(57)【要約】【課題】基板を静電チャックから円滑に取り外すことを目的とする。【解決手段】載置台の上の基板を静電吸着により保持する静電チャックと、圧力制御されたガスをイオン化させ、イオン化ガスを発生するイオン化ガス発生部と、絶縁材から形成され又は内側表面が絶縁処理され、発生した前記イオン化ガスを通過させるガス供給通路と、、発生した前記イオン化ガスを通過させるガス供給通路と、前記通過したイオン化ガスを、前記基板と前記静電チャックとの隙間に供給するガス供給管と、前記載置台の内部に設けられ、前記隙間に供給したガスを排気するガス排気通路と、を有する基板処理装置が提供される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
載置台の上の基板を静電吸着により保持する静電チャックと、
圧力制御されたガスをイオン化させ、イオン化ガスを発生するイオン化ガス発生部と、
絶縁材から形成され又は内側表面が絶縁処理され、発生した前記イオン化ガスを通過させるガス供給通路と、
前記通過したイオン化ガスを、前記基板と前記静電チャックとの隙間に供給するガス供給管と、
前記載置台の内部に設けられ、前記隙間に供給したガスを排気するガス排気通路と、
を有する基板処理装置。
【請求項２】
前記静電チャックは、前記基板と接触する複数の突起部を表面に有する、
請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記複数の突起部の配置は、同心円状、格子状、インボリュート曲線形状、放射状又はランダム形状のいずれかである、
請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
イオン化させる前記ガスは、酸素含有ガスである、
請求項１〜３のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項５】
イオン化させる前記ガスは、希ガスである、
請求項１〜３のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記ガス供給通路は、絶縁物から形成される、
請求項１〜５のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記絶縁物は、セラミックから形成される、
請求項６に記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記セラミックは、アルミナ、イットリア、ジルコニア、窒化珪素、炭化珪素、窒化アルミニウムのいずれかである、
請求項７に記載の基板処理装置。
【請求項９】
前記イオン化ガス発生部は、ＣＣＰ（Capacitively Coupled Plasma）、ＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma）、マイクロ波プラズマ及び直流（ＤＣ）放電によるプラズマのいずれかにより、ガスをイオン化させる、
請求項１〜８のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項１０】
前記イオン化ガス発生部は、前記圧力制御されたガスと非接触にイオン化ガスを発生させる、
請求項１〜９のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項１１】
前記基板を囲むように前記載置台の上に設けられたフォーカスリングと、
前記フォーカスリングの外周面を囲むように配置される環状部材とを有し、
前記環状部材は、絶縁体から形成されている、
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項１２】
載置台の上の基板を、静電吸着により保持する静電チャックから取り外す基板取り外し方法であって、
圧力制御されたガスをイオン化ガス発生部によりイオン化し、イオン化ガスを発生し、
絶縁材から形成され又は内側表面が絶縁処理されたガス供給通路に、発生した前記イオン化ガスを通過させ、
前記通過したイオン化ガスを、前記基板と前記静電チャックとの隙間に供給し、
前記隙間に供給したガスを、前記載置台の内部に設けられたガス排気通路から排気し、
前記載置台の上の基板を前記静電チャックから取り外す、
基板取り外し方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板処理装置及び基板取り外し方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマ処理後に静電チャックの電極に印加する電圧をオフした後、印加していた電圧と正負が逆の電圧を該電極に印加し、基板の裏面の残留電荷をプラズマ放電により除電し、静電チャックから基板を取り外す手法が提案されている。
【０００３】
また、基板と基板を載置する載置台との隙間に冷却用ガスを供給し、供給した冷却用ガスの圧力を測定し、隙間から漏れる冷却用ガスの量を検出して、検出結果に応じて冷却用ガスの圧力を調節しながら、基板を取り外す手法が提案されている（例えば、特許文献１を参照）。
【０００４】
また、基板を円滑に取り外す方法として超音波を印加する手法が提案されている（例えば、特許文献２を参照）。さらに、真空チャンバの側面にＵＶ光照射装置を取り付け、チャンバに流したガスをイオン化し、基板及び静電チャックの全体にイオン化ガスを流す手法が提案されている（例えば、特許文献３を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−２８２６９１号公報
【特許文献２】特開平１１−０５４６０４号公報
【特許文献３】特開平０９−２６０４７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、冷却用ガスの圧力上昇に伴い、静電吸着力を大きくした静電チャックでは、逆電圧の印加とプラズマ放電による残留電荷の除電や特許文献１の手法では、基板や静電チャック表面の誘電体、デポ膜に電荷が残留していることがある。この状態で、基板を載置台から取り外すと基板に負荷が加わり、位置ずれが発生したり、基板が割れてしまうことがある。
【０００７】
また、特許文献２の手法では、超音波印加時に基板が振動してゴミが発生し、基板に堆積して基板処理に悪影響を与えたり、静電チャックの表面にゴミが残留し、静電吸着エラーを起こす懸念がある。
【０００８】
さらに、残留電荷は、静電チャックの誘電体及び基板に存在するため、特許文献３の手法では、イオン化ガスの供給が直接的でなく、除電効率が悪く、その結果、基板の取り外しにかかる時間が長くなる懸念がある。
【０００９】
上記課題に対して、一側面では、本発明は、基板を静電チャックから円滑に取り外すことを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、一の態様によれば、載置台の上の基板を静電吸着により保持する静電チャックと、圧力制御されたガスをイオン化させ、イオン化ガスを発生するイオン化ガス発生部と、絶縁材から形成され又は内側表面が絶縁処理され、発生した前記イオン化ガスを通過させるガス供給通路と、
、発生した前記イオン化ガスを通過させるガス供給通路と、前記通過したイオン化ガスを、前記基板と前記静電チャックとの隙間に供給するガス供給管と、前記載置台の内部に設けられ、前記隙間に供給したガスを排気するガス排気通路と、を有する基板処理装置が提供される。
【発明の効果】
【００１１】
一の側面によれば、基板を静電チャックから円滑に取り外すことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】一実施形態に係る基板処理装置の一例を示す図。
【図２】一実施形態に係るウェハと静電チャックの界面の状態を説明するための図。
【図３】一実施形態に係る静電チャックの上面及びその周辺の構成例を示す図。
【図４】従来の基板取り外し処理の一例を示すフローチャート。
【図５】一実施形態に係る基板取り外し処理の一例を示すフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の構成については、同一の符号を付することにより重複した説明を省く。
【００１４】
［基板処理装置の全体構成］
まず、基板処理装置１の一例について、図１を参照しながら説明する。本実施形態にかかる基板処理装置１は、容量結合型の平行平板基板処理装置であり、略円筒形の処理容器１０を有している。処理容器１０の内面には、アルマイト処理（陽極酸化処理）が施されている。処理容器１０の内部は、プラズマによりエッチング処理や成膜処理等のプラズマ処理が行われる処理室となっている。
【００１５】
載置台２０は、基板の一例であるウェハＷを載置する。載置台２０は、基台（ベース）２０ａ及び静電チャック２１を含む。基台２０ａは、導電性の金属、例えばアルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）等で構成されており、下部電極としての機能を有する。静電チャック２１は、ウェハＷを静電吸着するための機能を有する。載置台２０は、絶縁板２２を介して導体の支持台２３に支持されている。また、載置台２０の上部の外周には、ウェハＷを囲むように、例えば単結晶シリコンで形成されたフォーカスリング２５が設けられている。さらに、載置台２０、支持台２３及びフォーカスリング２５の外周面を囲むように、例えば石英等からなる円筒状のインシュレータリング２６が設けられている。
【００１６】
基台２０ａには、第１の整合器３３を介して第１のＲＦ電源３２が接続され、また、第２の整合器３５を介して第２のＲＦ電源３４が接続されている。第１のＲＦ電源３２は、プラズマ発生用のものであり、第１のＲＦ電源３２からは所定の周波数の高周波電力が載置台２０の基台２０ａに供給されるようになっている。また、第２のＲＦ電源３４は、イオン引き込み用（バイアス用）のものであり、第２のＲＦ電源３４からは第１のＲＦ電源３２より低い所定周波数の高周波電力が載置台２０の基台２０ａに供給されるように構成されている。
【００１７】
載置台２０の上方には、載置台２０と平行に対向するように、上部電極としての機能を有するガスシャワーヘッド４０が設けられており、ガスシャワーヘッド４０と載置台２０は、一対の電極（上部電極と下部電極）として機能する。なお、本実施形態では、第１のＲＦ電源３２から出力されるプラズマ発生用の高周波電力を、載置台２０の基台２０ａに印加するが、これに限らず、ガスシャワーヘッド４０に印加してもよい。
【００１８】
静電チャック２１は、絶縁体２１ｂの間に吸着電極２１ａを介在させた構造を有し、電極２１ａには直流電源１１２が接続されている。そして吸着電極２１ａに直流電源１１２から直流電圧が印加されることにより、ウェハＷが静電チャック２１に静電吸着される。
【００１９】
載置台２０の内部には、冷媒流路２４ａが形成されており、冷媒流路２４ａには、冷媒入口配管２４ｂ、冷媒出口配管２４ｃが接続されている。冷媒流路２４ａの中に例えば冷却水等の冷媒を循環させることによって、載置台２０を所定の温度に制御する。
【００２０】
また、ウェハＷの裏面に所定のガスを供給するためにガス供給管１６ａ，１６ｂ、及び載置台２０を貫通するガス供給通路１６ｃが設けられている。ガス供給管１６ａ，１６ｂは、イオン化ガス発生部１２に接続されている。ガス供給通路１６ｃは、絶縁材から形成されるか、内側表面が絶縁処理されている。プラズマ処理中、ガス供給源３０から供給されたヘリウムガス等の冷却用ガス（バックサイドガス）は、圧力制御部１１に入力され、所定の圧力に制御される。圧力制御されたガスは、ガス供給管１６ａを通過し、イオン化ガス発生部１２を通り、ガス供給管１６ｂ及びガス供給通路１６ｃを通過して、ウェハＷと静電チャック２１の隙間に供給される。
【００２１】
また、プラズマ処理後、ガス供給源３０から供給されたヘリウムガス等のイオン化用ガスは、圧力制御部１１に入力され、所定の圧力に制御される。圧力制御されたガスは、ガス供給管１６ａを通過し、イオン化ガス発生部１２にてイオン化され、これにより、イオン化ガスが発生する。イオン化ガスは、絶縁材に形成されたガス供給通路１３を通り、ガス供給管１６ｂ及びガス供給通路１６ｃを通過して、ウェハＷと静電チャック２１の隙間に供給される。
【００２２】
該隙間に供給された冷却用ガス及びイオン化ガスは、載置台２０の内部に設けられ、前記隙間に供給したガスを排気するガス排気通路１７を通って、ガス排気通路１７に接続される排気装置６５により排気される。
【００２３】
載置台２０には、複数、例えば３つのリフトピン１０３（ここでは２つのみ示す）が配設されている。図１には、２つのリフトピン１０３のみが図示されている。リフトピン１０３は、駆動部１０４に接続され、駆動部１０４により上下動される。
【００２４】
ガスシャワーヘッド４０は、本体部４０ａ及び天板４０ｂを有し、処理容器１０の天壁部分に設けられている。ガスシャワーヘッド４０は、絶縁性部材４１を介して処理容器１０に支持される。本体部４０ａは、導電性材料、例えば表面が陽極酸化処理されたアルミニウムからなり、その下部に天板４０ｂを着脱自在に支持できるように構成されている。
【００２５】
本体部４０ａの内部には、中央側のガス拡散室５０ａ及び外周側のガス拡散室５０ｂが設けられている。各ガス拡散室５０ａ、５０ｂの下部の天板４０ｂには、処理容器１０側に開口する多数のガス孔５５が形成されている。
【００２６】
本体部４０ａには、ガス拡散室５０ａ、５０ｂへ処理ガスを導入するためのガス導入口４５が形成されている。ガス導入口４５にはガス供給配管４６が接続されており、ガス供給配管４６の他端には、ガス供給源３０が接続される。ガス供給源３０からプラズマエッチング等の所定の処理ガスが、ガス供給配管４６を介してガス拡散室５０ａ、５０ｂに供給される。ガス拡散室５０ａ、５０ｂにて拡散された処理ガスは、ガス孔５５を介して処理容器１０内にシャワー状に分散して供給される。
【００２７】
ガスシャワーヘッド４０には、ローパスフィルタ（ＬＰＦ）７１を介して可変直流電源７０が電気的に接続されている。可変直流電源７０は、オン・オフスイッチ７２により給電のオン・オフが可能に構成されている。可変直流電源７０の電流ならびにオン・オフスイッチ７２のオン・オフは、制御部１００によって制御される。なお、第１のＲＦ電源３２及び第２のＲＦ電源３４から高周波が載置台２０に印加されて処理空間にプラズマが発生する際には、必要に応じて制御部１００によりオン・オフスイッチ７２がオンとされる。これにより、上部電極としてのガスシャワーヘッド４０に所定の直流電圧が印加される。
【００２８】
処理容器１０の底部には、排気管６０が形成されており、排気管６０を介して排気装置６５が接続されている。排気装置６５は、真空ポンプを有しており、この真空ポンプを作動させることにより処理容器１０内を所定の真空度まで減圧する。一方、処理容器１０内の側壁には、ウェハＷの搬入出口６７が設けられており、この搬入出口６７には、当該搬入出口６７を開閉するゲートバルブ６８が設けられている。
【００２９】
基板処理装置１は、制御部１００によって、その動作が制御される。制御部１００には、ＣＰＵと、メモリと、ユーザインターフェースとが設けられている。ユーザインターフェースは、工程管理者が基板処理装置１を管理するためにコマンドの入力操作を行うキーボードや、基板処理装置１の稼働状況を可視化して表示するディスプレイ等から構成されている。
【００３０】
メモリには、ＣＰＵの制御にて実現するための制御プログラム（ソフトウェア）や処理条件データ等が記憶されたレシピが格納されている。また、制御プログラムや処理条件データ等のレシピは、コンピュータで読取り可能なコンピュータ記憶媒体（例えば、ハードディスク、ＣＤ、フレキシブルディスク、半導体メモリ等）などに格納された状態のものを利用してもよい。制御プログラムや処理条件データ等のレシピは、他の装置から、例えば専用回線を介して随時伝送させてオンラインで使用することも可能である。
【００３１】
ウェハＷの搬送時には、ゲートバルブ６８が開き、搬入出口６７からウェハＷが処理容器１０に搬入されると、リフトピン１０３が上昇し、ウェハＷはアームからリフトピン１０３に受け渡され、リフトピン１０３に支持される。リフトピン１０３は、駆動部１０４の駆動により上下動する。リフトピン１０３が下降し、ウェハＷが載置台２０に載置されると、直流電源１１２から吸着電極２１ａに直流電圧が印加され、ウェハＷが静電チャック２１に吸着され、保持される。
【００３２】
ガス供給源３０から処理容器１０内に処理ガスが供給される。第１のＲＦ電源３２から載置台２０にプラズマ生成用の高周波の電力が印加され、第２のＲＦ電源３４から載置台２０にイオンの引き込み用の高周波の電力が印加される。これにより、ウェハＷの上方に生成されたプラズマの作用とイオンの引き込みによりウェハＷに所定のプラズマ処理が施される。
【００３３】
プラズマ処理後、直流電源１１２から吸着電極２１ａへの直流電圧の印加が停止され、イオン化ガスをウェハＷと静電チャック２１との間の隙間に供給することで、除電が行われる。除電後、ウェハＷは、静電チャック２１から円滑かつ安全に剥がされ、リフトピン１０３の上昇によりリフトピン１０３に支持される。ゲートバルブ６８が開き、リフトピン１０３からアームへ受け渡されたウェハＷは、搬入出口６７から搬出される。
【００３４】
［残留電荷］
図２の右側は、左側に示す一実施形態に係るウェハＷと静電チャック２１の界面の状態を拡大した図である。ウェハＷと静電チャック２１の界面には、静電チャック２１表面のドット状に形成された凹凸により隙間があり、イオン化ガスが流れる空間となっている。
【００３５】
プラズマ処理終了後、静電チャック２１の吸着電極２１ａに印加する電圧をオフしても、静電チャック２１及び静電チャック２１や、その表面に付着した付着物に電荷が残留していることがある。この状態でウェハＷを取り外そうとすると、残留電荷によりウェハＷに負荷が加わり、位置ずれが発生したり、ウェハＷが割れてしまったりする。
【００３６】
これに対して、本実施形態にかかる基板処理装置１は、イオン化ガス発生部１２から発生したイオン化ガスをウェハＷと静電チャック２１の隙間に流す。図２に示すように、イオン化ガスの供給孔及びイオン化ガスの排気孔は、ドット間の凹みに設けられる方が好ましい。ドット間の凹みからイオン化ガスがウェハＷの裏面の全面に均一に行き渡り、また、イオン化ガスの排気がし易いためである。これにより、ウェハＷの裏面の全面に均一に行き渡ったイオン化ガスの作用によって、残留電荷を除去し、ウェハＷの取り外しをスムーズに行うことができる。
【００３７】
静電チャック２１は、ウェハＷと接触する複数の突起部を表面に有してもよい。本実施形態では、複数の突起部は、ドット状であり、複数の突起の配置は、同心円状、格子状、インボリュート曲線形状、放射状又はランダム形状のいずれかであってもよい。
【００３８】
［イオン化ガス供給システム］
次に、本実施形態にかかる基板処理装置１が有するイオン化ガス供給システムについて、詳しく説明する。イオン化ガス供給システムは、圧力制御部１１、イオン化ガス発生部１２、ガス供給管１６ａ，１６ｂ、ガス供給通路１６ｃ及びガス排気通路１７を有する。
【００３９】
圧力制御部１１は、冷却用ガス及びイオン化用ガスの圧力を制御する。ウェハＷをプラズマ処理中、圧力制御部１１には、ガス供給源３０からヘリウムガス（Ｈｅ）等の冷却用ガスが供給される。冷却用ガスは、圧力制御部１１にて圧力制御され、ガス供給管１６ａ，イオン化ガス発生部１２内の絶縁材のガス供給通路１３、ガス供給管１６ｂ及びガス供給通路１６ｃを通って、ウェハＷの裏面に供給され、ウェハＷと静電チャック２１の隙間に充填される。このとき、イオン化ガス発生部１２のＲＦ電源１５はオフし、絶縁材に巻かれているＩＣＰ(ＩＣＰ:Inductively Coupled Plasma)コイル１４に電流は流れない。よって、プラズマ処理中、ガス供給通路１３を通る冷却用ガスは、イオン化されず、そのままガス供給管１６ｂ及びガス供給通路１６ｃを通って、ウェハＷの裏面に供給され、ウェハＷの温度調整に寄与する。ウェハＷの裏面に供給された冷却用ガスは、ガス排気通路１７を通って排気装置６５から排気される。
【００４０】
ウェハＷをプラズマ処理後、ガス供給源３０は冷却用ガスの供給が停止し、圧力制御部１１は、冷却用ガスを排気する。その後、圧力制御部１１には、ガス供給源３０から例えば、ヘリウムガス、アルゴン（Ａｒ）ガス及び酸素（Ｏ２）ガス等の酸素含有ガスがイオン化用ガスとして供給される。イオン化用ガスは希ガスであり得る。ただし、冷却用ガスとイオン化用ガスが、同一ガスの場合、ガス供給源３０はそのまま同一ガスを供給し、圧力制御部１１はガスを排気する必要はない。
【００４１】
イオン化用ガスは、圧力制御部１１にて圧力制御され、ガス供給管１６ａ，絶縁材のガス供給通路１３、ガス供給管１６ｂ及びガス供給通路１６ｃを通って、ウェハＷの裏面に供給され、ウェハＷと静電チャック２１の隙間に充填される。このとき、イオン化ガス発生部１２のＲＦ電源１５はオンし、絶縁材に巻かれているＩＣＰコイル１４に電流が流れ、絶縁材のガス供給通路１３内にプラズマが生成される。圧力制御されたガスは、ガス供給通路１３内を通る際、プラズマの作用によりイオン化され、イオン化ガスとなる。
【００４２】
イオン化ガスは、絶縁材から形成されたガス供給通路１３を通過してガス供給管１６ｂに運ばれる。ガス供給通路１３は、絶縁物から形成される。絶縁物は、例えばセラミックから形成されることが好ましい。セラミックの一例としては、アルミナ、イットリア、ジルコニア、窒化珪素、炭化珪素、窒化アルミニウムのいずれかであってもよい。このようにして、本実施形態では、制御部１００が、イオン化ガス発生部１２のＲＦ電源１５をオンすればＩＣＰによるソースを使用してイオン化ガスを供給でき、オフすればイオン化ガスの供給を停止できる。
【００４３】
圧力制御部１１からガスを運ぶＢＰ（Ｂａｃｋ  Ｐｒｅｓｓｕｒｅ）Ｌｉｎｅのガス供給管１６ａ、１６ｂは、ステンレスの配管であり、静電チャック２１に冷却用ガスを流すために使用されている。本実施形態では、そのステンレスの配管の一部を絶縁材のガス供給通路１３に置き替え、絶縁材の周りにＩＣＰコイル１４を巻く。ＲＦ電源１５からＩＣＰコイル１４に高周波の電流を流すことによって、ガス供給通路１３の中を移動するガスをイオン化する。
【００４４】
さらに、本実施形態では、絶縁材のガス供給通路１３の外側からガスと非接触に高周波の電流をＩＣＰコイル１４に流すことでプラズマを生成し、プラズマによりガスをイオン化する機構を有する。そして、本実施形態では、発生させたイオン化ガスは絶縁材のガス供給通路１３を通過する。かかる機構により、イオン化ガス発生部１２にて発生したイオンがステンレス等の金属から構成される配管に奪われ、消失してしまうことを防ぐことができる。
【００４５】
これにより、ウェハＷの裏面と静電チャック２１の隙間に供給するイオン化ガスの、イオン効率の低下を防ぐことができる。この結果、プラズマ処理後、イオン化ガス発生部１２によってイオン化されたイオン化ガスは、ガス供給通路１３、ガス供給管１６ｂ及びガス供給通路１６ｃを通って、ウェハＷの裏面に供給され、イオン化ガスにより効率よく速やかに除電することができる。ウェハＷの裏面に供給されたイオン化ガスは、ガス排気通路１７を通って排気装置６５から排気される。
【００４６】
なお、本実施形態に係るイオン化ガス発生部１２は、ＩＣＰによりガスをイオン化した。しかし、これに限らず、イオン化ガス発生部は、ＩＣＰ、マイクロ波プラズマ及び直流（ＤＣ）放電によるプラズマのいずれかにより、ガスをイオン化させてもよい。
【００４７】
図３は、一実施形態に係る静電チャック２１の上面及びその周辺の構成例を示す。表面がドット状に形成された静電チャック２１の外周は、シールドバンド１０９によりシールされている。静電チャック２１の周囲のシールドバンド１０９の外側には、ウェハＷを囲むように載置台２０上にフォーカスリング２５が設けられている。さらに、フォーカスリング２５の外周を囲むように、環状部材のインシュレータリング２６が配置されている。
【００４８】
静電チャック２１には、イオン化ガス供給及び排気用の穴１６ｃ１が複数設けられている。イオン化ガス供給及び排気用の穴１６ｃ１は、冷却用ガス穴と兼用である。本実施形態では、イオン化ガス供給及び排気用の穴１６ｃ１は、同心円に複数配置される構成となっている。しかしながら、イオン化ガス供給及び排気用の穴１６ｃ１の配置はこれに限定されない。さらに、静電チャック２１には、３つのリフトピン用穴１０３ａが形成されている。
【００４９】
パッシェンの法則にて示されるグラフの極小点における圧力では、異常放電が生じ易い。この極小点を避けるために、ウェハＷの裏面と静電チャック２１の間の隙間の圧力を極小点における圧力よりも高くする等、該極小点の圧力からずらして、異常放電を生じ難くすることが考えられる。
【００５０】
また、ウェハＷの裏面と静電チャック２１の間の隙間の圧力を高める場合にはジョンソン・ラーベック力タイプのような静電吸着力の高い方式を採用することが考えられる。かかる方式ではクーロン力タイプに代表される静電吸着方式に比べ、残留電荷がより多く残る。このような場合においてイオン化ガスをウェハＷの裏面の全面において、ウェハと静電チャック間の隙間に均一に流すことで、ウェハＷの裏面と静電チャック２１に残留する電荷を素早くかつ十分に除去することができる。
【００５１】
このため、本実施形態では、静電チャック２１の表面にドット状の突出部を設け、ドット間の凹みの空間にイオン化ガスを通し、ウェハＷの裏面全面に均一にイオン化ガスを供給する。また、本実施形態では、静電チャック２１のドット状の突出部の上面の複数個所に微小な凹凸状の空間（例えば、図２の拡大図に示すイオン化ガスフロー空間）を設け、更にイオン化ガスをウェハＷの裏面の全面において、ウェハと静電チャック間の隙間に均一に流すことを実現する。これにより、ウェハＷと静電チャック２１間の隙間の圧力が高く、残留電荷が多い状態でもウェハＷの裏面と静電チャック２１に残留する電荷を素早くかつ十分に除去することができる。なお、クーロン力タイプやその他の静電吸着方式においても、本実施形態に係る基板取り外し方法は、当然有効である。
【００５２】
これにより、ウェハＷの裏面と静電チャック２１の隙間の圧力と除電効率との関係に基づき、残留電荷の除去及び圧力の最適化を行うことで、プラズマ処理後のウェハＷを静電チャック２１からスムーズに取り外すことができる。
【００５３】
さらに、図１に示すように、本実施形態に係る基板処理装置１では、ガス排気用の構造物が処理容器１０の内部に設けられていない。これにより、パーティクルの発生源を減らすことができ、プラズマの均一化を図り、処理中にパーティクルによる悪影響を受けずに安定して処理を行うことができる。
【００５４】
例えば、ウェハＷの裏面と静電チャック２１の隙間からガスを排気するガス排気通路１７は静電チャック２１の内部に形成され、排気経路が静電チャック２１内部で完結している。これにより、本実施形態に係る基板処理装置１では、インシュレータリング２６が設けられている場合であっても、ウェハＷの裏面をモニタ可能である。また、ウェハＷの裏面でガスの流れが完結するので、処理ガスの排気に影響を与えない。
【００５５】
［基板取り外し処理］
次に、従来の基板取り外し処理について図４を参照しながら説明した後、本実施形態に係る基板取り外し処理について図５を参照しながら説明する。図４は、従来の基板取り外し処理（除電処理を含む）の一例を示すフローチャートである。
【００５６】
（従来の基板取り外し処理）
図４に示す従来の基板取り外し処理では、まず、制御部１００は、プラズマ処理が終了したかを判定する（ステップＳ１０）。制御部１００は、プラズマ処理が終了したと判定した場合、ガス供給源３０からヘリウム（Ｈｅ）ガス等の冷却用ガスの供給を停止し、圧力制御部１１から冷却用ガスを排気する（ステップＳ１２）。
【００５７】
次に、制御部１００は、静電チャック２１の吸着電極２１ａに印加する電圧ＨＶを停止する（ステップＳ１４）。次に、制御部１００は、吸着電極２１ａに印加していた電圧ＨＶとは正負が逆の電圧（逆電圧）を印加する（ステップＳ１６）。
【００５８】
次に、制御部１００は、プラズマを生成して、ウェハＷの裏面と静電チャック２１の上面に残留する電荷をプラズマ放電させ、残留電荷を除去する。（ステップＳ１８）。除電後、制御部１００は、リフトピン１０３を上昇させ、ウェハＷを静電チャックから取り外す（ステップＳ２０）。制御部１００は、ウェハＷをリフトピン１０３に保持させ、アームに受け渡して基板処理装置１からウェハＷを搬出する。
【００５９】
（本実施形態の基板取り外し処理）
以上に説明した従来の基板取り外し処理に対して、本実施形態では、図５に示す手順でウェハＷの取り外しが行われる。図５は、一実施形態に係る基板取り外し処理（除電処理を含む）の一例を示すフローチャートである。
【００６０】
本実施形態の基板取り外し処理では、まず、制御部１００は、プラズマ処理が終了したかを判定する（ステップＳ１０）。制御部１００は、プラズマ処理が終了したと判定した場合、ガス供給源３０からヘリウム（Ｈｅ）ガス等の冷却用ガスの供給を停止し、圧力制御部１１から冷却用ガスを排気する（ステップＳ１２）。
【００６１】
次に、制御部１００は、静電チャック２１の吸着電極２１ａに印加する電圧ＨＶを停止する（ステップＳ１４）。次に、制御部１００は、圧力制御部１１により圧力制御されたイオン化ガスをウェハＷと静電チャック２１の隙間に供給する（ステップＳ３０）。具体的には、制御部１００は、圧力制御部１１により圧力制御されたガスを、イオン化ガス発生部１２によってイオン化する。これにより発生したイオン化ガスは、絶縁材から形成されたガス供給通路１３及びガス供給管１６ａ、１６ｂを通ってウェハＷと静電チャック２１の隙間に供給される。
【００６２】
次に、制御部１００は、ウェハＷと静電チャック２１の隙間へのイオン化ガスの供給を停止する（ステップＳ３２）。そして、制御部１００は、ウェハＷと静電チャック２１の隙間へ供給されたイオン化ガスを、載置台２０の内部に設けられたガス排気通路１７から排気する（ステップＳ３４）。
【００６３】
次に、制御部１００は、除電が十分か否かを判定する（ステップＳ３６）。除電が十分か否かを判定する一例としては、ウェハ離脱前にウェハを微小振動させ，そのときに静電チャック２１の吸着電極２１ａに発生する誘導電流を測定する事でウェハ残留電荷量を算出する方法がある。例えば、出願番号が特願２０１６−２５１５７２の明細書の段落００７１〜段落００７８及び図８には、ウェハを微小振動させたときに吸着電極２１ａに発生する誘導電流ｉ３（ｔ）を用いたウェハ残留電荷量の算出及び除電処理の一例が開示されている。誘導電流ｉ３（ｔ）は、段落００６３の（１５）式により算出することができる。ただし、除電が十分か否かを判定する方法は、上記方法に限らない。
【００６４】
制御部１００は、除電が不十分であると判定した場合、ステップＳ３０に戻り、ステップ３０〜Ｓ３４の除電処理を繰り返し実行する。ステップＳ３６において、制御部１００が、除電は十分であると判定した場合、除電が完了したと判断し（ステップＳ３８）、制御部１００は、リフトピン１０３を上昇させ、ウェハＷを静電チャックから取り外す（ステップＳ２０）。制御部１００は、ウェハＷをリフトピン１０３に保持させ、アームに受け渡して基板処理装置１からウェハＷを搬出する。
【００６５】
なお、本実施形態に係る基板取り外し処理では、吸着電極２１ａへの電圧ＨＶの印加を停止した後、イオン化ガスを供給する前に逆電圧を印加してもよい。
【００６６】
以上に説明したように、本実施形態の基板処理装置１及び基板取り外し処理によれば、ウェハＷと静電チャック２１間の隙間の残留電荷を十分かつ速やかに除去でき、円滑かつ安全にウェハＷの取り外しが可能となる。また、冷却用ガスとイオン化ガスの供給経路を共用させることで追加コストを抑えることができる。
【００６７】
以上、基板処理装置及び基板取り外し処理を上記実施形態により説明したが、本発明にかかる基板処理装置及び基板取り外し処理は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々の変形及び改良が可能である。上記複数の実施形態に記載された事項は、矛盾しない範囲で組み合わせることができる。
【００６８】
例えば、静電チャック２１による静電吸着方法は、クーロン力タイプ、ジョンソン・ラーベックタイプ及びグラディエントのいずれも適用することができる。
【００６９】
また、本発明に係る基板処理装置及び基板取り外し処理において除電する電荷は、正電荷及び負電荷のいずれも適用可能である。
【００７０】
また、本発明に係る基板処理装置は、Capacitively Coupled Plasma(CCP),Inductively Coupled Plasma(ICP),Radial Line Slot Antenna, Electron Cyclotron Resonance Plasma(ECR),Helicon Wave Plasma(HWP)のどのタイプでも適用可能である。
【００７１】
本明細書では、基板の一例として半導体ウェハＷを挙げて説明した。しかし、基板は、これに限らず、LCD(Liquid Crystal Display)、FPD(Flat Panel Display)に用いられる各種基板や、フォトマスク、ＣＤ基板、プリント基板等であっても良い。
【符号の説明】
【００７２】
１    基板処理装置
１０  処理容器
１１  圧力制御部
１２  イオン化ガス発生部
１３  ガス供給通路
１４  ＩＣＰコイル
１５  ＲＦ電源
１６ａ、１６ｂ  ガス供給管
１７  ガス排気通路
２０  載置台（下部電極）
２１  静電チャック
２１ａ  吸着電極
２１ｂ  絶縁体
２４ａ  冷媒流路
２５  フォーカスリング
２６  インシュレータリング
３０  ガス供給源
３２  第１のＲＦ電源
３４  第２のＲＦ電源
４０  ガスシャワーヘッド（上部電極）
４０ａ  本体部
４０ｂ  天板
６５  排気装置
７０  可変直流電源
１００  制御部
１１２  直流電源
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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