(57)【要約】      （修正有）【課題】作製時間を短縮し、低コストであるレンズアレイ等の光学素子の製造方法の提供。【解決手段】軟化点＜４００℃のガラス膜2を軟化点≧（ガラス膜の軟化点＋５０℃）の基板1上に形成する工程、及び、ガラス膜2を加熱プレスすることにより、ガラス膜2の表面に凹凸構造を形成する工程を含む、光学素子の製造方法。スパッタリング法により、基板上にガラス膜を形成する光学素子の製造方法。ガラス膜が、ＳｎＯ−Ｐ２Ｏ５系ガラスからなり、モル％で、ＳｎＯ  ３３．５〜９０％、Ｐ２Ｏ５＋Ｂ２Ｏ３＋ＳｉＯ２０．１〜６６．５％を含有するガラスからなる、光学素子の製造方法。【選択図】図１
2018035033.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軟化点＜４００℃のガラス膜を軟化点≧（ガラス膜の軟化点＋５０℃）の基板上に形成する工程、及び、ガラス膜を加熱プレスすることにより、ガラス膜の表面に凹凸構造を形成する工程を含むことを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項２】
スパッタリング法により、基板上にガラス膜を形成することを特徴とする請求項１に記載の光学素子の製造方法。
【請求項３】
ガラス膜が、ＳｎＯ−Ｐ２Ｏ５系ガラスからなることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学素子の製造方法。
【請求項４】
ガラス膜が、モル％で、ＳｎＯ  ３３．５〜９０％、Ｐ２Ｏ５＋Ｂ２Ｏ３＋ＳｉＯ２  ０．１〜６６．５％を含有するガラスからなることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光学素子の製造方法。
【請求項５】
基板とガラス膜の３０〜２００℃における熱膨張係数の差が１００×１０−７／℃以下であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光学素子の製造方法。
【請求項６】
基板とガラス膜の屈折率の差が０．５以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光学素子の製造方法。
【請求項７】
光学素子が、レンズアレイ、波長フィルター、レンズまたはプリズムであることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の光学素子の製造方法。
【請求項８】
軟化点＜４００℃のガラス膜が、軟化点≧（ガラス膜の軟化点＋５０℃）の基板上に形成されており、ガラス膜の表面に凹凸構造が形成されていることを特徴とする光学素子。
【請求項９】
ガラス膜の厚みが１ｍｍ以下であることを特徴とする請求項８に記載の光学素子。
【請求項１０】
ガラス膜の屈折率ｎｄが１．７〜２．０であることを特徴とする請求項８又は９に記載の光学素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はレンズアレイ等の光学素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、サーバ等の処理容量の増加、光回路の実装技術の向上、光素子および光部品の低コスト化等に伴い、インターコネクトの方式が電気から光へと移行しつつある。光インターコネクトにおいて、レンズアレイはレーザから出射された光を光ファイバに集光したり、光ファイバから出射された光をフォトダイオード等の光検出器へと集光する役割を持つ。レンズアレイは、基板上に単数または複数のレンズ部分が形成されてなるものである。具体的には、矩形基板上の略中央部に複数のレンズ部分が直線上に形成されてなるものが挙げられる。
【０００３】
前記用途に用いられるレンズアレイの製造方法として、光学ガラスに対してエッチング処理を施す製造方法が知られている。しかしながら、この製造方法では、複数の工程を必要とし、作製時間が長く、コストが非常に高いという問題がある。そこで、光学ガラスのインゴットを研削、研磨したプリフォームガラスを加熱プレスする製造方法が提案されている。（例えば、特許文献１参照）
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−５３０２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１の製造方法においても、プレスするための母材を最終製品の寸法形状近くまで加工する必要がある。よって、依然として、作製時間が長く、コストが高いという問題がある。
【０００６】
本発明は、以上のような課題を解決するためになされたものであり、作製時間を短縮し、低コストである光学素子の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の光学素子の製造方法は、軟化点＜４００℃のガラス膜を軟化点≧（ガラス膜の軟化点＋５０℃）の基板上に形成する工程、及び、ガラス膜を加熱プレスすることにより、ガラス膜の表面に凹凸構造を形成する工程を含むことを特徴とする。
【０００８】
本発明の光学素子の製造方法は、研削工程や研磨工程を省略でき、また、ガラス膜の軟化点が４００℃未満と低く、プレス温度を低くできるため、光学素子を短時間かつ容易に、しかも低コストで製造することができる。
【０００９】
本発明の光学素子の製造方法は、スパッタリング法により、基板上にガラス膜を形成することが好ましい。このようにすれば、ガラス膜を薄くしやすく、光学素子を薄型化しやすい。
【００１０】
本発明の光学素子の製造方法において、ガラス膜がＳｎＯ−Ｐ２Ｏ５系ガラスであることが好ましい。ＳｎＯ−Ｐ２Ｏ５系ガラスは、低軟化点を達成しやすく、プレス温度を低くできるため、本発明におけるガラス膜として好適である。
【００１１】
本発明の光学素子の製造方法において、ガラス膜が、モル％で、ＳｎＯ  ３３．５〜９０％、Ｐ２Ｏ５＋Ｂ２Ｏ３＋ＳｉＯ２ ０．１〜６６．５％を含有するガラスからなることが好ましい。ガラス組成を上記のように規定すれば、低軟化点で、且つ、化学耐久性や耐候性に優れたガラスが得られやすくなる。
【００１２】
本発明の光学素子の製造方法において、基板とガラス膜の３０〜２００℃における熱膨張係数の差が１００×１０−７／℃以下であることが好ましい。このようにすれば、基板からガラス膜が剥離しにくくなったり、反りや割れが生じにくくなる。
【００１３】
本発明の光学素子の製造方法において、基板とガラス膜の屈折率の差が０．５以下であることが好ましい。このようにすれば、光学素子の透過率を向上しやすくなる。
【００１４】
本発明により製造される光学素子は、レンズアレイ、波長フィルター、レンズまたはプリズムであることが好ましい。
【００１５】
本発明の光学素子は、軟化点＜４００℃のガラス膜が、軟化点≧（ガラス膜の軟化点＋５０℃）の基板上に形成されており、ガラス膜の表面に凹凸構造が形成されていることを特徴とする。
【００１６】
本発明の光学素子は、ガラス膜の厚みが１ｍｍ以下であることが好ましい。
【００１７】
本発明の光学素子は、ガラス膜の屈折率ｎｄが１．７〜２．０であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の光学素子の製造方法は、研削工程や研磨工程を省略できる。しかも、プレス温度が低いため、表面精度の高い（例えば、研磨等による線状溝の少ない）レンズアレイを短時間かつ容易に、しかも低コストで製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の光学素子の製造工程を示す模式的断面図である。
【図２】（ａ）レンズアレイの一例を示す平面図である。（ｂ）レンズアレイの一例を示す縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明の光学素子の製造方法について図１を用いて説明する。まず、基板１に、軟化点＜４００℃のガラス膜２を形成する。ガラス膜２を形成する工程を詳細に述べる。まず、所望の組成を有し、軟化点＜４００℃のガラスとなるように調合したガラス原料を溶融し、溶融ガラスとする。溶融雰囲気は、不活性雰囲気であることが好ましい。不活性雰囲気は、窒素、アルゴンまたはヘリウム雰囲気のいずれでも構わないが、安価である点から特に窒素雰囲気が好ましい。雰囲気制御を行わずに溶融した場合、つまり大気中で溶融した場合、ガラスが酸化され、ブツが発生する傾向がある。また、溶融温度は、８００〜１２００℃、特に９００〜１１００℃が好ましい。溶融温度が高いと、溶融容器から溶出した不純物が原因となって、着色が強まり、透明なガラスが得られ難い。次に、得られた溶融ガラスをインゴットに成形して硝材を得る。さらに、得られた硝材を加工して所望のスパッタリングターゲットを作製する。得られたスパッタリングターゲットを基板１にスパッタリングし、基板１上にガラス膜２を形成する。なお、ガラス膜２を構成するガラスの組成については、後述する。また、ガラス膜２の軟化点は、低いほど好ましく、３５０℃以下、特に３００℃以下であることが好ましい。軟化点が高すぎると、プレス温度が上がりプレス金型が劣化しやすくなる。基板１の軟化点は、ガラス膜の軟化点＋５０℃以上であって、ガラス膜の軟化点＋７５℃以上、特にガラス膜の軟化点＋１００℃以上であることが好ましい。具体的には、４００℃以上、４５０℃以上、特に５００℃以上であることが好ましい。軟化点が低すぎると、プレス時に軟化変形しやすくなる。基板１の材質は、特に限定されず、ガラス、セラミック、樹脂等の透明な材料が使用できる。ガラスでは、石英ガラス、ケイ酸塩系ガラス、ホウケイ酸塩系ガラス、透明結晶化ガラス等が使用できる。セラミックでは、単結晶サファイア、透明アルミナ等が使用できる。樹脂では、ポリカーボネート等が使用できる。なお、基板１の厚みは、５ｍｍ以下、４ｍｍ以下、特に３ｍｍ以下であることが好ましい。基板１の厚みの下限値は特に限定されないが、現実的には、１００μｍ以上、２００μｍ以上、特に３００μｍ以上が好ましい。ガラス膜２の厚みは、１ｍｍ以下、０．５ｍｍ以下、特に０．３ｍｍ以下であることが好ましい。ガラス膜２の厚みの下限値は特に限定されないが、現実的には、１０μｍ以上、２０μｍ以上、特に３０μｍ以上が好ましい。なお、スパッタリングは、２極ＤＣグロー放電スパッタ法、マグネトロンスパッタ法、イオンビームスパッタ法、高周波スパッタ法等により行うことができる。また、膜を形成する方法としては、スパッタリング以外にもスクリーン印刷、シート成形等を用いても構わない。
【００２１】
次に、凹凸構造形成用上金型３ａと平板状の下金型３ｂを備える金型３を用いて、ガラス膜２を低温で加熱プレスすることにより、ガラス膜２の表面に凹凸構造が形成されてなる光学素子４を得ることができる。凹凸構造とは、複数の突起部を含む構造であり、前記突起部の形状は特に限定されない。プレス雰囲気は、不活性雰囲気、真空雰囲気または減圧雰囲気のいずれでも構わない。不活性雰囲気としては、窒素、アルゴンまたはヘリウム雰囲気のいずれでも構わないが、安価である点から特に窒素雰囲気が好ましい。雰囲気制御を行わずにプレスした場合、つまり大気中でプレスした場合、ガラスが酸化され、ブツが発生する傾向がある。また、プレス温度は、軟化点−２０℃以上、軟化点−１０℃以上、軟化点以上、軟化点＋１０℃以上、特に軟化点＋３０℃以上であることが好ましい。プレス温度が低すぎると、金型に形成された凹凸構造がガラス膜の表面に転写されにくくなる。
【００２２】
基板とガラス膜の３０〜２００℃における熱膨張係数の差が１００×１０−７／℃以下、８０×１０−７／℃以下、６０×１０−７／℃以下であることが好ましい。熱膨張係数の差が大きすぎると、基板とガラス膜の界面に応力がかかりやすくなり、基板からガラス膜が剥離しやすくなる。
【００２３】
ガラス膜の屈折率ｎｄが１．７〜２．０、１．７５〜１．９５、特に１．８〜１．９であることが好ましい。屈折率ｎｄが小さすぎると、光学素子として機能しにくくなる。一方、大きすぎると、基板との屈折率の差が大きくなりやすい。また、基板とガラス膜の屈折率ｎｄの差が０．５以下、０．４以下、特に０．３以下であることが好ましい。屈折率の差が大きすぎると、光学素子の透過率が低下しやすくなる。
【００２４】
ガラス膜の厚み１ｍｍにおける波長４００ｎｍ〜２５００ｎｍの最大透過率が５０％以上、６０％以上、７０％以上、特に８０％以上であることが好ましい。また、基板の厚み１ｍｍにおける波長４００ｎｍ〜２５００ｎｍの最大透過率が５０％以上、６０％以上、７０％以上、特に８０％以上であることが好ましい。ガラス膜及び基板の透過率が低すぎると、光学素子として機能しにくくなる。
【００２５】
ガラス膜のヤング率が６０ＧＰａ以下、５０ＧＰａ以下、４５ＧＰａ以下、特に４０ＧＰａ以下であることが好ましい。また、基板のヤング率が６０ＧＰａ以下、５０ＧＰａ以下、４５ＧＰａ以下、特に４０ＧＰａ以下であることが好ましい。ガラス膜及び基板のヤング率が大きすぎると、金型から離形しにくく、冷却時に割れやすくなる。
【００２６】
ガラス膜の光弾性定数が２．０×１０−１２／Ｐａ以下、１．５×１０−１２／Ｐａ以下、１．０×１０−１２／Ｐａ以下、特に０．５×１０−１２／Ｐａ以下であることが好ましい。光弾性定数が大きすぎると、光学歪みが生じやすく光学ガラス素子として機能しにくくなる。
【００２７】
ガラス膜としては、低軟化点を達成しやすいＳｎＯ−Ｐ２Ｏ５系ガラスであることが好ましい。また、ＳｎＯ−Ｐ２Ｏ５系ガラスは、高屈折率かつ高分散という光学特性を有する。ＳｎＯ−Ｐ２Ｏ５系ガラスとしては、モル％で、ＳｎＯ  ３３．５〜９０％、Ｐ２Ｏ５＋Ｂ２Ｏ３＋ＳｉＯ２  ０．１〜６６．５％、ＳｎＦ２  ０〜４０％を含有するものが好ましい。以下に、各成分の含有量を上記のように特定した理由を説明する。なお、特に断りがない場合、以下の成分含有量に関する説明において、「％」は「モル％」を意味する。
【００２８】
ＳｎＯは、高屈折率かつ高分散の光学特性を達成し、化学耐久性を向上させるための成分である。ＳｎＯの含有量は３３．５〜９０％、３５〜８８％、４０〜８６％、５０〜８５％、特に５７．５〜８３％であることが好ましい。ＳｎＯの含有量が少なすぎると、高屈折率特性を達成しにくくなり、また、耐侯性や化学耐久性が低下する傾向がある。一方、ＳｎＯの含有量が多すぎると、耐失透性が低下する傾向がある。
【００２９】
Ｐ２Ｏ５、Ｂ２Ｏ３およびＳｉＯ２はガラスの骨格を構成する成分である。また、ガラスの透過率を高める成分であり、紫外域付近の透過率低下を抑制したり、吸収端を低波長側にシフトさせることができる。また、失透を抑制する効果も有する。Ｐ２Ｏ５、Ｂ２Ｏ３およびＳｉＯ２の含有量は、合量で０．１〜６６．５％、１０〜６０％、１５〜５７．５％、２０〜５５％、特に２５〜４７％であることが好ましい。これらの成分の含有量が少なすぎると、前記効果が得られにくくなり、一方、多すぎると、ＳｎＯの含有量が相対的に少なくなって、屈折率が低下しやすくなる。
【００３０】
なお、Ｐ２Ｏ５、Ｂ２Ｏ３およびＳｉＯ２の各成分の好ましい含有量は以下の通りである。
【００３１】
Ｐ２Ｏ５の含有量は、０．１〜６６．５％、１〜６０％、３〜５７．５％、４〜５５％、５〜５０％、特に１０〜４７％であることが好ましい。Ｐ２Ｏ５の含有量が多すぎると、屈折率が低下しやすくなる。また、耐侯性や化学耐久性が低下しやすくなる。なお、Ｐ２Ｏ５を積極的に添加することにより、ガラス軟化点の低いガラスが得られやすくなる。
【００３２】
Ｂ２Ｏ３の含有量は０〜６６．５％、０．１〜６６．５％、１〜６０％、３〜５７．５％、４〜５５％、５〜５０％、特に１０〜４７％であることが好ましい。Ｂ２Ｏ３の含有量が多すぎると、屈折率が低下しやすくなる。また、耐侯性や化学耐久性が低下しやすくなる。
【００３３】
ＳｉＯ２の含有量は０〜６６．５％、０．１〜６６．５％、１〜６０％、３〜５７．５％、４〜５５％、５〜５０％、特に１０〜４７％であることが好ましい。ＳｉＯ２の含有量が多すぎると、屈折率が低下しやすくなる。また、未溶解による脈理や泡がガラス中に残り、光学素子としての要求品位を満たさなくなる可能性がある。
【００３４】
ＳｎＦ２は、軟化点を大きく低下させる成分である。ＳｎＦ２の含有量は、０〜４０％、２．５〜３５％、５〜３０％、７．５〜２５％、１０〜２０％、特に１２．５〜１７．５％であることが好ましい。ＳｎＦ２の含有量が多すぎると、蒸発したフッ素が金型に付着しやすくなり、レンズの表面精度が低下しやすくなる。また、耐侯性や化学耐久性が低下しやすくなる。なお、ガラス膜に１００μｍ以下の微細な凹凸を形成する場合は、ＳｎＦ２を含有しないことが好ましい。
【００３５】
本発明を構成するガラスには、上記成分以外にも以下の成分を含有させることができる。
【００３６】
ＺｎＯは融剤として作用する成分である。また、耐候性を向上させたり、ガラス化を安定にする効果もある。ＺｎＯの含有量は０〜５０％、０〜３０％、０〜１０％、０．１〜５％、特に０．２〜１％であることが好ましい。ＺｎＯの含有量が多すぎると、失透しやすくなったり、透過率が低下しやすくなる。
【００３７】
Ａｌ２Ｏ３は、ＳｉＯ２やＢ２Ｏ３とともにガラス骨格を構成することが可能な成分である。また、耐候性を向上させる効果がある。Ａｌ２Ｏ３の含有量は０〜１０％、特に０．１〜５％であることが好ましい。Ａｌ２Ｏ３の含有量が多すぎると、失透しやすくなる。また、溶融性が低下したり、透過率が低下する傾向がある。
【００３８】
ＺｒＯ２は耐候性を向上させる成分である。ただし、その含有量が多すぎると、耐失透性が低下したり、溶融温度が上昇して透過率が低下しやすくなる。従って、ＺｒＯ２の含有量は０〜２％、０〜１．５％、０．１〜１％、特に０．２〜０．５％であることが好ましい。
【００３９】
Ｌａ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＷＯ３、Ｎｂ２Ｏ５、Ｙ２Ｏ３、Ｙｂ２Ｏ３及びＧｅＯ２は耐侯性及び化学耐久性を高める成分である。また、これらの成分を含有させることにより、屈折率を調整することができる。Ｌａ２Ｏ３＋Ｇｄ２Ｏ３＋Ｔａ２Ｏ５＋ＷＯ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋Ｙ２Ｏ３＋Ｙｂ２Ｏ３＋ＧｅＯ２の含有量は０〜３０％、０．１〜２０％、０．３〜１５％、０．５〜１０％、特に１〜７．５％であることが好ましい。これらの成分の含有量が多すぎると、耐失透性の低下、溶融温度の上昇、あるいは透過率の低下等の不具合が生じやすくなる。
【００４０】
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯ（アルカリ土類金属酸化物）は融剤として作用する成分である。また、耐候性を向上させる効果がある。ただし、これらの成分の含有量が多すぎると、液相温度が上昇（液相粘度が低下）して、溶融または成形工程中に失透物が析出しやすくなる。以上に鑑み、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの含有量は０〜３０％、０．５〜２５％、１〜２０％、特に２〜１５％であることが好ましい。
【００４１】
Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏは軟化点を低下させる成分である。Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏの含有量は０〜１０％、特に０〜８％であることが好ましい。Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏの含有量が多すぎると、失透しやすくなり、化学耐久性も低下する傾向がある。また、蒸発成分が金型に付着しやすくなり、レンズの表面精度が低下しやすくなる。
【００４２】
清澄剤として、Ｃｌ、ＳまたはＢｒを含有させてもよい。Ｃｌ＋Ｓ＋Ｂｒの含有量は０〜１％、０．０１〜１％、特に０．０５〜０．５％であることが好ましい。Ｃｌ＋Ｓ＋Ｂｒの含有量が多すぎると、溶融時に揮発して溶融容器が腐食しやすくなる。また、他の清澄剤として、Ｓｂ２Ｏ３またはＳｎＯ２を含有させることができる。Ｓｂ２Ｏ３及びＳｎＯ２の含有量は各々０〜１％、０．０１〜１％、特に０．０５〜０．５％であることが好ましい。Ｓｂ２Ｏ３、ＳｎＯ２の含有量が多すぎると、透過率が低下しやすくなる。
【００４３】
Ｆｅ２Ｏ３、ＮｉＯ及びＣｏＯは透過率を低下させる成分である。よって、これら成分は実質的に含有しない（具体的には、各々０．１％未満）ことが好ましい。
【００４４】
Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｅｕ、Ｔｂ及びＥｒ等の希土類成分も透過率を低下させるおそれがあるため、これらの成分の含有量は酸化物換算で各々１％未満であることが好ましい。
【００４５】
Ｉｎ及びＧａは透過率を低下させるおそれがあり、また高価であるため、実質的に含有しない（具体的には、酸化物換算で各々０．１％未満）ことが好ましい。
【００４６】
なお、環境上の理由から、鉛成分（例えばＰｂＯ）及びヒ素成分（例えばＡｓ２Ｏ３）を実質的に含有しない（具体的には、各々０．１％未満）ことが好ましい。
【００４７】
本発明の方法により製造される光学素子としては、レンズアレイ、波長フィルター、レンズ、プリズム等が挙げられる。以下、レンズアレイについて説明する。図２に本発明の製造方法で作製されたレンズアレイの一実施の形態を示す。図２に示すように、レンズアレイ５は、基板１上のガラス膜２に複数のレンズ部分２ａが例えば直線上に形成されてなるものである。
【００４８】
レンズアレイにおけるレンズ部分の曲率半径（中心曲率半径）は、好ましくは０．１０ｍｍ以上、より好ましくは０．１５ｍｍ以上、さらに好ましくは０．１８ｍｍ以上、さらに好ましくは０．２０ｍｍ以上、さらに好ましくは０．２５ｍｍ以上である。レンズ部分の曲率半径が０．１０ｍｍ未満であると、加熱プレス時の金型凹部におけるガラス充填不足が発生しやすく、所望の寸法を有するレンズアレイが得られにくい。また、金型とガラスの熱膨張差により、レンズ部分に歪がかかり割れが発生しやすくなる。レンズ部分の曲率半径の上限については特に限定されるものではないが、大きすぎるとレンズとしての機能を果たさなくなる（集光機能を有さない）ため、１ｍｍ以下、さらには０．５ｍｍ以下であることが好ましい。
【００４９】
また、レンズ部分の直径は、好ましくは０．０５〜０．５ｍｍ、より好ましくは０．１〜０．４ｍｍ、さらに好ましくは０．２〜０．３ｍｍである。レンズ部分の直径が０．０５ｍｍ未満であると、レーザまたは光ファイバから出射された光が全てレンズ部に入射されず、光損失となったり、入射しなかった光がケラレとして周辺の光学系に影響する傾向がある。一方、レンズ部分の直径が０．５ｍｍより大きいと、微小なガラス基板上に多数のレンズ部分を形成することが困難となる。
【００５０】
本発明により製造される光学素子は、表面に線状突起部が形成されている場合がある。これは、金型表面に形成された研磨傷等が加熱プレス時にガラス表面に転写されてできたものであると考えられ、加熱プレスにより製造された光学素子の特徴とも言える。
【実施例】
【００５１】
以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００５２】
（実施例１）
モル％で、ＳｎＯ  ７２％、Ｐ２Ｏ５  ２８％含有するガラスとなるように原料を調合し、窒素雰囲気中にて金製容器を用いて７００〜１０００℃で１時間溶融した。予熱した金属板上に溶融ガラスを流し出し、アニール後、加工を施すことにより、５０ｍｍ×５０ｍｍ×３ｍｍのスパッタリングターゲットを得た。
【００５３】
得られたスパッタリングターゲットについて各特性を測定したところ、屈折率ｎｄ  １．８４７、軟化点  ２９０℃であった。なお、屈折率はヘリウムランプのｄ線（５８７．６ｎｍ）に対する測定値で示した。また、軟化点はマクロ型示差熱分析計を用いて１０００℃まで測定して得られたチャートにおいて第四の変曲点の値を軟化点とした。
【００５４】
ソーダライムガラス基板（軟化点  ７１０℃、厚み  ２ｍｍ）上に得られたスパッタリングターゲットをスパッタリングし、ガラス基板上にガラス膜（厚み  ０．３ｍｍ）を形成した。次に、平板状の下金型と、レンズアレイ形成用上金型とを用いて、ガラス膜を窒素雰囲気にて３２０℃でプレスすることにより、ガラス膜表面の略中央部に１２個のレンズ部分が直線上に配列された光学素子を得た。なお、ガラス膜について組成分析を行ったところ、スパッタリングターゲットと同一組成であることが確認された。
【００５５】
作製した光学素子のレンズ形状、寸法は次の通りであった。
【００５６】
レンズ部分（平均値）：曲率半径０．２０１ｍｍ、直径０．２２７ｍｍ
高さ０．０３５ｍｍ
【００５７】
ここで、レンズ部分の高さのバラつき（１２箇所のうち、最大値と最小値の差）は０．０１ｍｍ以下であった。また作製した１０個のレンズアレイにおいて、同一位置のレンズ部分高さを比較したところ、そのバラつきは０．０１ｍｍ以下であった。
【００５８】
（実施例２）
質量％で、ＳｉＯ２  ６１％、Ａｌ２Ｏ３  １５％、Ｂ２Ｏ３  １０％、ＣａＯ  ６％、ＳｒＯ  ６％、ＢａＯ  ２％含有するガラスとなるように原料を調合し、得られたガラス原料をガラス溶融炉に供給して１５００〜１６００℃で溶融し、得られた溶融ガラスをオーバーフローダウンドロー法で成形し冷却することにより、ガラス基板（軟化点  ９６０℃、厚み  ０．５ｍｍ）を得た。基板をソーダライムガラス基板から得られたガラス基板に変更したこと以外は実施例１と同様に、光学素子を作製した。
【００５９】
作製した光学素子のレンズ形状、寸法は次の通りだった。
【００６０】
レンズ部分（平均値）：曲率半径０．２００ｍｍ、直径０．２２６ｍｍ
高さ０．０３５ｍｍ
【００６１】
ここで、レンズ部分の高さのバラつき（１２箇所のうち、最大値と最小値の差）は０．０１ｍｍ以下であった。また作製した１０個のレンズアレイにおいて、同一位置のレンズ部分高さを比較したところ、そのバラつきは０．０１ｍｍ以下であった。
【００６２】
（比較例）
質量％で、Ｂ２Ｏ３  １０％、Ｌａ２Ｏ３  １５％、ＺｎＯ  ２０％、Ｇｄ２Ｏ３  １０％、ＳｉＯ２  ２５％、Ｌｉ２Ｏ  １％、Ｔａ２Ｏ５  ７％、ＺｒＯ２  ５％、ＷＯ３  ２％、Ｎｂ２Ｏ５  ５％含有するガラスとなるように原料を調合し、大気雰囲気中にて白金製容器を用いて１３００℃で２時間溶融した。予熱した金属板上に溶融ガラスを流し出し、アニール後、加工を施すことにより、５０ｍｍ×５０ｍｍ×３ｍｍのスパッタリングターゲットを得た。
【００６３】
得られたスパッタリングターゲットについて上記と同様に各特性を測定したところ、屈折率ｎｄ  １．８０６、軟化点  ７１０℃であった。
【００６４】
ソーダライムガラス板（軟化点  ７１０℃、厚み  ２ｍｍ）上に得られたスパッタリングターゲットをスパッタリングし、ガラス基板上にガラス膜（厚み  ０．３ｍｍ）を形成した。次に、平板状の下金型と、レンズアレイ形成用上金型とを用いて、ガラス膜を真空雰囲気にて７１０℃でプレスしたが、ガラス板が軟化変形したため、光学ガラス素子を得られなかった。なお、ガラス膜について組成分析を行ったところ、スパッタリングターゲットと同一組成であることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【００６５】
本発明の方法は、レンズアレイ、波長フィルター、レンズまたはプリズムの製造方法として好適であるが、これらに限られるものではない。
【符号の説明】
【００６６】
１  基板
２  ガラス膜
２ａ  レンズ部分
３  金型
３ａ  上金型
３ｂ  下金型
４  光学素子
５  レンズアレイ
Ｄ  レンズ部分の直径
Ｈ  レンズ部分の高さ
【図１】
2018035033.tif 000003
【図２】
2018035033.tif 000004