(57)【要約】【課題】優れた性能を安定に得ることが可能な透明導電積層体を提供する。【解決手段】透明導電積層体は、第１領域に配置された非透明層と、その非透明層から離間されると共に第１領域に配置された配線層と、非透明層と配線層との間において第１領域および第２領域に配置された透明電極層と、透明電極層と配線層との間において第１領域および第２領域に配置されると共に第１領域よりも第２領域において大きな厚さを有する保護層とを備えている。【選択図】図１Ｂ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１領域に配置された非透明層と、
前記非透明層から離間されると共に、前記第１領域に配置された配線層と、
前記非透明層と前記配線層との間において前記第１領域および第２領域に配置された透明電極層と、
前記透明電極層と前記配線層との間において前記第１領域および前記第２領域に配置されると共に、前記第１領域よりも前記第２領域において大きな厚さを有する保護層と
を備えた、透明導電積層体。
【請求項２】
前記透明電極層は、金属ナノワイヤを含む、
請求項１記載の透明導電積層体。
【請求項３】
前記第１領域における前記保護層の厚さは、１００ｎｍ以下であり、
前記第２領域における前記保護層の厚さは、７０ｎｍ以上である、
請求項１記載の透明導電積層体。
【請求項４】
前記保護層は、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂およびウレタンアクリレート樹脂のうちの少なくとも１種を含む、
請求項１記載の透明導電積層体。
【請求項５】
前記保護層は、
前記第１領域および前記第２領域に配置された第１保護層と、
前記第１保護層に隣接されると共に、前記第２領域に配置された第２保護層と
を含む、
請求項１記載の透明導電積層体。
【請求項６】
前記第１保護層の形成材料と前記第２保護層の形成材料とは、互いに異なる、
請求項５記載の透明導電積層体。
【請求項７】
第１領域に配置された加飾層と、
前記加飾層から離間されると共に、前記第１領域に配置された配線層と、
前記加飾層と前記配線層との間において前記第１領域および第２領域に配置された透明電極層と、
前記透明電極層と前記配線層との間において前記第１領域および前記第２領域に配置されると共に、前記第１領域よりも前記第２領域において大きな厚さを有する保護層と
を備えた、タッチパネル。
【請求項８】
タッチパネルと、
前記タッチパネルが取り付けられた表示パネルと
を備え、
前記タッチパネルは、
第１領域に配置された加飾層と、
前記加飾層から離間されると共に、前記第１領域に配置された配線層と、
前記加飾層と前記配線層との間において前記第１領域および第２領域に配置された透明電極層と、
前記透明電極層と前記配線層との間において前記第１領域および前記第２領域に配置されると共に、前記第１領域よりも前記第２領域において大きな厚さを有する保護層と
を備えた、表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明電極層を備えた透明導電積層体、ならびにその透明導電積層体を用いたタッチパネルおよび表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルを備えた表示装置などの多様なデバイスに、透明電極層を備えた透明導電積層体が用いられている。この透明導電積層体は、透明電極層と共に、その透明電極層を保護する保護層を備えている。
【０００３】
透明導電積層体の構成に関しては、さまざまな検討がなされている。具体的には、可視光に起因して電気抵抗が増加することを抑制するために、保護層（オーバーコート層）の表面抵抗率が所定の範囲となるよう設計されている（例えば、特許文献１参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１５−０３２４３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
透明導電積層体の性能を確保するためには、単に性能を向上させるだけでなく、その性能を継続して得ることも重要である。このため、透明導電積層体の構成に関しては、未だ改善の余地がある。
【０００６】
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、優れた性能を安定に得ることが可能な透明導電積層体、タッチパネルおよび表示装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の透明導電積層体は、第１領域に配置された非透明層と、その非透明層から離間されると共に第１領域に配置された配線層と、非透明層と配線層との間において第１領域および第２領域に配置された透明電極層と、透明電極層と配線層との間において第１領域および第２領域に配置されると共に第１領域よりも第２領域において大きな厚さを有する保護層とを備えたものである。
【０００８】
本発明のタッチパネルは、第１領域に配置された加飾層と、その加飾層から離間されると共に第１領域に配置された配線層と、加飾層と配線層との間において第１領域および第２領域に配置された透明電極層と、透明電極層と配線層との間において第１領域および第２領域に配置されると共に第１領域よりも第２領域において大きな厚さを有する保護層とを備えたものである。
【０００９】
本発明の表示装置は、タッチパネルと、そのタッチパネルが取り付けられた表示パネルとを備え、そのタッチパネルが上記した本発明のタッチパネルと同様の構成を有するものである。
【００１０】
なお、「透明」とは、光を十分に透過できる性質を意味していると共に、「非透明」とは、光をほとんど透過できない性質を意味している。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の透明導電積層体、タッチパネルおよび表示装置のそれぞれによれば、第２領域における保護層の厚さが第１領域における保護層の厚さよりも大きいので、優れた性能を安定に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１Ａ】本発明の一実施形態の透明導電積層体の構成を表す平面図である。
【図１Ｂ】図１Ａに示した１Ｂ−１Ｂ線に沿った透明導電積層体の断面図である。
【図２】透明導電積層体の製造方法を説明するための断面図である。
【図３】図２に示した製造工程に続く製造工程を説明するための断面図である。
【図４】第１比較例の透明導電積層体の構成を表す断面図である。
【図５】第２比較例の透明導電積層体の構成を表す断面図である。
【図６】第３比較例の透明導電積層体の構成を表す断面図である。
【図７Ａ】本発明の一実施形態のタッチパネルの構成を表す平面図である。
【図７Ｂ】図７Ａに示した７Ｂ−７Ｂ線に沿ったタッチパネルの断面図である。
【図８】本発明の一実施形態の表示装置の構成を模式的に表す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の一実施形態に関して、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、説明する順序は、下記の通りである。
１．透明導電積層体
１−１．構成
１−２．製造方法
１−３．作用および効果
１−４．変形例
２．タッチパネル
２−１．構成
２−２．動作
２−３．作用および効果
３．表示装置
【００１４】
＜１．透明導電積層体＞
まず、本発明の一実施形態の透明導電積層体に関して説明する。
【００１５】
ここで説明する透明導電積層体は、透明性（光透過性）を有すると共に導電性（透明電極層）を有する積層体である。この「透明」とは、上記したように、光を十分に透過できる性質を意味している。
【００１６】
この透明導電積層体は、例えば、光透過性を利用して所定の機能を発揮する各種デバイスなどに適用可能である。透明導電積層体の用途は、特に限定されない。
【００１７】
＜１−１．構成＞
まず、透明導電積層体の構成に関して説明する。
【００１８】
図１Ａは、透明導電積層体の平面構成を表していると共に、図１Ｂは、図１Ａに示した１Ｂ−１Ｂ線に沿った透明導電積層体の断面構成を表している。
【００１９】
この透明導電積層体は、例えば、図１Ａおよび図１Ｂに示したように、透明基体１の上に、非透明層２と、透明電極層４と、保護層５と、配線層６とを備えている。
【００２０】
配線層６は、非透明層２から離間されている。また、透明電極層４は、非透明層２と配線層６との間に配置されていると共に、保護層５は、透明電極層４と配線層６との間に配置されている。
【００２１】
すなわち、上記した非透明層２、透明電極層４、保護層５および配線層６は、透明基体１に近い側からこの順に配列されることにより、積層構造を形成している。言い替えれば、非透明層２、透明電極層４、保護層５および配線層６は、積層構造の積層方向において、透明基体１に近い側からこの順に配列されている。
【００２２】
ただし、非透明層２、透明電極層４、保護層５および配線層６のそれぞれの位置に関して上記した位置関係が成立していれば、透明導電積層体は、さらに、他の層のうちのいずれか１種類または２種類以上を備えていてもよい。この「他の層」とは、非透明層２、透明電極層４、保護層５および配線層６以外の層である。
【００２３】
すなわち、透明基体１と非透明層２とは、互いに隣接されていてもよい。ただし、透明基体１と非透明層２との間に１層または２層以上の他の層が介在しているため、透明基体１と非透明層２とは、互いに離間されていてもよい。
【００２４】
透明基体１と非透明層２との間に介在する他の層は、特に限定されないが、例えば、アンカー層などである。このアンカー層は、例えば、透明基体１に対する非透明層２の接着性が十分でない場合において、その透明基体１に対して非透明層２を接着させるための中間層である。なお、アンカー層は、単層でもよいし、多層でもよい。このようにアンカー層が単層でも多層でもよいことは、以降においても同様である。
【００２５】
非透明層２と透明電極層４とは、互いに隣接されていてもよい。ただし、非透明層２と透明電極層４との間に１層または２層以上の他の層が介在しているため、非透明層２と透明電極層４とは、互いに離間されていてもよい。
【００２６】
非透明層２と透明電極層４との間に介在する他の層は、特に限定されないが、例えば、平坦化層などである。この平坦化層は、例えば、後述する非透明層２に起因する段差の影響を抑制するために、透明電極層４が形成される下地の表面を平坦化する。なお、平坦化層は、単層でもよいし、多層でもよい。
【００２７】
透明電極層４と保護層５とは、互いに隣接されていてもよい。ただし、透明電極層４と保護層５との間に１層または２層以上の他の層が介在しているため、透明電極層４と保護層５とは、互いに離間されていてもよい。
【００２８】
透明電極層４と保護層５との間に介在する他の層は、特に限定されないが、例えば、透明電極層４に対して保護層５を接着させるためのアンカー層などである。このアンカー層は、例えば、透明電極層４に対する保護層５の接着性が十分でない場合において、その透明電極層４に対して保護層５を接着させるための中間層である。
【００２９】
保護層５と配線層６とは、互いに隣接されていてもよい。ただし、保護層５と配線層６との間に１層または２層以上の他の層が介在しているため、保護層５と配線層６とは、互いに離間されていてもよい。
【００３０】
保護層５と配線層６との間に介在する他の層は、特に限定されないが、例えば、保護層５に対して配線層６を接着させるためのアンカー層などである。このアンカー層は、例えば、保護層５に対する配線層６の接着性が十分でない場合において、その保護層５に対して配線層６を接着させるための中間層である。
【００３１】
ここでは、透明導電積層体は、例えば、上記した他の層として、非透明層２と透明電極層４との間に介在する平坦化層３を備えている。このため、透明導電積層体は、例えば、図１Ａおよび図１Ｂに示したように、透明基体１の上に、非透明層２と、平坦化層３と、透明電極層４と、保護層５と、配線層６とを備えている。すなわち、非透明層２、平坦化層３、透明電極層４、保護層５および配線層６は、例えば、透明基体１の上にこの順に積層されている。
【００３２】
［透明基体］
透明基体１は、主に、非透明層２、透明電極層４、保護層５および配線層６などを支持する支持体であり、透明性（光透過性）を有している。
【００３３】
透明基体１の種類は、特に限定されない。このため、透明基体１は、例えば、剛性を有する基板でもよいし、柔軟性（可撓性）を有するフィルムでもよいし、それらのうちのいずれか１種類または２種類以上が互いに積層された積層体でもよい。
【００３４】
この透明基体１は、例えば、高分子材料のうちのいずれか１種類または２種類以上を含んでいる。高分子材料の種類は、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）およびシクロオレフィン系樹脂（ＣＯＰ，ＣＯＣ）などである。これらの高分子材料の比重はガラスの比重よりも小さいため、透明導電積層体が軽量化されるからである。高分子材料を含んでいる透明基体１は、例えば、プラスチック基板（いわゆる透明パネル基板）である。
【００３５】
透明基体１の厚さは、特に限定されないが、例えば、約０．３ｍｍ〜１ｍｍである。
【００３６】
［非透明層］
非透明層２は、主に、透明基体１を介して透明導電積層体を見た際に配線層６などが視認されることを防止するために、その配線層６などを視覚的に遮蔽するマスク層である。すなわち、非透明層２は、非透明性（非光透過性）を有している。この「非透明」とは、上記したように、光をほとんど透過できない性質を意味している。
【００３７】
非透明層２の色は、特に限定されないが、例えば、黒色などの濃色である。非透明層２の遮蔽性が向上するからである。
【００３８】
この非透明層２は、例えば、図１Ａおよび図１Ｂに示したように、透明基体１の上に設けられていると共に、その透明基体１に対向する領域のうちの一部領域に配置されている。非透明層２が配置されている領域は、特に限定されないが、例えば、透明基体１に対向する領域のうちの外周領域である。すなわち、非透明層２は、例えば、透明基体１に対向する領域のうちの中央領域に配置されておらず、その中央領域を囲む領域（外周領域）に配置されている。図１Ａでは、非透明層２を識別しやすくするために、その非透明層２の形成範囲に網掛けを施している。
【００３９】
非透明層２の存在に起因して、その非透明層２の近傍に段差が形成されている。また、非透明層２の存在に起因して、透明導電積層体は、光透過領域ＲＸおよび非光透過領域ＲＹを有している。光透過領域ＲＸは、非透明層２が配置されていないため、透明導電積層体を光が十分に透過することができる第２領域である。これに対して、非光透過領域ＲＹは、非透明層２が配置されているため、透明導電積層体を光がほとんど透過することができない第１領域である。
【００４０】
この非透明層２は、例えば、光を遮蔽することが可能な材料（遮蔽材料）のうちのいずれか１種類または２種類以上を含んでいる。遮蔽材料の種類は、特に限定されないが、例えば、熱硬化性のアクリル系樹脂、紫外線硬化性のアクリル系樹脂および顔料などである。なお、非透明層２は、単層でもよいし、多層でもよい。
【００４１】
また、非透明層２は、例えば、所望のパターン（平面形状）となるように薄膜を形成することが可能な方法（パターン形成方法）のうちのいずれか１種類または２種類以上により形成されている。パターン形成方法の種類は、特に限定されないが、例えば、印刷法などである。
【００４２】
非透明層２の厚さは、特に限定されないが、例えば、約４μｍ〜３０μｍである。
【００４３】
［平坦化層］
平坦化層３は、主に、上記したように、非透明層２に起因する段差の影響を抑制するために、透明電極層４が形成される下地の表面を平坦化する。ただし、平坦化層３は、例えば、透明導電積層体が全体として湾曲することを抑制する役割を果たす場合もある。
【００４４】
この平坦化層３は、例えば、透明基体１および非透明層２のそれぞれの上に設けられていると共に、透明電極層４が形成される下地の表面を平坦化するために、光透過領域ＲＸおよび非光透過領域ＲＹに配置されている。
【００４５】
また、平坦化層３は、例えば、高分子材料のうちのいずれか１種類または２種類以上を含んでいる。高分子材料の種類は、特に限定されないが、例えば、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂および放射線硬化性樹脂などである。ここで説明する光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂および放射線硬化性樹脂のそれぞれに関する詳細は、以降においても同様である。
【００４６】
光硬化性樹脂は、例えば、紫外線光などの光の照射に応じて硬化することが可能な樹脂である。光硬化性樹脂の種類は、特に限定されないが、例えば、アクリル樹脂、ビニル樹脂、ポリエステル樹脂およびポリアミド樹脂などである。中でも、アクリル樹脂が好ましい。高い透明性が得られると共に、優れた耐屈曲性も得られるからである。
【００４７】
熱硬化性樹脂の種類は、特に限定されないが、例えば、エポキシ樹脂、アミノ樹脂およびウレタン樹脂などである。中でも、エポキシ樹脂が好ましい。硬化収縮が生じにくいため、優れた寸法安定性が得られるからである。
【００４８】
放射線硬化性樹脂の種類は、特に限定されないが、例えば、電子線および放射線などのうちのいずれか１種類または２種類以上の照射に応じて硬化することが可能な樹脂である。
【００４９】
［透明電極層］
透明電極層４は、主に、透明導電積層体の機能を発揮させるために通電される電極であり、透明性（光透過性）を有している。
【００５０】
この透明電極層４は、例えば、平坦化層３の上に設けられていると共に、光透過領域ＲＸおよび非光透過領域ＲＹに配置されている。
【００５１】
また、透明電極層４は、例えば、導電性高分子などの透明導電性材料のうちのいずれか１種類または２種類以上を含んでいる。導電性高分子の種類は、特に限定されないが、例えば、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）−ポリ（スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ）などである。
【００５２】
また、透明電極層４は、例えば、カーボンナノチューブおよび金属ナノワイヤのうちのいずれか１種類または２種類以上を含んでいることが好ましく、金属ナノワイヤを含んでいることがより好ましい。高い電気伝導性が得られると共に、透明電極層４と配線層６とが互いに導通しやすくなるからである。金属ナノワイヤの種類は、特に限定されないが、例えば、銀（Ａｇ）ナノワイヤおよび銅（Ｃｕ）ナノワイヤなどであり、中でも、銀ナノワイヤが好ましい。なお、金属ナノワイヤの寸法（平均径および平均長さなど）は、特に限定されない。
【００５３】
なお、透明電極層４が金属ナノワイヤを含んでいる場合、その透明電極層４は、例えば、金属ナノワイヤを保持するための高分子材料（いわゆるバインダ）のうちのいずれか１種類または２種類以上を含んでいてもよい。高分子材料の種類は、特に限定されないが、例えば、既存の透明な天然樹脂および既存の透明な合成樹脂などである。具体的には、高分子材料は、例えば、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂および熱可塑性樹脂などである。
【００５４】
透明電極層４が金属ナノワイヤと共に高分子材料を含んでいる場合、その透明電極層４では、高分子材料中において金属ナノワイヤが分散された状態において、その高分子材料により金属ナノワイヤが保持されている。なお、金属ナノワイヤと高分子材料との混合比は、特に限定されない。
【００５５】
透明電極層４の厚さは、特に限定されないが、例えば、約２μｍ〜１０μｍである。
【００５６】
［保護層］
保護層５は、主に、透明電極層４などを物理的および化学的に保護する層であり、透明性（光透過性）を有していてもよいし、非透明性（非光透過性）を有していてもよい。
【００５７】
この保護層５は、例えば、透明電極層４の上に設けられていると共に、その透明電極層５を保護するために、光透過領域ＲＸおよび非光透過領域ＲＹに配置されている。
【００５８】
また、保護層５は、例えば、絶縁性の高分子材料のうちのいずれか１種類または２種類以上を含んでいる。絶縁性の高分子材料の種類は、特に限定されないが、例えば、光硬化性樹脂などである。この光硬化性樹脂は、例えば、各種のオリゴマー、各種のモノマーおよび光重合開始剤などを含んでいる。
【００５９】
より具体的には、絶縁性の高分子材料は、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂およびウレタンアクリレート樹脂などである。
【００６０】
特に、保護層５は、場所に応じて互いに異なる厚さを有している。具体的には、図１Ｂに示したように、光透過領域ＲＸにおける保護層５の厚さＴＸは、非光透過領域ＲＹにおける保護層５の厚さＴＹよりも大きくなっている。
【００６１】
厚さＴＸが厚さＴＹよりも大きくなっているのは、透明導電積層体の通電性が担保されながら、その透明導電積層体の耐光性が向上するからである。この理由に関しては、後述する。
【００６２】
厚さＴＸは、厚さＴＹよりも大きければ特に限定されないが、例えば、約７０ｎｍ以上であり、好ましくは約１００ｎｍ以上である。なお、厚さＴＸの上限値は、特に限定されないが、例えば、約３００ｎｍである。
【００６３】
厚さＴＹは、厚さＴＸよりも小さければ特に限定されないが、例えば、約１００ｎｍ以下であり、好ましくは約３０ｎｍ以下である。なお、厚さＴＹの下限値は、特に限定されないが、例えば、約１０ｎｍである。
【００６４】
なお、保護層５は、例えば、後述するように、下部保護層５Ａと、その下部保護層５Ａの上に設けられた上部保護層５Ｂとを含んでいてもよい（図３参照）。
【００６５】
下部保護層５Ａは、光透過領域ＲＸおよび非光透過領域ＲＹに配置された第１保護層である。上部保護層５Ｂは、非光透過領域ＲＹに配置されずに光透過領域ＲＸだけに配置されることにより、下部保護層５Ａに隣接された第２保護層である。下部保護層５Ａの形成材料と上部保護層５Ｂの形成材料とは、互いに同じでもよいし、互いに異なってもよい。
【００６６】
下部保護層５Ａおよび上部保護層５Ｂを含む保護層５の詳細な構成に関しては、後述する。
【００６７】
［配線層］
配線層６は、主に、透明電極層４を通電させるための配線である。
【００６８】
この配線層６は、例えば、図１Ａおよび図１Ｂに示したように、互いに離間された２つの配線層６Ａ，６Ｂを含んでいる。
【００６９】
配線層６Ａ，６Ｂのそれぞれは、例えば、保護層５の上に設けられていると共に、非光透過領域ＲＹに配置されている。より具体的には、配線層６Ａは、例えば、非光透過領域ＲＹのうち、透明電極層４の一端部とオーバーラップする領域に配置されていると共に、配線層６Ｂは、例えば、非光透過領域ＲＹのうち、透明電極層４の他端部とオーバーラップする領域に配置されている。
【００７０】
配線層６Ａ，６Ｂのそれぞれは、例えば、導電性材料のうちのいずれか１種類または２種類以上を含んでいる。導電性材料の種類は、特に限定されないが、例えば、銀および銅などである。ただし、配線層６Ａの形成材料と配線層６Ｂの形成材料とは、互いに同じでもよいし、互いに異なってもよい。
【００７１】
配線層６Ａ，６Ｂのそれぞれの平面形状は、特に限定されないが、例えば、矩形などである。ただし、配線層６Ａの平面形状と配線層６Ｂの平面形状とは、互いに同じでもよいし、互いに異なってもよい。
【００７２】
＜１−２．製造方法＞
次に、透明導電積層体の製造方法に関して説明する。
【００７３】
なお、透明導電積層体の各構成要素の形成材料に関しては、既に詳細に説明したので、以下では、その説明を省略する。
【００７４】
図２および図３のそれぞれは、透明導電積層体の製造方法を説明するために、図１Ｂに対応する断面構成を表している。ただし、図３では、図２に示した製造工程に続く製造工程を示している。
【００７５】
透明導電積層体は、例えば、以下の手順により製造される。最初に、図２に示したように、透明基体１を準備する。この透明基体１は、例えば、上記したように、剛性を有する基板でもよいし、可撓性を有するフィルムでもよいし、それらの積層体でもよい。
【００７６】
続いて、図２に示したように、透明基体１の表面の一部領域（非光透過領域ＲＹ）に、非透明層２を形成する。非透明層２の形成方法は、特に限定されないが、例えば、シルクスクリーン印刷法などの印刷法である。
【００７７】
なお、非透明層２の遮蔽性を高めるために、その非透明層２の厚さを大きくしたい場合には、例えば、非透明層２の形成工程を繰り返すことにより、多層となるように非透明層２を形成してもよい。この場合には、一度の形成工程において形成される非透明層２の厚さが小さくて済む。よって、非透明層２の厚さを大きくする場合、その非透明層２の形成工程において厚さムラなどが発生しにくくなる。
【００７８】
続いて、図２に示したように、非透明層２が形成された透明基体１の上（光透過領域ＲＸおよび非光透過領域ＲＹ）に、平坦化層３を形成する。
【００７９】
平坦化層３を形成する場合には、例えば、有機溶剤などにより平坦化層３の形成材料（高分子材料）が溶解された溶液を準備したのち、その溶液を透明基体１および非透明層２のそれぞれに塗布してから乾燥させる。
【００８０】
続いて、図２に示したように、平坦化層３の上（光透過領域ＲＸおよび非光透過領域ＲＹ）に、透明電極層４を形成する。
【００８１】
透明電極層４を形成する場合には、例えば、有機溶剤などにより金属ナノワイヤが分散されると共に高分子材料が溶解された溶液を準備したのち、その溶液を平坦化層４に塗布してから乾燥させる。
【００８２】
なお、透明電極層４を形成したのち、必要に応じて所望の平面形状となるように透明電極層４をパターニングしてもよい。このパターニング方法は、特に限定されないが、例えば、エッチング法およびレーザパターニング法などである。
【００８３】
続いて、図２および図３に示したように、透明電極層４の上（光透過領域ＲＸおよび非光透過領域ＲＹ）に、保護層５を形成する。
【００８４】
保護層５の形成方法は、特に限定されないが、例えば、場所（光透過領域ＲＸおよび非光透過領域ＲＹ）に応じて厚さを互いに異ならせるために、所望の範囲に薄膜を形成することが可能な方法（選択形成方法）が好ましい。選択形成方法は、特に限定されないが、例えば、スプレー法、フレキソ印刷法およびインクジェット法などである。
【００８５】
スプレー法を用いて保護層５を形成する手順は、例えば、以下の通りである。
【００８６】
最初に、例えば、有機溶剤などに絶縁性の高分子材料を投入したのち、その有機溶剤などを撹拌することにより、その有機溶剤などにより絶縁性の高分子材料が溶解された溶液を準備する。有機溶剤の種類は、特に限定されないが、例えば、沸点が約１３８℃以下である高揮発性溶剤などである。具体的には、有機溶剤は、例えば、エタノールおよび１−プロパノールなどのうちのいずれか１種類または２種類以上である。こののち、スプレー装置の内部に溶液を投入する。
【００８７】
続いて、スプレー装置を用いて、透明電極層４の表面の全体領域（光透過領域ＲＸおよび非光透過領域ＲＹ）に溶液を吹き付けたのち、その溶液を乾燥させることにより、図２に示したように、下部保護層５Ａを形成する。スプレー法を用いた場合には、光透過領域ＲＸにおいて透明電極層４の表面に吹き付けられる溶液の量と、非光透過領域ＲＹにおいて透明電極層４の表面に吹き付けられる溶液の量とは、互いにほぼ等しくなる。これにより、下部保護層５Ａを形成すると、光透過領域ＲＸにおける下部保護層５Ａの厚さＴＹと非光透過領域ＲＹにおける下部保護層５Ａの厚さＴＹとは、互いにほぼ等しくなる。なお、例えば、下部保護層５Ａの形成材料として光硬化性樹脂を用いる場合には、乾燥後の塗膜に光を照射することにより光硬化性樹脂を硬化反応させる。この光の種類は、光硬化性樹脂の種類に応じて異なるが、例えば、光硬化性樹脂が紫外線硬化性樹脂である場合には紫外線光である。
【００８８】
最後に、スプレー装置を用いて、下部保護層５Ａの表面の一部領域（光透過領域ＲＸ）に再び溶液を吹き付けたのち、その溶液を乾燥させることにより、図３に示したように、その下部保護層５Ａの上に上部保護層５Ｂを形成する。なお、例えば、上部保護層５Ｂの形成材料として光硬化性樹脂を用いる場合には、上記した下部保護層５Ａを形成する場合と同様に、乾燥後の塗膜に光を照射することにより光硬化性樹脂を硬化反応させる。これにより、下部保護層５Ａおよび上部保護層５Ｂを含む保護層５が形成される。
【００８９】
保護層５を形成する場合には、厚さＴＺとなるように上部保護層５Ｂを形成することにより、下部保護層５Ａの厚さＴＹと上部保護層５Ｂの厚さＴＺとの和が厚さＴＸに等しくなるようにする（ＴＸ＝ＴＹ＋ＴＺ）。これにより、光透過領域ＲＸにおける保護層５（下部保護層５Ａおよび上部保護層５Ｂ）の厚さＴＸ（＝ＴＹ＋ＴＺ）は、非光透過領域ＲＹにおける保護層５（下部保護層５Ａ）の厚さＴＹよりも大きくなる。
【００９０】
スプレー法を用いる場合には、例えば、吹き付け量、吹き付け速度および吹き付け回数などの条件を変更することにより、厚さＴＸ，ＴＹ，ＴＺのそれぞれを調整可能である。
【００９１】
フレキソ印刷法を用いて保護層５を形成する手順は、例えば、以下の通りである。
【００９２】
最初に、例えば、光透過領域ＲＸおよび非光透過領域ＲＹの双方に印刷することが可能な第１フレキソ版を準備する。
【００９３】
続いて、有機溶剤などにより絶縁性の高分子材料が溶解された溶液と共に、上記した第１フレキソ版を用いて、透明電極層４の表面の全体領域（光透過領域ＲＸおよび非光透過領域ＲＹ）に溶液を印刷したのち、その溶液を乾燥させることにより、図２に示したように、下部保護層５Ａ（厚さＴＹ）を形成する。
【００９４】
続いて、光透過領域ＲＸだけに印刷することが可能な第２フレキソ版を準備する。
【００９５】
最後に、下部保護層５Ａの表面の一部領域（光透過領域ＲＸ）に再び溶液を印刷したのち、その溶液を乾燥させることにより、図３に示したように、その下部保護層５Ａの上に上部保護層５Ｂ（厚さＴＺ）を形成する。これにより、下部保護層５Ａおよび上部保護層５Ｂを含む保護層５が形成される。保護層５の形成方法としてスプレー法を用いた場合と同様に、光透過領域ＲＸにおける保護層５（下部保護層５Ａおよび上部保護層５Ｂ）の厚さＴＸ（＝ＴＹ＋ＴＺ）は、非光透過領域ＲＹにおける保護層５（下部保護層５Ａ）の厚さＴＹよりも大きくなる。
【００９６】
フレキソ印刷法を用いる場合には、例えば、溶液の粘度などの条件を変更することにより、厚さＴＸ，ＴＹ，ＴＺのそれぞれを調整可能である。
【００９７】
インクジェット法を用いて保護層５を形成する手順は、例えば、スプレー装置に代えてインクジェット装置を用いることを除いて、スプレー法を用いて保護層５を形成する手順と同様である。
【００９８】
最後に、図１Ｂに示したように、保護層５の表面の一部領域（非光透過領域ＲＹ）に、配線層６（６Ａ，６Ｂ）を形成する。配線層６Ａ，６Ｂの形成方法は、特に限定されないが、例えば、スクリーン印刷法などである。
【００９９】
これにより、透明導電積層体が完成する。
【０１００】
＜１−３．作用および効果＞
この透明導電積層体によれば、透明電極層４と配線層６との間に保護層５が設けられており、光透過領域ＲＸにおける保護層５の厚さＴＸが非光透過領域ＲＹにおける保護層５の厚さＴＹよりも大きくなっている。よって、以下で説明する理由により、優れた性能を安定に得ることができる。
【０１０１】
図４は、第１比較例の透明導電積層体の断面構成を表しており、図１Ｂに対応している。図５は、第２比較例の透明導電積層体の断面構成を表しており、図１Ｂに対応している。図６は、第３比較例の透明導電積層体の断面構成を表しており、図１Ｂに対応している。
【０１０２】
第１比較例の透明導電積層体は、図４に示したように、光透過領域ＲＸにおける保護層５の厚さＴＸと非光透過領域ＲＹにおける保護層５の厚さＴＹとが互いに同じであると共に、厚さＴＸ，ＴＹのそれぞれが相対的に大きな厚さとなるように設定されていることを除いて、図１Ｂに示した本実施形態の透明導電積層体と同様の構成を有している。
【０１０３】
第２比較例の透明導電積層体は、図５に示したように、光透過領域ＲＸにおける保護層５の厚さＴＸと非光透過領域ＲＹにおける保護層５の厚さＴＹとが互いに同じであると共に、厚さＴＸ，ＴＹのそれぞれが相対的に小さな厚さとなるように設定されていることを除いて、図１Ｂに示した本実施形態の透明導電積層体と同様の構成を有している。
【０１０４】
第３比較例の透明導電積層体は、図６に示したように、光透過領域ＲＸにおける保護層５の厚さＴＸが非光透過領域ＲＹにおける保護層５の厚さよりも小さいことを除いて、図１Ｂに示した本実施形態の透明導電積層体と同様の構成を有している。
【０１０５】
光透過領域ＲＸにおける保護層５の厚さＴＸは、透明電極層４の耐光性に影響を与える。具体的には、厚さＴＸが小さくなると、外光が透明電極層４に到達しやすくなる。これにより、透明電極層４が光劣化しやすくなるため、その透明電極層４の電気抵抗が上昇しやすくなる。この場合には、もちろん、透明電極層４の耐擦過性および耐摩耗性なども低下しやすくなる。一方、厚さＴＸが大きくなると、外光が透明電極層４に到達しにくくなる。これにより、透明電極層４が光劣化しにくくなるため、その透明電極層４の電気抵抗が上昇しにくくなると共に、その透明電極層４の耐擦過性および耐摩耗性なども担保されやすくなる。
【０１０６】
また、非光透過領域ＲＹにおける保護層５の厚さＴＹは、例えば、透明電極層４の通電性に影響を与える。具体的には、厚さＴＹが大きくなると、透明電極層４と配線層６との間に保護層５が介在していることに起因して、その透明電極層４と配線層６とが互いに導通しにくくなる。これにより、透明電極層４に対する配線層６の接触不良が発生しやすくなるため、その配線層６を用いて透明電極層４が通電されにくくなる。一方、厚さＴＹが小さくなると、配線層６と透明電極層４との間に保護層５が介在していても、その配線層６と透明電極層４とが互いに導通しやすくなる。これにより、透明電極層４に対する配線層６の接触不良が発生しにくくなるため、その配線層６を用いて透明電極層４が通電されやすくなる。
【０１０７】
第１比較例の透明導電積層体では、図４に示したように、厚さＴＸ，ＴＹのそれぞれが相対的に大きな厚さとなるように設定されているため、透明電極層４の耐光性および通電性の観点において、一方が良好になると他方が悪化するというトレードオフの関係が成立してしまう。
【０１０８】
具体的には、厚さＴＸが十分に大きいため、透明電極層４が光劣化しにくくなる反面、その厚さＴＸが大きすぎるため、透明電極層４に対する配線層６の接触不良が発生しやすくなる。これにより、透明電極層４の電気抵抗は上昇しにくくなるが、配線層６を用いて透明電極層４が通電されにくくなる。
【０１０９】
第２比較例の透明導電積層体では、図５に示したように、厚さＴＸ，ＴＹのそれぞれが相対的に小さな厚さとなるように設定されているため、透明電極層４の耐光性および通電性の観点において、やはりトレードオフの関係が成立してしまう。
【０１１０】
具体的には、厚さＴＸが小さいため、透明電極層４に対する配線層６の接触不良が発生しにくくなる反面、その厚さＴＸが小さすぎるため、透明電極層４が光劣化しやすくなる。これにより、配線層６を用いて透明電極層４は通電されにくくなるが、その透明電極層４の電気抵抗は上昇しやすくなる。
【０１１１】
第３比較例の透明導電積層体では、図６に示したように、厚さＴＸが厚さＴＹよりも小さいため、透明電極層４の耐光性および通電性がいずれも悪化する。具体的には、厚さＴＸが小さすぎるため、透明電極層４が光劣化しやすくなると共に、厚さＴＹが大きすぎるため、透明電極層４に対する配線層６の接触不良が発生しやすくなる。これにより、透明電極層４の電気抵抗が上昇しやすくなると共に、配線層６を用いて透明電極層４が通電されにくくなる。
【０１１２】
これに対して、本実施形態の透明導電積層体では、図１Ｂに示したように、厚さＴＸが厚さＴＹよりも大きいため、上記したトレードオフの関係が打破されることにより、透明電極層４の耐候性および通電性がいずれも良好になる。
【０１１３】
具体的には、厚さＴＸを十分に大きくすることにより、透明電極層４が光劣化しにくくなると共に、厚さＴＹを十分に小さくすることにより、保護層５を利用して透明電極４を保護しながら、その透明電極層４に対する配線層６の接触不良が発生しにくくなる。この場合には、透明電極層４の電気抵抗が上昇しにくくなると共に、配線層６を用いて透明電極層４が通電されやすくなる。これにより、透明電極層４の電気抵抗が安定化するため、その透明電極層４の電気抵抗に関する信頼性が向上する。
【０１１４】
よって、透明電極層４に関する耐候性の向上と通電性の向上とが両立されるため、優れた性能を安定に得ることができる。
【０１１５】
特に、透明電極層４が金属ナノワイヤを含んでいれば、十分に大きな厚さＴＸを有する保護層５により、本質的に光劣化（酸化）しやすい性質を有する金属ナノワイヤが保護される。よって、金属ナノワイヤの電気抵抗が増加することは効果的に抑制されるため、より高い効果を得ることができる。
【０１１６】
また、光透過領域ＲＸにおける保護層５の厚さＴＸが約７０ｎｍ以上であると共に、非光透過領域ＲＹにおける保護層５の厚さＴＹが約１００ｎｍ以下であれば、透明電極層４の耐光性を向上させる観点において厚さＴＸが適正化されると共に、その透明電極層４の通電性を向上させる観点において厚さＴＹが適正化される。よって、透明電極層４の電気抵抗がより上昇しにくくなると共に、配線層６を用いて透明電極層４がより通電されやすくなるため、より高い効果を得ることができる。この場合には、保護層５がポリエステル樹脂などを含んでいれば、その保護層５の形成材料との関係において厚さＴＸ，ＴＹのそれぞれが適正化されるため、さらに高い効果を得ることができる。
【０１１７】
また、図２および図３に示したように、スプレー法などの選択形成方法を用いて下部保護層５Ａおよび上部保護層５Ｂを含む保護層５を形成すれば、既存の方法を用いて、場所（光透過領域ＲＸおよび非光透過領域ＲＹ）に応じて互いに異なる厚さＴＸ，ＴＹを有する保護層５を容易に形成することができる。
【０１１８】
＜１−４．変形例＞
上記した透明導電積層体の構成は、適宜、変更可能である。
【０１１９】
具体的には、例えば、図３に示したように、保護層５が下部保護層５Ａおよび上部保護層５Ｂを含んでいる場合には、下部保護層５Ａの形成材料と上部保護層５Ｂの形成材料とを互いに異ならせてもよい。
【０１２０】
この場合には、例えば、上部保護層５Ｂが紫外線吸収剤などの光吸収材料を含むと共に、下部保護層５Ａが光吸収材料を含まないようにしてもよい。これにより、光透過領域ＲＸでは、光吸収材料の光吸収機能を利用して透明電極層４の光劣化が抑制されるため、その透明電極層４の耐光性を向上させることができる。しかも、下部保護層５Ａの形成材料が光吸収材料に限定されないため、その下部保護層５Ａの形成材料に関する選択肢の幅を広げることができる。よって、下部保護層５Ａの形成材料に関する自由度を担保しながら、透明電極層４の耐光性を向上させることができる。
【０１２１】
＜２．タッチパネル＞
次に、上記した本発明の透明導電積層体が適用されたタッチパネルに関して説明する。以下では、本発明の透明導電積層体の構成要素を随時引用する。
【０１２２】
＜２−１．構成＞
図７Ａは、タッチパネルの平面構成を表していると共に、図７Ｂは、図７Ａに示した７Ｂ−７Ｂ線に沿ったタッチパネルの断面構成を表している。
【０１２３】
このタッチパネルは、例えば、図７Ａおよび図７Ｂに示したように、非透明層２に対応する加飾層１０２を備えていることを除いて、図１Ａおよび図１Ｂに示した透明導電積層体と同様の構成を有している。
【０１２４】
すなわち、タッチパネルは、例えば、透明基体１０１の上に、加飾層１０２と、平坦化層１０３と、透明電極層１０４と、保護層１０５と、配線層１０６（１０６Ａ，１０６Ｂ）とを備えている。
【０１２５】
透明基体１０１、平坦化層１０３、透明電極層１０４、保護層１０５および配線層１０６（１０６Ａ，１０６Ｂ）のそれぞれの構成は、例えば、透明基体１、平坦化層３、透明電極層４、保護層５および配線層６（６Ａ，６Ｂ）のそれぞれの構成と同様である。
【０１２６】
このタッチパネルは、光透過領域ＲＸおよび非光透過領域ＲＹを有している。光透過領域ＲＸは、加飾層１０２が配置されていないため、光が十分に透過することができる第２領域である。一方、非光透過領域ＲＹは、加飾層１０２が配置されているため、光がほとんど透過することができない第１領域である。
【０１２７】
加飾層１０２は、必要に応じて意匠が施されていてもよいことを除いて、非透明層２と同様の機能および構成を有している。
【０１２８】
このタッチパネルでは、上記したように、保護層１０５が保護層５と同様の構成を有しているため、光透過領域ＲＸにおける保護層１０５の厚さＴＸは、非光透過領域ＲＹにおける保護層１０５の厚さＴＹよりも大きくなっている。厚さＴＸ，ＴＹのそれぞれの適正範囲は、上記した通りである。
【０１２９】
なお、タッチパネルは、上記した一連の構成要素以外の他の構成要素のうちのいずれか１種類または２種類以上を備えていてもよい。この「他の構成要素」は、例えば、静電容量の変化を検出する外部回路などである。
【０１３０】
このタッチパネルは、例えば、非透明層２として加飾層１０２を形成することを除いて、透明導電積層体の製造方法と同様の手順により製造される。
【０１３１】
＜２−２．動作＞
このタッチパネルは、例えば、以下のように動作する。
【０１３２】
タッチパネルの操作者の指が透明基体１０１の表面のうちの任意の位置（操作位置）に触れると、その操作位置において指と透明電極層１０４との間に容量結合が発生するため、静電容量が変化する。この静電容量の変化が外部回路により検出されるため、その静電容量の変化に基づいて操作位置が検出される。
【０１３３】
＜２−３．作用および効果＞
このタッチパネルによれば、透明電極層１０４と配線層１０６との間に保護層１０５が設けられており、光透過領域１０ＲＸにおける保護層１０５の厚さＴＸが非光透過領域１０ＲＹにおける保護層１０５の厚さＴＹよりも大きくなっている。よって、上記した透明導電積層体と同様の理由により、優れた性能を安定に得ることができる。
【０１３４】
タッチパネルに関する他の作用および効果は、透明導電積層体に関する他の作用および効果と同様である。
【０１３５】
＜３．表示装置＞
次に、上記した本発明のタッチパネルが適用された表示装置に関して説明する。
【０１３６】
図８は、表示装置の断面構成を模式的に表している。この表示装置は、例えば、図８に示したように、タッチパネル２００Ａと、そのタッチパネル２００Ａが取り付けられた表示パネル２００Ｂとを備えている。
【０１３７】
タッチパネル２００Ａは、上記したタッチパネルと同様の構成を有している。このタッチパネル２００Ａは、例えば、表示パネル２００Ｂの表示面に取り付けられている。
【０１３８】
表示パネル２００Ｂの種類は、任意の表示原理を用いて画像および映像を表示することが可能であるパネル（ディスプレイ）であれば、特に限定されない。この表示パネル２００Ｂは、例えば、液晶表示パネル、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）パネルおよび電子ペーパーパネルなどのうちのいずれか１種類または２種類以上である。
【０１３９】
この表示装置では、表示パネル２００Ｂに表示される画像および映像を見ながら、表示装置の使用者によりタッチパネル２００Ａを用いて表示パネル２００Ｂが操作される。
【０１４０】
この表示装置によれば、タッチパネル２００Ａが上記したタッチパネルと同様の構成を有しているので、優れた性能を安定に得ることができる。
【０１４１】
表示装置に関する他の作用および効果は、タッチパネルに関する他の作用および効果と同様である。
【実施例】
【０１４２】
本発明の実施例に関して、詳細に説明する。
【０１４３】
（実験例１〜８）
以下の手順により、図１Ａおよび図１Ｂに示した透明導電積層体を作製した。この場合には、図２および図３に示した透明導電積層体の製造方法を用いた。
【０１４４】
最初に、透明基体１（厚さ＝８００μｍ）の表面の一部領域（非光透過領域ＲＹ）に、シルクスクリーン印刷法を用いて非透明層２（厚さ＝２０μｍ）を形成した。透明基体１としては、ＰＥＴ基板を用いた。非透明層２の形成材料としては、黒色顔料インキ（帝国インキ製造株式会社製ＭＲＸ−ＨＦ９１９黒）を用いた。
【０１４５】
続いて、非透明層２が形成された透明基体１の表面（光透過領域ＲＸおよび非光透過領域ＲＹ）に、平坦化層３（厚さ＝１０μｍ）を形成した。平坦化層３の形成材料としては、アクリル樹脂を用いた。
【０１４６】
続いて、平坦化層３の表面（光透過領域ＲＸおよび非光透過領域ＲＹ）に銀ナノワイヤインク（Cambrios Technologies Corporation 製のCleanOhm）を塗布したのち、その銀ナノワイヤインクを乾燥させることにより、透明電極層４（厚さ＝０．２μｍ）を形成した。透明電極層４の電気抵抗は、６０Ω／□であった。
【０１４７】
続いて、透明電極層４の表面（光透過領域ＲＸおよび非光透過領域ＲＹ）に、スプレー法を用いて保護層５を形成した。保護層５を形成する場合には、吹き付け用の溶液として、絶縁性の高分子材料（ＪＳＲ株式会社製のアクリル系紫外線硬化性樹脂  ＮＮ９０１）が溶解されたエタノール溶液を用いた。この場合には、スプレー装置を用いて透明電極層４の表面に溶液を吹き付けてから乾燥させたのち、乾燥後の塗膜に紫外線光を照射することにより塗膜（紫外線硬化性樹脂）を硬化反応させた。また、透明電極層４の表面（光透過領域ＲＸおよび非光透過領域ＲＹ）に下部保護層５Ａ（厚さ＝ＴＹ）を形成したのち、その下部保護層５Ａの表面の一部領域（光透過領域ＲＸ）に上部保護層５Ｂ（厚さ＝ＴＺ）を形成することにより、下部保護層５Ａおよび上部保護層５Ｂを含む保護層５を形成した。
【０１４８】
この場合には、厚さＴＹ，ＴＺのそれぞれを調整することにより、光透過領域ＲＸにおける保護層５の厚さＴＸ（＝ＴＹ＋ＴＺ）が非光透過領域ＲＹにおける保護層５の厚さＴＹよりも大きくなるようにした。厚さＴＸ，ＴＹ，ＴＺのそれぞれに関する詳細は、表１に示した通りである。表１に示した「大小関係」は、厚さＴＸ，ＴＹの大小関係を表している。
【０１４９】
最後に、保護層５の表面の一部領域（非光透過領域ＲＹ）に、スクリーン印刷法を用いて配線層６（６Ａ，６Ｂ）を形成した。
【０１５０】
（実験例９，１０）
図４、図５および表１に示したように、光透過領域ＲＸにおける保護層５の厚さＴＸと非光透過領域ＲＹにおける保護層５の厚さＴＹとが互いに同じになるようにしたことを除いて、実験例１〜８と同様の手順により透明導電積層体を作製した。この場合には、保護層５を形成するためにスリットダイコータを用いた。
【０１５１】
（実験例１１）
図６および表１に示したように、光透過領域ＲＸにおける保護層５の厚さＴＸが非光透過領域ＲＹにおける保護層５の厚さＴＹよりも小さくなるようにしたことを除いて、実験例１〜８と同様の手順により透明導電積層体を作製した。
【０１５２】
保護層５を形成する場合には、スプレー装置を用いて溶液を吹き付ける範囲を変更した。具体的には、光透過領域ＲＸおよび非光透過領域ＲＹに溶液を吹き付けてから乾燥させたのち、その非光透過領域ＲＹに再び溶液を吹き付けてから乾燥させた。
【０１５３】
これらの透明導電積層体の耐光性および通電性を調べたところ、表１に示した結果が得られた。
【０１５４】
耐光性を調べる場合には、透明導電積層体を用いて耐光性試験を行うことにより、抵抗変化率（％）を算出したのち、その抵抗変化率に基づいて耐光性を評価した。
【０１５５】
耐光性試験を行う場合には、最初に、透明電極層の表面抵抗を測定した。続いて、耐光性試験機を用いて透明導電積層体に紫外線光を照射したのち、再び透明電極層の表面抵抗を測定した。耐光性試験機としては、株式会社東洋精機製作所製のアトラス・ウェザオメータＣｉ４０００を用いることにより、透明基体１を介して透明電極層４に紫外線光を照射した。紫外線光の照射条件としては、波長＝３００ｎｍ〜４００ｎｍ、照射強度＝８４Ｗ／ｍ2 、槽内温度＝４０℃、ブラックパネル温度＝６３℃、照射時間＝１６８時間とした。続いて、抵抗変化率（％）＝［（照射後の表面抵抗−照射前の表面抵抗）／照射前の表面抵抗］×１００を算出した。最後に、抵抗変化率に基づいて耐光性を４段階評価した。
【０１５６】
４段階の評価内容は、以下の通りである。抵抗変化率が１０％未満であるため、紫外線光の照射に起因する表面抵抗の変化が問題ない場合を「Ａ」とした。抵抗変化率が１０％以上２０％未満であるため、紫外線光の照射に起因する表面抵抗の変化が十分に許容可能である場合を「Ｂ」とした。抵抗変化率が２０％以上３０％未満であるため、紫外線光の照射に起因する表面抵抗の変化が許容可能である場合を「Ｃ」とした。抵抗変化率が３０％以上であるため、紫外線光の照射に起因する表面抵抗の変化が許容不可である場合を「Ｄ」とした。
【０１５７】
通電性を調べる場合には、抵抗計（株式会社三菱化学アナリテック製の簡易型低抵抗率計  ロレスタＡＸ  ＭＣＰ−Ｔ３７０）を用いて透明電極層４と配線層６との接触抵抗を測定することにより、その接触抵抗に基づいて透明電極層４の通電性（透明電極層４と配線層６との導通状態）を４段階評価した。
【０１５８】
４段階の評価内容は、以下の通りである。接触抵抗が５００Ω未満であるため、透明電極層４の通電状態が良好である場合を「Ａ」とした。接触抵抗が５００Ω以上１０００Ω未満であるため、透明電極層４の通電状態が十分に許容可能である場合を「Ｂ」とした。接触抵抗が１０００Ω以上３０００Ω未満であるため、透明電極層４の通電状態が許容可能である場合を「Ｃ」とした。接触抵抗が３０００Ω以上であるため、透明電極層４の通電状態が許容不可である場合を「Ｄ」とした。
【０１５９】
【表１】
2018106395.tif 000003
【０１６０】
厚さＴＸが厚さＴＹ以下である場合（実験例９〜１１）には、十分な耐光性が得られないと共に、十分な通電性も得られなかった。これに対して、厚さＴＸが厚さＴＹよりも大きい場合（実験例１〜８）には、十分な耐光性が得られると共に、十分な通電性も得られた。
【０１６１】
特に、厚さＴＸが厚さＴＹよりも大きい場合（実験例１〜８）には、厚さＴＸが７０ｎｍ以上であると共に、厚さＴＹが１００ｎｍ以下であると、耐光性がより向上すると共に、通電性もより向上した。
【０１６２】
表１に示した結果から、透明電極層４と配線層６との間に保護層５が介在している場合において、光透過領域ＲＸにおける保護層５の厚さＴＸが非光透過領域ＲＹにおける保護層５の厚さＴＹよりも大きいと、透明電極層４に関する耐候性と通電性とが両立された。よって、透明導電積層体に関して優れた性能が安定に得られた。
【０１６３】
以上、実施形態および実施例を挙げながら本発明に関して説明したが、その本発明は、上記した実施形態および実施例において説明した態様に限定されず、種々の変形が可能である。
【０１６４】
具体的には、本発明の透明導電積層体をタッチパネルに適用する場合に関して説明したが、その透明導電積層体の用途は、特に限定されない。透明導電積層体の他の用途は、例えば、有機発光素子、有機トランジスタおよび医療用センサなどである。特に、本発明の透明導電積層体は、フレキシブルデバイスに適用可能である。
【０１６５】
また、本発明のタッチパネルを表示装置に適用する場合に関して説明したが、そのタッチパネルの用途は、特に限定されない。タッチパネルの他の用途は、例えば、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）照明および有機薄膜太陽電池などである。
【符号の説明】
【０１６６】
１，１０１…透明基体、２…非透明層、３，１０３…平坦化層、４，１０４…透明電極層、５，１０５…保護層、５Ａ…下部保護層、５Ｂ…上部保護層、６（６Ａ，６Ｂ），１０６（１０６Ａ，１０６Ｂ）…配線層、１０２…加飾層、２００Ａ…タッチパネル、２００Ｂ…表示パネル、ＲＸ…光透過領域、ＲＹ…非光透過領域、ＴＸ，ＴＹ，ＴＺ…厚さ。
【図１Ａ】
2018106395.tif 000004
【図１Ｂ】
2018106395.tif 000005
【図２】
2018106395.tif 000006
【図３】
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【図４】
2018106395.tif 000008
【図５】
2018106395.tif 000009
【図６】
2018106395.tif 000010
【図７Ａ】
2018106395.tif 000011
【図７Ｂ】
2018106395.tif 000012
【図８】
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