(57)【要約】【課題】高温環境下かつ高輝度駆動での長寿命性の安定化が可能な有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。【解決手段】  一対の電極２，４間に少なくとも有機発光層３ｄを挟持してなる有機ＥＬ素子１０の製造方法であって、第一の加熱状態で有機ＥＬ素子１０に通電を行う通電処理工程と、前記通電処理工程後に第二の加熱状態で有機ＥＬ素子１０を保存する保存処理工程と、を含み、前記第二の加熱状態における加熱温度は、前記第一の加熱状態における加熱温度以上であり、かつ、有機ＥＬ素子１０の駆動環境温度の最高値よりも３０℃以上高い。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の電極間に少なくとも有機発光層を挟持してなる有機ＥＬ素子の製造方法であって、
第一の加熱状態で前記有機ＥＬ素子に通電を行う通電処理工程と、
前記通電処理工程後に第二の加熱状態で前記有機ＥＬ素子を保存する保存処理工程と、を含み、
前記第二の加熱状態における加熱温度は、前記第一の加熱状態における加熱温度以上であり、かつ、前記有機ＥＬ素子の駆動環境温度の最高値よりも３０℃以上高いことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項２】
前記第二の加熱状態における加熱温度は、前記第一の加熱状態における加熱温度よりも３０℃以上高いことを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ（Electro  Luminescence）素子の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、有機材料によって形成される自発光素子である有機ＥＬ素子として、例えば、陽極となるＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide）等からなる第一電極と、少なくとも有機発光層を有する機能層と、陰極となるアルミニウム（Ａｌ）等からなる非透光性の第二電極と、を順次積層してなるものが知られている。かかる有機ＥＬ素子は、第一電極から正孔を注入し、また、第二電極から電子を注入して正孔及び電子が有機発光層にて再結合することによって光を発するものである。有機ＥＬ素子は、ディスプレイや照明装置のほか、プリントヘッドの光源など幅広い用途で用いられる。
【０００３】
また、有機ＥＬ素子は、その製造過程において機能層の内部に異物が混入する等の原因によって機能層に部分的に膜厚が薄い欠陥部位が生じると、発光駆動時に有機ＥＬ素子に電圧を印加した際に第二電極から第一電極へ逆方向の電流（リーク電流）が流れ有機ＥＬ素子の輝度ムラ等の発光品位の低下を招くという問題点があった。
【０００４】
これに対し、例えば特許文献１に開示されるように、有機ＥＬ素子の製造工程において有機ＥＬ素子形成後に有機ＥＬ素子を加熱した状態で両電極間に電圧を印加して、リーク電流を発生させる欠陥部位の第二電極を除去する通電処理を行う方法が知られている。かかる方法によれば、有機ＥＬ素子の欠陥部位を予め除去することができ、輝度ムラ等を抑制することができる。さらに、特許文献１には、発光駆動によってパネル温度が上昇することに伴う初期における輝度低下を抑制するために、通電処理後に、加熱した状態で有機ＥＬ素子を保存する保存処理を行う方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−９１０１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に開示される方法では、プリントヘッドの光源のように６０℃以上の高温環境下かつ１００００ｃｄ／ｍ２以上の高輝度駆動においては所望の寿命を得ることができない場合があり、高温環境下かつ高輝度駆動における長寿命性の安定化という点で更なる改善の余地があった。
【０００７】
そこで本発明は、この問題に鑑みなされたものであり、高温環境下かつ高輝度駆動での長寿命性の安定化が可能な有機ＥＬ素子の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、前記課題を解決するために、一対の電極間に少なくとも有機発光層を挟持してなる有機ＥＬ素子の製造方法であって、
加熱状態で前記有機ＥＬ素子に通電を行う通電処理工程と、
前記通電処理工程後に第二の加熱状態で前記有機ＥＬ素子を保存する保存処理工程と、を含み、
前記第二の加熱状態における加熱温度は、前記第一の加熱状態における加熱温度以上であり、かつ、前記有機ＥＬ素子の駆動環境温度の最高値よりも３０℃以上高いことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、高温環境下かつ高輝度駆動での長寿命性の安定化が可能となるものである。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の実施形態における有機ＥＬ素子を示す概略構成図。
【図２】本発明の実施形態における有機ＥＬ素子の製造方法を示す図。
【図３】本発明の実施例１〜３及び比較例１〜７におけるエージング条件及び駆動試験の結果を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、添付図面に基づいて本発明の実施形態について説明する。
【００１２】
図１（ａ）は、本発明の実施形態である有機ＥＬ素子１０を示す図である。有機ＥＬ素子１０は、支持基板１と、陽極となる第一電極２と、機能層３と、陰極となる第二電極４と、を有するものである。また、有機ＥＬ素子１０は、封止基板５を支持基板１上に配設して封止される。有機ＥＬ素子１０を支持基板１と封止基板５で封止した状態を有機ＥＬパネルともいう。
【００１３】
支持基板１は、例えば透明なガラス材料からなる矩形状の基板である。支持基板１上には、第一電極２，機能層３及び第二電極４が順に積層形成される。
【００１４】
第一電極２は、正孔を注入する陽極となるものであり、支持基板１上にＩＴＯ等の透明導電材料をスパッタリング法等の手段によって層状に形成してなり、フォトエッチング等の手段によって所定の形状にパターニングされる。また、第一電極２は、その表面にＵＶ／Ｏ３処理やプラズマ処理等の表面処理が施される。
【００１５】
機能層３は、少なくとも有機発光層を含む多層構造からなり、第一電極２上に形成されるものである。本実施形態においては、図１（ｂ）に示すように、機能層３として第一電極２側から順に正孔注入層３ａ，等電位層３ｂ，正孔輸送層３ｃ，有機発光層３ｄ，電子輸送層３ｅ，電子注入層３ｆが順に積層形成されてなる。機能層３のうち、正孔注入層３ａ，等電位層３ｂ，正孔輸送層３ｃ，有機発光層３ｄ，電子輸送層３ｅは少なくとも一部に有機材料を含む。
【００１６】
正孔注入層３ａは、第一電極２から正孔を取り込む機能を有する。正孔注入層３ａは、例えば低分子の有機材料であるアリールアミン系化合物等の正孔輸送性材料を真空蒸着法等の手段によって膜厚１５〜４０ｎｍ程度の層状に形成してなる。
【００１７】
等電位層３ｂは、第一，第二電極２，４間に電圧が印加された場合に、等電位層３ｂの第一電極２側と接する正孔注入層３ａに電子（電荷）を注入し、また、第二電極４側と接する正孔輸送層３ｃに正孔（電荷）を注入させる電荷発生機能を有し、少なくとも第一，第二電極２，４間に電圧が印加されると第一電極２と略等電位となるものである。等電位層３ｂは、例えば三酸化モリブデン（ＭｏＯ３）や五酸化バナジウム（Ｖ２Ｏ５）とアリールアミン系化合物の混合物やＨＡＴ−ＣＮなどの有機電子受容性（アクセプター）材料を真空蒸着法等の手段によって膜厚５〜１５ｎｍ程度の層状に形成してなる。
【００１８】
正孔輸送層３ｃは、有機発光層３ｄと接し、正孔を有機発光層３ｄへ伝達する機能を有する。正孔輸送層３ｃは、正孔移動度（以下、正孔輸送層３ｃに用いられる正孔輸送性材料の正孔移動度を正孔移動度μｈＨＴと記す）が１０−３ｃｍ２／Ｖｓ以上である例えば低分子の有機材料であるアリールアミン系化合物等の正孔輸送性材料を真空蒸着法等の手段によって膜厚１５〜４０ｎｍ程度の層状に形成してなる。
【００１９】
有機発光層３ｄは、例えば低分子の有機材料であるホスト材料に少なくとも所定の色の発光を呈する発光ドーパントを共蒸着等の手段によって添加し、膜厚３０〜５０ｎｍ程度の層状に形成した混合層である。前記ホスト材料は、通常有機発光層３ｄ中で最も高い比率で含まれるものであり、正孔及び電子の輸送が可能であり、その分子内で正孔及び電子が再結合することで前記発光ドーパントを発光させる機能を有し、例えば低分子の有機材料である芳香族化合物やナフタセン化合物からなる。前記発光ドーパントは、正孔と電子との再結合に反応して所定の色で発光する機能を有し、例えば赤色発光を示す低分子の有機材料である芳香族化合物やピロメテン化合物等の蛍光材料からなる。前記発光ドーパントは、前記ホスト材料とのＩｐ（イオン化ポテンシャル）の差が０．０５ｅＶ以上であることが望ましい。前記発光ドーパントと前記ホスト材料とのＩｐの差は、励起子のエネルギー移動の効率に関与し、Ｉｐの差が小さいと前記発光ドーパントは前記発光ドーパント自体で正孔と電子で励起子を形成して発光する割合が高くなり、前記ホスト材料で形成された励起子からのエネルギー移動による発光割合が低下するため、発光効率の低下が生じるからである。したがって、所望の発光色を得ようとする場合には、その発光色で発光する発光ドーパントに対して、Ｉｐの差が上記の条件を満たすホスト材料を選択する必要がある。
【００２０】
電子輸送層３ｅは、有機発光層３ｄと接し、電子を有機発光層３ｄへ伝達する機能を有する。電子輸送層３ｅは、例えば電子移動度（以下、電子輸送層３ｅに用いられる電子輸送性材料の電子移動度を電子移動度μｅＥＴと記す）が１０−４ｃｍ２／Ｖｓ以上（μｅＥＴ≧１０−４ｃｍ２／Ｖｓ）である例えば低分子の有機材料であるトリアジン化合物等の電子輸送性材料と例えばリチウム８−キノリノラート（Ｌｉｑ）等のリチウム錯体とを共蒸着等の手段によって混合し、膜厚８〜３０ｎｍ程度の層状に形成した混合層である。なお、前記電子輸送性材料とリチウム錯体とは例えばｗｔ％比率が１：１で混合されるものであるが、この比率を変更することでキャリアバランスを変化させることも可能である。
【００２１】
電子注入層３ｆは、電子を第二電極４から取り込む機能を有し、例えばフッ化リチウム（ＬｉＦ）やＬｉｑを真空蒸着法等の手段によって膜厚１ｎｍ程度の薄膜状に形成してなる。
【００２２】
第二電極４は、電子を注入する陰極となるものであり、電子注入層３ｆ上に例えばアルミニウム（Ａｌ）等の低抵抗導電材料を蒸着法等の手段によって膜厚５０〜２００ｎｍ程度の層状に形成した導電膜からなる。
【００２３】
封止基板５は、例えばガラス材料からなる凹状部材であり、有機ＥＬ素子１０を気密的に収容する凹部５ａと、凹部５ａの全周を取り巻くように形成され接着剤６を介して支持基板１と接着される接合部５ｂと、を備えている。また、封止基板５の凹部５ａには封止空間内の水分を吸着する吸湿剤７が配置されている。
【００２４】
以上の各部によって有機ＥＬ素子１０が構成されている。
【００２５】
次に、図２を用いて有機ＥＬ素子１０の製造方法を説明する。
【００２６】
まず、有機ＥＬ素子形成工程Ｓ１にて、真空蒸着法やスパッタリング法等の手段によって支持基板１上に前記透明導電材料を層状に形成した後、フォトエッチング等によって任意の形状の第一電極２を形成する。そして、第一電極２に対応するように真空蒸着法等によって機能層３の各層を積層形成し、さらに、機能層３上に真空蒸着法等によって第二電極４を積層形成して有機ＥＬ素子１０を形成する。
【００２７】
次に、封止工程Ｓ２にて、有機ＥＬ素子１０を収容するように紫外線硬化性の接着剤６を介して支持基板１上に凹部５ａに吸湿剤７が塗布された封止基板５を配置し固定する。これにより、有機ＥＬパネルが得られる。
【００２８】
次に、通電処理工程Ｓ３にて、両電極２，４と外部電源とを接続して両電極２，４間に通電して電圧を所定時間印加し、欠陥部分を破壊、除去して有機ＥＬ素子１０を修復し、リーク電流による輝度ムラを抑制する。通電処理工程Ｓ３において印加する電圧は、順バイアス電圧、逆バイアス電圧あるいは両バイアス電圧を交互に印加する波形電圧のいずれであっても良い。印加する電圧値は高い値であればそれだけ欠陥部位を除去しやすいが、高過ぎると正常な部位まで破壊してしまうため正常な部位を破壊しない程度に制限する必要がある。また、通電処理工程Ｓ３は、有機ＥＬ素子１０を加熱した状態で行う。以下、通電処理工程Ｓ３における加熱状態を「第一の加熱状態」とも言う。有機ＥＬ素子１０を加熱する方法としては、通電処理工程Ｓ３を少なくとも室温以上（望ましくは７０℃以上）の温度の雰囲気中で行う方法がある。有機ＥＬ素子１０を前記第一の加熱状態とすることで、欠陥部位を顕在化させ電圧印加時間を短縮することができる。電圧印加時間の短縮の点からは前記第一の加熱状態における加熱温度は、有機ＥＬ素子１０の正常な部位を破壊しない程度の範囲で高いほど望ましいが、後述する第二の加熱状態における加熱温度を考慮して決定する。なお、通電処理工程Ｓ３において順バイアス電圧を印加する期間を設けて有機ＥＬ素子１０を点灯させ、有機ＥＬ素子１０の良否を判別する検査工程を同時に行ってもよい。
【００２９】
次に、保存処理工程Ｓ４にて、有機ＥＬ素子１０を加熱状態かつ無通電状態で所定時間保存する。以下、保存処理工程Ｓ４における加熱状態を「第二の加熱状態」とも言う。保存処理工程Ｓ４における保存時間は、通電処理工程Ｓ３における通電時間以上であることが好ましい。通電処理工程Ｓ３は複数回行っても良いが、その場合は最後の通電処理工程Ｓ３を行った後に保存処理工程Ｓ４を行う。有機ＥＬ素子１０を加熱する方法としては、前述と同様に少なくとも室温以上の雰囲気中で保存処理工程Ｓ４を行う方法がある。本願発明者らは、鋭意検討した結果、前記第二の加熱状態における加熱温度を所定の範囲に設定することで、高温環境下かつ高輝度発光駆動における有機ＥＬ素子１０の長寿命性を安定化させることができることを見出し、本発明に至った。すなわち、前記第二の加熱状態における加熱温度を、前記第一の加熱状態における加熱温度以上であり（さらに望ましくは３０℃以上高く）、かつ、有機ＥＬ素子１０の駆動環境温度（例えば仕様として定められる、駆動が想定される周囲温度の範囲）の最高値よりも３０℃以上高い温度とする。また、保存処理工程Ｓ４は、通電処理工程Ｓ３後出荷前に行うものであればよく、通電処理工程Ｓ３と保存処理工程Ｓ４との間に有機ＥＬ素子１０を冷却する冷却処理工程を含んでもよい。この場合は通電処理工程Ｓ３と保存処理工程Ｓ４とを分離することで、大量生産時などに製造工程を効率化することができる。
【００３０】
以上の工程によって、リーク電流が低減されて発光品位が高く、また、高温環境下かつ高輝度駆動における長寿命性が安定した有機ＥＬ素子１０が得られる。
【００３１】
以下、さらに本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。図３は、実施例及び比較例におけるエージング条件（通電条件及び保存条件）並びに駆動試験の結果を示している。なお、実施例及び比較例において、有機ＥＬ素子１０の構造及び製造方法は図３に示すもの以外は同一であるものとし、有機ＥＬ素子１０は、機能層３として正孔注入層３ａ、等電位層３ｂ、正孔輸送層３ｃ、有機発光層３ｄ、電子輸送層３ｅ、電子注入層３ｆを有し、赤色発光を呈するものとする。また、有機ＥＬ素子１０の駆動環境温度の最高値は７０℃であるものとする。また、駆動試験としては、有機ＥＬ素子１０を７０℃の雰囲気中で初期輝度Ｌｏが１６０００ｃｄ／ｍ２となるように所定の直流定電流で発光駆動し、発光輝度Ｌを測定した。なお、発光輝度Ｌの測定はトプコン社製の分光放射計ＳＲ−３を用いて行った。
【００３２】
（実施例１）
実施例１として、通電処理工程Ｓ３において有機ＥＬ素子１０を７０℃の雰囲気中で加熱状態（第一の加熱状態）として初期輝度が１６０００ｃｄ／ｍ２となるように所定の直流定電流を１時間印加して通電処理を行い（通電条件）、その後直ちに保存処理工程Ｓ４において１００℃の雰囲気中で加熱状態（第二の加熱状態）としてかつ無通電状態で１時間保存して保存処理を行った（保存条件）。実施例１の有機ＥＬ素子１０は、駆動試験における１０％減寿命（発光輝度Ｌが初期輝度Ｌｏに対して９０％となるまでの時間）ＬＴ９０が２４００時間であった。
【００３３】
（実施例２）
実施例２として、通電処理工程Ｓ３において有機ＥＬ素子１０を８０℃の雰囲気中で加熱状態（第一の加熱状態）として初期輝度が１６０００ｃｄ／ｍ２となるように所定の直流定電流を１時間印加して通電処理を行い（通電条件）、その後直ちに保存処理工程Ｓ４において１００℃の雰囲気中で加熱状態（第二の加熱状態）としてかつ無通電状態で１時間保存して保存処理を行った（保存条件）。実施例２の有機ＥＬ素子１０は、駆動試験における１０％減寿命ＬＴ９０が２０００時間であった。
【００３４】
（実施例３）
実施例３として、通電処理工程Ｓ３において有機ＥＬ素子１０を１１０℃の雰囲気中で加熱状態（第一の加熱状態）として初期輝度が１６０００ｃｄ／ｍ２となるように所定の直流定電流を１時間印加して通電処理を行い（通電条件）、その後直ちに保存処理工程Ｓ４において１１０℃の雰囲気中で加熱状態として（第二の加熱状態）かつ無通電状態で１時間保存して保存処理を行った（保存条件）。実施例３の有機ＥＬ素子１０は、駆動試験における１０％減寿命ＬＴ９０が２０００時間であった。
【００３５】
（比較例１）
比較例１として、通電処理工程Ｓ３において有機ＥＬ素子１０を７０℃の雰囲気中で加熱状態（第一の加熱状態）として初期輝度が１６０００ｃｄ／ｍ２となるように所定の直流定電流を１時間印加して通電処理を行い（通電条件）、その後直ちに保存処理工程Ｓ４において７０℃の雰囲気中で加熱状態（第二の加熱状態）としてかつ無通電状態で１時間保存して保存処理を行った（保存条件）。比較例１の有機ＥＬ素子１０は、駆動試験における１０％減寿命ＬＴ９０が１６００時間であった。
【００３６】
（比較例２）
比較例２として、通電処理工程Ｓ３において有機ＥＬ素子１０を７０℃の雰囲気中で加熱状態（第一の加熱状態）として初期輝度が１６０００ｃｄ／ｍ２となるように所定の直流定電流を１時間印加して通電処理を行い（通電条件）、その後直ちに保存処理工程Ｓ４において８０℃の雰囲気中で加熱状態（第二の加熱状態）としてかつ無通電状態で１時間保存して保存処理を行った（保存条件）。比較例２の有機ＥＬ素子１０は、駆動試験における１０％減寿命ＬＴ９０が１６００時間であった。
【００３７】
（比較例３）
比較例３として、通電処理工程Ｓ３において有機ＥＬ素子１０を８０℃の雰囲気中で加熱状態（第一の加熱状態）として初期輝度が１６０００ｃｄ／ｍ２となるように所定の直流定電流を１時間印加して通電処理を行い（通電条件）、その後直ちに保存処理工程Ｓ４において８０℃の雰囲気中で加熱状態（第二の加熱状態）としてかつ無通電状態で１時間保存して保存処理を行った（保存条件）。比較例３の有機ＥＬ素子１０は、駆動試験における１０％減寿命ＬＴ９０が１６００時間であった。
【００３８】
（比較例４）
比較例４として、通電処理工程Ｓ３において有機ＥＬ素子１０を１１０℃の雰囲気中で加熱状態（第一の加熱状態）として初期輝度が１６０００ｃｄ／ｍ２となるように所定の直流定電流を１時間印加して通電処理を行い（通電条件）、その後直ちに８０℃の雰囲気中で冷却状態としてかつ無通電状態で１時間保存して冷却保存処理を行った（保存条件）。比較例４の有機ＥＬ素子１０は、駆動試験における１０％減寿命ＬＴ９０が１５００時間であった。
【００３９】
（比較例５）
比較例５として、通電処理工程Ｓ３において有機ＥＬ素子１０を１１０℃の雰囲気中で加熱状態（第一の加熱状態）として初期輝度が１６０００ｃｄ／ｍ２となるように所定の直流定電流を１時間印加して通電処理を行い（通電条件）、その後直ちに１００℃の雰囲気中で冷却状態としてかつ無通電状態で１時間保存して冷却保存処理を行った（保存条件）。比較例５の有機ＥＬ素子１０は、駆動試験における１０％減寿命ＬＴ９０が１６００時間であった。
【００４０】
（比較例６）
比較例６として、通電処理工程Ｓ３において有機ＥＬ素子１０を１１０℃の雰囲気中で加熱状態（第一の加熱状態）として初期輝度が１６０００ｃｄ／ｍ２となるように所定の直流定電流を１時間印加して通電処理を行い（通電条件）、その後直ちに３０℃の雰囲気中で冷却状態としてかつ無通電状態で１時間保存して冷却保存処理を行った（保存条件）。比較例６の有機ＥＬ素子１０は、駆動試験における１０％減寿命ＬＴ９０が１３００時間であった。
【００４１】
（比較例７）
比較例７として、通電処理工程Ｓ３において有機ＥＬ素子１０を１１０℃の雰囲気中で加熱状態（第一の加熱状態）として初期輝度が１６０００ｃｄ／ｍ２となるように所定の直流定電流を１時間印加して通電処理を行い（通電条件）、その後直ちに７０℃の雰囲気中で冷却状態としてかつ無通電状態で１時間保存して冷却保存処理を行った（保存条件）。比較例７の有機ＥＬ素子１０は、駆動試験における１０％減寿命ＬＴ９０が１３００時間であった。
【００４２】
図３に示すように、通電処理工程Ｓ３後に前記第二の加熱状態で有機ＥＬ素子１０を保存する保存処理工程Ｓ４を行い、かつ、前記第二の加熱状態における加熱温度が前記第一の加熱状態における加熱温度以上であり、かつ、有機ＥＬ素子１０の駆動環境温度の最高値よりも３０℃以上高い実施例１〜３は、７０℃の高温環境下かつ初期輝度Ｌｏ＝１６０００ｃｄ／ｍ２の高輝度駆動においていずれも１０％減寿命ＬＴ９０が２０００時間以上となり、安定した長寿命性を得ることが可能となっている。また、特に、前記第二の加熱状態における加熱温度が前記第一の加熱状態における加熱温度よりも３０℃以上高い実施例１は、他の実施例２，３と比較して１０％減寿命ＬＴ９０が長く、より長寿命となる傾向が見られた。したがって、前記第二の加熱状態における加熱温度は、少なくとも前記第一の加熱状態における加熱温度以上であり、かつ、有機ＥＬ素子の駆動環境温度の最高値よりも３０℃以上高く、さらに望ましくは前記第一の加熱状態における加熱温度よりも３０℃以上高い温度であることで安定した長寿命性や更なる長寿命化が期待できる。これに対し、通電処理工程Ｓ３後に前記第二の加熱状態で有機ＥＬ素子１０を保存する保存処理工程Ｓ４を行うものの、前記第二の加熱状態における加熱温度と有機ＥＬ素子１０の駆動環境温度の最高値との差が３０℃未満である比較例１〜３と保存処理工程Ｓ４を行わない（保存処理における温度が前記第一の加熱状態の加熱温度未満である）比較例４〜７とは、高温環境下かつ高輝度駆動における１０％減寿命ＬＴ９０が実施例１〜３よりも４００時間以上短く、十分な長寿命性が得られなかった。したがって、本発明のように有機ＥＬ素子１０を製造することにより高温環境下かつ高輝度駆動において長寿命性の安定化が可能となることは図３からも明らかである。
【００４３】
以上のような効果は、以下の製造方法によって得ることができる。
すなわち、一対の電極２，４間に少なくとも有機発光層３ｄを挟持してなる有機ＥＬ素子１０の製造方法であって、
第一の加熱状態で有機ＥＬ素子１０に通電を行う通電処理工程Ｓ３と、
通電処理工程Ｓ３後に第二の加熱状態で有機ＥＬ素子１０を保存する保存処理工程Ｓ４と、を含み、
前記第二の加熱状態における加熱温度は、前記第一の加熱状態における加熱温度以上であり、かつ、有機ＥＬ素子１０の駆動環境温度の最高値よりも３０℃以上高い。
【００４４】
また、前記第二の加熱状態における加熱温度は、前記第一の加熱状態における加熱温度よりも３０℃以上高い。
【００４５】
本発明は、前述の実施形態及び実施例に限定されるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲内で適宜変更（構成要素の削除を含む）が可能であることは勿論である。例えば、有機ＥＬ素子１０の発光色は赤色以外の色であってもよい。また、正孔注入層３ａ、正孔輸送層３ｃ、有機発光層３ｄ及び／あるいは電子輸送層３ｅが複数層形成される構成であってもよいし、等電位層３ｂが形成されない構成であってもよい。
【産業上の利用可能性】
【００４６】
本発明は、有機ＥＬ素子の製造方法に関し、特に６０℃以上の高温環境下かつ１００００ｃｄ／ｍ２以上の高輝度駆動での使用が想定される機器に用いられる有機ＥＬ素子の製造方法に好適である。
【符号の説明】
【００４７】
１０  有機ＥＬ素子
１  支持基板
２  第一電極
３  有機層
３ａ  正孔注入層
３ｂ  等電位層
３ｃ  正孔輸送層
３ｄ  有機発光層
３ｅ  電子輸送層
３ｆ  電子注入層
４  第二電極
【図１】
2018006056.tif 000003
【図２】
2018006056.tif 000004
【図３】
2018006056.tif 000005