(57)【要約】【課題】表示領域の発光不良を低減でき、表示領域の縮小を防止可能な表示装置を提供する。【解決手段】表示領域ＥＡは、基板１００上に複数の有機ＥＬ素子が配列される。周辺領域ＰＡは、表示領域の周囲における基板上に設けられる。有機絶縁膜（平坦化層）１１は、基板上に設けられ、有機ＥＬ素子を駆動する駆動回路を含む回路を覆う。有機絶縁膜１１は、表示領域ＥＡと周辺領域ＰＡとの間の領域において表示領域の全周に亘って有機絶縁膜が除去された分離溝９ａを有し、周辺領域ＰＡ上に有機ＥＬ素子の機能材料１９ｒ、１９ｇ、１９ｂの少なくとも１つが塗布されたダミー領域ＤＡ２を備える。【選択図】図２
2018186046.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に複数の有機ＥＬ素子が配列された表示領域と、
前記表示領域の周囲における前記基板上に設けられた第１の周辺領域と、
前記基板上に設けられ、前記有機ＥＬ素子を駆動する駆動回路を含む回路を覆う有機絶縁膜と、
を具備し、
前記有機絶縁膜は、
前記表示領域と前記第１の周辺領域との間の領域において前記表示領域の全周に亘って前記有機絶縁膜が除去された第１の分離溝を有し、
前記第１の周辺領域上に前記有機ＥＬ素子の機能材料の少なくとも１つが塗布されたダミー領域を備えることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
基板上に複数の有機ＥＬ素子が配列された表示領域と、
前記表示領域の周囲における前記基板上に設けられた第１の周辺領域と、
前記基板上に設けられ、前記有機ＥＬ素子を駆動する駆動回路を含む回路を覆う有機絶縁膜と、
を具備し、
前記有機絶縁膜は、
前記表示領域と前記第１の周辺領域との間の領域において前記表示領域の全周に亘って前記有機絶縁膜が除去された第１の分離溝を有し、
前記有機ＥＬ素子は、バンクにより区画された発光層を有し、
前記第１の周辺領域上に前記発光層の機能材料を溶かす溶媒もしくは前記機能材料を溶解させたインクを保持する囲いを備えることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
前記第１の周辺領域の周囲における前記基板上に設けられた第２の周辺領域を具備し、
前記有機絶縁膜は、
前記第１の周辺領域と前記第２の周辺領域との間の領域において前記第１の周辺領域の全周に亘って前記有機絶縁膜が除去された第２の分離溝を有することを特徴とする請求項１または２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記表示領域の前記有機ＥＬ素子は、バンクとバンクの間の領域に塗布された前記機能材料の１つを備え、
前記ダミー領域は、バンクとバンクの間の領域に塗布された前記機能材料の少なくとも１つを備えることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、例えば複数の有機発光素子を配列した有機エレクトロルミネセンス表示装置等に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機材料のエレクトロルミネッセンス(electroluminescence：以下ＥＬと称する）を利用した有機ＥＬ素子は、アノード電極とカソード電極との間に電子輸送層や有機発光層を備えており、低電圧駆動かつ高輝度発光が可能な発光素子として知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
そのため、近年では有機ＥＬ素子を利用した、例えばテレビ、スマートフォン、タブレット端末、パーソナルコンピュータ等の表示装置が注目されている。
【０００４】
このような表示装置では、例えば塗布法を用いて、障壁（バンク）によって規定された表示領域内に有機発光材料を含むインクを塗布し、塗布したインクを乾燥させることで有機発光層を形成し、有機ＥＬ素子を製造する（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第５２５１３５８号公報
【特許文献２】国際公開第２０１０／１００９２２Ａ１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、単に塗布したインクを乾燥させるのみである場合、表示領域の中央部分の有機発光層は周辺にインクがある状態で乾燥するのに対し、表示領域の周辺部分の有機発光層は周辺にインクがない状態で乾燥する。このため、表示領域の中央部分の有機発光層と周辺部分の有機発光層との間で乾燥の不均一（ムラ）が発生する。乾燥の不均一により、有機発光層の発光の特性が不均一になる場合がある。この場合、中央部分と発光特性が異なる周辺部を有効な表示領域でないダミー領域とする場合がある。生産性向上のために、基板全体の大きさに対して有効な表示領域をより大きくしたいという要請がある。
【０００７】
本発明の実施形態は、基板全体の大きさに対して有効な表示領域を大きくすることが可能な表示装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
実施形態に係る表示装置は、基板上に複数の有機ＥＬ素子が配列された表示領域と、前記表示領域の周囲における前記基板上に設けられた第１の周辺領域と、前記基板上に設けられ、前記有機ＥＬ素子を駆動する駆動回路を含む回路を覆う有機絶縁膜と、を具備し、前記有機絶縁膜は、前記表示領域と前記第１の周辺領域との間の領域において前記表示領域の全周に亘って前記有機絶縁膜が除去された第１の分離溝を有し、前記第１の周辺領域上に前記有機ＥＬ素子の機能材料の少なくとも１つが塗布されたダミー領域を備える。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本実施形態に係る表示装置の全体構成を示す平面図
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図
【図３Ａ】本実施形態に係る表示装置の製造工程を示す断面図
【図３Ｂ】図３Ａから続く製造工程を示す断面図
【図３Ｃ】図３Ｂから続く製造工程を示す断面図
【図３Ｄ】図３Ｃから続く製造工程を示す断面図
【図３Ｅ】図３Ｄから続く製造工程を示す断面図
【図３Ｆ】図３Ｅから続く製造工程を示す断面図
【図３Ｇ】図３Ｆから続く製造工程を示す断面図
【図４】比較例に係る表示装置を示す平面図
【図５】本実施形態に係る表示装置を示す平面図
【図６】本実施形態の変形例を示す断面図
【図７】本実施形態が適用され得る表示装置の一例を示すブロック図
【図８】図７に示す１つの画素を取り出して示す回路図
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、実施の形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の説明において、実質的に同一の機能及び要素については、同一符号を付し、必要に応じて説明を行う。また、図面は模式的なものであり、厚みと平面寸法との関係や各層の厚みの比率などは現実のものと異なることがある。
【００１１】
（実施形態）
［構成］
図１は、本実施形態に係る表示装置の全体構成を示す平面図である。ここでは、表示装置１として、有機ＥＬ表示装置を一例に挙げて説明する。
【００１２】
図１に示すように、本実施形態に係る表示装置１は、基板１００上にマトリックス状に配置された有機ＥＬ発光素子である複数の画素ＰＸを有する表示領域ＥＡを備える。各画素ＰＸは、アノード電極とカソード電極との間に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの有機発光材料からなる有機発光層を有する。各画素ＰＸは、後述するバンクと称する隔壁により分離される。
【００１３】
表示領域ＥＡの周囲には、第１ダミー領域ＤＡ１が設けられる。第１ダミー領域ＤＡ１は、バンクによって囲まれ、塗布される溶液を保持できる一つ以上の第１ダミー画素を備える。本実施形態において、第１ダミー画素は、画素ＰＸと同一の構成である。
【００１４】
表示領域ＥＡの周囲には、周辺領域ＰＡが設けられる。周辺領域ＰＡは、表示領域ＥＡ内の各画素ＰＸを駆動するための後述する各種駆動回路を備えている。
【００１５】
周辺領域ＰＡの周囲には、表示領域ＥＡを封止するためのシール材である封止膜を備える封止領域ＳＡが設けられる。
【００１６】
また、第１ダミー領域ＤＡ１と周辺領域ＰＡとの間には、互いの領域を分離するように第１分離溝９ａが設けられる。周辺領域ＰＡと封止領域ＳＡとの間には、互いの領域を分離するように第２分離溝９ｂが設けられる。第１、第２分離溝９ａ、９ｂは、後述するように、基板１００上の平坦化層が除去されて構成されている。ここで、有機発光材料は水分等を吸湿することで劣化するおそれがある。そこで、画素領域ＤＡの周囲に第１、第２分離溝９ａ、９ｂを配置することで、周囲から画素領域ＤＡに侵入する水等の浸入を二重に防止している。
【００１７】
第１分離溝９ａと第２分離溝９ｂとの間の周辺領域ＰＡには、第２ダミー領域ＤＡ２が設けられる。第２ダミー領域ＤＡ２は、バンクによって囲まれ、塗布される溶液を保持できる一つ以上の第２ダミー画素を備える。本実施形態において、第２ダミー画素は、画素ＰＸと同一の構造である。
【００１８】
封止領域ＳＡの周囲であって、表示領域ＥＡの列方向および行方向の一方には、表示領域ＥＡと外部とを電気的に接続するための所定の端子２３ａ、２３ｂを備える端子領域１０Ａが設けられる。
【００１９】
画素領域ＤＡ、周辺領域ＰＡ、封止領域ＳＡを覆い、基板１００と対向するように配置される封止ガラス２００が設けられる。
【００２０】
図２は、図１のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図である。
【００２１】
図２に示すように、基板１００上に平坦化層１１が設けられる。平坦化層１１は、例えばポリイミド等の有機絶縁膜により形成され、各種の駆動回路などを覆っている。表示領域ＥＡの周囲の平坦化層１１が除去されることで第１分離溝９ａが構成され、周辺領域ＰＡの周囲の平坦化層１１が除去されることで第２分離溝９ｂが構成されている。
【００２２】
表示領域ＥＡ、第１分離溝９ａ、および周辺領域ＰＡにおける平坦化層１１上に、アノード電極層１２が設けられる。アノード電極層１２は、例えば所定の金属材料により形成される。
【００２３】
表示領域ＥＡに配置される画素ＰＸは、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色の有機発光材料からなる有機発光層１９（１９ｂ、１９ｒ、１９ｇ）、電子輸送層１４、カソード電極層１５、および封止膜１６を備える。
【００２４】
有機発光層１９ｂ、１９ｒ、１９ｇは、アノード電極層１２間に設けられた図示せぬライン状の第１バンク１３、及び各有機発光層１９ｂ、１９ｒ、１９ｇの両側に設けられたライン状の複数の第２バンク１３、１３Ｄ１により分離される。
【００２５】
第２バンク１３、１３Ｄ１は、列方向（図示矢印Ｚ方向）に沿って延在され、異なる色の画素ＰＸ同士を分離する。また、図示せぬ第１バンクは、第２バンク１３，１３Ｄ１と交差する方向（図示矢印Ｘ方向）に沿って配置されている。
【００２６】
第１バンクの高さは第２バンク１３，１３Ｄ１の高さより低い。このため、後述するように、例えばインクジェット法により図示せぬヘッドを移動させて機能材料（発光材料）としてのインクを塗布して有機発光層１９を形成する際、各画素ＰＸに塗布された余剰のインクは、第1バンクを乗り越えて隣接する画素に移動できる。このため、各画素ＰＸのインクの厚みを均一化することができ、各画素の輝度を均一化することが可能である。
【００２７】
電子輸送層１４は、有機発光層１９内において注入された電子と正孔との再結合を効率化するために、有機発光層１９上および第２バンク１３，１３Ｄ１上に設けられる。
【００２８】
カソード電極層１５は、電子輸送層１４上に設けられ、例えば所定の金属材料により形成される。
【００２９】
第１ダミー領域ＤＡ１には、画素ＰＸに塗布するインクのうち、少なくとも１種類が塗布されるダミー画素が配置される。図２は、例えば１色の第１ダミー画素ＤＣ１が配置される場合を示している。第１ダミー画素ＤＣ１は、例えば青色の有機発光層１９ｂを備えている。第２バンク１３Ｄ１は、画素ＰＸが備える第２バンク１３と同一の材料であり、例えば、ダミー領域において、第２バンク１３Ｄ１の幅は、表示領域ＥＡ内の第２バンク１３と同じ幅である。なお、ダミー領域において、第２バンク１３Ｄ１の幅は、バンク欠陥に対してプロセスマージンをより拡大するために、表示領域ＥＡ内の第２バンク１３よりも幅が広くしてもよい。
【００３０】
第２ダミー領域ＤＡ２には、画素ＰＸに塗布するインクのうち、少なくとも１種類が塗布されるダミー画素が配置される。図２は、例えば３色の第２ダミー画素ＤＣ２が配置される場合を示している。すなわち、第２ダミー画素ＤＣ２は、例えば青色の有機発光層１９ｂ、赤色の有機発光層１９ｒ、緑色の有機発光層１９ｇ、およびバンク１３を備えている。
【００３１】
画素領域ＤＡ、周辺領域ＰＡ、封止領域ＳＡにおける上述した構成上に、画素ＰＸを封止するための封止膜１６が設けられる。
【００３２】
画素領域ＤＡおよび周辺領域ＰＡの封止膜１６上に、充填材層１７が形成される。
【００３３】
封止領域ＳＡの封止膜１６上に、封止ガラス２００を接着するためのシール材１８が設けられる。シール材１８は、封止領域ＳＡ上及び周辺領域ＰＡの一部上に設けられてもよい。
【００３４】
端子領域１０Ａにおいて、基板１００上に端子２３ａ、２３ｂが設けられる（図２には端子２３ｂのみを示す）。
【００３５】
上記構成において、アノード電極層１２とカソード電極層１５との間に所定の電圧が印加されると、画素ＰＸの有機発光層１９から赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の光が発光される。本実施形態において、第１ダミー画素および第２ダミー画素は、画素ＰＸと同一の構成であるので、この画素の特性を測定することで製造条件を確認することができる。
【００３６】
尚、基板１００上の平坦化層１１は、図示せぬ回路形成層を覆ってもよい。回路形成層は、後述する各種の駆動回路などを含んでいる。
【００３７】
［製造方法］
図３Ａ乃至図３Ｇは、本実施形態に係る表示装置１の製造工程を示す断面図である。表示装置１の製造工程は、これに限定されるものではなく、変形可能である。
【００３８】
図３Ａに示すように、まず基板１００上に図示しない各種駆動回路等を形成した後、各種駆動回路等が形成された基板１００を覆う平坦化層１１が形成される。平坦化層１１は、例えばポリイミド等の有機絶縁膜により形成される。続いて、例えばフォトリソグラフィ等を用いて、表示領域ＥＡおよび周辺領域ＰＡの周囲の平坦化層１１に、第１分離溝９ａおよび第２分離溝９ｂが形成される。続いて、表示領域ＥＡおよび周辺領域ＰＡにおける平坦化層１１上に、アノード電極層１２が形成される。アノード電極層１２は、各色の画素に対応して形成される。
【００３９】
続いて、同色の画素に対応するアノード電極層１２間に、図示せぬライン状の第１バンクが形成される。第１バンクは、例えば行方向（図示Ｘ方向）に配置され、第１バンクにより同色の画素に対応するアノード電極層１２が分離される。第１バンクは、例えばアクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラックフェノール樹脂等の絶縁性を有する材料により形成される。
【００４０】
続いて、表示領域ＥＡ及び第２ダミー領域ＤＡ２上にライン状の複数の第２バンク１３が形成され、第１ダミー領域ＤＡ１上にライン状の第２バンク１３Ｄ１が形成される。第２バンク１３，１３Ｄ１は、異色のアノード電極層１２間に形成され、異色のアノード電極層１２を分離する。第２バンク１３，１３Ｄ１は、図示せぬ第１バンクと交差する方向、例えば列方向（図示Ｚ方向）に延在される。第２バンク１３，１３Ｄ１は、第１バンクと同様に、例えばアクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラックフェノール樹脂等の絶縁性を有する材料により形成される。第２バンク１３、１３Ｄ１の高さは、第１バンクの高さよりも高く、異色の有機発光材料が混じり合うことが防止される。
【００４１】
図３Ｂに示すように、続いて、例えばインクジェット法により、第２ダミー領域ＤＡ２において、第２バンク１３の間に図示せぬインクジェットヘッド（以下、単にヘッドと称す）から例えば緑色に対応する有機発光材料であるインク２１ｇが塗布される。
【００４２】
この後、図３Ｃに示すように、表示領域ＥＡの第２バンク１３間に図示せぬヘッドにより緑色に対応する有機発光材料であるインク２１ｇが塗布される。
【００４３】
続いて、図３Ｄに示すように、第２ダミー領域ＤＡ２および表示領域ＥＡの第２バンク１３間に、赤色に対応する有機発光材料であるインク２１ｒ、及び青色に対応する有機発光材料であるインク２１ｂが順次塗布される。
【００４４】
図３Ｅに示すように、続いて、同様の製法を用い、第１ダミー領域ＤＡ１において、第１バンク１３の間に、青色に対応する有機発光材料であるインク２１ｂを塗布する。
【００４５】
図３Ｆに示すように、続いて、同様の製法を用い、表示領域ＥＡにおいて、第１バンク１３の間に、青色に対応する有機発光材料であるインク２１ｂを塗布する。
【００４６】
第１ダミー領域ＤＡ１および第２ダミー領域ＤＡ２に塗布されるインク２１ｇは例えば表示領域ＥＡと同じインクが用いられる。第１ダミー領域ＤＡ１および第２ダミー領域ＤＡ２にインクを塗布するノズルを表示領域ＥＡにインクを塗布するノズルと共有することにより、インク塗布装置を簡略化することができる。また、画素用のインクの溶媒と同じ溶媒のみを吐出させてもよい。
【００４７】
インクの塗布方法は、上記例に限定されるものではなく、例えばヘッドのインクを切り換えながら、第２ダミー領域ＤＡ２、第１ダミー領域ＤＡ１、表示領域ＥＡの順で塗布することも可能である。
【００４８】
表示領域ＥＡに塗布されたインクの厚みと、第１ダミー領域ＤＡ１および第２ダミー領域ＤＡ２に塗布されるインクの厚みは、等しくされる。インクの厚みを等しくすることにより、表示領域ＥＡのインクの乾燥時間を均一化することができる。なお、表示領域ＥＡの発光特性を均一化させるために、必要に応じて第１ダミー領域ＤＡ１および第２ダミー領域ＤＡ２に塗布されるインクの厚みを変化させてもよい。すならち、第１ダミー領域ＤＡ１および第２ダミー領域ＤＡ２に塗布されるインクの厚みを厚くして、表示領域ＥＡの中央部と周辺部との乾燥条件を均一化させてもよい。
【００４９】
続いて、第１、第２ダミー領域ＤＡ１、ＤＡ２、および表示領域ＥＡに塗布したインクを乾燥させて、第２ダミー領域ＤＡ２に３色の有機発光層１９ｒ、１９ｇ、１９ｂを形成し、第１ダミー領域ＤＡ１に青色の有機発光層１９ｂを形成し、表示領域ＥＡに３色の有機発光層１９ｒ、１９ｇ、１９ｂを形成する。
【００５０】
次いで、図３Ｇに示すように、表示領域ＥＡおよび第１ダミー領域ＤＡ１における有機発光層上に電子輸送層１４が形成される。続いて、表示領域ＥＡおよび第１ダミー領域ＤＡ１における電子輸送層１４上と、周辺領域ＰＡにおける構成上とにカソード電極層１５が形成される。この後、画素領域ＤＡ、周辺領域ＰＡ、封止領域ＳＡにおける上述した構成上に、封止膜１６が形成される。画素領域ＤＡおよび周辺領域ＰＡの封止膜１６上に充填材層１７が形成され、封止領域ＳＡの封止膜１６上にシール材１８が形成される。このため、第２分離溝９ｂは、シール材１８により充填される。
【００５１】
この後、充填材層１７及びシール材１８上に封止ガラス２００が密着され、図１および図２に示す表示装置１が完成される。
【００５２】
［作用効果］
本実施形態によれば、表示領域ＥＡ、第１ダミー領域ＤＡ１、および周辺領域上の第２ダミー領域ＤＡ２を設け、表示領域ＥＡ、第１ダミー領域ＤＡ１、および第２ダミー領域ＤＡ２の第２バンク１３、１３Ｄ１の間にインクを塗布し、塗布したインクを乾燥させている。このため、表示領域ＥＡに塗布されたインクは、第１ダミー領域ＤＡ１に塗布されたインクと第１ダミー領域ＤＡ１よりも外周にある第２ダミー領域ＤＡ２に塗布されたインクともに乾燥される。従って、表示領域ＥＡの周辺部のインクの溶媒の蒸気濃度分布と、表示領域ＥＡの中央部のインクの溶媒の蒸気濃度分布とが均一となり、溶媒の蒸発速度を均一化できる。換言すると、表示領域ＥＡに塗布されたインクと、その周囲にある第１ダミー領域ＤＡ１及び第２ダミー領域ＤＡ２に塗布されたインクの乾燥状態を均一化でき、乾燥のムラを低減できる。この結果、表示領域ＥＡの表示の不均一を低減でき、表示領域ＥＡの縮小を防止できる。
【００５３】
図４は、比較例に係る表示装置を示す平面図であり、表示装置の一部分を示している。図４に示すように、比較例に係る表示装置１Ｘは、単にダミー領域ＤＡを表示領域ＥＡの周囲に備えるだけであり、本実施形態に係る第２ダミー領域ＤＡ２を備えていない。そのため、表示領域ＥＡのインクは、ダミー領域ＤＡ１のみに塗布されたインクがある状態で乾燥する。その結果、比較例に係る表示装置１Ｘでは、表示領域ＥＡの中央部と周辺部との間で乾燥ムラによる不均一が発生し、表示領域ＥＡの中央部と周辺部との発光特性に不均一が生じる。例えば、比較例に係るダミー領域ＤＡの幅ＷＤ０は、１ｍｍ程度である。
【００５４】
一方、図５は、本実施形態に係る表示装置１を示す平面図である。図５に示すように、本実施形態に係る表示装置１は、第１ダミー領域ＤＡ１のさらに外周側に、一つ以上のダミー画素を含む第２ダミー領域ＤＡ２を備えている。そのため、表示領域ＥＡおよび第１ダミー領域ＤＡ１に塗布されたインクは、第２ダミー領域ＤＡ２にインク２１ｂ、２１ｒ、２１ｇが塗布された状態で乾燥される。したがって、表示領域ＥＡは、その周辺部及び中央部において、インクの溶媒の蒸気濃度分布の均一性を高めることができ、溶媒の蒸発速度の均一化を高めることができる。このため、表示領域ＥＡ全域におけるインクの乾燥ムラを低減でき、表示領域ＥＡの表示ムラを低減できる。第１ダミー領域ＤＡ１および第２ダミー領域ＤＡ２の幅は、パネルの仕様および表示領域ＥＡの発光の均一性に応じて決められる。
【００５５】
本実施形態に係る第１ダミー領域ＤＡ１の幅ＷＤ１は、例えば、０．１ｍｍ程度以下であり、比較例に係るダミー領域ＤＡ０の幅ＷＤ０と比較して１／１０程度以下にまで低減化することができる。すなわち、第１ダミー領域ＤＡ１の幅を最小限とすることができ、表示領域ＥＡを拡大することが可能である。
【００５６】
しかも、第２ダミー領域ＤＡ２は、冗長領域としての周辺領域ＰＡに設けられるため、表示装置１のパネルサイズが増加することを防止できる。
【００５７】
また、第２ダミー領域ＤＡ２におけるインクは、塗布法を用いて形成されるため、表示装置１の信頼性に影響を及ぼす第１分離溝９ａ、第２分離溝９ｂ等を避けて塗布することができる。したがって、表示装置１の信頼性が低下することを防止できる。
【００５８】
さらに、本実施形態において、第１ダミー領域ＤＡ１および第２ダミー領域ＤＡ２は、インクジェットヘッドの着弾精度を改善するための予備塗布工程の領域として用いることが可能である。具体的には、インクを塗布するためのインクジェットヘッドが長時間不使用であった場合、インクジェットヘッドを構成するノズルの先端や内部に乾燥したインクが付着し、ノズルが詰まり、インクの吐出不良やインクの着弾精度が悪化するおそれがある。しかし、第１ダミー領域ＤＡ１および第２ダミー領域ＤＡ２において、予備塗布工程を行うことにより、表示領域ＥＡへのインクの着弾精度を向上でき、表示領域ＥＡの歩留りを向上することが可能となる。
【００５９】
また、第２ダミー領域ＤＡ２と表示領域ＥＡとは、同じ赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）からなる３色のインク２１ｒ、２１ｇ、２１ｂが塗布される。このため、表示領域ＥＡに塗布する全ての色のインクの乾燥状態を均一化することができる。
【００６０】
尚、第２ダミー領域ＤＡ２は、必ずしも赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）からなる３色のインク２１ｒ、２１ｇ、２１ｂを塗布する必要はなく、例えば１色又は２色のインクを塗布してもよい。この場合、インクの塗布工程を簡略化でき、製造コストを低減化することが可能である。
【００６１】
また、第２ダミー領域ＤＡ２において、複数のインクはそれぞれ分離する必要はない。例えば図６に示す表示装置１Ｂように、３色のインク１９ｂ、１９ｒ、１９ｇが混色状態であってもよい。この場合、第２ダミー領域ＤＡ２に塗布される３色のインク１９ｂ、１９ｒ、１９ｇの量は、表示領域ＥＡの発光の均一性に応じて決められる。
【００６２】
さらに、第２ダミー領域ＤＡ２に塗布されるインクは、図６に示すように、３色に限定されるものではなく、例えば２色又は最も安価な１色のインクのみを塗布してもよい。この場合も、第２ダミー領域ＤＡ２に塗布される２色又は１色のインクの量は、表示領域ＥＡの発光の均一性に応じて決められる。
【００６３】
また、第１ダミー領域ＤＡ１および第２ダミー領域ＤＡ２は、画素ＰＸとして機能しないダミー画素ＤＣ１、ＤＣ２を配置する領域である。そのため、ダミー画素ＤＡ１、ＤＡ２は、塗布したインクもしくは機能材料を溶かす溶媒を保持し、インクもしくは溶媒が流れて他の領域に悪影響を与えない囲い構造であればよい。囲い構造は、例えば、表示領域ＥＡと同様にバンクで構成され、塗布される溶液を堰き止めることが可能な構造を備えていればよい。第１ダミー領域ＤＡ１および第２ダミー領域ＤＡ２において、例えば、溶液を堰き止める機能を果たさない第１バンクは無くてもよい。
【００６４】
さらに、第１ダミー領域ＤＡ１および第２ダミー領域ＤＡ２に塗布するインクは、表示領域ＥＡに塗布するインクと同一とする必要はなく、例えば表示領域ＥＡに塗布するインクよりも色素の有機発光材料を低減したインクでもよい。
【００６５】
また、表示領域ＥＡの乾燥条件を均一化するため、第１ダミー領域ＤＡ１および第２ダミー領域ＤＡ２に有機発光材料を除いた所定の溶媒のみを塗布してもよい。この場合、高価な有機発光材料を塗布する必要がないため、製造コストの低減化に有効である。
【００６６】
さらに、第１ダミー画素ＤＣ１の有機発光層は、１色に限らず、複数色の有機発光層を設けてもよい。
【００６７】
（適用例（本実施形態が適用され得る表示装置））
図７および図８を用い、上記実施形態が適用され得る表示装置を説明する。図７は、本実施形態が適用される表示装置１の一例を概略的に示している。表示装置１は、例えば有機ＥＬ素子を有するアクティブマトリクス型の表示装置である。
【００６８】
表示装置１は、前述した表示領域ＥＡと、表示領域ＥＡの周囲の周辺領域ＰＡに設けられる第１走査線駆動回路３、第２走査線駆動回路４、データ線駆動回路５、制御回路６、電源回路７を含んでいる。
【００６９】
表示領域ＥＡは、行列状に配置された複数の画素ＰＸを含んでいる。行方向に配置された複数の画素ＰＸは、第１走査線駆動回路３に接続された複数の第１走査線ＷＬ（ＷＬ１〜ＷＬｍ）と、第２走査線駆動回路４に接続された複数の第２走査線ＲＬ（ＲＬ１〜ＲＬｍ）に接続されている。行方向と交差する列方向に配置された複数の画素は、データ線駆動回路５に接続された複数のデータ線ＤＬ（ＤＬ１〜ＤＬｎ）に接続されている。ここで、ｍ、ｎは自然数である。
【００７０】
第１走査線駆動回路３は、各第１走査線ＷＬｍに対して、書き込み走査信号ＷＳを順次供給する。これにより、行方向に配置された複数の画素ＰＸが順次選択される。
【００７１】
第２走査線駆動回路４は、第１走査線駆動回路３により供給される書き込み走査信号ＷＳと同期して、第２走査線ＲＬに駆動走査信号ＡＺを供給する。これにより、画素ＰＸの発光動作及び消光動作が制御される。
【００７２】
データ線駆動回路５は、データ線ＤＬｎに対して、例えば信号電圧Ｖｓｉｇと、基準電圧Ｖｏｆｓとを選択的に供給する。信号電圧Ｖｓｉｇは、映像信号の輝度に応じた信号の電圧である。基準電圧Ｖｏｆｓは、信号電圧の基準となる電圧であり、例えば黒レベルを示す信号の電圧に相当する。
【００７３】
制御回路６は、外部信号源から供給される外部信号に基づいて、第１走査線駆動回路３、第２走査線駆動回路４、データ線駆動回路５を駆動するために必要な各種信号を生成する。電源回路７は、第１走査線駆動回路３、第２走査線駆動回路４、データ線駆動回路５、制御回路６に電源を供給する。
【００７４】
図８は、画素ＰＸの駆動回路の一例を概略的に示している。尚、駆動回路は、これに限定されるものではない。
【００７５】
画素ＰＸは、書き込みトランジスタＴｒ１、駆動トランジスタＴｒ２、リセットトランジスタＴｒ３、容量素子Ｃｓ、発光素子ＥＬを備えている。書き込みトランジスタＴｒ１、駆動トランジスタＴｒ２、リセットトランジスタＴｒ３は、例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）である。薄膜トランジスタとしては、ボトムゲート型トランジスタ、トップゲート型トランジスタのいずれかを適用することが可能である。
【００７６】
書き込みトランジスタＴｒ１は、ゲート電極が第１走査線ＷＬｍに接続され、ソース／ドレイン電極の一方がデータ線ＤＬｎに接続され、他方が容量素子Ｃｓの第１の電極と駆動トランジスタＴｒ２のゲート電極とに接続されている。
【００７７】
駆動トランジスタＴｒ２のソース／ドレイン電極の一方は、電源電圧Ｖｃｃが供給される配線に接続され、他方は、発光素子ＥＬのアノード電極（例えば図２に示すアノード電極層１２）、容量素子Ｃｓの第２の電極、及びリセットトランジスタＴｒ３のソース／ドレイン電極の一方に接続されている。発光素子ＥＬのカソード電極には、カソード電圧Ｖｃａｔｈが供給されている。
【００７８】
リセットトランジスタＴｒ３のゲート電極は、第２走査線ＲＬｍに接続され、ソース／ドレイン電極の他方は、固定電圧Ｖｉｎｉが供給される配線に接続されている。
【００７９】
その他、本発明は上記各実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記各実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【符号の説明】
【００８０】
１、１Ｂ…表示装置、３…第１走査線駆動回路、４…第２走査線駆動回路、５…データ線駆動回路、６…制御回路、７…電源回路、１１…平坦化層、１２…アノード電極層、１３、１３Ｄ１、１３Ｄ２…第１バンク、１４…電子輸送層、１５…カソード電極層、１６、１８…シール材、１７…充填材層、１９、１９ｂ、１９ｒ、１９ｇ…有機発光層、１００…基板、２００…封止ガラス、ＤＡ…画素領域、ＥＡ…表示領域、ＤＡ１…第１ダミー領域、ＰＡ…周辺領域、ＤＡ２…第２ダミー領域、ＳＡ…封止領域、１０Ａ…端子領域、９ａ…第１分離溝（お堀）、９ｂ…第２分離溝（縁切り）、ＰＸ…有機ＥＬ素子（画素）、ＤＣ１…第１ダミー画素、ＤＣ２…第２ダミー画素。
【図１】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図３Ｄ】
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【図３Ｅ】
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【図３Ｆ】
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【図３Ｇ】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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