(57)【要約】      （修正有）【課題】可撓性を有する可撓性基板の歪量をインラインで精度よく検出することができるアライメントマーク及び可撓性基板の歪量検出方法を提供する。【解決手段】アライメントマーク４０は、フィルム基板４に形成されフィルム基板４の長手方向に並んで配置された複数の第一マーク４０１ａを有しフィルム基板４の長手方向の歪を検出する第一パターン４０１と、フィルム基板４に形成されフィルム基板４の長手方向に並んで配置された複数の第二マーク４０２ａを有しフィルム基板４の短手方向の歪を検出する第二パターン４０２とを備えている。【選択図】図３
2018116017.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長尺状かつ可撓性を有する可撓性基板に形成され、前記可撓性基板の長手方向に並んで配置された複数の第一マークを有し、前記可撓性基板の前記長手方向の歪を検出する第一パターンと、
前記可撓性基板に形成され、前記長手方向に並んで配置された複数の第二マークを有し、前記可撓性基板の短手方向の歪を検出する第二パターンと
を備えるアライメントマーク。
【請求項２】
前記第一マークは、前記長手方向に対して直交する方向に延在する四角形形状を有し、
前記第二マークは、前記長手方向に対して傾斜する方向に延在する四角形形状を有する
請求項１記載のアライメントマーク。
【請求項３】
前記可撓性基板に形成され、前記長手方向に並んで配置された複数の第三マークを有し、前記第三マークとともに前記可撓性基板に形成された第１層目の所定パターンと前記第１層目の所定パターン上に形成された第２層目の所定パターンとのアライメント誤差を検出する第三パターンを備える
請求項１又は２に記載のアライメントマーク。
【請求項４】
請求項１又は２に記載のアライメントマークを有する前記可撓性基板の前記第一パターンに、前記第一マークと同形状であって配列ピッチの異なる複数の第一基準マークを有する第一基準パターンを重ね合わせ、前記第一パターン及び前記第一基準パターンによって生じる第一干渉縞に基づいて前記長手方向の歪量を検出し、
前記第二マークと同形状であって配列ピッチの異なる複数の第二基準マークを有する第二基準パターンを前記第二パターンに重ね合わせ、前記第二パターン及び前記第二基準パターンによって生じる第二干渉縞に基づいて前記短手方向の歪量を検出する
可撓性基板の歪量検出方法。
【請求項５】
請求項３記載のアライメントマークを有する前記可撓性基板の前記第一パターンに、前記第一マークと同形状であって配列ピッチの異なる複数の第一基準マークを有する第一基準パターンを重ね合わせ、前記第一パターン及び前記第一基準パターンによって生じる第一干渉縞に基づいて前記長手方向の歪量を検出し、
前記第二マークと同形状であって配列ピッチの異なる複数の第二基準マークを有する第二基準パターンを前記第二パターンに重ね合わせ、前記第二パターン及び前記第二基準パターンによって生じる第二干渉縞に基づいて前記短手方向の歪量を検出する
可撓性基板の歪量検出方法。
【請求項６】
前記第一パターンの一部及び前記第二パターンの一部は、前記第２層目の所定パターンの形成時の前記可撓性基板の歪量を検出するために用いられる
請求項５記載の可撓性基板の歪量検出方法。
【請求項７】
前記第一基準パターン及び前記第二基準パターンは、可撓性を有さない非可撓性基板に形成されている
請求項４から６までのいずれか一項に記載の可撓性基板の歪量検出方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、可撓性を有する可撓性基板に用いられるアライメントマーク及び可撓性基板の歪量検出方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ロール上に巻かれたフィルムを繋がった状態のまま連続して流し、フィルムに所定の処理を施すロールツーロール（Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ）方式が知られている。ロールツーロール方式を実行可能な装置では、動いているフィルム上に微細なパターンを重ね合わせるときに、該フィルムと該パターンを有する層に、アライメント誤差（重ね合わせのずれ）を測定するためのアライメントマークがそれぞれパターニングされる。パターニングされたアライメントマークは、イメージセンサで撮像され、撮像された画像からアライメントマーク間の相対的位置を測定してアライメント誤差をなくすように位置合わせの制御がなされる（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−７２０３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来の位置合わせ制御では、フィルムに微細なパターンを形成したり重ね合わせたりするときのアライメントマークのずれがパターニングの位相のずれであるのか、それともフィルムの伸縮によるパターン寸法の変化によるものなのかが不明であるという問題がある。
【０００５】
本発明の目的は、可撓性を有する可撓性基板の歪量をインラインで精度よく検出することができるアライメントマーク及び可撓性基板の歪量検出方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明の一態様によるアライメントマークは、長尺状かつ可撓性を有する可撓性基板に形成され、前記可撓性基板の長手方向に並んで配置された複数の第一マークを有し、前記可撓性基板の前記長手方向の歪を検出する第一パターンと、前記可撓性基板に形成され、前記長手方向に並んで配置された複数の第二マークを有し、前記可撓性基板の短手方向の歪を検出する第二パターンとを備えることを特徴とする。
【０００７】
また、上記目的を達成するために、本発明の一態様による可撓性基板の歪量検出方法は、上記本発明の一態様によるアライメントマークを有する前記可撓性基板の前記第一パターンに、前記第一マークと同形状であって配列ピッチの異なる複数の第一基準マークを有する第一基準パターンを重ね合わせ、前記第一パターン及び前記第一基準パターンによって生じる第一干渉縞に基づいて前記長手方向の歪量を検出し、前記第二マークと同形状であって配列ピッチの異なる複数の第二基準マークを有する第二基準パターンを前記第二パターンに重ね合わせ、前記第二パターン及び前記第二基準パターンによって生じる第二干渉縞に基づいて前記短手方向の歪量を検出することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の一態様によれば、可撓性を有する可撓性基板の歪量をインラインで精度よく検出することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の一実施形態によるアライメントマーク４０を含む第１層の所定パターンを形成するパターン形成部２２の近傍及び制御部１０の概略構成を示す模式図である。
【図２】本発明の一実施形態によるアライメントマーク４２を含む第２層の所定パターンを形成するパターン形成部２４の近傍の概略構成を示す模式図である。
【図３】本発明の一実施形態によるアライメントマーク４０を説明する図であって、アライメントマーク４０が形成されたフィルム基板４及び基準アライメントマーク６０が形成された基準板６の概略構成を示す図である。
【図４】本発明の一実施形態による可撓性基板の歪制御システム１００を説明する図であって、アライメントマーク４０及びアライメントマーク６０によって発生する干渉縞を模式的に示す図である。
【図５】本発明の一実施形態いよる可撓性基板の歪量検出方法を説明する図であって、撮像部１１ａで撮像された撮像画像の一例を示す図である。
【図６】本発明の一実施形態による可撓性基板の歪量検出方法を説明する図であって、図６（ａ）は第一干渉縞に基づくプロファイルの一例を示し、図６（ｂ）は第二干渉縞に基づくプロファイルの一例を示し、図６（ｃ）は第三パターン４０３に基づくプロファイルの一例を示している。
【図７】本発明の一実施形態による可撓性基板の歪量検出方法を説明する図であって、図７（ａ）は第一干渉縞プロファイルＦＭ１の極大値及び極小値を取得する方法を説明する図であり、図７（ｂ）は第一干渉縞のピッチ（周期）を算出するための元データを取得する方法を説明する図である。
【図８】本発明の一実施形態による可撓性基板の歪量検出方法であって、フィルム基板４の短手方向の歪量の検出方法を説明する図である。
【図９】本発明の一実施形態によるアライメントマークを用いるアライメント誤差検出方法を説明する図であって、撮像部１３ａで撮像された撮像画像の一例を示す図である。
【図１０】本発明の一実施形態によるアライメントマークを用いてフィルム基板４の短手方向のアライメント誤差の検出方法を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の一実施形態によるアライメントマーク及び可撓性基板の歪量検出方法について図１から図１０を用いて説明する。まず、本実施形態によるアライメントマーク４０，４２の概略構成について図１から図４を用いて説明する。
【００１１】
（パターン形成部の概略構成）
図１に示すように、第１層目のアライメントマーク４０は、パターン形成部２２によって形成される。パターン形成部２２は、例えばオフセット印刷法や反転印刷法などにより長尺状かつ可撓性を有する可撓性基板（以下、可撓性基板を「フィルム基板」と称する）４上に、アライメントマーク４０を含む第１層目の第１パターンを形成するようになっている。パターン形成部２２は、ロールツーロール方式で搬送されるフィルム基板４上に第１層目の所定パターンを形成する。
【００１２】
パターン形成部２２は、圧胴２２ａと、圧胴２２ａに対向して配置されたブラン胴２２ｂと、ブラン胴２２ｂに接触して配置された抜き版２２ｃとを有している。圧胴２２ａ、ブラン胴２２ｂ及び抜き版２２ｃはそれぞれ、円筒形状を有している。抜き版２２の表面には、アライメントマーク４０を含む第１層目の所定パターンが形成されている。圧胴２２ａ、ブラン胴２２ｂ及び抜き版２２ｃはそれぞれ、円筒の中心軸を回転軸として所定箇所で回転するようになっている。圧胴２２ａ及び抜き版２２ｃとブラン胴２２ｂとは、反対方向に回転している。圧胴２２ａ及びブラン胴２２ｂは、フィルム基板４が繰り出される繰出側からフィルム基板８が巻き取られる巻取側に向かって回転している。圧胴２２ａ及びブラン胴２２ｂの間に挟まれたフィルム基板４は、繰出側から巻取側に向かって連続して搬送される。
【００１３】
パターン形成部２２は、貯留している材料２２２をブラン胴２２ｂに供給するチャンバ２２ｄを有している。材料２２２は、第１層の所定パターンを形成するための形成材料である。
【００１４】
ブラン胴２２ｂが回転すると、ブラン胴２２ｂの表面にチャンバ２２ｄから材料２２２が連続して塗布される。抜き版２２ｃは、ブラン胴２２ｂの回転方向において、チャンバ２２ｄよりも下流側に配置されている。抜き版２２ｃは、抜き版２２ｃの表面に形成された第１層目の所定パターンの凸部がブラン胴２２ｂに接触して配置さている。抜き版２２ｃは、ブラン胴２２ｂとは逆方向に回転し、ブラン胴２２ｂの表面に塗布された材料２２２であってブラン胴２２ｂの表面に接触した部分の材料２２２を取り除く。これにより、ブラン胴２２ｂの表面には、第１層目の所定パターンを反転した反転パターンが転写される。
【００１５】
圧胴２２ａは、ブラン胴２２ｂとともにフィルム基板４を挟んだ状態で逆方向に回転している。フィルム基板４は、一方の表面がブラン胴２２ｂに接触し、他方の表面が圧胴２２ａに接触した状態で圧胴２２ａとブラン胴２２ｂとの間を通過する。これにより、ブラン胴２２ｂに接触したフィルム基板４の表面には、ブラン胴２２ｂ上に転写されたパターンを反転させたパターンが第１層目の所定パターンとしてフィルム基板４上に再転写されて形成される。したがって、抜き版２２ｃ上に形成されたパターンと同じパターンが第１層目の所定パターンとしてフィルム基板４上に形成される。ブラン胴２２ｃ上に抜き版２２ｃのパターンが転写される際に、フィルム基板４の歪量を検出するためのアライメントマーク４０（詳細は後述する）を反転させたパターンがブラン胴２２ｂに転写されている。このため、フィルム基板４上に第１層目の所定パターンが再転写される際に、フィルム基板４上には、フィルム基板４の歪量を検出するためのアライメントマーク４０が再転写される。
【００１６】
図１に示すように、パターン形成部２２の送出側には、光学系撮像装置１１が配置されている。光学系撮像装置１１は、アライメントマーク４０が形成されたフィルム基板４の一方の表面である素子形成面の側に配置された撮像部１１ａと、フィルム基板４の素子形成面の裏面の側に配置された光源１１ｂとを有している。光源１１ｂは、パターン形成部２２から送出されたフィルム基板４に対向して配置されている。光源１１ｂは、フィルム基板４の裏面に対向配置されている。したがって、光源１１ｂは、アライメントマーク４０が形成されてないフィルム基板４の裏面側から光を照射することになる。
【００１７】
撮像部１１ａは、パターン形成部２２から送出されたフィルム基板４に対向して配置されている。撮像部１１ａは、フィルム基板４の素子形成面に対向配置されている。
【００１８】
撮像部１１ａとフィルム基板４との間には、可撓性を有さない基準板（非可撓性基板の一例）６が配置されている。基準板６は、例えばガラスで形成されている。基準板６は、フィルム基板４に形成されたアライメントマーク４０と干渉して干渉縞を発生させる基準アライメントマーク６０（詳細は後述）を有している。基準板６は、基準アライメントマーク６０が形成されたマーク形成面をフィルム基板４の素子形成面に対面させて配置されている。撮像部１１ａは、基準板６及びフィルム基板４を挟んで光源１１ｂと対向配置されている。撮像部１１ａは、光源１１ｂが発生する光に照射された干渉縞が少なくとも１．５周期含まれるようにアライメントマーク４０及び基準アライメントマーク６０を同時に撮像するようになっている。
【００１９】
図１に示すように、光学系撮像装置１１は、撮像部１１ａで撮像した撮像データを制御部１０に送信するようになっている。制御部１０は、例えばパーソナルコンピュータなどに設けられている。制御部１０は、光学系撮像装置１１及び後述する光学系撮像装置１３から送信された撮像データをそれぞれ画像処理する画像処理部１０ａを有している。また、制御部１０は、画像処理部１０ａが画像処理して生成したそれぞれの干渉縞の画像に基づいてフィルム基板４の歪量と、フィルム基板４に形成された第１層の所定パターン及び第２層の所定パターンのアライメント誤差を算出する算出部１０ｂを有している。制御部１０が実行する各処理の詳細は後述する。
【００２０】
図２に示すように、第２層目のアライメントマーク４２は、パターン形成部２４によって形成される。パターン形成部２４は、例えばオフセット印刷法や反転印刷法などにより、第１層目の所定パターンが形成されたフィルム基板４上に、第２層目のアライメントマーク４２を含む第２層目の所定パターンを形成するようになっている。パターン形成部２４は、ロールツーロール方式で搬送されるフィルム基板４上に第２層目の所定パターンを形成する。
【００２１】
パターン形成部２４は、圧胴２４ａと、圧胴２４ａに対向して配置されたブラン胴２４ｂと、ブラン胴２４ｂに接触して配置された抜き版２４ｃとを有している。また、パターン形成部２４は、貯留している材料２２４をブラン胴２４ｂに供給するチャンバ２４ｄを有している。材料２２４は、第２層の所定パターンを形成するための形成材料である。圧胴２４ａは、パターン形成部２２に設けられた圧胴２４ａと同様の構成を有し、同様の機能を発揮するようになっている。ブラン胴２４ｂは、パターン形成部２２に設けられたブラン胴２２ｂと同様の構成を有し、同様の機能を発揮するようになっている。抜き版２４ｃは、表面に形成されたパターンが異なる点を除いて、パターン形成部２２に設けられた抜き版２２ｃと同様の構成を有し、同様の機能を発揮するようになっている。チャンバ２４ｄは、パターン形成部２２に設けられたチャンバ２２ｄと同様の構成を有し、同様の機能を発揮するようになっている。このため、パターン形成部２４の詳細な説明は省略する。
【００２２】
図２に示すように、パターン形成部２４の送出側には、光学系撮像装置１３が配置されている。光学系撮像装置１３は、アライメントマーク６０が形成されたフィルム基板４の素子形成面の側に配置された撮像部１３ａと、フィルム基板４の素子形成面の裏面の側に配置された光源１３ｂとを有している。光源１３ｂは、パターン形成部２４から送出されたフィルム基板４に対向して配置されている。光源１３ｂは、フィルム基板４の裏面に対向配置されている。したがって、光源１３ｂは、アライメントマーク４０，６０が形成されてないフィルム基板４の裏面側から光を照射することになる。
【００２３】
撮像部１３ａは、パターン形成部２４から送出されたフィルム基板４に対向して配置されている。撮像部１３ａは、フィルム基板４の素子形成面に対向配置されている。
【００２４】
パターン形成部２４の送出側には、パターン形成部２２の送出側と異なり、基準板６が配置されていない。しかしながら、パターン形成部２４は、パターン形成部２４を通過したフィルタ基板４に第２層の所定パターンを形成する際に、アライメントマーク４０が形成された領域にアライメントマーク６０を形成する。これにより、アライメントマーク４０及びアライメントマーク６０が干渉して干渉縞が発生するようになっている。撮像部１３ａは、光源１３ｂが発生する光に照射されたこの干渉縞が少なくとも２．０周期含まれるようにアライメントマーク４０，６０を同時に撮像するようになっている。光学系撮像装置１３は、撮像部１３ａで撮像した撮像データを制御部１０に送信する。
【００２５】
（アライメントマークの概略構成）
次に、本実施形態によるアライメントマーク４０の概略構成について図３及び図４を用いて説明する。図４では、理解を容易にするため、基準板６がフィルム基板４に設けられたデバイス形成領域ＤＡ（詳細は後述する）側にずらして図示されている。
【００２６】
図３（ａ）に示すように、アライメントマーク４０は、長尺状かつ可撓性を有するフィルム基板４に形成されフィルム基板４の長手方向に並んで配置された複数の第一マーク４０１ａを有しフィルム基板４の長手方向の歪を検出する第一パターン４０１を備えている。フィルム基板４の長手方向は、フィルム基板４の搬送方向に相当する。フィルム基板４の長手方向は、図３中に示すｘ方向に相当する。また、アライメントマーク４０は、フィルム基板４に形成されフィルム基板４の長手方向に並んで配置された複数の第二マーク４０２ａを有しフィルム基板４の短手方向の歪を検出する第二パターン４０２を備えている。フィルム基板４の短手方向は、フィルム基板４の長手方向、すなわちフィルム基板４の搬送方向に垂直な方向（直交する方向）に相当する。フィルム基板４の短手方向は、図３中に示すｙ方向に相当する。
【００２７】
第一パターン４０１及び第二パターン４０２は、所定の間隙を設けてほぼ平行に配置されている。第一パターン４０１は、フィルム基板４に設けられ製造対象の電子デバイスが形成されるデバイス形成領域ＤＡ側に配置されている。第二パターン４０２は、フィルム基板４の長手方向の端部側に形成されている。
【００２８】
アライメントマーク４０は、第一パターン４０１と第二パターン４０２との間に所定の間隙に形成された第三パターン４０３を備えている。第三パターン４０３は、フィルム基板４の長手方向に並んで配置された複数の第三マーク４０３ａを有し、第三マーク４０３ａとともにフィルム基板４に形成された第１層目の所定パターン（不図示）と第１層目の所定パターン上に形成された第２層目の所定パターン（不図示）とのアライメント誤差を検出するために設けられている。第１層目の所定パターン及び第２層目の所定パターンは、デバイス形成領域ＤＡに形成される電子デバイスの一部となる。
【００２９】
第一マーク４０１ａは、フィルム基板４の長手方向に対して直交する方向に延在する四角形形状を有している。本実施形態では、第一マーク４０１ａは長方形状を有している。複数の第一マーク４０１ａは、互いにほぼ同じ形状を有している。複数の第一マーク４０１ａは、ピッチＰＦ１で並んで配置されている。複数の第一マーク４０１ａのピッチＰＦ１は、隣り合う２つの第一マーク４０１ａのうちの一方の第一マーク４０１ａ内の所定位置から、他方の第一マーク４０１ａ内における当該所定位置と同等の位置までの長さである。図３（ａ）では、当該所定位置は、隣り合う２つの第一マーク４０１ａのうちの相対的に左側（ｘ軸の相対的に負方向側）に位置する第一マーク４０１ａの左側（ｘ軸の相対的に負方向側）の長辺である。当該所定位置と同等の位置は、隣り合う２つの第一マーク４０１ａのうちの相対的に右側（ｘ軸の相対的に正方向側）に位置する第一マーク４０１ａの左側（ｘ軸の相対的に負方向側）の長辺である。隣り合う２つの第一マーク４０１ａのうちの一方の所定位置と、他方の当該所定位置と同等の位置は、第一マーク４０１ａの左側（ｘ軸の相対的に負方向側）の長辺に限られず第一マーク４０１ａの右側（ｘ軸の相対的に正方向側）の長辺であってもよいし、第一マーク４０１ａの中点などであってもよい。
【００３０】
第二マーク４０２ａは、フィルム基板４の長手方向に対して傾斜する方向に延在する四角形形状を有している。本実施形態では、第二マーク４０２は、平行四辺形状を有している。複数の第二マーク４０２ａは、互いにほぼ同じ形状を有している。複数の第二マーク４０２ａは、ピッチＰＦ２で並んで配置されている。複数の第二マーク４０２ａのピッチＰＦ２は、隣り合う２つの第二マーク４０２ａのうちの一方の第二マーク４０２ａ内の所定位置から、他方の第二マーク４０２ａ内における当該所定位置と同等の位置までの長さである。図３（ａ）では、当該所定位置は、隣り合う２つの第二マーク４０２ａのうちの相対的に左側（ｘ軸の相対的に負方向側）に位置する第二マーク４０２ａの左側（ｘ軸の相対的に負方向側）の長辺である。当該所定位置と同等の位置は、隣り合う２つの第二マーク４０２ａのうちの相対的に右側（ｘ軸の相対的に正方向側）に位置する第二マーク４０２ａの左側（ｘ軸の相対的に負方向側）の長辺である。隣り合う２つの第二マーク４０２ａのうちの一方の所定位置と、他方の当該所定位置と同等の位置は、第二マーク４０２ａの左側（ｘ軸の相対的に負方向側）の長辺に限られず第二マーク４０２ａの右側（ｘ軸の相対的に正方向側）の長辺であってもよいし、第二マーク４０２ａの中点などであってもよい。
【００３１】
第三マーク４０３ａは、例えば円形状を有している。複数の第三マーク４０３ａは、互いにほぼ同じ形状を有している。複数の第三マーク４０３ａは、ピッチＰＦ３で並んで配置されている。複数の第三マーク４０３ａのピッチＰＦ３は、隣り合う２つの第三マーク４０３ａのうちの一方の第三マーク４０３ａ内の所定位置から、他方の第三マーク４０３ａ内における当該所定位置と同等の位置までの長さである。図３（ａ）では、当該所定位置及び当該所定位置と同等の位置は、第三マーク４０３ａの重心、すなわち中心である。隣り合う２つの第三マーク４０３ａのうちの一方の所定位置と、他方の当該所定位置と同等の位置は、第三マーク４０３ａの重心に限られず、第三マーク４０３ａの外週端部上の左側（ｘ軸の相対的に負方向側）又は右側（ｘ軸の相対的に正方向側）の一点などであってもよい。第三マーク４０３ａの形状は円形状に限られないが、重心が明確な形状であるとよい。
【００３２】
図２及び図３（ｂ）に示すように、基準板６は薄板四角形状を有している。本実施形態では、基準板６は薄板長方形状を有している。基準板６は透明なガラスで形成されている。
【００３３】
図３（ｂ）に示すように、基準板６には、基準アライメントマーク６０が形成されている。基準アライメントマーク６０は、基準板６の長手方向に並んで配置された複数の第一基準マーク６０１ａを有する第一基準パターン６０１を備えている。また、基準アライメントマーク６０は、基準板６の長手方向に並んで配置された複数の第二基準マーク６０２ａを有する第二基準パターン６０２を備えている。つまり、第一基準パターン６０１及び第二基準パターン６０２は、可撓性を有さない基準板（非可撓性基板の一例）６に形成されている。第一基準パターン６０１及び第二基準パターン６０２は、所定の間隙を設けてほぼ平行に配置されている。第一基準パターン６０１及び第二基準パターン６０２の所定の間隙は、第一パターン４０１及び第二パターン４０２の所定の間隙とほぼ同じ長さに形成されている。基準アライメントマーク６０は、アライメントマーク４０と異なり、第三パターンを備えていない。
【００３４】
第一基準マーク６０１ａは、基準板６の長手方向に対して直交する方向に延在する四角形形状を有している。本実施形態では、第一基準マーク６０１ａは長方形状を有している。複数の第一基準マーク６０１ａは、互いにほぼ同じ形状を有している。複数の第一基準マーク６０１ａは、ピッチＰＲ１で並んで配置されている。複数の第一基準マーク６０１ａのピッチＰＲ１は、隣り合う２つの第一基準マーク６０１ａのうちの一方の第一基準マーク６０１ａ内の所定位置から、他方の第一基準マーク６０１ａ内における当該所定位置と同等の位置までの長さである。図３（ｂ）では、当該所定位置は、隣り合う２つの第一基準マーク６０１ａのうちの相対的に左側に位置する第一基準マーク６０１ａの左側の長辺である。当該所定位置と同等の位置は、隣り合う２つの第一基準マーク６０１ａのうちの相対的に右側に位置する第一基準マーク６０１ａの左側の長辺である。隣り合う２つの第一基準マーク６０１ａのうちの一方の所定位置と、他方の当該所定位置と同等の位置は、第一基準マーク６０１ａの左側の長辺に限られず第一基準マーク６０１ａの右側の長辺であってもよいし、第一基準マーク６０１ａの中点などであってもよい。
【００３５】
第二基準マーク６０２ａは、基準板６の長手方向に対して傾斜する方向に延在する四角形形状を有している。本実施形態では、第二基準マーク６０２ａは、平行四辺形状を有している。複数の第二基準マーク６０２ａは、互いにほぼ同じ形状を有している。複数の第二基準マーク６０２ａは、ピッチＰＲ２で並んで配置されている。複数の第二基準マーク６０２ａのピッチＰＲ２は、隣り合う２つの第二基準マーク６０２ａのうちの一方の第二基準マーク６０２ａ内の所定位置から、他方の第二基準マーク６０２ａ内における当該所定位置と同等の位置までの長さである。図３（ｂ）では、当該所定位置は、隣り合う２つの第二基準マーク６０２ａのうちの相対的に左側に位置する第二基準マーク６０２ａの左側の長辺である。当該所定位置と同等の位置は、隣り合う２つの第二基準マーク６０２ａのうちの相対的に右側に位置する第二基準マーク６０２ａの左側の長辺である。隣り合う２つの第二基準マーク６０２ａのうちの一方の所定位置と、他方の当該所定位置と同等の位置は、第二基準マーク６０２ａの左側の長辺に限られず第二基準マーク６０２ａの右側の長辺であってもよいし、第二基準マーク６０２ａの中点などであってもよい。
【００３６】
（干渉縞）
図４に示すように、第一基準マーク６０１ａは、第一パターン４０１を構成する第一マーク４０１ａとほぼ同形状であって配列ピッチが異なっている。本実施形態では、第一基準マーク６０１ａのピッチＰＲ１は、第一マーク４０１ａのピッチＰＦ１よりも短くなっている。ピッチＰＲ１とピッチＰＦ１との差は、第一マーク４０１ａ及び第一基準マーク６０１ａのそれぞれの幅（短辺の長さ）よりも短くなっている。これにより、基準板６の長手方向がフィルム基板４の長手方向にほぼ一致し、かつ第一パターン４０１及び第一基準パターン６０１が重なるようにして基準板６及びフィルム基板４が配置されると、第一パターン４０１及び第一基準パターン６０１によって、第一干渉縞（すなわちモアレ縞）が発生する。
【００３７】
第二基準マーク６０２ａは、第二パターン４０２を構成する第二マーク４０２ａとほぼ同形状であって配列ピッチが異なっている。本実施形態では、第二基準マーク６０２ａのピッチＰＲ２は、第二マーク４０２ａのピッチＰＦ２よりも短くなっている。ピッチＰＲ２とピッチＰＦ２との差は、第二マーク４０２ａ及び第二基準マーク６０２ａのそれぞれの幅（短辺の長さ）よりも短くなっている。これにより、基準板６の長手方向がフィルム基板４の長手方向にほぼ一致し、かつ第二パターン４０２及び第二基準パターン４０２が重なるようにして基準板６及びフィルム基板４が配置されると、第二パターン４０２及び第二基準パターン６０２によって、第二干渉縞（すなわちモアレ縞）が発生する。
【００３８】
第一マーク４０１ａのピッチＰＦ１と、第一基準マーク４０２ａのピッチＰＲ１との差は、ピッチＰＦ１と比較すると微小な値である。複数の第一マーク４０１ａのうちの一の第一マーク４０１ａと、複数の第一基準マーク６０１ａのうちの一の第一基準マーク６０１ａとが重なり合う重なり位置（例えば図４に示す領域α１）から、フィルム基板４の長手方向（図４中に示すｘ軸の正方向）に進むほど、第一マーク４０１ａと第一基準マーク６０１ａとのずれ量は増加する。領域α１から所定距離だけ離れた領域α２では、例えば複数の第一マーク４０１ａのうちの他の一の第一マーク４０１ａが、隣り合う第一基準マーク６０１ａの間の中間位置に配置される。領域α２からさらにフィルム基板４の長手方向（ｘ軸の正方向）に進むに従って、第一マーク４０１ａと第一基準マーク６０１ａとのずれ量は減少し、領域α３では、複数のマーク４０１ａのうちのさらに他の一の第一マーク４０１ａと複数の第一基準マーク６１０ａのうちの他の一の第一基準マーク６０１ａとが重なり合う。領域α１，α３のように、第一マーク４０１ａと第一基準マーク６０１ａとが重なり合う重なり位置の近傍では、第一マーク４０１ａ及び第一基準マーク６０１ａの密度が疎となる。一方、領域α２のように、第一マーク４０１ａ（又は第一基準マーク６０１ａ）が、隣り合う第一基準マーク６０１ａ（又は隣り合う第一マーク６０１ａ）の間に配置される位置の近傍では、第一マーク４０１ａ及び第一基準マーク６０１ａの密度が密となる。このため、図４に示すように、第一パターン４０１と第一基準パターン６０１とが重ね合わされると、所定周期で濃淡が繰り返される第一干渉縞（モアレ縞）が発生する。また、第二パターン４０２と第二基準パターン６０２との間でも同様に作用し、第二干渉縞（モアレ縞）が発生する。
【００３９】
（フィルム基板の歪量検出方法）
次に、本実施形態による可撓性基板の歪量検出方法について、図１を参照しつつ図５から図８を用いて説明する。本実施形態による可撓性基板の歪量検出方法では、アライメントマーク４０を有するフィルム基板の第一パターン４０１に、第一マーク４０１と同形状であって配列ピッチの異なる複数の第一基準マーク６０１ａを有する第一基準パターン６０１を重ね合わせ、第一パターン６０１及び第一基準パターン６０１によって生じる第一干渉縞に基づいてフィルム基板４の長手方向の歪量を検出するようになっている。また、本実施形態による可撓性基板の歪量検出方法では、第二マーク４０２ａと同形状であって配列ピッチの異なる複数の第二基準マーク６０２ａを有する第二基準パターン６０２を第二パターン４０２に重ね合わせ、第二パターン４０２及び第二基準パターン６０２によって生じる第二干渉縞に基づいてフィルム基板４の短手方向の歪量を検出するようになっている。
【００４０】
図５に示すように、制御部１０（図１参照）は、撮像部１１ａで撮像されて送信された、フィルム基板４のアライメントマーク４０と基準板６の基準アライメントマーク６０とが重なっている領域の撮像画像を取得する。図５中に矢印Ｙ１で示すように、制御部１０の画像処理部１０ａは、取得した撮像画像に写る第一マーク４０１ａ及び第一基準マーク６０１ａが重なっている所定位置の輝度をスキャンして第一輝度プロファイルを取得する。また、図５中に矢印Ｙ２で示すように、画像処理部１０ａは、取得した撮像画像に写る第二マーク４０２ａ及び第二基準マーク６０２ａが重なっている所定位置の輝度をスキャンして第二輝度プロファイルを取得する。さらに、図５中に矢印Ｙ３で示すように、画像処理部１０ａは、取得した撮像画像に写る第三マーク４０３ａの所定位置の輝度をスキャンして第三輝度プロファイルを取得する。
【００４１】
第一パターン４０１の第一マーク４０１ａ及び第一基準パターン６０１の第一基準マーク６０１ａが存在する位置の輝度は、第一パターン４０１及び第一基準パターン６０１が存在しない位置（すなわちフィルム基板４が露出している位置）及び基準板６のガラス部分の輝度と比較すると低くなる。このため、第一パターン４０１及び第一基準パターン６０１に基づく模様は、周波数が高く細かい縞模様となる。一方、第一パターン４０１及び第一基準パターン６０１によって発現する第一干渉縞は、第一パターン４０１及び第一基準パターン６０１に基づく模様よりも周波数が低く大きい縞模様となる。その結果、図６（ａ）中の太矢印の左側に示すように、第一輝度プロファイルＦ１は、高周波で輝度レベルが変動しつつ、この輝度レベルの極大値が第一干渉縞の低周波で変化する形状となる。
【００４２】
第二パターン４０２の第二マーク４０２ａ及び第二基準パターン６０２の第二基準マーク６０２ａが存在する位置の輝度は、第二マーク４０２ａ及び第二基準マーク６０２ａが存在しない位置（すなわちフィルム基板４が露出している位置）及び基準板６のガラス部分の輝度と比較すると低くなる。このため、第二パターン４０２及び第二基準パターン６０２に基づく模様は、周波数が高く細かい縞模様となる。一方、第二パターン４０２及び第二基準パターン６０２によって発現する第二干渉縞は、第二パターン４０２及び第二基準パターン６０２に基づく模様よりも周波数が低く大きい縞模様となる。その結果、図６（ｂ）中の太矢印の左側に示すように、第一輝度プロファイルＦ２は、高周波で輝度レベルが変動しつつ、この輝度レベルの極大値が第一干渉縞の低周波で変化する形状となる。
【００４３】
第三パターン４０３の第三マーク４０３ａが存在する位置の輝度は、第三マーク４０３ａが存在しない位置（すなわちフィルム基板４が露出している位置）及び基準板６のガラス部分の輝度と比較すると低くなる。その結果、第三輝度プロファイルＦ３は、第三マーク４０３ａが存在する位置の輝度レベルが低く、フィルム基板４の露出部及び基準板６のガラス部分が重なった位置の輝度レベルが高くかつほぼ平坦な形状となる。なお、第三輝度プロファイルＦ３は、第１層の所定パターンと第２層の所定パターンとのアライメント誤差を検出するために用いられ、フィルム基板４の歪量の検出には用いられない。
【００４４】
＜可撓性基板の長手方向（搬送方向）の歪量の検出方法＞
まず、フィルム基板４の長手方向、すなわちフィルム基板４の搬送方向の歪量の検出方法について説明する。
画像処理部１０ａは、周波数フィルタを適用することによって、第一輝度プロファイルＦ１及び第二輝度プロファイルＦ２の高周波成分を弱めて第一干渉縞及び第二干渉縞を強調する。これにより、図６（ａ）中の太矢印の右側に示すように、画像処理部１０ａは、第一干渉縞の周波数で輝度レベルが変化する第一干渉縞プロファイルＦＭ１を取得する。また、図６（ｂ）中の太矢印の右側に示すように、画像処理部１０ａは、第二干渉縞の周波数で輝度レベルが変化する第二干渉縞プロファイルＦＭ２を取得する。
【００４５】
図７（ａ）に示すように、画像処理部１０ａは、高輝度側閾値ＴＨ１及び低輝度側閾値ＴＨ２を設定する。図７（ａ）中の丸印で示すように、画像処理部１０ａは、設定した高輝度側閾値ＴＨ１と第一干渉縞プロファイルＦＭ１との交点ＩＰ１，ＩＰ２，ＩＰ３，ＩＰ４を検出し、設定した低輝度側閾値ＴＨ２と第一干渉縞プロファイルＦＭ１との交点ＩＰ５，ＩＰ６，ＩＰ７，ＩＰ８を検出する。
【００４６】
図７（ｂ）中の丸印に示すように、画像処理部１０ａは、第一干渉縞プロファイルＦＭ１の一の極大値近傍で検出した一組の交点ＩＰ１及び交点ＩＰ２の各座標の中間の座標を極大値ＭＸ１として取得する。また、画像処理部１０ａは、第一干渉縞プロファイルＦＭ１の他の極大値近傍で検出した一組の交点ＩＰ３及び交点ＩＰ４の各座標の中間の座標を極大値ＭＸ２として取得する。また、画像処理部１０ａは、第一干渉縞プロファイルＦＭ１の一の極小値近傍で検出した一組の交点ＩＰ５及び交点ＩＰ６の各座標の中間の座標を極小値ＭＩ１として取得する。また、画像処理部１０ａは、第一干渉縞プロファイルＦＭ１の他の極小値近傍で検出した一組の交点ＩＰ７及び交点ＩＰ８の各座標の中間の座標を極大値ＭＸ３として取得する。画像処理部１０ａは、取得した極大値ＭＸ１，ＭＸ２及び極小値ＭＩ１、ＭＩ２の座標を算出部１１ｂ（図１参照）に出力する。
【００４７】
図５から図７では、画像処理部１０ａが２つの極大値ＭＸ１，ＭＸ２及び２つの極大値ＭＩ１，ＭＩ２を取得する方法について説明した。しかしながら、画像処理部１０ａは、実際には連続して送出されるフィルム基板４に対して第一干渉縞プロファイルＦＭ１を連続して取得し、３以上の極大値及び極大値を取得して算出部１０ｂに出力する。
【００４８】
図７（ｂ）に示すように、算出部１０ｂは、画像処理部１０ａから入力された複数の極大値のうち、隣り合う極大値ＭＸ１及び極大値ＭＸ２の座標の差を計算して第一干渉縞のピッチＰｍ１を算出するための元データＤｍ１を算出する。算出部１０ｂは、同様の手法により隣り合う極大値の座標の差を計算して複数の元データＤｍ１を算出する。算出部１０ｂは、複数の元データＤｍ１の平均値を第一干渉縞のピッチＰｍ１として取得する。
【００４９】
算出部１０ｂは、撮像部１１ａで撮像された画像から算出した第一干渉縞のピッチＰｍ１と、フィルム基板４の歪量がない場合の第一干渉縞のピッチＰｍ０（すなわち、第一干渉縞のピッチの設計値）より、フィルム基板４の長手方向の歪量ε１を以下の式（１）から式（３）を用いて算出する。式（１）から式（３）において、「Ｐ１」は、基準板６に形成された第一基準マーク６０１ａのピッチＰＲ１の設計値を表し、「Ｐ２」は、フィルム基板４に形成される第一マーク４０１ａのピッチＰＦ１の設計値を表している。
【００５０】
Ｐｍ１＝（１＋ε１）×Ｐｍ０  ・・・（１）
Ｐｍ０＝（Ｐ１×Ｐ２）／（Ｐ１−Ｐ２）  ・・・（２）
ε１＝［（Ｐ１−Ｐ２）×Ｐｍ１−（Ｐ１×Ｐ２）］／［Ｐ１×（Ｐｍ１＋Ｐ２）］                                                                    ・・・（３）
【００５１】
＜可撓性基板の長手方向に直交する方向の歪量の検出方法＞
次に、可撓性基板の長手方向に直交する方向（すなわち短手方向）の歪量の検出方法について説明する。
制御部１０は、図６（ｂ）に示す第二干渉縞プロファイルＦＭ２を用いて、図７を用いて説明したのと同様の手法により、フィルム基板４に形成された第二パターン４０２と基準板６に形成された第二基準パターン６０２によって発現する第二干渉縞のピッチＰｍ２（図５参照）を算出する。第二干渉縞のピッチＰｍ２は、フィルム基板４の長手方向のピッチである。
【００５２】
図８に示すように、第二干渉縞の斜め方向（すなわち、フィルム基板４の長手方向に対する第二パターン４０２の傾斜方向）のピッチＰａｘは、第二干渉縞の長手方向のピッチＰｍ２と、フィルム基板４の長手方向に対する第二パターン４０２の傾斜角θを用いて、式（４）によって表すことができる。図８では、理解を容易にするため、第二干渉縞の斜め方向のピッチＰａｘ及び第二干渉縞の長手方向のピッチＰｍ２は、ベクトルで表されている。
Ｐａｘ＝Ｐｍ２／ｃｏｓθ  ・・・（４）
【００５３】
算出部１０ｂは、式（４）を用いて算出された第二干渉縞の斜め方向のピッチＰａｘを式（１）から式（３）に代入して第二干渉縞の斜め方向の歪量εａｘを算出する。算出部１０ｂは、歪量εａｘを算出するに当たり、「Ｐｍ０」には第二干渉縞の斜め方向のピッチの設計値を代入し、「Ｐ１」には基準板６に形成された第二基準マーク６０２ａのピッチＰＲ２の設計値を代入し、「Ｐ２」にはフィルム基板４に形成される第二マーク４０２ａのピッチＰＦ２の設計値を代入する。
【００５４】
算出部１０ｂは、以下の式（５）を用いて、フィルム基板４の長手方向に直交する方向（短手方向）の歪量εｔｄを算出する。式（５）において、「θ」は、フィルム基板４の長手方向に対する第二パターン４０２の傾斜角θ（図８参照）を表している。
εｔｄ＝εａｘ×ｓｉｎθ  ・・・（５）
【００５５】
制御部１０は、算出したフィルム基板４の長手方向の歪量ε１及びフィルム基板４の短手方向の歪量εｔｄに基づいて、フィルム基板４に付与する張力の補正量を算出する。制御部１０は、算出した補正量に基づいて、フィルム基板４を搬送する搬送装置に設けられた可撓性基板の伸長制御部（不図示）を制御してフィルム基板４に付与する張力を調整してフィルム基板４に生じている歪を抑制する。
【００５６】
（アライメント誤差の検出方法）
次に、第１層目の所定パターンに対する第２層目の所定パターンのアライメント誤差の検出方法について図１から図３及び図６を参照しつつ図９及び図１０を用いて説明する。図９では、理解を容易にするため、第２層目のアライメントマーク４２は、フィルム基板４の短手方向（図９において下方）に若干ずらして図示されている。
【００５７】
＜フィルム基板の長手方向のアライメント誤差の検出方法＞
アライメントマーク４０に含まれる第三パターン４０３の重心は、フィルム基板４に歪が生じていない場合には、第１層目のアライメントマーク４０の第一パターン４０１と第２層目のアライメントマーク４２の第一パターン４２１（図９参照）とで生じる第一干渉縞が明となる位置（すなわち、第一マーク４０１ａ及び第二マーク４２１ａが疎となる位置）と一致するように設計されている。このため、図６に示す第三パターン４０３に基づく第三輝度プロファイルＦ３の輝度レベルの極小値の座標と、第１層目の第一パターン４０１及び第２層目の第一パターン４２１で生じる第一干渉縞に基づく第一干渉縞プロファイルＦＭ１の極大値ＭＸ１の座標との距離に基づいて、フィルム基板４の長手方向のアライメント誤差を算出することができる。
【００５８】
図９は、フィルム基板４の歪を抑制した後に撮像部１３ｂ（図２参照）で撮像した画像を示している。制御部１０は、図９に示す撮像画像に基づいて、上述の歪量検出方法と同様の手法を用いてフィルム基板４の歪を抑制する。その際、制御部１０は、第一パターン４０１の一部及び第二パターン４０２の一部を、第２層目の所定パターンの形成時のフィルム基板４の歪量を検出するために用いるようになっている。
【００５９】
第１層目の所定パターンに対して第２層目の所定パターンがずれて形成されている。このため、図９に示すように、第一パターン４０１を構成する第一マーク４０１ａ及び第一パターン４２１を構成する第一マーク４２１ａが疎となる位置は、第１層目の形成時に形成された第三パターン４０３の重心とずれている。当該疎となる位置と当該重心とのずれ量が、第一パターン４０１及び第一パターン４２１で生じる第一干渉縞で拡大したアライメント誤差Ｅｍとなる。
【００６０】
画像処理部１０ａは、撮像部１３ｂから送信された画像を用いて、第三パターン４０３に基づく第三輝度プロファイルＦ３と、第１層目の第一パターン４０１及び第２層目の第一パターン４２１で生じる第一干渉縞に基づく第一干渉縞プロファイルＦＭ１とを作成する。画像処理部１０ａは、作成した第三輝度プロファイルＦ３の極小値の座標と、作成した第一干渉縞プロファイルＦＭ１の極大値の座標とを一組とする複数の組データを取得する。算出部１０ｂは、画像処理部１０ａから入力された複数の組データのそれぞれに含まれる２つの座標の距離の平均値を第一干渉縞で拡大して検出したアライメント誤差Ｅｍとする。
【００６１】
算出部１０ｂは、アライメント誤差Ｅｍを用いて以下の式（６）によって本来発生しているアライメント誤差Ｅ０を算出する。式（６）において、「Ｐ０」は、第２層目の第一マーク４２１ａのピッチを表し、「Ｐｍ」は、第一干渉縞プロファイルＦＭ１を用いて検出された、第一パターン４０１及び第一パターン４２１によって発現する第一干渉縞のピッチ（周期）を表している。
Ｅ０＝（Ｐ０／Ｐｍ）×Ｅｍ  ・・・（６）
【００６２】
＜フィルム基板の短手方向のアライメント誤差の検出方法＞
図１０（ａ）に示すように、撮像部１３ａの視野に対する水平線に対してθ°傾いた縞模様である第２層目の第二パターン４２２を第１層目の第二パターン４０２に対してフィルム基板４の搬送方向（長手方向）及び搬送方向に直交する方向（短手方向）に移動させると、第二パターン４０２及び第二パターン４２２で生じる第二干渉縞の位相がフィルム基板４の搬送方向に変化する。
【００６３】
図１０（ｂ）に示すように、例えばフィルム基板４の搬送方向に長さＬｍｄだけ第二パターン４２２が移動すると、第二干渉縞の位相が長さＬｍｄだけ変化する。また、図１０（ｃ）に示すように、例えばフィルム基板４の搬送方向に直交する方向に長さＬｔｄだけ第二パターン４２２が移動すると、第二パターン４０２及び第二パターン４２２で生じる第二干渉縞の位相は、フィルム基板４の搬送方向に長さＬｍｄ（＝Ｌｔｄ×ｔａｎθ）だけ変化する。
【００６４】
つまり、第二パターン４０２及び第二パターン４２２で生じる第二干渉縞で検出されるフィルム基板４の長手方向のアライメント誤差には、フィルム基板４の短手方向の誤差に由来する成分が含まれている。フィルム基板４の短手方向のアライメント誤差は、第二パターン４０２及び第二パターン４２２の傾斜角度と、フィルム基板４の長手方向のアライメント誤差が既知であれば算出することができる。そこで、制御部１０は、次のようにしてフィルム基板４の短手方向のアライメント誤差Ｅｔｄを算出する。
【００６５】
まず、制御部１０は、第１層目の第二パターン４０２を構成する第二マーク４０２ａと、第２層目の第二パターン４２２を構成する第二マーク４２２ａが疎となる位置に一致する第三パターン４０３の第三マーク４０３ａを含む画像を撮像部１３ｂから取得する。
【００６６】
次に、画像処理部１０ａは、第三輝度プロファイルＦ３の極小値の座標と、第二パターン４０２，４２２によって生じる第二干渉縞に基づく第二干渉縞プロファイルＦＭ２の極大値の座標とを取得する。
【００６７】
次に、算出部１０ｂは、画像処理部１０ａから入力された当該極小値の座標と当該極大値の座標の距離を第二干渉縞と第三パターン４０３との位相差Ｅａｘとする。
【００６８】
次に、画像処理部１０ａは、第一パターン４０１，４２１の第一干渉縞及び第三パターン４０３を用いて取得したのと同様の方法により、第三輝度プロファイルＦ３の極小値の座標と、第二パターン４０２，４２２によって生じる第二干渉縞に基づく第二干渉縞プロファイルＦＭ２の極大値の座標とを一組とする複数の組データを取得する。
【００６９】
次に、算出部１０ｂは、画像処理部１０ａから入力された複数の組データのそれぞれに含まれる２つの座標の距離の平均値を第二干渉縞で拡大して検出したフィルム基板４の長手方向のアライメント誤差Ｅｍｄとする。
【００７０】
次に、算出部１０ｂは、以下の式（７）を用いて、フィルム基板４の短手方向に生じている本来のアライメント誤差Ｅｔｄを算出する。式（７）において、「Ｐ０」は、第２層目の第二マーク４２２ａのピッチを表し、「Ｐｍ」は、第二干渉縞プロファイルＦＭ２を用いて検出された、第二パターン４０２及び第二パターン４２２によって発現する第二干渉縞のピッチ（周期）を表し、「θ」はフィルム基板４の短手方向に対する第二マーク４２２ａの傾斜角（図１０（ａ）参照）を表している。
Ｅｔｄ＝［（Ｅａｘ×（Ｐ０／Ｐｍ））−Ｅｍｄ］／ｔａｎθ  ・・・（７）
【００７１】
制御部１０は、算出したフィルム基板４の長手方向のアライメント誤差Ｅ０及び短手方向のアライメント誤差Ｅｔｄに基づいて、パターン形成部２４（図２参照）の圧胴２４ａなどの回転速度やフィルム基板４の搬送方向に直交する方向（すなわち短手方向）に対するブラン胴２４ｂの位置などの補正量を算出する。制御部１０は、算出した補正量に基づいて、パターン形成部２４を制御してフィルム基板４に形成する第２層目の所定パターンの形成位置を調整する。これにより、フィルム基板４の長手方向及び短手方向における第１層目の所定パターン及び第２層目の所定パターンのアライメント誤差が減少する。
【００７２】
以上説明したように、本実施形態によるアライメントパターン及び可撓性基板の歪調整方法によれば、可撓性を有する可撓性基板の歪量をインラインで精度よく検出することができる。
【００７３】
また、本実施形態によるアライメントパターンを用いることによって、積層される複数の層の層間のアライメント誤差を低減することができる。
【００７４】
本発明は、上記実施形態によらず、種々の変形が可能である。
上記実施形態では、第一マーク及び第二マークは長方形状を有し、第一基準マーク及び第二基準マークは平行四辺形状を有しているが、本発明はこれに限られない。第一マーク及び第二マークは、細長い四角形状であれば、例えば矩形状や平行四辺形状であってもよい。また、第一基準マーク及び第二基準マークは、細長い四角形状であれば、矩形状や長方形状であってもよい。
【００７５】
上記実施形態では、第一マーク及び第一基準マークは同一形状を有し、第二マーク及び第二基準マークは同一形状を有している。本実施形態では、第一マーク及び第一基準マークの同一形状は、相対的に短い辺（すなわち幅）が同一であり、かつ相対的に長い辺の長さが異なる形状も含まれる。同様に、本実施形態では、第二マーク及び第二基準マークの同一形状は、相対的に短い辺（すなわち幅）が同一であり、かつ相対的に長い辺の長さが異なる形状も含まれる。
【００７６】
上記実施形態では、複数の層の層間のアライメント誤差の検出方法について説明したが、本発明はこれに限られない。例えば、フィルム基板４上に別のフィルム基板を重ね合わせる際に、上記実施形態と同様の方法を用いて、フィルム基板４の長手方向及び短手方向におけるフィルム基板４に対する当該別のフィルム基板のアライメント誤差を検出できる。この場合、上述の第２層目のアライメントマーク６０と同形状のアライメントマークを当該別のフィルム基板に形成しておき、当該アライメントマークを用いてアライメント誤差を検出するとよい。
【符号の説明】
【００７７】
４  フィルム基板
６  基準板
１０  制御部
１０ａ  画像処理部
１０ｂ  算出部
１１，１３  光学系撮像装置
１１ａ，１３ａ  撮像部
１１ｂ，１３ｂ  光源
２２，２４  パターン形成部
２２ａ，２４ａ  圧胴
２２ｂ，２４ｂ  ブラン胴
２２ｃ，２４ｃ  抜き版
２２ｄ，２４ｄ  チャンバ
４０，４２  アライメントマーク
６０  基準アライメントマーク
２２２，２２４  材料
４０１，４２１  第一パターン
４０１ａ，４２１ａ  第一マーク
４０２，４２２  第二パターン
４０２ａ，４２２ａ  第二マーク
４０３  第三パターン
６０１  第一基準パターン
６０１ａ  第一基準マーク
６０２  第二基準パターン
６０２ａ  第二基準マーク
【図１】
2018116017.tif 000003
【図２】
2018116017.tif 000004
【図３】
2018116017.tif 000005
【図４】
2018116017.tif 000006
【図５】
2018116017.tif 000007
【図６】
2018116017.tif 000008
【図７】
2018116017.tif 000009
【図８】
2018116017.tif 000010
【図９】
2018116017.tif 000011
【図１０】
2018116017.tif 000012