(57)【要約】【課題】吐出口表面への付着物除去を良好に行うことができる、液体吐出ヘッドの製造方法を提供する。【解決手段】基板上に吐出口を有する部材を備える液体吐出ヘッドの製造方法において、前記部材を形成するための層の吐出口が設けられた面に１．２２×１０−８ｋｇ・ｍ２・ｓ−２以上９．６３×１０−６ｋｇ・ｍ２・ｓ−２以下の運動エネルギーを持ち、４００ｍ／ｓ以上、４５０ｍ／ｓ以下の速度を持つ氷粒子を衝突させる工程、を含む液体吐出ヘッドの製造方法。【選択図】図２−２
2018001623.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、吐出口を有する部材を備える、液体吐出ヘッドの製造方法において、
前記部材を形成するための層の吐出口が設けられた面に、１．２２×１０−８ｋｇ・ｍ２・ｓ−２以上、９．６３×１０−６ｋｇ・ｍ２・ｓ−２以下の運動エネルギーを持ち、４００ｍ／ｓ以上、４５０ｍ／ｓ以下の速度を持つ氷粒子を衝突させる工程
を含む、液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項２】
前記氷粒子の質量が６．０２×１０−１４ｋｇ以上、６．０２×１０−１１ｋｇ以下である、請求項１に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項３】
前記層の硬度が、ビッカース硬度で２００以上である、請求項１または２に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項４】
前記部材を形成するための層は、前記吐出口が設けられた面の側に撥水層を有する請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項５】
前記氷粒子が前記面に衝突する角度は、前記面に対して４５°以上１３５°以下である請求項１乃至４のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項６】
前記氷粒子を前記面に衝突させる工程において、前記基板を８０℃以上で加熱する請求項１乃至５のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項７】
前記氷粒子を前記面に衝突させる工程において、前記基板を−５０℃以下で冷却する請求項１乃至５のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体吐出ヘッドの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液体吐出ヘッドはインクジェット記録装置等の液体吐出装置に用いられ、インクを被記録媒体に吐出して記録を行うインクジェット記録方式に適用される。
【０００３】
液体吐出ヘッドに関しては、吐出口表面（吐出口が開口している面）の付着物が原因で吐出液滴の進行方向がよれてしまい、所望の着弾位置に着弾しないという現象が起きることがあった。この現象を回避するために、吐出口が設けられた面上の付着物（製造に用いられる材料に由来する微粒子）に対して紫外線を照射し、その付着物を除去する工程を含む液体吐出ヘッドの製造方法が提案されている（特許文献１）。この方法によれば、吐出口表面への付着物を低減することにより、インクミスト等の吐出口表面への溜まりが低減され、極小のインク滴を吐出する場合であってもヨレの無い良好な吐出が得られるインクジェット記録ヘッドが得られる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第４９７９６４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載の製造方法では、付着物の種類によっては効果があるが、場合によっては付着物が残存するという点で、改善の余地があった。
【０００６】
本発明の目的は、吐出口表面への付着物除去を良好に行うことができる、液体吐出ヘッドの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明によれば、
基板上に、吐出口を有する部材を備える、液体吐出ヘッドの製造方法において、
前記部材を形成するための層の吐出口が設けられた面に、１．２２×１０−８ｋｇ・ｍ２・ｓ−２以上、９．６３×１０−６ｋｇ・ｍ２・ｓ−２以下の運動エネルギーを持ち、４００ｍ／ｓ以上、４５０ｍ／ｓ以下の速度を持つ氷粒子を衝突させる工程
を含む、液体吐出ヘッドの製造方法が提供される。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、吐出口表面への付着物除去を良好に行うことができる、液体吐出ヘッドの製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明により製造される液体吐出ヘッドの構成例を示す模式的斜視図である。
【図２−１】本発明の液体吐出ヘッドの製造方法の工程例を説明するための工程断面図である。
【図２−２】図２−１に引き続いて本発明の液体吐出ヘッドの製造方法の工程例を説明するための工程断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明は液体吐出ヘッドの製造方法に関する。液体吐出ヘッドは、基板上に、吐出口を有する部材を備える。この方法では、前記部材を形成するための層（基板上に設けられている）の、吐出口が設けられた面に、氷粒子を衝突させる。まず基板上に、吐出口を有する部材を形成するための層を設け、その層に吐出口を形成することによって、基板上に、吐出口を有する部材を形成することができる。吐出口を形成した段階で、前記層の「吐出口が設けられた面」が特定される。後に詳述するが、図１に関して言えば、吐出口を有する部材は流路形成部材５（例えば撥水層を有していてもよい）である。図２に関して言えば、当該部材を形成するための層は、被覆層１５と撥水層６とからなる。撥水層６を設ける場合、吐出口が設けられた側の面に撥水層を設ける。
【００１１】
そして、前記層の前記吐出口が設けられた面に、１．２２×１０−８ｋｇ・ｍ２・ｓ−２以上、９．６３×１０−６ｋｇ・ｍ２・ｓ−２の運動エネルギーを持ち、４００ｍ／ｓ以上、４５０ｍ／ｓ以下の速度を持つ氷粒子を衝突させる。図２に関して言えば、被覆層と撥水層からなる二層構造に対して氷粒子を衝突させるが、二層構造の吐出口が設けられた面、特には外表面に氷粒子を衝突させる。
【００１２】
本発明によれば、付着物に対して氷粒子を噴射し、その衝突力や溶解力の作用によって付着物を洗浄する。この方法によって製造された液体吐出ヘッドは、吐出口表面に付着物が存在しないか、存在したとしても極めて微量である。したがって、この液体吐出ヘッドでは、インクミスト等の吐出口表面への溜まりが低減され、ヨレの無い良好な吐出を行うことが可能である。
【００１３】
〔液体吐出ヘッドの概略構成例〕
まず、本発明を適用可能な液体吐出ヘッドの例として、インクジェット記録ヘッド（以下、単に「記録ヘッド」と呼ぶことがある）について説明する。
【００１４】
図１は、本発明の一実施形態に係る記録ヘッドを示す模式図である。この記録ヘッドは、液体を吐出するために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生素子（インク吐出エネルギー発生素子）２が、所定のピッチで２列に並んで形成されたシリコン（Ｓｉ）の基板１を有している。基板１には、Ｓｉを異方性エッチングすることによって形成された供給口９が、エネルギー発生素子２の２つの列の間に開口されている。基板１上には、流路形成部材５によって、各エネルギー発生素子の上方に開口する吐出口７と、供給口９から各吐出口７に連通する個別の流路４が形成されている。
【００１５】
この記録ヘッドは、吐出口７が形成された面が記録媒体の記録面に対面するよう配置される。そしてこの記録ヘッドは、供給口９を介して流路内に充填されたインクに、エネルギー発生素子２が発生するエネルギーを利用して、吐出口７からインク液滴を吐出させ、これを記録媒体に付着させることによって記録を行う。エネルギー発生素子としては、熱エネルギーであれば電気熱変換素子等、力学的エネルギーであれば圧電素子等があるが、これらに限定されるものではない。
【００１６】
〔液体吐出ヘッドの製造方法〕
次いで、本発明の液体吐出ヘッドの製造方法について、以下に図面を用いて説明するが、本発明はこれによって限定されるものではない。図２は、本発明に従う記録ヘッドの製造方法の一例を説明するための模式的工程断面図であり、図１におけるＡ−Ａ’を通り基板に垂直な断面で見た断面図である。
【００１７】
まず、図２（ａ）に示すように、液体を吐出するために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生素子２が設けられた基板１を用意する。エネルギー発生素子２の例としては、電気熱変換素子（ヒーター）または圧電素子（ピエゾ素子）等が挙げられる。これらの素子には、これらを動作させるための制御信号入力用の電極（不図示）が接続されている。また、一般的にはこれらのエネルギー発生素子の耐用性向上として、保護層等の各種機能層が設けられるが、もちろん本発明においてもこれらの機能層を設けることは一向に構わない。また、一般的には基板１と流路形成部材５との密着性向上を目的とした密着層として有機物層（不図示）が設けられる。もちろん本発明においてもこの有機物層を設けることは一向に構わない。
【００１８】
次いで、図２（ｂ）に示すように、溶媒に溶解可能な樹脂を溶媒に溶解し、基板１上にスピンコート法により塗布して樹脂層３を形成する。溶解可能な樹脂としては、ポリメチルイソプロペニルケトン、ポリフェニルイソプロペニルケトン、ポリメチルビニルケトン、ポリフェニルビニルケトン、ポリメタクリル酸メチル等が挙げられる。また、用いられる溶媒としては、非水溶性のシクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、キシレンや、水溶性の乳酸メチル、乳酸エチル等が挙げられる。
【００１９】
次いで、図２（ｃ）に示すように、溶解可能な樹脂層３をパターニングして、基板上に流路４の形状を有するパターン１４を形成する。
【００２０】
次いで、図２（ｄ）に示すように、パターン１４が形成された基板上に、流路形成部材５を形成するための被覆層１５を形成する。被覆層はパターン１４を被覆するように設ける。被覆層１５の形成方法としては、エポキシ樹脂と光酸発生剤とを含む溶液をソルベントコートする方法などがある。しかしこれに限定されることなく、被覆層の材料として無機物、樹脂等を選択することができる。
【００２１】
次いで、図２（ｅ）に示すように、必要に応じて、被覆層１５上に、撥水等の表面処理を行うことができる。撥水処理の目的としては、吐出口表面へのインクミスト等の付着防止、また耐インク性向上、等である。また撥水以外の表面処理の目的としては、吐出口表面の強度向上が挙げられる。撥水処理を例にとると、処理箇所が、吐出口を形成する部材と一体になっている場合（不図示）や、吐出口を形成する部材の上に撥水層６として形成されている場合がある。撥水処理に用いられる材料としては、例えば、フッ素含有基を有する加水分解性のシラン化合物の縮合物を含む組成物等が挙げられる。撥水処理用の材料は、その他、インクジェット記録ヘッドへの適用例が知られている撥水材料から選択可能である。
【００２２】
次いで、図２（ｆ）に示すように、被覆層１５と撥水層６を貫通する吐出口７を形成する。吐出口７の形成方法は、被覆層と撥水層の材料に応じて選択可能であり、具体的にはフォトリソグラフィー、ドライエッチング等が挙げられる。
【００２３】
次いで、図２（ｇ）に示すように、基板１の表面を全て覆うように保護層８を形成する。保護層８の目的は、次項で説明する異方性エッチングの際に使用されるエッチング液にさらされることで撥水層６が劣化するのを防ぐことである。
【００２４】
次いで、図２（ｈ）に示すように、供給口９を形成する。基板１がシリコンである場合には、ＴＭＡＨ（テトラ・メチル・アンモニウム・ハイドライド）等の水溶液を用いて、異方性エッチングによりエッチングすることにより供給口を形成できる。この際に、保護層８が高温に加熱されることで、撥水層６との界面にある保護層８の一部が熱変質し、保護層が除去しにくくなると考えられる。保護層８を形成する材料としては、例えば環化イソプレン等の環化ゴムが挙げられる。他にも、スチレンとアクリロニトリルの共重合体、スチレン、アクリロニトリルおよびメチルイソプロペニルケトンの重合体等が挙げられる。
【００２５】
次いで、図２（ｉ）に示すように、役割を終えた保護層を除去する。保護層の除去は、例えばキシレン等の有機溶媒で行う。保護層の除去後に、吐出口が開口している面（吐出口表面）に付着物１０が見られる。撥水層６により吐出口面が形成されている場合には、撥水層に微量な付着物１０が付着している場合がある。これは、吐出口表面の性質、加えて、製造過程で経験する熱や、保護層を形成する樹脂の材料成分重量や保護層除去時の除去性による、付着量バラツキの影響等によって程度が異なる。とりわけ撥水層等の吐出口表面を形成する物質が、付着物となる保護層との親和性を示す場合には、付着物の発生はより顕著となる。
【００２６】
次いで、図２（ｊ）に示すように、氷粒子が基板に衝突する衝突力によって付着物を除去する。好ましくは、氷粒子は基板に対して連続的に高速噴出される。氷粒子の生成方法として、例えば、純水と圧縮ガスとを噴出ノズル内に供給して混合し、ガスの断熱膨張作用を利用して、純水を急冷して氷粒子に変える方法がある。氷粒子自体は基板に衝突後に液体になってよい。
【００２７】
付着物に対する洗浄性に影響するのは、氷粒子の粒径と氷粒子が基板に衝突する速度（ｖ）、したがって運動エネルギー（Ｅ＝ｍｖ２。ここでｍは氷粒子の質量を表す。）と、その総和となる。
【００２８】
大きさが数ｎｍ〜数十ｎｍの基板上の微小な付着物を除去する場合、氷粒子の運動エネルギーは、１．２２×１０−８ｋｇ・ｍ２・ｓ−２以上、９．６３×１０−６ｋｇ・ｍ２・ｓ−２以下が好適である。また、基板に衝突する際の氷粒子の速度は４００ｍ／ｓ以上、４５０ｍ／ｓ以下が好適である。氷粒子の質量は６．０２×１０−１４ｋｇ以上、６．０２×１０−１１ｋｇ以下が好ましい。また、氷粒子の粒径Φ（直径）（体積平均粒子径）は、好ましくは５μｍ以上、５０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上、２０μｍ以下である。
【００２９】
さらに氷粒子による下地樹脂（氷粒子が衝突する樹脂）へのキズを防ぐためには、下地樹脂の硬度が氷粒子のそれより硬くなるように、具体的には例えばビッカース硬度で２００以上となるように、下地樹脂を設けることが好ましい。
【００３０】
また基板上の樹脂等の剥がれを抑制するために、氷粒子が基板へ衝突する角度を制御することができる。この角度は、吐出口が設けられた面に対して４５°以上１３５°以下が好適であり、より好ましくは８０°以上１００°以下とする。なお、この角度が９０°の場合、吐出口表面に氷粒子が垂直に衝突する。
【００３１】
また、氷粒子の衝突時の雰囲気中に二酸化炭素を混入し、基板表面で発生する静電気による、基板上のデバイスへのダメージを低減させることが可能である。
【００３２】
また、洗浄効果を向上させる方法として、基板１を加熱または冷却する方法が挙げられる。例えば、噴出ノズル内で固体に転換できなかった液滴が基板表面で固化すると、氷粒子の基板への衝突による洗浄作用が阻害されることがある。基板を８０℃以上に加熱することで、このような現象を抑制し、氷粒子の衝突力を最大化させることが可能となる。また、例えば基板を−５０℃以下に冷却させることで、付着物の成分を脆弱化し、氷粒子衝突による洗浄を容易にすることも可能である。
【００３３】
図２（ｋ）は、氷粒子による洗浄後の状態を示す。
【００３４】
次いで、図２（ｌ）に示すように、ウェット除去装置において、溶媒を用いて、パターン１４を溶解させ、吐出口から溶出させて除去する。除去性を向上させるため、超音波を付与することが好適である。このときパターン１４を形成する樹脂が、残渣として被覆層表面に付着物１２が付着することがあり、これが吐出口からインクを良好に吐出できない原因となる。
【００３５】
次いで図２（ｍ）に示すように、図２（ｊ）に関して説明したのと同様に、氷粒子の衝突により付着物１２を洗浄する。
【００３６】
最後に、必要な電気的接続を行い（不図示）、インクジェット記録ヘッドを完成させることができる。
【実施例】
【００３７】
以下に実施例を示し、本発明についてさらに詳細に説明するが、本発明はこれによって限定されるものではない。
【００３８】
〔実施例１〕
まず、エネルギー発生素子２として電気熱変換素子が設けられた基板１を用意した（図２（ａ））。
【００３９】
次いで、ポリメチルイソプロペニルケトン（シクロヘキサノンを溶媒とした溶液。東京応化工業（株）製の商品名：ＯＤＵＲ−１０１０Ａ）を、基板上とスピンコート法（ソルベントコート法）で塗布した。その後１００℃／６分のベークを行い、厚みが１６μｍのポリメチルイソプロペニルケトン樹脂の樹脂層３を形成した（図２（ｂ））。
【００４０】
次いで、ポリメチルイソプロペニルケトン樹脂の樹脂層３に対して紫外線を照射し、次いで、メチルイソブチルケトンで現像し、パターニングして、流路のパターン１４を形成した（図２（ｃ））。
【００４１】
さらに、下記材料を含む塗布液を、パターン１４を被覆するように塗布し、被覆層１５を形成した（図２（ｄ））。
・エポキシ樹脂  商品名：ＥＨＰＥ３１５０（ダイセル化学（株）製）  １００質量部、
・シランカップリング剤  商品名：Ａ−１８７（日本ユニカー（株）製）  ５質量部、
・光酸発生剤  商品名：ＳＰ−１７２（アデカ（株）製）  ６質量部、
・塗布溶媒  キシレン  ６０質量部。
【００４２】
次いで、被覆層１５上に、加水分解性シランの縮合物によって形成されるシランをソルベントコートし、撥水層６となる層を形成した（図２（ｅ））。
【００４３】
次いで、露光量０．１４Ｊ／ｃｍ２にて、被覆層と、撥水層となる層を露光した後、９０℃／４分のベークを行った。次いで、メチルイソブチルケトンとキシレンの混合溶媒を用いて、現像し、吐出口７を形成した（図２（ｆ））。次いで、６０分のべークを行った。
【００４４】
次いで、撥水層６上に、異方性エッチング液から基板１表面を保護する天然ゴム成分を含む樹脂（キシレンおよびエチルベンゼンを溶媒とした）をスピンコートした。その後１４０℃／１５分のベークを行い、厚みがおよそ５０μｍの保護層８となる層を形成した（図２（ｇ））。
【００４５】
次に、基板１を、液温８３℃、濃度２２質量％のＴＭＡＨ（テトラ・メチル・アンモニウム・ハイドライド）の水溶液を用いて、異方性エッチングによりエッチングし、供給口９を形成した（図２（ｈ））。
【００４６】
次いで、キシレンを用いて、保護層８を除去した（図２（ｉ））。このとき、撥水層６上に、保護層８を構成する材料を成分とする微量な付着物１０が残っていた。
【００４７】
次いで、氷粒子１１（図において、氷粒子の流れを矢印で示す。）が基板１に対して衝突する衝突力を用いて、付着物１０を洗浄除去した（図２（ｊ））。
【００４８】
このとき、氷粒子を生成するための噴出ノズル（以下、単に「ノズル」と呼ぶことがある。）を使用した。このノズルは、ノズル内に供給された純水と圧縮ガスとを混合し、ガスの断熱膨張作用を利用して純水を急冷却させることにより、氷粒子を生成および噴射することができる。そのノズルへ純水と圧縮ガスを供給し、連続的に高速で噴射される氷粒子を生成した。このとき、ノズルと基板とのクリアランスを２０ｍｍ、ノズルが基板上を走査する速度を１ｍｍ／ｓｅｃ、圧縮ガス圧力を０．６ＭＰａ、基板に対するノズル角度（したがって、氷粒子が基板へ衝突する角度）を９０°とした。
【００４９】
また、ノズルに供給する水の量と圧縮ガスの圧力を調節することにより、氷粒子の運動エネルギーを表１に示す値にした。なお、表１において、「Ｅ」は１０のべき乗を表し、例えば「６．０２Ｅ−１４」は「６．０２×１０−１４」を意味する。
【００５０】
付着物１０を除去した段階（図２（ｋ））で吐出口表面を観察し、氷粒子による洗浄に関して以下の評価を行った。結果を表１に示す。
【００５１】
（評価）
吐出口表面を観察した。洗浄性については、付着物をほぼ完全に洗浄できたものを○、付着物が僅かに残ったが実用上問題無いものを△、付着物が残り実用上問題になる可能性があるものを×とした。またダメージ抑制については、吐出口表面に対してキズ、破壊、剥がれ等が認められなかったものを○、ダメージが多く認められたものを×とした。
【００５２】
〔実施例２〜６、比較例１〜１０〕
これらの例においては、付着物１０を除去するため氷粒子による洗浄における条件をそれぞれ表１に示すように変更した以外は、実施例１と同様にして付着物１０を除去した段階（図２（ｋ））の記録ヘッドを製造し、評価した。
【００５３】
氷粒子の粒径はノズル内へ供給する水流量が少ないほど小さくなり、微小な付着物を洗浄するのに有効となる。これはノズル内に供給された数ｎｍサイズの霧状の純水の量が少ないため、当該量が多いときに比べ、より効率的に冷却されるからである。ここではノズル角度は変えずに、水流量つまり氷粒子の質量と、圧縮ガスつまり氷粒子の速度を変えることで運動エネルギーを変化させ、洗浄性とダメージ抑制を評価する実験を行った。
【００５４】
〔実施例７〜１２、比較例１１〜２０〕
これらの例のいずれにおいても、実施例１と同様にして付着物１０を除去した段階（図２（ｋ））の記録ヘッドを製造した。
【００５５】
次いで、ウェット除去装置内で、溶媒として乳酸メチルを用いて、４０℃下で、超音波を付与し、ポリメチルイソプロペニルケトンのパターン１４を除去した（図２（ｌ））。このとき、撥水層６上に、樹脂層３に由来する微量な付着物１２が残っていた。
【００５６】
次いで、実施例１で付着物１０に対して実施した洗浄操作と同様にして、付着物１２を、氷粒子１１が基板１に対して衝突する衝突力を用いて洗浄した（図２（ｍ））。ただし、洗浄の際の条件は表１に示すとおりとした。
【００５７】
付着物１２を除去した後の段階（図２（ｎ））で吐出口表面を観察し、氷粒子による洗浄に関して前記と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【００５８】
次いで、ベークを行い、被覆層１５を完全に硬化させた（不図示）。最後に、必要な電気的接続を行い（不図示）、インクジェット記録ヘッドが完成した。
【００５９】
表１の結果から、付着物１０および１２のどちらに対しても洗浄性とダメージ抑制を両立したのは、次の実施例であった。
実施例１、７：運動エネルギー１．２２×１０−８（ｋｇ・ｍ２・ｓ−２）
（ｍ＝６．０２×１０−１４  ｋｇ、ｖ＝４５０  ｍ／ｓ）。
実施例２、８：運動エネルギー７．７１×１０−８（ｋｇ・ｍ２・ｓ−２）
（ｍ＝４．８２×１０−１３  ｋｇ、ｖ＝４００  ｍ／ｓ）。
実施例３、９：運動エネルギー９．７６×１０−８（ｋｇ・ｍ２・ｓ−２）
（ｍ＝４．８２×１０−１３  ｋｇ、ｖ＝４５０  ｍ／ｓ）。
実施例４、１０：運動エネルギー６．１６×１０−７（ｋｇ・ｍ２・ｓ−２）
（ｍ＝３．８５×１０−１２  ｋｇ、ｖ＝４００  ｍ／ｓ）。
実施例５、１１：運動エネルギー７．８０×１０−７（ｋｇ・ｍ２・ｓ−２）
（ｍ＝３．８５×１０−１２  ｋｇ、ｖ＝４５０  ｍ／ｓ）。
実施例６、１２：運動エネルギー９．６３×１０−６（ｋｇ・ｍ２・ｓ−２）
（ｍ＝６．０２×１０−１１  ｋｇ、ｖ＝４００  ｍ／ｓ）。
【００６０】
なお、付着物１０の洗浄性、付着物１２の洗浄性のいずれについても、洗浄性が良いことは、製造される記録ヘッドの吐出安定性向上に寄与する。
【００６１】
【表１】
2018001623.tif 000003
【符号の説明】
【００６２】
１    基板
２    エネルギー発生素子
４    流路
５    流路形成部材
７    吐出口
８    保護層
９    供給口
１０  付着物（保護層８成分）
１１  氷粒子
１２  付着物（樹脂層３成分）
１４  流路形状を有するパターン
１５  被覆層
【図１】
2018001623.tif 000004
【図２−１】
2018001623.tif 000005
【図２−２】
2018001623.tif 000006