(57)【要約】【課題】流路開閉部の異常を検知すること。【解決手段】実施形態の一態様に係る処理装置は、チャンバと、ノズルと、流量測定部と、流路開閉部と、制御部とを備える。チャンバは、被処理体を収容する。ノズルは、チャンバ内に設けられ、被処理体へ向けて処理液を供給する。流量測定部は、ノズルに供給される処理液の流量を測定する。流路開閉部は、ノズルへの処理液の供給流路の開閉を行う。制御部は、流路開閉部に対し、供給流路を閉じる閉動作を行わせる閉信号を出力する。また、制御部は、閉信号の出力後に流量測定部によって測定された流量の積算量に基づき、流路開閉部の動作異常を検知する。【選択図】図８
2018185793.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理体を収容するチャンバと、
前記チャンバ内に設けられ、前記被処理体へ向けて処理液を供給するノズルと、
前記ノズルに供給される前記処理液の流量を測定する流量測定部と、
前記ノズルへの前記処理液の供給流路の開閉を行う流路開閉部と、
前記流路開閉部に対し、前記供給流路を閉じる閉動作を行わせる閉信号を出力する制御部と
を備え、
前記制御部は、
前記閉信号の出力後に前記流量測定部によって測定された前記流量の積算量に基づき、前記流路開閉部の動作異常を検知すること
を特徴とする処理装置。
【請求項２】
前記流路開閉部は、
第１開閉部と、
前記第１開閉部よりも下流側に設けられ、前記第１開閉部よりも後に開かれ且つ前記第１開閉部よりも前に閉じられる第２開閉部と
を含み、
前記制御部は、
前記第２開閉部に対する前記閉信号の出力後に前記流量測定部によって測定された前記流量の積算量に基づき、前記第２開閉部の動作異常を検知すること
を特徴とする請求項１に記載の処理装置。
【請求項３】
前記第２開閉部は、
空気圧により弁体を開閉するエアオペレートバルブと、
前記エアオペレートバルブに供給される空気の流量を調整するスピードコントローラと
を含み、
前記制御部は、
前記第２開閉部に対する前記閉信号の出力後に前記流量測定部によって測定された前記流量の積算量が正常範囲から外れた場合に、前記スピードコントローラの動作異常を検知すること
を特徴とする請求項２に記載の処理装置。
【請求項４】
前記制御部は、
前記第２開閉部に対する前記閉信号の出力後に前記流量測定部によって測定された前記流量をフーリエ変換した値に基づき、前記第１開閉部または前記第２開閉部の動作異常を検知すること
を特徴とする請求項２または３に記載の処理装置。
【請求項５】
前記制御部は、
前記第２開閉部に対する前記閉信号の出力後、前記第１開閉部に対する前記閉信号の出力前に前記流量測定部によって測定された前記流量をフーリエ変換した値が閾値を超えた場合に、前記第２開閉部の動作異常を検知し、前記第１開閉部に対する前記閉信号の出力後、前記第１開閉部に対する開信号の出力前に前記流量測定部によって測定された前記流量をフーリエ変換した値が閾値を超えた場合に、前記第１開閉部の動作異常を検知すること
を特徴とする請求項４に記載の処理装置。
【請求項６】
前記制御部は、
前記第２開閉部に対して前記閉信号を出力した時点からの第１期間において、前記流量の積算量に基づき、前記第２開閉部の動作異常の有無を監視し、前記第１期間経過後の第２期間において、前記流量をフーリエ変換した値に基づき、前記第１開閉部または前記第２開閉部の動作異常の有無を監視すること
を特徴とする請求項５に記載の処理装置。
【請求項７】
前記第２期間は、
前記第１期間が経過し、さらに予め決められた時間が経過した後の期間であること
を特徴とする請求項６に記載の処理装置。
【請求項８】
前記制御部は、
前記フーリエ変換する前における前記流量測定部によって測定された前記流量の波形を所定の動作異常時の流量波形と比較し、前記フーリエ変換した値および前記波形の比較結果の双方に基づき、前記第１開閉部または前記第２開閉部の動作異常を検知すること
を特徴とする請求項４〜７のいずれか一つに記載の処理装置。
【請求項９】
前記流路開閉部よりも下流側の前記供給流路のうち前記処理液を上昇させる上昇部分に設けられ、前記処理液の水頭圧を測定する圧力測定部
を備え、
前記制御部は、
前記閉信号の出力後に前記圧力測定部によって測定された前記水頭圧の変化量に基づき、前記流路開閉部の動作異常を検知すること
を特徴とする請求項１〜８のいずれか一つに記載の処理装置。
【請求項１０】
前記第２開閉部は、
空気圧により弁体を開閉するエアオペレートバルブと、
前記エアオペレートバルブの閉速度を予め設定された設定閉速度に調整する調整部と
を含み、
前記制御部は、
前記第２開閉部に対する前記閉信号の出力後に前記流量測定部によって測定された前記流量の積算量が正常範囲から外れた場合に、前記調整部を制御して前記設定閉速度を変更すること
を特徴とする請求項２に記載の処理装置。
【請求項１１】
前記調整部は、
前記エアオペレートバルブに供給される空気の流量を調整するニードル弁と、
前記ニードル弁を駆動する駆動部と
を含み、
前記積算量の前記正常範囲内における基準値からのずれ量と、前記ニードル弁の駆動量とを関連付けた調整情報を記憶する記憶部
を備え、
前記制御部は、
前記調整情報に基づき前記駆動部を制御して、前記ずれ量に対応する駆動量で前記ニードル弁を駆動させることにより、前記閉速度を変更すること
を特徴とする請求項１０に記載の処理装置。
【請求項１２】
被処理体を収容するチャンバと、前記チャンバ内に設けられ、前記被処理体へ向けて処理液を供給するノズルと、前記ノズルに供給される前記処理液の流量を測定する流量測定部と、前記ノズルへの前記処理液の供給流路の開閉を行う流路開閉部とを備える処理装置を用い、前記流路開閉部に対し、前記供給流路を閉じる閉動作を行わせる閉信号を出力する閉信号出力工程と、
前記閉信号の出力後に前記流量測定部によって測定された前記流量の積算量に基づき、前記流路開閉部の動作異常を検知する異常検知工程と
を含むことを特徴とする異常検知方法。
【請求項１３】
コンピュータ上で動作し、処理装置を制御するプログラムが記憶されたコンピュータ読取可能な記憶媒体であって、
前記プログラムは、実行時に、請求項１２に記載の異常検知方法が行われるように、コンピュータに前記処理装置を制御させること
を特徴とする記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
開示の実施形態は、処理装置、異常検知方法および記憶媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造プロセスの工程の一つに、半導体ウェハやガラス基板等の基板に処理液を供給することにより基板を処理する液処理工程がある。
【０００３】
液処理工程は、処理液供給源に供給路を介して接続されたノズルを基板の上方に配置させ、処理液供給源から供給される処理液をノズルから吐出することにより行われる。供給路にはバルブが設けられており、かかるバルブを開閉することによりノズルからの処理液の吐出状態の切り替えが行われる。
【０００４】
供給路に設けられるバルブとして、エア供給管から供給される空気の圧力により弁体を開閉するエアオペレートバルブが用いられる場合がある。エアオペレートバルブは、エア供給管に設けられたスピードコントローラを調整することにより、弁体の開閉速度を調整することが可能である（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−２１８０２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、バルブに故障や異物混入等が生じた場合、バルブから処理液がリークしてノズルから処理液が液垂れするおそれがある。また、バルブ自体が正常であっても、スピードコントローラの調整にずれが生じることで、たとえば供給路内で処理液が途切れる異常が発生するおそれがある。
【０００７】
かかる課題は、基板処理装置に限らず、被処理体に対し、処理液を供給することによって被処理体を処理する処理装置全般に共通する課題である。
【０００８】
実施形態の一態様は、バルブやスピードコントローラといった流路開閉部の異常を検知することができる処理装置、異常検知方法および記憶媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
実施形態の一態様に係る処理装置は、チャンバと、ノズルと、流量測定部と、流路開閉部と、制御部とを備える。チャンバは、被処理体を収容する。ノズルは、チャンバ内に設けられ、被処理体へ向けて処理液を供給する。流量測定部は、ノズルに供給される処理液の流量を測定する。流路開閉部は、ノズルへの処理液の供給流路の開閉を行う。制御部は、流路開閉部に対し、供給流路を閉じる閉動作を行わせる閉信号を出力する。また、制御部は、閉信号の出力後に流量測定部によって測定された流量の積算量に基づき、流路開閉部の動作異常を検知する。
【発明の効果】
【００１０】
実施形態の一態様によれば、流路開閉部の異常を検知することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、本実施形態に係る基板処理システムの概略構成を示す図である。
【図２】図２は、処理ユニットの概略構成を示す図である。
【図３】図３は、処理流体供給部の構成の一例を示す図である。
【図４】図４は、第２開閉部が閉じる速度とノズル内の処理液との関係を示す図である。
【図５】図５は、制御装置の構成の一例を示すブロック図である。
【図６】図６は、第１監視処理および第２監視処理の実行タイミングを説明するための図である。
【図７Ａ】図７Ａは、流量測定部の測定結果の時間変化を示す図である。
【図７Ｂ】図７Ｂは、流量測定部の測定結果の時間変化を示す図である。
【図８】図８は、第１監視処理の手順を示すフローチャートである。
【図９】図９は、第２監視処理の手順を示すフローチャートである。
【図１０】図１０は、第２の実施形態に係る処理流体供給部の構成の一例を示す図である。
【図１１Ａ】図１１Ａは、サックバック処理後の液面位置の変形例を示す図である。
【図１１Ｂ】図１１Ｂは、サックバック処理後の液面位置の変形例を示す図である。
【図１２Ａ】図１２Ａは、実際にリークが生じた場合における流量の時間変化を表す図である。
【図１２Ｂ】図１２Ｂは、リークの誤検知が発生した場合における流量の時間変化を表す図である。
【図１３】図１３は、第３の実施形態における第２監視処理の手順を示すフローチャートを示す図である。
【図１４Ａ】図１４Ａは、比較波形の形状生成処理および生成した形状とリーク波形との比較処理の内容を説明するための図である。
【図１４Ｂ】図１４Ｂは、比較波形の形状生成処理および生成した形状とリーク波形との比較処理の内容を説明するための図である。
【図１５Ａ】図１５Ａは、実際にリークが生じた場合における、比較波形とリーク波形との積算結果を示す図である。
【図１５Ｂ】図１５Ｂは、リークの誤検知が発生した場合における、比較波形とリーク波形との積算結果を示す図である。
【図１６】図１６は、第４の実施形態に係る自動調整処理の手順を示すフローチャートである。
【図１７】図１７は、第５の実施形態に係る処理流体供給部の構成の一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、添付図面を参照して、本願の開示する処理装置、異常検知方法および記憶媒体の実施形態を詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態によりこの発明が限定されるものではない。また、以下では、被処理体が基板であり、処理装置が基板処理システムである場合を例に挙げて説明を行う。
【００１３】
（第１の実施形態）
まず、第１の実施形態について図１〜図９を参照して説明する。
【００１４】
図１は、本実施形態に係る基板処理システムの概略構成を示す図である。以下では、位置関係を明確にするために、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸を規定し、Ｚ軸正方向を鉛直上向き方向とする。
【００１５】
図１に示すように、基板処理システム１は、搬入出ステーション２と、処理ステーション３とを備える。搬入出ステーション２と処理ステーション３とは隣接して設けられる。
【００１６】
搬入出ステーション２は、キャリア載置部１１と、搬送部１２とを備える。キャリア載置部１１には、複数枚の基板、本実施形態では半導体ウェハ（以下ウェハＷ）を水平状態で収容する複数のキャリアＣが載置される。
【００１７】
搬送部１２は、キャリア載置部１１に隣接して設けられ、内部に基板搬送装置１３と、受渡部１４とを備える。基板搬送装置１３は、ウェハＷを保持するウェハ保持機構を備える。また、基板搬送装置１３は、水平方向および鉛直方向への移動ならびに鉛直軸を中心とする旋回が可能であり、ウェハ保持機構を用いてキャリアＣと受渡部１４との間でウェハＷの搬送を行う。
【００１８】
処理ステーション３は、搬送部１２に隣接して設けられる。処理ステーション３は、搬送部１５と、複数の処理ユニット１６とを備える。複数の処理ユニット１６は、搬送部１５の両側に並べて設けられる。
【００１９】
搬送部１５は、内部に基板搬送装置１７を備える。基板搬送装置１７は、ウェハＷを保持するウェハ保持機構を備える。また、基板搬送装置１７は、水平方向および鉛直方向への移動ならびに鉛直軸を中心とする旋回が可能であり、ウェハ保持機構を用いて受渡部１４と処理ユニット１６との間でウェハＷの搬送を行う。
【００２０】
処理ユニット１６は、基板搬送装置１７によって搬送されるウェハＷに対して所定の基板処理を行う。
【００２１】
また、基板処理システム１は、制御装置４を備える。制御装置４は、たとえばコンピュータであり、制御部１８と記憶部１９とを備える。記憶部１９には、基板処理システム１において実行される各種の処理を制御するプログラムが格納される。制御部１８は、記憶部１９に記憶されたプログラムを読み出して実行することによって基板処理システム１の動作を制御する。
【００２２】
なお、かかるプログラムは、コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、その記憶媒体から制御装置４の記憶部１９にインストールされたものであってもよい。コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体としては、たとえばハードディスク（ＨＤ）、フレキシブルディスク（ＦＤ）、コンパクトディスク（ＣＤ）、マグネットオプティカルディスク（ＭＯ）、メモリカードなどがある。
【００２３】
上記のように構成された基板処理システム１では、まず、搬入出ステーション２の基板搬送装置１３が、キャリア載置部１１に載置されたキャリアＣからウェハＷを取り出し、取り出したウェハＷを受渡部１４に載置する。受渡部１４に載置されたウェハＷは、処理ステーション３の基板搬送装置１７によって受渡部１４から取り出されて、処理ユニット１６へ搬入される。
【００２４】
処理ユニット１６へ搬入されたウェハＷは、処理ユニット１６によって処理された後、基板搬送装置１７によって処理ユニット１６から搬出されて、受渡部１４に載置される。そして、受渡部１４に載置された処理済のウェハＷは、基板搬送装置１３によってキャリア載置部１１のキャリアＣへ戻される。
【００２５】
次に、処理ユニット１６について図２を参照し説明する。図２は、処理ユニット１６の概略構成を示す図である。
【００２６】
図２に示すように、処理ユニット１６は、チャンバ２０と、基板保持機構３０と、処理流体供給部４０と、回収カップ５０とを備える。
【００２７】
チャンバ２０は、基板保持機構３０と処理流体供給部４０と回収カップ５０とを収容する。チャンバ２０の天井部には、ＦＦＵ（Fan  Filter  Unit）２１が設けられる。ＦＦＵ２１は、チャンバ２０内にダウンフローを形成する。
【００２８】
基板保持機構３０は、保持部３１と、支柱部３２と、駆動部３３とを備える。保持部３１は、ウェハＷを水平に保持する。支柱部３２は、鉛直方向に延在する部材であり、基端部が駆動部３３によって回転可能に支持され、先端部において保持部３１を水平に支持する。駆動部３３は、支柱部３２を鉛直軸まわりに回転させる。かかる基板保持機構３０は、駆動部３３を用いて支柱部３２を回転させることによって支柱部３２に支持された保持部３１を回転させ、これにより、保持部３１に保持されたウェハＷを回転させる。
【００２９】
処理流体供給部４０は、ウェハＷに対して処理流体を供給する。処理流体供給部４０は、処理流体供給源７０に接続される。
【００３０】
回収カップ５０は、保持部３１を取り囲むように配置され、保持部３１の回転によってウェハＷから飛散する処理液を捕集する。回収カップ５０の底部には、排液口５１が形成されており、回収カップ５０によって捕集された処理液は、かかる排液口５１から処理ユニット１６の外部へ排出される。また、回収カップ５０の底部には、ＦＦＵ２１から供給される気体を処理ユニット１６の外部へ排出する排気口５２が形成される。
【００３１】
次に、処理ユニット１６が備える処理流体供給部４０の構成について図３を参照して説明する。図３は、処理流体供給部４０の構成の一例を示す図である。
【００３２】
図３に示すように、処理流体供給部４０は、ウェハＷへ向けて処理液を供給するノズル４１と、ノズル４１と処理流体供給源７０とを接続し、処理流体供給源７０からの処理液をノズル４１へ供給する供給流路４２とを備える。なお、ここでは図示を省略するが、処理流体供給部４０は、ノズル４１を水平に支持するアームおよびこのアームを旋回および昇降させる旋回昇降機構を備えていてもよい。
【００３３】
供給流路４２は、管状の部材であり、たとえばフッ素樹脂などの耐薬品性の高い材料で形成される。かかる供給流路４２には、上流側から順に第１開閉部６１、流量測定部８１および第２開閉部６２が設けられる。
【００３４】
第１開閉部６１および第２開閉部６２は、流路開閉部の一例であり、制御装置４から出力される開信号および閉信号に従って、供給流路４２の開閉を行う。
【００３５】
第１開閉部６１は、たとえば電磁弁であり、ソレノイドの磁力を用いて弁体を移動させることによって供給流路４２を開閉する。
【００３６】
第２開閉部６２は、エアオペレートバルブ６２ａと、エア供給管６２ｂと、スピードコントローラ６２ｃとを備える。エアオペレートバルブ６２ａは、エア供給管６２ｂから供給される空気の圧力を用いて弁体を移動させることによって供給流路４２を開閉する。スピードコントローラ６２ｃは、エア供給管６２ｂに設けられ、エアオペレートバルブ６２ａに供給される空気の流量を調整する。具体的には、スピードコントローラ６２ｃは、エアオペレートバルブ６２ａに対する空気の供給量を調節し、これによりエアオペレートバルブ６２ａの弁が予め設定された速度で開閉するようにコントロールする。
【００３７】
スピードコントローラ６２ｃは、制御装置４から開信号を受信した場合、エアオペレートバルブ６２ａの開閉状態を「閉」状態から「開」状態へ予め設定された開速度で変化させる。これにより、エアオペレートバルブ６２ａの弁は、予め設定された設定開速度（設定開時間）で開く。また、スピードコントローラ６２ｃは、制御装置４から閉信号を受信した場合、エアオペレートバルブ６２ａの開閉状態を「開」状態から「閉」状態へ予め設定された閉速度で変化させる。これにより、エアオペレートバルブ６２ａの弁は、予め設定された設定閉速度（設定閉時間）で閉じる。
【００３８】
このように、第２開閉部６２は、スピードコントローラ６２ｃにより供給流路４２の開閉速度を調整することができる。したがって、第２開閉部６２は、電磁弁である第１開閉部６１と比べて遅い速度で供給流路４２を開閉することができる。
【００３９】
流量測定部８１は、第１開閉部６１と第２開閉部６２との間に設けられ、供給流路４２を流れる処理液の流量を測定する。流量測定部８１の測定結果は、制御装置４へ出力される。なお、流量測定部８１は、第２開閉部６２よりも下流に設けられていても良い。
【００４０】
供給流路４２には、第２開閉部６２よりも下流側においてドレイン流路４３が接続される。ドレイン流路４３は、管状の部材であり、たとえばフッ素樹脂などの耐薬品性の高い材料で形成される。かかるドレイン流路４３には、第３開閉部６３とオリフィス９０とが設けられる。
【００４１】
第３開閉部６３は、第２開閉部６２と同様、エアオペレートバルブ６３ａと、エア供給管６３ｂと、スピードコントローラ６３ｃとを備える。第３開閉部６３は、スピードコントローラ６３ｃを用いてドレイン流路４３の開閉速度を調整することができる。オリフィス９０は、エアオペレートバルブ６３ａよりも下流側に設けられ、ドレイン流路４３の流路径を絞って処理液の流通を抑制することで、ドレイン流路４３を流れる処理液の流量を制限する。
【００４２】
処理ユニット１６では、ノズル４１からの処理液の吐出を停止した後、ノズル４１からの処理液の液垂れを防止するために、供給流路４２内の処理液の液面位置を後退させるサックバック処理が行われる。
【００４３】
具体的には、制御装置４は、第２開閉部６２に対して閉信号を出力して第２開閉部６２を閉状態とした後、第３開閉部６３に対して開信号を出力して第３開閉部６３を開状態とする。なお、第２開閉部６２を閉状態にすると同時に第３開閉部６３を開状態にしてもよい。供給流路４２は、ドレイン流路４３の接続位置よりも下流側に上昇部分４２ａを有するため、第３開閉部６３が開状態となることで、供給流路４２に残留する処理液は自重によりドレイン流路４３に引き込まれてドレイン流路４３から外部へ排出される。これにより、処理液の液面位置が後退することで、ノズル４１からの処理液の液垂れが防止される。
【００４４】
ここで、ノズル４１からの処理液の吐出を停止する際に、供給流路４２を急激な速度で閉じてしまうと、処理液が途切れる「液切れ」が発生するおそれがある。液切れが発生すると、サックバック処理を行っても途切れた処理液を後退させることができず、液垂れを防止することが困難となる。
【００４５】
このため、処理ユニット１６では、エアオペレートバルブ６２ａが閉じる速度をスピードコントローラ６２ｃにより調整することで、液切れの発生を防止している。
【００４６】
スピードコントローラ６２ｃは、第２開閉部６２を適切な速度で閉じるように予め調整されるが、たとえば長期にわたる使用や部材の交換等によって条件が変化した場合に、第２開閉部６２が適切な速度で閉じられず、液切れや液垂れが発生するおそれがある。
【００４７】
第２開閉部６２が閉じる速度（閉速度）とノズル４１内の処理液との関係について図４を参照して説明する。図４は、第２開閉部６２が閉じる速度（閉速度）とノズル４１内の処理液との関係を示す図である。
【００４８】
図４に示すように、第２開閉部６２の閉速度が適切である場合、処理液の液切れの発生が防止される。また、液切れの発生が防止されることで、サックバック処理が適切に行われ、処理液の液垂れも防止される。
【００４９】
一方、第２開閉部６２の閉速度が適切な速度よりも遅い場合、図４の左図に示すように、ノズル４１からの処理液の液漏れが発生するおそれがある。また、第２開閉部６２の閉速度が適切な速度よりも速いと、図４の右図に示すように、処理液の液切れが発生するおそれがある。
【００５０】
さらに、第２開閉部６２の閉速度が適切であっても、エアオペレートバルブ６２ａに故障や異物混入等が生じた場合に、エアオペレートバルブ６２ａから処理液がリークして、図４の左図に示すように、処理液の液漏れが発生するおそれがある。
【００５１】
そこで、第１の実施形態に係る基板処理システム１では、第２開閉部６２に対して閉信号を出力した後の流量測定部８１の測定結果に基づき、第２開閉部６２の異常の有無を監視することとした。以下、かかる点について具体的に説明する。
【００５２】
まず、制御装置４の構成について図５を参照して説明する。図５は、制御装置４の構成の一例を示すブロック図である。なお、図５では、第１の実施形態の特徴を説明するために必要な構成要素を機能ブロックで表しており、一般的な構成要素についての記載を省略している。すなわち、図５に図示される各構成要素は機能概念的なものであり、必ずしも物理的に図示の如く構成されていることを要しない。たとえば、各機能ブロックの分散・統合の具体的形態は図示のものに限られず、その全部または一部を、各種の負荷や使用状況などに応じて、任意の単位で機能的または物理的に分散・統合して構成することが可能である。
【００５３】
さらに、制御装置４の各機能ブロックにて行なわれる各処理機能は、その全部または任意の一部が、ＣＰＵ（Central  Processing  Unit）などのプロセッサおよび当該プロセッサにて解析実行されるプログラムにて実現され、あるいは、ワイヤードロジックによるハードウェアとして実現され得るものである。
【００５４】
図５に示すように、制御装置４は、制御部１８と記憶部１９とを備える（図１参照）。記憶部１９は、たとえば、ＲＡＭ、フラッシュメモリ（Flash  Memory）等の半導体メモリ素子、又は、ハードディスク、光ディスク等の記憶装置によって実現される。かかる記憶部１９は、レシピ情報１９ａを記憶する。
【００５５】
レシピ情報１９ａは、基板処理の内容を示す情報である。具体的には、基板処理中において処理ユニット１６に対して実行させる各処理の内容が予め処理シーケンス順に登録された情報である。
【００５６】
制御部１８は、たとえばＣＰＵであり、記憶部１９に記憶された図示しないプログラムを読み出して実行することにより、たとえば図５に示す各機能ブロック１８ａ〜１８ｃとして機能する。なお、上記プログラムは、コンピュータによって読み取り可能な記録媒体に記録されていたものであって、その記録媒体から制御装置４の記憶部１９にインストールされたものであってもよい。コンピュータによって読み取り可能な記録媒体としては、例えばハードディスク（ＨＤ）、フレキシブルディスク（ＦＤ）、コンパクトディスク（ＣＤ）、マグネットオプティカルディスク（ＭＯ）、メモリカードなどがある。
【００５７】
つづいて、かかる各機能ブロック１８ａ〜１８ｃについて説明する。制御部１８は、基板処理実行部１８ａと、監視部１８ｂと、異常対応処理部１８ｃとを備える。
【００５８】
制御部１８は、基板処理実行部１８ａとして機能する場合、記憶部１９に記憶されたレシピ情報１９ａに従って処理ユニット１６を制御して一連の基板処理を実行させる。たとえば、制御部１８は、ウェハＷに対して薬液を供給する薬液処理、ウェハＷに対してリンス液を供給するリンス処理およびウェハＷの回転数を増加させてウェハＷを乾燥させる乾燥処理を含む一連の基板処理を実行させる。
【００５９】
制御部１８は、レシピ情報１９ａに従ったタイミングで、処理流体供給部４０の第１〜第３開閉部６１〜６３に対して開信号および閉信号を出力することにより、基板処理の内容に応じた処理液をノズル４１から吐出させる。このとき、供給流路４２を流れる処理液の流量は流量測定部８１によって測定され、測定結果は制御部１８へ出力される。
【００６０】
制御部１８は、監視部１８ｂとして機能する場合、流量測定部８１の測定結果に基づいて「第１監視処理」および「第２監視処理」を実行する。「第１監視処理」は、第２開閉部６２のスピードコントローラ６２ｃの調整が正常か否かを監視する処理である。また、「第２監視処理」は、処理液の液垂れの発生の有無を監視する処理である。
【００６１】
ここで、第１監視処理および第２監視処理の内容について図６を参照して説明する。図６は、第１監視処理および第２監視処理の実行タイミングを説明するための図である。
【００６２】
図６に示すように、制御部１８は、まず、ウェハＷに対する一連の基板処理を開始するタイミングで、第１開閉部６１に対して開信号を出力する（時間ｔ１）。これにより、第１開閉部６１が開くが、第２開閉部６２が閉状態であるため、時間ｔ１においてはノズル４１からの処理液の吐出は開始されない。
【００６３】
つづいて、制御部１８は、第２開閉部６２に対して開信号を出力する（時間ｔ２）。これにより、第２開閉部６２が予め設定された設定開速度で開いていき、供給流路４２を流れる処理液の流量が０から目標流量に向けて徐々に増加していく。
【００６４】
つづいて、制御部１８は、第２開閉部６２に対して閉信号を出力する（時間ｔ３）。これにより、第２開閉部６２が予め設定された閉速度で閉じていき、供給流路４２を流れる処理液の流量が０に向けて徐々に減少していく。
【００６５】
第１監視処理は、第２開閉部６２に対して閉信号が出力された時点からの第１期間Ｔ１において実行される。第１期間Ｔ１の長さは、閉信号が出力されてから第２開閉部６２が完全に閉じて流量が０になるまでの予想時間を超える長さに設定される。たとえば、第１期間Ｔ１の長さは、２秒間に設定される。
【００６６】
第１監視処理において、制御部１８は、閉信号の出力後に流量測定部８１によって測定された流量の積算量に基づき、第２開閉部６２の動作異常の有無を監視する。
【００６７】
すなわち、制御部１８は、第１期間Ｔ１の経過後、第１期間Ｔ１における流量測定部８１の測定結果を積算し、積算量が予め決められた正常範囲に含まれるか否かを判定する。そして、積算量が正常範囲から外れている場合に、スピードコントローラ６２ｃの動作異常を検知する。
【００６８】
具体的には、制御部１８は、積算量が正常範囲を超えた場合には、処理液の液垂れを検知する。また、制御部１８は、積算量が正常範囲を下回った場合には、供給流路４２内における処理液の液切れを検知する。
【００６９】
第１監視処理において、「処理液の液垂れを検知する」とは、処理液の液垂れが発生したことまたは処理液の液垂れが発生する可能性があることを検知することを意味する。また、「処理液の液切れを検知する」とは、処理液の液切れが発生したことまたは処理液の液切れが発生する可能性があることを検知することを意味する。
【００７０】
なお、制御部１８は、積算量の正常範囲からの逸脱量に応じて、液垂れまたは液切れが発生する可能性がある状態であるのか、あるいは、液垂れまたは液切れが実際に発生している状態なのかを判別するようにしてもよい。たとえば、制御部１８は、積算量の正常範囲からの逸脱量が閾値を超えていない場合に、液垂れまたは液切れが発生する可能性があることを検知し、閾値を超えている場合に、液垂れまたは液切れが実際に発生していることを検知する。
【００７１】
ここでは、制御部１８が流量測定部８１によって測定された流量を積算することとしたが、流量の積算処理は、流量測定部８１が行ってもよい。この場合、制御部１８は、流量測定部８１から積算量の情報を取得すればよい。
【００７２】
つづいて、制御部１８は、第１期間Ｔ１が経過した後、第２監視処理を開始する（時間ｔ４）。
【００７３】
第２監視処理において、制御部１８は、流量測定部８１によって測定された流量に基づき、第１開閉部６１または第２開閉部６２の動作異常の有無を監視する。
【００７４】
ここで、たとえば第１開閉部６１または第２開閉部６２に微小な異物が混入した場合、第１開閉部６１または第２開閉部６２からリークする処理液の量はごく少量となる。このような場合に、単に流量測定部８１の測定結果を監視したのでは、流量の変化が、第１開閉部６１または第２開閉部６２からのリークによるものなのか、あるいは、ノイズによるものなのかを判別することが困難である。
【００７５】
そこで、制御部１８は、流量測定部８１によって測定された流量を高速フーリエ変換（Fast  Fourier  Transform；ＦＦＴ）した値に基づいて第１開閉部６１または第２開閉部６２の動作異常の有無を監視することとした。
【００７６】
かかる点について図７Ａおよび図７Ｂを参照して説明する。図７Ａは、処理液の液垂れが発生していない場合における流量測定部８１の測定結果の実データおよびＦＦＴ後のデータを示す図である。また、図７Ｂは、処理液の液垂れが発生した場合における流量測定部８１の測定結果の実データおよびＦＦＴ後のデータを示す図である。
【００７７】
図７Ａの上図に示すように、処理液の液垂れが発生していない場合、すなわち、処理液が供給流路４２内においてほとんど静止した状態であっても、流量測定部８１の測定結果には流量の変化が見られる。この流量の変化は、流量測定部８１の測定結果に含まれるノイズに起因するものである。
【００７８】
また、図７Ｂの上図に示すように、液垂れが発生すると、流量測定部８１の測定結果には、液垂れが発生していない場合と比べて大きな流量の変化が見られる。しかしながら、測定結果にはノイズも含まれるため、液垂れの発生を精度良く検知することが困難である。
【００７９】
一方、図７Ａおよび図７Ｂの下図に示すＦＦＴ後のデータを見ると、液垂れが発生した場合には、液垂れが発生しない場合と比べて振幅の最大値が大幅に変化することがわかる（図７ＢのＨ参照）。たとえば、図７Ａおよび図７Ｂに示す例では、液垂れが発生した場合におけるＦＦＴ後のデータの振幅の最大値は、液垂れが発生しない場合と比較して１０倍程度大きくなっている。
【００８０】
そこで、制御部１８は、流量測定部８１の測定結果を高速フーリエ変換し、高速フーリエ変換後の値（最大値）を予め決められた閾値と比較して、閾値を超えた場合に、液垂れの発生を検知する。
【００８１】
このように、流量測定部８１の測定結果を高速フーリエ変換することで、液垂れが発生した場合の流量の変化点を捉えることができ、液垂れの発生を精度良く検知することができる。
【００８２】
なお、ここでは、高速フーリエ変換を行うこととしたが、通常のフーリエ変換（Fourier  Transform；ＦＴ）を行ってもよい。
【００８３】
図６に示すように、第２監視処理は、第１監視処理の終了後すなわち第１期間Ｔ１の経過後に実行される。第１期間Ｔ１は、供給流路４２内の処理液の流量が徐々に減少していく期間、すなわち、流量が変化する期間を含んでいる。このため、かかる第１期間Ｔ１を除いた第２期間Ｔ２を第２監視処理による監視期間とすることで、第２開閉部６２による流量の変化を液垂れによる流量の変化と誤検知してしまうことを防止することができる。
【００８４】
また、第２期間Ｔ２は、第１期間Ｔ１が経過し、さらに予め決められた時間が経過した後の期間に設定される。このように設定することで、第２開閉部６２による流量の変化を液垂れによる流量の変化と誤検知してしまうことをより確実に防止することができる。
【００８５】
第２監視処理は、次のウェハＷに対する基板処理が開始されて第２開閉部６２に再び開信号が出力されるまで継続される。言い換えれば、第２期間Ｔ２は、第１期間Ｔ１が経過し、さらに予め決められた時間が経過した後の時点（時間ｔ４）から、第２開閉部６２に対して再度開信号が出力される時点（時間ｔ７）までの期間に設定される。
【００８６】
ところで、液垂れの原因としては、第１開閉部６１またはエアオペレートバルブ６２ａからの処理液のリークが考えられる。制御部１８は、第２監視処理において、液垂れが発生したことを検知した場合に、さらに、液垂れの原因である処理液のリークが、第１開閉部６１およびエアオペレートバルブ６２ａのどちらで発生しているかを特定してもよい。
【００８７】
たとえば、時間ｔ４から時間ｔ５までの期間において、第１開閉部６１は開いており、エアオペレートバルブ６２ａは閉じている。したがって、この期間において、液漏れが検知された場合、制御部１８は、エアオペレートバルブ６２ａからの処理液のリークの発生を検知することができる。
【００８８】
一方、時間ｔ５から時間ｔ６までの期間において、第１開閉部６１およびエアオペレートバルブ６２ａの両方が閉じている。したがって、時間ｔ４から時間ｔ５までの期間において液漏れが検知されず、時間ｔ５から時間ｔ６までの期間において液漏れが検知された場合、制御部１８は、第１開閉部６１からの処理液のリークの発生を検知することができる。
【００８９】
図５に戻り、異常対応処理部１８ｃについて説明する。制御部１８は、第１監視処理または第２監視処理において異常を検知した場合に、異常対応処理部１８ｃとして機能し、所定の異常対応処理を実行する。
【００９０】
たとえば、制御部１８は、たとえば表示部や音声出力部等の出力装置２００に対して警告画面や警告音等の警告情報を出力させる。これにより、作業者に異常が発生したことを認識させることができる。なお、制御部１８は、第１監視処理または第２監視処理において検知した異常の内容に応じて出力装置２００に出力させる警告情報の内容を変更してもよい。
【００９１】
また、制御部１８は、現在実行中の基板処理を中断する。これにより、たとえば次の基板処理等において処理液の液漏れが発生し、漏れ出た処理液がウェハＷに付着することによって製品不良が生じることを防止することができる。
【００９２】
次に、上述した第１監視処理および第２監視処理の手順について図８および図９を参照して説明する。図８は、第１監視処理の手順を示すフローチャートであり、図９は、第２監視処理の手順を示すフローチャートである。
【００９３】
まず、図８を参照して第１監視処理の手順について説明する。図８に示すように、制御部１８は、第１期間Ｔ１（図６参照）が開始されると、流量測定部８１の測定結果を取得し（ステップＳ１０１）、取得した測定結果を記憶部１９に記憶する。つづいて、制御部１８は、第１期間Ｔ１が終了したか否かを判定し（ステップＳ１０２）、第１期間Ｔ１が終了していない場合には（ステップＳ１０２，Ｎｏ）、第１期間Ｔ１が終了するまでステップＳ１０１の処理を繰り返す。一方、第１期間Ｔ１が終了すると（ステップＳ１０２，Ｙｅｓ）、制御部１８は、ステップＳ１０１において取得した測定結果を積算する（ステップＳ１０３）。
【００９４】
つづいて、制御部１８は、測定結果の積算量が正常範囲の上限値を超えたか否かを判定する（ステップＳ１０４）。この処理において、積算量が正常範囲の上限値を超えたと判定した場合（ステップＳ１０４，Ｙｅｓ）、制御部１８は、液垂れを検知して（ステップＳ１０５）、異常対応処理を実行する（ステップＳ１０６）。たとえば、制御部１８は、基板処理を中断し、出力装置２００に対して警告情報を出力する。
【００９５】
一方、ステップＳ１０４において、積算量が正常範囲の上限値を超えていない場合（ステップＳ１０４，Ｎｏ）、制御部１８は、積算量が正常範囲の下限値を下回ったか否かを判定する（ステップＳ１０７）。この処理において、積算量が正常範囲の下限値を下回ったと判定した場合（ステップＳ１０７，Ｙｅｓ）、制御部１８は、液切れを検知して（ステップＳ１０８）、異常対応処理を実行する（ステップＳ１０９）。たとえば、制御部１８は、基板処理を中断し、出力装置２００に対して警告情報を出力する。
【００９６】
ステップＳ１０７において、積算量が正常範囲の下限値を下回っていない場合（ステップＳ１０７，Ｎｏ）、処理流体供給部４０における異常なしとの正常判定を行う（ステップＳ１１０）。ステップＳ１０６、ステップＳ１０９またはステップＳ１１０の処理を終えると、制御部１８は、第１監視処理を終える。
【００９７】
つづいて、図９を参照して第２監視処理の手順について説明する。図９に示すように、制御部１８は、第２期間Ｔ２（図６参照）が開始されると、流量測定部８１の測定結果を取得し（ステップＳ２０１）、取得した測定結果に対して高速フーリエ変換を行う（ステップＳ２０２）。
【００９８】
つづいて、制御部１８は、高速フーリエ変換後の値が予め決められた閾値を超えたか否かを判定する（ステップＳ２０３）。この処理において、高速フーリエ変換後の値が予め決められた閾値を超えたと判定した場合（ステップＳ２０３，Ｙｅｓ）、制御部１８は、液垂れを検知して（ステップＳ２０４）、異常対応処理を実行する（ステップＳ２０５）。たとえば、制御部１８は、基板処理を中断し、出力装置２００に対して警告情報を出力する。
【００９９】
ステップＳ２０３において高速フーリエ変換後の値が閾値を超えていない場合（ステップＳ２０３，Ｎｏ）、制御部１８は、第２期間Ｔ２が終了したか否かを判定する（ステップＳ２０６）。そして、第２期間Ｔ２が終了していない場合（ステップＳ２０６，Ｎｏ）、制御部１８は、処理をステップＳ２０１へ戻し、ステップＳ２０１〜Ｓ２０３およびステップＳ２０６の処理を繰り返す。
【０１００】
一方、ステップＳ２０６において、第２期間Ｔ２が終了したと判定した場合（ステップＳ２０６，Ｙｅｓ）、制御部１８は、処理流体供給部４０における異常なしとの正常判定を行う（ステップＳ２０７）。ステップＳ２０５またはステップＳ２０７の処理を終えると、制御部１８は、第２監視処理を終える。
【０１０１】
上述してきたように、第１の実施形態に係る基板処理システム１（処理装置の一例）は、チャンバ２０と、ノズル４１と、流量測定部８１と、第２開閉部６２（流路開閉部の一例）と、制御部１８とを備える。チャンバ２０は、ウェハＷ（被処理体の一例）を収容する。ノズル４１は、チャンバ２０内に設けられ、ウェハＷへ向けて処理液を供給する。流量測定部８１は、ノズル４１に供給される処理液の流量を測定する。第２開閉部６２は、ノズル４１への処理液の供給流路４２の開閉を行う。制御部１８は、第２開閉部６２に対し、供給流路４２を閉じる閉動作を行わせる閉信号を出力する。また、制御部１８は、閉信号の出力後に流量測定部８１によって測定された流量の積算量に基づき、第２開閉部６２の動作異常を検知する。
【０１０２】
したがって、第１の実施形態に係る基板処理システム１によれば、第２開閉部６２の異常を検知することができる。
【０１０３】
（第２の実施形態）
次に、第２の実施形態に係る処理流体供給部の構成について図１０を参照して説明する。図１０は、第２の実施形態に係る処理流体供給部の構成の一例を示す図である。なお、以下の説明では、既に説明した部分と同様の部分については、既に説明した部分と同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
【０１０４】
図１０に示すように、第２の実施形態に係る処理流体供給部４０Ａは、圧力測定部８２をさらに備える。圧力測定部８２は、第２開閉部６２よりも下流側における供給流路４２の上昇部分４２ａに分岐路４４を介して設けられ、上昇部分４２ａにおける処理液の水頭圧を測定する。圧力測定部８２の測定結果は、制御装置４へ出力される。
【０１０５】
制御装置４の制御部１８は、監視部１８ｂとして機能する場合、上述した第２期間Ｔ２（図６参照）において、圧力測定部８２によって測定された水頭圧の変化量に基づき、第１〜第３開閉部６３の動作異常を検知する。
【０１０６】
第１開閉部６１または第２開閉部６２にリークが発生した場合、上昇部分４２ａに処理液が流入するため、処理液の液面位置が上昇し（図１０のＳ０１参照）、処理液の水頭圧が増加する。制御部１８は、かかる水頭圧の増加に基づいて第１開閉部６１または第２開閉部６２の動作異常を検知することができる。具体的には、制御部１８は、第２期間Ｔ２における水頭圧の増加量が閾値を超えた場合に、第１開閉部６１または第２開閉部６２からの処理液のリークを検知する。
【０１０７】
一方、第３開閉部６３にリークが発生した場合、上昇部分４２ａ内の処理液がドレイン流路４３から流出するため、処理液の液面位置が下降し（図１０のＳ０２参照）、処理液の水頭圧が低下する。制御部１８は、かかる水頭圧の減少に基づいて第３開閉部６３の動作異常を検知することができる。具体的には、制御部１８は、第２期間Ｔ２における水頭圧の減少量が閾値を超えた場合に、第３開閉部６３からの処理液のリークを検知する。
【０１０８】
このように、第２の実施形態に係る基板処理システム１は、圧力測定部８２を備える。圧力測定部８２は、第２開閉部６２よりも下流側の供給流路４２のうち処理液を上昇させる上昇部分４２ａに設けられ、上昇部分４２ａにおける処理液の水頭圧を測定する。そして、制御部１８は、第２開閉部６２への閉信号の出力後に圧力測定部８２によって測定された水頭圧の変化量に基づき、第１〜第３開閉部６１〜６３の動作異常を検知する。
【０１０９】
水頭圧の変化に基づく異常検知は、リークした処理液の蓄積量によって異常の有無を検知するものである。したがって、上述した第２監視処理では検知することが困難なより微小なリークの発生を検知することができる。
【０１１０】
なお、図１０では、鉛直方向に沿って延在する上昇部分４２ａに処理液の液面が位置するようにサックバック処理が行われる場合の例を示したが、サックバック処理後の液面位置は図１０に示す位置に限らない。図１１Ａおよび図１１Ｂは、サックバック処理後の液面位置の変形例を示す図である。
【０１１１】
たとえば、図１１Ａに示すように、供給流路４２には、上昇部分４２ａよりも下流側に水平部分４２ｂが設けられ、上昇部分４２ａと水平部分４２ｂとの間には湾曲部分４２ｃが設けられる。
【０１１２】
湾曲部分４２ｃにおいても処理液の高さ位置が変化しうる。このため、制御部１８は、湾曲部分４２ｃに処理液の液面が位置するようにサックバック処理を行ってもよい。
【０１１３】
また、図１１Ｂに示すように、下流側に向かって上昇するスロープ部分４２ｄを水平部分４２ｂに設け、かかるスロープ部分４２ｄに処理液の液面が位置するようにサックバック処理を行ってもよい。
【０１１４】
このように、上昇部分４２ａよりも下流側の上昇部分（湾曲部分４２ｃまたはスロープ部分４２ｄ）にサックバック処理後の液面位置を設定することで、処理液の液面からノズル４１の吐出口までの距離を短くすることができる。したがって、たとえば第２開閉部６２に開信号を出力してから、ノズル４１から処理液が吐出されるまでのタイムラグを短くすることができる。また、ノズル４１の吐出口から供給流路４２の内部に処理液の雰囲気が進入することを抑制することができる。
【０１１５】
（第３の実施形態）
第１の実施形態において説明したＦＦＴを用いて第１開閉部６１または第２開閉部６２の動作異常の有無を監視した場合、リークの誤検知が発生することがある。この点について図１２Ａおよび図１２Ｂを参照して説明する。
【０１１６】
図１２Ａは、実際にリークが生じた場合における流量の時間変化を表す図である。図１２Ａに示すように、実際にリークが生じた場合、急激な流量変化が生じることがわかる（図１２ＡのＩ部参照）。
【０１１７】
一方、図１２Ｂは、リークの誤検知が発生した場合における流量の時間変化を表す図である。図１２Ｂに示すように、リークが発生していない場合、急激な流量変化は生じない。しかしながら、このデータをＦＦＴした場合、図７Ｂの下図に示すような、低周波数領域にピークが現れる分布が得られることがあり、ステップＳ２０３において振幅が閾値を超えてしまうと、リークが誤検知されるおそれがある。
【０１１８】
そこで、第３の実施形態では、この様なリークの誤検知を防止するため、以下のような判定処理を行う。
【０１１９】
図１３は、第３の実施形態における第２監視処理の手順を示すフローチャートを示す図である。なお、図１３に示すステップＳ２０１〜Ｓ２０７の処理は、図９に示すステップＳ２０１〜Ｓ２０７と同様の処理であるため、ここでの説明は省略する。
【０１２０】
第３の実施形態では、ステップＳ２０３においてＦＦＴ後の値が予め決められた閾値を超えたと判断した場合に（ステップＳ２０３，Ｙｅｓ）、比較波形の形状生成処理を行う（ステップＳ３０１）。
【０１２１】
具体的には、ＦＦＴの実行前の測定結果（たとえば、図７Ａおよび図７Ｂの上図に示すデータ）に対して平均化処理を行う。たとえば、１つのサンプリングの時間の値に関して、その前後の１２点（計２５点）の平均値をその時間における平均値とする。この様な演算を行った後のグラフを図１４Ａおよび図１４Ｂの上図に示す。なお、図１４Ａは、図１２Ａのデータに対して平均化処理を行った後のグラフであり、図１４Ｂは、図１２Ｂのデータに対して平均化処理を行った後のグラフである。
【０１２２】
なお、図１４Ａおよび図１４Ｂの上図では、得られた平均値に対してスケール変換まで行っている。つまり、平均値の最大値を１０００、最小値を−１０００として、全ての平均値がその間の値を取るように変換を行っている。
【０１２３】
次に、生成した形状とリーク波形との比較処理を行う（ステップＳ３０２）。
【０１２４】
リーク波形は、予め記憶されている理想のリーク計測結果を示すパターンの波形であり、図１４Ａおよび図１４Ｂの下図に示すように、最低値−１０００、最大値１０００の値を持ち、瞬間的に−１０００から１０００へと変化する。この変化する時間（サンプリング数）は、実際の装置を用いて実験的に求めれば良い。
【０１２５】
第３の実施形態では、図１４Ａおよび図１４Ｂの下図に示すように、生成した形状が５００の値を超えたタイミングにこの波形の変化点の時刻を合わせ込み、全ての区間に関して生成した形状とリーク波形との積算値を取る。図１５Ａに示すように、実際にリークが生じた場合の波形では、積算値の大部分が区間全体にかけて０．５〜１．０の間の値を取り、リーク波形との一致度が高いことがわかる。一方、図１５Ｂに示すように、リークが生じていない、すなわちＦＦＴ演算のみでは誤検出となる場合の波形では、積算値が区間全体にかけて大きく変動し、リーク波形との一致度が低いことがわかる。
【０１２６】
第３の実施形態では、全区間での積算値の平均値を算出し、算出した平均値が閾値（例えば０．５）よりも大きい場合には、リーク波形に近い形状を有していると判定し（ステップＳ３０２，Ｙｅｓ）、液垂れを検知する（ステップＳ２０４）。一方、算出した平均値が閾値よりも小さい場合には、リーク波形に近い形状を有してないと判定し（ステップＳ３０２，Ｎｏ）、処理流体供給部４０における異常なしとの正常判定を行う（ステップＳ２０７）。
【０１２７】
以上説明したように、第３の実施形態では、ＦＦＴ処理を用いた判定に加え、ＦＦＴ前の測定流量の波形と所定のリーク波形とを比較した比較結果とＦＦＴ後の値の双方に基づき、第１開閉部６１または第２開閉部６２の液垂れを検知するようにした。この様に、ＦＦＴと波形比較の双方により検知処理を行うことにより、誤検知の少ない、信頼性の高い異常検知が可能となるという効果がある。
【０１２８】
（第４の実施形態）
図１６は、第４の実施形態に係る自動調整処理の手順を示すフローチャートである。図１６に示すように、制御部１８は、第１期間Ｔ１（図６参照）における積算量が正常範囲内であるか否かを判定する（ステップＳ４０１）。そして、積算量が正常範囲から外れている場合（ステップＳ４０１，Ｎｏ）、制御部１８は、次回の第１期間Ｔ１における積算量が正常範囲内となるように、スピードコントローラ６２ｃを制御してエアオペレートバルブ６２ａの設定閉速度を調整してもよい（ステップＳ４０２）。積算量が正常範囲内である場合（ステップＳ４０１，Ｙｅｓ）、制御部１８は、設定閉速度の調整を行うことなく自動調整処理を終える。
【０１２９】
スピードコントローラ６２ｃは、たとえば、エア供給管６２ｂの流路断面積を変更することによってエアオペレートバルブ６２ａに供給される空気の流量を調整するニードル弁と、このニードル弁を駆動させる駆動部とを有しており、エアオペレートバルブ６２ａの閉速度が予め設定された設定閉速度となるように上記ニードル弁の突出量が予め設定されている。制御部１８は、積算量が正常範囲から外れている場合に、上記駆動部を制御してニードル弁の突出量を変更することにより、設定閉速度を変更する。
【０１３０】
具体的には、記憶部１９（図１参照）は、積算量の基準値からのずれ量と、スピードコントローラ６２ｃの調整量とを関連付けた調整情報を記憶する。ここで、積算量の基準値からのずれ量は、正常範囲の中央値（上限値と下限値とを足して２で割った値、基準値の一例）と積算量との差を表す。たとえば、正常範囲の上限値が２０ｍＬであり、下限値が１０ｍＬである場合の中央値は１５ｍＬである。この場合において、積算量が２５ｍＬであるとき、積算量のずれ量は、＋１０ｍＬである。また、積算量が５ｍＬであるとき、積算量のずれ量は、−１０ｍＬである。
【０１３１】
また、スピードコントローラ６２ｃの調整量とは、たとえば、積算量を正常範囲の中央値と一致させるために必要なニードル弁の駆動量である。たとえば、調整情報は、積算量のずれ量「＋１０ｍＬ」とニードル弁の駆動量「＋１回転」とを関連付け、積算量のずれ量「−１０ｍＬ」とニードル弁の駆動量「−１回転」とを関連付ける。なお、ずれ量の「＋」は、積算量が中央値よりも大きいことを表し、ずれ量の「−」は、積算量が中央値よりも小さいことを表している。また、ニードル弁の駆動量の「＋」、「−」は、ニードル弁の回転方向を表している。
【０１３２】
制御部１８は、ステップＳ４０２において、まず、積算量のずれ量を算出する。つづいて、制御部１８は、記憶部１９に記憶されている調整情報を参照して、算出したずれ量に対応するスピードコントローラ６２ｃの調整量すなわちニードル弁の駆動量を決定する。そして、制御部１８は、決定した回転数分だけ、スピードコントローラ６２ｃのニードル弁を回転させてニードル弁の突出量を変更する。これにより、エア供給管６２ｂの流路断面積が変化し、これに伴い、エアオペレートバルブ６２ａに対する空気の供給速度（流速）が変化する。この結果、エアオペレートバルブ６２ａの弁の閉速度が変更される。すなわち、設定閉速度が変更される。
【０１３３】
たとえば、積算量のずれ量が「＋１０ｍＬ」であった場合、制御部１８は、エア供給管６２ｂの流路断面積が小さくなる方向にニードル弁を１回転させる。これにより、液垂れが防止される。また、積算量のずれ量が「−１０ｍＬ」であった場合、制御部１８は、エア供給管６２ｂの流路断面積が大きくなる方向にニードル弁を１回転させる。これにより、液切れが防止される。
【０１３４】
このように、制御部１８は、第２開閉部６２に対する閉信号の出力後に流量測定部８１によって測定された流量の積算量が正常範囲から外れた場合に、スピードコントローラ６２ｃを制御して設定閉速度を変更してもよい。具体的には、制御部１８は、調整情報に基づき駆動部を制御して、基準値とのずれ量に対応する駆動量でニードル弁を駆動させることにより、設定閉速度を変更してもよい。これにより、たとえば、作業者による手動調整を行うことなく、エアオペレートバルブ６２ａの閉速度を液垂れおよび液切れを生じさせない適切な閉速度に調整することができる。
【０１３５】
なお、ここでは、積算量のずれ量が、正常範囲の中央値を基準とした場合のずれ量であることとしたが、基準とする値は、正常範囲内の値であればよく、必ずしも中央値であることを要しない。
【０１３６】
また、制御部１８は、自動調整処理において、必ずしも上述した調整情報を用いることを要しない。たとえば、制御部１８は、積算量が正常範囲から外れていた場合に、積算量のずれ量に関わりなく、予め決められた一定の調整量でスピードコントローラ６２ｃを調整してもよい。この場合、制御部１８は、次の第１期間Ｔ１における積算量も正常範囲から外れていれば、再び、予め決められた一定の調整量でスピードコントローラ６２ｃを調整する。この処理を繰り返すことで、積算量を正常範囲に収めることができる。
【０１３７】
（第５の実施形態）
上述した第４の実施形態では、エアオペレートバルブ６２ａの閉速度を予め設定された設定閉速度に調整する調整部の一例としてスピードコントローラ６２ｃを挙げて説明したが、調整部は、スピードコントローラ６２ｃに限定されない。たとえば、調整部は、電空レギュレータであってもよい。以下、調整部が電空レギュレータである場合の例について図１７を参照して説明する。図１７は、第５の実施形態に係る処理流体供給部の構成の一例を示す図である。
【０１３８】
図１７に示すように、第５の実施形態に係る処理流体供給部４０Ｂは、第２開閉部６２Ｂを備える。第２開閉部６２Ｂは、エアオペレートバルブ６２ａと、エア供給管６２ｂと、電空レギュレータ６２ｄとを備える。
【０１３９】
電空レギュレータ６２ｄは、エア供給管６２ｂに設けられる。電空レギュレータ６２ｄは、電気信号により空気圧を調整する機器であり、エアオペレートバルブ６２ａに対して供給される空気の圧力を制御部１８から入力される電気信号に応じて調整する。制御部１８は、電空レギュレータ６２ｄを制御することにより、エアオペレートバルブ６２ａの閉速度が予め設定された設定閉速度となるように、エアオペレートバルブ６２ａに対する供給圧力を調整する。
【０１４０】
制御部１８は、第２開閉部６２Ｂに対する閉信号の出力後に流量測定部８１によって測定された流量の積算量が正常範囲から外れた場合、電空レギュレータ６２ｄを制御して、エアオペレートバルブ６２ａに対する供給圧力を調整する。これにより、エアオペレートバルブ６２ａの設定閉速度が変更される。
【０１４１】
たとえば、記憶部１９は、積算量のずれ量と減圧速度の変化量とを関連付けた調整情報を記憶する。制御部１８は、ステップＳ４０１において積算量が正常範囲から外れていると判定すると（ステップＳ４０１，Ｎｏ）、ステップＳ４０２において、まず、積算量のずれ量を算出する。つづいて、制御部１８は、記憶部１９に記憶されている調整情報を参照して、算出したずれ量に対応する電空レギュレータ６２ｄの調整量すなわち供給圧力の変化量を決定する。そして、制御部１８は、電空レギュレータ６２ｄからエアオペレートバルブ６２ａに供給される空気の圧力が、元の供給圧力から上記決定した変化量だけ変化した速度で減少するように電空レギュレータ６２ｄを制御する。
【０１４２】
このように、制御部１８は、調整部が電空レギュレータ６２ｄである場合には、電空レギュレータ６２ｄを制御して、エアオペレートバルブ６２ａに対する供給圧力を変更することで、エアオペレートバルブ６２ａの設定閉速度を変更することが可能である。
【０１４３】
上述した実施形態では、被処理体がウェハＷである例を挙げたが、被処理体に対し、処理流体を供給することによってこの被処理体を処理する処理装置全般に上述した実施形態を適用してもよい。
【０１４４】
さらなる効果や変形例は、当業者によって容易に導き出すことができる。このため、本発明のより広範な態様は、以上のように表しかつ記述した特定の詳細および代表的な実施形態に限定されるものではない。したがって、添付の特許請求の範囲およびその均等物によって定義される総括的な発明の概念の精神または範囲から逸脱することなく、様々な変更が可能である。
【符号の説明】
【０１４５】
Ｗ  ウェハ
１  基板処理システム
４  制御装置
１６  処理ユニット
１８  制御部
２０  チャンバ
４０  処理流体供給部
４１  ノズル
６１  第１開閉部
６２  第２開閉部
６２ａ  エアオペレートバルブ
６２ｂ  エア供給管
６２ｃ  スピードコントローラ
６３  第３開閉部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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【図１２Ａ】
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【図１２Ｂ】
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【図１３】
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【図１４Ａ】
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【図１４Ｂ】
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【図１５Ａ】
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【図１５Ｂ】
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【図１６】
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【図１７】
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