(57)【要約】      （修正有）【課題】イオン源引き出し電極の電極間ギャップにおいて電気絶縁破壊（グリッチ）が発生するのを大幅に減少させることができる電極を提供する。【解決手段】引き出し電極（抑制電極、接地電極）の電極間のポンピングを改善してガス圧を減少させることによりグリッチ発生率を減少させる。そのために電極プレートに複数のブラインド通気孔２２０を有する片面ブラインド通気性インサート２００を取り付ける。そして、通気孔は電極プレートの少なくとも一方の側から他方の側への直接見通し線が存在しない、つまり、イオン、Ｘ線、二次電子等が通過できないようにすることにより、グリッチの発生率を減少させる。抽出された正イオンはウェル２２２に衝突して二次粒子が発生するが、分析サイド側への見通し線は存在しない。分析サイドから入射するイオン又はＸ線によって通気チャネル２２４に生じた二次電子２３０に対しては開口２２８への直接見通し線を持つ。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面及び後面を有するプレートを備える通気性電極であって、
前記プレートには、付加的に、通気部分と及び少なくとも１個の開口とを設け、
前記通気部分は、前記プレートの前記前面における複数個の孔と、及び前記プレートの前記後面における複数個の孔とを含み、前記前面における孔と前記後面における孔との間には、前記プレートの前方から前記プレートの後方に見て、又は前記プレートの後方から前記プレートの前方に見ての、少なくとも一方向における直接見通し線が存在しないよう構成されている、通気性電極。
【請求項２】
請求項１記載の通気性電極において、前記プレートはグラファイトから形成されている、通気性電極。
【請求項３】
請求項１記載の通気性電極において、前記通気部分は、前記プレートに着脱可能に連結されている、通気性電極。
【請求項４】
請求項１記載の通気性電極において、前記通気部分は、前記プレートに着脱可能に固着する少なくとも１個のブラインド通気性インサートを有する、通気性電極。
【請求項５】
請求項４記載の通気性電極において、前記少なくとも１個のブラインド通気性インサートはグラファイトから形成されている、通気性電極。
【請求項６】
請求項４記載の通気性電極において、前記前面における前記複数個の孔それぞれは、前記後面における前記複数個の孔のうち１つに対して角度付きチャネルによって接続されている、通気性電極。
【請求項７】
請求項６記載の通気性電極において、前記孔は、前記電極の本体内に延在するウェルとして構成され、また前記角度付きチャネルは、前記プレートの前面におけるウェルから前記プレートの後面におけるウェルに向かう、又は前記プレートの後面におけるウェルから前記プレートの前面におけるウェルに向かう、少なくとも一方向に見る場合に見通し線がない、通気性電極。
【請求項８】
請求項６記載の通気性電極において、前記孔は、前記電極の本体内に延在するウェルとして構成され、また前記角度付きチャネルは、前記プレートの前面におけるウェルから前記プレートの後面におけるウェルに向かう、及びその逆に向かう見通し線がない、通気性電極。
【請求項９】
請求項１記載の通気性電極において、前記前面における前記複数個の孔は、前記後面における前記複数個の孔に対してオフセットし、また前記通気部分には、付加的に、前記通気部分の本体に貫通する複数個の垂直チャンネルが設けられており、各垂直チャンネルは、前記プレートの前記前面における垂直ライン上の孔が前記後面における垂直ライン上の孔に相互接続され、前記プレートの前方から前記プレートの後方に見て、前記プレートの後方から前記プレートの前方に見ての、少なくとも一方向における見通し線が存在しないよう構成されている、通気性電極。
【請求項１０】
請求項９記載の通気性電極において、前記孔は、前記電極の本体内に延在するウェルとして構成されている、通気性電極。
【請求項１１】
請求項１記載の通気性電極において、前記通気性電極は、抑制電極である、通気性電極。
【請求項１２】
請求項１記載の通気性電極において、前記通気性電極は、接地電極である、通気性電極。
【請求項１３】
請求項１記載の通気性電極において、前記通気性電極は、引き出し電極である、通気性電極。
【請求項１４】
電極用のブラインド通気性インサートであって、
電極を担持するプレートにおける溝孔に整合するよう構成された本体を備え、
前記本体は、前記プレートの前記前面における複数個の孔と、及び前記プレートの前記後面における複数個の孔とを含み、前記前面における孔と前記後面における孔との間には、前記プレートの前方から前記プレートの後方に見て、又は前記プレートの後方から前記プレートの前方に見ての、少なくとも一方向における直接見通し線が存在しないよう構成されている、ブラインド通気性インサート。
【請求項１５】
請求項１４記載のブラインド通気性インサートにおいて、前記ブラインド通気性インサートはグラファイトから形成されている、ブラインド通気性インサート。
【請求項１６】
請求項１４記載のブラインド通気性インサートにおいて、前記前面における前記複数個の孔それぞれは、前記後面における前記複数個の孔のうち１つに対して角度付きチャネルによって接続されている、ブラインド通気性インサート。
【請求項１７】
請求項１６記載のブラインド通気性インサートにおいて、前記孔は、前記電極の本体内に延在するウェルとして構成され、また前記角度付きチャネルは、前記プレートの前面におけるウェルから前記プレートの後面におけるウェルに向かう、又は前記プレートの後面におけるウェルから前記プレートの前面におけるウェルに向かう、少なくとも一方向に見る場合に見通し線がない、ブラインド通気性インサート。
【請求項１８】
請求項１６記載のブラインド通気性インサートにおいて、前記孔は、前記電極の本体内に延在するウェルとして構成され、また前記角度付きチャネルは、前記プレートの前面におけるウェルから前記プレートの後面におけるウェルに向かう、及びその逆に向かう見通し線がない、ブラインド通気性インサート。
【請求項１９】
請求項１４記載のブラインド通気性インサートにおいて、前記前面における前記複数個の孔は、前記後面における前記複数個の孔に対してオフセットし、また前記通気部分には、付加的に、前記通気部分の本体に貫通する複数個の垂直チャンネルが設けられており、各垂直チャンネルは、前記プレートの前記前面における垂直ライン上の孔を前記後面における垂直ライン上の孔に相互接続され、前記プレートの前方から前記プレートの後方に見て、前記プレートの後方から前記プレートの前方に見ての、少なくとも一方向における見通し線が存在しないよう構成されている、ブラインド通気性インサート。
【請求項２０】
請求項１９記載のブラインド通気性インサートにおいて、前記孔は、前記電極の本体内に延在するウェルとして構成されている、ブラインド通気性インサート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポンピングを改善することによって、とくに、電極プレートにブラインド通気孔を追加することによって、加速器における高電圧グリッチ発生率を減少する電極プレートに関する。
【背景技術】
【０００２】
加速器システムにおいて、バイアス電極を使用してイオンをビームラインとして抽出する。加速器におけるバイアス電極は電気絶縁破壊（グリッチ）を受け易い。同様に、プラズマ処理ツールは、グリッチを受け易いプラズマ電極を利用することが知られている。グリッチ発生率は、電極の材料及び表面条件、電極ギャップにおけるガス圧、エネルギーイオン又は光子（すなわち、Ｘ線）の衝突で負電極に生ずる二次電子及びエネルギー光子、並びにエネルギーイオン又は光子（すなわち、Ｘ線）の衝突で正電極に生ずる二次電子及びエネルギー光子に関連する。
【０００３】
これまでは、開口電極プレートはＸ線を止めるタングステンで形成されることがよくあった。例えば、図１は、従来技術による抑制グリッドアセンブリ１０及び接地グリッド２０を示す。抑制グリッドアセンブリ１０は、中実ステンレスプレート１２を有し、このプレートに対してタングステンプレート１４及び1個又は複数個（図示の実施例では２個）のタングステン開口１６を備え付ける。接地グリッドアセンブリ２０は、中実ステンレスプレート２２を有し、このプレートに対して開口プレート２４を備え付ける。従来、タングステンは、漂遊ビーム並びに／又はエネルギーを持つ二次粒子及び光子の衝突を受けるグリッドアセンブリの部品として好ましいものである。
【０００４】
しかし、タングステン電極プレート１４及び開口１６は、イオン注入処理における金属汚染に関与する。さらに、タングステン部品をグラファイト部品に置換することは、抽出システムにおけるグリッチ発生率の大きな増加を引き起こす。このことは、抑制グリッドアセンブリ１４，１６のグラファイト部品を通過し、また接地グリッドアセンブリ２０（抑制プレートに対して正バイアスが加わる）における二次イオンを増加させるイオン源又はソースプレートからのＸ線に起因するものであると考えられる。抑制グリッドアセンブリ１０に対する接地イオン衝突によって生ずる二次Ｘ線は、抑制グリッドアセンブリ１０グラファイト部品も通過し、ソースグリッドにおいて二次イオンを生じ、これら二次イオンは抽出ギャップをわたって抑制グリッドアセンブリ１０に向けて加速されることもあり得る。当然のことながら、エネルギー光子（又はＸ線）を止めることは、光子エネルギー及び遮断材料の双方に左右される。例えば、３０ｋＶ抽出セットで生じたＸ線はタングステンによって容易に遮断されるが、グラファイト電極はほとんど通過する。他方、５ｋｅＶのＸ線は１０ｍｍのグラファイトによってほとんど遮断される。幾つかの用途に対して、グラファイト、導電性シリコン又は他の軽量導体のプロセス互換性は、タングステン又は他の重い金属に比べてＸ線遮断に乏しいという欠点を上回ることができる。電極形成に有用なより軽量なプロセス互換性導体の代表例としてグラファイトがこの用途に使用される。必要なのは、より軽量な導体を使用するとき、電極におけるグリッチ発生率の大幅な減少を得る方法である。
【０００５】
さらに、電極間のギャップにおけるガスはこれら電極のグリッチ発生率に関与する。したがって、チャンネルを有する通気性電極は、ポンピングを改善し、ガス圧を減少し、またグリッチ発生率を減少することができる。次に図２及び２Ａにつき説明すると、通気性タングステン抑制電極３０が市場で入手可能である。とくに、角度付き通気溝孔３４を有するプレート３２が、タングステン電極開孔３６を含めて形成されている。しかし、市販の通気性プレート３０の設計は、イオン又はＸ線によって発生する幾つかの二次電子を、通気チャネル３４内で衝突させて、抑制ギャップ６０又は抽出ギャップ５０のいずれかでドリフト及び加速させる。１つの正電極に対するこれら電子の衝突は、その後絶縁破壊に関与し、グリッチに至るおそれがある。より具体的には、Ｘ線又はエネルギー貫通粒子の衝突は、抑制プレート内へと加速されるイオンを発生し、このイオンは次にソース又は接地電極に衝突する電子を発生するおそれがある。この電子も電極のグリッチ発生率に関与する。
【０００６】
特許文献１（ゴールドバーグ氏らの米国特許第８，１５３，９９３号）は、イオン源用のフロントプレートであって、フロントプレートを表面側から裏面側まで勾配をなして貫通し、フロントに向かう方向から見たときイオン源への見通し線を塞ぐが依然として拡開ギャップを生ずる溝孔を有する、該フロントプレートを開示している。特許文献１は、フロントプレートに対して一定勾配で溝孔を形成する、又はスリットがフロントプレートに貫通するにつれて勾配が変化する、及び／若しくは例えば、ドッグレッグを形成するよう溝孔にねじれを付けることができると記載している。例えば、特許文献１の第２欄、第４７〜５０行、及び第５欄、第９〜１４行を参照されたい。しかし、特許文献１の溝孔は、プレートに拡開ギャップを与えるよう形成するが、プレートの一方の側から他方の側へのガス通気を減少することを特に意図している。むしろ特許文献１は、勾配付き溝孔の結果として、イオン及びガスがイオン源から溝孔を経て逃げる傾向が減少することを記載している。特許文献１の第２欄、第２０〜２１行、及び第４欄、第６５〜６７行（すなわち、「．．．スリット８０を通過するアークチャンバ１６からのイオンの損失およびガスの損失が最小化される」）を参照されたい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】米国特許第８，１５３，９９３号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
正のイオンビームの場合、必要なのは、通気性電極又はグリッド（これら２つの用語は本明細書において互換的に使用する）、例えば、通気とともに金属汚染を減少し、また通気チャネルでのエネルギー粒子衝突によって生ずるエネルギー粒子及び光子の接地方向への遮断を生ずる抑制グリッドである。さらに、必要なのは、通気チャネルで生じた二次粒子及び光子が抽出ギャップに達するのを阻止する指向性止め部を追加する通気性グリッドである。さらに必要となるのは、エネルギー粒子及び通気チャネルにおけるエネルギー粒子衝突によって生ずる二次粒子のための「２方向」の２本の見通し線を生ずる通気性グリッドである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
したがって、本発明の目的は、エネルギー粒子及びソースギャップからのイオン又はＸ線によって通気チャネル内で生じた二次粒子（すなわち、二次電子、荷電粒子、光子）のための指向性止め部を設ける通気性電極を得るにある。他の実施形態において、通気性電極は、エネルギー粒子及び接地ギャップからのイオン又はＸ線によって通気チャネル内で生じた二次粒子（すなわち、二次電子、荷電粒子、光子）がソースギャップに到達するのを阻止する指向性止め部を追加する通気性電極を設ける。本発明の特別な一実施形態において、抑制グリッド及び接地グリッドのうち少なくとも一方にブラインド通気性インサート経由のベンチレーションを追加し、この場合、通気孔は２方向止め部を有し、またしたがって、抑制グリッド又は接地グリッドにおける孔又は溝孔内に備え付けられる抑制グリッドから接地グリッドへの及びその逆へのいかなる直接見通し線を持たず、これにより周囲領域の真空レベルを改善する。他の実施形態において、通気性プレートは、グラファイトのような好適な導電性材料から作製することができ、タングステンをよりプロセス互換性がある材料に置き換えることができる。
【００１０】
本発明は、本明細書においてブラインド通気性電極としての実施形態で図示及び説明するが、本発明の精神から逸脱することなく、また特許請求の範囲の均等物の範囲及び領域内で種々の変更及び構造的変化を行うことができるので、図示した詳細に限定することは意図しない。
【００１１】
しかし、本発明の構造及び運用方法は、本発明の付加的な目的及び利点とともに、添付図面に関連して読まれるとき、特別な実施形態の以下の説明から最もよく理解できるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】従来技術によるイオン注入装置における抑制グリッド及び接地グリッドの部分的分解斜視図である。
【図２】従来技術による通気性タングステン抽出グリッドの簡略前面平面図である。
【図２Ａ】図２に示す従来技術による通気性タングステン抽出グリッドのＡ−Ａ線上の断面図である。
【図３】イオン注入装置の抽出アセンブリにおけるグリッドであって、本発明の特別な一実施形態による抑制グリッド及び接地グリッドの簡略斜視図である。
【図４】本発明の特別な一実施形態によるイオン注入装置の抑制グリッド及び接地グリッドの簡略分解斜視図である。
【図５】本発明の特別な第１実施形態による単一ブラインド通気性インサートの縦断面図である。
【図６】本発明の他の特別な実施形態によるダブルブラインド通気性インサートの斜視図である。
【図６Ａ】図６のダブルブラインド通気性インサートの縦断面図である。
【図７】本発明の別の特別な実施形態によるダブルブラインド通気性インサートの斜視図である。
【図７Ａ】図７のダブルブラインド通気性インサートにおける断面を示す斜視図である。
【図７Ｂ】図７のダブルブラインド通気性インサートの縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明は、ポンピングを改善することによって、とくに、電極プレートにブラインド通気孔を付加することによって加速器における高電圧グリッチ発生率を減少する電極プレートに関する。とくに、本発明の説明目的のために、用語「電極」及び「グリッドアセンブリ」は、本明細書において互換的に使用する。次に図３及び４につき説明すると、これは、本発明の特別な一態様による抑制グリッド１１０及び接地グリッド１６０を含むイオン注入システムにおける抽出アセンブリ１００の部分の特定の一実施形態を示す。抑制グリッド１１０は、グラファイト又はステンレス鋼から形成することができるベースプレート１２０を含む。
【００１４】
抑制ベースプレート１２０は、抑制電極開口１４０を収容するよう構成した中心溝孔１３０を有し、抑制電極開口１４０は中心溝孔１３０に適切な固定具（図示せず）を用いて固定する。抑制グリッド１１０における通気を促進するために、ベースプレート１２０は、ブラインド通気性インサート１５０の本体を収容するよう構成した複数の孔又は溝孔１３２を付加的に有する（すなわち、フランジ１５２はプレート１２０の裏面における窪みに整合し、また図示しない固定具によりプレート１２０の固定する）。所望により、ブラインド通気孔は、ベースプレート１２０に、単一別個ピースに、及び／又は図示のような別個のフランジ１５２に、直接的に形成することができる。
【００１５】
同様に、本発明の好適な実施形態において、接地グリッド１６０は接地プレート１７０を有し、この接地プレート１７０に接地電極開口１８０を中心溝孔１７２内に固定具（図示せず）を用いて固定する。抑制ベースプレート１２０と同様に、接地プレート１７０は、ブラインド通気性インサート１５０につき上述したようなブラインド通気性インサート１９０を収容するよう構成した複数の溝孔１７４（この実施例では２個）を有する。
【００１６】
ブラインド通気性インサート１５０，１９０は、抑制グリッド１１０及び接地グリッド１６０のベンチレーションを付加するよう構成し、これにより周囲の真空レベルを改善する。ブラインド通気性インサート１５０，１９０は、さらに、グラファイトで形成すると好適である。インサート１５０は、所望により、インサート１９０と同一にする又は異なるものにすることができる。各インサート１５０，１９０は、それぞれ複数個の通気チャネル１５２，１９２を有し、これら通気チャネル１５２，１９２は、抑制グリッドから接地グリッドへの及びその逆への見通し線を何ら持たない。
【００１７】
図５につき説明すると、これは図３及び４のインサート１５０及び／又は１９０のように使用できる片面ブラインド通気性インサート２００の特別な一実施形態の縦断面図を示す。ブラインド通気性インサート２００は、固定具孔２１５を有する別個のフランジ２０２に備え付けることができる本体２１０を含む。本体２１０は、本体に貫通する複数個のブラインド通気孔を有する。本発明の好適な実施形態において、各ブラインド通気孔２２０は、インサート２００のアークサイドの面における孔又は開口２２８から延在し、インサート本体２１０の接地サイドの面における孔又は開口２２６からオフセットしたウェル２２２を有する。本発明の特定の一実施形態において、ウェル２２２は円筒形の形状とするが、これに限定することを意味しない。角度付きチャンネル２２４は開口２２６から本体２１０内に延在し、ウェル２２２の側壁に開口する。この実施形態において、抽出された正イオンは、負の抑制プレートに衝突する。正イオンの軌跡は表面にほぼ直交するので、二次粒子及び光子の分布はその方向にピークを有する。したがって、各チャンネル２２４におけるウェル２２２の底面は、二次電子の前方ピーク分布のための接地／分析方向止め部をなし、またこの意味においてソースサイドから分析サイドへの見通し線は存在しない。本体２１０に貫通するのに十分なエネルギーを有する二次光子のみが接地グリッドに達することができる。
【００１８】
その一方、図５に示す実施形態において、開口２２６は角度付きチャンネル２２４に整列し、インサート２００の分析サイドから入射するイオン又はＸ線（すなわち、矢印２１４で示す）によって通気チャネル２２４内に生じた二次電子に対しては開口２２８への直接見通し線を付与する。このような見通し線は、代表的な電子２３０が本体２１０を経てアークサイドのギャップに入ることによって示す。
【００１９】
したがって、図５に示す実施形態は、アークギャップからのイオン及び低エネルギーＸ線によって生ずる二次電子は分析サイドに達することはできないが、分析サイドからのイオン又はＸ線によって生ずる二次電子はアークギャップに達することができる片面止め部を有する。したがって、このような状況において、図５の片面止め部はソースサイドで発生し、接地／分析ギャップに向かう二次粒子の見通し線は持たないと言える。
【００２０】
次に図６〜６Ａにつき説明すると、これは図３及び４におけるブラインド通気性インサート１５０及び／又は１９０として使用できるブラインド通気性インサート２５０の他の好適な実施形態を示す。このブラインド通気性インサート２５０は、多くの点でブラインド通気性インサート２００と類似する（同様部分を同様な参照符号で表す）が、インサート２５０は双方向の止め部を有して互いに（図示の好適な実施形態において長手方向に）オフセットしたダブルブラインドである点が異なる。より具体的には、複数個のブラインド通気チャネル２２４がインサート２５０のアークサイド面２５２からインサート２５０の接地サイド面２５４に延在する。しかし、この実施形態は、ソースからのイオン衝突によって発生する接地方向への二次粒子、及び接地サイドからのイオンによって発生するソース方向への二次粒子を優先的に遮断する。この意味で、第１面２５２における止め部から第２面２５４への、及びその逆への見通し線は存在しない。むしろ、ウェル２２２は、インサート２５０の両側で止め部として作用し、インサート２５０のいずれか一方の側からのイオン又は低エネルギーＸ線によって生ずる二次電子がインサート２５０の他方の側に達するのを阻止する。
【００２１】
したがって、図６Ａにより具体的に示すように、図示の実施形態において、材料に基づいてブラインド通気性インサート２５０のアークギャップ側からイオン又は低エネルギー光子によって生ずる二次電子は分析グリッドに達することができず、また分析ギャップからのイオン又は低エネルギー光子によって生ずる二次電子はプレートに達することができない。
【００２２】
次に図７〜７Ｂにつき説明すると、これは本発明の代替的実施形態を示し、この場合、ブラインド通気性インサート３００は異なる機械的設計を用いて作成し、図５〜６Ａにつき説明したウェル間における角度付きチャンネルの代わりに、互い違い又はオフセットした孔３１２，３１４の組みを相互接続する垂直チャンネル３１０を使用する。より具体的には、垂直チャンネル３１０は、インサート３００の本体３０２を垂直方向に貫通し、かつインサート３００の本体３０２の各面から突入するが貫通はしない水平方向に整列したウェル又は止め部３１２，３１４と交差する。
【００２３】
例えば、図７〜７Ｂに示す１つの例示的実施形態において、水平な列の５個のウェル３１２は前面に貫入し、また本体３０２内に部分的に延在する。これに対応して、５個のウェル３１４は後面に貫入し、また本体３０２内に部分的に延在する。各ウェル３１２，３１４の末端部は、垂直チャンネル３１０のうちの１つに至るまで開口するが、互いに整列しない。むしろ、ウェル３１２の開放奥面はウェル３１４の開放奥面に対してチャンネル３１０を介して流体連通するが、オフセットし、したがって、ウェル３１２，３１４内で発生する二次電子が移動できるウェル及びチャンネル３１２，３１４，３１０を経る見通し線は生じない。このことは、ウェル３１２，３１４内で発生する二次電子が一方のウェルから他方のウェルに越え渡ることなく、ガスの通気を可能にする。
【００２４】
この実施形態において、１個の垂直チャンネル３１０はウェル３１２，３１４の各垂直列（すなわち、垂直に整列した複数個）に対して設ける。例えば、図７に示す実施形態において、１個のチャンネル３１０は５個のウェル３１２列それぞれを５個のウェル３１４列の１つに相互接続し、図面では１個の列のみを示す。このことは本発明をこれに限定することは意味せず、本発明の範囲及び精神から逸脱することなく、より少ない列及び／又はより多い個数を使用することができる。図７〜７Ｂに示す実施形態は、ウェル３１２又はウェル３１４のいずれかに衝突するイオン又はＸ線からウェル３１２又はウェル３１４内に形成される二次電子に対する２つの見通し線止め部（すなわち、ブラインド通気性インサートの両側からの）をもたらす。換言すれば、アークギャップからのイオン又はＸ線によって生じた二次電子は分析ギャップに達することはできず、また分析ギャップからのイオン又はＸ線によって生じた二次電子はアークギャップに達することはできない。
【００２５】
好適な実施形態の上述した例示的説明から分かるように、本発明は、通気孔経由の見通し線を排除して、漂遊するエネルギー荷電粒子及び幾つかの光子が抽出ギャップから抑制プレートを経由して接地プレートに、及び／又は抑制ギャップからソースプレートに進入するのを遮断する通気性電極を提供する。Ｘ線又はエネルギー貫通粒子の衝突は抑制プレートに向けて加速されるイオンを発生することができ、次いでこれらイオンはソース電極又は接地電極に衝突する電子を発生し得ることになる。
【００２６】
本明細書において、抑制電極及び接地電極に関連して詳述したが、本発明は、本発明の範囲又は精神から逸脱することなく、加速器及びプラズマ電極を含む他のタイプの電極に適用することができる。
【００２７】
好適な実施形態において、抑制グリッド及び接地グリッドの双方が本発明によるブラインド通気を行うものとして説明したが、当然のことながら、これら２つのグリッドのうち一方のみがこのようなブラインド通気を行うことも、本発明の範囲及び精神から逸脱することなくあり得ると理解されたい。さらに、インサートとしてプレートに組み込む代わりに、本明細書内で教示したように、プレート自体が通気されるものとすることができ、これも依然として本発明の範囲内であり得る。
【００２８】
この原理は、粒子材料がプロセス互換性にとって好ましいものであり得る環境に適用することができると理解されたい。とくに、加速器グリッドのすべて又は一部は、所望に応じて、本発明の範囲及び精神から逸脱することなく、好ましい導電性材料、例えば、タングステン、グラファイト、モリブデン、ステンレス鋼及び／又は他の導電性材料で形成することができる。
【００２９】
本明細書において本発明の好適な実施形態を図示及び説明したが、本発明は、本明細書において特別に図示又は説明した以外のやり方で実施することができ、またそれら実施形態内で詳細及び構造、並びに部品構成に対して、特許請求の範囲の請求項で定義する本発明の原理から逸脱することなく若干変化を付けることができる。
【符号の説明】
【００３０】
１００    抽出アセンブリ
１１０    抑制グリッド
１２０    ベースプレート
１３０    中心溝孔
１３２    孔又は溝孔
１４０    抑制電極開口
１５０    ブラインド通気性インサート
１５２    フランジ
１６０    接地グリッド
１７０    接地プレート
１７２    中心溝孔
１８０    接地電極開口
１９０    ブラインド通気性インサート
１９２    通気チャネル
２００    片面ブラインド通気性インサート
２１０    インサート本体
２２０    ブラインド通気孔
２２２    ウェル
２２４    角度付きチャンネル
２２６    接地サイド面における孔又は開口
２２８    サークサイド面における孔又は開口
２５０    ブラインド通気性インサート
２５２    アークサイド面
２５４    接地サイド面
３００    ブラインド通気性インサート
３０２    インサート本体
３１０    垂直チャンネル
３１２    互い違い又はオフセットした孔（ウェル又は止め部）
３１４    互い違い又はオフセットした孔（ウェル又は止め部）
【図１】
2018125271.tif 000003
【図２】
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【図２Ａ】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図６Ａ】
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【図７】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【外国語明細書】
2018125271000001.pdf