(57)【要約】【課題】所望の反射防止性と親水性を有し、かつ表面強度の高い光学部材を提供する。【解決手段】基材１４上に多孔質層１０を有する光学部材であって、多孔質層１０は、平均粒子径１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下のシリカ粒子１１とバインダー１２を有し、多孔質層１０の厚さ方向において、多孔質層１０の基材１４側半分のシリカ粒子１１の２次元充填度は、０．７５以上０．８８以下であり、多孔質層１４の表面側半分のシリカ粒子１１の２次元充填度の１．０２倍以上１．４０倍以下である光学部材。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に多孔質層を有する光学部材であって、
前記多孔質層は、平均粒子径が１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下のシリカ粒子とバインダーを有し、
前記多孔質層の厚さ方向において、前記多孔質層の基材側半分の前記シリカ粒子の２次元充填度は、０．７５以上０．８８以下であり、前記多孔質層の表面側半分の前記シリカ粒子の２次元充填度の１．０２倍以上１．４０倍以下であることを特徴とする光学部材。
【請求項２】
前記多孔質層の基材側半分の前記シリカ粒子の２次元充填度が、前記多孔質層の表面側半分の前記シリカ粒子の２次元充填度の１．２０倍以上１．４０倍以下であることを特徴とする請求項１に記載の光学部材。
【請求項３】
前記シリカ粒子は、中実のシリカ粒子であることを特徴とする請求項１または２に記載の光学部材。
【請求項４】
前記基材は、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂またはポリエステル樹脂からなることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光学部材。
【請求項５】
前記基材は、平板状またはドーム形状であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の光学部材。
【請求項６】
前記多孔質層の基材側半分の空隙の含有量は５体積％以上１５体積％以下であり、前記多孔質層の表面側半分の空隙の含有量は１０体積％以上２５体積％以下であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に光学部材。
【請求項７】
前記シリカ粒子の平均粒子径の変動係数が２０％以下であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の光学部材。
【請求項８】
光学系を備える装置本体と、少なくとも前記光学系を覆う保護カバーとを有し、前記保護カバーが請求項１乃至７のいずれか一項に記載の光学部材を有することを特徴とする撮像装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学部材及び監視カメラ等の撮像装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、店舗、ホテル、銀行、駅などの様々な場所において防犯等の目的により監視カメラが使用されている。監視カメラは天井に設置部品を介して取り付けたり、天井に埋め込まれて設置される。監視カメラ本体には様々な環境からの保護を目的としてカメラカバーが取り付けられている。カメラカバーは透明性や耐衝撃性の観点から、ポリカーボネートやアクリルといった樹脂材料が用いられている。監視カメラは、屋外に設置される場合も多く、雨天時は水滴が球状にカメラカバーに付着し撮影画像に悪影響を及ぼす。そのため、カメラカバー表面に親水膜を形成し、水滴が付着した際にも水滴を液膜化させることで、雨天時の撮影画像への悪影響を軽減する技術が知られている。また監視カメラカバーにおけるカメラ自像の映り込みの防止や、ゴースト・フレアの発生を防止するために、カメラカバー表面に反射防止膜を形成する場合もある。そのため、屋外使用のカメラカバー表面のコーティング膜としては、反射防止性能を有した親水膜が好ましい。
特許文献１には、シリカからなる親水性で反射防止性を発現する防曇防汚剤が記載されている。特許文献１の防曇防汚剤をカメラカバーに使用することで、所望の反射防止性と親水性を発現することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第５８０４９９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１の防曇防汚剤により形成した反射防止性能を有した親水膜では、膜強度が不十分であるという課題があった。
本発明は前記従来技術の問題点に鑑みてなされたもので、所望の反射防止性と親水性を有し、かつ表面強度の高い光学部材を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の光学部材は、基材上に多孔質層を有する光学部材であって、前記多孔質層は、平均粒子径が１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下のシリカ粒子とバインダーを有し、前記多孔質層の厚さ方向において、前記多孔質層の基材側半分の前記シリカ粒子の２次元充填度は、０．７５以上０．８８以下であり、前記多孔質層の表面側半分の前記シリカ粒子の２次元充填度の１．０２倍以上１．４０倍以下であることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、所望の反射防止性と親水性を有し、かつ表面強度の高い光学部材を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本発明の光学部材の一実施形態の厚さ方向の断面を示す模式図である。
【図２】本発明の撮像装置の一実施形態を示す模式図である。
【図３】実施例１の光学部材の厚さ方向の断面の走査型透過電子顕微鏡写真である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、図面を参照して本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。
【０００９】
≪光学部材≫
図１は、本発明の光学部材の一実施形態の厚さ方向（基材表面の法線と平行な方向）の断面を示す模式図である。同図において、本発明の光学部材は、基材１４上に多孔質層１０を有し、多孔質層１０は、シリカ粒子１１とバインダー１２を有している。図１では、多孔質層１０は、基材１４表面にシリカ粒子１１が複数段積み重なっており、シリカ粒子１１同士の間にバインダー１２が充填されている。そして、シリカ粒子１１はバインダー１２で結合されており、バインダー１２からなる部分には複数の空隙（ボイド）１３が形成されている。
【００１０】
＜多孔質層１０＞
多孔質層１０の厚さ方向において、多孔質層１０の基材側半分（以下、「下層」と称する場合がある）のシリカ粒子１１の２次元充填度は、０．７５以上０．８８以下である。
【００１１】
ここで、シリカ粒子１１の２次元充填度とは、任意の面におけるシリカ粒子１１の面全体に対する面積比率のことである。この面積比率は、走査型透過電子顕微鏡によって多孔質層１０の厚さ方向の断面を観察したものを画像処理によって測定することができる。画像処理方法としては、ｉｍａｇｅ  Ｐｒｏ  ＰＬＵＳ（メディアサイバネティクス社製）など市販の画像処理を用いることができる。所定の画像領域において、必要であれば適宜コントラスト調整を行い、粒子測定によって粒子の面積を測定し、所定の画像領域の面積に対する比率を算出し求めることができる。
【００１２】
この２次元充填度は粒子の配列状態を示しており、充填度が大きいものほど粒子は配列した状態であり、その結果、粒子間の隙間が小さくなる。粒子が真球であり、最も密に配列した場合は六方充填配置となり、２次元充填度は約０．９０となる。２次元充填度が低下すると、粒子間の隙間が大きくなるため空隙１３が大きくなる。そのため２次元充填度が０．７５未満では、大きな空隙１３が発生し、膜強度が低下する。また粒子の配列性は高い方が好ましいが、２次現充填度が０．８８より高い膜を製作することは実質困難である。
【００１３】
また、多孔質層１０の下層のシリカ粒子１１の２次元充填度は、多孔質層１０の表面側半分（以下、「上層」と称する場合がある）のシリカ粒子１１の２次元充填度の１．０２倍以上１．４０倍以下、好ましくは１．２０倍以上１．４０倍以下である。この範囲で、多孔質層１０の下層にシリカ粒子１１が緻密に配列した高充填度層を形成することで、多孔質層１０としての膜強度が向上する。また、多孔質層１０の上層に、空隙１３を多く含んだ疎に配列した低充填度層を形成することで、多孔質層１０の上層の屈折率を低下させることができる。そのため、下層と上層にシリカ粒子１１が均一に配列した多孔質層１０よりも優れた反射防止性能を発現することができる。
【００１４】
多孔質層１０の膜厚は２０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましい。膜厚が２０ｎｍ以上であれば膜強度が十分であり、３００ｎｍ以下であれば可視光領域での低反射率を十分に実現することができる。
【００１５】
［シリカ粒子１１］
シリカ粒子１１は、平均粒子径が１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下であり、好ましくは１０ｎｍ以上６０ｎｍ以下である。シリカ粒子１１の平均粒子径が１０ｎｍ未満では、粒子が緻密に配列されて低屈折率化が困難となり、膜の反射防止性能を十分発現できない。また、シリカ粒子１１の平均粒子径が８０ｎｍを超えると、粒子間の空隙１３が大きくなるため、十分な膜強度にならない。シリカ粒子１１の平均粒子径の変動係数（標準偏差／平均粒径）は２０％以下であることが好ましい。
【００１６】
ここで、シリカ粒子１１の平均粒子径とは、平均フェレ径である。この平均フェレ径は透過型電子顕微鏡像によって観察した観察画像を画像処理によって測定することができる。画像処理方法としては、ｉｍａｇｅ  Ｐｒｏ  ＰＬＵＳ（メディアサイバネティクス社製）など市販の画像処理を用いることができる。所定の画像領域において、必要であれば適宜コントラスト調整を行い、粒子測定によって各粒子の平均フェレ径を測定し、平均値を算出し求めることができる。
【００１７】
シリカ粒子１１は、粒子の硬度と屈折率の観点から中実のシリカ粒子が好ましいが、中空のシリカ粒子、中実のシリカ粒子が鎖状に繋がった中実鎖状粒子であっても良く、これらを混合して用いてもよい。なお、多孔質層１０は、シリカ粒子１１以外に、ＭｇＦ2、フッ素、シリコーンなどの金属酸化物または有機樹脂の粒子、好ましくは中実粒子を含有してもよい。
【００１８】
［バインダー１２］
多孔質層１０のバインダー１２内部には、複数の空隙１３が含有されている。バインダー１２内部に空隙１３が含有されているとは、バインダー１２からなる部分が空隙１３を有している状態であり、バインダー１２からなる部分が空隙１３を有することによって、多孔質層１０の屈折率を下げることが可能となる。
【００１９】
多孔質層１０の下層のバインダー１２に含有される空隙１３の含有量は、５体積％以上１５体積％以下が好ましく、５体積％以上１０体積％以下がより好ましい。また多孔質層１０の上層のバインダー１２に含有される空隙１３の含有量は、１０体積％以上２５体積％以下が好ましく、１５体積％以上２５体積％以下がより好ましい。ここで体積％とは、各層全体の体積に対する空隙全体の体積の割合（体積比）である。バインダーに含有される空隙を上記範囲に制御することで、所望の膜強度と低反射率を両立することができる。
【００２０】
バインダー１２は、膜の耐摩耗性、密着力、環境信頼性によって適宜選択することが可能であるが、オルトテトラケイ酸エチル（ＴＥＯＳ）等のシランアルコキシ加水分解縮合物、シランカップリング剤が好ましい。
【００２１】
＜基材１４＞
基材１４としては、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂等の樹脂、ガラス等を用いることができる。基材１４の形状は限定されることはなく、板状であってもフィルム状であってもよく、また、平板状であっても、曲面、凹面または凸面を有する形状、例えば半球状のドーム形状等であってもよい。
【００２２】
＜製造方法＞
次に、本発明に係る光学部材の製造方法についてその一例を説明する。
【００２３】
多孔質層１０は、シリカ粒子１１と、バインダー１２と、分散媒とを含有した分散液（以下、「シリカ粒子・バインダー含有塗工液」と称する場合がある）を塗工し、乾燥させることで形成することができる。また、シリカ粒子１１と、分散媒とを含有した分散液（以下、「シリカ粒子含有塗工液」という）を塗工した後、その上からバインダー１２を含有した塗工液（以下、「バインダー含有塗工液」と称する場合がある）を塗工して、乾燥させて形成しても良い。
【００２４】
その際、基材１４上に基材１４とシリカ粒子１１を結着させるプライマー材を含有した塗工液（以下、「プライマー含有塗工液」と称する場合がある）を塗工した後、その上から多孔質層１０を形成することが好ましい。そうすることで、基材１４界面部の２次元充填度が向上するため下層の２次元充填度が向上する。プライマー材としては、シランカップリング剤が挙げられる。シランカップリング剤を選択する際は、基材１４とシリカ粒子１１を結着させると共に、バインダー１２を変質させない材料を選択することが好ましい。
【００２５】
また、他の方法として、シリカ粒子・バインダー含有塗工液またはシリカ粒子含有塗工液を複数回塗工し、下層となる領域のバインダー濃度を向上させて形成してもよい。下層となる領域のバインダー濃度を向上させる方法としては、下層となる領域を形成するための塗工液において、バインダーの濃度を増加させて形成しても良い。また下層となる領域を形成した後、その上からバインダー含有塗工液を塗工することで、下層となる領域のバインダー濃度を向上させてもよい。
【００２６】
シリカ粒子・バインダー含有塗工液またはシリカ粒子含有塗工液に含まれるシリカ粒子の濃度は、所望の膜厚が成膜できる範囲で低いことが望ましい。固形分濃度が高くなると粘度が高くなるため、粒子の配列性が低下し、また分散状態が悪化するため、内部に均一な空隙を形成することが困難となる。そのため、より固形分濃度が低い状態で成膜可能な条件で成膜することが望ましい。
【００２７】
また、バインダー含有塗工液のバインダー濃度は、成膜された膜に対して所望の含有量となる濃度で成膜すれば良く、溶媒、成膜条件によって濃度は適宜選択することができる。
【００２８】
塗工液に用いる分散媒または溶媒としては、シリカ粒子またはバインダーとの親和性が良好なものを適宜選択することが可能である。シリカ粒子との親和性が低いと凝集が発生する可能性がある。また、バインダーとの親和性が低いと、バインダーが相溶しない可能性がある。また塗工液として良好に分散または相溶していたとしても、成膜中に凝集や分離を起こし、白化現象を生じる可能性がある。分散媒または溶媒としては、沸点が１００℃以上２００℃以下のものを用いることが好ましい。例えば、１−メトキシ−２−プロパノール、２−エチル−１−ブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなどまたはそれらを混合したものを用いることができる。
【００２９】
塗工方法としては、粒子と溶媒を含有する塗料においては特に制限はない。しかし、シリカ粒子・バインダー含有塗工液またはシリカ粒子含有塗工液を複数回塗工する必要がある場合には、ディップコートのような浸漬式では、基材に付着した粒子の欠落が発生するため好ましくない。それ以外は特に限定されることはなく、スピンコート法、スプレーコート法、など液状塗工液の一般的な塗工方法を用いることができる。上記した粒子欠落の観点、また曲面を有する基材へ膜厚を均一に成膜できる点から、塗料はスピンコートで成膜することが好ましい。
【００３０】
塗工後は乾燥を行う。乾燥は乾燥機、ホットプレート、電気炉などを用いることができる。乾燥条件は、基材１４に影響を与えず且つ多孔質層１０内の有機溶媒を蒸発できる程度の温度と時間とする。一般的には３００℃以下の温度を用いることが好ましく、基材１４が樹脂の場合は１２０℃以下の温度を用いることが好ましい。
【００３１】
≪撮像装置≫
図２は、本発明の撮像装置の一実施形態を示す模式図であり、図２（ａ）は定点観察型の監視カメラ、図２（ｂ）はパン・チルト・ズーム駆動が可能な旋回型の監視カメラである。図２に示す撮像装置は、装置本体１と、保護カバー２を有し、装置本体１は、映像データーを取得する光学系を備える。また、保護カバー２は、少なくとも装置本体１の光学系を覆い、外部からの防塵や衝撃から防御する。図２（ａ）の保護カバー２は平面形状の箱型、図２（ｂ）の保護カバー２は半球形状のドーム型であるが、保護カバーの形状はこれらに限定されない。
【００３２】
本発明の撮像装置は、例えば、撮像装置と映像データーをコントロールするためのコントローラ、取得した映像データーを保存しておくデーター保存手段、取得したデーターを外部に転送する転送手段とともに、撮像システムを構成することができる。ここで、コントローラは、例えば、撮像装置の撮像、画角調整するパンチルト、撮像条件等を制御する。また、転送手段は、外部のネットワークに接続することで、データーを内外へ転送することができる。
【実施例】
【００３３】
以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例により限定されるものではない。各実施例に共通の事項は以下の通りである。
【００３４】
１．製造工程
（１）工程１
基材上に、プライマー含有塗工液を０．３ｍｌ滴下し、スピンコーターを用いて１５００ｒｐｍ、３０秒間の条件によって成膜し、成膜した基板をオープンにて９０℃で１０分間加熱する。その後サンプルをオーブンから取り出し室温（２５℃）に戻す。
（２）工程２
シリカ粒子・バインダー含有塗工液を０．３ｍｌ滴下し、スピンコーターを用いて１５００ｒｐｍ、３０秒間の条件によって成膜する。
（３）工程３
バインダー含有塗工液を０．３ｍｌ滴下し、スピンコーターを用いて１５００ｒｐｍ、３０秒間の条件によって成膜する。
【００３５】
２．材料
（１）プライマー含有塗工液の調整
アミノ系シランである３−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン（東レ・ダウコーニング株式会社製  Ｚ−６０９４）０．１ｇを１−メトキシ−２−プロパノール（関東化学製  特級）１００ｇで希釈した。これによりプライマー含有塗工液（固形分濃度０．１ｗｔ％）を調整した。
（２）基材
φ４０ｍｍ厚さ２ｍｍのポリカーボネート基材を用いた。
【００３６】
３．評価方法
（１）多孔質層の膜厚、シリカ粒子の平均粒子径と２次元充填度
基材断面方向に集束イオンビーム装置（エスアイアイ・ナノテクノロジー製  ＳＭＩ３０５０）により多孔質層を切り出した。そして、断面状態を走査型透過電子顕微鏡（日立ハイテクノロジー製  Ｓ−５５００）により、倍率５００００倍の視野で明視野の透過観察を行った。空隙部は白く強調されて観察され、透過撮影画像をｉｍａｇｅ  Ｐｒｏ  ＰＬＵＳ（メディアサイバネティクス社製）を用いて粒子測定行い、平均粒子径を計測した。上層と下層の２次元充填度は、任意の領域について粒子測定により粒子部の面積を求め、評価面積に対する粒子部の面積比率を求めた。
【００３７】
（２）親水性
親水性の評価として、水の接触角を評価する。水の接触角評価としは、接触角測定器（協和界面科学株式会社製  ＤＭ−７０１）を用いた。接触角の評価手法としてはθ／２法を用いて接触角を求めた。
【００３８】
（３）鉛筆硬度
ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）に規定する鉛筆硬度試験に準ずる試験である。鉛筆硬度試験機を用い、７５０ｇの荷重で、各種硬度の鉛筆を光学部材の多孔質層表面に押しつけ、その状態で鉛筆硬度試験機を５ｃｍほど移動させることによって、表面を鉛筆で引っ掻く。引っ掻いた部分を目視、あるいは光学顕微鏡にて観察し、多孔質層表面の傷の有無を確認した。傷が確認されればその一つ硬度の低い値を記録する。傷が確認されなければ一つ硬度の硬い鉛筆で同様の試験を行い、傷が確認される鉛筆硬度まで試験を繰り返す。
【００３９】
（４）溶剤拭き試験
コットン布（旭化成ケミカルズ社製  クリント）にエタノール（関東化学製  特級）を染み込ませ、２００ｇ／ｃｍ2の荷重をかけ、光学部材の多孔質層表面を１０回往復させた後、膜剥がれの有無を目視、あるいは光学顕微鏡にて確認した。
【００４０】
（５）反射率
レンズ反射率測定機（オリンパス株式会社製  ＵＳＰＭ−ＲＵ）を用いて波長４００ｎｍから７００ｎｍの反射率を測定し、最も反射率が低い波長における反射率の値を求めた。
【００４１】
＜実施例１＞
（１）シリカ粒子・バインダー含有塗工液の調整
中実シリカスラリー分散液（中央自動車工業株式会社製  ＥＸＣＥＬ  ＰＵＲＥ）を用いた。この液は、バインダーとしてシランアルコキシ加水分解縮合物である、オルトテトラケイ酸エチル（ＴＥＯＳ）が含有されている。
【００４２】
（２）光学部材の製造
各工程を、工程１、工程２の順で実施した後、室温で２４時間保存して膜を形成し、光学部材を得た。評価結果を表１に示す。また、厚さ方向の断面を撮影した走査型透過電子顕微鏡写真を図３に示す。
【００４３】
＜比較例１＞
工程１を実施しない以外は、実施例１と同様にして光学部材を得た。評価結果を表１に示す。
【００４４】
＜実施例２〜４、比較例２＞
（１）シリカ粒子・バインダー含有塗工液の調整
［実施例２，４］
実施例１と同じ中実シリカスラリー分散液５０ｇを、１−メトキシ−２−プロパノール５０ｇで希釈した。
【００４５】
［実施例３］
実施例１と同じ中実シリカスラリー分散液５０ｇを、１−メトキシ−２−プロパノール、１００ｇで希釈した。
【００４６】
［比較例２］
実施例１と同じ中実シリカスラリー分散液５０ｇを、１−メトキシ−２−プロパノール、１５０ｇで希釈した。
【００４７】
（２）バインダー含有塗工液の調整
［実施例２，３、比較例２］
プライマー含有塗工液の調整と同様にしてアミノ系シランである３−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシランの１−メトキシ−２−プロパノール０．１ｗｔ％溶液を調整した。
【００４８】
［実施例４］
シランアルコキシ加水分解縮合物（ハネウェル社製  アキュグラスＴ−１１（１１１））１．５ｇを２−ｎ−ブトキシエタノール（キシダ化学製  特級）２９．５ｇで希釈した。
【００４９】
（３）光学部材の製造
［実施例２，４］
各工程を、工程１、工程２、工程３、工程２の順で実施した後、室温で２４時間保存して膜を形成し、光学部材を得た。評価結果を表１に示す。
【００５０】
［実施例３］
各工程を、工程１、工程２、工程３、工程２、工程３、工程２の順で実施した後、室温で２４時間保存して膜を形成し、光学部材を得た。評価結果を表１に示す。
【００５１】
［比較例２］
各工程を、工程１、工程２、工程３、工程２、工程３、工程２、工程３、工程２の順で実施した後、室温で２４時間保存して膜を形成し、光学部材を得た。評価結果を表１に示す。
【００５２】
＜実施例５、比較例３〜４＞
（１）シリカ粒子・バインダー含有塗工液の調整
［実施例５］
水１６ｇにエタノール（和光純薬製）１．４ｇ、２Ｎ塩酸０．０１ｇ及びオルトケイ酸テトラエチル（ＴＥＯＳ）（和光純薬製）０．１ｇを順次添加し、ＴＥＯＳ溶液を得た。
【００５３】
中実シリカスラリー水分散液（日産化学工業株式会社製  スノーテックスＳＴ−０ＹＬ）１８ｇに、１−メトキシ−２−プロパノール（関東化学製  鹿特級）１５０ｇ、上記ＴＥＯＳ溶液を順次添加し塗工液を調整した。
【００５４】
［比較例３］
中実シリカスラリー水分散液として、中実シリカスラリー水分散液（日産化学工業株式会社製  スノーテックスＳＴ−ＯＸＳ）３６ｇを用いた以外は、実施例５と同様に調整した。
【００５５】
［比較例４］
中実シリカスラリー水分散液として、中実シリカスラリー水分散液（日産化学工業株式会社製  オルガノシリカゾルＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ）１２ｇを用いた以外は、実施例５と同様に調整した。
【００５６】
（２）バインダー含有塗工液の調整
プライマー含有塗工液の調整と同様にしてアミノ系シランである３−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシランの１−メトキシ−２−プロパノール０．１ｗｔ％溶液を調整した。
【００５７】
（３）光学部材の製造
各工程を、工程１、工程２、工程３、工程２の順で実施した後、室温で２４時間保存して膜を形成し、光学部材を得た。評価結果を表１に示す。
【００５８】
【表１】
2018116177.tif 000003
【００５９】
【表２】
2018116177.tif 000004
【００６０】
表１〜２に示されるように、本発明の実施例１〜５は親水性、膜強度、溶剤拭き耐性、反射防止特性の各項目においてのすべて優れた特性を示す親水膜を形成できることが確認された。優れた特性とはそれぞれ、接触角が１０度以下、鉛筆硬度がＢ以上、溶剤拭きで膜の剥離なし、反射率０．１％以下である。一方、下層と上層の二次元充填度の比率が本発明の範囲外である比較例１，２は、比較例１では鉛筆硬度と溶剤拭き耐性が低く、比較例２では鉛筆硬度が低かった。またシリカの粒子径が本発明の範囲外である比較例３，４は、比較例３では反射防止特性が低く、比較例４では鉛筆硬度が低かった。
【符号の説明】
【００６１】
１０：多孔質層、１１：シリカ粒子、１２：バインダー、１３：空隙（ボイド）、１４：基材
【図１】
2018116177.tif 000005
【図２】
2018116177.tif 000006
【図３】
2018116177.tif 000007