(57)【要約】【課題】高い屈折率及び耐熱性を有する新規オキセタン化合物及びその製造方法、並びに前記化合物を含む硬化性組成物及びその硬化物を提供する。【解決手段】本発明の新規オキセタン化合物は、下記式（１）で表される。2018108985.tif 000022（式中、Ａｒ１及びＡｒ２はアレーン環、Ｚ１及びＺ２は縮合多環式アレーン環、Ｒ１ａ及びＲ１ｂ並びにＲ２ａ及びＲ２ｂは置換基、Ｒ３ａ及びＲ３ｂは直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基、Ｒ４ａ及びＲ４ｂは水素原子又は置換基、ｋ１及びｋ２、ｍ１及びｍ２並びにｎ１及びｎ２は０以上の整数を示す。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）
【化１】
2018108985.tif 000019
（式中、Ａｒ１及びＡｒ２はアレーン環、Ｚ１及びＺ２は縮合多環式アレーン環、Ｒ１ａ及びＲ１ｂ並びにＲ２ａ及びＲ２ｂは置換基、Ｒ３ａ及びＲ３ｂは直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基、Ｒ４ａ及びＲ４ｂは水素原子又は置換基、ｋ１及びｋ２、ｍ１及びｍ２並びにｎ１及びｎ２は０以上の整数を示す。）
で表される化合物。
【請求項２】
式（１）において、Ａｒ１及びＡｒ２がＣ６−１４アレーン環、Ｚ１及びＺ２がＣ１０−１４縮合多環式アレーン環、Ｒ３ａ及びＲ３ｂが直鎖状又は分岐鎖状Ｃ２−６アルキレン基、Ｒ４ａ及びＲ４ｂが水素原子又はＣ１−６アルキル基、ｋ１及びｋ２が０〜４の整数、ｍ１及びｍ２が０〜６の整数、ｎ１及びｎ２が０〜２０の整数である請求項１記載の化合物。
【請求項３】
式（１）において、Ａｒ１及びＡｒ２がベンゼン環又はナフタレン環、Ｚ１及びＺ２はナフタレン環、Ｒ２ａ及びＲ２ｂはアルキル基又はアリール基、Ｒ３ａ及びＲ３ｂは直鎖状又は分岐鎖状Ｃ２−４アルキレン基、Ｒ４ａ及びＲ４ｂがメチル基、ｋ１及びｋ２が０、ｍ１及びｍ２が０〜２の整数、ｎ１及びｎ２が０〜１０の整数である請求項１又は２記載の化合物。
【請求項４】
下記式（１Ａ）
【化２】
2018108985.tif 000020
（式中、Ａｒ１及びＡｒ２、Ｚ１及びＺ２、Ｒ１ａ及びＲ１ｂ、Ｒ２ａ及びＲ２ｂ、Ｒ３ａ及びＲ３ｂ、ｋ１及びｋ２、ｍ１及びｍ２並びにｎ１及びｎ２はそれぞれ請求項１に同じ。）
で表される化合物と、下記式（１Ｂ）
【化３】
2018108985.tif 000021
（式中、Ｘはハロゲン原子、Ｒ４は水素原子又は置換基を示す。）
で表される化合物とを反応させて、請求項１〜３のいずれかに記載の化合物を製造する方法。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれかに記載の化合物を含む硬化性組成物。
【請求項６】
請求項５記載の硬化性組成物が硬化した硬化物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ビス縮合多環式アリールフルオレン（ビス縮合多環式アリールベンゾフルオレン及びビス縮合多環式アリールジベンゾフルオレンを含む、以下同じ）骨格を有する新規オキセタン化合物及びその製造方法、並びに前記化合物を含む硬化性組成物及びその硬化物に関する。
【背景技術】
【０００２】
オキセタン化合物は、カチオン重合による硬化が可能であり、かつ硬化による収縮が小さく、優れた寸法安定性などの特性を有する硬化物が形成できる。なかでも、フルオレン骨格を有するオキセタン化合物は、フルオレン骨格に由来する光学的特性（高屈折率など）、耐熱性などの種々の優れた特性を有しており、例えば、光学用オーバーコート剤、光学フィルム、レンズ、光導波路、光学用接着剤などの光学材料（光学部材）として有効に利用できる。
【０００３】
例えば、特許第４１８６３１１号公報（特許文献１）には、下記式（１）で表される９，９−ビスフェニルフルオレン骨格を有するオキセタン化合物が開示されている。
【０００４】
【化１】
2018108985.tif 000002
【０００５】
（式中、Ｒ１、Ｒ２は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を示し、ｎは０〜１０の整数を示す）。
【０００６】
この文献の実施例では、前記式において、Ｒ１がエチル基、Ｒ２が２−メチル基、ｎが０である化合物；Ｒ１がエチル基、Ｒ２が水素原子、ｎが１である化合物が調製されている。
【０００７】
また、特開２００７−７０３２４号公報（特許文献２）には、下記式で表される９，９−ビスビフェニリルフルオレン骨格を有するオキセタン化合物が開示されている。
【０００８】
【化２】
2018108985.tif 000003
【０００９】
（式中、Ｒ１〜Ｒ５は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を示し、相互に同じであっても異なっていてもよい）。
【００１０】
この文献の実施例１では、前記式において、Ｒ１〜Ｒ４が水素原子、Ｒ５がエチル基である化合物が調製されている。
【００１１】
特許文献１及び２記載の化合物は、光学的特性、耐熱性などに優れているものの、近年、光学材料の高機能化や高付加価値化、又は用途拡大などに伴って、光学的特性（高屈折率など）及び耐熱性がより一層向上したオキセタン化合物が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特許第４１８６３１１号公報
【特許文献２】特開２００７−７０３２４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
従って、本発明の目的は、高い屈折率及び高い耐熱性（融点、１０重量％減少温度など）を有する新規オキセタン化合物及びその製造方法、並びに前記化合物を含む硬化性組成物及びその硬化物を提供することにある。
【００１４】
本発明の他の目的は、高い屈折率及び耐熱性を有するとともに、取扱性（溶媒に対する溶解性）に優れた新規オキセタン化合物及びその製造方法、並びに前記化合物を含む硬化性組成物及びその硬化物を提供することにある。
【００１５】
本発明のさらに他の目的は、溶媒に対する溶解性が高くても、高い耐溶剤性（耐溶剤膨潤性、外観保持性など）を有する硬化物を形成できる新規オキセタン化合物及びその製造方法、並びに前記化合物を含む硬化性組成物及びその硬化物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、ビス縮合多環式アリールフルオレン骨格を有するオキセタン化合物は、高い屈折率及び耐熱性を有すること、さらには、通常、縮合多環式アリール基を導入した化合物は、その結晶性や嵩高い構造のためか溶媒に対する溶解性が低下し易く、取扱性の著しい低下が予想されるにも拘らず、意外なことに、本発明のオキセタン化合物は高い光学的特性（高屈折率など）及び高い耐熱性と、高い取扱性とをバランスよく充足できることを見いだし、本発明を完成した。
【００１７】
すなわち、本発明の新規オキセタン化合物は、下記式（１）で表される化合物である。
【００１８】
【化３】
2018108985.tif 000004
【００１９】
（式中、Ａｒ１及びＡｒ２はそれぞれアレーン環、Ｚ１及びＺ２はそれぞれ縮合多環式アレーン環、Ｒ１ａ及びＲ１ｂ並びにＲ２ａ及びＲ２ｂはそれぞれ置換基、Ｒ３ａ及びＲ３ｂはそれぞれ直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基、Ｒ４ａ及びＲ４ｂはそれぞれ水素原子又は置換基、ｋ１及びｋ２、ｍ１及びｍ２並びにｎ１及びｎ２はそれぞれ０以上の整数を示す）。
【００２０】
前記式（１）において、好適な態様は次のとおりであるが、これに限定されるものではない。Ａｒ１及びＡｒ２は、Ｃ６−１４アレーン環が好ましく、ベンゼン環又はナフタレン環がより好ましい。Ｚ１及びＺ２は、Ｃ１０−１４縮合多環式アレーン環が好ましく、ナフタレン環がより好ましい。Ｒ２ａ及びＲ２ｂは、その置換数を示すｍ１及びｍ２が０であるか、又は、アルキル基もしくはアリール基であるのが好ましい。Ｒ３ａ及びＲ３ｂは、繰り返し数ｎ１及びｎ２が１以上の整数である場合において、直鎖状又は分岐鎖状Ｃ２−６アルキレン基が好ましく、直鎖状又は分岐鎖状Ｃ２−４アルキレン基がより好ましい。Ｒ４ａ及びＲ４ｂは、水素原子又はＣ１−６アルキル基が好ましく、水素原子又はＣ１−４アルキル基がより好ましく、特にメチル基が好ましい。ｋ１及びｋ２は、０〜４の整数が好ましく、特に０が好ましい。ｍ１及びｍ２は、０〜６の整数が好ましく、０〜２の整数がより好ましい。ｎ１及びｎ２は、０〜２０の整数が好ましく、より好ましくは、段階的に０〜１０の整数、０〜４の整数、０〜２の整数である。とりわけ、ｎ１及びｎ２は、０又は１であるのが好ましい。
【００２１】
前記式（１）で表される化合物は、温度２５℃、波長５８９ｎｍにおける屈折率が１．６３〜１．６７程度、１０重量％減少温度が３８０〜４４０℃程度、融点が１５０〜２５０℃程度であってもよい。
【００２２】
本発明は、前記式（１）で表される化合物の製造方法も包含する。前記製造方法は、下記式（１Ａ）で表される化合物と、下記式（１Ｂ）で表される化合物とを反応させる方法であってもよい。
【００２３】
【化４】
2018108985.tif 000005
【００２４】
（式中、Ａｒ１及びＡｒ２、Ｚ１及びＺ２、Ｒ１ａ及びＲ１ｂ、Ｒ２ａ及びＲ２ｂ、Ｒ３ａ及びＲ３ｂ、ｋ１及びｋ２、ｍ１及びｍ２並びにｎ１及びｎ２はそれぞれ前記式（１）に同じ）。
【００２５】
【化５】
2018108985.tif 000006
【００２６】
（式中、Ｘはハロゲン原子、Ｒ４は水素原子又は置換基を示す）。
【００２７】
また、本発明は、前記式（１）で表される化合物を含む硬化性組成物及びその硬化物も包含する。
【００２８】
なお、本明細書及び特許請求の範囲において、「フルオレン骨格を有する化合物」は、特に断りのない限り、フルオレン骨格のみならず、ベンゾフルオレン骨格、ジベンゾフルオレン骨格などのフルオレン環を内在する芳香族骨格を有する化合物を含む意味に用いる。
【発明の効果】
【００２９】
本発明の新規オキセタン化合物は、ビス縮合多環式アリール基フルオレン骨格ため、屈折率及び耐熱性が高い。また、縮合多環式アリール基を有するにもかかわらず、意外にも取扱性（溶媒に対する溶解性）に優れている。さらに、前記化合物は、溶媒に対する溶解性が高くても、高い耐溶剤性を有する硬化物を形成できる。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
［オキセタン化合物及びその特性］
本発明の新規オキセタン化合物は、下記式（１）で表される。
【００３１】
【化６】
2018108985.tif 000007
【００３２】
（式中、Ａｒ１及びＡｒ２はアレーン環、Ｚ１及びＺ２は縮合多環式アレーン環、Ｒ１ａ及びＲ１ｂ並びにＲ２ａ及びＲ２ｂは置換基、Ｒ３ａ及びＲ３ｂは直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基、Ｒ４ａ及びＲ４ｂは水素原子又は置換基、ｋ１及びｋ２、ｍ１及びｍ２並びにｎ１及びｎ２は０以上の整数を示す）。
【００３３】
前記式（１）において、環Ａｒ１及びＡｒ２で表されるアレーン環（芳香族炭化水素環）としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環などのＣ６−１４アレーン環が挙げられ、好ましくはベンゼン環、ナフタレン環などのＣ６−１０アレーン環であり、特に好ましくは、ベンゼン環である。環Ａｒ１及びＡｒ２で表されるアレーン環の種類は、互いに同一又は異なっていてもよい。
【００３４】
環Ａｒ１及びＡｒ２は、両環の間に介在する５員環とともに縮合環骨格、例えば、環Ａｒ１及びＡｒ２のうち、双方がベンゼン環であるフルオレン骨格；一方がベンゼン環、他方がナフタレン環であるベンゾフルオレン骨格（例えば、ベンゾ［ａ］フルオレン骨格、ベンゾ［ｂ］フルオレン骨格、ベンゾ［ｃ］フルオレン骨格など）；双方がナフタレン環であるジベンゾフルオレン骨格（例えば、ジベンゾ［ｂ，ｈ］フルオレン骨格など）などのフルオレン環が内在する芳香族骨格（好ましくはフルオレン骨格又はベンゾフルオレン骨格、特に、フルオレン骨格）を形成してもよい。
【００３５】
環Ｚ１及びＺ２で表される縮合多環式アレーン環（縮合多環式芳香族炭化水素環）としては、例えば、縮合二環式アレーン環（例えば、ナフタレン環、インデン環などの縮合二環式Ｃ１０−１６アレーン環）、縮合三環式アレーン環（例えば、アントラセン環、フェナントレン環など）などの縮合二乃至四環式アレーン環などが挙げられる。好ましい環Ｚ１及びＺ２としては、ナフタレン環、アントラセン環などの縮合多環式Ｃ１０−１６アレーン環、より好ましくは縮合多環式Ｃ１０−１４アレーン環が挙げられ、特に、ナフタレン環が好ましい。
【００３６】
環Ｚ１及びＺ２の種類は、互いに同一又は異なっていてもよく、通常、同一であることが多い。なお、前記５員環に結合する環Ｚ１及びＺ２の置換位置は、特に限定されない。例えば、環Ｚ１及びＺ２がナフタレン環の場合、１位又は２位のいずれかの位置であってもよい。
【００３７】
置換基Ｒ１ａ及びＲ１ｂとしては、炭化水素基［例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−６アルキル基など）、アリール基（例えば、フェニル基などのＣ６−１０アリール基など）など］、シアノ基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子など）などが挙げられる。これらの基Ｒ１ａ及びＲ１ｂのうち、アルキル基（例えば、直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−４アルキル基）、シアノ基、ハロゲン原子が好ましく、特にアルキル基（特に、メチル基などのＣ１−３アルキル基）が好ましい。
【００３８】
基Ｒ１ａ及びＲ１ｂの置換数ｋ１及びｋ２は、０以上の整数、例えば、０〜８程度の範囲から選択できる。好ましい範囲としては、以下、段階的に、０〜４の整数、０〜２の整数であって、より好ましくは０又は１、さらに好ましくは０である。なお、置換数ｋ１及びｋ２は、互いに同一又は異なっていてもよい。また、基Ｒ１ａ及びＲ１ｂの種類は、互いに同一又は異なっていてもよく、ｋ１及びｋ２が２以上である場合、同一の環に置換する２以上の基Ｒ１ａ及び２以上の基Ｒ１ｂの種類は、互いに同一又は異なっていてもよい。また、基Ｒ１ａ及びＲ１ｂの置換位置は、特に制限されず、例えば、環Ａｒ１及びＡｒ２並びに前記５員環がフルオレン環を形成する場合、２位乃至７位（２位、３位及び７位など）であってもよい。
【００３９】
置換基Ｒ２ａ及びＲ２ｂとしては、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、炭化水素基｛例えば、アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−１０アルキル基、好ましくは直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−６アルキル基、さらに好ましくは直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−４アルキル基など）；シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのＣ５−１０シクロアルキル基など）；アリール基［例えば、フェニル基、アルキルフェニル基（例えば、メチルフェニル基（トリル基）、ジメチルフェニル基（キシリル基）など）、ビフェニリル基、ナフチル基などのＣ６−１２アリール基など］；アラルキル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基などのＣ６−１０アリール−Ｃ１−４アルキル基など）など｝、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−１０アルコキシ基など）、シクロアルキルオキシ基（例えば、シクロヘキシルオキシ基などのＣ５−１０シクロアルキルオキシ基など）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基などのＣ６−１０アリールオキシ基など）、アラルキルオキシ基（例えば、ベンジルオキシ基などのＣ６−１０アリール−Ｃ１−４アルキルオキシ基など）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基などのＣ１−１０アルキルチオ基など）、シクロアルキルチオ基（例えば、シクロヘキシルチオ基などのＣ５−１０シクロアルキルチオ基など）、アリールチオ基（例えば、チオフェノキシ基などのＣ６−１０アリールチオ基など）、アラルキルチオ基（例えば、ベンジルチオ基などのＣ６−１０アリール−Ｃ１−４アルキルチオ基など）、アシル基（例えば、アセチル基などのＣ１−６アシル基など）、ニトロ基、シアノ基、置換アミノ基［例えば、ジアルキルアミノ基（例えば、ジメチルアミノ基などのジＣ１−４アルキルアミノ基など）、ビス（アルキルカルボニル）アミノ基（例えば、ジアセチルアミノ基などのビス（Ｃ１−４アルキル−カルボニル）アミノ基など）など］などが挙げられる。
【００４０】
これらの基Ｒ２ａ及びＲ２ｂのうち、代表的には、ハロゲン原子、炭化水素基（アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基）、アルコキシ基、アシル基、ニトロ基、シアノ基、置換アミノ基などが挙げられる。置換数ｍ１及びｍ２が１以上である場合、好ましい基Ｒ２ａ及びＲ２ｂとしては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基であって、より好ましくは直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−６アルキル基、Ｃ６−１４アリール基、直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−４アルコキシ基、さらに好ましくは、メチル基、フェニル基、メトキシ基であってもよい。より好ましい基Ｒ２ａ及びＲ２ｂとしては、アルキル基、アリール基が挙げられ、なかでも、直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−４アルキル基、Ｃ６−１０アリール基が好ましく、特にメチル基、フェニル基が好ましい。
【００４１】
基Ｒ２ａ及びＲ２ｂの置換数ｍ１及びｍ２は、０以上の整数であればよく、環Ｚ１及びＺ２の種類に応じて適宜選択できる。置換数ｍ１及びｍ２は、例えば、０〜８程度の整数であってもよく、好ましい範囲としては、以下、段階的に、０〜４の整数、０〜３の整数、０〜２の整数であって、より好ましくは０又は１、さらに好ましくは０であってもよい。なお、置換数ｍ１及びｍ２は、互いに同一又は異なっていてもよい。また、基Ｒ２ａ及びＲ２ｂの種類は、互いに同一又は異なっていてもよく、置換数ｍ１及びｍ２が２以上である場合、同一の環に置換する２以上の基Ｒ２ａ及び２以上の基Ｒ２ｂの種類は、互いに同一又は異なっていてもよい。基Ｒ２ａ及びＲ２ｂの置換位置は、特に制限されず、オキセタン環含有基の置換位置以外の位置に置換していればよい。
【００４２】
基Ｒ３ａ及びＲ３ｂで表される直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基において、直鎖状アルキレン基としては、例えば、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基などの直鎖状Ｃ２−６アルキレン基、好ましくは直鎖状Ｃ２−４アルキレン基、さらに好ましくは直鎖状Ｃ２−３アルキレン基、特にエチレン基が挙げられ、分岐鎖状アルキレン基としては、例えば、プロピレン基、１，２−ブタンジイル基、１，３−ブタンジイル基などの分岐鎖状Ｃ３−６アルキレン基、好ましくは分岐鎖状Ｃ３−４アルキレン基、特にプロピレン基などが挙げられる。これらの基Ｒ３ａ及びＲ３ｂのうち、好ましくは直鎖状又は分岐鎖状Ｃ２−６アルキレン基（例えば、直鎖状又は分岐鎖状Ｃ２−４アルキレン基など）、さらに好ましくはエチレン基、プロピレン基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ２−３アルキレン基、特にエチレン基であってもよい。なお、異なる環Ｚ１及びＺ２に置換したオキセタン環含有基において、基Ｒ３ａ及びＲ３ｂの種類は、互いに同一又は異なっていてもよい。
【００４３】
オキシアルキレン基（ＯＲ３ａ及びＯＲ３ｂ）の繰り返し数ｎ１及びｎ２は、０以上の整数、例えば、０〜２０程度の整数の範囲から選択できる。好ましい範囲としては、以下、段階的に、０〜１０の整数、１〜１０程度の整数、２〜７程度の整数、３〜５程度の整数であってもよい。また、繰り返し数ｎ１及びｎ２のより好ましい範囲としては、以下、段階的に、０〜８程度の整数、０〜５程度の整数、０〜３程度の整数であって、より好ましくは０〜２程度の整数、さらに好ましくは０又は１、特に０であってもよい。ｎ１及びｎ２が大きすぎると、屈折率や耐熱性が低下するおそれがある。また、ｎ１及びｎ２は、互いに同一又は異なっていてもよい。オキセタン環含有基において、繰り返し数ｎ１及びｎ２が２以上である場合、２以上の基Ｒ３ａ及びＲ３ｂの種類は、互いに異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
【００４４】
なお、本明細書及び特許請求の範囲において、特に断りのない限り、「オキシアルキレン基の繰り返し数」（及び後述する「オキシアルキレン基の合計数（合計付加数）」）とは、化合物１分子中におけるオキシアルキレン基の数（整数）、及び化合物の分子集合体におけるオキシアルキレン基の個数の平均値［すなわち、平均付加モル数］の双方を含む意味に用いる。そのため、繰り返し数ｎ１及びｎ２は、前記式（１）で表される化合物の分子集合体における平均値（相加平均又は算術平均）であってもよく、その範囲は、前記整数の範囲と好ましい態様も含めて同等程度であってもよい。
【００４５】
また、繰り返し数ｎ１及びｎ２の合計数は、前記式（１）で表される化合物１分子中のオキシアルキレン基の合計数（合計付加数）を意味し、単にｎ１＋ｎ２という場合がある。ｎ１＋ｎ２は、例えば、０〜４０程度の整数の範囲から選択できる。好ましい範囲としては、以下、段階的に、０〜３０の整数、１〜２０の整数、２〜１０の整数、４〜６の整数であってもよい。また、より好ましい範囲としては、以下、段階的に、０〜１５の整数、０〜８の整数、０〜６の整数、０〜４の整数であり、さらに好ましくは０〜２の整数、特に０であってもよい。また、ｎ１＋ｎ２は前記のように整数であってもよいが、前記式（１）で表される化合物の分子集合体における平均付加モル数であってもよく、その範囲は、例えば、前記整数の範囲と好ましい態様も含めて同等程度であってもよい。ｎ１＋ｎ２の値が大きすぎると、硬化物の単位量（例えば、単位重量）当たりのビスアリールフルオレン骨格含有量（例えば、含有モル数）が低下するため、前記骨格に由来する高屈折率、高耐熱性などの優れた特性が低下するおそれがある。
【００４６】
なお、ｎ１＋ｎ２は、慣用の方法で測定することができ、例えば、前記式（１）で表される化合物の調製において、原料となるビスアリールフルオレン骨格を有するヒドロキシ化合物の量と、反応で消費されるアルキレンオキシド（アルキレンカーボネート又はハロアルカノール）の量との割合から、相加平均又は算術平均の値として算出する方法（例えば、国際公開第２０１３／０２２０６５号記載の方法など）などにより測定できる。
【００４７】
基Ｒ４ａ及びＲ４ｂは水素原子又は置換基であり、置換基としては、例えば、炭化水素基｛例えば、アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−１０アルキル基、好ましくは直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−６アルキル基、さらに好ましくは直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−４アルキル基など）；シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのＣ５−１０シクロアルキル基など）；アリール基［例えば、フェニル基、アルキルフェニル基（例えば、メチルフェニル基（トリル基）、ジメチルフェニル基（キシリル基）など）、ビフェニリル基、ナフチル基などのＣ６−１２アリール基など］；アラルキル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基などのＣ６−１０アリール−Ｃ１−４アルキル基など）；アリル基など｝；フッ素含有基［例えば、フッ素原子；フッ化アルキル基（トリフルオロメチル基などのＣ１−６フッ化アルキル基）などのフッ化炭化水素基など］；ヘテロアリール基（例えば、フリル基、チエニル基など）などが挙げられる。
【００４８】
好ましい基Ｒ４ａ及びＲ４ｂとしては、水素原子又は炭化水素基が挙げられる。このうち炭化水素基としては、アルキル基が好ましく、Ｃ１−６アルキル基がより好ましく、Ｃ１−４アルキル基がさらに好ましく、特に好ましくは、メチル基又はエチル基である。なお、基Ｒ４ａ及びＲ４ｂの種類は、互いに異なっていてもよく、通常、同一である。
【００４９】
オキセタン環含有基の置換位置は特に制限されず、環Ｚ１及びＺ２の適当な位置に置換でき、環Ｚ１及びＺ２がナフタレン環である場合には、対応するナフチル基（１−ナフチル基又は２−ナフチル基）の５〜８位のいずれかに置換している場合が多く、例えば、環Ａｒ１及びＡｒ２の間に介在する前記５員環に対して、ナフタレン環の１位又は２位が置換し（１−ナフチル又は２−ナフチルの関係で置換し）、この置換位置に対して、１，５位、２，６位などの関係（特に２，６位の関係）でオキセタン環含有基が置換している場合が多い。
【００５０】
前記式（１）で表されるオキセタン化合物として、例えば、（Ａ）環Ａｒ１及びＡｒ２がベンゼン環である化合物、（Ｂ）環Ａｒ１及びＡｒ２のうち少なくとも一方がナフタレン環である化合物などが挙げられる。これらの化合物は、単独で又は２種以上組み合わせて使用することもできる。これらの化合物のうち、（Ａ）環Ａｒ１及びＡｒ２がベンゼン環である化合物が好ましい。
【００５１】
（Ａ）環Ａｒ１及びＡｒ２がベンゼン環である化合物として代表的には、例えば、環Ｚ１及びＺ２がナフタレン環であるビスナフチルフルオレン類などが挙げられる。ビスナフチルフルオレン類として具体的には、例えば、（Ａ１）前記式（１）において、ｎ１及びｎ２が０である９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ−ナフチル］フルオレン類；（Ａ２）ｎ１及びｎ２が１以上［例えば、１〜２０であり、好ましい範囲としては、以下、段階的に、１〜１０、２〜８、、３〜５であってもよく、より好ましくは、以下、段階的に、１〜６、１〜４、１〜３、１又は２、さらに好ましくは１］である９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ（ポリ）アルコキシ−ナフチル］フルオレン類などが挙げられる。
【００５２】
なお、前記（Ａ１）及び（Ａ２）は、前記式（１）におけるｋ１及びｋ２が１以上である化合物も含む。また、本明細書及び特許請求の範囲において、「（ポリ）アルコキシ」とは、アルコキシ基及びポリアルコキシ基の双方を含む意味に用いる。
【００５３】
（Ａ１）９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ−ナフチル］フルオレン類としては、例えば、前記式（１）において、ｍ１及びｍ２が０、Ｒ４ａ及びＲ４ｂが水素原子である９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ−ナフチル］フルオレン［例えば、９，９−ビス［６−（（３−オキセタニル）メトキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［５−（（３−オキセタニル）メトキシ）−１−ナフチル］フルオレンなど］；前記式（１）において、ｍ１及びｍ２が０、Ｒ４ａ及びＲ４ｂがアルキル基である９，９−ビス［（３−アルキル−３−オキセタニル）メトキシ−ナフチル］フルオレン［例えば、９，９−ビス［６−（（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［６−（（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［５−（（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ）−１−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［５−（（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ）−１−ナフチル］フルオレンなどの９，９−ビス［（３−Ｃ１−６アルキル−３−オキセタニル）メトキシ−ナフチル］フルオレンなど］などが挙げられる。
【００５４】
（Ａ２）９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ（ポリ）アルコキシ−ナフチル］フルオレン類（すなわち、前記（Ａ１）に例示の化合物に対応してｎ１及びｎ２が１以上である化合物）としては、例えば、前記式（１）において、ｍ１及びｍ２が０、Ｒ４ａ及びＲ４ｂが水素原子である９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ（ポリ）アルコキシ−ナフチル］フルオレン［例えば、９，９−ビス［６−（２−（（３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［６−（２−（（３−オキセタニル）メトキシ）プロポキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［６−（２−（２−（（３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）エトキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［５−（２−（（３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）−１−ナフチル］フルオレンなどの９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ（モノ乃至イコサ）Ｃ２−６アルコキシ−ナフチル］フルオレンなど］；前記式（１）において、ｍ１及びｍ２が０、Ｒ４ａ及びＲ４ｂがアルキル基である９，９−ビス［（３−アルキル−３−オキセタニル）メトキシ（ポリ）アルコキシ−ナフチル］フルオレン［例えば、９，９−ビス［６−（２−（（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［６−（２−（（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ）プロポキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［６−（２−（２−（（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）エトキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［６−（２−（（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［５−（２−（（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）−１−ナフチル］フルオレンなどの９，９−ビス［（３−Ｃ１−６アルキル−３−オキセタニル）メトキシ（モノ乃至イコサ）Ｃ２−６アルコキシ−ナフチル］フルオレンなど）など｝などが挙げられる。
【００５５】
これらの前記式（１）で表されるオキセタン化合物は単独で又は２種以上組み合わせて使用することもできる。好ましいオキセタン化合物としては、前記（Ａ１）９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ−ナフチル］フルオレン類、前記（Ａ２）においてｎ１及びｎ２が１〜３程度である９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ（モノ乃至トリ）アルコキシ−ナフチル］フルオレン類などが挙げられ、なかでも、９，９−ビス［（３−アルキル−３−オキセタニル）メトキシ−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［（３−アルキル−３−オキセタニル）メトキシ（モノ乃至ジ）Ｃ２−４アルコキシ−ナフチル］フルオレンが好ましく、より好ましくは９，９−ビス［（３−Ｃ１−４アルキル−３−オキセタニル）メトキシ−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［（３−Ｃ１−４アルキル−３−オキセタニル）メトキシ（モノ乃至ジ）Ｃ２−４アルコキシ−ナフチル］フルオレンであって、さらに好ましくは９，９−ビス［（３−Ｃ１−２アルキル−３−オキセタニル）メトキシ−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［（３−Ｃ１−２アルキル−３−オキセタニル）メトキシＣ２−３アルコキシ−ナフチル］フルオレンが挙げられ、特に好ましくは９，９−ビス［６−（（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［６−（（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［６−（２−（（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［６−（２−（（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）−ナフチル］フルオレンが挙げられる。これらの中でも、９，９−ビス［（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ）−ナフチル］フルオレンが好ましく、特に、９，９−ビス［６−（（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ）−２−ナフチル］フルオレンが好ましい。
【００５６】
本発明のオキセタン化合物は、高い屈折率及び耐熱性を有するとともに、取扱性（溶媒に対する溶解性）に優れている。
【００５７】
本発明のオキセタン化合物の屈折率は、温度２５℃、波長５８９ｎｍにおいて、例えば、１．６〜１．７程度の範囲から選択できる。好ましい範囲としては、以下、段階的に、１．６１〜１．６９、１．６２〜１．６８、１．６３〜１．６７、１．６３５〜１．６６５、１．６４〜１．６６であって、より好ましくは１．６４〜１．６５であってもよい。なお、屈折率は、後述の実施例に記載の方法などにより測定できる。
【００５８】
本発明のオキセタン化合物の１０重量％減少温度は、例えば、３００〜５００℃程度の範囲から選択できる。好ましい範囲としては、以下、段階的に、３５０〜４５０℃、３７０〜４４０℃、３８０〜４４０℃、４００〜４３０℃であって、より好ましくは４１０〜４２０℃程度であってもよい。発熱ピーク温度は、例えば、３５０〜４５０℃、好ましくは４００〜４３０℃、さらに好ましくは４１０〜４２０℃であってもよい。なお、１０重量％減少温度及び発熱ピーク温度は、後述の実施例に記載の方法などにより測定できる。
【００５９】
本発明のオキセタン化合物の融点は、従来のオキセタン化合物と比べて極めて高く、例えば、１３０〜３００℃程度の範囲から選択できる。好ましい範囲としては、以下、段階的に、１５０〜２５０℃、１６０〜２２０℃であって、より好ましくは１７０〜２００℃、さらに好ましくは１８０〜１９０℃であってもよい。なお、融点は、後述の実施例に記載の方法などにより測定できる。
【００６０】
本発明のオキセタン化合物は、溶媒に対する高い溶解性を有しており、種々の溶媒に溶解可能である。代表的な溶媒としては、例えば、エーテル類（例えば、ジエチルエーテルなどの鎖状エーテル類、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサンなどの環状エーテル類など）；グリコールエーテル類［例えば、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなどのＣ１−４アルキルセロソルブなど）、カルビトール類（例えば、メチルカルビトール、エチルカルビトールなどのＣ１−４アルキルカルビトールなど）、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルなどの（ポリ）Ｃ２−４アルキレングリコールモノＣ１−４アルキルエーテル；エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテルなどの（ポリ）Ｃ２−４アルキレングリコールジＣ１−４アルキルエーテルなど］；グリコールエーテルアセテート類［例えば、セロソルブアセテート類（例えば、メチルセロソルブアセテートなどのＣ１−４アルキルセロソルブアセテートなど）、カルビトールアセテート類（例えば、メチルカルビトールアセテートなどのＣ１−４アルキルカルビトールアセテートなど）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテートなどの（ポリ）Ｃ２−４アルキレングリコールモノＣ１−４アルキルエーテルアセテートなど］；ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）などの鎖状ケトン類、シクロヘキサノンなどの環状ケトン類など）；カルボン酸類（例えば、酢酸、プロピオン酸など）；エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの酢酸エステル、乳酸メチルなどの乳酸エステルなど）；カーボネート類（例えば、ジメチルカーボネート、プロピレンカーボネートなど）；ニトリル類（例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルなど）；アミド類（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなど）；スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）など）；ハロゲン化炭化水素類（例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼンなど）；芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレンなど）；及びこれらの混合溶媒などが挙げられる。
【００６１】
これらの溶媒のうち、極性溶媒、芳香族炭化水素類が好ましく、より好ましくはアミド類、エステル類、エーテル類、グリコールエーテルアセテート類、ケトン類、ニトリル類、スルホキシド類、ハロゲン化炭化水素類が挙げられ、さらに好ましくはＮ，Ｎ−ジＣ１−４アルキルホルムアミド、酢酸Ｃ１−４アルキルエステル、Ｃ２−４アルキレングリコールモノＣ１−４アルキルエーテルアセテート、環状Ｃ４−１０ケトン、Ｃ１−４ニトリル、ジＣ１−４アルキルスルホキシドが挙げられ、特に好ましくはＤＭＦ、酢酸エチル、酢酸ブチル、ＰＧＭＥＡ、シクロヘキサノン、アセトニトリル、ＤＭＳＯが挙げられる。また、これらの溶媒のうち、エーテル類、ケトン類、ハロゲン化炭化水素類、芳香族炭化水素類が好ましく、より好ましくは環状Ｃ４−６エーテル、鎖状Ｃ３−９ケトン、塩素化Ｃ１−６炭化水素類、モノ又はジＣ１−４アルキルベンゼンであって、特にＴＨＦ、１，４−ジオキサン、アセトン、ＭＥＫ、ジクロロメタン、クロロホルム、トルエンが好ましい。
【００６２】
前記オキセタン化合物を含む溶液の濃度（溶液全体の重量に対する本発明のオキセタン化合物の重量の割合）は、特に制限されないが、室温（２３℃程度）において、例えば、１重量％以上（例えば、３〜７０重量％）、好ましくは５重量％以上（例えば、７〜６０重量％）、さらに好ましくは９重量％以上（例えば、１０〜５０重量％）であってもよい。前記オキセタン化合物の溶解性が高いため、高濃度であっても容易に溶解できる。
【００６３】
［オキセタン化合物の製造方法］
本発明のオキセタン化合物は、慣用の方法（例えば、特開２０００−３３６０８２号公報記載の方法など）により調製してもよく、代表的には、例えば、下記式（１Ａ）で表される化合物と、下記式（１Ｂ）で表される化合物とを反応させて調製する方法などであってもよい。
【００６４】
【化７】
2018108985.tif 000008
【００６５】
（式中、Ａｒ１及びＡｒ２、Ｚ１及びＺ２、Ｒ１ａ及びＲ１ｂ、Ｒ２ａ及びＲ２ｂ、Ｒ３ａ及びＲ３ｂ、ｋ１及びｋ２、ｍ１及びｍ２並びにｎ１及びｎ２は、好ましい態様を含めて前記式（１）に同じ）。
【００６６】
【化８】
2018108985.tif 000009
【００６７】
（式中、Ｘはハロゲン原子、Ｒ４は水素原子又は置換基を示す）。
【００６８】
前記式（１Ａ）で表される化合物として代表的には、例えば、前記式（１）で表されるオキセタン化合物として例示した化合物において、（３−オキセタニル）メチル基又は（３−アルキル−３−オキセタニル）メチル基を水素原子に置換したジヒドロキシ化合物などが挙げられ、好ましい態様も同様である。より具体的には、前記式（１Ａ）において、環Ａｒ１及びＡｒ２がベンゼン環、環Ｚ１及びＺ２がナフタレン環である化合物（９，９−ビス（ヒドロキシナフチル）フルオレン類、９，９−ビス（ヒドロキシ（ポリ）アルコキシナフチル）フルオレン類など）などが例示できる。
【００６９】
９，９−ビス（ヒドロキシナフチル）フルオレン類としては、例えば、ｍ１及びｍ２が０である９，９−ビス（ヒドロキシナフチル）フルオレン［例えば、９，９−ビス（６−ヒドロキシ−２−ナフチル）フルオレン、９，９−ビス（５−ヒドロキシ−１−ナフチル）フルオレンなど］などが挙げられる。
【００７０】
９，９−ビス（ヒドロキシ（ポリ）アルコキシナフチル）フルオレン類としては、例えば、ｍ１及びｍ２が０である９，９−ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシナフチル］フルオレン［例えば、９，９−ビス［６−（２−ヒドロキシエトキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［６−（２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［６−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エトキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［５−（２−ヒドロキシエトキシ）−１−ナフチル］フルオレンなどの９，９−ビス［ヒドロキシ（モノ乃至イコサ）Ｃ２−６アルコキシ−ナフチル］フルオレンなど］などが挙げられる。
【００７１】
これらの前記式（１Ａ）で表される化合物のうち、９，９−ビス（ヒドロキシナフチル）フルオレン類、ｎ１及びｎ２が１〜３である９，９−ビス（ヒドロキシ（モノ乃至トリ）アルコキシナフチル）フルオレン類が好ましく、より好ましくは９，９−ビス（ヒドロキシナフチル）フルオレン、９，９−ビス（ヒドロキシアルコキシナフチル）フルオレン、さらに好ましくは９，９−ビス（６−ヒドロキシ−２−ナフチル）フルオレン、９，９−ビス［６−（２−ヒドロキシエトキシ）−２−ナフチル］フルオレン、特に、９，９−ビス（６−ヒドロキシ−２−ナフチル）フルオレンが好ましい。
【００７２】
前記式（１Ａ）で表される化合物は、市販品を使用してもよく、慣用の方法［例えば、環Ａｒ１及びＡｒ２に対応するフルオレノン化合物（ベンゾフルオレノン類又はジベンゾフルオレノン類を含む）と、環Ｚ１及びＺ２に対応するフェノール又はアルコールとを、硫酸などの酸触媒、β−メルカプトプロピオン酸などの助触媒などの存在下で反応させる方法など］により調製してもよい。
【００７３】
前記式（１Ｂ）において、Ｒ４で表される水素原子又は置換基は、前記式（１）におけるＲ４ａ及びＲ４ｂと好ましい態様を含めて同様である。
【００７４】
前記式（１Ｂ）において、Ｘで表されるハロゲン原子としては、例えば、塩素、臭素、ヨウ素などが挙げられ、塩素であるのが好ましい。
【００７５】
前記式（１Ｂ）で表される化合物として具体的には、例えば、３−クロロメチル−オキセタンなどの３−ハロメチル−オキセタン；３−クロロメチル−３−メチルオキセタン、３−クロロメチル−３−エチルオキセタンなどの３−ハロメチル−３−Ｃ１−６アルキルオキセタンなどが挙げられる。これらの前記式（１Ｂ）で表される化合物のうち、３−ハロメチル−３−Ｃ１−４アルキルオキセタンが好ましく、より好ましくは３−ハロメチル−３−Ｃ１−２アルキルオキセタン、特に３−クロロメチル−３−メチルオキセタンが好ましい。前記式（１Ｂ）で表される化合物は市販品などを使用できる。
【００７６】
前記式（１Ｂ）で表される化合物の割合は、前記式（１Ａ）で表される化合物のヒドロキシル基１モルに対して、例えば、０．５〜１０モル程度の範囲から選択できる。好ましい範囲としては、以下、段階的に、１〜５モル、１〜２モル、１．０５〜１．５モル、１．１〜１．３モルであってもよい。前記式（１Ｂ）で表される化合物の割合が少なすぎると、反応速度が低下するおそれがあるが、本発明では、理由は定かではないものの、前記式（１Ｂ）で表される化合物の割合が比較的少量であっても効率よく反応が進行するようである。
【００７７】
反応は、アルカリ金属又はアルカリ金属化合物の存在下で行ってもよい。アルカリ金属としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウムなどが挙げられる。アルカリ金属化合物としては、例えば、アルカリ金属水素化物（水素化ナトリウム、水素化カリウムなど）；アルカリ金属水酸化物（水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど）；アルカリ金属炭酸塩（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなど）などが挙げられる。
【００７８】
これらのアルカリ金属又はアルカリ金属化合物は、単独で又は２種以上組み合わせて使用することもできる。これらのアルカリ金属又はアルカリ金属化合物のうち、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩、水素化ナトリウムなどのアルカリ金属水素化物などが汎用される。アルカリ金属又はアルカリ金属化合物の割合は、前記式（１Ａ）で表される化合物のヒドロキシル基１モルに対して、例えば、１〜２モル、好ましくは１．１〜１．５モル、さらに好ましくは１．２〜１．４モル程度であってもよい。
【００７９】
反応は、溶媒の存在下で行ってもよい。溶媒としては、例えば、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレンなど）；エーテル類（ジブチルエーテルなどの鎖状エーテル類、テトラヒドロフランなどの環状エーテル類など）；アミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなど）；スルホキシド類（ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）など）；水などが挙げられる。これらの溶媒は、単独で又は２種以上組み合わせて使用することもできる。これらの溶媒のうち、ＤＭＦなどのアミド類が好ましい。溶媒の割合は、前記式（１Ａ）で表される化合物１００重量部に対して、例えば、１００〜１０００重量部、好ましくは２００〜８００重量部、さらに好ましくは４００〜６００重量部程度であってもよい。
【００８０】
反応は、反応促進剤の存在下で行ってもよい。反応促進剤としては、例えば、ヨウ化カリウムなどのアルカリ金属ヨウ化物などが挙げられる。反応促進剤の割合は、前記式（１Ａ）で表される化合物のヒドロキシル基１モルに対して、例えば、０．００１〜０．５モル、好ましくは０．０１〜０．１モル、より好ましくは０．０２〜０．０８モル、さらに好ましくは０．０４〜０．０６モル程度であってもよい。
【００８１】
反応は、相間移動触媒の存在下で行ってもよい。相間移動触媒としては、例えば、第四級アンモニウム塩（例えば、テトラメチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムブロミド、トリオクチルメチルアンモニウムブロミドなどのテトラアルキルアンモニウムハライド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリドなどのアラルキルトリアルキルアンモニウムハライドなど）、第四級ホスホニウム塩（例えば、ヘキサデシルトリブチルホスホニウムブロミドなどのトリアルキルホスホニウムハライド、テトラフェニルホスホニウムブロミドなどのテトラアリールホスホニウムハライドなど）、クラウンエーテルなどが挙げられる。
【００８２】
これらの相間移動触媒は、単独で又は２種以上組み合わせて使用することもできる。これらの相間移動触媒のうち、第四級アンモニウム塩（例えば、テトラメチルアンモニウムブロミドなどのテトラアルキルアンモニウムハライド）などが汎用される。相間移動触媒の割合は、前記式（１Ａ）で表される化合物のヒドロキシル基１モルに対して、例えば、０．０１〜０．５モル、好ましくは０．０２〜０．２モル、さらに好ましくは０．０４〜０．１５モル程度であってもよい。
【００８３】
反応は、空気中又は不活性ガス（例えば、窒素；アルゴン、ヘリウムなどの希ガスなど）中で行ってもよい。また、反応は、常圧下、加圧下又は減圧下で行ってもよい。反応温度は、例えば、５０〜１５０℃、好ましくは７０〜１２０℃程度であってもよい。反応時間は特に制限されず、例えば、１〜１２時間、好ましくは５〜７時間程度であってもよい。反応終了後、反応生成物は、洗浄、抽出、濃縮、ろ過、再沈殿、遠心分離、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの慣用の分離精製手段や、これらを組み合わせた方法により、分離精製してもよい。
【００８４】
［硬化性組成物］
（他のカチオン重合性化合物）
本発明の硬化性組成物は、前記式（１）で表されるオキセタン化合物を少なくとも含んでいればよく、必ずしも必要ではないが、前記式（１）で表されるオキセタン化合物以外の他のカチオン重合性化合物を含んでいてもよい。このようなカチオン重合性化合物としては、例えば、オキセタン環含有化合物［例えば、（３−エチル−３−オキセタニル）メタノールなどの単官能性オキセタン化合物；ｐ−ビス［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシメチル］ベンゼンなどの多官能性オキセタン化合物など］；慣用のエポキシ樹脂（例えば、ビスフェノール型エポキシ樹脂などのグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；グリシジルエステル型エポキシ樹脂；グリシジルアミン型エポキシ樹脂；脂環式エポキシ樹脂など）；ビニルエーテル基含有化合物（例えば、１，４−ブタンジオールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテルなどの（ポリ）アルキレングリコールモノビニルエーテル；トリエチレングリコールジビニルエーテルなどの（ポリ）アルキレングリコールジビニルエーテル；１，４−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテルなどのビス（ビニルオキシアルキル）シクロアルカンなど）などが挙げられる。
【００８５】
硬化性組成物における前記式（１）で表されるオキセタン化合物の割合は、カチオン重合性化合物全体に対して、例えば、１０重量％以上（例えば、３０〜１００重量％）程度の範囲から選択でき、例えば、５０重量％以上（例えば、５０〜９９重量％）、好ましくは７０重量％以上（例えば、７０〜９７重量％）、さらに好ましくは９０重量％以上（例えば、９０〜９５重量％）であってもよく、実質的に１００重量％（他のカチオン重合性化合物を含まない態様）であってもよい。
【００８６】
（酸発生剤）
本発明の硬化性組成物は、重合開始剤（又は硬化剤）として、慣用の酸発生剤を含んでいてもよい。酸発生剤としては、光により酸を発生する光酸発生剤、熱により酸を発生する熱酸発生剤などが挙げられる。
【００８７】
光酸発生剤としては、例えば、イミジルスルホネート化合物、チオキサントンオキシムエステル化合物、オニウム塩（トリアリールスルホニウム塩、ジアリールヨードニウム塩など）、メタロセン錯体、スルホンイミド化合物、ジスルホン化合物、スルホン酸エステル化合物、トリアジン化合物、キノンジアジド化合物、ジアゾメタン化合物などが挙げられる。
【００８８】
熱酸発生剤としては、例えば、オニウム塩［例えば、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩（アリールヨードニウム塩など）、スルホニウム塩（アリールスルホニウム塩など）、セレノニウム塩、アルソニウム塩、ベンゾチアゾニウム塩など］、スルホン酸エステル化合物（オキシムエステル、アルキルエステル、トシラート化合物（ベンゾイントシラート、２−ニトロベンジルトシラートなど）など）、シクロヘキサジエノン化合物（２，４，４，６−テトラブロモシクロヘキサジエノンなど）、ジシアンジアミド化合物、三フッ化ホウ素アミン錯体化合物（モノエチルアミン錯体、イミダゾール錯体、ピペリジン錯体など）、アルミニウムキレート錯体化合物（ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）など）などが挙げられる。
【００８９】
これらの酸発生剤は、光及び熱のいずれの作用によっても酸を発生できる場合がある。また、これらの酸発生剤は、単独で又は２種以上組み合わせて使用することもできる。これらの酸発生剤のうち、スルホニウム塩などのオニウム塩が好ましい。
【００９０】
前記オニウム塩の対アニオンとしては、例えば、ＢＦ４−、ＰＦ６−、ＡｓＦ６−、ＳｂＦ６−などが挙げられる。また、スルホニウム塩としては、例えば、三新化学工業（株）製「サンエイドＳＩ−６０」、「サンエイドＳＩ−８０Ｌ」、「サンエイドＳＩ−１００Ｌ」、「サンエイドＳＩ−１１０」、「サンエイドＳＩ−１５０」、「サンエイドＳＩ−１８０」などが挙げられる。
【００９１】
酸発生剤の割合は、カチオン重合性化合物の総量１００重量部に対して、例えば、０．０１〜３０重量部程度の範囲から選択できる。好ましい範囲としては、以下、段階的に、０．０５〜２０重量部、０．１〜１０重量部、０．３〜５重量部、０．５〜２重量部であって、より好ましくは０．８〜１．２重量部である。
【００９２】
（溶媒）
本発明の硬化性組成物は、取り扱い性や塗工性を向上できる点から、溶媒を含んでいてもよい。溶媒としては、例えば、前述の［オキセタン化合物及びその特性］の項に記載の前記式（１）で表される化合物を溶解可能な溶媒と同様の溶媒などが挙げられる。
【００９３】
これらの溶媒は、単独で又は２種以上組み合わせて使用できる。これらの溶媒のうち、アミド類、エステル類、エーテル類、グリコールエーテルアセテート類、ケトン類、ニトリル類、スルホキシド類、ハロゲン化炭化水素類などの極性溶媒、芳香族炭化水素類などが好ましく、なかでも酢酸ブチルなどのエステル類が好ましい。
【００９４】
溶媒の割合は特に制限されず、代表的には、カチオン重合性化合物の総量１００重量部に対して、例えば、１００〜１００００重量部、好ましくは１５０〜１０００重量部、さらに好ましくは１８０〜２５０重量部であってもよい。
【００９５】
（他の添加剤）
本発明の硬化性組成物は、さらに慣用の他の添加剤を含んでいてもよい。他の添加剤としては、例えば、増感剤（クマリン類、キノリン類、キノン類、フェノキサジン類、芳香族炭化水素類（ピレン類など）、アミン類など）、反応性ポリマー（フェノール系樹脂などのオキセタニル基に対する反応性基を有するポリマーなど）、着色剤（染顔料）、増粘剤、安定剤（老化防止剤、酸化防止剤、オゾン劣化防止剤など）、消泡剤、レベリング剤、分散剤、難燃剤、帯電防止剤、充填剤（シリカなど）、導電剤、滑剤などが挙げられる。これらの添加剤は、単独で又は２種以上組み合わせて使用できる。これらの添加剤の割合は、添加剤の種類に応じて適宜選択できるが、例えば、カチオン重合性化合物の総量１００重量部に対して、１００重量部以下、例えば、０．１〜５０重量部、好ましくは０．３〜３０重量部、さらに好ましくは０．５〜２０重量部である。
【００９６】
硬化性組成物は、カチオン重合性化合物、及び必要に応じて他の成分（酸発生剤、慣用の添加剤など）を配合し、必要に応じて溶媒又は分散剤により、溶解、分散及び混合などで均一に混合することによって得られる。
【００９７】
［硬化物及びその製造方法］
本発明では、前記硬化性組成物に光照射処理及び／又は加熱処理して硬化物を形成する硬化工程を含む製造方法により硬化物（三次元的硬化物、硬化膜や硬化パターンなどの一次元又は二次元的硬化物、点又はドット状硬化物など）を製造してもよい。
【００９８】
光照射処理における光の波長は、酸発生剤の種類に応じて適宜選択してもよく、紫外光線又は可視光線などであってもよい。光の照射光量（露光量）は、硬化性組成物（塗膜）の厚みなどに応じて選択でき、例えば、１０ｍＪ／ｃｍ２以上（例えば、１０〜１００００ｍＪ／ｃｍ２）、好ましくは１００〜５０００ｍＪ／ｃｍ２、さらに好ましくは５００〜３０００ｍＪ／ｃｍ２であってもよい。光源としては、例えば、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、ハロゲンランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、レーザー光（ＬＥＤレーザーなど）などが利用できる。硬化性組成物の硬化を促進するために、光照射処理のみならず、加熱処理を行ってもよい。
【００９９】
加熱処理における温度及び時間は、酸発生剤の種類に応じて適宜選択でき、加熱温度としては、例えば、８０〜２００℃、好ましくは９０〜１８０℃、より好ましくは１００〜１５０℃、さらに好ましくは１１０〜１３０℃であってもよい。加熱時間は、例えば、５秒〜１０時間、好ましくは３０分〜５時間、さらに好ましくは１〜３時間であってもよい。硬化性組成物が溶媒を含む場合、溶媒を除去するために、硬化物形成後、さらに加熱処理してもよい。
【０１００】
また、本発明のオキセタン化合物は溶剤溶解性が高く、取り扱い性に優れた硬化性組成物を形成できるため、硬化物は、前記硬化性組成物を基材上に塗布して均質な塗膜を形成した後、前記硬化工程を経て形成してもよい。
【０１０１】
塗布方法としては、例えば、フローコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、スクリーン印刷法、キャスト法、バーコーティング法、カーテンコーティング法、ロールコーティング法、グラビアコーティング法、ディッピング法、スリット法などであってもよい。塗膜の厚みは、特に制限されず、硬化物の用途に応じて、通常、０．０１μｍ〜１０ｍｍ程度の範囲から選択できる。
【０１０２】
基材の材質は、特に制限されず、用途に応じて選択され、例えば、半導体（シリコンなど）、金属（アルミニウム、銅など）、セラミック（酸化ジルコニウムなど）、透明無機材料（ガラス、石英など）、透明樹脂（ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネートなど）などであってもよい。
【０１０３】
このようにして得られる硬化物は、高い光学的特性（高屈折率など）、高い耐熱性（融点、１０重量％減少温度など）、及び高い耐溶剤性（耐溶剤膨潤性、外観保持性など）を有するため、例えば、フォトレジスト、プリント配線基板、光学薄膜（液晶ディスプレイなどの反射防止膜の高屈折率層、反射板など）などとして好適に利用してもよい。
【実施例】
【０１０４】
以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。また、使用した原料を下記に示す。
【０１０５】
［原料］
ＢＮＦ：９，９−ビス（６−ヒドロキシ−２−ナフチル）フルオレン、大阪ガスケミカル（株）製
ＢＮＥＦ：９，９−ビス［６−（２−ヒドロキシエトキシ）−２−ナフチル］フルオレン、大阪ガスケミカル（株）製
ＢＣＦ：９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、大阪ガスケミカル（株）製
ＢｉｓＡ：ビスフェノールＡ［２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン］、東京化成工業（株）製
３−クロロメチル−３−メチルオキセタン：東京化成工業（株）製。
【０１０６】
［実施例１］
ＢＮＦ（９１ｇ、２０２ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（４５５ｇ）に溶解し、次いで、炭酸カリウム（東京化成工業（株）製）（７２．６ｇ、５２５ｍｍｏｌ）、ヨウ化カリウム（ＫＩ、関東化学（株）製）（３．３５ｇ、２０．２ｍｍｏｌ）を添加して６０℃で撹拌した。この溶液に、３−クロロメチル−３−メチルオキセタン（５８．８ｇ、４８７ｍｍｏｌ）を６０℃で滴下し、滴下終了後、８０℃に昇温して５時間反応させ、さらに、１００℃に昇温して１時間反応させた。反応終了後、水１．４Ｌを添加し、酢酸エチル３００ｇによる抽出を３回行った。さらに、水３００ｇによる洗浄を６回行い、得られた有機相（酢酸エチル相）を減圧濃縮して、１２２ｇ（収率９７．６％）の化合物を淡橙色結晶の形態で得た。
【０１０７】
得られた化合物を１Ｈ  ＮＭＲ［測定装置：ＢＲＵＫＥＲ社製「ULTRA SHIELD（登録商標）300」、溶媒：重クロロホルム（ＣＤＣｌ３）、標準物質：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）；以下同じ。］により分析したところ、９，９−ビス［６−（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ−２−ナフチル］フルオレン（下記式（１ａ）で表される化合物、以下、単にＢＮＦＯともいう。）であった。１Ｈ  ＮＭＲの測定結果を以下に示す。
【０１０８】
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）１．４７（ｓ、６Ｈ）、４．１２（ｓ、４Ｈ）、４．４８（ｄ、Ｊ＝５．９Ｈｚ、４Ｈ）、４．６７（ｄ、Ｊ＝５．９Ｈｚ、４Ｈ）、７．０９−７．１２（ｍ、４Ｈ）、７．３０（ｄｄ、Ｊ＝１．１、７．５Ｈｚ、２Ｈ）、７．３８（ｄｔ、Ｊ＝１．５、７．１Ｈｚ、４Ｈ）、７．５０−７．５４（ｍ、６Ｈ）、７．６３（ｄ、Ｊ＝８．７Ｈｚ、２Ｈ）、７．８２（ｄ、Ｊ＝７．３５Ｈｚ、２Ｈ）。
【０１０９】
【化９】
2018108985.tif 000010
【０１１０】
［比較例１］
ＢｉｓＡ（３４．１ｇ、１５０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（３８８ｇ）に溶解し、次いで、炭酸カリウム（５３．９ｇ、３９０ｍｍｏｌ）、ＫＩ（２．４７ｇ、１５ｍｍｏｌ）を添加して６０℃で撹拌した。この溶液に、３−クロロメチル−３−メチルオキセタン（４９．７６ｇ、４１３ｍｍｏｌ）を６０℃で滴下し、滴下終了後、８０℃に昇温して５時間反応させ、さらに、１００℃に昇温して７時間反応させた。反応終了後、水１Ｌを添加し、酢酸エチル３００ｇによる抽出を３回行った。さらに、水３００ｇによる洗浄を６回行った。得られた有機相（酢酸エチル相）の減圧濃縮を試みたところ、目的物の溶解性が低いためか、白色結晶が析出したため、６０℃から室温（２５℃程度）まで温度を低下させ、室温で終夜撹拌した後、吸引ろ過により４３．０ｇ（収率７２．３％）の固体を得た。
【０１１１】
得られた化合物を１Ｈ  ＮＭＲにより分析したところ、２，２−ビス［４−（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ−フェニル］プロパン（下記式で表される化合物、以下、単にＢｉｓＡＯともいう。）であった。１Ｈ  ＮＭＲの測定結果を以下に示す。
【０１１２】
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）１．４２（ｓ、６Ｈ）、１．６４（ｓ、６Ｈ）、３．９９（ｓ、４Ｈ）、４．４４（ｄ、Ｊ＝５．９Ｈｚ、４Ｈ）、４．６２（ｄ、Ｊ＝５．９Ｈｚ、４Ｈ）、６．８３（ｄ、Ｊ＝８．８Ｈｚ、４Ｈ）、７．１５（ｄ、Ｊ＝８．８Ｈｚ、４Ｈ）。
【０１１３】
【化１０】
2018108985.tif 000011
【０１１４】
［比較例２］
ＢＣＦ（２８．４ｇ、７５ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（１６８ｇ）に溶解し、次いで、炭酸カリウム（２６．３ｇ、１９０ｍｍｏｌ）、ＫＩ（１．２８ｇ、７．７ｍｍｏｌ）を添加して６０℃で撹拌した。この溶液に、３−クロロメチル−３−メチルオキセタン（２４．８７ｇ、２０６ｍｍｏｌ）を６０℃で滴下し、滴下終了後、８０℃に昇温して５時間反応させ、さらに、１００℃に昇温して８時間反応させた。反応終了後、水５２５ｍＬを添加し、酢酸エチル１１２ｇによる抽出を３回行った。さらに、水１００ｇによる洗浄を６回行い、得られた有機相（酢酸エチル相）を減圧濃縮して、３９．２ｇ（収率９５．７％）の化合物を淡橙色結晶の形態で得た。
【０１１５】
得られた化合物を１Ｈ  ＮＭＲにより分析したところ、９，９−ビス［４−（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ−３−メチルフェニル］フルオレン（下記式で表される化合物、以下、単にＢＣＦＯともいう。）であった。１Ｈ  ＮＭＲの測定結果を以下に示す。
【０１１６】
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）１．４２（ｓ、６Ｈ）、２．１２（ｓ、６Ｈ）、３．９６（ｓ、４Ｈ）、４．４４（ｄ、Ｊ＝５．９Ｈｚ、４Ｈ）、４．６２（ｄ、Ｊ＝５．８Ｈｚ、４Ｈ）、６．６７（ｄ、Ｊ＝８．２Ｈｚ、２Ｈ）、６．９８（ｄ、Ｊ＝７．７Ｈｚ、４Ｈ）、７．２３−７．４０（ｍ、６Ｈ）、７．７５（ｄ、Ｊ＝７．３Ｈｚ、２Ｈ）。
【０１１７】
【化１１】
2018108985.tif 000012
【０１１８】
［実施例２］
６０％ＮａＨ［水素化ナトリウム（流動パラフィン分散液、ＮａＨ濃度６０重量％）、東京化成工業（株）製、１６．３ｇ、４０８ｍｍｏｌ］を添加したＤＭＦ５００ｍｌに、ＢＮＥＦ（１００ｇ、１８６ｍｍｏｌ）を添加した。その後、テトラメチルアンモニウムブロミド（ＴＭＡＢ、東京化成工業（株）製、５．７ｇ、３７．０ｍｍｏｌ）、ＫＩ（６．２ｇ、３７．７ｍｍｏｌ）を添加した。さらに、３−クロロメチル−３−メチルオキセタン（６２．７ｇ、５２０ｍｍｏｌ）を２３℃で滴下した。その後、６５℃まで昇温して５時間反応させた。反応液を冷却後、酢酸エチル５００ｍｌで希釈した。さらに、水７５０ｍｌを添加してクエンチした後、酢酸エチル５００ｍｌで抽出した。水２００ｍｌで５回洗浄した後、有機層を減圧濃縮し、淡黄色でアモルファス状（又は不定形状）粗体１４３ｇを得た。
【０１１９】
得られた粗体１４３ｇを、６０％ＮａＨ（１．８ｇ、４５．０ｍｍｏｌ）を添加したＤＭＦ５００ｍｌに添加した。その後、ＴＭＡＢ（０．２ｇ、１．３ｍｍｏｌ）、ＫＩ（２００ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ）を添加した。さらに、３−クロロメチル−３−メチルオキセタン（３８．０ｇ、３１５ｍｍｏｌ）を２３℃で滴下した。その後、５５℃まで昇温して５時間反応させた。反応液を冷却後、酢酸エチル５００ｍｌで希釈した。さらに、水７５０ｍｌを添加してクエンチした後、酢酸エチル５００ｍｌで抽出した。水２００ｍｌで５回洗浄した後、有機層を減圧濃縮し、さらに、１００℃で乾燥して水あめ状の液体を得た。この水あめ状の液体を水に分散させて得られた結晶を回収し、７０℃で乾燥して淡黄色結晶１２４ｇ（収率９４．５％）を得た。
【０１２０】
得られた化合物を１Ｈ  ＮＭＲにより分析したところ、９，９−ビス［６−（２−（（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）−２−ナフチル］フルオレン（下記式（１ｂ）で表される化合物、以下、単にＢＮＥＦＯともいう。）であった。１Ｈ  ＮＭＲの測定結果を以下に示す。
【０１２１】
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）１．３３（ｓ、６Ｈ）、３．６４（ｓ、４Ｈ）、３．９０（ｔ、Ｊ＝４．８Ｈｚ、４Ｈ）、４．２３（ｔ、Ｊ＝４．８Ｈｚ、４Ｈ）、４．３６（ｄ、Ｊ＝５．７Ｈｚ、４Ｈ）、４．５３（ｄ、Ｊ＝５．７Ｈｚ、４Ｈ）、７．０８−７．１０（ｍ、４Ｈ）、７．３０（ｄ、Ｊ＝７．４Ｈｚ、２Ｈ）、７．３９（ｔ、Ｊ＝７．０Ｈｚ、４Ｈ）、７．５０−７．５５（ｍ、６Ｈ）、７．６２（ｄ、Ｊ＝８．７Ｈｚ、２Ｈ）、７．８２（ｄ、Ｊ＝７．５Ｈｚ、２Ｈ）。
【０１２２】
【化１２】
2018108985.tif 000013
【０１２３】
［特性評価］
（屈折率）
実施例及び比較例で得られた各オキセタン化合物について、多波長アッベ屈折計（（株）アタゴ製、ＤＲ−Ｍ２＜循環式恒温水槽６０−Ｃ３＞）を使用して、温度２５℃、５８９ｎｍにおける屈折率を測定した。結果を表１に示す。
【０１２４】
【表１】
2018108985.tif 000014
【０１２５】
表１から明らかなように、実施例では、比較例に比べて、高い屈折率を有している。
【０１２６】
（耐熱性）
（１）融点
ＢＵＣＨＩ社製「Melting point M-565」を使用して、実施例及び比較例で得られた各オキセタン化合物の融点を測定した。結果を表２に示す。
【０１２７】
（２）重量減少温度
実施例及び比較例で得られた各オキセタン化合物について、熱重量測定−示差熱分析装置（ＴＧ−ＤＴＡ）［エスアイアイ・ナノテクノロジー（株）（現（株）日立ハイテクサイエンス）製「ＴＧ／ＤＴＡ６２００」］を使用して、窒素雰囲気下、昇温速度１０℃／分の条件下で、試料の重量が１０重量％減少した温度、並びに試料の発熱量が最大になる温度（発熱ピーク）及び試料の吸熱量が最大になる温度（吸熱ピーク又は融点）を測定した。結果を表２に示す。
【０１２８】
【表２】
2018108985.tif 000015
【０１２９】
表２から明らかなように、実施例では比較例に比べて融点及び１０重量％減少温度が高く、耐熱性に優れている。
【０１３０】
特に、実施例１及び比較例２の融点を比べると５９℃も向上しており、原料であるＢＮＦ［融点２２０℃又は２３６℃（結晶形により異なる）］及びＢＣＦ（融点２１８．５℃）の融点の差（１．５〜１７．５℃）から予想される値よりも、意外なことに顕著に向上した。
【０１３１】
（溶剤溶解性）
（１）各オキセタン化合物の溶解性比較
実施例及び比較例で得られた各オキセタン化合物０．５ｇに対して、表３に記載の溶媒５ｇを室温（２３℃程度）で添加し、各溶媒に対する溶解性を目視により以下の基準で評価した。なお、酢酸ブチルについては、各オキセタン化合物５ｇに対して、１０ｇの酢酸ブチルを添加することにより評価した。結果を表３に示す。
【０１３２】
○：すぐに溶解する
×：溶解しない（白濁する）。
【０１３３】
【表３】
2018108985.tif 000016
【０１３４】
（２）ＢＮＦＯの溶解性確認
実施例１で得られたＢＮＦＯ  ０．５ｇに対して、表４に記載の溶媒５ｇを室温（２３℃程度）で添加し、各溶媒に対する溶解性を目視により以下の基準で評価した。結果を表４に示す。
【０１３５】
◎：すぐに溶解する（○評価よりも早く溶解する）
○：徐々に溶解し、最終的には完全に溶解する
△：溶解するが、一部が不溶物として溶け残る
×：溶解しない。
【０１３６】
【表４】
2018108985.tif 000017
【０１３７】
表３及び４から明らかなように、フルオレン骨格を有する実施例１では、ビスフェノールＡ骨格を有する比較例１に比べて、溶解性が優れていた。また、実施例１は、溶解性の低下が予想される縮合多環式アレーン骨格であるナフタレン骨格を含むにも拘らず、比較例２と比べて、意外にも溶解性の差が見られなかった。しかも、実施例１で調製したＢＮＦＯは、多種の溶媒に対して優れた溶解性を示した。なお、シクロヘキサノン及び酢酸ブチルについては、ＢＮＦＯの濃度が５０重量％、３３重量％となる割合で溶液を調製しても溶解可能であることも確認した。
【０１３８】
（硬化物の耐溶剤性）
実施例及び比較例で得られた各オキセタン化合物の硬化物を作製して、得られた硬化物の耐溶剤性を後述する（１）〜（３）に記載の方法により評価した。なお、硬化物は以下の方法により作製した。
【０１３９】
実施例及び比較例で得られたオキセタン化合物各５ｇに、ＢｔＯＡｃ（沸点１２６℃）１０ｇを加え、溶液（実施例１及び比較例２）又は懸濁液（分散液）［比較例１］を調製した。得られた各溶液又は懸濁液に、硬化剤（熱酸発生剤）として、三新化学工業（株）製「サンエイドＳＩ−１００Ｌ」（固形分４８重量％）１００ｍｇを加えて撹拌し、硬化性組成物を調製した。得られた各硬化性組成物をアルミパンにのせて、乾燥機を用いて１２０℃で２時間加熱した。各硬化性組成物が硬化したのを確認し、残留溶媒を留去するために、真空ポンプを用いて１２０℃で２時間乾燥して各硬化物を調製した。
【０１４０】
（１）高温環境下における耐溶剤性
得られた各硬化物を乳鉢を用いて粉砕した。粉砕した各硬化物０．２ｇに対して、１０ｇのテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を添加し、撹拌しながら２４時間浸漬した。浸漬温度は、６０℃で８時間、室温（２０℃程度）で１６時間とした。
【０１４１】
実施例１では溶剤（ＴＨＦ）が透明であるのに対して、比較例１及び２では白濁した。これは、比較例１及び２の硬化物が劣化（又は部分的に溶解）したことで、ＴＨＦ中に分散したためと考えられる。
【０１４２】
（２）溶剤浸漬後の膨潤度合
得られた各硬化物の試験片（粉砕前の破片）に対して、１０倍重量のＴＨＦを加えて、室温（２０℃程度）で１８時間浸漬させた。浸漬前後の試験片の重量を測定して、下記式により、重量変化率を算出した。結果を表５に示す。
【０１４３】
（重量変化率）＝［（浸漬後重量）−（浸漬前重量）］／（浸漬前重量）
【０１４４】
【表５】
2018108985.tif 000018
【０１４５】
表５から明らかなように、比較例では重量変化率が高く、膨潤が確認されるのに対して、実施例の重量変化率は極めて低く、ほとんど膨潤は確認されなかった。
【０１４６】
（３）溶剤浸漬後の外観
前記（２）溶剤浸漬後の膨潤度合の試験において、浸漬前後の各試験片の外観を確認したところ、実施例１の硬化物は浸漬前後で変化がなかったのに対して、比較例１の硬化物では浸漬後の試験片の中央に大きな欠けが確認された。また、比較例２の硬化物では浸漬後の試験片の表面にひび割れが見られるのみならず、試験片自体も割れてしまった。
【産業上の利用可能性】
【０１４７】
本発明のオキセタン化合物は、高い屈折率及び耐熱性を有するとともに、取り扱い性にも優れているため、例えば、前記化合物を含む硬化性組成物又はその硬化物などの形態として、種々の用途に利用できる。代表的な用途としては、例えば、塗料、電線被覆材、電子機器の封止材及び絶縁材、プリント配線基板、保護膜、フォトレジスト、印刷製版材、インキ、接着剤、粘着剤、光学薄膜（液晶ディスプレイなどの反射防止膜の高屈折率層、反射板など）、光造形用材料などの用途が挙げられる。