(57)【要約】【課題】表面に凹凸が無いことにより隣接するフィルムや層を傷付ける虞が無く、また使用するフィラーの材料が限定されないことによりヘイズの調整が容易である光散乱機能の備えたフィルムまたは層を提供することを課題とする。【解決手段】一対の基材層または基材層に無機薄膜層とガスバリア性被覆層をこの順に備えた一対のバリアフィルムのガスバリア性被覆層側を、接着層を介して積層した光学積層体において、接着層が、接着樹脂と、接着樹脂との屈折率差が０．１以上の粒子と、を含むことを特徴とする光学積層体。【選択図】図１
2018047657.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基材層を、または基材層に無機薄膜層とガスバリア性被覆層をこの順に備えた一対のバリアフィルムのガスバリア性被覆層側を、接着層を介して積層した光学積層体において、
接着層が、接着樹脂と、接着樹脂との屈折率差が０．１以上の粒子と、を含むことを特徴とする光学積層体。
【請求項２】
請求項１に記載の積層体において、
光学積層体の少なくとも一方の表面には、帯電防止機能、傷付け防止機能、光拡散機能およびブロッキング防止機能から選ばれた１種以上の機能を備えた機能層が備えられていることを特徴とする光学積層体。
【請求項３】
請求項１に記載の積層体において、
光学積層体の少なくとも一方の表面には、接着層を介して、第三の基材層、または第三の基材層に帯電防止機能、傷付け防止機能、光拡散機能およびブロッキング防止機能から選ばれた１種以上の機能を備えた機能層が形成された層、が積層されていることを特徴とする光学積層体。
【請求項４】
前記粒子のレーザー回折・散乱法による体積平均径が０．１〜５．０μｍであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光学積層体。
【請求項５】
前記基材面に平行な面における接着層中の粒子の密度が、１ｍｍ２あたり平均１個以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光学積層体。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の光学積層体と、色変換層と、を備えていることを特徴とする色変換フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置のバックライトに使用される光学積層体およびその光学積層体を使用した色変換フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置のバックライトは、光源と、光源から発せられた光の波長を変換して白色光にする波長変換フィルムと、を備えている。
光源としては、青色ＬＥＤが使用されるのが通常である。
波長変換フィルムには、青色光が照射される場合、緑色光を発する粒子と、赤色光を発する粒子が存在し、光源の青色光と緑色光と赤色光とが合わせられることにより白色光を作り出している。
【０００３】
この波長変換フィルムには、光源からの光エネルギーを白色光に変換する変換効率をより高めることが求められる。変換効率を上げるには、波長変換フィルム中に分散している緑色光を発する粒子と、赤色光を発する粒子に、光源からの青色光ができるだけ多く照射される必要がある。そのため、波長変換フィルムの片面または両面に、光散乱層または光散乱フィルムが配置されることがある。
【０００４】
例えば、特許文献１には、波長変換フィルムの表面に、フィラー（光を散乱させる粒子）を表面から突出させた光散乱層を形成することで、光源からの光を反射・散乱させ、輝度を向上させる技術が開示されている。しかしながら、フィラーをフィルムの表面から突出させた場合、光源側の光導波路等と接触し、傷付けてしまう虞があるため、使用できるフィラーの材料を軟質なものに限定する必要がある。そのため、光散乱の度合い（ヘイズ）のコントロールが難しくなるという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第５８４３０２４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記の問題点に鑑み、本発明は、隣接するフィルムや層を傷付ける虞が無く、またヘイズの調整が容易である光散乱機能の備えた層またはフィルムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の課題を解決する手段として、本発明の請求項１に記載の発明は、一対の基材層を、または基材層に無機薄膜層とガスバリア性被覆層をこの順に備えた一対のバリアフィルムのガスバリア性被覆層側を、接着層を介して積層した光学積層体において、
接着層が、接着樹脂と、接着樹脂との屈折率差が０．１以上の粒子と、を含むことを特徴とする光学積層体である。
【０００８】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の積層体において、
光学積層体の少なくとも一方の表面には、帯電防止機能、傷付け防止機能、光拡散機能およびブロッキング防止機能から選ばれた１種以上の機能を備えた機能層が備えられており、いることを特徴とする光学積層体である。
【０００９】
また、請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の積層体において、
光学積層体の少なくとも一方の表面には、接着層を介して、第三の基材層、または第三の基材層に帯電防止機能、傷付け防止機能、光拡散機能およびブロッキング防止機能から選ばれた１種以上の機能を備えた機能層が形成された層、が積層されていることを特徴とする光学積層体である。
【００１０】
また、請求項４に記載の発明は、前記粒子のレーザー回折・散乱法による体積平均径が０．１〜５．０μｍであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光学積層体である。
【００１１】
また、請求項５に記載の発明は、前記基材面に平行な面における接着層中の粒子の密度が、１ｍｍ２あたり平均１個以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光学積層体である。
【００１２】
また、請求項６に記載の発明は、請求項１〜５のいずれかに記載の光学積層体と、色変換層と、を備えていることを特徴とする色変換フィルムである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の光学積層体によれば、本発明の光学積層体の表面には、粒子による凹凸が形成されていないため、隣接するフィルムなどとの接触により、傷が生じる虞がなく、粒子が脱落することもない。
【００１４】
また、表面に粒子を突出させないため、粒子の材料を硬質でないものに限定する必要がないこと、および光学積層体の層間を接着する接着層にも光散乱を起こす粒子を含んでいるため、ヘイズの調整が層間を接着する工程においても調整可能となり、光学積層体としてのヘイズの調整が容易となる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の光学積層体の層構成の一例を示す概略断面図。
【図２】本発明の光学積層体の層構成の一例を示す概略断面図。
【図３】本発明の光学積層体の層構成の一例を示す概略断面図。
【図４】本発明の光学積層体の層構成の一例を示す概略断面図。
【図５】本発明の光学積層体の層構成の一例を示す概略断面図。
【図６】本発明の光学積層体の層構成の一例を示す概略断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明の光学積層体は、一対の基材層を、または基材層に無機薄膜層とガスバリア性被覆層をこの順に備えた一対のバリアフィルムのガスバリア性被覆層側を、接着層を介して積層した光学積層体である。
本発明の光学積層体の第一の実施形態は、その光学積層体の接着層が、接着樹脂と、接着樹脂との屈折率差が０．１以上の粒子と、を含むことが特徴である。
【００１７】
また、第二の実施形態は、その光学積層体の接着層が、接着樹脂と、接着樹脂との屈折率差が０．１以上の粒子と、を含んでおり、また、その光学積層体の少なくとも一方の表面には、帯電防止機能、傷付け防止機能および光拡散機能から選ばれた１種以上の機能を備えた機能層が備えられていることが特徴である。
【００１８】
また、第三の実施形態は、その光学積層体の接着層が、接着樹脂と、接着樹脂との屈折率差が０．１以上の粒子と、を含んでおり、またその光学積層体の少なくとも一方の表面には、接着層を介して、第三の基材層、または第三の基材層に帯電防止機能、傷付け防止
機能および光拡散機能から選ばれた１種以上の機能を備えた機能層が形成された層、が積層されていることが特徴である。
【００１９】
粒子の大きさに関して、具体的には、レーザー回折・散乱法による体積平均径が０．１〜５．０μｍであることが好ましい。
粒子の体積平均径が０．１μｍ未満においては、光拡散性能が得られないため好ましくない。また５．０μｍを超える場合は、外観の異常や接着層の強度の低下を生じうるため、好ましくない。
【００２０】
また、接着層中の粒子の平面密度に関しては、基材層に平行な面における接着層中の粒子の密度が、１ｍｍ２あたり平均１個以上であることが好ましい。
粒子の平面密度が、平均１個未満／ｍｍ２である場合は、光拡散性能が得られないので好ましくない。
【００２１】
また、本発明の光学積層体は、少なくとも、片面の最外層の基材層の外側に各種の機能を備えた機能層を備えていても良い。各種の機能層とは、例えば、帯電防止層、傷付け防止層、光拡散層、ブロッキングを防止するマット層、その他どのような機能を備えた層であっても良い。
【００２２】
また、本発明の光学積層体を光学バリアフィルムとして、色変換層をサンドイッチする形で積層することにより、バックライトユニットに使用する色変換フィルムを作製することができる。
【００２３】
＜基材層＞
基材層は、例えば、有機高分子フィルムであることができる。使用する有機高分子フィルムは透明であることが好ましい。具体的には、全光線透過率が８０％以上であることが好ましい。材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系フィルム基材、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系フィルム基材、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系フィルム基材、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系フィルム基材、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系フィルム基材、ポリスチレン系フィルム基材、ポリ塩化ビニル系フィルム基材、ポリカーボネート系フィルム基材、およびエチレンビニルアルコール系フィルム基材などを好適に使用することができる。
【００２４】
基材層の厚さは、例えば、５μｍ以上３００μｍ以下であることが好ましい。５μｍ未満では基材フィルムの機械的な強度が不足し、取扱いが困難となる。３００μｍを超えると、ロールｔｏロール方式の処理工程、例えば真空装置を使用した成膜工程などにおいて、取扱いが困難な場合がある。
【００２５】
（バリア層）
基材層は、バリア層（ガスバリア層）を備えることができる。
バリア層は、酸素や水蒸気などのガスの侵入を阻止する層である。例えば基材層の表面に無機薄膜層を形成することにより形成することができる。ガスバリア性を高めるために、更に無機薄膜層の表面に、ガスバリア性被覆層を形成しても良い。ガスバリア性被覆層は有機材料からなる塗布液を塗布・乾燥することにより形成することができる。
【００２６】
無機薄膜層の材料としては、無機化合物を含み、金属および金属酸化物を含むことが好ましい。金属としては、アルミニウム、銅、銀が挙げられる。金属酸化物としては、イットリウムタンタルオキサイド、アルミニウム酸化物、シリコン酸化物およびマグネシウム酸化物などからなる群より選択される少なくとも１種の金属酸化物とすることができる。
水蒸気バリア性の観点から、シリコン酸化物を好適に使用することができる。
【００２７】
シリコン酸化物は、ＳｉＯｘで表す事ができ、ｘが１．５〜２．０であることが好ましい。ｘが１．５以上、更には１．７以上であると透明性が向上する傾向にある。またｘが２．０以下では、ガスバリア性が優れる傾向にある。
【００２８】
無機薄膜層は、例えば、真空蒸着法またはスパッタ法を使用して形成することができるが、真空蒸着法により形成した無機薄膜層が好ましい。
無機薄膜層の厚さは、１０ｎｍ〜３００ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍ〜１００ｎｍであることがより好ましい。無機薄膜層の厚さが１０ｎｍ未満では連続した薄膜にならず均一な薄膜が得られない虞がある。また３００ｎｍを超えると、無機薄膜層の柔軟性が低下し、成膜後に折り曲げ、引っ張り等の外力により無機薄膜層に亀裂等の欠陥が発生し易くなる虞がある。
【００２９】
無機薄膜層は、その表面にガスバリア性被覆層が形成されていても良い。ガスバリア性被覆層は、下記式（１）で表される金属アルコキシドおよびその加水分解物からなる群より選択される少なくとも１種を含む組成から形成されていることが好ましい。
【化１】
2018047657.tif 000003
【００３０】
式（１）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に炭素数１〜８の１価の有機基であり、メチル基、エチル基等のアルキル基であることが好ましい。ＭはＳｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ等のｎ価の金属原子を示す。ｍは１〜ｎの整数である。金属アルコキシドとしては、例えば、テトラエトキシシラン[Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４]、トリイソプロキシアルミニウム[Ａｌ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ３Ｈ７）３]等が挙げられる。金属アルコキシドは、加水分解後、水系の溶媒中において比較的安定であることから、テトラエトキシシランまたはトリイソプロキシアルミニウムであることが好ましい。金属アルコキシドの加水分解物としては、例えば、テトラエトキシシランの加水分解物であるケイ酸（Ｓｉ（ＯＨ）４）およびトリイソプロキシアルミニウムの加水分解物である水酸化アルミニウム（Ａｌ（ＯＨ）３）等が挙げられる。これらは１種だけでなく、複数種を組み合わせて使用することもできる。
【００３１】
上記組成物はさらに水酸基含有高分子化合物を含んでいても良い。例えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンおよびデンプン等の水溶性高分子が挙げられる。水酸基含有高分子化合物はバリア性の観点からポリビニルアルコールであることが好ましい。これらは１種だけでなく、複数種を組み合わせて使用することもできる。上記組成物における水酸基含有高分子化合物の含有量は、例えば、１０〜９０質量％である。
【００３２】
ガスバリア性被覆層の厚さは、５０〜１０００ｎｍであることが好ましく、１００〜５００ｎｍであることがより好ましい。ガスバリア性被覆層の厚さが５０ｎｍ未満であると、十分なガスバリア性が得られない虞があり、逆に１０００ｎｍを超えてしまうと、十分な柔軟性を保持できなくなる虞がある。
【００３３】
＜接着層＞
接着層は、接着樹脂中に粒子を含有する層である。
接着層の厚さは、０．５μｍ〜５０．０μｍであることが好ましく、１．０μｍ〜２０．０μｍであることがより好ましく、２．０μｍ〜６．０μｍであることがさらに好ましい。
接着層の厚さが０．５μｍ未満であると、接着力が十分でない場合が出てくる虞があり、また、５０．０μｍを超えると、優れたガスバリア性が得られない虞がでてくる。
【００３４】
（接着樹脂）
接着樹脂は、接着剤または粘着剤または両者からなる材料である。
接着剤としては、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ウレタン系接着剤等が挙げられる。
粘着剤としては、アクリル系粘着剤、ポリビニルエーテル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコン系粘着剤、でんぷん糊系粘着剤等が挙げられる。
紫外線硬化型樹脂を使用することもできる。
【００３５】
（粒子）
接着樹脂中に含まれる粒子の材料としては、光学積層体としてのヘイズの値を調整するのに好適な材料であれば特に制限されず、無機微粒子であっても良いし、有機微粒子であっても良い。また、形態としても特に限定されるものではなく、例えば、気泡、粉末、液滴、微小球などでも良い。
【００３６】
粒子の大きさに関して、例えば、レーザー回折・散乱法による体積平均径が０．１μｍ〜５．０μｍであることが好ましい。
【００３７】
（接着層の形成）
接着層の形成方法は、特に限定する必要はない。接着樹脂を、その溶解に適した溶剤に溶解し、その溶液中に粒子を分散させることにより作製した塗液を、基材の表面に塗布し、溶剤を揮発させるため乾燥させることにより、接着層を基材表面に形成することができる。そのようにして、基材表面に接着層を形成した後、接着しようとするもう一方の基材を接着層に密着させ、加熱処理や加圧処理を行うことにより、接着を完了することができる。
【００３８】
紫外線硬化型樹脂を使用する場合は、予め粒子を分散させた紫外線硬化型樹脂を作製しておき、基材に塗布し、接着しようとするもう一方の基材を積層した状態で、紫外線を照射し、接着を完了することができる。
【００３９】
＜色変換フィルム＞
色変換フィルムは、液晶ディスプレイ用バックライトユニットの光源からの光の一部の波長を変換可能なフィルムである。色変換フィルムは、色変換層と、色変換層を挟むように配置された光学バリアフィルムを備えている。色変換層を挟み込むフィルムとしては、少なくとも一方が光学バリアフィルムであれば良い。ここで光学バリアフィルムは、本発明の光学積層フィルムを指す。
【００４０】
色変換層は、樹脂および蛍光体を含む。色変換層の厚さは、数十〜数百μｍである。樹脂としては、例えば光硬化性樹脂または熱硬化性樹脂を使用することができる。色変換層は、発光ナノ結晶（量子ドット）からなる２種類の蛍光体を含むことが好ましい。また色変換層は、１種類の蛍光体を含む蛍光体層と、別の種類の蛍光体を含む蛍光体層を２層以上積層したものであっても良い。２種類の蛍光体には、励起波長が同一のものが選択される。２種類の蛍光体の蛍光色は相互に異なる。光源に青色発光ダイオード（青色ＬＥＤ）を用いる場合、各蛍光色は、赤色および緑色である。
【実施例】
【００４１】
次に、本発明の実施例について説明する。
【００４２】
＜実施例１＞
本発明の光学積層体は、透明な樹脂フィルムからなる基材層ともう一方の基材層を、接着層を介して接着することにより作製することができる。
最も単純な構成としては、図１に例示したように、第一基材層１と第二基材層３を、接着層２を介して接着した光学積層体２０の構成である。
【００４３】
この場合は、例えば、第一基材層１の片面に、まず接着層２を作製するための塗工液を塗布・乾燥することにより接着層２を形成し、次に第二基材層３を接着層２に面して積層し、例えば熱圧処理により、それらを接着することにより、光学積層体２０を作製することが可能である。
【００４４】
具体的には、まず、第一基材層１および第二基材層３として、厚さ５０μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルムを用意した。縦３００ｍｍ×横３００ｍｍのサイズに切り出し、一回り大きいサイズのガラス基板上に貼り付けて塗工サンプルとした。
【００４５】
次に、第一基材層１の片面に、接着層２を作製するための塗工液を作製した。
（塗工液の組成：固形分）
接着樹脂：タケラック  Ａ−５１５（三井化学（株）製）  ９０．０重量％
硬化剤  ：タケネートＡ−５６（三井化学（株）製）        ４．０重量％
溶剤    ：酢酸エチル
粒子    ：シリカ                                        １．０重量％
分散剤  ：ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２００８（ＢＹＫ社製）    ０．１重量％
【００４６】
上記の材料を調液し、塗工液を作製した。なお、接着樹脂の屈折率は、１．５８、粒子の屈折率は、１．４６であった。
この塗工液中の粒子径を、レーザー回折・散乱法による体積平均径として測定した結果、１．５μｍだった。
その塗工液を、ロールコータを使用して、塗工サンプルのＰＥＴフィルム上に塗布し、オーブンにて乾燥することにより、ＰＥＴフィルム上に接着層を形成した。接着層の厚さは５．０μｍであった。
このようにして作製した接着層中の粒子の密度を、光学顕微鏡を用いて１０箇所測定した結果、基材面に平行な面における粒子の密度が、１ｍｍ２あたり平均５個だった。
【００４７】
次に、ＰＥＴフィルム上に接着層を形成したサンプルの接着層側に、もう１枚のＰＥＴフィルムを積層し、それを加熱した金属ロールを通すことにより、ＰＥＴフィルム／接着層／ＰＥＴフィルの構成の光学積層体２０を作製した。
【００４８】
＜実施例２＞
図２に、図１に例示した層構成に加えて、第二基材層３の上に第二接着層５を介して、支持基材層６が接着された構成を例示している。
【００４９】
この場合は、まず図１と同じ構成を実施例１と同様に作製した後、第二基材層３の外側の面に第二接着層５を形成後、支持基材層６として、ＰＥＴフィルムを接着して、図２に例示した構成の光学積層体３０を作製した。第二接着層５の材料、形成方法およびその接着層に支持基材層６を接着する方法は、実施例１の方法と同様である。
【００５０】
＜実施例３＞
図３に、図１に例示した層構成を実施例１と同様に作製し、それに加えて、第二基材層３の上に機能層７が備えられた構成を例示している。本実施例においては、機能層７を帯電防止層とした。
帯電防止層は、下記の塗工液を調液し、ロールコータを使用して図１に示した構成のサンプルの第二基材層３であるＰＥＴフィルム上に塗布した後、乾燥して得た。
この様にして光学積層体４０を作製した。
（塗工液の組成：固形分）
バインダー樹脂：タケラックＡ５１５（三井化学（株）製）  ９０．０重量％
硬化剤        ：タケネートＡ−５６（三井化学（株）製）    ５．０重量％
溶剤          ：酢酸エチル
導電材料      ：エソカードＣ／２５（ライオン・スペシャリティケミカルズ（株）製）
５．０重量％
【００５１】
＜実施例４＞
図４には、図２に例示した層構成を、実施例２と同様にして作製し、その支持基材層６であるＰＥＴフィルムの上に、機能層７が備えられた構成を例示している。機能層７は実施例３と同様に形成した。この様にして、光学積層体５０を作製した。
【００５２】
＜実施例５＞
図５に、図３における構成において、第一基材層１と第二基材層３が、それぞれ第一バリアフィルム１２と第二バリアフィルム１３に置き換わった構成の光学積層体６０を例示している。
第一バリアフィルム１２は、第一基材層１の上に第一無機薄膜層８が形成され、更にその上に第一ガスバリア性被覆層９が形成された構成のガスバリア性フィルムである。
また、第二バリアフィルム１３は、第二基材層３の上に第二無機薄膜層１１が形成され、更にその上に第二ガスバリア性被覆層１０が形成された構成のガスバリア性フィルムである。それらのガスバリア性フィルムのガスバリア性被覆層を向い合わせにして、第一接着層４を介して、接着した構成となっている。
【００５３】
この場合は、実施例３において第一基材層１と第二基材層３が、それぞれ第一バリアフィルム１２と第二バリアフィルム１３に置き換わったこと以外は、実施例３と同様にして図５に示した層構成の光学積層体６０を作製した。
【００５４】
第一バリアフィルム１２と第二バリアフィルム１３は、それぞれ、厚さ５０μｍのＰＥＴフィルムに、室温にて真空蒸着することにより、厚さ１００ｎｍの酸化シリコン（ＳｉＯｘ）薄膜（第一および第二無機薄膜層８、１１）を形成した。
【００５５】
更に、その酸化シリコン薄膜の上に、ガスバリア性被覆層（第一および第二ガスバリア性被覆層９、１０）を形成した。ガスバリア性被覆層は、ガスバリア性被覆層組成物を作製し、それをロールコータにより、それぞれ第一無機薄膜層８と第二無機薄膜層１１に塗布し乾燥することによって得た。
【００５６】
ガスバリア性被覆層組成物は、テトラエトキシシラン１０．４ｇを０．１Ｎ（規定濃度）の塩酸８９．６ｇに加え、この塩酸溶液を３０分間攪拌することによりテトラエトキシシランを加水分解して、テトラエトキシシランの加水分解液を得た。加水分解後の固形分の濃度はＳｉＯ２換算で３質量％であった。テトラエトキシシランの加水分解液と、ポリビニルアルコールの３質量％水溶液と、を１：１で混合し攪拌することでガスバリア性被覆層組成物を得た。
【００５７】
＜実施例６＞
図６には、図４における構成において、図５におけるのと同様にして、第一基材層１と第二基材層３が、それぞれ第一バリアフィルム１２と第二バリアフィルム１３に置き換わった構成を例示している。
【００５８】
この場合は、実施例５と同様にして、第一バリアフィルム１２と第二バリアフィルム１３を作製し、実施例２と同様にして支持基材層６まで備えた光学積層体を作製した後、実施例３と同様にして、支持基材層６の上に機能層７として、帯電防止層を形成することにより、光学積層体７０を作製した。
【符号の説明】
【００５９】
１・・・第一基材層
２・・・接着層
３・・・第二基材層
４・・・第一接着層
５・・・第二接着層
６・・・支持基材層
７・・・機能層
８・・・第一無機薄膜層
９・・・第一ガスバリア性被覆層
１０・・・第二ガスバリア性被覆層
１１・・・第二無機薄膜層
１２・・・第一バリアフィルム
１３・・・第二バリアフィルム
２０、３０、４０、５０、６０、７０・・・光学積層体
【図１】
2018047657.tif 000004
【図２】
2018047657.tif 000005
【図３】
2018047657.tif 000006
【図４】
2018047657.tif 000007
【図５】
2018047657.tif 000008
【図６】
2018047657.tif 000009