(57)【要約】【課題】骨／関節を含む運動器の慢性疼痛性疾患、及び、慢性皮膚疾患に対する、速やかに炎症鎮静効果が得られ、かつ、副作用の存在しない治療法を提供することが可能な、水素ガス供給装置及び水素ガス供給方法を提供すること。【解決手段】本発明に係る水素ガス供給装置は、所定純度の水素ガスを貯蔵する水素ガス貯蔵部と、生体又は点滴バッグの内部に対して前記水素ガスを供給する水素ガス供給部と、前記水素ガス貯蔵部に貯蔵されている前記水素ガスを、前記水素ガス供給部へと供給する水素ガス供給機構と、前記水素ガス貯蔵部、前記水素ガス供給部、又は、前記水素ガス供給機構の少なくとも何れかを制御することで、前記生体又は点滴バッグの内部に供給される前記水素ガスの濃度、流量、圧力、供給量又は供給部位の少なくとも何れかを調整する制御部と、を備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定純度の水素ガスを貯蔵する水素ガス貯蔵部と、
生体又は点滴バッグの内部に対して前記水素ガスを供給する水素ガス供給部と、
前記水素ガス貯蔵部に貯蔵されている前記水素ガスを、前記水素ガス供給部へと供給する水素ガス供給機構と、
前記水素ガス貯蔵部、前記水素ガス供給部、又は、前記水素ガス供給機構の少なくとも何れかを制御することで、前記生体又は点滴バッグの内部に供給される前記水素ガスの濃度、流量、圧力、供給量又は供給部位の少なくとも何れかを調整する制御部と、
を備える、水素ガス供給装置。
【請求項２】
前記水素ガス貯蔵部に貯蔵されている前記水素ガスは、純度１％以上の水素ガスである、請求項１に記載の水素ガス供給装置。
【請求項３】
前記水素ガス貯蔵部に貯蔵されている前記水素ガスは、純度９９％以上の水素ガスである、請求項１又は２に記載の水素ガス供給装置。
【請求項４】
前記水素ガス貯蔵部に貯蔵されている前記水素ガスは、純度９９．９９９％以上の水素ガスである、請求項１〜３の何れか１項に記載の水素ガス供給装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記水素ガスの供給される前記生体の部位に応じて、前記水素ガスの流量又は供給量の少なくとも何れかを調整する、請求項１〜４の何れか１項に記載の水素ガス供給装置。
【請求項６】
前記生体又は点滴バッグの内部に供給される前記水素ガスの供給量を特定する水素ガス供給量特定部を更に備える、請求項１〜５の何れか１項に記載の水素ガス供給装置。
【請求項７】
前記水素ガスが供給された前記生体の部位を特定する水素ガス供給部位特定部を更に備える、請求項１〜６の何れか１項に記載の水素ガス供給装置。
【請求項８】
前記水素ガス供給部位特定部は、生体の断層撮影を行う検査装置、又は、超音波を用いた生体の検査装置の少なくとも何れかを有する、請求項７に記載の水素ガス供給装置。
【請求項９】
前記水素ガス供給部は、前記水素ガスを、前記生体における皮内、皮下、筋膜間、筋肉内又は関節内の少なくとも何れかに供給する、請求項１〜８の何れか１項に記載の水素ガス供給装置。
【請求項１０】
水素ガス供給機構により、水素ガス貯蔵部に貯蔵されている所定純度の水素ガスを、生体又は点滴バッグの内部に対して前記水素ガスを供給する水素ガス供給部へと供給し、
演算処理装置が前記水素ガス貯蔵部、前記水素ガス供給部、又は、前記水素ガス供給機構の少なくとも何れかを制御して、前記生体又は点滴バッグの内部に供給される前記水素ガスの濃度、流量、圧力、供給量又は供給部位の少なくとも何れかを調整する、水素ガス供給方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、水素ガス供給装置及び水素ガス供給方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
高齢化社会を迎えるにあたり、骨／関節を含む運動器の慢性疼痛による活動制限は、大きな社会問題となりつつある。
【０００３】
例えば、中年期に発症するいわゆる四十肩もしくは五十肩や、運動不足もしくは体重増加に伴う変形性脊椎症や、椎間板ヘルニアに伴う腰痛、神経痛もしくは神経障害などは、社会活動を大きく低減させる代表的な疾患である。
【０００４】
また、高齢期になって発症する股関節又は膝関節における変形性関節症は、長期的な治療に加え、最終的には該当関節を人工関節へと置換するための整形外科手術が行われることも多く、医療費高騰の原因の一つともなっている。加えて、治療が長期化することによる副作用も、大きな問題となりうる。特に、消炎鎮痛剤の長期投与は、副作用及び医療費の両面から、現代医学の問題となっている。
【０００５】
上記のような各種疾患に代表される、骨／関節を含む運動器の慢性疼痛性疾患に対する治療は、ここ数十年変化が見られない。すなわち、かかる運動器の慢性疼痛性疾患に対しては、まず、（１）消炎鎮痛剤の内服／外用、（２）リハビリテーション、（３）ヒアルロン酸等の関節内注射、などといった治療が中心となる。また、上記（１）〜（３）に示したような治療では十分な効果が得られなくなると、骨切り術又は人工関節置換術等といった各種整形外科手術の適用が検討される。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記のような骨／関節を含む運動器の慢性疼痛性疾患に対する各種治療は、多かれ少なかれ副作用を伴うものであり、また、治療法によっては、直ちに炎症鎮静効果が得られないものも存在する。従って、骨／関節を含む運動器の慢性疼痛性疾患に対して、速やかに炎症鎮静効果が得られ、かつ、副作用の存在しない治療法が希求されている現状にある。
【０００７】
また、慢性皮膚疾患についても、上記のような骨／関節を含む運動器の慢性疼痛性疾患と同様に、代表的な治療法には変化が見られない状況にある。例えば代表的な慢性皮膚疾患であるアトピー性皮膚炎などは難治性の疾患であるが、かかる疾患に対しては、ステロイド治療が中心となる。しかしながら、ステロイド治療は、その治療効果は大きい一方で、その副作用が大きな問題となり、治療拒否となる場合も多い。従って、慢性皮膚疾患についても、速やかに炎症鎮静効果が得られ、かつ、副作用の存在しない治療法が希求されている現状にある。
【０００８】
そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、骨／関節を含む運動器の慢性疼痛性疾患、及び、慢性皮膚疾患に対する、速やかに炎症鎮静効果が得られ、かつ、副作用の存在しない治療法を提供することが可能な、水素ガス供給装置及び水素ガス供給方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、慢性疼痛性疾患及び慢性皮膚疾患で炎症が生じる過程について鋭意検討を行った。その結果、悪玉の活性酸素であるヒドロキシラジカルが生体内（例えば、骨／関節を含む運動器、又は、皮膚の近傍）で発生することが炎症の原因であり、かかるヒドロキシラジカルを選択的に除去することができれば、骨／関節を含む運動器の慢性疼痛性疾患及び慢性皮膚疾患に対する、速やかに炎症鎮静効果が得られ、かつ、副作用の存在しない治療法を提供可能であるとの知見を得ることができた。
かかる知見に基づき完成された本発明の要旨は、以下の通りである。
【００１０】
［１］所定純度の水素ガスを貯蔵する水素ガス貯蔵部と、生体又は点滴バッグの内部に対して前記水素ガスを供給する水素ガス供給部と、前記水素ガス貯蔵部に貯蔵されている前記水素ガスを、前記水素ガス供給部へと供給する水素ガス供給機構と、前記水素ガス貯蔵部、前記水素ガス供給部、又は、前記水素ガス供給機構の少なくとも何れかを制御することで、前記生体又は点滴バッグの内部に供給される前記水素ガスの濃度、流量、圧力、供給量又は供給部位の少なくとも何れかを調整する制御部と、を備える、水素ガス供給装置。
［２］前記水素ガス貯蔵部に貯蔵されている前記水素ガスは、純度１％以上の水素ガスである、［１］に記載の水素ガス供給装置。
［３］前記水素ガス貯蔵部に貯蔵されている前記水素ガスは、純度９９％以上の水素ガスである、［１］又は［２］に記載の水素ガス供給装置。
［４］前記水素ガス貯蔵部に貯蔵されている前記水素ガスは、純度９９．９９９％以上の水素ガスである、［１］〜［３］のいずれか１つに記載の水素ガス供給装置。
［５］前記制御部は、前記水素ガスの供給される前記生体の部位に応じて、前記水素ガスの流量又は供給量の少なくとも何れかを調整する、［１］〜［４］の何れか１つに記載の水素ガス供給装置。
［６］前記生体又は点滴バッグの内部に供給される前記水素ガスの供給量を特定する水素ガス供給量特定部を更に備える、［１］〜［５］の何れか１つに記載の水素ガス供給装置。
［７］前記水素ガスが供給された前記生体の部位を特定する水素ガス供給部位特定部を更に備える、［１］〜［６］の何れか１つに記載の水素ガス供給装置。
［８］前記水素ガス供給部位特定部は、生体の断層撮影を行う検査装置、又は、超音波を用いた生体の検査装置の少なくとも何れかを有する、［７］に記載の水素ガス供給装置。
［９］前記水素ガス供給部は、前記水素ガスを、前記生体における皮内、皮下、筋膜間、筋肉内又は関節内の少なくとも何れかに供給する、［１］〜［８］の何れか１つに記載の水素ガス供給装置。
［１０］水素ガス供給機構により、水素ガス貯蔵部に貯蔵されている所定純度の水素ガスを、生体又は点滴バッグの内部に対して前記水素ガスを供給する水素ガス供給部へと供給し、演算処理装置が前記水素ガス貯蔵部、前記水素ガス供給部、又は、前記水素ガス供給機構の少なくとも何れかを制御して、前記生体又は点滴バッグの内部に供給される前記水素ガスの濃度、流量、圧力、供給量又は供給部位の少なくとも何れかを調整する、水素ガス供給方法。
【発明の効果】
【００１１】
以上説明したように本発明によれば、骨／関節を含む運動器の慢性疼痛性疾患、及び、慢性皮膚疾患に対する、速やかに炎症鎮静効果が得られ、かつ、副作用の存在しない治療法を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の実施形態に水素ガス供給装置の全体的な構成を模式的に示したブロック図である。
【図２】同実施形態に係る水素ガス供給装置が有する制御装置の構成の一例を模式的に示したブロック図である。
【図３】同実施形態に係る水素ガス供給装置の一例を具体的に示した説明図である。
【図４】同実施形態に係る水素ガス供給装置が有する制御装置のハードウェア構成の一例を模式的に示したブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００１４】
（炎症が生じる過程について）
本発明の実施形態に係る水素ガス供給装置及び水素ガス供給方法について説明するに先立ち、骨／関節を含む運動器の慢性疼痛性疾患、及び、慢性皮膚疾患において炎症が生じる過程について、簡単に説明する。
【００１５】
骨／関節を含む運動器の慢性疼痛性疾患や、アトピー性皮膚炎を含む慢性皮膚疾患では、生体内（例えば、骨／関節を含む運動器の近傍や、皮膚の近傍）において悪玉の活性酸素であるヒドロキシラジカルが生成されることで、炎症が生じると考えられる。すなわち、生成されたヒドロキシラジカルは、炎症反応の中心となるタンパク質複合体であるＮＦκＢ（エヌエフ・カッパー・ビー）を刺激する。かかるタンパク質複合体がヒドロキシラジカルによって刺激されることで、ＣＯＸ２と呼ばれる酵素（シクロオキシゲナーゼ）が分泌されるようになり、分泌されたＣＯＸ２がアラキドン酸カスケードと呼ばれる代謝経路を駆動させることで、炎症が引き起こされる。
【００１６】
従って、生体内で生成されたヒドロキシラジカルを選択的に除去することができれば、炎症の発生を抑制することが可能となり、ひいては、骨／関節を含む運動器の慢性疼痛性疾患及び慢性皮膚疾患に伴う炎症を鎮静化して、骨／関節を含む運動器の慢性疼痛性疾患及び慢性皮膚疾患を治療することが可能となる。
【００１７】
本発明者は、かかる知見に基づき鋭意検討を行った結果、水素ガスによりヒドロキシラジカルを選択的に除去可能であるとの着想を得て、以下で詳述する本発明の実施形態に係る水素ガス供給装置及び水素ガス供給方法に想到したのである。
【００１８】
なお、上記説明では、骨／関節を含む運動器の慢性疼痛性疾患、及び、慢性皮膚疾患を例に挙げて説明を行ったが、以下で詳述する本発明の実施形態に係る水素ガス供給装置及び水素ガス供給方法は、ヒドロキシラジカルに起因する炎症を伴う疾患であれば、骨／関節を含む運動器の慢性疼痛性疾患及び慢性皮膚疾患以外にも適用可能であることは言うまでもない。
【００１９】
（水素ガス供給装置について）
以下では、上記知見に基づき完成された、本発明の実施形態に係る水素ガス供給装置について、図１〜図３を参照しながら、詳細に説明する。
図１は、本発明の実施形態に水素ガス供給装置の全体的な構成を模式的に示したブロック図である。図２は、本実施形態に係る水素ガス供給装置が有する制御装置の構成の一例を模式的に示したブロック図である。図３は、本実施形態に係る水素ガス供給装置の一例を具体的に示した説明図である。
【００２０】
本実施形態に係る水素ガス供給装置は、生体内部の所定の部位に対して水素ガスを供給する装置である。これにより、水素ガスが供給された生体部位では、水素ガス供給後数分程度で、優れた炎症鎮静効果（例えば、鎮痛効果など）を発揮する。本実施形態に係る水素ガス供給装置を用いる場合、副作用なく水素ガスを生体内へと供給することが可能であり、水素ガス供給装置の利用者に対して、強い鎮痛作用を提供することが可能となる。また、本実施形態に係る水素ガス供給装置を用いることで、水素ガスを反復的に供給することが可能となる。更には、本実施形態に係る水素ガス供給装置を用いることで、骨／関節を含む運動器の慢性疼痛性疾患、及び、慢性皮膚疾患の患部において、組織修復作用を発揮することが可能であり、これら疾患の治療に寄与することができる。
【００２１】
また、本実施形態に係る水素ガス供給装置は、生体の内部ではなく、点滴バッグ内に水素ガスを供給するためにも利用可能である。点滴バッグ内に所定の圧力で水素ガスを供給した上で、かかる点滴バッグの内容物を所定の点滴ラインを介して生体の内部へと供給することで、水素ガスを、骨／関節を含む運動器の慢性疼痛性疾患や慢性皮膚疾患の患部へと到達させることが可能となる。これにより、水素ガスを直接生体の内部へと供給する場合と同様な作用効果を実現することができる。
【００２２】
以下では、本実施形態に係る水素ガス供給装置が生体の内部に対して水素ガスを供給する場合を例に挙げて、説明を行うこととする。なお、以下の記載において、水素ガスの供給先を点滴バッグと読み替えることで、点滴バッグの内部へと水素ガスを好適に供給できることは言うまでもない。
【００２３】
上記のような効果を実現することが可能な、本実施形態に係る水素ガス供給装置１は、図１に示したように、水素ガス貯蔵部１０と、水素ガス供給機構２０と、水素ガス供給部３０と、制御装置４０と、を主に備える。また、本実施形態に係る水素ガス供給装置１は、更に、水素ガス供給量特定部５０、又は、水素ガス供給部位特定部６０の少なくとも何れか一方を備えることが好ましい。
【００２４】
水素ガス貯蔵部１０は、所定純度の水素ガスを貯蔵するユニットである。かかる水素ガス貯蔵部１０は、特に限定されるものではなく、水素ガスを貯蔵することが可能なものであれば、ボンベ、タンク、キャニスタ等といった公知の任意の格納容器を用いることが可能である。かかる水素ガス貯蔵部１０の内部には、例えば公知の水素吸蔵合金等が設置されており、かかる水素吸蔵合金中に水素ガスが貯蔵される。また、水素ガス貯蔵部１０として機能する格納容器には、例えば各種のレギュレータなどのような、水素ガスの供給圧力や、供給流量や、供給量を制御可能な機構が設けられていることが好ましい。
【００２５】
ここで、水素ガス貯蔵部１０に貯蔵される水素ガスは、特に限定されるものではなく、必要に応じて、任意の純度の水素ガスが貯蔵される。水素ガス貯蔵部１０に貯蔵される水素ガスは、例えば、純度１％以上の水素ガスであってもよいし、純度９９％以上の水素ガスであってもよいし、純度９９．９９９％以上の水素ガスであってもよい。かかる水素ガス貯蔵部１０に貯蔵されている水素ガスは、必要に応じて、酸素ガスなどといった生体に悪影響を及ぼさない他のガスと適宜混合され、生体の内部へと供給される。
【００２６】
水素ガス貯蔵部１０に貯蔵されている水素ガスは、水素ガス供給装置１の操作者、又は、後述する制御装置４０の制御のもとで、所定のチューブＴなどを介して、水素ガス供給機構２０へと供給される。
【００２７】
水素ガス供給機構２０は、水素ガス貯蔵部１０に貯蔵されている水素ガスを、後述する水素ガス供給部３０へと供給する。かかる水素ガス供給機構２０は、例えば、各種のレギュレータ、流量調整弁などといった各種の弁、水素ガスを所望の場所へと移動させるための各種チューブなど、公知の部材によって構成されている。従って、水素ガス貯蔵部１０に設けられることが好ましい各種レギュレータや、水素ガス貯蔵部１０に接続される各種のチューブＴも、水素ガス供給機構２０として機能するものである。
【００２８】
水素ガス供給機構２０が、水素ガス供給装置１の操作者、又は、後述する制御装置４０により適切に制御されることで、生体へと供給される水素ガスの濃度、流量、圧力、供給量又は供給部位の少なくとも何れかを、任意の状態に変化させることが可能となる。
【００２９】
例えば、水素ガス供給装置１に対して、酸素ガスなどといった生体に無害な水素ガス以外のガスが貯蔵されている貯蔵部（図示せず。）が接続されている場合に、水素ガス供給機構２０が適切に動作して水素ガスと他のガスとの流量比を調整することで、生体の内部へと供給される水素ガスの濃度を調整することが可能となる。
【００３０】
また、水素ガス供給機構２０が適切に動作することで、生体の内部へと供給される水素ガスの流量、圧力、供給量を所望の値に調整することが可能となる。これにより、生体組織を損傷しない圧力で、適切な量の水素ガスを、生体内の特定部位へと供給することが可能となる。特に、水素ガスの流量の調整は、生体組織の損傷を防止するために重要であり、水素ガスの供給量の調整は、水素ガスの供給部位での皮下気腫による神経損傷を防止するために重要である。
【００３１】
水素ガス供給部３０は、濃度、流量、圧力、供給量等が制御された水素ガスを、生体の内部に対して供給する部位である。かかる水素ガス供給部３０は、例えば、所定ゲージのニードル（注射針など）等といった、公知の機器で構成されている。また、本実施形態に係る水素ガス供給部３０は、針を介して水素ガスを供給する形態に限定されるものではなく、例えば、針を用いることなく水素ガスを供給することが可能な無針の注射装置など、様々な機器を利用することが可能である。
【００３２】
かかる水素ガス供給部３０により、上記のような水素ガスが、生体内の特定部位へと供給される。ここで、水素ガス供給部３０により水素ガスが供給される部位としては、例えば、生体における皮内、皮下、筋膜間、筋肉内又は関節内の少なくとも何れかを挙げることができる。
【００３３】
制御装置４０は、本実施形態に係る水素ガス供給装置１に設けられる各種機器を統括的に制御する装置であり、例えば、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）等を備えたＩＣチップや、各種のコンピュータ等といった、公知の演算処理装置により実現される。
【００３４】
かかる制御装置４０は、上記の水素ガス貯蔵部１０、水素ガス供給機構２０、水素ガス供給部３０の少なくとも何れかを制御することで、生体の内部に供給される水素ガスの濃度、流量、圧力、供給量又は供給部位の少なくとも何れかを調整する。また、本実施形態に係る水素ガス供給装置１に、水素ガス供給量特定部５０や水素ガス供給部位特定部６０が更に設けられている場合、制御装置４０は、水素ガス供給量特定部５０や水素ガス供給部位特定部６０の動作を制御することが可能である。
【００３５】
かかる制御装置４０は、例えば図２に模式的に示したように、供給制御部４０１を少なくとも有しており、更に、表示部４０３や記憶部４０５を有していることが好ましい。
【００３６】
制御部の一例である供給制御部４０１は、例えば、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ、入力装置、出力装置、通信装置などにより実現されており、以上説明したような水素ガスの供給制御を中心となって実施する処理部である。
【００３７】
供給制御部４０１によって実施される水素ガスの供給制御は、上記のように、生体の内部に供給される水素ガスの濃度、流量、圧力、供給量又は供給部位の少なくとも何れかを調整するための制御である。この際に、本実施形態に係る供給制御部４０１は、水素ガスの供給される生体の部位に応じて、水素ガスの流量又は供給量の少なくとも何れかを調整することが好ましい。
【００３８】
表示部４０３は、供給制御部４０１による水素ガス供給装置１の制御結果を、水素ガス供給装置１の操作者や利用者に提供する処理部であり、例えば各種のディスプレイなどといった公知の表示装置により実現される。
【００３９】
記憶部４０５は、制御装置４０が備える記憶装置の一例である。記憶部４０５には、本実施形態に係る制御装置４０が、何らかの処理を行う際に保存する必要が生じた様々なパラメータや処理の途中経過等、または、各種のデータベースやプログラム等が、適宜記録される。この記憶部４０５は、供給制御部４０１、表示部４０３などが、自由にリード／ライト処理を行うことが可能である。
【００４０】
なお、上記のような制御装置４０における各構成要素は、汎用的な部材や回路を用いて構成されていてもよいし、各構成要素の機能に特化したハードウェアにより構成されていてもよい。また、各構成要素の機能を、ＣＰＵ等が全て行ってもよい。従って、本実施形態を実施する時々の技術レベルに応じて、適宜、利用する構成を変更することが可能である。
【００４１】
水素ガス供給量特定部５０は、生体の内部に供給される水素ガスの供給量を特定する。かかる水素ガス供給量特定部５０は、特に限定されるものではなく、例えば、マスフローメータのような流量計などといった、公知の各種の計測機器を適宜利用することが可能である。このような水素ガス供給量特定部５０を、例えば水素ガス供給機構２０と水素ガス供給部３０との間に設けることで、生体の内部に供給される水素ガスの供給量を容易に特定することが可能となり、より安全に水素ガスを供給することが可能となる。
【００４２】
また、制御装置４０の供給制御部４０１は、水素ガス供給量特定部５０から随時出力される水素ガス供給量の計測値に基づいて、生体の内部に供給される水素ガスの供給量を自動的に制御してもよい。
【００４３】
水素ガス供給部位特定部６０は、水素ガスが供給された前記生体の部位を特定する。かかる水素ガス供給部位特定部６０は、特に限定されるものではなく、例えばＭＲＩやＣＴ等のような生体の断層撮影を行う検査装置、又は、超音波を用いた生体の検査装置などのような、公知の検査装置を適宜利用することが可能であり、各種の検査装置を組み合わせて利用することも可能である。このような水素ガス供給部位特定部６０を設けることで、水素ガスが供給される生体の部位を容易に特定することが可能となり、より安全に水素ガスを供給することが可能となる。
【００４４】
また、制御装置４０の供給制御部４０１は、水素ガス供給部位特定部６０から随時出力される水素ガスの供給部位の特定結果に基づいて、水素ガスが供給される生体部位を自動的に制御したり、水素ガス供給装置１の操作者に対してガイド情報や警告等を出力したりしてもよい。これにより、より一層安全に、生体の内部に対して水素ガスを供給することが可能となる。
【００４５】
＜水素ガス供給装置の具体例＞
図３に、本実施形態に係る水素ガス供給装置１の具体的な構成の一例を、模式的に示した。
【００４６】
図３において、水素吸蔵合金の格納されたキャニスタが、水素ガス貯蔵部１０に該当し、レギュレータ、帯電防止エラストマーチューブ、ステンレス製フレキシブルチューブ、流量調整弁又は圧力調整弁などが、水素ガス供給機構２０に該当している。また、図３におけるＧ３１ニードルが、水素ガス供給部３０に該当しており、カプラを介して水素ガス供給機構２０に接続されている。また、水素ガス供給部３０として機能するＧ３１ニードルの前段には、例えば、フィルタ孔径が０．２μｍであるフィルタが設けられており、微細な異物が生体内へ供給されることを防止している。また、図３における積算表示流量計が、水素ガス供給量特定部５０に該当している。
【００４７】
以上、図１〜図３を参照しながら、本実施形態に係る水素ガス供給装置１について、詳細に説明した。
【００４８】
（水素ガス供給方法について）
続いて、以上説明したような水素ガス供給装置１を用いた水素ガスの供給方法について、簡単に説明する。
以上説明したように、本実施形態に係る水素ガス供給方法では、水素ガス供給機構２０により、水素ガス貯蔵部１０に貯蔵されている所定純度の水素ガスを、生体又は点滴バッグの内部に対して水素ガスを供給する水素ガス供給部３０へと供給し、制御装置４０として機能する演算処理装置が、水素ガス貯蔵部１０、水素ガス供給機構２０、又は、水素ガス供給部３０の少なくとも何れかを制御して、生体又は点滴バッグの内部に供給される水素ガスの濃度、流量、圧力、供給量又は供給部位の少なくとも何れかが調整される。
【００４９】
（制御装置のハードウェア構成について）
次に、図４を参照しながら、本実施形態に係る制御装置４０のハードウェア構成について、詳細に説明する。図４は、本発明の実施形態に係る制御装置４０のハードウェア構成を説明するためのブロック図である。
【００５０】
制御装置４０は、主に、ＣＰＵ９０１と、ＲＯＭ９０３と、ＲＡＭ９０５と、を備える。また、制御装置４０は、更に、バス９０７と、入力装置９０９と、出力装置９１１と、ストレージ装置９１３と、ドライブ９１５と、接続ポート９１７と、通信装置９１９とを備える。
【００５１】
ＣＰＵ９０１は、中心的な処理装置及び制御装置として機能し、ＲＯＭ９０３、ＲＡＭ９０５、ストレージ装置９１３、又はリムーバブル記録媒体９２１に記録された各種プログラムに従って、制御装置４０内の動作全般又はその一部を制御する。ＲＯＭ９０３は、ＣＰＵ９０１が使用するプログラムや演算パラメータ等を記憶する。ＲＡＭ９０５は、ＣＰＵ９０１が使用するプログラムや、プログラムの実行において適宜変化するパラメータ等を一次記憶する。これらはＣＰＵバス等の内部バスにより構成されるバス９０７により相互に接続されている。
【００５２】
バス９０７は、ブリッジを介して、ＰＣＩ（Ｐｅｒｉｐｈｅｒａｌ  Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ  Ｉｎｔｅｒｃｏｎｎｅｃｔ／Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ）バスなどの外部バスに接続されている。
【００５３】
入力装置９０９は、例えば、マウス、キーボード、タッチパネル、ボタン、スイッチなどユーザが操作する操作手段である。また、入力装置９０９は、例えば、赤外線やその他の電波を利用したリモートコントロール手段（いわゆる、リモコン）であってもよいし、制御装置４０の操作に対応したＰＤＡ等の外部接続機器９２３であってもよい。入力装置９０９は、例えば、上記の操作手段を用いてユーザにより入力された情報に基づいて入力信号を生成し、ＣＰＵ９０１に出力する入力制御回路などから構成されている。ユーザは、この入力装置９０９を操作することにより、制御装置４０に対して処理動作を指示することができる。
【００５４】
出力装置９１１は、取得した情報をユーザに対して視覚的又は聴覚的に通知することが可能な装置で構成される。このような装置として、ＣＲＴディスプレイ装置、液晶ディスプレイ装置、ＥＬディスプレイ装置及びランプなどの表示装置や、スピーカ及びヘッドホンなどの音声出力装置や、プリンタ装置などがある。出力装置９１１は、例えば、制御装置４０が行った各種処理により得られた結果を出力する。具体的には、表示装置は、制御装置４０が行った各種処理により得られた結果を、テキスト又はイメージで表示する。他方、音声出力装置は、再生された音声データや音響データ等からなるオーディオ信号をアナログ信号に変換して出力する。
【００５５】
ストレージ装置９１３は、制御装置４０の記憶部の一例として構成されたデータ格納用の装置である。ストレージ装置９１３は、例えば、ＨＤＤ（Ｈａｒｄ  Ｄｉｓｋ  Ｄｒｉｖｅ）等の磁気記憶部デバイス、半導体記憶デバイス、光記憶デバイス、又は光磁気記憶デバイス等により構成される。このストレージ装置９１３は、ＣＰＵ９０１が実行するプログラムや各種データ、及び外部から取得した各種のデータなどを格納する。
【００５６】
ドライブ９１５は、記録媒体用リーダライタであり、制御装置４０に内蔵、あるいは外付けされる。ドライブ９１５は、装着されている磁気ディスク、光ディスク、光磁気ディスク、又は半導体メモリ等のリムーバブル記録媒体９２１に記録されている情報を読み出して、ＲＡＭ９０５に出力する。また、ドライブ９１５は、装着されている磁気ディスク、光ディスク、光磁気ディスク、又は半導体メモリ等のリムーバブル記録媒体９２１に記録を書き込むことも可能である。リムーバブル記録媒体９２１は、例えば、ＣＤメディア、ＤＶＤメディア、Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標）メディア等である。また、リムーバブル記録媒体９２１は、コンパクトフラッシュ（登録商標）（ＣｏｍｐａｃｔＦｌａｓｈ：ＣＦ）、フラッシュメモリ、又は、ＳＤメモリカード（Ｓｅｃｕｒｅ  Ｄｉｇｉｔａｌ  ｍｅｍｏｒｙ  ｃａｒｄ）等であってもよい。
【００５７】
接続ポート９１７は、機器を制御装置４０に直接接続するためのポートである。接続ポート９１７の一例として、ＵＳＢ（Ｕｎｉｖｅｒｓａｌ  Ｓｅｒｉａｌ  Ｂｕｓ）ポート、ＨＤＭＩ（登録商標）（Ｈｉｇｈ−Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ  Ｍｕｌｔｉｍｅｄｉａ  Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ）ポート等がある。この接続ポート９１７に外部接続機器９２３を接続することで、制御装置４０は、外部接続機器９２３から直接各種のデータを取得したり、外部接続機器９２３に各種のデータを提供したりする。
【００５８】
通信装置９１９は、例えば、通信網９２５に接続するための通信デバイス等で構成された通信インターフェースである。通信装置９１９は、例えば、有線もしくは無線ＬＡＮ（Ｌｏｃａｌ  Ａｒｅａ  Ｎｅｔｗｏｒｋ）、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）用の通信カード等である。また、通信装置９１９は、光通信用のルータ、ＡＤＳＬ（Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｓｕｂｓｃｒｉｂｅｒ  Ｌｉｎｅ）用のルータ、又は、各種通信用のモデム等であってもよい。この通信装置９１９は、例えば、インターネットや他の通信機器との間で、例えばＴＣＰ／ＩＰ等の所定のプロトコルに則して信号等を送受信することができる。また、通信装置９１９に接続される通信網９２５は、有線又は無線によって接続されたネットワーク等により構成され、例えば、インターネット、家庭内ＬＡＮ、社内ＬＡＮ、赤外線通信又は衛星通信等であってもよい。
【００５９】
以上、本発明の実施形態に係る制御装置４０の機能を実現可能なハードウェア構成の一例を示した。上記の各構成要素は、汎用的な部材を用いて構成されていてもよいし、各構成要素の機能に特化したハードウェアにより構成されていてもよい。従って、本実施形態を実施する時々の技術レベルに応じて、適宜、利用するハードウェア構成を変更することが可能である。
【００６０】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【符号の説明】
【００６１】
１    水素ガス供給装置
１０    水素ガス貯蔵部
２０    水素ガス供給機構
３０    水素ガス供給部
４０    制御装置
５０    水素ガス供給量特定部
６０    水素ガス供給部位特定部
４０１    供給制御部
４０３    表示部
４０５    記憶部
【図１】
2018015438.tif 000003
【図２】
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【図３】
2018015438.tif 000005
【図４】
2018015438.tif 000006