(57)【要約】      （修正有）【課題】カーボンナノチューブペリクル膜の形成する方法を提供する。【解決手段】極端紫外線リソグラフィレチクルのためのカーボンナノチューブペリクル膜を形成する方法に関する。この方法は、少なくとも１つのカーボンナノチューブフィルム１０４のオーバーラップするカーボンナノチューブ１１０を、前記少なくとも１つのカーボンナノチューブフィルム１０４を第１の加圧面１０６と第２の加圧面１０８との間で加圧することによって、共に結合するステップを含み、これにより、自立型カーボンナノチューブペリクル膜１０２を形成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
極端紫外線リソグラフィレチクル（４１０）のためのカーボンナノチューブペリクル膜（１０２，２０２）を形成する方法（５００）であって、
前記方法は、
少なくとも１つのカーボンナノチューブフィルム（１０４，２０４ａ，２０４ｂ）のオーバーラップするカーボンナノチューブ（１１０，２１０）を、前記少なくとも１つのカーボンナノチューブフィルム（１０４，２０４ａ，２０４ｂ）を第１の加圧面（１０６，２０６）と第２の加圧面（１０８，２０８）の間で加圧することによって、共に結合するステップを含み、これにより、自立型カーボンナノチューブペリクル膜（１０２，２０２）を形成する方法。
【請求項２】
前記少なくとも２つのカーボンナノチューブフィルム（２０４ａ，２０４ｂ）は、第１の加圧面（１０６，２０６）と第２の加圧面（１０８，２０８）の間で加圧される請求項１の方法（５００）。
【請求項３】
前記方法は、前記少なくとも１つのカーボンナノチューブフィルム（１０４，２０４ａ，２０４ｂ）を加圧する前に、コーティングを前記少なくとも１つのカーボンナノチューブフィルム（１０４，２０４ａ，２０４ｂ）上に形成するステップをさらに含む請求項１または２の方法（５００）。
【請求項４】
前記コーティングを形成するステップは、Ｂ、Ｂ４Ｃ、ＺｒＮ、Ｍｏ、Ｒｕ、ＳｉＣ、ＴｉＮおよびａ−Ｃからなる群から選択される少なくとも１つの材料を含むコーティングを形成するステップを含む請求項３の方法（５００）。
【請求項５】
前記加圧は、０．１ｋＰａ〜３０ＭＰａの圧力を加えるステップを含む請求項３または４の方法（５００）。
【請求項６】
前記少なくとも１つのカーボンナノチューブフィルム（１０４，２０４ａ，２０４ｂ）のオーバーラップするカーボンナノチューブ（１１０，２１０）は、前記カーボンナノチューブ（１０４，２０４ａ，２０４ｂ）がオーバーラップする位置で直接接触している請求項１の方法（５００）。
【請求項７】
前記第１の加圧面（２０６）および／または前記第２の加圧面（２０８）には、突出パターン（２０６ａ，２０８ａ）が設けられている請求項１ないし６のうちいずれか１項の方法（５００）。
【請求項８】
前記突出パターン（２０６ａ，２０８ａ）は、前記少なくとも１つのカーボンナノチューブフィルム（１０４，２０４ａ，２０４ｂ）の前記カーボンナノチューブ（１１０，２１０）または前記少なくとも１つのカーボンナノチューブフィルムの束（１１０）の平均長さよりも小さいピッチを有するパターンを含む請求項７の方法（５００）。
【請求項９】
前記方法は、前記少なくとも１つのカーボンナノチューブフィルム（１０４，２０４ａ，２０４ｂ）を加圧しながら、前記少なくとも１つのカーボンナノチューブフィルム（１０４，２０４ａ，２０４ｂ）を加熱するステップ（５０６）をさらに含む請求項１ないし８のうちいずれか１項の方法（５００）。
【請求項１０】
前記方法は、グラフェンフレーク（３０２）を前記カーボンナノチューブペリクル膜（１０２，２０２）の主表面上に堆積させることによって、グラフェンフレークコーティング層（３００）を形成するステップ（５１０）をさらに含む請求項１ないし９のうちいずれか１項の方法（５００）。
【請求項１１】
前記グラフェンフレーク（３０２）の主表面に沿った横方向寸法は、７５ｎｍと５０μｍとの間である請求項１０の方法（５００）。
【請求項１２】
極端紫外線リソグラフィのためのペリクル（４００）を形成する方法（５００）であって、
前記方法は、
請求項１ないし１１のうちいずれか１項に従ってカーボンナノチューブペリクル膜（１０２，２０２）を形成するステップと、
前記カーボンナノチューブペリクル膜（１０２，２０２）をペリクルフレーム（４０２）に固定するステップ（５１２）を含む方法。
【請求項１３】
コーティングが前記カーボンナノチューブペリクル膜（１０２，２０２）上に形成されている請求項１２の方法（５００）であって、前記固定するステップ（５１２）の行為は、
前記カーボンナノチューブ膜（１０２，２０２）を前記ペリクルフレーム（４０２）の支持面（４０２ａ）上に配置するステップと、
前記カーボンナノチューブペリクル膜（１０２，２０２）と前記ペリクル支持面（４０２ａ）とを互いに加圧することによって、前記カーボンナノチューブペリクル膜（１０２，２０２）と前記ペリクル支持面（４０２ａ）の前記コーティングを共に結合するステップを含み、これにより、前記カーボンナノチューブペリクル膜（１０２，２０２）を前記支持面（４０２ａ）に固定する方法。
【請求項１４】
前記支持面（４０２）は、第１の材料によって形成され、前記コーティングは、第２の材料によって形成され、
前記第１の材料は、金属または半導体であり、
前記第２の材料は、金属または半導体である、
請求項１３の方法（５００）。
【請求項１５】
極端紫外線リソグラフィのためのレチクルシステム（４１２）を形成する方法（５００）であって、
前記方法は、
請求項１２ないし１４のうちいずれか１項に従ってペリクル（４００）を形成するステップと、
前記ペリクル（４００）をレチクル（４１０）上に取り付けるステップとを含む方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の概念は、極端紫外線リソグラフィレチクルのためのカーボンナノチューブペリクル膜を形成する方法、極端紫外線リソグラフィのためのペリクルを形成する方法、及び極端紫外線リソグラフィのためのレチクルシステムを形成する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造では、デバイスおよび回路パターンを画定する過程で、様々なリソグラフィプロセスが広く使用されている。画定される特徴のサイズに応じて、異なる光学リソグラフィプロセスを使用することができる。一般に、パターンが小さくなるにつれて、より短い波長が使用される。ＥＵＶＬの極端紫外線リソグラフィでは、約１３．５ｎｍの波長が頻繁に使用される。ＥＵＶＬにおいて、フォトマスクまたはレチクル上に存在するパターンは、ＥＵＶ放射でレチクルを照明することによって、ＥＵＶ放射に敏感な層に転写することができる。ＥＵＶ光は、レチクルパターンによって変調され、フォトレジストがコーティングされたウエハ上に結像される。
【０００３】
従来のリソグラフィでは、ペリクルが一般にレチクルの上に配置されて、ハンドリングおよび露光などの間のレチクルの汚染から保護する。したがって、ペリクルは望ましくない粒子からレチクルを保護する（さもなければ、それらの粒子は、ウエハへのパターン転写の忠実度に影響を与える可能性がある）。露光中にペリクルがレチクルの上にとどまるので、吸収、耐久性および粒子遮蔽能力などの点でペリクルに厳しい要件がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２００５／０８５１３０号
【特許文献２】米国特許出願公開第２０１６／００８３８７２号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、ＥＵＶＬに関しては、適切なペリクル候補を見つけることは困難であることが判明している。従来の深紫外線（ＤＵＶ）ペリクルは、典型的には、非常に薄い材料の厚さであっても、極端紫外線光の過吸収を呈する。さらに、スキャナ環境と組み合わされた極端紫外線の高いエネルギーは、ペリクル膜の材料を損傷する傾向がある。したがって、ＥＵＶＬと適合するペリクル設計を特定することは困難であるとされてきた。
【０００６】
上記を考慮して、本発明の一般的な目的は、ＥＵＶＬでの使用に適したペリクルを可能にする極端紫外線リソグラフィレチクルのためのペリクル膜を提供することである。さらなる目的は、以下から理解することができる。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１の態様によれば、この目的および他の目的は、極端紫外線リソグラフィレチクルのためのカーボンナノチューブペリクル膜を形成する方法によって達成される。この方法は、第１の加圧面と第２の加圧面との間で少なくとも１つのカーボンナノチューブフィルムを加圧することによって、少なくとも１つのカーボンナノチューブフィルムのオーバーラップするカーボンナノチューブを共に結合するステップを含み、これにより、自立型カーボンナノチューブペリクル膜を形成することができる。
【０００８】
本発明の方法によって、極端紫外線リソグラフィレチクルのためのカーボンナノチューブペリクル膜、またはより短いＣＮＴペリクル膜は、第１の加圧面と第２の加圧面との間で少なくとも１つのカーボンナノチューブフィルムを加圧することによって形成することができる。したがって、少なくとも１つのカーボンナノチューブフィルムは、少なくとも１つのＣＮＴフィルムのオーバーラップしたＣＮＴまたは交差するＣＮＴが共に結合するように加圧面の間で加圧することができる。これにより、自立型ＣＮＴペリクル膜を形成することができる。
【０００９】
本発明の概念に従って形成された自立型ＣＮＴペリクル膜は、ＥＵＶ放射またはＥＵＶ光の吸収が低い機械的に安定な膜を可能にする。ＥＵＶ光は、１ｎｍ〜４０ｎｍの波長を有することができる。
【００１０】
本出願の文脈内では、“ＣＮＴフィルム”という用語は、個々のＣＮＴまたはＣＮＴの束から形成されたメッシュ、ウェブ、グリッドなどのＣＮＴの接続された配置を指すことができることに留意されたい。各ＣＮＴフィルムの個々のＣＮＴ（単層壁ＣＮＴまたは多層壁ＣＮＴ、ＭＷＣＮＴ）は、整列されて束を形成することができる。整列したＣＮＴのこのような束は、ＣＮＴフィルムの製造中に自発的に形成される傾向がある。したがって、オーバーラップするＣＮＴ同士を結合することは、オーバーラップする個々のＣＮＴまたはオーバーラップするＣＮＴ束を共に結合することを含むことができる。
【００１１】
ＣＮＴフィルムのＣＮＴまたはＣＮＴ束は、ＣＮＴフィルム内にランダムに配置されることができる。しかしながら、ＣＮＴフィルムのＣＮＴまたはＣＮＴ束は、重要または主な方向に沿って、または複数の主方向に沿って配置または整列されてもよい。
【００１２】
本出願の文脈内では、“自立型ＣＮＴペリクル膜”という用語は、例えば、ペリクルフレームのようなフレームによって、その縁部で懸架されているときに、自重を支えることができるという意味で、自立型または自己支持型のＣＮＴ膜を指すことに留意されたい。言い換えれば、自立型ＣＮＴペリクル膜は、ＥＵＶペリクルで使用するのに適したサイズを有する場合に、感知できるほどの弛みなしに、自重を支えることができる。
【００１３】
したがって、このようにして形成されたペリクル膜は、ＥＵＶペリクルに好適に使用することができる。加圧面間で少なくとも１つのＣＮＴフィルムを加圧することによって形成された膜は、膜を形成するために使用されるＣＮＴフィルムよりも著しく強くなる。強化された強度は、ＣＮＴフィルムまたはフィルムのオーバーラップしたＣＮＴの結合に起因する。
【００１４】
好ましくは、少なくとも１つのＣＮＴフィルムは、自立型フィルムまたは自己支持型フィルム、すなわち、例えば、ペリクルフレームなどのフレームによって懸架されたときに、自重を支えることができるフィルムであることが好ましい（この方法の加圧前でも）。
【００１５】
ＣＮＴフィルムのＣＮＴは、単層ＣＮＴ、ＳＷＣＮＴであることができる。したがって、少なくとも１つのＣＮＴフィルムのそれぞれは、ＳＷＣＮＴまたはＳＷＣＮＴの束によって形成されてもよい。ＳＷＣＮＴは、単一のグラフェンシートの円筒形または管状の分子として説明することができる。少なくとも１つのＣＮＴフィルムは、０．５〜２ｎｍの範囲の直径を有するＳＷＣＮＴから形成することができる。ＳＷＣＮＴは、典型的には、ＥＵＶ放射の有利な低吸収を示すことができる。
【００１６】
ＣＮＴフィルムのＣＮＴは、多層ＣＮＴ（ＭＷＣＮＴ）であることもできる。したがって、少なくとも１つのＣＮＴフィルムのそれぞれは、ＭＷＣＮＴまたはＭＷＣＮＴの束によって形成されてもよい。ＭＷＣＮＴは、ＳＷＣＮＴまたはグラフェンシートのチューブの２つ以上の同心円筒として記述することができる。少なくとも１つのＣＮＴフィルムは、５〜３０ｎｍの範囲の直径を有するＭＷＣＮＴによって形成することができる。
【００１７】
本出願の文脈内では、“共に結合する”という用語は、オーバーラップするＣＮＴ間に任意のタイプの引力を生じさせる任意のタイプの相互作用を指し、単にＣＮＴをお互いの上に配置することに起因する引力より大きいことに留意されたい。ここで得られる引力は、押圧面からの圧力が除去された後に残る力を指す。
【００１８】
以下でさらに説明するように、結合は、オーバーラップするＣＮＴ間の直接的化学結合、またはオーバーラップするＣＮＴの表面上に存在するコーティング、種、分子などの間の結合の結果であり得る。言い換えれば、結合は、それぞれのオーバーラップするＣＮＴの炭素原子の間で直接的であってもよく、または、例えば、オーバーラップするＣＮＴの表面上に存在し、固定されたコーティングの間で間接的であってもよい。
【００１９】
結合は、同じフィルムのオーバーラップするＣＮＴの間に形成され得る。代替的にまたは追加的に、結合は、異なるフィルムのオーバーラップするＣＮＴの間に形成され得る。これは、複数のＣＮＴフィルムが本発明の概念に従って加圧されると、フィルムは、加圧中に起こる結合によって互いに結合することを意味する。言い換えれば、フィルムは互いに固定され、それにより、自立型ＣＮＴペリクル膜を形成する。
【００２０】
本発明の文脈内で、“加圧する”という用語は、任意のタイプの機械的圧力の適用を意味することに留意されたい。言い換えれば、少なくとも１つのＣＮＴ膜に印加され得る機械的圧力が意図され得る。有利には、少なくとも０．１ｋＰａの圧力が少なくとも１つのＣＮＴフィルムに印加される。
【００２１】
本出願の文脈内で、“加圧面”という用語は、少なくとも１つのＣＮＴフィルムに機械的圧力を加えるために使用され得るタイプの表面を指し得ることに留意されたい。このため、第１および／または第２の加圧面は、機械的な圧力を加えるように作動または移動されることができる。一般に、加圧面の１つは、典型的には、他の加圧面に対して移動され、押圧され得る。
【００２２】
したがって、本発明の概念は、このように形成された自立型ＣＮＴペリクル膜が比較的高い機械的強度と低いＥＵＶ光吸収を示す自立型ＣＮＴペリクル膜を形成する方法を可能にする。また、このようにして形成されたＣＮＴペリクル膜の粒子遮断または保護特性および耐薬品性は、オーバーラップしたＣＮＴ間の結合によって高められ得る。
【００２３】
一実施形態によれば、少なくとも２つのＣＮＴフィルムを第１加圧面と第２加圧面との間で加圧することができ、細孔サイズが小さく機械的に強い自立型ＣＮＴペリクル膜を形成できるという利点がある。
【００２４】
少なくとも２つのＣＮＴフィルムは、互いに積み重ねられて配置され、その後、加圧面の間で加圧されることによって、共に結合することができる。この配置により、少なくとも２つのＣＮＴフィルムは、加圧中に互いに結合して、自立型ＣＮＴペリクル膜を形成することができる。ＣＮＴペリクル膜は、例えば、少しの非限定的な例を与えるために、２、３または４枚のＣＮＴフィルムを含むことができる。任意の数のＣＮＴフィルムを使用することができる。
【００２５】
一実施形態によれば、この方法は、少なくとも１つのＣＮＴフィルムを加圧する前に、少なくとも１つのＣＮＴフィルムにコーティングを形成するステップをさらに含むことができる。少なくとも１つのＣＮＴフィルムを加圧する前に、少なくとも１つのＣＮＴフィルムにコーティングを形成することにより、オーバーラップするＣＮＴの結合が促進され得る。少なくとも１つのＣＮＴフィルム上にコーティングを形成することによって、ＣＮＴがオーバーラップする位置でコーティングの要素間で結合が行われてもよい。コーティングは、さらに、ＣＮＴ膜の残留応力の量を低減することができる。
【００２６】
少なくとも１つのＣＮＴフィルム上に形成され得るコーティングは、好ましくは、コーティングが個々のＣＮＴまたは少なくとも１つのＣＮＴフィルムの個々のＣＮＴ束上に形成されるように形成することができる。コーティングは、等角（conformal）コーティングであってもよい。好ましくは、コーティングは、ＣＮＴまたはＣＮＴ束がコーティングによって部分的に封入または完全に囲まれるように、ＣＮＴの表面上に形成されてもよい。
【００２７】
コーティングは、代替として、少なくとも１つのＣＮＴフィルムの少なくとも表面部分に形成することができる。この場合、少なくとも１つのＣＮＴ膜の少なくとも表面部分に、１〜３０ｎｍの範囲の厚さを有するコーティングを形成することができる。
【００２８】
有利には、コーティングの形成は、Ｂ、Ｂ４Ｃ、ＺｒＮ、Ｍｏ、Ｒｕ、ＳｉＣ、ＴｉＮおよびａ−Ｃからなる群から選択される材料のコーティングの形成、または前記群の２つ以上の材料の組み合わせのコーティングの形成を含むことができる。コーティングは、例えば、前述の群から選択された材料の層のスタックによって形成することができる。コーティングを形成することによって、オーバーラップするＣＮＴの結合が促進され得る。さらに、コーティングは、例えば、水素プラズマ洗浄プロセスの間に、ＥＵＶＬ中の潜在的に有害なプロセス環境から膜のＣＮＴを保護することができる。さらに、コーティングを形成することによって、形成される自立型ペリクル膜は、極端紫外線の低い吸収を示し、膜をＥＵＶ用途に適したものにすることができる。
【００２９】
一実施形態によれば、加圧は、０．１ｋＰａ〜３０ＭＰａの圧力を加えることを含むことができ、これは、オーバーラップするＣＮＴを互いに結合させることができるという点で有利である。結合は、有利には真空条件下で行うことができる。十分低い真空圧を適用することによって、ＣＮＴがオーバーラップする位置でのコーティングの冷間圧接が起こり、これにより、オーバーラップするＣＮＴ間の強力な結合が形成される。
【００３０】
一実施形態によれば、少なくとも１つのフィルムのオーバーラップするＣＮＴは、ＣＮＴがオーバーラップするＣＮＴか、または交差する位置で直接接触することができる。したがって、“ＣＮＴのみ”の膜が形成され得る。言い換えれば、結合は被覆されていないＣＮＴをオーバーラップする間に起こり得る。結合は、同じＣＮＴフィルム内のＣＮＴ間または異なるＣＮＴフィルムのＣＮＴ間で起こり得る。結合は、（同一または異なるＣＮＴフィルムの）異なるＣＮＴ束のＣＮＴ間で起こることができる。
【００３１】
一実施形態によれば、加圧は、１０〜３０ＧＰａの圧力を加えることを含むことができる。この範囲の圧力を加えることによって、被覆されていないＣＮＴをオーバーラップする間に、結合が起こり得る。
【００３２】
一実施形態によれば、第１の加圧面および第２の加圧面は、平らな表面または滑らかな表面であることができ、加圧面が少なくとも１つのＣＮＴフィルムに均一に圧力を加えることができるという利点がある。実際には、しかしながら、オーバーラップの位置でフィルムまたはフィルムスタックの密度がより大きくなる可能性があるため、ＣＮＴがオーバーラップする位置で圧力が増加することがある。
【００３３】
一実施形態によれば、第１加圧面および／または第２加圧面には、突出パターンを設けることができ、突出パターンの位置で圧力が増加または集中するという利点がある。したがって、圧力は、突出したパターンに対応する位置で局所的に増加することができる。突出パターンの使用は、少なくとも１つのＣＮＴフィルムと接触する加圧面または複数の表面の表面積をさらに減少させることができ、これにより、少なくとも１つのＣＮＴフィルムが加圧面または複数の表面に付着する危険性を減少させる。
【００３４】
一実施形態によれば、突出パターンは、少なくとも１つのＣＮＴフィルムのＣＮＴまたはＣＮＴ束の平均長さよりも小さいピッチを有するパターンを含むことができ、十分な数の結合が形成され、機械的に安定な自立型ＣＮＴペリクル膜を形成するという利点がある。
【００３５】
この出願の文脈内では、パターンの“ピッチ”は、パターンの連続する突起間の最小の距離を指すことができることに留意されたい。この距離は、突出パターンを有する加圧面の面方向に沿った距離であることができる。突出パターンのピッチは、例えば、２００ｎｍ〜２００μｍの範囲であってもよい。突出パターンのピッチは、少なくとも１つのＣＮＴフィルムのＣＮＴの異なる平均長さに従って適合させることができる。ＣＮＴは、束の長さが典型的に個々のＣＮＴの長さよりも著しく大きい束にされてもよい。
【００３６】
一実施形態によれば、突出パターンは、例えば、粗面、突出ピンのセット、ラインパターン、正方形グリッド、六角形グリッドによって形成することができる。そのようなパターンは、局所的に圧力が増加した位置を達成するために有利に使用され得る。突出パターンは、規則的なパターンであってもよいし、不規則なパターンであってもよい。
【００３７】
一実施形態によれば、第１加圧面および／または第２加圧面には、付着防止被覆を設けることができ、少なくとも１つのＣＮＴフィルムが加圧面または複数の表面に付着する危険性を低減するという利点がある。
【００３８】
付着防止被覆は、典型的には、加圧面または複数の表面の表面エネルギーを減少させるコーティングであることができる。フッ素化アルキル誘導体またはフッ素化ポリマー、例えば、ポリテトラフルオロエチレン、ＰＴＦＥ、フッ素化エチレンプロピレンまたはペルフルオロアルコキシを使用することができる。さらに、グラフェンコーティング、チオールを含む自己組織化単分子膜またはアルキル末端基を含む自己組織化チオール単分子膜を、付着防止被覆に使用することができる。
【００３９】
一実施形態によれば、この方法は、少なくとも１つのＣＮＴフィルムを加圧しながら加熱するステップをさらに含み、これは、結合が促進され得るという利点がある。少なくとも１つのＣＮＴフィルムは、例えば、圧力を印加しながら、室温（例えば、２０℃）〜５００℃の範囲内の温度に加熱することができる。好ましくは、少なくとも１つのＣＮＴフィルムを、圧力を印加しながら３００℃未満の温度に加熱することができる。
【００４０】
一実施形態によれば、この方法は、加圧に続いて、膜を形成するＣＮＴ上に被覆するステップをさらに含み、コーティングを形成するステップは、Ｂ、Ｂ４Ｃ、ＺｒＮ、Ｍｏ、Ｒｕ、ＴｉＮ、ＳｉＣ、ａ−Ｃおよびグラフェンからなる群から選択される材料を含むコーティングを形成するステップを含む。ＣＮＴペリクル膜上にコーティングを形成することによって、ＣＮＴペリクル膜の特性を調整することができる。さらに、以下でさらに説明するように、例えば、ペリクルフレームへのＣＮＴペリクル膜の取り付けを容易にすることができる。
【００４１】
一実施形態によれば、この方法は、ＣＮＴペリクル膜の主表面にグラフェンフレークを堆積させることによって、グラフェンフレークコーティング層を形成するステップをさらに含むことができる。
【００４２】
グラフェンフレークコーティング層をＣＮＴペリクル膜の主表面に形成することによって、膜をより強くすることができ、同時に膜の細孔サイズを小さくすることができる。細孔サイズが小さくなると、膜の粒子ブロッキング特性が改善される。
【００４３】
この出願の文脈内では、“グラフェンフレーク”という用語は、グラフェンの任意のフレークを指すことができることに留意されたい。言い換えれば、炭素原子の六方晶系２次元格子の炭素同素体の任意のフレークが意図され得る。
【００４４】
ＣＮＴ膜のグラフェンフレークとＣＮＴとの間だけでなく、隣接するグラフェンフレーク間に引力が典型的に生じる。引力は結果としてＣＮＴ膜を強化することができる。グラフェンフレークコーティング層のグラフェンフレークは、ファンデルワールス力によって自己支持型ＣＮＴペリクル膜に結合することができる。コーティング層の隣接するグラフェンフレークは、ファンデルワールス力によって互いに結合することができる。
【００４５】
一実施形態によれば、グラフェンフレークは、ＣＮＴペリクル膜の細孔サイズを超える表面積を有することができ、グラフェンフレークをＣＮＴペリクル膜のＣＮＴによって支持された状態でＣＮＴペリクル膜上に配置することができるという利点がある。さらに、ＣＮＴペリクル膜の細孔サイズを超える表面積を有するグラフェンフレークは、ＣＮＴペリクル膜から脱落するグラフェンフレークの危険性を減少させる可能性がある。
【００４６】
この出願の文脈内では、“細孔サイズ”は、ＣＮＴペリクル膜の任意の開口部の任意のサイズを指し得ることに留意されたい。言い換えれば、ＣＮＴペリクル膜のＣＮＴ間の任意の開口部の断面積を意図することができる。細孔は、ＣＮＴペリクル膜の延長面内に配向された開口部または空隙を形成する複数のＣＮＴによって画定することができる。
【００４７】
一実施形態によれば、その主表面に沿ったグラフェンフレークの横方向の寸法は、７５ｎｍと５０μｍとの間であることができ、均一なグラフェンフレークコーティング層をＣＮＴペリクル膜上に形成することができるという利点があり、これにより、ＣＮＴペリクル膜の表面積を増加させることができる。
【００４８】
一実施形態によれば、グラフェンフレークコーティング層の形成は、隣接するグラフェンフレークにオーバーラップするようにグラフェンフレークを配置するステップを含むことができ、ＣＮＴペリクル膜の粒子ブロッキングをさらに増加させることができるという利点がある。さらに、ＣＮＴペリクル膜は、隣接するグラフェンフレークのオーバーラップ間の引力のためにより強くなる可能性がある。
【００４９】
一実施形態によれば、グラフェンフレークコーティング層の形成は、グラフェンフレークを含む溶液をＣＮＴペリクル膜に適用し、溶液の溶媒を蒸発させるステップを含むことができる。これは、グラフェンフレークコーティング層を適用する便利で合理的な方法を提供する。
【００５０】
有利には、溶媒はアルコールを含むことができる。アルコールおよびグラフェンフレークを含む懸濁液をＣＮＴペリクル膜に適用することによって、グラフェンフレークコーティング層を形成しながらＣＮＴペリクル膜を緻密化することができる。ＣＮＴペリクル膜を緻密化しながらグラフェンフレークコーティングを形成することによって、膜の特性は、コーティングが形成されると同時に増加され得る。
【００５１】
一実施形態によれば、グラフェンフレークコーティング層の形成は、ＣＮＴペリクル膜を加熱するステップをさらに含むことができ、グラフェンフレークコーティング層の特性を向上させ、ＣＮＴペリクル膜を強固にすることができるという利点がある。
【００５２】
一例として、ＣＮＴペリクル膜は、１５００℃の温度まで加熱することができる。好ましくは、ナノチューブペリクル膜は、６００℃の温度まで加熱することができる。
【００５３】
一実施形態によれば、グラフェンフレークコーティング層を形成するステップは、ＣＮＴペリクル膜およびグラフェンフレークに圧力を加えるステップをさらに含むことができ、グラフェンフレークコーティング層の特性をさらに向上させることができるという利点がある。圧力を印加することによって、グラフェンフレークは、ＣＮＴペリクル膜のＣＮＴに結合している間に、より均一なグラフェンフレークコーティング層を形成することができる。
【００５４】
一例として、ＣＮＴペリクル膜のＣＮＴが上記のように被覆された場合に、０．１ｋＰａ〜３０ＭＰａの圧力がＣＮＴペリクル膜およびグラフェンフレークに印加され得る。他の例によれば、１０〜３０ＧＰａの圧力は、上記の開示されたようなＣＮＴペリクル膜のＣＮＴが被覆されていない場合に、ＣＮＴペリクル膜およびグラフェンフレークに印加することができる。
【００５５】
本発明の概念の第２の態様によれば、極端紫外線リソグラフィのためのペリクルを形成する方法が提供される。この方法は、上記の開示されたものに従ってＣＮＴペリクル膜を形成するステップと、ＣＮＴペリクル膜をペリクルフレームに固定するステップとを含む。上記開示の種類のＣＮＴペリクル膜をペリクルフレームに固定することによって、極端紫外線リソグラフィのためのペリクルを形成することができる。したがって、そのように形成されたペリクルは、極端紫外線リソグラフィのためのレチクルを粒子等から保護するために有利に使用することができる。
【００５６】
一実施形態によれば、コーティングは、ＣＮＴペリクル膜上に形成され、固定の行為は、ＣＮＴ膜をペリクルフレームの支持面上に配置するステップと、ＣＮＴペリクル膜とペリクル支持面を互いに加圧することによって、ＣＮＴペリクル膜のコーティングとペリクル支持面を共に結合するステップとを含み、これにより、ＣＮＴペリクル膜を支持面に固定する。ＣＮＴペリクル膜とペリクル支持面を互いに加圧することによって、コーティングと支持面との間の結合が起こり、これにより、ＣＮＴペリクル膜をペリクルフレームに固定することができる。この方法によって、ＣＮＴペリクル膜は、ＣＮＴペリクル膜に対して比較的穏やかにペリクルフレームに固定され得る。
【００５７】
有利には、ＣＮＴペリクル膜およびペリクルフレームの支持面に０．１ｋＰａ〜３０ＭＰａの圧力を加えることができる。ＣＮＴペリクル膜上に形成されるコーティングは、少なくとも１つのＣＮＴフィルムの加圧の前または後に形成されてもよいことに留意されたい。したがって、コーティングは、少なくとも１つのＣＮＴフィルムまたはＣＮＴペリクル膜上に形成されたコーティングの加圧の前に、少なくとも１つのＣＮＴフィルムのＣＮＴ上に形成されたコーティングであることができる。
【００５８】
一実施形態によれば、支持面は第１の材料によって形成され、コーティングは第２の材料によって形成され得、第１の材料は金属または半導体であり、第２の材料は金属または半導体であることができる。支持面が第１の材料によって形成され、コーティングが第２の材料によって形成されることにより、ＣＮＴペリクル膜は、冷間圧接によってペリクルフレームに固定され得る。冷間圧接の間に共晶が形成されることがある。比較的低温で、前記材料間の界面に第１の材料および第２の材料によって共晶が形成されてもよい。
【００５９】
低い周囲圧力および／または高い温度は、ＣＮＴペリクル膜のペリクルフレームへの固定または冷間圧接を容易にすることができる。１ｍｂａｒ未満の圧力を使用することができる。圧力をさらに低下させることにより、低温での冷間圧接が可能になる。有利には、１０−１０ｍｂａｒ〜１０−６ｍｂａｒの範囲の周囲圧力を使用することができる。この範囲の圧力は、ペリクル膜とペリクルフレームとの確実な結合を可能にする。
【００６０】
典型的な材料の組み合わせまたは体系は、比較的低温で共晶を形成する可能性があるため、金属−半導体体系であることができる。しかしながら、金属−金属体系および半導体−半導体体系のための冷間圧接も採用することができる。共晶を形成するための有利な組み合わせには、ＲｕおよびＧｅ、ＰｄおよびＧｅ、ＲｕおよびＳｉ、ＮｂおよびＳｉが含まれる。
【００６１】
一実施形態によれば、第１の材料と第２の材料とは同じ材料であってもよく、これは、第１の材料と第２の材料の一方を共に結合する間に損傷する危険性を低減することに有利である。言い換えれば、同じ材料が第１の材料と第２の材料のために使用された場合に、熱、圧力などの処理パラメータが材料特性の違いを考慮する必要がない場合がある。
【００６２】
一実施形態によれば、この方法は、ＣＮＴペリクル膜およびペリクルフレームを加圧しながら加熱することをさらに含み、これは、結合が促進され得ることに有利である。さらに、熱および圧力は、組み合わされて、ＣＮＴ膜の応力の量を制御することができる。ＣＮＴペリクル膜およびペリクルフレームは、例えば、加圧しながら１００〜５００℃の範囲内の温度に加熱することができる。共晶が形成される場合に、ＣＮＴペリクル膜およびペリクルフレームは、好ましくは、加圧しながら６００〜９００℃の範囲内の温度に加熱することができる。しかしながら、温度を６００℃以下に保つと、ＣＮＴペリクル膜およびコーティングに応力がかかりにくくなる。
【００６３】
一実施形態によれば、結合の行為は、ＣＮＴペリクル膜およびペリクルフレームに１ｍｂａｒ未満の圧力を有する真空を適用しながら、機械的圧力によって、ＣＮＴペリクル膜および支持面を共に加圧することを含むことができ、これは、結合がさらに容易になり、冷間圧接が起こり得ることに有利である。有利には、機械的圧力は、０．１ｋＰａ〜３０ＭＰａの圧力であってもよい。
【００６４】
一実施形態によれば、この方法は、ＣＮＴペリクル膜の引張応力を増加させるステップをさらに含むことができる。ＣＮＴペリクル膜をペリクルフレーム上に配置する前に、引張応力を増加させることができる。しかしながら、ＣＮＴペリクル膜をペリクルフレームに取り付けた後の引張応力を増加させることも可能である。引張応力は、ＣＮＴペリクル膜に熱処理プロセスを施すことによって増加させることができる。熱処理プロセスは、ＣＮＴペリクル膜を高温（すなわち、室温より高い）に加熱することを含むことができる。それに加えて、または、これに代えて、熱処理プロセスは、ＣＮＴペリクル膜を低温（すなわち、室温未満）に冷却することを含むことができる。
【００６５】
引張応力は、機械的手段によっても増加させることができる。したがって、一実施形態によれば、この方法は、ＣＮＴペリクル膜をペリクルフレーム上に配置する前に、ＣＮＴペリクル膜を横方向に引き伸ばすステップをさらに含むことができる。ＣＮＴペリクル膜をペリクルフレーム上に配置する前に、ＣＮＴペリクル膜を横方向に引き伸ばすことによって、ＣＮＴペリクル膜の弛みが打ち消される可能性がある。言い換えれば、ＣＮＴペリクル膜は、ペリクルフレーム上に配置される前に、横方向に引き伸ばされると、弛みが減少することを示す。
【００６６】
ＣＮＴペリクル膜は、単一の方向、すなわち、単一の横方向または表面方向に沿って引き伸ばすことができる。ＣＮＴペリクル膜は、いくつかの例を与えるために、その縁部の法線方向または膜の横の半径方向など、複数の横方向に引き伸ばされてもよい。
【００６７】
一実施形態によれば、ペリクルフレームは、第２の材料と異なる第３の材料のフレーム本体を備えることができる。この配置により、ペリクルフレームのフレーム本体のための適切な材料が、ペリクルフレームの支持面の特性に影響を与えず選択され得る。したがって、ペリクルフレームの支持面の結合能力または特性に悪影響を及ぼすことなく、例えば、機械的強度、熱膨張または重量に関して所望の特性を有する材料によって、ペリクルフレームのフレーム本体を形成することが可能である。
【００６８】
ペリクルフレームは、Ｓｉ、ＳｉＮ、ＳｉＯ２または石英で形成することができる。これらの材料は、ＣＮＴペリクル膜の熱膨張に適合する熱膨張を示す。
【００６９】
ペリクルフレーム本体は、所望の特性を達成するために、複数の材料によって形成することができる。ペリクルフレーム本体は、例えば、互いの上部に配置された材料層のスタックによって、または、異なる材料の混合物によって形成されてもよい。
【００７０】
ペリクルフレームの支持面は、ペリクルフレーム本体上のコーティングとして形成することができ、これは、ペリクルフレーム本体および支持面の特性を本質的に互いに独立して調整することができるという利点がある。さらに、同じタイプのペリクルフレーム本体に、異なるニーズに適合する異なるタイプの支持面を設けることができる。言い換えれば、同じ種類のペリクルフレーム本体は、異なる種類のＣＮＴペリクル膜または異なるコーティングを有するＣＮＴペリクル膜と有利に組み合わせることができる。
【００７１】
一実施形態によれば、空気に対して透過性であることができ、これは、ペリクルのＣＮＴペリクル膜が、圧力変化にさらされたときに、より少ない機械的応力にさらされる可能性があり有利である。空気に対して透過性であるフレーム本体によって、空気は、例えば、真空ポンプや圧力上昇中にフレーム本体の材料を通って移動することができる。これは、フレーム本体が、ペリクルのＣＮＴペリクル膜の片側で起こる圧力変化を平衡化するのを助けることができることを意味する。
【００７２】
本発明の概念の一態様によれば、極端紫外線リソグラフィのためのレチクルシステムを形成する方法が開示される。この方法は、上記に開示された内容に従ってペリクルを形成することと、ペリクルをレチクル上に取り付けることを含む。上述した種類のペリクルをレチクルに取り付けることによって、極端紫外線リソグラフィのためのレチクルシステムを形成することができる。このように形成されたレチクルシステムは、レチクルに取り付けられたペリクルが、物理的バリアとして作用することによって、レチクルを粒子から保護する、極端紫外線リソグラフィにおいて有利に使用することができる。
【００７３】
本発明の概念の上記の目的、追加の目的、特徴および利点は、添付の図面を参照して、以下の例示的および非限定的な詳細な説明によってより詳しく理解されるであろう。図面において、特に断らない限り、類似の要素には同様の参照番号が使用される。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】加圧面とＣＮＴフィルムを加圧して形成されたＣＮＴペリクル膜との間に配置されたＣＮＴ膜の概略斜視図である。
【図２】突出パターンを有する加圧面とＣＮＴフィルムを加圧して形成されたＣＮＴペリクル膜との間に配置されたＣＮＴ膜の概略断面図である。
【図３】図１のペリクル膜の上にグラフェンフレークコーティング層が形成された概略斜視図である。
【図４】レチクルに取り付けられた極端紫外線リソグラフィのためのペリクルの概略断面図である。
【図５】本発明の概念による方法のフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００７５】
図面に示されているように、特徴、層および領域のサイズは、説明のために誇張されており、したがって、本発明の実施形態の一般的な構造を示すために提供される。同様の参照符号は、全体を通して同様の要素を指す。
【００７６】
本発明を、本発明の現在好ましい実施形態が示されている添付の図面を参照して、以下でより完全に説明する。しかしながら、本発明は、多くの異なる形態で実施することができ、本明細書に記載の実施形態に限定されるものと解釈すべきではない。むしろ、これらの実施形態は、完璧性および完全性のために提供され、本発明の範囲を当業者に完全に伝える。
【００７７】
ここで、極端紫外線リソグラフィレチクルのためのＣＮＴペリクル膜１０２の形成方法を図１を参照して説明する。図１では、ＣＮＴフィルム１０４は、第１の加圧面１０６と第２の加圧面１０８との間に配置されている。ＣＮＴフィルム１０４は、予め製造されたＣＮＴフィルムであってもよいし、加圧面１０６、１０８の間に配置されるように組み合わされて製作されてもよい。図１のＣＮＴフィルム１０４は、いわゆる自立型ＣＮＴフィルム１０４であり、これは、ＣＮＴフィルム１０４が、例えば、ペリクルフレームまたは類似物などに懸架されたときに、自重を支えることができるという意味で自立している。代わりに、それ自体の重量を支えることができないより弱いＣＮＴフィルムを使用してもよい。いずれの場合でも、ＣＮＴフィルム１０４は、例えば、セルロース系または紙フィルターのようなフィルターの形態の一時的なキャリア（図示せず）上に配置することができる。
【００７８】
図１に概略的に示されているように、個々のＣＮＴ１１０がＣＮＴフィルム１０４内で互いに交差するという意味で、ＣＮＴフィルム１０４の個々のＣＮＴ１１０は、互いにオーバーラップしている。ＣＮＴフィルム１０４のＣＮＴ１１０は、好ましくは単層ＣＮＴ、ＳＷＣＮＴであることができる。しかしながら、二重または多層ＣＮＴ、ＤＷＣＮＴまたはＭＷＣＮＴを代替的に使用してもよい。
【００７９】
図示されたＣＮＴフィルム１０４の個々のＣＮＴは、ＣＮＴ１１０が主要な方向または優勢な方向に沿ってＣＮＴフィルム１０４内に配置されていないという意味で、ＣＮＴフィルム１０４内にランダムに配置されている。しかしながら、ＣＮＴフィルム１０４のＣＮＴは、規則的に設けられてもよい。ＣＮＴ１１０は、例えば、主要な方向または複数の主要な方向に沿って設けられてもよい。
【００８０】
複数の個々のＣＮＴが束（すなわち、糸またはロープ様構造）を形成するという意味で、ＣＮＴは、ＣＮＴフィルム１０４内に束ねられることもでき、これは、ＣＮＴフィルムが、整列した網を形成する複数の束、またはランダムに配向されたＣＮＴ束から形成される。したがって、図１に示す各要素１１０は、代替的に、ＣＮＴ束を指してもよい。ＣＮＴ束１１０は、例えば、２〜２０個の個々のＣＮＴを含むことができる。ＣＮＴ束１１０では、個々のＣＮＴを整列させ、それらの長手方向に沿って結合することができる。束のＣＮＴは、ＣＮＴ束の長さが個々のＣＮＴの長さよりも長くなるようにエンドツーエンドで結合されてもよい。ＣＮＴは、典型的には、ファンデルワールス力によって結合され得る。
【００８１】
ＣＮＴフィルム１０４の個々のＣＮＴ１１０（または束１１０）は、図示されない、コーティングで被覆することができる。コーティングは、Ｍｏの金属コーティングであってもよい。コーティングは、図１に示すように、ＣＮＴフィルム１０４内に部分的に遊離したＣＮＴのネットワークを形成しながら、個々のＣＮＴまたは束がコーティングによって部分的にまたは完全に包囲されるという意味で、ＣＮＴ１１０を少なくとも部分的に覆うことができる。ＣＮＴ１１０上のコーティングの厚さは、使用中のプロセス条件からのＣＮＴフィルム１０４のＣＮＴの信頼できる保護を形成することができるので、好ましくは、１ｎｍ〜３０ｎｍの範囲内であることができる。さらに、好ましくは、１〜１０ｎｍの範囲のコーティングの厚さを使用して、信頼性の高い保護とＥＵＶ放射への十分な透過との両方を可能にすることができる。コーティングは、例えば、物理蒸着（ＰＶＤ）、化学蒸着（ＣＶＤ）または原子層堆積（ＡＬＤ）など、当技術分野で知られている任意の適切な技術を使用して形成することができる。
【００８２】
適切なコーティングの他の例は、いくつかの例を与えるために、Ｂ、Ｂ４Ｃ、ＺｒＮ、Ｒｕ、ＳｉＣ、ＴｉＮ、ａ−Ｃおよびグラフェンコーティングを含む。言い換えれば、上記材料のコーティングは、上記の例でも同様に良好に使用され得る。ＥＶＵの用途では、適切なコーティングは、一般に、極端紫外線の吸収が制限されたコーティングである。
【００８３】
代替的に、コーティングは、個々のＣＮＴまたは束１１０の周りに形成される代わりに、ＣＮＴフィルム１０４の一方または両方の主表面にコーティング層として形成されてもよい。
【００８４】
ＣＮＴフィルム１０４のオーバーラップしたＣＮＴ１１０を互いに結合するために、ＣＮＴフィルム１０４は、第１の加圧面１０６と第２の加圧面１０８との間で加圧することができる。したがって、加圧面１０６，１０８は、ＣＮＴフィルム１０４に機械的に圧力を印加するために、共に加圧することができる。
【００８５】
被覆されたＣＮＴ１１０の印加圧力は、約０．１ｋＰａ以上であり得る。印加圧力は、好ましくは、３０ＭＰａを超えなくすることができる。このような圧力は、ＣＮＴ１１０がオーバーラップする位置でＣＮＴ１１０のコーティング間で結合が起こり、ＣＮＴがオーバーラップする位置で互いに接着するのに十分である。オーバーラップするすべての位置で結合が生じる必要はないことに留意されたい。上記圧力は、ここでは、ＣＮＴフィルム１０４の領域に亘って加えられる平均圧力を指してもよい。
【００８６】
いわゆる冷間圧接は、ＣＮＴがオーバーラップする位置でＣＮＴ１１０のコーティング間に形成されることができる。したがって、加圧中にオーバーラップする位置で起こる結合は、ＣＮＴフィルム１０４の強度および完全性を向上させ、それによって、自立型ＣＮＴペリクル膜１０２を形成する。理解されるように、ＣＮＴ１１０がオーバーラップしている場所で局所的に圧力が上昇し、オーバーラップするＣＮＴ１１０同士の結合を容易にすることができる。明確にするために、結合が行われる位置１１２は、図１の下部のドットまたは結合１１２によって示される。
【００８７】
より具体的には、図１の下部に、フィルム１０４を加圧することによって形成された自立型ＣＮＴペリクル膜１０２が、ＣＮＴまたはＣＮＴ束１１０が互いにオーバーラップする位置にどのように結合位置１１２を含むことができるかが示されている。結合位置１１２は、説明の便宜上、図１においてドットとして示された上記の通りである。
【００８８】
結合の形成を容易にするために、ＣＮＴフィルム１０４を加圧中に１ｍｂａｒ未満の真空にさらすことができる。有利には、１０−１０ｍｂａｒ〜１０−６ｂａｒの範囲の周囲圧力を使用することができる。ＣＮＴフィルム１０４は、結合１１２の形成をさらに容易にするために、加圧面１０６，１０８の間で加圧されながら加熱されてもよい。例えば、ＣＮＴフィルム１０４は、圧力を印加しながら、２０〜５００℃の範囲内の温度に加熱することができる。好ましくは、ＣＮＴフィルム１０４は、圧力を印加しながら、３００℃未満の温度に加熱することができる。
【００８９】
代替的に、ＣＮＴペリクル膜１０２は、被覆されていないＣＮＴまたはＣＮＴ束１１０のＣＮＴフィルム１０４、すなわち、外面にコーティングを有しないＣＮＴフィルム１０４を加圧することによって、形成することができる。この場合、ＣＮＴフィルム１０４のＣＮＴ１１０は、ＣＮＴ１１０がオーバーラップする位置で直接接触する。この場合も、ＣＮＴフィルム１０４は、上記のように、加圧面１０６，１０８の間で加圧される。ＣＮＴフィルム１０４のＣＮＴ１１０が被覆されていない場合には、ＣＮＴフィルム１０４のオーバーラップするＣＮＴの間で結合を起こさせるために、１０〜３０ＧＰａの範囲の圧力を印加することが好ましい。この場合、結合は、ＣＮＴフィルム１０４のＣＮＴ１１０の間で直接的に起こる。例えば、ＣＮＴフィルム１０４のオーバーラップしたＣＮＴの炭素原子の間に、直接結合、例えば、共有結合が形成される。
【００９０】
さらに、複数のＣＮＴフィルム１０４は、第１加圧面１０６と第２加圧面１０８との間に積み重ねられて互いに重ね合されて配置されてもよく、この場合、結合は各フィルム内で、また複数のフィルム間でも起こり、これによって、自立型ＣＮＴペリクル膜１０２を形成する。
【００９１】
図１の加圧面１０６，１０８には、加圧中に、または加圧面の間に存在するときに、ＣＮＴフィルム１０４が加圧面１０６，１０８に粘着または付着する危険性を低減するための付着防止コーティング１１４が設けられている。付着防止コーティング１１４は、加圧面１０６，１０８上に設けられ、これらの加圧面１０６，１０８を覆う。図示された付着防止コーティング１１４は、薄いポリテトラフルオロエチレン、ＰＴＦＥのそれぞれの加圧面１０６，１０８を覆うコーティング層の形態で提供され得る。付着防止コーティング１１４は、それぞれの加圧面１０６，１０８を覆う。あるいは、付着防止コーティング１１４は、それぞれの加圧面１０６，１０８の特定の部分を覆うように形成されてもよく、またはそれぞれの加圧面１０６，１０８上の一方のみ、すなわち、第１の加圧面１０６上または第２の加圧面１０８上に形成されてもよい。
【００９２】
付着防止コーティング１１４の材料は、異なるニーズに適合し、異なる材料および材料の組み合わせに適合するように変更することができる。本発明の概念に関連する付着防止コーティングの他の例は、いくつかの例を提供するために、グラフェンコーティング、チオールを含む自己組織化単分子膜（ＳＡＭ）を含むコーティング、およびアルキル末端基を含む自己組織化チオール単分子層、フッ素化エチレンプロピレンおよびペルフルオロアルコキシを含むコーティングを含む。
【００９３】
ここで、図２を参照すると、ここでは、第１の加圧面２０６と第２の加圧面２０８との間で複数のＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂを加圧することによって、自立型ＣＮＴペリクル膜２０２がどのように形成されるかを概念的に示す。図２のＣＮＴペリクル膜２０２の形成は、図１の自立型ＣＮＴペリクル膜２０１の形成に類似している。したがって、過度の反復を避けるために、以下に関連する相違点のみ説明する。
【００９４】
図２では、２つのＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂが第１の加圧面２０６と第２の加圧面２０８との間に配置されている。２つのＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂは、図２に示されているように、互いに積み重ねられて配置されている。同様に、図２の第１の加圧面２０６と第２の加圧面２０８との間に、いくつかの例を提供するために、単一のＣＮＴフィルムまたは３、４、５または１０枚のＣＮＴフィルムなどのさらなるＣＮＴフィルムを配置することが関連している。
【００９５】
ＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂのそれぞれは、図１に関連して上述したタイプのものである。図１と同様、ＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂの個々のＣＮＴ２１０（またはＣＮＴ束２１０）は、個々のＣＮＴまたは束２１０がＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂ内で互いに交差しているという意味で、互いにオーバーラップしている。さらに、それぞれのＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂの積層構造により、各ＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂのＣＮＴまたは束２１０が互いにオーバーラップしている。ＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂのＣＮＴ２１０は、ＳＷＣＮＴまたはＭＷＣＮＴであってもよい。図１と同様に、ＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂの個々のＣＮＴまたは束２１０は、図示されていないコーティングを備えていてもよい。
【００９６】
図２の第１の加圧面２０６には、一組のピンを含む突出パターン２０６ａが設けられている。そこでは、パターン２０６ａのピンが第１の加圧面２０６から突出している。突出パターン２０６ａの連続するピン間のピッチは、典型的には、それぞれのＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂのＣＮＴ２１０またはＣＮＴの束の平均長さよりも小さい。言い換えれば、突出パターン２０６ａのピン間の距離は、それぞれのＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂのＣＮＴ２１０またはＣＮＴ束２１０の平均長さよりも小さい。一例として、突出パターン２０６ａの連続したピン間のピッチまたは距離は、２００ｎｍ〜１００μｍの範囲であってもよい。ピンを含む突出パターン２０６ａを利用することによって、ピンの位置でフィルム２０４ａ，２０４ｂに局所的に圧力を加えることができる。
【００９７】
図２の第２の加圧面２０８には、一組の隆起部分または突起部を含む突出パターン２０８ａが設けられている。突出パターン２０８ａの隆起部分は、第１の加圧面２０６の突出パターン２０６ａのピンと整列して配置される。これは、加圧面２０６，２０８を共に加圧する場合に、突出パターン２０６ａのピンが突出パターン２０８ａの隆起部分と接触することを意味する。したがって、ピンおよび隆起部分の位置の場所でＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂに圧力をかけることができる。
【００９８】
ピンおよび隆起部分以外のパターンは、それぞれの加圧面２０６，２０８上で使用することができる。例えば、ラインパターン、正方格子、六方格子または類似のものを使用することができる。さらに、加圧面２０６，２０８の一方をパターン化することができ、他方はパターン化しないようにすることができる。さらに、加圧面２０６，２０８に同じ種類のパターンを設けてもよいし、異なるパターンを設けてもよい。加圧面２０６，２０８の一部は、パターン化されてもよいが、他の部分はパターン化されていなくてもよい。突出パターン２０６ａ，２０８ａは、規則的なパターンであってもよいし、不規則なパターンであってもよい。パターンは、例えば、粗い表面によって形成されるランダムパターンであってもよい。好ましくは、それぞれの加圧面２０６，２０８のパターン／パターンのピッチは、ＣＮＴ２１０の平均長さまたはそれぞれのＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂのＣＮＴ束２１０の平均長さよりも小さい。
【００９９】
それぞれの加圧面２０６，２０８には、付着防止コーティングが設けられてもよく、または、加圧面２０６，２０８のうちの１つに、図１に関連して上述したような付着防止被覆が設けられてもよい。
【０１００】
ＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂ内、且つＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂ間でオーバーラップしたＣＮＴ２１０を共に結合するために、ＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂを第１の加圧面２０６と第２の加圧面２０８との間で加圧する。したがって、加圧面２０６，２０８は、機械的圧力をＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂに印加するために共に加圧する。図２の被覆されたＣＮＴ２１０の印加圧力は、ＣＮＴ２１０がオーバーラップする位置、すなわちＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂのうちの１つの中またはＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂの間で被覆されたＣＮＴ２１０の間で結合が起こるのに十分な圧力であるため、上述したように０．１ｋＰａ〜３０ＭＰａの範囲内にある。結合は、特に突出パターン２０６ａ，２０８ａがＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂと接触して圧力をかける場合に起こり得ることに留意されたい。上述したように、いわゆる冷間圧接は、ＣＮＴがオーバーラップする位置でＣＮＴ２１０のコーティング間に形成することができる。したがって、加圧中に起こる結合は、ＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂを互いに結合し、これにより、自立型ＣＮＴペリクル膜２０２を形成することができる。言い換えれば、ＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂから単一の自立型ＣＮＴペリクル膜２０２を形成することができる。同時に、ＣＮＴペリクル膜２０２の強度および完全性は、それぞれのＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂと比較して増大され得る。
【０１０１】
図２の下部には、フィルム２０４，２０４ｂを加圧することによって形成されたＣＮＴペリクル膜２０２が、ＣＮＴまたはＣＮＴ束２１０が互いにオーバーラップする位置に結合位置２１２を含む様子が示されている。結合位置２１２は、説明のために、図２にドットで示した上述した通りである。
【０１０２】
ＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂは、加圧の間に１ｍｂａｒ未満の真空にさらされて、結合２１２の形成を容易にする。結合２１２の形成をさらに容易にするために、ＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂは、加圧面２０６，２０８の間に加圧しながら、加熱することができる。ＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂは、例えば、圧力を印加しながら、２０〜５００℃の範囲内の温度に加熱することができる。好ましくは、ＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂは、圧力を印加しながら、３００℃未満の温度に加熱することができる。
【０１０３】
代替的に、自立型ＣＮＴペリクル膜２０２は、好ましくは、１０〜３０ＧＰａの範囲の圧力で、被覆されていないＣＮＴ２１０の複数のＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂを加圧することによって形成することができ、結合をＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂのオーバーラップしたＣＮＴ２１０の間、すなわち、ＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂの内、およびＣＮＴフィルム２０４ａ，２０４ｂ間に形成することができる。
【０１０４】
次に、上記の方法に従って形成された自立型ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２の好ましい実施形態について説明する。この実施形態によれば、膜１０２，２０２は、ＳＷＣＮＴを含むか、またはＳＷＣＮＴから形成される。個々のＣＮＴ１１２，２１２は、０．５〜２ｎｍの直径を有することができる。あるいは、膜１０２，２０２は、ＭＷＣＮＴを含むか、またはＭＷＣＮＴから形成される。個々のＣＮＴ１１２，２１２は、５〜３０ｎｍの直径を有することができる。ＳＷＣＮＴおよびＭＷＣＮＴの両方について、個々のＣＮＴ１１２，２１２は、平均長さ＞１００μｍを有することができる。隣接するＣＮＴ１１２間の典型的な間隙は、≦３０±１００ｎｍであることができる。この間隙は、細孔サイズとも呼ばれる。
【０１０５】
好ましいＣＮＴペリクル膜１０２，２０２は、加圧中に積層された状態で互いに重ね合されて配置された２〜３枚のＣＮＴフィルム１０４，２０４ａ，２０４ｂで形成することができる。しかしながら、加圧中に積層された状態で互いに重ね合されて配置された４枚以上のＣＮＴフィルム１０４，２０４ａ，２０４ｂについても同様の結果が得られる。
【０１０６】
好ましいＣＮＴペリクル膜１０２，２０２の厚さは、５〜５０ｍｍの範囲であることができる。しかしながら、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２の厚さは、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２の多孔度に応じて大きくなり得る。ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２の重要なパラメータは原子／ｃｍ２の量である。その理由は、原子がＣＮＴペリクル膜１０２，２０２に影響を与えるＥＵＶ光を吸収または減衰させるからである。言い換えれば、原子／ｃｍ２の数は、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２の透過効率に影響を及ぼす。９０％の透過率を達成するためには、１５ｎｍのグラファイトまたは２．２６６ｇ／ｃｍ３の同等の厚さがＣＮＴペリクル膜１０２，２０２に使用される。これらの値は、ペリクル膜１０２，２０２の約１．７・１０１７炭素原子／ｃｍ２にほぼ対応する。この洞察を手にして、重量なことは、１．７・１０１７炭素原子／ｃｍ２以下または２．２６６ｇ／ｃｍ３以下の炭素原子密度を有するが、ＣＮＴ膜１０２，２０２が所望の粒子保持特性を有するコーティングを有するかまたは有しない強固なＣＮＴ膜１０２，２０２を形成または構築することであることが理解される。
【０１０７】
上記の特徴を有する膜は、上記の特性および膜が実際にＥＵＶペリクル用途にどのように機能するかを決定することを目指して広範囲の測定に供されている。ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２を形成するために使用されるＣＮＴフィルム１０４，２０４ａ，２０４ｂを製造する過程で、ＣＮＴの直径および平均長が主に設定される。また、ＣＮＴ膜１０４，２０４ａ，２０４ｂ内にＣＮＴがどれくらい密に配置されるかによって間隙または細孔サイズが影響される。しかしながら、形成されるＣＮＴペリクル膜１０２、２０２の細孔サイズもまた、使用されるＣＮＴフィルム１０４，２０４ａ，２０４ｂの数に影響を与える。ＣＮＴフィルム１０４，２０４ａ，２０４ｂの数が増えると、より密なＣＮＴペリクル膜１０２，２０２、すなわち、より小さい細孔サイズを有するＣＮＴペリクル膜１０２，２０２が得られる。一般に、より密度の高いまたはより多孔性でないＣＮＴペリクル膜１０２，２０２は、より良好な粒子保持を示すが、極端紫外線のより大きな吸収を被るであろう。実際には、ＣＮＴの直径または平均長さも、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２の多孔度に影響を与える。ＳＥＭおよびＴＥＭを用いて上記のパラメータを測定することができる。
【０１０８】
しかしながら、上記特性を有する膜は、極端紫外線に対して高い安定性を示すことが判明している。１００枚のウエハ露光後のＣＮＴ膜の典型的な透過損失は、０．１％未満であると測定されている。極端紫外線の透過率は、典型的には、＞９０％であり、ＥＵＶペリクル用途にとって望ましい値である。ＳＷＣＮＴおよびＭＷＣＮＴの合成方法の例には、アーク放電法、レーザーアブレーションおよび浮遊触媒（エアロゾル）ＣＶＤ合成を含むＣＶＤ法に基づく技術が含まれる。エアロゾル合成技術の非限定的な例は、特許文献１に見出される。整列したＣＮＴを形成するための例示的なプロセスは、特許文献２に見出される。
【０１０９】
ここで、図３を参照すると、図１のＣＮＴペリクル膜１０２の主表面にグラフェンフレークコーティング層３００がどのように形成されたかが概念的に示されている。図３のグラフェンフレークコーティング層３００は、単純さの理由から非常に単純化されている。グラフェンフレークコーティング層３００は、複数のグラフェンフレーク３０２から形成される。グラフェンフレーク３０２は、ナノチューブペリクル膜１０２の主表面上に堆積される。グラフェンフレーク３０２は、ＣＮＴペリクル膜１０２の細孔サイズを超える表面積を有する。この配置により、グラフェンフレーク３０２は、ＣＮＴペリクル膜１０２上に、ＣＮＴペリクル膜１０２のＣＮＴまたはＣＮＴ束１１０によって支持された状態で配置される。
【０１１０】
一例として、グラフェンフレーク３０２の主表面に沿った横方向の寸法は、典型的には、７５ｎｍと５０μｍの間であり得る。グラフェンフレーク３０２が大きくなればなるほど、より多くの細孔が典型的には個々のグラフェンフレーク３０２によって覆われる。
【０１１１】
グラフェンフレーク３０２は、好ましくは、ＣＮＴペリクル膜１０２上に部分的にオーバーラップするように配置される。より具体的には、グラフェンフレーク３０２は、図３に示すように、隣接するグラフェンフレーク３０２とオーバーラップするように配置することができる。
【０１１２】
グラフェンフレークコーティング層３００は、アルコールおよびグラフェンフレーク３０２を含む懸濁液をＣＮＴペリクル膜１０２に適用することによって、ＣＮＴペリクル膜１０２上に形成することができる。その後、アルコールが蒸発してグラフェンフレーク３０２がナノチューブペリクル上に残る。アルコールを含む懸濁液を適用することによって、ナノチューブペリクル膜１０２は、グラフェンフレークコーティング層３００を堆積させながら緻密化を受けることができる。
【０１１３】
懸濁液は、ナノチューブペリクル膜１０２を懸濁液に浸漬することによって、ナノチューブペリクル膜１０２に適用することができる。これに続いて、ナノチューブペリクル膜１０２は、好ましくは、過剰のグラフェンフレーク３０２を除去するために、エタノールのような純粋なアルコール中で洗い落とされる。アルコールは蒸発され、グラフェンフレーク３０２がナノチューブペリクル膜１０２上に残る。アルコールは、エタノールであるが、他のアルコールも使用され得る。あるいは、グラフェンフレーク３０２および水性または有機媒体（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン）を含む溶液を使用することができる。さらに、グラフェンフレーク３０２は、スプレーコーティング、エアブラッシングまたはスピンコーティングのような他の技術を用いてＣＮＴペリクル膜１０２に適用することもできる。
【０１１４】
ＣＮＴペリクル膜１０２は、グラフェンフレークコーティング層３００の形成中に１５００℃の温度まで加熱することができる。好ましくは、ＣＮＴペリクル膜１０２は、グラフェンフレークコーティング層３００の形成中に６００℃の温度まで加熱することができる。
【０１１５】
グラフェンフレークコーティング層３００を形成する際のＣＮＴペリクル膜１０２およびグラフェンフレーク３０２には、０．１ｋＰａ〜３０ＭＰａの機械的圧力を加えることができる。０．１ｋＰａ〜３０ＭＰａの圧力は、ＣＮＴペリクル膜１０２のＣＮＴ１１０が上述のように被覆されている場合に適切である。同様に、ＣＮＴペリクル膜１０２のＣＮＴ１１０が上述のように被覆されていない場合に、１０〜３０ＧＰａの圧力が適切である。
【０１１６】
ここで、図４を参照すると、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２をペリクルフレーム４０２に固定することによって、極端紫外線リソグラフィのためのペリクル４００がどのように形成され、どのように形成されたペリクル４００がレチクル４１０に取り付けられるかが概念的に示されており、これにより、極端紫外線リソグラフィのためのレチクルシステム４１２を形成する。
【０１１７】
次に、図４を参照して、上述した種類の被覆したＣＮＴを有するＣＮＴペリクル膜１０２，２０２をペリクルフレーム４０２に固定する方法を説明する。
【０１１８】
コーティングが、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２上に形成される。コーティングは、上述のようにして、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２上に形成することができる。コーティングは、上述したように、ＣＮＴフィルム１０４またはフィルム２０４ａ，２０４ｂの加圧の前または後に形成されてもよい。あるいは、フレーム４０２への取り付けを容易にする目的で、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２上に別個のまたは追加のコーティングを形成してもよい。どちらの場合も、コーティングは、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２の主表面全体に形成されてもよいし、または、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２の周辺領域のみに形成されてもよい。周辺領域によって、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２の領域がペリクルフレーム４０２に当接するように配置され、固定されることが意図されている。
【０１１９】
ペリクルフレーム４０２に固定される被覆されたＣＮＴペリクル膜１０２，２０２は、ペリクルフレーム４０２の支持面４０２ａ上に配置される。ペリクルフレームの支持面４０２ａは、典型的には、ペリクルフレーム４０２の上面である。
【０１２０】
取扱いの目的で、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２は、キャリアまたは一時的な基板（図示しない）上に配置することができる。ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２は、ペリクルフレーム４０２に移されてもよい。キャリアから離れた方向に向いているＣＮＴペリクル膜１０２，２０２の主表面は、ペリクル支持面４０２ａに当接させて配置してもよい。
【０１２１】
次いで、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２とペリクル支持面４０２ａのコーティングは、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２とペリクル支持面４０２ａとを互いに加圧することによって共に結合される。これにより、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２は、十分な圧力が使用される場合には、ペリクルフレームの支持面４０２ａに固定される。ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２のＣＮＴまたはＣＮＴ束１１０，２１０が、上述のように被覆されている場合に、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２とペリクルフレーム４０２の支持面４０２ａとの結合には、一般に０．１ｋＰａ〜３０ＭＰａの圧力で十分である。キャリアがＣＮＴペリクル膜１０２，２０２を取り扱うために使用される場合に、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２のペリクル４０２への結合の前または後に、キャリアをＣＮＴペリクル膜１０２、２０２から除去することができる。
【０１２２】
被覆されたＣＮＴペリクル膜１０２，２０２とペリクル支持面４０２ａとを結合するために、支持面４０２ａは、典型的には、第１の材料によって形成され、ＣＮＴコーティングは、典型的には、第２の材料によって形成される。いくつかの異なる材料の組み合わせまたは体系が、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２とペリクル支持面４０２ａを共に結合するために働くであろう。
【０１２３】
第１の材料は、金属または半導体であることができ、第２の材料は、金属または半導体であることができる。典型的には、支持面４０２ａの材料とコーティングの材料は異なる材料である。関連する材料の組み合わせまたは共に結合し得る体系の例は、ＲｕおよびＧｅ、ＰｄおよびＧｅ、ＲｕおよびＳｉ、ＮｂおよびＳｉである。上記の例は、冷間圧接され、共晶を形成することによって共に結合されてもよい。当業者であれば、被覆されたＣＮＴペリクル膜１０２，２０２とペリクル支持面４０２ａとを互いに結合するために他の材料の組み合わせを使用することができ、使用される様々な材料の組み合わせによって必要な圧力が変わることを理解する。例えば、ペリクルフレーム４０２の支持面４０２ａは、第１の金属によって形成されてもよく、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２のコーティングは、第２の金属によって形成されてもよい。これにより、共晶を形成することができる材料の組み合わせを選択することによって、加圧中に第１の金属と第２の金属との共晶を形成することが可能である。
【０１２４】
さらに、支持面４０２ａの材料とコーティングの材料は、同じ材料であってもよい。
【０１２５】
さらに、上述したように、低圧および／または高温は、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２のペリクルフレーム４０２の支持面４０２ａへの固定または冷間圧接を容易にすることができる。
【０１２６】
ペリクルフレーム４０２は、支持面４０２ａと同じ材料で形成することができ、または異なる材料であることができる。言い換えれば、ペリクルフレーム４０２は、支持面４０２ａを形成する材料がその上に適用されるフレーム本体を含むことができる。支持面４０２ａは、例えば、ペリクルフレーム４０２の上面の上に薄い金属または半導体コーティングとして形成することができる。この構成によって、支持面４０２ａおよびペリクルフレーム４０２の特性を、それぞれ独立して調整することができる。例えば、ペリクルフレーム４０２またはフレーム本体は、空気を透過することができ、ペリクル４００が圧力変動にさらされたときに、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２に損傷を与えるリスクを低減する。ペリクルフレーム４０２は、例えば、Ｓｉ、ＳｉＮ、ＳｉＯ２または石英によって形成することができる。ペリクルフレーム２０２のための他の材料は、いくつかの例を与えるために、金属、プラスチックまたはセラミック材料を含む。
【０１２７】
この方法は、膜１０２，２０２をペリクルフレーム４０２に配置する前に、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２を横方向に引き伸ばすことをさらに含むことができる。ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２を、事前に引き伸ばすことによって、膜１０２，２０２の弛みを打ち消すことができる。言い換えれば、ペリクルフレーム４０２上に配置する前に横方向に引き伸ばされると、弛みを減少させることができる。有利には、約１００ＭＰａ以上の引っ張り応力がＣＮＴペリクル膜１０２，２０２に導入される。これは、典型的な寸法のペリクルについて、０．５ｍｍ未満の膜のたわみに変換され得る。
【０１２８】
ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２を事前に引き伸ばすことは、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２を中間の伸張可能な支持体に転移することを含むことができる。ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２は、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２と伸張可能な支持体との間の表面界面における引力のために、伸張可能な支持体に接着することができる。伸張可能なまたは弾性膜などの任意の適切なタイプの伸張可能な支持体を使用することができる。伸張可能な支持体は、伸張可能な支持体を伸ばすように構成された伸張ツール内に配置することができ、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２は、伸張され得る。続いて、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２をペリクルフレーム４０２に転写することができる。その後、伸張可能な支持体をＣＮＴペリクル膜１０２，２０２から除去することができる。
【０１２９】
引張応力は、ＣＮＴペリクル膜に熱処理プロセスを施すなどの他の手段によって、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２に導入することもできる。熱処理プロセスは、ＣＮＴペリクル膜を高温（すなわち、室温より高い）に加熱することを含むことができる。それに加えて、またはこれに代えて、熱処理プロセスは、ＣＮＴペリクル膜を低温（すなわち、室温未満）に冷却することを含むことができる。また、ＣＮＴペリクル膜にコーティングを適用すると、ＣＮＴペリクル膜の引張応力が増加する可能性がある。
【０１３０】
さらに、図４を参照すると、ペリクル４００がレチクル４１０に取り付けられて、レチクルシステム４１２を形成する様子が概念的に示されており、レチクルシステム４１２は、ペリクル４００およびレチクル４１０を含む。ペリクル４００は、レチクル４１０上に、例えば、接着剤を用いて、当技術分野で知られている任意の適切な手段を使用して取り付けることができる。ペリクルフレーム４０２は、レチクル４１０上の開口部またはアパーチャを画定する。ペリクル膜１０２，２０２は、アパーチャを覆う。ペリクル膜１０２，２０２は、ペリクルフレーム４０２によって、レチクル４１０の前面に懸架されている。ペリクルフレーム４０２の高さまたは厚さは、レチクル４１０の主面とペリクル膜１０２，２０２との間の距離が、１ｍｍ〜６ｍｍの範囲であることができる。
【０１３１】
ここで、図５を参照すると、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２を形成する方法５００が一般的に説明される。
【０１３２】
方法５００は、ステップ５０２において、第１の加圧面１０６，２０６と第２の加圧面１０６，２０６との間で少なくとも１つのＣＮＴフィルム１０４，２０４ａ，２０４ｂを加圧することによって、少なくとも１つのＣＮＴフィルム１０４，２０４ａ，２０４ｂのオーバーラップするＣＮＴ１１０，２１０を結合して、これにより、自立型ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２を形成するステップを含む。
【０１３３】
方法５００は、ステップ５０４において、少なくとも１つのＣＮＴフィルム１０４，２０４ａ，２０４ｂを加圧する前に、少なくとも１つのＣＮＴフィルム１０４，２０４ａ，２０４ｂ上にコーティングを形成するステップをさらに含むことができる。
【０１３４】
方法５００は、ステップ５０６において、加圧５０２しながら、少なくとも１つのＣＮＴフィルム１０４，２０４ａ，２０４ｂを加熱するステップをさらに含むことができる。
【０１３５】
方法５００は、ステップ５０８において、加圧５０２した後に、ＣＮＴ１１０，２１０上にコーティングを形成するステップをさらに含むことができる。前記コーティングを形成するステップ５０８は、Ｂ、Ｂ４Ｃ、ＺｒＮ、Ｍｏ、Ｒｕ、ＴｉＮ、ＳｉＣ、ａ−Ｃおよびグラフェンからなる群から選択される材料を含むコーティングを形成するステップを含むことができる。
【０１３６】
方法５００は、ステップ５１０において、グラフェンフレーク３０２をＣＮＴペリクル膜１０２，２０２の主表面上に堆積させることによって、グラフェンフレークコーティング層３００を形成するステップをさらに含むことができる。ステップ５０８および５１０の両方が実行される場合に、ステップ５１０は、ステップ５０８の前に行うのが有利であることに留意されたい。したがって、ステップ５０８で生成されたコーティングは、グラフェンフレークコーティング層を覆うように形成することができる。
【０１３７】
方法５００は、ステップ５１２において、ＣＮＴペリクル膜１０２，２０２を、ペリクル４００を形成するためのペリクルフレーム４０２に固定するステップをさらに含むことができる。
【０１３８】
方法５００は、ステップ５１４において、ペリクル４００を、レチクルシステム４１２を形成するためのレチクルに取り付けるステップをさらに含むことができる。
【０１３９】
上記において、本発明の概念は、限定された数の実施形態を参照して主に説明された。しかしながら、当業者には容易に理解されるように、上述したもの以外の他の実施形態も、添付の特許請求の範囲によって規定される本発明の概念の範囲内で同等に可能である。
【０１４０】
加えて、開示された実施形態に対する変形は、図面、開示、および添付の特許請求の範囲の研究から、請求された発明を実施する際の当業者によって理解され、達成され得る。特許請求の範囲において、“含む”という単語は、他の要素またはステップを排除するものではなく、不定冠詞“ａ”または“ａｎ”は、複数を除外しない。特定の手段が相互に異なる従属請求項に列挙されているという単なる事実は、これらの測定された組み合わせが有利に使用できないことを示すものではない。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【外国語明細書】
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