(57)【要約】【課題】  光源が定常状態になるまでの時間を短縮することができる光源装置を提供することを目的とする。【解決手段】  光を照射する光源を有する光源装置であって、冷媒を前記光源に吹き付けることにより前記光源を冷却する冷却手段と、前記冷媒の吹き出す方向を調整する調整部と、を有し、前記調整部の温度が上昇して前記調整部が膨張することにより前記冷媒の吹き出す方向を変化させることで前記光源に当たる前記冷媒の流量を増加させる。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を照射する光源を有する光源装置であって、
冷媒を前記光源に吹き付けることにより前記光源を冷却する冷却手段と、
前記冷媒の吹き出す方向を調整する調整部と、を有し、
前記調整部の温度が上昇して前記調整部が膨張することにより前記冷媒の吹き出す方向を変化させることで前記光源に当たる前記冷媒の流量を増加させる
ことを特徴とする光源装置。
【請求項２】
前記冷却手段は前記冷媒を吹き出す吹き出し口を有し、
前記調整部は前記冷却手段を支持する支持部を含み、
前記支持部の温度が上昇して前記支持部が膨張することにより前記吹き出し口を移動させることで前記冷媒の吹き出す方向を変化させる
ことを特徴とする請求項１に記載の光源装置。
【請求項３】
前記支持部は、前記冷却手段を取り付ける取り付け部材と、前記取り付け部材を支持する支持部材を含み、前記支持部材の温度が上昇して前記支持部材が膨張することにより前記吹き出し口を移動させることを特徴とする請求項２に記載の光源装置。
【請求項４】
前記支持部材は、線膨張係数の異なる、複数の部材からなり、前記複数の部材の温度が上昇して前記複数の部材が膨張する量が前記複数の部材のそれぞれで異なることにより前記吹き出し口を移動させることを特徴とする請求項３に記載の光源装置。
【請求項５】
前記支持部材は、光吸収率の異なる、複数の部材からなり、前記複数の部材の温度が上昇して前記複数の部材が膨張する量が前記複数の部材のそれぞれで異なることにより、前記吹き出し口を移動させることを特徴とする請求項３又は４に記載の光源装置。
【請求項６】
前記調整部は線膨張係数の異なる部材からなる板部材を含み、前記板部材の温度が上昇して前記板部材が膨張することにより前記冷却手段から吹き出す前記冷媒が前記板部材に当たり、前記冷媒の吹き出す方向を変化させることを特徴とする請求項１に記載の光源装置。
【請求項７】
前記冷却手段は前記冷媒を吹き出す吹き出し口を有し、
前記調整部は前記冷却手段に力を作用させる作用部を含み、
前記作用部の温度が上昇して前記作用部が膨張することにより前記冷却手段に力を作用させ前記吹き出し口を移動させることで前記冷媒の吹き出す方向を変化させることを特徴とする請求項１に記載の光源装置。
【請求項８】
前記光源からの光を吸収することにより前記調整部の温度が上昇することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項９】
前記光源は、内部の発光物質の温度が上昇して前記発光物質が蒸発する光源を含むことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項１０】
前記光源は、水銀ランプを含むことを特徴とする請求項９に記載の光源装置。
【請求項１１】
基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の光源装置を有することを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載のリソグラフィ装置を用いて、パターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を処理する工程と、を有することを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光源装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスやフラットパネルディスプレイの製造に、基板を露光することでパターン形成を行う露光装置等のリソグラフィ装置が使われている。
【０００３】
露光装置では、例えば水銀ランプなどの光源から放射された光を用いて基板を露光するが、光源が光を放射すると光源の温度が上昇する。よって、温度上昇による光源の破損等を抑制するため、光源を冷却する必要がある。
【０００４】
特許文献１では、ヒートパイプを封入した構造体を有する光源において、ヒートパイプに取り付けた放熱板を冷却することで前記光源を冷却する構造が開示されている。また、特許文献２では、光源の口金部に放熱用の冷却フィンを取り付け、複数のノズル口から冷媒を前記冷却フィンに吹き付けることで前記光源を冷却する構造の光源、光源装置が開示されている。
【０００５】
このように、特許文献１、特許文献２では温度上昇を抑制するための光源装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−７５４９６号公報
【特許文献２】特開２００３−１７００３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
光源として用いられる水銀ランプでは、放電による加熱より発光物質として内部に封入されている水銀が蒸発する。水銀がすべて蒸発すると水銀ランプからの光の照度が安定する定常状態となる。
【０００８】
しかし、水銀を蒸発させる段階で、水銀ランプを冷却すると水銀の蒸発が抑制され、水銀ランプからの光の照度が安定する定常状態になるまでに時間がかかるという問題がある。
【０００９】
そこで、本発明は、光源が定常状態になるまでの時間を短縮することができる光源装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決する本発明の一側面としての光源装置は、光を照射する光源を有する光源装置であって、冷媒を前記光源に吹き付けることにより前記光源を冷却する冷却手段と、前記冷媒の吹き出す方向を調整する調整部と、を有し、前記調整部の温度が上昇して前記調整部が膨張することにより前記冷媒の吹き出す方向を変化させることで前記光源に当たる前記冷媒の流量を増加させる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、光源が定常状態になるまでの時間を短縮することができる光源装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】露光装置を示した図である。
【図２】光源装置及び光源を示した図である。
【図３】実施例１に係る光源装置、ノズル、及び支持部を示した図である。
【図４】ノズルのスプレーパターンと冷媒の流量分布を示した図である。
【図５】実施例１に係る光源装置と冷媒の流量分布を示した図である。
【図６】実施例１に係る光源装置と冷媒の流量分布を示した図である。
【図７】実施例１に係る光源装置と冷媒の流量分布を示した図である。
【図８】実施例２に係る光源装置を示した図である。
【図９】実施例２に係る光源装置を示した図である。
【図１０】実施例３に係る光源装置とベローズを示した図である。
【図１１】実施例４に係る光源装置と弾性ヒンジを示した図である。
【図１２】実施例５に係る光源装置を示した図である。
【図１３】実施例６に係る光源装置、ノズル、及び支持部を示した図である。
【図１４】実施例７に係る光源装置、ノズル、及び板部材を示した図である。
【図１５】実施例８に係る光源装置、ノズル、及び作用部を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下に、本発明の好ましい実施形態について図面を参照して詳細に説明する。以下の実施例では、リソグラフィ装置として露光装置を用いた例について説明する。各図において、同一の部材については、同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【実施例１】
【００１４】
図１は露光装置を示した図である。露光装置は、光源装置１、照明光学系２、及び投影光学系３からなる。光源装置１から放射された光は照明光学系２を介してパターンが形成されたマスク４を照明する。マスク４を照明した光は投影光学系３を介して基板５を露光する。
【００１５】
図２は光源装置及び光源を示した図である。図２（ａ）において光源装置１は光源１０、楕円形ミラー１１、及びノズル１２（冷却手段）からなる。なお、光源１０は、水銀ランプの他、メタルハライドランプ、ナトリウムランプなど、内部の発光物質の温度が上昇して前記発光物質が蒸発する光源であっても良い。また、図２（ｂ）において、光源１０は、第１口金部１０１、陰極部１０２、発光部１０３、陽極部１０４、第２口金部１０５、及びリード線１０６からなる。光源１０の中央にある発光部１０３は、ガラス製の容器によって陰極部１０２と陽極部１０４を覆っている。発光部１０３の内部には例えば水銀などの発光物質が封入されている。また、発光部１０３には陰極部１０２と陽極部１０４が対向して配置されており、陰極部１０２と陽極部１０４は金属導体であるリード線１０６に繋がっている。リード線１０６は不図示の電源に接続して、陰極部１０２と陽極部１０４に電源からの電気を供給する。
【００１６】
例えば水銀などの発光物質が常温で液体の場合、陰極部１０２と陽極部１０４の間で放電をさせることにより発光物質が加熱され蒸発された状態で、光源１０が発光する。ここで、発光物質が蒸発している間に光源１０を冷却すると、発光物質の蒸発に時間がかかってしまう。一方、発光物質が蒸発し放電により光源１０が発光している時は発光部１０３の温度は上昇するため、長時間、光源１０が発光すると熱応力の蓄積により発光部１０３のガラス製の容器が破損するおそれがある。よって、光源１０が発光している間、光源１０を冷却する必要がある。また、温度センサ等を用いて光源１０の温度を検知して、光源１０に吹き付ける冷媒の流量を制御する構成とすると、温度センサや制御装置等が必要になる。
【００１７】
図３は、実施例１に係る光源装置、ノズル、及び支持部を示した図である。図３（ａ）に図示されているノズル１２は、冷媒を吹き出す吹き出し口１２０、第１配管１２１、及び第２配管１２２からなる。なお、簡略化のためにノズル１２を１つだけ図示しているが、ノズル１２は光源装置１内に複数、配置されていても良い。また、ノズル１２により吹き出される冷媒によって、第２口金部１０５を冷却する形態を図示しているが、発光部１０３、第１口金部１０１など、光源１０の他の部分を冷却するようにしても良い。
【００１８】
吹き出し口１２０は冷媒を吹き出すための開口を有し、該開口の形状を変えることにより、冷媒の流量分布を変えることができる。冷媒の流量分布については後述する。また、冷媒は空気、水蒸気などの気体、又は水などの液体を含み得る。吹き出し口１２０は、第１配管１２１、第２配管１２２等の配管を介して、不図示の冷媒の供給装置と接続している。該供給装置から冷媒が供給され、第１配管１２１、第２配管１２２等の配管を介して、吹き出し口１２０の開口から冷媒が吹き出す。第１配管１２１は、吹き出し口１２０の位置を固定する必要があるため、剛性の高い材料からなる。例えば金属材料の被覆に覆われていることが望ましい。また、第２配管１２２は、自由に形状を変える必要があるため、例えば、熱、光に強いフッ素系樹脂であることが望ましい。
【００１９】
ここで、冷媒の流量分布について説明する。図４は、ノズルのスプレーパターンと冷媒の流量分布を示した図である。スプレーパターンとは、ノズル１２の吹き出し口１２０から所定の距離だけ離れた、ノズル１２により冷媒を吹き出す方向と直交する平面において冷媒が広がる領域を表している。図４（ａ）は冷媒の流量分布が凸型分布となっている場合を示している。左のスプレーパターンは、前記平面における冷媒の広がりを示している。前記平面上において、スプレーパターンの中心を原点として互いに直交する方向にｘ軸、ｙ軸をとると、右の流量分布はｙ軸上における冷媒の流量分布を示している。凸型分布では、スプレーパターンの中心における流量が多く、中心から遠ざかるに従い流量が少なくなる。
【００２０】
また、図４（ｂ）は冷媒の流量分布が台形型分布となっている場合を示している。図４（ａ）と同様に、左のスプレーパターンは前記平面における冷媒の広がりを示し、右の流量分布はｙ軸上における冷媒の流量分布を示している。台形型分布では、スプレーパターンの中心付近で流量が一定になっている。また、流量が一定の範囲を超えて、中心から遠ざかるに従い流量が少なくなる。
【００２１】
ここで、図３（ａ）の説明に戻る。支持部１３（調整部）は、取り付け部材１３０、第１支持部材１３１、及び第２支持部材１３２からなる。取り付け部材１３０にはノズル１２が取り付けられ、第１支持部材１３１と第２支持部材１３２とのそれぞれによって支持される。また、取り付け部材１３０の材料は、線膨張係数が小さい材料であることが望ましい。金属材料だけでなく、例えばセラミックのような非金属材料でも良い。
【００２２】
第１支持部材１３１と第２支持部材１３２は、取り付け部材１３０と固定されている端部とは別の端部において、光源装置１の筐体に固定される。また、第１支持部材１３１と第２支持部材１３２は、異なる線膨張係数を有する材料からなる。例えば、第１支持部材１３１はアルミニウムを材料とし、第２支持部材１３２は線膨張係数がアルミニウムより小さいステンレスを材料とすることができる。
【００２３】
図３（ｂ）、図３（ｃ）はノズル１２と支持部１３を拡大した図である。図３（ｂ）において、第１支持部材１３１と第２支持部材１３２のＸ方向の長さをそれぞれＬ１、Ｌ２とし、取り付け部材１３０のＹ方向の長さをＬｃとする。また、第１支持部材１３１と第２支持部材１３２の線膨張率をそれぞれα１、α２（α１＞α２）とし、第１支持部材１３１及び第２支持部材１３２の温度変化をΔｔとする。図３（ｃ）におけるノズル１２により冷媒を吹き出す方向θは、以下の式（１）で表される。
ｓｉｎθ＝（Ｌ１α１Δｔ−Ｌ２α２Δｔ）／Ｌｃ      （１）
ただし、光源１０が発光する前において、Δｔ＝０、θ＝０とする。
【００２４】
また、θを微小な角度とし、取り付け部材１３０からノズル１２の吹き出し口１２０までの距離をＬｎとすると、ノズル１２の吹き出し口１２０が移動する距離ｄは、以下の式（２）で表される。
ｄ＝Ｌｎ・ｓｉｎθ・・・（２）
【００２５】
よって、ノズル１２により冷媒を吹き出す方向θと冷媒の流量分布とから流量の変化を求めることができる。
【００２６】
なお、第１支持部材１３１と第２支持部材１３２のＸ方向の長さの差分が大きく、取り付け部材１３０が変形して、取り付け部材１３０の第１支持部材１３１と第２支持部材１３２を連結する部分が直線とみなすことができないことがある。そのような場合には、実験又はシミュレーションなどで取り付け部材１３０が変形した形状を求め、温度変化Δｔに対するθを予め求めておいても良い。また、取り付け部材１３０が変形する場合には、繰り返し変形しても疲労破壊されにくい材料を選択することが望ましい。例えば、バネに用いられるステンレスを選択すると良い。
【００２７】
図５は、実施例１に係る光源装置と冷媒の流量分布を示した図である。また、図５（ａ）において、光源１０からの光が定常状態になる前のノズル１２と、ノズル１２により吹き出される冷媒の流量分布のグラフを図示している。光源１０からの光が定常状態になる前は、第１支持部材１３１及び第２支持部材１３２は光源１０からの光による温度上昇はなく、第１支持部材１３１及び第２支持部材１３２は温度上昇により膨張していない状態である。この状態では、ノズル１２により吹き出される冷媒が第２口金部１０５に当たる流量は少ない。図５（ｂ）で示されている冷媒の流量分布における範囲Ａの流量の冷媒が第２口金部１０５に当たっている状態である。
【００２８】
図６は、実施例１に係る光源装置と冷媒の流量分布を示した図である。また、図６（ａ）において光源１０からの光が定常状態になった後のノズル１２と、ノズル１２により吹き出される冷媒の流量分布のグラフを図示している。光源１０からの光が定常状態になった後は、第１支持部材１３１及び第２支持部材１３２は光源１０からの光により温度が上昇して、第１支持部材１３１及び第２支持部材１３２は膨張する。光源１０からの光の照度が一定となる定常状態になると、第１支持部材１３１及び第２支持部材１３２の温度、膨張量も一定となり、ノズル１２が一定の方向になる。この状態では、ノズル１２により吹き出される冷媒が第２口金部１０５に当たる冷媒の流量は、光源１０の発光する前より増加する。図６（ｂ）で示されている冷媒の流量分布における範囲Ｂの流量の冷媒が第２口金部１０５に当たっている状態である。
【００２９】
図７は、実施例１に係る光源装置と冷媒の流量分布を示した図である。図７（ａ）において光源１０からの光が定常状態になった後のノズル１２と、ノズル１２により吹き出される冷媒の流量分布のグラフを図示している。図６と異なる点は、冷媒の流量分布が台形型分布となっている点である。台形型分布の場合も、ノズル１２により吹き出される冷媒が第２口金部１０５に当たる冷媒の流量は、光源１０の発光する前より増加する。また、定常状態においては、図７（ｂ）で示されている冷媒の流量分布における範囲Ｃの流量の冷媒が第２口金部１０５に当たっている状態である。よって、第１支持部材１３１及び第２支持部材１３２の温度の変化に対する冷媒の流量の変化を少なくすることができ、安定的に第２口金部１０５を冷却することができる。
【００３０】
このように、実施例１に係る露光装置によれば、光源１０から照射された光により、第１支持部材１３１及び第２支持部材１３２が温度上昇により膨張して、ノズル１２により冷媒を吹き出す方向が変化して、第２口金部１０５に当たる冷媒の流量が増加する。よって、より簡便に光源を冷却することができる。
【実施例２】
【００３１】
次に実施例２に係る露光装置について説明する。なお、ここで言及しない事項は、実施例１に従い得る。
【００３２】
図８、図９は、実施例２に係る光源装置を示した図である。図８における支持部１３を構成する第１支持部材１３１には、光の吸収を促すような表面処理を施す。例えば、黒色クロムメッキを施して第１支持部材１３１の表面が黒色になるような表面処理を施す。また、例えば、小さな粒子を対象物の表面に吹き付けて表面を粗くするブラスト処理などによって、第１支持部材１３１の表面の粗さを粗くしても良い。これらの表面処理により、第１支持部材１３１の光吸収率が上がり、温度が上昇しやすくなる。よって、光の吸収を促すような表面処理をしない場合より第１支持部材１３１の線膨張係数が大きくなり、ノズル１２により冷媒を吹き出す方向θを大きくすることができる。
【００３３】
図９における支持部１３を構成する第２支持部材１３２の表面には、光の吸収を抑制するような表面処理を施す。例えば、第２支持部材１３２の表面に光を反射する鏡面処理を施すことにより、第２支持部材１３２の光吸収率が下がり、温度が上昇しにくくなる。よって、光の吸収を抑制するような表面処理をしない場合より第２支持部材１３２の線膨張係数が小さくなり、ノズル１２により冷媒を吹き出す方向θを大きくすることができる。
【００３４】
また、光の吸収を促すような表面処理を施した第１支持部材１３１と、光の吸収が抑制されるような表面処理を施した第２支持部材１３２とを組合せても良い。
【００３５】
このように、実施例２に係る露光装置によれば、光源１０から照射された光により、第１支持部材１３１及び第２支持部材１３２が温度上昇により膨張して、ノズル１２により冷媒を吹き出す方向が変化して、第２口金部１０５に当たる冷媒の流量が増加する。また、第１支持部材１３１、第２支持部材１３２に表面処理を施すことによって、ノズル１２により冷媒を吹き出す方向θを大きくすることができる。よって、より簡便に光源を冷却することができる。
【実施例３】
【００３６】
次に実施例３に係る露光装置について説明する。なお、ここで言及しない事項は、実施例１に従い得る。
【００３７】
図１０は、実施例３に係る光源装置とベローズを示した図である。図１０（ａ）における支持部１３を構成する第１支持部材１３１は、内部に流体を封入して伸縮可能なベローズを用いている。図１０（ｂ）は、ベローズの拡大図である。ベローズは、蛇腹状の外形を有し内部に封入された流体の体積が温度変化により膨張して伸長する設計となっている。ベローズを用いた第１支持部材１３１は、その線膨張係数が、例えばアルミニウムなどの金属の線膨張係数より大きくなるように設計できるので、ノズル１２により冷媒を吹き出す方向θを大きくすることができる。また、ベローズの内部に封入する流体は、例えば、空気などの気体、又は油などの液体が良い。
【００３８】
このように、実施例３に係る露光装置によれば、光源１０から照射された光により、第１支持部材１３１及び第２支持部材１３２が温度上昇により膨張して、ノズル１２により冷媒を吹き出す方向が変化して、第２口金部１０５に当たる冷媒の流量が増加する。また、第１支持部材１３１としてベローズを用いることによって、ノズル１２により冷媒を吹き出す方向θを大きくすることができる。よって、より簡便に光源を冷却することができる。
【実施例４】
【００３９】
次に実施例４に係る露光装置について説明する。なお、ここで言及しない事項は、実施例１に従い得る。
【００４０】
図１１は、実施例４に係る光源装置と弾性ヒンジを示した図である。図１１（ａ）における支持部１３を構成する第１支持部材１３１及び第２支持部材１３２と、取り付け部材１３０との間に弾性ヒンジ１３５が構成されている。弾性ヒンジ１３５は、Ｚ軸周りに取り付け部材１３０を回転できるように構成されている。図１１（ｂ）は、弾性ヒンジ１３５の拡大図である。第１支持部材１３１が温度上昇により膨張した場合に、弾性ヒンジ１３５における取り付け部材１３０の接触面と第１支持部材１３１との接触面との角度が変化する。また、同様に第２支持部材１３２が温度上昇により膨張した場合に、弾性ヒンジ１３５における取り付け部材１３０の接触面と第２支持部材１３２との接触面との角度が変化する。これらの角度の変化により、取り付け部材１３０がＺ軸周りに回転することができる。特に第１支持部材１３１と第２支持部材１３２の線膨張係数の差が大きい時に、容易にノズル１２により冷媒を吹き出す方向θを変化させることができる。よって、実施例１と比較して、第１支持部材１３１と第２支持部材１３２の線膨張係数の差が大きい場合の実施例２、実施例３に係る支持部１３に弾性ヒンジ１３５を構成すると有効である。
【００４１】
このように、実施例４に係る露光装置によれば、光源１０から照射された光により、第１支持部材１３１及び第２支持部材１３２が温度上昇により膨張して、ノズル１２により冷媒を吹き出す方向が変化して、第２口金部１０５に当たる冷媒の流量が増加する。また、弾性ヒンジ１３５を用いることによって、第１支持部材１３１と第２支持部材１３２の線膨張係数の差が大きい時に、容易にノズル１２により冷媒を吹き出す方向θを変化させることができる。
【実施例５】
【００４２】
次に実施例５に係る露光装置について説明する。なお、ここで言及しない事項は、実施例１に従い得る。
【００４３】
図１２は、実施例５に係る光源装置を示した図である。図１２における支持部１３は、第１支持部材１３１と取り付け部材１３０から構成されている。実施例１〜実施例４における第２支持部材１３２は構成されておらず、取り付け部材１３０がＸ方向に延長されている。つまり、取り付け部材１３０は、Ｌ字型の形状になっており、第１支持部材１３１と光源装置１の筐体に固定されている。第１支持部材１３１が温度上昇により膨張することで、ノズル１２により冷媒を吹き出す方向が変化する。ここで、取り付け部材１３０の線膨張係数は第１支持部材１３１より十分、小さいものとする。また、取り付け部材１３０と、第１支持部材１３１及び光源装置１の筐体の少なくとも一方とは、実施例４における弾性ヒンジ１３５を介して固定されても良い。
【００４４】
このように、実施例５に係る露光装置によれば、光源１０から照射された光により、第１支持部材１３１が温度上昇により膨張して、ノズル１２により冷媒を吹き出す方向が変化して、第２口金部１０５に当たる冷媒の流量が増加する。また、取り付け部材１３０が第１支持部材１３１と光源装置１の筐体に固定されている構成によって、第１支持部材１３１及び第２支持部材１３２の膨張の差が大きい時に、容易にノズル１２により冷媒を吹き出す方向θを変化させることができる。
【実施例６】
【００４５】
次に実施例６に係る露光装置について説明する。なお、ここで言及しない事項は、実施例１に従い得る。
【００４６】
図１３は、実施例６に係る光源装置、ノズル、及び支持部を示した図である。図１３（ａ）における支持部１３は、４つの支持部材を有する。図１３（ｂ）は実施例６に係るノズル１２と支持部１３の拡大図である。取り付け部材１３０は十字型の形状をしており、取り付け部材１３０の十字型の４つの先端に、それぞれ第１支持部材１３１、第２支持部材１３２、第３支持部材１３３、及び第４支持部材１３４が、弾性ヒンジ１３６を介して固定されている。弾性ヒンジ１３６は、Ｙ方向とＺ方向の２つの方向に対して取り付け部材１３０を回転できるように構成されている。
【００４７】
第１支持部材１３１乃至第４支持部材１３４の線膨張係数を設計することによって、ノズル１２の吹き出し口１２０の移動軌跡に自由度を持たせることができる。例えば、仕様上、上限の温度が低い部分から冷媒を当てるような軌跡にすることで、効果的に光源１０を冷却することができる。
【００４８】
また、第１支持部材１３１乃至第４支持部材１３４の線膨張係数を設計するために、それぞれの材料を変えたり、実施例２に係る表面処理を施したり、実施例３に係るベローズを用いたりすることができる。
【００４９】
このように、実施例５に係る露光装置によれば、光源１０から照射された光により、第１支持部材１３１乃至第４支持部材１３４が温度上昇により膨張して、ノズル１２により冷媒を吹き出す方向が変化して、第２口金部１０５に当たる冷媒の流量が増加する。また、第１支持部材１３１乃至第４支持部材１３４の線膨張係数を調整することによって、効果的に光源１０を冷却することができる。
【実施例７】
【００５０】
次に実施例７に係る露光装置について説明する。なお、ここで言及しない事項は、実施例１に従い得る。
【００５１】
図１４は、実施例７に係る光源装置、ノズル、及び板部材を示した図である。図１４（ａ）においてノズル１２の吹き出し口１２０の先に、互いに線膨張率が異なる材料からなる板部材１４０（調整部）が配置されている。なお、板部材１４０はノズル１２の吹き出し口１２０に取り付けられても良いし、光源装置１の筐体に不図示の取り付け部材によって取り付けられても良い。
【００５２】
図１４（ａ）は光源１０から光が照射される前の状態であり、板部材１４０は温度上昇により膨張していない。この状態では、ノズル１２から吹き出される前記冷媒の吹き出し方向は変化していないか、一部の前記冷媒の吹き出し方向が微小に変化しているに過ぎない。
【００５３】
図１４（ｂ）は光源１０から光が定常状態となり、板部材１４０が温度上昇により膨張している。この状態では、線膨張率が異なる材料の膨張する量が異なることにより形状が変形している。また、ノズル１２から吹き出される前記冷媒が板部材１４０に当たり、前記冷媒の吹き出し方向は第２口金部１０５の方向に変化して、第２口金部１０５に吹き付けられる前記冷媒の流量は増加する。
【００５４】
このように、実施例７に係る露光装置によれば、光源１０から照射された光により、板部材１４０が温度上昇により膨張して、ノズル１２により吹き出される冷媒の吹き出す方向が変化して、第２口金部１０５に当たる冷媒の流量が増加する。
【実施例８】
【００５５】
次に実施例８に係る露光装置について説明する。なお、ここで言及しない事項は、実施例１に従い得る。
【００５６】
図１５は、実施例８に係る光源装置、ノズル、及び作用部を示した図である。図１５（ａ）においてノズル１２の第１配管１２１、又は第２配管１２２に力を作用させる作用部１５（調整部）が配置されている。作用部１５は、温度上昇により膨張して第１配管１２１、又は第２配管１２２に力を作用させる作用部材１５１と作用部材１５１を光源装置１の筐体に取り付ける取り付け部材１５０からなる。なお、取り付け部材１５０は線膨張率が小さい材料であることが望ましい。
【００５７】
図１５（ａ）は光源１０から光が照射される前の状態であり、作用部材１５１は温度上昇により膨張していない。この状態では、ノズル１２の第１配管１２１、又は第２配管１２２には力が作用しておらず、ノズル１２から吹き出される前記冷媒の吹き出し方向は変化していない。
【００５８】
図１５（ｂ）は光源１０から光が定常状態となり、作用部材１５１が温度上昇により膨張して、第１配管１２１、又は第２配管１２２に力を作用させる。この状態では、ノズル１２により冷媒を吹き出す方向が変化して、前記冷媒の吹き出し方向は第２口金部１０５の方向に変化する。
【００５９】
このように、実施例８に係る露光装置によれば、光源１０から照射された光により、作用部材１５１が温度上昇により膨張して、ノズル１２により吹き出される冷媒の吹き出す方向が変化して、第２口金部１０５に当たる冷媒の流量が増加する。
【００６０】
（物品の製造方法）
物品として、例えば、デバイス（半導体デバイス、磁気記憶媒体、液晶表示素子等）、カラーフィルター、またはハードディスク等の製造方法について説明する。かかる製造方法は、露光装置を用いてパターンを基板（ウエハ、ガラスプレート、フィルム状基板等）に形成する工程を含む。かかる製造方法は、パターンを形成された基板を処理する工程を更に含む。該処理ステップは、該パターンの残膜を除去するステップを含みうる。また、該パターンをマスクとして基板をエッチングするステップなどの周知の他のステップを含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性および生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【００６１】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。リソグラフィ装置の一例として、基板を露光することでパターン形成を行う露光装置について説明したが、露光装置に限定されるものではない。また、リソグラフィ装置の一例として、荷電粒子光学系を介して荷電粒子線（電子線やイオンビームなど）で基板に描画を行って、基板にパターン形成を行う描画装置などの装置であっても良い。また、リソグラフィ装置の一例として、基板の上のインプリント材（樹脂など）を型により成形（成型）して、基板にパターン形成を行うインプリント装置であっても良い。また、感光媒体を基板の表面上に塗布する塗布装置、パターンが転写された基板を現像する現像装置など、デバイス等の物品の製造において、前述のようなリソグラフィ装置が実施する工程以外の工程を実施する製造装置も含み得る。
【００６２】
また、実施例１乃至実施例８は、単独で実施するだけでなく、実施例１乃至実施例８を任意に組合せて実施することができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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