(57)【要約】【課題】油性汚れの付着を低減し、かつ付着した油性汚れを水洗のみで除去可能な膜を形成できる組成物を提供する。【解決手段】式（１）で表される含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）１０〜８０重量％と、式（２）で表される化合物（Ｂ）９０〜２０重量％とを含有する組成物であって、含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）が、下記要件（１）を満足する組成物。＜要件（１）＞  −（Ｒ１Ｏ）ｏ−で表される基の重量平均分子量をＭｗ（Ａ２）、−（ＯＲ２）ｐ−で表される基の重量平均分子量をＭｗ（Ａ３）、−（ＲｆＯ）ｑ−で表される基の重量平均分子量をＭｗ（Ａ１）として、Ｍｗ（Ａ１）、Ｍｗ（Ａ２）およびＭｗ（Ａ３）が下記式（１０）を満足すること。１≦Ｍｗ（Ａ１）／（Ｍｗ（Ａ２）＋Ｍｗ（Ａ３））≦６０    ・・・（１０）Ｘ１−（Ａ１）ｋ−（Ｒ１Ｏ）ｏ−（Ｔ１）ｍ−（ＲｆＯ）ｑ−Ｔ２−（ＯＲ２）ｐ−（Ａ２）ｌ−Ｘ２・・・（１）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で表される含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）と、
下記式（２）で表される化合物（Ｂ）と
を含有する組成物であって、
含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）が、下記要件（１）を満足し、
前記含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）と前記化合物（Ｂ）の合計量を１００重量％として、
含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）の含有量が１０〜８０重量％であり、
化合物（Ｂ）の含有量が９０〜２０重量％である組成物。
＜要件（１）＞
下記式（１）中の−（Ｒ１Ｏ）ｏ−で表される基の重量平均分子量をＭｗ（Ａ２）、−（ＯＲ２）ｐ−で表される基の重量平均分子量をＭｗ（Ａ３）、−（ＲｆＯ）ｑ−で表される基の重量平均分子量をＭｗ（Ａ１）として、
Ｍｗ（Ａ１）、Ｍｗ（Ａ２）およびＭｗ（Ａ３）が下記式（１０）を満足すること。
１≦Ｍｗ（Ａ１）／（Ｍｗ（Ａ２）＋Ｍｗ（Ａ３））≦６０    ・・・（１０）
Ｘ１−（Ａ１）ｋ−（Ｒ１Ｏ）ｏ−（Ｔ１）ｍ−（ＲｆＯ）ｑ−Ｔ２−（ＯＲ２）ｐ−（Ａ２）ｌ−Ｘ２・・・（１）
（式（１）中、Ｒｆは、１つ以上の水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜５のアルキレン基を表す。ｑが２以上の場合、複数の−（ＲｆＯ）−は全部又は一部が同じであってもよい。
Ｔ１およびＴ２は、それぞれ独立して、炭素数１〜１０のアルキレン基を表すか、該アルキレン基を構成する１つ以上のメチレン基が、−ＣＯ−で表される基、−Ｏ−で表される基または−ＮＨ−で表される基に置き換わった基を表す。また、該アルキレン基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ炭素数１〜５のアルキレン基を表す。ｏが２以上の場合、複数のＲ１は全部又は一部が同じであってもよい。ｐが２以上の場合、複数のＲ２は全部又は一部が同じであってもよい。
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立して、アルキレン基、−ＣＯＯ−で表される基、−ＮＨＣＯＯ−で表される基、−ＮＨＣＯＮＨ−で表される基、−ＯＣＯＮＨ−で表される基、−ＯＣＯ−で表される基、または−Ｏ−で表される基を表す。アルキレン基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。ｋが２以上の場合、複数のＡ１は全部又は一部が同じであってもよい。ｌが２以上の場合、複数のＡ２は全部又は一部が同じであってもよい。
Ｘ１およびＸ２は、それぞれ独立して、−ＮＨ２で表される基、オキシラニル基、−ＣＯＯＲで表される基、−ＮＨＣＯＯＲで表される基、−ＮＨＣＯＮＨＲで表される基、−ＯＣＯＮＨＲで表される基、−ＯＣＯＲで表される基、−ＯＲで表される基、−ＮＯ２で表される基、−ＳＯ３Ｈで表される基、−ＳＨで表される基、−ＣＮで表される基、−ＮＣＯで表される基、−ＮＣＳで表される基、−ＣＯＲで表される基、−Ｓｉ（ＯＲ）３で表される基、−Ａｌ（ＯＲ）３で表される基または−Ｔｉ（ＯＲ）３で表される基を表す（前記Ｒは、水素原子、または炭素数１〜８のアルキル基を表す。前記炭素数１〜８のアルキル基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい）。
ｋおよびｌは、それぞれ独立に０〜１０の整数を表す。
ｍは、０または１である。
ｏおよびｐは、それぞれ独立に１〜２０の整数を表す。
ｑは、１〜３０の整数を表す。）
Ｙ１−（Ａ３）ｈ−（Ｒ３）ｉ−（Ａ４）ｊ−Ｙ２・・・（２）
（式（２）中、Ｒ３は、アクリル酸に由来する構造単位、アクリルアミドに由来する構造単位、Ｎ−ビニル−２−ピロリドンに由来する構造単位、ビニルスルホン酸に由来する構造単位、ビニルアルコールに由来する構造単位、−Ｒ４Ｏ−で表される基、−ＨＮ−Ａ５−ＣＯ−で表される基、または下記式（３）で表される基を表す（前記Ｒ４は、炭素数１〜５のアルキレン基を表す。Ａ５は、炭素数１〜８のアルキレン基を表す。）。ｉが２以上の場合、複数のＲ３は全部又は一部が同じであってもよい。
Ａ３およびＡ４は、それぞれ独立して、炭素数１〜５のアルキレン基、−ＣＯＯ−で表される基、−ＮＨＣＯＯ−で表される基、−ＮＨＣＯＮＨ−で表される基、−ＯＣＯ−で表される基、−ＯＣＯＮＨ−で表される基、または−Ｏ−で表される基を表す。アルキレン基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。ｈが２以上の場合、複数のＡ３は全部又は一部が同じであってもよい。ｊが２以上の場合、複数のＡ４は全部又は一部が同じであってもよい。
ｈおよびｊは、それぞれ独立に０〜１０の整数を表す。
ｉは、１〜３００の整数を表す。
Ｙ１およびＹ２は、それぞれ独立して、−ＮＨ２で表される基、オキシラニル基、−ＣＯＯＲで表される基、−ＮＨＣＯＲで表される基、−ＮＨＣＯＮＨＲで表される基、−ＯＣＯＮＨＲで表される基、−ＯＣＯＲで表される基、−ＯＲで表される基、−ＮＯ２で表される基、−ＳＯ３Ｈで表される基、−ＳＨで表される基、−ＣＮで表される基、−ＮＣＯで表される基、−ＮＣＳで表される基、−ＣＯＲで表される基、−Ｓｉ（ＯＲ）３で表される基、−Ａｌ（ＯＲ）３で表される基または−Ｔｉ（ＯＲ）３で表される基を表す（前記Ｒは、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基を表す。前記炭素数１〜８のアルキル基中の水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。）。）
2018145265.tif 000008
【請求項２】
前記式（１）中のＸ１またはＸ２が、水酸基である請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記式（１）中のＸ１またはＸ２が、−Ｓｉ（ＯＲ）３で表される基である請求項１または２に記載の組成物。
【請求項４】
前記式（２）中のＲ３が、−Ｒ４Ｏ−で表される基である化合物である請求項１から３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項５】
前記式（２）中のＹ１またはＹ２が、水酸基である請求項１から４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】
前記式（２）中のＹ１またはＹ２が、−Ｓｉ（ＯＲ）３で表される基である請求項１から５のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項７】
化合物（Ｂ）の重量平均分子量（Ｍｗ（Ｂ））に対する、含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ（Ａ））の比（Ｍｗ（Ａ）／Ｍｗ（Ｂ））が０．６〜６．５である請求項１から６のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項８】
さらに溶剤を含む請求項１から７のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項９】
請求項１から７のいずれか一項に記載の組成物からなる膜。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、油性汚れの付着を低減し、かつ付着した油性汚れを水洗のみで除去可能な膜を形成できる組成物、及び該組成物からなる膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
浴室用部材、台所用部材、洗面用部材、トイレ用部材、洗濯用部材などの水周り物品に防汚性を付与する目的で、表面の親水処理や撥水撥油処理が行われている。
例えば、特許文献１には、表面に親水性のポリエチレングリコールからなる膜が形成された成形体が、防汚性に優れることが記載されている。
また、特許文献２には、撥水撥油性のフッ素系共重合体からなる膜が表面に形成された部材は、油性汚れが付着しにくいことが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−２９８９８５
【特許文献２】特開２００９−１９７１４５
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、親水性が付与された表面は、油性汚れが付着しやすく、付着した油性汚れを水洗のみで除去することは困難であった。また、撥水撥油表面に、いったん油性汚れが付着してしまうと、付着した油性汚れを水洗のみで除去することは困難であった。
【０００５】
本発明の目的は、油性汚れの付着を低減し、かつ付着した油性汚れを水洗のみで除去可能な膜を形成できる組成物、及び該組成物からなる膜を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、下記式（１）で表される含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）と、
下記式（２）で表される化合物（Ｂ）と
を含有する組成物であって、
含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）が、下記要件（１）を満足し、
前記含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）と前記化合物（Ｂ）の合計量を１００重量％として、
含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）の含有量が１０〜８０重量％であり、
化合物（Ｂ）の含有量が９０〜２０重量％である組成物に係るものである。
＜要件（１）＞
下記式（１）中の−（Ｒ１Ｏ）ｏ−で表される基の重量平均分子量をＭｗ（Ａ２）、−（ＯＲ２）ｐ−で表される基の重量平均分子量をＭｗ（Ａ３）、−（ＲｆＯ）ｑ−で表される基の重量平均分子量をＭｗ（Ａ１）として、
Ｍｗ（Ａ１）、Ｍｗ（Ａ２）およびＭｗ（Ａ３）が下記式（１０）を満足すること。
１≦Ｍｗ（Ａ１）／（Ｍｗ（Ａ２）＋Ｍｗ（Ａ３））≦６０    ・・・（１０）
Ｘ１−（Ａ１）ｋ−（Ｒ１Ｏ）ｏ−（Ｔ１）ｍ−（ＲｆＯ）ｑ−Ｔ２−（ＯＲ２）ｐ−（Ａ２）ｌ−Ｘ２・・・（１）
（式（１）中、Ｒｆは、１つ以上の水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜５のアルキレン基を表す。ｑが２以上の場合、複数の−（ＲｆＯ）−は全部又は一部が同じであってもよい。
Ｔ１およびＴ２は、それぞれ独立して、炭素数１〜１０のアルキレン基を表すか、該アルキレン基を構成する１つ以上のメチレン基が、−ＣＯ−で表される基、−Ｏ−で表される基または−ＮＨ−で表される基に置き換わった基を表す。また、該アルキレン基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ炭素数１〜５のアルキレン基を表す。ｏが２以上の場合、複数のＲ１は全部又は一部が同じであってもよい。ｐが２以上の場合、複数のＲ２は全部又は一部が同じであってもよい。
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立して、アルキレン基、−ＣＯＯ−で表される基、−ＮＨＣＯＯ−で表される基、−ＮＨＣＯＮＨ−で表される基、−ＯＣＯ−で表される基、−ＯＣＯＮＨ−で表される基、または−Ｏ−で表される基を表す。アルキレン基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。ｋが２以上の場合、複数のＡ１は全部又は一部が同じであってもよい。ｌが２以上の場合、複数のＡ２は全部又は一部が同じであってもよい。
Ｘ１およびＸ２は、それぞれ独立して、−ＮＨ２で表される基、オキシラニル基、−ＣＯＯＲで表される基、−ＮＨＣＯＯＲで表される基、−ＮＨＣＯＮＨＲで表される基、−ＯＣＯＮＨＲで表される基、−ＯＣＯＲで表される基、−ＯＲで表される基、−ＮＯ２で表される基、−ＳＯ３Ｈで表される基、−ＳＨで表される基、−ＣＮで表される基、−ＮＣＯで表される基、−ＮＣＳで表される基、−ＣＯＲで表される基、−Ｓｉ（ＯＲ）３で表される基、−Ａｌ（ＯＲ）３で表される基または−Ｔｉ（ＯＲ）３で表される基を表す（前記Ｒは、水素原子、または炭素数１〜８のアルキル基を表す。前記炭素数１〜８のアルキル基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい）。
ｋおよびｌは、それぞれ独立に０〜１０の整数を表す。
ｍは、０または１である。
ｏおよびｐは、それぞれ独立に１〜２０の整数を表す。
ｑは、１〜３０の整数を表す。）
Ｙ１−（Ａ３）ｈ−（Ｒ３）ｉ−（Ａ４）ｊ−Ｙ２・・・（２）
（式（２）中、Ｒ３は、アクリル酸に由来する構造単位、アクリルアミドに由来する構造単位、Ｎ−ビニル−２−ピロリドンに由来する構造単位、ビニルスルホン酸に由来する構造単位、ビニルアルコールに由来する構造単位、−Ｒ４Ｏ−で表される基、−ＨＮ−Ａ５−ＣＯ−で表される基、または下記式（３）で表される基を表す（前記Ｒ４は、炭素数１〜５のアルキレン基を表す。Ａ５は、炭素数１〜８のアルキレン基を表す。）。ｉが２以上の場合、複数のＲ３は全部又は一部が同じであってもよい。Ａ３およびＡ４は、それぞれ独立して、炭素数１〜５のアルキレン基、−ＣＯＯ−で表される基、−ＮＨＣＯＯ−で表される基、−ＮＨＣＯＮＨ−で表される基、−ＯＣＯＮＨ−で表される基、−ＯＣＯ−で表される基、または−Ｏ−で表される基を表す。アルキレン基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。ｈが２以上の場合、複数のＡ３は全部又は一部が同じであってもよい。ｊが２以上の場合、複数のＡ４は全部又は一部が同じであってもよい。
ｈおよびｊは、それぞれ独立に０〜１０の整数を表す。
ｉは、１〜３００の整数を表す。
Ｙ１およびＹ２は、それぞれ独立して、−ＮＨ２で表される基、オキシラニル基、−ＣＯＯＲで表される基、−ＮＨＣＯＯＲで表される基、−ＮＨＣＯＮＨＲで表される基、−ＯＣＯＮＨＲで表される基、−ＯＣＯＲで表される基、−ＯＲで表される基、−ＮＯ２で表される基、−ＳＯ３Ｈで表される基、−ＳＨで表される基、−ＣＮで表される基、−ＮＣＯで表される基、−ＮＣＳで表される基、−ＣＯＲで表される基、−Ｓｉ（ＯＲ）３で表される基、−Ａｌ（ＯＲ）３で表される基または−Ｔｉ（ＯＲ）３で表される基を表す（前記Ｒは、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基を表す。前記炭素数１〜８のアルキル基中の水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。）。）
2018145265.tif 000002
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、油性汚れの付着を低減し、かつ付着した油性汚れを水洗のみで除去可能な膜を形成することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
前記のとおり、本発明に係る組成物は、式（１）で表される含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）と、
式（２）で表される化合物（Ｂ）と
を含有する組成物である。
【０００９】
＜含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）＞
前記含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）は、式（１）で表される化合物であって、要件（１）を満足する化合物である。
＜要件（１）＞
下記式（１）中の−（Ｒ１Ｏ）ｏ−で表される基の重量平均分子量をＭｗ（Ａ２）、−（ＯＲ２）ｐ−で表される基の重量平均分子量をＭｗ（Ａ３）、−（ＲｆＯ）ｑ−で表される基の重量平均分子量をＭｗ（Ａ１）として、
Ｍｗ（Ａ１）、Ｍｗ（Ａ２）およびＭｗ（Ａ３）が下記式（１０）を満足すること。
１≦Ｍｗ（Ａ１）／（Ｍｗ（Ａ２）＋Ｍｗ（Ａ３））≦６０    ・・・（１０）
Ｘ１−（Ａ１）ｋ−（Ｒ１Ｏ）ｏ−（Ｔ１）ｍ−（ＲｆＯ）ｑ−Ｔ２−（ＯＲ２）ｐ−（Ａ２）ｌ−Ｘ２・・・（１）
（式（１）中、Ｒｆは、１つ以上の水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜５のアルキレン基を表す。ｑが２以上の場合、複数の−（ＲｆＯ）−は全部又は一部が同じであってもよい。
Ｔ１およびＴ２は、それぞれ独立して、炭素数１〜１０のアルキレン基を表すか、該アルキレン基を構成する１つ以上のメチレン基が、−ＣＯ−で表される基、−Ｏ−で表される基または−ＮＨ−で表される基に置き換わった基を表す。また、該アルキレン基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ炭素数１〜５のアルキレン基を表す。ｏが２以上の場合、複数のＲ１は全部又は一部が同じであってもよい。ｐが２以上の場合、複数のＲ２は全部又は一部が同じであってもよい。
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立して、アルキレン基、−ＣＯＯ−で表される基、−ＮＨＣＯＯ−で表される基、−ＮＨＣＯＮＨ−で表される基、−ＯＣＯＮＨ−で表される基、−ＯＣＯ−で表される基、または−Ｏ−で表される基を表す。アルキレン基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。ｋが２以上の場合、複数のＡ１は全部又は一部が同じであってもよい。ｌが２以上の場合、複数のＡ２は全部又は一部が同じであってもよい。
Ｘ１およびＸ２は、それぞれ独立して、−ＮＨ２で表される基、オキシラニル基、−ＣＯＯＲで表される基、−ＮＨＣＯＯＲで表される基、−ＮＨＣＯＮＨＲで表される基、−ＯＣＯＮＨＲで表される基、−ＯＣＯＲで表される基、−ＯＲで表される基、−ＮＯ２で表される基、−ＳＯ３Ｈで表される基、−ＳＨで表される基、−ＣＮで表される基、−ＮＣＯで表される基、−ＮＣＳで表される基、−ＣＯＲで表される基、−Ｓｉ（ＯＲ）３で表される基、−Ａｌ（ＯＲ）３で表される基または−Ｔｉ（ＯＲ）３で表される基を表す（前記Ｒは、水素原子、または炭素数１〜８のアルキル基を表す。前記炭素数１〜８のアルキル基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい）。
ｋおよびｌは、それぞれ独立に０〜１０の整数を表す。
ｍは、０または１である。
ｏおよびｐは、それぞれ独立に１〜２０の整数を表す。
ｑは、１〜３０の整数を表す。）
【００１０】
含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）は、要件（２）を満足することが好ましく、要件（３）を満足することがより好ましい。
＜要件（２）＞
式（１）中の−（Ｒ１Ｏ）ｏ−で表される基の重量平均分子量をＭｗ（Ａ２）、−（ＯＲ２）ｐ−で表される基の重量平均分子量をＭｗ（Ａ３）、−（ＲｆＯ）ｑ−で表される基の重量平均分子量をＭｗ（Ａ１）として、
Ｍｗ（Ａ１）、Ｍｗ（Ａ２）およびＭｗ（Ａ３）が下記式（１１）を満足すること。
１≦Ｍｗ（Ａ１）／（Ｍｗ（Ａ２）＋Ｍｗ（Ａ３））≦４０    ・・・（１１）
＜要件（３）＞
式（１）中の−（Ｒ１Ｏ）ｏ−で表される基の重量平均分子量をＭｗ（Ａ２）、−（ＯＲ２）ｐ−で表される基の重量平均分子量をＭｗ（Ａ３）、−（ＲｆＯ）ｑ−で表される基の重量平均分子量をＭｗ（Ａ１）として、
Ｍｗ（Ａ１）、Ｍｗ（Ａ２）およびＭｗ（Ａ３）が下記式（１２）を満足すること。
１≦Ｍｗ（Ａ１）／（Ｍｗ（Ａ２）＋Ｍｗ（Ａ３））≦２０    ・・・（１２）
【００１１】
式（１）中の−（Ｒ１Ｏ）−で表される基としては、−（ＣＨ２Ｏ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−で表される基、−（Ｃ（ＣＨ３）２Ｏ）−で表される基、−（ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２Ｏ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２Ｏ）−で表される基、−（ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−で表される基、−（ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２Ｏ）−で表される基、−（Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２Ｏ）−で表される基、−（ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）−で表される基が挙げられる。−（Ｒ１Ｏ）−で表される基は、好ましくは、−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−で表される基である。
−（Ｒ１Ｏ）ｏ−で表される基に含まれる炭素数は、１〜６０が好ましく、より好ましくは１〜４０である。
【００１２】
式（１）中の−（ＯＲ２）−で表される基としては、−（ＯＣＨ２）−で表される基、−（ＯＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＯＣ（ＣＨ３）２）−で表される基、−（ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３））−で表される基、−（ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２）−で表される基、−（ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２）−で表される基、−（ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３））−で表される基、−（ＯＣ（ＣＨ３）２ＣＨ２）−で表される基、−（ＯＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２）−で表される基、−（ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＲ（ＣＨ３））−で表される基が挙げられる。−（ＯＲ２）−で表される基は、好ましくは、−（ＯＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）−で表される基である。
−（ＯＲ２）ｐ−で表される基に含まれる炭素数は、１〜６０が好ましく、より好ましくは１〜４０である。
【００１３】
式（１）中の−（ＲｆＯ）−で表される基としては、−（ＣＲ’２Ｏ）−で表される基、−（ＣＲ’２ＣＲ’２Ｏ）−で表される基、−（ＣＲ’２ＣＲ’２ＣＲ’２Ｏ）−で表される基、−（Ｃ（ＣＲ’３）２Ｏ）−で表される基、−（ＣＲ’（ＣＲ’３）ＣＲ’２Ｏ）−で表される基、−（ＣＲ’２ＣＲ’（ＣＲ’３）Ｏ）−で表される基、−（ＣＲ’２ＣＲ’２ＣＲ’２ＣＲ’２Ｏ）−で表される基、−（ＣＲ’２ＣＲ２ＣＲ’（ＣＲ’３）Ｏ）−で表される基、−（ＣＲ’２ＣＲ’（ＣＲ’３）ＣＲ’２Ｏ）−で表される基、−（ＣＲ’（ＣＲ’３）ＣＲ’２ＣＲ’２Ｏ）−で表される基、−（ＣＲ’２Ｃ（ＣＲ’３）２Ｏ）−で表される基、−（Ｃ（ＣＲ’３）２ＣＲ’２Ｏ）−で表される基、−（ＣＲ’（ＣＲ’３）ＣＲ’（ＣＲ’３）Ｏ）−で表される基が挙げられる。前記Ｒ’は、それぞれ独立して水素原子、またはフッ素原子を表し、各基中、少なくとも１つのＲ’はフッ素原子である。各基中のＲ’の全数を１００％として、フッ素原子であるＲ’の数は好ましくは、３０％以上１００％以下であり、より好ましくは８０％以上１００％以下である。
−（ＲｆＯ）−で表される基は、好ましくは、−（ＣＲ’２Ｏ）−で表される基、−（ＣＲ’２ＣＲ’２Ｏ）−で表される基、−（ＣＲ’２ＣＲ’２ＣＲ’２Ｏ）−で表される基、−（ＣＲ’（ＣＲ’３）ＣＲ’２Ｏ）−で表される基である。
ｑが２以上の場合、−（ＲｆＯ）ｑ−で表される基を構成する複数の−（ＲｆＯ）−の組み合わせとして好ましくは、
−（ＣＲ’２Ｏ）−で表される基と、−（ＣＲ’２ＣＲ’２Ｏ）−で表される基との組み合わせ、
−（ＣＲ’２Ｏ）−で表される基と、−（ＣＲ’２ＣＲ’２Ｏ）−で表される基と、−（ＣＲ’（ＣＲ’３）ＣＲ’２Ｏ）−で表される基との組み合わせ、
−（ＣＲ’２Ｏ）−で表される基と、−（ＣＲ’（ＣＲ’３）ＣＲ’２Ｏ）−で表される基との組み合わせ、
−（ＣＲ’２Ｏ）−で表される基と、−（ＣＲ’２ＣＲ’２ＣＲ’２Ｏ）−で表される基との組み合わせ、
−（ＣＲ’２Ｏ）−で表される基と、−（ＣＲ’２ＣＲ’２Ｏ）−で表される基と、−（ＣＲ’２ＣＲ’２ＣＲ’２Ｏ）−で表される基との組み合わせ、
−（ＣＲ’２ＣＲ’２Ｏ）−で表される基と、−（ＣＲ’２ＣＲ’２ＣＲ’２Ｏ）−で表される基との組み合わせ、
−（ＣＲ’２ＣＲ’２Ｏ）−で表される基と、−（ＣＲ’２ＣＲ’２ＣＲ’２Ｏ）−で表される基と、−（ＣＲ’（ＣＲ’３）ＣＲ’２Ｏ）−で表される基との組み合わせ、
−（ＣＲ’２Ｏ）−で表される基と、−（ＣＲ’（ＣＲ’３）ＣＲ’２Ｏ）−で表される基と、−（ＣＲ’２ＣＲ’２ＣＲ’２Ｏ）−で表される基との組み合わせ、
−（ＣＲ’２Ｏ）−で表される基と、−（ＣＲ’２ＣＲ’２Ｏ）−で表される基と、−（ＣＲ’２ＣＲ’２ＣＲ’２Ｏ）−で表される基と、−（ＣＲ’（ＣＲ’３）ＣＲ’２Ｏ）−で表される基との組み合わせ、
−（ＣＲ’（ＣＲ’３）ＣＲ’２Ｏ）−で表される基と、−（ＣＲ’２ＣＲ’２ＣＲ’２Ｏ）−で表される基との組み合わせ、
−（ＣＲ’（ＣＲ’３）ＣＲ’２Ｏ）−で表される基と、−（ＣＲ’２ＣＲ’２Ｏ）−で表される基との組み合わせが挙げられる。
−（ＲｆＯ）ｑ−で表される基は、複数の−（ＲｆＯ）−がランダムに結合されていてもよい。
−（ＲｆＯ）ｑ−で表される基に含まれる炭素数は、好ましくは１０〜７０であり、より好ましくは２０〜３０である。
【００１４】
Ｘ１およびＸ２は、それぞれ独立して、−ＮＨ２で表される基、オキシラニル基、−ＣＯＯＲで表される基、−ＮＨＣＯＯＲで表される基、−ＮＨＣＯＮＨＲで表される基、−ＯＣＯＮＨＲで表される基、−ＯＣＯＲで表される基、−ＯＲで表される基、−ＮＯ２で表される基、−ＳＯ３Ｈで表される基、−ＳＨで表される基、−ＣＮで表される基、−ＮＣＯで表される基、−ＮＣＳで表される基、−ＣＯＲで表される基、−Ｓｉ（ＯＲ）３で表される基、−Ａｌ（ＯＲ）３で表される基または−Ｔｉ（ＯＲ）３で表される基を表す（前記Ｒは、水素原子、または炭素数１〜８のアルキル基を表す。前記炭素数１〜８のアルキル基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい）
前記式（１）中のＸ１またはＸ２は、好ましくは水酸基または−Ｓｉ（ＯＲ）３で表される基である。
−Ｓｉ（ＯＲ）３で表される基中の３つのＲは、それぞれ独立である。該３つのＲは同一であることが好ましい。
含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）は、好ましくは、前記式（１）中のＸ１が水酸基であり、Ｘ２が−Ｓｉ（ＯＲ）３で表される基である含フッ素ポリエーテル化合物が好ましい。
【００１５】
前記式（１）中のＴ１およびＴ２は、それぞれ独立して、炭素数１〜１０のアルキレン基を表すか、該アルキレン基を構成する１つ以上のメチレン基が、−ＣＯ−で表される基、−Ｏ−で表される基または−ＮＨ−で表される基に置き換わった基を表す。また、該アルキレン基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。
Ｔ１またはＴ２としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、−（ＣＨ２ＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＯＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＯＣＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＮＨＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯ）−で表される基、−（ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＯＣＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＯＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＮＨＣＨ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＯＣＯＮＨＣＨ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＮＨＣＯＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＨ２ＣＯＯ）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＯ）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＨ２ＮＨ）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨ）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯ）−で表される基、−（ＯＣＯＮＨＣＦ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＮＨＣＯＯＣＦ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＯＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＯＣＯＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＯＯＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＮＨＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＯＣＯＮＨＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＮＨＣＯＯＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＯＯ）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＯ）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＦ２ＮＨ）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＯＮＨ）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＦ２ＮＨＣＯＯ）−で表される基、−（ＯＣＯＮＨＣＦ２ＣＦ２）−で表される基、−（ＮＨＣＯＯＣＦ２ＣＦ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＦ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＦ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＦ２ＯＣＯ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＦ２ＣＯＯ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＦ２ＮＨ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＦ２ＯＣＯＮＨ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＦ２ＮＨＣＯＯ）−で表される基、−（ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＦ２）−で表される基、−（ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ２）−で表される基が挙げられる。
該Ｔ１およびＴ２は、それぞれ独立して、好ましくは炭素数１〜５のアルキレン基、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜５のアルキレン基である。
【００１６】
前記式（１）中のＡ１およびＡ２は、それぞれ独立して、アルキレン基、−ＣＯＯ−で表される基、−ＮＨＣＯＯ−で表される基、−ＮＨＣＯＮＨ−で表される基、−ＯＣＯＮＨ−で表される基、または−Ｏ−で表される基を表す。アルキレン基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。ｋが２以上の場合、複数のＡ１は全部又は一部が同じであってもよい。ｌが２以上の場合、複数のＡ２は全部又は一部が同じであってもよい。
Ａ１またはＡ２としてのアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基が挙げられる。
該Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立して、好ましくは、アルキレン基、少なくとも１つの水素原子がフッ素で置換されたアルキレン基、−ＮＨＣＯＯ−で表される基である。
前記式（１）中のｋおよびｌは、それぞれ独立に好ましくは１〜６である。
式（１）中の−（Ａ１）ｋ−で表される基または−（Ａ２）ｌ−としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、−（ＣＦ２Ｏ）−で表される基、−（ＯＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＨ２Ｏ）−で表される基、−（ＯＣＦ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＦ２Ｏ）−で表される基、−（ＯＣＨ２ＣＦ２）−で表される基、
−（ＣＨ２ＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＮＨＣＯＮＨＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＯＣＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＯＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＮＨＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２）−で表される基、
−（ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯ）−で表される基、−（ＯＣＯＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯ）−で表される基、−（ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ）−で表される基、−（ＮＨＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨ）−で表される基、−（ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯ）−で表される基、−（ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、
−（ＣＦ２ＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＯＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＯＣＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＯＣＯＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＯＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＯＯＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＮＨＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＮＨＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＯＣＯＮＨＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＮＨＣＯＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＯ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＦ２ＯＣＯ）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＨ２ＣＯＯ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＦ２ＣＯＯ）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＨ２ＮＨ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＦ２ＮＨ）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＦ２ＯＣＯＮＨ）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＦ２ＮＨＣＯＯ）−で表される基、−（ＯＣＯＮＨＣＦ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＦ２）−で表される基、
−（ＣＦ２ＯＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＯＣＯＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＯＯＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＮＨＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＯＣＯＮＨＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＮＨＣＯＯＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＯ）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＯＯ）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＦ２ＮＨ）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＯＮＨ）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＦ２ＮＨＣＯＯ）−で表される基、−（ＯＣＯＮＨＣＦ２ＣＦ２）−で表される基、−（ＮＨＣＯＯＣＦ２ＣＦ２）−で表される基、
−（ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＯＣＯＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、
−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯ）−で表される基、−（ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯ）−で表される基、−（ＯＣＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−で表される基、−（ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨ）−で表される基、−（ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯ）−で表される基、−（ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＯＣＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯ）−で表される基、−（ＯＣＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨ）−で表される基、−（ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、が挙げられる。
【００１７】
＜化合物（Ｂ）＞
前記化合物（Ｂ）は、式（２）で表される化合物である。
Ｙ１−（Ａ３）ｈ−（Ｒ３）ｉ−（Ａ４）ｊ−Ｙ２・・・（２）
（式（２）中、Ｒ３は、アクリル酸に由来する構造単位、アクリルアミドに由来する構造単位、Ｎ−ビニル−２−ピロリドンに由来する構造単位、ビニルスルホン酸に由来する構造単位、ビニルアルコールに由来する構造単位、−Ｒ４Ｏ−で表される基、−ＨＮ−Ａ５−ＣＯ−で表される基、または下記式（３）で表される基を表す（前記Ｒ４は、炭素数１〜５のアルキレン基を表す。Ａ５は、炭素数１〜８のアルキレン基を表す。）。ｉが２以上の場合、複数のＲ３は全部又は一部が同じであってもよい。
Ａ３およびＡ４は、それぞれ独立して、炭素数１〜５のアルキレン基、−ＣＯＯ−で表される基、−ＮＨＣＯＯ−で表される基、−ＮＨＣＯＮＨ−で表される基、−ＯＣＯ−で表される基、−ＯＣＯＮＨ−で表される基、または−Ｏ−で表される基を表す。アルキレン基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。ｈが２以上の場合、複数のＡ３は全部又は一部が同じであってもよい。ｊが２以上の場合、複数のＡ４は全部又は一部が同じであってもよい。
ｈおよびｊは、それぞれ独立に０〜１０の整数を表す。
ｉは、１〜３００の整数を表す。
Ｙ１およびＹ２は、それぞれ独立して、−ＮＨ２で表される基、オキシラニル基、−ＣＯＯＲで表される基、−ＮＨＣＯＯＲで表される基、−ＮＨＣＯＮＨＲで表される基、−ＯＣＯＮＨＲで表される基、−ＯＣＯＲで表される基、−ＯＲで表される基、−ＮＯ２で表される基、−ＳＯ３Ｈで表される基、−ＳＨで表される基、−ＣＮで表される基、−ＮＣＯで表される基、−ＮＣＳで表される基、−ＣＯＲで表される基、−Ｓｉ（ＯＲ）３で表される基、−Ａｌ（ＯＲ）３で表される基または−Ｔｉ（ＯＲ）３で表される基を表す（前記Ｒは、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基を表す。前記炭素数１〜８のアルキル基中の水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。）。）
2018145265.tif 000003
ｈおよびｊは、好ましくは１〜６である。
ｉは、好ましくは５〜１００である。
【００１８】
前記式（２）中のＹ１またはＹ２は、それぞれ独立して、−ＮＨ２で表される基、オキシラニル基、−ＣＯＯＲで表される基、−ＮＨＣＯＯＲで表される基、−ＮＨＣＯＮＨＲで表される基、−ＯＣＯＮＨＲで表される基、−ＯＣＯＲで表される基、−ＯＲで表される基、−ＮＯ２で表される基、−ＳＯ３Ｈで表される基、−ＳＨで表される基、−ＣＮで表される基、−ＮＣＯで表される基、−ＮＣＳで表される基、−ＣＯＲで表される基、−Ｓｉ（ＯＲ）３で表される基、−Ａｌ（ＯＲ）３で表される基または−Ｔｉ（ＯＲ）３で表される基を表す（前記Ｒは、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基を表す。前記炭素数１〜８のアルキル基中の水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。）。該Ｙ１またはＹ２は、好ましくは水酸基または−Ｓｉ（ＯＲ）３で表される基である。
−Ｓｉ（ＯＲ）３で表される基中の３つのＲは、それぞれ独立である。該３つのＲは同一であることが好ましい。
【００１９】
前記式（２）中のＲ３は、アクリル酸に由来する構造単位、アクリルアミドに由来する構造単位、Ｎ−ビニル−２−ピロリドンに由来する構造単位、ビニルスルホン酸に由来する構造単位、ビニルアルコールに由来する構造単位、−Ｒ４Ｏ−で表される基、−ＨＮ−Ａ５−ＣＯ−で表される基、または式（３）で表される基を表す（前記Ｒ４は、炭素数１〜５のアルキレン基を表す。Ａ５は、炭素数１〜８のアルキレン基を表す。）。ｉが２以上の場合、複数のＲ３は全部又は一部が同じであってもよい。
−Ｒ４Ｏ−で表される基としては、例えば、−（ＣＨ２Ｏ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−で表される基、−（Ｃ（ＣＨ３）２Ｏ）−で表される基、−（ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２Ｏ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２Ｏ）−で表される基、−（ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−で表される基、−（ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２Ｏ）−で表される基、−（Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２Ｏ）−で表される基、−（ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）−で表される基が挙げられ、好ましくは、−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−で表される基である。前記式（２）中のＲ３が、−Ｒ４Ｏ−で表される基である場合、−（Ｒ３）ｉ−で表される基に含まれる炭素数は、２〜３００が好ましく、より好ましくは２０〜１００である。
−ＨＮ−Ａ５−ＣＯ−で表される基としては、−ＨＮ−ＣＨ２−ＣＯ−で表される基、−ＨＮ−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯ−で表される基、−ＨＮ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯ−で表される基、−ＨＮ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯ−で表される基、−ＨＮ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯ−で表される基が挙げられる。
前記式（２）中のＲ３は、−Ｒ４Ｏ−で表される基であることが好ましい。
【００２０】
Ａ３およびＡ４は、それぞれ独立して、炭素数１〜５のアルキレン基、−ＣＯＯ−で表される基、−ＮＨＣＯＯ−で表される基、−ＮＨＣＯＮＨ−で表される基、−ＯＣＯＮＨ−で表される基、−ＯＣＯ−で表される基、または−Ｏ−で表される基を表す。アルキレン基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。ｈが２以上の場合、複数のＡ３は全部又は一部が同じであってもよい。ｊが２以上の場合、複数のＡ４は全部又は一部が同じであってもよい。
該Ａ３およびＡ４は、それぞれ独立して、好ましくは炭素数１〜５のアルキレン基、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜５のアルキレン基である。
式（２）中の−（Ａ３）ｈ−で表される基または−（Ａ４）ｊ−で表される基としてはメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、−（ＣＦ２Ｏ）−で表される基、−（ＯＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＨ２Ｏ）−で表される基、−（ＯＣＦ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＦ２Ｏ）−で表される基、−（ＯＣＨ２ＣＦ２）−で表される基、
−（ＣＨ２ＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＮＨＣＯＮＨＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＯＣＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＯＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＮＨＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２）−で表される基、
−（ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯ）−で表される基、−（ＯＣＯＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯ）−で表される基、−（ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ）−で表される基、−（ＮＨＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨ）−で表される基、−（ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯ）−で表される基、−（ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、
−（ＣＦ２ＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＯＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＯＣＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＯＣＯＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＯＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＯＯＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＮＨＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＮＨＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＯＣＯＮＨＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＮＨＣＯＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＯ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＦ２ＯＣＯ）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＨ２ＣＯＯ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＦ２ＣＯＯ）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＨ２ＮＨ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＦ２ＮＨ）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＦ２ＯＣＯＮＨ）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯ）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＦ２ＮＨＣＯＯ）−で表される基、−（ＯＣＯＮＨＣＦ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＦ２）−で表される基、
−（ＣＦ２ＯＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＯＣＯＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＯＯＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＮＨＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＯＣＯＮＨＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＮＨＣＯＯＣＦ２）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＯ）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＯＯ）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＦ２ＮＨ）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＯＮＨ）−で表される基、−（ＣＦ２ＣＦ２ＮＨＣＯＯ）−で表される基、−（ＯＣＯＮＨＣＦ２ＣＦ２）−で表される基、−（ＮＨＣＯＯＣＦ２ＣＦ２）−で表される基、
−（ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＯＣＯＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、
−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯ）−で表される基、−（ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯ）−で表される基、−（ＯＣＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨ）−で表される基、−（ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯ）−で表される基、−（ＯＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＯＣＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯ）−で表される基、−（ＯＣＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−で表される基、−（ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨ）−で表される基、−（ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）−で表される基、が挙げられる。
【００２１】
＜組成物＞
前記含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）と前記化合物（Ｂ）の合計量を１００重量％として、含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）の含有量は１０〜８０重量％であり、化合物（Ｂ）の含有量は９０〜２０重量％である。好ましくは、含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）の含有量が１０〜６０重量％であり、化合物（Ｂ）の含有量が９０〜４０重量％である。
【００２２】
化合物（Ｂ）の重量平均分子量（Ｍｗ（Ｂ））に対する、含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ（Ａ））の比（Ｍｗ（Ａ）／Ｍｗ（Ｂ））は、０．６〜６．５が好ましい。
【００２３】
化合物（Ｂ）の主鎖長（ｌＢ）に対する、含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）の主鎖長（ｌＡ）の比（ｌＡ／ｌＢ）は、好ましくは０．１〜２．５であり、より好ましくは０．１〜２である。主鎖長とは、化合物の主鎖が全てトランス配座で最大に伸びきった状態における主鎖の長さである。主鎖長の計算には、化学結合における、ｓｐ３混成軌道の結合角∠Ｃ−Ｃ−Ｃ、∠Ｃ−Ｃ−Ｏ、及び∠Ｃ−Ｏ−Ｃを１０９．５°、Ｃ−Ｃ結合距離を１５４  ｐｍ、Ｃ−Ｏ結合距離を１４３  ｐｍ、Ｏ−Ｈ結合距離を９５  ｐｍとし、主鎖におけるＣ−Ｃ−Ｃ結合距離を２５１  ｐｍとして用いた。
【００２４】
本発明の組成物は、更に溶剤（Ｃ）を含んでもよい。含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）と溶剤（Ｃ）とを含む組成物は、例えば、該組成物を基材にコーティングし、含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）とを含有する組成物からなる膜を形成するために用いられる。
溶剤（Ｃ）としては、水、有機系溶剤が挙げられる。有機系溶剤としては、アセトン、ジエチルエーテル、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、トルエンなどが挙げられる。溶剤（Ｃ）を構成する成分は単一でもよく、上記溶剤の混合物であってもよい。
【００２５】
組成物が溶剤（Ｃ）を含む場合、含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）と溶剤（Ｃ）との合計量を１００重量％として、含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）の合計量は、製膜方法により適宜適当な範囲を選択することができる。例えば、湿式法でコーティングする場合、好ましくは、０．０００１〜１０重量％であり、より好ましくは、０．００１〜１重量％である。
【００２６】
後述の通り、本発明の組成物からなる膜を基材表面に形成する場合であって、基材がガラスやアルミニウム等、表面に水酸基を有する基材の場合、基材と膜の密着性を高めるために、本発明の組成物は、さらにシラノール縮合触媒（Ｄ）を含んでいてもよい。シラノール縮合触媒（Ｄ）としては、無機酸、有機酸、金属錯体、金属アルコキシドなどが挙げられる。無機酸としては、塩酸、硝酸、硫酸が挙げられる。有機酸としては、酢酸、クエン酸が挙げられる。金属錯体としては、チタン錯体、錫錯体、アルミニウム錯体が挙げられる。シラノール縮合触媒の含有量は、含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）と溶剤（Ｃ）との合計量を１００重量％として、例えば、０．００００１〜１０重量％、好ましくは、０．０００５〜０．１重量％である。
【００２７】
本発明の組成物は、酸化防止剤、防錆剤、紫外線吸収剤、光安定剤、防カビ剤、抗菌剤、生物付着防止剤、消臭剤、顔料、難燃剤、帯電防止剤、滑剤、充填剤、可塑剤、核剤、アンチブロッキング剤、発泡剤、乳化剤、光沢剤、結着剤等、各種の添加剤を含有していてもよい。
【００２８】
酸化防止剤としては、以下のフェノール系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤が例示できる。
【００２９】
フェノール系酸化防止剤としては、例えば、ｎ−オクタデシル−３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）プロピオネート、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，２−チオ−ジエチレン−ビス−［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、トリ−エチレングリコール−ビス−［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウンデカン、テトラキス｛３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオン酸｝ペンタエリスリチルエステル、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５ーメチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニルアクリレート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ、３Ｈ、５Ｈ）−トリオン、２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノ−ル）、４，４’−ブチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノ−ル）、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノ−ル）等が挙げられる。
【００３０】
硫黄系酸化防止剤としては、例えば、３，３’−チオジプロピオン酸ジ−ｎ−ドデシルエステル、３，３’−チオジプロピオン酸ジ−ｎ−テトラデシルエステル、３，３−チオジプロピオン酸ジ−ｎ−オクタデシルエステル、テトラキス（３−ドデシルチオプロピオン酸）ペンタエリスリチルエステル等が挙げられる。
【００３１】
リン系酸化防止剤としては、例えば、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−クミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスフォナイト、ビス−［２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル，（６−メチル）フェニル］エチルホスファイト等が挙げられる。
【００３２】
ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、例えば、セバシン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）エステル、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート、ポリ［｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝−１，６−ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝］等が挙げられる。
【００３３】
防錆剤としては、例えば、アルカノールアミン、第四アンモニウム塩、アルカンチオール、イミダゾリン、メタバナジン酸ナトリウム、クエン酸ビスマス、フェノール誘導体、ポリアルケニルアミン、アルキルイミダゾリン誘導体、ジアノアルキルアミン、カルボン酸アミド、アルキレンジアミン、ピリミジンおよびこれらのカルボン酸、ナフテン酸、スルホン酸複合体、亜硝酸カルシウム、アルキルアミンとエステル、ポリアルコール、ポリフェノール、アルカノールアミン、モリブデン酸ナトリウム、タングステン酸ナトリウム、亜硝酸ナトリウム、ホスホン酸ナトリウム、クロム酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、ゼラチン、カルボン酸のポリマ一、脂肪族および芳香族アミンとジアミン、エトキシ化アミン、イミダゾール、ベンズイミダゾール、ニトロ化合物、ホルムアルデヒド、アセチレンアルコール、脂肪族および芳香族チオールとスルフィド、スルホキシド、チオ尿素、アセチレンアルコール、２−メルカプトベンズイミダゾール、アミン又は第四級アンモニウム塩とハロゲンイオンの混合物、アセチレンチオールおよびスルフィド、ジベンジルスルホキシド、アルキルアミンとヨウ化カリウムの混合物、亜硝酸ジシクロヘキシルアミン、安息香酸シクロヘキシルアミン、ベンゾトリアゾール、タンニンとリン酸ナトリウムの混合物、トリエタノールアミンとラウリルサルコシンとベンゾトリアゾールとの混合物、アルキルアミンとベンゾトリアゾールと亜硝酸ナトリウムとリン酸ナトリウムとの混合物等が挙げられる。
【００３４】
紫外線吸収剤および光安定剤としては、例えば、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、メチル−３−［３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネート−ポリエチレングリコール、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール誘導体、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５［（ヘキシル）オキシ］−フェノール、２−エトキシ−２’−エチル−オキサリック酸ビスアニリド等が挙げられる。
【００３５】
防カビ剤および抗菌剤としては、例えば、２−（４−チアゾリル）ベンゾイミダゾール、ソルビン酸、１，２−ベンズイソチアゾリン−３オン、（２−ピリジルチオ−１−オキシド）ナトリウム、デヒドロ酢酸、２−メチル−５−クロロ−４−イソチアゾロン錯体、２，４，５，６−テトラクロロフタロニトリル、２−ベンズイミダゾールカルバミン酸メチル、１−（ブチルカルバモイル）−２−ベンズイミダゾールカルバミン酸メチル、モノあるいはジブロモシアノアセトアミド類、１，２−ジブロモ−２，４−ジシアノブタン、１，１−ジブロモ−１−ニトロプロパノールおよび１，１−ジブロモ−１−ニトロ−２−アセトキシプロパン等が挙げられる。
【００３６】
生物付着防止剤としては、例えば、テトラメチルチウラムジサルファイド、ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルジチオカルバミン酸）亜鉛、３−（３，４−ジクロロフェニル）−１，１−ジメチルウレア、ジクロロ−Ｎ−（（ジメチルアミノ）スルフォニル）フルオロ−Ｎ−（ｐ−トリル）メタンスルフェンアミド、ピリジン−トリフェニルボラン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ’−フェニル−Ｎ’−（フルオロジクロロメチルチオ）スルファミド、チオシアン酸第一銅、酸化第一銅、テトラブチルチウラムジサルファイド、２，４，５，６−テトラクロロイソフタロニトリル、ジンクエチレンビスジチオカーバーメート、２，３，５，６−テトラクロロ−４−（メチルスルホニル）ピリジン、Ｎ−（２，４，６−トリクロロフェニル）マレイミド、ビス（２−ピリジンチオール−１−オキシド）亜鉛塩、ビス（２−ピリジンチオール−１−オキシド）銅塩、２−メチルチオ−４−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ−６−シクロプロピルアミノ−ｓ−トリアジン、４，５−ジクロロ−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、フラノン類、アルキルピリジン化合物、グラミン系化合物、イソトニル化合物等が挙げられる。
【００３７】
消臭剤としては、例えば、有機酸類、脂肪酸金属類、金属化合物、シクロデキストリン類、多孔質体等が挙げられる。
有機酸類としては、乳酸、コハク酸、リンゴ酸、クエン酸、マレイン酸、マロン酸、エチレンジアミンポリ酢酸、アルカン−１，２−ジカルボン酸、アルケン−１，２−ジカルボン酸、シクロアルカン−１，２−ジカルボン酸、シクロアルケン−１，２−ジカルボン酸、ナフタレンスルホン酸等が挙げられる。
脂肪酸金属類としては、ウンデシレン酸亜鉛、２−エチルヘキサン酸亜鉛、リシノール酸亜鉛等が挙げられる。
金属化合物としては、酸化鉄、硫酸鉄、酸化亜鉛、硫酸亜鉛、塩化亜鉛、酸化銀、酸化鋼、金属（鉄、銅等）クロロフィリンナトリウム、金属（鉄、銅、コバルト等）フタロシアニン、金属（鉄、銅、コバルト等）テトラスルホン酸フタロシアニン、二酸化チタン、可視光応答型二酸化チタン（窒素ドープ型など）等が挙げられる。
シクロデキストリン類としては、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリン、そのメチル誘導体、ヒドロキシプロピル誘導体、グルコシル誘導体、マルトシル誘導体等が挙げられる。
多孔質体を構成する成分としては、ポリ不飽和カルボン酸、芳香族系ポリマー、キチン、キトサン、活性炭、シリカゲル、活性アルミナ、ゼオライト、セラミック等が挙げられる。
ポリ不飽和カルボン酸としては、ポリメタクリル酸、ポリアクリル酸が挙げられる。
芳香族系ポリマーとしては、ポリジビニルベンゼン、スチレン−ジビニルベンゼン−ビニルピリジン共重合体、ジビニルベンゼン−ビニルピリジン共重合体が挙げられる。
【００３８】
顔料としては、例えば、カーボンブラック、酸化チタン、フタロシアニン系顔料、キナクリドン系顔料、イソインドリノン系顔料、ペリレン顔料、ペリニン系顔料、キノフタロン系顔料、ジケトピロロ−ピロール系顔料、ジオキサジン系顔料、ジスアゾ縮合系顔料、ペンズイミダゾロン系顔料等が挙げられる。
【００３９】
難燃剤としては、例えば、デカブロモビフェニル、三酸化アンチモン、リン系難燃剤、水酸化アルミニウム等が挙げられる。
【００４０】
帯電防止剤としては、例えば、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、アニオン界面活性剤、ノニオン界面活性剤が挙げられる。
カチオン界面活性剤としては、４級アンモニウム塩、第１級アミン塩、第２級アミン塩、第３級アミン塩、第４級アミン塩、ピリジン誘導体等が挙げられる。
両性界面活性剤としては、ベタイン型界面活性剤、カルボン酸誘導体、イミダゾリン誘導体等が挙げられる。
アニオン界面活性剤としては、リン酸アルキル型界面活性剤、硫酸化油、石鹸、硫酸化エステル油、硫酸化アミド油、オレフィンの硫酸化エステル塩類、脂肪アルコール硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩、脂肪酸エチルスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、琉拍酸エステルスルホン酸塩、燐酸エステル塩等が挙げられる。
ノニオン界面活性剤としては、多価アルコールの部分的脂肪酸エステル、脂肪アルコールのエチレンオキサイド付加物、脂肪酸のエチレンオキサイド付加物、脂肪アミノ又は脂肪酸アミドのエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールのエチレンオキサイド付加物、多価アルコールの部分的脂肪酸エステルのエチレンオキサイド付加物、ポリエチレングリコール等が挙げられる。
【００４１】
＜膜＞
前記含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）と前記化合物（Ｂ）とを含有する本発明の組成物は、膜を形成することができる。
含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）とを含有する組成物からなる膜は、含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）と溶剤（Ｃ）とを含有する組成物を基材（基板と称することがある）に塗布して塗布膜を形成し、塗布膜から溶剤（Ｃ）を除去することにより得ることができる。
基材がガラスやアルミニウム等、表面に水酸基を有する基材の場合、基材と膜の密着性を高めるために、膜を形成する組成物中の含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）に含まれるＸ１およびまたはＸ２、化合物（Ｂ）に含まれるＹ１またはＹ２が、−Ｓｉ（ＯＲ）３で表される基であることが好ましい。この場合、含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）と溶剤（Ｃ）とを含有する組成物を基材に塗布して塗布膜を形成した後、空気中で静置することにより、空気中及び溶剤中の水分により−Ｓｉ（ＯＲ）３で表される基が加水分解され、膜と基材との間にシロキサン結合が形成され、溶剤が除去される。シロキサン結合の形成を促進するために、塗布膜を、５０〜３００℃、好ましくは、１００℃〜１５０℃に加熱してもよい。また、シロキサン結合の形成を促進するために、基材に塗布する組成物は、シラノール縮合触媒（Ｄ）を含有してもよい。
【００４２】
含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）とを含有する組成物からなる膜の水接触角は、好ましくは５０°以下であり、より好ましくは４０°以下である。前記水接触角は、純水を用いてθ／２法にて求められる接触角である。
含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）とを含有する組成物からなる膜の油接触角は、好ましくは４０°以上であり、より好ましくは６０°以上である。前記油接触角は、ヘキサデカンを用いてθ／２法にて求められる接触角である。
【００４３】
組成物を基材に塗布する方法としては、ディップコート法、ロールコート法、バーコート法、スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法、蒸着法などが挙げられる。
【００４４】
基材は特に限定されず、無機系材料、有機系材料のいずれでもよい。基材の形状は平面、曲面のいずれであってもよく、多数の面が組み合わさった三次元的構造でもよい。前記無機系材料としては、シリコン、鉄、銅、アルミニウム、亜鉛等の金属、これらの金属を含む合金、セラミックス、ガラスなどが挙げられる。前記有機系材料としては、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、アクリル−スチレン共重合樹脂、セルロース樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリビニルアルコール等の熱可塑性樹脂；フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂などが挙げられる。
本発明の組成物からなる膜を形成する前に、基材に易接着処理を施してもよい。易接着処理としては、親水化処理、プライマー処理が挙げられる。親水化処理としては、コロナ処理、プラズマ処理、紫外線処理、アルカリ処理、酸処理が挙げられる。プライマー処理に用いられるプライマーとしては、樹脂、シランカップリング剤、テトラアルコキシシラン等が挙げられる。
耐水性、耐湿性、耐アルカリ性などの耐久性の観点から、本発明の組成物からなる膜と基材との間にプライマー層を設けることが好ましい。
【００４５】
本発明の組成物からなる膜を以下の物品の表面に設けることにより、該物品に油性汚れの付着を低減する防汚性と、付着した油性汚れを水洗のみで除去可能な水洗性を付与することができる。本発明の組成物からなる膜を適用できる物品としては、浴室用部材、台所用部材、洗面用部材、トイレ用部材、洗濯用部材、鏡などの水周り物品、タイルなどの陶磁器、人工大理石、エアコンなどの各種屋内設備、空調設備の熱交換器、タッチパネルディスプレイなどの表示装置、光学素子、半導体素子、建築材料、ナノインプリント技術、太陽電池、自動車や建物の窓ガラス、調理器具などの金属製品、食器などのセラミック製品、プラスチック製の自動車用部材、漁網、虫取り網、水槽、プール、工場内の治具や内壁、配管、ゴーグル、メガネ、ヘルメット、パチンコ、繊維、傘、遊具、サッカーボール、食品用包材、化粧品包材などの各種包材、ポットの内部などが挙げられる。
【実施例】
【００４６】
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、発明の詳細な説明および実施例および比較例における各項目の測定値は、下記の方法で測定した。
【００４７】
［接触角測定］
協和界面科学社製ＤＭ−５０１を用いて、液滴量２μＬで、θ／２法にて、得られた膜の接触角を測定した。水接触角の測定には純水を、油接触角の測定にはヘキサデカンを用いた。
【００４８】
［油性汚れに対する防汚性評価］
油性汚れのモデルとして、ラー油（エスビー食品株式会社）を用いた。表面に塗膜を形成したガラス基板を水平から８０°傾けて固定し、基板最下部から２ｃｍの位置の塗膜表面にラー油約０．１ｍｌを付着させ、５分以内に基板最下部まで落ち切るか目視で観察した。
１：基板最下部までラー油が落ち切る。２：基板最下部までラー油が落ち切らない。
【００４９】
［油性汚れに対する水洗性評価（１）］
油性汚れのモデルとして、ラー油（エスビー食品株式会社）を用いた。表面に塗膜を形成したガラス基板を水平から６０°傾けて固定し、基板最下部から２ｃｍの位置の塗膜表面にラー油０．１ｍｌを付着させ、その上から、５００ｍｌポリ洗瓶（株式会社サンプラテック）を用いて水を１００ｍｌ、約１０秒間で掛けた後の状態を目視で観察した。
１：塗膜上に汚れが残らない。２：塗膜上に汚れが残る。
【００５０】
［粘着性汚れに対する水洗性評価（２）］
油性汚れのモデルとして、ラー油よりも粘度の高いマヨネーズ（キユーピー株式会社）を用いた。表面に塗膜を形成したガラス基板を水平から６０°傾けて固定し、基板最下部から２ｃｍの位置の塗膜表面にマヨネーズ１００ｍｇを付着させ、その上から、５００ｍｌポリ洗瓶（株式会社サンプラテック）を用いて水を１００ｍｌ、約１０秒間で掛けた後の状態を目視で観察した。
１：塗膜上に汚れが残らない。２：塗膜上に汚れが残る。
【００５１】
［実施例１］
窒素で置換した２００ｍｌフラスコ内に、両末端にポリ（オキシアルキレン）基（繰返し単位数５〜６）を介して水酸基を有するパーフルオロポリエーテル（ソルベイスペシャルティポリマーズジャパン株式会社  Ｆｌｕｏｒｏｌｉｎｋ  ５１５８Ｘ、Ｍｗ（Ａ）＝１９９７、Ｍｗ（Ａ１）／（Ｍｗ（Ａ２）＋Ｍｗ（Ａ３））＝４．０）１００ｍｇ、３−（Ｔｒｉｅｔｈｏｘｙｓｉｌｙｌ）ｐｒｏｐｙｌ  Ｉｓｏｃｙａｎａｔｅ（東京化成工業株式会社）１２．６ｍｇ、およびアセトン（和光純薬株式会社）１００ｍＬを投入し、撹拌して、反応を開始した。１時間後、反応溶液を回収し、反応液１とした。反応液１中には、反応原料の前記パーフルオロポリエーテルの末端の水酸基の一部が−ＯＣＯＮＨＣ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３で表される基に置換されたパーフルオロポリエーテル（含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ１））が含まれている。
窒素で置換した２００ｍＬフラスコ内に、ポリエチレングリコール６００（和光純薬株式会社、重量平均分子量が６００であるポリエチレングリコール）１００ｍｇ、３−（Ｔｒｉｅｔｈｏｘｙｓｉｌｙｌ）ｐｒｏｐｙｌ  Ｉｓｏｃｙａｎａｔｅ４２．１ｍｇ、およびアセトン１００ｍＬを投入し、撹拌して、反応を開始した。１時間後、反応溶液を回収し、反応液２とした。反応液２中には、反応原料の前記ポリエチレングリコールの末端の水酸基の一部が−ＯＣＯＮＨＣ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３で表される基に置換された化合物（化合物Ｂ１）が含まれている。
上記反応液１を１ｍＬ、反応液２を９ｍＬ、アセトンを９０ｍＬ、および酢酸（和光純薬株式会社）を１ｍＬポリ瓶に投入し、混合して、固形分濃度１００ｍｇ／Ｌのコーティング液を調製した。コーティング液中、反応液１と反応液２の合計量を１００重量％として、各反応液の含有量を表１に示す。松浪硝子社製のガラス基板を該コーティング液に３０分間含浸させ、ガラス基板をコーティング液から取り出した後、１２０℃で１０分間加熱することで、ガラス基板上に塗膜を得た。塗膜の水接触角と油接触角を表１に示す。防汚性、水洗性の評価結果を表４に示す。
【００５２】
［実施例２］
コーティング液調製時の反応液１の投入量を２ｍＬ、反応液２の投入量を８ｍＬとしたこと以外は、実施例１と同様にしてガラス基板上に塗膜を得た。結果を表１および表４に示す。
【００５３】
［実施例３］
コーティング液調製時の反応液１の投入量を３ｍＬ、反応液２の投入量を７ｍＬとしたこと以外は、実施例１と同様にしてガラス基板上に塗膜を得た。結果を表１および表４に示す。
【００５４】
［実施例４］
コーティング液調製時の反応液１の投入量を４ｍＬ、反応液２の投入量を６ｍＬとしたこと以外は、実施例１と同様にしてガラス基板上に塗膜を得た。結果を表１および表４に示す。
【００５５】
［実施例５］
窒素で置換した２００ｍＬフラスコ内に、オキシアルキレン基を有し、かつ両末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテル（ソルベイスペシャルティポリマーズジャパン株式会社Ｆｏｍｂｌｉｎ  Ｄ２、Ｍｗ（Ａ）＝１５５０、Ｍｗ（Ａ１）／（Ｍｗ（Ａ２）＋Ｍｗ（Ａ３））＝１８．９）１００ｍｇ、３−（Ｔｒｉｅｔｈｏｘｙｓｉｌｙｌ）ｐｒｏｐｙｌ  Ｉｓｏｃｙａｎａｔｅ（東京化成工業株式会社）１６．１ｍｇ、およびアセトン（和光純薬株式会社）１００ｍＬを投入し、撹拌して、反応を開始した。１時間後、反応溶液を回収し、反応液３とした。反応液３中には、反応原料の前記パーフルオロポリエーテルの末端の水酸基の一部が−ＯＣＯＮＨＣ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３で表される基に置換されたパーフルオロポリエーテル（含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ５））が含まれている。
窒素で置換した２００ｍＬフラスコ内に、ポリエチレングリコール１０００（和光純薬株式会社、重量平均分子量が１０００であるポリエチレングリコール）１００ｍｇ、３−（Ｔｒｉｅｔｈｏｘｙｓｉｌｙｌ）ｐｒｏｐｙｌ  Ｉｓｏｃｙａｎａｔｅ２４．７ｍｇ、およびアセトン１００ｍＬを投入し、撹拌して、反応を開始した。１時間後、反応溶液を回収し、反応液４とした。反応液４中には、反応原料の前記ポリエチレングリコールの末端の水酸基の一部が−ＯＣＯＮＨＣ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３で表される基に置換された化合物（化合物Ｂ５）が含まれている。
上記反応液３を４ｍＬ、反応液４を６ｍＬ、アセトンを９０ｍＬ、および酢酸（和光純薬株式会社）を１ｍＬポリ瓶に投入し、混合して、固形分濃度１００ｍｇ／Ｌのコーティング液を調製した。コーティング液中、反応液３と反応液４の合計量を１００重量％として、各反応液の含有量を表２に示す。松浪硝子社製のガラス基板を該コーティング液に３０分間含浸させ、ガラス基板をコーティング液から取り出した後、１２０℃で１０分間加熱することで、ガラス基板上に塗膜を得た。塗膜の水接触角と油接触角を表２に示す。防汚性、水洗性の評価結果を表４に示す。
【００５６】
［実施例６］
窒素で置換した２００ｍＬフラスコ内に、オキシアルキレン基を有し、かつ両末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテル（ソルベイスペシャルティポリマーズジャパン株式会社Ｆｏｍｂｌｉｎ  Ｄ２、Ｍｗ（Ａ）＝１５５０、Ｍｗ（Ａ１）／（Ｍｗ（Ａ２）＋Ｍｗ（Ａ３））＝１８．９）１００ｍｇ、３−（Ｔｒｉｅｔｈｏｘｙｓｉｌｙｌ）ｐｒｏｐｙｌ  Ｉｓｏｃｙａｎａｔｅ（東京化成工業株式会社）１６．１ｍｇ、およびアセトン（和光純薬株式会社）１００ｍＬを投入し、撹拌して、反応を開始した。１時間後、反応溶液を回収し、反応液５とした。反応液５中には、反応原料の前記パーフルオロポリエーテルの末端の水酸基の一部が−ＯＣＯＮＨＣ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３で表される基に置換されたパーフルオロポリエーテル（含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ６））が含まれている。
窒素で置換した２００ｍＬフラスコ内に、ポリエチレングリコール２０００（和光純薬株式会社、重量平均分子量が２０００であるポリエチレングリコール）１００ｍｇ、３−（Ｔｒｉｅｔｈｏｘｙｓｉｌｙｌ）ｐｒｏｐｙｌ  Ｉｓｏｃｙａｎａｔｅ１２．４ｍｇ、およびアセトン１００ｍＬを投入し、撹拌して、反応を開始した。１時間後、反応溶液を回収し、反応液６とした。反応液６中には、反応原料の前記ポリエチレングリコールの末端の水酸基の一部が−ＯＣＯＮＨＣ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３で表される基に置換された化合物（化合物Ｂ６）が含まれている。
上記反応液５を４ｍＬ、反応液６を６ｍＬ、アセトンを９０ｍＬ、および酢酸（和光純薬株式会社）を１ｍＬポリ瓶に投入し、混合して、固形分濃度１００ｍｇ／Ｌのコーティング液を調製した。コーティング液中、反応液５と反応液６の合計量を１００重量％として、各反応液の含有量を表２に示す。松浪硝子社製のガラス基板を該コーティング液に３０分間含浸させ、ガラス基板をコーティング液から取り出した後、１２０℃で１０分間加熱することで、ガラス基板上に塗膜を得た。塗膜の水接触角と油接触角を表２に示す。防汚性、水洗性の評価結果を表４に示す。
【００５７】
［比較例１］
窒素で置換した２００ｍＬフラスコ内に、両末端にポリ（オキシアルキレン）基（繰返し単位数５〜６）を介して水酸基を有するパーフルオロポリエーテル（ソルベイスペシャルティポリマーズジャパン株式会社  Ｆｌｕｏｒｏｌｉｎｋ  ５１５８Ｘ、Ｍｗ（Ａ）＝１９９７、Ｍｗ（Ａ１）／（Ｍｗ（Ａ２）＋Ｍｗ（Ａ３））＝４．０）１００ｍｇ、３−（Ｔｒｉｅｔｈｏｘｙｓｉｌｙｌ）ｐｒｏｐｙｌ  Ｉｓｏｃｙａｎａｔｅ（東京化成工業株式会社）１２．６ｍｇ、およびアセトン（和光純薬株式会社）１００ｍＬを投入し、撹拌して、反応を開始した。１時間後、反応溶液を回収し、反応液１’とした。反応液１’中には、反応原料の前記パーフルオロポリエーテルの末端の水酸基の一部が−ＯＣＯＮＨＣ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３で表される基に置換されたパーフルオロポリエーテル（含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ１））が含まれている。
上記反応液１’を１０ｍＬ、アセトンを９０ｍＬ、および酢酸（和光純薬株式会社）を１ｍＬポリ瓶に投入し、混合して、固形分濃度１００ｍｇ／Ｌのコーティング液を調製した。松浪硝子社製のガラス基板を該コーティング液に３０分間含浸させ、ガラス基板をコーティング液から取り出した後、１２０℃で１０分間加熱することで、ガラス基板上に塗膜を得た。塗膜の水接触角と油接触角を表３に示す。防汚性、水洗性の評価結果を表４に示す。
【００５８】
［比較例２］
窒素で置換した２００ｍｌフラスコ内に、オキシアルキレン基を有し、かつ両末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテル（ソルベイスペシャルティポリマーズジャパン株式会社Ｆｏｍｂｌｉｎ  Ｄ２、Ｍｗ（Ａ）＝１５５０、Ｍｗ（Ａ１）／（Ｍｗ（Ａ２）＋Ｍｗ（Ａ３））＝１８．９）１００ｍｇ、３−（Ｔｒｉｅｔｈｏｘｙｓｉｌｙｌ）ｐｒｏｐｙｌ  Ｉｓｏｃｙａｎａｔｅ（東京化成工業株式会社）１６．１ｍｇ、およびアセトン（和光純薬株式会社）１００ｍＬ投入し、撹拌して、反応を開始した。１時間後、反応溶液を回収し、反応液３’とした。反応液３’中には、反応原料の前記パーフルオロポリエーテルの末端の水酸基の一部が−ＯＣＯＮＨＣ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３で表される基に置換されたパーフルオロポリエーテル（含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ５））が含まれている。
上記反応液３’を１０ｍｌ、アセトンを９０ｍｌ、酢酸（和光純薬株式会社）を１ｍＬポリ瓶に投入し、混合して、固形分濃度１００ｍｇ／Ｌのコーティング液を調製した。松浪硝子社製のガラス基板を該コーティング液に３０分間含浸させ、ガラス基板をコーティング液から取り出した後、１２０℃で１０分間加熱することで、ガラス基板上に塗膜を得た。塗膜の水接触角と油接触角を表３に示す。防汚性、水洗性の評価結果を表４に示す。
【００５９】
［比較例３］
窒素で置換した２００ｍＬフラスコ内に、ポリエチレングリコール１０００（和光純薬株式会社、重量平均分子量が１０００であるポリエチレングリコール）１００ｍｇ、３−（Ｔｒｉｅｔｈｏｘｙｓｉｌｙｌ）ｐｒｏｐｙｌ  Ｉｓｏｃｙａｎａｔｅ（東京化成工業株式会社）２４．７ｍｇ、およびアセトン（和光純薬株式会社）１００ｍＬを投入し、撹拌して、反応を開始した。１時間後、反応溶液を回収し、反応液４’とした。反応液４’中には、反応原料の前記ポリエチレングリコールの末端の水酸基の一部が−ＯＣＯＮＨＣ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３で表される基に置換された化合物（化合物Ｂ５）が含まれている。
上記反応液４’を１０ｍＬ、アセトンを９０ｍＬ、および酢酸（和光純薬株式会社）を１ｍＬポリ瓶に投入し、混合して、固形分濃度１００ｍｇ／Ｌのコーティング液を調製した。松浪硝子社製のガラス基板を該コーティング液に３０分間含浸させ、ガラス基板をコーティング液から取り出した後、１２０℃で１０分間加熱することで、ガラス基板上に塗膜を得た。塗膜の水接触角と油接触角を表３に示す。防汚性、水洗性の評価結果を表４に示す。
【００６０】
［比較例４］
窒素で置換した２００ｍＬフラスコ内に、ポリエチレングリコール２０００（和光純薬株式会社、重量平均分子量が２０００であるポリエチレングリコール）１００ｍｇ、３−（Ｔｒｉｅｔｈｏｘｙｓｉｌｙｌ）ｐｒｏｐｙｌ  Ｉｓｏｃｙａｎａｔｅ（東京化成工業株式会社）１２．４ｍｇ、およびアセトン（和光純薬株式会社）１００ｍＬを投入し、撹拌して、反応を開始した。１時間後、反応溶液を回収し、反応液６’とした。反応液６’中には、反応原料の前記ポリエチレングリコールの末端の水酸基の一部が−ＯＣＯＮＨＣ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３で表される基に置換された化合物（化合物Ｂ６）が含まれている。
上記反応液６’を１０ｍＬ、アセトンを９０ｍＬ、および酢酸（和光純薬株式会社）を１ｍＬポリ瓶に投入し、混合して、固形分濃度１００ｍｇ／Ｌのコーティング液を調製した。松浪硝子社製のガラス基板を該コーティング液に３０分間含浸させ、ガラス基板をコーティング液から取り出した後、１２０℃で１０分間加熱することで、ガラス基板上に塗膜を得た。塗膜の水接触角と油接触角を表３に示す。防汚性、水洗性の評価結果を表４に示す。
【００６１】
【表１】
2018145265.tif 000004
【００６２】
【表２】
2018145265.tif 000005
【００６３】
【表３】
2018145265.tif 000006
【００６４】
【表４】
2018145265.tif 000007