(57)【要約】第１の凸部と、第２の凸部と、両凸部の間に配置される腰部とを備えた、開口数が０.７よりも大きなマイクロリソグラフィーの屈折型投影対物レンズにおいて、第１の凸部は最大径Ｄ１を有し、第２の凸部が最大径Ｄ２を有し、０.８＜Ｄ１／Ｄ２＜１.１である。
2005519332.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の凸部と、第２の凸部と、両凸部の間に配置される腰部とを備えた、開口数が０.７よりも大きなマイクロリソグラフィーの屈折型投影対物レンズであって、第１の凸部が最大径Ｄ１を有し、第２の凸部が最大径Ｄ２を有し、
０.８＜Ｄ１／Ｄ２＜１.１
であることを特徴とする屈折型投影対物レンズ。
【請求項２】
最大径の比率が
０.９＜Ｄ１／Ｄ２＜１.０
であることを特徴とする請求項１に記載の屈折型投影対物レンズ。
【請求項３】
光の伝播方向において、負の屈折力を持った第１のレンズ群と、正の屈折力を持った第２のレンズ群と、光束の狭隘部を備えた負の屈折力を持った第３のレンズ群と、正の屈折力を持った次の第４のレンズ群と、正の屈折力を有する次の第５のレンズ群を備えたシステム絞りとから成っている屈折型投影対物レンズであって、前記絞りの前と前記絞りの後にそれぞれ物体の方へ湾曲したメニスカスレンズが配置されていることを特徴とする屈折型投影対物レンズ。
【請求項４】
Ｌをレチクルからウェハまでの全長とし、ＮＡを像側の開口数、ＤＭＡＸをシステムの最大径、すなわちＤ１またはＤ２とし、２ｙｂをイメージフィールドの径としたとき、
Ｌ＊Ｄｍａｘ／（ＮＡ＊２ｙｂ）＜１２８５０
であることを特徴とする請求項２または３に記載の屈折型投影対物レンズ。
【請求項５】
第１のレンズ群が少なくとも２つのまたは３つの負のレンズを有していることを特徴とする上記請求項の少なくとも一つに記載の屈折型投影対物レンズ。
【請求項６】
第１の凸部と、第２の凸部と、両凸部の間に配置され、最も狭い狭隘部を含む腰部とを備えた屈折型投影対物レンズであって、前記最も狭い狭隘部の後でシステム絞りの前に、凸面を互いに対向させた２つのメニスカスレンズが配置されていることを特徴とする屈折型投影対物レンズ。
【請求項７】
第１の凸部と、次の腰部と、その次の第２の凸部とから成り、第２の凸部にシステム絞りが配置されている屈折型投影対物レンズであって、物体の面Ｏから最後の絞り側レンズ面までの範囲をＬＦ、前記絞りに続いている最初のレンズ面から像面までの範囲をＬＲ、ＬＦとＬＲの間の範囲をＬＡＰとし、対物レンズ内に配置されるすべてのレンズの中心厚の総和をＬｇｅｏ、像面Ｏ’から物体の面Ｏまでの距離をＬとしたとき、長さの比率ＬＶが
【数１】
2005519332.tif 000030
ＬＶ≧０.１
である前記屈折型投影対物レンズ。
【請求項８】
開口数が０.７よりも大きく、有利には０.８よりも大きいことを特徴とする請求項７に記載の屈折型投影対物レンズ。
【請求項９】
投影対物レンズの光コンダクタンスが全長の２％よりも大きく、この場合光コンダクタンスはイメージフィールド径と像側の開口数との積として定義されていることを特徴とする上記請求項１から８に記載の屈折型投影対物レンズ。
【請求項１０】
１つの材料から成るレンズのみを使用したことを特徴とする請求項１，３から５まで、６，７または８の少なくとも一つに記載の屈折型投影対物レンズ。
【請求項１１】
全長（ＯＯ’）と第５のレンズ群の焦点距離との比率が８よりも大きいことを特徴とする請求項１ないし１０のいずれか一つに記載の屈折型投影対物レンズ。
【請求項１２】
第１のレンズ群ＬＧ１が少なくとも１つの非球面を含み、有利には２つの非球面が設けられていることを特徴とする請求項１ないし１１のいずれか一つに記載の屈折型投影対物レンズ。
【請求項１３】
第１のレンズ群ＬＧ１の非球面が有利にはレチクル側の面にあることを特徴とする少なくとも請求項１２に記載の屈折型投影対物レンズ。
【請求項１４】
第１のレンズ群ＬＧ１の非球面が有利にはレチクル側の集光面にあることを特徴とする少なくとも請求項１３に記載の屈折型投影対物レンズ。
【請求項１５】
非球面を第３のレンズ群ＬＧ３に使用する場合、該非球面を常にウェハ側の面に使用することを特徴とする請求項１ないし１４のいずれか一つに記載の屈折型投影対物レンズ。
【請求項１６】
第３のレンズ群に非球面が設けられていないことを特徴とする請求項１，２，４，５および７から１４までの一つに記載の屈折型投影対物レンズ。
【請求項１７】
第１のレンズ群ＬＧ１に、物体の面側に凸で負の屈折力を持った少なくとも１つのメニスカスレンズが配置されていることを特徴とする請求項１５または１６に記載の屈折型投影対物レンズ。
【請求項１８】
第５のレンズ群ＬＧ５が少なくとも２つの非球面を含んでいることを特徴とする請求項１５または１６に記載の屈折型投影対物レンズ。
【請求項１９】
第５のレンズ群ＬＧ５が、少なくとも２つの両凸のレンズと像側に凹の２つの集光メニスカスを含んでいることを特徴とする請求項１５または１６に記載の屈折型投影対物レンズ。
【請求項２０】
第５のレンズ群ＬＧ５が最大で５つの集光レンズを有していることを特徴とする請求項１５または１６に記載の屈折型投影対物レンズ。
【請求項２１】
レンズ群ＬＧ１とＬＧ２において、最も外側のフィールドポイントに対するメインビームの高さが軸点を結像させるためのエッジビームの高さよりも大きく、その比率がレンズ群ＬＧ３において逆になっていることを特徴とする請求項１５または１６に記載の屈折型投影対物レンズ。
【請求項２２】
軸点を結像させるためのエッジビームの最大高さがレンズ群ＬＧ３の最も狭い狭隘部におけるその高さの３倍以上あることを特徴とする請求項１５または１６に記載の屈折型投影対物レンズ。
【請求項２３】
レンズ群ＬＧ２の最大径が物体フィールド径よりも２倍大きいことを特徴とする請求項１５または１６に記載の屈折型投影対物レンズ。
【請求項２４】
レンズ群ＬＧ３における最小自由径が物体フィールド径の１.２倍よりも小さく、有利な実施形態では１.１倍よりも小さいことを特徴とする請求項１５または１６に記載の屈折型投影対物レンズ。
【請求項２５】
請求項１−２５の少なくとも一つに記載の投影対物レンズを含んでいるマイクロリソグラフィーの投影照射装置。
【請求項２６】
感光層を備えた基板を、マスクと請求項１−２５の少なくとも一つに記載のレンズ装置を備えた投影照射装置とを用いて紫外域のレーザー光により照射し、場合によっては感光層を現像した後に、マスク上に含まれている模様に応じて構造化させるマイクロリソグラフィー部品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光の伝播方向において第１の凸部と、腰部と、第２の凸部から成るマイクロリソグラフィーの屈折型投影対物レンズに関するものである。この種の屈折型投影対物レンズは単一腰部システムとも呼ばれる。
【背景技術】
【０００２】
この種の単一腰部システムは、たとえばＵＳ６０／１６０７９９、ＥＰ １ ０６１ ３９６Ａ２、ＥＰ １ １３９ １３８ Ａ１、またはＷＯ ０１／２３９３３−ＷＯ ０１／２３９３５から知られている。これらの特許文献からすでに知られていることは、物体側の最初のレンズ、または物体側の最初の２つのレンズが負の屈折力を持っていることである。さらにこれらの特許文献からは、非球面を使用することによって像品質を向上できることが知られている。投影対物レンズで達成可能な解像度は該投影対物レンズの像側の開口数に比例して向上し、さらに露光波長の逆数に比例して向上するので、解像度を向上させるためにできるだけ開口数の大きな投影対物レンズを提供できるよう努力が払われる。
【０００３】
マイクロリソグラフィーにおいて投影対物レンズに課される要求では、これに加えて、選定した高品質の材料を使用することが必要である。特にフッ化物材料は、最近では必要とする品質に限界があるものしか入手できない。たとえば露光波長が１９３ｎｍの場合、この波長に対し設計された投影対物レンズには、色収差の補正のためにフッ化カルシウムから成るいくつかのレンズが使用される。さらに、ウェハの直前に、圧縮に対しあまり感応しないフッ化カルシウムレンズを使用することが有利である。
【０００４】
【特許文献１】米国特許第６０／１６０７９９号明細書
【特許文献２】欧州特許公開第１０６１３９６Ａ２号公報
【特許文献３】欧州特許公開第１１３９１３８Ａ１号公報
【特許文献４】国際公開第０１／２３９３３号パンフレット
【特許文献５】国際公開第０１／２３９３４号パンフレット
【特許文献６】国際公開第０１／２３９３５号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の課題は、開口数が大きく、しかも材料数を減らすことにより製造コストを低減させた屈折型投影対物レンズを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
これは、特に第２の凸部の最大径を小さくさせることにより達成できる。
【０００７】
対物レンズの入口領域に発散レンズを配置、特に３つの負のレンズを配置すると、投影対物レンズの長さを短縮することに貢献する。このことは、投影露光装置において投影対物レンズに対し必要なスペースに有利に影響する。さらに、投影対物レンズの長さが短縮すると、使用するレンズの数量も減り、よって使用する材料を減らすことができ、製造コストを低減させることができる。
【０００８】
開口数が大きいことにより投影対物レンズの終端領域に発生する高次の球面収差を補正するには、負の屈折力を有する強く湾曲したメニスカスを、腰部の最も狭くなった狭隘部と絞りとの間で、該絞りのすぐ後ろに配置するのが有利であることが明らかに成った。
【０００９】
これらのメニスカスは物体側に凸面を有しているのが有利であることが明らかになった。
【００１０】
腰部の最も狭くなった狭隘部と絞りとの間に、凸となったレンズ面が互いに対向するように２つのメニスカスを設けるのが有利であることが明らかになった。
【００１１】
さらに、第２の凸部に、システム絞りを配置するための自由領域を設けるのが有利であることが明らかになった。この自由領域を設けることにより、軸線方向に変位可能な絞りを設けることが可能になる。
【００１２】
また、絞りを配置するために設けられるこの種の構造空間の場合、湾曲した絞りも問題なく設けることができる。
【００１３】
レンズ面を設けるにあたっては、レンズに入るビームの入射角またはレンズから離れるビームの出射角が６０゜よりも小さいようにレンズ面を選定するのが有利であることが明らかになった。この処置は特にレンズに使用可能なコーティング膜に有利に影響し、或いは、反射防止膜として簡単なコーティング膜を設けることができる。というのは、反射防止膜のようなこの種のコーティング膜の有効性は入射するビームの入射角に依存しているからである。
【００１４】
他の有利な処置は他の従属項に記載されている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
次に、本発明を実施形態に関し詳細に説明する。しかし本発明はこれらの実施形態に限定されるものではない。
【００１６】
まず、図１を用いてマイクロリソグラフィーの投影露光装置１０１の基本構成について説明する。投影露光装置１０１は照射装置１０３と投影対物レンズ１０５を有している。投影対物レンズ１０５は開口絞り１１９を備えたレンズ装置１２１を含む。レンズ装置１２１により光軸１０７が決定される。照射装置１０３と投影対物レンズ１０５との間にマスクホルダ１１１により光路内に保持されるマスク１０９が配置される。マイクロリソグラフィーに使用されるこの種のマスク１０９はマイクロメーター構造ないしナノメーター構造を有し、投影対物レンズ１０５により或いはレンズ装置１２１によりファクタ１０以下に縮小、特にファクタ４だけ縮小されて結像面１１３に結像される。結像面１１３には基板ホルダ１１７により位置決めされる基板すなわちウェハ１１５が保持される。さらに解像される最小構造は、照射に使用される光の波長と投影対物レンズ５のアパーチャーとに依存しており、投影対物レンズ装置１の達成可能な最大解像度は、波長が短くなるにしたがって、且つ投影対物レンズ５の像側の開口数が増大するに従って上昇する。
【００１７】
図２ないし図５に、投影対物レンズ１０５の可能なレンズ装置１２１が詳細に図示されている。図示したこれらのレンズ装置１２１はレイアウトとも呼ばれるもので、像側の開口数は０.８５または０.９である。図２ないし図４および図６ないし図９に図示したレイアウトは１９３ｎｍの照射波長に対して設計されている。図５に図示した投影対物レンズは１５７ｎｍの照射波長に対し設計されている。これらすべてのレイアウトに共通することは、発生する収差を非常に小さく、したがって７０ｎｍ以下の構造幅を解像できることである。この場合、一方では波面収差は照射に使用する光の波長の５／１０００よりも小さく、他方では歪曲収差は１ｎｍよりも小さい。縦色収差は３８０ｎｍ／ｐｍよりも小さい。このように像を高度に修正する２６×１０.５ｍｍ2の広いフィールドサイズにより、リソグラフィーでの効果的な使用が可能になる。このようなレンズ装置を備えたこの投影対物レンズは、上記フィールドサイズまたはフィールドフォーマットの構成により、特にリソグラフィー走査装置での使用に適している。
【００１８】
図２ないし図９に図示したレンズ装置１２１の優れた光学特性に立ち入る前に、このレンズ装置１２１の基本構成をより詳細に説明する。レンズ装置１２１は光束の伝播方向において第１の凸部１２３と、腰部１２５と、第２の凸部１２７とを有している。腰部１２５は狭くくびれた狭隘部１２９を有し、第２の凸部にはシステム絞り１１９が配置されている。
【００１９】
このレンズ装置は５つのレンズ群ＬＧ１−ＬＧ５に区分することができる。第１のレンズ群ＬＧ１はレンズ面２−７を備えた３つの負のレンズを含んでいる。最初の２つの負のレンズは物体のほうへ湾曲しているのが有利である。この第１のレンズ群には第２のレンズ群ＬＧ２が続いている。第２のレンズ群ＬＧ２は正の屈折力を有し、第１の凸部で最大の径をもっているレンズがこの第２のレンズ群の中に配置されている。この第２のレンズ群ＬＧ２は正の屈折力のレンズのみを含んでいるのが有利である。
【００２０】
上記第２のレンズ群ＬＧ２には、負の屈折力を有する第３のレンズ群ＬＧ３が続いている。この第３のレンズ群ＬＧ３は負の屈折力の、連続する少なくとも３つのレンズを含んでいる。この第３のレンズ群ＬＧ３には、正の屈折力を有する第４のレンズ群ＬＧ４が続いている。第４のレンズ群ＬＧ４は前記絞りの前で終わっている。
【００２１】
前記システム絞り１１９の後に配置されているレンズにより第５のレンズ群ＬＧ５が形成される。第５のレンズ群ＬＧ５も正の屈折力を有している。この第５のレンズ群ＬＧ５は、第２の凸部で最大の径をもっているレンズを含んでいる。この径をＤ２と記すことにする。
【００２２】
これらの例はすべて波面補正に優れている点を特徴としている。発生する像収差は波長の５／１０００よりも小さな値に補正される。メインビームの歪曲収差は１ｎｍよりも小さな値に補正される。
【００２３】
屈折力分布の有利な効果は非球面を使用することにより増幅させることができる。第１のレンズ群ＬＧ１の発散レンズの２つの非球面部は、主に最も外側のフィールドポイントのメインビームの歪曲収差と物体側および像側のテレセントリーとを補正するために用いる。
【００２４】
第３のレンズ群ＬＧ３は、凸側がマスク１０９に対向するように配置された発散性の弱いメニスカスをもって始まっている。このメニスカスに、正の屈折力を持ったレンズと、発散性の強い少なくとも２つの両凹レンズとが続いている。第２のレンズ群ＬＧ２に非球面部を設ける場合には、これら非球面部はウェハ側の凹面に設ける。比較的高いレベルの球面収差とコマ収差とを補正するには、レンズ群ＬＧ４とＬＧ５に或いは絞りの前後の第２の凸部の最大径部付近にそれぞれ少なくとも１つの非球面部を配置する。凸部と腰部の間で、第４のレンズ群ＬＧ４内に、少なくも１つの発散性メニスカスが配置されている。有利な実施形態（図２と図３）では、この少なくとも１つの発散性メニスカスはウェハ側に凹面を有し、したがって絞りのすぐ後に続いている発散性メニスカスと同様の形状を有している。
【００２５】
図２ａ−２ｃから図５ａ−５ｃまでは、球面収差を表わす曲線と、非点収差を表わす曲線と、波面の２乗平均平方根値の指数を表す曲線とを用いて補正状態をそれぞれの実施例ごとに示したものである。波面の平均平方変形値に相当している２乗平均平方根値は次のように決定することができる。
【００２６】
【数１】
2005519332.tif 000003
【００２７】
Ｗは波面収差、尖った括弧〈〉は平均値を形成するためのオペランドである。
【００２８】
縦色収差ＣＨＬは次のように決定される。
【００２９】
【数２】
2005519332.tif 000004
【００３０】
縦色収差ＣＨＬを表１に示した。ｓ’は最後の面以後の実際の像距離である。λ１とλ２は参照波長である。ＣＨＬはｎｍ／ｐｍで記載されている。
【００３１】
単一腰部システムの選択は、色収差の発生に有利な影響を与える。色収差は、たとえばＷＯ ０１／２３９３５号パンフレットのように、少なくとも２つの材料を使用することにより補正するのが通常であり、たとえばＳｉＯ２とＣａＦ２の１９３ｎｍの波長で補正される。
【００３２】
これに対して、図２ないし図９に図示した実施形態では、ただ１つの材料だけが使用される。この場合、最も狭い狭隘部の近くにメニスカスを配置することにより、色収差に関し優れた像品質を達成することができた。この像品質は縦色収差すなわち「アキシアルカラー」が３８５ｎｍ／ｐｍよりも小さいことを特徴としている。倍率色収差すなわち「ラテラルカラー」は０.８ｐｐｍ／ｐｍよりも小さく、これは優れた値であり、像縁における１１ｎｍ／ｐｍの倍率色収差に相当している。なお、ｐｐｍはparts per millionである。
【００３３】
色収差補正のため、および／または、高エネルギー密度の発生個所での圧縮・希薄化作用を回避するため、場合によっては第２の材料を使用してもよい。圧縮・希薄化作用とは、大きなエネルギー密度の領域における、材料に依存した屈折率の変化である。
【００３４】
色収差に関する優れた像品質は両凸部の形によってかなり支援される。第１の凸部Ｄ１の最大径と第２の凸部Ｄ２の最大径との比率は０.８＜Ｄ１／Ｄ２＜１.１有利には０.８＜Ｄ１／Ｄ２＜１.０の条件を満たす。
【００３５】
本実施形態においては、すべてのレンズ装置１２１は少なくとも０.８５の開口数を有している。しかし、像側で開口数がより小さくなっているようなレンズ装置にこの特殊な配置構成を使用することにより、像品質を低下させずにより大きなフィールドを提供させたり、或いは、実施例を用いて提示した等級に関し像品質をさらに改善させたり、或いは、非球面部の使用を制限することももちろん可能である。本発明によるレイアウトは、開口数が大きいにもかかわらずビーム偏向が少ないこと、すなわちほとんどの面で放射角が小さいことを特徴としている。これにより高次のわずかな収差のみが発生する。
【００３６】
ウェハの付近においては、レンズおよび面平行なカバープレートに対する入射角が大きくなることは避けられないので、強制的に高次の収差が発生する。この高次の収差を補正するため、入射ビームまたはレンズから出るビームが大きな入射角または屈折角を持つような面がシステム内にいくつか設けられている。大きな入射角または屈折角は符号を選定することにより高次の収差を阻止する。このため本実施形態では、強く湾曲したメニスカスが設けられる。これらのメニスカスは負の屈折力を持ち、第４のレンズ群と第５のレンズ群とに配置される。しかしほとんどのレンズ（すべてのレンズの少なくとも８０％）は、入射光が６０゜よりも小さな入射角を持つようなレンズ面を有している。同じことはビームが出射するレンズ面にも言える。
【００３７】
これによりレンズを最適にコーティングするうえでの実現性が簡潔になり、或いはレンズ面での後方反射をさらに少なくさせることができる。というのは、このようなコーティングの有効性は入射角に強く依存しており、通常は入射角が大きくなるにつれて弱くなるからである。レンズの面全体と入射角範囲全体にわたって均一な層ではコンスタントな透過を得ることはできない。特に角度範囲が５０゜と６０゜の間の移行ゾーンでは、同じ層であっても透過は著しく悪化する。それゆえ、第１には、入射角を全般にできるだけ小さくさせ、第２に、補正上の理由から大きな入射角が避けられない場合には、最大入射角を持った面を絞り付近に位置決めするのが有利である。この場合には、特定の入射角範囲がレンズの所定のリングゾーンのみに発生する。透過に関し最適な結果を得るには、コーティングを半径に依存して変化させ、それぞれの入射角範囲に適合させることである。
【００３８】
図示したレイアウトにおいて種々の絞りシステムを設けることができるように、絞りの領域に自由領域（ＬＡＰと記す）を設けてもよい。これにより、像に対する要求に応じて追加的に移動させることができる絞りを使用できる。また、異なる複数の絞りを使用してもよく、絞りマウントを設けることができる。絞りマウントは、このような構成を採用するためには十分な構造空間が提供されねばならないので、絞りを変位させるための機構を有している。システム絞り１１９の前に配置される最後の２つのレンズは、自由空間ＬＡＰを提供するために大いに貢献する。
【００３９】
両凸部１２３，１２７の径Ｄ１，Ｄ２が小さく、長さが１０００−１１５０ｍｍと短く、且つレンズの数量が少ないことにより、レンズの必要とする材料を低減できる。いくつかの実施例では、レンズ質量ｍを５５ｋｇ以下にすることができた（表１を参照）。図２ないし図９に図示したレンズ装置のレンズは５４ｋｇないし６８ｋｇの範囲である。
【００４０】
開口数が大きなシステムは、第２の凸部１２７での特に大きな径と、長い全長ＯＯ’とを必要とする傾向がある。小さな凸部径と手ごろな全長とを得るために重要なことは、腰部と第２の凸部との移行部の構成である。この移行部には、凸側が互いに対向するように配置される２つの集光メニスカスが使用される。この配置構成によりレンズ最大径を小さくすることができ、したがって特に第２の凸部の構成のために必要なレンズ素材を少量にさせることができた。できるだけ軽量にするには、次の関係を厳守しなければならない。
【００４１】
Ｌ＊Ｄｍａｘ／（ＮＡ＊２ｙｂ）＜１２８５０
【００４２】
ここでＬはレチクルからウェハまでの全長で、ＮＡは像側の開口数、Ｄｍａｘはシステムの最大径、すなわちＤ１またはＤ２であり、２ｙｂはイメージフィールドの径である。第１の凸部の最大径がＤ１が最大で第２の凸部の最大径Ｄ２に等しいのが特に有利である。
【００４３】
以下の表１には、それぞれのレンズ装置１２１に特徴的なデータが記載されている。Ｌｇｅｏは対物レンズのすべてのレンズの中心厚の総和である。ＬＶはシステム絞りの周囲の自由構造空間の寸法で、ＬＡＰは絞りの前の最後のレンズ面から絞りの後の最初のレンズ面までの自由距離である。
【００４４】
【数３】
2005519332.tif 000005
【００４５】
Ｌｇｅｏは対物レンズ内に配置されるすべてのレンズの中心厚の総和であり、Ｌは像面Ｏ’から物体の面Ｏまでの距離である。
【００４６】
【表１】
2005519332.tif 000006
【００４７】
図２に図示したレンズ装置の正確なレンズデータは表２からわかる。
【００４８】
【表２】
2005519332.tif 000007
2005519332.tif 000008
2005519332.tif 000009
【００４９】
非球面部は次の式によって記載される。
【００５０】
【数４】
2005519332.tif 000010
【００５１】
ここでＰは半径ｈの関数としてのサジッタ（光軸７に対する高さ）で、Ｋ，Ｃ１ないしＣｎは表の中に記載されている非球面定数である。Ｒは表の中に記載されている頂部半径である。
【００５２】
図２ａないし図２ｃには、像に関する像収差の分布が図示されている。図２ａは縦方向球面収差を表わしており、縦軸は口径比、横軸は縦方向収差である。図２ｂから非点収差の変化がわかる。縦軸は物体の高さで、横軸は焦点はずれ（ｍｍ）である。図２ｃは歪曲収差を示し、横軸は縦軸に示した物体の高さに対する歪曲収差（％）を示している。
【００５３】
図３に図示したレンズ装置の正確なレンズデータは表３から読み取れる。
【００５４】
【表３】
2005519332.tif 000011
2005519332.tif 000012
2005519332.tif 000013
【００５５】
図３ａないし図３ｃには、すでに図２ａないし図２ｃを用いて説明したような球面収差、非点収差、歪曲収差が図示されている。
【００５６】
図５に図示したレンズ装置の正確なレンズデータは表５から読み取れる。
【００５７】
【表４】
2005519332.tif 000014
2005519332.tif 000015
2005519332.tif 000016
【００５８】
球面収差、非点収差、歪曲収差に関する像品質は図４ａないし図４ｃに図示されている。
【００５９】
図５に図示したレンズ装置の正確なレンズデータは表５から読み取れる。
【００６０】
【表５】
2005519332.tif 000017
2005519332.tif 000018
2005519332.tif 000019
【００６１】
図６に図示したレンズ装置の正確なレンズデータは表６から読み取れる。
【００６２】
【表６】
2005519332.tif 000020
2005519332.tif 000021
2005519332.tif 000022
【００６３】
図７に図示したレンズ装置の正確なレンズデータは表７から読み取れる。
【００６４】
【表７】
2005519332.tif 000023
2005519332.tif 000024
2005519332.tif 000025
【００６５】
図８に図示したレンズ装置の正確なレンズデータは表８から読み取れる。
【００６６】
【表８】
2005519332.tif 000026
2005519332.tif 000027
2005519332.tif 000028
2005519332.tif 000029
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】投影対物レンズ装置を示す図である。
【図２】波長１９３ｎｍに対する投影対物レンズを示す図である。
【図２ａ−２ｃ】図２のレンズの収差を表す図である。
【図３】露光波長１９３ｎｍに対する投影対物レンズを示す図である。
【図３ａ−３ｃ】図２のレンズの収差を表す図である。
【図４】波長１９３ｎｍに対する投影対物レンズを示す図である。
【図４ａ−４ｃ】図２のレンズの収差を表す図である。
【図５】露光波長１５７ｎｍに対する投影対物レンズを示す図である。
【図６】波長１９３ｎｍに対する投影対物レンズを示す図である。
【図６ａ−６ｃ】図２のレンズの収差を表す図である。
【図７】露光波長１９３ｎｍに対する投影対物レンズを示す図である。
【図７ａ−７ｃ】図２のレンズの収差を表す図である。
【図８】波長１９３ｎｍに対する投影対物レンズを示す図である。
【図９】露光波長１９３ｎｍに対する投影対物レンズを示す図である。
【符号の説明】
【００６８】
１０１    投影露光装置、１０３    照射装置、１０５    投影対物レンズ、１０７    光軸、１０９    マスク、１１１    マスクホルダ、１１３    像面、１１５    ウェハ、基板、１１７    基板ホルダ、１１９    システム絞り、１２１    レンズ装置、１２３    第１の凸部、１２５    腰部、１２７    第２の凸部、１２９    最も狭い狭隘部
【図１】
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【図２】
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【図２ａ−２ｃ】
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【図３】
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【図３ａ−３ｃ】
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【図４】
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【図４ａ−４ｃ】
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【図５】
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【図６】
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【図６ａ−６ｃ】
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【図７】
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【図７ａ−７ｃ】
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【図８】
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【国際調査報告】
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