(57)【要約】【課題】蒸着用マスク、その製造方法、及び表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】第１厚みを有する第１リブ部と、第１リブ部に囲まれたパターン部を有する蒸着用マスクが提供される。パターン部は、蒸着物質を通過させる複数のパターンホールと、複数のパターンホールのうち一部を連結し、第１厚みより小さい第２厚みを有するエッチング部を有する。蒸着用マスクは、両端部に、第１方向に沿って引っ張り力が加えられた状態で、フレームに結合されてもよい。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１厚みを有する第１リブ部と、
前記第１リブ部に囲まれたパターン部を有し、
前記パターン部は、
蒸着物質を通過させる複数のパターンホールと、
前記複数のパターンホールのうち一部を連結し、前記第１厚みより小さい第２厚みを有するエッチング部を有する蒸着用マスク。
【請求項２】
前記パターン部は、前記第２厚みより小さい第３厚みを有するパターン溝をさらに含む、請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項３】
前記パターン溝は、前記パターン部に複数備えられ、
前記複数のパターン溝は、菱形形状の頂点に配置される、請求項２に記載の蒸着用マスク。
【請求項４】
前記パターン溝は、前記パターン部に複数備えられ、
前記複数のパターンホールの各々は、隣接する前記パターン溝間に配置される、請求項２に記載の蒸着用マスク。
【請求項５】
前記複数のパターンホールのうち一部は、菱形形状の頂点に配置される、請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項６】
前記エッチング部は、前記パターン部に複数備えられ、
前記複数のエッチング部は、第１方向において互いに離隔されるように配置される、請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項７】
前記エッチング部は、前記パターン部に複数備えられ、
前記複数のエッチング部は、第１方向と交差する第２方向において互いに離隔されるように配置される、請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項８】
前記エッチング部は、
第１方向と平行な方向に延伸する第１エッチング部と、
前記第１方向と交差する第２方向と平行な方向に延伸する第２エッチング部とを含む、請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項９】
前記第１エッチング部と前記第２エッチング部は、互いに交差する、請求項８に記載の蒸着用マスク。
【請求項１０】
前記エッチング部は、前記パターン部に複数備えられ、
前記複数のエッチング部と前記複数のパターンホールは互いに交互し、かつ、前記複数のエッチング部と前記複数のパターンホールを連結することで、第１方向、及び前記第１方向と交差する第２方向のうち少なくとも１つの方向に蛇行した形態が得られるように配置される、請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項１１】
前記複数のパターンホールは、前記蛇行した形態の屈曲点に形成される、請求項１０に記載の蒸着用マスク。
【請求項１２】
前記パターン部の厚みは、前記第１厚みと同一、あるいは前記第１厚みより小さい、請求項１０に記載の蒸着用マスク。
【請求項１３】
前記パターン部は、
前記パターンホール及び前記エッチング部を除いた残りの領域の第２リブ部を含み、
前記第２リブ部は、前記エッチング部の前記第２厚みより厚い、請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項１４】
第１リブ部に囲まれたパターン部の一部に、第１レーザビームを照射し、前記第１レーザビームによってエッチングすることでエッチング部を形成する段階と、
前記エッチング部の一部に、第２レーザビームを照射して蒸着物質を通過させる複数のパターンホールを形成する段階とを含む、蒸着用マスクの製造方法。
【請求項１５】
前記第１リブ部は、第１厚みを有し、前記エッチング部は、前記第１厚みより小さい第２厚みを有する、請求項１４に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項１６】
前記第１レーザビームは、第１方向、または前記第１方向と交差する第２方向に沿って蛇行する経路に沿って照射される、請求項１４に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項１７】
前記エッチング部は、前記パターン部に複数形成され、
前記複数のエッチング部は、第１方向において互いに離隔されるように形成される、請求項１４に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項１８】
前記エッチング部は、前記パターン部に複数形成され、
前記複数のエッチング部は、第１方向と交差する第２方向において互いに離隔されるように形成される、請求項１４に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項１９】
前記第１レーザビームは、前記蛇行する経路に沿って、連続的に照射される、請求項１６に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項２０】
前記第２レーザビームは、前記蛇行する経路の屈曲点に照射される、請求項１９に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項２１】
前記第１レーザビームは、前記蛇行する経路に沿って、複数回照射される、請求項１６に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項２２】
前記エッチング部は、
前記第１レーザビームが１回照射される第１グルーブと、
前記第１レーザビームが２回重畳されて照射される第２グルーブとを含み、
前記第２グルーブの厚みは、前記第１グルーブの厚みより小さい、請求項２１に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項２３】
前記第２レーザビームは、前記第２グルーブに照射され、
前記複数のパターンホールは、前記第２グルーブに形成される、請求項２２に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項２４】
前記第１レーザビームは、第１方向、及び前記第１方向と交差する第２方向に沿って照射される、請求項１４に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項２５】
前記エッチング部は、
前記第１方向と平行な方向に形成される第１エッチング部と、
前記第１方向と交差する第２方向と平行な方向に形成される第２エッチング部とを含む、請求項２４に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項２６】
前記第１エッチング部と前記第２エッチング部は、互いに交差する、請求項２５に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項２７】
前記エッチング部は、
前記第１レーザビームが１回照射される連結グルーブと、
前記第１レーザビームが２回重畳されて照射されるパターン溝とを含み、
前記パターン溝の厚みは、前記連結グルーブの厚みより小さい、請求項２４に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項２８】
前記パターン溝は、前記パターン部に複数形成され、
前記複数のパターン溝のうち少なくとも一部に、前記第２レーザビームが照射することで前記パターンホールを形成する、請求項２７に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項２９】
前記複数のパターンホールと、前記複数のパターン溝は、前記第１方向及び前記第２方向に沿って、交互に配置するように形成される、請求項２８に記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項３０】
表示基板及び蒸着用マスクを、チャンバ内部に装入する段階と、
蒸着源から噴射され、前記蒸着用マスクを通過した蒸着物質を前記表示基板に蒸着させる段階と、を含み、
前記蒸着用マスクは、
第１厚みを有する第１リブ部と、
蒸着物質を通過させる複数のパターンホールが形成され、前記複数のパターンホールのうち一部を連結する形態に形成され、前記第１厚みより薄い第２厚みを有するエッチング部を具備するパターン部とを含み、両端部に、第１方向に沿って引っ張り力が加えられた状態でフレームに結合される、表示装置の製造方法。
【請求項３１】
前記パターン部は、前記第２厚みより薄い第３厚みを有するパターン溝をさらに含む、請求項３０に記載の表示装置の製造方法。
【請求項３２】
前記パターン溝は複数具備され、
前記複数のパターン溝は、菱形形状の頂点に配置される、請求項３１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項３３】
前記パターン溝は複数具備され、
前記各パターンホールは、隣接する前記パターン溝間に配置される、請求項３１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項３４】
前記複数のパターンホールのうち一部は、菱形形状の頂点に配置される、請求項３０に記載の表示装置の製造方法。
【請求項３５】
前記エッチング部は複数具備され、
前記複数のエッチング部は、前記第１方向を基準に、互いに離隔されるように配置される、請求項３０に記載の表示装置の製造方法。
【請求項３６】
前記エッチング部は複数具備され、
前記複数のエッチング部は、前記第１方向と交差する第２方向を基準に、互いに離隔されるように配置される、請求項３０に記載の表示装置の製造方法。
【請求項３７】
前記エッチング部は、
前記第１方向と平行な方向に形成される第１エッチング部と、
前記第１方向と交差する第２方向と平行な方向に形成される第２エッチング部とを含む、請求項３０に記載の表示装置の製造方法。
【請求項３８】
前記第１エッチング部と前記第２エッチング部は、互いに交差する、請求項３７に記載の表示装置の製造方法。
【請求項３９】
前記エッチング部は、前記第１方向、及び前記第１方向と交差する第２方向のうち少なくとも一方向に蛇行した形態で形成される、請求項３０に記載の表示装置の製造方法。
【請求項４０】
前記複数のパターンホールは、前記エッチング部の変曲点に形成される、請求項３９に記載の表示装置の製造方法。
【請求項４１】
前記パターン部の厚みは、前記第１厚みと同一、あるいは前記第１厚みより小さい、請求項３０に記載の表示装置の製造方法。
【請求項４２】
前記パターン部は、前記パターンホール及び前記エッチング部を除いた残り領域の第２リブ部を含み、
前記第２リブ部の厚みは、前記エッチング部の前記第２厚みより大きい、請求項３０に記載の表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蒸着用マスク、その製造方法、及び表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
移動しながら使用することを前提とする電子機器が幅広く使用されている。近年、移動型電子機器として、モバイルフォンのような小型電子機器以外にも、タブレットＰＣ（personal computer）が広く使用されている。
【０００３】
このような移動型電子機器は、多様な機能を支援するために、映像という視覚情報をユーザに提供する表示装置を含む。最近、表示装置を駆動するための部品やその他の部品が小型化されるにつれ、表示装置が電子機器で占める割合が徐々に増大している。また、表示装置を平らな状態から、所定の角度を有するように曲げることができる構造も開発されている。
【０００４】
高解像度の表示装置が要求されるにつれ、表示基板に蒸着物質を蒸着させるために使用される蒸着用マスクの厚みが日増しに小さくなっている。このため、蒸着用マスクの剛性（rigidity）が低下し、蒸着用マスクの両端に引っ張り力を加える場合、パターンホールの配列が変形し、その結果、表示基板に蒸着される蒸着物質のパターンが変形するという問題が生じうる。
【０００５】
前述の背景技術は、発明者らが本発明の実施形態導出のために保有していた、あるいは導出過程において認識した技術情報であり、必ずしも本願の出願前に、一般公衆に公開された公知技術と言うことはできない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明が解決しようとする課題は、剛性の高い蒸着用マスク、その製造方法、及び表示装置の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一実施形態は、蒸着用マスクである。この蒸着用マスクは、第１厚みを有する第１リブ部と、第１リブ部に囲まれたパターン部を有する。パターン部は、蒸着物質を通過させる複数のパターンホールと、複数のパターンホールのうち一部を連結し、第１厚みより小さい第２厚みを有するエッチング部を有する。蒸着用マスクは、両端部に、第１方向に沿って引っ張り力が加えられた状態で、フレームに結合されてもよい。
【０００８】
本実施形態において、該パターン部は、第２厚みより小さい第３厚みを有するパターン溝をさらに含んでもよい。
【０００９】
本実施形態において、該パターン溝はパターン部に複数備えられ、複数のパターン溝は、菱形形状の頂点に配置されてもよい。
【００１０】
本実施形態において、該パターン溝はパターン部に複数備えられ、複数のパターンホールの各々は、隣接するパターン溝間に配置されてもよい。
【００１１】
本実施形態において、複数のパターンホールのうち一部は、菱形形状の頂点に配置されてもよい。
【００１２】
本実施形態において、該エッチング部はパターン部に複数備えられ、複数のエッチング部は、第１方向において互いに離隔されるように配置されてもよい。
【００１３】
本実施形態において、該エッチング部は該パターン部に複数備えられ、複数のエッチング部は、第１方向と交差する第２方向において互いに離隔されるように配置されてもよい。
【００１４】
本実施形態において、該エッチング部は、第１方向と平行な方向に延伸する第１エッチング部と、第１方向と交差する第２方向と平行な方向に延伸する第２エッチング部とを含んでもよい。
【００１５】
本実施形態において、第１エッチング部と第２エッチング部は、互いに交差することができる。
【００１６】
本実施形態において、エッチング部はパターン部に複数備えられ、該複数のエッチング部と複数のパターンホールは互いに交互し、かつ、複数のエッチング部と複数のパターンホールを連結することで、第１方向、及び第１方向と交差する第２方向のうち少なくとも１つの方向に蛇行した形態が得られるように配置されてもよい。
【００１７】
本実施形態において、複数のパターンホールは、蛇行した形態の屈曲点に形成されてもよい。
【００１８】
本実施形態において、該パターン部の厚みは、第１厚みと同一、あるいは第１厚みよりも小さい。
【００１９】
本実施形態において、該パターン部は、パターンホール及びエッチング部を除いた残りの領域の第２リブ部を含み、第２リブ部は、エッチング部の第２厚みより厚くともよい。
【００２０】
本発明の他の実施形態は、第１リブ部に囲まれたパターン部の一部に、第１レーザビームを照射し、第１レーザビームによってエッチングされるエッチング部を形成する段階と、エッチング部の一部に、第２レーザビームを照射して蒸着物質を通過させる複数のパターンホールを形成する段階とを含む蒸着用マスクの製造方法である。この蒸着用マスクは、両端部に、第１方向に沿って引っ張り力が加えられた状態で、フレームに結合することができる。
【００２１】
本実施形態において、第１リブ部は、第１厚みを有し、エッチング部は、第１厚みより小さい第２厚みを有することができる。
【００２２】
本実施形態において、第１レーザビームは、第１方向、または第１方向と交差する第２方向に沿って蛇行する経路に沿って照射されてもよい。
【００２３】
本実施形態において、該エッチング部はパターン部に複数形成され、複数のエッチング部は、第１方向において互いに離隔されるように形成されてもよい。
【００２４】
本実施形態において、該エッチング部はパターン部に複数形成され、複数のエッチング部は、第１方向と交差する第２方向において互いに離隔されるように形成されてもよい。
【００２５】
本実施形態において、第１レーザビームは、蛇行する経路に沿って連続的に照射されてもよい。
【００２６】
本実施形態において、第２レーザビームは、蛇行するの屈曲点に照射されてもよい。
【００２７】
本実施形態において、第１レーザビームは、蛇行する経路に沿って複数回照射されてもよい。
【００２８】
本実施形態において、該エッチング部は、第１レーザビームが１回照射される第１グルーブと、第１レーザビームが２回重畳されて照射される第２グルーブとを含み、第２グルーブの厚みは、第１グルーブの厚みよりも小さい。
【００２９】
本実施形態において、第２レーザビームは、第２グルーブに照射され、複数のパターンホールは、第２グルーブに形成されてもよい。
【００３０】
本実施形態において、第１レーザビームは、第１方向、及び第１方向と交差する第２方向に沿って照射されてもよい。
【００３１】
本実施形態において、該エッチング部は、第１方向と平行な方向に形成される第１エッチング部と、第１方向と交差する第２方向と平行な方向に形成される第２エッチング部とを含んでもよい。
【００３２】
本実施形態において、第１エッチング部と第２エッチング部は、互いに交差することができる。
【００３３】
本実施形態において、該エッチング部は、第１レーザビームが１回照射される連結グルーブと、第１レーザビームが２回重畳されて照射されるパターン溝とを含み、該パターン溝の厚みは、連結グルーブの厚みよりも小さい。
【００３４】
本実施形態において、該パターン溝はパターン部に複数形成され、複数のパターン溝のうち少なくとも一部に、第２レーザビームを照射することでパターンホールを形成することができる。
【００３５】
本実施形態において、複数のパターンホールと、複数のパターン溝は、第１方向及び第２方向に沿って交互に形成されてもよい。
【００３６】
本発明の他の実施形態は、表示装置の製造方法である。この製造方法は、表示基板及び蒸着用マスクを、チャンバ内部に装入する段階と、蒸着源から噴射され、蒸着用マスクを通過した蒸着物質を表示基板に蒸着させる段階と、を含む。蒸着用マスクは、第１厚みを有する第１リブ部と、蒸着物質を通過させる複数のパターンホールが形成され、複数のパターンホールのうち一部を連結する形態に形成され、第１厚みより薄い第２厚みを有するエッチング部を具備するパターン部とを含み、両端部に、第１方向に沿って引っ張り力が加えられた状態でフレームに結合される。
【００３７】
パターン部は、第２厚みより薄い第３厚みを有するパターン溝をさらに含んでもよい。
【００３８】
パターン溝は複数具備されてもよく、複数のパターン溝は、菱形形状の頂点に配置されてもよい。また、各パターンホールは、隣接するパターン溝間に配置されてもよい。
【００３９】
複数のパターンホールのうち一部は、菱形形状の頂点に配置されてもよい。
【００４０】
エッチング部は複数具備されてもよく、複数のエッチング部は、第１方向を基準に、互いに離隔されるように配置されてもよい。また、複数のエッチング部は、第１方向と交差する第２方向を基準に、互いに離隔されるように配置されてもよい。
【００４１】
エッチング部は、第１方向と平行な方向に形成される第１エッチング部と、第１方向と交差する第２方向と平行な方向に形成される第２エッチング部とを含んでもよい。第１エッチング部と第２エッチング部は、互いに交差してもよい。
【００４２】
エッチング部は、第１方向、及び第１方向と交差する第２方向のうち少なくとも一方向に蛇行した形態で形成されてもよい。
【００４３】
複数のパターンホールは、エッチング部の変曲点に形成されてもよい。
【００４４】
パターン部の厚みは、第１厚みと同一、あるいは第１厚みより小さくてもよい。
【００４５】
パターン部は、パターンホール及びエッチング部を除いた残り領域の第２リブ部を含んでもよく、第２リブ部の厚みは、エッチング部の第２厚みより大きくてもよい。
【発明の効果】
【００４６】
本発明の蒸着用マスクは剛性が高く、その製造方法によれば、剛性が増大した蒸着用マスクを作製することができる。また、本発明によれば、蒸着用マスクの両端に引っ張り力が加えられた状態で、蒸着用マスクをフレームに結合する際、パターンホールの配列変形を防止することができる。また、本発明の表示装置の製造方法によれば、表示基板の全体領域にわたり、蒸着物質を同一または類似のパターンに蒸着することができる。また、本発明によれば、均一なパターンで蒸着物質を表示基板に蒸着させることにより、高解像度の表示装置を製造することができる。ただし、このような効果によって、本発明の範囲が限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の一実施形態に係わる蒸着用マスクを概略的に図示する平面図である。
【図２】図１のＡ部分の拡大平面図である。
【図３】図２のＩ−Ｉ´線に沿った断面図である。
【図４】図２に示されたパターン部の変形例を示す拡大平面図である。
【図５】図４のＩＩ−ＩＩ´線に沿った断面図である。
【図６】図２に示されたパターン部の他の変形例を示す拡大平面図である。
【図７】図６のＩＩＩ−ＩＩＩ´線に沿った断面図である。
【図８】図６のＩＶ−ＩＶ´線に沿った断面図である。
【図９】図２に示されたエッチング部を形成するために、パターン部の一部に連続的に照射される第１レーザビームの照射経路を示す拡大平面図である。
【図１０】図２に示されたエッチング部を形成するために、パターン部の一部に複数回照射される第１レーザビームの照射経路を示す拡大平面図である。
【図１１】図４に示されたエッチング部を形成するために、パターン部の一部に連続的に照射される第１レーザビームの照射経路を示す拡大平面図である。
【図１２】図４に示されたエッチング部を形成するために、パターン部の一部に複数回照射される第１レーザビームの照射経路を示す拡大平面図である。
【図１３】図６に示されたエッチング部を形成するために、パターン部の一部に照射される第１レーザビームの照射経路を示す拡大平面図である。
【図１４】図１の蒸着用マスクを含む、表示装置の製造装置を示す断面図である。
【図１５】図１４に図示された表示装置の製造装置を利用して製造された表示装置を示す平面図である。
【図１６】図１５のＶ−Ｖ´線に沿った断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００４８】
本発明は、多様な変更を加えることができ、さまざまな実施形態を有することができるが、特定の実施形態を図面に例示し、詳細に説明する。本発明の効果、特徴、及びそれらを達成する方法は、図面と共に詳細に説明する実施形態を参照すれば、明確になるであろう。しかし、本発明は、以下で開示される実施形態に限定されるものではなく、多様な形態で実施されてもよい。
【００４９】
以下の実施形態において、第１、第２のような用語は、限定的な意味を与えるものではなく、１つの構成要素を他の構成要素と区別する目的に使用される。また、単数の表現は、文脈上明白でない限り、複数の表現を含む。また、「含む」または「有する」というような用語は、明細書に記載された特徴または構成要素が存在することを意味するものであり、１以上の他の特徴または構成要素が付加される可能性を排除するものではない。
【００５０】
以下の実施形態において、膜、領域、構成要素などの部材上に他の構成があるというとき、他の構成がこれらの部材の真上にある場合だけではなく、その中間に、他の膜、領域、構成要素などの別の部材が介在されている場合も含まれる。
【００５１】
また、図面では、説明の便宜のために、構成要素の大きさが誇張または縮小されている。例えば、図面に示された各構成の大きさ及び厚みは、説明の便宜のために任意に示されており、本発明は、必ずしも図示されている態様に限定されるものではない。
【００５２】
また、工程に関する実施形態が異なる態様で実施可能な場合、その工程は、説明される順序と異なる順序で遂行されることもある。例えば、連続して説明される２つの工程が実質的に同時に遂行されることも可能であり、説明される順序と反対の順序で遂行することも可能である。
【００５３】
以下、添付された図面を参照し、本発明の実施形態について詳細に説明するが、同一、あるいは対応する構成要素には同一図面符号を付し、それについての重複説明は省略する。
【００５４】
本発明の実施形態において、表示装置は多様な装置を含んでもよい。例えば、表示装置は、液晶表示装置または有機発光表示装置を含んでもよい。ただし、以下では、説明の便宜のために、表示装置が有機発光表示装置である場合を中心に詳細に説明する。
【００５５】
図１は、本発明の一実施形態に係わる蒸着用マスクを概略的に示す平面図であり、図２は、図１のＡ部分の拡大平面図であり、図３は、図２のＩ−Ｉ´線に沿った断面図である。
【００５６】
図１ないし図３を参照すれば、蒸着用マスク１１０は、第１リブ部１１１とパターン部１１２とを含む。
【００５７】
第１リブ部１１１は、蒸着用マスク１１０の本体をなす構成要素であり、第１厚みｔ１を有するように形成されてもよい。一般的に、高解像度ディスプレイを製造するためには、表示基板に蒸着される蒸着物質のパターンが微細に形成されなければならないが、そのためには、蒸着用マスク１１０の厚みを小さくする必要がある。すなわち、高解像度ディスプレイの製造のためには、第１リブ部１１１の第１厚みｔ１を小さくしなければならず、現在の技術では、第１厚みｔ１は、１０μｍないし５０μｍであることが望ましいが、本発明の実施形態は、それに限定されるものではない。すなわち、前述のように、第１リブ部１１１の第１厚みｔ１は、表示装置の解像度によって、適宜設定すればよく、１０μｍより小さくてもよい。
【００５８】
パターン部１１２は、蒸着用マスク１１０において、第１リブ部１１１を除いた残りの領域と定義することができ、蒸着物質が通過する領域である。パターン部１１２は、蒸着物質を通過させる複数のパターンホール１１２ｈと、複数のパターンホール１１２ｈのうち一部を連結し、第１リブ部１１１の第１厚みｔ１より小さい第２厚みｔ２を有するエッチング部１１２ｅとを含む。より詳細には、パターン部１１２は、パターン部１１２の本体をなす第２リブ部１１２ｒを含む。このとき、パターン部１１２の本体をなす第２リブ部１１２ｒと、蒸着用マスク１１０の本体をなす第１リブ部１１１は、互いに異なる構成要素であるように描写されているが、実際には、第２リブ部１１２ｒは第１リブ部１１１と共に蒸着用マスク１１０の本体をなし、蒸着用マスク１１０に剛性（rigidity）を付与する構成要素である。
【００５９】
後述する本発明の多様な実施形態の特徴のうち一つは、第１リブ部１１１と第２リブ部１１２ｒとが互いに同一厚みを有するように形成されてもよいという点である。すなわち、第１リブ部１１１の第１厚みｔ１と、第２リブ部１１２ｒの厚みｔは同一でも良い。以下では、第２リブ部１１２ｒの厚みｔは、「パターン部１１２の厚み」を意味する。
【００６０】
従来、第２リブ部１１２ｒの厚みｔは、エッチング部１１２ｅの第２厚みｔ２と同一になるように形成されるが、この場合、蒸着用マスク１１０に加えられる外力によって、パターン部１１２に形成されたパターンホール１１２ｈの配列構造が容易に変形するという問題点がある。このような問題点を解決するためには、第２リブ部１１２ｒの厚みｔを、第１リブ部１１１の第１厚みｔ１と同程度の厚みで形成することにより、パターン部１１２の剛性を確保する必要がある。すなわち、第２リブ部１１２ｒの厚みｔを、第１リブ部１１１の第１厚みｔ１と同程度の厚みで形成すれば、蒸着用マスク１１０に加えられる外力によって、パターンホール１１２ｈの配列構造変形を防止することができる。
【００６１】
、本発明の実施形態は、第２リブ部１１２ｒの厚みｔが、第１リブ部１１１の第１厚みｔ１と完全に同一に形成される場合だけではなく、第２リブ部１１２ｒの厚みｔが、第１リブ部１１１の第１厚みｔ１より小さい場合も含む。ただし、前述のように、第２リブ部１１２ｒの厚みｔは、少なくともエッチング部１１２ｅの第２厚みｔ２よりも大きいことが望ましい。
【００６２】
一方、パターン部１１２の剛性増大のためには、第２リブ部１１２ｒの厚みｔだけでなく、第２リブ部１１２ｒの配列構造も重要な要素であり、第２リブ部１１２ｒの配列構造は、エッチング部１１２ｅの形状によって決まる。これについて、以下、図２ないし図８を参照して詳細に説明する。
【００６３】
図２を参照すれば、エッチング部１１２ｅはパターン部１１２に複数設けられ、第１方向に沿って、互いに離隔するように配置される。また、複数のエッチング部１１２ｅは、第２方向に沿って複数のパターンホール１１２ｈと交互するように配置され、これらを連結することで蛇行した（serpentine）形態が形成される。そして、この蛇行形状の複数の屈曲点のそれぞれには、パターンホール１１２ｈが形成される。一方、図３を参照すれば、前述のように、第２リブ部１１２ｒの厚みｔは、第１リブ部１１１の第１厚みｔ１と同一、あるいは実質的に同一であることを確認することができる。すなわち、第２リブ部１１２ｒの厚みｔがエッチング部１１２ｅの第２厚みｔ２より大きくなるよう、第２リブ部１１２ｒが形成されてもよい。
【００６４】
前述のようなエッチング部１１２ｅとパターンホール１１２ｈとの構造により、第２リブ部１１２ｒは、第２方向に沿って延伸した構造を有する。前述のように、第２リブ部１１２ｒは、パターン部１１２の本体をなす構成要素であり、第２リブ部１１２ｒが第２方向に沿って延伸した構造に形成されることにより、蒸着用マスク１１０に加えられる第２方向の外力に対して、大きな抵抗力を有することができる。すなわち、第２リブ部１１２ｒが第２方向に沿って延伸した構造を有することで、蒸着用マスク１１０の第２方向における剛性を増大させる効果を得ることができる。
【００６５】
この効果についてさらに詳細に説明する。蒸着用マスク１１０は、第１方向に沿って引っ張り力が加えられた状態で、額縁状のフレームＦ（図１４）に結合することができる。このとき、蒸着用マスク１１０は、第１方向に引っ張られるが、それによって、第２方向に収縮される。しかしながら、上述したように、蒸着用マスク１１０は第２方向の外力に対して大きな抵抗力を有するため、第２方向への変形がほとんど生じない。従って、図２及び図３に示されたパターン部１１２を有する蒸着用マスク１１０を第１方向に沿って引っ張っても、第２方向における収縮を効果的に防止することができる。
【００６６】
次に、図４及び図５を参照し、本発明の他の実施形態について説明する。
【００６７】
図４は、図２に示されたパターン部１１２の他の変形例を示す拡大平面図であり、図５は、図４のＩＩ−ＩＩ´線に沿った断面図である。
【００６８】
図４を参照すれば、エッチング部２１２ｅは、第１方向と交差する第２方向に沿って、互いに離隔されるように複数配置される。また、エッチング部２１２ｅは、第１方向に沿って、複数のパターンホール２１２ｈと交互するように配置され、これらを連結することで蛇行した形態が形成される。そして、この蛇行形状の複数の屈曲点のそれぞれには、パターンホール２１２ｈが形成される。一方、図５を参照すれば、前述のように、第２リブ部２１２ｒの厚みｔは、第１リブ部２１１の第１厚みｔ１と同一、あるいは実質的に同一であることを確認することができる。すなわち、第２リブ部２１２ｒの厚みｔがエッチング部２１２ｅの第２厚みｔ２より大きくなるよう、第２リブ部２１２ｒが形成されてもよい。
【００６９】
前述のようなエッチング部２１２ｅとパターンホール２１２ｈとの構造により、第２リブ部２１２ｒは、第１方向に沿って延伸した構造を有する。前述のように、第２リブ部２１２ｒは、パターン部２１２の本体をなす構成要素であり、第２リブ部２１２ｒが第１方向に沿って延伸した構造で形成されることにより、第１方向に、蒸着用マスク２１０に加えられる外力に対して、大きな抵抗力を有することができる。すなわち、第２リブ部２１２ｒが第１方向に沿って延伸した構造を有することで、蒸着用マスク２１０の第１方向における剛性を増大させる効果を得る。
【００７０】
この効果についてさらに詳細に説明する。蒸着用マスク２１０は、第１方向に沿って引っ張り力が加えられた状態で、額縁状のフレームＦ（図１４）に結合することができる。このとき、蒸着用マスク２１０は、第１方向に引っ張られる。しかしながら、上述したように、蒸着用マスク２１０は第１方向の外力に対して大きな抵抗力を有するため、第１方向への変形がほとんど生じない。従って、図４及び図５に示されたパターン部２１２を有する蒸着用マスク２１０を第１方向に沿って引っ張っても、第１方向における伸張を効果的に防止することができる。
【００７１】
次に、図６ないし図８を参照し、本発明のさらに他の実施形態について説明する。
【００７２】
図６は、図２に示されたパターン部１１２のさらに他の変形例を示す拡大平面図であり、図７は、図６のＩＩＩ−ＩＩＩ´線に沿った断面図であり、図８は、図６のＩＶ−ＩＶ´線に沿った断面図である。
【００７３】
図６を参照すれば、パターン部３１２は、パターンホール３１２ｈと、パターン溝３１２ｍと、エッチング部３１２ｅとを含む。また、エッチング部３１２ｅは、第１方向と平行な方向に形成される第１エッチング部３１２ｅ＿１と、第１方向と交差する第２方向と平行な方向に形成される第２エッチング部３１２ｅ＿２とを含む。ここで、第１エッチング部３１２ｅ＿１と第２エッチング部３１２ｅ＿２は、互いに交差するように形成されてもよい。
【００７４】
第１エッチング部３１２ｅ＿１と第２エッチング部３１２ｅ＿２とが互いに交差する地点には、複数のパターンホール３１２ｈ及び複数のパターン溝３１２ｍが形成されてもよい。このとき、複数のパターンホール３１２ｈと、複数のパターン溝３１２ｍの一部はそれぞれ、菱形形状の頂点に配置されてもよい。また、各パターン溝３１２ｍは、隣接するパターンホール３１２ｈ間に配置されてもよい。そして、パターン部３１２は、エッチング部３１２ｅを除いた残りの領域に該当し、パターン部３１２の本体をなす第２リブ部３１２ｒを含む。
【００７５】
図７を参照すれば、エッチング部３１２ｅは、第１リブ部３１１の第１厚みｔ１より薄い第２厚みｔ２を有するように形成される。そして、パターン溝３１２ｍは、エッチング部３１２ｅの第２厚みｔ２より薄い第３厚みｔ３を有するように形成される。
【００７６】
さらに、図８を参照すれば、第２リブ部３１２ｒは、第１リブ部３１１の第１厚みｔ１と同一、あるいは実質的に同一の厚みｔを有するように形成される。そして、エッチング部３１２ｅは、第１リブ部３１１の第１厚みｔ、及び第２リブ部３１２ｒの厚みｔより薄い第２厚みｔ２を有するように形成される。
【００７７】
前述のように、図６ないし図８に示されたパターン部３１２を有する蒸着用マスク３１０は、第１リブ部３１１の第１厚みｔ１に実質的に同一の厚みｔを有する第２リブ部３１２ｒによって、第１方向及び第２方向に蒸着用マスク３１０に加えられる外力に対して、大きな抵抗力を有することができる。それだけではなく、パターンホール３１２ｈ間に、第３厚みｔ３を有するように形成されるパターン溝３１２ｍも蒸着用マスク３１０の剛性を補強するため、蒸着用マスク３１０は、第１方向及び第２方向に蒸着用マスク３１０に加えられる外力に対して、大きな抵抗力を有することができる。
【００７８】
以下では、図１ないし図８を参照して説明した多様な変形例が適用可能な蒸着用マスク１１０、２１０、３１０を製造する方法について詳細に説明する。
【００７９】
図９は、図２に示されたエッチング部１１２ｅを形成するために、パターン部１１２の一部に連続的に照射される第１レーザビームの照射経路を示す拡大平面図であり、図１０は、図２に示されたエッチング部１１２ｅを形成するために、パターン部の一部に複数回照射される第１レーザビームの照射経路を示す拡大平面図であり、図１１は、図４に示されたエッチング部２１２ｅを形成するために、パターン部２１２の一部に連続的に照射される第１レーザビームの照射経路を示す拡大平面図であり、図１２は、図４に示されたエッチング部２１２ｅを形成するために、パターン部２１２の一部に複数回照射される第１レーザビームの照射経路を示す拡大平面図であり、図１３は、図６に示されたエッチング部３１２ｅを形成するために、パターン部３１２の一部に照射される第１レーザビームの照射経路を示す拡大平面図である。
【００８０】
図９は、図２に示された蒸着用マスク１１０のパターン部１１２の一部に、第１レーザビームＬ1aが連続的に照射される様子を示す図面である。図９によれば、第１レーザビームＬ1aは、第２方向に延伸する蛇行形態に沿って、連続的に照射される。第１レーザビームＬ1aを照射することでパターン部１１２の一部がエッチングされ、図２に示されたエッチング部１１２ｅを形成する。このとき、複数のエッチング部１１２ｅが第１方向において互いに離隔されるように形成されてもよい。なお、図面には、エッチング部１１２ｅを１本の実線で描いたが、これは説明の便宜のためであり、図面の第１レーザビームＬ1aの照射経路に沿って、第１レーザビームＬ1aを１回以上照射すれば、図２に示されたエッチング部１１２ｅを形成することができる。
【００８１】
図９に示されたような経路に沿ってエッチング部１１２ｅが形成された後、エッチング部１１２ｅの屈曲点ＩＰには、第２レーザビーム（図示せず）が追加して照射される。第２レーザビームが追加して照射されたエッチング部１１２ｅの屈曲点ＩＰには、図２に示されたような複数のパターンホール１１２ｈが形成される。図示されてはいないが、第１レーザビームＬ1aと第２レーザビームは、それぞれエッチング部１１２ｅとパターンホール１１２ｈとを順次形成するのに使用されるため、照射順序は異なるが、第１レーザビームＬ1aと第２レーザビームは同一装置から照射されてもよい。
【００８２】
一方、第１レーザビームＬ1aが照射されていない領域、すなわち、エッチング部１１２ｅを除いたパターン部１１２の残り領域はエッチングされず、パターン部１１２そのままの形態で残存する。このパターン部１１２の残存領域ＲＡは、図２に示された第２リブ部１１２ｒに対応する。そして、第２リブ部１１２ｒは、図９に示されていないが、図２及び図３に示された第１リブ部１１１の第１厚みｔ１と同一、あるいは実質的に同一の厚みｔを有することができる。このように、第２リブ部１１２ｒが第１リブ部１１１と同一、あるいは実質的に同一の厚みを有する場合、前述のように、蒸着用マスク１１０の剛性を増大させることができる。
【００８３】
図１０は、図２に示された蒸着用マスク１１０のパターン部１１２の一部に、第１レーザビームＬ1a´が複数回照射される様子を示す図面である。図１０によれば、第１レーザビームＬ1a´は、第２方向に延伸する蛇行形態に沿って、複数回照射される。したがって、第１レーザビームＬ1a´は、照射経路の方向が変化する屈曲点ＩＰで一部が重畳されてもよい。
【００８４】
この場合、第１レーザビームＬ1a´によって形成されるエッチング部１１２ｅは、第１レーザビームＬ1a´が１回照射される第１グルーブＧ１と、第１レーザビームＬ1a´が２回重畳されて照射される第２グルーブＧ２とを含むが、第２グルーブＧ２は、第１グルーブＧ１より１回多く第１レーザビームＬ1a´が照射されるので、第２グルーブＧ２の厚みは、第１グルーブＧ１の厚みより小さい。図面には、エッチング部１１２ｅを１本の実線で描いたが、それは説明の便宜のためであり、図面の第１レーザビームＬ1a´の照射経路に沿って、第１レーザビームＬ1a´を１回以上照射すれば、図２に示されたエッチング部１１２ｅが形成される。
【００８５】
第１レーザビームＬ1a´によって第１グルーブＧ１と第２グルーブＧ２とを含むエッチング部１１２ｅがこのように形成された後、第２グルーブＧ２には、第２レーザビーム（図示せず）が追加して照射される。第２レーザビームが追加して照射されたエッチング部１１２ｅの第２グルーブＧ２には、複数のパターンホール１１２ｈが形成される。図示されてはいないが、第１レーザビームＬ1a´と第２レーザビームは、それぞれエッチング部１１２ｅとパターンホール１１２ｈとを順次形成するのに使用されるため、照射順序は異なるが、第１レーザビームＬ1a´と第２レーザビームは同一装置から照射されてもよい。
【００８６】
一方、第１レーザビームＬ1a´が照射されていない領域、すなわち、エッチング部１１２ｅを除いたパターン部１１２の残り領域はエッチングされず、パターン部１１２そのままの形態で残存する。このパターン部１１２の残存領域ＲＡは、図２に示された第２リブ部１１２ｒに対応する。そして、第２リブ部１１２ｒは、図１０に示されていないが、図２及び図３に示された第１リブ部１１１の第１厚みｔ１と同一、あるいは実質的に同一の厚みｔを有することができる。このように、第２リブ部１１２ｒが第１リブ部１１１と同一、あるいは実質的に同一の対応する厚みを有する場合、前述のように、蒸着用マスク１１０の剛性を増大させることができる。
【００８７】
図１１は、図９に示された第１レーザビームＬ1aの照射経路に係わる他の変形例であり、図４に示された蒸着用マスク２１０のパターン部２１２の一部に、第１レーザビームＬ2aが連続的に照射される様子を示す図面である。図１１によれば、第１レーザビームＬ2aは、第１方向に延伸する蛇行形態の経路に沿って、連続的に照射される。このように第１レーザビームＬ2aを照射することによってパターン部２１２の一部がエッチングされ、図４に示されたようなエッチング部２１２ｅが形成される。このとき、複数のエッチング部２１２ｅが第２方向において互いに離隔されるように形成されてもよい。図面には、エッチング部２１２ｅを１本の実線で描いたが、それは説明の便宜のためであり、図面の第１レーザビームＬ2aの照射経路に沿って、第１レーザビームＬ2aを１回以上照射すれば、図４に示されたエッチング部２１２ｅが形成される。
【００８８】
図１１に示されたような経路に沿ってエッチング部２１２ｅが形成された後、エッチング部２１２ｅの屈曲点ＩＰには、第２レーザビーム（図示せず）が追加して照射される。第２レーザビームが追加して照射されたエッチング部２１２ｅの屈曲点ＩＰには、図４に示された複数のパターンホール２１２ｈが形成される。図示されてはいないが、第１レーザビームＬ2aと第２レーザビームは、それぞれエッチング部２１２ｅとパターンホール２１２ｈとを順次形成するのに使用されるため、照射順序が異なるが、第１レーザビームＬ2aと第２レーザビームは同一装置から照射されてもよい。
【００８９】
一方、第１レーザビームＬ2aが照射されていない領域、すなわち、エッチング部２１２ｅを除いたパターン部２１２の残り領域は、エッチングされず、パターン部２１２そのままの形態で残存する。このパターン部２１２の残存領域ＲＡは、図４に示された第２リブ部２１２ｒに対応する。そして、第２リブ部２１２ｒは、図１１に示されていないが、図４及び図５に示された第１リブ部２１１の第１厚みｔ１と同一、あるいは実質的に同一の厚みｔを有することができる。このように、第２リブ部２１２ｒが第１リブ部２１１と同一、あるいは実質的に同一の厚みを有する場合、前述のように、蒸着用マスク２１０の剛性を増大させることができる。
【００９０】
図１２は、図４に示された蒸着用マスク２１０のパターン部２１２の一部に、第１レーザビームＬ2a´が複数回照射される様子を示す図面である。図１２によれば、第１レーザビームＬ2a´は、第１方向に延伸する蛇行形態の経路に沿って、複数回照射される。したがって、第１レーザビームＬ2a´は、照射経路の方向が変化する屈曲点ＩＰで一部が重畳されてもよい。
【００９１】
この場合、第１レーザビームＬ2a´によって形成されるエッチング部２１２ｅは、第１レーザビームＬ2a´が１回照射される第１グルーブＧ１と、第１レーザビームＬ2a´が２回重畳されて照射される第２グルーブＧ２とを含むが、第２グルーブＧ２は、第１グルーブＧ１より１回さらに多く第１レーザビームＬ2a´によってエッチングされるので、第２グルーブＧ２の厚みは、第１グルーブＧ１の厚みより小さい。図面には、エッチング部２１２ｅを１本の実線で描いたが、それは説明の便宜のためであり、図面の第１レーザビームＬ2a´の照射経路に沿って、第１レーザビームＬ2a´を１回以上照射すれば、図４に示されたエッチング部２１２ｅが形成される。
【００９２】
第１レーザビームＬ2a´によって、第１グルーブＧ１と第２グルーブＧ２とを含むエッチング部２１２ｅがこのように形成された後、第２グルーブＧ２には、第２レーザビーム（図示せず）が追加して照射される。第２レーザビームが追加して照射されたエッチング部２１２ｅの第２グルーブＧ２には、複数のパターンホール２１２ｈが形成される。図示されてはいないが、第１レーザビームＬ2a´と第２レーザビームは、それぞれエッチング部２１２ｅとパターンホール２１２ｈとを順次形成するのに使用されるため、照射順序は異なるが、第１レーザビームＬ2a´と第２レーザビームは同一装置から照射されてもよい。
【００９３】
一方、第１レーザビームＬ2a´が照射されていない領域、すなわち、エッチング部２１２ｅを除いたパターン部２１２の残り領域はエッチングされず、パターン部２１２そのままの形態で残存する。このパターン部２１２の残存領域ＲＡは、図４に示された第２リブ部２１２ｒに対応する。そして、第２リブ部２１２ｒは、図１２に示されていないが、図４及び図５に示された第１リブ部２１１の第１厚みｔ１と同一、あるいは実質的に同一の厚みｔを有することができる。このように、第２リブ部２１２ｒが第１リブ部２１１と同一、あるいは実質的に同一の対応する厚みを有する場合、前述のように、蒸着用マスク２１０の剛性を増大させることができる。
【００９４】
図１３は、図９及び図１１に示された第１レーザビームＬ1a，Ｌ2aの照射経路に係わるさらに他の変形例であり、図６に示された蒸着用マスク３１０のパターン部３１２の一部に、第１レーザビームＬ3aが、第１方向、及び第１方向と交差する第２方向に沿って照射される様子を示す図面である。第１方向及び第２方向に沿って照射される第１レーザビームＬ3aにより、パターン部３１２には、それぞれ図６に示される第１エッチング部３１２ｅ＿１と第２エッチング部３１２ｅ＿２とが形成される。ここで、第１エッチング部３１２ｅ＿１と第２エッチング部３１２ｅ＿２は、互いに交差する形態で配列されてもよい。
【００９５】
第１エッチング部３１２ｅ＿１と第２エッチング部３１２＿２とが互いに交差する地点には、第１レーザビームＬ3aが２回重畳されて照射される。換言すると、エッチング部３１２ｅは、第１レーザビームＬ3aが１回照射される連結グルーブＣＧと、第１レーザビームＬ3aが２回重畳されて照射されるパターン溝ＰＭとを含んでもよい。ここで、図１３に示されたパターン溝ＰＭは、図６に示されたパターン溝３１２ｍと同一構成要素である。図面には、エッチング部３１２ｅを１本の実線で表現したが、それは説明の便宜のためであり、図面の連結グルーブＣＧとパターン溝ＰＭは、図６に示されたエッチング部３１２ｅとパターン溝３１２ｍとに対応する。
【００９６】
前述の通りに、第１レーザビームＬ3aによって、第１エッチング部３１２ｅ＿１と第２エッチング部３１２ｅ＿２とを含むエッチング部３１２ｅがパターン部３１２上に形成され、第１エッチング部３１２ｅ＿１と第２エッチング部３１２ｅ＿２とが互いに重畳する地点に、複数のパターン溝ＰＭが形成された後に、複数のパターン溝ＰＭの少なくとも一部に、第２レーザビーム（図示せず）が照射される。第２レーザビームが照射された複数のパターン溝ＰＭの少なくとも一部には、複数のパターンホールＰＨが形成される。
【００９７】
ここで、図１３に示された複数のパターンホールＰＨは、図６のパターンホール３１２ｈと同一構成要素である。複数のパターンホールＰＨと、複数のパターン溝ＰＭは、第１方向及び第２方向に沿って、交互に配置されてもよい。換言すると、複数のパターンホールＰＨとパターン溝ＰＭは、菱形形状の頂点に配置される。
【００９８】
図示されてはいないが、第１レーザビームＬ3aと第２レーザビームは、それぞれエッチング部３１２ｅとパターンホール３１２ｈとを順次形成するのに使用されるため、照射順序は異なるが、第１レーザビームＬ3aと第２レーザビームは同一装置から照射されてもよい。
【００９９】
一方、第１レーザビームＬ3aが照射されていない領域、すなわち、エッチング部３１２ｅを除いたパターン部３１２の残り領域はエッチングされず、パターン部３１２そのままの形態で残存する。このパターン部３１２の残存領域ＲＡは、図６に示された第２リブ部３１２ｒに対応する。そして、第２リブ部３１２ｒは、図１３に示されていないが、図６ないし図８に示された第１リブ部３１１の第１厚みｔ１と同一、あるいは実質的に同一の厚みｔを有することができる。このように、第２リブ部３１２ｒが第１リブ部３１１と同一、あるいは実質的に同一の厚みを有する場合、前述のように、蒸着用マスク３１０の剛性を増大させることができる。
【０１００】
以下では、蒸着用マスク１１０、２１０、３１０を用いて表示装置を製造するための製造装置１００、及び表示装置の製造方法を説明する。図１４を参考すれば、表示装置の製造装置１００は、蒸着用マスク組立体ＭＡと、チャンバ１２０と、第１支持部１３０と、第２支持部１４０と、撮像部１５０と、蒸発源１６０と、圧力調節部１７０とを含んでもよい。
【０１０１】
蒸着用マスク組立体ＭＡは、フレームＦと、蒸着用マスク１１０と、支持スティックＳＳとを含んでもよい。
【０１０２】
フレームＦは複数のフレームを含んでもよい。複数のフレームは、格子状または四角形に構成されてもよく、額縁のように、中間に空孔を持つように構成されてもよい。
【０１０３】
すなわち、フレームＦは、蒸着物質が通過する領域を定義することができる。フレームＦの上面には、第２方向に沿って、複数の蒸着用マスク１１０が配置されて固定される。特に、蒸着用マスク１１０は、第１方向に沿って引っ張り力が加えられた状態で、フレームＦに結合されてもよい。このように、フレームＦと蒸着用マスク１１０は互いに結合されるが、本発明の実施形態はそれに限定されるものではなく、フレームＦと蒸着用マスク１１０は、一体に形成されてもよい。
【０１０４】
図１４に示された蒸着用マスク１１０は、図１、図２、図４及び図６を参照して説明した本発明の多様な実施形態による蒸着用マスク１１０、２１０、３１０のうちいずれか一つでもある。従って、ここでは、蒸着用マスク１１０、２１０、３１０に係わる詳細な説明は省略し、また、蒸着用マスク１１０、２１０、３１０の構造と、これらの構造によって得ることができる効果については、図１ないし図８を参照して説明した内容をそのまま援用する。
【０１０５】
蒸着用マスク組立体ＭＡは、前記の構成以外にも、フレームＦに設けられ、蒸着用マスク１１０を支持する支持スティックＳＳをさらに含んでもよい。このとき、支持スティックＳＳは、フレームＦの長辺及び短辺のうち少なくとも１つの辺と平行になるようにフレームＦに設けられてもよい。また、支持スティックＳＳは、フレームＦの内部空間に配置されてもよい。支持スティックＳＳのうち一部は、隣接する蒸着用マスク１１０間に蒸着用マスク１１０の長手方向に配列するように配置され、隣接する蒸着用マスク１１０へ蒸着物質飛翔することを防止することができる。
【０１０６】
チャンバ１２０は、内部に空間が形成され、一部が開口されるように形成される。チャンバ１２０の開口された部分には、ゲート弁１２０ａが設けられ、チャンバ１２０の開口された部分を選択的に開閉することができる。
【０１０７】
第１支持部１３０は、表示基板Ｓを支持することができる。このとき、第１支持部１３０は、表示基板Ｓを多様な方式で支持することができる。例えば、第１支持部１３０は、静電チャックまたは粘着チャックを含んでもよい。または、第１支持部１３０は、表示基板Ｓの一部を支持するブラケットやクランプなどを含んでもよい。第１支持部１３０は、前述した構成に限定されるものではなく、表示基板Ｓを支持することができる任意の機構を含んでもよい。以下では、説明の便宜のために、第１支持部１３０が静電チャックまたは粘着チャックを含む場合を中心に詳細に説明する。
【０１０８】
第２支持部１４０には、蒸着用マスク組立体ＭＡが載置されて支持されてもよい。第２支持部１４０は、蒸着用マスク組立体ＭＡを互いに異なる少なくとも２つ以上の方向に微細調整することができる。例えば、第２支持部１４０は、第１方向及び第２方向に沿って、蒸着用マスク組立体ＭＡの位置を調整することができる。
【０１０９】
撮像部１５０は、表示基板Ｓ及び蒸着用マスク組立体ＭＡを撮影し、これによってこれらの位置を確認することができる。このとき、撮像部１５０で撮影されたイメージを基に、表示基板Ｓ及び蒸着用マスク組立体ＭＡのうち少なくとも一つを動かし、表示基板Ｓと蒸着用マスク組立体ＭＡとを整列することができる。
【０１１０】
蒸発源１６０の内部には、蒸着物質が保存されてもよい。蒸発源１６０はヒータ１６０ａを具備することができ、ヒータ１６０ａで加えられる熱によって、蒸着物質が蒸発、あるいは昇華することができる。
【０１１１】
蒸発源１６０は、多様な形態で形成されてもよい。例えば、蒸発源１６０は、蒸着物質が吐出される吐出部が円形に形成される、点蒸発源の形態を有していてもよい。また、蒸発源１６０が長く形成され、吐出部が複数形成されるか、あるいは長孔形状で形成される、線蒸発源の形態を有していてもよい。以下では、説明の便宜のために、蒸発源１６０が蒸着用マスク組立体ＭＡの一点に対向するように配置される、点蒸発源の形態の場合を中心に詳細に説明する。
【０１１２】
圧力調節部１７０はチャンバ１２０と連結され、チャンバ１２０内部の圧力が、大気圧または真空に近い圧力になるように調節することができる。圧力調節部１７０は、チャンバ１２０と連結される連結配管１７１と、連結配管１７１に配置される圧力調節ポンプ１７２とを含んでもよい。
【０１１３】
前述のような表示装置の製造装置１００を用い、表示基板Ｓを含む表示装置を製造することができる。
【０１１４】
圧力調節部１７０によってチャンバ１２０内部を大気圧状態に維持し、ゲート弁１２０ａが開放された後、表示基板Ｓ及び蒸着用マスク組立体ＭＡがチャンバ１２０内部に挿入される。このとき、チャンバ１２０の内部または外部には、別途のロボットアーム、シャトルなどが搭載され、これにより、表示基板Ｓ及び蒸着用マスク組立体ＭＡを移送させることができる。
【０１１５】
前述の過程が完了した後、圧力調節部１７０は、チャンバ１２０内部をほぼ真空に近い状態に維持する。また、撮像部１５０は、表示基板Ｓ及び蒸着用マスク組立体ＭＡを撮影し、第１支持部１３０及び第２支持部１４０を微細駆動することで表示基板Ｓ及び蒸着用マスク組立体ＭＡのうち少なくとも一つの位置を微細調整し、表示基板Ｓ及び蒸着用マスク組立体ＭＡを整列することができる。
【０１１６】
次に、ヒータ１６０ａが作動し、蒸発源１６０から蒸着物質を、蒸着用マスク組立体ＭＡに向かう方向に噴射させる。蒸着用マスク組立体ＭＡを通過した蒸着物質は、表示基板Ｓ上に一定パターンに蒸着される。
【０１１７】
前述の工程が進められる間、蒸発源１６０及び表示基板Ｓのうち少なくとも一つは、線形運動を行うことができる。他の実施形態として、蒸発源１６０及び表示基板Ｓは、いずれも停止した状態で蒸着が行われることも可能である。以下では、説明の便宜のために、蒸発源１６０及び表示基板Ｓがいずれも停止した状態で蒸着が行われる場合を中心に詳細に説明する。
【０１１８】
図１５は、図１４に示された表示装置の製造装置１００を利用して製造された表示装置２０を示する平面図であり、図１６は、図１５のＶ−Ｖ´線に沿った断面図である。
【０１１９】
図１５及び図１６を参考すれば、表示装置２０は、基板２１上に、表示領域ＤＡと、表示領域ＤＡの外郭に配置される非表示領域ＮＤＡとを含む。表示領域ＤＡには、発光部（図示せず）が配置され、非表示領域ＮＤＡには、電源配線（図示せず）などが配置される。また、非表示領域ＮＤＡには、パッド部Ｃが配置されてもよい。
【０１２０】
表示装置２０は、表示基板Ｄ、中間層２８ｂ、対向電極２８ｃ及び封止層（図示せず）を含んでもよい。このとき、表示基板Ｄは、基板２１、バッファ層２２、薄膜トランジスタＴＦＴ、パッシベーション膜２７、画素電極２８ａ及び画素定義膜２９を含んでもよい。また、封止部は、基板２１と同一または類似した封止基板（図示せず）、または薄膜封止層Ｅを含んでもよい。封止部が封止基板を含む場合、基板２１と封止基板との間には、別途のシーリング部材（図示せず）が配置されてもよい。以下では、説明の便宜のために、封止部が薄膜封止層Ｅを含む場合を中心に詳細に説明する。
【０１２１】
基板２１には、プラスチック材を使用することができ、ＳＵＳ、Ｔｉのような金属材を使用することもできる。また、基板２１には、ポリイミド（ＰＩ：polyimide）を使用することができる。以下では、説明の便宜のために、基板２１がポリイミドから形成される場合を中心に詳細に説明する。
【０１２２】
基板２１上に、発光部が形成される。このとき、発光部には、薄膜トランジスタＴＦＴが設けられされ、それらを覆うように、パッシベーション膜２７が形成され、パッシベーション膜２７上に、有機発光素子（ＯＬＥＤ）２８が形成される。
【０１２３】
基板２１の上面には、有機化合物及び／または無機化合物からなるバッファ層２２がさらに形成される。バッファ層２２はＳｉＯx（ｘ≧１）、ＳｉＮx（ｘ≧１）から形成されてもよい。
【０１２４】
バッファ層２２上に、所定のパターンに配列された活性層２３が形成された後、活性層２３が、ゲート絶縁層２４によって埋め込まれる。活性層２３は、ソース領域２３ａとドレイン領域２３ｃとを有し、その間にチャネル領域２３ｂをさらに含む。
【０１２５】
活性層２３は、多様な物質を含むように形成される。例えば、活性層２３は、非晶質シリコンまたは結晶質シリコンのような１４族元素の半導体物質を含んでもよい。他の例として、活性層２３は、酸化物半導体を含んでもよい。さらに他の例として、活性層２３は、有機半導体物質を含んでもよい。以下では、説明の便宜のために、活性層２３が非晶質シリコンから形成される場合を中心に詳細に説明する。
【０１２６】
活性層２３は、バッファ層２２上に非晶質シリコン膜を形成した後、それを結晶化させ、多結晶質シリコン膜に変換し、多結晶質シリコン膜をパターニングして形成することができる。活性層２３は、駆動ＴＦＴ、スイッチングＴＦＴ（図示せず）など、ＴＦＴの極性に応じて、そのソース領域２３ａ及びドレイン領域２３ｃが不純物によってドーピングされる。
【０１２７】
ゲート絶縁層２４の上面には、活性層２３と重なるゲート電極２５と、それを埋め込む層間絶縁層２６とが形成される。
【０１２８】
そして、層間絶縁層２６及びゲート絶縁層２４にコンタクトホールＨ１を形成した後、層間絶縁層２６上に、ソース電極２７ａ及びドレイン電極２７ｂを、それぞれソース領域２３ａ及びドレイン領域２３ｃにコンタクトされるように形成する。
【０１２９】
このように形成された薄膜トランジスタの上には、パッシベーション膜２７が形成され、パッシベーション膜２７上に、有機発光素子２８の画素電極２８ａが形成される。画素電極２８ａは、パッシベーション膜２７に形成されたビアホールＨ２によって、ＴＦＴのドレイン電極２７ｂにコンタクトされる。パッシベーション膜２７は、無機物及び／または有機物を用いて、単層または２層以上の構造を有するように形成される。また、パッシベーション膜２７は、その下に存在する膜に起因する凹凸に係わらず、上面が平坦になるように形成してもよく、下に位置した膜の凹凸に対応する凹凸を有するように形成されてもよい。パッシベーション膜２７は、有機発光素子２８からの発光に対して共振効果を示すように、透明絶縁体から形成されることが望ましい。
【０１３０】
パッシベーション膜２７上に画素電極２８ａを形成した後には、画素電極２８ａ及びパッシベーション膜２７を覆うように、画素定義膜２９が有機物及び／または無機物によって形成され、画素電極２８ａが露出されるように画素定義膜２９が開口される。
【０１３１】
そして、少なくとも画素電極２８ａ上に、中間層２８ｂ及び対向電極２８ｃが形成される。
【０１３２】
画素電極２８ａは、アノード電極の機能を有し、対向電極２８ｃは、カソード電極の機能を有するが、画素電極２８ａと対向電極２８ｃとの極性は、反対であってもよい。
【０１３３】
画素電極２８ａと対向電極２８ｃは、中間層２８ｂによって互いに離間されており、中間層２８ｂに互いに異なる極性の電圧を加えることで、中間層２８ｂに含まれる有機発光層が発光する。
【０１３４】
中間層２８ｂは、有機発光層（organic emission layer）を含むことができる。他の例として、中間層２８ｂは、有機発光層とともに、正孔注入層（ＨＩＬ：hole injection layer）、正孔輸送層（hole transport layer）、電子輸送層（electron transport layer）及び電子注入層（electron injection layer）のうち少なくとも１層をさらに含むことができる。本実施形態は、上記構造に限定されるものではなく、中間層２８ｂは有機発光層を有し、その他多様な機能層（図示せず）をさらに含むこともできる。
【０１３５】
このとき、中間層２８ｂは、図１４を参照して説明した表示装置の製造装置１００を用いて形成されてもよい。
【０１３６】
１つの単位画素は、複数の副画素からなるが、複数の副画素は、多様な色の光を放出することができる。例えば、複数の副画素は、それぞれ赤色、緑色及び青色の光を放出する副画素を備えることができ、赤色、緑色、青色及び白色の光を放出する副画素（図示せず）を備えることもできる。
【０１３７】
前述のような薄膜封止層Ｅは、複数の無機層を含んでもよく、あるいは無機層及び有機層を含んでもよい。
【０１３８】
薄膜封止層Ｅの有機層は、高分子によって形成され、望ましくは、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、ポリエチレン及びポリアクリレートのうちいずれか一つによって形成される単一膜または積層膜である。さらに望ましくは、有機層は、ポリアクリレートから形成されてもよく、具体的には、ジアクリレート系モノマーとトリアクリレート系モノマーとを含むモノマー組成物が高分子化されたものを含んでもよい。モノマー組成物に、モノアクリレート系モノマーがさらに含まれてもよい。また、モノマー組成物に、ＴＰＯのような公知の光開始剤がさらに含まれてもよいが、本実施形態はこのような態様に限定されるものではない。
【０１３９】
薄膜封止層Ｅの無機層は、金属酸化物または金属チッ化物を含む単一膜または積層膜でもある。具体的に、無機層は、ＳｉＮx、Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2のうちいずれか一つを含んでもよい。
【０１４０】
薄膜封止層Ｅのうち、外部に露出された最上層は、有機発光素子への水の侵入を防止するために、無機層から形成されてもよい。
【０１４１】
薄膜封止層Ｅは、少なくとも２層の無機層間に、少なくとも１層の有機層が挿入されたサンドイッチ構造を少なくとも一つ含んでもよい。他の例として、薄膜封止層Ｅは、少なくとも２層の有機層間に、少なくとも１層の無機層が挿入されたサンドイッチ構造を少なくとも一つ含んでもよい。さらに他の例として、薄膜封止層Ｅは、少なくとも２層の無機層間に、少なくとも１層の有機層が挿入されたサンドイッチ構造、及び少なくとも２層の有機層間に、少なくとも１層の無機層が挿入されたサンドイッチ構造を含んでもよい。
【０１４２】
薄膜封止層Ｅは、有機発光素子（ＯＬＥＤ）側から順に、第１無機層、第１有機層、第２無機層を含んでもよい。
【０１４３】
他の例として、薄膜封止層Ｅは、有機発光素子（ＯＬＥＤ）側から順に、第１無機層、第１有機層、第２無機層、第２有機層、第３無機層を含んでもよい。
【０１４４】
さらに他の例として、薄膜封止層Ｅは、有機発光素子（ＯＬＥＤ）側から順に、第１無機層、第１有機層、第２無機層、第２有機層、第３無機層、第３有機層、第４無機層を含んでもよい。
【０１４５】
有機発光素子（ＯＬＥＤ）と第１無機層との間に、ＬｉＦを含むハロゲン化金属層が追加して含まれてもよい。ハロゲン化金属層は、第１無機層をスパッタリング方式で形成するとき、有機発光素子（ＯＬＥＤ）の損傷を防止することができる。
【０１４６】
第１有機層は、第２無機層より面積を狭くすることができ、第２有機層も、第３無機層より面積を狭く形成することができる。
【０１４７】
従って、表示装置２０は、精密なパターンを形成する中間層２８ｂを有し、中間層２８ｂが正確な位置に蒸着されて形成されることにより、精密なイメージを与えることが可能である。また、表示装置２０は、反復的に中間層２８ｂを蒸着する場合でも、同一のパターンで中間層２８ｂを形成することにより、均一な品質を示す。
【０１４８】
以上、本発明は、図面に示された一実施形態を参照して説明したが、それは例示的なものに過ぎず、当該分野の当業者であるならば、この実施形態から多様な変形が可能であるという点を理解するであろう。従って、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって決定される。
【産業上の利用可能性】
【０１４９】
本発明の蒸着用マスク、その製造方法、及び表示装置の製造方法は、例えば、表示装置関連の技術分野に効果的に適用可能である。
【符号の説明】
【０１５０】
２０    表示装置
２１    基板
２２    バッファ層
２３    活性層
２３ａ    ソース領域
２３ｂ    チャネル領域
２３ｃ    ドレイン領域
２４    ゲート絶縁層
２５    ゲート電極
２６    層間絶縁層
２７    パッシベーション膜
２７ａ    ソース電極
２７ｂ    ドレイン電極
２８    有機発光素子
２８ａ    画素電極
２８ｂ    中間層
２８ｃ    対向電極
２９    画素定義膜
１００    表示装置の製造装置
１１０    蒸着用マスク
１１１    第１リブ部
１１２    パターン部
１１２ｅ    エッチング部
１１２ｈ    パターンホール
１１２ｒ    第２リブ部
１２０    チャンバ
１２０ａ    ゲート弁
１３０    第１支持部
１４０    第２支持部
１５０    撮像部
１６０    蒸発源
１６０ａ    ヒータ
１７０    圧力調節部
１７１    連結配管
１７２    圧力調節ポンプ
２１０    蒸着用マスク
２１１    第１リブ部
２１２    パターン部
２１２ｅ    エッチング部
２１２ｈ    パターンホール
２１２ｒ    第２リブ部
２１２ｒ    第２リブ
３１０    蒸着用マスク
３１１    第１リブ部
３１２    第２エッチング部
３１２    パターン部
３１２ｅ    第２エッチング部
３１２ｅ    第１エッチング部
３１２ｅ    エッチング部
３１２ｈ    パターンホール
３１２ｍ    パターン溝
３１２ｒ    第２リブ部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
2018083985.tif 000015
【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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