(57)【要約】【課題】ラインの追加、削除等の変更を容易に行うことができる流体制御装置を提供すること。【解決手段】一実施形態の流体制御装置は、複数の流体制御機器及び複数の継手が直列に接続されて形成されたラインが並列に配置された複数のラインを有する流体制御装置であって、前記複数の継手のうち、前記複数のラインの各々に設けられ、前記複数のラインの長手方向における同一位置に配置されたライン間接続用継手と、隣り合うラインの２つの前記ライン間接続用継手の上面をまたぐように取り付けられ、前記隣り合うラインの前記２つのライン間接続用継手を連通させるバイパスブロックと、を有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の流体制御機器及び複数の継手が直列に接続されて形成されたラインが並列に配置された複数のラインを有する流体制御装置であって、
前記複数の継手のうち、前記複数のラインの各々に設けられ、前記複数のラインの長手方向における同一位置に配置されたライン間接続用継手と、
隣り合うラインの２つの前記ライン間接続用継手の上面をまたぐように取り付けられ、前記隣り合うラインの前記２つのライン間接続用継手を連通させるバイパスブロックと、
を有する、
流体制御装置。
【請求項２】
前記バイパスブロックの前記ラインの短手方向における長さは、前記隣り合うラインの各々の中心線間の距離以下である、
請求項１に記載の流体制御装置。
【請求項３】
前記バイパスブロックは、着脱可能である、
請求項１又は２に記載の流体制御装置。
【請求項４】
前記バイパスブロックは、逆Ｖ字形状の流路を有する、
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の流体制御装置。
【請求項５】
前記ライン間接続用継手には、第１流体と第２流体とが異なる流路から供給され、
前記ライン間接続用継手には、前記第１流体の流れを制御する第１開閉弁と、前記第２流体の流れを制御する第２開閉弁とが取り付けられている、
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の流体制御装置。
【請求項６】
前記第２開閉弁は、２つの流体入口の流路と１つの流体出口の流路とを有する三方弁である、
請求項５に記載の流体制御装置。
【請求項７】
前記第２流体は、パージ用の流体である、
請求項５又は６に記載の流体制御装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、流体制御装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、半導体製造装置で使用される流体制御装置として、複数のラインを集積化した流体制御装置が知られている。この流体制御装置では、流体を供給するための配管、複数の流体制御機器及び複数の継手により１つのラインが形成される。各ラインでは、ベース部材の上に配置される複数の継手の上面に複数の流体制御機器を取り付けることで、隣接する流体制御機器が接続され、配管から複数の流体制御機器へ流体が供給される。
【０００３】
このような流体制御装置として、複数のラインの流体制御機器に接続された上部配管を有し、上部配管を介して各ラインにパージガスを供給可能な構成が開示されている（例えば、特許文献１、２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−２０６７００号公報
【特許文献２】特開２００１−２５４９００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記の流体制御装置では、ラインの追加、削除等の変更を行う際、ラインの数に応じて上部配管を交換することになり、コストや工数が増加するという課題があった。
【０００６】
そこで、本発明の一態様では、ラインの追加、削除等の変更を容易に行うことができる流体制御装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するため、本発明の一態様に係る流体制御装置は、複数の流体制御機器及び複数の継手が直列に接続されて形成されたラインが並列に配置された複数のラインを有する流体制御装置であって、前記複数の継手のうち、前記複数のラインの各々に設けられ、前記複数のラインの長手方向における同一位置に配置されたライン間接続用継手と、隣り合うラインの２つの前記ライン間接続用継手の上面をまたぐように取り付けられ、前記隣り合うラインの前記２つのライン間接続用継手を連通させるバイパスブロックと、を有する。
【発明の効果】
【０００８】
開示の流体制御装置によれば、ラインの追加、削除等の変更を容易に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の実施形態に係る流体制御装置の概略斜視図
【図２】図１の一部拡大図
【図３】バイパスブロックを説明するための図
【図４】本発明の実施形態に係る流体制御装置のガスの流れを説明するための図（１）
【図５】本発明の実施形態に係る流体制御装置のガスの流れを説明するための図（２）
【図６】本発明の実施形態に係る流体制御装置のガスの流れを説明するための図（３）
【図７】ラインの追加方法を説明するための図（１）
【図８】ラインの追加方法を説明するための図（２）
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の構成については、同一の符号を付することにより重複した説明を省く。
【００１１】
（流体制御装置）
本発明の実施形態に係る流体制御装置は、複数のラインを集積化した流体制御装置であって、例えば成膜装置やエッチング装置等の半導体製造装置のガス供給系として好適に用いることができる。ところで、半導体製造装置に使用されるガス種は追加、変更される場合がある。このため、流体制御装置においては、ラインの追加、削除等の変更に容易に対応可能であることが求められる。
【００１２】
本発明の実施形態では、ラインの追加、削除等の変更を容易に行うことができる流体制御装置について、３つのラインを集積化した流体制御装置を例に挙げて説明する。なお、流体制御装置におけるラインの数はこれに限定されるものではなく、２つ以上のラインを集積化したものであればよい。図１は、本発明の実施形態に係る流体制御装置の概略斜視図である。図２は、図１の一部拡大図であり、ライン間接続用継手を含む部分を拡大して示している。
【００１３】
図１に示されるように、流体制御装置１は、第１プロセスガスを供給する第１ラインＡ、第２プロセスガスを供給する第２ラインＢ及び第３プロセスガスを供給する第３ラインＣが並列に配置されて形成されている。第１プロセスガス、第２プロセスガス及び第３プロセスガスは、異なるガス種であってもよく、同じガス種であってもよい。
【００１４】
第１ラインＡ、第２ラインＢ及び第３ラインＣは、それぞれ上段に配置された複数の流体制御機器１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃと、下段に配置された複数の継手３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃと、レール５０Ａ、５０Ｂ、５０Ｃと、を有する。レール５０Ａ、５０Ｂ、５０Ｃは、例えば板状のベース部材（不図示）上に並列に取り付けられている。下段の継手３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃは、それぞれレール５０Ａ、５０Ｂ、５０Ｃ上に取り付けられている。上段の流体制御機器１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃは、それぞれ継手３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃにまたがって直列に取り付けられている。
【００１５】
第１ラインＡの流体制御機器１０Ａは、フィルタ１１Ａと、入口側開閉弁１２Ａと、圧力レギュレータ１３Ａと、圧力センサ１４Ａと、第１開閉弁１５Ａと、第２開閉弁１６Ａと、マスフローコントローラ１７Ａと、出口側開閉弁１８Ａとを含む。第１ラインＡの複数の継手３０Ａは、入口側継手３１Ａと、複数のＶ字状流路付継手３２Ａ、３３Ａ、３４Ａ、３５Ａ、３６Ａと、ライン間接続用継手３７Ａと、出口側継手３８Ａとを含む。ライン間接続用継手３７Ａは、ラインの長手方向において所定位置に取り付けられる。
【００１６】
フィルタ１１Ａは、その下方に配置された入口側継手３１Ａを介してプロセスガス配管と連通する。フィルタ１１Ａは、プロセスガス配管から供給される第１プロセスガスに含まれる不純物等を除去する。
【００１７】
入口側開閉弁１２Ａは、その下方に配置されたブロック状のＶ字状流路付継手３２Ａを介してフィルタ１１Ａと連通する。入口側開閉弁１２Ａは、流路を開閉することにより、第１プロセスガスを下流側に流したり止めたり制御するバルブである。入口側開閉弁１２Ａは、例えばエアオペレーションバルブである。また、エアオペレーションバルブに代えて、マニュアルオペレーションバルブを用いてもよい。
【００１８】
圧力レギュレータ１３Ａは、その下方に配置されたブロック状のＶ字状流路付継手３３Ａを介して入口側開閉弁１２Ａと連通する。圧力レギュレータ１３Ａは、第１プロセスガスの圧力を用途に応じた圧力へ降圧する機器である。
【００１９】
圧力センサ１４Ａは、その下方に配置されたブロック状のＶ字状流路付継手３４Ａを介して圧力レギュレータ１３Ａと連通する。圧力センサ１４Ａは、圧力レギュレータ１３Ａで降圧された第１プロセスガスの圧力を検出するセンサである。
【００２０】
第１開閉弁１５Ａは、その下方に配置されたブロック状のＶ字状流路付継手３５Ａを介して圧力センサ１４Ａと連通する。第１開閉弁１５Ａは、流路を開閉することにより、第１プロセスガスを流したり止めたり制御するバルブであり、例えばエアオペレーションバルブである。
【００２１】
第２開閉弁１６Ａは、その下方に配置されたブロック状のライン間接続用継手３７Ａを介して第１開閉弁１５Ａ、パージガス配管７１及びバイパスブロック７０Ａと連通する。第２開閉弁１６Ａは、２つの流体入口の流路と１つの流体出口の流路とを有する三方弁である。第２開閉弁１６Ａは、第１開閉弁１５Ａ側から供給される第１プロセスガスに対して常時開放状態であり、パージガス配管７１側から供給されるパージガスに対して開放状態又は閉止状態に切り替えることができる。これにより、第２開閉弁１６Ａは、第１開閉弁１５Ａを介して供給される第１プロセスガスと、パージガス配管７１を介して供給されるパージ用のガス（以下「パージガス」という。）と、を下流側へ流したり止めたり制御することができる。第２開閉弁１６Ａは、例えばエアオペレーションバルブである。バイパスブロック７０Ａについては後述する。
【００２２】
マスフローコントローラ１７Ａは、その下方に配置されたブロック状のライン間接続用継手３７Ａを介して第２開閉弁１６Ａと連通する。マスフローコントローラ１７Ａは、第２開閉弁１６Ａを介して供給される第１プロセスガス及び／又はパージガスの質量流量を計測し、流量制御を行う機器である。
【００２３】
出口側開閉弁１８Ａは、その下方に配置されたブロック状のＶ字状流路付継手３６Ａを介してマスフローコントローラ１７Ａと連通する。出口側開閉弁１８Ａは、流路を開閉することにより、第１プロセスガス及び／又はパージガスを下流側に流したり止めたり制御するバルブである。出口側開閉弁１８Ａは、例えばエアオペレーションバルブである。また、エアオペレーションバルブに代えて、マニュアルオペレーションバルブを用いてもよい。
【００２４】
第２ラインＢの流体制御機器１０Ｂは、第１ラインＡの流体制御機器１０Ａと同様の構成とすることができる。即ち、流体制御機器１０Ｂは、フィルタ１１Ｂと、入口側開閉弁１２Ｂと、圧力レギュレータ１３Ｂと、圧力センサ１４Ｂと、第１開閉弁１５Ｂと、第２開閉弁１６Ｂと、マスフローコントローラ１７Ｂと、出口側開閉弁１８Ｂとを含む。第２ラインＢの複数の継手３０Ｂは、入口側継手３１Ｂと、Ｖ字状流路付継手３２Ｂ、３３Ｂ、３４Ｂ、３５Ｂ、３６Ｂと、ライン間接続用継手３７Ｂと、出口側継手３８Ｂとを含む。ライン間接続用継手３７Ｂは、ラインの長手方向においてライン間接続用継手３７Ａと同一位置に配置される。
【００２５】
第２ラインＢでは、第２開閉弁１６Ｂは、その下方に配置されたブロック状のライン間接続用継手３７Ｂを介して第１開閉弁１５Ｂ及びバイパスブロック７０Ａ、７０Ｂと連通する。第２開閉弁１６Ｂは、２つの流体入口の流路と１つの流体出口の流路とを有する三方弁である。第２開閉弁１６Ｂは、第１開閉弁１５Ｂ側から供給される第１プロセスガスに対して常時開放状態であり、パージガス配管７１側から供給されるパージガスに対して開放状態又は閉止状態に切り替えることができる。これにより、第２開閉弁１６Ｂは、第１開閉弁１５Ｂを介して供給される第２プロセスガスと、パージガス配管７１を介して供給されるパージガスとを下流側へ流したり止めたり制御することができる。第２開閉弁１６Ｂは、例えばエアオペレーションバルブである。バイパスブロック７０Ａ、７０Ｂについては後述する。
【００２６】
第３ラインＣの流体制御機器１０Ｃは、第１ラインＡの流体制御機器１０Ａと同様の構成とすることができる。即ち、流体制御機器１０Ｃは、フィルタ１１Ｃと、入口側開閉弁１２Ｃと、圧力レギュレータ１３Ｃと、圧力センサ１４Ｃと、第１開閉弁１５Ｃと、第２開閉弁１６Ｃと、マスフローコントローラ１７Ｃと、出口側開閉弁１８Ｃとを含む。第３ラインＣの複数の継手３０Ｃは、入口側継手３１Ｃと、Ｖ字状流路付継手３２Ｃ、３３Ｃ、３４Ｃ、３５Ｃ、３６Ｃと、ライン間接続用継手３７Ｃと、出口側継手３８Ｃとを含む。ライン間接続用継手３７Ｃは、ラインの長手方向においてライン間接続用継手３７Ｂと同一位置に配置される。
【００２７】
第３ラインＣでは、第２開閉弁１６Ｃは、その下方に配置されたブロック状のライン間接続用継手３７Ｃを介して第１開閉弁１５Ｃ、バイパスブロック７０Ｂ及びプラグ７２と連通する。第２開閉弁１６Ｃは、２つの流体入口の流路と１つの流体出口の流路とを有する三方弁である。第２開閉弁１６Ｃは、第１開閉弁１５Ｃ側から供給される第３プロセスガスに対して常時開放状態であり、パージガス配管７１側から供給されるパージガスに対して開放状態又は閉止状態に切り替えることができる。これにより、第２開閉弁１６Ｃは、第１開閉弁１５Ｃを介して供給される第３プロセスガスと、パージガス配管７１を介して供給されるパージガスとを下流側へ流したり止めたり制御することができる。第２開閉弁１６Ｃは、例えばエアオペレーションバルブである。プラグ７２は、ライン間接続用継手３７Ｃの流路を閉止するためのふたである。バイパスブロック７０Ａ、７０Ｂについては後述する。
【００２８】
このように、本発明の実施形態に係る流体制御装置１では、隣り合うラインである第１ラインＡ、第２ラインＢに形成されたライン間接続用継手３７Ａ、３７Ｂにまたがって、バイパスブロック７０Ａが取り付けられている。これにより、第１ラインＡと第２ラインＢの２つのライン間接続用継手３７Ａ、３７Ｂ同士がバイパスブロック７０Ａを介して連通する。
【００２９】
また、隣り合うラインである第２ラインＢ、第３ラインＣに形成されたライン間接続用継手３７Ｂ、３７Ｃにまたがって、バイパスブロック７０Ｂが取り付けられている。これにより、第２ラインＢと第３ラインＣの２つのライン間接続用継手３７Ｂ、３７Ｃ同士がバイパスブロック７０Ｂを介して連通する。
【００３０】
（バイパスブロック）
図３は、バイパスブロックを説明するための図である。図３（ａ）はバイパスブロックを含む上面を示し、図３（ｂ）及び図３（ｃ）は、それぞれ図３（ａ）における一点鎖線Ｂ−Ｂ及び一点鎖線Ｃ−Ｃにおいて切断した断面を示している。なお、図３（ａ）において、太い線はプロセスガスの流路を表し、細い線はパージガスの流路を表し、いずれも実線は上部に配置された流体制御機器の流路であり、点線は下部に配置された継手の流路である。
【００３１】
バイパスブロック７０Ａは、図３（ａ）及び図３（ｂ）に示されるように、第１ラインＡのライン間接続用継手３７Ａと、第２ラインＢのライン間接続用継手３７Ｂとにまたがるように、ライン間接続用継手３７Ａ、３７Ｂの上面に着脱可能に取り付けられている。これにより、第１ラインＡのライン間接続用継手３７Ａと第２ラインＢのライン間接続用継手３７Ｂとが連通する。バイパスブロック７０Ａは、図３（ｂ）に示されるように、逆Ｖ字形状の流路を有する。バイパスブロック７０Ａのラインの短手方向における長さは、隣り合うラインの各々の中心線間の距離以下である。また、ライン間接続用継手３７Ａの上面には、鉛直方向に延在するパージガス配管７１が取り付けられている。これにより、図３（ａ）から図３（ｃ）に示されるように、パージガス配管７１からライン間接続用継手３７Ａに供給されるパージガスは、第２開閉弁１６Ａに供給されると共に、バイパスブロック７０Ａを介してライン間接続用継手３７Ｂにも供給される。
【００３２】
バイパスブロック７０Ｂは、図３（ａ）及び図３（ｂ）に示されるように、第２ラインＢのライン間接続用継手３７Ｂと、第３ラインＣのライン間接続用継手３７Ｃとにまたがるように、ライン間接続用継手３７Ｂ、３７Ｃの上面に着脱可能に取り付けられている。これにより、第２ラインＢのライン間接続用継手３７Ｂと第３ラインＣのライン間接続用継手３７Ｃとが連通する。バイパスブロック７０Ｂは、バイパスブロック７０Ａと同一部材とすることができ、図３（ｂ）に示されるように、逆Ｖ字形状の流路を有する。バイパスブロック７０Ｂのラインの短手方向における長さは、隣り合うラインの各々の中心線間の距離以下である。これにより、バイパスブロック７０Ａとバイパスブロック７０Ｂとが干渉することがない。また、図３（ａ）から図３（ｃ）に示されるように、ライン間接続用継手３７Ｂに供給されるパージガスは、第２開閉弁１６Ｂに供給されると共に、バイパスブロック７０Ｂを介してライン間接続用継手３７Ｃにも供給される。
【００３３】
また、図３（ａ）から図３（ｃ）に示されるように、ライン間接続用継手３７Ｃに供給されるパージガスは、第２開閉弁１６Ｃに供給される。なお、ライン間接続用継手３７Ｃの流路の一端にはプラグ７２が取り付けられており、流路が閉止されている。
【００３４】
（流体制御装置の動作）
本発明の実施形態に係る流体制御装置１の動作について、第３ラインＣから供給するガスを例に挙げて説明する。図４から図６は、本発明の実施形態に係る流体制御装置１のガスの流れを説明するための図である。図４は第３ラインＣから第３プロセスガス及びパージガスのいずれも供給しない場合を示し、図５は第３ラインＣから第３プロセスガスを供給する場合を示し、図６は第３ラインＣからパージガスを供給する場合を示している。
【００３５】
図４に示されるように、第３ラインＣから第３プロセスガス及びパージガスのいずれのガスも供給しない場合、第１開閉弁１５Ｃを閉止（Ｃｌｏｓｅ）し、第２開閉弁１６Ｃを閉止（Ｃｌｏｓｅ）する。第１開閉弁１５Ｃを閉止することで、第１開閉弁１５Ｃの上流側から供給される第３プロセスガスは、第１開閉弁１５Ｃによって遮断される。また、第２開閉弁１６Ｃを閉止することで、パージガス配管７１からバイパスブロック７０Ｂ等を介してライン間接続用継手３７Ｃに供給されるパージガスは、第２開閉弁１６Ｃによって遮断される。これにより、第２開閉弁１６Ｃよりも下流側には、第３プロセスガス及びパージガスが供給されない。
【００３６】
図５に示されるように、第３ラインＣから第３プロセスガスのみを供給する場合、第１開閉弁１５Ｃを開放（Ｏｐｅｎ）し、第２開閉弁１６Ｃを閉止（Ｃｌｏｓｅ）する。第１開閉弁１５Ｃを開放することで、第１開閉弁１５Ｃの上流側から供給される第３プロセスガスは、第１開閉弁１５Ｃ及びライン間接続用継手３７Ｃを介して第２開閉弁１６Ｃに供給される。また、第２開閉弁１６Ｃは、第３プロセスガスに対して常時開放状態であるため、第２開閉弁１６Ｃに供給される第３プロセスガスは、下流側に供給される。また、第２開閉弁１６Ｃを閉止することで、パージガス配管７１からバイパスブロック７０Ｂ等を介してライン間接続用継手３７Ｃに供給されるパージガスは、第２開閉弁１６Ｃによって遮断される。これにより、第２開閉弁１６Ｃよりも下流側には、第３プロセスガスが供給され、パージガスが供給されない。
【００３７】
図６に示されるように、第３ラインＣからパージガスのみを供給する場合、第１開閉弁１５Ｃを閉止（Ｃｌｏｓｅ）し、第２開閉弁１６Ｃを開放（Ｏｐｅｎ）する。第１開閉弁１５Ｃを閉止することで、第１開閉弁１５Ｃの上流側から供給される第３プロセスガスは、第１開閉弁１５Ｃによって遮断される。また、第２開閉弁１６Ｃを開放することで、パージガス配管７１からバイパスブロック７０Ｂ、ライン間接続用継手３７Ｃを介して第２開閉弁１６Ｃに供給されるパージガスは、第２開閉弁１６Ｃに遮断されることなく下流側に供給される。これにより、第２開閉弁１６Ｃよりも下流側には、パージガスが供給され、第３プロセスガスが供給されない。
【００３８】
このように、第１開閉弁１５Ｃの開閉動作、及び、第２開閉弁１６Ｃの開閉動作を制御することによって、第３ラインＣから供給するガスを切り替えることができる。
【００３９】
なお、第１ラインＡ及び第２ラインＢについても、第３ラインＣから供給するガスを切り替える場合と同様の方法を用いて、それぞれ第１ラインＡから供給するガス及び第２ラインＢから供給するガスを切り替えることができる。
【００４０】
（ラインの追加方法）
本発明の実施形態に係る流体制御装置１を用いたラインの追加方法について、３つのライン（第１ラインＡから第３ラインＣ）を集積化した流体制御装置１において、第３ラインＣの隣に第４ラインＤを追加する場合を例に挙げて説明する。図７及び図８は、ラインの追加方法を説明するための図である。図７はラインを追加する前の流体制御装置１の要部を示し、図８は図７で示す流体制御装置１にラインを１つ追加した後の流体制御装置１の要部を示している。即ち、図７は３つのラインを集積化した流体制御装置１を示し、図８は４つのラインを集積化した流体制御装置１を示している。
【００４１】
まず、ベース部材（不図示）上の第３ラインＣの隣にレールを取り付ける。その後、レールに、下段に配置される複数の継手を取り付け、上段に配置される複数の流体制御機器を取り付けることにより、第４ラインＤを形成する。第４ラインＤは第１ラインＡ等と同様の構成であってもよく、異なる構成であってもよい。例えば、第４ラインＤを第１ラインＡと同様の構成とする場合には、追加すべき流体制御機器を接続するのに必要な継手をレールの所定の位置に取り付け、その後、所定の位置に流体制御機器を取り付ける。このとき、図８（ａ）及び図８（ｂ）に示されるように、第４ラインＤに設けられるライン間接続用継手３７Ｄの位置が、ラインの長手方向において、他のラインに設けられているライン間接続用継手３７Ａ、３７Ｂ、３７Ｃと同一位置となるように取り付ける。
【００４２】
続いて、ライン間接続用継手３７Ｃに取り付けられているプラグ７２を取り外す。そして、図８（ａ）及び図８（ｂ）に示されるように、第３ラインＣのライン間接続用継手３７Ｃと第４ラインＤのライン間接続用継手３７Ｄとをまたぐようにバイパスブロック７０Ｃを取り付ける。これにより、第３ラインＣのライン間接続用継手３７Ｃと第４ラインＤのライン間接続用継手３７Ｄとを連通させる。バイパスブロック７０Ｃは、バイパスブロック７０Ａ及びバイパスブロック７０Ｂと同一部材を使用することができる。また、第４ラインＤのライン間接続用継手３７Ｄの他方の流路を閉止するプラグ７２を取り付ける。これにより、図８（ｂ）に示されるように、パージガス配管７１から供給されるパージガスを、ライン間接続用継手３７Ａ、バイパスブロック７０Ａ、ライン間接続用継手３７Ｂ、バイパスブロック７０Ｂ、ライン間接続用継手３７Ｃ、バイパスブロック７０Ｃ及びライン間接続用継手３７Ｄを介して第４ラインＤの第２開閉弁１６Ｄに供給可能となる。
【００４３】
このように、本発明の実施形態に係る流体制御装置１では、バイパスブロック７０Ｃを追加し、プラグ７２の位置を変更することにより、ラインを追加することができる。バイパスブロック７０Ｃを削除し、プラグ７２の位置を変更することにより、ラインを削除することができる。即ち、ラインの追加、削除等の変更の際、従来のように複数のラインの流体制御機器に接続された上部配管をすべて交換する必要がなく、追加又は削除するラインと対応するバイパスブロックの追加又は削除を行えばよい。このため、ラインの交換に必要な工数を削減することができ、また、交換部材費を低減することができる。
【００４４】
また、ラインの追加、削除等の変更に必要なバイパスブロックを共通部材とすることができる。このため、ラインの変更に必要なコストを低減し、納期を短縮することができる。
【００４５】
以上に説明したように、本発明の実施形態に係る流体制御装置１では、ラインの追加、削除等の変更を容易に行うことができる。
【００４６】
なお、上記の実施形態において、プロセスガスは第１流体の一例であり、パージガスは第２流体の一例である。
【００４７】
以上、本発明を実施するための形態について説明したが、上記内容は、発明の内容を限定するものではなく、本発明の範囲内で種々の変形及び改良が可能である。
【符号の説明】
【００４８】
１    流体制御装置
１０  流体制御機器
１５Ａ、１５Ｂ、１５Ｃ、１５Ｄ  第１開閉弁
１６Ａ、１６Ｂ、１６Ｃ、１６Ｄ  第２開閉弁
３０  継手
３７Ａ、３７Ｂ、３７Ｃ、３７Ｄ  ライン間接続用継手
７０Ａ、７０Ｂ、７０Ｃ  バイパスブロック
Ａ    第１ライン
Ｂ    第２ライン
Ｃ    第３ライン
Ｄ    第４ライン
【図１】
2018084255.tif 000003
【図２】
2018084255.tif 000004
【図３】
2018084255.tif 000005
【図４】
2018084255.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
2018084255.tif 000009
【図８】
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