(57)【要約】      （修正有）【課題】分離壁の梁幅を狭くした際でも分離壁の機械的強度の低下を抑え、分離壁の破損の懸念なくシュリンクできる液体吐出ヘッドを提供する。【解決手段】エネルギー発生素子を備えた基板１と、吐出口２を有し基板との間に液体流路３を形成する流路形成部材６と、基板を貫通した複数の貫通路を含み、貫通路のそれぞれは、共通液室としての第１の貫通路部分４と、第１の貫通路部分に連通する複数の第２の貫通路部分５から構成される液体吐出ヘッドにおいて、隣り合う第１の貫通路部分の間を隔てる分離壁７が、隣り合う第１の貫通路部分を仕切る基板面内方向に対して略垂直な板状部材と、基板面内方向において板状部材から突出し、第１の貫通路部分の底部と接する少なくとも一つの突出部８を有する。【選択図】図１
2018094845.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エネルギー発生素子を備えた基板と、吐出口を有し基板との間に液体流路を形成する流路形成部材と、基板を貫通した複数の貫通路を含み、
前記貫通路のそれぞれは、共通液室としての第１の貫通路部分と、前記第１の貫通路部分に連通する複数の第２の貫通路部分から構成される、液体吐出ヘッドにおいて、
隣り合う前記第１の貫通路部分の間を隔てる分離壁が、隣り合う前記第１の貫通路部分を仕切る、基板面内方向に対して略垂直な板状部材と、基板面内方向において前記板状部材から突出し、第１の貫通路部分の底部と接する少なくとも一つの突出部を有することを特徴とする液体吐出ヘッド。
【請求項２】
前記板状部材の幅に対する深さの比である前記分離壁のアスペクト比が１０以上である、請求項１に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項３】
前記第１の貫通路部分の底部の、基板面内方向の開口形状は、四角形に凹みを有する形状であり、前記凹みが前記突出部によって画定される、請求項１または２に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項４】
前記四角形同士が略平行になるように、前記第１の貫通路部分が配列されている、請求項３に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項５】
基板面内方向において、前記複数の第２の貫通路部分は、前記板状部材に沿って配列されている、請求項１から４の何れか１項に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項６】
基板面内方向において、前記板状部材に沿って隣り合う２つの第２の貫通路部分の間に、前記突出部の少なくとも一部が位置する、請求項１から５の何れか１項に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項７】
基板面内方向において、前記突出部の長さは、前記第１の貫通路部分の底部における前記第２の貫通路部分の開口の周上で前記板状部材から最も遠い点と、前記点から前記板状部材に向かって引いた垂線と前記板状部材の側壁との交点との間の距離以下である、請求項１から６の何れか１項に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項８】
前記基板は、第１の基板と、第２の基板と、前記第１の基板と第２の基板との間に設けられた中間層により構成され、
前記第１の貫通路部分は、前記第１の基板を貫通し、前記中間層を貫通せず、かつ前記第２の基板を貫通せず、
前記第２の貫通路部分は、前記中間層および前記第２の基板を貫通している、請求項１から７の何れか１項に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項９】
隣り合う１組の貫通路に関して、一方の貫通路の第２の貫通路部分と、他方の貫通路の第２の貫通路部分とが、前記液体流路を介して連通している、請求項１から８の何れか１項に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項１０】
前記液体流路を介して連通している、一方の貫通路の第２の貫通路部分に対して、その第２の貫通路部分の配列方向に直交する方向に、他方の貫通路の第２の貫通路部分が配置される、請求項９記載の液体吐出ヘッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体吐出ヘッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
シリコンを微細加工した構造体はＭＥＭＳ分野や電気機械の機能デバイスに幅広く用いられている。その一例として、液体を吐出する液体吐出ヘッドが挙げられる。その使用例としては、吐出液滴を被記録媒体に着弾させて記録を行う液体吐出記録方式の液体吐出ヘッドがある。液体吐出記録方式の液体吐出ヘッドは、液体を吐出するために利用されるエネルギーを発生させるエネルギー発生素子が設けられた基板と、基板に設けられた液体の供給口から供給された液体を吐出する吐出口を備えている。近年の液体吐出記録装置においては、高解像度、高速印字といった印字性能の向上や製造における液体吐出ヘッドの小型化、高密度化が求められている。
【０００３】
そこで、特許文献１に、共通液室と連通する複数の個別供給口が形状精度良く形成された構造体を歩留まりよく得ることが可能なシリコン基板の加工方法が提案されている。この方法では、シリコン基板に対して次のように２段階エッチング処理を行う。まず、ドライエッチングにより第１のエッチングを行って凹部を形成して共通液室を形成する。次に、凹部の底部にある複数の開口が形成された中間層をマスクとして、第２のエッチングを行うことにより、複数の個別供給口を形成する。このようにして、凹部からなる共通液室に連通する複数の個別供給口を有するシリコン基板が形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１１−１６１９１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ドライエッチングを用いた基板加工は、異方性の高い微細加工ができるため、高アスペクト比な垂直形状をシリコン基板に加工するのに好適である。液体吐出ヘッドにおいては、共通液室をドライエッチングによって垂直形状に加工し、更に、隣り合う共通液室間にできる分離壁の梁幅（壁の厚さ）を狭めることで基板（チップ）サイズを小型化することが可能である。
【０００６】
なお、本明細書中で、用語「梁」は、基板面内方向に隣り合う共通液室を仕切る、基板面内方向に対して略垂直な板状部材（特には平板状部材）を意味する。また「略垂直」は、厳密な垂直だけでなく、加工時に生じるテーパ形状を含んでいる。つまり、加工精度に起因する垂直からのずれは許容される。同様に「略平行」は、厳密な平行のみを意味するのではなく、加工精度に起因する平行からのずれは許容される。
【０００７】
図９は、シリコン基板に形成されたパターンを垂直に加工した際の形状を示す概略図である。図９（ａ）、（ｃ）は上面図、図９（ｂ）は図９（ａ）のＪ−Ｊ’断面の断面図、図９（ｄ）は図９（ｃ）のＫ−Ｋ’断面の断面図である。
【０００８】
図９（ａ）のような長方形の開口パターン９を、シリコン基板１０に垂直に加工していくと、図９（ｂ）のように、隣り合う開口パターン間に、垂直形状の分離壁７が形成される。この分離壁７の梁幅が狭くなるように隣り合うパターンの間隔を狭くすると、高密度にパターンを配置することができるため、液体吐出ヘッドのチップサイズをシュリンク（小型化）することが可能である。
【０００９】
しかし、図９（ｃ）のように分離壁の梁幅を狭くしてシュリンクする場合、深くシリコン基板を加工した際には、図９（ｄ）のように分離壁が、梁幅と深さが高アスペクト比（梁深さ／梁幅）の垂直形状となる。そのため、分離壁の機械的強度が低下し、基板表面に水平な方向の力に対して分離壁が弱くなる。このような形状の場合、分離壁の側面に、基板表面に水平な方向の力がかかった際に、分離壁７が破損してしまう可能性がある。
【００１０】
このように、単に開口パターンの間隔を縮めるだけのシュリンク方法では、深くエッチングした際に分離壁が高アスペクト形状となってその強度が低下してしまう。そのため、液体吐出ヘッドの製造の間や、液体吐出ヘッド記録装置の使用中に、分離壁が破損してしまう懸念がある。
【００１１】
そこで、本発明は、分離壁の梁幅を狭くした際でも分離壁の機械的強度の低下を抑え、分離壁の破損の懸念なくシュリンクできる液体吐出ヘッドを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明によれば、エネルギー発生素子を備えた基板と、吐出口を有し基板との間に液体流路を形成する流路形成部材と、基板を貫通した複数の貫通路を含み、前記貫通路のそれぞれは、共通液室としての第１の貫通路部分と、前記第１の貫通路部分に連通する複数の第２の貫通路部分から構成される、液体吐出ヘッドにおいて、隣り合う前記第１の貫通路部分の間を隔てる分離壁が、隣り合う前記第１の貫通路部分を仕切る、基板面内方向に対して略垂直な板状部材と、基板面内方向において前記板状部材から突出し、第１の貫通路部分の底部と接する少なくとも一つの突出部を有することを特徴とする液体吐出ヘッドが提供される。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、分離壁の梁幅を狭くした際でも分離壁の機械的強度の低下を抑え、分離壁の破損の懸念なくシュリンクできる液体吐出ヘッドが提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】実施形態１の液体吐出ヘッドの構造例を説明するための概略模式図である。
【図２】突出部及び個別供給口の配置の例を説明するための概略模式図である。
【図３】突出部及び個別供給口の配置の例を説明するための概略模式図である。
【図４】液体吐出ヘッドの別の構造例を説明するための概略模式図である。
【図５】実施形態２の液体吐出ヘッドの構造例を説明するための概略模式図である。
【図６】マイクロローディング効果について説明するための模式図である。
【図７】マイクロローディング効果について説明するための液体吐出ヘッドの概略模式図である。
【図８】実施形態３の液体吐出ヘッドの構造例を説明するための概略模式図である。
【図９】液体吐出ヘッドの小型化に伴う従来の課題について説明するための概略模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明によれば、例えば、梁幅を狭くして高アスペクト比の垂直形状の分離壁を形成する際に、梁の側面に、開口パターン底面と接する少なくとも１つの突出部を設ける。梁は、隣り合う共通液室の間を仕切る、基板面内方向に対して略垂直な板状部材である。突出部は、梁から基板面内方向に突出する部材である。これにより、分離壁の梁幅が狭くなった場合でも、突出部が分離壁の梁部を補強する構造となるため、突出部がない分離壁と比較して、機械的強度が高い分離壁を形成することができる。突出部は基板と一体で形成されていることが好ましい。本発明は、特に、分離壁の深さと梁幅のアスペクト比（梁深さ／梁幅）が１０以上と高い時に好適である。そのため、分離壁の梁幅を狭くしても、分離壁の破損を抑制しつつチップサイズをシュリンクすることが可能となる。本発明によって、液体吐出ヘッドの更なる小型化が実現できる。
【００１６】
以下、本発明の実施形態を掲げて説明するが、本発明はこれらの実施形態のみに限定されるものではない。
【００１７】
（第１の実施形態）
図１は、本発明の第１の実施形態における液体吐出ヘッドの構成例を示す概略図である。図１（ａ）は共通液室４（第１の貫通路部分）側から液体吐出ヘッドを見た平面図、図１（ｂ）は図１（ａ）のＡ−Ａ’断面の概略斜視図である。ただし、模式的に、図１（ａ）には共通液室を３個、図１（ｂ）には共通液室が２個示している。
【００１８】
図１において、液体吐出ヘッドは、シリコン基板から構成される基板１と、流路形成部材６と、を少なくとも含んで構成される。図１では、基板の流路形成部材が設けられる側の面に絶縁膜１１が設けられている。
【００１９】
流路形成部材６は、液体を吐出する吐出口２と、吐出口２と連通する液体流路３と、を構成する。流路形成部材６の表面には吐出性能を向上するために撥液層（不図示）が形成されている。液体流路は、基板と流路形成部材との間に形成される。
【００２０】
基板１には、基板を貫通する貫通路が、複数設けられている。それぞれの貫通路は、第１の貫通路部分（共通液室４）と、これに連通する複数の第２の貫通路部分（個別供給口５）とによって、形成される。より詳しくは、基板１は、液体流路３に液体を供給するための、第２の貫通路部分としての個別供給口５と、個別供給口５に連通する第１の貫通路部分としての共通液室４と、隣り合う共通液室４を隔てる分離壁７と、を有する。分離壁７は、突出部８を有している。個別供給口５は、一つの共通液室４の底面に複数形成されている。また、共通液室４は、流路形成部材６が配置される面とは反対側の基板面に、複数形成されている。個別供給口５は、共通液室４の底面から基板１を貫通して形成されている。
【００２１】
基板１は、エネルギー発生素子、特には液体を吐出するための電気熱変換素子等の吐出エネルギー発生素子（図４において符号１９が付される）を有し、また吐出エネルギー発生素子を駆動させるための配線等（不図示）を含むことができる。吐出エネルギー発生素子は吐出口２の位置に対応するように基板１上に形成されている。
【００２２】
第１の貫通路部分（共通液室４）の底部の、基板面内方向の開口形状は、分離壁７の突出部８により、四角形の少なくとも一辺（例えば、一辺、あるいは対向する二つの辺）に凹みを有する形状である。なお、共通液室４の底部が平面でない場合、その底部の基板面内方向の開口形状は、底部の開口形状（開口の輪郭線）を基板面内方向に平行な平面に投影（基板法線方向に）した形状を意味する。
【００２３】
そして、複数の第２の貫通路部分（個別供給口５）は、基板面内方向において、分離壁の梁に沿って、第１の貫通路部分（共通液室４）に配列されている。
【００２４】
また、複数の貫通路の共通液室が、第２の貫通路の配列方向と略平行になるように配置されている。各共通液室の底部開口形状すなわち上述の四角形同士が略平行になるように、各共通液室が配列されている。
【００２５】
図１に示す構造では、一つの共通液室に個別供給口５の列が二列設けられているがその限りではない。例えば後述する図８に示される構造では、一つの共通液室に個別供給口の列が一列設けられる。
【００２６】
隣り合う第１の貫通路部分（共通液室４）同士の間を隔てる分離壁７は、第１の貫通路部分（共通液室４）の底部と接する少なくとも一つの突出部８を有する。突出部８によって、上述の四角形（共通液室底部の基板面内方向の開口形状）の分離壁梁方向（梁の延在方向）に延在する辺からの凹みが画定される。つまり、突出部８の輪郭が、この凹みを形成する。
【００２７】
図１に示す構造では、突出部の基板面内方向の断面の形状が長方形（正方形でもよい）であり、深さ（基板法線方向の位置）によらず、前記断面の形状および寸法が一定である。ただしこの限りではなく、例えば後述する図４に示す構造では、突出部の基板面内方向断面の形状が三角形であり、また、前記断面の寸法が深さによって変化する。また、後述する図３（ｂ）に示すように、突出部８が共通液室を分離壁梁方向に分断することも許容される。この場合、共通液室４の底部の基板面内方向の開口形状は、一つの四角形が突出部によって分断されることによって形成された、複数の領域からなる。
【００２８】
図１に示す構造において、分離壁７は２つの隣り合う共通液室４の間に形成される。共通液室４の側壁、個別供給口５の側壁、分離壁７の側壁はいずれも、基板のおもて面と裏面に対して、略垂直に形成されている。例えば、共通液室４と個別供給口５と分離壁７とはドライエッチング加工により形成されている。また、これらがレーザ加工によって形成される場合もあり、また、それら加工を組み合わせて形成される場合もあるが、形状制御の観点から、ドライエッチング加工が好ましい。このように共通液室４と個別供給口５と分離壁７とが基板表面に対して、略垂直形状になっていることにより、基板１にこれらを高密度に配置することができ、液体吐出ヘッドをシュリンクすることができる。
【００２９】
図１（ａ）のように、共通液室一つあたり複数形成されている個別供給口５は、共通液室４間の分離壁７の梁に沿って配列される。個別供給口を共通液室に直線状に配列すると、個別供給口がランダムに配列されている時と比べて、個別供給口列自体の幅を狭めることができ、更に、個別供給口列を分離壁や隣の個別供給口列と接近させられるため、シュリンク効果が高い。
【００３０】
図２（ａ）〜（ｃ）にそれぞれ、突出部及び個別供給口の構造及び配置の例を示す。分離壁７は、図２（ａ）のように、隣り合う共通液室４同士の間を仕切るように延在する板状部材すなわち梁部２０と、梁部から共通液室に向かって突出する壁すなわち突出部８とを有する。突出部８は共通液室４の底面と接するように形成され、梁部２０を根元から補強することで分離壁の機械的強度を向上させる。
【００３１】
突出部８が共通液室４の底部と接する構造を得るには、突出部を有する分離壁を形成するようにパターニングし、異方性エッチングである反応性イオンエッチングを用い、基板を掘り下げて共通液室を形成すればよい。これにより、突出部を有する分離壁と、共通液室の底部が一体に形成される。
【００３２】
ヘッドサイズをシュリンクするためには、個別供給口５を突出部８となるべく干渉させずに梁部近傍まで接近させることが好ましい。図２（ａ）〜（ｃ）のように、分離壁の突出部８は、共通液室間の梁に沿って配列し隣り合う２つの個別供給口５の間に突出部の少なくとも一部が位置するように、梁部２０の側壁から突出される。また、図２（ｃ）のように、梁部を挟んで対向する突出部８が千鳥配置になるように配置すると、梁部を補強する間隔が狭くなるため、強度が向上した分離壁７となる。
【００３３】
図３（ａ）〜（ｃ）はそれぞれ、突出部８と個別供給口５（第２の貫通路部分）近傍の拡大図である。図３（ａ）のように、突出部８の長さ（基板面内方向における長さ）は、長いほど共通液室の底面と接触する面積が広くなり、補強効果が高くなりやすいため、機械的強度が向上しやすい。この点では、図３（ａ）のように、突出部８は個別供給口５よりも突出している（個別供給口５よりも同じ方向の幅が長い）ことが好ましい。さらに、図３（ｂ）のように、突出部８が延長して隣の梁部まで到達し、突出部が共通液室を分断してもよい。換言すると、四角形の一辺からの凹みが、その四角形の対辺にまで達してもよい。この場合、共通液室４の底部の基板面内方向の開口形状は、一つの四角形が分断されることによって形成された、複数の領域（例えば長方形）からなる。凹みは、突出部が共通液室を分断することによって形成された複数の領域の間に存在する領域になる。このように、本明細書でいう「凹み」は、或る辺からの凹みが対向する辺に達している場合も含む概念である。なお、図３（ｂ）のように、突出部を、共通液室の対向する辺を結んで形成することは可能であるが、共通液室はその共通液室内のどの個別供給口とも連通していることが必要である。そのため、図３（ｂ）のような場合、例えば、突出部によって分断された共通液室の各領域を分離壁梁方向に連通させるため、エッチングやレーザ加工によって突出部の上部を凹ませることができる。
【００３４】
また、図３（ｃ）に示すように、シュリンクの点からは、基板面内方向において、突出部の長さｍは、点Ｂと点Ｃとの間の距離以下であることが好ましい（点ＢＣ間の距離をｌと表す）。点Ｂは、共通液室底部における個別供給口の開口の周上で、分離壁の梁部２０から最も遠い点である。点Ｃは、点Ｂから分離壁の梁部に向かって引いた垂線と、分離壁の梁部の側壁との交点である。ｍ≦ｌであれば、突出部が個別供給口を超えて突出することがないため、突出部の存在に関係なくシュリンクすることができる。なお、図１のように突出部の長さｍが深さによらず一定である場合、その一定のｍが距離ｌ以下であることが好ましい。また、後述する図４のように、突出部の長さｍが深さ方向に変化する場合においては、どの深さにおいてもｍが距離ｌ以下であることが好ましい。
【００３５】
梁部の側壁と接触する突出部８の面積は、広いほど補強効果が高い。そのため、補強効果の観点からは、突出部８の幅ｎ（長さｍの方向と直交する方向の厚さ）は広いほど好ましい。
【００３６】
突出部８の形状は、共通液室の底面と梁部の側壁と接し、梁部を補強する効果のある形状であれば制限はなく、例えば図４のような形状でもよい。図４（ａ）は共通液室４（第１の貫通路部分）側からみた液体吐出ヘッドの平面図、図４（ｂ）は図４（ａ）のＤ−Ｄ’断面の概略断面図である。ただし、図４（ａ）は共通液室を２つ、図４（ｂ）は１つだけ、模式的に示している。この例では、基板面方向における突出部の断面形状が三角形であり、また、その長さｍが共通液室の底部から頂部に向かって減少し、共通液室頂部（深さゼロの位置）においては長さｍがゼロとなる。
【００３７】
分離壁７が有する突出部８は、少なくとも１つあれば分離壁の補強効果を奏すが、突出部の数が多いほど分離壁の梁を補強する箇所が増えるため、可能な場所には全て突出部を配置することが好ましい。
【００３８】
〔第２の実施形態〕
図５は、本発明の第２の実施形態における液体吐出ヘッドの構成例を示す概略図であり、前述した実施形態と同様の部分については説明を省略する。図５（ａ）は共通液室（第１の貫通路部分）側からみた液体吐出ヘッドの平面図、図５（ｂ）は図５（ａ）のＥ−Ｅ’断面の概略斜視図である。基板はエネルギー発生素子１９を有する。ただし、図５（ａ）は共通液室を３つ、図５（ｂ）は２つ、模式的に示している。本実施形態では、図５に示すように、第１の実施形態における基板に替えて、第１の基板と、第２の基板と、前記第１の基板と第２の基板との間に設けられた中間層から構成される基板を用いる。この中間層は、共通液室のエッチングを止めることのできる層である。より具体的には、第１のシリコン基板１７と第２のシリコン基板１８の間に中間層（シリコン酸化膜）１２が存在するＳＯＩ基板を使用することができる。
【００３９】
中間層の材料としては、樹脂材料、シリコン酸化物、シリコン窒化物、炭化シリコン、シリコン以外の金属又はその金属酸化物若しくは窒化物等が挙げられる。つまり、樹脂層、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、炭化シリコン膜、シリコン以外の金属膜又はその金属酸化膜若しくは窒化膜等で構成することができる。樹脂層としては例えば感光性樹脂層が挙げられる。これらの中でも、中間層として、形成が容易であることから、感光性樹脂層やシリコン酸化膜を用いることが好ましい。ＳＯＩ基板以外を用いて作製するには、第１の基板に共通液室を形成し、第２の基板に個別供給口を形成し、接着剤を介し、それぞれの基板を接合する方法もある。
【００４０】
図６（ａ）のような開口パターンでは、Ｆ−Ｆ’断面のように開口幅が広い所とＧ−Ｇ’断面のように開口幅が狭い所が混在する。このようなパターンをドライエッチングする場合、図６（ｂ）のように、開口幅が広い部分では、イオン２１が側壁に衝突しにくいため、底面まで到達しやすい。逆に狭い部分ではイオン２１が側壁と衝突し、底面に到達できない確率が高くなる。そのため、開口幅の違いでエッチングレートに差が出るマイクロローディング効果と呼ばれる現象が起こる可能性がある。
【００４１】
例えば図７のように、共通液室を形成する開口パターンのうち、分離壁７の突出部同士に挟まれる部分では、突出部がない広い部分よりエッチングレートが遅く、浅く加工される可能性がある。図７（ａ）は共通液室（第１の貫通路部分）側からみた液体吐出ヘッドの平面図、図７（ｂ）は図７（ａ）のＨ−Ｈ’断面の概略断面図である。ただし、図７（ａ）には共通液室を３つ、図７（ｂ）には１つ、模式的に示している。つまり、図７のような開口パターンをドライエッチングすると、共通液室の底部において、共通液室と連通する個別供給口５の開口部より深い箇所が存在する可能性がある。例えば、最も深い部位２２が共通液室の短辺方向中央付近に形成される可能性がある。このような構成になると、液体が低い所から高い所へ高低差を逆に流れる部分が存在するため、液体供給の際に液体が流れにくくなってしまう懸念がある。また、吐出エネルギー発生素子１９近傍のシリコンの体積が減ってしまうと吐出エネルギー発生素子１９で発生した熱の放熱効率が低下するため、吐出に影響する可能性がある。
【００４２】
このような懸念を解消するために、ドライエッチングのストップ層として有効であるシリコン酸化膜１２を有するＳＯＩ基板を用いることが好ましい。図５（ｂ）に示すように、ＳＯＩ基板を用いて、第１のシリコン基板１７に共通液室４を加工する。この時、マイクロローディング効果により、エッチングレートが速い箇所は先にシリコン酸化膜１２に到達するが、シリコン酸化膜１２でエッチングがストップされる。そのため、後から到達するレートが遅い箇所とエッチング深さを揃えることができる。その後、共通液室底面のシリコン酸化膜を個別供給口５の形状にパターニングし、第１のシリコン基板側から再度ドライエッチングを行って、第２のシリコン基板１８に個別供給口５を加工して共通液室４と連通させることができる。つまり、共通液室は、第１の基板を貫通するが、中間層を貫通せず、また第２の基板を貫通しない。個別供給口は、中間層および第２の基板を貫通する。このような構成により、共通液室の深さ分布を抑制でき、安定的に形状制御できる液体吐出ヘッドの作製が可能になる。
【００４３】
（第３の実施形態）
図８は、本発明の第３の実施形態における液体吐出ヘッドの構成例を示す概略図であり、前述した実施形態と同様の部分については説明を省略する。図８（ａ）は共通液室（第１の貫通路部分）側から見た液体吐出ヘッドの平面図、図８（ｂ）は図８（ａ）のＩ−Ｉ’断面の概略斜視図である。
【００４４】
本実施形態では、図８に示すように、二つの共通液室４ａ及び４ｂにおいて梁部２０の延在方向にそれぞれ配列された２つの個別供給口列（個別供給口５ａの列及び個別供給口５ｂの列）が、突出部８を有する分離壁７を挟んで対向するように配置される。そしてこれら２つの個別供給口列が、同じ液体流路３に連通するように形成されている。つまり、隣り合う１組の貫通路に関して、一方の貫通路の共通液室４ａと、他方の貫通路の共通液室４ｂが、一つの液体流路３を解して連通している。
【００４５】
これにより、ある共通液室を流れた液体が、その共通液室に連通する個別供給口を通り、液体流路３を通って隣の個別供給口へと流れ、異なる共通液室に達することが可能となる。つまり、外部から液体吐出ヘッドに供給された液体を、共通流入流路（流入側の共通液室４ａ）、個別流入口（流入側の個別供給口５ａ）を経て液体流路３まで供給する。その後、個別流出口（流出側の個別供給口５ｂ）、共通流出流路（流出側の共通液室４ｂ）を経て外部へ液体を流出させることが可能となる。このように、隣り合う１組の供給口のうち、例えば、共通流入流路（流入側の共通液室４ａ）を液体流入口、共通流出流路（流出側の共通液室４ｂ）を液体流出口として機能させて液体の強制的な流れ（液体循環流）を発生させることが可能となる。即ち、エネルギー発生素子を内部に備える圧力室内の液体は、圧力室の外部との間で循環される。液体循環流のない通常の構成では、吐出口２近傍の液体の水分蒸発により、吐出速度の低下や印字ドットの色材濃度の変調が発生する可能性がある。しかし、この液体循環流により、吐出口近傍での液体の状態を一定に保てるため、印字の変調の可能性を低減することができる。
【００４６】
なお、個別供給口５ｂにおいては、（吐出口への）液体の供給ではなく、液体の排出を行っているが、ここでは便宜上「供給口」としている。流出側の個別供給口は、流出側の第２の貫通路部分を意味する。
【００４７】
本実施形態においても、分離壁７の梁幅を短縮し、個別流入口５ａと個別流出口５ｂを梁部２０に接近させることで、液体吐出ヘッドサイズをシュリンクすることができる。更に、個別流入口（５ａ）と個別流出口（５ｂ）が吐出エネルギー発生素子に接近することで液体のリフィル性能が向上するため、高速印字が可能となる。
【００４８】
また、個別流入口（５ａ）と個別流出口（５ｂ）は吐出口２を挟んで対称に配置されることが液体循環流の安定のために好ましい。したがって、基板面内方向で、ある個別流入口（５ａ）に対して、個別流入口（５ａ）の配列に対して９０度方向に、個別流出口（５ｂ）が配置される位置関係が好ましい。つまり、一つの液体流路３を介して連通している、一方の貫通路の個別供給口５ａもしくは５ｂに対して、その個別供給口５ａもしくは５ｂの配列方向に直交する方向に、他方の貫通路の個別供給口５ｂもしくは５ａが配置されることが好ましい。
【００４９】
なお、図１に示す構造では、一つの液体流路３を介して連通している、梁の延在方向に直交する方向に隣り合う二つの個別供給口５は、同一の共通液室４に連通している。
【符号の説明】
【００５０】
１    基板
２    吐出口
３    液体流路
４    共通液室（第１の貫通路部分）
５    個別供給口（第２の貫通路部分）
６    流路形成部材
７    分離壁
８    突出部
１１  絶縁膜
１２  中間層（シリコン酸化膜、エッチングストッパ）
【図１】
2018094845.tif 000003
【図２】
2018094845.tif 000004
【図３】
2018094845.tif 000005
【図４】
2018094845.tif 000006
【図５】
2018094845.tif 000007
【図６】
2018094845.tif 000008
【図７】
2018094845.tif 000009
【図８】
2018094845.tif 000010
【図９】
2018094845.tif 000011