(57)【要約】【課題】段差を有する下地や基板上に形成しても平坦な膜を形成することができる液晶表示装置用樹脂組成物を提供する。【解決手段】樹脂（Ａ）、溶剤、及びレベリング剤を含み、前記樹脂（Ａ）は、炭素数２〜４の環状エーテル構造を有する構成単位（Ａａ）と活性メチレン基又は活性メチン基を有する構成単位（Ａｂ）とを含み、かつ、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群に属する化合物に由来する構成単位（Ａｃ）を含まない共重合体である、液晶表示装置用樹脂組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂（Ａ）、溶剤、及びレベリング剤を含み、
前記樹脂（Ａ）は、炭素数２〜４の環状エーテル構造を有する構成単位（Ａａ）と活性メチレン基又は活性メチン基を有する構成単位（Ａｂ）とを含み、かつ、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群に属する化合物に由来する構成単位（Ａｃ）を含まない共重合体である、液晶表示装置用樹脂組成物。
【請求項２】
前記樹脂（Ａ）は、酸価が０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ〜５ｍｇ−ＫＯＨ／ｇである、請求項１に記載の液晶表示装置用樹脂組成物。
【請求項３】
前記樹脂（Ａ）は、炭素数２〜４の環状エーテル構造を有する構成単位（Ａａ）と、活性メチレン基又は活性メチン基を有する構成単位（Ａｂ）とから構成される共重合体である、請求項１又は２に記載の液晶表示装置用樹脂組成物。
【請求項４】
前記構成単位（Ａａ）は、オキシラニル基とエチレン性不飽和結合とを有する単量体から導かれる構成単位である、請求項１〜３の何れか１項に記載の液晶表示装置用樹脂組成物。
【請求項５】
前記構成単位（Ａａ）として、式（Ａａ−１）又は式（Ａａ−２）で表される構成単位を含む、請求項１〜４の何れか１項に記載の液晶表示装置用樹脂組成物。
2018106172.tif 000026
［式（Ａａ−１）及び式（Ａａ−２）中、Ｒb1及びＲb2は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Ｘb1及びＸb2は、単結合、＊−Ｒb3−、＊−Ｒb3−Ｏ−、＊−Ｒb3−Ｓ−又は＊−Ｒb3−ＮＨ−を表す。
Ｒb3は、炭素数１〜６のアルカンジイル基を表す。
＊は、Ｏとの結合手を表す。］
【請求項６】
前記レベリング剤は、フッ素系界面活性剤である、請求項１〜５の何れか１項に記載の液晶表示装置用樹脂組成物。
【請求項７】
請求項１〜６の何れか１項に記載の液晶表示装置用樹脂組成物から形成された液晶表示装置用膜。
【請求項８】
炭素数２〜４の環状エーテル構造を有する構成単位（Ａａ）と活性メチレン基又は活性メチン基を有する構成単位（Ａｂ）とを含み、かつ、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群に属する化合物に由来する構成単位（Ａｃ）を含まず、
前記構成単位（Ａａ）は、式（Ａａ−１）又は式（Ａａ−２）で表される構成単位を含む、共重合体。
2018106172.tif 000027
［式（Ａａ−１）及び式（Ａａ−２）中、Ｒb1及びＲb2は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Ｘb1及びＸb2は、単結合、＊−Ｒb3−、＊−Ｒb3−Ｏ−、＊−Ｒb3−Ｓ−又は＊−Ｒb3−ＮＨ−を表す。
Ｒb3は、炭素数１〜６のアルカンジイル基を表す。
＊は、Ｏとの結合手を表す。］
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置用樹脂組成物、液晶表示装置用膜及び共重合体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の液晶表示装置では、オーバーコート等の膜を形成するために、樹脂組成物が用いられる。特開２００８−１８１０８７号公報には、樹脂組成物としては、メタクリル酸及び３，４−エポキシトリシクロ［５．２．１．０２，６］デシルアクリレートを重合させた共重合体を含む樹脂組成物が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−１８１０８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
液晶表示装置におけるオーバーコートを、段差を有する下地や基板上に形成させる場合であっても、そのオーバーコートは平坦であることが求められる。
【０００５】
本発明は、段差を有する下地や基板上に形成しても平坦な膜を形成することができる液晶表示装置用樹脂組成物、及び当該樹脂組成物の材料として適した共重合体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、以下の発明を含む。
〔１〕  樹脂（Ａ）、溶剤、及びレベリング剤を含み、
前記樹脂（Ａ）は、炭素数２〜４の環状エーテル構造を有する構成単位（Ａａ）と活性メチレン基又は活性メチン基を有する構成単位（Ａｂ）とを含み、かつ、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群に属する化合物に由来する構成単位（Ａｃ）を含まない共重合体である、液晶表示装置用樹脂組成物。
〔２〕  前記樹脂（Ａ）は、酸価が０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ〜５ｍｇ−ＫＯＨ／ｇである、〔１〕に記載の液晶表示装置用樹脂組成物。
〔３〕  前記樹脂（Ａ）は、炭素数２〜４の環状エーテル構造を有する構成単位（Ａａ）と、活性メチレン基又は活性メチン基を有する構成単位（Ａｂ）とから構成される共重合体である、〔１〕又は〔２〕に記載の液晶表示装置用樹脂組成物。
〔４〕  前記構成単位（Ａａ）は、オキシラニル基とエチレン性不飽和結合とを有する単量体から導かれる構成単位である、〔１〕〜〔３〕の何れか１つに記載の液晶表示装置用樹脂組成物。
〔５〕  前記構成単位（Ａａ）は、式（Ａａ−１）又は式（Ａａ−２）で表される構成単位である、〔１〕〜〔４〕の何れか１つに記載の液晶表示装置用樹脂組成物。
2018106172.tif 000002
［式（Ａａ−１）及び式（Ａａ−２）中、Ｒb1及びＲb2は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Ｘb1及びＸb2は、単結合、＊−Ｒb3−、＊−Ｒb3−Ｏ−、＊−Ｒb3−Ｓ−又は＊−Ｒb3−ＮＨ−を表す。
Ｒb3は、炭素数１〜６のアルカンジイル基を表す。
＊は、Ｏとの結合手を表す。］
〔６〕  前記レベリング剤は、フッ素系界面活性剤である、〔１〕〜〔５〕の何れか１つに記載の液晶表示装置用樹脂組成物。
〔７〕  〔１〕〜〔６〕の何れか１つに記載の液晶表示装置用樹脂組成物から形成された液晶表示装置用膜。
〔８〕  炭素数２〜４の環状エーテル構造を有する構成単位（Ａａ）と活性メチレン基又は活性メチン基を有する構成単位（Ａｂ）とを含み、かつ、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群に属する化合物に由来する構成単位（Ａｃ）を含まず、
前記構成単位（Ａａ）は、式（Ａａ−１）又は式（Ａａ−２）で表される構成単位を含む、共重合体。
2018106172.tif 000003
［式（Ａａ−１）及び式（Ａａ−２）中、Ｒb1及びＲb2は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Ｘb1及びＸb2は、単結合、＊−Ｒb3−、＊−Ｒb3−Ｏ−、＊−Ｒb3−Ｓ−又は＊−Ｒb3−ＮＨ−を表す。
Ｒb3は、炭素数１〜６のアルカンジイル基を表す。
＊は、Ｏとの結合手を表す。］
【発明の効果】
【０００７】
本発明の液晶表示装置用樹脂組成物によれば、下地や基板の段差を低減することができるので、段差を有する下地や基板上にも平坦な膜を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】ガラス基板の上のラインパターンと膜とが積層された状態を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本明細書において、各成分として例示する化合物は、特に断りのない限り、単独で又は複数種を組合せて使用することができる。
【００１０】
［液晶表示装置用樹脂組成物］
以下、本発明の液晶表示装置用樹脂組成物を、「本発明の樹脂組成物」又は「樹脂組成物」と称することがある。
本発明の樹脂組成物は、樹脂（Ａ）、溶剤（Ｅ）及びレベリング剤（Ｂ）を含む樹脂組成物であり、樹脂（Ａ）は、炭素数２〜４の環状エーテル構造を有する構成単位（以下、構成単位（Ａａ）と称する。）と、活性メチレン基又は活性メチン基を有する構成単位（以下、構成単位（Ａｂ）と称する。）とを含み、かつ不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群に属する化合物に由来する構成単位（以下、構成単位（Ａｃ）と称する。）を含まない共重合体である。本発明の樹脂組成物は、樹脂（Ａ）が構成単位（Ａａ）と構成単位（Ａｂ）とを含み、構成単位（Ａｃ）を含まないことにより、樹脂組成物から形成された膜の平坦性を向上させることができる。
【００１１】
本発明の樹脂組成物は、重合性化合物（Ｃ）を含むことが好ましい。重合性化合物（Ｃ）を含む場合には、重合開始剤（Ｄ）も含むことが好ましい。また、本発明の樹脂組成物は、他の成分、酸化防止剤（Ｆ）、硬化剤（Ｇ）等を含んでいてもよい。硬化剤（Ｇ）としては、多価カルボン酸（Ｇ１）、イミダゾール化合物（Ｇ２）等が例示される。
【００１２】
＜樹脂（Ａ）＞
樹脂（Ａ）は、硬化性を有する樹脂であり、熱硬化性樹脂であることが好ましく、６０℃以上の熱で硬化する樹脂であることがより好ましい。樹脂（Ａ）は、構成単位（Ａａ）と、構成単位（Ａｂ）とを含み、かつ構成単位（Ａｃ）を含まない共重合体である。該共重合体は、さらに、構成単位（Ａａ）又は（Ａｂ）と共重合可能であり、かつ、構成単位（Ａａ）、（Ａｂ）及び（Ａｃ）以外の化合物に由来する構成単位（以下、構成単位（Ａｄ）と称する。）を有してもよい。
本明細書において、「（メタ）アクリル酸」は、アクリル酸及びメタクリル酸よりなる群から選ばれる少なくとも１種を意味するものとする。「（メタ）アクリロイル」及び「（メタ）アクリレート」等の表記も、同様の意味を有するものとする。樹脂（Ａ）は、構成単位（Ａａ）、構成単位（Ａｂ）、及び構成単位（Ａｄ）の各々について、２種以上含んでいてもよい。
【００１３】
〔１〕  構成単位（Ａａ）
構成単位（Ａａ）は、炭素数２〜４の環状エーテル構造（例えば、オキシラン環、オキセタン環及びテトラヒドロフラン環からなる群から選ばれる少なくとも１種）及びエチレン性不飽和結合を有する不飽和化合物から導かれる構成単位である。構成単位（Ａａ）は、該不飽和化合物を重合することによって得ることができる。構成単位（Ａａ）は、他の構成単位（Ａａ’）に、炭素数２〜４の環状エーテル構造を有する化合物を反応して重合させることによって得ることもできる。
【００１４】
構成単位（Ａａ）を導く不飽和化合物としては、例えば、オキシラニル基とエチレン性不飽和結合とを有する単量体（以下、単量体（Ａａ１）と称する。）、オキセタニル基とエチレン性不飽和結合とを有する単量体（以下、単量体（Ａａ２）と称する。）、テトラヒドロフリル基とエチレン性不飽和結合とを有する単量体（以下、単量体（Ａａ３）と称する）が挙げられる。
【００１５】
単量体（Ａａ１）としては、例えば、直鎖状又は分枝鎖状の不飽和脂肪族炭化水素基がエポキシ化された構造とエチレン性不飽和結合とを有する単量体（以下、単量体（Ａａ１−１）と称する。）、及び不飽和脂環式炭化水素基がエポキシ化された構造とエチレン性不飽和結合とを有する単量体（以下、単量体（Ａａ１−２）と称する。）が挙げられる。
【００１６】
単量体（Ａａ１−１）としては、グリシジル（メタ）アクリレート、β−メチルグリシジル（メタ）アクリレート、β−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、２，３−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，４−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，５−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，６−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，４−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，５−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，６−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、３，４，５−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，４，６−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン等が挙げられる。
【００１７】
単量体（Ａａ１−２）としては、ビニルシクロヘキセンモノオキサイド、１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサン（例えば、セロキサイド２０００；（株）ダイセル製）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート（例えば、サイクロマーＡ４００；（株）ダイセル製）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート（例えば、サイクロマーＭ１００；（株）ダイセル製）、式（Ｉ）で表される化合物及び式（ＩＩ）で表される化合物等が挙げられる。
【００１８】
2018106172.tif 000004
【００１９】
［式（Ｉ）及び式（ＩＩ）中、Ｒb1及びＲb2は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Ｘb1及びＸb2は、互いに独立に、単結合、＊−Ｒb3−、＊−Ｒb3−Ｏ−、＊−Ｒb3−Ｓ−又は＊−Ｒb3−ＮＨ−を表す。
Ｒb3は、炭素数１〜６のアルカンジイル基を表す。
＊は、Ｏとの結合手を表す。］
【００２０】
炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。
水素原子がヒドロキシ基で置換されたアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル基、２−ヒドロキシ−１−メチルエチル基、１−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチル基等が挙げられる。
【００２１】
Ｒb1及びＲb2としては、好ましくは水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基及び２−ヒドロキシエチル基が挙げられ、より好ましくは水素原子及びメチル基が挙げられる。
【００２２】
炭素数１〜６のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，２−ジイル基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基等が挙げられる。
【００２３】
Ｘb1及びＸb2としては、好ましくは単結合、メチレン基、エチレン基、＊−ＣＨ２−Ｏ−、＊−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−が挙げられ、より好ましくは単結合、＊−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−が挙げられる。＊はＯとの結合手を表す。
【００２４】
式（Ｉ）で表される化合物としては、式（Ｉ−１）〜式（Ｉ−１５）のいずれかで表される化合物等が挙げられる。中でも、式（Ｉ−１）、式（Ｉ−３）、式（Ｉ−５）、式（Ｉ−７）、式（Ｉ−９）又は式（Ｉ−１１）〜式（Ｉ−１５）で表される化合物が好ましく、式（Ｉ−１）、式（Ｉ−７）、式（Ｉ−９）又は式（Ｉ−１５）で表される化合物がより好ましい。
【００２５】
2018106172.tif 000005
【００２６】
2018106172.tif 000006
【００２７】
式（ＩＩ）で表される化合物としては、式（ＩＩ−１）〜式（ＩＩ−１５）のいずれかで表される化合物等が挙げられる。中でも、式（ＩＩ−１）、式（ＩＩ−３）、式（ＩＩ−５）、式（ＩＩ−７）、式（ＩＩ−９）又は式（ＩＩ−１１）〜式（ＩＩ−１５）で表される化合物が好ましく、式（ＩＩ−１）、式（ＩＩ−７）、式（ＩＩ−９）又は式（ＩＩ−１５）で表される化合物がより好ましい。
【００２８】
2018106172.tif 000007
【００２９】
2018106172.tif 000008
【００３０】
式（Ｉ）で表される化合物及び式（ＩＩ）で表される化合物は、それぞれ単独で用いても、任意の比率で混合して用いてもよい。混合して用いる場合、式（Ｉ）で表される化合物及び式（ＩＩ）で表される化合物の含有比率はモル基準で、好ましくは５：９５〜９５：５、より好ましくは１０：９０〜９０：１０、さらに好ましくは２０：８０〜８０：２０である。例えば、式（Ｉ−１）で表される化合物と、式（ＩＩ−１）で表される化合物とを５０：５０で含む混合物（市販品として、商品名「Ｅ−ＤＣＰＡ」（（株）ダイセル製）がある）を用いることができる。
【００３１】
単量体（Ａａ２）としては、オキセタニル基と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体がより好ましい。単量体（Ａａ２）としては、３−メチル−３−メタクリルロイルオキシメチルオキセタン、３−メチル−３−アクリロイルオキシメチルオキセタン、３−エチル−３−メタクリロイルオキシメチルオキセタン、３−エチル−３−アクリロイルオキシメチルオキセタン、３−メチル−３−メタクリロイルオキシエチルオキセタン、３−メチル−３−アクリロイルオキシエチルオキセタン、３−エチル−３−メタクリロイルオキシエチルオキセタン、３−エチル−３−アクリロイルオキシエチルオキセタン等が挙げられる。
【００３２】
単量体（Ａａ３）としては、テトラヒドロフリル基と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体が好ましい。単量体（Ａａ３）としては、テトラヒドロフルフリルアクリレート（例えば、ビスコートＶ＃１５０、大阪有機化学工業（株）製）、テトラヒドロフルフリルメタクリレート等が挙げられる。
【００３３】
構成単位（Ａａ）としては、樹脂組成物の保存安定性、得られる膜の耐薬品性、耐熱性及び機械強度に優れ、さらに優れた平坦性を得ることができる点で、単量体（Ａａ１）から導かれる構成単位であることが好ましく、単量体（Ａａ１−２）から導かれる構成単位がより好ましく、式（Ａａ−１）、式（Ａａ−２）で表される構成単位であることがさらに好ましい。
式（Ａａ−１）で表される構成単位は式（Ｉ）で表される化合物より導かれ、式（Ａａ−２）で表される構成単位は式（ＩＩ）で表される化合物より導かれる。
2018106172.tif 000009
［式（Ａａ−１）及び式（Ａａ−２）中、Ｒb1及びＲb2は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Ｘb1及びＸb2は、互いに独立に、単結合、＊−Ｒb3−、＊−Ｒb3−Ｏ−、＊−Ｒb3−Ｓ−又は＊−Ｒb3−ＮＨ−を表す。
Ｒb3は、炭素数１〜６のアルカンジイル基を表す。
＊は、Ｏとの結合手を表す。］
【００３４】
〔２〕  構成単位（Ａｂ）
構成単位（Ａｂ）は、活性メチレン基又は活性メチン基を有する不飽和化合物から導かれる構成単位である。活性メチレン基又は活性メチン基を有する不飽和化合物から導かれる構成単位とは、該不飽和化合物を重合することにより得られる共重合体における該不飽和化合物由来の構成単位を意味する。該構成単位は、活性メチレン基又は活性メチン基を有する不飽和化合物を重合することにより得ることができる。あるいは、他の構成単位（Ａｂ’）に、活性メチレン基又は活性メチン基を有する化合物（Ａｂ’’）を反応させることによっても得ることもできる。
【００３５】
構成単位（Ａｂ）を導く不飽和化合物は式（ＩＩＩ）で表され、活性メチン基を有する不飽和化合物としては、式（ＩＶ）で表される化合物が挙げられる。
2018106172.tif 000010
【００３６】
［式（ＩＩＩ）及び式（ＶＩ）中、Ｒ11は、水素原子又はヘテロ原子を含有してもよい炭素数１〜２４の炭化水素基を表す。
Ｒ12は、単結合又は炭素数１〜２０の二価の炭化水素基を表す。
Ｒ13は、式（１−１）〜式（１−３）のいずれかで表される二価の基を表す。
Ｒ14は、式（１−４）〜式（１−７）のいずれかで表される基を表す。］
2018106172.tif 000011
2018106172.tif 000012
［Ｒ15は、水素原子又はヘテロ原子を含有してもよい炭素数１〜２４の炭化水素基である。Ｘは、式（１−８）〜式（１−１０）のいずれかで表される二価の基を表す。］
2018106172.tif 000013
【００３７】
Ｒ11及びＲ15としては、酸素原子または窒素原子を有してよい炭素数１〜８のアルキル基、酸素原子または窒素原子を有してよい炭素数３〜１０のシクロアルキル基、水素原子等が好ましい。
Ｒ11及びＲ15は、互いに独立に、好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基又は式（１−１１）〜式（１−１３）で表される基であり、より好ましくは水素原子又はメチル基である。
2018106172.tif 000014
【００３８】
Ｒ12としては、単結合、炭素数１〜２０（好ましくは炭素数１〜４）のアルカンジイル基、炭素数３〜１０のシクロアルカンジイル基が好ましい。Ｒ12は、好ましくは、単結合、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基、へキサンジイル基、シクロへキサンジイル基、オクタンジイル基、デカンジイル基、ドデカンジイル基、下記式で表される基（＊は結合手を表す。）であり、より好ましくは単結合、メチレン基、エチレン基である。
2018106172.tif 000015
【００３９】
式（ＩＩＩ）で表される化合物として、具体的には、以下の化合物などが挙げられる。
2018106172.tif 000016
【００４０】
式（ＩＶ）で表される化合物として、具体的には、以下の化合物などが挙げられる。
2018106172.tif 000017
【００４１】
式（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−７）、（ＩＩＩ−１６）、（ＩＶ−１）、（ＩＶ−２）及び（ＩＶ−５）は、Ｒ11がメチル基である化合物であるが、同様に、Ｒ11を水素原子に置き換えた化合物も、式（ＩＩＩ）で表される化合物又は式（ＩＶ）で表される化合物として挙げられる。
【００４２】
構成単位（Ａｂ）は、式（Ａｂ−１）で表される構成単位であることが好ましい。
2018106172.tif 000018
［式（Ａｂ−１）中、Ｒ３は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ４は水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。］
【００４３】
式（Ａｂ−１）で表される構成単位を導く化合物としては、例えば、２−（メタクリロイルオキシ）エチルアセトアセテート〔式（ＩＩＩ−１）で表される化合物〕が挙げられる。
【００４４】
〔３〕  構成単位（Ａｃ）
構成単位（Ａｃ）は、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群に属する化合物によって導かれる構成単位である。不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群に属する化合物としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、ｏ−ビニル安息香酸、ｍ−ビニル安息香酸、ｐ−ビニル安息香酸等の不飽和モノカルボン酸；
マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、３−ビニルフタル酸、４−ビニルフタル酸、３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸、１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸、ジメチルテトラヒドロフタル酸、１，４−シクロヘキセンジカルボン酸等の不飽和ジカルボン酸；
メチル−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸、５−カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン等のカルボキシ基を含有するビシクロ不飽和化合物；
無水マレイン酸、シトラコン酸無水物、イタコン酸無水物、３−ビニルフタル酸無水物、４−ビニルフタル酸無水物、３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸無水物、１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸無水物、ジメチルテトラヒドロフタル酸無水物、５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン無水物等の不飽和ジカルボン酸無水物；
こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕、フタル酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕等の２価以上の多価カルボン酸の不飽和モノ〔（メタ）アクリロイルオキシアルキル〕エステル；
α−（ヒドロキシメチル）アクリル酸などの、同一分子中にヒドロキシ基及びカルボキシ基を含有する不飽和アクリレート等が挙げられる。
【００４５】
〔４〕  構成単位（Ａｄ）
構成単位（Ａｄ）を導く化合物としては、例えば、次の化合物が挙げられる。
メチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル（メタ）アクリレート（当該技術分野では、慣用名として「ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート」といわれている。また、「トリシクロデシル（メタ）アクリレート」という場合がある。）、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デセン−８−イル（メタ）アクリレート（当該技術分野では、慣用名として「ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート」といわれている。）、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、プロパルギル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル；
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシ基含有（メタ）アクリル酸エステル；
マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等のジカルボン酸ジエステル；
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（ヒドロキシメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジメトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジエトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチル−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−フェノキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ビス（シクロヘキシルオキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン等のビシクロ不飽和化合物；
Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−４−マレイミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−マレイミドカプロエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドプロピオネート、Ｎ−（９−アクリジニル）マレイミド等のジカルボニルイミド誘導体；
スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−ビニルトルエン、ｍ−ビニルトルエン、ｐ−ビニルトルエン、ｐ−メトキシスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル、１，３−ブタジエン、イソプレン及び２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン等。
【００４６】
これらのうち、共重合反応性及び耐熱性の点から、スチレン、ビニルトルエン、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド及びＮ−ベンジルマレイミドが好ましい。
【００４７】
〔５〕  各構成単位の比率
樹脂（Ａ）は、以下の樹脂［Ｋ１］または［Ｋ２］である。
樹脂［Ｋ１］：構成単位（Ａａ）及び構成単位（Ａｂ）から構成される共重合体；
樹脂［Ｋ２］：構成単位（Ａａ）、構成単位（Ａｂ）及び構成単位（Ａｄ）から構成される共重合体。
本発明の樹脂組成物は、樹脂[Ｋ１]を含むことが好ましい。
【００４８】
樹脂［Ｋ１］において、各構成単位の比率は、樹脂［Ｋ１］を構成する全構成単位に対して、
構成単位（Ａａ）；５〜９５モル％、
構成単位（Ａｂ）；５〜９５モル％、であることが好ましく、
構成単位（Ａａ）；３０〜９０モル％、
構成単位（Ａｂ）；１０〜７０モル％、であることがより好ましい。
【００４９】
樹脂［Ｋ１］を構成する構成単位の比率が、上記の範囲内にあると、樹脂組成物の保存安定性、得られる膜の耐薬品性、耐熱性及び機械強度に優れ、さらに優れた平坦性を得ることができる点で好ましい。
【００５０】
樹脂［Ｋ１］は、例えば、文献「高分子合成の実験法」（大津隆行著  発行所：（株）化学同人  第１版第１刷  １９７２年３月１日発行）に記載された方法及び当該文献に記載された引用文献を参考にして製造することができる。
【００５１】
具体的には、構成単位（Ａａ）及び構成単位（Ａｂ）の所定量、重合開始剤及び溶剤等を反応容器中に入れて、例えば、窒素により酸素を置換することにより、脱酸素雰囲気にし、攪拌しながら、加熱及び保温する方法が挙げられる。なお、ここで用いられる重合開始剤及び溶剤等は、特に限定されず、当該分野で通常使用されているものを使用することができる。重合開始剤としては、例えば、アゾ化合物（２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）等）や有機過酸化物（ベンゾイルペルオキシド等）が挙げられ、溶剤としては、各モノマーを溶解するものであればよく、樹脂組成物に用いられる後述の溶剤等が挙げられる。
【００５２】
得られた樹脂は、反応後の溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮あるいは希釈した溶液を使用してもよいし、再沈殿等の方法で固体（粉体）として取り出したものを使用してもよい。重合溶剤として、本発明の樹脂組成物に用いる溶剤を使用することにより、反応後の溶液を樹脂組成物の製造にそのまま使用することができるため、樹脂組成物の製造工程を簡略化することができる。
【００５３】
樹脂［Ｋ２］において、各構成単位の比率は、樹脂［Ｋ２］を構成する全構成単位中、構成単位（Ａａ）；５〜９０モル％、
構成単位（Ａｂ）；５〜９０モル％、
構成単位（Ａｄ）；１〜４０モル％であることが好ましく、
構成単位（Ａａ）；１７〜８０モル％、
構成単位（Ａｂ）；１７〜８０モル％、
構成単位（Ａｄ）；３〜３５モル％、
であることがより好ましい。
【００５４】
樹脂［Ｋ２］の構成単位の比率が、上記の範囲内にあると、樹脂組成物の保存安定性、得られる膜の耐薬品性、耐熱性及び機械強度に優れ、さらに優れた平坦性を得ることができる点で好ましい。樹脂［Ｋ２］は、樹脂［Ｋ１］と同様の方法により製造することができる。
【００５５】
樹脂（Ａ）のポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは３，０００〜１００，０００、より好ましくは５，０００〜５０，０００、さらに好ましくは５，０００〜２０，０００、とりわけ好ましくは５，０００〜１０，０００である。樹脂（Ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）が前記の範囲内にあると、樹脂組成物の塗布性が良好となる傾向がある。
【００５６】
樹脂（Ａ）の分散度［重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）］は、好ましくは１．１〜６．０、より好ましくは１．２〜４．０である。分散度が前記の範囲内にあると、得られる膜は耐薬品性に優れる傾向がある。
【００５７】
樹脂（Ａ）の酸価は、好ましくは０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以上１３５ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以上５０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以下、さらに好ましくは０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以上５ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以下、特に好ましくは、０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇである。
樹脂（Ａ）の酸価が前記の範囲内にあると、得られる膜は基板との密着性に優れる傾向がある。
本明細書において、上記の酸価は、固形分換算の酸価であり、下記手順により求められる。
手順：樹脂溶液１ｇに、テトラヒドロフラン[ＴＨＦ]７０ｍＬ及び蒸留水１０ｍＬに加え、更にフェノールフタレイン溶液を２〜３滴加え、攪拌し、均一にする。得られた樹脂溶液を、０．１Ｎ−ＮａＯＨ水溶液で、指示薬が呈色するまで滴定する。滴定に要した０．１Ｎ−ＮａＯＨ水溶液の量をＡ（ｍＬ）とする。ＴＨＦ７０ｍＬ、蒸留水１０ｍＬ及びフェノールフタレイン溶液２〜３滴の混合液も０．１Ｎ−ＮａＯＨ水溶液で同様に滴定し、該混合液の滴定に要した０．１Ｎ−ＮａＯＨ水溶液の量をＢ（ｍＬ）とする。そして、樹脂の酸価を次の式より算出する。
酸価（ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ）＝[（Ａ−Ｂ）×５．６×（樹脂溶液の樹脂濃度（％））]／１００
【００５８】
樹脂（Ａ）の含有率は、本発明の樹脂組成物の固形分に対して、好ましくは２０〜１００質量％、より好ましくは２５〜１００質量％、さらに好ましくは３０〜１００質量％である。
樹脂（Ａ）の含有率が前記の範囲内にあると、得られる膜は耐熱性に優れ、かつ基板との密着性及び耐薬品性に優れる傾向がある。ここで、樹脂組成物の固形分とは、本発明の樹脂組成物の総量から溶剤（Ｅ）の含有量を除いた量のことをいう。
【００５９】
＜レベリング剤（Ｂ）＞
レベリング剤（Ｂ）としては、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤及びフッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤等が挙げられ、フッ素系界面活性剤が好ましい。これらは、側鎖に重合性基を有していてもよい。
【００６０】
シリコーン系界面活性剤としては、分子内にシロキサン結合を有する界面活性剤等が挙げられる。具体的には、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、同ＳＨ７ＰＡ、同ＤＣ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同ＳＨ２９ＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、同ＳＨ８４００（商品名：東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２２、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４４６、ＴＳＦ４４５２及びＴＳＦ４４６０（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製）等が挙げられる。
【００６１】
前記のフッ素系界面活性剤としては、分子内にフルオロカーボン鎖を有する界面活性剤等が挙げられる。具体的には、フロラード（登録商標）ＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｆ１４２Ｄ、同Ｆ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７７、同Ｆ１８３、同Ｆ５５４、同Ｒ３０、同ＲＳ−７１８−Ｋ（ＤＩＣ（株）製）、エフトップ（登録商標）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ３８１、同Ｓ３８２、同ＳＣ１０１、同ＳＣ１０５（旭硝子（株）製）及びＥ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）等が挙げられる。
【００６２】
前記のフッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤としては、分子内にシロキサン結合及びフルオロカーボン鎖を有する界面活性剤等が挙げられる。具体的には、メガファック（登録商標）Ｒ０８、同ＢＬ２０、同Ｆ４７５、同Ｆ４７７及び同Ｆ４４３（ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。
【００６３】
レベリング剤（Ｂ）の含有率は、樹脂組成物の総量に対して、好ましくは０．００１質量％以上０.２質量％以下であり、より好ましくは０.００２質量％以上０．１質量％以下であり、さらに好ましくは０.００５質量％以上０．０７質量％以下である。レベリング剤（Ｂ）の含有率が前記の範囲内にあると、膜の平坦性をより向上させることができる。
【００６４】
＜重合性化合物（Ｃ）＞
重合性化合物（Ｃ）は、熱又は重合開始剤（Ｄ）の作用により反応するモノマーであり、該モノマーとしては、例えば、エチレン性不飽和結合を有する化合物が挙げられ、好ましくは（メタ）アクリル化合物が挙げられ、より好ましくはアクリロイル基及びメタクリロイル基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基を有する化合物が挙げられる。
【００６５】
（メタ）アクリロイル基を１つ有する（メタ）アクリル化合物としては、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸のフェノキシ化ポリエチレングリコールエステル、（メタ）アクリル酸のアルコキシ化ポリエチレングリコールエステル、イソボルニル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００６６】
（メタ）アクリロイル基を２つ有する（メタ）アクリル化合物としては、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオール（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ビスフェノールＡのビス（アクリロイロキシエチル）エーテル、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００６７】
（メタ）アクリロイル基を３つ以上有する（メタ）アクリル化合物としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物等が挙げられる。
【００６８】
重合性化合物（Ｃ）としては、（メタ）アクリルロイル基を３つ以上有する（メタ）アクリル化合物が好ましく、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートがより好ましい。
【００６９】
本発明の樹脂組成物が重合性化合物（Ｃ）を含む場合、その含有量は、樹脂（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは２０〜８０質量部、より好ましくは２５〜７０質量部である。重合性化合物（Ｃ）の含有量が前記の範囲内にあると、得られる膜の耐薬品性及び機械強度を良好にでき、かつ平坦性を出すことができる。
【００７０】
＜重合開始剤（Ｄ）＞
重合開始剤（Ｄ）は、光や熱の作用により活性ラジカル、酸等を発生し、重合性化合物（Ｃ）の重合を開始しうる化合物であれば特に限定されることなく、公知の重合開始剤を用いることができる。重合開始剤（Ｄ）としては、Ｏ−アシルオキシム化合物、アルキルフェノン化合物、トリアジン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物及びビイミダゾール化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種を含む重合開始剤が好ましく、Ｏ−アシルオキシム化合物を含む重合開始剤がより好ましい。これらの重合開始剤であると、高感度であり、かつ可視光領域における透過率が高くなる傾向がある。
【００７１】
Ｏ−アシルオキシム化合物は、式（Ｄ１）で表される部分構造を有する化合物である。
以下、＊は結合手を表す。
2018106172.tif 000019
【００７２】
Ｏ−アシルオキシム化合物としては、例えば、Ｎ−ベンゾイルオキシ−１−（４−フェニルスルファニルフェニル）ブタン−１−オン−２−イミン、Ｎ−ベンゾイルオキシ−１−（４−フェニルスルファニルフェニル）オクタン−１−オン−２−イミン、Ｎ−ベンゾイルオキシ−１−（４−フェニルスルファニルフェニル）−３−シクロペンチルプロパン−１−オン−２−イミン、Ｎ−アセトキシ−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタン−１−イミン、Ｎ−アセトキシ−１−［９−エチル−６−｛２−メチル−４−（３，３−ジメチル−２，４−ジオキサシクロペンタニルメチルオキシ）ベンゾイル｝−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタン−１−イミン、Ｎ−アセトキシ−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−３−シクロペンチルプロパン−１−イミン、Ｎ−ベンゾイルオキシ−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−３−シクロペンチルプロパン−１−オン−２−イミンが挙げられる。イルガキュア（登録商標）ＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２（以上、ＢＡＳＦ社製）、Ｎ−１９１９（（株）ＡＤＥＫＡ製）等の市販品を用いてもよい。
【００７３】
アルキルフェノン化合物は、式（Ｄ２−１）で表される部分構造又は式（Ｄ２−２）で表される部分構造を有する化合物である。これらの部分構造中、ベンゼン環は置換基を有していてもよい。
2018106172.tif 000020
【００７４】
式（Ｄ２−１）で表される部分構造を有する化合物としては、例えば、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オン、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］ブタン−１−オンが挙げられる。イルガキュア（登録商標）３６９、９０７及び３７９（以上、ＢＡＳＦ社製）等の市販品を用いてもよい。また、特表２００２−５４４２０５号公報に記載されている、連鎖移動を起こしうる基を有する重合開始剤を用いてもよい。式（Ｄ２−２）で表される部分構造を有する化合物としては、例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−イソプロペニルフェニル）プロパン−１−オンのオリゴマー、α，α−ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタールが挙げられる。感度の点で、アルキルフェノン化合物としては、式（Ｄ２−１）で表される部分構造を有する化合物が好ましい。
【００７５】
トリアジン化合物としては、例えば、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシナフチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−ピペロニル−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシスチリル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジンが挙げられる。
【００７６】
アシルホスフィンオキサイド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。イルガキュア８１９（ＢＡＳＦ・ジャパン（株）製）等の市販品を用いてもよい。
【００７７】
ビイミダゾール化合物としては、例えば、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，３−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール（特開平６−７５３７２号公報、特開平６−７５３７３号公報等、参照。）、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（アルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ジアルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（トリアルコキシフェニル）ビイミダゾール（特公昭４８−３８４０３号公報、特開昭６２−１７４２０４号公報等、参照。）、４，４’，５，５’−位のフェニル基がカルボアルコキシ基により置換されているビイミダゾール化合物（特開平７−１０９１３号公報等、参照）が挙げられる。
【００７８】
さらに、重合開始剤（Ｄ）としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン化合物；ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物；９，１０−フェナンスレンキノン、２−エチルアントラキノン、カンファーキノン等のキノン化合物；１０−ブチル−２−クロロアクリドン、ベンジル、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物等が挙げられる。これらは、後述の重合開始助剤（Ｈ）（特にアミン）と組合せて用いることができる。
【００７９】
また、酸発生剤も重合開始剤（Ｄ）として用いることができる。酸発生剤としては、例えば、４−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムｐ−トルエンスルホナート、４−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキシフェニルジメチルスルホニウムｐ−トルエンスルホナート、４−アセトキシフェニル・メチル・ベンジルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムｐ−トルエンスルホナート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムｐ−トルエンスルホナート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート等のオニウム塩や、ニトロベンジルトシレート、ベンゾイントシレートが挙げられる。
【００８０】
本発明の樹脂組成物が重合開始剤（Ｄ）を含む場合、その含有量は、樹脂（Ａ）と重合性化合物（Ｃ）との合計含有量１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜３０質量部、より好ましくは０．０２〜１５質量部、さらに好ましくは０．０３〜８質量％である。重合開始剤（Ｄ）の含有量が前記の範囲内にあると、得られるパターンの可視光透過率が高い傾向がある。
【００８１】
＜重合開始助剤（Ｈ）＞
重合開始助剤（Ｈ）は、重合開始剤（Ｄ）とともに用いられ、重合開始剤（Ｄ）によって重合が開始された重合性化合物（Ｃ）の重合を促進するために用いられる化合物、もしくは増感剤である。
【００８２】
重合開始助剤（Ｈ）としては、チアゾリン化合物、アミン化合物、アルコキシアントラセン化合物、チオキサントン化合物、カルボン酸化合物等が挙げられる。
【００８３】
チアゾリン化合物としては、式（Ｈ１−１）〜式（Ｈ１−３）で表される化合物、特開２００８−６５３１９号公報記載の化合物等が挙げられる。
2018106172.tif 000021
【００８４】
アミン化合物としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸２−ジメチルアミノエチル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、Ｎ，Ｎ−ジメチルパラトルイジン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（通称ミヒラーズケトン）、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（エチルメチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられ、中でも４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。ＥＡＢ−Ｆ（保土谷化学工業（株）製）等の市販品を用いてもよい。
【００８５】
アルコキシアントラセン化合物としては、９，１０−ジメトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、９，１０−ジエトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジエトキシアントラセン、９，１０−ジブトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジブトキシアントラセン等が挙げられる。
【００８６】
チオキサントン化合物としては、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン等が挙げられる。
【００８７】
カルボン酸化合物としては、フェニルスルファニル酢酸、メチルフェニルスルファニル酢酸、エチルフェニルスルファニル酢酸、メチルエチルフェニルスルファニル酢酸、ジメチルフェニルスルファニル酢酸、メトキシフェニルスルファニル酢酸、ジメトキシフェニルスルファニル酢酸、クロロフェニルスルファニル酢酸、ジクロロフェニルスルファニル酢酸、Ｎ−フェニルグリシン、フェノキシ酢酸、ナフチルチオ酢酸、Ｎ−ナフチルグリシン、ナフトキシ酢酸等が挙げられる。
【００８８】
本発明の樹脂組成物が重合開始助剤（Ｈ）を含む場合、その含有量は、樹脂（Ａ）と重合性化合物（Ｃ）との合計含有量１００質量部に対して、好ましくは０．１〜３０質量部、より好ましくは０．２〜１０質量部である。重合開始助剤（Ｈ）の量が前記の範囲内にあると、パターンを形成する際、さらに高感度になる傾向にある。
【００８９】
＜酸化防止剤（Ｆ）＞
酸化防止剤（Ｆ）としては、フェノール系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤が挙げられる。中でも、得られる膜の着色が少ないという点で、フェノール系酸化防止剤が好ましい。
【００９０】
フェノール系酸化防止剤としては、例えば、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニルアクリレート、３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、３，３’，３”，５，５’，５”−ヘキサ−ｔｅｒｔ−ブチル−ａ，ａ’，ａ”−（メシチレン−２，４，６−トリイル）トリ−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール及び６−［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピンが挙げられる。 前記フェノール系酸化防止剤としては、市販品を使用してもよい。市販されているフェノール系酸化防止剤としては、例えば、スミライザー（登録商標）ＢＨＴ、ＧＭ、ＧＳ、ＧＰ（以上、全て住友化学（株）製）、イルガノックス（登録商標）１０１０、１０７６、１３３０、３１１４（以上、全てＢＡＳＦ社製）が挙げられる。
【００９１】
イオウ系酸化防止剤としては、例えば、ジラウリル３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリチルテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）が挙げられる。前記イオウ系酸化防止剤としては、市販品を使用してもよい。市販されているイオウ系酸化防止剤としては、例えば、スミライザー（登録商標）ＴＰＬ−Ｒ、ＴＰ−Ｄ（以上、全て住友化学（株）製）が挙げられる。
【００９２】
リン系酸化防止剤としては、例えば、トリオクチルホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ（トリデシル）−１，１，３−トリス（２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ブタンジホスファイトが挙げられる。前記リン系酸化防止剤としては、市販品を使用してもよい。市販されているリン系酸化防止剤としては、例えば、イルガフォス（登録商標）１６８、１２、３８（以上、全てＢＡＳＦ社製）、アデカスタブ３２９Ｋ、アデカスタブＰＥＰ３６（以上、全て（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。
【００９３】
アミン系酸化防止剤としては、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミンが挙げられる。前記アミン系酸化防止剤としては、市販品を使用してもよい。市販されているアミン系酸化防止剤としては、例えば、スミライザー（登録商標）ＢＰＡ、ＢＰＡ−Ｍ１、４ＭＬ（以上、全て住友化学（株）製）が挙げられる。
【００９４】
本発明の樹脂組成物が酸化防止剤（Ｆ）を含む場合、その含有量は、樹脂（Ａ）と重合性化合物（Ｃ）との合計含有量１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部以上５質量部以下、より好ましくは０．５質量部以上３質量部以下である。酸化防止剤（Ｆ）の含有量が前記の範囲内にあると、得られる膜は耐熱性及び鉛筆硬度に優れる傾向がある。
【００９５】
＜多価カルボン酸（Ｇ１）＞
多価カルボン酸（Ｇ１）は、多価カルボン酸無水物及び多価カルボン酸からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物である。多価カルボン酸とは、２つ以上のカルボキシ基を有する化合物であり、多価カルボン酸無水物とは、多価カルボン酸の無水物である。多価カルボン酸（Ｇ１）の分子量は、好ましくは３０００以下、より好ましくは１０００以下である。
【００９６】
前記の多価カルボン酸無水物としては、例えば、無水マレイン酸、無水コハク酸、グルタル酸無水物、シトラコン酸無水物、イタコン酸無水物、２−ドデシルコハク酸無水物、２−（２−オクタ−３−エニル）コハク酸無水物、２−（２，４，６−トリメチルノナ−３−エニル）コハク酸無水物、トリカルバリル酸無水物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物等の鎖状多価カルボン酸無水物；３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸無水物、１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸無水物、ジメチルテトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、４−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、ノルボルネンジカルボン酸無水物、メチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２，３−ジカルボン酸無水物、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２，３−ジカルボン酸無水物、ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−５−エン−２，３−ジカルボン酸無水物、メチルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−５−エン−２，３−ジカルボン酸無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等の脂環式多価カルボン酸無水物；無水フタル酸、３−ビニルフタル酸無水物、４−ビニルフタル酸無水物、ピロメリット酸無水物、トリメリット酸無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）、グリセリントリス（アンヒドロトリメリテート）、グリセリンビス（アンヒドロトリメリテート）モノアセテート、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン等の芳香族多価カルボン酸無水物；が挙げられる。
アデカハードナ（登録商標）−ＥＨ−７００（商品名（以下同様）、（株）ＡＤＥＫＡ製）、リカシッド（登録商標）−ＨＨ、同ＢＴ−Ｗ、同−ＴＨ、同−ＭＨ、同ＭＨ−７００（新日本理化（株）製）、エピキニア１２６、同ＹＨ−３０６、同ＤＸ−１２６（油化シェルエポキシ（株）製）等の市販品を用いてもよい。
【００９７】
前記の多価カルボン酸としては、鎖状多価カルボン酸無水物を導く鎖状多価カルボン酸（例えばシュウ酸、マロン酸、アジピン酸、セバシン酸、フマル酸、酒石酸、クエン酸等）；脂環式多価カルボン酸無水物を導く脂環式多価カルボン酸（例えばシクロヘキサンジカルボン酸）；芳香族多価カルボン酸無水物を導く芳香族多価カルボン酸（例えばイソフタル酸、テレフタル酸、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸等）が挙げられる。
【００９８】
中でも、得られる膜の耐熱性に優れ、特に可視光領域での透明性が低下しにくい点から、鎖状多価カルボン酸無水物、脂環式多価カルボン酸無水物が好ましく、脂環式多価カルボン酸無水物がより好ましい。
【００９９】
本発明の樹脂組成物が多価カルボン酸（Ｇ１）を含む場合、その含有量は、樹脂（Ａ）と重合性化合物（Ｃ）との合計含有量１００質量部に対して、好ましくは１〜３０質量部、より好ましくは２〜２０質量部、さらに好ましくは２〜１５質量部である。多価カルボン酸（Ｇ１）の含有量が前記の範囲内にあると、得られる膜の耐熱性及び密着性に優れる。
【０１００】
＜イミダゾール化合物（Ｇ２）＞
イミダゾール化合物（Ｇ２）は、イミダゾール骨格を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、エポキシ硬化剤として知られている化合物が挙げられる。中でも、式（Ｇ２−１）で表される化合物が好ましい。
2018106172.tif 000022
［式（２）中、Ｒ31は、炭素数１〜２０のアルキル基、フェニル基、ベンジル基又は炭素数２〜５のシアノアルキル基を表す。
Ｒ32〜Ｒ34は、互いに独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基、フェニル基、ニトロ基又は炭素数１〜２０のアシル基を表し、該アルキル基及び該フェニル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基で置換されていてもよい。］
【０１０１】
炭素数１〜２０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソブチル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ヘプタデシル基、ウンデシル基が挙げられる。
炭素数２〜５のシアノアルキル基としては、例えば、シアノメチル基、シアノエチル基、シアノプロピル基、シアノブチル基、シアノペンチル基が挙げられる。
【０１０２】
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が挙げられる。
炭素数１〜２０のアシル基としては、例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ラウロイル基、ミリストリル基、ステアロイル基が挙げられる。
【０１０３】
イミダゾール化合物（Ｇ２）としては、例えば、１−メチルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−ヒドロキシメチルイミダゾール、２−メチル−４−ヒドロキシメチルイミダゾール、５−ヒドロキシメチル−４−メチルイミダゾール、２−エチルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、２−ヘプタデシルイミダゾール、１，２−ジメチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、４−ヒドロキシメチル−２−フェニルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−フェニル−２−ヒドロキシメチルイミダゾール、１−ベンジル−４−メチルイミダゾール、１−ベンジル−４−フェニルイミダゾール、１−ベンジル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール、２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）イミダゾール、１−シアノメチル−２−メチルイミダゾール、１−（２−シアノエチル）−２−ヒドロキシメチルイミダゾール、２，４−ジフェニルイミダゾール、１−シアノメチル−２−ウンデシルイミダゾール、１−シアノメチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノメチル−２−フェニルイミダゾール、１−（２−シアノエチル）−２−エチル−４−メチルイミダゾールが挙げられる。中でも１−ベンジル−４−フェニルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−（２−シアノエチル）−２−エチル−４−メチルイミダゾールが好ましい。
【０１０４】
本発明の樹脂組成物がイミダゾール化合物（Ｇ２）を含む場合、その含有量は、樹脂（Ａ）と重合性化合物（Ｃ）との合計含有量１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部以上２５質量部以下、より好ましくは０．２質量部以上１５質量部以下、さらに好ましくは０．５質量部以上５質量部以下である。イミダゾール化合物（Ｇ２）の含有量が前記の範囲にあると、得られる膜は可視光領域における透明性に優れる傾向がある。
【０１０５】
＜溶剤（Ｅ）＞
本発明の樹脂組成物は、溶剤（Ｅ）を含有する。溶剤（Ｅ）としては、樹脂組成物の分野で用いられている各種の有機溶剤が挙げられ、その具体例としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル及びエチレングリコールモノブチルエーテルのようなエチレングリコールモノアルキルエーテル；
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルなどのジエチレングリコールジアルキルエーテル；
メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート；
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテートなどのアルキレングリコールアルキルエーテルアセテート；
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテル；
プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールジプロピルエーテル、プロピレングリコールプロピルメチルエーテル、プロピレングリコールエチルプロピルエーテルなどのプロピレングリコールジアルキルエーテル；
プロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールブチルエーテルプロピオネートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネート；
メトキシブチルアルコール、エトキシブチルアルコール、プロポキシブチルアルコール、ブトキシブチルアルコールなどのブタンジオールモノアルキルエーテル；
メトキシブチルアセテート、エトキシブチルアセテート、プロポキシブチルアセテート、ブトキシブチルアセテートなどのブタンジオールモノアルキルエーテルアセテート；
メトキシブチルプロピオネート、エトキシブチルプロピオネート、プロポキシブチルプロピオネート、ブトキシブチルプロピオネートなどのブタンジオールモノアルキルエーテルプロピオネート；
ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエチルエーテルなどのジプロピレングリコールジアルキルエーテル；
ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどの芳香族炭化水素；
メチルエチルケトン、アセトン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン；
エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、グリセリンなどのアルコール；
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブトキシプロピオン酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エチル、２−ブトキシプロピオン酸プロピル、２−ブトキシプロピオン酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸プロピル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−プロポキシプロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピオン酸エチル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、３−プロポキシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メチル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチルなどのエステル；
テトラヒドロフラン、ピランなどの環状エーテル；
γ−ブチロラクトンなどの環状エステルなどが挙げられる。
【０１０６】
上記の溶剤のうち、塗布性、乾燥性の点から、好ましくは前記溶剤の中で沸点が１００〜２００℃である有機溶剤が挙げられる。沸点が１００〜２００℃である有機溶剤として、具体的には、アルキレングリコールアルキルエーテルアセテート、メトキシブタノール及びエトキシブタノールなどのアルコール、シクロヘキサノンなどのケトン、
３−エトキシプロピオン酸エチル及び３−メトキシプロピオン酸メチルなどのエステルが挙げられ、さらに好ましくはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、メトキシブタノール、メトキシブチルアセテート、３−エトキシプロピオン酸エチル及び３−メトキシプロピオン酸メチルが挙げられる。これらの溶剤（Ｅ）は、それぞれ単独で、又は２種類以上混合して用いることができる。
【０１０７】
本発明の樹脂組成物における溶剤（Ｅ）の含有率は、樹脂組成物の総量に対して、好ましくは６０〜９５質量％、より好ましくは７０〜９５質量％である。言い換えると、本発明の樹脂組成物の固形分は、好ましくは５〜４０質量％、より好ましくは５〜３０質量％である。溶剤（Ｅ）の含有率が、前記の範囲にあると、樹脂組成物を塗布して得られた膜の平坦性が高い傾向がある。
【０１０８】
＜その他の成分＞
本発明の樹脂組成物には、必要に応じて、充填剤、その他の高分子化合物、熱ラジカル発生剤、紫外線吸収剤、連鎖移動剤、密着促進剤等、当該技術分野において公知の添加剤を含有していてもよい。
【０１０９】
充填剤としては、ガラス、シリカ、アルミナ等が挙げられる。
その他の高分子化合物としては、マレイミド樹脂等の熱硬化性樹脂やポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリフルオロアルキルアクリレート、ポリエステル、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂等が挙げられる。
熱ラジカル発生剤としては、２，２’−アゾビス（２−メチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）等が挙げられる。
紫外線吸収剤としては、２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン等が挙げられる。
連鎖移動剤としては、ドデカンチオール、２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン等が挙げられる。
【０１１０】
密着促進剤としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、３−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−スルファニルプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【０１１１】
また、本発明の樹脂組成物は、光路長が１ｃｍの石英セルに充填し、分光光度計を使用して、測定波長４００〜７００ｎｍの条件下で透過率を測定した場合、その平均透過率は好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上である。
【０１１２】
本発明の樹脂組成物を用いて膜を形成した際に、膜の平均透過率が好ましくは９０％以上、より好ましくは９５％以上である。この平均透過率は、加熱硬化（１００〜２５０℃、５分〜３時間）後の厚みが２μｍの膜に対して、分光光度計を使用して、測定波長４００〜７００ｎｍの条件下で測定した場合の平均値である。これにより、可視光領域での透明性に優れた膜を提供することができる。
【０１１３】
＜樹脂組成物の製造方法＞
本発明の樹脂組成物は、樹脂（Ａ）、レベリング剤（Ｂ）及び溶剤（Ｅ）、並びに、必要に応じて、重合性化合物（Ｃ）、重合開始剤（Ｄ）、重合開始助剤（Ｈ）、酸化防止剤（Ｆ）、硬化剤（Ｇ）及びその他の成分を、公知の方法で混合することにより製造することができる。混合後は、孔径０．０５〜１．０μｍ程度のフィルタでろ過することが好ましい。
【０１１４】
＜液晶表示装置用膜の製造方法＞
本発明の液晶表示装置用膜を、以下、「本発明の膜」又は「膜」と称することがある。
本発明の膜は、本発明の樹脂組成物を基板上に塗布し、乾燥後、加熱することにより製造することができる。より具体的には、本発明の膜の製造方法は、以下の工程（１）〜（３）を含む。
工程（１）：本発明の樹脂組成物を基板に塗布する工程、
工程（２）：塗布後の樹脂組成物を減圧乾燥及び／又は加熱乾燥させて、組成物層を形成する工程、
工程（３）：組成物層を加熱する工程。
【０１１５】
本発明の樹脂組成物が重合性化合物（Ｃ）及び重合開始剤（Ｄ）を含む場合、下記の工程を行うことにより、硬化膜を製造することができる。
工程（１）：本発明の樹脂組成物を基板に塗布する工程、
工程（２）：塗布後の樹脂組成物を減圧乾燥及び／又は加熱乾燥させて、樹脂組成物層を形成する工程、
工程（２ａ）：樹脂組成物層を、露光する工程、
工程（２ｂ）：露光後の樹脂組成物層を現像する工程、
工程（３ａ）：現像後の樹脂組成物層を加熱する工程。
【０１１６】
工程（１）は、本発明の樹脂組成物を基板に塗布する工程である。基板としては、ガラス、金属、プラスチック等が挙げられ、基板上にカラーフィルタ、絶縁膜、導電膜及び／又は駆動回路等が形成されていてもよい。基板上への塗布は、スピンコーター、スリット＆スピンコーター、スリットコーター、インクジェット、ロールコータ、ディップコーター等の塗布装置を用いて行うことが好ましい。本発明の樹脂組成物は、カラーフィルタ、絶縁膜、導電膜等が形成された基板上に形成する場合、カラーフィルタ、絶縁膜、導電膜等の上に塗布する。
【０１１７】
工程（２）は、塗布後の樹脂組成物を減圧乾燥及び／又は加熱乾燥させて、樹脂組成物層を形成する工程である。該工程を行うことにより、樹脂組成物中の溶剤等の揮発成分を除去する。減圧乾燥は、５０〜１５０Ｐａの圧力下、２０〜２５℃の温度範囲で行うことが好ましい。減圧乾燥の前又は後に、加熱乾燥（プリベーク）を行ってもよい。加熱乾燥は、通常、オーブン、ホットプレート等の加熱装置を用いて行う。加熱乾燥の温度は、好ましくは３０〜１２０℃、より好ましくは５０〜１１０℃である。また加熱時間は、好ましくは１０秒間〜６０分間、より好ましくは３０秒間〜３０分間である。
【０１１８】
工程（３）は、樹脂組成物層を加熱する工程（ポストベーク）である。加熱は、通常、オーブン、ホットプレート等の加熱装置を用いて行う。加熱温度は、好ましくは１３０〜２７０℃、より好ましくは１５０〜２６０℃、さらに好ましくは２００〜２５０℃である。加熱温度が、２００〜２５０℃であると、膜中に不要な溶剤が残存することを防ぐことができる。加熱時間は、好ましくは１〜１２０分間、より好ましくは１０〜６０分間である。
【０１１９】
工程（２ａ）は、工程（２）により形成された樹脂組成物層を、露光する工程である。露光に用いられる光源としては、２５０〜４５０ｎｍの波長の光を発生する光源が好ましい。例えば、３５０ｎｍ未満の光を、この波長域をカットするフィルタを用いてカットしたり、４３６ｎｍ付近、４０８ｎｍ付近、３６５ｎｍ付近の光を、これらの波長域を取り出すバンドパスフィルタを用いて選択的に取り出したりしてもよい。光源としては、水銀灯、発光ダイオード、メタルハライドランプ、ハロゲンランプ等が挙げられる。
【０１２０】
工程（２ｂ）は、露光後の樹脂組成物層を現像する工程である。露光後の樹脂組成物層を現像液に接触させて現像することにより、樹脂組成物層の未露光部が現像液に溶解して除去されて、基板上にパターンを有する樹脂組成物層が形成される。現像液としては、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等のアルカリ性化合物の水溶液が好ましい。これらのアルカリ性化合物の水溶液中の濃度は、好ましくは０．０１〜１０質量％、より好ましくは０．０３〜５質量％である。さらに、現像液は、界面活性剤を含んでいてもよい。 現像方法は、パドル法、ディッピング法及びスプレー法等のいずれでもよい。さらに現像時に基板を任意の角度に傾けてもよい。現像後は、水洗することが好ましい。
【０１２１】
工程（３ａ）は、現像後の樹脂組成物層を加熱する工程である。前記工程（３）と同様にして加熱を行うことにより、パターンを有する組成物層が硬化して、パターンを有する膜が基板上に形成される。
【０１２２】
このようにして得られる膜は、表面の平坦性に優れるため、例えば、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ基板、タッチパネルの保護膜やオーバーコートとして有用である。これにより、高品質の膜を備えた液晶表示装置を製造することが可能となる。着色パターンの凹凸を表面に有するカラーフィルタ基板においても、本発明の樹脂組成物からオーバーコートを形成することにより、表面の平坦性を向上させることができる。本発明の樹脂組成物から形成されるオーバーコート層の膜厚（被塗布面が凹凸を有する場合は凸部の表面からの膜厚）は、好ましくは０．５μｍ以上５μｍ以下、より好ましくは０．５μｍ以上３μｍ以下である。被塗布面が凹凸を有する場合、本発明の樹脂組成物から形成されるオーバーコート層の膜厚は、被塗布面の凹凸の高低差の３０％以上であることが好ましい。本発明の樹脂組成物から得られるオーバーコート層は膜厚が薄くても、表面の平坦性を向上させることができる。本発明の樹脂組成物を用いてオーバーコート層を形成することにより、オーバーコート層の表面の凹凸の高低差を、被塗布面の凹凸の高低差の５０％以下とすることができる。
【０１２３】
［共重合体］
本発明の共重合体は、構成単位（Ａａ）と、構成単位（Ａｂ）とを含み、かつ構成単位（Ａｃ）を含まない樹脂（Ａ）であって、構成単位（Ａａ）としては、上記式（Ａａ−１）又は上記式（Ａａ−２）で表される構成単位を含む。本発明の共重合体は、カラーレジストのオーバーコート層等、液晶表示装置用樹脂組成物の材料として有用である。本発明の共重合体は、構成単位（Ａａ）が、上記式（Ａａ−１）又は上記式（Ａａ−２）で表される構成単位であってもよい。
【実施例】
【０１２４】
以下、実施例によって本発明をより詳細に説明する。例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、質量％及び質量部である。
【０１２５】
［実施例１〜７及び比較例１］
＜樹脂組成物の調製＞
樹脂（Ａ）、重合性化合物（Ｃ）、重合開始剤（Ｄ）、硬化剤（Ｇ）、及びレベリング剤（Ｂ）を表１に示す割合で混合し、固形分濃度が表１に示す濃度になるように溶剤（Ｅ）であるプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを混合して各樹脂組成物を得た。表１において、各成分の部数は、固形分換算の質量部を表す。
【０１２６】
【表１】
2018106172.tif 000023
【０１２７】
表１における各成分は、以下の通りである。
樹脂（ａ１）：合成例１により得られた樹脂、
樹脂（ａ２）：合成例２により得られた樹脂、
樹脂（ａ３）：合成例３により得られた樹脂、
樹脂（ａ４）：合成例４により得られた樹脂、
重合性化合物（ｃ１）：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製）、
重合性化合物（ｃ２）：エチレングリコール変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰ−３０６０；日本化薬（株）製）、
重合開始剤（ｄ１）：Ｎ−ベンゾイルオキシ−１−（４−フェニルスルファニルフェニル）オクタン−１−オン−２−イミン（イルガキュア（登録商標）ＯＸＥ０１；ＢＡＳＦ（株）製）
多価カルボン酸（ｇ１）：１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸（リカシッド（登録商標）ＢＴ−Ｗ；新日本理化（株）製）、
レベリング剤（ｂ１）：メガファック（登録商標）Ｆ５５４；ＤＩＣ（株）製）。
【０１２８】
（合成例１：樹脂（ａ１））
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えたフラスコ内に窒素を充分流して窒素雰囲気とし、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル２６０部を入れ、撹拌しながら８５℃まで加熱した。次いで、式（ＩＩＩ−１）で表される化合物７７部と、式（Ｉ−１）で表される化合物及び式（ＩＩ−１）で表される化合物の混合物（混合物中の二つの化合物のモル比は５０：５０）２７８部と、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル１５５部との混合液を、４時間かけて８５℃に保温したフラスコ内に滴下した。
【０１２９】
一方、重合開始剤２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）２３部をジエチレングリコールエチルメチルエーテル２０８部に溶解させた溶液を５時間かけてフラスコ内に滴下した。重合開始剤溶液の滴下が終了した後、８５℃で３時間保持し、その後室温まで冷却して、Ｂ型粘度（２３℃）２８ｍＰａｓ、固形分３５．７％の共重合体（樹脂（ａ１））の溶液を得た。得られた樹脂（ａ１）の重量平均分子量（Ｍｗ）は６．３×１０３、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．８０、固形分換算の酸価は０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇであった。樹脂（ａ１）は、下記の構成単位を有する。
【０１３０】
2018106172.tif 000024
【０１３１】
得られた樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）の測定は、ＧＰＣ法を用いて、以下の条件で行った。
装置：ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）
カラム：ＴＳＫ−ＧＥＬＧ２０００ＨＸＬ
カラム温度：４０℃
溶媒：ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ
被検液固形分濃度：０．００１〜０．０１質量％
注入量：５０μＬ
検出器：ＲＩ
較正用標準物質：ＴＳＫ  ＳＴＡＮＤＡＲＤ  ＰＯＬＹＳＴＹＲＥＮＥ  Ｆ−４０、Ｆ−４、Ｆ−２８８、Ａ−２５００、Ａ−５００（東ソー（株）製）
上記で得られたポリスチレン換算の重量平均分子量及び数平均分子量の比（Ｍｗ／Ｍｎ）を分散度とした。
【０１３２】
（合成例２：樹脂（ａ２））
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えたフラスコ内に窒素を充分流して窒素雰囲気とし、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル１４０部を入れ、撹拌しながら７０℃まで加熱した。次いで、メタクリル酸４０部と、式（Ｉ−１）で表される単量体及び式（ＩＩ−１）で表される単量体の混合物（混合物中の二つの単量体のモル比は５０：５０）３６０部と、を、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル１９０部に溶解させた溶液を調製し、この溶液を、滴下ポンプを用いて４時間かけて、７０℃に保温したフラスコ内に滴下した。
【０１３３】
一方、重合開始剤２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）３０部をジエチレングリコールエチルメチルエーテル２４０部に溶解させた溶液を、別の滴下ポンプを用いて５時間かけてフラスコ内に滴下した。重合開始剤溶液の滴下が終了した後、７０℃で４時間保持し、その後室温まで冷却して、固形分４２％の共重合体（樹脂（ａ２））の溶液を得た。得られた樹脂（ａ２）の重量平均分子量（Ｍｗ）は７８００、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．０、固形分換算の酸価は６１ｍｇ−ＫＯＨ／ｇであった。樹脂（ａ２）は、下記の構成単位を有する。
【０１３４】
2018106172.tif 000025
（合成例３：樹脂（ａ３））
合成例１において、式（ＩＩＩ−１）で表される化合物１３６部と、式（Ｉ−１）で表される化合物及び式（ＩＩ−１）で表される化合物の混合物（混合物中の二つの化合物のモル比は５０：５０）２１８部を用いた以外は合成例１と同じ方法で反応を行うことにより、固形分２６．２重量％、重量平均分子量Ｍｗは７７５０、分散度１．８０の樹脂（ａ３）を得た。樹脂（ａ３）は、固形分換算の酸価が０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇであった。
【０１３５】
（合成例４：樹脂（ａ４））
合成例１において、式（ＩＩＩ−１）で表される化合物１７７部と、式（Ｉ−１）で表される化合物及び式（ＩＩ−１）で表される化合物の混合物（混合物中の二つの化合物のモル比は５０：５０）１７７部を用いた以外は合成例１と同じ方法で反応を行うことにより、固形分２４．６重量％、重量平均分子量Ｍｗは７９６０、分散度１．８０の樹脂（ａ４）を得た。樹脂（ａ４）は、固形分換算の酸価が０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇであった。
【０１３６】
＜評価用基板の作製＞
２インチ角のガラス基板（イーグルＸＧ；コーニング社製）を、中性洗剤、水及びイソプロパノールで順次洗浄してから乾燥させた。この基板上に、市販の感光性樹脂組成物（商品名：ダイブライト（登録商標））を、ポストベーク後の膜厚が２．０μｍになるようにスピンコートした。次に、クリーンオーブン中、１００℃で３分間プリベークして組成物層を形成した。放冷後、基板上の組成物層と石英ガラス製フォトマスクとの間隔を１００μｍとし、露光機（ＴＭＥ−１５０ＲＳＫ；トプコン（株）製、光源；超高圧水銀灯）を用いて、大気雰囲気下、１００ｍＪ／ｃｍ２の露光量（３６５ｎｍ基準）で光照射した。なお、この光照射は、超高圧水銀灯からの放射光を、光学フィルタ（ＵＶ−３１；旭テクノグラス（株）製）を通過させて行った。また、フォトマスクとしては、線幅２０μｍの１：１ラインアンドスペースパターンを形成するためのフォトマスクを用いた。光照射後の組成物層を、非イオン系界面活性剤０．１２％と水酸化カリウム０．０４％を含む水系現像液で、２３℃で６０秒間浸漬して現像し、水洗後、オーブン中、２３０℃で１５分間ポストベークを行い、線幅２０μｍでラインアンドスペースのパターン（ラインとスペースをそれぞれ１０本有する）が形成された評価用基板を作製した。
【０１３７】
＜膜の作製（条件１）＞
前記評価用基板に、ポストベーク後の膜厚（評価用基板のラインパターン表面からの膜厚）が１．０μｍになるような条件でスピンコートにより、実施例１〜３、６〜７及び比較例１の各樹脂組成物を塗布した。その後、減圧乾燥機（ＶＣＤマイクロテック（株）製）でロータリーポンプ回転数を１０００ｒｐｍ、ブースターポンプ回転数７００ｒｐｍ、常温２５℃の条件下で減圧度が６６Ｐａに達するまで減圧乾燥させ、ホットプレート上で、温度１００℃で３分間プリベークした。放冷後、温度２３０℃で３０分間ポストベークすることにより、膜を形成した。評価用基板上の膜の膜厚を、接触式膜厚測定装置（ＤＥＫＴＡＫ６Ｍ；（株）アルバック製）を用いて、測定幅５００μｍ、測定スピード１０秒の条件で測定し、膜の表面形状のプロファイルを得た。
また、当該プロファイルから膜の膜厚の平均値を算出したところ、評価用基板のラインパターン表面からの膜厚の平均値は１．０μｍであった。
【０１３８】
＜膜の作製（条件２）＞
前記評価用基板に、ポストベーク後の膜厚（評価用基板のラインパターン表面からの膜厚）が１．０μｍになるような条件でスピンコートにより、実施例４，５の各樹脂組成物を塗布した。その後、減圧乾燥機（ＶＣＤマイクロテック（株）製）でロータリーポンプ回転数を１０００ｒｐｍ、ブースターポンプ回転数７００ｒｐｍ、常温２５℃の条件下で減圧度が６６Ｐａに達するまで減圧乾燥させ、ホットプレート上で、温度１００℃で３分間プリベークした。放冷後、露光機（ＴＭＥ−１５０ＲＳＫ；トプコン（株）製、光源；超高圧水銀灯）を用いて、大気雰囲気下、２５ｍＪ／ｃｍ２の露光量（３６５ｎｍ基準）で光照射した。光照射後の樹脂組成物層を、非イオン系界面活性剤０．１２％と水酸化カリウム０．０４％を含む水系現像液で、２３℃で６０秒間浸漬して現像し、水洗後、オーブン中、２３０℃で１５分間ポストベークをすることにより、膜を形成した。評価用基板上の膜の膜厚を、接触式膜厚測定装置（ＤＥＫＴＡＫ６Ｍ；（株）アルバック製）を用いて、測定幅５００μｍ、測定スピード１０秒の条件で測定し、膜の表面形状のプロファイルを得た。
当該プロファイルから膜の膜厚の平均値を算出したところ、評価用基板のラインパターン表面からの膜厚の平均値は１．０μｍであった。
【０１３９】
＜平坦性評価＞
前記評価用基板上に形成された膜について、評価用基板のラインアンドスペースパターン上に形成された膜の表面プロファイルを触針式膜厚計（商品名：ＤＥＫＴＡＫ３；日本真空（株）製）で測定した。図１に模式断面図を示すように、基板１上のラインアンドスペースパターン２（スペース２ａ、ライン２ｂ）と膜３とが積層された状態での最大膜厚と最小膜厚との差Δ（μｍ）を測定し、平坦性を評価した。表１に測定結果を示す。差Δの値が小さい程、より平坦な膜を形成している。
【０１４０】
本発明の樹脂組成物によれば、段差がある下地や基板上にも平坦な膜を形成することができる。該樹脂組成物から得られる膜は平坦性に優れていることから、表示装置などに好適に使用し得る。
【符号の説明】
【０１４１】
１  ガラス基板、２  ラインアンドスペースパターン、２ａ  スペース、２ｂ  ライン
３  膜。 
【図１】
2018106172.tif 000028