(57)【要約】【課題】ドレス手段の取り付けを簡便に行える研削装置を提供する。【解決手段】研削装置１は、ウェハＷを保持するウェハチャック３と、ウェハＷを研削する研削砥石２１を有する研削手段２と、研削砥石２１をドレスするドレスユニット８と、を備えている。ドレスユニット８は、ドレスボード８１の裏面８１ｃを真空吸着する真空吸着溝８２ｅを備えたベース部材８２ｃを備えている。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェハを保持する保持手段と、前記ウェハを研削する研削砥石を有する研削手段と、を備えた研削装置であって、
前記研削砥石をドレスするドレス手段と、
該ドレス手段を着脱自在に真空吸着するドレス手段保持機構と、
を備えていることを特徴とする研削装置。
【請求項２】
前記ドレス手段保持機構は、前記ドレス手段の裏面を吸着することを特徴とする請求項１記載の研削装置。
【請求項３】
前記ドレス手段を前記ドレス保持機構に対して所定位置に位置決めする位置決め手段を備えていることを特徴とする請求項２記載の研削装置。
【請求項４】
前記位置決め手段は、
前記ドレス手段及び前記ドレス手段保持機構の互いに対向する対向面の一方に突設された位置決めピンと、
前記ドレス手段及び前記ドレス手段保持機構の互いに対向する対向面の他方に凹設され、前記位置決めピンに係合可能な凹部と、
から成ることを特徴とする請求項３記載の研削装置。
【請求項５】
前記ドレス手段保持機構の前記ドレス手段に対向する対向面には、真空源に接続された真空吸着溝が刻設されていることを特徴とする請求項１記載の研削装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、研削装置に関し、特に、研削砥石をドレスするドレス手段を備えた研削装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造分野では、シリコンウェハ等の半導体ウェハ（以下、「ウェハ」という）を薄膜に形成するために、ウェハの裏面を研削する裏面研削が行われている。
【０００３】
ウェハの裏面研削を行う研削装置として、特許文献１には、ウェハを保持する保持手段と、ウェハを研削する研削砥石と、研削砥石をドレスするドレス部材と、を備えたものが開示されている。ドレス部材は、ドレス軸回りに回転するように構成されている。
【０００４】
このような研削装置では、ドレス部材が研削砥石に押し付けられると、研削砥石の砥粒を離脱して自生発刃が生じる。ドレス部材が研削砥石に平行に押し当てられるため、研削砥石の研削面は水平に均されるようにドレスされる。そして、平坦な研削面を有する研削砥石をウェハに押し当てることにより、ウェハをフラット形状に研削することができる。これにより、サファイア等の難削材であっても研削砥石の砥粒が摩耗することに起因するウェハの面焼けを生じさせることなく、ウェハの研削を継続して行うことができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第５８１５１５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上述したような特許文献１記載の研削装置では、ドレス部材を所定時間ドレッシングした後にはドレス部材を交換する必要があるが、ドレス部材をドレス軸に取り付ける際に、ドレス部材とドレス軸との間に研削屑が挟み込む虞があり、ドレス部材が不正確な姿勢で取り付けられる取付不良が生じていないか目視で確認する必要があった。
【０００７】
そこで、ドレス手段の取り付けを簡便に行うという解決すべき技術的課題が生じてくるのであり、本発明は、この課題を解決することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は上記目的を達成するために提案されたものであり、請求項１記載の発明は、ウェハを保持する保持手段と、前記ウェハを研削する研削砥石を有する研削手段と、を備えた研削装置であって、前記研削砥石をドレスするドレス手段と、該ドレス手段を着脱自在に真空吸着するドレス手段保持機構と、を備えている研削装置を提供する。
【０００９】
この構成によれば、ドレス手段が真空漏れすることなくドレス手段保持機構に真空吸着されることにより、ドレス手段とドレス手段保持機構との間に研削屑が介在しないことを間接的に確認でき、ドレス手段をドレス手段保持機構に正しい姿勢で取り付けることができる。また、ドレス手段をドレス手段保持機構にボルト等で機械的に固着する場合に比べて、ドレス手段をドレス手段保持機構に載せて真空吸着させるだけでドレス手段をドレス手段保持機構に簡便に取り付けることができる。
【００１０】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明の構成に加えて、前記ドレス手段保持機構は、前記ドレス手段の裏面を吸着する研削装置を提供する。
【００１１】
この構成によれば、ドレス手段の裏面がドレス手段保持機構に真空吸着されていることにより、ドレス手段は径方向に滑り拘束されるため、ドレス手段に作用する押圧力が径方向に分散して厚み方向への歪みが軽減され、研削砥石を精度良くドレスすることができる。また、ドレス手段の裏面が真空吸着されていることにより、ドレス手段に鉛直方向に作用する押圧力でドレス手段が体積を保持したまま変形しようとするときであっても、ドレス手段の径方向への拡がりが抑制され、ドレス手段の厚み方向への歪みが軽減されるため、研削砥石を精度良くドレスすることができる。
【００１２】
請求項３記載の発明は、請求項２記載の発明の構成に加えて、前記ドレス手段を前記ドレス保持機構に対して所定位置に位置決めする位置決め手段を備えている研削装置を提供する。
【００１３】
この構成によれば、位置決め手段を用いることにより、ドレス手段保持機構に対してドレス手段を正確且つ簡便に取り付けることができる。
【００１４】
請求項４記載の発明は、請求項３記載の発明の構成に加えて、前記位置決め手段は、前記ドレス手段及び前記ドレス手段保持機構の互いに対向する対向面の一方に突設された位置決めピンと、前記ドレス手段及び前記ドレス手段保持機構の互いに対向する対向面の他方に凹設され、前記位置決めピンに係合可能な凹部と、から成る研削装置を提供する。
【００１５】
この構成によれば、位置決めピンが凹部に係合することにより、ドレス手段保持機構に対してドレス手段を正確且つ簡便に取り付けることができる。
【００１６】
請求項５記載の発明は、請求項１記載の発明の構成に加えて、前記ドレス手段保持機構の前記ドレス手段に対向する対向面には、真空源に接続された真空吸着溝が刻設されている研削装置を提供する。
【００１７】
この構成によれば、ドレス手段とドレス手段保持機構との間に研削屑が介在する場合であっても、研削屑が真空吸着溝内に吸引されるため、ドレス手段が真空漏れすることなくドレス手段保持機構に真空吸着することができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明は、ドレス手段が真空漏れすることなくドレス手段保持機構に真空吸着されることにより、ドレス手段とドレス手段保持機構との間に研削屑が介在しないことを間接的に確認でき、ドレス手段をドレス手段保持機構に正しい姿勢で取り付けることができる。また、ドレス手段をドレス手段保持機構にボルト等を用いて固着する場合に比べて、ドレス手段をドレス手段保持機構に載せて真空吸着させるだけでドレス手段をドレス手段保持機構に簡便に取り付けることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の一実施例に係る研削装置を示す側面図。
【図２】図１に示す研削装置の平面図。
【図３】ウェハチャックの内部構造を示す図２のＩ−Ｉ線一部切欠側面図。
【図４】ドレスユニットを示す平面図。
【図５】ドレスユニット及びドレスユニット傾斜機構の内部構造を示す図４のＩＩＩＩ線一部切欠側面図。
【図６】ドレスユニットの一部の内部構造を示す縦断面図。
【図７】ドレスユニットで研削砥石をドレスする様子を示す模式図。
【図８】ドレスユニットに作用する押圧力の分布示す模式図。
【図９】押圧力によるドレスボードの変形が抑制される様子を示す模式図。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明に係る研削装置は、ドレス手段の取り付けを簡便に行うという目的を達成するために、ウェハを保持する保持手段と、ウェハを研削する研削砥石を有する研削手段と、を備えた研削装置であって、研削砥石をドレスするドレス手段と、ドレス手段を着脱自在に真空吸着するドレス手段保持機構と、を備えていることにより実現する。
【実施例】
【００２１】
以下、本発明の一実施例に係る研削装置１について、図面に基づいて説明する。なお、以下の実施例において、構成要素の数、数値、量、範囲等に言及する場合、特に明示した場合及び原理的に明らかに特定の数に限定される場合を除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でも構わない。
【００２２】
また、構成要素等の形状、位置関係に言及するときは、特に明示した場合及び原理的に明らかにそうでないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似又は類似するもの等を含む。
【００２３】
また、図面は、特徴を分かり易くするために特徴的な部分を拡大する等して誇張する場合があり、構成要素の寸法比率等が実際と同じであるとは限らない。また、断面図では、構成要素の断面構造を分かり易くするために、一部の構成要素のハッチングを省略することがある。なお、本実施例において、「上」、「下」の語は、鉛直方向における上方、下方に対応するものとする。
【００２４】
図１は、ドレスユニット８を省略した研削装置１の基本的構成を示す側面図である。図２は、研削装置１の平面図である。図３は、ウェハチャック３を示す図２のＩ−Ｉ線一部切欠側面図である。図４は、ドレスユニット８を示す平面図である。図５は、ドレスユニット８及びドレスユニット傾斜機構９の内部構造を示す図４のＩＩ−ＩＩ線一部切欠側面図である。図６は、ドレスユニット８の一部の内部構造を示す縦断面図である。
【００２５】
研削装置１は、研削手段２でウェハWを裏面研削して薄膜に形成する。研削手段２は、研削砥石２１と、研削砥石２１を先端に取り付けたスピンドル２２と、スピンドル２２を鉛直方向Ｖに送るスピンドル送り機構２３と、を備えている。
【００２６】
研削砥石２１は、スピンドル２２の先端に水平に取り付けられている。研削砥石２１がウェハWに押し当てられることにより、ウェハWが研削される。
【００２７】
スピンドル２２は、図示しないモータによって回転軸ａ１を中心として回転方向Ｃ１に沿って研削砥石２１を回転させる。
【００２８】
スピンドル送り機構２３は、コラム４とスピンドル２２とを連結する２つのリニアガイド２３ａと、スピンドル２２を鉛直方向Ｖに昇降させる公知のボールネジスライダ機構（不図示）と、を備えている。
【００２９】
研削手段２の下方には、保持手段としてのウェハチャック３が配置されている。なお、複数のウェハＷを連続して研削加工するために、研削装置１は、複数のウェハチャック３を備えている。複数のウェハチャック３は、インデックステーブル５の回転軸を中心に円周上で所定の間隔を空けて配置されている。
【００３０】
ウェハチャック３は、チャック３１と、エアベアリング３２と、を備えている。
【００３１】
チャック３１は、上面にアルミナ等の多孔質材料からなる図示しない吸着体が埋設されている。ウェハチャック３は、チャック３１及びエアベアリング３２内を通ってチャック３１の表面に延びる図示しない管路を備えている。管路は、エアベアリング３２のロータ３２ａに連結された図示しないロータリージョイントを介して図示しない真空源、圧縮空気源及び給水源に接続されている。真空源が起動すると、チャック３１に載置されたウェハＷがチャック３１に吸着保持される。また、圧縮空気源又は給水源が起動すると、ウェハＷとチャック３１との吸着が解除される。
【００３２】
エアベアリング３２は、回転軸ａ２回りに回転可能なロータ３２ａと、ロータ３２ａの外周に配置されたステータ３２ｂと、を備えている。ロータ３２ａとチャック３１とは、図示しないボルトで固定されている。ロータ３２ａは、ロータリージョイントに接続され、回転軸ａ２を中心にして回転方向Ｃ２に沿ってチャック３１を回転させる。ロータ３２ａとステータ３２ｂとの間には、所定の間隙（エアギャップ）が設けられており、この間隙に圧縮空気を外部から供給することにより、ロータ３２ａがステータ３２ｂに対して非接触で回転することができる。
【００３３】
ウェハチャック３は、研削砥石２１の回転軸ａ１に対して回転軸ａ２を傾斜させるチャック傾斜機構６を備えている。チャック傾斜機構６は、チルトテーブル６１と、固定支持部６２と、上流側可動支持部６３と、下流側可動支持部６４と、を備えている。
【００３４】
チルトテーブル６１は、平面視で略三角形状に形成されている。チルトテーブル６１には、固定支持部６２、上流側可動支持部６３及び下流側可動支持部６４が、回転軸ａ２を中心にして同心円上に１２０度離れて配置されている。
【００３５】
固定支持部６２は、チルトテーブル６１にボルト６２ａで締結されている。
【００３６】
上流側可動支持部６３は、固定支持部６２に対してウェハチャック３の回転方向Ｃ２の上流側に配置されている。なお、上流側可動支持部６３の構造は、下流側可動支持部６４と同様であるから、下流側可動支持部６４を例にその構造を説明し、上流側可動支持部６３に関する説明を省略する。
【００３７】
下流側可動支持部６４は、固定支持部６２に対してウェハチャック３の回転方向Ｃ２の下流側に配置されている。下流側可動支持部６４は、チルトテーブル６１に埋め込まれたナット６４ａと、インデックステーブル５に固定され、上部がナット６４ａに螺合するチルト用ボールネジ６４ｂと、チルト用ボールネジ６４ｂを回転させるチルト用モータ６４ｃと、を備えている。下流側可動支持部６４は、固定支持部６２より鉛直方向Ｖに長く形成されている。
【００３８】
研削装置１は、研削手段２がウェハＷを押圧する際の荷重でチルトテーブル６１が落ち込んだ沈降量を計測するスケール７を備えている。
【００３９】
研削装置１は、研削砥石２１をドレスするドレスユニット８を備えている。ドレスユニット８は、ドレスボード８１と、ドレスベース機構８２と、ドレスユニット送り機構８３と、を備えている。
【００４０】
ドレスボード８１は、研削砥石２１に対向するように配置されて研削砥石２１をドレスするドレス材８１ａと、ドレス材８１ａを支持するドレス台金８１ｂと、を備えている。ドレス材８１ａは、研削砥石２１よりも高度の小さい材料であり、例えばホワイトアルミナ及び結合剤で形成されている。
【００４１】
ドレスベース機構８２は、ドレスボード８１を回転可能に支持している。具体的には、ドレスベース機構８２は、回転軸ａ３回りに回転可能なロータ８２ａと、ロータ８２ａの外周に配置されたステータ８２ｂと、ロータ８２ａに連結されてドレスボード８１を支持するベース部材８２ｃと、を備えている。
【００４２】
ロータ８２ａは、図示しないロータリージョイントに接続され、回転軸ａ３を中心にして回転方向Ｃ３に沿ってドレスボード８１及びベース部材８２ｃを回転させる。ロータ８２ａとステータ８２ｂとの間には、所定の間隙（エアギャップ）が設けられており、この間隙に圧縮空気を外部から供給することにより、ロータ８２ａがステータ８２ｂに対して非接触で回転することができる。
【００４３】
また、ドレスベース機構８２には、ロータ８２ａ内を通ってベース部材８２ｃの表面に延びる後述する真空吸着溝８２ｅに接続される管路を備えている。管路は、ロータ８２ａに連結されたロータリージョイントを介して図示しない真空源及び圧縮空気源に接続されている。
【００４４】
ベース部材８２ｃのドレス台金８１ｂに対向する表面８２ｄには、４列の真空吸着溝８２ｅが回転軸ａ３回りに同心円状に刻設されている。真空源が起動すると、真空吸着溝８２ｅを介してドレス台金８１ｂがベース部材８２ｃに真空引きされて、ドレスボード８１がベース部材８２ｃに吸着保持される。また、圧縮空気源が起動すると、真空吸着溝８２ｅを介してドレス台金８１ｂとベース部材８２ｃとの間に圧縮空気が導入されて、ドレスボード８１とベース部材８２ｃとの吸着が解除される。
【００４５】
ベース部材８２の表面８２ｄには、凹部８２ｆに嵌入された位置決めピン８２ｇが突設されている。位置決めピン８２ｇは、ドレス台金８１ｂの裏面８１ｃに凹設された凹部８１ｄに係合している。
【００４６】
ドレスユニット送り機構８３は、ベーステーブル９５に連結された２つのリニアガイド８３ａと、ベーステーブル９５を鉛直方向Ｖに昇降させる公知のボールネジスライダ機構８３ｂと、を備えている。すなわち、リニアガイド８３ａ及びボールネジスライダ機構８３ｂは、スピンドル送り機構２３と平行に配置されている。
【００４７】
また、ドレスユニット８は、ドレス材８１ａの厚みを測定するタッチセンサ８４を備えている。タッチセンサ８４は、旋回中心８４ａ回りに搖動可能に設けられている。
【００４８】
また、ドレスユニット８は、ドレス材８１ａの表面にクーラント水を供給するノズル８５を備えている。なお、ノズル８５にクーラント水を広範囲に散水可能なフレアタイプを採用して、研削砥石２１及びタッチセンサ８４に当てる構成であって構わない。
【００４９】
ドレスユニット８は、研削砥石２１の回転軸ａ１に対して回転軸ａ３を傾斜させるドレスユニット傾斜機構９を備えている。ドレスユニット傾斜機構９は、チルトテーブル９１と、固定支持部９２と、上流側可動支持部９３と、下流側可動支持部９４と、を備えている。
【００５０】
チルトテーブル９１には、固定支持部９２、上流側可動支持部９３及び下流側可動支持部９４が、回転軸ａ３を中心にして同心円上に１２０度離れて配置されている。
【００５１】
固定支持部９２は、チルトテーブル９１とベーステーブル９５とを鉛直方向Ｖに連結するボルトである。なお、図５中の符号９２ａは、チルトテーブル９１とベーステーブル９５との間に介装された球面座金である。
【００５２】
上流側可動支持部９３は、固定支持部９２に対してドレスボード８１の回転方向Ｃ３の上流側に配置されている。なお、上流側可動支持部９３の構造は、下流側可動支持部９４と同様であり、上流側可動支持部９３に関する説明を省略する。
【００５３】
下流側可動支持部９４は、固定支持部９２に対してドレスボード８１の回転方向Ｃ３の下流側に配置されている。下流側可動支持部９４は、調整つまみ９４ａと、チルト用ボールネジ９４ｂと、を備えている。
【００５４】
調整つまみ９４ａは、円筒状に形成されており、先端がチルトテーブル９１に嵌合されている。調整つまみ９４ａには、挿通孔９４ｃが形成されている。
【００５５】
チルト用ボールネジ９４ｂは、挿通孔９４ｃに挿通され、先端がベーステーブル９５に嵌合されている。チルト用ボールネジ９４ａと調整つまみ９４ｂとの間には、ばね９４ｄが介装されている。チルト用ボールネジ９４ｂが回転すると、チルト用ボールネジ９４ｂが螺進した分だけ、チルトテーブル９１が上昇するように構成されている。
【００５６】
研削装置１の動作は、制御装置１０によって制御される。制御装置１０は、研削装置１を構成する構成要素をそれぞれ制御するものである。制御装置１０は、例えば、ＣＰＵ、メモリ等により構成される。なお、制御装置１０の機能は、ソフトウェアを用いて制御することにより実現されても良く、ハードウェアを用いて動作することにより実現されても良い。
【００５７】
制御装置１０は、図示しない厚みセンサが計測したウェハＷの厚みに基づいて、所望のウェハ厚を得られるように、回転軸ａ２を回転軸ａ１に対して傾斜させて、研削砥石２１がウェハＷを研削する加工範囲を調整する。なお、厚みセンサは、研削装置１の構成に含まれるものに限定されず、例えば、研削装置１の外部装置で計測されたデータを制御装置１０にフィードバックさせるものであっても構わない。上流側可動支持部６３及び下流側可動支持部６４がそれぞれ独立して鉛直方向Ｖに沿って伸縮し、チルトテーブル６１が固定支持部６２を基準として傾斜することにより、回転軸ａ２を傾斜させることができる。
【００５８】
制御装置１０には、回転軸ａ１に対する回転軸ａ２の角度（チルト角）、すなわち研削砥石２１に対するウェハＷの接触角度に応じたウェハＷの研削量のデータが記憶されている。これにより、研削前のウェハＷの厚み又は研削中のウェハＷの厚みを計測し、この厚みと所望のウェハの厚みの差分から研削量及び回転軸ａ１に対する回転軸ａ２のチルト角を調整する。また、回転軸ａ１に対する回転軸ａ３の角度（チルト角）に応じた研削砥石２１の研削面２１ａの形状に関するデータが記憶されている。
【００５９】
次に、ドレスユニット８の作用について、図面に基づいて説明する。図７は、ドレスユニット８で研削砥石２１をドレスする様子を示す模式図である。図８は、ドレスユニット８に作用する押圧力の分布示す模式図である。図９は、押圧力によるドレスボード８１の変形が抑制される様子を示す模式図である。
【００６０】
ドレスユニット８は、ウェハＷを研削した後の研削砥石２１の研削面２１ａをドレスする。具体的には、ウェハＷの研削が終了すると、研削砥石２１が鉛直方向Ｖの上方に退避する。その後、ボールネジスライダ機構８３ｂが駆動して、ドレス材８１ａが研削砥石２１の研削面２１ａに接近する。
【００６１】
そして、研削砥石２１及びドレスボード８１をそれぞれ回転させながら、ドレスボード８１を研削砥石２１に向けて押し当てることにより、研削砥石２１の研削面２１ａがドレス材８１ａによってドレスされる。
【００６２】
ボールネジスライダ機構８３ｂが、スピンドル送り機構２３と平行に配置されていることにより、ボールネジスライダ機構８３ｂが、ドレスボード８１を研削砥石２１に押し当てる際の鉛直方向Ｖに沿った押圧力を受けるため、研削砥石２１を安定してドレスすることができる。
【００６３】
また、ボールネジスライダ機構８３ｂが、研削砥石２１の中心Ｏとスピンドル送り機構２３との間に配置されていることにより、リニアガイド８３ａ及びボールネジスライダ機構８３ｂに片持ち支持されたベーステーブル９５にドレスボード８１を研削砥石２１に押し当てる際の鉛直方向Ｖに沿った押圧力が局所的に作用することが抑制され、リニアガイド８３ａに片持ち支持されたベーステーブル９５が研削砥石２１をドレスする際の反力で跳ね上がることが抑制されるため、研削砥石２１をさらに安定してドレスすることができる。
【００６４】
研削砥石２１をドレッシングする際には、クーラント水がドレス材８１ａの表面に供給される。クーラント水が供給されている状態でドレスボード８１が回転することにより、余剰のクーラント水が遠心力で飛散し、ドレス材８１ａの表面には極めて薄い水膜ＷＦが形成される。水膜ＷＦを形成する一例としては、クーラント水の供給量を０．１〜０．５ｌ／ｍｉｎ、ドレスボード８１の回転数を４００ｒｐｍ以下に設定することが考えられる。このようにして、タッチセンサ８４は、水膜ＷＦを介してドレス材８１ａに接触するため、タッチセンサ８４の摩耗が抑制される。なお、クーラント水は、研削砥石２１及びタッチセンサ８４に当たるように供給されるのが好ましい。
【００６５】
ドレスユニット８の回転軸ａ３は、ドレスユニット傾斜機構９によって傾斜することにより、研削砥石２１の研削面２１ａを曲面状にドレスすることができる。例えば、上流側可動支持部９３及び下流側可動支持部９４を伸長させてチルトテーブル９１が傾斜することにより、研削砥石２１の中心部を外周部より厚い中凸状に研削砥石２１の研削面２１ａを形成することができる。また、上流側可動支持部９３及び下流側可動支持部９４が収縮してチルトテーブル９１が傾斜することにより、研削砥石２１の中心部を外周部より薄い中凹状に研削砥石２１の研削面２１aを形成することができる。
【００６６】
また、ウェハチャック３を傾斜させる場合には、チルトテーブル６１のチルト角とチルトテーブル９１のチルト角とを一致させるようにチルトテーブル９１の上流側可動支持部９３及び下流側可動支持部９４を伸縮させる。研削砥石２１の研削面２１ａをウェハチャック３の傾きに応じて予めドレスすることにより、ドレスボード８１の傾きに応じてウェハＷの形状を間接的に定めることができる。
【００６７】
ドレス台金８１ｂの裏面８１ｃがベース部材８２ｃに真空吸着されていることにより、ドレスボード８１は径方向Ｒに滑り拘束される。したがって、図８（ａ）に示すように、ドレスボード８１に作用する押圧力が径方向Ｒに分散して、厚み方向Ｔへの歪みが軽減される。
【００６８】
一方、図８（ｂ）に示す比較例のように、ドレス台金８１ｂがベース部材８２ｃにボルトＢで締結されている場合には、ドレスボード８１は径方向Ｒに固定される。このような場合には、ボルトＢがドレスボード８１に作用する押圧力を集中して受けるため、厚み方向Ｔへの歪みが生じる。
【００６９】
また、図９に示すように、ドレスボード８１に作用する押圧力でドレス台金８１ｂが体積一定のまま変形しようとするとき、すなわち、厚み方向Ｔに薄く径方向Ｒに拡がるように変形しようとするときであっても、ドレス台金８１ｂの裏面８１ｃがベース部材８２ｃに真空吸着されていることにより、ドレス台金８１ｂの径方向Ｒへの拡がりを抑制し、ドレス台金８１ｂの厚み方向Ｔへの歪みが軽減される。
【００７０】
このようにして、上述した研削装置１は、ドレスボード８１が真空漏れすることなくベース部材８２ｃに真空吸着されることにより、ドレスボード８１とベース部材８２ｃとの間に研削屑が介在しないことを間接的に確認でき、ドレスボード８１をベース部材８２ｃに正しい姿勢で取り付けることができる。
【００７１】
また、ドレスボード８１をベース部材８２ｃにボルト等を用いて固着する場合に比べて、ドレスボード８１をベース部材８２ｃに載せて真空吸着させるだけでドレスボード８１をベース部材８２ｃに簡便に取り付けることができる。
【００７２】
さらに、位置決めピン８２ｇが凹部８１ｄに係合することにより、ベース部材８２ｃに対してドレスボード８１を正確且つ簡便に取り付けることができる。
【００７３】
なお、本発明は、本発明の精神を逸脱しない限り種々の改変をなすことができ、そして、本発明が該改変されたものにも及ぶことは当然である。
【符号の説明】
【００７４】
１  ・・・  研削装置
２  ・・・  研削手段
２１・・・  研削砥石
２２・・・  スピンドル
２３・・・  スピンドル送り機構
２３ａ・・・リニアガイド
３  ・・・  ウェハチャック（保持手段）
３１・・・  チャック
３２・・・  エアベアリング
３２ａ・・・ロータ
３２ｂ・・・ステータ
４  ・・・  コラム
５  ・・・  インデックステーブル
６  ・・・  チャック傾斜機構
６１・・・  チルトテーブル
６２・・・  固定支持部
６２ａ・・・ボルト
６３・・・  上流側可動支持部
６４・・・  下流側可動支持部
７  ・・・  スケール
８  ・・・  ドレスユニット（ドレス手段）
８１・・・  ドレスボード
８１ａ・・・ドレス材
８１ｂ・・・ドレス台金
８１ｃ・・・（ドレス台金の）裏面
８１ｄ・・・（ドレス台金の）凹部
８２・・・  ドレスベース機構
８２ａ・・・ロータ
８２ｂ・・・ステータ
８２ｃ・・・ベース部材
８２ｄ・・・（ベース部材の）表面
８２ｅ・・・真空吸着溝
８２ｆ・・・（ベース部材の）凹部
８２ｇ・・・位置決めピン
８３・・・  ドレスユニット送り機構
８３ａ・・・リニアガイド
８３ｂ・・・ボールネジスライダ機構
８４・・・  タッチセンサ
８４ａ・・・旋回中心
８５・・・  ノズル
９  ・・・  ドレスユニット傾斜機構
９１・・・  チルトテーブル
９２・・・  固定支持部
９３・・・  上流側可動支持部
９４・・・  下流側可動支持部
１０  ・・・  制御装置
Ｗ  ・・・  ウェハ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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