(57)【要約】【課題】画像表示装置の反射防止膜の成膜は、価格面から最近はウェットプロセスの反射防止膜が主流であるが、曲面を有する基材では、重力によるコーティング材のたれが発生するため、浸漬塗布法等で成膜後、回転により余剰なコーティング材を除去する必要がある。回転工程があると回転制御のため装置が複雑で高価になる。また、回転中心点で上下左右が対称な形状の製品にしか成膜ができない。【解決手段】数１００ｎｍの膜厚の反射防止膜に係るコーティング膜を、基材に浸漬塗布法によって成膜した後、余剰なコーティング材を風圧によって均一化する際、浸漬前に基材を加熱することで、溶剤を基材側から揮発、硬化させ、風圧によって飛びにくくするとともに、たれの発生原因となる硬化していないコーティング材のみを除去する。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被コーティング体である基材を加熱する工程と、
加熱した前記基材をコーティング材に浸漬する工程と、
浸漬により前記コーティング材が表面に塗布された前記基材を、前記コーティング材から引き上げる工程と、
引き上げられた前記基材の表面に塗布された前記コーティング材に風圧を与える工程と、を含む膜コーティング方法。
【請求項２】
前記基材を加熱する工程における加熱温度は、前記コーティング材の溶剤成分に合わせて選定した４０℃〜９０℃の間の値に設定されることを特徴とする請求項１に記載の膜コーティング方法。
【請求項３】
被コーティング体である基材を加熱するための加熱装置と、
前記基材を予め定められた温度範囲で加熱するため、前記加熱装置を制御するための温度制御装置と、
コーティング材を前記基材の表面に浸漬するために、前記コーティング材を貯留するための貯留槽を有する浸漬用タンクと、
前記コーティング材が表面に塗布された前記基材の表面に風圧を与えるため、前記浸漬用タンクに設けられた送風機と、
この送風機の設置位置で前記コーティング材が塗布された前記基材の表面に前記送風機による風圧を与えるため、前記基材を前記貯留槽から引き上げるためのクレーンと、
を備えたことを特徴とする膜コーティング装置。
【請求項４】
前記予め定められた温度範囲は４０℃〜９０℃であり、前記基材を加熱するための加熱装置の温度は前記コーティング材の溶剤成分に合わせて選定した前記温度範囲内の適正値に設定されることを特徴とする請求項３に記載の膜コーティング装置。
【請求項５】
前記送風機による風圧の値を前記コーティング材の表面硬化時間によって定めるとともに、当該表面硬化時間が短いほど強い風圧を与えることを特徴とする請求項３または請求項４に記載の膜コーティング装置。
【請求項６】
前記送風機を移動可能に設定することにより、前記基材表面に垂直な方向から、前記送風機からの風が当たるようにしたことを特徴とする請求項３から５のいずれか１項に記載の膜コーティング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、反射防止膜に係る膜のコーティング方法及び装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、あるいは液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置は、外光の反射によるコントラスト低下、あるいは像の映り込みを防止し、視認性を向上させるために最表面に反射防止膜を成膜している。この反射防止膜の成膜手法には、真空蒸着、あるいはスパッタ法のようなドライプロセスと、ロールコート法、浸漬スピン塗布法、あるいはスプレースピン塗布法のようなウェットプロセスがある。近年、価格面の要求からドライプロセスに代わるウェットプロセスの反射防止膜が主流となっている。
上記反射防止膜は、一般に反射率の低減を図るために基材に成膜される。反射率を低減するためには反射光の干渉を利用するのが一般的であるが、その際に数１００ｎｍ程度の均一膜を成膜しなくてはならない。
【０００３】
近年では、意匠性の観点から、曲面、あるいは球面をもつ成膜対象（以下単に対象と呼ぶ）に反射防止膜を成膜する要望が強まっている。平面以外の形状を持つ対象に反射防止膜を成膜する方法としては、浸漬後に回転を加える手法がある（例えば特許文献１参照）。
【０００４】
なお、基材、あるいはトップコート層に対する密着性、耐水性に優れたプライマー層を作成するため、バーコーターを用いて塗工し、熱風乾燥器を用いて乾燥させ、基材表面にプライマー層を形成するものがある（例えば特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第５９３１３０６号公報
【特許文献２】特開２０１２−９２３１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
基材（表面にプライマー層を形成されたものを含む）のコーティング材である上述の反射防止膜の成膜方法には、一般的に用いられるロールコート法、上記特許文献１に挙げたようなコーティング材を塗布後に対象を回転させる方法がある。
【０００７】
しかし、上記ロールコート法では、曲面を有する対象に成膜することは、ロールの構造上、難しい。また、コーティング材を塗布後に回転させる方法を用いた場合には、回転の制御が必要となり、設備コスト、あるいは設備の複雑化が課題であった。また、回転中心、あるいは回転軸を固定するためのホルダーが必要となる。このため、製品サイズ毎にホルダーの変更が必要になる、塗布の対象が中心点で対称な曲面を持っていない場合には均一な膜が得られない、などの課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この発明に係る膜コーティング方法は、
被コーティング体である基材を加熱する工程と、
加熱した前記基材をコーティング材に浸漬する工程と、
浸漬により前記コーティング材が表面に塗布された前記基材を、前記コーティング材から引き上げる工程と、
引き上げられた前記基材の表面に塗布された前記コーティング材に風圧を与える工程と、を含むものである。
【０００９】
この発明に係る膜コーティング装置は、
被コーティング体である基材を加熱するための加熱装置と、
前記基材を予め定められた温度範囲で加熱するため、前記加熱装置を制御するための温度制御装置と、
前記コーティング材を前記基材の表面に浸漬するために、当該コーティング材を貯留するための貯留槽を有する浸漬用タンクと、
前記コーティング材が表面に塗布された前記基材の表面に風圧を与えるため、前記浸漬用タンクに設けられた送風機と、
この送風機の設置位置で前記コーティング材が塗布された前記基材の表面に前記送風機による風圧を与えるため、前記基材を前記貯留槽から引き上げるためのクレーンと、
を備えたものである。
【発明の効果】
【００１０】
この発明によれば、前加熱工程と、風圧による余分なコーティング材の除去工程とを設けることで、塗布の対象物を回転させる際の回転中心点に対して、対象物の外形が点対称形状の曲面を有する場合だけでなく、対象物の外形が円柱側面であるような、軸対称形状の外形曲面を持つ対象物を回転させる場合も、回転機構を用いることなく、均一性（塗布厚が均一であること）の高い薄膜を得ることができる、といった従来にない顕著な効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施の形態１による膜コーティング装置を示す断面図である。
【図２】本発明の実施の形態１による送風機を示す上面図である。
【図３】本発明の実施の形態２による赤外線ヒーターを示す断面図である。
【図４】本発明の実施の形態３による浸漬タンクを示す側面図である。
【図５】本発明の実施の形態４による送風機を示す斜体図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
実施の形態１.
実施の形態１の膜コーティング装置１００の一例について、図１を用いて説明する。図１において、この実施形態の好ましい膜コーティング装置は、３つの主要構成品、すなわち、基材へコーティング材を塗布する処理の前処理用の前乾燥炉１、コーティング材を貯留するためのコーティング材溶（以下、貯留槽と呼ぶ）を有する浸漬用タンク２、余剰なコーティング材、あるいは発生したコーティング材のたれを除去するための送風機３、および、それぞれの構成品を結ぶレール４及びオーバーヘッドコンベア５で構成された、１つまたは複数の塗布装置５０を備える。ここで、オーバーヘッドコンベア５は、レール上の移動が可能であるパワーアンドフリーコンベアまたはチェーンコンベア、あるいはその両方を使用してもよい。
また、基材に塗布したコーティング材の乾燥時間を制御するため、これら各構成品、または膜コーティング装置１００の全体について、温度及び大気を制御できるような環境で使用することが、より好ましい。
【００１３】
また、この膜コーティング装置には、装置全体を適切な温度、あるいはコーティング材を適切な粘度に保つために、各構成品間及び構成品内に、これらの物理特性値の追跡システムを設けることができる。すなわち、各構成品間及び構成品内にセンサを設け、このセンサにより、乾燥炉内の温度、基材の温度または形状、コーティング液の粘度または温度等の必要な情報を取得して制御することにより、適切な温度または粘度に保つようにする
。また、送風機の風量または方向を変えることができるよう、風量、あるいはその方向を変える制御機器を含ませることもできる。
【００１４】
次に、この実施の形態１の膜コーティング装置１００の操作方法について説明する。
まず、ハンガー２４を使用して基材６をオーバーヘッドコンベア５に取り付ける。ここで、ハンガー２４として、チェーン式のハンガーを使用してもよいが、後のプロセスで基材に風圧をかけるため、揺れの防止を踏まえ、固定可能なハンガーの方が好ましい。
【００１５】
基材６がオーバーヘッドコンベア５により、前乾燥炉１を通過する。前乾燥炉１の温度の設定範囲は、４０℃〜９０℃の間とする。温度範囲をこのように設定する理由は、４０℃より低い温度にした場合には、溶剤が蒸発せず、後の工程でコーティング材の一次硬化（ここで、一次硬化とは、コーティング材に含まれる溶剤成分が揮発し、コーティング材の流動性が低くなった状態を指す）が起きないことがあり、また９０℃以上とすると溶剤の蒸発が早すぎて表面が粗くなる結果を生ずることがあるからである。
【００１６】
なお、４０℃〜９０℃の間で設定する適正温度は、コーティング材の溶剤成分に合わせて選定する。先に述べた前乾燥炉１の炉内長は、基材の昇温時間を考え、目標の温度に達するのに適正な距離を実現できるように設定する。なお、材質に合わせて基材を移動する速度を設定するようにすることが、なお好ましい。炉内長が長すぎた場合には、温度を上げる必要のある体積が増加し、それに伴いガスの使用量が増加するため、ランニングコストが高くなる。
【００１７】
また、前乾燥炉１では、基材を昇温することができれば、その構成は問わない。例えば、入口と出口以外の側面部に断熱材２２を設け、下部の温風排出口２３より温風を供給する構成でもよい。この場合、入口部と出口部は熱が逃げやすいため、エアーカーテンを設けた方が好ましい。さらに、前乾燥炉１を山型の形状とし（図示せず）、熱が逃げにくい構造にすると、より好ましい。熱源は、通常使用されるものでよく、例えば、ＬＰＧ、あるいはＬＮＧ等のガスを燃焼させ、得られた温風で炉内を昇温してもよい。
【００１８】
前乾燥炉１で基材６を昇温させた後、昇降式レール７上で停止させ、昇降式レール７により、この基材６を浸漬用タンクのコーティング材の貯留位置まで下降させて、浸漬する。この昇降式レール７は、他レールとの切り離しが可能な構造を有し、浸漬用タンクの上方位置でクレーン８により上部を固定して、クレーン８から吊った構造とする。
【００１９】
この場合において、昇降式レール上方位置に設置したクレーンが、昇降式レールに接続したチェーンを巻き取る、又は送り出すことで、昇降式レールが上下する。昇降式レールには、急激な負荷がかかった場合に、落下防止のため、昇降式レールの移動を停止する構造を有した安全装置９を、クレーンとは別に取り付けてもよい。
【００２０】
浸漬用タンク２は、長期間連続的に使用する場合には、ポンプ付きのパイプを接続し、貯留しているコーティング材を循環させるようにした方がよい。コーティング材を循環させない場合、浸漬用タンクのコーティング材の貯留表面より溶剤が揮発し、貯留表面でコーティング材の硬化を生起することがある。
【００２１】
また、本実施の形態では、昇温させた基材を浸漬させるため、通常より溶剤の揮発が早い。そのため、コーティング材を循環させる機構を持たせるとともに、温度と粘度の管理が必要になる。管理の方法は作業者による計測でもよいし、貯留槽に温度計及び粘度計を設けてもよい。温度と粘度の管理を行う際、コーティング材の冷却と溶剤の追加を行うようにすることがより好ましい。
【００２２】
コーティング材１０は、反射防止用の屈折率１．２６〜１．４０までの低屈折率材料を使用する。また、コーティング材１０は複層させることにより、反射率を、より低減させたい場合または耐擦傷性を向上させたい場合において、帯電防止性または防汚性が必要な場合には、用途に合わせ、高屈折率層、ハードコート層、帯電防止層、あるいは防汚層を、本実施の形態で説明した装置を用いてコーティングすることも可能である。
このコーティングの膜厚は、基材の昇温温度と引上げ速度、コーティング材の粘度、表面張力、コーティング後の風圧により制御する。
【００２３】
以上において、基材を浸漬させる速度は、１〜１００ｍｍ／ｓｅｃとする。浸漬している時間が長いほど基材表面のコーティング材料の一次硬化が進むため、基材の下部と上部が浸漬される時間の違いをなくすために、基材を浸漬させる速度は５０ｍｍ／ｓｅｃ以上が、より好ましい。また浸漬時間は、必要な膜厚に合わせて選定する。浸漬後の引上げ速度は、通常、速い方が膜厚は厚くなりやすく、遅いほど薄くなる。
【００２４】
また、反射防止膜は光の干渉を利用するため、乾燥後のコーティング材の膜厚は、通常、数１００ｎｍとなるように成膜をする必要があるが、コーティング材においては、通常、固形成分比率が１〜１０％程度であるため、浸漬時の膜厚が１〜１０μｍとなるよう、膜厚の制御が必要となる。
【００２５】
また、基材の引き上げ速度は、一般的には１〜１００ｍｍ／ｓｅｃで行うが、本実施の形態では、風圧によってコーティングの膜厚を制御するため、このコーティングの膜厚は一般の場合の膜厚に比較して多少厚くても支障はない。そのため、基材へのコーティングの生産効率が高くなるように、より高速での引上げが好ましい。
【００２６】
コーティングを施した基材の浸漬用タンク２からの引上げ後、コーティングした塗膜が表面から硬化する前に、送風機３から発生させた風の風圧により、余剰なコーティング材、あるいは重力によるたれが発生したコーティング材のたれを除去する。従来の方法では、表面から硬化反応が進むため、表面に風圧をかけた場合、塗膜が薄くなり、上記の膜厚を確保するためには、複数回の浸漬が必要であった。
【００２７】
しかし、本実施の形態では、基材６を前乾燥炉１で加熱後に浸漬することで、基材側より硬化が進展するため、風圧により除去される膜を最小限に抑え、一度の浸漬で必要な膜厚を確保することができる。適切な風圧の値は、コーティング材の表面硬化時間によって選定をする。この場合、表面の硬化時間が短いほど、風圧を強くし、発生するたれ等が除去できるようにしなくてはならない。
【００２８】
次に、送風機の風の排出口について、図２を用いて説明する。送風機からの風の排出口は、基本的にはどのような形状でも可能であるが、図２（ａ）に示すように、複数の排出口１１を設けると、隣り合う排出口から出る風が互いに影響しあい、風圧の低下と乱流を引き起こしやすいため、好ましくは、図２（ｂ）に示すように、一体型排出口１２が好ましい。
【００２９】
基材に対して風圧を与える風の向きの角度は、原則、どのような角度でもよいが、基材表面と垂直な方向すなわち基材表面の法線方向、もしくは、除去したコーティング材が、浸漬用タンクに戻るように基材の上方側から風圧をかける（風を当てる）ようにすることが、コーティング材の飛散防止にもなるため、より好ましい。
【００３０】
風圧によりコーティング材の均一な塗膜を得た後は、コーティング材の硬化を行う。硬化方法はコーティング材により異なる。熱硬化性のコーティング材であれば、乾燥炉を追加で設置し乾燥を行う。光硬化性のコーティング材であれば、加熱により溶剤を気化させ
た後に紫外線照射機を設置し、紫外線を照射する。紫外線を照射する雰囲気は、大気中で実施をしても問題ないが、酸素が硬化阻害を起こすこともあるため、窒素雰囲気中での硬化が好ましい。
【００３１】
以上説明したように、実施の形態１の膜コーティング方法、あるいは膜コーティング装置によれば、加熱させた基材が浸漬されるため、浸漬後風圧をかけた際、塗膜が風圧に負けず、基材に密着するため、所望の膜厚を得やすい。また、浸漬によるコーティング材のたれを除去でき、均一性の高い反射防止膜を成膜できるという効果を奏する。
【００３２】
実施の形態２．
また、前乾燥炉１の代わりに赤外線ヒーター１３を利用して基材６を加熱してもよい。この手法は赤外線を基材に吸収させ加熱するものであり、基材のサイズがほとんど変わらない場合に適用することができる。赤外線ヒーターを利用した場合には、前乾燥炉１を用いる場合のように、広域にわたる昇温が必要なくなるため、省エネルギーでかつ省スペースでの加熱が可能となる。
【００３３】
基材への加熱方法は、図３に示すように、基材６の側面に赤外線ヒーター１３を設置し、赤外線を照射する。基材が赤外線の前を通過する際は、基材に効率的に赤外線を吸収させるために、基材を赤外線ヒーターの設置方向（ヒーター軸方向）に対して４５度回転させた状態で通過させることがより好ましい。以上説明したように、本発明の実施の形態２の膜コーティング装置によれば、乾燥炉に必要なガスの使用量とスペースを削減できるという効果がある。
【００３４】
実施の形態３．
本実施の形態３の膜コーティング装置２００の一例について、図４を用いて説明する。以下では、本実施の形態１の膜コーティング装置１００と異なる構成を中心に説明する。図４に示すように、本実施の形態３の膜コーティング装置２００では、逆台形形状の浸漬用タンク１４を用い、コーティング材に浸漬させる。このような形状の浸漬用タンク１４を用いても、実施の形態１と同様の効果を得ることができる。
【００３５】
ここで用いる基材移動用のレールは、基材が浸漬用タンク１４の設置位置の近傍を通過する際、浸漬用タンク１４の特徴的な形状である逆台形の底面に沿って基材が移動するような構造を有する連続浸漬用レール１５とし、基材が浸漬用タンク１４の設置位置の上方からコーティング材に浸漬し、この上方から排出される構造となっている。また、ここで使用される基材６は、図４に示す基材上部１６と基材下部１７の部分でハンガー２４に固定されており、浸漬用タンク１４から排出後は、上述の実施の形態１と同様に、風圧によって余剰なコーティング材を除去する。
【００３６】
このような構造の浸漬用タンク１４と連続浸漬用レール１５を用いれば、基材上部１６と基材下部１７の浸漬時間がほぼ同じとなり、より均一な成膜が可能となる。また、連続的に基材をコーティングすることができ、生産効率を上げることができる。
【００３７】
実施の形態４．
塗布対象となる基材の外形の形状は、図５に示すように、円柱側面のような曲面（曲面の外形形状が中心点対称でない曲面。以下中心点非対称曲面と呼ぶ）１８、もしくは中心点で上下左右対称な曲面１９（曲面の外形形状が、中心点に対して対象な曲面形状。例えば外形が球形状の場合。以下中心点対称曲面と呼ぶ）を有する形状であってもよい。
中心点非対称曲面１８を有する基材の場合、非球面用送風機２０からの風は、基材の形状に合わせて、その当たる角度が同じになるように配置する。また、基材が中心点対称曲面１９を有する場合には、重力方向にも曲面が付くため、形状に合わせて球面用送風機２
１からの風を制御し、風の当たる方向が常に基材表面の法線方向と同じになるように移動させなくてはならない。
【００３８】
従来の浸漬法では、平面基材でも、重力によりコーティング材のたれが発生しやすく、基材の外形の形状が曲面または球面形状であれば、浸漬後に回転を加えなくてはならないという問題があった。さらに、従来の浸漬法では、回転を加えただけでは、すべての曲面を有する基材の成膜はできず、中心点対称曲面１９の形状を有する基材でしか成膜ができなかった。この理由は、従来は回転を加えるだけで、風を当てることなく、コーティング材の膜厚の均一化を図っていたからである。
しかし、本実施の形態では、中心点非対称曲面１８を有する基材を用いた場合でも成膜が可能となるよう、つまり、コーティング材の膜厚を均一化できるように、基材の表面に対して法線方向から風を送る（当てる）とともに、必要に応じて、この風の強さ（風速）を制御するようにした。
【００３９】
以上説明したように、本発明の実施の形態４の膜コーティング装置によれば、外形形状が中心点非対称曲面または中心点対称曲面である基材においても、実施の形態１〜３と同様の効果を得ることができる。
【００４０】
以下では、本実施の形態４に使用可能な基材及び反射防止用の低屈折率層、並びに必要に応じ、適宜設けることができるその他の層について、順に説明する。
【００４１】
（基材）
本実施の形態に用いられる基材は、光透過性基材とし、光学積層体の光透過性基材として必要な物性を満たすものであれば特に限定されるものでなく、従来公知のプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、あるいは液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置、照明機器に用いられる。つまり、ガラス、ポリカーボネート（ＰＣ）、あるいはアクリル樹脂（ＰＭＭＡ）等を適宜選択して、本実施の形態に用いることができる。
【００４２】
用いる基材の物性値としては、可視光域３８０〜７８０ｎｍにおける光透過性に関する平均光透過率は５０％以上が好ましい。また、より好ましくは７０％以上とする。
さらに、この光透過性基材に、フィラーの添加、けん化処理、プライマー層を設ける等の表面処理が施されていてもよい。
光透過性基材の厚さは特に限定されず、通常１〜２０ｍｍ程度であり、好ましくは５〜１５ｍｍである。
【００４３】
（低屈折率層）
低屈折率層は、上述したような低屈折率層用硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層である。この組成物内には、シリカまたはアルミナ等を添加していてもよい。また、中空ナノ酸化物を用いれば、中空層が膜全体の屈折率を低下させるため、より好ましい。
低屈折率層は、基材側に隣接するハードコート層または高屈折率層等の層よりも屈折率が低く、この隣接する層との屈折率差により基材の表面反射を低減するはたらきを有する。
【００４４】
低屈折率層の屈折率は、基材の要求される性能、あるいは基材側に隣接する層の屈折率に応じて調整する。
ここで、低屈折率層の膜厚ｄ（ｎｍ）は、要求される性能に応じて適宜調節すれば良く、下記式（１）を満たすものであることが好ましい。
ｄ＝λ／４*ｎ・・・（１）
ここで、ｎは低屈折率層の屈折率、λは波長を表す。
上記の式（１）において、λは、４８０〜５８０ｎｍであることが好ましい。
【００４５】
（その他の層）
本実施の形態では、基材と低屈折率層だけでなく、反射防止膜の膜構成に必要な、ハードコート層、高屈折率層、中屈折率層、帯電防止層、及び防汚層を成膜する際でも適用可能である。それぞれの層が備えるべき特徴を以下説明する。
【００４６】
（ハードコート層）
ハードコート層は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）に規定する鉛筆硬度試験（４．９Ｎ荷重）で、「Ｈ」以上の硬度を示す層であって、反射防止膜の表面硬度を高める働きを有する。このハードコート層は、従来公知のハードコート層を用いてよく、樹脂バインダーを硬化させただけの物でもよく、上記低屈折率層用組成物で挙げたフィラー等が添加されていてもよい。また、ハードコート層は、光硬化性樹脂を用いてもよいし、熱硬化性樹脂を用いてもよい。
このハードコート層の膜厚は、本実施の形態においては特に指定はされないが、１〜２０μｍであればよい。
【００４７】
（高屈折率層及び中屈折率層）
高屈折率層及び中屈折率層は、反射防止膜を成膜する際に基材の反射率を調整するために設けられる層であり、通常低屈折率に隣接するように高屈折率層を成膜し、さらに屈折率の調整が必要な場合には、高屈折率に隣接する形でこの高屈折率の膜の上に中屈折率層を成膜する。
【００４８】
これらの層でも、用いる樹脂としては、低屈折率層と同様に、光硬化性樹脂及び熱硬化性樹脂を使用することができる。これらの層には、屈折率を調整するために微粒子を添加することができる。微粒子径は、通常１００ｎｍ以下が多く、ジルコニア（屈折率２．０）、酸化亜鉛（屈折率１．９）、あるいは二酸化チタン（屈折率２．３〜２．７）等の材料を１つ、または複数組み合わせて用いることができる。高屈折率層及び中屈折率層の膜厚は、通常５０ｎｍ〜３００ｎｍであるが、必要な反射性能に合わせて選定する。
【００４９】
（帯電防止層）
帯電防止層は、静電気の発生を抑え、ごみの付着、あるいは静電気障害を防ぐ役割を有する層である。帯電防止層の膜厚は、通常３０ｎｍ〜３μｍであることが好ましい。帯電防止層は、帯電防止剤とバインダー成分を含む、組成物の硬化物からなる。帯電防止剤は層の表面抵抗を低くする働きがあり、帯電防止層の性能としては、表面抵抗が１０１２Ω／ｓｑ以下になることが好ましい。
【００５０】
（防汚層）
反射防止膜には、基材最表面の汚れ防止を目的として、最表面に防汚層を設ける場合がある。防汚層を設けることで基材の防汚性を付与し、耐擦傷性をさらに高めることが可能となる。防汚層の膜厚は、通常１〜３０ｎｍであることが好ましい。防汚層は、防汚剤とバインダー成分を含む、組成物の硬化物からなる。防汚剤としては、フッ素系又はシリコーン系等のレベリング剤を添加することで得ることができる。
【００５１】
なお、本発明は、その発明の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。
【符号の説明】
【００５２】
１  前乾燥炉、２  浸漬用タンク、３  送風機、４  レール、５  オーバーヘッドコンベア、６  基材、７  昇降式レール、８  クレーン、９  安全装置、１０  コーティング材、１１  複数の排出口、１２  一体型排出口、１３  赤外線ヒーター、１４  逆台形形
状の浸漬用タンク、１５  連続浸漬用レール、１６  基材上部、１７  基材下部、１８  中心点非対称曲面、１９  中心点対称曲面、２０  非球面用送風機、２１  球面用送風機、２２  断熱材、２３  温風排出口、２４  ハンガー、５０  塗膜装置、１００、２００  膜コーティング装置
【図１】
2018176069.tif 000003
【図２】
2018176069.tif 000004
【図３】
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【図４】
2018176069.tif 000006
【図５】
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