(57)【要約】【課題】成分の染み出しが抑制された乾燥剤層を形成することができ、しかも粘度の長時間における安定性に優れた乾燥剤組成物を提供すること。【解決手段】（メタ）アクリル基を有し、２５℃で液状の高分子量（メタ）アクリル化合物と、アルカリ土類金属の酸化物を含む酸化物粒子と、を含有する、乾燥剤組成物が開示される。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
（メタ）アクリル基を有し、２５℃で液状の高分子量（メタ）アクリル化合物と、
アルカリ土類金属の酸化物を含む酸化物粒子と、
を含有する、乾燥剤組成物。
【請求項２】
２５℃の環境下に２４時間放置された後の当該乾燥剤組成物の２５℃における粘度が、放置前の当該乾燥剤組成物の２５℃における粘度に対して＋１０％以内である、請求項１に記載の乾燥剤組成物。
【請求項３】
２５℃の環境下に４８時間放置された後の当該乾燥剤組成物の２５℃における粘度が、放置前の当該乾燥剤組成物の２５℃における粘度に対して＋１０％以内である、請求項１又は２に記載の乾燥剤組成物。
【請求項４】
前記高分子量（メタ）アクリル化合物が、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する液状変性ポリブタジエン、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する液状変性シリコーン、又はこれらの組み合わせである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の乾燥剤組成物。
【請求項５】
対向配置された一対の基板と、
前記一対の基板の外周部を封止する封止シール剤と、
前記封止シール剤の内側で前記一対の基板の間に設けられた、請求項１〜４のいずれか一項に記載の乾燥剤組成物の硬化物である乾燥剤層と、
を備える封止構造。
【請求項６】
素子基板と、
前記素子基板に対して対向配置された封止基板と、
前記素子基板及び前記封止基板の外周部を封止する封止シール剤と、
前記封止シール剤の内側で前記素子基板上に設けられた、有機層及びこれを挟持する一対の電極を有する積層体と、
前記封止シール剤の内側で前記封止基板上に設けられた、請求項１〜４のいずれか一項に記載の乾燥剤組成物の硬化物である乾燥剤層と、
を備える有機ＥＬ素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、乾燥剤組成物、封止構造、及び有機ＥＬ素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子は、一般に有機発光材料を含む有機層を有しており、ダークスポットと呼ばれる有機層の非発光部の発生とその成長を防止することが望まれている。ダークスポットの主原因としては、水分及び酸素の影響が大きく、特に水分は極めて微量でもダークスポットの発生に大きな影響を及ぼすことが知られている。
【０００３】
そこで、有機ＥＬ素子への水分及び酸素の浸入を防止する方法が種々検討されている。例えば、有機層及び電極を乾燥させた不活性ガス雰囲気の気密容器内に封止し、さらに気密容器内に乾燥剤を封入した中空封止構造が提案されている。例えば、特許文献１は、乾燥剤としての五酸化二リン等の酸化物粒子を樹脂中に混合分散して構成された乾燥剤層を封止キャップの内面に備える有機ＥＬ素子を開示している。ここでは樹脂としてシリコーン系樹脂、エポキシ系樹脂等が用いられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−０３５６５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、シリコーン系樹脂等を含む乾燥剤層を備えた従来の有機ＥＬ素子では、長期保管時に有機ＥＬ素子中の有機層が溶解することがある。これは、シリコーン系樹脂等が乾燥剤層から染み出し、これが有機層を溶解するためであると考えられる。
【０００６】
乾燥剤の酸化物粒子を分散する樹脂として硬化性樹脂を用い、これを硬化することで、乾燥剤層からの樹脂成分の染み出しが抑制されることが期待される。ところが、硬化性樹脂を含む乾燥剤層を形成するための乾燥剤組成物は、保管中又は使用中に意図しない硬化反応の進行によって増粘してしまうことがあった。硬化性樹脂を含む乾燥剤組成物を用いる場合、乾燥剤組成物の塗布及び硬化によって乾燥剤層を形成することが多いが、安定した塗布のために、乾燥剤組成物の粘度が長時間安定であることが製造プロセス上望ましい。
【０００７】
そこで、本発明の一側面は、成分の染み出しが抑制された乾燥剤層を形成することができ、しかも粘度の長時間における安定性に優れた乾燥剤組成物の提供を主な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一側面は、（メタ）アクリル基を有し、２５℃で液状の高分子量（メタ）アクリル化合物と、アルカリ土類金属の酸化物を含む酸化物粒子と、を含有する、乾燥剤組成物を提供する。
【０００９】
この乾燥剤組成物は、成分の染み出しが抑制された乾燥剤層を形成することができ、しかも優れた粘度の安定性を有することができる。（メタ）アクリル化合物は、酸化物粒子が共存すると保存時に重合し易い傾向があるが、高分子量（メタ）アクリル化合物を用いることにより、そのような重合による増粘が抑制される。高分子量（メタ）アクリル化合物として室温（２５℃）で液状のものを用いることで、乾燥剤組成物が塗布に適した流動性を有することができる。
【００１０】
２５℃の環境下に２４時間又は４８時間放置された後の当該乾燥剤組成物の２５℃における粘度が、放置前の当該乾燥剤組成物の２５℃における粘度に対して＋１０％以内であってもよい。高分子量（メタ）アクリル化合物の含有量、分子量等を調整することで、乾燥剤組成物を容易にこのような粘度変化の少ないものとすることができる。
【００１１】
高分子量（メタ）アクリル化合物は、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する液状変性ポリブタジエン、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する液状変性シリコーン、又はこれらの組み合わせであってもよい。
【００１２】
別の側面において、本発明は、対向配置された一対の基板と、一対の基板の外周部を封止する封止シール剤と、封止シール剤の内側で一対の基板の間に設けられた、上記乾燥剤組成物の硬化物である乾燥剤層と、を備える封止構造を提供する。
【００１３】
更に別の側面において、本発明は、素子基板と、素子基板に対して対向配置された封止基板と、素子基板及び封止基板の外周部を封止する封止シール剤と、封止シール剤の内側で素子基板上に設けられた、有機層及びこれを挟持する一対の電極を有する積層体と、封止シール剤の内側で封止基板上に設けられた、上記乾燥剤組成物の硬化物である乾燥剤層と、を備える有機ＥＬ素子を提供する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、成分の染み出しが抑制された乾燥剤層を形成することができ、しかも粘度の長時間における安定性に優れた乾燥剤組成物を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】有機ＥＬ素子の一実施形態を示す模式断面図である。
【図２】乾燥剤組成物の粘度と放置時間との関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明のいくつかの実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。本明細書中、「（メタ）アクリル」とは、アクリル、メタクリル又はその両方を意味する。これは（メタ）アクリロイルオキシ基等の他の類似の表現においても同様である。
【００１７】
＜乾燥剤組成物＞
一実施形態に係る乾燥剤組成物は、（メタ）アクリル基を有する高分子量（メタ）アクリル化合物と、アルカリ土類金属の酸化物を含む酸化物粒子とを含有する硬化性組成物である。
【００１８】
高分子量（メタ）アクリル化合物は、分子内に１個又は２個以上の（メタ）アクリル基（典型的には（メタ）アクリロイルオキシ基）を有する高分子量のラジカル重合性化合物である。硬化性及び成分の染み出し抑制の観点から、高分子量（メタ）アクリル化合物は、２個以上の（メタ）アクリル基を有していてもよく、２個の（メタ）アクリル基を有していてもよい。
【００１９】
高分子量（メタ）アクリル化合物は、２５℃で液状である。言い換えると、高分子量（メタ）アクリル化合物は、２５℃で固体化せず、液状である程度に高い分子量を有する。このように液状で高分子量の（メタ）アクリル化合物を導入することにより、粘度の長時間における安定性に優れた乾燥剤組成物を得ることができる。また、乾燥材層からの揮発物に起因する有機ＥＬ素子の損傷を抑制するためにも、高分子量（メタ）アクリル化合物は有利である。高分子量（メタ）アクリル化合物の分子量は、より具体的には、例えば９００以上、３０００以上、４０００以上、５０００以上、６０００以上、７０００以上又は８０００以上であってもよく、３００００以下、２００００以下、又は１５０００以下であってもよい。これら分子量は数平均分子量であってもよい。
【００２０】
高分子量（メタ）アクリル化合物の官能基当量（（メタ）アクリル基１個当たりの分子量）が、４５０〜１５０００であってもよい。これにより、液状でありながら、粘度の安定性向上に特に大きく寄与することができる。同様の観点から、高分子量（メタ）アクリル化合物の官能基当量は、１０００以上、１４００以上、２０００以上、２５００以上、３０００以上、３５００以上、又は４０００以上であってもよく、１００００以下、又は７５００以下であってもよい。
【００２１】
高分子量（メタ）アクリル化合物は、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する液状変性ポリブタジエン、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する液状変性シリコーン、又はこれら２種の組み合わせであってもよい。
【００２２】
液状変性ポリブタジエンは、例えば下記式（Ｉ）で表される。式（Ｉ）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、ｌ、ｍ及びｎはそれぞれ独立に１以上の整数を示す。各繰り返し単位が連結する順序は任意である。
【００２３】
【化１】
2018106961.tif 000003
【００２４】
液状変性シリコーンは、例えば下記式（ＩＩ）で表される。式（ＩＩ）中、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に２価の有機基を示し、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、ｘは１以上の整数を示す。Ｒ３及びＲ４は、アルキレン基であってもよい。
【００２５】
【化２】
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【００２６】
乾燥剤組成物は、高分子量（メタ）アクリル化合物と共重合し得るその他の重合性化合物を更に含有してもよい。その他の重合性化合物は、１個又は２個以上の（メタ）アクリロイル基を有し、９００未満の分子量を有する（メタ）アクリル化合物を含んでいてもよい。粘度の安定性向上の効果の観点から、高分子量（メタ）アクリル化合物の含有量は、高分子量（メタ）アクリル化合物及びその他の重合性化合物の合計量に対して、８０〜１００質量％、又は９０〜１００質量％であってもよい。
【００２７】
１個の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリル化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸；（メタ）アクリル酸アミド；メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート（ｎ−ラウリル（メタ）アクリレート）、ステアリル（メタ）アクリレート等のアルキル基の炭素数１〜２４のアルキル（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の芳香族炭化水素基を有する（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート等の脂環式基を有する（メタ）アクリレート；メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のアルキレングリコール鎖含有（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００２８】
２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリル化合物としては、例えば、アルキレンジオールジ（メタ）アクリリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、及びポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００２９】
これらの（メタ）アクリル化合物は、１種を単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００３０】
乾燥剤組成物における、高分子量（メタ）アクリル化合物及びその他の重合性化合物の合計量は、乾燥剤組成物の全体質量に対して、３０〜９０質量％であってもよい。重合性化合物の含有量がこの範囲であると、より優れた塗布性及び補水性能を確保し易い傾向がある。同様の観点から、高分子量（メタ）アクリル化合物及びその他の重合性化合物の合計量は、３０質量％以上又は５０質量％以上であってもよく、９０質量％以下又は７０質量％以下であってもよい。
【００３１】
乾燥剤組成物中の酸化物粒子は、酸化物粒子に補水性能を付与し得るアルカリ土類金属の酸化物を含む。酸化物粒子は、通常、酸化物粒子の質量を基準として８０質量％以上、又は９０質量％以上のアルカリ土類金属の酸化物を含む。酸化物粒子は、１種、又は成分の異なる２種以上のアルカリ土類金属の酸化物を含むことができる。
【００３２】
アルカリ土類金属の酸化物としては、例えば、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）、及び酸化バリウム（ＢａＯ）が挙げられる。アルカリ土類金属の酸化物は、酸化マグネシウム及び／又は酸化カルシウムであってもよい。
【００３３】
酸化物粒子の平均粒径は、特に制限されないが、例えば、０．０１〜３０μｍであってもよい。酸化物粒子の平均粒径がこの範囲であると、より高い補水性能が得られる傾向にある。同様の観点から、酸化物粒子の平均粒径は、０．１μｍ以上、０．５μｍ以上、又は１μｍ以上であってもよく、２０μｍ以下、１０μｍ以下、又は５μｍ以下であってもよい。
【００３４】
本明細書において、酸化物粒子の平均粒径は、動的光散乱式粒度分布計で測定した体積分布の中央値を意味する。この平均粒径は、酸化物粒子を所定の分散媒中に分散させて調整した分散液を用いて測定される値である。
【００３５】
酸化物粒子の比表面積は、５〜６０ｍ２／ｇであってもよい。比表面積が５〜６０ｍ２／ｇであると、乾燥剤がより一層優れた捕水性能を有することできる。同様の観点から、酸化物粒子の比表面積は、１０ｍ２／ｇ以上又は１５ｍ２／ｇ以上であってもよく、５０ｍ２／ｇ以下、４０ｍ２／ｇ以下、又は３５ｍ２／ｇ以下であってもよい。ここでの比表面積は、ＢＥＴ法によって測定される値を意味する。
【００３６】
酸化カルシウムを含む酸化物粒子は、例えば、生石灰（ＣａＯ）を水酸化処理して消石灰（Ｃａ（ＯＨ）２）を得る工程と、消石灰を焼成して生石灰を得る工程と、生石灰を粉砕する工程と、をこの順に備える方法によって得ることができる。
【００３７】
酸化物粒子は有機酸又は酸無水物によって表面修飾されていてもよい。酸化物粒子が表面修飾されることによって、酸化物粒子の表面の塩基性が低くなり、その結果、高分子量（メタ）アクリル化合物を含む重合性化合物の意図しない重合反応が更に抑制され得る。る。
【００３８】
酸化物粒子と、有機酸及び／又は無水物とを混合することを含む方法によって、酸化物粒子を有機酸及び／又は無水物を表面修飾することができる。酸化物粒子が表面修飾されたことは、例えば、酸化物粒子と、有機酸及び／又は無水物とを混合したときに発熱が生じることから確認することができる。
【００３９】
乾燥剤組成物における酸化物粒子の含有量は、乾燥剤組成物の全体質量に対して、５〜７０質量％であってもよい。酸化物粒子の含有量がこの範囲であると、より高い補水性能が得られる傾向にある。同様の観点から、酸化物粒子の含有量は、１０質量％以上又は３０質量％以上であってもよく、６０質量％以下又は５０質量％以下であってもよい。
【００４０】
乾燥剤組成物は、効率的な光硬化のために光重合開始剤を更に含有していてもよい。光重合開始剤としては、例えば、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オンが挙げられる。
【００４１】
乾燥剤組成物が光重合開始剤を含む場合、その含有量は、乾燥剤組成物中の重合性化合物の質量（高分子量（メタ）アクリル化合物及びその他の重合性化合物の合計量）に対して、例えば０．０１〜１０質量％であってもよい。
【００４２】
組成物層を硬化（特に光硬化）させることによって、乾燥剤組成物の硬化物である乾燥剤層を形成することができる。硬化のための光の種類は、硬化反応が進行するものであれば特に制限されないが、例えば、ＵＶ（紫外線）光であってもよい。光源としては、例えば、低圧水銀ランプ等の水銀ランプが挙げられる。硬化に必要な照射量は、例えば、１〜１０Ｊ／ｃｍ２とすることができる。硬化に必要な時間は、例えば、０．５〜５分間とすることができる。
【００４３】
乾燥剤組成物は、２５℃でペースト状であることができる。乾燥剤組成物がペースト状であると、有機ＥＬ素子の微小な気密空間内に塗布によって、組成物層をより容易に形成することができる。乾燥剤組成物の２５℃における粘度は、５〜５００Ｐａ・ｓであってもよい。乾燥剤組成物の２５℃における粘度がこの範囲であると、塗布によって組成物層をより容易に形成することができる。同様の観点から、乾燥剤組成物の粘度は、１０Ｐａ・ｓ以上又は５０Ｐａ・ｓ以上であってもよく、４００Ｐａ・ｓ以下又は３００Ｐａ・ｓ以下であってもよい。ここでの粘度は、Ｂ型粘度計、レオメーター等の回転粘度計によって測定される値である。
【００４４】
乾燥剤組成物は、室温（２５℃）で放置されたときに、安定した粘度を有することができる。具体的には、２５℃の環境下に２４時間又は４８時間放置された後の乾燥剤組成物の２５℃における粘度が、放置前の乾燥剤組成物の粘度に対して＋１０％以内であることができる。このように高い粘度安定性を有する乾燥剤組成物は、乾燥剤層を安定して形成することができる。酸化物粒子と高分子量（メタ）アクリル化合物の組み合わせにより、このような高い粘度安定性を有する乾燥剤組成物を容易に得ることができる。
【００４５】
＜封止構造＞
一実施形態に係る封止構造は、対向配置された一対の基板と、一対の基板の外周部を封止する封止シール剤と、封止シール剤の内側で一対の基板の間に設けられた乾燥剤層とを備える。乾燥剤層は、上述の実施形態に係る乾燥剤を含むことができる。乾燥剤層は、封止された空間（一対の基板の間で封止シール剤の内側の空間）を充填していてもよい。
【００４６】
本実施形態の封止構造は、水分の影響を受けやすいデバイスを封入する際に特に好適に利用することができる。このようなデバイスとしては、例えば、有機ＥＬ素子、有機半導体、有機太陽電池等の有機電子デバイスが挙げられる。
【００４７】
＜有機ＥＬ素子＞
図１は、有機ＥＬ素子の一実施形態を示す模式断面図である。図１に示す有機ＥＬ素子１は、素子基板２と、素子基板２に対して対向配置された封止基板３と、素子基板２上に設けられた、有機層４及び有機層４を挟持する陽極５及び陰極６を有する積層体と、素子基板２及び封止基板３の外周部を封止する封止シール剤８と、封止シール剤８の内側で封止基板３上に設けられた乾燥剤層７とから構成される、いわゆる中空封止構造の有機ＥＬ素子である。乾燥剤層７は、上記実施形態の乾燥剤組成物の硬化物であることができる。乾燥剤層７が上記実施形態の組成物の硬化物であることにより、当該乾燥剤層に含まれる成分の染み出しを抑制することができる。ただし、有機ＥＬ素子は、図１のような中空封止構造に限定されず、例えば、素子基板、封止基板及び封止シール層によって囲まれた気密空間に充填された乾燥剤層を有する、充填構造の有機ＥＬ素子であってもよい。
【００４８】
有機ＥＬ素子１において、乾燥剤層７以外の要素に関しては通常の構成を適用することができるが、その一例を以下で簡単に説明する。
【００４９】
素子基板２は、絶縁性及び透光性を有する矩形状のガラス基板からなり、この素子基板２上には、透明導電材であるＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）によって陽極５（電極）が形成されている。この陽極５は、例えば真空蒸着法、スパッタ法等のＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法により素子基板２上に成膜されるＩＴＯ膜をフォトレジスト法によるエッチングで所定のパターン形状にパターニングすることにより形成される。電極としての陽極５の一部は、素子基板２の端部まで引き出されて駆動回路（図示せず）に接続される。
【００５０】
陽極５の上面には、例えば、真空蒸着法、抵抗加熱法等のＰＶＤ法により、有機発光材料を含む薄膜である有機層４が積層されている。有機層４は、単一の層から形成されていてもよく、機能の異なる複数の層から形成されていてもよい。本実施形態における有機層４は、陽極５側から順に、ホール注入層４ａ、ホール輸送層４ｂ、発光層４ｃ及び電子輸送層４ｄが積層された４層構造である。ホール注入層４ａは、例えば数１０ｎｍの膜厚の銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）から形成される。ホール輸送層４ｂは、例えば数１０ｎｍの膜厚のｂｉｓ［Ｎ−（１−ｎａｐｈｔｈｙｌ）−Ｎ−ｐｈｅｎｙｌ］ｂｅｎｚｉｄｉｎｅ（α−ＮＰＤ）から形成される。発光層４ｃは、例えば数１０ｎｍの膜厚のトリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ３）から形成される。電子輸送層４ｄは、例えば数ｎｍの膜厚のフッ化リチウム（ＬｉＦ）から形成される。そして、陽極５、有機層４及び後述する陰極６がこの順で積層された積層体により、発光部が形成されている。
【００５１】
有機層４（電子輸送層４ｄ）の上面には、真空蒸着法等のＰＶＤ法により、金属薄膜である陰極６（電極）が積層されている。金属薄膜の材料としては、例えばＡｌ、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｉｎ等の仕事関数の小さい金属単体やＡｌ−Ｌｉ、Ｍｇ−Ａｇ等の仕事関数の小さい合金などが挙げられる。陰極６は、例えば数１０ｎｍ〜数１００ｎｍ（好ましくは５０ｎｍ〜２００ｎｍ）の膜厚で形成される。陰極６の一部は、素子基板２の端部まで引き出されて駆動回路に接続される。
【００５２】
封止基板３は、有機層４を挟んで素子基板２と対向するように配置され、素子基板２及び封止基板３の外周部は、封止シール剤８により封止されている。封止シール剤としては例えば紫外線硬化樹脂を用いることができる。さらには、乾燥剤層７は、封止シール剤８の内側で封止基板３上の一部又は全部に設けられている。乾燥剤層７は、上記実施形態の乾燥剤を塗布することによって、形成される。乾燥剤層７は、１〜３００μｍの膜厚で形成される。
【００５３】
有機ＥＬ素子は、例えば、封止基板３上に乾燥剤組成物を塗布して乾燥剤組成物層を形成することと、乾燥剤組成物層を囲むように封止シール剤８を塗布することと、乾燥剤組成物層を硬化して乾燥剤層７を形成することと、有機層４等が積層された素子基板２と封止基板３とを貼り合わせることと、必要により封止シール剤８を硬化することとを含む方法により、製造することができる。乾燥剤組成物及び封止シール剤は例えばディスペンサを用いて塗布することができ、塗布は、露点−７６℃以下の窒素で置換されたグローブボックス中で行うことが好ましい。塗布される乾燥剤組成物は、溶剤を含み得るが、典型的には実質的に無溶剤である。封止シール剤は、通常、ＵＶ照射及び／又は加熱により硬化することができる。
【実施例】
【００５４】
以下、実施例を挙げて本発明についてさらに具体的に説明する。ただし、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００５５】
１．乾燥剤組成物の調製
（実施例１）
酸化カルシウム粒子（平均粒径２μｍ、比表面積１８ｍ２／ｇ）１００質量部、式（Ｉ）で表される液状変性ポリブタジエン（ポリブタジエンジアクリレート、製品名：ＢＡＣ−４５、分子量：約１００００、大阪有機化学工業株式会社製）１００質量部、及び２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（ラジカル重合開始剤、製品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１、ＢＡＳＦ社製）１質量部を１０００回転／分で５分間遠心撹拌して、白色ペースト状の乾燥剤組成物を得た。
【００５６】
（実施例２）
酸化カルシウム粒子の量を１２０質量部、液状変性ポリブタジエンの量を８０質量部に変更したこと以外は実施例１と同様にして、白色ペースト状の乾燥剤組成物を得た。
【００５７】
（実施例３）
酸化カルシウム粒子（平均粒径２μｍ、比表面積１８ｍ２／ｇ）１２０質量部、式（ＩＩで表される液状変性シリコーン（製品名：Ｘ−２２−２４４５、粘度：５５ｍＰａ・ｓ（２５℃）、官能基当量：１６００ｇ／ｍｏｌ、信越化学工業株式会社製）８０質量部、及び２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（ラジカル重合開始剤、製品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１、ＢＡＳＦ社製）１質量部を１０００回転／分で５分間遠心撹拌して、白色ペースト状の乾燥剤組成物を得た。
【００５８】
（比較例１）
酸化カルシウム粒子（平均粒径２μｍ、比表面積１８ｍ２／ｇ）１００質量部、ポリプロピレングリコールジアクリレート（製品名：ＡＰＧ−７００、新中村化学工業株式会社製、分子量：８０８）１００質量部、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（ラジカル重合開始剤、製品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１、ＢＡＳＦ社製）１質量部を１０００回転／分で５分間遠心撹拌して、乾燥剤組成物を得た。得られた乾燥剤組成物は、室温環境下において直ぐに硬化した。
【００５９】
（比較例２）
酸化カルシウム粒子（平均粒径２μｍ、比表面積１８ｍ２／ｇ）１００質量部、ポリプロピレングリコールジアクリレート（製品名：ＡＰＧ−７００、新中村化学工業株式会社製、分子量：８０８）１００質量部、安息香酸５質量部、及び２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（ラジカル重合開始剤、製品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１、ＢＡＳＦ社製）１質量部を１０００回転／分で５分間遠心撹拌して、白色ペースト状の乾燥剤組成物を得た。
【００６０】
２．評価
［乾燥剤組成物の粘度安定性］
各乾燥剤組成物を常温（２５℃）の環境下に静置し、その状態での２５℃での粘度の経時変化を測定した。表１は、粘度の測定結果を、放置前（０時間）での粘度に対する相対値（％）で示す。比較例１の乾燥剤組成物は、調製後、短時間で硬化したため、粘度を測定することができなかった。２４間放置後の実施例１〜３の乾燥剤組成物の粘度は、放置前（０時間）の時点の乾燥剤組成物に対して＋１０％の範囲内にあった。図２は、比較例２、実施例１及び実施例２に関して、より長期の放置時間を含めて粘度の相対値と時間との関係を示すグラフである。図２において粘度は初期の粘度を基準とする百分率で示されている。図２に示す通り、実施例１、２の乾燥剤組成物は、４８時間を超えた長時間にわたって粘度変化が少ない状態を維持した。
【００６１】
【表１】
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【００６２】
［有機ＥＬ素子の作製］
透明性を有する導電材料のＩＴＯを、スパッタ法により素子基板上に１４０ｎｍの膜厚で成膜した。ＩＴＯの膜をフォトレジスト法によるエッチングで所定のパターン形状にパターニングし、陽極を形成させた。
【００６３】
形成された陽極の上面に、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）を抵抗加熱法により７０ｎｍの膜厚で成膜することでホール注入層を形成し、ホール注入層の上面にＢｉｓ［Ｎ−（１−ｎａｐｈｔｈｙｌ）−Ｎ−ｐｈｅｎｙｌ］ｂｅｎｚｉｄｉｎｅ（α−ＮＰＤ）を３０ｎｍの膜厚で成膜することでホール輸送層を形成し、ホール輸送層の上面にトリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ３）を５０ｎｍの膜厚で成膜して発光層を形成した。さらに、発光層の上面にフッ化リチウム（ＬｉＦ）を７ｎｍの膜厚で成膜して電子輸送層を形成し、電子輸送層の表面に陰極としてアルミニウムを１５０ｎｍの膜厚で物理蒸着した。以上のようにして、陽極、有機層（ホール注入層／ホール輸送層／発光層／電子輸送層）及び陰極がこの順に積層されている積層体を素子基板上に形成した。
【００６４】
次に、露点−７６℃以下の窒素で置換されたグローブボックス中で、実施例１の乾燥剤組成物をディスペンサによって封止基板の中央部に塗布した。実施例１の乾燥剤組成物を塗布後に３分間で合計６Ｊ／ｃｍ２のＵＶ（紫外線）照射によって硬化させ、乾燥剤層を形成した。
【００６５】
その後、素子基板と封止基板とを、積層体、乾燥剤層及び封止シール剤が内側になる向きで貼り合わせた。その状態で、紫外線照射及び８０℃の加熱により素子基板及び封止基板の外周部を封止し、封止シール剤によって囲まれた気密空間内に乾燥剤層が設けられた中空封止構造の有機ＥＬ素子を得た。
【００６６】
［経過時間に対する染み出し距離］
得られた有機ＥＬ素子を２５℃の条件下に放置し、乾燥剤層成分の染み出し距離の経時変化を測定した。染み出し距離とは、乾燥剤層から乾燥剤層の成分が染み出した部分の端までの距離を示し、数値が大きいほど、乾燥剤層の成分の染み出しが進行していることを意味する。５００時間後まで乾燥剤成分の染み出しは認められなかった。
【符号の説明】
【００６７】
１…有機ＥＬ素子、２…素子基板、３…封止基板、４…有機層、４ａ…ホール注入層、４ｂ…ホール輸送層、４ｃ…発光層、４ｄ…電子輸送層、５…陽極、６…陰極、７…乾燥剤層、８…封止シール剤。
【図１】
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【図２】
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