(57)【要約】【課題】割れおよび欠けを有さないシリカガラスの製造が可能な乾燥成形体、および割れおよび欠けを有さないシリカガラスの提供。【解決手段】本発明は、シリカ粒子と溶媒とを含むスラリーであって、スラリーに含まれる固形分の体積粒度分布Ｄ９０が０．１〜５０μｍであるスラリーを、加圧または減圧濾過して濾過成形体を得る工程と、得られた濾過成形体を乾燥させて乾燥成形体を得る工程とを有する、シリカを主成分とする乾燥成形体の製造方法を提供する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリカ粒子と溶媒とを含むスラリーであって、スラリーに含まれる固形分の体積粒度分布Ｄ９０が０．１〜５０μｍであるスラリーを、加圧または減圧濾過して濾過成形体を得る工程と、
得られた濾過成形体を乾燥させて乾燥成形体を得る工程とを有する、シリカを主成分とする乾燥成形体の製造方法。
【請求項２】
前記溶媒が水である、請求項１記載のシリカを主成分とする乾燥成形体の製造方法。
【請求項３】
シリカ粒子と溶媒とを含むスラリーであって、スラリーに含まれる固形分の体積粒度分布Ｄ９０が０．１〜５０μｍであるスラリーを、加圧または減圧濾過して濾過成形体を得る工程と、
得られた濾過成形体を乾燥させて乾燥成形体を得る工程と、
乾燥成形体を焼成する工程とを有するシリカガラスの製造方法。
【請求項４】
前記溶媒が水である、請求項３記載のシリカガラスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、乾燥成形体およびシリカガラスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
シリカガラスを製造する方法として、例えば、ヒュームドシリカのナノ粒子と有機高分子化合物とを含むスラリーを室温で乾燥させ、乾燥成形体を得る工程と、得られた乾燥成形体を焼成する工程とを有する方法が報告されている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開第２０１１／００４８５２号
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００４】
しかしながら、前記特許文献１に記載された製造方法では、乾燥成形体を得る工程において、長時間にわたり乾燥させることが必要であり、乾燥成形体に割れが入ることがあるため歩留まりが低く、また、有機高分子化合物を多く使用することから、長時間にわたる脱脂処理が必要であり、脱脂処理時の割れが懸念されるという課題もあったため、必ずしも割れおよび欠けを有さないシリカガラスを得られなかった。
【０００５】
本発明は、割れおよび欠けを有さないシリカガラスの製造が可能な乾燥成形体の製造方法、および割れおよび欠けを有さないシリカガラスの製造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
すなわち、本発明は、下記［１］〜［３］を提供する。
[１]シリカ粒子と溶媒とを含むスラリーであって、スラリーに含まれる固形分の体積粒度分布Ｄ９０が０．１〜５０μｍであるスラリーを、加圧または減圧濾過して濾過成形体を得る工程と、
得られた濾過成形体を乾燥させて乾燥成形体を得る工程とを有する、シリカを主成分とする乾燥成形体の製造方法。
［２］前記溶媒が水である、［１］記載のシリカを主成分とする乾燥成形体の製造方法。
［３］シリカ粒子と溶媒とを含むスラリーであって、スラリーに含まれる固形分の体積粒度分布Ｄ９０が０．１〜５０μｍであるスラリーを、加圧または減圧濾過して濾過成形体を得る工程と、
得られた濾過成形体を乾燥させて乾燥成形体を得る工程と、
乾燥成形体を焼成する工程とを有するシリカガラスの製造方法。
［４］前記溶媒が水である、［３］記載のシリカガラスの製造方法。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の方法によれば、割れおよび欠けを有さないシリカガラスの製造が可能な乾燥成形体、および割れおよび欠けを有さないシリカガラスを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】加圧または減圧濾過装置の構成の概略を示す。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。
【００１０】
＜シリカを主成分とする乾燥成形体の製造方法＞
本発明のシリカを主成分とする乾燥形成体の製造方法は、
シリカ粒子と溶媒とを含むスラリーであって、スラリーに含まれる固形分の体積粒度分布Ｄ９０が０．１〜５０μｍであるスラリーを、加圧または減圧濾過して濾過成形体を得る工程と、
得られた濾過成形体を乾燥させて乾燥成形体を得る工程とを有する。
本明細書において、「シリカを主成分とする」とは、９０質量％以上がシリカであることを意味する。
本明細書において、「固形分」とは、一定の形体を有する成分を意味し、「スラリーに含まれる固形分」としては、例えば、シリカ粒子、複数のシリカ粒子の集合体、ならびに複数のシリカ粒子の集合体の表面に樹脂が結合している、シリカ粒子および樹脂からなる集合体が挙げられる。
【００１１】
（濾過成形体を得る工程）
以下に、濾過成形体を得る工程で用いるスラリーについて述べる。
【００１２】
スラリーは、シリカ粒子と溶媒とを含む（以下シリカスラリーと呼ぶことがある。）。
スラリーに含まれる溶媒は、シリカ粒子を分散させうる溶媒であれば特に限定されず、有機溶媒であってもよいし、水と任意に混合できる有機溶媒と水との混合溶媒であってもよいし、水であってもよい。当該溶媒は、水であることが好ましい。
スラリーは、シリカ粒子および溶媒以外を含んでいてもよく、例えば、凝集材として少量の樹脂を含んでいていてもよい。
スラリーに含まれる固形分の体積粒度分布Ｄ９０は、濾過成形体を得る工程における濾過時間を短くする観点から、０．１μｍ以上であり、濾過の際に成形体を割れにくくする観点から、５０μｍ以下である。
濾過の際に成形体を割れにくくする観点から、体積粒度分布Ｄ９０は３０μｍ以下であることが好ましい。
【００１３】
濾過成形体を得る工程で用いるスラリーの製造方法は、シリカ粒子を溶媒に添加して攪拌する工程と、スラリーに含まれる固形分の体積粒度分布Ｄ９０を上述の範囲内に制御する工程とを有する。
【００１４】
攪拌する工程は、例えば、機械的な破砕処理が施されたシリカ粒子と上述の溶媒とを混合して攪拌する工程であってもよいが、粉砕メディア（ビーズ等の媒体）の磨耗によるコンタミ（異物の混入等）を極力減らす観点から、超音波分散、超音波ホモジナイザー、またはナノマイザー等の分散処理と、スリーワンモーターによる攪拌処理とを組み合わせる工程であることが好ましい。
シリカ粒子の分散性が高く濾過時間が長くなる場合には、溶媒に、シリカ粒子、および凝集材として少量の樹脂を添加して上述の方法で攪拌してもよい。
スラリーに溶媒として水が含まれている場合、添加する樹脂は、水溶性樹脂を選ぶことができ、例えば、ＰＶＡ、ＰＶＢ、ＰＶＰ等が挙げられる。シリカ粒子と樹脂との質量比は、樹脂の重合度によるが、濾過成形体を割れにくくする観点から、シリカ粒子：樹脂が１００：０〜１００：５程度であることが好ましく、この範囲においても樹脂は少ない方が好ましい。
【００１５】
スラリーに含まれる固形分の体積粒度分布Ｄ９０を制御する工程は、例えば、上記攪拌する工程により得られたスラリーを、所定の目開きのメッシュ、フィルター、またはフルイに通す工程が挙げられる。目開きは、１０５μｍ以下であることが好ましく、６３μｍ以下であることがより好ましい。
【００１６】
スラリーの製造に用いるシリカ粒子としては、純度が９９％以上の非晶質シリカ粒子、純度が９９％以上の結晶質シリカ粒子等が挙げられる。
後述する乾燥成形体を焼成する工程において、焼成温度を低くできる観点から非晶質シリカ粒子であることが好ましく、焼成時の反応性が高く、１次粒子が球状であり充填性がよいという観点から、ヒュームドシリカであることがより好ましい。
ヒュームドシリカは、親水性のヒュームドシリカであってもよいし、疎水性のヒュームドシリカであってもよいが、スラリーの製造に用いる溶媒に水が含まれる場合は、親水性のヒュームドシリカであることが好ましい。
ヒュームドシリカの１次粒子径は、５〜５０ｎｍであることが好ましく、５〜４０ｎｍであることがより好ましい。
ヒュームドシリカの比表面積は、３０〜４５０ｍ２／ｇであることが好ましく、３５〜４００ｍ２／ｇであることがより好ましい。
【００１７】
以下に、濾過成形体を得る工程における、加圧または減圧濾過について述べる。
【００１８】
濾過成形体を得る工程における、加圧濾過には、加圧濾過装置を用いることができ、装置内に加圧空間を作りだすために、一般的な加圧ポンプや圧搾ガスを用いることができる。
濾過成形体を得る工程における、減圧濾過には、減圧濾過装置を用いることができ、装置内に減圧空間をつくりだすために、一般的な減圧ポンプやアスピレーターなどを用いることができる。
加圧または減圧する際の圧力は、加圧または減圧濾過装置が耐えられる圧力範囲内であって、最も濾過が早く完了する圧力を選ぶことができる。例えば０．１〜１ＭＰａ程度であればよい。
【００１９】
図１に、加圧または減圧濾過装置の概略構成を示す。
加圧または減圧濾過装置は、装置壁（６）で外側が構成され、内側がフィルター（３）、およびフィルター（３）を保持するフィルターサポート（４）で構成される。フィルター（３）が加圧または減圧に耐えられる構造であれば、フィルターサポート（４）は省略することができる。
図１において、加圧または減圧濾過装置内のフィルター（３）上にスラリーを投入し（２）、装置内空間Ｂ（５）を減圧することによって減圧濾過装置として働く。
図１において、加圧または減圧濾過装置内のフィルター（３）上にスラリーを投入し（２）、装置内空間Ａ（１）を加圧することによって加圧濾過装置として働く。
装置壁（６）はスラリーが漏れず、スラリーと反応しにくい部材であればよく、例えば、ステンレス、ガラス、等で構成すればよい。
フィルター（３）はスラリーと反応しにくい部材であって、スラリーを濾過できる部材であればよく、２種以上のフィルターを用いてもよい。
濾過できる部材からなるフィルターとしては、例えば、紙または樹脂製のフィルターが挙げられる。スラリーの液性が酸性またはアルカリ性の場合は、テフロン（登録商標）製のフィルターが好ましい。フィルター（３）は、切削、加工、または成形がなされたフィルターであってもよい。このようなフィルター（３）を採用することで、スラリーを加圧または減圧濾過したのちに、より複雑な形状であっても、所望の形の成形体を得ることが可能となる。その結果、後述する工程によって得られるシリカガラスを、改めて機械加工することが不要になる。
フィルター（３）に用いられる切削または加工が可能な部材としては、例えば多孔性セラミックス、ガラス繊維焼結体などが挙げられる。フィルター（３）に用いられる成形が可能な部材としては、例えば金属メッシュ、金属ファイバー集合体、金網等が挙げられ、これらを変形させることで成形されたフィルター（３）を得ることができる。その他、微細金属球を成形し、焼結させることで得られる金属フィルターをフィルター（３）として用いることも可能である。
フィルターサポート（４）は、スラリー（２）と反応しにくい部材であって、フィルター（３）を物理的に保持できる部材であればよく、例えば金属メッシュ、金属ファイバー集合体、金網、多孔性セラミックス、ガラス繊維焼結体などで構成されていればばよい。  
【００２０】
このような加圧または減圧濾過装置を採用することによって、スラリーの濾過と同時に成形が可能となり、製造時間が大幅に短縮できる。また、加圧または減圧しながら濾過することで、有機高分子化合物等のバインダーを添加しなくても、割れや欠けのない濾過成形体を得ることができる。
加圧または減圧しながら濾過することで、フィルターに対して均一にシリカ粒子が押し付けられ、充填されるため、密に粒子が充填されている濾過成形体を得ることができる。  また、加圧または減圧濾過装置の取り扱い操作は容易であり、熟練を要しない。
【００２１】
本明細書において、体積粒度分布Ｄ９０は、粒子径分析装置（Malvern社製マスターサイザー2000）を用いて測定した値である。
【００２２】
（乾燥成形体を得る工程）
前記濾過成形体を得る工程で得られた濾過成形体を乾燥させることで、シリカを主成分とする乾燥成形体を得ることができる。
前記工程で得られた密に粒子が充填されている濾過成形体を乾燥させることで得られる乾燥成形体は、スラリーを加圧または減圧濾過せずに、自然乾燥して得られた乾燥成形体と比較して、ヒビ、割れ、および反りが抑制される。
当該工程で得られた乾燥成形体を用いることで、寸法精度が高いシリカガラスを得ることができる。
濾過成形体を乾燥させる方法としては、例えば、大気中で乾燥させる方法、および一般的な乾燥機を用いて乾燥させる方法が挙げられる。乾燥時間は、乾燥成形体のサイズや厚みに依存するため一概には言えないが、自然乾燥であれば１日〜１４日程度、６０℃の乾燥器であれば１時間〜２日程度で乾燥させることが可能であり、シリカスラリーの仕込み量とシリカの割合（質量％）とから算出したシリカの質量＋１０％の範囲内の質量になるまで乾燥すればよい。
濾過成形体を均一に乾燥させる観点から、スポンジや多孔質セラミックス等の台座に濾過成形体を載せて乾燥させることが好ましい。このような条件で乾燥させることで、高度にヒビ、割れ、および反りを抑制することができる。
【００２３】
＜シリカガラスの製造方法＞
前述の乾燥成形体を得る工程で得られた乾燥成形体を焼成することで、ヒビおよび割れを有さないシリカガラスを製造することができる。
焼成する方法としては、電気炉で焼成する方法が挙げられる。
用いられる電気炉は、特に制限されず、例えば大気炉、雰囲気炉、真空炉、などが挙げられる。電気炉は、生産性の観点から、大気炉であることがより好ましい。
焼成温度は、通常７００℃〜１７００℃程度であり、７００℃〜１４００℃程度であることが好ましい。シリカの結晶化を抑制し、十分な透明性を有するシリカガラスを製造する観点から、１４００℃以下であることが好ましく、十分に粒子同士の表面を反応させ、十分な強度のシリカガラスを得る観点から、７００℃以上であることが好ましい。例えば、ヒュームドシリカを採用して製造したスラリーを用いる場合は、焼成温度は、９００℃〜１３００℃程度であることが好ましい。
焼成時間は、乾燥成形体のサイズや厚みに依存するため一概には言えないが、最高温度に達してから３０分〜１２時間程度にすることが好ましい。また、昇温速度は６０℃／時間〜６００℃／時間程度が好ましく、シリカガラスの反りを抑制する観点から６０℃／時間〜３００℃／時間程度がより好ましい。
一定の温度条件下において焼成による反応の進み方は、シリカ粒子の粒子径、および比表面積に依存するため、焼成温度は、用いるシリカ粒子の粒子径、および比表面積に応じて適宜選択することができる。
例えば、シリカ粒子の粒子径が大きい（比表面積が小さい）場合、シリカ粒子同士が反応しにくいため、比較的高温であることが好ましい。
【実施例】
【００２４】
以下、本発明をさらに詳細に説明するために実施例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２５】
実施例１
シリカの割合が８質量％となるように、親水性ヒュームドシリカ（日本アエロジル株式会社製、アエロジル（登録商標）３８０ＰＥ、１次粒子径約７ｎｍ、比表面積値約３８０ｍ２／ｇ）を水に分散させ、シリカスラリーを調整した。シリカスラリーは超音波ホモジナイザー（BRANSON製、SONIFIER450、3/4”ソリッド型粉砕ホーン装着）にて分散した。体積粒度分布Ｄ９０は０．２５２μｍであった。体積粒度分布はMalvern社製マスターサイザー2000にて測定した。
続いて、シリカスラリーを圧力０．７ＭＰａにて、メンブレンフィルター（ミリポア社製、オムニポア、孔径０．４５μｍ）上で２時間減圧濾過し、濾過成形体を得た。濾過成形体をさらに室温で７日間乾燥させ、乾燥成形体を得た。
乾燥成形体を箱型電気炉にて大気中で１１００℃、６時間焼成して、透明なシリカガラスを得た。得られたシリカガラスは、濾過成形体を収縮させた形状で得られ、一切の割れ、欠けが無いモノリス（一枚の塊状）で透明なシリカガラスであった。得られたシリカガラスの全光線透過率を測定したところ、波長２３０ｎｍ、波長２５４ｎｍ、波長２６５ｎｍ、および波長２８５ｎｍの光の透過率が、それぞれ７９％、７８％、８０％および８１％であった。透過率の測定は、紫外可視近赤外分光光度計(Jasco製V-670)にて、積分球ユニットを用いて全光線透過率を測定した。
【００２６】
実施例２
シュウ酸を用いてシリカスラリーをｐＨ３に調整する以外は実施例１と同様に実施した。得られたシリカガラスは、濾過成形体を収縮させた形状で得られ、一切の割れ、欠けが無いモノリスで透明なシリカガラスであった。得られたシリカガラスの全光線透過率を測定したところ、波長２３０ｎｍ、波長２５４ｎｍ、波長２６５ｎｍ、および波長２８５ｎｍの光の透過率が、それぞれ７８％、７９％、８１％および８２％であった。
【００２７】
実施例３
ＰＶＡの割合が８質量％となるように、ＰＶＡ粉末（重合度：約１５００、けん化度：７８％）を水に溶解させ、ＰＶＡ水溶液を調整した。
シリカとＰＶＡ（重合度：約１５００、けん化度：７８％）との質量比が１００：０．５となるように、実施例１と同様に調整した８質量％のシリカスラリーと、８質量％のＰＶＡ水溶液とを混合し、シリカスラリーとする以外は、実施例１と同様に実施した。得られたシリカガラスは、濾過成形体を収縮させた形状で得られ、一切の割れ、欠けが無いモノリスで透明なシリカガラスであった。得られたシリカガラスの全光線透過率を測定したところ、波長２３０ｎｍ、波長２５４ｎｍ、波長２６５ｎｍ、および波長２８５ｎｍの光の透過率が、それぞれ６７％、６９％、７０％、および７２％であった。
【００２８】
実施例４
親水性ヒュームドシリカ（日本アエロジル株式会社製、アエロジル（登録商標）３００、１次粒子径：約７ｎｍ、比表面積値：約３００ｍ２／ｇ）を用い、乾燥成形体を箱型電気炉にて大気中で１１００℃、６時間焼成する以外は実施例１と同様に実施した。得られたシリカガラスは、濾過成形体を収縮させた形状で得られ、一切の割れ、欠けが無いモノリスで透明なシリカガラスであった。得られたシリカガラスの全光線透過率を測定したところ、波長２３０ｎｍ、波長２５４ｎｍ、波長２６５ｎｍ、および波長２８５ｎｍの光の透過率が、それぞれ８９％、８８％、８８％、および８８％であった。
【００２９】
実施例５
親水性ヒュームドシリカ（日本アエロジル株式会社製、アエロジル（登録商標）２００、１次粒子径：約１２ｎｍ、比表面積値約２００ｍ２／ｇ）を用い、乾燥成形体を箱型電気炉にて大気中で１２００℃、６時間焼成する以外は実施例１と同様に実施した。得られたシリカガラスは、濾過成形体を収縮させた形状で得られ、一切の割れ、欠けが無いモノリスで透明なシリカガラスであった。１２００℃で焼成して得られたシリカガラスの全光線透過率を測定したところ、波長２３０ｎｍ、波長２５４ｎｍ、波長２６５ｎｍ、および波長２８５ｎｍの光の透過率が、それぞれ８０％、８４％、８４％、および８５％であった。
【００３０】
実施例６
親水性ヒュームドシリカ（日本アエロジル株式会社製、アエロジル（登録商標）１３０、１次粒子径：約１６ｎｍ、比表面積値：約１３０ｍ２／ｇ）を用い、乾燥成形体を箱型電気炉にて大気中で１２００℃、６時間焼成する以外は実施例１と同様に実施した。得られたシリカガラスは、濾過成形体を収縮させた形状で得られ、一切の割れ、欠けが無いモノリスで透明なシリカガラスであった。１２００℃で焼成して得られたシリカガラスの全光線透過率を測定したところ、波長２３０ｎｍ、波長２５４ｎｍ、波長２６５ｎｍ、および波長２８５ｎｍの光の透過率が、それぞれ７６％、７９％、８０％、および８１％であった。
【００３１】
実施例７
親水性ヒュームドシリカ（日本アエロジル株式会社製、アエロジル（登録商標）５０、１次粒子径：約３０ｎｍ、比表面積値：約５０ｍ２／ｇ）を用い、乾燥成形体を箱型電気炉にて大気中で１２００℃、６時間焼成する以外は実施例１と同様に実施した。得られたシリカガラスは、濾過成形体を収縮させた形状で得られ、一切の割れ、欠けが無いモノリスで透明なシリカガラスであった。１２００℃で焼成して得られたシリカガラスの全光線透過率を測定したところ、波長２３０ｎｍ、波長２５４ｎｍ、波長２６５ｎｍ、および波長２８５ｎｍの光の透過率が、それぞれ７５％、７９％、８０％、および８１％であった。
【００３２】
実施例８
シリカの割合が８質量％となるように、親水性ヒュームドシリカ（日本アエロジル株式会社製、アエロジル（登録商標）３８０ＰＥ、１次粒子径：約７ｎｍ、比表面積値：約３８０ｍ２／ｇ）を水に分散させ、攪拌したのち、ステンレス製フルイ(目開き３２μｍ)にて濾すことで、シリカスラリーを調整した。体積粒度分布Ｄ９０は２９．８μｍであった。
続いて、シリカスラリーを圧力０．７ＭＰａにて、メンブレンフィルター（ミリポア社製、オムニポア、孔径０．４５μｍ）上で３０分間減圧濾過し、濾過成形体を得た。濾過成形体をさらに室温で７日間乾燥させ、乾燥成形体を得た。乾燥成形体を箱型電気炉にて大気中で１１００℃、６時間焼成して、透明なシリカガラスを得た。得られたシリカガラスは、濾過成形体を収縮させた形状で得られ、一切の割れ、欠けが無いモノリスで透明なシリカガラスであった。得られたシリカガラスの全光線透過率を測定したところ、波長２３０ｎｍ、波長２５４ｎｍ、波長２６５ｎｍ、および波長２８５ｎｍの光の透過率が、それぞれ６９％、７２％、７６％、および８１％であった。
【００３３】
比較例１
シリカの割合が８質量％となるように、親水性ヒュームドシリカ（日本アエロジル株式会社製、アエロジル（登録商標）３８０ＰＥ、１次粒子径：約７ｎｍ、比表面積値：約３８０ｍ２／ｇ）を水に分散させ、シリカスラリーを調整した。シリカスラリーは超音波ホモジナイザー（BRANSON製、SONIFIER450、3/4”ソリッド型粉砕ホーン装着）にて分散した。体積粒度分布Ｄ９０は０．２５２μｍであった。
続いて、シリカスラリーをテフロン（登録商標）製の容器に移し、室温にて１週間乾燥させ、乾燥成形体を得た。乾燥成形体を箱型電気炉にて大気中で１１００℃、６時間焼成して、透明なシリカガラスを得た。得られたシリカガラスは、乾燥成形体の時点で割れ、欠けが多かった。得られたシリカガラスの全光線透過率を測定したところ、波長２３０ｎｍ、波長２５４ｎｍ、波長２６５ｎｍ、および波長２８５ｎｍの光の透過率が、それぞれ７４％、７６％、７９％、および８０％であった。
【００３４】
比較例２
ＰＶＡの割合が８質量％となるように、ＰＶＡ粉末（重合度：約１５００、けん化度：７８％）を水に溶解させ、ＰＶＡ水溶液を調整した。
シリカ（日本アエロジル株式会社製、アエロジル（登録商標）３８０ＰＥ、１次粒子径：約７ｎｍ、比表面積値：約３８０ｍ２／ｇ）とＰＶＡ（重合度：約１５００、けん化度：７８％）との質量比が１００：２５となるように比較例１と同様に調整した８質量％のシリカスラリーと、８質量％のＰＶＡ水溶液とを混合し、シリカスラリーとする以外は比較例１と同様に実施した。乾燥成形体を箱型電気炉にて大気中で１１００℃、６時間焼成して、透明なシリカガラスを得た。得られたシリカガラスは、乾燥成形体の時点で割れ、欠けが多かった。得られたシリカガラスの全光線透過率を測定したところ、波長２３０ｎｍ、波長２５４ｎｍ、波長２６５ｎｍ、および波長２８５ｎｍの光の透過率が、それぞれ８０％、８３％、８５％、および８７％であった。
【００３５】
比較例３
ＰＶＡの割合が８質量％となるように、ＰＶＡ粉末（重合度：約１５００、けん化度：７８％）を水に溶解させ、ＰＶＡ水溶液を調整した。
シリカ（日本アエロジル株式会社製、アエロジル（登録商標）３８０ＰＥ、１次粒子径：約７ｎｍ、比表面積値：約３８０ｍ２／ｇ）とＰＶＡ（重合度：約１５００、けん化度：７８％）との質量比が１００：２５となるように、実施例１と同様に調整した８質量％のシリカスラリーと、８質量％のＰＶＡ水溶液とを混合し、シリカスラリーとする以外は実施例１と同様に実施した。乾燥成形体は割れ、欠けが多く、透過率が測定できるような試料は得られなかった。
【００３６】
比較例４
ＰＶＡの割合が８質量％となるように、ＰＶＡ粉末（重合度：約１５００、けん化度：７８％）を水に溶解させ、ＰＶＡ水溶液を調整した。
シリカ（日本アエロジル株式会社製、アエロジル（登録商標）３８０ＰＥ、１次粒子径：約７ｎｍ、比表面積値：約３８０ｍ２／ｇ）とＰＶＡ（重合度：約１５００、けん化度：７８％）との質量比が１００：２５となるように、実施例１と同様に調整した８質量％のシリカスラリーと、８質量％のＰＶＡ水溶液とを混合し、シュウ酸を用いてシリカスラリーをｐＨ３に調整する以外は比較例１と同様に実施した。乾燥成形体を箱型電気炉にて大気中で１１００℃、６時間焼成して、透明なシリカガラスを得た。得られたシリカガラスは、乾燥成形体の時点で割れ、欠けが多かった。得られたシリカガラスの全光線透過率を測定したところ、波長２３０ｎｍ、波長２５４ｎｍ、波長２６５ｎｍ、および波長２８５ｎｍの光の透過率が、それぞれ６３％、７０％、７３％および７５％であった。
【００３７】
比較例５
ＰＶＡ割合が８質量％となるように、ＰＶＡ粉末（重合度：約１５００、けん化度：７８％）を水に溶解させ、ＰＶＡ水溶液を調整した。
シリカ（日本アエロジル株式会社製、アエロジル（登録商標）３８０ＰＥ、１次粒子径：約７ｎｍ、比表面積値：約３８０ｍ２／ｇ）とＰＶＡ（重合度：約１５００、けん化度：７８％）との質量比が１００：２５となるように、実施例１と同様に調整した８質量％のシリカスラリーと、８質量％のＰＶＡ水溶液とを混合し、シュウ酸を用いてシリカスラリーをｐＨ３に調整する以外は実施例１と同様に実施した。乾燥成形体は割れ、欠けが多く、透過率が測定できるような試料は得られなかった。
【００３８】
比較例６
ステンレス製フルイ（目開き１０６μｍ）を用いる以外は、実施例８と同様に実施した。得られたシリカガラスは、乾燥成形体の時点で割れ、欠けが多かった。得られたシリカガラスの全光線透過率を測定したところ、波長２３０ｎｍ、波長２５４ｎｍ、波長２６５ｎｍ、および波長２８５ｎｍの光の透過率が、それぞれ２１％、２４％、２７％、および３２％であった。
【００３９】
【表１】
2018035018.tif 000003
【符号の説明】
【００４０】
１…装置内空間Ａ、
２…シリカスラリー、
３…フィルター、
４…フィルターサポート、
５…装置内空間Ｂ、
６…装置壁。
【図１】
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