(57)【要約】【課題】塗布装置から取り外されたノズルに付着したパーティクルを除去可能とする。【解決手段】内部空間に連通する供給口、吐出口、排出口を有するノズルが装着箇所に着脱可能であり、装着箇所に取り付けられたノズルの供給口から内部空間に塗布液を供給してノズルの吐出口から吐出される塗布液を対象物に塗布する塗布装置の装着箇所に取り付けられたノズルの吐出口を封止した状態で、排出口から出て供給口に戻る第１循環系で塗布液より粘度の低い洗浄液を循環させる工程と、第１循環系での洗浄液の循環によって洗浄されたノズルを装着箇所から取り外して、ノズルに対して所定作業を実行した後に、ノズルを装着箇所に取り付ける工程と、所定作業が実行されて装着箇所に取り付けられたノズルの吐出口を封止した状態で、排出口から出て供給口に戻るとともに排出口から供給口までの間にフィルターを有する第２循環系で洗浄液を循環させる工程とを備える。【選択図】図７
2018043219.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部空間に連通する供給口、吐出口および排出口を有するノズルが装着箇所に着脱可能であり、前記装着箇所に取り付けられた前記ノズルの前記供給口から前記内部空間に塗布液を供給することで前記ノズルの前記吐出口から吐出される塗布液を対象物に塗布する塗布装置の前記装着箇所に取り付けられた前記ノズルの前記吐出口を封止した状態で、前記排出口から出て前記供給口に戻る第１循環系で前記塗布液より粘度の低い洗浄液を循環させる工程と、
前記第１循環系での前記洗浄液の循環によって洗浄された前記ノズルを前記装着箇所から取り外して、前記ノズルに対して所定作業を実行した後に、前記ノズルを前記装着箇所に取り付ける工程と、
前記所定作業が実行されて前記装着箇所に取り付けられた前記ノズルの前記吐出口を封止した状態で、前記排出口から出て前記供給口に戻るとともに前記排出口から前記供給口までの間にフィルターを有する第２循環系で前記洗浄液を循環させる工程と
を備えるノズル洗浄方法。
【請求項２】
前記第１循環系で循環させた洗浄液を前記第２循環系で循環させる請求項１に記載のノズル洗浄方法。
【請求項３】
前記第１循環系での前記洗浄液の循環の後であって、前記ノズルを前記装着箇所から取り外す前に、前記第１循環系に気体を導入する工程をさらに備える請求項１または２に記載のノズル洗浄方法。
【請求項４】
前記第２循環系での前記洗浄液の循環の後に、前記第２循環系に気体を導入する工程をさらに備える請求項１ないし３のいずれか一項に記載のノズル洗浄方法。
【請求項５】
前記塗布液はポリイミド前駆体および溶媒を含み、前記洗浄液は前記溶媒である請求項１ないし４のいずれか一項に記載のノズル洗浄方法。
【請求項６】
内部空間に連通する供給口、スリット状の吐出口および排出口を有し、前記供給口から前記内部空間に供給された塗布液を前記吐出口から吐出するノズルと、
前記ノズルを装着箇所で着脱可能に支持するノズル支持部と、
前記排出口から出て前記供給口に戻る循環経路を構成する配管と、前記配管に設けられて前記塗布液より粘度の低い洗浄液を前記循環経路で循環させる送液部と、前記配管に対して着脱可能なフィルターとを有する洗浄液循環手段と、
前記ノズルの前記吐出口を封止可能な封止手段と
を備え、
前記ノズルは、前記封止手段が前記吐出口を封止していない状態で前記吐出口から前記塗布液を吐出することで、対象物に前記塗布液を塗布し、
前記洗浄液循環手段は、前記吐出口が前記封止手段により封止されるとともに前記フィルターが前記配管から取り外された状態で前記洗浄液を前記循環経路で循環させる動作と、前記吐出口が前記封止手段により封止されるとともに前記フィルターが前記配管に取り付けられた状態で前記洗浄液を前記循環経路で循環させる動作とを選択的に実行可能である塗布装置。
【請求項７】
内部空間に連通する供給口、スリット状の吐出口および排出口を有し、前記供給口から前記内部空間に供給された塗布液を前記吐出口から吐出するノズルと、
前記ノズルを装着箇所で着脱可能に支持するノズル支持部と、
前記排出口から出て前記供給口に戻る循環経路を構成する配管と、前記配管に設けられて前記塗布液より粘度の低い洗浄液を前記循環経路で循環させる送液部と、前記配管に対して取り付けられたフィルターとを有する洗浄液循環手段と、
前記ノズルの前記吐出口を封止可能な封止手段と
を備え、
前記ノズルは、前記封止手段が前記吐出口を封止していない状態で前記吐出口から前記塗布液を吐出することで、対象物に前記塗布液を塗布し、
前記循環経路は、前記排出口から出て前記フィルターを介さずに前記供給口に戻る第１経路と、前記排出口から出て前記フィルターを通過してから前記供給口に戻る第２経路とを有し、
前記洗浄液循環手段は、前記吐出口が前記封止手段により封止された状態で前記洗浄液を前記第１経路で循環させる動作と、前記吐出口が前記封止手段により封止された状態で前記洗浄液を前記第２経路で循環させる動作とを選択的に実行可能である塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、液晶表示装置用ガラス基板、半導体ウェハ、ＰＤＰ用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、ポリイミド前駆体薄膜の支持用のガラス基板、カラーフィルター用基板、記録ディスク用基板、太陽電池用基板、電子ペーパー用基板等の精密電子装置用基板（以下、単に「基板」と称する）に対してノズルの吐出口から塗布液を吐出して塗布する塗布装置のノズルの内部を洗浄する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ノズルから塗布液を吐出させることで、対象物に塗布液を塗布する塗布装置が知られている。このノズルは、その内部に形成されたキャビティと、それぞれキャビティに連通する供給口および吐出口とを有する。そして、供給口からキャビティ内に供給された塗布液が吐出口から吐出されることで、塗布液が対象物に塗布される。また、特許文献１では、このようなノズルを洗浄する技術が記載されている。この洗浄技術は、ノズルの吐出口を封止した状態で、供給口（薬液導入部）からキャビティへ供給した洗浄液を、ノズルの両側で開口する排出口（薬液導出部）から排出することで、ノズル内部のキャビティを洗浄する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第５２５８８４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、ノズルの分解清掃あるいはノズルの構成部品の調整等の所定作業（手作業）を実行するために、作業者がノズルを塗布装置から適宜取り外す場合がある。この際、上述のノズルの洗浄を行ってからノズルを取り外すことで、作業者は塗布液の付着量が少ない比較的清浄なノズルに対して所定作業を実行できる。しかしながら、このような所定作業の実行中には、パーティクルがノズルの内部空間（キャビティ）の内壁に付着しうる。そのため、ノズルの塗布装置への取り付け後に実行される塗布の際に、パーティクルが塗布液とともに吐出口から吐出され、対象物が汚染されるおそれがあった。
【０００５】
この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、所定作業のために塗布装置から取り外されたノズルに付着したパーティクルを除去することを可能とする技術の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係るノズル洗浄方法は、内部空間に連通する供給口、吐出口および排出口を有するノズルが装着箇所に着脱可能であり、装着箇所に取り付けられたノズルの供給口から内部空間に塗布液を供給することでノズルの吐出口から吐出される塗布液を対象物に塗布する塗布装置の装着箇所に取り付けられたノズルの吐出口を封止した状態で、排出口から出て供給口に戻る第１循環系で塗布液より粘度の低い洗浄液を循環させる工程と、第１循環系での洗浄液の循環によって洗浄されたノズルを装着箇所から取り外して、ノズルに対して所定作業を実行した後に、ノズルを装着箇所に取り付ける工程と、所定作業が実行されて装着箇所に取り付けられたノズルの吐出口を封止した状態で、排出口から出て供給口に戻るとともに排出口から供給口までの間にフィルターを有する第２循環系で洗浄液を循環させる工程とを備える。
【０００７】
このように構成されたノズル洗浄方法では、ノズルの吐出口を封止した状態で、排出口から出て供給口に戻る第１循環系で洗浄液を循環させてから、ノズルが塗布装置の装着箇所から取り外される。これによって、作業者は塗布液の付着量が少ない比較的清浄なノズルに対して所定作業を実行できる。また、所定作業が実行されたノズルが塗布装置の装着箇所に取り付けられると、ノズルの吐出口を封止した状態で、排出口から出て供給口に戻る第２循環系で洗浄液を循環させる。したがって、第２循環系で循環する洗浄液によってノズルの内部空間からパーティクルを洗い流すことができる。しかも、第２循環系は排出口から供給口までの間にフィルターを有するため、洗い流されたパーティクルをフィルターで捕集して、このパーティクルがノズルの内部空間に再び戻るのを抑制できる。こうして、所定作業のために塗布装置から取り外されたノズルに付着したパーティクルを除去することが可能となっている。
【０００８】
ちなみに、本発明では、ノズルを取り外す前のノズルの洗浄では、フィルターを有さない第１循環系で洗浄液を循環させているのに対し、ノズルを取り付けた後のノズルの洗浄では、フィルターを有する第２循環系で洗浄液を循環させる。このようにフィルターを使い分ける理由の一つは次の通りである。つまり、第１循環系での洗浄は、主としてノズルの内部空間の内壁等に固着した塗布液の成分を洗い流すために実行される。しかも、第１循環系での洗浄の実行タイミングは作業者による所定作業の実行前であるため、第１循環系にはパーティクルは存在せず、そもそもフィルターが必要でない。一方、第２循環系での洗浄は、主としてノズルの取り外しに伴ってノズルの内部空間の内壁等に付着したパーティクルを除去するために実行される。かかるパーティクルが洗浄液の循環に伴ってノズルの内部空間に戻ると、後の塗布が受ける影響は大きい。そこで、第１循環系での洗浄ではフィルターを用いないことでフィルターの消耗を抑えるとともに、第２循環系での洗浄ではフィルターを用いることでパーティクルを捕集することとしている。
【０００９】
さらに、本発明では、ノズルの吐出口を封止しつつ洗浄液を循環させることでノズルの洗浄を行っており、換言すればノズル洗浄に洗浄液を循環利用している。したがって、洗浄液の消費を抑えることが可能となっている。
【００１０】
そこで、第１循環系で循環させた洗浄液を第２循環系で循環させるように、ノズル洗浄方法を構成しても良い。このように第１循環系での洗浄と第２循環系での洗浄とで洗浄液を共用することで、洗浄液の消費をより効果的に抑えることが可能となる。
【００１１】
また、第１循環系での洗浄液の循環の後であって、ノズルを装着箇所から取り外す前に、第１循環系に気体を導入する工程をさらに備えるように、ノズル洗浄方法を構成しても良い。かかる構成では、第１循環系に導入された気体によって洗浄液を押し出してから、ノズルを取り外すことができる。その結果、作業者は、乾燥したノズルに対して所定作業を行うことができる。
【００１２】
また、第２循環系での洗浄液の循環の後に、第２循環系に気体を導入する工程をさらに備えるように、ノズル洗浄方法を構成しても良い。かかる構成では、第２循環系に導入された気体によってノズルの内部空間の洗浄液を押し出すことができる。その結果、ノズルの内部空間に残る洗浄液が、後に実行される塗布液の塗布に影響することを抑制できる。
【００１３】
また、塗布液はポリイミド前駆体および溶媒を含み、洗浄液は溶媒であるように、ノズル洗浄方法を構成しても良い。つまり、ポリイミド前駆体を含む塗布液は高い粘度を有するため、ノズルの内部空間の内壁に固着しやすい。したがって、特許文献１で記載されているような洗浄だけでは足りず、手作業による洗浄を行う必要性が高く、パーティクルの付着といった問題が発生しやすい。そこで、上述のように、ノズルの取り付け後に、フィルターを有する第２循環系で溶媒（洗浄液）を循環させることで、ノズルの内部空間からパーティクルを除去することが特に好適となる。
【００１４】
本発明に係る塗布装置の第１態様は、内部空間に連通する供給口、スリット状の吐出口および排出口を有し、供給口から内部空間に供給された塗布液を吐出口から吐出するノズルと、ノズルを装着箇所で着脱可能に支持するノズル支持部と、排出口から出て供給口に戻る循環経路を構成する配管と、配管に設けられて塗布液より粘度の低い洗浄液を循環経路で循環させる送液部と、配管に対して着脱可能なフィルターとを有する洗浄液循環手段と、ノズルの吐出口を封止可能な封止手段とを備え、ノズルは、封止手段が吐出口を封止していない状態で吐出口から塗布液を吐出することで、対象物に塗布液を塗布し、洗浄液循環手段は、吐出口が封止手段により封止されるとともにフィルターが配管から取り外された状態で洗浄液を循環経路で循環させる動作と、吐出口が封止手段により封止されるとともにフィルターが配管に取り付けられた状態で洗浄液を循環経路で循環させる動作とを選択的に実行可能である。
【００１５】
このように構成された塗布装置は、ノズル支持体の着脱位置に装着されたノズルから塗布液を吐出することで、対象物に塗布液を塗布する。つまり、ノズルは、その内部空間に連通する供給口およびスリット状の吐出口を有し、供給口から内部空間に供給された塗布液を吐出口から吐出する。さらに、ノズルは、その内部空間に連通する排出口を有し、洗浄液循環手段がノズルの供給口および排出口を介して洗浄液を循環させることでノズルを洗浄する。この洗浄液循環手段は、排出口から出て供給口に戻る循環経路を構成する配管と、この循環経路で洗浄液を循環させる送液部とを有し、フィルターが配管に着脱可能となっている。そして、洗浄液循環手段は、吐出口が封止手段により封止されるとともにフィルターが配管から取り外された状態で洗浄液を循環経路で循環させる動作を実行可能である。したがって、洗浄液循環手段がこの動作を実行してからノズルを塗布装置の装着箇所から取り外すことで、作業者は塗布液の付着量が少ない比較的清浄なノズルに所定作業を実行できる。また、洗浄液循環手段は、吐出口が封止手段により封止されるとともにフィルターが配管に取り付けられた状態で洗浄液を循環経路で循環させる動作を実行可能である。したがって、ノズルが塗布装置の装着箇所に取り付けられてから洗浄液循環手段がこの動作を実行することで、循環経路で循環する洗浄液によってノズルの内部空間からパーティクルを洗い流すことができる。しかも、循環経路にはフィルターが取り付けられているため、洗い流されたパーティクルをフィルターで捕集して、このパーティクルがノズルの内部空間に再び戻るのを抑制できる。こうして、所定作業のために塗布装置から取り外されたノズルに付着したパーティクルを除去することが可能となっている。
【００１６】
本発明に係る塗布装置の第２態様は、内部空間に連通する供給口、スリット状の吐出口および排出口を有し、供給口から内部空間に供給された塗布液を吐出口から吐出するノズルと、ノズルを装着箇所で着脱可能に支持するノズル支持部と、排出口から出て供給口に戻る循環経路を構成する配管と、配管に設けられて塗布液より粘度の低い洗浄液を循環経路で循環させる送液部と、配管に対して取り付けられたフィルターとを有する洗浄液循環手段と、ノズルの吐出口を封止可能な封止手段とを備え、ノズルは、封止手段が吐出口を封止していない状態で吐出口から塗布液を吐出することで、対象物に塗布液を塗布し、循環経路は、排出口から出てフィルターを介さずに供給口に戻る第１経路と、排出口から出てフィルターを通過してから供給口に戻る第２経路とを有し、洗浄液循環手段は、吐出口が封止手段により封止された状態で洗浄液を第１経路で循環させる動作と、吐出口が封止手段により封止された状態で洗浄液を第２経路で循環させる動作とを選択的に実行可能である。
【００１７】
このように構成された塗布装置は、ノズル支持体の着脱位置に装着されたノズルから塗布液を吐出することで、対象物に塗布液を塗布する。つまり、ノズルは、その内部空間に連通する供給口およびスリット状の吐出口を有し、供給口から内部空間に供給された塗布液を吐出口から吐出する。さらに、ノズルは、その内部空間に連通する排出口を有し、洗浄液循環手段がノズルの供給口および排出口を介して洗浄液を循環させることでノズルを洗浄する。この洗浄液循環手段は、排出口から出て供給口に戻る循環経路を構成する配管と、この循環経路で洗浄液を循環させる送液部とを有する。また、循環経路は、排出口から出てフィルターを介さずに供給口に戻る第１経路と、排出口から出てフィルターを通過してから供給口に戻る第２経路とを有する。そして、洗浄液循環手段は、吐出口が封止手段により封止された状態で洗浄液を第１経路で循環させる動作を実行可能である。したがって、洗浄液循環手段がこの動作を実行してからノズルを塗布装置の装着箇所から取り外すことで、作業者は塗布液の付着量が少ない比較的清浄なノズルに所定作業を実行できる。また、洗浄液循環手段は、吐出口が封止手段により封止された状態で洗浄液を第２経路で循環させる動作を実行可能である。したがって、ノズルが塗布装置の装着箇所に取り付けられてから洗浄液循環手段がこの動作を実行することで、第２経路で循環する洗浄液によってノズルの内部空間からパーティクルを洗い流すことができる。しかも、第２経路にはフィルターが設けられているため、洗い流されたパーティクルをフィルターで捕集して、このパーティクルがノズルの内部空間に再び戻るのを抑制できる。こうして、所定作業のために塗布装置から取り外されたノズルに付着したパーティクルを除去することが可能となっている。
【発明の効果】
【００１８】
以上のように、本発明によれば、所定作業のために塗布装置から取り外されたノズルに付着したパーティクルを除去することが可能となっている。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明に係る塗布装置を模式的に示す斜視図。
【図２】図１に示す塗布装置を模式的に示す側面図。
【図３】図１に示す塗布装置の各部の配置を概略的に示す上面図。
【図４】スリットノズルを模式的に示す斜視図。
【図５】図４のスリットノズルの分解構造を模式的に示す斜視図。
【図６】塗布装置が備える処理液供給システムの第１例を模式的に示す図。
【図７】塗布装置で実行されるノズル洗浄処理の一例を示すフローチャート。
【図８】塗布装置が備える処理液供給システムの第２例を模式的に示す図。
【図９】塗布装置が備える処理液供給システムの第３例を模式的に示す図。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
図１は本発明に係る塗布装置を模式的に示す斜視図である。また、図２は図１に示す塗布装置を模式的に示す側面図である。さらに、図３は図１に示す塗布装置の各部の配置を概略的に示す上面図である。なお、図１、図２、図３および以降の各図にはそれらの方向関係を明確にするためＺ方向を鉛直方向とし、ＸＹ平面を水平面とするＸＹＺ直交座標系を適宜付するとともに、必要に応じて各部の寸法や数を誇張または簡略化して描いている。また、図２および図３では、ノズル支持体等の一部の構成を省略している。
【００２１】
塗布装置１は、スリットノズル２を用いて基板３の表面３１に塗布液を塗布するスリットコータと呼ばれる塗布装置である。塗布液は、ポリイミド前駆体であるポリアミド酸（ポリアミック酸）を溶質として、ＮＭＰ（Ｎ−メチル−２−ピロリドン：N-Methyl-2-Pyrrolidone）を溶媒としてそれぞれ含む。また、基板３は平面視で矩形状を有するガラス基板である。なお、本明細書中で、「基板３の表面３１」とは基板３の両主面のうち塗布液が塗布される側の主面を意味する。
【００２２】
塗布装置１は、基板３を水平姿勢で吸着保持可能なステージ４と、ステージ４に保持される基板３にスリットノズル２を用いて塗布処理を施す塗布処理部５と、スリットノズル２に対してメンテナンス処理を施すノズルメンテナンスユニット６と、マンマシンインターフェース７と、これら各部を制御する制御部１００とを備える。
【００２３】
ステージ４は略直方体の形状を有する花崗岩等の石材で構成されており、その上面（＋Ｚ側）のうち−Ｙ側には、略水平な平坦面に加工されて基板３を保持する保持面４１を有する。保持面４１には図示しない多数の真空吸着口が分散して形成されている。これらの真空吸着口により基板３が吸着されることで、塗布処理の際に基板３が所定の位置に水平に保持される。なお、基板３の保持態様はこれに限定されるものではなく、例えば機械的に基板３を保持するように構成してもよい。また、ステージ４において保持面４１が占有する領域より＋Ｙ側にはノズル調整領域ＲＡが設けられており、このノズル調整領域ＲＡに後述するノズルメンテナンスユニット６が配置されている。
【００２４】
塗布処理部５は、スリットノズル２を支持するノズル支持体５１を有する。このノズル支持体５１は、ステージ４の上方でＸ方向に平行に延設された支持部材５１ａと、支持部材５１ａをＸ方向の両側から支持して支持部材５１ａを昇降させる２つの昇降機構５１ｂとを有する。支持部材５１ａは、カーボンファイバ補強樹脂等で構成され、矩形の断面を有する棒部材である。この支持部材５１ａの下面はスリットノズル２の装着箇所５１０となっており、支持部材５１ａは装着箇所５１０にスリットノズル２を着脱可能に支持する。なお、スリットノズル２を支持部材５１ａの装着箇所５１０に着脱するための機構としては、ラッチあるいはネジ等の種々の締結機構を適宜用いることができる。
【００２５】
２つの昇降機構５１ｂは固定部材５１ａの長手方向の両端部に連結されており、それぞれＡＣサーボモータおよび及びボールネジ等を有する。これらの昇降機構５１ｂにより、固定部材５１ａおよびそれに固定されたスリットノズル２が鉛直方向（Ｚ方向）に昇降され、スリットノズル２の下端で開口する吐出口２１と基板３との間隔、すなわち、基板３に対する吐出口２１の相対的な高さが調整される。なお、固定部材５１ａの鉛直方向の位置は、例えば、図示を省略しているが、昇降機構５１ｂの側面に設けられたスケール部と、当該スケール部に対向してスリットノズル２の側面等に設けられた検出センサとで構成されるリニアエンコーダにより検出できる。
【００２６】
このように構成されたノズル支持体５１は、図１に示すように、ステージ４の左右両端部をＸ方向に沿って掛け渡された、保持面４１を跨ぐ架橋構造を有している。塗布処理部５は、このノズル支持体５１をＹ方向に移動させるスリットノズル移動部５３を有する。スリットノズル移動部５３は、架橋構造体としてのノズル支持体５１とこれに支持されたスリットノズル２とを、ステージ４上に保持される基板３に対してＹ方向に沿って相対移動させる相対移動手段として機能する。具体的には、スリットノズル移動部５３は、±Ｘ側のそれぞれにおいて、スリットノズル２の移動をＹ方向に案内するガイドレール５２と、駆動源であるリニアモータ５４と、スリットノズル２の吐出口２１の位置を検出するためのリニアエンコーダ５５とを有する。
【００２７】
２つのガイドレール５２はそれぞれ、ステージ４のＸ方向の両端部に設けられ、ノズル調整領域ＲＡおよび保持面４１が設けられた区間を含むようにＹ方向に延設されている。そして、２つのガイドレール５２がそれぞれ、２個の昇降機構５１ｂの移動をＹ方向に案内する。また、２つのリニアモータ５４はそれぞれ、ステージ４の両側に設けられ、固定子５４ａと移動子５４ｂとを有するＡＣコアレスリニアモータである。固定子５４ａは、ステージ４のＸ方向の側面にＹ方向に沿って設けられている。一方、移動子５４ｂは、昇降機構５１ｂの外側に固設されている。２個のリニアモータ５４はそれぞれ、これら固定子５４ａと移動子５４ｂとの間に生じる磁力によって、２個の昇降機構５１ｂをＹ方向に駆動する。
【００２８】
また、各リニアエンコーダ５５はそれぞれ、スケール部５５ａと検出部５５ｂとを有している。スケール部５５ａはステージ４に固設されたリニアモータ５４の固定子５４ａの下部にＹ方向に沿って設けられている。一方、検出部５５ｂは、昇降機構５１ｂに固設されたリニアモータ５４の移動子５４ｂのさらに外側に固設され、スケール部５５ａに対向配置される。リニアエンコーダ５５は、スケール部５５ａと検出部５５ｂとの相対的な位置関係に基づいて、Ｙ方向におけるスリットノズル２の吐出口２１の位置を検出する。
【００２９】
このように構成されたスリットノズル移動部５３は、ノズル支持体５１をＹ方向に駆動することで、ノズル調整領域ＲＡの上方とステージ４上に保持される基板３の上方との間でスリットノズル２を移動させることができる。そして、塗布装置１は、スリットノズル２の吐出口２１から塗布液を吐出しながらスリットノズル２を基板３に対して相対移動させることで、基板３の表面３１に塗布層を形成する。なお、基板３の各辺の端部から所定の幅の領域（額縁状の領域）は、塗布液の塗布対象とならない非塗布領域となっている。したがって、基板３のうち、この非塗布領域を除いた矩形領域が、塗布液を塗布すべき塗布領域ＲＴとなっている（図３）。このため、スリットノズル２の移動区間のうち基板３の塗布領域ＲＴの上方区間を移動する吐出口２１から塗布液が吐出される。
【００３０】
また、塗布装置１と外部搬送機構との基板３の受渡し期間（基板３の搬入・搬出期間）等のステージ４上で塗布処理が行われない期間には、スリットノズル２は、基板３の保持面４１から＋Ｙ側に外れたノズル調整領域ＲＡに待避する（図１に示す状態）。そして、ノズル調整領域ＲＡに位置するスリットノズル２に対して、ノズルメンテナンスユニット６が各種のメンテナンスを実行する。
【００３１】
ノズルメンテナンスユニット６は、保持面４１より遠い方から順にＹ方向に並ぶ待機ポット６１、封止部材６２およびノズル清掃装置６３を有する。待機ポット６１は洗浄液を貯留しており、スリットノズル２の下端部、すなわち吐出口２１の周辺を洗浄液に浸す。したがって、スリットノズル２を待機ポット６に対向させることで、スリットノズル２の下端部に、乾燥した塗布液の成分が固着するのを抑制できる。封止部材６２はスリットノズル２の下端部に下方から当接することでスリットノズル２の吐出口２１を封止する。この封止部材６２による吐出口２１の封止によって、吐出口２１からの塗布液の吐出が禁止される。この封止部材６２は、洗浄液を用いてスリットノズル２を洗浄する後述の洗浄処理で主に用いられる。ノズル清掃装置６３は、スリットノズル２の下端部、すなわち吐出口２１の周辺に付着した塗布液を除去する。つまり、ノズル清掃装置６３はスリットノズル２の下端部に応じた形状のスクレーパ６３１を有し、このスクレーパ６３１をスリットノズル２の下端部にＸ方向へ摺動させることで、スリットノズル２の下端部から塗布液をかき取る。
【００３２】
図４はスリットノズルを模式的に示す斜視図であり、図５は図４のスリットノズルの分解構造を模式的に示す斜視図である。スリットノズル２は、２つのノズルボディ２３、２５と、これらノズルボディ２３、２５にＹ方向から挟まれるノズルシム２７とを有する。ノズルボディ２３、２５はそれぞれＸ方向に同一の幅で延設され、ＹＺ断面において台形状の下端部２３ａ、２５ａと矩形状の上端部２３ｂ、２５ｂとを有する。ノズルボディ２３、２５の内側（ノズルシム２７側）の面はそれぞれＺＸ平面に平行な平面である。一方、ノズルボディ２３、２５の下端部２３ａ、２５ａの外側（ノズルシム２７の逆側）の面はそれぞれ下方に向かうに連れてノズルシム２７に近づくように傾斜する傾斜面である。したがって、ノズルボディ２３、２５の下端部２３ａ、２５ａで構成されるスリットノズル２の下端部２ａ（ノズルリップ部）は下方へ先細りの形状を有する。
【００３３】
また、ノズルボディ２５の内側の面には、塗布液の流路Ｆが形成されている。この流路Ｆは、Ｘ方向に平行に延設された横孔部Ｆａと、横孔部Ｆａの中央からＺ方向に平行に延設された縦孔部Ｆｂとを有する。そして、横孔部ＦａのＸ方向の両端が、ノズルボディ２５の両側面で開いてそれぞれ側面開口Ａ１、Ａ２を構成し、縦孔部Ｆｂの上端が、ノズルボディ２５の上面で開いて上面開口Ａ３を構成する。
【００３４】
ノズルシム２７は、ノズルボディ２３、２５と同一の幅でＸ方向に延設された平板形状の上辺部２７１と、上辺部２７１の両端からＺ方向下方に延設された平板形状の側辺部２７２とを有する。そして、上辺部２７１の下方であって側辺部２７２の間の領域がスリットノズル２のキャビティＣＶとして機能する。キャビティＣＶの上端を規定する上辺部２７１は流路Ｆの横孔部Ｆａよりも上方に位置し、キャビティＣＶは流路Ｆの横孔部Ｆａに連通する。また、キャビティＣＶの下端が外側に開いてスリット状の吐出口２１を構成する。このキャビティＣＶは、Ｘ方向において塗布領域ＲＴ（図３）と同一の幅を有する。このように、ノズルシム２７は、吐出口２１の塗布幅を規定する塗布幅規定部材として機能する。
【００３５】
そして、塗布装置１は、塗布液や洗浄液といった処理液をスリットノズル２に供給するための処理液供給システムＳを備える。図６は塗布装置が備える処理液供給システムの第１例を模式的に示す図である。同図に示すように、処理液供給システムＳは、スリットノズル２に処理液を供給する供給機構８と、スリットノズル２から処理液を排出する排出機構９とを備える。
【００３６】
供給機構８は、塗布装置１に付設された貯留タンクである塗布液供給源Ｕ１および洗浄液供給源Ｕ２にそれぞれバルブＶ１、Ｖ２を介して接続された脱気タンク８１を有する。この脱気タンク８１は、塗布液供給源Ｕ１から供給された塗布液あるいは洗浄液供給源Ｕ２から供給された洗浄液を一時貯留するものであり、塗布液中あるいは洗浄液中の溶存気体を除去する。なお、洗浄液は、塗布液の溶媒であるＮＭＰであり、塗布液よりも低い粘度を有する。この洗浄液は、後述するスリットノズル２の洗浄処理で主に用いられる。
【００３７】
この脱気タンク８１には、バルブＶ３を介してエア供給源Ｕ３（用力）が接続されている。したがって、制御部１００は、バルブＶ１を開いて脱気タンク８１に塗布液を貯留してからバルブＶ３を開いて脱気タンク８１内にエアを圧送することで、脱気タンク８１の出力部８１１から塗布液を圧出できる。また、制御部１００は、バルブＶ２を開いて脱気タンク８１に洗浄液を貯留してからバルブＶ３を開いて脱気タンク８１内にエアを圧送することで、脱気タンク８１の出力部８１１から洗浄液を圧出できる。
【００３８】
また、供給機構８は、脱気タンク８１の出力部８１１に配管Ｐ１によって接続されたポンプ８２を有する。このポンプ８２は例えばチューブポンプ等の定量吐出ポンプである。ポンプ８２の入力部８２１と脱気タンク８１の出力部８１１とが配管Ｐ１により接続され、ポンプ８２は、脱気タンク８１から配管Ｐ１に圧出された処理液を、入力部８２１から吸い込んで出力部８２２から出力する。
【００３９】
さらに、供給機構８はマニホールド８３を有し、このマニホールド８３の入力部８３１がポンプ８２の出力部８２２に配管Ｐ２により接続されている。また、マニホールド８３が有する２個の出力部８３２、８３３のうち、出力部８３２がスリットノズル２の側面開口Ａ１にバルブＶ４を介して配管Ｐ３により接続されている。したがって、制御部１００は、バルブＶ４を開いた状態でポンプ８２を稼働させることで、マニホールド８３を介して処理液をスリットノズル２に供給できる。
【００４０】
また、供給機構８では、配管Ｐ１に圧力ゲージＧ１が取り付けられるとともに、マニホールド８３に圧力ゲージＧ２が取り付けられる。圧力ゲージＧ１は、ポンプ８２の入力側の負圧レベルを監視するために設けられ、圧力ゲージＧ２は、ポンプ８２の出力側の正圧レベルを監視するために設けられている。つまり、制御部１００は、これら負圧レベルあるいは正圧レベルがそれぞれの閾値より大きくなると、ポンプ８２の回転速度を低下させることで、ポンプ８２にかかる負荷を抑える。
【００４１】
排出機構９は、スリットノズル２から排出された処理液を一時貯留するリサイクルタンク９１を有する。リサイクルタンク９１は、スリットノズル２の側面開口Ａ２にバルブＶ５を介して配管Ｐ４により接続されるとともに、スリットノズル２の上面開口Ａ３にバルブＶ６を介して配管Ｐ５により接続される。なお、配管Ｐ４、Ｐ５のバルブＶ５、Ｖ６よりリサイクルタンク９１側の一部は共通化されている。したがって、制御部１００は、バルブＶ５、Ｖ６を開くことで、スリットノズル２の側面開口Ａ２および上面開口Ａ３から排出された処理液を、リサイクルタンク９１に排出することができる。
【００４２】
また、リサイクルタンク９１には、バルブＶ７を介してエア供給源Ｕ４（用力）が接続されている。したがって。制御部１００は、バルブＶ７を開いてリサイクルタンク９１内にエアを圧送することで、リサイクルタンク９１の出力部９１１から処理液を圧出できる。また、リサイクルタンク９１の出力部９１１は、供給機構８の配管Ｐ１に切換バルブＶ８を介して配管Ｐ６により接続されている。切換バルブＶ８は、２個の出力部ｖ８１、ｖ８２のうち一方を選択的に開く三方弁である。これら出力部ｖ８１、ｖ８２のうち、出力部ｖ８１が供給機構８の配管Ｐ１に接続され、出力部ｖ８２がドレインへ接続されている。したがって、制御部１００は、切換バルブＶ８の出力部ｖ８１を開くことで、リサイクルタンク９１から配管Ｐ６へ圧出された処理液を、供給機構８の脱気タンク８１に戻すことができる一方、切換バルブＶ８の出力部ｖ８２を開くことで、この処理液をドレインから廃棄することができる。
【００４３】
このように、処理液供給システムＳでは、スリットノズル２の側面開口Ａ２および上面開口Ａ３から出た処理液をスリットノズル２の側面開口Ａ１へ戻す循環経路ＣＲ（循環系）が配管Ｐ１〜Ｐ６によって構成されている（つまり、図６において時計回りに処理液を循環させる循環経路ＣＲ（循環系）が構成されている）。また、配管Ｐ６にはフィルター１０が着脱可能に取り付けられており、フィルター１０を配管Ｐ６から取り外すことで、フィルター１０を有さない第１循環系（循環経路ＣＲ）を構成できるとともに、フィルター１０を配管Ｐ６に取り付けることで、フィルター１０を有する第２循環系（循環経路ＣＲ）を構成できる。
【００４４】
また、処理液供給システムＳは、マニホールド８３の出力部８３３とリサイクルタンク９１とをバルブＶ９を介して接続する配管Ｐ７を有する。なお、配管Ｐ７のバルブＶ９よりリサイクルタンク９１側の一部は、配管Ｐ４、Ｐ５のバルブＶ５、Ｖ６よりリサイクルタンク９１側の一部と共通化されている。
【００４５】
そして、制御部１００は、基板３に塗布液を塗布する際には、バルブＶ５およびバルブＶ６を閉じた状態で、スリットノズル２の側面開口Ａ１に塗布液を供給する。これによって、スリットノズル２では、側面開口Ａ１から供給された塗布液が流路ＦからキャビティＣＶに広がり、吐出口２１から吐出される（塗布処理）。
【００４６】
また、制御部１００は、塗布装置１が長期間の停止状態から稼働を再開するような場合には、バルブＶ１、Ｖ２を閉じた状態でバルブＶ３を開くことで、脱気タンク８１に残留する塗布液を配管Ｐ１に排出する。制御部１００はこれと並行して、バルブＶ４〜Ｖ６を閉じつつバルブＶ９を開いた状態でポンプ８２を稼働させることで、配管Ｐ１からマニホールド８３に到達した塗布液を、配管Ｐ２、Ｐ７を介してリサイクルタンク９１に送る。さらに、制御部１００は、バルブＶ７を開きつつ切換バルブＶ８の出力部ｖ８２を開くことで、脱気タンク８１に送られてきた塗布液をドレインから廃棄する。
【００４７】
さらに、制御部１００は、塗布処理を行っていない期間に、図７に示すノズル洗浄処理を実行する。ここで、図７は塗布装置で実行されるノズル洗浄処理の一例を示すフローチャートである。ここでは、塗布処理の終了後にノズル洗浄処理を開始する場合を例に説明する。したがって、ノズル洗浄処理の開始前では、バルブＶ４のみが開いており、その他のバルブＶ２〜Ｖ７、Ｖ９は閉じており、切換バルブＶ８では出力部ｖ８１が開いている。また、ポンプ８２は停止している。
【００４８】
図７のフローチャートが開始されると、スリットノズル２は封止部材６２の上方に移動され、スリットノズル２の吐出口２１が封止部材６２により封止される（ステップＳ１０１）。続いて、バルブＶ３が開かれるとともに、バルブＶ５、Ｖ６が開かれる。これによって、塗布液供給源Ｕ１から脱気タンク８１への塗布液の供給が停止した状態で、脱気タンク８１へのエアの圧送が実行されるため、配管Ｐ１〜Ｐ３およびスリットノズル２内に残存していた塗布液は、配管Ｐ４、Ｐ５を介してリサイクルタンク９１へ送られる（ステップＳ１０２）。これと並行して、バルブＶ７が開かれるとともに、切換バルブＶ８の出力部ｖ８２が開かれ、リサイクルタンク９１に送られてきた塗布液は、ドレインから廃棄される。
【００４９】
続いて、第１循環洗浄処理が実行される（ステップＳ１０３）。具体的には、ポンプ８２の稼働が開始されるとともにバルブＶ２が開かれて、洗浄液供給源Ｕ２からの洗浄液が、配管Ｐ１〜Ｐ３を介してスリットノズル２の側面開口Ａ１に供給される。そして、スリットノズル２では、側面開口Ａ１から洗浄液が流路ＦおよびキャビティＣＶに流入する。この際、吐出口２１は封止されているため、流入した洗浄液は側面開口Ａ２および上面開口Ａ３から流出し、配管Ｐ４、Ｐ５を介してリサイクルタンク９１に送られる。これと並行して、切換バルブＶ８の出力部ｖ８１が開かれ、リサイクルタンク９１に到達した洗浄液は、配管Ｐ６を介して配管Ｐ１に戻る。こうして、フィルター１０を有さない循環経路ＣＲ、すなわち第１循環系で循環する洗浄液によって、スリットノズル２の流路ＦおよびキャビティＣＶを洗浄することができる。
【００５０】
この第１循環洗浄処理が完了すると、ポンプ８２を停止するとともにバルブＶ２、Ｖ７を閉じて、循環経路ＣＲを循環していた洗浄液をリサイクルタンク９１に回収しつつ、エア供給源Ｕ３から配管Ｐ１〜Ｐ５にエア（ドライエア）を導入する（エアパージ）。そして、バルブＶ３が閉じられてエアパージが停止してから、マンマシンインターフェース７がスリットノズル２の取り外しが可能になったことを報知する表示を行う（ステップＳ１０５）。
【００５１】
これを受けて、作業者はスリットノズル２をノズル支持体５１の装着箇所５１０から取り外し、このスリットノズル２に所定の手作業（所定作業）を実行する（ステップＳ１０６）。この手作業の内容は例えば、スリットノズル２を各パーツ２１、２３、２５に分解して、それぞれを洗浄する分解洗浄作業や、次に実行する塗布処理での塗布領域ＲＴに応じてノズルシム２７を交換するシム交換作業が挙げられる。スリットノズル２への手作業が完了すると、作業者は、このスリットノズル２をノズル支持体５１の装着箇所５１０に取り付ける（ステップＳ１０７）。スリットノズル２を取り付けた旨を作業者がマンマシンインターフェース７に入力すると、マンマシンインターフェース７が循環経路ＣＲへのフィルター１０の取り付けを要求する表示を行う（ステップＳ１０８）。
【００５２】
フィルター１０を取り付けた旨を作業者がマンマシンインターフェース７に入力すると、第２循環洗浄処理が実行される（ステップＳ１０９）。具体的には、ポンプ８２の稼働が開始されるとともに、バルブＶ７が開かれて、リサイクルタンク９１に回収されていた洗浄液が配管Ｐ６、Ｐ１〜Ｐ３を介してスリットノズル２の側面開口Ａ１に供給される。そして、スリットノズル２では、側面開口Ａ１から洗浄液が流路ＦおよびキャビティＣＶに流入する。この際、吐出口２１は封止されているため、流入した洗浄液は側面開口Ａ２および上面開口Ａ３から流出し、リサイクルタンク９１に送られる。こうして、フィルター１０を有する循環経路ＣＲ、すなわち第２循環系で循環する洗浄液によって、スリットノズル２の流路ＦおよびキャビティＣＶを洗浄することができる。
【００５３】
この第２循環洗浄処理が完了すると、切換バルブＶ８の出力部ｖ８２を開いて、リサイクルタンク９１に戻ってきた洗浄液をドレインから廃棄する。続いて、ポンプ８２を停止するとともに切換バルブＶ８の出力部ｖ８１を開いて、エア供給源Ｕ４から配管Ｐ６、Ｐ１〜Ｐ５にエア（ドライエア）を導入（パージ）する（ステップＳ１１０）。続いて、マンマシンインターフェース７が循環経路ＣＲからのフィルター１０の取り外しを要求する表示を行う（ステップＳ１１１）。そして、フィルター１０を取り外した旨を作業者がマンマシンインターフェース７に入力すると、バルブＶ７を閉じつつ、バルブＶ１、Ｖ３を開くことで配管Ｐ１〜Ｐ５およびスリットノズル２に塗布液を充填する（ステップＳ１１２）。
【００５４】
以上に説明したように、図７に示すノズル洗浄処理（ノズル洗浄方法）では、スリットノズル２の吐出口２１を封止した状態で、側面開口Ａ２および上面開口Ａ３から出て側面開口Ａ１に戻る第１循環系で洗浄液を循環させてから（第１循環洗浄処理）、スリットノズル２が塗布装置１の装着箇所５１０から取り外される。これによって、作業者は塗布液の付着量が少ない比較的清浄なスリットノズル２に対して所定の手作業を実行できる（ステップＳ１０６）。また、手作業が実行されたスリットノズル２が塗布装置１の装着箇所５１０に取り付けられると、スリットノズル２の吐出口２１を封止した状態で、側面開口Ａ２および上面開口Ａ３から出て側面開口Ａ１に戻る第２循環系で洗浄液を循環させる（第２循環洗浄処理）。したがって、第２循環系で循環する洗浄液によってスリットノズル２の流路ＦおよびキャビティＣＶからパーティクルを洗い流すことができる。しかも、第２循環系は側面開口Ａ２および上面開口Ａ３から側面開口Ａ１までの間にフィルター１０を有するため、洗い流されたパーティクルをフィルター１０で捕集して、このパーティクルがスリットノズル２の流路ＦやキャビティＣＶに再び戻るのを抑制できる。こうして、手作業のために塗布装置１から取り外されたスリットノズル２に付着したパーティクルを除去することが可能となっている。
【００５５】
ちなみに、この実施形態では、スリットノズル２を取り外す前のスリットノズル２の洗浄（第１循環洗浄処理）では、フィルター１０を有さない第１循環系で洗浄液を循環させているのに対し、スリットノズル２を取り付けた後のスリットノズル２の洗浄（第２循環洗浄処理）では、フィルター１０を有する第２循環系で洗浄液を循環させる。このようにフィルター１０を使い分ける理由の一つは次の通りである。つまり、第１循環系での洗浄は、主としてスリットノズル２の流路ＦおよびキャビティＣＶの内壁等に固着した塗布液の成分（溶質）を洗浄液（溶媒）で洗い流すために実行される。しかも、第１循環系での洗浄の実行タイミングは作業者による所定作業の実行前であるため、第１循環系にはパーティクルは存在せず、そもそもフィルター１０が必要でない。一方、第２循環系での洗浄は、主としてスリットノズル２の取り外しに伴ってスリットノズル２の流路ＦおよびキャビティＣＶの内壁等に付着したパーティクルを除去するために実行される。かかるパーティクルが洗浄液の循環に伴ってスリットノズル２の流路ＦおよびキャビティＣＶに戻ると、後の塗布処理が受ける影響は大きい。そこで、第１循環系での洗浄（第１循環洗浄処理）ではフィルター１０を用いないことでフィルター１０の消耗を抑えるとともに、第２循環系での洗浄（第２循環洗浄処理）ではフィルター１０を用いることでパーティクルを捕集することとしている。
【００５６】
また、この実施形態では、塗布液より粘度の低い洗浄液を循環経路ＣＲで循環させている。したがって、比較的目の細かいフィルター１０を用いることができ、フィルター１０によってパーティクルを効率的に捕集することが可能となっている。
【００５７】
さらに、この実施形態では、スリットノズル２の吐出口２１を封止しつつ洗浄液を循環させることでスリットノズル２の洗浄を行っており、換言すればノズル洗浄に洗浄液を循環利用している。したがって、洗浄液の消費を抑えることが可能となっている。
【００５８】
さらには、第１循環洗浄処理（ステップＳ１０３）で循環させた洗浄液を、第２循環洗浄処理（ステップｐＳ１０９）で循環させている。このように第１循環洗浄処理での洗浄と第２循環洗浄処理での洗浄とで洗浄液を共用することで、洗浄液の消費をより効果的に抑えることが可能となっている。
【００５９】
また、第１循環洗浄処理（ステップＳ１０３）の後であって、スリットノズル２を装着箇所５１０から取り外す前に、循環経路ＣＲにドライエアを導入するステップＳ１０４を備える。かかる構成では、循環経路ＣＲに導入された気体によってスリットノズル２の流路ＦおよびキャビティＣＶの洗浄液を押し出してから、スリットノズル２を取り外すことができる。その結果、作業者は、乾燥したスリットノズル２に対して手作業を行うことができる。
【００６０】
また、第２循環洗浄処理の後に、循環経路ＣＲにドライエアを導入するステップＳ１１０を備える。かかる構成では、循環経路ＣＲに導入されたドライエアによってスリットノズル２の流路ＦおよびキャビティＣＶの洗浄液を押し出すことができる。その結果、スリットノズル２の流路ＦおよびキャビティＣＶに残る洗浄液が、後に実行される塗布処理に影響することを抑制できる。
【００６１】
また、この実施形態では、塗布液はポリイミド前駆体および溶媒を含み、洗浄液は塗布液の溶媒である。このようにポリイミド前駆体を含む塗布液は高い粘度を有するため、スリットノズル２の流路ＦおよびキャビティＣＶの内壁に固着しやすい。したがって、特許文献１で記載されているような洗浄だけでは足りず、手作業による洗浄を行う必要性が高い。そのため、手作業の際にパーティクルが付着するといった問題が発生しやすい。そこで、図７に示したように、スリットノズル２の取り付け後に、フィルター１０を有する循環経路ＣＲ（第２循環系）で洗浄液（溶媒）を循環させることで、スリットノズル２の流路ＦおよびキャビティＣＶからパーティクルを除去することが特に好適となる。
【００６２】
図８は塗布装置が備える処理液供給システムの第２例を模式的に示す図である。以下では、図６に示した第１例との差異点を中心に説明することとし、共通点については相当符号を付して適宜説明を省略する。ただし、第１例と共通する構成を備えることで、第１例と同様の効果を奏することは言うまでもない。
【００６３】
図８の第２例が図６の第１例と異なるのは、循環経路ＣＲの構成である。つまり、第２例の循環経路ＣＲでは、切換バルブＶ８とフィルター１０との間で切換バルブＶ１０が配管Ｐ６に取り付けられている。この切換バルブＶ１０は、２個の出力ｖ１０１、ｖ１０２のうち一方を選択的に開く三方弁である。そして、切換バルブＶ１０の２個の出力ｖ１０１、ｖ１０２のうち、出力ｖ１０１がフィルター１０の出力側に配管Ｐ８により接続され、出力ｖ１０２がフィルター１０の入力側に接続されている。
【００６４】
したがって、切換バルブＶ１０の出力ｖ１０１が開かれると、リサイクルタンク９１から配管Ｐ６に圧出された処理液は、フィルター１０をバイパスして供給機構８の配管Ｐ１に戻る。一方、切換バルブＶ１０の出力ｖ１０２が開かれると、リサイクルタンク９１から配管Ｐ６に圧出された処理液は、フィルター１０を通過してから供給機構８の配管Ｐ１に戻る。このように、循環経路ＣＲ（循環系）は、スリットノズル２の側面開口Ａ２および上面開口Ａ３から出てスリットノズル２の側面開口Ａ１に戻る経路として第１経路ＣＲ１および第２経路ＣＲ２を有する。ここで、第１経路ＣＲ１は、スリットノズル２の側面開口Ａ２および上面開口Ａ３から出てフィルター１０を介さずに（バイパスして）スリットノズル２の側面開口Ａ１に戻る経路であり、第２経路ＣＲ２は、スリットノズル２の側面開口Ａ２および上面開口Ａ３から出てフィルター１０を通過してからスリットノズル２の側面開口Ａ１に戻る経路である。
【００６５】
かかる構成の処理液供給システムＳでは、フィルター１０を着脱するかわりに、切換バルブＶ１０の出力を出力ｖ１０１と出力ｖ１０２との間で切り換えることで、図７のノズル洗浄方法を実行することができる。つまり、ステップＳ１０３の第１循環洗浄処理では、切換バルブＶ１０の出力ｖ１０１を開くことで、第１経路ＣＲ１で洗浄液を循環させる。これによって、フィルター１０を有しない第１循環系で洗浄液を循環させて、スリットノズル２の流路ＦおよびキャビティＣＶを洗浄できる。また、ステップＳ１０９の第２循環洗浄処理では、切換バルブＶ１０の出力ｖ１０２を開くことで、第２経路ＣＲ２で洗浄液を循環させる。これによって、フィルター１０を有する第２循環系で洗浄液を循環させて、スリットノズル２のキャビティＣＶを洗浄できる。
【００６６】
図９は塗布装置が備える処理液供給システムの第３例を模式的に示す図である。以下では、図６に示した第１例との差異点を中心に説明することとし、共通点については相当符号を付して適宜説明を省略する。ただし、第１例と共通する構成を備えることで、第１例と同様の効果を奏することは言うまでもない。
【００６７】
図９の第３例が図６の第１例と異なるのは、バルブＶ４とスリットノズル２の側面開口Ａ１との間において、配管Ｐ３がスリットノズル２の側面開口Ａ２に配管Ｐ９によって接続されている点である。また、第１例で設けられていたバルブＶ５および配管Ｐ４は、第３例では存在しない。つまり、マニホールド８３の出力部８３２から出力された塗布液は、バルブＶ４を介して、側面開口Ａ１および側面開口Ａ２に供給される。したがって、塗布処理の実行時のスリットノズル２では、側面開口Ａ１および側面開口Ａ２から流路Ｆに流入した塗布液がキャビティＣＶに広がって、吐出口２１から吐出される。一方、図７の第１循環洗浄処理（ステップＳ１０３）あるいは第２循環洗浄処理（ステップＳ１０９）の実行時のスリットノズル２では、側面開口Ａ１および側面開口Ａ２から流路Ｆに流入した洗浄液が上面開口Ａ３から排出される。
【００６８】
以上のように上記実施形態では、塗布装置１が本発明の「塗布装置」の一例に相当し、スリットノズル２が本発明の「ノズル」の一例に相当し、吐出口２１が本発明の「吐出口」の一例に相当し、第１例（図６）の側面開口Ａ１、第２例（図８）の側面開口Ａ１、第３例（図９）の側面開口Ａ１および側面開口Ａ２がそれぞれ本発明の「供給口」の一例に相当し、第１例（図６）の側面開口Ａ２、上面開口Ａ３、第２例（図８）の側面開口Ａ２、上面開口Ａ３および第３例（図９）の上面開口Ａ３がそれぞれ本発明の「排出口」の一例に相当し、流路ＦおよびキャビティＣＶが本発明の「内部空間」の一例に相当し、ノズル支持体５１が本発明の「ノズル支持部」の一例に相当し、装着箇所５１０が本発明の「装着箇所」の一例に相当し、処理液供給システムＳが本発明の「洗浄液循環手段」の一例に相当し、循環経路ＣＲが本発明の「循環経路」の一例に相当し、第２例（図８）の第１経路ＣＲ１が本発明の「第１経路」の一例に相当し、第２経路ＣＲ２が本発明の「第２経路」の一例に相当し、配管Ｐ１〜Ｐ６が本発明の「配管」の一例に相当し、ポンプ８２が本発明の「送液部」の一例に相当し、フィルター１０が本発明の「フィルター」の一例に相当し、封止部材６２が本発明の「封止手段」の一例に相当し、基板３が本発明の「対象物」の一例に相当し、ドライエアが本発明の「気体」の一例に相当する。
【００６９】
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上記実施形態では、第１循環洗浄処理（ステップＳ１０３）で利用した洗浄液を第２循環洗浄処理（ステップＳ１０９）で再利用している。しかしながら、第１循環洗浄処理で利用した洗浄液を第１循環洗浄処理の終了後に廃棄して、第２循環洗浄処理では新たな洗浄液を利用しても良い。
【００７０】
また、循環経路ＣＲで塗布液や処理液を循環させる駆動源であるポンプ８２の具体的構成は種々考えられる。そこで、上述に例示したチューブポンプ以外の種類のポンプをこの駆動源として用いても良い。
【００７１】
また、ステップＳ１０４、Ｓ１１０で循環経路ＣＲに導入される気体の種類はドライエアに限られず、例えば窒素等でも良い。
【００７２】
また、洗浄液として利用できる液体は、塗布液の溶媒、すなわちＮＭＰに限られない。したがって、例えばシンナー等の他の液体を洗浄液として用いても良い。
【００７３】
また、塗布液として利用できる液体は、ポリイミド前駆体とＮＭＰとを含むものに限られない。したがって、耐エッチング被膜なるフォトレジスト液、カラーフィルター用フォトレジスト液、シリコン、ナノメタルインクまたは導電性材料を含むスラリー（ペースト）等、種々の塗布液を用いることが可能である。
【００７４】
さらに、塗布対象となる基板３についても、液晶表示装置用ガラス基板、半導体基板、ＰＤＰ用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、カラーフィルター用基板、記録ディスク用基板、太陽電池用基板、電子ペーパー用基板等の精密電子装置用基板、矩形ガラス基板、フィルＩム液晶用フレキシブル基板、有機ＥＬ用基板等の種々の基板を用いることができる。
【産業上の利用可能性】
【００７５】
この発明は、ノズルに付着するパーティクルを除去するノズル清掃技術全般に適用することができる。
【符号の説明】
【００７６】
１…塗布装置、２…スリットノズル、２１…吐出口、Ａ１…側面開口、Ａ２…側面開口、Ａ３…上面開口、Ｆ…流路Ｆ、ＣＶ…キャビティ、５１…ノズル支持体、５１０…装着箇所、Ｓ…処理液供給システム、ＣＲ…循環経路、ＣＲ１…第１経路、ＣＲ２…第２経路、Ｐ１〜Ｐ９…配管、８２…減圧ポンプ、１０…フィルター、６２…封止部材、３…基板、
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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