(57)【要約】【課題】耐腐食性に優れた遠赤外線反射基板を提供する。【解決手段】基材［Ａ］と保護層［Ｂ］の間に、金属層［Ｃ］、及び珪素含有層［Ｄ］を有する構成を持つ以下（１）〜（４）を満足する遠赤外線反射基板。（１）金属層［Ｃ］が、金属層［Ｃ］全体に対し銀を５０質量％以上含有する。（２）珪素含有層［Ｄ］が、金属層［Ｃ］と直接接する。（３）珪素含有層［Ｄ］が、珪素含有層［Ｄ］全体に対し珪素を４０原子数％以上含有する。（４）遠赤外線反射率が６０％以上である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材［Ａ］と保護層［Ｂ］の間に、金属層［Ｃ］、及び珪素含有層［Ｄ］を有する構成を持つ以下（１）〜（４）を満足する遠赤外線反射基板。
（１）金属層［Ｃ］が、一層又は複数層の金属からなる層を有し、その少なくとも１つの層は当該層の質量を１００質量％としたとき銀を５０質量％以上含有する
（２）珪素含有層［Ｄ］が、金属層［Ｃ］と直接接する
（３）珪素含有層［Ｄ］が、珪素含有層［Ｄ］全体に対し珪素を４０原子数％以上含有する
（４）遠赤外線反射率が６０％以上である
【請求項２】
珪素含有層［Ｄ］が、基材［Ａ］と金属層［Ｃ］の間に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の遠赤外線反射基板。
【請求項３】
珪素含有層［Ｄ］が、金属層［Ｃ］の両面に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の遠赤外線反射基板。
【請求項４】
さらに、屈折率が１．７以上である高屈折率層［Ｅ］を有し、高屈折率層［Ｅ］が、基材［Ａ］と金属層［Ｃ］の間、および金属層［Ｃ］と保護層［Ｂ］の間に形成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の遠赤外線反射基板。
【請求項５】
保護層［Ｂ］が、無機系保護層［Ｂ１］を有し、
無機系保護層［Ｂ１］が珪素の酸化物、珪素の窒化物、アルミニウムの酸化物およびアルミニウムの窒化物からなる群より選ばれる１種以上を無機系保護層［Ｂ１］全体に対し５０質量％以上含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の遠赤外線反射基板。
【請求項６】
保護層［Ｂ］が、有機系保護層［Ｂ２］を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の遠赤外線反射基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、遠赤外線反射基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば建築物や移動体の窓に省エネ性能を付与する手段として、遠赤外線反射性能を有する積層体を窓に設置することが知られている。この遠赤外線反射性能を有する積層体は、屋内等で発生する遠赤外線を主成分とする放射熱を反射し、屋内から屋外に上記の放射熱が流出することを抑制するものである。そして、この遠赤外線反射性能を有する積層体としては、プラスチックフィルムなどの基材に銀を主成分とした金属層を積層し、さらに、その上に表面保護層を設けた構成のものが多く知られている。
【０００３】
ここで、上記の表面保護層としては、ガラスや樹脂等からなるものが知られているが、遠赤外線を主成分とする放射熱をより多く室内に戻すためには、すなわち、遠赤外線反射性能をより優れたものとするためには、上記の表面保護層を厚みの薄いものとすることが好適であることも知られている。そして、厚みの薄い表面保護層としては、ウェットコーティングなどのプロセスを用いて成膜される有機系の表面保護層(特許文献１参照)や、ヘキサメチルジシロキサンなどの有機珪素化合物等を材料として化学蒸着（ＣＶＤ）プロセスなどによって成膜される酸化珪素や酸化アルミニウムなどからなる無機系の表面保護層 (特許文献２参照)などが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１０-２８６９００号公報
【特許文献２】特表２００２−５３９００４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
赤外線の中でも、冬季暖房熱等により屋内で発せられる遠赤外線は、ガラスやプラスチックフィルムはもちろん、表面保護層によっても吸収されてしまう。よって、遠赤外線を反射することで熱エネルギーが屋外に流出するのを防ぐ性能を得るため、すなわち、赤外線反射基板の高い赤外線反射率を実現するためには、赤外線反射基板を厚い表面保護層で保護するような構成をとらず、その表面保護層を薄くすることが必要であることは上述のとおりである。しかし、表面保護層を薄くすると、化学物質による汚染を容易に受けることとなり、赤外線を反射する金属層の腐食等による劣化が進行しやすくなる課題に本発明者は直面した。すなわち、引用文献１及び２に記載された厚みの薄い表面保護層は遠赤外線反射性能を有する積層体に優れた遠赤外線反射性能を付与するものの、遠赤外線反射性能を有する積層体が備える金属層の腐食等による劣化が進行しやすいとの課題に本発明者は直面したのである。
【０００６】
よって、本発明の課題は、良好な遠赤外線反射性能を有する基板に優れた耐腐食性を付与した遠赤外線反射基板を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、かかる課題を解決するために、次のような手段を採用する。すなわち、
基材［Ａ］と保護層［Ｂ］の間に、金属層［Ｃ］、及び珪素含有層［Ｄ］を有する構成を持つ以下（１）〜（４）を満足する遠赤外線反射基板である。
（１）金属層［Ｃ］が、金属層［Ｃ］全体に対し銀を５０質量％以上含有する
（２）珪素含有層［Ｄ］が、金属層［Ｃ］と直接接する
（３）珪素含有層［Ｄ］が、珪素含有層［Ｄ］全体に対し珪素を４０原子数％以上含有する
（４）遠赤外線反射率が６０％以上である
【発明の効果】
【０００８】
本発明の遠赤外線反射基板では、珪素を４０原子数％以上含有する珪素含有層［Ｄ］が金属層［Ｃ］と直接接する構成となっており、遠赤外線反射基板の遠赤外線反射率や可視光透過性をほとんど低下させない薄い膜厚の珪素含有層［Ｄ］であっても、この珪素含有層［Ｄ］は銀を含有する金属層［Ｃ］の腐食を極めて有効に抑制することができる。よって、本発明によれば遠赤外線反射率が６０％以上という良好な遠赤外線反射性能を有しながら、耐腐食性に優れる赤外線反射基板を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の赤外線反射基板の第1の形態例の断面模式図であり、具体的には、基材［Ａ］、内部緩衝層［Ｆ］、第１の高屈折率層［Ｅ］、第１の珪素含有層［Ｄ］、金属層［Ｃ］、第２の珪素含有層［Ｄ］、第２の高屈折率層［Ｅ］、無機系保護層［Ｂ１］、及び有機系保護層［Ｂ２］がこの順に積層されてなる構成の断面模式図である。
【図２】本発明の赤外線反射基板の第２の形態例の断面模式図であり、具体的には、基材［Ａ］、内部緩衝層［Ｆ］、第１の高屈折率層［Ｅ］、珪素含有層［Ｄ］、金属層［Ｃ］、第２の高屈折率層［Ｅ］、無機系保護層［Ｂ１］がこの順に積層されてなる構成の断面模式図である。
【図３】本発明の赤外線反射基板の第３の形態例の断面模式図であり、具体的には、基材［Ａ］、内部緩衝層［Ｆ］、第１の高屈折率層［Ｅ］、金属層［Ｃ］、珪素含有層［Ｄ］、第２の高屈折率層［Ｅ］、無機系保護層［Ｂ１］がこの順に積層されてなる構成の断面模式図である。
【図４】従来の赤外線反射基板の断面模式図であり、基材［Ａ］、内部緩衝層［Ｆ］、第１の高屈折率層［Ｅ］、金属層［Ｃ］、第２の高屈折率層［Ｅ］、及び無機系保護層［Ｂ１］がこの順に積層されてなるものである。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の赤外線反射基板は、基材［Ａ］と保護層［Ｂ］の間に、金属層［Ｃ］、及び珪素含有層［Ｄ］を有する構成を持つ以下（１）〜（４）を満足するものである。
（１）金属層［Ｃ］が、金属層［Ｃ］全体に対し銀を５０質量％以上含有する
（２）珪素含有層［Ｄ］が、金属層［Ｃ］と直接接する
（３）珪素含有層［Ｄ］が、珪素含有層［Ｄ］全体に対し珪素を４０原子数％以上含有する
（４）遠赤外線反射率が６０％以上である。
【００１１】
発明者等が鋭意検討を行ったところ、金属層［Ｃ］に、珪素を含有する珪素含有層［Ｄ］が直接接する構造を有する遠赤外線反射基板とすることによって、金属層［Ｃ］の腐食に対して耐性を示す遠赤外線反射基板を得るに至ったものである。
【００１２】
また、本発明の遠赤外線反射基板の取り得る形態の例としては、図１〜３のような形態が例示できる。
【００１３】
まず、一つ目が、図１に示すような、基材［Ａ］１、内部緩衝層［Ｆ］２、第1の高屈折率層［Ｅ］３、第1の珪素含有層［Ｄ］４、金属層［Ｃ］５、第２の珪素含有層［Ｄ］６、第２の高屈折率層［Ｅ］７、無機系保護層［Ｂ１］９、及び有機系保護層［Ｂ２］１０をこの順に有する赤外線反射基板である。この赤外線反射基板では金属層［Ｃ］５の両方の面に、それぞれ第1の珪素含有層［Ｄ］４、及び第２の珪素含有層［Ｄ］６が形成されており、２層の珪素含有層［Ｄ］を有する。なお、後述する実施例２及び８の赤外線反射基板は、この実施形態例に属する。
【００１４】
二つ目としては、図２に示すような、基材［Ａ］１、内部緩衝層［Ｆ］２、第1の高屈折率層［Ｅ］３、珪素含有層［Ｄ］１１、金属層［Ｃ］５、第２の高屈折率層［Ｅ］７、及び無機系保護層［Ｂ１］９をこの順に有する赤外線反射基板である。この赤外線反射基板では基材［Ａ］１と金属層［Ｃ］５との間に珪素含有層［Ｄ］１１が形成されており、１層の珪素含有層［Ｄ］を有する。なお、後述する実施例３の赤外線反射基板は、この実施形態例に属する。
【００１５】
三つ目として、図３に示すような、基材［Ａ］１、内部緩衝層［Ｆ］２、第1の高屈折率層［Ｅ］３、金属層［Ｃ］５、珪素含有層［Ｄ］１１、第２の高屈折率層［Ｅ］７、及び無機系保護層［Ｂ１］９をこの順に有する赤外線反射基板である。この赤外線反射基板では金属層［Ｃ］５と無機系保護層［Ｂ１］９との間に珪素含有層［Ｄ］１１が形成されており、１層の珪素含有層［Ｄ］を有する。なお、後述する実施例５の赤外線反射基板は、この実施形態例に属する。
【００１６】
また、珪素含有層を有しない従来の赤外線反射基板としては、図４に示すような、基材［Ａ］１、内部緩衝層［Ｆ］２、第1の高屈折率層［Ｅ］３、金属層［Ｃ］５、第２の高屈折率層［Ｅ］７、及び無機系保護層［Ｂ１］９をこの順に有するものが挙げられ、後述する比較例１の赤外線反射基板は、この実施形態例に属する。
【００１７】
以下に本発明における各構成を説明する。
【００１８】
［基材］
本発明に用いる基材［Ａ］としては、特に限定はされないが、ガラスなどの無機酸化物や樹脂からなるものを用いることが出来る。連続加工や取り扱いを容易とするために、基材［Ａ］は可撓性を有する樹脂フィルムであることがより好ましい。樹脂フィルムの材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレン−２，６−ナフタレートに代表される芳香族ポリエステル、ナイロン６やナイロン６６に代表される脂肪族ポリアミド、芳香族ポリアミド、ポリエチレンやポリプロピレンに代表されるポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートフィルムなどに代表されるアクリル等が例示される。これらの中で、コストや取り扱いの容易さ、積層体を加工する際に受ける熱に対する耐熱性といった面で、芳香族ポリエステルが好ましく、中でもポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン−２，６−ナフタレートがより好ましく、ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。また、機械強度を高めた二軸延伸フィルムが好ましく、特に二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。取り扱いの容易さや、加工単位の長尺化による生産性向上といった点からは、フィルムの厚みは５μｍ〜２５０μｍの範囲が好ましく、１５μｍ〜１５０μｍであることがさらに好ましい。
【００１９】
また、樹脂フィルム中には、各種添加剤、例えば、酸化防止剤、耐熱安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、有機の易滑剤、顔料、染料、有機又は無機の微粒子、充填剤、耐電防止剤、核剤などが、樹脂フィルムの特性を悪化させない程度に添加されていても良い。
【００２０】
樹脂フィルム等からなる基材［Ａ］と、後述する内部緩衝層［Ｆ］等の基材［Ａ］以外の層と、の接着性を改善するために、例えば、特開２００４−１０７６２７号公報などに記載されているように、基材［Ａ］を、少なくとも基材［Ａ］の内部緩衝層［Ｆ］や金属層［Ｃ］が積層される側の面にポリエステル、アクリル、ポリウレタン、アクリルグラフトポリエステル等の各種樹脂を含むプライマー層を設けたものとすることは好ましい態様の一つである。
【００２１】
［保護層］
本発明に用いる保護層［Ｂ］は、無機系保護層、有機系保護層、または無機系保護層と有機系保護層とを併用したものを採用することができる。保護層は遠赤外線反射基板を傷などの欠損や薬品等による腐食から保護するために設けるものであるが、保護層が遠赤外線を吸収することで遠赤外線反射性能が低下してしまうため、良好な遠赤外線反射性能が得るためには、保護層を十分薄くする必要がある。したがって、保護層にガラスやアクリル系ハードコート樹脂などの硬質膜を用いる場合、保護層の厚みは５μｍ以下であることが好ましく、２μｍ以下であることはより好ましく、０．５μｍ以下であることはさらに好ましい。また、保護層の厚みの変化や、観察角度の変化が可視光線の透過光や反射光の色調の変化として観察されやすくなるのを抑制するためには、保護層の厚みが０．２μｍ以下であることは好ましく、０．１μｍ以下であることはより好ましく、０．０５μｍ以下であることはさらに好ましい。一方、前述したように遠赤外線反射基板を傷などの欠損や薬品等による腐食から保護するためには、保護層は厚いほど好ましい。また、連続的で均一な保護層を得るためには、保護層の厚みは２ｎｍ以上であることが好ましく、５ｎｍ以上であることがより好ましく、１０ｎｍ以上であることはさらに好ましい。
【００２２】
より薄い膜厚で硬い保護層を得るためには、保護層が珪素の酸化物、アルミニウムの酸化物、珪素の窒化物、及びアルミニウムの窒化物からなる群より選ばれる１種以上の酸窒化物を無機系保護層［Ｂ１］の全体に対して５０質量％以上含有する無機系保護層［Ｂ１］であることは好ましい態様である。緻密で高硬度の保護膜を得るとの目的からは、無機系保護層［Ｂ１］の全体に対して珪素の酸化物等が、７０質量％以上含有されていることが好ましく、９０質量％以上含有されていることがより好ましい。ここで、珪素の酸化物、アルミニウムの酸化物、珪素の窒化物、及びアルミニウムの窒化物からなる群より選ばれる１種以上の酸窒化物の質量％は、無機系保護層［Ｂ１］の全体に対する、珪素、アルミニウム、酸素、窒素の質量％の和である。
【００２３】
また、水分などの浸透に対してより均一な特性を得るためには、保護層が−（ＣＨ２）−や−（ＣＦ２）−などからなる樹脂骨格を有する樹脂を含有する有機系保護層［Ｂ２］であることは好ましい態様である。また、水分等が赤外線反射基板に浸透するのを抑制するためには、有機系保護層［Ｂ２］の水に対する接触角が、６０°以上であることは好ましく、８０°以上であることはより好ましく、１００°以上であることは更に好ましい。有機系保護層［Ｂ２］がフッ素樹脂やシリコーン樹脂を成分として含むものとし、さらに有機系保護層［Ｂ２］が遠赤外線反射基板の最外層となるようにすることは、有機系保護層［Ｂ２］の水に対する接触角を大きくするために好ましい態様である。また、上記のことに加え、上記の態様とすることは、有機系保護層［Ｂ２］の面上にテープ等の粘着物が取り付けられた遠赤外線反射基板から、この粘着物を取り外す際に、基材［Ａ］の上に成膜された層が剥離するのを抑制されることからも好ましい態様である。基材［Ａ］の上に成膜された層が剥離するのが抑制されるのは、この有機系保護層［Ｂ２］と粘着物との粘着力が、例えば無機系保護層［Ｂ１］等の層と粘着物との粘着力に比べ低いためであると考えられる。
【００２４】
また、有機系保護層［Ｂ２］の表面硬度や光学特性を改質する方法として、無機または有機の粒子またはそれらを組み合わせて、１種または２種以上の粒子を組み合わせて有機系保護層［Ｂ２］に添加して用いることができる。例えば、無機粒子として、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化セリウムなどを使用することができる。有機微粒子として、粒子内部架橋タイプのスチレン系樹脂、スチレン−アクリル系共重合樹脂、アクリル系樹脂、ジビニルベンゼン樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、スチレン−イソプレン系樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂などを使用することができる。粒子の形状は、球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、不定形状などがあり、必要特性に合わせて適宜選択することができる。さらに、これらの粒子表面に官能基を導入するような表面処理を行なうことで、架橋性樹脂と粒子表面の間に架橋反応が起こることで、有機系保護層［Ｂ２］の特性を改質することができる。官能基を導入する表面処理としては、例えば、重合性不飽和基を含む有機化合物を粒子と結合させることができる。重合性不飽和基としては、特に制限はないが、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、プロペニル基、ブタジエニル基、スチリル基、エチニル基、シンナモイル基、マレエート基およびアクリルアミド基を挙げることができる。
【００２５】
また、遠赤外線反射基板を傷などの欠損や薬品等による腐食から保護するためには、無機系保護層［Ｂ１］と有機系保護層［Ｂ２］の双方を有することは好ましい態様である。
【００２６】
［金属層］
本発明において金属層［Ｃ］を設ける目的としては、導電性や電磁波防止性、そして赤外線の反射による遮熱や断熱性能を得ることなどが挙げられる。良好な赤外線反射性能を得るためには、金属層［Ｃ］に優れた導電性を示す金属を用いることが必要であり、そのような金属としては銀（Ａｇ）が挙げられる。可視光域の吸収が少なく、非常に優れた導電性を示す銀（Ａｇ）を、その層の質量を１００質量％としたとき５０質量％以上含有する層を有することで、光学的にも優れた遠赤外線反射基板を得ることができる。金属層［Ｃ］の良好な赤外線反射率と可視光透過率を得るとの目的からは、層の全体に対して銀（Ａｇ）が、７０質量％以上含有されていることが好ましく、９０質量％以上含有されていることがより好ましい。一方で、銀（Ａｇ）の含有量の上限は特に限定されず、銀（Ａｇ）の含有量が１００質量％、すなわち、金属層［Ｃ］が銀（Ａｇ）のみからなるものであってもよい。銀（Ａｇ）が硫黄や酸素などと反応して劣化することを抑えたり、凝集などにより欠点が発生するのを防いだりするため、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ｂｉ、Ｎｄ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｙ、Ｅｕ、Ｐｒ、Ｃｅ、Ｓｍ、Ｃａ、Ｂｅ、Ｃｒ、ＣｏおよびＮｉなどから選ばれる１種以上の金属と銀（Ａｇ）との合金として用いることが好ましい。
【００２７】
また、金属層［Ｃ］全体の質量を１００質量％としたとき、金属層［Ｃ］に含まれる銀（Ａｇ）の割合は好ましく５０質量％以上、より好ましく７０質量％以上、更に好ましく９０質量％以上であると遠赤外線の遮蔽効果は一層優れたものとなる傾向がある。
【００２８】
金属層［Ｃ］の膜厚は、５ｎｍ以上であることが好ましく、１０ｎｍ以上であることはさらに好ましい。金属層［Ｃ］の膜厚を５ｎｍ以上とすることで、金属層［Ｃ］の厚みムラが抑制され、金属層［Ｃ］は安定した遠赤外線反射性能を発揮することができる。一方、金属層［Ｃ］の膜厚は、３０ｎｍ以下であることが好ましく、２５ｎｍ以下であることはさらに好ましい。金属層［Ｃ］の膜厚を３０ｎｍ以下とすることで、遠赤外線反射基板の可視光透過性能をさらに向上させることができる。
【００２９】
また、金属層［Ｃ］の製膜方法としては、各種金属や合金のターゲットを用いて、スパッタリングプロセスにより薄膜を得る方法、蒸着プロセスにより抵抗加熱、電子ビーム、レーザ、高周波誘導加熱、アークなどの方法で気化させた各種金属や合金を堆積させることによって薄膜を得る方法などが挙げられる。中でも、膜厚や膜質の制御に優れ、良好な膜密着性が得られるという観点から、スパッタリングプロセスにより薄膜を得る方法が好ましい。
【００３０】
また、金属層［Ｃ］を腐食や酸化から保護する観点から、金属層［Ｃ］を、銀を全体に対し５０質量％以上含有する金属層［Ｃ１］とＹ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｅ、Ｎｄ、Ｓｍ、及びＴｂなどから選ばれた金属やその混合物からなる金属薄膜［Ｃ２］とを有するものとし、さらに、金属層［Ｃ１］の片面または両面に金属薄膜［Ｃ２］を設けた構成とすることが好ましい。金属層［Ｃ］を腐食や酸化から十分に保護するためには、上記金属薄膜［Ｃ２］の膜厚は０．５ｎｍ以上であることが好ましい。また、良好な可視光透過性能を得るためには、上記金属薄膜［Ｃ２］の膜厚は１０ｎｍ以下であることが好ましい。また、保護性能と可視光透過性能を両立するためには、上記金属薄膜［Ｃ２］の膜厚が１ｎｍ以上５ｎｍ以下であることがさらに好ましい。上記金属薄膜［Ｃ２］は、金属層［Ｃ］を腐食から保護するために設ける層であり、赤外線反射性能などの特性に対する影響は小さい。したがって、赤外線反射性能などの特性に対して金属層［Ｃ］の厚みを考慮する際には、金属薄膜［Ｃ２］は除外して考える。また、金属薄膜［Ｃ２］は銀（Ａｇ）を含むものであってもよいが、その場合には、金属薄膜［Ｃ２］における銀の含有量は、その層の質量を１００質量％としたとき５０質量％未満であることが好ましい。なお、金属薄膜［Ｃ２］は銀（Ａｇ）を含まないことがより好ましい。
【００３１】
［珪素含有層］
本発明の遠赤外線反射基板では、金属層［Ｃ］に、珪素含有層［Ｄ］が直接接する構造を採用することによって、優れた耐腐食性を得るものである。
珪素含有層［Ｄ］は、珪素含有層［Ｄ］の全体に対し珪素を４０原子数％以上含有することで優れた耐腐食性を付与することができる。
また、珪素含有層［Ｄ］が、ＳｉＣなどのように、元素半導体である炭素やゲルマニウムを含む２種類以上の元素半導体からなることも本発明のとり得る態様の一つである。
そして、珪素含有層［Ｄ］の特性を大幅に変えることのない範囲で、珪素、炭素、及びゲルマニウム以外の元素を添加して用いることができる。
光学的、化学的に安定した遠赤外線反射基板を得るとの目的からは、珪素含有層［Ｄ］の全体に対し珪素が４５原子数％以上、珪素含有層［Ｄ］に含有されていることが好ましく、５０原子数％以上、珪素含有層［Ｄ］に含有されていることがより好ましく、９０原子数％以上、珪素含有層［Ｄ］に含有されていることが特に好ましい。
【００３２】
また、珪素含有層［Ｄ］を、金属層［Ｃ］と保護層［Ｂ］の間に配置することは好ましく、基板［Ａ］と金属層［Ｃ］の間に配置することはより好ましく、基板［Ａ］と金属層［Ｃ］の間および金属層［Ｃ］と保護層［Ｂ］の間の双方に配置することは更に好ましい。珪素含有層［Ｄ］を設けることで遠赤外線反射基板の腐食耐性が得られる理由は定かではないが、基板や高屈折率層を形成する樹脂や金属酸化物などと金属層［Ｃ］を直接積層した際に生じる層間構造の欠陥が、珪素含有層［Ｄ］を介することで減少するためではないかと考えている。また、基板［Ａ］と金属層［Ｃ］の間に配置することが、金属層［Ｃ］と保護層［Ｂ］の間に配置することよりも好ましい理由については、基板や高屈折率層を形成する樹脂や金属酸化物の上に金属層［Ｃ］を直接形成する場合の層間構造の欠陥と、金属層［Ｃ］の上に金属酸化物や樹脂を形成する場合の層間構造の欠陥に差異があるために、基板［Ａ］と金属層［Ｃ］の間で生じる構造欠陥を珪素含有層［Ｄ］によって減少させる効果がより大きくなるためではないかと考えている。基板［Ａ］と金属層［Ｃ］の間および金属層［Ｃ］と保護層［Ｂ］の間の双方に珪素含有層［Ｄ］を配置することによって、より優れた耐腐食性を得ることができるとともに、密着性の良好な遠赤外線反射基板を得ることができる。
【００３３】
珪素含有層［Ｄ］は可視光の透過を妨げるため、良好な透明性を得るためには珪素含有層［Ｄ］の膜厚が１０ｎｍ以下であることが好ましく、５ｎｍ以下であることはより好ましく、３ｎｍ以下であることは更に好ましい。一方、良好な腐食耐性を得るためには、珪素含有層［Ｄ］の膜厚が１ｎｍ以上であることが好ましく、３ｎｍ以上であることはより好ましく、５ｎｍ以上であることは更に好ましい。
【００３４】
また、珪素含有層［Ｄ］が酸素や窒素を多く含むと良好な腐食耐性が得られない傾向がみられる。その理由は定かではないが、酸素や窒素を多く含む珪素含有層は金属酸化物と化学的な性質が近くなってしまい、金属層［Ｃ］との間に生じる層間欠陥が増えるためではないかと考えている。珪素含有層［Ｄ］の珪素（Ｓｉ）に対する酸素（Ｏ）の含有比をｘ、珪素含有層［Ｄ］の珪素（Ｓｉ）に対する窒素（Ｎ）の含有比をｙ、珪素含有層［Ｄ］の珪素（Ｓｉ）に対するその他元素（Ｍ）の含有比をｚとして、珪素含有層［Ｄ］の元素含有比をＳｉＯｘＮｙＭｚ（ここで、Ｍは、珪素、酸素および窒素以外の元素を意味する）と表した際のｘ＋ｙの値は１．２以下であることが好ましく、０．６以下であることはより好ましく、０．３以下であることは更に好ましい。同様の観点から、珪素含有層［Ｄ］をＸ線光電子分光法で分析した際に得られる珪素のピークトップが示す結合エネルギー値ＢＥ−Ｔ（［Ｄ］）は、珪素酸化物や窒化物のピークトップが示す結合エネルギー値よりも小さいことが好ましい。すなわち、ＢＥ−Ｔ（［Ｄ］）の値が１０２ｅＶ以下であることが好ましく、１０１ｅＶ以下であることはより好ましく、１００ｅＶ以下であることは更に好ましい。
【００３５】
［高屈折率層］
本発明の遠赤外線反射基板は、基材［Ａ］と金属層［Ｃ］の間、金属層［Ｃ］と保護層［Ｂ］の間の少なくともいずれか一方に屈折率が１．７以上であり、珪素含有層［Ｄ］とは構成元素もしくは構成元素の含有比が異なる高屈折率層[Ｅ]が形成されていることは、金属層［Ｃ］と他の層との界面における可視光線の反射を抑制するために好ましく、基材［Ａ］と金属層［Ｃ］の間、金属層［Ｃ］と保護層［Ｂ］の間の両方に高屈折率層[Ｅ]を有することはさらに好ましい。
【００３６】
高屈折率層［Ｅ］の材料としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化亜鉛、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化錫および酸化ビスマスといった酸化物、および、窒化珪素などの窒化物、ならびにそれらの混合物やそれらにアルミニウムや銅などの金属や炭素を含有ドープしたものなどから、適宜選択して用いることができる。高屈折率層［Ｅ］の屈折率および厚みによって、遠赤外線反射基板の界面反射や反射光や透過光の色調を調整することが可能となる。高屈折率層［Ｅ］の屈折率が高いほど、薄い膜厚で大きな効果を得ることが出来るため、屈折率が１．７以上であることが好ましく、１．９以上であることがより好ましい。また、高屈折率層［Ｅ］は、各種金属および半金属・半導体元素や合金、それらの酸化物、窒化物、亜酸化物、亜窒化物、酸窒化物、亜酸窒化物などのターゲットを用いて、必要に応じて酸素や窒素などのガスと反応させるスパッタリングプロセスにより薄膜を得る方法、気化させた有機金属化合物と酸素や窒素などのガスをプラズマ等で反応させるＣＶＤプロセスによって薄膜を得る方法、溶剤に希釈した有機金属化合物を乾燥・硬化させるウエットコーティングプロセスによって薄膜を得る方法などにより製膜することができる。金属層［Ｃ］をスパッタリングプロセスで製膜する場合においては、高屈折率膜［Ｅ］もスパッタリングプロセスで製膜することが、金属層［Ｃ］と連続して製膜するのに有利であるために好ましい。
【００３７】
遠赤外線反射基板全体の可視光透過性能および赤外線反射性能を制御するためには、例えば、（高屈折率層）ｍ（／金属層／高屈折率層）ｎのように高屈折率層と金属層が複数積層されているものが挙げられる（ここで、ｍは０または１であり、かつｎは１以上の整数である。）。ここで、繰り返し構造であるｎの数や、高屈折率層や金属層の屈折率や膜厚を調整することは、遠赤外線反射基板の可視光透過率や赤外線反射性能を調整ための有効な手段である。
【００３８】
また、本発明の遠赤外線反射基板が有する（／金属層［Ｃ］／高屈折率層［Ｅ］）の数「ｎ」は、１以上であれば赤外線反射性能および可視光透過性能に優れた遠赤外線反射基板を得ることができる。さらに、（／金属層［Ｃ］／高屈折率層［Ｅ］）の数「ｎ」を２以上とすることが赤外線反射性能および可視光透過性能をさらに向上することができるため好ましい。また、（／金属層［Ｃ］／高屈折率層［Ｅ］）の数「ｎ」の上限については特に限定はないが、製造工程の煩雑さと得られる赤外線反射性能および可視光透過性能とのバランスの観点から３以下が好ましい。
【００３９】
また一方、遠赤外線反射基板をより耐候性に優れたものとするためには、高屈折率膜［Ｅ］が、それと隣接し得る基材［Ａ］や金属層［Ｃ］、珪素含有層［Ｄ］、または、保護層［Ｂ］、後記する内部緩衝層［Ｆ］と、強固に密着していることが好ましい。ここで、例えば、特許文献２（特表２００２−５３９００４）では、ポリマー基板と透明金属酸化物層の密着性向上を図るはかるために、ポリマー基板と透明金属酸化物層との間にアルミニウムや銀などの金属層を密着力向上層として設ける技術が示されており本発明の技術にも適用することができるが、当該金属層は可視光線を反射・吸収してしまうために、可視光透過性能が低下するという傾向がみられる。そこで、本発明者は、高屈折率膜［Ｅ］に含まれる金属元素、半金属元素および半導体元素の総和に対して、高屈折率膜［Ｅ］に含まれる錫の含有質量％を５０質量％以上９０質量％以下とし、かつ、高屈折率膜［Ｅ］に含まれる金属元素、半金属元素および半導体元素の総和に対して、高屈折率膜［Ｅ］に含まれる亜鉛の含有質量％を１０質量％以上５０質量％以下とし、さらに、高屈折率膜［Ｅ］を、それらに隣接しうる基材［Ａ］や金属層［Ｃ］、珪素含有層［Ｄ］、または、保護層［Ｂ］、後記する内部緩衝層［Ｆ］の少なくともいずれか一つに直接積層するものとすることで、遠赤外線反射基板の可視光透過性を低下させずに、高屈折率層［Ｅ］とそれに隣接しうる層との密着性や遠赤外線反射基板の耐候性を向上させることができ、その形態は好ましいものである。上記の構成により層間の密着力や遠赤外線反射基板の耐候性が向上する理由は定かではないが、高屈折率層［Ｅ］の組成を上記のものとすることで、製膜時に高屈折率膜［Ｅ］に生じる歪や、それに隣接しうる基材[Ａ]や金属層［Ｃ］、珪素含有層［Ｄ］、後記する内部緩衝層［Ｆ］に与えるダメージが少なくなるためではないかと考えられる。また、金属層［Ｃ］や珪素含有層［Ｄ］の製膜時に、金属層［Ｃ］や珪素含有層［Ｄ］に生じる歪や、高屈折率層［Ｅ］に与えるダメージが少なくなるためではないかと推測される。
【００４０】
なお、本発明において、金属および半金属・半導体元素とは、Ｈ、Ｈｅ、Ｎ、Ｏ、Ｆ、Ｎｅ、Ｓ、Ｃｌ、Ａｒ、Ａｓ、Ｂｒ、Ｋｒ、Ｉ、Ｘｅ、Ａｔ、Ｒｎを除いたものである。
【００４１】
［内部緩衝層］
内部緩衝層とは、基材［Ａ］と保護層［Ｂ］や金属層［Ｃ］、珪素含有層［Ｄ］、高屈折率層［Ｅ］との界面が破損するのを抑制するために設ける層である。本発明の遠赤外線反射基板においては、基材［Ａ］と保護層［Ｂ］や金属層［Ｃ］、珪素含有層［Ｄ］、高屈折率層［Ｅ］との間に、内部緩衝層［Ｆ］を設けることが好ましい。これにより、遠赤外線反射基板の有する各層の内部や層間の界面に応力が集中し破損するのを防ぐことができる。また、内部緩衝層［Ｆ］の表面形状を設計することにより遠赤外線反射基板の光学特性を改善することができる。内部緩衝層［Ｆ］の厚みは、０．２μｍ〜１０μｍの範囲で、遠赤外線反射基板の構成や各層の組成、遠赤外線反射基板の用途によって適宜選択することが出来る。
【００４２】
内部緩衝層［Ｆ］の材料は、基材［Ａ］、保護層［Ｂ］、金属層［Ｃ］、高屈折率層［Ｅ］および高屈折率層［Ｅ］との組み合わせに応じて、遠赤外線反射基板の有する各層の内部や層間の界面への応力集中を防ぐためや、遠赤外線反射基板の遠赤外線反射性能もしくは可視光透過性能、または、金属層［Ｃ］や高屈折率層［Ｅ］と内部緩衝層［Ｆ］との密着力などの観点から適宜選ぶことができる。そして、密着性、耐キズ性、耐湿熱性または耐候性などの各特性に対する要求に適応するように、架橋性樹脂を主成分とする有機系膜、金属や酸素、炭素などを主成分とする無機系膜、そして有機系膜に無機微粒子を分散したものや、無機系膜素材の有機変性物を用いたもの、あるいはそれらを混合して用いたものなどの有機−無機ハイブリッド系膜などから適宜選択して用いることができる。
【００４３】
例えば、内部緩衝層［Ｆ］が、アクリル系、ウレタン系、メラミン系などの架橋性樹脂を主成分とする有機系膜であることは、主鎖や側鎖の種類や量、含有官能基や含有粒子の種類や量によって、膜特性を比較的容易に調整することが出来るために好ましい。有機系膜を得る方法としては、（メタ）アクリレートを主成分とする樹脂組成物を溶剤に希釈した塗液を乾燥・硬化して得る方法などが挙げられる。
【００４４】
有機系膜が（メタ）アクリレートを架橋して得られるアクリル系の架橋樹脂であることは、光重合開始剤などを配合することによって、紫外線などのエネルギー線にて有機系膜の硬化を制御することができ、有機系膜の硬化による物性制御が容易になるため好ましい。（メタ）アクリレートの例としては、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジシクロペンタニルジアクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジアクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジアクリレート、アリル化シクロヘキシルジアクリレート、イソシアヌレートジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、各種ウレタンアクリレートやメラミンアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、１．４−ブタンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、１．６−ヘキサンジオールジメタクレート、１．９−ノナンジオールジメタクリレート、１．１０−デカンジオールジメタクリレート、グリセリンジメタクリレート、ジメチロールートリシクロデカンジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレートやエトキシ化トリメチロールプロパントリメタクリレートなどが挙げられる。一般的に官能基数の多いアクリレートを用いるほど有機系膜の表面硬度が高くなる。これらは単独で使用しても良いが、２種以上の多官能（メタ）アクリレートや低官能基数の不飽和基を持つ樹脂を併用して、有機系膜の特性を調整することもできる。（メタ）アクリレートは、モノマーで用いてもプレポリマーで用いてもよく、複数種類のモノマーやプレポリマーを混合して使用してもよい。また、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステルウレタン系樹脂および、シリコーン樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種類を内部緩衝層［Ｆ］に、もしくは複数種類添加することにより内部緩衝層［Ｆ］を改質することは、金属層や高屈折率層と内部緩衝層［Ｆ］との密着性を向上させるために好ましい。特に、内部緩衝層［Ｆ］としてアクリル系の架橋樹脂を用いる際に、添加樹脂としてシリコーン樹脂を用いることは、上記の架橋樹脂やその溶媒と添加樹脂との相溶性に優れることから好ましい。添加量は遠赤外線反射基板全体の組み合わせによる各物性や耐久性によって適宜選択するものであるが、十分な改質効果を得るとともに、内部緩衝層［Ｆ］の物性に及ぼす悪影響を抑えるためには、内部緩衝層［Ｆ］１００質量％に対し、樹脂を０．１質量％以上〜３０質量％以下の範囲で添加することが好ましく、０．１質量％〜１５質量％以下であることがより好ましい。
【００４５】
有機系膜の収縮、表面硬度、光学特性や表面形状を改質する他の方法として、無機または有機の粒子またはそれらを組み合わせて、１種または２種以上の粒子を組み合わせて有機系膜に添加して用いることができる。例えば、無機粒子として、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化セリウムなどを使用することができる。有機微粒子として、粒子内部架橋タイプのスチレン系樹脂、スチレン−アクリル系共重合樹脂、アクリル系樹脂、ジビニルベンゼン樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、スチレン−イソプレン系樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂などを使用することができる。粒子の形状は、球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、不定形状などがあり、必要特性に合わせて適宜選択することができる。さらに、これらの粒子表面に官能基を導入するような表面処理を行なうことで、架橋性樹脂と粒子表面の間に架橋反応が起こることで、内部緩衝層［Ｆ］の特性を改質することができる。官能基を導入する表面処理としては、例えば、重合性不飽和基を含む有機化合物を粒子と結合させることができる。重合性不飽和基としては、特に制限はないが、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、プロペニル基、ブタジエニル基、スチリル基、エチニル基、シンナモイル基、マレエート基およびアクリルアミド基を挙げることができる。
【００４６】
また、例えば、内部緩衝層［Ｆ］が、シリカ、アルミナ、ジルコニアやダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）などの金属や半金属・半導体元素と酸素や窒素、炭素などを主成分とする無機系膜であることは、金属層［Ｃ］や高屈折率層［Ｅ］との親和性が良好であり、スパッタ等のドライコーティングプロセスで連続して加工することが可能であるなどプロセス適合性が高いことから好ましい。内部緩衝層［Ｆ］が無機系膜である場合、緻密な膜を得やすいことから、高硬度が得やすいなどの長所を有する一方、製膜速度が遅いことから厚膜化が難しくなったり、製膜時に発生する収縮応力によって遠赤外線反射基板が受ける歪が大きくなりやすいなどの制約が生じる場合がある。無機系膜を得る方法の例としては、各種金属および半金属・半導体元素や合金、それらの酸化物、窒化物、亜酸化物、亜窒化物、酸窒化物、亜酸窒化物などのターゲットを用いて、必要に応じて酸素や窒素などのガスと反応させるスパッタリングプロセスにより内部緩衝層［Ｆ］を得る方法などが挙げられる。
【００４７】
内部緩衝層［Ｆ］としては、上述した有機系膜と無機系膜の長所を兼ね備えるものとして、有機−無機ハイブリッド系膜を用いることもできる。有機−無機ハイブリッド系膜を得る方法の例としては、アルキルシリケートやアルキルチタネートなどの有機−無機化合物を原料として、気化させた有機−無機化合物と酸素や窒素などのガスをプラズマ等で反応させるＣＶＤプロセスによって内部緩衝層［Ｆ］を得る方法、溶剤に希釈した有機−無機化合物を乾燥・硬化させるウエットコーティングプロセスによって内部緩衝層［Ｆ］を得る方法などがある。
【００４８】
耐キズ性や表面硬度などの物性を得るためには内部緩衝層［Ｆ］の厚みを厚くすることが好ましく、内部緩衝層［Ｆ］の製膜時に生じる応力によるカール等の歪みを抑制するためには内部緩衝層［Ｆ］の厚みを薄くすることが好ましいことから、内部緩衝層［Ｆ］の厚みが０．１μｍ〜１０μｍであることが好ましく、０．２μｍ〜５μｍであることがより好ましく、０．４μｍ〜３μｍであることがさらに好ましい。
【００４９】
内部緩衝層［Ｆ］が、架橋性樹脂を主成分とする有機系膜である場合、内部緩衝層［Ｆ］の柔軟性が高まり変形に対する追従性が良好になるが、膜硬度は低下するため、内部緩衝層［Ｆ］の厚みを０．４μｍ以上に調整する必要があり、０．５μｍ以上とすることはより好ましく、１μｍ〜３μｍであることはさらに好ましい。
【００５０】
［遠赤外線反射基板］
例えば、遠赤外線反射基板を窓の内側に設けることで、室内の熱エネルギーが遠赤外線として流出するのを防ぎ、室内側の窓表面で反射して室内に熱エネルギーを戻す効果が期待できる。その際、遠赤外線反射率が高いほど、より多くの熱エネルギーを反射することができる。したがって、本発明の遠赤外線反射基板の遠赤外線反射率は、６０％以上であり、７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。ここで、遠赤外線反射基板の遠赤外線反射率を６０％以上とするには、上述のとおり保護層［Ｂ］の膜厚を薄くすること等が挙げられる。
【００５１】
また、本発明の遠赤外線反射基板を窓の内側に貼合して用いる場合などにおいては遠赤外線反射基板の可視光透過性（すなわち、透明性）は高いことが好ましく、本発明の遠赤外線反射基板は、基材［Ａ］、保護層［Ｂ］、金属層［Ｃ］、高屈折率層［Ｅ］、内部緩衝層［Ｆ］、表面保護膜や他の構成層について、成分、膜質および膜厚を調整することで、用途に合わせた可視光透過率を設計することができる。遠赤外線反射基板の可視光透過率は４０％以上が好ましく、６０％以上がより好ましく、７０％以上がさらに好ましい。
【００５２】
また、本発明の遠赤外線反射基板を窓の内側に貼合して用いる場合などにおいて、本発明の遠赤外線反射基板の表面に粘着性のテープ等を用いてポスター等の掲示物を一時的に貼り付けることなどが想定される。そして、粘着性のテープ等を取り外す際に遠赤外線反射基板を形成する各層が剥離するのを、より抑制するためには、下記の実施例の特性の評価方法の密着性の項に記載された評価方法よる判定がＡである遠赤外線反射基板であることが好ましい。
【００５３】
［用途］
本発明の遠赤外線反射基板は、その優れた耐薬品性を活かし、建築物や乗り物などの窓や壁、家電などに流出入する熱エネルギーを反射することで、冷暖房効果の向上などエネルギー効率を良好とする機能を有する透明断熱、遮熱ウインドウ材、や電磁波シールド材などとして利用することができる。
【００５４】
上記したような本発明の遠赤外線反射基板は、前記説明の基材［Ａ］表面に前記説明の保護層［Ｂ］等の各構成膜を、たとえば図面の簡単な説明の段落で示したように、積層することにより製造される。
【実施例】
【００５５】
以下、本発明について実施例を挙げて説明するが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。
［特性の評価方法］
本実施例で用いた遠赤外線反射基板の特性の評価方法は、下記のとおりである。
【００５６】
（１）耐腐食性１
１）評価用試験体の作製
ア．遠赤外線反射基板を５０ｍｍ角正方形にカットする。
イ．前記ア項でカットした試料の基材側の面に粘着層を形成する。
ウ．次に、イ項で形成した粘着層を介して、３ｍｍ厚のフロートガラスに貼合し、評価用試験体を得る。
２）評価用試験体の判定
ア．作製した評価用試験体の表面に評価液（水５０ｍｌに乳酸２．５ｇとＮａＣｌ５ｇを溶解したもの）を滴下し、６０℃×９０％ＲＨ環境下で２時間暴露する。
イ．評価用試験体を水で洗い落とす。
３）評価用試験体の判定
評価用試験体上の評価液滴下箇所を、レーザー顕微鏡を用いて評価用試験体の腐食による変色点の有無、表層剥離の有無を観察する。
・測定機器：ＶＫ−Ｘ１１０（キーエンス社製）
・対物レンズ：標準レンズ  １０倍・光学ズーム：１．０倍
ア．判定基準
Ａ：変色点なし、表層剥離なし。
Ｂ：変色点あり、表層剥離なし。
Ｃ：変色点あり、表層剥離あり。
ここで、金属層［Ｃ］の腐食が軽微ではあるが進行すると変色点が発現し、さらに、金属層［Ｃ］の腐食が大きく進行すると表層剥離が発現する。すなわち、耐腐食性の判定としては、最も優れているのが判定Ａであり、Ａ判定に次いで優れているのが判定Ｂであり、劣るのが判定Ｃである。判定Ａの評価試験体は、腐食の兆候が観察されないものである。一方、判定Ｂの評価試験体は目視においては外観の劣化がわかりにくい傾向にあるが、時間が経てば腐食が進むと予想されるものである。そして、判定Ｃの評価用試験体では目視においても外観劣化がわかるほど腐食が進んでいる傾向がある。
【００５７】
（２）耐腐食性２
作製した評価用試験体の表面に評価液（水５０ｍｌに乳酸２．５ｇとＮａＣｌ５ｇを溶解したもの）を滴下し、６０℃×９０％ＲＨ環境下で４時間暴露することとした以外は上記の「耐腐食性１」の評価方法と同様にして耐腐食性２の評価を行った。
【００５８】
（３）密着性
１）評価用試験体の作製
ア．遠赤外線反射基板を５０ｍｍ角正方形にカットする。
イ．ア項でカットした試料の基材側の面に粘着層を形成する。
ウ．イ項で形成した粘着層を介して、３ｍｍ厚のフロートガラスに貼合し、遠赤外線反射基板のガラス貼合体を得る。
エ．ウ項で得たガラス貼合体に、クロスカット用間隔スペーサー（コーテック株式会社製：型番ＣＲＯＳＳＣＣＵＴ  ＧＵＩＤＥ１．０）、カッターナイフを用い、遠赤外線反射基板に縦方向６回、横方向６回の切り込みを１ｍｍ間隔で入れた評価用試験体を得る（本操作により、遠赤外線反射基板表面に５×５＝２５マスの格子が作製される）。
２）評価用試験体の判定
作製した評価用試験体の格子上に透明感圧付着テープ（日東電工株式会社製：型番３１Ｂ）を圧着し、圧着したテープを約６０度の方向に引き剥がす。
ア．判定基準
Ａ：２５マス全ての格子で剥離無し。
Ｂ：２５マス中１マス以上の格子が剥離が発生。
密着性の判定がＡの遠赤外線反射基板は密着性の判定がＢの遠赤外線反射基板と比べ、より優れた密着性を有しているといえる。
【００５９】
（４）可視光透過率
１）評価用試験体の作製
ア．遠赤外線反射基板を５０ｍｍ角正方形にカットする。
イ．前記ア項でカットした試料の基材側の面に透明粘着層を形成する。
ウ．次に、イ項で形成した粘着層を介して、３ｍｍ厚の透明フロートガラスに貼合し、評価用試験体を得る。
２）評価用試験体の判定
可視光透過率の測定は、ＪＩＳ  Ｒ  ３１０６（１９９８）に準拠して行い、波長３８０〜７８０ｎｍの分光透過率より求めたものを可視光透過率（％）とした。
・測定装置：島津製作所製  紫外可視近赤外分光光度計  ＵＶ−３６００
・波長範囲：３８０〜７８０ｎｍ
・スリット幅：（２０）
・スキャンスピード：高速
・サンプリング：１ｎｍ
・グレーティング：７２０ｎｍ
・測定内容：５検体を測定し、最大値を示す検体と最小値を示す検体除外した３検体の平均値をもとめた。
【００６０】
（５）遠赤外線反射性能
１）評価用試験体の作製
ア．遠赤外線反射基板を５０ｍｍ角正方形にカットする。
イ．前記ア項でカットした試料の基材側の面に透明粘着層を形成する。
ウ．次に、イ項で形成した粘着層を介して、３ｍｍ厚の透明フロートガラスに貼合し、評価用試験体を得る。
２）評価用試験体の判定
遠赤外線反射率の測定は、ＪＩＳ  Ｒ  ３１０６（１９９８）に準拠して行い、波長５〜２５μｍの分光反射率より、２８３Ｋの熱放射に対する反射率を求めたものを遠赤外線反射率（％）とした。
・測定装置：島津製作所製  フーリエ変換赤外分光光度計  ＩＲＰｒｅｓｔｉｇｅ−２１
・正反射測定ユニット：ＳＲＭ−８０００Ａ
・波数範囲：４００〜２０００ｃｍ−１
・測定モード：％Ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ
・アボダイズ係数：Ｈａｐｐ−Ｇｅｎｚｅｌ
・積算回数：４０
・分解：４．０
・測定内容：５検体を測定し、最大値を示す検体と最小値を示す検体除外した３検体の平均値をもとめた。
【００６１】
（６）保護層［Ｂ］、金属層［Ｃ］、珪素含有層［Ｄ］、高屈折率層［Ｅ］の厚み
電界放出型電子顕微鏡（日本電子製ＪＥＭ２１００Ｆ）を用いて観察した、ＳＴＥＭ(Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｙ)像から厚みを測長した。
・試料作製：ＦＩＢマイクロサンプリング法（日立製  ＦＢ−２１００μ-Ｓａｍｐｌｉｎｇ  Ｓｙｓｔｅｍ）
・ＳＴＥＭ像観察条件：加速電圧  ２００ｋＶ、ｂｅａｍ  ｓｐｏｔ  ｓｉｚｅ １ｎｍφ程度
・測定ｎ数：１。
【００６２】
（７）金属層［Ｃ］の含有質量％
電界放出型電子顕微鏡（日本電子製ＪＥＭ２１００Ｆ）に搭載されたＥＤＸ（検出器：日本電子製ＪＥＤ−２３００Ｔ、ソフト：日本電子製Ａｎａｌｙｓｉｓ  Ｓｔａｔｉｏｎ）を用いて測定し、得られたＥＤＸスペクトルから、質量％を算出した。なお、質量％が１％未満となる元素については、質量％の計算において除外した。
・試料作製：ＦＩＢマイクロサンプリング法（日立製  ＦＢ−２１００μ−Ｓａｍｐｌｉｎｇ  Ｓｙｓｔｅｍ）
・ＳＴＥＭ像観察条件：加速電圧  ２００ｋＶ、ｂｅａｍ  ｓｐｏｔ  ｓｉｚｅ １ｎｍφ程度
・観察元素：Ｃ〜Ｕ
・測定ｎ数：１。
【００６３】
（８）珪素含有層［Ｄ］の原子数％、含有比
電界放出型電子顕微鏡（日本電子製ＪＥＭ２１００Ｆ）に搭載されたＥＤＸ（検出器：日本電子製ＪＥＤ−２３００Ｔ、ソフト：日本電子製Ａｎａｌｙｓｉｓ  Ｓｔａｔｉｏｎ）を用いて測定し、得られたＥＤＸスペクトルから、原子数％を算出した。なお、原子数％が１％未満となる元素については、原子数％の計算において除外した。珪素含有層［Ｄ］の珪素（Ｓｉ）に対する酸素（Ｏ）の含有比をｘ、珪素含有層［Ｄ］の珪素（Ｓｉ）に対する窒素（Ｎ）の含有比をｙ、珪素含有層［Ｄ］の珪素（Ｓｉ）に対するその他元素（Ｍ）の含有比をｚとして、珪素含有層［Ｄ］の元素含有比をＳｉＯｘＮｙＭｚと表した際のｘ＋ｙの値の算出に用いられるｘとｙとは以下の式より求めた。
ｘ＝「得られた酸素の原子数％」／「珪素の原子数％」
ｙ＝「得られた窒素の原子数％」／「珪素の原子数％」
・試料作製：ＦＩＢマイクロサンプリング法（日立製  ＦＢ−２１００μ−Ｓａｍｐｌｉｎｇ  Ｓｙｓｔｅｍ）
・ＳＴＥＭ像観察条件：加速電圧  ２００ｋＶ、ｂｅａｍ  ｓｐｏｔ  ｓｉｚｅ  １ｎｍφ
・観察元素：Ｃ〜Ｕ
・測定ｎ数：１。
【００６４】
（９）屈折率
以下の方法により波長５８９ｎｍにおける屈折率を求めた。
１）測定法
下記の装置および測定条件により、測定サンプルからの反射光の偏光状態の変化を測定し、光学定数（屈折率および消衰係数）を計算により求めた。計算は、試料で測定されたΔ（位相差）とψ（振幅反射率）のスペクトルを計算モデルから算出された（Δ、ψ）と比較し、測定値（Δ、ψ）に近づくように誘電関数を変化させてフィッティングしていく。ここで示されたフィッティング結果は、測定値と理論値がベストフィット（平均二乗誤差が最小に収束）した結果である。
２）装置
・高速分光エリプソメーター  Ｍ−２０００（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ  社製）
・回転補償子型（ＲＣＥ：  Ｒｏｔａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒ  Ｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｅｒ）
・３００ｍｍ  Ｒ−Ｔｈｅｔａ  ステージ
３）測定条件
・入射角：６５度、７０度、７５度
・測定波長：  １９５ｎｍ〜１６８０ｎｍ
・解析ソフト：ＷＶＡＳＥ３２
・ビーム径：１×２ｍｍ
・測定ｎ数：１。
【００６５】
（１０）水に対する接触角
水に対する接触角の測定は、ＪＩＳ  Ｒ  ３２５７（１９９９）に準拠して、静適法を用いて、水に対する静的な接触角を求めた。
【００６６】
［実施例１］
厚さ２．５μｍの内部緩衝層［Ｆ］を有する基材［Ａ］として、ハードコートフィルム（タフトップ（登録商標）ＴＨＳ：東レフィルム加工（株）製）を使用した。
該フィルムの内部緩衝層［Ｆ］の上に、金属元素、半金属元素および半導体元素の総和に対して、錫の含有質量％が７０％、亜鉛の含有質量％が３０％である金属酸化物ターゲットを用いて、アルゴン／二酸化炭素／窒素の圧力比を８５％／１０％／５％とした製膜ガス条件下でスパッタリング加工を行い、厚み３２ｎｍの第1の高屈折率層［Ｅ］を形成した。第1の高屈折率層［Ｅ］の屈折率は２．０であった。
【００６７】
続いてＳｉターゲットを用いて、アルゴン１００％とした製膜ガス条件下でスパッタリング加工を行い、厚さ２ｎｍの第1の珪素含有層［Ｄ］を形成した。続いて金属元素、半金属元素および半導体元素の総和に対して、銀（Ａｇ）の含有質量％が９７％、金の含有質量％が３％である金属ターゲットを用いて、アルゴン１００％とした製膜ガス条件下でスパッタリング加工を行い、厚み１３ｎｍの金属層［Ｃ］を形成した。続いてＳｉターゲットを用いて、アルゴン１００％とした製膜ガス条件下でスパッタリング加工を行い、厚さ２ｎｍの第２の珪素含有層［Ｄ］を形成した。続いて、金属元素、半金属元素および半導体元素の総和に対して、錫の含有質量％が７０％、亜鉛の含有質量％が３０％である金属酸化物ターゲットを用いて、アルゴン／二酸化炭素／窒素の圧力比を８５％／１０％／５％とした製膜ガス条件下でスパッタリング加工を行い、厚み３２ｎｍの第２の高屈折率層［Ｅ］を形成した。第２の高屈折率層［Ｅ］の屈折率は２．０であった。
【００６８】
更に続いて、Ｓｉターゲットを用いて、アルゴン／二酸化炭素／窒素の圧力比を４５％／４０％／１５％とした製膜ガス条件下でスパッタリング加工を行い、厚み２０ｎｍの無機系保護層［Ｂ１］を形成し、遠赤外線反射基板を得た。無機系保護層［Ｂ１］における珪素の酸化物、アルミニウムの酸化物、珪素の窒化物、及びアルミニウムの窒化物からなる群より選ばれる１種以上の酸窒化物は、９９質量％であった。実施例１の遠赤外線反射基板の構成を表１、評価結果を表２に示す。
【００６９】
［実施例２］
実施例１と同様に基板［Ａ］、内部緩衝層［Ｆ］、第1の高屈折率層［Ｅ］、第1の珪素含有層［Ｄ］、金属層［Ｃ］、第２の珪素含有層［Ｄ］２、第２の高屈折率層［Ｅ］２、無機系保護層［Ｂ１］を形成した。
【００７０】
更に続いて、無機系保護層［Ｂ１］の上に、Ｎｏｖｅｃ１７２０（スリーエム製、有効成分０．１ｗｔ％）をバーコーター（番手Ｎｏ．３）を用いてに塗布し、８０℃で３分乾燥して有機系保護層［Ｂ２］を形成し、遠赤外線反射基板を得た。有機系保護層［Ｂ２］表面の水に対する接触角は１０７°であった。実施例２の遠赤外線反射基板の構成を表３、評価結果を表４に示す。
【００７１】
［実施例３］
実施例１と同様に、基材［Ａ］、内部緩衝層［Ｆ］、第1の高屈折率層［Ｅ］を形成した。続いてＳｉターゲットを用いて、アルゴン１００％とした製膜ガス条件下でスパッタリング加工を行い、厚さ４ｎｍの珪素含有層［Ｄ］を形成した。続いて実施例１と同様に、金属層［Ｃ］を形成した。更に続いて、実施例１と同様に、第２の高屈折率層［Ｅ］、無機系保護層［Ｂ１］を形成し、遠赤外線反射基板を得た。実施例３の遠赤外線反射基板の構成を表１、評価結果を表２に示す。
【００７２】
［実施例４］
実施例１と同様に基板［Ａ］、内部緩衝層［Ｆ］、第１の高屈折率層［Ｅ］、珪素含有層［Ｄ］、金属層［Ｃ］、第２の高屈折率層［Ｅ］、無機系保護層［Ｂ１］を形成した。
【００７３】
更に続いて、無機系保護層［Ｂ１］の上に、実施例２と同様に有機系保護層［Ｂ２］を形成し、遠赤外線反射基板を得た。実施例４の遠赤外線反射基板の構成を表３、評価結果を表４に示す。
【００７４】
［実施例５］
実施例１と同様に、基材［Ａ］、内部緩衝層［Ｆ］、第1の高屈折率層［Ｅ］を形成した。続いて実施例１と同様に、金属層［Ｃ］を形成した。続いてＳｉターゲットを用いて、アルゴン１００％とした製膜ガス条件下でスパッタリング加工を行い、厚さ４ｎｍの珪素含有層［Ｄ］を形成した。続いて、実施例１と同様に、第２の高屈折率層［Ｅ］、無機系保護層［Ｂ１］を形成し、遠赤外線反射基板を得た。実施例５の遠赤外線反射基板の構成を表１、評価結果を表２に示す。
【００７５】
［実施例６］
実施例５と同様に基板［Ａ］、内部緩衝層［Ｆ］、第１の高屈折率層［Ｅ］、金属層［Ｃ］、珪素含有層［Ｄ］、第２の高屈折率層［Ｅ］、無機系保護層［Ｂ１］を形成した。
【００７６】
更に続いて、無機系保護層［Ｂ１］の上に、実施例２と同様に有機系保護層［Ｂ２］を形成し、遠赤外線反射基板を得た。実施例６の遠赤外線反射基板の構成を表３、評価結果を表４に示す。
【００７７】
［実施例７］
実施例１と同様に、基材［Ａ］、内部緩衝層［Ｆ］、第１の高屈折率層［Ｅ］を形成した。続いてＳｉターゲットを用いて、アルゴン１００％とした製膜ガス条件下でスパッタリング加工を行い、厚さ４ｎｍの第1の珪素含有層［Ｄ］を形成した。続いて実施例１と同様に、金属層［Ｃ］を形成した。続いてＳｉターゲットを用いて、アルゴン１００％とした製膜ガス条件下でスパッタリング加工を行い、厚さ４ｎｍの第２の珪素含有層［Ｄ］を形成した。続いて、実施例１と同様に、第２の高屈折率層［Ｅ］、無機系保護層［Ｂ１］を形成し、遠赤外線反射基板を得た。実施例７の遠赤外線反射基板の構成を表１、評価結果を表２に示す。
【００７８】
［実施例８］
実施例７と同様に基板［Ａ］、内部緩衝層［Ｆ］、第1の高屈折率層［Ｅ］、第1の珪素含有層［Ｄ］、金属層［Ｃ］、第２の珪素含有層［Ｄ］、第２の高屈折率層［Ｅ］、無機系保護層［Ｂ１］を形成した。
【００７９】
更に続いて、無機系保護層［Ｂ１］の上に、実施例２と同様に有機系保護層［Ｂ２］を形成し、遠赤外線反射基板を得た。実施例８の遠赤外線反射基板の構成を表３、評価結果を表４に示す。
【００８０】
［実施例９］
実施例１と同様に、基材［Ａ］、内部緩衝層［Ｆ］、第１の高屈折率層［Ｅ］を形成した。続いてＳｉターゲットを用いて、アルゴン１００％とした製膜ガス条件下でスパッタリング加工を行い、厚さ８ｎｍの第１の珪素含有層［Ｄ］を形成した。続いて実施例１と同様に、金属層［Ｃ］を形成した。続いてＳｉターゲットを用いて、アルゴン１００％とした製膜ガス条件下でスパッタリング加工を行い、厚さ８ｎｍの第２の珪素含有層［Ｄ］を形成した。第２の珪素含有層［Ｄ］の珪素含有量は９５原子数％であり、元素含有比をＳｉＯｘＮｙＭｚと表した際のｘ＋ｙの値は０．１であった。また、第２の珪素含有層［Ｄ］をＸ線光電子分光法で分析した際に得られる珪素のピークトップが示す結合エネルギー値ＢＥ−Ｔ（［Ｄ］）は９９ｅＶであった。続いて、実施例１と同様に、第２の高屈折率層［Ｅ］、無機系保護層［Ｂ１］を形成し、遠赤外線反射基板を得た。実施例９の遠赤外線反射基板の構成を表１、評価結果を表２に示す。
【００８１】
［比較例１］
実施例１と同様に、基材［Ａ］、内部緩衝層［Ｆ］、第１の高屈折率層［Ｅ］を形成した。続いて実施例１と同様に、金属層［Ｃ］を形成した。続いて、実施例１と同様に、第２の高屈折率層［Ｅ］、無機系保護層［Ｂ１］を形成し、遠赤外線反射基板を得た。比較例１の遠赤外線反射基板の構成を表１、評価結果を表２に示す。
【００８２】
［比較例２］
比較例１と同様に基板［Ａ］、内部緩衝層［Ｆ］、第１の高屈折率層［Ｅ］、金属層［Ｃ］、第２の高屈折率層［Ｅ］、無機系保護層［Ｂ１］を形成した。
【００８３】
更に続いて、無機系保護層［Ｂ１］の上に、実施例２と同様に有機系保護層［Ｂ２］を形成し、遠赤外線反射基板を得た。比較例２の遠赤外線反射基板の構成を表３、評価結果を表４に示す。
【００８４】
［比較例３］
実施例１と同様に、基材［Ａ］、内部緩衝層［Ｆ］、第１の高屈折率層［Ｅ］を形成した。Ｓｉターゲットを用いて、アルゴン／二酸化炭素／窒素の圧力比を４５％／４０％／１５％とした製膜ガス条件下でスパッタリング加工を行い、厚み８ｎｍの珪素含有層［Ｄ］を形成した。この珪素含有層［Ｄ］の珪素含有量は、３２原子数％であり、元素含有比をＳｉＯｘＮｙＭｚ（ここでＭは、珪素、酸素および窒素以外の元素を意味する）と表した際のｘ＋ｙの値は２であった。また、珪素含有層［Ｄ］をＸ線光電子分光法で分析した際に得られる珪素のピークトップが示す結合エネルギー値ＢＥ−Ｔ（［Ｄ］）は１０３ｅＶであった。続いて実施例１と同様に、金属層［Ｃ］を形成した。続いて、実施例１と同様に、第２の高屈折率層［Ｅ］、無機系保護層［Ｂ１］を形成し、遠赤外線反射基板を得た。比較例３の遠赤外線反射基板の構成を表１、評価結果を表２に示す。
【００８５】
【表１】
2018075797.tif 000003
【００８６】
【表２】
2018075797.tif 000004
【００８７】
【表３】
2018075797.tif 000005
【００８８】
【表４】
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【産業上の利用可能性】
【００８９】
本発明の遠赤外線反射基板は、その優れた耐腐食性を活かし、建築物や乗り物などの窓から流出入する熱エネルギーの遮断による冷暖房効果の向上するために金属層を設けた透明断熱、遮熱ウインドウ材や電磁波シールド材などとして利用することができる。
【符号の説明】
【００９０】
１：基材［Ａ］
２：内部緩衝層［Ｆ］
３：第1の高屈折率層［Ｅ］
４：第１の珪素含有層［Ｄ］
５：金属層［Ｃ］
６：第２の珪素含有層［Ｄ］
７：第２の高屈折率層［Ｅ］
８：保護層［Ｂ］
９：無機系保護層［Ｂ１］
１０：有機系保護層［Ｂ２］
１１：珪素含有層［Ｄ］
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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