(57)【要約】【課題】タッチ電極の形成による厚さの増加を最小限に抑え、かつ、コントラスト比を向上させることのできるタッチスクリーン一体型表示装置を得る。【解決手段】絶縁膜を別途形成することなく、封止層上にタッチセンシング層を形成することにより、タッチセンシング層の形成による厚さの増加を最小限に抑えることができるタッチスクリーン一体型表示装置とその製造方法を提供する。本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置は、基板上に配置された第１タッチ電極と第２タッチ電極、第１タッチ電極と第２タッチ電極上に配置されたブラックマトリックス、およびブラックマトリクス上に重畳するように配置され、第１タッチ電極を電気的に接続するブリッジ電極を備える。ブリッジ電極は、ブラックマトリックスを貫通するコンタクトホールを通じて、第１タッチ電極に接続することを特徴とする。【選択図】図３
2018106698.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に配置された第１タッチ電極および第２タッチ電極、
前記第１タッチ電極および前記第２タッチ電極上に配置されたブラックマトリックス、および
前記ブラックマトリクス上に前記ブラックマトリックスと重畳するように配置され、前記第１タッチ電極を電気的に接続するブリッジ電極を含み、
前記ブリッジ電極は、前記ブラックマトリックスを貫通するコンタクトホールを通じて前記第１タッチ電極に接続することを特徴とするタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項２】
前記ブラックマトリックスが、前記第１タッチ電極および前記第２タッチ電極上に直接形成されることを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項３】
前記ブラックマトリックスが、前記第１タッチ電極および前記第２タッチ電極との間に配置されることを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項４】
前記基板上に形成された有機発光素子層、および
有機発光素子を覆う封止層をさらに含み、
前記第１タッチ電極および前記第２タッチ電極が、前記封止層上に形成されることを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項５】
前記有機発光素子層が、前記ブラックマトリックスと重畳するように配置されたバンクを含むことを特徴とする請求項４に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項６】
前記ブラックマトリックスは、ブラック顔料を含む有機膜で形成されることを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項７】
前記ブラックマトリックスによって区画された領域に配置された複数のカラーフィルターをさらに含み、
前記複数のカラーフィルターは、第１色物質を含む第１カラーフィルター、第２色物質を含む第２カラーフィルター、第３色物質を含む第３カラーフィルターを含むことを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項８】
前記第１カラーフィルター、前記第２カラーフィルターおよび前記第３カラーフィルターの中で少なくとも２以上が、前記ブリッジ電極上に重畳して形成されることを特徴とする請求項７に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項９】
前記第１カラーフィルター、前記第２カラーフィルターおよび前記第３カラーフィルターが、前記ブリッジ電極上に重畳して形成されることを特徴とする請求項７に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項１０】
前記第１カラーフィルター、前記第２カラーフィルターおよび前記第３カラーフィルター上に形成されたオーバーコート層をさらに含むことを特徴とする請求項９に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項１１】
前記第１カラーフィルター、前記第２カラーフィルターおよび前記第３カラーフィルターが、第１タッチ電極と第２タッチ電極との間に配置されることを特徴とする請求項７に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項１２】
前記ブラックマトリックスが、第１方向に配置された複数の第１ブラックマトリックスおよび第１方向とは異なる第２方向に配置された複数の第２ブラックマトリックスを含み、前記第１および第２ブラックマトリックスは、互いに交差して、格子形状を有することを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項１３】
前記ブリッジ電極が、前記第１ブラックマトリックスと重畳するよう前記第１ブラックマトリックス上に形成されることを特徴とする請求項１２に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項１４】
前記第１タッチ電極が、前記第１方向に配置されて相互に接続し、前記第２タッチ電極は、前記第２方向に配置されて相互に接続することを特徴とする請求項１３に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項１５】
前記ブリッジ電極が、前記第１および第２タッチ電極が配置された層と異なる層に配置され、前記第２タッチ電極と交差することを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項１６】
前記第１タッチ電極と電気的に接続する第１タッチラインおよび前記第２タッチ電極と電気的に接続する第２タッチラインをさらに含み、
前記第１タッチラインおよび第２タッチラインは同じ層に配置されることを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項１７】
保護膜を有する薄膜トランジスタ層をさらに含み、
前記第１および第２タッチ電極のそれぞれは、前記保護膜を貫通してパッドを露出させるコンタクトホールを通じて前記パッドと接続されることを特徴とする請求項１６に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項１８】
第１基板と第２基板、および
前記第１基板と前記第２基板との間に配置された有機発光素子層、封止層、タッチセンシング層およびカラーフィルター層を含み、
前記タッチセンシング層は、
前記第１基板上に配置された複数の第１タッチ電極と、複数の第２タッチ電極、
前記複数の第１タッチ電極と、複数の第２タッチ電極上に配置されたブラックマトリックス、および
前記ブラックマトリックス上に配置され、前記第１タッチ電極と電気的に接続される複数のブリッジ電極を含み、
前記ブラックマトリックスと前記ブリッジ電極は、前記カラーフィルター層と前記封止層との間に配置されることを特徴とするタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項１９】
前記タッチセンシング層が、前記封止層上に形成され、前記カラーフィルター層は、前記タッチセンシング層上に形成されることを特徴とする請求項１８に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項２０】
前記カラーフィルター層が、前記ブラックマトリックスによって区画された領域に配置された第１カラーフィルター、第２カラーフィルターおよび第３カラーフィルターを含み、
前記第１カラーフィルター、前記第２カラーフィルターおよび前記第３カラーフィルターは、前記ブリッジ電極上に重畳して形成されることを特徴とする請求項１８に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項２１】
前記ブラックマトリックス、前記第１カラーフィルター、前記第２カラーフィルターおよび前記第３カラーフィルター中のいずれか一つは、前記複数の第１タッチ電極と前記複数の第２タッチ電極との間に配置されることを特徴とする請求項２０に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項２２】
前記カラーフィルター層が、透明有機膜を含むことを特徴とする請求項２０に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項２３】
前記透明有機膜が、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリアミド樹脂またはポリイミド樹脂からなることを特徴とする請求項２２に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項２４】
前記第１タッチ電極と電気的に接続する第１タッチラインおよび前記第２タッチ電極と電気的に接続する第２タッチラインをさらに含み、
前記第１タッチラインおよび第２タッチラインが同じ層に配置されることを特徴とする請求項１８に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【請求項２５】
保護膜を有する薄膜トランジスタ層をさらに含み、
前記第１および第２タッチ電極のそれぞれは、前記保護膜を貫通してパッドを露出させるコンタクトホールを通じて前記パッドと接続することを特徴とする請求項２４に記載のタッチスクリーン一体型表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチスクリーン一体型表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
情報化社会が発展するにつれて、画像を表示するための表示装置への要求が様々な形で高まっている。これにより、最近では液晶表示装置（ＬＣＤ：Ｌｉｑｕｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）、プラズマ表示装置（ＰＤＰ：Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）、有機発光表示装置（ＯＬＥＤ：Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｓｐｌａｙ）などの様々な表示装置が活用されている。これらの中で、有機発光表示装置は、低電圧駆動が可能で薄型であり、視野角に優れて応答速度が速いという特徴がある。
【０００３】
有機発光表示装置は、データライン、スキャンライン、データラインとスキャンラインの交差部に形成された多数の画素を備える表示パネル、スキャンラインにスキャン信号を供給するスキャン駆動部、およびデータラインにデータ電圧を供給するデータ駆動部を備えている。画素の各々は、有機発光素子、ゲート電極の電圧に応じて有機発光素子に供給される電流の量を調節する駆動トランジスタ（ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）、スキャンラインのスキャン信号に応答してデータラインのデータ電圧を駆動トランジスタのゲート電極へ供給するスキャントランジスタを備えている。
【０００４】
最近、有機発光表示装置は、使用者のタッチを認識することができるタッチスクリーンパネルを含む、タッチスクリーン一体型表示装置として形成されている。この場合、有機発光表示装置は、タッチスクリーン装置としても機能する。タッチスクリーン装置は、ナビゲーション（ｎａｖｉｇａｔｉｏｎ）、産業用端末機、ノートパソコン、金融自動化機器、ゲーム機などのようなモニター、スマートフォン、タブレット、携帯電話、ＭＰ３、ＰＤＡ、ＰＭＰ、ＰＳＰ、携帯ゲーム機、ＤＭＢ受信機、タブレットＰＣなどの携帯端末、および冷蔵庫、電子レンジ、洗濯機などの家電製品などに適用されている。また、タッチスクリーン装置は、誰でも簡単に操作することができるという利点によって、適用が徐々に拡大している。
【０００５】
タッチスクリーン一体型表示装置は、表示パネル内にＴｘ電極とＲｘ電極が形成されている。例えば、タッチスクリーン一体型表示装置は、有機発光素子を封止するための封止膜上に、Ｔｘ電極、Ｒｘ電極、およびＴｘ電極またはＲｘ電極を接続するためのブリッジ電極（ｂｒｉｄｇｅ  ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）が形成されている。そして、タッチスクリーン一体型表示装置は、外部から入射する光によって画質が低下することを防止するために偏光板を備えている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、この場合、タッチスクリーン一体型表示装置の厚さが増加するという問題がある。また、タッチスクリーン一体型表示装置は、外部光が偏光板に反射して、屋外において画面が鏡のように見えるなど、屋外での画像の視認性が低下するという他の問題がある。
【０００７】
本発明は、タッチ電極の形成による厚さの増加を最小限に抑えることのできるタッチスクリーン一体型表示装置を提供することを目的とする。
【０００８】
また、本発明は、コントラスト比（ｃｏｎｔｒａｓｔ  ｒａｔｉｏ）を向上させることができるタッチスクリーン一体型表示装置を提供することを他の目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置は、基板上に配置された第１タッチ電極および第２タッチ電極、第１タッチ電極および第２タッチ電極上に配置されたブラックマトリックス、およびブラックマトリクス上にブラックマトリックスと重畳するように配置され、第１タッチ電極を電気的に接続するブリッジ電極を備えている。ブリッジ電極は、ブラックマトリックスを貫通するコンタクトホールを通じて、第１タッチ電極に接続することを特徴とする。
【００１０】
本発明の他の実施例によるタッチスクリーン一体型表示装置は、第１基板、第２基板、および第１基板と第２基板との間に配置された有機発光素子層、封止層、タッチセンシング層およびカラーフィルター層を備える。タッチセンシング層は、第１基板上に配置された複数の第１タッチ電極と、複数の第２タッチ電極、複数の第１タッチ電極と複数の第２タッチ電極上に配置されたブラックマトリックス、およびブラックマトリクス上に配置され、第１タッチ電極と電気的に接続する複数のブリッジ電極を備える。ブラックマトリックスとブリッジ電極は、カラーフィルター層と封止層との間に配置される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の実施例は、封止層上にタッチセンシング層を直接形成し、タッチセンシング層上にカラーフィルター層を直接形成することにより、第１基板と第２基板とを合着時に整列する必要がなく、別途、接着層の必要がない。
【００１２】
また、本発明の実施例は、第１タッチ電極上にブラックマトリックスが直接形成される。そして、ブラックマトリックスを貫通するコンタクトホールを通じて隣接した第１タッチ電極を電気的に接続するブリッジ電極が形成される。その結果、第１タッチ電極とブリッジ電極との間に、別途の絶縁膜を形成しないこともあり得る。
【００１３】
また、本発明の実施例は、第２タッチ電極とブリッジ電極との間にブラックマトリックスを配置することで、第２タッチ電極とブリッジ電極との各々を絶縁するための別途の絶縁膜を形成しないこともあり得る。
【００１４】
また、本発明の実施例は、第１タッチ電極と第２タッチ電極との間にブラックマトリックス又は第１〜第３カラーフィルターを配置し得るので、第１タッチ電極と第２タッチ電極のそれぞれを絶縁するための別途の絶縁膜を形成しないこともあり得る。
【００１５】
その結果、本発明の実施例は、タッチセンシング層の製造工程を簡素化することができるとともに、タッチセンシング層によりタッチスクリーン一体型表示装置の厚さが増加することを最小限に抑えることができる。
【００１６】
また、本発明の実施例は、ブリッジ電極上に、第１〜第３カラーフィルターのうち少なくとも２つ以上を重畳して形成することにより、ブリッジ電極による外光の反射を低減させることができる。これにより、本発明の実施例は、別途の製造工程を追加することなく、コントラスト比を向上させることができる。
【００１７】
また、本発明の実施例は、偏光板を使用しなくても外光の反射を低減させることができるので、タッチセンシング層の厚さを最小限に抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置を示す斜視図である。
【図２】本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置を示すブロック図である。
【図３】図１の表示パネルの一側を概略的に示す断面図である。
【図４】図１のタッチスクリーン一体型表示装置のタッチセンシング層を示す平面図である。
【図５】図４のタッチセンシング層を拡大した図である。
【図６】図５のＩＩ−ＩＩ’線に沿った断面を示す図である。
【図７】図５のＩＩＩ−ＩＩＩ’線に沿った断面を示す図である。
【図８】図４のＩ−Ｉ’線に沿った断面を示す図である。
【図９】図５のＩＩ−ＩＩ’線に沿った他の断面を示す図である。
【図１０】図５のＩＩＩ−ＩＩＩ’線に沿った他の断面を示す図である。
【図１１】本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置の製造方法を示すフローチャートである。
【図１２Ａ】本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置の製造方法を説明するためのＩＩ−ＩＩ’線に沿った断面を示す図である。
【図１２Ｂ】本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置の製造方法を説明するためのＩＩ−ＩＩ’線に沿った断面を示す図である。
【図１２Ｃ】本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置の製造方法を説明するためのＩＩ−ＩＩ’線に沿った断面を示す図である。
【図１２Ｄ】本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置の製造方法を説明するためのＩＩ−ＩＩ’線に沿った断面を示す図である。
【図１２Ｅ】本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置の製造方法を説明するためのＩＩ−ＩＩ’線に沿った断面を示す図である。
【図１２Ｆ】本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置の製造方法を説明するためのＩＩ−ＩＩ’線に沿った断面を示す図である。
【図１３Ａ】本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置の製造方法を説明するためのＩＩＩ−ＩＩＩ’の断面図である。
【図１３Ｂ】本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置の製造方法を説明するためのＩＩＩ−ＩＩＩ’線に沿った断面を示す図である。
【図１３Ｃ】本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置の製造方法を説明するためのＩＩＩ−ＩＩＩ’線に沿った断面を示す図である。
【図１３Ｄ】本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置の製造方法を説明するためのＩＩＩ−ＩＩＩ’線に沿った断面を示す図である。
【図１３Ｅ】本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置の製造方法を説明するためのＩＩＩ−ＩＩＩ’線に沿った断面を示す図である。
【図１３Ｆ】本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置の製造方法を説明するためのＩＩＩ−ＩＩＩ’線に沿った断面を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明の利点および特徴、そしてそれらを達成する方法は、添付の図と共に詳細に後述する実施例を参照すると明確になるだろう。しかし、本発明は、以下で開示する実施例に限定されるものではなく、異なる多様な形態で具現されるものであり、単に本実施例は、本発明の開示を完全にし、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供するものであり、本発明は、請求項の範疇によってのみ定義される。
【００２０】
本発明の実施例を説明するために図で開示された、形状、大きさ、比率、角度、数などは例示的なものなので、本発明は、図に示された事項に限定されるものではない。明細書全体にわたって同一参照符号は、同一の構成要素を指す。また、本発明を説明するにおいて、関連する公知技術に対する具体的な説明が、本発明の要旨を不必要に曖昧にすると判断される場合、その詳細な説明は省略する。
【００２１】
本明細書で言及した「備える」、「有する」、「からなる」などが使用されている場合には、「〜だけ」が使用されていない限り、他の部分が追加され得る。構成要素を単数で表現する場合には、特に、明示的な記載事項がない限り、複数が含まれる。
【００２２】
構成要素を解釈するに当たり、別途の明示的な記載がなくても誤差の範囲を含むものと解釈する。
【００２３】
位置関係の説明である場合には、例えば、「〜上に」、「〜の上部に」、「〜の下部に」、「〜の隣に」など２つの部分の位置関係が説明されている場合には、「すぐに」または「直接」が使用されていない以上、二つの部分の間に１つ以上の他の部分が位置することもできる。
【００２４】
時間の関係に対する説明である場合には、例えば、「〜の後」、「〜に続いて」、「〜次に」、「〜前に」などで時間的前後関係が説明されている場合は、「すぐに」または「直接」が使用されていない以上、連続していない場合も含むことができる。
【００２５】
第１、第２などが、さまざまな構成要素を記述するために使用されるが、これらの構成要素は、これらの用語によって制限されない。これらの用語は、ただ一つの構成要素を他の構成要素と区別するために使用されるものである。したがって、以下に記載されている第１構成要素は、本発明の技術的思想内で第２構成要素であることもある。
【００２６】
「Ｘ軸方向」、「Ｙ軸方向」および「Ｚ軸方向」は、互いの関係が垂直方向からなる幾何学的な関係だけに解釈してはならず、本発明の構成は、機能的に作用することができる範囲内で、より広い方向性を有することを意味する。
【００２７】
「少なくとも一つ」の用語は、一つ以上の関連項目から提示可能なすべての組み合わせを含むものと理解されなければならない。たとえば、「第１項目、第２項目および第３項目のうち少なくとも一つ」の意味は、第１項目、第２項目または第３項目のそれぞれのみならず、第１項目、第２項目および第３項目の中で２つ以上から提示することができるすべての項目の組み合わせを意味する。
【００２８】
本発明のいくつかの実施例のそれぞれの特徴が、部分的または全体的に互いに結合または組み合わせ可能で、技術的に様々な連動と駆動が可能であり、各実施例が互いに独立して実施可能であり、連関関係で一緒に実施することもできる。
【００２９】
以下、添付の図を参照して、本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。
【００３０】
図１は、本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置を示す斜視図である。図２は、本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置を示すブロック図である。
【００３１】
図１および図２を参照すると、本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置は、表示パネル１１０、スキャン駆動部１２０、データ駆動部１３０、タイミングコントローラー１６０、ホストシステム１７０、タッチ駆動部１８０、およびタッチ座標算出部１９０を備える。
【００３２】
本発明の実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置は、液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ：ＬＣＤ）、電界放出表示装置（Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｄｉｓｐｌａｙ：ＦＥＤ）、プラズマ表示装置（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ：ＰＤＰ）、有機発光表示装置（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｓｐｌａｙ：ＯＬＥＤ）、電気泳動表示装置（Ｅｌｅｃｔｒｏｐｈｏｒｅｓｉｓ：ＥＰＤ）などの平板表示装置に実装することができる。以下の実施例では、本発明の実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置が、有機発光表示装置に実装された例を中心に説明するが、これに限定されないことに注意しなければならない。
【００３３】
表示パネル１１０は、第１基板１１１と第２基板１１２とを備える。第２基板１１２は、封止基板であり得る。第１基板１１１は、プラスチックフィルム（ｐｌａｓｔｉｃ  ｆｉｌｍ）またはガラス基板（ｇｌａｓｓ  ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）であり得る。第２基板１１２は、プラスチックフィルム、ガラス基板、または封止フィルム（保護フィルム）であり得る。
【００３４】
表示パネル１１０は、画素（Ｐ）が設けられ画像を表示する領域である表示領域を備える。表示パネル１１０には、データライン（Ｄ１〜Ｄｍ、ｍは２以上の正の整数）とスキャンライン（Ｓ１〜Ｓｎ、ｎは２以上の正の整数）が形成される。データライン（Ｄ１〜Ｄｍ）は、スキャンライン（Ｓ１〜Ｓｎ）と交差するように形成することができる。画素（Ｐ）は、ゲートラインとデータラインとの交差構造によって定義される領域に形成され得る。
【００３５】
表示パネル１１０の画素（Ｐ）のそれぞれは、データライン（Ｄ１〜Ｄｍ）のいずれか一つとスキャンライン（Ｓ１〜Ｓｎ）のいずれか一つに接続することができる。表示パネル１１０の画素（Ｐ）のそれぞれは、ゲート電極に印加されたデータ電圧に応じてドレイン・ソース間電流を調整する駆動トランジスタ（ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）、スキャンラインのスキャン信号によってターンオンされ、データラインのデータ電圧を駆動トランジスタのゲート電極に供給するスキャントランジスタ、駆動トランジスタのドレイン・ソース間電流によって発光する有機発光ダイオード（ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ）、および駆動トランジスタのゲート電極の電圧を保存するためのコンデンサ（ｃａｐａｃｉｔｏｒ）を含むことができる。これにより、画素（Ｐ）のそれぞれは、有機発光ダイオードに供給される電流によって発光することができる。
【００３６】
スキャン駆動部１２０は、タイミングコントローラー１６０からスキャン制御信号（ＧＣＳ）を入力する。スキャン駆動部１２０は、スキャン制御信号（ＧＣＳ）によってスキャン信号をスキャンライン（Ｓ１〜Ｓｎ）に供給する。
【００３７】
スキャン駆動部１２０は、表示パネル１１０の表示領域の片側または両側の外側の非表示領域にＧＩＰ（ｇａｔｅ  ｄｒｉｖｅ  ｉｎ  ｐａｎｅｌ）方式で形成することができる。または、スキャン駆動部１２０は、駆動チップに製作して軟性フィルムに実装してＴＡＢ（ｔａｐｅ  ａｕｔｏｍａｔｅｄ  ｂｏｎｄｉｎｇ）方式で表示パネル１１０の表示領域の片側または両側の外側の非表示領域に設置することもできる。
【００３８】
データ駆動部１３０は、タイミングコントローラー１６０からのデジタルビデオデータ（ＤＡＴＡ）とデータ制御信号（ＤＣＳ）を入力する。データ駆動部１３０は、データ制御信号（ＤＣＳ）によってデジタルビデオデータ（ＤＡＴＡ）をアナログ正極性／負極性データ電圧に変換してデータラインに供給する。つまり、スキャン駆動部１２０のスキャン信号によって，データ電圧が供給される画素が選択され、選択された画素にデータ電圧が供給される。
【００３９】
データ駆動部１３０は、図１のように、複数のソースドライブＩＣ１３１を含むことができる。複数のソースドライブＩＣ１３１のそれぞれは、ＣＯＦ（ｃｈｉｐ  ｏｎ  ｆｉｌｍ）またはＣＯＰ（ｃｈｉｐ  ｏｎ  ｐｌａｓｔｉｃ）方式で軟性フィルム１４０に実装することができる。軟性フィルム１４０は、異方性導電フィルム（ａｎｔｉｓｏｔｒｏｐｉｃ  ｃｏｎｄｕｃｔｉｎｇ  ｆｉｌｍ）を利用して、表示パネル１１０の非表示領域に設けられたパッド上に設置され、これにより、複数のソースドライブＩＣ１３１は、パッドに接続することができる。
【００４０】
回路基板１５０は、軟性フィルム１４０に設置することができる。回路基板１５０は、駆動チップに具現された多数の回路が実装され得る。例えば、回路基板１５０には、タイミングコントローラー１６０を実装することができる。回路基板１５０は、プリント回路基板（ｐｒｉｎｔｅｄ  ｃｉｒｃｕｉｔ  ｂｏａｒｄ）またはフレキシブルプリント回路基板（ｆｌｅｘｉｂｌｅ  ｐｒｉｎｔｅｄ  ｃｉｒｃｕｉｔ  ｂｏａｒｄ）であり得る。
【００４１】
タイミングコントローラー１６０は、ホストシステム１７０からのデジタルビデオデータ（ＤＡＴＡ）とタイミング信号とが入力する。タイミング信号は、垂直同期信号（ｖｅｒｔｉｃａｌ  ｓｙｎｃｈｒｏｎｉｚａｔｉｏｎ  ｓｉｇｎａｌ）、水平同期信号（ｈｏｒｉｚｏｎｔａｌ  ｓｙｎｃｈｒｏｎｉｚａｔｉｏｎ  ｓｉｇｎａｌ）、データイネーブル信号（ｄａｔａ  ｅｎａｂｌｅ  ｓｉｇｎａｌ）、ドットクロック（ｄｏｔ  ｃｌｏｃｋ）などを含むことができる。垂直同期信号は、１フレーム期間を定義する信号である。水平同期信号は、表示パネル（ＤＩＳ）の１水平ラインの画素にデータ電圧を供給するのに必要な１水平期間を定義する信号である。データイネーブル信号は、有効なデータが入力される期間を定義する信号である。ドットクロックは、所定の短い周期で反復する信号である。
【００４２】
タイミングコントローラー１６０は、スキャン駆動部１２０とデータ駆動部１３０の動作タイミングを制御するために、タイミング信号に基づいてデータ駆動部１３０の動作タイミングを制御するためのデータ制御信号（ＤＣＳ）とスキャン駆動部１２０の動作タイミングを制御するためのスキャン制御信号（ＧＣＳ）を発生する。タイミングコントローラー１６０は、スキャン駆動部１２０にスキャン制御信号（ＧＣＳ）を出力し、データ駆動部１３０にデジタルビデオデータ（ＤＡＴＡ）とデータ制御信号（ＤＣＳ）を出力する。
【００４３】
ホストシステム１７０は、ナビゲーションシステム、セットトップボックス、ＤＶＤプレーヤー、ブルーレイプレーヤー、パーソナルコンピュータ（ＰＣ）、ホームシアターシステム、放送受信機、携帯電話システム（Ｐｈｏｎｅ  ｓｙｓｔｅｍ）などに実装することができる。ホストシステム１７０は、スケーラー（ｓｃａｌｅｒ）を内蔵したＳｏＣ（Ｓｙｓｔｅｍ  ｏｎ  Ｃｈｉｐ）を含み入力映像のデジタルビデオデータ（ＤＡＴＡ）を表示パネル１１０に表示するのに適した形式に変換する。ホストシステム１７０は、デジタルビデオデータ（ＤＡＴＡ）とタイミング信号をタイミングコントローラー１６０に送信する。
【００４４】
表示パネル１１０には、データライン（Ｄ１〜Ｄｍ）とスキャンライン（Ｓ１〜Ｓｎ）以外に、第１および第２タッチ電極を形成することができる。第１タッチ電極は、第２タッチ電極と交差するように形成することができる。第１タッチ電極は、第１タッチライン（Ｔ１〜Ｔｊ、ｊは２以上の正の整数）を通じて、第１タッチ駆動部１８１に接続することができる。第２タッチ電極は、第２タッチライン（Ｒ１〜Ｒｉ、ｉは２以上の正の整数）を通じて、第２タッチ駆動部１８２に接続することができる。第１タッチ電極と第２タッチ電極の交差部のそれぞれには、タッチセンサを形成することができる。本発明の実施例では、タッチセンサが相互容量（ｍｕｔｕａｌ  ｃａｐａｃｉｔａｎｃｅ）で実装された例を例示したが、これに限定されないことに注意しなければならない。第１および第２タッチ電極の詳細な説明は、図４とともに後述する。
【００４５】
タッチ駆動部１８０は、第１タッチライン（Ｔ１〜Ｔｊ）を通じて、第１タッチ電極に駆動パルスを供給し、第２タッチライン（Ｒ１〜Ｒｉ）を通じてタッチセンサのそれぞれの占める変化量をセンシングする。すなわち、図２は、第１タッチライン（Ｔ１〜Ｔｊ）が駆動パルスを供給するＴｘラインであり、第２タッチライン（Ｒ１〜Ｒｉ）がタッチセンサそれぞれの占める変化量をセンシングするＲｘラインであることを中心に説明した。
【００４６】
タッチ駆動部１８０は、第１タッチ駆動部１８１、第２タッチ駆動部１８２、およびタッチコントローラー１８３を備える。第１タッチ駆動部１８１、第２タッチ駆動部１８２、およびタッチコントローラー１８３は、一つのＲＯＩＣ（Ｒｅａｄ−ｏｕｔ  ＩＣ）内に集積される。
【００４７】
第１タッチ駆動部１８１は、タッチコントローラー１８３の制御下に駆動パルスを出力する第１タッチラインを選択して、選択した第１タッチラインに駆動パルスを供給する。例えば、第１タッチ駆動部１８１は、第１タッチライン（Ｔ１〜Ｔｊ）に順次に駆動パルスを供給することができる。
【００４８】
第２タッチ駆動部１８２は、タッチコントローラー１８３の制御下にタッチセンサの占める変化量を受信する第２タッチラインを選択して、選択した第２タッチラインを通じてタッチセンサの占める変化量を受信する。第２タッチ駆動部１８２は、第２タッチライン（Ｒ１〜Ｒｉ）を通じて受信したタッチセンサの占める変化量をサンプリングしてデジタルデータであるタッチローデータ（ｔｏｕｃｈ  ｒａｗ  ｄａｔａ：ＴＲＤ）に変換する。
【００４９】
タッチコントローラー１８３は、第１タッチ駆動部１８１で駆動パルスが出力される第１タッチラインを設定するためのＴｘセットアップ信号と、第２タッチ駆動部１８２でタッチセンサ電圧を受信する第２タッチラインを設定するためのＲｘセットアップ信号を発生することができる。また、タッチコントローラー１８３は、第１タッチ駆動部１８１と第２タッチ駆動部１８２との動作タイミングを制御するためのタイミング制御信号を発生する。
【００５０】
タッチ座標算出部１９０は、タッチ駆動部１８０からタッチローデータ（ＴＲＤ）が入力される。タッチ座標算出部１９０は、タッチ座標の算出方法に基づいて、タッチ座標（複数）を算出し、タッチ座標（複数）の情報を含むタッチ座標データ（ＨＩＤｘ）をホストシステム１７０に出力する。
【００５１】
タッチ座標算出部１９０は、ＭＣＵ（Ｍｉｃｒｏ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ  Ｕｎｉｔ：ＭＣＵ）で実装され得る。ホストシステム１７０は、タッチ座標算出部１９０から入力するタッチ座標データ（ＨＩＤｘｙ）を分析して、使用者によってタッチが発生した座標と連携した応用プログラム（ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ  ｐｒｏｇｒａｍ）を実行する。ホストシステム１７０は、実行された応用プログラムに応じて、デジタルビデオデータ（ＤＡＴＡ）とタイミング信号をタイミングコントローラー１６０に伝送する。
【００５２】
タッチ駆動部１８０は、ソースドライブＩＣ１３１に含むか、または別途の駆動チップに製作して回路基板１５０上に実装され得る。また、タッチ座標算出部１９０は、駆動チップに製作して回路基板１５０上に実装され得る。
【００５３】
図３は、図１の表示パネルの片側を模式的に示す断面図である。
【００５４】
図３を参照すると、表示パネル１１０は、第１基板１１１、第２基板１１２、第１および第２基板１１１、１１２の間に配置された薄膜トランジスタ層１０、有機発光素子層２０、封止層３０、タッチセンシング層４０およびカラーフィルター層５０を含むことができる。
【００５５】
第１基板１１１は、プラスチックフィルムやガラス基板であり得る。
【００５６】
第１基板１１１上に薄膜トランジスタ層１０が形成される。薄膜トランジスタ層１０は、スキャンライン、データライン、および薄膜トランジスタを含むことができる。薄膜トランジスタの各々は、ゲート電極、半導体層、ソースおよびドレイン電極を備える。スキャン駆動部がＧＩＰ（ｇａｔｅ  ｄｒｉｖｅ  ｉｎ  ｐａｎｅｌ）方式で形成される場合には、スキャン駆動部は、薄膜トランジスタ層１０と一緒に形成することができる。
【００５７】
薄膜トランジスタ層１０上には、有機発光素子層２０が形成される。有機発光素子層２０は、第１電極、有機発光層、第２電極、およびバンクを備える。有機発光層の各々は、正孔輸送層（ｈｏｌｅ  ｔｒａｎｓｐｏｒｔｉｎｇ  ｌａｙｅｒ）、発光層（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｌａｙｅｒ）、および電子輸送層（ｅｌｅｃｔｒｏｎ  ｔｒａｎｓｐｏｒｔｉｎｇ  ｌａｙｅｒ）を含むことができる。この場合には、第１電極と第２電極に電圧が印加されると、正孔と電子がそれぞれ正孔輸送層と電子輸送層を通じて発光層に移動し、発光層で互いに結合して発光するようになる。有機発光素子層２０が形成された領域には、画素が設けられるので、有機発光素子層２０が形成された領域は、表示領域と定義することができる。表示領域の周辺領域は、非表示領域として定義することができる。
【００５８】
有機発光素子層２０上には、封止層３０が形成される。封止層３０は、有機発光素子層２０に酸素または水分が浸透することを防止する役割をする。封止層３０は、少なくとも一つの無機膜を含むことができる。
【００５９】
封止層３０上には、タッチセンシング層４０が形成される。タッチセンシング層４０は、使用者のタッチをセンシングするための第１および第２タッチ電極を含み、第１および第２タッチ電極上に形成されたブラックマトリクスと、ブリッジ電極とを含むことができる。ここで、本発明の実施例は、ブラックマトリックスにコンタクトホールを形成し、コンタクトホールを通じて、ブリッジ電極を第１タッチ電極に接続させることで、タッチセンシング層４０によってタッチスクリーン一体型表示装置の厚さが増加することを最小限に抑えることができる。タッチセンシング層４０の平面構造は、図４および図５とともに後述する。また、タッチセンシング層４０の断面構造の詳細な説明は、図６〜図１０を用いて後述する。
【００６０】
タッチセンシング層４０上には、カラーフィルター層５０が形成される。有機発光素子層２０が、赤色、緑色、および青色の光を発光する有機発光層を含む場合には、カラーフィルター層５０は、省略することができる。
【００６１】
カラーフィルター層５０上には、第２基板１１２を形成する。第２基板１１２は、第１基板１１１を覆うカバー（ｃｏｖｅｒ）基板またはカバーウィンドウ（ｗｉｎｄｏｗ）のような役割をする。第２基板１１２は、プラスチックフィルム、ガラス基板または封止フィルム（保護フィルム）であり得る。
【００６２】
図４は、図１のタッチスクリーン一体型表示装置のタッチセンシング層を示す平面図であり、図５は、図４のタッチセンシング層を拡大した図である。図６は、図５のＩＩ−ＩＩ’線に沿った断面を示す図であり、図７は、図５のＩＩＩ−ＩＩＩ’線に沿った断面を示す図である。図８は、図４のＩ−Ｉ’線に沿った断面を示す図である。
【００６３】
図４〜図８を参照すると、第１基板１１１上に薄膜トランジスタ層１０が形成される。薄膜トランジスタ層１０は、薄膜トランジスタ２１０と、ゲート絶縁膜２２０、層間絶縁膜２３０、保護膜２４０、および平坦化膜２５０を備える。
【００６４】
第１基板１１１の一方の面上には、バッファ膜が形成される。バッファ膜は透湿に脆弱な第１基板１１１を通じて浸透する水分から薄膜トランジスタ２１０と、有機発光素子２６０を保護するために、第１基板１１１の一方の面上に形成される。第１基板１１１の一方の面は、第２基板１１２と向き合う面であり得る。バッファ膜は交互に積層された、複数の無機膜からなり得る。例えば、バッファ膜は、シリコン酸化膜（ＳｉＯｘ）、シリコン窒化膜（ＳｉＮｘ）、ＳｉＯＮの中のいずれか一つ以上の無機膜が交互に積層した多重膜で形成することができる。バッファ膜は省略することができる。
【００６５】
バッファ膜上には、薄膜トランジスタ２１０が形成される。薄膜トランジスタ２１０は、アクティブ層２１１、ゲート電極２１２、ソース電極２１４およびドレイン電極２１５を備える。図６には、薄膜トランジスタ２１０は、ゲート電極２１２がアクティブ層２１１の上部に位置する上部ゲート（トップゲート：ｔｏｐ  ｇａｔｅ）方式で形成されたものを例示したが、これに限定されるものではない。つまり、薄膜トランジスタ２１０は、ゲート電極２１２がアクティブ層２１１の下部に位置する下部ゲート（ボトムゲート：ｂｏｔｔｏｍ  ｇａｔｅ）方式またはゲート電極２１２がアクティブ層２１１の上部と下部の両方に位置するダブルゲート（ｄｏｕｂｌｅ  ｇａｔｅ）方式で形成され得る。
【００６６】
バッファ膜上には、アクティブ層２１１が形成される。アクティブ層２１１は、シリコン系半導体物質または酸化物系半導体物質で形成することができる。バッファ膜とアクティブ層２１１との間には、アクティブ層２１１に入射する外部光を遮断するための遮光層が形成され得る。
【００６７】
アクティブ層２１１上には、ゲート絶縁膜２２０が形成され得る。ゲート絶縁膜２２０は、無機膜、例えばシリコン酸化膜（ＳｉＯｘ）、シリコン窒化膜（ＳｉＮｘ）、またはそれらの多重膜で形成することができる。
【００６８】
ゲート絶縁膜２２０上には、ゲート電極２１２とゲートラインが形成され得る。ゲート電極２１２とゲートラインは、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）、チタニウム（Ｔｉ）、ニッケル（Ｎｉ）、ネオジム（Ｎｄ）、および銅（Ｃｕ）の中のいずれか一つまたはこれらの合金からなる単一層または多重層で形成され得る。
【００６９】
ゲート電極２１２とゲートライン上には、層間絶縁膜２３０が形成され得る。層間絶縁膜２３０は、無機膜、例えばシリコン酸化膜（ＳｉＯｘ）、シリコン窒化膜（ＳｉＮｘ）、またはそれらの多重膜で形成され得る。
【００７０】
層間絶縁膜２３０上には、ソース電極２１４、ドレイン電極２１５、およびデータラインが形成され得る。ソース電極２１４とドレイン電極２１５のそれぞれは、ゲート絶縁膜２２０と層間絶縁膜２３０を貫通するコンタクトホールを通じて、アクティブ層２１１に接続され得る。ソース電極２１４、ドレイン電極２１５、およびデータラインは、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）、チタニウム（Ｔｉ）、ニッケル（Ｎｉ）、ネオジム（Ｎｄ）および銅（Ｃｕ）の中のいずれか一つまたはこれらの合金からなる単一層または多重層で形成され得る。
【００７１】
ソース電極２１４、ドレイン電極２１５、およびデータライン上に薄膜トランジスタ２１０を絶縁するための保護膜２４０を形成し得る。保護膜２４０は、無機膜、例えばシリコン酸化膜（ＳｉＯｘ）、シリコン窒化膜（ＳｉＮｘ）、またはそれらの多重膜で形成され得る。
【００７２】
保護膜２４０上には、薄膜トランジスタ２１０に起因する段差を平坦にするための平坦化膜２５０が形成され得る。平坦化膜２５０は、アクリル樹脂（ａｃｒｙｌ  ｒｅｓｉｎ）、エポキシ樹脂（ｅｐｏｘｙ  ｒｅｓｉｎ）、フェノール樹脂（ｐｈｅｎｏｌｉｃ  ｒｅｓｉｎ）、ポリアミド樹脂（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ  ｒｅｓｉｎ）、ポリイミド樹脂（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ  ｒｅｓｉｎ）などの有機膜で形成され得る。
【００７３】
薄膜トランジスタ層１０上には、有機発光素子層２０が形成される。有機発光素子層２０は、有機発光素子２６０とバンク２７０を備える。
【００７４】
有機発光素子２６０とバンク２７０は、平坦化膜２５０上に形成される。有機発光素子は、第１電極２６１、有機発光層２６２、および第２電極２６３を備える。第１電極２６１は、アノード電極であり、第２電極２６３は、カソード電極であり得る。
【００７５】
第１電極２６１は、平坦化膜２５０上に形成され得る。第１電極２６１は、保護膜２４０と平坦化膜２５０を貫通するコンタクトホールを通じて薄膜トランジスタ２１０のソース電極２１４に接続される。第１電極２６１は、アルミニウムとチタンの積層構造（Ｔｉ／Ａｌ／Ｔｉ）、アルミニウムとＩＴＯの積層構造（ＩＴＯ／Ａｌ／ＩＴＯ）、ＡＰＣ合金、およびＡＰＣ合金とＩＴＯの積層構造（ＩＴＯ／ＡＰＣ／ＩＴＯ）のような反射率の高い金属物質で形成することができる。ＡＰＣ合金は、銀（Ａｇ）、パラジウム（Ｐｄ）、および銅（Ｃｕ）の合金である。
【００７６】
バンク２７０は、画素（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３）を区画するために平坦化膜２５０上で第１電極２６１の端を覆うように形成され得る。つまり、バンク２７０は、画素（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３）を定義する画素定義膜としての役割をする。
【００７７】
画素（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３）のそれぞれは、アノード電極に該当する第１電極、有機発光層、およびカソード電極に対応する第２電極が順次に積層され、第１電極からの正孔と第２電極からの電子が有機発光層で互いに結合して発光する領域を示す。ここで、第１画素（Ｐ１）は、赤色サブ画素で定義することができ、第２画素（Ｐ２）は、緑色サブ画素で定義することができ、第３画素（Ｐ３）は、青色サブ画素で定義することができる。そして、第１、第２および第３の画素（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３）は、一つの単位画素として定義することができる。しかし、本発明の実施例は、これに限定されず、白色のサブ画素を追加で定義することもできる。
【００７８】
第１電極２６１とバンク２７０上には、有機発光層２６２が形成される。有機発光層２６２は、画素（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３）に共通的に形成される共通層であり、白色光を発光する白色発光層であり得る。この場合には、有機発光層２６２は、２スタック（ｓｔａｃｋ）以上のタンデム構造で形成することができる。スタックは、それぞれ、正孔輸送層（ｈｏｌｅ  ｔｒａｎｓｐｏｒｔｉｎｇ  ｌａｙｅｒ）、少なくとも一つの発光層（ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｌａｙｅｒ）、および電子輸送層（ｅｌｅｃｔｒｏｎ  ｔｒａｎｓｐｏｒｔｉｎｇ  ｌａｙｅｒ）を含むことができる。
【００７９】
また、スタックの間には、電荷生成層が形成され得る。電荷生成層は、下部スタックと隣接して位置するｎ型電荷生成層とｎ型電荷生成層上に形成され、上部スタックと隣接して位置するｐ型電荷生成層を含むことができる。ｎ型電荷生成層は、下部スタックに電子（ｅｌｅｃｔｒｏｎ）を注入し、ｐ型電荷生成層は、上部スタックに正孔（ｈｏｌｅ）を注入する。ｎ型電荷生成層は、電子輸送能力がある有機ホスト物質にＬｉ、Ｎａ、Ｋ、またはＣｓなどのアルカリ金属、またはＭｇ、Ｓｒ、Ｂａ、またはＲａなどのアルカリ土類金属がドープされた有機層であり得る。ｐ型電荷生成層は、正孔輸送能力のある有機ホスト物質にドーパントがドープされた有機層であり得る。
【００８０】
第２電極２６３は、有機発光層２６２上に形成される。第２電極２６３は、有機発光層２６２を覆うように形成され得る。第２電極２６３は、画素（ＲＰ、ＧＰ、ＢＰ、ＷＰ）に共通的に形成される共通層であり得る。
【００８１】
第２電極２６３は、光を透過させることができるＩＴＯ、ＩＺＯのような透明な金属物質（ＴＣＯ：Ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ  Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ  Ｍａｔｅｒｉａｌ）、またはマグネシウム（Ｍｇ）、銀（Ａｇ）、またはマグネシウム（Ｍｇ）と銀（Ａｇ）との合金のような半透過金属物質（Ｓｅｍｉ−ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｖｅ  Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ  Ｍａｔｅｒｉａｌ）で形成され得る。第２電極２６３が半透過金属物質で形成される場合には、マイクロキャビティ（ｍｉｃｒｏ  ｃａｖｉｔｙ）によって出光効率が高くなり得る。第２電極２６３上には、キャッピング層（ｃａｐｐｉｎｇ  ｌａｙｅｒ）が形成され得る。
【００８２】
有機発光素子層２６０上には、封止層３０が形成される。封止層３０は、封止膜２８０を備える。
【００８３】
第２電極２６３上には、封止膜２８０が配置される。封止膜２８０は、有機発光層２６２と第２電極２６３に酸素または水分が浸透することを防止する役割をする。このため、封止膜２８０は、少なくとも一つの無機膜と少なくとも一つの有機膜を含むことができる。例えば、封止膜２８０は、第１無機膜２８１、有機膜２８２、および第２無機膜２８３を含むことができる。
【００８４】
第２電極２６３上には、第１無機膜２８１が配置され得る。第１無機膜２８１は、第２電極２６３を覆うように形成され得る。第１無機膜２８１上には、有機膜２８２が配置され得る。有機膜２８２は、異物（ｐａｒｔｉｃｌｅｓ）が第１無機膜２８１を突破して有機発光層２６２と第２電極２６３に投入されることを防止するために十分な厚さで形成することができる。このよな有機膜２８２は、図８に示すようにパッド３３０を覆わないようにダム３４０によって遮断され得る。有機膜２８２上には、第２無機膜２８３が配置され得る。第２無機膜２８３は、有機膜２８２を覆うように形成され得る。
【００８５】
第１および第２無機膜２８１、２８３のそれぞれは、シリコン窒化物、窒化アルミニウム、ジルコニウム窒化物、チタン窒化物、ハフニウム窒化物、タンタル窒化物、シリコン酸化物、アルミニウム酸化物、または酸化チタンで形成され得る。有機膜２８２は、アクリル樹脂（ａｃｒｙｌ  ｒｅｓｉｎ）、エポキシ樹脂（ｅｐｏｘｙ  ｒｅｓｉｎ）、フェノール樹脂（ｐｈｅｎｏｌｉｃ  ｒｅｓｉｎ）、ポリアミド樹脂（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ  ｒｅｓｉｎ）またはポリイミド樹脂（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ  ｒｅｓｉｎ）で形成され得る。
【００８６】
封止層３０上には、タッチセンシング層４０が形成される。タッチセンシング層４０は、第１タッチ電極（ＴＥ）、第２タッチ電極（ＲＥ）、ブリッジ電極（ＢＥ）、およびブラックマトリックス（ＢＭ）を備える。
【００８７】
封止層３０上には、第１タッチ電極（ＴＥ）および第２タッチ電極（ＲＥ）が形成される。第１タッチ電極（ＴＥ）は、第１方向（ｙ軸方向）に配置されて相互に接続し、第２タッチ電極（ＲＥ）は、第２方向（ｘ軸方向）に配置されて相互に接続する。第１方向（ｙ軸方向）は、スキャンライン（Ｓ１〜Ｓｎ）と平行な方向であり、第２方向（ｘ軸方向）は、データライン（Ｄ１〜Ｄｍ）と平行な方向であり得る。または、第１方向（ｙ軸方向）は、データライン（Ｄ１〜Ｄｍ）と平行な方向であり、第２方向（ｘ軸方向）は、スキャンライン（Ｓ１〜Ｓｎ）と平行な方向であり得る。
【００８８】
第１方向（ｙ軸方向）に接続された第１タッチ電極（ＴＥ）のそれぞれは、第２方向（ｘ軸方向）に隣接する第１タッチ電極（ＴＥ）と電気的に絶縁される。第２方向（ｘ軸方向）に接続された第２タッチ電極（ＲＥ）のそれぞれは、第１方向（ｙ軸方向）に隣接する第２タッチ電極（ＲＥ）と電気的に絶縁される。
【００８９】
これにより、第１タッチ電極（ＴＥ）と第２タッチ電極（ＲＥ）の交差領域には、タッチセンサに対応する相互容量（ｍｕｔｕａｌ  ｃａｐａｃｉｔａｎｃｅ）が形成され得る。
【００９０】
第１方向（ｙ軸方向）に互いに接続された第１タッチ電極（ＴＥ）の中で、一側端に配置された第１タッチ電極（ＴＥ）は、第１タッチライン（ＴＬ）と接続することができる。第１タッチライン（ＴＬ）は、パッド（ＰＡＤ）３３０を通じて第１タッチ駆動部１８１に接続することができる。パッド（ＰＡＤ）３３０は、第１タッチ駆動部１８１に接続されたリンクライン３５０と接続することができる。したがって、第１方向（ｙ軸方向）に互いに接続された第１タッチ電極（ＴＥ）は、第１タッチライン（ＴＬ）を通じて、第１タッチ駆動部１８１から駆動パルスの入力を受けることができる。
【００９１】
第２方向（ｘ軸方向）に互いに接続された第２タッチ電極（ＲＥ）の中で、一側端に配置された第２タッチ電極（ＲＥ）は、第２タッチライン（ＲＬ）と接続することができる。第２タッチライン（ＲＬ）は、パッド（ＰＡＤ）３３０を通じて第２タッチ駆動部１８２に接続することができる。パッド（ＰＡＤ）３３０は、第２タッチ駆動部１８２に接続されたリンクライン３５０と接続することができる。したがって、第２タッチ駆動部１８２は、第２方向（ｘ軸方向）に互いに接続された第２タッチ電極（ＲＥ）のタッチセンサの占める変化量の入力を受けることができる。
【００９２】
第１タッチ電極（ＴＥ）および第２タッチ電極（ＲＥ）上には、ブラックマトリックス（ＢＭ）が形成される。ブラックマトリックス（ＢＭ）は、第１方向（ｙ軸方向）に配置された第１ブラックマトリックス（ＢＭ１）および第２方向（ｘ軸方向）に配置された第２ブラックマトリックス（ＢＭ２）を備える。ブラックマトリックス（ＢＭ）は、第１ブラックマトリックス（ＢＭ１）と第２ブラックマトリックス（ＢＭ２）とが互いに交差して格子形状を有し、第１〜第３画素（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３）のそれぞれに対応するように第１〜第３カラーフィルター３１１、３１２、３１３を区画する。ブラックマトリックス（ＢＭ）は、発光部ではなく、非発光部に形成され、バンク２７０と重畳するように配置することができる。これらのブラックマトリックス（ＢＭ）は、ブラック顔料を含む有機膜で形成することができる。
【００９３】
ブラックマトリックス（ＢＭ）上には、ブリッジ電極（ＢＥ）が形成される。第１タッチ電極（ＴＥ）と第２タッチ電極（ＲＥ）とが、それらの交差領域で互いに短絡することを防止するために、第１方向（ｙ軸方向）に互いに隣接した第１タッチ電極（ＴＥ）は、ブリッジ電極（ＢＥ）を通じて電気的に接続することができる。ブリッジ電極（ＢＥ）は、第１および第２タッチ電極（ＴＥ、ＲＥ）と互いに異なる層に配置され、コンタクトホール（ＣＴ）を通じて互いに隣接した第１タッチ電極（ＴＥ）に接続することができる。ブリッジ電極（ＢＥ）は、第２タッチ電極（ＲＥ）と交差することができる。
【００９４】
ここで、コンタクトホール（ＣＴ）は、ブラックマトリックス（ＢＭ）、特に、第１タッチ電極（ＴＥ）が配置された方向と平行の第１方向に配置された第１ブラックマトリックス（ＢＭ１）を貫通して形成され得る。ブリッジ電極（ＢＥ）は、第１ブラックマトリックス（ＢＭ１）に形成され、隣接した２つの第１タッチ電極（ＴＥ）を露出させる２つのコンタクトホール（ＣＴ）を通じて、隣接した２つの第１タッチ電極（ＴＥ）と接続し、２つのコンタクトホール（ＣＴ）を連結する。これにより、ブリッジ電極（ＢＥ）は、第１ブラックマトリックス（ＢＭ１）上に重畳するように配置される。
【００９５】
一方、第１タッチ電極（ＴＥ）、第２タッチ電極（ＲＥ）、第１タッチライン（ＴＬ）および第２タッチライン（ＴＬ）は、同一の層に配置することができる。ブラックマトリックス（ＢＭ）は、第１タッチ電極（ＴＥ）および第２タッチ電極（ＲＥ）上に配置されるだけでなく、第１タッチ電極（ＴＥ）および第２タッチ電極（ＲＥ）との間に配置することもできる。第１タッチ電極（ＴＥ）のそれぞれは、ブラックマトリックス（ＢＭ）によって第２タッチ電極（ＲＥ）のそれぞれと絶縁され得る。
【００９６】
タッチセンシング層４０上には、カラーフィルター層５０が形成される。カラーフィルター層５０は、第１〜第３カラーフィルター３１１、３１２、３１３を備える。タッチセンシング層４０上には、互いに異なる透過波長範囲を有する第１〜第３カラーフィルター３１１、３１２、３１３がブラックマトリックス（ＢＭ）によって区画された領域内に配置される。第１カラーフィルター３１１は、第１画素（Ｐ１）に対応するように配置される赤色カラーフィルターであり、第２カラーフィルター３１２は、第２画素（Ｐ２）に対応するように配置される緑色カラーフィルターであり、第３カラーフィルター３１３は、第３画素（Ｐ３）に対応するように配置される青色カラーフィルターであり得る。
【００９７】
第１カラーフィルター３１１は、赤色顔料を含む有機膜で形成され、第２カラーフィルター３１２は、緑色顔料を含む有機膜で形成され、第３カラーフィルター３１３は、青色顔料を含む有機膜で形成することができる。
【００９８】
図に示していないが、カラーフィルター層５０は、白色サブ画素に対応するように配置される透明有機膜をさらに含むことができる。ここで、透明有機膜は、アクリル樹脂（ａｃｒｙｌ  ｒｅｓｉｎ）、エポキシ樹脂（ｅｐｏｘｙ  ｒｅｓｉｎ）、フェノール樹脂（ｐｈｅｎｏｌｉｃ  ｒｅｓｉｎ）、ポリアミド樹脂（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ  ｒｅｓｉｎ）またはポリイミド樹脂（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ  ｒｅｓｉｎ）で形成され得る。
【００９９】
第１〜第３カラーフィルター３１１、３１２、３１３のうち少なくとも一つは、ブラックマトリックス（ＢＭ）上に形成され得る。本発明の一実施例は、ブラックマトリックス（ＢＭ）上に第１〜第３カラーフィルター３１１、３１２、３１３を形成することで、ブラックマトリックス（ＢＭ）上に隣接する２つのカラーフィルターが重畳するように形成することもできる。例えば、カラーフィルター層５０は、タッチセンシング層４０上に第１カラーフィルター３１１、第２カラーフィルター３１２、第３カラーフィルター３１３が，順番に形成され得る。ここで、第１カラーフィルター３１１と第２カラーフィルター３１２との間に配置されたブラックマトリックス（ＢＭ）上には、第１カラーフィルター３１１と第２カラーフィルター３１２とが、順番に重畳するように形成することができる。第２カラーフィルター３１２と第３カラーフィルター３１３との間に配置されたブラックマトリックス（ＢＭ）上には、第２カラーフィルター３１２と第３カラーフィルター３１３とが、順番に重畳するように形成することができる。第３カラーフィルター３１３と第１カラーフィルター３１３との間に配置されたブラックマトリックス（ＢＭ）上には、第１カラーフィルター３１１と第３カラーフィルター３１３とが、順番に重畳するように形成することができる。
【０１００】
一方、第１ブラックマトリックス（ＢＭ１）上には、ブリッジ電極（ＢＥ）が形成されているため、第１〜第３カラーフィルター３１１、３１２、３１３のうち少なくとも一つは、ブリッジ電極（ＢＥ）の上に形成することもできる。本発明の一実施例は、図７に示すように、ブリッジ電極（ＢＥ）上に隣接する２つのカラーフィルターが重畳するように形成され得る。例えば、カラーフィルター層５０は、タッチセンシング層４０上に第１カラーフィルター３１１、第２カラーフィルター３１２、第３カラーフィルター３１３が、順番に形成され得る。ここで、第１カラーフィルター３１１と第２カラーフィルター３１２との間に配置されたブリッジ電極（ＢＥ）の上には、第１カラーフィルター３１１と第２カラーフィルター３１２とが、順番に重畳するように形成することができる。第２カラーフィルター３１２と第３カラーフィルター３１３との間に配置されたブリッジ電極（ＢＥ）の上には、第２カラーフィルター３１２と第３カラーフィルター３１３とが、順番に重畳するように形成することができる。第３カラーフィルター３１３と第１カラーフィルター３１３との間に配置されたブリッジ電極（ＢＥ）の上には、第１カラーフィルター３１１と第３カラーフィルター３１３とが、順番に重畳するように形成することができる。
【０１０１】
本発明の実施例は、ブラックマトリックス（ＢＭ）上には、ブリッジ電極（ＢＥ）が形成される。ここで、ブリッジ電極（ＢＥ）は、金属物質からなるので、外部から入射する光を反射する問題が発生し得る。しかしながら、本発明の実施例は、ブリッジ電極（ＢＥ）の上に、第１〜第３カラーフィルター３１１、３１２、３１３のうちの少なくとも２つが、重畳するように形成することにより、ブリッジ電極（ＢＥ）による外光の反射を低減させることができる。
【０１０２】
一方、第１〜第３カラーフィルター３１１、３１２、３１３は、ブラックマトリックス（ＢＭ）が形成されない領域で第１タッチ電極（ＴＥ）および第２タッチ電極（ＲＥ）との間の空間を埋めることができる。これにより、第１タッチ電極（ＴＥ）および第２タッチ電極（ＲＥ）との間に、第１〜第３カラーフィルター３１１、３１２、３１３が配置され、それぞれを分離させることができる。
【０１０３】
本発明の実施例は、封止層３０上にタッチセンシング層４０を直接形成し、タッチセンシング層４０上にカラーフィルター層５０を直接形成することにより、第１基板１１１と第２基板１１２とを合着時に整列する必要がなく、接着層を別途設ける必要がない。
【０１０４】
また、本発明の実施例は、第１タッチ電極（ＴＥ）の上にブラックマトリックス（ＢＭ）を直接形成して、ブラックマトリックス（ＢＭ）を貫通するコンタクトホール（ＣＴ）を通じて、隣接する第１タッチ電極（ＴＥ）を電気的に接続するブリッジ電極（ＢＥ）を形成することを特徴とする。このような本発明の実施例は、第１タッチ電極（ＴＥ）とブリッジ電極（ＢＥ）との間に、絶縁膜を別途形成しなくてもよい。
【０１０５】
また、本発明の実施例は、第２タッチ電極（ＲＥ）とブリッジ電極（ＢＥ）との間に、ブラックマトリックス（ＢＭ）を配置することにより、第２タッチ電極（ＲＥ）とブリッジ電極（ＢＥ）との間に、絶縁膜を別途形成しなくても、第２タッチ電極（ＲＥ）のそれぞれとブリッジ電極（ＢＥ）のそれぞれとを、絶縁させることができる。
【０１０６】
また、本発明の実施例は、第１タッチ電極（ＴＥ）と第２タッチ電極（ＲＥ）との間に、ブラックマトリックス（ＢＭ）または第１〜第３カラーフィルター３１１、３１２、３１３が配置され得る。このような本発明の実施例は、第１タッチ電極（ＴＥ）と第２タッチ電極（ＲＥ）との間に、絶縁膜を別途形成しなくても、第１タッチ電極（ＴＥ）のそれぞれと第２タッチ電極（ＲＥ）のそれぞれとを絶縁させることができる。
【０１０７】
その結果、本発明の実施例は、タッチセンシング層４０の製造工程を簡素化させることができるとともに、タッチセンシング層４０により、タッチスクリーン一体型表示装置の厚さが増加することを最小限に抑えることができる。
【０１０８】
また、本発明の実施例は、ブリッジ電極（ＢＥ）上に、第１〜第３カラーフィルター３１１、３１２、３１３を形成するが、ここで、隣接した２つのカラーフィルターが重畳するように形成され得る。これにより、本発明の実施例は、製造工程を別途追加することなく、ブリッジ電極（ＢＥ）による外光の反射を低減させることができる。
【０１０９】
その結果、本発明の実施例は、製造工程を別途追加することなく、コントラスト比を向上させることができる。また、本発明の実施例は、偏光板を使用しなくても外光の反射を低減させることができるため、タッチセンシング層４０の厚さを最小限に抑えることができる。
【０１１０】
図９は、図５のＩＩ−ＩＩ’線に沿った他の断面を例示する図であり、図１０は、図５のＩＩＩ−ＩＩＩ’線に沿った他の断面を例示する図である。
【０１１１】
図９および図１０に例示された断面図は、ブリッジ電極（ＢＥ）上に、第１〜第３カラーフィルター３１１、３１２、３１３すべてが形成されることを除いては、図６および図７を結びつけて説明したものと実質的に同一である。したがって、図６および図７に示された、第１基板１１１、第２基板１１２、薄膜トランジスタ１０、有機発光素子２０および封止層３０に対する詳細な説明は省略する。
【０１１２】
図９および図１０を参照すると、タッチセンシング層４０は、封止層３０上に形成される。タッチセンシング層４０は、第１タッチ電極（ＴＥ）、第２タッチ電極（ＲＥ）、ブリッジ電極（ＢＥ）、およびブラックマトリックス（ＢＭ）を備える。
【０１１３】
封止層３０上には、第１タッチ電極（ＴＥ）および第２タッチ電極（ＲＥ）が形成される。第１タッチ電極（ＴＥ）は、第１方向（ｙ軸方向）に配置されて相互に接続し、第２タッチ電極（ＲＥ）は、第２方向（ｘ軸方向）に配置されて相互に接続する。第１方向（ｙ軸方向）に互いに接続した第１タッチ電極（ＴＥ）中の一側端に配置された第１タッチ電極（ＴＥ）は、第１タッチライン（ＴＬ）と接続することができる。第２方向（ｘ軸方向）に互いに接続した第２タッチ電極（ＲＥ）中の一側端に配置された第２タッチ電極（ＲＥ）は、第２タッチライン（ＲＬ）と接続することができる。第２タッチライン（ＲＬ）は、パッド（ＰＡＤ）３３０を通じて第２タッチ駆動部１８２に接続することができる。
【０１１４】
第１タッチ電極（ＴＥ）および第２タッチ電極（ＲＥ）の上には、ブラックマトリックス（ＢＭ）が形成される。ブラックマトリックス（ＢＭ）は、第１方向（ｙ軸方向）に配置された、第１ブラックマトリックス（ＢＭ１）および第２方向（ｘ軸方向）に配置された第２ブラックマトリックス（ＢＭ２）を備える。ブラックマトリックス（ＢＭ）は、第１ブラックマトリックス（ＢＭ１）と第２ブラックマトリックス（ＢＭ２）が互いに交差して格子形状を有し、第１〜第３画素（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３）のそれぞれに対応するように、第１〜第３カラーフィルター３１１、３１２、３１３を区画する。ブラックマトリックス（ＢＭ）は、発光部ではない非発光部に形成され、バンク２７０と重畳するように配置することができる。これらのブラックマトリックス（ＢＭ）は、ブラック顔料を含む有機膜で形成することができる。
【０１１５】
ブラックマトリックス（ＢＭ）上には、ブリッジ電極（ＢＥ）が形成される。ブリッジ電極（ＢＥ）は、ブラックマトリックス（ＢＭ）、特に、第１ブラックマトリックス（ＢＭ１）を貫通するコンタクトホール（ＣＴ）を通じて互いに隣接した第１タッチ電極（ＴＥ）に接続することができる。これらのブリッジ電極（ＢＥ）は、第１ブラックマトリックス（ＢＭ１）上に重畳するように配置される。
【０１１６】
一方、第１タッチ電極（ＴＥ）、第２タッチ電極（ＲＥ）、第１タッチライン（ＴＬ）および第２タッチライン（ＴＬ）は、同一の層に配置することができる。ブラックマトリックス（ＢＭ）は、第１タッチ電極（ＴＥ）および第２タッチ電極（ＲＥ）の上に配置するだけでなく、第１タッチ電極（ＴＥ）および第２タッチ電極（ＲＥ）との間に配置することもできる。第１タッチ電極（ＴＥ）のそれぞれは、ブラックマトリックス（ＢＭ）によって第２タッチ電極（ＲＥ）のそれぞれと絶縁することができる。
【０１１７】
タッチセンシング層４０上には、カラーフィルター層５０が形成される。カラーフィルター層５０は、第１〜第３カラーフィルター３１１、３１２、３１３を備える。タッチセンシング層４０上には、ブラックマトリックス（ＢＭ）と互いに異なる透過波長範囲を有する第１〜第３カラーフィルター３１１、３１２、３１３が，ブラックマトリックス（ＢＭ）によって区画された領域内に配置される。第１カラーフィルター３１１は、第１画素（Ｐ１）に対応するように配置される赤色カラーフィルターであり、第２カラーフィルター３１２は、第２画素（Ｐ２）に対応するように配置される緑色カラーフィルターであり、第３カラーフィルター３１３は、第３画素（Ｐ３）に対応するように配置される青色カラーフィルターであり得る。
【０１１８】
第１カラーフィルター３１１は、赤色顔料を含む有機膜で形成し、第２カラーフィルター３１２は、緑色顔料を含む有機膜で形成し、第３カラーフィルター３１３は、青色顔料を含む有機膜で形成することができる。
【０１１９】
図に示していないが、カラーフィルター層５０は、白色サブ画素に対応するように配置される透明有機膜をさらに含むことができる。ここで、透明有機膜は、アクリル樹脂（ａｃｒｙｌ  ｒｅｓｉｎ）、エポキシ樹脂（ｅｐｏｘｙ  ｒｅｓｉｎ）、フェノール樹脂（ｐｈｅｎｏｌｉｃ  ｒｅｓｉｎ）、ポリアミド樹脂（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ  ｒｅｓｉｎ）またはポリイミド樹脂（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ  ｒｅｓｉｎ）で形成され得る。
【０１２０】
第１〜第３カラーフィルター３１１、３１２、３１３のうち少なくとも一つは、ブラックマトリックス（ＢＭ）上に形成され得る。本発明の一実施例は、ブラックマトリックス（ＢＭ）上に第１〜第３カラーフィルター３１１、３１２、３１３を形成することにより、ブラックマトリックス（ＢＭ）上に隣接する２つのカラーフィルターを重畳するように形成することができる。例えば、カラーフィルター層５０は、タッチセンシング層４０上に、第１カラーフィルター３１１、第２カラーフィルター３１２、第３カラーフィルター３１３が、順番に形成され得る。ここで、第１カラーフィルター３１１と第２カラーフィルター３１２との間に配置されたブラックマトリックス（ＢＭ）上には、第１カラーフィルター３１１と第２カラーフィルター３１２とが、順番に重畳するように形成することができる。第２カラーフィルター３１２と第３カラーフィルター３１３との間に配置されたブラックマトリックス（ＢＭ）上には、第２カラーフィルター３１２と第３カラーフィルター３１３とが、順番に重畳するように形成することができる。第３カラーフィルター３１３と、第１カラーフィルター３１３との間に配置されたブラックマトリックス（ＢＭ）上には、第１カラーフィルター３１１と第３カラーフィルター３１３とが、順番に重畳するように形成することができる。
【０１２１】
一方、第１〜第３カラーフィルター３１１、３１２、３１３のすべては、図９および図１０に示すように、ブリッジ電極（ＢＥ）の上に形成され得る。本発明の実施例は、ブリッジ電極（ＢＥ）の上に隣接した２つのカラーフィルターだけでなく、隣接しないカラーフィルターまで重畳するように形成され得る。例えば、カラーフィルター層５０は、タッチセンシング層４０上に第１カラーフィルター３１１、第２カラーフィルター３１２、第３カラーフィルター３１３が、順番に形成され得る。ここで、ブリッジ電極（ＢＥ）は、第１カラーフィルター３１１、第２カラーフィルター３１２、および第３カラーフィルター３１３が、順番に重畳するように形成することができる。
【０１２２】
図９および図１０では、ブリッジ電極（ＢＥ）が形成された第１ブラックマトリックス（ＢＭ１）全面に、第１〜第３カラーフィルター３１１、３１２、３１３が全て重畳するように配置されることを示しているが、これに限定されない。他の一実施例において、ブリッジ電極（ＢＥ）が形成された領域でのみ、第１〜第３カラーフィルター３１１、３１２、３１３が、全て重畳するように配置することもできる。
【０１２３】
図９および図１０に示した実施例は、ブリッジ電極（ＢＥ）上に、第１〜第３カラーフィルター３１１、３１２、３１３すべてを重畳するように配置することにより、ブリッジ電極（ＢＥ）に反射した光が透過することを最小限に抑えることができる。
【０１２４】
一方、図９および図１０に示したカラーフィルター層５０は、ブリッジ電極（ＢＥ）上に、第１〜第３カラーフィルター３１１、３１２、３１３すべてを重畳するように配置することにより段差が発生するため、第１〜第３カラーフィルター３１１、３１２、３１３上に段差を平坦化させるためのオーバーコート層（ｏｖｅｒｃｏａｔ  ｌａｙｅｒ）３２０をさらに形成することができる。
【０１２５】
図１１は、本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置の製造方法を示すフローチャートである。図１２Ａ〜図１２Ｆは、本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置の製造方法を説明するためのＩＩ−ＩＩ’の断面図であり、図１３Ａ〜図１３Ｆは、本発明の一実施例に係るタッチスクリーン一体型表示装置の製造方法を説明するためのＩＩＩ−ＩＩＩ’の断面図である。
【０１２６】
まず、第１基板１１１上に薄膜トランジスタ１０、有機発光素子２０および封止層３０を形成する（Ｓ１１０１）。
【０１２７】
図１２Ａおよび図１３Ａに示すように、第１基板１１１上に薄膜トランジスタ２１０と、有機発光素子２６０および封止膜２８０を形成する。具体的には、第１基板１１１上にバッファ膜を形成することができる。バッファ膜は、透湿に脆弱な第１基板１１１を通じて、浸透する水分から薄膜トランジスタ２１０と、有機発光素子２６０を保護するためのものであり、交互に積層された複数の無機膜からなり得る。例えば、バッファ膜は、シリコン酸化膜（ＳｉＯｘ）、シリコン窒化膜（ＳｉＮｘ）、ＳｉＯＮ中のいずれか一つ以上の無機膜が交互に積層された多重膜で形成することができる。バッファ膜は、ＣＶＤ法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）を利用して形成することができる。
【０１２８】
そして、バッファ膜上に薄膜トランジスタのアクティブ層２１１を形成する。具体的には、スパッタリング法（Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）またはＭＯＣＶＤ法（Ｍｅｔａｌ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）などを利用して、バッファ膜上の全面に、アクティブ金属層を形成する。その後、フォトレジストパターンを利用したマスク工程でアクティブ金属層をパターニングして、アクティブ層２１１を形成する。アクティブ層２１１は、シリコン系半導体物質または酸化物系半導体物質で形成することができる。
【０１２９】
そして、アクティブ層２１１上にゲート絶縁膜２２０を形成する。ゲート絶縁膜２２０は、無機膜、例えばシリコン酸化膜（ＳｉＯｘ）、シリコン窒化膜（ＳｉＮｘ）、またはそれらの多重膜で形成することができる。
【０１３０】
そして、ゲート絶縁膜２２０上に薄膜トランジスタ２１０のゲート電極２１２を形成する。具体的には、スパッタリング法やＭＯＣＶＤ法などを用いて、ゲート絶縁膜２２０上の全面に第１金属層を形成する。次に、フォトレジストパターンを利用したマスク工程で、第１金属層をパターニングしてゲート電極２１２を形成する。ゲート電極２１２は、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）、チタニウム（Ｔｉ）、ニッケル（Ｎｉ）、ネオジム（Ｎｄ）、銅（Ｃｕ）中のいずれか一つ、またはこれらの合金からなる単一層または多重層で形成され得る。
【０１３１】
そして、ゲート電極２１２上に層間絶縁膜２３０を形成する。層間絶縁膜２３０は、無機膜、例えばシリコン酸化膜（ＳｉＯｘ）、シリコン窒化膜（ＳｉＮｘ）、またはそれらの多重膜で形成することができる。
【０１３２】
そして、ゲート絶縁膜２２０と層間絶縁膜２３０とを貫通して、アクティブ層２１１を露出させるコンタクトホールを形成する。
【０１３３】
そして、層間絶縁膜２３０上に薄膜トランジスタ２１０のソース電極２１４およびドレイン電極２１５を形成する。具体的には、スパッタリング法やＭＯＣＶＤ法などを用いて層間絶縁膜２３０上の全面に第２金属層を形成する。次に、フォトレジストパターンを利用したマスク工程で、第２金属層をパターニングして、ソース電極２１４およびドレイン電極２１５を形成する。ソース電極２１４およびドレイン電極２１５のそれぞれは、ゲート絶縁膜２２０と層間絶縁膜２３０とを貫通するコンタクトホールを通じて、アクティブ層２１１に接続され得る。ソース電極２１４およびドレイン電極２１５は、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）、チタニウム（Ｔｉ）、ニッケル（Ｎｉ）、ネオジム（Ｎｄ）、銅（Ｃｕ）中のいずれか一つ、またはこれらの合金からなる単一層または多重層で形成され得る。
【０１３４】
そして、薄膜トランジスタ２１０のソース電極２１４およびドレイン電極２１５上に保護膜２４０を形成する。保護膜２４０は、無機膜、例えばシリコン酸化膜（ＳｉＯｘ）、シリコン窒化膜（ＳｉＮｘ）、またはそれらの多重膜で形成することができる。保護膜２４０は、ＣＶＤ法を用いて形成することができる。
【０１３５】
そして、保護膜２４０上に薄膜トランジスタ２１０に起因する段差を平坦化するための平坦化膜２５０を形成する。平坦化膜２５０は、アクリル樹脂（ａｃｒｙｌ  ｒｅｓｉｎ）、エポキシ樹脂（ｅｐｏｘｙ  ｒｅｓｉｎ）、フェノール樹脂（ｐｈｅｎｏｌｉｃ  ｒｅｓｉｎ）、ポリアミド樹脂（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ  ｒｅｓｉｎ）、ポリイミド樹脂（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ  ｒｅｓｉｎ）などの有機膜で形成され得る。
【０１３６】
そして、平坦化膜２５０上に有機発光素子２６０の第１電極２６１を形成する。具体的には、スパッタリング法やＭＯＣＶＤ法などを用いて平坦化膜２８０上の全面に第３金属層を形成する。そして、フォトレジストパターンを利用したマスク工程で、第３金属層をパターニングして第１電極２６１を形成する。第１電極２６１は、保護膜２４０と平坦化膜２５０を貫通するコンタクトホールを通じて、薄膜トランジスタ２１０のソース電極２１４に接続され得る。第１電極２６１は、アルミニウムとチタンの積層構造（Ｔｉ／Ａｌ／Ｔｉ）、アルミニウムとＩＴＯの積層構造（ＩＴＯ／Ａｌ／ＩＴＯ）、ＡＰＣ合金、およびＡＰＣ合金とＩＴＯの積層構造（ＩＴＯ／ＡＰＣ／ＩＴＯ）のような反射率の高い金属物質で形成することができる。
【０１３７】
そして、画素（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３）を区画するために平坦化膜２５０上で第１電極２６１の端を覆うようにバンク２７０を形成する。バンク２７０は、アクリル樹脂（ａｃｒｙｌ  ｒｅｓｉｎ）、エポキシ樹脂（ｅｐｏｘｙ  ｒｅｓｉｎ）、フェノール樹脂（ｐｈｅｎｏｌｉｃ  ｒｅｓｉｎ）、ポリアミド樹脂（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ  ｒｅｓｉｎ）、ポリイミド樹脂（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ  ｒｅｓｉｎ）などの有機膜で形成することができる。
【０１３８】
そして、第１電極２６１とバンク２７０上に有機発光層２６２を蒸着工程または溶液工程で形成する。有機発光層２６２は、画素（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３）に共通的に形成される共通層であり得る。この場合には、有機発光層２６２は、白色光を発光する白色発光層で形成することができる。
【０１３９】
そして、有機発光層２６２上に第２電極２６３を形成する。第２電極２６３は、画素（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３）に共通的に形成される共通層であり得る。第２電極２６３は、光を透過させることができるＩＴＯ、ＩＺＯのような透明な金属物質（ＴＣＯ：Ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ  Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ  Ｍａｔｅｒｉａｌ）で形成され得る。第２電極２６３は、スパッタリング法などの物理気相蒸着法（ｐｈｙｓｉｃａｌ  ｖａｐｏｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）で形成され得る。第２電極２６３上にキャッピング層（ｃａｐｐｉｎｇ  ｌａｙｅｒ）が形成され得る。
【０１４０】
そして、第２電極２６３上に封止膜２８０を形成する。封止膜２８０は、有機発光層２６２と第２電極２６３に酸素または水分が浸透することを防止する役割をする。このため、封止膜２８０は、少なくとも一つの無機膜と、少なくとも一つの有機膜を含むことができる。
【０１４１】
例えば、封止膜２８０は、第１無機膜２８１、有機膜２８２および第２無機膜２８３を含むことができる。この場合、第１無機膜２８１は、第２電極２６３を覆うように形成される。有機膜２８２は、第１無機膜を覆うように形成される。有機膜２８２は、異物（ｐａｒｔｉｃｌｅｓ）が第１無機膜を突き抜けて、有機発光層２６２と第２電極２６３に投入されることを防止するために十分な厚さで形成することが好ましい。第２無機膜２８３は、有機膜を覆うように形成される。
【０１４２】
第１および第２無機膜２８１、２８３のそれぞれは、シリコン酸化物、窒化ケイ素、シリコンオキシナイトライド、アルミニウム酸化物、窒化アルミニウム、ジルコニウム窒化物、チタン窒化物、ハフニウム窒化物、タンタル窒化物、または酸化チタンで形成され得る。有機膜２８２は、アクリル樹脂（ａｃｒｙｌ  ｒｅｓｉｎ）、エポキシ樹脂（ｅｐｏｘｙ  ｒｅｓｉｎ）、フェノール樹脂（ｐｈｅｎｏｌｉｃ  ｒｅｓｉｎ）、ポリアミド樹脂（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ  ｒｅｓｉｎ）またはポリイミド樹脂（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ  ｒｅｓｉｎ）で形成され得る。
【０１４３】
その後、第１タッチ電極（ＴＥ）および第２タッチ電極（ＲＥ）を形成する（Ｓ１１０２）。
【０１４４】
図１２Ｂおよび図１３Ｂに示すように、封止膜２８０上に第１タッチ電極（ＴＥ）および第２タッチ電極（ＲＥ）を形成する。具体的には、第１タッチ電極（ＴＥ）は、第１方向（ｙ軸方向）に配置して、一定の間隔で離隔するように形成し、第２タッチ電極（ＲＥ）は、第２方向（ｘ軸方向）に配置して互いに接続するように形成する。ここで、第１タッチ電極（ＴＥ）および第２タッチ電極（ＲＥ）のそれぞれは、長方形、八角形、円形またはひし形の形態を有することができる。
【０１４５】
このような第1タッチ電極（ＴＥ）および第２タッチ電極（ＲＥ）は、光を透過させることができるＩＴＯ、ＩＺＯのような透明な金属物質（ＴＣＯ：Ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ  Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ  Ｍａｔｅｒｉａｌ）で形成され得る。第１タッチ電極（ＴＥ）および第２タッチ電極（ＲＥ）は、スパッタリング法などの物理気相蒸着法（ｐｈｙｓｉｃａｌ  ｖａｐｏｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）で形成され得る。
【０１４６】
次に、ブラックマトリックス（ＢＭ）を形成する（Ｓ１１０３）。
【０１４７】
図１２Ｃおよび図１３Ｃのように、第１タッチ電極（ＴＥ）および第２タッチ電極（ＲＥ）の上にブラックマトリックス（ＢＭ）を形成する。具体的には、第１タッチ電極（ＴＥ）および第２タッチ電極（ＲＥ）の上に、第１方向（ｙ軸方向）に配置された第１ブラックマトリックス（ＢＭ１）および第２方向（ｘ軸方向）に配置された第２ブラックマトリックス（ＢＭ２）を形成する。ブラックマトリックス（ＢＭ）は、第１ブラックマトリックス（ＢＭ１）と第２ブラックマトリックス（ＢＭ２）が互いに交差して格子形状を有し、第１〜第３画素（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３）のそれぞれに対応するように、第１〜第３カラーフィルター３１１、３１２、３１３を区画する。ブラックマトリックス（ＢＭ）は、ブラック顔料を含む有機物質であり得る。
【０１４８】
次に、ブリッジ電極（ＢＥ）を形成する（Ｓ１１０４）。
【０１４９】
図１２Ｄおよび図１３Ｄのように、第１ブラックマトリックス（ＢＭ１）上にブリッジ電極（ＢＥ）を形成する。具体的には、第１ブラックマトリックス（ＢＭ１）に隣接した第１タッチ電極（ＴＥ）の一部を露出させるコンタクトホール（ＣＴ）を形成する。
【０１５０】
そして、フォトレジストパターンを利用したマスク工程で、第１ブラックマトリックス（ＢＭ１）上にブリッジ電極（ＢＥ）を形成する。ブリッジ電極（ＢＥ）は、第１ブラックマトリックス（ＢＭ１）を貫通するコンタクトホール（ＣＴ）を通じて、隣接した第１タッチ電極（ＴＥ）に接続して電気的に接続することができる。ブリッジ電極（ＢＥ）は、ブラックマトリックスと重畳するように形成するので、導電性物質であればよく、第１タッチ電極（ＴＥ）および第２タッチ電極（ＲＥ）と同じ透明な金属物質である必要はない。このようなブリッジ電極（ＢＥ）は、モリブデン（Ｍｏ）、銀（Ａｇ）、チタン（Ｔｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）からなる群から選択された一つの金属または一つ以上の合金、ＩＴＯ、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）などの透明な導電物質または導電性ポリマーなどで形成することができるが、これに限定されない。
【０１５１】
次に、カラーフィルター層５０を形成する（Ｓ１１０５）。
【０１５２】
図１２Ｅおよび図１３Ｅに示すように、タッチセンシング層４０上にカラーフィルター層５０を形成する。具体的には、第１タッチ電極（ＴＥ）、第２タッチ電極（ＲＥ）、ブラックマトリックス（ＢＭ）、およびブリッジ電極（ＢＥ）を含むタッチセンシング層４０上に第１〜第３カラーフィルター３１１、３１２、３１３を形成する。例えば、ブラックマトリックス（ＢＭ）によって区画された格子領域のうち、赤色サブ画素（Ｐ１）と対応する格子領域内に赤色顔料を含む有機物質を塗布し、フォト工程を実行して、第１カラーフィルター３１１を形成する。そして、緑色サブ画素（Ｐ２）と対応する格子領域内に緑色顔料を含む有機物質を塗布し、フォト工程を実行して、第２カラーフィルター３１２を形成する。そして、青色サブ画素（Ｐ３）と対応する格子領域内に青色顔料を含む有機物質を塗布し、フォト工程を実行して、第３カラーフィルター３１３を形成する。
【０１５３】
ここで、ブラックマトリックス（ＢＭ）上には、隣接した２つのカラーフィルターが重畳して形成され得る。そしてブラックマトリックス（ＢＭ）の中でブリッジ電極（ＢＥ）が形成された第１ブラックマトリックス（ＢＭ１）上には、第１〜第３カラーフィルター３１１、３１２、３１３すべてが重畳して形成され得る。
【０１５４】
前記では、赤色、緑色、青色のカラーフィルターの順に形成することを例示したが、カラーフィルターの形成順序は、これに限定されない。
【０１５５】
そして、第１〜第３カラーフィルター３１１、３１２、３１３上には、段差を平坦化させるためのオーバーコート層（ｏｖｅｒｃｏａｔ  ｌａｙｅｒ）３２０を形成する。
【０１５６】
次に、第1基板１１１と第2基板１１２を合着する（Ｓ１１０６）。
【０１５７】
図１２Ｆおよび図１３Ｆのように、カラーフィルター層５０上に第２基板１１２を合着する。具体的には、接着層（未図示）を用いて、第１基板１１１のカラーフィルター層５０と第２基板１１２とを接着することにより、第１基板１１１と第２基板１１２とを合着することができる。接着層（未図示）は、透明な接着レジン（ＯＣＲ：Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｌｅａｒ  Ｒｅｓｉｎ）または透明な接着レジンフィルム（ＯＣＡ：Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｌｅａｒ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ  Ｆｉｌｍ）であり得る。
【０１５８】
以上、添付の図を参照して、本発明の実施例をさらに詳細に説明したが、本発明は、必ずしもこのような実施例に限定されるのではなく、本発明の技術思想を逸脱しない範囲内で多様に変形実施することができる。したがって、本発明に開示された実施例は、本発明の技術思想を限定するためのものではなく説明するためのものであり、このような実施例により、本発明の技術思想の範囲が限定されるものではない。したがって、以上で記述した実施例は、すべての面で例示的なものであり限定的ではないと理解されなければならない。本発明の保護範囲は、特許請求の範囲によって解釈されなければならず、それと同等の範囲内にあるすべての技術思想は、本発明の権利範囲に含まれるものと解釈されなければならない。
【符号の説明】
【０１５９】
１００  タッチスクリーン一体型表示装置、１１０  表示パネル、１１１  下部基板、１１２  上部基板、１２０  スキャン駆動部、１３０  データ駆動部、１３１  ソースドライブＩＣ、１４０  軟性フィルム、１５０  回路基板、１６０  タイミングコントローラー、１７０  ホストシステム、１８０  タッチ駆動部、１８１  第１タッチ駆動部、１８２  第２タッチ駆動部、１８３  タッチコントローラー、１９０  タッチ座標算出部、１０  薄膜トランジスタ層、２０  有機発光素子層、３０  封止層、４０  タッチセンシング層、５０  カラーフィルター層、２１０  薄膜トランジスタ、２１１  アクティブ層、２１２  ゲート電極、２１４  ソース電極、２１５  ドレイン電極、２２０  ゲート絶縁膜、２３０  層間絶縁膜、２４０  保護膜、２５０  平坦化膜、２６０  有機発光素子、２６１  第１電極、２６２  有機発光層、２６３  第２電極。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２Ａ】
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【図１２Ｂ】
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【図１２Ｃ】
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【図１２Ｄ】
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【図１２Ｅ】
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【図１２Ｆ】
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【図１３Ａ】
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【図１３Ｂ】
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【図１３Ｃ】
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【図１３Ｄ】
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【図１３Ｅ】
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【図１３Ｆ】
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