(57)【要約】【課題】本発明は、１回の化学強化処理で高いＣＳ値を有する化学強化ガラスが得られ、該化学強化ガラスの面取り時にエッジ部の欠損を抑制できる化学強化用ガラスを提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、特定の組成範囲であり、主面と前記主面に対向する裏面とを有し、前記裏面のスズの含有量が前記主面のスズの含有量よりも多く、前記主面の表面から板厚方向深さ１〜２μｍにおける水素濃度が徐々に減少していることを特徴とする化学強化用ガラスに関する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化物基準のモル百分率表示で、
ＳｉＯ２：６０〜６７％、
Ａｌ２Ｏ３：９〜１３．５％、
Ｎａ２Ｏ：１３．５〜１８．５％、
Ｋ２Ｏ：０．１〜３％、
ＭｇＯ：６〜１０．５％、及び
ＴｉＯ２：０％超５％以下を含有し、
主面と前記主面に対向する裏面とを有し、前記裏面のスズの含有量が前記主面のスズの含有量よりも多く、前記主面の表面から板厚方向深さ１〜２μｍにおける水素濃度が深さ方向に徐々に減少していることを特徴とする化学強化用ガラス。
【請求項２】
前記裏面の表面から板厚方向深さ１〜２μｍにおける水素濃度が深さ方向に徐々に減少していることを特徴とする請求項１に記載の化学強化用ガラス。
【請求項３】
前記主面の表面から板厚方向深さ１〜１０μｍにおける水素濃度は、前記裏面の表面から板厚方向深さ１〜１０μｍにおける水素濃度よりも低いことを特徴とする請求項１に記載の化学強化用ガラス。
【請求項４】
ガラスの粘度が１０４ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ４が１２５５℃以下である請求項１〜３のいずれか１項に記載の化学強化用ガラス。
【請求項５】
酸化物基準のモル百分率表示でＺｒＯ２を０．１１％超４．０％以下含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の化学強化用ガラス。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の化学強化用ガラスが化学強化された化学強化ガラス。
【請求項７】
表面圧縮応力（ＣＳ）が９００ＭＰａ以上である請求項６に記載の化学強化ガラス。
【請求項８】
圧縮応力層深さ（ＤＯＬ）が３０μｍ以上である請求項６又は７に記載の化学強化ガラス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、化学強化用ガラス及び化学強化されたガラス（以下、化学強化ガラスともいう）に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話または携帯情報端末（ＰＤＡ）等のフラットパネルディスプレイ装置（以下、装置等という）において、カバーガラスとして化学強化ガラスが用いられている。化学強化ガラスには、装置等に搭載され、装置等を落としてしまった場合にも割れないような強度が求められている。
【０００３】
化学強化ガラスの強度を表す指標として、圧縮応力値（ＣＳ値）がある。化学強化用ガラスは、１回の化学強化処理で、高いＣＳ値（例えば、１０００ＭＰａ以上）を有する化学強化ガラスが得られることが求められている。一方、化学強化ガラスは、装置等に搭載された際に、端面のエッジ部分を面取りすることにより手触り感を向上させている。
【０００４】
ここで、特許文献１には、化学強化用ガラスに２回の化学強化処理を施し、ＣＳ値が１０００ＭＰａを超える化学強化ガラスを得ることが開示されている。また、特許文献２には、ガラスのＨ濃度分布が化学強化ガラスの反りに影響することが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第２０１２／０４３４８２号
【特許文献２】国際公開第２０１３／００５５８８号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記いずれの文献も、１回の化学強化処理で高いＣＳ値を有する化学強化ガラスが得られ、該化学強化ガラスの面取り時にエッジ部の欠損を抑制できる化学強化用ガラスについて、なんら開示及び示唆をしていない。
【０００７】
本発明は、１回の化学強化処理で高いＣＳ値を有する化学強化ガラスが得られ、該化学強化ガラスの面取り時にエッジ部の欠損を抑制できる化学強化用ガラスを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、特定のガラス組成であり、前記主面の表面から板厚方向深さ１〜２μｍにおける水素濃度が深さ方向に徐々に減少していることを特徴とする化学強化用ガラスによれば、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成した。
【０００９】
すなわち、本発明は下記＜１＞〜＜８＞に関するものである。
＜１＞酸化物基準のモル百分率表示で、
ＳｉＯ２：６０〜６７％、
Ａｌ２Ｏ３：９〜１３．５％、
Ｎａ２Ｏ：１３．５〜１８．５％、
Ｋ２Ｏ：０．１〜３％、
ＭｇＯ：６〜１０．５％、及び
ＴｉＯ２：０％超５％以下を含有し、
主面と前記主面に対向する裏面とを有し、前記裏面のスズの含有量が前記主面のスズの含有量よりも多く、前記主面の表面から板厚方向深さ１〜２μｍにおける水素濃度が深さ方向に徐々に減少していることを特徴とする化学強化用ガラス。
＜２＞前記裏面の表面から板厚方向深さ１〜２μｍにおける水素濃度が深さ方向に徐々に減少していることを特徴とする＜１＞に記載の化学強化用ガラス。
＜３＞前記主面の表面から板厚方向深さ１〜１０μｍにおける水素濃度は、前記裏面の表面から板厚方向深さ１〜１０μｍにおける水素濃度よりも低いことを特徴とする＜１＞に記載の化学強化用ガラス。
＜４＞ガラスの粘度が１０４ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ４が１２５５℃以下である＜１＞〜＜３＞のいずれか１に記載の化学強化用ガラス。
＜５＞酸化物基準のモル百分率表示でＺｒＯ２を０．１１％超４．０％以下含む、＜１＞〜＜４＞のいずれか１に記載の化学強化用ガラス。
＜６＞＜１＞〜＜５＞のいずれか１に記載の化学強化用ガラスが化学強化された化学強化ガラス。
＜７＞表面圧縮応力（ＣＳ）が９００ＭＰａ以上である＜６＞に記載の化学強化ガラス。＜８＞圧縮応力層深さ（ＤＯＬ）が３０μｍ以上である＜６＞又は＜７＞に記載の化学強化ガラス。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の化学強化用ガラスは、１回の化学強化処理で高いＣＳ値を有する化学強化されたガラスを得ることができ、該化学強化ガラスの面取り時にエッジ部の欠損を抑制できるガラスである。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、本発明品および従来品のトップ面（主面）およびボトム面（裏面）における水素濃度のプロファイルを示す図である。縦軸は水素濃度（ａｔｏｍｓ／ｃｍ３）を示し、横軸は表面からの板厚方向深さ（μｍ）を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、任意に変形して実施することができる。なお、本明細書において単に「％」と記載した場合には「モル％」を意味し、「〜」とはその下限の値以上、その上限の値以下であることを意味する。
【００１３】
＜化学強化用ガラス＞
本発明に係る化学強化用ガラス（以下、単に「ガラス」ともいう場合がある）は、酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ２：６０〜６７％、Ａｌ２Ｏ３：９〜１３．５％、Ｎａ２Ｏ：１３．５〜１８．５％、Ｋ２Ｏ：０．１〜３％、ＭｇＯ：６〜１０．５％、及びＴｉＯ２：０％超５％以下を含有することを特徴とする。
【００１４】
以下において、ガラス組成における各成分について説明する。
【００１５】
ＳｉＯ２は、ガラスを構成する主要成分である。また、ガラス表面に傷（圧痕）がついたときのクラックの発生を低減させ、あるいは化学強化後に圧痕をつけたときの破壊率を小さくする成分である。また、ＳｉＯ２はガラスの耐酸性を高め、またエッチング処理時のスラッジ量を減らす（耐フッ酸性を高める）成分でもある。
【００１６】
一方、ＳｉＯ２の含有量が多すぎると高温での粘性が高くなり過ぎて生産性が低くなる。そのためＳｉＯ２の含有量は６０〜６７％であり、６２％以上が好ましく、６３％以上がより好ましく、また、６６％以下が好ましく、６５％以下がより好ましい。
【００１７】
Ａｌ２Ｏ３は多いほど化学強化処理時のＣＳを高くできる一方で、ＤＯＬが低下する。そのためＡｌ２Ｏ３の含有量は９〜１３．５％であり、９．５％以上が好ましく、１０％以上がより好ましく、また、１２％以下が好ましく、１１．５％以下がより好ましい。
【００１８】
Ｎａ２Ｏはイオン交換により表面圧縮応力層を形成させる必須成分であり、ＤＯＬを大きくする作用がある。また、ガラスの溶解温度と失透温度を下げ、ガラスの溶解性、成形性を向上させる成分である。Ｎａ２Ｏは非架橋酸素を増やす成分であり、Ｎａ２Ｏ含有量が多い場合には、ガラス中の水分量が変動したときの化学強化特性の変動が少なくなる。
【００１９】
Ｎａ２Ｏは多いほど化学強化処理時のＤＯＬを大きくする一方で、ＣＳが低下することがある。また、Ｎａ２Ｏを含有することでＤＵＶ耐性が低くなる傾向があることから、ＤＵＶ耐性の観点からは非架橋酸素が少ないほど好ましい。
ＤＵＶ耐性は、Ｄｅｅｐ  ＵＶ（ＤＵＶ）と呼ばれる短波長領域の紫外線に対し、特定波長領域における透過率の低下を防止する性質である。
【００２０】
そのためＮａ２Ｏの含有量は１３．５〜１８．５％であり、１４．５％以上が好ましく、１５％以上がより好ましく、また、１７．５％以下が好ましく、１６．５％以下がより好ましい。
【００２１】
Ｋ２Ｏはイオン交換速度を増大しＤＯＬを大きくし、ガラスの溶解温度を下げる効果があり、非架橋酸素を増大させる成分である。また、化学強化処理時に用いる硝酸カリウム溶融塩中のＮａＮＯ３濃度による表面圧縮応力の変化の増大を回避することができる。さらには、少量のＫ２Ｏは、フロート法によるガラス板成形時にボトム面からの錫の侵入量を抑制する効果があるため、フロート法により成形する際には含有することが好ましい。上記効果を奏するために、本発明のガラスにおけるＫ２Ｏの含有量は０．１％以上であり、０．３％以上が好ましく、０．４％以上がより好ましい。
【００２２】
一方で、Ｋ２Ｏが多すぎるとＣＳが低下する。また、Ｋ２Ｏを含有することによりＤＵＶ耐性が低くなる傾向がある。これらの観点から、Ｋ２Ｏの含有量は３％以下とし、２％以下が好ましく、１．３％以下がより好ましく、１％以下がさらに好ましく、０．９５％以下がよりさらに好ましい。
【００２３】
ＭｇＯはガラスを安定化させ、溶解性を向上させ、かつこれを添加することでアルカリ金属の含有量を低下させて熱膨張率（ＣＴＥ）の上昇を抑制できる成分である。上記効果を奏するために、本発明のガラスにおけるＭｇＯの含有量は６％以上であり、７％以上が好ましく、７．５％以上がより好ましい。一方、ＤＯＬを大きくするためには、ＭｇＯの含有量は１０．５％以下であり、９．５％以下が好ましく、９％以下がより好ましい。
【００２４】
ＴｉＯ２はＤＵＶ耐性を向上させる成分である。一方、ＴｉＯ２が多すぎるとＤＯＬが低下する。そのため、ＴｉＯ２の含有量は０％超５％以下であり、０．０１％以上が好ましく、０．０３％以上がより好ましく、また、３％以下が好ましく、１％以下がより好ましく、０．５％以下がさらに好ましく、０．４％以下がよりさらに好ましく、０．３％以下が特に好ましい。
【００２５】
ＺｒＯ２は優れたＤＵＶ耐性を与えると同時に、化学的耐久性を向上させ、化学強化時のＣＳを増大させるとともに、化学強化後のビッカース硬度を向上させる成分であり、含有できる。
【００２６】
本発明に係るガラスはＴｉＯ２とＺｒＯ２を共に含有することが好ましく、ＺｒＯ２を含有する場合は、含有量は０．１％以上が好ましく、０．１１％超がより好ましく、０．１２％以上がさらに好ましく、０．１３％以上がよりさらに好ましい。
【００２７】
一方、ガラスの製造時の失透を抑止し、化学強化時のＤＯＬ低下を防止する観点から、ＺｒＯ２の含有量は４％以下が好ましく、３％以下がより好ましく、２％以下がさらに好ましく、１．５％以下がよりさらに好ましく、１％以下が特に好ましい。
【００２８】
また、本発明に係る化学強化用ガラスは、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２の酸化物基準のモル百分率表示で表される含有量について、［（Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ×５）／（Ａｌ２Ｏ３＋ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２×１０）］が２．５５以下の関係を満たすことが好ましい。
【００２９】
上述したように、Ｎａ２ＯとＫ２ＯはＤＯＬを大きくする一方で、ＣＳやＤＵＶ耐性を低下させる成分である。また、ガラスの粘度が１０２ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ２や、ガラスの粘度が１０４ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ４を下げる成分である。
【００３０】
また、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２はＣＳやＤＵＶ耐性を高くできる一方で、ＤＯＬを低下させる成分である。また、Ａｌ２Ｏ３は温度Ｔ２や温度Ｔ４を高くする成分であり、多すぎると高温での粘性が高くなってガラスの生産性が低下する。
【００３１】
すなわち、ＣＳ、ＤＯＬ、耐酸性および生産性のバランスから、［（Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ×５）／（Ａｌ２Ｏ３＋ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２×１０）］で表される値は２．５５以下が好ましく、２．０以下がより好ましく、１．９以下がさらに好ましく、１．８以下がよりさらに好ましく、１．７５以下が一層好ましく、１．７１以下が特に好ましい。また、０．１以上が好ましく、０．５以上がより好ましく、１．０以上がさらに好ましい。
【００３２】
また、本発明においては、特にＣＳを上げるため、また耐酸性を向上させるために、Ａｌ２Ｏ３、Ｋ２Ｏの酸化物基準のモル百分率表示で表される含有量について、Ａｌ２Ｏ３／Ｋ２Ｏが１０超の関係を満たすことが好ましい。Ａｌ２Ｏ３／Ｋ２Ｏは、１０．３以上がより好ましく、１０．５以上がさらに好ましく、１１．５以上がよりさらに好ましく、１２．５以上が一層好ましく、１４．０以上が特に好ましく、１５．０以上が最も好ましい。
【００３３】
またさらに、ＭｇＯ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、ＺｒＯ２およびＴｉＯ２の酸化物基準のモル百分率表示で表される含有量について、［（ＭｇＯ／２＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ×２）／（ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）］が５３〜１４０の関係を満たすことが、後述するエッチング時のスラッジ量を低減（耐フッ酸性向上）できることから好ましい。［（ＭｇＯ／２＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ×２）／（ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）］で表される値は１３０以下がより好ましく、１２５以下がさらに好ましく、１２０以下がよりさらに好ましい。また、５５以上がより好ましく、６０以上がさらに好ましい。
【００３４】
なお、ガラスの組成は、簡易的には蛍光Ｘ線法により測定できる。湿式分析によれば、ガラス組成をより正確に測定できる。
【００３５】
また、本発明に係るガラスに含有されうるその他の成分を以下に示す。
【００３６】
Ｂ２Ｏ３は、ガラス原料の溶融を促進し、ガラスの脆性や耐候性を向上させる成分である。
【００３７】
Ｂ２Ｏ３は含有しなくてもよく、含有させる場合はその含有量が１％以上であることで、化学強化後にビッカース圧痕をつけた時の破壊率を小さくできる、または高温での溶融性が向上する。Ｂ２Ｏ３の含有量は、揮発による脈理（ｒｅａｍ）の生成、炉壁の侵食等の不都合が生じないために１５％以下であることが好ましく、１０％以下がより好ましく、７．５％以下がさらに好ましく、５％以下がよりさらに好ましく、３％以下が特に好ましい。
【００３８】
Ｐ２Ｏ５は、イオン交換性能を阻害することなく耐損傷性を向上させる成分である。Ｐ２Ｏ５は含有しなくてもよく、含有させる場合はその含有量が好ましくは１％以上、より好ましくは２％以上、さらに好ましくは２．５％以上であることによって、クラック伸展開始荷重（ＣＩＬ）が高いガラスを得ることができる。また、Ｐ２Ｏ５の含有量を好ましくは１０％以下、より好ましくは５％以下、さらに好ましくは３％以下とすることにより、特に耐酸性に優れたガラスを得ることができる。
【００３９】
ＣａＯは、ガラスを安定化する成分であり、ＭｇＯの存在による失透を防止し、かつＣＴＥの上昇を抑制しながら溶解性を向上するため含有できる。ＣａＯの含有量は、０〜５％が好ましく、０〜３％がより好ましく、０〜１％がさらに好ましい。ＣａＯの含有量が５％以下であると、十分なイオン交換速度が得られ、所望のＤＯＬが得られる。また、化学強化におけるイオン交換性能を特段に向上させたい場合には、ＣａＯは好ましくは１％未満であり、より好ましくは０．５％以下である。
【００４０】
ＣａＯ／ＭｇＯは、化学強化におけるイオン交換性能を向上させ、ガラス板の透過率を高める観点から、０．５以下であることが好ましい。
【００４１】
この他、ガラスの溶融の清澄剤としてＳＯ３、塩化物、フッ化物などを０〜１％の範囲で適宜含有してもよい。
【００４２】
ＳｒＯは必要に応じて含有してもよいが、ＭｇＯ、ＣａＯに比べてイオン交換速度を低下させるので、ＳｒＯは実質的に含有しないこととするか、含有する場合であってもその含有量は３％以下であることが好ましい。
【００４３】
なお、本明細書において実質的に含有しないとは、不可避的不純物を除き含有しないことをいい、例えば、好ましくは０．０５％未満、より好ましくは０．０１％未満である。
【００４４】
ＢａＯはアルカリ土類金属酸化物の中でイオン交換速度を低下させる効果が最も大きいので、ＢａＯは実質的に含有しないこととするか、含有する場合であってもその含有量は３％以下であることが好ましく、１％以下がさらに好ましく、０．５％以下がよりさらに好ましい。
【００４５】
ＳｒＯまたはＢａＯを含有する場合それらの含有量の合計は３％以下が好ましく、１％以下がより好ましく、さらに好ましくは０．５％以下、さらには０．３％未満である。
【００４６】
ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯのいずれか１以上を含有する場合それら３成分の含有量の合計は３％以下が好ましく、３％未満がより好ましい。当該合計が３％以下であることによって、イオン交換速度の低下を回避できる。より好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下、よりさらに好ましくは０．３％未満である。
【００４７】
Ｌｉ２Ｏは歪点および低温粘性を過度に低くして応力緩和を起こりやすくし、その結果圧縮応力層の応力値が低下してしまう成分であるので実質的に含有しないことが好ましい。
【００４８】
また、Ｌｉ２Ｏは化学強化処理時にＫＮＯ３などの溶融塩中に溶出することがあるが、Ｌｉを含有する溶融塩を用いて化学強化処理を行うと表面圧縮応力が著しく低下する。したがって、Ｌｉ２Ｏはこの観点からも実質的に含有しないことが好ましい。
【００４９】
ＳｎＯ２はＤＵＶ耐性を向上する成分である。ＳｎＯ２は含まれていなくてもよく、含まれる場合は、その含有量は０．００１％以上が好ましく、０．００５％以上がより好ましく、０．０１％以上がさらに好ましく、０．０２％以上が特に好ましい。一方でＳｎＯ２は耐ソラリゼーション性を低下させることから、１％以下が好ましく、０．７％以下がより好ましく、０．５％以下がさらに好ましく、０．３％以下がよりさらに好ましく、０．１％以下が特に好ましい。
【００５０】
ＣｅＯ２はＤＵＶ耐性を向上する成分であるが、一方で耐ソラリゼーション性を大きく低下させる。ＣｅＯ２は０．１％未満が好ましく、０．０５％未満がより好ましく、０．０１％未満がさらに好ましく、実質的に含有しないことが最も好ましい。
【００５１】
Ａｓ２Ｏ３はＤＵＶ耐性をより優れたものとし、ガラスバッチの清澄を促進する成分であるが、環境負荷が高い。そのためＡｓ２Ｏ３は実質的に含有しないことが最も好ましい。
【００５２】
＜水素濃度＞
本発明に係るガラスは、フロート法により成形され、成形時に溶融金属（スズ）と接するボトム面（裏面）と、該ボトム面に対向するトップ面（主面）とを有する。ボトム面のスズの含有量はトップ面のスズの含有量よりも多い。本発明者らは、フロートガラスの面取り加工により生じるエッジ部の欠損の量は、トップ面とボトム面との水素濃度差により異なることを見出した。
【００５３】
フロート法によるガラスの製造においては、フロートバスに貯留された溶融金属の表面に上流側から溶融ガラスを連続的に供給してガラスリボンを成形しつつ該フロートバスの下流側端部から成形後のガラスリボンを引き出し、徐冷槽（レアー）で徐冷することにより板ガラスを製造する。
【００５４】
フロート法によるガラスの製造において通常は、ガラス溶融窯とフロートバスとの間の流路が狭くなっているタイプの装置が用いられる。この場合、フロートバス内でガラスの幅を広げる必要があるため、後述する別のタイプの装置を用いる場合に比べて、より高温の溶融ガラスを溶融金属表面に流し出して成形する。
【００５５】
フロートバス内は、露点が低いため、ガラス表面からＨ２Ｏが拡散し、主面（トップ面）からは雰囲気中にＨ２Ｏが拡散する。また、裏面（ボトム面）からは溶融金属中にＨ２Ｏが拡散する。そのため、このようなタイプの装置で製造されたフロートガラスは、ガラス内部よりも表面側で水素濃度が低くなる。ただし、表面から板厚方向深さ１〜２μｍにおける水素濃度の傾きは、製造条件により制御可能である。
【００５６】
本発明に係るガラスは、主面と前記主面に対向する裏面とを有し、前記裏面のスズの含有量が前記主面のスズの含有量よりも多く、前記主面の表面から板厚方向深さ１〜２μｍにおける水素濃度が深さ方向に徐々に減少していることを特徴とする。また、前記裏面の表面から板厚方向深さ１〜２μｍにおける水素濃度についても深さ方向に徐々に減少していることが好ましい。
【００５７】
ここで、「表面から板厚方向深さ１〜２μｍにおける水素濃度が深さ方向に徐々に減少している」とは、例えば、実施例において後述する分析条件による二次イオン質量分析により測定される水素濃度が、表面から板厚方向深さ１〜２μｍにおいて、深さ方向に好ましくは５〜８０％／μｍ、より好ましくは２０〜５０％／μｍ減少していることをいう。
【００５８】
Ｈ２Ｏの拡散係数は温度が高い方が高いため、より低温の溶融金属と接するフロートガラスのボトム面よりも露点の低いまたは温度の高い雰囲気と接するトップ面からのＨ２Ｏの拡散量の方が多くなり、フロートガラスのボトム面よりもトップ面の水素濃度が低くなる。
【００５９】
一方、フロート法によるガラスの製造において、ガラス溶融窯とフロートバスの間で流路が絞られないタイプの装置が用いられる場合がある。このようなタイプの装置で製造する場合、フロートバス内でガラスを広げる必要がないため、先に述べたタイプの装置に比べてより低温の溶融ガラスを高温の溶融金属に流し出して成形する。
【００６０】
Ｈ２Ｏの拡散係数は温度が高い方が高いため、フロートガラスのトップ面よりもボトム面の温度が高くなることがあり、このような場合はトップ面よりもボトム面からのＨ２Ｏの拡散量の方が多くなり、フロートガラスのトップ面よりもボトム面の水素濃度が低くなる。
【００６１】
したがって、フロート法で製造されたガラスは、製造条件によりボトム面よりもトップ面の水素濃度が低くなるか、またはトップ面よりもボトム面の水素濃度が低くなり、主面と裏面との水素濃度差が生じる。
【００６２】
本発明に係るガラスは、前記主面の表面から板厚方向深さ１〜１０μｍにおける水素濃度は、前記裏面の表面から板厚方向深さ１〜１０μｍにおける水素濃度よりも低いことがより好ましい。
【００６３】
また、化学強化ガラスの面取り加工時のエッジ部の欠損量を低減するためには、本発明に係るガラスは、前記主面と前記裏面との表面から板厚方向深さ１〜２μｍの平均水素濃度比の絶対値が１に近ければ近いほど好ましい。具体的には、例えば、実施例において後述する分析条件による二次イオン質量分析により測定される、前記主面と前記裏面との表面から板厚方向深さ１〜２μｍの平均水素濃度比の絶対値が、０．４〜１．６であることが好ましく、より好ましくは０．６〜１．４である。
【００６４】
本発明に係るガラスの水素濃度は、下記のＨ／Ｓｉ値により評価することができる。
【００６５】
［Ｈ／Ｓｉ値による水素濃度の評価］
Ｈ／Ｓｉ値により水素濃度を評価することにより、ＳＩＭＳ（二次イオン；Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ  Ｉｏｎ  Ｍａｓｓ  Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）プロファイルの深さ方向分解能および繰り返し測定精度が向上する。
【００６６】
なお、本発明においては水素濃度そのものおよび前記水素濃度比そのものを精度よく測定することは困難であるので、水素濃度に比例するＨ／Ｓｉ値を水素濃度の直接的な指標として、前記水素濃度比に比例する「Ｈ／Ｓｉ値のトップ面に対するボトム面の比」を前記水素濃度比の直接的な指標としてそれぞれ用いる。
【００６７】
フロートガラスにおける平均Ｈ／Ｓｉ値のトップ面に対するボトム面の比は、二次イオン質量分析（Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ  Ｉｏｎ  Ｍａｓｓ  Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ、ＳＩＭＳ分析）により、例えば、以下の（Ｉ）および（ＩＩ）の手順で求められる。なお、以下で示す分析条件は例示であり、測定装置またはサンプルなどによって適宜変更されるべきものである。
【００６８】
（Ｉ）トップ面およびボトム面のそれぞれにおいて、二次イオン質量分析を下記分析条件により、表層からの深さ１０μｍまで行う。
（分析条件）
測定装置：二重収束型質量分析器を有する二次イオン質量分析装置
一次イオン種：Ｃｓ＋
一次加速電圧：１５．０ｋＶ
一次イオンカレント：１００ｎＡ
一次イオン入射角（試料面垂直方向からの角度）：約２４．０°
ラスターサイズ：９０×９０μｍ２
検出領域：３０μｍφ
二次イオン極性：マイナス
中和用の電子銃使用有
表面コーティング：材料Ｐｔ、膜厚１０〜２０ｎｍ程度
【００６９】
二重収束型質量分析器を有する二次イオン質量分析装置としては、例えば、ＣＡＭＥＣＡ社製ＩＭＳ−７ｆが挙げられる。
【００７０】
（ＩＩ）（Ｉ）における二次イオン質量分析により得られたＨ／Ｓｉプロファイルの深さ１０μｍまでにおける平均Ｈ／Ｓｉ値について、トップ面に対するボトム面の比を算出する。
【００７１】
本発明に係るガラスは、表面から板厚方向深さ１〜２ｍにおける平均Ｈ／Ｓｉ値について、トップ面に対するボトム面の比の絶対値が、０．４〜１．６であることが好ましく、より好ましくは０．６〜１．４である。
【００７２】
＜面取り加工及び測定＞
ガラスの面取り加工および面取り加工により生じるエッジ部の欠損量の測定は次の手順で行う。ガラスを個片化したガラス基板を用意する。ガラス基板の外周を、自動ガラス研削機を使い、砥石を使い、２周面取り加工する。次に、マイクロスコープを用い、２点間距離測定を行い、２０μｍ以上大きさのチッピングの数をカウントする。
【００７３】
＜溶解性、成形性＞
本発明に係るガラスにおいて、ガラス溶解時の基準の例となる温度、すなわちガラスの粘度が１０２ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ２は、１６６０℃以下が好ましく、１６５０℃以下がより好ましく、１６４５℃以下がよりさらに好ましい。
【００７４】
本発明に係るガラスにおいて、ガラス成形時の基準の例となる温度、すなわちガラスの粘度が１０４ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ４は、１２５５℃以下が好ましく、１２４０℃以下がより好ましく、１２３０℃以下がさらに好ましく、１２２５℃以下がよりさらに好ましい。
【００７５】
なお、温度Ｔ２及び温度Ｔ４は回転式粘度計を用いて測定することができる。
【００７６】
＜スラッジ量＞
ガラスの表面特性の調整等を目的として、ガラスをエッチング処理する場合があるが、ガラスをエッチングするとスラッジ（残渣）が発生する。ここで、スラッジはエッチング液寿命等に影響しうるため、ガラスをエッチングする際には、スラッジは少ないことが、生産性等の観点から好ましい。スラッジの分析方法を以下に示す。
【００７７】
試料となるガラス板にエッチング液を加えて攪拌し、ガラス溶解後静置する。生成したスラッジをろ紙にて濾過し、水で洗浄する。スラッジを乾燥後、重量測定し、スラッジ重量を算出する。なお、スラッジの成分分析はＸＲＤ、ＳＥＭ−ＥＤＸにより行うことができる。
【００７８】
スラッジ量はエッチング条件によっても異なるが、例えば、試料となるガラス板が２．５ｃｍ×２．５ｃｍ×０．５５ｍｍのガラス板であり、ＨＦ７重量％及びＨＣｌ重量２０％を含むエッチング液５０ｍＬを用いて２５℃で３分間エッチングした場合のスラッジ量は、ガラス１ｇ当たり０．６６ｇ以下が好ましく、０．６５ｇ以下がより好ましく、０．６４ｇ以下がさらに好ましい。
【００７９】
なお、スラッジの成分としては、ガラス組成によって異なるものの、例えば、Ｎａ２ＳｉＦ６、ＮａＭｇＡｌＦ６、Ｎａ２ＭｇＡｌＦ７、ＫＮａＳｉＦ６およびＫＭｇＡｌＦ６等が挙げられる。
【００８０】
＜ＤＵＶ耐性＞
本明細書においてＤＵＶ耐性とは、波長１００〜２８０ｎｍのＵＶ（ＤＵＶ）を照射した場合、すなわち主波長１８５ｎｍおよび２５４ｎｍの低圧水銀ランプや主波長１７２ｎｍのＸｅガスエキシマランプ、主波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマランプ、主波長２４８ｎｍのＫｒＦエキシマランプ等を照射した場合に、３８０〜７８０ｎｍの波長における透過率の低下が抑制されることを意味する。
【００８１】
この短波長側のＵＶ照射は、基板のＵＶ洗浄処理や表面改質、ＵＶ殺菌処理等に一般的に用いられるものである。
【００８２】
本発明に係るガラスでは、ＤＵＶ耐性として、短波長側のＵＶ照射前の３８０〜７８０ｎｍの波長領域における透過率をＴ０とし、照射後の３８０〜７８０ｎｍの波長領域における透過率をＴ１としたときの、以下の式で表される各波長におけるＤＵＶ誘起吸収Δαが０．０９５以下であることが好ましく、０．０８５以下であることがより好ましく、０．０８以下がさらに好ましい。
【００８３】
Δα＝−ｌｎ（Ｔ１／Ｔ０）
【００８４】
＜その他の特性等＞
本発明に係るガラスはガラス板とすることが好ましく、その際のガラス板の厚さ（板厚）は０．１〜３ｍｍが好ましく、０．１〜２．０ｍｍがより好ましく、０．１〜１．５ｍｍがさらに好ましく、０．１〜１．０ｍｍがよりさらに好ましく、０．１〜０．９ｍｍが特に好ましい。
【００８５】
本発明に係るガラスのガラス転移温度（Ｔｇ）は、５５０℃以上が好ましく、５８０℃以上がより好ましく、６００℃以上がさらに好ましく、６２０℃以上がよりさらに好ましく、また７００℃以下が好ましい。Ｔｇが５５０℃以上であることにより、化学強化処理時の応力緩和の抑制、熱反りの抑制等の点で有利となる。
【００８６】
Ｔｇの調整は、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３の総量とアルカリ金属酸化物およびアルカリ土類酸化物の量を調整すること等により可能である。
【００８７】
本発明に係るガラスの平均熱膨張係数αは、５０〜３５０℃の温度範囲において、好ましくは６５×１０−７〜１１０×１０−７／Ｋであり、より好ましくは７０×１０−７／Ｋ以上、さらに好ましくは８０×１０−７／Ｋ以上、よりさらに好ましくは８５×１０−７／Ｋ以上、また好ましくは１００×１０−７／Ｋ以下、より好ましくは９７×１０−７／Ｋ以下である。平均熱膨張係数αが６５×１０−７／Ｋ以上であることにより、金属や他の物質との熱膨張係数のマッチングの点で有利となる。また平均熱膨張係数の調整は、アルカリ金属酸化物およびアルカリ土類酸化物の量を調整すること等により可能である。
【００８８】
本発明に係るガラスの室温での密度は、好ましくは２．３５〜２．６ｇ／ｃｍ３であり、より好ましくは２．３８ｇ／ｃｍ３以上、さらに好ましくは２．４０ｇ／ｃｍ３以上であり、またより好ましくは２．５５ｇ／ｃｍ３以下、さらに好ましくは２．５０ｇ／ｃｍ３以下である。
【００８９】
本発明に係るガラスのヤング率Ｅは６０ＧＰａ以上が好ましい。ガラスのヤング率Ｅが６０ＧＰａ以上であることによりガラスの耐クラック性や破壊強度が十分となる。より好ましくは６８ＧＰａ以上、さらに好ましくは７０ＧＰａ以上である。
【００９０】
本発明のガラスのポアソン比σは０．２８以下が好ましい。ポアソン比σが０．２８以下であることによりガラスの耐クラック性が十分となる。より好ましくは０．２５以下である。
【００９１】
＜化学強化ガラス＞
本発明の化学強化ガラスは、上述した化学強化用ガラスが化学強化された化学強化ガラスである。換言すれば、本発明の化学強化用ガラスの組成を母組成とし、表面に圧縮応力層を有する化学強化ガラスである。
【００９２】
すなわち、化学強化ガラスの母組成とは、化学強化前のガラス（化学強化用ガラス）の組成である。ここで、化学強化ガラスの引張応力を有する部分（以下、引張応力部分ともいう）はイオン交換されていない部分である。そして、化学強化ガラスの引張応力部分は、化学強化用ガラスと同じ組成を有しているので、引張応力部分の組成を母組成とみなすことができる。
【００９３】
化学強化ガラスの表面に傷が生じにくく、実用上十分な強度が得られる点から、表面圧縮応力値（ＣＳ）は９００ＭＰａ以上が好ましく、９２０ＭＰａ以上がより好ましく、９５０ＭＰａ以上がさらに好ましく、１０００ＭＰａ以上がよりさらに好ましく、１１００ＭＰａ以上が特に好ましい。一方、ガラス中央の引張応力値（ＣＴ；Ｃｅｎｔｅｒ  Ｔｅｎｓｉｏｎ）が大きくなり過ぎ、ガラスが破壊するときに粉砕するおそれがあることから、ＣＳは１４００ＭＰａ以下が好ましく、１３００ＭＰａ以下がより好ましく、１２８０ＭＰａ以下がさらに好ましい。
【００９４】
また、化学強化ガラスの表面に傷が生じた場合に、その傷の深さが圧縮応力層深さ（ＤＯＬ）を超えて化学強化ガラスが破壊され易くなるおそれがあることから、ＤＯＬは３０μｍ以上が好ましく、３１μｍ以上がより好ましく、３２μｍ以上がさらに好ましく、３４μｍ以上がよりさらに好ましい。一方、化学強化ガラス中央の引張応力値（ＣＴ）が大きくなり過ぎ、化学強化ガラスが破壊するときに粉砕するおそれがあることから、ＤＯＬは６０μｍ以下が好ましく、５０μｍ以下がより好ましい。
【００９５】
ここで、ＣＳ及びＤＯＬの値は表面応力計により測定できる。なお、化学強化ガラスのＣＳ及びＤＯＬは、化学強化処理の処理条件や化学強化用ガラスの組成等を調整することにより、適宜調整できる。
【００９６】
＜ガラスの製造方法＞
本発明に係る化学強化用ガラスの製造方法は特に限定されず、溶融ガラスを成形する方法も特に限定されない。例えば、ガラス原料を適宜調製し、約１５００〜１７００℃に加熱し溶融した後、脱泡、攪拌等により均質化し、周知のフロート法、ダウンドロー法（フュージョン法等）、プレス法等によって板状に、またはキャストしてブロック状に成形し、徐冷後所望のサイズに切断し、ガラス板が製造される。必要に応じて研磨加工を施すが、研磨加工に加えてまたは研磨加工に代えて、ガラス板表面をフッ素剤で処理することも可能である。ガラス板を安定して生産することを考慮すると、フロート法またはダウンドロー法が好ましく、特に大型のガラス板を生産することを考慮するとフロート法が好ましい。
【００９７】
本発明のガラス板は、タブレットＰＣまたはスマートフォン等のディスプレイの大きさや、自動車内の装飾用ガラスの大きさ、ビルまたは住宅の窓ガラスの大きさとなる。本発明のガラスは、一般的には矩形に切断されているが、円形または多角形などの他の形状でも問題なく、孔あけ加工を施したガラスも含まれる。
【００９８】
本発明のガラスは、化学強化処理することが好ましい。化学強化処理の前に、用途に応じた形状加工、例えば、切断、端面加工および孔あけ加工などの機械的加工を行うことが好ましい。
【００９９】
化学強化処理は例えば、製造されたガラスを所望のサイズに切断してガラス板とした後、該ガラス板を４００℃程度に予熱し、溶融塩内でガラス板表面のＮａと溶融塩内のＫとをイオン交換することで処理できる。
【０１００】
また、特定の塩を含む溶融塩内でイオン交換した後に、酸処理およびアルカリ処理を行うことで、さらに高強度の化学強化ガラス板としてもよい。
【０１０１】
イオン交換処理を行うための溶融塩としては、例えば、硝酸カリウム、硫酸カリウムおよび塩化カリウム等のアルカリ硝酸塩、アルカリ硫酸塩並びにアルカリ塩化物塩などが挙げられる。これらの溶融塩は単独で用いてもよいし、複数種を組み合わせて用いてもよい。また、化学強化特性を調整するために、ナトリウムを含む塩を混ぜてもよい。
【０１０２】
化学強化ガラスのＣＳの調整は、イオン交換に用いる溶融硝酸カリウム塩中のＮａ濃度、強化時間および溶融塩温度を調整することにより可能である。より高いＣＳを得るためには、溶融硝酸カリウム塩中のＮａ濃度を低減する。
【０１０３】
ＤＯＬの調整は、イオン交換に用いる溶融硝酸カリウム塩中のＮａ濃度、強化時間および溶融塩温度を調整することにより可能である。より高いＤＯＬを得るためには、溶融塩の温度を上げる。
【０１０４】
化学強化ガラスは、化学強化処理後に切断することが可能である。切断方法は、通常のホイールチップカッターによるスクライブとブレイクを適用することが可能であり、レーザーによる切断も可能である。ガラス強度を維持するため、切断後に切断エッジの面取り加工を施してもよい。面取りは、機械的な研削加工でもよいし、フッ酸等の薬液で処理する方法を用いることもできる。
【０１０５】
本発明のガラスの用途は、特段限定されない。化学強化されたガラスは高い機械的強度を有することから、落下による衝撃や、他の物質との接触が予想される箇所への使用に好適である。
【０１０６】
具体的には、例えば、携帯電話機（スマートフォン等の多機能情報端末を含む。）、ＰＨＳ、ＰＤＡ、タブレット型端末、ノート型パーソナルコンピュータ、ゲーム機、携帯音楽・動画プレーヤー、電子ブック、電子端末、時計、カメラまたはＧＰＳ等のディスプレイ部分用のカバーガラス、及びこれらの機器のタッチパネル操作用モニターのカバーガラス、電子レンジ、オーブントースター等の調理器のカバーガラス、電磁調理器等のトッププレート、メーター、ゲージ等の計器類のカバーガラス並びにコピー機またはスキャナ等の読み取り部分用のガラス板等の機械または機器類の保護用途がある。
【０１０７】
また、例えば、車両、船舶、航空機等の窓用ガラス、自動車内の装飾用ガラス、家庭用または産業用の照明機器、信号、誘導灯、電光掲示板のカバーガラス、ショーケースおよび防弾ガラス等の用途が挙げられる。太陽電池保護用のカバーガラスおよび太陽電池の発電効率を高めるための集光用のガラス材としての用途が挙げられる。
【０１０８】
また、例えば、各種の鏡面用のガラス、さらには、ＨＤＤ等の情報記憶媒体の基盤、ＣＤ、ＤＶＤ、ブルーレイディスク等の情報記録媒体の基板としての用途が挙げられる。
【０１０９】
また、例えば、水槽、皿やコップ等の食器、びん又はまな板等の各種の調理器具、食器棚、冷蔵庫の棚板及び壁、屋根または仕切り等の建材としての用途が挙げられる。
【０１１０】
これらの用途に加え、化学強化処理を終えて製造される化学強化ガラスは、液晶、プラズマ、有機ＥＬ等の各種画像表示装置に組み込まれるディスプレイ用ガラス材として最適である。
【実施例】
【０１１１】
以下に実施例を挙げ、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。例１〜５は実施例、例６は比較例である。尚、カッコで示された値は計算値であり、空欄は不含有であるか、または未評価であることを示す。
【０１１２】
酸化物基準のモル百分率表示で、表１に記載の組成となるように原料を調製し、白金製るつぼに入れ、１６５０℃の抵抗加熱式電気炉に投入して３時間溶融し、均質化し、脱泡した。
【０１１３】
得られたガラスを型に流し込み、６８０℃の温度で１時間保持した後、１℃／分の速度で室温まで冷却して、ガラスブロックを得た。次いで、ガラスブロックを切断し、研磨し、両面を鏡面加工することにより、所定のサイズを有するガラスを得た。
また、例３と例６のガラスをフロート法で製造した。
【０１１４】
＜Ｔ２、Ｔ４＞
ガラスの粘度が１０２ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ２及び１０４ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ４は回転式粘度計を用いて測定した。
【０１１５】
＜スラッジ量、スラッジ成分＞
ガラスに対し、エッチングを行うことでスラッジ量の測定を行った。試料となるガラスは２．５ｃｍ×２．５ｃｍ×０．５５ｍｍのガラス板とし、ＨＦ７重量％及びＨＣｌ２０重量％を含むエッチング液５０ｍＬに２５℃で３分間浸漬することで、エッチングを行った。生成したスラッジを５Ａろ紙にて濾過し、水で洗浄後、乾燥を行い、スラッジの重量を測定した。スラッジ量はガラス１ｇ当たりに換算した。
【０１１６】
また、スラッジの成分は、ＸＲＤ測定により同定した。詳細な測定条件は以下のとおりである。
【０１１７】
装置：リガク製ＳｍａｒｔＬａｂ、Ｘ線源：ＣｕＫα線、Ｘ線出力：４５ｋＶ，２００ｍＡ、光学系：ＢＢ、入射平行スリット：Ｓｏｌｌｅｒ  ｓｌｉｔ５°、入射スリット：１／３°、受光平行スリット：Ｓｏｌｌｅｒ  ｓｌｉｔ５°、スキャンスピード：１０°／分、サンプリング幅：０．０２°、測定範囲：２０〜６０°、解析：ＰＤＸＬ（ｖｅｒ．２．０．３．０）
【０１１８】
得られたガラスのＴ２、Ｔ４、スラッジ量、及びスラッジの主成分を表１に示す。
【０１１９】
表１に示されるように、例１〜５のガラスは、例６のガラスに比較して、エッチング時のスラッジ量の少ないガラスであった。
【０１２０】
＜化学強化特性＞
また、厚みが０．５５ｍｍであるガラスを、濃度が１００重量％で温度が４２５℃の溶融硝酸カリウム塩に６時間浸漬することで、化学強化処理を行った。得られた化学強化ガラス板のＣＳ（ＭＰａ）及びＤＯＬ（μｍ）の値を表面応力計（折原製作所製）により測定した。結果を表１に示す。
【０１２１】
表１に示されるように、ガラスを同一の化学強化条件で化学強化した場合に、例１〜５に係る化学強化ガラスは、例６に係る化学強化ガラスと比較して、高いＣＳを有していた。
【０１２２】
＜ＤＵＶ耐性＞
各ガラスについて、ＤＵＶ照射前とＤＵＶ照射後の透過率を測定した。すなわち、各ガラスを（Ｔｇ＋５０）℃で１時間熱処理し、１℃／分で室温まで徐冷した後、板厚を同等となるように研磨加工したガラスを台の上に水平に静置し、低圧水銀ランプ（セン特殊光源製ＰＬ２１−２００、主波長１８５ｎｍおよび２５４ｎｍ）の光をガラス板の上方の５ｃｍ離れた位置から１０分照射した後、波長３８０ｎｍにおける透過率を測定した。
【０１２３】
なお、このときのガラス板の設置場所における２５４ｎｍの照度は８ｍＷ／ｃｍ２であった（オーク製作所製の照度計ＵＶ−Ｍ０３Ａおよび受光器ＵＶ−ＳＤ２５−Ｍ１０による測定）。透過率は日立ハイテクノロジーズ社製の分光光度計（商品名Ｕ−４１００）により測定した。
【０１２４】
光照射前の波長３８０ｎｍにおける透過率をＴ０とし、光照射後の波長３８０ｎｍにおける透過率をＴ１としたときの、以下の式で表されるＤＵＶ誘起吸収Δαを算出した。なお、ＤＵＶ照射前後ともに、波長３８０〜７８０ｎｍにおける透過率のうち、波長３８０ｎｍにおける透過率が最も低い。そのため、波長３８０ｎｍにおいて所望の値以上の透過率が得られていれば、波長３８０〜７８０ｎｍにおいても所望の値以上の透過率が得られていると言える。
【０１２５】
Δα＝−ｌｎ（Ｔ１／Ｔ０）
【０１２６】
ＤＵＶ誘起吸収Δαが０．０９５未満であればＤＵＶ耐性に優れていると言える。結果を表１に示す。
【０１２７】
＜水素濃度＞
［Ｈ／Ｓｉ値による水素濃度の評価］
本発明のガラス（本発明品、例３）および従来のガラス（従来品、例６）について、フロート法で製造した厚さ０．７ｍｍのガラス板を準備した。各ガラス板について、トップ面およびボトム面（スズ含有量の多い側の面）のそれぞれにおいて、二次イオン質量分析を下記分析条件により、表面から板厚方向深さ１０μｍまで行った。
【０１２８】
（分析条件）
測定装置：二重収束型質量分析器を有する二次イオン質量分析装置（ＣＡＭＥＣＡ社製ＩＭＳ−７ｆ）
一次イオン種：Ｃｓ＋
一次加速電圧：１５．０ｋＶ
一次イオンカレント：１００ｎＡ
一次イオン入射角（試料面垂直方向からの角度）：約２４．０°
ラスターサイズ：９０×９０μｍ２
検出領域：３０μｍφ
二次イオン極性：マイナス
中和用の電子銃使用有
表面コーティング：材料Ｐｔ、膜厚１０〜２０ｎｍ程度
【０１２９】
二次イオン質量分析により得られたＨ／Ｓｉプロファイルの表面から板厚方向深さ１０μｍまでにおける平均Ｈ／Ｓｉ値を求めた。
【０１３０】
結果を図１に示す。図１に示すように、本発明のガラス板のトップ面とボトム面の水素濃度（試料のＨ／Ｓｉと標準試料のＨ／Ｓｉの関係から算出した濃度）は、表面から板厚方向深さ１〜２μｍにおいて深さ方向に徐々に減少しており、水素濃度は、深さ方向に、トップ面では４７％／μｍ、ボトム面では２５％／μｍ減少した。また、本発明のガラス板のトップ面の表面から板厚方向深さ１〜１０μｍにおける平均水素濃度は、ボトム面の表面から板厚方向深さ１〜１０μｍにおける平均水素濃度より低かった。
【０１３１】
さらに、本発明のガラス板のトップ面とボトム面の水素濃度は、表面から板厚方向深さ１〜２μｍにおいて、ほぼ平行した減少傾向を示し、平均水素濃度のトップ面に対するボトム面の比の絶対値は１．１であった。一方、従来品のガラス板のトップ面とボトム面の水素濃度は、表面から板厚方向深さ１〜２μｍにおいて、平行した減少傾向を示さず、水素濃度は、深さ方向に、トップ面では徐々に減少せず、トップ面に対するボトム面の比の絶対値は３．３であった。つまり、本発明のガラス板は、従来品と比較して、トップ面とボトム面との深さ１〜２μｍの表面部分において水素濃度差が小さいことがわかった。
【０１３２】
＜面取り加工及び測定＞
ガラスを個片化したガラス基板（本発明品：例３、従来品：例６）を用意した。ガラス基板の外周を、自動ガラス研削機を使い、株式会社ノリタケカンパニーリミテド社製砥石を使い、２周面取り加工した。ここで、１周目の切込量は片側０．１ｍｍとし、２周目の切込量は片側０．０５ｍｍとした。次に、株式会社キーエンス製マイクロスコープを用い、倍率２００倍で２点間距離測定を行い、２５μｍ以上の大きさのチッピングの個数をカウントした。
【０１３３】
ここで、トップ面とボトム面とのガラス表面から板厚方向深さ１〜２μｍの水素濃度差が大きい従来品のガラスのチッピングの個数に対する、トップ面とボトム面とのガラス表面から板厚方向深さ１〜２μｍの水素濃度差が小さい本発明品のガラスのチッピングの個数の比は０．７であった。
【０１３４】
また、複数の研磨条件および化学強化処理条件で検証した結果、高い圧縮応力値（ＣＳ値）を有し、且つトップ面とボトム面との表面から板厚方向深さ１〜２μｍにおける水素濃度差が小さい化学強化用ガラスが化学強化された化学強化ガラスであれば、当該比が０．４までなることも確認した。
【０１３５】
以上のことから、本発明者らは、化学強化用ガラスにおけるトップ面とボトム面とにおける水素濃度差と、該化学強化用ガラスが化学強化されたガラスの面取り加工時のエッジ部の欠損量との間に相関関係があることを見出した。すなわち、化学強化用ガラスのトップ面とボトム面との水素濃度差の絶対値の値が小さいほど、化学強化ガラスの面取り加工時のエッジ部の欠損量が低減された。
【０１３６】
＜その他の特性＞
各ガラスについて、ガラス転移点（Ｔｇ）及び３０〜３５０℃での平均熱膨張係数を熱機械分析装置（ＴＭＡ）により測定した。また、各ガラスの密度をアルキメデス法により測定した。また、各ガラスのヤング率を超音波パルス法により測定した。これらの結果を表１にあわせて示す。
【０１３７】
【表１】
2018083749.tif 000002
【０１３８】
表１からわかるように、例１〜５のガラスは、例６のガラスに比較して、エッチング時のスラッジ量の少ないガラスである。また、例１〜５のガラスは、ガラスを同一の化学強化条件で化学強化した場合に、例６のガラスと比較して、高いＣＳを有する。また、例１〜５のガラスは、例６のガラスと比較して、ＤＵＶ誘起吸収Δαが低く、ＤＵＶ耐性に優れている。
【図１】
2018083749.tif 000003