(57)【要約】【課題】ゴムの粘度を低下させることができる低粘度化剤を提供すること。【解決手段】下記一般式（１）：2018154743.tif 000009［式中、Ｘ１及びＸ２は、同一又は異なって、水素原子、アルキル基、アルキルチオ基、アラルキル基、アリール基、アリールチオ基、複素環基、又はアミノ基を示す。これら各基は、それぞれ１個以上の置換基を有していてもよい。]で表されるテトラジン化合物又はその塩を含む、低粘度化剤。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゴムを低粘度化するための低粘度化剤であって、下記一般式（１）：
【化１】
2018154743.tif 000008
［式中、Ｘ１及びＸ２は、同一又は異なって、水素原子、アルキル基、アルキルチオ基、アラルキル基、アリール基、アリールチオ基、複素環基、又はアミノ基を示す。これら各基は、それぞれ１個以上の置換基を有していてもよい。]
で表されるテトラジン化合物又はその塩を含む、低粘度化剤。
【請求項２】
テトラジン化合物が、一般式（１）において、Ｘ１及びＸ２が、複素環基を示すテトラジン化合物である、請求項１に記載の低粘度化剤。
【請求項３】
ゴムが、ジエン系ゴムを含む、請求項１又は２に記載の低粘度化剤。
【請求項４】
ジエン系ゴムの含有割合が、ゴム１００質量部に対して７０質量部以上である、請求項３に記載の低粘度化剤。
【請求項５】
ゴムに、請求項１〜４のいずれか一項に記載の低粘度化剤を配合した、低粘度化ゴム。
【請求項６】
前記低粘度化剤を、ゴム１００質量部に対して０．１〜１０質量部配合した、請求項５に記載の低粘度化ゴム。
【請求項７】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の低粘度化剤、及びゴムを、８０〜２１０℃で混合する工程を含む、低粘度化ゴムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低粘度化剤、並びに低粘度化ゴム及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、タイヤトレッドには耐摩耗性が要求され、耐摩耗性を向上させるために、原料ゴムとして天然ゴムを主原料とすることが知られている。しかし、天然ゴムは、合成ゴムよりも分子量が大きく、加工性に劣るため、従来タイヤトレッドに配合されるカーボンブラック、シリカ等の補強剤を均一に分散させることが難しい。
【０００３】
そこで、天然ゴムを所定量の素練り促進剤とともに所定条件で混練りし、原料ゴムの分子量を適度に下げる素練り工程を行った後に、所定条件で補強剤、軟化剤等の配合剤をさらに添加して混練りする混練り工程を行う方法が採用されている（特許文献１及び２）。
【０００４】
これら特許文献１及び２に記載されている発明によれば、素練り促進剤としてチオフェノール又はジスルフィドを用い、素練り工程の条件、及び混練り工程の条件を調整することで、ゴムの粘度を低減し、それにより加工性を改善することができる。
【０００５】
しかしながら、これら特許文献１及び２の方法を用いても、粘度低減による加工性改良効果は不十分であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−１８６１５４号公報
【特許文献２】特表２０１６−１９９７２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、ゴムの粘度を低下させることができる低粘度化剤を提供することである。
【０００８】
本発明の他の目的の一つは、より低粘度化されたゴムを提供することである。
本発明の他の目的の一つは、より低粘度化されたゴムを効率よく製造することができる方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、前記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、特定のテトラジン系化合物がゴムの粘度を低下させることができることを見出した。本発明者らは、かかる知見に基づき、さらに検討を行った結果、本発明を完成するに至った。
【００１０】
即ち、本発明は、以下に示す低粘度化剤、並びに低粘度化ゴム及びその製造方法を提供する。
項１．
ゴムを低粘度化するための低粘度化剤であって、下記一般式（１）：
【化１】
2018154743.tif 000002
［式中、Ｘ１及びＸ２は、同一又は異なって、水素原子、アルキル基、アルキルチオ基、アラルキル基、アリール基、アリールチオ基、複素環基、又はアミノ基を示す。これら各基は、それぞれ１個以上の置換基を有していてもよい。]
で表されるテトラジン化合物又はその塩を含む、低粘度化剤。
項２．
テトラジン化合物が、一般式（１）において、Ｘ１及びＸ２が、複素環基を示すテトラジン化合物である、項１に記載の低粘度化剤。
項３．
ゴムが、ジエン系ゴムを含む、項１又は２に記載の低粘度化剤。
項４．
ジエン系ゴムの含有割合が、ゴム１００質量部に対して７０質量部以上である、項３に記載の低粘度化剤。
項５．
ジエン系ゴムが、天然ゴム、イソプレンゴム、及び１，３−ブタジエンモノマーを含むモノマーを重合させたゴムからなる群から選択される少なくとも一種である、項３又は４に記載の低粘度化剤。
項６．
ゴムに項１〜５のいずれか一項に記載の低粘度化剤を配合した、低粘度化ゴム。
項７．
前記低粘度化剤を、ゴム１００質量部に対して０．１〜１０質量部配合した、項６に記載の低粘度化ゴム。
項８．
項１〜５のいずれか一項に記載の低粘度化剤、及びゴムを、８０〜２１０℃で混合する工程を含む、低粘度化ゴムの製造方法。
項９．
一般式（１）：
【化２】
2018154743.tif 000003
［式中、Ｘ１及びＸ２は、同一又は異なって、水素原子、アルキル基、アルキルチオ基、アラルキル基、アリール基、アリールチオ基、複素環基、又はアミノ基を示す。これら各基は、それぞれ１個以上の置換基を有していてもよい。]
で表されるテトラジン化合物又はその塩を含む、素練り促進剤。
項１０．
一般式（１）：
【化３】
2018154743.tif 000004
［式中、Ｘ１及びＸ２は、同一又は異なって、水素原子、アルキル基、アルキルチオ基、アラルキル基、アリール基、アリールチオ基、複素環基、又はアミノ基を示す。これら各基は、それぞれ１個以上の置換基を有していてもよい。]
で表されるテトラジン化合物又はその塩を含む、しゃく解剤。
項１１．
一般式（１）：
【化４】
2018154743.tif 000005
［式中、Ｘ１及びＸ２は、同一又は異なって、水素原子、アルキル基、アルキルチオ基、アラルキル基、アリール基、アリールチオ基、複素環基、又はアミノ基を示す。これら各基は、それぞれ１個以上の置換基を有していてもよい。]
で表されるテトラジン化合物又はその塩を含む、ペプタイザー。
【発明の効果】
【００１１】
本発明は、ゴムの粘度を低くするための低粘度化剤を提供することができる。該低粘度化剤は、テトラジン化合物（１）を含んでおり、テトラジン化合物（１）でジエン系ゴムを処理することで、ゴムの粘度を低くすることができる。
【００１２】
このような低粘度化剤で処理されたゴムは、低粘度化剤で処理されていないゴムよりも粘度が低いため、混合工程だけでなく押出し工程等のそれ以降の加工工程においても加工性が向上し、よって生産性も向上することが期待できる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下に、本発明を詳細に説明する。
【００１４】
ゴムを低粘度化するための低粘度化剤
本発明のゴムを低粘度化するための低粘度化剤（以下、「本発明の低粘度化剤」又は単に「低粘度化剤」ということもある。）は、下記一般式（１）で表される化合物又はその塩（以下、「テトラジン化合物（１）」ということもある。）を含み、テトラジン化合物（１）からなることが好ましい。
一般式（１）
【化５】
2018154743.tif 000006
［式中、Ｘ１及びＸ２は、前記に同じ。］
【００１５】
本発明の低粘度化剤は、本発明の効果を損なわない限り、上記テトラジン化合物（１）以外のテトラジン化合物を含んでいてもよいが、テトラジン化合物（１）の含有割合は、５０質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましく、９０質量％以上が特に好ましい。
【００１６】
本明細書において、「アルキル基」としては、特に限定はなく、例えば、直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、１−エチルプロピル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシ基、３−メチルペンチル基等の炭素数１〜６（特に炭素数１〜４）の直鎖状又は分岐状アルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の炭素数３〜８（特に炭素数３〜６）の環状アルキル基等が挙げられる。好ましいアルキル基としては、炭素数１〜６の直鎖状又は分岐状アルキル基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、又はｎ−ペンチル基であり、特に好ましくはメチル基、又はエチル基である。
【００１７】
本明細書において、「アルキルチオ基」としては、特に限定はなく、例えば、直鎖状、分岐状又は環状のアルキルチオ基が挙げられ、具体的には、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｓ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基、１−エチルプロピルチオ基、ｎ−ペンチルチオ基、ネオペンチルチオ基、ｎ−ヘキシルチオ基、イソヘキシルチオ基、３−メチルペンチルチオ基等の炭素数１〜６（特に炭素数１〜４）の直鎖状又は分岐状のアルキルチオ基；シクロプロピルチオ基、シクロブチルチオ基、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基、シクロヘプチルチオ基、シクロオクチルチオ基等の炭素数３〜８（特に炭素数３〜６）の環状アルキルチオ基等が挙げられる。好ましいアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、イソプロピルチオ基、又はイソブチルチオ基であり、より好ましくはメチルチオ基又はエチルチオ基である。
【００１８】
本明細書において、「アラルキル基」としては、特に限定はなく、例えば、ベンジル基、フェネチル基、トリチル基、１−ナフチルメチル基、２−（１−ナフチル）エチル基、２−（２−ナフチル）エチル基等が挙げられる。より好ましいアラルキル基としては、ベンジル基又はフェネチル基であり、より好ましくはベンジル基である。
【００１９】
本明細書において、「アリール基」としては、特に限定はなく、例えば、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、ジヒドロインデニル基、９Ｈ−フルオレニル基等が挙げられる。より好ましいアリール基としては、フェニル基又はナフチル基であり、より好ましくはフェニル基である。
【００２０】
本明細書において、「アリールチオ基」としては、特に限定はなく、例えば、フェニルチオ基、ビフェニルチオ基、ナフチルチオ基等が挙げられる。
【００２１】
本明細書において、「複素環基」としては、特に限定はなく、例えば、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピラジニル基、２−ピリミジル基、４−ピリミジル基、５−ピリミジル基、３−ピリダジル基、４−ピリダジル基、４−（１，２，３−トリアジル）基、５−（１，２，３−トリアジル）基、２−（１，３，５−トリアジル）基、３−（１，２，４−トリアジル）基、５−（１，２，４−トリアジル）基、６−（１，２，４−トリアジル）基、２−キノリル基、３−キノリル基、４−キノリル基、５−キノリル基、６−キノリル基、７−キノリル基、８−キノリル基、１−イソキノリル基、３−イソキノリル基、４−イソキノリル基、５−イソキノリル基、６−イソキノリル基、７−イソキノリル基、８−イソキノリル基、２−キノキサリル基、３−キノキサリル基、５−キノキサリル基、６−キノキサリル基、７−キノキサリル基、８−キノキサリル基、３−シンノリル基、４−シンノリル基、５−シンノリル基、６−シンノリル基、７−シンノリル基、８−シンノリル基、２−キナゾリル基、４−キナゾリル基、５−キナゾリル基、６−キナゾリル基、７−キナゾリル基、８−キナゾリル基、１−フタラジル基、４−フタラジル基、５−フタラジル基、６−フタラジル基、７−フタラジル基、８−フタラジル基、１−テトラヒドロキノリル基、２−テトラヒドロキノリル基、３−テトラヒドロキノリル基、４−テトラヒドロキノリル基、５−テトラヒドロキノリル基、６−テトラヒドロキノリル基、７−テトラヒドロキノリル基、８−テトラヒドロキノリル基、１−ピロリル基、２−ピロリル基、３−ピロリル基、２−フリル基、３−フリル基、２−チエニル基、３−チエニル基、１−イミダゾリル基、２−イミダゾリル基、４−イミダゾリル基、５−イミダゾリル基、１−ピラゾリル基、３−ピラゾリル基、４−ピラゾリル基、５−ピラゾリル基、２−オキサゾリル基、４−オキサゾリル基、５−オキサゾリル基、２−チアゾリル基、４−チアゾリル基、５−チアゾリル基、３−イソオキサゾリル基、４−イソオキサゾリル基、５−イソオキサゾリル基、３−イソチアゾリル基、４−イソチアゾリル基、５−イソチアゾリル基、４−（１，２，３−チアジアゾリル）基、５−（１，２，３−チアジアゾリル）基、３−（１，２，５−チアジアゾール）基、２−（１，３，４−チアジアゾール）基、４−（１，２，３−オキサジアゾリル）基、５−（１，２，３−オキサジアゾリル）基、３−（１，２，４−オキサジアゾリル）基、５−（１，２，４−オキサジアゾリル）基、３−（１，２，５−オキサジアゾリル）基、２−（１，３，４−オキサジアゾリル）基、１−（１，２，３−トリアゾリル）基、４−（１，２，３−トリアゾリル）基、５−（１，２，３−トリアゾリル）基、１−（１，２，４−トリアゾリル）基、３−（１，２，４−トリアゾリル）基、５−（１，２，４−トリアゾリル）基、１−テトラゾリル基、５−テトラゾリル基、１−インドリル基、２−インドリル基、３−インドリル基、４−インドリル基、５−インドリル基、６−インドリル基、７−インドリル基、１−イソインドリル基、２−イソインドリル基、３−イソインドリル基、４−イソインドリル基、５−イソインドリル基、６−イソインドリル基、７−イソインドリル基、１−ベンゾイミダゾリル基、２−ベンゾイミダゾリル基、４−ベンゾイミダゾリル基、５−ベンゾイミダゾリル基、６−ベンゾイミダゾリル基、７−ベンゾイミダゾリル基、２−ベンゾフラニル基、３−ベンゾフラニル基、４−ベンゾフラニル基、５−ベンゾフラニル基、６−ベンゾフラニル基、７−ベンゾフラニル基、１−イソベンゾフラニル基、３−イソベンゾフラニル基、４−イソベンゾフラニル基、５−イソベンゾフラニル基、６−イソベンゾフラニル基、７−イソベンゾフニル基、２−ベンゾチエニル基、３−ベンゾチエニル基、４−ベンゾチエニル基、５−ベンゾチエニル基、６−ベンゾチエニル基、７−ベンゾチエニル基、２−ベンゾオキサゾリル基、４−ベンゾオキサゾリル基、５−ベンゾオキサゾリル基、６−ベンゾオキサゾリル基、７−ベンゾオキサゾリル基、２−ベンゾチアゾリル基、４−ベンゾチアゾリル基、５−ベンゾチアゾリル基、６−ベンゾチアゾリル基、７−ベンゾチアゾリル基、１−インダゾリル基、３−インダゾリル基、４−インダゾリル基、５−インダゾリル基、６−インダゾリル基、７−インダゾリル基、２−モルホリル基、３−モルホリル基、４−モルホリル基、１−ピペラジル基、２−ピペラジル基、１−ピペリジル基、２−ピペリジル基、３−ピペリジル基、４−ピペリジル基、２−テトラヒドロピラニル基、３−テトラヒドロピラニル基、４−テトラヒドロピラニル基、２−テトラヒドロチオピラニル基、３−テトラヒドロチオピラニル基、４−テトラヒドロチオピラニル基、１−ピロリジル基、２−ピロリジル基、３−ピロリジル基、２−テトラヒドロフラニル基、３−テトラヒドロフラニル基、２−テトラヒドロチエニル基、３−テトラヒドロチエニル基等が挙げられる。中でも、好ましい複素環基としては、ピリジル基、フラニル基、チエニル基、ピリミジル基又はピラジル基であり、より好ましくはピリジル基である。
【００２２】
本明細書において、「アミノ基」には、−ＮＨ２で表されるアミノ基だけでなく、例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基、ｓ−ブチルアミノ基、ｔ−ブチルアミノ基、１−エチルプロピルアミノ基、ｎ−ペンチルアミノ基、ネオペンチルアミノ基、ｎ−ヘキシルアミノ基、イソヘキシルアミノ基、３−メチルペンチルアミノ基等の炭素数１〜６（特に炭素数１〜４）の直鎖状又は分岐状のモノアルキルアミノ基；ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等の炭素数１〜６（特に炭素数１〜４）の直鎖状又は分岐状のアルキル基を２つ有するジアルキルアミノ基等の置換アミノ基も含まれる。
【００２３】
これらアルキル基、アルキルチオ基、アラルキル基、アリール基、アリールチオ基、複素環基及びアミノ基の各基は、それぞれ１個以上の置換基を有していてもよい。該「置換基」としては、特に限定はなく、例えば、ハロゲン原子、アミノ基、アミノアルキル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルボキシル基、カルボキシアルキル基、ホルミル基、ニトリル基、ニトロ基、アルキル基、ヒドロキシアルキル基、水酸基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、チオール基、アルキルチオ基、アリールチオ基等が挙げられる。該置換基は、好ましくは１〜５個、より好ましくは１〜３個有していてもよい。
【００２４】
本明細書において、「ハロゲン原子」としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられ、好ましくは塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子である。
【００２５】
本明細書において、「アミノアルキル基」としては、特に限定はなく、例えば、アミノメチル基、２−アミノエチル基、３−アミノプロピル基等のアミノアルキル基等が挙げられる。
【００２６】
本明細書において、「アルコキシカルボニル基」としては、特に限定はなく、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等が挙げられる。
【００２７】
本明細書において、「アシル基」としては、特に限定はなく、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ピバロイル基等の炭素数１〜４の直鎖状又は分岐鎖状アルキルカルボニル基が挙げられる。
【００２８】
本明細書において、「アシルオキシ基」としては、特に限定はなく、例えば、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ｎ−ブチリルオキシ基等が挙げられる。
【００２９】
本明細書において、「アミド基」としては、特に限定はなく、例えば、アセトアミ基、ベンズアミド基等のカルボン酸アミド基；チオアセトアミド基、チオベンズアミド基等のチオアミド基；Ｎ−メチルアセトアミド基、Ｎ−ベンジルアセトアミド基等のＮ−置換アミド基；等が挙げられる。
【００３０】
本明細書において、「カルボキシアルキル基」としては、特に限定はなく、例えば、カルボキシメチル基、カルボキシエチル基、カルボキシ−ｎ−プロピル基、カルボキシ−ｎ−ブチル基、カルボキシ−ｎ−ブチル基、カルボキシ−ｎ−ヘキシル基等のカルボキシ−アルキル基（好ましくはカルボキシ基を有する炭素数１〜６のアルキル基）が挙げられる。
【００３１】
本明細書において、「ヒドロキシアルキル基」としては、特に限定はなく、例えば、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシ−ｎ−プロピル基、ヒドロキシ−ｎ−ブチル基等のヒドロキシアルキル基（好ましくはヒドロキシ基を有する炭素数１〜６のアルキル基）が挙げられる。
【００３２】
本明細書において、「アルコキシ基」としては、特に限定はなく、例えば、直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基の炭素数１〜６（特に炭素数１〜４）の直鎖状又は分岐状のアルコキシ基；シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、シクロオクチルオキシ基等の炭素数３〜８（特に炭素数３〜６）の環状アルコキシ基等が挙げられる。
【００３３】
本明細書において、「アリールオキシ基」としては、特に限定はなく、例えば、フェノキシ基、ビフェニルオキシ基、ナフトキシ基等が挙げられる。
【００３４】
一般式（１）で表されるテトラジン化合物の「塩」としては、特に限定はなく、あらゆる種類の塩が含まれる。このような塩としては、例えば、塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩等の無機酸塩；酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、メタンスルホン酸塩等の有機酸塩；ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩；マグネシウム塩、カルシウム塩等のアルカリ土類金属塩；ジメチルアンモニウム、トリエチルアンモニウム等の第４級アンモニウム塩等が挙げられる。
【００３５】
これらテトラジン化合物（１）の中でも、好ましい化合物は、Ｘ１及びＸ２が、同一又は異なって、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、又は置換基を有していてもよい複素環基である化合物である。
【００３６】
より好ましいテトラジン化合物（１）は、Ｘ１及びＸ２が、同一又は異なって、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、又は置換基を有していてもよい複素環基である化合物である。
【００３７】
さらに好ましいテトラジン化合物（１）は、Ｘ１及びＸ２が、同一又は異なって、置換基を有していてもよいベンジル基、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよい２−ピリジル基、置換基を有していてもよい３−ピリジル基、置換基を有していてもよい４−ピリジル基、置換基を有していてもよい２−フラニル基、置換基を有していてもよいチエニル基、置換基を有していてもよい２−ピラゾリル基、置換基を有していてもよい２−ピリミジル基、又は置換基を有していてもよい２−ピラジル基である化合物であり、これらの中でも、置換基を有していてもよい２−ピリジル基、置換基を有していてもよい３−ピリジル基、置換基を有していてもよい４−ピリジル基、又は置換基を有していてもよい２−フラニル基である化合物が特に好ましい。
【００３８】
具体的に、テトラジン化合物（１）としては、例えば、
１，２，４，５−テトラジン、
３，６−ビス（２−ピリジル）−１，２，４，５−テトラジン、
３，６−ビス（３−ピリジル）−１，２，４，５−テトラジン、
３，６−ビス（４−ピリジル）−１，２，４，５−テトラジン、
３，６−ジフェニル−１，２，４，５−テトラジン、
３，６−ジベンジル−１，２，４，５−テトラジン、
３，６−ビス（２−フラニル）−１，２，４，５−テトラジン、
３−メチル−６−（３−ピリジル）−１，２，４，５−テトラジン、
３，６−ビス（３，５−ジメチル−１−ピラゾリル）−１，２，４，５−テトラジン、
３，６−ビス（２−チエニル）−１，２，４，５−テトラジン、
３−メチル−６−（２−ピリジル）−１，２，４，５−テトラジン、
３，６−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，２，４，５−テトラジン、
３，６−ビス（３−ヒドロキシフェニル）−１，２，４，５−テトラジン、
３，６−ビス（２−ピリミジニル）−１，２，４，５−テトラジン、
３，６−ビス（２−ピラジル）−１，２，４，５−テトラジン等が挙げられる。
【００３９】
中でも、好ましいテトラジン化合物（１）は、３，６−ビス（２−ピリジル）−１，２，４，５−テトラジン、３，６−ビス（３−ピリジル）−１，２，４，５−テトラジン、３，６−ビス（４−ピリジル）−１，２，４，５−テトラジン、３，６−ビス（２−フラニル）−１，２，４，５−テトラジン、３−メチル−６−（３−ピリジル）−１，２，４，５−テトラジン、及び３−メチル−６−（２−ピリジル）−１，２，４，５−テトラジンであり、さらに好ましいテトラジン化合物（１）は、３，６−ビス（２−ピリジル）−１，２，４，５−テトラジン、３，６−ビス（３−ピリジル）−１，２，４，５−テトラジン、及び３，６−ビス（４−ピリジル）−１，２，４，５−テトラジンである。
【００４０】
テトラジン化合物（１）が粉体である場合、その体積平均径は特に制限されない。粘度低減効果発現の観点から、体積平均径が３００μｍ以下であることが好ましく、１５０μｍ以下であることがさらに好ましく、７５μｍ以下であることが特に好ましい。
【００４１】
なお、体積平均径は、レーザー光回折法等による粒度分布測定装置を用いて、体積基準粒度分布から積算分布曲線の５０％に相当する粒子径として求めることができる。
【００４２】
また、取り扱い時のハンドリング性及び着火性又は爆発性リスク低減の観点から、粉体をオイル、樹脂、ステアリン酸などで表面処理したものを使用してもよく、又は粉体を炭酸カルシウム、シリカ、カーボンブラックなどの充填剤などと混合して使用してもよい。
【００４３】
テトラジン化合物（１）を、ジエン系ゴムに添加することにより、低粘度化されたゴムを得ることができる。このゴムは、テトラジン化合物（１）で処理されていないゴムと比較すると粘度が低い。よって、テトラジン化合物（１）は、ゴムの粘度を低くすることができる。
【００４４】
このように、テトラジン化合物（１）をジエン系ゴムに配合することにより、ゴムの粘度を低減することができ、加工性を著しく改良することができる。つまり、本発明の低粘度化剤は、素練り促進剤、しゃく解剤、又はペプタイザーとして利用することができる。
【００４５】
本明細書において、ゴムとしては、特に制限はなく、例えば、天然ゴム（ＮＲ）、合成ジエン系ゴム、及び天然ゴムと合成ジエン系ゴムとの混合物等のジエン系ゴムが挙げられる。
【００４６】
天然ゴムとしては、天然ゴムラテックス、技術的格付けゴム（ＴＳＲ）、スモークドシート（ＲＳＳ）、ガタパーチャ、杜仲由来天然ゴム、グアユール由来天然ゴム、ロシアンタンポポ由来天然ゴム、植物成分発酵ゴムなどの天然ゴムに加えて、エポキシ化天然ゴム、メタクリル酸変性天然ゴム、スチレン変性天然ゴムなどの変性天然ゴム等が挙げられる。
【００４７】
合成ジエン系ゴムとしては、スチレン−ブタジエン共重合体ゴム（ＳＢＲ）、ブタジエンゴム（ＢＲ）、イソプレンゴム（ＩＲ）、ニトリルゴム（ＮＢＲ）、クロロプレンゴム（ＣＲ）、エチレン−プロピレン−ジエン三元共重合体ゴム（ＥＰＤＭ）、スチレン−イソプレン−スチレン三元ブロック共重合体（ＳＩＳ）、スチレン−ブタジエン−スチレン三元ブロック共重合体（ＳＢＳ）等、及びこれらの変性合成ジエン系ゴムが挙げられる。変性合成ジエン系ゴムとしては、主鎖変性、片末端変性、両末端変性などの変性手法によるジエン系ゴムが挙げられる。ここで、変性合成ジエン系ゴムの変性官能基としては、エポキシ基、アミノ基、アルコキシ基、水酸基、アルコキシシリル基、ポリエーテル基、カルボキシル基などのヘテロ原子を含有する官能基を１種類以上含むものが挙げられる。また、ジエン部分のシス/トランス/ビニルの比率については、特に制限はなく、いずれの比率においても好適に用いることができる。また、ジエン系ゴムの平均分子量および分子量分布は、特に制限はなく、平均分子量５００〜３００万、分子量分布１．５〜１５が好ましい。また、合成ジエン系ゴムの製造方法についても、特に制限はなく、乳化重合、溶液重合、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合などで合成されたものが挙げられる。
【００４８】
本発明で使用されるゴムには、ブチルゴム等の非ジエン系ゴムが、本発明の効果を損なわない範囲内で含まれていてもよい。その含有割合は、ゴム１００質量部中に、通常３０質量部未満、好ましくは２５質量部以下、より好ましくは２０質量部以下である。
【００４９】
また、ジエン系ゴムのガラス転移点は、−１２０℃から−１５℃の範囲が好ましい。また、ジエン系ゴム中の５０質量％以上が、ガラス転移点が−７０℃から−２０℃の範囲にあるジエン系ゴムであることが好ましい。
【００５０】
ゴムは、１種単独で、又は２種以上を混合（ブレンド）して用いることができる。中でも、好ましいゴムとしては、天然ゴム、ＩＲ、ＳＢＲ、ＢＲ、又はこれらから選ばれる２種以上の混合物である。また、これらのブレンド比率は、特に制限はなく、ゴム１００質量部中に、ＳＢＲ、ＢＲ又はこれらの混合物を７０〜１００質量部の比率で配合することが好ましく、７５〜１００質量部で配合することがより好ましい。ＳＢＲ及びＢＲの混合物を配合する場合には、ＳＢＲ及びＢＲの合計量が上記範囲であることが好ましい。また、このときのＳＢＲは５０〜１００質量部であり、ＢＲが０〜５０質量部の範囲であるのが好ましい。
【００５１】
低粘度化ゴム
本発明の低粘度化ゴムは、上記ゴムに上記本発明の低粘度化剤が配合されたゴムである。つまり、本発明の低粘度化ゴムは、ゴムに、テトラジン化合物（１）を用いて処理されたゴムである。
【００５２】
本発明の低粘度化ゴムには、本発明の効果を阻害しない範囲において、未処理のゴム及び／又は低粘度化剤を含んでいてもよい。
【００５３】
本発明の低粘度化ゴムは、上記低粘度化剤が配合されているので、上記低粘度化剤が配合されていないゴムよりも低粘度である。よって、本発明の低粘度化ゴムは粘度が低いことにより、混合工程だけでなくそれ以降の加工工程においても加工性が向上することが期待される。
【００５４】
低粘度化ゴムの製造方法
本発明の低粘度化ゴムの製造方法としては、特に制限はない。本発明の低粘度化ゴムは、例えば、ゴム、及び本発明の低粘度化剤を用いて作製される。
【００５５】
本発明の低粘度化ゴムを製造するための原料は、上記低粘度化剤、及びゴムを含んでいる。ゴムは、ゴム１００質量部中に、ジエン系ゴムが７０質量部以上含まれていることが好ましく、８０質量部以上含まれていることがより好ましく、１００質量部がジエン系ゴムであることがさらに好ましい。該低粘度化剤の配合量としては、例えば、ゴム１００質量部に対して、通常０．１〜１０質量部、好ましくは０．２５〜５質量部、より好ましくは０．５〜２質量部となるように適宜調整すればよい。
【００５６】
本発明の低粘度化ゴムの製造方法として、上記低粘度化剤、及びゴムを混合する工程を含む。具体的な製造方法としては、ゴムが固体の場合は、該ゴムと低粘度化剤とを混合する方法（固体混合方法）；ゴムが液状（液体）である場合は、該ゴムの溶液又は乳液（懸濁液）と、低粘度化剤とを混合する方法（液状混合方法）等が挙げられる。
【００５７】
なお、本明細書において、用語「混合」には「混練」の意味も含まれる。
【００５８】
混合温度としては、例えば、上記固体混合方法の場合は、８０〜２１０℃であることが好ましく、９０〜１６０℃であることがより好ましく、１００〜１５０℃であることがさらに好ましい。液状混合方法の場合は、８０〜２１０℃であることが好ましく、９０〜１６０℃であることがより好ましく、１００〜１５０℃であることがさらに好ましい。
【００５９】
混合時間としては、特に制限はなく、例えば、固体混合方法の場合は、１０秒間から２０分間であることが好ましく、３０秒間から１０分間であることがより好ましく、６０秒間から７分間であることがさらに好ましい。液状混合方法の場合は、１０秒間から６０分間であることが好ましく、３０秒間から４０分間であることがより好ましく、６０秒間から３０分間であることがさらに好ましい。液状混合方法による混合反応後は、例えば、減圧下において、低粘度化ゴム中の溶剤を飛ばし（取り除き）、固形の低粘度化ゴムを回収することができる。
【００６０】
低粘度化ゴムの用途
本発明の低粘度化ゴムの用途としては、特に制限はなく、例えば、タイヤ、防振ゴム、コンベアベルト、免震ゴム、これらのゴム部分等が挙げられる。中でも、好ましい用途は、タイヤである。
【００６１】
本発明の低粘度化ゴムがタイヤに用いられる場合、ゴム及び低粘度化剤以外に、タイヤに通常配合される公知の配合剤（無機充填材、カーボンブラック等）を含むことが好ましい。上記配合剤を含む場合、ゴム成分として本発明の低粘度化ゴムを使用する以外は、従来のタイヤ用ゴム組成物と同様の製造方法を用いてゴム組成物を製造することができる。
【００６２】
本発明の低粘度化ゴムは、例えば、バンバリーミキサー、ロール、インテンシブミキサー、ニーダー、二軸押出機等を用いて混合又は混練りされる。その後、押出工程において押出して加工され、例えば、トレッド用部材、又はサイドウォール用部材として成形される。続いて、タイヤ成形機上で通常の方法により貼り付け成形され、生タイヤが成形される。この生タイヤを加硫機中で加熱加圧して、タイヤが得られる。
【００６３】
本発明の低粘度化ゴムは、タイヤの各部材に好適に用いることができる。
【００６４】
タイヤとしては、例えば、空気入りタイヤ（ラジアルタイヤ、バイアスタイヤ等）、ソリッドタイヤ等が挙げられる。
【００６５】
タイヤの用途としては、特に制限はなく、例えば、乗用車用タイヤ、高荷重用タイヤ、モーターサイクル（自動二輪車）用タイヤ、スタッドレスタイヤ等が挙げられ、中でも、乗用車用タイヤに好適に使用できる。
【００６６】
タイヤの形状、構造、大きさ及び材質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【００６７】
タイヤにおいて、本発明の低粘度化ゴムは、特にトレッド部、サイドウォール部、ビードエリア部、ベルト部、カーカス部及びショルダー部から選ばれる少なくとも一つの部材に用いられる。
【００６８】
中でも、空気入りタイヤのタイヤトレッド部、又はサイドウォール部を当該ゴム混合物で形成するのが好ましい態様の１つとして挙げられる。
【００６９】
トレッド部とは、トレッドパターンを有し、路面と直接接する部分で、カーカスを保護するとともに摩耗及び外傷を防ぐタイヤの外皮部分であり、タイヤの接地部を構成するキャップトレッド及び／又はキャップトレッドの内側に配設されるベーストレッドをいう。
【００７０】
サイドウォール部とは、例えば、空気入りラジアルタイヤにおけるショルダー部の下側からビード部に至るまでの部分であり、カーカスを保護するとともに、走行する際に最も屈曲の激しい部分である。
【００７１】
ビードエリア部とは、カーカスコードの両端を固定し、同時にタイヤをリムに固定させる役目を負っている部分である。ビードとは高炭素鋼を束ねた構造である。
【００７２】
ベルト部とは、ラジアル構造のトレッドとカーカスとの間に円周方向に張られた補強帯である。カーカスを桶のたがの様に強く締付けトレッドの剛性を高めている。
【００７３】
カーカス部とは、タイヤの骨格を形成するコード層の部分であり、タイヤの受ける荷重、衝撃、及び充填空気圧に耐える役割を果たしている。
【００７４】
ショルダー部とは、タイヤの肩の部分で、カーカスを保護する役目を果たす。
【００７５】
タイヤは、タイヤの分野において、これまでに知られている方法に従って製造することができる。また、タイヤに充填する気体としては、通常の又は酸素分圧を調整した空気；窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガスを用いることができる。
【実施例】
【００７６】
以下、製造例及び実施例を示して、本発明について具体的に説明する。ただし、実施例はあくまで一例であって、本発明は、実施例に限定されない。
【００７７】
製造例１：３，６−ビス（３−ピリジル）−１，２，４，５−テトラジン（１ｂ）の製造
２００ｍＬ四つ口フラスコに、３−シアノピリジン２４ｇ（０．２３モル）、水加ヒドラジン１５ｇ（１．３当量）、及びメタノール４８ｍＬを加え、室温で撹拌した。次いで、この混合物に、硫黄３．６ｇ（１５重量％）を加え、還流管を装着して外温７０℃にて一晩加熱撹拌した。この反応液を氷冷し、結晶を濾過して少量の冷メタノールで洗浄した。粗結晶を減圧下乾燥し、橙色のジヒドロテトラジン粗結晶１９ｇを得た。
【００７８】
得られた粗結晶１７．８ｇを、酢酸１７８ｇ（４０当量）に溶解し、硫黄を濾去した。１Ｌ四つ口ナスフラスコに、ジヒドロテトラジン酢酸溶液、及び蒸留水１７８ｍＬを加え、氷冷下撹拌した。亜硝酸ナトリウム１５．５ｇ（３当量）を蒸留水３５ｍＬに溶解し、反応液に１時間程度かけて滴下し、室温で一晩撹拌した。析出した結晶を濾過し、結晶を１０％重層水で中和し粗結晶とした。該粗結晶をシリカゲルカラム（酢酸エチル）にて精製し、表題のテトラジン化合物（１ｂ）８．４ｇ（赤紫色、針状結晶）を得た。
融点：２００℃、
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δｐｐｍ）：
７．５９（ｄｄｄ，J ＝０．９，５．１，７．８ Ｈｚ，２Ｈ），８．８９−８．９６（ｍ，４Ｈ），９．８８（ｄｄ，J ＝０．９，２．４Ｈｚ，２Ｈ）
【００７９】
実施例１〜１０
表１に記載の各成分をその割合（質量部）で混合し、バンバリーミキサーを用いて混合し、混合物の温度が１４０℃ に到達した後、排出して低粘度ゴムを製造した。
【００８０】
粘度試験 
実施例１〜１０で作製したゴム混合物（試験ゴム）について、ＪＩＳ  Ｋ６３００に準拠して、Ｌ形ローターを使用し、ゴム組成物のムーニー粘度ＭＬ（1+4）を１００℃の条件下で求めた。
【００８１】
なお、テトラジン化合物（１）を配合しない以外は、各実施例と同じ配合内容のゴム混合物をリファレンスとして、下記式に基づいて、粘度指数を算出した。
【００８２】
結果を表１に示した。
【００８３】
なお、粘度指数の値が小さい程、低粘度であることを示す。 
【００８４】
式：
粘度指数＝｛（試験ゴムの粘度）／（リファレンスの粘度）｝×１００
【００８５】
数平均分子量測定 
実施例１〜３及び実施例５のゴム混合物について、東ソー製（EcoSEC）ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（GPC）、使用カラム：TSKgel SuperHZM-M + TSKgel SuperHZM-M、溶媒としてテトラヒドロフラン、基準サンプルとしてポリスチレンを使用し、測定温度４０℃の条件下で測定した。
【００８６】
式：
数平均分子量変化率（％）＝｛（試験ゴムの数平均分子量）／（リファレンスの数平均分子量）｝×１００
【００８７】
【表１】
2018154743.tif 000007
【００８８】
いずれの実施例のゴムもテトラジン化合物（１）を配合しない比較用のゴムに対して優れた粘度の低下を示した。また実施例１、２、３及び５で得られた低粘度化ゴムの数平均分子量の変化率を確認したところ、いずれの低粘度化ゴムもテトラジン化合物（１）を配合しない比較用のゴムに対して、ほとんど変化していない結果を示した。以上の結果から、テトラジン化合物（１）とゴムとの混練り中にゴムの分解又は架橋はほとんど進行せず、低粘度化ゴムが得られることが示された。
【００８９】
[表中の記号の説明] 
表１において使用する原料を以下に示す。
※１：  ３，６−ビス（２−ピリジル）−１，２，４，５−テトラジン、東京化成工業株式会社製
※２：  ３，６−ビス（３−ピリジル）−１，２，４，５−テトラジン（製造例１で製造した化合物）
※３：  ３，６−ビス（４−ピリジル）−１，２，４，５−テトラジン、東京化成工業株式会社製
※４：  PetroChina Dushanzi Petrochemical Company製、商品名「ＲＣ２５５７Ｓ」
※５：  鎮江奇美化工有限公司社製、商品名「ＰＲ２２１６」
※６：  Shenhua Chemical Industrial Co., Ltd.社製、商品名「ＳＢＲ１７３９」
※７：  Sinopec Qilu Petrochemical Co., Ltd.社製、商品名「ＢＲ９０００」
※８：  GUANGKEN RUBBER社製、商品名「ＴＳＲ２０」
※９：  中化国際社製、商品名「ＲＳＳ３」
※１０：  Sterlitamak社製、商品名「ＳＫＩ−３」