(57)【要約】      （修正有）【課題】液中プラズマの発生を受けた液体が昇温するのを防止しつつ、液中プラズマを効率的に発生できる液中プラズマ発生技術を有する処理液精製装置。【解決手段】絶縁性材料で形成されて外部から供給される液体を流通させる配管５１と、配管５１に液体が供給される前に液体に気泡を導入する気泡導入部８と、配管５１の外壁に沿って互いに離間して配置された複数の電極と、複数の電極に電圧を印加して配管８１を流れる液体中でプラズマを発生させる電源と、気泡導入部８を制御して液体中における気泡の量を時間的に変化させて液体中に気泡リッチな状態と気泡プアな状態とを作り出す導入量制御部と、を備えている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁性材料で形成されて外部から供給される液体を流通させる配管と、
前記配管に前記液体が供給される前に前記液体に気泡を導入する気泡導入部と、
前記配管の外壁に沿って互いに離間して配置された複数の電極と、
前記複数の電極に電圧を印加して前記配管を流れる前記液体中でプラズマを発生させる電源と、
前記気泡導入部を制御して前記液体中における前記気泡の量を時間的に変化させて前記液体中に気泡リッチな状態と気泡プアな状態とを作り出す導入量制御部と、
を備えることを特徴とする液中プラズマ発生装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液中プラズマ発生装置であって、
前記導入量制御部は、前記気泡リッチな状態と前記気泡プアな状態とを交互に繰り返して作り出す液中プラズマ発生装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の液中プラズマ発生装置であって、
前記複数の電極を相互に絶縁する絶縁部をさらに備える液中プラズマ発生装置。
【請求項４】
請求項３に記載の液中プラズマ発生装置であって、
前記絶縁部は、前記配管の外周面のうち前記複数の電極で挟まれた電極間領域と前記複数の電極とを前記配管の径方向における外側から絶縁材料で密着して覆う絶縁カバーである液中プラズマ発生装置。
【請求項５】
請求項４に記載の液中プラズマ発生装置であって、
前記絶縁カバーの外周面のうち前記電極間領域に対応する外周面領域は凹凸形状を有する液中プラズマ発生装置。
【請求項６】
請求項３ないし５のいずれか一項に記載の液中プラズマ発生装置であって、
前記配管の誘電率が前記絶縁部の誘電率よりも大きい液中プラズマ発生装置。
【請求項７】
液体に気泡を導入する第１工程と、
前記気泡が導入された前記液体を絶縁性材料で形成された配管内を流通させる第２工程と、
前記配管の外壁に沿って互いに離間して配置された複数の電極に電圧を印加して前記配管を流れる前記液体中でプラズマを発生させる第３工程と、を備え、
前記第１工程では、前記配管内を流れる前記液体中における気泡の量を時間的に変化させて気泡リッチな状態と気泡プアな状態とを作り出すことを特徴とする液中プラズマ発生方法。
【請求項８】
活性種を含有する処理液を精製する処理液精製装置であって、
請求項１ないし６のいずれか一項に記載の液中プラズマ発生装置と、
前記配管の一方端に接続される液体供給部と、
前記配管の他方端に接続される液体取出部と、を備え、
前記液体供給部は前記液体を前記配管に供給し、
前記液中プラズマ発生装置は前記プラズマを発生させることで生成される前記活性種を前記液体に含有させて前記処理液を精製し、
前記液体取出部は前記液中プラズマ発生装置から前記処理液を取り出す
ことを特徴とする処理液精製装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、気泡を有する液体に対して電界を与えて当該液中でプラズマを発生させる液中プラズマ発生技術ならびに当該技術を用いて活性種を上記液体に含ませた処理液を精製する処理液精製技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
反応生成物の生成手段や有害物質・細菌類の無害化手段として、化学的に活性な活性種を含有する液体を処理液として精製するために、数多く技術が提案されている。その一例として、例えば特許文献１では、水中放電によって水中でプラズマを発生させる液中プラズマ発生技術を用いて処理液（＝水＋活性種）を精製する技術が記載されている。この特許文献１に記載の装置では、絶縁性容器に水を貯留するとともに当該水に対して酸素リッチガスの微細気泡を導入する。そして、当該容器を外側から挟み込むように配置された一対の電極に交流パルスを印加することで気泡内放電を発生させ、これによって、気泡内の酸素を励起する。また、このときに発生する紫外線によって気泡外周面の水が励起されてＯＨラジカルが活性種として生成される。そして、生成したＯＨラジカルは逐次水に溶解する。この水中放電が交流パルスによって繰り返される結果、短時間の通電で水中には大量のＯＨラジカルが含有される。このように液中プラズマによって処理液（＝水＋ＯＨラジカル）が精製される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−９４６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記従来技術では、絶縁性容器に水を貯留した状態で液中プラズマを発生させるため、絶縁性容器に対する水の入替毎に液中プラズマを発生させる必要があった。つまり、絶縁性容器に対する水の入替を行っている間、液中プラズマの発生を中断せざるを得ず、効率の面で改善の余地があった。また、絶縁性容器に水を貯留した状態で液中プラズマを発生させているため、このことが貯留された水の温度を上昇させる主要因のひとつとなっている。そこで、処理液の精製処理後に温度調整が必要となる場合があり、当該温度調整を行っている間に、水中の活性種が失活することがあった。
【０００５】
この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、液中プラズマの発生を受けた液体が昇温するのを防止しつつ、液中プラズマを効率的に行うことができる液中プラズマ発生技術、ならびに当該液中プラズマ発生技術を用いて液体に活性種を含有する処理液を効率的に精製することができる処理液精製装置を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
この発明の第１の態様は、液中プラズマ発生であって、絶縁性材料で形成されて外部から供給される液体を流通させる配管と、配管に液体が供給される前に液体に気泡を導入する気泡導入部と、配管の外壁に沿って互いに離間して配置された複数の電極と、複数の電極に電圧を印加して配管を流れる液体中でプラズマを発生させる電源と、気泡導入部を制御して液体中における気泡の量を時間的に変化させて液体中に気泡リッチな状態と気泡プアな状態とを作り出す導入量制御部と、を備えることを特徴としている。
【０００７】
また、この発明の第２の態様は、液中プラズマ発生方法であって、液体に気泡を導入する第１工程と、気泡が導入された液体を絶縁性材料で形成された配管内を流通させる第２工程と、配管の外壁に沿って互いに離間して配置された複数の電極に電圧を印加して配管を流れる液体中でプラズマを発生させる第３工程と、を備え、第１工程では、配管内を流れる液体中における気泡の量を時間的に変化させて気泡リッチな状態と気泡プアな状態とを作り出すことを特徴としている。
【０００８】
さらに、この発明の第３の態様は、活性種を含有する処理液を精製する処理液精製装置であって、上記液中プラズマ発生装置と、配管の一方端に接続される液体供給部と、配管の他方端に接続される液体取出部と、を備え、液体供給部は液体を配管に供給し、液中プラズマ発生装置はプラズマを発生させることで生成される活性種を液体に含有させて処理液を精製し、液体取出部は液中プラズマ発生装置から処理液を取り出すことを特徴としている。
【発明の効果】
【０００９】
このように構成された発明では、液体への気泡の導入量を時間的に変化させて液体中に気泡リッチな状態と気泡プアな状態とを作り出しながら当該液体が配管内を流通する。また、当該配管の外壁に沿って複数の電極が互いに離間して配置され、これらの電極に電圧が印加されることで配管内に電界が形成される。そして、当該電界に気泡リッチな状態の液体中が流通することでプラズマが優位に発生する。また、プラズマの発生に続いて気泡プアな状態の液体が流れ込んで上記プラズマの発生によって生成された活性種を巻き込んで活性種を含有する液体、つまり処理液を精製することができる。すなわち、液体を連続的に供給しながらプラズマを発生させることができ、液中プラズマを効率的に行うことができ、活性種を含有する処理液を効率的に精製することができる。また、上記したように、液中プラズマが発生した液体、つまり気泡リッチな状態の液体はそのまま配管内に留まらず、プラズマ発生直後に気泡プアな状態の液体が流れ込んで来るため、上記処理液の昇温を確実に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明にかかる液中プラズマ発生装置の一実施形態を装備した処理液精製装置の構成を示す図である。
【図２Ａ】プラズマ発生部の外観構成を示す斜視図である。
【図２Ｂ】図２Ａに示すプラズマ発生部の縦断面図である。
【図２Ｃ】図２Ｂ中のＣ−Ｃ線断面図である。
【図３】図１の処理液精製装置１の動作を示すタイミングチャートである。
【図４】プラズマの発生状況を示す図である。
【図５】プラズマ発生部の他の例を示す縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
図１は本発明にかかる液中プラズマ発生装置の一実施形態を装備した処理液精製装置の構成を示す図である。この処理液精製装置１は、貯留槽２に貯留されている水に活性種を溶解させた処理液を精製する装置であり、活性種を生成するためにプラズマ発生部３において水中プラズマ（本発明の「液中プラズマ」の一例に相当）を発生させている。このように本実施形態では、水が本発明の「液体」の一例に相当している。
【００１２】
図２Ａはプラズマ発生部の外観構成を示す斜視図であり、図２Ｂは図２Ａに示すプラズマ発生部の縦断面図であり、図２Ｃは図２Ｂ中のＣ−Ｃ線断面図である。このプラズマ発生部３は、絶縁性材料により形成された配管３１と、導電性材料で形成された２つの帯状電極３２、３３と、絶縁カバー３４とを有している。配管３１は鉛直方向に延設されており、その内部に形成されている管路３１１は後述するように水を流通させる経路であり、水中プラズマの発生によって活性種を生成するプラズマ発生領域（図２Ｂ中の符号３５）として機能する。帯状電極３２、３３は、配管３１の延設方向（図２Ｂの上下方向）に一定距離だけ離間した状態で、配管３１に外挿されている。また、配管３１の外周面のうち電極３２、３３で挟まれた電極間領域３１２と電極３２、３３とを配管３１の径方向（図２Ｂの左右方向）における外側から絶縁材料で密着して覆うように、絶縁カバー３４が設けられている。これによって電極３２、３３は、一定の電極間距離を保った状態で相互に絶縁されている。これらの電極３２、３３は交流電源４と電気的に接続されており、交流電源４から電極３２、３３への交流成分を含む電圧の印加によって、次に説明するように貯留槽２から配管３１に送給されてくる水中でプラズマを発生させる（液中プラズマの発生）。
【００１３】
図１に示すように、鉛直方向における配管３１の下方端は配管５１を介して貯留槽２に接続されている。この配管５１にはポンプ６が介挿されており、装置全体を制御する制御部７からの動作指令に応じてポンプ６が作動することで貯留槽２に貯留されている水（あるいは後述するようにして精製された活性種を含有する水、つまり処理液）が配管５１を介してプラズマ発生部３の配管３１（図２Ａ、図２Ｂ、図２Ｃ）に供給され、配管３１の管路３１１内を下方側から上方側に流れる。この配管５１はポンプ６とプラズマ発生部３との間の気泡導入位置ＩＰで分岐しており、当該気泡導入位置ＩＰから延びる分岐配管５２を介して気泡導入部８から導入ガス、例えばアルゴンガスと空気との混合ガスや酸素ガスなどを気泡導入位置ＩＰに送り込んで配管５１内を流れる水に気泡を導入可能となっている。
【００１４】
この気泡導入部８は、上記分岐配管５２を介して導入ガスを供給するガス供給源８１と、分岐配管５２に介挿された開閉弁８２とを有している。開閉弁８２は制御部７からの開閉指令に応じて開閉することで、配管５１を介してプラズマ発生部３に向けて供給される水への気泡の導入量を時間的に変化させる。すなわち、制御部７からの開指令に応じて開閉弁８２が開くと、開成されている間、導入ガスが分岐配管５２および開閉弁８２を介して圧送され、上記気泡導入位置ＩＰでの水への気泡の導入によって水中に気泡リッチな状態が作り出す。逆に、制御部７からの閉指令に応じて開閉弁８２が閉じると、閉成されている間、導入ガスの供給が停止されて気泡プアな状態で水は配管５１を介してプラズマ発生部３に供給される。このように、本実施形態では、制御部７は本発明の「導入量制御部」として機能しており、後で図３を参照しつつ説明するように、制御部７が一定時間毎に開閉弁８２の開成と閉成とを繰り返すことで、プラズマ発生部３の配管３１に対して気泡リッチな状態の水と気泡プアな状態の水とが交互に供給される。また、開閉弁が時間的に開閉動作を行わなくとも一定の気体流量を吐出する構造を採用した場合には、配管内で気液分離し、気体リッチな水と気体プアな水を作ることも出来る。この場合、上記構造が本発明の「導入量制御部」の一例に相当する。
【００１５】
プラズマ発生部３の配管３１の上方端は配管５３によって貯留槽２に接続されており、プラズマ発生部３で水中プラズマ処理を受けた水をプラズマ発生部３から取り出して貯留槽２に戻すことが可能となっている。処理液精製装置１では、貯留槽２に貯留された水（活性種を含有する水を含む）は配管５１、３１、５３を経由して循環しており、当該循環を行いながらプラズマ発生部３で水中プラズマを発生させることで水に含まれる活性種の濃度を高めることができる。
【００１６】
こうして活性種を含有する水、つまり処理液が精製されると、当該処理液を適当なタイミングで貯留槽２から外部に排出する必要がある。このために、貯留槽２の下方側面に配管５４が接続されている。この配管５４には、開閉弁５５が介挿されており、制御部７からの開指令に応じて開閉弁５５が開くと、貯留槽２に貯留されている処理液（＝水＋活性種）を外部に取り出し可能となる。また、貯留槽２の上方側面に配管５６が接続されており、当該配管５６によって貯留槽２は水供給源（図示省略）と接続されている。この配管５６には、開閉弁５７が介挿されており、制御部７からの開指令に応じて開閉弁５７が開くと、精製前の水、つまり活性種を含有しない水が貯留槽２に補充される。さらに、貯留槽２の天井面に配管５８が接続されており、当該配管５８によって貯留槽２の内部空間が処理液精製装置１の周辺雰囲気と接続されている。この配管５８には、開閉弁５９が介挿されており、制御部７からの開指令に応じて開閉弁５９が開くと、貯留槽２の内部空間を処理液精製装置１の周辺雰囲気と連通させて貯留槽２の内部を大気圧に戻すことができ、開閉弁５９はいわゆるリーク弁として機能する。
【００１７】
次に、上記のように構成された処理液精製装置１により処理液、つまり活性種を含有する水を精製する方法について図３を参照しつつ説明する。
【００１８】
図３は図１の処理液精製装置１の動作を示すタイミングチャートである。この処理液精製装置１では、制御部７が予めメモリに記憶されたプログラムにしたがって装置各部を以下のように制御して処理液（＝水＋活性種）を精製する。処理液精製装置１では、未処理状態の水を貯留槽２に補充して貯留するために、開閉弁５５、５７、５９がそれぞれ「閉成」、「開成」および「開成」される。そして、貯留槽２に対して所定量の水が貯留されると、制御部７からの開閉指令にしたがって開閉弁５７が閉成して水の補充を停止する。
【００１９】
そして、制御部７に対して処理液の精製指令が外部から与えられると、制御部７からの動作指令に応じてポンプ６が作動する。これによって、貯留槽２内の水が配管５１、３１、５３を経由して循環される。また、制御部７から開閉弁８２に対して開成指令と閉成指令とが交互に与えられ、図３に示すように、開閉弁８２の開成と閉成とが交互に繰り返される。
【００２０】
ここで、開閉弁８２が開成状態となっている間、ガス供給源８１から導入ガスが分岐配管５２を介して気泡導入位置ＩＰに送り込まれる。その結果、配管５１内をプラズマ発生部３に向けて流れる水に対して気泡が導入される。本実施形態では、単位時間あたりに配管５１を流れる水の流量よりも大きな流量で導入ガスを気泡導入位置ＩＰに送り込んでいる。このため、図３に示すように、気泡導入位置ＩＰでの気泡量は比較的多く、水中では気泡リッチな状態となっている。このため、水中では比較的大きなサイズの気泡が存在することとなる。
【００２１】
一方、開閉弁８２が閉成状態となっている間、気泡導入位置ＩＰで気泡の導入は停止され、図３に示すように、気泡導入位置ＩＰでの気泡量は比較的少なく、水中では気泡プアな状態となっている。このように、本実施形態では、開閉弁８２の開閉動作によって、水への気泡の導入量を時間的に変化させて水中に気泡リッチな状態と気泡プアな状態とを作り出している（気泡導入動作）。そして、このように気泡量が調整された水は配管５１を介してプラズマ発生部３の配管３１に供給される。したがって、当該配管３１を鉛直下方から鉛直上方に流れる水も、図３に示すように、気泡リッチな状態と気泡プアな状態とが時間的に切り替わっている。なお、図３の中段グラフと下段グラフの時間ズレ量は気泡導入位置ＩＰからプラズマ発生部３までの距離に相当している。
【００２２】
また、上記気泡導入動作に同期して制御部７は交流電源４を制御し、当該交流電源４から電極３２，３３に電圧を印加する。というのも、気泡リッチな状態の水が配管３１の管路３１１のうち電極３２、３３で囲まれたプラズマ発生領域３５に位置するときに電極３２、３３に電圧を印加すると、例えば図４中の（ａ）欄に示すようにプラズマが発生するのに対し、気泡プアな状態の水がプラズマ発生領域３５に位置するときに電極３２、３３に電圧を印加したとしても同図中の（ｂ）欄に示すようにプラズマは発生しないからである。なお、図４ではプラズマの発生状態を確認するために絶縁カバー３４を取り払っており、ワニ口クリップで保持された部材が電極３２、３３であり、（ａ）欄において電極３２，３３の周辺で白くなっている領域がプラズマ発生領域である。
【００２３】
このようにポンプ６の作動と開閉弁８２の開閉とを継続している間、気泡リッチな状態の水がプラズマ発生領域３５を流れている際にプラズマが発生して活性種が生成され、それに続いて気泡プアな状態の水がプラズマ発生領域３５で活性種を溶解して処理液（＝水＋活性種）が精製され、配管５３を介して貯留槽２に戻される。このような一連の動作（以下「処理液精製動作」という）が繰り返されることで、時間経過とともに貯留槽２に貯留されていく処理液における活性種の量は増加していく。そして、所定時間だけ処理液精製動作が継続された後で、ポンプ６を停止させるとともに開閉弁８２を閉成し続けることで処理液精製動作を停止する。
【００２４】
そして、制御部７に対して処理液の排出指令が与えられると、制御部７は開閉弁５５に対して開成指令を与えて開閉弁５５を開成する。これによって、精製された処理液（＝水＋活性種）が貯留槽２から排出される。なお、処理液の精製が必要になり、制御部７に精製指令が外部から与えられると、上記と同様にして処理液の精製が繰り返される。
【００２５】
以上のように、本実施形態では、ポンプ６によって水をプラズマ発生部３に向けて連続的に供給しながら気泡導入位置ＩＰで気泡を断続的に導入することで、プラズマ発生部３の配管３１に供給される水に気泡リッチな状態と気泡プアな状態とを作り出している。そして、気泡リッチな状態の水がプラズマ発生領域３５を流れている間に電極３２、３３に電圧を印加しているので、プラズマを確実に発生させて活性種を生成することができる。しかも、活性種の生成直後に気泡プアな状態の水がプラズマ発生領域３５を流れて活性種を溶解した処理液が精製され、貯留槽２に向けて送られる。したがって、開閉弁８２を開閉させながらポンプ６を作動させている間、処理液を連続的に精製することができる。
【００２６】
また、上記実施形態では、配管３１内で水を流しながら水中プラズマ処理を行っているため、処理液（＝水＋活性種）の昇温を確実に防止することができる。
【００２７】
また、上記実施形態では、開閉弁８２を開成して単位時間あたりに配管５１を流れる水の流量よりも大きな流量で導入ガスを気泡導入位置ＩＰに送り込んでいるため、プラズマ発生領域３５に存在する気泡サイズが大きくなり、電極３２、３３への電圧印加によってプラズマ発生領域３５に発生する電界が気泡に及ぶ確率が高くなり、プラズマ点灯が優位となっている。また、プラズマ発生領域３５において配管３１の内壁面に近いほど電界は強くなっており、気泡サイズの大型化によって気泡が配管３１の内壁面に触れてプラズマが発生し易くなっており、処理液精製を効率的に行うことができる。
【００２８】
また、プラズマ発生部３内での配管３１の配置姿勢ならびに水の供給方向などについては任意であるが、図２Ｂに示すように、配管３１を鉛直方向に立設し、気泡が導入された水を配管３１に対して鉛直下方から鉛直上方に流動させるように構成することで次の作用効果も得られる。すなわち、水の流れと、水の流れ方向において気泡の下流側（図２Ｂの上側）に存在する水（気泡プアな状態の水）の重力との作用によって気泡は横方向に扁平した形状となり、その一部は配管３１の内壁面に近づく。その結果、プラズマがより発生し易くなっており、処理液精製をさらに効率的に行うことが可能となっている。
【００２９】
さらに、電極３２、３３の間の絶縁性を確保するためには、例えば帯状絶縁体を嵌挿させるのみでも可能であるが、絶縁カバー３４を設けることが電極３２、３３の間に絶縁材料が充填され、しかも電極３２，３３全体を絶縁材料で密閉しているため、上記プラズマが発生し易くなっている。
【００３０】
上記のように、この実施形態では、水を本発明の「液体」の一例とし、プラズマ発生部３、交流電源４、制御部７および気泡導入部８によって本発明の「液中プラズマ発生装置」を構成している。また、配管５１、５３がそれぞれ本発明の「液体供給部」および「液体取出部」の一例に相当している。また、絶縁カバー３４が本発明の「絶縁部」の一例に相当している。また、交流電源４が本発明の「電源」の一例に相当している。
【００３１】
ところで、プラズマ発生領域３５でプラズマをより効率的に発生させるためには、配管３１および絶縁カバー３４の材質を考慮するのが望ましい。というのも、プラズマを発生させるために電極３２、３３に交流成分を含む比較的高い電圧を印加すると、電流は主として４つのルートＲ１〜Ｒ４で流れる（図２Ｂ参照）。そして、それらのうち配管３１の管路３１１を通るルートＲ１に電流が流れることでプラズマを効率的に発生させることができる。そのためには、配管３１を構成する絶縁体の誘電率ε31が絶縁カバー３４を構成する絶縁体の誘電率ε34よりも大きくなるように、絶縁体を選定するのが望ましい。このような条件を満足する限り絶縁体の組み合わせは任意であるが、例えば配管３１を二酸化チタン（比誘電率εr31＝１００）、ロッシェル塩（比誘電率εr31＝１００〜２０００）、チタン酸バリウム（比誘電率εr31＝１２００）などで形成する一方、絶縁カバー３４をアクリル樹脂（比誘電率εr34＝２．７〜４．５）、ガラス（比誘電率εr34＝３．７〜１０）、石英（比誘電率εr34＝３．５〜４）、アルミナ（比誘電率εr34＝８．５）などで形成してもよい。
【００３２】
また、プラズマ発生領域３５でプラズマをより効率的に発生させるためには、気泡の直径が配管３１の内径と近似する、また電極３２、３３の間の距離（配管３１の長手方向における電極間領域３１２の長さ）と近似するのが望ましい。また、電極間距離が以下の関係、
電極間距離≧配管３１の肉厚×（εr34／εr31）
を満足するのが望ましい。また、絶縁カバー３４の肉厚が以下の関係、
（絶縁カバー３４の肉厚）≧（配管３１の肉厚）×（εr34／εr31）
を満足するのが望ましい。
【００３３】
また、上記実施形態では、絶縁カバー３４の外周面を円筒面に仕上げているが、例えば図５に示すように、上記外周面のうち電極間領域３１２に対応する外周面領域３４１を凹凸面に仕上げてもよい。この場合、外周面領域３４１の表面に沿った最短距離、いわゆる沿面距離が長くなり、大気側でプラズマが点灯し難くなっており、プラズマ発生領域３５でプラズマをより効率的に発生させることができる。
【００３４】
また、上記実施形態では、貯留槽２に水を貯留し、当該貯留槽２から水を供給しているが、水供給源（図示省略）から配管５１を介してプラズマ発生部３に水を供給するように構成してもよい。また、上記実施形態では、本発明の「液体」として水を用いているが、その他の液体を用いてもよい。また、アルゴンガスと空気との混合ガスや酸素ガスなどの導入ガスを供給して気泡を導入しているが、気泡を導入するためにその他のガスを供給してもよい。
【００３５】
また、上記実施形態では、２つの電極３２、３３に電圧を印加してプラズマを発生させているが、電極の数はこれに限定されるものではなく、３つ以上の電極を設けてもよい。また、電極３２、３３に印加する交流電圧がパルス成分を含んでいてもよい。また、上記実施形態では、気泡リッチ状態と気泡プア状態に対応して電圧の印加と印加停止とを切り替えているが、常時電圧を印加するように構成してもよい。
【産業上の利用可能性】
【００３６】
この発明は、液中プラズマ発生技術ならびに当該技術を用いて活性種を含有する処理液を精製する処理液精製技術全般に適用することができる。
【符号の説明】
【００３７】
１…処理液精製装置
３…プラズマ発生部
４…交流電源
７…制御部（導入量制御部）
８…気泡導入部
３１…配管
３２，３３…電極
３４…絶縁カバー（絶縁部）
５２…分岐配管
８１…ガス供給源
８２…開閉弁
３１２…電極間領域
３４１…外周面領域
ＩＰ…気泡導入位置
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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