(57)【要約】【課題】転写後のレジストが凹み欠陥のない良好な転写状態である、ドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルムを提供する。【解決手段】フィルムヘイズが１．０％未満のポリエステルフィルムであり、前記ポリエステルフィルムの少なくとも一方の表面に付着する付着物のうち、付着物を外接直方体で囲み、その外接直方体の最も長い一辺を長さ（ｌ）、最も短い一辺を厚さ（ｔ）、残りの一辺を幅（ｂ）と定義した場合に、（長さ（ｌ）＋幅（ｂ））／２が５０μｍ以上であり、かつ、厚さ（ｔ）が１０μｍ以上の付着物が、３個以下／１ｍ２である、ドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルム。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルムヘイズが１．０％未満のポリエステルフィルムであり、前記ポリエステルフィルムの少なくとも一方の表面に付着する付着物のうち、付着物を外接直方体で囲み、その外接直方体の最も長い一辺を長さ（ｌ）、最も短い一辺を厚さ（ｔ）、残りの一辺を幅（ｂ）と定義した場合に、（長さ（ｌ）＋幅（ｂ））／２が５０μｍ以上であり、かつ、厚さ（ｔ）が１０μｍ以上の付着物が、３個以下／１ｍ２であることを特徴とする、ドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項２】
請求項１記載のドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルムを巻き取ってなるドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルムロールの製造方法であって、ポリエステルフィルムの巻取り時に、粘着ロールおよび／または除塵器による除塵処理を行うことを特徴とする、ドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルムロールの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
ドライフィルムフォトレジストは、プリント配線基板、半導体パッケージ、フレキシブル基板などの回路を形成するために用いられている。ドライフィルムフォトレジストは、感光性樹脂層（フォトレジスト層）を、支持体としてのポリエステルフィルム上に積層させた後、低密度ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルムやポリエステルフィルムなどからなる保護フィルム（カバーフィルム）で挟んだ構造をしている。導体回路を作成するには、一般的に次のような工程で行われる。
１）ドライフィルムフォトレジストから保護フィルムを剥離し、露出したレジスト層の表面と、基板上の銅箔などの導電性基材層の表面とが密着するように、基板・導電性基材層とラミネートする工程。２）次に、導体回路パターンを焼き付けたフォトマスクを、ポリエステルフィルムからなる支持体上に置き、その上から、感光性樹脂を主体としたレジスト層に紫外線（例えば３６５ｎｍにピークを有するＩ線、４０５ｎｍにピークを有するＨ線）を照射して、露光させる工程。３）その後、フォトマスクおよびポリエステルフィルムを剥離した後、溶剤によってレジスト層中の未反応分を溶解、除去する工程。４）次いで、酸などでエッチングを行い、導電性基材層中の露出した部分を溶解、除去する工程。
４）の工程の後には、レジスト層中の光反応部分とこの光反応部分に対応する導電性基材層部分がそのまま残り、その後、残ったレジスト層を除去する工程を経て、基板上の導体回路が形成されることになる。近年、当該技術を用いて、薄膜であっても防錆性を有し、フィルム性に優れ、屈折率が高い保護膜を有する保護膜付きタッチパネル用基材への適用が行われるようになって来た。銅やＩＴＯ（酸化インジウムスズ）の転写と併せて、保護膜付与により額縁金属配線に隠蔽性を持たせる、ＩＴＯ膜の酸化防止・ぎらつき防止を図るといった性能を付加している。この場合、銅・ＩＴＯ層は露光・エッチングによりマスキング部以外は除去されるが、当該保護膜はタッチパネル部材として残る。
【０００３】
保護膜のレジストは柔らかいため、カバーフィルム・ベースフィルム共に、転写面表面にはフィルム内異物に起因する突起や、フィルムの削れに起因する付着物があると、レジストに凹み欠点を作ってしまい、タッチパネル形成後の外観欠陥となる。これまで、フィルム最表層の粒子の径・添加量、表面粗さおよびポリエステル中の金属含有凝集体の個数を規定したドライフィルムフォトレジスト用積層ポリエステルフィルム（例えば、特許文献１）や、易滑層を設けることで透明性、滑り性、帯電防止特性および耐削れ性に優れたドライフィルムフォトレジスト用ポリエステルフィルム（例えば、特許文献２）が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−７７６４６号公報
【特許文献２】特開２０１０−３２６０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、これら前記の提案でも、ポリエステルフィルム表面に微細な付着物があり、一定の大きさ・高低差を有していると、ポリエステルフィルムを介して挟み込んだレジストに凹み欠点を作ってしまい、タッチパネル形成後の外観欠陥となる。この事情に鑑み、本発明は、転写後のレジストが凹み欠陥のない良好な転写状態である、ドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、以下の特徴を有する。即ち、フィルムヘイズが１．０％未満のポリエステルフィルムであって、前記ポリエステルフィルムの少なくとも一方の表面に付着する付着物のうち、付着物を外接直方体で囲み、その外接直方体の最も長い一辺を長さ（ｌ）、最も短い一辺を厚さ（ｔ）、残りの一辺を幅（ｂ）と定義した場合に、（長さ（ｌ）＋幅（ｂ））／２が５０μｍ以上であり、かつ、厚さ（ｔ）が１０μｍ以上の付着物が、３個以下／１ｍ２であることを特徴とする、ドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルムである。また前記ドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルムを巻き取ってなるドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルムロールの製造方法であって、ポリエステルフィルムの巻取り時に、粘着ロールおよび／または除塵器による除塵処理を行うことを特徴とする、ドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルムロールの製造方法である。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、転写後のレジストが凹み欠陥のない良好な転写状態である、ドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルムを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】付着物を外接直方体で囲んだ一例を模式的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明のドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルムは、ポリエステルフィルムの少なくとも一方の表面に付着する付着物のうち、付着物を外接直方体で囲み、その外接直方体の最も長い一辺を長さ（ｌ）、最も短い一辺を厚さ（ｔ）、残りの一辺を幅（ｂ）と定義した場合に、（長さ（ｌ）＋幅（ｂ））／２が５０μｍ以上であり、かつ、厚さ（ｔ）が１０μｍ以上の付着物が、３個以下／１ｍ２であることが必要である。上記を満たすことにより、転写後のレジストが凹み欠陥のない良好な転写状態を実現し得る。より好ましくは、１個以下／１ｍ２であり、特に好ましくは、ポリエステルフィルムの両表面ともに上記の付着物が実質的に存在しないことである。ポリエステルフィルムの表面に付着する付着物を減らす方法は特に限定されるものではないが、例えば、ポリエステルフィルムの巻取り時に、粘着ロールおよび／または除塵器による除塵処理を行うことが挙げられる。
【００１０】
本発明にかかるドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルムは、ポリエステル樹脂を主成分とする２層以上の積層構造を有することが好ましい。そして、一方の面（該面を表面（Ａ）とする）の中心線平均表面粗さＳＲａ（Ａ）が７ｎｍ未満且つ十点平均表面粗さＳＲｚ（Ａ）が４００ｎｍ未満であり、もう一方の面（該面を表面（Ｂ）とする）はＳＲａ（Ｂ）が１０ｎｍ未満且つＳＲｚ（Ｂ）が７００ｎｍ未満であることが好ましい。より好ましくはＳＲｚ（Ａ）が１００ｎｍ未満且つＳＲｚ（Ｂ）が１００ｎｍ以上７００ｎｍ未満で、表面（Ａ）と表面（Ｂ）とで差異があることが性能とハンドリングを両立する意味で好ましい。本発明のポリエステルフィルムは、フォトレジスト支持体用に用いるときには、表面（Ａ）側にレジスト層を積層して用いることが好ましい。該範囲の表面粗さを達成することにより、露光時にフィルム表面での反射の影響を抑える適切な平滑性が得られ、高精細なレジストパターンを形成することが可能であり、同時に加工時のハンドリング性を得られる。ＳＲａ（Ａ）が７ｎｍ以上、若しくはＳＲｚ（Ａ）が４００ｎｍ以上の場合、フィルムよりレジスト面に転写される凹凸と凹凸による露光工程での光の入射角が不均一になることによる光の反射や散乱の影響により、レジストパターンの抜けが生じることがあり不適である。ＳＲａ（Ａ）は３ｎｍ以上６ｎｍ未満であることがより好ましく、ＳＲｚ（Ａ）は５０ｎｍ以上１００ｎｍ未満であることがより好ましい。一方で、ＳＲａ（Ｂ）は３ｎｍ以上１０ｎｍ未満且つＳＲｚ（Ｂ）が１００ｎｍ以上７００ｎｍ未満であることが必要である。本発明のポリエステルフィルムのＡ面側にレジスト層を積層し、その上にカバーフィルムを貼合し巻き取った際には、Ｂ面側はカバーフィルムと接する面となる。ＳＲａ（Ｂ）が３ｎｍ未満若しくはＳＲｚ（Ｂ）が１００ｎｍ未満となると、レジスト塗布工程にてハンドリング性が悪化し、塗布が不安定となり、塗布斑が発生することや、塗布後の巻き取り時に、噛み込んだ空気が抜けにくくなることによる、巻きズレを起こすことがあるため、不適である。また、ＳＲａ（Ｂ）が１０ｎｍ以上若しくはＳＲｚ（Ｂ）が７００ｎｍ以上の場合は、表面に形成された凹凸により露光工程での光の入射角が不均一になるにことによる光の反射や散乱の影響により、レジストパターンを形成する際のノイズとなるため、不適である。また、転写後のレジストに凹み欠陥を形成するため、好ましくない。ＳＲａ（Ｂ）は５．５ｎｍ以上１０ｎｍ未満であることがより好ましく、ＳＲｚ（Ｂ）は１００ｎｍ以上５００ｎｍ未満であることがより好ましい。Ａ層、Ｂ層の表面粗さを上述の範囲とするには、Ａ面を有する層（Ａ層）およびＢ面を有する層（Ｂ層）を構成するポリエステル樹脂に、後述する特定の有機粒子あるいは無機粒子を特定量含有させることによって達成出来る。
【００１１】
なおカバーフィルムには低密度ポリエチレンフィルムやポリプロピレンフィルムが用いられることが多いが、当該二軸配向ポリエステルフィルムをカバーフィルムに用いることも出来る。この場合、Ａ面側がレジスト層と接する側とするのがレジスト層への転写欠陥を抑えるのに好ましい。
ポリエステルフィルムに高い透明性を付与するためには、Ａ面を有する層およびＢ面を有する層の粒子量をコントロールしながら、Ａ層とＢ層の間に存在する中間層（Ｃ層）を例えば実質的に粒子を含まない構成にすることが好ましい。
【００１２】
また、本発明のポリエステルフィルムは、二軸配向していることが必要である。本発明における、二軸配向とは、未延伸（未配向）フィルムを、常法により、二次元方向に延伸された状態（広角Ｘ線回折で二軸配向のパターンを示すもの）を指す。延伸は、逐次二軸延伸、同時二軸延伸を採ることができる。逐次二軸延伸は、長手方向（縦）および幅方向（横）に延伸する工程を、縦−横の１回ずつ実施することもできるし、縦−横−縦−横など、２回ずつ実施することもできるが、これに限定されるものではない。
【００１３】
本発明において、ポリエステル樹脂を主成分とするとは、少なくとも７０モル％以上が、ジカルボン酸とジオール、およびそれらのエステル形成性誘導体を主たる構成成分とする単量体または低重合体からの重合により得られるポリエステルである。本発明では、ジカルボン酸としては、芳香族ジカルボン酸を用いることが好ましい。
【００１４】
芳香族ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、などであり、とくにはテレフタル酸が好ましい。これらの酸成分は１種のみ用いてもよく、２種以上併用してもよく、イソフタル酸など他の芳香族ジカルボン酸、あるいは脂肪酸を一部共重合してもよい。
【００１５】
また、ジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、などを挙げることができる。中でもエチレングリコールが好ましく用いられる。これらのジオール成分は１種のみ用いてもよく、２種以上併用してもよい。
【００１６】
本発明のドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルムに用いられるポリエステルとして、好ましくは、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、およびその共重合体、ポリブチレンテレフタレートおよびその共重合体、ポリブチレンナフタレートおよびその共重合体、さらにはポリヘキサメチレンテレフタレートおよびその共重合体、ポリヘキサメチレンナフタレートおよびその共重合体等を挙げることができ、特に性能及び経済性の観点から、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。
【００１７】
本発明に使用するポリエステルは、従来から知られている方法で製造することができる。例えば、酸成分をジオール成分と直接エステル化反応させた後、この反応の生成物を減圧下で加熱して余剰のジオール成分を除去しつつ重縮合させることによって製造する方法や、酸成分としてジアルキルエステルを用い、これとジオール成分とでエステル交換反応させた後、上記と同様に重縮合させることによって製造する方法などが採用できる。この際、必要に応じて、反応触媒として従来公知のアルカリ金属、アルカリ土類金属、マンガン、コバルト、亜鉛、アンチモン、ゲルマニウム、チタン化合物などを用いることもできる。
【００１８】
上記ポリエステルの固有粘度は、０．５０ｄｌ／ｇ以上 ０．８０ｄｌ／ｇ未満が好ましい。さらに好ましくは、０．５５ｄｌ／ｇ以上０．７０ｄｌ／ｇ未満である。
【００１９】
本発明のドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルムは、フィルムの全厚みが１０μｍ以上５０μｍ未満であることが好ましい。特に好ましくは１２μｍ以上４０μｍ未満である。全厚みが１０μｍ未満では、強度が不足し加工工程での取り扱いが難しくなることがあり、５０μｍ以上ではヘイズ値を本発明範囲内にすることが難しくなる場合がある。
【００２０】
本発明におけるポリエステルフィルムにおいては、寸法変化率が、下記の範囲内であるとＤＦＲ加工工程での熱収縮による歪みやシワの発生を抑制できるため好ましい。寸法変化率は、製膜条件における弛緩・熱処理等の条件を公知の方法により適宜調整することにより達成出来る。１５０℃における寸法変化率は長手方向で３％未満、幅方向で２．５％未満が好ましく、長手方向で０．５％以上２％未満、幅方向で１％以上２％未満がさらに好ましい。また、１００℃における寸法変化率は長手方向、幅方向ともに１％未満が好ましく、０．８％未満であるとさらに好ましい。該寸法変化率において上記範囲の下限を下回ると、レジスト層を塗布する際にタルミによる平面性不良が発生し、上限を上回ると、レジスト層を塗布する際に収縮によりトタン状に収縮斑が発生し平面性不良となり、いずれの場合もレジスト層の塗布厚みに斑を生じさせることがある。
【００２１】
また、長手方向のフィルムが５％伸張したときの強度（以降この値のことをＦ−５値と称する）が７０ＭＰａ以上１５０ＭＰａ未満であることが好ましい。長手方向のＦ−５値が７０ＭＰａ未満では強度不足により傷の発生などにより加工特性が悪くなる場合がある。一方、長手方向のＦ−５値が１５０ＭＰａ以上では幅方向のＦ−５値との両立が困難となる場合がある。長手方向のＦ−５値は、好ましくは、８０ＭＰａ以上１４０ＭＰａ未満、さらに好ましくは９０ＭＰａ以上１３０ＭＰａ未満である。
【００２２】
さらに、幅方向のＦ−５値が８０ＭＰａ以上１６０ＭＰａ未満であることが好ましい。幅方向のＦ−５値が８０ＭＰａ未満では強度不足による傷の発生などによる加工特性が悪くなる場合があり、１６０ＭＰａ以上では長手方向のＦ−５値との両立が難しくなる場合がある。好ましくは９０ＭＰａ以上１５０ＭＰａ未満であり、さらに好ましくは１００ＭＰａ以上１４０ＭＰａ未満である。
【００２３】
また、長手方向の破断強度は２００ＭＰａ以上３６０ＭＰａ未満であるのが好ましく、２２０ＭＰａ以上３４０ＭＰａ未満の場合がさらに好ましい。幅方向の破断強度については２６０ＭＰａ以上４２０ＭＰａ未満であるのが好ましく、とくに好ましくは２８０ＭＰａ以上４００ＭＰａ未満である。
【００２４】
上記、Ｆ−５値および破断強度は縦方向および横方向の延伸温度、延伸倍率を適宜調整することで達成できる。
【００２５】
本発明のポリエステルフィルムでは、フィルムヘイズは１．０％未満であることが必要である。１．０％以上になると、ポリエステルフィルムにレジスト層を積層した後、紫外線を照射して露光するにあたってのレジスト層の支持体であるポリエステルフィルムによる紫外光線の散乱が大きくなるため、現像後のレジストのパターニングにゆがみや、抜け、レジストパターン壁面の状態が悪化する。また、ポリエステルフィルムの透過率を阻害する。
【００２６】
表面を構成するポリエステル層に含有する粒子としては、有機、無機の粒子を用いることができるが、例えば、酸化珪素、炭酸カルシウム、凝集アルミナ、珪酸アルミニウム、マイカ、クレー、タルク、硫酸バリウムなどを、有機系としては、例えば、ポリイミド系樹脂、オレフィンあるいは変性オレフィン系樹脂、架橋ポリスチレン系樹脂、シリコーン樹脂などを挙げることができる。これらの粒子の採用にあたっては、光線透過率およびヘイズ値の上昇を抑制するため、粒子表面を界面活性剤などで表面改質し、ポリエステルとの親和性を改善する方法が添加粒子周辺でのボイド発生を抑制する点で好ましく採用できる。また、粒子形状が球状に近く、さらに、ポリエステルとの屈折率の差が少ない方が、フィルム層内を紫外線が通過時の散乱光を抑制することができ好ましく、コロイダルシリカ、有機粒子がとくに好ましく、さらに、シリコーン粒子、架橋ポリスチレン粒子が好適である。中でも、乳化重合で調整された、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体からなる架橋ポリスチレン粒子は粒子形状が真球に近く、粒子径分布が均一であり、均一な突起形成を図ることが可能で好ましい。
【００２７】
本発明のポリエステルフィルムは、２層以上の積層構造を有するポリエステルフィルムであることが好ましい。２層の積層構造を有するフィルムとしては、Ａ層／Ｂ層からなるものが挙げられる。３層の積層構造を有するフィルムとしては、Ａ層／Ｃ層（中間層）／Ａ層ないしＡ層／Ｃ層／Ｂ層からなるものが挙げられる。表層部であるＡ層およびＢ層に含有する粒子種、平均粒子径、含有量は、異なっても良い。表層を構成するポリエステル層には、粒子を塗布工程にて添加してもよく、粒子の分散性の観点から、粒子を含有するポリエステル樹脂組成物を用いて、共押出し法により溶融製膜して得てもよい。
【００２８】
上記構成において、フィルムの表面を構成する層（Ａ層、Ｂ層）の積層厚さは０．１μｍ以上２μｍ未満が好ましく、更に好ましくは０．４μｍ以上１．８μｍ未満である。０．１μｍ未満の場合にはポリエステル層に添加した粒子の脱落が大きくなり、２μｍ以上になると前述したヘイズを達成するためには添加している粒子の平均径および添加量を更に減少することが必要になり、加工特性との両立が難しくなる場合がある。
【００２９】
Ａ層、Ｂ層には、さらに、前記した粒子とともに、凝集アルミナを含有させることもできる。ここで、凝集アルミナは、平均一次粒子径が５ｎｍ以上３０ｎｍ未満の粒子が数個から数百個凝集したものを表す。凝集アルミナの平均一次粒子径は、８ｎｍ以上１５ｎｍ未満の平均一次粒子径であることがより好ましい。当該凝集アルミナは、無水塩化アルミニウムを原料として火焔加水分解法、あるいはアルコキシドアルミナの加水分解などによって製造されたものが採用できる。凝集アルミナは、結晶型としてδ型、θ型、γ型などが知られているが、とくにδ型アルミナが好適に使用できる。これらの凝集アルミナについて、ポリエステル重合時に添加することで使用に供せるが、例えば、ポリエステル重合時の原料の一部であるエチレングリコールのスラリーとして、サンドグラインダーなどの粉砕、分散を行い、精密濾過を行うことによって、平均二次粒子径が０．０１μｍ以上０．２μｍ未満の凝集アルミナを得ることができる。このようにして得られた凝集アルミナをフィルム中に添加した場合、二軸延伸によって、面方向に配置されるため、実質的突起を形成せず、表面粗さへの影響が少なく、また、透過性が良いため、光線透過率およびヘイズ値の劣化を抑制できる。凝集アルミナを含有せしめることにより、フィルム表面の地肌補強効果が大きく得られ、耐摩耗性が向上し、延伸時のロールとの接触時に発生する凹み欠点を抑制するという効果が得られる。凝集アルミナは表層（Ａ層、Ｂ層）を構成するポリエステル樹脂組成物に含有させることが好ましく、その含有量はポリエステル樹脂組成物全体に対して０．１重量％以上５重量％未満が好ましい。
【００３０】
次に本発明のドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルムの製造方法について説明する。共押出し法による溶融製膜におけるポリエステルに不活性粒子を含有せしめる方法としては、例えばジオール成分であるエチレングリコールに不活性粒子を所定割合にてスラリーの形で分散せしめ、例えば３μｍ以上の粗大粒子を９５％以上捕集できる高精度濾過を行った後、このエチレングリコールスラリーをポリエステル重合完結前の任意段階で添加する。ここで、粒子を添加する際には、例えば、粒子を合成時に得られる水ゾルやアルコールゾルを一旦乾燥させることなく添加すると粒子の分散性が良好であり、粗大突起の発生を抑制でき好ましい。また粒子の水スラリーを直接、所定のポリエステルペレットと混合し、ベント方式の２軸混練押出機に供給しポリエステルに練り込む方法も本発明の効果に有効である。
【００３１】
このようにして、各層のために準備した、粒子含有マスターペレットと粒子などを実質的に含有しないペレットを所定の割合で混合し、乾燥したのち、公知の溶融積層用押出機に供給する。本発明のドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルムの製造における押出機は、１軸、２軸の押出機を用いることができる。また、ペレットの乾燥工程を省くために、押出機に真空引きラインを設けた、ベント式押出機を用いることもできる。また、中間層を設ける場合には、最も押出量が多くなるため、ペレットを溶融する機能と、溶融したペレットを一定温度に保つ機能をそれぞれの押出機で分担する、いわゆるタンデム押出機を用いることができる。本発明のドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルムにおける表面を構成する層の押し出しには、二軸式ベント式押出機を用いることが、粒子の分散性を良好に保てるので好ましい。
【００３２】
押出機で溶融して押出したポリマーは、フィルターにより濾過する。ごく小さな異物もフィルム中に入ると粗大突起欠陥となるため、フィルターには例えば５μｍ以上の異物を９５％以上捕集する高精度のものを用いることが有効である。続いてスリット状のスリットダイからシート状に押し出し、キャスティングロール上で冷却固化せしめて未延伸フィルムを作る。すなわち、複数の押出機、複数層のマニホールドまたは合流ブロック（例えば矩形合流部を有する合流ブロック）を用いて積層し、口金からシートを押し出し、キャスティングロールで冷却して未延伸フィルムを作る。この場合、背圧の安定化および厚み変動の抑制の観点からポリマー流路にスタティックミキサー、ギヤポンプを設置する方法は有効である。
【００３３】
延伸方法は同時二軸延伸であっても逐次二軸延伸であってもよい。逐次延伸の場合、最初の長手方向の延伸が重要であり延伸温度は好ましくは９０℃以上１３０℃未満、更に好ましくは１００℃以上１２５℃未満である。延伸温度が９０℃未満になるとフィルムが破断しやすく、延伸温度が１３０℃以上になるとフィルム表面が熱ダメージを受けやすくなるため好ましくない。また、延伸ムラ、およびキズを防止する観点からは延伸は２段階以上に分けて行うことが好ましく、トータル倍率は長さ方向に好ましくは３倍以上４．５倍未満、更に好ましくは３．５倍以上４．３倍未満であり、幅方向に好ましくは３．２倍以上５倍未満、更に好ましくは４．０倍以上４．６倍未満である。目標とするフィルムの破断強度を達成するため、適時倍率を選択できる。かかる温度、倍率範囲をはずれると延伸ムラあるいはフィルム破断などの問題を引き起こし、本発明の特徴とするフィルムが得られにくいため好ましくない。再縦または横延伸した後、好ましくは２００℃以上２３０℃未満、更に好ましくは２１０℃以上２３０℃未満で好ましくは０．５秒以上２０秒未満、更に好ましくは１秒以上１５秒未満の熱固定を行う。とくに熱固定温度が２００℃未満になるとフィルムの結晶化が進まないために構造が安定せず、目標とする熱収縮率などの特性が得られず好ましくない。その後、長手及び／又は幅方向に０．１％以上７．０％未満の弛緩処理を施すことが好ましい。
【００３４】
さらに延伸ロールの表面粗さＲａは好ましくは０．００５μｍ以上１．０μｍ未満、更に好ましくは０．１μｍ以上０．６μｍ未満である。Ｒａが１．０μｍ以上だと延伸時ロール表面の凸凹がフィルム表面に転写するため好ましくなく、一方０．００５μｍ未満だとロールとフィルム地肌が粘着し、フィルムが熱ダメージを受けやすくなるため好ましくない。延伸ロールの表面粗さを制御するためには、延伸ロールを研磨する研磨剤の粒度や、延伸ロールを研磨する回数などを適宜調整することが有効である。とくに延伸ロールについては、フィルム表面の凹み欠点の原因と懸念されるポリエステルの分解物、オリゴマーの付着、蓄積を回避するため、延伸ロールの研磨の回数を高くすることが好ましい。
【００３５】
さらに、延伸部におけるロールとフィルムのトータルの接触時間は好ましくは０．１秒未満、更に好ましくは０．０８秒未満にすることがフィルムを製造する上で特に有効である。延伸ロールとフィルムの接触時間が０．１秒以上だと、延伸ロールの熱によりフィルム表面のみが局所的に加熱され、引いては熱負荷時の微小平面性悪化を引き起こすこともあり、あるいは、フィルムに傷を発生する場合がある。接触時間を短くする方法としては、例えばフィルムを延伸ロールに巻き付けず、ニップロール間で平行に延伸する方法が有効である。
【００３６】
二軸延伸後のフィルムは、搬送工程にて冷却させた後、エッジを切断後巻取り、中間製品を得る。この搬送工程にて、フィルムの厚みを測定し、該データをフィードバックして用いてダイ厚みなどの調整によってフィルム厚みの調整を行い、また、欠点検出器による異物検知を行う。エッジの切断時には、切粉の発生を抑制することが、本発明のドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルムにおいて好ましい。エッジの切断は丸刃、シェアー刃、ストレート刃を使用して行うが、ストレート刃を用いる場合は、刃がフィルムに当たる箇所を、常に同じ箇所にさせないことが、刃の摩耗を抑制できるため好ましい形態である。このため刃を上限までオシレーションする機構を有することが好ましい。また、フィルム切断箇所に吸引装置を設けて、発生した切り粉や、切断後のフィルム端部同士が削れて発生する削れ粉を吸引することが好ましい。
【００３７】
中間製品はスリット工程により所望の幅・長さにスリットして巻き取り、本発明のドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルムのロールが得られる。スリット工程におけるフィルムの切断時も、先述のエッジの切断と同様な切断の方式から選定できる。スリット時、粘着ロール且つあるいは除塵器による除塵処理が施されていることが本発明のポリエステルフィルムを得るためには好ましい。
【実施例】
【００３８】
以下、実施例で本発明を詳細に説明する。
本発明に関する測定方法、評価方法は次の通りである。
【００３９】
（１）フィルム表面粗さ（ＳＲａ、ＳＲｚ値）
三次元微細表面形状測定器（ 小坂製作所製ＥＴ−３５０Ｋ）を用いて測定し、得られた表面のプロファイル曲線より、ＪＩＳ・Ｂ０６０１に準じ、中心線平均表面粗さＳＲａ値、十点平均表面粗さＳＲｚ値を求める。測定条件は下記のとおり。
Ｘ 方向測定長さ： ０．５ｍｍ、Ｘ方向送り速度： ０．１ｍｍ／ 秒。
Ｙ 方向送りピッチ： ５μm、Ｙ方向ライン数： ４０本。
カットオフ： ０．２５ｍｍ。
触針圧： ０．０２ｍＮ。
高さ（Ｚ方向） 拡大倍率： ５万倍。
【００４０】
（２）フィルムのヘイズ
ＪＩＳ  Ｋ７１０５−１９８１に準じ、フィルム幅方向の中央部から、長手４．０ｃｍ×幅３．５ｃｍの寸法に切り出したものをサンプルとし、ヘイズメーター（スガ試験機製ＨＧＭ−２ＤＰ（Ｃ光源用））を用いて測定する。
【００４１】
（３）付着異物のサイズ同定
ドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルムの付着異物のサイズは、以下のような手順で求めた。
【００４２】
巻き取った製品ロール外層よりフィルムを繰り出し、１５００ルクスのバックライトを当て、１ｍ×１ｍの視野における目視カウント・マーキングを実施する。マーキングした欠点を切り出し、レーザー顕微鏡下で観察を行い、付着物を外接直方体で囲み、その外接直方体の最も長い一辺を長さ（ｌ）、最も短い一辺を厚さ（ｔ）、残りの一辺を幅（ｂ）として求め、（長さ（ｌ）＋幅（ｂ））／２が５０μｍ以上であり、かつ、厚さ（ｔ）が１０μｍ以上の付着物の数を求めた。
【００４３】
（４）ドライフィルムフォトレジストの凹み評価
ドライフィルムフォトレジストの凹み評価方法は、以下のような手順で行った。
（ｉ）片面鏡面研磨した６インチＳｉウエハー上に、東京応化（株）製のネガレジスト“ＰＭＥＲ Ｎ−ＨＣ６００”を塗布し、大型スピナーで回転させることによって厚み７μｍのレジスト層を作製した。次いで、窒素循環の通風オーブンを用いて７０℃の温度条件で、約２０分間の熱処理を行った。
（ｉｉ）ポリエステルフィルムをレジスト層と接触するように重ね、ゴム製のローラーを用いて、レジスト層上にポリエステルフィルムをラミネートし、その状態で１週間保管した。
（ｉｉｉ）ラミネート体の表面状態を１ｍ×１ｍの視野に渡り、１００ルーメンのＬＥＤライト下で目視確認し、凹み欠点がないか確認した。
【００４４】
[実施例１]
（１）ポリエステルペレットの作成
（ポリエステルＡの作成）
テレフタル酸８６．５重量部とエチレングリコール３７．１重量部を２５５℃で、水を留出しながらエステル化反応を行う。エステル化反応終了後、トリメチルリン酸０．０２重量部、酢酸マグネシウム０．０６重量部、酢酸リチウム０．０１重量部、三酸化アンチモン０．００８５重量部を添加し、引き続いて、真空下、２９０℃まで加熱、昇温して重縮合反応を行い、固有粘度０．６３ｄｌ／ｇのポリエステルペレットを得た。
（ポリエステルＢ、ＣおよびポリエステルＤの作成）
さらに別に、モノマーを吸着させる方法によって得た体積平均粒子径０．３μｍ、体積形状係数ｆ＝０．５１のジビニルベンゼン／スチレン共重合架橋粒子の水スラリーを、上記の実質的に粒子を含有しないホモポリエステルペレットに、ベント式二軸混練機を用いて含有させ、体積平均粒子径０．３μmのジビニルベンゼン／スチレン共重合架橋粒子をポリエステルに対し１重量％含有するマスターペレットを得る（ポリエステルＢ）。
【００４５】
体積平均粒子径０．４５μｍ、０．８μｍのジビニルベンゼン／スチレン共重合架橋粒子含有マスターペレットは、ポリエステルに対しそれぞれ１重量％含有するマスターペレットを同様にして得た（それぞれポリエステルＣ、ポリエステルＤ）
（ポリエステルＥの作成）
上記と同様にポリエステルを製造するにあたり、エステル交換後、体積平均粒子径０．２μm、体積形状係数ｆ＝０．５１、体積平均粒子径０．１μｍ、体積形状係数ｆ＝０．５１、モース硬度７の球状シリカをそれぞれ添加し、重縮合反応を行い、粒子をポリエステルに対し１重量％含有するシリカ含有マスターペレットを得た（ポリエステルＥ）。なお、用いる球状シリカは、エタノールとエチルシリケートとの混合溶液を攪拌しながら、この混合溶液に、エタノール、純水、および塩基性触媒としてアンモニア水からなる混合溶液を添加し、得られた反応液を攪拌して、エチルシリケートの加水分解反応およびこの加水分解生成物の重縮合反応を行なった後に、反応後の攪拌を行い、単分散シリカ粒子を得た。
【００４６】
（ポリエステルＦの作成）
さらに、平均粒子径１．１μmの炭酸カルシウムを準備し、１０％のエチレングリコールスラリーとした。このスラリーをジェットアジターで一時間分散処理を行い、５μm以上の捕集効率９５％のフィルターで高精度濾過した。
ジメチルテレフタレートに１．９モルのエチレングリコールおよび酢酸マグネシウム・４水塩を０．０５％、リン酸を０．０１５％加え加熱エステル交換を行い、前述した炭酸カルシウムを含むスラリーをエステル交換後に添加し、引き続き三酸化アンチモン０．０２５％を加え、加熱昇温し真空下で重縮合反応を行い、平均粒子径１．１μmの炭酸カルシウムを１％含む、固有粘度０．６３ｄｌ／ｇの炭酸カルシウム含有マスターペレットを得た。（ポリエステルＦ）。
【００４７】
（ポリエステルＧの作成）
さらに、凝集アルミナとしてδ型−アルミナを１０％のエチレングリコールスラリーとし、サンドグラインダーを用い、粉砕、分散処理を行い、さらに捕集効率９５％の３μmフィルターを用いて濾過し、これを前記と同様に調整したエステル交換反応物に添加し、引き続き三酸化アンチモンを加え、重縮合反応を行い、凝集アルミナを２％含有する、固有粘度０．６２ｄｌ／ｇのマスターペレットを得た。（ポリエステルＧ）
（２）ポリエステルペレットの調合
Ａ層、Ｂ層、Ｃ層それぞれの層の押出機に供給するポリエステルペレットは、以下の比率（組成）にて調合する。なお以下に記載する比率は、おのおのの層を構成するポリエステルペレットに対する重量比（単位：重量％）である。
【００４８】
Ａ層
ポリエステルＡ：４１．４
ポリエステルＥ：１０．０
ポリエステルＧ：４８．６。
【００４９】
Ｂ層
ポリエステルＡ：９４．６
ポリエステルＢ：  ２．４
ポリエステルＤ：  ３．０。
【００５０】
Ｃ層
ポリエステルＡ：１００
（３）二軸配向ポリエステルフィルムの製造
先述の、各層について調合した原料を、ブレンダー内で攪拌した後、Ａ層、Ｂ層の原料は攪拌後の原料を、Ａ層用、Ｂ層用のベント付き二軸押出機に供給し、Ｃ層の原料は１６０℃で８時間減圧乾燥し、Ｃ層用の一軸押出機に供給した。２７５℃で溶融押出し、５μｍ以上の異物を９５％ 以上捕集する高精度なフィルターにて濾過した後、矩形の３層用合流ブロックで合流積層し、層Ａ、層Ｂからなる２層積層、ないし層Ａ、層Ｂ、層Ｃからなる３層積層とした。その後、２８５℃に保ったスリットダイを介し冷却ロール上に静電印可キャスト法を用いて表面温度２５℃のキャスティングドラムに巻き付け冷却固化して未延伸積層フィルムを得た。
【００５１】
この未延伸フィルムを表面粗さＲａが０．２μｍの延伸ロールを用い、１１０℃で長手方向４．２倍に延伸した。さらに、引き続いてステンタにて１１５℃の熱風下で幅方向に４．５倍延伸後、定張下、２１５℃で４秒間熱処理し、その後長手方向に０．１％、幅方向に３．２％の弛緩処理を施し、厚さ１６μｍの二軸延伸フィルムの中間製品を得た。この中間製品をスリッターにてスリットし、厚さ１６μｍの二軸延伸フィルムのロールを得た。得られたフィルムの評価結果を表２に示した。
【００５２】
[実施例２〜５、比較例１〜３]
層Ａ、層Ｂ、層Ｃの組成、粘着ロールないし除塵器の使用を表１に記載のように変更する以外は実施例１と同様にして二軸配向積層ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムの評価結果を表２に示した。
【００５３】
【表１】
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【００５４】
【表２】
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【産業上の利用可能性】
【００５５】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、転写後のレジストが凹み欠陥のない良好な転写状態である、ドライフィルムフォトレジスト支持体、中でもタッチパネル用ドライフィルムフォトレジスト支持体に好適に用いることができる。
【図１】
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