(57)【要約】【課題】放電器内における放電用ガス及び放電器自身の過度な温度上昇を抑制することが可能なエキシマ光照射装置を提供する。【解決手段】エキシマ光照射装置は、放電器２と、冷却部６と、を備える。放電器２は、放電によってエキシマ光を生じる放電器であって、エキシマ光が照射される照射対象と対向する窓面２ａと、当該窓面２ａとは反対側に位置する背面２ｂと、を外周面の一部として有する。そして、冷却部６は、放電器２を背面２ｂ側から冷却する。一例として、冷却部６は、放電器２の背面２ｂ上方に位置すると共に当該背面２ｂに向けて冷却ガスを噴き出す噴射口６２を有する。【選択図】図１
2018061931.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放電によってエキシマ光を生じる放電器であって、前記エキシマ光が照射される照射対象と対向する窓面と、当該窓面とは反対側に位置する背面と、を外周面の一部として有する放電器と、
前記放電器を前記背面側から冷却する冷却部と、
を備える、エキシマ光照射装置。
【請求項２】
前記冷却部は、前記放電器の背面上方に位置すると共に当該背面に向けて冷却ガスを噴き出す噴射口を有する、請求項１に記載のエキシマ光照射装置。
【請求項３】
前記冷却部は、前記放電器の背面に対向した主面を持った基材を有し、
前記基材の主面に前記噴射口が形成されており、前記基材には、前記噴射口へ前記冷却ガスを導くガス流路が形成されると共に、当該ガス流路内の冷却ガスを冷却する冷媒が流れる冷媒流路が形成されている、請求項２に記載のエキシマ光照射装置。
【請求項４】
前記基材の主面には、前記噴射口が複数形成されており、前記基材には、複数の前記噴射口の何れにも通じる空洞が前記ガス流路の少なくとも一部として形成されている、請求項３に記載のエキシマ光照射装置。
【請求項５】
前記放電器及び前記冷却部が収納されたハウジングを更に有し、
前記ハウジングには、前記放電器の窓面から出射されたエキシマ光を通す開口部が形成されており、
前記放電器は、前記開口部に通じる間隙をハウジングとの間に設けた状態で当該ハウジング内に配されており、前記放電器の背面に噴き付けられた前記冷却ガスは、当該背面に沿って流れた後、前記間隙を通って前記開口部から前記ハウジング外に排出される、請求項２〜４の何れかに記載のエキシマ光照射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高周波放電によってエキシマ光を照射するエキシマ光照射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造技術や環境技術の分野において、様々な処理に紫外線が用いられる。半導体製造技術の分野では、ドライ洗浄、表面活性化処理、及びソフトアッシング等の処理において紫外線が用いられる。又、環境技術の分野では、オゾン生成、水や大気の汚染浄化、及び超純水製造等の処理において紫外線が用いられる。そして、これらの用途で使用される紫外線には、エネルギの高い短波長の紫外線（真空紫外線）が適しており、真空紫外線の照射装置として、放電用ガスが封入された放電器を備えたエキシマ光照射装置が多く用いられている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１５−２３０８３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記エキシマ光照射装置では、放電器での高周波放電時において、エキシマ光の生成に伴い放電器内に大量の熱が発生し、当該熱によって放電用ガス及び放電器の温度が上昇するという問題があった。放電用ガス及び放電器の過度な温度上昇は、エキシマ光の生成効率を低下させる原因となり、又、放電器（主に石英で形成された放電器）におけるエキシマ光の透過率を低下させる原因となる。
【０００５】
例えば、放電器等が収納されたハウジング内に、送風ファンを用いて不活性ガスを導入し、その不活性ガスで放電器を冷却しようとする技術が存在する（例えば、特許文献１参照）。しかし、放電器内には大量の熱が発生し、放電用ガスの温度は２００℃を超えて上昇する場合がある。このため、単にハウジング内に不活性ガスを導入しただけでは、放電器を効率良く冷却することはできず、放電器内における放電用ガス及び放電器自身の過度な温度上昇を抑制することは難しい。
【０００６】
そこで本発明の目的は、放電器内における放電用ガス及び放電器自身の過度な温度上昇を抑制することが可能なエキシマ光照射装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係るエキシマ光照射装置は、放電器と、冷却部と、を備える。放電器は、放電によってエキシマ光を生じる放電器であって、エキシマ光が照射される照射対象と対向する窓面と、当該窓面とは反対側に位置する背面と、を外周面の一部として有する。そして、冷却部は、放電器を背面側から冷却する。この構成において、冷却部は、放電器の背面上方に位置すると共に当該背面に向けて冷却ガスを噴き出す噴射口を有することが好ましい。
【０００８】
上記エキシマ光照射装置によれば、放電器を、その背面から効率良く冷却することができる。冷却部が上記噴射口を有する場合、噴射口から放電器の背面に向けて冷却ガスが噴き出し、これにより、放電器の背面に冷却ガスが噴き付けられる。この様に、放電器の背面に対して上方から冷却ガスが噴き付けられることにより、放電器が効率良く冷却される。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、放電器内における放電用ガス及び放電器自身の過度な温度上昇を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】第１実施形態に係るエキシマ光照射装置を概念的に示した縦断面図である。
【図２】エキシマ光照射装置の構成を示したブロック図である。
【図３】エキシマ光照射装置が備える冷却部を示した分解斜視図である。
【図４】第２実施形態として、冷却部の他の例を示した分解斜視図である。
【図５】第３実施形態に係るエキシマ光照射装置を概念的に示した縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
［１］第１実施形態
図１は、第１実施形態に係るエキシマ光照射装置を概念的に示した縦断面図である。又、図２は、エキシマ光照射装置の構成を示したブロック図である。図１に示される様に、エキシマ光照射装置は、ハウジング１と、放電器２と、第１電極層３Ａと、第２電極層３Ｂと、透光部４と、固定具５と、冷却部６と、を備える。更に図２に示される様に、エキシマ光照射装置は、第１ガス供給部８１Ａと、第２ガス供給部８１Ｂと、冷媒供給部８２と、電力供給部８４と、センサ８５と、制御部８６と、を備える。
【００１２】
ハウジング１は、底壁１１と、側壁１２と、天壁１３と、から構成されており、これらで囲まれた空間内に、放電器２と、第１電極層３Ａと、第２電極層３Ｂと、透光部４と、固定具５と、冷却部６と、が収納されている。又、ハウジング１の底壁１１には、後述する放電器２の窓面２ａから出射されたエキシマ光を通す開口部１４が形成されている。
【００１３】
放電器２は、薄箱形状を呈したフラット型の容器であり、放電用ガスが封入されている。具体的には、放電器２は、その全体が、エキシマ光を透過させる誘電体から形成されている。又、放電器２は、その厚さ方向に対して垂直な２つの平面を、外周面の一部として有している。そして、一方の平面が、エキシマ光の照射対象と開口部１４を通じて対向する窓面２ａとなる様に、ハウジング１内に放電器２が配されている。この様な放電器２の配置において、他方の平面は、窓面２ａとは反対側に位置する背面２ｂとなる。尚、放電器２は、放電用ガスが封入されるものに限らず、放電用ガスの導入及び排出が行われることにより放電器２内を通って放電用ガスが流れるものであってもよい。
【００１４】
放電器２の形成材料である誘電体には、例えば、紫外線の透過性に優れた石英又は合成石英を用いることができる。尚、放電器２の形成材料には、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム等のフッ化物が用いられてもよい。
【００１５】
放電器２は、封入（又は導入）される放電用ガスの種類に応じて、異なる波長のエキシマ光を生成する。従って、用途に応じて放電用ガスの種類を選択することにより、その用途に適した波長のエキシマ光を放電器２にて生成することができる。
【００１６】
第１電極層３Ａは、放電器２の窓面２ａに形成されており、グランドとして機能するハウジング１を介して、高周波電圧を出力する電力供給部８４に接続されている（図２参照）。一方、第２電極層３Ｂは、放電器２の背面２ｂに形成されており、第２電極層３Ｂには、背面２ｂに対して垂直に配された電極バー８４Ａが接続されている。そして、当該電極バー８４Ａは、後述する冷却部６の基材６１（貫通孔６１ｄ）及びハウジング１の天壁１３を貫通して外部に引き出されており、第２電極層３Ｂは、電極バー８４Ａを介して電力供給部８４に接続されている。従って、第１電極層３Ａと第２電極層３Ｂとの間に電力供給部８４によって高周波電圧が印加されることにより、電極層間に放電（高周波放電）を生じさせることができる。これにより、放電器２内の放電用ガスが励起し、その結果として放電器２内で生じたエキシマ光が、放電器２から放射される。尚、高周波電圧として、周波数は１ＭＨｚ以上２０ＭＨｚ以下であることが好ましく、又、電圧は１ｋＶ以上２０ｋＶ以下であることが好ましい。
【００１７】
具体的には、第１電極層３Ａは、窓面２ａから出射されたエキシマ光を均一に透過させることが可能な構成を有している。例えば、第１電極層３Ａには、網状を呈したものや、全域に亘って複数の開口が均一に分布したもの等が用いられる。尚、第１電極層３Ａは、これらに限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、第１電極層３Ａは、導電材料を窓面２ａに蒸着させて形成されたものであってもよい。第１電極層３Ａの形成材料には、ステンレス鋼、アルミニウム、アルミニウム合金、銅、酸化銅、金、銀など、種々の導電材料が用いられる。
【００１８】
一方、第２電極層３Ｂは、放電器２の背面２ｂの全域を覆っている。従って、第１電極層３Ａと第２電極層３Ｂとの間に高周波電圧が印加されたとき、放電器２内の全域で放電用ガスを均一に励起させることができ、その結果として放電器２内の全域でエキシマ光を均一に生じさせることができる。よって、窓面２ａから出射されるエキシマ光の光量分布も均一になり易い。又、放電器２の背面２ｂの全域が第２電極層３Ｂで覆われることにより、背面２ｂ側へのエキシマ光の漏出が防止される。
【００１９】
第２電極層３Ｂの形成材料には、第１電極層３Ａと同様、ステンレス鋼、アルミニウム、アルミニウム合金、銅、酸化銅、金、銀など、種々の導電材料が用いられる。尚、第２電極層３Ｂは、導電材料を背面２ｂに蒸着させて形成されたものであってもよい。この場合、第２電極層３Ｂは、背面２ｂの方へ向かってきたエキシマ光を窓面２ａ側へ効率良く反射するリフレクタとして機能する。
【００２０】
透光部４は、エキシマ光を透過させる第１透光板４１Ａ及び第２透光板４１Ｂと、これらの間に介在する枠体４２と、を有し、これらで囲まれた空間４３内に、第１ガス供給部８１Ａ（図２参照）によって窒素ガス等の不活性ガスが供給される。第１透光板４１Ａ及び第２透光板４１Ｂの各々において、その形成材料には、石英、合成石英、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム等、光透過性に優れた種々の光透過性材料が用いられる。
【００２１】
具体的には、第１透光板４１Ａは、放電器２の窓面２ａに対向すると共に第１電極層３Ａに密着した状態で配されている。より具体的には、第１透光板４１Ａは、後述する押え板５１と共に、これらの間に放電器２を挟持している。よって、第１電極層３Ａは、放電器２の窓面２ａに密着した状態で固定されている。尚、第１電極層３Ａが、導電材料を窓面２ａに蒸着させて形成されている場合、第１電極層３Ａは、他の固定手段がなくても窓面２ａに密着した状態で維持される。この場合、透光部４からは、固定手段としての第１透光板４１Ａを省くことができる。
【００２２】
一方、第２透光板４１Ｂは、第１透光板４１Ａより厚さが大きく、放電器２とは反対側から第１透光板４１Ａに対向した状態で、ハウジング１の開口部１４に嵌め込まれている。第２透光板４１Ｂの側周面には、底壁１１の内面（図１において上面）に沿って開口部１４の周囲に迫り出したフランジ部４１Ｂｆが形成されており、当該フランジ部４１Ｂｆと第１透光板４１Ａの周縁部との間に枠体４２が介在している。又、フランジ部４１Ｂｆと底壁１１の内面との間には、オーリング等のシール材４４が介在している。
【００２３】
より具体的には、枠体４２の外周面にはこれを包囲するダクト（不図示）が設けられており、ダクトと枠体４２との対向面のそれぞれに、透光部４内の空間４３に通じる貫通孔（不図示）が所定間隔で形成されている。そして、窒素ガス等の不活性ガスが、第１ガス供給部８１Ａからダクトに供給され、その後、上記貫通孔を通じて透光部４内の空間４３に導入される。これにより、透光部４内の空間４３が不活性ガスでパージされ、当該空間４３内の空気が除去される。又、放電器２での高周波放電時（エキシマ光の生成時）に、透光部４内の空間４３への不活性ガスの導入を継続することにより、第１透光板４１Ａを介して放電器２を冷却することができる。
【００２４】
但し、透光部４内の空間４３に導入される不活性ガスでの冷却だけでは、放電用ガスの温度が２００℃を超えて上昇する虞のある放電器２を、十分に冷却することは難しい。そこで、本実施形態では、後述する冷却部６により放電器２が冷却される。
【００２５】
固定具５は、ハウジング１内に放電器２を固定する機構であり、リング状の押え板５１と、複数の付勢部５２と、を有する。押え板５１は、放電器２の背面２ｂの周縁部に対向すると共に第２電極層３Ｂの周縁部に密着した状態で配されている。従って、押え板５１は、その開口部から、第２電極層３Ｂのうちの中央領域を含んだ広い領域を露出させている。尚、押え板５１の形成材料には、エキシマ光が透過し難い遮光材料が用いられる。これにより、押え板５１は、放電器２の背面２ｂ側へのエキシマ光の漏出を防止することができる。
【００２６】
付勢部５２の各々は、支柱５２１と、固定ピン５２２と、圧縮バネ５２３と、から構成されている。支柱５２１は、透光部４の周辺にて底壁１１の内面に立設されている。押え板５１は、支柱５２１と対向する位置まで拡がっており、固定ピン５２２は、押え板５１を貫通した状態で支柱５２１の先端面に固定されている。そして、固定ピン５２２の端部（支柱５２１に固定された端部とは反対側の端部）に設けられた頭部と押え板５１との間に、圧縮バネ５２３が、固定ピン５２２を取り巻いた状態で介在している。又、圧縮バネ５２３が適度に圧縮された状態となる様に、固定ピン５２２の頭部の位置が調整されている。
【００２７】
この様な固定具５によれば、押え板５１は、付勢部５２の圧縮バネ５２３によって底壁１１の方へ付勢され、その結果、押え板５１により、放電器２及び透光部４が底壁１１の方へ押圧されることになる。一方、そのときの押圧力は、第２透光板４１Ｂのフランジ部４１Ｂｆがシール材４４を介して底壁１１の内面に押し付けられることにより、当該底壁１１の内面で受け止められる。よって、放電器２は、押え板５１と透光部４とによって挟持された状態で固定される。
【００２８】
冷却部６は、放電器２の背面２ｂに対向した主面６１ａを持った平板状の基材６１を有し、当該主面６１ａに、放電器２の背面２ｂに向けて冷却ガスを噴き出す噴射口６２が形成されている。即ち、噴射口６２は、放電器２の背面２ｂ上方に位置している。本実施形態では、噴射口６２は、放電器２の背面２ｂの中心位置（本実施形態では、第２電極層３Ｂの中心位置）に冷却ガスが噴き付けられる様に、当該中心位置と対向する位置に配されている。尚、図１には、噴射口６２から噴き出した冷却ガスの流れが、太線矢印で示されている。
【００２９】
具体的には、基材６１には、噴射口６２へ冷却ガスを導くガス流路６３と、ガス流路６３内の冷却ガスを冷却する冷媒が流れる冷媒流路６４と、が形成されている。そして、ガス流路６３の入口と、冷媒流路６４の入口及び出口とが、何れも、基材６１が持つ同じ側面６１ｃに形成されている（図３参照）。
【００３０】
そして、冷却ガスは、第２ガス供給部８１Ｂ（図２参照）により、ハウジング１の側壁１２に設けられたガス導入口１２ａを通じてガス流路６３に導入される。冷却ガスには、窒素ガス等の不活性ガスが用いられる。尚、冷却ガスには、不活性ガスに代えてＣＤＡ（Clean  Dry  Air）が用いられてもよい。
【００３１】
冷媒は、冷媒供給部８２（図２参照）により、ハウジング１の側壁１２に設けられた冷媒導入口（不図示）を通じて冷媒流路６４に導入され、当該冷媒流路６４を流れた後、ハウジング１の側壁１２に設けられた冷媒排出口（不図示）を通じてハウジング１外に排出される（図３参照）。冷媒には、水等、熱交換率の高い液体が用いられる。尚、冷媒には、熱交換率の高いガスが用いられてもよい。
【００３２】
放電器２の背面２ｂ（本実施形態では、第２電極層３Ｂ）に噴き付けられた冷却ガスは、放電器２の背面２ｂに沿って流れた後、ハウジング１の側壁１２に設けられたガス排出口１２ｂを通じてハウジング１外に排出される。
【００３３】
図３は、冷却部６を示した分解斜視図である。図３に示される様に、冷却部６の基材６１は、３枚の平板６１Ａ〜６１Ｃを貼り合わせて構成されている。そして、平板６１Ａは、主面６１ａとなる第１平面６１Ａａと、それとは反対側に位置する第２平面６１Ａｂと、を有し、当該第２平面６１Ａｂに、ガス流路６３を構成するスリット状の溝６３ａが凹設されている。第２平板６１Ｂは、平板６１Ａの第２平面６１Ａｂに貼り付けられる第１平面６１Ｂａと、それとは反対側に位置する第２平面６１Ｂｂと、を有し、当該第２平面６１Ｂｂに、冷媒流路６４を構成するスリット状の溝６４ａが凹設されている。３枚の平板６１Ａ〜６１Ｃを貼り合わせる際には、これらが直接的に貼り合わされてもよいし、それぞれの間にオーリング等のシール材を介在させて貼り合わされてもよい。
【００３４】
本実施形態では、ガス流路６３を構成する溝６３ａは、平板６１Ａの第２平面６１Ａｂにおいて、基材６１の側面６１ｃと一致する端縁に入口が設けられており、当該入口の位置から噴射口６２の位置まで直線的に延びている。又、冷媒流路６４を構成する溝６４ａは、平板６１Ｂの第２平面６１Ｂｂにおいて、基材６１の側面６１ｃと一致する端縁に入口及び出口が設けられており、平板６１Ａ〜６１Ｃの積層方向から見てガス流路６３の周りを、入口の位置から出口の位置までＵ字状に延びている。
【００３５】
尚、冷却部６の基材６１は、平板状のものに限定されず、バルク状のものであってもよい。又、冷却部６は、３枚の平板６１Ａ〜６１Ｃを貼り合わせて構成されたものに限らず、噴射口６２に冷却ガスを導くことのできる種々の構成に変形することが可能である。
【００３６】
制御部８６は、エキシマ光照射装置の各部を制御する。具体的には、制御部８６は、電力供給部８４を制御して第１電極層３Ａ及び第２電極層３Ｂの間に高周波電圧を印加することにより、電極層間に放電（高周波放電）を生じさせ、その結果として放電器２の窓面２ａからエキシマ光を出射させる。
【００３７】
高周波放電時において、制御部８６は、第１ガス供給部８１Ａを制御することにより、透光部４内の空間４３に不活性ガスを供給する。これにより、エキシマ光を吸収し易い酸素ガスが透光部４内の空間４３から除去される。従って、放電器２の窓面２ａから出射されたエキシマ光は、照射対象と近接対向させることが可能な第２透光板４１Ｂの外面（第１透光板４１Ａとは反対側の平面）まで、透光部４では殆ど吸収されることになく導かれる。よって、照射対象に対してエキシマ光が効率良く照射される。
【００３８】
高周波放電時において、制御部８６は更に、第２ガス供給部８１Ｂ及び冷媒供給部８２を制御することにより、ガス流路６３に冷却ガスを流すと共に、冷媒流路６４に冷媒を流す。これにより、放電器２内で生じた熱の影響で冷却部６自体の温度が上昇した場合であっても、ガス流路６３内に導入された冷却ガスを、放電器２の冷却に適した所定温度に維持しつつ噴射口６２まで導くことができる。
【００３９】
そして、放電器２の冷却に適した温度の冷却ガスが、噴射口６２から放電器２の背面２ｂに向けて噴き出し、これにより、放電器２の背面２ｂに冷却ガスが噴き付けられる。本実施形態では、放電器２の背面２ｂに第２電極層３Ｂが形成され、当該第２電極層３Ｂが押え板５１の開口部から露出している。このため、冷却ガスは、第２電極層３Ｂに直接的に噴き付けられる。そして、第２電極層３Ｂが冷却ガスで冷却されることにより、当該第２電極層３Ｂを通じて放電器２が冷却される。この様に、放電器２の背面２ｂに対して上方から冷却ガスが噴き付けられることにより、放電器２が効率良く冷却される。よって、放電器２内における放電用ガスの過度な温度上昇が抑制され、その結果、エキシマ光の生成効率の低下が防止される。又、放電器２自身の過度な温度上昇が抑制され、その結果、放電器２におけるエキシマ光の透過率の低下が防止される。
【００４０】
本実施形態のエキシマ光照射装置では、ハウジング１の開口部１４は、透光部４によって塞がれると共に、第２透光板４１Ｂのフランジ部４１Ｂｆと底壁１１の内面との間に介在したシール材４４により密閉されている。よって、放電器２の背面２ｂ（本実施形態では、押え板５１の背面）に噴き付けられた冷却ガスは、開口部１４からは漏れ出さず、上述したガス排出口１２ｂを通じてハウジング１外に排出される。よって、本実施形態のエキシマ光照射装置は、窒素等のガスの付着を嫌う半導体ウェハ等をエキシマ光の照射対象とする場合に適している。
【００４１】
上述したエキシマ光照射装置において、制御部８６は、放電器２から放射されるエキシマ光の光量をセンサ８５（図２参照）で検出し、その検出結果に基づいて電力供給部８４を制御してもよい。この場合、制御部８６は、センサ８５の検出結果に基づいて、当該電力供給部８４から出力される高周波電圧を昇降させる。これにより、エキシマ光照射装置からのエキシマ光の出射量をフィードバック制御することができ、照射対象に対して安定してエキシマ光を供給することが可能になる。
【００４２】
［２］第２実施形態
図４は、第２実施形態として、冷却部６の他の例を示した分解斜視図である。図４に示される様に、冷却部６は、基材６１の主面６１ａに噴射口６２が複数形成されたものであってもよい。この場合、基材６１には、複数の噴射口６２の何れにも通じる空洞６５がガス流路６３の一部として形成されていることが好ましい。又、複数の噴射口６２は、放電器２の背面２ｂの中央領域又はそれに限定されない広い範囲に亘って分布させることができる。
【００４３】
この様な冷却部６によれば、ガス流路６３に導入された冷却ガスを、複数の噴射口６２から効率良く噴射させることができる。具体的には、噴射口６２からの冷却ガスの噴射量にばらつきが生じ難くなる。従って、複数の噴射口６２のそれぞれから噴き出した冷却ガスは、放電器２の背面２ｂの広い範囲に亘って均一に噴き付けられる。よって、放電器２を、より効率良く冷却することができる。
【００４４】
尚、冷却部６に形成されるガス流路６３及び冷媒流路６４の構成は、第１実施形態及び第２実施形態のそれぞれで説明したものに限らず、種々の変形が可能である。
【００４５】
又、第１実施形態及び第２実施形態の各々において、放電器２は、押え板５１を持たない何らかの固定手段によりハウジング１内に固定されていてもよい。この場合も、噴射口６２から噴き出した冷却ガスは、放電器２の背面２ｂに形成されている第２電極層３Ｂに直接的に噴き付けられることになる。よって、放電器２を、効率良く冷却することができる。
【００４６】
［３］第３実施形態
図５は、第３実施形態に係るエキシマ光照射装置を概念的に示した縦断面図である。図５に示される様に、放電器２は、押え板５１を持たない何らかの固定手段（不図示）によりハウジング１内に固定され、且つ、開口部１４に通じる間隙１５を底壁１１との間に設けた状態でハウジング１内に配されていてもよい。即ち、開口部１４は密閉されておらず、ハウジング１内の空間が開口部１４を介して外部に通じている。一例として、放電器２は、その横幅が開口部１４の幅より小さく（何れの幅も図５において横方向の幅）、図５の紙面に垂直な方向における両端部が、底壁１１の内面（図５において上面）に固定される。又、本実施形態では、冷却ガスは、窒素ガス等の不活性ガスであることが好ましい。
【００４７】
この様な構成によれば、放電器２の背面２ｂに噴き付けられた冷却ガスは、当該背面２ｂに沿って流れた後、間隙１５を通って開口部１４からハウジング１外に排出される。図５には、噴射口６２から噴き出した冷却ガスの流れが、太線矢印で示されている。従って、開口部１４と照射対象との間において、冷却ガスの主成分である不活性ガスの濃度が高くなる。即ち、開口部１４と照射対象との間において、エキシマ光を吸収し易い酸素ガスの濃度が低くなる。よって、放電器２の窓面２ａから出射されたエキシマ光は、照射対象に対して効率良く照射される。
【００４８】
［４］他の実施形態
上述した第１及び第２実施形態において、冷却ガスとして不活性ガスが用いられる場合、当該冷却ガスが透光部４内の空間４３に導入されてもよい。又、エキシマ光照射装置は、冷却ガスを用いずに放電器２を背面２ｂ側から冷却する構成を有していてもよい。例えば、冷却部６の基材６１と第２電極層３Ｂとの間に放熱材を挟み込むことにより、放電器２で生じた熱を基材６１へ効率良く移動させてもよい。この場合、基材６１へ移動した熱は、冷媒流路６４を流れる冷媒を介して外部へ放出される。
【００４９】
上述の実施形態の説明は、すべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上述の実施形態ではなく、特許請求の範囲によって示される。更に、本発明の範囲には、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。
【符号の説明】
【００５０】
１  ハウジング
２  放電器
２ａ  窓面
２ｂ  背面
３Ａ  第１電極層
３Ｂ  第２電極層
４  透光部
５  固定具
６  冷却部
１１  底壁
１２  側壁
１２ａ  ガス導入口
１２ｂ  ガス排出口
１３  天壁
１４  開口部
１５  間隙
４１Ａ  第１透光板
４１Ｂ  第２透光板
４１Ｂｆ  フランジ部
４２  枠体
４３  空間
４４  シール材
５１  押え板
５２  付勢部
６１  基材
６１ａ  主面
６１ｃ  側面
６１ｄ  貫通孔
６１Ａ、６１Ｂ、６１Ｃ  平板
６１Ａａ、６１Ｂａ  第１平面
６１Ａｂ、６１Ｂｂ  第２平面
６２  噴射口
６３  ガス流路
６４  冷媒流路
６３ａ、６４ａ  溝
６５  空洞
８１Ａ  第１ガス供給部
８１Ｂ  第２ガス供給部
８２  冷媒供給部
８４  電力供給部
８４Ａ  電極バー
８５  センサ
８６  制御部
５２１  支柱
５２２  固定ピン
５２３  圧縮バネ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2018061931.tif 000007