(57)【要約】【課題】黒点の発生を抑制する電子写真感光体の提供。【解決手段】導電性基体と、前記導電性基体上に設けられた下引層であって、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、及び−ＣＯＯＨからなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基を持つ電荷輸送性材料を含有する組成物の硬化物である下引層と、前記下引層上に設けられた単層型の感光層であって、結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、電子輸送材料と、を含む感光層と、を有する電子写真感光体。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられた下引層であって、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、及び−ＣＯＯＨからなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基を持つ電荷輸送性材料を含有する組成物の硬化物である下引層と、
前記下引層上に設けられた単層型の感光層であって、結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、電子輸送材料と、を含む感光層と、
を有する電子写真感光体。
【請求項２】
前記電荷輸送性材料が、下記一般式（Ｉ）で示される化合物である請求項１に記載の電子写真感光体。
(Ｉ)        Ｆ−((−Ｒ１−Ｏ)ｎ１Ｒ２−Ｙ)ｎ２
（一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に、炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を示す。ｎ１は０又は１を示し、ｎ２は１以上４以下の整数を示す。Ｏは酸素を示し、Ｙはそれぞれ独立に、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、又は−ＣＯＯＨを示す。）
【請求項３】
前記組成物が、さらに、フェノール化合物、メラミン化合物、グアナミン化合物、及びイソシアネート化合物から選択される少なくとも１種の硬化性化合物を含有する請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体。
【請求項４】
前記組成物が、さらに、金属酸化物粒子を含む請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項５】
前記電荷発生材料が、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種である請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項６】
請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【請求項７】
請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、導電性基体上に、電荷発生材料と電荷輸送材料とを含有する感光層が、中間層を介して形成されてなる正帯電型の単層型有機電子写真感光体において、中間層の材質が、特定の化学構造式で表される構造単位からなるポリビニルアセタール系樹脂よりなる電子写真感光体が開示されている。
【０００３】
特許文献２には、支持基体と、中間層と、感光層とを備えた電子写真感光体であって、中間層が、フェノール系樹脂と、水酸基を有する皮膜形成樹脂と、正孔輸送剤と、を含有するとともに、フェノール系樹脂の添加量をＡ１、水酸基を有する皮膜形成樹脂の添加量をＡ２としたときに、フェノール系樹脂の含有率（Ａ１／（Ａ１＋Ａ２）×１００）を１０質量％以上８０質量％以下の範囲内の値とする電子写真感光体が開示されている。
【０００４】
特許文献３には、支持基体と、中間層と、感光層とを備えた電子写真感光体であって、中間層が、アルコール可溶性ポリアミド樹脂と、正孔輸送材料と、を含有するとともに、アルコール可溶性ポリアミド樹脂１００質量部に対して、正孔輸送材料の添加量を１質量部以上１００質量部以下の範囲内の値とする電子写真感光体が開示されている。
【０００５】
特許文献４には、導電性基体上に下引層を介して電荷発生材料、正孔輸送材料、電子輸送材料、結着樹脂を含有する単層型の感光層が形成されている電子写真感光体であって、下引層が少なくとも酸化チタンと結着樹脂から構成され、酸化チタンがアルミナとシリカにて表面処理され、数平均１次粒径が２０ｎｍ以下である正帯電単層型電子写真感光体が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１１−３４４８２５号公報
【特許文献２】特開２００５−２１５１１９号公報
【特許文献３】特開２００６−０４７３４４号公報
【特許文献４】特開２００７−２４８５６０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
導電性基体上に単層型の感光層を有する電子写真感光体としては、低コスト化の点から、下引層を有さず、導電性基体上に単層型の感光層が直接設けられていることも多い。導電性基体上に単層型の感光層が直接設けられた感光体を用いた場合には、黒点が発生しやすい場合があった。
また、導電性基体上に、下引層を介して単層型の感光層が設けられた感光体は、下引層を有さず、単層型の感光層が直接設けられた感光体に比べ、導電性基体からのリーク（漏れ）電流を抑制しやすく、画質の点で有利である。しかしながら、従来の下引層は、例えば、アルコール可溶性樹脂（例えば、ナイロン樹脂、ブチラール樹脂）、又はアルコール可溶性樹脂に金属酸化物微粒子を分散して形成されていることが多く、感光層を形成するときの感光層形成用塗布液中の溶媒による下引層の溶解、膨潤、又は、下引層の吸湿等によって、高温高湿環境下では下引層の機能が低下し、黒点が発生することがあった。
【０００８】
そこで、本発明の課題は、導電性基体上に単層型の感光層を有する電子写真感光体において、導電性基体上に直接設けられた単層型の感光層を有する場合、又は、導電性基体と単層型の感光層との間に、ナイロン樹脂と酸化亜鉛粒子とを含む組成物から形成された下引層を有する場合、若しくはシランカップリング剤処理酸化亜鉛とブロック化イソシアネート化合物とを含む組成物から形成された下引層を有する場合に比べて、高温高湿環境下での黒点の発生が抑制される電子写真感光体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題は、以下の手段により解決される。
【００１０】
請求項１に係る発明は、
導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられた下引層であって、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、及び−ＣＯＯＨからなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基を持つ電荷輸送性材料を含有する組成物の硬化物である下引層と、
前記下引層上に設けられた単層型の感光層であって、結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、電子輸送材料と、を含む感光層と、
を有する電子写真感光体である。
【００１１】
請求項２に係る発明は、
前記電荷輸送性材料が、下記一般式（Ｉ）で示される化合物である請求項１に記載の電子写真感光体である。
(Ｉ)        Ｆ−((−Ｒ１−Ｏ)ｎ１Ｒ２−Ｙ)ｎ２
（一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に、炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を示す。ｎ１は０又は１を示し、ｎ２は１以上４以下の整数を示す。Ｏは酸素を示し、Ｙはそれぞれ独立に、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、又は−ＣＯＯＨを示す。）
【００１２】
請求項３に係る発明は、
前記組成物が、さらに、フェノール化合物、メラミン化合物、グアナミン化合物、及びイソシアネート化合物から選択される少なくとも１種の硬化性化合物を含有する請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体である。
【００１３】
請求項４に係る発明は、
前記組成物が、さらに、金属酸化物粒子を含む請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体である。
【００１４】
請求項５に係る発明は、
前記電荷発生材料は、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種である請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の電子写真感光体である。
【００１５】
請求項６に係る発明は、
請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジである。
【００１６】
請求項７に係る発明は、
請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置である。
【発明の効果】
【００１７】
請求項１、２、３、４、又は５に係る発明によれば、導電性基体上に単層型の感光層を有する電子写真感光体において、導電性基体上に直接設けられた単層型の感光層を有する場合、又は、導電性基体と単層型の感光層との間に、ナイロン樹脂と酸化亜鉛粒子とを含む組成物から形成された下引層を有する場合、若しくはシランカップリング剤処理酸化亜鉛とブロック化イソシアネート化合物とを含む組成物から形成された下引層を有する場合に比べて、黒点の発生が抑制される電子写真感光体が提供される。
【００１８】
請求項６又は７に係る発明によれば、導電性基体上に単層型の感光層を有する電子写真感光体において、導電性基体上に直接設けられた単層型の感光層を有する場合、又は、導電性基体と単層型の感光層との間に、ナイロン樹脂と酸化亜鉛粒子とを含む組成物から形成された下引層を有する場合、若しくはシランカップリング剤処理酸化亜鉛とブロック化イソシアネート化合物とを含む組成物から形成された下引層を有する場合に比べて、黒点の発生が抑制される電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジ又は画像形成装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。
【図２】本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
【図３】本実施形態に係る画像形成装置の他の例を示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の一例である実施形態について説明する。
【００２１】
＜電子写真感光体＞
本実施形態に係る電子写真感光体（以下、「感光体」と称することがある）は、導電性基体を備え、導電性基体上に、下引層と、単層型の感光層を有する正帯電有機感光体（以下、「単層型感光体」と称することがある）である。
そして、下引層は、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、及び−ＣＯＯＨからなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基を持つ電荷輸送性材料（以下、「特定電荷輸送性材料」と称することがある）を含有する組成物の硬化物により形成されている。また、単層型の感光層は、結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、電子輸送材料とを含む。
なお、単層型の感光層とは、電荷発生能と共に、正孔輸送性及び電子輸送性を持つ感光層である。
【００２２】
単層型感光体は、積層型の感光層を有する感光体に比べて、塗布工程が少なく製造コストが安価であるという利点もあり、近年、例えば、廉価帯の画像形成装置に適用する感光体として注目されている。
この単層型感光体は、低コスト化を考慮して、下引層を有さず、導電性基体上に、感光層が直接設けられていることも多い。その一方で、導電性基体上に直接、単層型の感光層を有する単層型感光体は、導電性基体から感光層への電荷の漏れ（リーク）、又は感光層から導電性基体への電荷の注入などの影響により、黒点などの画質欠陥が発生することがある。
【００２３】
ここで、単層型感光体は、画質を向上させる点で、導電性基体と単層型の感光層との間に下引層を介在させたほうが有利である。しかしながら、従来、下引層は、例えば、極性の有機溶剤により溶解する成分によって形成されている場合がある。この場合、感光層形成用塗布液に含まれる極性の有機溶剤によって、下引層が溶解または膨潤してしまうことがある。特に、高温高湿下では水分の影響を受け下引層としての機能が低下することで、黒点が発生することがあった。
【００２４】
一方、導電性基体と単層型の感光層との間に介在させる下引層としては、例えば、感光層形成用塗布液の有機溶剤に溶解しにくいアルコール可溶性の樹脂（例えば、ナイロン樹脂、ブチラール樹脂）を用いた下引層が知られている。この下引層は、アルコール可溶性の樹脂を含んで形成されているため、感光層形成用塗布液中の有機溶剤による下引層の溶解、膨潤等が抑制されやすい。
しかしながら、例えば、アルコール可溶性の樹脂を含む下引層は、吸湿性が高いため、環境変化による影響を受けやすく、高温高湿環境下と低温低湿環境下とでは電気特性の変動量が大きくなりやすい。また、金属酸化物粒子を含ませて電気抵抗を調整することも知られているが、乾燥条件によっては樹脂の変質などにより金属酸化物粒子の分散性が低下したり、下引層にムラが生じるなど、下引層として抵抗にムラが生じ、黒点が発生しやすくなる場合がある。
【００２５】
これに対し、本実施形態に係る電子写真感光体は、上記構成により、黒点の発生が抑制される。その理由は、定かではないが、以下に示すように推測される。
【００２６】
本実施形態に係る電子写真感光体において、下引層は、特定電荷輸送性材料を含む組成物の硬化物（架橋物または重合物）により形成されている。このため、感光層形成用塗布液の有機溶剤によって、下引層が溶解または膨潤されることが抑制される。また、特定電荷輸送性材料を含む組成物の硬化物は、アルコール可溶性の樹脂を含む下引層に比べ吸湿性が低く、かつ、熱的安定性も高い。
【００２７】
ところで、単層型感光体は、正帯電型の感光体であるため、下引層を設ける場合、下引層は、理想的には正孔輸送能を有しつつ、電子の輸送を抑制する特性を有することがよい。特定電荷輸送性材料は、正孔輸送能を有しつつ、電子の輸送を抑制する性能を有するため、特定電荷輸送性材料を含む組成物の硬化物によって形成された下引層は、単層型感光体の下引層として好適であると考えられる。
【００２８】
よって、本実施形態に係る電子写真感光体の下引層は、感光層形成用塗布液の溶媒による溶解、膨潤等の現象が抑制されており、吸湿性も抑制されていることから、下引層としての機能の低下が抑制されるものと考えられる。これに加えて、本実施形態に係る電子写真感光体の下引層は、正孔輸送能を有しつつ、電子の輸送を抑制する特性を有するため、正帯電型の感光体に設ける下引層として好適な性能を有すると考えられる。
以上の理由により、本実施形態に係る電子写真感光体は、上記構成により、黒点の発生が抑制されると推測される。
【００２９】
なお、例えば、従来のアルコール可溶性のナイロン樹脂を含む下引層の場合、樹脂の吸湿によって、導電性基体が腐食することがあり、単層型感光体の寿命が短くなり易い。
これに対し、本実施形態に係る電子写真感光体は、特定電荷輸送性材料を含む組成物の硬化物により形成されているため、吸湿性が殆どない。この理由で、感光体の長寿命化が図れるという利点も有する。
【００３０】
以下、図面を参照しつつ、本実施形態に係る電子写真感光体を詳細に説明する。
図１は、本実施形態に係る電子写真感光体７の一部の断面を概略的に示している。
図１に示した電子写真感光体７は、例えば、導電性基体３を備え、導電性基体３上に、下引層１及び単層型の感光層２がこの順で設けられて構成されている。
また、必要に応じてその他の層を設けてもよい。具体的には、例えば、必要に応じて、単層型の感光層２上に保護層を設けてもよい。
【００３１】
以下、本実施形態に係る電子写真感光体の各層について詳細に説明する。なお、符号は省略して説明する。
【００３２】
（導電性基体）
導電性基体としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物（例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等）、金属（例えばアルミニウム、パラジウム、金等）又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
【００３３】
導電性基体の厚さは、０．３ｍｍ以上３ｍｍ以下が好ましく、機械強度と製造性の点で０．４ｍｍ以上１ｍｍ以下がより好ましい。
導電性基体の表面は、電子写真感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化されていることが好ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。
【００３４】
粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて導電性基体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。
【００３５】
粗面化の方法としては、導電性基体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。
【００３６】
陽極酸化による粗面化処理は、金属製（例えばアルミニウム製）の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。
【００３７】
陽極酸化膜の膜厚は、例えば、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。
【００３８】
導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。
【００３９】
ベーマイト処理は、例えば９０℃以上１００℃以下の純水中に５分から６０分間浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分から６０分間接触させて行う。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【００４０】
（下引層）
下引層は、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、及び−ＣＯＯＨからなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基を持つ電荷輸送性材料（特定電荷輸送性材料）を含有する組成物の硬化物である。また、下引層を形成する組成物には、必要に応じて、硬化性化合物、金属酸化物粒子等の成分を含んでいてもよい。
【００４１】
次に、特定電荷輸送性材料について説明する。特定電荷輸送性材料は、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、及び−ＣＯＯＨからなる群から選択される置換基の少なくとも１つを持つ電荷輸送性を有する化合物である。特に、特定電荷輸送性材料としては、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、及び−ＣＯＯＨから選択される置換基（反応性官能基）を少なくとも２つ（さらには３つ）持つものが好適に挙げられる。特定電荷輸送性材料は置換基が増加することで、硬化（架橋）密度が上昇する。そのため、下引層上に感光層形成用塗布液を塗布するときにおいて、感光層形成用塗布液中の有機溶剤によって発生する下引層の溶解、膨潤等がより抑制され易くなる。
【００４２】
特定電荷輸送性材料としては、下記一般式（Ｉ）で示される化合物であることが好ましい。
(Ｉ)  Ｆ−((−Ｒ１−Ｏ)ｎ１Ｒ２−Ｙ)ｎ２
【００４３】
一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を示し、ｎ１は０又は１を示し、ｎ２は１以上４以下の整数を示す。Ｏは酸素を示し、Ｙはそれぞれ独立に−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、又は−ＣＯＯＨを示す。
【００４４】
一般式（Ｉ）中、Ｆを示す正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基における正孔輸送能を有する化合物としては、アリールアミン誘導体が好適に挙げられる。アリールアミン誘導体としては、トリフェニルアミン誘導体、テトラフェニルベンジジン誘導体が好適に挙げられる。
【００４５】
そして、一般式（Ｉ）で示される化合物は、下記一般式（ＩＩ）で示される化合物であることが好ましい。一般式（ＩＩ）で示される化合物は、特に、電荷移動度、酸化などに対する安定性等に優れる。
【００４６】
【化１】
2018010240.tif 000002
【００４７】
一般式（ＩＩ）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Ｄは−（−Ｒ１−Ｏ）ｎ１Ｒ２−Ｙを示し、ｃはそれぞれ独立に０又は１を示し、ｋは０又は１を示し、Ｄの総数は１以上４以下である。また、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を示し、ｎ１は０又は１を示し、Ｏは酸素を示し、Ｙは−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、又は−ＣＯＯＨを示す。
【００４８】
一般式（ＩＩ）中、Ｄを示す「−(−Ｒ１−Ｏ)ｎ１Ｒ２−Ｙ」は、一般式（Ｉ）と同様であり、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基である。また、ｎ１として好ましくは、１である。また、Ｙとして好ましくは水酸基である。
なお、一般式（ＩＩ）におけるＤの総数は、一般式（Ｉ）におけるｎ２に相当し、好ましくは、２以上４以下であり、さらに好ましくは３以上４以下である。つまり、一般式（Ｉ）および一般式（ＩＩ）において、Ｄの総数は、好ましくは一分子中に２以上４以下、さらに好ましくは３以上４以下とすると、硬化（架橋）密度が上がり、下引層上に感光層形成用塗布液を塗布するときにおいて、感光層形成用塗布液中の有機溶剤によって発生する下引層の溶解、膨潤等がより抑制され易くなる。
【００４９】
一般式（ＩＩ）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４としては、下記式（１）乃至（７）のうちのいずれかであることが好ましい。なお、下記式（１）乃至（７）は、各Ａｒ１乃至Ａｒ４に連結され得る「−（Ｄ）Ｃ」と共に示す。
【００５０】
【化２】
2018010240.tif 000003
【００５１】
式（１）乃至（７）中、Ｒ９は水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルキル基もしくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基からなる群より選ばれる１種を表す。Ｒ１０乃至Ｒ１２はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表す。Ａｒは置換又は未置換のアリーレン基を表す。Ｄ及びｃは一般式（ＩＩ）における「Ｄ」、「ｃ」と同様であり、ｓはそれぞれ０又は１を表し、ｔは１以上３以下の整数を表す。
【００５２】
ここで、式（７）中のＡｒとしては、下記式（８）又は（９）で表されるものが好ましい。
【化３】
2018010240.tif 000004
【００５３】
式（８）、（９）中、Ｒ１３及びＲ１４は、それぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表す。ｔは１以上３以下の整数を表す。
【００５４】
また、式（７）中のＺ’としては、下記式（１０）乃至（１７）のうちのいずれかで表されるものが好ましい。
【００５５】
【化４】
2018010240.tif 000005
【００５６】
式（１０）乃至（１７）中、Ｒ１５及びＲ１６はそれぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基もしくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表す。Ｗは２価の基を表し、ｑ及びｒはそれぞれ１以上１０以下の整数を表す。ｔはそれぞれ１以上３以下の整数を表す。
【００５７】
上記式（１６）乃至（１７）中のＷとしては、下記（１８）乃至（２６）で表される２価の基のうちのいずれかであることが好ましい。但し、式（２５）中、ｕは０以上３以下の整数を表す。
【００５８】
【化５】
2018010240.tif 000006
【００５９】
また、一般式（ＩＩ）中、Ａｒ５は、ｋが０のときはＡｒ１乃至Ａｒ４の説明で例示された上記（１）乃至（７）のアリール基であり、ｋが１のときはかかる上記（１）乃至（７）のアリール基から水素原子を除いたアリーレン基である。
【００６０】
一般式（Ｉ）で示される化合物の具体例としては、以下に示す例示化合物（Ｉ−１）乃至例示化合物（Ｉ−３４）が挙げられる。なお、上記一般式（Ｉ）で示される化合物は、これらにより何ら限定されるものではない。
【００６１】
【化６】
2018010240.tif 000007
【００６２】
【化７】
2018010240.tif 000008
【００６３】
【化８】
2018010240.tif 000009
【００６４】
【化９】
2018010240.tif 000010
【００６５】
【化１０】
2018010240.tif 000011
【００６６】
【化１１】
2018010240.tif 000012
【００６７】
【化１２】
2018010240.tif 000013
【００６８】
【化１３】
2018010240.tif 000014
【００６９】
下引層の形成に用いられる全成分（固形分として残る材料）中における上記の特定電荷輸送性材料の含有量は、特に制限しないが、１０質量％以上であることが好ましい。上限値としては９８質量％以下であることが好ましい。より好ましくは３０質量％以上９５質量％以下である。特定電荷輸送性材料は、単独で用いてもよく、２種以上混合して用いてもよい。特定電荷輸送性材料を２種以上混合して用いる場合の含有量は、特定電荷輸送性材料の合計量である。
【００７０】
−硬化性化合物−
硬化性化合物としては、特定電荷性輸送性材料と反応可能な化合物であれば、特に限定されないが、例えば、フェノール化合物（フェノール骨格を有する化合物）、メラミン化合物（メラミン骨格を有する化合物）、グアナミン化合物（グアナミン骨格を有する化合物）、イソシアネート化合物（イソシアネート骨格を有する化合物）からなる群から選ばれる少なくとも一つの化合物を用いることがよい。
特定電荷輸送性材料と硬化性化合物とは質量比で９９：１乃至１：９９の範囲が好ましく、より好ましくは９９：１乃至５０：５０が好ましい。
【００７１】
フェノール化合物としては、フェノール、クレゾール、キシレノール、パラアルキルフェノール、パラフェニルフェノールなどの水酸基を１個含む置換フェノール類；カテコール、レゾルシノール、ヒドロキノンなどの水酸基を２個含む置換フェノール類；ビスフェノールＡ、ビスフェノールＺなどのビスフェノール類；ビフェノール類；などのフェノール構造を有する化合物と、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド等のアルデヒド類とを、酸またはアルカリ触媒下で反応させる化合物が挙げられる。そして、反応により得られたモノメチロールフェノール類、ジメチロールフェノール類、トリメチロールフェノール類の単量体、多量体（分子の構造単位の繰り返しが２以上２０以下）、２種以上の単量体の混合物、２種以上の多量体の混合物、１種または２種以上の単量体と１種または２種以上の多量体との混合物などが使用される。
【００７２】
メラミン化合物およびグアナミン化合物としては、メラミンとホルムアルデヒドとを用いて公知の方法（例えば、実験化学講座第４版、２８巻、４３０頁参照）、及びグアナミンとホルムアルデヒドとを用いて公知の方法（例えば、実験化学講座第４版、２８巻、４３０頁参照）で合成される化合物が挙げられる。そして、メラミン化合物およびグアナミン化合物は、メチロール基がそのままのメチロール型、メチロール基がすべてアルキルエーテル化されたフルエーテル型、メチロール基がすべてイミノ化されたフルイミノ型、メチロール基とイミノ基との混合型など種々のものが使用できる。メラミン化合物およびグアナミン化合物は、組成物の安定性の点から、フルエーテル型を用いることがよい。
【００７３】
イソシアネート化合物としては、多官能イソシアネート、イソシアヌレート、これらをアルコール類、ケトン類等のブロック化剤（封鎖剤）で封鎖したブロック化イソシアネートなどが挙げられる。イソシアネート化合物としては、組成物の安定性の点から、ブロック化イソシアネート、又はイソシアヌレートを用いることがよい。
【００７４】
特定電荷輸送性材料を単独で用いる場合、フェノール化合物またはメラミン化合物もしくはグアナミン化合物と混合して用いる場合には、酸触媒を用いて硬化することがよい。一方、特定電荷輸送性材料とイソシアネート化合物とを混合して用いる場合には、アミン触媒または金属触媒を用いることがよい。
触媒の量は、下引層の固形分１００に対し、０．０１質量％以上２０質量％以下（好ましくは０．１質量％以上１０質量％以下）の範囲で用いることがよい。硬化反応させるときの温度は、室温（例えば、２５℃）以上２００℃以下（好ましくは、１００℃以上１５０℃以下）の範囲であることがよい。
【００７５】
酸触媒としては、例えば、酢酸、クロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸、マレイン酸、マロン酸、乳酸などの脂肪族カルボン酸類；安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸などの芳香族カルボン酸類；メタンスルホン酸、ドデシルスルホン酸などの脂肪族スルホン酸類；ベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸などの芳香族スルホン酸類が挙げられる。
【００７６】
具体的な市販品としては、キングインダストリーズ社製の「ＮＡＣＵＲＥ２５０１」（トルエンスルホン酸解離、メタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．０以上ｐＨ７．２以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２１０７」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、ｐＨ８．０以上ｐＨ９．０以下、解離温度９０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５００」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．０以上ｐＨ７．０以下、解離温度６５℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５３０」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、メタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ５．７以上ｐＨ６．５以下、解離温度６５℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５４７」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、水溶液、ｐＨ８．０以上ｐＨ９．０以下、解離温度１０７℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５５８」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、エチレン／グリコール溶媒、ｐＨ３．５以上ｐＨ４．５以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−３５７」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、メタノール溶媒、ｐＨ２．０以上ｐＨ４．０以下、解離温度６５℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−３８６」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、水溶液、ｐＨ６．１以上ｐＨ６．４以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＣ―２２１１」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、ｐＨ７．２以上ｐＨ８．５以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５２２５」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．０以上ｐＨ７．０以下、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５４１４」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、キシレン溶媒、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５５２８」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、ｐＨ７．０以上ｐＨ８．０以下、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５９２５」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、ｐＨ７．０以上ｐＨ７．５以下、解離温度１３０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ１３２３」（ジノニルナフタレンスルホン酸解離、キシレン溶媒、ｐＨ６．８以上ｐＨ７．５以下、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ１４１９」（ジノニルナフタレンスルホン酸解離、キシレン／メチルイソブチルケトン溶媒、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ１５５７」（ジノニルナフタレンスルホン酸解離、ブタノール／２−ブトキシエタノール溶媒、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸ４９−１１０」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度９０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ３５２５」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ７．０以上ｐＨ８．５以下、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−３８３」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、キシレン溶媒、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ３３２７」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ４１６７」（リン酸解離、イソプロパノール／イソブタノール溶媒、ｐＨ６．８以上ｐＨ７．３以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−２９７」（リン酸解離、水／イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度９０℃、「ＮＡＣＵＲＥ４５７５」（リン酸解離、ｐＨ７．０以上ｐＨ８．０以下、解離温度１１０℃）等が挙げられる。
【００７７】
アミン触媒としては、例えば、１，４−ジアザビシクロ（２，２，２）オクタン、Ｎ，Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアミン、Ｎ−メチルジシクロヘキルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルプロピレンジアミン、Ｎ−エチルモルホリン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、１，８−ジアザービシクロ［５，４，０］ウンデセンー７（ＤＢＵ）およびその塩が挙げられる。
金属触媒としては、例えば、ジブチル錫ラウレート、スタナスオクトエートが挙げられる。
【００７８】
−金属酸化物粒子−
金属酸化物粒子としては、例えば、粉体抵抗（体積抵抗率）１０２Ωｃｍ以上１０１１Ωｃｍ以下の金属酸化物粒子が挙げられる。
これらの中でも、上記抵抗値を有する金属酸化物粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
【００７９】
金属酸化物粒子のＢＥＴ法による比表面積は、例えば、１０ｍ２／ｇ以上がよい。
金属酸化物粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。
【００８０】
金属酸化物粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。
【００８１】
金属酸化物粒子は、表面処理が施されていてもよい。金属酸化物粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを２種以上混合して用いてもよい。
【００８２】
表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤がより好ましい。
【００８３】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００８４】
シランカップリング剤は、２種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００８５】
表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。
【００８６】
表面処理剤の処理量は、例えば、金属酸化物粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が好ましい。
【００８７】
−添加剤−
下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように金属酸化物粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
【００８８】
添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００８９】
ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００９０】
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００９１】
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【００９２】
これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【００９３】
下引層は、ビッカース硬度が３５以上であることがよい。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／（４ｎ）（ｎは上層の屈折率）から１／２までに調整されていることがよい。
【００９４】
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
【００９５】
下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液（下引層を形成する組成物）の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、硬化することで行う。
【００９６】
下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
【００９７】
下引層形成用塗布液を調製するときの金属酸化物粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。
【００９８】
下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【００９９】
塗膜の硬化温度は、架橋反応が起こる温度であれば特に限定しないが、使用する溶剤の沸点以上の温度が好ましい。具体的には、例えば、８０℃以上２００℃以下の範囲が好ましく、１００℃以上１７０℃以下の範囲がより好ましい。
【０１００】
下引層の膜厚は、例えば、０．０５μｍ以上５μｍ以下（好ましくは０．１μｍ以上１μｍ以下）の範囲内に設定されることが好ましい。下引層の膜厚が上記範囲であると、黒点の発生が抑制されやすく、残留電位の上昇も抑制されやすい。
【０１０１】
（単層型の感光層）
単層型の感光層は、結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、電子輸送材料と、を含み、必要に応じてその他添加剤を含んでもよい。
【０１０２】
結着樹脂としては、特に制限はないが、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの結着樹脂は、単独又は２種以上混合して用いてもよい。
【０１０３】
これらの結着樹脂の中でも、感光層の機械的強度等の観点から、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂が好ましい。
また、感光層の成膜性の観点から、結着樹脂として、例えば、粘度平均分子量３００００以上８００００以下のポリカーボネート樹脂、及び粘度平均分子量３００００以上８００００以下のポリアリレート樹脂の少なくとも１種を用いることがよい。
【０１０４】
なお、粘度平均分子量の測定は、以下の方法で行われる。具体的には、樹脂１ｇをメチレンクロライド１００ｃｍ３に溶解し、２５℃の測定環境下でウベローデ粘度計により、その比粘度ηｓｐを測定する。そして、ηｓｐ／ｃ＝〔η〕＋０．４５〔η〕２ｃの関係式（ただし、ｃは濃度（ｇ／ｃｍ３））より極限粘度〔η〕（ｃｍ３／ｇ）を求める。さらに、Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌによって与えられている式、〔η〕＝１．２３×１０−４Ｍｖ０．８３の関係式より粘度平均分子量Ｍｖを求める。このように、粘度平均分子量の測定には、例えば一点測定法が用いられる。
【０１０５】
感光層の全固形分に対する結着樹脂の含有量は、例えば、３５質量％以上６０質量％以下、望ましくは４０質量％以上５５質量％以下である。
【０１０６】
−電荷発生材料−
電荷発生材料としては、特に制限はないが、例えば、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料；ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；ペリレン顔料；ピロロピロール顔料；フタロシアニン顔料；酸化亜鉛；三方晶系セレン等が挙げられる。
【０１０７】
これらの中でも、近赤外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、金属フタロシアニン顔料、又は無金属フタロシアニン顔料を用いることがよい。具体的には、例えば、特開平５−２６３００７号公報、特開平５−２７９５９１号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン；特開平５−９８１８１号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン；特開平５−１４０４７２号公報、特開平５−１４０４７３号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン；特開平４−１８９８７３号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンが挙げられる。
【０１０８】
一方、近紫外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；チオインジゴ系顔料；ポルフィラジン化合物；酸化亜鉛；三方晶系セレンを用いることがよい。
【０１０９】
すなわち、電荷発生材料としては、例えば３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の露光波長の光源を用いる場合には、無機顔料を用いることがよく、７００ｎｍ以上８００ｎｍ以下の露光波長の光源を用いる場合には、金属及び無金属フタロシアニン顔料を用いることがよい。
【０１１０】
中でも、電荷発生材料としては、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種を用いることが望ましい。これらの電荷発生材料としては、単独又は２種以上混合して用いてもよい。感光体の高感度化の点から、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がよい。
【０１１１】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料としては、特に制限はないが、Ｖ型のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がよい。
特に、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料としては、例えば、６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて、８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がより優れた分散性が得られる観点から望ましい。電子写真感光体の材料として用いた場合に、優れた分散性と、十分な感度、帯電性及び暗減衰特性とが得られ易くなる。
【０１１２】
また、上記の８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が特定の範囲であり、且つ、ＢＥＴ比表面積が特定の範囲であることが望ましい。具体的には、平均粒径が０．２０μｍ以下であることが望ましく、０．０１μｍ以上０．１５μｍ以下であることがより望ましい。一方、ＢＥＴ比表面積は４５ｍ２／ｇ以上であることが望ましく、５０ｍ２／ｇ以上であることがより望ましく、５５ｍ２／ｇ以上１２０ｍ２／ｇ以下であることがさらに望ましい。平均粒径は、体積平均粒径（ｄ５０平均粒径）でレーザ回折散乱式粒度分布測定装置（ＬＡ−７００、堀場製作所社製）にて測定した値である。また、ＢＥＴ比表面積は、ＢＥＴ式比表面積測定器（島津製作所製：フローソープＩＩ２３００）を用い窒素置換法にて測定した値である。
ここで、平均粒径が０．２０μｍより大きい場合、又は比表面積が４５ｍ２／ｇ未満である場合は、顔料粒子が粗大化しているか、又は顔料粒子の凝集体が形成される場合がある。そして、分散性や、感度、帯電性及び暗減衰特性といった特性に欠陥が生じやすい場合があり、それにより画質欠陥が生じ易くなることがある。
【０１１３】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の最大粒径（一次粒子径の最大値）は、１．２μｍ以下であることが望ましく、１．０μｍ以下であることがより望ましく、より望ましくは０．３μｍ以下である。かかる最大粒径が上記範囲を超えると、黒点が発生しやすい傾向にある。
【０１１４】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、感光体が蛍光灯などに暴露されたことに起因する濃度ムラを抑制する観点から、平均粒径が０．２μｍ以下、最大粒径が１．２μｍ以下であり、且つ、比表面積値が４５ｍ２／ｇ以上であることが望ましい。
【０１１５】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３°、１６．０°、２４．９゜、２８．０°に回折ピークを有するＶ型であることが望ましい。
【０１１６】
一方、クロロガリウムフタロシアニン顔料としては、特に制限はないが、電子写真感光体材料として優れた感度が得られる、ブラッグ角度（２θ±０．２°）７．４°、１６．６°、２５．５°、及び２８．３°に回折ピークを有するものであることが望ましい。
クロロガリウムフタロシアニン顔料の好適な分光吸収スペクトルの最大ピーク波長、平均粒径、最大粒径、及び比表面積値は、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料と同様である。
【０１１７】
感光層の全固形分に対する電荷発生材料の含有量は、１質量％以上５質量％以下がよく、１．２質量％以上４．５質量％以下であることが望ましい。
【０１１８】
−正孔輸送材料−
正孔輸送材料としては、特に制限はないが、例えば、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体；１，３，５−トリフェニル−ピラゾリン、１−［ピリジル−（２）］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導体；トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−４−アミン、トリ（ｐ−メチルフェニル）アミニル−４−アミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第３級アミノ化合物；Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ′−ジフェニルベンジジン等の芳香族第３級ジアミノ化合物、３−（４′−ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−（４′−メトキシフェニル）−１，２，４−トリアジン等の１，２，４−トリアジン誘導体；４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体；２−フェニル−４−スチリル−キナゾリン等のキナゾリン誘導体；６−ヒドロキシ−２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体；ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導体；エナミン誘導体；Ｎ−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体；ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール及びその誘導体等；上記した化合物で構成される基を主鎖又は側鎖に有する重合体；などが挙げられる。これらの正孔輸送材料は、１種又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１１９】
正孔輸送材料の具体例としては、例えば、下記一般式（Ｂ−１）で示される化合物、下記一般式（Ｂ−２）で示される化合物、及び下記一般式（Ｂ−３）で示される化合物が挙げられる。さらに、下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物が挙げられる。
【０１２０】
【化１４】
2018010240.tif 000015
【０１２１】
一般式（Ｂ−１）中、ＲＢ１は、水素原子またはメチル基を示す。ｎ１１は１または２を示す。ＡｒＢ１およびＡｒＢ２は各々独立に置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（ＲＢ３）＝Ｃ（ＲＢ４）（ＲＢ５）、または−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ６）（ＲＢ７）を示し、ＲＢ３乃至ＲＢ７はそれぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。置換基としてはハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、または炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基を示す。
【０１２２】
【化１５】
2018010240.tif 000016
【０１２３】
一般式（Ｂ−２）中、ＲＢ８およびＲＢ８’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、を示す。ＲＢ９、ＲＢ９’、ＲＢ１０、およびＲＢ１０’は同一でも異なってもよく、各々独立にハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（ＲＢ１１）＝Ｃ（ＲＢ１２）（ＲＢ１３）、または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ１４）（ＲＢ１５）を示し、ＲＢ１１乃至ＲＢ１５は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。ｍ１２、ｍ１３、ｎ１２およびｎ１３は各々独立に０以上２以下の整数を示す。
【０１２４】
【化１６】
2018010240.tif 000017
【０１２５】
一般式（Ｂ−３）中、ＲＢ１６およびＲＢ１６’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、を示す。ＲＢ１７、ＲＢ１７’、ＲＢ１８、およびＲＢ１８’は同一でも異なってもよく、各々独立にハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（ＲＢ１９）＝Ｃ（ＲＢ２０）（ＲＢ２１）、または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ２２）（ＲＢ２３）を示し、ＲＢ１９乃至ＲＢ２３は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。ｍ１４、ｍ１５、ｎ１４およびｎ１５は各々独立に０以上２以下の整数を示す。
【０１２６】
ここで、一般式（Ｂ−１）で示される化合物、一般式（Ｂ−２）で示される化合物、及び一般式（Ｂ−３）で示される化合物のうち、特に、「−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ６）（ＲＢ７）」を有する一般式（Ｂ−１）で示される化合物、及び「−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ１４）（ＲＢ１５）」を有する一般式（Ｂ−２）で示される化合物が好ましい。
【０１２７】
【化１７】
2018010240.tif 000018
【０１２８】
一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５、及びＲ３６は、各々独立に、水素原子、低級アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子、又は、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン原子から選ばれる置換基を有していてもよいフェニル基を示す。ｍ及びｎは、各々独立に、０又は１を示す。
【０１２９】
一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ３１〜Ｒ３６が示す低級アルキル基としては、例えば、直鎖状又は分岐状で、炭素数１以上４以下のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。
これらの中でも、低級アルキル基としては、メチル基、エチル基が好ましい。
【０１３０】
一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ３１〜Ｒ３６が示すアルコキシ基としては、例えば、炭素数１以上４以下のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
【０１３１】
一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ３１〜Ｒ３６が示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【０１３２】
一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ３１〜Ｒ３６が示すフェニル基としては、例えば、未置換のフェニル基；ｐ−トリル基、２，４−ジメチルフェニル基等の低級アルキル基置換のフェニル基；ｐ−メトキシフェニル基等の低級アルコキシ基置換のフェニル基；ｐ−クロロフェニル基等のハロゲン原子置換のフェニル基等が挙げられる。
なお、フェニル基に置換し得る置換基としては、例えば、Ｒ３１〜Ｒ３６が示す低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子が挙げられる。
【０１３３】
一般式（ＩＩＩ）の正孔輸送材料の中でも、高感度化及び色点の発生抑制の観点から、ｍ及びｎが１を示す正孔輸送材料がよく、Ｒ３１〜Ｒ３６が各々独立に、水素原子、炭素数１以上４以下の低級アルキル基、又はアルコキシ基を示し、ｍ及びｎが１を示す正孔輸送材料が望ましい。
【０１３４】
以下、正孔輸送材料の具体例として、下記構造式（ＨＴ−１）〜（ＨＴ−１２）を挙げるが、正孔輸送材料は、これらに限られるものではない。
【０１３５】
【化１８】
2018010240.tif 000019
【０１３６】
【化１９】
2018010240.tif 000020
【０１３７】
【化２０】
2018010240.tif 000021
【０１３８】
【化２１】
2018010240.tif 000022
【０１３９】
【化２２】
2018010240.tif 000023
【０１４０】
感光層の全固形分に対する正孔輸送材料の含有量は、１０質量％以上４０質量％以下がよく、好ましくは２０質量％以上３５質量％以下である。
なお、この正孔輸送材料の含有量は、２種以上の正孔輸送材料を併用した場合、それらの正孔輸送材料全体の含有量である。
【０１４１】
−電子輸送材料−
電子輸送材料としては、例えば、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物；ジナフトキノン化合物；ジフェノキノン化合物；キサントン系化合物；ベンゾフェノン系化合物；シアノビニル系化合物；エチレン系化合物等の電子輸送性化合物が挙げられる。これらの電子輸送材料は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられるが、これらに限定されるものではない。
【０１４２】
これらの中でも、電子輸送材料としては、下記式（ＩＶ）で示されるフルオレノン化合物、及び下記式（Ｖ）で示されるジフェノキノン化合物から選択される少なくとも１種を用いることが望ましい。
【０１４３】
【化２３】
2018010240.tif 000024
【０１４４】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、及びＲ４７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。Ｒ４８は、アルキル基、−Ｌ１１１−Ｏ−Ｒ１１２、アリール基、又はアラルキル基を示す。ただし、Ｌ１１１はアルキレン基を示し、Ｒ１１２はアルキル基を示す。
【０１４５】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、及びＲ４７が示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。これらの中でもフッ素原子、又は塩素原子が好ましく、塩素原子がさらに好ましい。
【０１４６】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、及びＲ４７が示すアルキル基としては、例えば、直鎖状、又は分岐状で、炭素数１以上２０以下のアルキル基が挙げられる。直鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。
分岐状のアルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ−ノニル基、ｔｅｒｔ−ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ−デシル基、ｔｅｒｔ−デシル基等が挙げられる。これらの中でも、アルキル基の炭素数は、１以上４以下がより好ましく、１以上３以下がさらに好ましい。
【０１４７】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、及びＲ４７が示すアルコキシ基としては、例えば、炭素数１以上４以下（好ましくは１以上３以下）のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
【０１４８】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、及びＲ４７が示すアリール基は、置換基を有していてもよく、置換基を有していなくてもよく、例えば、置換又は未置換のフェニル基が挙げられる。アリール基が有する置換基としては、例えば、炭素数１以上１０以下のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。アリール基の具体例としては、例えば、フェニル基、メチルフェニル基（トリル基）、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基等が挙げられる。
【０１４９】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、及びＲ４７が示すアラルキル基としては、−Ｒ１１３−Ａｒ１１４で示される基が挙げられる。但し、Ｒ１１３は、アルキレン基を示し、Ａｒ１１４は、アリール基を示す。
【０１５０】
Ｒ１１３が示すアルキレン基としては、例えば直鎖状又は分岐状の炭素数１以上１２以下のアルキレン基が挙げられ、具体的には、例えば、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ｎ−ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ−ペンチレン基等が挙げられる。Ｒ１１３が示すアルキレン基の炭素数は、相溶性や溶解性の観点で、１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。
Ａｒ１１４が示すアリール基は、一般式（ＩＶ）中、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、及びＲ４７が示すアリール基と同様のものが挙げられ、アリール基が有する置換基についても同様である。
【０１５１】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、及びＲ４７が示すアラルキル基の具体例としては、例えば、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、フェニルエチル基、メチルフェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基等が挙げられる。
【０１５２】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ４８が示すアルキル基としては、例えば、炭素数１以上１２以下の直鎖状のアルキル基、炭素数３以上１０以下の分岐状のアルキル基、及び炭素数３以上８以下の環状のアルキル基が挙げられる。
直鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。
分岐状のアルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ−ノニル基、ｔｅｒｔ−ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ−デシル基、ｔｅｒｔ−デシル基等が挙げられる。
環状のアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロへプチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。
【０１５３】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ４８が示す−Ｌ１１１−Ｏ−Ｒ１１２で示される基は、Ｌ１１１がアルキレン基を示し、Ｒ１１２は、アルキル基を示す。
Ｌ１１１が示すアルキレン基としては、直鎖状又は分岐状の炭素数１以上１２以下のアルキレン基が挙げられ、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ｎ−ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ−ペンチレン基等が挙げられる。
Ｒ１１２が示すアルキル基としては、上記Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、及びＲ４７が示すアルキル基と同様の基が挙げられる。
【０１５４】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ４８が示すアリール基は、置換基を有していてもよく、置換基を有していなくてもよく、例えば、置換又は未置換のフェニル基が挙げられる。アリール基が有する置換基としては、例えば、炭素数１以上１０以下のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
なお、アリール基がさらにアルキル基又はアルコキシ基で置換されていることが、溶解性の観点で好ましい。アリール基に置換されるアルキル基又はアルコキシ基としては、上記のＲ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、及びＲ４７が示すアルキル基又はアルコキシ基と同様の基が挙げられる。例えば、アルキル基又はアルコキシ基で置換されたアリール基としては、メチルフェニル基（トリル基）、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル等）、メトキシフェニル基（ｐ−メトキシフェニル基等）、エトキシフェニル基等が挙げられる。
【０１５５】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ４８が示すアラルキル基としては、−Ｒ１１５−Ａｒ１１６で示される基が挙げられる。但し、Ｒ１１５は、アルキレン基を示す、Ａｒ１１６、アリール基を示す。
Ｒ１１５が示すアルキレン基としては、直鎖状又は分岐状の炭素数１以上１２以下のアルキレン基が挙げられ、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ｎ−ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ−ペンチレン基等が挙げられる。
Ａｒ１１６が示すアリール基としては、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基等が挙げられる。
【０１５６】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ４８が示すアラルキル基として具体的には、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、フェニルエチル基、メチルフェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基等が挙げられる。
【０１５７】
一般式（ＩＶ）の電子輸送材料としては、高感度化及び黒点の発生抑制の観点から、Ｒ４８が炭素数５以上１０以下の分岐状のアルキル基又はアラルキル基を示す電子輸送材料が好ましく、特に、Ｒ４１〜Ｒ４７が各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を示し、かつ、Ｒ４８が炭素数５以上１０以下の分岐状のアルキル基又はアラルキル基を示す電子輸送材料が好ましい。
【０１５８】
以下、一般式（ＩＶ）で表される電子輸送材料の例示化合物を示すが、これに限定されるわけではない。なお、以下の例示化合物番号は、例示化合物（ＩＶ−番号）と以下表記する。具体的には、例えば、例示化合物１５は、「例示化合物（ＩＶ−１５）」と以下表記する。
【０１５９】
【化２４】
2018010240.tif 000025
【０１６０】
【化２５】
2018010240.tif 000026
【０１６１】
上記例示化合物中の略記号は、以下の意味を示す。「ｎ−Ｂｕ」はｎ−ブチル基を、「ｔ−Ｂｕ」はｔｅｒｔ−ブチル基を、「ｎ−Ｏｃｔ」はｎ−オクチル基を、「Ｃｌ」は塩素原子を、「Ｍｅ」はメチル基を、「ＭｅＯ」はメトキシ基を、「Ｐｈ」はフェニル基を、それぞれ表す。また、「＊」は結合部を表す。
【０１６２】
【化２６】
2018010240.tif 000027
【０１６３】
一般式（Ｖ）中、Ｒ５１、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４は、各々独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。
【０１６４】
一般式（Ｖ）中、Ｒ５１、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４が示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。これらの中でもフッ素原子、又は塩素原子が好ましく、塩素原子がさらに好ましい。
【０１６５】
一般式（Ｖ）中、Ｒ５１、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４が示すアルキル基としては、例えば、直鎖状、又は分岐状で、炭素数１以上２０以下のアルキル基が挙げられる。
直鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。
分岐状のアルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ−ノニル基、ｔｅｒｔ−ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ−デシル基、ｔｅｒｔ−デシル基等が挙げられる。これらの中でも、アルキル基の炭素数は、１以上５以下がより好ましく、１以上４以下がさらに好ましい。
【０１６６】
一般式（Ｖ）中、Ｒ５１、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４が示すアルコキシ基としては、例えば、炭素数１以上４以下（好ましくは１以上３以下）のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
【０１６７】
以下、一般式（Ｖ）で表される電子輸送材料の例示化合物を示すが、これに限定されるわけではない。
【０１６８】
【化２７】
2018010240.tif 000028
【０１６９】
電子輸送材料の具体例としては、一般式（ＩＶ）で示される電子輸送材料及び一般式（Ｖ）で示される電子輸送材料のほかに、その他の電子輸送材料として、例えば、下記構造式（ＥＴ−Ａ）〜（ＥＴ−Ｅ）で示される化合物も挙げられる。その他の電子輸送材料は、一般式（ＩＶ）及び一般式（Ｖ）で示される電子輸送材料の少なくとも１種と併用して用いてもよい。
【０１７０】
【化２８】
2018010240.tif 000029
【０１７１】
感光層全体に占める、全電子輸送材料の量としては、感光層中の固形分比で２質量％以上３０質量％以下が好ましく、５質量％以上２０質量％以下がより好ましい。電子輸送材料の含有量がこの範囲であることにより、良好な電気特性が得られ、帯電維持性がさらに良好となる。
【０１７２】
正孔輸送材料と電子輸送材料との比率は、質量比（正孔輸送材料／電子輸送材料）で、５０／５０以上９０／１０以下が望ましく、より望ましくは６０／４０以上８０／２０以下である。
なお、本比率における「電子輸送材料」とは、電子輸送材料を２種以上併用した場合、その合計であり、正孔輸送材料についても同様である。
【０１７３】
−その他添加剤−
単層型の感光層には、界面活性剤、酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の周知のその他添加剤を含んでいてもよい。また、単層型の感光層が表面層となる場合、フッ素樹脂粒子、シリコーンオイル等を含んでいてもよい。
【０１７４】
−単層型の感光層の形成−
単層型の感光層は、上記成分を溶剤に加えた感光層形成用塗布液を用いて形成される。
溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は単独又は２種以上混合して用いる。
【０１７５】
感光層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
【０１７６】
感光層形成用塗布液を塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。
【０１７７】
単層型の感光層の膜厚は、好ましくは５μｍ以上６０μｍ以下、より好ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、さらに好ましくは１０μｍ以上４０μｍ以下の範囲に設定される。
【０１７８】
＜画像形成装置（及びプロセスカートリッジ）＞
本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。そして、電子写真感光体として、上記本実施形態に係る電子写真感光体が適用される。
【０１７９】
本実施形態に係る画像形成装置は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置；トナー像の転写後、帯電前の電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えた装置；トナー像の転写後、帯電前に像保持体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置；電子写真感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための電子写真感光体加熱部材を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。
【０１８０】
中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、像保持体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。
【０１８１】
本実施形態に係る画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式（液体現像剤を利用した現像方式）の画像形成装置のいずれであってもよい。
【０１８２】
なお、本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、電子写真感光体を備える部分が、画像形成装置に対して着脱されるカートリッジ構造（プロセスカートリッジ）であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、本実施形態に係る電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。なお、プロセスカートリッジには、電子写真感光体以外に、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを備えてもよい。
【０１８３】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。
【０１８４】
図２は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１００は、図２に示すように、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、転写装置４０（一次転写装置）と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を記録媒体（例えば用紙）に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体５０、転写装置４０（一次転写装置）、及び二次転写装置（不図示）が転写手段の一例に相当する。
【０１８５】
図２におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置８（帯電手段の一例）、現像装置１１（現像手段の一例）、及びクリーニング装置１３（クリーニング手段の一例）を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材の一例）１３１を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。なお、クリーニング部材は、クリーニングブレード１３１の態様ではなく、導電性又は絶縁性の繊維状部材であってもよく、これを単独で、又はクリーニングブレード１３１と併用してもよい。
【０１８６】
なお、図２には、画像形成装置として、潤滑材１４を電子写真感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、及び、クリーニングを補助する繊維状部材１３３（平ブラシ状）を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。
【０１８７】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。
【０１８８】
−帯電装置−
帯電装置８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
【０１８９】
−露光装置−
露光装置９としては、例えば、電子写真感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
【０１９０】
−現像装置−
現像装置１１としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１１としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
【０１９１】
現像装置１１に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、周知のものが適用される。
【０１９２】
−クリーニング装置−
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。
【０１９３】
−転写装置−
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
【０１９４】
−中間転写体−
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
【０１９５】
図３は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図３に示す画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【０１９６】
なお、本実施形態に係る画像形成装置１００は、上記構成に限られず、例えば、電子写真感光体７の周囲であって、転写装置４０よりも電子写真感光体７の回転方向下流側でクリーニング装置１３よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、残留したトナーの極性を揃え、クリーニングブラシで除去しやすくするための第１除電装置を設けた形態であってもよいし、クリーニング装置１３よりも電子写真感光体の回転方向下流側で帯電装置８よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、電子写真感光体７の表面を除電する第２除電装置を設けた形態であってもよい。
【０１９７】
また、本実施形態に係る画像形成装置１００は、上記構成に限れず、周知の構成、例えば、電子写真感光体７に形成したトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の画像形成装置を採用してもよい。
【実施例】
【０１９８】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【０１９９】
［下引層の形成］
（下引層１の作製）
特定電荷輸送材料Ｉ−８を４０質量部、Ｉ−１６を２０質量部をテトラヒドロフラン４００質量部、２−ブタノール４００質量部の混合溶剤に溶かし、ＮＡＣＵＲＥ２５００（キングインダストリーズ社製、ブロック酸触媒）を０．３質量部加え下引層形成用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にてアルミニウム基体上に塗布し、１６０℃、４０分で乾燥硬化を行い、膜厚が０．３μｍの下引層を得た。これを下引層１とする。
【０２００】
（下引層２の作製）
下引層１の作製において、Ｉ−８を３８質量部、Ｉ−１６を１８質量部とし、レゾール型フェノール樹脂（ＰＬ−４８５２、群栄化学製）４質量部を加えた以外は、下引層１の作製と同様にして、下引層を得た。これを下引層２とする。
【０２０１】
（下引層３の作製）
下引層２の作製において、レゾール型フェノール樹脂（ＰＬ−４８５２、群栄化学製）の代わりに、ブロック化イソシアネート（スミジュールＢＬ−３１７５、住友バイエルウレタン社製）を用い、酸触媒の代わりに、０．００５質量部のジオクチルスズジラウレートを加えた以外は、下引層１の作製と同様にして、下引層形成用塗布液を調整した。この塗布液を浸漬塗布法にてアルミニウム基体上に塗布し、１９０℃、４０分で乾燥硬化を行い、膜厚が０．３μｍの下引層を得た。これを下引層３とする。
【０２０２】
（下引層４の作製）
酸化亜鉛：（体積平均粒径７０ｎｍ：テイカ社製：比表面積値１５ｍ２／ｇ）１００質量部をトルエン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＥ６０３：信越化学工業社製）２．５質量部を添加し、２時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１５０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛顔料を得た。
この酸化亜鉛１０質量部を、下引層３の作製で調整した下引層形成用塗布液のジオクチルスズジラウレート未添加の塗布液１００質量部に加え、１ｍｍΦのガラスビーズを用いてサンドミルにて分散を行い、乳白色の分散液を得た。これにジオクチルスズジラウレートを０．００５質量部加え、下引層形成用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にてアルミニウム基体上に塗布し、１８０℃、４５分で乾燥硬化を行い、膜厚が０．５μｍの下引層を得た。これを下引層４とする。
【０２０３】
（下引層５の作製）
下引層１の作製において、Ｉ−８を３８質量部、Ｉ−１６を１８質量部とし、メチル化ベンゾグアナミン樹脂（ＢＬ−６０、三和ケミカル製）６質量部を加えた以外は、下引層１の作製と同様にして、下引層を得た。これを下引層５とする。
【０２０４】
（下引層６の作製）
酸化亜鉛粒子（平均粒径６０ｎｍ：ＭＺ−１５０、テイカ社製）１００質量部と、シランカップリング剤としてγ−アミノプロピルトリエトキシシランの１０質量％トルエン溶液１０質量部と、トルエン２００質量部と、を混合し、攪拌を行い、２時間還流を行った。その後トルエンを減圧留去し、１３５℃で２時間焼き付け処理を行い、アミノシランで表面処理されたアミノシラン処理酸化亜鉛粒子を得た。
アルコール可溶性の６／１２／６６／６１０共重合ナイロン樹脂（アミランＣＭ８０００、東レ社製）７質量部、及びアミノシラン処理酸化亜鉛粒子５質量部を、メタノール９０質量部に溶解、分散させて調製した下引層形成用塗布液を調整した。この塗布液を浸漬塗布法にてアルミニウム基体上に塗布し、温度１００℃、３０分間乾燥を行い、膜厚が１μｍの下引層を得た。これを下引層６とする。
【０２０５】
（下引層７の作製）
酸化亜鉛粒子（平均粒径７０ｎｍ：ＭＺ−２００  テイカ社製：比表面積値１５ｍ２／ｇ）１００質量部をトルエン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ−５７３、信越化学工業社製）１．３質量部を添加し、２時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛粒子を得た。
表面処理を施した酸化亜鉛粒子６０質量部と硬化剤（ブロック化イソシアネート  スミジュール３１７５、住友バイエルウレタン社製）１３．５質量部とブチラール樹脂（エスレックＢＭ−１、積水化学工業（株）製）１５質量部をメチルエチルケトン１５０質量部に溶解した溶液を、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い、分散液を得た。
得られた分散液に、触媒としてジオクチルスズジラウレート：０．００５質量部、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）：２０質量部を添加し、下引層塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にてアルミニウム基体上に塗布し、１６０℃、４０分で乾燥硬化を行い膜厚が１μｍの下引層を得た。これを下引層７とする。
【０２０６】
（下引層８の作製）
特定電荷輸送材料Ｉ−１６を３０質量部、Ｉ−２６を１６質量部、テトラヒドロフラン４００質量部、メチル化メラミン樹脂（ＭＷ−３９０、三和ケミカル製）５質量部を２−ブタノール４００質量部の混合溶剤に溶かし、ＮＡＣＵＲＥ５２２５（キングインダストリーズ社製、ブロック酸触媒）を０．３質量部加え下引層形成用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にてアルミニウム基体上に塗布し、１６０℃、４０分で乾燥硬化を行い、膜厚が０．２μｍの下引層を得た。これを下引層８とする。
【０２０７】
＜実施例１＞
［単層型の感光層の形成］
電荷発生物質としてのＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜、１６．０゜、２４．９゜、２８．０゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン１．２質量部、結着樹脂としての下記式（Ｐ）で表される共重合型ポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量５万）４９質量部、テトラヒドロフラン２５０質量部、トルエン２０質量部からなる混合物を、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて３時間分散した。ガラスビーズをろ別し、得られた分散液に既述の正孔輸送材料（ＨＴ−７）３０質量部、既述の一般式（ＩＶ）で示される電子輸送材料（ＩＶ−１０）８質量部、既述の一般式（Ｖ）で示される電子輸送材料（Ｖ−２）１質量部、シリコーンオイルＫＰ３４０（信越化学工業社製）０．００１質量を添加し、一晩（１２時間）攪拌して感光層形成用塗布液を得た。この感光層形成用塗布液を下引層１上に浸漬塗布し、１２５℃、１時間乾燥して、膜厚が１９μｍの単層型の感光層を形成することで、感光体１を作製した。なお、式（Ｐ）中の数字は、各構成単位の含有量（モル比）を示す。
【０２０８】
【化２９】
2018010240.tif 000030
【０２０９】
＜実施例２〜１０、比較例１〜５＞
表１に従って、下引層の種類、感光層に用いる電子輸送材料の種類、及び正孔輸送材料の種類を変更した以外は、実施例と同様にして、感光体２〜１０、及び感光体Ｃ１〜Ｃ５を得た。
【０２１０】
［評価］
（黒点画質評価）
室温３０℃、湿度８５％の環境下で、Ｂｒｏｔｈｅｒ社製ＨＬ-２３６０Ｄを用い、２０％ハーフトーン画像を１２０００枚形成し、１０時間後に、さらに２０％ハーフトーン画像を１０枚形成した。１０時間後に形成した１０枚のうち１０枚目の画像を目視で評価し、黒点の有無を以下の基準で評価した。結果を表１に示す。
Ａ：黒点の発生なし
Ｂ：黒点が９個以下で、画質上許容できるレベル
Ｃ：黒点が１０個以上発生し、実使用上問題となるレベル。
【０２１１】
（電気特性評価）
黒点画質評価の条件で、初期（２０％ハーフトーン画像形成前）の感光体の表面電位と、１２０００枚形成した後の感光体の表面電位の差ΔＶを評価した。結果を表１に示す。
Ａ：ΔＶが５０Ｖ未満で、全く問題なし。
Ｂ：ΔＶが５０Ｖ以上８０Ｖ未満で、許容範囲。
Ｃ：ΔＶが８０Ｖ以上で、画質上問題となるレベル
【０２１２】
【表１】
2018010240.tif 000031
【０２１３】
なお、表１の略称等の詳細は以下の通りである。
・特定ＣＴＭ：特定電荷輸送性材料（−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、及び−ＣＯＯＨからなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基を持つ電荷輸送性材料）
・ＣＧＭ：電荷発生材料
・ＥＴＭ：電子輸送材料
・ＨＴＭ：正孔輸送材料
【０２１４】
・Ｉ−８：一般式（Ｉ）の特定電荷輸送性材料の例示化合物（Ｉ−８）
・Ｉ−１６：一般式（Ｉ）の特定電荷輸送性材料の例示化合物（Ｉ−１６）
・Ｉ−２６：一般式（Ｉ）の特定電荷輸送性材料の例示化合物（Ｉ−２６）
【０２１５】
・「ＨＯＧａＰｃ」：ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜、１６．０゜、２４．９゜、２８．０゜の位置に回折ピークを有するＶ型のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料
・「ＣｌＧａＰｃ」：ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．４゜、１６．６゜、２５．５゜、２８．３゜の位置に回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン顔料（６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおける最大ピーク波長＝７８０ｎｍ、平均粒径＝０．１５μｍ、最大粒径＝０．２μｍ、比表面積値＝５６ｍ２／ｇ）
【０２１６】
・ＩＶ−３：一般式（ＩＶ）の電子輸送材料の例示化合物（ＩＶ−３）
・ＩＶ−９：一般式（ＩＶ）の電子輸送材料の例示化合物（ＩＶ−９）
・ＩＶ−１０：一般式（ＩＶ）の電子輸送材料の例示化合物（ＩＶ−１０）
・ＩＶ−１１：一般式（ＩＶ）の電子輸送材料の例示化合物（ＩＶ−１１）
・Ｖ−２：一般式（Ｖ）の電子輸送材料の例示化合物（Ｖ−２）
・Ｖ−６：一般式（Ｖ）の電子輸送材料の例示化合物（Ｖ−６）
・ＥＴ−Ｂ：構造式（ＥＴ−Ｂ）で表される電子輸送材料（ＥＴ−Ｂ）
・ＥＴ−Ｃ：構造式（ＥＴ−Ｃ）で表される電子輸送材料（ＥＴ−Ｃ）
・ＨＴ−２：構造式（ＨＴ−２）で表される正孔輸送材料（ＨＴ−２）
・ＨＴ−４：構造式（ＨＴ−４）で表される正孔輸送材料（ＨＴ−４）
・ＨＴ−７：構造式（ＨＴ−７）で表される正孔輸送材料（ＨＴ−７）
【符号の説明】
【０２１７】
１  下引層、２  感光層、３  導電性基体、７  電子写真感光体、８  帯電装置、９  露光装置、１１  現像装置、１３  クリーニング装置、１４  潤滑材、４０  転写装置、５０  中間転写体、１００  画像形成装置、１２０  画像形成装置、１３１  クリーニングブレード、１３２  繊維状部材（ロール状）、１３３  繊維状部材（平ブラシ状）、３００  プロセスカートリッジ
【図１】
2018010240.tif 000032
【図２】
2018010240.tif 000033
【図３】
2018010240.tif 000034