(57)【要約】【課題】所定の処理ラインにガラス基板を供給する基板供給装置が受け入れたワイヤーカセットの中に処理ラインでの処理が不要なガラス基板が含まれている場合であっても、ガラス基板の処理工程における時間的なロスを低減することが可能となる基板供給装置の制御方法を提供する。【解決手段】ワイヤーカセット４に収容される複数枚のガラス基板２の中の、処理ラインでの処理が不要なガラス基板２を第１ガラス基板２Ａとし、ワイヤーカセット４に収容される複数枚のガラス基板２の中の、第１ガラス基板２Ａ以外の、処理ラインでの処理が必要なガラス基板２を第２ガラス基板２Ｂとすると、この基板供給装置では、第２ガラス基板２Ｂよりも下側に配置される第１ガラス基板２Ａをワイヤーカセット１４に収容した後、第２ガラス基板２Ｂを処理ラインに供給する。【選択図】図４
2018083700.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数枚のガラス基板が収容されるワイヤーカセットが載置される載置部と、前記載置部を昇降させる昇降機構と、前記ガラス基板の下面に接触して前記ガラス基板を搬送する複数の搬送ローラとを有する基板供給ユニットと、
複数枚の前記ガラス基板が収容される第２のワイヤーカセットが載置される第２載置部と、前記第２載置部を昇降させる第２昇降機構と、前記ガラス基板の下面に接触して前記ガラス基板を搬送する複数の第２搬送ローラとを有し、前記基板供給ユニットと前記ガラス基板に対して所定の処理を行う処理ラインとの間に配置される基板保留ユニットとを備え、
前記処理ラインに前記ガラス基板を供給する基板供給装置の制御方法であって、
前記ワイヤーカセットに収容される複数枚の前記ガラス基板の中の、前記処理ラインでの処理が不要な前記ガラス基板を第１ガラス基板とし、前記ワイヤーカセットに収容される複数枚の前記ガラス基板の中の、前記第１ガラス基板以外の、前記処理ラインでの処理が必要な前記ガラス基板を第２ガラス基板とすると、
前記ワイヤーカセットの下降動作と、前記搬送ローラおよび前記第２搬送ローラの搬送動作と、前記第２のワイヤーカセットの上昇動作とを行って、前記第２ガラス基板よりも下側に配置される前記第１ガラス基板を前記第２のワイヤーカセットに収容した後、前記ワイヤーカセットの下降動作と、前記搬送ローラおよび前記第２搬送ローラの搬送動作とを行って、前記第２ガラス基板を前記処理ラインに供給することを特徴とする基板供給装置の制御方法。
【請求項２】
複数枚のガラス基板が収容されるワイヤーカセットが載置される載置部と、前記載置部を昇降させる昇降機構と、前記ガラス基板の下面に接触して前記ガラス基板を搬送する複数の搬送ローラとを有する基板供給回収ユニットと、
複数枚の前記ガラス基板が収容される第２のワイヤーカセットが載置される第２載置部と、前記第２載置部を昇降させる第２昇降機構と、前記ガラス基板の下面に接触して前記ガラス基板を搬送する複数の第２搬送ローラとを有し、前記基板供給回収ユニットと前記ガラス基板に対して所定の処理を行う処理ラインとの間に配置される基板保留供給ユニットとを備え、
前記処理ラインへの前記ガラス基板の供給と前記処理ラインからの前記ガラス基板の回収とを行う基板供給回収装置の制御方法であって、
前記載置部に前記ワイヤーカセットが載置されると、前記ワイヤーカセットの下降動作と、前記搬送ローラおよび前記第２搬送ローラの搬送動作と、前記第２のワイヤーカセットの上昇動作とを行って、前記ワイヤーカセットに収容される全ての前記ガラス基板を順次、前記第２のワイヤーカセットに収容し、その後、前記搬送ローラおよび前記第２搬送ローラの搬送動作と、前記ワイヤーカセットの上昇動作とを行って、前記処理ラインから排出される前記ガラス基板を順次、前記ワイヤーカセットに収容するとともに、前記第２のワイヤーカセットの下降動作と、前記第２搬送ローラの搬送動作とを行って、前記第２のワイヤーカセットに収容された前記ガラス基板を順次、前記処理ラインに供給することを特徴とする基板供給回収装置の制御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板に対して所定の処理を行う処理ラインにガラス基板を供給する基板供給装置の制御方法に関する。また、本発明は、ガラス基板に対して所定の処理を行う処理ラインへのガラス基板の供給と処理ラインからのガラス基板の回収とを行う基板供給回収装置の制御方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置に用いられるガラス基板の製造ラインにガラス基板を投入するローダと、製造ラインからガラス基板を回収するアンローダとが知られている（たとえば、特許文献１参照）。特許文献１に記載のローダは、ガラス基板が収容された第１のカセットがセットされるローダ本体と、第１のコンベヤバッファとから構成されている。第１のコンベヤバッファは、第１のコンベヤと第１のバッファとから構成されており、ローダ本体の下流に配置されている。
【０００３】
特許文献１に記載のローダでは、第１のコンベアバッファは、ローダ本体にセットされた第１のカセットに収容されているガラス基板を受け取って、直接、下流の製造ラインに供給するか、あるいは、製造ラインに供給せずに第１のバッファに搬送して、第１のバッファに一時的に収容する。第１のバッファに一時的に収容されたガラス基板は、ローダ本体にセットされる第１のカセットの交換時に、第１のコンベアによって製造ラインに供給される。
【０００４】
また、特許文献１に記載のアンローダは、第２のカセットがセットされるアンローダ本体と、第２のコンベアバッファとから構成されている。第２のコンベヤバッファは、第２のコンベアと第２のバッファとから構成されており、アンローダ本体の上流に配置されている。このアンローダでは、第２のコンベアバッファは、製造ラインから排出されるガラス基板を直接、アンローダ本体にセットされた第２のカセットに搬送するか、あるいは、第２のバッファに搬送して、第２のバッファに一時的に収容する。
【０００５】
また、第２のコンベアバッファは、アンローダ本体にセットされた第２のカセットが交換されるときには、製造ラインから排出されるガラス基板を第２のバッファに一時的に収容する。また、第２のコンベアバッファは、第２のカセットが交換されると、製造ラインから排出されるガラス基板を直接、アンローダ本体にセットされた第２のカセットに搬送したり、次のガラス基板が製造ラインから排出されてくるまでの間に、第２のバッファに一時的に収容されているガラス基板をアンローダ本体にセットされた第２のカセットに搬送したりする。
【０００６】
なお、特許文献１に記載された第１のカセットおよび第２のカセットは、たとえば、ワイヤーカセットである。ワイヤーカセットは、側面フレームと、側面フレーム間に張られた複数のワイヤーとを備えている。ワイヤーカセットに収容されている複数枚のガラス基板が搬出される場合には、ワイヤーカセットの最下段に収容されているガラス基板からワイヤーカセットの最上段に収容されているガラス基板に向かって順番にガラス基板が搬出される。また、ワイヤーカセットにガラス基板が収容される場合には、ワイヤーカセットの最上段から最下段に向かって順番にガラス基板が収容される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１３−２８４４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献１に記載のローダ等のローダの下流に、たとえば、前工程で不良が検出されたガラス基板の検査を行う検査ラインが設置される場合、第１のカセットに、前工程で不良が検出されなかったガラス基板（すなわち、検査ラインでの検査が不要なガラス基板）が収容されていることが想定される。特許文献１に記載のローダでは、この場合であっても、第１のカセットに収容された全てのガラス基板が直接、あるいは、第１のバッファに一時的に収容された後に、検査ラインに供給される。
【０００９】
すなわち、特許文献１に記載のローダでは、ローダの下流に設置される検査ライン等の処理ラインでの処理が不要なガラス基板が第１のカセットに収容されている場合であっても、第１のカセットに収容されている全てのガラス基板が、ローダの下流に設置される処理ラインに供給されるため、ガラス基板の処理工程において時間的なロスが発生する。
【００１０】
そこで、本発明の第１の課題は、所定の処理ラインにガラス基板を供給する基板供給装置が受け入れたワイヤーカセットの中に処理ラインでの処理が不要なガラス基板が含まれている場合であっても、ガラス基板の処理工程における時間的なロスを低減することが可能となる基板供給装置の制御方法を提供することにある。
【００１１】
また、特許文献１では、製造ラインにガラス基板を供給するローダが製造ラインの入口に配置されるとともに、製造ラインから排出されるガラス基板を回収するアンローダが製造ラインの出口に配置されているため、ローダおよびアンローダの設置面積が広くなる。そこで、本発明の第２の課題は、所定の処理ラインへのガラス基板の供給と処理ラインからのガラス基板の回収とを行う基板供給回収装置の設置面積を低減することが可能となる基板供給回収装置の制御方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記の第１の課題を解決するため、本発明の基板供給装置の制御方法は、複数枚のガラス基板が収容されるワイヤーカセットが載置される載置部と、載置部を昇降させる昇降機構と、ガラス基板の下面に接触してガラス基板を搬送する複数の搬送ローラとを有する基板供給ユニットと、複数枚のガラス基板が収容される第２のワイヤーカセットが載置される第２載置部と、第２載置部を昇降させる第２昇降機構と、ガラス基板の下面に接触してガラス基板を搬送する複数の第２搬送ローラとを有し、基板供給ユニットとガラス基板に対して所定の処理を行う処理ラインとの間に配置される基板保留ユニットとを備え、処理ラインにガラス基板を供給する基板供給装置の制御方法であって、ワイヤーカセットに収容される複数枚のガラス基板の中の、処理ラインでの処理が不要なガラス基板を第１ガラス基板とし、ワイヤーカセットに収容される複数枚のガラス基板の中の、第１ガラス基板以外の、処理ラインでの処理が必要なガラス基板を第２ガラス基板とすると、ワイヤーカセットの下降動作と、搬送ローラおよび第２搬送ローラの搬送動作と、第２のワイヤーカセットの上昇動作とを行って、第２ガラス基板よりも下側に配置される第１ガラス基板を第２のワイヤーカセットに収容した後、ワイヤーカセットの下降動作と、搬送ローラおよび第２搬送ローラの搬送動作とを行って、第２ガラス基板を処理ラインに供給することを特徴とする。
【００１３】
本発明の基板供給装置の制御方法では、第２ガラス基板よりも下側に配置される第１ガラス基板を第２のワイヤーカセットに収容した後、第２ガラス基板を処理ラインに供給している。そのため、本発明では、処理ラインでの処理が不要な第１ガラス基板が処理ラインに供給されないように第１ガラス基板を第２のワイヤーカセットに収容して、処理ラインでの処理が必要な第２ガラス基板のみを処理ラインに供給することが可能になる。したがって、本発明の制御方法で基板供給装置を制御すれば、基板供給装置が受け入れたワイヤーカセットの中に処理ラインでの処理が不要なガラス基板が含まれている場合であっても、ガラス基板の処理工程における時間的なロスを低減することが可能になる。
【００１４】
また、上記の第２の課題を解決するため、本発明の基板供給回収装置の制御方法は、複数枚のガラス基板が収容されるワイヤーカセットが載置される載置部と、載置部を昇降させる昇降機構と、ガラス基板の下面に接触してガラス基板を搬送する複数の搬送ローラとを有する基板供給回収ユニットと、複数枚のガラス基板が収容される第２のワイヤーカセットが載置される第２載置部と、第２載置部を昇降させる第２昇降機構と、ガラス基板の下面に接触してガラス基板を搬送する複数の第２搬送ローラとを有し、基板供給回収ユニットとガラス基板に対して所定の処理を行う処理ラインとの間に配置される基板保留供給ユニットとを備え、処理ラインへのガラス基板の供給と処理ラインからのガラス基板の回収とを行う基板供給回収装置の制御方法であって、載置部にワイヤーカセットが載置されると、ワイヤーカセットの下降動作と、搬送ローラおよび第２搬送ローラの搬送動作と、第２のワイヤーカセットの上昇動作とを行って、ワイヤーカセットに収容される全てのガラス基板を順次、第２のワイヤーカセットに収容し、その後、搬送ローラおよび第２搬送ローラの搬送動作と、ワイヤーカセットの上昇動作とを行って、処理ラインから排出されるガラス基板を順次、ワイヤーカセットに収容するとともに、第２のワイヤーカセットの下降動作と、第２搬送ローラの搬送動作とを行って、第２のワイヤーカセットに収容されたガラス基板を順次、処理ラインに供給することを特徴とする。
【００１５】
本発明の基板供給回収装置の制御方法では、基板供給回収ユニットの載置部にワイヤーカセットが載置されると、ワイヤーカセットに収容される全てのガラス基板を順次、基板保留供給ユニットの第２のワイヤーカセットに収容し、その後、処理ラインから排出されるガラス基板を順次、ワイヤーカセットに収容するとともに、第２のワイヤーカセットに収容されたガラス基板を順次、処理ラインに供給している。そのため、本発明の基板供給回収装置では、処理ラインに対して直列に配置される基板供給回収ユニットと基板保留供給ユニットとを用いて、処理ラインへのガラス基板の供給と処理ラインからのガラス基板の回収とを行うことが可能になる。したがって、本発明の制御方法で基板供給回収装置を制御すれば、基板供給回収装置の設置面積を低減することが可能になる。
【発明の効果】
【００１６】
以上のように、本発明の基板供給装置の制御方法によって基板供給装置を制御すれば、所定の処理ラインにガラス基板を供給する基板供給装置が受け入れたワイヤーカセットの中に処理ラインでの処理が不要なガラス基板が含まれている場合であっても、ガラス基板の処理工程における時間的なロスを低減することが可能になる。また、本発明の基板供給回収装置の制御方法によって基板供給回収装置を制御すれば、所定の処理ラインへのガラス基板の供給と処理ラインからのガラス基板の回収とを行う基板供給回収装置の設置面積を低減することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の実施の形態１にかかる基板供給装置の平面図である。
【図２】図１に示す基板供給ユニットおよび基板保留ユニットの側面図である。
【図３】図１に示す基板供給ユニットの正面図である。
【図４】図１に示す基板供給装置の制御方法を説明するための図である。
【図５】本発明の実施の形態２にかかる基板供給回収装置の平面図である。
【図６】図５に示す基板供給回収装置の制御方法を説明するための図である。
【図７】本発明の実施の形態２の変形例にかかる基板供給回収装置のレイアウトを示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態を説明する。
【００１９】
［実施の形態１］
（基板供給装置の構成）
図１は、本発明の実施の形態１にかかる基板供給装置１の平面図である。図２は、図１に示す第１ユニット７および第２ユニット８の側面図である。図３は、図１に示す第１ユニット７の正面図である。
【００２０】
本形態の基板供給装置１は、液晶表示装置用のガラス基板２に対して所定の処理を行う処理ライン３にガラス基板２を供給するための装置である。基板供給装置１は、処理ライン３の上流側に設置されている。本形態の処理ライン３は、たとえば、前工程で不良が検出されたガラス基板２の検査を行う検査ラインである。基板供給装置１の上流側（図１の上側）には、図示を省略するストッカーが隣接するように配置されている。このストッカーは、複数枚のガラス基板２が収容されたワイヤーカセット４を基板供給装置１に引き渡す。
【００２１】
基板供給装置１は、第１ユニット７と、第２ユニット８と、搬送ユニット９とから構成されている。第１ユニット７と第２ユニット８と搬送ユニット９とは、上流側から下流側に向かってこの順番に配置されている。すなわち、第２ユニット８および搬送ユニット９は、第１ユニット７と処理ライン３との間に配置されている。以下の説明では、第１ユニット７、第２ユニット８および搬送ユニット９の配列方向（図１の上下方向、図２の左右方向）を「前後方向」とし、上下方向（鉛直方向）と前後方向とに直交する方向（図１、図３の左右方向）を「左右方向」とする。
【００２２】
第１ユニット７は、ワイヤーカセット４が載置される載置部１１と、載置部１１を昇降させる昇降機構１２（図３参照）と、ガラス基板２を搬送する搬送機構１３とを備えている。第２ユニット８は、複数枚のガラス基板２が収容されるワイヤーカセット１４と、ワイヤーカセット１４が載置される載置部１１と、載置部１１を昇降させる昇降機構１２と、ガラス基板２を搬送する搬送機構１７とを備えている。本形態の第１ユニット７は、基板供給ユニットであり、第２ユニット８は、基板保留ユニットである。また、本形態のワイヤーカセット１４は、第２のワイヤーカセットであり、第２ユニット８の載置部１１は、第２載置部であり、第２ユニット８の昇降機構１２は、第２昇降機構である。
【００２３】
ワイヤーカセット４とワイヤーカセット１４とは、同一の構成を備え、同形状に形成されている。ワイヤーカセット４、１４は、カセットフレーム２０と、カセットフレーム２０の内部に配置される複数本のワイヤー２１とから構成されている。ワイヤーカセット４、１４の外形（すなわち、カセットフレーム２０の外形）は、直方体状となっている。ワイヤー２１は、左右方向に張った状態でカセットフレーム２０に固定されている。また、複数本のワイヤー２１が、上下方向および前後方向において一定の間隔をあけた状態でカセットフレーム２０に固定されている。
【００２４】
ガラス基板２は、ワイヤー２１に載置されている。なお、図２等では、便宜上、上下方向で重なるワイヤー２１の本数は５本となっており、ワイヤーカセット４、１４には、５枚のガラス基板２が収容可能となっているが、実際には、５枚よりも多くのガラス基板２がワイヤーカセット４、１４に収容可能となっている。たとえば、６０枚のガラス基板２がワイヤーカセット４、１４に収容可能となっている。
【００２５】
載置部１１は、ワイヤーカセット４、１４の下面の、左右方向の両端側を支持している。また、載置部１１は、左右方向の両端側のそれぞれにおいて、たとえば、ワイヤーカセット４、１４の下面の前後方向の両端側、および、ワイヤーカセット４、１４の下面の前後方向の中心位置の３箇所を支持している。昇降機構１２は、モータと、モータの動力を載置部１１に伝達する動力伝達機構とを備えている。動力伝達機構は、たとえば、モータの動力で回転するネジ軸と、ネジ軸に係合するナット部材とを備えている。ネジ軸は、ネジ軸の軸方向と上下方向とが一致するように配置されている。ナット部材は、載置部１１に取り付けられている。
【００２６】
搬送機構１３、１７は、ローラコンベヤである。搬送機構１３は、ガラス基板２の下面に接触してガラス基板２を搬送する複数の搬送ローラ２３と、複数の搬送ローラ２３を駆動するローラ駆動機構とを備えている。複数の搬送ローラ２３は、ワイヤーカセット４に収容されるガラス基板２を搬送可能な位置に配置されている。搬送機構１７は、ガラス基板２の下面に接触してガラス基板２を搬送する第２搬送ローラとしての複数の搬送ローラ２４と、複数の搬送ローラ２４を駆動するローラ駆動機構とを備えている。複数の搬送ローラ２４は、ワイヤーカセット１４に収容されるガラス基板２を搬送可能な位置に配置されている。搬送ローラ２３、２４は、フレーム２５に回転可能に支持されている。
【００２７】
搬送ユニット９は、ローラコンベヤであり、ガラス基板２の下面に接触してガラス基板２を搬送する複数の搬送ローラと、複数の搬送ローラを駆動するローラ駆動機構とを備えている。複数の搬送ローラ２３と複数の搬送ローラ２４と搬送ユニット９の複数の搬送ローラとは、同じ高さに配置されている。第１ユニット７、第２ユニット８および搬送ユニット９は、搬送機構１３と搬送機構１７との間のガラス基板２の受渡し、および、搬送機構１７と搬送ユニット９との間のガラス基板２の受渡しが可能となるように前後方向で隣接配置されている。
【００２８】
ワイヤーカセット４、１４は、ワイヤーカセット４、１４の下端が搬送ローラ２３、２４の上端よりも上側に配置される位置と、ワイヤーカセット４、１４の最も上側に配置されるワイヤー２１が搬送ローラ２３、２４の上端よりも下側に配置される位置との間で昇降可能となっている。
【００２９】
ワイヤーカセット４に収容されるガラス基板２が搬送されるときには、ワイヤーカセット４の中で最も下側に配置されるガラス基板２の下面に搬送ローラ２３が接触する位置まで、ワイヤーカセット４が下降する。ワイヤーカセット１４に収容されるガラス基板２が搬送されるときには、ワイヤーカセット１４の中で最も下側に配置されるガラス基板２の下面に搬送ローラ２４が接触する位置まで、ワイヤーカセット１４が下降する。
【００３０】
また、ワイヤーカセット４に収容されるガラス基板２が搬送されるときには、ワイヤーカセット１４は、搬送されるガラス基板２とワイヤーカセット１４に収容されているガラス基板２とが干渉せず、かつ、搬送されるガラス基板２とワイヤーカセット１４のワイヤー２１とが干渉しない位置に配置されている。また、ワイヤーカセット１４のワイヤー２１が搬送ローラ２４の上端よりも下側に配置されている状態で、ワイヤーカセット４に収容されていたガラス基板２がワイヤーカセット１４の内部まで搬送されて停止し、その後、ワイヤーカセット１４が上側へ移動すると、ガラス基板２がワイヤーカセット１４のワイヤー２１に載置されてワイヤーカセット１４に収容される。
【００３１】
また、ワイヤーカセット４に収容されるガラス基板２が搬送されるときには、一部の搬送ローラ２３を除いた複数の搬送ローラ２３がワイヤーカセット４の内部に入り込んでいる。同様に、ワイヤーカセット１４に収容されるガラス基板２が搬送されるときには、一部の搬送ローラ２４を除いた複数の搬送ローラ２４がワイヤーカセット１４の内部に入り込んでいる。フレーム２５は、ワイヤーカセット４、１４の内部に入り込んだ搬送ローラ２３、２４とワイヤー２１とが干渉しないように、櫛歯状に配置されている。
【００３２】
（基板供給装置の制御方法）
図４は、図１に示す基板供給装置１の制御方法を説明するための図である。
【００３３】
上述のように、本形態の処理ライン３は、たとえば、前工程で不良が検出されたガラス基板２の検査を行う検査ラインである。そのため、本形態では、基板供給装置１が受け入れたワイヤーカセット４（ストッカーによって第１ユニット７に供給されたワイヤーカセット４）に、検査ラインである処理ライン３での検査が不要なガラス基板２（前工程で不良が検出されなかったガラス基板２）が収容されている場合がある。すなわち、第１ユニット７の載置部１１に載置されたワイヤーカセット４に、処理ライン３での処理が不要なガラス基板２が収容されている場合がある。
【００３４】
ワイヤーカセット４に収容される５枚のガラス基板２の中の、処理ライン３での処理が不要なガラス基板２を「第１ガラス基板２Ａ」とし、ワイヤーカセット４に収容される５枚のガラス基板２の中の、第１ガラス基板２Ａ以外の、処理ライン３での処理が必要なガラス基板２を「第２ガラス基板２Ｂ」とすると、たとえば、図２に示すように、ワイヤーカセット４には、４枚の第１ガラス基板２Ａと１枚の第２ガラス基板２Ｂとが収容されている。
【００３５】
たとえば、第２ガラス基板２Ｂが、ワイヤーカセット４の中で最も上側に配置されている場合、基板供給装置１では、図４に示すように、第２ガラス基板２Ｂよりも下側に配置されている４枚の第１ガラス基板２Ａを、空になっているワイヤーカセット１４の最上段から順次、ワイヤーカセット１４に収容し、その後、第２ガラス基板２Ｂを処理ライン３に供給する。また、たとえば、第２ガラス基板２Ｂが、ワイヤーカセット４の中で上から２番目に配置されている場合には、基板供給装置１では、第２ガラス基板２Ｂよりも下側に配置されている３枚の第１ガラス基板２Ａを、空になっているワイヤーカセット１４の最上段から順次、ワイヤーカセット１４に収容し、その後、第２ガラス基板２Ｂを処理ライン３に供給する。
【００３６】
具体的には、ワイヤーカセット４の下降動作と、搬送機構１３、１７の搬送動作（搬送ローラ２３、２４の搬送動作）と、ワイヤーカセット１４の上昇動作とを行って、第２ガラス基板２Ｂよりも下側に配置されている第１ガラス基板２Ａをワイヤーカセット１４に収容した後、ワイヤーカセット４の下降動作と、搬送機構１３、１７および搬送ユニット９の搬送動作とを行って、第２ガラス基板２Ｂを処理ライン３に供給する。
【００３７】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態では、第２ガラス基板２Ｂよりも下側に配置される第１ガラス基板２Ａをワイヤーカセット１４に収容した後、第２ガラス基板２Ｂを処理ライン３に供給している。そのため、本形態では、処理ライン３での処理が不要な第１ガラス基板２Ａが処理ライン３に供給されないように第１ガラス基板２Ａをワイヤーカセット１４に収容して、処理ライン３での処理が必要な第２ガラス基板２Ｂのみを処理ライン３に供給することが可能になる。したがって、本形態では、基板供給装置１が受け入れたワイヤーカセット４の中に処理ライン３での処理が不要なガラス基板２が含まれている場合であっても、ガラス基板２の処理工程における時間的なロスを低減することが可能になる。
【００３８】
［実施の形態２］
（基板供給回収装置の構成）
図５は、本発明の実施の形態２にかかる基板供給回収装置３１の平面図である。以下の説明では、実施の形態１で説明した構成と同一の構成には同一の符号を使用する。
【００３９】
本形態の基板供給回収装置３１は、ガラス基板２に対して所定の処理を行う処理ライン３３へのガラス基板２の供給と処理ライン３３からのガラス基板２の回収とを行うための装置である。基板供給回収装置３１には、ストッカー（図示省略）が隣接するように配置されている。このストッカーは、複数枚のガラス基板２が収容されたワイヤーカセット４を基板供給回収装置３１に引き渡したり、基板供給回収装置３１からワイヤーカセット４を受け取ったりする。
【００４０】
基板供給回収装置３１は、実施の形態１の基板供給装置１と同様に、第１ユニット７と第２ユニット８と搬送ユニット９とから構成されており、基板供給回収装置３１の機械的な構成は、基板供給装置１の機械的な構成と全く同じになっている。したがって、基板供給回収装置３１の機械的な構成の説明は省略する。なお、本形態の第１ユニット７は、基板供給回収ユニットであり、第２ユニット８は、基板保留供給ユニットである。
【００４１】
本形態では、処理ライン３３から排出されたガラス基板２がワイヤーカセット４に向かって搬送されるときには、ワイヤーカセット１４は、搬送されるガラス基板２とワイヤーカセット１４に収容されているガラス基板２とが干渉せず、かつ、搬送されるガラス基板２とワイヤーカセット１４のワイヤー２１とが干渉しない位置に配置されている。また、ワイヤーカセット４のワイヤー２１が搬送ローラ２３の上端よりも下側に配置されている状態で、処理ライン３３から排出されたガラス基板２がワイヤーカセット４の内部まで搬送されて停止し、その後、ワイヤーカセット４が上側へ移動すると、ガラス基板２がワイヤーカセット４のワイヤー２１に載置されてワイヤーカセット４に収容される。
【００４２】
（基板供給回収装置の制御方法）
図６は、図５に示す基板供給回収装置３１の制御方法を説明するための図である。
【００４３】
第１ユニット７の載置部１１に、複数枚のガラス基板２が収容されたワイヤーカセット４が載置されると、図６に示すように、基板供給回収装置３１は、まず、ワイヤーカセット４に収容される全てのガラス基板２を、空になっているワイヤーカセット１４の最上段から順次、ワイヤーカセット１４に収容する。具体的には、ワイヤーカセット４の下降動作と、搬送機構１３、１７の搬送動作と、ワイヤーカセット１４の上昇動作とを行って、ワイヤーカセット４に収容される全てのガラス基板２をワイヤーカセット１４に収容する。
【００４４】
その後、基板供給回収装置３１は、処理ライン３３から排出されるガラス基板２をワイヤーカセット４の最上段から順次、ワイヤーカセット４に収容するとともに、ワイヤーカセット１４に収容されたガラス基板２を順次、処理ライン３３に供給する。具体的には、搬送機構１３、１７および搬送ユニット９の搬送動作と、ワイヤーカセット４の上昇動作とを行って、処理ライン３３から排出されるガラス基板２をワイヤーカセット４に収容するとともに、ワイヤーカセット１４の下降動作と、搬送機構１７および搬送ユニット９の搬送動作とを行って、ワイヤーカセット１４に収容されたガラス基板２を処理ライン３３に供給する。
【００４５】
処理ライン３３から排出されたガラス基板２でワイヤーカセット４がいっぱいになると、ストッカーは、第１ユニット７の載置部１１に載置されるワイヤーカセット４を交換する。
【００４６】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態では、第１ユニット７の載置部１１にワイヤーカセット４が載置されると、ワイヤーカセット４に収容される全てのガラス基板２を順次、第２ユニット８のワイヤーカセット１４に収容し、その後、処理ライン３３から排出されるガラス基板２を順次、ワイヤーカセット４に収容するとともに、ワイヤーカセット１４に収容されたガラス基板２を順次、処理ライン３３に供給している。そのため、本形態では、処理ライン３３に対して直列に配置される第１ユニット７と第２ユニット８とを用いて、処理ライン３３へのガラス基板２の供給と処理ライン３３からのガラス基板２の回収とを行うことが可能になる。したがって、本形態では、基板供給回収装置３１の設置面積を低減することが可能になる。
【００４７】
（実施の形態２の変形例）
図７は、本発明の実施の形態２の変形例にかかる基板供給回収装置３１のレイアウトを示す平面図である。
【００４８】
実施の形態２において、２個以上の基板供給回収装置３１が処理ライン３３に対して並列に配置されていても良い。たとえば、図７に示すように、２個の基板供給回収装置３１が処理ライン３３に対して並列に配置されていても良い。この場合には、一方の基板供給回収装置３１が供給および回収するガラス基板２と、他方の基板供給回収装置３１が供給および回収するガラス基板２とは、異なる種類のガラス基板２となっている。
【００４９】
また、この場合には、たとえば、図７に示すように、一方の基板供給回収装置３１の搬送ユニット９と他方の基板供給回収装置３１の搬送ユニット９とが共通になっている。この場合の搬送ユニット９は、搬送ローラを左右方向へスライドさせるスライド機構を備えている。また、この場合の処理ライン３３は、ガラス基板２を受け入れる基板受入部３３ａと、ガラス基板２を排出する基板排出部３３ｂとを備えている。
【００５０】
［他の実施の形態］
上述した形態は、本発明の好適な形態の一例ではあるが、これに限定されるものではなく本発明の要旨を変更しない範囲において種々変形実施が可能である。
【００５１】
実施の形態１において、基板供給装置１は、第１ユニット７と第２ユニット８とから構成されていても良い。すなわち、基板供給装置１は、搬送ユニット９を備えていなくても良い。同様に、実施の形態２において、基板供給回収装置３１は、第１ユニット７と第２ユニット８とから構成されていても良い。また、実施の形態１において、処理ライン３は、検査ライン以外の処理ラインであっても良い。
【符号の説明】
【００５２】
１  基板供給装置
２  ガラス基板
２Ａ  第１ガラス基板
２Ｂ  第２ガラス基板
３、３３  処理ライン
４  ワイヤーカセット
７  第１ユニット（基板供給ユニット、基板供給回収ユニット）
８  第２ユニット（基板保留ユニット、基板保留供給ユニット）
１１  載置部（載置部、第２載置部）
１２  昇降機構（昇降機構、第２昇降機構）
１４  ワイヤーカセット（第２のワイヤーカセット）
２３  搬送ローラ
２４  搬送ローラ（第２搬送ローラ）
３１  基板供給回収装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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