(57)【要約】【課題】例えば、電磁放射ノイズの低減に有利なパターン形成装置を提供する。【解決手段】パターン形成装置は、明部と暗部とが交互に並ぶパターン光に対応したパターンを形成する形成部１１１と、パターンに対応した複数のデータ列の伝送を形成部１１１に並列に行う伝送部１１７と、複数のデータ列を生成する処理部と、を備える。複数のデータ列は、伝送中の少なくとも一部の時刻においてデータが互いに異なるように伝送部１１７を介して形成部１１１に伝送される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
明部と暗部とが交互に並ぶパターン光に対応したパターンを形成する形成部と、前記パターンに対応した複数のデータ列の伝送を前記形成部に並列に行う伝送部と、前記複数のデータ列を生成する処理部と、を備えたパターン形成装置であって、
前記複数のデータ列は、前記伝送中の少なくとも一部の時刻においてデータが互いに異なるように前記伝送部を介して前記形成部に伝送されることを特徴とするパターン形成装置。
【請求項２】
前記形成部は、格子状に配列された複数の画素を備え、
前記複数のデータ列の各々は、前記複数の画素のうち、２の倍数でない、素数の倍数だけの画素に対応するデータを含むことを特徴とする請求項１に記載のパターン形成装置。
【請求項３】
前記形成部は、格子状に配列された複数の画素を備え、
前記処理部は、前記複数のデータ列が、前記伝送中の少なくとも一部の時刻においてデータが互いに異なるように、前記複数のデータ列の少なくとも１つのデータ列に所定データを付加し、
前記形成部は、前記所定データを前記複数の画素のいずれにも割り当てないようにすることを特徴とする請求項１に記載のパターン形成装置。
【請求項４】
前記処理部は、前記複数のデータ列が、前記伝送中の少なくとも一部の時刻においてデータが互いに異なるように、前記パターン光の明部の幅と暗部の幅とを等しくなくするような前記複数のデータ列を生成することを特徴とする請求項１に記載のパターン形成装置。
【請求項５】
前記形成部は、格子状に配列された複数の画素を備え、前記複数の画素の列数を２の倍数とし、
前記処理部は、前記複数の画素のうち、前記パターン光のうち明部と暗部とからなる１周期分のパターン光に対応する画素数を２の倍数でない、素数の倍数とするような前記複数のデータ列を生成することを特徴とする請求項１に記載のパターン形成装置。
【請求項６】
前記形成部は、格子状に配列された複数の画素を備え、
前記伝送部に含まれる複数のバスラインの数を２の倍数でない、素数の倍数とし、
前記形成部は、前記複数のバスラインによりそれぞれ伝送された前記複数のデータ列を前記バスラインの順で前記複数の画素に割り当てるようにすることを特徴とする請求項１に記載のパターン形成装置。
【請求項７】
前記形成部は、格子状に配列された複数の画素を備え、
前記伝送部に含まれる複数のバスラインの数を８とし、前記複数のバスラインにそれぞれ対応する前記複数のデータ列を、互いに異なる、２の倍数でない、素数の倍数だけの数のデータをそれぞれ有するようにすることを特徴とする請求項１に記載のパターン形成装置。
【請求項８】
前記形成部を照明する照明部を含むことを特徴とする請求項１ないし７のうち何れか一項に記載のパターン形成装置。
【請求項９】
請求項１ないし８のうち何れか一項に記載のパターン形成装置と、
前記形成装置を介してパターン光を被検物に投影する光学系と、
前記パターン光を投影された前記被検物を撮像する撮像部と、
前記撮像部により得られた画像データに基づいて、前記被検物の距離情報を得る情報処理部と、
を備えることを特徴とする計測装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の計測装置と、
前記計測装置により得られた距離情報に基づいて、前記被検物を保持して移動させるロボットと、を有する、
ことを特徴とするシステム。
【請求項１１】
請求項９に記載の計測装置を用いて被検物の計測を行い、
前記計測の結果に基づいて前記被検物を処理して物品を製造する、
ことを特徴とする物品製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターン形成装置、計測装置、システム、および物品製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
被検物にパターン光（例えば明暗縞）を投影し、これを撮像し、被検物の三次元形状データを取得する三次元形状測定装置において、当該パターン光を形成するためにパターン形成素子が用いられている。パターン形成素子は、例えば、透過型液晶デバイスや反射型液晶デバイス、ミラーデバイス等が知られている。
【０００３】
明暗縞パターンをパターン形成素子にセットするとき、例えば、２画素において明（白）で、２画素において暗（黒）である、というような縞の周期の投影パターンをセットするような場合、次の様なことになり易い。即ち、パターン形成素子のデータバスの各ラインのＨ（ｈｉｇｈ）Ｌ（ｌｏｗ）波形が揃い、このＨＬ波形の周波数をもった電磁ノイズが大きくなり、撮像や周囲の装置に影響を与えうる。このため、そのような電磁ノイズを小さくすることが求められている。
【０００４】
特許文献１には、クロック信号を周波数変調することによって、電磁放射ノイズを低減する方法が記載されている。また、特許文献２には、画像データに含まれるノイズを低減する方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１３−９７４９６号公報
【特許文献２】特開２０１４−１１９４４２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１の方式では、クロック信号を周波数変調する部品を追加しなければならない。また、特許文献２の方式では、電磁ノイズそのものを低減するものではないため、周辺の装置に影響を与えうる。
【０００７】
本発明は、例えば、電磁放射ノイズの低減に有利なパターン形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一側面によるパターン形成装置は、明部と暗部とが交互に並ぶパターン光に対応したパターンを形成する形成部と、前記パターンに対応した複数のデータ列の伝送を前記形成部に並列に行う伝送部と、前記複数のデータ列を生成する処理部と、を備え、前記複数のデータ列は、前記伝送中の少なくとも一部の時刻においてデータが互いに異なるように前記伝送部を介して前記形成部に伝送される。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】実施例１のパターン形成装置を含む計測装置を説明する図。
【図２】被検物を説明する図。
【図３】パターン形成装置のパターン形成部を説明する図。
【図４】パターン光による投影像を説明する図。
【図５】パターン形成装置のパターン形成部を説明する図。
【図６】従来技術の画像データ伝送部を説明する図。
【図７】実施例の画像データ伝送部を説明する図。
【図８】実施例のパターン形成部を説明する図。
【図９】実施例のパターン形成部を説明する図。
【図１０】実施例の動作を説明するフローチャート。
【図１１】計測装置とロボットアームを含む制御システムを示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明の一側面によれば、以下の手段の少なくとも１つを用いて、形成部で形成する、明部と暗部とが交互に並ぶパターン光に対応したパターンに対応した複数のデータ列の伝送を伝送部により前記形成部に並列に行う。そして、前記複数のデータ列は、前記伝送中の少なくとも一部の時刻においてデータが互いに異なるように前記伝送部を介して前記形成部に伝送される。前記複数のデータ列は処理部で生成される。互いに異なるようにする手段として、次のようなものがある。形成部の複数の画素を複数の画素列ないし画素列群に分けて、それらの画素列ないし画素列群をどの様に前記ラインと対応するものとして割り振っていくか、という手段がある。ここでは、画素列ないし画素列群の数の調整による手段、及び画素列ないし画素列群とラインとの対応のさせ方を調整する手段がある。他の手段として、ラインの数を調整する手段、及び被検物に投影するパターン光の明部の幅、暗部の幅を調整する手段がある。さらに、データ列のデータ内容に所定のダミーデータを入れる手段がある。これにより、形成部に並列に伝送する複数のデータ列の周期性を少なくとも一部で乱すことができ、パターン光を投影するときに発生しやすい電磁ノイズを、低減することができる。なお、形成部としては、後述の実施例では、照射部である光源で照射される画素をなす液晶などのパターン形成部を用いているが、画素そのものをＬＥＤなどの光源で構成することも可能である。
【００１２】
（実施例１）
本発明の好ましい実施形態を添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【００１３】
図１を用いて実施例１を説明する。図１は、実施例１のパターン形成装置を含む三次元形状測定装置１０の主要部概略図である。三次元形状測定装置は、必ずしも被検物の三次元形状を測定しなくてもよく、被検物の位置、姿勢、距離などの情報を取得する装置であってもよいので、以下の説明では、計測装置とも言う。図１において、投影手段１０２の光軸１１６をＺ軸とし、これに直交する平面をＸＹ面とする。
【００１４】
本実施例では、計測装置１０は、複数の被検物１００を三次元形状測定対象とする。計測装置１０は、被検物１００にパターン光１１３を投影する投影手段１０２と、パターン光１１３を投影された被検物１００を撮像する撮像手段１０３（撮像部）と、撮像した画像から明暗の交差する交点位置を算出する交点算出手段１０５を備える。また、不図示の被検物形状のデータベースに格納された被検物形状と、交点位置をマーカとして用い、被検物１００の位置と姿勢を算出する被検物位置算出手段１０６を備える。さらに、算出結果を出力する出力手段１０９と、これらを制御する制御手段１０４を備える。
【００１５】
計測装置１０は、被検物１００に投影手段１０２によりパターン光を投影する。また、撮像手段１０３により、被検物１００に投影したパターン光の投影像の画像データ（投影像データ）を取得し、画像データをもとに、交点位置算出手段１０５で交点位置を算出する。さらに、この交点位置をマーカとして用い、被検物位置算出手段１０６で被検物の位置と姿勢を算出し、出力手段１０９により、被検物毎に位置姿勢データを出力する。
【００１６】
まず、図２を用いて被検物１００について説明する。図２は被検物の主要部概要図である。被検物１００は、乱雑に置かれた直方体の部品である。形状は、直方体に限らず、パイプやボルトや扉のような複雑な形状であって良い。また、材質は光を反射すれば良く、金属やプラスチックなどでも良い。
【００１７】
図１と図３〜図６を用いて、投影手段１０２について説明する。図３は、後述するパターン形成部１１１の一部を示したものである。図４は、パターン投影像を説明するための概要図である。図５はパターン形成部１１１を説明するための概要図である。図６は、投影像データの伝送部１１７を説明するための図である。
【００１８】
投影手段１０２は、光を発する照明光源１１２（照射部）と、照明光源１１２からの光を部分的に遮りパターン光を形成するパターン形成部１１１と、パターン形成部１１１が形成したパターン光の像を被検物１００に結像する投影光学系１１０を備える。また、パターン形成部１１１にパターン光のデータをパラレルデータバスで並列に伝送する投影像データ伝送部１１７を備える。照明光源１１２は略４５５ｎｍを中心波長とするＬＥＤ光源であるが、被検物１００に十分明るいパターンを投影できれば良く、他の波長を中心としたＬＥＤ光源、ハロゲン光源などであっても良い。
【００１９】
投影光学系１１０は、光学レンズである。投影手段１０２は、制御手段１０４からの指令によって、パターン形成部１１１でパターンＡを形成し、照明光源１１２を点灯する。すると、照明光源１１２を発した光が、パターン形成部１１１を透過しパターン光となり、投影光学系１１０により被検物１００に結像し、図４（Ａ）に示すようなパターンＡ投影像となる。パターン形成部１１１でパターンＢを形成した場合、図４（Ｂ）に示すようなパターンＢ投影像となる。パターンＡ投影像とパターンＢ投影像は、白黒が反転している。制御手段１０４の生成部は、伝送中の少なくとも一部の時刻においてデータが互いに異なるように複数のデータ列を生成する。例えば、投影像データの複数のデータ列が、少なくとも２以上のデータ列において、時間軸方向の少なくとも一部で、互いにずれるように生成される。
【００２０】
投影像データ伝送部１１７は、パラレルデータバスである。パターン形成部１１１は、透過式の液晶パネルであるが、反射式の液晶パネルや、多数の小型ミラーを敷き詰めた反射パネルでも良い。パターン形成部１１１である透過式の液晶パネルは、略格子状に配列された複数の画素を備えている。ここでは、画素毎に透過率を変更できる。パターン形成部１１１は、制御手段１０４からの指令に基づき、画素毎に透過率を変更し、図３（Ａ）、（Ｂ）に示すようなパターン光を形成する。図３は、縦横に数千個並ぶ画素配列の一部を示したものである。図３（Ａ）は、２画素列の透過率を最小にした黒い暗列と、次の２画素列の透過率を最大にした白い明列と、が一方向に沿って交互に繰り返し並ぶパターンＡを示す。図３（Ｂ）は、パターンＡの白黒が反転したパターンＢを示す。パターン形成部１１１は、これに限らず、白列と黒列の幅を変えたパターンや、白黒の透過率を変えたパターンなどを形成しても良い。
【００２１】
パターン形成部１１１は、図５に示すように、画素５０１を格子状に、ｍ行×８ｎ列並べている。本実施例では、ｍを１２００、ｎを２００としている。この内、１列からｎ列までのａ列群の画素データを投影像データ伝送部１１７のラインaが伝送する。図６に示すように、クロックラインＣＬＫのクロックに同期して、１クロック１画素のデータを送る。図３に示すパターンＡのような黒黒白白を繰り返す投影像データを送るときは、ラインａに、例えばＬＬＨＨＬＬＨＨというデータを送る。同様に、ｂからｈ列群の画素データをラインｂからｈがそれぞれ伝送する。ＣＬＫがＬからＨになるエッジで、ａからｈ列のデータをセットする。
【００２２】
従来技術においては、パターン形成部１１１の画素のアドレスを２進数で管理するので、ｎは２の倍数である。このため、各列群の先頭列である、１、ｎ＋１、２ｎ＋１、３ｎ＋１、４ｎ＋１、５ｎ＋１、６ｎ＋１、７ｎ＋１は、同じ色になり、図６に示すように、パラレルデータバスａからｈのそれぞれのデータ列は、同期してしまう。ＬからＨに切り替わるときＦＥＴに電流が流れやすくなる性質があるので、パラレルデータバスのＨＬ周期で電磁ノイズが大きくなりやすい。ＦＥＴはパターン形成部１１１をはじめとした電気部品内にある。
【００２３】
本実施例では、ｎを２の倍数でない３の倍数とする。これにより、各列群の先頭列は、必ずしも同じ色にはならず、図７に示すように、同期するパラレルデータバスの数を減らすことができる。これにより、電磁ノイズを低減できる。ｎは２の倍数でなければ良く、例えば素数である３、５、７、１１の倍数でも良い。９などの奇数の倍数でも良い場合もある。本実施例では、同幅の暗列と明列とが交互に繰り返し並ぶパターンであるので、上記の様にすることで、同期は、略全データ列において略全時間軸の方向で抑制することができる。このように、例えば、前記複数のデータ列の各々は、前記複数の画素のうち、２の倍数でない、素数の倍数だけの画素に対応するデータを含む。
【００２４】
また、別の実施例では、従来技術のようにパターン形成部１１１のｎ列を２の倍数とし、制御手段１０４が、パラレルデータバスで伝送する画素データに所定の余分なデータ（ダミーデータ）を付加する。そして、パターン形成部１１１が余分なデータを取り除く。このとき、ａラインは１番目と１１番目のデータ、ｂラインは２番目と１２番目のデータというように、バスライン毎に余分なデータを加える時刻の位置を変える。余分なデータの数は各ラインで同数であれば良く、データ転送レートを著しく遅くしないように１から数十個にする。これにより、各列群の先頭列は必ずしも同じ色にならず、同様に、電磁ノイズを低減できる。このように、ここでは、例えば、制御手段の処理部は、前記複数のデータ列が、伝送中の少なくとも一部の時刻においてデータが互いに異なるように、複数のデータ列の少なくとも１つのデータ列に所定データを付加する。そして、形成部は、前記所定データを複数の画素のいずれにも割り当てないようにする。
【００２５】
また、別の実施例では、従来技術のようにパターン形成部１１１のｎ列（画素列群の画素数）を２の倍数とし、制御手段１０４が投影パターンの白黒縞周期を白白白黒黒黒のように２の倍数でない３の倍数とする。白黒縞の周期は８ｎより小さい２の倍数でなければ良く、例えば素数である５、７、１１の倍数でも良い。９などの奇数の倍数でも良い場合もある。これにより、各列群の先頭列は必ずしも同じ色にならず、同様に、電磁ノイズを低減できる。このように、ここでは、例えば、形成部は、格子状に配列された複数の画素を備え、前記複数の画素の列数を２の倍数とする。そして、制御手段の処理部は、前記複数の画素のうち、パターン光のうち明部と暗部とからなる１周期分のパターン光に対応する画素数を２の倍数でない、素数の倍数とするような複数のデータ列を生成する。
【００２６】
また、別の実施例では、図８に示すように、バスラインの数を２の倍数でない７とし、abcdefgの順で順次画素列のデータをセットする。これにより、同期するパラレルデータバスの数を減らすことができる。バスラインの数は２の倍数でなければ良く、例えば素数である３、５、１１の倍数でも良い。９などの奇数の倍数でも良い場合もある。このように、ここでは、例えば、伝送部に含まれる複数のバスラインの数を２の倍数でない、素数の倍数とする。そして、形成部は、前記複数のバスラインによりそれぞれ伝送された複数のデータ列をバスラインの順で複数の画素に割り当てるようにする。
【００２７】
また、別の実施例では、図９に示すように、バスラインの数を２の倍数の８とし、バスラインと対応する画素列のデータの並びを、abcabc・・・defghdefgh・・・のように２の倍数でない３と５の繰り返しでセットする。これにより、同期するパラレルデータバスの数を減らすことができる。同期するパラレルデータバスの数を減らすことができれば、どのような並びでも良く、例えば、３と３と２の繰り返しや、３と３と２の繰り返しと３と５の繰り返しの組合せ等でも良い。また、バスラインの数も８ではなく、２の倍数の１６、３２などでも良い。このように、ここでは、例えば、伝送部に含まれる複数のバスラインの数を８とし、前記複数のバスラインにそれぞれ対応する複数のデータ列を、互いに異なる、２の倍数でない、素数の倍数だけの数のデータをそれぞれ有するようにする。
【００２８】
さらに、別の実施例では、投影パターン光の形状について、形成部に伝送部で並列に与える複数のデータ列が少なくとも２以上のデータ列において時間軸方向の少なくとも一部で互いにずれるように、白黒の幅を適宜に等しくなくする。ただし、白黒の幅が等しくなくてもノイズが発生しやすい例もある。例えば、電磁ノイズは、白白黒黒のように白黒縞周期内の白と黒の割合が一対一のときに発生しやすい。しかし、この他にも、白黒縞周期が２の倍数であると、白白白黒白白白黒のように周期内の白と黒の割合が３対１であってもパラレルデータバスのデータが同期し電磁ノイズが大きくなりやすい。このように、ここでは、例えば、制御手段の処理部は、前記複数のデータ列が、伝送中の少なくとも一部の時刻においてデータが互いに異なるようにパターン光の明部の幅と暗部の幅とを等しくなくするような複数のデータ列を生成する。
【００２９】
次に、撮像手段１０３を説明する。撮像手段１０３は、被検物１００に投影したパターン投影像を撮像素子１１４に結像する撮像光学系１１５と、この投影像を画像データに変換する撮像素子１１４を備える。撮像素子１１４は、受光した光を電荷に変換し蓄積する画素を格子状に配列したものである。撮像素子１１４は、固体撮像素子のＣＭＯＳイメージセンサであるが、ＣＣＤイメージセンサでも良い。
【００３０】
撮像光学系１１５は、光学レンズである。撮像手段１０３は、制御手段１０４からの指令によって、被検物１００に投影されたパターン投影像を撮像し、交点算出手段１０５へ出力する。これを、パターンＡとパターンＢについて実施する。
【００３１】
交点算出手段１０５について説明する。交点算出手段１０５は、ＦＡコンピュータであるが、ＤＳＰやＦＰＧＡでも良い。交点算出手段１０５は、撮像手段１０３から、パターンＡ投影像の画像データＡとパターンＢ投影像の画像データＢを取得する。そして、画像データＡと画像データＢの明暗が交差する交点位置を算出する。
【００３２】
被検物位置算出手段１０６について説明する。被検物位置算出手段１０６は、ＦＡコンピュータであるが、ＧＰＧＰＵやＤＳＰやＦＰＧＡでも良い。被検物位置算出手段１０６は、交点算出手段１０５により算出した交点をマーカとし、被検物１００の三次元形状を導出するとともに、これと不図示のデータベースに格納された被検物形状を比較し、被検物１００の位置と姿勢を算出する。尚、この手法は公知の技術で実現されるので、詳細な説明を省略する。そして、被検物位置姿勢データとして、出力手段１０９に出力する。
【００３３】
出力手段１０９について説明する。出力手段１０９は、ＦＡコンピュータに付属するイーサネット（登録商標）であるが、ディスプレイのような表示装置でも良いし、ＵＳＢメモリのような記憶媒体でも良いし、紙などに印刷しても良い。出力手段１０９は、被検物位置算出手段１０６で算出した位置姿勢データを外部に出力する。
【００３４】
次に、制御手段１０４について説明する。制御手段１０４は、ＦＡコンピュータであるが、ＤＳＰやＦＰＧＡやマイクロコンピュータでも良い。制御手段１０４は、以上説明した各手段を制御し、被検物１００の位置姿勢データを不図示の外部に出力する。
【００３５】
以上説明した計測装置１０の動作を、図１０に示す。まず、投影手段１０２により被検物１００にパターンＡ投影像を投影する（ステップ８０１）。次に、撮像手段１０３によりパターンＡ投影像の画像データＡを撮像する（ステップ８０２）。これを、パターンＢについて繰り返す（ステップ８０３、ステップ８０４）。続いて、交点算出手段１０５により、画像データＡと画像データＢから交点群の交点位置を算出する（ステップ８０５）。
【００３６】
次に、被検物位置算出手段１０６により交点群をマーカとして被検物の位置姿勢データを算出する（ステップ８０６）。最後に、出力手段１０９で、位置姿勢データを外部に出力する（ステップ８０７）。
【００３７】
以上説明したように、本実施例によれば、パターン形成部に同時にセットするＨＬデータを少なくとも一部において揃えないようにすることにより、動作時の電磁ノイズを低減したパターン形成装置、計測装置などを提供することができる。
【００３８】
（実施例２）
上述の情報取得装置は、ある制御システムで使用されうる。本実施例では、一例として、図１１のようにロボットアーム３００（把持装置）に備え付けられて使用される制御システムについて説明する。情報取得装置１００（情報処理部）は、支持台３５０に置かれた被計測物（被検物）２１０にパターン光を投影して撮像し、画像を取得する。そして、情報取得装置１００の制御部が、又は、情報取得装置１００の制御部から画像データを取得した制御部３１０が、被計測物２１０の位置および姿勢を取得し、取得結果である位置および姿勢の情報（距離情報など）を制御部３１０が取得する。制御部３１０は、その位置および姿勢の情報に基づいて、ロボットアーム３００に駆動指令を送ってロボットアーム３００を制御する。ロボットアーム３００は先端のロボットハンドなど（把持部）で被計測物２１０を保持して、並進や回転などの移動をさせる。さらに、ロボットアーム３００によって被計測物２１０を他の部品に組み付けることにより、複数の部品で構成された物品、例えば電子回路基板や機械などを製造することができる。また、移動された被計測物２１０を加工ないし処理することにより、物品を製造することができる。制御部３１０は、ＣＰＵなどの演算装置やメモリなどの記憶装置を有する。なお、ロボットを制御する制御部を制御部３１０の外部に設けても良い。また、情報取得装置１００により計測された計測データや得られた画像をディスプレイなどの表示部３２０に表示してもよい。
【００３９】
このように、本発明のパターン形成装置や計測装置は、自動車産業などの各種産業で、部品または物品をピックアップするロボットに、部品等の形状・位置・姿勢などのうち少なくとも一つの情報を通知するのに利用可能である。こうして計測装置を用いて被検物の計測を行い、計測の結果に基づいて被検物を処理して物品を製造する物品製造方法などに利用可能である。
【符号の説明】
【００４０】
１０  計測装置（三次元形状測定装置）
１０２  投影手段
１０３  撮像手段
１０４  制御手段（処理部）
１１１  形成部
１１７  伝送部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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