(57)【要約】【課題】光走査装置に用いる部品を増加させることなく、被走査面の主走査方向における光ビーム径の均一性の崩れを改善する。【解決手段】光走査装置４の調整方法は、光源部４３から出射された光ビームを主走査方向に偏向走査する偏向部４１と、主走査方向に沿って延設され偏向部４１によって偏向走査された光ビームを被走査面に結像させる結像レンズ４２とを備え、結像レンズ４２の入射面５１のうち、被走査面における潜像形成対象範囲に対応する有効範囲において主走査方向に直交する高さ方向で、偏向走査中の光ビームが通る最上位置と、偏向走査中の光ビームが通る最下位置とを検出し、結像レンズ４２の入射面５１において結像レンズ４２の母線５２の高さに対し最上位置と最下位置との中心高さを略一致させる調整ステップを実行する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源から出射された光ビームを主走査方向に偏向走査する偏向部と、前記主走査方向に沿って延設され前記偏向部によって偏向走査された光ビームを被走査面に結像させる結像レンズとを備えた光走査装置の調整方法であって、
前記結像レンズの入射面のうち、前記被走査面における潜像形成対象範囲に対応する有効範囲において主走査方向に直交する高さ方向で、偏向走査中の光ビームが通る最上位置と、偏向走査中の光ビームが通る最下位置とを検出し、前記結像レンズの入射面において前記結像レンズの母線の高さに対し前記最上位置と前記最下位置との中心高さを略一致させる調整ステップを実行する、光走査装置の調整方法。
【請求項２】
請求項１に記載の光走査装置の調整方法において、
前記光走査装置では、前記結像レンズに対し複数のビームを高さ方向に互いにずらして入射させており、
前記最上位置は、前記複数の光ビームのうち、前記有効範囲において最も上側を偏向走査される光ビームが通る最も上側の位置であり、
前記最下位置は、前記複数の光ビームのうち、前記有効範囲において最も下側を偏向走査される光ビームが通る最も下側の位置である、光走査装置の調整方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の光走査装置の調整方法において、
前記光走査装置では、前記偏向部と前記被走査面との間の光路に配置された前記結像レンズの数が１つである、光走査装置の調整方法。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れか１つに記載の光走査装置の調整方法において、
前記光走査装置は、前記偏向部として回転多面鏡を用い、平面視において一対の結像レンズが互いに対向して前記回転多面鏡を中心に対称に配置される対向走査型であり、
前記回転多面鏡の回転軸は、前記一対の結像レンズの一方の側に傾いており、
前記調整ステップ前に、互いに同じ高さに前記一対の結像レンズを取り付けるステップを実行し、
前記調整ステップにおいて、前記一対の結像レンズのうち一方の結像レンズのみについて、前記母線の高さに対する前記中心高さのずれ量を検出し、前記一対の結像レンズの各々の入射面において、前記中心高さを前記ずれ量だけ互いに逆方向にずらして前記母線の高さに略一致させる、光走査装置の調整方法。
【請求項５】
請求項４に記載の光走査装置の調整方法において、
前記光走査装置では、前記一対の結像レンズに対応する一対の被走査面に対し長手方向が略平行となるように略矩形の基板が設けられ、前記基板の短手方向の略中心に前記回転多面鏡が取り付けられている、光走査装置の調整方法。
【請求項６】
光源から出射された光ビームを主走査方向に偏向走査する偏向部と、
前記主走査方向に沿って延設され前記偏向部によって偏向走査された光ビームを被走査面に結像させる結像レンズとを備えた光走査装置であって、
前記結像レンズの入射面のうち、前記被走査面における潜像形成対象範囲に対応する有効範囲において主走査方向に直交する高さ方向で、偏向走査中の光ビームが通る最上位置と、偏向走査中の光ビームが通る最下位置との中心高さが、前記結像レンズの母線の高さに対し略一致している、光走査装置。
【請求項７】
請求項６に記載の光走査装置において、
前記結像レンズに対し複数のビームを高さ方向に互いにずらして入射させており、
前記最上位置は、前記複数の光ビームのうち、前記有効範囲において最も上側を偏向走査される光ビームが通る最も上側の位置であり、
前記最下位置は、前記複数の光ビームのうち、前記有効範囲において最も下側を偏向走査される光ビームが通る最も下側の位置である、光走査装置。
【請求項８】
請求項６又は７に記載の光走査装置において、
前記偏向部と前記被走査面との間の光路に配置された前記結像レンズの数が１つである、光走査装置。
【請求項９】
請求項６乃至８の何れか１つに記載の光走査装置において、
当該光走査装置は、前記偏向部として回転多面鏡を用い、平面視において一対の結像レンズが互いに対向して前記回転多面鏡を中心に対称に配置される対向走査型であり、
前記回転多面鏡の回転軸は、前記一対の結像レンズの一方の側に傾き、
前記一対の結像レンズの各々の入射面では、前記母線の高さに対し前記中心高さが略一致している、光走査装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の光走査装置において、
前記一対の結像レンズに対応する一対の被走査面に対し長手方向が略平行に設けられた略矩形の基板をさらに備え、
前記基板の短手方向の略中心に、前記回転多面鏡が取り付けられている、光走査装置。
【請求項１１】
請求項６乃至１０のいずれか１つに記載の光走査装置を備えた画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光走査装置及び光走査装置を備えた画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、例えば電子写真方式の画像形成装置等に搭載される光走査装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。特許文献１に記載の光走査装置は、光源から出射された光ビームを偏向走査させるポリゴンミラーと、ポリゴンミラーにより偏向走査された光ビームを被走査面に結像させる走査レンズとを有している。この光走査装置では、走査レンズの形状が理想形状から外れることで生じる走査線曲がり等の問題に対し、複数の弾性部材を用いて走査レンズを押圧し、走査線曲がり等を補正している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許４７４４１２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、この種の光走査装置では、回転多面鏡などの偏向部が傾いて設けられた場合に、結像レンズの入射面において光ビームの走査線（偏向走査された光ビームの通過位置を表す線）が副走査方向に湾曲する。この場合、結像レンズの入射面では主走査方向の位置によって光ビームの通過高さが異なる状態となり、被走査面では主走査方向における光ビーム径（光学性能）の均一性が崩れる。この光ビーム径の均一性の崩れは、結像レンズの入射面において母線に対し走査線がずれるほど大きくなる。そして、画像形成装置の場合は画像品質の低下を招く虞がある。この問題に対し、従来の光走査装置のように結像レンズを強制的に変形させる場合、多くの部品が必要となりコストアップを招く。また、多くの部品を設置するために光走査装置が大型化する虞もある。
【０００５】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、光走査装置に用いる部品を増加させることなく、被走査面の主走査方向における光ビーム径の均一性の崩れを改善することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る光走査装置の調整方法は、光源から出射された光ビームを主走査方向に偏向走査する偏向部と、主走査方向に沿って延設され偏向部によって偏向走査された光ビームを被走査面に結像させる結像レンズとを備えた光走査装置を調整する方法である。
【０００７】
そして、光走査装置の調整方法では、結像レンズの入射面のうち、被走査面における潜像形成対象範囲に対応する有効範囲において主走査方向に直交する高さ方向で、偏向走査中の光ビームが通る最上位置と、偏向走査中の光ビームが通る最下位置とを検出し、結像レンズの入射面においてその母線の高さに対し最上位置と最下位置との中心高さを略一致させる調整ステップを実行する。
【０００８】
また、本発明に係る光走査装置は、光源から出射された光ビームを主走査方向に偏向走査する偏向部と、主走査方向に沿って延設され偏向部によって偏向走査された光ビームを被走査面に結像させる結像レンズとを備えている。
【０００９】
そして、結像レンズの入射面のうち、被走査面における潜像形成対象範囲に対応する有効範囲において主走査方向に直交する高さ方向で、偏向走査中の光ビームが通る最上位置と、偏向走査中の光ビームが通る最下位置との中心高さが、結像レンズの母線の高さに対し略一致している。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、光走査装置に用いる部品を増加させることなく、被走査面の主走査方向における光ビーム径の均一性の崩れを改善することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、実施形態における画像形成装置を示す概略構成図である。
【図２】図２は、光走査装置を示す概略の平面図である。
【図３】図３は、光走査装置を左右方向に切断した断面を模式的に示す図である。
【図４】図４は、調整ステップを行う前の各結像レンズの入射面における光ビームの走査線を表す図である。
【図５】図５は、調整ステップを行った後の各結像レンズの入射面における光ビームの走査線を表す図である。
【図６】図６は、実施形態の変形例に係る光走査装置において、調整ステップを行う前の各結像レンズの入射面における光ビームの走査線を表す図である。
【図７】図７は、実施形態の変形例に係る光走査装置において、調整ステップを行った後の各結像レンズの入射面における光ビームの走査線を表す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。
【００１３】
《実施形態１》
図１は、実施形態における画像形成装置１の概略構成図を示す。この画像形成装置１は、タンデム方式のカラープリンターであって、箱形のケーシング２内に画像形成部３を備えている。画像形成部３は、画像データに基づき画像を記録紙Ｐに転写形成する箇所である。画像データは、例えば、ネットワーク接続等がされたコンピューター等の外部機器から伝送されてくる。画像形成部３の下方には、光ビーム（レーザー光）を照射する光走査装置４が配置され、画像形成部３の上方には、転写ベルト５が配置されている。光走査装置４の下方には、記録紙Ｐを貯留する用紙貯留部６が配置され、用紙貯留部６の側方には、手差し給紙部７が配置されている。転写ベルト５の側方上部には、画像が転写形成された記録紙Ｐに定着処理を施す定着部８が配置されている。ケーシング２の上部には、定着部８で定着処理が施された記録紙Ｐを排出する用紙排出部９が配置されている。
【００１４】
画像形成部３は、転写ベルト５に沿って一列に配置された４つの画像形成ユニット１０を備えている。各画像形成ユニット１０は、感光体ドラム１１を有している。各感光体ドラム１１の直下には、帯電器１２が配置され、各感光体ドラム１１の一側方には、現像装置１３が配置され、各感光体ドラム１１の直上には、１次転写ローラー１４が配置され、各感光体ドラム１１の他側方には、感光体ドラム１１の周面をクリーニングするクリーニング部１５が配置されている。なお、画像形成装置１には、図１に示すように、２本の光ビームを偏向走査する光走査装置４が２つ設けられている。２つの光走査装置４には同じものが用いられている。
【００１５】
各感光体ドラム１１は、帯電器１２によって周面が一様に帯電され、当該帯電後の感光体ドラム１１の周面に対して、画像データに基づく各色に対応したレーザー光が各光走査装置４から照射され、各感光体ドラム１１の周面に静電潜像が形成される。この静電潜像に現像装置１３から現像剤が供給されて、各感光体ドラム１１の周面にイエロー、マゼンタ、シアン、又はブラックのトナー像が形成される。これらトナー像は、１次転写ローラー１４に印加された転写バイアスにより転写ベルト５にそれぞれ重ねて転写される。
【００１６】
画像形成装置１では、定着部８の下方に、転写ベルト５と当接した状態で２次転写ローラー１６が配置されている。用紙貯留部６又は手差し給紙部７から用紙搬送路１７を搬送される記録紙Ｐは、２次転写ローラー１６と転写ベルト５とで挟持され、２次転写ローラー１６に印加された転写バイアスにより転写ベルト５上のトナー像が記録紙Ｐに転写される。
【００１７】
定着部８は、加熱ローラー１８と加圧ローラー１９とを備え、加熱ローラー１８と加圧ローラー１９とにより記録紙Ｐを挟持して加熱及び加圧し、記録紙Ｐに転写されたトナー像を記録紙Ｐに定着させる。定着処理後の記録紙Ｐは、用紙排出部９に排出される。画像形成装置１には、両面印刷時に定着部８から排出された記録紙Ｐを反転させるための反転搬送路２０が設けられている。
【００１８】
−光走査装置の構成について−
次に、光走査装置４の詳細について説明する。図２は、光走査装置４の内部構造を示す平面図であり、図３は、光走査装置４を左右方向（感光体ドラム１１の配列方向）に切断した断面を模式的に示す図である。図２では、便宜的に一対の結像レンズ４２ａ，４２ｂの外側に一対の感光体ドラム１１を記載している。
【００１９】
光走査装置４は、一対の結像レンズ４２ａ，４２ｂがポリゴンミラー４１を挟んで互いに対向する対向走査型に構成されている。具体的に、光走査装置４は、一対の光源部４３ａ，４３ｂと、各光源部４３ａ，４３ｂから出射された光ビームを主走査方向に偏向走査するポリゴンミラー４１と、主走査方向に沿って延設された一対の結像レンズ４２ａ，４２ｂとを備えている。これらの光走査装置４の構成部品は、筐体３５の内部に収容されている。筐体３５の上側は、光ビームが通過するスリットが形成された蓋部材（図示省略）により閉塞されている。
【００２０】
ポリゴンミラー４１は、正六角形の柱状に形成されて側面に６つの反射面を有する回転多面鏡であり、偏向部を構成している。ポリゴンミラー４１は、ポリゴンモーター３６の駆動軸３７に連結されている。ポリゴンミラー４１は、ポリゴンモーター３６により所定の速度で回転駆動されることで、各光源部４３ａ，４３ｂから出射される光ビームを反射して主走査方向に偏向走査する。
【００２１】
ポリゴンミラー４１は、駆動軸３７を介して略矩形の基板３０に取り付けられている。
基板３０は、図２に示すように、感光体ドラム１１（被走査面）に対し長手方向が略平行となるように、筐体３５の底面の中央部に固定されている。４つの感光体ドラム１１は、互いに平行に設けられている。ポリゴンミラー４１は、基板３０の短手方向の略中心に取り付けられている。すなわち、平面視において、基板３０の各長辺からポリゴンミラー４１の中心までの距離は互いに等しい。なお、ポリゴンミラー４１は傾いており、ポリゴンミラーの中心位置は、その高さ方向の中心における位置である。この点は、以下の記載でも同様である。
【００２２】
本実施形態では、基板３０に対し駆動軸３７が傾くように、ポリゴンモーター３６の軸受部３６ａが形成されている。駆動軸３７は、基板３０の短手方向において一対の結像レンズ４２ａ，４２ｂの一方の側に傾いている。なお、基板３０を傾けて設置することで、基板３０の短手方向において一対の結像レンズ４２ａ，４２ｂの一方の側に駆動軸３７が傾くようにしてもよい。この場合、例えば、基板３０の短手方向の片側において、基板３０と筐体３５の底面との間に部材を挿入する。
【００２３】
一対の結像レンズ４２ａ，４２ｂは、ポリゴンミラー４１によって偏向走査された光ビームを感光体ドラム１１表面に結像させる長尺光学素子である。各結像レンズ４２ａ，４２ｂは、平面視において主走査方向の中央部がポリゴンミラー４１側とは反対側に膨出するｆθレンズにより構成され、ポリゴンミラー４１を中心とする仮想の円弧に沿って湾曲している。
【００２４】
また、各結像レンズ４２ａ，４２ｂは、横断面視において、主走査方向に直交する高さ方向（図３における上下方向）の中央部がポリゴンミラー４１側とは反対側に膨出している。各結像レンズ４２は、主走査方向において高さが一定となるように、支持部材（図示省略）を介して筐体３５の底面上に支持されている。
【００２５】
一対の結像レンズ４２ａ，４２ｂは、平面視において、ポリゴンミラー４１を中心に左右対称に配置されている。ポリゴンミラー４１の中心から各結像レンズ４２ａ，４２ｂの中心までの距離は互いに等しい。なお、結像レンズ４２ａ，４２ｂの中心とは、母線５２ａ，５２ｂ上における主走査方向の中心である。母線５２ａ，５２ｂは、横断面視において結像レンズ４２ａ，４２ｂの外面が最も膨出している高さ位置（高さ方向の中心位置）を通る線であり、その高さ位置において主走査方向に延びている。また、以下では、一対の結像レンズ４２ａ，４２ｂのうち、右側を「第１結像レンズ４２ａ」、左側を「第２結像レンズ４２ｂ」という。
【００２６】
一対の光源部４３ａ，４３ｂは、筐体３５の底面上において左右対称（具体的に、基板３０の長手方向の中心線に対し線対称）に配置されている。以下では、一対の光源部４３ａ，４３ｂのうち、右側を「第１光源部４３ａ」、左側を「第２光源部４３ｂ」という。各光源部４３ａ，４３ｂは、レーザー光源により構成されている。
【００２７】
ポリゴンミラー４１と第１光源部４３ａとの間には、第１光源部４３ａ側から順番に、第１コリメータレンズ４４ａとアパーチャ（図示省略）とシリンドリカルレンズ（図示省略）が配置されている。ポリゴンミラー４１と第２光源部４３ｂとの間には、第２光源部４３ｂ側から順番に、第２コリメータレンズ４４ｂとアパーチャ（図示省略）とシリンドリカルレンズ（図示省略）が配置されている。
【００２８】
光走査装置４の作動時には、各光源部４３ａ，４３ｂから出射された光ビームがポリゴンミラー４１により偏向走査された後、図３に示すように、各結像レンズ４２ａ，４２ｂを通過し、その後、反射ミラー４６ａ，４６ｂにより反射されて感光体ドラム１１に結像される。感光体ドラム１１表面は、各光ビームの被走査面を構成している。なお、本実施形態では、ポリゴンミラー４１と被走査面との間の光路に配置された結像レンズ４２ａ，４２ｂの数が１つである
【００２９】
−光走査装置の調整方法について−
光走査装置４の調整方法について説明を行う。光走査装置４の調整方法では、各結像レンズ４２ａ，４２ｂの入射面５１ａ，５１ｂにおける走査線６２ａ，６２ｂの高さを調整する調整ステップが実行される。調整ステップは、例えば、光走査装置４を組み立てた後に行われる。調整ステップは、光走査装置４の製造方法の一部を構成している。
【００３０】
図４は、調整ステップを行う前の各結像レンズ４２ａ，４２ｂの入射面５１ａ，５１ｂにおける光ビームの走査線６２ａ，６２ｂを表す。図５は、調整ステップを行った後の各結像レンズ４２ａ，４２ｂの入射面における光ビームの走査線６２ａ，６２ｂを表す。
【００３１】
まず、調整ステップを行う前の状態について説明する。第１結像レンズ４２ａと第２結像レンズ４２ｂは互いに同じ高さに設置され、第１光源部４３ａと第２光源部４３ｂも互いに同じ高さに設置され、さらに第１コリメータレンズ４４ａと第２コリメータレンズ４４ｂも互いに同じ高さに設置されている。また、上述したように、ポリゴンミラー４１の回転軸となる駆動軸３７は、基板３０の短手方向において第１結像レンズ４２ａ側に傾いている。
【００３２】
この状態では、ポリゴンミラー４１の反射光が、ポリゴンミラー４１の右側では斜め下に出射され、ポリゴンミラー４１の左側では斜め上に出射される。各結像レンズ４２ａ，４２ｂの入射面５１ａ，５１ｂでは、光ビームの走査線６２ａ，６２ｂが副走査方向に湾曲する。具体的に、第１結像レンズ４２ａの入射面５１ａでは光ビームの走査線６２ａが上に凸に湾曲し、第２結像レンズ４２ｂの入射面５１ｂでは光ビームの走査線６２ｂが下に凸に湾曲する。さらに、各結像レンズ４２ａ，４２ｂの入射面５１ａ，５１ｂでは、母線５２ａ，５２ｂに対し走査線６２ａ，６２ｂが比較的大きくずれた状態となる。
【００３３】
ここで、各結像レンズ４２ａ，４２ｂの入射面５１ａ，５１ｂで光ビームの走査線６２ａ，６２ｂが副走査方向に湾曲する場合、主走査方向の位置によって光ビームの通過高さが異なる状態となる。これにより、感光体ドラム１１表面の主走査方向における光ビーム径の均一性が崩れる。さらに、各結像レンズ４２ａ，４２ｂの入射面５１ａ，５１ｂで母線５２ａ，５２ｂに対し走査線６２ａ，６２ｂが比較的大きくずれた状態では、上述の光ビーム径の均一性の崩れが大きくなる。そのため、画像形成装置１の画像品質が低下する虞がある。
【００３４】
具体的に、画像の主走査方向における中心部では走査線６２ａ，６２ｂが母線５２ａ，５２ｂ付近を通過するため、十分な光学特性を得ることができるが、画像の主走査方向における端部では走査線６２ａ，６２ｂが母線５２ａ，５２ｂから離れた位置を通過するため、十分な光学特性を得ることができない。結果として、画像全域では光学特性の差が大きくなり、画像濃度ムラなどの問題が発生する虞がある。
【００３５】
本実施形態では、この問題を解決するために、各結像レンズ４２ａ，４２ｂの入射面５１ａ，５１ｂにおける走査線６２ａ，６２ｂの高さを調整する調整ステップを行う。入射面５１ａ，５１ｂにおける光ビームの高さ調整としては、結像レンズ４２ａ，４２ｂの高さの調整、光源部４３ａ，４３ｂの高さの調整、又は、第１コリメータレンズ４４ａ，４４ｂの高さ調整のうち少なくとも１つが行われる。
【００３６】
具体的に、調整ステップでは、第１結像レンズ４２ａの入射面５１ａのうち、感光体ドラム１１表面の潜像形成対象範囲（画像印字領域）に対応する有効範囲５３ａにおいて高さ方向で、偏向走査中の光ビームが通る最上位置（引出線５４ａの高さ位置）と、偏向走査中の光ビームが通る最下位置（引出線５５ａの高さ位置）とを検出し、さらに母線５２ａの高さに対する、最上位置と最下位置との中心高さ（引出線５６ａの高さ位置）のずれ量Δを検出する。最上位置及び最下位置は、例えば、第１結像レンズ４２ａの入射面５１ａをカメラで撮像した画像の解析を行うことにより検出する。
【００３７】
そして、第１結像レンズ４２ａをずれ量Δだけ下側に移動させ、第１結像レンズ４２ａの入射面５１ａにおいて、第１結像レンズ４２ａの母線５２ａの高さに対し最上位置と最下位置との中心高さを略一致させる。図５に示す寸法についてＸａ＝Ｙａとなるように、第１結像レンズ４２ａの高さ調整を行う。なお、第１光源部４３ａ又は第１コリメータレンズ４４ａの高さを調整してもよい。
【００３８】
また、第２結像レンズ４２ｂの入射面５１ｂにおける走査線６２ｂの高さ調整では、第１結像レンズ４２ａについて検出したずれ量Δを用いる。具体的に、第２結像レンズ４２ｂをずれ量Δだけ上側に移動させ、第２結像レンズ４２ｂの入射面５１ｂにおいて、第２結像レンズ４２ｂの母線５２ｂの高さに対し最上位置（引出線５４ｂの高さ位置）と最下位置（引出線５５ｂの高さ位置）との中心高さ（引出線５６ｂの高さ位置）を略一致させる。図５に示す寸法についてＸｂ＝Ｙｂとなるように、第２結像レンズ４２ｂの高さ調整を行う。なお、第２光源部４３ｂ又は第２コリメータレンズ４４ｂの高さを調整してもよい。
【００３９】
例えば、調整ステップ前において、ポリゴンミラー４１の中心高さ（軸心における高さ）を「基準設置高」とし、基準設置高に対し各結像レンズ４２ａ，４２ｂの中心高さが一致するように各結像レンズ４２ａ，４２ｂを設置した場合、調整ステップ後は、各結像レンズ４２ａ，４２ｂの中心高さと基準設置高との差が互いに等しくなる。なお、光源部４３ａ，４３ｂ又はコリメータレンズ４４ａ，４４ｂを調整対象部品として高さ調整を行う場合においても、調整ステップ前において、基準設置高に対し調整対象部品における中心高さが一致するように各調整対象部品を設置した場合、調整ステップ後は、各調整対象部品の中心高さと基準設置高との差が互いに等しくなる。
【００４０】
−実施形態の効果−
本実施形態では、調整ステップを行うことで、各結像レンズ４２ａ，４２ｂの入射面５１ａ，５１ｂにおいて母線５２ａ，５２ｂの高さに対し最上位置と最下位置との中心高さを略一致させている。従って、光走査装置４に用いる部品を増加させることなく、感光体ドラム１１表面の主走査方向の全域における光ビーム径の不均一さを改善することができる。被走査面全体として平均的に均一なビーム性能を得ることができるため、走査線湾曲に起因する画像形成装置１の画像品質の低下を抑制することができる。
【００４１】
また、本実施形態では、各光路に配置された結像レンズ４２ａ，４２ｂの数が１つである。ここで、走査線湾曲に起因する画像品質の低下は、各光路に複数の結像レンズを設けることで緩和することができる。本実施形態では、結像レンズ４２ａ，４２ｂの数を増やすことなく、走査線湾曲に起因する画像品質の低下を抑制することができる。
【００４２】
また、本実施形態では、一対の結像レンズ４２ａ，４２ｂのうち第１結像レンズ４２ａのみについて、母線５２ａの高さに対する中心高さのずれ量Δを検出し、一対の結像レンズ４２ａ，４２ｂの各々の入射面５１ａ，５１ｂにおいて、上述の中心高さをずれ量Δだけ互いに逆方向にずらして母線５２ａ，５２ｂの高さに略一致させる。本実施形態によれば、第２結像レンズ４２ｂについてずれ量を検出する手間を省略でき、調整ステップにおける作業工数を削減することができる。
【００４３】
また、本実施形態では、ポリゴンミラー４１の中心から各結像レンズ４２ａ，４２ｂの中心までの距離が互いに等しいため、駆動軸３７を傾けた影響が左右で同等である。さらに、一対の結像レンズ４２ａ，４２ｂに対応する一対の被走査面に対し長手方向が略平行となるように略矩形の基板３０を設け、その基板３０の短手方向の略中心にポリゴンミラー４１を取り付けているため、ポリゴンミラー４１の回転軸が基板３０の短手方向に倒れやすい。以上により、第２結像レンズ４２ｂにおける高さ調整で、第１結像レンズ４２ａについて検出したズレ量Δを用いても、第２結像レンズ４２ｂの入射面５１ｂにおいて母線５２ｂの高さに対し中心高さを精度良く一致させることができる。
【００４４】
−実施形態の変形例−
実施形態の変形例について説明をする。図６は、実施形態の変形例に係る光走査装置４において、調整ステップを行う前の各結像レンズ４２ａ，４２ｂの入射面５１ａ，５１ｂにおける光ビームの走査線６２ａ，６２ｂを表す。図７は、実施形態の変形例に係る光走査装置４において、調整ステップを行った後の各結像レンズ４２ａ，４２ｂの入射面における光ビームの走査線６２ａ，６２ｂを表す。
【００４５】
本変形例では、各光源部４３ａ，４３ｂが、複数のビーム光を出射するマルチビーム光源により構成されている。被走査面では、各光源部４３ａ，４３ｂから出射された複数のビームの走査線が副走査方向に間隔を開けて並ぶ。例えば、１つの光源部４３ａ，４３ｂから２本の光ビームが出射される場合、対向走査型の光走査装置４から４本の光ビームが出射されるため、画像形成装置１では光走査装置４の数が１つになる。光走査装置４では、図６に示すように、各結像レンズ４２ａ，４２ｂに対し２本の光ビームが高さ方向に互いにずれて入射する。
【００４６】
調整ステップでは、２本の光ビームのうち上述の有効範囲５３ａ，５３ｂにおいて最も上側を偏向走査される光ビームが通る最も上側の位置を「最上位置」とし、２本の光ビームのうち上述の有効範囲５３ａ，５３ｂにおいて最も下側を偏向走査される光ビームが通る最も下側の位置を「最下位置」として、中心高さが検出される。そして、図７に示すように、一対の結像レンズ４２ａ，４２ｂの入射面５１ａ，５１ｂにおいて結像レンズ４２ａ，４２ｂの母線５２ａ，５２ｂの高さに対し中心高さを略一致させる。
【００４７】
《他の実施形態》
上記実施形態では、光走査装置４が対向走査型に構成されているが、光走査装置４として、ポリゴンミラー４１の片側だけに結像レンズ４２が配置されたタイプのものを使用してもよい。
【００４８】
上記実施形態では、光走査装置４をプリンターに適用した例について説明したが、これに限ったものではなく、例えばファクシミリやプロジェクターに適用するようにしてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００４９】
以上説明したように、本発明は、光走査装置及び該光走査装置を備えた画像形成装置について有用である。
【符号の説明】
【００５０】
１      画像形成装置
４      光走査装置
４１    ポリゴンミラー
４２ａ  第１結像レンズ
４２ｂ  第２結像レンズ
４３ａ  第１光源部
４３ｂ  第２光源部
５１ａ  第１結像レンズの入射面
５１ｂ  第２結像レンズの入射面
５２ａ  第１結像レンズの母線
５２ｂ  第２結像レンズの母線
５３ａ  第１結像レンズの入射面における有効範囲
５３ｂ  第２結像レンズの入射面における有効範囲
６２ａ  第１結像レンズにおける走査線
６２ｂ  第２結像レンズにおける走査線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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