(57)【要約】【課題】配向規制力の低下を有効に回避して、液晶セルに係る透明フィルム材による積層体を充分な密着力により積層一体化する。【解決手段】調光フィルム１は、液晶セル４を備えており、液晶セル４は、透明フィルム材による基材６に透明電極１１、配向層１３が設けられた第１の積層体５Ｄと、透明フィルム材による基材１５に少なくとも配向層１７が設けられた第２の積層体５Ｕと、第１の積層体５Ｄ及び第２の積層体５Ｕの間に配置される液晶材料による液晶層８と、第１の積層体５Ｄ及び第２の積層体５Ｕの間に配置される液晶層８の外周に設けられ、第１の積層体５Ｄ及び第２の積層体５Ｕを積層した状態で一体化するシール材１９とを備え、第１の積層体５Ｄ及び第２の積層体５Ｕのうち少なくとも一方とシール材１９との接触面に、選択的に密着力強化面Ｍ１が設けられている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶セルを備える調光フィルムにおいて、
前記液晶セルは、
透明フィルム材による基材に透明電極、配向層が設けられた第１の積層体と、
透明フィルム材による基材に少なくとも配向層が設けられた第２の積層体と、
前記第１の積層体及び前記第２の積層体の間に配置される液晶材料による液晶層と、
前記第１の積層体及び前記第２の積層体の間に配置される前記液晶層の外周に設けられ、前記第１の積層体及び前記第２の積層体を積層した状態で一体化するシール材とを備え、
前記第１の積層体及び前記第２の積層体のうち少なくとも一方と前記シール材との接触面に、選択的に密着力強化面が設けられている
調光フィルム。
【請求項２】
前記密着力強化面は、
幅が１．０ｍｍ以上８．０ｍｍ以下である
請求項１に記載の調光フィルム。
【請求項３】
前記シール材の幅方向の中心が、前記密着力強化面の幅方向の中心から、前記シール材の枠形状の内側に変位した位置である
請求項１又は請求項２に記載の調光フィルム。
【請求項４】
前記密着力強化面は、
前記配向層のプラズマ処理面である
請求項１、請求項２、請求項３の何れかに記載の調光フィルム。
【請求項５】
液晶セルを備える調光フィルムの製造方法において、
透明フィルム材による基材に透明電極、配向層を形成して第１の積層体を作製する第１の積層体作製工程と、
透明フィルム材による基材に少なくとも配向層を形成して第２の積層体を作製する第２の積層体作製工程と、
前記第１及び第２の積層体により液晶層を挟持した液晶セルを作製する積層工程とを備え、
前記積層工程は、
前記第１の積層体及び前記第２の積層体に挟持される前記液晶層の外周を囲む位置にシール材を配置するシール材配置工程と、
前記第１及び第２の積層体を積層して、前記シール材により前記第１及び第２の積層体を積層して一体化する一体化工程とを備え、
当該調光フィルムの製造方法は、
前記第１の積層体及び前記第２の積層体のうち少なくとも一方と前記シール材との接触面に、選択的に密着力強化面を作製する密着力強化処理工程を更に備える
調光フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記密着力強化処理工程は、
常圧において、処理対象に対向するように保持したヘッドより照射されるプラズマにより処理対象を局所的にプラズマ処理するプラズマ処理装置を使用して、前記第１又は第２の積層体に対して対向するように前記ヘッドを保持して、前記第１又は第２の積層体に対する前記ヘッドの相対位置を可変して前記密着力強化面を作製する
請求項５に記載の調光フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、乗用車の窓等に貼り付けて外来光の透過を制御する調光フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば窓に貼り付けて外来光の透過を制御する調光フィルムに関する工夫が種々に提案されている（特許文献１、２）。このような調光フィルムの１つに、液晶を利用したものがある。この液晶を利用した調光フィルムは、透明フィルム材による基材に透明電極、配向層を順次作製して第１及び第２の積層体が作製され、この第１及び第２の積層体により液晶材料を挟持して液晶セルが作製される。調光フィルムは、この液晶セルを直線偏光板により挟持して作成される。これによりこの調光フィルムでは、液晶に印加する電界の可変により液晶の配向を可変して外来光を遮光したり透過したりし、さらには透過光量を可変したりし、これらにより外来光の透過を制御する。
【０００３】
このような調光フィルムでは、第１又は第２の積層体に枠形状によりシール材が配置され、このシール材により液晶材料を間に挟んで第１及び第２の積層体が積層一体化される。これにより調光フィルムは、このシール材により液晶の漏出が防止され、さらには第１及び第２の積層体が一体に保持される。ここでシール材は、液晶の漏出を防止すると共に、透明フィルム材を一体に保持可能な種々の材料を適用することができるものの、エポキシ樹脂等による熱硬化型樹脂、アクリル樹脂等による紫外線硬化樹脂等を適用することができる。
【０００４】
しかしながらこのように配向層が作製されてなる第１及び第２の積層体をシール材により積層一体化する場合、配向層によりシール材の密着力が低下することにより、液晶材料が漏出する恐れがあり、これにより充分な信頼性を確保できない問題がある。この問題を解決する１つの方法として、プラズマ処理等の密着力を強化する処理を各配向層に施すことが考えられるものの、この種の処理を施すと配向層の配向規制力までも低下する問題があり、その結果、充分に透過光を遮光できなくなったりする。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平０３−４７３９２号公報
【特許文献２】特開平０８−１８４２７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、配向規制力の低下を有効に回避して、液晶セルに係る透明フィルム材による積層体を充分な密着力により積層一体化することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、局所的に密着力強化処理を施す、との着想に至り、本発明を完成するに至った。
【０００８】
具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。
【０００９】
（１）  液晶セルを備える調光フィルムにおいて、
前記液晶セルは、
透明フィルム材による基材に透明電極、配向層が設けられた第１の積層体と、
透明フィルム材による基材に少なくとも配向層が設けられた第２の積層体と、
前記第１の積層体及び前記第２の積層体の間に配置される液晶材料による液晶層と、
前記第１の積層体及び前記第２の積層体の間に配置される前記液晶層の外周に設けられ、前記第１の積層体及び前記第２の積層体を積層した状態で一体化するシール材とを備え、
前記第１の積層体及び前記第２の積層体のうち少なくとも一方と前記シール材との接触面に、選択的に密着力強化面が設けられている調光フィルム。
【００１０】
（１）によれば、第１の積層体及び第２の積層体のうち少なくとも一方とシール材との接触面に、選択的に密着力強化面が作製されていることにより、シール材と第１及び第２の積層体との間で十分な密着力を確保することができ、これより液晶の漏れを有効に回避して、第１及び第２の積層体を充分な密着力により積層一体化することができる。またこの密着力強化面が、シール材の枠形状に対応する部位に選択的に作製されていることにより、密着力強化面の配向層への影響を実用上充分に抑制することができ、これにより配向規制力の低下を有効に回避することができる。
【００１１】
（２）  （１）において、
前記密着力強化面は、
幅が１．０ｍｍ以上８．０ｍｍ以下である調光フィルム。
【００１２】
（２）によれば、具体的構成により、配向規制力の低下を有効に回避して、液晶セルに係る透明フィルム材による積層体を充分な密着力により積層一体化することができる。
【００１３】
（３）  （１）又は（２）において、
前記シール材の幅方向の中心が、前記密着力強化面の幅方向の中心から、前記シール材の枠形状の内側に変位した位置である調光フィルム。
【００１４】
（３）によれば、第１及び第２の積層体等が位置ずれした場合であっても、密着力強化面が液晶材料と接触しないようにすることができ、これにより一段と信頼性を向上することができる。
【００１５】
（４）  （１）、（２）、（３）の何れかにおいて、
前記密着力強化面は、
前記配向層のプラズマ処理面である調光フィルム。
【００１６】
（４）によれば、より具体的構成により、配向規制力の低下を有効に回避して、液晶セルに係る透明フィルム材による積層体を充分な密着力により積層一体化することができる。
【００１７】
（５）  液晶セルを備える調光フィルムの製造方法において、
透明フィルム材による基材に透明電極、配向層を形成して第１の積層体を作製する第１の積層体作製工程と、
透明フィルム材による基材に少なくとも配向層を形成して第２の積層体を作製する第２の積層体作製工程と、
前記第１及び第２の積層体により液晶層を挟持した液晶セルを作製する積層工程とを備え、
前記積層工程は、
前記第１の積層体及び前記第２の積層体に挟持される前記液晶層の外周を囲む位置にシール材を配置するシール材配置工程と、
前記第１及び第２の積層体を積層して、前記シール材により前記第１及び第２の積層体を積層して一体化する一体化工程とを備え、
当該調光フィルムの製造方法は、
前記第１の積層体及び前記第２の積層体のうち少なくとも一方と前記シール材との接触面に、選択的に密着力強化面を作製する密着力強化処理工程を更に備える
調光フィルムの製造方法。
【００１８】
（５）によれば、第１の積層体及び第２の積層体のうち少なくとも一方とシール材との接触面に、選択的に密着力強化面が作製されることにより、シール材と第１及び第２の積層体との間で十分な密着力を確保することができ、これより液晶の漏れを有効に回避して、第１及び第２の積層体を充分な密着力により積層一体化することができる。またこの密着力強化面を、シール材の枠形状に対応する部位に選択的に作製することにより、直接、密着力強化面が液晶材料に接触して発生する配向規制力の低下にあっては、これを有効に回避することができる。
【００１９】
（６）  （５）において、前記密着力強化処理工程は、
常圧において、処理対象に対向するように保持したヘッドより照射されるプラズマにより処理対象を局所的にプラズマ処理するプラズマ処理装置を使用して、前記第１又は第２の積層体に対して対向するように前記ヘッドを保持して、前記第１又は第２の積層体に対する前記ヘッドの相対位置を可変して前記密着力強化面を作製する調光フィルムの製造方法。
【００２０】
（６）によれば、いわゆる常圧のスポット式プラズマ装置を使用して密着力強化面を作製することができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、配向規制力の低下を有効に回避して、液晶セルに係る透明フィルム材による積層体を充分な密着力により積層一体化することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の第１実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。
【図２】図１の調光フィルムにおける密着力強化面の説明に供する図である。
【図３】図１の調光フィルムの製造工程を示すフローチャートである。
【図４】図３の製造工程における密着力強化処理工程の説明に供する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
〔第１実施形態〕
〔調光フィルム〕
図１は、本発明の第１実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。この調光フィルム１は、建築物の窓ガラス、ショーケース、屋内の透明パーテーション等の調光を図る部位に、粘着剤層等により貼り付けて使用され、印加電圧の可変により透過光の光量を制御する。
【００２４】
この調光フィルム１は、液晶を利用して透過光を制御するフィルム材あり、直線偏光板２、３により調光フィルム用の液晶セル４を挟持して構成される。ここで直線偏光板２、３は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）にヨウ素等を含浸させた後、延伸して直線偏光板としての光学的機能を果たす光学機能層が形成され、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルム材による基材により光学機能層を挟持して作製される。直線偏光板２、３は、クロスニコル配置により、紫外線硬化性樹脂等による接着剤層により液晶セル４に配置される。なお直線偏光板２、３には、それぞれ液晶セル４側に光学補償に供する位相差フィルム２Ａ、３Ａが設けられるものの、位相差フィルム２Ａ、３Ａは、必要に応じて省略してもよい。
【００２５】
液晶セル４は、後述する透明電極への印加電圧により透過光の偏光面を制御する。これにより調光フィルム１は、透過光を制御して種々に調光を図ることができるように構成される。
【００２６】
〔液晶セル〕
液晶セル４は、フィルム形状による第１及び第２の積層体である下側積層体５Ｄ（第１の積層体）及び上側積層体５Ｕ（第２の積層体）により液晶層８を挟持して構成される。下側積層体５Ｄは、透明フィルム材による基材６に、透明電極１１、スペーサ１２、配向層１３を作製して形成される。上側積層体５Ｕは、透明フィルム材による基材１５に、透明電極１６、配向層１７を積層して形成される。液晶セル４は、この上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄに設けられた透明電極１１、１６の駆動により、液晶層８に設けられた液晶材料の配向を制御して透過光の偏光面を制御する。ここでこの液晶の配向の制御には、ＶＡ（Ｖｉｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｃｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式等、種々の方式を適用することができる。なおＩＰＳ方式により駆動する場合、上側積層体５Ｕ又は下側積層体５Ｄに纏めて透明電極が作製され、この透明電極による横電界により液晶材料の配向を制御する。
ここで、ＶＡ方式は、液晶の配向を垂直配向と水平配向とで変化させて透過光を制御する方式であり、一般的に、無電界時、液晶を垂直配向させることにより、液晶層を垂直配向層により挟持して液晶セルが構成され、電界の印加により液晶材料を水平配向させるように構成される。
また、ＴＮ方式は、電圧がＯＦＦのときは液晶分子が水平に並び、光を通過させて画面が「白」になり、徐々に電圧をかけていくと、液晶分子が垂直に立ち上がっていき、光をさえぎって画面が黒くなる方式である。
ＩＰＳ方式は、配向させた液晶分子を基板に対して横（水平）方向に回転させることにより透過光量を制御する方式である。
【００２７】
基材６、１５は、この種のフィルム材に適用可能な種々の透明フィルム材を適用することができるものの、光学異方性の小さなフィルム材を適用することが望ましい。この実施形態において、基材６、１５は、ポリカーボネートフィルムが適用されるものの、ＣＯＰ（シクロオレフィンポリマー）フィルム等を適用してもよい。
【００２８】
透明電極１１、１６は、この種のフィルム材に適用される各種の電極材料を適用することができ、この実施形態ではＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）による透明電極材により形成される。
【００２９】
スペーサ１２は、液晶層８の厚みを規定するために設けられ、各種の樹脂材料を広く適用することができるものの、この実施形態ではフォトレジストにより作製され、透明電極１１を作製してなる基材６の上に、フォトレジストを塗工して露光、現像することにより作製される。なおスペーサ１２は、上側積層体５Ｕに設けるようにしてもよく、上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄの双方に設けるようにしてもよい。またスペーサ１２は、配向層１３の上に設けるようにしてもよい。またスペーサは、いわゆるビーズスペーサを適用してもよい。
【００３０】
配向層１３、１７は、光配向層により形成される。ここでこの光配向層に適用可能な光配向材料は、光配向の手法を適用可能な各種の材料を広く適用することができるものの、この実施形態では、例えば光２量化型の材料を使用する。この光２量化型の材料については、「Ｍ．Ｓｃｈａｄｔ，  Ｋ．Ｓｃｈｍｉｔｔ，  Ｖ．  Ｋｏｚｉｎｋｏｖ  ａｎｄ  Ｖ．  Ｃｈｉｇｒｉｎｏｖ  ：  Ｊｐｎ．  Ｊ．  Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，  ３１，  ２１５５  （１９９２）」、「Ｍ．  Ｓｃｈａｄｔ，  Ｈ．  Ｓｅｉｂｅｒｌｅ  ａｎｄ  Ａ．  Ｓｃｈｕｓｔｅｒ  ：  Ｎａｔｕｒｅ，  ３８１，  ２１２（１９９６）」等に開示されている。配向層１３、１７は、光配向層に代えて、ラビング処理により作製してもよく、また賦型処理により微細なライン状凹凸形状を作製することにより作製してもよい。
【００３１】
液晶層８は、この種の調光フィルムに適用可能な各種の液晶材料を広く適用することができる。
【００３２】
液晶セル４は、液晶層８を配置する部位、すなわち液晶層８の外周を囲むように、シール材１９が配置され、このシール材１９により上側積層体５Ｕ、下側積層体５Ｄが一体化され、液晶材料の漏出が防止される。ここでシール材１９には、エポキシ樹脂による熱硬化型樹脂、アクリル樹脂による紫外線硬化樹脂等を適用することができる。
【００３３】
〔密着力強化面〕
図２は、本実施形態の調光フィルムの製造過程におけるシール材１９の周囲を示す図である。図２（Ａ）は、図１のＡ−Ａ線における厚み方向から見た調光フィルム１の部分断面図を示す。また、図２（Ｂ）は、上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄにより押し潰した状態で硬化されるシール材１９の状態を示す図であり、図２（Ａ）のＢ−Ｂ線に対応する断面を示す。なお、図２（Ａ）においては、シール材１９の配向層１３側の断面を示すが、シール材１９の配向層１７側の断面についても同様である。
ここで液晶セル４において、単に、配向層１３、１７の上にシール材１９を配置して上側積層体５Ｕ、下側積層体５Ｄを積層して一体化したのでは、配向層１３、１７の存在によりシール材１９の密着力が低下してしまい、液晶層８の液晶材料が漏れ出す恐れがある。このような密着力の低下を防止する方法として、プラズマ処理等の密着力を強化する処理を施すことが考えられるものの、この種の処理を施すと配向層１３、１７の配向規制力までも低下することになる。
【００３４】
そこでこの実施形態では、図２（Ａ）に示すように、各配向層１３、１７のシール材１９を配置する部位（シール材１９との接触面）に、選択的に、他の部位に比してシール材１９との密着力を強化した密着力強化面Ｍ１が作製される。調光フィルム１は、実際には図２（Ｂ）に示すように、上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄにより押し潰した状態でシール材１９を硬化し、上側積層体５Ｕ及び下側積層体５Ｄを一体化する。
この調光フィルム１には、このようにして押し潰されて配置されたシール材１９の幅Ｗ１に対して、ほぼ同一幅Ｗ２により、シール材１９と重なり合って延長するように、シール材１９と同様の枠形状により密着力強化面Ｍ１が作製される。
ここでこのシール材１９の幅Ｗ１及び密着力強化面Ｍ１の幅Ｗ２は、この実施形態において４ｍｍに設定されるものの、１．０ｍｍ以上８．０ｍｍ以下に設定して実用に供することができ、より好ましくは２．０ｍｍ以上６．０ｍｍ以下に設定して実用に供することができる。またシール材１９の幅Ｗ１に対して密着力強化面Ｍ１の幅Ｗ２を幅狭に設定しても良く、これとは逆にシール材１９の幅Ｗ１に対して密着力強化面Ｍ１の幅Ｗ２を幅広に設定してもよい。
【００３５】
シール材１９の塗工中心Ｏ１は、この密着力強化面Ｍ１の幅方向の中心Ｏ２から、枠形状に係る内側に、密着力強化面Ｍ１の幅Ｗ２の１／５以上１／２以下だけ変位した位置に設定される。そのため、シール材１９の幅方向の中心Ｏ１は、密着力強化面Ｍ１の幅方向の中心Ｏ２から、枠形状の内側に変位した位置となる。
これにより調光フィルム１は、シール材１９を配置する際に位置ずれしたり、下側積層体５Ｄ及び上側積層体５Ｕが位置ずれしたりした場合等においても、液晶材料が密着力強化面Ｍ１に直接接触しないようにすることができ、配向不良を確実に防止することができる。
【００３６】
ここで密着力強化面Ｍ１は、密着力を強化する各種の構成を適用することができるものの、この実施形態では、プラズマ処理面が適用され、これによりこの実施形態において密着力強化面Ｍ１は、プラズマ処理により改質された光配向層により構成される。なお配向層１３、１７をラビング処理により作製する場合、密着力強化面Ｍ１は、プラズマ処理により改質されてなるラビング処理に係るポリイミド膜等の樹脂層により構成される。また賦型処理による微細なライン状凹凸形状による配向層１３、１７では、同様に、プラズマ処理により改質されてなる賦型処理による樹脂により作製される。
【００３７】
このようにシール材１９と重なり合って延長するように、シール材１９と同様又はシール材１９よりも大きい枠形状により密着力強化面Ｍ１を作製することにより、調光フィルム１では、密着力強化面Ｍ１に液晶層に係る液晶材料が直接接触しないようにすることができ、これにより配向規制力の低下を有効に回避することができる。また密着力強化面Ｍ１によりシール材１９と積層体５Ｄ、５Ｕの密着力を向上でき、シール材１９と各配向層１３、１７との間から液晶材料が漏出してしまうのを防ぐことができる。
【００３８】
〔製造工程〕
図３は、液晶セルの製造工程を示すフローチャートである。調光フィルム１の製造工程は、この図３の製造工程により液晶セルを作製した後、紫外線硬化性樹脂等の接着剤により直線偏光板２、３と積層一体化して調光フィルム１を作製する。
【００３９】
ここでこの液晶セルの製造工程は、電極作製工程ＳＰ２において、スパッタリング等により各基材６、１５に透明電極１１、１６をそれぞれ作成する。
続いてスペーサ作製工程ＳＰ３において、下側積層体５Ｄに係る透明電極１１を作製した基材６にフォトレジスト膜を作製した後、露光、現像処理し、これによりスペーサ１２を作製する。
続いて製造工程は、配向層作製工程ＳＰ４において、各基材６、１５に配向層１３、１７を作製する。これにより液晶セルの製造工程は、上側積層体５Ｕ、下側積層体５Ｄを作製する。なお、上述の電極作製工程ＳＰ２〜配向層作製工程ＳＰ４が、下側積層体５作製工程（第１の積層体作製工程）、上側積層体作成工程（第２の積層体作製工程）となる。
【００４０】
続いてこの製造工程は、密着力強化処理工程ＳＰ５において、密着力強化面Ｍ１を作製する（詳細は後述する）。
また続く積層工程ＳＰ６において、上側積層体５Ｕ又は下側積層体５Ｄに、ディスペンサーによりシール材１９を枠形状により塗工した後（シール材配置工程）、この枠形状により囲まれた所定位置に、ディスペンサーを使用して液晶層８に係る液晶材料を滴下する。さらにこの工程は、この液晶材料を間に挟んで上側積層体５Ｕ又は下側積層体５Ｄを積層して押圧し、これにより液晶材料を積層体間で押し広げると共にシール材１９を押し潰し、その後、紫外線の照射によりシール材１９を硬化させて上側積層体５Ｕ又は下側積層体５Ｄを一体化する（一体化工程）。
なお、この硬化の処理においては、加熱処理により実行する場合等、種々の手法を広く適用することができる。またシール材１９の配置と液晶材料の配置とは順序を入れ替えるようにしてもよい。
【００４１】
〔密着力強化処理〕
図４は、密着力強化処理工程ＳＰ５に係る密着力強化装置であるプラズマ処理装置を示す斜視図である。
このプラズマ処理装置２０は、上側積層体５Ｕ、下側積層体５Ｄを真空吸着により保持する真空吸着テーブル２１が設けられ、この真空吸着テーブル２１がテーブルガイドレール２２によりガイドされて、不図示の駆動部（例えば、モータ等）によってＹ方向（図４中の矢印Ｙにより示す）に移動するように構成される。
プラズマ処理装置２０は、テーブルガイドレール２２と直交する方向に延長するヘッドガイドレール２３が、真空吸着テーブル２１を跨ぐように、真空吸着テーブル２１の上方に配置される。プラズマ処理装置２０は、このヘッドガイドレール２３に、プラズマ処理用のヘッド２４が設けられ、このヘッド２４が、不図示の駆動部（例えば、モータ等）によってＸ方向（図４中の矢印Ｘにより示す）に移動するように構成される。
これによりプラズマ処理装置２０は、真空吸着テーブル２１に真空吸着により保持した上側積層体５Ｕ、下側積層体５Ｄと、ヘッド２４とをＸ方向及びＹ方向に相対移動できるように構成される。ここで、下側積層体５Ｄ、上側積層体５Ｕは、それぞれ配向層１３、１７がヘッド２４に対向するようにしてステージ２１に配置される。
【００４２】
なお、テーブル２１への上側積層体５Ｕ、下側積層体５Ｄの配置にあっては、真空吸着に限らず、静電気による吸着により配置する場合等、種々の配置方法を広く適用することができる。
また、このようにテーブル２１に保持した上側積層体５Ｕ、下側積層体５Ｄに対するヘッド２４の移動は、テーブル２１を固定してヘッド２４をＸ方向及びＹ方向に移動させたり、これとは逆にヘッド２４を固定してテーブル２１をＸ方向及びＹ方向に移動させたりする等、種々の手法を広く適用することができる。
【００４３】
ヘッド２４は、常圧の雰囲気において、駆動装置２５による駆動によりプラズマを生成し、ヘッド２４の先端に対向するように配置された処理対象部材に生成したプラズマを照射する。ここでこのようなプラズマ照射装置は、例えばスポット式常圧プラズマ装置として周知であり、例えば積水化学工業（株）社製ＡＰ／Ｔ０７−Ｈ０１を適用することができる。
これにより、ヘッド２４は、このプラズマを照射する処理対象の対向する部位を、スポット的（局所的に）にプラズマ処理し、この実施形態では、下側積層体５Ｄ、上側積層体５Ｕの配向層１３、１７を局所的に改質してプラズマ処理面を形成し、これを密着力強化面Ｍ１とする。
【００４４】
またこのようにして局所的にプラズマ処理により改質するようにして、下側積層体５Ｄ、上側積層体５Ｕに対して枠形状の軌跡を描くようにヘッド２４を移動し、これにより密着力強化面Ｍ１を作製する。このような場合には、配向層１３、１７の密着力強化面Ｍ１に近接する部位における配向規制力の劣化を有効に回避して、高い信頼性により密着力強化面Ｍ１を作製することができる。
【００４５】
ここで、このように枠形状により密着力強化面Ｍ１を作製する場合にあっては、下側積層体５Ｄ、上側積層体５Ｕをマスクしてプラズマ処理することによっても、実行することができる。しかしながらこのようにマスクしてプラズマ処理する場合、大面積の調光フィルムのほとんどの部位を遮蔽した枠形状に係るマスクを使用することが必要であることにより、著しく調光フィルムの生産効率が低下する。またマスクの配置、撤去が著しく煩雑になり、マスクの配置、撤去の際に、調光フィルムを損傷したりする恐れもある。
これに対して、本実施形態のようにヘッド及び積層体を相対移動してプラズマ処理する場合には、調光フィルムが大面積の場合であっても、必要な部位を効率良くプラズマ処理して密着力強化面Ｍ１を作製することができる。また調光フィルムの損傷も有効に回避することができる。
【００４６】
ここでこのヘッド２４にあっては、密着力強化面Ｍ１の幅Ｗ２が直径となる円形形状の領域をプラズマ処理できるように、プラズマの出力、処理対象までの間隔等が設定され、これにより効率良くプラズマ処理できるように設定される。
なお、プラズマ処理は、１回の枠形状によるヘッド２４の走査により、密着力強化面Ｍ１を作製するようにしてもよく、また、２回以上の繰り返しの走査により繰り返しプラズマ処理して密着力強化面Ｍ１を作製するようにしてもよい。
また、多面付けにより調光フィルムを生産する場合には、１枚の下側積層体５Ｄ、上側積層体５Ｕに例えば２つの枠形状の密着力強化面Ｍ１を作製するようにしてもよい。
更に、例えば外側枠と内側枠との２重の枠形状によりシール材１９を作製するようにして、これに対応するように外側枠と内側枠との２重の枠形状により密着力強化面Ｍ１を作製するようにしてもよい。
【００４７】
ここで、プラズマ処理により密着力強化面Ｍ１を作製する場合、密着力強化面Ｍ１の作製直後にシール材１９を塗工することにより充分な密着力を確保することができるが、この密着力は、時間経過により徐々に低下することになる。そのため、この実施形態では、ヘッド２４により密着力強化面Ｍ１を作製した後に、下側積層体５Ｄ、又は上側積層体５Ｕをテーブル２１に保持したままの状態で、続いてシール材１９に係るディスペンサーを移動して密着力強化面Ｍ１上にシール材１９を塗工する。
なお、この場合、ヘッド２４を追いかけるようにシール材１９を塗工するディスペンサーを移動するようにして、プラズマ処理しながらシール材を塗工するようにしてもよい。
【００４８】
〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を種々に組み合わせ、さらには変更することができる。
【００４９】
すなわち上述の実施形態では、液晶材料を間に挟んで２つの積層体５Ｄ、５Ｕを積層一体化して液晶セルを作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、２つの積層体を積層一体化した後、この２つの積層体５Ｄ、５Ｕの間に液晶材料を配置して液晶セルを作製する場合にも広く適用することができる。
【００５０】
上述の実施形態において液晶セル４の液晶の配向制御には、ＶＡ方式等が適用される例を示したが、これに限定されるものでなく、ゲストホスト方式を適用するようにしてもよい。この場合、調光フィルムは、直線偏光板を省略してもよい。
ここで、ゲストホスト方式とは、液晶層に液晶分子と二色性色素とが混合されており、液晶層に印加される電界により液晶分子の配向方向を変化させると、その動きに従って二色性色素の配向も変化して、液晶セルの透過光量を変化させることができる方式である。
【００５１】
上述の実施形態において、密着力強化面Ｍ１は、配向層１３及び配向層１７の両方に設けられる例を示したが、これに限定されるものでなく、例えば、各積層体５Ｄ、５Ｕとシール材１９との密着力に応じて、いずれか一方の配向層に設けるようにしてもよい。
【符号の説明】
【００５２】
１  調光フィルム
２、３  直線偏光板
２Ａ、３Ａ  位相差フィルム
４  液晶セル
５Ｄ  下側積層体
５Ｕ  上側積層体
６、１５  基材
８  液晶層
１１、１６  透明電極
１２  スペーサ
１３、１７  配向層
１９  シール材
２０  プラズマ処理装置
２１  真空吸着テーブル
２２  テーブルガイドレール
２３  ヘッドガイドレール
２４  ヘッド
２５  駆動装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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