(57)【要約】【課題】被走査面上における帯電ムラを低減することができる光走査装置を提供する。【解決手段】本発明に係る光走査装置１００は、第１の光源１及び第２の光源１１からの第１の光束ＬＡ及び第２の光束ＬＢを偏向して第１の被走査面３０を主走査方向に走査する偏向器１０と、偏向器１０によって偏向された第１の光束ＬＡ及び第２の光束ＬＢを第１の被走査面３０に導光する第１の結像光学系８５ａと、第１の光源１及び第２の光源１１からの第１の光束ＬＡ及び第２の光束ＬＢを偏向器１０に入射させる第１の入射光学系７５ａ及び第２の入射光学系７５ｂと、を有し、第１の入射光学系７５ａ及び第２の入射光学系７５ｂの収束度は、互いに異なることを特徴とする。【選択図】  図１
2018176655.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１及び第２の光源からの第１及び第２の光束を偏向して第１の被走査面を主走査方向に走査する偏向器と、
前記偏向器によって偏向された前記第１及び第２の光束を前記第１の被走査面に導光する第１の結像光学系と、
前記第１及び第２の光源からの前記第１及び第２の光束を前記偏向器に入射させる第１及び第２の入射光学系と、
を有し、
前記第１及び第２の入射光学系の収束度は、互いに異なることを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
前記偏向器によって偏向された前記第２の光束を受光する同期検出部と、該同期検出部が出力する信号に基づいて前記第１の光源の発光タイミングを制御する制御部と、を有することを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
前記第２の光束の前記第１の被走査面における光量は、主走査方向における像高毎に異なることを特徴とする請求項１または２に記載の光走査装置。
【請求項４】
前記第１及び第２の入射光学系は、前記第１及び第２の光束を前記偏向器の互いに異なる偏向面に入射させることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光走査装置。
【請求項５】
前記第１及び第２の光束の波長は、互いに異なることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の光走査装置。
【請求項６】
前記第２の光束の波長は、前記第１の光束の波長よりも長いことを特徴とする請求項５に記載の光走査装置。
【請求項７】
前記第２の入射光学系の収束度は、０以外の値であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の光走査装置。
【請求項８】
前記第１の被走査面において、前記第２の光束の主走査方向の光束幅は、前記第１の光束の主走査方向の光束幅より大きいことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の光走査装置。
【請求項９】
前記第１の被走査面において、前記第２の光束の副走査方向の光束幅は、前記第１の光束の副走査方向の光束幅より大きいことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の光走査装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一項に記載の光走査装置と、該光走査装置により前記第１の被走査面に形成される静電潜像をトナー像として現像する現像器と、現像された前記トナー像を被転写材に転写する転写器と、転写された前記トナー像を前記被転写材に定着させる定着器と、を備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１１】
前記第１の被走査面における前記トナー像の濃度を検出する濃度検出器と、
前記第２の光束の光量を該濃度検出器の検出結果に応じて変化させるように制御する制御部と、
を備えることを特徴とする請求項１０に記載の画像形成装置。
【請求項１２】
請求項１乃至９のいずれか一項に記載の光走査装置と、外部機器から出力されたコードデータを画像信号に変換して前記光走査装置に入力するプリンタコントローラと、を備えることを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光走査装置に関し、特にレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）やデジタル複写機、マルチファンクションプリンタ（ＭＦＰ）等の画像形成装置に好適なものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、光源からの光束を偏向器によって偏向して被走査面を光走査する光走査装置、及び該光走査装置を搭載した画像形成装置が用いられている。
特許文献１は、単一光源からの光束を、被走査面を走査するための走査光束に用いると共に、被走査面に対応する感光体の表面を除電（前露光）するための除電用光束としても用いることができる光走査装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開６２−１５１８２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来の画像形成装置においては、被走査面に対応する感光体の表面を帯電させる際に、感光体の表面に電位ムラ、すなわち帯電ムラが生じる。そして、この帯電ムラのために、光走査装置による光走査によって感光体の表面上に生成される静電潜像にもムラが生じ、ひいては形成される画像の画質が劣化するという課題が生じる。
しかしながら、特許文献１に開示されている光走査装置では、感光体の表面を帯電する前に除電するための除電用光束を射出することを開示しているだけであり、そのような帯電ムラの低減については全く考慮されていない。
【０００５】
そこで本発明は、被走査面上における帯電ムラを低減することができる光走査装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る光走査装置は、第１及び第２の光源からの第１及び第２の光束を偏向して第１の被走査面を主走査方向に走査する偏向器と、偏向器によって偏向された第１及び第２の光束を第１の被走査面に導光する第１の結像光学系と、第１及び第２の光源からの第１及び第２の光束を偏向器に入射させる第１及び第２の入射光学系と、を有し、第１及び第２の入射光学系の収束度は、互いに異なることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、被走査面上における帯電ムラを低減することができる光走査装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】第一実施形態に係る光走査装置の主走査断面図。
【図２】従来の画像形成装置の模式図。
【図３】第一実施形態に係る光走査装置における、帯電ムラ補正の様子を示した図、並びに第２の光源による露光分布と、それに起因する感光ドラムの表面電位分布を示した図。
【図４】第二実施形態に係る光走査装置の主走査断面図。
【図５】第二実施形態に係る光走査装置における帯電ムラ補正の様子を示した図。
【図６】第三実施形態に係る光走査装置の主走査断面図。
【図７】従来の光走査装置の主走査断面図。
【図８】第一乃至第三実施形態のいずれかに係る光走査装置が搭載されたモノクロ画像形成装置の要部副走査断面図。
【図９】第一乃至第三実施形態のいずれかに係る光走査装置が搭載されたカラー画像形成装置の要部副走査断面図。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下に、本実施形態に係る光走査装置を、添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために、実際とは異なる縮尺で描かれている場合がある。
【００１０】
図７は、従来の光走査装置９００の主走査断面図を示している。
【００１１】
従来の光走査装置９００では、例えば半導体レーザーより成る光源９０１から出射した光束が、コリメータレンズ９０２によって略平行光束に変換され、シリンドリカルレンズ９０３によって副走査断面内においてのみ集光される。そして、シリンドリカルレンズ９０３を通過した光束は、開口絞り９０４によって光束幅が制限され、偏向器９０５の偏向面９０５ａの近傍において線像として結像する。
【００１２】
そして、偏向器９０５の偏向面９０５ａによって反射偏向された光束は、第１の結像レンズ９０６ａ及び第２の結像レンズ９０６ｂによって、被走査面９０７上に導光され、スポットが形成される。
偏向器９０５を図中矢印Ａ方向に回転させることによって、被走査面９０７上を矢印Ｂ方向（主走査方向）に等速度で光走査している。
また、第１及び第２の結像レンズ９０６ａ及び９０６ｂは、副走査断面内において、偏向器９０５の偏向面９０５ａと被走査面９０７との間を共役関係にすることにより、面倒れ補正を行っており、偏向面９０５ａの倒れ（面倒れ）による結像位置ずれを低減している。
【００１３】
また、従来の光走査装置９００では、光源９０１から出射し、偏向器９０５によって反射偏向された光束の一部をＢＤ検知（同期検出）に用いている。
具体的には、偏向器９０５によって反射偏向された光束が、第１の結像レンズ９０６ａを通過した後、折り返しミラー９０８によって反射される。そして、折り返しミラー９０８によって反射された光束は、同期検出用結像レンズ９０９によって、同期検出センサー９１０上に導光される。
【００１４】
［第一実施形態］
図１（ａ）及び（ｂ）は、第一実施形態に係る光走査装置１００の主走査断面図を示している。なお、図１（ａ）は、第１の光源１からの光束ＬＡによって被走査面（第１の被走査面）３０が走査される様子を示している。また、図１（ｂ）は、第２の光源１１からの光束ＬＢによって被走査面３０が走査される様子を示している。
【００１５】
なお、以下の説明において、主走査方向とは、偏向器１０の回転軸及び結像光学系２０の光軸に垂直な方向（偏向器１０によって光束が反射偏向（偏向走査）される方向）である。副走査方向とは、偏向器１０の回転軸に平行な方向である。主走査断面とは、副走査方向に垂直な断面である。副走査断面とは、主走査方向に垂直な断面である。
【００１６】
本実施形態に係る光走査装置１００は、第１の光源１、副走査絞り２、第１のコリメータレンズ３、球面レンズ４、第１のシリンドリカルレンズ５、主走査絞り６、ウェッジプリズム７を備えている。また、本実施形態に係る光走査装置１００は、偏向器１０、第１の結像レンズ２０ａ、第２の結像レンズ２０ｂ、防塵ガラス２１を備えている。また、本実施形態に係る光走査装置１００は、第２の光源１１、開口絞り１２、第２のコリメータレンズ１３、第２のシリンドリカルレンズ１４、ＢＤレンズ１５及びＢＤセンサー（同期検出部）１６を備えている。
【００１７】
第１の光源１は、複数の発光点（発光部）を有する半導体レーザー（マルチビーム光源）より成っている。半導体レーザーである第１の光源１は、複数の発光点のうち、少なくとも１つの発光点の第１のコリメータレンズ３の光軸からの距離が別の或る発光点の該距離と異なるように構成されている。具体的には、３２個の発光点が一次元状に配列して成る面発光レーザーで構成されている。これは、３２ビームレーザーを使用することにより、光走査の高速化及び高精細化を達成するためである。
副走査絞り２は、第１の光源１から出射した光束ＬＡ（第１の光束）の副走査方向の光束幅を制限してビーム形状を整形している。副走査絞り２を第１のコリメータレンズ３近傍に配置することにより、副走査方向の射出瞳位置を第２の結像レンズ２０ｂ近傍に配置し、３２ビームの主光線が第２の結像レンズ２０ｂ近傍で副走査方向の同一位置を通過するようになっている。
第１のコリメータレンズ３は、ガラス製の集光レンズであり、具体的には、凸レンズと凹レンズを貼り合わせた所謂貼り合わせレンズで構成されている。これにより、３２個の発光点に対応した被走査面３０上における複数（３２個）のスポット径の大きさの間の差を低減している。
球面レンズ４は、ガラス製の凸球面レンズであり、被走査面３０上でのスポット径を調整するために配置されている。
また、第１のコリメータレンズ３と球面レンズ４とによって、第１の光源１から出射した発散光束を平行光束に変換している。具体的には、第１のコリメータレンズ３から出射した弱発散光束を、球面レンズ４で平行光束に変換することによって、複数の発光点からの光束の被走査面３０上及び偏向器１０の偏向面１０ａ上での集光位置（ピント位置）を互いに略同一にし、且つ、被走査面３０上での複数のスポット径を互いに略同一にすることができる。
なおここで、平行光束とは、厳密な平行光束だけでなく、弱発散光束や弱収束光束等の略平行光束を含むものとする。
【００１８】
第１のシリンドリカルレンズ５は、副走査断面内（副走査方向）にのみパワーを有しており、第１のコリメータレンズ３及び球面レンズ４を通過した光束ＬＡを、副走査断面内で偏向器１０の偏向面（反射面）１０ａの近傍で線像として結像させている。
主走査絞り６は、第１のシリンドリカルレンズ５を通過した光束ＬＡの主走査方向の光束幅を制限してビーム形状を整形している。また、主走査絞り６は、偏向器１０の近傍に配置されているため、主走査方向の光束幅を制限すると共に、偏向器１０の偏向面１０ａ上での各発光点からの光束の主光線を互いに近接させることができるので、マルチビーム時に発生する縦線ゆらぎを低減することができる。
ウェッジプリズム７は、主走査方向にくさび形状を有するウェッジプリズムであり、主走査絞り６とウェッジプリズム７の入射面とが互いに当接するように配置されている。ウェッジプリズム７の入射面と出射面とは互いに、主走査断面内において４°の角度をなしている。これは、ウェッジプリズム７の出射面からの反射光が不図示の光量検知センサーに入射しないようにするためである。
また、本実施形態に係る光走査装置１００には、面発光レーザーである第１の光源１の各ビームを所望の光量で発光させるために用いられる光量検知センサーが設けられている。面発光レーザー素子は端面発光型レーザー素子とは異なり、ＡＰＣ（Ａｕｔｏ  Ｐｏｗｅｒ  Ｃｏｎｔｒｏｌ）センサーを素子内に配置できないため、第１の光源１の外部にＡＰＣ用センサー、すなわち光量検知センサーを設けている。
【００１９】
なお、副走査絞り２、第１のコリメータレンズ３、球面レンズ４、第１のシリンドリカルレンズ５、主走査絞り６及びウェッジプリズム７によって、本実施形態に係る光走査装置１００の第１の入射光学系７５ａが構成される。
また、第１のコリメータレンズ３と第１のシリンドリカルレンズ５とを１つの光学素子によって代替してもよい。
【００２０】
偏向器１０は、入射した光束を被走査面３０に向けて偏向走査する５面構成のポリゴンミラー（回転多面鏡）より成っており、モーター等の駆動手段（不図示）により図中矢印Ａ方向に一定速度で回転している。
第１及び第２の結像レンズ（ｆθレンズ）２０ａ及び２０ｂはそれぞれ、ガラス製の平凸球面レンズ及び主走査断面内で非球面形状のアナモフィックレンズである。第１及び第２の結像レンズ２０ａ及び２０ｂは、集光機能とｆθ特性とを有しており、偏向器１０によって偏向された光束を被走査面３０上に集光（導光）する。また、第１及び第２の結像レンズ２０ａ及び２０ｂは、副走査断面内において、偏向器１０の偏向面１０ａと被走査面３０との間を共役関係にすることにより、面倒れ補正を行っている。すなわち、本実施形態に係る光走査装置１００では、第１及び第２の結像レンズ２０ａ及び２０ｂによる副走査近軸像面湾曲を適切に発生させることにより、面倒れが発生した場合の被走査面３０上における副走査スポット位置ずれを低減させて、ピッチムラを低減している。
防塵ガラス２１は、光走査装置１００の内部へのゴミ等の侵入を防ぐために設けられた平行平板などで構成される。
【００２１】
なお、第１の結像レンズ２０ａ及び第２の結像レンズ２０ｂによって、本実施形態に係る光走査装置１００の第１の結像光学系８５ａが構成される。
また、本実施形態では、被走査面３０として、感光ドラムを用いている。
なお、本実施形態に係る光走査装置１００では、第１の結像光学系８５ａを２枚の結像光学素子で構成しているが、これに限らず、１枚もしくは３枚以上の結像光学素子で構成しても、同様の効果を得ることができる。
【００２２】
本実施形態に係る光走査装置１００では、画像情報に応じて第１の光源１から光変調されて出射した複数（本実施形態では３２本）の光束ＬＡが、副走査絞り２によって副走査方向の光束幅が制限される。そして、副走査絞り２を通過した光束ＬＡは、第１のコリメータレンズ３及び球面レンズ４によって平行光束に変換され、第１のシリンドリカルレンズ５によって副走査断面内においてのみ集光される。そして、第１のシリンドリカルレンズ５を通過した光束ＬＡは、主走査絞り６によって主走査方向の光束幅が制限され、偏向器１０の偏向面１０ａの近傍において線像（主走査方向に長手の像）として結像する。
【００２３】
そして、偏向器１０の偏向面１０ａによって反射偏向された複数の光束ＬＡは、第１の結像レンズ２０ａ及び第２の結像レンズ２０ｂから構成され、主に主走査方向に凸のパワーを有する第１の結像光学系８５ａによって、被走査面３０上に導光され、スポットが形成される。
本実施形態に係る光走査装置１００は、偏向器１０を図中矢印Ａ方向に回転させることによって、被走査面３０上を矢印Ｂ方向（主走査方向）に等速度で光走査している。これにより記録媒体である感光ドラム面上に複数の走査線を同時に形成し、画像記録を行っている。
【００２４】
本実施形態に係る光走査装置１００では、画像印字用光源である第１の光源１とは異なる第２の光源１１を用いてＢＤを検知している。これにより、本実施形態に係る光走査装置１００は、ポリゴンミラーである偏向器１０の小型化及び結像レンズの小径化を達成できるというメリットを有する。
第２の光源１１は、単一の発光点（発光部）を有する半導体レーザー（シングルビーム光源）より成っており、画像の書き出しタイミングを検出するために使用される（ＢＤ検出）。
また、後述するように、第２の光源１１は、被走査面３０としての感光ドラム面の主走査方向の帯電ムラを補正するための光束を出射する。
開口絞り１２は、第２の光源１１から出射した光束ＬＢ（第２の光束）の主走査方向及び副走査方向双方の光束幅を制限してビーム形状を整形している。
第２のコリメータレンズ１３は、開口絞り１２を通過した光束ＬＢを、ＢＤセンサー１６の近傍で結像するような収束度を有する収束光束に変換している。
第２のシリンドリカルレンズ１４は、第２のコリメータレンズ１３を通過した光束ＬＢを、副走査断面内で偏向器１０の偏向面（反射面）１０ｂの近傍で線像（焦線）として結像させている。
ＢＤレンズ１５は、偏向器１０によって偏向された副走査方向の光束ＬＢをＢＤセンサー１６から偏向器１０とは反対側（ＢＤセンサーの奥側）に１０．０ｍｍだけ離れた位置に結像するように、集光（導光）する。これにより、ＢＤセンサー１６の受光面上におけるスポット径を大きくし、受光面に付着したごみ等の影響を受けにくくしている。
【００２５】
なお、開口絞り１２、第２のコリメータレンズ１３、第２のシリンドリカルレンズ１４によって、本実施形態に係る光走査装置１００の第２の入射光学系７５ｂが構成される。
また、ＢＤレンズ１５によって、本実施形態に係る光走査装置１００の第２の結像光学系（ＢＤ光学系）８５ｂが構成される。
【００２６】
本実施形態に係る光走査装置１００では、第２の光源１１から出射した光束ＬＢは、開口絞り１２によって主走査方向及び副走査方向双方の光束幅が制限される。そして、開口絞り１２を通過した光束ＬＢは、第２のコリメータレンズ１３によって収束光束に変換され、第２のシリンドリカルレンズ１４によって副走査断面内で、偏向器１０の偏向面１０ｂの近傍において焦線として結像する。
そして、偏向器１０の偏向面１０ｂによって反射偏向された光束ＬＢは、ＢＤレンズ１５によって、ＢＤセンサー１６から偏向器１０とは反対側（ＢＤセンサーの奥側）に１０．０ｍｍだけ離れた位置に結像する。
【００２７】
ＢＤセンサー１６には、ＰＤ（フォトダイオード）センサーが配置されており、ＰＤセンサーを光束が横切るタイミングでＢＤ信号（書き出しタイミング信号）が生成され、ＢＤセンサー１６が出力するＢＤ信号が不図示の制御部に入力されることによって、画像印字用の第１の光源１の書き出しタイミングと、帯電ムラ補正用露光のための第２の光源１１の発光タイミングが決定される。
本実施形態に係る光走査装置１００では、第２のコリメータレンズ１３によって光束を収束光としているため、偏向器１０として小型のポリゴンミラーを用いても、ＢＤ検知用の光束がポリゴンミラー端部でケラれ難い構成にしている。
また、本実施形態に係る光走査装置１００では、ＰＤセンサーの端部がナイフエッジになっておりＢＤタイミングを安定化させているが、ＢＤ検知位置にスリットを配置して、スリットの下流にＰＤセンサーを配置しても同様の効果を得ることができる。
【００２８】
以上の構成により、安価で小型なポリゴンミラーやＢＤレンズを用いても、高精度なＢＤ検知を行うことができる。
【００２９】
本実施形態に係る光走査装置１００では、第１の光源１及び第２の光源１１に用いている半導体レーザーの波長は、共に６８０ｎｍとしている。これは、感光ドラム面の感度が高い領域を使用することにより、レーザー出力を低下させ、長寿命と低電力を両立するためである。
【００３０】
次に、本実施形態に係る光走査装置１００の諸元値を表１に示す。
【表１】
2018176655.tif 000003
【００３１】
本実施形態に係る光走査装置１００では、第２の結像レンズ２０ｂの入射面（Ｒ３面）及び出射面（Ｒ４面）の形状はそれぞれ、第２の結像レンズ２０ｂと光軸との交点を原点として、光軸に対して走査開始側と走査終了側で、光軸をＸ軸、主走査断面内において光軸と直交する方向をＹ軸、副走査断面内で光軸と直交する方向をＺ軸としたとき、以下の式（１）及び（２）で表される。
【００３２】
【数１】
2018176655.tif 000004
ここで、Ｒは曲率半径、Ｋ、Ｂ４、Ｂ６、Ｂ８及びＢ１０は非球面係数である。
【００３３】
本実施形態に係る光走査装置１００では、第２の結像レンズ２０ｂのレンズ面の主走査断面内の形状は、光軸に対して対称に構成している、すなわち、走査開始側と走査終了側とで非球面係数を一致させている。
【００３４】
また、本実施形態に係る光走査装置１００では、第２の結像レンズ２０ｂの入射面及び出射面は共に、副走査断面内の形状が円弧形状である。
さらに、第２の結像レンズ２０ｂの副走査断面内の形状は、光軸に対して走査開始側と走査終了側とで入射面の副走査断面内の曲率１／ｒ’をＹの関数として、レンズの有効領域内において連続的に変化させている。
第２の結像レンズ２０ｂの入射面及び出射面の副走査断面内の形状は、光軸に対して走査開始側と走査終了側とで、光軸をＸ軸、主走査断面内において光軸と直交する方向をＹ軸、副走査断面内で光軸と直交する方向をＺ軸としたとき、以下の式（３）及び（４）で表される。
【００３５】
【数２】
2018176655.tif 000005
ここで、ｒ’は副走査断面内曲率半径、Ｄｊ（ｊ＝２、４、６、８、１０）は曲率変化係数、Ｍｉは子線非球面係数である。
【００３６】
式（１）乃至（４）において、ｙのプラス側（走査開始側）とマイナス側（走査終了側）とで係数が異なる場合には、走査開始側及び走査終了側それぞれの係数に添字ｓ及びｅを付している。
また、副走査断面内の曲率半径とは、主走査断面内の形状（母線）に直交する断面内における曲率半径である。
【００３７】
図２は、従来の画像形成装置の模式図を示している。
図２において、静電潜像担持体（感光ドラム）８１は図中矢印方向に回転する。そして、静電潜像担持体８１は、帯電器８２により帯電され、帯電した静電潜像担持体８１の表面は、静電潜像形成手段である露光装置としての光走査装置８３により露光されて、静電潜像が形成される。
現像器８４は、二成分系現像剤を収容する現像容器８５を有しており、現像剤担持体８６は回転可能な状態で配置されており、且つ、現像剤担持体８６の内部には磁界発生手段として複数のマグネット８７が内包されている。そして、複数のマグネット８７のうちの少なくとも１つは、静電潜像担持体８１に対して対向の位置になるように設置されている。
二成分系現像剤は、マグネット８７の磁界により現像剤担持体８６上に保持され、規制部材８８により、二成分系現像剤の量が規制され、静電潜像担持体８１と対向する現像部に搬送される。現像部においては、マグネット８７の発生する磁界により磁気ブラシが形成される。その後、直流電界に交番電界を重畳してなる現像バイアスを印加することにより、静電潜像はトナー像として可視像化される。
【００３８】
そして、静電潜像担持体８１上に形成されたトナー像は、転写帯電器９１によって記録媒体９２に静電的に転写される。その後、記録媒体９２は、定着器９３に搬送され、ここで加熱及び加圧されることにより、記録媒体９２上にトナー像が定着される。そして、記録媒体９２は、出力画像として画像形成装置外へ排出される。
なお、転写工程後、静電潜像担持体８１上に残留したトナーは、クリーナー９５によって除去される。その後、クリーナー９５によって清掃された静電潜像担持体８１は、光源９６からの光照射によって電気的に初期化され（前露光工程）、画像形成動作が繰り返される。
【００３９】
ここで、帯電器８２による帯電方式として注入帯電方式を採用した場合、導電性の磁性粒子から静電潜像担持体８１の表面に直接電荷を注入しており、放電現象を利用するものではないため、放電生成物が形成されず、放電生成物に起因する画像品質の低下が引き起こされる虞がないというメリットを有する。
しかしながら、注入帯電方式では、静電潜像担持体８１の表面に帯電器８２が直接接触するため、帯電器８２と静電潜像担持体８１の表面との接触状態が一様でない場合には、帯電後の静電潜像担持体８１の表面には「電位ムラ（帯電ムラ）」が生じるという課題が発生する。
光源９６による前露光工程によって静電潜像担持体８１の全表面をランプで露光し、表面の電位を除電することにより、残留電位による帯電ムラは生じ難くなるようにしているが、帯電器８２による接触帯電によって発生する帯電ムラをなくすことはできない。
すなわち、前露光工程があっても帯電ムラの課題は発生する。また、前露光工程における除電ムラや帯電器８２の製造ばらつき、汚れ等によっても帯電ムラは発生する。
【００４０】
そこで、本実施形態に係る光走査装置１００では、上記のような帯電ムラ、具体的には、感光ドラム３０、帯電器及び前露光工程用光源の帯電能力及び除電能力の長手方向の分布による差によって発生する帯電ムラを補正することを目的としている。
【００４１】
具体的には、本実施形態に係る光走査装置１００では、帯電ムラ補正用光源として第２の光源１１を用いて、第２の光源１１から出射した光束ＬＢによって被走査面３０を走査することで感光ドラム３０の表面上の帯電ムラ補正を行っている。
第２の光源１１から射出された光束ＬＢは、第２の入射光学系７５ｂによって偏向器１０の偏向面１０ｂに入射する。そして、偏向器１０の偏向面１０ｂによって反射偏向された光束ＬＢは、第１の結像光学系８５ａによって被走査面３０上に導光されて、略等速に走査する。
【００４２】
なお、帯電ムラ補正のためには、帯電ムラ補正用光束ＬＢの被走査面３０上における主走査方向の光束幅が、画像形成用光束ＬＡによる被走査面３０上における主走査方向のスポット径に対して、１０倍以上大きいことが好ましい。
本実施形態に係る光走査装置１００では、第２のコリメータレンズ１３を通過した光束ＬＢを収束光（非平行光束）になるようにしている。そして、ＢＤセンサー１６上ではほぼ結像させていると共に、被走査面３０上における光束幅が、主走査方向及び副走査方向それぞれにおいて、５．３ｍｍ及び０．３６ｍｍになるように構成されている。
【００４３】
また、本実施形態に係る光走査装置１００では、光束ＬＢの帯電ムラ補正光学系である第２の入射光学系７５ｂ及び第１の結像光学系８５ａによる主走査断面内のピント位置が、軸上近傍では−２３４ｍｍ、最軸外近傍では−２１５ｍｍになるように、第２の光源１１と第２のコリメータレンズ１３との間隔を設定し、被走査面３０上における光束ＬＢの光束幅を広げている。
なおここで、ピント位置については、被走査面３０上を０ｍｍとしており、偏向器から遠い（近い）場合をプラス（マイナス）としている。
【００４４】
すなわち、本実施形態に係る光走査装置１００では、第２の光源１１からの光束ＬＢによって、帯電ムラ補正のために、ＢＤセンサー１６で検知した書き出しタイミングで、不図示の濃度センサー（濃度検出器）による濃度検知の検出結果から算出される補正値に応じて、画像信号とは無関係に被走査面３０を走査している。
なお、上記補正値は、不図示の制御部によって算出され、すなわち、該制御部は、光束ＬＢの光量を濃度センサーの検出結果に応じて変化させるように制御している。
【００４５】
以上のように、本実施形態に係る光走査装置１００では、第２のコリメータレンズ１３を通過した光束ＬＢの収束度と第１のコリメータレンズ３を通過した光束ＬＡの収束度とを互いに異ならせている。換言すると、第１及び第２の入射光学系７５ａ及び８５ａの収束度を互いに異ならせている。
それにより、帯電ムラ補正用光束ＬＢの被走査面３０上における主走査方向の光束幅が、画像形成用光束ＬＡによる被走査面３０上における主走査方向のスポット径より大きくなるように構成することによって、被走査面３０上における帯電ムラを補正している。
また、本実施形態に係る光走査装置１００では、第２の光源１１から射出された光束を用いることによって、被走査面３０上における帯電ムラを補正すると共に、書き出し位置（書き出しタイミング）検知（ＢＤ検出）も行うことができる。
【００４６】
図３（ａ）及び（ｂ）は、本実施形態に係る光走査装置１００における帯電ムラ補正の様子を示している。
また、図３（ｃ）は、本実施形態に係る光走査装置１００における、第２の光源１１による露光分布と、それに起因する感光ドラム３０の表面電位分布を示している。
【００４７】
ここで、前露光工程とは、画像形成動作を行う前に、感光ドラム３０を不図示の光源が光照射することによって、表面を除電する工程のことである。また、帯電工程とは、感光ドラム３０を不図示の帯電器によって帯電する工程である。また、画像露光工程とは、静電潜像を生成するために、静電潜像形成手段である露光装置としての光走査装置１００によって感光ドラム３０の表面を露光する工程である。
【００４８】
画像露光工程における感光ドラム３０の表面電位と形成される画像の濃度とは比例関係にあるため、画像形成用光束ＬＡの光量を一定にして、画像の長手方向の濃度を一定にするためには、軸上と軸外とで感光ドラム３０の表面電位を揃える必要がある。
本実施形態に係る光走査装置１００では、画像形成用光源である第１の光源１から出射した光束ＬＡによって感光ドラム３０上に印字された濃度検知パターンの出力結果に応じて帯電ムラ補正を行っている。
具体的には、画像形成装置の起動時に第１の光源１を一定光量で発光させ、軸上近傍と最軸外近傍に配置されている不図示の濃度センサーによって、濃度を測定している。
【００４９】
図３（ａ）に示されているように、例えば測定された濃度が軸上に対して最軸外の方が濃い場合（帯電工程において最軸外における表面電位が軸上における表面電位より高くなった場合）、軸上より最軸外における表面の帯電量が多い。
そのため、第２の光源１１によって一定光量で感光ドラム３０の表面を露光した場合には、第１の光源１によって形成される画像の端部近傍の濃度は濃いままとなる。
そこで、本実施形態に係る光走査装置１００では、図３（ｃ）に示すように、第２の光源１１の発光強度を時間的に変えることによって、軸上から最軸外に向かうにつれて強く発光させている。すなわち、感光ドラム３０の表面上における光束ＬＢの光量は、主走査方向における像高毎に異なっている。
これにより、第２の光源１１による露光に起因する感光ドラム３０の表面電位は、図３（ｃ）に示されているように、軸上から最軸外に向かうにつれて小さくなる。
従って、帯電工程において感光ドラム３０の最軸外における表面電位が軸上における表面電位より高くなった場合、画像露光工程の際に、第２の光源１１によってこのような露光を行うと、図３（ｂ）に示されているように、感光ドラム３０の表面電位は、軸上と最軸外とで互いに一致するようになる。
従って、本実施形態に係る光走査装置１００では、感光ドラム３０の表面の長手方向の帯電ムラを補正することができ、形成される画像の長手方向の濃度を均一にすることができる。
【００５０】
本実施形態に係る光走査装置１００では、画像形成用光源である第１の光源１とは別の帯電ムラ補正用光源としての第２の光源１１を設けて、帯電ムラを補正している。もし、画像形成用光源を用いて帯電ムラ補正を行った場合、画像形成用レーザーの光量使用範囲が広がってしまうため、高価なレーザーを用いる必要がある。また、光源の寿命が短くなるため、好ましくない。
【００５１】
以上のように、本実施形態に係る光走査装置１００では、帯電工程における感光ドラム３０の表面の長手方向の帯電ムラを補正するために、画像形成用光源である第１の光源１とは別の帯電ムラ補正用光源としての第２の光源１１からの光束ＬＢで感光ドラム３０の表面を走査して、長手方向の濃度ムラを補正することができる。
また、第２の光源１１を帯電ムラ補正用光源としてだけではなく、ＢＤ検知用光源としても用いており、画像形成用光源である第１の光源１の書き出し位置を検知しているので、ポリゴンミラーの小型化と結像レンズの小型化とを両立できるというメリットも有する。
【００５２】
［第二実施形態］
図４（ａ）及び（ｂ）は、第二実施形態に係る光走査装置２００の主走査断面図を示している。なお、図４（ａ）は、第１の光源１からの光束ＬＡによって被走査面３０が走査される様子を示している。また、図４（ｂ）は、第２の光源１１からの光束ＬＢによって被走査面３０が走査される様子を示している。
また、第二実施形態に係る光走査装置２００において、第一実施形態に係る光走査装置１００と同一の部材については、同一の符番を付して、説明を省略する場合がある。
【００５３】
第二実施形態に係る光走査装置２００が第一実施形態に係る光走査装置１００と異なる点は、第２の光源１１、第２の入射光学系７５ｂ及び第２の結像光学系８５ｂの構成である。
【００５４】
本実施形態に係る光走査装置２００の諸元値を表２に示す。
【表２】
2018176655.tif 000006
【００５５】
本実施形態に係る光走査装置２００において、第２の光源１１は、単一の発光点（発光部）を有する半導体レーザー（シングルビーム光源）より成っている。第２の光源１１は、感光ドラム３０の表面の主走査方向（長手方向）の帯電ムラを補正すると共に、第１の光源１による画像の書き出しタイミングを検出するためにも使用される。
本実施形態に係る光走査装置２００に設けられている半導体レーザーである第２の光源１１の波長は７９０ｎｍとしており、第１の光源１とは異なる波長となっている。これは、赤外用の安価なレーザーを用いることによりコストダウンを図るためである。
【００５６】
また、図４（ｂ）に示されているように、本実施形態に係る光走査装置２００においても、帯電ムラ補正用光源である第２の光源１１からの光束ＬＢによって感光ドラム３０の表面を走査することで感光ドラム３０の表面の帯電ムラ補正を行っている。
第２の光源１１から射出された光束ＬＢは、第２の入射光学系７５ｂによって偏向器１０の偏向面１０ｂに入射する。そして、偏向器１０の偏向面１０ｂによって反射偏向された光束ＬＢは、第１の結像光学系８５ａによって被走査面３０上に導光されて、略等速に走査する。
【００５７】
なお、帯電ムラ補正のためには、帯電ムラ補正用光束ＬＢの被走査面３０上における主走査方向の光束幅が、画像形成用光束ＬＡによる被走査面３０上における主走査方向のスポット径に対して、１０倍以上大きいことが好ましい。
本実施形態に係る光走査装置２００では、第２のコリメータレンズ１３を通過した光束ＬＢを発散光（非平行光束）になるようにしており、ＢＤセンサー１６上ではほぼ結像させていると共に、被走査面３０上における光束幅が、主走査方向及び副走査方向それぞれにおいて、４．９ｍｍ及び０．５６ｍｍになるように構成されている。
【００５８】
本実施形態に係る光走査装置２００においても、画像印字用光源である第１の光源１とは異なる第２の光源１１によってＢＤ検知を行っている。これにより、偏向器１０の小型化及び結像レンズの小径化を行うことができるメリットを有する。
第２の光源１１から出射した光束ＬＢは、開口絞り１２によって主走査方向及び副走査方向の光束幅が制限され、第２のコリメータレンズ１３によって発散光に変換される。
本実施形態に係る光走査装置２００では、光束ＬＢは、軸上光束が被走査面３０から偏向器１０の反対側に３２８ｍｍだけ遠ざかる位置近傍に結像するような発散度に設定されている。
これにより、第一実施形態に係る光走査装置１００と比べて、結像レンズ上における光束幅を広げているため、結像レンズ上に付着したごみ等による被走査面３０上での局所的な光量低下の影響を軽減することができる。
【００５９】
第２のシリンドリカルレンズ１４は、第２のコリメータレンズ１３を通過した光束ＬＢを偏向面１０ｂ近傍に焦線として結像させている。
ＢＤレンズ１５は、偏向器１０によって偏向された光束ＬＢをＢＤセンサー１６から偏向器１０側（ＢＤセンサーの手前側）に１０．０ｍｍだけ離れた位置に結像させている。これにより、ＢＤセンサー１６の受光面上におけるスポット径を大きくすることができ、ＢＤセンサー１６の受光面上に付着したごみ等の影響を受けにくくしている。
また、ＢＤセンサー１６には、ＰＤセンサーが配置されている。ＰＤセンサーを光束ＬＢが横切るタイミングでＢＤ信号（書き出しタイミング信号）が生成され、画像印字用光源である第１の光源１の書き出しタイミングと、帯電ムラ補正用光源である第２の光源１１の発光タイミングを決定している。
なお、本実施形態では、ＰＤセンサーの端部がナイフエッジになっており、ＢＤタイミングを安定化させているが、ＢＤ検知位置にスリットを配置して、スリットの下流にＰＤセンサーを配置しても同様の効果を得ることができる。
以上の構成により、安価で小型なポリゴンミラーや結像レンズを用いても、高精度なＢＤ検知を行うことができる。
【００６０】
図５（ａ）及び（ｂ）は、本実施形態に係る光走査装置２００における帯電ムラ補正の様子を示している。
図５（ａ）及び（ｂ）に示されているように、ここでは、前露光工程において、軸上と最軸外とで感光ドラム３０の表面電位に差が生じている、すなわち除電ムラが生じている。
具体的には、除電ムラによって、軸上における表面電位が最軸外における表面電位より低くなっている。
このような場合、帯電工程において感光ドラム３０の表面の長手方向に一様な帯電を行うと、感光ドラム３０の表面の長手方向に帯電ムラが残ったままとなり、この状態で第２の光源１１によって一定光量で感光ドラム３０の表面を露光した場合には、第１の光源１によって形成される画像の端部近傍の濃度は中央部近傍の濃度より濃くなってしまう。
【００６１】
そこで、本実施形態に係る光走査装置２００においても、画像露光工程の際に、第２の光源１１の発光強度を時間的に変えて露光することによって、図５（ｂ）に示されているように、感光ドラム３０の表面電位を軸上と最軸外とで互いに一致するようにしている。
具体的には、測定された濃度が軸上に対して最軸外の方が濃い場合（前露光工程において最軸外における表面電位が軸上における表面電位より高くなった場合）、軸上より最軸外における表面の帯電量が多い。そこで、第２の光源１１の発光強度を軸上から最軸外に向かうにつれて強く発光させることによって、帯電ムラを補正し、画像濃度が一定になるようにしている。
【００６２】
従って、本実施形態に係る光走査装置２００においても、感光ドラム３０の表面の長手方向の電位ムラを補正することができ、形成される画像の長手方向の濃度を一定にすることができる。
また、本実施形態では、前露光工程での除電ムラも補正すると共に、第一実施形態に係る光走査装置１００と比べて、結像レンズのレンズ面上のゴミ等の影響を受けにくい、安価で高精細な光走査装置を提供することができる。
【００６３】
［第三実施形態］
図６は、第三実施形態に係る光走査装置３００の主走査断面図を示している。
なお、第三実施形態に係る光走査装置３００において、第一実施形態に係る光走査装置１００と同一の部材については、同一の符番を付して、説明を省略する場合がある。
【００６４】
第三実施形態に係る光走査装置３００が第一実施形態に係る光走査装置１００と異なる点は、第２の光源１１、第２の入射光学系７５ｂ及び第２の結像光学系８５ｂの構成である。
【００６５】
本実施形態に係る光走査装置３００の諸元値を表３に示す。
【表３】
2018176655.tif 000007
【００６６】
本実施形態に係る光走査装置３００においても、画像印字用光源である第１の光源１とは異なる第２の光源１１によってＢＤ検知を行っている。これにより、偏向器１０の小型化及び結像レンズの小径化を行うことができるメリットを有する。
第２の光源１１から出射した光束ＬＢは、開口絞り１２によって主走査方向及び副走査方向の光束幅が制限される。そして、開口絞り１２を通過した光束ＬＢは、アナモフィックコリメータレンズ１３によって、主走査方向については発散光（非平行光束）に、副走査方向については偏向面１０ｂの近傍で焦線に変換される。
【００６７】
本実施形態に係る光走査装置３００では、光束ＬＢは、軸上光束が被走査面３０から偏向器１０の反対側に４６１ｍｍだけ遠ざかる位置近傍に結像するような、すなわち被走査面３０上では略平行になるような発散度に設定されている。
これにより、第一実施形態に係る光走査装置１００と比べて、結像レンズ上における光束幅を広げているため、結像レンズ上に付着したごみ等による被走査面３０上での局所的な光量低下の影響を軽減することができる。
【００６８】
ＢＤレンズ１５は、偏向器１０によって偏向された光束ＬＢをＢＤセンサー１６から偏向器１０側（ＢＤセンサーの手前側）に１０．０ｍｍだけ離れた位置に結像させている。これにより、ＢＤセンサー１６の受光面上におけるスポット径を大きくすることができ、ＢＤセンサー１６の受光面上に付着したごみ等の影響を受けにくくしている。
また、ＢＤセンサー１６には、ＰＤセンサーが配置されている。ＰＤセンサーを光束ＬＢが横切るタイミングでＢＤ信号（書き出しタイミング信号）が生成され、画像印字用光源である第１の光源１の書き出しタイミングと、帯電ムラ補正用光源である第２の光源１１の発光タイミングを決定している。
なお、本実施形態では、ＰＤセンサーの端部がナイフエッジになっており、ＢＤタイミングを安定化させているが、ＢＤ検知位置にスリットを配置して、スリットの下流にＰＤセンサーを配置しても同様の効果を得ることができる。
以上の構成により、コリメータレンズ及びシリンドリカルレンズを一体化させたアナモフィックコリメータレンズを用い、且つ、安価で小型なポリゴンミラーや結像レンズを用いても、高精度なＢＤ検知を行うことができる。
【００６９】
従って、本実施形態では、より安価な帯電ムラ補正用光学系を用いて、結像レンズのレンズ面上のゴミ等の影響を受けにくい、安価で高精細な光走査装置を提供することができる。
【００７０】
ここで、主走査断面内における、第１の入射光学系７５ａの後側主点から第１の光源１の発光点までの光路に沿った距離をＳｋ１（ｍｍ）、第２の入射光学系７５ｂの後側主点から第２の光源１１の発光点までの光路に沿った距離をＳｋ２（ｍｍ）とする。そして、第１及び第２の入射光学系７５ａ及び７５ｂそれぞれの主走査断面内の焦点距離をｆ１及びｆ２（ｍｍ）としたとき、第１及び第２の入射光学系７５ａ及び７５ｂそれぞれの収束度ｍ１及びｍ２は、以下の式（５ａ）及び（５ｂ）によって定義される。
ｍ１＝１−Ｓｋ１／ｆ１  ・・・・（５ａ）
ｍ２＝１−Ｓｋ２／ｆ２  ・・・・（５ｂ）
なお、ｍ１＝０、ｍ１＜０、及び、ｍ１＞０、それぞれの場合、主走査方向において平行光束、収束光束及び発散光束となる。ｍ２についても同様である。
【００７１】
表４は、第１乃至第３実施形態それぞれにおける、第１及び第２の入射光学系７５ａ及び７５ｂの収束度ｍ１及びｍ２の値を示している。
【表４】
2018176655.tif 000008
【００７２】
表４に示されているように、第１の入射光学系７５ａの収束度ｍ１は、第１乃至第３実施形態のいずれにおいても０であり、すなわち、第１の入射光学系７５ａを通過した光束ＬＡは、主走査方向において平行光束である。
一方で、第２の入射光学系７５ｂの収束度ｍ２は、第１乃至第３実施形態のいずれにおいても０ではなく、具体的には、第１実施形態では負であり、第２及び第３実施形態では正である。すなわち、第２の入射光学系７５ｂを通過した光束ＬＢは、主走査方向において、第一実施形態では収束光束であり、第二及び第三実施形態では発散光束である。
また、第１乃至第３実施形態のいずれにおいても、第１及び第２の入射光学系７５ａ及び７５ｂの収束度は、互いに異なっている。
【００７３】
また、第一乃至第三実施形態では、第１の光源１からの光束ＬＡ及び第２の光源１１からの光束ＬＢはそれぞれ、偏向器１０の互いに異なる偏向面１０ａ及び１０ｂに入射していたが、これに限らず、同一の偏向面に入射させても構わない。
【００７４】
［モノクロ画像形成装置］
図８は、第一乃至第三実施形態のいずれかに係る光走査ユニット（光走査装置）４００が搭載されたモノクロ画像形成装置１０４の要部副走査断面図を示している。
【００７５】
モノクロ画像形成装置１０４には、パーソナルコンピュータ等の外部機器１１７から出力したコードデータＤｃが入力される。このコードデータＤｃは、画像形成装置１０４内のプリンタコントローラ１１１によって、画像データ（ドットデータ）に変換される。この画像データは、第一乃至第三実施形態のいずれかに係る光走査ユニット４００に入力される。そして、この光走査ユニット４００からは、画像データに応じて変調された光ビーム１０３が出射され、この光ビーム１０３によって感光ドラム１０１の感光面が主走査方向に走査される。
【００７６】
静電潜像担持体（感光体）たる感光ドラム１０１は、モーター１１５によって時計廻りに回転させられる。そして、この回転に伴って、感光ドラム１０１の感光面が光ビーム１０３に対して、主走査方向と直交する副走査方向に移動する。感光ドラム１０１の上方には、感光ドラム１０１の表面を一様に帯電せしめる帯電ローラ１０２が表面に当接するように設けられている。そして、帯電ローラ１０２によって帯電された感光ドラム１０１の表面に、光走査ユニット４００によって走査される光ビーム１０３が照射されるようになっている。
【００７７】
先に説明したように、光ビーム１０３は、画像データに基づいて変調されており、この光ビーム１０３を照射することによって、感光ドラム１０１の表面に静電潜像を形成せしめる。この静電潜像は、光ビーム１０３の照射位置よりもさらに感光ドラム１０１の回転方向の下流側で感光ドラム１０１に当接するように配設された現像器１０７によってトナー像として現像される。
【００７８】
現像器１０７によって現像されたトナー像は、感光ドラム１０１の下方で、感光ドラム１０１に対向するように配設された転写ローラ（転写器）１０８によって被転写材たる用紙１１２上に転写される。用紙１１２は感光ドラム１０１の前方（図８において右側）の用紙カセット１０９内に収納されているが、手差しでも給紙が可能である。用紙カセット１０９の端部には、給紙ローラ１１０が配設されており、用紙カセット１０９内の用紙１１２を搬送路へ送り込む。
【００７９】
以上のようにして、未定着トナー像が転写された用紙１１２は、さらに感光ドラム１０１後方（図８において左側）の定着器１５０へと搬送される。定着器１５０は、内部に定着ヒータ（不図示）を有する定着ローラ１１３と、この定着ローラ１１３に圧接するように配設された加圧ローラ１１４とで構成されている。転写部から搬送されてきた用紙１１２を定着ローラ１１３と加圧ローラ１１４の圧接部にて加圧しながら加熱することにより用紙１１２上の未定着トナー像は定着せしめられる。さらに定着器１５０の後方には排紙ローラ１１６が配設されており、定着された用紙１１２がモノクロ画像形成装置１０４の外部に排出せしめられる。
【００８０】
なお、プリンタコントローラ１１１は、データの変換だけでなく、モーター１１５を始めモノクロ画像形成装置１０４内の各部や、光走査ユニット４００内のポリゴンモーターなどの制御も行う。
【００８１】
［カラー画像形成装置］
図９は、第一乃至第三実施形態のいずれかに係る光走査装置２５乃至２８が搭載されたカラー画像形成装置６０の要部副走査断面図を示している。
【００８２】
画像形成装置６０は、４つの光走査装置２５、２６、２７及び２８によって、像担持体である各々の感光ドラム面上に画像情報を記録するタンデムタイプのカラー画像形成装置である。
画像形成装置６０は、第一乃至第三実施形態のいずれかに係る光走査装置２５、２６、２７、２８、像担持体としての感光ドラム３５、３６、３７、３８、現像器３１、３２、３３、３４、搬送ベルト５１、プリンタコントローラ５３及び定着器５４を備えている。
【００８３】
画像形成装置６０には、パーソナルコンピュータ等の外部機器５２からＲ（レッド）、Ｇ（グリーン）、Ｂ（ブルー）の各色信号が入力される。これらの色信号は、画像形成装置６０内のプリンタコントローラ６３によって、Ｃ（シアン），Ｍ（マゼンタ），Ｙ（イエロー）、Ｋ（ブラック）の各画像データ（ドットデータ）に変換される。これらの画像データは、光走査装置２５乃至２８に入力される。そして、光走査装置２５、２６、２７、２８からはそれぞれ、各画像データに応じて変調された光ビーム４１、４２、４３、４４が射出され、これらの光ビーム４１、４２、４３、４４によって、感光ドラム３５、３６、３７、３８の感光面が主走査方向に走査される。
【００８４】
そして、光走査装置２５、２６、２７、２８それぞれにより各々の画像データに基づいて射出された光ビーム４１、４２、４３、４４によって各々対応する感光ドラム３５、３６、３７、３８の感光面上に各色の潜像が形成される。その後、各色の潜像が現像器３１、３２、３３、３４によって各色トナー像に現像され、現像された各色トナー像が記録材に転写器によって多重転写され、転写されたトナー像が定着器５４によって定着され、１枚のフルカラー画像が形成される。
【００８５】
従って、画像形成装置６０では、光走査装置４つの光走査装置２５、２６、２７、２８がそれぞれＣ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）、Ｋ（ブラック）の各色に対応している感光ドラム３５、３６、３７、３８の感光面上に画像信号（画像情報）を記録し、カラー画像を高速に印字することができる。
【００８６】
なお、外部機器５２としては、例えばＣＣＤセンサーを備えたカラー画像読取装置が用いられても良い。この場合には、このカラー画像読取装置と、カラー画像形成装置６０とで、カラーデジタル複写機が構成される。
【００８７】
また、本実施形態に係る画像形成装置の記録密度は、特に限定されない。しかしながら、記録密度が高くなればなるほど、高画質が求められることを考えると、１２００ｄｐｉ以上の画像形成装置において、第一乃至第三実施形態のいずれかに係る光走査装置を搭載した場合に、本発明の効果がより発揮される。
【符号の説明】
【００８８】
１  第１の光源
１０  偏向器
１１  第２の光源
３０  被走査面（第１の被走査面）
７５ａ  第１の入射光学系
７５ｂ  第２の入射光学系
８５ａ  第１の結像光学系
ＬＡ  第１の光束
ＬＢ  第２の光束
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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