(57)【要約】      （修正有）【課題】ドレス残量を正確に測定する研削装置を提供する。【解決手段】研削装置は、ウェハを保持するウェハチャックと、ウェハを研削する研削砥石２１を有する研削手段と、研削砥石２１をドレスするドレスボードとドレスボードを回転可能に支持するドレスベース機構とを備えるユニットを備えている。タッチセンサ８４は、回転するドレス材８１ａ上に形成された水膜ＷＦを介してドレス材８１ａに接触することにより、タッチセンサ８４の摩耗を抑制しながら、ドレス残量を測定する。【選択図】図７
2018140460.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェハを保持する保持手段と、前記ウェハを研削する研削砥石を有する研削手段と、を備えた研削装置であって、
前記研削砥石をドレスするドレス材と、該ドレス材を回転させる回転機構と、を備えるドレス手段と、
前記ドレス材上にクーラント水を供給するクーラント水供給手段と、
回転する前記ドレス材上に形成されたクーラント水の水膜を介して前記ドレス材のドレス残量を測定する接触式測定手段と、
を備えていることを特徴とする研削装置。
【請求項２】
前記ドレス材の表面が、撥水性を有していることを特徴とする請求項１記載の研削装置。
【請求項３】
前記非接触式測定手段は、前記研削砥石のドレッシング中に前記ドレス材のドレス残量を測定することを特徴とする請求項１又は２記載の研削装置。
【請求項４】
ドレス前の既知のドレス残量からドレス後の前記非接触式測定手段の昇降量を減じてドレス後の前記ドレス残量を演算する制御装置を備えていることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項記載の研削装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、研削装置に関し、特に、研削砥石をドレスするドレス手段を備えた研削装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造分野では、シリコンウェハ等の半導体ウェハ（以下、「ウェハ」という）を薄膜に形成するために、ウェハの裏面を研削する裏面研削が行われている。
【０００３】
ウェハの裏面研削を行う研削装置として、特許文献１には、ウェハを保持する保持手段と、ウェハを研削する研削砥石と、研削砥石をドレスするドレス部材と、を備えたものが開示されている。
【０００４】
このような研削装置では、ドレス部材が研削砥石に押し付けられると、研削砥石の砥粒を離脱して自生発刃が生じる。ドレス部材と研削砥石とが平行に押し当てられるため、研削砥石の研削面は水平に均されるようにドレスされる。そして、平坦な研削面を有する研削砥石をウェハに押し当てることにより、ウェハをフラット形状に研削することができる。これにより、サファイア等の難削材であっても研削砥石の砥粒が摩耗することに起因するウェハの面焼けを生じさせることなく、ウェハの研削を継続して行うことができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第５８１５１５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上述したような特許文献１記載の研削装置では、ドレス部材の砥石がドレス部材の表面から部分的に突設して細かい凹凸が形成されており、タッチセンサをドレス部材の表面に接触させてドレス部材の厚み（ドレス残量）を測定すると、タッチセンサの先端が摩耗してドレス残量を誤って測定する虞があった。
【０００７】
そこで、ドレス残量を正確に測定するという解決すべき技術的課題が生じてくるのであり、本発明は、この課題を解決することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は上記目的を達成するために提案されたものであり、請求項１記載の発明は、ウェハを保持する保持手段と、前記ウェハを研削する研削砥石を有する研削手段と、を備えた研削装置であって、前記研削砥石をドレスするドレス材と、該ドレス材を回転させる回転機構と、を備えるドレス手段と、前記ドレス材上にクーラント水を供給するクーラント水供給手段と、回転する前記ドレス材上に形成されたクーラント水の水膜を介して前記ドレス材のドレス残量を測定する接触式測定手段と、を備えている研削装置を提供する。
【０００９】
この構成によれば、ドレス材上に水膜が形成されることにより、接触式測定手段がドレス材に水膜を介して滑らかに接触する、いわゆる流体潤滑状態が維持されるため、ドレス材に接触する接触式測定手段の摩耗を抑制することができる。また、接触式測定手段が、水膜を介してドレス材に接触することにより、研削砥石に付着していた研削屑が水膜内を浮遊した後に外部に排除されるため、接触式測定手段とドレス材との間に研削屑が介在することに起因して接触式測定手段が研削屑を噛み込んで過剰に摩耗することを抑制できる。
【００１０】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明の構成に加えて、前記ドレス材の表面が、撥水性を有している研削装置を提供する。
【００１１】
この構成によれば、ドレス材の表面に水膜が形成され易くなるため、ドレス材に接触する接触式測定手段の摩耗をさらに抑制することができる。
【００１２】
請求項３記載の発明は、請求項１又は２記載の発明の構成に加えて、前記非接触式測定手段は、前記研削砥石のドレッシング中に前記ドレス材のドレス残量を測定する研削装置を提供する。
【００１３】
この構成によれば、ドレス材のドレス残量をモニタしながら研削砥石をドレス可能なため、研削砥石のドレッシングを効率的に行うことができる。
【００１４】
請求項４記載の発明は、請求項１から３のいずれか１項記載の発明の構成に加えて、ドレス前の既知のドレス残量からドレス後の前記非接触式測定手段の昇降量を減じてドレス後の前記ドレス残量を演算する制御装置を備えている研削装置を提供する。
【００１５】
この構成によれば、安価なタッチセンサを用いて、ドレス材のドレス残量を測定することができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明は、ドレス材上に水膜が形成されることにより、接触式測定手段とドレス材との間で流体潤滑状態が維持されるため、ドレス材に接触する接触式測定手段の摩耗を抑制することができる。また、接触式測定手段が、水膜を介してドレス材に接触することにより、研削砥石に付着していた研削屑が水膜内を浮遊した後に外部に排除されるため、接触式測定手段とドレス材との間に研削屑が介在することに起因して接触式測定手段が研削屑を噛み込んで過剰に摩耗することを抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の一実施例に係る研削装置を示す側面図。
【図２】図１に示す研削装置の平面図。
【図３】ウェハチャックの内部構造を示す図２のＩ−Ｉ線一部切欠側面図。
【図４】ドレスユニットを示す平面図。
【図５】ドレスユニット及びドレスユニット傾斜機構の内部構造を示す図４のＩＩ−ＩＩ線一部切欠側面図。
【図６】ドレッシングの手順を示す模式図。
【図７】接触式測定手段が水膜を介してドレス材に接触する状態を示す部分断面模式図。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明に係る研削装置は、ドレス残量を正確に測定するという目的を達成するために、ウェハを保持する保持手段と、ウェハを研削する研削砥石を有する研削手段と、を備えた研削装置であって、研削砥石をドレスするドレス材と、ドレス材を回転させる回転機構と、を備えるドレス手段と、ドレス材上にクーラント水を供給するクーラント水供給手段と、回転するドレス材上に形成されたクーラント水の水膜を介してドレス材のドレス残量を測定する接触式測定手段と、を備えていることにより実現する。
【実施例】
【００１９】
以下、本発明の一実施例に係る研削装置１について、図面に基づいて説明する。なお、以下の実施例において、構成要素の数、数値、量、範囲等に言及する場合、特に明示した場合及び原理的に明らかに特定の数に限定される場合を除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でも構わない。
【００２０】
また、構成要素等の形状、位置関係に言及するときは、特に明示した場合及び原理的に明らかにそうでないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似又は類似するもの等を含む。
【００２１】
また、図面は、特徴を分かり易くするために特徴的な部分を拡大する等して誇張する場合があり、構成要素の寸法比率等が実際と同じであるとは限らない。また、断面図では、構成要素の断面構造を分かり易くするために、一部の構成要素のハッチングを省略することがある。なお、本実施例において、「上」、「下」の語は、鉛直方向における上方、下方に対応するものとする。
【００２２】
図１は、ドレスユニット８を省略した研削装置１の基本的構成を示す側面図である。図２は、研削装置１の平面図である。図３は、ウェハチャック３を示す図２のＩ−Ｉ線一部切欠側面図である。図４は、ドレスユニット８を示す平面図である。図５は、ドレスユニット８及びドレスユニット傾斜機構９の内部構造を示す図４のＩＩ−ＩＩ線一部切欠側面図である。
【００２３】
研削装置１は、研削手段２でウェハWを裏面研削して薄膜に形成する。研削手段２は、研削砥石２１と、研削砥石２１を先端に取り付けたスピンドル２２と、スピンドル２２を鉛直方向Ｖに送るスピンドル送り機構２３と、を備えている。
【００２４】
研削砥石２１は、スピンドル２２の先端に水平に取り付けられている。研削砥石２１がウェハWに押し当てられることにより、ウェハWが研削される。
【００２５】
スピンドル２２は、図示しないモータによって回転軸ａ１を中心として回転方向Ｃ１に沿って研削砥石２１を回転させる。
【００２６】
スピンドル送り機構２３は、コラム４とスピンドル２２とを連結する２つのリニアガイド２３ａと、スピンドル２２を鉛直方向Ｖに昇降させる公知のボールネジスライダ機構（不図示）と、を備えている。
【００２７】
研削手段２の下方には、保持手段としてのウェハチャック３が配置されている。なお、複数のウェハＷを連続して研削加工するために、研削装置１は、複数のウェハチャック３を備えている。複数のウェハチャック３は、インデックステーブル５の回転軸を中心に円周上で所定の間隔を空けて配置されている。
【００２８】
ウェハチャック３は、チャック３１と、エアベアリング３２と、を備えている。
【００２９】
チャック３１は、上面にアルミナ等の多孔質材料からなる図示しない吸着体が埋設されている。ウェハチャック３は、チャック３１及びエアベアリング３２内を通ってチャック３１の表面に延びる図示しない管路を備えている。管路は、エアベアリング３２のロータ３２ａに連結された図示しないロータリージョイントを介して図示しない真空源、圧縮空気源及び給水源に接続されている。真空源が起動すると、チャック３１に載置されたウェハＷがチャック３１に吸着保持される。また、圧縮空気源又は給水源が起動すると、ウェハＷとチャック３１との吸着が解除される。
【００３０】
エアベアリング３２は、回転軸ａ２回りに回転可能なロータ３２ａと、ロータ３２ａの外周に配置されたステータ３２ｂと、を備えている。ロータ３２ａとチャック３１とは、図示しないボルトで固定されている。ロータ３２ａは、ロータリージョイントに接続され、回転軸ａ２を中心にして回転方向Ｃ２に沿ってチャック３１を回転させる。ロータ３２ａとステータ３２ｂとの間には、所定の間隙（エアギャップ）が設けられており、この間隙に圧縮空気を外部から供給することにより、ロータ３２ａがステータ３２ｂに対して非接触で回転することができる。
【００３１】
ウェハチャック３は、研削砥石２１の回転軸ａ１に対して回転軸ａ２を傾斜させるチャック傾斜機構６を備えている。チャック傾斜機構６は、チルトテーブル６１と、固定支持部６２と、上流側可動支持部６３と、下流側可動支持部６４と、を備えている。
【００３２】
チルトテーブル６１は、平面視で略三角形状に形成されている。チルトテーブル６１には、固定支持部６２、上流側可動支持部６３及び下流側可動支持部６４が、回転軸ａ２を中心にして半径Ｒ１の円周上に１２０度離れて配置されている。
【００３３】
固定支持部６２は、チルトテーブル６１にボルト６２ａで締結されている。
【００３４】
上流側可動支持部６３は、固定支持部６２に対してウェハチャック３の回転方向Ｃ２の上流側に配置されている。なお、上流側可動支持部６３の構造は、下流側可動支持部６４と同様であるから、下流側可動支持部６４を例にその構造を説明し、上流側可動支持部６３に関する説明を省略する。
【００３５】
下流側可動支持部６４は、固定支持部６２に対してウェハチャック３の回転方向Ｃ２の下流側に配置されている。下流側可動支持部６４は、チルトテーブル６１に埋め込まれたナット６４ａと、インデックステーブル５に固定され、上部がナット６４ａに螺合するチルト用ボールネジ６４ｂと、チルト用ボールネジ６４ｂを回転させるチルト用モータ６４ｃと、を備えている。下流側可動支持部６４は、固定支持部６２より鉛直方向Ｖに長く形成されている。
【００３６】
研削装置１は、研削手段２がウェハＷを押圧する際の荷重でチルトテーブル６１が落ち込んだ沈降量を計測するスケール７を備えている。
【００３７】
研削装置１は、研削砥石２１をドレスするドレスユニット８を備えている。ドレスユニット８は、ドレスボード８１と、ドレスベース機構８２と、ドレスユニット送り機構８３と、を備えている。
【００３８】
ドレスボード８１は、研削砥石２１に対向するように配置されて研削砥石２１をドレスするドレス材８１ａと、ドレス材８１ａを支持するドレス台金８１ｂと、を備えている。ドレス材８１ａは、研削砥石２１よりも高度の小さい材料であり、例えばホワイトアルミナ及び結合剤で形成されている。ドレス材８１ａの表面は、撥水性を有している。
【００３９】
ドレスベース機構８２は、ドレスボード８１を回転可能に支持している。具体的には、ドレスベース機構８２は、回転軸ａ３回りに回転可能なロータ８２ａと、ロータ８２ａの外周に配置されたステータ８２ｂと、ロータ８２ａに連結されてドレスボード８１を支持するベース部材８２ｃと、を備えている。
【００４０】
ロータ８２ａは、図示しないロータリージョイントに接続され、回転軸ａ３を中心にして回転方向Ｃ３に沿ってドレスボード８１及びベース部材８２ｃを回転させる。ロータ８２ａとステータ８２ｂとの間には、所定の間隙（エアギャップ）が設けられており、この間隙に圧縮空気を外部から供給することにより、ロータ８２ａがステータ８２ｂに対して非接触で回転することができる。
【００４１】
また、ドレスベース機構８２には、ロータ８２ａ内を通ってベース部材８２ｃの表面に延びる管路を備えている。管路は、ロータ８２ａに連結されたロータリージョイントを介して図示しない真空源及び圧縮空気源に接続されている。管路は、ロータ８２ａに連結された図示しないロータリージョイントを介して図示しない真空源及び圧縮空気源に接続されている。真空源が起動すると、ベース部材８２ｃに載置されたドレスボード８１がベース部材８２ｃに吸着保持される。また、圧縮空気源が起動すると、ドレスボード８１とドレスベース機構８２との吸着が解除される。
【００４２】
ドレスユニット送り機構８３は、後述するベーステーブル９５に連結された２つのリニアガイド８３ａと、ベーステーブル９５を鉛直方向Ｖに昇降させる公知のボールネジスライダ機構８３ｂと、を備えている。すなわち、リニアガイド８３ａ及びボールネジスライダ機構８３ｂは、スピンドル送り機構２３と平行に配置されている。
【００４３】
また、ドレスユニット８は、ドレス材８１ａの厚みを測定するタッチセンサ８４を備えている。タッチセンサ８４は、ドレス材８１との接触・非接触に応じてＯＮ／ＯＦＦを出力する接点式センサである。タッチセンサ８４は、ベーステーブル９５に対して鉛直方向Ｖに昇降可能に設けられており、タッチセンサ８４の昇降量を測定する図示しないスケールに接続されている。タッチセンサ８４は、例えば、株式会社キーエンス製の接触式センサ（型番：ＧＴ２−ＰＡ１２Ｋ）である。
【００４４】
また、タッチセンサ８４は、旋回中心８４ａ回りに搖動可能に設けられている。なお、タッチセンサ８４は、平面上を移動可能に構成されているものであれば如何なる構成であっても構わない。タッチセンサ８４の代わりに、レーザ光を用いた測長センサ等を用いても構わない。
【００４５】
また、ドレスユニット８は、ドレス材８１ａの表面にクーラント水を供給するノズル８５を備えている。なお、ノズル８５にクーラント水を広範囲に散水可能なフレアタイプを採用して、研削砥石２１及びタッチセンサ８４に当てる構成であって構わない。
【００４６】
ドレスユニット８は、研削砥石２１の回転軸ａ１に対して回転軸ａ３を傾斜させるドレスユニット傾斜機構９を備えている。ドレスユニット傾斜機構９は、チルトテーブル９１と、固定支持部９２と、上流側可動支持部９３と、下流側可動支持部９４と、を備えている。
【００４７】
チルトテーブル９１には、固定支持部９２、上流側可動支持部９３及び下流側可動支持部９４が、回転軸ａ３を中心にして半径Ｒ２の円周上に１２０度離れて配置されている。
【００４８】
固定支持部９２は、チルトテーブル９１とベーステーブル９５とを鉛直方向Ｖに連結するボルトである。なお、図５中の符号９２ａは、チルトテーブル９１とベーステーブル９５との間に介装された球面座金である。
【００４９】
上流側可動支持部９３は、固定支持部９２に対してドレスボード８１の回転方向Ｃ３の上流側に配置されている。なお、上流側可動支持部９３の構造は、下流側可動支持部９４と同様であり、上流側可動支持部９３に関する説明を省略する。
【００５０】
下流側可動支持部９４は、固定支持部９２に対してドレスボード８１の回転方向Ｃ３の下流側に配置されている。下流側可動支持部９４は、調整つまみ９４ａと、チルト用ボールネジ９４ｂと、を備えている。
【００５１】
調整つまみ９４ａは、円筒状に形成されており、先端がチルトテーブル９１に嵌合されている。調整つまみ９４ａには、挿通孔９４ｃが形成されている。
【００５２】
チルト用ボールネジ９４ｂは、挿通孔９４ｃに挿通され、先端がベーステーブル９５に嵌合されている。チルト用ボールネジ９４ａと調整つまみ９４ｂとの間には、ばね９４ｄが介装されている。チルト用ボールネジ９４ｂが回転すると、チルト用ボールネジ９４ｂが螺進した分だけ、チルトテーブル９１が上昇するように構成されている。
【００５３】
研削装置１の動作は、制御装置１０によって制御される。制御装置１０は、研削装置１を構成する構成要素をそれぞれ制御するものである。制御装置１０は、例えば、ＣＰＵ、メモリ等により構成される。なお、制御装置１０の機能は、ソフトウェアを用いて制御することにより実現されても良く、ハードウェアを用いて動作することにより実現されても良い。
【００５４】
制御装置１０は、図示しない厚みセンサが計測したウェハＷの厚みに基づいて、所望のウェハ厚を得られるように、回転軸ａ２を回転軸ａ１に対して傾斜させて、研削砥石２１がウェハＷを研削する加工範囲を調整する。なお、厚みセンサは、研削装置１の構成に含まれるものに限定されず、例えば、研削装置１の外部装置で計測されたデータを制御装置１０にフィードバックさせるものであっても構わない。上流側可動支持部６３及び下流側可動支持部６４がそれぞれ独立して鉛直方向Ｖに沿って伸縮し、チルトテーブル６１が固定支持部６２を基準として傾斜することにより、回転軸ａ２を傾斜させることができる。
【００５５】
制御装置１０には、回転軸ａ１に対する回転軸ａ２の角度（チルト角）、すなわち、研削砥石２１に対するウェハＷの接触角度に応じたウェハＷの研削量のデータが記憶されている。これにより、研削前のウェハＷの厚み又は研削中のウェハＷの厚みを計測し、この厚みと所望のウェハの厚みの差分から研削量及び回転軸ａ１に対する回転軸ａ２のチルト角を調整する。また、回転軸ａ１に対する回転軸ａ３の角度（チルト角）に応じた研削砥石２１の研削面２１ａの形状に関するデータが記憶されている。
【００５６】
次に、ドレスユニット８の作用について、図面に基づいて説明する。図６は、ドレッシングの手順を示す模式図である。図７は、タッチセンサ８４が水膜ＷＦを介してドレス材８１aに当てた状態を示す部分断面模式図である。
【００５７】
まず、図６（ａ）に示すように、研削砥石２１をドレスする前に、ドレスボード８１を模したダミーボードＤＢをベース部材８２ｃに載置する。ダミーボードＤＢは、厚みが既知のものを用意する。
【００５８】
次に、図６（ｂ）に示すように、タッチセンサ８４をダミーボードＤＢに接触させる。制御装置１０は、タッチセンサ８４がダミーボードＤＢに接触したときのタッチセンサ８４の送り量を記憶する。以下、このタッチセンサ８４の送り量を基準値とする。
【００５９】
次に、図６（ｃ）に示すように、タッチセンサ８４をドレス材８１ａに接触させた状態で、ドレス材８１ａで研削砥石２１をドレスする。ドレスユニット８は、ウェハＷを研削した後の研削砥石２１の研削面２１ａをドレスする。具体的には、ウェハＷの研削が終了すると、研削砥石２１が鉛直方向Ｖの上方に退避する。その後、ボールネジスライダ機構８３ｂが駆動して、ドレス材８１ａが研削砥石２１の研削面２１ａに接近する。
【００６０】
そして、研削砥石２１及びドレスボード８１をそれぞれ回転させながら、ドレスボード８１を研削砥石２１に向けて押し当てることにより、研削砥石２１の研削面２１ａがドレス材８１ａによってドレスされる。
【００６１】
ボールネジスライダ機構８３ｂが、スピンドル送り機構２３と平行に配置されていることにより、ボールネジスライダ機構８３ｂが、ドレスボード８１を研削砥石２１に押し当てる際の鉛直方向Ｖに沿った押圧力を受けるため、研削砥石２１を安定してドレスすることができる。
【００６２】
また、ボールネジスライダ機構８３ｂが、研削砥石２１の中心Ｏとスピンドル送り機構２３との間に配置されていることにより、リニアガイド８３ａ及びボールネジスライダ機構８３ｂに片持ち支持されたベーステーブル９５にドレスボード８１を研削砥石２１に押し当てる際の鉛直方向Ｖに沿った押圧力が局所的に作用することが抑制され、リニアガイド８３ａに片持ち支持されたベーステーブル９５が研削砥石２１をドレスする際の反力で跳ね上がることが抑制されるため、研削砥石２１をさらに安定してドレスすることができる。
【００６３】
研削砥石２１をドレッシングする際には、タッチセンサ８４がドレス材８１ａに接触する。タッチセンサ８４がドレス材８１に接触し続けるように、タッチセンサ８４が送られ続けることにより、上述した基準値及びタッチセンサ８４の送り量に基づいて、ドレス材８１の厚み（ドレス残量）を測定することができる。
【００６４】
また、図７に示すように、クーラント水が供給されている状態でドレスボード８１が回転することにより、余剰のクーラント水が遠心力で飛散し、ドレス材８１ａの表面には極めて薄い水膜ＷＦが形成される。水膜を形成する一例としては、クーラント水の供給量を０．１〜０．５ｌ／ｍｉｎ、ドレスボード８１の回転数を４００ｒｐｍ以下に設定することが考えられる。なお、クーラント水は、研削砥石２１及びタッチセンサ８４に当たるように供給されるのが好ましい。
【００６５】
このようにして、上述した研削装置１は、ドレス材８１ａ上に水膜ＷＦが形成されることにより、タッチセンサ８４とドレス材８１ａとの間で流体潤滑状態が維持されるため、ドレス材８１ａに接触するタッチセンサ８４の摩耗を抑制することができる。
【００６６】
また、タッチセンサ８４が、水膜ＷＦを介してドレス材８１ａに接触することにより、研削屑が水膜ＷＦ内を浮遊した後に外部に排除されるため、タッチセンサ８４とドレス材８１ａとの間に研削屑が介在してタッチセンサ８４が研削屑を噛み込んで過剰に摩耗することを抑制できる。
【００６７】
さらに、研削砥石２１やドレスボード８１を停止させることなく、ドレス材８１ａの厚みをモニタしながら研削砥石２１をドレス可能なため、研削砥石２１のドレッシングを効率的に行うことができる。
【００６８】
なお、本発明は、本発明の精神を逸脱しない限り種々の改変をなすことができ、そして、本発明が該改変されたものにも及ぶことは当然である。
【符号の説明】
【００６９】
１  ・・・  研削装置
２  ・・・  研削手段
２１・・・  研削砥石
２２・・・  スピンドル
２３・・・  スピンドル送り機構
２３ａ・・・リニアガイド
３  ・・・  ウェハチャック（保持手段）
３１・・・  チャック
３２・・・  エアベアリング
３２ａ・・・ロータ
３２ｂ・・・ステータ
４  ・・・  コラム
５  ・・・  インデックステーブル
６  ・・・  チャック傾斜機構
６１・・・  チルトテーブル
６２・・・  固定支持部
６２ａ・・・ボルト
６３・・・  上流側可動支持部
６４・・・  下流側可動支持部
７  ・・・  スケール
８  ・・・  ドレスユニット（ドレス手段）
８１・・・  ドレスボード
８１ａ・・・ドレス材
８１ｂ・・・ドレス台金
８２・・・  ドレスベース機構
８２ａ・・・ロータ
８２ｂ・・・ステータ
８２ｃ・・・ベース部材
８３・・・  ドレスユニット送り機構
８３ａ・・・リニアガイド
８３ｂ・・・ボールネジスライダ機構
８４・・・  タッチセンサ
８４ａ・・・旋回中心
８５・・・  ノズル
９  ・・・  ドレスユニット傾斜機構
９１・・・  チルトテーブル
９２・・・  固定支持部
９３・・・  上流側可動支持部
９４・・・  下流側可動支持部
１０  ・・・  制御装置
Ｗ  ・・・  ウェハ
【図１】
2018140460.tif 000003
【図２】
2018140460.tif 000004
【図３】
2018140460.tif 000005
【図４】
2018140460.tif 000006
【図５】
2018140460.tif 000007
【図６】
2018140460.tif 000008
【図７】
2018140460.tif 000009