(57)【要約】【課題】プラズマトーチの長寿命化を図る。【解決手段】プラズマ発生装置は、黒鉛製のプラズマトーチ１０と、プラズマを発生させるための動作ガスをプラズマトーチ１０に供給する供給手段（動作ガス源１６、配管１８及びバルブ２０）とを備える。プラズマトーチ１０には、供給手段によって供給される動作ガスの流路として機能する貫通孔Ｈ１〜Ｈ４が長手方向に沿って延びるように設けられている。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
黒鉛製のプラズマトーチと、
プラズマを発生させるための動作ガスを前記プラズマトーチに供給する供給手段とを備え、
前記プラズマトーチには、前記供給手段によって供給される動作ガスの流路として機能する第１及び第２の貫通孔が長手方向に沿って延びるように設けられている、プラズマ発生装置。
【請求項２】
前記第１及び第２の貫通孔は前記プラズマトーチの中心軸を囲むように並んで配置されている、請求項１に記載のプラズマ発生装置。
【請求項３】
前記第１の貫通孔は前記プラズマトーチの中心軸上に配置されている、請求項１又は２に記載のプラズマ発生装置。
【請求項４】
前記供給手段は、前記第１及び第２の貫通孔に同時に動作ガスを供給する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のプラズマ発生装置。
【請求項５】
前記供給手段は、前記第１及び第２の貫通孔に対して一つずつ順番に動作ガスを供給する、請求項２に記載のプラズマ発生装置。
【請求項６】
前記プラズマトーチには、前記供給手段によって供給される動作ガスの流路として機能する第３の貫通孔が長手方向に沿って延びるように設けられ、
前記第３の貫通孔は前記プラズマトーチの中心軸上に配置され、
前記供給手段は、前記第３の貫通孔に動作ガスを供給しつつ、前記第１及び第２の貫通孔に対して一つずつ順番に動作ガスを供給する、請求項２に記載のプラズマ発生装置。
【請求項７】
黒鉛製であり、プラズマを発生させるための動作ガスの流路として機能する第１及び第２の貫通孔が長手方向に沿って延びるように設けられている、プラズマトーチ。
【請求項８】
前記第１及び第２の複数の貫通孔は中心軸を囲むように並んでいる、請求項７に記載のプラズマトーチ。
【請求項９】
前記第１の貫通孔は中心軸上に位置している、請求項７又は８に記載のプラズマトーチ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマ発生装置及びプラズマトーチに関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１は、溶融した液状の金属（溶湯）の温度を制御するために、少なくとも先端を黒鉛製としたプラズマトーチを開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−０３３１７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に記載のプラズマトーチには、プラズマを発生させるための動作ガスの流路が設けられている。当該プラズマトーチを用いると、流路の出口を中心にプラズマが発生する。そのため、プラズマトーチのうち流路の出口近傍が高温に加熱される。従って、高温によって黒鉛製のプラズマトーチが損耗しやすく、プラズマトーチの寿命が非常に短かった。
【０００５】
そこで、本発明は、長寿命化を図ることが可能なプラズマ発生装置及びプラズマトーチを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一つの観点に係るプラズマ発生装置は、黒鉛製のプラズマトーチと、プラズマを発生させるための動作ガスをプラズマトーチに供給する供給手段とを備え、プラズマトーチには、供給手段によって供給される動作ガスの流路として機能する第１及び第２の貫通孔が長手方向に沿って延びるように設けられている。
【０００７】
本発明の一つの観点に係るプラズマ発生装置では、プラズマトーチに第１及び第２の貫通孔が長手方向に沿って延びるように設けられており、これらの貫通孔に供給手段から動作ガスが供給される。そのため、プラズマトーチに設けられている貫通孔が一つである場合と比較して、プラズマトーチと溶湯との間にプラズマが生じた際に、プラズマトーチのうち熱を受ける領域（受熱部）が第１及び第２の貫通孔の近傍に分散する。従って、プラズマトーチの先端面における最高温度が低くなると共に、プラズマトーチの先端面における温度分布がなだらかとなる。その結果、プラズマトーチの長寿命化を図ることが可能となる。
【０００８】
第１及び第２の貫通孔はプラズマトーチの中心軸を囲むように並んで配置されていてもよい。この場合、プラズマトーチの受熱部がより分散しやすくなる。
【０００９】
第１の貫通孔はプラズマトーチの中心軸上に配置されていてもよい。
【００１０】
供給手段は、第１及び第２の貫通孔に同時に動作ガスを供給してもよい。この場合、プラズマが第１及び第２の貫通孔の間に生ずるが、プラズマトーチに設けられている貫通孔が一つの場合と比較してプラズマトーチの受熱部が大きくなる。
【００１１】
供給手段は、第１及び第２の貫通孔に対して一つずつ順番に動作ガスを供給してもよい。この場合、プラズマの発生箇所が第１の貫通孔と第２の貫通孔とで移り変わるので、プラズマトーチの受熱部がより分散しやすくなる。
【００１２】
プラズマトーチには、供給手段によって供給される動作ガスの流路として機能する第３の貫通孔が長手方向に沿って延びるように設けられ、第３の貫通孔はプラズマトーチの中心軸上に配置され、供給手段は、第３の貫通孔に動作ガスを供給しつつ、第１及び第２の貫通孔に対して一つずつ順番に動作ガスを供給してもよい。この場合、プラズマの発生箇所が、第１及び第３の貫通孔の間と、第２及び第３の貫通孔の間とで移り変わるので、プラズマトーチの受熱部がより分散しやすくなる。さらに、プラズマが第１の貫通孔と第２の貫通孔とで移り変わる場合と比較して、プラズマの移動距離が短くなるので、プラズマの安定性をより高めることが可能となる。
【００１３】
本発明の他の観点に係るプラズマトーチは、黒鉛製であり、プラズマを発生させるための動作ガスの流路として機能する第１及び第２の貫通孔が長手方向に沿って延びるように設けられている。
【００１４】
本発明の他の観点に係るプラズマトーチでは、プラズマトーチに、プラズマを発生させるための動作ガスの流路として機能する第１及び第２の貫通孔が長手方向に沿って延びるように設けられている。そのため、プラズマトーチに設けられている貫通孔が一つである場合と比較して、プラズマトーチと溶湯との間にプラズマが生じた際に、プラズマトーチのうち熱を受ける領域（受熱部）が第１及び第２の貫通孔の近傍に分散する。従って、プラズマトーチの先端面における最高温度が低くなると共に、プラズマトーチの先端面における温度分布がなだらかとなる。その結果、プラズマトーチの長寿命化を図ることが可能となる。
【００１５】
第１及び第２の貫通孔は中心軸を囲むように並んでいてもよい。この場合、プラズマトーチの受熱部がより分散しやすくなる。
【００１６】
第１の貫通孔は中心軸上に位置していてもよい。
【発明の効果】
【００１７】
本発明に係るプラズマ発生装置及びプラズマトーチによれば、長寿命化を図ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】図１は、連続鋳造装置の一つの例を示す図である。
【図２】図２の（ａ）はプラズマトーチと動作ガス源との接続状態を示し、図２の（ｂ）はプラズマトーチの先端面を示す。
【図３】図３の（ａ）はプラズマトーチの断面を示し、図３の（ｂ）はプラズマトーチと溶湯との間に生成されるプラズマの温度分布を示す。
【図４】図４の（ａ）は従来のプラズマトーチの断面を示し、図４の（ｂ）は従来のプラズマトーチの先端面を示し、図４の（ｃ）は比較例に係るプラズマトーチと溶湯との間に生成されるプラズマの温度分布を示す。
【図５】図５の（ａ）は他の例に係るプラズマトーチの断面を示し、図５の（ｂ）は他の例に係るプラズマトーチと溶湯との間に生成されるプラズマの温度分布を示す。
【図６】図６の（ａ）は他の例に係るプラズマトーチと動作ガス源との接続状態を示し、図６の（ｂ）は図６の（ａ）のＢ−Ｂ線断面を示す。
【図７】図７の（ａ）は他の例に係るプラズマトーチと動作ガス源との接続状態を示し、図７の（ｂ）は図６の（ａ）のＢ−Ｂ線断面を示す。
【図８】図８は、他の例に係るプラズマトーチを先端面側から見た様子を示す。
【図９】図９は、他の例に係るプラズマトーチを先端面側から見た様子を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下に説明される本発明に係る実施形態は本発明を説明するための例示であるので、本発明は以下の内容に限定されるべきではない。以下の説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。
【００２０】
まず、図１を参照して、連続鋳造装置１００の構成について説明する。連続鋳造装置１００は、取鍋１０１と、タンディッシュ１０２と、鋳型１０３と、鋳片支持ロール１０４と、プラズマ発生装置１を備える。
【００２１】
取鍋１０１は、溶湯（溶鋼）Ｍを貯留する容器である。タンディッシュ１０２は、取鍋１０１の下方に配置されている。タンディッシュ１０２は、取鍋１０１の底壁に設けられたノズル１０１ａから流出した溶湯Ｍを貯留する容器である。鋳型１０３は、タンディッシュ１０２の下方に配置されている。鋳型１０３は、タンディッシュ１０２の底壁に設けられたノズル１０２ａから流出した溶湯を冷却しながら所定形状に成形する。鋳片支持ロール１０４は、鋳型１０３から引き抜かれた鋳片Ｓを冷却しつつ搬送する。
【００２２】
プラズマ発生装置１は、タンディッシュ１０２内の溶湯Ｍの温度を制御するための装置である。プラズマ発生装置１は、プラズマトーチ１０と、トーチ保持具１２と、昇降機１４と、動作ガス源１６とを備える。
【００２３】
プラズマトーチ１０は、黒鉛によって構成されており、例えば直線状に延びる丸棒（直棒）である。プラズマトーチ１０の直径は、例えば５０ｍｍ〜２００ｍｍ程度であってもよい。プラズマトーチ１０の長さは、例えば１０００ｍｍ〜２５００ｍｍ程度であってもよい。プラズマトーチ１０の形状は、丸形以外の他の形状であってもよいし、必ずしも直線状に延びておらず屈曲していてもよい。プラズマトーチ１０は、図示しない電源に接続されており、所定の電圧（例えば１００Ｖ〜５００Ｖ程度）が印加される。
【００２４】
プラズマトーチ１０には、図２に示されるように、複数の貫通孔Ｈ１〜Ｈ４が設けられている。貫通孔Ｈ１〜Ｈ４は、例えば円形状を呈し、プラズマトーチ１０の長手方向に沿って延びている。貫通孔Ｈ１〜Ｈ４の直径は、例えば１０ｍｍ程度であってもよい。貫通孔Ｈ１〜Ｈ４は、プラズマトーチ１０の中心軸Ａｘを中心に同一半径（同一円周）上に並んでいる。貫通孔Ｈ１〜Ｈ４のうち隣り合う２つの貫通孔同士の距離（貫通孔Ｈ１，Ｈ２の距離、貫通孔Ｈ２，Ｈ３の距離、貫通孔Ｈ３，Ｈ４の距離、及び貫通孔Ｈ４，Ｈ１の距離）は、いずれも略同一である。
【００２５】
図１に戻って、トーチ保持具１２は、プラズマトーチ１０の上端部を保持する。トーチ保持具１２は、例えば、プラズマトーチ１０が鉛直軸に対して０°〜３０°程度傾くようにプラズマトーチ１０を保持可能である。昇降機１４は、トーチ保持具１２を上下方向に昇降させる。そのため、トーチ保持具１２によって保持されているプラズマトーチ１０も、昇降機１４によって上下方向に昇降され、タンディッシュ１０２内の溶湯Ｍに対して近接及び離間する。
【００２６】
動作ガス源１６は、図１及び図２に示されるように、プラズマを発生させるための動作ガス（例えば、アルゴン、窒素等の不活性ガス）を貫通孔Ｈ１〜Ｈ４に供給する。そのため、貫通孔Ｈ１〜Ｈ４は、動作ガスの流路として機能する。動作ガス源１６は、配管１８を介して貫通孔Ｈ１〜Ｈ４とそれぞれ接続されている。すなわち、配管１８は、動作ガス源１６から延びた後４つに分岐し、貫通孔Ｈ１〜Ｈ４に至っている。配管１８のうち４つの分岐部分には、それぞれバルブ２０が設けられている。バルブ２０の開閉に応じて、動作ガス源１６からの動作ガスの各貫通孔Ｈ１〜Ｈ４への供給状態と非供給状態とが切り替わる。本実施形態では、動作ガス源１６、配管１８及びバルブ２０が、動作ガスを貫通孔Ｈ１〜Ｈ４（プラズマトーチ１０）に供給する供給手段として機能する。
【００２７】
プラズマ発生装置１によってプラズマを発生させる場合には、まず、プラズマトーチ１０の先端部Ｔの周囲（溶湯Ｍの湯面近傍）を動作ガス雰囲気とする。具体的には、各バルブ２０が順番に開閉するように制御することで、動作ガス源１６から貫通孔Ｈ１、貫通孔Ｈ２、貫通孔Ｈ３及び貫通孔Ｈ４に対して一つずつ順番に動作ガスを供給する。貫通孔１０Ｄへの動作ガスの供給が行われると、貫通孔Ｈ１への動作ガスを行い、以下では４つの貫通孔Ｈ１〜Ｈ４に対する動作ガスの供給が繰り返される。ある貫通孔から次の貫通孔への動作ガスの供給の切り替え時間は、例えば５秒程度であってもよい。
【００２８】
次に、プラズマトーチ１０に所定の電圧を印加させる。そして、この状態で、昇降機１４によってプラズマトーチ１０を溶湯Ｍに向けて降下させ、プラズマトーチ１０と溶湯Ｍとの距離（ギャップ）が所定の大きさとなるまで近づける。そうすると、プラズマトーチ１０と溶湯Ｍとの間で絶縁破壊が生じ、プラズマトーチ１０と溶湯Ｍとの間に電流が流れる。これにより、図３の（ａ）に示されるように、プラズマトーチ１０と溶湯Ｍとの間にプラズマＰが発生する。
【００２９】
このとき、貫通孔Ｈ１〜Ｈ４からはそれぞれ一つずつ順番に動作ガスが溶湯Ｍに向けて排出される。そのため、図３の（ａ）に示されるように、プラズマトーチ１０の先端面１０ａと溶湯Ｍとの間に生成されるプラズマＰの発生箇所も、貫通孔Ｈ１〜Ｈ４に対する動作ガスの供給の切り替わり（動作ガスの排出が行われる貫通孔Ｈ１〜Ｈ４の切り替わり）に応じて移り変わる。従って、プラズマトーチ１０のうち熱を受ける領域（受熱部）が、貫通孔Ｈ１〜Ｈ４の近傍に分散する。その結果、プラズマトーチ１０の先端面１０ａの温度は、図３の（ｂ）に示されるように、貫通孔Ｈ１〜Ｈ４の近傍において最高値を示し、貫通孔Ｈ１〜Ｈ４から離れるにつれて徐々に低くなる。なお、プラズマトーチ１０は、熱を受けることにより徐々に消耗していく。
【００３０】
ところで、図４の（ａ）及び（ｂ）に示されるように、従来の黒鉛製のプラズマトーチ５０には、その長手方向に延びる一つの貫通孔Ｈ５０が設けられていた。プラズマトーチ５０を用いると、図４の（ａ）に示されるように、貫通孔Ｈ５０の中心にプラズマＰが発生する。そのため、図４の（ｃ）に示されるように、プラズマトーチ５０の先端面５０ａのうち貫通孔Ｈ５０近傍が高温に加熱される。従って、高温によってプラズマトーチ５０が損耗しやすく、プラズマトーチ５０の寿命が非常に短かった。
【００３１】
しかしながら、以上のような本実施形態では、プラズマトーチ１０に貫通孔Ｈ１〜Ｈ４が長手方向に沿って延びるように設けられており、これらの貫通孔Ｈ１〜Ｈ４に供給手段（動作ガス源１６、配管１８及びバルブ２０）から動作ガスが供給される。そのため、一つの貫通孔Ｈ５０が設けられた従来のプラズマトーチ５０と比較して、プラズマトーチ１０と溶湯Ｍとの間にプラズマＰが生じた際に、プラズマトーチ１０のうち熱を受ける領域（受熱部）が貫通孔Ｈ１〜Ｈ４の近傍に分散する。従って、プラズマトーチ１０の先端面１０ａにおける最高温度が低くなると共に、プラズマトーチの先端面１０ａにおける温度分布がなだらかとなる。その結果、プラズマトーチ１０の長寿命化を図ることが可能となる。
【００３２】
本実施形態では、貫通孔Ｈ１〜Ｈ４がプラズマトーチの中心軸Ａｘを囲むように並んで配置されている。そのため、プラズマトーチ１０の受熱部がより分散しやすくなる。
【００３３】
本実施形態では、動作ガス源１６から貫通孔Ｈ１、貫通孔Ｈ２、貫通孔Ｈ３及び貫通孔Ｈ４に対して一つずつ順番に動作ガスが供給される。そのため、プラズマＰの発生箇所が、貫通孔Ｈ１〜Ｈ４に対する動作ガスの供給の切り替わり（動作ガスの排出が行われる貫通孔Ｈ１〜Ｈ４の切り替わり）に応じて移り変わる。従って、プラズマトーチ１０の受熱部がさらに分散しやすくなる。
【００３４】
以上、本発明に係る実施形態について詳細に説明したが、本発明の要旨の範囲内で種々の変形を上記の実施形態に加えてもよい。例えば、図３に示されるように、プラズマトーチ１０が鉛直軸に対して５°以上の大きさで傾むいている場合には、プラズマトーチ１０の先端面１０ａのうち貫通孔Ｈ１の近傍と溶湯Ｍとの直線距離が、貫通孔Ｈ２，Ｈ４の近傍と溶湯Ｍとの直線距離よりも大きくなる。そのため、貫通孔Ｈ１の近傍と溶湯Ｍとの間に生ずるプラズマよりも、貫通孔Ｈ２，Ｈ４の近傍と溶湯Ｍとの間に生ずるプラズマの方が、安定性が高い。同様に、貫通孔Ｈ２，Ｈ４の近傍と溶湯Ｍとの直線距離が、貫通孔Ｈ３の近傍と溶湯Ｍとの直線距離よりも大きくなる。そのため、貫通孔Ｈ２，Ｈ４の近傍と溶湯Ｍとの間に生ずるプラズマよりも、貫通孔Ｈ３の近傍と溶湯Ｍとの間に生ずるプラズマの方が、安定性が高い。従って、プラズマトーチ１０の先端面１０ａと溶湯Ｍとの間における動作ガスの濃度が略一定となるよう、各貫通孔Ｈ１〜Ｈ４と溶湯Ｍとの直線距離に応じて、動作ガス源１６から各貫通孔Ｈ１〜Ｈ４に供給される動作ガスの供給時間及び／又は流量を変化させてもよい。具体的には、当該直線距離が大きいほど、動作ガスの供給時間を短くすることと、動作ガスの流量を少なくすることとの少なくとも一つの制御をしてもよい。あるいは、当該直線距離が大きいほど、動作ガスの供給時間を長くすることと、動作ガスの流量を多くすることとの少なくとも一つの制御をしてもよい。
【００３５】
動作ガス源１６から貫通孔Ｈ１〜Ｈ４の全に対して同時に動作ガスを供給してもよい。この場合、貫通孔Ｈ１〜Ｈ４の全てから同時に動作ガスが溶湯Ｍに向けて排出される。そのため、図５の（ａ）に示されるように、プラズマＰが貫通孔Ｈ１〜Ｈ４の間（中心軸Ａｘの近傍）に生ずる。プラズマＰの発生箇所は従来のプラズマトーチ５０と同等であるが、プラズマトーチ１０の先端面１０ａのうち貫通孔Ｈ１〜Ｈ４の近傍において熱を受けることから、従来のプラズマトーチ５０と比較してプラズマトーチ１０の受熱部が大きくなる。従って、図５の（ｂ）において実線で示されるように、従来のプラズマトーチ５０と比較して、プラズマトーチ１０の先端面１０ａにおける最高温度が低くなると共に、プラズマトーチ１０の先端面１０ａにおける温度分布がなだらかとなる。その結果、プラズマトーチ１０の長寿命化を図ることが可能となる。なお、図５の（ｂ）において、破線は従来のプラズマトーチ５０の温度分布を示す。
【００３６】
上記の実施形態では、動作ガス源１６は、４つに分岐する配管１８及び４つのバルブ２０を介して貫通孔Ｈ１〜Ｈ４とそれぞれ接続されていたが、図６に示されるように、流路切替部材２２を用いてもよい。流路切替部材２２は、プラズマトーチ１０の基端側に配置されている。流路切替部材２２は、プラズマトーチ１０の中心軸Ａｘ周りに回転可能に構成されている。
【００３７】
流路切替部材２２には、図６の（ａ）に示されるように、流路２２ａ〜２２ｃが設けられている。流路２２ａは、動作ガス源１６側（上流側）に向けて開放されており、断面円形状を呈している。流路２２ａは、中心軸Ａｘ上に沿って延びている。流路２２ａの開放端は、配管１８を介して動作ガス源１６に接続されている。流路２２ｂは、プラズマトーチ１０側（下流側）に向けて開放されており、図６の（ｂ）に示されるように、断面円弧状を呈している。流路２２ｂの中心角は、９０°〜２７０°程度であってもよい。この場合、流路切替部材２２の回転に伴い、流路２２ｂは、貫通孔Ｈ１〜Ｈ４のうち少なくとも１つの貫通孔と連通する。図６の（ａ）に戻って、流路２２ｃは、流路２２ａと流路２２ｂとを接続している。
【００３８】
このような流路切替部材２２によれば、流路切替部材２２の回転に伴い、動作ガス源１６からの動作ガスが貫通孔Ｈ１〜Ｈ４のうち少なくとも１つの貫通孔に供給される。従って、流路切替部材２２を回転させるだけで、貫通孔Ｈ１〜Ｈ４に対する動作ガスの供給の切り替え（動作ガスの排出が行われる貫通孔Ｈ１〜Ｈ４の切り替え）を簡便に行うことができる。
【００３９】
図７に示されるように、プラズマトーチ１０には、その長手方向に沿って中心軸Ａｘ上に配置されている貫通孔Ｈ５がさらに設けられていてもよい。この場合、動作ガス源１６から各貫通孔Ｈ１〜Ｈ５に動作ガスを供給する際には、上記の実施形態と同様に、５つに分岐する配管１８及び５つのバルブ２０を用いてもよい。あるいは、図７に示されるように、流路切替部材２４を用いてもよい。流路切替部材２４は、プラズマトーチ１０の基端側に配置されている。流路切替部材２４は、プラズマトーチ１０の中心軸Ａｘ周りに回転可能に構成されている。
【００４０】
流路切替部材２４には、図７の（ａ）に示されるように、流路２４ａ〜２４ｃが設けられている。流路２４ａは、中心軸Ａｘに沿って延びる貫通孔であり、中心軸上に配置されている。流路２４ａの動作ガス源１６側（上流側）の開放端は、配管１８を介して動作ガス源１６に接続されている。流路２４ａのプラズマトーチ１０側（下流側）の開放端は、貫通孔Ｈ５に接続されている。流路２４ｂは、プラズマトーチ１０側（下流側）に向けて開放されており、図７の（ｂ）に示されるように、断面円弧状を呈している。流路２４ｂの中心角は、９０°〜２７０°程度であってもよい。この場合、流路切替部材２４の回転に伴い、流路２４ｂは、貫通孔Ｈ１〜Ｈ４のうち少なくとも１つの貫通孔と連通する。図７の（ａ）に戻って、流路２４ｃは、流路２４ａと流路２４ｂとを接続している。
【００４１】
このような流路切替部材２４によれば、動作ガス源１６からの動作ガスが流路２４ａを通じて貫通孔Ｈ５に供給されつつ、流路切替部材２４の回転に伴い、動作ガス源１６からの動作ガスが貫通孔Ｈ１〜Ｈ４のうち少なくとも１つの貫通孔に供給される。従って、流路切替部材２４を回転させるだけで、貫通孔Ｈ１〜Ｈ４に対する動作ガスの供給の切り替え（動作ガスの排出が行われる貫通孔Ｈ１〜Ｈ４の切り替え）を簡便に行うことができる。加えて、プラズマＰの発生箇所が、貫通孔Ｈ１，Ｈ５の間と、貫通孔Ｈ２，Ｈ５との間と、貫通孔Ｈ３，Ｈ５との間と、貫通孔Ｈ４，Ｈ５との間で移り変わる。そのため、プラズマＰの発生箇所が貫通孔Ｈ１〜Ｈ４の間で移り変わる場合と比較して、プラズマＰの移動距離が短くなるので、プラズマＰの安定性をより高めることが可能となる。
【００４２】
プラズマトーチ１０には、少なくとも２つの貫通孔が設けられていればよい。図８の（ａ）〜（ｅ）に示される例では、プラズマトーチ１０には、その中心軸Ａｘ上に配置された貫通孔Ｈ１０と、中心軸Ａｘを囲むように並んで配置された少なくとも一つの貫通孔Ｈ１１〜Ｈ１５とが設けられている。図８の（ｂ）〜（ｅ）に示される例では、貫通孔Ｈ１１〜Ｈ１５は、中心軸Ａｘを中心に同一半径上に並んでいる。図８の（ｂ）〜（ｅ）に示される例では、貫通孔Ｈ１１〜Ｈ１５のうち隣り合う２つの貫通孔同士の距離は、いずれも略同一である。図８の（ｆ）〜（ｉ）はそれぞれ、図８の（ｂ）〜（ｅ）の各例において貫通孔Ｈ１０が設けられていない例を示す。
【００４３】
図９の（ａ）〜（ｃ）はそれぞれ、図８の（ｃ）〜（ｅ）の各例において貫通孔Ｈ１２〜Ｈ１５が貫通孔Ｈ１１から離れる側に偏って配置されている例を示す。先端面１０ａのうち貫通孔Ｈ１２〜Ｈ１５が配置されている側の領域と溶湯Ｍとの直線距離が、先端面１０ａのうち貫通孔Ｈ１１が配置されている側の領域と溶湯Ｍとの直線距離よりも大きくなるように、プラズマトーチ１０を傾けて保持してもよい。この場合、先端面１０ａにおいて貫通孔Ｈ１２〜Ｈ１５が密集している領域において動作ガスの濃度が高くなるものの、当該領域と溶湯Ｍとの直線距離が大きくなるので、プラズマトーチ１０の先端面１０ａと溶湯Ｍとの間における動作ガスの濃度が略一定となる。従って、プラズマトーチ１０の先端面１０ａと溶湯Ｍとの間に生ずるプラズマの安定性が高まる。図９の（ａ）〜（ｃ）の各例においても、貫通孔Ｈ１０が設けられていなくてもよい。
【００４４】
図９の（ｄ）〜（ｇ）の各例に示されるように、中心軸Ａｘの周りに位置する貫通孔Ｈ１１〜Ｈ１４と、中心軸Ａｘの周りに位置する貫通孔Ｈ２１とが、同一円周上に位置していなくてもよい。具体的には、中心軸Ａｘからの貫通孔Ｈ１１〜Ｈ１４の直線距離は、中心軸Ａｘからの貫通孔Ｈ２１の直線距離よりも大きい。図９の（ｄ）〜（ｇ）の各例においても、貫通孔Ｈ１０が設けられていなくてもよい。
【符号の説明】
【００４５】
１…プラズマ発生装置、１０…プラズマトーチ、１０ａ…先端面、１２…トーチ保持具、１４…昇降機、１６…動作ガス源（供給手段）、１８…配管（供給手段）、２０…バルブ（供給手段）、２２，２４…流路切替部材、２２ａ〜２２ｃ，２４ａ〜２４ｃ…流路、５０…プラズマトーチ、５０ａ…先端面、１００…連続鋳造装置、１０１…取鍋、１０１ａ…ノズル、１０２…タンディッシュ、１０２ａ…ノズル、１０３…鋳型、１０４…鋳片支持ロール、Ａｘ…中心軸、Ｈ１〜Ｈ５，Ｈ１０〜Ｈ１５，Ｈ２１，Ｈ５０…貫通孔、Ｍ…溶湯（溶鋼）、Ｐ…プラズマ、Ｔ…先端部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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