(57)【要約】【課題】多孔質膜の膜厚を均一にする技術を提供する。【解決手段】多孔質フィルターは、２つの端面を有し、一方の前記端面から他方の前記端面まで貫通する流路が形成された多孔質支持体と、前記多孔質支持体に形成された第１多孔質膜と、前記第１多孔質膜の、前記多孔質支持体に面していない側に形成された第２多孔質膜と、を備える多孔質フィルターであって、前記第１多孔質膜は、同一の材料から形成された粒径の異なる粒子を含み、前記粒子の粒径頻度分布を見たときに、頻度がそれぞれ５％以上である第１極大値と第２極大値とを有し、前記第１極大値の第１粒径は、前記第２極大値の第２粒径よりも大きく、前記第１粒径は、前記第２粒径の２倍から７倍であり、前記第１粒径は１μｍ以上１０μｍ以下であり、前記第２粒径は１μｍ未満である。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つの端面を有し、一方の前記端面から他方の前記端面まで貫通する流路が形成された多孔質支持体と、
前記多孔質支持体に形成された第１多孔質膜と、前記第１多孔質膜の、前記多孔質支持体に面していない側に形成された第２多孔質膜と、を備える多孔質フィルターであって、
前記第１多孔質膜は、同一の材料から形成された粒径の異なる粒子を含み、
前記粒子の粒径頻度分布を見たときに、頻度がそれぞれ５％以上である第１極大値と第２極大値とを有し、
前記第１極大値の第１粒径は、前記第２極大値の第２粒径よりも大きく、
前記第１粒径は、前記第２粒径の２倍から７倍であり、
前記第１粒径は１μｍ以上１０μｍ以下であり、前記第２粒径は１μｍ未満であることを特徴とする、多孔質フィルター。
【請求項２】
請求項１に記載の多孔質フィルターであって、
前記第１極大値の頻度及び前記第２極大値の頻度は、ともに１０％以上であることを特徴とする、多孔質フィルター。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の多孔質フィルターであって、
前記第１粒径は２μｍ以上５μｍ以下であり、前記第２粒径は０．５μｍ以上１μｍ未満であることを特徴とする、多孔質フィルター。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の多孔質フィルターであって、
前記第１多孔質膜が、前記流路を構成する面に形成されていることを特徴とする、多孔質フィルター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、多孔質フィルターに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、多孔質体により形成された多孔質支持体に、多孔質膜が分離膜として形成された多孔質フィルターが知られている（例えば、特許文献１）。多孔質膜を均一な厚みで形成する方法として、特許文献１では、多孔質膜に有機高分子を添加する方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第３６２５６８２号
【特許文献２】特開２００２−２５３９１５号公報
【特許文献３】特開２００７−２２９５６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載の方法を用いた場合、有機高分子の熱収縮に起因して、多孔質膜にクラックが発生する虞がある。このため、均一な厚みの多孔質膜を形成する技術として、その他の技術が望まれていた。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであり、以下の形態として実現することができる。
【０００６】
（１）本発明の一形態によれば、多孔質フィルターが提供される。この多孔質フィルターは、２つの端面を有し、一方の前記端面から他方の前記端面まで貫通する流路が形成された多孔質支持体と、前記多孔質支持体に形成された第１多孔質膜と、前記第１多孔質膜の、前記多孔質支持体に面していない側に形成された第２多孔質膜と、を備える多孔質フィルターであって、前記第１多孔質膜は、同一の材料から形成された粒径の異なる粒子を含み、前記粒子の粒径頻度分布を見たときに、頻度がそれぞれ５％以上である第１極大値と第２極大値とを有し、前記第１極大値の第１粒径は、前記第２極大値の第２粒径よりも大きく、前記第１粒径は、前記第２粒径の２倍から７倍であり、前記第１粒径は１μｍ以上１０μｍ以下であり、前記第２粒径は１μｍ未満であることを特徴とする。この形態の多孔質フィルターによれば、第１多孔質膜が第２粒径の粒子を備えることにより、製造時に第１多孔質膜を形成するためのスラリーが多孔質支持体に均一に付着する結果、第１多孔質膜の膜厚が均一となる。
【０００７】
（２）上記形態の多孔質フィルターにおいて、前記第１極大値の頻度及び前記第２極大値の頻度は、ともに１０％以上であってもよい。この形態の多孔質フィルターによれば、第１多孔質膜の膜厚がより均一となる。
【０００８】
（３）上記形態の多孔質フィルターにおいて、前記第１粒径は２μｍ以上５μｍ以下であり、前記第２粒径は０．５μｍ以上１μｍ未満であってもよい。この形態の多孔質フィルターによれば、第１多孔質膜の膜厚がより均一となる。
【０００９】
（４）上記形態の多孔質フィルターにおいて、前記第１多孔質膜が、前記流路を構成する面に形成されていてもよい。この形態の多孔質フィルターによれば、第１多孔質膜の膜厚が均一となる。
【００１０】
なお、本発明は、上述した多孔質フィルターとしての形態に限らず、種々の形態で実現することが可能である。本発明は、例えば、多孔質フィルターの製造方法の態様で実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本実施形態の多孔質フィルター１０の説明図。
【図２】多孔質膜１１０の断面模式図。
【図３】多孔質フィルター１０の製造方法を示す工程図。
【図４】濾過成膜法を説明するための模式図。
【図５】実施例及び比較例の第１多孔質膜の粒径頻度分布を示す図。
【図６】走査型電子顕微鏡で取得した画像を模式的に示す図。
【図７】第１多孔質膜１１１の厚みを測定した結果を示す図。
【図８】測定場所を説明する模式図。
【図９】実施例と比較例との第１多孔質膜１１１を形成する粒子を示す断面模式図。
【図１０】実施例における第１多孔質膜１１１の形成の様子を示す断面模式図。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
Ａ．実施形態：
Ａ１．多孔質フィルターの構成：
図１は、本実施形態の多孔質フィルター１０の説明図である。図１は、多孔質フィルター１０を、多孔質フィルター１０の軸線ＣＸ方向に沿って切断した状態を示す。本実施形態の多孔質フィルター１０は、例えば、気体や液体等のフィルターとして利用される。図１に示すように、多孔質フィルター１０は、多孔質支持体１００と、多孔質膜１１０とを備える。
【００１３】
多孔質支持体１００は、２つの端面を有し、一方の端面Ｄ１から他方の端面Ｄ２まで貫通する流路Ｃが形成されている。本実施形態において、流路Ｃは複数形成されているが、一つでもよい。多孔質支持体１００は、連通する多数の気孔を有しており、任意の方向に流体（気体や液体）が通過可能に形成されている。本実施形態では、多孔質支持体１００は円柱状であり、流路Ｃは多孔質支持体１００の軸線ＣＸ方向に沿った方向に延びている。多孔質支持体１００の素材としては、例えば、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）やシリカ（ＳｉＯ２）、コージェライト、ムライト、又は、それらの混合物等の種々の酸化物を利用することが可能である。
【００１４】
図２は、多孔質膜１１０の断面模式図である。図２に示すように、多孔質膜１１０は、多孔質支持体１００の流路Ｃを構成する面に形成されている。多孔質膜１１０は、２つの膜から形成されており、多孔質支持体１００の流路Ｃにおいて、第１多孔質膜１１１と、第２多孔質膜１１３とが、この順に積層されている。つまり、本実施形態では、第１多孔質膜１１１は多孔質支持体１００に形成されており、第２多孔質膜１１３は第１多孔質膜１１１の、多孔質支持体１００に面していない側に形成されている。
【００１５】
第１多孔質膜１１１は、同一の材料から形成された粒径の異なる粒子を含む多孔質な膜である。本実施形態では、同一の材料として、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）を用いる。第１多孔質膜１１１の特徴については、後に詳述する。
【００１６】
第２多孔質膜１１３は、第１多孔質膜１１１の上に形成された膜である。第２多孔質膜１１３は、多孔質な膜であり、本実施形態においては、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）の粒子を焼成することにより形成される。第２多孔質膜１１３は、第１多孔質膜１１１を形成する粒子の粒径（ＰＳ１）よりも平均粒径が小さい粒子を多く含む。このようにすることにより、第１多孔質膜１１１の気孔の大きさよりも、第２多孔質膜１１３の気孔の大きさを小さくすることができる。
【００１７】
Ａ２．多孔質フィルター１０の製造方法：
図３は、多孔質フィルター１０の製造方法を示す工程図である。多孔質フィルター１０の製造者は、まず、工程Ｐ１００において、多孔質支持体１００を作製する。工程Ｐ１００は、多孔質支持体作製工程とも呼ぶ。
【００１８】
本実施形態では、まず、製造者は、平均粒径が８μｍのアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）粉末と、メチルセルロースと、水とをミキサーで混合及び混練することにより、坏土を作製する。次に、製造者は、直径約３ｍｍの流路が複数形成されている外径約３０ｍｍの成形用金型を取り付けた押出成形機を用いて、坏土の成形を行う。本実施形態では、全長を約１２００ｍｍとする。その後、製造者は、坏土を焼成することにより、全長約１０００ｍｍの多孔質支持体１００を作製する。
【００１９】
多孔質支持体作製工程（工程Ｐ１００）の後、製造者は、工程Ｐ１１０において、多孔質支持体１００に第１多孔質膜１１１を形成する。具体的には、製造者は、多孔質支持体１００の流路Ｃを構成する面に第１多孔質膜１１１を形成する。工程Ｐ１１０は、第１多孔質膜形成工程とも呼ぶ。
【００２０】
本実施形態では、まず、製造者は、平均粒径が３μｍのアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）粉末と、平均粒径が０．７μｍのアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）粉末とを含むスラリーを調合する。次に、製造者は、濾過成膜法により多孔質支持体１００に第１多孔質膜１１１を形成する。ここで、濾過成膜法は、既存の技術であり、例えば、特許第３６２５６８２に記載されているため、本明細書では、濾過成膜法を、以下に簡単に説明する。
【００２１】
図４は、濾過成膜法を説明するための模式図である。まず、製造者は、多孔質支持体１００を真空チャンバー２００内に入れた後、多孔質支持体１００の二つの端面Ｄ１，Ｄ２を図示しないＯリングを介してフランジ２１０で固定する。その後、製造者は、真空チャンバー２００内を減圧させた状態において、ポンプＰを用いて、配管２３０及び多孔質支持体１００に形成されている流路Ｃ（図１参照）にスラリー２２０を約１０分間循環させる。そして、製造者は、スラリー２２０の循環を止め、配管２３０内のスラリー２２０を取り除く。次に、製造者は、（ｉ）真空チャンバー２００内において多孔質支持体１００を減圧環境下で乾燥後、（ｉｉ）多孔質支持体１００を温風乾燥機に移して、約８０℃の温風でさらに乾燥させ、最後に、（ｉｉｉ）焼成を行うことによって、第１多孔質膜１１１を形成する。
【００２２】
第１多孔質膜形成工程（工程Ｐ１１０（図３参照））の後、製造者は、工程Ｐ１２０において、第１多孔質膜１１１の上に第２多孔質膜１１３を形成する。工程Ｐ１２０は、第２多孔質膜形成工程とも呼ぶ。
【００２３】
本実施形態では、まず、製造者は、平均粒径が０．３μｍのアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）粉末を含むスラリーを調合する。次に、製造者は、第１多孔質膜形成工程（工程Ｐ１１０）と同様の濾過成膜法により、第１多孔質膜１１１の上に第２多孔質膜１１３を形成する。換言すると、製造者は、第１多孔質膜１１１が形成された多孔質支持体１００に、この工程において調合したスラリーを循環させた後、乾燥及び焼成を行うことにより、第１多孔質膜１１１の上に第２多孔質膜１１３を形成する。これらの工程を経て、多孔質フィルター１０が完成する。
【００２４】
本実施形態における多孔質フィルター１０の第１多孔質膜１１１は、均一な厚みとなる。この効果について、評価試験の結果を用いて、以下に説明する。
【００２５】
Ａ３．評価試験：
評価試験では、実施例と比較例とを用いた。実施例は、上述の製造方法により作成した多孔質フィルター１０である。一方、比較例は、実施例と比較して、第１多孔質膜形成工程（工程Ｐ１２０（図３参照））において、平均粒径が３μｍのアルミナ粉末のみを加え、平均粒径が０．７μｍのアルミナ粉末を加えていない点で異なるが、それ以外は同じである。
【００２６】
図５は、実施例及び比較例の第１多孔質膜の粒径頻度分布を示す図である。図５において、縦軸を頻度（％）とし、横軸を粒径（μｍ）とし、実施例の結果を実線で示し、比較例の結果を破線で示す。
【００２７】
本明細書において、粒径頻度分布は、以下の順序により作成した。
１．階級数を、スタージェスの公式を利用して算出する。
２．ヒストグラムの各粒子径の階級間隔は、測定値の中で最も大きい数値から最も小さい数値を引いた上で、階級数で割った値とする。
３．最初の階級は、最小値から測定単位の２分の１を引いた値を出発点とする。
４．出発点の値に階級間隔を逐次加え、最大値を含む階級までの境界線を決定する。
５．各階級の中央の値をその階級の階級値として、粒径頻度分布を作成する。
【００２８】
ここで、本明細書における粒径の測定方法を説明する。まず、測定者は、軸線ＣＸ方向（図１参照）に沿って多孔質フィルター１０を割った後に、多孔質膜１１０を多孔質支持体１００から削り出した。その後、測定者は、多孔質支持体１００と接していた多孔質膜１１０の面が第１多孔質膜１１１の面であるため、この面を、走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope：ＳＥＭ）を用いて、３０００倍に拡大した画像を取得した。
【００２９】
図６は、走査型電子顕微鏡で取得した画像を模式的に示す図である。測定者は、この画像において、向かいあった角同士を結ぶ２本の対角線ＤＬ１，ＤＬ２を引く。そして、測定者は、これらの対角線ＤＬ１，ＤＬ２と交わる粒子の中で最も長い部分を測定する。ここで、最も長い部分とは、観察している画像に写る部分の中で最も長い部分を言う。例えば、図６に示すように、対角線ＤＬ１と交わる粒子の中の一つの粒子であるＧ１は、粒径がＳ１であり、対角線ＤＬ２と交わる粒子の中の一つの粒子であるＧ２は、粒径がＳ２である。なお、この評価試験では、試験者は、実施例及び比較例について、それぞれ異なる部分の画像を二つずつ用意した上で、実施例では一つの画像から任意の９０個の粒子の粒径を測定し、比較例では一つの画像から任意の５０個粒子の粒径を測定した。その後、試験者は、実施例及び比較例のそれぞれについて、計算した平均値を平均粒径とした。
【００３０】
図５に示すように、実施例の第１多孔質膜１１１の粒径頻度分布を見たときに、第１多孔質膜１１１は、以下のような特徴を備える。
１．頻度がそれぞれ５％以上である第１極大値ＭＶ１と第２極大値ＭＶ２とを有する。
２．第１極大値ＭＶ１の粒径（「第１粒径ＰＳ１」と呼ぶ）は、第２極大値ＭＶ２の粒径（「第２粒径ＰＳ２」と呼ぶ）よりも大きい。
３．第１粒径ＰＳ１は、第２粒径ＰＳ２の２倍から７倍である。
４．第１粒径ＰＳ１は、１μｍ以下１０μｍ以下であり、第２粒径ＰＳ２は１μｍ未満である。
【００３１】
図５に示すように、実施例において、第１粒径ＰＳ１は約０．７μｍであり、第２粒径ＰＳ２は約３μｍである。このため、第１粒径ＰＳ１は、第２粒径ＰＳ２の約４倍である。一方、比較例は、頻度が５％以上である第１極大値ＭＶ１を有するが、第２極大値ＭＶ２は有さない。比較例が第２極大値ＭＶ２を有さない理由としては、第１多孔質膜形成工程（工程Ｐ１２０（図３参照））において平均粒径が０．７μｍのアルミナ粉末を加えていない点が挙げられる。
【００３２】
図７は、第１多孔質膜１１１の厚みを測定した結果を示す図である。図７は、各測定場所における実施例及び比較例の第１多孔質膜１１１の膜厚（μｍ）を示す。図７では、第１多孔質膜１１１の厚みを５つの測定場所で比較している。図７において、実施例の結果を実線で示し、比較例の結果を破線で示す。ここで、測定場所について以下に説明する。
【００３３】
図８は、測定場所を説明する模式図である。一つ目の測定場所は、軸線ＣＸを通る流路Ｃ（「中央流路ＣＣ」とも呼ぶ）に形成された第１多孔質膜１１１であり、他の４つの測定場所は、いずれも多孔質支持体１００の最外周の流路Ｃ（「最外周流路ＣＴ」とも呼ぶ）に形成された第１多孔質膜１１１である。測定者は、最外周流路ＣＴの第１多孔質膜１１１の膜厚は、さらに４つの場所に分けて測定した。具体的には、測定者は、（ｉ）端面Ｄ１から見たときの時計回り上流側の場所Ｃ１と、（ｉｉ）軸線ＣＸ側の場所Ｃ２と、（ｉｉｉ）端面Ｄ１から見たときの時計回り下流側の場所Ｃ３と、（ｉｖ）外周側の場所Ｃ４と、で分けた上で、第１多孔質膜１１１の膜厚をそれぞれ測定した。測定者は、各測定場所について、それぞれ６箇所の測定を行い、図８に平均値を示す。なお、測定には、走査型電子顕微鏡を用いた。
【００３４】
図７に示すとおり、比較例において、中央流路ＣＣに形成された第１多孔質膜１１１の膜厚は、最外周流路ＣＴに形成された第１多孔質膜１１１の膜厚よりも小さい。また、比較例における最外周流路ＣＴに形成された第１多孔質膜１１１の膜厚は、軸線ＣＸに近い部分ほど小さく、軸線ＣＸから離れるほど大きくなる。つまり、比較例における最外周流路ＣＴに形成された第１多孔質膜１１１の膜厚は、（ｉ）軸線ＣＸ側の場所Ｃ２において最も小さく、（ｉｉ）端面Ｄ１から見たときの時計回り上流側の場所Ｃ１及び下流側の場所Ｃ３において同程度であり、（ｉｉｉ）外周側の場所Ｃ４において最も大きい。これらの理由としては、第１多孔質膜１１１の形成時である濾過成膜時に、スラリー２２０（図４参照）に加わる圧力が原因と考えられる。つまり、スラリー２２０に加わる圧力は、軸線ＣＸに近い部分と比較して、軸線ＣＸから離れた部分のほうが小さい。このために、スラリー２２０が多孔質支持体１００の流路Ｃ表面に堆積する量は、軸線ＣＸに近い部分と比較して、軸線ＣＸから離れた部分のほうが大きくなる。この結果として、第１多孔質膜１１１の膜厚は、軸線ＣＸに近い部分ほど小さく、軸線ＣＸから離れるほど大きくなると考えられる。
【００３５】
一方、図７に示すように、実施例は、比較例と比べて、場所による第１多孔質膜１１１の膜厚の差が小さく、第１多孔質膜１１１の膜厚が均一であることが分かる。実施例の第１多孔質膜１１１の膜厚が均一となる理由について、以下に説明する。
【００３６】
図９は、実施例と比較例との第１多孔質膜１１１を形成する粒子を示す断面模式図である。実施例と比較例とは、評価試験で用いたものと同じである。
【００３７】
一般に、多孔質支持体１００の流路Ｃが一つの場合、流路Ｃのうちスラリー供給側のほうがスラリー排出側と比べて、粒子が堆積しやすい傾向にある。また、多孔質支持体１００の流路Ｃが複数の場合、一般に、多孔質支持体１００の軸線ＣＸに遠い流路Ｃは、軸線ＣＸに近い流路Ｃと比較して、第１多孔質膜１１１を形成する際に、第１多孔質膜１１１を形成するための粒子が留まりやすい傾向にある。このように、流路Ｃが形成される場所や、流路Ｃの位置により、流路Ｃに形成される多孔質膜の厚みが場所によって異なることがある。
【００３８】
一方、実施例のように、多孔質膜１１０を形成するためのスラリーに、上述の第１粒径ＰＳ１と、第１粒径ＰＳ１よりも粒径の小さい上述の第２粒径ＰＳ２とを加える場合、第２粒径ＰＳ２の粒子が、スラリーを循環させる際に多孔質支持体１００の気孔の目詰まりを起こす。
【００３９】
図１０は、実施例における第１多孔質膜１１１の形成の様子を示す断面模式図である。図１０において、スラリー２２０に加わる圧力を、白抜きの矢印で示し、力が大きいほど大きい矢印で示す。第１多孔質膜１１１の濾過成膜の開始直後は、図１０の上段に示すように、スラリー２２０に加わる圧力は、軸線ＣＸに近い部分と比較して、軸線ＣＸから離れた部分のほうが小さい。このために、スラリー２２０が多孔質支持体１００の流路Ｃ表面に堆積する量は、軸線ＣＸに近い部分と比較して、軸線ＣＸから離れた部分のほうが大きくなる。
【００４０】
しかし、スラリー２２０に含まれる第２粒径ＰＳ２が、スラリー２２０を循環させる際に多孔質支持体１００の気孔の目詰まりを起こす。このため、目詰まりの起きていない流路Ｃの表面にスラリー２２０が優先的に堆積する。この結果として、図１０の下段に示すように、スラリー２２０が、均一に流路Ｃに堆積すると考えられる。
【００４１】
ここで、目詰まりを効果的に起こさせながら、第１多孔質膜１１１の膜厚を均一に形成させるため、（ｉ）第１極大値ＭＶ１及び第２極大値ＭＶ２の頻度（図５参照）は、ともに１０％以上であることが好ましく、（ｉｉ）第１粒径ＰＳ１は２μｍ以上５μｍ以下であることが好ましく、（ｉｉｉ）第２粒径ＰＳ２は０．５μｍ以上１μｍ以下であることが好ましい。
【００４２】
Ｂ．変形例：
Ｂ１．変形例１：
上述の実施形態において、多孔質膜１１０として、第１多孔質膜１１１と第２多孔質膜１１３とを備える。しかし、本発明は、これに限定されない。多孔質膜１１０として、３層以上の層を備えていてもよい。
【００４３】
Ｂ２．変形例２：
上述の実施形態において、多孔質フィルター１０の多孔質膜１１０は、多孔質支持体１００の流路に形成されている。しかし、本発明はこれに限られない。多孔質膜１１０は、例えば、多孔質フィルター１０の外周に形成されていてもよい。例えば、多孔質支持体１００の流路Ｃを一つとし、端面Ｄ１，Ｄ２以外の多孔質支持体１００の面である外周面に多孔質膜１１０を形成した態様が挙げられる。
【００４４】
Ｂ３．変形例３：
上述の実施形態において、第１極大値ＭＶ１及び第２極大値ＭＶ２の頻度は、ともに１０％以上であるが（図５参照）、第１極大値ＭＶ１及び第２極大値ＭＶ２の頻度の少なくとも一方が、５％以上１０％未満であってもよい。また、第１極大値ＭＶ１及び第２極大値ＭＶ２以外の極大値であって、頻度が５％以上の極大値がさらに存在してもよい。
【００４５】
Ｂ４．変形例４：
上述の実施形態において、第１粒径ＰＳ１は２μｍ以上５μｍ以下であるが、１μｍ以上２μｍ未満でもよく、５μｍよりも大きく１０μｍ以下でもよい。同様に、第２粒径ＰＳ２は０．５μｍ以上１μｍ未満であるが、１μｍ未満でもよい。
【００４６】
本発明は、上述の実施形態や変形例に限られるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲において種々の構成で実現することができる。例えば、発明の概要の欄に記載した各形態中の技術的特徴に対応する実施形態、変形例中の技術的特徴は、上述の課題の一部または全部を解決するために、あるいは、上述の効果の一部または全部を達成するために、適宜、差し替えや、組み合わせを行うことが可能である。また、その技術的特徴が本明細書中に必須なものとして説明されていなければ、適宜、削除することが可能である。
【符号の説明】
【００４７】
１０…多孔質フィルター
１００…多孔質支持体
１１０…多孔質膜
１１１…第１多孔質膜
１１３…第２多孔質膜
２００…真空チャンバー
２１０…フランジ
２２０…スラリー
２３０…配管
Ｃ…流路
ＣＣ…中央流路
ＣＴ…最外周流路
ＣＸ…軸線
Ｄ１…端面
Ｄ２…端面
ＤＬ１…対角線
ＤＬ２…対角線
ＭＶ１…第１極大値
ＭＶ２…第２極大値
Ｐ…ポンプ
ＰＳ１…第１粒径
ＰＳ２…第２粒径
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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