(57)【要約】【課題】光導波路の入出光の減衰が抑制されるとともに、生産性が高く、製造安定性に優れた光導波路フィルムを提供する。【解決手段】本発明の光導波路フィルムは、下部クラッド層と、下部クラッド層上に設けられたパターン状のコア部と、コア部上に設けられた上部クラッド層と、を備える長尺状の光導波路フィルムであって、当該光導波路フィルムの少なくとも一端に光コネクタ挿入領域が設けられており、光コネクタ挿入領域において、コア部同士が隣接する導波路端面における表面粗さをＳＲａ１とし、コア部の長手方向に延在する当該光導波路フィルムの側面における表面粗さをＳＲａ２としたとき、ＳＲａ１／ＳＲａ２が、０．０２以上０．５以下である。【選択図】図１
2018084694.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部クラッド層と、前記下部クラッド層上に設けられたパターン状のコア部と、前記コア部上に設けられた上部クラッド層と、を備える長尺状の光導波路フィルムであって、
当該光導波路フィルムの少なくとも一端に光コネクタ挿入領域が設けられており、
前記光コネクタ挿入領域において、前記コア部同士が隣接する導波路端面における表面粗さをＳＲａ１とし、
前記コア部の長手方向に延在する当該光導波路フィルムの側面における表面粗さをＳＲａ２としたとき、
ＳＲａ１／ＳＲａ２が、０．０２以上０．５以下である、光導波路フィルム。
【請求項２】
請求項１に記載の光導波路フィルムであって、
前記ＳＲａ１が、０．２μｍ以下である、光導波路フィルム。
【請求項３】
請求項１または２に記載の光導波路フィルムであって、
前記ＳＲａ２が、２μｍ以下である、光導波路フィルム。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載の光導波路フィルムであって、
前記光コネクタ挿入領域における当該光導波路フィルムの側面の表面粗さをＳＲａ３としたとき、
前記ＳＲａ３が、０．２μｍ以下である、光導波路フィルム。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載の光導波路フィルムであって、
前記下部クラッド層の下面側に設けられた下部基材層と、
前記上部クラッド層の上面側に設けられた上部基材層と、をさらに備えており、
前記下部基材層および前記上部基材層は、ポリイミド層で構成されている、光導波路フィルム。
【請求項６】
請求項５に記載の光導波路フィルムであって、
前記下部基材層の膜厚は、前記上部基材層の膜厚と同じである、光導波路フィルム。
【請求項７】
請求項５または６に記載の光導波路フィルムであって、
前記下部基材層の弾性率は、前記上部基材層の弾性率と相違する、光導波路フィルム。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項に記載の光導波路フィルムであって、
当該光導波路フィルムの膜厚は、５０μｍ以上３００μｍ以下である、光導波路フィルム。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか１項に記載の光導波路フィルムであって、
前記上部クラッド層および／又は前記下部クラッド層の膜厚は、１μｍ以上５０μｍ以下である、光導波路フィルム。
【請求項１０】
光コネクタと、前記光コネクタに一端が挿入された請求項１から９のいずれか１項に記載の光導波路フィルムと、を備える、光学部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光導波路フィルムおよび光学部品に関する。
【背景技術】
【０００２】
これまで光導波路フィルムにおいては、シリコン基板やガラス基板上に石英を用いて導波路を作成してなる無機導波路やポリイミド等を用いた有機光導波路が開発されてきた。このような有機光導波路に関する技術としては、例えば、特許文献１に記載の技術が挙げられる。同文献には、支持体上に、下層クラッド層、コア層、上層クラッド層を有するポリイミドフィルムを作成し、かかるポリイミドフィルムから光導波路を切り出すことにより、直線所光導波路フィルムが得られる、と記載されている（特許文献１の段落００６３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−１０３７３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明者が検討したところ、上記の文献に記載の直線形状の光導波路フィルムにおいては、光導波路の入出光の減衰および製造安定性で改善の余地を有していることが判明した。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者は、長尺状の光導波路フィルムにおける光学特性への影響について検討したところ、コアパターン中の光の減衰とともに生産性に着眼した。
こうした着眼点に基づいて、検討を重ねた結果、同じカッティング方法によって光導波路フィルムの全周囲を切り出すと、これら光の減衰と生産性のバランスを図ることが難しいことが分かった。例えば、全周囲をダイシングブレードでカッティングすると、光の減衰を抑制できるが、一方で、曲面加工性や加工速度等の生産性が低下することがあった。
そこで、光導波路フィルムの導波路端面を鏡面とすることにより、当該導波路端面から出入力される光において、その減衰を抑制できることがわかった。
一方、光導波路フィルムの側面は鏡面でなくても品質に影響を与えないことが判明した。つまり、光導波路フィルムの側面はある程度粗面となるものの生産性の高い加工ができることが判明した。
しかしながら、光導波路フィルムの側面を粗面化し過ぎると、異物やバリ、層間剥離などの発生により製造安定性が低下することが判明した。
本発明者がさらに検討したところ、導波路端面における鏡面度合い／側面における粗面度合い、という表面粗さ比に基づいて、鏡面度合いに対する粗面度合いの程度を適切に制御することにより、上記の製造安定性の低下を抑制できることを見出した。
このような知見に基づいて、鋭意検討した結果、導波路端面における鏡面および側面における粗面について、３次元表面粗さＳＲａを指標として採用するとともに、導波路端面における表面粗さをＳＲａ１とし、光導波路フィルムの側面における表面粗さをＳＲａ２としたとき、ＳＲａ１／ＳＲａ２を指標とすることにより、上記の表面粗さ比を適切に評価できることが分かった。
このような知見に基づきさらに鋭意研究したところ、ＳＲａ１／ＳＲａ２を所定値以下とすることにより、光導波路の入出光の減衰を抑制でき、ＳＲａ１／ＳＲａ２を所定値以上とすることにより、異物やバリ、層間剥離などの発生により製造安定性が低下することを抑制できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００６】
本発明によれば、
下部クラッド層と、前記下部クラッド層上に設けられたパターン状のコア部と、前記コア部上に設けられた上部クラッド層と、を備える長尺状の光導波路フィルムであって、
当該光導波路フィルムの少なくとも一端に光コネクタ挿入領域が設けられており、
前記光コネクタ挿入領域において、前記コア部同士が隣接する導波路端面における表面粗さをＳＲａ１とし、
前記コア部の長手方向に延在する当該光導波路フィルムの側面における表面粗さをＳＲａ２としたとき、
ＳＲａ１／ＳＲａ２が、０．０２以上０．５以下である、光導波路フィルムが提供される。
【０００７】
また本発明によれば、
光コネクタと、前記光コネクタに一端が挿入された上記光導波路フィルムと、を備える、光学部品が提供される。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、光導波路の入出光の減衰が抑制されるとともに、生産性が高く、製造安定性に優れた光導波路フィルムおよびそれを用いた光学部品が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本実施形態の光導波路フィルムの構造を示す模式図である。
【図２】自由度Ｘの測定方法を説明するための図である。
【図３】自由度Ｙの測定方法を説明するための図である。
【図４】本実施形態の光導波路シートの構造を示す模式図である。
【図５】本実施形態の光導波路シートから光導波路フィルムを切り出す工程を示す模式図である。
【図６】本実施形態の光導波路フィルムの切出工程の変形例を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。尚、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。なお、本実施の形態では図示するように前後左右上下の方向を規定して説明する。しかし、これは構成要素の相対関係を簡単に説明するために便宜的に規定するものである。従って、本発明を実施する製品の製造時や使用時の方向を限定するものではない。
【００１１】
本実施形態の光導波路フィルム１００の概要について説明する。
図１は、光導波路フィルム１００の概要を説明するための上面図（図１（ａ））、導波路端面１０１を示す正面図（図１（ｂ））、側面図（図１（ｃ））および斜視図（図１（ｄ））である。
【００１２】
本実施形態の光導波路フィルム１００は、下部クラッド層１３０と、下部クラッド層１３０上に設けられたパターン状のコア部１１２、およびコア部１１２上に設けられた上部クラッド層１２０と、が積層された積層構造を有することができる。光導波路フィルム１００は、長尺状の樹脂フィルムであり、それ自体単独で自立することができる。また、光導波路フィルム１００は、靱性を有しており、曲げた状態でも曲げていない状態でも使用することができる。本実施形態の光導波路フィルム１００は、少なくとも一端に光コネクタ挿入領域１０６を有することができ、かかる一端（光コネクタ挿入領域１０６）が光コネクタに挿入されてなる光部品に用いることができる。
【００１３】
図１（ａ）の上面図に示すように、本実施形態の光導波路フィルム１００は、上面視において、コア部１１２の長手方向に対して長尺状の板部材とすることができる。すなわち、光導波路フィルム１００の長手方向の長さは、光導波路フィルム１００の短手方向の幅よりも長尺である。本実施形態において、光導波路フィルム１００の上面視において、コア部１１２が延在している方向を長手方向とし、当該長手方向に対して直交する方向であり、複数のコア部１１２が横並びする方向を短手方向とする。
【００１４】
光導波路フィルム１００の一端には光コネクタ挿入領域１０６が形成されていてもよい。光コネクタ挿入領域１０６における光導波路フィルム１００の端面には導波路端面１０１が形成されている。導波路端面１０１は、光入射面として機能する。例えば、光導波路フィルム１００の導波路端面１０１において、光コネクタを介して、光が入出力することができる。
【００１５】
一方、光導波路フィルム１００の他端には、同様に光コネクタ挿入領域が形成されていてもよいが、図１（ａ）のように光変換領域１０７が形成されていてもよい。例えば、光変換領域１０７の表面１０２には溝部１０９が形成されていてもよい。溝部１０９は、コア部１１２を通過する光信号の光路変換を行うミラーとして機能する。
【００１６】
本実施形態の光導波路フィルム１００において、光コネクタ挿入領域１０６から光変換領域１０７に亘って、コア部１１２が延在していてもよい。また、コア部１１２は、一端の導波路端面１０１から他端の光変換領域１０７における端面まで、延在していてもよい。ただし、光変換領域１０７に溝部１０９が形成されている場合、光変換領域１０７におけるコア部１１２は、溝部１０９により分断されていてもよい。
【００１７】
図１（ｂ）の正面図に示すように、光導波路フィルム１００の導波路端面１０１は、例えば、下部クラッド層１３０、コア層１１０、上部クラッド層１２０がこの順で積層した積層構造を有することができる。また、光導波路フィルム１００に対して平行な断面視において、光導波路フィルム１００の断面構造においても、上記の積層構造を有することができる。本実施形態において、上部クラッド層１２０の上面は上部基材層１４０で覆われていてもよい。下部クラッド層１３０の下面は下部基材層１５０で覆われていてもよい。これにより、光導波路フィルム１００の機械特性や耐久性を向上させることができる。
【００１８】
また、光導波路フィルム１００の短手方向において、コア層１１０は、複数のコア部１１２が互いに離間して配置されている。コア部１１２の間にはクラッド部１１４が形成されている。このように、本実施形態において、コア部１１２は、上下左右をクラッド層（上部クラッド層１２０、下部クラッド層１３０）またはクラッド部１１４で覆われているため、優れた光学特性を実現することができる。
【００１９】
図１（ｃ）の側面図に示すように、本実施形態の光導波路フィルム１００は、下部クラッド層１３０、コア層１１０および上部クラッド層１２０の積層構造を有することができる。側面におけるコア層１１０においては、コア部１１２がクラッド部１１４で覆われている構造を有する。すなわち、複数のコア部１１２は、それぞれの両側面がクラッド部１１４で覆われた構造を有することができる。
【００２０】
本実施形態の表面粗さＳＲａは、所定の２次元エリアにおける３次元平均表面粗さを示すものであり、直線的に凹凸を測定することにより１つの断面から算出される２次元平均粗さＲａと比較して、測定値のバラツキを低減できるため安定した評価結果を得ることができる。ここで、２次元平均粗さＲａは、山の最大値と最小値の絶対値の平均値を示す。
【００２１】
本実施形態の表面粗さＳＲａは、例えば、レーザー顕微鏡（例えば、オリンパス社製「ＯＬＳ３１００」）により、倍率１２００倍で表面を観察し、３０μｍ×３０μｍ（厚み方向×面内方向）の測定領域を測定することにより得られた測定結果から算出することができる。
【００２２】
本実施形態において、導波路端面１０１における表面粗さの測定領域は、図１（ｂ）の点線で示すエリアであり、コア部１１２の外周よりも内部に存在することが好ましい。すなわち、導波路端面１０１における表面粗さの測定領域は、コア部１１２内部のみであり、他の領域（例えば、上部クラッド層１２０や上部基材層１４０など）に跨らない領域とすることができる。
【００２３】
また、側面における表面粗さの測定領域は、図１（ｃ）の点線で示すエリアであり、コア層１１０（クラッド部１１４）の外周よりも内部に存在することが好ましい。すなわち、側面における表面粗さの測定領域は、コア部１１２内部のみであり、他の領域（例えば、上部クラッド層１２０や上部基材層１４０など）に跨らない領域とすることができる。
【００２４】
本実施形態の光導波路フィルム１００中、光コネクタ挿入領域１０６において、コア部１１２同士が隣接する導波路端面１０１における表面粗さをＳＲａ１とし、コア部１１２の長手方向に延在する当該光導波路フィルム１００の側面における表面粗さをＳＲａ２とする。
【００２５】
本実施形態の光導波路フィルム１００において、ＳＲａ１／ＳＲａ２の下限値は、例えば、０．０２以上であり、好ましくは０．０３以上であり、より好ましくは０．０５以上である。これにより、異物やバリ、層間剥離などの発生により製造安定性が低下することを抑制できる。一方で、ＳＲａ１／ＳＲａ２の上限値は、例えば、０．５以下であり、好ましは０．４以下であり、より好ましくは０．３以下である。これにより、導波路端面１０１における入出光の減衰を抑制できる。
【００２６】
また、導波路端面１０１における表面粗さＳＲａ１の上限値は、例えば、０．２μｍ以下であり、好ましくは０．１８μｍ以下であり、より好ましくは０．１５μｍ以下である。これにより、導波路端面１０１における入出光の減衰を抑制できる。一方で、導波路端面１０１における表面粗さＳＲａ１の下限値は、特に限定されないが、例えば、０．０１μｍ以上でもよい。
【００２７】
また、光導波路フィルム１００の側面における表面粗さＳＲａ２の上限値は、例えば、２μｍ以下であり、好ましくは１．８μｍ以下であり、より好ましくは１．５μｍ以下である。これにより、異物やバリ、層間剥離などの発生により製造安定性が低下することを抑制できる。一方で、光導波路フィルム１００の側面における表面粗さＳＲａ２の下限値は、例えば、上記表面粗さＳＲａ１と比較して相対的に大きければ特に限定されないが、例えば、０．３μｍ以上でもよく、好ましくは０．４μｍ以上でもよく、より好ましくは０．５μｍ以上でもよい。これにより、生産性の高い加工を選択することができる。
【００２８】
本実施形態において、表面粗さＳＲａ２を有する側面は、図１（ａ）に示す接続路領域１０８における光導波路フィルム１００の側面１０４とすることができる。これにより、光コネクタ挿入領域１０６と光変換領域１０７との間における光学特性を向上させることができる。また、表面粗さＳＲａ２を有する側面は、図１（ａ）に示す光変換領域１０７の外周面まで含めることができる。これにより、異物やバリ、層間剥離などの発生により製造安定性の低下を抑制できる。なお、表面粗さＳＲａ２を有する側面は、光コネクタ挿入領域１０６における側面１０３まで含めてもよいが、含めなくてもよい。
【００２９】
本実施形態において、光コネクタ挿入領域１０６における光導波路フィルム１００の側面１０３の表面粗さをＳＲａ３としたとき、側面１０３における表面粗さＳＲａ３の上限値は、例えば、０．２μｍ以下であり、好ましくは０．１８μｍ以下であり、より好ましくは０．１５μｍ以下である。すなわち、光コネクタ挿入領域１０６における側面１０３を鏡面とすることができる。これにより、コネクタの挿入時に側面の異物やバリ、層間剥離などによるコネクタ挿入不良を防ぐことができる。また、光コネクタ挿入領域１０６における光導波路フィルム１００の寸法幅も高度に制御されているため、光コネクタの挿入口に対する寸法安定性に優れた構造となる。このため、光コネクタ挿入時における光導波路フィルム１００の光学特性を向上させることができる。一方で、側面１０３における表面粗さＳＲａ３の下限値は、特に限定されないが、例えば、０．０１μｍ以上でもよい。なお、光コネクタの挿入口に挿入した状態で使用した場合、光コネクタ挿入領域１０６における光導波路フィルム１００の表面や側面１０３は、光コネクタで覆われた状態となる。
【００３０】
本実施形態では、例えば光導波路フィルム１００中に含まれる各成分の種類や配合量、光導波路フィルム１００の層構造や製造方法等を適切に選択することにより、上記ＳＲａを制御することが可能である。これらの中でも、例えば、ダイシングブレード等の高精度のカッティング方法を使用することにより鏡面を形成すること、カッティングソーや刃型等の切断面が粗くなるカッティング方法を使用することにより粗面を形成すること等が、上記ＳＲａ１ＳＲａ２およびＳＲａ３を所望の数値範囲とするための要素として挙げられる。
【００３１】
図１（ｄ）の斜視図に示すように、本実施形態の光導波路フィルム１００は、短手方向において、上面側に向かって凸形状を有することができ、かつ、長手方向において、当該上面側とは反対側の下面側に向かって凸形状を有することができる。ここで、図１（ｄ）における上面とは、光導波路フィルム１００の表面１０２であり、光の出入力面（例えば、レンズ等の実装面）とする。
なお、図１（ａ）〜図１（ｃ）においては、光導波路フィルム１００の概略を理解するための図であるため、図１（ｄ）に示されるような凸構造については示されていない。
【００３２】
本実施形態の光導波路フィルム１００は、長手方向における自由度Ｘおよび短手方向における自由度Ｙを有することができる。本実施形態における自由度とは、荷重が加えられていないときの初期の構造状態を意味するものであり、図２および図３で示されているとおり、反りが無い状態を基準とした変位量で表現される。図２（ａ）（ｂ）は、自由度Ｘの測定方法を説明するための図であり、図３（ａ）（ｂ）は、自由度Ｙの測定方法を説明するための図である。なお、図２（ａ）は、図２（ｂ）の光導波路フィルム１００の側面図である。図３（ａ）は、図３（ｂ）の光導波路フィルム１００の導波路端面１０１を示す正面図である。
【００３３】
本実施形態の光導波路フィルム１００においては、下記条件で測定した、コア部１１２の長手方向における自由度をＸとし、長手方向と直交する方向であってコア部１１２同士が隣接する短手方向における自由度をＹとしたとき、Ｘ／Ｙ（ただし、Ｘ＞０、かつ、Ｙ＞０）は、１２０以上１２００以下とすることができる。
【００３４】
長手方向における自由度Ｘの測定条件は、次の通りである。
図２（ｂ）に示すように、地面に対して水平な搭載面２１０を有する支持台２００を準備し、光導波路フィルム１００の一端が自由端２２０となるように支持台２００の搭載面２１０に光導波路フィルム１００を設置し、一端（自由端２２０）から２５ｍｍの位置を固定する。この固定位置を基準として、一端（自由端２２０）の、搭載面２１０に対して垂直方向の変位量を、上記自由度Ｘとする。測定は、室温２５℃で行う。
【００３５】
また、さらに詳細な条件としては、次のようなものが挙げられる。図２において、光導波路フィルム１００の一端（自由端）は、導波路端面１０１を有するものである。また、光導波路フィルム１００の表面１０２（上面）を、支持台２００の搭載面２１０に対向するように固定する。また、本発明者が検討した結果、図２に示すように、自由端の長さが２５ｍｍ程度であれば、重力による自重の変形の影響を受けずに、自由端２２０がどの程度浮くか測定できることが分かった。
【００３６】
短手方向における自由度Ｙの測定条件は、次の通りである。
図３（ｂ）に示すように、地面に対して水平な搭載面２１０を有する支持台２００を準備し、光導波路フィルム１００の一端が自由端２２０となるように支持台２００の搭載面２１０に光導波路フィルム１００を設置し、一端（自由端２２０）から７ｍｍの位置を固定する。一端（自由端２２０）とは反対側の他端からコア部１１２に光を入射し、自由端２２０におけるコア部１１２の位置情報を取得する。続いて、図３（ａ）に示すように、コア部１１２の位置情報から、短手方向における最外に位置する第１コア部２４０と短手方向における中心に最隣接した第２コア部２５０との位置ずれ量を算出し、自由度Ｙとする。測定は、室温２５℃で行う。
【００３７】
また、さらに詳細な条件としては、次のようなものが挙げられる。図３（ｂ）において、光導波路フィルム１００の一端（自由端）は、導波路端面１０１を有するものである。また、光導波路フィルム１００の裏面（光が入出力可能な溝部１０９を有する表面１０２とは反対の面）を、支持台２００の搭載面２１０に対向するように、荷重を加えて固定しない状態で静置する。他端からコア部１１２に光を入射するとは、他端に形成された導波路端面でもよいが、他端側の溝部１０９から光を照射し、コア部１１２を通って自由端２２０の導波路端面１０１から出力させてもよい。続いて、図３（ａ）に示すように、導波路端面１０１における光の照射位置から、コア部１１２の位置情報を取得する。コア部１１２の位置情報は、カメラで測定する。このように得られたコア部１１２の位置情報を、Ｘ軸とＹ軸からなる平面座標にプロットする。そして、平面座標上において、最外に位置するコア部１１２（第２コア部２５０）の２点を結ぶ直線Ｌを引き、かかる直線Ｌから、中心に最隣接したコア部１１２（第１コア部２４０）を示す座標の距離Ｄ（コア部１１２が対称構造を有する場合であって、２つの第１コア部２４０が存在するときには、かかる距離Ｄのうち大きい方）を、上記自由度Ｙとする。
また、本発明者は、短手方向における自由度Ｙは、直接顕微鏡で測定することは困難であり、光の入出力によりコア部１１２の位置情報（位置座表）を用いることにより検出できることを見出した。
【００３８】
本実施形態の光導波路フィルム１００において、自由度Ｙに対する自由度Ｘの比であるＸ／Ｙの下限値は、例えば、１２０以上であり、好ましくは１２５以上であり、より好ましくは１３０以上である。これにより、光導波路フィルム１００全体の剛性を高められる。このため、光コネクタへの挿入しやすさや光導波路フィルム１００の搬送しやすさを高められるので、光コネクタの製造安定性を向上させることができる。一方で、上記Ｘ／Ｙの上限値は、例えば、１２００以下であり、好ましくは１１００以下であり、より好ましくは１０００以下である。これにより、光コネクタへの挿入後における光導波路フィルム１００の搬送性を向上させることができる。
【００３９】
また、上記自由度Ｘの下限値は、例えば、０．５ｍｍ以上であり、好ましくは０．６ｍｍ以上であり、より好ましくは０．７ｍｍ以上である。これにより、平面上に配置された状態の光導波路フィルム１００を掴みやすくなるため、光導波路フィルム１００のハンドリング性を向上させることができる。また、光コネクタ挿入時においても光導波路フィルム１００の表面の視認性が良好となる。このため、光導波路フィルム１００における光素子の搭載面が判別し易くなる。また、自重による光導波路フィルム１００の変形を抑制できる。このため搬送時における光導波路フィルム１００の変形を抑制することができる。
【００４０】
一方で、上記自由度Ｘの上限値は、例えば、４ｍｍ以下であり、好ましくは３．８ｍｍ以下であり、より好ましくは３．５ｍｍ以下である。これにより、長手方向において曲げていない状態で使用したときでも、光導波路フィルム１００の光学特性を向上させることができる。また、光コネクタの挿入口への挿入性を向上させることができる。
【００４１】
また、上記自由度Ｙの下限値は、例えば、１μｍ以上であり、好ましくは１．５μｍ以上であり、より好ましくは２μｍ以上である。これにより、光コネクタの挿入口に挿入したときに、光導波路フィルム１００の一端を光コネクタに仮固定することができる。このため、接着剤などで固定する前に、光コネクタと光導波路フィルム１００との位置ずれを防止することができる。また、アーチ構造により剛性を向上させることができる。このため、搬送時における光導波路フィルム１００の変形を抑制することができる。
【００４２】
一方で、上記自由度Ｙの上限値は、例えば、１０μｍ以下であり、好ましくは９μｍ以下であり、より好ましくは８μｍ以下である。これにより、光コネクタの挿入口への挿入性を向上させることができる。また、手方向において曲げていない状態で使用したときでも、光導波路フィルム１００の光学特性を向上させることができる。
【００４３】
本実施形態では、例えば光導波路フィルム１００中に含まれる各成分の種類や配合量、光導波路フィルム１００の層構造や製造方法等を適切に選択することにより、上記自由度Ｘおよび自由度Ｙを制御することが可能である。これらの中でも、例えば、上部基材層１４０や下部基材層１５０等の光導波路フィルム１００の外層（たとえば、上部クラッド層１２０や下部クラッド層１３０よりも外側の層）において、上面側と下面側で弾性率が相違する材料を用いること、弾性率が高いポリイミドなどの材料を用いること、また、これらの各層を引っ張った状態で積層しないこと等が、上記自由度Ｘおよび自由度Ｙを所望の数値範囲とするための要素として挙げられる。
【００４４】
詳細なメカニズムは定かでないが、光導波路フィルム１００の作製時において、各層を引っ張らずに積層しているため、上部基材層１４０や下部基材層１５０の残留応力により、光導波路フィルム１００が上記自由度Ｘおよび自由度Ｙを有するものと考えられる。このため、本実施形態の光導波路フィルム１００は、各層の間（たとえば、上部基材層１４０と上部クラッド層１２０との間や、下部基材層１５０と下部クラッド層１３０との間）には界面応力がほとんど生じないため、光学特性に優れるものと推察される。
【００４５】
以上のように、本実施形態の光導波路フィルム１００は、曲直自在のフレキシブルな樹脂フィルムであり、長手方向における自由度Ｘおよび短手方向における自由度Ｙを有することができる。本実施形態の光導波路フィルム１００によれば、光コネクタへの挿入操作性を高められ、光学部品の製造安定性を向上させることができる。また、光コネクタに装着された状態においても、光導波路フィルム１００の光学特性を向上させることができる。
【００４６】
また、本実施形態の光導波路フィルム１００は、図１（ｄ）の斜視図に示すように、短手方向において、上面側に向かって凸形状を有することができ、かつ、長手方向において、当該上面側とは反対側の下面側に向かって凸形状を有することができる。このため、搬送時において自重による変形を抑制できるため、光導波路フィルム１００を光コネクタの挿入口への挿入性を向上させることができる。なお、載置された状態から光導波路フィルム１００を把持しやすく、搬送効率を高めることができる。
次に、本実施形態の光導波路フィルム１００の製造方法について説明する。
本実施形態の光導波路フィルム１００の製造方法としては、下部クラッド層１３０、下部クラッド層１３０上に設けられたパターン状のコア部１１２、およびコア部１１２上に設けられた上部クラッド層１２０、が積層された光導波路シート１０を準備する準備工程と、光導波路シート１０から、コア部１１２の長手方向に対して長尺状の光導波路フィルム１００を切り出す切出工程と、を有することができる。そして、この光導波路フィルム１００の製造方法における切出工程は、光導波路フィルム１００の導波路端面１０１を、ダイシングブレードにより切り出す第１切出工程と、ダイシングブレードで切り出された領域以外の残りの領域を、レーザー、ルーター、超音波カッターまたはウォータージェットによる切断および刃型を用いた打ち抜きからなる群から選択される一種の加工方法により切り出す第２切出工程と、を含むことができる。
【００４７】
本実施形態の光導波路フィルム１００の製造方法によれば、光導波路フィルム１００の導波路端面１０１を精密カット手段で切り出すことができる。これにより、導波路端面１０１を鏡面構造とすることができ、光導波路の結合面において、散乱による光の減衰を十分に抑制することが可能になる。一方で、精密カット手段で切り出した領域以外の領域を、精度加工よりもカット速度に優れた高加工カット手段で切り出すことにより、光導波路フィルム１００の生産性の向上することができる。
【００４８】
ここで、異なるカット手段を併用せずに、同じ加工手段のみで切り出された光導波路フィルムにおいては、導波路反面における光学特性と生産性とはトレードオフの関係となり、一方を向上させれば、他方は低下してしまう結果となっていた。
【００４９】
これに対して、本実施形態によれば、精密カット手段と高加工カット手段との加工手段からカッティング面の要求特性に応じて最適な手段を選択し、これらを併用することにより、光導波路における光の減衰の抑制などの光学特性を向上させつつ、光導波路フィルム１００の生産性を向上させることができる。
【００５０】
以下、本実施形態の光導波路フィルム１００の製造方法について詳述する。
本実施形態の光導波路フィルム１００の製造方法は、光導波路シート１０を準備する準備工程と、光導波路シート１０から長尺状の光導波路フィルム１００を切り出す切出工程と、を含むものである。
【００５１】
図４は、光導波路シート１０の構造を示す模式図である。図４（ａ）は、本実施形態の光導波路シート１０の上面図である。図４（ｂ）は、本実施形態の光導波路シート１０の積層構造を示す、図４（ａ）のＡ−Ａ´断面図である。図４（ｃ）は、光導波路シート１０の変形例における積層構造を示す断面図である。また、図５は、光導波路シート１０から光導波路フィルム１００を切り出す工程を説明するための図である。
【００５２】
（光導波路シート１０の準備工程）
まず、図４に示すような光導波路シート１０を準備する。本実施形態の準備工程は、下部クラッド層１３０、下部クラッド層１３０上に設けられたパターン状のコア部１１２、およびコア部１１２上に設けられた上部クラッド層１２０、が積層されたフィルム構造体（光導波路シート１０）を形成する工程を含むことができる。
【００５３】
本実施形態の光導波路シート１０は、フィルム形状であり、枚葉状でもよく、巻き取り可能なロール状でもよい。また、上記切出工程の前に、本実施形態の光導波路シート１０を、所定面積を有する複数のブロック（区画）に裁断してもよい。これにより、光導波路シート１０のハンドリング性を向上させることができる。それぞれのブロックは、生産性の観点から、複数の光導波路フィルム１００分の面積を有していてもよい。それぞれの区画は、長方形形状とすることができる。
【００５４】
光導波路シート１０は、上面視において所定の形状を有しているが、長方形でも、正方形を有していてもよい。生産性の観点から、光導波路シート１０は、図４（ｂ）または図４（ｃ）に示すコア部１１２が延在する長手方向に対して、長手方向に対して直交する短手方向よりも幅長くなるように延在してもよい。
【００５５】
本実施形態の光導波路シート１０は、図４（ａ）および図５に示すように、上面視において少なくとも１以上の光導波路フィルム１００の面積を有するものであればよく、生産性の観点から、複数の光導波路フィルム１００の合計面積を有していることが好ましい。例えば、長手方向における光導波路シート１０の幅は、１つまたは２以上の光導波路フィルム１００の長尺分が切り取れる面積を有していてもよく、短手方向における光導波路シート１０の幅は、１つまたは２以上の光導波路フィルム１００の短尺分が切り取れる面積を有していてもよい。
【００５６】
本実施形態の光導波路シート１０は、図４（ｂ）に示すように、下部クラッド層１３０、パターン化されたコア部１１２および上部クラッド層１２０を有することができる。なお、光導波路シート１０は、図４（ｃ）に示すように、下部クラッド層１３０の下面側に下部基材層１５０が形成されていてもよい。また、上部クラッド層１２０の上面側に上部基材層１４０が形成されていてもよい。
【００５７】
本実施形態においては、一例として、図４（ｃ）に示す光導波路シート１０を製造する工程を説明する。この場合、上記の準備工程は、下部基材層１５０の上面側に下部クラッド層１３０を形成する工程と、上部クラッド層１２０の上面側に上部基材層１４０を形成する工程と、を含むことができる。具体的な一例としては、まず、基材（下部基材層１５０）の表面上に下部クラッド層１３０を形成する。続いて、下部クラッド層１３０の表面上に、パターン形状を有するコア部１１２を形成する。続いて、コア部１１２を覆うように、上部クラッド層１２０を形成する。その後、上部クラッド層１２０の表面上に上部基材層１４０を形成する。
【００５８】
本実施形態において、上記のパターン形状を有するコア部１１２の形成方法としては、特に限定されないが、例えば、露光法、エッチング法または複製法等の各種の光導波路加工方法を用いることができる。
【００５９】
露光法による光導波路加工方法の場合、例えば、次のように、フォトリトグラフィー法による現像工程が不要な第１工程と、現像工程が必要な第２工程を採用することができる。
まず、基材上に下部クラッド層およびコア層を形成する。続いて、フォトリトグラフィー法によりコア層にコアパターンを形成する。例えば、コアパターンを有するフォトマスクを介して、コア層に対して、活性光線を照射する露光処理を行う。
ここで、第１工程の場合、コア層のうち、露光領域にパターン化されたコア部が形成され、未露光領域にはクラッド部が形成される。一方で、第２工程の場合、コア層のうち、露光領域に硬化部（コア部）が形成され、未露光領域に未硬化部が形成される。そして、各種溶剤及びアルカリ溶液等の現像液を用いた現像工程で未硬化部を除去し、硬化部を残すことでパターン下されたコア部を形成する。その後、コア部上に上部クラッド層を形成する。
また、コア層を形成した後で、得られたコア層の両側に、それぞれ下部クラッド層および上部クラッド層を積層してもよい。
【００６０】
また、エッチング法による光導波路加工方法の場合、例えば、次のような工程を採用することができる。まず、基材上に下部クラッド層およびコア層を形成する。コア層上にパターンを有するフォトレジストを形成する。当該フォトレジストをマスクとして、下層のコア層をパターニングする。パターニングには、たとえば、リアクティブイオンエッチングなどの各種エッチング方法が用いられる。そして、マスクを除去した後、パターニングされたコア部を埋め込むように上部クラッド層を形成する。
【００６１】
また、複製法による光導波路加工方法の場合、例えば、次のような工程を採用することができる。まず、基材上に下部クラッド層を形成する。当該下部クラッド層に、コアパターンを有する型を押し付けて、当該下部クラッド層の内部方向にコアパターン状の穴部を形成する。形成された穴部にワニス状のコア層形成用樹脂組成物を注入し、パターン化されたコア部を形成する。そして、コア部上に上部クラッド層を形成する。
【００６２】
本実施形態において、基材（下部基材層１５０）上に、クラッド層（上部クラッド層１２０、上部クラッド層１２０）やコア層１１０を形成する手法としては、ワニス状の樹脂組成物を塗布する方法やワニス状の樹脂組成物からなる樹脂膜を積層する方法などが用いられる。
【００６３】
上記の塗布する方法としては、例えば、ピンコーター、ダイコーター、コンマコーター、カーテンコーター等の各種コーター装置を用いて直接塗布する方法、スクリーン印刷などの印刷方法が用いられる。印刷方法により、部分的に塗布することができる。
また、上記の樹脂膜を形成する方法としては、例えば、ワニス状の樹脂組成物を基材上に塗布した後、得られた塗布膜を乾燥する方法を用いることができる。
また、上記の積層する方法としては、例えば、フィルム状の樹脂膜を、ロールラミネート、真空ロールラミネート、平板ラミネート、真空平板ラミネート、常圧プレス、真空プレス等を用いて積層する方法を用いることができる。
【００６４】
本実施形態において、例えば、一旦基材（下部基材層１５０）上に下部クラッド層１３０等の層を形成し、その後、基材を剥離することで形成することが可能である。この場合、下部クラッド層１３０は、コア層１１０を形成する前に、硬化させておいてもよい。これにより、下部クラッド層１３０の強度を向上させることができる。
【００６５】
次に、コア層１１０（またはコア部１１２）、クラッド層（上部クラッド層１２０、下部クラッド層１３０）、基材層（上部基材層１４０、下部基材層１５０）の各成分について説明する。
【００６６】
（コア層形成用樹脂組成物）
本実施形態のコア層形成用樹脂組成物は、例えば、ポリマーＡ、モノマーＡおよび重合開始剤Ａを含むことができる。
【００６７】
上記ポリマーＡとしては、たとえば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂やオキセタン系樹脂のような環状エーテル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン、ポリオレフィン系樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ＰＥＴやＰＢＴのようなポリエステル、ポリエチレンサクシネート、ポリサルフォン、ポリエーテル、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて、ポリマーアロイ、ポリマーブレンド（混合物）、共重合体等として用いることができる。
【００６８】
この中でも、アクリル系樹脂、フェノキシ樹脂、環状オレフィン系樹脂などを用いることができる。
アクリル系樹脂としては、例えば、単官能アクリレート、多官能アクリレート、単官能メタクリレート、多官能メタクリレート、ウレタンアクリレート、ウレタンメタクリレート、エポキシアクリレート、エポキシメタクリレート、ポリエステルアクリレート、または尿素アクリレートからなる群から選択される一種以上を含むアクリル化合物の重合体が挙げられる。また、アクリル系樹脂は、ポリエステル骨格、ポリプロピレングリコール骨格、ビスフェノール骨格、フルオレン骨格、トリシクロデカン骨格、ジシクロペンタジエン骨格などを有していてもよい。
フェノキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物またはそれらの誘導体、およびビスフェノールＦ、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物またはそれらの誘導体を共重合成分の構成単位として含むものが挙げられる。
【００６９】
ポリマーＡの含有量は、たとえば、コア層形成用樹脂組成物の固形分全体に対して１５質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることが好ましく、６０質量％以上であることがより好ましい。これにより、機械特性が向上する。また、コア層形成用樹脂組成物に含まれるポリマーの含有量は、たとえばコア層形成用樹脂組成物の固形分全体に対して９５質量％以下であることが好ましく、９０質量％以下であることがより好ましい。これにより、光学特性が向上する。
【００７０】
本実施形態において、樹脂組成物の固形分全体とは、組成物樹脂中における不揮発分を指し、水や溶媒等の揮発成分を除いた残部を指す。また、本実施形態において、樹脂組成物全体に対する含有量とは、溶媒を含む場合には、樹脂組成物のうちの溶媒を除く固形分全体に対する含有量を指す。
【００７１】
上記モノマーＡとしては、分子構造中に重合可能な部位を有する化合物であればよく、特に限定されないが、例えば、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ノルボルネン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー、スチレン系モノマー、光二量化モノマー等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００７２】
この中でも、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、エポキシ系モノマーなどを用いてもよい。
アクリル酸（メタクリル酸）系モノマーとしては、例えば、２つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物を用いてもよく、２官能又は３官能以上の（メタ）アクリレートを用いてもよい。例えば、脂肪族（メタ）アクリレート、脂環式（メタ）アクリレート、芳香族（メタ）アクリレート、複素環式（メタ）アクリレート、またはこれらのエトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体、カプロラクトン変性体などが挙げられる。また、分子内に、ビスフェノール骨格、ウレタン骨格などを有していてもよい。
エポキシ系モノマーとしては、脂環族エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物等が挙げられる。
【００７３】
上記モノマーＡとしては、可視光、紫外線、赤外線、レーザー光、電子線、Ｘ線等の活性光線の照射により、照射領域において反応して反応物を生成する光重合性モノマーを用いてもよい。また、上記モノマーＡは、活性光線の照射時においてコア層中の膜厚と直交する面内方向に移動可能であり、コア層において活性光線の照射領域と非照射領域との間で屈折率差を生じさせるものであってもよい。
【００７４】
モノマーＡの含有量は、ポリマーＡの１００質量％に対し、１質量％以上７０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上６０質量％以下であることがより好ましい。これにより、屈折率変調をより確実に起こすことができる。
【００７５】
（重合開始剤）
上記重合開始剤Ａは、モノマーＡの重合反応または架橋反応の種類に応じて適宜選択される。上記重合開始剤Ａとしては、例えば、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、スチレン系モノマー等のラジカル重合開始剤、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー等のカチオン重合開始剤を用いることができる。
【００７６】
ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類等が挙げられる。具体的には、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２９５９、イルガキュア１８４（以上、ＢＡＳＦジャパン製）等が挙げられる。
【００７７】
カチオン重合開始剤としては、例えば、ジアゾニウム塩のようなルイス酸発生型のもの、ヨードニウム塩、スルホニウム塩のようなブレンステッド酸発生型のもの等が挙げられる。具体的には、アデカオプトマーＳＰ−１７０（ＡＤＥＫＡ製）、サンエイドＳＩ−１００Ｌ（三新化学工業製）、Ｒｈｏｄｏｒｓｉｌ２０７４（ローディアジャパン製）等が挙げられる。
【００７８】
重合開始剤Ａの含有量は、ポリマーＡの１００質量％に対して、０．０１質量％以上５質量％以下であることが好ましく、０．０５質量％以上３質量％以下であることがより好ましい。これにより、コア層の光学特性や機械的特性を低下させることなく、モノマーを速やかに反応させることができる。
【００７９】
（その他）
コア層形成用樹脂組成物は、例えば、架橋剤、増感剤（光増感剤）、触媒前駆体、助触媒、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、劣化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等をさらに含んでいてもよい。
【００８０】
（溶剤）
コア層形成用樹脂組成物に含まれる溶剤としては、たとえばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、酢酸エチル、シクロヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、セルソルブ系、カルビトール系、アニソール、およびＮ−メチルピロリドン等の有機溶剤から選択される一種または二種以上を含むことができる。
【００８１】
（クラッド層形成用樹脂組成物）
本実施形態のクラッド層形成用樹脂組成物は、例えば、ポリマーＢ、モノマーＢおよび重合開始剤Ｂを含むことができる。
【００８２】
上記ポリマーＢとしては、たとえば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂やオキセタン系樹脂のような環状エーテル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン、ポリオレフィン系樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ＰＥＴやＰＢＴのようなポリエステル、ポリエチレンサクシネート、ポリサルフォン、ポリエーテル、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて、ポリマーアロイ、ポリマーブレンド（混合物）、共重合体等として用いることができる。
【００８３】
この中でも、アクリル系樹脂、フェノキシ樹脂、環状オレフィン系樹脂などを用いることができる。
アクリル系樹脂としては、例えば、単官能アクリレート、多官能アクリレート、単官能メタクリレート、多官能メタクリレート、ウレタンアクリレート、ウレタンメタクリレート、エポキシアクリレート、エポキシメタクリレート、ポリエステルアクリレート、または尿素アクリレートからなる群から選択される一種以上を含むアクリル化合物の重合体が挙げられる。また、アクリル系樹脂は、ポリエステル骨格、ポリプロピレングリコール骨格、ビスフェノール骨格、フルオレン骨格、トリシクロデカン骨格、ジシクロペンタジエン骨格などを有していてもよい。
フェノキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物またはそれらの誘導体、およびビスフェノールＦ、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物またはそれらの誘導体を共重合成分の構成単位として含むものが挙げられる。
【００８４】
また、上記ポリマーＢは、必要に応じて熱硬化性樹脂を含んでもよい。熱硬化性樹脂としては、例えば、アミノ樹脂、イソシアネート化合物、ブロックイソシアネート化合物、マレイミド化合物、ベンゾオキサジン化合物、オキサゾリン化合物、カルボジイミド化合物、シクロカーボネート化合物、多官能オキセタン化合物、エピスルフィド樹脂、エポキシ樹脂などの公知慣用の熱硬化性樹脂が使用できる。
【００８５】
ポリマーＢの含有量は、たとえば、クラッド層形成用樹脂組成物の固形分全体に対して１５質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることが好ましく、６０質量％以上であることがより好ましい。これにより、機械特性が向上する。また、コア層形成用樹脂組成物に含まれるポリマーの含有量は、たとえばコア層形成用樹脂組成物の固形分全体に対して９５質量％以下であることが好ましく、９０質量％以下であることがより好ましい。これにより、光学特性が向上する。
【００８６】
上記モノマーＢとしては、分子構造中に重合可能な部位を有する化合物であればよく、特に限定されないが、例えば、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ノルボルネン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー、スチレン系モノマー、光二量化モノマー等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００８７】
この中でも、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、エポキシ系モノマーなどを用いてもよい。
アクリル酸（メタクリル酸）系モノマーとしては、例えば、２つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物を用いてもよく、２官能又は３官能以上の（メタ）アクリレートを用いてもよい。例えば、脂肪族（メタ）アクリレート、脂環式（メタ）アクリレート、芳香族（メタ）アクリレート、複素環式（メタ）アクリレート、またはこれらのエトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体、カプロラクトン変性体などが挙げられる。また、分子内に、ビスフェノール骨格、ウレタン骨格などを有していてもよい。
エポキシ系モノマーとしては、脂環族エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物等が挙げられる。
【００８８】
モノマーＢの含有量は、ポリマーＢの１００質量％に対し、１質量％以上７０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上６０質量％以下であることがより好ましい。これにより、屈折率変調をより確実に起こすことができる。
【００８９】
（重合開始剤）
上記重合開始剤Ｂは、モノマーＢの重合反応または架橋反応の種類に応じて適宜選択される。上記重合開始剤Ｂとしては、例えば、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、スチレン系モノマー等のラジカル重合開始剤、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー等のカチオン重合開始剤を用いることができる。
【００９０】
ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類等が挙げられる。具体的には、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２９５９、イルガキュア１８４（以上、ＢＡＳＦジャパン製）等が挙げられる。
【００９１】
カチオン重合開始剤としては、例えば、ジアゾニウム塩のようなルイス酸発生型のもの、ヨードニウム塩、スルホニウム塩のようなブレンステッド酸発生型のもの等が挙げられる。具体的には、アデカオプトマーＳＰ−１７０（ＡＤＥＫＡ製）、サンエイドＳＩ−１００Ｌ（三新化学工業製）、Ｒｈｏｄｏｒｓｉｌ２０７４（ローディアジャパン製）等が挙げられる。
【００９２】
重合開始剤Ｂの含有量は、ポリマーＢの１００質量％に対して、０．０１質量％以上５質量％以下であることが好ましく、０．０５質量％以上３質量％以下であることがより好ましい。これにより、コア層の光学特性や機械的特性を低下させることなく、モノマーを速やかに反応させることができる。
【００９３】
（その他）
クラッド層形成用樹脂組成物は、例えば、架橋剤、増感剤（光増感剤）、触媒前駆体、助触媒、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、劣化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等をさらに含んでいてもよい。
【００９４】
（溶剤）
クラッド層形成用樹脂組成物に含まれる溶剤としては、たとえばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、酢酸エチル、シクロヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、セルソルブ系、カルビトール系、アニソール、およびＮ−メチルピロリドン等の有機溶剤から選択される一種または二種以上を含むことができる。
【００９５】
ワニス状のコア層形成用樹脂組成物またはクラッド層形成用樹脂組成物は、たとえば上記各成分を、溶剤中に添加し、撹拌することにより得られた溶液を例えば０．２μｍ孔径のＰＴＦＥフィルターでろ過することにより得ることができる。この際、たとえば超音波分散方式、高圧衝突式分散方式、高速回転分散方式、ビーズミル方式、高速せん断分散方式、および自転公転式分散方式などの各種混合機を用いることができる。
【００９６】
本実施形態のコア層１１０中のコア部１１２は、上述のコア層形成用樹脂組成物で構成されていてもよい。また、上部クラッド層１２０、下部クラッド層１３０は、それぞれ、同種または異種の、上述のクラッド層形成用樹脂組成物で構成されていてもよい。
【００９７】
（基材層）
基材層（上部基材層１４０、下部基材層１５０）の構成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリカーボネート、またはポリエーテルサルフォン等が挙げられる。基材層としては、これらの構成材料からなるフィルムを用いることができる。
【００９８】
本実施形態において、上部基材層１４０および下部基材層１５０は、同種の材料で構成されていてもよい。例えば、上部基材層１４０および下部基材層１５０は、ポリイミドからなる樹脂層で構成されていてもよい。
【００９９】
本実施形態において、上部基材層１４０および下部基材層１５０の膜厚の下限値は、それぞれ、例えば、５μｍ以上でもよく、好ましくは１０μｍ以上である。一方で、上部基材層１４０および下部基材層１５０の膜厚の上限値は、それぞれ、例えば、５０μｍ以下でもよく、好ましくは３０μｍ以下であり、より好ましくは２５μｍ以下である。
本実施形態において、下部基材層１５０の膜厚は、上部基材層１４０の膜厚と同じであってもよい。
【０１００】
本実施形態において、上部基材層１４０および下部基材層１５０の弾性率の下限値は、それぞれ、例えば、１ＧＰａ以上でもよく、好ましくは２ＧＰａ以上であり、より好ましくは３ＧＰａ以上である。一方で、上部基材層１４０および下部基材層１５０の弾性率の上限値は、それぞれ、例えば、１２ＧＰａ以下でもよく、好ましくは１１ＧＰａ以下であり、より好ましくは１０ＧＰａ以下である。
本実施形態において、下部基材層１５０の弾性率は、上部基材層１４０の弾性率と相違してもよい。なお、本実施形態において、上記弾性率は、引張り弾性率とする。
【０１０１】
本実施形態において、上部クラッド層１２０および下部クラッド層１３０の膜厚の下限値は、それぞれ、例えば、１μｍ以上でもよく、好ましくは３μｍ以上であり、より好ましくは５μｍ以上である。一方で、上部クラッド層１２０および下部クラッド層１３０の膜厚の上限値は、それぞれ、例えば、５０μｍ以下でもよく、好ましくは３０μｍ以下であり、より好ましくは１５μｍ以下である。なお、上部クラッド層１２０の膜厚としては、例えば、コア部１１２上における上部クラッド層１２０の膜厚としてもよい。
【０１０２】
本実施形態において、光導波路シート１０の全体の膜厚の下限値は、例えば、５０μｍ以上でもよく、好ましくは６０μｍ以上であり、より好ましくは７０μｍ以上である。一方で、光導波路シート１０の全体の膜厚の上限値は、例えば、３００μｍ以下でもよく、好ましくは２００μｍ以下であり、より好ましくは１５０μｍ以下である。
【０１０３】
（光導波路フィルム１００の切出工程）
次に、光導波路フィルム１００の切出工程について、図５、図６を用いて説明する。図５において、光導波路フィルム１００から光導波路シート１０を切り出す切出領域を、点線で示している。図６（ａ）から図６（ｃ）は、図５に示す切出領域における切り出し方の変形例を示す工程断面図である。
【０１０４】
図６（ａ）に示すように、光導波路フィルム１００の切出工程は、光コネクタ挿入領域１０６における光導波路フィルム１００の導波路端面１０１および側面１０３において、ダイシングブレードにより切り出す第１切出工程と、光コネクタ挿入領域１０６以外の領域において、カッティングソー、レーザー、ルーター、超音波カッターまたはウォータージェットによる切断および刃型を用いた打ち抜きからなる群から選択される一種の加工方法により切り出す第２切出工程と、を有することができる。
【０１０５】
本実施形態に係る第２切出工程において、精度加工よりもカット速度に優れた高加工カット手段としては、例えば、カッティングソー、レーザー、ルーター、超音波カッターまたはウォータージェットによる切断および刃型を用いた打ち抜きからなる群から選択される一種の加工方法を用いることができ、この中でも、カッティングソー、レーザーおよび刃型が好ましく、カッティングソーおよび刃型がより好ましい。これらを単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１０６】
本実施形態において、ダイシングブレードは、高精度だが、直線的な加工に用いられるものであり、また、カッティングソーによる切断や刃型による打ち抜きなどの加工方法と比べて加工速度が比較的遅い加工手段である。ダイシングブレードなどの精密カット手段により、加工面におけるＳＲａを小さくすることができる。一方で、カッティングソーや刃型は、回転刃ではない点で、ダイシングブレードとは相違する。また、カッティングソーや刃型は、ダイシングブレードと比較すると切断面の表面粗さが粗くなるものの、加工速度が早く、かつ曲線加工できるなど加工性の点に利点がある。カッティングソーや刃型と同様に、レーザー、ルーター、超音波カッターまたはウォータージェットにおいても、曲線加工などの加工性に優れる。このようなカッティングソーや刃型などの高加工カット手段により、加工面におけるＳＲａを大きくすることができる。
【０１０７】
本実施形態に係る第１切出工程は、光導波路フィルム１００の短手方向における端面（光入射面として機能する端面）を、ダイシングブレードにより光導波路シート１０から切り出すことができる。
【０１０８】
本実施形態において、ダイシングブレードの加工条件としては、切断面を、表面粗さが非常に低減された鏡面とすることができれば、とくに限定されない。切断方向は、コア部１１２の延在方向（長手方向）に対して垂直方向でもよいが、当該延在方向に対して傾斜方向であってもよい。
【０１０９】
本実施形態によれば、ダイシングブレードを使用した精密カット手段により導波路端面１０１を切り出すことにより、光導波路フィルム１００の導波路端面１０１において、光散乱による光の減衰を抑制することができる。
【０１１０】
また、光導波路フィルム１００の光コネクタ挿入領域１０６は、光コネクタに挿入されるため、高精度の加工精度が求められる場合がある。このような要求に対応して、ダイシングブレードによる精密カット手段を使用することにより、光コネクタ挿入領域１０６における光導波路フィルム１００の側面１０３の位置と内部のコア部１１２の位置とを精密に制御して、光導波路フィルム１００の先端部分（光コネクタ挿入領域１０６）を切り出すことができる。すなわち、上記第１切出工程は、光コネクタ挿入領域１０６における側面１０３、すなわち導波路端面１０１が形成された一端から所定長さの光導波路フィルム１００の側面１０３を、ダイシングブレードにより光導波路シート１０から切り出すことができる。これにより、図６（ａ）に示すように側面１０３をダイシングブレードで外形加工することで、優れた位置精度を実現できるため、製造安定性に優れた製造方法とすることができる。
【０１１１】
本実施形態の光導波路フィルム１００の外形加工において、光導波路フィルム１００の導波路端面１０１とともに、光コネクタ挿入領域１０６における側面１０３においても、ダイシングブレードにより切り出すことが可能である。このとき、図６（ａ）に示すダイシングブレードで切り出された光導波路フィルム１００の、導波路端面１０１と側面１０３とは直交することができる。これにより、光導波路フィルム１００の一端（光コネクタ挿入領域１０６）を光コネクタ挿入口への挿入容易性と挿入位置精度とを向上させることができる。また、光コネクタに挿入された状態において、光導波路フィルム１００の導波路端面１０１の光学特性を向上させることができる。また、光導波路フィルム１００の光コネクタ挿入領域１０６における幅を維持できるので、光導波路フィルム１００の外側に位置する光導波路の光学特性のバラツキを小さくすることができる。
【０１１２】
本実施形態において、ダイシングブレードによる切出は、光導波路シート１０の膜厚方向に対して、全体を一回で切断することで行われることが好ましい。また、導波路端面１０１の切出に用いるダイシングブレードは、側面１０３の切出で用いるものと同種でも異なっていてもよい。また、ダイシングブレードの回転数や移動速度は、切断面の表面平滑度合い等に応じて適切に選択することができる。
【０１１３】
一方で、本実施形態に係る第２切出工程は、上記第１切出工程においてダイシングブレードにより切り出された第１領域以外の第２領域について、加工性に優れた高加工カット手段により切り出すことができる。高加工カット手段で切出可能な第２領域としては、光導波路フィルム１００の導波路端面１０１以外の領域であればよく、例えば、光コネクタ挿入領域１０６（導波路端面１０１および側面１０３）以外の領域でもよく、具体的には、接続路領域１０８の側面１０４や、光変換領域１０７の外周面などが挙げられる。このように、高度な精密加工を要求されていない第２領域において、上記のように、加工性に優れた高加工カットを用いて切り出すことにより、光導波路フィルム１００の製造プロセスにおける生産性を向上させることができる。
【０１１４】
上記高加工カット手段においては、加工速度や曲線加工等の加工性に優れた加工手段であれば特に限定されない。例えば、カッティングソーによる切断や刃型を用いた打ち抜きは、加工速度が向上するとともに、曲線加工が容易になる点で優れる。また、刃型を用いた打ち抜きは、同じ形状を量産する場合に生産性を向上させることができる。
【０１１５】
本実施形態によれば、光導波路フィルム１００のうち、比較的鏡面構造を必要とされない領域（例えば、接続路領域１０８や光変換領域１０７等）の外形加工を迅速に行うことができるので、光導波路フィルム１００の製造効率を高めることができる。
【０１１６】
ここで、これまでの光導波路フィルムの切出工程においては、製造工程の工数の削減の観点から、加工手段を変更せずに、同じ加工手段が用いられていた。すなわち、従来の光導波路フィルムの外形領域は、同一加工手段で切り出されていた。
これに対して、本願の光導波路フィルム１００の切出工程においては、上述のような精密カット手段と高加工カット手段とを併用することにより、光学特性と加工性とのバランスを優れたものとすることができる。
【０１１７】
以上により、光導波路シート１０から光導波路フィルム１００が得られる。
【０１１８】
以下、本実施形態の光導波路フィルム１００の製造工程の変形例を説明する。
図６（ａ）に示すように、変形例として、光導波路フィルム１００の側面１０３と側面１０４との間に段部１０５が形成されていてもよい。段部１０５は、側面１０３と側面１０４とが互いに相違する切出手段で形成されることにより生じる構造であり、側面１０３と側面１０４との交差部分に相当する。例えば、ダイシングブレードによる切断面（側面１０３）と、カッティングソーまたは刃型等による切断面（側面１０４）の交差部分に相当する。この段部１０５は、光コネクタ挿入領域１０６の位置を示す目印となる。光導波路フィルム１００の挿入時に光コネクタ挿入領域１０６に触れると、異物などが付着し光コネクタへの挿入歩留まりを低くする要因となるため、光コネクタ挿入領域１０６は触れないことが好ましい。段部１０５による目印により、光コネクタ挿入領域１０６を視認しやすくなるため、光コネクタ挿入領域１０６に触れることを避けることができる。これにより、製造安定性に優れた光導波路フィルム１００の構造を実現することができる。
【０１１９】
また、本実施形態において、光導波路シート１０を、不図示のダイシングテープを介して支持基材に貼り付けた状態で、上記の切出工程を実施することができる。このような支持基材は、ハーフカットされていてもよい。
【０１２０】
本実施形態の加工工程において、第１切出工程と第２切出工程とは、いずれを先に行ってもよい。言い換えると、第１切出工程の後に、第２切出工程を行ってもよいし、第２切出工程の後に、第１切出工程を行ってもよい。
【０１２１】
本実施形態において、光導波路フィルム１００の端面方向の幅において、接続路領域１０８における幅をＷ１とし、光コネクタ挿入領域１０６における幅をＷ２としたとき、Ｗ２とＷ１とは同じでもよいが、Ｗ２をＷ１よりも太くなるように切り出してもよい。これにより、光導波路フィルム１００の光コネクタ挿入領域１０６の視認性が向上するので、当該光コネクタ挿入領域１０６に触れることを抑制でき、挿入歩留まりに優れた構造を実現することができる。
【０１２２】
また、光導波路フィルム１００の両端が光コネクタ挿入領域１０６であり、その一端と他端に導波路端面１０１である場合には、それぞれの端面をダイシングブレードにより切り出すことができる。
【０１２３】
また、図６（ｂ）に示すように、変形例として、第１切出工程は、光導波路フィルム１００の短手方向における導波路端面１０１のみを、ダイシングブレード（精密カット手段）により切り出すとともに、第２切出工程は、光コネクタ挿入領域１０６以外の領域、すなわち、光コネクタ挿入領域１０６の側面１０３、接続路領域１０８の側面１０４および光変換領域１０７の外周面を、カッティングソーを用いた切断または刃型を用いた打ち抜き等の高加工カット手段により切り出してもよい。
【０１２４】
図６（ｂ）のような切出工程は、図６（ａ）の切出工程よりも、カッティングソーを用いた切断または刃型を用いた打ち抜き等の高加工カット手段を用いた切出領域を増加させることができるので、生産性を高めることができる。
【０１２５】
また、図６（ｃ）に示すように、光導波路シート１０から複数の光導波路フィルム１００を切り出すことも可能である。
【０１２６】
図６（ｃ）に示すように、光導波路フィルム１００の導波路端面１０１の位置は、短手方向で揃えることが好ましい。これにより、１回のダイシングブレードにより、複数の導波路端面１０１を切り出すことができるため、生産性を向上させることができる。
【０１２７】
また、長手方向において、光導波路フィルム１００の間には所定の離間部が形成されていてもよい。これにより、光導波路フィルム１００の側面１０３の切断において、カット助走部を確保することができるため、製造安定性を高めることができる。
【０１２８】
また、複数のカット手段（ダイシングブレード、カッティングソー、または刃型等）を用いて、同時に複数の光導波路フィルム１００を切り出す事も可能である。
【０１２９】
また、溝部１０９を形成した後に、光導波路フィルム１００の切出工程を行ってもよい。溝部１０９の形成には、例えば、ダイシングブレードを用いてもよい。
【０１３０】
光導波路フィルム１００の外形形状は、上記の例に限定されず、例えば、二叉形状、三つ叉形状であってもよい。
【０１３１】
また、光導波路フィルム１００のコア層１１０は、単層でもよいが、間にクラッド層を介して複数のコア層が形成されていてもよい。
【０１３２】
本実施形態の光学部品の製造方法は、光導波路フィルム１００の製造方法により得られた光導波路フィルム１００の一端（光コネクタ挿入領域１０６）を光コネクタに挿入する工程を有することができる。これにより、光学部品が得られる。光導波路フィルム１００の少なくとも一端（光コネクタ挿入領域１０６）に光コネクタが形成されていてもよいが、光導波路フィルム１００の両端それぞれに光コネクタが形成されていてもよい。
【０１３３】
本実施形態において、光コネクタとしては、特に限定されないが、例えば、ＭＴコネクタ、ＭＰＯコネクタ、ＭＰＸコネクタ、ＰＭＴコネクタ、ＰＴコネクタ等を用いることができる。
【０１３４】
以上、図面を参照して本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。
【実施例】
【０１３５】
以下、本発明について実施例を参照して詳細に説明するが、本発明は、これらの実施例の記載に何ら限定されるものではない。
【０１３６】
１．光導波路シートの製造について
（１）離脱性基を有するポリオレフィン系樹脂の合成
水分及び酸素濃度がいずれも１ｐｐｍ以下に制御され、乾燥窒素で満たされたグローブボックス中において、ヘキシルノルボルネン（ＨｘＮＢ）７．２ｇ（４０．１ｍｍｏｌ）、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン１２．９ｇ（４０．１ｍｍｏｌ）を５００ｍＬバイアル瓶に計量し、脱水トルエン６０ｇと酢酸エチル１１ｇを加え、シリコン製のシーラーを被せて上部を密栓した。
【０１３７】
次に、１００ｍＬバイアルビン中にＮｉ触媒１．５６ｇ（３．２ｍｍｏｌ）と脱水トルエン１０ｍＬを計量し、スターラーチップを入れて密栓し、触媒を十分に撹拌して完全に溶解させた。このＮｉ触媒溶液１ｍＬをシリンジで正確に計量し、上記２種のノルボルネンを溶解させたバイアル瓶中に定量的に注入して室温で１時間撹拌したところ、著しい粘度上昇が確認された。この時点で栓を抜き、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）６０ｇを加えて撹拌を行い、反応溶液を得た。
【０１３８】
１００ｍＬビーカーに無水酢酸９．５ｇ、過酸化水素水１８ｇ（濃度３０％）、イオン交換水３０ｇを加えて撹拌し、その場で過酢酸水溶液を調製した。次に、この水溶液全量を上記反応溶液に加えて１２時間撹拌してＮｉの還元処理を行った。
【０１３９】
次に、処理の完了した反応溶液を分液ロートに移し替え、下部の水層を除去した後、イソプロピルアルコールの３０％水溶液を１００ｍＬ加えて激しく撹拌を行った。静置して完全に二層分離が行われた後に水層を除去した。この水洗プロセスを合計で３回繰り返した後、油層を大過剰のアセトン中に滴下して生成したポリマーを再沈殿させ、ろ過によりろ液と分別した後、６０℃に設定した真空乾燥機中で１２時間加熱乾燥を行うことにより、ポリマー＃１を得た。
【０１４０】
ポリマー＃１の分子量分布は、ＧＰＣ測定した結果、Ｍｗ＝１０万、Ｍｎ＝４万であった。また、ポリマー＃１中の各構造単位のモル比は、ＮＭＲ測定による同定の結果、ヘキシルノルボルネン構造単位が５０ｍｏｌ％、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が５０ｍｏｌ％であった。
【０１４１】
（２）コア層形成用組成物の製造
精製した上記ポリマー＃１の１０ｇを１００ｍＬのガラス容器に秤量し、これにメシチレン４０ｇ、酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（チバガイギー社製）０．０１ｇ、シクロヘキシルオキセタンモノマー（東亜合成製  ＣＨＯＸ、ＣＡＳ＃４８３３０３−２５−９、分子量１８６、沸点１２５℃／１．３３ｋＰａ）２ｇ、重合開始剤（光酸発生剤）「ＲｈｏｄｏｒｓｉｌＰｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ  ２０７４」（Ｒｈｏｄｉａ社製、ＣＡＳ＃  １７８２３３−７２−２）（０．０１２５ｇ、酢酸エチル０．１ｍＬ中）を加えて均一に溶解させた後、０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、清浄なコア層形成用組成物を得た。
【０１４２】
（３）クラッド層の作製
環状オレフィン系樹脂を含むノルボルネン系樹脂組成物（プロメラス社製Ａｖａｔｒｅｌ２５９０の２０重量％２−ヘプタノン溶液、１０ｇ）に、２−ウンデシルメチルイミダゾール（四国化成工業株式会社製、品番Ｃ１１Ｚ）（０．０６ｇ）を添加して混合し、クラッド層形成用塗布液を得た。このクラッド層形成用塗布液を、２枚のポリイミドフィルムの上にドクターブレードでそれぞれ均一に塗布した後、４５℃の乾燥機において１５分間乾燥させた。溶剤を完全に除去した後、乾燥機中１６０℃で２時間加熱して塗膜を硬化させ、光導波路形成用フィルム（クラッド層および基材層）を２枚形成した。
【０１４３】
（４）コア層の作製
離型処理ＰＥＴフィルム上にコア層形成用組成物を、ドクターブレードにより均一に塗布した後、４０℃の乾燥機に５分間投入した。溶媒を完全に除去して被膜とした後、得られた被膜上に、ライン、スペースの直線パターンが全面に描かれたフォトマスクを圧着した。そして、フォトマスク上から平行露光機により紫外線を照射した。なお、紫外線の積算光量は１３００ｍＪ／ｃｍ２とした。
【０１４４】
次いで、フォトマスクを取り去り、１５０℃のオーブンに３０分間投入した。オーブンから取り出すと、被膜には断面が矩形状をなす鮮明な導波路パターン（複数のコア部）が現れているのが確認された。得られたコア層の厚さは５０μｍであった。
【０１４５】
（５）光導波路シートの作製
（４）で得られたコア層の両面に、それぞれ、（３）で得られた光導波路形成用フィルムのクラッド層をラミネータで積層し、積層体を得た。得られた積層体を１６０℃、２時間の条件で熱処理し、図３に示すような光導波路シートを得た。
【０１４６】
（実施例１）
２．光導波路フィルムの製造について
（６）外形加工
（５）で得られた光導波路シートにダイシングテープを貼り、ダイシングブレードにて、図３に示す端面（導波路端面１０１）及びコネクタ挿入領域の側面（光コネクタ挿入領域１０６の側面１０３）を加工した。加工速度は５ｍｍ／ｓとした。
【０１４７】
次いで、カッティングソーにて、コネクタ挿入領域以外の残りの領域（接続路領域１０８、光変換領域１０７）を加工した。加工速度は３００ｍｍ／ｓとした。
【０１４８】
次いで、ＵＶ照射機によりダイシングテープに紫外線を照射し、個片化された光導波路フィルム（図１（ａ））を得た。紫外線の積算光量は５００ｍｊ／ｃｍ２とした。
【０１４９】
（実施例２）
ダイシングブレードの加工速度を２ｍｍ／ｓとし、カッティングソーの加工速度を５００ｍｍ／ｓとした以外は、実施例１と同様にした。
【０１５０】
（実施例３）
ダイシングブレードの加工速度を１０ｍｍ／ｓとし、カッティングソーの加工速度を１００ｍｍ／ｓとした以外は、実施例１と同様にした。
【０１５１】
（比較例１）
加工速度３ｍｍ／ｓのダイシングブレードにて、図３に示す端面（導波路端面１０１）およびコネクタ挿入領域（光コネクタ挿入領域１０６）を加工し、コネクタ挿入領域以外の残りの領域（接続路領域１０８、光変換領域１０７）をはさみにて加工した以外は、実施例１と同様にした。
【０１５２】
（比較例２）
加工速度３００ｍｍ／ｓのカッティングソーにて、図３に示す端面（導波路端面１０１）およびコネクタ挿入領域（光コネクタ挿入領域１０６）を加工し、加工速度４００ｍｍ／ｓのカッティングソーにて、コネクタ挿入領域以外の領域（接続路領域１０８、光変換領域１０７）の全てを、加工した以外は、実施例１と同様にした。
【０１５３】
３．光導波路フィルムの評価
実施例および比較例で得られた光導波路フィルムについて、次のような評価を行った。評価結果を表１に示す。
【０１５４】
【表１】
2018084694.tif 000003
【０１５５】
表１中、ＳＲａ１は、図１（ａ）の端面（導波路端面１０１）の表面粗さを示し、ＳＲａ２は、図１（ａ）の側面（接続路領域１０８における側面１０４）における表面粗さを示し、ＳＲａ３は、光コネクタ挿入領域１０６の側面１０３における表面粗さを表す。
ＳＲａは、レーザー顕微鏡（オリンパス社製「ＯＬＳ３１００」）により、倍率１２００倍で表面を観察し、３０μｍ×３０μｍ（厚み方向×面内方向）の測定領域を測定することにより得られた測定結果から算出した。
【０１５６】
（異物）
実施例および比較例で得られた光導波路フィルムについて、超音波洗浄で物理的な力を側面に加え、洗浄前後での端面状態を顕微鏡観察することにより行った。洗浄前後で端面状態が変化なきものは○、洗浄前後で端面状態が明らかに変化（異物がなくなる、バリがなくなる、層間剥離の進行）したものを×とした。
【０１５７】
（光減衰）
実施例および比較例で得られた光導波路フィルムについて、社団法人  日本電子回路工業会が規定した「高分子光導波路の試験方法（ＪＰＣＡ−ＰＥ０２−０５−０１Ｓ−２００８）」の４．６．１挿入損失の測定方法に準拠し、８５０ｎｍＶＣＳＥＬ（面発光レーザー）より発せられた光を５０μｍ径のグレーデッドインデックス型光ファイバーを経由し、各実施例および各比較例で得られた光導波路に導入し、５０μｍ径のグレーデッドインデックス型光ファイバーで受光して光の強度を測定した。２．０ｄＢ以下をｓ○、２．０ｄＢ以上を×とした。
【０１５８】
実施例１から３で得られた光導波路フィルムは、光導波路の入出光の減衰が抑制されており、製造安定性に優れていることが分かった。また、実施例１から３で得られた光導波路フィルムは、全周囲をダイシングブレードにてカッティングした場合と比べて、曲げ加工性や加工速度等の生産性に優れることが分かった。
【０１５９】
以上、実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明したが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。
【０１６０】
１０  光導波路シート
１００  光導波路フィルム
１０１  導波路端面
１０２  表面
１０３  側面
１０４  側面
１０５  段部
１０６  光コネクタ挿入領域
１０７  光変換領域
１０８  接続路領域
１０９  溝部
１１０  コア層
１１２  コア部
１１４  クラッド部
１２０  上部クラッド層
１３０  下部クラッド層
１４０  上部基材層
１５０  下部基材層
２００  支持台
２１０  搭載面  
２２０  自由端
２４０  第１コア部
２５０  第２コア部
【図１】
2018084694.tif 000004
【図２】
2018084694.tif 000005
【図３】
2018084694.tif 000006
【図４】
2018084694.tif 000007
【図５】
2018084694.tif 000008
【図６】
2018084694.tif 000009
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月27日(2017.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部クラッド層と、前記下部クラッド層上に設けられたパターン状のコア部と、前記コア部上に設けられた上部クラッド層と、を備える長尺状の光導波路フィルムであって、
当該光導波路フィルムの少なくとも一端に光コネクタ挿入領域が設けられており、
前記光コネクタ挿入領域において、前記コア部同士が隣接する導波路端面における表面粗さをＳＲａ１とし、
前記コア部の長手方向に延在する当該光導波路フィルムの、前記光コネクタ挿入領域における側面の表面粗さをＳＲａ３とし、前記光コネクタ挿入領域を含まない側面における表面粗さをＳＲａ２としたとき、
ＳＲａ１／ＳＲａ２が、０．０２以上０．５以下であり、
前記ＳＲａ１が、０．０１μｍ以上０．２μｍ以下であり、
前記ＳＲａ３が、０．０１μｍ以上０．２μｍ以下であり、
前記ＳＲａ２が、前記ＳＲａ１より大きく２μｍ以下である、光導波路フィルム。
【請求項２】
請求項１に記載の光導波路フィルムであって、
前記ＳＲａ２が、０．３μｍ以上２μｍ以下である、光導波路フィルム。
【請求項３】
請求項１または２に記載の光導波路フィルムであって、
前記光コネクタ挿入領域における当該光導波路フィルムの前記側面と、前記光コネクタ挿入領域を含まない前記側面と、の間に段部が形成されている、光導波路フィルム。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載の光導波路フィルムであって、
前記下部クラッド層の下面側に設けられた下部基材層と、
前記上部クラッド層の上面側に設けられた上部基材層と、をさらに備えており、
前記下部基材層および前記上部基材層は、ポリイミド層で構成されている、光導波路フィルム。
【請求項５】
請求項４に記載の光導波路フィルムであって、
前記下部基材層の膜厚は、前記上部基材層の膜厚と同じである、光導波路フィルム。
【請求項６】
請求項４または５に記載の光導波路フィルムであって、
前記下部基材層の弾性率は、前記上部基材層の弾性率と相違する、光導波路フィルム。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか１項に記載の光導波路フィルムであって、
当該光導波路フィルムの膜厚は、５０μｍ以上３００μｍ以下である、光導波路フィルム。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項に記載の光導波路フィルムであって、
前記上部クラッド層および／又は前記下部クラッド層の膜厚は、１μｍ以上５０μｍ以下である、光導波路フィルム。
【請求項９】
光コネクタと、前記光コネクタに一端が挿入された請求項１から８のいずれか１項に記載の光導波路フィルムと、を備える、光学部品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明によれば、
下部クラッド層と、前記下部クラッド層上に設けられたパターン状のコア部と、前記コア部上に設けられた上部クラッド層と、を備える長尺状の光導波路フィルムであって、
当該光導波路フィルムの少なくとも一端に光コネクタ挿入領域が設けられており、
前記光コネクタ挿入領域において、前記コア部同士が隣接する導波路端面における表面粗さをＳＲａ１とし、
前記コア部の長手方向に延在する当該光導波路フィルムの、前記光コネクタ挿入領域における側面の表面粗さをＳＲａ３とし、前記光コネクタ挿入領域を含まない側面における表面粗さをＳＲａ２としたとき、
ＳＲａ１／ＳＲａ２が、０．０２以上０．５以下であり、
前記ＳＲａ１が、０．０１μｍ以上０．２μｍ以下であり、
前記ＳＲａ３が、０．０１μｍ以上０．２μｍ以下であり、
前記ＳＲａ２が、前記ＳＲａ１より大きく２μｍ以下である、光導波路フィルムが提供される。