(57)【要約】【課題】吸引ノズルを接続する組立構造を提供する。【解決手段】吸引ノズルを接続する組立構造は、固定座１０と、吸引ノズル基部２０と、吸引ノズル３０と、を含む。固定座１０には、定位部１２が設けられる。吸引ノズル基部２０には、定位部１２に対応する定位柱２１、およびマグネット２９が設けられる。固定座１０及び吸引ノズル基部２０は、磁性を有する金属材料で製造される。吸引ノズル３０は、吸引ノズル基部２０に設けられる。定位柱２１が対応する定位部１２に挿入されることで吸引ノズル基部２０を固定座１０に接続させて、固定座１０が吸引ノズル基部２０との組立構造にある水平変位を制限する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
吸引ノズルを接続する組立構造であって、吸引ノズルの組立に使われて、前記組立構造は、固定座と、吸引ノズル基部とを含み、
前記固定座は、磁気伝導体を有し、少なくとも２つの定位部を備え、前記定位部は、前記固定座の異なる側にそれぞれ配置されており、
前記吸引ノズル基部は、磁気伝導体を有し、前記吸引ノズルが設けられ、
前記吸引ノズル基部には、前記定位部に対応してそれぞれ定位柱が設けられ、前記定位柱が対応する前記定位部に挿入されることで前記吸引ノズル基部を前記固定座に接続させて、前記固定座が前記吸引ノズル基部との組立構造にある水平変位を制限し、
前記吸引ノズル基部には、マグネットを設置するための凹部が設けられ
前記固定座は、透磁率を有しており、前記固定座と前記吸引ノズル基部との間は、磁気吸着により、組立して連接することを特徴とする吸引ノズルを接続する組立構造。
【請求項２】
前記固定座には、その上端面に係合部が設けられ、
前記係合部は、真空通路を備え、
前記マグネットには、前記吸引ノズル基部と共同に前記真空通路を連通するための開口部が設けられることを特徴とする請求項１に記載の吸引ノズルを接続する組立構造。
【請求項３】
吸引ノズルを接続する組立構造であって、吸引ノズルの組立に使われて、前記組立構造は、固定座と、吸引ノズル基部とを含み、
前記固定座は、磁気伝導体を有し、少なくとも２つの定位部を備え、前記定位部は、固定座の異なる側にそれぞれ配置されており、
前記吸引ノズル基部は、磁気伝導体を有し、前記吸引ノズルを設けてあって、
前記吸引ノズル基部には、前記定位部に対応してそれぞれ定位柱が設けられ、前記定位柱が対応する前記定位部に挿入されることで前記吸引ノズル基部を前記固定座に接続させて、前記固定座が前記吸引ノズル基部との組立構造にある水平変位を制限し、
前記吸引ノズル基部には、マグネットを設置するため、少なくとも１つの凹部が設けられ、前記固定座と前記吸引ノズル基部との間は、磁気の吸着で接続することを特徴とする吸引ノズルを接続する組立構造。
【請求項４】
前記固定座は、その上端面に係合部が設けられ、
前記係合部は、真空通路を備え、
前記吸引ノズル基部には、前記固定座の真空通路を連通するため真空孔が設けられることを特徴とする請求項３に記載の吸引ノズルを接続する組立構造。
【請求項５】
前記吸引ノズル基部には、シール溝が設けられ、
前記シール溝には、前記凹部の外側を囲み、前記固定座と前記吸引ノズル基部との間に挟まれるシール部品が設けられ、
前記シール部品は、弾性材料で形成されることを特徴とする請求項１又は請求項３に記載の吸引ノズルを接続する組立構造。
【請求項６】
前記シール部品は、前記吸引ノズル基部の高さより高く、前記固定座の下端面と前記吸引ノズル基部の上端面との間に形成される調整空間に応じて、前記吸引ノズル基部の高さより高くなっており、
前記調整空間の高さは、傾斜によって生じる高低差を補償することを特徴とする請求項５に記載の吸引ノズルを接続する組立構造。
【請求項７】
吸引ノズルを接続する組立構造であって、吸引ノズルの組立に使われて、前記組立構造は、固定座と、吸引ノズル基部と、シール部品と、を含み、
前記固定座は、磁気伝導体を有し、少なくとも２つの定位部を備え、前記定位部は、テーパ状の円錐孔道を有し、前記固定座の下端面には下端孔が形成され、
前記吸引ノズル基部は、磁気伝導体を有し、前記吸引ノズルを設けてあって、
前記吸引ノズル基部は、前記定位部に対応してそれぞれ定位柱が設けられ、前記定位柱が対応する前記下端孔に挿入されることで、前記吸引ノズル基部を前記固定座に接続させて、前記固定座が前記吸引ノズル基部との組立構造にある水平変位を制限し、
前記シール部品は、前記固定座と前記吸引ノズル基部との間に挟まれ、
前記定位部は、前記円錐孔道がその下端孔の上方に位置する孔道に相互に対することで前記吸引ノズル基部が傾いているとき、前記定位柱に必要な相対変位空間を提供して、前記吸引ノズルの下端面が傾斜したウェハの表面に貼り付けられるようなことに有利があって、前記シール部品を利用して、前記固定座と前記吸引ノズル基部との組立構造の密着度を維持することを特徴とする吸引ノズルを接続する組立構造。
【請求項８】
前記円錐孔道の傾斜面は、垂直線との間の角度が１度から５度であることを特徴とする請求項７に記載の吸引ノズルを接続する組立構造。
【請求項９】
前記傾斜面と前記垂直線との間の角度は、２度〜２.５度であることを特徴とする請求項８に記載の吸引ノズルを接続する組立構造。
【請求項１０】
前記定位部は、それぞれ固定座の異なる側に設置されることを特徴とする請求項７に記載の吸引ノズルを接続する組立構造。
【請求項１１】
前記吸引ノズル基部には、凹部およびシール溝が設けられ、
前記凹部は、マグネットを設置するためのものであって、
前記固定座と前記吸引ノズル基部との間は、磁気吸着により組立して接続し、
前記シール溝は、前記凹部の外側を囲み、
前記シール部品は、前記シール溝に配置されることを特徴とする請求項７に記載の吸引ノズルを接続する組立構造。
【請求項１２】
前記固定部の上端面には、係合部が設けられ、
前記係合部には、真空通路が設けられ、
前記凹部の底面には、真空孔が設けられ、
前記マグネットには、前記凹部と共同に前記真空通路を連通するための開口部が設けられることを特徴とする請求項１１に記載の吸引ノズルを接続する組立構造。
【請求項１３】
前記吸引ノズル基部には、少なくとも１つの凹部とシール溝が設けられ、
前記凹部は、前記固定座と前記前記吸引ノズル基部とを磁気吸着により組立して接続するためのマグネットが設けられ、
前記シール溝は、前記凹部の外側を囲み、
前記シール部品は、前記シール溝に配置されことを特徴とする請求項７に記載の吸引ノズルを接続する組立構造。
【請求項１４】
前記固定部の上端面には、係合部が設けられ、
前記係合部には、真空通路が設けられ、
前記吸引ノズル基部には、前記固定部の前記真空通路を連通するための真空孔が設けられることを特徴とする請求項１３に記載の吸引ノズルを接続する組立構造。
【請求項１５】
前記シール部品は、前記吸引ノズル基部の高さより高く、前記固定座の下端面と前記吸引ノズル基部の上端面との間に形成される調整空間に応じて、前記吸引ノズル基部の高さより高くなっており、
前記調整空間の高さは、傾斜によって生じる高低差を補償することを特徴とする請求項１１または請求項１３に記載の吸引ノズルを接続する組立構造。
【請求項１６】
前記シール部品は、弾性材料で形成されることを特徴とする請求項１１または請求項１３に記載の吸引ノズルを接続する組立構造。
【請求項１７】
前記吸引ノズル基部の両側には、ハンドルが設けられることを特徴とする請求項１、請求項２、請求項３、請求項４、請求項１１、請求項１３、請求項１４のいずれか一項に記載の吸引ノズルを接続する組立構造。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェハの吸引ノズルを接続する組立構造に係り、特に、自動的に、全体の垂直オフセットと水平ポジショナーを調整できる組立構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体のパッケージングプロセスにおいて、切断したり研削したりしたウェハの吸引と放置を行う必要があるため、吸引と放置を行う装置を設けて、その装置では、ウェハの吸引と放置との間に接触があるため、固定座と吸引ノズルを設ける。
【０００３】
ウェハの厚さがますます薄くなるにつれて、現在の市場でよく見られるの仕様は約３０〜５０μｍとなって、しかも、ますます薄くなっているかもしれない。そのため、吸引と放置を行う作業は、吸引ノズルの人工操作での過失で、平圧をすることにはならない、または、吸引ノズルが均等に力を加えることができないためウェハと接触面に空気が生じて、または、アンダーフィルと完全に接着することができず、更に、ウェハに損傷を与えるため、元の吸引と放置の固定座と吸引ノズルは、生産ニーズを満たすことができないが、吸引ノズルが平面方式で製作することを除いて、更に薄いウェハに対して、異なる固定座と吸引ノズルを製造することがある。
【０００４】
従来、よく見られる吸引ノズルを接続するために使われる組立の構造は、固定座で、クランプジョーを配置して、吸引ノズルを直接にクランプジョーに埋め込ませる。しかしながら、吸引ノズルが固定座の上方に配置されているクランプジョーに埋め込まれているので、吸引ノズルが取付埋め込まれた後、取り外しにくく、これにより取り換えることが困難になる。吸引ノズルを取り付ける際には、吸引ノズルの吸引ウェハ面に接触することが避けられないが、吸引ノズルに汚染を招いて、しかも過失によって吸引ノズルを端部までに押付けることができないため、固定座の接面と張り付けて傾いてきて、従って、吸引ノズルを取り付けた後、平らでなければならずことを保証できず、ウェハが破損する虞がある。しかもクランプジョーと吸引ノズルとの間は、締り嵌め組み立てられて固定されるため、吸引ノズルが、クランプジョーからの圧力で変形しやすくなり、ウェハが破損する虞がある。
【０００５】
従来、吸引ノズルを接続するために使われる組立の構造は、固定座が、真空孔底部の凸接構造と吸引ノズルに配置されて対応する凹状構造に位置して、クランプジョーが吸引ノズルに取付けられるのは、容易であるが、吸引ノズルに対応する凹状構造を設けなければならないため、製造過程で変形しやすく、また、取付ける時、吸引ノズルが、汚染されるという問題がある。さらに、吸引ノズルがその材料によって、製造している時、より大きな公差を持つことがあって、予め設定された対応する凹凸構造を有するが、摺動や変形が容易で、ウェハが破損する虞がある。
【０００６】
対応している締付けの関係で、吸引ノズルを固定する組立構造であって、固定座の下方にも定位脚を延伸して、吸引ノズルにある定位孔と嵌合して、しかも定位脚と吸引ノズルとの間の締付け構造では、吸引ノズルの取付と取外しにも難度がある。しかも、吸引ノズルと固定座との間は、締付けで定位して、構造には、調整できないが、取付ける時、接触で吸引ノズルが汚れる虞がある。
【０００７】
従来の組立構造には、上述した対応している締付けの関係で、吸引ノズルを固定することを改良して、固定座にマグネットが埋め込まれて、吸引ノズルに吸寄せる鉄片またはステンレス鋼を設けて、締付けの組立構造を置き換える。しかしながら、締付けの組立構造を改善することができるが、他の技術的な問題も引き起こす。固定座と吸引ノズルとの間の鉄片またはステンレス鋼は、完全に、締付けて係合できないため、真空漏れ状態の可能性がある。また、マグネットと吸引ノズルとの間にある鉄片またはステンレス鋼の磁気吸着構造が、対応する定位箇所がなく、吸引ノズルの組立の際に、水平オフセットの問題を引き起こす。
【０００８】
また、従来締付けの関係で、吸引ノズルを固定する組立構造は、組み立てた吸引ノズルの平面度の問題に焦点を当てた場合、吸引されたウェハに対して、吸引ノズルと平面でない垂直オフセットの問題を引き起こすなら、上述した吸引ノズルと固定座との間による平面度の構造での改良には、垂直オフセットの問題を解決できない、特にウェハの厚みが薄くなると、この問題の影響が大きくなる。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００９】
これに鑑みて、従来の改良構造に対して、第１態様による吸引ノズルを接続する組立構造を提供し、吸引ノズルの組立に使われる。組立構造は、固定座と、吸引ノズル基部とを含む。固定座は、磁気伝導体を有し、少なくとも２つの定位部を備える。定位部は、固定座の異なる側にそれぞれ配置されている。吸引ノズル基部は、磁気伝導体を有し、吸引ノズルが設けられる。吸引ノズル基部は、定位部に対応してそれぞれ定位柱が設けられ、定位柱が来往する対応して定位部に挿入されることで、吸引ノズル基部を固定座に接続させる。固定座が吸引ノズル基部との組立構造にある水平変位を制限するため、吸引ノズルの操作使用に有利がある。吸引ノズル基部には、マグネットを設置するための凹部が設けられる。固定座は、透磁率を有して、固定座が吸引ノズル基部との間は、磁気吸着により、組立して連接する。これにより、磁力が吸引ノズルの下端から漏れることが防止される。
【００１０】
固定座は、その上端面に係合部が設けられる。係合部は、真空通路を備える。マグネットには、吸引ノズル基部と共同に真空通路を連通するための開口部が設けられる。吸引ノズル基部には、シール溝を設けられる。シール溝は、凹部の外側を囲む。シール溝には、固定座と吸引ノズル基部との間に挟まれるシール部品が設けられる。シール部品は、真空気密性を確保するために弾性材料で作られ、吸引ノズル基部の高さより高くなっている。固定座の下端面と吸引ノズル基部の上端面との間には、調整空間が確保され、調整空間の高さは、傾斜によって生じる高低差を補償するために使用される。
【００１１】
吸引ノズル基部の両側には、それぞれ、取り扱いを容易にするためにハンドルが設けられる。
【００１２】
第２態様による組立構造は、固定座と、吸引ノズル基部とを含む。固定座は、磁気伝導体を有し、少なくとも２つの定位部を備える。定位部は、固定座の異なる側にそれぞれ配置されている。吸引ノズル基部は、磁気伝導体を有し、吸引ノズルが設けられる。吸引ノズル基部は、定位部に対応してそれぞれ定位柱が設けられ、定位柱が対応する定位部に挿入されることで、吸引ノズル基部を固定座に接続させ、また、固定座が吸引ノズル基部との組立構造にある水平変位を制限するため、吸引ノズルの操作使用に有利である。吸引ノズル基部は、マグネットを設置するための少なくとも１つの凹部が設けられ、固定座と吸引ノズル基部との間は、磁気の吸着で接続する。
【００１３】
固定座には、その上端面に係合部が設けられる。係合部は、真空通路を備える。吸引ノズル基部には、固定座の真空通路を連通するため真空孔が設けられる。吸引ノズル基部には、シール溝が設けられる。シール溝は、凹部の外側を囲む。シール溝には、固定座と吸引ノズル基部との間に挟まれるシール部品が設けられる。シール部品は、真空気密性を確保するために弾性材料で作られる。、固定座の下端面と吸引ノズル基部の上端面との間に形成される調整空間に応じて、シール部品は、吸引ノズル基部の高さより高くなっている。調整空間の高さは、傾斜によって生じる高低差を補償するために使用される。
【００１４】
吸引ノズル基部の両側には、それぞれ取り扱いを容易にするためにハンドルが設けられる。
【００１５】
第３態様による組立構造は、固定座と、吸引ノズル基部とシール部品を含む。固定座は、磁気伝導体を有し、少なくとも２つの定位部を備える。定位部は、幅がテーパとなる円錐孔道を有する。固定座の下端面には下端孔が形成されている。吸引ノズル基部は、磁気伝導体を有し、吸引ノズルが設けられる。吸引ノズル基部には、定位部に対応してそれぞれ定位柱が設けられ、定位柱に対応する下端孔に挿入されることで、吸引ノズル基部を固定座に接続させ、固定座と吸引ノズル基部との組立構造にある水平変位を制限する。シール部品は、固定座と吸引ノズル基部との間に挟まれる。定位部は、円錐孔道がその下端孔の上方に位置する孔道に相互に対することで吸引ノズル基部が傾いているとき、定位柱に必要な相対変位空間を提供して、吸引ノズルの下端面が傾斜したウェハの表面に取り付けられるようなことに有利である。シール部品を利用して、固定座と吸引ノズル基部との組立構造の密着度を維持する。
【００１６】
円錐孔道の傾斜面は、垂直線との間の角度が１度から５度であり、好ましくは２度〜２．５度となる。
【００１７】
定位部は、固定座の異なる側にそれぞれ配置されている。
【００１８】
吸引ノズル基部には、凹部およびシール溝が設けられる。凹部は、マグネットを設置するためのものであって、固定座と吸引ノズル基部との間は、磁気吸着により組立して接続して、磁力が吸引ノズルの下端から漏れることが防止される。シール溝は、凹部の外側を囲み、シール部品は、シール溝に配置される。
固定部の上端面には、係合部が設けられる。係合部には、真空通路が設けられる。凹部の底面には、真空孔が設けられる。マグネットには、凹部と共同に真空通路を連通するための開口部が設けられる。シール部品は、、固定座の下端面と吸引ノズル基部の上端面との間に形成される調整空間に応じて、吸引ノズル基部の高さより高くなっている。調整空間の高さは、傾斜によって生じる高低差を補償する。
【００１９】
吸引ノズル基部は、透磁率を有して、少なくとも一つの凹部およびシール溝が設けられる。凹部は、マグネットを設置するためのものであって、固定座と吸引ノズル基部との間は、磁気吸着により立して接続することで、磁力が吸引ノズルの下端から漏れることが防止される。シール溝は、凹部の外側を囲む。シール部品は、シール溝に配置される。固定部の上端面には、係合部が設けられる。係合部には、真空通路が設けられる。吸引ノズル基部は、固定部の真空通路を連通するための真空孔が設けられる。シール部品は、、固定座の下端面と吸引ノズル基部の上端面との間に形成される調整空間に応じて、吸引ノズル基部の高さより高くなっている。調整空間の高さは、傾斜によって生じる高低差を補償する。シール部品は、真空気密性を確保するための弾性材料を使用する。
【００２０】
吸引ノズル基部の両側には、それぞれ取り扱いを容易にするためにハンドルが設けられる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明は、従来の技術と比べると、下記の効果がある。
【００２２】
本発明の組立構造には、固定部は、異なる側にある定位部を利用して吸引ノズル基部の定位柱を合わせて、定位柱が定位部の下端孔に対応して挿し入れる対応構造となっており、固定部と吸引ノズル基部を組立つ水平ポジショナーとして機能する。これにより、吸引ノズルが、水平変位の問題を有しない。
【００２３】
また、吸引ノズルは、吸引ノズル基部に直接平らで貼り付けられているため、しっかり吸引ノズルを組み立てる構造に合わせるの代わりに、吸引ノズルの変形問題が生じない。
【００２４】
組立構造にある吸引ノズルは、シール溝にシール部品が設けられ、シール部品の弾性を利用して、固定部、吸引ノズル、吸引ノズル基部、ウェハまたはその吸着物等に関連する様々な凹凸や傾斜を修正する。これによって、平面度を確保するために、吸引ノズルを平坦に吸着されるようにするか、または平坦にウェハ或いは吸着物に貼り付けさせる。
【００２５】
組立構造にある吸引ノズル基部には、マグネットが設けられ、透磁率を有する固定座および吸引ノズル基部を合わせて、固定座と吸引ノズル基部との間は、磁気吸着により組立して接続する。これにより、磁力が吸引ノズルの面端から漏れることが防止される。吸引ノズル基部には、ハンドルが設けられており、ハンドルを利用して吸引ノズル基部を組み立てるため、作業者が吸引ノズルの下端面に触れないように、迅速で簡便に吸引ノズル基部と吸引ノズルを固定部に取付け、または、固定部から取り外し可能である。また、ウェハ面を吸引するための吸引ノズルの下端面を汚染せず、固定部を取り付けまたは取り外す必要はない。
【００２６】
操作環境の温度は、マグネットの磁力に影響を与える虞があるが、吸引ノズルの寿命がより短いために、それを取り換える必要がある前に、磁力に及ぼす温度の影響は、吸引ノズルの耐用年数が終了して、マグネットが、キュリー温度で完全に消磁されていない限り、ウェハを吸引と放置する作業に影響しない。
【００２７】
固定部には、円錐孔道が設けられる。円錐孔道は、傾斜面で囲まれた幅がテーパとなる円錐状の構造空間であって、吸引ノズル基部が傾いているとき、固定部の位置が変わらないため、定位柱が必要な相対変位空間を提供できる。これによって、吸引ノズル基部は、シール部品を合わせることができて、傾斜を介して、全体の組立またはウェハや或いは他の原因等で生じられた垂直オフセットに対応して、補正を行う。
【００２８】
固定部の円錐孔道は、その傾斜面と垂直線との間の角度が、固定部と、吸引ノズルと、ウェハ等のすべての可能な垂直オフセットの最大傾斜度を考えて設計されて、垂直オフセットを発生したとき、シール部品と組み合わせることに役に立って、オフセットを平坦度に補正することができる。
【００２９】
吸引ノズル基部は、傾いているとき、その固定部と、傾斜で高さが異なっていても、シール部品が、２つの間の気密性を維持するために使用される。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の第１実施形態による吸引ノズルを接続する組立構造の斜視図である。
【図２】本発明の第１実施形態による吸引ノズルを接続する組立構造の底面側から見た斜視である。
【図３】本発明の第１実施形態による吸引ノズルを接続する組立構造の分解斜視図である。
【図４】本発明の第１実施形態による吸引ノズルを接続する組立構造の断面図である。
【図５】本発明の第１実施形態による吸引ノズルを接続する組立構造のウェハを吸引するのを示す図である。
【図５Ａ】図５の部分拡大図である。
【図６】本発明の第１実施形態による吸引ノズルを接続する組立構造の垂直調整を示す図である。
【図６Ａ】図６の部分拡大図である。
【図７】本発明の第２実施形態による吸引ノズルを接続する組立構造の斜視図である。
【図８】本発明の第２実施形態による吸引ノズルを接続する組立構造の底面側から見た斜視図である。
【図９】本発明の第２実施形態による吸引ノズルを接続する組立構造の分解斜視図である。
【図１０】本発明の第２実施形態による吸引ノズルを接続する組立構造の断面図である。
【図１１】本発明の第２実施形態による吸引ノズルを接続する組立構造のウェハを吸引するのを示す図である。
【図１２】本発明の第２実施形態による吸引ノズルを接続する組立構造の垂直調整を示す図である。
【図１３】本発明の第３実施形態による吸引ノズルを接続する組立構造の斜視図である。
【図１４】本発明の第３実施形態による吸引ノズルを接続する組立構造の底面側から見た斜視図である。
【図１５】本発明の第３実施形態による吸引ノズルを接続する組立構造の分解斜視図である。
【図１６】本発明の第３実施形態による吸引ノズルを接続する組立構造の断面図である。
【図１７】本発明の第３実施形態による吸引ノズルを接続する組立構造のウェハを吸引するのを示す図である。
【図１８】本発明の第３実施形態による吸引ノズルを接続する組立構造の垂直調整を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
（第１実施形態）
本発明の第１実施形態による吸引ノズルを接続する組立構造を図１〜図３を参照して説明する。図１〜図３は、本発明の第１実施形態の斜視図と分解斜視図である。吸引ノズルを接続する組立構造は、固定座１０と、吸引ノズル基部２０とを含む。吸引ノズル基部２０は、吸引ノズル３０を設けて、吸引ノズル３０は、その下端面がウェハ４０を吸引するためのものである。固定座１０及び吸引ノズル基部２０は、磁気の漏れを避けるために磁性を有する金属材料で製造される。
【００３２】
固定座１０は、磁気伝導体である金属本体を有し、真空アスピレータ（図示せず）に係合するために、その上端面には係合部１１が配置される。係合部１１には、真空通路１１１が設けられる。真空通路１１１は、係合部１１および固定座１０を貫通している。
【００３３】
図５Ａに示すように、固定座１０には、２つの定位部１２が設けられる。２つの定位部１２は、それぞれ異なる側に設置される。定位部１２は、固定座１０を貫通するテーパ状の円錐孔道１２０を備える。固定座１０の上下両端面には、それぞれ上端孔１２１または下端孔１２２が形成される。定位部１２の円錐孔道１２０は、垂直線と１〜５度を呈する傾斜面を有する。
【００３４】
実際の要求に応じて、円錐孔道１２０の傾斜面と垂直線との間の夾角θは、２度、２．５度、３度、３．５度、４度または４．５度となって、夾角θの好ましい範囲は、２度〜２．５度となる。
【００３５】
固定座１０は、塵埃または雑物が定位部１２内に落下するのを防止するため任意に定位部１２の上端孔１２１に、キャップ（図示せず）を設けてもよい。必要に応じて、定位部１２の数を増やす。
【００３６】
また、本実施形態による固定座１０の定位部１２の円錐孔道１２０は、固定座１０の下端面を貫通して、それによって、下端孔１２２を形成する。
【００３７】
吸引ノズル基部２０の上端面は、固定座１０の定位部１２の箇所に対応して、それぞれ定位柱２１と、真空通路１１１を貫通するための真空孔２２とを設ける。吸引ノズル基部２０の下端面は、真空孔２２を連通する真空空間２５と固定凹部２６を設ける。固定凹部２６は、吸引ノズル３０が接着固定するために設けられている。吸引ノズル３０は、吸引ノズル基部２０の下方に平らで貼り付けされているため、吸引ノズル３０の平坦度を確保することができる。
【００３８】
吸引ノズル基部２０の上端面は、定位柱２１が固定座１０の下端孔１２２に対応して挿入されることを利用して、吸引ノズル基部２０を固定座１０に組み立てる。定位部１２と定位柱２１との間の差置き構造により、固定座１０と吸引ノズル基部２０との組立構造にある水平変位を制限させて、２つの相対位置が制限されて、左右に移動することができないようにするため、真空下での吸引ノズル３０の操作使用に役に立つ。
【００３９】
本実施形態による固定座１０と吸引ノズル基部２０は、透磁率を有する。吸引ノズル基部２０は、真空通路１１１の下方で凹部２４を設けている。真空孔２２は、凹部２４を底面に相対的に配置される。マグネット２９は、凹部２４に設置される。これによって、固定座１０と吸引ノズル基部２０との間は、磁気的に接続される。固定座１０と吸引ノズル基部２０は、磁性材料であるため、磁力が吸引ノズル３０の下端面から漏れることが防止される。
【００４０】
吸引ノズル基部２０は、磁気的に固定座１０に吸着して、従来の埋め込み式の組立構造を改良することができる。設置時には、不用意に吸引ノズル基部２０を最底面に押し付けて固定座１０に密着させて、吸引ノズル基部２０に組み付けられた吸引ノズル３０は、同時に傾斜しており、吸着されたウェハ４０が作業中に破損するという問題がある。
【００４１】
マグネット２９にも、凹部２４と共同に真空通路１１１を連通するための開口部が設けられる
【００４２】
吸引ノズル基部２０には、凹部２４の外側にシール溝２３が設けられる。図３に示すように、シール溝２３は、凹部２４の外側を囲み、シール溝２３中に付着係合して、シール部品２８が設けられる。シール部品２８の上端は、固定座１０の底面に係合し、組立後、固定座１０と吸引ノズル基部２０との間で挟まれている。シール部品２８は、シール溝２３と対応して同様の外形に形成される。
【００４３】
図４および図５に示すように、シール部品２８は、弾性の絶縁材料で形成され、固定座１０と吸引ノズル基部２０との間の気密構造を確保にすることができ、真空操作の下で二つの間の真空度を維持できる。従って、吸引ノズル３０が真空下で操作使用することに役に立つ。シール部品２８の材質弾性は、固定座１０と、吸引ノズル基部２０と、吸引ノズル３０と、ウェハ４０に関する様々な構造上に生じた不規則性又は傾斜を修正することができ、吸引ノズル３０が、ウェハ４０に平坦に吸着することまたは貼り付けることができる。
【００４４】
実際には、温度は、吸引ノズル基部２０のマグネット２９に影響を及ぼす可能性があり、更に磁力に影響を与える。しかしながら、吸引ノズル３０の寿命が短いため、吸引ノズル３０を交換する必要がある前に、マグネット２９に対する温度の影響は、吸引ノズル３０の耐用年数が終了する前にマグネット２９が、キュリー温度で完全に消磁されていない限り、吸引と放置する作業に影響を及ぼさない。
【００４５】
図４、および、図５に示すように、吸引ノズル基部２０の下端面には、吸引ノズル３０が固定される。吸引ノズル３０の頂面は、通路３１と複数の吸引ノズル３０の貫通孔３２とを含む。貫通孔３２は、吸引ノズル基部２０の真空孔２２および真空空間２５を通って、固定座１０の真空通路１１１と連通し、真空通路１１１と貫通孔３２が空気通路を形成させる。それによって、吸引ノズル３０は、真空吸着装置（図示せず）を利用して、真空通路１１１が、吸気するときに生じた真空吸力により、ウェハ４０を吸着する。このとき、ウェハ４０は、吸引ノズル３０が組立後、ウェハ４０を吸着するための下端面３３に取り付けられる。
【００４６】
通常の使用条件では、吸引ノズル３０の下端面３３は、直接にウェハ４０に取り付けることができてる。しかしながら、ウェハ４０の表面が平坦でない場合やウェハ４０が異常に配置された場合には、ウェハ４０の表面が相対に吸引ノズル３０の下端面３３と傾斜状態となる。
【００４７】
このような状況において、吸引ノズル３０の下端面３３を相対的に傾斜と呈するウェハ４０の表面に貼り付けさせるために、吸引ノズル３０と吸引ノズル基部２０は、一緒に傾斜させる必要があり、ウェハ４０の構造を損なうことなくウェハ４０と貼り付けるのを維持できる。
【００４８】
図６および図６Ａに示すように、吸引ノズル基部２０は、定位柱２１が固定座１０の円錐孔道１２０の下端孔１２２に挿入される。円錐孔道１２０の下端孔１２２の上方は、徐々に広がった孔道を有し、円錐孔道１２０の傾斜面で囲まれた幅がテーパとなる円錐状の構造空間である。吸引ノズル基部２０が傾いたとき、固定座１０は、元の位置を維持しているが、円錐孔道１２０は、定位柱２１に必要な相対変位空間を提供して、吸引ノズル基部２０を傾斜方向に応じて上下に垂直調整させる。
【００４９】
吸引ノズル基部２０は、傾いている時、固定座１０との傾きによる高低差があり、この場合、固定座１０と吸引ノズル基部２０との間に挟まれたシール部品２８を利用して、その２つの密着度を維持する。
【００５０】
シール部品２８は、吸引ノズル基部２０の高さより高くなっており、固定座１０の下端面と吸引ノズル基部２０の上端面との間に予め保留した調整空間１３が形成される。その高さは、ウェハ４０自体とウェハ４０が吸引と放置することに必要なそれぞれの構成部品の組立の公差を考慮して設定される。同時にシール部品２８の弾性を利用して、傾斜によって生じた垂直高低差を補償することができるので、吸引ノズル基部２０が傾斜することで、全体の構造にある気密度を維持できて、組み立てることによって累積された垂直許容オフセットを自動的に調整すると同時に、吸引ノズル３０の水平ポジショナーとなる。
【００５１】
定位部１２の円錐孔道１２０は、シール部品２８を合わせて、構造上に組み立てた垂直許容オフセットを修正して、ウェハ４０の表面が、吸引ノズル３０と傾斜となる使用状況下で操作を調整できる。しかも、円錐孔道１２０の下端孔１２２が吸引ノズル基部２０の定位柱２１との間に対応する構造関係は、同時に全体組立構造を相対の水平変位にさせない。円錐孔道１２０の傾斜面と垂直線との間の角度θは、固定座１０と、吸引ノズル基部２０と、吸引ノズル３０と、ウェハ４０等の可能な垂直オフセットの最大傾きを考慮に入れて設定される。
【００５２】
第１実施形態による組立構造を組み立てているときに、シール部品２８をシール溝２３に入れる。次に、マグネット２９を吸引ノズル基部２０の凹部２４に配置する。そして、吸引ノズル３０を吸引ノズル基部２０の固定凹部２６に付着させる。最後に、手で吸引ノズル基部２０の両側に設置されているハンドル２７を掴み、吸引ノズル基部２０の定位柱２１を固定座１０の定位部１２に位置合わせて挿し入れて、マグネット２９の吸引力で、吸引ノズル基部２０と付着した吸引ノズル３０を固定座１０に吸着させて、ウェハ載置装置を組み立てる。一方、取り外すとき、手で吸引ノズル基部２０のハンドル２７をつかんで引き出すことができて、即ち、吸引ノズル基部２０と吸引ノズル３０を一緒に取り外すことができる。
【００５３】
吸引ノズル基部２０のハンドル２７を利用して、作業者が吸引ノズル３０の下端面３３に触れないように、吸引ノズル３０を直接に固定座１０に設置させる、または、固定座１０から取り外すことができる。これによって、吸引ノズル３０の下端面３３を汚染することがなく、設備上にある固定座１０を取り外す必要はないため、迅速に吸引ノズル３０を固定座１０に設置することができる。
【００５４】
（第２実施形態）
本発明の第２実施形態を図７〜図１２を参照して説明する。第２実施形態の構造は、第１実施形態とほぼ同様であり、同様の機能を有するものであり、説明を簡略化するために、同一の符号を付して説明を省略する。第２実施形態の固定座１０Ａおよび吸引ノズル３０Ａは、サイズが第１実施形態よりも大きいが、同様の機能を有する。
【００５５】
第２実施形態による吸引ノズル基部２０Ａは、楕円形の真空孔２２Ａを有する。真空孔２２Ａは、真空通路１１１と連通する。吸引ノズル基部２０Ａの上端面には、真空孔２２Ａ以外の少なくとも１つの凹部２４Ａを設けて、それぞれマグネット２９Ａを設置する。凹部２４Ａの外側には、矩形状のシール溝２３Ａが形成される。シール溝２３Ａには、これに対応して、長方形のシール部品２８Ａが設けられている。
【００５６】
本実施形態による凹部２４Ａの数は、設置されたマグネット２９Ａに提供された磁性が十分で吸引ノズル基部２０Ａを固定座１０Ａに吸着させて組み立てて接続すれば、マグネットの数や形状は限定されない。実際の必要に応じて、シール部品２８Ａは、任意に、全ての凹部２４Ａを取り囲んでいるか又はおのおので取り囲んでいる。
【００５７】
（第３実施形態）
本発明の第３実施形態を図１３〜図１８を参照して説明する。第３実施形態の構造は、第１、第２実施形態とほぼ同様であり、同様の機能を有するものであり、説明を簡略化するために、同一の符号を付して説明を省略する。第３実施形態の固定座１０Ｂおよび吸引ノズル３０Ｂは、サイズが第２実施形態よりも大きいが、同様の機能を有する。
【００５８】
第３実施形態による吸引ノズル基部２０Ｂは、楕円形の真空孔２２Ｂを有する。真空孔２２Ｂは、真空通路１１１と連通する。吸引ノズル基部２０Ｂの上端面には、真空孔２２Ｂ以外の少なくとも１つの凹部２４Ｂを設けて、それぞれマグネット２９Ｂを設置する。凹部２４Ｂの外側には、矩形状のシール溝２３Ｂが形成される。シール溝２３Ｂには、これに対応して、長方形のシール部品２８Ｂが設けられている。
【００５９】
本実施形態による凹部２４Ｂの数量は、設置されたマグネット２９Ｂに提供された磁性が十分で吸引ノズル基部２０Ｂを固定座１０Ｂに吸着させて組み立てて接続すれば、マグネットの数や形状は限定されない。実際の必要に応じて、シール部品２８Ｂは、任意に、全ての凹部２４Ｂを取り囲んでいるか又はおのおので取り囲んでいる。
【００６０】
本発明に関わる組立構造は、第１〜第３実施形態に示すように、３つの異なる規格で使用でき、ウェハのサイズに適切な吸引ノズル基部を取り換えることができる。また、吸引ノズルは、異なるスタイル、形状、同じサイズのニーズに応じて取り換えることもでき、同じな効果を得ることができる。
【００６１】
上述したのは、本発明の好ましい実施形態であって、本発明は、上記実施形態において説明したものに限定されるものではなく、かつ発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々の設計変更、補正、替代、組合、簡単化、等価的に置き換えることが可能であることは当然のことである。
【符号の説明】
【００６２】
１０・・・固定座
１０Ａ・・・固定座
１０Ｂ・・・固定座
１１・・・係合部
１１１・・・真空通路
１２・・・定位部
１２０・・・円錐孔道
１２１・・・上端孔
１２２・・・下端孔
１３・・・調整空間
２０・・・吸引ノズル基部
２０Ａ・・・吸引ノズル基部
２０Ｂ・・・吸引ノズル基部
２１・・・定位柱
２２・・・真空孔
２２Ａ・・・真空孔
２２Ｂ・・・真空孔
２３・・・シール溝
２４・・・凹部
２５・・・真空空間
２６・・・固定凹部
２８・・・シール部品
２８Ａ・・・シール部品
２８Ｂ・・・シール部品
２９・・・マグネット
２９Ａ・・・マグネット
２９Ｂ・・・マグネット
３０・・・吸引ノズル
３０Ａ・・・吸引ノズル
３０Ｂ・・・吸引ノズル
３１・・・通路
３２・・・貫通孔
３３・・・下端面
４０・・・ウェハ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図５Ａ】
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【図６】
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【図６Ａ】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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