(57)【要約】      （修正有）【課題】高密度、高容量の磁気テープに用いた場合の電磁変換特性が良好で、かつベースフィルムの生産性にも優れ、特に塗布型デジタル記録方式の磁気記録媒体用途に好適なベースとなる二軸配向積層ポリエステルフィルムを提供する。【解決手段】２層以上の層構成を有し、耐熱性熱可塑性樹脂を０．３質量％以上１０質量％以下含有する二軸配向積層ポリエステルフィルムであって、磁性層を塗布する側の最表層に位置する層をＡ層、他方の層をＢ層としたとき、表面Ａ側と他方の表面Ｂ側の耐熱性熱可塑性樹脂の含有量差が０．５質量％以上１０質量％以下。Ａ層とＢ層の耐熱性熱可塑性樹脂の含有量差が０．３質量％以上５質量％以下。表面Ａ側の３次元中心線表面粗さが１．２〜３ｎｍ、二乗平均平方根粗さが１．５〜５．５ｎｍ、表面Ｂ側の３次元中心線表面粗さが８〜１３ｎｍ、二乗平均平方根粗さが１１〜１７ｎｍとする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
２層以上の層構成を有し、耐熱性熱可塑性樹脂を０．３質量％以上１０質量％以下含有する積層ポリエステルフィルムであって、磁性層を塗布する側の最表層に位置する層をＡ層、他方の最表層に位置する層をＢ層としたとき、下記（１）〜（３）の要件を満足する二軸配向積層ポリエステルフィルム。
（１）厚さ方向における中心から一方の表面Ａ側までの部分に含まれる耐熱性熱可塑性樹脂の含有量をＷＡとし、厚さ方向における中心から他方の表面Ｂ側までの部分に含まれる耐熱性熱可塑性樹脂の含有量をＷＢとしたとき、ＷＢ−ＷＡが０．５質量％以上１０質量％以下である。
（２）Ａ層に含まれる耐熱性熱可塑性樹脂の含有量をＷａ、Ｂ層に含まれる耐熱性熱可塑性樹脂の含有量をＷｂとしたとき、Ｗａが０．３質量％以上６質量％以下、Ｗｂが０質量％以上３質量％以下、Ｗａ−Ｗｂが０．３質量％以上５質量％以下である。
（３）表面Ａ側の３次元中心線表面粗さｓＲａ−Ａが１．２〜３ｎｍ、二乗平均平方根粗さｓＲｑ−Ａが１．５〜５．５ｎｍであり、表面Ｂ側の３次元中心線表面粗さｓＲａ−Ｂが８〜１３ｎｍ、二乗平均平方根粗さｓＲｑ−Ｂが１１〜１７ｎｍである。
【請求項２】
温度１１０℃で３０分間、熱処理したときの幅方向のカッピングが前記表面Ａ側に凹み状であり、その幅方向のカッピング量ｄ（ｍｍ）が、５０ｍｍ幅で０．０ｍｍ≦ｄ≦０．５ｍｍの範囲であることを特徴とする、請求項１に記載の二軸配向積層ポリエステルフィルム。
【請求項３】
Ａ層とＢ層の間にＣ層を有し、Ｃ層に含まれる耐熱性熱可塑性樹脂の含有量をＷｃとしたとき、Ｗｃが２質量％以上１５質量％以下、Ｗｃ−Ｗａが１．７質量％以上１０質量％以下であることを特徴とする、請求項１または２に記載の二軸配向積層ポリエステルフィルム。
【請求項４】
前記耐熱性熱可塑性樹脂がポリエーテルイミドである、請求項１〜３のいずれかに記載の二軸配向積層ポリエステルフィルム。
【請求項５】
ポリエステルの主成分がポリエチレンテレフタレートである、請求項１〜４のいずれかに記載の二軸配向積層ポリエステルフィルム。
【請求項６】
塗布型デジタル記録方式の磁気記録媒体用ベースフィルムとして用いられる、請求項１〜５のいずれかに記載の二軸配向積層ポリエステルフィルム。
【請求項７】
請求項６に記載の二軸配向積層ポリエステルフィルムを用いた磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、二軸配向積層ポリエステルフィルムに関し、さらに詳しくは、磁気テープなどの磁気記録媒体の支持体として好ましく用いることが可能な二軸配向積層ポリエステルフィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
二軸配向ポリエステルフィルムはその優れた熱特性、寸法安定性、機械特性および表面形態の制御のし易さから各種用途に使用されており、特に塗布型デジタル記録方式の磁気記録媒体などの支持体（ベース）としての有用性がよく知られている。一方、当該磁気記録媒体（磁気テープ）には常に高密度化、高容量化が要求されており、具体的用途として、データストレージやデジタルビデオテープ等、より具体的には、ＬＴＯ（Ｌｉｎｅａｒ  Ｔａｐｅ  Ｏｐｅｎ）やＳＤＬＴ（Ｓｕｐｅｒ  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｌｉｎｅａｒ  Ｔａｐｅ）等のリニア記録方式の磁気記録媒体での要求が恒常的に強い。
【０００３】
これらの磁気記録媒体においては、磁気テープの磁気記録表面が幅方向に凸状湾曲するように制御することが行われている。これにより、走行中の磁気テープと磁気ヘッドとの間の良好な接触が得られるようになり、ＳＮ比等の特性を向上させることができる。このような幅方向の湾曲をカッピングといい、磁気ヘッドの接触面から見て、磁気記録表面が幅方向に凸状湾曲しているものを−（マイナス）カッピングと呼び、磁気記録表面が幅方向に凹状湾曲しているものを＋（プラス）カッピングと呼ぶ。上記の通り、走行中のテープと磁気ヘッドとの良好な接触を得るには、−カッピングを有する磁気記録媒体を用いることが好ましいことになる。そこで、ベースを積層ポリエステルフィルムとして各層の構成成分を制御（特許文献１、特許文献３）したり、固有粘度を制御（特許文献２）する事によって磁気テープのカッピングを調整する方法が行われている。
【０００４】
一方、磁気テープには、ベースの磁性層と反対面の凹凸が磁性層に転写すること（ミッシングパルス）によって、走行中の磁気テープと磁気ヘッドとの間隙が生じ、読み取り不良の割合（エラーレート）が増加するという課題がある。これは積層フィルムの磁性層を設ける側を平滑面、その反対側を粗面とする基本構成のベースが抱える基本的問題であり、高密度化、高容量化が進むにつれて、その課題が大きくなっている。
【０００５】
しかし、上記の特許文献１〜３に挙げたような従来のポリエステルフィルムでは、近年高まってる上述の要求を満足することが出来なかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００９−１９６２３５号公報
【特許文献２】特開２０１２−１８７３３号公報
【特許文献３】特開２０１４−１１７９０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、上記の問題を解決し、高密度、高容量の磁気テープに用いた場合の磁気テープ特性として、エラーレートとカッピングが共に良好であり、かつベースフィルム、磁気テープの生産性にも優れ、特に塗布型デジタル記録方式の磁気記録媒体用途に好適なベースとなる二軸配向積層ポリエステルフィルムを提供することにある。なお、以下の説明において、長手方向、縦方向およびＭＤは同じ意味で用い、二軸配向積層ポリエステルフィルムを製造する際の長手方向（機械方向）を意味する。幅方向、横方向およびＴＤも同じ意味で用い、上記の長手方向とフィルム面内において直交する方向を意味する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するための本発明は、次の特徴を有している。
【０００９】
２層以上の層構成を有し、耐熱性熱可塑性樹脂を０．３質量％以上１０質量％以下含有する積層ポリエステルフィルムであって、磁性層を塗布する側の最表層に位置する層をＡ層、他方の最表層に位置する層をＢ層としたとき、下記（１）〜（３）の要件を満足する二軸配向積層ポリエステルフィルム。
（１）厚さ方向における中心から一方の表面Ａ側までの部分に含まれる耐熱性熱可塑性樹脂の含有量をＷＡとし、厚さ方向における中心から他方の表面Ｂ側までの部分に含まれる耐熱性熱可塑性樹脂の含有量をＷＢとしたとき、ＷＢ−ＷＡが０．５質量％以上１０質量％以下である。
（２）Ａ層に含まれる耐熱性熱可塑性樹脂の含有量をＷａ、Ｂ層に含まれる耐熱性熱可塑性樹脂の含有量をＷｂとしたとき、Ｗａが０．３質量％以上６質量％以下、Ｗｂが０質量％以上１３質量％以下、Ｗａ−Ｗｂが０．３質量％以上５質量％以下である。
（３）表面Ａ側の３次元中心線表面粗さｓＲａ−Ａが１．２〜３ｎｍ、二乗平均平方根粗さｓＲｑ−Ａが１．５〜５．５ｎｍであり、表面Ｂ側の３次元中心線表面粗さｓＲａ−Ｂが８〜１３ｎｍ、二乗平均平方根粗さｓＲｑ−Ｂが１１〜１７ｎｍである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムは、平滑性と走行性に優れており、スリット性と製膜性、工程適性が良好な二軸配向積層ポリエステルフィルムを得ることができる。また、本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムを支持体とした磁気記録媒体は磁気テープ特性に優れ、エラーレートが少なくカッピングが良好な高密度磁気記録媒体となる。特に塗布型デジタル記録方式の磁気記録媒体用として有用である。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】幅寸法を測定する際に用いるシート幅測定装置の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムは、構成成分としてポリエステルを含んでいる。用いることができるポリエステルとしては、例えば、芳香族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸または脂肪族ジカルボン酸などの酸成分やジオール成分を構成単位（重合単位）とするポリマーで構成されたものを挙げることができる。
【００１３】
芳香族ジカルボン酸成分としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、４，４’−ジフェニルエーテルジカルボン酸、４，４’−ジフェニルスルホンジカルボン酸等を用いることができ、なかでも好ましくは、テレフタル酸、フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸を用いることができる。脂環族ジカルボン酸成分としては、例えば、シクロヘキサンジカルボン酸等を用いることができる。脂肪族ジカルボン酸成分としては、例えば、アジピン酸、スベリン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸等を用いることができる。これらの酸成分は一種のみを用いてもよく、二種以上を併用してもよい。
【００１４】
ジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，２−シクロヘキサンジメタノール、１，３−シクロヘキサンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリアルキレングリコール、２，２’−ビス（４’−β−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン等を用いることができ、なかでも、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール等を好ましく用いることができ、特に好ましくは、エチレングリコール等を用いることができる。これらのジオール成分は一種のみを用いてもよく、二種以上を併用してもよい。
【００１５】
ポリエステルには、ラウリルアルコール、イソシアン酸フェニル等の単官能化合物が共重合されていてもよいし、トリメリット酸、ピロメリット酸、グリセロール、ペンタエリスリトール、２，４−ジオキシ安息香酸、等の３官能化合物などが、過度に分枝や架橋をせずポリマーが実質的に線状である範囲内で共重合されていてもよい。さらに酸成分、ジオール成分以外に、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、ｍ−ヒドロキシ安息香酸、２，６−ヒドロキシナフトエ酸などの芳香族ヒドロキシカルボン酸およびｐ−アミノフェノール、ｐ−アミノ安息香酸などを本発明の効果が損なわれない程度の少量であればさらに共重合せしめることができる。
【００１６】
ポリマーの共重合割合はＮＭＲ法（核磁気共鳴法）や顕微ＦＴ−ＩＲ法（フーリエ変換顕微赤外分光法）を用いて調べることができる。
【００１７】
ポリエステルは、二軸延伸を施せること、および、寸法安定性などの本発明の効果を発現するために、ガラス転移温度が１５０℃未満のものを好適に使用できる。本発明において用いるポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（ポリエチレン−２，６−ナフタレート）が好ましく、また、これらの共重合体や変性体でもよく、他の熱可塑性樹脂とのポリマーアロイでもよい。ここでいうポリマーアロイとは高分子多成分系のことであり、共重合によるブロックコポリマーであってもよいし、混合などによるポリマーブレンドでもよい。本発明のポリエステルとしては特に、結晶子サイズや結晶配向度を高めるプロセスが適用しやすいことから主成分がポリエチレンテレフタレートであることがより好ましい。ここで、主成分とはフィルム組成中８０質量％以上であることをいう。
【００１８】
本発明においては、ポリエステルに耐熱性熱可塑性樹脂を含有せしめることが重要である。なお、本発明における耐熱性熱可塑性樹脂は、用いるポリエステルのガラス転移温度（Ｔｇ）よりも高いＴｇを有する熱可塑性樹脂をいう。耐熱性熱可塑性樹脂としては、溶融成形性及びポリエステルとの相溶性を備えた熱可塑性樹脂が好ましい。また、フィルムおよび磁気記録テープの寸法安定性を確保する観点から、用いる耐熱性熱可塑性樹脂のガラス転移温度はポリエステルのガラス転移温度に対し、５℃以上４０℃未満の範囲で高いことが好ましく、より好ましくは、１０℃以上３０℃未満、最も好ましくは１５℃以上２５℃未満である。ガラス転移温度の差が５℃より小さいと、熱収縮の差が発生しにくいため、好ましいカッピングが得られないことがある。一方で、ガラス転移温度の差が４０℃以上であると、耐熱性熱可塑性樹脂の影響が大きくなり、寸法安定性を確保するのが困難となりやすく、あるいはフィルムが破れやすくなって生産性が低下しやすい。
【００１９】
このような耐熱性熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリイミド系樹脂（ポリエーテルイミドを含む）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアミドイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアリレートが挙げられる。これらの中でも、ポリエステルとの親和性及び溶融成形性の観点から、ポリイミド系樹脂、特にポリエーテルイミド樹脂が好ましい。ポリエーテルイミド樹脂としては、例えば以下で示すものを用いることができる。
【００２０】
【化１】
2018055745.tif 000002
【００２１】
（ただし、上記式中Ｒ１は、６〜３０個の炭素原子を有する２価の芳香族または脂肪族残基、Ｒ２は６〜３０個の炭素原子を有する２価の芳香族残基、２〜２０個の炭素原子を有するアルキレン基、２〜２０個の炭素原子を有するシクロアルキレン基、および２〜８個の炭素原子を有するアルキレン基で連鎖停止されたポリジオルガノシロキサン基からなる群より選択された２価の有機基である。）
上記Ｒ１、Ｒ２としては、例えば、下記式群に示される芳香族残基を挙げることができる。
【００２２】
【化２】
2018055745.tif 000003
【００２３】
本発明では、ポリエステルとの親和性、コスト、溶融成形性等の観点から、２，２−ビス［４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］プロパン二無水物とｍ−フェニレンジアミン、またはｐ−フェニレンジアミンとの縮合物である、下記式で示される繰り返し単位を有するポリマーが好ましい。
【００２４】
【化３】
2018055745.tif 000004
【００２５】
または
【００２６】
【化４】
2018055745.tif 000005
【００２７】
（ｎは２以上の整数、好ましくは２０〜５０の整数である。）
このポリエーテルイミドは、“ウルテム”の商品名で、ＳＡＢＩＣイノベーティブプラスチック社より入手可能であり、「Ｕｌｔｅｍ（登録商標）１０００」、「Ｕｌｔｅｍ（登録商標）１０１０」、「Ｕｌｔｅｍ（登録商標）１０４０」、「Ｕｌｔｅｍ（登録商標）５０００」、「Ｕｌｔｅｍ（登録商標）６０００」および「Ｕｌｔｅｍ（登録商標）ＸＨ６０５０」シリーズや「Ｅｘｔｅｍ（登録商標）ＸＨ」および「Ｅｘｔｅｍ（登録商標）ＵＨ」の登録商標名等で知られているものである。
【００２８】
本発明における二軸配向積層ポリエステル中の耐熱性熱可塑性樹脂の含有量は０．３質量％以上１０質量％以下であり、好ましくは０．５質量％以上８質量％以下、より好ましくは０．７質量％以上５質量％以下である。耐熱性熱可塑性樹脂の含有量が０．３質量％未満の場合、磁気テープの幅寸法安定性が低下しやすい。一方、１０質量％を超えるとフィルム製膜中に破れやすくなって生産性が低下しやすい。
【００２９】
本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムは２層以上の層構成を有している。２層以上の層構成を有するとは、少なくとも２層の層が存在することを意味し、３層や４層など、あるいはそれ以上の多層積層構成であっても構わない。そして磁性層を塗布する側の最表層に位置する層をＡ層、他方の最表層に位置する層をＢ層としたとき、Ａ層側の最表面を表面Ａ、Ｂ層側の最表面を表面Ｂとして、表面Ａや表面Ｂ、Ａ層やＢ層の特徴を本願発明において規定する。これらの層は、塗布層により構成されていてもよいが、共押出により形成された層であることが好ましい。
【００３０】
本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムを磁気テープなどの磁気記録媒体の支持体とする際には、当該フィルムの表面Ａ側を磁性面として磁性層を塗布し、表面Ｂ側が走行面となる。
【００３１】
本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムは、上述の通り２層以上の層構成を有し、耐熱性熱可塑性樹脂を０．３質量％以上１０質量％以下含有し、磁性層を塗布する側の最表層に位置する層をＡ層、他方の最表層に位置する層をＢ層としたとき、下記（１）〜（３）の要件を満足する二軸配向積層ポリエステルフィルムである。
（１）厚さ方向における中心から一方の表面Ａ側までの部分に含まれる耐熱性熱可塑性樹脂の含有量をＷＡとし、厚さ方向における中心から他方の表面Ｂ側までの部分に含まれる耐熱性熱可塑性樹脂の含有量をＷＢとしたとき、ＷＢ−ＷＡが０．５質量％以上１０質量％以下である。
（２）Ａ層に含まれる耐熱性熱可塑性樹脂の含有量をＷａ、Ｂ層に含まれる耐熱性熱可塑性樹脂の含有量をＷｂとしたとき、Ｗａが０．３質量％以上６質量％以下、Ｗｂが０質量％以上３質量％以下、Ｗａ−Ｗｂが０．３質量％以上５質量％以下である。
（３）表面Ａ側の３次元中心線表面粗さｓＲａ−Ａが１．２〜３ｎｍ、二乗平均平方根粗さｓＲｑ−Ａが１．５〜５．５ｎｍであり、表面Ｂ側の３次元中心線表面粗さｓＲａ−Ｂが８〜１３ｎｍ、二乗平均平方根粗さｓＲｑ−Ｂが１１〜１７ｎｍである。
以下、これら（１）〜（３）の各事項について詳述する。
【００３２】
まず（１）について、本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムにおいて、各層の熱に対する収縮率を調節する手法は、各層に含まれる耐熱性熱可塑性樹脂の濃度を互いに異なるものとすることである。もともと本発明のフィルムに含まれるポリエステルは、加熱による収縮が大きいが、そこに含まれる耐熱性熱可塑性樹脂の濃度が大きくなるにつれて、耐熱性が向上し、加熱による収縮が小さくなる。そのため、本発明のフィルムを構成する各層に含まれる耐熱性熱可塑性樹脂の濃度が互いに異なれば、各層の熱収縮率が異なるため、フィルムを加熱すると幅方向に湾曲することになる。本発明のフィルムでは、上記のように、ＷＢ−ＷＡが正であるので、厚さ方向における中心から一方の表面Ａ側までの部分における耐熱性熱可塑性樹脂の濃度は、他方の表面Ｂ側までの部分における耐熱性熱可塑性樹脂の濃度よりも小さいことになり、厚さ方向における中心から表面Ａ側までの部分の熱収縮率は表面Ｂ側までの部分の熱収縮率よりも大きい。このため、本発明のフィルムは、加熱を受けた際に表面Ａ側が凹となるように湾曲（＋カッピング）することになる。
【００３３】
このような本発明のフィルムを磁気記録媒体用ベースフィルムとして用いた場合、特に磁気テープでは、乾燥収縮の大きなバックコート層が表面Ｂ側に形成され、それよりも乾燥収縮の小さな磁性層が表面Ａ側に形成される。この磁性層が塗材の塗布でなく蒸着により形成された場合でも、同様に磁性層の収縮は小さいことになる。その結果、塗材を乾燥させる熱処理に際して、塗材の乾燥収縮は表面Ａ側を過剰に凸にしようとするが、この作用はフィルム自身の湾曲によって幾分打ち消され、結果として得られた磁気テープの磁気記録表面となる表面Ａ側が実用的な凸状態となる良好なカッピング（−カッピング）を得ることができる。このようなメカニズムにより、記録ヘッドの接する表面Ａ側が実用的な凸状態となり望ましい。
【００３４】
本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムにおいては、厚さ方向における中心から一方の表面Ａ側までの部分に含まれる耐熱性熱可塑性樹脂の含有量をＷＡとし、厚さ方向における中心から他方の表面Ｂ側までの部分に含まれる耐熱性熱可塑性樹脂の含有量をＷＢとしたとき、ＷＢ−ＷＡは０．５質量％以上１０質量％以下である。好ましくは０．７質量％以上７質量％以下、より好ましくは１．０質量％を超え５質量％以下である。ＷＢ−ＷＡが０．５質量％未満の場合、塗材によるカッピングを打ち消す作用が十分には得られにくい。一方、ＷＢ−ＷＡが１０質量％を超えると、塗材によるカッピングが過剰に打ち消されて磁気テープの表面Ａ側が凹となりやすくなる。
【００３５】
次に（２）については、Ｗａ−Ｗｂが正の値、すなわちＢ層に含まれる耐熱性熱可塑性樹脂の含有量がＡ層よりも少ないのは、耐熱性熱可塑性樹脂の含有量が多いほど表面性の凹凸が大きくなる傾向があるためである。（３）の要件である表面Ａ側、Ｂ側の表面粗さを得るため、後述するようにＡ層、Ｂ層中には不活性粒子を含有せしめることが好ましいが、Ｂ層中の耐熱性熱可塑性樹脂の含有量が多くなると、不活性粒子による表面粗さの制御が困難となり、表面Ｂ側の表面粗さが大きくなりやすい。結果として磁気記録媒体用ベースフィルムとして用いた場合に磁気テープの読み取り不良の割合（エラーレート）が増加する傾向がある。これは磁性層と反対面の凹凸が磁性層に転写すること（ミッシングパルス）によって、走行中の磁気テープと磁気ヘッドとの間隙が生じやすいためと考えられ、カッピングは良好であっても磁気テープ特性としては不十分となる。
【００３６】
本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムにおいては、Ａ層に含まれる耐熱性熱可塑性樹脂の含有量をＷａ、Ｂ層に含まれる耐熱性熱可塑性樹脂の含有量をＷｂとしたとき、Ｗａが０．３質量％以上６質量％以下である。また好ましくは０．５質量％以上５質量％以下、より好ましくは０．７質量％以上４質量％以下である。Ｗａが０．３質量％未満の場合、磁気テープの幅寸法安定性が低下しやすい。一方、６質量％を超えると表面Ａ側の表面粗さが大きくなり、平滑性と共に磁気テープの電磁変換特性が低下、あるいはエラーレートが増加しやすくなる。またＷｂは０質量％以上３質量％以下であり、その上限について好ましくは２質量％以下、より好ましくは１質量％以下である。Ｗｂが３質量％を超えると磁気テープのエラーレートが増加して磁気テープ特性が低下しやすい。さらにＷａ−Ｗｂは０．３質量％以上５質量％以下であり、好ましくは０．５質量％以上４．５質量％以下、より好ましくは１質量％以上４質量％以下である。Ｗａ−Ｗｂが０．３質量％未満の場合、塗材によるカッピングが過剰に打ち消されて磁気テープの表面Ａ側が凹となりやすくなる。一方、Ｗｂが５質量％を超えると磁気テープの表面Ａ側が過剰に凸となりやすくなる。
【００３７】
更に（３）については、表面Ａ側および表面Ｂ側の表面粗さを規定することにより、フィルムおよび磁気テープの生産性、磁気テープの特性を両立させることが可能となる。
【００３８】
すなわち、本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムにおいては、表面Ａ側の３次元中心線表面粗さｓＲａ−Ａが１．２〜３ｎｍであり、好ましくは１．４〜２．８ｎｍである。また表面Ａ側の二乗平均平方根粗さｓＲｑ−Ａが１．５〜５．５ｎｍであり、好ましくは１．７〜５ｎｍである。ｓＲａ−Ａが１．２ｎｍ未満あるいはｓＲｑ−Ａが１．５ｎｍ未満の場合、フィルムおよび磁気テープのすべり性が低下し、フィルムの製膜性あるいはフィルムと磁気テープのスリット性が低下しやすい。また、工程ロールからのキズによりフィルム、磁気テープの歩留まりが低下する傾向にあり、キズが多発する場合には磁気テープのエラーレートが増加することがある。一方、ｓＲａ−Ａが３ｎｍを超えるかｓＲｑ−Ａが５．５ｎｍを超えると、表面Ａの平滑性と共に磁気テープの電磁変換特性が低下、あるいはエラーレートが増加しやすくなる。
【００３９】
本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムの表面Ｂ側の３次元中心線表面粗さｓＲａ−Ｂは８〜１３ｎｍであり、好ましくは８．５〜１２．５ｎｍである。また表面Ｂ側の二乗平均平方根粗さｓＲｑ−Ｂが１１〜１７ｎｍであり、好ましくは１１．５〜１６．５ｎｍである。ｓＲａ−Ｂが８ｎｍ未満あるいはｓＲｑ−Ｂが１１ｎｍ未満の場合、フィルムおよび磁気テープのすべり性が低下し、フィルムの製膜性あるいはフィルムと磁気テープのスリット性が低下しやすい。その他に工程ロールからのキズによりフィルム、磁気テープの歩留まりが低下する傾向にある。一方、ｓＲａ−Ｂが１３ｎｍを超えるかｓＲｑ−Ｂが１７ｎｍを超えると、表面Ｂが粗くなり、フィルムあるいは磁気テープの製造工程においてロール状に巻き取った際の転写跡により表面Ａの平滑性と共に磁気テープの電磁変換特性が低下、あるいはエラーレートが増加しやすくなる。
【００４０】
本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムは、温度１１０℃で３０分間、熱処理したときの幅方向のカッピングが、上記表面Ａ側に凹み状であり、その幅方向のカッピング量ｄ（ｍｍ）が、５０ｍｍ幅で０．０ｍｍ≦ｄ≦＋０．５ｍｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは０．０ｍｍ≦ｄ≦＋０．３ｍｍである。既に述べたように、表面Ｂ側に塗布された塗材の乾燥収縮は表面Ａ側を過剰に凸にしようと作用するので、フィルム自身のカッピングが表面Ａ側に凹み状であれば、この作用が幾分打ち消されて、表面Ａ側が実用的な凸状態となる。そして、フィルム自身のカッピング量が上記の範囲であれば、乾燥収縮による作用が過剰に打ち消されて表面Ａ側が凹となったり、乾燥収縮による作用の打ち消しが不足して表面Ａ側が依然として過剰な凸状態のままであったりすることが抑制されるので好ましい。なお、カッピング量ｄ（ｍｍ）とは、幅方向の両端の高さを基準としたときの、谷（又は山）部分の深さ（又は高さ）である。また、その数値の符号について、磁気記録表面となる表面Ａ側が幅方向に凸状湾曲しているものを−（マイナス）カッピング、表面Ａ側が幅方向に凹状湾曲しているものを＋（プラス）カッピングとする。
【００４１】
本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムにおいては、Ａ層とＢ層の間にＣ層を有し、Ｃ層に含まれる耐熱性熱可塑性樹脂の含有量をＷｃとしたとき、Ｗｃが２質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、より好ましくは３質量％以上１３質量％以下である。またＷｃ−Ｗａが１．７質量％以上１２質量％以下であることが好ましく、より好ましくは２質量％以上１０質量％以下である。Ｗｃが２質量％未満あるいはＷｃ−Ｗａが１．７質量％未満の場合、塗材によるカッピングを打ち消す作用が十分には得られにくい。一方、Ｗｃが１５質量％を超えるかＷｃ−Ｗａが１２質量％を超えると、塗材によるカッピングが過剰に打ち消されて磁気テープの表面Ａ側が凹となりやすくなる。
【００４２】
最も好ましい態様は、Ａ層、Ｂ層、Ｃ層に含まれる耐熱性熱可塑性樹脂の含有量を、Ｗｃ−Ｗａ＞Ｗａ−Ｗｂとする事であり、磁気テープのカッピング、エラーレートを共に良好とすることができる。
【００４３】
本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムは、Ａ層に、平均粒径（ｄＡ）０．０１〜０．６μｍの不活性粒子Ａを０．０１〜０．５０質量％含有することが好ましい。不活性粒子Ａの平均粒径ｄＡについては０．０２〜０．５μｍであることがより好ましく、さらに好ましくは０．０３〜０．４μｍである。また、不活性粒子Ａの含有量については０．０３〜０．４５質量％であることがより好ましく、さらに好ましくは０．０４〜０．４０質量％である。不活性粒子Ａの平均粒径ｄＡが０．０１μｍ未満の場合、フィルムおよび磁気テープのすべり性が低下し、フィルムの製膜性あるいはフィルムと磁気テープのスリット性が低下しやすい。その他に工程ロールからのキズによりフィルム、磁気テープの歩留まりが低下する傾向にある。一方、０．６μｍより大きい場合には、表面Ａの平滑性と共に磁気テープなどの磁気記録媒体の電磁変換特性が低下、あるいはエラーレートが増加しやすくなる。また不活性粒子Ａの含有量が０．０１質量％未満の場合、フィルムおよび磁気テープのすべり性が低下し、フィルムの製膜性あるいはフィルムと磁気テープのスリット性が低下しやすい。その他には不活性粒子Ａに起因する突起により磁気テープなどの磁気記録媒体としたときの電磁変換特性が低下することがある。一方、０．５０質量％より多い場合には、表面Ａの平滑性と共に磁気テープなどの磁気記録媒体の電磁変換特性が低下、あるいはエラーレートが増加しやすくなる。
【００４４】
不活性粒子Ａの成分については、例えば、（１）耐熱性ポリマー（例えば、架橋シリコーン樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリエステルなどからなる粒子）、（２）金属酸化物（例えば、酸化アルミニウム、二酸化チタン、二酸化ケイ素（シリカ）、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等）、（３）金属の炭酸塩（例えば、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等）、（４）金属の硫酸塩（例えば、硫酸カルシウム、硫酸バリウム等）、（５）炭素（例えば、カーボンブラック、グラファイト、ダイヤモンド等）、（６）粘土鉱物（例えば、カオリン、クレー、ベントナイト等）などのような無機化合物、及び（７）ポリエステル重合反応時に添加する触媒等によって析出する析出物（いわゆる内部粒子）が挙げられる。これらの内、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂粒子、ポリアミドイミド樹脂粒子、その他酸化アルミニウム（アルミナ）、二酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、合成炭酸カルシウム、硫酸バリウム、ダイヤモンド、またはカオリンからなる粒子が好ましい。さらに好ましくは、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、その他酸化アルミニウム（アルミナ）、二酸化チタン、二酸化ケイ素、または炭酸カルシウムからなる微粒子である。これらの不活性粒子Ａは１種または２種以上を混合して使用してもよい。
【００４５】
さらに、Ａ層には（必要に応じてＢ層にも）本発明を阻害しない範囲内であれば、各種添加剤、例えば、相溶化剤、可塑剤、耐候剤、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、帯電防止剤、増白剤、着色剤、導電剤、結晶核剤、紫外線吸収剤、難燃剤、難燃助剤、顔料、染料、などが添加されてもよい。
【００４６】
本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムは、Ｂ層が平均粒径（ｄＢ１）０．１〜１．０μｍ、かつ不活性粒子Ａより平均粒径が０．０５〜０．４μｍ大きい不活性粒子Ｂ１を０．０８〜２．０質量％含有し、更に平均粒径（ｄＢ２）０．３〜２．０μｍ、かつ不活性粒子Ｂ１より平均粒径が０．２〜１．０μｍ大きい不活性粒子Ｂ２を０．００１〜０．１０質量％含有することが好ましい。不活性粒子Ｂ１の平均粒径ｄＢ１については０．２〜０．７μｍであることがより好ましく、さらに好ましくは０．２〜０．５μｍである。また、不活性粒子Ｂ１の平均粒径ｄＢ１は、不活性粒子Ａの平均粒径ｄＡよりも０．０７〜０．３μｍ大きいことがより好ましい。不活性粒子Ｂ１の含有量については０．１〜１．５質量％であることがより好ましく、さらに好ましくは０．１５〜１．０質量％である。さらに、不活性粒子Ｂ２の平均粒径ｄＢ２については０．３５〜１．８μｍであることがより好ましく、さらに好ましくは０．４〜１．５μｍである。また、不活性粒子Ｂ２の平均粒径ｄＢ２は、不活性粒子Ｂ１の平均粒径よりも０．２５〜０．８μｍ大きいことがより好ましい。さらに、不活性粒子Ｂ２の含有量については０．００３〜０．０８質量％であることが好ましく、より好ましくは０．００５〜０．０５質量％である。
【００４７】
不活性粒子Ｂ１の平均粒径ｄＢ１が０．１μｍ未満の場合、フィルムおよび磁気テープのすべり性が低下し、フィルムの製膜性あるいはフィルムと磁気テープのスリット性が低下しやすい。その他に工程ロールからのキズによりフィルム、磁気テープの歩留まりが低下する傾向にある。一方、１．０μｍより大きい場合には、表面Ｂが粗くなり、フィルムあるいは磁気テープの製造工程においてロール状に巻き取った際の転写跡により表面Ａの平滑性と共に磁気テープの電磁変換特性が低下、あるいはエラーレートが増加しやすくなる。
【００４８】
また不活性粒子Ｂ１と不活性粒子Ａの平均粒径の差（ｄＢ１−ｄＡ）が０．０５μｍより小さい場合、フィルムおよび磁気テープのすべり性が低下し、フィルムの製膜性あるいはフィルムと磁気テープのスリット性が低下しやすい。一方、差（ｄＢ１−ｄＡ）が０．４μｍより大きい場合には、表面Ｂが粗くなり、フィルムあるいは磁気テープの製造工程においてロール状に巻き取った際の転写跡により表面Ａの平滑性と共に磁気テープの電磁変換特性が低下、あるいはエラーレートが増加しやすくなる。
【００４９】
さらに不活性粒子Ｂ１の含有量が０．０８質量％未満の場合、フィルムおよび磁気テープのすべり性が低下し、フィルムの製膜性あるいはフィルムと磁気テープのスリット性が低下しやすい。一方、２．０質量％より多い場合には、表面Ｂが粗くなり、フィルムあるいは磁気テープの製造工程においてロール状に巻き取った際の転写跡により表面Ａの平滑性と共に磁気テープの電磁変換特性が低下、あるいはエラーレートが増加しやすくなる。
【００５０】
不活性粒子Ｂ２の平均粒径ｄＢ２が０．３μｍ未満の場合、フィルムと磁気テープのスリット性が低下しやすい。一方、２．０μｍより大きい場合には、表面Ｂが粗くなり、フィルムあるいは磁気テープの製造工程においてロール状に巻き取った際の転写跡により表面Ａの平滑性と共に磁気テープの電磁変換特性が低下、あるいはエラーレートが増加しやすくなる。
【００５１】
また不活性粒子Ｂ２と不活性粒子Ｂ１の平均粒径の差（ｄＢ２−ｄＢ１）が０．２μｍより小さい場合、フィルムと磁気テープのスリット性が低下しやすい。一方、差（ｄＢ２−ｄＢ１）が１．０μｍより大きい場合には、表面Ｂが粗くなり、フィルムあるいは磁気テープの製造工程においてロール状に巻き取った際の転写跡により表面Ａの平滑性と共に磁気テープの電磁変換特性が低下、あるいはエラーレートが増加しやすくなる。
【００５２】
さらに不活性粒子Ｂ２の含有量が０．００１質量％未満の場合、フィルムと磁気テープのスリット性が低下しやすい。一方、０．１０質量％より多い場合には、表面Ｂが粗くなり、フィルムあるいは磁気テープの製造工程においてロール状に巻き取った際の転写跡により表面Ａの平滑性と共に磁気テープの電磁変換特性が低下、あるいはエラーレートが増加しやすくなる。
【００５３】
不活性粒子Ｂ１、Ｂ２の成分については、不活性粒子Ａで挙げた各種粒子を使用できるが、好ましいものとしては、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、その他酸化アルミニウム（アルミナ）、二酸化チタン、二酸化ケイ素、または炭酸カルシウムからなる微粒子である。これらの不活性粒子Ｂ１、Ｂ２は１種または２種以上を混合して使用してもよい。
【００５４】
本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムは、長手方向のヤング率（Ｙ−ＭＤ）が３．５〜１０ＧＰａであることが好ましく、横方向のヤング率（Ｙ−ＴＤ）が３〜１０ＧＰａであることが好ましく、横方向のヤング率に対する長手方向のヤング率の比率（Ｙ−ＭＤ／Ｙ−ＴＤ）が０．４〜１．５であることが好ましい。より好ましくはＹ−ＭＤが４〜９ＧＰａ、Ｙ−ＴＤが３．３〜８．５ＧＰａ、Ｙ−ＭＤ／Ｙ−ＴＤが０．５〜１．３である。また、最も好ましくはＹ−ＭＤが４〜８ＧＰａ、Ｙ−ＴＤが３．５〜７．５ＧＰａ、Ｙ−ＭＤ／Ｙ−ＴＤが０．６〜１．１である。Ｙ−ＭＤが３．５ＧＰａより小さい場合、およびＹ−ＴＤが３ＧＰａより小さい場合には、フィルムの強度不足により磁気テープ加工時の縮みによる工程適性に劣り、また加工後の磁気テープの寸法安定性も低下しやすい。一方、Ｙ−ＭＤが１０ＧＰａより大きい場合、およびＹ−ＴＤが１０ＧＰａより大きい場合には、フィルム製膜時に破れが発生して製膜性が低下しやすい。また磁気テープが剛直となって、磁気ヘッドとの当たりが強くなることで磁気テープ表面が削れ易くなり、耐久性が低下しやすい。さらにＹ−ＭＤ／Ｙ−ＴＤの値が０．４〜１．５の範囲外の場合、いずれかの方向でフィルムの強度が不足して磁気テープ加工時の縮みにより工程適性に劣り、また加工後の磁気テープの寸法安定性も低下しやすい。あるいはフィルム製膜時に破れが発生して製膜性が低下しやすい。
【００５５】
また、本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムは、幅方向の湿度膨張係数が０〜９ｐｐｍ／％ＲＨであることが好ましく、より好ましくは０〜８．５ｐｐｍ／％ＲＨ、最も好ましくは０〜８ｐｐｍ／％ＲＨである。湿度膨張係数が９ｐｐｍ／％ＲＨより大きい場合、磁気テープの湿度変化による変形が大きくなり、幅方向の寸法安定性が悪化しやすい。
【００５６】
本発明において、二軸配向積層ポリエステルフィルムの総厚みは、用途に応じて適宜決定できるが、２〜１２μｍが好ましく、より好ましくは２．５〜１０μｍ、さらに好ましくは３〜８μｍである。総厚みが２μｍより薄い場合、磁気テープにした際に電磁変換特性が低下することがある。一方、総厚みが１２μｍより厚い場合は、テープ１巻あたりのテープ長さが短くなるため、磁気テープの小型化、高容量化が困難になることがある。またＡ層とＢ層の厚み比率については、総厚みを１００％とした時のＢ層比率が１〜３０％であることが好ましく、より好ましくは２〜２８％、最も好ましくは３〜２５％である。Ｂ層比率が１％未満の場合、均一な積層とすることが困難となり、不活性粒子Ｂ１、Ｂ２が少ない箇所ではフィルムおよび磁気テープのすべり性が低下し、フィルムの製膜性あるいはフィルムと磁気テープのスリット性が低下しやすい。その他に工程ロールからのキズによりフィルム、磁気テープの歩留まりが低下する傾向にある。一方、Ｂ層比率が３０％より大きい場合には、表面Ｂが粗くなり、フィルムあるいは磁気テープの製造工程においてロール状に巻き取った際の転写跡により表面Ａの平滑性と共に磁気テープの電磁変換特性が低下、あるいはエラーレートが増加しやすくなる。
【００５７】
また、Ａ層／Ｃ層／Ｂ層の３層構成の場合には、Ｂ層の厚み比率が上記範囲内であって、さらにＣ層の厚み比率が２〜４０％であることが好ましく、より好ましくは３〜３５％、最も好ましくは４〜３０％である。Ｃ層比率が２％未満の場合、塗材によるカッピングを打ち消す作用が十分には得られにくい。一方、Ｃ層比率が４０％を超えると、塗材によるカッピングが過剰に打ち消されて磁気テープの表面Ａ側が凹となりやすくなる。なお、３層以上の構成とした場合には、Ａ層、Ｂ層、Ｃ層以外の層も含めた総厚みを１００％とした上で、Ａ層比率、Ｂ層比率、Ｃ層比率が上記範囲内であることが好ましい。
【００５８】
本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムは、例えば次のように製造される。以下、ポリエステルとしてポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を、耐熱性熱可塑性樹脂としてポリエーテルイミドを用いた例を代表例として説明するが、本発明は特にこれらに限定されるものではない。
【００５９】
ポリエステルに不活性粒子を含有させる方法としては、例えばジオール成分であるエチレングリコールに不活性粒子を所定の割合にてスラリーの形で分散させ、このエチレングリコールスラリーをポリエステル重合完結前の任意段階で添加することを挙げられる。ここで、粒子を添加する際には、例えば、粒子を合成した際に得られる水ゾルやアルコールゾルを乾燥させることなくポリエステル重合完結前の任意段階で添加すると粒子の分散性が良好であり、フィルムの滑り性や電磁変換特性等を良好にすることができる。また、粒子の水スラリーを所定のポリエステルペレットと混合し、ベント方式の二軸混練押出機に供給しポリエステルに練り込む方法も有効な手法である。これらの方法により、不活性粒子を含有したポリエステルペレットを調製する。
【００６０】
また、実質的に粒子を含有しないポリエステルのペレットと、ポリエーテルイミドのペレットを所定の割合で混合して、２７０〜３００℃で加熱されたベント式の二軸混練押出機に供給し、溶融押出して、ポリエーテルイミド含有ポリエステルペレットを調製する。
【００６１】
以上のようにして準備した、不活性粒子を含有したポリエステルペレット、ポリエーテルイミド含有ポリエステルペレット、及び粒子等を実質的に含有しないポリエステルペレットを所定の割合で混合し、乾燥した後、公知の溶融積層用押出機に供給し、ポリマーをフィルターにより濾過する。このとき押出機の温度はペレットの溶融、混錬の安定性の観点から２５０〜２８５℃が好ましく、より好ましくは２５５〜２８０℃である。また押出機の入り側を２５０〜２６５℃の範囲とし、出側を入り側よりも高く、かつ２６５〜２８５℃の範囲として温度勾配を設けることが、ペレットの溶融、混錬の安定性をより高める点から好ましい。
【００６２】
非常に薄い磁性層が塗布される高密度磁気記録媒体用途においては、ごく小さな異物も磁気記録欠陥であるＤＯ（ドロップアウト）の原因となるため、フィルター材料としては例えばステンレス鋼、ニッケル、クロム、アルミ、銅などの各種金属ないし合金を使用することができる。これらの内、耐熱性、耐久性の点でステンレスフィルターが好ましく、特に高精度の繊維焼結ステンレスフィルターを用いることが好ましい。ただし、繊維焼結ステンレスフィルターは定形の無機系異物の捕集に有効であるが、長時間の製膜時には不定形の有機系異物（変性ポリマー）が発生しやすい。その抑制には例えば、粉末焼結ステンレスフィルターが好ましいが、これら２種のフィルターを併用する場合、一方を上流（第１）、もう一方を下流（第２）に使用する方法は、後述のフィルター装置が２台となり、フィルター入りでの圧力損失、すなわちポリマー圧力が上昇しやすくなり、またポリマー圧力制御が難しく吐出安定性に劣る。更にフィルター装置を繋ぐ配管を含めて、ポリマー通過時間が長くなることで熱履歴アップによる変性ポリマーが多発しやすい。これに対し、繊維焼結ステンレスフィルターと粉末焼結ステンレスフィルターを積層したものは、ポリマー圧力制御や吐出安定性に優れるため好ましい。
【００６３】
本発明において、無機系異物捕集の目安となる繊維焼結ステンレスフィルターの濾過精度（捕集効率９５％以上が可能な異物径）は、好ましくは使用する不活性粒子の平均粒径の３〜５０倍、より好ましくは３．５〜４５倍、更には４〜４０倍が最も好ましい。繊維焼結ステンレスフィルターの濾過精度が不活性粒子の平均粒径の３倍より小さい場合にはポリマー圧力が変動しやすい、もしくは上昇しやすくなって、ポリマー圧力制御が難しくなることがある。一方、５０倍より大きい場合には無機系異物捕集の効果が低下しやすくなる。また、有機系異物捕集の目安となる粉末焼結ステンレスフィルターの濾過精度について、好ましくは使用する繊維焼結ステンレスフィルターの２〜４５倍、より好ましくは２．５〜４０倍、更には３〜３５倍が最も好ましい。粉末焼結ステンレスフィルターの濾過精度が繊維焼結ステンレスフィルターの２倍より小さい場合、特に製膜が長時間になるに従い、ポリマー圧力が変動しやすい、もしくは上昇しやすくなって、ポリマー圧力制御が難しくなることがある。一方、４５倍より大きい場合には特に製膜が長時間になるに従い、有機系異物捕集の効果が低下しやすくなる。
【００６４】
さらにフィルターの温度は変性ポリマー抑制の観点から２６０〜２８０℃が好ましく、より好ましくは２６０〜２７５℃である。さらに押出機に対する温度勾配を、押出機入り側＜フィルター＜押出機出側とすることは、押出圧力の安定性および不活性粒子凝集の抑制を高める点で好ましい態様である。
【００６５】
続いて温度２８５〜３１０℃としたスリット状のスリットダイからシート状に溶融ポリマーを押し出し、表面温度２０〜３５℃のキャスティングロール上でこのポリマーを冷却固化させて未延伸フィルムとする。すなわち、複数の押出機、複数のマニホールド又は合流ブロック（例えば矩形合流部を有する合流ブロック）を用いて必要な層数を積層させ、Ｔダイ等の口金からシートを押し出して、キャスティングロールで冷却させて未延伸フィルムを得る。この場合、背圧の安定化及び厚さ変動の抑制の観点からは、ポリマー流路にスタティックミキサーやギアポンプを設置することが有効である。
【００６６】
続いて、上記未延伸フィルムを長手方向と長手方向に直角な幅方向の二軸に延伸した後、熱処理する。延伸工程は、特に限定されないが、各方向において２段階以上に分けて延伸することが好ましい。すなわち、再縦、再横延伸を行うことが高密度記録の磁気テープとして最適な高強度のフィルムが得られやすいため好ましい。
【００６７】
延伸方法は、同時二軸延伸であっても、逐次二軸延伸であってもよい。同時二軸延伸はロールによる延伸を伴わないため、フィルム表面の局所的な加熱が発生せず、表面性が制御しやすい点で好ましく、逐次二軸延伸は延伸倍率と延伸パターンの組合せにより、より高配向で高強度のフィルムが得られる点で好ましい方法である。
【００６８】
例えば逐次二軸延伸では、未延伸フィルムを数本のロールの配置された縦延伸機を用いて、ロールの周速差を利用して長手方向に縦延伸し、続いてステンターにより幅方向に横延伸を行う。縦延伸温度は用いるポリマーの種類によって異なるが、未延伸フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）を目安として決めることができ、Ｔｇ−１０〜Ｔｇ＋１５℃の範囲であることが好ましく、より好ましくはＴｇ℃〜Ｔｇ＋１０℃である。上記範囲より縦延伸温度が低い場合には、フィルム破れが多発して生産性が低下しやすい。一方で上記範囲より縦延伸温度が高い場合、フィルムの強度が不足して所望のヤング率を得ることが難しくなる他、縦延伸ロールにフィルムが粘着して延伸ムラになりやすい。縦延伸倍率は２．５〜４．０倍が好ましく、より好ましくは２．８〜３．８倍、さらに好ましくは３．０〜４．０倍である。
【００６９】
次の横延伸では温度を縦延伸フィルムの冷結晶化温度（Ｔｃｃ）を目安として、Ｔｃｃ−１５〜Ｔｃｃ＋５℃の範囲が好ましく、より好ましくはＴｃｃ−１０〜Ｔｃｃ＋５℃である。上記範囲より横延伸温度が低い場合、高い場合のいずれもフィルム破れが多発して生産性が低下しやすい。横延伸倍率は３．０〜５．０倍が好ましく、より好ましくは３．２〜４．７倍、さらに好ましくは３．５〜４．５倍である。
【００７０】
磁気テープに必要な強度を得る観点から、必要に応じて、好ましくは温度１２０〜１９０℃で、より好ましくは１３０〜１８０℃で、再度長手方向に、好ましくは１．１〜１．８倍、より好ましくは１．２〜１．６倍で再縦延伸を行うことが好ましい。再縦延伸倍率が１．１倍以上であることにより十分な強度が得られるので好ましく、再縦延伸倍率が１．８倍以下であることにより製造過程でのフィルム破れを抑制できるので好ましい。
【００７１】
その後、必要に応じて、好ましくは温度１６０〜２１０℃で、より好ましくは１７０〜２００℃で、再度幅方向に、好ましくは１．０１〜１．７倍、より好ましくは１．０２〜１．６倍で再横延伸を行うことが好ましい。再横延伸倍率が１．０１倍以上であることにより十分な平面性が得られるので好ましく、再横延伸倍率が１．７倍以下であることにより製造過程でのフィルム破れを抑制できるので好ましい。
【００７２】
延伸ムラを防止する観点から、長手方向及び幅方向の合計延伸倍率は、例えば８〜４０倍、好ましくは１０〜３５倍、さらに好ましくは１５〜３０倍とすることが好ましい。延伸倍率を８倍以上とすることにより、磁気テープ用として十分な強度が得られるので好ましい。また、延伸倍率を４０倍以下とすることにより、製造過程でのフィルム破れを抑制できるので好ましい。
【００７３】
その後、例えば１８０〜２３５℃で、好ましくは１９０〜２２５℃で、例えば０．５〜２０秒間、好ましくは１〜１５秒間熱固定を行う。熱固定温度が１８０℃以上であることにより、フィルムの結晶化が進んで構造を安定化できるので好ましい。また、熱固定温度を２３５℃以下とすることにより、ポリエステル非晶鎖部分の緩和が進むことに伴うヤング率の低下を抑制できるので、磁気テープ用として十分な強度を得やすいとの観点から好ましい。その後、長手方向及び／又は幅方向に例えば０．５〜７．０％、好ましくは０．５〜６．５％の弛緩処理を施すことが、フィルムの平面安定性向上あるいは保管中や磁気テープ加工時の縮み防止の観点から好ましい。
【００７４】
次に、磁気記録媒体（磁気テープ）を製造する方法を説明する。
【００７５】
上記のようにして得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムを、磁気記録媒体用ベースフィルムとして、例えば０．１〜３ｍ幅にスリットし、速度２０〜３００ｍ／ｍｉｎ、張力５０〜３００Ｎ／ｍで搬送しながら、一方の面（表面Ａ）に磁性塗料および非磁性塗料をエクストルージョンコーターにより重層塗布する。この時、上層に磁性塗料を乾燥後の厚み０．１〜０．３μｍ、下層に非磁性塗料を乾燥後の厚み０．５〜１．５μｍとなるように塗布する。その後、磁性塗料および非磁性塗料が塗布された支持体を磁気配向させ、温度８０〜１３０℃で乾燥させる。次いで、反対側の面（表面Ｂ）にバックコートを乾燥後の厚み０．３〜０．８μｍとなるように塗布し、カレンダー処理した後、巻き取る。なお、カレンダー処理は、小型テストカレンダー装置（スチール／ナイロンロール、５段）を用い、温度７０〜１２０℃、線圧０．５〜５ｋＮ／ｃｍで行う。その後、６０〜８０℃にて２４〜７２時間エージング処理し、１／２インチ（１２．６５ｍｍ）幅にスリットし、パンケーキを作製する。次いで、このパンケーキから特定の長さ分をカセットに組み込んで、カセットテープ型磁気記録媒体とする。
【００７６】
このようにして得られた磁気記録媒体は、例えば、塗布型デジタル記録方式の磁気記録媒体用ベースフィルムとして好適に用いられる。より具体的には、ＨＤＣＡＭ、ＤＶＣ−ｐｒｏ、デジタルベータカム、ＨＤＶ、あるいはＤＬＴ、ＬＴＯ、データ８ｍｍ、ＤＤＳ等のメタル塗布型磁気記録媒体に好適であり、映像などのデジタル画像の記録用途、コンピュータデータのバックアップ用途等に好適に用いることができる。特に、本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムの特性を活かせる観点から、ＤＬＴ、ＬＴＯ、ＤＶＣ−ｐｒｏ用途に最も好適に用いることができる。
【００７７】
（物性の測定方法ならびに効果の評価方法）
本発明における特性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の通りである。
【００７８】
（１）耐熱性熱可塑性樹脂濃度  ＷＡ及びＷＢの評価方法
耐熱性熱可塑性樹脂濃度ＷＡ及びＷＢは、下記式により質量平均値として求める。なお、下記の式は２層構造、３層構造の場合であるが、４層以上の積層の場合も同様である。
【００７９】
２層構造の場合、Ａ層及びＢ層の厚さをＴＡ及びＴＢとし、Ａ層及びＢ層中の耐熱性熱可塑性樹脂濃度をＷａ、Ｗｂとする。Ａ層の厚さが全体の１／２以上またはＢ層の厚さ以上（ＴＡ≧Ｔ／２≧ＴＢ）場合、フィルムの全厚さをＴとすると、計算式は以下の通りである。
【００８０】
ＷＡ＝Ｗａ
ＷＢ＝〔Ｗａ×（Ｔ／２−ＴＢ）＋Ｗｂ×ＴＢ〕／（Ｔ／２）
一方、Ｂ層の厚さが全体の１／２以上またはＡ層の厚さ以上（ＴＢ≧Ｔ／２≧ＴＡ）場合には、計算式は以下の通りである。
【００８１】
ＷＡ＝〔Ｗａ×ＴＡ＋Ｗｂ×（Ｔ／２−ＴＡ）〕／（Ｔ／２）
ＷＢ＝Ｗｂ
３層構造の場合、Ａ層、Ｂ層、Ｃ層の厚さをＴＡ、ＴＢ、ＴＣとし、Ａ層、Ｂ層、Ｃ層中の耐熱性熱可塑性樹脂濃度をＷａ、Ｗｂ、Ｗｃとする。Ａ層の厚さが全体の１／２以上またはＢ層＋Ｃ層の厚さ以上（ＴＡ≧Ｔ／２≧（ＴＢ＋ＴＣ））場合、フィルムの全厚さをＴとすると、計算式は以下の通りである。
【００８２】
ＷＡ＝Ｗａ
ＷＢ＝〔Ｗａ×（Ｔ／２−ＴＢ−ＴＣ）＋Ｗｂ×ＴＢ＋Ｗｃ×ＴＣ〕／（Ｔ／２）
一方、Ｂ層の厚さが全体の１／２以上またはＡ層＋Ｃ層の厚さ以上（ＴＢ≧Ｔ／２≧（ＴＡ＋ＴＣ））場合、計算式は以下の通りである。
【００８３】
ＷＡ＝〔Ｗａ×ＴＡ＋Ｗｂ×（Ｔ／２−ＴＡ−ＴＣ）＋Ｗｃ×ＴＣ〕／（Ｔ／２）
ＷＢ＝Ｗｂ
一方、Ｃ層の厚さが全体の１／２以上またはＡ層＋Ｂ層の厚さ以上（ＴＣ≧Ｔ／２≧（ＴＡ＋ＴＢ））場合、計算式は以下の通りである。
【００８４】
ＷＡ＝〔Ｗａ×ＴＡ＋Ｗｃ×（Ｔ／２−ＴＡ）〕／（Ｔ／２）
ＷＢ＝〔Ｗｂ×ＴＢ＋Ｗｃ×（Ｔ／２−ＴＢ）〕／（Ｔ／２）
なお、Ｗａ、Ｗｂ、Ｗｃの評価方法は、プラズマ低温灰化処理法により不要な層を灰化及び除去した上で、次の通り行った。
【００８５】
前処理    ：凍結粉砕、減圧乾燥（常温、２時間）
測定方法  ：酸化分解、減圧化学発光法による全窒素分析
反応炉で気化・酸化させ、生成した一酸化窒素を化学発光法により測定
なお、定量は予め作成した検量線により濃度計算して行った。定量に際しては、３回測定し、それらの平均値を求めた。全窒素分析による定量が困難な場合には、１Ｈ核のＮＭＲ（核磁気共鳴法）により定量を行った。
【００８６】
（２）フィルム全体の厚み（総厚み）、およびＡ層、Ｂ層、Ｃ層の厚み
フィルム全体の厚みはマイクロメーターにてランダムに１０点測定し、その平均値を用いた。１点の測定に当たっては１０枚を採取した試験片を全て重ねた状態で測定した。最終的に平均値を試験片の重ね合わせ枚数（１０）で除した値をフィルム全体厚みとした。
【００８７】
また、Ａ層、Ｂ層、Ｃ層の厚みについては、フィルム断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により２０，０００倍で観察した。ＴＥＭの切片厚さは約１００ｎｍとし、含有粒子径及び粒子濃度をもとに界面の観察結果から各層の厚みを評価した。
【００８８】
なお、上記による観察が困難な場合、二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて評価した。表面からエッチングしながら、粒子又は耐熱性熱可塑性樹脂に起因する元素濃度のデプスプロファイルを測定し、各層の厚みを評価した。ＳＩＭＳでの測定が難しい（例えば、シリコーン樹脂以外のポリマー粒子）場合は、表面をエッチング処理しながらフーリエ変換顕微赤外分光法（顕微ＦＴ−ＩＲ法）、あるいはＸ線光電分光法（ＸＰＳ法）等を使用する。
【００８９】
（３）不活性粒子Ａ、Ｂ１、Ｂ２の平均粒径（ｄＡ、ｄＢ１、ｄＢ２）
ポリエステルフィルムの表面Ａ（Ａ層側表面）および表面Ｂ（Ｂ層側表面）から、ポリエステル樹脂をプラズマ低温灰化処理法（たとえばヤマト科学製ＰＲ-５０３型）で除去し粒子を露出させる。処理条件は、ポリエステル樹脂は灰化されるが粒子はダメージを受けない条件を選択する。これを白金／パラジウム＝８５／１５（質量比）のイオンコーティング処理を施した上で、ＳＥＭ（（株）日立ハイテクノロジーズ製Ｓ−３４００Ｎ形走査電子顕微鏡）を用いて１０，０００倍で観察し、観察箇所を変えて粒子数が合計で１，０００個以上となるよう撮影した。得られた粒子の画像写真に、ＯＨＰフィルムを重ねて、写真の粒子部分を黒マジックで塗りつぶしてマーキングした。このＯＨＰフィルムを、イメージアナライザー（シーオン社製画像解析ソフト）で数値処理を行い、得られた各粒子の面積データ（μｍ２）を等価円相当径に換算した。さらに全粒子の数平均径を平均粒径とした。
【００９０】
なお、不活性粒子Ｂ１、Ｂ２のように粒径の異なる２種類以上の粒子が存在する場合には、上記の等価円相当径の粒子個数分布が２個以上のピークを有する分布となる。そのため、等価円相当径換算で得たデータを、Ｘ軸を粒径（０．０１μｍ単位）、Ｙ軸を個数としてプロットし、粒子個数が最大値となる粒径を第１のピークとして不活性粒子Ｂ１の平均粒径ｄＢ１とした。次に第１のピークよりも粒径が大きい側について、粒子個数がピークとなる粒径の中で粒子個数が第１のピークに次いで多い粒径を不活性粒子Ｂ２の平均粒径ｄＢ２とした。
【００９１】
（４）３次元中心線表面粗さｓＲａ−Ａ、ｓＲａ−Ｂ、および二乗平均平方根粗さｓＲｑ−Ａ、ｓＲｑ−Ｂ
非接触表面・層断面形状計測システム（（株）菱化システム製VertScan2.0、型式R5300GL-Lite-AC）を用いて、フィルムの平滑面（表面Ａ、Ａ層側表面）、反対面（表面Ｂ、Ｂ層側表面）を以下の条件で測定した。
【００９２】
＜光学条件＞       
ＣＣＤカメラ    1/2インチ
対物レンズ      ５０倍
鏡筒            ０．５倍
ズームレンズ    No Relay
波長フィルタ    530 white
＜測定条件＞
表面測定モード  Wave
測定レンジ      ±１０μｍ
視野サイズ      640×480
スキャンレンジ  スタート：10、ストップ：-20
上記条件で測定して得た表面性データを、「面補正：多項式近似、４次、補間：完全」の条件で処理して求めた。なお、フィルムＡ層側表面（表面Ａ）、Ｂ層側表面（表面Ｂ）から任意に選んだ５箇所で測定した平均値を３次元中心線表面粗さ、二乗平均平方根粗さとした。
【００９３】
（５）カッピング
幅方向５０ｍｍ、長さ方向３００ｍｍの短冊を切り出し、１１０℃で３０分間加熱後、下記の条件で１０分間保管した。この短冊を、長さ方向を縦にして鉛直に無張力で把持し、５０ｍｍ幅の両端を結んだ線と、短冊の中央部（両端から２５ｍｍ部分）を通り上記線と平行な線との距離をカッピングとして評価した。Ａ面側が凸な場合を−（マイナス）、Ｂ面側が凸な場合を＋（プラス）として評価した。
【００９４】
保管・環境測定：温度２３℃、湿度６５％ＲＨ
測定回数      ：５回測定し、平均値から算出
測定位置      ：長さ方向の中央部（両端から１５０ｍｍ）
なお、既に述べたように、本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムは、熱処理により自身が＋カッピングして、塗布された塗材の乾燥収縮による−カッピングを緩和させることを特徴とする。塗材の乾燥収縮によるカッピングの緩和を行うためには、０．０〜＋０．５ｍｍのカッピング（すなわち、Ａ面側が凹となる、絶対値で０．０〜０．５ｍｍのカッピング）を持つことが望ましい。そこで、カッピングについては、下記の基準で評価した。
【００９５】
◎：カッピングが０．０ｍｍ以上＋０．３ｍｍ以下（最も望ましい）
○：カッピングが＋０．３ｍｍよりも大きく＋０．５ｍｍ以下（望ましい）
×：カッピングが０．０ｍｍよりも小さい、あるいは＋０．５ｍｍよりも大きい（使用不可）
（６）ヤング率
ＡＳＴＭ−Ｄ８８２（１９９０年）に準拠して測定した。なお、測定条件は下記の通りとし、５回の測定結果の平均値を本発明におけるヤング率とした。
【００９６】
測定装置  ：オリエンテック社製引張試験機（テンシロンタイプ）
試料サイズ：幅１０ｍｍ×試長間１００ｍｍ
引張り強度：２００ｍｍ／分
測定環境  ：温度２３℃、湿度６５％ＲＨ
測定回数  ：５回
（７）湿度膨張係数
フィルム幅方向に対して下記条件にて測定を行い、３回の測定結果の平均値を本発明における湿度膨張係数とする。
【００９７】
・測定装置：島津製作所製熱機械分析装置ＴＭＡ−５０（湿度発生器：アルバック理工製湿度雰囲気調節装置ＨＣ−１）
・試料サイズ：フィルム長手方向１０ｍｍ×フィルム幅方向１２．６ｍｍ
・荷重    ：０．５ｇ
・測定回数：３回
・測定温度：３０℃
・測定湿度：４０％ＲＨで６時間保持し寸法を測定し時間４０分で８０％ＲＨまで昇湿し、８０％ＲＨで６時間保持したあと支持体幅方向の寸法変化量ΔＬ（ｍｍ）を測定する。次式から湿度膨張係数（ｐｐｍ／％ＲＨ）を算出する。
【００９８】
・湿度膨張係数（ｐｐｍ／％ＲＨ）＝１０６×｛（ΔＬ／１２．６）／（８０−４０）｝
（８）磁気テープの作製
実施例、比較例で得た二軸配向積層ポリエステルフィルムを１ｍ幅にスリットした後、張力２００Ｎで搬送させ、支持体としてフィルムの平滑面（表面Ａ、Ａ層側表面）に下記組成の磁性塗料および非磁性塗料をエクストルージョンコーターにより塗布し（上層が磁性塗料で乾燥後の塗布厚み０．１μｍ、下層が非磁性塗料で塗布厚み１．０μｍ）、磁気配向させ、乾燥温度１００℃で乾燥させた。次いで反対側のＢ層側表面（表面Ｂ）に下記組成のバックコートを塗布し（乾燥後の塗布厚み０．５μｍ）、乾燥温度１００℃で乾燥させた後、小型テストカレンダー装置（スチール／ナイロンロール、５段）で、温度８５℃、線圧２．０×１０５Ｎ／ｍでカレンダー処理した後、巻き取った。上記テープ原反を１／２インチ（１２．６５ｍｍ）幅にスリットし、パンケーキを作成し、次いで、このパンケーキから長さ２００ｍ分をカセットに組み込んで、カセットテープとした。
（磁性塗料の組成）
・強磁性金属粉末                                        ：  １００質量部
〔Ｆｅ：Ｃｏ：Ｎｉ：Ａｌ：Ｙ：Ｃａ＝７０：２４：１：２：２：１(質量比)〕
〔長軸長：０．０９μｍ、軸比：６、保磁力：１５３ｋＡ／ｍ（１，９２２Ｏｅ）、飽和磁化：１４６Ａｍ２／ｋｇ（１４６ｅｍｕ／ｇ）、ＢＥＴ比表面積：５３ｍ２／ｇ、Ｘ線粒径：１５ｎｍ〕
・変成塩化ビニル共重合体（結合剤）                      ：    １０質量部
（平均重合度：２８０、エポキシ基含有量：３．１質量％、スルホン酸基含有量：８×１０−５当量／ｇ）
・変成ポリウレタン（結合剤）                            ：    １０質量部
（数平均分子量：２５，０００、スルホン酸基含有量：１．２×１０−４当量／ｇ、ガラス転移点：４５℃）
・ポリイソシアネート（硬化剤）                          ：      ５質量部
（日本ポリウレタン工業（株）製コロネートＬ（商品名））
・２−エチルヘキシルオレート（潤滑剤）                  ：  １．５質量部
・パルミチン酸（潤滑剤）                                ：      １質量部
・カーボンブラック（帯電防止剤）                        ：      １質量部
（平均一次粒子径：０．０１８μｍ）
・アルミナ（研磨剤）                                    ：    １０質量部
（αアルミナ、平均粒子径：０．１８μｍ）
・メチルエチルケトン                                    ：    ７５質量部
・シクロヘキサノン                                      ：    ７５質量部
・トルエン                                              ：    ７５質量部
（非磁性塗料の組成）
・変成ポリウレタン                                      ：    １０質量部
（数平均分子量：２５，０００、スルホン酸基含有量：１．２×１０−４当量／ｇ、ガラス転移点：４５℃）
・変成塩化ビニル共重合体                                ：    １０質量部
（平均重合度：２８０、エポキシ基含有量：３．１質量％、スルホン酸基含有量：８×１０−５当量／ｇ）
・メチルエチルケトン                                    ：    ７５質量部
・シクロヘキサノン                                      ：    ７５質量部
・トルエン                                              ：    ７５質量部
・ポリイソシアネート                                    ：      ５質量部
（日本ポリウレタン工業（株）製コロネートＬ（商品名））
・２−エチルヘキシルオレート（潤滑剤）                  ：  １．５質量部
・パルミチン酸（潤滑剤）                                ：      １質量部
（バックコートの組成）
・カーボンブラック                                      ：    ９５質量部
（帯電防止剤、平均一次粒子径０．０１８μｍ）
・カーボンブラック                                      ：    １０質量部
（帯電防止剤、平均一次粒子径０．３μｍ）
・アルミナ                                              ：  ０．１質量部
（αアルミナ、平均粒子径：０．１８μｍ）
・変成ポリウレタン                                      ：    ２０質量部
（数平均分子量：２５，０００、スルホン酸基含有量：１．２×１０−４当量／ｇ、ガラス転移点：４５℃）
・変成塩化ビニル共重合体                                ：    ３０質量部
（平均重合度：２８０、エポキシ基含有量：３．１質量％、スルホン酸基含有量：８×１０−５当量／ｇ）
・シクロヘキサノン                                      ：  ２００質量部
・メチルエチルケトン                                    ：  ３００質量部
・トルエン                                              ：  １００質量部
（９）電磁変換特性（Ｃ／Ｎ）
上記（８）の方法で作製したカセットテープを、リールｔｏリールテスターおよび市販のＭＲヘッドを用いて下記の条件でＣ／Ｎを測定した。
【００９９】
相対速度：２ｍ／秒
記録トラック幅：１８μｍ
再生トラック幅：１０μｍ
シールド間距離：０．２７μｍ
記録用信号発生器：ヒューレットパッカード社製８１１８Ａ
再生信号処理：スペクトラムアナライザー
このＣ／Ｎ結果を市販のＬＴＯ５テープ（富士フイルム（株）製）と比較して、下記の基準で評価した。
【０１００】
○：０ｄＢ以上（望ましい）
△：−２ｄＢ以上０ｄＢ未満（実用的に使用可能）
×：−２ｄＢ未満（使用不可）
（１０）エラーレート
上記（８）の方法で作製したカセットテープを、市販のＩＢＭ社製ＬＴＯドライブ３５８０−Ｌ１１を用いて、２５℃６５％ＲＨの環境下で記録・再生（記録波長０．５５μｍ）を５０回繰り返した後、下記の基準で評価した。
【０１０１】
◎：エラーレートが１．０×１０−６未満（最も望ましい）
○：エラーレートが１．０×１０−６以上、１．０×１０−５未満（望ましい）
△：エラーレートが１．０×１０−５以上、１．０×１０−４未満（実用的に使用可能）
×：エラーレートが１．０×１０−４以上（使用不可）
エラーレートはドライブから出力されるエラー情報（エラービット数）から次式にて算出する。
【０１０２】
エラーレート＝（エラービット数）／（書き込みビット数）
（１１）幅寸法安定性（幅寸法変化率）
上記（８）の方法で作製したカセットテープのカートリッジからテープを取り出し、下記恒温恒湿槽内へ図１のように作製したシート幅測定装置を入れ、幅寸法測定を行う。なお、図１に示すシート幅測定装置は、レーザーを使って幅方向の寸法を測定する装置で、磁気テープ９をフリーロール５〜８上にセットしつつ荷重検出器３に固定し、端部に荷重となる分銅４を吊す。この磁気テープ９にレーザー光１０を照射すると、レーザー発振器１から幅方向に線状に発振されたレーザー光１０が磁気テープ９の部分だけ遮られ、受光部２に入り、その遮られたレーザーの幅が磁気テープの幅として測定される。３回の測定結果の平均値を本発明における幅とする。
【０１０３】
・測定装置：（株）アヤハエンジニアリング社製シート幅測定装置
・レーザー発振器１、受光部２：レーザー寸法測定機  キーエンス社製ＬＳ−５０４０
・荷重検出器３：ロードセル  ＮＭＢ社製ＣＢＥ１−１０Ｋ
・恒温恒湿槽：（株）カトー社製ＳＥ−２５ＶＬ−Ａ
・荷重４：分銅（長手方向）
・試料サイズ：幅１／２ｉｎｃｈ×長さ２５０ｍｍ
・保持時間：５時間
・測定回数：３回測定。
【０１０４】
次に下記Ａ、Ｂ条件でそれぞれ幅寸法（ｌＡ、ｌＢ）を測定した。すなわち、Ａ条件で２４時間経過後ｌＡを測定して、その後Ｂ条件で２４時間経過後にｌＢを測定する。測定箇所はテープカートリッジのはじめから３０ｍ地点から切り出したサンプル、１００ｍ地点から切り出したサンプル、１７０ｍ地点から切り出したサンプルの３点を測定し、その平均値を幅寸法とした。
【０１０５】
Ａ条件：１０℃１０％ＲＨ  張力０．８Ｎ
Ｂ条件：２９℃８０％ＲＨ  張力０．５Ｎ
さらに得られた幅寸法（ｌＡ、ｌＢ）を基にして、次式にて幅寸法変化率を算出した。
【０１０６】
幅寸法変化率（ｐｐｍ）＝１０６×（（ｌＢ−ｌＡ）／ｌＡ）
このようにして得られた幅寸法変化率から、次の基準で幅寸法安定性を評価した。△を実用的に使用可能、×を不合格とする。
【０１０７】
◎：幅寸法変化率の最大値が５００（ｐｐｍ）未満
○：幅寸法変化率の最大値が５００（ｐｐｍ）以上６００（ｐｐｍ）未満
△：幅寸法変化率の最大値が６００（ｐｐｍ）以上７００（ｐｐｍ）未満
×：幅寸法変化率の最大値が７００（ｐｐｍ）以上
（１２）フィルム製膜性
フィルムの製膜性について、下記の基準で評価した。
【０１０８】
◎：フィルム破れの発生が全く無く、安定製膜である（最も望ましい）。
【０１０９】
○：フィルム破れの発生がほとんどなく、安定製膜が可能である（望ましい）。
【０１１０】
△：フィルム破れが時々発生し、製膜安定性が若干低い（実用的に製膜可能）。
【０１１１】
×：フィルム破断が多数発生し、製膜安定性が低い（実用的に製膜不可）。
【０１１２】
（１３）スリット性
上記（６）において、フィルムを１ｍ幅のロール状にスリットする際、およびテープ原反を１／２インチ（１２．６５ｍｍ）幅のロール状にスリットする際のスリット性について、下記の基準で評価した。なお、スリット後とは、スリット完了後３０分経過した後の状態を表す。
【０１１３】
◎：スリット中およびスリット後のロールにシワや巻きズレの発生が全く無く、安定である（最も望ましい）。
【０１１４】
○：スリット中およびスリット後のロールにシワや巻きズレがほとんどなく、安定したスリットが可能である（望ましい）。
【０１１５】
△：スリット中のロールにシワや巻きズレが時々発生するか、スリット後のロールの一部にシワが発生し、スリット安定性が若干低い（実用的にスリット可能）。
【０１１６】
×：スリット中のロールにシワや巻きズレが連続して発生し、スリット後のロールの全面にシワあるいは部分的でも強いシワが発生し、スリット安定性が低い（実用的にスリット不可）。
【０１１７】
（１４）歩留まり
フィルムおよび磁気テープの歩留まりについて、下記の基準で評価した。なお、キズについては表面の目視検査（フィルムは透過および反射方式、磁気テープは反射方式）を実施した。
【０１１８】
◎：キズの発生が全く無い（最も望ましい）。
【０１１９】
○：キズの発生がほとんどない（望ましい）。
【０１２０】
△：キズが時々発生する（実用的に生産可能）。
【０１２１】
×：キズが多数発生する（実用的に生産不可）。
【０１２２】
（１５）ガラス転移温度（Ｔｇ）、冷結晶化温度（Ｔｃｃ）
示差走査熱量計として（株）島津製作所製ＤＳＣ−６０ＰＬＵＳ、データ解析装置として同社製サイマルアナライザーＴＡ−６０ＷＳを用いて、試料１０ｍｇをアルミニウム製受皿上、３０℃から３００℃まで、昇温速度２０℃／分で昇温した後、室温で急冷した。この急冷試料を再度２０℃／分で昇温し、ガラス転移温度Ｔｇを検知した。その後さらに昇温を続け、ガラス状態からの結晶化発熱ピーク温度をもって冷結晶化温度Ｔｃｃとした。
【実施例】
【０１２３】
次の実施例に基づき、本発明の実施形態を説明する。なお、ポリエチレンテレフタレートをＰＥＴ、ポリエーテルイミドをＰＥＩと表記する。
【０１２４】
（１）ＰＥＴペレットの作製：テレフタル酸ジメチル１９４質量部とエチレングリコール１２４質量部とをエステル交換反応装置に仕込み、内容物を１４０℃に加熱して溶解した。その後、内容物を撹拌しながら酢酸マグネシウム四水和物０．３質量部および三酸化アンチモン０．０５質量部を加え、１４０〜２３０℃でメタノールを留出しつつエステル交換反応を行った。次いで、リン酸トリメチルの５質量％エチレングリコール溶液を０．５質量部（リン酸トリメチルとして０．０２５質量部）とリン酸二水素ナトリウム２水和物の５質量％エチレングリコール溶液を０．３質量部（リン酸二水素ナトリウム２水和物として０．０１５質量部）添加した。
【０１２５】
トリメチルリン酸のエチレングリコール溶液を添加すると反応内容物の温度が低下する。そこで余剰のエチレングリコールを留出させながら反応内容物の温度が２３０℃に復帰するまで撹拌を継続した。このようにしてエステル交換反応装置内の反応内容物の温度が２３０℃に達した後、反応内容物を重合装置へ移行した。
【０１２６】
移行後、反応系を２３０℃から２９０℃まで徐々に昇温するとともに、圧力を０．１ｋＰａまで下げた。最終温度、最終圧力到達までの時間はともに６０分とした。最終温度、最終圧力に到達した後、２時間（重合を始めて３時間）反応させたところ、重合装置の撹拌トルクが所定の値（重合装置の仕様によって具体的な値は異なるが、本重合装置にて固有粘度０．６２のポリエチレンテレフタレートが示す値を所定の値とした）を示した。そこで反応系を窒素パージし常圧に戻して重縮合反応を停止し、冷水にストランド状に吐出、直ちにカッティングして固有粘度０．６２のポリエチレンテレフタレートのＰＥＴペレットを得た（原料−１）。
【０１２７】
（２−ａ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、上述のＰＥＴペレット（原料−１）を９５質量部と数平均粒径（材料平均粒径）０．０６０μｍのコロイダルシリカ粒子の１０質量％水スラリーを５質量部（コロイダルシリカ粒子として０．５質量部）を供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、コロイダルシリカ粒子を０．５質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料−２ａ）を得た。
【０１２８】
（２−ｂ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、上述のＰＥＴペレット（原料−１）を８０質量部と数平均粒径（材料平均粒径）０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子の１０質量％水スラリーを２０質量部（架橋ポリスチレン粒子として２質量部）を供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、架橋ポリスチレン粒子を２質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料−２ｂ）を得た。
【０１２９】
（２−ｃ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、上述のＰＥＴペレット（原料−１）を８０質量部と数平均粒径（材料平均粒径）０．８０μｍの架橋ポリスチレン粒子の２質量％水スラリーを５質量部（架橋ポリスチレン粒子として０．１質量部）を供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、架橋ポリスチレン粒子を１質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料−２ｃ）を得た。
【０１３０】
（２−ｄ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：数平均粒径（材料平均粒径）０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子の代わりに、数平均粒径（材料平均粒径）０．２５μｍの架橋ポリスチレン粒子を用いたこと以外は、（２−ｂ）と同様の方法で平均粒径０．２５μｍの架橋ポリスチレン粒子を２質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料−２ｄ）を得た。
【０１３１】
（２−ｅ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：数平均粒径（材料平均粒径）０．８０μｍの架橋ポリスチレン粒子の代わりに、数平均粒径（材料平均粒径）１．０μｍの架橋ポリスチレン粒子を用いたこと以外は、（２−ｃ）と同様の方法で平均粒径１．０μｍの架橋ポリスチレン粒子を１質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料−２ｅ）を得た。
【０１３２】
（２−ｆ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：数平均粒径（材料平均粒径）０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子の代わりに、数平均粒径（材料平均粒径）０．４５μｍの架橋ポリスチレン粒子を用いたこと以外は、（２−ｂ）と同様の方法で数平均粒径（材料平均粒径）０．４５μｍの架橋ポリスチレン粒子を２質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料−２ｆ）を得た。
【０１３３】
（２−ｇ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：数平均粒径（材料平均粒径）０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子の代わりに、数平均粒径（材料平均粒径）０．５５μｍの架橋ポリスチレン粒子を用いたこと以外は、（２−ｂ）と同様の方法で数平均粒径（材料平均粒径）０．５５μｍの架橋ポリスチレン粒子を２質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料−２ｇ）を得た。
【０１３４】
（２−ｈ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：数平均粒径（材料平均粒径）０．０６０μｍのコロイダルシリカ粒子の代わりに、数平均粒径（材料平均粒径）０．０３０μｍのコロイダルシリカ粒子を用いたこと以外は、（２−ａ）と同様の方法で数平均粒径（材料平均粒径）０．１０μｍのコロイダルシリカ粒子を１質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料−２ｈ）を得た。
【０１３５】
（２−ｉ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、上述のＰＥＴペレット（原料−１）を９０質量部と数平均粒径（材料平均粒径）０．２０μｍのコロイダルシリカ粒子の１０質量％水スラリーを２０質量部（コロイダルシリカ粒子として２質量部）を供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、コロイダルシリカ粒子を２質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料−２ｉ）を得た。
【０１３６】
（３）２成分組成物（ＰＥＴ／ＰＥＩ）ペレットの作製：温度２８０℃に加熱されたニーディングパドル混練部を３箇所設けた同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機（日本製鋼所製、スクリュー直径３０ｍｍ、スクリュー長さ／スクリュー直径＝４５．５）に、上記方法で得られたＰＥＴペレット（原料−１）とＳＡＢＩＣイノベーティブプラスチック社製のＰＥＩ“Ｕｌｔｅｍ”（登録商標）１０１０のペレットを供給して、剪断速度１００ｓｅｃ−１、滞留時間１分にて溶融押出し、ＰＥＩを５０質量％含有した２成分組成物ペレットを得た。なお、作製した２成分組成物ペレットのガラス転移温度は１５０℃であった（原料−３）。
【０１３７】
（実施例１）
押出機Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３の３台を用い、入り側を２５５℃、出側を２７５℃に加熱された押出機Ｅ１には、Ａ層原料として、ＰＥＴペレット（原料−１）を７７．８質量部、数平均粒径（材料平均粒径）０．０６０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ａ）２０質量部、ＰＥＩ含有した２成分組成物ペレット（原料−３）２．２質量部を配合し、１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。同じく２８０℃に加熱された押出機Ｅ２には、Ｂ層原料として、Ａ層で用いたＰＥＴペレット（原料−１）を６７質量部、平均粒径０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｂ）２３質量部、平均粒径０．８０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｃ）１０質量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。同じく２８０℃に加熱された押出機Ｅ３には、Ｃ層原料として、Ａ層で用いたＰＥＴペレット（原料−１）を８０質量部、ＰＥＩ含有した２成分組成物ペレット（原料−３）２０質量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。
【０１３８】
さらに押出機Ｅ１でＡ層原料を溶融した後、２７０℃の繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度１．４μｍ）／粉末焼結ステンレスフィルター（濾過精度２０μｍ）で濾過した。また押出機Ｅ２でＢ層原料を溶融した後、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度６．０μｍ）で濾過した。また押出機Ｅ３でＣ層原料を溶融した後、繊維焼結ステンレスフィルター（濾過精度６．０μｍ）で濾過した。
【０１３９】
次いでＡ層、Ｂ層、Ｃ層を３層積層するべく矩形の３層用合流ブロック中で積層厚み比（Ａ層｜Ｃ層｜Ｂ層）＝１１｜３｜２とし、Ｂ層側がキャストドラム面側になるように合流させた後、２９５℃に保ったスリットダイを介して表面温度２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し、積層未延伸フィルムを作製した。
【０１４０】
この積層未延伸フィルムをロール式延伸機にて１１３℃で長手方向に３．１倍延伸した（ＭＤ延伸１）。この延伸は２組ずつのロールの周速差を利用して行った。
【０１４１】
得られた一軸延伸フィルムの両端をクリップで把持しながらテンター内の９５℃の温度の予熱ゾーンに導き、引き続き連続的に９２℃の温度の加熱ゾーンで長手方向に直角な幅方向（ＴＤ方向）に３．４倍延伸した（ＴＤ延伸１）。
【０１４２】
得られた二軸延伸フィルムをロール式延伸機にて１４２℃で長手方向に１．３３倍延伸した（ＭＤ延伸２）。この延伸は２組ずつのロールの周速差を利用して行った。
【０１４３】
さらに続いて１９２℃の温度の加熱ゾーンでに幅方向に１．３２倍延伸した（ＴＤ延伸２）。引き続いて、テンター内の熱処理ゾーンで２０７℃の温度で１０秒間の熱処理を施し、さらに１５０℃の温度で２．７％幅方向に弛緩処理を行った。次いで、２５℃に均一に冷却後、フィルムエッジを除去し、コア上に巻き取って厚さ５．０μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。この二軸延伸ポリエステルフィルムの製造条件について、原料組成および厚み関係を表１に示す。
【０１４４】
得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムを評価したところ、表２に示す通り、表面Ａの３次元表面粗さｓＲａ−Ａ、二乗平均平方根粗さｓＲｑ−Ａ、表面Ｂ側の３次元中心線表面粗さｓＲａ−Ｂ、二乗平均平方根粗さｓＲｑ−Ｂ、およびカッピングが本願規定の範囲内であった。なお、長手方向のヤング率（Ｙ−ＭＤ）が４．５ＧＰａ、横方向のヤング率（Ｙ−ＴＤ）が６．０９ＧＰａ、湿度膨張係数が７．１ｐｐｍであった。また、表３に示す通り、磁気テープとして使用した際に電磁変換特性、エラーレートに優れた特性を有していた。また磁気テープの幅寸法安定性、およびフィルム製膜性、スリット性、歩留まりにも優れていた。
【０１４５】
（実施例２）
表１および表２の通り、不活性粒子Ａの含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向積層ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように各特性に優れており、特に磁気テープとして使用した際のエラーレートに優れた特性を有していた。
【０１４６】
（実施例３）
表１および表２の通り、不活性粒子Ａの含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向積層ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように磁気テープのエラーレートにやや劣るものの、各特性に優れた特性を有していた。
【０１４７】
（実施例４）
表１および表２の通り、平均粒径０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｂ）、平均粒径０．８０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｃ）の代わりに、平均粒径０．２５μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｄ）、平均粒径１．０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｅ）を使用して、不活性粒子Ｂ１、Ｂ２の平均粒径と含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向積層ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように各特性に優れており、特に磁気テープとして使用した際のエラーレートに優れた特性を有していた。
【０１４８】
（実施例５）
表１および表２の通り、平均粒径０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｂ）の代わりに、平均粒径０．４５μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｆ）を使用して、不活性粒子Ｂ１の平均粒径と含有量、および不活性粒子Ｂ２の含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向積層ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように磁気テープのエラーレートにやや劣るものの各特性に優れており、特にスリット性に優れていた。
【０１４９】
（実施例６）
表１および表２の通り、平均粒径０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｂ）の代わりに、平均粒径０．２５μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｄ）を使用して、不活性粒子Ａの含有量、不活性粒子Ｂ１の平均粒径と含有量、および不活性粒子Ｂ２の含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向積層ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すようにスリット性、歩留まりにやや劣るものの各特性に優れており、特に磁気テープのエラーレートに優れていた。
【０１５０】
（実施例７）
表１および表２の通り、平均粒径０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｂ）の代わりに、平均粒径０．５５μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｇ）を使用して、不活性粒子Ｂ１の平均粒径と含有量、および不活性粒子Ｂ２の含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向積層ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように磁気テープのエラーレートにやや劣るものの各特性に優れており、特にスリット性に優れていた。
【０１５１】
（実施例８）
表１および表２の通り、Ｃ層中のＰＥＴペレット（原料−１）、ＰＥＩ含有した２成分組成物ペレット（原料−３）の配合量を変更して、Ｃ層中のＰＥＩ含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向積層ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すようにカッピング、磁気テープの幅寸法安定性がやや劣るものの各特性に優れていた。
【０１５２】
（実施例９）
表１および表２の通り、３層用合流ブロック中で積層厚み比（Ａ層｜Ｃ層｜Ｂ層）＝８｜６｜２とし、Ａ層、Ｃ層の厚みを変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向積層ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すようにカッピングがやや劣るものの、各特性に優れ、特に幅寸法安定性に優れていた。
【０１５３】
（実施例１０）
表１および表２の通り、Ａ層中のＰＥＴペレット（原料−１）、ＰＥＩ含有した２成分組成物ペレット（原料−３）の配合量を変更して、Ａ層中のＰＥＩ含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向積層ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように磁気テープのエラーレートにやや劣るものの各特性に優れ、特に幅寸法安定性に優れていた。
【０１５４】
（実施例１１）
表１および表２の通り、Ａ層およびＣ層中のＰＥＴペレット（原料−１）、ＰＥＩ含有した２成分組成物ペレット（原料−３）の配合量を変更して、Ａ層およびＣ層中のＰＥＩ含有量を変更したこと以外は実施例９と同様に製膜を行い、二軸配向積層ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように磁気テープのエラーレート、フィルム製膜性がやや劣るものの各特性に優れていた。
【０１５５】
（実施例１２）
表１および表２の通り、Ｂ層中のＰＥＴペレット（原料−１）、ＰＥＩ含有した２成分組成物ペレット（原料−３）の配合量を変更して、Ｂ層中のＰＥＩ含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向積層ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように磁気テープのエラーレートにやや劣るものの各特性に優れ、特にスリット性に優れていた。ていた。
【０１５６】
（実施例１３）
表１および表２の通り、Ａ層およびＢ層中のＰＥＴペレット（原料−１）、ＰＥＩ含有した２成分組成物ペレット（原料−３）の配合量を変更して、Ａ層およびＢ層中のＰＥＩ含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向積層ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように磁気テープのエラーレートにやや劣るものの各特性に優れ、特に幅寸法安定性、スリット性に優れていた。
【０１５７】
（実施例１４）
表１および表２の通り、Ａ層、Ｂ層およびＣ層中のＰＥＴペレット（原料−１）、ＰＥＩ含有した２成分組成物ペレット（原料−３）の配合量を変更して、Ａ層、Ｂ層およびＣ層中のＰＥＩ含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向積層ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように磁気テープのエラーレートにやや劣るものの各特性に優れ、特に幅寸法安定性、スリット性に優れていた。
【０１５８】
（比較例１）
表１および表２の通り、平均粒径０．０６０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ａ）の代わりに平均粒径０．０３０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ｈ）を使用し、さらに平均粒径０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｂ）、平均粒径０．８０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｃ）の代わりに、平均粒径０．２５μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｄ）、平均粒径１．０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｅ）を使用して、不活性粒子Ａ、Ｂ１、Ｂ２の平均粒径と含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向積層ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すようにカッピングおよび磁気テープの電磁変換特性および幅寸法安定性、フィルム製膜性には優れるものの、磁気テープのエラーレートにやや劣る他、特にスリット性、歩留まりが悪化してしまい、実用的にスリット、生産が不可と判断した。
【０１５９】
（比較例２）
表１および表２の通り、平均粒径０．０６０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ａ）の代わりに平均粒径０．２０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ｉ）を使用して不活性粒子Ａの平均粒径と含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向積層ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように表面ＡのｓＲａ−Ａ、ｓＲｑ−Ａが本願規定の範囲外であり、カッピングおよび磁気テープの幅寸法安定性、フィルム製膜性、スリット性には優れるものの、特に磁気テープの電磁変換特性、エラーレートに劣っていた。
【０１６０】
（比較例３）
表１および表２の通り、平均粒径０．０６０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ａ）の代わりに平均粒径０．０３０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ｈ）、平均粒径０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｂ）の代わりに、平均粒径０．５５μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｇ）を使用して、不活性粒子Ａ、Ｂ１の平均粒径と含有量、および不活性粒子Ｂ２の含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向積層ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すようにカッピングおよび磁気テープの電磁変換特性および幅寸法安定性、フィルム製膜性、スリット性には優れるものの、磁気テープのエラーレートにやや劣る他、特にフィルム製膜時、磁気テープ作製時にキズが多発してしまい歩留まりに劣っていた。
【０１６１】
（比較例４）
表１および表２の通り、Ａ層およびＣ層中のＰＥＴペレット（原料−１）、ＰＥＩ含有した２成分組成物ペレット（原料−３）の配合量を変更して、Ａ層およびＣ層中のＰＥＩ含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向積層ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すようにカッピングおよび磁気テープのエラーレートに劣っていた。
【０１６２】
（比較例５）
表１および表２の通り、Ｂ層およびＣ層中のＰＥＴペレット（原料−１）、ＰＥＩ含有した２成分組成物ペレット（原料−３）の配合量を変更して、Ｂ層およびＣ層中のＰＥＩ含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向積層ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すようにカッピング、スリット性には優れるものの磁気テープのエラーレートに劣っていた。
【０１６３】
（比較例６）
表１および表２の通り、Ｂ層中のＰＥＴペレット（原料−１）、ＰＥＩ含有した２成分組成物ペレット（原料−３）の配合量を変更して、Ｂ層中のＰＥＩ含有量を変更したこと以外は実施例９と同様に製膜を行い、二軸配向積層ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように磁気テープの幅寸法安定性には優れるものの、磁気テープの電磁変換特性およびエラーレート、フィルム製膜性がやや劣り、特にカッピングに劣っていた。
【０１６４】
（比較例７）
表１および表２の通り、Ａ層中のＰＥＴペレット（原料−１）、ＰＥＩ含有した２成分組成物ペレット（原料−３）の配合量を変更して、Ａ層中のＰＥＩ含有量を変更したこと以外は実施例１と同様に製膜を行い、二軸配向積層ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように磁気テープの幅寸法安定性には優れるものの、磁気テープの電磁変換特性およびエラーレートがやや劣り、特にカッピング、フィルム製膜性に劣っていた。
【０１６５】
【表１】
2018055745.tif 000006
【０１６６】
【表２】
2018055745.tif 000007
【０１６７】
【表３】
2018055745.tif 000008
【符号の説明】
【０１６８】
１：レーザー発振器
２：受光部
３：荷重検出器
４：荷重
５：フリーロール
６：フリーロール
７：フリーロール
８：フリーロール
９：磁気テープ
１０：レーザー光
【図１】
2018055745.tif 000009