(57)【要約】【課題】取り扱い性に優れた、撥水性のチューブの製造方法を提供する。【解決手段】チューブ製造設備３０は、伸縮自在なチューブ材３１からチューブを製造する。チューブの製造方法は、延伸ステップと、プラズマ処理ステップとを有する。延伸ステップは、チューブ材３１を長手方向に延伸する。プラズマ処理ステップは、延伸されているチューブ材３１をプラズマ発生装置３２の互いに離間した第１電極４１と第２電極４２とに接触させた状態で、チューブ材３１の中空部にプラズマを発生させる。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
伸縮自在なチューブ材を長手方向に延伸する延伸ステップと、
延伸されている前記チューブ材をプラズマ発生装置の互いに離間した第１電極と第２電極とに接触させた状態で前記チューブ材の中空部にプラズマを発生させるプラズマ処理ステップと、
を有するチューブの製造方法。
【請求項２】
前記チューブは、
内表面に、周方向に延びた複数の突条が１．５μm以下のピッチで長手方向に並んで形成されている請求項１に記載のチューブの製造方法。
【請求項３】
前記プラズマ処理ステップにおいて前記第１電極と前記第２電極との間に印加する電圧は交流電圧である請求項１または２に記載のチューブの製造方法。
【請求項４】
前記交流電圧の周波数は８ｋＨｚ以上４０ｋＨｚ以下の範囲内である請求項３に記載のチューブの製造方法。
【請求項５】
前記プラズマ処理ステップは、前記中空部を減圧する減圧ステップを有し、前記中空部を減圧状態に保持した状態で前記プラズマを発生させる請求項１ないし４のいずれか１項に記載のチューブの製造方法。
【請求項６】
前記チューブ材の前記第１電極に接する第１接触位置と前記第２電極に接する第２接触位置との距離は５０ｍｍ以下である請求項１ないし５のいずれか１項に記載のチューブの製造方法。
【請求項７】
前記チューブ材を延伸した状態で搬送する搬送ステップを有し、
前記プラズマ処理ステップは、搬送中の前記チューブ材の中空部に前記プラズマを発生させる請求項１ないし６のいずれか１項に記載のチューブの製造方法。
【請求項８】
前記プラズマ処理ステップの後に、前記延伸を解除する延伸解除ステップを有する請求項１ないし７のいずれか１項に記載のチューブの製造方法。
【請求項９】
前記チューブ材はポリシロキサンで形成されている請求項１ないし８のいずれか１項に記載のチューブの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、チューブの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
撥水性をもつチューブとして、ポリテトラフルオロエチレンで形成されているチューブが流通している。ポリテトラフルオロエチレンからなるチューブは、人工生体材料として有用とされているが、柔軟性に欠ける。そこで、例えば特許文献１には、平均繊維径が０．０５〜５０μｍの脂肪族ポリエステル繊維からなり、軸方向に連続する山部および谷部を有する蛇腹状の円筒体が人工生体材料に用いられるものとして記載されている。この円筒体は、厚みが０．０５ｍｍ〜１ｍｍであり、外径が０．５ｍｍ〜５０ｍｍであり、蛇腹の間隔が２ｍｍ以下であり、蛇腹の深さが０．０１ｍｍ〜１０ｍｍとされている。
【０００３】
また、表面処理を施すことにより、被処理物の表面に撥水性をもたせる技術がある。例えば、特許文献１には、撥水性チューブの製造方法として、フッ素系樹脂からなるチューブの外表面をブラストにより粗した後、チューブ内部に治具を入れた状態でチューブの外表面にフッ素ガスを接触させることが記載されている。
【０００４】
撥水性は表面の微細な凹凸を利用することによって発現ないし向上することが知られている。また、特許文献３には、μｍレベルの微細な凹凸が形成された表層を備える基板の製造方法として、延伸工程と、表層形成工程と、幾何微細凹凸構造形成工程とを有する製造方法が記載されている。延伸工程は、基板面に対して略垂直方向に応力を加えることにより基板を延伸し、表層形成工程は、基板の延伸状態を維持したままプラズマ処理により基板上に表層を形成する。幾何微細凹凸構造形成工程は延伸状態を解除することにより基板の表面に幾何微細凹凸構造を形成する工程とされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−２１５８０３号公報
【特許文献２】特開平９−０３９０９３号公報
【特許文献３】特開２０１３−０３５１９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に記載されるチューブは、撥水性が十分ではない。ポリテトラフルオロエチレンからなるチューブは、撥水性をもつものの、外表面が滑りやすいなどの理由から、例えばチューブを他の部材等に巻き付けて使用する場合には巻きが次第に緩んできたり、他の部材に固定して使用したくても固定状態が保持されにくい。このように取り扱いの難しさから、ポリテトラフルオロエチレンからなるチューブは用途や取り扱い場面に制限がある。また、送液などに用いるチューブにおいては撥水性が内表面に求められるが、特許文献２には、チューブの内表面の撥水性を向上させる手法については記載されていない。特許文献３に記載される方法は、基板に微細凹凸構造を形成するものであり、チューブの内表面に形成する手法については記載されていない。
【０００７】
そこで本発明は、取り扱い性に優れた、撥水性の内表面をもつチューブの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明は、延伸ステップと、プラズマ処理ステップとを有する。延伸ステップは、伸縮自在なチューブ材を長手方向に延伸する。プラズマ処理ステップは、延伸されているチューブ材をプラズマ発生装置の互いに離間した第１電極と第２電極とに接触させた状態で、チューブ材の中空部にプラズマを発生させる。
【０００９】
チューブは、内表面に、周方向に延びた複数の突条が１．５μm以下のピッチで長手方向に並んで形成されていることが好ましい。
【００１０】
プラズマ処理ステップにおいて第１電極と第２電極との間に印加する電圧は交流電圧であることが好ましい交流電圧の周波数は８ｋＨｚ以上４０ｋＨｚ以下の範囲内であることが好ましい。
【００１１】
プラズマ処理ステップは、中空部を減圧する減圧ステップを有し、中空部を減圧状態に保持した状態でプラズマを発生させることが好ましい。
【００１２】
チューブ材の第１電極に接する第１接触位置と第２電極に接する第２接触位置との距離は５０ｍｍ以下であることが好ましい。
【００１３】
チューブ材を延伸した状態で搬送する搬送ステップを有し、プラズマ処理ステップは、搬送中のチューブ材の中空部にプラズマを発生させることが好ましい。
【００１４】
プラズマ処理ステップの後に、延伸を解除する延伸解除ステップを有することが好ましい。
【００１５】
チューブ材はポリシロキサンで形成されていることが好ましい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、取り扱い性に優れた、撥水性の内表面をもつチューブが得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】チューブの説明図である。
【図２】チューブの長手方向に沿った断面の端面模式図である。
【図３】チューブ製造設備の概略図である。
【図４】チューブ製造設備の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
図１において、本発明を実施したチューブ１０は、水、または、水を溶媒とする水溶液を、目的とする供給先へ案内するためのものである。チューブ１０は、断面円筒状とされている。図１においては、説明の便宜上、チューブ１０の長さＬを、外径ＤＥと内径ＤＩと厚みＴ１０とに対し、短く描いてあるが、チューブ１０は、外径ＤＥが６ｍｍ、内径ＤＩが概ね４ｍｍ、厚みＴ１０が概ね１ｍｍ、長さＬが例えば２ｍｍである。ただし、チューブの各寸法はこれらに限られず、外径ＤＥは４ｍｍ以上３０ｍｍ以下の範囲内、内径ＤＩは２ｍｍ以上２０ｍｍ以下の範囲内、厚みＴ１０は１ｍｍ以上５ｍｍ以下の範囲内にすることができる。
【００１９】
チューブ１０は、後述のように弾性を有する素材で形成されており、長手方向での寸法が変化自在、すなわち伸縮自在である。具体的には、長手方向において張力が付与されることにより長手方向に延びた延伸状態となる（図１の（Ｂ）参照）が、その張力が解除されることにより元の長さに戻る（図１の（Ａ）参照）。そのため、チューブ１０は、径方向においても寸法が変化自在、すなわち拡縮自在でとなっている。つまり、延伸状態では、張力が解除された状態（以下、単に「解除状態」と称する）に比べて、外径ＤＥと内径ＤＩとが小さい。
【００２０】
このように、チューブ１０は長手方向での張力の付与と解除とによって伸縮自在であるから、例えば、他の部材や装置などに巻き付けて使用する場合において巻き付けの作業がしやすいし、巻き付けた後の放置状態においても、巻き緩みがしにくい。また、他の部材や装置にチューブ１０を紐、結束バンド、針金などの固定部材によって固定した場合には、安定した固定状態が維持される。このように、チューブ１０は、取り扱いやすい。なお、チューブ１０の内表面には符号１０ａを付し、外表面には符号１０ｂを付す。チューブ１０の内表面１０ａには周方向に延びた複数の突条１１（図２参照）が、長手方向に並んで形成されているが、この例のチューブ１０では、外表面１０ｂにはこのような突条１１は形成されておらず、平坦とされている。
【００２１】
図２に示すように、上記複数の突条１１の各々は周方向（図２の紙面奥行方向）に延びている。複数の突条１１は、互いに接した状態で長手方向に並列して。突条１１のピッチＰ１１は１．５μｍ以下である。すなわち、ピッチＰ１１は、０より大きく１．５μｍ以下の範囲内である。なお、前述の通り、チューブ１０は、解除状態においては、延伸状態から長さＬが短く戻った状態にあるから、上記のピッチＰ１１は、この短く戻った解除状態における値である。このような非常に小さなピッチＰ１１で複数の突条１１が内表面１０ａに形成されているから、チューブ１０は、内表面１０ａにおいて撥水性をしめす。チューブ１０は、外表面１０ｂにおける水の接触角が９５°であるのに対し、内表面１０ａにおける水の接触角は１２５°である。チューブ１０の内表面１０ａは撥水性を有するから、例えば、水溶液などの水系液を送る場合において、内表面１０ａに対する液の付着が抑制される。このため、目的とする送り先に、所定量の液を無駄なく送ることができたり、あるいは、送る液を切り替える場合には先に送っていた第１の液と、後に送る第２の液との混じり合いがごく少量に抑えられるから混液の廃棄量が少量に抑えられ、かつ、切り替えが迅速になる。ピッチＰ１１は、１μｍ以上３μｍ以下の範囲内であることがより好ましく、１．５μｍ以上２．０μｍ以下の範囲内であることがさらに好ましい。
【００２２】
ピッチＰ１１は、図２に示すように、突条１１の頂部間距離である。また、上記の水の接触角は、蒸留水を用いた前進接触角である。接触角は、日本工業規格ＪＩＳ  Ｒ  ３２５７により求めることができ、本実施形態では協和界面科学（株）製のポータブル接触角計  ＰＣＡ−１により測定している。
【００２３】
突条１１の高さＨ１１は、解除状態において１．０μｍ以上３．０μｍ以下の範囲内であることが好ましい。突条１１の高さＨ１１は、１．５μｍ以上２．５μｍ以下の範囲内であることがより好ましく、２．０μｍ以上２．５μｍ以下の範囲内であることがさらに好ましい。高さＨ１１は、図２に示すように、突条１１と突条１１との間に形成される谷部を基準とした突条１１の頂部の高さである。
【００２４】
前述の通りチューブ１０は長手方向における張力の付与により伸縮自在であるから、高さＨ１１は、付与される張力によって変化自在である。すなわち、付与されている張力が大きいほど高さＨは小さく、張力が小さいほど高さＨは大きい。このように、付与される張力によって高さＨ１１が変化自在であるから、撥水性の制御が可能である。
【００２５】
長手方向に沿った断面において、突条１１の外郭の形状は、図２においては円弧状に描いてあるが、楕円弧状と、放物線状と、チューブ１０の中空部側に凸のその他の曲線の場合もある。また、向きが異なる直線が接続した形状である場合もある。
【００２６】
チューブ１０は、内表面１０ａを成す内周部１５と外表面１０ｂを成す外周部１６との２層構造となっていることがより好ましく、本例でもそのようになっている。長手方向に沿った断面において、内周部１５と外周部１６との境界は、この例では、三角状の山部と谷部とが連なった形状として描いているが、この例に限られない。外周部１６は、弾性を有する素材としてのポリシロキサンで形成されていることが好ましく、これにより、チューブ境界は、この例では、三角状の山部と谷部とが連なった形状として描いているが、この例に限られない。外周部１６は、弾性を有する素材としてのポリシロキサンで形成されていることが好ましく、これにより、チューブ１０は伸縮自在となっている。また、外周部１６の厚みＴ１６は、内周部１５の厚みＴ１５よりも大きいから、チューブ１０はより確実に伸縮自在となっている。
【００２７】
突条１１は、単位体積において酸素の数が外周部１６よりも多いケイ素化合物で形成されている。これは、突条１１が、後述の製造方法においてポリシロキサンがプラズマ処理により酸化した酸化ケイ素（ガラス）で形成されているからである。これにより、突条１１は外周部１６よりも硬くなっており、その結果、延伸状態と解除状態との間でチューブ１０が伸縮を繰り返しても、突条１１の破壊が抑えられ、撥水性がより確実に維持される。内周部１５は複数の突条１１を有しており、内周部１５全体が、単位体積あたりの酸素の数が外周部１６よりも多い前述のケイ素化合物で形成されている。
【００２８】
内周部１５と外周部１６との境界は、内周部１５と外周部１６との酸素の数を調べることにより確認することができる。具体的には以下である。まず、内周部１５をＸ線光電子分光法（ＸＰＳ：X-ray Photoelectron Spectroscopy）により分析する。次に、イオンスパッタを行って内周部１５の表層を除去した後、再びＸＰＳ分析を行なう。このようにイオンスパッタによる表層の除去とＸＰＳ分析とを繰り返すことにより、内周部１５から外周部１６に向けた組成プロファイルが取得できる。このデータをもとに、酸素に帰属する光電子強度を比較することにより、内周部１５が外周部１６よりも酸素の比率が高い組成であることが分かり、かつ、内周部１５と外周部１６との境界を確認することができる。内周部１５と外周部１６との境界は視認できない場合もあるが、視認できない場合であっても、上記の方法を用いることにより上記境界は確認される。
【００２９】
図２に示すように、前述の厚みＴ１５は、上記の方法で求めた内周部１５と外周部１６との境界から、内周部１５の表面までの距離である。なお、外周部１６の厚みは、解除状態において突条１１と突条１１との間に形成される谷部から外表面１０ｂまでの距離とする。
【００３０】
図３に示すチューブ製造設備３０は、チューブ１０を製造するためのものである。チューブ１０の材料としては、本実施形態では、弾性を有する素材としてのポリシロキサンで形成されたチューブ材３１を用いており、チューブ材３１は伸縮自在である。この例では、外径が６ｍｍであり、厚みが１ｍｍ、長さが３０ｃｍのチューブ材３１を用いている。チューブ製造設備３０は、プラズマ発生装置３２と、一対の固定部３３，３４とを備える。チューブ製造設備３０は、本実施形態のように吸引部３６と酸素供給部３７とを備えることが好ましい。
【００３１】
プラズマ発生装置３２は、チューブ材３１の中空部にプラズマを発生させるためのものであり、第１電極４１と、第２電極４２と、電源４３とを備える。第１電極４１と第２電極４２とは、例えば銅などの導電性素材で形成された電極部材４１ａと電極部材４２ａとが、周方向に回動自在なローラ４１ｂとローラ４２ｂとの周面に設けられた構成とされている。ローラ４１ｂとローラ４２ｂとは、外径が３０ｍｍのものを用いているが、この例に限られない。電極部材４１ａと電極部材４２ａとのそれぞれは電源４３に接続されている。電源４３は、第１電極４１の電極部材４１ａと第２電極４２の電極部材４２ａとの間に電圧を印加し、これによりプラズマが発生する。なお、本実施形態では、電源４３は、２００Ｗの電力で電圧を印加しており、電圧の印加時間は５分としている。
【００３２】
第１電極４１と第２電極４２とは互いに離間して配され、かつ、絶縁体上に配されることにより、電極部材４１ａと電極部材４２ａとを電気的に絶縁した状態にしている。ただし、第１電極４１と第２電極４２との構成は上記に限られず、互いに離間して配され、かつ、電極部材４１ａと電極部材４２ａとが電気的に絶縁した状態であればよい。なお、第１電極４１と第２電極４２とのいずれか一方はアース電極とされており、図３においては第１電極４１をアース電極としている。
【００３３】
チューブ材３１を長手方向に延伸し（延伸ステップ）、延伸されている状態のチューブ材３１を電極部材４１ａと電極部材４２ａとのそれぞれに接触させる。延伸されているチューブ材３１を電極部材４１ａと電極部材４２ａとに接触させた状態で、電極部材４１ａと電極部材４２ａとに電圧を印加することにより、チューブ材３１の中空部にプラズマが発生する。これにより、チューブ材３１は内表面側がプラズマ処理される（プラズマ処理ステップ）。このプラズマ処理により、チューブ１０が製造される。ただし、プラズマ処理中と同じ延伸状態にある間は、内表面１０ａにおいて突条１１は確認されず、長手方向における張力を小さくすることにより突条１１が生成し、確認される。なお、この例のプラズマ処理は、酸素プラズマ処理である。
【００３４】
本実施形態では、３０ｃｍのチューブ材３１を２０％延伸することにより３６ｃｍの長さにする。固定部３３は、第１電極４１ａの第２電極４２ａとは反対側に配され、固定部３４は、第２電極４２ａの第１電極４１ａとは反対側に配されている。固定部３３は、延伸したチューブ材３１の一端を固定し、固定部３４は延伸したチューブ材３１の他端を固定する。これにより、チューブ材３１は延伸状態が維持された状態で、電極部材４１ａと電極部材４２ａとのそれぞれに接触する状態に配される。電極部材４１ａと電極部材４２ａとに接触している間のチューブ材３１の延伸率は、５％以上３０％以下の範囲内であることが好ましい。この延伸率（単位は％）は、チューブ材３１の解除状態における長さをＸとし、延伸状態における長さをＹとするときに、｛（Ｙ−Ｘ）／Ｘ｝×１００で求める。
【００３５】
チューブ材３１の電極部材４１ａとの接触位置を第１接触位置Ｐ１とし、電極部材４２ａとの接触位置を第２接触位置Ｐ２とする。第１接触位置Ｐ１と第２接触位置Ｐ２との距離ＤＰは５０ｍｍ以下、すなわち０より大きく５０ｍｍ以下の範囲内であることが好ましい。距離ＤＰが５０ｍｍ以下であることにより、５０ｍｍよりも大きい場合に比べて、より確実に、延伸された状態のチューブ材３１の中空部にプラズマが発生する。距離ＤＰは、１０ｍｍ以上４０ｍｍ以下の範囲内であることがより好ましく、２０ｍｍ以上３０ｍｍ以下の範囲内であることがさらに好ましい。
【００３６】
電源４３が印加する電圧は交流電圧であることが好ましい。これにより、導電率の低いチューブ材３１を用いても、その中空部に、十分な電離密度のプラズマを、確実に発生させることができる。
【００３７】
交流電圧の周波数は、８ｋＨｚ以上４０ｋＨｚ以下の範囲内であることが好ましく、本実施形態では１０ｋＨｚとしている。交流電圧の周波数が８ｋＨｚ以上であることにより、８ｋＨｚ以下である場合に比べて、高い電離密度のプラズマが生成される。交流電圧の周波数が４０ｋＨｚ以下であることにより、４０ｋＨｚよりも大きい場合に比べて、第１接触位置Ｐ１と第２接触位置Ｐ２との電位差が大きくなるから、第１接触位置Ｐ１と第２接触位置Ｐ２との距離ＤＰが例えば５０ｍｍというように大きくされていても、チューブ材３１の中空部に、より確実にプラズマが発生する。交流電圧の周波数は、１０ｋＨｚ以上３０ｋＨｚ以下の範囲内であることがより好ましく、１０ｋＨｚ以上２０ｋＨｚ以下の範囲内であることがさらに好ましい。
【００３８】
吸引部３６は、プラズマ処理中におけるチューブ材３１の中空部を減圧状態に保持するためのものである。この例の固定部３４には、接続口３４ａが設けられている。この接続口３４ａの一端に吸引部３６が接続され、接続口３４ａの他端は固定部３４の内部において、延伸されているチューブ材３１に接続される。吸引部３６には、チューブ材３１の中空部の圧力を検出する圧力センサ（図示無し）が設けられており、この圧力センサの検出信号に基づいて吸引部３６の吸引力を調整することにより、チューブ材３１の中空部が目的とする圧力に減圧される。本実施形態においては、プラズマ処理中のチューブ材３１の中空部の圧力を１０Ｐａに保持している。このように、プラズマ処理ステップは、チューブ材３１の中空部を減圧する減圧ステップを有することが好ましい。チューブ材３１の中空部を減圧状態にすることにより、より確実に、十分な量のプラズマが発生する。また、中空部を減圧状態に保持した状態でプラズマ処理をすることにより、より確実に、突条１１が形成される。
【００３９】
固定部３３側のチューブ材３１の端部は栓（図示無し）により中空部を塞いだ状態にしてもよいが、本実施形態のように、酸素供給部３７に接続することがより好ましい。酸素供給部３７は、プラズマ処理中のチューブ材３１の中空部に酸素を供給するためのものである。この例の固定部３３には、固定部３４と同様に接続口３３ａが設けられている。この接続口３３ａの一端に酸素供給部３７が接続され、接続口３３ａの他端は固定部３３の内部において、延伸されているチューブ材３１に接続される。酸素供給部３７からの酸素の流量は、特に限定されないが、本実施形態においては１分あたり２０ｃｍ3としている。
【００４０】
チューブ材３１を長手方向に移動させ、順次プラズマ処理を行うとよい。プラズマ処理を経た後に、プラズマ処理中と同じ延伸状態に維持した状態で巻き芯などに巻き取ってもよい。この場合には、巻き芯からの巻出しにおいて延伸を解除する（延伸解除ステップ）ことにより、突条１１が確認されるチューブ１０として得られる。また、プラズマ処理を経た後に、延伸を解除し（延伸解除ステップ）、延伸を解除したチューブ１０を巻き芯などに巻き取ってもよい。
【００４１】
図４に示すチューブ製造設備６０は、チューブ１０を製造するためのものである。チューブ１０の材料としては、本実施形態におけるチューブ材３１は、長さが２ｍである以外はチューブ製造設備３０における上記実施形態で用いたチューブ材３１と同じである。チューブ製造設備６０は、プラズマ発生装置３２と、搬送装置６１とを備える。なお、図４において図３と同じ装置及び部材については、図３と同じ符号を付し、説明を略す。
【００４２】
搬送装置６１は、送出部６２と巻取部６３と制御部６６とを備える。送出部６２はチューブ材３１を送り出すためのものであり、巻取部６３はチューブ１０を巻き取るためのものである。制御部６６は、送出部６２と巻取部６３との駆動を統括的に制御する。
【００４３】
送出部６２は、チューブ材３１が巻かれた巻き芯６７がセットされる軸６８と、軸６８を回転させるモータ６９とを備え、軸６８と巻き芯６７とは図４における反時計回りに一体に回転する。巻取部６３は、巻き芯７２がセットされる軸７３と、軸７３を回転させるモータ７４とを備え、巻き芯７２はチューブ１０を巻くためのものである。
【００４４】
軸７３と巻き芯７２とは図４における反時計回りに一体に回転する。軸６８と軸７３とは、制御部６６による制御のもとで、モータ６９とモータ７４とにより回転し、これにより、巻き芯６７からチューブ材３１が送り出され、巻き芯７２にチューブ１０が巻かれる。軸７３の回転速度を軸６８の回転速度よりも大きくすることにより、送出部６２と巻取部６３との間に配置されたプラズマ発生装置３２に供するチューブ材３１を延伸する。ただし、チューブ材３１の延伸の手法は、これに限られない。以上のようにしてチューブ材３１は延伸した状態で搬送され（搬送ステップ）、プラズマ処理は、搬送中のチューブ材３１に対して行われる。このように、プラズマ処理は、チューブ材３１を搬送しながら行っており、搬送中のチューブ材３１の中空部にプラズマを発生させる。
【００４５】
第１電極４１と第２電極４２とは、接触するチューブ材３１の搬送に伴って従動回転する。なお、この例では、第１電極４１と第２電極４２とを回動自在に設けていることにより、例えば延伸率を製造中において変更する場合において、チューブ３１が送出部６２側に引っ張られても、チューブ材３１の電極部材４１ａと電極部材４２ａとのそれぞれに対する摩擦が抑制され、その結果、チューブ材３１の外表面の傷付きが抑制される。ただし、第１電極４１と第２電極４２とは、図４における反時計回りに回転自在に設けてもよい。また、第１電極４１と第２電極４２とは、回転駆動させてもよい。
【００４６】
この例では、プラズマ処理における延伸率を保持した状態でチューブ１０を巻き芯６７に巻き取っている。したがって、巻かれた状態では突条１１は確認されないが、巻き芯６７から巻き出し、延伸を解除する（延伸解除ステップ）ことにより、突条１１が確認される。なお、巻き芯６７からチューブ１０を巻き出し、延伸を解除し（延伸解除ステップ）てから、他の巻き芯（図示なし）へ巻き取ってもよい。
【００４７】
この例においても、チューブ製造設備３０における前述の実施形態と同様に、チューブ材３１の中空部の減圧と、チューブ材３１の中空部への酸素の供給とを行っている。この例の軸７３には接続口（図示無し）が設けられている。この接続口の一端に吸引部３６が接続され、接続口の他端は軸７３の内部において、延伸されているチューブ材３１に接続される。これにより、チューブ材３１の中空部が減圧される。また、この例の軸６８には接続口（図示無し）が設けられている。この接続口の一端に酸素供給部３７が接続され、他端は軸６８の内部において、延伸されているチューブ材３１に接続される。これにより、チューブ材３１の中空部に酸素が供給される。
【００４８】
電源４３での電力と電圧の印加時間を変えることにより、高さＨ１１などの突条１１の態様を変えることができる（図６Ａ〜図６Ｃ参照）。図６Ａの画像は、５００Ｗの電力で、電圧を３分間印加した場合に得られたチューブ１０の内表面１０ａである。図６Ｂの画像は、５００Ｗの電力で、電圧を１分間印加した場合に得られたチューブ１０の内表面１０ａである。図６Ｃの画像は、３００Ｗの電力で、電圧を１分間印加した場合に得られたチューブ１０の内表面１０ａである。なお、図６Ａ〜図６Ｃにおける左右方向はチューブ１０の長手方向であり、図６Ａ〜図６Ｃにおける上下方向はチューブ１０の内表面１０ａの周方向である。
【符号の説明】
【００４９】
１０    チューブ
１０ａ  内表面
１０ｂ  外表面
１１    突条
１５    内周部
１６    外周部
３０，６０    チューブ製造設備
３１    チューブ材
３２    プラズマ発生装置
３３，３４    固定部
３６    吸引部
３７    酸素供給部
４１，４２    第１電極，第２電極
４１ａ，４２ａ  電極部材
４１ｂ，４２ｂ  ローラ
４３    電源
６１    搬送装置
６２    送出部
６３    巻取部
６６    制御部
６７    巻き芯
６８    軸
６９    モータ
７２    巻き芯
７３    軸
７４    モータ
ＤＥ    外径
ＤＩ    内径
ＤＰ    距離
Ｈ１１  高さ
Ｌ      長さ
Ｐ１    第１接触位置
Ｐ２    第２接触位置
Ｐ１１  ピッチ
Ｔ１０  チューブの厚み
Ｔ１５  内周部の厚み
Ｔ１６  外周部の厚み
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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