(57)【要約】【課題】ジェルネイルの爪に対する密着性、耐久性を損なうことなく、ジェルネイルを除去しやすくする。【解決手段】ジェル状の人工爪組成物を爪に塗布した後光を照射してこれを硬化させ人工爪を作製するにあたり、当該人工爪組成物の塗布に先んじて爪に塗布する下地剤であって、溶剤及び一種類以上のアクリル樹脂系共重合体を配合した下地剤を構成した。【選択図】図５
2018048085.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ジェル状の人工爪組成物を爪に塗布した後光を照射してこれを硬化させ人工爪を作製するにあたり、当該人工爪組成物の塗布に先んじて爪に塗布する下地剤であって、
溶剤及び一種類以上のアクリル樹脂系共重合体を配合した下地剤。
但し、前記アクリル樹脂系重合体は、アクリレーツと、下記の何れかの単量体との共重合体である：
エチレン性不飽和カルボン酸（イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸）、ヒドロキシ基若しくはグリシジル基含有エチレン性単量体（ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールモノアクリレート、ポリエチレングリコールモノメタクリレート）、エチレン性アミド（アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ−ダイアセトンアクリルアミド）、エチレン性アミン若しくはその塩（アミノエチルアクリレート、アミノエチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ, Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ, Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート、Ｎ, Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ, Ｎ, Ｎ−トリメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ, Ｎ, Ｎ−トリメチルアミノエチルメタクリレート）、芳香族モノ若しくはジビニル化合物（スチレン、α−メチルスチレン、クロロスチレン、アルキルスチレン、ジビニルベンゼン）、アクリル酸エステル若しくはメタクリル酸エステル（メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ターシャリーブチルアクリレート、ターシャリーブチルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート）、シアン化ビニル化合物（アクリロニトリル、メタクリロニトリル）、ビニルエステル（酢酸ビニル）、ハロゲン化ビニル（塩化ビニル、塩化ビニリデン）、フッ素系単量体（トリフルオロエチルメタクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルメタクリレート、２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロブチルメタクリレート、パーフルオロオクチルメタクリレート、パーフルオロオクチルアクリレート）、または、シリコーンマクロモノマー
【請求項２】
マニキュア液の爪への塗布に先んじて爪に塗布する下地剤であって、
溶剤及び一種類以上のアクリル樹脂系共重合体を配合した下地剤。
但し、前記アクリル樹脂系重合体は、アクリレーツと、下記の何れかの単量体との共重合体である：
エチレン性不飽和カルボン酸（イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸）、ヒドロキシ基若しくはグリシジル基含有エチレン性単量体（ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールモノアクリレート、ポリエチレングリコールモノメタクリレート）、エチレン性アミド（アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ−ダイアセトンアクリルアミド）、エチレン性アミン若しくはその塩（アミノエチルアクリレート、アミノエチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ, Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ, Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート、Ｎ, Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ, Ｎ, Ｎ−トリメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ, Ｎ, Ｎ−トリメチルアミノエチルメタクリレート）、芳香族モノ若しくはジビニル化合物（スチレン、α−メチルスチレン、クロロスチレン、アルキルスチレン、ジビニルベンゼン）、アクリル酸エステル若しくはメタクリル酸エステル（メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ターシャリーブチルアクリレート、ターシャリーブチルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート）、シアン化ビニル化合物（アクリロニトリル、メタクリロニトリル）、ビニルエステル（酢酸ビニル）、ハロゲン化ビニル（塩化ビニル、塩化ビニリデン）、フッ素系単量体（トリフルオロエチルメタクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルメタクリレート、２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロブチルメタクリレート、パーフルオロオクチルメタクリレート、パーフルオロオクチルアクリレート）、または、シリコーンマクロモノマー
【請求項３】
前記アクリル樹脂系共重合体として、（アクリレーツ／メタクリル酸ジメチルアミノエチル）コポリマー、及び（スチレン／アクリレーツ）コポリマーを配合した請求項１または２記載の下地剤。
【請求項４】
（アクリレーツ／メタクリル酸ジメチルアミノエチル）コポリマーを１２〜２４．３３重量％含有し、（スチレン／アクリレーツ）コポリマーアンモニウムを３．６〜１２．１４４重量％含有する請求項３記載の下地剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、いわゆるジェルネイルやマニキュアの施術に際して予め爪に塗布する下地剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
合成樹脂及び光重合開始剤を含む流動性のあるジェル状の人工爪組成物を爪に塗布した後、紫外線や青色ＬＥＤ光等を照射して硬化させることで人工爪を作製するジェルネイルが公知である（例えば、下記特許文献を参照）。
【０００３】
ジェルネイルの短所として、爪から除去しにくい点が挙げられる。従来、ジェルネイル（ソフトジェル、ソークオフジェル）を除去するためには、まず、ジェルネイルの表面を粗目のファイル（爪用やすり）で擦って傷を付け、リムーバー（除去液）を滲み込みやすくさせる。次に、アセトンに代表される有機溶剤系のリムーバーに浸したコットンをジェルネイルの上に載せ、これをアルミホイル等で巻いて５分から２０分程度放置し、リムーバーによりジェルネイルを膨潤させる。しかる後、膨潤したジェルネイルを、ウッドスティックやメタルプッシャー（金属製のへら）等を使用して爪から剥がし、または削り落とすという手順をとることが一般的であった。
【０００４】
このようなジェルネイルの除去作業は煩瑣であり、時間を消費する。しかも、ジェルネイルを爪から機械的に除去するときに、ジェルネイルだけでなく爪をも削ってしまい、爪が損傷し、または爪が薄くなって強度が落ちるという問題を招くことがあった。
【０００５】
また、爪に塗布する化粧として、ニトロセルロース及び溶剤（例えば、トルエン、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、エタノール等。この他に樹脂類や可塑剤（クエン酸エステル系、カンフルなど）を少量含むことがある）を主たる成分とするマニキュア液が知られている。マニキュアを爪から除去する際に使用する除光液には、多量のアセトンが含まれており、人体にとって有害である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００９−１２６８３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、ジェルネイルの爪に対する密着性、耐久性を損なうことなく、ジェルネイルを除去しやすくすること、または、ジェルネイル若しくはマニキュアを除去するために使用するアセトンの量を極力減らすことを所期の目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述の課題を解決するべく、本発明では、ジェル状の人工爪組成物を爪に塗布した後光を照射してこれを硬化させ人工爪を作製するにあたり、当該人工爪組成物の塗布に先んじて爪に塗布する下地剤であって、溶剤及び一種類以上のアクリル樹脂系共重合体を配合した下地剤を構成した。但し、前記アクリル樹脂系共重合体は、アクリレーツと、下記の何れかの単量体との共重合体である：
エチレン性不飽和カルボン酸（イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸）、ヒドロキシ基若しくはグリシジル基含有エチレン性単量体（ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールモノアクリレート、ポリエチレングリコールモノメタクリレート）、エチレン性アミド（アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ−ダイアセトンアクリルアミド）、エチレン性アミン若しくはその塩（アミノエチルアクリレート、アミノエチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ, Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ, Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート、Ｎ, Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ, Ｎ, Ｎ−トリメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ, Ｎ, Ｎ−トリメチルアミノエチルメタクリレート）、芳香族モノ若しくはジビニル化合物（スチレン、α−メチルスチレン、クロロスチレン、アルキルスチレン、ジビニルベンゼン）、アクリル酸エステル若しくはメタクリル酸エステル（メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ターシャリーブチルアクリレート、ターシャリーブチルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート）、シアン化ビニル化合物（アクリロニトリル、メタクリロニトリル）、ビニルエステル（酢酸ビニル）、ハロゲン化ビニル（塩化ビニル、塩化ビニリデン）、フッ素系単量体（トリフルオロエチルメタクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルメタクリレート、２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロブチルメタクリレート、パーフルオロオクチルメタクリレート、パーフルオロオクチルアクリレート）、または、シリコーンマクロモノマー
上記の下地剤は、マニキュアにも適用することができる。その場合には、マニキュア液の爪への塗布に先んじて本下地剤を爪に塗布することとなる。
【０００９】
配合するアクリル樹脂系共重合体の例として、（アクリレーツ／メタクリル酸ジメチルアミノエチル）コポリマー、及び（スチレン／アクリレーツ）コポリマーを挙げることができる。この場合においては、（アクリレーツ／メタクリル酸ジメチルアミノエチル）コポリマーを１２〜２４．３３重量％含有し、（スチレン／アクリレーツ）コポリマーを３．６〜１２．１４４重量％含有することが好ましい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、ジェルネイルの爪に対する密着性、耐久性を損なうことなく、ジェルネイルを除去しやすくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の一実施形態の下地剤を使用したジェルネイルの施術の手順を説明する図。
【図２】同実施形態の下地剤を使用したジェルネイルの施術の手順を説明する図。
【図３】同実施形態の下地剤を使用したジェルネイルの除去の手順を説明する図。
【図４】同実施形態の下地剤を使用したジェルネイルの除去の手順を説明する図。
【図５】同実施形態の下地剤の配合例を示す表。
【図６】同実施形態の下地剤の実施例１及び比較例１を示す表。
【図７】同実施形態の下地剤の実施例２を示す表。
【図８】同実施形態の下地剤の比較例２を示す表。
【図９】同実施形態の下地剤の実施例３を示す表。
【図１０】同実施形態の下地剤の実施例４を示す表。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明の一実施形態を、図面を参照して説明する。本実施形態の下地剤１は、ジェルネイル３の施術に際して予め爪２に塗布しておくことで、ジェルネイル３の除去を簡便ならしめるものである。本下地剤１は、溶剤及び一種類以上のアクリル樹脂系エマルションを配合してなる。
【００１３】
本実施形態の下地剤１は、溶剤として水及び有機溶剤を含んでいる。有機溶剤とは、次のグループのうちの一つ、またはそれらが組み合わされた混合物である：アルコール、ハロゲン系炭化水素、エステル、エステル／エーテルアルコール、ケトン、脂肪族／芳香族炭化水素
有機溶剤は、典型的にはエタノールであるが、エタノール以外の有機溶剤、例えばベンジルアルコール、２−プロパノールといったアルコールや、酢酸エチル、酢酸ブチル等を用いても構わない。
【００１４】
アクリル樹脂系エマルションは、アクリレーツと、後述する親水性単量体または疎水性単量体との共重合体のエマルションである。アクリレーツとは、アクリル酸、メタクリル酸またはそれらのアルキルエステルの中から選ばれる一種類以上の単量体であって、そのアルキル基の炭素数が４以下のものをいう。
【００１５】
アクリレーツとともに共重合体を構成する親水性単量体の具体例としては、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸等のエチレン性不飽和カルボン酸；ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールモノアクリレート、ポリエチレングリコールモノメタクリレート等のヒドロキシ基若しくはグリシジル基含有エチレン性単量体；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ−ダイアセトンアクリルアミド等のエチレン性アミド；アミノエチルアクリレート、アミノエチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ, Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ, Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート、Ｎ, Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ, Ｎ, Ｎ−トリメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ, Ｎ, Ｎ−トリメチルアミノエチルメタクリレート等のエチレン性アミン若しくはその塩を挙げることができる。
【００１６】
アクリレーツとともに共重合体を構成する疎水性単量体の具体例としては、スチレン、α−メチルスチレン、クロロスチレン、アルキルスチレン、ジビニルベンゼン等の芳香族モノ若しくはジビニル化合物；メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ターシャリーブチルアクリレート、ターシャリーブチルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート等のアクリル酸エステル若しくはメタクリル酸エステル；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニル化合物；酢酸ビニル等のビニルエステル；塩化ビニル、塩化ビニリデン等のハロゲン化ビニル；トリフルオロエチルメタクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルメタクリレート、２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロブチルメタクリレート、パーフルオロオクチルメタクリレート、パーフルオロオクチルアクリレート等のフッ素系単量体；シリコーンマクロモノマーを挙げることができる。
【００１７】
本実施形態の下地剤１は、有機溶剤であるエタノール、アクリレーツと上記の何れかの親水性単量体との共重合体のエマルション、並びに、アクリレーツと上記の何れかの疎水性単量体との共重合体のエマルションを構成要素する。なお、これら以外の成分として、水、防腐（または、防黴、殺菌）剤、消泡剤等を含むことがある。防腐剤の具体例としては、カプリリルグリコールやフェノキシエタノール、メチルパラベン、プロピルパラベン、デヒドロ酢酸ナトリウム等を挙げることができる。消泡剤の具体例としては、ＫＭ−７２（シメチコン）等の食品工業用の（食品添加物である）エマルション型シリコーン消泡剤を挙げることができる。
【００１８】
ジェルネイル３の施術にあたっては、最初に、プレパレーション（下準備）を行う。プレパレーションでは、過去に人工爪を付けていた場合にはこれを取り除き、爪の形を整え、メタルプッシャーを使用してキューティクル（爪上皮）を押し上げ、かつネイルプレート（爪甲）２上に残留するルースキューティクル（爪上皮角質）をネイルプレート２から取り除く。そして、必要に応じて、ファイルを使用してネイルプレート２の表面を光沢を消す程度に軽くサンディング（研磨）し、ダストを除去する。また、必要に応じて、ネイルプレート２表面の油分及び水分を除去するためのプレプライマーをネイルプレート２の表面に塗布する。
【００１９】
しかる後、図１に示すように、ネイルプレート２の表面に、本実施形態の下地剤１を塗布する。但し、下地剤１を塗布する前に、ネイルプレート２とジェルネイル３との密着性を高めるためのプライマー（または、ボンド）を塗布することがあり得る。下地剤１の塗布は、一度だけ行ってもよいし、二度以上行ってもよい。下地剤１を二度以上塗布する場合には、一度下地剤１を塗ってから再度下地剤１を塗るまでの間に、下地剤１を乾燥させるための数分程度の待機時間を設けることが好ましい。
【００２０】
ネイルプレート２の表面に塗布した下地剤１が乾燥したならば、通常のジェルネイル３の施術を行う。即ち、図２に示すように、ジェル状の人工爪組成物３を爪２に塗布し、紫外線や青色ＬＥＤ光等を照射してこれを硬化させて人工爪３を作製する。以上の結果、ネイルプレート２とジェルネイル３との間に、下地剤１が含有するアクリル樹脂系共重合体、即ちアクリル樹脂系エマルションの固形分を主体とする下地層（中間層、皮膜）が形成されることとなる。
【００２１】
このようにして作製したジェルネイル３を爪２から除去する際には、図３に示すように有機溶剤である既存のジェルネイル用リムーバーに浸したコットン４をジェルネイル３の上に載せ、これを図４に示すようにアルミホイル５等で巻いて、５分から２０分程度の時間放置する。このとき、従来のジェルネイル３の除去処理のように、予めジェルネイル３の表面をファイルで擦ってジェルネイル３に傷を付けておく必要はない。ジェルネイル３の除去のために使用するリムーバーは、アセトンでもよく、アセトンとエタノール等のアルコールとの混合液でもよく、アセトンを含まずアルコールや酢酸エチル等を含むものであってもよい。
【００２２】
コットン４に含ませたリムーバーは、ジェルネイル３を膨潤させるだけでなく、ネイルプレート２とジェルネイル３との間に存在する下地層にも含浸する。リムーバーが含浸した下地層は、リムーバーに分散し、ジェルネイル３をネイルプレート２から浮き上がらせる。従って、極めて容易にジェルネイル３をネイルプレート２から剥離させることが可能となる。コットン４及びアルミホイル５等を指から取り外す過程で、ジェルネイル３がネイルプレート２からぽろりと落ちてしまうことすらある。ネイルプレート２の表面にジェルネイル３の一部が残存したとしても、これを軽い力でこそげ落とすことができる。従来のジェルネイル３の除去処理のように、力を込めてジェルネイル３を爪２から剥がし、または削る必要はない。
【００２３】
以降、本実施形態の下地剤１の実施例を示す。本実施例で用いている下地剤１は、溶剤である水及びエタノールと、アクリレーツと親水性単量体との共重合体のエマルションと、アクリレーツと疎水性単量体との共重合体のエマルションとの混合物である。
【００２４】
アクリレーツと親水性単量体との共重合体のエマルションとしては、固形分が３０重量％の（アクリレーツ／メタクリル酸ジメチルアミノエチル）コポリマーのエマルションを採用している。これは、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、換言すればジメチルアミノエチルメタクリレートと、アクリル酸、メタクリル酸またはこれらのエステルの中から選ばれる一種以上の単量体とからなる共重合体である。本実施例の下地剤１は、（アクリレーツ／メタクリル酸ジメチルアミノエチル）コポリマーのエマルションを、最小で４０重量％、最大で８１．１重量％含む。このエマルションは固形分が３０重量％であるので、本実施例の下地剤１は（アクリレーツ／メタクリル酸ジメチルアミノエチル）コポリマーを最小で１２重量％、最大で２４．３３重量％含むことになる。
【００２５】
また、アクリレーツと疎水性単量体との共重合体のエマルションとしては、固形分が４８重量％の（スチレン／アクリレーツ）コポリマーのエマルションを採用している。これは、スチレンと、アクリル酸、メタクリル酸またはこれらのエステルの中から選ばれる一種以上の単量体とからなる共重合体である。本実施例の下地剤１は、（スチレン／アクリレーツ）コポリマーアンモニウムのエマルションを、最小で７．５重量％、最大で２５．３重量％含む。このエマルションは固形分が４８重量％であるので、本実施例の下地剤１は（スチレン／アクリレーツ）コポリマーアンモニウムを最小で３．６重量％、最大で１２．１４４重量％含むことになる。
【００２６】
図５に、下地剤１の幾つかの配合例を示している。何れのものも、ジェルネイル３の爪２に対する密着性、耐久性を損なわず、それでいてジェルネイル３の除去が容易となるような本発明の下地剤としての作用効果を奏し得る。
【００２７】
とは言え、配合例１及び配合例２のものは粘性が高く、ネイルプレート２に塗布した後これが乾燥するのに時間がかかるきらいがある。一方で、配合例３及び配合例４のものは、溶剤として有機溶剤とともに水を含み、アクリルエマルションの配合量が比較的少なく、粘性が低く、ネイルプレート２に塗布した後の乾燥がより早くなる。なお、配合例４のものは、ネイルプレート２に二度塗りした場合に、その爪の表面に白っぽい下地層を作ってしまうことがある。このため、いわゆるフレンチネイルのように、ネイルベッド（爪床）及びネイルプレート２本来の色を生かすようなデザインのジェルネイル３の施術には必ずしも向かない。図５に示したものの中では、配合例３が最も好適であると考えられる。下記実施例１ないし３では、配合例３に沿って配合した下地剤１を使用している。
【００２８】
また、図５に示している例では、有機溶剤であるエタノールの配合量をアクリル樹脂系エマルションの配合量によらず一定としているが、アクリル樹脂系エマルションの配合量が多いほどエタノールの量を増し、アクリル樹脂系エマルションの配合量が少ないほどエタノールの量を減らしても構わない。
【００２９】
＜実施例１及び比較例１＞図６に示す実施例１及び比較例１では、左手指の爪２にはジェルネイル３の施術前に予め本実施例の下地剤１を塗布しておいた一方で、右手指の爪２には本実施例の下地剤１を塗布せずにジェルネイル３の施術を行っている。ジェルネイル３の施術手順は、ベースジェルの塗布及び光の照射による硬化、カラージェルの塗布及び光の照射による硬化、ノンワイプトップジェルの塗布及び光の照射による硬化である。これらベースジェル、カラージェル、トップジェルは何れも、市販のものである。左手指については、プレパレーション後、ベースジェルの塗布前に、ネイルプレート２に本実施例の下地剤１を二度塗りしている。具体的には、ネイルプレート２に一旦下地剤１を塗布した後、数分間待機してこれを自然乾燥させ、その後再び下地剤１を塗布して数分間待機し、下地剤１を自然乾燥させた。
【００３０】
作製したジェルネイル３の除去処理においては、左手指、右手指ともに、市販のアセトンリムーバーをしみこませたコットン４をジェルネイル３の上に置いてジェルネイル３を覆い、その指及びコットン４をアルミホイル５で巻いてコットン４をジェルネイル３上に保定し、所定時間放置した。なお、従来のジェルネイル３の除去処理のように、コットン４を置く前にジェルネイル３の表面をファイルで擦ってジェルネイル３に傷を付けることをしていない。結果、実施例１の左手指については、ウッドスティックを使用し、軽い力でジェルネイル３を爪２から剥離させて除去することができた。しかしながら、比較例１の右手指については、ウッドスティックを使用してもジェルネイル３を爪２から除去することができなかった。
【００３１】
このように、本実施形態の下地剤１は、ジェルネイル３の爪２からの除去を容易にする。また、ジェルネイル３の除去作業から、予めジェルネイル３の表面に傷を付ける工程を省くことができる。これらは何れも、ジェルネイル３を除去するための施術に費やす時間の短縮に貢献する。
【００３２】
＜実施例２及び比較例２＞図７に示す実施例２では、プレパレーション後、ネイルプレート２にプライマーを一度塗布してこれを自然乾燥させ（約三十秒待機）、しかる後本実施例の下地剤１を実施例１と同様に二度塗りしてから、ジェルネイル３の施術を行っている。実施例１と実施例２との相違点は、下地剤１の塗布前に既存のジェルネイル用プライマーを塗布していること、及び使用しているベースジェル及びカラージェルが異なることである。また、図８に示す比較例２では、プレパレーション後、ネイルプレート２にプライマーを一度塗布してこれを自然乾燥させ（約三十秒待機）、本実施例の下地剤１を塗布せずにジェルネイル３の施術を行っている。実施例２と比較例２とは、プライマーの塗布、及び使用しているベースジェル及びカラージェルの点で共通している。
【００３３】
その上で、ジェルネイル３を作製してから三週間が経過した後に、そのジェルネイル３を除去処理した。実施例２において、ジェルネイル３の作製から除去までの三週間の間、右手中指のジェルネイル３の先端が若干欠けた他は、ジェルネイル３の損傷や爪２からの剥離は生じなかった。右手中指のジェルネイル３の先端の欠けは、本実施例の下地剤１の性能に起因するものではない。
【００３４】
ジェルネイル３の除去処理の内容は、実施例１及び比較例１と同様である。結果、実施例２においては、ウッドスティックを使用し、軽い力でジェルネイル３を爪２から剥離させて除去することができた。だが、比較例２においては、ウッドスティックを使用してもジェルネイル３を爪２から除去することができなかった。
【００３５】
このように、本実施形態の下地剤１は、ジェルネイル３の爪２からの除去を容易にするだけでなく、ジェルネイル３の耐久性にも悪影響を与えない。ジェルネイル３の爪２からの浮きを防止するためには、プレパレーションにてネイルプレート２の表面をサンディングした後、下地剤１をネイルプレート２の縁までしっかりと塗っておくことが望ましい。
【００３６】
＜実施例３＞図９に示す実施例３では、プレパレーション後、ネイルプレート２にプライマー及び本実施例の下地剤１をそれぞれ二度塗りしてから、ジェルネイル３の施術を行った。プライマーを二度塗りする際には、ネイルプレート２に一旦プライマーを塗布した後、数分間待機してこれを自然乾燥させ、その後再びプライマーを塗布して数分間待機し、プライマーを自然乾燥させた。同様に、下地剤１を二度塗りする際にも、ネイルプレート２に一旦下地剤１を塗布した後、数分間待機してこれを自然乾燥させ、その後再び下地剤１を塗布して数分間待機し、下地剤１を自然乾燥させた。実施例３で使用しているベースジェル、カラージェル及びトップジェルは、いわゆるハードジェルである。
【００３７】
作製したジェルネイル３の除去処理においては、アセトンを５０重量％含有する市販のリムーバーをしみこませたコットン４をジェルネイル３の上に置き、その指及びコットン４をアルミホイル５で巻いてコットン４をジェルネイル３上に保定し、１５分放置した。なお、従来のジェルネイル３の除去処理のように、コットン４を置く前にジェルネイル３の表面をファイルで擦ってジェルネイル３に傷を付けることをしていない。結果、左手の小指、薬指及び中指については、ウッドスティックを使用した掻き取り作業を行わずとも、膨潤したジェルネイル３が自然に捲れ上がるように、アルミホイル５及びコットン４とともにジェルネイル３をスムーズに爪２から脱落させることができた。また、それ以外の指についても、ウッドスティックを使用して爪２の根元側からジェルネイル３の膜を起こすような態様で、ジェルネイル３を爪２から剥離させて除去することができた。
【００３８】
このように、本実施形態の下地剤１は、アセトン含有量の少ないリムーバーによってジェルネイル３を爪２から除去することを容易にする。なお、追試により、本下地剤１を使用した場合、リムーバーのアセトン含有量を２０重量％程度まで減少させたとしてもジェルネイル３を極めて簡単に除去できること、さらには、アセトンを含有しないノンアセトンリムーバーであっても、ウッドスティック等の使用によりジェルネイル３の除去が可能であることが判明している。
【００３９】
本実施形態の下地剤１は、ジェルネイル３の爪２に対する密着性、耐久性を損なうことなく、ジェルネイル３を除去しやすくする。力を込めてジェルネイル３を爪２から掻き取る必要がなくなるため、爪２が削られて損傷し、または爪２が薄くなって強度が落ちるという問題を招かずに済む。本実施形態の下地剤１は、ネイルサロンで活動するプロフェッショナルのネイラーにとっても、自宅でジェルネイル３を楽しむセルフネイラーにとっても、優れて有用である。
【００４０】
ジェルネイル３の作製に際して下地剤１を塗布する工程は必要となるが、ジェルネイル３の除去処理においてジェルネイル３に傷を付けるためのサンディングを省略することができ、かつジェルネイル３を容易に爪２から脱離させることが可能となるため、全体として施術に要する時間を短くすることができる。このことは、ネイルサロンにおける労働時間の短縮及び店舗経営の合理化に資する。
【００４１】
加えて、ジェルネイル３をサンディングすることに伴うジェルネイル粉の発生を回避できることから、人体への影響が改善し、清掃の手間も省くことができる。
【００４２】
本実施形態の下地剤は、ジェルネイルのみならず、マニキュアにも適用することが可能である。本下地剤をマニキュアに適用するにあたっては、マニキュア液の爪への塗布に先んじて、本下地剤をネイルプレートの表面に塗布する。下地剤の塗布は、一度だけ行ってもよいし、二度以上行ってもよい。下地剤を二度以上塗布する場合には、一度下地剤を塗ってから再度下地剤を塗るまでの間に、下地剤を乾燥させるための数分程度の待機時間を設けることが好ましい。
【００４３】
ネイルプレートの表面に塗布した下地剤が乾燥したならば、通常のマニキュアの施術の通り、マニキュア液を爪に塗布してこれを乾燥させる。以上の結果、ネイルプレートとマニキュアとの間に、下地剤が含有するアクリル樹脂系共重合体、即ちアクリル樹脂系エマルションの固形分を主体とする下地層が形成されることとなる。
【００４４】
このようにして作製したマニキュアを爪から除去する際には、例えばアセトンを含まないエタノール（消毒用アルコール）に浸したコットンをマニキュアの上に載せ、アルミホイル等で巻いて、５分から２０分程度の時間放置する。
【００４５】
コットンに含ませたエタノールは、マニキュアを膨潤させるだけでなく、ネイルプレートとマニキュアとの間に存在する下地層にも含浸する。エタノールが含浸した下地層は、エタノールに分散し、マニキュアをネイルプレートから浮き上がらせる。従って、極めて容易にマニキュアをネイルプレートから剥離させることが可能となる。コットン及びアルミホイル等を指から取り外す過程で、マニキュアがネイルプレートからぽろりと落ちてしまうことすらある。ネイルプレートの表面にマニキュアの一部が残存したとしても、これを軽い力でこそげ落とすことができる。
【００４６】
＜実施例４＞図１０に示す実施例４では、マニキュアの施術前に予め本実施例の下地剤を爪に塗布しておいた。マニキュアの施術では、カラーポリッシュの塗布及び乾燥を二度に亘って行い、その後上からトップコートを塗布して乾燥させた。カラーポリッシュ及びトップコートは何れも市販のものである。実施例４では、カラーポリッシュの塗布前に、ネイルプレートに本実施例の下地剤を二度塗りしている。具体的には、ネイルプレートに一旦下地剤を塗布した後、数分間待機してこれを自然乾燥させ、その後再び下地剤を塗布して数分間待機し、下地剤を自然乾燥させた。
【００４７】
作製したマニキュアの除去処理においては、アセトンを含まない市販の消毒用アルコールをしみこませたコットンをマニキュアの上に置いてマニキュアを覆い、その指及びコットンをアルミホイルで巻いてコットンをマニキュア上に保定し、所定時間（具体的には、７分間）放置した。結果、図１０に示しているように、マニキュアをコットンとともに爪から簡単に剥離させて除去することができた。
【００４８】
このように、本実施形態の下地剤は、マニキュアの爪からの除去を容易にする。しかも、マニキュアの除去のために、多量のアセトンを含む除光液を使用せずに済む。
【００４９】
なお、本発明は以上に詳述した実施形態に限られるものではない。例えば、上掲の実施例１ないし３では、人工爪の作製に先んじて、本発明に係る下地剤を単独で爪に塗布していたが、本発明に係る下地剤と既存のベースジェルとを混ぜ合わせたものをプレパレーション後に爪２に塗布し、これに光を照射して下地剤とベースジェルとの混合物を乾燥及び硬化させ、しかる後カラージェルやトップジェル等をその上に塗り重ねるようにすることも考えられる。このような施術によっても、ジェルネイルの爪に対する密着性、耐久性を損なうことなく、ジェルネイルを除去しやすくできるという本発明の効果を得られることが確認されている。しかも、下地剤の塗布及び乾燥の工程と、ベースジェルの塗布及び硬化の工程とを一つにまとめることができるため、ジェルネイル（特に、ソフトジェル）を用いた人工爪の作製に要する施術時間を短縮することが可能である。
【００５０】
その他、各部の具体的構成は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形が可能である。
【符号の説明】
【００５１】
１…下地剤
２…爪（ネイルプレート）
３…ジェルネイル
４…コットン
５…アルミホイル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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