(57)【要約】【課題】基板の撓みを防止して搬送できる、浮上搬送装置および基板処理装置を提供する。【解決手段】本発明の浮上搬送装置は、基板を浮上させて搬送する浮上搬送装置であって、基板の搬送経路を挟んで、下側浮上装置と上側浮上装置を有し、下側浮上装置と上側浮上装置の少なくともいずれか一方を構成する複数の浮上ブロックが間隙を設けて配置され、他方を構成する浮上ブロックが前記間隙に対向するように配置されることを特徴とする。【選択図】図１
2018108892.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を浮上させて搬送する浮上搬送装置であって、
前記基板の搬送経路を挟んで、下側浮上装置と上側浮上装置を有し、
前記下側浮上装置と前記上側浮上装置の少なくともいずれか一方を構成する複数の浮上ブロックが間隙を設けて配置され、他方を構成する浮上ブロックが前記間隙に対向するように配置されることを特徴とする浮上搬送装置。
【請求項２】
前記下側浮上装置を構成する浮上ブロックと、前記上側浮上装置を構成する浮上ブロックは、前記基板の搬送方向の長さが同じであることを特徴とする請求項１に記載の浮上搬送装置。
【請求項３】
前記下側浮上装置を構成する浮上ブロックに対する、前記上側浮上装置を構成する浮上ブロックの重なる長さは、前記基板の搬送方向において、０以上、前記下側浮上装置を構成する浮上ブロックにおける前記基板の搬送方向の長さの半分以下、であることを特徴とする請求項１または２に記載の浮上搬送装置。
【請求項４】
前記下側浮上装置と前記上側浮上装置は、それぞれ前記基板の搬送方向において間隙を設けて配置される複数の浮上ブロックから構成され、
前記上側浮上装置を構成する浮上ブロックは、前記下側浮上装置に設けられる前記間隙に対向する状態で配置されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の浮上搬送装置。
【請求項５】
基板を浮上させて搬送しながら前記基板に対して処理を行う基板処理装置において、
前記基板を浮上させる浮上装置と、前記浮上装置によって浮上支持される前記基板を搬送方向に搬送する搬送力付与機構と、を有する浮上搬送装置と、
前記浮上搬送装置により浮上搬送される前記基板に対して処理流体を供給する処理流体供給機構と、
を有し、
前記浮上搬送装置は、請求項１乃至４のいずれかに記載の浮上搬送装置であることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、浮上搬送装置および基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶製造装置などにおいては、ガラス製の基板を浮上させながら搬送する浮上搬送装置が用いられることがある。
【０００３】
浮上搬送装置の一例としては、浮上ブロックの表面に気体の噴出孔と吸引孔を複数個ずつ設け、各噴出孔からの気体の噴出量と、各吸引孔による気体の吸引量を調節することで、基板を浮上ブロックから浮上させて搬送するものが知られている。この気体の噴出量や吸引量は、搬送する基板の重量、浮上ブロック表面からの浮上距離などを考慮して決められる。また基板が大型化するにつれて、複数個の浮上ブロックを基板の搬送方向及びこの搬送方向とは直交する方向に沿って並べて配置することも行なわれる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１４−４７０２０号公報
【特許文献２】特開２０１１−８４３５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
搬送される基板に処理液をかけて、基板の処理を行なうことがある。そこで、処理液を供給するノズルなどの配置スペースを確保するため、隣接する浮上ブロック間に間隙を設けて配置することになる。
【０００６】
隣接する浮上ブロック間に間隙が形成されると、その間隙部分においては、基板に対する浮上力がなくなる。このため、搬送されている基板の先端が撓んで浮上ブロックに衝突することがあった。この現象は、基板が薄くなるほど顕著に生じた。また、基板の搬送を中断せざるを得なくなることがあった。
【０００７】
そこで本発明では、基板の撓みを防止して搬送できる、浮上搬送装置および基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
実施形態に係る基板の浮上搬送装置は、
基板を浮上させて搬送する浮上搬送装置であって、
前記基板の搬送経路を挟んで、下側浮上装置と上側浮上装置を有し、
前記下側浮上装置と前記上側浮上装置の少なくともいずれか一方を構成する複数の浮上ブロックが間隙を設けて配置され、他方を構成する浮上ブロックが前記間隙に対向するように配置されることを特徴とする。
【０００９】
また、実施形態に係る基板処理装置は、
基板を浮上させて搬送しながら前記基板に対して処理を行う基板処理装置において、
前記基板を浮上させる浮上装置と、前記浮上装置によって浮上支持される前記基板を搬送方向に搬送する搬送力付与機構と、を有する浮上搬送装置と、
前記浮上搬送装置により浮上搬送される前記基板に対して処理流体を供給する処理流体供給機構と、
を有し、
前記浮上搬送装置は、上記した浮上搬送装置であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、基板の撓みを防止して搬送できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の第１の実施形態における基板処理装置の概略を示す正面図。
【図２】図１の基板処理装置が有する浮上ブロックの概略下面図。
【図３】図２の浮上ブロックの概略部分断面図。
【図４】図１の基板処理装置の平面図。
【図５】図１の浮上ブロックの正面図。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、図面を参照して、本発明の実施形態における基板処理装置について説明する。
【００１３】
図１に示すように、本実施形態における基板処理装置１００は、浮上搬送装置１０、処理液供給装置（処理流体供給機構）２０、３０を有している。浮上搬送装置１０は、基板Ｗの搬送経路を境に、下側浮上装置１１、上側浮上装置１２、搬送力付与機構１３を有する。
【００１４】
下側浮上装置１１、上側浮上装置１２としては、それぞれ表面から空気等の気体の噴出と、吸引とにより、基板Ｗを浮上させる従来公知の浮上ブロックが用いられる。
【００１５】
図２は、上側浮上装置１２を構成する１つの浮上ブロック１２ａの概略下面図を示し、図３は、浮上ブロック１２ａにおける、特に噴出孔と吸引孔の部分の概略部分断面図を示す。浮上ブロック１２ａは直方体で、下面に噴出孔ａと吸引孔ｂとを規則正しく整列状態で有し、噴出孔ａから噴出する空気と、吸引孔ｂから吸引する空気と、基板Ｗの重量等とのバランスにより、下方を通過する基板Ｗを浮上支持するものである。なお、図２において、噴出孔ａ、吸引孔ｂが設けられる各領域（一点鎖線で示される）を符号ａ、ｂとしているが、一点鎖線で示される各領域内に、噴出孔ａ、あるいは吸引孔ｂ（図２では円で図示）が配置されることになる。また、図３において、矢印は空気の流れ方向を示している。この上側浮上装置１２を構成する浮上ブロック１２ａは、図１に示されるように、基板Ｗの搬送面の上方に配置される。浮上ブロック１２ａは、丁度、基板Ｗの搬送面の下方に配置される、従来公知の浮上ブロック１２ｂを上下反転させた状態で配置される。浮上ブロック１２ａ、１２ｂが有する、各噴出孔ａは、通路ｃや不図示のフィルターを介してブロアやコンプレッサ等の加圧気体供給装置（不図示）に接続され、各吸引孔ｂは、通路ｄを介して不図示のポンプなどの気体吸引装置（不図示）にそれぞれ接続される。各浮上ブロック１２ａ、１２ｂにおいて、噴出孔ａから噴出される気体の作用で基板Ｗを浮かせるとともに、吸引孔ｂからの吸引作用で、浮上剛性を持たせることができることは知られている。
【００１６】
本実施形態において、下側浮上装置１１を構成する複数個の浮上ブロック１２ｂと、上側浮上装置１２を構成する複数個の浮上ブロック１２ａとは、後述する搬送力付与機構１３による基板Ｗの搬送経路（搬送面）を挟んで、次のような配置関係となっている。図１において、下側浮上装置１１を構成する２つの浮上ブロック１２ｂ、上側浮上装置１２を構成する２つの浮上ブロック１２ａは、それぞれ基板Ｗの搬送方向Ａに沿って設けられる。そして、下側浮上装置１１を構成する２つの浮上ブロック１２ｂ間、上側浮上装置１２を構成する２つの浮上ブロック１２ａ間には、基板Ｗの搬送方向Ａにおいていずれも同様な間隙を設けて配置される。具体的には、処理液供給装置２０、３０が配置できる寸法の間隙とされる。なおこの寸法は、図１に示すように、少なくとも処理液供給装置２０、３０によって処理液を基板Ｗに供給可能とする寸法であればよい。そして、下側浮上装置１１を構成する２つの浮上ブロック１２ｂ間に設けられる間隙に、上側浮上装置１２を構成する２つの浮上ブロック１２ａのいずれかが対向する状態とされる。また、上側浮上装置１２を構成する２つの浮上ブロック１２ａ間に設けられる間隙が、下側浮上装置１１を構成する２つの浮上ブロック１２ｂのいずれかに対向する状態とされる。なお、浮上ブロック１２ａの下面と、浮上ブロック１２ｂの上面との距離は、例えば５ｍｍ以下とされる。また、搬送方向Ａにおける、基板Ｗの長さは、一対の浮上ブロック１２ａ間の間隙、一対の浮上ブロック１２ｂ間の間隙よりも長いものとされる。
【００１７】
なお、上側浮上装置１２と下側浮上装置１１がそれぞれ有する浮上ブロック１２ａ、１２ｂの配置関係を図１を用いて説明したが、本実施形態においては、図４に示すように、浮上ブロック１２ａと１２ｂは、搬送される基板Ｗの大きさに合わせて、基板Ｗの搬送方向Ａだけでなく、搬送方向Ａとは直交する方向（以下、「幅方向」という。）にも複数（本実施形態においては５つ）設けられていてもよい。この場合には、先に述べた間隙は、搬送方向Ａに加え、前述の幅方向に沿っても形成され、しかも幅方向の長さは、基板Ｗの大きさによって浮上ブック１２ａ、１２ｂの数を調整することで、自由に設定することができる。なお、図４においては、処理液供給装置２０、３０、制御部４０を省略してある。
【００１８】
搬送力付与機構１３は、浮上ブロック１２ａ、１２ｂに対して非接触状態（浮上状態）で保持された基板Ｗを、搬送方向Ａに搬送するものである。具体的には、図４に示すように、基板Ｗの搬送方向Ａに沿った側面に接触するローラ１３ａを有している。各ローラ１３ａは、不図示の駆動装置によって回転駆動させられるようになっている。ローラの１３ａの回転により、浮上している基板ＷにＡ方向への搬送力が付与されることになる。
【００１９】
図１において、処理液供給装置２０、３０は、基板Ｗを処理するための処理液（例えば純水）を基板Ｗの表面に供給する装置である。処理液供給装置２０は、上側浮上装置１２を構成する２つの浮上ブロック１２ａの間に形成された間隙に配置され、下方を通過する基板Ｗの表面（上面）に、例えばノズルを介して処理液を供給する。これに対して、処理液供給装置３０は、下側浮上装置１１を構成する２つの浮上ブロック１２ｂの間に形成された間隙に配置され、上方を通過する基板Ｗの裏面（下面）に、例えばノズルを介して処理液を供給する。図４の場合には、処理液供給装置２０、３０は、搬送される基板Ｗにおける幅方向の全域に処理液が供給できるように、例えばスリットノズルを有している。スリットノズルに設けられるスリットは、基板Ｗの幅方向に沿って延び、基板Ｗの幅方向の寸法を少なくとも有する。このスリットノズルから処理液が噴出し、搬送される基板Ｗの表裏面（上下面）に処理液が供給される。
【００２０】
次に、基板処理装置１００による基板Ｗの処理工程について説明する。なお、次に述べる動作は、制御部４０により制御される。
【００２１】
まず、浮上ブロック１２ａと、１２ｂにおいては、噴出孔ａからの空気の噴出動作と、吸引孔ｂによる空気の吸引動作が開始される。そして、基板処理装置１００に基板Ｗが搬入されると、基板Ｗは、浮上搬送装置１０の作用で、浮上ブロック１２ａ、１２ｂによって浮上支持されるとともに、ローラ１３ａの回転力によって、Ａ方向に搬送される。基板Ｗが処理液供給装置２０の配置位置に到達すると、不図示のスリットノズルから処理液が基板Ｗの表面（上面）に供給される。また、基板Ｗが処理液供給装置３０の配置位置に到達すると、不図示のスリットノズルから処理液が基板Ｗの裏面（下面）に供給される。そして、処理液供給装置２０、３０によって表裏面の処理がなされた基板Ｗは、基板処理装置１００から搬出され、図示しない搬送機構によって次の工程へと運ばれる。
【００２２】
ところで、図１において、基板処理装置１００に搬入された基板Ｗは、まず搬入側の浮上ブロック１２ａによって浮上支持される。図１において、基板Ｗの先頭端が、上側浮上装置１２を構成する２つの浮上ブロック１２ａの間隙に到達すると、その基板Ｗの先頭端に対向する浮上ブロック１２ａは存在しなくなる。ところが、前述したように、上側浮上装置１２を構成する２つの浮上ブロック１２ａ間に設けられる間隙は、下側浮上装置１１を構成する２つの浮上ブロック１２ｂのいずれかに対向する状態とされるので、図１においては、隣接する浮上ブロック１２ａ間に設けられた間隙に到達した基板Ｗの先頭端部分は、下側浮上装置１１の浮上ブロック１２ｂから浮上力を受けることになる。そして、搬送される基板Ｗにおいて、隣接する浮上ブロック１２ａ間に設けられた間隙に対向する部分にも、浮上ブロック１２ｂから浮上力が与えられることになる。
【００２３】
また、基板Ｗの先頭端が、下側浮上装置１１を構成する２つの浮上ブロック１２ｂの間隙に到達すると、その基板Ｗの先頭端に対向する浮上ブロック１２ｂは存在しなくなる。ところが、前述したように、下側浮上装置１１を構成する２つの浮上ブロック１２ｂ間に設けられる間隙は、上側浮上装置１２を構成する２つの浮上ブロック１２ａのいずれかに対向する状態とされるので、図１においては、隣接する浮上ブロック１２ｂ間に設けられた間隙に到達した基板Ｗの先頭端部分は、上側浮上装置１２の浮上ブロック１２ａから浮上力を受けることになる。そして、搬送される基板Ｗにおいて、隣接する浮上ブロック１２ｂ間に設けられた間隙に対向する部分にも、浮上ブロック１２ａから浮上力が与えられることになる。
【００２４】
本実施形態では、処理液供給装置２０、３０を設けるために、各浮上ブロック１２ａ間、各浮上ブロック１２ｂ間に間隙が設けられているが、下側浮上装置１１を構成する２つの浮上ブロック１２ｂ間に設けられる間隙に対向するように、上側浮上装置１２を構成する浮上ブロック１２ａを配置する、あるいは、上側浮上装置１１を構成する２つの浮上ブロック１２ａ間に設けられる間隙に対向するように、下側浮上装置１１を構成する浮上ブロック１２ｂを配置するように構成した。これにより、基板Ｗが間隙を通過する間においても、浮上力が基板Ｗに付与されることになる。特に、搬送される基板Ｗにおける、上記した間隙を通過する部分にも、浮上力が付与され続けることになる。このため、搬送される基板Ｗ、特に先頭端が自重あるいは、処理液供給装置２０（３０）から供給される処理液の加圧力によって、隣接する浮上ブロック１２ａ（１２ｂ）間に形成される間隙において撓み、例えば撓んだ先頭端が浮上ブロック１２ｂに衝突して傷がつくとか、作業が中断して作業効率が低下するとか、撓んだ状態での搬送が継続されて処理が不均一になったりするといったことが防止できる。
【００２５】
ここで、各浮上ブロック１２ａ、１２ｂの長さ関係（例１から例３）について図５を参照して説明する。図５では、浮上ブロック１２ａの搬送方向Ａの長さがＬ２とされ、浮上ブロック１２ｂの搬送方向Ａの長さがＬ１とされ、浮上ブロック１２ａと浮上ブロック１２ｂとが搬送方向Ａ１において重なる長さがＳとされている。
【００２６】
例１としては、Ｌ２＝Ｌ１である。この場合には、浮上ブロック１２ａ、１２ｂとして、上下で同じブロックを使用することができる。また、例２としては、前述の例１（Ｌ２＝Ｌ１）であり、かつ、Ｓ＝０以上［Ｌ１（＝Ｌ２）／２］以下である。なお、すべてのＳが同じ値でなくても良い。例３としては、Ｌ２＝Ｌ１×（１以上２以下）である。このような長さ関係はあくまでも例示であり、前述の関係に限るものではない。
【００２７】
また、実施形態では、浮上ブロック１２ａ、１２ｂによって浮上支持される基板Ｗに対する搬送力を、ローラ１３ａの回転力から得るようにした。しかしながら、例えば浮上ブロック１２ａ、１２ｂの噴出孔ａからの空気の噴出方向を、基板Ｗの搬送方向Ａに傾斜させるなどして搬送力を得るようにすれば、ローラ１３ａは特に設けなくてもよい。ローラ１３ａとの併用でも良い。
【００２８】
また、浮上ブロック１２ａ、１２ｂの噴出孔ａからは空気を噴出するようにしたが、空気に変えてヘリウムなどの不活性ガスとしたり、気体に変えて純水等の液体であっても良い。
【００２９】
また、図１に示した実施形態においては、基板Ｗの上下面に処理液を供給するために、下側浮上装置１１と上側浮上装置１２を構成する浮上ブロック１２ａ、１２ｂにそれぞれ間隙を形成した。しかしながら、例えば、基板Ｗの下面だけに処理液を供給するのであれば、上側浮上装置１２を構成する浮上ブロック１２ａ間に間隙を形成する必要はない。要は、例えば図１において、下側浮上装置１１と上側浮上装置１２の少なくともいずれか一方を構成する浮上ブロック間に間隙を形成する配置のときに、他方の浮上装置を構成する浮上ブロックがその間隙に対向するように配置される構成で有ればよい。
【００３０】
前述の実施形態においては、処理流体供給機構として、基板Ｗに処理液を供給する処理液供給装置２０、３０を適用することを例示したが、これに限るものではなく、例えば、気体供給装置、液体および気体を供給する二流体供給装置としても良い。
【００３１】
また、前述の実施形態では、下側浮上装置１１、または上側浮上装置１２をそれぞれ構成する複数の浮上ブロック１２ａ間、１２ｂ間に間隙を設けたが、それは処理液供給装置２０、３０をその間隙に配置するためである。しかし、浮上ブロック間に基板Ｗの搬送方向に沿って間隙を設ける理由としては、これに限らず、例えば、隣接する洗浄装置と乾燥装置との間で基板Ｗを搬送する際、両装置の接続部分において、隣接する浮上ブロック間に間隙を設ける場合でもよいし、その他、理由は問わない。
【符号の説明】
【００３２】
１００  基板処理装置
１０    浮上搬送装置
１１    下側浮上装置
１２    上側浮上装置
１２ａ  浮上ブロック
１２ｂ  浮上ブロック
１３    搬送力付与機構
１３ａ  ローラ
２０    処理液供給装置
３０    処理液供給装置
４０    制御部
ａ      噴出孔
ｂ      吸引孔
ｃ      通路
Ａ      搬送方向
Ｗ      基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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