(57)【要約】【課題】脱硝触媒の性能劣化を軽減しつつ、小型化された排ガス処理システムおよび排ガス処理方法を提供することを目的とする。【解決手段】本発明の排ガス処理システム１は、ＳＯｘ、ＮＯｘおよびダイオキシン類を含む排ガス中に水を噴霧する噴霧部を有する減温塔４と、ろ布の一面側に硫黄吸着剤が担持された脱硫層、他面側に脱硝触媒が担持された脱硝層を有するバグフィルタ５と、再加熱器および触媒反応塔を介さず、バグフィルタ５の下流に接続された煙突６と、排ガス中にアルカリ性粉体を供給するアルカリ性粉体供給部１０と、排ガス中に活性炭を供給する活性炭供給部１０と、排ガス中に還元剤を供給する還元剤供給部１１と、を備え、減温塔４と煙突６との間において、バグフィルタ５は、脱硫層が排ガス入口、脱硝層が排ガス出口となる向きに配置されている。【選択図】図１
2018126674.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＳＯｘ、ＮＯｘおよびダイオキシン類を含む排ガスを処理する排ガス処理システムであって、
前記排ガス中に水を噴霧する噴霧部を有する減温塔と、
ろ布の一面側に硫黄吸着剤が担持された脱硫層、前記ろ布の他面側に脱硝触媒が担持された脱硝層を有するバグフィルタと、
再加熱器および触媒反応塔を介さず、前記バグフィルタの下流に接続された煙突と、
前記バグフィルタの上段側で前記排ガス中にアルカリ性粉体を供給するアルカリ性粉体供給部と、
前記バグフィルタの上段側で前記排ガス中に活性炭を供給する活性炭供給部と、
前記バグフィルタの上段側で前記排ガス中に還元剤を供給する還元剤供給部と、
を備え、前記減温塔と前記煙突との間において、前記バグフィルタは、前記脱硫層が排ガス入口、前記脱硝層が排ガス出口となる向きに配置されている排ガス処理システム。
【請求項２】
ＳＯｘ、ＮＯｘおよびダイオキシン類を含む排ガスを２００℃以下に減温し、
前記排ガス中にアルカリ性粉体、活性炭および還元剤を供給した後、
ろ布の一面側に配置した硫黄吸着剤が担持された脱硫層、および前記ろ布の他面側に配置した脱硝触媒が担持された脱硝層に、前記排ガスを順次通過させ、再加熱器および触媒反応塔を介さず、煙突から排出する排ガス処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、燃焼炉から排出された排ガス中の有害物質を除去する排ガス処理システムおよび排ガス処理方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
廃棄物焼却プラント等の燃焼炉から排出される排ガス中には、ＳＯｘ、ＮＯｘ、ダイオキシン類およびＨＣｌなどの有害物質が含まれている。排ガス中から有害物質を除去するため、燃焼炉からの排ガスは、排ガス処理システムで処理される。
【０００３】
図６に、従来の排ガス処理システムが接続された廃棄物焼却プラントを例示する。廃棄物焼却プラントは、燃焼炉５２で廃棄物を焼却処理する。燃焼炉５２で発生した排ガスは燃焼炉５２の煙道に接続された排ガス処理システム５１で処理される。従来の排ガス処理システム５１は、排ガスから熱を回収するボイラ５３、エアヒータ（不図示）および熱交換器（不図示）、排ガスを冷却する減温塔５４、排ガスの除塵を行う除塵器５５、排ガスを再加熱する再加熱器５６、脱硝触媒が設置された触媒反応塔５７および煙突５８を備えている。
【０００４】
図６において、排ガスは、ボイラ５３、エアヒータおよび熱交換器で熱回収された後、減温塔５４で水噴霧により１５０℃から１８０℃程度に冷却される。次いで除塵器５５にて排ガスの除塵が行われるとともに、必要に応じて除塵器５５の上流側で排ガス中に供給された消石灰によりＨＣｌ除去、ＳＯｘ除去が行われる。また、消石灰とともに活性炭を供給すると除塵器でダイオキシン類、及び水銀の除去が行われる。
【０００５】
除塵器５５の後段にある触媒反応塔５７内にある脱硝触媒は２００℃から３００℃程度で高い触媒活性を示すため、除塵器５５から出た排ガスは、再加熱器５６にて再加熱する必要がある。
【０００６】
再加熱された排ガス中のＮＯｘは、触媒反応塔５７において脱硝触媒の存在下、上流側で供給された還元剤により還元除去される。還元剤は、尿素およびアンモニア等である。特許文献１では、還元剤を燃焼炉内に噴霧し、燃焼により生成したＮＯｘを還元剤により炉内で無触媒脱硝反応させるとともに、未反応の還元剤およびＮＯｘを、脱硝触媒を備えた脱硝反応塔で還元除去している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平６−２６９６３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従来の排ガス処理システムでは、脱硝、除塵および脱硫処理を個別に実施している。そのため、プラント全体における排ガス処理システムが占める設置面積は非常に大きいという課題がある。
【０００９】
例えば、触媒反応塔は、５階建て程度の高さの塔であり、建設コストも高い。脱硝のための他の手段として、除塵器に、脱硝触媒を担持した触媒バグフィルタを適用するシステムが提案されている。当該システムでは、排ガス中のＮＯｘが、還元剤とともに、脱硝触媒を担持した触媒バグフィルタを通過する際に、還元除去されるため、再加熱器および触媒反応塔がなくても脱硝できる。
【００１０】
しかしながら、脱硝触媒を担持した触媒バグフィルタは、以下に説明するように、低温では酸性硫安被毒を受け、長期安定的に使用することができないという課題がある。
【００１１】
排ガス中のＳＯ２は、その一部が触媒上でＳＯ３になる。ＳＯ３は、式（１）、式（２）に示すように、除塵器の上流側で吹いたアンモニアと反応して硫安となる。
２ＮＨ３＋ＳＯ３＋Ｈ２Ｏ→（ＮＨ４）２ＳＯ４・・・（１）
ＮＨ３＋ＳＯ３＋Ｈ２Ｏ→ＮＨ４ＨＳＯ４・・・（２）
【００１２】
除塵器は、ダイオキシン類を処理するために、２００℃以下で運転する必要があるが、２００℃以下の低温では、触媒が酸性硫安被毒を受けやすい。
【００１３】
酸性硫安被毒は、温度を高く（例えば２３０℃程度に）すると、速度を遅らせることができる。従来の排ガス処理システムでは、酸性硫安被毒を回避するために、触媒反応塔を触媒バグフィルタの後ろに配置し、再加熱器にて排ガス温度を２２０℃−２５０℃まであげてから触媒反応塔に導いている。排ガス温度を一旦下げた後、再度上昇させるのは非常にエネルギー効率が悪いが、以上のような理由により、再加熱器および触媒反応塔を省略できないのが現状である。
【００１４】
また、酸性硫安被毒を回避するために、煙道中の排ガスのＳＯ２濃度を計測し、ＳＯ２濃度に応じて消石灰（中和剤）の量を調整する高度な脱硫制御を実施する方式が提案されている。しかしながら、排ガス中のＳＯ２濃度は常に変動しているため、短時間で急激な濃度上昇をする場合には、上記方式では脱硫処理が間に合わず、触媒フィルタが被毒されてしまう。また、非常に低い濃度まで脱硫するには非常に多くの脱硫剤が必要となり、脱硫剤費用や除塵装置での灰処理費用が増加してしまう。
【００１５】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、脱硝触媒の性能劣化を軽減しつつ、小型化された排ガス処理システムおよび排ガス処理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記課題を解決するために、本発明の排ガス処理システムおよび排ガス処理方法は以下の手段を採用する。
【００１７】
本発明は、ＳＯｘ、ＮＯｘおよびダイオキシン類を含む排ガスを処理する排ガス処理システムであって、排ガス中に水を噴霧する噴霧部を有する減温塔と、ろ布の一面側に硫黄吸着剤が担持された脱硫層、前記ろ布の他面側に脱硝触媒が担持された脱硝層を有するバグフィルタと、再加熱器および触媒反応塔を介さず、前記バグフィルタの下流に接続された煙突と、前記バグフィルタの上段側で前記排ガス中にアルカリ性粉体を供給するアルカリ性粉体供給部と、前記バグフィルタの上段側で前記排ガス中に活性炭を供給する活性炭供給部と、前記バグフィルタの上段側で前記排ガス中に還元剤を供給する還元剤供給部と、を備え、前記減温塔と前記煙突との間において、前記バグフィルタは、前記脱硫層が排ガス入口、前記脱硝層が排ガス出口となる向きに配置されている排ガス処理システムを提供する。
【００１８】
また本発明は、ＳＯｘ、ＮＯｘおよびダイオキシン類を含む排ガスを２００℃以下に減温し、前記排ガス中にアルカリ性粉体、活性炭および還元剤を供給した後、ろ布の一面側に配置した硫黄吸着剤が担持された脱硫層、および前記ろ布の他面側に配置した脱硝触媒が担持された脱硝層に、前記排ガスを順次通過させ、再加熱器および触媒反応塔を介さず、煙突から排出する排ガス処理方法を提供する。
【００１９】
上記発明において、排ガス中に供給されたアルカリ性粉体は、酸性有害物質（ＳＯｘ、ＨＣｌ等）を中和し、反応生成物が生成される。これにより、大部分のＳＯｘが除かれる。
【００２０】
排ガス中に供給された活性炭は、ダイオキシン類や水銀を吸着する。ばいじん、反応生成物および活性炭は、排ガスがバグフィルタを通過する際に、ろ布を通過できずに排ガス中から除去される。
【００２１】
ろ布は脱硫層および脱硝層を備えている。排ガスは、バグフィルタを通過する際、脱硫層から入り、脱硝層から抜け出る。排ガスにはアルカリ性粉体と反応しなかったＳＯｘが数１０ｐｐｍ程度残留している場合がある。上記発明において、排ガスに残留していた硫黄成分は、脱硫層において硫黄吸着剤に吸着される。これにより、硫黄成分を取り切った後の排ガスを脱硝層へと流すことができる。
【００２２】
脱硝層では、脱硝触媒下、排ガスに含まれるＮＯｘが上段側で供給された還元剤により還元除去される。また、ろ布を通過したガス状が主となるダイオキシン類は、脱硝触媒により分解除去される。
【００２３】
上記発明によれば、脱硝触媒に接触する前に排ガスから硫黄成分を除去することで、触媒の酸性硫安被毒を回避し、低温では実現不可能であった脱硝触媒付きバグフィルタでの脱硝処理が可能となる。また、排ガス中のＳＯ２濃度が急激に上昇した場合であっても、脱硝触媒の性能劣化を軽減できる。
【００２４】
上記発明によれば、脱硫、脱硝、除塵およびダイオキシン類、水銀処理をバグフィルタで一緒に実施できる。バグフィルタでは２００℃以下で脱硝処理が可能なため、再加熱器および触媒反応塔が不要となる。これにより、バグフィルタで処理した排ガスを再加熱器および触媒反応塔を介さずに煙突から排出できるため、排ガス処理システムを小型化できる。再加熱器および触媒反応塔を省略することで、プラント全体の１割程度の設置面積を減らせる。
【００２５】
排ガスの再加熱には、ボイラで生成した蒸気を熱源とした蒸気式加熱器が用いられることが多いが、再加熱器が不要となることで、脱硝処理するために必要としていた蒸気を発電に利用できる。これにより、プラント全体のエネルギー効率を向上させられる。
【発明の効果】
【００２６】
本発明は、脱硝層の上流側に脱硫層を設けたバグフィルタを用いることで、脱硝触媒の性能劣化を軽減しつつ、小型化された排ガス処理システムおよび排ガス処理方法を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の一実施形態に係る排ガス処理システムの全体構成図である。
【図２】ろ布の概略縦断面図である。
【図３】図２のＡ部分の拡大図である。
【図４】脱硝触媒の性能評価試験条件を示す図である。
【図５】触媒性能評価試験の結果を示すグラフである。
【図６】従来の排ガス処理システムの全体構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
本発明に係る排ガス処理システムは、石炭焚ボイラ排ガス処理装置、油焚ボイラ排ガス処理装置、一般廃棄物焼却プラント排ガス処理装置、および産業廃棄物焼却プラント排ガス処理装置等に適用されうる。
【００２９】
図１は、本実施形態に係る排ガス処理システムの全体構成図である。図１の排ガス処理システム１は、一般廃棄物焼却プラント（燃焼炉２）に接続されている。排ガス処理システム１は、ボイラ３、減温塔４、除塵器（バグフィルタ）５および煙突６を備えている。
【００３０】
燃焼炉２の排ガス出口とボイラ下部とは第１配管７で接続されている。ボイラ上部と減温塔下部とは第２配管８で接続されている。減温塔上部と除塵器下部とは第３配管９で接続されている。第３配管９の途中には、上流側から順にアルカリ性粉体供給部１０および還元剤供給部１１が接続されている。除塵器上部と煙突とは第４配管１２で接続されている。排ガス処理システム１は、除塵器５の後段に再加熱器および触媒反応塔を備えていない。
【００３１】
燃焼炉２は、種々のものを燃焼させる装置である。燃焼炉２は、例えばバーナ２ａを有し、炉内での燃焼反応により高温の排ガスを発生する。燃焼炉２から排出される排ガスは、ダイオキシン類（ＤＸＮｓ）、窒素酸化物（ＮＯｘ）、硫黄酸化物（ＳＯｘ）、塩化水素（ＨＣｌ）等を含む。
【００３２】
ボイラ３は、燃焼炉２から排出された高温の排ガスを、第１配管７を介して受け入れ、該排ガスから熱を回収する。ボイラ３で熱を回収された排ガスは、第２配管８を介して減温塔４に送られる。
【００３３】
減温塔４は、排ガス温度を２００℃以下に減温できる装置である。減温塔４は、水が貯留された水タンク１３およびポンプ１４で構成された噴霧部を備えている。水タンク１３は、減温塔４の下部にポンプ１４を介して接続されている。水タンク１３の水は、ポンプ１４により減温塔４内に噴霧されうる。ボイラ３から送られた排ガスは水と接触することで、２００℃以下、好ましくは１５０℃〜２００℃程度に冷却される。減温塔４で冷却された排ガスは、第３配管９を介して除塵器５に送られる。
【００３４】
アルカリ性粉体供給部１０は、アルカリ性粉体を貯留する粉体タンク（不図示）および粉体供給部（不図示）を備えている。粉体タンクに貯留されたアルカリ性粉体は、粉体供給部により第３配管９内に供給されうる。
【００３５】
粉体供給部は、例えば、粉体切り出し装置、ブロワ、粉体供給ノズルで構成され、粉体切り出し装置で所定量の粉体を切出し、切り出した粉体はブロワにより第３配管９に供給される。第３配管９内を通る排ガスはアルカリ性粉体と接触することで、排ガス中に含まれるＨＣｌやＳＯｘ等の酸性ガスを中和する。中和反応により得られた反応生成物（飛灰）は、後段の除塵器５でろ過作用により集塵されうる。
【００３６】
アルカリ性粉体は、消石灰、苛性ソーダ等のアルカリ性薬剤である。アルカリ性粉体の供給量は、排ガスに含まれる酸性ガス濃度により設定されうる。例えば、アルカリ性粉体として消石灰を使用した場合には、当量比は１〜３程度に設定される。ここで当量比とは、下記の（Ａ）式と（Ｂ）式の反応に必要である消石灰の理論的な合計量に対する実際に供給する消石灰供給量の比である。供給量が理論的な必要量と等しい場合には当量比が１であり、供給量が理論的な必要量の１／２の場合には当量比が０．５である。
【００３７】
排ガス中の塩化水素（ＨＣｌ）に対して消石灰（Ｃａ（ＯＨ）２）を吹き込んで反応させ除去する際の反応は、次のとおりである。
ＨＣｌ＋１／２Ｃａ（ＯＨ）２→１／２ＣａＣｌ２＋Ｈ２Ｏ・・・（Ａ）
１モルのＨＣｌと反応するのに理論的に必要な消石灰は０．５モルである。
【００３８】
また、排ガス中の二酸化硫黄（ＳＯ２）に対して消石灰（Ｃａ（ＯＨ）２）を吹き込んで反応させ除去する際の反応は、次のとおりである。
ＳＯ２＋Ｃａ（ＯＨ）２＋１／２Ｏ２→ＣａＳＯ４＋Ｈ２Ｏ・・・（Ｂ）
１モルのＳＯ２と反応するのに理論的に必要な消石灰は１モルである。
【００３９】
本実施形態においてアルカリ性粉体供給部１０は、活性炭供給部を兼ねるものとする。すなわち、アルカリ性粉体供給部１０は、アルカリ性粉体とともに活性炭を第３配管９内に供給する。活性炭は、排ガスと接触することで、排ガス中のダイオキシンや水銀を吸着除去できる。さらに、アルカリ性粉体供給部１０は、珪藻土等の目詰まり防止剤を第３配管９内に噴霧するものであってもよい。これにより後段の除塵器５のろ布１５の目詰まりを抑制できる。
【００４０】
還元剤供給部１１は、還元剤を貯留する還元剤タンク（不図示）およびポンプ（不図示）を備えている。還元剤タンクに貯留された還元剤は、ポンプを介して第３配管９内に噴霧されうる。還元剤は、尿素水、アンモニア水、アンモニアガス等である。尿素水は、排ガス中に供給されると分解され、アンモニアガスを発生する。アンモニア水は、排ガス中に供給されると分解されアンモニアガスを発生する。
【００４１】
還元剤は、脱硝触媒下で排ガスに含まれるＮＯｘと反応し、Ｎ２に還元させる。脱硝反応を式（３）〜（５）に示す。
４ＮＯ＋４ＮＨ３＋Ｏ２→４Ｎ２＋６Ｈ２Ｏ・・・（３）
２ＮＯ２＋４ＮＨ３＋Ｏ２→３Ｎ２＋６Ｈ２Ｏ・・・（４）
ＮＯ＋ＮＯ２＋２ＮＨ３→２Ｎ２＋３Ｈ２Ｏ・・・（５）
【００４２】
除塵器５は、ろ過式集塵器（バグフィルタ）である。バグフィルタは、集塵容器（不図示）および集塵容器内に設置された複数のろ布１５を備えている。バグフィルタは、排ガスがろ布１５を通過する際、ろ布１５の表面に堆積した粒子層で排ガス中のばいじんを捕集し、払落しにより回収する装置である。
【００４３】
図２は、本実施形態に係るろ布の概略縦断面図である。図３は、図２のＡ部分の拡大図である。本実施形態において、ろ布１５は筒状体である。筒状体は、一端ｂが閉じられており、他端には開口部１６を有する。除塵器５は、排ガスＧｄが、筒状体の外表面側ｄから内表面側ｃへと流れるよう配置されている。すなわち、筒状体の外表面側ｄ（ダーティサイド）が排ガス入口、筒状体の内表面側ｃ（クリーンサイド）が排ガス出口となる。ろ布１５を通過した排ガスＧｃは、筒状体他端の開口部１６を通り、再加熱器および触媒反応塔を介さず、第４配管１２により煙突へと排出される。
【００４４】
図３に示すように、バグフィルタは、ろ布１５の一面側に脱硫層１７、ろ布１５の他面側に脱硝層１８を有する。集塵容器内において、ろ布１５は、脱硫層１７が排ガス入口、脱硝層１８が排ガス出口となる向きに配置されている。
【００４５】
脱硫層１７には、硫黄吸着剤１９が担持されている。硫黄吸着剤１９は、ろ布１５の排ガス入口側の面に、１０ｇ／ｍ２以上３００ｇ／ｍ２以下、好ましくは、５０ｇ／ｍ２以上２００ｇ／ｍ２以下で担持させる。
【００４６】
硫黄吸着剤１９は、Ｆｅ系、Ｎｉ系、Ｚｎ系、およびＣｕ系の脱硫剤である。Ｆｅ系は、例えばＦｅＯ、Ｆｅ２Ｏ３等である。Ｎｉ系、Ｚｎ系、およびＣｕ系とは、それぞれＮｉ、Ｚｎ、Ｃｕ元素からなる単体または化合物を含む脱硫剤のことである。Ｎｉ系脱硫剤は、例えば、Ｎｉ、ＮｉＯまたはそれらをＡｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｌａのうち少なくとも一種を含む金属または酸化物に担持および含有させたもの等である。Ｚｎ系は、例えばＺｎＯである。Ｃｕ系は、例えば、ＣｕまたはＣｕＯ等である。Ｚｎ系およびＣｕ系は、必要に応じて上記金属および酸化物にＺｎ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｒ等の少なくとも一種を含有させてもよい。一例として、Ｃｕ、Ｓｉ、Ａｌを含む硫黄吸着剤とした場合には、質量比でＣｕ：Ｓｉ：Ａｌ＝１〜１０：０〜５０：０〜９５となる。
【００４７】
脱硝層１８には、脱硝触媒２０が担持されている。脱硝触媒２０は、ろ布１５の排ガス出口側の面に、１０ｇ／ｍ２以上５００ｇ／ｍ２以下、好ましくは、５０ｇ／ｍ２以上３００ｇ／ｍ２以下で担持させる。
【００４８】
脱硝触媒２０は、チタン（Ｔｉ）、シリコン（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）から選ばれる少なくとも一種以上の元素を含む単一又は複合酸化物からなる担体と、バナジウム（Ｖ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）の酸化物のうち少なくとも一種類の酸化物からなる活性成分とからなる触媒である。
担体としては、少なくとも酸化チタンを用いることが好ましい。
活性成分としては、少なくともバナジウム酸化物（Ｖ２ＯＸ、ｘ＝４〜５）を用いることが好ましい。上記活性成分はいずれも酸化能力を有し、ダイオキシンを酸化分解でき、また、還元剤存在下で窒素酸化物を還元できるが、バナジウム酸化物はそれらの能力が特に優れる。
【００４９】
排ガス浄化用触媒の組成は特に制限されない。少なくとも、担体として酸化チタン、活性成分としてバナジウム酸化物を含み、必要に応じて、タングステン酸化物（ＷＯＸ、ｘ＝２〜３）を含む場合には、質量比で、酸化チタン：バナジウム酸化物：タングステン酸化物＝９９〜９０：１〜１０：０〜５であることが好ましい。
【００５０】
硫黄吸着剤１９および脱硝触媒２０は、スプレーノズルによって、ろ布表面に担持（塗布）されうる。例えば、筒状体をつりさげた状態で、１つのスプレーノズルを外表面側に向け、別のスプレーノズルを内表面側に向けて、それぞれ配置し、各スプレーノズルを筒状体の軸方向に移動させて硫黄吸着剤１９および脱硝触媒２０を噴霧するとよい。噴霧前に、硫黄吸着剤１９および脱硝触媒２０の各濃度が一定になるよう濃度調整することで、より均一にろ布１５に塗布できる。
【００５１】
（触媒性能評価試験）
上記実施形態に記載されたバグフィルタのろ布を用いて、脱硝触媒の性能評価試験を実施した。ろ布（直径約６０ｍｍ）は、外表面側に硫黄吸着剤（１３０ｇ／ｍ２）、内表面側に脱硝触媒（１３７ｇ／ｍ２）を担持させたものを用いた（実施例）。上記ろ布に、温度２００℃、ろ過速度０．８ｍ／ｍｉｎで、所定時間、図４に記載の排ガスを通過させた。
【００５２】
脱硝触媒活性比は、ＳＯ２を含まない排ガス条件で脱硝率を計測しこれを初期脱硝性能とし、ＳＯ２を含む排ガス条件で所定時間経過後の脱硝率を計測しこれを所定経過時間後脱硝性能とし、後者を前者で割ったものとして算出した。
【００５３】
比較例として、脱硝触媒のみを担持したろ布（直径約６０ｍｍ）を用いて、同様に脱硝触媒の性能を評価した。脱硝触媒は、（２６０ｇ／ｍ２）とした。
【００５４】
図５に、触媒性能評価試験の結果を示す。同図において、縦軸は（脱硝）触媒活性比、横軸はガスを流した経過時間である。触媒活性比は、経過時間０時間の触媒活性を基準（１．０）とした規格値で表示する。
【００５５】
図５によれば、脱硝触媒のみを担持させたろ布の脱硝触媒活性比は、１０００時間経過した時点で、初期値の６割程度まで低下し、２０００時間経過後には５割以下となった。一方、外表面側に脱硫層、内表面側に脱硝層を担持させたろ布の脱硝触媒活性は、１０００時間経過した時点で、初期値の７割を維持し、２０００時間経過した後も６割以上であった。これにより、脱硝層のガス流れ上流側に脱硫層を設けることで、脱硝触媒の性能低下を軽減できることが確認された。
【符号の説明】
【００５６】
１  排ガス処理システム
２  燃焼炉
３  ボイラ
４  減温塔
５  除塵器（バグフィルタ）
６  煙突
７  第１配管
８  第２配管
９  第３配管
１０  アルカリ性粉体供給部
１１  還元剤供給部
１２  第４配管
１３  水タンク
１４  ポンプ
１５  ろ布
１６  開口部
１７  脱硫層
１８  脱硝層
１９  硫黄吸着剤
２０  脱硝触媒
【図１】
2018126674.tif 000003
【図２】
2018126674.tif 000004
【図３】
2018126674.tif 000005
【図４】
2018126674.tif 000006
【図５】
2018126674.tif 000007
【図６】
2018126674.tif 000008