(57)【要約】【課題】本発明の課題は、反射層の劣化を抑制し、外観評価を改善した光学反射フィルムを提供することである。【解決手段】本発明の光学反射フィルムは、低屈折率層と高屈折率層とが積層された反射層、及び粘着層を有する光学反射フィルムであって、（１）前記高屈折率層は、少なくともバインダーと金属酸化物微粒子を含み、（２）前記反射層に対して、前記粘着層と反体側の面に機能層を有し、前記機能層の２０℃・６５％ＲＨにおける酸素透過係数が、２．０×１０−１６ｃｍ３・ｃｍ／（ｃｍ２・ｓ・Ｐａ）以下であり、かつ、２０℃・９５％ＲＨにおける酸素透過係数が、２．０×１０−１６ｃｍ３・ｃｍ／（ｃｍ２・ｓ・Ｐａ）以下であることを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
低屈折率層と高屈折率層とが積層された反射層、及び粘着層を有する光学反射フィルムであって、
（１）前記高屈折率層は、少なくともバインダーと金属酸化物微粒子を含み、
（２）前記反射層に対して、前記粘着層と反体側の面に機能層を有し、
前記機能層の２０℃・６５％ＲＨにおける酸素透過係数が、２．０×１０−１６ｃｍ３・ｃｍ／（ｃｍ２・ｓ・Ｐａ）以下であり、かつ、２０℃・９５％ＲＨにおける酸素透過係数が、２．０×１０−１６ｃｍ３・ｃｍ／（ｃｍ２・ｓ・Ｐａ）以下であることを特徴とする光学反射フィルム。
【請求項２】
前記金属酸化物微粒子が、酸化チタンを含有する粒子であることを特徴とする請求項１に記載の光学反射フィルム。
【請求項３】
前記機能層の層厚が、１０〜５０μｍの範囲内であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学反射フィルム。
【請求項４】
４０℃・９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、５ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以上であることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の光学反射フィルム。
【請求項５】
前記バインダーが、ポリビニルアルコール系樹脂を含有することを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の光学反射フィルム。
【請求項６】
前記機能層が、エチレン変性ポリビニルアルコールを含有し、前記エチレン変性ポリビニルアルコールのエチレン変性度が、２２〜４８％の範囲内であることを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の光学反射フィルム。
【請求項７】
前記機能層と前記反射層とが、直接積層されていることを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載の光学反射フィルム。
【請求項８】
基材を有し、前記機能層が、基材に直接積層されていることを特徴とする請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載の光学反射フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学反射フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
省エネルギー対策への関心が高まり、建物や車両のガラスから、太陽光の光を反射し赤外線の透過を遮蔽する、光学反射フィルムの開発が盛んに行われるようになっている。これにより、室内の温度上昇を防止し、冷房設備にかかる負荷を減らせることが出来る為、省エネルギー対策として有効である。
【０００３】
一般的に、光学反射フィルムは、高屈折率層と低屈折率層とが交互に積層してなる反射層が、基材上に積層して構成されており、これにより特定の波長の光を選択的に反射することが知られている。このような光学反射フィルムは、可視光線を透過し、赤外線を選択的に遮断するが、各層の膜厚や屈折率を調節するだけで、反射波長をコントロールすることが出来、紫外線や可視光線を反射することが可能である。
【０００４】
反射層を形成する方法として、乾式成膜法で積層する方法がある。乾式成膜法はバインダーを必要とせず、例えば、金属を真空蒸着して形成する方法がある。しかしながら、乾式成膜法による形成は、製造コストを要する為、実用的ではない。これに対し、実用的な方法として、湿式成膜法が挙げられる。湿式成膜法は、バインダー及び金属酸化物微粒子の混合物を含む塗布液を塗布して積層する方法である。特に、高屈折率層用の塗布液と低屈折率層用の塗布液とを同時に重層塗布することによって形成する方法は、コスト面から優れているといえる。
【０００５】
上述した高屈折率層の金属酸化物微粒子として酸化チタンがあげられる。しかし、酸化チタンは４１３ｎｍ以下の光照射によって、電子とホールを生成し、これらが酸化、還元反応を起こすことで、光触媒サイクルを起こすことが知られている。このため、酸化チタンのバインダーとして樹脂を用いた場合、酸化チタンの光触媒サイクルによって樹脂が直接酸化されてしまう。これに対し、酸化チタンの光触媒作用によるバインダーの劣化に対する防止抑制策が開示されている（例えば、特許文献１参照）。その手段として、バインダーにポリビニルアルコール系樹脂を使用し、バインダーの酸素透過率を下げることで光触媒作用による樹脂の酸化を抑制する方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１０−１７４５３０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上述した方法では、高湿度領域の場合に酸素透過率が上昇してしまい、所望の効果が得られない。それに加えて、バインダーが少しでも光触媒作用により劣化した場合、急激に酸素透過率が上昇し、指数関数的に劣化が進行する問題がある。
加えて、光学反射フィルムをガラスへ貼る際は水貼りによる手法が用いられているが、この際、フィルムに含まれるポリビニルアルコールが水分を吸収することによってフィルムが劣化し、フィルムに凹凸が発生すること等から、外観が損なわれるという問題がある。水貼りの際の水分をいかに抜くかが、課題となっている。
【０００８】
本発明の目的は、高湿度下で保存した場合でも、反射層の劣化を抑制し、外観評価を改善した光学反射フィルムを提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、上述した課題を達成するため、鋭意研究を行った。その結果、以下の手段によって解決されることを見出した。
【００１０】
１．低屈折率層と高屈折率層とが積層された反射層、及び粘着層を有する光学反射フィルムであって、
（１）前記高屈折率層は、少なくともバインダーと金属酸化物微粒子を含み、
（２）前記反射層に対して、前記粘着層と反体側の面に機能層を有し、
前記機能層の２０℃・６５％ＲＨにおける酸素透過係数が、２．０×１０−１６ｃｍ３・ｃｍ／（ｃｍ２・ｓ・Ｐａ）以下であり、かつ、２０℃・９５％ＲＨにおける酸素透過係数が２．０×１０−１６ｃｍ３・ｃｍ／（ｃｍ２・ｓ・Ｐａ）以下である
ことを特徴とする光学反射フィルム。
【００１１】
２．前記金属酸化物微粒子が、酸化チタンを含有する粒子であることを特徴とする第１項に記載の光学反射フィルム。
【００１２】
３．前記機能層の層厚が、１０〜５０μｍの範囲内であることを特徴とする第１項又は第２項に記載の光学反射フィルム。
【００１３】
４．４０℃・９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、５ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以上であることを特徴とする第１項から第３項までのいずれか一項に記載の光学反射フィルム。
【００１４】
５．前記バインダーが、ポリビニルアルコール系樹脂を含有することを特徴とする第１項から第４項までのいずれか一項に記載の光学反射フィルム。
【００１５】
６．前記機能層が、エチレン変性ポリビニルアルコールを含有し、前記エチレン変性ポリビニルアルコールのエチレン変性度が、２２〜４８％の範囲内であることを特徴とする第１項から第５項までのいずれか一項に記載の光学反射フィルム。
【００１６】
７．前記機能層と前記反射層とが、直接積層されていることを特徴とする第１項から第６項までのいずれか一項に記載の光学反射フィルム。
【００１７】
８．基材を有し、前記機能層が、基材に直接積層されていることを特徴とする第１項から第７項までのいずれか一項に記載の光学反射フィルム。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、高湿度下で保存した場合でも、反射層の劣化を抑制し、外観評価を改善した光学反射フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】光学反射フィルムの層構成Ａ１を示す図
【図２】光学反射フィルムの層構成Ｂ１を示す図
【図３】光学反射フィルムの層構成Ａ２を示す図
【図４】光学反射フィルムの層構成Ｂ２を示す図
【図５】光学反射フィルムの層構成Ｃを示す図
【発明を実施するための形態】
【００２０】
［光学反射フィルムの構成］
以下、本発明の光学反射フィルムの具体的な実施の形態について説明する。
光学反射フィルムは、低屈折率層と高屈折率層とが積層された反射層、及び粘着層とを有して構成される。前記高屈折率層は少なくとも、バインダーと金属酸化物微粒子を含む。前記反射層に対して、前記粘着層と反体側の面に機能層を有し、前記機能層の２０℃・６５％ＲＨにおける酸素透過係数が２．０×１０−１６ｃｍ３・ｃｍ／（ｃｍ２・ｓ・Ｐａ）以下であり、かつ、２０℃・９５％ＲＨにおける酸素透過係数が２．０×１０−１６ｃｍ３・ｃｍ／（ｃｍ２・ｓ・Ｐａ）以下である。
【００２１】
このように、一定以下の酸素透過係数をもつ機能層が、反射層よりも、ガラス等に貼られる側と反対側に設けられていることで、反射層の酸素透過率を抑制すると考えらえる。得られる酸素透過係数は、機能層に用いた物質に固有の値である。
【００２２】
粘着剤を介してガラスに水貼りを実施した際の水抜けを促進し、外観評価を改善するという観点から、光学反射フィルムは、４０℃・９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が５ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以上であることが好ましい。機能層、反射層や基材等といった光学反射フィルムを構成する層に用いる材料やその層厚を調整することで、水蒸気透過度を調整することができる。水蒸気透過度が５ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以上であれば、蒸発した水分に逃げ場を与え、フィルムに凹凸が発生しづらくなる。また、外部から水蒸気が過剰に透過した際に、機能層の酸素透過率の上昇や加水分解が促進されることを防止するため、水蒸気透過度は１００ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下であることが好ましい。
【００２３】
前記機能層と前記反射層とは、直接積層されていることが好ましい。前記機能層と前記反射層とが直接積層され、密着することにより、反射層中に酸素が入りにくくなり、耐候性が改善すると考えられる。
【００２４】
また、光学反射フィルムの透明性を向上させるため、ヘイズ値改善する観点から、基材を有し、前記機能層が基材に直接積層されていることが好ましい。
【００２５】
以下、本発明の光学反射フィルムについて、詳細に説明する。なお、以下の説明において、範囲を示す「Ｘ〜Ｙ」は「Ｘ以上Ｙ以下」を意味する。また、特記しない限り、操作及び物性等の測定は室温（２０〜２５℃）／相対湿度４０〜６０％ＲＨの条件で測定する。
【００２６】
［反射層］
光学反射フィルムの反射層は、赤外線の侵入を防ぐことができるように、屈折率の異なる高屈折率層と低屈折率層とが交互に積層された積層体を有する構成である。
【００２７】
なお、「高屈折率層」及び「低屈折率層」は、隣接した２層の屈折率差を比較した場合に、屈折率の高い方の層を高屈折率層とし、低い方の層を低屈折率層とする。従って、反射層における高屈折率層及び低屈折率層は、反射層を構成する各層において、隣接する２つの層の屈折率の比較により決められる。このため、これらの構成の名称は、反射層の構成や比較対象となる層との屈折率の関係により随時置き換えられる。また、「高屈折率層」及び「低屈折率層」とは、フィルムを構成する各層において、隣接する２つの層が同じ屈折率を有する場合を除く、すべての形態に適用することができる。
【００２８】
反射層は、蒸着等の乾式成膜法と塗布等の湿式成膜法といずれで形成してもよいが、湿式成膜法を用いて作製することが好ましい。湿式成膜法によって、均一かつ大面積な製膜を容易に行うことができる。また、湿式成膜法を用いることにより、成膜速度を上げることができ、ロール・ツー・ロール法等の大量生産方式が採用できるため、コスト面やプロセス時間面で有利となる。さらに、塗布によって、高屈折率層及び低屈折率層の厚さを任意の厚さに制御することが容易となる。
【００２９】
さらに、湿式成膜法では、乾式成膜法と異なり高温で成膜する必要がない。このため、基材の選択範囲が広がる。湿式成膜法では高温ではダメージを受けやすい樹脂フィルムを基材に用いることができる。例えば、柔軟な樹脂フィルムを基材に用いることにより、光学反射フィルムを折り曲げた際にも、曲げ部分等での割れや剥離等の発生を抑制できる。
【００３０】
また、反射層においては、高屈折率層と低屈折率層の界面において、各層を構成する成分が混在する混合層が形成される場合がある。このような混合層が存在する場合には、混合層中において、高屈折率層を構成する成分が５０質量％以上である部位の集合が高屈折率層に含まれ、低屈折率層を構成する成分が５０質量％を超える部位の集合が低屈折率層に含まれる。
【００３１】
例えば、高屈折率層と低屈折率層がそれぞれ金属酸化物微粒子を含む場合、低屈折率層に含まれる金属酸化物微粒子（第一の金属酸化物微粒子）と、高屈折率層に含まれる金属酸化物微粒子（第二の金属酸化物微粒子）とが２つの層の界面で混合され、第一の金属酸化物微粒子と第二の金属酸化物微粒子とを含む混合層が形成される場合がある。この場合、第一の金属酸化物微粒子と第二の金属酸化物微粒子との存在比により低屈折率層又は高屈折率層とみなす。具体的には、低屈折率層とは、第一の金属酸化物微粒子と第二の金属酸化物微粒子との合計質量に対して、第一の金属酸化物微粒子が、５０〜１００質量％で含まれる層を意味する。高屈折率層とは、第一の金属酸化物微粒子と第二の金属酸化物微粒子との合計質量に対して、第二の金属酸化物微粒子が、５０質量％を超えて１００質量％以下で含まれる層を意味する。なお、屈折率層に含まれる金属酸化物微粒子の種類及び量は、エネルギー分散型Ｘ線分光法（ＥＤＸ）により分析できる。
【００３２】
なお、反射層は、高屈折率層と低屈折率層が交互に積層された積層体であればよく、高屈折率層及び低屈折率層の数（総数）は、特に制限はない。好ましくは、１０〜５０層の範囲であり、好ましくは１３〜３９層である。積層数が１０層以上であれば、所望の赤外反射率が得られやすく、１３層以上であるとより高い赤外反射率が得られ、遮熱性効果が向上する。また、積層数が５０層以下であれば反射層が割れ難く、端部剥がれも抑制できるなど十分な耐候性が得られる点で優れている。積層数が３９層以下であればより好ましい。
【００３３】
また、反射層は、反射層を構成する積層体の最下層及び最上層は、高屈折率層、低屈折率層のいずれでもよい。反射層の最下層及び最上層が低屈折率層であると、最下層の隣接層（例えば、基材）への密着性が向上しやすく、製造時における最上層のムラが出来にくくなる。
【００３４】
反射層は、隣接する高屈折率層と低屈折率層との屈折率の差が大きいほど、少ない層数で赤外反射率を高くすることができる。
反射層において、高屈折率層は、より高い屈折率を有することが好ましい。高屈折率層の屈折率は、好ましくは１．７０〜２．５０であり、より好ましくは１．８０〜２．２０であり、さらに好ましくは１．９０〜２．２０である。
また、反射層において、低屈折率層は、より低い屈折率を有することが好ましい。低屈折率層の屈折率は、好ましくは１．１０〜１．６０であり、より好ましくは１．３０〜１．５５であり、さらに好ましくは１．３０〜１．５０である。
【００３５】
高屈折率層及び低屈折率層からなる積層体において、隣接する高屈折率層と低屈折率層との少なくとも１組において、屈折率差が０．１以上であることが好ましく、０．２以上であることがより好ましく、０．２５以上であることがさらに好ましい。反射層が複数の高屈折率層及び低屈折率層を有する場合には、全ての層において屈折率差が上述の好適な範囲内にあることが好ましい。ただし、反射層の最上層や最下層に関しては、上述の好適な範囲外の構成であってもよい。
【００３６】
反射層における特定波長領域の反射率は、隣接する２層（高屈折率層及び低屈折率層）の屈折率差と積層数で決まり、屈折率差が大きいほど、少ない層数で高い反射率が得られる。屈折率差と必要な層数については、市販の光学設計ソフトを用いて計算することができる。例えば、赤外反射率９０％以上を得るためには、屈折率差が０．１より小さいと、１００層を超える積層が必要になり、透明性が低下する。このため、隣接する層の屈折率差は、０．１以上であることが好ましい。特に好ましくは０．３以上であり、さらに好ましくは０．４以上である。反射率の向上と層数を少なくする観点からは、隣接する高屈折率層と低屈折率層との屈折率差に上限はないが、実質的には１．４程度である。
【００３７】
また、単層膜において、層表部での反射光と層底部での反射光との光路差が［ｎ・ｄ＝λ／４］で表される関係になると、この特定の波長λの反射を、位相差によって強めることができる。なお、ｎは屈折率、ｄは層の物理膜厚、ｎ・ｄは光学膜厚、λは波長である。
【００３８】
このように、反射層では、光路差を利用することで、各波長の反射を制御できる。即ち、上述の式で表される関係を利用して、各層の屈折率と膜厚を制御することにより、可視光や近赤外光等の特定の波長の反射率を制御することができる。
【００３９】
光学反射フィルムは、反射層の膜厚や、高屈折率層と低屈折率層の膜厚を調整することにより、反射層における各波長の反射率や透過率を調整することができる。反射層における膜厚調整方法としては、反射層を構成する高屈折率層と低屈折率層との合計総数をＮ層とし、反射層の基材に最も近い層（最下層）を１層目とし、最も遠い層（最上層）をＮ層目とした場合に、（Ｎ／４）〜（Ｎ／２）層目の間の少なくとも１層を、隣接する層よりも厚くすることが好ましい。特に好ましくは、（Ｎ／４）〜（Ｎ／２）層目の間の高屈折率層のいずれか１層を隣接する層よりも厚く形成することが好ましく、隣接層の１．２倍以上の厚さとすることがより好ましい。
【００４０】
高屈折率層と低屈折率層との交互積層からなる反射層の膜厚は、特に限定されず、好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは５．５μｍ以下、特に好ましくは１．０〜４．０μｍの範囲である。反射層の膜厚が１０μｍ以下、特に５．５μｍ以下であれば、窓等への施工を行いやすい。また、反射層の膜厚を上述の範囲とすることにより、耐候性、特に光学反射フィルムが熱膨張・熱収縮を繰り返した場合でも、フィルムの湾曲を効果的に防止することができ、施工後も長期間において端部剥がれを防止することができる。
【００４１】
反射層を構成する高屈折率層と低屈折率層の１層あたりの厚さ（乾燥後の厚さ）は、２０〜１０００ｎｍであることが好ましく、５０〜５００ｎｍであることがより好ましく、１００〜３００ｎｍであることがさらにより好ましく、１００〜２００ｎｍであることが特に好ましい。高屈折率層と低屈折率層の厚さは、同じでもよく、また、異なっていてもよい。また、各層の１層あたりの厚さは、例えば、製造した反射層を切断し、その切断面を電子顕微鏡により観察することで確認することができる。この際、２つの層間の界面を明確に観測することができない場合には、ＸＰＳ（Ｘ−ｒａｙＰｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）表面分析装置により得た厚さ方向のＸＰＳプロファイルにより界面を決定することができる。
【００４２】
［高屈折率層］
【００４３】
（バインダー）
高屈折率層に含まれるバインダーとしては、金属酸化微粒子を分散させ層として保持できる材料であれば制限されない。樹脂を用いるのが好ましく、特に水溶性高分子を用いることが好ましい。高屈折率層が水溶性高分子を含むことにより、有機溶剤の使用を抑えた層形成が可能となり、有機溶剤による環境上の問題を解決することができる。また、水溶性高分子を用いることにより、塗膜に柔軟性を付与することができる。
【００４４】
高屈折率層は水溶性高分子を用いる場合、塗布ムラや膜厚均一性（ヘイズ）等の観点から、ポリビニルアルコール及びその誘導体である、ポリビニルアルコール系樹脂を含有することが好ましい。その他にも水溶性高分子として、ゼラチン、並びに、増粘多糖類等が挙げられる。ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他、各種の変性ポリビニルアルコールも含まれる。水溶性高分子は、単独で用いてもよいし、２種以上組み合わせて用いてもよい。また、水溶性高分子は、合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。
【００４５】
なお、高屈折率層に用いられる材料は上述の材料に制限されず、例えば、国際公開第２０１２／１２８１０９号、特開２０１３−１２１５６７号公報、特開２０１３−１４８８４９号公報等に記載の公知のポリマーを使用することもできる。
【００４６】
本発明に適用可能なゼラチンとしては、従来、ハロゲン化銀写真感光材料分野で広く用いられてきた各種ゼラチンを適用することができ、例えば、酸処理ゼラチン、アルカリ処理ゼラチンの他に、ゼラチンの製造過程で酵素処理をする酵素処理ゼラチン及びゼラチン誘導体、すなわち分子中に官能基としてのアミノ基、イミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基を持ち、それと反応して得る基を持った試薬で処理し改質したものでもよい。ゼラチンの一般的製造法に関しては良く知られており、例えばＴ．Ｈ．Ｊａｍｅｓ：ＴｈｅＴｈｅｏｒｙ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｐｒｏｃｅｓｓ ４ｔｈ． ｅｄ． １９７７（Ｍａｃｍｉｌｌａｎ）５５項、科学写真便覧（上）７２〜７５項（丸善）、写真工学の基礎−銀塩写真編１１９〜１２４（コロナ社）等の記載を参考にすることができる。また、リサーチ・ディスクロージャー誌第１７６巻、Ｎｏ．１７６４３（１９７８年１２月）のIX項に記載されているゼラチンを挙げることができる。
【００４７】
酢酸ビニルを加水分解して得られるポリビニルアルコールは、平均重合度が１０００以上であることが好ましく、平均重合度が１５００〜５０００であることが特に好ましい。また、ケン化度は、７０〜１００モル％であることが好ましく、８０〜９９．９モル％であることが特に好ましい。このようなポリビニルアルコールとしては、例えば、日本酢ビ・ポバール社製のＪＰ−４５（重合度４５００、ケン化度８８モル％）等を用いることもできる。
【００４８】
変性ポリビニルアルコールとしては、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン変性ポリビニルアルコール、エチレン変性ポリビニルアルコール、ビニルアルコール系ポリマーが挙げられる。また、酢酸ビニル系樹脂（例えば、クラレ社製「エクセバール（登録商標）」）、ポリビニルアルコールにアルデヒドを反応させて得られるポリビニルアセタール樹脂（例えば、積水化学工業社製「エスレック」）、シラノール基を有するシラノール変性ポリビニルアルコール（例えば、クラレ社製「Ｒ−１１３０」）、分子内にアセトアセチル基を有する変性ポリビニルアルコール系樹脂（例えば、日本合成化学工業社製「ゴーセファイマー（登録商標）Ｚ／ＷＲシリーズ」）等も変性ポリビニルアルコールに含まれる。
【００４９】
アニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平１−２０６０８８号公報に記載のアニオン性基を有するポリビニルアルコール、特開昭６１−２３７６８１号公報及び特開昭６３−３０７９７９号公報に記載のビニルアルコールと水溶性基を有するビニル化合物との共重合体、特開平７−２８５２６５号公報に記載の水溶性基を有する変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
【００５０】
また、ノニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平７−９７５８号公報に記載のポリアルキレンオキサイド基をビニルアルコールの一部に付加したポリビニルアルコール誘導体、特開平８−２５７９５号公報に記載の疎水性基を有するビニル化合物とビニルアルコールとのブロック共重合体、シラノール基を有するシラノール変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基やカルボニル基、カルボキシ基等の反応性基を有する反応性基変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
【００５１】
カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開昭６１−１０４８３号公報に記載の第１級〜第３級アミノ基や第４級アンモニウム基を上述のポリビニルアルコールの主鎖又は側鎖中に有するポリビニルアルコールが挙げられ、カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体をケン化することにより得られる。
【００５２】
カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、トリメチル−（２−アクリルアミド−２，２−ジメチルエチル）アンモニウムクロライド、トリメチル−（３−アクリルアミド−３，３−ジメチルプロピル）アンモニウムクロライド、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニル−２−メチルイミダゾール、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）メタクリルアミド、ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、トリメチル−（２−メタクリルアミドプロピル）アンモニウムクロライド、Ｎ−（１，１−ジメチル−３−ジメチルアミノプロピル）アクリルアミド等が挙げられる。カチオン変性ポリビニルアルコールのカチオン変性基含有単量体の比率は、酢酸ビニルに対して０．１〜１０モル％であることが好ましく、０．２〜５モル％であることがより好ましい。
【００５３】
エチレン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開２００９−１０７３２４号
公報、特開２００３−２４８１２３号公報、特開２００３−３４２３２２号公報等に記載
のものが使用できる。又は、エクセバール（登録商標）（株式会社クラレ製）等の市販品を使用してもよい。
【００５４】
ビニルアルコール系ポリマーとしては、エクセバール（登録商標）（株式会社クラレ製）やニチゴーＧポリマー（日本合成化学工業株式会社製）等が挙げられる。
【００５５】
なお、上述のポリビニルアルコールは、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、ポリビニルアルコールは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。
【００５６】
ポリビニルアルコールの重量平均分子量は、１０００〜２０００００であることが好ましく、３０００〜６００００であることがより好ましい。なお、「重量平均分子量」の値は、静的光散乱法、ゲルパーミエーションクロマトグラフ法（ＧＰＣ）、ＴＯＦＭＡＳＳ等によって測定した値を採用することができる。水溶性高分子の重量平均分子量が上述の範囲内であると、塗布法の適用が容易となり、生産性を向上させることができる。
【００５７】
高屈折率層におけるバインダーの含有量は、高屈折率層の全固形分に対して、５〜７５質量％であることが好ましく、１０〜７０質量％であることがより好ましい。バインダーの含有量が５質量％以上であると、塗布の際、塗膜の乾燥時に、膜面の乱れによる透明性の劣化を抑制できる。一方、バインダーの含有量が７５質量％以下であると、高屈折率層中に金属酸化物微粒子を含有する場合に好適な含有量となる。
【００５８】
なお、水溶性高分子の場合、その含有量は、蒸発乾固法の残固形分より求められる。具体的には、光学反射フィルムを９５℃の熱水に２時間浸し、残ったフィルムを除去した後、熱水を蒸発させ、得られた固形物の量を水溶性高分子量とする。この際、ＩＲ（赤外分光）スペクトルにおいて１７００〜１８００ｃｍ−１、９００〜１０００ｃｍ−１、及び８００〜９００ｃｍ−１の領域にそれぞれ１つずつピークが見られる場合、その水溶性高分子はポリビニルアルコールであると断定することができる。
【００５９】
また、高屈折率層には硬化剤を使用することもできる。硬化剤としては、ホウ酸及びその塩、エチレングリコールジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ジグリシジルシクロヘキサン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジル−４−グリシジルオキシアニリン、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル等、アルデヒド系硬化剤（ホルムアルデヒド、グリオキザール等）、活性ハロゲン系硬化剤（２，４−ジクロロ−４−ヒドロキシ−１，３，５，−ｓ−トリアジン等）、活性ビニル系化合物（１，３，５−トリスアクリロイル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、ビスビニルスルホニルメチルエーテル等）、アルミニウム明礬、ホウ砂等が挙げられる。屈折率層における硬化剤の含有量は、屈折率層の固形分に対して、１〜１０質量％であることが好ましい。
【００６０】
又は、高屈折率層は、塗布時の表面張力を調整するための界面活性剤を含んでもよい。ここで、界面活性剤としてアニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤等を用いることができる。界面活性剤としては、アニオン系界面活性剤を用いることが好ましく、１分子中に炭素数８〜３０の疎水性基とスルホン酸基又はその塩を含有するものが好ましい。高屈折率層における界面活性剤の含有量は、高屈折率層の固形分に対して、０．０１〜５質量％であることが好ましい。界面活性剤としては、例えば、ニューコールシリーズ（日本乳化剤株式会社製）等を用いることができる。
【００６１】
（金属酸化物微粒子）
高屈折率層に用いる金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化亜鉛、アルミナ、コロイダルアルミナ、チタン酸鉛、鉛丹、黄鉛、亜鉛黄、酸化クロム、酸化第二鉄、鉄黒、酸化銅、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、酸化イットリウム、酸化ハフニウム、酸化ニオブ、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化バリウム、酸化インジウム、酸化ユーロピウム、酸化ランタン、ジルコン、酸化スズ、及び、酸化鉛、並びに、これらの複酸化物であるニオブ酸リチウム、ニオブ酸カリウム、タンタル酸リチウム、及び、アルミニウム・マグネシウム酸化物（ＭｇＡｌ２Ｏ４）等が挙げられる。
【００６２】
また、希土類酸化物として、酸化スカンジウム、酸化イットリウム、酸化ランタン、酸化セリウム、酸化プラセオジム、酸化ネオジム、酸化サマリウム、酸化ユウロピウム、酸化ガドリニウム、酸化テルビウム、酸化ジスプロシウム、酸化ホルミウム、酸化エルビウム、酸化ツリウム、酸化イッテルビウム、酸化ルテチウム等を用いることができる。
【００６３】
高屈折率層に用いられる金属酸化物微粒子としては、屈折率が１．９０以上の金属酸化物微粒子が好ましい。屈折率が１．９０以上の金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化亜鉛等を挙げることができる。
【００６４】
屈折率が適していることから、高屈折率層には、金属酸化物微粒子として酸化チタン粒子を含むことが特に好ましい。また、高屈折率層は、酸化チタンと共に、酸化チタン以外の金属酸化物微粒子が含まれていてもよい。高屈折率層は、金属酸化物微粒子として、酸化チタンを最も多い比率で有していることが好ましい。好ましくは、全粒子中において、酸化チタンを５０質量％以上含むことが好ましく、さらに、酸化チタンを７０質量％以上含むことが好ましく、酸化チタンを８０質量％以上含むことがより好ましい。酸化チタンとしては、透明でより屈折率の高い高屈折率層を形成することができることから、二酸化チタンが好ましく、特にルチル型（正方晶形）酸化チタン粒子を用いることが好ましい。
【００６５】
また、高屈折率層に用いられる金属酸化物微粒子としては、金属酸化物微粒子の表面にアルミニウム、ケイ素、ジルコニウム等が島状に担持された構成を用いることができる。例えば、酸化チタン微粒子が、含ケイ素水和酸化物で被覆されたコアシェル粒子であってもよい。コアシェル粒子は、コアとなる金属酸化物微粒子（酸化チタン粒子）の表面に、含ケイ素水和酸化物のシェル層が被覆した構造を有する。このようなコアシェル粒子を高屈折率層に用いることで、シェル層の含ケイ素水和酸化物と水溶性樹脂との相互作用により、隣接する層界面での混合が抑制される。ここで、「被覆」とは、酸化チタン粒子の表面の少なくとも一部に、含ケイ素水和酸化物が付着した状態を示す。すなわち、金属酸化物微粒子として用いられる酸化チタン粒子の表面が、完全に含ケイ素水和酸化物で覆われた状態でもよく、酸化チタン粒子の表面の一部に含ケイ素水和酸化物が付着した状態でもよい。コアシェル粒子の屈折率は、含ケイ素水和酸化物の被覆量に影響を受けるため、酸化チタン粒子の表面の一部が含ケイ素水和酸化物で被覆されていることが好ましい。酸化チタン粒子を含ケイ素水和酸化物で被覆する方法としては、従来公知の方法により製造することができ、例えば、特開平１０−１５８０１５号公報、特開２０００−２０４３０１号公報、特開２００７−２４６３５１号公報等に記載された方法を適用することができる。
【００６６】
高屈折率層における金属酸化物微粒子の含有量としては、高屈折率層の固形分１００質量％に対して、熱線遮蔽性や色ムラ低減の観点から、２０〜８０質量％であることが好ましく、３０〜７５質量％であることがより好ましく、４０〜７０質量％であることがさらに好ましい。
【００６７】
高屈折率層に用いられる金属酸化物微粒子の体積平均粒径は、１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましい。特に、ヘイズ値が低く、可視光透過率に優れることから、体積平均粒径が１〜３０ｎｍであることが好ましく、１〜２０ｎｍであることがより好ましい。
【００６８】
なお、ここで体積平均粒径は、粒子そのものを観察する方法により、１００個の任意の粒子の粒径を測定し、平均した値である。粒径の測定には、例えば、レーザー回折散乱法、動的光散乱法、又は、電子顕微鏡を用いて観察する方法や、屈折率層の断面や表面に現れた粒子像を電子顕微鏡で観察する方法を用いる。そして、これらの方法により測定された１００個の任意の粒子について、それぞれｄ１、ｄ２・・・ｄｉ・・・ｄｋの粒径を持つ粒子が、それぞれｎ１、ｎ２・・・ｎｉ・・・ｎｋ個存在する集団において、粒子１個当りの体積をｖｉとした場合に、平均粒径ｍｖ＝｛Σ（ｖｉ・ｄｉ）｝／｛Σ（ｖｉ）｝で表される値を、上述の体積平均粒径とする。
【００６９】
［低屈折率層］
低屈折率層の成膜方法は乾式成膜法でも湿式成膜法でもよく、特に限定されないが、湿式成膜法を用いて、中でもバインダーを含んで構成されることが好ましい。また、低屈折率層は必要に応じて、金属酸化物微粒子を含んでいてもよい。
【００７０】
低屈折率層に含まれるバインダーとしては、上述の高屈折率層の説明に記載の材料と同様の材料を挙げることができる。また、低屈折率層に含まれるバインダーは、上述の高屈折率層と同様に水溶性高分子であることが好ましい。なお、低屈折率層に含有されるバインダーは、高屈折率層と同じ構成成分であってもよく、異なる構成成分であってもよいが、異なることが好ましい。また、低屈折率層には、硬化剤や界面活性剤が含まれていてもよい。これらも、上述の高屈折率層と同様の材料を用いることができる。
【００７１】
（金属酸化物微粒子）
低屈折率層は、バインダーとともに、金属酸化物微粒子を含んで構成されていてもよい。高屈折率層と低屈折率層とがともに金属酸化物微粒子を含有することにより、屈折率の調整が容易となる。このため、高屈折率層と低屈折率層と屈折率を大きくすることも可能となり、積層数を低減して反射層を薄くすることができる。反射層の層数を減らすことで、生産性が向上し、積層界面での散乱による透明性の減少を抑制することができる。
【００７２】
低屈折率層に用いられる金属酸化物微粒子としては、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）等が挙げられ、二酸化ケイ素を用いることが好ましく、特にコロイダルシリカを用いることが特に好ましい。また、上述の高屈折率層で説明した金属酸化物微粒子と同様の材料も用いることができる。
【００７３】
コロイダルシリカは、ケイ酸ナトリウム等の酸による複分解や、イオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを、加熱熟成して得られる。コロイダルシリカは、例えば、特開昭５７−１４０９１号公報、特開昭６０−２１９０８３号公報、特開昭６０−２１９０８４号公報、特開昭６１−２０７９２号公報、特開昭６１−１８８１８３号公報、特開昭６３−１７８０７号公報、特開平４−９３２８４号公報、特開平５−２７８３２４号公報、特開平６−９２０１１号公報、特開平６−１８３１３４号公報、特開平６−２９７８３０号公報、特開平７−８１２１４号公報、特開平７−１０１１４２号公報、特開平７−１７９０２９号公報、特開平７−１３７４３１号公報、及び、国際公開第９４／２６５３０号等に記載されている製法及び構成を適用することができる。コロイダルシリカは、その表面をカチオン変性されていてもよく、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇ又はＢａ等で処理されていてもよい。
【００７４】
このようなコロイダルシリカは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、日産化学工業（株）から販売されているスノーテックス（登録商標）シリーズ（スノーテックスＯＳ、ＯＸＳ、Ｓ、ＯＳ、２０、３０、４０、Ｏ、Ｎ、Ｃ等）が挙げられる。
【００７５】
低屈折率層に含まれる金属酸化微粒子は、その体積平均粒径が３〜１００ｎｍであることが好ましい。一次粒子の状態で分散された金属酸化物微粒子の体積平均粒径（塗布前の分散液状態での粒径）は、３〜５０ｎｍであるのがより好ましく、３〜４０ｎｍであるのがさらに好ましく、３〜２０ｎｍであるのが特に好ましく、４〜１０ｎｍであるのが最も好ましい。また、二次粒子の体積平均粒径としては、３０ｎｍ以下であることが、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。
【００７６】
なお、ここで体積平均粒径は、粒子そのものを観察する方法により、１００個の任意の粒子の粒径を測定し、平均した値である。粒径の測定には、例えば、レーザー回折散乱法、動的光散乱法、又は、電子顕微鏡を用いて観察する方法や、屈折率層の断面や表面に現れた粒子像を電子顕微鏡で観察する方法を用いる。そして、これらの方法により測定された１００個の任意の粒子について、それぞれｄ１、ｄ２・・・ｄｉ・・・ｄｋの粒径を持つ粒子が、それぞれｎ１、ｎ２・・・ｎｉ・・・ｎｋ個存在する集団において、粒子１個当りの体積をｖｉとした場合に、平均粒径ｍｖ＝｛Σ（ｖｉ・ｄｉ）｝／｛Σ（ｖｉ）｝で表される値を、上述の体積平均粒径とする。
【００７７】
低屈折率層における無機微粒子の含有量としては、低屈折率層の固形分に対して、屈折率の観点から、５〜７０質量％であることが好ましく、１０〜５０質量％であることがさらに好ましい。
【００７８】
各層は、上述以外にも、例えば、特開昭５７−７４１９３号公報、同５７−８７９８８号公報及び同６２−２６１４７６号公報に記載の紫外線吸収剤、特開昭５７−７４１９２号公報、同５７−８７９８９号公報、同６０−７２７８５号公報、同６１−１４６５９１号公報、特開平１−９５０９１号公報及び同３−１３３７６号公報等に記載されている退色防止剤、特開昭５９−４２９９３号公報、同５９−５２６８９号公報、同６２−２８００６９号公報、同６１−２４２８７１号公報及び特開平４−２１９２６６号公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のｐＨ調整剤、消泡剤、ジエチレングリコール等の潤滑剤、防腐剤、帯電防止剤、マット剤等の公知の各種添加剤を含有していてもよい。これらの添加物の含有量は、屈折率層の固形分に対して、０．１〜１０質量％であることが好ましい。
【００７９】
［機能層］
機能層は、２０℃・６５％ＲＨにおける酸素透過係数が２．０×１０−１６ｃｍ３・ｃｍ／（ｃｍ２・ｓ・Ｐａ）以下であり、かつ、２０℃・９５％ＲＨにおける酸素透過係数が２．０×１０−１６ｃｍ３・ｃｍ／（ｃｍ２・ｓ・Ｐａ）以下であることを達成できる物質であれば特に限定されない。ポリ塩化ビニリデンやエチレン変性ポリビニルアルコール、酸化アルミニウムやシリカ等を用いることが出来る。
【００８０】
機能層に用いるポリ塩化ビニリデンとしては、サラン（登録商標）レジンＦ３１０（旭化成株式会社製）やサラン（登録商標）ＵＢ（旭化成株式会社製）等の市販品が使用できる。また、エチレン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、国際公開第２０１０／１１３８８８号等に記載のものが使用できる。又は、エバール（登録商標）（樹脂グレードＬ１７１Ｂ、Ｆ１０１Ｂ、Ｆ１７１Ｂ、Ｈ１７１Ｂ、Ｅ１０５Ｂ、Ｇ１５６Ｂ、フィルムグレードＥＦ−ＸＬ、ＥＦ−Ｆ、ＥＦ−Ｅ、ＥＦ−ＣＲ、ＶＭ−ＸＬ、ＨＦ−ＭＥ等、株式会社クラレ製）、ソアノール（一般グレードＤ２９０８、ＤＴ２９０４、ＤＣ３２１２、ＤＣ３２０３、Ｅ３８０８、ＥＴ３８０３、Ａ４４１２、ＡＴ４４０３等、日本合成化学工業株式会社製）やエバーソルブ＃１０（日本シーマ株式会社製）等の市販品を使用してもよい。
【００８１】
酸素透過率が低く、かつ、水蒸気をよく透過させる性質を持ち、湿度による酸素透過率や水蒸気透過度の変動が比較的少ないことから、機能層はエチレン変性ポリビニルアルコールを用いることが好ましい。加えて、エチレン変性ポリビニルアルコールのエチレン変性度は２２〜４８％の範囲内であると、２０℃・６５％ＲＨ及び２０℃・９５％ＲＨにおける酸素透過係数を２．０×１０−１６ｃｍ３・ｃｍ／（ｃｍ２・ｓ・Ｐａ）以下に調整しやすいため、特に好ましい。
【００８２】
機能層の層厚は特に制限されず、通常１〜１００μｍの範囲であり、１０〜５０μｍの範囲であることがさらに好ましい。膜厚が１０μｍ以上あると、酸素透過係数の上昇を抑えられやすい。一方で、膜厚は５０μｍ以下の場合、光学反射フィルムの施工時に扱いやすい。
【００８３】
機能層には添加剤を加えてもよく、例えば、紫外線吸収剤や界面活性剤が挙げられるが、これらは酸素透過率を下げる要因ともなる為、加えないことが好ましい。
【００８４】
［粘着層］
粘着層は、光学反射フィルムのうち、窓ガラス等、光学反射フィルムを貼る対象側に最も近い層であり、反射層を窓ガラス等の貼る対象へ貼り合わせる為に設けられる層である。
粘着層に用いられる粘着性を有する材料としては、例えば、ドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤等を挙げることができる。中でも粘着層は、粘着性を有する材料として粘着剤を含むことが好ましい。粘着剤としては、アクリル系粘着剤、シリコン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール系粘着剤、ポリエステル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ニトリルゴム、エチレン−酢酸ビニル系粘着剤等を挙げることができる。特に、光学反射フィルムを窓ガラスに貼り合わせて用いる用途においては、窓に水を吹き付け、濡れた状態のガラス面に光学反射フィルムの粘着層側を貼り合わせる方法、いわゆる水貼り法が好適に用いられる。そのため、水が存在する湿潤下で粘着力が弱いアクリル系粘着剤を用いることが好ましい。
【００８５】
粘着層の厚さは１〜３０μｍの範囲であることが好ましく、５〜２０μｍの範囲がさらに好ましい。粘着力は粘着層の厚さに依存するため、粘着層の厚さはある程度必要である。粘着層が１μｍ以上であると、例えばガラス等との接着面での接触が十分となり、必要な粘着力が得られやすい。また、粘着層の厚さが３０μｍ以下である場合には、コストを抑えることができ、ガラスに貼り付けた後、剥がした時に粘着層中で凝集破壊が生じずに、粘着剤が残ることもない。
【００８６】
粘着層には、紫外線吸収剤を含んでいてもよい。その場合、粘着層には０．０５〜１５質量％の紫外線吸収剤が含まれることが好ましく、さらには、１〜１０質量％の紫外線吸収剤が含まれることが好ましい。
【００８７】
粘着層に用いる紫外線吸収剤は、特に限定されず、公知の紫外線吸収剤を使用できる。例えば、２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物、２−（２’−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系化合物、フェニルサリチレート、２−４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等のサリチル酸フェニル系化合物、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート等のヒンダードアミン系化合物、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン等のトリアジン系化合物等が挙げられる。
特に、紫外線吸収剤としては、ベンソトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物、及び、ベンゾフェノン系化合物から選ばれる少なくとも１種以上を含むことが好ましい。
【００８８】
紫外線吸収剤としては、上述以外に紫外線の保有するエネルギーを、分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを、熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物が含まれる。
【００８９】
なお、紫外線吸収剤は、単独でも又は２種以上混合して用いてもよい。また、紫外線吸収剤は、合成品を用いてもよいし市販品を用いてもよい。市販品の例としては、例えば、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）３２０、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）３２８、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）２３４、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）４７７、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１５７７、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）６２２（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、アデカスタブ（登録商標）ＬＡ−３１（以上、株式会社アデカ製）、ＳＥＥＳＯＲＢ（登録商標）１０２、ＳＥＥＳＯＲＢ（登録商標）１０３、ＳＥＥＳＯＲＢ（登録商標）５０１（以上、シプロ化成株式会社製）などが挙げられる。
【００９０】
［基材］
光学反射フィルムにおいて、基材は必須の構成ではないが、基材を設ける場合、透明の有機材料で形成された基材であれば、特に限定されるものではない。ここでいう「透明」とは、ＪＩＳ  Ｒ３１０６−１９９８で示される可視光領域の透過率が８５％以上であることが好ましく、特に９０％以上であることが好ましい。基材の透過率を高めることにより、光学反射フィルムの波長４２０〜７８０ｎｍの最小透過率を高めることができる。
基材としては、例えば、ポリオレフィンフィルム（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）、ポリ塩化ビニル、３酢酸セルロース、ポリイミド、ポリブチラールフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、透明なセルロースナノファイバーフィルム等の各樹脂材料を挙げることができる。さらに、これらの樹脂材料を２層以上積層して用いることもできる。また、基材は、合成品を用いてもよいし市販品を用いてもよい。
【００９１】
基材としては、ポリエステルフィルムを用いることが好ましい。特に、ポリエステルフィルムの中でも透明性、機械的強度、寸法安定性などの観点から、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸等のジカルボン酸成分と、エチレングリコールや１，４−シクロヘキサンジメタノール等のジオール成分とを主要な構成成分とするフィルム形成性を有することが好ましい。具体的には、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートを主要な構成成分とするポリエステル、テレフタル酸と２，６−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールとからなる共重合ポリエステル、及び、これらのポリエステルの２種以上の混合物を主要な構成成分とすることが好ましい。
【００９２】
基材の膜厚は５〜２００μｍの範囲が好ましく、さらに好ましくは１５〜１５０μｍである。膜厚が１５μｍ以上あれば、基材上への塗布等を行いやすく、膜厚が１５０μｍ以下であれば、基材の扱いがし易くなる。
【００９３】
基材は、市販品を用いることができる。例えば、東洋紡株式会社製のコスモシャイン（登録商標）Ａ４３００等を用いることができる。
【００９４】
基材は、従来公知の一般的な方法により製造することも可能である。例えば、押出成形、カレンダー成形、射出成形、中空成形、圧縮成形等、公知の方法で製造することができる。
また、基材は、未延伸フィルムでもよく、延伸フィルムでもよい。強度向上、熱膨張抑制の点から延伸フィルムが好ましい。また、未延伸の樹脂基材から、一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸等の公知の方法を用いて、延伸フィルムを作製できる。この場合の延伸倍率は、原料となる樹脂に合わせて適宜選択することできるが、縦軸方向及び横軸方向にそれぞれ２〜１０倍が好ましい。
【００９５】
また、基材は、寸法安定性の点で弛緩処理、オフライン熱処理が行われていてもよい。弛緩処理は、ポリエステルフィルムの延伸製膜工程中の熱固定した後、横延伸のテンター内、又は、テンターを出た後の巻き取りまでの工程で行われるのが好ましい。弛緩処理は、処理温度が８０〜２００℃で行われることが好ましく、より好ましくは処理温度が１００〜１８０℃である。また、長手方向、幅手方向ともに、弛緩率が０．１〜１０％の範囲で行われることが好ましく、より好ましくは弛緩率が２〜６％で処理されることである。弛緩処理された基材は、オフライン熱処理を施すことにより耐熱性が向上し、さらに寸法安定性が良好になる。
【００９６】
［その他の構成要件］
本発明の光学反射フィルムにおいて、例えば、基材の表面を保護するために設けられるハードコート層や、基材とハードコート層との間に設けられるアンカーコート層等を有していてもよい。また、基材の外側に設けられる層としては、ハードコート層やアンカーコート層以外の層であってもよく、上述した構成を満たすものであれば、特に限定されない。
【００９７】
また、本発明の光学反射フィルムは、機能層と基材との間に、第二の粘着層を有してもよい。特に機能層が市販品のフィルムから成る場合、第二の粘着層を介して基材へ積層する方法を選択してもよい。第二の粘着層に用いられる粘着性を有する材料としては、上述の粘着層で説明した材料を用いることができる。
【００９８】
［光学反射フィルムの製造方法］
次に、機能層及び反射層の製造方法について説明する。
【００９９】
（機能層）
機能層は必要に応じて、複数の方法の中から適当に選択して作製することができる。
例えば、機能層塗布液を調製した後、塗布液を塗工、及び、乾燥させることにより作製することができる。機能層塗布液の調製方法は特に制限されず、上述の機能層材料、水溶性高分子、溶媒、及び、必要に応じて添加される添加剤等を、撹拌混合する方法が挙げられる。混合の際、各成分の添加順は特に限定されず、撹拌しながら各成分を順次混合してもよいし、一度に混合して撹拌してもよい。これらの各塗布液は、溶媒の量を調整することにより、適当な粘度に調整する。
【０１００】
塗布液を調製するための溶媒は、特に制限されず、上述の反射層の形成に用いる溶媒と同様の溶媒を用いることができる。水、有機溶媒、又は、これらの混合溶媒を用いることが好ましい。また、有機溶媒の飛散による環境面を考慮すると、水、又は、水と少量の有機溶媒との混合溶媒がより好ましく、水が特に好ましい。
【０１０１】
各塗布液に用いる有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のエーテル類、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノン等のケトン類挙げられる。これら有機溶媒は、単独でも２種以上混合して用いてもよい。環境面、操作の簡便性などから、塗布液の溶媒としては、水と、メタノール、エタノール、及び、酢酸エチルとの混合溶媒が好ましい。
【０１０２】
水と少量の有機溶媒との混合溶媒を用いる際、混合溶媒中の水の含有量は、混合溶媒全体を１００質量％として、８０〜９９．９質量％であることが好ましく、９０〜９９．５質量％であることがより好ましい。ここで、８０質量％以上にすることで、溶媒の揮発による体積変動が低減でき、塗膜形成の操作性が向上する。また、９９．９質量％以下にすることで、塗布液の均質性が増し、塗布液の物性が安定する。
【０１０３】
機能層塗布液の塗布方法としては、公知の方法が使用できる。例えば、ダイコーター法、グラビアロールコーター法、ブレードコーター法、スプレーコーター法、エアーナイフコート法等が好ましく挙げられ、単独又は組合せて用いることができる。例えば、調整した機能層塗布液を中本パックス株式会社製のセパレーター  ＮＳ２３ＭＡのシリコーン離型面に対して、コンマコーター（登録商標）（株式会社ヒラノテクシード製）にて必要な乾燥膜厚になるように塗布し、乾燥することで、機能層を形成できる。
【０１０４】
機能層はペレット状に加工した樹脂をフィルム状に加工することにより、作製することができる。
例えば、ＥＶＯＨ等といったペレット状の樹脂を、エクストルーダーに代表される周知の溶融押出装置を用いて、樹脂の融点以上の温度に加熱して溶融する。そして、溶融した樹脂を、スリット状の口金から連続的に押出し、強制的に冷却することで作製する。
機能層は、市販品のフィルムを用いることもできる。例えば、株式会社クラレ製のエバール（登録商標）（ＥＦ−Ｅ、ＥＦ−ＸＬ等）を用いることができる。
【０１０５】
機能層は、蒸着によっても形成することができる。
方法としては特に限定はなく、例えば、真空蒸着法、反応性蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、コーティング法等を用いることができる。
【０１０６】
（反射層）
反射層を形成する方法は、特に限定されないが、例えば、高屈折率層用塗工液、及び、低屈折率層用塗工液を、交互に塗工及び乾燥させることによって形成する方法が挙げられる。
【０１０７】
高屈折率層用塗布液の調製方法は、特に制限されず、水溶性高分子、金属酸化物微粒子、溶媒、及び、必要に応じて添加されるその他の添加剤を、撹拌混合する方法が挙げられる。また、低屈折率層用塗布液の調製方法は、特に制限されず、水溶性高分子、溶媒、及び、必要に応じて金属酸化物微粒子や、その他の添加剤を、撹拌混合する方法が挙げられる。この撹拌混合の際、各成分の添加順は特に限定されず、撹拌しながら各成分を順次混合してもよいし、一度に混合して撹拌してもよい。これらの各塗布液は、溶媒の量を調整することにより、適当な粘度に調整する。
【０１０８】
ここで、各塗布液を調製するための溶媒は、特に制限されないが、水、有機溶媒、又は、これらの混合溶媒を用いることが好ましい。また、有機溶媒の飛散による環境面を考慮すると、水、又は、水と少量の有機溶媒との混合溶媒がより好ましく、水が特に好ましい。
【０１０９】
各塗布液に用いる有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のエーテル類、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノン等のケトン類挙げられる。これら有機溶媒は、単独でも２種以上混合して用いてもよい。環境面、操作の簡便性などから、塗布液の溶媒としては、水と、メタノール、エタノール、及び、酢酸エチルとの混合溶媒が好ましい。
【０１１０】
水と少量の有機溶媒との混合溶媒を用いる際、混合溶媒中の水の含有量は、混合溶媒全体を１００質量％として、８０〜９９．９質量％であることが好ましく、９０〜９９．５質量％であることがより好ましい。ここで、８０質量％以上にすることで、溶媒の揮発による体積変動が低減でき、塗膜形成の操作性が向上する。また、９９．９質量％以下にすることで、塗布液の均質性が増し、塗布液の物性が安定する。
【０１１１】
次に、調製した各塗布液を基材上又は機能層上に塗布し、乾燥させる。この塗布工程と乾燥工程とを行うことにより、塗布膜から反射層を形成することができる。
塗布方法としては、特に限定されず、逐次塗布法、同時重層塗布のいずれであってもよいが、生産性等の観点から同時重層塗布であることが好ましい。塗布方式としては、例えば、カーテン塗布方法、米国特許第２７６１４１９号、米国特許第２７６１７９１号に記載のホッパーを使用するスライドビード塗布方法、エクストルージョンコート法等が好ましく用いられる。
【０１１２】
同時重層塗布を行う際の各塗布液の温度は、スライドビード塗布方式を用いる場合は、２５〜６０℃の温度範囲が好ましく、３０〜４５℃の温度範囲がより好ましい。また、カーテン塗布方式を用いる場合は、２５〜６０℃の温度範囲が好ましく、３０〜４５℃の温度範囲がより好ましい。
【０１１３】
同時重層塗布を行う際の各塗布液の粘度は、特に制限されない。例えば、スライドビード塗布方式を用いる場合には、上述の各塗布液の好ましい温度の範囲において、５〜１００ｍＰａ・ｓの範囲であることが好ましく、１０〜５０ｍＰａ・ｓの範囲であることがより好ましい。また、カーテン塗布方式を用いる場合には、上述の塗布液の好ましい温度の範囲において、５〜１２００ｍＰａ・ｓの範囲であることが好ましく、２５〜５００ｍＰａ・ｓの範囲であることがより好ましい。このような粘度の範囲であれば、効率よく同時重層塗布を行うことができる。
【０１１４】
また、各塗布液の１５℃における粘度としては、１００ｍＰａ・ｓ以上が好ましく、１００〜３００００ｍＰａ・ｓがより好ましく、さらに好ましくは３０００〜３００００ｍＰａ・ｓであり、最も好ましいのは１００００〜３００００ｍＰａ・ｓである。
【０１１５】
逐次塗布法で反射層を形成する場合には、３０〜６０℃に加温した低屈折率層用塗布液又は高屈折率層用塗布液のいずれか一方の塗布液を、基材上に塗布、乾燥して層を形成した後、他方の塗布液をこの層上に塗布、乾燥して層を形成する。これを所望の反射性能を発現するために必要な層数となるように逐次を繰り返して、反射層を形成する。
【０１１６】
乾燥する際は、形成した塗膜を、３０℃以上で乾燥することが好ましい。例えば、湿球温度５〜５０℃、膜面温度５〜１００℃（好ましくは１０〜５０℃）の範囲で乾燥することが好ましく、例えば、４０〜８５℃の温風を１〜５秒吹き付けて乾燥する。乾燥方法としては、温風乾燥、赤外乾燥、マイクロ波乾燥が用いられる。また単一プロセスでの乾燥よりも多段プロセスの乾燥をすることが好ましく、恒率乾燥部の温度＜減率乾燥部の温度にすることがより好ましい。この場合の恒率乾燥部の温度範囲は３０〜６０℃、減率乾燥部の温度範囲は５０〜１００℃にすることが好ましい。
【０１１７】
また、同時重層塗布で反射層を形成する場合には、各塗布液を３０〜６０℃に加温して、基材上に各塗布液の同時重層塗布を行った後、形成した塗膜の温度を好ましくは１〜１５℃にいったん冷却することでセットし、その後１０℃以上で乾燥することが好ましい。より好ましい乾燥条件は、湿球温度５〜５０℃、膜面温度１０〜５０℃の範囲の条件である。例えば、８０℃の温風を１〜５秒吹き付けて乾燥する。また、塗布直後の冷却方式としては、形成された塗膜の均一性向上の観点から、水平セット方式で行うことが好ましい。
【０１１８】
ここで、上述のセットとは、冷風等を塗布膜の表面に当てて温度を下げる等の手段により、塗膜組成物の粘度を高め、各層の物質の流動性の低下、又は、ゲル化を行う工程を意味する。塗布膜の表面に指を押し付けたときに、指に何もつかなくなった状態を、セット完了の状態と定義する。
【０１１９】
セット工程において使用される冷風の温度は、０〜２５℃であることが好ましく、５〜１０℃であることがより好ましい。また、塗膜が冷風に晒される時間は、塗膜の搬送速度にもよるが、好ましくは１０〜３６０秒、より好ましくは１０〜３００秒、さらに好ましくは１０〜１２０秒である。
【０１２０】
塗膜形成から、冷風を当ててセットが完了するまでの時間（セット時間）は、５分以内であることが好ましく、２分以内であることがより好ましい。また、下限の時間は特に制限されないが、４５秒以上とすることが好ましい。セット時間を一定以上設けることで、層中の成分が十分に混合する。一方、セット時間を短時間とすることにより、金属酸化物微粒子の層間拡散を防止し、高屈折率層と低屈折率層とに所望の屈折率差を設けることができる。なお、高屈折率層と低屈折率層との間の境界面において高弾性化が素早く起こる場合には、セット工程を設けなくとも好適な界面を形成することができる。
【０１２１】
なお、セット時間は、各塗布液に含まれる水溶性高分子の濃度や、金属酸化物微粒子の濃度を変更することの他、ゼラチン、ペクチン、寒天、カラギーナン、ゲランガム等の各種公知のゲル化剤など他の成分を添加することにより調整することができる。
【０１２２】
［光学反射フィルムの層構成］
次に、本発明の光学反射フィルムの層構成について説明する。図１に、光学反射フィルムの層構成Ａ１を示す。
【０１２３】
図１に示す光学反射フィルム１０は順に、第一の粘着層１１、反射層１２、基材１３、第二の粘着層１４、及び機能層１５を備える。光学反射フィルム１０は、第一の粘着層１１側がガラスに貼り合わされる側であり、光学反射フィルム１０を屋内側から貼る際は、第一の粘着層１１側から光学反射フィルム１０に、太陽光が入射する。一方、屋外側から光学反射フィルム１０を貼る際は、機能層１５側から光学反射フィルム１０に、太陽光が入射する。光学反射フィルム１０はガラスに対し、屋内側又は屋外側のどちらからでも貼り合わせてよいが、耐候性を考慮すると、光学反射フィルム１０は、ガラスに対して屋内側から貼り合わせることが好ましい。
【０１２４】
図２に、光学反射フィルムの層構成Ｂ１を示す。図２に示す光学反射フィルム２０は順に、第一の粘着層２１、反射層２２、機能層２５、第二の粘着層２４、及び基材２３を備える。光学反射フィルム２０は、第一の粘着層２１側がガラスに貼り合わされる側であり、光学反射フィルム２０を屋内側から貼る際は、第一の粘着層２１側から光学反射フィルム２０に、太陽光が入射する。一方、屋外側から光学反射フィルム２０を貼る際は、基材２３側から光学反射フィルム２０に、太陽光が入射する。光学反射フィルム２０はガラスに対し、屋内側又は屋外側のどちらから貼り合わせてもよいが、耐候性を考慮すると、光学反射フィルム２０は、ガラスに対して屋内側から貼り合わせることが好ましい。
【０１２５】
図２に示す光学反射フィルム２０は、図１の光学反射フィルム１０とは、機能層と基材と第二の粘着層の積層順が異なり、その他構成は図１の光学反射フィルム１０と同様である。
【０１２６】
図３に、光学反射フィルムの層構成Ａ２を示す。図３に示す光学反射フィルム３０は順に、第一の粘着層３１、反射層３２、基材３３、及び機能層３５を備える。光学反射フィルム３０は、第一の粘着層３１側がガラスに貼り合わされる側であり、光学反射フィルム３０を屋内側から貼る際は、第一の粘着層３１側から光学反射フィルム３０に、太陽光が入射する。一方、屋外側から光学反射フィルム３０を貼る際は、機能層３５側から光学反射フィルム３０に、太陽光が入射する。光学反射フィルム３０はガラスに対し、屋内側又は屋外側のどちらから貼り合わせてもよいが、耐候性を考慮すると、光学反射フィルム３０は、ガラスに対して屋内側から貼り合わせることが好ましい。
【０１２７】
図３に示す光学反射フィルム３０は、図１の光学反射フィルム１０と比べて、第二の粘着層を備えないことが異なり、その他構成は図１の光学反射フィルム１０と同様である。
【０１２８】
図４に、光学反射フィルムの層構成Ｂ２を示す。図４に示す光学反射フィルム４０は、第一の粘着層４１、反射層４２、機能層４５、及び基材４３を備える。光学反射フィルム４０は、第一の粘着層４１側がガラスに貼り合わされる側であり、光学反射フィルム４０を屋内側から貼る際は、第一の粘着層４１側から光学反射フィルム４０に、太陽光が入射する。一方、屋外側から光学反射フィルム４０を貼る際は、基材４３側から光学反射フィルム４０に、太陽光が入射する。光学反射フィルム４０はガラスに対し、屋内側又は屋外側のどちらから貼り合わせてもよいが、耐候性を考慮すると、光学反射フィルム４０は、ガラスに対して屋内側から貼り合わせることが好ましい。
【０１２９】
図４に示す光学反射フィルム４０は、図２の光学反射フィルム２０と比べて、第二の粘着層を備えないことが異なり、その他構成は図２の光学反射フィルム２０と同様である。
【０１３０】
図５に、光学反射フィルムの層構成Ｃを示す。図５に示す光学反射フィルム５０は順に、第一の粘着層５１、反射層５２、及び機能層５５を備える。光学反射フィルム５０は、第一の粘着層５１側がガラスに貼り合わされる側であり、光学反射フィルム５０を屋内側から貼る際は、第一の粘着層５１側から光学反射フィルム５０に、太陽光が入射する。一方、屋外側から光学反射フィルム５０を貼る際は、機能層５５側から光学反射フィルム５０に、太陽光が入射する。光学反射フィルム５０はガラスに対し、屋内側又は屋外側のどちらから貼り合わせてもよいが、耐候性を考慮すると、光学反射フィルム５０は、ガラスに対して屋内側から貼り合わせることが好ましい。
【０１３１】
図５に示す光学反射フィルム５０は、図４の光学反射フィルム４０と比べて、基材を備えないことが異なり、その他構成は図４の光学反射フィルム４０と同様である。
【実施例】
【０１３２】
<光学反射フィルムの作製>
［高屈折率層塗布液の調製］
（酸化タングステン分散液の調製）
純水８０質量部に酸化タングステン粉末（純度９９．９９％、高純度化学社製）２０質量部を加えて、混合して混合物を得た。媒体撹拌式分散機「ウルトラアペックスミルＵＡＭ−１・１００９」（コトブキ技研工業株式会社製）を用い、分散処理を行って、光触媒酸化タングステン分散液を得た。
得られた酸化タングステン分散液における光触媒酸化タングステン粒子の平均分散粒子径は４０ｎｍであった。
【０１３３】
（シリカ付着二酸化チタンゾルの作製）
１５．０質量％酸化チタンゾル（ＳＲＤ−Ｗ、体積平均粒径：５ｎｍ、ルチル型二酸化チタン粒子、堺化学社製）０．５質量部に純水２質量部を加えた後、９０℃に加熱した。次に、ケイ酸水溶液（ケイ酸ソーダ４号（日本化学工業株式会社製）をＳｉＯ２濃度が０．５質量％となるように純水で希釈したもの）０．５質量部を徐々に加えて混合し、さらに、オートクレーブにおいて、１７５℃で１８時間の加熱処理を行った。そして、冷却後、限外濾過膜にて濃縮することにより、固形分濃度が６質量％のＳｉＯ２を表面に付着させた二酸化チタンゾル（以下、シリカ付着二酸化チタンゾル）（体積平均粒径：９ｎｍ）を得た。
【０１３４】
（高屈折率層塗布液の調製）
得られたシリカ付着二酸化チタンゾル、又は、酸化タングステン分散液（２０質量％）１１３質量部に対し、クエン酸水溶液（１．９２質量％）を４８質量部加え、さらにエチレン変性ポリビニルアルコール（株式会社クラレ製、エクセバールＲＳ−２１１７、鹸化度：９７．５〜９９モル％、エチレン変性度：３．０ｍｏｌ％、重合度：１７００、粘度（４％、２０℃）：２３．０〜３０．０（ｍＰａ・ｓ）、８質量％）、又は、酸処理ゼラチン水溶液（８．０質量％、重量平均分子量１３万、株式会社ニッピ製、ＡＰ−２７０）を１１３質量部加えて撹拌し、最後に界面活性剤の５質量％水溶液（ソフタゾリンＬＳＢ−Ｒ、川研ファインケミカル社製）０．４質量部を加えて、高屈折率層塗布液を作製した。
上述の高屈折率層塗布液を用いて形成した層の屈折率は、シリカ付着二酸化チタンゾルの場合は１．８０であり、酸化タングステンの場合は１．７２であった。
【０１３５】
［低屈折率層用塗布液の調製］
低屈折率層用塗布液を以下のようにして調製した。
３１質量部の酸性コロイダルシリカの１０質量％水溶液（スノーテックスＯＸＳ、一次粒子径：５．４ｎｍ、日産化学工業株式会社製）を４０℃に加熱し、ホウ酸３質量％水溶液３質量部を加え、さらに水溶性樹脂として３９質量部のポリビニルアルコールの６質量％水溶液（ＰＶＡ−２２４、重合度：２４００、鹸化度：８７モル％、クラレ株式会社製）と、１質量部の界面活性剤の５質量％水溶液（ソフタゾリン（登録商標）ＬＳＢ−Ｒ、川研ファインケミカル株式会社製）とを４０℃でこの順に添加し、低屈折率層塗布液を調製した。
上述の低屈折率層塗布液を用いて形成した層の屈折率は１．５０であった。
【０１３６】
［反射層の作製］
スライドホッパー塗布装置を用い、上述で得られた低屈折率層用塗布液（機能層塗布液）及び高屈折率層用塗布液を４５℃に保温しながら、４５℃に加温した基材（厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム、コスモシャイン（登録商標）Ａ４３００、東洋紡株式会社製）上又は後述する機能層上に、２１層同時重層塗布（反射層の全膜厚；２．９μｍ）を行った。重層塗布直後、５℃の冷風を吹き付けてセットし、８０℃の温風を吹き付けて乾燥させて、２１層からなる反射層を基材上又は機能層上に形成した。この際、最下層及び最上層は低屈折率層とし、それ以外は低屈折率層及び高屈折率層がそれぞれ交互に積層されるように設定した。塗布量については、乾燥時の膜厚が下記のとおりになるように調節した。なお、基材直上又は機能層直上の低屈折率層を１層目とした。
低屈折率層：１，３，５，７，９，１１，１３，１５，１７，１９，２１層目；一層あたりの厚さは１５０ｎｍ
高屈折率層：２，４，６，８，１０，１２，１４，１６，１８，２０層目；一層あたりの厚さは１１０ｎｍ
【０１３７】
［第一及び第二の粘着層の作製］
（粘着層塗布液の調製）
下記の処方で、第一の粘着層塗布液を調製した。
・粘着剤：日本合成化学工業製  Ｎ−２１４７（固形分３５質量％）    １００質量部
・ＢＡＳＦ製ＵＶ吸収剤  Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７（固形分８０質量％）  ２．１質量部
・イソシアネート系硬化剤  日本ポリウレタン工業製  コロネートＬ５５Ｅ（固形分５５質量％）                                                              ５質量部
第二の粘着層塗布液についても、第一の粘着層塗布液と同様の材料で、調製した。
【０１３８】
［第一の粘着層の作製］
上述によって作製した粘着層塗布液を、剥離フィルム（剥離層）であるセパレーターＳＰ−ＰＥＴ（銘柄：ＰＥＴ−Ｏ２−ＢＵ）（三井化学東セロ株式会社製）のシリコン面に対して、コンマコーターにて乾燥膜厚が１０μｍになるように塗工し、８０℃、１分間乾燥した。そして、反射層に粘着層が隣接するように、粘着層塗布液を塗工した剥離フィルムをラミネートし、反射層上に、紫外線吸収剤を含む第一の粘着層を形成した。
第二の粘着層についても、上述と同様の方法で作製した。
【０１３９】
［機能層の作製］
下記の樹脂（１）から樹脂（１１）までを用いて、機能層を作製した。液状の樹脂である、樹脂（１）、（３）、（８）については、塗布液として調製した。液状の樹脂である樹脂（５）については、そのまま塗布液として用いた。フィルム状の樹脂である、樹脂（２）、（４）、（６）、（７）、（９）については、そのまま用いた。樹脂（１０）、（１１）はフィルム状に加工してから用いた。なお、各樹脂のエチレン変性度を表１に示す。
・樹脂（１）：サラン（登録商標）レジンＦ３１０（旭化成株式会社製）をメチルエチルケトン／トルエン＝２／１（質量比）溶液中に質量比で２０％になるように溶解させた。
・樹脂（２）：サラン（登録商標）ＵＢ  ＃１５（旭化成株式会社製）を使用した。
・樹脂（３）：エバール（登録商標）  Ｇ１５６Ｂ（株式会社クラレ製）をｎ−プロパノール／水＝７／３（質量比）溶液中に質量比で１５％になるように溶解させた。
・樹脂（４）：エバール（登録商標）  ＥＦ−Ｅ（株式会社クラレ製）を使用した。
・樹脂（５）：エバーソルブ＃１０（日本シーマ株式会社製）を使用した。
・樹脂（６）：エバール（登録商標）  ＥＦ−Ｆ（株式会社クラレ製）を使用した。
・樹脂（７）：コスモシャイン（登録商標）Ａ４３００（東洋紡株式会社製）を使用した。
・樹脂（８）：ポバール  ＰＶＡ−１２４（株式会社クラレ製）８質量％水溶液を使用した。
・樹脂（９）：リックス（登録商標）フィルム  Ｌ４１０２（東洋紡株式会社製）を使用した。
・樹脂（１０）：ＴＯＰＡＳ（登録商標）（ポリプラスチック株式会社製）１０ｋｇを１５０℃、３時間真空乾燥した。その後、４０ｍｍ径のエクストルーダーによって２３０℃で溶融し、長さ１６０ｍｍ、間隔１ｍｍの直線状口金を有するＴダイから、表面を１５℃に保った金属ドラム上に静電印加キャストして冷却固化し、厚さ１００μｍのフィルムを作製した。
・樹脂（１１）：ナイロンＭＸＤ６  Ｓ６００７Ｃ（三菱ガス化学株式会社製）１０ｋｇを１５０℃、３時間真空乾燥した。その後、４０ｍｍ径のエクストルーダーによって２３０℃で溶融し、長さ１６０ｍｍ、間隔１ｍｍの直線状口金を有するＴダイから、表面を１５℃に保った金属ドラム上に静電印加キャストして冷却固化し、厚さ２０μｍのフィルムを作製した。
【０１４０】
［光学反射フィルムの形成］
光学反射フィルムの層構成、機能層を構成する樹脂の種類、機能層の層厚、高屈折率層中の金属酸化物微粒子の種類、高屈折率層中のバインダーの種類を、表１にしたがって変更し、各光学反射フィルム（実施例１〜２０、及び、比較例１〜５）を形成した。
光学反射フィルムの形成方法を以下に示す。
【０１４１】
（光学反射フィルム１０、層構成Ａ１の形成）
・樹脂（１）、（３）、（５）、（８）の場合（液状の樹脂）
調製した機能層塗布液を、剥離フィルム（剥離層）であるセパレーターＳＰ−ＰＥＴ（銘柄：ＰＥＴ−Ｏ２−ＢＵ）（三井化学東セロ株式会社製）のシリコン面に対して、コンマコーター（登録商標）（株式会社ヒラノテクシード製）にて乾燥膜厚が表１に示すようにそれぞれ２〜７５μｍになるように塗布し、８０℃、１分間乾燥し、上記樹脂（１）、（３）、（５）、（８）からなる各機能層を形成した。
続いて、第二の粘着層を形成するため、第二の粘着層塗布液を、機能層上（剥離層側ではない側）に、コンマコーターにて乾燥膜厚が１０μｍになるように塗工し、８０℃、１分間乾燥した。次に、機能層の第二の粘着層塗布液を塗布した面に基材（厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム、コスモシャイン（登録商標）Ａ４３００、東洋紡株式会社製）をラミネートした後、機能層上の剥離フィルムをデラミネートした。そして、基材上に反射層を塗布した。最後に、反射層上に第一の粘着層を形成した。
【０１４２】
・樹脂（２）、（４）、（６）、（７）、（９）、（１０）、（１１）の場合（フィルム状の樹脂）
第二の粘着層を形成するため、第二の粘着層塗布液を、上記樹脂（２）、（４）、（６）、（７）、（９）、（１０）、（１１）からなる各機能層上に対して、コンマコーターにて乾燥膜厚が１０μｍになるように塗布し、８０℃、１分間乾燥した。次に、機能層の粘着層塗布液を塗布した面に基材をラミネートした。そして、基材上に反射層を塗布した。最後に、反射層上に第一の粘着層を形成した。
【０１４３】
（光学反射フィルム２０、層構成Ｂ１の形成）
・樹脂（１）の場合（液状の樹脂）
調製した機能層塗布液を、剥離フィルム（剥離層）であるセパレーターＳＰ−ＰＥＴ（銘柄：ＰＥＴ−Ｏ２−ＢＵ）（三井化学東セロ株式会社製）のシリコン面に対して、コンマコーター（登録商標）（株式会社ヒラノテクシード製）にて乾燥膜厚が５０μｍになるように塗布し、８０℃、１分間乾燥し、上記樹脂（１）からなる機能層を作製した。
続いて、第二の粘着層を形成するため、第二の粘着層塗布液を、機能層上（剥離層側ではない側）に、コンマコーターにて乾燥膜厚が１０μｍになるように塗工し、８０℃、１分間乾燥した。次に、機能層の第二の粘着層塗布液を塗布した面に基材（厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム、コスモシャイン（登録商標）Ａ４３００、東洋紡株式会社製）をラミネートした後、機能層上の剥離フィルムをデラミネートした。そして、機能層上に反射層を塗布した。最後に、反射層上に第一の粘着層を形成した。
【０１４４】
・樹脂（６）の場合（フィルム状の樹脂）
第二の粘着層を形成するため、第二の粘着層塗布液を、上記樹脂（６）からなる機能層上に対して、コンマコーターにて乾燥膜厚が１０μｍになるように塗布し、８０℃、１分間乾燥した。次に、機能層の第二の粘着層塗布液を塗布した面に基材をラミネートした。そして、機能層上に反射層を塗布した。最後に、反射層上に第一の粘着層を形成した。
【０１４５】
（光学反射フィルム３０、層構成Ａ２の形成）
・樹脂（１）、（５）の場合（液状の樹脂）
調製した機能層塗布液を、基材（厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム、コスモシャイン（登録商標）Ａ４３００、東洋紡株式会社製）に対して、コンマコーター（登録商標）（株式会社ヒラノテクシード製）にて乾燥膜厚が表１に示すように２０μｍ又は５０μｍになるように塗布し、８０℃、１分間乾燥し、上記樹脂（１）、（５）からなる各機能層を作製した。
次に、基材上に反射層を塗布した。そして、反射層上に第一の粘着層を形成した。
【０１４６】
（光学反射フィルム４０、層構成Ｂ２の形成）
・樹脂（５）の場合（液状の樹脂）
調製した機能層塗布液を、基材（厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム、コスモシャイン（登録商標）Ａ４３００、東洋紡株式会社製）に対して、コンマコーター（登録商標）（株式会社ヒラノテクシード製）にて乾燥膜厚が２０μｍになるように塗布し、８０℃、１分間乾燥し、上記樹脂（５）からなる機能層を形成した。
次に、機能層上に反射層を塗布した。そして、反射層上に第一の粘着層を作製した。
【０１４７】
（光学反射フィルム５０、層構成Ｃの形成）
・樹脂（６）の場合（フィルム状の樹脂）
上記樹脂（６）からなる機能層上に反射層を塗布した後、反射層上に第一の粘着層を形成した。
【０１４８】
＜評価＞
［耐候性剥離試験］
作製した光学反射フィルムを、それぞれ剥離フィルムを除去してガラスに貼り付け、スーパーキセノンウェザーメーターＳＸ７５（スガ試験機株式会社製）を用いて、放射強度１８０Ｗ／ｍ２、降雨１８分／６０分（６０分間中１８分間の降雨）のサイクル条件でガラス面から２０００時間暴露を行った。その後、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−６に規定してあるクロスカット法に則り試験を実施するため、光学反射フィルム１０、３０、５０は機能層から反射層まで、光学反射フィルム２０、４０は基材から反射層まで、切り込みを入れた。そして、同じ場所に対して計３回のテープ剥離試験を実施したのち、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−６に則り試験結果を分類した。結果を表１に示す。
【０１４９】
（試験結果の分類）はく離（はがれ）が生じているクロスカット部分の表面の状態
０：カットの縁が完全に滑らかで，どの格子の目にも剥がれがない。
１：カットの交差点における塗膜に小さな剥がれがある。クロスカット部分で影響を受けるのは、明確に５％を上回ることはない。
２：塗膜がカットの縁に沿って、及び／又は交差点において剥がれている。クロスカット部分で影響を受けるのは明確に５％を超えるが１５％を上回ることはない。
３：塗膜がカットの縁に沿って、部分的又は全面的に大剥がれを生じており、及び／又は目のいろいろな部分が、部分的又は全面的に剥がれている。クロスカット部分で影響を受けるのは、明確に１５％を超えるが３５％を上回ることはない。
４：塗膜がカットの縁に沿って、部分的又は全面的に大剥がれを生じており、及び／又は数か所の目の部分が、部分的又は全面的に剥がれている。クロスカット部分で影響を受けるのは、明確に３５％を上回ることはない。
５：分類４でも分類できない剥がれ程度のいずれか。
【０１５０】
［ヘイズ値測定］
上述の実施例及び比較例で作成した光学反射フィルムについて、ヘイズメーター（日本電色工業社製、ＮＤＨ５０００）を用い、ＪＩＳ  Ｋ  ７１３６：２０００に従ってヘイズを測定した。なお、光学反射フィルムのヘイズ値としては、３．０％以下であると好ましい。結果を表１に示す。
【０１５１】
［外観評価試験］
作製した光学反射フィルムを、それぞれ剥離フィルムを除去して曲面ガラスに及びを実施し、２３℃５０％ＲＨの環境下で４８時間経過後、外観の評価を行った。結果を表１に示す。
【０１５２】
（評価ランク）
０：フィルムに変化は見られない。
１：フィルムに微細な凹凸が見られるが実用上問題ない。
２：フィルムに凹凸と泡が見られるが、実用上問題ない。
３：フィルムに非常に多くの凹凸と泡が見られ、実用上問題が生じる。
【０１５３】
［機能層の酸素透過係数測定］
ＪＩＳ  Ｋ  ７１２６−１：２００６（差圧法）に則って、上述で作製した機能層の酸素透過係数を測定した。フィルム状の樹脂については、フィルムのままで測定を実施した。また、液状の樹脂に関しては、フィルム化してから測定を実施した。測定には、Ｌｙｓｓｙ水蒸気・ガス透過度計８００１型（ＳｙｓｔｅｃｈＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いた。それぞれの結果を表１に示す。
【０１５４】
液状の樹脂をフィルム化するには、調製した機能層塗布液を、剥離フィルム（剥離層）であるセパレーターＳＰ−ＰＥＴ（銘柄：ＰＥＴ−Ｏ２−ＢＵ）（三井化学東セロ株式会社製）のシリコン面に対して、コンマコーター（登録商標）（株式会社ヒラノテクシード製）にて、乾燥膜厚がそれぞれ表１に示す厚さになるように塗布し、８０℃、１分間乾燥して作製した。
【０１５５】
［水蒸気透過度測定］
上述で作製した光学反射フィルムの水蒸気透過度を測定した。測定方法は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２９：２００８記載の赤外線センサ法による水蒸気透過度の求め方に準じた。透過セルの温度は４０℃、相対湿度差は９０％とした。測定には、ＡＱＵＡＴＲＡＮ（登録商標）モデル２（ＭＯＣＯＮ社製）を用いた。それぞれの結果を表１に示す。
【０１５６】
【表１】
2018041000.tif 000003
【０１５７】
表１に示すように、本発明の実施例１〜２０の光学反射フィルムは、比較例１〜５の光学反射フィルムに比べ、耐候性に優れているため反射層の劣化を抑制でき、さらにはヘイズ値が低く、外観評価にも優れていることがわかる。
【０１５８】
また、表１より、機能層と反射層とが直接積層された層構成Ｂ１である実施例１４の光学反射フィルムは、機能層と反射層とが直接積層されていない層構成Ａ１である実施例１２の光学反射フィルムに比べて、耐候性の結果が優れている。また、機能層と反射層とが直接積層された層構成Ｂ２である実施例１９の光学反射フィルムについても、機能層と反射層とが直接積層されていない層構成Ａ２である実施例１８の光学反射フィルムと比べて、耐候性の結果が優れている。これら結果から、機能層と反射層とが直接積層されることで、耐候性により優れ、反射層の劣化をより抑制できることが示される。
【０１５９】
また、機能層が基材に直接積層された層構成Ａ２である実施例１８の光学反射フィルムは、第二の粘着層を介して機能層と基材が積層された層構成Ａ１である実施例１１の光学反射フィルムに比べて、ヘイズ値が低下した。これより、機能層が基材に直接積層されることで、ヘイズ値がより改善できることが示される。
【０１６０】
また、機能層にエチレン変性ポリビニルアルコールである樹脂（６）を用いた実施例１５の光学反射フィルムは、機能層にポリ塩化ビニリデンである樹脂（１）を用いた実施例１３の光学反射フィルムに比べ、酸素透過係数が低く、水蒸気透過度が高く、耐候性、ヘイズ値及び外観評価の結果が優れている。これより、機能層にはエチレン変性ポリビニルアルコールを用いることがより好ましいと示される。
【符号の説明】
【０１６１】
１０，２０，３０，４０，５０  光学反射フィルム
１１，２１，３１，４１，５１  第一の粘着層
１２，２２，３２，４２，５２  反射層
１３，２３，３３，４３  基材
１４，２４  第二の粘着層
１５，２５，３５，４５，５５  機能層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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