(57)【要約】  シャッター手段を位置決めするために用いられる磁気装置の位置決め素子であって、該磁気装置は、該磁気装置が強磁性シャッター支持体に接触している使用位置と、該磁気装置が該シャッター支持体から離間している非使用位置の間を移動可能であり、該位置決め素子は、該磁気装置の保持力に抗して該磁気装置を支持する少なくとも一つの保持デバイスを含むとともに、前記保持力に抗して持ち上げ力を発生して該磁気装置を前記非使用位置に保持する少なくとも一つの弾性支持ユニットを含む。そのような位置決め素子に、よりコンパクトな構造を付与して、より広く使用される素子とするために、前記磁気装置は前記保持デバイスに堅固に結合され、前記支持ユニットは、少なくとも磁気装置が前記非使用位置にあるときは、少なくとも該保持デバイスの一部に沿って、前記保持デバイスと前記シャッター支持体の間に配置される。
2005511975.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シャッター手段を位置決めするために用いられる磁気装置（２）の位置決め素子であって、
該磁気装置（２）は、該磁気装置が強磁性シャッター支持体（７）に接触している使用位置と、該磁気装置が該シャッター支持体から離間している非使用位置の間を移動可能であり、
該位置決め素子は、該磁気装置の保持力に抗して該磁気装置を支持する少なくとも一つの保持デバイス（１２）を含むとともに、前記保持力に抗して持ち上げ力を発生して該磁気装置を前記非使用位置に保持する少なくとも一つの弾性支持ユニット（１３）を含んでおり、
前記磁気装置は前記保持デバイスに堅固に結合され、
前記支持ユニットは、少なくとも該磁気装置が非使用位置にあるときは、少なくとも前記保持デバイスの一部に沿って、前記保持デバイスと前記シャッター支持体の間に配置されていることを特徴とする位置決め素子。
【請求項２】
少なくとも二つの互いに離間した前記保持デバイスを備え、該各保持デバイスが一つの前記支持ユニットに関与することを特徴とする請求項１記載の位置決め素子。
【請求項３】
前記保持デバイスは前記磁気装置の相対向する両側面に配置されることを特徴とする請求項１又は２記載の位置決め素子。
【請求項４】
前記保持デバイスを四つ備えていることを特徴とする請求項１乃至請求項３のうちいずれか１項記載の位置決め素子。
【請求項５】
それぞれ二つの前記保持デバイスが前記磁気装置の一つの側面と関与していることを特徴とする請求項４記載の位置決め素子。
【請求項６】
前記保持デバイスは、調節手段により、相離間した位置へ移動可能となるように、相互に結合していることを特徴とする請求項１乃至請求項５のうちいずれか１項記載の位置決め素子。
【請求項７】
二つの前記保持デバイス同士が堅固に結合していることを特徴とする請求項１乃至請求項６のうちいずれか１項記載の位置決め素子。
【請求項８】
前記保持デバイスが前記調節手段と共に、前記磁気装置を取り囲む保持フレームを形成することを特徴とする請求項６又は７記載の位置決め素子。
【請求項９】
前記保持デバイスが、前記磁気装置に、取り外し可能に結合されていることを特徴とする請求項１乃至請求項８のうちいずれか１項記載の位置決め素子。
【請求項１０】
前記磁気装置は実質的に平行六面体の形状を有しており、前記磁気装置の底面（４）が前記シャッター支持体（７）に面していることを特徴とする請求項１乃至請求項９のうちいずれか１項記載の位置決め素子。
【請求項１１】
前記保持デバイスが、前記磁気装置の一つの側面（６）に取り付けられていることを特徴とする請求項１乃至請求項１０のうちいずれか１項記載の位置決め素子。
【請求項１２】
前記保持デバイスは、前記磁気装置の、前記シャッター支持体から離れて対向している上面（５）に取り付けられていることを特徴とする請求項１乃至請求項１１のうちいずれか１項記載の位置決め素子。
【請求項１３】
前記保持デバイスは、前記磁気装置に係合される応接手段を備えていることを特徴とする請求項１乃至請求項１２のうちいずれか１項記載の位置決め素子。
【請求項１４】
前記磁気装置は前記応接手段の中に挿入されることを特徴とする請求項１３記載の位置決め素子。
【請求項１５】
前記保持デバイスは、ねじ込み接続方式で前記磁気装置に取り付けられることを特徴とする請求項１乃至請求項１４のうちいずれか１項記載の位置決め素子。
【請求項１６】
前記磁気装置を使用位置から非使用位置まで移動させるためのリフトオフ手段（３）が備えられていることを特徴とする請求項１乃至請求項１５のうちいずれか１項記載の位置決め素子。
【請求項１７】
前記リフトオフ手段が前記磁気装置に取り付けられていることを特徴とする請求項１６記載の位置決め素子。
【請求項１８】
前記リフトオフ手段は、前記シャッター支持体に係合する偏心輪（１０）を備えており、これにより、前記磁気装置を使用位置から非使用位置まで移動させることを特徴とする請求項１６又は１７記載の位置決め素子。
【請求項１９】
前記リフトオフ手段を操作するためのレバーが備えられていることを特徴とする請求項１６乃至請求項１８のうちいずれか１項記載の位置決め素子。
【請求項２０】
前記レバーと前記偏心輪は互いに堅固に結合されて、前記磁気装置上に回転可能に支持されていることを特徴とする請求項１９記載の位置決め素子。
【請求項２１】
前記偏心輪は、前記磁気装置の一つの側面の向かい側にある側面よりも該一つの側面の近くに位置するように配置されていることを特徴とする請求項１８乃至請求項２０のうちいずれか１項記載の位置決め素子。
【請求項２２】
前記支持ユニット（１３）は、持ち上げ力を発生する弾性スプリング要素（１８）を備えていることを特徴とする請求項１乃至請求項２１のうちいずれか１項記載の位置決め素子。
【請求項２３】
前記弾性スプリング要素が圧縮ばねであることを特徴とする請求項２２記載の位置決め素子。
【請求項２４】
前記弾性スプリング要素がエラストマーを含むことを特徴とする請求項２２記載の位置決め素子。
【請求項２５】
前記弾性スプリング要素がゴム要素であることを特徴とする請求項２２記載の位置決め素子。
【請求項２６】
前記弾性スプリング要素がプラスチックばねであることを特徴とする請求項２２記載の位置決め素子。
【請求項２７】
前記弾性スプリング要素が、前記磁気装置が移動している時に前記シャッター支持体の上をスライドすることにより端部が歪められる曲がりシートであることを特徴とする請求項２２記載の位置決め素子。
【請求項２８】
前記支持ユニットはレストオン手段（１４）を備えており、該レストオン手段は前記保持デバイス内に変位可能に支持されるとともに、少なくとも前記磁気装置が非使用位置にあるときは前記シャッター支持体（７）の上に載り、該レストオン手段と前記保持デバイスの間にスプリング手段が収容されることを特徴とする請求項２２乃至請求項２７のうちいずれか１項記載の位置決め素子。
【請求項２９】
前記レストオン手段は実質的にポット形状を有しており、前記保持デバイスの前記応接手段はシリンダージャケットの形状を有することを特徴とする請求項２８記載の位置決め素子。
【請求項３０】
前記レストオン手段は前記保持デバイスに専属的に結合されていることを特徴とする請求項２８又は２９記載の位置決め素子。
【請求項３１】
前記スプリング手段のばね力は調節可能であることを特徴とする請求項２８乃至請求項３０のうちいずれか１項記載の位置決め素子。
【請求項３２】
前記ばね力を調節するための調節ねじが設けられていることを特徴とする請求項３１記載の位置決め素子。
【請求項３３】
前記スプリング手段が調節スレッドを備えていることを特徴とする請求項２８乃至請求項３２のうちいずれか１項記載の位置決め素子。
【請求項３４】
前記保持デバイスが前記磁気装置内に統合されていることを特徴とする請求項１乃至請求項３３のうちいずれか１項記載の位置決め素子。
【請求項３５】
前記保持デバイスが前記磁気装置内に孔により形成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項３４のうちいずれか１項記載の位置決め素子。
【請求項３６】
前記保持デバイスが接着剤により前記磁気装置に結合されていることを特徴とする請求項１乃至請求項３５のうちいずれか１項記載の位置決め素子。
【請求項３７】
磁気装置と請求項１乃至請求項３６のうちいずれか１項記載の位置決め素子を含むことを特徴とする組み立てセット。
【請求項３８】
請求項１乃至請求項３６のうちいずれか１項記載の位置決め素子を含むことを特徴とするシャッター手段。
【請求項３９】
前記シャッター手段と前記保持デバイスが一体に形成されていることを特徴とする請求項３８記載のシャッター手段。
【請求項４０】
前記磁気装置と前記シャッター手段が互いに堅固に結合していることを特徴とする請求項３８又は３９記載のシャッター手段。
【請求項４１】
前記磁気装置が非使用位置にあるときは、前記シャッター手段が前記シャッター支持体から離間していることを特徴とする請求項３８乃至請求項４０のうちいずれか１項記載のシャッター手段。
【請求項４２】
前記磁気装置が使用位置にあるときは、前記シャッター手段と前記保持デバイスが前記シャッター支持体の上に載っていることを特徴とする請求項３８乃至請求項４１のうちいずれか１項記載のシャッター手段。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シャッター手段を位置決めするために用いられる磁気装置の位置決め素子に関する。ここで、該磁気装置は、該磁気装置が強磁性シャッター支持体に接触している使用位置と、該シャッター支持体から離間している非使用位置の間を移動可能である。該位置決め素子は、該磁気装置の保持力に抗して該磁気装置を支持する少なくとも一つの保持デバイスを含み、前記保持力に抗して持ち上げ力を発生して該磁気装置を前記非使用位置に保持する少なくとも一つの弾性支持ユニットを含む。
【背景技術】
【０００２】
そのような、シャッター手段を位置決めするために用いられる磁気装置用位置決め素子は既知であり、例えばEP 0 842 339に記載されている。この磁気装置は保持デバイス内に収容された永久磁石からなる。この保持デバイスは、シャッターシステムのシャッター部内に組み込まれ、磁石上を一方側から他方側へと延長しつつシャッター支持体上に載っているリフトオフ部材（lift-off bow）を有している。支持ユニットを形成し、磁石に対して持ち上げ力をかけるスプリングは、保持デバイスと磁気装置の間で磁気装置の上方の位置に配置されている。
【０００３】
前記使用位置にあるとき、磁石は強磁性シャッター支持体に接触している。シャッター支持体上の磁石の保持力により、磁石の変位が防止されて、磁石が前記シャッター部をシャッター支持体上に位置決めするために用いられるようになっている。磁石の保持力は、スプリングの持ち上げ力を上回っている。磁石を変位させる場合、磁石は持ち上げねじによってシャッター支持体から離される。磁石がシャッター支持体から離されるとすぐに、磁石によりシャッター支持体にかけられた保持力は顕著に減少する。
【０００４】
前記非使用位置にあるとき、すなわち磁石が持ち上げられている状態において、スプリングの持ち上げ力は、磁石とシャッター支持体の間の残留保持力と磁石自体の重量の和を上回る大きさであり、このことにより、磁石は非使用位置にとどまる。そして、前記位置決め素子は新しい場所に移される。位置決め素子をシャッター支持体に固定するために、保持力と磁石の重量の和がスプリングの持ち上げ力を上回って磁石が自動的に動いてシャッター支持体に接触するまで、磁石がシャッター支持体の方へ押される。磁石を非使用位置から使用位置まで戻す力は、たとえばブロー（blow）により前記保持デバイスにかけられる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記既知の位置決め素子は、必要とされるスペースや製造コストの点で経費がかさむ。加えて、位置決め素子の適用範囲は磁石によって決まってしまうので、適用範囲が限定されてしまう。位置決め素子の微細な外形がシャッター要素によってシャッター支持体上に制限される場合や、強い保持力が比較的大きいシャッター要素に要求される場合は、上記のような既知の位置決め素子を使用することができないこともしばしばある。
【０００６】
したがって、本発明の目的は、経済的に安価で、かつ普遍的に使用可能な位置決め素子を提供することである。本発明のこの目的は、磁気装置が保持デバイスに堅固に結合され、支持ユニットが、少なくとも磁気装置が非使用位置にあるときは、少なくとも該保持デバイスの一部に沿って、保持デバイスとシャッター支持体の間に配置されることで達成される。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記解決法は簡明であり、支持ユニットを磁気装置の上方に配置する必要がもはやなくなり、これにより、位置決め素子を組み立てたときの組み立て高さが顕著に低減される。支持ユニットは側方から磁気装置に取り付けられ得る。このことは、位置決め素子の適用範囲が、リフトオフ部材（lift-off bow）の構造デザインによってもはや制限されないことを意味する。したがって、保持デバイスを磁気装置の寸法に適合させることが可能となる。
【０００８】
なお、少なくとも二つの互いに離間した保持デバイスが設けられ、その各保持デバイスが少なくとも一つの支持ユニットに関与することが好ましい。これにより、組み立てようとする組み立てセット（building set）にならって、保持デバイスを種々の寸法を有する磁気装置に適合させることができる。好ましくは、複数の保持デバイスは磁気装置の相対向する両側面に配置される。これにより、磁気装置が均一に支持される。
【０００９】
好ましくは、保持デバイスは四つ設けられる。これにより、磁気装置が均一に支持される。磁気装置が上方から見て実質的に四角形である場合、すべての四つの側面において、磁気装置が均一に支持される。特に、磁気装置が非常に長くて実質的に長方形である場合は、保持デバイスが四つという上記構成により、磁気装置が傾くのを防止できる。
【００１０】
好ましくは、それぞれ二つの前記保持デバイスが前記磁気装置の一つの側面と関与している。これにより、磁気装置が均一に支持される。この場合、保持デバイスは、上方から見て四角形又は長方形の磁気装置の角（隅）のごく近傍に配置されてよい。また、好ましくは、保持デバイスは、上方から見て長方形の磁気装置の長い方の側面に設けられる。
【００１１】
前記保持デバイスは、調節手段により、相離間した位置へ移動可能となるように、相互に結合していてよい。これにより、保持デバイスを、より容易に磁気装置に取り付け、適合させることができる。このようにして、保持デバイスを、より容易に磁気装置に適合させることができる。
【００１２】
好ましくは、二つの保持デバイスは堅固に相互結合している。このようにして、二つの保持デバイスを安定的に結合させることができる。また、四つの保持デバイスのうち、それぞれの二つの保持デバイス同士が堅固に相互結合して、その結果、二つの保持要素を形成していてもよい。さらに、保持デバイスが前記調節手段と共に、磁気装置を取り囲む保持フレームを形成してもよい。これにより、磁気装置と保持デバイスの間の安全な結合を実現させる。保持デバイスや磁気装置をより容易に取り換えることができるようにするため、保持デバイスを、磁気装置に、取り外し可能に結合させるようにしてもよい。
【００１３】
好ましくは、磁気装置は実質的に平行六面体の形状を有しており、かつ、磁気装置の底面がシャッター支持体に面している。磁気装置がそのような簡単な幾何形状の場合、保持デバイスを磁気装置に適合させることが容易になる。好ましくは、保持デバイスは、磁気装置の一つの側面に取り付けられるように適合されている。これにより、組み立て高さが顕著に低い位置決め素子が実現される。
【００１４】
特別な使用の場合は、保持デバイスは、磁気装置の、シャッター支持体から離れて対向している上面に取り付けられる。磁気装置への保持デバイスの取り付けを容易にするために、保持デバイスは、磁気装置に係合される応接手段（reception means）を備えていてもよい。
【００１５】
上記の場合、磁気装置は該応接手段に挿入されるように適合されているのが好ましい。これにより、磁気装置と応接手段はお互いに簡単に挿入されることになり、たとえば無頭ねじにより、所定の場所に配される。これにより、取り付けが非常に容易となる。さらに、保持デバイスは、ねじ込み接続方式で磁気装置に取り付けられることが好ましい。これにより、磁気装置と保持デバイスの間の信頼性の高い結合が保証される。
【００１６】
好ましくは、磁気装置を使用位置から非使用位置まで移動させるためのリフトオフ手段（lift-off means）が設けられる。これにより、磁気装置がより容易に離される。このリフトオフ手段は磁気装置に取り付けられているのが好ましい。この場合、リフトオフ手段を保持デバイスに取り付ける必要がなく、保持デバイスの構造が簡単になる。加えて、位置決め素子全体がよりコンパクトになる。
【００１７】
リフトオフ手段が、シャッター支持体に係合する偏心輪（eccentric）を備えている場合、簡単であってしかも有効なリフトオフ手段となり、これにより、磁気装置を使用位置から非使用位置まで移動させる。この場合、リフトオフ手段を操作するためのレバーを設けることが好ましい。これにより、非常に簡単なリフトオフ手段が実現される。好ましくは、該レバーと該偏心輪は互いに堅固に結合されて、磁気装置上に回転可能に支持されている。
【００１８】
さらに、偏心輪は、磁気装置の一つの側面の向かい側にある側面よりも、該一つの側面の近くに位置するように配置されていることが好ましい。これにより、磁気装置がリフトオフされた時、偏心輪は非対称効果を発現する。そして、磁気装置をリフトオフするためにかけなければならない力が低減される。
【００１９】
好ましくは、支持ユニットは、持ち上げ力を発生する弾性スプリング要素を備えている。これにより、非常に簡単な支持ユニットが実現される。この弾性スプリング要素は圧縮ばねであることが好ましい。圧縮ばねは強い力を発揮し、しかも安価な部品である。また、この弾性スプリング要素はエラストマーを含んでいてもよい。エラストマーを使用することで、非常に簡単で安価なスプリング要素が実現される。
【００２０】
このエラストマーはゴムであってよい。ゴムは安価であり、永久的な弾性スプリング要素を実現するのに適している。あるいは、弾性スプリング要素はプラスチックばねを備えていてもよい。これにより、支持ユニットと保持デバイスを軽量になるようにデザインできる。弾性スプリング要素が、磁気装置が非使用位置から使用位置まで移動している時にシャッター支持体の上をスライドすることにより端部が横方向に広がる曲がりシートである場合、特にコンパクトな構造を有する位置決め素子が実現される。
【００２１】
好ましくは、支持ユニットはレストオン手段（rest-on means）を備えており、このレストオン手段は保持デバイス内に変位可能に支持されるとともに、少なくとも磁気装置が非使用位置にあるとき、シャッター支持体の上に載る。そして、レストオン手段と保持デバイスの間にスプリング手段が収容される。これにより、支持ユニットが、ピストン−シリンダーユニットにならってデザイン可能となり、レストオン手段が変位可能なピストンを定める。
【００２２】
好ましくは、レストオン手段は実質的にポット形状を有しており、保持デバイスの応接手段はシリンダージャケットの形状を有する。このような構造デザインにより、応接手段を同時にスプリング手段のためのガイド要素として使用できる。操作上の信頼性を高めるために、レストオン手段は保持デバイスに専属的に結合されていることが好ましい。
【００２３】
できるだけ高い支持力を得るために、スプリング手段のばね力は調節可能であることが好ましい。したがって、ばね力を調節するために調節ねじが設けられることが好ましい。この調節ねじで簡単に調節ができる。スプリング手段自体が調節スレッド（thread）を備えていてもよい。スプリング手段自体を回転させることによって調節を実行することもできる。この場合、保持デバイスが、スレッド形状の構造を有する応接手段を備えていなければならない。
【００２４】
保持デバイスを磁気装置内に統合させることも可能である。こうすることで、位置決め素子と磁気装置を含む非常にコンパクトな構造が実現可能となる。この場合、保持デバイスが磁気装置内に孔により形成されてもよい。こうすることで、保持デバイスの構造を非常に簡単なものにすることができる。保持デバイスを接着剤によって磁気装置に結合させることもできる。これによって、非常に簡単で安価な構造が実現できる。
【００２５】
また、磁気装置と上記のような位置決め素子とを含む組み立てセット（building set）も本発明に含まれる。同様に、上記のような位置決め素子を備えたシャッター手段も本発明に含まれる。ここで、シャッター手段と保持デバイスは一体に形成されていることが好ましい。この場合、保持デバイスはシャッター手段と一緒に一つのサイクルで製造することができる。
【００２６】
磁気装置とシャッター手段は堅固に相互に結合していることが好ましい。これにより、シャッター手段と磁気装置に関して、安定でコンパクトな構造デザインが得られる。さらに、磁石をシャッター手段内に安定にアンカー（anchor）させることもできる。磁気装置が非使用位置にあるときは、シャッター手段をシャッター支持体から離間させていることが好ましい。これにより、シャッター支持体の上でシャッター手段を容易に変位させることができ、予め決めた位置に移動させることができる。その後、シャッター手段は、一つ又は複数の支持ユニット上に載せられる。
【００２７】
磁気装置が使用位置にあるときは、シャッター手段と保持デバイスはシャッター支持体の上に載っていることが好ましい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下に、好ましい実施形態を参照しながら本発明を詳細に説明する。
【００２９】
図１は本発明の位置決め素子１の第１の好ましい実施形態を磁気装置２と共に示しており、該磁気装置２の上にはリフトオフ手段３が設けられている。位置決め素子１は磁気装置２と共に組み立てセットを構成するとともに、シャッター素子をも構成している。磁気装置２は実質的に平行六面体の形状を有する永久磁石であり、実質的に平坦な底面４と、該底面４に平行な上面５と、底面４と上面５の間に互いに直交して配されている四つの側面６を有する。上から見ると、この磁気装置は実質的に長方形（square）である。
【００３０】
磁気装置２が使用位置にあるときは、磁気装置２の底面４が強磁性シャッター支持体７に接触している。磁気装置が使用位置にあるときの状態が図２に示されている。磁気装置２が非使用位置にあるときは、図１に示されているように、磁気装置２の底面４と強磁性シャッター支持体７とは離れている。磁気装置２の上面５の上には棒形状の操作デバイス８が設けられており、この操作デバイス８により、磁気装置が非使用位置にあるときは、磁気装置２がシャッター支持体７の上を移動できるようになっている。この操作デバイス８はまた、磁気装置２を非使用位置から使用位置まで移動させるために用いることができる。
【００３１】
磁気装置の側面６のうちの一つの側面６の上には、ベアリングピン９と、該ベアリングピン９の周りを枢動可能な偏心輪１０が設けられている。該偏心輪１０にはレバー１１が取り付けられている。図１においては、偏心輪１０はシャッター支持体７と係合しており、この状態において、磁気装置２は、レバー１１を操作することにより、その使用位置から非使用位置まで移動可能となっている。図３から見てとれるように、ベアリングピン９は当該側面６の右端よりも左端に近い位置にあり、これにより、実質的に磁気装置２の一つの角（隅）において偏心輪１０がシャッター支持体７に係合し易くなっている。
【００３２】
磁気装置２には、四つの保持デバイス１２が取り付けられており、それぞれ二つの前記保持デバイスが前記磁気装置の一つの側面と関与している。保持デバイス１２は磁気装置２の相対向する側面に配置される。保持デバイス１２は、図示していないねじ結合により、又は接着剤により磁気装置２へ取り付けられる。とりわけ、保持デバイス１２は磁気装置２へ取り外し可能に結合していてよい。位置決め素子が稼働している時、保持デバイス１２は磁気装置２へ堅固に結合されている。
【００３３】
各保持デバイス１２は、ポット形状のレストオン手段１４とスプリング手段１５を含む支持ユニット１３を備えている。レストオン手段１４には、保持デバイス１２の円筒状の内表面１７内に軸方向変位可能に収容される円筒状の外表面１６が設けられている。スプリング手段１５は、両端にねじ込みボルト１９，２０を備えたゴム製の弾性スプリング要素１８を含む。ねじ込みボルト１９はレストオン手段１４のねじ穴２１内に収容され、ねじ込みボルト２０は保持デバイス１２のねじ穴２２内に収容される。このように、レストオン手段１４と弾性スプリング要素１８は保持デバイス１２へ専属的に結合されている。
【００３４】
図５は、磁気装置２が非使用位置にあるときの支持ユニット１３を示す。この場合、レストオン手段１４はそのレストオン表面２３と共に保持デバイス１２から突き出ている。このとき、レストオン表面２３は、シャッター支持体７の上に載っている。
【００３５】
図６は、磁気装置２が使用位置にあるときの支持ユニット１３を示す。磁気装置２が使用位置にあるとき、スプリング手段１５は圧縮されている。
【００３６】
スプリング手段１５は圧縮ばねとして作用する。すなわち、使用位置にある磁石の保持力に逆らう持ち上げ力（lifting force）を発生する。磁気装置が使用位置にあるとき、この持ち上げ力は磁気装置の保持力よりもずっと弱い。したがって、磁気装置２はシャッター支持体７と堅固に接触している。磁気装置が非使用位置にあるときは、磁気装置２はシャッター支持体７から離されており、磁石が発生する保持力は大きく減少する。スプリング手段１５による持ち上げ力は、シャッター支持体７の非使用時において、その持ち上げ力が、磁気装置２の残留保持力と磁気装置２の重量の和よりも大きくなり、これにより、持ち上げ力が非使用位置にある磁気装置２を保持するのに十分な大きさとなるように設定されている。
【００３７】
スプリング手段１５は、磁気装置が非使用位置にあるとき、レストオン手段１４が磁気装置２の底面４を越えて突出し、スプリング手段１５が磁気装置２の底面４の上方で終わっているだけとなっているようにデザインされていてもよい。その場合、スプリング手段１５は磁気装置２の横に配置される。しかしながら、好ましくは、スプリング手段１５は、非使用位置にある磁気装置２の底面４の下方で終わっているべきである。このようにして、位置決め素子をよりコンパクトな構造にすることができる。
【００３８】
以下に、本発明の位置決め素子の動作について詳細に説明する。シャッター要素でシャッター動作を生じさせるため、磁気装置２が非使用の位置にあるとき、位置決め素子は磁気装置２と共にシャッター支持体上を所望の位置に向かって変位する。所望の位置に到達するとすぐに、シャッター支持体７の方向へ作用する押圧力が操作デバイス８にかかる。この押圧力は保持力を上回り、磁気装置２は保持デバイスと共に非使用位置から使用位置へ移動させられる。このプロセスにおいて、スプリング手段１５のスプリング要素１８が圧縮される。そして、シャッター要素が位置決め素子１又は磁気装置２に結合させられ、シャッター動作が完了する。
【００３９】
磁気装置２を引き離すには、レバー１１を操作して偏心輪１０を回転させ、偏心輪１０をシャッター支持体７と係合させる。図１，図２においてレバーを反時計回りに動かすと、偏心輪１０に引き離し力が発生し、これにより、磁気装置２がシャッター支持体７から引き離される。磁気装置２とシャッター支持体７の間隔が増加するにつれて保持力は減少するので、リフトオフ手段３で磁気装置２の一つの角（隅）を持ち上げることが効果的であることがわかる。これにより、磁石の保持力が大きく減少して、スプリング手段の持ち上げ力が、磁気装置２を使用位置から非使用位置まで移動させるのに十分となる。そして、位置決め素子１は磁気装置２と共に、シャッター支持体７上を他の位置へ変位可能となる。すなわち、このプロセスにおいて、操作者は操作レバー８を操作することにより、位置決め素子１を動作させることができる。
【００４０】
保持デバイス１２の構造デザインにより、位置決め素子１を非常にコンパクトにできる。保持デバイス１２は平滑な表面を持つようにデザインされているので、使用者に容易に認識できる位置決め素子を提供している。たとえば、磁気装置２が非使用位置にあるとき、保持デバイス１２の下縁は、シャッター支持体７のわずか上方に位置しているので、位置決め素子１、したがって磁気装置２は、たとえば予め決めたラインに沿って精密に位置決めされ、整列され得る。
【００４１】
複数の保持デバイス１２が設けられているので、ちがった寸法を持つ磁気装置２に保持デバイスを取り付けることができる。たとえば、大サイズの磁気装置２には多数の保持デバイス１２を取り付けることも考えられる。スペースの条件を考慮したときに必要と判断される場合は、磁気装置２の異なる場所に保持デバイス１２を取り付けることもできる。保持デバイス１２間の間隔を大きくして、あるいは反対に小さくして磁気装置２に取り付けることもできる。かくして、ちがった寸法や強さを持った磁気装置２、及び複数の保持デバイス１２からなる組み立てセットを創作することができる。すなわち、位置決め素子１を個別にデザインすることができる。
【００４２】
以下に、図７と図８を参照して、本発明の位置決め素子の第２の好ましい実施形態を詳細に説明する。その際、繰り返しを避けるため、同一の構成要素には同一の参照符号を付し、第１の好ましい実施形態と比べた場合の異なっている点だけを説明する。
【００４３】
第２の実施形態においては、スプリング要素１８に代えて、鋼鉄製又はプラスチック製の圧縮ばね２４が使用される。図７には、磁気装置２が非使用位置にある状態において、支持ユニット付きの保持デバイスが示されている。図８には、磁気装置２は使用位置にあり、したがって圧縮ばね２４は圧縮されている。レストオン手段１４には、ロッド状部材２７が貫通する孔６を有するカバー２５が設けられている。ロッド状部材２７の上にはストップ２８が設けられている。ロッド状部材２７は、ねじ結合により保持デバイス１２に固定されている。ストップ２８はカバー２５と共に、レストオン手段１４が保持デバイス１２から引き離されるのを防止する。
【００４４】
図９〜図１１は、本発明の位置決め素子の第３の好ましい実施形態を示している。この場合も、繰り返しを避けるため、同一の構成要素には同一の参照符号を付し、異なっている点だけを以下に説明する。
【００４５】
第１の実施形態とはちがって、この第３の実施形態の位置決め素子における保持デバイス１２は、磁気装置２に取り付けられ、磁気装置２との間にシャッター支持体７に向かって垂直に延長するばね鋼鉄シート３０を収容する板状の要素２９を含む。図１０，図１１に見られるように、ばね鋼鉄シート３０の端部３１は、図１０に示されているように磁気装置２が非使用位置から使用位置へ移動させられる時に横方向に広げられる。この変形により、必要とされる持ち上げ力が発生する。その際、端部３１がシャッター支持体７の上をスライドする。磁気装置が非使用位置にあるとき、保持デバイス１２は、ばね鋼鉄シート３０の端部３１を介してシャッター支持体７の上に載る。
【００４６】
スプリング要素を上記のようにデザインすれば、経済的に安価な構造の位置決め素子１が得られる。
【００４７】
図１２〜図１５は、本発明の位置決め素子の第４の好ましい実施形態を示している。この場合の位置決め素子の動作は、第１の実施形態と同様である。そして、スプリング要素も同様にデザインされている。第１の実施形態とちがう点は、結合プレート３２，３３が二つの保持デバイス１２の間に設けられていることであり、結合プレート３２，３３の各々が二つの保持デバイス１２を結合していることである。結合プレート３２，３３と保持デバイス１２との組み合わせが保持要素３４を定めている。図１５から見てとれるように、取り付けのために、二つの保持要素３４が横方向から磁気装置２へ向かって押される。保持要素３４は、ねじ孔３６へねじ込まれる無頭ねじ３５により、摩擦係合で磁気装置２へ取り付けられる。二つの保持デバイス１２は結合プレート３２，３３と共に、実質的にＵ形状の外形で磁気装置２の縁部を取り囲む。
【００４８】
図１６，図１７は、本発明の位置決め素子の第５の好ましい実施形態を示しており、やはり保持要素３４が設けられているが、この場合は、結合プレートの代わりに二つの保持デバイス１２を相互結合させる保持ブリッジ３７が備えられている。付加的な取り付けプレート３８が磁気装置２の上面５の上を磁気装置２の一部に沿って延長しており、穴３９とねじ４０を介して磁気装置２に結合されている。このねじ４０は磁気装置２の上面５の上に位置している。保持ブリッジ３７と保持デバイス１２のこのデザインにより、支持要素３４は、磁気装置２の当該側面６と大面積で接触している。
【００４９】
上記の場合も、圧縮ばねがスプリング要素として使用される。
【００５０】
図１８，図１９は、本発明の位置決め素子の第６の好ましい実施形態を示している。この実施形態では、保持デバイス１２が磁気装置２に統合されている。支持ユニット１３を収容するブラインド穴４１によって上記の統合構造が形成される。この統合構造においては、磁気装置と位置決め素子のコンパクトな組み合わせ構造が実現されている。層構造を持つ磁気装置が使用される場合は、垂直に縦方向に延長する層の一つを部分的にブレークスルーして、支持ユニットのための応接手段を形成してもよい。
【００５１】
図２０〜図２２は、本発明の位置決め素子の第７の好ましい実施形態を示している。その動作は前記第３の実施形態と本質的に同様である。この実施形態においても、ばね鋼鉄シート３０が設けられている。しかしながら、この実施形態で保持要素として用いられている部品は、ばね鋼鉄シート３０を磁気装置２に取り付けているねじ４２である。
【００５２】
図２３，図２４は、本発明の位置決め素子の第８の好ましい実施形態を示している。この実施形態では、複数の保持デバイス１２がシャッター手段４１と一体に形成されている。図２３は断面図であり、保持デバイス１２のうち二つが見える。シャッター手段４１は本質的に平行六面体の形状を有しており、シャッター側面４２と、二つのシャッター側面４２を相互結合させる頂面４３を含む。磁気装置２は磁石受け入れ手段４４内に収容される。示されている実施形態では、磁気装置２は、接着剤により磁石受け入れ手段４４に固定されている。磁気装置２の底面４は、保持デバイス１２やシャッター手段４１と同一平面（同じ高さ）をなしている。支持ユニット１３の構造は、たとえば第１の実施形態と同様である。
【００５３】
磁気装置２が使用位置にあるとき、磁気装置２の底面４と保持デバイス１２とシャッター手段４１はそれぞれシャッター支持体７の上に載っている。一方、磁気装置２が非使用位置にあるとき、シャッター手段４１は支持ユニット１３に支えられているだけである。すなわち、シャッター側面４２はシャッター支持体７から離れている。示されている実施形態では、支持ユニットが、本質的に平行六面体の形状を有するシャッター手段の四つの角（隅）に設けられている。このようにして、シャッター手段が容易にかつ迅速に所望の位置まで移動させられる。
【００５４】
所望に位置に到達すると、シャッター手段は、シャッター手段内に固定的に保持された磁気装置と共に下げられる。磁気装置が使用位置にあるとき、シャッター側面もシャッター支持体の上に載る。シャッター手段を解放するためには、図示していないが、リフトオフ手段、たとえば偏心輪が設けられる。この偏心輪は、たとえば磁気装置２の底面４の中央から突出し、シャッター手段を通して延長するレバーを介して、既知の態様で操作可能である。このように、シャッター動作を発現するシャッター側面４２を使用することができる。
【００５５】
図２５，図２６は、たとえば図１に示された実施形態において使用されるタイプの保持デバイスと支持ユニットの拡大図である。底面４６が接着剤でばね２４に固定された調節ねじ４５が付加的に設けられている。調節ねじ４５が、調節スレッド４７内に回転可能かつ調節可能に収容される。調節ねじ４５を回転させることによって、ばね２４のプレテンション（pretension）を変えることができる。この目的のために、レストオン手段１４が保持デバイス内に専属的に収容される。調節ねじ４５を回転させることによって、調節ねじ４５の底面とレストオン表面の間の間隔を変えることができ、これにより、ばね２４のプレテンションを変えることができる。図２６において、磁気装置２が使用位置にあるとき、保持デバイスとシャッター支持体の間にわずかな間隙が残ることが容易に見てとれる。磁気装置はシャッター支持体の上に完全に載っているので、磁石と保持デバイスの間の接触を決めるうえでの冗長を回避することができる。
【００５６】
図２７，図２８は、図２５，図２６に示された保持デバイスと支持ユニットに関する別の実施形態を示している。この実施形態では、ばね２４の端部に、ねじ込み部分４８が設けられており、ねじ込み部分４８は、保持デバイス１２内とレストオン手段１４内のスレッド（thread）４９，５０の中へねじ込まれる。レストオン手段１４を回転させることにより、レストオン手段１４と保持デバイス１２の間の間隔を変えることができ、これにより、ばね２４のプレテンションを変えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明の位置決め素子の第１の実施形態を示す、図３のＩ−Ｉ線に沿った断面図であり、磁気装置は非使用位置にある。
【図２】図１の位置決め素子を示しており、磁気装置は使用位置にある。
【図３】図１の位置決め素子を示しており、図２のIII−III線に沿った上断面図である。
【図４】図１の位置決め素子を示しており、図３のIV−IV線に沿った断面図である。
【図５】保持デバイスと支持ユニットを示しており、図１の部分拡大図である。
【図６】図５の保持デバイスと支持ユニットを示しており、図２の部分拡大図である。
【図７】磁気装置が非使用位置にあるときの保持デバイスと支持ユニットの第２の実施形態を示す。
【図８】磁気装置が使用位置にあるときの図７の保持デバイスと支持ユニットを示す。
【図９】位置決め素子の第３の実施形態を示す側面図であり、磁気装置は非使用位置にある。
【図１０】図９の位置決め素子を示しており、図９のＸ−Ｘ線に沿った断面図であり、磁気装置は使用位置にある。
【図１１】図９の位置決め素子を示しており、図９のＸ−Ｘ線に沿った断面図であり、磁気装置は非使用位置にある。
【図１２】位置決め素子の第４の実施形態を示しており、図１と同様に示した図である。
【図１３】図１２の位置決め素子を示しており、磁気装置は使用位置にある。
【図１４】図１２の位置決め素子を示しており、図３と同様に示した図である。
【図１５】図１２の位置決め素子の取り付けを示した図である。
【図１６】位置決め素子の第５の実施形態を示しており、図１と同様に示した図である。
【図１７】図１６の位置決め素子の取り付けを示した図である。
【図１８】位置決め素子の第６の実施形態を示しており、図１と同様に示した図である。
【図１９】図１８に示した実施形態の上面図である。
【図２０】位置決め素子の第７の実施形態を示しており、図１と同様に示した図である。
【図２１】図２０の位置決め素子の上面図である。
【図２２】図２０の位置決め素子の側面図である。
【図２３】位置決め素子の第８の実施形態を示しており、位置決め素子はシャッター手段内に統合されており、磁気装置は非使用位置にある。
【図２４】図２３の実施形態を示し、磁気装置は使用位置にある。
【図２５】保持デバイスと支持ユニットの別の実施形態を示しており、図１の部分拡大図であり、磁気装置は非使用位置にある。
【図２６】図２５の実施形態を示し、磁気装置は使用位置にある。
【図２７】保持デバイスと支持ユニットの更に別の実施形態を示しており、図２５と同様に示した図であり、磁気装置は非使用位置にある。
【図２８】図２７の保持デバイスと支持ユニットを示し、磁気装置は使用位置にある。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【国際調査報告】
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