフィルムの融点は、２６０℃であり、結晶融解熱量は、３８Ｊ／ｇであった。
【０１１９】
離型層Ａ及びＡ’として、無延伸の４−メチル−１−ペンテン共重合樹脂フィルムＡ１を使用した。具体的には、三井化学株式会社製４−メチル−１−ペンテン共重合樹脂（製品名：ＴＰＸ、銘柄名：ＭＸ０２２、融点：２２９℃、結晶融解熱量：２２Ｊ／ｇ）を２７０℃で溶融押出して、Ｔ型ダイのスリット幅を調整することにより、厚み１５μｍの無延伸フィルムを成膜したものを使用した。
無延伸の４−メチル−１−ペンテン共重合樹脂フィルムは、表面の水接触角が１０５°であったが、一方のフィルム表面が、ＪＩＳ  Ｒ３２５７に基づく水接触角が３０°以下となるように、接着剤による接着性向上の観点からコロナ処理を施した。
当該４−メチル−１−ペンテン共重合樹脂フィルムの２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率は、縦（ＭＤ）方向で６．５％、横（ＴＤ）方向で３．１％であった。
【０１２０】
（接着剤）
各フィルムを貼り合せるドライラミ工程で使用する接着剤としては、以下のウレタン系接着剤を用いた。
［ウレタン系接着剤］
主剤：タケラックＡ−６１６（三井化学社製）。硬化剤：タケネートＡ−６５（三井化学社製）。主剤と硬化剤とを、重量比（主剤：硬化剤）が１６：１となるように混合し、希釈剤として酢酸エチルを用いた。
【０１２１】
（離型フィルムの製造）
無機ガスバリア層Ｃを積層した二軸延伸ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルムＢ１の一方の面に、グラビアコートで上記ウレタン系接着剤を１．５ｇ／ｍ２で塗工し、無延伸の４−メチル−１−ペンテン共重合樹脂フィルムのコロナ処理面をドライラミネートにて貼り合わせ後、続いてこのラミネートフィルムの二軸延伸ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム面の側に、ウレタン系接着剤を１．５ｇ／ｍ２で塗工し、無延伸の４−メチル−１−ペンテン共重合樹脂フィルムのコロナ処理面をドライラミネートにて貼り合わせて、５層構造（離型層Ａ／接着層／ガスバリア層Ｃ／耐熱樹脂層Ｂ／接着層／離型層Ａ’）のプロセス用離型フィルムを得た。
ドライラミネート条件は、基材幅９００ｍｍ、搬送速度３０ｍ／分、乾燥温度５０〜６０℃、ラミネートロール温度５０℃、ロール圧力３．０ＭＰａとした。
【０１２２】
当該プロセス用離型フィルムの２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率は、縦（ＭＤ）方向で０．８％、横（ＴＤ）方向で１．２％であった。また、２５℃、相対湿度５０％における酸素透過度は、１５ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ＭＰａであり、アウトガス透過度は、０．５重量％未満であった。
離型性、皺、金型追従性、及び金型汚染性の評価結果を表１に示す。離型フィルムが、金型の開放と同時に自然に剥がれる良好な離型性を示し、離型フィルムおよび半導体パッケージのいずれにも皺が全くなく、すなわち皺が十分に抑制され、半導体パッケージに樹脂欠けが全くない良好な金型追従性を示した。また、金型の汚染は認められなかった。すなわち、実施例１のプロセス用離型フィルムは、離型性、皺の抑制、及び金型追従性が良好であるうえに金型の汚染を有効に抑制することが可能なプロセス用離型フィルムであった。
【０１２３】
［実施例２］
無機ガスバリア層Ｃを積層した二軸延伸ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルムＢ１に代えて、ポリビニルアルコールを含む有機ガスバリア層Ｃを積層したＯＰＰ（二軸延伸ポリプロピレン）フィルムＢ２（膜厚２０μｍの二軸延伸ポリプロピレンフィルムの片面にポリビニルアルコール共重合体ガスバリア層Ｃを形成したガスバリアフィルムＢ２（三井化学東セロ株式会社製  製品名：Ａ−ＯＰ  ＡＧ））を用いて有機ガスバリア層Ｃの面の反対側の面にコロナ処理を行った他は、実施例１と同様にしてプロセス用離型フィルムを作製し、封止、離型を行い、特性を評価した。なお、フィルムＢ２の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率は、縦（ＭＤ）方向で０．２％、横（ＴＤ）方向で−０．３％であった。また、ＯＰＰフィルムＢ２の融点は、１６１℃であり、結晶融解熱量は、９３Ｊ／ｇであった。
作製されたプロセス用離型フィルムの２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率は、縦（ＭＤ）方向で２．４％、横（ＴＤ）方向で０．４％であった。また、２５℃、相対湿度５０％における酸素透過度は、１０ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ＭＰａであり、アウトガス透過度は、０．５重量％未満であった。
離型性、皺、金型追従性、及び金型汚染性の評価結果を表１に示す。離型フィルムが、金型の開放と同時に自然に剥がれる良好な離型性を示し、離型フィルムおよび半導体パッケージのいずれにも皺が全くなく、すなわち皺が十分に抑制され、半導体パッケージに樹脂欠けが全くない良好な金型追従性を示した。また、金型の汚染は認められなかった。すなわち、実施例２のプロセス用離型フィルムは、離型性、皺の抑制、及び金型追従性が良好であるうえに金型の汚染を有効に抑制することが可能なプロセス用離型フィルムであった。
【０１２４】
［実施例３］
耐熱樹脂層ＢとしてＢ２に代えて膜厚２０μｍの二軸延伸ポリプロピレンフィルムの片面にポリ塩化ビニリデン共重合体を形成したガスバリアフィルムＢ３（三井化学東セロ株式会社製  製品名：Ｖ−ＯＰ  ＯＬＥ）（融点：１６０℃、結晶融解熱量：９１Ｊ／ｇ）を用いた以外は実施例２と同様にしてプロセス用離型フィルムを作成し封止、離型を行い、特性を評価した。なお、フィルムＢ３の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率は、縦（ＭＤ）方向で０．４％、横（ＴＤ）方向で０．７％であった。また、ＯＰＰフィルムＢ２の融点は、１６０℃であり、結晶融解熱量は、９１Ｊ／ｇであった。
作製されたプロセス用離型フィルムの２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率は、縦（ＭＤ）方向で２．６％、横（ＴＤ）方向で０．７％であった。また、２５℃、相対湿度５０％における酸素透過度は、５０ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ＭＰａであり、アウトガス透過度は、０．５重量％未満であった。
離型性、皺、金型追従性、及び金型汚染性の評価結果を表１に示す。離型フィルムが、金型の開放と同時に自然に剥がれる良好な離型性を示し、離型フィルムおよび半導体パッケージのいずれにも皺が全くなく、すなわち皺が十分に抑制され、半導体パッケージに樹脂欠けが全くない良好な金型追従性を示した。また、金型の汚染は認められなかった。すなわち、実施例３のプロセス用離型フィルムは、離型性、皺の抑制、及び金型追従性が良好であるうえに金型の汚染を有効に抑制することが可能なプロセス用離型フィルムであった。
［比較例１］
無機ガスバリア層を積層した二軸延伸ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルムＢ１に代えて、ガスバリア層を有さないＯＰＰ（二軸延伸ポリプロピレン）フィルムＢ４（膜厚２０μｍの二軸延伸ポリプロピレンフィルム（三井化学東セロ株式会社製、製品名：Ｕ−２））を用いた他は、実施例１と同様にしてプロセス用離型フィルムを作製し、封止、離型を行い、特性を評価した。なお、ＯＰＰフィルムＢ４の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率は、縦（ＭＤ）方向で０．３％、横（ＴＤ）方向で−０．４％であった。また、ＯＰＰフィルムＢ４の融点は、１６１℃であり、結晶融解熱量は、９２Ｊ／ｇであった。
作製されたプロセス用離型フィルムの２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率は、縦（ＭＤ）方向で２．１％、横（ＴＤ）方向で１．３％であった。また、２５℃、相対湿度５０％における酸素透過度は、１５，０００ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ＭＰａであり、アウトガス透過度は、１．３重量％であった。
離型性、皺、金型追従性、及び金型汚染性の評価結果を表１に示す。離型フィルムが、金型の開放と同時に自然に剥がれる良好な離型性を示し、離型フィルムおよび半導体パッケージのいずれにも皺が全くなく、すなわち皺が十分に抑制され、半導体パッケージに樹脂欠けが全くない良好な金型追従性を示したが、金型に汚染が認められた。すなわち、比較例１のプロセス用離型フィルムは、離型性、皺の抑制、及び金型追従性は良好であったものの、金型の汚染を有効に抑制することができなかった。
【０１２５】
［比較例２］
二軸延伸ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルムＢ１を用いず、フィルムＡ２（三井化学株式会社製４−メチル−１−ペンテン共重合樹脂（製品名：ＴＰＸ、銘柄名：ＭＸ０２２）を用いて厚み５０μｍの無延伸フィルムを成膜したもの（融点：２２９℃、結晶融解熱量：２１．７Ｊ／ｇ））を単独でプロセス用離型フィルムとして使用し、実施例１と同様にして、封止、離型を行い、特性を評価した。なお、無延伸の４−メチル−１−ペンテン共重合樹脂フィルムＡ２の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率は、縦（ＭＤ）方向で７．２％、横（ＴＤ）方向で３．６％であった。また、２５℃、相対湿度５０％における酸素透過度は、３００，０００ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ＭＰａであり、アウトガス透過度は、３０重量％であった。
離型性、皺、金型追従性、及び金型汚染性の評価結果を表１に示す。離型フィルムが、金型の開放と同時に自然に剥がれる良好な離型性を示し、半導体パッケージに樹脂欠けが全くない良好な金型追従性を示したが、離型フィルムはもちろん、半導体パッケージにも多数の皺が認められ、皺を十分に抑制することができなかった。また、金型に汚染が認められた。すなわち、比較例２のプロセス用離型フィルムは、離型性、及び金型追従性は良好であったものの、皺及び金型の汚染を有効に抑制することができなかった。
［比較例３］
無機ガスバリア層を積層した二軸延伸ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルムＢ１に代えて、無機ガスバリア層を積層した無延伸ポリプロピレンフィルムＢ５（膜厚２０μｍの無延伸ポリプロピレンフィルム（三井化学東セロ株式会社製、製品名：Ｓ））の両面にコロナ処理を行い、さらにその片面に酸化アルミニウム蒸着膜（ＡＬＯ膜）を１０ｎｍ厚付与したガスバリアフィルム）を用いた他は、実施例１と同様にしてプロセス用離型フィルムを作製し、封止、離型を行い、特性を評価した。なお、無機ガスバリア層を積層した無延伸ポリプロピレンフィルムＢ５の２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率は、縦（ＭＤ）方向で５．７％、横（ＴＤ）方向で６．２％であった。また、無延伸ポリプロピレンフィルムＢ５の融点は、１６２℃であり、結晶融解熱量は、１１４Ｊ／ｇであった。
作製されたプロセス用離型フィルムの２３℃から１２０℃までの熱寸法変化率は、縦（ＭＤ）方向で６．８％、横（ＴＤ）方向で７．２％であった。また、２５℃、相対湿度５０％における酸素透過度は、３０ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ＭＰａであり、アウトガス透過度は、０．５重量％未満であった。
離型性、皺、金型追従性、及び金型汚染性の評価結果を表１に示す。良好な離型性を示したものの、皺の発生を有効に抑制することができず、さらに金型汚染性評価においても×の判定となった。フィルムに皺が発生した箇所でガスバリア性低下が生じた結果、アウトガス透過性が大きくなり汚れが顕在化したものと推測される。
【０１２６】
【表１】
2018176695.tif 000003
【産業上の利用可能性】
【０１２７】
本発明のプロセス用離型フィルムは、従来技術では実現できなかった高いレベルの離型性、皺の抑制、及び金型追従性を兼ね備え、かつ金型の汚染を有効に抑制できるので、これを用いることで、半導体チップ等を樹脂封止等して得られる成形品を容易に離型できるとともに、皺や欠けなどの外観不良のない成形品を、高い生産性で、かつ比較的低コストで製造することができるという実用上高い価値を有する技術的効果をもたらすものであり、半導体プロセス産業をはじめとする産業の各分野において、高い利用可能性を有する。
また、本発明のプロセス用離型フィルムは、半導体パッケージに限らず、繊維強化プラスチック成形プロセス、プラスチックレンズ成形プロセス等における種々の金型成形にも用いることができるので、半導体産業以外の金型成形を行う産業の各分野においても、高い利用可能性を有する。
【符号の説明】
【０１２８】
１、１−２、１−３：  離型フィルム
２：  上金型
３：  吸引口
４：  封止樹脂
４−２：半導体パッケージ
５：  下金型
６：  半導体チップ
７：  基板
８：  成形金型
１０、２０、３０、４０、２２：  離型フィルム
１２：  耐熱樹脂層Ｂ
１４：  接着層
１６、１６Ａ：離型層Ａ
１６Ｂ：  離型層Ａ´
１７：  ガスバリア層Ｃ
２４、２６：  ロール
２８：  成形金型
３０：  上型
３２：  下型
３４：  半導体チップ
３４Ａ：  基板
３６：  封止樹脂
４０、４４：  半導体パッケージ
５１：Ａｌ板
５２、６５：離型フィルム
５３：ＳＵＳ枠
５４、６６：封止樹脂
６１：バイアル瓶１
６２：バイアル瓶２
６３：キャップ
６４：ゴム栓
【図１】
2018176695.tif 000004
【図２】
2018176695.tif 000005
【図３】
2018176695.tif 000006
【図４】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
2018176695.tif 000010
【図７】
2018176695.tif 000011
【図８】
2018176695.tif 000012
【図９】
2018176695.tif 000013