(57)【要約】      （修正有）【課題】２枚の反射型偏光子層を含む光学積層体であって、表示装置の視認側に配置された場合であっても虹ムラの発生を抑制でき、良好な視認性を与えることができるハーフミラーとして好適な光学積層体を提供する。【解決手段】第１反射型偏光子層１０、第２反射型偏光子層２０、及び第１反射型偏光子層１０と第２反射型偏光子層２０との間に配置される介在層３０を含み、第１反射型偏光子層１０の反射軸と第２反射型偏光子層２０の反射軸とがなす角度は２０°以上７０°以下であり、ヘイズが０．４％以上２０％以下である光学積層体１００である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１反射型偏光子層、第２反射型偏光子層、及び前記第１反射型偏光子層と前記第２反射型偏光子層との間に配置される介在層を含み、
前記第１反射型偏光子層の反射軸と前記第２反射型偏光子層の反射軸とがなす角度は、２０°以上７０°以下であり、
ヘイズが０．４％以上２０％以下である、光学積層体。
【請求項２】
反射輝度率が５５％以上８５％以下である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項３】
前記介在層のヘイズが０．８％以上２０％以下である、請求項１又は２に記載の光学積層体。
【請求項４】
前記介在層が２以上の層を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項５】
前記２以上の層は、互いに異なるヘイズを有する、請求項４に記載の光学積層体。
【請求項６】
前記第１反射型偏光子層の外側又は前記第２反射型偏光子層の外側に配置される基材層をさらに含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項７】
前記基材層が吸収型偏光子層を含む、請求項６に記載の光学積層体。
【請求項８】
前記第１反射型偏光子層及び前記第２反射型偏光子層の少なくとも一方の外面に積層される粘着剤層をさらに含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項９】
表示素子の視認側に配置される、請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、画像表示装置は電源をＯＮにした状態で画像を画面上に表示し、電源をＯＦＦにした状態では画面は黒色又は灰色になる。近年、電源をＯＦＦにした状態（黒表示）での画面をミラー（鏡）として利用するミラーディスプレイが提案されている。ミラーディスプレイは、電源をＯＦＦにした状態での画面をミラーとして利用することができ、電源をＯＮにしたときに画面に画像を表示することができるよう、画像表示素子の視認側に配置されるハーフミラーを備える。
【０００３】
ハーフミラーとして反射型偏光子を用いることが知られている。しかし、反射型偏光子を１枚のみ用いる場合には、黒表示での反射輝度率は約５０％程度が限界であり、ミラーとして鮮明な画像を得ることが難しかった。そこで、複数の反射型偏光子を用いてハーフミラーを構成することが提案されている（特許文献１及び２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２０１５／０１９８５８号
【特許文献２】特開２００１−１３３７６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１には、各々の透過軸が交差するように配置された２つの反射型偏光板によってハーフミラープレートを構成することにより、ディスプレイモード時の画面輝度の低下を防止しつつ、ミラーモード時の反射率を高め得ることが記載されている（段落［００１０］及び［００１１］）。しかし、２つの反射型偏光板の透過軸を交差させてハーフミラープレートを構成し、これを画像表示装置の視認側に配置すると、各々の反射型偏光板で反射した光が干渉して虹ムラが発生し、ミラーモード及びディスプレイモードの双方において視認性が低下することが判明した。
【０００６】
特許文献２には、半透過反射型液晶表示装置のバックライト側に、反射型偏光板（反射性偏光分離器）を２枚重ねた部材を使用することが記載されている。また同文献には、干渉縞（上記虹ムラと同義）の発生を防止するために、上記２枚の反射型偏光板を接着することが記載されている（段落［００５６］）。しかしながら、バックライト側と視認側とでは光干渉による虹ムラの影響が大きく異なる。バックライト側に反射型偏光板を２枚張り合わせた光学積層体を設置した場合、表示装置越しに光学積層体を視認することになり、虹ムラは視認されにくい傾向にある。一方で反射型偏光板を２枚貼り合わせただけの光学積層体を視認側に配置した場合には、光学積層体の虹ムラが直接観察されるため、ミラーモード及びディスプレイモードの双方において視認性が著しく低下する。
【０００７】
本発明の目的は、２枚の反射型偏光子層を含む光学積層体であって、表示装置の視認側に配置された場合であっても虹ムラの発生を抑制でき、良好な視認性を与えることができるハーフミラーとして好適な光学積層体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、以下に示す光学積層体を提供する。
［１］  第１反射型偏光子層、第２反射型偏光子層、及び前記第１反射型偏光子層と前記第２反射型偏光子層との間に配置される介在層を含み、
前記第１反射型偏光子層の反射軸と前記第２反射型偏光子層の反射軸とがなす角度は、２０°以上７０°以下であり、
ヘイズが０．４％以上２０％以下である、光学積層体。
【０００９】
［２］  反射輝度率が５５％以上８５％以下である、［１］に記載の光学積層体。
［３］  前記介在層のヘイズが０．８％以上２０％以下である、［１］又は［２］に記載の光学積層体。
【００１０】
［４］  前記介在層が２以上の層を含む、［１］〜［３］のいずれかに記載の光学積層体。
【００１１】
［５］  前記２以上の層は、互いに異なるヘイズを有する、［４］に記載の光学積層体。
【００１２】
［６］  前記第１反射型偏光子層の外側又は前記第２反射型偏光子層の外側に配置される基材層をさらに含む、［１］〜［５］のいずれかに記載の光学積層体。
【００１３】
［７］  前記基材層が吸収型偏光子層を含む、［６］に記載の光学積層体。
［８］  前記第１反射型偏光子層及び前記第２反射型偏光子層の少なくとも一方の外面に積層される粘着剤層をさらに含む、［１］〜［７］のいずれかに記載の光学積層体。
【００１４】
［９］  表示素子の視認側に配置される、［１］〜［８］のいずれかに記載の光学積層体。
【発明の効果】
【００１５】
２枚の反射型偏光子層を含む光学積層体であって、表示装置の視認側に配置された場合であっても虹ムラの発生を抑制でき、良好な視認性を与えることができるハーフミラーとして好適な光学積層体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明に係る光学積層体の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明に係る光学積層体の他の一例を示す概略断面図である。
【図３】本発明に係る光学積層体のさらに他の一例を示す概略断面図である。
【図４】本発明に係る光学積層体のさらに他の一例を示す概略断面図である。
【図５】視感反射率ＲＳＣＩを測定するための光学系を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、実施の形態を示して本発明を詳細に説明する。
なお、本明細書において「Ａ〜Ｂ」（Ａ及びＢは数値である。）との記載は、特記ない限り「Ａ以上Ｂ以下」を表す。
【００１８】
＜光学積層体＞
図１は、本発明に係る光学積層体の一例を示す概略断面図である。図１に示される光学積層体１００は、２つの反射型偏光子層を有するハーフミラー要素として好適に用いることができる光学部材であり、第１反射型偏光子層１０；第２反射型偏光子層２０；第１反射型偏光子層１０と第２反射型偏光子層２０との間に配置される介在層３０を含む。第１反射型偏光子層１０は、介在層３０の一方の面に第１粘着剤層４０を介して積層されている。第２反射型偏光子層２０は、介在層３０の他方の面に第２粘着剤層５０を介して積層されている。
【００１９】
第１反射型偏光子層１０の反射軸と第２反射型偏光子層２０の反射軸とがなす角度（以下、「反射軸の相対角度」ともいう。）は２０〜７０°であり、光学積層体１００のヘイズは０．４〜２０％である。光学積層体１００のヘイズは、０．４〜１０％であることが好ましく、０．４〜８％であることがより好ましく、０．５〜６％であることがさらに好ましく、０．５〜５％であってもよい。
【００２０】
上記構成を有する光学積層体１００によれば、表示装置の視認側に配置された場合であっても虹ムラの発生を効果的に抑制でき、また、良好な視認性を与えることができる。ここでいう視認性とは、表示装置の電源をＯＮにして画面を白表示（ディスプレイモード）とし、この表示装置を画面に画像を表示するデバイスとして使用するときの当該画像の視認性と、電源をＯＦＦにして画面を黒表示（ミラーモード）とし、表示装置をミラーとして使用するときの視認性とを含み、上記構成を有する光学積層体１００によれば、これらの視認性を高いレベルで両立させることが可能である。
【００２１】
（１）第１反射型偏光子層及び第２反射型偏光子層
第１反射型偏光子層１０及び第２反射型偏光子層２０はそれぞれ、例えば異方性反射偏光子であることができる。異方性反射偏光子の一例は、一方の振動方向の直線偏光を透過し、他方の振動方向の直線偏光を反射する異方性多重薄膜であり、その具体例は３Ｍ製の「ＡＰＦ」、「ＤＢＥＦ」である（特開平４−２６８５０５号公報等参照）。異方性反射偏光子の他の一例は、コレステリック液晶層とλ／４板との複合体であり、その具体例は日東電工株式会社製の「ＰＣＦ」である（特開平１１−２３１１３０号公報等参照）。異方性反射偏光子のさらに他の一例は、反射グリッド偏光子であり、その具体例は、金属に微細加工を施して可視光領域でも反射偏光を出射するような金属格子反射偏光子（ナノワイヤーグリッド偏光子、米国特許第６２８８８４０号明細書等参照）、金属微粒子を高分子マトリックス中に添加して延伸したフィルム（特開平８−１８４７０１号公報等参照）である。
【００２２】
表示装置の視認性を高める等の観点から、反射軸の相対角度は２０〜７０°とされる。反射軸の相対角度は、好ましくは２５〜６５°であり、より好ましくは３０〜６０°であり、さらに好ましくは３５〜５５°である。２つの反射軸を交差させると２つの角が形成される。一方の角の角度をα°とすると、他方の角の角度は（１８０−α）°となる。本明細書でいう反射軸の相対角度とは、上記２つの角のうち、小さい方をいう。すなわち、反射軸の相対角度が採り得る最小値は０°であり、採り得る最大値は９０°である。
【００２３】
第１反射型偏光子層１０及び第２反射型偏光子層２０の厚みは、通常１０〜１００μｍであるが、光学積層体１００及び表示装置の薄型化の観点から、好ましくは１０〜５０μｍであり、より好ましくは１０〜３０μｍである。
【００２４】
第１反射型偏光子層１０及び第２反射型偏光子層２０の少なくとも一方は、その外面に表面処理層（コーティング層）又は反射型偏光子層以外の他の光学層を有していてもよい。表面処理層は、硬化性樹脂等を含有する塗工液を塗工し、必要に応じて乾燥処理や硬化処理を施して形成される層である。表面処理層としては、例えば、ハードコート層、防眩層、光拡散層、位相差層（１／４波長の位相差値を持つ位相差層等）、反射防止層、帯電防止層、防汚層等が挙げられる。表面処理層（コーティング層）又は他の光学層を設けることにより、光学積層体１００に付加的な機能を付与したり、光学積層体１００を表示装置に適用したときの表示画像の視認性（鮮明さ、外光の映り込みによる見えにくさの改善、表示画像の均質性、虹ムラのさらなる改善等を含む。）を高めたりすることが可能となる。
【００２５】
第１反射型偏光子層１０と第２反射型偏光子層２０とは、同じ構成を有していてもよいし、厚み、材質、層構成、光学特性、表面処理層や他の光学層の有無等において異なっていてもよい。また、光学積層体１００に上記所定の範囲のヘイズを付与するために、第１反射型偏光子層１０及び第２反射型偏光子層２０の少なくとも一方は、ゼロでないヘイズを有していてもよい。この場合における第１反射型偏光子層１０及び／又は第２反射型偏光子層２０が有するヘイズは、例えば０．１〜５％である。第１反射型偏光子層１０と第２反射型偏光子層２０とは、同じヘイズ値を有していてもよいし、互いに異なるヘイズ値を有していてもよい。
【００２６】
ヘイズとは、全光線透過率Ｔｔに対する拡散透過率Ｔｄの割合であり、下記式〔Ａ〕：
ヘイズ（％）＝（Ｔｄ／Ｔｔ）×１００      〔Ａ〕
により求められる。全光線透過率Ｔｔは、入射光と同軸のまま透過した平行光線透過率Ｔｐと拡散光線透過率Ｔｄの和である。ＪＩＳ  Ｋ  ７１３６：２０００「プラスチック−透明材料のヘーズの求め方」に準拠して測定される。
【００２７】
（２）介在層
介在層３０は、第１反射型偏光子層１０と第２反射型偏光子層２０との間に配置される層であり、単層構造であってもよいし、２層又は３層以上の多層構造であってもよい。多層構造である場合において、２以上の層は互いに異なるヘイズを有していてもよい。介在層３０は、ゼロでないヘイズを有していることが好ましい。介在層３０のヘイズは、好ましくは０．１〜２０％であり、より好ましくは０．５〜２０％であり、さらに好ましくは０．８〜１０％であり、なおさらに好ましくは０．８〜８％であり、特に好ましくは１〜８％である。当該範囲のヘイズを有する介在層３０を用いることは、光学積層体１００に上記所定の範囲のヘイズを付与するための手段の１つとして好適である。介在層３０のヘイズが２０％を超えると、黒表示（ミラーモード）において黒表示のクリア感が低下しやすく、また、白表示（ディスプレイモード）において画像が白っぽくなり視認性が低下しやすい傾向にある。
【００２８】
介在層３０にヘイズを付与する方法としては、例えば次の方法が挙げられる。
ａ）介在層３０を構成する層として、層内部に光散乱を生じさせる粒子を分散させた層（ヘイズ付与層）を用いる方法。
ｂ）介在層３０の表面を構成する層として、表面凹凸を有する層（ヘイズ付与層）を用いる方法。
ｃ）上記ａ）とｂ）との組み合わせ。
【００２９】
層内部に光散乱を生じさせる粒子を分散させた層と、表面凹凸を有する層とは同じ層であってもよい。
【００３０】
図２は、本発明に係る光学積層体の他の一例を示す概略断面図である。図２に示される光学積層体２００において介在層３０は、基材フィルム３１と、その一方の表面に積層されるヘイズ付与層３２とを含む。すなわち、図２の例において介在層３０は、ヘイズの発現を主に担うヘイズ付与層３２と、それを支持する基材フィルム３１とからなる。図２の例においてヘイズ付与層３２は、基材フィルム３１の一方の表面にのみ設けられているが、基材フィルム３１の両面に設けられる等、介在層３０は、２以上のヘイズ付与層を有していてもよい。基材フィルム３１とヘイズ付与層３２との間に他の層（例えば、接着剤層、プライマー層、樹脂層等）を有していてもよい。
【００３１】
基材フィルム３１は、例えば熱可塑性樹脂から構成することができ、中でも光学的な透明性等に優れる熱可塑性樹脂から構成することが好ましい。このような熱可塑性樹脂の具体例は、例えば、鎖状ポリオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂（ノルボルネン系樹脂等）のようなポリオレフィン系樹脂；ポリエステル系樹脂；（メタ）アクリル系樹脂；セルローストリアセテート、セルロースジアセテートのようなセルロースエステル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；ポリビニルアルコール系樹脂；ポリ酢酸ビニル系樹脂；ポリアリレート系樹脂；ポリスチレン系樹脂；ポリエーテルスルホン系樹脂；ポリスルホン系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリイミド系樹脂；及びこれらの混合物、共重合物等を含む。
【００３２】
本明細書において「（メタ）アクリル」とは、アクリル及びメタクリルから選択される少なくとも一方を意味する。「（メタ）アクリロイル」、「（メタ）アクリレート」等においても同様である。
【００３３】
鎖状ポリオレフィン系樹脂としては、ポリエチレン樹脂（エチレンの単独重合体であるポリエチレン樹脂や、エチレンを主体とする共重合体）、ポリプロピレン樹脂（プロピレンの単独重合体であるポリプロピレン樹脂や、プロピレンを主体とする共重合体）のような鎖状オレフィンの単独重合体の他、２種以上の鎖状オレフィンからなる共重合体を挙げることができる。
【００３４】
環状ポリオレフィン系樹脂は、環状オレフィンを重合単位として重合される樹脂の総称であり、例えば、特開平１−２４０５１７号公報、特開平３−１４８８２号公報、特開平３−１２２１３７号公報等に記載されている樹脂が挙げられる。環状ポリオレフィン系樹脂の具体例を挙げれば、環状オレフィンの開環（共）重合体、環状オレフィンの付加重合体、環状オレフィンとエチレン、プロピレンのような鎖状オレフィンとの共重合体（代表的にはランダム共重合体）、及びこれらを不飽和カルボン酸やその誘導体で変性したグラフト重合体、並びにそれらの水素化物である。中でも、環状オレフィンとしてノルボルネンや多環ノルボルネン系モノマーのようなノルボルネン系モノマーを用いたノルボルネン系樹脂が好ましく用いられる。
【００３５】
ポリエステル系樹脂は、下記セルロースエステル系樹脂を除く、エステル結合を有する樹脂であり、多価カルボン酸又はその誘導体と多価アルコールとの重縮合体からなるものが一般的である。多価カルボン酸又はその誘導体としては２価のジカルボン酸又はその誘導体を用いることができ、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、ジメチルテレフタレート、ナフタレンジカルボン酸ジメチルが挙げられる。多価アルコールとしては２価のジオールを用いることができ、例えばエチレングリコール、プロパンジオール、ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、シクロヘキサンジメタノールが挙げられる。ポリエステル系樹脂の代表例として、テレフタル酸とエチレングリコールの重縮合体であるポリエチレンテレフタレートが挙げられる。
【００３６】
（メタ）アクリル系樹脂は、（メタ）アクリロイル基を有する化合物を主な構成モノマーとする樹脂である。（メタ）アクリル系樹脂の具体例は、例えば、ポリメタクリル酸メチルのようなポリ（メタ）アクリル酸エステル；メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸共重合体；メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸エステル共重合体；メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル−（メタ）アクリル酸共重合体；（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体（ＭＳ樹脂等）；メタクリル酸メチルと脂環族炭化水素基を有する化合物との共重合体（例えば、メタクリル酸メチル−メタクリル酸シクロヘキシル共重合体、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ノルボルニル共重合体等）を含む。好ましくは、ポリ（メタ）アクリル酸メチルのようなポリ（メタ）アクリル酸Ｃ1-6アルキルエステルを主成分とする重合体が用いられ、より好ましくは、メタクリル酸メチルを主成分（５０〜１００重量％、好ましくは７０〜１００重量％）とするメタクリル酸メチル系樹脂が用いられる。
【００３７】
セルロースエステル系樹脂は、セルロースと脂肪酸とのエステルである。セルロースエステル系樹脂の具体例は、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルローストリプロピオネート、セルロースジプロピオネートを含む。また、これらの共重合物や、水酸基の一部が他の置換基で修飾されたものも挙げられる。これらの中でも、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース）が特に好ましい。
【００３８】
ポリカーボネート系樹脂は、カルボナート基を介してモノマー単位が結合された重合体からなるエンジニアリングプラスチックである。
【００３９】
基材フィルム３０の厚みは、通常１〜３００μｍであり、光学積層体１００及び表示装置の薄型化、並びにフィルム強度の観点から、好ましくは２〜２００μｍ、より好ましくは５〜１５０μｍ、さらに好ましくは５〜１００μｍ（例えば８０μｍ以下）である。
【００４０】
ヘイズ付与層３２は、硬化性樹脂を含有する硬化性樹脂組成物を基材フィルム３１上に塗工し、必要に応じて乾燥させた後に硬化させてなる硬化物層であることができる。硬化性樹脂としては、紫外線、可視光、電子線、Ｘ線等の活性エネルギー線の照射によって硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂、熱により硬化する熱硬化性樹脂が挙げられる。中でも、生産性、硬化物層の硬度等の観点から、硬化性樹脂は、活性エネルギー線硬化性樹脂であることが好ましく、紫外線硬化性樹脂等の光硬化性樹脂であることがより好ましい。ただし、光硬化性樹脂は、紫外線より波長の長い可視光で硬化が可能な可視光硬化性樹脂であってもよい。また、硬化性樹脂は、硬化物層が高硬度（ハードコート）となるものから選定されることが好ましい。光硬化性樹脂を使用する場合、硬化性樹脂組成物は通常、光重合開始剤をさらに含む。
【００４１】
光硬化性樹脂としては、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、水酸基を２個以上含むアルキル基を有する（メタ）アクリルポリマー等が挙げられる。これらの（メタ）アクリル系化合物は、それぞれ単独で、又は必要に応じて２種以上組み合わせて用いることができる。
【００４２】
ウレタン（メタ）アクリレートは、好ましくは（メタ）アクリル酸及び／又は（メタ）アクリル酸エステル、ポリオール、並びにジイソシアネートを用いて調製される。例えば、（メタ）アクリル酸及び／又は（メタ）アクリル酸エステル並びにポリオールから、水酸基を少なくとも１つ有するヒドロキシ（メタ）アクリレートを調製し、これをジイソシアネートと反応させることによってウレタン（メタ）アクリレートを得ることができる。これら（メタ）アクリル酸及び／又は（メタ）アクリル酸エステル、ポリオール、並びにジイソシアネートは、それぞれ１種のみを単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４３】
（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート；シクロヘキシル（メタ）アクリレート等のシクロアルキル（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００４４】
ポリオールは、水酸基を少なくとも２つ有する化合物であり、例えば、エチレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカングリコール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステル、シクロヘキサンジメチロール、１，４−シクロヘキサンジオール、スピログリコール、トリシクロデカンメチロール、水添ビスフェノールＡ、エチレンオキサイド付加ビスフェノールＡ、プロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ、トリメチロールエタン、トリジメチロールプロパン、グリセリン、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グルコース類を挙げることができる。
【００４５】
ジイソシアネートとしては、例えば、芳香族、脂肪族又は脂環族の各種ジイソシアネート類を使用することができる。具体例としては、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、４，４−ジフェニルジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、３，３−ジメチル−４，４−ジフェニルジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート、およびこれらの水添物等を挙げることができる。
【００４６】
ポリオール（メタ）アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、組み合わせて用いてもよい。
【００４７】
水酸基を２個以上含むアルキル基を有する（メタ）アクリルポリマーとしては、例えば、２，３−ジヒドロキシプロピル基を有する（メタ）アクリルポリマーや、２−ヒドロキシエチル基および２，３−ジヒドロキシプロピル基を有する（メタ）アクリルポリマーが挙げられる。
【００４８】
上で例示したような（メタ）アクリル系の光硬化性樹脂を用いることにより、ヘイズ付与層３２と基材フィルム３１との密着性を向上させることができるとともに、機械的強度がより向上され、表面の傷付きをより効果的に防止できるヘイズ付与層３２を得ることができる。
【００４９】
上記光重合開始剤としては、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、ベンゾインエーテル系、アミン系、ホスフィンオキサイド系等、各種のものを用いることができる。アセトフェノン系光重合開始剤に分類される化合物の例は、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン（別名ベンジルジメチルケタール）、２，２−ジエトキシアセトフェノン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシル  フェニル  ケトン、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オンを含む。ベンゾフェノン系光重合開始剤に分類される化合物の例は、ベンゾフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノンを含む。ベンゾインエーテル系光重合開始剤に分類される化合物の例は、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテルを含む。アミン系光重合開始剤に分類される化合物の例は、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン（別名ミヒラーズケトン）を含む。ホスフィンオキサイド系光重合開始剤の例は、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドを含む。ほかに、キサントン系化合物やチオキサント系化合物等も、光重合開始剤として用いることができる。光重合開始剤の代表的な市販品の例を商品名で挙げると、ドイツのＢＡＳＦ社から販売されている「イルガキュア  ９０７」、「イルガキュア  １８４」、「ルシリン  ＴＰＯ」等がある。
【００５０】
硬化性樹脂組成物は、必要に応じて溶剤を含むことができる。溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチルのような、硬化性樹脂組成物を構成する各成分を溶解し得る任意の有機溶剤を用いることができる。２種以上の有機溶剤を混合して用いることもできる。
【００５１】
また硬化性樹脂組成物は、レベリング剤を含有してもよく、例えば、フッ素系又はシリコーン系のレベリング剤を用いることができる。シリコーン系のレベリング剤には、反応性シリコーン、ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリメチルアルキルシロキサン等がある。シリコーン系レベリング剤の中でも好ましいものは、反応性シリコーン及びシロキサン系のレベリング剤である。反応性シリコーンを用いることにより、ヘイズ付与層表面に滑り性が付与され、優れた耐擦傷性を長期間持続させることができる。また、シロキサン系のレベリング剤を用いると、膜成形性を向上させることができる。
【００５２】
上述のように、ヘイズ付与層３２は、光散乱を生じさせる粒子を含有していてもよい。粒子としては、例えば、シリカ、コロイダルシリカ、アルミナ、アルミナゾル、アルミノシリケート、アルミナ−シリカ複合酸化物、カオリン、タルク、マイカ、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム等の無機粒子；架橋ポリアクリル酸粒子、メタクリル酸メチル／スチレン共重合体樹脂粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリメチルメタクリレート粒子、シリコーン樹脂粒子、ポリイミド粒子等の有機粒子が挙げられる。
【００５３】
上記粒子としては、平均粒径が０．１〜１０μｍで、硬化後の硬化性樹脂との屈折率差が０．０２〜０．２であるものを用いることが好ましい。平均粒径及び屈折率差がこの範囲内にある粒子を用いることにより、効果的にヘイズを発現させることができる。この微粒子の平均粒径は、動的光散乱法等によって求めることができる。この場合の平均粒径は、重量平均粒径となる。
【００５４】
表面凹凸を有するヘイズ付与層３２は、１）上記硬化性樹脂及び上記粒子を含有する硬化性樹脂組成物を基材フィルム３１上に塗工して塗膜を形成し、当該粒子に基づく凹凸を設ける方法、２）粒子を含有するか、又は含有しない硬化性樹脂組成物を基材フィルム３１上に塗工して塗膜を形成した後、表面に凹凸形状が付与された金型（ロール等）に押し当てて凹凸形状を転写する方法（「エンボス法」とも呼ばれる。）、等によって形成することができる。
【００５５】
上記１）の方法においては、硬化性樹脂と粒子とを含む硬化性樹脂組成物を基材フィルム３１上に塗工し、紫外線等の光照射又は加熱によって塗膜を硬化させることによりヘイズ付与層３２を形成することができる。
【００５６】
一方、上記２）の方法（エンボス法）においては、表面に凹凸形状が形成された金型を用いて、金型の当該形状を基材フィルム３１上に形成された塗膜（樹脂層）に転写する。凹凸形状が転写される塗膜は、上記粒子を含有していてもよいし、含有していなくてもよい。エンボス法では、光硬化性樹脂を含む硬化性樹脂組成物を基材フィルム３１上に塗工し、形成された塗膜を金型の凹凸面に押し付けながら硬化させることで、金型の凹凸面が塗膜に転写される。より具体的には、硬化性樹脂組成物を基材フィルム３１上に塗工し、形成された塗膜を金型の凹凸面に密着させた状態で、基材フィルム３１側から紫外線等の光を照射して塗膜を硬化させ、硬化後の塗膜（ヘイズ付与層３２）を有する基材フィルム３１を金型から剥離することにより、金型の凹凸形状をヘイズ付与層３２に転写する。
【００５７】
ヘイズ付与層３２の厚みは、例えば２〜３０μｍであり、好ましくは３〜３０μｍである。ヘイズ付与層３２の厚みが２μｍ未満であると、十分な硬度が得られず、また、表面が傷付きやすくなる傾向にある。ヘイズ付与層３２の厚みが３０μｍを超えると、割れやすくなったり、ヘイズ付与層３２形成時の硬化収縮により介在層３０がカールしてその生産性が低下したりする傾向がある。また、十分なヘイズを付与するうえでも上記範囲の厚みは好適である。
【００５８】
介在層３０は、ヘイズ付与層３２に基づくヘイズを有していることが好ましいが、ヘイズ付与層３２に基づくヘイズとともに、基材フィルム３１に基づくヘイズを有していてもよい。基材フィルム３１に基づくヘイズは、例えば、当該フィルムに上述の粒子を分散させることによって発現させることができる。
【００５９】
また、介在層３０が単層構造である場合の一例として、介在層３０は、上述の粒子が分散された基材フィルム３１のみからなる（ヘイズ付与層３２のみからなるともいえる。）ことができる。上述の粒子が分散された基材フィルム３１のみからなる介在層３０の厚みは、好ましくは２０〜２００μｍであり、より好ましくは２０〜１２０μｍである。
【００６０】
（３）第１粘着剤層及び第２粘着剤層
第１粘着剤層４０及び第２粘着剤層５０はそれぞれ、（メタ）アクリル系、ゴム系、ウレタン系、エステル系、シリコーン系、ポリビニルエーテル系のような樹脂を主成分とする粘着剤組成物で構成することができる。中でも、透明性、耐候性、耐熱性等に優れる（メタ）アクリル系樹脂をベースポリマーとする粘着剤組成物が好適である。粘着剤組成物は、活性エネルギー線硬化型又は熱硬化型であってもよい。
【００６１】
粘着剤組成物に用いられる（メタ）アクリル系樹脂（ベースポリマー）としては、例えば、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルのような（メタ）アクリル酸エステルの１種又は２種以上をモノマーとする重合体又は共重合体が好適に用いられる。ベースポリマーには、極性モノマーを共重合させることが好ましい。極性モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレートのような、カルボキシル基、水酸基、アミド基、アミノ基、エポキシ基等を有するモノマーを挙げることができる。
【００６２】
粘着剤組成物は、上記ベースポリマーのみを含むものであってもよいが、通常は架橋剤をさらに含有する。架橋剤としては、２価以上の金属イオンであって、カルボキシル基との間でカルボン酸金属塩を形成するもの；ポリアミン化合物であって、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するもの；ポリエポキシ化合物やポリオールであって、カルボキシル基との間でエステル結合を形成するもの；ポリイソシアネート化合物であって、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するものが例示される。中でも、ポリイソシアネート化合物が好ましい。
【００６３】
活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物とは、紫外線や電子線のような活性エネルギー線の照射を受けて硬化する性質を有しており、活性エネルギー線照射前においても粘着性を有してフィルム等の被着体に密着させることができ、活性エネルギー線の照射によって硬化して密着力の調整ができる性質を有する粘着剤組成物である。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、紫外線硬化型であることが好ましい。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、ベースポリマー、架橋剤に加えて、活性エネルギー線重合性化合物をさらに含有する。さらに必要に応じて、光重合開始剤や光増感剤等を含有させることもできる。
【００６４】
光学積層体１００に上記所定の範囲のヘイズを付与するために、第１粘着剤層４０及び第２粘着剤層５０の少なくとも一方は、ゼロでないヘイズを有していてもよい。この場合における第１粘着剤層４０及び／又は第２粘着剤層５０が有するヘイズは、例えば０．１〜５％である。第１粘着剤層４０と第２粘着剤層５０とは、同じヘイズ値を有していてもよいし、互いに異なるヘイズ値を有していてもよい。例えば、粘着剤組成物に上述の粒子を含有させることによって粘着剤層にヘイズを付与することができる。
【００６５】
第１粘着剤層４０及び第２粘着剤層５０は、他の添加剤を含んでいてもよい。他の添加剤としては、例えば、ビーズ（樹脂ビーズ、ガラスビーズ等）、ガラス繊維、ベースポリマー以外の樹脂、粘着性付与剤、充填剤（金属粉やその他の無機粉末等）、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染料、顔料、着色剤、消泡剤、腐食防止剤、光重合開始剤等を挙げることができる。
【００６６】
第１粘着剤層４０及び第２粘着剤層５０の厚みは、それぞれ１〜４０μｍであることができるが、光学積層体１００及び表示装置の薄型化の観点、及び良好な加工性を保ちつつ寸法変化を抑制する観点から、３〜２５μｍ（例えば３〜２０μｍ、さらには３〜１５μｍ）とすることが好ましい。
【００６７】
第１粘着剤層４０と第２粘着剤層５０とは、同じ構成を有していてもよいし、厚み、材質、光拡散性等の光学特性等において異なっていてもよい。
【００６８】
第１粘着剤層４０及び第２粘着剤層５０は、上記粘着剤組成物の有機溶剤希釈液を基材上に塗工し、乾燥させることにより形成することができる。基材は、第１反射型偏光子層１０、第２反射型偏光子層２０、介在層３０、セパレートフィルム（剥離フィルム）等であることができる。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物を用いた場合は、形成された粘着剤層に、活性エネルギー線を照射することにより所望の硬化度を有する粘着剤層とすることができる。
【００６９】
セパレートフィルムは、粘着剤層が積層される側の表面に対して離型処理を施したフィルムを用いることができる。離型処理の例は、シリコーン処理、長鎖アルキル処理、フッ素処理等である。フィルムの材質は、例えば、ポリエチレン等のポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン等のポリプロピレン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂等である。
【００７０】
（４）光学積層体の変形例
図３を参照して、光学積層体は、第１反射型偏光子層１０及び第２反射型偏光子層２０の少なくとも一方の外面に積層される粘着剤層である第３粘着剤層６０をさらに含むことができる。第３粘着剤層６０は、光学積層体を他の部材に貼合するために用いることができる。他の部材としては、他の光学フィルム、表示装置（画像表示装置）に含まれるいずれかの光学部材、例えば、表示装置（画像表示装置）の最表面に配置されている光学部材を挙げることができる。第３粘着剤層６０の具体的構成については、第１粘着剤層４０及び第２粘着剤層５０についての上記（３）の記述が引用される。
【００７１】
図３に示される光学積層体３００において第３粘着剤層６０は、第１反射型偏光子層１０の外面に積層されているが、これに限定されるものではなく、第２反射型偏光子層２０の外面に積層されていてもよいし、第１反射型偏光子層１０の外面及び第２反射型偏光子層２０の外面の双方に積層されていてもよい。
【００７２】
粘着剤層を介して第１反射型偏光子層１０と第２反射型偏光子層２０とを貼合した３層構造の光学積層体も、本発明に係る光学積層体となり得る。この場合、当該粘着剤層が介在層（ヘイズ付与層）に相当する。この実施形態において当該粘着剤層は、光学積層体に上記所定の範囲のヘイズを付与するために、上述の粒子を含有させた光拡散性の粘着剤層であることが好ましい。この場合、粒子の含有量の調整によって光学積層体のヘイズを調整することができる。
【００７３】
粘着剤層の代わりに接着剤層を用いてもよい。接着剤層を形成する接着剤としては、後述する（５）に記載の接着剤を同様に用いることができる。接着剤層を用いる場合においても同様に、当該接着剤層は、光学積層体に上記所定の範囲のヘイズを付与するために、上述の粒子を含有させた光拡散性の接着剤層であることが好ましい。
【００７４】
図４を参照して、光学積層体は、第１反射型偏光子層１０の外側又は第２反射型偏光子層２０の外側に配置される基材層７０をさらに含むことができる。基材層７０は、光学積層体を支持する部材である。図４に示される光学積層体４００において基材層７０は、第１反射型偏光子層１０側に積層されているが、これに限定されるものではなく、第２反射型偏光子層２０側に積層されていてもよい。
【００７５】
基材層７０としては、特に制限されず、例えば、ガラス板や熱可塑性樹脂フィルム等を挙げることができる。基材層７０は、典型的には、表示装置の最表面に配置される部材であり、例えば、表示装置の視認側に配置される吸収型偏光板；視認側の吸収型偏光板の視認側に配置され、表示装置の最表面に配置される前面板；タッチ入力式表示装置の最表面に配置されるタッチパネル素子等が挙げられる。
【００７６】
吸収型偏光板は、延伸されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムにヨウ素、二色性有機染料等の二色性色素が吸着配向している偏光子を少なくとも含むものであることができる。吸収型偏光板は、偏光子の片面又は両面に、熱可塑性樹脂等からなる保護フィルムが接着されたものであってもよい。偏光子の厚みは、例えば２〜３０μｍであり、好ましくは２〜１０μｍである。保護フィルムの厚みは、例えば２〜１５０μｍであり、好ましくは５〜１００μｍである。保護フィルムは、位相差フィルムであってもよい。
【００７７】
（５）光学積層体の製造方法
図１に示される光学積層体１００は、介在層３０の一方の面に第１粘着剤層４０を介して第１反射型偏光子層１０を積層し、介在層３０の他方の面に第２粘着剤層５０を介して第２反射型偏光子層２０を積層することにより製造することができる。これらの層の積層に先立って、第１反射型偏光子層１０における第１粘着剤層４０との貼合面、介在層３０における第１粘着剤層４０との貼合面、介在層３０における第２粘着剤層５０との貼合面、及び第２反射型偏光子層２０における第２粘着剤層５０との貼合面からなる群より選択される少なくとも１つの貼合面、好ましくは２以上の貼合面、より好ましくはすべての貼合面に表面活性化処理を施してもよい。これらの貼合面に加えて、又はこれらの貼合面に代わって、第１粘着剤層４０における第１反射型偏光子層１０との貼合面、第１粘着剤層４０における介在層３０との貼合面、第２粘着剤層５０における第２反射型偏光子層２０との貼合面、及び第２粘着剤層５０における介在層３０との貼合面からなる群より選択される少なくとも１つの貼合面、好ましくは２以上の貼合面、より好ましくはすべての貼合面に表面活性化処理を施してもよい。表面活性化処理を施すことは、層剥離が生じにくい、湿熱耐久性に優れた光学積層体を得るうえで有利である。
【００７８】
表面活性化処理としては、コロナ処理、プラズマ処理、放電処理（グロー放電処理等）、火炎処理、オゾン処理、ＵＶオゾン処理、電離活性線処理（紫外線処理、電子線処理等）のような乾式処理；水やアセトン等の溶媒を用いた超音波処理、アルカリ処理、アンカーコート処理のような湿式処理を挙げることができる。これらの処理は、単独で行ってもよいし、２つ以上を組み合わせてもよい。中でも、フィルムロールから巻き出したフィルムを連続的に処理するうえでは、コロナ処理、プラズマ処理が好ましい。
【００７９】
第１反射型偏光子層１０及び第２反射型偏光子層２０と介在層３０との貼合は、接着剤を用いて行ってもよい。この場合、第１反射型偏光子層１０と介在層３０との間、及び第２反射型偏光子層２０と介在層３０との間に配置されるのは接着剤層である。第１反射型偏光子層１０及び第２反射型偏光子層２０と介在層３０との貼合は、一方を接着剤層を介して行い、もう一方を粘着剤層を介して行ってもよい。
【００８０】
接着剤層を形成する接着剤としては、紫外線、可視光、電子線、Ｘ線のような活性エネルギー線の照射によって硬化する硬化性化合物を含有する活性エネルギー線硬化性接着剤（好ましくは紫外線硬化性接着剤）、ポリビニルアルコール系樹脂のような接着剤成分を水に溶解又は分散させた水系接着剤を挙げることができる。
【００８１】
上記硬化性化合物は、カチオン重合性の硬化性化合物やラジカル重合性の硬化性化合物であることができる。カチオン重合性の硬化性化合物としては、例えば、エポキシ系化合物（分子内に１個又は２個以上のエポキシ基を有する化合物）や、オキセタン系化合物（分子内に１個又は２個以上のオキセタン環を有する化合物）、又はこれらの組み合わせを挙げることができる。ラジカル重合性の硬化性化合物としては、例えば、（メタ）アクリル系化合物（分子内に１個又は２個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物）や、ラジカル重合性の二重結合を有するその他のビニル系化合物、又はこれらの組み合わせを挙げることができる。カチオン重合性の硬化性化合物とラジカル重合性の硬化性化合物とを併用してもよい。活性エネルギー線硬化性接着剤は通常、上記硬化性化合物の硬化反応を開始させるためのカチオン重合開始剤及び／又はラジカル重合開始剤をさらに含む。
【００８２】
上記（４）に記載の変形例に係る光学積層体も、以上に示した方法と同様にして製造することができる。
【００８３】
（６）光学積層体の特性等
本発明に係る光学積層体によれば、表示装置の視認側に配置された場合であっても虹ムラの発生を効果的に抑制でき、また、良好な視認性を与えることができる。上述のように、ここでいう視認性とは、表示装置の電源をＯＮにして画面を白表示（ディスプレイモード）とし、この表示装置を画面に画像を表示するデバイスとして使用するときの当該画像の視認性と、電源をＯＦＦにして画面を黒表示（ミラーモード）とし、表示装置をミラーとして使用するときの視認性とを含む。
【００８４】
上記白表示（ディスプレイモード）に視認性とは、主に、画面に映し出された画像（透過像）の鮮明性をいう。上記黒表示（ミラーモード）に視認性とは、主に、画面に映し込まれた反射像及びその色相の鮮明さをいう。
【００８５】
黒表示（ミラーモード）での視認性を高めるために、光学積層体の表面（表示装置に適用されたときに外側に向けられる表面）は、良好な反射特性を有することが好ましい。当該反射特性は、反射輝度率として評価することができる。反射輝度率とは、正反射光込み方式で測定される視感反射率ＲＳＣＩのことである。本発明に係る光学積層体によれば、白表示（ディスプレイモード）での高い視認性と、高い反射輝度率（したがって、黒表示（ミラーモード）での高い視認性）とを両立させることが可能である。
【００８６】
正反射光込み方式で測定される視感反射率ＲＳＣＩの測定方法について、図５を参照して説明する。図５は、視感反射率ＲＳＣＩを測定するための光学系を模式的に示す断面図である。図５に示される光学系は、拡散照明方式の光学系である。拡散照明方式は、積分球等を使って、測定サンプルをあらゆる方向から均等に照明する方法であり、図５では、積分球８０（光をほぼ完全に拡散反射する硫酸バリウム等の白い塗料を内面に塗布した球）が設置されている。光源８１から出た光は、積分球８０の内部で拡散され、測定サンプル８２の表面で反射される。図５に示される光学系は、受光部に対して正反射方向の光も含めたあらゆる方向の光が測定サンプル表面にあたるように構成されているため、正反射光込みモード（ＳＣＩ）モードと呼ばれる。
【００８７】
なお、これに対して、受光部に対して正反射方向にある積分球８０の位置にライトトラップ（ここに入った光は吸収されて積分球８０中には戻らない）を設置するなどして、受光部に対して正反射方向の光が、測定サンプル表面にはあたらないように構成されている光学系は、正反射光除去モード（ＳＣＥモード）と呼ばれる。
【００８８】
図５に示される光学系を用いて測定サンプルの反射スペクトルを取得し、この反射スペクトルからＪＩＳ  Ｚ８７２２：２００９「色の測定方法−反射及び透過物体色」に規定される方法に従って計算される視感反射率が、正反射光込み方式で測定される視感反射率ＲＳＣＩである。
【００８９】
光学積層体の反射輝度率は、５５％以上であることが好ましく、６０％以上であってもよい。また、反射輝度率は、８５％以下であることが好ましく、８０％以下であってもよい。上記範囲の反射輝度率を有することは、白表示（ディスプレイモード）及び黒表示（ミラーモード）における視認性を両立させるうえで有利である。
【００９０】
＜表示装置＞
上記光学積層体は、表示装置に適用することができる。表示装置（画像表示装置）は、表示素子（画像表示素子）と、その視認側に配置される上記光学積層体とを含むことが好ましい。本発明に係る光学積層体によれば、表示装置の視認側に配置された場合であっても虹ムラの発生を効果的に抑制でき、また、良好な視認性を与えることができる。
【００９１】
表示素子は、特に制限されず、液晶表示装置における液晶セル、有機ＥＬ装置における有機ＥＬ素子、タッチ入力式表示装置におけるタッチパネル素子等が挙げられる。光学積層体の表示装置への取り付けは、粘着剤層（例えば、上記第３粘着剤層６０）を介して行うことができる。
【００９２】
表示装置が表示素子の視認側に吸収型偏光板を有しており、その視認側に光学積層体を配置する場合、光学積層体に含まれる第１反射型偏光子層１０及び第２反射型偏光子層２０のうち上記吸収型偏光板により近い位置に配置される反射型偏光子層の反射軸と、上記吸収型偏光板の吸収軸とがなす角度は、略０°であることが好ましい。「略」とは、±１０°、好ましくは±５°の範囲内のずれを許容することを意味する。
【実施例】
【００９３】
以下、実施例及び比較例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。
【００９４】
＜実施例１＞
（１）紫外線硬化性樹脂組成物の調製
ペンタエリスリトールトリアクリレート及び多官能ウレタン化アクリレート（ヘキサメチレンジイソシアネートとペンタエリスリトールトリアクリレートとの反応生成物）を含有し、前者／後者の重量比が６０／４０であり、両者の合計濃度が６０重量％となるように酢酸エチルに溶解されており、レベリング剤がさらに配合されている紫外線硬化性樹脂組成物１を用意した。紫外線硬化性樹脂組成物１に含有される上記ペンタエリスリトールトリアクリレート及び多官能ウレタン化アクリレートをまとめて、「硬化性成分」という。紫外線硬化性樹脂組成物１の硬化性成分１００重量部に対して、平均粒径が２．７μｍであるメタクリル酸メチル／スチレン共重合体樹脂粒子を１重量部加えて分散させ、さらに硬化性成分と樹脂粒子との合計濃度が３０重量％となるように酢酸エチルで希釈して、紫外線硬化性樹脂組成物２を得た。紫外線硬化性樹脂組成物２に、硬化性アクリレート１００重量部に対して光重合開始剤（チバ社製の商品名「イルガキュアー（登録商標）１８４」）を１重量部加えて、紫外線硬化性樹脂組成物３を得た。
【００９５】
紫外線硬化性樹脂組成物１に、硬化性アクリレート１００重量部に対して上記の光重合開始剤を１重量部加えて製膜し、紫外線を照射して硬化させた硬化物の屈折率は１．５３であった。上記メタクリル酸メチル／スチレン共重合体樹脂粒子の屈折率は１．４９であった。したがって、両者の屈折率差は０．０４であった。
【００９６】
（２）基材フィルムと硬化物層との積層構造を有するフィルムの作製
基材フィルムとしてのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（富士フイルム株式会社製の商品名「ＴＤ６０」、厚み６０μｍ）の表面に、上記（１）で調製した紫外線硬化性樹脂組成物３を乾燥後の膜厚が５μｍとなるように塗工し、６０℃に設定した乾燥機中で３分間保持して、その塗膜を乾燥させた。乾燥後、フィルムの塗膜側より、強度２０ｍＷ／ｃｍ２の高圧水銀灯からの紫外線をｈ線換算光量で２００ｍＪ／ｃｍ２となるように照射し、紫外線硬化性樹脂組成物３の塗膜を硬化させて、基材フィルムと硬化物層（ヘイズ付与層）との積層構造を有するフィルムを得た。
【００９７】
基材フィルムと硬化物層との積層構造を有するフィルムの基材フィルム面に光学的に透明な（メタ）アクリル系粘着剤層を貼合し、この粘着剤層を介して光学積層体を無アルカリガラス基板（コーニング社製の商品名「イーグルＸＧ」）に貼合して、これを測定サンプルとした。この測定サンプルについて、ガラス基板側から光を入射させ、ＪＩＳ  Ｋ  ７１３６：２０００「プラスチック−透明材料のヘーズの求め方」に準拠した（株）村上色彩技術研究所製のヘイズメーター「ＨＭ−１５０」型を用いて、ヘイズを測定したところ、１．０％であった。
【００９８】
（３）光学積層体の作製
反射型偏光子（３Ｍ社製の商品名「ＡＰＦ−ｖ３」、厚み２６μｍ）から２０ｃｍ×３０ｃｍサイズの枚葉体を切り出し、これを第１反射型偏光子層とした。第１反射型偏光子層において、その短辺と反射軸とがなす角度は０°である。上記反射型偏光子から２０ｃｍ×３０ｃｍサイズの枚葉体を切り出し、これを第２反射型偏光子層とした。第２反射型偏光子層において、その短辺と反射軸とがなす角度は５０°である。上記（２）で得られた基材フィルムと硬化物層との積層構造を有するフィルムから２０ｃｍ×３０ｃｍサイズの枚葉体を切り出し、これを介在層とした。
【００９９】
第１反射型偏光子層の上に、厚み２０μｍの（メタ）アクリル系粘着剤層（２０ｃｍ×３０ｃｍサイズ）を介して上記介在層を積層した。この際、介在層の基材フィルムが（メタ）アクリル系粘着剤層に接するように介在層を積層した。積層に先立って、第１反射型偏光子層における粘着剤層との貼合面、及び介在層における粘着剤層との貼合面にコロナ処理を施した。次いで、介在層の上に、厚み２０μｍの（メタ）アクリル系粘着剤層（２０ｃｍ×３０ｃｍサイズ）を介して第２反射型偏光子層を積層して、２０ｃｍ×３０ｃｍサイズの光学積層体を得た。積層に先立って、第２反射型偏光子層における粘着剤層との貼合面、及び介在層における粘着剤層との貼合面にコロナ処理を施した。第１反射型偏光子層の反射軸と第２反射型偏光子層の反射軸とがなす角度（反射軸の相対角度）は５０°である。
【０１００】
（４）光学積層体の反射輝度率の測定
光学積層体の第１反射型偏光子層の外面に光学的に透明な（メタ）アクリル系粘着剤層を貼合し、この粘着剤層を介して光学積層体を黒色のアクリル板に貼合して、これを測定サンプルとした。この測定サンプルについて、分光測色計（コニカミノルタ（株）製の「ＣＭ−２６００ｄ」）を用い、温度２３℃でＳＣＩモードで測定を行うことにより、正反射光込み方式で測定される視感反射率ＲＳＣＩとして反射輝度率を得た。結果を表１に示す。
【０１０１】
（５）光学積層体のヘイズの測定
光学積層体の第１反射型偏光子層の外面に（メタ）アクリル系粘着剤層を貼合し、この粘着剤層を介して光学積層体を無アルカリガラス基板（コーニング社製の商品名「イーグルＸＧ」）に貼合して、これを測定サンプルとした。この測定サンプルについて、ガラス基板側から光を入射させ、ＪＩＳ  Ｋ  ７１３６：２０００「プラスチック−透明材料のヘーズの求め方」に準拠した（株）村上色彩技術研究所製のヘイズメーター「ＨＭ−１５０」型を用いて、ヘイズを測定した。結果を表１に示す。
【０１０２】
（６）光学積層体の虹ムラの評価
光学積層体の第１反射型偏光子層の外面に光学的に透明な（メタ）アクリル系粘着剤層を貼合し、この粘着剤層を介して光学積層体を黒色のアクリル板に貼合して、これを測定サンプルとした。この測定サンプルの第２反射型偏光子層の表面に、三波長管蛍光灯からの光を該表面に対して入射角６０°及び９０°で入射し、該表面に映り込んだ三波長管蛍光灯の像に虹ムラが発生しているかどうかを目視で観察した。結果を表１に示す。いずれの入射角においても虹ムラが全く認められなかった場合を「ＡＡ」、いずれの入射角においても虹ムラがほぼ認められなかった場合を「Ａ」、少なくとも一方の入射角で虹ムラが認められた場合を「Ｂ」とした。
【０１０３】
（７）視認性の評価
光学積層体の第１反射型偏光子層の外面に光学的に透明な（メタ）アクリル系粘着剤層を貼合し、この粘着剤層を介して光学積層体を、ＩＰＳモードの液晶表示装置（ＬＧエレクトロニクス社製の商品名「２２ＭＰ５７ＶＱ−Ｐ」の画面上に貼合した。この際、第１反射型偏光子層の反射軸と、液晶表示装置の視認側偏光板の吸収軸とが平行になるように貼合を行った。液晶表示装置の電源をＯＮにして画面を白表示（ディスプレイモード）とし、文字を入力してこれを画面上に映し出して、該文字の視認性（透過像の視認性）を目視で評価した。結果を表１における「視認性の評価」「透過像」の欄に示す。文字を非常に鮮明に視認できた場合を「ＡＡ」、文字を鮮明に視認できた場合を「Ａ」、文字が不鮮明であった場合を「Ｂ」とした。
【０１０４】
また、液晶表示装置の電源をＯＦＦにして画面を黒表示とし、ミラーモードにおける反射像の視認性を目視で評価した。結果を表１における「視認性の評価」「反射像」の欄に示す。反射像及びその色が非常に鮮明であった場合を「ＡＡ」、反射像及びその色が鮮明であった場合を「Ａ」、反射像又はその色が不鮮明であった場合を「Ｂ」とした。
【０１０５】
＜実施例２〜９、比較例１〜４＞
介在層の構成、介在層のヘイズ及び反射軸の相対角度を表１に示されるとおりとしたこと以外は実施例１と同様にして光学積層体を作製し、実施例１と同様にして実施例１の（４）〜（７）の測定及び評価を実施した。結果を表１に示す。介在層のヘイズの測定結果も表１に併せて示す。介在層のヘイズは、紫外線硬化性樹脂組成物１へのメタクリル酸メチル／スチレン共重合体樹脂粒子の添加量を変化させることによって調整した。硬化物層の厚みは実施例１と同じである。比較例１〜３においては、介在層の硬化物層にメタクリル酸メチル／スチレン共重合体樹脂粒子を含有させていない。
【０１０６】
表１において、「ＡＣフィルム」とは、厚み１００μｍの（メタ）アクリル系樹脂フィルムを意味する。「ＣＯＰフィルム」とは、厚み１００μｍの環状ポリオレフィン系樹脂フィルムを意味する。
【０１０７】
＜比較例５〜９＞
介在層として、光学的に透明な厚み２０μｍの（メタ）アクリル系粘着剤層（表１において「透明粘着剤層」という。）を用いたこと、及び、反射軸の相対角度を表１に示されるとおりとしたこと以外は実施例１と同様にして光学積層体を作製し、実施例１と同様にして実施例１の（４）〜（７）の測定及び評価を実施した。結果を表１に示す。
【０１０８】
＜比較例１０及び１１＞
介在層として、厚み２０μｍの光拡散性粘着剤層を用いたこと以外は実施例１と同様にして光学積層体を作製し、実施例１と同様にして実施例１の（４）〜（７）の測定及び評価を実施した。結果を表１に示す。光拡散性粘着剤層は、光学的に透明な（メタ）アクリル系粘着剤層中に光拡散粒子を分散させたものである。光拡散性粘着剤層のヘイズは、光拡散粒子の添加量を変化させることによって調整した。
【０１０９】
【表１】
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【符号の説明】
【０１１０】
１０  第１反射型偏光子層、２０  第２反射型偏光子層、３０  介在層、３１  基材フィルム、３２  ヘイズ付与層、４０  第１粘着剤層、５０  第２粘着剤層、６０  第３粘着剤層、７０  基材層、８０  積分球、８１  光源、８２  測定サンプル、１００，２００，３００，４００  光学積層体。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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