(57)【要約】本発明は固形体材料の多数のサンプルを支持するために使用される回転式サポートに関し、上記材料が検電手段により特性描写されるようにしている。発明的サポートは各ハウジング内に配置されたサンプル付きのハウジング、およびサンプル支持面を備えており、このサンプル支持面は前述のサンプルハウジングを包含し、各ハウジングは予め定められた位置に配置されている。上記サポートは装置内に使用されることができ、この装置はサンプルに対して制御された放射を供給する手段、サンプル上への放射により作られる少なくとも最初の効果を検出しかつ記録する手段、装置の少なくともひとつのパラメーターを制御する手段であって上記パラメーターは温度、圧力および大気から選択される手段、およびサポートを制御された方法で回すために使用される作動用手段を包含している。
2005533258.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体形材料の複数のサンプルを保持し分光器使用により上記材料の特性を描写するための回転式サポートであって、
各ハウジング内に少なくともひとつのサンプルを直接配置するための複数のハウジングと、
サンプルのためのハウジングを含むサンプル保持面付きで各ハウジングが予め定められた位置に区画されている平坦なハウジングと、および
作動用手段に対するサポートの反転可能カップリング手段であってサポートに対して制御された回転運動を提供するための手段とを包含しており、
サポートがその高さの少なくとも２．５倍より大きい水平方向伸長部を有している、サポート。
【請求項２】
少なくともハウジングの一部がサンプル保持面上に扇形に分配されている、請求項１に記載のサポート。
【請求項３】
少なくともハウジングの一部がサポートの回転軸周りのサンプル保持面上に螺旋状かつ同芯に分配されている、請求項１または２に記載のサポート。
【請求項４】
少なくともハウジングの一部がサンプル保持面内の凹部により区画されている、請求項１ないし３の何れかに記載のサポート。
【請求項５】
少なくともハウジングの一部がサンプル保持面から突出した仕切部（３ｄ）間に区画されている、請求項１ないし４の何れかに記載のサポート。
【請求項６】
少なくともサンプルの一部がサンプル保持面内のハウジング内に固体薄フイルムの形で沈積されている、請求項１ないし５の何れかに記載のサポート。
【請求項７】
薄フイルムがセリグラフィー、石版術、マイクロセリグラフィー、マイクロ石版術およびそれらの組合せの中から選択された沈積技術手段により適用されている、請求項１ないし６の何れかに記載のサポート。
【請求項８】
少なくともサンプルの一部がサンプル保持面内のハウジング内にマイクロドロップの形で沈積されており、このマイクロドロップが固体を形成し得る先駆物質複合体の溶液を備えている、請求項１ないし５の何れかに記載のサポート。
【請求項９】
マイクロドロップが注入技術手段により適用されている、請求項８に記載のサポート。
【請求項１０】
サンプルが少なくとも部分的に或る電磁波に対して透明な材料から成る、請求項１ないし９の何れかに記載のサポート。
【請求項１１】
サンプルが少なくとも部分的に反射面から成る、請求項１ないし１０の何れかに記載のサポート。
【請求項１２】
反射材料が付帯的光ビームを当該ビームを変更することなく反射させる、請求項１ないし１１の何れかに記載のサポート。
【請求項１３】
サポートが平坦な円形サポートである、請求項１ないし１２の何れかに記載のサポート。
【請求項１４】
サポートがブランクコンパクトデイスクのフォーマットを有する、請求項１ないし１３の何れかに記載のサポート。
【請求項１５】
−２００から５００℃の間の温度での耐熱性材料で製造されている、請求項１ないし１４の何れかに記載のサポート。
【請求項１６】
請求項１ないし１４の何れかに記載のサポート内に配置された固形体材料の照射による特性描写のための装置であって、
サンプルに対して少なくともひとつの制御された放射を適用するための照射手段と、
サポート内に配置されサンプル上への放射により製造された少なくともひとつの第１効果の検出および記録の手段と、
サンプルと接触している温度、圧力および大気の化学的構成物から選択された装置の少なくともひとつのパラメーターを制御するための制御手段と、
少なくともひとつのサポートに対して制御された回転運動を提供するための作動用手段とを包含している、装置。
【請求項１７】
制御手段が−２００℃から５００℃までの範囲内の温度にサンプルを保持するために好適な温度制御手段を包含している、請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
制御手段がサポートのサンプル保持面および／またはサンプルと接触するガス状流体の構成物制御のためのガス状流体調整手段を包含している、請求項１６に記載の装置。
【請求項１９】
サンプルを磁界に対して晒し得るようにするための磁化手段を包含している、請求項１６ないし１８の何れかに記載の装置。
【請求項２０】
磁界強度が一定である、請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】
磁界強度が可変である、請求項１９に記載の装置。
【請求項２２】
照射手段がサンプルを電磁波、エレクトロン、他のタイプの粒子およびそれらの組合せから選択された放射で照射するために設計されている、請求項１６に記載の装置。
【請求項２３】
照射手段が少なくともひとつのレーザービーム放出器具を包含している、請求項１６に記載の装置。
【請求項２４】
レーザービーム放出器具がレーザービームの放出周波数または放出周波数の範囲を調整するための調整手段を包含している、請求項２３に記載の装置。
【請求項２５】
照射手段がモノクロ光の発生手段である、請求項１６に記載の装置。
【請求項２６】
照射手段が極性を有する光の発生手段である、請求項１６に記載の装置。
【請求項２７】
検出記録手段が光を異なる波長に分解するための少なくともひとつの光学システムを包含している、請求項１６に記載の装置。
【請求項２８】
照射手段が正確な放射パルスを製造可能である、請求項１６に記載の装置。
【請求項２９】
照射手段が各種サンプルの同時被照射を許容する、請求項１６に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は分光器使用技術分野に属しかつ特に固形体材料のサンプルの特性描写、かつ特に固形体触媒の解析に適用可能である。
【背景技術】
【０００２】
新材料の開発において、分光器使用技術に基づく特性描写技術は基礎研究分野および応用研究分野の双方で極めて重要である。このように、分光器使用の特性描写（紫外線、赤外線、ラマン、Ｘ線）の結果の解析から引き出される特定の物理的／化学的特性の調査が可能になる。特に興味があるのは化学反応の触媒のための固形体材料表面の研究領域である。触媒材料の表面の研究は工業的利点を有する新触媒のデザイン、開発および最適化に対して非常な助けとなる。
【０００３】
近年においては、触媒的テストの新らしい加速された技術の発展は不均一触媒の複合化学として知られている分野内で革新的であり（センカン、Ｓ．Ｍ．、ネイチャー、ｖｏｌ．３９４  ｐｐ．３５０−３５３；センカン、Ｓ．Ｍ．およびオズターク、Ｓ．、アンゲバンテ  ケミー  Ｉｎｔ．Ｅｄ．１９９９、３８、Ｎｏ６、ｐｐ．７９１−７９４；コング、Ｐ．ｅｔ  ａｌ．、アンゲバンテ  ケミー  Ｉｎｔ．Ｅｄ．１９９９、３８、Ｎｏ４、ｐｐ．４８３−４８８；センカン、Ｓ．Ｍ．、アンゲバンテ  ケミー  Ｉｎｔ．Ｅｄ．２００１、Ｎｏ４０、ｐｐ．３１２−３２９）、これは触媒ライブラリーの急速かつ同時のテストのための革新的ユニットおよび方法に貢献するものである（ＵＳ−Ａ−５，９５９，２９７、ＵＳ−Ａ−６，００４，６１７、およびＷＯ−Ａ−９９／２１９５７）。
【０００４】
それにも拘わらず、これらの材料の物理的／化学的特性描写のための新たな加速された技術を見出してそれらのより大きい基本的知見を達成しかつその結果として特定用途のためにこれらの材料の開発と最適化プロセスの改良を可能とすることが求められてきた。
【発明の開示】
【０００５】
本発明は分光器使用技術の手段により固形体材料の多数の特性描写のためのサポートおよび装置を提供するもので、それらの材料の極めて少量を必要とし、これが特性描写されるべき新材料の数の増加を許容する。
【０００６】
本発明によると、固形体材料の複数の分光器使用による特性描写のためのサポートであって、
各ハウジング内に少なくともひとつのサンプルを配置するための複数のハウジングと、
サンプルのためのハウジングを含むサンプル保持面付きで各ハウジングが予め定められた位置に区画されている平坦なハウジングと、および
作動用手段に対するサポートの反転可能カップリング手段であってサポートに対して制御された回転運動を提供するための手段とを包含しており、
サポートがその高さの少なくとも２．５倍より大きい水平方向伸長部を有している。
【０００７】
本発明によると、少なくともハウジングの一部がサンプル保持面上に扇形にかつ／またはサポートの回転軸周りに螺旋状かつ同芯に分配され得る。
【０００８】
少なくともハウジングの一部が凹部および／またはサンプル保持面から突出した仕切部間に区画されており、これにより予め定められたハウジング内へのサンプルの収容を許容している。
【０００９】
本発明のサポートの実施例においては、少なくともサンプルの一部がサンプル保持面内のハウジング内に固形体薄フイルムの形で沈積されており、それは例えばセリグラフィー、石版術、マイクロセリグラフィー、マイクロ石版術およびそれらの組合せの中から選択された沈積技術手段により適用されている。本発明の別の実施例においては、少なくともサンプルの一部がサンプル保持面内のハウジング内にマイクロドロップの形で沈積されており、このマイクロドロップが固形体の溶液を包含し、上記マイクロドロップが注入技術手段により適用され得る。
【００１０】
発明的サポートの好ましい実施例においては、これは例えばブランクコンパクトデイスク（ＣＤ−ＲＯＭ）のような平坦な円形状輪郭を展開し、かつその上に配置されたサンプルを解析する時に適用される温度に抵抗するために好適な材料で製造され、その際変形を起こすことなくまたはその構造に何らの変化を来たすことがないようにされている。このタイプのテストおよび特性描写に適用され得る殆ど全ての温度範囲で有用なサポートは−２００から５００℃の間の温度での耐熱性材料で製造され得る。
【００１１】
コンパクトデイスクにより表示されているプラスチック透明コーテイングと類似して、本発明のサポートのひとつの実施例においては、解析されるべきサンプルが収容されているサンプル保持面は、好ましくはサンプルが晒される温度に耐え得るプラスチック材料の透明保護フイルムで被覆され得る。
【００１２】
更に、本発明はまた前述のサポート上に配置された固形体材料の照射による特性描写のための装置に関し、その装置は
サンプルに対して少なくともひとつの制御された放射を適用するための照射手段と、
サポート内に配置されたサンプル上への放射により製造された少なくともひとつの第１効果の検出および記録の手段と、
サンプルと接触している温度、圧力および大気の化学的構成物から選択された装置の少なくともひとつのパラメーターを制御するための制御手段と、
少なくともひとつのサポートに対して制御された回転運動を提供するための作動用手段とを包含している。
【００１３】
この装置は材料の照射、第１位置におけるサポート上に配置された第１材料上への放射の効果の検出および記録を許容し、その後サポートは第２材料が放射ビームの下側へ配置されるまで回され、そしてこの工程が繰り返される。反射率による操作の場合は、照射後の各材料による反射光の強度が検出されかつ記録される。
【００１４】
発明的装置の実施例においては、制御手段はサンプルを−２００℃から５００℃までの範囲内の温度に保持するための好適な温度制御手段を包含している。この温度範囲内で作動可能な装置は全てのタイプの特性描写条件のための用途を備えている。
【００１５】
この制御手段はまたサポートおよび／またはサンプルの面と接触するガス状流体の構成を調整するための調整手段を備えている。
【００１６】
更に以下詳述されるように、本発明の装置はまた
＊サンプルを一定のおよび／または可変磁界に晒しうるための磁化手段；および／または
＊サンプルを電磁波、電子、他のタイプの粒子およびそれらの組合せに照射するために設計された照射手段；および／または
＊好ましくは放射周波数またはレーザービームの放射周波数範囲の調整のための調整手段を備えた少なくともひとつのレーザービーム放射器具を包含している照射手段；および／または
＊モノクロライトの発生手段；および／または
＊多極光の発生手段；および／または
＊光を検出および記録手段内に含まれている異なる波長に分解するための光学的システムを包含している。
【００１７】
本発明のサポートおよび装置は固形体材料の効果的な特性描写を許容するように製造され得る有利なシステムを許容する。そして、サポートはその表面上に多数の材料サンプルを収容することができ、これらは異なる厚さの接着されたフイルム、多様粒度の粉またはペレットの形であり、その表面は複数の固形体の収容のために好適に成形されている。材料がフイルム形の場合は、異なる材料が連続的に製造／沈積されることができ、その際サポートは位置の関数として構成が変化するフイルムで被覆される。サポートのための好ましい結合構造はコンパクトデイスクのそれと同じである。
【００１８】
沈積方法は好ましくはセリグラフィー−リトグラフィー（マイクロセリグラフィー）の方法に基づく方法であり、そこでは材料（インク）のファインフイルムが非常に多様な構成と非常に正確な形で製造され得る。これらの技術は良く知られかつ記述されている（ＵＳ２００１／００２２７７  Ａ１、ＵＳ  ５，１４３，８５４  およびＥＰ  １１２９７７３）。インクジェットタイプのプリンターで使用されているインクジェットプリント技術の使用は固形体（ＵＳ  ５，４４９，７５４）のフイルム沈積のための用途であり、そこでは異なる溶液のマイクロドロップが固形体材料の合成のために沈積される。
【００１９】
用語ＣＤまたはコンパクトデイスクフォーマット（Ｌ．  ボーデン、“ＣＤ−ＲＯＭ技術の習得”ジョン  ウイリー  ＆サンズ（１９９５））これは本明細書内で使用されようとしているものであるが、円形デイスクハウジングでその面上に同芯または螺旋状に固形体材料の列が分配され得るものとして理解されるべきである。この用語はデイスクまたはサポート、すなわち、寸法、フォーマット、固形体間の間隔の特性をコマーシャルＣＤ−ＲＯＭｓ（ＵＳ  ４，７１９，６１５）のそれに限定することを意図するものではない。ＣＤ−ＲＯＭタイプのデイジタルサポートとの類似性はここに便宜上行われておりそれは最近使用されている分光器の使用（ＵＳ  ５，４７１，４５５）により固形体材料の特性描写の方法に関連した利点および用途分野を図示するためである。
【００２０】
デイスクは或る種の予成形を要し、それは固形体材料を秩序立てられたかつ標準化された方法で収容するのに必要な溝、扇形、フレーム、所在および他の特性を限定するためである。これらの特性は材料のデイスク上における沈積内の欠陥の検出、および読取り中において、サポート上の分配上のデータおよびその内容の検出を許容し、かつそれらはコンピューター化された読取り工程（照射および検出）の制御および同期化を許容する。ＣＤ中における多様なデータフォーマットは入手可能であり、かつ本発明はサポート上の異なる材料の配置を許容するこれらのまたは他の方法の何れかの使用を考慮している。
【００２１】
サポート（デイスク）の材料は少なくとも部分的にはそれを通しての光の透過を許容する材料、または反射材料（鏡のような）で付帯的ビームをそれに対して他のタイプの修正を加えることなく反射のみさせる材料の何れかで作られている。サポートの表面が反射的である時は、これは特性描写のための材料上でダブル照射の遂行を可能とし、計量されるべき効果の重複を許容し、これは横切られる材料の性質により光ビームが経験するものである。
【００２２】
異なる性質の材料がこの効果のために使用される：アモルファスまたはクリスタリンセラミック無機材料で、例えば珪素、アルミナまたはシリコンカーバイドのようなもの；金属状性質の材料で、例えば金、スチール合金、アルミナムまたはチタニウムのようなもの；：有機状性質の材料で、有機分子の全ての種類のポリマー材料のようなもの、例えばポリカーボネート、ＰＴＦＥまたはエポキシレジンである。
【００２３】
光のビームを非常に小さい面上に顕著な正確さで方向付けかつ位置決めするための近代的な機械的／光学的システムの能力は選択的かつ再生可能な方法で、直径約１２センチメーターの単一デイスク上の約１０９個の位置への照射を可能とし、それは読み取り用コンパクトデイスク（ＣＤｓ）のために使用されるシステムの場合である。従って、記載およびノイズエラー修正のために各ＣＤ−ＲＯＭ上で１０回繰り返される情報にも拘わらず、最近のレーザービーム検出システムはコンパクトデイスクフォーマットの単一サポート上の１０８個の異なる固形体材料のオーダーの正確さでの照射を許容する。
【００２４】
本発明のひとつの実施例においては、好ましくは平坦で、かつ更に好ましくは上述のコンパクトデイスクフォーマットでその上には複数の固形体材料が総合されまたは堆積されているサポートは、回され、その間にビームが半径方向運動を行うときにレーザービームが表面を照射する。光ビーム（レーザー）の半径方向位置、サポートの角度位置およびレーザー放射（周波数範囲、強度、極性）のタイプはコンピューターにより制御され、これは読取り工程（特性描写）および情報入手工程を統括する。
【００２５】
サポートの正確な回転運動のために、ステッパーとして知られているモーターのような手段が必要かもしれない。また、レーザービームの動きのためには機械的および光学的手段が常時制御と正確な照射位置の確保のためには必要である。
【００２６】
各材料の特性描写されるべき面の領域は達成され得る焦点角度により決定され、これはレンズの焦点深度およびレンズから材料面までの距離により依存する。
【００２７】
光ビームは半透明なサポートを通過しかつ通過した後のビームは検出され得る。この検出の前に、この出ていくビームは光学的手段を介して分解され、この分解は出ていくビームを構成する異なる周波数を別個に検出するためである。複数の分光器使用の特性描写工程は固形体材料を通過する光が変化を被るという事実に基づいており、この変化はその材料の実際の性質および／またはそれにより吸収されている分子の圧力に依存する。この変化は好適な検出器により決定され、その後、その変化は数値信号に変換され、その信号はコンピューターにより処理され保存される。光のビームにより変えられ得る特性はその強度、極性角度、波長および相である。
【００２８】
本発明の別の応用においては、レーザービームは直線的に極性化されかつ材料の蛍光極性が検出され得る。
【００２９】
光ビームが材料を通過する時ビームは相の変化を経験し、それは材料の空気に対する屈折率の変化に起因する。電磁波の相のこのタイプの変化は干渉計使用（ＵＳ  ５，４１３，９３９）により検出され得る。これは最近のＣＤ−ＲＯＭｓリーダーおよびオーデイオコンパクトデイスクリーダーの機能原理であり、これらはピットとランドの間の区別のための干渉計使用方法に基づいている（ＵＳ  ５，４７１，４５５）。
【００３０】
本システムの別の機能モードは材料の蛍光測定から成り、換言すると、材料上へ衝突する放射を起こしかつそれから照射終了時に固形体により出される放射を測定する。これは例えば、ＣＣＤｓ（チャージ−カップルド−デバイス）（ＵＳ  ６，３３９，６３３、ＵＳ  ６，３３５，７５７またはＥＰ  １１６８８３３）または光電池（ヒューレット  パッカード  （パロ  アルコ、ＣＡ）製の“ジェネアレー”リーダーの例）により遂行され得る。
【００３１】
異なる材料の照射に対応する読み取り信号はサポート材料の影響を避けるために空白付きで訂正され得る。音楽コンパクトデイスクおよびＣＤ−ＲＯＭｓのための市販の読み取りシステムのためには、ＥＦＭコーデイング（８ないし１４モジュレーション）が使用される。
【００３２】
レーザー放射の周波数または周波数範囲は実施が希望されている特性描写のタイプに依存して選択されるであろう。例えば、材料中に存在する或るＯＨボンドの研究のためには赤外線範囲内の特定の周波数が選択され得る。同様に、異なる周波数を使用する手段により、すなわち異なるレーザー（同時にまたは連続的に）の使用か、または周波数調整可能のひとつのレーザーの使用の何れかにより、より完全な特性描写の実施が可能になる。また本発明の放射手段のための用途を有するものは広範囲波長の放射を発生可能なレーザー器具であり、それは例えばＣ．グマッチ他により記述されている範囲の赤外線を放射するようなものである（ネーチャー、ｖｏｌ．４１５，８８３−８８７（２００２年２月２１日））。紫外線、赤外線、可視光線、Ｘ線などを含む何れかの周波数の電磁波の使用も考慮される。
【００３３】
本発明はＸ線蛍光特性描写技術の適用法を包含している。これらの技術により支持されている材料の資料室の構成の推定が可能となる。
【００３４】
放射パルス適用の場合には、求められる強度および存続期間、換言すると、力およびパルスの長さは多数のファクターに依存し、それらのファクターとしては特性描写するための材料の性質、検出のシステムおよびモード、サポートの回転速度、材料の領域などである。
【００３５】
本発明の顕著な態様は放射工程を遂行可能であることであり、その時期は異なる固形体材料付きのサポートが特定の大気（ガス、蒸気）の存在下にあり、その大気がそれらのガスまたは蒸気の流れのお陰で静止または更新され得る。このようにして、固形体の異なる分子との相互作用のその場でのモニタリングも可能であり、かつ例え化学的反応があってもよく、および複数材料の各々の触媒活動の間接的な決定も行われる。この効果のために、このシステムは材料の温度の制御および調整が可能となる必要な手段を備えており、また材料付きのサポートが配置されている室内の圧力（真空または加圧）の調整手段も備えている。このようにして、調査用分子の使用が可能となり、この分子は異なる固形体の相互作用の研究を可能とし、この技術は酸度、塩基性炭酸塩などの研究のために通常使用されている。
【００３６】
同様に、温度、圧力および材料がある大気の調整手段が、分光器の使用に先立って、材料の列の異なる物理的／化学的処理への使用が可能である。
【００３７】
本発明の別の実施例は、サポートが特定の電界（一定または可変）に晒されている時、レーザー照射に対する反応としての電子放出（イオン化）の計測の可能性を考慮している。これは単に電極をサポート（それらの間に或るポテンシャル差が掛けられている）から或る距離のところに配置し、かつ放射（レーザー）が材料上で輝いた時惹起された電子流を計測することにより可能である。また興味深いことは、電子が面から解放される際の動的なエネルギー（ｅＶ）の計測が可能なことである。更に、反射された／吸収された放射または蛍光の測定も可能である。このタイプのテストは材料が電子を失う容易性に関する情報を提供し、この容易性は或る化学的反応におけるその触媒的活動と相互に関連している。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３８】
見て分かるように、この特許出願の図１〜９は本発明により実行されるサポートの各種の実施例および形態を図解している。
【００３９】
そして、図１および図２は第１実施例を示しており、その中でサポート１は平坦な円板でサンプル保持面１ａを展開しており、サンプル保持面内ではサンプルのための扇形の各種ハウジング３ａが備えられており、これらのハウジングは扇形にかつ半径方向姿勢で作動用手段に対するサポートの反転可能カップリング手段を取り囲みサポートに対して制御された回転運動を与え得るようにしており、上記手段は中央孔２から成る。
【００４０】
図２および図３は平坦円板の形のサポート１の第２の実施例を示しており、その中で異なるサンプル４のためのハウジング３ｂは一連の半円形の凹部により形成されており、これらの凹部は中央装着孔２周りのサンプル保持面１ａ内に同芯に配列されている。これらのハウジング３ｂは仕切部３ｄおよび分離部３ｅにより互いに分離されている。
【００４１】
図５、６および７はサポート１の第３の実施例を示しており、その実施例によるとサポート１のサンプル保持面１ａは透明なコーテイング１ｂにより被覆されている。これらの図面内に示されている実施例においては、異なるサンプル４が中央孔２周りの螺旋溝のハウジング３ｃ内に配置されており、これらの溝は分離仕切部３ｄにより互いに区画されている。コーテイング１ｂはサンプル４が晒されるテストの温度および他の条件に抵抗可能であり、かつこれらのテスト中に適用される照射で負の干渉を受けない材料で製造される。
【００４２】
図８、９および１０は照射により特徴付けられるための装置５の実施例を示しており、本発明の平坦円板形のサポート１内に配置されているサンプル４のテストを遂行するように設計されている。
【００４３】
図８は内室６から成る装置５を図示しており、内室内には熱調整手段９ａが照射手段７に沿い備えられ、この照射手段は室６の天井から突出した半径方向転位第１手段７ａ内に配置されている。室６の底部かつ放射手段７に面した位置に、検出記録手段８の一部が上方へ突出し、半径方向転位第２手段８ａ内に配置され、この第２手段は検出記録手段７ａにより照射手段７と同期して転位され得る。このようにして、放射手段７により放出された放射は常時検出記録手段８により集められる。
【００４４】
照射手段７および検出記録手段８の間には透明なサポート１があり、このサポートは作動用モーター１０ａにより駆動される作動用ロッド１０ｃの上端部に備えられているカップリング機構１０ｂに連結されている。
【００４５】
照射手段７、検出記録手段、熱調整手段９ａ、半径方向転位手段７ａ、８ａ、およびモーター１０ａは制御システム（図示されていない）に接続されており、この制御システムはこれらの要素のパラメーターを実施されようとしているテストにより、またサポート１のサンプル保持面１ａ内の予め定められたハウジング内にある各種のサンプルにより調整する。
【００４６】
テストを実施するためには、作動用モーター１０ａがサポート１を回し、照射手段７は右から左、またはその逆に転位され、その動きは検出記録手段８のサポート１の半径方向に沿う動きと同期され、サポート１の回転により、各サンプルが照射手段７および検出記録手段８の間を通過するようにされ、従って全てのサンプルが評価されるようになる。制御システムが各サンプルの位置とタイプを知っているので、各照射されたサンプルの個々の評価を作ることが可能になる。
【００４７】
図９内に示されている装置５の実施例は照射の反射によりサンプルを評価するように設計されており、かつ図８内に示されている実施例と同じ基本的要素を包含しているが、例外としては熱調整手段が示されておらず、かつ相違としては照射手段７および検出記録手段が半径方向転位手段７ａ、８ａ内に配置されていることである。また、図９内に示されている装置５の実施例はガス状流のための調整手段９ｂ、９ｃおよび磁化用手段１１を図示している。
【００４８】
見て分かるように、照射手段７は放射７がサンプル保持面１ａ上に傾斜状態で衝突し、そこから検出記録手段８へ向かい反射させられる。サポート１の下側に配置されている磁化用手段１１は、テストのために提供されている条件により、材料上における放射の効果を修正するために特定の磁界を創生しまたはその逆も同じである。
【００４９】
ガス状流のための調整手段９ｂ、９ｃは、例えば不活性ガスのような、流体を内室６内へ導入しかつ流体をガス出口７から排出する。
【００５０】
図１０内に示されている装置５の実施例が図９のそれから唯一相違している点は、放射手段７および検出記録手段８がサンプル保持面１ａに対して直角に配置された単一要素内に組み合わされてサンプル保持面により直角に反射された放射が付帯的ビームと同じ通路を備え、反射されたビームが付帯的放射から光学的手段により分離されかつ検出されるように構成されている。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
以下の記述は図面に基づく本発明の実施例の特徴である。
【図１】本発明の第１実施例によるサポートの平面略図である。
【図２】図１のＡ−Ａ’横断面の略図である。
【図３】本発明の第２実施例によるサポートの平面略図である。
【図４】図２のＢ−Ｂ’横断面の略図である。
【図５】本発明の第３実施例によるサポートの平面略図である。
【図６】図５のＣ−Ｃ’横断面の略図である。
【図７】図６内に示されているＤ部分の拡大横断面略図である。
【図８】第１実施例による本発明の装置の断面略図である。
【図９】第２実施例による本発明の装置の断面略図である。
【図１０】第３実施例による本発明の装置の断面略図である。
【００５２】
これらの図面中において、以下の要素を特定するために複数の数字を使用している。
【符号の説明】
【００５３】
１          サポート
１ａ        サポートのサンプル保持面
１ｂ        サンプル保持面のコーテイング
２          サポートの中央装着孔
３ａ        サンプルのためのハウジングであって、サンプル保持面内に部分押圧形成さ
れ、サポート内で扇形に配列されている。
３ｂ        サンプルのためのハウジングであって、サンプル保持面内の半球凹部状で、
サポート内に扇形に配列されている。
３ｃ        サンプルのためのハウジングであって、サンプル保持面内の螺旋溝状で、サ
ポート内に扇形に配列されている。
３ｄ        ハウジング間の仕切部
３ｅ        ハウジング間の分離部
４          サンプル
５          装置
６          装置の内室
７          照射手段
７ａ        照射手段のための半径方向転位手段
８          検出記録手段
８ａ        検出記録手段のための半径方向転位手段
９ａ        熱調整手段
９ｂ        ガス状流体のための調整手段
９ｃ        ガス出口
１０ａ      作動用モーター
１０ｂ      作動用機構
１０ｃ      作動用ロッド
１１        磁化用手段
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【国際調査報告】
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