(57)【要約】【課題】小型化が可能であるとともに、真空発生時の高速応答が可能な真空発生装置のディフューザを提供する。【解決手段】上流側の後端部から供給された圧縮空気が下流側の先端部から排出される第１流路を備え、該第１流路の上流側寄りに第１開口部が形成された第１ディフューザ部と、前記第１流路の下流側に位置し前記先端部から流入した前記圧縮空気を下流側へ排出する第２流路を備えるとともに、上流側の後端面に前記第１ディフューザ部の前記先端部が挿入される先端挿入領域と、その周辺に開口し前記第２流路に連絡する第２開口部とを備えた第２ディフューザ部と、前記第１ディフューザ部の前記先端部の外周に装着されて前記第２開口部を閉鎖するとともに、前記先端部の外周に発生する負圧により下流側へ撓んで変形することで前記第２開口部を開放する弁体と、を有する。【選択図】図３
2018035742.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上流側の後端部から供給された圧縮空気が下流側の先端部から排出される第１流路を備え、該第１流路の上流側寄りに第１開口部が形成された第１ディフューザ部と、
前記第１流路の下流側に位置し前記先端部から流入した前記圧縮空気を下流側へ排出する第２流路を備えるとともに、上流側の後端面に前記第１ディフューザ部の前記先端部が挿入される先端挿入領域と、その周辺に開口し前記第２流路に連絡する第２開口部とを備えた第２ディフューザ部と、
前記第１ディフューザ部の前記先端部の外周に装着されて前記第２開口部を閉鎖するとともに、前記先端部の外周に発生する負圧により下流側へ撓んで変形することで前記第２開口部を開放する弁体と、
を有する真空発生装置のディフューザ。
【請求項２】
前記弁体は、前記第１ディフューザ部の前記先端部の外周面に形成された環状溝へ嵌合する中心孔を備えた有孔円盤状の部材であり、前記第２ディフューザ部の内周壁の下流側には前記弁体の外周部の上流側の面が当接する環状の段部が形成されている請求項１に記載の真空発生装置のディフューザ。
【請求項３】
前記弁体の下流側の面には、前記中心孔から前記外周部へかけて放射状に複数本のリブが形成されている請求項２に記載の真空発生装置のディフューザ。
【請求項４】
前記リブは、前記中心孔から前記外周部にかけて高さを漸減させていることを特徴とする請求項３に記載の真空発生装置のディフューザ。
【請求項５】
前記第２ディフューザ部の下流側において前記第１ディフューザ部の前記先端部を取り囲む外周壁には、軸方向に沿って切欠部が複数形成されている請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の真空発生装置のディフューザ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空発生装置に用いられるディフューザに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の真空発生装置として、下記特許文献１に開示されたものがある。この真空発生装置では、ハウジング内に装着されたノズル本体の開口部（ノズル本体の側面に開口している）を介して、ハウジング内に形成された外側空間とノズル本体の内部とが連通している。開口部は、可撓性材料からなり軸方向（流体の流れ方向）に延びる弁部材で内側から塞がれている。
具体的には、弁部材は、円筒状の基礎セクションと、一対の半円形のタングと、該基礎セクションと該タングとを接続するブリッジとから構成されている。そして、該タングがノズル本体の円筒状の内側面に当接し、前記開口部を内側から塞ぐこととなっている。
【０００３】
この真空発生装置では、ノズル本体内に高速度の空気流を供給するとノズル本体内部で負圧が発生する。この負圧によりノズル本体内の圧力が外側空間の圧力よりも低くなった際に、開口部を塞ぐ弁部材の一部が前記ブリッジのところで軸心方向に撓み、それにより前記タングが開口部から離れることで、開口部を開放する方向へ動き、ノズル本体内と連通する外側空間が負圧となる。外側空間はハウジングの外部と連通しており、外側空間の負圧をハウジングの外部へ及ぼすことができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特表２００２−５０７６９８（図５、図３、図４参照）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、先行技術文献１に開示された真空発生装置では、ノズル本体の開口部の面積を大きくすることができない。すなわち、開口部の面積を大きくするために開口部の軸方向（流体の流れ方向）の寸法を大きくすると、ノズル本体の軸方向の寸法も大きくなり、真空発生装置が大型化してしまうことになる。
一方、開口部の軸方向と直交する方向（ノズル本体の円周方向）の寸法を大きくすると、弁部材の開口部を覆う部分（前記タング）がノズル本体の内周に沿った弧状に延びることとなる。これによって、弁部材が開口部を開口する方向へ動き難くなるため、迅速に真空を発生させることができない。
【０００６】
そこで本発明は、真空発生時の弁体の高速応答が可能な真空発生装置のディフューザを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
（第１態様）
上記の課題に鑑み、本発明の第１態様に係る真空発生装置のディフューザは、上流側の後端部から供給された圧縮空気が下流側の先端部から排出される第１流路を備え、該第１流路の上流側寄りに第１開口部が形成された第１ディフューザ部と、
前記第１流路の下流側に位置し前記先端部から流入した前記圧縮空気を下流側へ排出する第２流路を備えるとともに、上流側の後端面に前記第１ディフューザ部の前記先端部が挿入される先端挿入領域と、その周辺に開口し前記第２流路に連絡する第２開口部とを備えた第２ディフューザ部と、
前記第１ディフューザ部の前記先端部の外周に装着されて前記第２開口部を閉鎖するとともに、前記先端部の外周に発生する負圧により下流側へ撓んで変形することで前記第２開口部を開放する弁体と、を有する。
【０００８】
この構成では、圧縮空気が、第１ディフューザ部の第１流路の上流側に当たる後端部から供給されると、第１流路に負圧が生じ、その負圧によりまず第１開口部へ通ずる真空通路からの空気流入をもたらし、当該外部空間に負圧を生じさせる。
そして、圧縮空気の流速がさらに増加すると、第２ディフューザ部の第２流路に生じた負圧により今度は第２開口部の弁体が下流側へ撓んで変形することで、第２開口部が開放する。これにより、第２開口部からも真空通路からの空気流入が生ずることで、当該真空通路の負圧がさらに大きくなる。
【０００９】
このとき、第２開口部を閉鎖している弁体が圧縮空気の流れる方向、すなわち下流側へ変形して第２開口部を開放する。このため、従来のように、ディフューザの外周壁に形成した開口部を軸心方向へ変形して開閉するような弁体と比較すると、弁体の動きが素早くなり、圧縮空気の流速の急速な上昇に伴う速やかな負圧の増大が真空通路に生ずる。
【００１０】
（第２態様）
本発明の第２態様に係る真空発生装置のディフューザは、前記第１態様の構成に加え、前記弁体は、前記第１ディフューザ部の前記先端部の外周面に形成された環状溝へ嵌合する中心孔を備えた有孔円盤状の部材であり、前記第２ディフューザ部の内周壁の下流側には前記弁体の外周部の上流側の面が当接する環状の段部が形成されている。
この構成では、円盤状に形成された弁体が、第１ディフューザ部の環状溝と第２ディフューザ部の段部とに跨って安定した状態で保持される。
【００１１】
ここで、弁体を設ける意義は、外部空間の真空度のレベルを２段階とすることにある。すなわち、標準レベルの圧縮空気をディフューザに供給しているときは、弁体は閉鎖しており、第１ディフューザ部の第１開口部が負圧となり、真空通路内を負圧状態とする。
そして、高負圧レベルの圧縮空気をディフューザに供給すると、第２ディフューザ部の後端面にも負圧が発生し、第１ディフューザ部の第１開口部だけで発生する負圧よりも大きくなる。これにより、弁体が変形して、第２ディフューザ部の第２開口部が開放される。これにより、より大きな負圧を発生させることができる。
【００１２】
（第３態様）
本発明の第３態様に係る真空発生装置のディフューザは、前記第２態様の構成に加え、前記弁体の下流側の面には、前記中心孔から前記外周部へかけて放射状に複数本のリブが形成されている。
この構成では、弁体の下流側の面に放射状にリブが形成されることで、弁体の剛性が増す。これにより、弁体の変形に対する弾性復元力が増す。よって、弁体が変形した状態で圧縮空気の流入が急停止すると、速やかに弾性復元するので、第２開口部が速やかに閉鎖され、第２開口部を通じた第２流路からの空気の逆流が防止でき、真空状態の維持が可能となる。
【００１３】
（第４態様）
本発明の第４態様に係る真空発生装置のディフューザは、前記第３態様の構成に加え、前記リブは、前記中心孔から前記外周部にかけて高さを漸減させている。
この構成では、リブの外周部付近の高さが中心孔付近よりも低くなっているため、弁体の外周部の剛性は中心部よりも低くなる。これによって、弁体の外周部が撓みやすくなる。
【００１４】
（第５態様）
本発明の第５態様に係る真空発生装置のディフューザは、前記第１〜第４態様のいずれかの構成に加え、前記第２ディフューザ部の下流側において前記第１ディフューザ部の前記先端部を取り囲む外周壁には、軸方向に沿って切欠部が複数形成されている。
この構成では、第２ディフューザ部の外周壁に切欠部を形成されることで、真空発生装置内におけるディフューザの収容部へディフューザを組み付けたとき、切欠部が形成された部分は収容部の内周壁が流路面となる。すなわち、第２ディフューザ部の外周壁の厚みの分、流路断面積が大きくなるので、第２流路に供給される圧縮空気の流量を増加させることができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の各態様は上記のように構成されているので、真空発生時の弁体の高速応答が可能な真空発生装置のディフューザが提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】ディフューザの分解斜視図である。
【図２】第１ディフューザと第２ディフューザとの接続部分を示す斜視図である。
【図３】ディフューザを軸方向に沿って切断した断面図であって、標準レベルの圧縮空気が供給されている状態（Ａ）と、高負圧レベルの圧縮空気が供給されている状態（Ｂ）とを示す。
【図４】真空発生装置の収容部内に収容されたカラーを径方向に沿って切断した断面図である。
【図５】真空発生装置の概略断面図であって、圧縮空気の供給前の状態を示す。
【図６】図５の状態から、圧縮空気が供給され真空が発生している状態を示す概略断面図である。
【図７】図６の状態から、圧縮空気の供給が停止して、真空が維持されている状態を示す概略断面図である。
【図８】図７の状態から、真空が破壊された状態を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態に係る真空発生装置のディフューザについて具体的に説明する。なお、図中、同一又は対応する機能を有する部材（構成要素）には同じ符号を付して適宜説明を省略する。
本実施形態のディフューザ１０は、図１に示す通り、第１ディフューザ部２０と、第２ディフューザ部３０とを有する。以後、本実施形態の説明で参照される図中のディフューザ１０については、図面の右側が圧縮空気の供給側に当たる上流側を示し、図面の左側が排気側に当たる下流側を示す。
【００１８】
（第１ディフューザ部２０）
第１ディフューザ部２０は、上流側に位置する後端部２２と、下流側に位置する外套部２６と、さらにその先端から下流側へ突出する先端部としての第２ノズル２３とから成る。
後端部２２は、上流部分にあたる略円筒状の部分と、その下流側に突出する略円錐形状の部分とから成る。また、この略円錐形状の部分の先端からさらに小径で短い第１ノズル２５が突出している。そして、軸心部には貫通孔１００が設けられ、後述の第１流路２１の一部をなす（図３参照）。なお、後端部２２の外周には周方向に一周するリング溝１１Ａが設けられ、この中にはゴム製の気密用のＯリング１２Ａが嵌着される。
【００１９】
外套部２６は、前記後端部２２の外径とほぼ同径の円筒形状を呈しており、その外周の４箇所に、円形の第１開口部２４が等配されている。外套部２６の下流側に突出する、より小径の第２ノズル２３の外周面２３Ａには周方向に一周する環状溝２３Ｂが形成されている。この環状溝２３Ｂには後述の弁体４０が装着される。
外套部２６の上流側からは、後端部２２が挿入嵌着され、後端部２２の下流側の略円錐形状の部分は外套部２６の内部空間に収容される。また、第２ノズル２３の軸心部に設けられる貫通孔１０１は、上記した外套部２６の内部空間と連絡しており、後端部２２の貫通孔１００と合わせて後述の第１流路２１をなす（図３参照）。
【００２０】
（第２ディフューザ部３０）
第２ディフューザ部３０は、上流側に位置する略円筒形状の外周壁としてのカラー３６と、その下流側に位置し、カラー３６とほぼ同じ外径の略円筒形状の本体部３７と、さらにその先端から突出する、本体部３７よりも小径の略円筒形状の縮径部３８とを有する。
カラー３６は上述の通り、略円筒形状を呈する。その側面には、下流側の端縁から上流側の端縁近傍までに至る切欠部３６Ａが、４箇所等配されて形成されている。
【００２１】
カラー３６の後端面３２の中心には、前記第２ノズル２３が挿入される、先端挿入領域としての先端挿入孔３３が設けられている。また、この先端挿入孔３３を挟んで、一対の円弧状の開口である第２開口部３４が周方向及び半径方向にわたって設けられている。なお、カラー３６の後端面３２近傍の外周には周方向に一周するリング溝１１Ｂが設けられ、この中にはゴム製の気密用のＯリング１２Ｂが嵌着される。
弁体４０は、ゴム製で、中心に中心孔４１が開口した円盤状に形成されて、下流側からカラー３６の内部空間に挿入され、先に先端挿入孔３３から挿入されている第２ノズル２３の環状溝２３Ｂに中心孔４１の周縁を嵌入させて装着される。このように装着された状態では、弁体４０は、その上流側の面４０Ａが後端面３２の下流側に接触し、これにより下流側から第２開口部３４を閉鎖する。
【００２２】
本体部３７は、前記カラー３６の外径とほぼ同径の円筒形状を呈している。本体部３７の下流側へはより小径の縮径部３８が突出している。本体部３７及び縮径部３８の軸心部に設けられる貫通孔１０３は、前記した第１ディフューザ部２０の貫通孔１００、１０１と軸心同一であり、後述の第２流路３１をなす（図３参照）。なお、本体部３７の外周の上流側端縁近傍及び下流側端縁近傍にはそれぞれ周方向に一周するリング溝１１Ｃ、１１Ｄが設けられ、この中にはゴム製の気密用のＯリング１２Ｃ、１２Ｄがそれぞれ嵌着される。
【００２３】
（第１ディフューザ部２０と第２ディフューザ部３０との接続部分）
図２は、第１ディフューザ部２０と第２ディフューザ部３０との接続部分を下流側斜視図にて示したものである。上述したように、カラー３６の後端面３２の先端挿入孔３３から挿入された第２ノズル２３の先端が、カラー３６の内部空間に位置していることが認められる。また、１対の第２開口部３４が第２ノズル２３を挟んで対向していることも認められる。第２ノズル２３の外周面２３Ａの、根本に当たる部分には周方向に環状溝２３Ｂが形成されている。この環状溝２３Ｂに弁体４０が装着される。
【００２４】
弁体４０は、先述の通り有孔円盤形状を呈している。その下流側の面４０Ｂには、中心孔４１から外周部４２へかけて放射状に８本のリブ４３が等配されている。リブ４３の高さは中心孔４１から外周部４２へかけて漸減している。また、中心孔４１の内径は、第２ノズル２３の外径よりも、環状溝２３Ｂの深さの分小さく形成されている。この弁体４０は、中心孔４１に第２ノズル２３を圧入させ、弾性変形させつつ上流側へ根本まで移動させ、環状溝２３Ｂに中心孔４１を嵌入させることで装着される。
【００２５】
カラー３６の内周壁３５の上流側は段部３５Ａとなっており、ここに弁体４０の外周部４２の上流側の面４０Ａ（図１参照）が当接することで、第２開口部３４は弁体４０で閉鎖される（図３参照）。
【００２６】
（ディフューザ１０の動作）
図３は、図１の各部材を組み上げた状態のディフューザ１０を断面図で示したものである。上流側から供給される圧縮空気は、第１ディフューザ部２０において第１ノズル２５を途中に含む第１流路２１を通じて第２ディフューザ部３０へ供給され、その中を貫通する第２流路３１を通じて下流側へ排出される。
まず、圧縮空気の流速が標準レベルの場合、圧縮空気が第１ノズル２５及び第２ノズル２３を流れることにより生じる負圧により、第１開口部２４から空気がディフューザ１０内へ引き込まれる。このとき、弁体４０は閉鎖状態を保っている（図３（Ａ））。
【００２７】
そして、圧縮空気の流速が増して所定の高負圧レベルに達すると、圧縮空気が第１ノズル２５及び第２ノズル２３を流れることにより生ずる負圧に加え、その下流側で第２ノズル２３及び貫通孔１０３を圧縮空気が流れることによって生じた負圧により、弁体４０が下流側に撓み、第２開口部３４が開放する（図３（Ｂ））。
ここで、前述の通り、リブ４３の高さは外周部４２に至るほど低くなっているため、外周部４２の剛性は中心付近に比べて低くなっており、負圧によって撓みやすくなっている（図３（Ｂ））。一方、負圧が解消すると、リブ４３の剛性によって弁体４０が速やかに図３（Ａ）の状態に復元する。
【００２８】
以上より、第１開口部２４から空気がディフューザ１０内へ引き込まれるとともに、第２開口部３４からも空気がディフューザ１０内へ引き込まれ、これによって、圧縮空気の流速を増加させることで、第１開口部２４に加えて第２開口部３４をも介した負圧応答が可能となる。したがって、第１開口部２４及び第２開口部３４に至る真空発生流路５４（図５参照）においてより高速に真空に到達することが可能となる。
【００２９】
また、第２開口部３４は、周方向及び半径方向にわたって開口しているため、第２ディフューザ部３０の径や軸方向の長さを変えなくても、第２開口部３４の開口面積を大きくすることができ、ディフューザ１０の外形の小型化が可能となる。なお、第２開口部３４は、円弧状の開口としたが、複数の円孔でもよく、また全開口であってもよい。
【００３０】
ここで、本実施形態のディフューザ１０は、たとえば図５に示すような真空発生装置５０に装着されて使用されるものである。具体的には、ディフューザ収容部５３という略円筒形状の空間内にディフューザ１０が収容される。ここで、ディフューザ１０の外周に４箇所装着されているＯリング１２Ａ、１２Ｂ、１２Ｃ、１２Ｄによって、ディフューザ収容部５３の収容部内周壁５３Ａ（図４参照）とディフューザ１０との間の気密性が確保されている。
【００３１】
なお、ディフューザ収容部５３内において、先述の図２に示すカラー３６の部分が収容されている様子を下流側から示したのが図４である。ただし、弁体４０は一点鎖線により示している。これにより、弁体４０は内周壁３５の段部３５Ａに当接した状態で、第２開口部３４を閉鎖することが理解できる。ここで、カラー３６に切欠部３６Ａが設けられていることで、この切欠部３６Ａの分、カラー３６内部の容積が増すことになる。すなわち、切欠部３６Ａが設けられている部分では、カラー３６の内径が、収容部内周壁５３Ａの内径にまで拡大することになる。これによって、切欠部３６Ａを設けない場合に比べて、第１ディフューザ部２０内の圧縮空気の流量を多くすることができ、より高速な圧縮空気の供給にも対応できるようになっている。
【００３２】
（真空発生装置５０の動作）
以下では、本実施形態のディフューザ１０を装着した真空発生装置５０の動作を説明する。
【００３３】
（真空発生装置５０の概略構成）
図５は、真空発生装置５０の作動前の状態を模式的に断面図で示したものである。本図を用いて、真空発生装置５０の概略を説明する。
圧縮空気は、供給ポート５１Ａから常時供給され、圧縮空気供給流路５１を通り、ディフューザ供給流路５２を経由してディフューザ１０に供給される。そして、その中の第１流路２１及び第２流路３１を通じて排気流路５７へ至り、サイレンサ５７Ａを介して排気口５７Ｂから外部へ排出される。ここで、圧縮空気供給流路５１とディフューザ供給流路５２との間には真空発生用ポペット弁５１Ｃが介在している。また、この真空発生用ポペット弁５１Ｃの開閉を制御するのが真空発生制御用電磁弁５１Ｂである。
【００３４】
ここで、真空発生制御用電磁弁５１Ｂの制御方法は従来公知の種々のものを採用することができる。ディフューザ供給流路５２へ圧縮空気を供給する制御を行う場合には、たとえば、真空発生制御用電磁弁５１Ｂ内のプランジャ弁を「開放」状態にすることで、圧縮空気供給流路５１へ供給された圧縮空気を通路１１０を通じて真空発生用ポペット弁５１Ｃの上部１０８へ流入させる。これによって、この真空発生用ポペット弁５１Ｃを図中の下方へ移動させて（図６参照）、圧縮空気供給流路５１とディフューザ供給流路５２とを連絡させることができる。
【００３５】
一方、真空発生流路５４は、真空作業ユニット等が接続される真空ポート５４Ａから、フィルタ５４Ｂ（外界の異物がディフューザ１０に流入することを防止する）を介して、ディフューザ１０が収容されているディフューザ収容部５３へと至るが、ディフューザ収容部５３の直前に介在する封止弁５４Ｃにより通常は閉鎖されている。この封止弁５４Ｃは図中では右側でディフューザ収容部５３と連絡しており、ディフューザ１０内で負圧が発生した際には、左方へ移動し、それにより真空発生流路５４が開放する（図６参照）。なお、真空発生流路５４には圧力スイッチ５５が連結されており、これによって真空発生流路５４内の圧力がモニターされ、図示しない制御部へその情報が発信される。
【００３６】
さらに、圧縮空気供給流路５１と真空発生流路５４との間には、真空破壊流路５６が設けられ、通常は真空破壊用ポペット弁５６Ｃにより閉鎖されている。この真空破壊用ポペット弁５６Ｃは前記真空発生用ポペット弁５１Ｃと同様の構造である。この真空破壊用ポペット弁５６Ｃの開閉を制御するのが真空破壊制御用電磁弁５６Ｂである。この真空破壊制御用電磁弁５６Ｂの制御方法もまた前記真空発生制御用電磁弁５１Ｂと同様である。この真空破壊制御用電磁弁５６Ｂを作動させることで、真空破壊用ポペット弁５６Ｃを図中の下方へ移動させて（図８参照）、圧縮空気供給流路５１と真空破壊流路５６とを連絡させることができる。なお、真空破壊流路５６の途中には、真空破壊流路５６内の圧縮空気流量を調節するための破壊流量調節ニードル５６Ｄが設けられている。
【００３７】
（作動前の状態）
図５に示す真空発生装置５０の作動前の状態においては、真空発生用ポペット弁５１Ｃ、真空破壊用ポペット弁５６Ｃ及び封止弁５４Ｃのいずれも閉鎖状態を保っており、真空発生流路５４は外気圧と同じ圧力となっている。
【００３８】
（真空発生状態）
図６は、真空発生装置５０の作動によって真空が発生している状態を示したものである。なお、図中の実線矢印は圧縮空気の流れを示し、破線矢印は負圧空気の流れを示す。供給ポート５１Ａから供給される圧縮空気は、真空発生用ポペット弁５１Ｃが開放することで、圧縮空気供給流路５１からディフューザ供給流路５２へ流れ、さらにディフューザ１０へ流入する。ここで、圧縮空気の流量が標準レベルの場合には、このディフューザ１０内の第１流路２１によって第１開口部２４を介した第１段階の負圧が生じる（図３（Ａ）参照）。また、圧縮空気の流量が高負圧レベルに上昇した場合には、このディフューザ１０内の第２流路３１によって第２開口部３４をも介した第２段階の負圧が生じる（図３（Ｂ）参照）。図６ではこの第２段階の負圧が生じている状態を示している。
【００３９】
ここで、ディフューザ１０内に負圧が生ずることで、封止弁５４Ｃが開放し、真空発生流路５４がディフューザ１０と連絡する。よって、真空発生流路５４が負圧となって、真空ポート５４Ａの先端に接続されている真空作業ユニット等にワークが吸着されるようになる。
【００４０】
（真空維持状態）
図７は、図６の状態から真空発生装置５０の作動が停止して、真空が維持されている状態を示したものである。真空発生制御用電磁弁５１Ｂが閉鎖状態となることで、排気口５７Ｂからの外気圧で真空発生用ポペット弁５１Ｃ及び封止弁５４Ｃが作動前の状態に復帰する。よって、図６に示す真空維持状態における各弁の位置は、図５に示す作動前の状態と同一である。ただし、真空発生流路５４の真空ポート５４Ａの先にはワークが吸着されているため、真空発生流路５４全体が真空状態となっている。
【００４１】
（真空破壊状態）
図８は、図７の状態から、真空を破壊する状態を示したものである。なお、図中の実線矢印は圧縮空気の流れを示す。供給ポート５１Ａからは圧縮空気が常時供給されているが、今度は真空破壊用ポペット弁５６Ｃが開放することで、圧縮空気が圧縮空気供給流路５１から真空破壊流路５６へ流れ、さらに真空発生流路５４へ流入する。これにより、真空発生流路５４の真空が破壊され、逆に正圧となるため、真空ポート５４Ａの先に吸着されているワークが離れることとなる。
そして、真空破壊制御用電磁弁５６Ｂを閉鎖することで、排気口５７Ｂからの外気圧で真空破壊用ポペット弁５６Ｃが作動前の状態に復帰し、図５の作動前の状態に戻る。
【符号の説明】
【００４２】
１０  ディフューザ
２０  第１ディフューザ部
２１  第１流路
２２  後端部
２３  第２ノズル（先端部）
２３Ａ  外周面
２３Ｂ  環状溝
２４  第１開口部
３０  第２ディフューザ部
３１  第２流路
３２  後端面
３３  先端挿入孔（先端挿入領域）
３４  第２開口部
３５  内周壁
３５Ａ  段部
３６  カラー（外周壁）
３６Ａ  切欠部
４０  弁体
４０Ａ  上流側の面
４０Ｂ  下流側の面
４１  中心孔
４２  外周部
４３  リブ
５０  真空発生装置
【図１】
2018035742.tif 000003
【図２】
2018035742.tif 000004
【図３】
2018035742.tif 000005
【図４】
2018035742.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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