(57)【要約】【課題】簡易な方法で樹脂製品上にめっき皮膜のパターンを形成する。【解決手段】めっき皮膜１８０が析出するように表面が改質された樹脂製品１１０の製造方法。マスク１２０を介して冷却水としての水１４０の中で紫外線１６０を樹脂製品１１０に照射する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
めっき皮膜が析出するように表面が改質された樹脂製品の製造方法であって、
マスクが載置された樹脂製品の少なくとも一部を冷却水の中に配置する配置工程と、
前記冷却水の中に配置された前記樹脂製品に紫外線を照射する照射工程と、
を含むことを特徴とする、樹脂製品の製造方法。
【請求項２】
前記樹脂製品が構成分子中に酸素原子を有し、前記配置工程において、前記樹脂製品の全体が冷却水の中に配置されることを特徴とする、請求項１に記載の樹脂製品の製造方法。
【請求項３】
前記樹脂製品がポリエチレンテレフタレート、またはポリイミドであることを特徴とする、請求項１または２に記載の樹脂製品の製造方法。
【請求項４】
前記照射工程において、前記冷却水の外に配置された光源により前記紫外線が照射されることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか一項に記載された樹脂製品の製造方法。
【請求項５】
前記照射工程において、前記冷却水の中に配置された光源により前記紫外線が照射されることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか一項に記載された樹脂製品の製造方法。
【請求項６】
前記マスクが金属材料を含むことを特徴とする、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の樹脂製品の製造方法。
【請求項７】
前記配置工程において、前記マスクが水面と対向するように樹脂製品が冷却水の中に配置されることを特徴とする、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の樹脂製品の製造方法。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一項に記載の樹脂製品の製造方法に従って、めっき皮膜が析出するように表面が改質された樹脂製品を製造する改質工程と、
前記改質された樹脂製品に対して無電解めっきを行うめっき工程と、
を含むことを特徴とする、めっき皮膜付樹脂製品の製造方法。
【請求項９】
請求項８に記載のめっき皮膜付樹脂製品の製造方法に従って製造されためっき皮膜付樹脂製品。
【請求項１０】
冷却水の中で紫外線照射によって改質された改質部のパターンを有する樹脂製品と、
前記改質部の上に形成されためっき皮膜と、
を備えることを特徴とするめっき皮膜付樹脂製品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、めっき皮膜付樹脂製品ならびに樹脂製品の製造方法、およびめっき皮膜付樹脂製品に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電気製品の軽薄短小化、および多機能化に伴い、電子部品の高密度集積化、さらには高密度実装化等が進んでいる。このような電子部品において、金属の配線パターンが無電解めっき等によって樹脂製品の表面に形成されており、樹脂製品と金属の配線との密着性の向上が求められている。
【０００３】
特許文献１は、紫外線によりフォトマスクを介して樹脂製品の表面を改質し、その改質された部分に金属の配線を形成する方法を記載している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１５−２２１９２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
表面改質で使用されるフォトマスク（以下、単に「マスク」ということもある）のパターンは、後に形成されるめっき皮膜のパターンに対応したパターンである。しかしながら、表面改質において、マスクを介して紫外線が樹脂製品に照射されたとき、紫外線照射位置のずれが生じることがあった。このような紫外線照射位置がずれている樹脂製品に無電解めっきが施されると、マスクのパターンに対応しためっき皮膜のパターンが得られないことがあり、所望のめっき皮膜のパターンを形成できる簡易な方法が求められていた。本発明者らは、表面改質において、紫外線の照射により樹脂製品の温度が上昇することで、樹脂製品とマスクの熱膨張係数の相違により紫外線照射位置のずれが生じることを見出した。
【０００６】
本発明は、簡易な方法で樹脂製品上にめっき皮膜のパターンを形成することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の目的を達成するために、例えば、本発明の樹脂製品の製造方法は以下の構成を備える。すなわち、
めっき皮膜が析出するように表面が改質された樹脂製品の製造方法であって、
マスクが載置された樹脂製品の少なくとも一部を冷却水の中に配置する配置工程と、
前記冷却水の中に配置された樹脂製品に紫外線を照射する照射工程と、
を含むことを特徴とする、樹脂製品の製造方法。
【発明の効果】
【０００８】
簡易な方法で樹脂製品上に配線パターンのめっき皮膜を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】一実施形態に係るめっき皮膜付樹脂製品の製造方法を説明する図。
【図２】別の実施形態に係るめっき皮膜付樹脂製品の製造方法を説明する図。
【図３】一実施形態に係るめっき皮膜付樹脂製品の製造方法のフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明を適用できる実施形態を図面に基づいて説明する。ただし、本発明の範囲は以下の実施形態に限定されるものではない。
【００１１】
本実施形態に係る改質方法によれば、マスクのパターンに対応するめっき皮膜のパターンが形成されるように樹脂製品の表面が改質される。この改質方法を用いることにより、マスクのパターンに対応するめっき皮膜のパターンが形成されるように表面が改質された樹脂製品を製造することができる。本実施形態に係る改質方法は、マスクの載置工程と、樹脂製品の配置工程、紫外線の照射工程とを含んでいる。また、本実施形態に係るめっき皮膜付樹脂製品の製造方法は、本実施形態に係る改質方法を用いて樹脂製品の表面を改質する改質工程と、めっき工程と、を含んでいる。以下、これらの工程について、図１、図２、および図３を参照して詳しく説明する。なお、図１、図２および図３には、マスクの載置工程の次に樹脂製品の配置工程を行う実施形態が示されているが、樹脂製品の配置工程の次にマスクの載置工程を行うこともできる。
【００１２】
（マスクの載置工程）
マスク１２０の載置工程（Ｓ２１０）においては、マスク１２０が樹脂製品１１０の表面に載置される。例えば、図１（Ａ）および図２（Ａ）に示すように、マスク１２０は樹脂製品１１０に対して密着するように載置される。マスク１２０は、樹脂製品１１０の表面全体に載置されてもよく、樹脂製品１１０の表面の一部に載置されてもよい。マスク１２０は、樹脂製品１１０の表面のうち紫外線を照射する部分の形状に対応する紫外線透過部を有している。マスク１２０を介して紫外線を照射することにより、所望部分を選択的に改質することができる。
【００１３】
マスク１２０としては、紫外線透過部が厚さ方向に貫通（開口）しているものも、貫通していないものも使用され得る。一実施形態において、マスク１２０は、紫外線透過部が貫通しているものが使用される。マスク１２０を構成する基材は、特に限定されない。別の実施形態において、マスク１２０は、紫外線を透過する基材に紫外線を遮蔽するパターンの膜が形成されたものである。紫外線を透過する基材は、紫外線を透過するものであれば特に限定されないが、例えば、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラス等のガラス材料、またはポリエステル等の樹脂材料が使用される。紫外線を遮蔽する膜は、紫外線を遮蔽するものであれば特に限定されないが、例えば、クロム、モリブデンシリサイド等の金属材料が使用される。また、紫外線を遮蔽する膜は、単層で形成されたものに限定されず、複数層で形成されたものであってもよい。紫外線を遮蔽する膜のパターンは、膜をエッチング等することによって形成され得る。このようなマスク１２０としては、例えば、石英ガラスにクロム膜のパターンが形成されたものが挙げられる。
【００１４】
マスク１２０を構成する基材の厚さは、特に限定されない。下限は、一実施形態において、０．１ｍｍ以上とすることができ、別の実施形態において、１．０ｍｍ以上とすることができ、さらなる実施形態において、２．０ｍｍ以上とすることができる。上限は、一実施形態において、１０ｍｍ以下とすることができ、別の実施形態において、８ｍｍ以下とすることができ、さらなる実施形態において、５ｍｍ以下とすることができる。
【００１５】
（樹脂製品の配置工程）
樹脂製品１１０の配置工程（Ｓ２２０）においては、図１（Ｂ）および図２（Ｂ）に示すように、マスク１２０が載置された樹脂製品１１０の少なくとも一部を冷却水の中に配置する。冷却水は水であってよく、以下、冷却水が水１４０であるとして、実施形態を説明する。この配置としては、紫外線の照射の際に樹脂製品１１０の温度上昇が抑制されるように樹脂製品１１０を配置する。例えば、樹脂製品１１０は、樹脂製品１１０のマスク１２０側の面と対向する面が水面と接触するように配置、樹脂製品１１０の厚さ方向の一部までが水１４０に浸漬するように配置、少なくとも樹脂製品１１０の紫外線が照射される部分が水１４０の外に位置するように配置、または樹脂製品１１０の全体が水１４０に浸漬するように配置される。マスク１２０が載置された樹脂製品１１０は、容器と接触するように配置されることも、容器内に台座、またはワイヤ等の支持部材を設置し、その支持部材に支持させて配置されることもできる。水は空気の約３４００倍の熱容量を有し、約２０倍熱を伝えやすい。そのため、水は空気の約２０倍速く熱を奪うことができ、約１／３４００の流量で同等の冷却効果を得られる。したがって、マスク１２０が載置された樹脂製品１１０の少なくとも一部を水１４０の中に配置することにより、表面改質における紫外線の照射工程において、樹脂製品１１０の温度上昇が抑制され、樹脂製品１１０とマスク１２０の熱膨張の差による樹脂製品１１０とマスク１２０の位置ずれが抑制される。
【００１６】
一実施形態において、例えば、図１（Ｂ）および図２（Ｂ）に示すように、マスク１２０が載置された樹脂製品１１０は、水１４０の深さ方向において、水面側を上側としたとき、マスク１２０が上側で、樹脂製品１１０が下側に位置するように、配置される。すなわち、マスク１２０の表面が水面と略平行で対向するように、樹脂製品１１０が配置される。これにより、樹脂製品１１０とマスク１２０の位置ずれが生じ難くなる。また、この配置において、水面からマスク１２０までの距離は、樹脂製品１１０の温度上昇が抑制できれば特に限定されない。下限は、一実施形態において、０ｍｍとすることができ、別の実施形態において、１．０ｍｍ以上とすることができ、さらに別の実施形態において、２．０ｍｍ以上とすることができ、さらに別の実施形態において、４．０ｍｍ以上とすることができる。また、水は紫外線に対する透過率が高いので、上限も特に限定されないが、一実施形態において、５０ｍｍ以下とすることができ、別の実施形態において、２０ｍｍ以下とすることができ、さらに別の実施形態において、１０ｍｍ以下とすることができる。
【００１７】
また、この配置における樹脂製品１１０に対する紫外線１６０の照射では、紫外線１６０は容器１３０を介さず樹脂製品１１０に照射されるので、紫外線が効率的に照射される。さらに、紫外線１６０は容器１３０を介さずに照射されるので、容器１３０として、紫外線を透過しない、または透過し難いものが使用されることができる。つまり、紫外線を透過する石英ガラス等で構成される容器に加えて、紫外線を透過しない、または透過し難いステンレス、またはアルミニウム等の金属材料等で構成される容器も使用されることができる。紫外線を透過しない、または透過し難い容器が使用された場合、樹脂製品１１０方向に照射された紫外線のうち、吸収されなかった紫外線が容器外に放射されることを抑制できる。その結果、外部環境に対する紫外線の影響（オゾンの発生、部材の劣化等）が抑制される。
【００１８】
冷却水の主な目的は、紫外線１６０の照射の間に樹脂製品１１０の温度が上昇することを抑制することである。そのため、冷却水は、樹脂製品１１０、紫外線１６０の照射、改質部１７０、マスク１２０等に影響を与えず、所望のめっき皮膜のパターンを形成可能に樹脂製品１１０の温度上昇を抑制できるものであれば特に限定されず、例えば水とすることができる。この時、光によって樹脂製品１１０上に水酸基、カルボニル基、カルボキシル基などの化学的吸着基を生成させるために、水の中に、オゾンや半導体、触媒などを混入させることがある。また、水は、オゾンや半導体、触媒などを含有しないものとすることができる。ただし、水として１００ｐｐｍ未満のオゾンを含有する水（以下、「オゾンレスの水」ということもある）は含まれる。当然ながら、水として純水を使用することはできる。このような水は、クロム等の金属材料を含むマスク１２０や、金属材料で構成される容器１３０が使用されても腐食等が生じ難い。
【００１９】
（紫外線の照射工程）
照射工程（Ｓ２３０）においては、紫外線が樹脂製品１１０の表面に照射される。例えば、図１（Ｃ）および図２（Ｃ）に示すように、光源として紫外線ランプ１５０が水１４０の外に配置され、樹脂製品１１０に対して紫外線１６０が照射されると、紫外線が照射された部位に改質部１７０が形成される。
【００２０】
紫外線１６０は、マスク１２０を介して、樹脂製品１１０の表面の一部に照射される。マスク１２０を用いることで、めっき皮膜１８０を形成しようとする部分に紫外線１６０が照射される。こうして、めっき皮膜１８０を形成しようとする部分に選択的に無電解めっき皮膜が析出するように、樹脂製品１１０の表面の一部であるめっき皮膜１８０を形成しようとする部分に改質部１７０が形成される。
【００２１】
紫外線の照射は、樹脂製品１１０の表面の改質が進行する条件下で行われる。一実施形態においては、樹脂製品１１０の構造、成分等に応じて条件が設定される。例えば、樹脂製品１１０の改質が促進するように、主波長が２４３ｎｍ以下である紫外線が照射される。本明細書において、主波長とは、２４３ｎｍ以下の領域において最も強度が高い波長のことを指す。具体的には、低圧水銀ランプであれば主波長は１８５ｎｍである。
【００２２】
一実施形態において、図１（Ｃ）に示すように、樹脂製品１１０の一部が水中に浸漬された状態で少なくとも樹脂製品１１０の紫外線が照射される部分が水の外に位置するように樹脂製品１１０が配置される。紫外線を照射すると、雰囲気中の酸素は分解されてオゾンが生成する。さらに、オゾンが分解する過程で活性酸素が発生する。また、樹脂製品１１０の表面において、樹脂製品１１０を構成する分子中の結合も切断される。このとき、樹脂製品１１０を構成する分子と活性酸素とが反応し、樹脂製品１１０の表面が酸化され、すなわち樹脂製品１１０の表面にＣ−Ｏ結合、Ｃ＝Ｏ結合、Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ結合（カルボキシル基の骨格部分）等が形成される。このような親水性基は、樹脂製品１１０とめっき皮膜１８０との化学的吸着性を増大させる。また、改質された部分については、無電解めっきを行う際に触媒イオンを選択的に吸着させることができる。
【００２３】
特定波長のフォトンのエネルギーは次の式で表せる。
Ｅ＝Ｎｈｃ／λ（ＫＪ・ｍｏｌ−１）
Ｎ＝６．０２２×１０２３ｍｏｌ−１（アボガドロ数）
ｈ＝６．６２６×１０−３７ＫＪ・ｓ（プランク定数）
ｃ＝２．９８８×１０８ｍ・ｓ−１（光速）
λ＝光の波長（ｎｍ）
【００２４】
ここで、酸素分子の結合エネルギーは４９０．４ＫＪ・ｍｏｌ−１である。フォトンのエネルギーの式から、この結合エネルギーを光の波長へと換算すると約２４３ｎｍとなる。このことは、雰囲気中の酸素分子は、波長２４３ｎｍ以下の紫外線を吸収し分解することを示している。これによりオゾンＯ３が発生する。さらに、オゾンが分解する過程で活性酸素が発生する。このとき、波長３１０ｎｍ以下の紫外線が存在すると、効率よくオゾンが分解され、活性酸素が発生する。さらには、波長２５４ｎｍの紫外線がオゾンを最も効率よく分解する。
Ｏ２＋ｈν（２４３ｎｍ以下）→Ｏ（３Ｐ）＋Ｏ（３Ｐ）
Ｏ２＋Ｏ（３Ｐ）→Ｏ３（オゾン）
Ｏ３＋ｈν（３１０ｎｍ以下）→Ｏ２＋Ｏ（１Ｄ）（活性酸素）
Ｏ（３Ｐ）：基底状態酸素原子
Ｏ（１Ｄ）：励起酸素原子（活性酸素）
【００２５】
別の実施形態において、図２（Ｃ）に示すように、樹脂製品１１０のマスク１２０側の面が水の中に位置するように樹脂製品１１０を配置する。例えば、樹脂製品１１０の全体が水の中に位置するように樹脂製品１１０を配置する。このときの樹脂製品１１０は構成分子中に酸素原子を有するものである。構成分子中に酸素原子を有する樹脂製品１１０に紫外線１６０を照射すると、樹脂製品１１０の表面において、樹脂製品１１０を構成する分子中の結合が切断され、水分子とが反応し、樹脂製品１１０の表面が改質される。そして、樹脂製品１１０の表面にＣ−Ｏ結合、Ｃ＝Ｏ結合、Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ結合（カルボキシル基の骨格部分）等が形成される。このような親水性基は、樹脂製品１１０とめっき皮膜１８０との化学的吸着性を増大させる。また、改質された部分については、無電解めっきを行う際に触媒イオンを選択的に吸着させることができる。
【００２６】
水は紫外線の透過性に優れているので、図２（Ｃ）に示すように、光源である紫外線ランプ１５０は、水１４０の外に配置され得る。または、紫外線ランプ１５０は、水１４０の中に配置されてもよい。例えば、紫外線ランプ１５０が水１４０の中に配置される場合は、紫外線を照射するときに大気中の酸素が分解してオゾンを発生することが抑制される。一実施形態において、紫外線ランプ１５０が水１４０の中に配置される場合、容器１３０を紫外線に対して遮光性の材質で構成すると、大気中の酸素の分解がさらに抑制される。さらに、この場合に、容器１３０の開口を紫外線に対して遮光性の材質で構成された部材で塞ぐことで、大気中の酸素の分解がさらに抑制される。
【００２７】
紫外線の光源は、継続的に紫外線を放射する紫外線ランプ、または紫外線ＬＥＤ等とすることができる。紫外線ランプの例としては、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、およびエキシマランプ等が挙げられる。低圧水銀ランプは、波長１８５ｎｍ、および２５４ｎｍの紫外線を照射することができる。また、参考として、大気中で使用できるエキシマランプの例を以下に挙げる。エキシマランプとしては、一般的にはＸｅ２エキシマランプが用いられている。
Ｘｅ２エキシマランプ  ：波長１７２ｎｍ
ＫｒＢｒエキシマランプ：波長２０６ｎｍ
ＫｒＣｌエキシマランプ：波長２２２ｎｍ
【００２８】
紫外線を樹脂製品１１０へと照射する際には、照射量が所望の値となるように、紫外線の照射条件が制御される。紫外線の照射量は、後述するめっき工程（Ｓ２４０）において改質部１７０にめっき皮膜１８０が析出するように、選択される。具体的には、紫外線の照射量は、照射時間、紫外線ランプの出力、本数、または照射距離等を変えることにより制御することもできる。
【００２９】
一実施形態において、より短い時間で十分にめっきを析出させる観点から、照射工程における紫外線の照射量は、主波長において４００ｍＪ／ｃｍ２以上、１６００ｍＪ／ｃｍ２以下である。例えば、主波長において紫外線の照射強度が１．３５ｍＷ／ｃｍ２である一実施形態において、紫外線の照射時間は、５分間以上、２０分間以下である。また、紫外線の照射強度は、樹脂製品１１０の改質を促進するために、一実施形態においては０．１ｍＷ／ｃｍ２以上であり、別の実施形態においては０．３ｍＷ／ｃｍ２以上であり、さらなる実施形態においては１．０ｍＷ／ｃｍ２以上である。一方で、樹脂製品１１０の表面が大きく粗面化されることを防ぐために、紫外線の照射強度は、一実施形態においては３０ｍＷ／ｃｍ２以下であり、別の実施形態においては５．０ｍＷ／ｃｍ２以下であり、さらなる実施形態においては３．０ｍＷ／ｃｍ２以下である。以下、特に断りがない限り、紫外線の照射量、および照射強度は主波長における樹脂製品１１０の表面上での値を指す。
【００３０】
めっきの析出条件は、めっき液の種類、樹脂製品１１０の種類、樹脂製品１１０表面の汚染度、めっき液の濃度、温度、ｐＨ、および経時劣化、紫外線ランプの出力の変動等により変化しうる。したがって、めっき皮膜１８０を形成しようとする部分にのみ選択的にめっきが析出するように、紫外線の照射量を決定すればよい。
【００３１】
一実施形態においては、少なくとも一部が水の中に配置された樹脂製品１１０の表面の一部に紫外線レーザが照射（第１の照射）される。別の実施形態においては、少なくとも一部が水の中に配置された樹脂製品１１０の表面の一部にエキシマランプからの紫外線が照射（第１の照射）される。第１の照射後、水の中、または水の外に配置された樹脂製品１１０の表面の一部を含む領域に紫外線ランプ、または紫外線ＬＥＤからの紫外線が照射（第２の照射）される。紫外線ランプ又は紫外線ＬＥＤからの紫外線は、めっき皮膜１８０を析出させようとする部分を包含するより広い領域に対して照射されてもよく、例えば樹脂製品１１０の全体に対して照射されてもよい。一方で、紫外線ランプ、または紫外線ＬＥＤからの紫外線は、樹脂製品１１０の表面のめっき皮膜１８０を形成しようとする部分に選択的に照射されてもよい。この実施形態によれば、照射時間が短縮され、温度上昇が抑制されると同時に、樹脂製品１１０の水による冷却により更に温度上昇が抑制される。
【００３２】
一実施形態において、上述の紫外線レーザの照射強度は、樹脂製品１１０の表面が大きく粗面化されることを防ぐために、１．０×１０１５Ｗ／ｃｍ２以下であり、樹脂製品１１０の表面の改質を促進するために、１．０×１０５Ｗ／ｃｍ２以上である。また、一実施形態において、上述のエキシマランプとしては波長１７２ｎｍを有するＸｅ２エキシマランプが使用され、上述の紫外線ランプとしては波長１８５ｎｍと２５４ｎｍを有する低圧水銀ランプが用いられる。
【００３３】
本実施形態において用いられる樹脂製品１１０は、紫外線により改質可能な樹脂材料で表面が形成されていれば特に限定されない。樹脂材料の例としては、シクロオレフィンポリマー若しくはポリスチレンのようなポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレートのようなポリエステル、ポリ塩化ビニルのようなポリビニル、ポリカーボネート、またはポリイミド等が挙げられる。樹脂製品１１０の一部が水中に浸漬された状態で少なくとも樹脂製品１１０の紫外線が照射される部分が水の外に位置するように樹脂製品１１０を配置して、紫外線１６０を照射する場合、樹脂製品１１０は、構成分子中に酸素原子を有するものであっても、有さないものであってもよい。一方、樹脂製品１１０におけるマスク１２０が載置された面が水の中に位置するように樹脂製品１１０を配置して、紫外線１６０を照射する場合、樹脂製品１１０は、構成分子中に酸素原子を有するものである。このような樹脂製品１１０の例としては、ポリエチレンテレフタレートのようなポリエステル、またはポリイミド等が挙げられる。
【００３４】
樹脂製品１１０の形状も特に限定されない。例えば、樹脂製品１１０はフィルム状であってもよいし、板状であってもよい。さらに、樹脂製品１１０の厚さも特に限定されない。また、樹脂製品１１０が樹脂のみで構成されている必要はない。すなわち、一実施形態において、樹脂製品１１０は、他の材料の表面に樹脂材料を被覆して得られる被覆構造を有する複合材料である。複合材料の具体的な例としては、金属材料の表面が樹脂材料で被覆されたものが挙げられる。
【００３５】
一実施形態において、樹脂製品１１０は平滑な表面を有する。樹脂製品１１０がより平滑な表面を有することにより、より均一なめっき皮膜１８０がめっきにより形成される。このような平滑なめっき皮膜１８０を導線として用いると、高周波信号の損失を抑えることができる。本実施形態のように紫外線を用いて樹脂製品１１０の表面を改質する方法によれば、樹脂製品１１０の表面にはナノメートルオーダーの微細な凹凸が形成される。一実施形態において、無電解めっきを行う直前における改質部１７０の表面粗さは、１０ｎｍ以下である。また、一実施形態に係るめっき皮膜付樹脂製品１００において、樹脂製品１１０とめっき皮膜１８０との界面における樹脂製品１１０表面の表面粗さは、１０ｎｍ以下である。このように形成される凹凸は、例えばより高強度の可視レーザを樹脂製品１１０表面に照射して得られる、またはクロム酸等で処理することにより形成されるマイクロメートルオーダーの凹凸よりも格段に小さく、表面の平滑性が高いことが期待される。本明細書において、表面粗さは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１により定義される算術平均粗さＲａのことを指す。
【００３６】
（めっき工程）
めっき工程（Ｓ２４０）においては、改質された樹脂製品１１０に対して無電解めっきが行われる。その結果、図１（Ｄ）および図２（Ｄ）に示されるように、改質工程（Ｓ２３０）により生じた樹脂製品１１０の表面の改質部１７０に、めっき皮膜１８０が形成される。こうして、めっき皮膜付樹脂製品１００が製造される。改質工程（Ｓ２３０）においては、所望の改質部１７０にめっき皮膜１８０が析出するようにマスク１２０を介して選択的な改質が行われている。したがって、例えば樹脂製品１１０の全体をめっき液に浸漬した場合であっても、所望の改質部１７０に選択的にめっき皮膜１８０が析出する。また、所望の部分に隣接する部分にはめっき皮膜は析出しない。従って、めっき皮膜１８０の形成後にフォトリソグラフィー、およびエッチング等の方法でめっき皮膜をパターニングすることは必須ではない。
【００３７】
一実施形態においては、無電解めっき法によりめっき皮膜１８０が形成される。具体的な無電解めっき法については、特に限定されない。採用可能な無電解めっき法の例としては、ホルマリン系無電解めっき浴を用いた無電解めっき法、および析出速度は遅いが取り扱いが容易な次亜リン酸を還元剤として用いた無電解めっき法が挙げられる。無電解めっき法のさらなる具体例としては、無電解ニッケルめっき、無電解銅めっき、無電解銅ニッケルめっき、無電解酸化亜鉛めっき等があげられる。形成されるめっき皮膜１８０は一実施形態においては金属皮膜であり、酸化亜鉛めっき皮膜のようなセラミックス皮膜であってもよい。上述のように樹脂製品１１０を改質することにより、改質部１７０と析出しためっき皮膜１８０との密着性が向上する。
【００３８】
一実施形態において、無電解めっきは以下の方法で行うことができる。
１．（アルカリ処理）樹脂製品１１０をアルカリ溶液に浸漬し、脱脂を行い、親水性を高める。アルカリ溶液の例としては、水酸化ナトリウム水溶液等が挙げられる。
２．（コンディショナ処理）樹脂製品１１０と触媒イオンとのバインダーを含有する溶液に樹脂製品１１０を浸漬する。バインダーの例としては、カチオンポリマー等が挙げられる。
３．（アクチベーター処理）樹脂製品１１０を触媒イオン入りの溶液に浸漬する。触媒イオンの例としては、塩酸酸性パラジウム錯体のようなパラジウム錯体等が挙げられる。
４．（アクセレレーター処理）還元剤を含有する溶液に樹脂製品１１０を浸漬し、触媒イオンを還元、および析出させる。還元剤の例としては、水素ガス、ジメチルアミンボラン、および水素化ホウ素ナトリウム等が挙げられる。
５．（無電解めっき処理）析出した触媒上にめっき皮膜１８０を析出させる。
【００３９】
このような方法に従う無電解めっきは、例えばＪＣＵ社製Ｃｕ−Ｎｉめっき液セット「ＡＩＳＬ」等の無電解めっき液セットを用いて行うことができる。
【００４０】
別の実施形態においては、触媒イオンとして、改質部１７０に付着しやすい、少なくとも一部に正電荷を有するパラジウム錯体が用いられる。改質部１７０への付着性が向上するように、一実施形態においては、溶液中で正電荷を有しているパラジウム錯体イオンを含む溶液が用いられる。少なくとも一部に正電荷を有するパラジウム錯体の一例としては、アミン系の配位子が配位結合している錯体が挙げられる。また、少なくとも一部に正電荷を有するパラジウム錯体の別の例としてはパラジウムの塩基性アミノ酸錯体が挙げられる。
【００４１】
この場合、一部に正電荷を有するパラジウム錯体は、樹脂製品１１０の改質部に直接付着するため、樹脂製品１１０をバインダー溶液に浸漬することにより、樹脂製品１１０と触媒イオンとの親和性を高めることは必須ではない。また、バインダーは紫外線を照射していない部分に残りやすいため、意図しない部分にめっき皮膜が析出してしまう場合がある。よって、触媒イオンとして、少なくとも一部に正電荷を有するパラジウム錯体を用いることは、選択的にめっき皮膜１８０が析出しやすい点で有利である。すなわち、このような触媒を用いる場合、めっき皮膜１８０を設けない部分に意図せずめっき皮膜１８０が析出することを抑えられる。
【００４２】
別の実施形態においては、高速無電解めっき法によりめっき皮膜１８０を形成してもよい。高速無電解めっき法によれば、より厚いめっき膜を形成することができる。さらなる実施形態においては、無電解めっきにより形成されためっき皮膜１８０上に、さらに電解めっき法を用いてめっきを析出させる。この方法によれば、さらに厚いめっき皮膜１８０を形成することができる。電解めっきの具体的な方法は、特に限定されない。
【００４３】
得られるめっき皮膜１８０の厚さについて、特段の制限はない。得られるめっき皮膜付樹脂製品１００の用途に応じて、適切な厚さのめっき皮膜１８０が形成される。
【００４４】
こうして得られためっき皮膜付樹脂製品１００は、水１４０の中での紫外線照射によって改質された改質部１７０を有する樹脂製品１１０と、改質部１７０上に形成されためっき皮膜１８０と、を有している。こうして得られためっき皮膜付樹脂製品１００は、配線板、導電膜、ＵＶカット材、または光触媒のような各種の用途に使用できる。
【実施例】
【００４５】
［実施例１］
樹脂製品として、ポリエチレンテレフタレート材（三菱樹脂株式会社製，Ｔ１００−１００）が使用された。
【００４６】
開口パターンを有するクロム膜を有する石英ガラスのマスクが樹脂製品上に載置された。次に、金属製の容器に水が満たされ、水の中にマスク側が上側となるようにマスクを載置した樹脂製品の全体が配置された。また、マスクと水面との間の距離は１０ｍｍであった。
【００４７】
次に、上側から樹脂製品に紫外線ランプからの紫外線が照射された。本実施例で用いた紫外線ランプ（低圧水銀ランプ）、および照射条件の詳細を以下に示す。
低圧水銀ランプ：サムコ社製ＵＶ−３００（主波長１８５ｎｍ，２５４ｎｍ）
照射距離：３．５ｃｍ
照射時間：１５分間
照射距離３．５ｃｍにおける照度：５．４０ｍＷ/ｃｍ２（２５４ｎｍ）
１．３５ｍＷ/ｃｍ２（１８５ｎｍ）
【００４８】
次に、ＪＣＵ社製めっき液セット「ＡＩＳＬ」を使用して、樹脂製品に対して無電解めっきが施された。まず、樹脂製品にアルカリ処理が施された。具体的には、ＪＣＵ社製めっき液セット「ＡＩＳＬ」で用いられるアルカリ溶液が５０℃に加熱され、樹脂製品が３秒間、それに浸漬された。その後、基板は、純水中で洗浄された。
【００４９】
次に、基板に対してバインダー付与処理を行った。具体的には、ＪＣＵ社製めっき液セット「ＡＩＳＬ」で用いられるコンディショナ液を５０℃に加熱して基板を２分間浸漬した。その後、樹脂製品は純水中で洗浄された。
【００５０】
次に、基板に触媒付与処理が施された。具体的には、ＪＣＵ社製めっき液セット「ＡＩＳＬ」で用いられるアクチベーター液が５０℃に加熱され、樹脂製品が２分間、それに浸漬された。その後、樹脂製品は純水中で洗浄された。
【００５１】
次に、基板に還元処理が施された。具体的には、ＪＣＵ社製めっき液セット「ＡＩＳＬ」で用いられるアクセレレーター液が４０℃に加熱され、樹脂製品が２分間、それに浸漬された。その後、樹脂製品は純水中で洗浄された。
【００５２】
次に、基板に無電解銅−ニッケルめっきが施された。具体的には、ＪＣＵ社製めっき液セット「ＡＩＳＬ」で用いられる無電解Ｃｕ−Ｎｉめっき液が６０℃に加熱され、樹脂製品が５分間、それに浸漬された。その後、樹脂製品は純水中で洗浄され、乾燥された。こうして、めっき皮膜付樹脂製品が作製された。
【００５３】
得られためっき皮膜付樹脂製品を観察したところ、紫外線が照射された箇所には一様にめっき皮膜が析出しており、紫外線が照射されていない箇所にはめっき皮膜は析出しておらず、紫外線照射位置のずれは生じていなかった。
【００５４】
［比較例１］
水の中で基板に紫外線照射を行わなかったことを除き、つまり、大気中で基板に紫外線照射を行ったことを除き、実施例１と同様にめっき皮膜付樹脂製品が作製された。得られためっき皮膜付樹脂製品を観察したところ、基板の一部（縁部近傍）において、紫外線照射位置のずれが生じていた。
【符号の説明】
【００５５】
１００    めっき皮膜付樹脂製品
１１０    樹脂製品
１２０    マスク
１３０    容器
１４０    水（冷却水）
１５０    紫外線ランプ
１６０    紫外線
１７０    改質部
１８０    めっき皮膜
Ｓ２１０  載置工程
Ｓ２２０  配置工程
Ｓ２３０  照射工程
Ｓ２４０  めっき工程
【図１】
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【図２】
2018145465.tif 000004
【図３】
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