(57)【要約】      （修正有）【解決手段】粒子を含む粒子層３と、上記粒子と接する第１の高屈折率層４と、ライン状の凹凸１ａを有する凹凸層１と、凹凸１ａと接し、凹凸層１よりも高い屈折率を有する第２の高屈折率層２と、がこの順で配置され、第１の高屈折率層４が、第１の高屈折率層４の凹凸層１側に隣接する部材よりも高い屈折率を有するものであり、凹凸１ａは、凹凸１ａのライン方向と上記ライン方向に直交する方向とで異なる波長の光を反射するものであり、上記粒子は、負誘電体材料を含み、可視光に対してプラズモン共鳴する、積層体１０。【効果】凹凸１ａが配置された回折格子領域１１及び粒子が配置されたプラズモン共鳴領域１２が平面視上重なる第１の画素部ａを含む画像表示部１３ａを有する積層体１０となり、意匠性、偽造性防止等に優れた積層体１０となるる。【選択図】図２
2018176450.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粒子を含む粒子層と、
前記粒子と接する第１の高屈折率層と、
ライン状の凹凸を有する凹凸層と、
前記凹凸と接し、前記凹凸層よりも高い屈折率を有する第２の高屈折率層と、
がこの順で配置され、
前記第１の高屈折率層は、前記第１の高屈折率層の前記凹凸層側に隣接する部材よりも高い屈折率を有するものであり、
前記凹凸は、前記凹凸のライン方向と前記ライン方向に直交する方向とで異なる波長の光を反射するものであり、
前記粒子は、負誘電体材料を含み、可視光に対してプラズモン共鳴するものであり、
前記凹凸が配置された回折格子領域および前記粒子が配置されたプラズモン共鳴領域が平面視上重なる第１の画素部を含む画像表示部を有する積層体。
【請求項２】
前記画像表示部が、前記回折格子領域のみを含む第２の画素部を有する請求項１に記載の積層体。
【請求項３】
前記画像表示部が、前記プラズモン共鳴領域のみを含む第３の画素部を有する請求項１または請求項２に記載の積層体。
【請求項４】
前記画像表示部が、前記回折格子領域および前記プラズモン共鳴領域と平面視上重ならない空白画素部を有する請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載の積層体。
【請求項５】
前記第２の高屈折率層の前記凹凸層とは反対の面側に、拡散層を有する請求項１から請求項４までのいずれかの請求項に記載の積層体。
【請求項６】
前記第２の高屈折率層の前記凹凸層とは反対の面側または前記粒子層の前記第１の高屈折率層とは反対の面側に配置されたヒートシール層を有し、
転写箔として用いられる請求項１から請求項５までのいずれかの請求項に記載の積層体。
【請求項７】
前記第２の高屈折率層の前記凹凸層とは反対の面側に配置された第１カバー層および前記粒子層の前記第１の高屈折率層とは反対の面側に配置された第２カバー層を有し、カードとして用いられる請求項１から請求項５までのいずれかの請求項に記載の積層体。
【請求項８】
セキュリティ媒体として用いられる請求項１から請求項７までのいずれかの請求項に記載の積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、意匠性、偽造防止性等に優れた積層体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
微粒子には、電磁波に対して応答する電磁波応答性、例えば、電磁波が有する位相や進行方向、偏光、強度の波長依存性といったパラメータを変化させる機能を有するものがある。
このような微粒子としては、その粒径等の形状、構成材料等により、例えば、プラズモン共鳴を起こして特定波長の電磁波のみを散乱する微粒子等が知られている。
また、非特許文献１には、プラズモン共鳴により可視光を散乱可能な微粒子として銀ナノキューブ粒子が透明基材表面に固定された積層体が開示されている。また、非特許文献１では、微粒子の基材側表面および基材とは反対側表面でプラズモン共鳴する可視光の波長が異なることで、上記積層体は、光の照射面が微粒子の基材側か基材とは反対側かによって、異なる色の画像を表示可能であることが示されている。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００３】
【非特許文献１】Koichiro Saito and Tetsu Tatsuma,”Asymmetric Three-Way Plasmonic Color Routers,”Adv.Optical.Mater.(2015)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本開示は、意匠性、偽造防止性等に優れた積層体を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、本開示は、粒子を含む粒子層と、上記粒子と接する第１の高屈折率層と、ライン状の凹凸を有する凹凸層と、上記凹凸と接し、上記凹凸層よりも高い屈折率を有する第２の高屈折率層と、がこの順で配置され、上記第１の高屈折率層は、上記第１の高屈折率層の上記凹凸層側に隣接する部材よりも高い屈折率を有するものであり、上記凹凸は、上記凹凸のライン方向と上記ライン方向に直交する方向とで異なる波長の光を反射するものであり、上記粒子は、負誘電体材料を含み、可視光に対してプラズモン共鳴するものであり、上記凹凸が配置された回折格子領域および上記粒子が配置されたプラズモン共鳴領域が平面視上重なる第１の画素部を含む画像表示部を有する積層体を提供する。
【発明の効果】
【０００６】
本開示は、意匠性、偽造防止性等に優れた積層体を提供できるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本開示の積層体の一例を示す概略平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線断面図である。
【図３】本開示における第１の画像表示部を説明する説明図である。
【図４】本開示における第１の画像表示部の一例を示す概略平面図である。
【図５】本開示における第１の画像表示部の他の例を示す概略平面図である。
【図６】本開示の積層体の他の例を示す概略平面図および断面図である。
【図７】本開示の積層体の他の例を示す概略平面図および断面図である。
【図８】本開示の積層体の他の例を示す概略平面図および断面図である。
【図９】本開示における第４の画像表示部の一例を示す概略平面図である。
【図１０】本開示における第４の画像表示部の他の例を示す概略平面図である。
【図１１】本開示の積層体の他の例を示す概略断面図である。
【図１２】本開示における凹凸層の一例を示す概略平面図および断面図である。
【図１３】本開示の積層体の他の例を示す概略断面図である。
【図１４】本開示の積層体の他の例を示す概略断面図である。
【図１５】本開示の積層体の他の例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
下記に、図面等を参照しながら本開示の実施の形態を説明する。ただし、本開示は多くの異なる態様で実施することが可能であり、下記に例示する実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。また、図面は説明をより明確にするため、実際の形態に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表わされる場合があるが、あくまで一例であって、本開示の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。
【０００９】
本開示は、積層体に関するものである。
【００１０】
本開示の積層体は、粒子を含む粒子層と、上記粒子と接する第１の高屈折率層と、ライン状の凹凸を有する凹凸層と、上記凹凸と接し、上記凹凸層よりも高い屈折率を有する第２の高屈折率層と、がこの順で配置され、上記第１の高屈折率層は、上記第１の高屈折率層の上記凹凸層側に隣接する部材よりも高い屈折率を有するものであり、上記凹凸は、上記凹凸のライン方向と上記ライン方向に直交する方向とで異なる波長の光を反射するものであり、上記粒子は、負誘電体材料を含み、可視光に対してプラズモン共鳴するものであり、上記凹凸が配置された回折格子領域および上記粒子が配置されたプラズモン共鳴領域が平面視上重なる第１の画素部を含む画像表示部を有するものである。
【００１１】
このような本開示の積層体について図面を参照して説明する。図１は、本開示の積層体の一例を示す概略平面図である。また、図２は、図１のＡ−Ａ線断面図である。
図１および図２に示すように、本開示の積層体１０は、粒子を含む粒子層３と、上記粒子と接する第１の高屈折率層４と、ライン状の凹凸１ａを有する凹凸層１と、上記凹凸１ａと接し、上記凹凸層１よりも高い屈折率を有する第２の高屈折率層２と、がこの順で配置され、上記第１の高屈折率層４は、上記第１の高屈折率層４の上記凹凸層１側に隣接する部材よりも高い屈折率を有するものであり、上記凹凸１ａは、上記凹凸１ａのライン方向と上記ライン方向に直交する方向とで異なる波長の光を反射するものであり、上記粒子は、負誘電体材料を含み、可視光に対してプラズモン共鳴するものであり、上記凹凸１ａが配置された回折格子領域１１および上記粒子が配置されたプラズモン共鳴領域１２が平面視上重なる第１の画素部ａを含む画像表示部１３ａを有するものである。
なお、図１および図２は、画像表示部１３ａが、上記第１の画素部ａのみを含む例を示すものである。また、図１および図２は、第１の高屈折率層４が、凹凸層１側に隣接する部材として支持基材５と接する例を示すものである。さらに、図１は、説明の容易のため、第１の高屈折率層、第２の高屈折率層および支持基材の記載を省略するものである。
【００１２】
本開示によれば、回折格子領域は、上記凹凸が配置されているため、上記凹凸のライン方向と上記ライン方向に直交する方向とで異なる波長の光を反射し、可視光が照射される積層体の向きを９０°回転することで異なる色の反射光が観察可能となる。
また、プラズモン共鳴領域では、プラズモン共鳴する粒子が第１の高屈折率層上に配置されているため、上記粒子は、一方の表面で第１の高屈折率層と接し、他方の表面では第１の高屈折率層より屈折率の低い部材や空気等の気体と接するものとすることが可能となる。このため、粒子表裏間の屈折率差、つまり、粒子の積層体表面側での屈折率差および積層体裏面側（例えば、粒子の第１の高屈折率層側および粒子の第１の高屈折率層とは反対側）での屈折率差が大きいものとなり、例えば、可視光が積層体の表面側と裏面側とから照射された際には、このような粒子が配置されたプラズモン共鳴領域は、異なる波長の光を散乱し、可視光が照射される積層体の表裏で異なる色の反射光が観察可能となる。
したがって、回折格子領域は、積層体の観察方向を９０°回転する前後で第１の色の反射光および第２の色の反射光を表示でき、プラズモン共鳴領域は、積層体の観察方向を積層体の表面側および裏面側に切り替える前後で第３の色の反射光および第４の色の反射光を表示できる。
上記積層体は、例えば、回折格子領域では積層体の観察方向を９０°回転する前後で第１の色の反射光として緑色の反射光および第２の色の反射光として赤色の反射光を表示し、プラズモン共鳴領域では積層体の観察方向を積層体の表面側および裏面側に切り替える前後で第３の色の反射光として黄色の反射光および第４の色の反射光として青色の反射光を表示することができる。
なお、積層体の向きを回転するとは、平面視上積層体の観察方向を回転させることであり、より具体的には、光源および観察者の位置を固定した状態で、積層体を凹凸層の厚み方向に貫通する軸周りで回転することをいうものである。
したがって、積層体の向きを９０°回転する前の凹凸の観察方向が、凹凸のライン方向と平行な方向である場合、積層体の向きを９０°回転した後は、凹凸の観察方向が、凹凸のライン方向に直交する方向となる。
また、反射光とは、積層体の可視光が照射される面側で観察される光を指すものであり、正反射光、散乱光および回折光を含むものである。
上記積層体に照射される可視光は、回折格子領域およびプラズモン共鳴領域からの反射光に含まれる波長の光を含むものであればよく、例えば、白色光であってもよい。
【００１３】
このため、図３（ａ）〜（ｃ）に例示するように、上記第１の画素部ａを含む画像表示部（以下、第１の画像表示部と称する場合がある。）１３ａは、積層体１０の表面（図３（ａ）では、積層体１０の第１の高屈折率層４および第２の高屈折率層２のうち第２の高屈折率層２側）から観察した場合には、積層体１０の観察方向を９０°回転する前後で、図３（ｂ）に例示するように第１の色の反射光および第３の色の反射光の混色光（第１の混色光）と、図３（ｃ）に例示するように第２の色の反射光および第３の色の反射光の混色光（第２の混色光）と、の２種類の色の反射光が観察可能となる。
また、図３（ｄ）〜（ｆ）に例示するように、上記第１の画像表示部１３ａは、積層体１０の裏面（図３（ｄ）では、積層体の積層体の第１の高屈折率層４および第２の高屈折率層２のうち第１の高屈折率層側４側）から観察した場合には、積層体１０の観察方向を９０°回転する前後で、図３（ｅ）に例示するように第１の色の反射光および第４の色の反射光の混色光（第３の混色光）と、図３（ｆ）に例示するように第２の色の反射光および第４の色の反射光の混色光（第４の混色光）と、の２種類の色の反射光が観察可能となる。
このように、上記第１の画像表示部１３ａは、積層体１０の観察方向により、例えば、合計で４種類の色の反射光が観察可能となる。
したがって、第１〜第４の色の反射光が、緑色、赤色、黄色および青色である場合、上記第１の画像表示部は、積層体の表面からは、積層体の観察方向を９０°回転する前後で、黄緑色の画像と橙色の画像とが観察可能となり、積層体の裏面からは、積層体の観察方向を９０°回転する前後で、シアン色の画像とマゼンダ色の画像とが観察可能となる。
なお、図３（ｂ）は、既に説明した図１に記載の積層体に対して、平面視上、回折格子領域に含まれる凹凸のライン方向に直交する方向に配置した光源２１から可視光が照射された場合に観察角βの方向から観察する観察者２０により第１の画像表示部１３ａで観察される画像を示すものである。図３（ｃ）は、図３（ｂ）の状態から、積層体１０の向きを平面視上９０°回転した場合に第１の画像表示部１３ａで観察される画像を示すものである。図３（ｅ）は、図３（ｂ）の可視光の照射方向を固定した状態で、積層体１０の表裏を裏返した場合に第１の画像表示部１３ａで観察される画像を示し、図３（ｆ）は、図３（ｄ）の状態から積層体１０の向きを平面視上９０°回転した場合に第１の画像表示部１３ａで観察される画像を示すものである。
また、図３（ａ）および（ｄ）は、観察角βが、可視光の入射角αと同一となる方向から、観察者２０が反射光（正反射光）を観察する例を示すものである。また、入射角および観察角は、積層体の法線方向からの傾きをいうものである。図３中の点線Ｌは、積層体に対して照射された可視光の通過経路を示すものである。
【００１４】
また、プラズモン共鳴領域は、粒子がプラズモン共鳴により散乱する波長の光以外を透過する。このため、プラズモン共鳴領域では、透過した光により例えば、第５の色の透過光を表示できる。
例えば、プラズモン共鳴領域からの反射光である第３および第４の色の反射光が、黄色および青色である場合、上記積層体は、第５の色の透過光として赤色の透過光を表示可能となる。
【００１５】
このように、本開示の積層体は、可視光が照射された際の観察方向および表裏の違いにより、第１の画像表示部において４種類以上の色で描画された画像が観察可能となる。
よって、本開示の積層体は、意匠性、偽造防止性等に優れたものとなる。
【００１６】
また、このような観察方向を変化させた際の画像の色の変化は、瞬間的に切り替えることができる。
このため、本開示の積層体は、上述の４種類以上の色で描画された画像を、観察方向の変化により瞬間的に切り替えて観察することができる。
このようなことからも、本開示の積層体は、意匠性、偽造防止性等に優れたものとなる。
【００１７】
さらに、本開示の積層体は、第１の画像表示部の視域が広いものとなる。この理由については以下のように推察される。
すなわち、積層体に可視光が照射された際に、回折格子領域において目的の波長の光が高輝度で観察できる観察角は、通常、入射角と同一の角度である場合であり、回折格子領域からの０次回折光、つまり、正反射光が観察される角度である。
そして、観察角が、入射角よりずれた場合には、目的の波長の光を高輝度で観察することができない場合がある。その結果、上記積層体は、目的の色の画像を観察困難な場合がある。
これに対して、プラズモン共鳴領域は、上記粒子が配置されたものであるため、プラズモン共鳴領域に照射された光を散乱することができる。
このため、第１の画素部において、プラズモン共鳴領域は、平面視上重なるように配置される回折格子領域からの反射光も散乱することが可能となる。
その結果、第１の画素部は、回折格子領域に対する観察角が入射角よりずれた場合でも、所望の色の画像を安定的に観察可能なもの、すなわち、視域が広いものとなる。
したがって、本開示の積層体は、第１の画像表示部において４種類以上の色で描画された画像を用いて、例えば、真贋判定を目視により容易に行うことが可能となる。また、上記積層体は、意匠性を安定的に発揮可能となる。
このような観点からも、本開示の積層体は、意匠性、偽造防止性等に優れたものとなる。
【００１８】
本開示の積層体は、凹凸層、第１の高屈折率層、第２の高屈折率層、粒子層および第１の画像表示部を有するものである。
以下、本開示の積層体の各構成について説明する。
【００１９】
１．第１の画像表示部
上記第１の画像表示部は、第１の画素部を含むものである。
【００２０】
（１）第１の画素部
上記第１の画素部は、上記回折格子領域および上記プラズモン共鳴領域が平面視上重なるものである。
【００２１】
（ａ）回折格子領域
上記回折格子領域は、上記凹凸が配置された領域である。
【００２２】
上記回折格子領域の種類としては、１種類であってもよく、２種類以上であってもよい。
ここで、回折格子領域の種類が２種類以上であるとは、可視光を上記積層体に照射した際に、上記回折格子領域からの反射光の波長が異なる回折格子領域を含むことをいうものである。
また、上記回折格子領域からの反射光の波長が異なるものとしては、例えば、回折格子領域の凹凸の形状、ライン方向の向き等が異なるものを挙げることができる。
なお、図４（ａ）、（ｃ）および（ｅ）は、第１の画像表示部１３ａに含まれる回折格子領域１１の種類が１種類である例を示すものである。
また、図５（ａ）および（ｃ）は、回折格子領域（１１ａおよび１１ｂ）の種類が２種類である例を示すものであり、２種類の回折格子領域（１１ａおよび１１ｂ）は、凹凸のライン方向が直交する例を示すものである。
また、図４および図５は、第１の画像表示部１３ａの概略平面図であり、図４（ａ）、（ｃ）および（ｅ）ならびに図５（ａ）および（ｃ）は、第１の高屈折率層、第２の高屈折率層および凹凸層の回折格子領域以外の記載を省略するものであり、図４（ｂ）、（ｄ）および（ｆ）ならびに図５（ｂ）および（ｄ）は、それぞれ、図４（ａ）、（ｃ）および（ｅ）ならびに図５（ａ）および（ｃ）から凹凸層の記載を省略するものである。
【００２３】
（ｂ）プラズモン共鳴領域
上記プラズモン共鳴領域は、上記粒子が配置された領域であり、通常、粒子層が形成された領域である。
【００２４】
上記プラズモン共鳴領域の種類としては、１種類であってもよく、２種類以上であってもよい。
ここで、プラズモン共鳴領域の種類が２種類以上であるとは、可視光を上記積層体に照射した際に、上記プラズモン共鳴領域からの反射光の波長が異なるプラズモン共鳴領域を含むことをいうものである。
ここで、上記プラズモン共鳴領域からの反射光の波長が異なるものとしては、例えば、プラズモン共鳴領域に配置される粒子の形状、構成材料等が異なるものを挙げることができる。
なお、既に説明した図４（ｂ）および（ｄ）ならびに図５（ｂ）および（ｄ）は、第１の画像表示部１３ａに含まれるプラズモン共鳴領域１２の種類が１種類である例を示すものである。
また、既に説明した図４（ｆ）は、第１の画像表示部１３ａに含まれるプラズモン共鳴領域（１２ａおよび１２ｂ）の種類が２種類である例を示すものであり、２種類のプラズモン共鳴領域（１２ａおよび１２ｂ）は、それぞれに含まれる粒子の構成材料が異なる例を示すものである。
【００２５】
（ｃ）第１の画素部
上記第１の画素部は、上記回折格子領域および上記プラズモン共鳴領域が平面視上重なるものである。
【００２６】
上記第１の画素部の第１の画像表示部内の配置としては、第１の画素部からの混色光により、第１の画像表示部の画像を表示可能なものであればよく、第１の画像表示部の全面を覆う配置であってもよく、第１の画像表示部の一部を覆う配置であってもよい。
上記配置が第１の画像表示部の一部を覆う配置である場合、第１の画素部の配置としては、具体的には、ドット状、ストライプ状等とすることができる。
なお、既に説明した図４（ａ）および（ｂ）は、上記第１の画素部ａの配置が、第１の画像表示部１３ａの全面を覆う配置である例を示すものである。
また、既に説明した図４（ｂ）〜（ｆ）および図５（ａ）〜（ｄ）は、上記第１の画素部ａの配置が、第１の画像表示部１３ａの一部を覆う配置であり、ドット状である例を示すものである。
【００２７】
上記第１の画素部の第１の画像表示部内の配置が、第１の画像表示部の一部を覆う配置である場合、上記第１の画素部の平面視形状としては、混色光を表示可能なものであればよく、例えば、三角形状、正方形状、長方形状等の四角形状、五角形状等の多角形状、円形状、楕円形状であってもよく、不定形状であってもよい。
なお、既に説明した図４（ｃ）〜（ｆ）および図５（ａ）〜（ｄ）は、上記平面視形状が、円形状である例を示すものである。
【００２８】
上記第１の画素部の平面視サイズの下限としては、第１の画素部からの混色光により、第１の画像表示部の画像を表示可能なものであればよく、第１の画像表示部のサイズ等に応じて適宜設定されるものである。
また、上記平面視サイズの上限については、第１の画像表示部のサイズより小さいものであればよい。
【００２９】
上記第１の画素部の第１の画像表示部内の配置が第１の画像表示部の一部を覆う配置である場合、第１の画素部が隣接する方向の、第１の画素部の幅および隣接する第１の画素部間の幅の割合（第１の画素部の幅／隣接する第１の画素部間の幅）としては、第１の画像表示部で表示する反射光の色味に合わせて適宜設定されるものである。
また、上記割合の種類は、１種類であってもよく、２種類以上であってもよい。
上記種類が１種類であることで、第１の画像表示部は、全面で色味が均一な反射光が観察可能となる。
また、上記種類が２種類以上であることで、第１の画像表示部は、例えば、色味が徐々に変化した反射光等、第１の画像表示部内で色味が変化した反射光が表示可能となる。
なお、既に説明した図５（ａ）は、上記割合（第１の画素部の幅ｂ／隣接する第１の画素部間の幅ｄ）の種類が、１種類である例である。
また、図５（ｃ）は、上記割合（ｂ１／ｄ１、ｂ２／ｄ２およびｂ３／ｄ３）が、２種類以上である例であり、Ｂ１からＢ２の方向に向かって、上記割合が徐々に小さくなる例（ｂ１＝ｂ２＝ｂ３、ｄ１＜ｄ２＜ｄ３）を示すものである。
【００３０】
上記第１の画素部の種類としては、１種類であってもよく、２種類以上であってもよい。
ここで、第１の画素部の種類が２種類以上であるとは、第１の画素部に含まれる回折格子領域の種類およびプラズモン共鳴領域の少なくとも一方が２種類以上であることをいうものである。
なお、既に説明した図４（ａ）〜（ｄ）は、第１の画素部ａの種類が１種類である例を示すものであり、既に説明した図４（ｅ）〜（ｆ）および図５（ａ）〜（ｄ）は、第１の画素部（ａ１およびａ２）の種類が２種類以上である例を示すものである。
【００３１】
（２）その他の画素部
上記第1の画像表示部は、第１の画素部を少なくとも含むものであるが、必要に応じてその他の画素部を含むものであってもよい。
このようなその他の画素部としては、例えば、上記回折格子領域のみを含む第２の画素部、上記プラズモン共鳴領域のみを含む第３の画素部、上記回折格子領域および上記プラズモン共鳴領域と平面視上重ならない空白画素部等を挙げることができる。
なお、既に説明した図４（ａ）および（ｂ）は、第１の画像表示部１３ａが、第１の画素部ａのみを含む例を示すものである。
また、既に説明した図４（ｃ）および（ｄ）は、第１の画像表示部１３ａが、第１の画素部ａおよび空白画素部ｄを含む例を示すものであり、図４（ｅ）および（ｆ）は、第１の画素部（ａ１およびａ２）および第２の画素部ｂを含む例を示すものであり、図５（ａ）〜（ｄ）は、第１の画素部（ａ１およびａ２）および第３の画素部ｃを含む例を示すものである。
【００３２】
（ａ）第２の画素部
上記第２の画素部は、上記回折格子領域のみを含む領域である。
また、上記第２の画素部の第１の画像表示部内の配置は、第１の画像表示部の一部を覆う配置である。上記第２の画素部の配置は、例えば、第１の画素部により挟持されるものとすることができる。
ここで、回折格子領域のみを含むとは、平面視上、回折格子領域と重なり、プラズモン共鳴領域と重ならないことをいうものである。
このような第２の画素部に含まれる回折格子領域のその他の事項については、上記「（１）第１の画素部」の「（ａ）回折格子領域」の項に記載の内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
また、第２の画素部のその他の事項については、上記「（１）第１の画素部」の「（ｃ）第１の画素部」の項に記載の第１の画素部の内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【００３３】
（ｂ）第３の画素部
上記第３の画素部は、上記プラズモン共鳴領域のみを含むものである。
また、上記第３の画素部の第１の画像表示部内の配置は、第１の画像表示部の一部を覆う配置である。また、上記第３の画素部の配置は、例えば、第１の画素部により挟持されるものとすることができる。
ここで、プラズモン共鳴領域のみを含むとは、平面視上、プラズモン共鳴領域と重なり、回折格子領域と重ならないことをいうものである。
このような第３の画素部に含まれるプラズモン共鳴領域のその他の事項については、上記「（１）第１の画素部」の「（ｂ）プラズモン共鳴領域」の項に記載の内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
また、第３の画素部のその他の事項については、上記「（１）第１の画素部」の「（ｃ）第１の画素部」の項に記載の第１の画素部の内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【００３４】
（ｃ）空白画素部
上記空白画素部は、上記回折格子領域および上記プラズモン共鳴領域と平面視上重ならないもの、すなわち、平面視上、凹凸層に形成された上記凹凸および上記粒子と重ならない領域である。
また、上記空白画素部の第１の画像表示部内の配置は、第１の画像表示部の一部を覆う配置である。また、上記空白画素部の配置は、例えば、第１の画素部により挟持されるものとすることができる。
なお、上記空白画素部の平面視形状、その合計面積の第１の画像表示部内に占める割合等については、本開示の積層体の種類および用途に応じて適宜設定されるものである。
【００３５】
（３）第１の画像表示部
上記第１の画像表示部の平面視形状、すなわち、可視光を上記積層体に照射した際に、上記第１の画像表示部が表示する画像としては、積層体の偽造防止性および意匠性を向上できるものであれば特に限定されるものではない。
上記平面視形状としては、具体的には、本開示の積層体の用途等に応じて適宜設定することができ、例えば、ライン状、多角形状、円形状、文字体、記号、マーク、その他意匠性のある形状等のみならず、積層体の全面を覆う態様も含むことができる。
例えば、既に説明した図１は、上記平面視形状が文字「Ｄ」を示す例を示すものである。
【００３６】
上記第１の画像表示部の平面視サイズとしては、上記第１の画像表示部により所望の色の画像を視認できるものであればよく、例えば、０．１ｍｍ角以上とすることができ、なかでも０．５ｍｍ角以上であることが好ましく、特に、１．０ｍｍ角以上であることが好ましい。上記平面視サイズが上述のサイズであることにより、第１の画像表示部は、画像の視認性に優れたものとなるからである。
なお、上記第１の画像表示部の平面視サイズが０．１ｍｍ角以上であるとは、上記第１の画素部が、０．１ｍｍ角の正方形の範囲を少なくとも含む平面視形状であることをいうものである。したがって、第１の画像表示部が長方形状である場合には、その短辺の長さが０．１ｍｍ以上であることをいうものであり、第１の画像表示部が正方形状である場合には、その１辺の長さが０．１ｍｍ以上であることをいうものである。
例えば、既に説明した図１に例示するように、第１の画像表示部が文字を描画するものである場合、文字を描画する線として用いられる第１の画像表示部の幅は、０．１ｍｍ以上とすることができる。
【００３７】
２．その他の画像表示部
上記積層体は、第１の画像表示部を少なくとも有するものであるが、第１の画素部を含まないその他の画像表示部を有し、第１の画像表示部と合わせて同時に２種類以上の色を表示するものであってもよい。
ここで、同時に２種類の色を表示するとは、可視光を上記積層体に照射した際に、上記第１の画像表示部およびその他の画像表示部からの反射光が、それぞれ区別して２種類の色として観察されることをいうものである。
なお、同時に２種類の色を表示するとは、積層体の観察方向を９０°回転する前後のいずれかにおいて２種類の色が観察されればよい。したがって、第１の画像表示部およびその他の画像表示部からの反射光が、積層体の観察方向を９０°回転する前で同じ色であっても、９０°回転後に、異なる色として観察される場合も、同時に２種類の色を表示するものに含まれる。
このようなその他の画像表示部としては、例えば、図６（ａ）に例示するように、第２の画素部ｂのみを含む第２の画像表示部１３ｂ、図７（ａ）に例示するように、第３の画素部ｃのみを含む第３の画像表示部等１３ｃ、図８（ａ）に例示するように、第２の画素部ｂおよび第３の画素部ｃを交互に含み、第２の画素部ｂおよび第３の画素部ｃからの混色光を表示する第４の画像表示部１３ｄ等を挙げることができる。
以下、その他の画像表示部について説明する。
なお、図６（ａ）、図７（ａ）および図８（ａ）は、本開示の積層体の他の例を示す概略平面図であり、図６（ｂ）、図７（ｂ）、図８（ｂ）は、それぞれ図６（ａ）のＣ−Ｃ線断面図、図７（ａ）のＤ−Ｄ線断面図、および図８（ａ）のＥ−Ｅ線断面図である。
また、図６（ａ）、図７（ａ）および図８（ａ）は、説明の容易のため、第１の高屈折率層、第２の高屈折率層および支持基材の記載を省略するものである。
【００３８】
（１）第２の画像表示部
上記第２の画像表示部は、第２の画素部のみを含むものである。
また、上記第２の画像表示部は、少なくとも第１の画像表示部と合わせて同時に２種類の色を表示するものである。
ここで、上記第２の画素部のみを含むとは、第１の画素部、第２の画素部および第３の画素部のうち、第２の画素部のみを含むことをいうものである。
なお、上記第２の画素部の第２の画像表示部内の配置については、上記「１．第１の画像表示部」の「（１）第１の画素部」の項に記載の第１の画素部の内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
また、上記第２の画素部のその他の事項については、上記「１．第１の画像表示部」の「（２）その他の画素部」の項に記載の第２の画素部の内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【００３９】
上記第２の画像表示部は、上記第２の画素部を含むものであるが、必要に応じて、上記空白画素部ｄを有するものであってもよい。
なお、空白画素部については、上記「１．第１の画像表示部」の「（２）その他の画素部」の項に記載の内容と同様とすることができる。
【００４０】
上記第２の画像表示部のその他の事項については、上記「１．第１の画像表示部」の「（３）第１の画像表示部」の項に記載の第１の画像表示部の内容と同様とすることができる。
【００４１】
（２）第３の画像表示部
上記第３の画像表示部は、第３の画素部のみを含むものである。
また、上記第３の画像表示部は、少なくとも第１の画像表示部と合わせて同時に２種類の色を表示するものである。
ここで、上記第３の画素部のみを含むとは、第１の画素部、第２の画素部および第３の画素部のうち、第３の画素部のみを含むことをいうものである。
なお、上記第３の画素部の第３の画像表示部内の配置については、上記「１．第１の画像表示部」の「（１）第１の画素部」の項に記載の第１の画素部の内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
また、上記第３の画素部のその他の事項については、上記「１．第１の画像表示部」の「（２）その他の画素部」の項に記載の第３の画素部の内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【００４２】
上記第３の画像表示部は、上記第３の画素部を含むものであるが、必要に応じて、上記空白画素部ｄを有するものであってもよい。
なお、空白画素部については、上記「１．第１の画像表示部」の「（２）その他の画素部」の項に記載の内容と同様とすることができる。
【００４３】
上記第３の画像表示部のその他の事項については、上記「１．第１の画像表示部」の「（３）第１の画像表示部」の項に記載の第１の画像表示部の内容と同様とすることができる。
【００４４】
（３）第４の画像表示部
上記第４の画像表示部は、第２の画素部および第３の画素部を交互に含み、上記第２の画素部および上記第３の画素部からの混色光を表示するものである。
また、上記第４の画像表示部は、少なくとも第１の画像表示部と合わせて同時に２種類の色を表示するものである。
ここで、混色光を表示するとは、可視光を上記積層体に照射した際に、上記第２の画素部および上記第３の画素部の両者からの反射光が、１つの領域内で合わさって１つの混色光として観察されることをいうものである。
なお、混色光としては、上記第４の画像表示部の全面で色味が均一なものに限定されず、例えば、上記第２の画素部および上記第３の画素部が交互に配置される方向の、隣接する上記第２の画素部および上記第３の画素部の幅の割合が徐々に変化していることで、第２の画素部および第３の画素部の第４の画像表示部内で徐々に色味が変化したものも含むものである。
【００４５】
（ａ）第２の画素部および第３の画素部の配置
上記第２の画素部および第３の画素部は、第４の画像表示部において、交互に含まれるものである。
ここで、交互に含まれるとは、平面視上、第４の画像表示部を通過する直線上で、第２の画素部および第３の画素部が交互に配置されているものをいうものである。
また、交互に含まれる態様としては、上記直線上において、第２の画素部に挟持される第３の画素部が２以上の離間する第３の画素部を含むものや、第３の画素部に挟持される第２の画素部が２以上の離間する第２の画素部を含むものも包含するものである。
なお、図９（ａ）および（ｃ）は、上記直線上、１つずつの第２の画素部ｂおよび第３の画素部ｃが交互に含まれる例を示すものであり、図９（ｂ）は、第３の画素部ｃに挟持される第２の画素部ｂが２以上の離間する第２の画素部ｂを含む例を示すものである。
【００４６】
このような第２の画素部および第３の画素部の第４の画像表示部内の配置としては、例えば、格子状、ストライプ状等とすることができる。
なお、図９（ａ）および（ｂ）は、上記配置が格子状である例を示すものである。図９（ｃ）は上記配置がストライプ状である例を示すものである。
【００４７】
上記第２の画素部および上記第３の画素部が交互に配置される方向の、上記第３の画素部および上記第２の画素部の周期（以下、単にピッチと称する場合がある。）としては、混色光を表示可能なものであればよく、例えば、１０００μｍ以下とすることができ、なかでも５００μｍ以下であることが好ましく、特に、３００μｍ以下であることが好ましく、さらに、２００μｍ以下であることが好ましい。上記ピッチであることにより、上記第４の画像表示部は、安定的に混色光を表示可能となるからである。
また、上記ピッチの下限としては、混色光を表示可能なものであればよく、１μｍ以上とすることができる。上記ピッチの下限であることにより、上記第４の画像表示部は、形成容易となるからである。また上記ピッチの下限が１μｍであることにより、第２の画素部に含まれる回折格子領域は、回折格子して安定的に機能するからである。
なお、上記第３の画素部および上記第２の画素部の周期は、より具体的には、第２の画素部および第３の画素部が交互に配置される方向の、第３の画素部を挟持する第２の画素部間の距離のうち最短のものとすることができ、一方の第２の画素部の第３の画素部側の端部から、他方の第２の画素部の第３の画素部とは反対側の端部までの距離とすることができる。
上記ピッチは、より具体的には、図９（ａ）〜（ｃ）中のｅで示される距離とすることができる。
また、上記ピッチの種類は、１種類であってもよく、２種類以上であってもよい。
上記種類が１種類であることで、第４の画像表示部は、全面で色味が均一な混色光が観察可能となる。
また、上記種類が２種類以上であることで、例えば、第２の画素部および第３の画素部の幅の割合を調整容易となる等、第２の画素部および第３の画素部の配置の自由度が高いものとなるからである。また、上記種類が２種類以上であることで、第４の画像表示部により表示される画像に対する網点のモアレが軽減する効果も期待できるからである。
なお、既に説明した図９（ａ）〜（ｃ）は、上記ピッチが１種類である例を示すものであり、図１０（ａ）および（ｂ）は、上記ピッチがｅ１およびｅ２を含む２種類以上である例を示すものである。
【００４８】
上記第２の画素部および上記第３の画素部が交互に配置される方向の、上記第２の画素部および上記第３の画素部の幅としては、混色光を表示可能なものであればよく、例えば、それぞれ独立に、３００μｍ以下とすることができ、なかでも１００μｍ以下であることが好ましい。上記第４の画像表示部は、安定的に混色光を表示可能となるからである。上記幅の下限は、第１の画像表示部が安定的に混色光を表示可能となればよく、表示する色、製造の容易性等に応じて適宜設定されるものである。
なお、上記第２の画素部および第３の画素部の幅は、第２の画素部および第３の画素部が交互に配置される方向の、第２の画素部および第３の画素部の幅のうち最短のものをいうものである。具体的には、上記第２の画素部および第３の画素部の幅は、それぞれ図９中のｆおよびｇで示される距離とすることができる。
第２の画素部に挟持される第３の画素部が２以上の離間する第３の画素部を含む場合には、第３の画素部の幅は、第２の画素部に挟持される全ての第３の画素部の幅の合計である。
また、第３の画素部に挟持される第２の画素部が２以上の離間する第２の画素部を含むものも含むものである場合には、第２の画素部の幅は、第３の画素部に挟持される全ての第２の画素部の幅の合計である。
したがって、図９（ｂ）において、第２の画素部ｂの幅は、ｆ１およびｆ２の合計である。
【００４９】
上記第２の画素部および上記第３の画素部が交互に配置される方向の、隣接する上記第２の画素部および上記第３の画素部の幅の割合（第２の画素部の幅／第３の画素部の幅）としては、第４の画像表示部で表示する混色光の色味等に合わせて適宜設定されるものである。
また、上記幅の割合の種類は、１種類であってもよく、２種類以上であってもよい。
上記種類が１種類であることで、第４の画像表示部は、全面で色味が均一な混色光が観察可能となる。
また、上記種類が２種類以上であることで、第４の画像表示部は、例えば、色味が徐々に変化した混色光等、第４の画像表示部内で色味が変化した混色光を表示可能となる。
なお、図９（ａ）〜（ｃ）は、上記割合が、１種類である例を示すものである。
図１０（ａ）および（ｂ）は、上記割合が、２種類以上である例を示すものであり、Ｇ１からＧ２の方向に向かって、第２の画素部の幅の第３の画素部の幅に対する割合が徐々に大きくなる例（図１０（ａ）ではｆ１＞ｆ２、ｇ１＝ｇ２、図１０（ｂ）では、ｆ１＝ｆ２、ｇ１＞ｇ２））を示すものである。
【００５０】
上記第２の画素部および第３の画素部の繰り返し数としては、混色光を表示可能なものであればよく、例えば、１０以上とすることができ、３０以上であることが好ましく、なかでも、５０以上であることが好ましい。上記第４の画像表示部は、安定的に混色光を表示可能となるからである。
また、上記繰り返し数の上限については、上記積層体の種類および用途に応じて適宜設定されるものである。
なお、上記繰り返し数は、第２の画素部および第３の画素部が交互に配置される方向に第４の画像表示部内に含まれる第２の画素部および第３の画素部の合計数をいうものである。上記繰り返し数は、例えば、既に説明した図９（ａ）〜（ｃ）では、Ｆ１からＦ２の方向に７であり、図１０（ａ）ではＧ１からＧ２の方向に８であり、図１０（ｂ）ではＧ１からＧ２の方向に７である。
また、図９（ｂ）に例示するように、第３の画素部ｃに挟持される第２の画素部ｂが２以上の第２の画素部ｂを含む場合には、上記繰り返し数は、第３の画素部ｃに挟持される全ての第２の画素部ｂを１つの第２の画素部として計算するものである。また、同様に、第２の画素部に挟持される第３の画素部が２以上の第３の画素部を含む場合には、上記繰り返し数は、第２の画素部ｂに挟持される全ての第３の画素部ｃを１つの第３の画素部として計算するものである。
【００５１】
（ｂ）その他
上記第４の画像表示部は、上記第２の画素部および上記第３の画素部の両者を含むものである。
ここで、上記第２の画素部のその他の事項については、上記「１．第１の画像表示部」の「（２）その他の画素部」の項に記載の第２の画素部の内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
また、上記第３の画素部のその他の事項については、上記「１．第１の画像表示部」の「（２）その他の画素部」の項に記載の第３の画素部の内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【００５２】
上記第４の画像表示部は、上記第２の画素部および上記第３の画素部の両者を含むものであるが、必要に応じて、上記第２の画素部および上記第３の画素部の間に、空白画素部を有するものであってもよい。
なお、既に説明した図９（ｂ）および図１０（ｂ）は、上記第４の画像表示部１３ｄが空白画素部ｄを有する例を示すものである。
なお、空白画素部については、上記「１．第１の画像表示部」の「（２）その他の画素部」の項に記載の内容と同様とすることができる。
【００５３】
上記第４の画像表示部のその他の事項については、上記「１．第１の画像表示部」の「（３）第１の画像表示部」の項に記載の第１の画像表示部の内容と同様とすることができる。
【００５４】
（４）その他の画像表示部
上記その他の画像表示部と、第１の画像表示部との組み合わせとしては、本開示の積層体の用途および種類等に応じて適宜設定されるものであるが、例えば、既に説明した図６（ａ）に示すような第１の画像表示部１３ａと、第２の画像表示部１３ｂとの組み合わせ、既に説明した図７（ａ）に示すような第１の画像表示部１３ａと、第３の画像表示部１３ｃとの組み合わせ、既に説明した図８（ａ）に示すような第１の画像表示部１３ａと、第４の画像表示部１３ｄとの組み合わせ等とすることができる。
また、上記組み合わせは、第１の画像表示部と、第２の画像表示部および第３の画像表示部との組み合わせ、第１の画像表示部と、第２の画像表示部、第３の画像表示部および第４の画像表示部との組み合わせ等とすることができる。
【００５５】
３．粒子層
上記粒子層は、粒子を含むものである。
上記粒子層は、第１の高屈折率層の凹凸層とは反対の面側に配置されるものである。
【００５６】
（１）粒子
上記微粒は、負誘電体材料を含み、可視光に対してプラズモン共鳴するものである。
【００５７】
ここで、可視光に対してプラズモン共鳴するとは、粒子に可視光が照射された際に、粒子の局在表面プラズモン共鳴（局在表面プラズモンポラリトンともいう。）により特定波長の可視光を散乱可能であることをいうものである。
また、プラズモン共鳴する可視光（以下、単に光と称する場合がある。）の波長は、粒子の形状、構成材料等により影響を受けるものである。このため、粒子は、その形状、構成材料を調整することで、プラズモン共鳴する可視光の波長を調整することができ、例えば、白色光が照射された際に特定色として、例えば、赤色、青色、黄色等の光を散乱可能となる。
【００５８】
プラズモン共鳴する光の波長としては、３６０ｎｍ以上８３０ｎｍ以下とすることができ、なかでも、４００ｎｍ以上７６０ｎｍ以下であることが好ましい。ヒトの視感度を考慮すると、この範囲内の波長の光が容易に知覚されるからである。
【００５９】
上記粒子の平均一次粒径としては、光に対してプラズモン共鳴するものであればよく、例えば、２ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましく、なかでも、５ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であることが好ましく、特に、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。上記平均一次粒径が上述の範囲内であることで、上記粒子は、上記範囲内の波長の光に対してプラズモン共鳴を生じさせやすいからである。
上記平均一次粒径の種類は、１種類のみを用いるものに限定されず、２種類以上を用いるものであってもよい。平均一次粒径の種類が２種類以上である場合、例えば、平均一次粒径が１００ｎｍの範囲内の粒子と、平均一次粒径が２００ｎｍの粒子と、を混合して用いることができる。
なお、上記平均一次粒径は、粒子が、負誘電体材料粒子と、その表面を覆う被覆層とを有する場合には、被覆層を含む粒径を有するものである。
また、上記平均一次粒径は、電子顕微鏡写真から一次粒子の大きさを直接計測する方法で求めることができる。具体的には、透過型電子顕微鏡写真（ＴＥＭ）（例えば、日立ハイテク製  Ｈ−７６５０）にて粒子像を測定し、ランダムに選択した１００個の一次粒子の等面積円相当直径の平均値を平均一次粒径とすることができる。なお、電子顕微鏡は透過型（ＴＥＭ）または走査型（ＳＥＭ）のいずれを用いても同じ結果を得ることができる。
なお、等面積円相当直径については、得られた粒子像の面積および周長から、４×面積÷周長により計算することができる。
【００６０】
上記粒子の粒度分布としては、上記範囲内の特定の波長帯の光に対してプラズモン共鳴可能となる粒度分布であればよく、例えば、特定色の画像を表示可能とする観点からは、粒度分布が狭いことが好ましい。
粒度分布が狭いということは、例えば、累積粒度分布の微粒側から累積５０％、累積９０％の粒径をＤ５０、Ｄ９０としたとき、Ｄ５０に対するＤ９０の比率（Ｄ９０／Ｄ５０）という値で評価できる。
例えば、Ｄ９０／Ｄ５０が２以下であることが好ましく、なかでも１．５以下であることが好ましい。
【００６１】
上記粒子の形状としては、光に対してプラズモン共鳴するものであればよく、例えば、球形状や円柱形状であってもよいが、三角錐形状、三角柱形状、立方体形状、直方体形状、金平糖形状、円盤形状、その他プレート状の角を有する形状であることが好ましい。上記形状が角を有する形状であることで、上記粒子は、プラズモン共鳴を生じさせやすいからである。
本開示においては、なかでも、上記形状が、立方体形状または直方体形状であることが好ましい。上記形状であることにより、上記粒子は、プラズモン共鳴を生じやすく、かつ、製造が容易だからである。
上記形状の種類は、１種類のみを用いるものに限定されず、２種類以上を用いるものであってもよい。形状の種類が２種類以上である場合、例えば、形状が球形状の粒子と、形状が立方体形状の粒子と、を混合して用いることができる。
【００６２】
上記粒子に含まれる負誘電体材料は、プラズモン共鳴を得たい特定の波長領域において、誘電率の実部が負である材料である。
上記負誘電体材料としては、具体的には、可視光に対しては、金属、金属酸化物や不純物半導体を用いることができる。
本開示においては、上記負誘電体材料が金属であることが好ましい。上記構成材料は、可視光に対してプラズモン共鳴が容易だからである。
上記金属としては、例えば、銀、金、銅、アルミニウム、プラチナ、パラジウム、アルミニウム等であることが好ましく、なかでも、銀であることが好ましい。上記金属は、可視光領域においてプラズモン共鳴が容易だからである。
上記金属酸化物としては、誘電率の実部が負であるものであればよく、例えば、特開２０１５−１９４７９９号公報の透明電極層の形成に用いられる、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）等の無機導電性材料を挙げることができる。
上記不純物半導体としては、例えば、特開２０１５−２３２７１３号公報に記載のものを使用できる。
上記負誘電体材料の種類は、１種類のみを用いるものに限定されず、２種類以上を用いるものであってもよい。負誘電体材料の種類が２種類以上である場合、例えば、負誘電体材料として銀を含む粒子と、負誘電体材料として金を含む粒子とを混合して用いることができる。
【００６３】
上記粒子は、負誘電体材料を主成分として含まれるものである。ここで、主成分として含まれるとは、粒子が、可視光に対してプラズモン共鳴可能な程度に含まれるものとすることができ、例えば、粒子中に８０質量％以上含まれるものとすることができる。本開示においては、なかでも、負誘電体材料が、粒子中に９０質量％以上含まれることが好ましく、特に、９５質量％以上含まれることが好ましい。また、上記負誘電体材料の粒子中の含有量については、１００質量％、すなわち、粒子が負誘電体材料のみからなるものであってもよいが、１００質量％未満であってもよい。すなわち、上記粒子は、負誘電体材料を含むものであるが、必要に応じてその他の材料を含むものであってもよい。例えば、粒子は、負誘電体材料粒子の表面が被覆層により覆われるもの、すなわち、粒子が、負誘電体材料粒子の表面を覆う材料を含むものであってもよい。
上記粒子が被覆層により覆われるものであることにより、粒子は、凝集の抑制等を図ることができるからである。
上記被覆層を構成する材料としては、負誘電体材料からなる粒子の表面に結合可能な樹脂材料を用いることができ、例えば、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）、ＰＥＧ誘導体、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、クエン酸イオン、炭酸イオン、α−リポ酸、分岐ポリエチレンイミン（ＢＰＥＩ）、シリカ、シリカ誘導体、アルキルチオール等を挙げることができる。
上記被覆層の厚みとしては、上記粒子のプラズモン共鳴を大きく妨げることがないものであればよいが、本開示の積層体が表側と裏側とで異なる色の画像を観察容易となる観点からは、例えば、２ｎｍ以下とすることができる。
【００６４】
上記粒子は、第１の高屈折率層と接するものである。
ここで、第１の高屈折率層と接するとは、図１１（ａ）および図１１（ｂ）に例示する粒子３ａ１（３ａ）のように第１の高屈折率層４と直接接する状態に限定されず、図１１（ｂ）に例示する粒子３ａ２（３ａ）のように、可視光を照射した際に上記積層体の表裏で異なる色の発色を視認可能な程度の薄さで粒子３ａ２および第１の高屈折率層４の間に後述するバインダ樹脂３ｂが配置されるものも含むものである。
上記粒子が第１の高屈折率層と接する状態である場合の、粒子および第１の高屈折率層の間隔としては、例えば、１０ｎｍ以下であるものとすることができ、なかでも、５ｎｍ以下であることが好ましく、特に、２ｎｍ以下であることが好ましく、０ｎｍであること、すなわち、粒子の第１の高屈折率層側の表面が第１の高屈折率層と直接接していることが好ましい。上記間隔が、上述の範囲であることにより、上記粒子は、粒子表裏間の屈折率差を安定的に大きくすることができるからである。また、その結果、上記積層体は、粒子層側から可視光を照射した場合と、凹凸層側から可視光を照射した場合とで、異なる色の発色を安定的に表示可能なものとなり、意匠性、偽造防止性等の付与が容易なものとなるからである。
また、粒子および第１の高屈折率層の間隔は、具体的には、既に説明した図１１（ｂ）中のｈで示される距離とすることができる。
また、上記間隔は、粒子が被覆層により覆われる場合には、第１の高屈折率層表面から、被覆層表面までの距離ではなく、被覆層により覆われる粒子、すなわち、負誘電体材料粒子の表面までの距離をいうものである。
【００６５】
上記粒子の粒子層における平面視上の密度（粒子が平面視上占める面積の割合）としては、可視光を上記積層体に照射した際に、上記粒子が配置された領域であるプラズモン共鳴領域からの反射光が視認できるものであればよく、例えば、１×１０５個/ｃｍ２以上であるものとすることができる。
本開示においては、上記密度が、１×１０６個/ｃｍ２以上であることが好ましく、１×１０７個/ｃｍ２以上であることが好ましい。上記密度であることにより、プラズモン共鳴領域は、反射光が視認容易となるからである。
また、上記密度の上限としては、可視光を上記積層体に照射した際に、プラズモン共鳴領域からの反射光が視認できるものであればよく、例えば、１×１０９個/ｃｍ２以下とすることができる。
【００６６】
（２）粒子層
上記粒子層は、上記粒子を含むものであるが、必要に応じてその他の成分を含むものであってもよい。
このようなその他の成分としては、例えば、既に説明した図１１（ｂ）に例示するように、上記粒子３ａを第１の高屈折率層表面に固定するバインダ樹脂３ｂを挙げることができる。
【００６７】
上記バインダ樹脂としては、粒子を安定的に第１の高屈折率層表面に固定できるものであればよく、公知の熱硬化樹脂や、紫外線（ＵＶ）硬化樹脂、電子ビーム（ＥＢ）硬化樹脂等の光硬化性樹脂の硬化性樹脂を用いることができる。
上記バインダ樹脂の種類としては、アクリル樹脂、ウレタンアクリル樹脂、エポキシ樹脂等を用いることができる。
【００６８】
上記粒子層がバインダ樹脂を含む場合の厚みとしては、粒子を安定的に第１の高屈折率層表面に固定できるものであればよく、粒子のサイズ等に応じて適宜設定できる。
上記厚みとしては、例えば、１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下とすることができる。
なお、上記厚みは、上記第１の高屈折率層表面から垂直方向に粒子の第１の高屈折率層とは反対の面側までの距離のうちもっとも大きいものとすることができる。具体的には、上記厚みは、図１１（ｂ）中のｉで示される距離とすることができる。
【００６９】
上記粒子層の形成方法としては、上記粒子を上記第１の高屈折率層の表面に固定できる方法であればよい。
ここで、第１の高屈折率層の表面に固定されるとは、第１の高屈折率層表面に直接接するように固定される場合に限定されず、バインダ樹脂等を介し第１の高屈折率層表面に固定される場合も含むものである。
上記固定態様としては、第１の高屈折率層表面への粒子の吸着によるものであってもよく、バインダ樹脂により第１の高屈折率層表面に粒子が密着されるものであってもよい。
上記粒子の固定方法としては、上記固定態様が第１の高屈折率層表面への粒子の吸着によるものである場合には、第１の高屈折率層上に、粒子および溶剤を含む粒子分散液を塗工し、溶剤を乾燥除去する方法等を挙げることができる。また、上記固定方法は、粒子を構成する構成材料からなる粒子形成用層を第１の高屈折率層上に形成し、次いで、フォトリソグラフィ法等を用いて所望の粒子形状にパターニングする方法であってもよい。
上記固定方法は、上記固定態様がバインダ樹脂により密着されるものである場合には、上記粒子分散液として、バインダ樹脂を含有するものを用いる方法を挙げることができる。
上記粒子分散液の塗工方法としては、スクリーン印刷、グラビア印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷等の各種印刷方式や、ダイコーティング法、スプレーコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、インクジェット法、マイクロコンタクトプリンティング法、ディップペンリソグラフィー法等を挙げることができる。
上記粒子形成用層の形成方法としては、負誘電体材料の塗膜を形成できる方法であればよく、例えば、スパッタ法等を用いることができる。
【００７０】
４．第１の高屈折率層
上記第１の高屈折率層は、上記粒子と接するものである。
また、第１の高屈折率層は、上記第１の高屈折率層の上記凹凸層側に隣接する部材（以下、隣接部材と称する場合がある。）よりも高い屈折率を有するものである。
なお、隣接部材よりも屈折率が高いとは、具体的には、可視光域の全波長範囲内において隣接部材よりも屈折率が高いものとすることができる。
また、可視光域の波長範囲としては、例えば、３６０ｎｍ以上８３０ｎｍ以下とすることができる。
【００７１】
上記隣接部材との屈折率の差としては、積層体の観察方向を積層体の表面側および裏面側に切り替える前後で異なる波長の反射光が観察可能となるものであればよいが、例えば、０より大きいものであればよく、０．３以上であることが好ましい。上記屈折率差であることで、第１の高屈折率層は、粒子表裏間の屈折率差を大きいものとすることが容易となる。つまり、このような屈折率差となるような第１の高屈折率層を有することで、上記積層体は、観察方向を積層体の表面側および裏面側に切り替える前後で異なる波長の反射光が容易に観察可能なものとなるからである。
また、上記屈折率の差の上限としては、積層体の観察方向を積層体の表面側および裏面側に切り替える前後で異なる波長の反射光が観察されるものであればよく、積層体の表裏で観察される発色等に応じて適宜設定されるものである。
【００７２】
上記第１の高屈折率層としては、隣接部材より屈折率が高いものであればよく、その屈折率は高いほど好ましいが、例えば、波長５８９ｎｍ（ナトリウムのＤ線）における屈折率ｎＤが１．５以上であることが好ましく、なかでも、２以上であることが好ましい。
なお、上記屈折率の上限は、積層体の観察方向を積層体の表面側および裏面側に切り替える前後で異なる波長の反射光が観察されるものであればよいが、通常、４以下である。
また、上記屈折率は、反射率分光法による薄膜測定装置や、分光エリプソメーターにより測定することができる。
【００７３】
上記第１の高屈折率層は、通常、上記光の透過が可能な光透過性を有するものである。
上記第１の高屈折率層の全光線透過率としては、例えば、７０％以上であるものとすることができ、なかでも９０％以上であることが好ましい。上記全光線透過率が上述の範囲内であることにより、本開示の積層体は、回折格子領域およびプラズモン共鳴領域からの反射光を容易観察可能となるからである。
なお、上記全光線透過率の上限は高いほど好ましいが、第１の高屈折率層に所望の強度を付与するとの観点、材料選択の自由度の観点等から、通常、９５％以下である。
また、全光線透過率については、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光線透過率の試験方法）により測定することができる。
【００７４】
上記第１の高屈折率層の構成材料は、隣接部材との屈折率差を所望の範囲とすることができるものであればよく、例えば、隣接部材が凹凸層であり、凹凸層の構成材料が後述のアクリル樹脂等の有機材料や、無機材料としてのガラス等を含む場合には、酸化チタン（ＩＶ）、酸化クロム（ＩＩＩ）、硫化亜鉛、酸化アルミニウム、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、三酸化アンチモン、酸化鉄（ＩＩＩ）、硫化カドミウム、酸化セリウム（ＩＶ）、塩化鉛（ＩＩ）、酸化カドミウム、酸化タングステン（ＶＩ）、酸化インジウム（ＩＩＩ）、酸化鉛（ＩＩ）、酸化タンタル（Ｖ）、酸化ジルコニウム（ＩＶ）等の無機化合物やシリコン等の無機物等を含むものとすることができる。
【００７５】
上記第１の高屈折率層の厚みとしては、第１の高屈折率層に求められる光透過性等に応じて適宜設定できる。
上記厚みとしては、例えば、１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であるものとすることができ、なかでも２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。上記厚みが上述の下限以上であることで、本開示の積層体は、回折格子領域およびプラズモン共鳴領域からの反射光を容易観察可能となるからである。
【００７６】
上記第１の高屈折率層の形成方法としては、第１の高屈折率層の構成材料に応じて適宜設定することができる。上記構成材料が無機化合物を含むものである場合には、上記形成方法は、スパッタ法、ゾルゲル法等の一般的な成膜方法を用いることができる。
【００７７】
５．第２の高屈折率層
上記第２の高屈折率層は、上記凹凸と接し、上記凹凸層よりも高い屈折率を有するものである。
【００７８】
上記凹凸層との屈折率の差としては、回折格子領域で積層体の観察方向を９０°回転する前後で、異なる波長の反射光が観察可能となるものであればよい。
例えば、このような屈折率の差としては、上記「４．第１の高屈折率層」の項に記載の隣接部材との屈折率の差と同様とすることができる。
【００７９】
上記第２の高屈折率層のその他の事項については、上記「４．第１の高屈折率層」の項に記載の第１の高屈折率層の内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【００８０】
６．凹凸層
上記凹凸層は、ライン状の凹凸を有するものである。
また、上記凹凸は、凹凸層の表面に形成されるライン状の凹凸であり、上記凹凸のライン方向と上記ライン方向に直交する方向とで異なる波長の光を反射するものである。
【００８１】
ここで、ライン状の凹凸とは、所定の長さの帯状の凹部および帯状の凸部が平面視上交互に平行に配置されているものである。
帯状の凹部および帯状の凸部が平面視上交互に平行に配置されているとは、帯状の凹部および帯状の凸部の長手方向が、同一方向に揃うように配置され、帯状の凹部および帯状の凸部の両者が、長手方向に直交する方向に交互に配置されていることをいうものである。
凹部の長手方向とは、凹部が連続的に形成される平面視上の方向をいうものである。同様に、凸部の長手方向とは、凸部が連続的に形成される平面視上の方向をいうものである。
平面視とは、凹凸層の第２の高屈折率層側の表面から見ることを意味するものとすることができる。
なお、図１２（ａ）〜（ｃ）では、帯状の凹部１ａ−１および帯状の凸部１ａ−２の長手方向は、両者共に、平面視上Ｙ方向に平行な方向であり、凹部１ａ−１および帯状の凸部１ａ−２の両者が平面視上上記Ｙ方向に直交する方向であるＸ方向に交互に配置されている例を示すものである。
なお、図１２（ａ）は、上記凹凸層１の一例を示す概略平面図であり、図１２（ｂ）は図１２（ａ）のＨ−Ｈ線断面図の一例を示し、図１２（ｃ）は、図１２（ａ）のＨ−Ｈ線断面図の他の例を示すものである。
【００８２】
また、上記凹凸のライン方向とは、帯状の凹部および帯状の凸部の両者の長手方向を意味するものである。
上記凹凸のライン方向と上記ライン方向に直交する方向とで異なる波長の光を反射するとは、凹凸のライン方向に平行な方向から可視光を照射した場合と、平面視上凹凸に対して少なくともライン方向に直交する方向から可視光を照射した場合とで、観察される反射光の波長が異なることをいうものである。
上記観察される反射光は、既に説明した図３（ａ）〜（ｃ）に示すように、凹凸層１の可視光が照射される面側（図３（ａ）では第２の高屈折率層２が配置された面側）と同一の面側で観察される反射光であり、観察角βが入射角αと同一角度で観察される正反射光とすることができる。また、上記観察される反射光は、凹凸に対して可視光が照射される方向と同一軸線上で観察されるものとすることができる。
凹凸に対して、ライン方向に平行な方向から照射される可視光およびライン方向に直交する方向から照射される可視光は、同一入射角で照射されるものであり、さらに同一波長、すなわち、同一の光源を用いて照射されるものである。
観察される反射光の波長が異なるとは、観察される反射光が異なる色として認識できることをいうものである。異なる色として認識できるとは、例えば、色差ΔＥが、６以上であるものとすることができる。なお、上記色差ΔＥは、特開２０１３−１８０４７０号公報に記載のＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系のΔＥを示すものである。
また、少なくともライン方向に直交する方向から可視光を照射した場合とは、平面視上、上記可視光の照射方向が、ライン方向に対して少なくとも９０°となる場合に、凹凸のライン方向に平行な方向である場合とは観察される反射光の波長が異なるものであればよい。
したがって、上記凹凸は、例えば、積層体の平面視上、ライン方向に対して４５°以上１３５°以下となる方向から可視光を照射した場合に、凹凸のライン方向に平行な方向から可視光を照射した場合とは観察される反射光の波長が異なるものとすることができる。
【００８３】
（１）凹凸
上記凹凸は、上記凹凸のライン方向と上記ライン方向に直交する方向とで異なる波長の光を反射するものである。
また、ライン方向とライン方向に直交する方向とで反射される光の波長や、目的の波長の反射光が観察され得る可視光の回折格子領域に対する入射角、さらには、凹凸のライン方向に平行な方向である場合とは観察される反射光の波長が異なるものとなる、平面視上凹凸のライン方向に対して照射される可視光の照射方向等の反射特性は、上記凹凸の形状によって調整することができる。
上記凹凸の形状は、例えば、目的の波長の反射光が観察され得る可視光の回折格子領域に対する入射角が、例えば、１０°以上３０°以下となるように設計することができる。
また、上記凹凸の形状は、例えば、上記凹凸のライン方向と上記ライン方向に直交する方向とで反射される光の波長については、本開示の積層体の種類および用途等に応じて異なるものであるが、例えば、上記「３．粒子層」の項に記載のプラズモン共鳴する光の波長と同様となるように、設計することができる。
上記凹凸の形状は、例えば、上記照射方向が、平面視上、上記ライン方向に対して４５°以上１３５°以下となる場合に、凹凸のライン方向に平行な方向である場合とは観察される反射光の波長が異なるものとなるように設計することができる。
【００８４】
このような凹凸としては、例えば、国際公開第２０１６／０６８１４３号に記載の内容と同様とすることができる。
より具体的には、上記凹凸に含まれる凹部および凸部の断面視形状としては、回折格子領域から観察される反射光の波長等の反射特性に応じて適宜設定できるものであるが、正方形状や長方形状等の四角形状、台形状、三角形状、半円形状等とすることができる。
また、凹凸の断面視形状は、交互に配置される凹部および凸部の断面視形状に応じて決定され、例えば、方形波、台形波、正弦波形、三角波形、鋸歯状波等が挙げられる。
なお、図１２（ｂ）は、凹部および凸部の両者が正方形状であり、凹凸の断面視形状が方形波である例を示すものである。
また、図１２（ｃ）は、凹部および凸部の両者が略半円形状であり、凹凸の全体で正弦波形状である例を示すものである。
【００８５】
上記凹凸に含まれる凹部および凸部の幅の比率（凹部の幅／凸部の幅）としては、回折格子領域から観察される反射光の波長、所望の波長の反射光が高輝度で観察される入射角度等の反射特性に応じて適宜設定できるものであるが、１に近いことが好ましい。回折格子領域は、高輝度の反射光を観察可能となるからである。
より具体的には、上記比率は、０．５以上２以下とすることができ、０．９以上１．１以下であることが好ましく、特に、１．０であることが好ましい。
なお、上記凹凸の凹部の幅および凸部の幅は、凹部および凸部の断面視形状が、図１２（ｂ）に例示するような四角形状である場合には、凹部および凸部をそれぞれ形成する側面間の距離とすることができる。より具体的には、上記凹凸の凹部の幅および凸部の幅はそれぞれ、図１２（ｂ）中のｊおよびｋで示される距離とすることができる。
また、凹部および凸部の断面視形状が、図１２（ｃ）に例示するような略半円形状であり、凹凸の断面視形状が正弦波形状である場合には、凹部および凸部の幅は、凹部および凸部の側面の変極点間の距離とすることができる。より具体的には、上記凹凸の凹部の幅および凸部の幅はそれぞれ、図１２（ｃ）中のｊおよびｋで示される距離とすることができる。
【００８６】
上記凹凸のピッチとしては、上記凹凸のライン方向と上記ライン方向に直交する方向とで異なる波長の光を反射するものであればよく、回折格子領域から観察される反射光の波長等に応じて適宜設定できるものである。
上記凹凸のピッチは、１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下とすることができ、なかでも２００ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましい。
上記ピッチが上述の範囲内であることで、例えば、凹凸のライン方向に平行な方向である場合とは観察される反射光の波長が異なるものとなる上記照射方向を、例えば、上記ライン方向に対して４５°以上１３５°以下とすることが容易になるからである。
上記ピッチは、凹部および凸部の周期であり、通常、凹部および凸部の幅の合計とすることができる。上記ピッチは、例えば、既に説明した図１２（ｂ）および（ｃ）中のｌで示される距離とすることができる。
【００８７】
上記凹凸の深さとしては、回折格子領域から観察される反射光の波長等に応じて適宜設定でき、例えば、２０ｎｍ以上２００ｎｍ以下とすることができ、なかでも５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。上記深さが上述の範囲内であることで、視認性が向上することとなるからである。
上記深さは、凹凸を断面視した際に観察される凹部および凸部の厚さ方向の距離のうち最大の距離をいうものであり、より具体的には、図１２（ｂ）および（ｃ）中のｍで示される距離とすることができる。
【００８８】
上記凹凸ラインのライン方向の長さとしては、通常、凹部および凸部の幅方向より長いものであり、回折格子領域の形状等に応じて適宜設定されるものである。
なお、上記ライン方向の長さは、具体的には、既に説明した図１２（ａ）中のｎで示される距離とすることができる。
【００８９】
上記凹凸の数としては、回折格子領域で可視光が照射される積層体の向きを９０°回転することで異なる色の反射光が観察可能となるものであればよく、例えば、１０本以上とすることができる。上記凹凸数であることで、回折格子領域は、安定的に、積層体の向きを９０°回転することで異なる色の反射光が観察可能となるからである。
また、上記凹凸数の上限は、回折格子領域のサイズ等に応じて適宜設定されるものである。
なお、上記凹凸の数は、１つの回折格子領域に含まれ、凹凸のライン方向に直交する方向に配列される凹部および凸部の合計数をいうものである。なお、既に説明した図１２（ｂ）および（ｃ）は、上記凹凸の数が７である例を示すものである。
【００９０】
上記凹凸の形成方法としては、所望の位置に、所望の形状の凹凸を形成可能な方法であればよく、公知の凹凸形成方法を用いることができる。
上記凹凸層の構成材料が紫外線硬化性または熱硬化性の有機材料を含む場合には、上記凹凸に対応する凹凸パターンを有するマスター原版を準備し、硬化前の上記有機材料の塗膜に対して、マスター原版の凹凸パターンを転写する方法を挙げることができる。
また、凹凸層の構成材料が熱可塑性を有する有機材料を含む場合には、有機材料の塗膜を加熱して可塑化された状態で、マスター原版の凹凸パターンを転写する方法を挙げることができる。
さらに、上記基材の構成材料がガラス等の無機材料を含む場合には、凹凸形成前のガラス基材表面に上記凹凸の凹部が配置される箇所が露出するようにレジストを配置して、レジストから露出するガラス基材をエッチングする方法等を挙げることができる。
【００９１】
（２）凹凸層の構成材料
上記凹凸層の構成材料は、上記凹凸を安定的に形成可能なものであればよい。
このような凹凸層の構成材料としては、所望の透明性を有し、上記積層体を使用者が使用した際に破損しない強度を示すものであればよい。
【００９２】
凹凸層の構成材料としては、例えば、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等を挙げることができる。また、凹凸層の構成材料は、紫外線硬化型架橋構造の樹脂であっても良い。紫外線硬化型架橋構造の樹脂である場合、架橋数を調整する架橋構造調整添加剤を含んでいても良い。
【００９３】
熱硬化性樹脂としては、例えば、不飽和ポリエステル樹脂、アクリルウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ変性アクリル樹脂、エポキシ変性不飽和ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、セルロース樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリアセタール樹脂等、有機成分とゾルゲル反応可能な金属アルコキシド基を含有した有機−無機ハイブリッド樹脂等が挙げられる。また、熱可塑性樹脂としては、アクリル樹脂、アクリルアミド樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリウレタン、ナイロン（登録商標）、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、シリコーン樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、単独あるいは２種以上の組み合わせで使用することができ、また、各種イソシアネート樹脂や、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸亜鉛等の金属石鹸ベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド等の過酸化物、ベンゾフェノン、アセトフェノン、アントラキノン、ナフトキノン、アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルスルフィド等の熱あるいは紫外線硬化剤を配合してもよい。
【００９４】
また、電離放射線硬化性樹脂としては、エチレン性不飽和結合をもつモノマー、オリゴマー、ポリマー等を使用することができる。モノマーとしては、例えば、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。オリゴマーとしては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート等が挙げられる。ポリマーとしては、ウレタン変性アクリル樹脂、エポキシ変性アクリル樹脂が挙げられ、特に耐熱性や加工性の観点から、特開２０００−６３４５９号公報に記載されているようなウレタン変性アクリル樹脂が好ましく用いられる。
【００９５】
また、凹凸層の構成材料としては、例えば、特開昭６１−９８７５１号公報、特開昭６３−２３９０９号公報、特開昭６３−２３９１０号公報に記載されているような光硬化性樹脂を用いることもできる。
【００９６】
また、凹凸層の構成材料は、例えば、反応性をもたないアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等のポリマーが添加されていても良い。
【００９７】
また、凹凸層の形成時に、光カチオン重合を利用する場合には、エポキシ基を有するモノマー、オリゴマー、ポリマー、オキセタン骨格含有化合物、ビニルエーテル類を使用することができる。
【００９８】
また、上記の電離放射線硬化性樹脂は、紫外線等の光によって硬化させる場合には、光重合開始剤を添加することができる。樹脂に応じて、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤、その併用型（ハイブリッド型）を選定することができる。
【００９９】
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル等のベンゾイン系化合物、アントラキノン、メチルアントラキノン等のアントラキノン系化合物、アセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−アミノアセトフェノン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オン等のフェニルケトン系化合物、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン、アシルホスフィンオキサイド、ミヒラーズケトン等を挙げることができる。
【０１００】
光カチオン重合開始剤としては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ホスホニウム塩、混合配位子金属塩等を使用することができる。
【０１０１】
凹凸層の構成材料が、光ラジカル重合と光カチオン重合を併用する、いわゆるハイブリッド型材料である場合、それぞれの重合開始剤を混合して使用することができ、また、一種の開始剤で双方の重合を開始させる機能をもつ芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩等を使用することができる。
【０１０２】
上記凹凸層の構成材料は、離型剤をさらに添加されていても良い。凹凸の形成を容易に行うことができる。離型剤としては、公知の離型剤や界面活性剤、例えば、ポリエチレンワックス、アミドワックス等の固形ワックス、フッ素化合物、フッ素ポリマー、リン酸エステル、シリコーンオイル、シリコーン樹脂等が挙げられる。
【０１０３】
また、凹凸層における凹凸形状を正確なものとしたり、硬度、耐熱性を付与するために、凹凸層の構成材料には、シリカ、チタニア、アルミナ等の無機酸化物微粒子や金属アルコキシド、金属アルコキシドオリゴマー等がさらに添加されていても良い。
また、凹凸層の構成材料には、重合防止剤、酸化防止剤、増感剤、紫外線吸収剤、安定化剤、可塑剤、消泡剤等がさらに添加されていても良い。
【０１０４】
上記凹凸層の厚さは、上記凹凸を安定的に形成可能なものであればよい。
上記厚さは、構成材料や要求される光透過性等、さらには、用途等に応じて適宜調整されるものである。
上記厚さは、例えば、０．０５μｍ以上３０００μｍ以下とすることができるが、本開示の積層体が、転写箔として用いられる場合には、０．１μｍ以上５０μｍ以下とすることができ、カードとして用いられる場合には、０．３ｍｍ以上２ｍｍ以下とすることができる。
なお、上記厚みは、凹凸層が積層構造である場合には全体の厚みをいうものである。
上記厚みは、具体的には、既に説明した図１２（ｂ）および（ｃ）中のｏで示される距離とすることができる。
【０１０５】
上記凹凸層は、通常、上記光の透過が可能な光透過性、すなわち透明性を有するものである。
また、上記凹凸層は、プラズモン共鳴により散乱される波長の光および回折格子領域の上記凹凸からの反射光を少なくとも透過するものであればよいが、可視光全体を透過する可視光透過性を有するものであることが好ましい。
このような凹凸層の光の透過率および全光線透過率については、上記「４．第１の高屈折率層」の項に記載の内容と同様とすることができる。
【０１０６】
上記凹凸層は、上記凹凸層の第１の高屈折率層側および第２の高屈折率層側の表面に、通常、上記凹凸を含まない平坦面を有するものである。
上記凹凸層表面の算術平均粗さＲａとしては、２００ｎｍ以下とすることができ、１００ｎｍ以下であることが好ましい。上記算術平均粗さＲａが上述の範囲内であることにより、凹凸層は、例えば、第１の高屈折率層を介して平面視上重なるように配置される粒子のプラズモン共鳴への影響の少ないものとなるからである。
なお、上記算術平均粗さＲａは、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２００１に規定された算術平均粗さＲａをいう。
【０１０７】
７．その他の構成
上記積層体は、凹凸層、第１の高屈折率層、第２の高屈折率層、粒子層および第１の画像表示部を有するものであるが、必要に応じてその他の構成を有するものであってもよい。
このようなその他の構成としては、例えば、既に説明した図２に例示するように、凹凸層１、第１の高屈折率層４、第２の高屈折率層２および粒子層３等を支持する支持基材５、図１３（ａ）および（ｂ）に例示するように、第２の高屈折率層２の凹凸層１とは反対の面側または粒子層３の第２の高屈折率層２とは反対の面側に配置される接着層３１、図１３（ｃ）に例示するように、第２の高屈折率層２の凹凸層１とは反対の面側に配置される拡散層３３、図１３（ｂ）および（ｄ）に例示するように、粒子層３または凹凸層１に形成された凹凸１ａを覆うように配置され、粒子層３および凹凸１ａ等を保護する保護層３４等を挙げることができる。
なお、図１３（ａ）は、接着層３１の凹凸層１とは反対の面側に剥離シート３２を有する例を示すものである。
【０１０８】
（１）支持基材
上記支持基材は、凹凸層、第１の高屈折率層、第２の高屈折率層および粒子層等を支持するものである。上記積層体は、上記支持基材を有することにより、例えば、上記凹凸層の形成が容易となる。例えば、支持基材は、凹凸層の形成方法として、支持基材上に硬化前の有機材料の塗膜を形成し、次いで、上記塗膜に対して上記凹凸を形成する方法により凹凸を有する凹凸層を容易に形成可能となる。
このような支持基材の構成材料としては、所望の透明性を有し、上記積層体を使用者が使用した際に破損しない強度を示すものであればよい。
上記凹凸層に用いることができる構成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、シリコーンゴム、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等の有機材料、ガラス等の無機材料、有機材料と無機材料との両者を含むハイブリッド材料等を含むものとすることができる。
また、上記支持基材の厚みについては、凹凸層、第１の高屈折率層、第２の高屈折率層および粒子層等を安定的に支持できるものであればよく、例えば、１０μｍ以上２０００μｍ以下とすることができる。
【０１０９】
（２）接着層
上記接着層は、第２の高屈折率層の凹凸層とは反対の面側または粒子層の第１の高屈折率層とは反対の面側に配置されるものである。
上記積層体は、上記接着層を有することにより、被着体に容易に貼付可能となる。
【０１１０】
上記接着層の配置箇所としては、第２の高屈折率層の凹凸層とは反対の面側または粒子層の第１の高屈折率層とは反対の面側であればよいが、第２の高屈折率層の凹凸層とは反対の面側であることが好ましい。上記配置箇所であることで、接着層は、粒子層に含まれる粒子を保護する保護層としても機能するからである。
【０１１１】
上記接着層は透明性を有するものであることが好ましい。上記積層体は、意匠性および偽造防止性に優れたものとなるからである。
【０１１２】
上記接着層は、粘着性を有する粘着剤層であってもよく、密着性および再剥離性の双方の特性を有する再剥離密着層であってもよい。
なお、上記接着層は、２液硬化型接着剤層、紫外線硬化型接着剤層、熱硬化型接着剤層、熱溶融型接着剤層等の接着剤層であってもよい。
上記接着層が粘着剤層である場合、上記積層体は、所望の部材に強固に貼りあわせることができ、被着体から積層体が剥がれにくいものとすることが可能となる。
また、上記接着層が再剥離密着層である場合、再剥離密着層と被着体との間に空気が入らないよう密着させることにより、上記積層体は、所望の部材に貼りあわせることができる。このような再剥離密着層は、被着体に粘着剤等による跡を残すことなく容易に密着および剥離を繰り返し行うことが可能であり、被着体へのダメージを抑えることができる。
【０１１３】
上記接着層が粘着剤層である場合、上記粘着剤層の構成材料として含まれる樹脂としては、例えばアクリル系樹脂、エステル系樹脂、ウレタン系樹脂、エチレン酢酸ビニル系樹脂、ラテックス系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタンエステル系樹脂、またはフッ化ビニリデン系樹脂（ＰＶＤＦ）、フッ化ビニル系樹脂（ＰＶＦ）等のフッ素系樹脂、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド等のポリイミド系樹脂等を挙げることができる。上記樹脂は、中でもアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エチレン酢酸ビニル系樹脂、ラテックス系樹脂であることが好ましい。
【０１１４】
また、上記接着層が再剥離密着層である場合、上記再剥離密着層の構成材料として含まれる樹脂としては、例えばアクリル系樹脂、アクリル酸エステル樹脂、またはこれらの共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、天然ゴム、カゼイン、ゼラチン、ロジンエステル、テルペン樹脂、フェノール系樹脂、スチレン系樹脂、クマロンインデン樹脂、ポリビニルエーテル、シリコーン樹脂等を挙げることができる。上記樹脂は、中でもアクリル系樹脂、シリコーン樹脂であることが好ましい。アクリル系樹脂は、被着体の表面に多少の凹凸がある場合であっても接着が可能であるからである。また、シリコーン樹脂は、密着および剥離を繰り返し行っても接着強度が低下しにくいからである。
【０１１５】
上記接着層の厚みとしては、上記積層体の種類や用途等に応じて適宜選択されるが、通常０．５μｍ以上５００μｍ以下とすることが好ましく、中でも２μｍ以上５０μｍ以下とすることが好ましい。上記厚みが上述の範囲内であることにより、接着層は、接着性に優れたものとなるからである。
【０１１６】
（３）剥離シート
また、上記積層体は、上述した接着層上に剥離シートが配置されていてもよい。上記積層体は、接着層を介して所望の被着体に貼り合せる直前に、剥離シートと接着層とを剥離して使用することが可能となる。これにより、積層体は、接着層と被着体との間に異物が付着することを防止できる。
【０１１７】
上記剥離シートとしては、接着層を保護することができ、且つ上記接着層から容易に剥離することが可能なものであれば、特に限定されるものではない。このような剥離シートとしては、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）等を含むシートとすることができる。
上記剥離シートの厚さは、本開示の積層体の種類や用途等に応じて適宜選択される。
【０１１８】
また、上記剥離シートの接着層と接する側の面には、接着層との剥離操作を容易とするために、剥離処理が施されていることが好ましい。このような処理方法としては、例えばシリコーン処理、アルキッド処理等が挙げられるが、特に限定されるものではない。
【０１１９】
（４）拡散層
上記拡散層は、第２の高屈折率層の凹凸層とは反対の面側に配置されるものである。
上記積層体は、上記拡散層を有することにより、例えば、凹凸層の第２の高屈折率層側から積層体を観察する場合に、回折格子領域からの反射光の視域が広いものとなるからである。
このような拡散層としては、光学素子等に一般的に用いられるものを使用することができ、例えば、ＷＯ２０１６／０６８１４３号公報等に記載されているような微細凹凸を有する層を含むものをあげることができる。
【０１２０】
（５）保護層
上記保護層は、粒子層または凹凸層に形成された凹凸を覆うように配置され、粒子層および凹凸を保護するものである。
このような保護層の構成材料としては、光学部材に一般的に用いられるものを使用することができ、例えば、上記「３．粒子層」の項に記載のバインダ樹脂と同様に、アクリル樹脂、ウレタンアクリル樹脂、エポキシ樹脂等を用いることができる。
上記保護層の厚みについては、上記凹凸および粒子層をそれぞれ覆うことができるものであればよく、０．１μｍ以上３０μｍ以下とすることができる。なお、上記厚みは、保護層が凹凸を覆うように配置される場合には、第２の高屈折率層表面からの厚みをいうものであり、保護層が粒子層を覆うように配置される場合には第１の高屈折率層表面からの厚みをいうものである。
【０１２１】
（６）その他
上記その他の構成は、樹脂および顔料等の着色剤等を含む印刷層や、後述するヒートシール層等を挙げることができる。
また、上記その他の構成は、上記粒子層が粒子のみを含むものである場合等には、本開示の積層体に使用者が触れた際に使用者の指が上記粒子に接触すること等から保護する保護部材等を挙げることができる。
なお、上記保護部材としては、例えば、図１４（ａ）に例示するような、第１の高屈折率層４の凹凸層１とは反対の面側に配置され、上記粒子３ａより高さが高い厚膜部材３５ａを含むもの、図１４（ｂ）に例示するような、上記厚膜部材３５ａおよび厚膜部材３５ａにより支持されるカバー部材３５ｂ等を含むものを挙げることができる。
【０１２２】
上記その他の構成は、必要に応じて、第２の高屈折率層の凹凸層とは反対の面側に、上記粒子を含む第２の粒子層を有するものであってもよい。
なお、このような第２の粒子層のその他の事項については、上記「３．粒子層」の項に記載の内容と同様とすることができるので、ここでの記載は省略する。
【０１２３】
８．使用態様
本開示の積層体は、被着体に接着して使用するものであってもよく、被着体に接着せずに使用するものであってもよい。
【０１２４】
上記被着体に接着して使用する態様としては、被着体との接着に用いられる層を有するものであれば特に限定されるものではなく、例えば、上記第２の高屈折率層の上記凹凸層とは反対の面側または上記粒子層の上記第１の高屈折率層とは反対の面側に配置されたヒートシール層を有し、転写箔として用いられる態様（第１使用態様）等を挙げることができる。
また、上記被着体に接着せずに使用する態様としては、例えば、上記第２の高屈折率層の上記凹凸層とは反対の面側に配置された第１カバー層および上記粒子層の上記第１の高屈折率層とは反対の面側に配置された第２カバー層を有し、カードとして用いられる態様（第２使用態様）等を挙げることができる。
【０１２５】
（１）第１使用態様
本開示の積層体の第１使用態様は、上記第２の高屈折率層の上記凹凸層とは反対の面側または上記粒子層の上記第１の高屈折率層とは反対の面側に配置されたヒートシール層を有し、転写箔として用いられるものである。
【０１２６】
このような本態様の積層体について図面を参照して説明する。図１５（ａ）は、本態様の積層体の一例を示す概略断面図である。図１５（ａ）に例示するように、本態様の積層体１０は、上記粒子層３の第１の高屈折率層４とは反対の面側に形成された剥離容易層４１と、第２の高屈折率層２の凹凸層１とは反対の面側に配置されたヒートシール層４３と、上記剥離容易層４１の上記凹凸層１とは反対の面側に配置された剥離用基材４２と、を有し、転写箔として用いられるものである。
なお、図１５（ａ）中の符号については、図１および図２のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
また、この例においては、上記積層体１０は、ヒートシール層４３の凹凸層１とは反対の面側に剥離シート４４を有するものである。
【０１２７】
本態様によれば、ヒートシール層を用いて上記積層体を被着体に接着させることが容易であり、上記積層体は、被着体に容易に偽造防止性および意匠性を付与できる。
このような本態様の積層体の具体的な用途としては、例えば、紙幣等の金券、運転免許証、パスポート等の身分証明書等に所望のパターン形状で転写して、可視光を上記積層体に照射することで表示される画像表示部を用いて真贋判定を行う等の偽造防止性が要求される用途、意匠性を付与する用途等を挙げることができる。
【０１２８】
本態様の積層体は、ヒートシール層を有するものである。
以下、本態様の積層体の各構成について詳細に説明する。
【０１２９】
（ａ）ヒートシール層
上記ヒートシール層は積層体を被着体に接着させる機能を有するものである。
【０１３０】
このようなヒートシール層としては、積層体と被着体とを接着できるものであれば特に限定されるものではなく、本態様の積層体が転写される被着体の種類に応じて適宜設定されるものである。
上記ヒートシール層としては、例えば、特開２０１４−１６４２２号公報等に記載の熱可塑性樹脂を含むヒートシール層を用いることができる。
【０１３１】
上記ヒートシール層の配置箇所としては、上記第２の高屈折率層の上記凹凸層とは反対の面側または上記粒子層の上記第１の高屈折率層とは反対の面側のいずれであってもよいが、なかでも、上記第２の高屈折率層の上記凹凸層とは反対の面側であることが好ましい。
上記配置箇所が上述の箇所であることで、上記積層体の形成が容易となるからである。
【０１３２】
（ｂ）その他
本態様の積層体は、ヒートシール層を有するものであるが、必要に応じてその他の構成を有するものであってもよい。
このようなその他の構成としては、転写箔としての積層体を被着体に転写した後に積層体から剥離される剥離用基材、および剥離用基材を積層体から剥離容易とする剥離容易層等を挙げることができる。
【０１３３】
上記剥離用基材は、本態様の積層体を被着体に接着した後に積層体から剥離されるものである。
このような剥離用基材としては、透明性を有するものであってもよく、遮光性を有するものであってもよい。
上記剥離用基材の構成材料および膜厚としては、例えば、上記「６．凹凸層」の項に記載の凹凸層の構成材料および膜厚と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
上記剥離用基材の配置箇所としては、例えば、上記第２の高屈折率層の凹凸層とは反対の面側または上記粒子層の第１の高屈折率層とは反対の面側のうち、ヒートシール層が配置された面とは異なる面側とすることができる。
【０１３４】
上記剥離容易層は、積層体をヒートシール層を介して被着体に接着した後に、剥離用基材および積層体を容易に分離するために設けられるものである。
このような剥離容易層としては、上記「７．その他の構成」の項に記載の再剥離密着層を用いることができる。
【０１３５】
上記剥離容易層の平面視上の形成箇所としては、剥離用基材を被着体に接着した積層体から容易に剥離可能とするものであれば特に限定されるものではない。
【０１３６】
本態様の積層体は、必要に応じて、上記「７．その他の構成」の項に記載のその他の構成等を有するものであってもよい。
【０１３７】
（２）第２使用態様
本開示の積層体の第２使用態様は、上記第２の高屈折率層の上記凹凸層とは反対の面側に配置された第１カバー層および上記粒子層の上記第１の高屈折率層とは反対の面側に配置された第２カバー層を有し、カードとして用いられるものである。
【０１３８】
このような本態様の積層体について図面を参照して説明する。図１５（ｂ）は、本態様の積層体の一例を示す概略断面図である。図１５（ｂ）に例示するように、本態様の積層体１０は、上記第２の高屈折率層２の凹凸層１とは反対の面側に配置された第１カバー層５１および上記粒子層３の第１の高屈折率層４とは反対の面側に配置された第２カバー層５２を有し、カードとして用いられるものである。
なお、図１５（ｂ）中の符号については、図１および図２のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
【０１３９】
このような本態様の積層体のより具体的な用途としては、カードとして用いられるものであればよく、クレジットカード、キャッシュカード、ポイントカード、社員証等を挙げることができる。
【０１４０】
上記第１カバー層および第２カバー層（以下、両者をまとめてカバー層と称する場合がある。）としては、例えば、特開２０１２−２０６５１９号公報等において、カードに含まれる透明オーバーシートと同様とすることができる。
具体的には、上記カバー層の構成材料としては、回折格子領域およびプラズモン共鳴領域からの反射光を透過可能なものであれば特に限定されるものではないが、ポリ塩化ビニルやＰＥＴ−Ｇ（ポリエチレンテレフタレートにおけるエチレングリコール成分の一部をシクロヘキサンジメタノールで置換した共重合ポリエステル樹脂）、アクリルニトリル−ブタジエン−スチレン共重合樹脂（ＡＢＳ）、ポリプロピレン、トリアセテートなどの透明性の高い樹脂を含むものとすることができる。
上記カバー層の厚みは、例えば、０．５４ｍｍ以上０．６５ｍｍ以下とすることができる。
【０１４１】
上記積層体は、カードとして使用されるために必要となる機能層を含むことができる。
上記機能層としては、印刷により情報が記録された印刷層、磁気等により情報が記録された磁気層、集積回路（ＩＣ）チップを含むＩＣチップ層、アンテナを含むアンテナ層等を含むことができる。
これらの機能層等の厚み方向の配置箇所としては、回折格子領域およびプラズモン共鳴領域からの反射光の視認を妨げない位置であれば特に限定されるものではなく、例えば、凹凸層および第１のカバー層の間等とすることができる。
【０１４２】
９．用途
本開示の積層体の用途としては、意匠性、偽造防止性が要求される用途を挙げることができ、なかでも、偽造防止性が要求されるセキュリティ媒体の用途に好ましく用いることができる。すなわち、上記積層体は、セキュリティ媒体として好ましく使用することができる。
上記セキュリティ媒体としてのより具体的な用途としては、可視光を上記積層体に照射することで表示される画像表示部を用いて真贋判定を行うものとすることができ、例えば、紙幣等の金券、運転免許証、パスポート等の身分証明書、上述のクレジットカード等のカード等を挙げることができる。また、意匠性が要求される用途としてのより具体的な用途についても、上記セキュリティ媒体としての具体的な用途と同様とすることができる。
なお、上記積層体を用いた意匠性、偽造防止性の確認方法としては、目視により確認する方法以外に、電荷結合素子（ＣＣＤ）等の可視光を検出可能な装置等を用いて行う方法も用いることができる。本開示においては、なかでも、目視により確認する方法が好ましく用いられる。
【０１４３】
１０．製造方法
本開示の積層体の製造方法としては、上記各構成を精度よく配置することができる方法であればよく、例えば、支持基材を準備し、支持基材上に凹凸を有する凹凸層を形成し、次いで、凹凸層の凹凸が形成された表面を覆うように第２の高屈折率層を形成し、次いで、凹凸層の高屈折率層が形成された面とは反対の面側に第１の高屈折率層を形成し、次いで、第１の高屈折率層上に粒子層を形成する方法を挙げることができる。
【０１４４】
本開示は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本開示の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本開示の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【０１４５】
以下に実施例および比較例を示し、本開示をさらに詳細に説明する。
【０１４６】
［実施例１］
（１）凹凸層形成工程
合成石英の基板上に表面低反射クロム薄膜が積層されたフォトマスクブランク板のクロム薄膜上に、ドライエッチング用レジストをスピンナーにより回転塗布した。ドライエッチング用レジストとしては日本ゼオン（株）製ＺＥＰ７０００を使用し、４００ｎｍの厚みとなるように形成した。このレジスト層に対し、電子線描画装置(MEBES4500：ETEC社製)を用いて露光し、レジスト樹脂の露光部分を易溶化した。その後、現像液を噴霧し（スプレー現像）して易溶化部分を除去し、レジストパターンを形成した。
続いて、形成されたレジストパターンを利用して、ドライエッチングによりレジストで被覆されていない部分のクロム薄膜をエッチング除去し、石英基板を露出させた。次いで、露出した石英基板をエッチングし、石英基板に凹部を形成した。その後、レジスト薄膜を溶解除去することにより、石英基板がエッチングされて生じた帯状の凹部と、石英基板およびクロム薄膜がエッチングされずに残存している帯状の凸部とを有する原版を得た。
次いで、支持基材として、厚み０．５ｍｍのＰＥＴフィルム（ルミラー、東レ）を準備し、ＰＥＴフィルムの表面に、凹凸層形成用組成物（ＵＶ硬化性アクリレート樹脂：屈折率１．５２  測定波長６３３ｎｍ)を滴下し、上記組成物の塗膜を形成した。
次いで、上記塗膜上にライン状の凹凸を有する原版を積置し、押圧した。
次に、活性放射線を照射して上記塗膜を硬化させた後、原版から剥離させ、原版の凹凸型を反転させたライン状の凹凸を有する凹凸層を形成した。
なお、凹部の幅、凹凸の深さおよび凹凸のピッチは、それぞれ、２００ｎｍ、２００ｎｍおよび４００ｎｍとした。
また、凹凸が配置された回折格子領域の平面視形状は、幅２ｍｍの帯状の線で描画された「Ｄ」の文字とした。
【０１４７】
（２）第２の高屈折率層形成工程
次いで、凹凸層の凹凸を有する面側の全面に酸化チタンをスパッタ法で成膜し、凹凸と接し、凹凸層より屈折率の高い第２の高屈折率層として酸化チタン膜を有する基板を得た。
触診式段差計で高屈折率層の膜厚を測定したところ、その膜厚は、５０ｎｍであった。
【０１４８】
（３）第１の高屈折率層形成工程
次いで、凹凸層の凹凸を有する面とは反対の面側の全面に酸化チタンをスパッタ法で成膜し、第１の高屈折率層として酸化チタン膜を有する基板を得た。
触診式段差計で高屈折率層の膜厚を測定したところ、その膜厚は、４０ｎｍであった。
【０１４９】
（４）粒子層形成工程
次いで、エチレングリコールで表面修飾された、直径１００ｎｍの銀ナノ粒子の水系分散液（シグマアルドリッチ）を遠沈管に分取した。過剰量のアセトンを加えて、遠心分離機を用いて２０００Ｇの遠心力で、銀ナノ粒子を沈殿させ、上澄み液を除去した。これを数回繰り返し、エタノールに再分散させて銀ナノ粒子エタノール分散液を得た。
上記基板の第１の高屈折率層側の酸化チタン面に銀ナノ粒子エタノール分散液を散布し、乾燥させて粒子層を形成した。
なお、粒子層は、回折格子領域と平面視上重なるように配置した。
また、粒子層の平面視形状は、回折格子領域と同様に幅２ｍｍの帯状の線で描画された「Ｄ」の文字とした。
【０１５０】
（５）評価
実施例で得られた積層体の第２の高屈折率層側に対して、入射角２５°であり、平面視上凹凸のライン方向に直交する方向から白色光を照射し、正反射方向から画像表示部を観察したところ、黄緑色の「Ｄ」の文字が観察された。
次いで、積層体の向きを９０°回転し、上記積層体の第２の高屈折率層側に対して、入射角２５°であり、平面視上凹凸のライン方向に平行な方向から白色光を照射し、正反射方向から画像表示部を観察したところ、黄緑色とは異なる色である橙色の「Ｄ」の文字が観察された。
また、積層体の表裏を裏返し、上記積層体の第１の高屈折率層側に対して、入射角２５°であり、平面視上凹凸のライン方向に直交する方向から白色光を照射し、正反射方向から画像表示部を観察したところ、シアン色の「Ｄ」の文字が観察された。
次いで、積層体の向きを９０°回転し、上記積層体の第１の高屈折率層側に対して、入射角２５°であり、平面視上凹凸のライン方向に平行な方向から白色光を照射し、正反射方向から画像表示部を観察したところ、シアン色とは異なる色であるマゼンタ色の「Ｄ」の文字が観察された。
このように、実施例で得られた積層体は、可視光が照射された際の平面視上の観察方向および表裏の違いにより、画像表示部において異なる４種類の色で描画された画像が観察可能となることが確認できた。
また、画像表示部の観察される色は、観察方向の変化により瞬時に変化した。これにより、上記積層体は、観察方向を変化させることで瞬時に変化する画像の色を用いて、真贋判定や意匠性の発揮が可能となることが確認できた。
なお、４種類の色で描画された「Ｄ」の文字は、入射角１５°以上３５°以下で観察でき、なかでも、２５°である場合に、視認性よく観察できた。
さらに、入射角を２５°で固定し、観察角を５０°とした場合にも、観察角が２５°の場合に観察されたものと同様に、４種類の色で描画された「Ｄ」の文字が観察でき、さらにその色の輝度も同程度であった。
このように、本開示の積層体は、画像表示部において４種類以上の色で描画された画像を用いて、真贋判定を目視により容易に行うことが可能となることや、意匠性を安定的に発揮可能となることが確認できた。
以上より、本開示の積層体は、意匠性、偽造防止性等に優れたものとなることが確認できた。
【０１５１】
［比較例１］
（１）凹凸層形成工程
凹凸が配置された回折格子領域の平面視形状を、２５０μｍ角の正方形状とし、回折格子領域を、隣接する回折格子領域が２５０μｍ角の未形成領域を挟持するように配置した以外は、実施例１の「（１）凹凸層形成工程」と同様にしてライン状の凹凸を有する凹凸層を得た。
【０１５２】
（２）第２の高屈折率層形成工程
実施例１の「（２）第２の高屈折率層形成工程」と同様にして第２の高屈折率層としての酸化チタン膜を有する基板を得た。
また、実施例１の「（３）第１の高屈折率層形成工程」は実施しなかった。
【０１５３】
（３）粒子層形成工程
上記基板の第２の高屈折率層としての酸化チタン面に、回折格子領域に挟持される２５０μｍの未形成領域を埋めるように粒子層を配置した以外は、実施例１の「（４）粒子層形成工程」と同様にして粒子層を形成した。
これにより、２５０μｍ角の回折格子領域およびプラズモン共鳴領域が既に説明した図９（ａ）に例示するような格子状（碁盤目状）に配置された画像表示部、すなわち、２５０μｍ角の回折格子領域およびプラズモン共鳴領域を交互に含む画像表示部を有する積層体を得た。
また、画像表示部の平面視形状は、幅２ｍｍの帯状の線で描画された「Ｄ」の文字とした。
つまり、平面視上幅２ｍｍの線で描画された「Ｄ」の文字を２５０ｎｍ角の微小領域を格子状（碁盤目状）に分割し、その微小領域に回折格子領域およびプラズモン共鳴領域が交互に配置された画像表示部を有する積層体を得た。
【０１５４】
（４）評価
実施例と同様に、上記積層体について、表裏（基板および第２の高屈折率層のうち基板側および第２の高屈折率層側）に対して、入射角２５°であり、平面視上凹凸のライン方向に直交する方向および平面視上凹凸のライン方向に平行な方向から白色光を照射し、正反射方向から画像表示部を観察したところ、実施例１で観察されたものと同様に、４種類の色で描画された「Ｄ」の文字が観察でき、さらにその色の輝度も同程度であった。
なお、４種類の色で描画された「Ｄ」の文字は、入射角１５°以上３５°以下で観察でき、なかでも、２５°である場合に、視認性よく観察できた。
しかしながら、入射角を２５°で固定し、観察角を５０°とした場合には、実施例１で観察されたものと同様に４種類の色で描画された「Ｄ」の文字が観察できたが、その色は淡く、輝度の低いものであった。
【符号の説明】
【０１５５】
１  …  凹凸層
２  …  第２の高屈折率層
３  …  粒子層
３ａ  …  粒子
４  …  第１の高屈折率層
５  …  支持基材
１０  …  積層体
１１、１１ａ、１１ｂ  …  回折格子領域
１２、１２ａ、１２ｂ  …  プラズモン共鳴領域
１３ａ  …  第１の画像表示部
１３ｂ  …  第２の画像表示部
１３ｃ  …  第３の画像表示部
１３ｄ  …  第４の画像表示部
２０  …  光源
２１  …  観察者
３１  …  接着層
３２  …  剥離シート
３３  …  拡散層
３４  …  保護層
３５ａ  …  厚膜部材
３５ｂ  …  カバー層
４１  …  ヒートシール層
４２  …  剥離シート
４３  …  剥離容易層
４４  …  剥離用基材
５１  …  第１のカバー層
５２  …  第２のカバー層
ａ  …  第１の画素部
ｂ  …  第２の画素部
ｃ  …  第３の画素部
ｄ  …  空白画素部
【図１】
2018176450.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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