(57)【要約】【課題】研磨剤の適正な供給の阻害を抑制しつつ、研磨パッドの温度制御を短時間で確実に行うことができる研磨装置及び研磨方法を提供する。【解決手段】研磨装置は、回転駆動される研磨パッド２１と、被研磨対象である半導体ウェハが設置され、研磨パッド２１に被研磨対象を接触されて研磨する研磨ヘッド２２と、研磨パッド２１に研磨剤であるスラリーを供給する研磨剤供給部２３と、研磨パッド２１との接触面３１ａがスラリーの通路を構成する凹凸状とされており、研磨パッド２１の外部に対して固定状態で研磨パッド２１に接触して研磨パッド２１の温度を調節する温度調節板とを備えている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転駆動される研磨パッドと、
被研磨対象が設置され、前記研磨パッドに前記被研磨対象を接触されて研磨する研磨ヘッドと、
前記研磨パッドに研磨剤を供給する研磨剤供給部と、
前記研磨パッドとの接触面が前記研磨剤の通路を構成する凹凸状とされており、前記研磨パッドの外部に対して固定状態で前記研磨パッドに接触して前記研磨パッドの温度を調節する温度調節板と
を備えたことを特徴とする研磨装置。
【請求項２】
前記温度調節板は、前記接触面に複数の突起が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の研磨装置。
【請求項３】
前記突起は、先端部位の曲率半径が当該突起の前記接触面における幅の半分以上の値であることを特徴とする請求項２に記載の研磨装置。
【請求項４】
前記温度調節板は、前記接触面に前記研磨剤の通路となる複数のスリットが形成されていることを特徴とする請求項１に記載の研磨装置。
【請求項５】
前記複数のスリットは、前記接触面の一端から離れるにつれて小さくなる曲率を持ち前記一端に向かって凹となる曲線状に形成されていることを特徴とする請求項４に記載の研磨装置。
【請求項６】
回転駆動される研磨パッドに研磨剤を供給し、研磨ヘッドに設置された被研磨対象を前記研磨パッドに接触されて研磨するに際して、
前記研磨パッドとの接触面が前記研磨剤の通路を構成する凹凸状とされた温度調節板を、前記研磨パッドの外部に対して固定状態で前記研磨パッドの表面に接触させ、前記研磨パッドの温度を調節することを特徴とする研磨方法。
【請求項７】
前記温度調節板は、前記接触面に複数の突起が形成されていることを特徴とする請求項６に記載の研磨方法。
【請求項８】
前記突起は、先端部位の曲率半径が当該突起の前記接触面における幅の半分以上の値であることを特徴とする請求項７に記載の研磨方法。
【請求項９】
前記温度調節板は、前記接触面に前記研磨剤の通路となる複数のスリットが形成されていることを特徴とする請求項６に記載の研磨方法。
【請求項１０】
前記複数のスリットは、前記接触面の一端から離れるにつれて小さくなる曲率を持ち前記一端に向かって凹となる曲線状に形成されていることを特徴とする請求項９に記載の研磨方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、研磨装置及び研磨方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体デバイス等の電子デバイスの多層配線の形成工程等において、表面を平坦化する際に化学機械研磨（Chemical Mechanical Polishing：ＣＭＰ）法が用いられている。ＣＭＰでは、被研磨対象の材料や研磨状態等に応じた適正範囲の温度が存在する。従来では、ＣＭＰの研磨装置を用いた研磨中に、研磨パッドに接触して研磨パッドを冷却する機構や、研磨パッドに接触して研磨パッドを加熱する機構等が開発されている（例えば、特許文献１〜３を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−２２０５５２号公報
【特許文献２】特開２０１２−１７８４５０号公報
【特許文献３】特開２０１３−４２０６６号公報
【特許文献４】特開平９−２３４６６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来の研磨装置では、研磨パッドの加熱機構や冷却機構を用いる場合、研磨パッドの表面に供給される研磨剤であるスラリーの流れが阻害され、被研磨対象の研磨に支障を来たすという問題がある。
【０００５】
本発明は、研磨剤の適正な供給の阻害を抑制しつつ、研磨パッドの温度制御を短時間で確実に行うことができる研磨装置及び研磨方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
一つの態様では、研磨装置は、回転駆動される研磨パッドと、被研磨対象が設置され、前記研磨パッドに前記被研磨対象を接触されて研磨する研磨ヘッドと、前記研磨パッドに研磨剤を供給する研磨剤供給部と、前記研磨パッドとの接触面が前記研磨剤の通路を構成する凹凸状とされており、前記研磨パッドの外部に対して固定状態で前記研磨パッドに接触して前記研磨パッドの温度を調節する温度調節板とを備えている。
【０００７】
一つの態様では、研磨方法は、回転駆動される研磨パッドに研磨剤を供給し、研磨ヘッドに設置された被研磨対象を前記研磨パッドに接触されて研磨するに際して、前記研磨パッドとの接触面が前記研磨剤の通路を構成する凹凸状とされた温度調節板を、前記研磨パッドの外部に対して固定状態で前記研磨パッドの表面に接触させ、前記研磨パッドの温度を調節する。
【発明の効果】
【０００８】
一つの側面では、研磨剤の適正な供給の阻害を抑制しつつ、研磨パッドの温度制御を短時間で確実に行うことができる信頼性の高い研磨が実現する。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】第１の実施形態による研磨装置の全体構成を示す模式図である。
【図２】研磨装置の研磨室を拡大して示す概略平面図である。
【図３】第１の実施形態による研磨装置の研磨部を示す概略平面図である。
【図４】第１の実施形態による研磨装置の他の構成例を示す概略平面図である。
【図５】第１の実施形態による研磨装置の更に他の構成例を示す概略平面図である。
【図６】第１の実施形態による研磨装置の温度調節板を示す模式図である。
【図７】第１の実施形態による研磨装置の温度調節板における突起の配置態様を示す概略平面図である。
【図８】第１の実施形態による研磨工程をステップ順に示すフロー図である。
【図９】第１の実施形態の変形例１による研磨装置の温度調節板を示す模式図である。
【図１０】第１の実施形態の変形例１による研磨装置において、研磨作業中のスラリーの流れを示す概略平面図である。
【図１１】第１の実施形態の変形例２による研磨装置の温度調節板を示す模式図である。
【図１２】第１の実施形態の変形例３による研磨装置の温度調節板を示す模式図である。
【図１３】第１の実施形態の変形例４による研磨装置の温度調節板を示す模式図である。
【図１４】変形例１〜４における温度調節板のスリット形状の他の例を示す一部断面図である。
【図１５】第１の実施形態の変形例５による研磨装置の温度調節板を示す模式図である。
【図１６】第１の実施形態の変形例５による研磨装置において、研磨作業中のスラリーの流れを示す概略平面図である。
【図１７】第１の実施形態の変形例６による研磨装置の温度調節板を示す模式図である。
【図１８】第１の実施形態の変形例６による研磨装置において、研磨作業中のスラリーの流れを示す概略平面図である。
【図１９】第１の実施形態の変形例７による研磨装置の温度調節板を示す模式図である。
【図２０】第１の実施形態の変形例８による研磨装置の温度調節板を示す模式図である。
【図２１】第１の実施形態の変形例９による研磨装置の温度調節板を示す模式図である。
【図２２】第２の実施形態による研磨装置の研磨部を示す概略平面図である。
【図２３】第２の実施形態の変形例２による研磨装置において、研磨作業中のスラリーの流れを示す概略平面図である。
【図２４】第２の実施形態の変形例２による研磨装置の温度調節板の配置状態を示す模式図である。
【図２５】第２の実施形態の変形例３による研磨装置において、研磨作業中のスラリーの流れを示す概略平面図である。
【図２６】第２の実施形態の変形例３による研磨装置の温度調節板の配置状態を示す模式図である。
【図２７】第２の実施形態の変形例５による研磨装置の研磨部を示す概略平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、研磨装置及び研磨方法の諸実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
【００１１】
［第１の実施形態］
先ず、第１の実施形態について説明する。本実施形態では、研磨装置において、温度調節板が研磨パッド上で研磨パッドの回転方向に対して、スラリーアームの後位置で、研磨ヘッドの前位置に配置される態様を採る。
【００１２】
（研磨装置の構成）
図１は、第１の実施形態による研磨装置の全体構成を示す模式図である。図２は、研磨装置の研磨室を拡大して示す概略平面図である。図３は、第１の実施形態による研磨装置の研磨部を示す概略平面図である。
この研磨装置は、ＣＭＰ研磨装置であり、ウェハ保管部１、第１ウェハ搬送部２、ウェハ洗浄部３、第２ウェハ搬送部４、及び研磨室５を備えている。
【００１３】
ウェハ保管部１には、図１のように、被研磨対象である半導体ウェハが保管される。
第１ウェハ搬送部２は、ウェハ保管部１に保管された半導体ウェハのうち、被研磨対象となる半導体ウェハ６をウェハ保管部１から取り出し、ウェハ洗浄部３に送出する。或いは、ウェハ洗浄部３において洗浄処理された研磨済みの半導体ウェハ６をウェハ保管部１に収納する。
【００１４】
ウェハ洗浄部３は、半導体ウェハ６を洗浄液で洗浄する。
第２ウェハ搬送部４は、ウェハ洗浄部３から半導体ウェハ６を取り出して研磨室５に送出する。或いは、研磨室５から研磨済みの半導体ウェハ６を取り出してウェハ洗浄部３に送出する。
【００１５】
研磨室５は、図２のように、研磨台１１上に、ウェハ搬入部１２と、例えば３つの研磨部１０とを有している。各研磨部１０により、例えば研磨条件の異なる研磨が順次行われる。
各研磨部１０には、回転駆動する定盤上に回転自在のプラテン１３が設けられ、プラテン１３上に後述する研磨パッド２１が設けられている。
ウェハ搬入部１２は、第２ウェハ搬送部４から搬送されてきた半導体ウェハ６を待機させる場所である。
【００１６】
各研磨部１０は、図３のように、研磨パッド２１、研磨ヘッド２２、スラリーアーム２３、コンディショニング機構２４、及び温度調節機構２５を備えている。なお図２では、温度調節機構２５は簡略化して温度調節板のみを表示している。
研磨パッド２１は、例えば矢印Ａ１の方向に回転駆動され、表面に押し付けられた半導体ウェハの被研磨面を研磨するものであり、自身の温度を測定する温度センサ２１ａを有している。
研磨ヘッド２２は、裏面に被研磨対象である半導体ウェハが設置され、例えば矢印Ａ２の方向に回転駆動され、回転する研磨パッド２１の表面に半導体ウェハを押し付けて研磨するものである。
【００１７】
スラリーアーム２３は、先端のノズル２３ａから研磨剤であるスラリーを研磨パッド２１の表面に供給するものである。
コンディショニング機構２４は、コンディショニングディスク２４ａ、アーム２４ｂ、及び待機部２４ｃを有している。コンディショニングディスク２４ａは、研磨パッド２１の表面に配されて研磨パッド２１の表面状態を調整したり、研磨パッド２１の表面に残存するスラリーを除去したりするものである。アーム２４ｂは、コンディショニングディスク２４ａを研磨パッド２１上に適宜移動させるものであり、使用しないときにはコンディショニングディスク２４ａを研磨パッド２１外の待機部２４ｃに待機させる。
【００１８】
温度調節機構２５は、温度調節板３１、アーム３２、液溜め温度調節部３３、及び制御部３４を備えている。
温度調節板３１は、高い比熱を持つ金属、例えば銅（Ｃｕ）等を材料とする例えば円形の板状部材であり、アーム３２の駆動により液溜め温度調節部３３から取り出されて研磨パッド２１の表面に配置される。温度調節板３１は、研磨パッド２１の表面に配置されているときには、回転及び移動することなく所定位置に固定される。温度調節板３１は、使用されないときには液溜め温度調節部３３で待機する。本実施形態では、温度調節板３１は、研磨パッド２１上で研磨パッド２１の回転方向（矢印Ａ１）に対して、スラリーアームの後位置で、研磨ヘッド２２の前位置に配置される。
【００１９】
アーム３２は、温度調節板３１と接続されており、温度調節板３１を液溜め温度調節部３３と研磨パッド２１の表面との間で移動させるものである。
液溜め温度調節部３３は、所定の液体、例えば水が溜められる液溜め槽３３ａと、液溜め槽３３ａ内の水の温度を測定する温度センサ３３ｂと、液溜め槽３３ａ内の水の温度を調節するための温度調節手段３３ｃとを有している。温度調節手段３３ｃは、例えば加熱機能を持つ電熱機構及び冷却機能を持つペルチェ素子を有している。
【００２０】
制御部３４は、アーム３２の駆動制御と、液溜め槽３３ａ内の水の温度制御とを行う。
制御部３４は、温度センサ２１ａで測定された研磨パッド２１の表面の温度に基づいて、温度調節手段３３ｃを駆動して液溜め槽３３ａ内の水の温度を所定温度に調節する。制御部３４はアーム３２を駆動し、アーム３２は、液溜め槽３３ａ内の所定温度に調節された水に浸漬して当該所定温度とされた温度調節板３１を液溜め槽３３ａから取り出して移動させ、温度調節板３１を研磨パッド２１の表面に配置する。
【００２１】
図４は、第１の実施形態による研磨装置の他の構成例を示す概略平面図である。
図４の例では、同一の温度調節板３１が２枚用いられる。この場合、温度調節機構２５は、２枚の温度調節板３１、アーム３２、冷却用液溜め部３５、加熱用ホットプレート３６、及び制御部３４を備えている。
【００２２】
冷却用液溜め部３５は、所定の液体、例えば水が溜められる液溜め槽３５ａと、液溜め槽３５ａ内の水の温度を測定する温度センサ３５ｂと、液溜め槽３５ａ内の水を冷却するペルチェ素子等の温度調節手段３５ｃとを有している。加熱用ホットプレート３６は、加熱機能を持つ電熱機構を有している。制御部３４は、液溜め槽３５ａ内の水の温度及び加熱用ホットプレート３６の温度を所定温度に調節する。アーム３２は、冷却時には冷却用の温度調節板３１を液溜め槽３５ａから研磨パッド２１の表面に移動させ、加熱時には加熱冷却用の温度調節板３１を加熱用ホットプレート３６から研磨パッド２１の表面に移動させる。
【００２３】
図５は、第１の実施形態による研磨装置の更に他の構成例を示す概略平面図である。
図５の例では、液溜め槽３３ａを設けることなく、温度調節板３１に温度調節手段３１ｄが設けられている。
温度調節手段３１ｂは、例えば加熱機能を持つ電熱機構及び冷却機能を持つペルチェ素子を有している。温度調節板３１は、使用されないときには待機部３１ｃで待機する。制御部３４は、温度センサ２１ａで測定された研磨パッド２１の表面の温度に基づいて、温度調節手段３１ｄを駆動して温度調節板３１の温度を所定温度に調節する。
【００２４】
図６は、第１の実施形態による研磨装置の温度調節板を示す模式図であり、（ａ）が斜視図、（ｂ）が裏面の平面図、（ｃ）が断面図、（ｄ）が突起近傍の一部断面図である。
温度調節板３１は、研磨パッド２１との接触面（裏面）３１ａに複数の突起３１Ａが形成されている。突起３１Ａは、曲面を持つ円形状の凸部であり、接触面３１ａの全面に等間隔で配置されている。
【００２５】
温度調節板３１のサイズは、その直径をＤとして、研磨パッド２１の直径が例えば７８０ｍｍである場合、例えば、１５０ｍｍ≦Ｄ≦３９０ｍｍ（研磨パッド２１の半径）とされる。
突起３１Ａのサイズは、その幅をＷ、高さをＨ、隣り合う突起３１Ａの離間距離をＤとすると、例えば、０．５ｍｍ≦Ｗ≦３．０ｍｍ、０．５ｍｍ≦Ｈ≦３．０ｍｍ、０ｍｍ≦Ｄ≦５．０ｍｍとされる。
【００２６】
本実施形態では、温度調節時において、温度調節板３１は研磨パッド２１上で研磨パッド２１の回転方向に対して、スラリーアーム２３の後位置で、研磨ヘッド２２の前位置に配置される。温度調節板３１が研磨パッド２１の外部に対して固定状態で、接触面３１ａが研磨パッド２１の表面に接触（突起３１Ａの先端が研磨パッド２１の表面に接触）すると、接触面３１ａと研磨パッド２１の表面との間には、隣り合う突起３１Ａにより空隙が形成される。ここで、「研磨パッド２１の外部に対して固定状態」とは、研磨パッド２１の外部、例えば不動とされた研磨台１１等に対して固定状態とすることを言う。研磨パッド２１の回転に伴って、研磨パッド２１の表面に接触している温度調節板３１が微動する程度の動きは、「固定状態」と見なされる許容範囲である。
【００２７】
隣り合う突起３１Ａ間の空隙は、接触面３１ａの周縁の一部位から他部位にかけて連通しており、接触面３１ａにおいて多数の連通路が形成されている。温度調節板３１は、研磨パッド２１上に配置されているときには、研磨パッド２１の外部に対して固定状態（研磨パッド２１の外部から見て固定されている状態）とされる。この構成により、研磨作業中に温度調節板３１が研磨パッド２１の表面に接触して温度調節が行われるときには、接触面３１ａにおいて上記の空隙でスラリーが流入及び流出する通路が形成される。研磨作業中においてスラリーの流れが温度調節板３１で阻害されることを抑制し、研磨パッド２１へのスラリーの十分な供給を確保して研磨の均一性が向上すると共に、研磨パッド２１及びスラリーの所期の温度調節が達成される。
【００２８】
ここで、突起３１Ａの先端部位の曲率半径Ｒは、
Ｒ≧Ｗ／２  ・・・（１）
であることが望ましい。曲率半径Ｒが（１）式を満たすことにより、研磨時に突起３１Ａが研磨パッド２１の表面に接触しても当該表面を傷付けることがなく、研磨パッド２１の損傷を懸念することなく接触面３１ａにおいてスラリーの所期の通路が確保される。
【００２９】
図７は、第１の実施形態による研磨装置の温度調節板における突起の配置態様を示す概略平面図である。
図７（ａ）では、突起３１Ａは、接触面３１ａに格子状に配される。図７（ｂ）では、突起３１Ａは、接触面３１ａに最密状に配される。
【００３０】
（研磨方法）
以下、本実施形態による研磨方法について説明する。図８は、第１の実施形態による研磨工程をステップ順に示すフロー図である。
研磨パッド２１の表面状態に応じて、研磨パッド２１を回転駆動させながら、コンディショニング機構２４の駆動により、コンディショニングディスク２４ａを用いた研磨パッド２１の表面のコンディショニングが行われた後、研磨工程が実行される。
【００３１】
先ず、研磨ヘッド２２に被研磨対象である半導体ウェハが設置される（ステップＳ１）。
研磨パッド２１を回転駆動させながら、スラリーアーム２３は、研磨パッド２１の表面にスラリーを供給する（ステップＳ２）。
研磨ヘッド２２を回転駆動させながら、半導体ウェハの被研磨面を研磨パッド２１の表面に押し付け、研磨作業を開始する（ステップＳ３）。
【００３２】
制御部３４は、温度センサ２１ａで測定された研磨パッド２１の温度をモニタし、当該研磨に応じた所定の適正範囲内にあるか否かを判定する（ステップＳ４）。
ステップＳ４において、測定された温度が適正範囲から逸脱する場合、制御部３４は、温度調節手段３３ｃを駆動して液溜め槽３３ａ内の水の温度を所定温度に調節する（ステップＳ５）。この所定温度は、研磨パッド２１の表面の温度を適正範囲内とするために温度調節板３１に要求される温度である。
【００３３】
制御部３４はアーム３２を駆動し、アーム３２は、液溜め槽３３ａ内の水に浸漬して上記の所定温度とされた温度調節板３１を液溜め槽３３ａから取り出して移動させ、温度調節板３１を研磨パッド２１の表面に配置する（ステップＳ６）。温度調節板３１は、研磨パッド２１の表面上で研磨パッド２１の外部に対して固定状態とされる。
【００３４】
温度調節板３１が研磨パッド２１の表面に配置されて研磨パッド２１及びスラリーの温度調節が行われている状態では、図３のように、スラリーアーム２３のノズル２３ａから吐出されたスラリーは、研磨パッド２１の回転により温度調節板３１に向かって流れる。スラリーが流れる方向を矢印Ａ３で示す。温度調節板３１の研磨パッド２１との接触面３１ａには複数の突起３１Ａが設けられており、接触面３１ａから流入したスラリーは、突起３１Ａにより形成された通路を通って流出される。スラリーの流出方向を矢印Ａ４で示す。温度調節板３１の接触面３１ａから流出スラリーは、研磨ヘッド２２に向かって流れ、研磨ヘッド２２に供給される。
【００３５】
制御部３４は、温度センサ２１ａで測定された研磨パッド２１の温度をモニタし、当該研磨に応じた所定の温度範囲内にあるか否かを判定する（ステップＳ７）。
ステップＳ３において、測定された温度が所期の温度範囲内となったと判断された場合、制御部３４は、温度調節を終了し、アーム３２を駆動する。アーム３２は、研磨パッド２１の表面に配置された温度調節板３１を当該表面から離間して移動させ、液溜め槽３３ａ内に配置する（ステップＳ８）。温度調節板３１は、液溜め槽３３ａ内で待機状態とされる。研磨作業が完了するか否かを確認し（ステップＳ９）、研磨作業中の場合、再度、ステップＳ４が実行される。研磨作業が終了すると、ステップＳ４も終了する。
【００３６】
以上説明したように、本実施形態による研磨装置では、スラリーの研磨ヘッド２２への供給の阻害を抑制しつつ、研磨パッド２１（及びスラリー）の温度制御を短時間で確実に行うことができる信頼性の高い研磨が実現する。
【００３７】
［変形例］
以下、第１の実施形態の諸変形例について説明する。これらの変形例では、温度調節板が異なる点で第１の実施形態と相違する。研磨装置のその他の構成部材については第１の実施形態と同様であるため、第１の実施形態と同符号を付して詳しい説明を省略する。
【００３８】
（変形例１）
図９は、第１の実施形態の変形例１による研磨装置の温度調節板を示す模式図であり、（ａ）が斜視図、（ｂ）が裏面の平面図、（ｃ）が断面図、（ｄ）がスリット近傍の一部断面図である。（ｂ）では、裏面を上面から透視した様子を示している。
温度調節板４１は、高い比熱を持つ金属、例えば銅（Ｃｕ）等を材料とする例えば円形の板状部材である。温度調節板４１は、研磨パッド２１との接触面（裏面）４１ａに複数のスリット４１Ａが形成されている。各スリット４１Ａは、接触面４１ａの周縁の一端４１ｂから離れるにつれて小さくなる曲率を持ち、一端４１ｂに向かって凹の曲線状の形状を有して並んで形成されている。温度調節板４１の使用時には、凹状のスリット４１Ａがスラリーの通路となる。スリット４１Ａは、例えば断面長方形状とされており、その幅をＷ、高さをＨ、隣り合うスリット４１Ａの離間距離をＤとすると、例えば、０．５ｍｍ≦Ｗ≦５．０ｍｍ、０．５ｍｍ≦Ｈ≦５．０ｍｍ、０．５ｍｍ≦Ｄ≦５．０ｍｍとされる。
【００３９】
温度調節板４１の接触面４１ａが研磨パッド２１の表面に固定状態で接触すると、接触面４１ａと研磨パッド２１の表面との間においてスリット４１Ａが空隙となる。この構成により、研磨作業中に温度調節板４１が研磨パッド２１の表面に接触して温度調節が行われるときには、接触面４１ａにおいてスリット４１Ａがスラリーの流入及び流出通路となる。
【００４０】
図１０は、第１の実施形態の変形例１による研磨装置において、研磨作業中のスラリーの流れを示す概略平面図である。図１０では、温度センサ２１ａの図示を省略し、温度調節機構２５は温度調節板４１及びアーム３２のみを示す。
【００４１】
変形例１では、温度調節時において、温度調節板４１は研磨パッド２１上で研磨パッド２１の回転方向に対して、スラリーアーム２３の後位置で、研磨ヘッド２２の前位置に配置される。温度調節板４１は、研磨パッド２１の表面上で研磨パッド２１の外部に対して固定状態で、スリット４１Ａが研磨パッド２１の中央位置から見て上に凸の曲線となるように配置される。温度調節板４１に対するスラリーの流れを図９（ｂ）の矢印Ａ５で示す。スリット４１Ａに流入したスラリーは、その流れが矢印Ａ４のようにスリット４１Ａの曲線形状に規制されて研磨ヘッド２２へ向けて導かれて流出する。変形例１では、スラリーの流れが温度調節板４１で阻害されるのを抑制することは勿論、スラリーの流れが研磨ヘッド２２へ均等に向かうようにスリット４１Ａにより積極的に規定される。これにより、研磨パッド２１へのスラリーの十分な供給を確保して研磨の均一性が向上すると共に、研磨パッド２１及びスラリーの所期の温度調節が達成される。
【００４２】
以上説明したように、変形例１による研磨装置では、スラリーの適正な供給の阻害を抑制しつつ、研磨パッド２１（及びスラリー）の温度制御を短時間で確実に行うことができる信頼性の高い研磨が実現する。
【００４３】
（変形例２）
図１１は、第１の実施形態の変形例２による研磨装置の温度調節板を示す模式図であり、（ａ）が斜視図、（ｂ）が裏面の平面図、（ｃ）が断面図、（ｄ）がスリット近傍の一部断面図である。（ｂ）では、裏面を上面から透視した様子を示している。
温度調節板４２は、高い比熱を持つ金属、例えば銅（Ｃｕ）等を材料とする例えば円形の板状部材である。温度調節板４２は、研磨パッド２１との接触面（裏面）４２ａに複数のスリット４２Ａが形成されている。スリット４２Ａは、接触面４２ａの周縁の一端４２ｂから離れるにつれて小さくなる曲率を持ち、一端４２ｂに向かって凹の曲線状の複数の第１スリット４２Ａ１と、例えば１本の直線状の第２スリット４２Ａ２とからなり、これらが並んで形成されている。温度調節板４２の使用時には、凹状のスリット４２Ａがスラリーの通路となる。スリット４２Ａは、例えば断面長方形状とされており、その幅をＷ、高さをＨ、隣り合うスリット４２Ａの離間距離をＤとすると、例えば、０．５ｍｍ≦Ｗ≦５．０ｍｍ、０．５ｍｍ≦Ｈ≦５．０ｍｍ、０．５ｍｍ≦Ｄ≦５．０ｍｍとされる。
【００４４】
温度調節板４２の接触面４２ａが研磨パッド２１の表面に固定状態で接触すると、接触面４２ａと研磨パッド２１の表面との間においてスリット４２Ａが空隙となる。この構成により、研磨作業中に温度調節板４２が研磨パッド２１の表面に接触して温度調節が行われるときには、接触面４２ａにおいてスリット４２Ａがスラリーの流入及び流出通路となる。
【００４５】
変形例２では、温度調節時において、温度調節板４２は研磨パッド２１上で研磨パッド２１の回転方向に対して、スラリーアーム２３の後位置で、研磨ヘッド２２の前位置に配置される。温度調節板４２は、研磨パッド２１の表面上で研磨パッド２１の外部に対して固定状態で、スリット４２Ａ１が研磨パッド２１の中央位置から見て上に凸の曲線となるように配置される。温度調節板４２に対するスラリーの流れを図１１（ｂ）の矢印Ａ５で示す。スリット４２Ａに流入したスラリーは、その流れがスリット４２Ａの曲線形状及び直線形状に規制されて研磨ヘッド２２へ向けて導かれて流出する。変形例２では、スラリーの流れが温度調節板４２で阻害されるのを抑制することは勿論、スラリーの流れが研磨ヘッド２２へ均等に向かうようにスリット４２Ａにより積極的に規定される。これにより、研磨パッド２１へのスラリーの十分な供給を確保して研磨の均一性が向上すると共に、研磨パッド２１及びスラリーの所期の温度調節が達成される。
【００４６】
以上説明したように、変形例２による研磨装置では、スラリーの適正な供給の阻害を抑制しつつ、研磨パッド２１（及びスラリー）の温度制御を短時間で確実に行うことができる信頼性の高い研磨が実現する。
【００４７】
（変形例３）
図１２は、第１の実施形態の変形例３による研磨装置の温度調節板を示す模式図であり、（ａ）が斜視図、（ｂ）が裏面の平面図、（ｃ）が断面図、（ｄ）がスリット近傍の一部断面図である。（ｂ）では、裏面を上面から透視した様子を示している。
温度調節板４３は、高い比熱を持つ金属、例えば銅（Ｃｕ）等を材料とする例えば円形の板状部材である。温度調節板４３は、研磨パッド２１との接触面（裏面）４３ａに複数のスリット４３Ａが形成されている。複数のスリット４３Ａは、複数の第１スリット４３Ａ１と、例えば１本の第２スリット４３Ａ２と、複数の第３スリット４３Ａ３とからなり、これらが並んで形成されている。第１スリット４３Ａ１は、接触面４３ａの周縁の一端４３ｂから離れるにつれて小さくなる曲率を持ち、一端４３ｂに向かって凹の曲線状のスリットである。第２スリット４３Ａ２は直線状のスリットである。第３スリット４３Ａ３は、第２スリット４３Ａ２から離れるにつれて大きくなる曲率を持ち、第２スリット４３Ａ２に向かって凹の曲線状のスリットである。温度調節板４３の使用時には、凹状のスリット４３Ａがスラリーの通路となる。
【００４８】
スリット４３Ａは、例えば断面長方形状とされており、その幅をＷ、高さをＨ、隣り合うスリット４３Ａの離間距離をＤとすると、例えば、０．５ｍｍ≦Ｗ≦５．０ｍｍ、０．５ｍｍ≦Ｈ≦５．０ｍｍ、０．５ｍｍ≦Ｄ≦５．０ｍｍとされる。
【００４９】
温度調節板４３の接触面４３ａが研磨パッド２１の表面に固定状態で接触すると、接触面４３ａと研磨パッド２１の表面との間においてスリット４３Ａが空隙となる。この構成により、研磨作業中に温度調節板４３が研磨パッド２１の表面に接触して温度調節が行われるときには、接触面４３ａにおいてスリット４３Ａがスラリーの流入及び流出通路となる。
【００５０】
変形例３では、温度調節時において、温度調節板４３は研磨パッド２１上で研磨パッド２１の回転方向に対して、スラリーアーム２３の後位置で、研磨ヘッド２２の前位置に配置される。温度調節板４３は、研磨パッド２１の表面上で研磨パッド２１の外部に対して固定状態で、スリット４３Ａが図１２（ｂ）の矢印Ａ５で示すスラリーの流れの方向と並行するように配置される。ここで、スリット４３Ａ１が研磨パッド２１の中央位置から見て上に凸の曲線となり、スリット４３Ａ３が研磨パッド２１の中央位置から見て下に凸の曲線となる。スリット４３Ａに流入したスラリーは、その流れがスリット４３Ａの曲線形状及び直線形状に規制されて流出する。ここで、スリット４３Ａ１（，４３Ａ２）を通過したスラリーは、研磨ヘッド２２の特に中央位置から内側へ向けて導かれる。スリット４３Ａ３を通過したスラリーは、研磨ヘッド２２の特に外側へ向けて導かれる。変形例３では、スラリーの流れが温度調節板４３で阻害されるのを抑制することは勿論、スラリーの流れが広角に研磨ヘッド２２の全体へ均等に向かうようにスリット４３Ａにより積極的に規定される。これにより、研磨パッド２１へのスラリーの十分な供給を確保して研磨の均一性が向上すると共に、研磨パッド２１及びスラリーの所期の温度調節が達成される。
【００５１】
以上説明したように、変形例３による研磨装置では、スラリーの適正な供給を阻害することなく制御し、研磨パッド２１（及びスラリー）の温度制御を短時間で確実に行うことができる信頼性の高い研磨が実現する。
【００５２】
（変形例４）
図１３は、第１の実施形態の変形例４による研磨装置の温度調節板を示す模式図であり、（ａ）が斜視図、（ｂ）が裏面の平面図、（ｃ）が断面図、（ｄ）がスリット近傍の一部断面図である。（ｂ）では、裏面を上面から透視した様子を示している。
温度調節板４４は、高い比熱を持つ金属、例えば銅（Ｃｕ）等を材料とする例えば円形の板状部材である。温度調節板４４は、研磨パッド２１との接触面（裏面）４４ａに複数のスリット４４Ａが形成されている。スリット４４Ａは、接触面４４ａの一端から放射状に広がる直線状に並んで形成されている。スリット４４Ａのうち、図１３中で、中央の第２スリット４４Ａ２に対して、左側のものを第１スリット４４Ａ１、右側のものを第３スリット４４Ａ３とする。温度調節板４４の使用時には、凹状のスリット４４Ａがスラリーの通路となる。
【００５３】
スリット４４Ａは、例えば断面長方形状とされており、その幅をＷ、高さをＨ、隣り合うスリット４４Ａの離間距離をＤとすると、例えば、０．５ｍｍ≦Ｗ≦５．０ｍｍ、０．５ｍｍ≦Ｈ≦５．０ｍｍ、０．５ｍｍ≦Ｄ≦５．０ｍｍとされる。
【００５４】
温度調節板４４の接触面４４ａが研磨パッド２１の表面に固定状態で接触すると、接触面４４ａと研磨パッド２１の表面との間においてスリット４４Ａが空隙となる。この構成により、研磨作業中に温度調節板４４が研磨パッド２１の表面に接触して温度調節が行われるときには、接触面４４ａにおいてスリット４４Ａがスラリーの流入及び流出通路となる。
【００５５】
変形例４では、温度調節時において、温度調節板４４は研磨パッド２１上で研磨パッド２１の回転方向に対して、スラリーアーム２３の後位置で、研磨ヘッド２２の前位置に配置される。温度調節板４４は、研磨パッド２１の表面上で研磨パッド２１の外部に対して固定状態で、スリット４４Ａが図１３（ｂ）の矢印Ａ５で示すスラリーの流れの方向と並行するように配置される。ここで、スリット４４Ａ１が研磨パッド２１の中心位置から見て研磨パッド２１の内側へ向かう直線となり、スリット４４Ａ３が研磨パッド２１の外側へ向かう直線となる。スリット４４Ａに流入したスラリーは、その流れがスリット４４Ａの直線形状に規制されて流出する。ここで、スリット４４Ａ１（，４４Ａ２）を通過したスラリーは、研磨ヘッド２２の特に中央位置から内側へ向けて導かれる。スリット４４Ａ３を通過したスラリーは、研磨ヘッド２２の特に外側へ向けて導かれる。変形例４では、スラリーの流れが温度調節板４４で阻害されるのを抑制することは勿論、スラリーの流れが広角に研磨ヘッド２２の全体へ均等に向かうようにスリット４４Ａにより積極的に規定される。これにより、研磨パッド２１へのスラリーの十分な供給を確保して研磨の均一性が向上すると共に、研磨パッド２１及びスラリーの所期の温度調節が達成される。
【００５６】
以上説明したように、変形例４による研磨装置では、スラリーの適正な供給を阻害することなく制御し、研磨パッド２１（及びスラリー）の温度制御を短時間で確実に行うことができる信頼性の高い研磨が実現する。
【００５７】
上記した変形例１〜４において、温度調節板のスリット形状は、図１０（ｄ），図１１（ｄ），図１２（ｄ），図１３（ｄ）以外にも、例えば以下のような態様としても良い。以下の説明では、変形例１を例に採って説明するが、変形例２〜４にも同様に適用される。
図１４は、変形例１〜４における温度調節板のスリット形状の他の例を示す一部断面図であり、変形例１について例示する。
【００５８】
図１４（ａ）の例では、温度調節板４１のスリット４１Ａは、断面長方形状とされており、先端の側面４１Ａａ及び後端の側面４１Ａｂが曲面状に丸まって面取りされている。スリット４１Ａは、側面４１Ａａが面取りされていることにより、研磨時にスリット４１Ａの凸部が研磨パッド２１の表面に接触しても当該表面を傷付けることがなく、研磨パッド２１の損傷を懸念することなくスラリーの所期の通路が確保される。また、スリット４１Ａは、側面４１Ａｂが面取りされていることにより、スラリーがスリット４１Ａ内に滞留することなくスリット４１Ａを確実に通過することができる。
【００５９】
図１４（ｂ）の例では、温度調節板４１のスリット４１Ａは、断面半円形状とされている。スリット４１Ａは、この断面半円形状により、スラリーがスリット４１Ａ内に滞留することなくスリット４１Ａを確実に通過し、スラリーの所期の通路が確保される。
【００６０】
図１４（ｃ）の例では、温度調節板４１のスリット４１Ａは、断面半円形状とされており、先端の側面４１Ａｃが曲面状に丸まって面取りされている。スリット４１Ａは、側面４１Ａｃが面取りされていることにより、研磨時にスリット４１Ａの凸部が研磨パッド２１の表面に接触しても当該表面を傷付けることがなく、研磨パッド２１の損傷を懸念することなくスラリーの所期の通路が確保される。また、スリット４１Ａは、この断面半円形状により、スラリーがスリット４１Ａ内に滞留することなくスリット４１Ａを確実に通過することができる。
【００６１】
（変形例５）
図１５は、第１の実施形態の変形例５による研磨装置の温度調節板を示す模式図であり、（ａ）が斜視図、（ｂ）が裏面の平面図、（ｃ）が断面図、（ｄ）がスリット近傍の一部断面図である。
温度調節板５１は、高い比熱を持つ金属、例えば銅（Ｃｕ）等を材料とする矩形状、例えば長方形の板状部材である。温度調節板５１は、研磨パッド２１との接触面（裏面）５１ａに複数の突起５１Ａが形成されている。突起５１Ａは、曲面を持つ円形状の凸部であり、接触面５１ａの全面に等間隔で格子状又は最密状に配置されている。
【００６２】
研磨パッド２１の直径が例えば７８０ｍｍ、被研磨対象である半導体ウェハの直径が３００ｍｍであるとする。この場合、温度調節板５１のサイズは、その長手方向の長さをＬ、矩手方向の長さをＷとして、例えば、３００ｍｍ≦Ｌ≦３９０ｍｍ（研磨パッド２１の半径）、５０ｍｍ≦Ｌ≦１５０ｍｍ（半導体ウェハの半径）である。
突起５１Ａのサイズは、その幅をＷ、高さをＨ、隣り合う突起５１Ａの離間距離をＤとすると、例えば、０．５ｍｍ≦Ｗ≦３．０ｍｍ、０．５ｍｍ≦Ｈ≦３．０ｍｍ、０ｍｍ≦Ｄ≦５．０ｍｍとされる。
【００６３】
図１６は、第１の実施形態の変形例５による研磨装置において、研磨作業中のスラリーの流れを示す概略平面図である。図１６では、温度センサ２１ａの図示を省略し、温度調節機構２５は温度調節板５１、アーム３２、及び長方形状の液溜め槽３３ａのみ示す。
【００６４】
変形例５では、温度調節時において、温度調節板５１は研磨パッド２１上で研磨パッド２１の回転方向に対して、スラリーアーム２３の後位置で、研磨ヘッド２２の前位置に配置される。温度調節板５１は、その短手方向が図１５（ｂ）の矢印Ａ５で示すスラリーの流れの方向と並行するように配置される。温度調節板５１の接触面５１ａが研磨パッド２１の表面に固定状態で接触（突起５１Ａの先端が研磨パッド２１の表面に接触）すると、接触面５１ａと研磨パッド２１の表面との間には、隣り合う突起５１Ａにより空隙が形成される。この空隙は、接触面５１ａの周縁の一部位から他部位にかけて連通しており、接触面５１ａにおいて多数の連通路が形成されている。この構成により、研磨作業中に温度調節板５１が研磨パッド２１の表面に接触して温度調節が行われるときには、接触面５１ａにおいて上記の空隙でスラリーが流入及び流出する通路が形成される。スラリーの流出方向を矢印Ａ４で示す。研磨作業中においてスラリーの流れが温度調節板５１で阻害されることなく、研磨パッド２１へのスラリーの十分な供給を確保して研磨の均一性が向上すると共に、研磨パッド２１及びスラリーの所期の温度調節が達成される。
【００６５】
ここで、突起５１Ａの先端部位の曲率半径Ｒは、
Ｒ≧Ｗ／２  ・・・（１）
であることが望ましい。曲率半径Ｒが（１）式を満たすことにより、研磨時に突起５１Ａが研磨パッド２１の表面に接触しても当該表面を傷付けることがなく、研磨パッド２１の損傷を懸念することなく接触面５１ａにおいてスラリーの所期の通路が確保される。
【００６６】
以上説明したように、変形例５による研磨装置では、スラリーの研磨ヘッド２２への供給の阻害を抑制しつつ、研磨パッド２１（及びスラリー）の温度制御を短時間で確実に行うことができる信頼性の高い研磨が実現する。
【００６７】
（変形例６）
図１７は、第１の実施形態の変形例６による研磨装置の温度調節板を示す模式図であり、（ａ）が斜視図、（ｂ）が裏面の平面図、（ｃ）が断面図、（ｄ）がスリット近傍の一部断面図である。（ｂ）では、裏面を上面から透視した様子を示している。
温度調節板５２は、高い比熱を持つ金属、例えば銅（Ｃｕ）等を材料とする矩形状、例えば長方形の板状部材である。温度調節板５２は、研磨パッド２１との接触面（裏面）５２ａに複数のスリット５２Ａが形成されている。各スリット５２Ａは、図１７（ｂ）で短辺の中央位置から若干下方へずれた部位である一端５２ｂから見て上に凸となる曲線状に形成されている。各スリット５２Ａを、一端５２ｂから離れるにつれて小さくなる曲率を持ち、一端５２ｂに向かって凹の曲線状に並んで形成するようにしても良い。温度調節板５２の使用時には、凹状のスリット５２Ａがスラリーの通路となる。
【００６８】
スリット５２Ａは、例えば断面長方形状とされており、その幅をＷ、高さをＨ、隣り合うスリット５２Ａの離間距離をＤとすると、例えば、０．５ｍｍ≦Ｗ≦５．０ｍｍ、０．５ｍｍ≦Ｈ≦５．０ｍｍ、０．５ｍｍ≦Ｄ≦５．０ｍｍとされる。
【００６９】
温度調節板５２の接触面５２ａが研磨パッド２１の表面に固定状態で接触すると、接触面５２ａと研磨パッド２１の表面との間においてスリット５２Ａが空隙となる。この構成により、研磨作業中に温度調節板５２が研磨パッド２１の表面に接触して温度調節が行われるときには、接触面５２ａにおいてスリット５２Ａがスラリーの流入及び流出通路となる。
【００７０】
図１８は、第１の実施形態の変形例６による研磨装置において、研磨作業中のスラリーの流れを示す概略平面図である。図１８では、温度センサ２１ａの図示を省略し、温度調節機構２５は温度調節板５２、アーム３２、及び長方形状の液溜め槽３３ａのみ示す。
【００７１】
変形例６では、温度調節時において、温度調節板５２は研磨パッド２１上で研磨パッド２１の回転方向に対して、スラリーアーム２３の後位置で、研磨ヘッド２２の前位置に配置される。温度調節板５２は、研磨パッド２１の表面上で研磨パッド２１の外部に対して固定状態で、スリット５２Ａが、研磨パッド２１の中心位置から見て上に凸の曲線となるように配置される。温度調節板５２に対するスラリーの流れの方向を図１８（ｂ）の矢印Ａ５で示す。スリット５２Ａに流入したスラリーは、その流れがスリット５２Ａの曲線形状に規制されて研磨ヘッド２２へ向けて導かれて流出する。スラリーの流出方向を矢印Ａ４で示す。変形例６では、スラリーの流れが温度調節板５２で阻害されるのを抑制することは勿論、スラリーの流れが研磨ヘッド２２へ均等に向かうようにスリット５２Ａにより積極的に規定される。これにより、研磨パッド２１へのスラリーの十分な供給を確保して研磨の均一性が向上すると共に、研磨パッド２１及びスラリーの所期の温度調節が達成される。
【００７２】
以上説明したように、変形例６による研磨装置では、スラリーの適正な供給の阻害を抑制しつつ、研磨パッド２１（及びスラリー）の温度制御を短時間で確実に行うことができる信頼性の高い研磨が実現する。
【００７３】
（変形例７）
図１９は、第１の実施形態の変形例７による研磨装置の温度調節板を示す模式図であり、（ａ）が斜視図、（ｂ）が裏面の平面図、（ｃ）が断面図、（ｄ）がスリット近傍の一部断面図である。（ｂ）では、裏面を上面から透視した様子を示している。
温度調節板５３は、高い比熱を持つ金属、例えば銅（Ｃｕ）等を材料とする矩形状、例えば長方形の板状部材である。温度調節板５３は、研磨パッド２１との接触面（裏面）５３ａに複数のスリット５３Ａが形成されている。図１９（ｂ）で短辺の中央位置から若干下方へずれた部位である一端５３ｂに着目する。スリット５３Ａは、一端５３ｂから離れるにつれて小さくなる曲率を持ち、一端５３ｂに向かって凹の曲線状の複数の第１スリット５３Ａ１と、例えば１本の直線状の第２スリット５３Ａ２とからなり、これらが並んで形成されている。温度調節板５３の使用時には、凹状のスリット５３Ａがスラリーの通路となる。
【００７４】
スリット５３Ａは、例えば断面長方形状とされており、その幅をＷ、高さをＨ、隣り合うスリット５３Ａの離間距離をＤとすると、例えば、０．５ｍｍ≦Ｗ≦５．０ｍｍ、０．５ｍｍ≦Ｈ≦５．０ｍｍ、０．５ｍｍ≦Ｄ≦５．０ｍｍとされる。
【００７５】
温度調節板５３の接触面５３ａが研磨パッド２１の表面に固定状態で接触すると、接触面５３ａと研磨パッド２１の表面との間においてスリット５３Ａが空隙となる。この構成により、研磨作業中に温度調節板５３が研磨パッド２１の表面に接触して温度調節が行われるときには、接触面５３ａにおいてスリット５３Ａがスラリーの流入及び流出通路となる。
【００７６】
変形例７では、温度調節時において、温度調節板５３は研磨パッド２１上で研磨パッド２１の回転方向に対して、スラリーアーム２３の後位置で、研磨ヘッド２２の前位置に配置される。温度調節板５３は、研磨パッド２１の表面上で研磨パッド２１の外部に対して固定状態で、スリット５３Ａ１が研磨パッド２１の中央位置から見て上に凸の曲線となるように配置される。矢印Ａ５で示すスラリーの流れの方向は、温度調節板５３の短手方向と並行する。スリット５３Ａに流入したスラリーは、その流れがスリット５３Ａの曲線形状及び直線形状に規制されて研磨ヘッド２２へ向けて導かれて流出する。変形例７では、スラリーの流れが温度調節板５３で阻害されるのを抑制することは勿論、スラリーの流れが研磨ヘッド２２へ均等に向かうようにスリット５３Ａにより積極的に規定される。これにより、研磨パッド２１へのスラリーの十分な供給を確保して研磨の均一性が向上すると共に、研磨パッド２１及びスラリーの所期の温度調節が達成される。
【００７７】
以上説明したように、変形例７による研磨装置では、スラリーの適正な供給を阻害することなく制御し、研磨パッド２１（及びスラリー）の温度制御を短時間で確実に行うことができる信頼性の高い研磨が実現する。
【００７８】
（変形例８）
図２０は、第１の実施形態の変形例８による研磨装置の温度調節板を示す模式図であり、（ａ）が斜視図、（ｂ）が裏面の平面図、（ｃ）が断面図、（ｄ）がスリット近傍の一部断面図である。（ｂ）では、裏面を上面から透視した様子を示している。
温度調節板５４は、高い比熱を持つ金属、例えば銅（Ｃｕ）等を材料とする矩形状、例えば長方形の板状部材である。温度調節板５４は、研磨パッド２１との接触面（裏面）５４ａに複数のスリット５４Ａが形成されている。複数のスリット５４Ａは、複数の第１スリット５４Ａ１と、例えば１本の第２スリット５４Ａ２と、複数の第３スリット５４Ａ３とからなり、これらが並んで形成されている。第１スリット５４Ａ１は、図２０（ｂ）で短辺の中央位置から若干下方へずれた部位である一端５４ｂから離れるにつれて小さくなる曲率を持ち、一端５４ｂに向かって凹となる曲線状に形成されている。第２スリット５４Ａ２は直線状に形成されている。第３スリット５４Ａ３は、第２スリット５４Ａ２に対して、第１スリット５４Ａ１と対称となるように、一端５４ｂから離れるにつれて大きくなる曲率を持ち、一端５４ｂに向かって凸となる曲線状に形成されている。
【００７９】
第１スリット５４Ａ１としては、図２０（ｂ）で短辺の中央位置から若干下方へずれた部位である一端５４ｂから離れるにつれて小さくなる曲率を持つ上に凸の曲線状に形成されたものでも良い。第３スリット５４Ａ３としては、第２スリット５４Ａ２から離れるにつれて大きくなる曲率を持つ下に凸の曲線状に形成されたものでも良い。温度調節板５４の使用時には、凹状のスリット５４Ａがスラリーの通路となる。
【００８０】
スリット５４Ａは、例えば断面長方形状とされており、その幅をＷ、高さをＨ、隣り合うスリット５４Ａの離間距離をＤとすると、例えば、０．５ｍｍ≦Ｗ≦５．０ｍｍ、０．５ｍｍ≦Ｈ≦５．０ｍｍ、０．５ｍｍ≦Ｄ≦５．０ｍｍとされる。
【００８１】
温度調節板５４の接触面５４ａが研磨パッド２１の表面に固定状態で接触すると、接触面５４ａと研磨パッド２１の表面との間においてスリット５４Ａが空隙となる。この構成により、研磨作業中に温度調節板５４が研磨パッド２１の表面に接触して温度調節が行われるときには、接触面５４ａにおいてスリット５４Ａがスラリーの流入及び流出通路となる。
【００８２】
変形例８では、温度調節時において、温度調節板５４は研磨パッド２１上で研磨パッド２１の回転方向に対して、スラリーアーム２３の後位置で、研磨ヘッド２２の前位置に配置される。温度調節板５４は、研磨パッド２１の表面上で研磨パッド２１の外部に対して固定状態で、矢印Ａ５で示すスラリーの流れの方向が温度調節板５４の短手方向と並行するように配置される。ここで、スリット５４Ａ１が研磨パッド２１の中央位置から見て上に凸の曲線となり、スリット５４Ａ３が研磨パッド２１の中央位置から見て下に凸の曲線となる。スリット５４Ａに流入したスラリーは、その流れがスリット５４Ａの曲線形状及び直線形状に規制されて流出する。ここで、スリット５４Ａ１（，５４Ａ２）を通過したスラリーは、研磨ヘッド２２の特に中央位置から内側へ向けて導かれる。スリット５４Ａ３を通過したスラリーは、研磨ヘッド２２の特に外側へ向けて導かれる。変形例８では、スラリーの流れが温度調節板５４で阻害されるのを抑制することは勿論、スラリーの流れが広角に研磨ヘッド２２の全体へ均等に向かうようにスリット５４Ａにより積極的に規定される。これにより、研磨パッド２１へのスラリーの十分な供給を確保して研磨の均一性が向上すると共に、研磨パッド２１及びスラリーの所期の温度調節が達成される。
【００８３】
以上説明したように、変形例８による研磨装置では、スラリーの適正な供給を阻害することなく制御し、研磨パッド２１（及びスラリー）の温度制御を短時間で確実に行うことができる信頼性の高い研磨が実現する。
【００８４】
（変形例９）
図２１は、第１の実施形態の変形例９による研磨装置の温度調節板を示す模式図であり、（ａ）が斜視図、（ｂ）が裏面の平面図、（ｃ）が断面図、（ｄ）がスリット近傍の一部断面図である。（ｂ）では、裏面を上面から透視した様子を示している。
温度調節板５５は、高い比熱を持つ金属、例えば銅（Ｃｕ）等を材料とする矩形状、例えば長方形の板状部材である。温度調節板５５は、研磨パッド２１との接触面（裏面）５５ａに複数のスリット５５Ａが形成されている。スリット５５Ａは、接触面５５ａの一端の長辺から放射状に広がる直線状に並んで形成されている。スリット５５Ａのうち、中央の第２スリット５５Ａ２に対して図２１中左側のものを第１スリット５５Ａ１、右側のものを第３スリット５５Ａ３とする。温度調節板５５の使用時には、凹状のスリット５５Ａがスラリーの通路となる。
【００８５】
スリット５５Ａは、例えば断面長方形状とされており、その幅をＷ、高さをＨ、隣り合うスリット５５Ａの離間距離をＤとすると、例えば、０．５ｍｍ≦Ｗ≦５．０ｍｍ、０．５ｍｍ≦Ｈ≦５．０ｍｍ、０．５ｍｍ≦Ｄ≦５．０ｍｍとされる。
【００８６】
温度調節板５５の接触面５５ａが研磨パッド２１の表面に固定状態で接触すると、接触面５５ａと研磨パッド２１の表面との間においてスリット５５Ａが空隙となる。この構成により、研磨作業中に温度調節板５５が研磨パッド２１の表面に接触して温度調節が行われるときには、接触面５５ａにおいてスリット５５Ａがスラリーの流入及び流出通路となる。
【００８７】
変形例９では、温度調節時において、温度調節板５５は研磨パッド２１上で研磨パッド２１の回転方向に対して、スラリーアーム２３の後位置で、研磨ヘッド２２の前位置に配置される。温度調節板５５は、研磨パッド２１の表面上で研磨パッド２１の外部に対して固定状態で、矢印Ａ５で示すスラリーの流れの方向が温度調節板５５の短手方向と並行するように配置される。ここで、スリット５５Ａ１が研磨パッド２１の中心位置から見て研磨パッド２１の内側へ向かう直線となり、スリット５５Ａ３が研磨パッド２１の外側へ向かう直線となる。スリット５５Ａに流入したスラリーは、その流れがスリット５５Ａの直線形状に規制されて流出する。ここで、スリット５５Ａ１（，５５Ａ２）を通過したスラリーは、研磨ヘッド２２の特に中央位置から内側へ向けて導かれる。スリット５５Ａ３を通過したスラリーは、研磨ヘッド２２の特に外側へ向けて導かれる。変形例９では、スラリーの流れが温度調節板５５で阻害されるのを抑制することは勿論、スラリーの流れが広角に研磨ヘッド２２の全体へ均等に向かうようにスリット５５Ａにより積極的に規定される。これにより、研磨パッド２１へのスラリーの十分な供給を確保して研磨の均一性が向上すると共に、研磨パッド２１及びスラリーの所期の温度調節が達成される。
【００８８】
以上説明したように、変形例９による研磨装置では、スラリーの適正な供給の阻害を抑制しつつ、研磨パッド２１（及びスラリー）の温度制御を短時間で確実に行うことができる信頼性の高い研磨が実現する。
【００８９】
上記した変形例６〜９においても、変形例１〜４と同様に、温度調節板のスリットについて、先端の側面及び後端の側面を面取りする、断面半円形状とする、又は断面半円形状で先端の側面を面取りする等しても良い。
【００９０】
［第２の実施形態］
続いて、第２の実施形態について説明する。本実施形態では、研磨装置において、温度調節板が研磨パッド上で研磨パッドの回転方向に対して、スラリーアームの前位置で、研磨ヘッドの後位置に配置される態様を採る。その他の構成については、第１の実施形態と同様である。
【００９１】
図２２は、第２の実施形態による研磨装置の研磨部を示す概略平面図である。
温度調節板３１は、円形の板状部材であり、第１の実施形態の図３〜図７で示した温度調節板３１と同じものである。研磨部１０において、温度調節板３１は、研磨パッド２１上で研磨パッド２１の回転方向（矢印Ａ１）に対して、スラリーアーム２３の前位置で、研磨ヘッド２２の後位置に配置される。
【００９２】
温度調節時において、温度調節板３１の接触面３１ａが研磨パッド２１の表面に固定状態で接触（突起３１Ａの先端が研磨パッド２１の表面に接触）すると、接触面３１ａと研磨パッド２１の表面との間には、隣り合う突起３１Ａにより空隙が形成される。この空隙は、接触面３１ａの周縁の一部位から他部位にかけて連通しており、接触面３１ａにおいて多数の連通路が形成されている。この構成により、研磨作業中に温度調節板３１が研磨パッド２１の表面に接触して温度調節が行われるときには、接触面３１ａにおいて上記の空隙でスラリーが流入及び流出する通路が形成される。これにより、研磨後のスラリーの流量が均等化されて研磨の均一性が向上すると共に、研磨パッド２１及びスラリーの所期の温度調節が達成される。
【００９３】
以上説明したように、本実施形態による研磨装置では、スラリーの適正な供給の阻害を抑制しつつ、研磨パッド２１（及びスラリー）の温度制御を短時間で確実に行うことができる信頼性の高い研磨が実現する。
【００９４】
［変形例］
以下、第２の実施形態の諸変形例について説明する。これらの変形例では、温度調節板が異なる点で第２の実施形態と相違する。研磨装置のその他の構成部材については第２の実施形態と同様であるため、第１の実施形態と同符号を付して詳しい説明を省略する。
【００９５】
（変形例１）
変形例１では、温度調節板４１は、円形の板状部材であり、第１の実施形態の変形例１の図９で示した温度調節板４１と同じものである。図２２の研磨部１０において、温度調節板４１は、温度調節板３１に替わって、研磨パッド２１上で研磨パッド２１の回転方向（矢印Ａ１）に対して、スラリーアーム２３の前位置で、研磨ヘッド２２の後位置に配置される。
【００９６】
変形例１では、温度調節時において、温度調節板４１は、スリット４１Ａが、研磨パッド２１の中央位置から見て上に凸の曲線となるように配置される。スラリーの流れは、第１の実施形態の変形例１の図９（ｂ）の矢印Ａ５と同じである。スリット４１Ａに流入したスラリーは、その流れが矢印Ａ４のようにスリット４１Ａの曲線形状に規制されて研磨ヘッド２２へ向けて導かれて流出する。変形例１では、スラリーの流れが温度調節板４１で阻害されるのを抑制することは勿論、研磨後のスラリーの流量が均等となるようにスリット４１Ａにより積極的に規定される。これにより、研磨後のスラリーの流量が均等化されて研磨の均一性が向上すると共に、研磨パッド２１及びスラリーの所期の温度調節が達成される。
【００９７】
以上説明したように、変形例１による研磨装置では、スラリーの適正な供給の阻害を抑制しつつ、研磨パッド２１（及びスラリー）の温度制御を短時間で確実に行うことができる信頼性の高い研磨が実現する。
【００９８】
（変形例２）
変形例２では、温度調節板４１は、円形の板状部材であり、変形例１の温度調節板４１と同じものである。図２２の研磨部１０において、温度調節板４１は、温度調節板３１に替わって、研磨パッド２１上で研磨パッド２１の回転方向（矢印Ａ１）に対して、スラリーアーム２３の前位置で、研磨ヘッド２２の後位置に配置される。
【００９９】
図２３は、第２の実施形態の変形例２による研磨装置において、研磨作業中のスラリーの流れを示す概略平面図である。図２３では、温度センサ２１ａの図示を省略し、温度調節機構２５は温度調節板４１及びアーム３２のみを示す。
【０１００】
変形例２では、温度調節時において、温度調節板４１は、研磨パッド２１の表面上で研磨パッド２１の外部に対して固定状態で、スリット４１Ａが研磨パッド２１の一端４１ｂから離れるにつれて小さくなる曲率を持ち、一端４１ｂに向かって凹となる曲線状に配置される。変形例２の温度調節板４１は、図２４に示すように、スリット４１Ａが温度調節板４１に対するスラリーの流れ（矢印Ａ５）に対して図９（ｂ）の状態から反時計回りに幾分回転した状態となるように配置される。変形例２の温度調節板４１は、スリット４１Ａにおけるスラリーの流出部が変形例１の温度調節板４１よりも研磨パッド２１の内側へ向かって曲がっている。スリット４１Ａに流入したスラリーは、その流れが矢印Ａ４のようにスリット４１Ａの曲線形状に規制され、スリット４１Ａから流出して再び研磨パッド２１の内側へ向かって流れて再利用に供される。変形例１では、スラリーの流れが温度調節板４１で阻害されるのを抑制することは勿論、スラリーが再利用に供されて研磨ヘッド２２へ均等に向かうようにスリット４１Ａにより積極的に規定される。これにより、スラリーを再利用することでスラリーの使用量が低減するも、研磨パッド２１へのスラリーの十分な供給を確保して研磨の均一性が向上すると共に、研磨パッド２１及びスラリーの所期の温度調節が達成される。
【０１０１】
以上説明したように、変形例２による研磨装置では、スラリーの適正な供給の阻害を抑制しつつ、研磨パッド２１（及びスラリー）の温度制御を短時間で確実に行うことができる信頼性の高い研磨が実現する。
【０１０２】
（変形例３）
変形例３では、温度調節板４１は、円形の板状部材であり、変形例１の温度調節板４１と同じものである。図２２の研磨部１０において、温度調節板４１は、温度調節板３１に替わって、研磨パッド２１上で研磨パッド２１の回転方向（矢印Ａ１）に対して、スラリーアーム２３の前位置で、研磨ヘッド２２の後位置に配置される。
【０１０３】
図２５は、第２の実施形態の変形例３による研磨装置において、研磨作業中のスラリーの流れを示す概略平面図である。図２５では、温度センサ２１ａの図示を省略し、温度調節機構２５は温度調節板４１及びアーム３２のみを示す。
【０１０４】
変形例３では、温度調節板４１の配置態様が変形例１と異なる。図２６に示すように、温度調節時において、温度調節板４１は、研磨パッド２１の表面上で研磨パッド２１の外部に対して固定状態で、スリット４１Ａが研磨パッド２１の一端４１ｂから離れるにつれて小さくなる曲率を持ち、一端４１ｂに向かって凹の曲線となるように配置される。温度調節板４１に対するスラリーの流れを図２５の矢印Ａ５で示す。変形例３の温度調節板４１は、スリット４１Ａにおけるスラリーの流出部が研磨パッド２１の外側に向かって曲がっている。スリット４１Ａに流入したスラリーは、その流れが矢印Ａ４のようにスリット４１Ａの曲線形状に規制され、スリット４１Ａから流出して研磨パッド２１の外側へ向かって流れて排出される。変形例２では、スラリーの流れが温度調節板４１で阻害されるのを抑制することは勿論、スラリーが研磨パッド屑や反応生成物と共に研磨パッド２１の外側へ排出されるようにスリット４１Ａにより積極的に規定される。これにより、研磨レートの向上及びスクラッチの発生の低減が達成されると共に、研磨パッド２１及びスラリーの所期の温度調節が達成される。
【０１０５】
以上説明したように、変形例３による研磨装置では、スラリーの適正な供給の阻害を抑制しつつ、研磨パッド２１（及びスラリー）の温度制御を短時間で確実に行うことができる信頼性の高い研磨が実現する。
【０１０６】
（変形例４）
変形例４では、温度調節板４２は、円形の板状部材であり、第１の実施形態の変形例２の図１１で示した温度調節板４２と同じものである。図２２の研磨部１０において、温度調節板４２は、温度調節板３１に替わって、研磨パッド２１上で研磨パッド２１の回転方向（矢印Ａ１）に対して、スラリーアーム２３の前位置で、研磨ヘッド２２の後位置に配置される。
【０１０７】
変形例４では、温度調節時において、温度調節板４２は、研磨パッド２１の表面上で研磨パッド２１の外部に対して固定状態で、スリット４２Ａ１が研磨パッド２１の中央位置に向かって凹の曲線となるように配置される。スラリーの流れは、第１の実施形態の変形例２の図１１（ｂ）の矢印Ａ５と同じである。スリット４２Ａに流入したスラリーは、その流れがスリット４２Ａの曲線形状及び直線形状に規制されて研磨ヘッド２２へ向けて導かれて流出する。変形例２では、スラリーの流れが温度調節板４２で阻害されるのを抑制することは勿論、研磨後のスラリーの流量が均等となるようにスリット４２Ａにより積極的に規定される。これにより、研磨後のスラリーの流量が均等化されて研磨の均一性が向上すると共に、研磨パッド２１及びスラリーの所期の温度調節が達成される。
【０１０８】
以上説明したように、変形例４による研磨装置では、スラリーの適正な供給の阻害を抑制しつつ、研磨パッド２１（及びスラリー）の温度制御を短時間で確実に行うことができる信頼性の高い研磨が実現する。
【０１０９】
上記した変形例１〜４においても、第１の実施形態の変形例１〜４と同様に、温度調節板のスリットについて、先端の側面及び後端の側面を面取りする、断面半円形状とする、又は断面半円形状で先端の側面を面取りする等しても良い。
【０１１０】
（変形例５）
図２７は、第２の実施形態の変形例５による研磨装置の研磨部を示す概略平面図である。図２７では、温度センサ２１ａの図示を省略し、温度調節機構２５は温度調節板５１、アーム３２、及び長方形状の液溜め槽３３ａのみ示す。
【０１１１】
温度調節板５１は、矩形状、例えば長方形の板状部材であり、第１の実施形態の変形例５の図１５で示した温度調節板５１と同じものである。研磨部１０において、温度調節板５１は、研磨パッド２１上で研磨パッド２１の回転方向（矢印Ａ１）に対して、スラリーアーム２３の前位置で、研磨ヘッド２２の後位置に配置される。温度調節板５１は、その短手方向が図１５（ｂ）の矢印Ａ５で示すスラリーの流れの方向と並行するように配置される。
【０１１２】
変形例５では、温度調節時において、温度調節板５１の接触面５１ａが研磨パッド２１の表面に固定状態で接触（突起５１Ａの先端が研磨パッド２１の表面に接触）すると、接触面５１ａと研磨パッド２１の表面との間には、隣り合う突起５１Ａにより空隙が形成される。この空隙は、接触面５１ａの周縁の一部位から他部位にかけて連通しており、接触面５１ａにおいて多数の連通路が形成されている。この構成により、研磨作業中に温度調節板５１が研磨パッド２１の表面に接触して温度調節が行われるときには、接触面５１ａにおいて上記の空隙でスラリーが流入及び流出する通路が形成される。これにより、研磨後のスラリーの流量が均等化されて研磨の均一性が向上すると共に、研磨パッド２１及びスラリーの所期の温度調節が達成される。
【０１１３】
以上説明したように、変形例５による研磨装置では、スラリーの適正な供給の阻害を抑制しつつ、研磨パッド２１（及びスラリー）の温度制御を短時間で確実に行うことができる信頼性の高い研磨が実現する。
【０１１４】
（変形例６）
変形例６では、温度調節板５２は、矩形状、例えば長方形の板状部材であり、第１の実施形態の変形例６の図１７で示した温度調節板５２と同じものである。図２７の研磨部１０において、温度調節板５２は、温度調節板５１に替わって、研磨パッド２１上で研磨パッド２１の回転方向（矢印Ａ１）に対して、スラリーアーム２３の前位置で、研磨ヘッド２２の後位置に配置される。
【０１１５】
変形例６では、温度調節時において、温度調節板５２は、研磨パッド２１の表面上で研磨パッド２１の外部に対して固定状態で、スリット５２Ａが研磨パッド２１の中央位置に向かって凹の曲線となるように配置される。スラリーの流れは、第１の実施形態の変形例６の図１７（ｂ）の矢印Ａ５と同じである。スリット５２Ａに流入したスラリーは、その流れがスリット５２Ａの曲線形状に規制されて研磨ヘッド２２へ向けて導かれて流出する。変形例６では、スラリーの流れが温度調節板５２で阻害されるのを抑制することは勿論、研磨後のスラリーの流量が均等となるようにスリット５２Ａにより積極的に規定される。これにより、研磨後のスラリーの流量が均等化されて研磨の均一性が向上すると共に、研磨パッド２１及びスラリーの所期の温度調節が達成される。
【０１１６】
以上説明したように、変形例６による研磨装置では、スラリーの適正な供給の阻害を抑制しつつ、研磨パッド２１（及びスラリー）の温度制御を短時間で確実に行うことができる信頼性の高い研磨が実現する。
【０１１７】
（変形例７）
変形例７では、温度調節板５３は、矩形状、例えば長方形の板状部材であり、第１の実施形態の変形例７の図１９で示した温度調節板５３と同じものである。図２７の研磨部１０において、温度調節板５３は、温度調節板５１に替わって、研磨パッド２１上で研磨パッド２１の回転方向（矢印Ａ１）に対して、スラリーアーム２３の前位置で、研磨ヘッド２２の後位置に配置される。
【０１１８】
変形例７では、温度調節時において、温度調節板５３は、研磨パッド２１の表面上で研磨パッド２１の外部に対して固定状態で、スリット５３Ａ１が研磨パッド２１の中央位置に向かって凹の曲線となるように配置される。矢印Ａ５で示すスラリーの流れの方向は、温度調節板５３の短手方向と並行する。スリット５３Ａに流入したスラリーは、その流れがスリット５３Ａの曲線形状に規制されて研磨ヘッド２２へ向けて導かれて流出する。変形例７では、スラリーの流れが温度調節板５３で阻害されるのを抑制することは勿論、研磨後のスラリーの流量が均等となるようにスリット５３Ａにより積極的に規定される。これにより、研磨後のスラリーの流量が均等化されて研磨の均一性が向上すると共に、研磨パッド２１及びスラリーの所期の温度調節が達成される。
【０１１９】
以上説明したように、変形例７による研磨装置では、スラリーの適正な供給の阻害を抑制しつつ、研磨パッド２１（及びスラリー）の温度制御を短時間で確実に行うことができる信頼性の高い研磨が実現する。
【０１２０】
なお、上記した第２の実施形態の変形例６〜７においても、第１の実施形態の変形例６〜７と同様に、温度調節板のスリットについて、先端の側面及び後端の側面を面取りする、断面半円形状とする、又は断面半円形状で先端の側面を面取りする等しても良い。
【０１２１】
また、第２の実施形態の変形例６においても、第２の実施形態の変形例２と同様に温度調節板５２を配置しても良い。この場合、スリット５２Ａが、研磨パッド２１の中央位置に向かって凹の曲線となり、当該変形例６よりもスリット５２Ａにおけるスラリーの流出部が研磨パッド２１の内側へ向かって曲がるように位置する。第２の実施形態の変形例３と同様に温度調節板５２を配置しても良い。この場合、スリット５２Ａが、研磨パッド２１の中央位置から見て下に凸の曲線となり、スリット５２Ａにおけるスラリーの流出部が研磨パッド２１の外側へ向かって曲がるように位置する。
【０１２２】
また、第２の実施形態の変形例７においても、第２の実施形態の変形例２と同様に温度調節板５３を配置しても良い。この場合、スリット５３Ａ１が、研磨パッド２１の中央位置に向かって凹の曲線となり、当該変形例７よりもスリット５３Ａ１におけるスラリーの流出部が研磨パッド２１の内側へ向かって曲がるように位置する。第２の実施形態の変形例３と同様に温度調節板５３を配置しても良い。この場合、スリット５３Ａ１が、研磨パッド２１の中央位置から見て下に凸の曲線となり、スリット５３Ａ１におけるスラリーの流出部が研磨パッド２１の外側へ向かって曲がるように位置する。
【０１２３】
以下、研磨装置及び研磨方法の諸態様について、付記としてまとめて記載する。
【０１２４】
（付記１）回転駆動される研磨パッドと、
被研磨対象が設置され、前記研磨パッドに前記被研磨対象を接触されて研磨する研磨ヘッドと、
前記研磨パッドに研磨剤を供給する研磨剤供給部と、
前記研磨パッドとの接触面が前記研磨剤の通路を構成する凹凸状とされており、前記研磨パッドの外部に対して固定状態で前記研磨パッドに接触して前記研磨パッドの温度を調節する温度調節板と
を備えたことを特徴とする研磨装置。
【０１２５】
（付記２）前記温度調節板は、前記接触面に複数の突起が形成されていることを特徴とする付記１に記載の研磨装置。
【０１２６】
（付記３）前記温度調節板は、前記接触面において隣り合う前記突起間に空隙が形成されており、前記空隙が前記研磨剤の通路となることを特徴とする付記２に記載の研磨装置。
【０１２７】
（付記４）前記突起は、先端部位の曲率半径が当該突起の前記接触面における幅の半分以上の値であることを特徴とする付記２又は３に記載の研磨装置。
【０１２８】
（付記５）前記温度調節板は、前記接触面に前記研磨剤の通路となる複数のスリットが形成されていることを特徴とする付記１に記載の研磨装置。
【０１２９】
（付記６）前記複数のスリットは、前記接触面の一端から離れるにつれて小さくなる曲率を持ち前記一端に向かって凹の曲線状の複数の第１スリットと、直線状の第２スリットと、前記第２スリットから離れるにつれて大きくなる曲率を持ち前記一端に向かって凸の曲線状の複数の第３スリットとからなることを特徴とする付記５に記載の研磨装置。
【０１３０】
（付記７）前記複数のスリットは、前記接触面の一端から放射状に広がる直線状に形成されていることを特徴とする付記５に記載の研磨装置。
【０１３１】
（付記８）前記温度調節板は、前記研磨パッド上において、前記研磨パッドの回転方向に対して前記研磨剤供給部よりも後位置で前記研磨ヘッドよりも前位置に配置されることを特徴とする付記１〜７のいずれか１項に記載の研磨装置。
【０１３２】
（付記９）前記温度調節板は、前記研磨パッド上において、前記研磨パッドの回転方向に対して前記研磨剤供給部よりも前位置で前記研磨ヘッドよりも後位置に配置されることを特徴とする付記１〜７のいずれか１項に記載の研磨装置。
【０１３３】
（付記１０）前記複数のスリットは、前記接触面の一端から離れるにつれて小さくなる曲率を持ち前記一端に向かって凹となる曲線状に形成されていることを特徴とする付記５に記載の研磨装置。
【０１３４】
（付記１１）前記複数のスリットとは別個の直線状のスリットを更に有することを特徴とする付記１０に記載の研磨装置。
【０１３５】
（付記１２）前記温度調節板は、前記研磨パッド上において、前記研磨パッドの回転方向に対して前記研磨剤供給部よりも後位置で前記研磨ヘッドよりも前位置に配置されることを特徴とする付記１０又は１１に記載の研磨装置。
【０１３６】
（付記１３）前記温度調節板は、前記スリットが前記研磨パッドの中央位置に向かって凹となる位置に配置されることを特徴とする付記１２に記載の研磨装置。
【０１３７】
（付記１４）前記温度調節板は、前記研磨パッド上において、前記研磨パッドの回転方向に対して前記研磨剤供給部よりも前位置で前記研磨ヘッドよりも後位置に配置されることを特徴とする付記１０又は１１に記載の研磨装置。
【０１３８】
（付記１５）前記温度調節板は、前記スリットが前記研磨パッドの中央位置に向かって凹となる位置に配置されることを特徴とする付記１４に記載の研磨装置。
【０１３９】
（付記１６）前記温度調節板は、前記スリットが前記研磨パッドの中央位置に向かって凸となる位置に配置されることを特徴とする付記１４に記載の研磨装置。
【０１４０】
（付記１７）前記温度調節板は、円形状又は矩形状であることを特徴とする付記１〜１６のいずれか１項に記載の研磨装置。
【０１４１】
（付記１８）回転駆動される研磨パッドに研磨剤を供給し、研磨ヘッドに設置された被研磨対象を前記研磨パッドに接触されて研磨するに際して、
前記研磨パッドとの接触面が前記研磨剤の通路を構成する凹凸状とされた温度調節板を、前記研磨パッドの外部に対して固定状態で前記研磨パッドの表面に接触させ、前記研磨パッドの温度を調節することを特徴とする研磨方法。
【０１４２】
（付記１９）前記温度調節板は、前記接触面に複数の突起が形成されていることを特徴とする付記１８に記載の研磨方法。
【０１４３】
（付記２０）前記温度調節板は、前記接触面において隣り合う前記突起間に空隙が形成されており、前記空隙が前記研磨剤の通路となることを特徴とする付記１９に記載の研磨方法。
【０１４４】
（付記２１）前記突起は、先端部位の曲率半径が当該突起の前記接触面における幅の半分以上の値であることを特徴とする付記１９又は２０に記載の研磨方法。
【０１４５】
（付記２２）前記温度調節板は、前記接触面に前記研磨剤の通路となる複数のスリットが形成されていることを特徴とする付記１８に記載の研磨方法。
（付記２３）前記複数のスリットは、前記接触面の一端から離れるにつれて小さくなる曲率を持ち前記一端に向かって凹の曲線状の複数の第１スリットと、直線状の第２スリットと、前記第２スリットから離れるにつれて大きくなる曲率を持ち前記一端に向かって凸の曲線状の複数の第３スリットとからなることを特徴とする付記２２に記載の研磨方法。
【０１４６】
（付記２４）前記複数のスリットは、前記接触面の一端から放射状に広がる直線状に形成されていることを特徴とする付記２２に記載の研磨方法。
【０１４７】
（付記２５）前記温度調節板は、前記研磨パッド上において、前記研磨パッドの回転方向に対して前記研磨剤供給部よりも後位置で前記研磨ヘッドよりも前位置に配置されることを特徴とする付記１８〜２４のいずれか１項に記載の研磨方法。
【０１４８】
（付記２６）前記温度調節板は、前記研磨パッド上において、前記研磨パッドの回転方向に対して前記研磨剤供給部よりも前位置で前記研磨ヘッドよりも後位置に配置されることを特徴とする付記１８〜２４のいずれか１項に記載の研磨方法。
【０１４９】
（付記２７）前記複数のスリットは、前記接触面の一端から離れるにつれて小さくなる曲率を持ち前記一端に向かって凹となる曲線状に形成されていることを特徴とする付記２２に記載の研磨方法。
【０１５０】
（付記２８）前記複数のスリットとは別個の直線状のスリットを更に有することを特徴とする付記２７に記載の研磨方法。
【０１５１】
（付記２９）前記温度調節板は、前記研磨パッド上において、前記研磨パッドの回転方向に対して前記研磨剤供給部よりも後位置で前記研磨ヘッドよりも前位置に配置されることを特徴とする付記２７又は２８に記載の研磨方法。
【０１５２】
（付記３０）前記温度調節板は、前記スリットが前記研磨パッドの中央位置に向かって凹となる位置に配置されることを特徴とする付記２９に記載の研磨方法。
【０１５３】
（付記３１）前記温度調節板は、前記研磨パッド上において、前記研磨パッドの回転方向に対して前記研磨剤供給部よりも前位置で前記研磨ヘッドよりも後位置に配置されることを特徴とする付記２７又は２８に記載の研磨方法。
【０１５４】
（付記３２）前記温度調節板は、前記スリットが前記研磨パッドの中央位置に向かって凹となる位置に配置されることを特徴とする付記３１に記載の研磨方法。
【０１５５】
（付記３３）前記温度調節板は、前記スリットが前記研磨パッドの中央位置に向かって凸となる位置に配置されることを特徴とする付記３１に記載の研磨方法。
【０１５６】
（付記３４）前記温度調節板は、円形状又は矩形状であることを特徴とする付記１８〜３３のいずれか１項に記載の研磨方法。
【符号の説明】
【０１５７】
１  ウェハ保管部
２  第１ウェハ搬送部
３  ウェハ洗浄部
４  第２ウェハ搬送部
５  研磨室
６  半導体ウェハ
１０  研磨部
１１  研磨台
１２  ウェハ搬入部
１３  プラテン
２１  研磨パッド
２２  研磨ヘッド
２３  スラリーアーム
２３ａ  ノズル
２４  コンディショニング機構
２５  温度調節機構
２４ａ  コンディショニングディスク
２４ｂ，３２  アーム
２４ｃ  待機部
３１，４１，４２，４３，４４，５１，５２，５３，５４，５５  温度調節板
３１ａ，４１ａ，４２ａ，４３ａ，４４ａ，５１ａ，５２ａ，５３ａ，５４ａ，５５ａ  接触面（裏面）
３１ｃ  待機部
３１Ａ，５１Ａ  突起
３１ｄ，３３ｃ，３５ｃ  温度調節手段
３３  温度調節部
３３ａ，３５ａ  液溜め槽
３３ｂ，３５ｂ  温度センサ
３４  制御部
３５  冷却用液溜め部
３６  加熱用ホットプレート
４１Ａ，４２Ａ，４３Ａ，４４Ａ，５２Ａ，５３Ａ，５４Ａ，５５Ａ  スリット
４１Ａａ，４１Ａｂ，４１Ａｃ  側面
４１ｂ，４２ｂ，４３ｂ，５２ｂ，５３ｂ  一端
４２Ａ１，４３Ａ１，４４Ａ１，５３Ａ１，５４Ａ１，５５Ａ１  第１スリット
４２Ａ２，４３Ａ２，４４Ａ２，５３Ａ２，５４Ａ２，５５Ａ２  第２スリット
４３Ａ３，５４Ａ３，５５Ａ３  第３スリット
【図１】
2018192555.tif 000003
【図２】
2018192555.tif 000004
【図３】
2018192555.tif 000005
【図４】
2018192555.tif 000006
【図５】
2018192555.tif 000007
【図６】
2018192555.tif 000008
【図７】
2018192555.tif 000009
【図８】
2018192555.tif 000010
【図９】
2018192555.tif 000011
【図１０】
2018192555.tif 000012
【図１１】
2018192555.tif 000013
【図１２】
2018192555.tif 000014
【図１３】
2018192555.tif 000015
【図１４】
2018192555.tif 000016
【図１５】
2018192555.tif 000017
【図１６】
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【図１７】
2018192555.tif 000019
【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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