(57)【要約】【課題】樹脂基材上に金属薄膜が形成された金属薄膜基材を搬送および一時保管する際に、金属薄膜が酸化または硫化したり、金属薄膜にその他の汚れが付着したりすることを防止するパレットおよびそれを用いた金属薄膜基材の保管方法を提供する。【解決手段】本発明のパレット１０は、樹脂基材１０１と、樹脂基材１０１上に形成された金属薄膜１０２とを有する金属薄膜基材１００を、搬送および一時保管するためのパレット１０であって、支持体１１と、支持体１１上に設けられ、金属薄膜基材１００を固定するための弾性体１２と、を備え、金属薄膜基材１００が配置されたパレット１０を、水平面に対して垂直方向に複数個重ねて一時保管する場合に、上側に重ねたパレット１０の支持体１１の下面１１ｂが、下側に重ねたパレット１０の弾性体１２上に配置された金属薄膜基材１００の金属薄膜１０２の上面１０２ａと接する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂基材と、前記樹脂基材上に形成された金属薄膜とを有する金属薄膜基材を、搬送および一時保管するためのパレットであって、
支持体と、前記支持体上に設けられ、前記金属薄膜基材を固定するための弾性体と、を備え、
前記金属薄膜基材が配置された前記パレットを、水平面に対して垂直方向に複数個重ねて一時保管する場合に、上側に重ねた前記パレットの前記支持体の下面が、下側に重ねた前記パレットの前記弾性体上に配置された前記金属薄膜基材の前記金属薄膜の上面と接することを特徴とするパレット。
【請求項２】
樹脂基材と、前記樹脂基材上に形成された金属薄膜とを有する金属薄膜基材の保管方法であって、
請求項１に記載のパレットの前記弾性体上に前記金属薄膜基材を配置する工程Ａと、
前記金属薄膜基材が配置された前記パレットを、水平面に対して垂直方向に複数個重ねる工程Ｂと、を有し、
前記工程Ｂにおいて、上側に重ねた前記パレットの前記支持体の下面を、下側に重ねた前記パレットの前記弾性体上に配置された前記金属薄膜基材の前記金属薄膜の上面と接触させることを特徴とする金属薄膜基材の保管方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パレットおよびそれを用いた金属薄膜基材の保管方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
回路基板やタッチパネル等として用いられる、樹脂基材上に金属薄膜が形成された金属薄膜基材は、印刷方法により製造される。
従来、金属薄膜基材を製造するには、例えば、平板状の支持体を有するパレット上に、多数の樹脂基材を配置する。その後、そのパレットを印刷装置に備えられたベルトコンベア等で搬送しながら、樹脂基材上に、印刷により所定の形状の金属薄膜の前駆体（塗膜）を形成する。次いで、その塗膜を乾燥して、樹脂基材上に金属薄膜が形成された金属薄膜基材を得る。
【０００３】
金属薄膜を大気中に直接曝露すると、金属薄膜が酸化または硫化したり、金属薄膜にその他の汚れが付着したりすることがある。これらの汚れ等は、金属薄膜の電気抵抗等の電気的性能を劣化させたり、金属薄膜の外観を損ねたりすることがある。そのため、金属薄膜に、めっき処理を施したり、オーバーコート等を形成したりして、金属薄膜上に保護膜を形成する必要がある。しかしながら、生産現場では、めっき処理やオーバーコート形成工程において不具合が発生することがある。また、印刷工程と乾燥工程を経た金属薄膜基材は、引き続き、裁断等の工程に供されるが、印刷機や裁断機等に不具合が生じた際には、金属薄膜基材を円滑に次の工程に供することができないことがある。このような場合には、金属薄膜基材を一時的に保管する必要がある。
【０００４】
従来、基材の保管方法としては、例えば、基材を配置した金属枠体を互いに積み重ねることにより、基材間に隙間を設けて、基材同士が互いに接触しないようにして、複数の基材を積み重ねて保管する方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１６−６２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に記載されている保管方法では、積み重ねられた基材同士の間に隙間があるため、基材上に金属薄膜が形成されている場合には、その金属薄膜が大気に直接曝露されてしまい、上述のように、金属薄膜が酸化または硫化したり、金属薄膜にその他の汚れが付着したりすることがある。
【０００７】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、樹脂基材上に金属薄膜が形成された金属薄膜基材を搬送および一時保管する際に、金属薄膜が酸化または硫化したり、金属薄膜にその他の汚れが付着したりすることを防止するパレットおよびそれを用いた金属薄膜基材の保管方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明のパレットは、樹脂基材と、前記樹脂基材上に形成された金属薄膜とを有する金属薄膜基材を、搬送および一時保管するためのパレットであって、支持体と、前記支持体上に設けられ、前記金属薄膜基材を固定するための弾性体と、を備え、前記金属薄膜基材が配置された前記パレットを、水平面に対して垂直方向に複数個重ねて一時保管する場合に、上側に重ねた前記パレットの前記支持体の下面が、下側に重ねた前記パレットの前記弾性体上に配置された前記金属薄膜基材の前記金属薄膜の上面と接することを特徴とする。
【０００９】
本発明の金属薄膜基材の保管方法は、樹脂基材と、前記樹脂基材上に形成された金属薄膜とを有する金属薄膜基材の保管方法であって、本発明のパレットの前記弾性体上に前記金属薄膜基材を配置する工程Ａと、前記金属薄膜基材が配置された前記パレットを、水平面に対して垂直方向に複数個重ねる工程Ｂと、を有し、前記工程Ｂにおいて、上側に重ねた前記パレットの前記支持体の下面を、下側に重ねた前記パレットの前記弾性体上に配置された前記金属薄膜基材の前記金属薄膜の上面と接触させることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、樹脂基材上に金属薄膜が形成された金属薄膜基材を搬送および一時保管する際に、金属薄膜が酸化または硫化したり、金属薄膜にその他の汚れが付着したりすることを防止するパレットおよびそれを用いた金属薄膜基材の保管方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明に係るパレットの一実施形態を示す概略図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線に沿う断面図である。
【図２】本発明に係るパレットの一実施形態を示す概略図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図である。
【図３】本発明に係る金属薄膜基材の保管方法の一実施形態を示す概略断面図である。
【図４】実験例にて、異なる条件下において、メッシュパターンを有する金属薄膜基材を保管した場合に、時間の経過に伴って、それぞれのメッシュパターンのシート抵抗値の変化率を測定した結果を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明のパレットおよびそれを用いた金属薄膜基材の保管方法の実施の形態について説明する。
なお、本実施の形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
【００１３】
［パレット］
図１は、本発明に係るパレットの一実施形態を示す概略図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線に沿う断面図である。
本実施形態のパレット１０は、平板状の支持体１１と、支持体１１の一方の面（上面）１１ａ上に設けられ、金属薄膜基材１００を固定するためのシート状の弾性体１２とから概略構成されている。また、本実施形態のパレット１０は、支持体１１の一方の面１１ａの外縁に沿って、支持体１１の一方の面１１ａに対して垂直方向に立設されたフレーム（枠体）１３を備える。
【００１４】
また、パレット１０によって搬送および一時保管される金属薄膜基材１００は、樹脂基材１０１と、樹脂基材１０１の一方の面（上面）１０１ａ上に形成された金属薄膜１０２とから概略構成されている。
【００１５】
支持体１１は、金属薄膜基材１００の加工工程の環境（温度、湿度等）において変形することなく、人手で運べる程度の質量のものであれば特に限定されない。
支持体１１は、弾性体１２が設けられる面である一方の面１１ａ、および、その反対側の面である他方の面（下面）１１ｂが平滑面であることが好ましい。言い換えれば、支持体１１は厚みが均一であることが好ましい。支持体１１の一方の面１１ａおよび他方の面１１ｂが平滑面であれば、金属薄膜基材１００が配置されたパレット１１を、水平面に対して垂直方向に複数個重ねた場合に、金属薄膜基材１００とパレット１１の他方の面１１ｂとを隙間なく接触させることができる。
【００１６】
なお、図１には、平面視正方形状の支持体１１を例示したが、本実施形態における支持体１１を平面視したときの形状は、特に限定されず、弾性体１２および金属薄膜基材１００を配置することができれば如何なる形状であってもよい。
【００１７】
支持体１１の厚みは、特に限定されないが、支持体１１の厚みが厚過ぎると、扱い難くなるばかりでなく、金属薄膜基材１００を製造する際の乾燥工程において、金属薄膜１０２の前駆体（塗膜）に熱が伝わり難くなって温度上昇に時間がかかり、金属薄膜１０２の形成において乾燥不具合が生じることがある。一方、支持体１１の厚みが薄過ぎると、金属薄膜基材１００を製造する際の乾燥工程において、熱変形（反り）が生じることがある。また、支持体１１の厚みは、金属薄膜基材１００の厚みよりも厚いことが好ましい。このようにすれば、金属薄膜基材１００を製造する際の乾燥工程において、支持体１１に熱変形が生じ難くなる。これらのことから、支持体１１の厚みは、１ｍｍ〜５ｍｍであることが好ましい。
【００１８】
支持体１１の材質は、金属薄膜基材１００の加工工程の環境（温度、湿度等）において変形し難いものであれば特に限定されない。支持体１１の材質としては、例えば、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）樹脂、ベークライト、ガラスエポキシ樹脂等の樹脂、アルミニウム等の金属、ガラス等が挙げられる。
【００１９】
弾性体１２は、弾性変形可能なものであり、かつ、金属薄膜基材１００の樹脂基材１０１を十分に保持・固定することができるタック性または粘着性を有するものである。
弾性体１２に求められる弾性変形可能な性質とは、弾性体１２の一方の面（上面）１２ａ上に金属薄膜基材１００を配置し、弾性体１２の厚み方向に沿って、金属薄膜基材１００に力を加えた場合（押圧した場合）に、その厚み方向に沿って縮小し、力を解放すると元の状態に戻る程度の性質である。
【００２０】
弾性体１２に求められるタック性または粘着性は、弾性体１２の一方の面（上面）１２ａ上に金属薄膜基材１００を配置した場合に、金属薄膜基材１００が位置ずれすることがなく、かつ、必要に応じて、弾性体１２から金属薄膜基材１００を容易に剥離することができる程度の固定力（粘着力）を有する性質である。すなわち、弾性体１２のタック性または粘着性は、弾性体１２上に配置される金属薄膜基材１００の厚みや質量等に応じて適宜調整される。
【００２１】
弾性体１２は、弾性変形可能であれば、中実体であっても、スポンジ等のような多孔質体であってもよい。
【００２２】
弾性体１２の厚みは、特に限定されず、弾性体１２上に配置される金属薄膜基材１００の厚みや質量等に応じて適宜調整される。
【００２３】
弾性体１２の材質は、弾性変形可能であり、かつ、金属薄膜基材１００の樹脂基材１０１を十分に保持・固定することができるタック性または粘着性を有するものであれば特に限定されない。弾性体１２の材質としては、例えば、ブチルゴム、シリコンゴム等が挙げられる。
【００２４】
なお、図１には、平面視正方形状の弾性体１２を例示したが、本実施形態における弾性体１２を平面視したときの形状は、特に限定されず、金属薄膜基材１００を配置した状態で、全体が厚み方向に均一に縮小することができれば如何なる形状であってもよい。例えば、本実施形態における弾性体１２は、図２に示すように、円柱状の弾性体単位１２Ａが所定の間隔で並列に配置された集合体から構成されていてもよい。また、弾性体単位１２Ａの形状は円柱状に限定されず、三角柱、四角柱等の角柱状であってもよく、楕円柱状であってもよい。
【００２５】
また、支持体１１の一方の面１１ａのほぼ全面に設けられたシート状の弾性体１２にレーザー加工を施して、例えば、図２に示す弾性体単位１２Ａと同一の形状を除く部分に非粘着部を形成して、非粘着部と、弾性体単位１２Ａと同一の形状をなす粘着部とからなる弾性体１２としてもよい。
【００２６】
フレーム１３は、支持体１１と同一の材質で構成される。フレーム１３は、支持体１１と接する面とは反対側の面である一方の面（上面）１３ａが平滑面であることが好ましい。フレーム１３の一方の面１３ａが平滑面であれば、金属薄膜基材１００が配置されたパレット１１を、水平面に対して垂直方向に複数個重ねた場合に、金属薄膜基材１００とパレット１１の他方の面１１ｂとを隙間なく接触させることができる。
【００２７】
フレーム１３の厚み（高さ）は、特に限定されず、弾性体１２上に配置される金属薄膜基材１００の厚みや質量等に応じて適宜調整される。
【００２８】
金属薄膜基材１００の樹脂基材１０１としては、一般的に、回路基板やタッチパネルの基材として用いられ、金属薄膜基材１００を製造する際の乾燥工程において熱変形し難いものであれば特に限定されないが、弾性体１２のタック性または粘着性によって、十分に保持・固定されるものが好ましい。樹脂基材１０１の材質としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート等が挙げられる。
【００２９】
樹脂基材１０１の厚みは、０．５ｍｍ〜５ｍｍであることが好ましい。
【００３０】
金属薄膜基材１００の金属薄膜１０２は、例えば、導電回路の形成に用いられる導電性のインクから構成されている。導電性のインクとしては、例えば、ポリマー型導電インク、銀インク組成物、市販の金属ペースト、金属ナノインク、金属錯体インク等が用いられる。
【００３１】
金属薄膜１０２の形状は、特に限定されず、金属薄膜基材１００が回路基板である場合、任意の回路形状をなしていてよく、金属薄膜基材１００がタッチパネルである場合、格子状（メッシュパターン）をなしていてもよい。
金属薄膜１０２の厚みは、１０ｎｍ〜１０μｍであることが好ましい。
【００３２】
また、支持体１１の厚みと、弾性体１２の厚みと、金属薄膜基材１００の厚みとは、等しいことが好ましい。このようにすれば、金属薄膜基材１００を製造する際の乾燥工程において、支持体１１および金属薄膜基材１００に熱変形が生じ難くなる。
【００３３】
本実施形態のパレット１０によれば、後述する金属薄膜基材の保管方法に適用することにより、金属薄膜基材１００を搬送および一時保管する際に、金属薄膜１１が酸化または硫化したり、金属薄膜１１にその他の汚れが付着したりすることを防止することができる。また、タック性または粘着性を有する弾性体１２の一方の面１２ａ上に金属薄膜基材１００を配置することにより、金属薄膜基材１００の搬送時および一時保管時において、金属薄膜基材１００を位置ずれすることなく保持することができる。
【００３４】
［金属薄膜基材の保管方法］
次に、図１および図３を参照して、本実施形態の金属薄膜基材の保管方法について説明するとともに、本実施形態のパレットの作用について説明する。
図３は、本発明に係る金属薄膜基材の保管方法の一実施形態を示す概略断面図である。図３において、図１に示したパレットおよび金属薄膜基材と同一の構成要素には同一符号を付して、その説明を省略する。
【００３５】
本実施形態の金属薄膜基材の保管方法は、金属薄膜基材１００の保管方法であって、パレット１０の弾性体１２上に金属薄膜基材１００を配置する工程Ａと、金属薄膜基材１００が配置されたパレット１０を、水平面に対して垂直方向に複数個重ねる工程Ｂと、を有する。
【００３６】
工程Ａでは、図１に示すように、パレット１０の弾性体１２の一方の面１２ａ上に金属薄膜基材１００を配置する。
【００３７】
工程Ｂでは、図３に示すように、金属薄膜基材１００が配置されたパレット１０を、水平面に対して垂直方向に複数個重ねる。
この工程Ｂでは、上側に重ねたパレット１０（例えば、図３においてパレット１０Ａ）の支持体１１の他方の面（下面）１１ｂを、下側に重ねたパレット１０（例えば、図３においてパレット１０Ｂ）の弾性体１２の一方の面（上面）１２ａ上に配置された金属薄膜基材１００の金属薄膜１０２の一方の面（上面）１０２ａと接触させるようにして、金属薄膜基材１００が配置されたパレット１０を積み重ねる。すると、下側に重ねたパレット１０Ｂ上に配置された金属薄膜基材１００の金属薄膜１０２の一方の面（上面）１０２ａが、上側に重ねたパレット１０Ａの支持体１１によって完全に覆われる。これにより、下側に重ねたパレット１０Ｂ上に配置された金属薄膜基材１００の金属薄膜１０２の一方の面（上面）１０２ａは大気中に直接曝露されることなく、また、その他の汚れが付着することなく、保管することができる。また、上側に重ねたパレット１０Ａおよびその上に配置された金属薄膜基材１００の重さによって弾性体１２がその厚み方向に沿って縮小するように変形するため、上側に重ねたパレット１０Ａの支持体１１の他方の面（下面）１１ｂが、下側に重ねたパレット１０Ｂのフレーム１３の一方の面（上面）１３ａと接する。これにより、パレット１０を複数個積み重ねた場合に、支持体１１に掛かる荷重の少なくも一部をフレーム１３に分散することができ、結果として、金属薄膜基材１００に掛かる荷重を低減することができる。
【００３８】
図３に示すように、パレット１０Ａの上に、パレット１０Ｃ、１０Ｄ、１０Ｅ等を積み重ねた場合にも、隣接するパレット１０間において、上述のような作用が生じる。
【００３９】
また、上述の通り、金属薄膜１０２は非常に薄い膜であるため、金属薄膜１０２の側面が大気中に直接曝露されても、その側面から酸化や硫化は進行し難い。そのため、下側に重ねたパレット１０Ｂ上に配置された金属薄膜基材１００の金属薄膜１０２の一方の面（上面）１０２ａを、上側に重ねたパレット１０Ａの支持体１１によって完全に覆うことにより、金属薄膜１０２が酸化または硫化することを防止できる。
【００４０】
本実施形態の金属薄膜基材の保管方法によれば、金属薄膜基材１００を搬送および一時保管する際に、金属薄膜１０２が酸化または硫化したり、金属薄膜１０２にその他の汚れが付着したりすることを防止することができる。
【００４１】
なお、本実施形態では、図１〜図３に示すように、支持体１１の一方の面１１ａに対して垂直方向に立設されたフレーム１３を備えたパレット１０を例示したが、本発明はこれに限定されない。本発明にあっては、パレットがフレームを備えていなくてもよい。例えば、本実施形態のパレット１０がフレーム１３を備えていない場合であっても、上側に重ねたパレット１０Ａの支持体１１の他方の面（下面）１１ｂを、下側に重ねたパレット１０Ｂの弾性体１２の一方の面（上面）１２ａ上に配置された金属薄膜基材１００の金属薄膜１０２の一方の面（上面）１０２ａと接触させるようにして、金属薄膜基材１００が配置されたパレット１０を積み重ねれば、下側に重ねたパレット１０Ｂ上に配置された金属薄膜基材１００の金属薄膜１０２の一方の面（上面）１０２ａが、上側に重ねたパレット１０Ａの支持体１１によって完全に覆われる。したがって、下側に重ねたパレット１０Ｂ上に配置された金属薄膜基材１００の金属薄膜１０２の一方の面（上面）１０２ａは大気中に直接曝露されることなく、また、その他の汚れが付着することなく、保管することができる。
【実施例】
【００４２】
以下、実験例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実験例に限定されるものではない。
【００４３】
［実験例］
ポリカーボネート基材上に、縦５０ｍｍ×横５０ｍｍ、Ｌ（ライン）／Ｓ（スペース）比＝５μｍ／１９５μｍのメッシュパターン（金属薄膜）を有する金属薄膜基材を作製した。
メッシュパターンは、導電性インク（ＴＰ系インク、２−メチルアセト酢酸：２−エチルヘキシルアミン：ギ酸：アセチレンアルコール：ｎ−ヘキサン（モル比）＝１：１．４５：０．５：０．０３６：１．６３）を用い、グラビアオフセット印刷により、ポリカーボネート基材上にパターニングした塗膜を形成し、その塗膜を１２０℃で熱風乾燥することによって形成した。
得られた金属薄膜基材を、（１）大気中に曝露、（２）窒素雰囲気下にて保管、（３）メッシュパターンを保護フィルムで被覆して大気中に曝露、（４）本発明で規定する保管方法と同様に、金属薄膜基材を複数個重ねて大気中に曝露した。
（１）〜（４）の条件にて保管した金属薄膜基材について、実験開始（曝露開始）から１日後、３日後および６日後に、デジタルマルチメーター（ＡＤＣＭＴ社製）を用い、二端子法により、メッシュパターンのシート抵抗値を測定した。
結果を図４に示す。なお、図４において縦軸に示すシート抵抗の変化率は、実験開始前（曝露前、図４における０日）のシート抵抗値を基準とした場合、その基準となるシート抵抗値に対する各日に測定されたシート抵抗値の比を示す。
【００４４】
図４の結果から、（１）大気中に曝露した場合、曝露開始から１日でシート抵抗が高くなってしまうことが分かった。この結果から、金属薄膜基材を大気中に曝露した場合、わずか１日でメッシュパターンの電気的性能が劣化することが分かった。
これに対して、（２）窒素雰囲気下にて保管、（３）メッシュパターンを保護フィルムで被覆して大気中に曝露、および、（４）本発明で規定する保管方法と同様に、金属薄膜基材を複数個重ねて大気中に曝露した場合、曝露開始から６日を経過しても、シート抵抗値がほとんど変化しないことが分かった。この結果から、本発明で規定する保管方法と同様に、金属薄膜基材を複数個重ねて保管すれば、窒素雰囲気下にて保管した場合やメッシュパターンを保護フィルムで被覆して保管した場合と同様に、メッシュパターンの電気的性能の劣化を防止できることが確認された。
【符号の説明】
【００４５】
１０・・・パレット、１１・・・支持体、１２・・・弾性体、１３・・・フレーム（枠体）、１００・・・金属薄膜基材、１０１・・・樹脂基材、１０２・・・金属薄膜。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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