(57)【要約】【課題】被研磨軟質シートを高精度に研磨することにより、研磨パッドをはじめとする軟質シートを高品質かつ効率的に製造することが可能な軟質シート製造方法及び軟質シート研磨装置を提供すること。【解決手段】研磨パッド研磨装置１００であって、定盤本体２２の研磨側面に研磨パッドＰを保持する軟質シート保持定盤２０と、前記軟質シート保持定盤２０に対して回転しながら相対移動する研磨ロール４０と、前記研磨ロール４０を回転駆動する回転駆動部と、前記軟質シート保持定盤２０と前記研磨ロール４０とを相対移動する相対移動駆動部１３と、前記定盤本体２２を減圧する減圧ポンプ６０と、を備え、前記定盤本体２２は三次元多孔質体によって形成され、前記減圧ポンプ６０によって前記定盤本体２２を減圧して、前記研磨側面に研磨パッドＰを吸引、保持することを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
三次元多孔質体によって形成された定盤本体の内部を減圧して、前記定盤本体の研磨側面に配置した被研磨軟質シートを吸引して保持し、
回転された研磨ロールと前記定盤本体に保持された被研磨軟質シートとを相対移動させることにより、前記被研磨軟質シートを研磨して軟質シートを製造することを特徴とする軟質シート製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の軟質シート製造方法であって、
前記三次元多孔質体として多孔質セラミックスを用いることを特徴とする軟質シート製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の軟質シート製造方法であって、
前記定盤本体を石定盤基部に保持させて前記被研磨軟質シートを研磨することを特徴とする軟質シート製造方法。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載の軟質シート製造方法であって、
前記定盤本体と前記研磨ロールとは共加工されていることを特徴とする軟質シート製造方法。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載の軟質シート製造方法であって、
前記研磨ロールと前記被研磨軟質シート表面との相対距離に基づいて、前記定盤本体と前記研磨ロールの間隔を調整しながら前記被研磨軟質シートを研磨することを特徴とする軟質シート製造方法。
【請求項６】
定盤本体を有し、前記定盤本体の研磨側面に軟質シートを保持する軟質シート保持定盤と、
前記軟質シート保持定盤に対して回転しながら相対移動可能とされる研磨ロールと、
前記研磨ロールを回転駆動する回転駆動部と、
前記軟質シート保持定盤と前記研磨ロールとを相対移動する相対移動駆動部と、
前記定盤本体の内部を減圧する減圧手段と、
を備え、
前記定盤本体は三次元多孔質体によって形成され、
前記減圧手段によって前記定盤本体の内部を減圧することにより、前記研磨側面に配置された軟質シートを吸引して保持するように構成されていることを特徴とする軟質シート研磨装置。
【請求項７】
請求項６に記載の軟質シート研磨装置であって、
三次元多孔質体は、
多孔質セラミックスにより形成されていることを特徴とする軟質シート研磨装置。
【請求項８】
請求項６又は７に記載の軟質シート研磨装置であって、
前記軟質シート保持定盤は、
前記定盤本体を保持する石定盤基部を備えていることを特徴とする軟質シート研磨装置。
【請求項９】
請求項６から８のいずれか１項に記載の軟質シート研磨装置であって、
前記定盤本体と前記研磨ロールとは、共加工されていることを特徴とする軟質シート研磨装置。
【請求項１０】
請求項６から９のいずれか１項に記載の軟質シート研磨装置であって、
前記研磨ロールと前記被研磨軟質シート表面との相対距離を測定する距離測定手段と、
前記定盤本体と前記研磨ロールの間隔を調整する間隔調整手段と、
を備え、
前記距離測定手段が測定した前記研磨ロールと前記被研磨軟質シート表面との相対距離に基づいて、前記定盤本体と前記研磨ロールの間隔を調整しながら前記被研磨軟質シートを研磨するように構成されていることを特徴とする軟質シート研磨装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被研磨軟質シートを高精度に研磨することにより、研磨パッドをはじめとする軟質シートを高品質かつ効率的に製造することが可能な軟質シート製造方法及び軟質シート研磨装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
周知のように、ウェーハ等の基板を研磨する基板研磨装置においては、定盤に貼着した研磨パッドに対して基板を押圧、相対移動させることによって基板を研磨することが広く行われている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
このような基板研磨で用いられる研磨パッドには、基板の研磨品質に応じた高い平面度を確保する必要がある。
また、研磨シートに限定されず、プラスチック、ゴムをはじめとする軟質シートを高品質に製造する場合には、材料となる被研磨軟質シートを高精度に研磨することが必要な場合がある。
【０００４】
そこで、被研磨軟質シートを高精度に研磨することにより、厚さが均一で高い平面度を有する軟質シートを製造することを目的とする種々の研磨装置が開示されている（例えば、特許文献２参照。）。
【０００５】
特許文献２に記載のシート材研磨装置は、例えば、図３に示すような上部に多数の細孔が形成された真空箱の内部を真空にして、この細孔を介して被研磨シートを吸引して保持し、この保持された被研磨シートを研磨することで、軟質シートの研磨精度を向上させようとするものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平９−１５５７２１号公報
【特許文献２】特開２０００−１５８３０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献２に記載のシート研磨装置では、被研磨シートを多数の細孔を介して吸引するので、被研磨シートの研磨面に吸引による凹部が形成され、吸引が解除されると、この凹部が元の位置に復元して突出することから、軟質シートに十分な平面度を確保することが困難な場合がある。
【０００８】
そこで、被研磨軟質シートを高精度に研磨することにより、研磨パッドをはじめとする軟質シートを高品質かつ効率的に製造することが可能な軟質シート製造方法及び軟質シート研磨装置に対する要求がある。
【０００９】
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであって、被研磨軟質シートを高精度に研磨することにより、研磨パッドをはじめとする軟質シートを高品質かつ効率的に製造することが可能とされる軟質シート製造方法及び軟質シート研磨装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記課題を解決するため、この発明は以下の手段を提案している。
請求項１に記載の発明は、軟質シート製造方法であって、三次元多孔質体によって形成された定盤本体の内部を減圧して、前記定盤本体の研磨側面に配置した被研磨軟質シートを吸引して保持し、回転された研磨ロールと前記定盤本体に保持された被研磨軟質シートとを相対移動させることにより、前記被研磨軟質シートを研磨して軟質シートを製造することを特徴とする。
【００１１】
請求項６に記載の発明は、軟質シート研磨装置であって、定盤本体を有し、前記定盤本体の研磨側面に軟質シートを保持する軟質シート保持定盤と、前記軟質シート保持定盤に対して回転しながら相対移動可能とされる研磨ロールと、前記研磨ロールを回転駆動する回転駆動部と、前記軟質シート保持定盤と前記研磨ロールとを相対移動する相対移動駆動部と、前記定盤本体の内部を減圧する減圧手段と、を備え、前記定盤本体は三次元多孔質体によって形成され、前記減圧手段によって前記定盤本体の内部を減圧することにより、前記研磨側面に配置された軟質シートを吸引して保持するように構成されていることを特徴とする。
【００１２】
この発明に係る軟質シート製造方法及び軟質シート研磨装置によれば、三次元多孔質体によって形成された定盤本体の内部を減圧して、定盤本体２２の研磨側面に配置した被研磨軟質シートを吸着保持するので、被研磨軟質シートを容易かつ安定して保持させることができる。
また、定盤本体の研磨側面に被研磨軟質シートを吸着保持することで、被研磨軟質シートと定盤本体の間から気泡が確実に除去され、その状態で研磨ロールと被研磨軟質シートを相対移動させて被研磨軟質シートを研磨するので、研磨後の軟質シートに凹凸が発生するのが抑制されて、被研磨軟質シートを高精度に研磨することができる。
その結果、高品質な軟質シートを効率的に製造することができ、ひいては、軟質シートを製造する際の生産性を向上することができる。
【００１３】
この明細書において、三次元多孔質体とは、表面に多数の孔が開口し、内部に形成された空隙によって流体（空気等）が任意の方向に流通可能とされた３次元網目構造をいう。なお、３次元網目構造は、例えば、スポンジや海綿等のように空隙が不規則に形成されているもののほか、空隙又は３次元網目構造をなす基材が規則性を形成されていてもよい。
また、例えば、特定の部位に形成した吸引部から空気を吸引（減圧）した場合に、あらかじめ設定した部位（例えば、特定の面、又は吸引部を除く全表面）から空気が流入した場合であっても、定盤本体内部を減圧された状態に維持可能であることが好適である。
【００１４】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の軟質シート製造方法であって、前記三次元多孔質体として多孔質セラミックスを用いることを特徴とする。
【００１５】
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の軟質シート研磨装置であって、三次元多孔質体は、多孔質セラミックスにより形成されていることを特徴とする。
【００１６】
この発明に係る軟質シート製造方法及び軟質シート研磨装置によれば、三次元多孔質体が多孔質セラミックスとされているので、研磨圧等により変形するのが抑制され、被研磨軟質シートを安定して研磨することができる。
また、定盤本体が経年変化により摩耗、劣化することが抑制され、長期間にわたって安定した品質を確保することができる。
【００１７】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の軟質シート製造方法であって、前記定盤本体を石定盤基部に保持させて前記被研磨軟質シートを研磨することを特徴とする。
【００１８】
請求項８に記載の発明は、請求項６又は７に記載の軟質シート研磨装置であって、前記軟質シート保持定盤は、前記定盤本体を保持する石定盤基部を備えていることを特徴とする。
【００１９】
この発明に係る軟質シート製造方法及び軟質シート研磨装置によれば、定盤本体を堅固な石定盤基部に保持させて被研磨軟質シートを研磨するので、定盤本体がしっかりと保持されるとともに、高い減衰能を確保することができ、外部の振動によって研磨品質が影響されるのを抑制することができる。
その結果、軟質シートの研磨品質を効率的に向上することができる。
【００２０】
請求項４に記載の発明は、請求項１から３のいずれか１項に記載の軟質シート製造方法であって、前記定盤本体と前記研磨ロールとは共加工されていることを特徴とする。
【００２１】
請求項９に記載の発明は、請求項６から８のいずれか１項に記載の軟質シート研磨装置であって、前記定盤本体と前記研磨ロールとは、共加工されていることを特徴とする。
【００２２】
この発明に係る軟質シート製造方法及び軟質シート研磨装置によれば、定盤本体と研磨ロールとが共加工されているので、定盤本体と研磨ロールの間隔が均一に維持されて間隔がばらつくのを抑制することができる。
その結果、軟質シートの研磨精度を向上することができる。
【００２３】
請求項５に記載の発明は、請求項１から４のいずれか１項に記載の軟質シート製造方法であって、前記研磨ロールと前記被研磨軟質シート表面との相対距離に基づいて、前記定盤本体と前記研磨ロールの間隔を調整しながら前記被研磨軟質シートを研磨することを特徴とする。
【００２４】
請求項１０に記載の発明は、請求項６から９のいずれか１項に記載の軟質シート研磨装置であって、前記研磨ロールと前記被研磨軟質シート表面との相対距離を測定する距離測定手段と、前記定盤本体と前記研磨ロールの間隔を調整する間隔調整手段と、を備え、前記距離測定手段が測定した前記研磨ロールと前記被研磨軟質シート表面との相対距離に基づいて、前記定盤本体と前記研磨ロールの間隔を調整しながら前記被研磨軟質シートを研磨するように構成されていることを特徴とする。
【００２５】
この発明に係る軟質シート製造方法及び軟質シート研磨装置によれば、被研磨軟質シート表面との相対距離に基づいて、定盤本体と研磨ロールの間隔を調整しながら被研磨軟質シートを研磨するので、被研磨軟質シートを効率的に所望の厚さの軟質シートに研磨することができる。
【発明の効果】
【００２６】
この発明に係る軟質シート製造方法及び軟質シート研磨装置によれば、被研磨軟質シートを高精度に研磨することが可能となり、高品質な軟質シートを効率的に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の一実施形態に係る研磨パッド研磨装置の概略構成を説明する正面図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る研磨パッド研磨装置の概略構成を説明する平面図である。
【図３】本発明の一実施形態に係る研磨パッド研磨装置の概略構成を説明する側面図である。
【図４】本発明の一実施形態に係る研磨パッド保持定盤の概略構成を説明する図であり、図２において矢視ＩＶ−ＩＶで示す縦断面図である。
【図５】本発明の一実施形態に係る研磨パッド保持定盤を構成する石定盤基部の概略構成を説明する平面図である。
【図６】本発明の一実施形態に係る研磨パッド研磨装置を構成する研磨ロールの概略構成を説明する縦断面図である。
【図７】本発明の一実施形態に係る研磨パッド製造方法の概略を説明するフローチャートである。
【図８】本発明の一実施形態に係る研磨パッド研磨装置の動作の概略を説明する概念図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、図１〜図８を参照して、本発明の一実施形態について説明する。
図１〜図３は、本発明の一実施形態に係る研磨パッド研磨装置の概略構成を説明する図である。
図１〜図３において、符号１００は研磨パッド研磨装置（軟質シート研磨装置）を、符号２０は研磨パッド保持定盤（軟質シート保持定盤）を、符号４０は研磨ロールを、符号Ｐは研磨パッド（被研磨軟質シート）を示している。
【００２９】
研磨パッド研磨装置（軟質シート研磨装置）１００は、図１〜図３に示すように、例えば、研磨装置本体１０と、研磨対象の研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐを保持する研磨パッド保持定盤（軟質シート保持定盤）２０と、研磨ロール駆動ユニット３０と、研磨ロール４０と、レーザ変位センサ（距離測定手段）５０と、減圧ポンプ（減圧手段）６０と、吸引手段６５と、冷却水供給ユニット（不図示）と、制御部（不図示）とを備えている。
【００３０】
そして、研磨パッド研磨装置１００は、研磨ロール４０を軸線Ｏ１周りに矢印Ｒ１方向に回転駆動させながら、研磨パッド保持定盤２０に保持させた研磨パッドＰと相対移動させて、研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐを研磨して、完成品の研磨パッド（軟質シート、不図示）を製造するようになっている。
【００３１】
研磨装置本体１０は、図１、図２、図３に示すように、例えば、研磨装置本体フレーム１１と、定盤移動台車１２と、定盤移動台車駆動部（相対移動駆動部）１３とを備えている。
【００３２】
研磨装置本体フレーム１１は、例えば、矩形に形成されたフレーム本体１１１と、フレーム本体１１１の上部に配置されたレール１１２とを備え、レール１１２上には定盤移動台車１２が配置されている。
【００３３】
定盤移動台車１２は、台車本体１２１と、台車本体１２１の下部に配置されレール１１２に対して回転可能とされて、レール１１２に沿って台車本体１２１を移動可能とする駆動車輪１２２とを備えている。
また、定盤移動台車１２の上部には、研磨パッド保持定盤２０が取り付けられている。
【００３４】
定盤移動台車駆動部（相対移動駆動部）１３は、例えば、モータ（回転駆動部）１３１と、ボールねじとを備えていて、ボールねじは、ねじ本体１３２と、ねじ受け部１３３とを有している。
【００３５】
そして、ねじ本体１３２は、第１端がモータ１３１と接続され、第２端がフレーム本体１１１に設けられた軸受（不図示）と接続されていて、モータ１３１を回転駆動することにより、矢印Ｒ２方向に回転可能とされている。
【００３６】
ねじ受け部１３３は、例えば、定盤移動台車１２の下部に取付けられていて、巡回可能とされねじ本体１３２との摩擦抵抗を小さくするための複数のボールが内蔵されていて、ねじ受け部１３３とねじ本体１３２とは、軸線Ｏ２方向に相対移動可能かつ軸線Ｏ２周りに回転可能に装着されている。
【００３７】
このような構成により、モータ（回転駆動部）１３１を矢印Ｒ２方向に回転させることによって、定盤移動台車１２を矢印Ｔ１方向に往復移動させることが可能とされている。
【００３８】
以下、図４、図５を参照して、一実施形態に係る研磨パッド保持定盤２０の概略構成について説明する。
図４は、一実施形態に係る研磨パッド保持定盤２０の概略構成を説明する縦断面図であり、図５は、研磨パッド保持定盤２０を構成する石定盤基部２１の概略構成を説明する平面図である。
【００３９】
研磨パッド保持定盤（軟質シート保持定盤）２０は、図１〜図３に示すように、定盤移動台車１２の上部に配置されている。
また、研磨パッド保持定盤２０は、図４に示すように、例えば、石定盤基部２１と、石定盤基部２１の上面に配置された定盤本体２２とを備えている。
【００４０】
石定盤基部２１は、図５に示すように、例えば、石定盤基部２１の上面に形成され石定盤基部２１の外周を囲繞する矩形の縁部２１１と、縁部２１１の内方に形成された研磨パッド保持定盤２０の幅方向に伸びる複数の溝部と、この複数の凹部と直交（交差）して形成された複数の溝部により画成された減圧空気を流通させるための減圧流路２１Ｕと、減圧流路２１Ｕの間に形成され上方に向かって突出し頂部が平坦に形成された複数の切頭凸部２１２と、石定盤基部２１の上面の中央部に形成された減圧用吸引孔２１Ｈとを備えている。
【００４１】
この実施形態では、石定盤基部２１は、花崗岩等の通気性が低く、減衰能が高い材料によって形成されている。なお、石定盤基部２１の材質は、花崗岩に限定されず任意に設定することができる。
【００４２】
減圧用吸引孔２１Ｈは、例えば、一端が減圧流路２１Ｕ内に開口するとともに他端が石定盤基部２１の下方に開口し、減圧用吸引孔２１Ｈの他端に減圧ポンプ（減圧手段）６０が接続されて、減圧流路２１Ｕ内の空気６０Ｖを減圧ポンプ６０に向かって吸引して減圧流路２１Ｕ内を減圧することが可能とされている。
なお、減圧ポンプ（減圧手段）６０としては、真空ポンプ等、周知の減圧ポンプを使用することができる。
【００４３】
縁部２１１は、例えば、切頭凸部の平坦部と面一に形成されていて、定盤本体２２の下面外周を支持するとともに、上面にエポキシ樹脂２５が塗布されることで、石定盤基部２１と定盤本体２２が接着されるとともに石定盤基部２１と定盤本体２２の間が縁部２１１においてシールされ、外方から減圧流路２１Ｕに空気が流入するのを抑制して減圧状態を維持可能に構成されている。
【００４４】
切頭凸部２１２は、図５に示すように、例えば、平面視矩形とされ減圧流路２１Ｕによって形成される立上壁部と立上壁部の上部に位置される平坦な頂部とを備えていて、頂部に定盤本体２２が保持されるようになっている。
【００４５】
また、切頭凸部２１２は、上面にスペーサ２４が配置されて、スペーサ２４の周囲にエポキシ樹脂２５が充填されていて、エポキシ樹脂２５を介して定盤本体２２が接着されていて、石定盤基部２１が定盤本体２２を接着、保持するようになっている。
ここで、スペーサ２４は、エポキシ樹脂２５の充填厚さを確保して充分な接着力を確保するものである。
【００４６】
定盤本体２２は、例えば、３次元多孔質体により形成されている。
ここで、３次元多孔質体とは、例えば、スポンジ状の３次元網目構造を有していて、この３次元網目構造に形成された空隙を通じて、定盤本体２２の内部を空気が任意の方向に流通可能とされている。なお、３次元網目構造が、規則性を有するか不規則であるかは任意に設定することができる。
【００４７】
また、この実施形態では、３次元多孔質体として、例えば、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）系セラミックスからなる多孔質セラミックスが用いられている。
この多孔質セラミックスは、例えば、熱膨張率（線膨張率）：１〜５×１０−６／Ｋ、気孔率約４０％、平均気孔径：約２０μｍであることが好適である。
【００４８】
このような構成を採用することにより、定盤本体２２の内部を減圧することによって、研磨側面２２Ｆに研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐを吸着保持することが可能とされている。
また、研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐと定盤本体２２の間に気泡が残留するのを防止できる。
【００４９】
また、このような構成とすることにより、上面（研磨側面）２２Ｆに研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐを吸着させた状態で、石定盤基部２１の減圧流路２１Ｕ内の空気を減圧用吸引孔２１Ｈを介して吸引することで、定盤本体２２の内部を減圧した際に、定盤本体２２の石定盤基部２１側（下面側）を除く４つの側面から空気が吸引されたとしても、４つの側面を密閉しない状態で研磨パッドＰが保持された状態で定盤本体２２内部の減圧状態を維持することが可能とされ、研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐを研磨側面２２Ｆに安定して吸着保持することができるようになっている。
【００５０】
研磨ロール駆動ユニット３０は、図１〜図３に示すように、例えば、研磨装置本体１０と所定の位置関係とされたベース部３１と、ベース部３１の上部に配置される研磨ロール間隔調整部（間隔調整手段）３２と、研磨ロール間隔調整部３２の上部に配置され研磨ロール４０の回転軸４４が挿入されて研磨ロール４０を回転可能に支持する軸受ブロック３３と、伝達手段（不図示）を介して研磨ロール４０と接続される研磨ロール駆動モータ（回転駆動部、不図示）とを備え、研磨ロール４０を軸線Ｏ１回りに回転駆動するようになっている。
【００５１】
研磨ロール間隔調整部（間隔調整手段）３２は、例えば、ボールねじ等の微動手段を備えていて、研磨ロール４０を上下方向（矢印Ｔ２方向）に高精度に移動するようになっている。
【００５２】
また、この実施形態では、左右の研磨ロール間隔調整部（間隔調整手段）３２は、例えば、光リンクによって接続されていて、研磨ロール４０は軸線Ｏ１の左右側で同期して上下方向に移動するようになっている。
このように名構成とすることにより、研磨ロール間隔調整部３２は、定盤本体２２の研磨側面２２Ｆと研磨ロール４０の表面の間隔を正確に調整することが可能とされている。
【００５３】
レーザ変位センサ（距離測定手段）５０は、図１〜図３に示すように、例えば、定盤本体２２の移動方向と直交する幅方向に配置される３つ（複数）のレーザ変位センサ５１、５２、５３を備えている。
【００５４】
レーザ変位センサ５１、５２、５３は、研磨パッドＰの表面にレーザビームを照射して、レーザビームが反射される時間を計測することによって、レーザ変位センサ５１、５２、５３から研磨パッドＰまでの距離を計測するようになっている。
【００５５】
また、計測したレーザ変位センサ５１、５２、５３から研磨パッドＰまでの距離は、制御部（不図示）に送られて、制御部において、研磨ロール４０と研磨パッドＰの表面の間隔を算出するようになっている。
【００５６】
また、制御部は、算出した研磨ロール４０と研磨パッドＰの表面の間隔に基づいて、研磨ロール間隔調整部（間隔調整手段）３２における調整量（矢印Ｔ２方向の移動量）を算出して指示するようになっている。
【００５７】
冷却水供給ユニット（冷却水供給手段、不図示）は、例えば、研磨ロール４０と定盤本体２２に吸着保持された研磨パッドＰの研磨部（摺接部）近傍に冷却水を供給することで、研磨で発生した熱を逃がすようになっている。
冷却水供給手段としては、例えば、冷却水を還流させる形式、供給した冷却水を系外に排出される形式（例えば、水道水）等、周知の種々の冷却水供給ユニットを用いることが可能である。
【００５８】
次に、図６を参照して、研磨ロール４０の概略構成について説明する。
図６は、研磨ロール４０の概略構成を説明する縦断面図である。
研磨ロール４０は、図６に示すように、円筒形状に形成されたロール胴部４１と、ロール胴部４１の第１端側に配置される端板４２と、ロール胴部４１の第２端側に配置される端板４３と、回転軸４４と、回転軸４４の周囲にらせん状に形成されたスクリューコンベア４５とを備えている。また、胴部４１の表面には、ダイヤモンド砥粒（不図示）が電着されている。
【００５９】
また、回転軸４４は、端板４２及び端板４３を貫通してロール胴部４１の第１端側から第２端側にわたって配置されている。
また、回転軸４４は、その第１端面から軸方向に伸びロール胴部４１内の第１端側に開口する孔４４Ａと、第２端面から軸方向に伸びロール胴部４１内の第２端側に開口する孔４４Ｂとを有している。なお、孔４４Ａと孔４４Ｂとは、回転軸４４内では連通していない。
【００６０】
そして、研磨ロール４０を軸線Ｏ１周りに矢印Ｒ１方向に回転すると、回転軸４４の第１端面から孔４４Ａを介してロール胴部４１内に冷却水が流入し、この冷却水がスクリューコンベア４５によってロール胴部４１の内部を第１端側から第２端側に移動することによってロール胴部４１の表面を冷却するようになっている。
そして、冷却水は孔４４Ｂを介して回転軸４４内に移動して、その後、回転軸４４の第２端面から系外に排出されるようになっている。
【００６１】
また、図１〜図３に示すように、研磨ロール４０は、吸引手段６５によって、研磨パッドＰを研磨したときに発生する粉塵を吸引するようになっている。
吸引手段６５は、図１〜図３に示すように、例えば、吸引フード６５１と、吸引ブロア６５２とを備えている。
吸引フード６５１は、例えば、研磨ロール４０の外方を上方から覆うとともに下方に開口部が形成されていて、定盤本体２２に保持された研磨パッドＰの研磨ロール４０が摺接可能とされている。
【００６２】
ここで、下方に形成された開口部は、研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐとの間隔が、例えば、１０ｍｍ程度とされている。
また、吸引フード６５１は、吸引ダクトを介して吸引ブロア６５２に接続されている。
【００６３】
吸引ブロア６５２は、周知の吸引手段を適用することが可能であり、吸引ブロア６５２を作動させることによって、研磨ロール４０が研磨して発生した粉塵等を吸引フード６５１で捕集して、吸引空気６５Ｖとともに吸引ダクトを介して吸引ブロア６５２に吸引するようになっている。
【００６４】
制御部（不図示）は、例えば、研磨ロール駆動ユニット３０、レーザ変位センサ（距離測定手段）５０、減圧ポンプ（減圧手段）６０、吸引手段６５、冷却水供給ユニット（不図示）と接続されていて、予め設定した手順に基づいて、研磨ロール４０の回転駆動、定盤移動台車１２の移動を制御するとともに、上述のようにレーザ変位センサ（距離測定手段）５０の計測値に基づいて研磨ロール４０を矢印Ｔ２方向に移動するようになっている。
また、制御部（不図示）は、減圧ポンプ６０、吸引手段６５、冷却水供給ユニット（不図示）を制御するようになっている。
【００６５】
次に、図７を参照して、研磨パッド研磨装置１００による研磨パッドの製造方法について説明する。研磨パッド研磨装置１００による研磨パッドの製造は、研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐを研磨して完成品の研磨パッド（不図示）とする。
図７は、一実施形態に係る研磨パッド製造方法の概略を説明するフローチャートである。
【００６６】
（１）まず、研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐを保持していない定盤本体２２と研磨ロール４０によって研磨し共加工する（Ｓ０１）。
定盤本体２２と研磨ロール４０を共加工することによって、定盤本体２２を矢印Ｔ１方向に移動させた際に、研磨ロール４０と定盤本体２２の間隔がいずれの場所でも一定となる。
【００６７】
（２）次に、研磨ロール４０と共加工された定盤本体２２を減圧ポンプ６０によって吸引し、定盤本体２２の研磨側面２２Ｆに研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐを吸着保持させる（Ｓ０２）。
【００６８】
（３）次いで、研磨ロール４０を回転駆動させながら定盤本体２２と相対移動させて研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐを研磨する（Ｓ０３）。
Ｓ０３においては、研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐが所定の厚みに到達するまで研磨する。
【００６９】
以下、図８を参照して、研磨パッド研磨装置１００による研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐの研磨について説明する。図８は、一実施形態に係る研磨パッド研磨装置１００の動作の概略を説明する概念図である。
【００７０】
（１）まず、研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐを定盤本体２２の研磨側面２２Ｆに配置する。
（２）減圧ポンプ６０を作動させて、定盤本体２２の内部を吸引して、研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐを定盤本体２２の研磨側面２２Ｆに吸着保持する。
このとき、研磨ロール４０の表面と研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐとは所定の間隔に設定されている。
（３）研磨ロール４０を、矢印Ｒ１方向に回転させるとともに、定盤移動台車駆動部（相対移動駆動部）１３のねじ本体１３２を矢印Ｒ２方向に回転させて、定盤移動台車１２を矢印Ｔ１方向に往復移動させる。
（４）研磨ロール４０を、矢印Ｔ２方向に下降させて、研磨ロール４０を研磨パッドＰに摺接研磨パッドＰを研磨する。
また、レーザ変位センサ５０によって検出した変位に基づいて、研磨ロール４０を矢印Ｔ２方向に移動させて、研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐの厚さがを完成品の研磨パッドとなるまで研磨する。
このようにして、研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐから完成品の研磨パッドが製造される。
【００７１】
一実施形態に係る研磨パッド製造方法及び研磨パッド研磨装置１００によれば、三次元多孔質体によって形成された定盤本体２２の内部を減圧して、定盤本体２２の研磨側面２２Ｆに配置した研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐを吸着保持するので、研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐを容易かつ安定して保持させることができる。
【００７２】
また、  一実施形態に係る研磨パッド製造方法及び研磨パッド研磨装置１００によれば、定盤本体２２の研磨側面２２Ｆに研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐを吸着保持することで、研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐと定盤本体２２の間から気泡が確実に除去され、その状態で研磨ロール４０と研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐを相対移動させて研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐを研磨するので、研磨後の研磨パッド（軟質シート）Ｐに凹凸が発生するのが抑制されて、研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐを高精度に研磨することができる。
その結果、高品質な研磨パッド（軟質シート）を効率的に製造することができ、ひいては、研磨パッド（軟質シート）を製造する際の生産性を向上することができる。
【００７３】
一実施形態に係る研磨パッド製造方法及び研磨パッド研磨装置１００によれば、三次元多孔質体が多孔質セラミックスであるので、研磨圧等により変形するのが抑制され、研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐを安定して研磨することができる。
また、定盤本体２２が経年変化により摩耗、劣化することが抑制され、長期間にわたって安定した品質を確保することができる。
【００７４】
一実施形態に係る研磨パッド製造方法及び研磨パッド研磨装置１００によれば、定盤本体２２を堅固な石定盤基部２１に保持させて研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐを研磨するので、定盤本体２２がしっかりと保持されるとともに、高い減衰能を確保することができ、外部の振動によって研磨パッド（軟質シート）の研磨品質が影響されるのを抑制することができる。
その結果、研磨パッド（軟質シート）の研磨品質を効率的に向上することができる。
【００７５】
一実施形態に係る研磨パッド製造方法及び研磨パッド研磨装置１００によれば、定盤本体２２と研磨ロール４０とが共加工されているので、定盤本体２２と研磨ロール４０の間隔が均一な間隔に維持されて、研磨品質がばらつくのを抑制することができる。
その結果、研磨パッド（軟質シート）の研磨精度を向上することができる。
【００７６】
一実施形態に係る研磨パッド製造方法及び研磨パッド研磨装置１００によれば、研磨ロール４０と研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐの表面との相対距離に基づいて、定盤本体２２と研磨ロール４０の間隔を調整しながら研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐを研磨するので、研磨パッド（被研磨軟質シート）Ｐを効率的に所望の厚さの研磨パッド（軟質シート）に研磨することができる。
【００７７】
なお、本発明は、上記実施の形態に限定されるものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲において、種々の変更をすることが可能である。
すなわち、軟質シート研磨装置の構成については、本発明の目的の範囲内で任意に設定することができる。
【００７８】
例えば、上記実施の形態においては、定盤本体２２が、熱膨張率（線膨張率）：１〜５×１０−６／Ｋ、気孔率約４０％、平均気孔径：約２０μｍのアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）系セラミックスからなる多孔質セラミックスにより形成されている場合について説明したが、上記以外の性質を有するアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）系セラミックスの他、ジルコニア、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化アルミをはじめとする他の種類の多孔質セラミックスを任意に設定することができる。
【００７９】
また、３次元多孔質体は、多孔質セラミックスに限定されることなく、アルミニウム、ステンレス鋼をはじめとする種々の金属材料やその他の材質からなる３次元多孔質体を用いることも可能である。
【００８０】
また、上記実施形態においては、被研磨軟質シートとして研磨パッドＰを研磨して、製造する場合について説明したが、研磨パッドＰに代えて、例えば、プラスチックス、ビニル、ゴム等からなる被研磨軟質シートを研磨してもよく、被研磨軟質シートの材質形態については任意に設定することができる。
【００８１】
また、上記実施形態においては、研磨パッド保持定盤（軟質シート保持定盤）２０が、石定盤基部２１を備える場合について説明したが、石定盤基部２１を備えるかどうかについては任意に設定することができる。
【００８２】
また、上記実施形態においては、石定盤基部２１に直交配置された溝により形成された減圧流路２１Ｕによって、平面視矩形の切頭凸部２１２が形成されている場合について説明したが、減圧流路２１Ｕ、切頭凸部２１２をどのような形態とするか、切頭凸部２１２を配置するかどうかは任意に設定することができる。
【００８３】
また、上記実施形態においては、研磨ロール４０と定盤本体２２を共加工する場合について説明したが、研磨ロール４０と定盤本体２２を共加工するかどうかは任意に設定することができる。
【００８４】
また、上記実施形態においては、研磨パッド保持定盤２０が研磨ロール４０に対して移動する場合について説明したが、研磨パッド保持定盤２０が研磨ロール４０のいずれを移動させるか双方を移動させるは、任意に設定することができる。
【００８５】
また、上記実施形態においては、レーザ変位センサ（距離測定手段）５０の計測結果に基づいて研磨ロール４０を昇降する場合について説明したが、レーザ変位センサ５０をはじめとする距離測定手段を用いるかどうかについては、任意に設定することができる。
【００８６】
また、上記実施の形態においては、研磨ロール４０が電着されたダイヤモンド砥粒を備えている場合について説明したが、ダイヤモンド砥粒が電着された研磨ロールに代えて、ダイヤモンド以外の砥粒が表面に分散配置された研磨ロールやサンドペーパ等のシート状研磨材が貼着された研磨ロールを用いてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００８７】
この発明に係る軟質シート製造方法及び軟質シート研磨装置によれば、被研磨軟質シートを高精度に研磨することにより高品質な軟質シートを製造することができるので産業上利用可能である。
【符号の説明】
【００８８】
Ｏ１  軸線（研磨ロール）
Ｏ２  軸線（ねじ本体）
Ｐ  研磨パッド（被研磨軟質シート）
１３  研磨パッド保持定盤駆動部（相対移動駆動部）
２０  研磨パッド保持定盤（軟質シート保持定盤）
２１  石定盤基部
２１２  切頭凸部
２１Ｕ  減圧流路
２２  定盤本体
２２Ｆ  研磨側面
３２  研磨ロール間隔調整部（間隔調整手段）
５０、５１、５２、５３  レーザ変位センサ（距離測定手段）
６０  減圧ポンプ（減圧手段）
６５  吸引装置
１００  研磨パッド研磨装置（軟質シート研磨装置）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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