(57)【要約】【課題】被認証物が人工物メトリクス要素を備える認証システムを提供する。【解決手段】認証システム１は、被認証物２が備える皮膜２０が有する人工物メトリクス要素２１を読み取る読取装置３と、人工物メトリクス要素２１を読み取った結果に基づいて、被認証物２の認証の可否を判定する判定装置４と、を備え、皮膜２０は、硬化性樹脂組成物の硬化物を含み、皮膜２０は、皺２１０を有する表面を備え、皺２１０が、人工物メトリクス要素２１を構成しているは皮膜２０の表面の皺２１０で構成されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被認証物が備える皮膜が有する人工物メトリクス要素を読み取る読取装置と、
前記人工物メトリクス要素を読み取った結果に基づいて、前記被認証物の認証の可否を判定する判定装置と、を備え、
前記皮膜は、硬化性樹脂組成物の塗膜の硬化物を含み、
前記皮膜は、皺を有する表面を備え、前記皺が、前記人工物メトリクス要素を構成している、
認証システム。
【請求項２】
前記被認証物は、プリント配線板であり、
前記皮膜は、ソルダーレジスト層である、
請求項１に記載の認証システム。
【請求項３】
前記皮膜は、前記人工物メトリクス要素を有する第一の領域と、前記人工物メトリクス要素を有さない第二の領域と、を有する、
請求項１又は２に記載の認証システム。
【請求項４】
前記硬化性樹脂組成物は、光重合開始剤（Ａ）と、熱硬化性樹脂（Ｂ）と、一分子中に少なくとも一つのエチレン性不飽和結合を含む不飽和化合物（Ｃ）とを含む、
請求項１から３のいずれか一項に記載の認証システム。
【請求項５】
前記熱硬化性樹脂（Ｂ）が、環状エーテル構造を有する、
請求項４に記載の認証システム。
【請求項６】
被認証物が備える皮膜が有する人工物メトリクス要素を読み取る読取工程と、
前記人工物メトリクス要素を読み取った結果に基づいて、前記被認証物の認証の可否を判定する判定工程と、を含み、
前記皮膜は、硬化性樹脂組成物の塗膜の硬化物を含み、
前記皮膜は、皺を有する表面を備え、前記皺が、前記人工物メトリクス要素を構成している、
認証方法。
【請求項７】
硬化性樹脂組成物の塗膜の硬化物を含み、
皺を有する表面を備え、前記皺が人工物メトリクス要素を構成している、
認証用の皮膜。
【請求項８】
前記人工物メトリクス要素を有する第一の領域と、前記人工物メトリクス要素を有さない第二の領域と、を含む、
請求項７に記載の認証用の皮膜。
【請求項９】
前記硬化性樹脂組成物が、光重合開始剤（Ａ）と、熱硬化性樹脂（Ｂ）と、一分子中に少なくとも一つのエチレン性不飽和結合を含む不飽和化合物（Ｃ）とを含む、
請求項７又は８に記載の認証用の皮膜。
【請求項１０】
皺を有する表面を備え、前記皺が人工物メトリクス要素を構成する認証用の皮膜の製造方法であり、
硬化性樹脂組成物の塗膜を形成してから、前記塗膜を硬化させることで前記皮膜を形成することを含み、
前記塗膜を硬化させる際に、前記塗膜の表層の硬化の程度が前記塗膜の深部よりも高い状態を経させてから、前記塗膜全体を硬化させることで、前記皺を形成する、
認証用の皮膜の製造方法。
【請求項１１】
前記硬化性樹脂組成物は、熱硬化性及び光硬化性を有するとともに、前記塗膜は前記硬化性樹脂組成物から形成された単層の膜であり、
前記塗膜を硬化させる際に、前記塗膜をその表層の硬化の程度が深部よりも高くなるように前記塗膜を露光してから、前記塗膜を加熱することで、前記塗膜全体を硬化させる、
請求項１０に記載の認証用の皮膜の製造方法。
【請求項１２】
前記硬化性樹脂組成物は、光重合開始剤（Ａ）と、熱硬化性樹脂（Ｂ）と、一分子中に少なくとも一つのエチレン性不飽和結合を含む不飽和化合物（Ｃ）とを含む、
請求項１０又は１１に記載の認証用の皮膜の製造方法。
【請求項１３】
前記硬化性樹脂組成物は、熱硬化性及び光硬化性を有する第一組成物と、光硬化性を有する第二組成物とを含み、
前記塗膜は、前記第一組成物から形成された第一塗膜と、前記第一塗膜上にあり、前記第二組成物から形成された第二塗膜と、を含み、
前記塗膜を硬化させる際に、前記塗膜を露光することで、前記第一塗膜と前記第二塗膜の光硬化反応を前記第二塗膜の硬化の程度が前記第一塗膜の硬化の程度より高くなるように進行させてから、前記塗膜を加熱することで、前記塗膜全体を硬化させる、
請求項１０に記載の認証用の皮膜の製造方法。
【請求項１４】
前記硬化性樹脂組成物は、熱硬化性を有するとともに光硬化性を有さない第一組成物と、光硬化性を有する第二組成物と、を含み、
前記塗膜は、前記第一組成物から形成された第一塗膜と、前記第一塗膜上にあり、前記第二組成物から形成された第二塗膜と、を含み、
前記塗膜を硬化させる際に、前記塗膜を露光することで前記第二塗膜を硬化させてから、前記塗膜を加熱することで、前記塗膜全体を硬化させる、
請求項１０に記載の認証用の皮膜の製造方法。
【請求項１５】
前記第二組成物は、光重合開始剤（Ａ）と、熱硬化性樹脂（Ｂ）と、一分子中に少なくとも一つのエチレン性不飽和結合を含む不飽和化合物（Ｃ）とを含む、
請求項１３又は請求項１４に記載の認証用の皮膜の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、認証システム、認証方法、認証用の皮膜、及び認証用の皮膜の製造方法に関し、より詳しくは、人工物メトリクス要素を利用した認証システム、人工物メトリクス要素を利用した認証方法、人工物メトリクス要素を有する皮膜、及び人工物メトリクス要素を有する皮膜の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、人工物メトリクス技術を適用した個体認証が提案されている。人工物メトリクス技術とは、被認証物が備える固有の物理的特徴（人工物メトリクス要素）を分析し、分析結果に基づくデータと、予め登録された認証用データと照合する技術である。すなわち、人工物メトリクス技術とは、人間の指紋、声紋、虹彩に相当する固有の物理的特徴を被認証物から読取ることによって、認証を行う技術である。
【０００３】
特許文献１には、人工物メトリクス技術の一例が記載されている。特許文献１には、基材の片面に、真偽判別要素であるホログラムとタガント（追跡用添加物）としての微小細粒とを含むラベルを設けることが記載されている。すなわち、特許文献１では、人工物メトリクス要素である微小細粒をラベルに追加し、このラベルを基材に設けている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−２６１９６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、特許文献１のように被認証物に人工物メトリクス要素を追加的に設ける場合、そのための工程が必要となる。
【０００６】
本発明の目的は、被認証物に人工物メトリクス要素を設ける手間を削減し得る認証システム、認証方法、認証用の皮膜、及び認証用の皮膜の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一態様に係る認証システムは、
被認証物が備える皮膜が有する人工物メトリクス要素を読み取る読取装置と、
前記人工物メトリクス要素を読み取った結果に基づいて、前記被認証物の認証の可否を判定する判定装置と、を備え、
前記皮膜は、硬化性樹脂組成物の塗膜の硬化物を含み、
前記皮膜は、皺を有する表面を備え、前記皺が、前記人工物メトリクス要素を構成している。
【０００８】
本発明の一態様に係る認証方法は、
被認証物が備える皮膜が有する人工物メトリクス要素を読み取る読取工程と、
前記人工物メトリクス要素を読み取った結果に基づいて、前記被認証物の認証の可否を判定する判定工程と、を含み、
前記皮膜は、硬化性樹脂組成物の塗膜の硬化物を含み、
前記皮膜は、皺を有する表面を備え、前記皺が、前記人工物メトリクス要素を構成している。
【０００９】
本発明の一態様に係る認証用の皮膜は、
硬化性樹脂組成物の塗膜の硬化物を含み、
皺を有する表面を備え、前記皺が人工物メトリクス要素を構成している。
【００１０】
本発明の一態様に係る認証用の皮膜の製造方法は、
皺を有する表面を備え、前記皺が人工物メトリクス要素を構成する認証用の皮膜の製造方法であり、
硬化性樹脂組成物の塗膜を形成してから、前記塗膜を硬化させることで前記皮膜を形成することを含み、
前記塗膜を硬化させる際に、前記塗膜の表層の硬化の程度が前記塗膜の深部よりも高い状態を経させてから、前記塗膜全体を硬化させることで、前記皺を形成する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の一態様によれば、被認証物に人工物メトリクス要素を設ける手間を削減し得る認証システム、認証方法、認証用の皮膜、及び認証用の皮膜の製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係る認証システムの構成の一例を示す模式図である。
【図２】図２Ａ及び図２Ｂは、同上の認証システムにおいて被認証物が備える皮膜の拡大写真である。
【図３】図３は、同上の認証システムに含まれる判定装置の構成の一例を示すブロック図である。
【図４】図４Ａ〜図４Ｃは、同上の認証システムにおいて被認証物が備える皮膜を形成する方法の一例を示す概略の断面図である。
【図５】図５Ａ〜図５Ｅは、同上の認証システムにおいて被認証物が備える皮膜を形成する方法の一例を示す概略の断面図である。
【図６】図６Ａ〜図６Ｅは、同上の認証システムにおいて被認証物が備える皮膜を形成する方法の一例を示す概略の断面図である。
【図７】図７Ａ〜図７Ｅは、同上の認証システムにおいて被認証物が備える皮膜を形成する方法の一例を示す概略の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の一実施形態を、図１を参照しながら説明する。
【００１４】
本実施形態に係る認証システム１は、被認証物２が備える皮膜２０が有する人工物メトリクス要素２１を読み取る読取装置３と、人工物メトリクス要素２１を読み取った結果に基づいて被認証物２の認証の可否を判定する判定装置４と、を備える。この皮膜２０は、硬化性樹脂組成物の硬化物である。皮膜２０は、皺２１０を有する表面を備え、この皺２１０が、人工物メトリクス要素２１を構成している。
【００１５】
本実施形態では、皮膜２０の表面の皺２１０を人工物メトリクス要素として利用することで、被認証物２に人工物メトリクス要素を設ける手間を削減できる。被認証物２が、その構成要素として皮膜２０を有する場合には、被認証物２に人工物メトリクス要素２１を設けるための工程を削減できる。
【００１６】
また、人工物メトリクス要素２１は、皮膜２０の表面の皺２１０で構成されているため、人工物メトリクス要素２１を複製することは困難である。したがって、本実施形態の被認証物２は、偽造されにくい。
【００１７】
本実施形態の認証システム１を、更に詳しく説明する。なお、認証システム１は、下記の構成に限定されない。
【００１８】
図１に示すように、認証システム１は、例えば、読取装置３と、判定装置４と、データベース５と、を備える。なお、図１に示す認証システム１は、被認証物２を含んでいないが、認証システム１が被認証物２を含んでいてもよい。
【００１９】
被認証物２の例には、プリント配線板、電子機器、紙幣、有価証券、パスポート、証明書、個人認証媒体、ブランド品、クレジットカード、電子マネー用カード等のカード類、タグ等が含まれる。この場合、被認証物２が備える皮膜２０は、製品を保護するための保護膜であってもよく、製品情報を表示するラベルであってもよい。被認証物２は、プリント配線板であることも好ましい。この場合の皮膜２０は、例えば、ソルダーレジスト層である。この場合、プリント配線板が備えるソルダーレジスト層によって、プリント配線板の認証を行うことができる。
【００２０】
皮膜２０は、人工物メトリクス要素２１を有している。この人工物メトリクス要素２１は、皮膜２０の表面の皺２１０で構成されている。皺２１０は不均一である。このため、人工物メトリクス要素２１は、皺２１０で構成されたパターンである。
【００２１】
皮膜２０の表面全体が人工物メトリクス要素２１を有してもよく、皮膜２０の表面の一部が人工物メトリクス要素２１を有していてもよい。本実施形態では、皮膜２０は、人工物メトリクス要素２１を有する第一の領域２２と、人工物メトリクス要素２１を有さない第二の領域２３と、を含むことが好ましい。この場合、皮膜２０の一部に存在する人工物メトリクス要素２１を利用して認証を行うことができる。第二の領域２３は、皺を有していなくてもよく、人工物メトリクス要素２１を構成する皺２１０とは程度の異なる皺を有していてもよい。
【００２２】
また、第一の領域２２及び第二の領域２３の組み合わせによって、被認証物２の偽造防止性能を向上させてもよい。例えば、皮膜２０における、第一の領域２２又は第二の領域２３が配置されている位置に基づいて、認証をおこなってもよい。この場合、第一の領域２２又は第二の領域２３の配置位置に基づく認証、及び人工物メトリクス要素２１を用いた認証からなる二段階認証をおこなうことができる。
【００２３】
図２Ａ及び図２Ｂは、人工物メトリクス要素２１を有する皮膜２０の拡大写真である。図２Ａ及び図２Ｂに示すように、人工物メトリクス要素２１は、皺２１０で構成されている。図２Ａにおいて、Ｘ−Ｘ線の右側は第一の領域２２を示し、Ｘ−Ｘ線の左側は第二の領域２３を示す。図２Ｂに示す皮膜２０は、絶縁層と、絶縁層上に設けられた導体配線とを覆っている。図２ＢのＹ−Ｙ線の左側において、皮膜２０の絶縁層と直接接する部分には皺２１０が形成されており、皮膜２０の導体配線と直接接する部分には皺２１０が形成されていない。このため、皮膜２０の絶縁層と直接接する部分が第一の領域２２となり、皮膜２０の導体配線と直接接する部分が第二の領域２３となる。図２Ａ及び図２Ｂに示すように、第一の領域２２は、皺２１０で構成された人工物メトリクス要素２１を有し、第二の領域２３は、人工物メトリクス要素２２を有していない。
【００２４】
読取装置３は、人工物メトリクス要素２１を読み取るための装置である。読取装置３は、人工物メトリクス要素２１を読み取り可能であれば特に限定されない。読取装置３は、人工物メトリクス要素２１を読み取った結果を判定装置４に出力する。皮膜２０が第一の領域２２及び第二の領域２３を有する場合には、読取装置３は、皮膜２０における第一の領域２２又は第二の領域２３が配置されている位置を読み取ってもよい。
【００２５】
読取装置３は、例えば、人工物メトリクス要素２１を撮像可能な光学的な撮像装置であってもよい。撮像装置で撮像した人工物メトリクス要素２１の画像を読み取ることで、人工物メトリクス要素２１を構成する皺２１０の形状を把握できる。撮像装置の例には、カメラ、スキャナ、電子顕微鏡、及びレーザー顕微鏡が含まれる。読取装置３が撮像装置である場合、人工物メトリクス要素２１を読み取った結果は、人工物メトリクス要素２１の画像であってもよい。
【００２６】
読取装置３は、例えば、表面粗さ計であってもよい。表面粗さ計の例には、接触式の表面粗さ計及び非接触式の表面粗さ計が含まれる。表面粗さ計は、人工物メトリクス要素２１を構成する皺２１０の微細な形状を測定できる。読取装置３が表面粗さ計である場合、人工物メトリクス要素２１を読み取った結果は、人工物メトリクス要素２１の粗さ曲線であってもよい。
【００２７】
図３は、判定装置４の構成（ハードウェア構成）の一例を示すブロック図である。図３に示す判定装置４は、制御装置４１、記憶装置４２、入力装置４３、表示装置４４、メディア入出力装置４５、通信インターフェース４６、及び周辺機器インターフェース４７を備える。各装置は、バス４９で接続されている。判定装置４は、例えば、コンピュータである。
【００２８】
制御装置４１は、例えば、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）、及びＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｓｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）を備える。
【００２９】
ＣＰＵは、記憶装置４２、ＲＯＭ、記録媒体等に記憶されたプログラムを、ＲＡＭ上のワークエリアに呼び出して実行できる。ＣＰＵは、バス４９で接続された各装置を、駆動及び制御できる。ＲＯＭは、ブートプログラム、ＢＩＯＳ等のプログラム、データ等を恒久的に保持できる。ＲＡＭは、プログラム、データ等を一時的に保持できる。制御装置４１は、各種の処理を行うためのワークエリアを備え得る。
【００３０】
記憶装置４２の例には、ＨＤＤ（ハードディスクドライブ）、及びＳＳＤ（ソリッドステートディスク）が含まれる。記憶装置４２は、制御装置４１が実行するプログラム、プログラムの実行に必要なデータ、ＯＳ（オペレーティング・システム）等を格納できる。制御装置４１により、これらのプログラムは、必要に応じて読み出され、ＲＡＭに移され、ＣＰＵに読み出され、実行される。
【００３１】
入力装置４３の例には、キーボード、マウス、タッチパネル、タブレット端末等のポインティング・デバイス、及びテンキーが含まれる。入力装置４３に入力された情報は、制御装置４１に送られる。
【００３２】
表示装置４４は、例えば液晶パネル、ＣＲＴモニタ等のディスプレイ装置と、ディスプレイ装置と連携して表示処理を実行するための論理回路（ビデオアダプタ等）と、で構成される。制御装置４１から表示装置４４に送られた情報は、ディスプレイ装置に表示される。
【００３３】
メディア入出力装置４５の例には、フロッピー（登録商標）ディスクドライブ、ＰＤドライブ、ＣＤドライブ、ＤＶＤドライブ、ブルーレイディスクドライブ、及びＭＯドライブが含まれる。メディア入出力装置４５は、データの入力及び出力を行う。
【００３４】
通信インターフェース４６は、例えば、通信制御装置、通信ポート等を備える。通信インターフェース４６は、ネットワークを介して判定装置４と外部装置との通信を媒介できる。通信インターフェース４６は、通信の制御を行うことができる。通信インターフェース４６は、例えば、判定装置４と、データベース５、読取装置３等との通信を媒介できる。このため、データベース５及び読取装置３は、通信インターフェース４６を介して、判定装置４と接続され得る。
【００３５】
周辺機器インターフェース４７は、例えば、判定装置４に周辺機器を接続するためのポートである。判定装置４は、周辺機器とのデータの送受信を、周辺機器インターフェース４７を介して行う。周辺機器インターフェース４７は、ＵＳＢ端子、ＩＥＥＥ１３９４端子、ＲＳ−２３２Ｃ端子等で構成され得る。判定装置４は、複数の周辺機器インターフェース４７を有し得る。周辺機器インターフェース４７は、有線接続のための端子であってもよく、無線接続のための端子であってもよい。周辺機器インターフェース４７が無線接続のための端子である場合、判定装置４と周辺機器とが無線で接続されてよい。
【００３６】
バス４９は、各装置間の制御信号、データ信号等の授受を媒介するための経路である。
【００３７】
上記の構成を備える判定装置４では、例えば、人工物メトリクス要素２１を読み取った結果のデータ（登録用データ）をデータベース５に登録する処理（登録処理）、人工物メトリクス要素２１を読み取った結果のデータ（照合用データ）と登録用データとを照合して、被認証物２の認証の可否を判定する処理（認証処理）等が行われる。登録処理及び認証処理は、記憶装置４２等に記憶されているプログラムに従って、制御装置４１が実行できる。
【００３８】
以下、判定装置４で行われる登録処理について、詳しく説明する。登録処理では、例えば、下記のステップＳ１０１〜ステップＳ１０４が行われる。
【００３９】
（ステップＳ１０１）
ステップＳ１０１では、読取装置３は、登録のために開示された被認証物２における人工物メトリクス要素２１を読み取る。これにより、人工物メトリクス要素２１を読み取った結果が得られる。
【００４０】
（ステップＳ１０２）
ステップＳ１０２では、読取装置３から判定装置４に、通信インターフェース４６を介して、人工物メトリクス要素２１を読み取った結果が送られる。これにより、判定装置４は、人工物メトリクス要素２１を読み取った結果を取得する。また、読取装置３で作成した人工物メトリクス要素２１を読み取った結果をメディア入出力装置４５によってメディアに記憶するととともに、メディア入出力装置４５によってこのメディアから人工物メトリクス要素２１の読み取った結果を取り出して判定装置４に送ってもよい。
【００４１】
（ステップＳ１０３）
ステップＳ１０３では、判定装置４は、人工物メトリクス要素２１を読み取った結果から、皺２１０で構成されるパターンを示す登録用データを作成する。なお、人工物メトリクス要素２１を読み取った結果のデータが、そのまま登録用データとなってもよい。
【００４２】
（ステップＳ１０４）
ステップＳ１０４では、判定装置４は、データベース５に、通信インターフェース４６を介して、登録用データを送る。これにより、登録用データが、データベース５に登録される。なお、登録用データは、製造番号等の被認証物２の固有の情報と対応付けられてもよい。この固有の情報は、入力装置４３で入力されてもよく、表示装置４４に表示されてもよい。また、データベース５には、複数の被認証物２の複数の登録用データが登録されてもよい。
【００４３】
以下、判定装置４で行われる認証処理について、詳しく説明する。認証処理では、例えば、下記のステップＳ２０１〜ステップＳ２０４が行われる。
【００４４】
（ステップＳ２０１）
ステップＳ２０１では、読取装置３は、認証対象である被認証物２における人工物メトリクス要素２１を読み取る。これにより、人工物メトリクス要素２１を読み取った結果が作成される。このため、本実施形態に係る認証方法には、被認証物２が備える皮膜２０が有する人工物メトリクス要素２１を読み取る読取工程が含まれる。
【００４５】
（ステップＳ２０２）
ステップＳ２０２では、読取装置３から判定装置４に、通信インターフェース４６を介して、人工物メトリクス要素２１を読み取った結果が送られる。これにより、判定装置４は、人工物メトリクス要素２１を読み取った結果を取得する。このため、本実施形態に係る認証方法には、人工物メトリクス要素２１を読み取った結果を取得する読取結果取得工程が含まれていてもよい。
【００４６】
（ステップＳ２０３）
ステップＳ２０３では、判定装置４は、人工物メトリクス要素２１の画像から、皺２１０で構成されるパターンを示す照合用データを作成する。なお、人工物メトリクス要素２１を読み取った結果のデータが、そのまま照合用データとなってもよい。このため、本実施形態に係る認証方法には、人工物メトリクス要素２１を読み取った結果から、照合用データを作成する照合用データ作成工程が含まれてもよい。
【００４７】
（ステップＳ２０４）
ステップＳ２０４では、判定装置４は、登録用データと照合用データとを照合することにより、データベース５から照合用データと一致する登録用データを検索する。このため、本実施形態の認証方法には、登録用データと照合用データとを照合する照合工程が含まれてもよい。
【００４８】
（ステップＳ２０５）
ステップＳ２０５では、照合用データと一致する登録用データが発見された場合、判定装置４は、認証ＯＫ（認証が「可」）と判定する。また、ステップＳ２０５では、照合用データと一致する登録用データが発見されない場合、判定装置４は、認証ＮＧ（認証が「否」）と判定する。換言すると、ステップＳ２０５では、判定装置４は、被認証物２の認証の可否を判定する。このため、本実施形態に係る認証方法には、人工物メトリクス要素２１の画像に基づいて、被認証物２の認証の可否を判定する判定工程が含まれる。ステップＳ２０５では、判定装置４は、更に、製造番号等の被認証物２の固有の情報と、登録用データに対応付けられた被認証物２の固有の情報とを照合してもよい。この場合、誤判定を抑制できる。ステップＳ２０５における判定装置４による判定結果は、例えば、表示装置４４に表示されてもよい。
【００４９】
なお、認証システム１の構成は、上記の例に限定されない。
【００５０】
例えば、認証処理を判定装置４で行い、登録処理を判定装置４とは別のコンピュータで行ってもよい。
【００５１】
例えば、認証システム１に含まれる各装置が、インターネット等のネットワークを介して接続されていてもよい。例えば、判定装置４と読取装置３、あるいは判定装置４とデータベース５が、通信インターフェース４６を介さずに、インターネット等のネットワークを介して接続されていてもよい。
【００５２】
以下、認証用の皮膜２０について更に詳しく説明する。
【００５３】
皮膜２０は、上記の通り、硬化性樹脂組成物の硬化物を含み、表面が皺２１０を有する。皺２１０の高低差は、例えば、１〜１０００μｍの範囲内である。皺２１０におけるピーク間の幅は、例えば、５〜５０００μｍの範囲内である。この皺２１０が人工物メトリクス要素２１を構成している。
【００５４】
皮膜２０は、以下の製造方法によって、製造され得る。
【００５５】
本実施形態の皮膜２０の製造方法は、硬化性樹脂組成物の塗膜２４を形成してから、この塗膜２４を硬化させることで皮膜２０を形成することを含む。本実施形態では、塗膜２４を硬化させる際に、塗膜２４の表層の硬化の程度が、塗膜２４の深部よりも高い状態を経させてから、塗膜２４全体を硬化させることで、皺２１０を形成する。この状態を経てから塗膜２４全体を硬化させると、深部では硬化収縮が生じるが、表層は既に硬化しているため、表層では硬化収縮が生じにくい。このため、塗膜２４の表層が深部の硬化収縮に追随して変形することにより、塗膜２４の表面に皺２１０が発生する。これにより、皺２１０で構成される人工物メトリクス要素２１を有する皮膜２０が得られる。
【００５６】
皮膜２０を製造するための第一の方法では、硬化性樹脂組成物が、熱硬化性及び光硬化性を有する一種類の組成物であるとともに、塗膜２４がこの硬化性樹脂組成物から形成される単層の膜である。この塗膜２４を硬化させる際には、塗膜２４をその表層の硬化の程度が深部よりも高くなるように塗膜２４を露光してから、塗膜２４を加熱することにより、皺２１０を形成する。第一の方法において、塗膜２４を形成するための硬化性樹脂組成物は、光重合開始剤（Ａ）と、熱硬化性樹脂（Ｂ）と、一分子中に少なくとも一つのエチレン性不飽和結合を含む不飽和化合物（Ｃ）とを含むことが好ましい。この場合、硬化性樹脂組成物から形成される塗膜２４に、光硬化性と熱硬化性とを付与できる。これにより、塗膜２４に対する露光及び塗膜２４の加熱によって、塗膜２４を硬化させることができる。
【００５７】
塗膜２４の厚み、及び塗膜２４に対する露光量のうち、少なくとも一方を調整することによって、露光後の塗膜２４の表層の硬化の程度を、深部よりも高くすることができる。例えば、塗膜２４の厚みを大きくする、あるいは塗膜２４のに対する露光量を少なくすると、塗膜２４の深部に到達する光の量を低減することができ、露光後の塗膜２４の表層の硬化の程度を、深部よりも高くすることができる。塗膜２４の厚み、及び塗膜２４に対する露光量は、塗膜２４を形成するための硬化性樹脂組成物の組成に応じて、塗膜２４の表層の硬化の程度が深部よりも高くなるように、適宜調整する。ただし、塗膜２４が薄過ぎると、あるいは塗膜２４に対する露光量が多過ぎると、露光後の塗膜２４の表層から深部に亘って十分に硬化して、皺２１０が生じにくくなる。このため、塗膜２４の厚みが１０〜１００μｍの範囲内である場合には、塗膜２４に対する露光量は、２０〜２０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内であることが好ましい。
【００５８】
皮膜２０を製造するための第二の方法では、硬化性樹脂組成物が、熱硬化性及び光硬化性を有する第一組成物と、光硬化性を有する第二組成物とを含み、塗膜２４が、第一組成物から形成された第一塗膜２４０と、第一塗膜２４０上にあり、第二組成物から形成された第二塗膜２４１と、を含む。この塗膜２４を硬化させる際には、塗膜２４を露光することで、第一塗膜２４０と第二塗膜２４１の光硬化反応を、第二塗膜２４１の硬化の程度が第一塗膜２４０の硬化の程度より高くなるように進行させてから、塗膜２４を加熱して塗膜２４全体を硬化させる。
【００５９】
第二の方法において、第一塗膜２４０の光硬化反応が、第二塗膜２４１よりも進行しにくくすることにより、露光後の第二塗膜２４１の硬化の程度を、第一塗膜２４０よりも高くすることができる。この塗膜２４を加熱すると、第一塗膜２４０では硬化収縮が生じるが、第二塗膜２４１は既に硬化しているため、第二塗膜２４１では硬化収縮が生じにくい。このため、第二塗膜２４１が、第一塗膜２４０の硬化収縮に追随して変形することにより、第二塗膜２４１の表面に皺２１０を発生させることができる。その結果、第一塗膜２４０の硬化物である皮膜２０１と、第二塗膜２４１の硬化物であり、皺２１０を有する皮膜２０２と、を含む皮膜２０が得られる。第一塗膜２４０及び第二塗膜２４１の厚みと、塗膜２４に対する露光量は、第二塗膜２４１の硬化の程度が第一塗膜２４０よりも高くなるように、第一組成物及び第二組成物の組成に応じて、適宜調製する。ただし、第一塗膜２４０及び第二塗膜２４１の厚みが薄過ぎる、あるいは、塗膜２４に対する露光量が多過ぎると、第一塗膜２４０が硬化し過ぎて、皮膜２０の表面に皺２１０が形成されないことがある。このため、第一塗膜２４０の厚みが１０〜１００μｍの範囲内、第二塗膜２４１の厚みが１０〜１００μｍの範囲内である場合の露光量は、２０〜２０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内であることが好ましい。
【００６０】
第二組成物は、熱硬化性を有していなくてもよいが、熱硬化性を有することが好ましい。第二組成物が熱硬化性を有する場合、第二組成物は、光重合開始剤（Ａ）と、熱硬化性樹脂（Ｂ）と、一分子中に少なくとも一つのエチレン性不飽和結合を含む不飽和化合物（Ｃ）とを含むことが好ましい。これにより、第二組成物から形成される第二塗膜２４１に光硬化性及び熱硬化性を付与できる。第一組成物は、熱硬化性及び光硬化性を有し、且つ第二組成物よりも光硬化性が低ければ、特に限定されない。
【００６１】
第二の方法において、第二組成物は、第二塗膜２４１の光硬化性が第一塗膜２４０よりも高くなるように調製することが好ましい。そのためには、例えば、第二組成物に配合される光重合開始剤（Ａ）の濃度を、第一組成物に配合される光重合開始剤（Ａ）の濃度よりも高くしてもよい。例えば、第二組成物に特定の波長域の光を吸収しやすい光重合開始剤（Ａ）を配合するとともに、第一組成物にこの波長域の光を吸収しにくい光重合開始剤（Ａ）を配合してもよい。例えば、第二組成物に配合される不飽和化合物（Ｃ）の濃度を、第一組成物に配合される不飽和化合物（Ｃ）の濃度よりも高くしてもよい。例えば、第二組成物に立体障害が小さい不飽和化合物（Ｃ）を配合するとともに、第一組成物に立体障害が大きい不飽和化合物（Ｃ）を配合してもよい。例えば、第二組成物にラジカル生成速度の速い光重合開始剤（Ａ）を配合するとともに、第一組成物にラジカル生成速度の遅い光重合開始剤（Ａ）を配合してもよい。例えば、第一組成物及び第二組成物に配合される着色剤（Ｅ）の種類、配合量等を調整して、第一組成物のUV透過性を低くしてもよく、第二組成物の光反射率を高くしてもよい。
【００６２】
また第二の方法では、第二塗膜２４１を、白色顔料を含有する第二組成物で形成することも好ましい。この場合、塗膜２４に照射された光を第二塗膜２４１の表面で反射することができ、第一塗膜２４０に光が到達しにくくできる。これにより、露光後の第二塗膜２４１の硬化の程度を、第一塗膜２４０よりも高くすることができる。白色顔料の例には酸化チタンが含まれ得る。第二組成物に含まれる白色顔料以外の成分は、上記の第二組成物の組成と同じであってもよい。
【００６３】
また第二の方法では、第一塗膜２４０を、黒色顔料を含有する第一組成物で形成することも好ましい。この場合、黒色顔料は光透過性が低いため、第一塗膜２４０において光硬化反応が生じにくくすることができ、第一塗膜２４０の光硬化の程度を、第二塗膜２４１よりも低くすることができる。黒色顔料の例には、カーボンブラック、ペリレンブラック、チタンブラック、アニリンブラックが含まれ得る。黒色顔料は、特に光透過性が低いカーボンブラックを含むことが好ましい。
【００６４】
皮膜２０を製造するための第三の方法では、硬化性樹脂組成物が、熱硬化性を有するとともに光硬化性を有さない第一組成物と、光硬化性を有する第二組成物とを含み、塗膜２４が、第一組成物から形成された第一塗膜２４０と、第一塗膜２４０上にあり、第二組成物から形成された第二塗膜２４１と、を含む。この塗膜２４を硬化させる際には、塗膜２４を露光することで、第二塗膜２４１を硬化させてから、塗膜２４を加熱することで塗膜２４全体を硬化させる。塗膜２４を露光することで、光硬化性を有する第二塗膜２４１では光硬化反応が起こるが、光硬化性を有さない第一塗膜２４０では光硬化反応が起こらない。このため、露光後の塗膜２４を加熱すると、第一塗膜２４０では硬化収縮が生じるが、第二塗膜２４１は既に硬化しているため、第二塗膜２４１では硬化収縮が生じにくい。このため、第二塗膜２４１が、第一塗膜２４０の硬化収縮に追随して変形することにより、第二塗膜２４１の表面に皺２１０が発生する。これにより、第一塗膜２４０の硬化物である皮膜２０１と、第二塗膜２４１の硬化物であり、皺２１０を有する皮膜２０２と、を含む皮膜２０が得られる。第一塗膜２４０及び第二塗膜２４１の厚みと、塗膜２４に対する露光量は、第一組成物及び第二組成物の組成に応じて、適宜調製される。
【００６５】
第三の方法において、第二組成物は、熱硬化性を有していなくてもよいが、熱硬化性を有することが好ましい。第二組成物が熱硬化性を有する場合、第二組成物は、光重合開始剤（Ａ）と、熱硬化性樹脂（Ｂ）と、一分子中に少なくとも一つのエチレン性不飽和結合を含む不飽和化合物（Ｃ）とを含むことが好ましい。これにより、第二組成物から形成される第二塗膜２４１に光硬化性及び熱硬化性を付与できる。第一組成物は、熱硬化性を有し、且つ光硬化性を有さなければ、特に限定されない。
【００６６】
更に、上記の第一の方法、第二の方法、及び第三の方法からなる群から選択される二種以上を組み合わせてもよい。例えば、第一の方法と第二の方法とを組み合わせてもよい。この場合、光硬化性及び熱硬化性を有する第一塗膜２４０と、第一塗膜２４０よりも光硬化性の高い第二塗膜２４１とで構成される塗膜２４を形成するとともに、第一塗膜２４０及び第二塗膜２４１の膜厚を調節してもよい。
【００６７】
また皮膜２０は、上記の通り、人工物メトリクス要素２１を有する第一の領域２２と、人工物メトリクス要素２１を有さない第二の領域２３とを有していてもよい。この第二の領域２３は、皺を有していなくてもよく、人工物メトリクス要素２１を構成する皺２１０とは程度の異なる皺を有していてもよい。第二の領域２３が有する皺は、皺２１０と高低差が異なる皺であってもよく、皺２１０におけるピーク間の幅が異なる皺であってもよい。
【００６８】
第二の領域２３を形成する方法は、特に限定されない。
【００６９】
例えば、第一の方法では、塗膜２４を露光する際に、第二の領域２３に対する露光量を、第一の領域２２に対する露光量よりも大きくしてもよい。この場合、塗膜２４を露光する際に、第二の領域２３の表層から深部まで十分に光硬化反応を進行させることができる。これにより、露光後の塗膜２４を加熱する際に、第二の領域２３の表層の硬化収縮を起こりにくくすることができ、第二の領域２３の表面に皺２１０が発生しにくくすることができる。
【００７０】
例えば、第一の方法及び第二の方法では、第二の領域２３の膜厚を、第一の領域２２の膜厚よりも小さくしてもよい。この場合、塗膜２４を露光する際に、第二の領域２３の深部を十分に硬化させることができる。これにより、露光後の塗膜２４を加熱する際に、第二の領域２３の深部の硬化収縮を起こりにくくすることができ、第二の領域２３の表面に皺２１０が発生しにくくすることができる。
【００７１】
例えば、第二の方法及び第三の方法では、第一の領域２２を第一塗膜２４０及び第二塗膜２４１で構成するとともに、第二の領域２３を第一塗膜２４０のみで構成してもよい。この場合、塗膜２４を露光する際に、第二の領域２３の深部を十分に硬化させることができる。これにより、露光後の塗膜２４を加熱する際に、第二の領域２３の第一塗膜２４０の硬化収縮を起こりにくくすることができ、第二の領域２３の表面に皺２１０を発生しにくくすることができる。
【００７２】
以下、塗膜２４の形成に使用する硬化性樹脂組成物に含まれる各成分を、更に詳しく説明する。
【００７３】
硬化性樹脂組成物は、上記の通り、光重合開始剤（Ａ）と、熱硬化性樹脂（Ｂ）と、一分子中に少なくとも一つのエチレン性不飽和結合を含む不飽和化合物（Ｃ）とを含む。硬化性樹脂組成物は、更に、カルボキシル基含有樹脂（Ｄ２）、着色剤（Ｅ）、有機溶剤（Ｆ）、及びその他の成分（Ｇ）を含んでもよい。
【００７４】
［光重合開始剤（Ａ）］
光重合開始剤（Ａ）は、紫外線又は電子線が照射されることで、ラジカル、カチオン、あるいはアニオン等を生成し、重合反応のきっかけになる化合物である。光重合開始剤（Ａ）は、紫外線が照射されることで、ラジカルを生成する化合物であることが好ましい。光重合開始剤（Ａ）は、例えば、ベンゾインとそのアルキルエーテル類；アセトフェノン、ベンジルジメチルケタール等のアセトフェノン類；２−メチルアントラキノン等のアントラキノン類；２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類；ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルフィド等のベンゾフェノン類；２，４−ジイソプロピルキサントン等のキサントン類；２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等の窒素を含む開始剤；１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル-ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル等のα-ヒドロキシアルキルフェノン類；２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４-メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン等のα-アミノアルキルフェノン類；２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−エチル−フェニル−ホスフィネート等のモノアシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤；並びに、ビス−（２,４,６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジクロロベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジクロロベンゾイル）−２，５−ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジクロロベンゾイル）−４−プロピルフェニルホスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジクロロベンゾイル）−１−ナフチルホスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，５−ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、（２，５，６−トリメチルベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン系光重合開始剤、１，２−オクタンジオン，１−[４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）]、エタノン，１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル]−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）等のオキシムエステル系���重合開始剤からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。光重合開始剤（Ａ）は、より好ましくは、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等の窒素を含む開始剤、及びアシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤からなる群から選択される少なくとも１種を含有する。
【００７５】
硬化性樹脂組成物の固形分量に対する光重合開始剤（Ａ）の割合は、好ましくは０．０１質量％〜５０質量％の範囲内である。より好ましくは０．０５質量％〜２５質量％の範囲内であり、更に好ましくは０．１質量％〜１５質量％の範囲内である。
【００７６】
［熱硬化性樹脂（Ｂ）］
熱硬化性成分（Ｂ）は、硬化性樹脂組成物に熱硬化性を付与できる。熱硬化性成分（Ｂ）は、好ましくは環状エーテル骨格を有する化合物を含む。環状エーテル骨格を有する化合物は、好ましくはエポキシ化合物及びオキセタン化合物を含有し、より好ましくはエポキシ化合物を含有する。
【００７７】
エポキシ化合物は、好ましくは１分子中に少なくとも２個のエポキシ基を有する。エポキシ化合物は、溶剤難溶性エポキシ化合物であってもよく、汎用の溶剤可溶性エポキシ化合物であってもよい。エポキシ化合物の種類は特に限定されない。エポキシ化合物は、フェノールノボラック型エポキシ樹脂（具体例としてＤＩＣ株式会社製の品番ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−７７５）、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂（具体例としてＤＩＣ株式会社製の品番ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６９５）、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（具体例として三菱化学株式会社製の品番ｊＥＲ１００１）、ビスフェノールＡ−ノボラック型エポキシ樹脂（具体例としてＤＩＣ株式会社製の品番ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−８６５）、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂（具体例として三菱化学株式会社製の品番ｊＥＲ４００４Ｐ）、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂（具体例としてＤＩＣ株式会社製の品番ＥＰＩＣＬＯＮ  ＥＸＡ−１５１４）、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂（具体例として三菱化学株式会社製の品番ＹＸ４０００）、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂（具体例として日本化薬株式会社製の品番ＮＣ−３０００）、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（具体例として新日鉄住金化学株式会社製の品番ＳＴ−４０００Ｄ）、ナフタレン型エポキシ樹脂（具体例としてＤＩＣ株式会社製の品番ＥＰＩＣＬＯＮ  ＨＰ−４０３２、ＥＰＩＣＬＯＮ  ＨＰ−４７００、ＥＰＩＣＬＯＮ  ＨＰ−４７７０）、ターシャリーブチルカテコール型エポキシ樹脂（具体例としてＤＩＣ株式会社製の品番ＥＰＩＣＬＯＮ  ＨＰ−８２０）、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂（具体例としてＤＩＣ製の品番ＥＰＩＣＬＯＮ  ＨＰ−７２００）、アダマンタン型エポキシ樹脂（具体例として出光興産株式会社製の品番ＡＤＡＭＡＮＴＡＴＥ  Ｘ−Ｅ−２０１）、ビフェニルエーテル型エポキシ樹脂（具体例として新日鉄住金化学株式会社製の品番ＹＳＬＶ−８０ＤＥ、特殊二官能型エポキシ樹脂（具体例として、三菱化学株式会社製の品番ＹＬ７１７５−５００、及びＹＬ７１７５−１０００；ＤＩＣ株式会社製の品番ＥＰＩＣＬＯＮ  ＴＳＲ−９６０、ＥＰＩＣＬＯＮ  ＴＥＲ−６０１、ＥＰＩＣＬＯＮ  ＴＳＲ−２５０−８０ＢＸ、ＥＰＩＣＬＯＮ  １６５０−７５ＭＰＸ、ＥＰＩＣＬＯＮ  ＥＸＡ−４８５０、ＥＰＩＣＬＯＮ  ＥＸＡ−４８１６、ＥＰＩＣＬＯＮ  ＥＸＡ−４８２２、及びＥＰＩＣＬＯＮ  ＥＸＡ−９７２６；新日鉄住金化学株式会社製の品番ＹＳＬＶ−１２０ＴＥ）、１，３，５−トリス（２，３−エポキシプロピル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、及び前記以外のビスフェノール系エポキシ樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。
【００７８】
硬化性樹脂組成物の固形分量に対する熱硬化性樹脂（Ｂ）の割合は、好ましくは３質量％〜９０質量％の範囲内であり、より好ましくは５質量％〜７０質量％の範囲内であり、更に好ましくは１０質量％〜５０質量％の範囲内である。
【００７９】
［不飽和化合物（Ｃ）］
不飽和化合物（Ｃ）は、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物である。不飽和化合物（Ｃ）は、硬化性樹脂組成物に光硬化性を付与できる。不飽和化合物（Ｃ）は、例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の単官能（メタ）アクリレート；並びにジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ε―カプロラクトン変性ペンタエリストールヘキサアクリレート等の多官能（メタ）アクリレートからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。
【００８０】
不飽和化合物（Ｃ）は、三官能の化合物、すなわち一分子中に不飽和結合を３つ有する化合物を含有してもよい。この場合、樹脂組成物から形成される皮膜を露光・現像する場合の解像性が向上すると共に、樹脂組成物のアルカリ性水溶液による現像性が特に向上する。三官能の化合物は、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリストールトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート及びε−カプロラクトン変性トリス−（２−アクリロキシエチル）イソシアヌレート及びエトキシ化グリセリントリ（メタ）アクリレートからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。
【００８１】
不飽和化合物（Ｃ）は、リン含有化合物（リン含有不飽和化合物）を含有してもよい。この場合、樹脂組成物の硬化物の難燃性が向上する。リン含有不飽和化合物は、例えば２−メタクリロイロキシエチルアシッドフォスフェート（具体例として共栄社化学株式会社製の品番ライトエステルＰ−１Ｍ、及びライトエステルＰ−２Ｍ）、２−アクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート（具体例として共栄社化学株式会社製の品番ライトアクリレートＰ−１Ａ）、ジフェニル−２−メタクリロイルオキシエチルフォスフェート（具体例として大八工業株式会社製の品番ＭＲ−２６０）、並びに昭和高分子株式会社製のＨＦＡシリーズ（具体例としてジペンタエリストールヘキサアクリレートとＨＣＡ（９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−フォスファフェナントレン−１０-オキサイド）との付加反応物である品番ＨＦＡー６００３、及びＨＦＡ−６００７、カプロラクトン変性ジペンタエリストールヘキサアクリレートとＨＣＡとの付加反応物である品番ＨＦＡー３００３、及びＨＦＡ−６１２７等）からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。
【００８２】
不飽和化合物（Ｃ）は、プレポリマーを含有してもよい。プレポリマーは、例えばエチレン性不飽和結合を有するモノマーを重合させた後にエチレン性不飽和基を付加することで得られるプレポリマー、並びにオリゴ（メタ）アクリレートプレポリマー類からなる群から選択される少なくとも一種を含有できる。オリゴ（メタ）アクリレートプレポリマー類は、例えばエポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、アルキド樹脂（メタ）アクリレート、シリコーン樹脂（メタ）アクリレート、及びスピラン樹脂（メタ）アクリレートからなる群から選択される少なくとも一種を含有できる。
【００８３】
硬化性樹脂組成物の固形分量に対する不飽和化合物（Ｃ）の割合は、好ましくは５質量％〜９０質量％の範囲内であり、より好ましくは１０質量％〜７０質量％の範囲内であり、更に好ましくは２０質量％〜６０質量％の範囲内である。
【００８４】
不飽和化合物（Ｃ）は、カルボキシル基を有する不飽和化合物（以下、カルボキシル基含有樹脂（Ｄ１）ともいう）を含有してもよい。硬化性樹脂組成物にカルボキシル基含有樹脂（Ｄ１）が含まれる場合、硬化性樹脂組成物から形成される皮膜２０に、アルカリ性溶液による現像性、すなわちアルカリ現像性を付与できる。
【００８５】
カルボキシル基含有樹脂（Ｄ１）は、例えば一分子中に二個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物（ｄ１）における前記エポキシ基のうち少なくとも一つと、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物（ｄ２）とが反応し、更に多価カルボン酸及びその無水物からなる群から選択される少なくとも一種である化合物（ｄ３）が付加した構造を有する樹脂（以下、第一の樹脂（ｄ）という）を含有できる。
【００８６】
エポキシ化合物（ｄ１）は、例えばクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ−ノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート、脂環式エポキシ樹脂、及びエポキシ基を有する化合物を含むエチレン性不飽和化合物の重合体からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。
【００８７】
エポキシ化合物（ｄ１）は、エポキシ基を備える化合物（ｐ１）を含むエチレン性不飽和化合物（ｐ）の重合体を含有してもよい。エチレン性不飽和化合物（ｐ）は、エポキシ基を備える化合物（ｐ１）のみを含有してもよく、エポキシ基を備える化合物（ｐ１）とエポキシ基を備えない化合物（ｐ２）とを含有してもよい。
【００８８】
エポキシ基を備える化合物（ｐ１）は、適宜のポリマー及びプレポリマーからなる群から選択される少なくとも一種を含有できる。具体的には、エポキシ基を備える化合物（ｐ１）は、アクリル酸のエポキシシクロヘキシル誘導体類、メタクリル酸のエポキシシクロヘキシル誘導体類、アクリレートの脂環エポキシ誘導体、メタクリレートの脂環エポキシ誘導体、β−メチルグリシジルアクリレート、及びβ−メチルグリシジルメタクリレートからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有できる。特に、エポキシ基を備える化合物（ｐ１）が、汎用されて入手が容易なグリシジル（メタ）アクリレートを含有することが好ましい。
【００８９】
エポキシ基を備えない化合物（ｐ２）は、例えば、エポキシ基を備える化合物（ｐ１）と共重合可能な化合物であり得る。エポキシ基を備えない化合物（ｐ２）は、例えば、２−（メタ）アクリロイロキシエチルフタレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタレート、２−（メタ）アクリロイロキシプロピルフタレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールベンゾエート（メタ）アクリレート、パラクミルフェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、ＥＯ変性クレゾール（メタ）アクリレート、エトキシ化フェニル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート（重合度ｎ＝２〜１７）、ＥＣＨ変性フェノキシ（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ＥＣＨ変性フタル酸ジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンベンゾエート（メタ）アクリレート、ＥＯ変性フタル酸（メタ）アクリレート、ＥＯ，ＰＯ変性フタル酸（メタ）アクリレート、ビニルカルバゾール、スチレン、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、３−マレイミド安息香酸Ｎ−スクシンイミジル、直鎖状あるいは分岐を有する脂肪族又は脂環族（ただし、環中に一部不飽和結合を有してもよい）の（メタ）アクリル酸エステル、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アルコキシアルキル（メタ）アクリレート、及びＮ−置換マレイミド類（例えばＮ−シクロヘキシルマレイミド）からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。
【００９０】
エポキシ基を備えない化合物（ｐ２）は、更に、一分子中にエチレン性不飽和基を二個以上備える化合物を含有してもよい。この化合物が使用され、その配合量が調整されることで、皮膜の硬度及び油性を容易に調整できる。一分子中にエチレン性不飽和基を二個以上備える化合物は、例えばポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、及びペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。
【００９１】
例えば、エチレン性不飽和化合物（ｐ）を、溶液重合法、エマルション重合法等の公知の重合法で重合することにより、重合体が得られる。例えば溶液重合法は、エチレン性不飽和化合物（ｐ）と適当な有機溶剤と重合開始剤とを窒素雰囲気下で加熱攪拌する方法、又は共沸重合法である。
【００９２】
エチレン性不飽和化合物（ｐ）の重合のために使用される有機溶剤は、例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、及びトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、及び酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の酢酸エステル類、及びジアルキルグリコールエーテル類からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。
【００９３】
エチレン性不飽和化合物（ｐ）の重合のために使用される重合開始剤は、例えばジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド等のハイドロパーオキサイド類、ジクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ−（ｔ−ブチルパーオキシ）−ヘキサン等のジアルキルパーオキサイド類、イソブチリルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド類、メチルエチルケトンパーオキサイド等のケトンパーオキサイド類、ｔ−ブチルパーオキシビバレート等のアルキルパーエステル類、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート等のパーオキシジカーボネート類、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物、並びにレドックス系の開始剤からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。
【００９４】
カルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物（ｄ２）は、適宜のポリマー及びプレポリマーからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有できる。エチレン性不飽和化合物（ｄ２）は、エチレン性不飽和基を一個のみ有する化合物を含有できる。エチレン性不飽和基を一個のみ有する化合物は、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、桂皮酸、２−アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２−アクリロイルオキシエチルフタル酸、２−メタクリロイルオキシエチルフタル酸、β−カルボキシエチルアクリレート、アクリロイルオキシエチルサクシネート、メタクリロイルオキシエチルサクシネート、２−プロペノイックアシッド，３−（２−カルボキシエトキシ）−３−オキシプロピルエステル、２−アクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタル酸、２−メタクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、及び２−メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。更にエチレン性不飽和化合物（ｄ２）は、複数のエチレン性不飽和基を備える化合物を含有できる。複数のエチレン性不飽和基を備える化合物は、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート等のヒドロキシル基を備える多官能アクリレート、並びに多官能メタクリレートに二塩基酸無水物を反応させて得られる化合物からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。
【００９５】
特にカルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物（ｄ２）が、アクリル酸及びメタクリル酸からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有することが好ましい。アクリル酸及びメタクリル酸に由来するエチレン性不飽和基は特に光反応性に優れるため、第一の樹脂（ａ）の光反応性を向上させることができる。
【００９６】
エポキシ化合物（ｄ１）のエポキシ基１モルに対するカルボキシル基含有樹脂（Ｄ１）のカルボキシル基の量は、好ましくは０．４〜１．２モルの範囲内であり、より好ましくは０．５〜１．１モルの範囲内である。
【００９７】
多価カルボン酸又はその無水物からなる化合物（ｄ３）（以下、化合物（ｄ３）ともいう）は、例えばフタル酸、テトラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、メチルナジック酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、コハク酸、メチルコハク酸、マレイン酸、シトラコン酸、グルタル酸、イタコン酸等のジカルボン酸；シクロヘキサン−１，２，４−トリカルボン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、メチルシクロヘキセンテトラカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸等の三塩基酸以上の多価カルボン酸；並びにこれらの多価カルボン酸の無水物からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。
【００９８】
化合物（ｄ３）の主たる使用目的は、第一の樹脂（ｄ）に酸性を付与することにより、樹脂組成物に希アルカリ水溶液による再分散、再溶解性を付与することである。化合物（ｄ３）の使用量は、好ましくは第一の樹脂（ｄ）の酸価が３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であるように調整され、より好ましくは第一の樹脂（ｄ）の酸価が６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であるように調整され、また、化合物（ｄ３）の使用量は、好ましくは第一の樹脂（ｄ）の酸価が１６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であるように調整され、より好ましくは１３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であるように調整される。
【００９９】
第一の樹脂（ｄ）の合成において、エポキシ化合物（ｄ１）とカルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物（ｄ２）との付加反応、並びにこの付加反応の生成物（付加反応生成物）と化合物（ｄ３）との付加反応は、公知の方法により行われる。例えばエポキシ化合物（ｄ１）とエチレン性不飽和化合物（ｄ２）との付加反応においては、エポキシ化合物（ｄ１）を含む溶剤溶液にエチレン性不飽和化合物（ｄ２）を加え、更に必要に応じて熱重合禁止剤及び触媒を加えて攪拌混合することで、反応性溶液が得られる。この反応性溶液を、常法により、好ましくは６０〜１５０℃で、より好ましくは８０〜１２０℃で反応させることにより、付加反応生成物が得られる。熱重合禁止剤は、例えばハイドロキノン、又はハイドロキノンモノメチルエーテルである。触媒は、例えば、ベンジルジメチルアミン、トリエチルアミン等の第３級アミン類、トリメチルベンジルアンモニウムクロライド、メチルトリエチルアンモニウムクロライド等の第４級アンモニウム塩類、トリフェニルホスフィン、トリフェニルスチビンである。
【０１００】
付加反応生成物と化合物（ｄ３）との付加反応においては、付加反応生成物を含む溶剤溶液に化合物（ｄ３）を加え、更に必要に応じて熱重合禁止剤及び触媒を加えて撹拌混合することで、反応性溶液が得られる。この反応性溶液を、常法により、反応させることで、第一の樹脂（ｄ）が得られる。反応条件は、エポキシ化合物（ｄ１）とカルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物（ｄ２）との付加反応の反応条件と同じ条件でよい。熱重合禁止剤及び触媒は、エポキシ化合物（ｄ１）とカルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物（ｄ２）との付加反応において使用された熱重合禁止剤及び触媒と同じものを使用することができる。
【０１０１】
カルボキシル基含有樹脂（Ｄ１）は、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物を含むエチレン性不飽和単量体の重合体におけるカルボキシル基の一部と、エポキシ基を有するエチレン性不飽和化合物と、を反応させることで得られる樹脂（第二の樹脂（ｅ）という）を含有してもよい。エチレン性不飽和単量体は、必要に応じてカルボキシル基を有さないエチレン性不飽和化合物を含んでもよい。
【０１０２】
第二の樹脂（ｅ）を得るためのカルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物は、適宜のポリマー及びプレポリマーを含有できる。例えばカルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物は、エチレン性不飽和基を１個のみ有する化合物を含有できる。より具体的には、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物は、例えばアクリル酸、メタクリル酸、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトン（ｎ≒２）モノアクリレート、クロトン酸、桂皮酸、２−アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２−アクリロイルオキシエチルフタル酸、２−メタクリロイルオキシエチルフタル酸、β−カルボキシエチルアクリレート、アクリロイルオキシエチルサクシネート、メタクリロイルオキシエチルサクシネート、２−プロペノイックアシッド，３−（２−カルボキシエトキシ）−３−オキシプロピルエステル、２−アクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタル酸、２−メタクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、及び２−メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。カルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物は、エチレン性不飽和基を複数有する化合物を含有できる。より具体的には、例えばカルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物は、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、及びジペンタエリスリトールペンタメタクリレートからなる群から選択されるヒドロキシル基を有する多官能の（メタ）アクリレートと、二塩基酸無水物と、の反応で得られる化合物を含有できる。これらの化合物は、単独で使用されてもよく、複数で併用されてもよい。
【０１０３】
第二の樹脂（ｅ）を得るためのカルボキシル基を有さないエチレン性不飽和化合物は、例えば、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物と共重合可能な化合物であり得る。カルボキシル基を有さないエチレン性不飽和化合物は、芳香環を有する化合物と、芳香環を有さない化合物と、を含有できる。
【０１０４】
芳香環を有する化合物は、例えば２−（メタ）アクリロイロキシエチルフタレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタレート、２−（メタ）アクリロイロキシプロピルフタレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールベンゾエート（メタ）アクリレート、パラクミルフェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、ＥＯ変性クレゾール（メタ）アクリレート、エトキシ化フェニル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート（ｎ＝２〜１７）、ＥＣＨ変性フェノキシ（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ＥＣＨ変性フタル酸ジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンベンゾエート（メタ）アクリレート、ＥＯ変性フタル酸（メタ）アクリレート、ＥＯ，ＰＯ変性フタル酸（メタ）アクリレート、ビニルカルバゾール、スチレン、ビニルナフタレン、及びビニルビフェニルからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。
【０１０５】
芳香環を有さない化合物は、例えば直鎖又は分岐の脂肪族、あるいは脂環族（ただし、環中に一部不飽和結合を有してもよい）の（メタ）アクリル酸エステル、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アルコキシアルキル（メタ）アクリレート等；及びＮ−シクロヘキシルマレイミド等のＮ−置換マレイミド類からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。芳香環を有さない化合物は、更にポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等の、１分子中にエチレン性不飽和基を２個以上有する化合物を含有してもよい。これらの化合物は、単独で使用されてもよく、複数で併用されてもよい。これらの化合物を使用することにより、皮膜の硬度及び油性を容易に調整することができる。
【０１０６】
第二の樹脂（ｅ）を得るためのエポキシ基を有するエチレン性不飽和化合物は、適宜のポリマー又はプレポリマーである。このエポキシ基を有するエチレン性不飽和化合物は、例えばアクリル酸又はメタクリル酸のエポキシシクロヘキシル誘導体類；アクリレート又はメタクリレートの脂環エポキシ誘導体；β−メチルグリシジルアクリレート、β−メチルグリシジルメタクリレートからなる群から選択される少なくとも一種の化合物である。これらの化合物は、単独で使用されてもよく、複数で併用されてもよい。エチレン性不飽和化合物は、好ましくは、汎用され、容易に入手できるグリシジル（メタ）アクリレートである。
【０１０７】
カルボキシル基含有樹脂（Ｄ１）は、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物、及びヒドロキシル基を有するエチレン性不飽和化合物を含むエチレン性不飽和単量体の重合体におけるヒドロキシル基の一部又は全部に、エチレン性不飽和基及びイソシアネート基を有する化合物を付加することで得られる樹脂（以下、第三の樹脂（ｆ）という）を含有してもよい。エチレン性不飽和単量体は、必要に応じて、カルボキシル基及びヒドロキシル基を有さないエチレン性不飽和化合物を含んでもよい。
【０１０８】
第三の樹脂（ｆ）を得るためのカルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物の例は、上述の第二の樹脂（ｅ）を得るためのカルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物と同じであってもよい。
【０１０９】
第三の樹脂（ｆ）を得るためのヒドロキシル基を有するエチレン性不飽和化合物は、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタレート、カプロラクトン（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、及びＮ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミドであり得る。
【０１１０】
第三の樹脂（ｆ）を得るためのエチレン性不飽和基及びイソシアネート基を有する化合物は、例えば、２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート（具体例として昭和電工株式会社；品番「カレンズＡＯＩ」）、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート（具体例として昭和電工株式会社；品番「カレンズＭＯＩ」）、メタクリロイルオキシエトキシエチルイソシアネート（具体例として昭和電工株式会社；品番「カレンズＭＯＩ−ＥＧ」）、カレンズＭＯＩのイソシアネートブロック体（具体例として昭和電工株式会社；品番「カレンズＭＯＩ一ＢＭ」）、カレンズＭＯＩのイソシアネートブロック体（具体例として昭和電工株式会社；品番「カレンズＭＯＩ−ＢＰ」）、及び１，１−（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート）（具体例として昭和電工株式会社；品番「カレンズＢＥＩ」）であり得る。
【０１１１】
カルボキシル基含有樹脂（Ｄ１）全体の重量平均分子量は、好ましくは、８００〜１０００００の範囲内である。この場合、硬化性樹脂組成物に特に優れた感光性と解像性とが付与される。
【０１１２】
カルボキシル基含有樹脂（Ｄ１）全体の酸価は、好ましくは３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である。この場合、硬化性樹脂組成物に良好な現像性が付与される。カルボキシル基含有樹脂（Ｄ１）全体の酸価は、より好ましくは６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である。カルボキシル基含有樹脂（Ｄ１）全体の酸価は、好ましくは１６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。この場合、硬化性樹脂組成物で形成される皮膜に残留するカルボキシル基の量が低減される。このため、皮膜の良好な電気特性、耐電蝕性、及び耐水性等が維持され得る。カルボキシル基含有樹脂（Ｄ１）全体の酸価は、より好ましくは１３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。［カルボキシル基含有樹脂（Ｄ２）］
硬化性樹脂組成物は、一分子中にエチレン性不飽和結合を有さないカルボキシル基含有樹脂（Ｄ２）を含んでいてもよい。
【０１１３】
カルボキシル基含有樹脂（Ｄ２）は、例えば、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物を含むエチレン性不飽和単量体の重合体を含有する。エチレン性不飽和単量体はカルボキシル基を有さないエチレン性不飽和化合物を含んでもよい。
【０１１４】
カルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物は、適宜のポリマー及びプレポリマーを含有することができ、例えば、エチレン性不飽和基を１個のみ有する化合物を含有することができる。より具体的には、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物は、例えばアクリル酸、メタクリル酸、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトン（ｎ≒２）モノアクリレート、クロトン酸、桂皮酸、２−アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２−アクリロイルオキシエチルフタル酸、２−メタクリロイルオキシエチルフタル酸、β−カルボキシエチルアクリレート、アクリロイルオキシエチルサクシネート、メタクリロイルオキシエチルサクシネート、２−プロペノイックアシッド，３−（２−カルボキシエトキシ）−３−オキシプロピルエステル、２−アクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタル酸、２−メタクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、及び２−メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。カルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物は、エチレン性不飽和基を複数有する化合物を含有することもできる。より具体的には、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物は、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、及びジペンタエリスリトールペンタメタクリレートのうちいずかのヒドロキシル基を有する多官能の（メタ）アクリレートと、二塩基酸無水物との反応によって得られる化合物を含有してもよい。これらの化合物は、単独で使用されてもよく、複数併用されてもよい。
【０１１５】
カルボキシル基を有さないエチレン性不飽和化合物は、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物と共重合可能な化合物であってもよい。カルボキシル基を有さないエチレン性不飽和化合物は、芳香環を有する化合物及び芳香環を有さない化合物の両方を含有してもよい。
【０１１６】
芳香環を有する化合物は、例えば、２−（メタ）アクリロイロキシエチルフタレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタレート、２−（メタ）アクリロイロキシプロピルフタレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールベンゾエート（メタ）アクリレート、パラクミルフェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、ＥＯ変性クレゾール（メタ）アクリレート、エトキシ化フェニル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート（ｎ＝２〜１７）、ＥＣＨ変性フェノキシ（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ＥＣＨ変性フタル酸ジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンベンゾエート（メタ）アクリレート、ＥＯ変性フタル酸（メタ）アクリレート、ＥＯ、ＰＯ変性フタル酸（メタ）アクリレート、ビニルカルバゾール、スチレン、ビニルナフタレン、及びビニルビフェニルからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。
【０１１７】
芳香環を有さない化合物は、例えば直鎖又は分岐の脂肪族、脂環族（ただし、環中に不飽和結合を有してもよい）の（メタ）アクリル酸エステル、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アルコキシアルキル（メタ）アクリレート等；及びＮ−シクロヘキシルマレイミド等のＮ−置換マレイミド類からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。芳香環を有さない化合物は、更にポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等の、１分子中にエチレン性不飽和基を２個以上有する化合物を含有してもよい。これらの化合物は単独で使用されてもよく、複数併用されてもよい。これらの化合物を使用することにより、皮膜の硬度及び油性を容易に調節することができる。
【０１１８】
硬化性樹脂組成物から形成される皮膜２０のアルカリ現像性の観点から、硬化性樹脂組成物の固形分量に対するカルボキシル基含有樹脂（Ｄ１）とカルボキシル基含有樹脂（Ｄ２）の合計の割合は、好ましくは５質量％〜８５質量％の範囲内であり、より好ましくは１０質量％〜７５質量％の範囲内であり、更に好ましくは３０質量％〜６０質量％の範囲内である。この場合、皮膜２０のアルカリ現像性を十分に確保できる。
【０１１９】
［着色剤（Ｅ）］
着色剤（Ｅ）は、硬化性樹脂組成物及び皮膜２０を着色できる。着色剤（Ｅ）は、例えば、顔料、染料、及び色素からなる群から選択される少なくとも一種の材料を含む。着色剤は、顔料と染料のいずれも含み得る。ただし、着色剤（Ｅ）は有色であるが、硬化性樹脂組成物から皮膜を形成する過程において加熱により無色になる物質は、皮膜２０を着色させないため、着色剤（Ｅ）に含まれない。
【０１２０】
着色剤（Ｅ）は、例えば黒色着色剤、白色着色剤、青色着色剤、黄色着色剤、緑色着色剤、赤色着色剤、紫色着色剤、オレンジ色着色剤、茶色着色剤、及び前記以外の色の着色剤からなる群から選択される少なくとも一種の材料を含有できる。
【０１２１】
着色剤（Ｅ）が黒色着色剤を含有する場合、皮膜２０は黒色に着色される。黒色着色剤の例には、カーボンブラックが含まれうる。着色剤（Ｅ）が白色着色剤を含有する場合、皮膜２０は白色に着色される、白色着色剤の例には、酸化チタンが含まれうる。着色剤（Ｅ）が青色着色剤及び黄色着色剤の両方を含有する場合、皮膜２０は緑色に着色される。青色着色剤の例には、フタロシアニン系青色着色剤（フタロシアニンブルー）、アントラキノン系青色着色剤、Pigment Blue 15；Pigment Blue 15:1；Pigment Blue 15:2；Pigment Blue 15:3；Pigment Blue 15:4；Pigment Blue 15:6；Pigment Blue 16；及びPigment Blue 60が含まれる。黄色着色剤の例には、モノアゾ系黄色着色剤、ジスアゾ系黄色着色剤、縮合アゾ系黄色着色剤、ベンズイミダゾロン系黄色着色剤、イソインドリノン系黄色着色剤、アントラキノン系黄色着色剤、Pigment Yellow 24；Pigment Yellow 108；Pigment Yellow 193；Pigment Yellow 147；Pigment Yellow 150；Pigment Yellow 199；Pigment Yellow 202；Pigment Yellow 110；Pigment Yellow 109；Pigment Yellow 139；Pigment Yellow 179；Pigment Yellow 185；Pigment Yellow 93；Pigment Yellow 94；Pigment Yellow 95；Pigment Yellow 128；Pigment Yellow 155；Pigment Yellow 166；Pigment Yellow 180； Pigment Yellow 120；Pigment Yellow 151；Pigment Yellow 154；Pigment Yellow 156；Pigment Yellow 175；及びPigment Yellow 181、１，１‘−［（６−フェニル−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル）ビス（イミノ）］ビス（９，１０−アントラセンジオン）が含まれる。着色剤（Ｅ）が緑色着色剤を含有する場合、皮膜２０は緑色に着色される。緑色着色剤の例には、フタロシアニン系緑色着色剤、アントラキノン系緑色着色剤、ペリレン系緑色着色剤、金属置換若しくは無置換のフタロシアニン化合物、ピグメントグリーン７、及びピグメントグリーン３６が含まれる。
【０１２２】
塗膜２４が、第一塗膜２４０及び第二塗膜２４１を含む場合には、第一塗膜２４０を形成するための第一組成物と、第二塗膜２４１を形成するための第二組成物とが、それぞれ異なる着色剤（Ｅ）を含有していてもよい。これにより、第一塗膜２４０及び第二塗膜２４１を、それぞれ異なる色に着色することができる。第二塗膜２４１の光反射性を高くする場合には、第二組成物が白色顔料を含有することが好ましく、酸化チタンを含有することがより好ましい。
【０１２３】
硬化性樹脂組成物が有機成分の着色剤（Ｅ）を含有する場合、硬化性樹脂組成物の固形分量に対する有機成分の着色剤（Ｅ）の割合は、好ましくは０．０１質量％〜２０質量％の範囲内であり、より好ましくは０．０５質量％〜１０質量％の範囲内であり、更に好ましくは０．１質量％〜５質量％の範囲内である。また、硬化性樹脂組成物が無機成分の着色剤（Ｅ）を含有する場合、無機成分の着色剤（Ｅ）の割合は、好ましくは１質量％〜８０質量％の範囲内であり、より好ましくは３質量％〜７０質量％の範囲内であり、更に好ましくは５質量％〜６０質量％の範囲内である。
【０１２４】
[有機溶剤（Ｆ）]
有機溶剤（Ｆ）は、硬化性樹脂組成物の液状化又はワニス化、粘度調整、塗布性の調整、造膜性の調整などの目的で使用される。
【０１２５】
有機溶剤（Ｆ）は、例えばエタノール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ヘキサノール、エチレングリコール等の直鎖、分岐、２級あるいは多価のアルコール類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；スワゾールシリーズ（丸善石油化学社製）、ソルベッソシリーズ（エクソン・ケミカル社製）等の石油系芳香族系混合溶剤；セロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類；カルビトール、ブチルカルビトール等のカルビトール類；プロピレングリコールメチルエーテル等のプロピレングリコールアルキルエーテル類；ジプロピレングリコールメチルエーテル等のポリプロピレングリコールアルキルエーテル類；酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、カルビトールアセテート等の酢酸エステル類；並びにジアルキルグリコールエーテル類からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。
【０１２６】
硬化性樹脂組成物に有機溶剤（Ｆ）が含まれる場合、硬化性樹脂組成物全体に対する有機溶剤（Ｆ）の割合は、硬化性樹脂組成物の塗膜を乾燥させる際に有機溶剤（Ｆ）が速やかに揮散するように、換言すると有機溶剤（Ｆ）が乾燥塗膜に残存しないように、調整される。硬化性樹脂組成物全体に対する有機溶剤（Ｆ）の割合は、好ましくは５〜９９．５質量％の範囲内である。この場合、硬化性樹脂組成物の良好な塗布性が得られる。好ましい有機溶剤（Ｆ）の割合は、塗布方法などによって異なる。
【０１２７】
[その他の成分（Ｇ）]
硬化性樹脂組成物は、公知の硬化剤、光重合促進剤、増感剤、レーザ露光法用増感剤、
充填材等を含有してもよい。硬化性樹脂組成物は、適宜の添加剤を含有してもよい。硬化性樹脂組成物は、例えば、シリコーン、アクリレート等の共重合体；レベリング剤；シランカップリング剤等の密着性付与剤；チクソトロピー剤；重合禁止剤；ハレーション防止剤；難燃剤；消泡剤；酸化防止剤；界面活性剤；並びに高分子分散剤からなる群から選択される少なくとも一種を含有してもよい。
【０１２８】
上記の硬化性樹脂組成物の原料が配合されるとともに、三本ロール、ボールミル、サンドミル等による公知の混練方法で、混練されることにより、硬化性樹脂組成物が調製され得る。硬化性樹脂組成物の原料に液状の成分、粘度の低い成分等が含まれる場合、それ以外の成分を混練した後、液状又は粘度の低い成分を加えることにより、硬化性樹脂組成物が調製され得る。
【０１２９】
保存安定性等の観点から、原料の一部を混合することにより第一剤を調製し、原料の残部を混合することにより第二剤を調製してもよい。すなわち、硬化性樹脂組成物は、第一剤と第二剤とを備えてもよい。例えば、硬化性樹脂組成物の原料のうち熱硬化性樹脂（Ｂ）、不飽和化合物（Ｃ）、有機溶剤（Ｆ）等を混合することにより第一剤を調製し、硬化性樹脂組成物の原料の残部を混合することにより第二剤を調製してもよい。この場合、第一剤と第二剤との混液を硬化させることにより、硬化性樹脂組成物の硬化物を形成できる。
【０１３０】
以下、硬化性樹脂組成物から皮膜２０を形成する方法の具体例１〜４を説明するが、皮膜２０を形成する方法は、これらの具体例に限定されない。
【０１３１】
（具体例１）
皮膜２０を製造する第一の方法の具体例を、図４Ａ〜図４Ｃを参照しながら説明する。
【０１３２】
まず、基材２００及び硬化性樹脂組成物を用意する。被認証物２がプリント配線板である場合、基材２００は、例えば、絶縁層と導体配線とを備えるコア基材である。硬化性樹脂組成物は、光硬化性及び熱硬化性を有する。
【０１３３】
次に図４Ａに示すように、基材２００上に塗膜２４を形成する。塗膜２４は、基材２００上に硬化性樹脂組成物を塗布して、乾燥させることにより形成される。硬化性樹脂組成物の塗布方法の例には、浸漬法、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法、カーテンコート法、及びスクリーン印刷法が含まれる。塗膜２４は、ドライフィルム法で形成してもよい。
【０１３４】
次に、図４Ｂに示すように、塗膜２４にマスク２５を直接又は間接的にあてがうとともに、塗膜２４に紫外線を照射する。換言すると、マスク２５を介して塗膜２４が露光される。紫外線の光源の例には、ケミカルランプ、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、ＬＥＤ、ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）、並びにｇ線、ｈ線及びｉ線のうち二種以上の組み合わせが含まれる。
【０１３５】
マスク２５は、光透過性が高い領域２５０と、光透過性がない領域２５１とを備える。マスク２５を介して塗膜２４に紫外線が照射されると、領域２５０に対応する塗膜２４の領域（第一の領域２２）には紫外線が照射され、領域２５１に対応する塗膜２４の領域（第二の領域２３）には紫外線が照射されない。塗膜２４の膜厚、及び塗膜２４に対する露光量を調整することによって、紫外線が照射される第一の領域２２の表層の硬化の程度を、深部よりも高くすることができる。また、紫外線が照射されない塗膜２４の第二の領域２３を、未硬化状態にすることができる。
【０１３６】
次に、塗膜２４を加熱する。これにより、熱硬化性樹脂（Ｂ）の熱硬化反応が起こり、塗膜２４全体が硬化されて、皮膜２０が形成される。塗膜２４の加熱温度は、好ましくは、９０〜３００℃の範囲内である。塗膜２４の加熱によって、第一の領域２２の深部では硬化収縮が生じるが、表層は既に硬化しているため、第一の領域２２の表層では硬化収縮が生じにくい。このため、第一の領域２２の表層が、深部の硬化収縮に追随して変形することにより、皮膜２０の第一の領域２２の表面に皺２１０を発生させることができる。また、第二の領域２３では、塗膜２４の加熱によって、表層及び深部で硬化収縮が生じるため、皮膜２０の第二の領域２３の表面に皺２１０が発生しにくく、あるいは発生しないようにすることができる。
【０１３７】
上記の方法によって、図４Ｃに示すように、皺２１０で構成された人工物メトリクス要素２１を有する第一の領域２２と、人工物メトリクス要素２１を有さない第二の領域２３とを含む皮膜２０を形成することができる。
【０１３８】
なお、塗膜２４の各領域に照射される紫外線の量を制御できるならば、マスク２５が使用されなくてもよい。例えば、マスク２５を使用せずに塗膜２４の各領域に照射する紫外線の量を制御する方法として、光源から発せられる紫外線を塗膜２４上の露光すべき部分のみに照射する直接描画法で塗膜を露光してもよい。なお、直接描画法の光源は、上述したものと同様であってよい。
【０１３９】
（具体例２）
皮膜２０を製造する第一の方法の具体例を、図５Ａ〜図５Ｅを参照しながら説明する。
【０１４０】
まず、基材２００及び硬化性樹脂組成物を用意する。被認証物２がプリント配線板である場合、基材２００は、例えば、絶縁層と導体配線とを備えるコア基材である。硬化性樹脂組成物は、光硬化性及び熱硬化性を有する。
【０１４１】
次に、図５Ａに示すように、基材２００上に第一塗膜２４０を形成する。第一塗膜２４０は、基材２００上に硬化性樹脂組成物を塗布して、乾燥させることにより形成される。硬化性樹脂組成物の塗布方法は、具体例１と同様の方法を適用できる。第一塗膜２４０は、ドライフィルム法で形成してもよい。
【０１４２】
次に、図５Ｂに示すように、第一塗膜２４０上に第二塗膜２４１を形成する。第二塗膜２４１は、第一塗膜２４０上の一部に、硬化性樹脂組成物を塗布して、乾燥させることにより形成される。硬化性樹脂組成物の塗布方法は、具体例１と同様の方法を適用することができる。第二塗膜２４１は、ドライフィルム法で形成してもよい。
【０１４３】
上記の工程によって、第一塗膜２４０及び第二塗膜２４１からなる塗膜２４が形成される。すなわち、同一の硬化性樹脂組成物から形成された第一塗膜２４０及び第二塗膜２４１を部分的に重ねることによって、第一の領域２２と、第一の領域２２よりも膜厚が小さい第二の領域２３とを備える塗膜２４を形成することができる。
【０１４４】
次に、図５Ｃに示すように、塗膜２４にマスク２５を直接又は間接的にあてがうとともに、塗膜２４に紫外線を照射する。換言すると、マスク２５を介して塗膜２４が露光される。紫外線の光源は、具体例１と同様の光源を適用できる。
【０１４５】
マスク２５は、光透過性が高い領域２５０と、光透過性がない領域２５１とを備える。マスク２５を介して塗膜２４に紫外線が照射されると、塗膜２４の領域２５０に対応する領域（露光領域）には紫外線が照射され、塗膜２４の領域２５１に対応する領域（非露光領域）には紫外線が照射されない。この露光領域には、塗膜２４の第一の領域２２及び第二の領域２３が含まれる。第一の領域２２の膜厚を第二の領域２３よりも大きくし、塗膜２４に対する露光量を調整することにより、第一の領域２２の表層の硬化の程度を深部よりも高くできる。また、第二の領域２３の膜厚を第一の領域２２よりも小さくすることにより、第二の領域２３の表層から深部まで十分に硬化させることができる。また、紫外線が照射されない塗膜２４の非露光領域を未硬化状態にすることができる。
【０１４６】
次に、図５Ｄに示すように、現像処理で非露光領域を取除く。その結果、基材２００上に、塗膜２４の第一の領域２２及び第二の領域２３が残存する。第一組成物が、カルボキシル基含有樹脂（Ｄ１）及びカルボキシル基含有樹脂（Ｄ２）からなる群から選択される少なくとも一種を含む場合、アルカリ性溶液による現像処理（アルカリ現像）によって、未硬化状態である塗膜２４の非露光領域を取除くことができる。
【０１４７】
次に、塗膜２４を加熱する。これにより、熱硬化性樹脂（Ｂ）の熱硬化反応が起こり、塗膜２４全体が硬化されて、皮膜２０が形成される。塗膜２４の加熱温度は、好ましくは、９０〜３００℃の範囲内である。塗膜２４の加熱によって、第一の領域２２の深部では硬化収縮が生じるが、表層は既に硬化しているため、第一の領域２２の表層が深部の硬化収縮に追随して変形することにより、皮膜２０の第一の領域２２の表面に皺２１０を発生させることができる。また、第二の領域２３の表層及び深部は既に硬化しているため、塗膜２４の加熱の際に第二の領域２３の表層及び深部では硬化収縮は生じにくくなり、皮膜２０の第二の領域２３の表面に皺２１０が発生しにくく、あるいは発生しないようにすることができる。
【０１４８】
上記の方法により、図５Ｅに示すように、皺２１０で構成された人工物メトリクス要素２１を有する第一の領域２２と、人工物メトリクス要素２１を有さない第二の領域２３とを含む皮膜２０を形成することができる。
【０１４９】
なお、塗膜２４の各領域に照射される紫外線の量を制御できるならば、マスク２５が使用されなくてもよい。例えば、マスク２５を使用せずに塗膜２４の各領域に照射する紫外線の量を制御する方法として、光源から発せられる紫外線を塗膜２４上の露光すべき部分のみに照射する直接描画法で塗膜を露光してもよい。なお、直接描画法の光源は、上述したものと同様であってよい。
【０１５０】
（具体例３）
皮膜２０を製造する第二の方法の具体例を、図６Ａ〜図６Ｄを参照しながら説明する。
【０１５１】
まず、基材２００、第一組成物、及び第二組成物を用意する。被認証物２がプリント配線板である場合、基材２００は、例えば、絶縁層と導体配線とを備えるコア基材である。第一組成物は、光硬化性及び熱硬化性を有する。第二組成物は、光硬化性を有し、且つ白色顔料を含む。
【０１５２】
次に、図６Ａに示すように、基材２００上に第一塗膜２４０を形成する。第一塗膜２４０は、基材２００上に第一組成物を塗布して、乾燥させることにより形成される。第一塗膜２４０は、基材２００の全面に設ける。第一組成物の塗布方法は、具体例１の硬化性樹脂組成物の塗布方法と同様の方法を適用できる。第一塗膜２４０は、ドライフィルム法で形成してもよい。
【０１５３】
次に、図６Ｂに示すように、第一塗膜２４０上に第二塗膜２４１を形成する。第二塗膜２４１は、第一塗膜２４０上に第二組成物を塗布して、乾燥させることにより形成される。第二塗膜２４１は、第一塗膜２４０の全面に設けられる。第二組成物の塗布方法は、具体例１の硬化性樹脂組成物の塗布方法と同様の方法を適用できる。第二塗膜２４１は、ドライフィルム法で形成してもよい。
【０１５４】
上記の工程によって、第一塗膜２４０及び第二塗膜２４１を含む塗膜２４が形成される。
【０１５５】
次に、図６Ｃに示すように、塗膜２４にマスク２５を直接又は間接的にあてがうとともに、塗膜２４に紫外線を照射する。換言すると、マスク２５を介して塗膜２４が露光される。紫外線の光源は、具体例１と同様の光源を適用できる。
【０１５６】
マスク２５は、光透過性が高い領域２５０と、光透過性がない領域２５１とを備える。マスク２５を介して塗膜２４に紫外線が照射されると、塗膜２４の領域２５０に対応する領域（露光領域）には紫外線が照射され、塗膜２４の領域２５１に対応する領域（非露光領域）には紫外線が照射されない。この露光領域では、白色顔料を含む第二塗膜２４１の表面で紫外線が反射されるため、第一塗膜２４０に紫外線が到達しにくい。このため、第二塗膜２４１の硬化の程度を、第一塗膜２４０よりも高くすることができる。また、紫外線が照射されない塗膜２４の非露光領域を未硬化状態にすることができる。
【０１５７】
次に、図６Ｄに示すように、現像処理で非露光領域を取除く。その結果、基材２００上には塗膜２４の露光領域のみが残存する。第一組成物及び第二組成物が、カルボキシル基含有樹脂（Ｄ１）及びカルボキシル基含有樹脂（Ｄ２）からなる群から選択される少なくとも一種を含む場合、アルカリ性溶液による現像処理（アルカリ現像）によって、未硬化状態である塗膜２４の非露光領域を取除くことができる。
【０１５８】
次に、塗膜２４を加熱する。これにより、熱硬化性樹脂（Ｂ）の硬化反応が起こり、塗膜２４全体が硬化されて、皮膜２０が形成される。詳細には、第一塗膜２４０の硬化物である皮膜２０１と、第二塗膜２４１の硬化物である皮膜２０２とが形成される。このため、皮膜２０は、皮膜２０１と皮膜２０２とで構成される。塗膜２４の加熱温度は、好ましくは、９０〜３００℃の範囲内である。塗膜２４の加熱によって、第一塗膜２４０では硬化収縮が生じるが、第二塗膜２４１は既に硬化しているため、第二塗膜２４１では硬化収縮が生じにくい。このため、第二塗膜２４１が、第一塗膜２４０の硬化収縮に追随して変形することにより、皮膜２０２の表面に皺２１０を発生させることができる。
【０１５９】
上記の方法により、図６Ｅに示すように、皺２１０で構成された人工物メトリクス要素２１を有する皮膜２０を形成することができる。
【０１６０】
（具体例４）
皮膜２０を製造する第二の方法の具体例を、図７Ａ〜図７Ｅを参照しながら説明する。
【０１６１】
まず、基材２００、第一組成物、及び第二組成物を用意する。基材２００は、凹部３００と、平坦部３０１とを有する。被認証物２がプリント配線板である場合、凹部３００及び平坦部３０１は、絶縁層と導体層からなる積層板に、エッチングを施することにより製造できる。この場合の凹部３００は、エッチングによって導体層が取り除かれた部分であり、平坦部３０１は、エッチング後に導体層が残存した部分である。第一組成物は、光硬化性及び熱硬化性を有する。第二組成物は、光硬化性を有する。
【０１６２】
次に、図７Ａに示すように、基材２００上に第一塗膜２４０を形成する。第一塗膜２４０は、基材２００上に第一組成物を塗布して、乾燥させることにより形成される。第一塗膜２４０は基材２００上の全面に設けられる。第一組成物の塗布方法は、具体例１の硬化性樹脂組成物の塗布方法と同様の方法を適用できる。凹部３００及び平坦部３０１によって、膜厚が異なる領域を有する第一塗膜２４０を形成することができる。詳細には、第一塗膜２４０の凹部３００と接している部分の膜厚を、平坦部３０１と接している部分よりも大きくすることができる。
【０１６３】
次に、図７Ｂに示すように、第一塗膜２４０上に第二塗膜２４１を形成する。第二塗膜２４１は、第一塗膜２４０上に第二組成物を塗布して、乾燥させることにより形成される。第二塗膜２４１は、第一塗膜２４１上の全面に設けられる。第二組成物の塗布方法は、具体例１の硬化性樹脂組成物の塗布方法と同様の方法を適用できる。凹部３００及び平坦部３０１によって、膜厚が異なる領域を有する第二塗膜２４１を形成することができる。詳細には、第二塗膜２４１の凹部３００上に設けられた部分の膜厚を、平坦部３０１上に設けられた部分よりも大きくすることができる。
【０１６４】
上記の工程により、第一塗膜２４０及び第二塗膜２４１を含む塗膜２４が形成される。この塗膜２４において、凹部３００と接している部分が第一の領域２２であり、平坦部３０１と接している部分が第二の領域２３である。すなわち、基材２００の凹部３００及び平坦部３０１によって、第一の領域２２と、第一の領域２２よりも膜厚が小さい第二の領域２３と、を有する塗膜２４を形成することができる。
【０１６５】
次に、図７Ｃに示すように、塗膜２４にマスク２５を直接又は間接的にあてがうとともに、塗膜２４に紫外線を照射する。換言すると、マスク２５を介して塗膜２４が露光される。紫外線の光源は、具体例１と同様の光源を使用できる。
【０１６６】
マスク２５は、光透過性が高い領域２５０と、光透過性がない領域２５１とを備える。マスク２５を介して塗膜２４に紫外線が照射されると、塗膜２４の領域２５０に対応する領域（露光領域）には紫外線が照射され、塗膜２４の領域２５１に対応する領域（非露光領域）には紫外線が照射されない。この露光領域には、塗膜２４の第一の領域２２及び第二の領域２３が含まれる。第一の領域２２の膜厚を第二の領域２３よりも大きくし、塗膜２４に対する露光量を調整することにより、第一の領域２２では、第二塗膜２４１の硬化の程度を、第一塗膜２４０よりも高くすることができる。また、塗膜２４の第二の領域２３の膜厚を第一の領域２２よりも小さくすることにより、第二の領域２３では、第一塗膜２４０及び第二塗膜２４１を十分に硬化させることができる。また、紫外線が照射されない塗膜２４の非露光領域を未硬化状態にすることができる。
【０１６７】
次に、図７Ｄに示すように、現像処理で非露光領域を取除く。その結果、基材２００上には第一の領域２２及び第二の領域２３が残存する。第一組成物が、カルボキシル基含有樹脂（Ｄ１）及びカルボキシル基含有樹脂（Ｄ２）からなる群から選択される少なくとも一種を含む場合、アルカリ性溶液による現像処理（アルカリ現像）によって、未硬化状態である塗膜２４の非露光領域を取除くことができる。
【０１６８】
次に、塗膜２４を加熱する。これにより、熱硬化性樹脂（Ｂ）の硬化反応が起こり、塗膜２４全体が硬化されて、皮膜２０が形成される。詳細には、第一塗膜２４０の硬化物である皮膜２０１と、第二塗膜２４１の硬化物である皮膜２０２とが形成される。このため、皮膜２０は、皮膜２０１と皮膜２０２とを含む。塗膜２４の加熱温度は、好ましくは、９０〜３００℃の範囲内である。第一の領域２２では、塗膜２４の加熱によって、第一塗膜２４０の硬化収縮が生じるが、第二塗膜２４１は既に硬化しているため、第二塗膜２４１では硬化収縮が生じにくい。このため、第一の領域２２では、第二塗膜２４１が第一塗膜２４０の硬化収縮に追随して変形することにより、皮膜２０２の第一の領域２２の表面に皺２１０を発生させることができる。また、第二の領域２３では、第一塗膜２４０及び第二塗膜２４１が既に硬化しているため、塗膜２４の加熱の際に第一塗膜２４０及び第二塗膜２４１の硬化収縮が生じにくくなり、皮膜２０２の第二の領域２３の表面に皺２１０を発生しにくく、あるいは発生しないようにすることができる。
【０１６９】
上記の方法により、図７Ｅに示すような、皺２１０で構成された人工物メトリクス要素２１を有する第一の領域２２と、人工物メトリクス要素２１を有さない第二の領域２３と、を含む皮膜２０が得られる。
【０１７０】
なお、上記の具体例４では、凹部３００と、平坦部３０１とを有する基板２００上に、第一塗膜２４０及び第二塗膜２４１を含む塗膜２４を形成しているが、基板２００上に単層の膜である塗膜２４を形成してもよい。この場合、塗膜２４の凹部３００と接している部分（第一の領域２２）の膜厚が、平坦部３０１と接している部分（第二の領域２３）よりも大きくなる。この塗膜２４に対する露光量を調整することにより、第一の領域２２では、塗膜２４の表層の硬化の程度を、深部よりも高くすることができ、第二の領域２３では、塗膜２４の表層から深部まで十分に硬化させることができる。そして、露光後の塗膜２４を加熱すると、第一の領域２２では、塗膜２４の深部の硬化収縮が生じるが、表層は既に硬化しているため、表層では硬化収縮が生じにくい。このため、第一の領域２２では、塗膜２４の表層が、深部の硬化収縮に追随して変形することにより、塗膜２４の第一の領域２２の表面に皺２１０を発生させることができる。また、第二の領域２３では、塗膜２４の深部及び表層が既に硬化しているため、塗膜２４の加熱の際に表層及び深部の硬化収縮が生じにくくなり、塗膜２４の第二の領域２３の表面に皺２１０を発生しにくく、あるいは発生しないようにすることができる。
【実施例】
【０１７１】
以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。
【０１７２】
（合成例Ａ−１）
メタクリル酸４８部、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトン（ｎ≒２）モノアクリレート（東亞合成株式会社製のアロニックスＭ−５３００）５０部、メチルメタクリレート９２部、スチレン１０部、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル４３０部、及びアゾビスイソブチロニトリル３．５部を、還流冷却器、温度計、窒素置換基用ガラス管及び攪拌機を取り付けた四つ口フラスコ内で混合した。更に、混合物を、四つ口フラスコ内、窒素気流下で、７５℃で５時間加熱して、重合反応を進行させた。これにより、濃度３２％の共重合体溶液が得られた。
【０１７３】
続いて、この共重合体溶液に、ハイドロキノン０．１部、グリシジルメタクリレート６４部、ジメチルベンジルアミン０．８部を加え、この共重合体溶液を、四つ口フラスコ内で、８０℃で２４時間加熱した。
【０１７４】
これにより、合成例Ａ−１のカルボキシル基含有樹脂（以下、カルボキシル基含有樹脂Ａ−１ともいう）の３８質量％溶液が得られた。
【０１７５】
（合成例Ａ−２）
グリシジルメタクリレート１２０質量部、メチルメタクリレート２５質量部、ｔ−ブチルアクリレート２０質量部、ｔ−ブチルメタクリレート３５質量部、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート２００質量部、アゾビスイソブチロニトリル１８．４質量部を、還流冷却器、温度計、窒素置換用ガラス管及び撹拌機を取り付けた四ツ口フラスコ内で混合した。更に、混合物を、四ツ口フラスコ内、窒素気流下で、９５℃で８時間加熱して、重合反応を進行させた。これにより、濃度５０質量％の共重合体溶液が得られた。
【０１７６】
この共重合溶液に、ハイドロキノン０．２質量部、アクリル酸７３．９質量部、及びジメチルベンジルアミン２．０質量部を加え、この共重合体溶液を、四つ口フラスコ内で、１１０℃で１０時間加熱した。
【０１７７】
続いて、この共重合体溶液に、テトラヒドロ無水フタル酸６０．８質量部、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート１６．５質量部を加え、この共重合体溶液を８１℃で３時間加熱した。
【０１７８】
これにより、合成例Ａ−２のカルボキシル基含有樹脂（以下、カルボキシル基含有樹脂Ａ−２ともいう）の６０質量％溶液が得られた。
【０１７９】
（合成例Ａ−３）
エポキシ当量２０３のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（新日鉄住金化学株式会社製、品番ＹＤＣ−７００−５）２０３質量部、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート１６０．１質量部、メチルハイドロキノン０．２質量部、アクリル酸７２．７質量部、及びジメチルベンジルアミン０．６質量部を、還流冷却器、温度計、空気吹き込み管及び攪拌機を取付けた四つ口フラスコ内で混合物した。この混合物をフラスコ内で、１１０℃で１０時間加熱した。
【０１８０】
続いて、この共重合体溶液に、テトラヒドロフタル酸無水物６０．８質量部、及びジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート７８．９質量部を加え、この共重合体溶液を、４つ口フラスコ内で、９０℃で３時間加熱した。
【０１８１】
これにより、合成例Ａ−３のカルボキシル基含有樹脂（以下、カルボキシル基含有樹脂Ａ−３ともいう）の６５質量％溶液が得られた。
【０１８２】
上記のカルボキシル基含有樹脂Ａ−１〜Ａ−３と、下記の原料成分と、を下記の表１に示された割合で混合することにより、組成例１〜４の樹脂組成物を調製した。
（原料成分）
・エポキシ樹脂Ａ：ビフェニル型エポキシ樹脂、三菱化学製、品番ＹＸ−４０００。
・エポキシ樹脂Ｂ：１，３，５−トリス（２，３−エポキシプロピル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン（高融点タイプ）。
・エポキシ樹脂Ｃの７０質量％溶液；クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ＤＩＣ株式会社製の品名ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６９５を固形分７０％でジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートに溶解した溶液。
・光重合性化合物Ａ：ε―カプロラクトン変性ジペンタエリストールヘキサアクリレート、日本化薬株式会社製、品番ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＣＡ−１２０。
・光重合性化合物Ｂ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬株式会社製、品番ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ。
・光重合開始剤Ａ：２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ＢＡＳＦ社製の品名ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯ。
・光重合開始剤Ｂ：１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、ＢＡＳＦ社製、品番ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １８４。
・光重合開始剤Ｃ：２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、ＢＡＳＦ社製、品番ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ９０７。
・光重合開始剤Ｄ：２，４−ジエチルチオキサンテン−９−オン、日本化薬株式会社製、品番ＫＡＹＡＣＵＲＥ−ＤＥＴＸ−Ｓ。
・白色顔料：ルチル型酸化チタン、石原産業株式会社製、品番ＣＲ−８０。
・黒色顔料：カーボンブラック、三菱化学株式会社製、ＭＡ−７。
・青色顔料：フタロシアニンブルー。
・黄色顔料：１，１’−［（６−フェニル−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル）ビス（イミノ）］ビス（９，１０−アントラセンジオン）。
・メラミン：日産化学工業株式会社製、微粉メラミン。
・硫酸バリウム：堺化学工業株式会社製、品番バリエースＢ３０。
・微分シリカ：株式会社トクヤマ製、品番ＭＴ−１０。
・ベントナイト：有機ベントナイト、レオックス社製、品番ベントンＳＤ−２。
・消泡剤：信越シリコーン株式会社製、品番ＫＳ−６６。
・有機溶剤：ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート。
【０１８３】
【表１】
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【０１８４】
（実施例１）
まず、厚み３５μｍの銅箔を備えるガラスエポキシ銅張積層板の全面に、組成例２の樹脂組成物をスクリーン印刷により塗布することで、基板表面上に湿潤塗膜を形成した。この湿潤塗膜を８０℃で２０分加熱して予備乾燥することで、銅箔上に膜厚６０μｍの乾燥塗膜を形成した。
【０１８５】
この乾燥塗膜の表面上にネガマスクを直接当てがうとともに、１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射することで、乾燥塗膜を選択的に露光した。露光後の乾燥塗膜を、１５０℃で６０分間加熱して熱硬化させることにより、皮膜を形成した。この皮膜の表面において、紫外線が照射された領域には皺が発生したが、紫外線が照射されなかった領域には、皺が発生しなかった。
【０１８６】
この紫外線が照射された領域では、塗膜の表層の硬化の程度が、深部よりも高くなり、更にこの塗膜を加熱することで、塗膜の深部では硬化収縮が生じるが、表面は既に硬化しているため、表面が深部の硬化収縮に追随することで、皺が発生したと考えられる。
【０１８７】
これに対して紫外線が照射されなかった領域では、塗膜の表面及び深部において光硬化反応が進行せず、更にこの塗膜を加熱することで、塗膜の表面及び深部において硬化収縮が発生したため、皺が発生しなかったと考えられる。
【０１８８】
これらのことから、紫外線の照射量を異ならせることにより、皺を有する領域と、皺を有さない領域とを備える皮膜を形成することができた。
【０１８９】
（実施例２）
まず、厚み３５μｍの銅箔を備えるガラスエポキシ銅張積層板の全面に、組成例２の樹脂組成物をスクリーン印刷により塗布することで、基板表面上に湿潤塗膜を形成した。この湿潤塗膜を８０℃で１５分加熱して予備乾燥することで、銅箔上に膜厚２０μｍの乾燥塗膜を形成した。
【０１９０】
この乾燥塗膜の半面に組成例２の樹脂組成物をスクリーン印刷により塗布することで、湿潤塗膜を形成した。この湿潤塗膜を、８０℃で２０分過熱して予備乾燥することで、膜厚３０μｍの乾燥塗膜を形成した。
【０１９１】
このため、銅箔上の半面には、膜厚５０μｍの領域（第一の領域）と、膜厚２０μｍの領域（第二の領域）とが形成された。この第一の領域には、膜厚２０μｍの乾燥塗膜と膜厚３０μｍの乾燥塗膜とが積層して設けられ、第二の領域には、膜厚２０μｍの乾燥塗膜のみが設けられていた。
【０１９２】
この乾燥塗膜の表面上にネガマスクを直接当てがうとともに、１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射することで、乾燥塗膜を選択的に露光した。露光後の乾燥塗膜に、炭酸ナトリウム水溶液を用いて現像処理を施すことで、乾燥塗膜のうち露光により硬化した部分（硬化膜）を基板上に残存させた。
【０１９３】
この硬化膜を、１５０℃で６０分間加熱して熱硬化させることにより、皮膜を形成した。この皮膜において、第一の領域にはシワが発生し、第二の領域にはシワが発生しなかった。
【０１９４】
膜厚が大きい第一の領域では、塗膜の表層の硬化の程度が、深部よりも高くなり、更にこの塗膜を加熱することで、塗膜の深部では硬化収縮が生じるが、表面は既に硬化しているため、表面が深部の硬化収縮に追随することで、皺が発生したと考えられる。
【０１９５】
これに対して、第一の領域よりも膜厚が小さい第二の領域では、塗膜の表面及び深部で光硬化反応が進行するため、この塗膜を加熱しても、表面及び深部で硬化収縮が生じにくく、皺が発生しなかったと考えられる。
【０１９６】
これらのことから、塗膜の膜厚を異ならせることにより、皺を有する領域と、皺を有さない領域とを備える皮膜を形成することができた。
【０１９７】
（実施例３）
まず、厚み３５μｍの銅箔を備えるガラスエポキシ銅張積層板の全面に、組成例３の樹脂組成物をスクリーン印刷により塗布することで、基板表面上に湿潤塗膜を形成した。この湿潤塗膜を８０℃で１５分加熱して予備乾燥することで、銅箔上に膜厚２０μｍの乾燥塗膜を形成した。
【０１９８】
この乾燥塗膜の全面に、組成例１の樹脂組成物をスクリーン印刷により塗布することで、湿潤塗膜を形成した。この湿潤塗膜を、８０℃で２０分過熱して予備乾燥することで、膜厚４０μｍの乾燥塗膜を形成した。
【０１９９】
この乾燥塗膜の表面上にネガマスクを直接当てがうとともに、４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射することで、乾燥塗膜を選択的に露光した。露光後の乾燥塗膜に、炭酸ナトリウム水溶液を用いて現像処理を施すことで、乾燥塗膜のうち露光により硬化した部分（硬化膜）を基板上に残存させた。
【０２００】
この硬化膜を、１５０℃で６０分間加熱して熱硬化させることにより、皮膜を形成した。この皮膜の表面には、シワが発生した。
【０２０１】
組成例３の塗膜の上に設けられた組成例１の塗膜は、白色であり、高い光反射性を有する。このため、塗膜が露光されると、塗膜の表面では光硬化反応が進行するが、この表面で多くの紫外線が反射されるため、塗膜の深部に紫外線が到達しにくく、深部では光硬化反応が進行しにくい。その結果、塗膜の表層の硬化の程度が、深部よりも高くなる。露光後の塗膜を硬化させることで、塗膜の深部では硬化収縮が生じるが、表面は既に硬化しているため、表面が深部の硬化収縮に追随することで、皺が発生したと考えられる。
【０２０２】
このことから、塗膜の表層の光反射性を高めることにより、皮膜の表面に皺を形成することができた。
【０２０３】
（実施例４）
まず、厚み３５μｍの銅箔を備えるガラスエポキシ銅張積層板にエッチングを施し、パターニングすることで、プリント配線基板を得た。このプリント配線板の全面に組成例２の樹脂組成物をスクリーン印刷により塗布することで、基板表面上に湿潤塗膜を形成した。この湿潤塗膜を８０℃で１５分加熱して予備乾燥することで、銅箔上に膜厚１５μｍの乾燥塗膜を形成した。
【０２０４】
続いて、このプリント配線板の乾燥塗膜の全面に組成例４の樹脂組成物をスクリーン印刷により塗布することで、基板表面上に湿潤塗膜を形成した。この湿潤塗膜を８０℃で２０分過熱して予備乾燥することで、銅箔上に膜厚計３５μｍの乾燥塗膜を形成した。
【０２０５】
このため、乾燥塗膜は、ガラスエポキシと接している領域（第一の領域）と、銅箔と接している領域（第二の領域）と、を有する。
【０２０６】
この乾燥塗膜の表面上にネガマスクを直接当てがうとともに、６０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射することで、乾燥塗膜を選択的に露光した。露光後の乾燥塗膜に、炭酸ナトリウム水溶液を用いて現像処理を施すことで、乾燥塗膜のうち露光により硬化した部分（硬化膜）を基板上に残存させた。
【０２０７】
この硬化膜を、１５０℃で６０分間加熱して熱硬化させることにより、皮膜を形成した。この皮膜において、第一の領域には皺が発生し、第二の領域には皺が発生しなかった。
【０２０８】
ガラスエポキシと接している第一の領域は、塗膜の膜厚が大きいため、露光後において、塗膜の表層の硬化の程度が、深部よりも高くなる。更に、塗膜は、黒色顔料を含有する組成例２の塗膜と、この塗膜の上に設けられた組成例４の塗膜とを含むため、露光後の塗膜の表層の硬化の程度が、深部よりも高くなる。この塗膜を加熱することで、塗膜の深部では硬化収縮が生じるが、表面は既に硬化しているため、表面が深部の硬化収縮に追随することで、皺が発生したと考えられる。
【０２０９】
これに対して、銅箔と接している第二の領域は、第一の領域よりも膜厚が小さいため、塗膜の表面及び深部で光硬化反応が進行する。この塗膜を加熱しても、表面及び深部で硬化収縮が生じにくく、皺が発生しなかったと考えられる。これらのことから、プリント配線基板の配線がない領域では皺を有し、配線上では皺を有さない皮膜を形成することができた。
【０２１０】
（比較例１）
組成例１の乾燥塗膜の上に、組成例３の乾燥塗膜を設けたこと以外は、実施例３と同様の方法によって、皮膜を形成した。この皮膜の表面には、皺が形成されなかった。
【０２１１】
光反射性が高い組成例２の塗膜が、組成例３の塗膜の下に設けられているため、これらの塗膜を露光すると、塗膜の表面及び深部において光硬化反応が進行する。この塗膜を加熱しても、塗膜の表面及び深部おいて硬化収縮が生じにくい。このため、皮膜の表面には、皺が発生しなかったと考えられる。
【０２１２】
（比較例２）
塗膜に対する露光量を５００ｍＪ／ｃｍ２にしたこと以外は、実施例４と同様の方法によって、皮膜を形成した。この皮膜の表面には、皺が形成されなかった。
【０２１３】
ガラスエポキシと接している第一の領域は、塗膜の膜厚が大きいが、露光量が多過ぎると、塗膜の表面及び深部において光硬化反応が進行する。この塗膜を加熱しても、塗膜表面及び深部において硬化収縮が生じにくく、皺が発生しなかったと考えられる。
【符号の説明】
【０２１４】
１      認証システム
２      被認証物
２０    皮膜
２１    人工物メトリクス要素
２１０  皺
２２    第一の領域
２３    第二の領域
２４    塗膜
２４０  第一塗膜
２４１  第二塗膜
３      読取装置
【図１】
2018001476.tif 000004
【図２】
2018001476.tif 000005
【図３】
2018001476.tif 000006
【図４】
2018001476.tif 000007
【図５】
2018001476.tif 000008
【図６】
2018001476.tif 000009
【図７】
2018001476.tif 000010