(57)【要約】      （修正有）【課題】クラックが生じにくい赤外線反射フィルムを提供する。【解決手段】基材１と、赤外線反射部４とをこの順に有する赤外線反射フィルム１０であって、赤外線反射部４は、一または二以上の金属層２と、一または二以上の金属酸化物層３とを有し、赤外線反射フィルム１０は、円筒形マンドレル屈曲試験においてシャフト径２ｍｍであるシャフトを用いた場合であってもクラックが生じない、赤外線反射フィルム。【選択図】図１
2018185406.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、赤外線反射部とをこの順に有する赤外線反射フィルムであって、
上記赤外線反射部は、一または二以上の金属層と、一または二以上の金属酸化物層とを有し、
上記赤外線反射フィルムは、円筒形マンドレル屈曲試験においてシャフト径２ｍｍであるシャフトを用いた場合であってもクラックが生じない、赤外線反射フィルム。
【請求項２】
基材と、赤外線反射部とをこの順に有する赤外線反射フィルムであって、
上記赤外線反射部は、一または二以上の金属層と、一または二以上の金属酸化物層とを有し、
上記一または二以上の金属酸化物層の少なくとも一層は、有機残渣物を含有する、赤外線反射フィルム。
【請求項３】
上記赤外線反射部において、上記金属酸化物層と、上記金属酸化物層よりも基材側で隣り合う上記金属層との界面に導電層が存在しない、請求項１または請求項２に記載の赤外線反射フィルム。
【請求項４】
上記一または二以上の金属酸化物層の少なくとも一層は、防錆剤を含有する、請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載の赤外線反射フィルム。
【請求項５】
上記基材が、ポリエステルを含有する、請求項１から請求項４までのいずれかの請求項に記載の赤外線反射フィルム。
【請求項６】
請求項１から請求項５までのいずれかの請求項に記載の赤外線反射フィルムと、
上記基材を基準として、上記赤外線反射部とは反対側に位置する粘着層と、
上記粘着層を基準として、上記基材とは反対側に位置する剥離フィルムと、
を有する、剥離フィルム付赤外線反射フィルム。
【請求項７】
請求項１から請求項５までのいずれかの請求項に記載の赤外線反射フィルムと、
上記基材を基準として、上記赤外線反射部とは反対側に位置する粘着層と、
上記粘着層を基準として、上記基材とは反対側に位置するガラス部材と、
を有する、窓ガラス。
【請求項８】
請求項１から請求項５までのいずれかの請求項に記載の赤外線反射フィルムを製造する赤外線反射フィルムの製造方法であって、
上記基材を準備する基材準備工程と、
上記基材の一方の面側に、上記赤外線反射部を形成する赤外線反射部形成工程と、
を有し、
上記赤外線反射部形成工程において、上記一または二以上の金属酸化物層の少なくとも一層を塗工法により形成する、赤外線反射フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、赤外線反射フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば窓ガラスの断熱を目的として、金属層および金属酸化物層を有する赤外線反射部を備える赤外線反射フィルムを設置する場合がある。金属層および金属酸化物層を形成する方法としては、一般的にはスパッタリング法が挙げられる。例えば特許文献１には、反応性スパッタリング法により金属酸化物層（ＴｉＯｘ）を形成し、スパッタリング法により金属層（Ａｇ）を形成する方法が開示されている。
【０００３】
なお、特許文献２、３には、ポリオレフィンフィルムの面上に、ゾル−ゲル法により形成された金属酸化物薄膜を有する光透過性積層フィルムが開示されている。また、特許文献４には、断熱層の少なくとも一方の面に、シリケート系樹脂を含むハードコート層が形成されている断熱積層体が開示されている。また、特許文献５には、支持体と、繊維状電動粒子含有層とを有する窓用断熱フィルムが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１７−０５３９６７号公報
【特許文献２】特開２０１５−１８９２３２号公報
【特許文献３】特開２０１５−１８９２３３号公報
【特許文献４】国際公開２０１５／０７２１０９
【特許文献５】特開２０１６−３３６２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
赤外線反射部を構成する金属層および金属酸化物層を、全てスパッタリング法により成膜した場合、得られる赤外線反射部の可撓性が低い。その結果、例えば赤外線反射フィルムを屈曲させた場合にクラックが生じやすい。本開示は、上記実情に鑑みてなされたものであり、クラックが生じにくい赤外線反射フィルムを提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示においては、基材と、赤外線反射部とをこの順に有する赤外線反射フィルムであって、上記赤外線反射部は、一または二以上の金属層と、一または二以上の金属酸化物層とを有し、上記赤外線反射フィルムは、円筒形マンドレル屈曲試験においてシャフト径２ｍｍであるシャフトを用いた場合であってもクラックが生じない、赤外線反射フィルムを提供する。
【０００７】
本開示においては、基材と、赤外線反射部とをこの順に有する赤外線反射フィルムであって、上記赤外線反射部は、一または二以上の金属層と、一または二以上の金属酸化物層とを有し、上記一または二以上の金属酸化物層の少なくとも一層は、有機残渣物を含有する、赤外線反射フィルムを提供する。
【０００８】
本開示においては、上述した赤外線反射フィルムと、上記基材を基準として、上記赤外線反射部とは反対側に位置する粘着層と、上記粘着層を基準として、上記基材とは反対側に位置する剥離フィルムと、を有する、剥離フィルム付赤外線反射フィルムを提供する。
【０００９】
本開示においては、上述した赤外線反射フィルムと、上記基材を基準として、上記赤外線反射部とは反対側に位置する粘着層と、上記粘着層を基準として、上記基材とは反対側に位置するガラス部材と、を有する、窓ガラスを提供する。
【００１０】
本開示においては、上述した赤外線反射フィルムを製造する赤外線反射フィルムの製造方法であって、上記基材を準備する基材準備工程と、上記基材の一方の面側に、上記赤外線反射部を形成する赤外線反射部形成工程と、を有し、上記赤外線反射部形成工程において、上記一または二以上の金属酸化物層の少なくとも一層を塗工法により形成する、赤外線反射フィルムの製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１１】
本開示の赤外線反射フィルムは、クラックが生じにくいという利点を有する。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本開示の赤外線反射フィルムの一例を示す概略断面図である。
【図２】本開示の赤外線反射フィルムの一例を示す概略断面図である。
【図３】本開示の剥離フィルム付赤外線反射フィルムの一例を示す概略断面図である。
【図４】本開示の窓ガラスの一例を示す概略断面図である。
【図５】本開示の窓ガラスの一例を示す概略平面図である。
【図６】本開示の赤外線反射フィルムの製造方法一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
Ａ．赤外線反射フィルム
図１は、本開示の赤外線反射フィルムの一例を示す概略断面図である。図１に示す赤外線反射フィルム１０は、厚さ方向において、基材１と、赤外線反射部４とをこの順に有する。赤外線反射部４は、基材１側から順に、金属層２と、金属酸化物層３とを有する。本開示においては、赤外線反射フィルム１０が、円筒形マンドレル屈曲試験においてシャフト径（円筒形の直径）２ｍｍであるシャフトを用いた場合であってもクラックが生じないことが好ましい。また、本開示においては、金属酸化物層３が、有機残渣物を含有することが好ましい。
【００１４】
本開示によれば、赤外線反射部の可撓性が高いため、赤外線反射フィルムを屈曲させた場合であっても、クラックが生じにくい。上述したように、赤外線反射部を構成する金属層および金属酸化物層を、全てスパッタリング法により成膜した場合、得られる赤外線反射部の可撓性が低い。これに対して、例えば塗工法により形成された金属酸化物層は、通常、スパッタリング等の蒸着法により形成された金属酸化物膜よりも可撓性が高いため、クラックの発生を抑制できる。
【００１５】
ここで、赤外線反射フィルムは、円筒形マンドレル屈曲試験においてシャフト径２ｍｍであるシャフトを用いた場合であってもクラックが生じないことが好ましい。円筒形マンドレル屈曲試験については、後述する実施例で詳述する。赤外線反射フィルムは、シャフト径１ｍｍであるシャフトを用いた場合であってもクラックが生じないことがより好ましい。
【００１６】
また、赤外線反射部において、一または二以上の金属酸化物層の少なくとも一層は、有機残渣物を含有することが好ましい。例えば、塗工法により形成された金属酸化物層は、通常、有機残渣物を含有する。有機残渣物は、例えば、有機金属化合物の分解物から遊離した有機物である。金属酸化物層中の有機残渣物量は、例えば、０．０５ｇ／ｇ以上、０．５ｇ／ｇ以下であることが好ましい。有機残渣物量は、金属酸化物層を加熱し、その揮発成分をＧＣ−ＭＳ(Gas Chromatography Mass spectrometry)により測定することで求めることができる。
【００１７】
また、赤外線反射部において、金属酸化物層と、その金属酸化物層よりも基材側で隣り合う金属層との界面に導電層が存在しないことが好ましい。塩害の発生を抑制できるからである。従来、赤外線反射部を構成する金属層および金属酸化物層を、全てスパッタリング法により成膜することが一般的である。成膜レートが早いＤＣスパッタリング法が量産の面では好ましいが、ＤＣスパッタリング法では、絶縁体（金属酸化物）をターゲットとすることができない。そのため、金属酸化物を成膜する際は、金属酸化物の酸素欠損体をターゲットとして使用し、酸素雰囲気で反応性スパッタリングを行うことで、高い生産速度を保つことが可能となる。一方、金属層上に金属酸化物層を形成する際、酸素雰囲気で反応性スパッタリングを行うと、金属層が酸化し、赤外線反射機能が低減する。金属層の酸化を防止するため、酸素を流さずにスパッタリングし、金属酸化物の酸素欠損体を含有する導電層を形成することが想定される。
【００１８】
しかしながら、金属層および導電層という、導電性を有する異種の層が接触することで、ガルバニック腐食が生じやすくなる。そのため、金属層および導電層を有する赤外線反射フィルムを、例えば、海沿いの建築物の窓に設置した場合、塩分による赤外線反射フィルムの劣化（塩害）が発生しやすい。これに対して、後述するように、例えば塗工法を用いて金属酸化物層を形成する場合には、導電層を形成する必要がないため、塩害の発生を抑制できる。なお、導電層の存在は、例えば、Ｘ線光電子分光分析（ＸＰＳ）による深さ方向（厚さ方向）での元素分析により確認することができる。
以下、本開示の赤外線反射フィルムについて、構成ごとに説明する。
【００１９】
１．基材
基材は、後述する金属層等を保持する部材である。基材の材料は、特に限定されないが、例えば、樹脂が挙げられる。樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィンが挙げられ、ポリエステルが好ましい。樹脂の他の例としては、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド等が挙げられる。また、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体等のフッ素含有樹脂を用いても良い。また、基材は、樹脂を主成分として含有することが好ましい。特に、基材は、ポリエステルを主成分として含有することが好ましい。
【００２０】
基材の厚さは、例えば、１０μｍ以上２００μｍ以下であり、２０μｍ以上１００μｍ以下であっても良い。基材の厚さが小さすぎると、金属層または金属酸化物層を形成する際に、ハンドリング性が悪化する場合があり、基材の厚さが大きすぎると、可撓性が低下する場合がある。
【００２１】
基材の製造方法は特に限定されないが、例えば、原料の樹脂をフィルム状に溶融押出しするか、溶液押出しすることで、フィルム状に成形する方法が挙げられる。得られたフィルムに対して、必要に応じて、延伸処理、熱固定処理、および、熱弛緩処理の少なくとも一つの処理を行っても良い。また、延伸処理は、長手方向の処理であっても良く、幅方向の処理であっても良く、長手方向および幅方向の処理であっても良い。
【００２２】
２．赤外線反射部
赤外線反射部は、一または二以上の金属層と、一または二以上の金属酸化物層とを有する。
【００２３】
（１）金属層
金属層は、赤外線反射性を付与する層である。金属層の材料は、特に限定されないが、例えば、Ａｇ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｎｉ、Ｂｉ、Ｇｅ、Ｇａ等の金属、および、これらの金属の少なくとも一種を含有する合金が挙げられる。中でも、銀、銀合金、アルミニウム、アルミニウム合金、銅、銅合金が好ましい。これらは、高い自由電子密度を有するため、薄膜であっても、高い赤外線反射性を得ることができる。
【００２４】
金属層の厚さは、例えば、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下である。金属層の厚さが小さすぎると、赤外線反射性が低下する場合があり、金属層の厚さが大きすぎると、可撓性が低下する場合がある。
【００２５】
金属層は、開口を有しない層（いわゆるベタ層）であっても良い。この場合、高い赤外線反射性を得ることができる。一方、金属層は、金属部および開口部を有する層であっても良い。開口部を設けることで、電波透過性が向上する。各々の金属部は、電気的に独立していても良く、電気的に独立していなくても良いが、前者が好ましい。電波透過性が向上するからである。また、複数の金属部が、金属部の長手方向に交差する方向にそれぞれ配置されていることで、パターンが得られる。複数の金属部から構成されるパターン形状としては、例えば、ストライプ状が挙げられる。また、金属部の幅、および、隣り合う金属部の幅は、それぞれ、１０μｍ以上５ｍｍ以下であることが好ましい。
【００２６】
金属層が、金属部および開口部を有する層である場合、開口部の開口率は、特に限定されないが、例えば、０．５％以上３０％以下であり、０．５％以上１０％以下であっても良く、０．７％以上２％以下であっても良い。なお、開口率とは、開口部の面積を含む金属層全体の面積に対する開口部の面積をいう。
【００２７】
（２）金属酸化物層
金属酸化物層は、金属層よりも屈折率の高い層であることが好ましい。金属酸化物層の材料は、６３３ｎｍの光に対する屈折率が、１．４以上であることが好ましい。良好な干渉効果が得られるからである。金属酸化物層の材料としては、例えば、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｇａ、Ｓｎ、Ｓｉ等の金属の酸化物、および、これらの金属の少なくとも一種を含有する複合酸化物を挙げることができ、中でも、ＴｉＯ２、ＺｎＯおよびＳｉＯ２が好ましい。
【００２８】
金属酸化物層は、防錆剤を含有していても良い。塩害の発生を抑制できるからである。例えば蒸着法により金属酸化物層を形成する場合、通常、防錆剤を含有する金属酸化物層を形成することは困難であるが、例えば塗工法により金属酸化物層を形成する場合、防錆剤を含有する金属酸化物層を形成することは容易である。防錆剤としては、例えば、１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール、１−（４−エトキシフェニル）−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール、１−（４−メチルフェニル）−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール、１−（３−メチル−４−エチルフェニル）−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール、４−（５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール−１−イル）フェノール、１−［３−（３−メチルウレイド）フェニル］−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール、４−（５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール−１−イル）安息香酸、４−（５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール−１−イル）安息香酸エチル等のメルカプトテトラゾール化合物が挙げられる。金属酸化物層における防錆剤の割合は、例えば、０．１質量％以上５０質量％以下であり、０．５質量％以上１０質量％以下であっても良い。また、金属酸化物層の厚さは、例えば１ｎｍ以上であり、１０ｎｍ以上であっても良い。一方、金属酸化物層の厚さは、例えば５００ｎｍ以下であり、１００ｎｍ以下であっても良い。
【００２９】
（３）赤外線反射部
赤外線反射部は、一または二以上の金属層と、一または二以上の金属酸化物層とを有する。赤外線反射部の一例としては、図１に示すように、基材１側から順に、金属層２および金属酸化物層３を有する赤外線反射部４が挙げられる。また、赤外線反射部の他の例としては、図２に示すように、基材１側から順に、第一金属層２ａ、第一金属酸化物層３ａ、第二金属層２ｂおよび第二金属酸化物層３ｂを有する赤外線反射部４が挙げられる。
【００３０】
赤外線反射フィルムは、金属層および金属酸化物層を交互に有することが好ましい。また、赤外線反射フィルムは、基材側から順に、金属層および金属酸化物層を有していても良く、基材側から順に、金属酸化物層および金属層を有していても良い。前者の場合、通常は、基材と、上記基材に最も近い金属層との間に、金属酸化物層が存在しない。一方、後者の場合、通常は、基材と、上記基材に最も近い金属酸化物層との間に、金属層が存在しない。
【００３１】
赤外線反射部の構成としては、基材から順に、例えば、金属層および金属酸化物層（２層構成）、第一金属酸化物層、第一金属層および第二金属酸化物層（３層構成）、第一金属層、第一金属酸化物層、第二金属層および第二金属酸化物層（４層構成）、第一金属酸化物層、第一金属層、第二金属酸化物層、第二金属層および第三金属酸化物層（５層構成）、第一金属層、第一金属酸化物層、第二金属層、第二金属酸化物層、第三金属層および第三金属酸化物層（６層構成）等が挙げられる。なお、これらの任意の金属酸化物層が防錆剤を含有していても良い。
【００３２】
また、赤外線反射部において、基材から最も遠い金属酸化物層と、その金属酸化物層よりも基材側で隣り合う金属層との界面に、上述した導電層が存在しないことが好ましい。塩害の発生を効果的に抑制できるからである。さらに、赤外線反射部において、基材から２番目に遠い金属酸化物層と、その金属酸化物層よりも基材側で隣り合う金属層との界面に、上述した導電層が存在しないことが好ましい。
【００３３】
３．赤外線反射フィルム
赤外線反射フィルムは、基材と、赤外線反射部とをこの順に有する。さらに、赤外線反射フィルムは、赤外線反射部を基準として、基材側の位置にハードコート層を有していても良く、有していなくても良い。同様に、赤外線反射フィルムは、赤外線反射部を基準として、基材とは反対側の位置にハードコート層を有していても良く、有していなくても良い。
【００３４】
ハードコート層は、赤外線反射部の金属層または金属酸化物層よりも高い表面硬度を有することが好ましい。ハードコート層の表面のＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）の鉛筆硬度は、例えば、Ｆ以上であり、Ｈ以上であっても良い。ハードコート層の材料は、一般的に使用されるものであれば良く、例えば、電離放射線硬化性樹脂を用いることができる。電離放射線硬化性樹脂としては、例えば、アクリレート系樹脂、オキセタン系樹脂、シリコーン系樹脂等が挙げられる。
【００３５】
赤外線反射フィルムは、可視光透過率が高いことが好ましい。良好な視認性が得られるからである。可視光透過率は、例えば、７０％以上であり、８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。可視光透過率は、ＪＩＳ  Ａ  ５７５９：２００８に基づいて測定することができる。
【００３６】
赤外線反射フィルムは、可視光反射率（正反射率）が低いことが好ましい。ぎらつきを抑制できるからである。可視光反射率（正反射率）は、例えば、６％以下であり、５％以下であることが好ましく、４％以下であることがより好ましい。
【００３７】
赤外線反射フィルムは、遮蔽係数が低いことが好ましい。良好な遮熱性が得られるからである。遮蔽係数は、例えば０．８以下であり、０．７以下であることが好ましい。
【００３８】
赤外線反射フィルムは、熱貫流率が低いことが好ましい。良好な断熱性が得られるからである。熱貫流率は、例えば４．５Ｗ／ｍ２・Ｋ以下であり、４．０Ｗ／ｍ２・Ｋ以下であることが好ましい。なお、上述した可視光透過率、可視光反射率（正反射率）、遮蔽係数および熱貫流率は、ＪＩＳ  Ａ  ５７５９：２００８に基づいて測定することができる。
【００３９】
赤外線反射フィルムは、赤外線反射率が高いことが好ましい。赤外線反射率は、例えば、６０％以上であり、７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。赤外線反射率は、測定波長５００ｎｍ以上２２００ｎｍ以下で測定したときの、各波長における反射率の平均値として特定される。
【００４０】
赤外線反射フィルムは、電波透過性を有することが好ましい。赤外線反射フィルムの電波遮蔽係数は、例えば、１０ｄＢ以下であっても良く、７ｄＢ以下であっても良い。電波遮蔽係数は、電磁波シールド効果評価器ＴＳＥＳ−ＫＥＣ（テクノサイエンスジャパン製）を用い、ＫＥＣ法により、周波数３０ＭＨｚ以上１ＧＨｚ以下の範囲で測定し、１ＧＨｚにおける数値（ｄＢ）を求めることにより特定する。
【００４１】
赤外線反射フィルムの厚さは、例えば、３ｍｍ以下であり、１ｍｍ以下であっても良く、５００μｍ以下であっても良い。
【００４２】
Ｂ．剥離フィルム付赤外線反射フィルム
図３は、本開示の剥離フィルム付赤外線反射フィルムの一例を示す概略断面図である。図３に示す剥離フィルム付赤外線反射フィルム２０は、赤外線反射フィルム１０と、基材１を基準として、赤外線反射部４とは反対側に位置する粘着層１１と、粘着層１１を基準として、基材１とは反対側に位置する剥離フィルム１２とを有する。
【００４３】
本開示によれば、上述した赤外線反射フィルムを用いることで、可撓性が高い剥離フィルム付赤外線反射フィルムとすることができる。
【００４４】
粘着層は、粘着剤を含有する層である。粘着剤としては、例えば、アクリル系樹脂が挙げられる。具体的には、式Ａ−Ｂ−Ａ（式中、ＡおよびＢはそれぞれ異なる重合体ブロックを表し、Ａはメタクリル酸アルキルエステル単位からなり、Ｂはアクリル酸アルキルエステル単位からなる）で表されるトリブロック共重合体を含むアクリル系樹脂が挙げられる。
【００４５】
粘着層は、ＪＩＳ  Ｋ６８５４−２に規定の１８０度剥離試験によるガラス板に対する剥離力が、例えば、２０Ｎ／２５ｍｍ幅以上３０Ｎ／２５ｍｍ幅以下であることが好ましい。また、粘着層の厚さは、例えば、５０μｍ以上２０００μｍ以下である。
【００４６】
剥離フィルムは、赤外線反射フィルムをガラス部材に貼着する前の状態（保存状態）において、粘着層を保護するためのフィルムである。剥離フィルムの材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンアフタレート等のポリエステル樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂等の樹脂フィルムが挙げられる。剥離フィルムの厚さは、例えば２０μｍ以上１００μｍ以下である。
【００４７】
Ｃ．窓ガラス
図４は、本開示の窓ガラスの一例を示す概略断面図である。図４に示す窓ガラス３０は、赤外線反射フィルム１０と、赤外線反射フィルム１０の基材１を基準として、赤外線反射部４とは反対側に位置する粘着層１１と、粘着層１１を基準として、基材１とは反対側に位置するガラス部材１３とを有する。
【００４８】
本開示によれば、上述した赤外線反射フィルムを用いることで、赤外線反射フィルムの貼着不良が生じにくい窓ガラスとすることができる。なお、粘着層については、上述した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。
【００４９】
ガラス部材としては、例えば、無機ガラス、有機ガラスが挙げられる。無機ガラスの材料としては、例えばケイ素酸化物が挙げられる。無機ガラスは、ケイ素酸化物を主成分とするガラスであることが好ましく、具体例としては、ソーダライムガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、アルミノシリケートガラス等が挙げられる。一方、有機ガラスの材料としては、典型的には、樹脂が挙げられ、具体的には、ポリジエチレングリコールビスアリルカーボネート等のポリカーボネート系樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂等が挙げられる。有機ガラスは、上記樹脂を主成分とするガラスであることが好ましい。
【００５０】
また、ガラス部材は、例えば、板ガラスおよび加工ガラスに分類できる。板ガラスとしては、例えば、フロート板ガラス、磨き板ガラス、型板ガラス、網入板ガラス、線入板ガラス、熱線吸収板ガラス等が挙げられる。板ガラスの厚さは、例えば２ｍｍ以上１２ｍｍ以下である。一方、加工ガラスとしては、合わせガラス、熱処理ガラス（例えば強化ガラス、倍強度ガラス）、化学強化ガラス等が挙げられる。合わせガラスは、２以上の板ガラスを、中間膜を挟み接着したガラスをいう。
【００５１】
また、例えば図５に示すように、窓ガラス３０は、複数の赤外線反射フィルム１０を有していても良い。なお、図５は、図４における赤外線反射フィルム１０を室内側から見た平面図に相当する。赤外線反射フィルム１０の長手方向Ｄは、鉛直方向に対して平行であることが好ましい。例えば、赤外線反射フィルムを水貼りする場合、赤外線反射フィルムは他のフィルムに比べて水が抜けにくい性質があるため、水染みが生じやすいが、赤外線反射フィルムの長手方向は、鉛直方向に対して平行であることで、水が重力によって抜け易くなり、水染みの発生を抑制できる。なお、「鉛直方向に対して平行」とは、厳密な平行のみならず、鉛直方向に対する角度が±１５°以内である場合も含まれる。
【００５２】
窓ガラスは、例えば、建築物、乗物の開口部に用いられる。上記乗物としては、例えば自動車、電車等の車両、船舶、航空機等が挙げられる。本開示においては、建築物または乗物の開口部に用いられる閉鎖部材であって、上述した窓ガラスと、サッシ（窓枠）とを有する閉鎖部材を提供することもできる。さらに、本開示においては、上述した窓ガラスを開口部に有する建築物または乗物を提供することもできる。
【００５３】
Ｄ．赤外線反射フィルムの製造方法
図６は、本開示の赤外線反射フィルムの製造方法の一例を示す概略断面図である。図６では、まず、基材１を準備する（図６（ａ））。次に、基材１の一方の面側に、スパッタリング法により金属層２を形成する（図６（ｂ））。次に、金属層２を基準として、基材１とは反対側に、塗工法により金属酸化物層３を形成する（図６（ｃ））。これにより、基材１と、赤外線反射部４とをこの順に有する赤外線反射フィルム１０が得られる。
【００５４】
本開示によれば、塗工法により金属酸化物膜を形成することにより、可撓性が高い赤外線反射フィルムを得ることができる。
【００５５】
１．基材準備工程
基材準備工程は、赤外線反射フィルムに用いられる基材を準備する工程である。基材については、上記「Ａ．赤外線反射フィルム」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。
【００５６】
２．赤外線反射部形成工程
赤外線反射部形成工程は、基材の一方の面側に、赤外線反射部を形成する工程である。赤外線反射部形成工程では、目的とする赤外線反射部の構成に合わせて、一または二以上の金属層と、一または二以上の金属酸化物層とを形成する。
【００５７】
金属層を形成する方法としては、例えば、蒸着法が挙げられる。蒸着法としては、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、電子線蒸着法等のドライプロセスが挙げられる。また、マスクを用いた蒸着法により、金属層を形成しても良い。マスクを用いることで、金属部および開口部を有する金属層を得ることができる。
【００５８】
金属酸化物層を形成する方法としては、例えば、塗工法が挙げられる。塗工法では、金属酸化物層形成用の塗工液を用いて金属酸化物層を形成する。上記塗工液は、金属酸化物源を少なくとも含有する。金属酸化物源の一例としては、金属アルコキシドが挙げられる。金属アルコキシドは、例えば、一般式：Ｒ１ｎＭ（ＯＲ２）ｍ（式中、Ｍは金属原子、Ｒ１、Ｒ２が炭素数１〜８の有機基、ｎは０以上、ｍは１以上の整数、ｎ＋ｍはＭの原子価を表す）で表される化合物であることが好ましい。
【００５９】
上記一般式において、Ｍで表される金属原子としては、例えば、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｇａ、Ｓｎ、Ｓｉを挙げることができ、中でも、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｉが好ましい。
【００６０】
上記一般式において、有機基Ｒ１の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基等のアルキル基が挙げられる。また、有機基Ｒ２の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基等のアルキル基が挙げられる。有機基Ｒ１および有機基Ｒ２は、同じ官能基であっても良く、異なる官能基であっても良い。
【００６１】
上記アルコキシドの中で、ＭがＴｉであるチタニウムアルコキシドの具体例としては、テトラメトキシチタニウム（Ｔｉ（Ｏ−ＣＨ３）４）、テトラエトキシチタニウム（Ｔｉ（ＯＣ２Ｈ５）４）、テトライソプロポキシチタニウム（Ｔｉ（Ｏ−Ｉｓｏ−Ｃ３Ｈ７）４）、テトラｎブトキシチタニウム（Ｔｉ（Ｏ−Ｃ４Ｈ９）４）が挙げられる。
【００６２】
また、金属酸化物源の他の例としては、金属オリゴマーが挙げられる。金属オリゴマーは、分子内にオリゴマー構造（−Ｍ−Ｏ−Ｍ−）を有する化合物であり、例えば、金属アルコキシドおよび金属キレート化合物の少なくとも一方を縮合させることにより得ることができる。チタンオリゴマーとしては、例えば、マツモトファインケミカル製のＰＣ２００が挙げられる。
【００６３】
上記塗工液は、溶媒を含有していても良い。溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール等のアルコール、酢酸エチル等のエステルが挙げられる。また、上記塗工液は、上述した防錆剤を含有していても良い。
【００６４】
上記塗工液の塗工方法は、特に限定されるものではなく、一般的な塗工方法を用いることができる。また、上記塗工液を塗工した後に、適宜乾燥を行っても良い。また、塗工膜の厚さは、所望の金属酸化物層が得られるように適宜調整することが好ましい。
【００６５】
また、本開示においては、二以上の金属酸化物層の一部を塗工法により形成しても良く、二以上の金属酸化物層の全てを塗工法により形成しても良い。前者の場合、塗工法および蒸着法を組み合わせて、二以上の金属酸化物層を形成することが好ましい。例えば、赤外線反射部が二層の金属酸化物層を有する場合、基材から１層目の金属酸化物層を蒸着法で形成し、基材から２層目の金属酸化物層を塗工法で形成しても良く、基材から１層目の金属酸化物層を塗工法で形成し、基材から２層目の金属酸化物層を蒸着法で形成しても良い。
【００６６】
また、例えば、赤外線反射部が三層の金属酸化物層を有する場合、（ｉ）基材から１層目の金属酸化物層を蒸着法で形成し、基材から２、３層目の金属酸化物層を塗工法で形成しても良く、（ii）基材から１、２層目の金属酸化物層を蒸着法で形成し、基材から３層目の金属酸化物層を塗工法で形成しても良く、（iii）基材から１、３層目の金属酸化物層を蒸着法で形成し、基材から２層目の金属酸化物層を塗工法で形成しても良く、（iv）基材から１層目の金属酸化物層を塗工法で形成し、基材から２、３層目の金属酸化物層を蒸着法で形成しても良く、（ｖ）基材から１、２層目の金属酸化物層を塗工法で形成し、基材から３層目の金属酸化物層を蒸着法で形成しても良く、（vi）基材から１、３層目の金属酸化物層を塗工法で形成し、基材から２層目の金属酸化物層を蒸着法で形成しても良い。
【００６７】
また、赤外線反射部が二層以上の金属酸化物層を有する場合、基材から最も遠い位置にある金属酸化物層を、塗工法で形成することが好ましい。塩害の発生を抑制できるからである。
【００６８】
３．赤外線反射フィルム
本開示の赤外線反射フィルムの製造方法により得られる赤外線反射フィルムについては、上記「Ａ．赤外線反射フィルム」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。
【００６９】
なお、本開示は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本開示の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本開示の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００７０】
以下、実施例を用いて、さらに具体的に説明する。
【００７１】
［実施例１］
二軸配向透明ＰＥＴフィルム（東洋紡績社製、Ａ４１００、厚さ５０μｍ、Ｔｇ６７℃）をキャノンアネルパ製スパッタ装置ＳＰＣ−３５０ＵＨＶに、ＰＥＴフィルムの平滑面側に成膜されるよう設置した。ターゲットをＡｇ、Ｐｄ、Ｃｕとし、チャンバ内圧力が２．０×１０−３Ｐａ以下となるまで排気し、放電ガスとしてＡｒを２５ｓｃｃｍ導入した。その後、チャンバ内圧力を０．４Ｐａに調節し、直流スパッタリング法を用いて放電電流を０．２Ａとした。この時、ＰＥＴフィルム温度は室温とした。これにより、ＰＥＴフィルム上に金属層（厚さ１０ｎｍ、Ａｇ合金層）を成膜した。
【００７２】
次に、得られた金属層上に、溶媒として酢酸エチルおよびｎ−ブタノールを含むチタンオリゴマー（ＰＣ２００、マツモトファインケミカル製）を塗工し、１２０℃、１０秒間の条件で乾燥した。これにより、金属層上に金属酸化物層（厚さ３０ｎｍ、ＴｉＯ２層（ウェット））を形成し、赤外線反射フィルムを得た。
【００７３】
次に、ＰＥＴフィルムの赤外線反射部が形成されていない面に、クリア粘着層（厚さ２５μｍ）を形成した。得られた粘着層上に剥離フィルム（ＰＥＴセパレーター、商品名：セラピールＭＦＡ、膜厚：３８μｍ、東レフィルム加工社製）をラミネートし、４０℃オーブンにて３日間放置後、エージング処理を行い、剥離フィルム付赤外線反射フィルムを得た。
【００７４】
［実施例２］
二軸配向透明ＰＥＴフィルム（東洋紡績社製、Ａ４１００、厚さ５０μｍ、Ｔｇ６７℃）をキャノンアネルパ製スパッタ装置ＳＰＣ−３５０ＵＨＶに、ＰＥＴフィルムの平滑面側に成膜されるよう設置した。ターゲットをＴｉとし、チャンバ内圧力が２．０×１０−３Ｐａ以下となるまで排気し、Ａｒを１０ｓｃｃｍ、Ｏ２を５ｓｃｃｍ導入し、全流量を１５ｓｃｃｍとした。その後、チャンバ内圧力を０．４Ｐａに調節し、直流スパッタリング法を用いて放電電流を０．３Ａとした。この時、ＰＥＴフィルムの温度は室温とした。これにより、ＰＥＴフィルム上に金属酸化物層（厚さ３０ｎｍ、ＴｉＯ２層（スパッタ））を成膜した。その後、得られた金属酸化物層上に、実施例１と同様にして、Ａｇ合金層およびＴｉＯ２層（ウェット）を形成し、赤外線反射フィルムを得た。得られた赤外線反射フィルムを用い、実施例１と同様にして、剥離フィルム付赤外線反射フィルムを得た。
【００７５】
［実施例３］
二軸配向透明ＰＥＴフィルム（東洋紡績社製、Ａ４１００、厚さ５０μｍ、Ｔｇ６７℃）に、溶媒として酢酸エチルおよびｎ−ブタノールを含むチタンオリゴマー（ＰＣ２００、マツモトファインケミカル製）を塗工し、１２０℃、１０秒間の条件で乾燥した。これにより、ＰＥＴフィルム上に金属酸化物層（厚さ３０ｎｍ、ＴｉＯ２層（ウェット））を形成した。その後、得られた金属酸化物層上に、実施例１と同様にして、Ａｇ合金層およびＴｉＯ２層（ウェット）を形成し、赤外線反射フィルムを得た。得られた赤外線反射フィルムを用い、実施例１と同様にして、剥離フィルム付赤外線反射フィルムを得た。
【００７６】
［実施例４］
二軸配向透明ＰＥＴフィルム（東洋紡績社製、Ａ４１００、厚さ５０μｍ、Ｔｇ６７℃）をキャノンアネルパ製スパッタ装置ＳＰＣ−３５０ＵＨＶに、ＰＥＴフィルムの平滑面側に成膜されるよう設置した。ターゲットをＴｉとし、チャンバ内圧力が２．０×１０−３Ｐａ以下となるまで排気し、Ａｒを１０ｓｃｃｍ、Ｏ２を５ｓｃｃｍ導入し、全流量を１５ｓｃｃｍとした。その後、チャンバ内圧力を０．４Ｐａに調節し、直流スパッタリング法を用いて放電電流を０．３Ａとした。この時、ＰＥＴフィルムの温度は室温とした。これにより、ＰＥＴフィルム上に金属酸化物層（厚さ３０ｎｍ、ＴｉＯ２層（スパッタ））を成膜した。その後、得られた金属酸化物層上に、実施例１と同様にして、Ａｇ合金層およびＴｉＯ２層（ウェット）を形成した。さらに、実施例１と同様にして、Ａｇ合金層およびＴｉＯ２層（ウェット）を再び形成し、赤外線反射フィルムを得た。得られた赤外線反射フィルムを用い、実施例１と同様にして、剥離フィルム付赤外線反射フィルムを得た。
【００７７】
［比較例１］
二軸配向透明ＰＥＴフィルム（東洋紡績社製、Ａ４１００、厚さ５０μｍ、Ｔｇ６７℃）をキャノンアネルパ製スパッタ装置ＳＰＣ−３５０ＵＨＶに、ＰＥＴフィルムの平滑面側に成膜されるよう設置した。ターゲットをＡｇ、Ｐｄ、Ｃｕとし、チャンバ内圧力が２．０×１０−３Ｐａ以下となるまで排気し、放電ガスとしてＡｒを２５ｓｃｃｍ導入した。その後、チャンバ内圧力を０．４Ｐａに調節し、直流スパッタリング法を用いて放電電流を０．２Ａとした。この時、ＰＥＴフィルム温度は室温とした。これにより、ＰＥＴフィルム上に金属層（厚さ１０ｎｍ、Ａｇ合金層）を成膜した。
【００７８】
次に、ターゲットをＴｉとし、チャンバ内圧力が２．０×１０−３Ｐａ以下となるまで排気し、Ａｒを１０ｓｃｃｍ、Ｏ２を５ｓｃｃｍ導入し、全流量を１５ｓｃｃｍとした。その後、チャンバ内圧力を０．４Ｐａに調節し、直流スパッタリング法を用いて放電電流を０．３Ａとした。この時、ＰＥＴフィルムの温度は室温とした。これにより、金属層上に金属酸化物層（厚さ３０ｎｍ、ＴｉＯ２層（スパッタ））を成膜し、赤外線反射フィルムを得た。得られた赤外線反射フィルムを用い、実施例１と同様にして、剥離フィルム付赤外線反射フィルムを得た。
【００７９】
［比較例２］
二軸配向透明ＰＥＴフィルム（東洋紡績社製、Ａ４１００、厚さ５０μｍ、Ｔｇ６７℃）をキャノンアネルパ製スパッタ装置ＳＰＣ−３５０ＵＨＶに、ＰＥＴフィルムの平滑面側に成膜されるよう設置した。ターゲットをＴｉとし、チャンバ内圧力が２．０×１０−３Ｐａ以下となるまで排気し、Ａｒを１０ｓｃｃｍ、Ｏ２を５ｓｃｃｍ導入し、全流量を１５ｓｃｃｍとした。その後、チャンバ内圧力を０．４Ｐａに調節し、直流スパッタリング法を用いて放電電流を０．３Ａとした。この時、ＰＥＴフィルムの温度は室温とした。これにより、ＰＥＴフィルム上に金属酸化物層（厚さ３０ｎｍ、ＴｉＯ２層（スパッタ））を成膜した。その後、得られた金属酸化物層上に、比較例１と同様にして、Ａｇ合金層およびＴｉＯ２層（スパッタ）を形成し、赤外線反射フィルムを得た。得られた赤外線反射フィルムを用い、実施例１と同様にして、剥離フィルム付赤外線反射フィルムを得た。
【００８０】
［評価］
（可視光特性、遮熱性および断熱性の評価）
実施例１〜４および比較例１、２で得られた剥離フィルム付赤外線反射フィルムを用いて、可視光特性（可視光透過率）、遮熱性（遮蔽係数）および断熱性（熱貫流率）を評価した。これらの測定は全てＪＩＳ  Ａ  ５７５９：２００８に基づいて行った。具体的には、建築用窓に屋内側から施工した場合を想定し、可視光透過率および蔽係数については、フィルムを３ｍｍ厚のソーダガラスに貼合し、ガラス側（屋外側）から測定した。一方、熱貫流率については、屋内の暖房効果を反映するため、フィルム側（屋内側）から測定した。可視光透過率および遮蔽係数については、分光光度計（商品名：ＵＶ−２６００／２７００、島津製作所製）にて測定した。熱貫流率の算出に必要な遠赤外線（波長５μｍ以上２５μｍ以下）の反射率については、赤外分光光度計（商品名：ＦＴＳ７０００、ＤｉｇｉＬａｂ社製）で測定した。その結果を表１に示す。
【００８１】
（屈曲性試験）
実施例１〜４および比較例１、２で得られた赤外線反射フィルムに対して、屈曲性試験を行った。ＪＩＳ−Ｋ５６００−５−１に記載されている円筒形マンドレルを模して、２ｍｍから３２ｍｍまでの金属製円柱（マンドレル）にサンプル片（１００ｍｍ×５０ｍｍ）を、荷重５００ｇで巻きつけて赤外線反射フィルムの屈曲性を評価した。赤外線反射フィルムに「不可逆的な折れ目」が発生しなかったマンドレルの最小の直径（シャフト径、ｍｍ）を記録した。その結果を表１に示す。なお、数値が小さいほど、屈曲性（可撓性）が高いことを示している。
【００８２】
（塩水テスト）
実施例１〜４および比較例１、２で得られた赤外線反射フィルムを、５％濃度の塩水に浸漬させ、室温（２３℃）にて１４日間置いた。外観変化がなく、可視光透過率の低下が３％以下である場合を○とし、外観変化があるか、可視光透過率の低下が３％以上である場合を×とした。その結果を表１に示す。
【００８３】
【表１】
2018185406.tif 000003
【００８４】
表１に示すように、実施例１〜４の可視光透過率は、比較例１、２と同等であった。また、実施例１〜４の遮蔽係数および熱貫流率は、比較例１、２に比べて低く、遮熱性および断熱性が高かった。さらに、実施例１〜４は、円筒形マンドレル屈曲試験において、シャフト径が２ｍｍであるシャフトを用いた場合であっても、クラックが生じなかった。これに対して、比較例１、２では、シャフト径が４ｍｍである場合にはクラックが生じなかった。シャフト径が３ｍｍである場合にはクラックが生じた。そのため、実施例１〜４で得られた赤外線反射フィルムは、可撓性が高いことが確認できた。また、実施例１〜４は、塩水テストの結果が良好であり、塩害の発生を抑制可能な赤外線反射フィルムが得られた。
【符号の説明】
【００８５】
１  …  基材
２  …  金属層
３  …  金属酸化物層
４  …  赤外線反射部
１０  …  赤外線反射フィルム
１１  …  粘着層
１２  …  剥離フィルム
１３  …  ガラス部材
２０  …  剥離フィルム付赤外線反射フィルム
３０  …  窓ガラス
【図１】
2018185406.tif 000004
【図２】
2018185406.tif 000005
【図３】
2018185406.tif 000006
【図４】
2018185406.tif 000007
【図５】
2018185406.tif 000008
【図６】
2018185406.tif 000009