(57)【要約】      （修正有）【課題】酸素阻害の影響を抑制しながら所定の材料を光硬化させることのできる光照射装置の提供。【解決手段】所定の搬送方向に沿って搬送されたワーク１０が流入するワーク流入口７と、ワーク流入口から流入したワークに対して光を照射する光照射部２１と、光照射部で光が照射された後のワークが流出するワーク流出口８と、ワーク流入口と光照射部との間の位置において、不活性ガスからなる第一ガスを供給する第一ガス供給部３と、光照射部とワーク流出口との間の位置において、所定の第二ガスを供給する第二ガス供給部４とを備える光照射装置１。【選択図】図２
2018001066.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の搬送方向に沿って搬送されたワークが流入するワーク流入口と、
前記ワーク流入口から流入した前記ワークに対して光を照射する光照射部と、
前記光照射部で光が照射された後の前記ワークが流出するワーク流出口と、
前記ワーク流入口と前記光照射部との間の位置において、不活性ガスからなる第一ガスを供給する第一ガス供給部と、
前記光照射部と前記ワーク流出口との間の位置において、所定の第二ガスを供給する第二ガス供給部とを備えたことを特徴とする光照射装置。
【請求項２】
前記第二ガス供給部は、前記光照射部が設置されている位置に向けて前記第二ガスを供給することを特徴とする請求項１に記載の光照射装置。
【請求項３】
前記第二ガスは空気であることを特徴とする請求項１又は２に記載の光照射装置。
【請求項４】
前記第一ガスの流量及び前記第二ガスの流量を制御する制御部を備え、
前記制御部は、前記ワークの搬送速度が速くなると、前記第一ガスの流量から前記第二ガスの流量を差し引いた差分値が大きくなるように、前記第一ガスの流量及び前記第二ガスの流量を制御することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項５】
前記光照射部は前記ワークに対して紫外線を照射することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の光照射装置を備え、
前記ワーク流入口から流入される前記ワークの表面には所定の材料物が塗布されており、
前記光照射部から前記ワークに対して光が照射されることで、前記材料物が硬化されることを特徴とする光硬化装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光照射装置、及びこれを備えた光硬化装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
光エネルギーの作用で液状体から固体に変化させる技術を「光硬化」と呼び、インク、接着剤などのあらゆる分野で利用されている。例えば、下記特許文献１には、ワークの表面に塗布されたインクに対して光を照射されることで、インクが硬化して印字される画像形成装置が開示されている。
【０００３】
特許文献１に記載されている画像形成装置では、紫外線エネルギーの付与によって硬化（重合化）する成分（主剤）と、重合開始剤とを含有したインクが用いられる。重合開始剤は光を吸収しやすい性質を有し、光が照射されると定められた過程を経てラジカルと呼ばれる非常に不安定な状態になる（下記式１）。
【０００４】
Ｉ→Ｉ*→Ｒ・        （１）
なお、上記式（１）において、Ｉは重合開始剤を示し、Ｉ*は重合開始剤が励起状態にあることを示し、Ｒ・はフリーラジカルを示す。重合開始剤に所定の光が照射されると、重合開始剤は励起され、開裂し、ラジカルを発生する。
【０００５】
発生したラジカルは、主剤に含まれるモノマーの二重結合と反応して連鎖反応種を生成する（下記式２，３）。
【０００６】
Ｒ・＋Ｍ→ＲＭ・          （２）
ＲＭ・＋Ｍ→ＲＭＭ・      （３）
上記式（２）、（３）において、Ｍはモノマーを示す。
【０００７】
連鎖反応種が成長反応へと進み、ポリマー鎖を生成する（下記式４）。下記式において、Ｐm、Ｐnはポリマーを示す。
ＲＭm・＋ＲＭn・→Ｐm＋Ｐn      （４）
【０００８】
上記式（１）〜（４）を経て、重合反応が進行し、インクが硬化されることで、ワーク（例えば紙）の上面に印字が行われる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特許第３９９１３６２号公報
【特許文献２】特開２０１５−５４２６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ところで、上記の反応過程において、酸素が介在することで重合反応が阻害されることが知られている。具体的には、ラジカルＲ・が酸素と反応することで失活し、重合反応と競合する。この結果、重合反応が十分に進行せず、ワーク上に完全に硬化していないインクが残存する事態を招く。ワークを光照射部に搬送するに際し、搬送のための空間を設けることは不可欠である。この空間内に存在する空気に含まれる酸素が、上記の阻害要因を構成する。
【００１１】
インクを完全に硬化させるためには、重合開始剤の量を高める方法や、照射する光の光量を高める方法が考えられる。しかし、重合開始剤は人体への影響が懸念されているため、できる限り使用量を少なくすることが求められている。また、照射光量を高めると装置自体が高温化して装置寿命が低下したり、消費エネルギーが増大するといった別の問題を生じさせるため、照射光量についてもできる限り低くすることが求められている。
【００１２】
ところで、上記の特許文献２には、ＵＶを照射するユニット内に不活性ガスを供給することで、酸素阻害の影響を抑制する技術が開示されている。具体的には、ＵＶ照射前よりもＵＶ照射後のワークの周辺雰囲気の酸素濃度を低下させるべく、ＵＶ照射ユニットの後段の位置で不活性ガスを供給している。
【００１３】
しかし、本発明者の鋭意研究によれば、この特許文献２の技術によって酸素阻害の影響を抑制するためには、不活性ガスを大量に供給し続けなければならず、不活性ガスの消費量が多大になることが分かった。
【００１４】
本発明は、酸素阻害の影響を抑制しながら所定の材料を光硬化させることのできる光照射装置を実現することを目的とする。また、本発明は、このような光照射装置を含む光硬化装置を実現することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明に係る光照射装置は、
所定の搬送方向に沿って搬送されたワークが流入するワーク流入口と、
前記ワーク流入口から流入した前記ワークに対して光を照射する光照射部と、
前記光照射部で光が照射された後の前記ワークが流出するワーク流出口と、
前記ワーク流入口と前記光照射部との間の位置において、不活性ガスからなる第一ガスを供給する第一ガス供給部と、
前記光照射部と前記ワーク流出口との間の位置において、所定の第二ガスを供給する第二ガス供給部とを備えたことを特徴とする。
【００１６】
本発明者の鋭意研究により、搬送方向を基準として、光照射部の上流側より不活性ガスからなる第一ガスを供給すると共に、光照射部の下流側より第二ガスを供給することで、少ない流量であっても、ワークの被照射面側における酸素濃度を低下させる効果が高められることが確認された。特許文献２の技術は、光照射部の下流側のみから窒素を供給する構成であるが、この場合、本発明に係る構成と同程度のガス流量では、ワークの被照射面側の雰囲気の酸素濃度を十分に低下させることができない。
【００１７】
上記の効果が得られた理由として、本発明者は以下のように考えている。ワークがワーク流入口から光照射部側へと搬送される際、ワーク流入口よりワークと共に空気が流入する。しかし、光照射部とワーク流入口の間の位置において第一ガスを供給することで、当該位置における気圧が高められ、ワーク流入口から流入される空気の量を減少することができる。
【００１８】
一方、光照射部とワーク流入口の間の位置において気圧が高まると、外気との圧力差に起因して、この第一ガスが、ワーク流出口より装置外部へと流出しやすくなってしまう。しかし、上記構成によれば、光照射部とワーク流出口の間の位置において第二ガスが供給されるため、第一ガスをワーク流入口とワーク流出口との間に留めることができる。この結果、光照射部からワークに対して光を照射する際に、ワークの被照射面を酸素が少ない雰囲気にすることができる。また、ワーク流入口を介して装置外部から流入される空気を排除するために、常時、不活性ガスを供給し続ける必要がないため、従来構成よりも不活性ガスの消費量を減少できる。
【００１９】
上記の第一ガスは、例えば窒素とすることができる。また、上記の第二ガスとしては、空気とすることができる。なお、第二ガスとして、窒素を用いても構わない。この場合においても、第二ガスは、第一ガスがワーク流出口から装置外部へと流出するのを抑制するために必要な流量で足りるため、従来構成よりも窒素ガスの消費量を減少する効果が得られる。
【００２０】
前記第二ガス供給部は、前記光照射部が設置されている位置に向けて前記第二ガスを供給する構成とすることができる。
【００２１】
上記の方向に第二ガスを供給することで、より少量の第二ガスによって、第一ガスが装置外部へと流出するのを抑制することができる。
【００２２】
前記第一ガスの流量及び前記第二ガスの流量を制御する制御部を備え、
前記制御部は、前記ワークの搬送速度が速くなると、前記第一ガスの流量から前記第二ガスの流量を差し引いた差分値が大きくなるように、前記第一ガスの流量及び前記第二ガスの流量を制御するものとしても構わない。
【００２３】
ワークの搬送速度が速くなると、装置外部よりワーク流入口を介して流入する空気の流量が増加する。上記構成のように、第二ガスに対して第一ガスの流量を更に高めることで、装置外部からの空気の流入を抑制する機能を高めることで、搬送速度が速まってもワークの被照射面を酸素が少ない雰囲気にすることができる。
【００２４】
前記光照射部は前記ワークに対して紫外線を照射する構成とすることができる。
【００２５】
本発明に係る光硬化装置は、上記の光照射装置を備え、
前記ワーク流入口から流入される前記ワークの表面には所定の材料物が塗布されており、
前記光照射部から前記ワークに対して光が照射されることで、前記材料物が硬化されることを特徴とする。
【００２６】
光硬化装置の一例として、画像形成装置を構成することができる。この画像形成装置は、搬送されるワークの一方の面に、光が照射されると硬化する塗料やインクなどの材料物が塗布されており、光照射部からの光が照射されることでこの材料物が硬化し、ワークの面に画像が形成される。ワークとしては、樹脂シート、フィルム、布、プリント基板、紙など、材質や形状を問わず種々のものを利用することができる。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、酸素阻害の影響を抑制しながら所定の材料を光硬化させることのできる光照射装置が実現される。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】光照射装置の一実施形態の構成を模式的に示す斜視図である。
【図２】光照射装置の一実施形態の構成を模式的に示す断面図である。
【図３】第一ガス供給部の構成の一例を模式的に示す斜視図である。
【図４】比較例の光照射装置の構成を模式的に示す側面図である。
【図５Ａ】実施例１のシミュレーション結果を示す図面である。
【図５Ｂ】実施例２のシミュレーション結果を示す図面である。
【図５Ｃ】比較例１のシミュレーション結果を示す図面である。
【図６】光照射装置の別実施形態の構成を模式的に示す図面である。
【図７】光硬化装置の一実施形態の構成を模式的に示す図面である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
図１及び図２は、本発明の光照射装置の一実施形態の構成を模式的に示す図面である。図１は斜視図に対応する。図２は、図１におけるＹＺ平面で光照射装置を切断したときの断面図に対応する。なお、各図において図面の寸法比と実際の寸法比は必ずしも一致しない。
【００３０】
図１に示すように、光照射装置１は、光照射ユニット２、第一ガス供給ユニット３、第二ガス供給ユニット４を備える。Ｄ１方向に搬送されるワーク１０に対して、光照射ユニット２が光を照射する。第一ガス供給ユニット３は、搬送方向Ｄ１に鑑みて光照射装置１よりも上流に位置する。第二ガス供給ユニット４は、搬送方向Ｄ１に鑑みて光照射装置１よりも下流に位置する。
【００３１】
図２に示すように、光照射ユニット２は、光照射部２１と、冷却部２２とを備える。光照射部２１は、所定の波長の光を放射する光源を含んで構成され、例えばレーザダイオード素子、ＬＥＤ素子などで構成される。冷却部２２は、光照射部２１で発せられた熱を排出する機構であり、例えばヒートシンクや水冷機構、空冷機構などで構成される。一例として、光照射部２１は波長２００ｎｍ〜２０００ｎｍの光を放射し、より具体的には、波長２２０ｎｍ〜４４０ｎｍの紫外光を放射する構成である。なお、光照射ユニット２が冷却部２２を備えるか否かは任意である。
【００３２】
図２に示すように、光照射装置１は、ワーク１０を装置の外部から流入させるための空間であるワーク流入口７と、ワーク１０を装置の外部へ流出させるための空間であるワーク流出口８とを備える。なお、本実施形態の光照射装置１は、ワーク流入口７及びワーク流出口８以外は、実質的にほぼ閉空間で構成されているものとしても構わない。
【００３３】
図２に示すように、第一ガス供給ユニット３は、所定のガス（以下、「第一ガス」と呼ぶ。）をＤ２方向に供給する第一ガス供給部３１を備える。第一ガスとしては、不活性ガスが用いられ、好適には窒素ガスが用いられる。本実施形態では、第一ガス供給部３１は、第一ガス供給部３１から見て光照射ユニット２（光照射部２２）が配置されている側に向かう方向（Ｄ２）、すなわち、ワーク１０の搬送方向Ｄ１に沿った方向に第一ガスを供給する。一例として、図３に示すように、第一ガス供給部３１は、Ｘ方向に沿って離間して設けられた複数のガス供給孔３２を有し、この複数のガス供給孔３２から第一ガスがＤ２方向に噴出される構成とすることができる。第一ガス供給部３１のＸ方向の長さは、ワーク流入口７のＸ方向の長さに対応して設定されるものとして構わない。なお、ガス供給孔３２は、Ｘ方向に沿って連続的又は断続的に設けられたスリット形状を有していても構わない。
【００３４】
図２に示すように、第二ガス供給ユニット４は、所定のガス（以下、「第二ガス」と呼ぶ。）をＤ３方向に供給する第二ガス供給部４１を備える。第二ガスとしては、第一ガスと同様に不活性ガスが用いられても構わないし、空気が用いられても構わない。本実施形態では、第二ガス供給部４１は、第二ガス供給部４１から見て光照射ユニット２（光照射部２２）が配置されている側に向かう方向（Ｄ３）、すなわち、ワーク１０の搬送方向Ｄ１に対して衝突する方向に、第二ガスを供給する。図示しないが、第二ガス供給部４１においても、第一ガス供給部３１と同様に、Ｘ方向に沿って設けられたガス供給孔から第二ガスが供給されるものとして構わない。
【００３５】
ワーク１０は、光照射装置１内に流入する以前に、当該ワーク１０の表面に所定の材料物１１ａが、未硬化の状態で塗布されている。未硬化の材料物１１ａが塗布されているワーク１０が、ワーク流入口７から光照射装置１内に流入し、搬送方向Ｄ１に沿って光照射ユニット２の設置位置まで搬送される。光照射ユニット２内の光照射部２１が、Ｄ４方向に光を照射すると、材料物１１ａはこの光を吸収して、硬化後の材料部１１ｂへと変化する。材料物１１ａとしては、例えば未硬化のインクや塗料が用いられる。光照射部２１は、材料物１１ａに吸収されることで材料物１１ａが硬化されるような波長帯の光を照射する。光が照射された後のワーク１０は、ワーク流出口８から光照射装置１の外部へと流出する。光照射装置１の外部へと流出したワーク１０の表面には、硬化後の材料物１１ｂが付着している。
【００３６】
ワーク１０としては、種々の材料を用いることができる。一例として、ポリエステル、ポリアクリル、ポリウレタン、ポリオレフィン、ポリカーボネート、トリアセチルセルロースなどの素材からなるプラスチックフィルムやプラスチックシート、アルミ、銅箔などの金属シート、木板、石板、無機ガラス、記録紙などを用いることができる。
【００３７】
ワーク１０の面に塗布される材料物１１ａとしては、例えば、重合開始剤と、重合性単量体とを含む構成とすることができる。各重合開始剤及び重合性単量体の材料としては、光照射部２１から放射される光の波長などに応じて適宜選択される。
【００３８】
第一ガス供給部３１、及び第二ガス供給部３２からガスが供給されていない場合、ワーク１０をＤ１方向に搬送すると、ワーク流入口７とワーク１０の間の隙間から外気が光照射装置１内に流入する。「発明が解決しようとする課題」の項で上述したように、空気中に存在する酸素が光重合反応を阻害する要因となる。
【００３９】
本実施形態の光照射装置１は、第一ガス供給部３１から不活性ガスからなる第一ガスをＤ２方向に供給し、第二ガス供給部３２から第二ガスをＤ３方向に供給する。光照射部２１とワーク流入口７との間の位置において第一ガス供給部３１から第一ガスが供給されるため、当該位置における気圧が高められる。この結果、ワーク流入口７から光照射装置１内に流入される空気の量が減少される。
【００４０】
更に、光照射部２１とワーク流出口８との間の位置において第二ガスが供給されるため、第一ガスがワーク流出口８から光照射装置１の外部へ流出するのが抑制される。このため、不活性ガスからなる第一ガスを、常時供給し続けることなく、ワーク流入口７とワーク流出口８との間に留めることができる。この結果、光照射部２１からワーク１０に対して光を照射する際、不活性ガスを少ない消費量としながらも、ワーク１０の被照射面を酸素が少ない雰囲気にすることができる。
【００４１】
つまり、本実施形態の光照射装置１によれば、ワーク１０の搬送速度を低下させたり、光照射部２１から照射される光の強度を上昇させることなく、ワーク１０の表面に塗布されている材料物１１ａを正しく硬化させることができる。以下、この点につき、実施例及び比較例を参照して説明する。なお、以下では、説明の都合上、ワーク１０の面のうち、材料物１１ａが塗布されている側を「上面」と呼び、その反対側を「下面」と呼ぶ。
【００４２】
（実施例１、実施例２）
図１及び図２に示した光照射装置１を実施例１及び実施例２とした。実施例１は、第二ガス供給部４１が空気を供給する構成である。実施例２は、第二ガス供給部４１が窒素ガスを供給する構成である。いずれの実施例においても、ワーク１０の下面と光照射装置１との間の空間はほとんど存在していない。一方、ワーク１０の上面と光照射装置１との間にはＹ方向に関して空間が存在し、停止状態においてワーク流入口７から外気の流入が可能な構成である。
【００４３】
実施例１では、第一ガス供給部３１から窒素ガスを毎分２５リットルの流量で供給し、第二ガス供給部４１から空気を毎分２５リットルの流量で供給した。また、ワーク１０の搬送速度を毎分５０ｍとした。
【００４４】
実施例２では、第一ガス供給部３１から窒素ガスを毎分２５リットルの流量で供給し、第二ガス供給部４１から窒素ガスを毎分２５リットルの流量で供給した。また、ワーク１０の搬送速度を毎分５０ｍとした。
【００４５】
（比較例１）
図４は、図２にならって図示した比較例１の光照射装置の構成である。比較例１の光照射装置７０は、光照射ユニット２よりも上流側にガス供給ユニットを備えていない。また、光照射ユニット２とワーク流出口８の間、すなわち、光照射ユニット２の下流側に、窒素ガス供給ユニット７１を備えている。この窒素ガス供給ユニット７１は、窒素ガスをＤ３方向に供給する窒素ガス供給部７２を備えている。この光照射装置７０は、特許文献２の構成を模擬したものに対応する。
【００４６】
比較例１では、窒素ガス供給部７２から窒素ガスを毎分５０リットルの流量で供給した。また、ワーク１０の搬送速度を毎分５０ｍとした。
【００４７】
（結果）
図５Ａ〜図５Ｃは、実施例１、実施例２、及び比較例１のそれぞれの光照射装置（１，７０）において、ワーク１０の表面における酸素濃度の分布を示す結果である。いずれの図面も、光照射装置（１，７０）をＹ方向に見たときの図面に対応している。各図において、ワーク１０の表面における酸素濃度が高い領域には濃い色が塗られており、低い領域には薄い色が塗られている。なお、各図面では、ワーク１０の表面以外の領域においても濃淡が付されているが、これは図面の描画時における色分けに起因するものであって、酸素濃度の高低を表しているものではない。ワーク１０の表面の濃淡のみが酸素濃度の高低を表している。なお、図５Ａ〜図５Ｃに示す酸素濃度の数値は、雰囲気に対する酸素の含有割合を小数表記したものである。
【００４８】
図５Ｃに示すように、比較例１の光照射装置７０では、Ｙ方向に関して光照射ユニット２に対向する位置において、ワーク１０の表面の酸素濃度が依然として高いことが分かる。より具体的には、酸素濃度が０．１５（１５％）以上を示すことが確認された。これに対して、図５Ａ及び図５Ｂによれば、実施例１及び実施例２の光照射装置１では、比較例１と比べて、Ｙ方向に関して光照射ユニット２に対向する位置において、ワーク１０の表面の酸素濃度を低下できていることが確認される。より具体的には、いずれの場合も酸素濃度が０．０１（１％）を下回ることが確認された。
【００４９】
特に、実施例１のように、第二ガスとして空気を供給した場合であっても、光照射ユニット２に対向する位置におけるワーク１０の表面の雰囲気を、低い酸素濃度にすることができることが分かる。つまり、実施例２と比較して、極めて低い不活性ガスの消費量に下で、ワーク１０表面の雰囲気を低酸素濃度にすることができる。一方、実施例２の構成によれば、光照射ユニット２を通過した直後からワーク流出口７までの間の位置における雰囲気についても、低酸素濃度にすることができることが確認される。
【００５０】
以上によれば、図４に示す比較例１の光照射装置７０の構成の下で、Ｙ方向に関して光照射ユニット２に対向する位置において、ワーク１０の表面の酸素濃度を低下させるためには、窒素ガス供給部７２から、各実施例１，２と比べて著しく高い流量の窒素ガスを供給し続ける必要があると考えられる。すなわち、本発明の構成によれば、従来よりも窒素ガスの消費量を大幅に減少しながらも、ワーク１０の雰囲気の酸素濃度を低下させることができる。なお、第一ガス供給部３１から供給される第一ガスは、窒素ガスに限らず、不活性ガスであればよいことは上述したとおりである。
【００５１】
［別実施形態］
以下、別実施形態について説明する。
【００５２】
〈１〉  図６に示すように、光照射装置１は第一ガス供給ユニット３及び第二ガス供給ユニット４を制御する制御部９を備えても構わない。この制御部９は、第一ガス供給部３１から供給される第一ガスの流量Ｘ１、及び第二ガス供給部４１から供給される第二ガスの流量Ｘ２を制御する。より具体的には、制御部９は、ワーク１０のＤ１方向の搬送速度Ｖが速くなるほど、第一ガスの流量Ｘ１から第二ガスの流量Ｘ２を差し引いた差分値が大きくなるように、各流量Ｘ１及びＸ２を制御する。
【００５３】
このような制御が行われることで、光照射装置１外部からワーク流入口７を介した空気の流入を抑制する機能が高められる。
【００５４】
〈２〉  図７に示すように、光照射装置１を含む光硬化装置５０を構成することができる。この光硬化装置５０は、光照射装置１に加えて、その上流側に配置された材料物塗布部５１を備えている。材料物塗布部５１は、ワーク１０の上面の所定の箇所に、材料物１１ａを塗布する。例えば、光硬化装置５０が画像形成装置で構成される場合には、ワーク１０の上面に形成したい画像情報に応じて決定される、ワーク１０の上面の所定の箇所に、材料物塗布部５１が材料物１１ａを塗布する。
【００５５】
材料物塗布部５１によって表面に材料物１１ａが塗布されたワーク１０は、搬送方向Ｄ１に沿って搬送され、光照射装置１内で光が照射される。これにより、材料物１１ａが硬化され、硬化後の材料物１１ｂがワーク１０の上面に形成される。本実施形態の光照射装置１によれば、光照射ユニット２に対向する位置に配置されたワーク１０の雰囲気の酸素濃度を低減できるため、材料物１１ａを正しく硬化させることができる。
【００５６】
〈３〉  各図面に示した光照射装置１の構成は、あくまで一例である。本発明に係る光照射装置１は、ワーク流入口７、ワーク流出口８、光照射部２、第一ガス供給部３１、及び第二ガス供給部４１を備える構成であればよく、各図面に示される構造に限定されるべきものではない。
【符号の説明】
【００５７】
１      ：    光照射装置
２      ：    光照射ユニット
３      ：    第一ガス供給ユニット
４      ：    第二ガス供給ユニット
７      ：    ワーク流入口
８      ：    ワーク流出口
９      ：    制御部
１０      ：    ワーク
１１ａ    ：    未硬化の材料物
１１ｂ    ：    硬化後の材料物
２１      ：    光照射部
２２      ：    冷却部
３１      ：    第一ガス供給部
３２      ：    ガス供給孔
４１      ：    第二ガス供給部
５０      ：    光硬化装置
５１      ：    材料物塗布部
７０      ：    比較例１の光照射装置
７１      ：    窒素ガス供給ユニット
７２      ：    窒素ガス供給部
【図１】
2018001066.tif 000003
【図２】
2018001066.tif 000004
【図３】
2018001066.tif 000005
【図４】
2018001066.tif 000006
【図５Ａ】
2018001066.tif 000007
【図５Ｂ】
2018001066.tif 000008
【図５Ｃ】
2018001066.tif 000009
【図６】
2018001066.tif 000010
【図７】
2018001066.tif 000011