(57)【要約】【課題】可視（４５０ｎｍ以下の波長）から紫外域の波長の光（又はレーザ光）において、光伝送路端面における光のパワー密度を低減でき、光導波路及び光ファイバ端面の劣化を抑える。【解決手段】本発明は、クラッド層と、前記クラッド層中に形成されたコアとを備える光伝送路であって、前記コアの端面に、バッファ層が形成され、前記コアから出射された光が前記バッファ層において放射モードで伝搬することを特徴とする。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
クラッド層と、前記クラッド層中に形成されたコアとを備え、
前記コアの端面に、バッファ層が形成され、前記コアから出射される光が前記バッファ層において放射モードで伝搬することを特徴とする光伝送路。
【請求項２】
前記バッファ層は、前記コアの材料と同一であることを特徴とする請求項１に記載の光伝送路。
【請求項３】
前記バッファ層は、前記クラッド層の材料と同一であることを特徴とする請求項１に記載の光伝送路。
【請求項４】
前記光伝送路は光導波路であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の光伝送路。
【請求項５】
前記光伝送路は光ファイバであることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の光伝送路。
【請求項６】
請求項４に記載の光伝送路と、請求項５に記載の光伝送路とを、請求項４に記載の前記バッファ層と請求項５に記載のバッファ層とが対向するように向かい合わせたことを特徴とする光モジュール。
【請求項７】
請求項４に記載の前記バッファ層と請求項５に記載のバッファ層とが、レンズを挟んで対向するように向かい合わせたことを特徴とする光モジュール。
【請求項８】
ＬＤと、
前記ＬＤからの光を集光するレンズと、
請求項５に記載の光伝送路であって、前記レンズからの光が前記バッファ層から入射する、光伝送路と
を備えることを特徴とする光モジュール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光伝送路の構造に関し、より詳細には、可視（４５０ｎｍ以下の波長）から紫外域の波長の光が伝搬する光ファイバ及び光導波路等の光伝送路の構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
光通信用に開発された光ファイバ及び光導波路等の光伝送路の技術は、光通信以外の適用が図られつつあり、可視領域用及び紫外領域用の光ファイバ及び光導波路等の光伝送路が開発・販売されるようになってきている。例えば、蛍光顕微鏡及び共焦点顕微鏡は、半導体レーザ（ＬＤ）からの波長の異なった複数の可視域のレーザ光を、１つの光ファイバに入射して束ね、束ねたレーザ光を測定物に照射している。また、レーザプリンタは、近赤外レーザ光から青色レーザ光までの、複数の波長のレーザ光を空間多重している。また、半導体検査装置では、測定装置から複数の場所に置かれた測定物まで、青色レーザから赤色レーザまでのレーザ光を光ファイバで伝送している。
【０００３】
さらに、青色発光ダイオード（ＬＥＤ）、紫外ＬＥＤ、真空紫外ＬＥＤの開発、商用化が急ピッチで進められ、また、青色ＬＤから紫外域ＬＤも開発、商用化も進んでいる。最近では波長が４０５ｎｍ及び３７５ｎｍ等のＬＤモジュールが販売されるようになってきた。
【０００４】
このような、可視、紫外又は高出力のＬＤまたはＬＥＤからの光（レーザ光又は可視光）は、レンズを介してコリメートすることにより空間に出射することが多い。最近ではレンズを介して、ＬＤまたはＬＥＤから出射された光（レーザ光又は可視光）を光ファイバ及び光導波路等の光伝送路にカップリングして、光ファイバ出力のモジュール、さらに光ファイバ出力を光導波路にカップリングしたデバイスが販売されるようになってきた。
【０００５】
一方、光ファイバ又は光導波路等の光伝送路から光（レーザ光又は可視光）を直接に空間に出射するデバイス、あるいはレンズを介してＬＤまたはＬＥＤから出射した光（レーザ光又は可視光）を直接に光ファイバ又は光導波路等の光伝送路に入射するデバイスも報告されるようになってきた。また、光ファイバを介して、ＬＤからのレーザ光を光導波路に入力するデバイスも開発されている。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００６】
【非特許文献１】Xio photonics社ホームページ（インターネットhttp://www.xiophotonics.com/）
【非特許文献２】C.P. Gonschior, “Investigation of single-mode fiber degradation by 405-nm continuouswave laser light,” Optical Engineering 53(12), 122512 (December 2014)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
例えば、ＬＤからの可視光を合波して出力する光ファイバや光導波路等の光伝送路を用いた合分波器がある。また、光導波路からの出射光をそのまま空間に投射して、干渉縞パターンをスクリーンに投影するデバイスも開発されている。図１は、従来の干渉縞形成導波路型スプリッタを示す図で（非特許文献１参照）、図１（ａ）は、干渉縞形成導波路型スプリッタの構成図を示し、図１（ｂ）は、干渉縞形成導波路型スプリッタの上面図を示し、図１（ｃ）は干渉縞形成導波路型スプリッタから出射された光が照射されたスクリーンの平面図を示している。図１の干渉縞形成導波路型スプリッタ１００は、１ｘ４スプリッタに赤色レーザ光を入射して（図１（ａ）、（ｂ））、スクリーンに投射することにより、干渉縞パターンを形成している（図１（ｃ））。ここで、１０ｍＷ程度の波長４０５ｎｍの青色レーザ光を干渉縞形成導波路型スプリッタに入射して、連続動作させると、ＬＤから光ファイバ又は光導波路等の光伝送路への光のカップリング効率は時間と共に低下する。あるいは光ファイバ又は光導波路等の光伝送路からの出射ビームの形状が徐々に劣化し、出力レーザ光の光強度が弱くなっていくという現象が現れる。
【０００８】
通常、通信波長帯の光導波路では、光ファイバと光導波路とを接続する際、Ｖ溝を形成したファイバブロックに光ファイバを固定して、接着剤を介してファイバブロックを光導波路端面に固定する。このとき、光が通過する部分にも接着剤が塗布されることになる。しかし、可視域又はハイパワーの光（レーザ光）を光ファイバ及び光導波路に伝搬させる場合においては、光ファイバと光導波路とを固定する接着剤が劣化してしまうという問題があった。光ファイバと光導波路とを固定する接着剤は、可視域又はハイパワーの光（レーザ光）により、１μｍ以下の領域で局所的に大きく屈折率が変化する。したがって、光導波路内に微少な凸又は凹レンズができるのと同じこととなり、入射した光は光導波路外に出射され、光ファイバ又は光導波路内における光の伝搬ロスが非常に大きくなる。
【０００９】
このため、光が通過しない部分のファイバブロックは、接着剤を使って導波路端部に固定し、光が通過する部分の光ファイバは、接着剤を用いないという構造とすることもできる。しかし、このような構造においても、波長４５０ｎｍ以下の光（レーザ光）又は可視域の光を温度の高い状態で光ファイバ及び光導波路を通過させると、時間とともに大きくなる。
【００１０】
この原因を探るために、光ファイバ端面をＳＥＭおよびレーザ顕微鏡によって観測した。その結果、可視域又はハイパワーの光（レーザ光）が出射された光ファイバ端面のコア部が０．数μｍ程度膨らんでいることを発見した。光ファイバ端面のコア部が膨らむ、又はコア部の幅が広がることにより、光ファイバからの出射光のパターンが２つのスポットに分離したり、出射ビームの形状が悪くなったりする。そのため、光ファイバ端面から出射される光がマルチモードになり、光ファイバと光導波路との光のカップリングが悪くなる。
【００１１】
図２は、光ファイバに波長４０５ｎｍの１０ｍＷの光を２０００ｈｒ入射した場合の光ファイバ端面のコアの様子をレーザ顕微鏡で観測した結果を示す図で、図２（ａ）はコアの斜視図を示し、図２（ｂ）はコアを側面から見た場合の高さのグラフを示している。特に４５０ｎｍよりも短い波長の光では、１ｍＷ程度の低パワーでも光ファイバ端面のガラスコアが膨らんでしまう（非特許文献２参照）。また、図３は、コアの膨らんだ光導波路から出射した光をスクリーンに投影した様子を示す図である。導波路出射側の光をスクリーンに投影すると、スポットが２つに分離していることが確認される。光ファイバに可視光を伝搬させると、光導波路端面のコアが膨らむだけでなく、コアサイズが大きくなることにより端面付近はマルチモードとなり、出力側にシングルモードのファイバをカップリングさせると非常にカップリング効率が落ちることになる。
【００１２】
本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、可視（４５０ｎｍ以下の波長）から紫外域の波長の光（又はレーザ光）が、光ファイバ又は光導波路から出射される場合、あるいは空間から光ファイバ又は光導波路に入射される場合の光ファイバ端面又は光導波路端面の劣化を防ぐための構造を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
このような目的を達成するために、本発明の第１の態様は、クラッド層と、前記クラッド層中に形成されたコアとを備える光伝送路であって、前記コアの端面に、バッファ層が形成され、前記コアから出射された光が前記バッファ層において放射モードで伝搬することを特徴とする。
【００１４】
また、本発明の第２の態様は、第１の態様の光伝送路であって、前記バッファ層は、前記コアの材料と同一であることを特徴とする。
【００１５】
また、本発明の第３の態様は、第１の態様の光伝送路であって、前記バッファ層は、前記クラッド層の材料と同一であることを特徴とする。
【００１６】
また、本発明の第４の態様は、第１ないし３のいずれか１つの態様の光伝送路であって、前記光伝送路は光導波路であることを特徴とする。
【００１７】
また、本発明の第５の態様は、第１ないし３のいずれか１つの態様の光伝送路であって、前記光伝送路は光ファイバであることを特徴とする。
【００１８】
また、本発明の第６の態様は、第４の態様の光伝送路と、第５の態様の光伝送路とを、請求項４に記載の前記バッファ層と請求項５に記載のバッファ層とが対向するように向かい合わせたことを特徴とする光モジュールである。
【００１９】
また、本発明の第７の態様は、第４の態様の前記バッファ層と第５の態様のバッファ層とが、レンズを挟んで対向するように向かい合わせたことを特徴とする光モジュールである。
【００２０】
また、本発明の第８の態様は、ＬＤと、前記ＬＤからの光を集光するレンズと、第５の態様の光伝送路であって、前記レンズからの光が前記バッファ層から入射する、光伝送路とを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２１】
本発明では、可視（４５０ｎｍ以下の波長）から紫外域の波長の光（又はレーザ光）において、光伝送路端面における光のパワーの単位面積あたりの密度を低減でき、光導波路及び光ファイバ端面の劣化を抑える。光導波路と光ファイバとの結合、ＬＤと光ファイバとの結合及び光導波路から空間へ光を投射するデバイスのビーム形状を改善できるという利点がある。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】従来の干渉縞形成導波路型スプリッタを示す図であり、（ａ）は、干渉縞形成導波路型スプリッタの構成図を示し、（ｂ）は、干渉縞形成導波路型スプリッタの上面図を示し、（ｃ）は干渉縞形成導波路型スプリッタから出射された光が照射されたスクリーンの平面図を示している。
【図２】光ファイバに波長４０５ｎｍの１０ｍＷの光を２０００ｈｒ入射した場合の光ファイバ端面のコアの様子をレーザ顕微鏡で観測した結果を示す図で、（ａ）はコアの斜視図を示し、（ｂ）はコアを側面から見た場合の高さのグラフを示している。
【図３】コアの膨らんだ光導波路から出射した光をスクリーンに投影した様子を示す図である。
【図４】本発明の第１の実施形態に係る光伝送路の構成を示す図で、（ａ）は、光伝送路の上面透視図を示し、（ｂ）は、（ａ）のＩＶｂ−ＩＶｂにおける断面図を示している。
【図５】図４の光伝送路のバッファ層の厚さの見積もりを説明するための光の導波方向における断面図である。
【図６】本発明の第１の実施形態に係る光伝送路の変形例の構成を示す図で、（ａ）は、光伝送路の上面透視図を示し、（ｂ）は、図６（ａ）のＶＩｂ−ＶＩｂにおける断面図を示している。
【図７】本発明の第２の実施形態に係る光伝送路の構成を示す光の導波方向における断面図である。
【図８】図７の光伝送路のバッファ層の厚さの見積もりを説明するための光の導波方向における断面図である。
【図９】本発明の第３の実施形態に係る光モジュールの構成を示す図で、（ａ）は、光モジュールの上面透視図を示し、（ｂ）は、（ａ）のＩＸｂ−ＩＸｂにおける断面図を示している。
【図１０】本発明の第３の実施形態に係る光モジュールの変形例の構成を示す図で、（ａ）は、光モジュールの上面透視図を示し、（ｂ）は、（ａ）のＸｂ−Ｘｂにおける断面図を示している。
【図１１】本発明の第４の実施形態に係る光モジュールの構成を示す図で、（ａ）は、光モジュールの上面透視図を示し、（ｂ）は、光モジュールの側面透視図を示し、（ｃ）は光モジュールから出射された光が照射されたスクリーンの平面図を示している。
【図１２】従来の光伝送路と本発明の第５の実施形態に係る光モジュールの構成を比較して示す図で、（ａ）は従来の光モジュールの光の導波方向における断面図を示し、（ｂ）は、本発明の第５の実施形態に係る光モジュールの光の導波方向における断面図を示す。
【図１３】図１２（ａ）及び（ｂ）の光モジュールにおける光ファイバ出力の経時変化を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について詳細に説明する。
【００２４】
［第１の実施形態］
図４は、本発明の第１の実施形態に係る光伝送路の構成を示す図で、図４（ａ）は、光伝送路の上面透視図を示し、図４（ｂ）は、図４（ａ）のＩＶｂ−ＩＶｂにおける断面図（基板に垂直かつ光の導波方向の断面図）を示している。図４の光伝送路４００は、光導波路であり、基板４０１（Ｓｉ又は石英ガラス）上と、基板４０１上に形成されたクラッド層４０２と、クラッド層４０２中に形成されたコア４０３とを備える。本実施形態において、コア４０３は、基板４０１上にアレイ状に複数本配列されているが、１本だけでもよく、本発明において本数は特に限定されていない。コア４０３の端面はクラッド層４０２に覆われており、コア４０３が端部においては露出していない。コア４０３端部には、クラッド層４０２がバッファ層として形成されていることになる。コア４０３端部に形成されたクラッド層４０２において、コア４０３端部から出射された光（レーザ光）４０４は閉じ込められる導波モードでなく、放射モードにより光伝送路４００の端面に達するため、ビームが広がって端面部でのパワー密度が低下することになる。したがって、光伝送路４００端面から空間に光が放射される場合、又は空間から光伝送路４００端面に光が入射される場合の、光伝送路４００と空間との境界面での光４０４のパワー密度が低下して、光伝送路４００の端面の劣化を抑えることができる。
【００２５】
ここで本実施形態の光伝送路のバッファ層の厚さを考える。図５は、本実施形態の光伝送路（光導波路）のバッファ層の厚さの見積もりを説明するための光の導波方向における断面図である。通常、光導波路は膜厚方向の厚さ（基板を除く）は数１０μｍであるが、本実施形態においてはこの厚さでは十分なバッファ層の厚さが確保できない。本実施形態においては、基板５０１と光導波路の厚さ（クラッド層５０２＋コア５０３）は、少なくとも３００μｍ必要である。ここで、光導波路５００のＮＡ＝０．１２と仮定すると、出射光は６．３゜の角度でレンズ５０４に入射し、バッファ層内でコア５０３に入る際の角度はスネルの法則より４．３゜である。そうすると、光導波路の厚さ（クラッド層５０２＋コア５０３）Ｘは４５μｍとする必要がある。したがって、通常の光導波路の厚さよりも１．５倍近く厚くする必要があり、コア５０３は上下のクラッド層５０２のほぼ真ん中に来るようにする必要がある。
【００２６】
なお、本実施形態においては、光導波路を切断する際、コア４０３が剥き出しにならないように、コア４０３の端部から１０μｍ以上の所で切断している。
【００２７】
図６は、本発明の第１の実施形態に係る光伝送路の変形例の構成を示す図で、図６（ａ）は、光伝送路の上面透視図を示し、図６（ｂ）は、図６（ａ）のＶＩｂ−ＶＩｂにおける断面図（基板に垂直かつ光の導波方向の断面図）を示している。図６の光伝送路（光導波路）６００は、基板６０１（Ｓｉ又は石英ガラス）上と、基板６０１上に形成されたクラッド層６０２と、クラッド層６０２中に形成されたコア６０３とを備える。光伝送路６００の端面はコア６０３に覆われており、クラッド層６０２が端部においては露出していない。図６の光伝送路６００は、図４の光伝送路４００と異なり、光伝送路６００の端面には、クラッド層６０２ではなく、コア６０３と同じ材質がバッファ層として形成されていることになる。コア６０３において、光（レーザ光）６０４は閉じ込められる導波モードでなく、放射モードにより光伝送路６００の端面に達するため、ビームが広がって端面部でのパワー密度が低下して、光伝送路６００の端面の劣化を抑えることができる。本実施形態においては、導波路を切断する際、クラッド層６０２の端部から１０μｍ以上の所で切断している。
【００２８】
［第２の実施形態］
図７は、本発明の第２の実施形態に係る光伝送路の構成を示す光の導波方向における断面図である。図７の光伝送路７００は、光ファイバであり、光ファイバ７０１と、光ファイバ７０１先端に融着したコアレスファイバ７０２とを備える。光ファイバ７０１のコアの端部はコアレスファイバ７０２に覆われており、コアが端部においては露出していない。コア端部には、コアレスファイバ７０２がバッファ層として形成されていることになる。
【００２９】
ここで本実施形態の光伝送路のバッファ層の厚さを考える。図８は、本実施形態の光伝送路（光ファイバ）のバッファ層の厚さの見積もりを説明するための光の導波方向における断面図である。シングルモードの光ファイバ８００の外径は、１２５μｍに決まっているので、スポットサイズが１２５μｍより大きい光は光ファイバには入射できない。ここで、光ファイバ８００のＮＡ＝０．１２と仮定すると、出射光は６．３゜の角度でレンズ８０３に入射し、バッファ層内でコア８０２に入る際の角度はスネルの法則より４．３゜である。光ファイバ８００の外径が１２５μｍであるので、バッファ層の厚さ（長さ）Ｙを厚くしすぎると、入射光は光ファイバの側面で蹴られることになる。従ってＹ＝８３３μｍ以下とする必要がある。
【００３０】
本実施形態においては、光ファイバ８００先端にコアレスファイバを融着して、コアレスファイバを３００μｍ程度バッファ層として残して、ファイバカッタで切断することにより作成している。
【００３１】
［第３の実施形態］
図９は、本発明の第３の実施形態に係る光モジュールの構成を示す図で、図９（ａ）は、光モジュールの上面透視図を示し、図９（ｂ）は、図９（ａ）のＩＸｂ−ＩＸｂにおける断面図（基板に垂直かつ光の導波方向の断面図）を示している。図９の光モジュール９００は、第１の実施形態の光導波路（９２０）と第２の実施形態の光ファイバ（９１０）とを接続した光モジュールである。光モジュール９００は、バッファ層９２４を有する第１の実施形態の光導波路９２０と、バッファ層９１３を有する第２の実施形態の光ファイバ９１０との間の光の通路に、レンズ９３０を配置することで、光ファイバ９１０と光導波路９２０とをレンズ９３０を介してカップリングしている。具体的には、アレイ状に配列された光ファイバ９１０のコア９１２の端面と、光導波路９２０のコア９２３の端面とが、それぞれバッファ層９１３及び９２４、並びにレンズ９３０を介して対抗するように配列されている。コア９１２端面から出射された光は、コア９２３の端面に入射するように、又はコア９２３端面から出射された光は、コア９１２の端面に入射するように構成されている。バッファ層９２４を有する第１の実施形態の光導波路９２０と、バッファ層９１３を有する第２の実施形態の光ファイバ９１０とを接続しているため、４０５ｎｍの光（レーザ光）でも劣化することがなかった。
【００３２】
図１０は、本発明の第３の実施形態に係る光モジュールの変形例の構成を示す図で、図１０（ａ）は、光モジュールの上面透視図を示し、図１０（ｂ）は、図１０（ａ）のＸｂ−Ｘｂにおける断面図（基板に垂直かつ光の導波方向の断面図）を示している。図１０の光モジュール１０００は、第１の実施形態の光導波路（１０２０）と第２の実施形態の光ファイバ（１０１０）とを接続した光モジュールであり、光が通過する部分にレンズ及び接着剤を介さずカップリングしている。具体的には、ファイバブロック１０１１に固定されたアレイ状に配列された光ファイバ１０１０のコア１０１３の端面と、光導波路１０２０のコア１０２３の端面とが、それぞれバッファ層１０１４及び１０２４を介して対抗するように配列されている。コア１０１３端面から出射された光は、コア１０２３の端面に入射するように、又はコア１０２３端面から出射された光は、コア１０１３の端面に入射するように構成されている。接着剤は、ファイバブロック１０１１の光が通過しない部分に塗布している（接着剤１０３０）。本実施形態においては、バッファ層の厚さが１０ｕｍ以上となると光の伝搬ロスが増大するが、図１０のようにレンズを介しても３ｄＢ程度ロスがあるので、図１０の本変形例のようにレンズを介さなくとも、レンズを介して接続した場合と同程度のロスとなる。
【００３３】
［第４の実施形態］
図１１は、本発明の第４の実施形態に係る光モジュールの構成を示す図で、図１１（ａ）は、光モジュールの上面透視図を示し、図１１（ｂ）は、光モジュールの側面透視図を示し、図１１（ｃ）は光モジュールから出射された光が照射されたスクリーンの平面図を示している。図１１の光モジュール１１００は、基板１１０１上に形成されたクラッド層１１０２と、クラッド層１１０２中に形成されたコア１１０３とにより光導波路を形成する。コア１１０３は、スプリッタ１１０９により２方向に分岐され、コア１１０３の端面はバッファ層となるクラッド層１１０２に覆われており、コア１１０３が端部においては露出していない。コア１１０３端部には、クラッド層１１０２がバッファ層として形成されていることになる。２本に分かれたコア１１０３からはそれぞれ光（レーザ光）１１０５が出射され、スクリーン１１０７上に干渉縞１１０８を形成する。光モジュール１１００のクラッド層１１０２上部のコア１１０３の両脇にはヒータ電極１１０４を形成することにより、干渉縞をコントロールすることができる。
【００３４】
光モジュール１１００の端面のコア１１０３を剥き出しとせず、バッファ層１１０６となるクラッド層１１０２を３００μｍを残して、チップをカットする。バッファ層１１０６を設けることにより、青色の光（４０５ｎｍ）を通しても、劣化することなく、干渉縞のパターンを形成できる。
【００３５】
［第５の実施形態］
図１２は、従来の光伝送路と本発明の第５の実施形態に係る光モジュールの構成を比較して示す図で、図１２（ａ）は従来の光モジュールの光の導波方向における断面図を示し、図１２（ｂ）は、本発明の第５の実施形態に係る光モジュールの光の導波方向における断面図を示す。図１２（ａ）及び（ｂ）の光伝送路は、ともに青色（４０５ｎｍ）ＬＤ（１２０１、１２１１）からの光（レーザ光）を、レンズ（１２０２、１２１２）を介して光ファイバ（１２０４、２１１４）に入射するように構成したファイバ付きのピッグテールをモジュール化したものである。
【００３６】
ここで、図１２（ａ）の光モジュール１２００は、光ファイバ１２０４端面のコア１２０５が剥き出しとなって、コア１２０５端面がＸＹＺ方向に広がりマルチモードとなり、レンズ効果によりカップリング効率が悪くなり、時間と共に光のパワーが低下するという欠点があった。
【００３７】
一方で、図１２（ｂ）の本実施形態の光モジュール１２１０は、コア１２１５の端面はバッファ層となるコアレスファイバ１２２６が融着されており、コア１２１５が端部においては露出していない。コア１２１５端部には、コアレスファイバ１２２６がバッファ層として形成されていることになる。したがって、本実施形態においても、コア１２１５が膨らむという現象を抑えることができた。
【００３８】
また、図１２（ａ）の光ファイバ１２０４端面からの反射は、図１２（ｂ）のようにバッファ層１２１６がない場合には、レンズ１２０２を介してＬＤ１２０１に集光するように戻ってくる。したがって、光ファイバ１２０４端面を光軸に垂直な面から８゜傾けて研磨することにより反射を抑えている。が一方で、図１２（ｂ）のようにバッファ層１２１６がある場合には、レンズ１２１１を介したとしてもＬＤ１２１１に集光されずに戻ってくる。したがって、図１２（ｂ）の光モジュール１２１０は、光ファイバ１２１４端面からの戻り光に強くなるという利点がある。したがって、図１２（ｂ）の光モジュール１２１０の場合、光ファイバ１２０４端面の８゜研磨の必要がなくなる。
【００３９】
図１３は、図１２（ａ）及び（ｂ）の光モジュールにおける光ファイバ出力の経時変化を示す図である。図１３には、それぞれ図１２（ａ）の保護層がない場合（１３０１）、図１２（ｂ）の保護層が８０μｍの場合（１３０２）及び３００μｍの場合（１３０３）の光ファイバ出力の経時変化を示している。図１３に記載の通り、バッファ層１２１６があると劣化が抑えられ、３００ｕｍ以上では殆ど劣化がない。望むらくは５００ｕｍあるとよりよい。
【符号の説明】
【００４０】
１００  干渉縞形成導波路型スプリッタ
４００、５００、６００、７００、８００  光伝送路
４０１、５０１、６０１、９２１、１０２１、１１０１  基板
４０２、５０２、６０２、８０１、９１１、９２２、１０１２、１０２２、１１０２  クラッド層
４０３、５０３、６０３、８０２、９１２、９２３、１０１３、１０２３、１１０３、１２０５、１２１５  コア
４０４、６０４、１１０５、１２０３、１２１３  光
５０４、８０３、９３０、１２０２、１２１２  レンズ
７０１、９１０、１０１０、１２０４、１２１４  光ファイバ
７０２  コアレスファイバ
９００、１０００  光モジュール
９２０  光導波路
９１３、９２４、１０１４、１０２４、１１０６、１２１６  バッファ層
１０１１  ファイバブロック
１０３０  接着剤
１１０４  ヒータ電極
１１０７  スクリーン
１１０８  干渉縞
１１０９  スプリッタ
１２０１、１２１１  ＬＤ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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