(57)【要約】【課題】表示品位の低下を抑制することが可能なカラーフィルタ基板及び表示装置を提供する。【解決手段】本実施形態によれば、第１カラーフィルタと、第１カラーフィルタと隣り合い、第１カラーフィルタの色と異なる色の第２カラーフィルタと、第１カラーフィルタと第２カラーフィルタとの間に位置し、第１カラーフィルタ及び第２カラーフィルタと接する突起部と、を備え、突起部の高さは、第１カラーフィルタの高さ及び第２カラーフィルタの高さより大きい、カラーフィルタ基板が提供される。【選択図】      図３
2018106056.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１カラーフィルタと、
前記第１カラーフィルタと隣り合い、前記第１カラーフィルタの色と異なる色の第２カラーフィルタと、
前記第１カラーフィルタと前記第２カラーフィルタとの間に位置し、前記第１カラーフィルタ及び前記第２カラーフィルタと接する突起部と、
を備え、
前記突起部の高さは、前記第１カラーフィルタの高さ及び前記第２カラーフィルタの高さより大きい、カラーフィルタ基板。
【請求項２】
前記突起部は、第１層と、前記第１層と重なる第２層と、を備え、
前記第１層は、遮光層である、請求項１に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項３】
前記第２層は、白色層または透明層である、請求項２に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項４】
前記第２層の色は、前記第１カラーフィルタ及び前記第２カラーフィルタの色と異なっている、請求項２に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項５】
主面を有する絶縁基板をさらに備え、
前記第１カラーフィルタ、前記第２カラーフィルタ、及び前記第１層は、前記主面に接し、
前記第１層は、前記絶縁基板と前記第２層との間に位置している、請求項２乃至４のいずれか１項に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項６】
光透過性を有し、前記第１カラーフィルタ及び前記第２カラーフィルタを覆う絶縁層をさらに備え、
前記第２層は、前記絶縁層と接している、請求項５に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項７】
主面を有する絶縁基板をさらに備え、
前記第１カラーフィルタ、前記第２カラーフィルタ、及び前記第２層は、前記主面に接し、
前記第２層は、前記絶縁基板と前記第１層との間に位置している、請求項２乃至４のいずれか１項に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項８】
光透過性を有し、前記第１カラーフィルタ及び前記第２カラーフィルタを覆う絶縁層をさらに備え、
前記第１層は、前記絶縁層と接している、請求項７に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項９】
前記突起部は、白色層または透明層である、請求項１に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項１０】
前記突起部の色は、前記第１カラーフィルタ及び前記第２カラーフィルタの色と異なっている、請求項１に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項１１】
主面を有する絶縁基板と、
光透過性を有し、前記突起部、前記第１カラーフィルタ及び前記第２カラーフィルタを覆う絶縁層と、
前記突起部と重なる遮光層と、をさらに備え、
前記絶縁層は、前記突起部と前記遮光層との間に位置し、
前記突起部は、前記主面及び前記絶縁層に接している、
請求項９または１０に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項１２】
前記第１カラーフィルタと前記第２カラーフィルタとは、第１方向に並び、
前記突起部は、前記第１方向と交差する第２方向に沿って設けられている、請求項１乃至１１のいずれか１項に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項１３】
前記第１カラーフィルタと前記第２方向に隣り合い、前記第１カラーフィルタの色と異なる色の第３カラーフィルタをさらに備え、
前記突起部は、前記第１カラーフィルタと前記第３カラーフィルタとの間で前記第１方向に沿って設けられている、請求項１２に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項１４】
基板上に走査線と、信号線と、スイッチング素子を有する表示装置において、
第１カラーフィルタと、
前記第１カラーフィルタと隣り合い、前記第１カラーフィルタの色と異なる色の第２カラーフィルタと、
前記第１カラーフィルタと前記第２カラーフィルタとの間に位置し、前記第１カラーフィルタ及び前記第２カラーフィルタと接する突起部と、
を備え、
前記突起部の基板主面からの高さは、前記第１カラーフィルタの基板主面からの高さ及び前記第２カラーフィルタの基板主面からの高さより大きい、表示装置。
【請求項１５】
前記突起部は、第１層と、前記第１層と重なる第２層と、を備え、
前記第１層は、遮光層である、請求項１４に記載の表示装置。
【請求項１６】
前記第２層は、白色層または透明層である、請求項１５に記載の表示装置。
【請求項１７】
前記第２層の色は、前記第１カラーフィルタ及び前記第２カラーフィルタの色と異なっている、請求項１５に記載の表示装置。
【請求項１８】
前記突起部は、白色層または透明層である、請求項１４に記載の表示装置。
【請求項１９】
前記突起部の色は、前記第１カラーフィルタ及び前記第２カラーフィルタの色と異なっている、請求項１４に記載の表示装置。
【請求項２０】
光透過性を有し、前記突起部、前記第１カラーフィルタ及び前記第２カラーフィルタを覆う絶縁層と、
前記突起部と重なる遮光層と、をさらに備え、
前記絶縁層は、前記突起部と前記遮光層との間に位置し、
前記突起部は、前記基板主面及び前記絶縁層に接している、
請求項１８または１９に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、カラーフィルタ基板及び表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、例えば、赤色、緑色、青色等のカラーフィルタを備えている。高精細化された表示装置においては、隣り合うカラーフィルタが互いに接する傾向にある。異なる色のカラーフィルタが互いに接している場合、カラーフィルタに含まれる色材等の成分が隣のカラーフィルタに染み込み、カラーフィルタの変色や光透過率の減少を招くおそれがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１４−７７９２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本実施形態の目的は、表示品位の低下を抑制することが可能な表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本実施形態によれば、  
第１カラーフィルタと、前記第１カラーフィルタと隣り合い、前記第１カラーフィルタの色と異なる色の第２カラーフィルタと、前記第１カラーフィルタと前記第２カラーフィルタとの間に位置し、前記第１カラーフィルタ及び前記第２カラーフィルタと接する突起部と、を備え、前記突起部の高さは、前記第１カラーフィルタの高さ及び前記第２カラーフィルタの高さより大きい、カラーフィルタ基板が提供される。
【０００６】
本実施形態によれば、  
基板上に走査線と、信号線と、スイッチング素子を有する表示装置において、第１カラーフィルタと、前記第１カラーフィルタと隣り合い、前記第１カラーフィルタの色と異なる色の第２カラーフィルタと、前記第１カラーフィルタと前記第２カラーフィルタとの間に位置し、前記第１カラーフィルタ及び前記第２カラーフィルタと接する突起部と、
を備え、前記突起部の基板主面からの高さは、前記第１カラーフィルタの基板主面からの高さ及び前記第２カラーフィルタの基板主面からの高さより大きい、表示装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】図１は、本実施形態に係る表示装置の概略的な構成を示す平面図である。
【図２】図２は、画像表示に関わる概略的な等価回路を示す図である。
【図３】図３は、図１に示す第２基板の構成例を示す断面図である。
【図４】図４は、図３に示す第２基板ＳＵＢ２の製造方法の一例を示す断面図である。
【図５】図５は、図４に続く製造工程を示す断面図である。
【図６】図６は、図１に示す第１基板の構成例を示す平面図である。
【図７】図７は、図６のＡ−Ｂ線で切断した表示パネルの一例を示す断面図である。
【図８】図８は、図６のＣ−Ｄ線で切断した表示パネルの一例を示す断面図である。
【図９】図９は、第２基板の他の構成例を示す断面図である。
【図１０】図１０は、第２基板の他の構成例を示す断面図を示す図である。
【図１１】図１１は、第２基板の他の構成例を示す断面図を示す図である。
【図１２】図１２は、第２基板の他の構成例を示す断面図を示す図である。
【図１３】図１３は、遮光層、第２層、及びカラーフィルタの配置例を示す平面図である。
【図１４】図１４は、遮光層、第２層、及びカラーフィルタの他の配置例を示す平面図である。
【図１５】図１５は、遮光層、第２層、及びカラーフィルタの他の配置例を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。
【０００９】
図１は、本実施形態の表示装置ＤＳＰの構成を示す図である。図に示す第１方向Ｘ及び第２方向Ｙは互いに交差している。一例では、第１方向Ｘと第２方向Ｙとは、互いに直交しているが、９０度以外の角度で互いに交差していても良い。
【００１０】
本実施形態においては、表示装置の一例として、液晶表示装置について説明する。なお、本実施形態にて開示する主要な構成は、有機エレクトロルミネッセンス表示素子等を有する自発光型の表示装置、電気泳動素子等を有する電子ペーパ型の表示装置、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）を応用した表示装置、或いはエレクトロクロミズムを応用した表示装置などにも適用可能である。
【００１１】
表示装置ＤＳＰは、表示パネルＰＮＬ、表示パネルＰＮＬを駆動する駆動ＩＣチップ１などを備えている。表示パネルＰＮＬは、例えば、液晶表示パネルであり、第１基板ＳＵＢ１と、第２基板ＳＵＢ２と、シール部ＳＥと、液晶層（後述する液晶層ＬＣ）と、を備えている。第２基板ＳＵＢ２は、第１基板ＳＵＢ１に対向している。本実施形態では、第２基板ＳＵＢ２は、カラーフィルタ基板に対応する。シール部ＳＥは、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２とを接着している。表示パネルＰＮＬは、画像を表示する表示領域ＤＡ、及び、表示領域ＤＡを囲む額縁状の非表示領域ＮＤＡを備えている。表示領域ＤＡは、シール部ＳＥによって囲まれた内側に位置している。
【００１２】
駆動ＩＣチップ１は、非表示領域ＮＤＡに位置している。図示した例では、駆動ＩＣチップ１は、第２基板ＳＵＢ２よりも外側に延出した第１基板ＳＵＢ１の実装部ＭＴに実装されている。駆動ＩＣチップ１は、例えば、画像表示に必要な信号を出力するディスプレイドライバを内蔵している。ここでのディスプレイドライバは、後述する信号線駆動回路ＳＤ、走査線駆動回路ＧＤ、及び、共通電極駆動回路ＣＤの少なくとも一部を含むものである。なお、図示した例に限らず、駆動ＩＣチップ１は、別途表示パネルＰＮＬに接続されるフレキシブル基板上に実装されていても良い。
【００１３】
本実施形態の表示パネルＰＮＬは、第１基板ＳＵＢ１の背面側からの光を選択的に透過させることで画像を表示する透過表示機能を備えた透過型、第２基板ＳＵＢ２の前面側からの光を選択的に反射させることで画像を表示する反射表示機能を備えた反射型、あるいは、透過表示機能及び反射表示機能を備えた半透過型のいずれであっても良い。
【００１４】
また、ここでは、表示パネルＰＮＬの詳細な構成については説明を省略するが、表示パネルＰＮＬは、Ｘ−Ｙ平面、あるいは、基板主面に沿った横電界を利用する表示モード、Ｘ−Ｙ平面の法線に沿った縦電界を利用する表示モード、あるいは、Ｘ−Ｙ平面に対して斜め方向に傾斜した傾斜電界を利用する表示モードのいずれを適用した構成を有していても良い。また、表示パネルＰＮＬは、上記の縦電界、横電界、及び、傾斜電界を適宜組み合わせて利用する表示モードに対応した構成を有していても良い。
【００１５】
図２は、図１に示した表示パネルＰＮＬの基本構成及び等価回路を示す図である。表示パネルＰＮＬは、表示領域ＤＡにおいて、複数の画素ＰＸを備えている。複数の画素ＰＸは、マトリクス状に配置されている。また、表示パネルＰＮＬは、表示領域ＤＡにおいて、複数本の走査線Ｇ（Ｇ１〜Ｇｎ）、複数本の信号線Ｓ（Ｓ１〜Ｓｍ）、共通電極ＣＥなどを備えている。走査線Ｇは、各々第１方向Ｘに延出し、第２方向Ｙに並んでいる。信号線Ｓは、各々第２方向Ｙに延出し、第１方向Ｘに並んでいる。なお、走査線Ｇ及び信号線Ｓは、必ずしも直線的に延出していなくても良く、それらの一部が屈曲していてもよい。共通電極ＣＥは、複数の画素ＰＸに亘って配置されている。
【００１６】
走査線Ｇは、走査線駆動回路ＧＤに接続されている。信号線Ｓは、信号線駆動回路ＳＤに接続されている。共通電極ＣＥは、共通電極駆動回路ＣＤに接続されている。信号線駆動回路ＳＤ、走査線駆動回路ＧＤ、及び、共通電極駆動回路ＣＤは、非表示領域ＮＤＡにおいて、第１基板ＳＵＢ１上に形成されても良いし、これらの一部或いは全部が図１に示した駆動ＩＣチップ１に内蔵されていても良い。
【００１７】
各画素ＰＸは、スイッチング素子ＳＷ、画素電極ＰＥ、共通電極ＣＥ、液晶層ＬＣ等を備えている。スイッチング素子ＳＷは、例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）によって構成され、走査線Ｇ及び信号線Ｓと電気的に接続されている。走査線Ｇは、第１方向Ｘに並んだ画素ＰＸの各々におけるスイッチング素子ＳＷと接続されている。信号線Ｓは、第２方向Ｙに並んだ画素ＰＸの各々におけるスイッチング素子ＳＷと接続されている。画素電極ＰＥは、スイッチング素子ＳＷと電気的に接続されている。画素電極ＰＥの各々は、共通電極ＣＥと対向し、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に生じる電界によって液晶層ＬＣを駆動している。保持容量ＣＳは、例えば、共通電極ＣＥと同電位の電極、及び、画素電極ＰＥと同電位の電極の間に形成される。これらの走査線Ｇ、信号線Ｓ、スイッチング素子ＳＷ、画素電極ＰＥ、共通電極ＣＥなどは、図１に示した第１基板ＳＵＢ１に備えられている。
【００１８】
図３は、図１に示す第２基板（カラーフィルタ基板）ＳＵＢ２の構成例を示す断面図である。図に示す第３方向Ｚは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙと直交している。本明細書において、第３方向Ｚを示す矢印の先端に向かう方向を上方（あるいは、単に上）と称し、矢印の先端から逆に向かう方向を下方（あるいは、単に下）と称する。
【００１９】
第２基板ＳＵＢ２は、第２絶縁基板２０、突起部ＰＪ（ＰＪ１、ＰＪ２、ＰＪ３）、カラーフィルタＣＦ（ＣＦ１、ＣＦ２、ＣＦ３、ＣＦ４）、オーバーコート層ＯＣなどを備えている。
【００２０】
第２絶縁基板２０は、ガラス基板や樹脂基板などの光透過性を有する基板である。第２絶縁基板２０は、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙによって規定されるＸ−Ｙ平面に沿った主面２０Ａを有している。
【００２１】
突起部ＰＪは、主面２０Ａに設けられ、主面２０Ａから第３方向Ｚに沿って突出している。図示した例では、突起部ＰＪ１、ＰＪ２、ＰＪ３は、ほぼ等しい間隔で第１方向Ｘに沿って配置されている。
【００２２】
カラーフィルタＣＦは、隣り合う突起部ＰＪの間に形成されている。各カラーフィルタＣＦは、主面２０Ａに接するとともに、両端に位置する突起部ＰＪとも接している。カラーフィルタＣＦは、例えばアクリル系の樹脂により形成されている。一例では、カラーフィルタＣＦ１の色は、赤色であり、カラーフィルタＣＦ２の色は、緑色であり、カラーフィルタＣＦ３の色は、青色であり、カラーフィルタＣＦ４の色は、白色又は透明である。カラーフィルタＣＦ４、ＣＦ１、ＣＦ２、ＣＦ３は、この順に第１方向Ｘに沿って配置されている。
【００２３】
図示した例では、突起部ＰＪ１は、カラーフィルタＣＦ４とカラーフィルタＣＦ１との間に位置している。突起部ＰＪ２は、カラーフィルタＣＦ１とカラーフィルタＣＦ２との間に位置している。突起部ＰＪ３は、カラーフィルタＣＦ２とカラーフィルタＣＦ３との間に位置している。突起部ＰＪ及びカラーフィルタＣＦは、オーバーコート層ＯＣにより覆われている。
【００２４】
本実施形態において、突起部ＰＪは、第１層Ｌ１と第２層Ｌ２とを有している。以下では、突起部ＰＪ２を突起部ＰＪの構成について代表させて説明しているが、突起部ＰＪ３についても同様である。また、突起部ＰＪ１については後述する。
【００２５】
第１層Ｌ１と第２層Ｌ２とは、第３方向Ｚに重なっている。第１層Ｌ１は、主面２０Ａと第２層Ｌ２との間に位置している。第１層Ｌ１は、主面２０Ａ及び第２層Ｌ２と接し、オーバーコート層ＯＣから離間している。第２層Ｌ２は、第１層Ｌ１とオーバーコート層ＯＣとの間に位置している。第２層Ｌ２は、オーバーコート層ＯＣと接し、主面２０Ａから離間している。第１層Ｌ１と第２層Ｌ２とは、第１方向Ｘにおいて、カラーフィルタＣＦ１とカラーフィルタＣＦ２との間に位置し、カラーフィルタＣＦ１及びカラーフィルタＣＦ２とそれぞれ接している。
【００２６】
本実施形態において、第１層Ｌ１は、例えば遮光層ＢＭである。遮光層ＢＭは、後述するように主面２０Ａにおいて例えば格子状またはストライプ状に形成され、図２に示す各画素ＰＸを区画している。
【００２７】
第１方向Ｘにおいて、第２層Ｌ２の幅ＷＬ２は、第１層Ｌ１の幅ＷＬ１より小さい。しかしながら、幅ＷＬ２は、幅ＷＬ１以下であればよい。また、第２層Ｌ２は、その全体が第１層Ｌ１に重なっていることが望ましい。なお、幅ＷＬ１は、主面２０Ａと接している第１層Ｌ１の領域の幅に相当する。幅ＷＬ２は、第１層Ｌ１に接している第２層Ｌ２の領域の幅に相当する。
【００２８】
本実施形態において、突起部ＰＪ２の高さＴＰＪ２は、隣接するカラーフィルタＣＦ１及びＣＦ２の高さＴＣ１２及びＴＣ２２より大きい。ここで、「高さ」は、基準位置からの第３方向Ｚの距離として定義される。例えば、基準位置は、主面２０Ａに相当する。高さＴＰＪ２は、主面２０Ａから突起部ＰＪ２の第３方向Ｚの上端部までの距離に相当する。突起部ＰＪ２に接するカラーフィルタＣＦ１の高さＴＣ１２は、主面２０ＡからカラーフィルタＣＦ１の第３方向Ｚの上端部Ｅ１２までの距離に相当する。突起部ＰＪ２に接するカラーフィルタＣＦ２の高さＴＣ２２は、主面２０ＡからカラーフィルタＣＦ２の第３方向Ｚの上端部Ｅ２２までの距離に相当する。図示した例では、上端部Ｅ１２及びＥ２２は、第２層Ｌ２と接している。
【００２９】
突起部ＰＪ２の高さＴＰＪ２は、第１層Ｌ１の高さＴＬ１と、第２層Ｌ２の高さＴＬ２との合計に等しい。図示した例では、高さＴＬ１と高さＴＬ２とはほぼ等しいが、高さＴＬ１と高さＴＬ２との比は、適宜に変更することができる。つまり、高さＴＬ１は、高さＴＬ２より大きくてもよく、高さＴＬ２より小さくてもよい。図示した例のように、高さＴＬ１が高さＴＣ１２及びＴＣ２２より小さい場合、第１層Ｌ１と第２層Ｌ２とを積層することで突起部ＰＪ２としての高さが増し、隣り合うカラーフィルタＣＦ１及びＣＦ２を分離することができる。後述するが、高さＴＬ１が高さＴＣ１２及びＴＣ２２より大きい場合には、第１層Ｌ１に第２層Ｌ２を積層しなくとも、隣り合うカラーフィルタＣＦ１及びＣＦ２を分離することができる。
【００３０】
第２層Ｌ２は、例えばアクリル系の樹脂により形成されている。第２層Ｌ２の色は、各突起部ＰＪ１、ＰＪ２、及びＰＪ３において、同色である。第２層Ｌ２は、例えばカラーフィルタＣＦ４と同色の樹脂で形成されている。すなわち、第２層Ｌ２は、白色層又は透明層である。換言すると、突起部ＰＪ２及びＰＪ３においては、第２層Ｌ２の色は、隣接するカラーフィルタＣＦの色と異なっている。図示した例では、第２層Ｌ２は、カラーフィルタＣＦ４と同一材料で形成されている。なお、第２層Ｌ２の色は、カラーフィルタＣＦ１、ＣＦ２及びＣＦ３のいずれかと同色でもよく、第２層Ｌ２は、カラーフィルタＣＦ１、ＣＦ２及びＣＦ３のいずれかと同一材料で形成されてもよい。
【００３１】
次に突起部ＰＪ１について説明する。突起部ＰＪ１において、第２層Ｌ２は、カラーフィルタＣＦ４と一体的に形成されている。第１層Ｌ１は、主面２０Ａ、カラーフィルタＣＦ４、及びカラーフィルタＣＦ１と接している。突起部ＰＪ１において、カラーフィルタＣＦ４は、第１層Ｌ１を覆うとともに、カラーフィルタＣＦ１とも接している。
【００３２】
突起部ＰＪ１の高さＴＰＪ１は、突起部ＰＪ１におけるカラーフィルタＣＦ１の高さＴＣ１１より大きい。高さＴＰＪ１は、突起部ＰＪ１におけるカラーフィルタＣＦ４の高さＴＣ４１に等しい。すなわち、高さＴＣ４１は、主面２０ＡからカラーフィルタＣＦ４の第３方向Ｚの上端部までの距離に相当する。また、高さＴＣ１１は、主面２０ＡからカラーフィルタＣＦ１の第３方向Ｚの上端部Ｅ１１までの距離に相当する。図示した例では、上端部Ｅ１１は、カラーフィルタＣＦ４に接している。
【００３３】
なお、第２層Ｌ２は、突起部ＰＪ１において、カラーフィルタＣＦ１一体的に形成されていなくてもよい。例えば、第２層Ｌ２は、カラーフィルタＣＦ１の色と同色又は異なる色の別部材として形成されてもよい。
【００３４】
次に、図４及び図５を参照して本実施形態の表示装置の製造方法について説明する。
【００３５】
まず、図４に示すように、主面２０Ａに第１層Ｌ１である遮光層ＢＭが形成される。次いで、図中に点線で示すように、主面２０Ａの全面に、遮光層ＢＭを覆うカラーフィルタ層ＣＦＬが形成される。カラーフィルタ層ＣＦＬは、例えば白色又は透明のアクリル系の樹脂により形成される。その後、フォトリソグラフィプロセスによって図４に示すカラーフィルタＣＦ４、及び突起部ＰＪ１乃至ＰＪ３が形成される。すなわち、カラーフィルタＣＦ４の第１方向Ｘの一端部が第１層Ｌ１の一部を覆い、カラーフィルタＣＦ４と一体的な突起部ＰＪ１が形成される。また、他の第１層Ｌ１の略中央と重なる第２層Ｌ２が形成され、突起部ＰＪ２及びＰＪ３が形成される。
【００３６】
次に、図５に示すように、カラーフィルタＣＦ１、ＣＦ２、及びＣＦ３が形成される。具体的には、突起部ＰＪ１と突起部ＰＪ２との間にカラーフィルタＣＦ１が形成される。次いで、突起部ＰＪ２と突起部ＰＪ３との間にカラーフィルタＣＦ２が形成される。次いで、突起部ＰＪ３と図示せぬ突起部との間にカラーフィルタＣＦ３が形成される。なお、カラーフィルタＣＦ１、ＣＦ２、及びＣＦ３が形成される順序は、上記の例に限定されない。その後、カラーフィルタＣＦ及び突起部ＰＪを覆うオーバーコート層ＯＣが形成され、図３に示す第２基板ＳＵＢ２が形成される。
【００３７】
次に、本実施形態の表示装置の具体的な構成例について以下に説明する。
【００３８】
図６は、図１に示した第１基板ＳＵＢ１を第２基板ＳＵＢ２側から見たときの画素ＰＸの構成例を示す平面図である。図示した例は、横電界を利用する表示モードの一つであるＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードが適用された例に相当する。第１基板ＳＵＢ１は、走査線Ｇ１及びＧ２、信号線Ｓ１及びＳ２、スイッチング素子ＳＷ、画素電極ＰＥなどを備えている。なお、一例では、第１基板ＳＵＢ１は共通電極を備えているが、ここでは共通電極の図示を省略する。
【００３９】
走査線Ｇ１及びＧ２は、第２方向Ｙに沿って間隔をおいて配置され、それぞれ第１方向Ｘに沿って延出している。信号線Ｓ１及びＳ２は、第１方向Ｘに沿って間隔をおいて配置され、それぞれ第２方向Ｙに沿って延出している。図示した例では、画素ＰＸは、走査線Ｇ１及びＧ２と信号線Ｓ１及びＳ２とが成すマス目の領域に相当し、第１方向Ｘに沿った長さが第２方向Ｙに沿った長さよりも短い長方形状である。なお、画素ＰＸの形状は、長方形状に限らず、適宜に変更することが可能である。
【００４０】
スイッチング素子ＳＷは、走査線Ｇ２及び信号線Ｓ１と電気的に接続されている。図示した例のスイッチング素子ＳＷは、ダブルゲート構造を有している。スイッチング素子ＳＷは、半導体層ＳＣ及び中継電極ＲＥを備えている。半導体層ＳＣは、その一部分が信号線Ｓ１と重なるように配置され、他の部分が信号線Ｓ１及びＳ２の間に延出し、略Ｕ字状に形成されている。中継電極ＲＥは、島状に形成され、走査線Ｇ１及びＧ２の間であって且つ信号線Ｓ１及びＳ２の間に配置されている。
【００４１】
画素電極ＰＥは、走査線Ｇ１及びＧ２の間であって、信号線Ｓ１及びＳ２の間に配置されている。画素電極ＰＥは、主電極部ＰＡ及びコンタクト部ＰＢを備えている。主電極部ＰＡ及びコンタクト部ＰＢは、一体的あるいは連続的に形成され、互いに電気的に接続されている。図示した画素電極ＰＥは、コンタクト部ＰＢから走査線Ｇ１に向かって延出した２本の主電極部ＰＡを備えている。主電極部ＰＡは、それぞれ第２方向Ｙに沿って直線的に延出している。２本の主電極部ＰＡは、間隔をおいて第１方向Ｘに並び、それぞれ第１方向Ｘに沿って略同一の幅を有する帯状に形成されている。コンタクト部ＰＢは、中継電極ＲＥと重畳する位置に配置され、中継電極ＲＥと電気的に接続されている。これにより、画素電極ＰＥは、スイッチング素子ＳＷと電気的に接続される。なお、画素電極ＰＥの形状は、図示した例に限定されるものではなく、画素ＰＸの形状などに合わせて適宜変更することができる。例えば、画素電極ＰＥは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙと交差する斜め方向に延出し、主電極部ＰＡが斜め方向に延出していても良い。
【００４２】
図７は、図６のＡ−Ｂ線で切断した表示パネルＰＮＬの一部の構造を示す断面図である。図７において、第１基板ＳＵＢ１から第２基板ＳＵＢ２に向う方向を「上」又は「上方」と称し、第２基板ＳＵＢ２から第１基板ＳＵＢ１へ向かう方向を「下」又は「下方」と称す。第１基板ＳＵＢ１は、第１絶縁基板１０、第１絶縁膜１１、第２絶縁膜１２、第３絶縁膜１３、第４絶縁膜１４、第５絶縁膜１５、下側遮光層ＵＳ、半導体層ＳＣ、走査線Ｇ２、信号線Ｓ１、中継電極ＲＥ、共通電極ＣＥ、画素電極ＰＥ、第１配向膜ＡＬ１などを備えている。
【００４３】
第１絶縁基板１０は、ガラス基板や樹脂基板などの光透過性を有する基板である。下側遮光層ＵＳは、第１絶縁基板１０の上に位置し、第１絶縁膜１１によって覆われている。下側遮光層ＵＳは、バックライトユニットＢＬから半導体層ＳＣに向かう光を遮光する。半導体層ＳＣは、第１絶縁膜１１の上に位置し、第２絶縁膜１２によって覆われている。半導体層ＳＣは、例えば、多結晶シリコンによって形成されているが、アモルファスシリコンや酸化物半導体によって形成されていても良い。
【００４４】
走査線Ｇ２の一部であるゲート電極ＧＥ１及びＧＥ２は、第２絶縁膜１２の上に位置し、第３絶縁膜１３によって覆われている。走査線Ｇ２は、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）、銀（Ａｇ）、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）、銅（Ｃｕ）、クロム（Ｃｒ）などの金属材料や、これらの金属材料を組み合わせた合金などによって形成され、単層構造であっても良いし、多層構造であっても良い。なお、下側遮光層ＵＳは、ゲート電極ＧＥ１及びＧＥ２と対向する位置の半導体層ＳＣの直下に位置していることが望ましい。信号線Ｓ１及び中継電極ＲＥは、第３絶縁膜１３の上に位置し、第４絶縁膜１４によって覆われている。信号線Ｓ１及び中継電極ＲＥは、同一材料によって形成され、上記の金属材料が適用可能である。信号線Ｓ１は、第２絶縁膜１２及び第３絶縁膜１３を貫通するコンタクトホールを介して半導体層ＳＣにコンタクトしている。中継電極ＲＥは、第２絶縁膜１２及び第３絶縁膜１３を貫通するコンタクトホールを介して半導体層ＳＣにコンタクトしている。
【００４５】
共通電極ＣＥは、第４絶縁膜１４の上に位置し、第５絶縁膜１５によって覆われている。画素電極ＰＥは、第５絶縁膜１５の上に位置し、第１配向膜ＡＬ１によって覆われている。画素電極ＰＥの一部は、第５絶縁膜１５を介して共通電極ＣＥと対向している。共通電極ＣＥ及び画素電極ＰＥは、インジウム・ティン・オキサイド（ＩＴＯ）やインジウム・ジンク・オキサイド（ＩＺＯ）などの透明な導電材料によって形成されている。画素電極ＰＥは、共通電極ＣＥの開口部と重畳する位置において、第４絶縁膜１４及び第５絶縁膜１５を貫通するコンタクトホールを介して中継電極ＲＥにコンタクトしている。なお、第１絶縁膜１１、第２絶縁膜１２、第３絶縁膜１３、及び、第５絶縁膜１５は、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン酸窒化物などの無機絶縁膜であり、単層構造であっても良いし、多層構造であっても良い。第４絶縁膜１４は、アクリル樹脂などの有機絶縁膜である。
【００４６】
第２基板ＳＵＢ２は、第２絶縁基板２０、遮光層ＢＭ（第１層Ｌ１）、第２層Ｌ２カラーフィルタＣＦ、オーバーコート層ＯＣに加え、第２配向膜ＡＬ２などを備えている。
【００４７】
遮光層ＢＭ、第２層Ｌ２、及びカラーフィルタＣＦは、第２絶縁基板２０の第１基板ＳＵＢ１と対向する側に位置している。遮光層ＢＭは、各画素を区画している。一例では、遮光層ＢＭは、信号線Ｓ１、走査線Ｇ１及びＧ２、スイッチング素子ＳＷなどの配線部とそれぞれ対向する位置に配置されている。第２層Ｌ２は、信号線Ｓ１と対向する位置に配置されている。カラーフィルタＣＦは、画素電極ＰＥと対向する位置に配置され、その一部が遮光層ＢＭに重なっている。カラーフィルタＣＦには、上記のカラーフィルタＣＦ１乃至ＣＦ３が含まれる。オーバーコート層ＯＣは、カラーフィルタＣＦ及び第２層Ｌ２を覆っている。第２配向膜ＡＬ２は、オーバーコート層ＯＣを覆っている。
【００４８】
なお、カラーフィルタＣＦは、第１基板ＳＵＢ１に配置されても良い。遮光層ＢＭは、カラーフィルタＣＦとオーバーコート層ＯＣとの間、あるいは、オーバーコート層ＯＣと第２配向膜ＡＬ２との間に配置されても良い。また、白色を表示する画素が追加されても良く、白色画素には白色のカラーフィルタを配置しても良いし、無着色の樹脂材料を配置しても良いし、カラーフィルタを配置せずにオーバーコート層ＯＣを配置しても良い。
【００４９】
上述した第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２は、第１配向膜ＡＬ１及び第２配向膜ＡＬ２が対向するように配置されている。第１配向膜ＡＬ１と第２配向膜ＡＬ２との間には、所定のセルギャップが形成される。セルギャップは、例えば２〜５μｍである。第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２は、所定のセルギャップが形成された状態でシール材によって貼り合わせられている。
【００５０】
液晶層ＬＣは、第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２の間に位置し、第１配向膜ＡＬ１と第２配向膜ＡＬ２との間に保持されている。液晶層ＬＣは、液晶分子を含んでいる。このような液晶層ＬＣは、ポジ型（誘電率異方性が正）の液晶材料、あるいは、ネガ型（誘電率異方性が負）の液晶材料によって構成されている。
【００５１】
上記のような構成の表示パネルＰＮＬに対して、第１基板ＳＵＢ１の下方には、第１偏光板ＰＬ１を含む第１光学素子ＯＤ１が配置されている。また、第２基板ＳＵＢ２の上方には、第２偏光板ＰＬ２を含む第２光学素子ＯＤ２が配置されている。一例では、第１偏光板ＰＬ１及び第２偏光板ＰＬ２は、それぞれの吸収軸がＸ−Ｙ平面において互いに直交するように配置されている。なお、第１光学素子ＯＤ１及び第２光学素子ＯＤ２は、必要に応じて、１／４波長板や１／２波長板などの位相差板、散乱層、反射防止層などを備えていても良い。
【００５２】
このような構成例においては、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に電界が形成されていないオフ状態において、液晶層ＬＣに含まれる液晶分子は、第１配向膜ＡＬ１及び第２配向膜ＡＬ２の間で所定の方向に初期配向している。このようなオフ状態では、バックライトユニットＢＬから表示パネルＰＮＬに向けて照射された光は、第１光学素子ＯＤ１及び第２光学素子ＯＤ２によって吸収され、暗表示となる。一方、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に電界が形成されたオン状態においては、液晶分子は、電界により初期配向方向とは異なる方向に配向し、その配向方向は電界によって制御される。このようなオン状態では、バックライトユニットＢＬからの光の一部は、第１光学素子ＯＤ１及び第２光学素子ＯＤ２を透過し、明表示となる。
【００５３】
図８は、図３のＣ−Ｄ線で切断した表示パネルＰＮＬの構成例を示す断面図である。  図示した例では、第１基板ＳＵＢ１は、金属層ＭＬを備えている。第１基板ＳＵＢ１において、信号線Ｓ１及びＳ２は、第３絶縁膜１３と第４絶縁膜１４との間に位置している。共通電極ＣＥは、第４絶縁膜１４と第５絶縁膜１５との間に位置している。金属層ＭＬは、信号線Ｓ１及びＳ２の直上において共通電極ＣＥに接触している。図示した例では、金属層ＭＬは、共通電極ＣＥの上に位置しているが、共通電極ＣＥと第４絶縁膜１４との間に位置していても良い。すなわち、金属層ＭＬは、第４絶縁膜１４の上方で共通電極ＣＥに接触していればよい。画素電極ＰＥは、第５絶縁膜１５と第１配向膜ＡＬ１との間に位置している。
【００５４】
第２基板ＳＵＢ２において、遮光層ＢＭ及び第２層Ｌ２は、信号線Ｓ１及びＳ２の直上に位置している。第２層Ｌ２は、遮光層ＢＭより第１基板ＳＵＢ１に近接している。各画素において、遮光層ＢＭによって区画された内側の領域が開口部ＯＰに相当し、表示に寄与する領域となり得る。カラーフィルタＣＦは、開口部ＯＰに設けられ、画素電極ＰＥと対向している。オーバーコート層ＯＣは、カラーフィルタＣＦ及び第２層Ｌ２を覆っている。
【００５５】
本実施形態によれば、例えば図３に示すように、隣り合うカラーフィルタＣＦ１とカラーフィルタＣＦ２との間に突起部ＰＪ２が設けられている。高さＴＰＪ２は、高さＴＣ１２及びＴＣ２２より大きい。したがって、カラーフィルタＣＦ１及びＣＦ２の少なくとも一方が突起部ＰＪ２を乗り越え、互いに接触することを抑制することができる。したがって、例えばカラーフィルタＣＦ１とカラーフィルタＣＦ２との間で、それぞれに含まれる色材が互いに染み込むことを抑制することができる。この結果、異なる色の色材が染み込むことに起因して生じるカラーフィルタＣＦの変色や光透過率の減少を抑制することができ、表示品位の低下を抑制することができる。
【００５６】
さらに、突起部ＰＪ１乃至ＰＪ３において、同色の第２層Ｌ２を用いることで、第２層Ｌ２からカラーフィルタＣＦへ染み込む色材の量を制御することが可能になる。
【００５７】
さらに、第２層Ｌ２をカラーフィルタＣＦ４と同時に形成することにより、製造工程を増やすことなく、第２層Ｌ２を形成することができる。
【００５８】
次に、他の構成例について説明する。なお、上記の構成例と同一の構成については同一の参照符号を付して詳細な説明を省略する。
【００５９】
図９は、第２基板ＳＵＢ２の他の構成例を示す断面図である。
【００６０】
図９に示した構成例は、図３に示した構成例と比較して、白色又は透明のカラーフィルタＣＦ４が設けられていない点で相違している。突起部ＰＪ１は、カラーフィルタＣＦ３とカラーフィルタＣＦ１とに挟まれている。
【００６１】
本例において、突起部ＰＪ１及びＰＪ３における第２層Ｌ２は、カラーフィルタＣＦ３と一体的に形成されている。カラーフィルタＣＦ２及びＣＦ３は、カラーフィルタＣＦ１、及び突起部ＰＪ１乃至ＰＪ３が形成された後に形成される。なお、第２層Ｌ２は、カラーフィルタＣＦ１及びＣＦ２のいずれか一方と一体的に形成されてもよい。
【００６２】
本構成例においても、図３に示す構成例と同様の効果を得ることができる。
【００６３】
図１０は、第２基板ＳＵＢ２の他の構成例を示す断面図である。
【００６４】
図１０に示した構成例は、図９に示した構成例と比較して、突起部ＰＪ１及びＰＪ３において第２層Ｌ２がカラーフィルタＣＦ１、ＣＦ２、及びＣＦ３と別部材で形成されている点で相違している。このような第２層Ｌ２は、例えば上述のカラーフィルタＣＦ４と同一材料で形成される。
【００６５】
本構成例においても、図３に示す構成例と同様の効果を得ることができる。
【００６６】
図１１は、第２基板ＳＵＢ２の他の構成例を示す断面図である。図１１は、突起部ＰＪ２の近傍を示している。
【００６７】
図１１に示した構成例は、図３に示した構成例と比較して、第２層Ｌ２が主面２０Ａに接している点で相違している。第１層Ｌ１は、第２層Ｌ２と第３方向Ｚに沿って重なっている。第１層Ｌ１は、主面２０Ａから離間し、オーバーコート層ＯＣに接している。第２層Ｌ２は、第１層Ｌ１と第２絶縁基板２０との間に位置している。
【００６８】
本例において、高さＴＬ２は、高さＴＣ１２及びＴＣ２２より大きい。なお、図示した例では、幅ＷＬ１と幅ＷＬ２とはほぼ等しいが、幅ＷＬ１は、幅ＷＬ２より大きくてもよい。
【００６９】
本構成例においても、図３に示す構成例と同様の効果を得ることができる。
【００７０】
図１２は、第２基板ＳＵＢ２の他の構成例を示す断面図である。
【００７１】
図１２に示した構成例は、図１１に示した構成例と比較して、第２層Ｌ２と第１層Ｌ１との間にオーバーコート層ＯＣが介在している点で相違している。本構成例においては、第２層Ｌ２が突起部ＰＪ２に相当する。突起部ＰＪ２は、カラーフィルタＣＦ４と同一材料で形成されている。すなわち、突起部ＰＪ２は、白色層又は透明層である。突起部ＰＪ２の色は、カラーフィルタＣＦ１及びＣＦ２の色と異なっている。
【００７２】
オーバーコート層ＯＣは、第２層Ｌ２（突起部ＰＪ２）、カラーフィルタＣＦ１、及びカラーフィルタＣＦ２を覆っている。第１層Ｌ１は、オーバーコート層ＯＣを介して第２層Ｌ２と対向している。高さＴＬ２（高さＴＰＪ２）は、高さＴＣ１２及びＴＣ２２より大きい。これにより、第２層Ｌ２は、オーバーコート層ＯＣと接している。
【００７３】
本構成例においても、図３に示す構成例と同様の効果を得ることができる。
【００７４】
図１３は、遮光層ＢＭ（第１層Ｌ１）、第２層Ｌ２、及びカラーフィルタＣＦの配置例を示す平面図である。ここでは、Ｘ−Ｙ平面と平行な平面図を示している。
【００７５】
遮光層ＢＭは、図示した例では格子状に形成され、部分ＢＭＸ（ＢＭＸ１、ＢＭＸ２、ＢＭＸ３）及び部分ＢＭＹ（ＢＭＹ１、ＢＭＹ２、ＢＭＹ３、ＢＭＹ４）を備えている。部分ＢＭＸは、間隔をおいて第２方向Ｙに並び、それぞれ第１方向Ｘに延出している。これらの部分ＢＭＸは、平面視で走査線Ｇとそれぞれ重なっている。部分ＢＭＸの各々は、第２方向Ｙにほぼ一定の幅を有する帯状に形成されている。部分ＢＭＹは、間隔をおいて第１方向Ｘに並び、それぞれ第２方向Ｙに延出している。これらの部分ＢＭＹは、平面視で信号線Ｓとそれぞれ重なっている。部分ＢＭＹの各々は、第１方向Ｘにほぼ一定の幅を有する帯状に形成されている。遮光層ＢＭは、部分ＢＭＸと部分ＢＭＹによって区画された開口部ＯＰを有している。開口部ＯＰは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙに沿ってマトリクス状に配置されている。
【００７６】
カラーフィルタＣＦは、各開口部ＯＰに重なっている。図示した例では、異なる色のカラーフィルタＣＦが第１方向Ｘに並んでいる。カラーフィルタＣＦ１は、部分ＢＭＹ１と部分ＢＭＹ２との間で、第２方向Ｙに沿って配置されている。カラーフィルタＣＦ２は、部分ＢＭＹ２と部分ＢＭＹ３との間で、第２方向Ｙに沿って配置されている。カラーフィルタＣＦ３とカラーフィルタＣＦ４とは、部分ＢＭＹ３と部分ＢＭＹ４との間で、第２方向Ｙに沿って交互に配置されている。図示した例では、カラーフィルタＣＦ４は、部分ＢＭＸ１と部分ＢＭＸ２との間に位置し、カラーフィルタＣＦ３は、部分ＢＭＸ２と部分ＢＭＸ３との間に位置している。一例では、カラーフィルタＣＦ１の色は赤色であり、カラーフィルタＣＦ２の色は緑色であり、カラーフィルタＣＦ３の色は青色であり、カラーフィルタＣＦ４の色は白色または透明である。但し、カラーフィルタＣＦ４を省略して、カラーフィルタＣＦ３が部分ＢＭＹ３と部分ＢＭＹ４との間で第２方向Ｙに沿って配置されていても良い。
【００７７】
第２層Ｌ２は、斜線の領域で示すように、異なる色のカラーフィルタＣＦの間に設けられている。すなわち、第２層Ｌ２は、第２方向Ｙに沿って設けられ、各部分ＢＭＹと重なっている。第２層Ｌ２は、第１方向Ｘにほぼ一定の幅を有する帯状に形成されている。図示した例では、第２層Ｌ２は、第１方向Ｘにおいて部分ＢＭＹより幅が小さく、且つ、部分ＢＭＹの略中央に位置している。なお、第２層Ｌ２は、カラーフィルタＣＦの間で複数本設けられてもよく、一部が屈曲していてもよい。
【００７８】
このような第２層Ｌ２を配置したことにより、第１層Ｌ１及び第２層Ｌ２を備えた突起部を形成することができる。上記したように、突起部の高さが各色のカラーフィルタの高さより高いため、隣り合う異なる色のカラーフィルタの接触を抑制することができる。
【００７９】
図１４は、遮光層ＢＭ、第２層Ｌ２、及びカラーフィルタＣＦの他の配置例を示す平面図である。
【００８０】
図１４に示した配置例は、図１３に示した配置例と比較して、第２層Ｌ２が不連続に配置されている点で相違している。第２層Ｌ２は、カラーフィルタＣＦ４と重なる開口部ＯＰ１の第１方向Ｘの両側には形成されていない。一方、第２層Ｌ２は、カラーフィルタＣＦ３と重なる開口部ＯＰ２の第１方向Ｘの両側に形成されている。より具体的には、第２層Ｌ２は、部分ＢＭＹ３において、カラーフィルタＣＦ４とカラーフィルタＣＦ２との間に設けられていないが、カラーフィルタＣＦ３とカラーフィルタＣＦ２との間には設けられている。また、第２層Ｌ２は、部分ＢＭＹ４において、カラーフィルタＣＦ４とカラーフィルタＣＦ１との間に設けられていないが、カラーフィルタＣＦ３とカラーフィルタＣＦ１との間には設けられている。
【００８１】
図示した例では、第２層Ｌ２は、部分ＢＭＹ３及びＢＭＹ４において、カラーフィルタＣＦ３の長さＬＣＦより大きい長さＬＬ２を有し、且つ、カラーフィルタＣＦ３とカラーフィルタＣＦ２の間、及びカラーフィルタＣＦ３とカラーフィルタＣＦ１との間のすべての領域に介在している。
【００８２】
上述したように異なる色のカラーフィルタＣＦが隣接している場合、隣接するカラーフィルタＣＦから色材が染み込むことでカラーフィルタＣＦの変色等が生じる場合がある。しかしながら、隣接するカラーフィルタＣＦの一方が白色又は透明である場合、すなわち、カラーフィルタＣＦ４と、カラーフィルタＣＦ１、ＣＦ２、及びＣＦ３のいずれかとが隣接している場合、カラーフィルタＣＦ４から他のカラーフィルタＣＦへの色材の染み込みの影響は小さい。したがって、カラーフィルタＣＦ４と隣り合うカラーフィルタＣＦとの間においては、第２層Ｌ２を省略することができる。
【００８３】
したがって、本例においても、図１３に示す構成例と同様の効果を得ることができる。
【００８４】
図１５は、遮光層ＢＭ、第２層Ｌ２、及びカラーフィルタＣＦの他の配置例を示す平面図である。
【００８５】
図１５に示した配置例は、図１３に示した配置例と比較して、第２方向Ｙに沿って異なる色のカラーフィルタＣＦが配置され、第２層Ｌ２が部分ＢＭＸに設けられている点で相違している。すなわち、第２層Ｌ２は、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙに延伸し、格子状に設けられている。
【００８６】
図示した例では、カラーフィルタＣＦ１は、開口部ＯＰ１と重なり、カラーフィルタＣＦ２は、開口部ＯＰ２と重なり、カラーフィルタＣＦ３は、開口部ＯＰ３と重なっている。すなわち、部分ＢＭＹ３と部分ＢＭＹ４との間において、異なる色のカラーフィルタＣＦ１とカラーフィルタＣＦ２とが第２方向Ｙに隣り合っている。また、部分ＢＭＸ１と部分ＢＭＸ２との間において、異なる色のカラーフィルタＣＦ１とカラーフィルタＣＦ３とが第１方向Ｘに隣り合っている。
【００８７】
本構成例によれば、第１方向Ｘに加えて、第２方向Ｙに沿って異なる色のカラーフィルタＣＦが配置された場合においても、隣り合うカラーフィルタＣＦの接触を抑制することができる。
【００８８】
以上説明したように、本実施形態によれば、表示品位の低下を抑制することが可能な表示装置を提供することができる。
【００８９】
なお、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００９０】
１０…第１絶縁基板、１１…第１絶縁膜、１２…第２絶縁膜、１３…第３絶縁膜、１４…第４絶縁膜、１５…第５絶縁膜、２０…第２絶縁基板、２０Ａ…主面、ＢＭ（Ｌ１）…遮光層（第１層）、Ｌ２…第２層、ＰＪ…突起部、ＣＦ…カラーフィルタ、ＯＣ…オーバーコート層、ＯＰ…開口部、ＳＵＢ１…第１基板、ＳＵＢ２…第２基板、ＬＣ…液晶層、ＡＬ１…第１配向膜、ＡＬ２…第２配向膜、ＰＥ…画素電極、ＣＥ…共通電極、Ｓ…信号線、Ｇ…走査線。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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