(57)【要約】【課題】  本発明は、ＲＦＩＤ用部材に主に用いられる軟磁性扁平粉末であって、高い磁気特性を維持し、かつ高い耐食性を有する軟磁性扁平粉末、磁性シートおよび製造方法を提供する。【解決手段】  軟磁性粉末を扁平化処理することにより得られた扁平粉末であって、軟磁性扁平粉末が、Ｓｉ：１５ｍａｓｓ％以下（０は含まない）、Ｃｒ：６ｍａｓｓ％超〜１８ｍａｓｓ％、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｍｏのうち１種類または２種類以上の合計：０．３ｍａｓｓ％超〜６ｍａｓｓ％、残部がＦｅおよび不可避的微量不純物からなるＦｅ―Ｓｉ−Ｃｒ系合金であることを特徴とする軟磁性扁平粉末。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
軟磁性粉末を扁平化処理することにより得られた扁平粉末であって、軟磁性扁平粉末が、Ｓｉ：１５ｍａｓｓ％以下（０は含まない）、Ｃｒ：６ｍａｓｓ％超〜１８ｍａｓｓ％、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｍｏのうち１種類または２種類以上の合計：０．３ｍａｓｓ％超〜６ｍａｓｓ％、残部がＦｅおよび不可避的微量不純物からなるＦｅ―Ｓｉ−Ｃｒ系合金であることを特徴とする軟磁性扁平粉末。
【請求項２】
扁平粉末の長手方向に磁場を印加して測定した保磁力が２４０〜７２０
Ａ／ｍの範囲にあり、かつ飽和磁化が１．０Ｔ以上であることを特徴とする請求項１に記載された軟磁性扁平粉末。
【請求項３】
請求項１または２に記載された軟磁性扁平粉末を用いて成形された磁性シートであって、ＲＦＩＤ用途または、１３．５６ＭＨｚ帯域における磁性シートに成形した際の磁気特性である実数透磁率μ’が４０以上かつ虚数透磁率μ’’が１０以下（０は含まない）であることを特徴とする磁性シート。
【請求項４】
原料粉末作製工程と、前記原料粉末を扁平化する扁平加工工程により、請求項１〜３のいずれか１項に記載した軟磁性扁平粉末を得ることを特徴とする軟磁性扁平粉末の製造方法。
【請求項５】
ガスアトマイズ法による原料粉末作製工程と、前記原料粉末を扁平化する扁平加工工程と、前記扁平加工された粉末を真空またはアルゴン雰囲気で、５００℃〜９００℃で熱処理する工程により、請求項１〜３のいずれか１項に記載した軟磁性扁平粉末を得ることを特徴とする軟磁性扁平粉末の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＲＦＩＤ技術を用いた非接触ＩＣタグや非接触充電／給電用電子機器などに用いられる軟磁性扁平粉末、磁性シートおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、軟磁性扁平粉末を含有する磁性シートは、電磁波吸収体、ＲＦＩＤ（Ｒａｄｉｏ  Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ  Ｉｄｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ）用アンテナとして用いられてきた。ＲＦＩＤ用アンテナやタグの設計のし易さなどの特性のバランスの良さから、１３．５６ＭＨｚの周波数領域が日本において広く使用されている。また、近年では、デジタイザと呼ばれる位置検出装置にも用いられるようになってきている。このデジタイザには、例えば、特開２０１１−２２６６１号公報（特許文献１）のような電磁誘導型のものがあり、ペン形状の位置指示器の先に内蔵されるコイルより発信された高周波信号を、パネル状の位置検出器に内蔵されたループコイルにより読み取ることで指示位置を検出する。
【０００３】
ここで、検出感度を高める目的で、ループコイルの背面には高周波信号の磁路となるシートが配置される。この磁路となるシートとしては、軟磁性扁平粉末を樹脂やゴム中に配向させた磁性シートや軟磁性アモルファス合金箔を貼り合わせたものなどが適用される。磁性シートを用いる場合は、検出パネル全体を１枚のシートに出来るため、アモルファス箔のような貼り合せ部での検出不良などがなく優れた均一性が得られる。
【０００４】
また、従来、磁性シートには、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金、Ｆｅ−Ｓｉ合金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ａｌ合金、Ｆｅ−Ｃｒ合金などからなる粉末を、アトリッションミル（アトライタ）などにより扁平化したものが添加されてきた。これは、高い透磁率の磁性シートを得るために、いわゆる「Ｏｌｌｅｎｄｏｒｆｆの式」からわかるように、透磁率の高い軟磁性粉末を用いること、反磁界を下げるため磁化方向に高いアスペクト比を持つ扁平粉末を用いること、磁性シート中に軟磁性粉末を高充填することが重要であるためである。
【０００５】
また、上記に加え、ＲＦＩＤのような用途においては、磁壁共鳴による損失を防ぐ必要があり、粉末の透磁率μの構成成分である、透磁率の実数部μ’と透磁率の虚数部μ’’のうち、μ’’を低くする必要がある。しかし、一般的には、μ’’を低く抑えるような製法では、μ’も低下する傾向にある。これを解決するために、例えば、特許第４４２０２３５号公報（特許文献２）では、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｒ合金系における扁平粉末の必要特性として、扁平粉末の平均粒径Ｄ５０が５〜３０μｍかつ高いアスペクト比を有し、飽和磁化の値と保磁力の値の比率が一定である粉末の製造方法が開示されている。
【０００６】
また、特開２０１６−８９２４２号公報（特許文献３）では、平均粒径３０μｍ以上でもあっても、高い透磁率の実数部μ’と低い透磁率の虚数部μ’’を有する軟磁性扁平粉末及びその製造方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１１−２２６６１号公報
【特許文献２】特許第４４２０２３５号公報
【特許文献３】特開２０１６−８９２４２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従来の電磁波吸収用またはＲＦＩＤ用の磁性シートは、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金、Ｆｅ−Ｓｉ合金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ａｌ合金、Ｆｅ−Ｃｒ合金が用いられてきた。これら合金を用いた扁平粉末または磁性シートにおいて使用環境下における発銹が問題となっている。扁平粉または磁性シートにおいて発銹が発生すると、軟磁性特性の劣化を引き起こす。そのため、高い磁気特性を有したまま、耐食性向上が求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
そこで、本発明は、ＲＦＩＤ用部材に主に用いられる軟磁性扁平粉末であって、高い磁気特性を維持し、かつ高い耐食性を有する軟磁性扁平粉末、磁性シートおよび製造方法を提供することを目的とする。その発明の要旨とするところは、
（１）軟磁性粉末を扁平化処理することにより得られた扁平粉末であって、その組成が、Ｓｉ：１５ｍａｓｓ％以下（０は含まない）、Ｃｒ：６ｍａｓｓ％超〜１８ｍａｓｓ％、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｍｏのうち１種類または２種類以上の合計：０．３ｍａｓｓ％超〜６ｍａｓｓ％、残部がＦｅおよび不可避的微量不純物からなるＦｅ―Ｓｉ−Ｃｒ系合金であることを特徴とする軟磁性扁平粉末を用いることで実現できる。
【００１０】
（２）扁平粉末の長手方向に磁場を印加して測定した保磁力が２４０〜７２０Ａ／ｍの範囲にあり、かつ飽和磁化が１．０Ｔ以上であることを特徴とする前記（１）に記載された軟磁性扁平粉末。
（３）前記（１）または（２）に記載された軟磁性扁平粉末を用いて成形された磁性シートであって、ＲＦＩＤ用途または、１３．５６ＭＨｚ帯域における磁性シートに成形した際の磁気特性である実数透磁率μ’が４０以上かつ虚数透磁率μ’’が１０以下（０は含まない）であることを特徴とする磁性シート。
【００１１】
（４）原料粉末作製工程と、前記原料粉末を扁平化する扁平加工工程により、前記（１）〜（３）のいずれか１に記載した軟磁性扁平粉末を得ることを特徴とする軟磁性扁平粉末の製造方法。
（５）ガスアトマイズ法による原料粉末作製工程と、前記原料粉末を扁平化する扁平加工工程と、前記扁平加工された粉末を真空またはアルゴン雰囲気で、５００℃〜９００℃で熱処理する工程により、前記（１）〜（３）のいずれか１に記載した軟磁性扁平粉末を得ることを特徴とする軟磁性扁平粉末の製造方法。
【発明の効果】
【００１２】
以上のようにして得られた軟磁性扁平粉末は、高い飽和磁化を有し、かつ扁平粉末の長
手方向に磁場を印加して測定される保磁力の値が低い粉末は、μ’の上昇幅に対し、μ’’が低い粉末となり、かつ耐食性に優れたＲＦＩＤ用粉末を得ることを可能とした。なお、実数透磁率μ’は交流磁場を印加したときの透磁率を表し、虚数透磁率μ’’は、交流磁場よりも位相が９０°遅れた透磁率であり、磁気損失の指標となる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明に係わる成分組成の限定理由を説明する。
Ｓｉ：１５ｍａｓｓ％以下（０は含まない）
Ｓｉは結晶の磁気異方性を低下し、磁歪定数を低下することができる。しかし、その量が過剰であると、材料が硬くなるため、軟磁性扁平粉末の平均粒径が増大しなくなる。また、飽和磁化の値が低くなるため、μ’’に対するμ’の値が低くなる傾向にある。したがって、１５ｍａｓｓ％以下であることが好ましく、１２ｍａｓｓ％以下がより好ましく、８ｍａｓｓ％以下がさらに好ましい（ただし０は含まない）。
【００１４】
Ｃｒ：６ｍａｓｓ％超〜１８ｍａｓｓ％
Ｃｒは結晶の磁気異方性を低下し、耐食性を向上させることができる。しかし、その量が過剰であると、軟磁性扁平粉末の保磁力が、加工条件や熱処理条件で調整できる上限を超え好ましくない。そのため、１８ｍａｓｓ％以下が好ましく、１６．５ｍａｓｓ％以下がより好ましく、１５ｍａｓｓ％以下がさらに好ましい（ただし０は含まない）。
【００１５】
Ｎｉ、Ｃｕ、Ｍｏのうち１種類または２種類以上の合計：０．３ｍａｓｓ％超〜６ｍａｓｓ％
Ｎｉは強磁性を示すため、Ｆｅへ置換固溶しても、大きく飽和磁化を減少させない。また、Ｃｒ酸化膜を有する合金に添加することで、Ｃｒ酸化膜を強化し、硫酸、塩酸に対する耐食性を改善する。しかし、Ｎｉはオーステナイトフォーマー元素であるため、オーステナイトを安定化させる効果がある。これにより、その量が過剰であると、強磁性Ｆｅのα相中にγの非磁性相を析出させ、保磁力の増加を招く。そのため、６ｍａｓｓ％以下が望ましく、４ｍａｓｓ％以下がより望ましい。
【００１６】
また、Ｃｕは、Ｃｒ酸化膜を有する合金に添加することで、Ｃｒ酸化膜を強化し、硫酸
に対する耐食性を改善する。しかし、その量が過剰であると、熱処理時にＣｕリッチ相が析出するため、保磁力の増加を招く。そのため、６ｍａｓｓ％以下が望ましく、４ｍａｓｓ％以下がより望ましい。
【００１７】
また、ＭｏはＣｒ酸化膜を有する合金に添加することで、Ｃｒ酸化膜を強化し、硫酸、
塩酸に対する耐食性を改善する。しかし、その量が過剰であると、熱処理時にＭｏリッチ相が析出するため、保磁力の増加を招く。そのため、６ｍａｓｓ％以下が望ましく、４ｍａｓｓ％以下がより望ましい。
【００１８】
保磁力が２４０〜７２０Ａ／ｍ
７２０Ａ／ｍを超える保磁力では、μ’の値を確保できず、シート成型を工夫しても、求める特性を得ることが難しくなるため好ましくない。また、極端に低い保磁力であると、μ’’の最大値の増加に引きずられるようにして、１３．５６ＭＨｚ帯におけるμ’’が増加するため好ましくない。２４０Ａ／ｍ未満の保磁力では、１３．５６ＭＨｚ帯におけるμ’’の値が大きくなり好ましくない。
【００１９】
飽和磁化が１．０Ｔ以上
ＲＦＩＤ用途においては、μ’の値を高く、μ’’の値を低くする必要がある。１３．５６ＭＨｚ帯においては、磁壁共鳴による損失を抑えるとよい。磁壁共鳴損失は周波数によって異なるが、材料の物性値によって、ピークとなる周波数の位置が移動する。ゆえに、磁壁共鳴周波数が高い場合、１３．５６ＭＨｚにおける損失の値は低くなると考えられる。
【００２０】
この磁壁共鳴周波数は｛飽和磁化／（透磁率の１／２乗）｝に比例するとされる（磁気工学の基礎ＩＩ共立全書）。ＲＦＩＤ用途として必要な特性を得るためには透磁率は極力下げない方が良いので、飽和磁化を高くすることが有効である。また、透磁率は飽和磁化が高く、保磁力が低いと高くなる傾向がある。結局のところ、磁壁共鳴周波数を高く、透磁率を高くするためには、飽和磁化の値を高く、保磁力の値を低くすればよいことが分かる。そのため、飽和磁化の値は１．０Ｔ以上であることが好ましく、１．３Ｔ以上であることがより好ましい。飽和磁化の値が低いと、μ’の値を確保できず、シート成型を工夫しても、求める特性を得ることが難しくなるため好ましくない。
【００２１】
実数透磁率μ’が４０以上かつ虚数透磁率μ’’が１０以下（０は含まない）
透磁率の数値は、シート成型後の透磁率測定によって評価されるが、この値は粉末そのものの特性だけでなく、粉末の充填率や配向状態など、シートの成型条件により左右される。この粉末を用いて、透磁率の虚数部μ’’が１〜１０以下のシートを作製した際に、粉末の実数部μ’は、４０以上であることが好ましく、５５以上であることがより好ましく、６０以上であることがさらに好ましい。
【００２２】
原料粉末作製工程
原料粉末作製工程は、水アトマイズ法、ガスアトマイズ法やディスクアトマイズ法が考えられる。特にガスアトマイズ法は、他の粉末作製方法と比較し、酸素、窒素含有量の低い合金粉末を製造することができる。また、作製される合金粉末の形状が球状であることからアトライタ加工により粉砕よりも扁平化が進行しやすいため、ガスアトマイズ法が望ましい。また、扁平化された扁平粉末の平均粒径は３０〜２００μｍとした。平均粒径が３０μｍ未満では、アスペクト比の高い扁平粉は得られ難く、μ’が小さくなる傾向にある。また、平均粒径の小さい粒径は平均粒径の大きい粉末よりも、保磁力の値が高くなる傾向にある。しかし、平均粒径が大きくなると、シート成型が困難になるため、３０〜２００μｍのものを採用した。
【００２３】
原料粉末を扁平化する扁平加工工程
本発明において、扁平加工方法は、特に制限は無く、例えば、アトライタ、ボールミル、振動ミル等を用いて行うことができる。中でも、比較的扁平加工能力に優れる、アトライタを用いることが好ましい。乾式で加工を行う場合は、不活性ガスを用いることが好ましい。湿式で加工する場合は、加工中の酸化を抑制できる有機溶媒を用いることが好ましいが、有機溶媒の種類については特に限定されない。
【００２４】
有機溶媒の添加量は、軟磁性合金粉末１００質量部に対して、１００質量部以上であることが好ましく、２００質量部以上であることがより好ましい。有機溶媒の上限は特に限定されず、求める扁平粉の大きさ・形状と、生産性のバランスに応じて適宜調整が可能である。有機溶媒とともに扁平化助剤を用いてもよいが、酸化を抑えるために、軟磁性合金粉末１００質量部に対して、５質量部以下であることが好ましい。
【００２５】
真空またはアルゴン雰囲気
本発明に用いられる軟磁性扁平粉末においては、酸化を抑えるために、真空中あるいは不活性ガス中で熱処理されることが好ましい。例えば、表面処理の観点から、大気や窒素中で熱処理されてもよいが、その場合は、粉末の保磁力の値が上昇し、透磁率の値が低くなる傾向にあり好ましくない。
【００２６】
５００℃〜９００℃で熱処理
本発明において、熱処理工程はアトライタ加工により導入された扁平粉末中の格子欠陥を回復し、保磁力を低下させるための工程であり、５００℃未満では保磁力の低下が十分ではなく、９００℃を超えると焼結し、これが粗大な塊となって、シート表面の突起を増加させてしまう。好ましくは７３０を超え８８０℃未満、より好ましくは７５０を超え８５０℃未満である。
【実施例】
【００２７】
以下、本発明について、実施例によって具体的に説明する。
（扁平粉末の作製）
ガスアトマイズ法により所定の成分の粉末を作製し１５０μｍ以下に分級した。ガスアトマイズは、アルミナ製坩堝を溶解に用い、坩堝下の直径５ｍｍのノズルから合金溶湯を出湯し、これに高圧アルゴンを噴霧することで実施した。これを原料粉末としアトライタにより扁平加工した。得られた扁平粉末の平均粒径は３０〜２００μｍのものを用いた。なお、アトライタは、ＳＵＪ２製の直径４．８ｍｍのボールを使用し、原料粉末と工業エタノールとともに攪拌容器に投入し、羽根の回転数を３００ｒｐｍとして実施した。工業エタノールの添加量は、原料粉末１００質量部に対し、２００〜５００質量部とした。扁平化助剤は、添加しないか、もしくは、原料粉末１００質量部に対し、１〜５質量部とした。扁平加工後に攪拌容器から取り出した扁平粉末と工業エタノールをステンレス製の皿に移し、８０℃で２４時間乾燥させた。このようにして得た扁平粉末を真空中あるいはアルゴン中で、５００〜９００℃で２時間熱処理し、各種の評価に用いた。
【００２８】
（扁平粉末の評価）
得られた扁平粉末の保磁力を評価した。保磁力は直径６ｍｍ、高さ８ｍｍの樹脂製容器に扁平粉末を充填し、この容器の高さ方向に磁化した場合と、直径方向に磁化した場合の値を測定した。なお、扁平粉末は充填された円柱の高さ方向が厚さ方向となっているため、容器の高さ方向に磁化した場合が扁平粉末の厚さ方向、容器の直径方向に磁化した場合が扁平粉末の長手方向の保磁力となる。印加磁場は１４４ｋＡ／ｍで実施した。
【００２９】
溶出試験は、扁平粉末を０．０２±０．０００１ｇで秤量し、各種１０％酸溶液１０ｍｌにて６０分溶出した後、定溶２５ｍｌとしＩＣＰ分析（Ｉｎｔａｃｔｉｖｅｌｙ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｐｌａｓｍａ）によりＦｅ、Ｃｒ、Ｓｉの溶出量を測定した。
【００３０】
（磁性シートの作製および評価）
トルエンに塩素化ポリエチレンを溶解し、これに得られた扁平粉末を混合、分散した。この分散液をポリエステル樹脂に厚さ１ｍｍ程度に塗布し、常温常湿で乾燥させた。その後、１３０℃、１５ＭＰａの圧力でプレス加工し、磁性シートを得た。磁性シートのサイズは１５０ｍｍ×１５０ｍｍで厚さは１００μｍである。なお、磁性シート中の扁平粉末の体積充填率はいずれも約５０％であった。次に、この磁性シートを、外径７ｍｍ、内径３ｍｍのドーナツ状に切り出し、インピーダンス測定器により、室温で１ＭＨｚにおけるインピーダンス特性を測定し、その結果から透磁率（複素透磁率の実数部および虚数部：μ’およびμ’’）を算出した。以上、本発明を実施例に基づいて説明したが、本発明はこの実施例に特に限定されない。
【００３１】
【表１】
2018035385.tif 000002
硫酸および塩酸に対する溶出量が６００ｐｐｍ以下の少ない例を耐食性良好とした。
【００３２】
【表２】
2018035385.tif 000003
【００３３】
【表３】
2018035385.tif 000004
表１に示すＮｏ．２〜６、１１〜１３、１８〜２６、表２に示すＮｏ．３０〜３４、３８〜４２、４６〜５４、表３に示すＮｏ．５８〜６２、６６〜７０、７４〜８２、８５〜８８が本発明例であり、表１に示すＮｏ．１、７〜１０、１４〜１７、２７〜２９、表２に示すＮｏ．３５〜３７、４３〜４５、５５〜５７、表３に示す６３〜６５、７１〜７３、８３〜８４は比較例である。
【００３４】
表１に示すように、比較例Ｎｏ．１は、Ｎｉ含有量が低いために、硫酸に対する流出量および塩酸に対する流出量が多いことから、耐食性が悪い。これに対して、本発明例であるＮｏ．２〜６は、本発明の条件を満たしていることから、硫酸、塩酸に対する流出量が少なく、耐食性に優れている。また、比較例Ｎｏ．７は、Ｎｉ含有量が高いために、長手方向の保持力の増加を招き、実数透磁率μ’の値を確保できず、シート成型を工夫しても、求める磁気特性を得ることが出来ない。比較例Ｎｏ．８は、Ｎｏ．７と同様に、Ｎｉ含有量が高いために、長手方向の保持力の増加を招き、実数透磁率μ’の値を確保できず、シート成型を工夫しても、求める磁気特性を得ることが出来ない。
【００３５】
比較例Ｎｏ．９は、Ｃｕ含有量が低いために、硫酸、塩酸に対する流出量が多く耐食性が悪い。比較例Ｎｏ．１０は、扁平加工された粉末を空気中で４００℃と低い温度で熱処理することにより、長手方向の保持力の増加を招き、実数透磁率μ’の値を確保できず、求める磁気特性を得ることが出来ない。これに対して、本発明例であるＮｏ．１１〜１３は、本発明の条件を満たしていることから優れた磁気特性および耐食性を得ることができる。比較例Ｎｏ．１４は、扁平加工された粉末を空気中で処理されることから、飽和磁化が得られず、長手方向の保持力の増加を招き、求める磁気特性を得ることが出来ない。
【００３６】
比較例Ｎｏ．１５は、Ｃｕ含有量が高いために、熱処理時にＣｕリッチ相が析出するために、保磁力の増加を招き、実数透磁率μ’の値を確保できず、求める磁気特性を得ることが出来ない。比較例Ｎｏ．１６は、Ｎｏ．１５と同様に、Ｃｕ含有量が高いために、長手方向の保持力の増加を招き、実数透磁率μ’の値を確保できず、求める磁性特性を得ることが出来ない。比較例Ｎｏ．１７は、Ｍｏ含有量が少ないために、硫酸、塩酸に対する流出量が多く耐食性が悪い。これに対して、本発明例であるＮｏ．１８〜２６は、本発明の条件を満たしていることから、優れた磁気特性および耐食性を得ることができる。
【００３７】
比較例Ｎｏ．２７は、Ｍｏ含有量が高いために、熱処理時にＭｏリッチ相が析出するため、保磁力の増加を招き、実数透磁率μ’の値を確保できず、求める磁性特性を得ることが出来ない。比較例Ｎｏ．２８は、比較例Ｎｏ．２７と同様に、Ｍｏ含有量が高いために、熱処理時にＭｏリッチ相が析出するため、保磁力の増加を招き、実数透磁率μ’の値を確保できず、求める磁性特性を得ることが出来ない。比較例Ｎｏ．２９は、Ｎｉ含有量が少ないために、硫酸、塩酸に対する流出量が多く耐食性が悪い。これに対して、表２に示す、本発明例であるＮｏ．３０〜３４は、本発明の条件を満たしていることから、優れた磁気特性および耐食性を得ることができる。
【００３８】
表２に示すように、比較例Ｎｏ．３５は、Ｎｉ含有量が高いために、長手方向の保持力の増加を招き、実数透磁率μ’の値を確保できず、求める磁気特性を得ることが出来ない。比較例Ｎｏ．３６は、比較例Ｎｏ．３５と同様に、Ｎｉ含有量が高いために、長手方向の保持力の増加を招き、実数透磁率μ’の値を確保できず、求める磁気特性を得ることが出来ない。比較例Ｎｏ．３７は、Ｃｕ含有量が低いために、硫酸、塩酸に対する流出量が多く耐食性が悪い。これに対して、本発明例であるＮｏ．３８〜４２は、本発明の条件を満たしていることから、優れた磁気特性および耐食性を得ることができる。
【００３９】
比較例Ｎｏ．４３は、Ｃｕ含有量が高いために、熱処理時にＣｕリッチ相が析出するために、保磁力の増加を招き、実数透磁率μ’の値を確保できず、求める磁気特性を得ることが出来ない。比較例Ｎｏ．４４は、Ｎｏ．４３と同様に、Ｃｕ含有量が高いために、長手方向の保持力の増加を招き、実数透磁率μ’の値を確保できず、求める磁性特性を得ることが出来ない。比較例Ｎｏ．４５は、Ｍｏ含有量が少ないために、硫酸、塩酸に対する流出量が多く耐食性が悪い。これに対して、本発明例であるＮｏ．４６〜５４は、本発明の条件を満たしていることから、優れた磁気特性および耐食性を得ることができる。
【００４０】
比較例Ｎｏ．５５は、Ｍｏ含有量が高いために、熱処理時にＭｏリッチ相が析出するため、保磁力の増加を招き、実数透磁率μ’の値を確保できず、求める磁性特性を得ることが出来ない。比較例Ｎｏ．５６は、比較例Ｎｏ．５５と同様に、Ｍｏ含有量が高いために、熱処理時にＭｏリッチ相が析出するため、保磁力の増加を招き、実数透磁率μ’の値を確保できず、求める磁性特性を得ることが出来ない。比較例Ｎｏ．５７は、Ｎｉ含有量が少ないために、硫酸、塩酸に対する流出量が多く耐食性が悪い。これに対して、表３に示す、本発明例であるＮｏ．５８〜６２は、本発明の条件を満たしていることから、優れた磁気特性および耐食性を得ることができる。
【００４１】
比較例Ｎｏ．６３は、Ｎｉ含有量が高いために、長手方向の保持力の増加を招き、かつ実数透磁率μ’の値および虚数透磁率μ’’を確保できないために、求める磁気特性を得ることが出来ない。比較例Ｎｏ．６４は、比較例Ｎｏ．６３と同様に、Ｎｉ含有量が高いために、長手方向の保持力の増加を招き、かつ実数透磁率μ’の値および虚数透磁率μ’’を確保できないために、求める磁気特性を得ることが出来ない。比較例Ｎｏ．６５は、Ｃｕ含有量が低いために、硫酸、塩酸に対する流出量が多く耐食性が悪い。また、いずれも、偏平加工された粉末が空気中で処理されることから、粉末の保磁力の値が上昇し、透磁率の値が低下するものである。これに対して、本発明例であるＮｏ．６６〜７０は、本発明の条件を満たしていることから、優れた磁気特性および耐食性を得ることができる。
【００４２】
比較例Ｎｏ．７１は、Ｃｕ含有量が高いために、熱処理時にＣｕリッチ相が析出するために、保磁力の増加を招き、実数透磁率μ’の値を確保できず、求める磁気特性を得ることが出来ない。比較例Ｎｏ．７２は、Ｎｏ．７１と同様に、Ｃｕ含有量が高いために、長手方向の保持力の増加を招き、実数透磁率μ’の値を確保できず、求める磁性特性を得ることが出来ない。比較例Ｎｏ．７３は、Ｍｏ含有量が少ないために、硫酸、塩酸に対する流出量が多く耐食性が悪い。これに対して、本発明例であるＮｏ．７４〜８２は、本発明の条件を満たしていることから、優れた磁気特性および耐食性を得ることができる。
【００４３】
比較例Ｎｏ．８３は、Ｍｏ含有量が高いために、熱処理時にＭｏリッチ相が析出するため、保磁力の増加が極めて大きく、実数透磁率μ’の値を確保できず、求める磁性特性を得ることが出来ない。比較例Ｎｏ．８４は、比較例Ｎｏ．８３と同様に、Ｍｏ含有量が高いために、熱処理時にＭｏリッチ相が析出するため、保磁力の増加が極めて大きく、実数透磁率μ’の値を確保できず、求める磁性特性を得ることが出来ない。これに対して、本発明例であるＮｏ．８５〜８８は、本発明の条件を満たしていることから、優れた磁気特性および耐食性を得ることができる。
【００４４】
以上述べたように、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｒ系合金の軟磁性偏平粉末にＮｉ、Ｃｕ、Ｍｏの１種または２種以上を添加することで、Ｃｒ酸化皮膜を有する合金にＮｉ、ＣｕまたはＭｏの添加により、Ｃｒ酸化被膜を強化し、酸化被膜と素地の密着性を向上させ、磁気特性の劣化を抑制し、耐蝕性を向上させるものである。
出願人  山陽特殊製鋼株式会社
代理人  弁理士  椎  名    彊