(57)【要約】      （修正有）【課題】審美性に優れ（特に、適度な光沢感を有しつつも、明度が高すぎず落ち着いた印象の高級感のある外観を呈し）、耐食性に優れるとともに、耐擦性、耐摩耗性にも優れる時計用部品を提供する。【解決手段】時計用部品１０は、基材１と、Ｃｏを主成分とし、Ｃｒを２６質量％以上３０質量％以下の含有率、Ｍｏを５質量％以上７質量％以下の含有率で含む材料で構成された第１の被膜２とを備え、第１の被膜２の表面は、原子間力顕微鏡による測定を行った場合の、平坦面を基準としたときの表面積増加率が１．５％以上５．０％以下である。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、
Ｃｏを主成分とし、Ｃｒを２６質量％以上３０質量％以下の含有率、Ｍｏを５質量％以上７質量％以下の含有率で含む材料で構成された第１の被膜とを備え、
前記第１の被膜の表面は、平坦面を基準としたときの表面積増加率が１．５％以上５．０％以下であることを特徴とする時計用部品。
【請求項２】
前記第１の被膜が視認される側の面についてのＪＩＳ  Ｚ  ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図におけるＬ＊が７０．０以上７８．４以下である請求項１に記載の時計用部品。
【請求項３】
前記基材は、ステンレス鋼、Ｔｉの少なくとも一方を含む材料で構成されたものである請求項１または２に記載の時計用部品。
【請求項４】
前記基材と前記第１の被膜との間に、Ｔｉを含む材料で構成された下地層が少なくとも１層設けられている請求項１ないし３のいずか１項に記載の時計用部品。
【請求項５】
前記基材と前記第１の被膜との間に、ＴｉＣ、ＴｉＣＮの少なくとも一方を含む材料で構成された第２の被膜が設けられている請求項１ないし４のいずれか１項に記載の時計用部品。
【請求項６】
前記基材と前記第１の被膜との間に、ＴｉＣ、ＴｉＣＮの少なくとも一方を含む材料で構成された第２の被膜が設けられ、
前記第２の被膜の両面側にそれぞれ前記下地層が設けられている請求項４に記載の時計用部品。
【請求項７】
前記第２の被膜は、厚さ方向に組成が傾斜的に変化する部位を有するものである請求項５または６に記載の時計用部品。
【請求項８】
前記第２の被膜は、当該第２の被膜の表面側に向かってＣおよびＮの含有率の和が低下する領域を有するものである請求項５ないし７のいずれか１項に記載の時計用部品。
【請求項９】
前記第２の被膜は、当該第２の被膜の両面側にそれぞれ前記領域を有するものである請求項８に記載の時計用部品。
【請求項１０】
前記第２の被膜の厚さが０．０５μｍ以上４．０μｍ以下である請求項５ないし９のいずれか１項に記載の時計用部品。
【請求項１１】
前記第１の被膜の厚さが０．０２μｍ以上２．０μｍ以下である請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の時計用部品。
【請求項１２】
時計用部品は、ケースまたはバンドである請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の時計用部品。
【請求項１３】
請求項１ないし１２のいずれか１項に記載の時計用部品を備えたことを特徴とする時計。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、時計用部品および時計に関する。
【背景技術】
【０００２】
時計は、実用品としての機能が求められるとともに、装飾品として優れた審美性（美的外観）が要求される。
【０００３】
このため、ケース、バンド等の時計用部品には、優れた質感を有する貴金属材料が用いられている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
しかしながら、貴金属材料は、一般に高価であるとともに、硬度が低く、傷つきやすい（耐擦性に劣る）等の問題があった。
【０００５】
また、従来においては、適度な光沢感を有しつつも、明度が高すぎず落ち着いた印象の高級感のある外観を得るのが困難であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第２９９０９１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、審美性に優れ（特に、適度な光沢感を有しつつも、明度が高すぎず落ち着いた印象の高級感のある外観を呈し）、耐食性に優れるとともに、耐擦性、耐摩耗性にも優れる時計用部品を提供すること、また、前記時計用部品を備えた時計を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の時計用部品は、基材と、
Ｃｏを主成分とし、Ｃｒを２６質量％以上３０質量％以下の含有率、Ｍｏを５質量％以上７質量％以下の含有率で含む材料で構成された第１の被膜とを備え、
前記第１の被膜の表面は、原子間力顕微鏡による測定を行った場合の、平坦面を基準としたときの表面積増加率が１．５％以上５．０％以下であることを特徴とする。
【０００９】
これにより、審美性に優れ（特に、適度な光沢感を有しつつも、明度が高すぎず落ち着いた印象の高級感のある外観を呈し）、耐食性に優れるとともに、耐擦性、耐摩耗性にも優れる時計用部品を提供することができる。
【００１０】
本発明の時計用部品では、前記第１の被膜が視認される側の面についてのＪＩＳ  Ｚ  ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図におけるＬ＊が７０．０以上７８．４以下であることが好ましい。
【００１１】
これにより、時計用部品の光沢感をより好適なものとし、より高級感のある外観を得ることができる。
【００１２】
本発明の時計用部品では、前記基材は、ステンレス鋼、Ｔｉの少なくとも一方を含む材料で構成されたものであることが好ましい。
【００１３】
これにより、時計用部品の耐久性をより優れたものとすることができる。また、第１の被膜の厚さが比較的薄い場合等において、時計用部品全体としての外観に好適な影響を与えることができ、時計用部品全体としての審美性をより確実に優れたものとすることができる。
【００１４】
本発明の時計用部品では、前記基材と前記第１の被膜との間に、Ｔｉを含む材料で構成された下地層が少なくとも１層設けられていることが好ましい。
【００１５】
これにより、時計用部品の耐久性をより優れたものとすることができる。また、時計用部品全体としての微妙な色味の調整を行うことができ、時計用部品の審美性をより確実に優れたものとすることができる。
【００１６】
本発明の時計用部品では、前記基材と前記第１の被膜との間に、ＴｉＣ、ＴｉＣＮの少なくとも一方を含む材料で構成された第２の被膜が設けられていることが好ましい。
【００１７】
これにより、時計用部品の硬度をより高いものとすることができ、時計用部品の耐打痕性（打痕の付き難さ）等をより優れたものとすることができ、時計用部品の耐久性をより優れたものとすることができる。また、色味の調整（特に、光沢度の調整）を好適に行うことができる。
【００１８】
本発明の時計用部品では、前記基材と前記第１の被膜との間に、ＴｉＣ、ＴｉＣＮの少なくとも一方を含む材料で構成された第２の被膜が設けられ、
前記第２の被膜の両面側にそれぞれ前記下地層が設けられていることが好ましい。
【００１９】
これにより、時計用部品の耐久性をさらに優れたものとすることができる。また、時計用部品全体としての微妙な色味の調整を行うことができ、時計用部品の審美性をより確実に優れたものとすることができる。
【００２０】
本発明の時計用部品では、前記第２の被膜は、厚さ方向に組成が傾斜的に変化する部位を有するものであることが好ましい。
【００２１】
これにより、例えば、時計用部品の耐打痕性、耐擦性、耐磨耗性等の向上や、色味の調整（特に、光沢度の調整）等といった第２の被膜を設けることによる効果を得つつ、時計用部品の耐久性をより優れたものとすることができる。
【００２２】
本発明の時計用部品では、前記第２の被膜は、当該第２の被膜の表面側に向かってＣおよびＮの含有率の和が低下する領域を有するものであることが好ましい。
【００２３】
これにより、例えば、時計用部品の耐打痕性、耐擦性、耐磨耗性等の向上や、色味の調整（特に、光沢度の調整）等といった第２の被膜を設けることによる効果を得つつ、時計用部品の耐久性をさらに優れたものとすることができる。
【００２４】
本発明の時計用部品では、前記第２の被膜は、当該第２の被膜の両面側にそれぞれ前記領域を有するものであることが好ましい。
これにより、時計用部品の耐久性を特に優れたものとすることができる。
【００２５】
本発明の時計用部品では、前記第２の被膜の厚さが０．０５μｍ以上４．０μｍ以下であることが好ましい。
【００２６】
これにより、時計用部品の硬度をさらに高いものとすることができ、時計用部品の耐打痕性（打痕の付き難さ）等をより優れたものとし、時計用部品の耐久性をさらに優れたものとすることができる。また、時計用部品全体としての微妙な色味の調整をより好適に行うことができる。
【００２７】
本発明の時計用部品では、前記第１の被膜の厚さが０．０２μｍ以上２．０μｍ以下であることが好ましい。
【００２８】
これにより、時計用部品の生産コストを抑制しつつ、時計用部品全体としての光沢感、審美性や、耐擦性、耐摩耗性等をより優れたものとすることができる。また、時計用部品の耐久性をより優れたものとすることができる。
【００２９】
本発明の時計用部品は、ケースまたはバンドであることが好ましい。
これらの部品（時計用部品）は、時計全体の外観に大きな影響を与えるものであるため、これらの部品に本発明が適用されることにより、時計全体としての審美性をより優れたものとすることができる。また、これらの部品は、時計の使用時等において、通常、外部に露出する部品であり、また、皮膚に接触しやすいものであり、各種部品の中でも、特に優れた耐擦性、耐摩耗性、耐アレルギー性（アレルギー反応の起こしにくさ）等に優れることが特に強く求められる。したがって、これらの部品に本発明が適用されることにより、前述したような本発明による効果がより顕著に発揮される。
【００３０】
本発明の時計は、本発明の時計用部品を備えたことを特徴とする。
これにより、審美性に優れ（特に、適度な光沢感を有しつつも、明度が高すぎず落ち着いた印象の高級感のある外観を呈し）、耐食性に優れるとともに、耐擦性、耐摩耗性にも優れる時計用部品を備えた時計を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本発明の時計用部品の第１実施形態を模式的に示す断面図である。
【図２】本発明の時計用部品の第２実施形態を模式的に示す断面図である。
【図３】本発明の時計用部品の第３実施形態を模式的に示す断面図である。
【図４】本発明の時計用部品の第４実施形態を模式的に示す断面図である。
【図５】本発明の時計用部品の第５実施形態を模式的に示す断面図である。
【図６】本発明の時計（腕時計）の好適な実施形態を模式的に示す部分断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
以下、添付する図面を参照しつつ、好適な実施形態について詳細な説明をする。
《時計用部品》
まず、本発明の時計用部品について説明する。
【００３３】
［第１実施形態］
図１は、本発明の時計用部品の第１実施形態を模式的に示す断面図である。以下、図１中の上側が観察者の視点側である場合について、中心的に説明する（後述する図２〜図５についても同様）。
【００３４】
時計用部品１０は、基材１と、Ｃｏを主成分とし、Ｃｒを２６質量％以上３０質量％以下の含有率、Ｍｏを５質量％以上７質量％以下の含有率で含む材料で構成された第１の被膜２とを備えている。
【００３５】
そして、第１の被膜２の表面２２（基材１に対向する第１の面２１とは反対側の第２の面２２）は、原子間力顕微鏡による測定を行った場合の、平坦面を基準としたときの表面積増加率が１．５％以上５．０％以下である。
【００３６】
このような構成により、審美性に優れ（特に、適度な光沢感を有しつつも、明度が高すぎず落ち着いた印象の高級感のある外観を呈し）、耐食性に優れるとともに、耐擦性、耐摩耗性にも優れる時計用部品１０を提供することができる。特に、貴金属を主材料として使用しなくても、上記のような優れた外観が得られる。また、基材１として、種々の材料で構成されたものを用いた場合でも、時計用部品１０全体としての審美性等を優れたものすることができ、基材１の選択の幅が広い。また、上記のような第１の被膜２の構成材料は、アレルギーの問題を生じにくい材料である。また、第１の被膜２の厚さが比較的薄い場合であっても、優れた審美性が得られるため、時計用部品１０の製造コストを抑制することができ、時計用部品１０の生産性を優れたものとすることができる。
【００３７】
特に、第１の被膜２の表面（第２の面）２２の表面積増加率が前記範囲内の値であることにより、適度な光沢感を有しつつも、明度が高すぎず落ち着いた印象の高級感のある外観を呈するものとなり、時計用部品１０の審美性は特に優れたものとなる。また、時計用部品１０は、傷等がより付きにくいものになるとともに、仮に傷等がついた場合でも、当該傷等が目立ちにくく、審美性の低下を抑制することができる。
【００３８】
これに対し、上記のような条件を満足しない場合には、上記のような優れた効果が得られない。
【００３９】
例えば、第１の被膜２中におけるＣｒの含有率が前記下限値未満であると、耐食性、耐擦性、耐磨耗性が不十分となる。
【００４０】
また、第１の被膜２中におけるＣｒの含有率が前記上限値を超えると、審美性が低下し、高級感のある光沢感が得られない。
【００４１】
また、第１の被膜２中におけるＭｏの含有率が前記下限値未満であると、耐擦性、耐磨耗性が不十分となる。
【００４２】
また、第１の被膜２中におけるＭｏの含有率が前記上限値を超えると、審美性が低下し、高級感のある光沢感が得られない。
【００４３】
また、第１の被膜２として、Ｃｏ、ＣｒおよびＭｏを含む合金で構成された被膜の代わりに、Ｐｔ等の貴金属材料で構成されたものを用いると、耐擦性、耐磨耗性が著しく低いものとなる。
【００４４】
また、表面積増加率が小さすぎると、時計用部品１０の審美性が劣ったものになるわけではないが、明度が高くなりすぎ、華美な印象を与えてしまい、落ち着いた印象の高級感のある外観が得られない。また、時計用部品１０は、傷等が付きやすいものになるとともに、傷等がついた場合に、当該傷等が目立ちやすく、審美性の低下を招きやすい。
【００４５】
また、表面積増加率が大きすぎると、明度が不十分となり、十分な光沢感が得られず、時計用部品１０の審美性が低下する。
【００４６】
第１の被膜２の表面２２についての表面積増加率は、凹凸が全く無いと仮定した場合の表面（平坦面）の面積（投影面積）を基準にして、原子間力顕微鏡を用いた測定により求められたサンプルの実表面積（極微小なナノメーターオーダーの凹凸が形成された表面の面積）との比（比表面積）を求め、その増加分を百分率で表したものである。言い換えると、実表面積をＡ［μｍ２］とし、サンプル表面が完全に平坦とした時の測定対象投影面積をＢ［μｍ２］としたとき、表面積増加率Ｃ［％］は以下のように定義される。
Ｃ＝［（Ａ／Ｂ）−１］×１００
【００４７】
原子間力顕微鏡を用いた測定は、例えば、サンプル表面の５μｍ角の領域について行うことができる。
【００４８】
また、測定視野を変えて複数箇所（例えば、５箇所）について測定を行い、その平均値に基づいて、表面積増加率を求めてもよい。
【００４９】
原子間力顕微鏡としては、例えば、ディジタル・インストルメント（Digital Instruments）社製の「ナノスコープIIIａ」等が挙げられる。
【００５０】
例えば、時計用部品１０の種々の製造条件を調整することにより、上記のような表面積増加率の条件を満足するようにすることができる。より具体的には、例えば、第１の被膜２の成膜条件や、第１の被膜２の形成後の表面加工（例えば、研磨加工や粗面化加工等）、第１の被膜２の成膜前における母材（基材１等）の表面状態の調整等により、上記表面積増加率の条件を調整することができる。
【００５１】
≪基材≫
基材１は、第１の被膜２等を支持する支持体としての機能を有するものである。
基材１は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、基材１の構成材料としては、例えば、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｂｉ、Ｍｇや、これらのうち少なくとも１種を含む合金等の金属材料；アルミナ、ジルコニア、チタニア等の酸化物系セラミックス、ハイドロキシアパタイト等の水酸化物系セラミックス、窒化ケイ素等の窒化物系セラミックス、炭化ケイ素等の炭化物系セラミックス、蛍石等のハロゲン化物系セラミックス、炭酸塩系セラミックス、リン酸塩系セラミックス等の各種セラミックス材料；サファイアガラス、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等のガラス材料；各種熱可塑性樹脂、各種硬化性樹脂等のプラスチック材料等が挙げられる。
【００５２】
これらの中でも、基材１は、金属材料であるのがよく、特に、ステンレス鋼、Ｔｉの少なくとも一方を含む材料で構成されたものであるのが好ましい。
【００５３】
これにより、高強度、高耐食性を有する基材１が得られるとともに、第１の被膜２等との密着性をより優れたものとすることができ、時計用部品１０の耐久性をより優れたものとすることができる。また、第１の被膜２の厚さが比較的薄い場合等において、時計用部品１０全体としての外観に好適な影響を与えることができ、時計用部品１０全体としての審美性をより確実に優れたものとすることができる。また、第１の被膜２の厚さを比較的薄くした場合でも十分に優れた審美性が得られるため、時計用部品１０の生産コストの抑制等の観点からも有利である。
【００５４】
Ｔｉとしては、純Ｔｉ、Ｔｉ合金（α合金、α−β合金、β合金）のいずれでもよい。
ステンレス鋼としては、フェライト系、オーステナイト系、マルテンサイト系、オーステナイト・フェライト系等のいずれをも用いることができる。
ここで、フェライト系ステンレス鋼の中でも、後述する実施形態で用いたＳＵＳ４４４は、極低Ｃ、極低Ｎ、１８Ｃｒ−２Ｍｏの高純度フェライト系ステンレス鋼であり、特に、耐孔食性、耐隙間腐食性、耐応力腐食割れ性に優れているため、好適に用いることができる。
【００５５】
基材１中におけるステンレス鋼およびＴｉの含有率は、９５質量％以上であるのが好ましく、９９質量％以上であるのがより好ましい。
これにより、前述したような効果がより顕著に発揮される。
【００５６】
基材１は、貴金属元素（Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｒｕ、Ｏｓ）の含有率が十分に低いものであるのが好ましく、基材１中における貴金属元素の含有率（複数種の貴金属元素を含む場合はこれらの含有率の総和）は、１．０質量％以下であるのが好ましく、０．５質量％以下であるのがより好ましく、０．１質量％以下であるのがさらに好ましい。
【００５７】
これにより、貴金属を主材料として使用しなくても、優れた外観が得られるという効果がより顕著に発揮される。
【００５８】
基材１は、各部位で均一な組成を有するものであってもよいし、組成の異なる部位を有するものであってもよい。例えば、基材１は、基部と、当該基部を被覆し当該基部とは異なる組成を有する少なくとも１層の膜を有するものや、組成が傾斜的に変化する傾斜材料（例えば、厚さ方向に組成が傾斜的に変化する傾斜材料等）で構成されたもの等であってもよい。
【００５９】
基材１の形状、大きさは、特に限定されず、通常、時計用部品１０の形状、大きさに基づいて決定される。
【００６０】
基材１は、例えば、表面に、鏡面加工（研磨加工）、粗面化処理（粗面化加工）、スジ目加工、梨地加工等の表面加工が施されたものであってもよい。また、基材１には、文字、数字、記号、模様等の凹凸パターンが設けられていてもよい。
【００６１】
これにより、例えば、時計用部品１０の表面の光沢具合にバリエーションを持たせることが可能となり、時計用部品１０の審美性をさらに向上させることができる。
【００６２】
特に、鏡面加工（研磨加工）を施すことにより、基材１の表面状態をより平滑なものとすることができ、これにより、時計用部品１０の表面（第１の被膜２の表面２２）の状態をより平滑なものとすることができる。また、後に詳述する各種の膜（例えば、第１の被膜２）は、一般に比較的薄いものであるため、当該膜に鏡面加工（研磨加工）を施す場合に比べて、基材１に鏡面加工（研磨加工）を施した場合、加工が容易で、不良品の発生率を低下させることができる。
【００６３】
また、粗面化処理（粗面化加工）を施すことにより、基材１の表面状態を適度に荒らすことができ、これにより、より確実に、時計用部品１０の表面（第１の被膜２の表面２２）が前述したような表面積増加率の条件を満足するものとすることができる。また、基材１と第１の被膜２等との密着性をより優れたものとすることができ、時計用部品１０の耐久性をより優れたものとすることができる。また、後に詳述する各種の膜（例えば、第１の被膜２）は、一般に比較的薄いものであるため、当該膜に粗面化処理（粗面化加工）を施す場合に比べて、基材１に粗面化処理（粗面化加工）を施した場合、加工が容易で、不良品の発生率を低下させることができる。
【００６４】
特に、鏡面加工（研磨加工）と粗面化処理（粗面化加工）とを組み合わせて行うことにより、さらに確実に、時計用部品１０の表面（第１の被膜２の表面２２）が前述したような表面積増加率の条件を満足するものとすることができる。
【００６５】
鏡面加工（研磨加工）と粗面化処理（粗面化加工）とを組み合わせて行う場合、鏡面加工（研磨加工）の後に粗面化処理（粗面化加工）を行うのが好ましい。これにより、前述したような効果がより確実に得られる。
【００６６】
鏡面加工は、例えば、周知の研磨方法を用いて行うことができ、例えば、バフ（羽布）研磨、バレル研磨、その他の機械研磨等を採用することができる。
【００６７】
粗面化処理としては、例えば、プラズマエッチング処理やブラスト処理等が挙げられる。
【００６８】
≪第１の被膜≫
第１の被膜２は、Ｃｏを主成分とし、Ｃｒを２６質量％以上３０質量％以下の含有率、Ｍｏを５質量％以上７質量％以下の含有率で含む材料で構成されたものである。
【００６９】
このような材料で構成された第１の被膜２は、貴金属を含んでいなくても落ち着いた印象の高級感のある光沢感を呈し、審美性に優れている。また、耐食性、耐擦性、耐摩耗性等にも優れている。
【００７０】
第１の被膜２は、Ｃｏを主成分とするものであるが、第１の被膜２中におけるＣｏの含有率は、５５質量％以上６９質量％以下であるのが好ましく、６２質量％以上６８質量％以下であるのがより好ましく、６３質量％以上６７質量％以下であるのがさらに好ましい。
【００７１】
これにより、審美性、および、耐擦性・耐摩耗性をより高いレベルで両立することができる。
【００７２】
第１の被膜２中におけるＣｒの含有率は、２６質量％以上３０質量％以下であればよいが、２６．２質量％以上２９．８質量％以下であるのが好ましく、２６．４質量％以上２９．６質量％以下であるのがより好ましく、２６．６質量％以上２９．４質量％以下であるのがさらに好ましい。
【００７３】
これにより、審美性をより優れたものとしつつ、耐食性、耐擦性、耐摩耗性を特に優れたものとすることができる。
【００７４】
第１の被膜２中におけるＭｏの含有率は、５質量％以上７質量％以下であればよいが、５．２質量％以上６．８質量％以下であるのが好ましく、５．３質量％以上６．７質量％以下であるのがより好ましく、５．４質量％以上６．６質量％以下であるのがさらに好ましい。
【００７５】
これにより、審美性、および、耐擦性・耐摩耗性をより高いレベルで両立することができる。
【００７６】
第１の被膜２は、上記以外の成分を含むものであってもよい。このような成分としては、例えば、Ｓｉ、Ｍｎ、Ｎ、Ｆｅ、Ｃ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｉｒ等が挙げられる。
【００７７】
ただし、第１の被膜２中におけるＣｏ、ＣｒおよびＭｏ以外の成分の含有率（複数種の成分を含む場合にはこれらの含有率の和）は、３．０質量％以下であるのが好ましく、２．０質量％以下であるのがより好ましく、１．５質量％以下であるのがさらに好ましい。
【００７８】
特に、第１の被膜２中における貴金属元素（Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｒｕ、Ｏｓ）の含有率（複数種の貴金属元素を含む場合はこれらの含有率の総和）は、１．０質量％以下であるのが好ましく、０．５質量％以下であるのがより好ましく、０．１質量％以下であるのがさらに好ましい。
【００７９】
これにより、貴金属を主材料として使用しなくても、優れた外観が得られるという効果がより顕著に発揮される。
【００８０】
第１の被膜２は、各部位で均一な組成を有するものであってもよいし、組成の異なる部位を有するものであってもよい。例えば、第１の被膜２は、複数の層が積層された積層体や、組成が傾斜的に変化する傾斜材料（例えば、厚さ方向に組成が傾斜的に変化する傾斜材料等）で構成されたもの等であってもよい。これにより、例えば、上記のような第１の被膜２を設けることによる効果を得つつ、第１の被膜２と基材１等との密着性をより優れたものとすることができ、時計用部品１０の耐久性をより優れたものとすることができる。
【００８１】
第１の被膜２の表面２２は、該表面２２に対し原子間力顕微鏡による測定を行った場合の、平坦面を基準としたときの表面積増加率が、１．５％以上５．０％以下であればよいが、１．６％以上４．５％以下であるのが好ましく、１．７％以上４．０％以下であるのがより好ましく、１．８％以上３．５％以下であるのがさらに好ましい。
【００８２】
これにより、時計用部品１０は、より落ち着いた印象のより高級感のある外観を有し、審美性がより優れたものとなる。
【００８３】
第１の被膜２の厚さは、０．０２μｍ以上２．０μｍ以下であるのが好ましく、０．０４μｍ以上１．８μｍ以下であるのがより好ましく、０．０７μｍ以上１．６μｍ以下であるのがさらに好ましい。
【００８４】
これにより、時計用部品１０の生産コストを抑制しつつ、時計用部品１０全体としての光沢感、審美性や、耐擦性、耐摩耗性等をより優れたものとすることができる。また、第１の被膜２の不本意な剥離等をより効果的に防止し、時計用部品１０の耐久性をより優れたものとすることができる。
【００８５】
第１の被膜２の形成方法は、特に限定されず、例えば、スピンコート、ディッピング、刷毛塗り、噴霧塗装、静電塗装、電着塗装等の塗装、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式めっき法や、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶＤ）、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、レーザーアブレーション等の乾式めっき法（気相成膜法）、溶射等が挙げられるが、乾式めっき法（気相成膜法）が好ましい。
【００８６】
第１の被膜２の形成方法として乾式めっき法（気相成膜法）を適用することにより、均一な膜厚を有し、均質で、かつ、基材１等との密着性が特に優れた第１の被膜２を確実に形成することができる。その結果、時計用部品１０の審美性、耐久性を特に優れたものとすることができる。
【００８７】
また、第１の被膜２の形成方法として乾式めっき法（気相成膜法）を適用することにより、形成すべき第１の被膜２が比較的薄いものであっても、膜厚の不本意なばらつきを十分に小さいものとすることができる。このため、時計用部品１０の信頼性を向上させる上でも有利である。
【００８８】
第１の被膜２をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時におけるＡｒガス流量は、５０ｃｃｍ以上１５０ｃｃｍ以下であるのが好ましく、８０ｃｃｍ以上１２０ｃｃｍ以下であるのがより好ましい。
【００８９】
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第１の被膜２をより好適に形成することができる。
【００９０】
第１の被膜２をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時における雰囲気圧力は、２．０Ｐａ以上７．０Ｐａ以下であるのが好ましく、２．６Ｐａ以上６．０Ｐａ以下であるのがより好ましい。
【００９１】
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第１の被膜２をより好適に形成することができる。
【００９２】
第１の被膜２をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時におけるスパッタリング装置のパワーは、０．１ｋＷ以上１．８ｋＷ以下であるのが好ましく、０．３ｋＷ以上１．４ｋＷ以下であるのがより好ましい。
【００９３】
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第１の被膜２をより好適に形成することができる。
【００９４】
第１の被膜２をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時におけるバイアス電圧は、−１２０Ｖ以上−１０Ｖ以下であるのが好ましく、−８０Ｖ以上−３０Ｖ以下であるのがより好ましい。
【００９５】
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第１の被膜２をより好適に形成することができる。
【００９６】
第１の被膜２をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時における基材１の温度は、７０℃以上１７０℃以下であるのが好ましく、８０℃以上１４５℃以下であるのがより好ましい。
【００９７】
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第１の被膜２をより好適に形成することができる。
【００９８】
第１の被膜２は、例えば、表面に、鏡面加工（研磨加工）、粗面化処理（粗面化加工）等の表面加工が施されたものであってもよい。
【００９９】
これにより、より確実に、時計用部品１０の表面（第１の被膜２の表面２２）が前述したような表面積増加率の条件を満足するものとすることができる。
【０１００】
特に、鏡面加工（研磨加工）と粗面化処理（粗面化加工）とを組み合わせて行うことにより、さらに確実に、時計用部品１０の表面（第１の被膜２の表面２２）が前述したような表面積増加率の条件を満足するものとすることができる。
【０１０１】
鏡面加工（研磨加工）と粗面化処理（粗面化加工）とを組み合わせて行う場合、鏡面加工（研磨加工）の後に粗面化処理（粗面化加工）を行うのが好ましい。これにより、前述したような効果がより確実に得られる。
【０１０２】
第１の被膜２の表面２２（第１の被膜２が視認される側の面（時計用部品１０の使用時において観察者の視点側の面））についてのＪＩＳ  Ｚ  ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図におけるＬ＊は、７０．０以上７８．４以下であるのが好ましく、７２．０以上７８．３以下であるのがより好ましく、７４．０以上７８．２以下であるのがさらに好ましい。
【０１０３】
これにより、時計用部品１０の光沢感をより好適なものとし、時計用部品１０の審美性はより優れたものとなる。
【０１０４】
なお、Ｌ＊の測定においては、光源として、ＪＩＳ  Ｚ  ８７２０で規定されるＤ６５のものを用いることができる。また、Ｌ＊の測定時における視野角は２°とすることができる。
【０１０５】
また、第１の被膜２の表面２２（第１の被膜２が視認される側の面（時計用部品１０の使用時において観察者の視点側の面））についてのＪＩＳ  Ｚ  ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図におけるａ＊は、−２．０以上３．０以下であるのが好ましく、−１．５以上２．５以下であるのがより好ましく、−１．０以上２．０以下であるのがさらに好ましい。
【０１０６】
また、第１の被膜２の表面２２（第１の被膜２が視認される側の面（時計用部品１０の使用時において観察者の視点側の面））についてのＪＩＳ  Ｚ  ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図におけるｂ＊は、−１．０以上１０．０以下であるのが好ましく、０．０以上９．０以下であるのがより好ましく、１．０以上８．０以下であるのがさらに好ましい。
【０１０７】
このような条件を満足することにより、時計用部品１０の審美性は、特に優れたものとなる。
【０１０８】
なお、ａ＊、ｂ＊の測定においては、光源として、ＪＩＳ  Ｚ  ８７２０で規定されるＤ６５のものを用いることができる。また、ａ＊、ｂ＊の測定時における視野角は２°とすることができる。
【０１０９】
時計用部品１０は、時計を構成する部品であればいかなるものであってもよいが、時計の使用時において外部から視認しうる部品であるのが好ましく、具体的には、風防ガラス、ケース、ベゼル、裏蓋、バンド（バンドの駒、バンド中留、尾錠、バックル、バンド・バングル着脱機構等を含む）、文字板、時計用針、ローター、りゅうず（例えば、ネジロック式りゅうず等）、ボタン、ダイヤルリング、見切板等が挙げられ、中でも、ケースまたはバンドであるのが好ましい。
【０１１０】
これらの部品（時計用部品）は、時計全体の外観に大きな影響を与えるものであるため、これらの部品に本発明が適用されることにより、時計全体としての審美性をより優れたものとすることができる。また、これらの部品は、時計の使用時等において、通常、外部に露出する部品であり、また、皮膚に接触しやすいものであり、各種部品の中でも、特に優れた耐擦性、耐摩耗性、耐アレルギー性（アレルギー反応の起こしにくさ）等に優れることが特に強く求められる。したがって、これらの部品に本発明が適用されることにより、前述したような本発明による効果がより顕著に発揮される。
【０１１１】
［第２実施形態］
次に、第２実施形態の時計用部品について説明する。
【０１１２】
図２は、本発明の時計用部品の第２実施形態を模式的に示す断面図である。以下の説明では、前述した実施形態との相違点について中心的に説明し、同様の事項についての説明は省略する。
【０１１３】
本実施形態の時計用部品１０では、基材１の表面に、Ｔｉを含む材料で構成された下地層（第１の下地層）３、および、Ｃｏを主成分とし、Ｃｒを２６質量％以上３０質量％以下の含有率、Ｍｏを５質量％以上７質量％以下の含有率で含む材料で構成された第１の被膜２がこの順に積層されている。言い換えると、本実施形態の時計用部品１０では、基材１と第１の被膜２との間に、Ｔｉを含む材料で構成された下地層３が設けられている。
【０１１４】
これにより、基材１と第１の被膜２との密着性をより優れたものとすることができるとともに、時計用部品１０に加わる衝撃を緩和することができ、時計用部品１０の耐久性をより優れたものとすることができる。また、基材１の表面を平滑化することができ、また、時計用部品１０全体としての微妙な色味の調整を行うことができ、時計用部品１０の審美性をより確実に優れたものとすることができる。
【０１１５】
下地層３は、Ｔｉ以外の成分を含むものであってもよい。
ただし、下地層３中におけるＴｉ以外の成分の含有率は、２．０質量％以下であるのが好ましく、１．０質量％以下であるのがより好ましく、０．５質量％以下であるのがさらに好ましい。
【０１１６】
特に、下地層３中における貴金属元素（Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｒｕ、Ｏｓ）の含有率（複数種の貴金属元素を含む場合はこれらの含有率の総和）は、１．０質量％以下であるのが好ましく、０．５質量％以下であるのがより好ましく、０．１質量％以下であるのがさらに好ましい。
【０１１７】
下地層３の厚さは、０．０１μｍ以上１．０μｍ以下であるのが好ましく、０．０２μｍ以上０．５μｍ以下であるのがより好ましく、０．０３μｍ以上０．３μｍ以下であるのがさらに好ましい。
【０１１８】
これにより、基材１と第１の被膜２との密着性や衝撃緩和の機能をさらに優れたものとすることができ、時計用部品１０の耐久性をさらに優れたものとすることができるとともに、時計用部品１０の生産性をより優れたものとし、時計用部品１０の生産コストをより効果的に抑制することができる。また、例えば、基材１に対する研磨加工、粗面化加工等の表面加工を省略または簡略化した場合であっても、第１の被膜２の表面２２の表面積増加率を前記範囲内の値に容易に調整することができる。
【０１１９】
下地層３の形成方法は、特に限定されず、例えば、スピンコート、ディッピング、刷毛塗り、噴霧塗装、静電塗装、電着塗装等の塗装、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式めっき法や、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶＤ）、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、レーザーアブレーション等の乾式めっき法（気相成膜法）、溶射等が挙げられるが、乾式めっき法（気相成膜法）が好ましい。
【０１２０】
下地層３の形成方法として乾式めっき法（気相成膜法）を適用することにより、均一な膜厚を有し、均質で、かつ、基材１等との密着性が特に優れた下地層３を確実に形成することができる。その結果、時計用部品１０の審美性、耐久性を特に優れたものとすることができる。
【０１２１】
また、下地層３の形成方法として乾式めっき法（気相成膜法）を適用することにより、形成すべき下地層３が比較的薄いものであっても、膜厚の不本意なばらつきを十分に小さいものとすることができる。このため、時計用部品１０の信頼性を向上させる上でも有利である。
【０１２２】
下地層３をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時におけるＡｒガス流量は、５０ｃｃｍ以上１５０ｃｃｍ以下であるのが好ましく、８０ｃｃｍ以上１２０ｃｃｍ以下であるのがより好ましい。
【０１２３】
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第１の被膜２をより好適に形成することができる。
【０１２４】
下地層３をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時における雰囲気圧力は、２．０Ｐａ以上７．０Ｐａ以下であるのが好ましく、２．６Ｐａ以上６．０Ｐａ以下であるのがより好ましい。
【０１２５】
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第１の被膜２をより好適に形成することができる。
【０１２６】
下地層３をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時におけるスパッタリング装置のパワーは、０．１ｋＷ以上１．８ｋＷ以下であるのが好ましく、０．３ｋＷ以上１．４ｋＷ以下であるのがより好ましい。
【０１２７】
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第１の被膜２をより好適に形成することができる。
【０１２８】
下地層３をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時におけるバイアス電圧は、−１２０Ｖ以上−１０Ｖ以下であるのが好ましく、−８０Ｖ以上−３０Ｖ以下であるのがより好ましい。
【０１２９】
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第１の被膜２をより好適に形成することができる。
【０１３０】
下地層３をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時における基材１の温度は、７０℃以上１７０℃以下であるのが好ましく、８０℃以上１４５℃以下であるのがより好ましい。
【０１３１】
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第１の被膜２をより好適に形成することができる。
【０１３２】
下地層３は、例えば、表面に、鏡面加工（研磨加工）、粗面化処理（粗面化加工）等の表面加工が施されたものであってもよい。
【０１３３】
これにより、時計用部品１０の表面（第１の被膜２の表面２２）が前述したような表面積増加率の条件を満足するものとすることができる。
【０１３４】
特に、鏡面加工（研磨加工）と粗面化処理（粗面化加工）とを組み合わせて行うことにより、さらに確実に、時計用部品１０の表面（第１の被膜２の表面２２）が前述したような表面積増加率の条件を満足するものとすることができる。
【０１３５】
鏡面加工（研磨加工）と粗面化処理（粗面化加工）とを組み合わせて行う場合、鏡面加工（研磨加工）の後に粗面化処理（粗面化加工）を行うのが好ましい。これにより、前述したような効果がより確実に得られる。
【０１３６】
［第３実施形態］
次に、第３実施形態の時計用部品について説明する。
【０１３７】
図３は、本発明の時計用部品の第３実施形態を模式的に示す断面図である。以下の説明では、前述した実施形態との相違点について中心的に説明し、同様の事項についての説明は省略する。
【０１３８】
本実施形態の時計用部品１０では、基材１の表面に、Ｔｉを含む材料で構成された下地層（第１の下地層）３、ＴｉＣ、ＴｉＣＮの少なくとも一方を含む材料で構成された第２の被膜４、および、Ｃｏを主成分とし、Ｃｒを２６質量％以上３０質量％以下の含有率、Ｍｏを５質量％以上７質量％以下の含有率で含む材料で構成された第１の被膜２がこの順に積層されている。言い換えると、基材１と第１の被膜２との間に、ＴｉＣ、ＴｉＣＮの少なくとも一方を含む材料で構成された第２の被膜４が設けられている以外は、前述した第２実施形態と同様である。
【０１３９】
これにより、時計用部品１０の硬度をより高いものとすることができ、時計用部品１０の耐打痕性（打痕の付き難さ）等をより優れたものとすることができるとともに、応力をより効果的に緩和することができ、時計用部品１０の耐久性をより優れたものとすることができる。また、色味の調整（特に、光沢度の調整）を好適に行うことができる。
【０１４０】
第２の被膜４は、ＴｉＣ、ＴｉＣＮ以外の成分を含むものであってもよい。
ただし、第２の被膜４中におけるＴｉＣ、ＴｉＣＮ以外の成分の含有率は、２．０質量％以下であるのが好ましく、１．０質量％以下であるのがより好ましく、０．５質量％以下であるのがさらに好ましい。
【０１４１】
特に、第２の被膜４中における貴金属元素（Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｒｕ、Ｏｓ）の含有率（複数種の貴金属元素を含む場合はこれらの含有率の総和）は、１．０質量％以下であるのが好ましく、０．５質量％以下であるのがより好ましく、０．１質量％以下であるのがさらに好ましい。
【０１４２】
第２の被膜４は、各部位で均一な組成を有するものであってもよいし、組成の異なる部位を有するものであってもよい。例えば、第２の被膜４は、複数の層が積層された積層体等であってもよい。
【０１４３】
特に、第２の被膜４は、厚さ方向に組成が傾斜的に変化する部位を有するものであるのが好ましい。
【０１４４】
これにより、例えば、時計用部品１０の耐打痕性、耐擦性、耐磨耗性等の向上や、色味の調整（特に、光沢度の調整）等といった第２の被膜４を設けることによる効果を得つつ、第２の被膜４と当該第２の被膜４に隣接する部位（図示の構成では下地層３および第１の被膜２）との密着性をより優れたものとすることができ、また、第２の被膜４の破壊（層内剥離等）をより効果的に防止することができ、時計用部品１０の耐久性をより優れたものとすることができる。
【０１４５】
第２の被膜４は、当該第２の被膜４の表面４２側に向かってＣおよびＮの含有率の和が低下する領域を有するものであるのが好ましい。
【０１４６】
これにより、例えば、時計用部品１０の耐打痕性、耐擦性、耐磨耗性等の向上や、色味の調整（特に、光沢度の調整）等といった第２の被膜４を設けることによる効果を得つつ、第２の被膜４と当該第２の被膜４に隣接する部位（図示の構成では下地層３および第１の被膜２）との密着性をさらに優れたものとすることができ、また、第２の被膜４の破壊（層内剥離等）をさらに効果的に防止することができ、時計用部品１０の耐久性をさらに優れたものとすることができる。
【０１４７】
第２の被膜４は、当該第２の被膜４の厚さ方向の中央部から一方の表面側に向かって、ＣおよびＮの含有率の和が低下する領域を有するものであってもよいが、当該第２の被膜４の厚さ方向の中央部から両面側にそれぞれ、ＣおよびＮの含有率の和が低下する領域を有するものであるのが好ましい。
【０１４８】
これにより、第２の被膜４と第２の被膜４の両面側に設けられた部位（図示の構成では、下地層３および第１の被膜２）との密着性を特に優れたものとすることができ、時計用部品１０の耐久性を特に優れたものとすることができる。
【０１４９】
第２の被膜４中においてＣおよびＮの含有率の和が最大となる部位で（例えば、第２の被膜４の厚さ方向の中央部付近）のＣおよびＮの含有率をＸ１［質量％］、第２の被膜４中においてＣおよびＮの含有率の和が最小となる部位（例えば、表面４２またはこれと反対側の表面）でのＣおよびＮの含有率をＸ２［質量％］としたとき、１≦Ｘ１−Ｘ２≦２０の関係を満足するのが好ましく、２≦Ｘ１−Ｘ２≦１５の関係を満足するのがより好ましく、３≦Ｘ１−Ｘ２≦１２の関係を満足するのがさらに好ましい。
これにより、前述したような効果がより顕著に発揮される。
【０１５０】
第２の被膜４の厚さは、０．０５μｍ以上４．０μｍ以下であるのが好ましく、０．１μｍ以上２．０μｍ以下であるのがより好ましく、０．２μｍ以上１．５μｍ以下であるのがさらに好ましい。
【０１５１】
これにより、時計用部品１０の硬度をさらに高いものとすることができ、時計用部品１０の耐打痕性（打痕の付き難さ）等をより優れたものとし、時計用部品１０の耐久性をさらに優れたものとすることができるとともに、時計用部品１０の生産性をより優れたものとし、時計用部品１０の生産コストをより効果的に抑制することができる。また、時計用部品１０全体としての微妙な色味の調整をより好適に行うことができる。
【０１５２】
また、下地層３が設けられているため、基材１と第２の被膜４との密着性がより優れたものとなっており、時計用部品１０の耐久性が特に優れたものとなっている。
【０１５３】
第２の被膜４の形成方法は、特に限定されず、例えば、スピンコート、ディッピング、刷毛塗り、噴霧塗装、静電塗装、電着塗装等の塗装、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式めっき法や、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶＤ）、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、レーザーアブレーション等の乾式めっき法（気相成膜法）、溶射等が挙げられるが、乾式めっき法（気相成膜法）が好ましい。
【０１５４】
第２の被膜４の形成方法として乾式めっき法（気相成膜法）を適用することにより、均一な膜厚を有し、均質で、かつ、下地層３等との密着性が特に優れた第２の被膜４を確実に形成することができる。その結果、時計用部品１０の審美性、耐久性を特に優れたものとすることができる。
【０１５５】
また、第２の被膜４の形成方法として乾式めっき法（気相成膜法）を適用することにより、形成すべき第２の被膜４が比較的薄いものであっても、膜厚の不本意なばらつきを十分に小さいものとすることができる。このため、時計用部品１０の信頼性を向上させる上でも有利である。
【０１５６】
第２の被膜４をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時におけるＡｒガス流量は、５０ｃｃｍ以上１５０ｃｃｍ以下であるのが好ましく、８０ｃｃｍ以上１２０ｃｃｍ以下であるのがより好ましい。
【０１５７】
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第１の被膜２をより好適に形成することができる。
【０１５８】
第２の被膜４をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時におけるＣ２Ｈ２ガス流量は、１０ｃｃｍ以上５０ｃｃｍ以下であるのが好ましく、１５ｃｃｍ以上３０ｃｃｍ以下であるのがより好ましい。
【０１５９】
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第１の被膜２をより好適に形成することができる。
【０１６０】
第２の被膜４をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時における雰囲気圧力は、２．０Ｐａ以上７．０Ｐａ以下であるのが好ましく、２．６Ｐａ以上６．０Ｐａ以下であるのがより好ましい。
【０１６１】
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第１の被膜２をより好適に形成することができる。
【０１６２】
第２の被膜４をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時におけるスパッタリング装置のパワーは、２．０ｋＷ以上６ｋＷ以下であるのが好ましく、２．５ｋＷ以上５．８ｋＷ以下であるのがより好ましい。
【０１６３】
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第１の被膜２をより好適に形成することができる。
【０１６４】
第２の被膜４をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時におけるバイアス電圧は、−１５０Ｖ以上−３０Ｖ以下であるのが好ましく、−１２０Ｖ以上−５０Ｖ以下であるのがより好ましい。
【０１６５】
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第１の被膜２をより好適に形成することができる。
【０１６６】
第２の被膜４をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時における基材１の温度は、７０℃以上１７０℃以下であるのが好ましく、８０℃以上１４５℃以下であるのがより好ましい。
【０１６７】
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第１の被膜２をより好適に形成することができる。
【０１６８】
第２の被膜４は、例えば、表面に、鏡面加工（研磨加工）、粗面化処理（粗面化加工）等の表面加工が施されたものであってもよい。
【０１６９】
これにより、より確実に、時計用部品１０の表面（第１の被膜２の表面２２）が前述したような表面積増加率の条件を満足するものとすることができる。
【０１７０】
特に、鏡面加工（研磨加工）と粗面化処理（粗面化加工）とを組み合わせて行うことにより、さらに確実に、時計用部品１０の表面（第１の被膜２の表面２２）が前述したような表面積増加率の条件を満足するものとすることができる。
【０１７１】
鏡面加工（研磨加工）と粗面化処理（粗面化加工）とを組み合わせて行う場合、鏡面加工（研磨加工）の後に粗面化処理（粗面化加工）を行うのが好ましい。これにより、前述したような効果がより確実に得られる。
【０１７２】
以上のような第２の被膜４は、前記第１実施形態に適用することもでき、同様の効果を発揮する。
【０１７３】
［第４実施形態］
次に、第４実施形態の時計用部品について説明する。
【０１７４】
図４は、本発明の時計用部品の第４実施形態を模式的に示す断面図である。以下の説明では、前述した実施形態との相違点について中心的に説明し、同様の事項についての説明は省略する。
【０１７５】
本実施形態の時計用部品１０では、基材１の表面に、Ｔｉを含む材料で構成された下地層（第１の下地層）３、ＴｉＣ、ＴｉＣＮの少なくとも一方を含む材料で構成された第２の被膜４、Ｔｉを含む材料で構成された下地層（第２の下地層）５、および、Ｃｏを主成分とし、Ｃｒを２６質量％以上３０質量％以下の含有率、Ｍｏを５質量％以上７質量％以下の含有率で含む材料で構成された第１の被膜２がこの順に積層されている。言い換えると、本実施形態では、基材１と第１の被膜２との間に、ＴｉＣ、ＴｉＣＮの少なくとも一方を含む材料で構成された第２の被膜４が設けられ、当該第２の被膜４の両面側にそれぞれ下地層３および５が設けられている。
【０１７６】
これにより、基材１と第２の被膜４との密着性だけでなく、第２の被膜４と第１の被膜２との密着性も優れたものとすることができ、また、時計用部品１０に加わる衝撃をより効果的に緩和することができ、時計用部品１０の耐久性をさらに優れたものとすることができる。また、第２の被膜４の表面を平滑化することができ、また、時計用部品１０全体としての微妙な色味の調整を行うことができ、時計用部品１０の審美性をより確実に優れたものとすることができる。
【０１７７】
下地層５は、Ｔｉ以外の成分を含むものであってもよい。
ただし、下地層５中におけるＴｉ以外の成分の含有率は、２．０質量％以下であるのが好ましく、１．０質量％以下であるのがより好ましく、０．５質量％以下であるのがさらに好ましい。
【０１７８】
特に、下地層５中における貴金属元素（Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｒｕ、Ｏｓ）の含有率（複数種の貴金属元素を含む場合はこれらの含有率の総和）は、１．０質量％以下であるのが好ましく、０．５質量％以下であるのがより好ましく、０．１質量％以下であるのがさらに好ましい。
【０１７９】
下地層５の厚さは、０．０１μｍ以上１．０μｍ以下であるのが好ましく、０．０２μｍ以上０．５μｍ以下であるのがより好ましく、０．０３μｍ以上０．３μｍ以下であるのがさらに好ましい。
【０１８０】
これにより、第２の被膜４と第１の被膜２との密着性や、衝撃緩和の機能をさらに優れたものとすることができ、時計用部品１０の耐久性をさらに優れたものとすることができるとともに、時計用部品１０の生産性をより優れたものとし、時計用部品１０の生産コストをより効果的に抑制することができる。また、第２の被膜４の表面の平滑化や、時計用部品１０全体としての微妙な色味の調整をより好適に行うことができる。
【０１８１】
下地層５の形成方法は、特に限定されず、例えば、スピンコート、ディッピング、刷毛塗り、噴霧塗装、静電塗装、電着塗装等の塗装、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式めっき法や、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶＤ）、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、レーザーアブレーション等の乾式めっき法（気相成膜法）、溶射等が挙げられるが、乾式めっき法（気相成膜法）が好ましい。
【０１８２】
下地層５の形成方法として乾式めっき法（気相成膜法）を適用することにより、均一な膜厚を有し、均質で、かつ、第２の被膜４等との密着性が特に優れた下地層５を確実に形成することができる。その結果、時計用部品１０の審美性、耐久性を特に優れたものとすることができる。
【０１８３】
また、下地層５の形成方法として乾式めっき法（気相成膜法）を適用することにより、形成すべき下地層５が比較的薄いものであっても、膜厚の不本意なばらつきを十分に小さいものとすることができる。このため、時計用部品１０の信頼性を向上させる上でも有利である。
【０１８４】
下地層５をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時におけるＡｒガス流量は、５０ｃｃｍ以上１５０ｃｃｍ以下であるのが好ましく、８０ｃｃｍ以上１２０ｃｃｍ以下であるのがより好ましい。
【０１８５】
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第１の被膜２をより好適に形成することができる。
【０１８６】
下地層５をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時における雰囲気圧力は、２．０Ｐａ以上７．０Ｐａ以下であるのが好ましく、２．６Ｐａ以上６．０Ｐａ以下であるのがより好ましい。
【０１８７】
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第１の被膜２をより好適に形成することができる。
【０１８８】
下地層５をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時におけるスパッタリング装置のパワーは、０．１ｋＷ以上１．８ｋＷ以下であるのが好ましく、０．３ｋＷ以上１．４ｋＷ以下であるのがより好ましい。
【０１８９】
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第１の被膜２をより好適に形成することができる。
【０１９０】
下地層５をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時におけるバイアス電圧は、−１２０Ｖ以上−１０Ｖ以下であるのが好ましく、−８０Ｖ以上−３０Ｖ以下であるのがより好ましい。
【０１９１】
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第１の被膜２をより好適に形成することができる。
【０１９２】
下地層５をスパッタリングにより形成する場合、スパッタリング時における基材１の温度は、７０℃以上１７０℃以下であるのが好ましく、８０℃以上１４５℃以下であるのがより好ましい。
【０１９３】
これにより、研磨処理等の後処理を省略または簡略化した場合でも、前述したような表面積増加率の条件を満足する第１の被膜２をより好適に形成することができる。
【０１９４】
下地層３は、例えば、表面に、鏡面加工（研磨加工）、粗面化処理（粗面化加工）等の表面加工が施されたものであってもよい。
【０１９５】
これにより、より確実に、時計用部品１０の表面（第１の被膜２の表面２２）が前述したような表面積増加率の条件を満足するものとすることができる。
【０１９６】
［第５実施形態］
次に、第５実施形態の時計用部品について説明する。
【０１９７】
図５は、本発明の時計用部品の第５実施形態を模式的に示す断面図である。以下の説明では、前述した実施形態との相違点について中心的に説明し、同様の事項についての説明は省略する。
【０１９８】
本実施形態の時計用部品１０では、基材１の表面に、Ｔｉを含む材料で構成された下地層（第１の下地層）３、ＴｉＣ、ＴｉＣＮの少なくとも一方を含む材料で構成された第２の被膜４、Ｔｉを含む材料で構成された下地層（第２の下地層）５、Ｃｏを主成分とし、Ｃｒを２６質量％以上３０質量％以下の含有率、Ｍｏを５質量％以上７質量％以下の含有率で含む材料で構成された第１の被膜２、および、フッ素含有有機ケイ素化合物を含む材料で構成されたコート層６がこの順に積層されている。言い換えると、第１の被膜２の外表面側に、フッ素含有有機ケイ素化合物を含む材料で構成されたコート層６が設けられている以外は、前述した第４実施形態と同様である。
【０１９９】
これにより、汚れの付着による審美性の低下をより効果的に防止することができる。また、汚れが付着した場合であっても、より容易に当該汚れを除去することができる。したがって、長期間にわたって、様々な環境下において、優れた審美性をさらに好適に保持することができる。また、フッ素含有有機ケイ素化合物を含む材料で構成されたコート層６を有することにより、防汚性だけでなく、手触り感、防水性等も向上する。また、フッ素含有有機ケイ素化合物は、時計用部品１０全体としての外観に与える影響が小さいため、より確実に時計用部品１０の審美性を優れたものとすることができる。
【０２００】
また、第１の被膜２の表面２２は所定の表面積増加率を有するものであるため、第１の被膜２とコート層６との密着性を優れたものとすることができる。これにより、コート層６の不本意な剥離等が効果的に防止され、時計用部品１０の耐久性が優れたものとなる。
【０２０１】
フッ素含有有機ケイ素化合物の具体例としては、ＣＦ３（ＣＦ２）２Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）４Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）６Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）８Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）１０Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）１２Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）１４Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）１６Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）１８Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）６Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）８Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）６Ｃ２Ｈ４ＳｉＣｌ３、ＣＦ３（ＣＦ２）８Ｃ２Ｈ４ＳｉＣｌ３、ＣＦ３（ＣＦ２）６Ｃ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）８Ｃ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）６Ｃ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）８Ｃ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）６Ｃ３Ｈ６ＳｉＣｌ３、ＣＦ３（ＣＦ２）８Ｃ３Ｈ６ＳｉＣｌ３、ＣＦ３（ＣＦ２）６Ｃ４Ｈ８Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）８Ｃ４Ｈ８Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）６Ｃ４Ｈ８Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）８Ｃ４Ｈ８Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）６Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２、ＣＦ３（ＣＦ２）８Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２、ＣＦ３（ＣＦ２）６Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２、ＣＦ３（ＣＦ２）８Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２、ＣＦ３（ＣＦ２）６Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（Ｃ２Ｈ５）（ＯＣ２Ｈ５）２、ＣＦ３（ＣＦ２）８Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（Ｃ２Ｈ５）（ＯＣ２Ｈ５）２等が挙げられる。
【０２０２】
また、フッ素含有有機ケイ素化合物としては、アミノ基を含有する化合物も好適に用いることができる。
【０２０３】
アミノ基を含有するフッ素含有有機ケイ素化合物としては、例えば、Ｃ９Ｆ１９ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、Ｃ９Ｆ１９ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３ＳｉＣｌ３、Ｃ９Ｆ１９ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２、Ｃ９Ｆ１９ＣＯＮＨ（ＣＨ２）ＮＨ（ＣＨ２）Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、Ｃ９Ｆ１９ＣＯＮＨ（ＣＨ２）５ＣＯＮＨ（ＣＨ２）Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、Ｃ８Ｆ１７ＳＯ２ＮＨ（ＣＨ２）５ＣＯＮＨ（ＣＨ２）Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、Ｃ３Ｆ７Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）２−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＯＮＨ（ＣＨ２）Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、Ｃ３Ｆ７Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｍ’−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＯＮＨ（ＣＨ２）Ｓｉ（ＯＣＨ３）３［ここで、ｍ’は１以上の整数］等が挙げられる。
【０２０４】
また、フッ素含有有機ケイ素化合物としては、例えば、Ｒｆ’（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３、Ｒｆ’（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２、（Ｒｆ’ＣＨ２ＣＨ２）２ＳｉＣｌ２、Ｒｆ’（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、Ｒｆ’ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、Ｒｆ’ＣＯＮＨ（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、Ｒｆ’ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）（ＣＨ２）２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、Ｒｆ’（ＣＨ２）２ＯＣＯ（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、Ｒｆ’（ＣＨ２）２ＯＣＯＮＨ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、Ｒｆ’ＣＯＯ−Ｃｙ（ＯＨ）−（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、Ｒｆ’（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、およびＲｆ’（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ３）３等を用いてもよい。上記の各式において、Ｃｙはシクロヘキサン残基であり、Ｒｆ’は、炭素数４以上１６以下のポリフルオロアルキル基である。
【０２０５】
コート層６を構成するフッ素含有有機ケイ素化合物としては、特に、下記式（１）または下記式（２）で示される化合物が好ましい。
【０２０６】
【化１】
2018151299.tif 000003
【０２０７】
式（１）中、Ｒｆ１はパーフルオロアルキル基を示す。Ｘは臭素、ヨウ素または水素を示す。Ｙは水素または低級アルキル基を示し、Ｚはフッ素またはトリフルオロメチル基を示す。Ｒ１は加水分解可能な基を示し、Ｒ２は水素または不活性な１価の炭化水素基を示す。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅは０または１以上の整数で、かつａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅは少なくとも１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅで括られた各繰り返し単位の存在順序は、式中において限定されない。ｆは０、１または２である。ｇは１、２または３である。ｈは１以上の整数である。
【０２０８】
【化２】
2018151299.tif 000004
【０２０９】
式（２）中、Ｒｆ２は式：「−（ＣｋＦ２ｋ）Ｏ−」で示される単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造を有する２価の基を示す。なお、式：「−（ＣｋＦ２ｋ）Ｏ−」におけるｋは１以上６以下の整数である。Ｒ３は炭素原子数１以上８以下の１価炭化水素基であり、Ｗは加水分解性基またはハロゲン原子を示す。ｐは０、１または２であり、ｎは１以上５以下の整数である。ｍおよびｒは、２または３である。
【０２１０】
コート層６の厚さは、０．０１μｍ以上１．０μｍ以下であるのが好ましく、０．０２μｍ以上０．５μｍ以下であるのがより好ましく、０．０３μｍ以上０．３μｍ以下であるのがさらに好ましい。
【０２１１】
以上のようなコート層６は、前記第１〜第４実施形態のいずれにも適用することができ、同様の効果を発揮する。
【０２１２】
《時計》
次に、本発明の時計について説明する。
【０２１３】
図６は、本発明の時計（腕時計）の好適な実施形態を模式的に示す部分断面図である。
本実施形態の腕時計（時計）Ｗ１０は、胴（ケース）Ｗ２２と、裏蓋Ｗ２３と、ベゼル（縁）Ｗ２４と、ガラス板（風防ガラス）Ｗ２５とを備えている。また、ケースＷ２２内には、図示しないムーブメント（例えば、文字板、針付きのもの）が収納されている。
【０２１４】
胴Ｗ２２には巻真パイプＷ２６が嵌入・固定され、この巻真パイプＷ２６内にはりゅうずＷ２７の軸部Ｗ２７１が回転可能に挿入されている。
【０２１５】
胴Ｗ２２とベゼルＷ２４とは、プラスチックパッキンＷ２８により固定され、ベゼルＷ２４とガラス板Ｗ２５とはプラスチックパッキンＷ２９により固定されている。
【０２１６】
また、胴Ｗ２２に対し裏蓋Ｗ２３が嵌合（または螺合）されており、これらの接合部（シール部）Ｗ５０には、リング状のゴムパッキン（裏蓋パッキン）Ｗ４０が圧縮状態で介挿されている。この構成によりシール部Ｗ５０が液密に封止され、防水機能が得られる。
【０２１７】
りゅうずＷ２７の軸部Ｗ２７１の途中の外周には溝Ｗ２７２が形成され、この溝Ｗ２７２内にはリング状のゴムパッキン（りゅうずパッキン）Ｗ３０が嵌合されている。ゴムパッキンＷ３０は巻真パイプＷ２６の内周面に密着し、該内周面と溝Ｗ２７２の内面との間で圧縮される。この構成により、りゅうずＷ２７と巻真パイプＷ２６との間が液密に封止され防水機能が得られる。なお、りゅうずＷ２７を回転操作したとき、ゴムパッキンＷ３０は軸部Ｗ２７１と共に回転し、巻真パイプＷ２６の内周面に密着しながら周方向に摺動する。
【０２１８】
本発明の時計としての腕時計Ｗ１０は、その構成部品のうち少なくとも１つが前述したような本発明の時計用部品で構成されたものである。言い換えると、本発明の時計は、本発明の時計用部品を備えたものである。
【０２１９】
これにより、審美性に優れ（特に、適度な光沢感を有しつつも、明度が高すぎず落ち着いた印象の高級感のある外観を呈し）、耐食性に優れるとともに、耐擦性、耐摩耗性にも優れる時計用部品を備えた時計Ｗ１０を提供することができる。
【０２２０】
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
【０２２１】
例えば、本発明の時計用部品および時計では、各部の構成は、同様の機能を発揮する任意の構成のものに置換することができ、また、任意の構成を付加することもできる。
例えば、時計用部品は、Ｔｉ以外の材料で構成された下地層を備えるものや、フッ素含有有機ケイ素化合物以外の材料で構成されたコート層を備えるもの等であってもよい。
【０２２２】
また、前述した実施形態では、下地層を有する時計用部品の形態としては、１層または２層の下地層を有する構成について説明したが、時計用部品は、３層以上の下地層を備えるものであってもよい。また、前述した実施形態では、第２の被膜を有する時計用部品の形態としては、１層の第２の被膜を有する構成について説明したが、時計用部品は、２層以上の第２の被膜を備えるものであってもよい。
また、時計用部品は、下地層と第２の被膜とのセットを複数備えるものであってもよい。
【０２２３】
また、前記実施形態では、時計用部品の使用時等における観察者の視点が、時計用部品の第１の被膜が設けられた面側である場合について中心的に説明したが、基材が透明性を有する材料で構成されたものである場合等には、観察者の視点が反対の面側であってもよい。言い換えると、基材を介して、第１の被膜が視認されるものであってもよい。このような場合、第１の被膜の観察者側の表面である基材と対向する側の表面が、前述したような表面積増加率の条件を満足していればよい。
【実施例】
【０２２４】
次に、本発明の具体的実施例について説明する。なお、以下の説明でのスパッタリングは、マグネトロンスパッタ装置（ＰｒｏＣｈｉｎａ社製、ＡＳ１４Ｇ）を用いて行った。
【０２２５】
［１］時計用部品の製造
（実施例１）
まず、腕時計用ケースに対応する形状の純Ｔｉ製の基材を用意した。
【０２２６】
次に、基材の表面（第１の被膜が形成される側の表面）にバフ研磨を施し、さらにその後、プラズマエッチング処理を施した。当該表面について原子間力顕微鏡による測定を行ったところ、平坦面を基準としたときの表面積増加率は２．０％であった。
【０２２７】
次に、この表面加工（バフ研磨およびプラズマエッチング処理）が施された基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。
【０２２８】
次に、スパッタリングを行うことにより、基材の表面に、ＣｏＣｒＭｏ合金で構成された厚さ０．５μｍの第１の被膜を形成し、時計用部品としての腕時計用ケースを得た。第１の被膜の形成時におけるＡｒガス流量は１００ｃｃｍ、雰囲気圧力は３Ｐａ、パワーは１ｋＷ、バイアス電圧は−６０Ｖ、基材温度は１２０℃に設定した。
【０２２９】
第１の被膜の表面（第２の面）は、原子間力顕微鏡による測定を行った場合の、平坦面を基準としたときの表面積増加率が２．５％であった。
【０２３０】
なお、原子間力顕微鏡を用いた測定は、サンプル表面の測定視野を変えた５箇所の５μｍ角の領域について行い、それぞれの領域について表面積増加率を求め、これらの平均値として表面積増加率を当該表面の表面積増加率とした。原子間力顕微鏡としては、ディジタル・インストルメント（Digital Instruments）社製の「ナノスコープIIIａ」を用いた。以下の各実施例および各比較例についても同様である。
【０２３１】
（実施例２）
基材として、表面加工（研磨加工、粗面化加工等）を施していないフェライト系ステンレス鋼であるＳＵＳ４４４製のもの（第１の被膜が形成される側の表面の原子間力顕微鏡による測定を行った場合の、平坦面を基準としたときの表面積増加率が２．５％のもの）を用い、第１の被膜の表面に、バフ研磨およびプラズマエッチング処理をこの順で施した以外は、前記実施例１と同様にして時計用部品（腕時計用ケース）を製造した。
【０２３２】
（実施例３）
まず、腕時計用ケースに対応する形状の純Ｔｉ製の基材を用意した。
【０２３３】
次に、基材の表面（下地層、第１の被膜が形成される側の表面）にバフ研磨を施し、さらにその後、プラズマエッチング処理を施した。当該表面について原子間力顕微鏡による測定を行ったところ、平坦面を基準としたときの表面積増加率は２．０％であった。
【０２３４】
次に、この表面加工（バフ研磨およびプラズマエッチング処理）が施された基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。
【０２３５】
次に、スパッタリングを行うことにより、基材の表面に、Ｔｉで構成された厚さ０．１μｍの下地層（第１の下地層）を形成した。下地層の形成時におけるＡｒガス流量は１００ｃｃｍ、雰囲気圧力は３Ｐａ、パワーは１ｋＷ、バイアス電圧は−６０Ｖ、基材温度は１２０℃に設定した。
【０２３６】
引き続き、スパッタリングにより、下地層の表面にＣｏＣｒＭｏ合金で構成された厚さ０．５μｍの第１の被膜を形成し、時計用部品としての腕時計用ケースを得た。第１の被膜の形成時におけるＡｒガス流量は１００ｃｃｍ、雰囲気圧力は３Ｐａ、パワーは１ｋＷ、バイアス電圧は−６０Ｖ、基材温度は１２０℃に設定した。
【０２３７】
（実施例４）
基材として表面加工（研磨加工、粗面化加工等）を施していないＳＵＳ４４４製のもの（下地層、第１の被膜が形成される側の表面の原子間力顕微鏡による測定を行った場合の、平坦面を基準としたときの表面積増加率が２．５％のもの）を用い、第１の被膜の形成時にターゲットとして用いたＣｏＣｒＭｏ合金の組成を変更し、第１の被膜の形成後に当該第１の被膜の表面に、バフ研磨およびプラズマエッチング処理をこの順で施した以外は、前記実施例３と同様にして時計用部品（腕時計用ケース）を製造した。
【０２３８】
（実施例５）
まず、腕時計用ケースに対応する形状の純Ｔｉ製の基材を用意した。
【０２３９】
次に、基材の表面（下地層、第２の被膜、第１の被膜が形成される側の表面）にバフ研磨を施し、さらにその後、プラズマエッチング処理を施した。当該表面について原子間力顕微鏡による測定を行ったところ、平坦面を基準としたときの表面積増加率は２．０％であった。
【０２４０】
次に、この表面加工（バフ研磨およびプラズマエッチング処理）が施された基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。
【０２４１】
次に、スパッタリングを行うことにより、基材の表面に、Ｔｉで構成された厚さ０．１μｍの下地層を形成した。下地層の形成時におけるＡｒガス流量は１００ｃｃｍ、雰囲気圧力は３Ｐａ、パワーは１ｋＷ、バイアス電圧は−６０Ｖ、基材温度は１２０℃に設定した。
【０２４２】
引き続き、スパッタリングにより、下地層の表面にＴｉＣで構成された厚さ０．３５μｍの第２の被膜を形成した。第２の被膜の形成時におけるＡｒガス流量は１００ｃｃｍ、Ｃ２Ｈ２ガス流量は２２ｃｃｍ、雰囲気圧力は３Ｐａ、パワーは５ｋＷ、バイアス電圧は−８０Ｖ、基材温度は１２０℃に設定した。
【０２４３】
引き続き、スパッタリングにより、下地層の表面にＣｏＣｒＭｏ合金で構成された厚さ０．５μｍの第１の被膜を形成し、時計用部品としての腕時計用ケースを得た。第１の被膜の形成時におけるＡｒガス流量は１００ｃｃｍ、雰囲気圧力は３Ｐａ、パワーは１ｋＷ、バイアス電圧は−６０Ｖ、基材温度は１２０℃に設定した。
【０２４４】
（実施例６）
基材として表面加工（研磨加工、粗面化加工等）を施していないＳＵＳ４４４製のもの（下地層、第２の被膜、第１の被膜が形成される側の表面の原子間力顕微鏡による測定を行った場合の、平坦面を基準としたときの表面積増加率が２．５％のもの）を用い、第１の被膜の形成時にターゲットとして用いたＣｏＣｒＭｏ合金の組成を変更し、第１の被膜の形成後に当該第１の被膜の表面に、バフ研磨およびプラズマエッチング処理をこの順で施した以外は、前記実施例５と同様にして時計用部品（腕時計用ケース）を製造した。
【０２４５】
（実施例７）
まず、腕時計用ケースに対応する形状の純Ｔｉ製の基材を用意した。
【０２４６】
次に、基材の表面（第１の下地層、第２の被膜、第２の下地層、第１の被膜が形成される側の表面）にバフ研磨を施し、さらにその後、プラズマエッチング処理を施した。当該表面について原子間力顕微鏡による測定を行ったところ、平坦面を基準としたときの表面積増加率は２．０％であった。
【０２４７】
次に、この表面加工（バフ研磨およびプラズマエッチング処理）が施された基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。
【０２４８】
次に、スパッタリングを行うことにより、基材の表面に、Ｔｉで構成された厚さ０．１μｍの第１の下地層を形成した。第１の下地層の形成時におけるＡｒガス流量は１００ｃｃｍ、雰囲気圧力は３Ｐａ、パワーは１ｋＷ、バイアス電圧は−６０Ｖ、基材温度は１２０℃に設定した。
【０２４９】
引き続き、スパッタリングにより、第１の下地層の表面にＴｉＣで構成された厚さ０．５０μｍの第２の被膜を形成した。第２の被膜の形成時におけるＡｒガス流量は１００ｃｃｍ、雰囲気圧力は３Ｐａ、パワーは５ｋＷ、バイアス電圧は−８０Ｖ、基材温度は１２０℃に設定した。また、このとき、Ｃ２Ｈ２ガスの流量を１０ｃｃｍから２０ｃｃｍまで上昇させ、その後、Ｃ２Ｈ２ガスの流量を２０ｃｃｍから１０ｃｃｍまで低下させることにより、第２の被膜を、厚さの中心部付近でＣおよびＮの含有率の和が大きく、両表面に向かってＣおよびＮの含有率の和の値が漸減する傾斜材料で構成されたものとして形成した。
【０２５０】
引き続き、スパッタリングにより、第２の被膜の表面にＴｉで構成された厚さ０．０５μｍの第２の下地層を形成した。第２の下地層の形成時におけるＡｒガス流量は１００ｃｃｍ、雰囲気圧力は３Ｐａ、パワーは１ｋＷ、バイアス電圧は−６０Ｖ、基材温度は１２０℃に設定した。
【０２５１】
引き続き、スパッタリングにより、第２の下地層の表面にＣｏＣｒＭｏ合金で構成された厚さ０．５μｍの第１の被膜を形成し、時計用部品としての腕時計用ケースを得た。なお、第１の被膜の形成時において、Ａｒガス流量は１００ｃｃｍ、雰囲気圧力は３Ｐａ、基材温度は１２０℃に設定し、パワーを０．５ｋＷから２ｋＷへと経時的に変化させ、また、バイアス電圧を−４０Ｖから−８０Ｖへと経時的に変化させることにより、第１の被膜を、厚さ方向で組成、膜質が傾斜的に変化する傾斜材料として形成した。
【０２５２】
（実施例８）
基材として表面加工（研磨加工、粗面化加工等）を施していないＳＵＳ４４４製のもの（第１の下地層、第２の被膜、第２の下地層、第１の被膜が形成される側の表面の原子間力顕微鏡による測定を行った場合の、平坦面を基準としたときの表面積増加率が２．５％のもの）を用いるとともに、各膜（各層）の成膜時間を変更し、さらに、第１の被膜の形成後に当該第１の被膜の表面に、バフ研磨およびプラズマエッチング処理をこの順で施すことにより、表１に示すような構成となるようにした以外は、前記実施例７と同様にして時計用部品（腕時計用ケース）を製造した。
【０２５３】
（実施例９）
まず、腕時計用ケースに対応する形状の純Ｔｉ製の基材を用意した。
【０２５４】
次に、基材の表面（第１の下地層、第２の被膜、第２の下地層、第１の被膜、コート層が形成される側の表面）にバフ研磨を施し、さらにその後、プラズマエッチング処理を施した。当該表面について原子間力顕微鏡による測定を行ったところ、平坦面を基準としたときの表面積増加率は２．０％であった。
【０２５５】
次に、この表面加工（バフ研磨およびプラズマエッチング処理）が施された基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。
【０２５６】
次に、スパッタリングを行うことにより、基材の表面に、Ｔｉで構成された厚さ０．１μｍの第１の下地層を形成した。第１の下地層の形成時におけるＡｒガス流量は１００ｃｃｍ、雰囲気圧力は３Ｐａ、パワーは１ｋＷ、バイアス電圧は−６０Ｖ、基材温度は１２０℃に設定した。
【０２５７】
引き続き、スパッタリングにより、第１の下地層の表面にＴｉＣで構成された厚さ０．３５μｍの第２の被膜を形成した。第２の被膜の形成時におけるＡｒガス流量は１００ｃｃｍ、Ｃ２Ｈ２ガス流量は２２ｃｃｍ、雰囲気圧力は３Ｐａ、パワーは５ｋＷ、バイアス電圧は−８０Ｖ、基材温度は１２０℃に設定した。
【０２５８】
引き続き、スパッタリングにより、第２の被膜の表面にＴｉで構成された厚さ０．０５μｍの第２の下地層を形成した。第２の下地層の形成時におけるＡｒガス流量は１００ｃｃｍ、雰囲気圧力は３Ｐａ、パワーは１ｋＷ、バイアス電圧は−６０Ｖ、基材温度は１２０℃に設定した。
【０２５９】
引き続き、スパッタリングにより、第２の下地層の表面にＣｏＣｒＭｏ合金で構成された厚さ０．５μｍの第１の被膜を形成した。第１の被膜の形成時におけるＡｒガス流量は１００ｃｃｍ、雰囲気圧力は３Ｐａ、パワーは１ｋＷ、バイアス電圧は−６０Ｖ、基材温度は１２０℃に設定した。
【０２６０】
次に、以下のようにして、第１の被膜の表面に、フッ素含有有機ケイ素化合物で構成された厚さ０．０３μｍのコート層を形成し、時計用部品としての腕時計用ケースを得た。
【０２６１】
すなわち、まず、フッ素含有有機ケイ素化合物（信越化学工業社製、ＫＹ−１３０（３））をフッ素系溶剤（信越化学工業社製、ＦＲシンナー）で希釈して固形分３質量％となるように調製したものを、スチールウール（日本スチールウール社製、＃０、線径０．０２５ｍｍ）０．５ｇが前もって充填された容器（上方が解放された円筒形の銅製容器、内径１６ｍｍ×内高さ６ｍｍ）に、１．０ｇ充填して、１２０℃で１時間乾燥した。次に、この銅製容器を、第１の下地層、第２の被膜、第２の下地層および第１の被膜が形成された基材とともに、真空蒸発装置内に載置し、装置内を０．０１Ｐａの圧力とした後、０．６Å／ｓの膜形成速度（蒸着速度）となるように銅製容器からフッ素含有有機ケイ素化合物を蒸発させた。加熱源としてはモリブデン製抵抗加熱ボートを用いた。
【０２６２】
（実施例１０）
基材として表面加工（研磨加工、粗面化加工等）を施していないＳＵＳ４４４製のもの（第１の下地層、第２の被膜、第２の下地層、第１の被膜、コート層が形成される側の表面の原子間力顕微鏡による測定を行った場合の、平坦面を基準としたときの表面積増加率が２．５％のもの）を用い、第１の被膜の形成後に当該第１の被膜の表面に、バフ研磨およびプラズマエッチング処理をこの順で施した以外は、前記実施例９と同様にして時計用部品（腕時計用ケース）を製造した。
【０２６３】
（比較例１）
ＣｏＣｒＭｏ合金で構成された第１の被膜の代わりに、Ｐｔからなる膜を形成した以外は、前記実施例１と同様にして時計用部品（腕時計用ケース）を製造した。
【０２６４】
（比較例２〜５）
第１の被膜の形成時にターゲットとして用いたＣｏＣｒＭｏ合金の組成を変更した以外は、前記実施例１と同様にして時計用部品（腕時計用ケース）を製造した。
【０２６５】
（比較例６）
基材として、バフ研磨のみを施し、プラズマエッチング処理を施していない純Ｔｉ製のもの（第１の被膜が形成される側の表面の原子間力顕微鏡による測定を行った場合の、平坦面を基準としたときの表面積増加率が０．７％のもの）を用い、第１の被膜の形成条件（設定条件）を、Ａｒガス流量：１００ｃｃｍ、雰囲気圧力：０．３Ｐａ、パワー：９ｋＷ、バイアス電圧：−１２０Ｖ、基材温度：２００℃に変更した以外は、前記実施例１と同様にして時計用部品（腕時計用ケース）を製造した。
【０２６６】
（比較例７）
基材として、バフ研磨のみを施し、プラズマエッチング処理を施していない純Ｔｉ製のもの（下地層、第２の被膜、第１の被膜が形成される側の表面の原子間力顕微鏡による測定を行った場合の、平坦面を基準としたときの表面積増加率が０．７％のもの）を用い、第２の被膜の形成条件（設定条件）を、Ａｒガス流量：１００ｃｃｍ、Ｃ２Ｈ２ガス流量：２２ｃｃｍ、雰囲気圧力：０．３Ｐａ、パワー：９ｋＷ、バイアス電圧：−８０Ｖ、基材温度：２００℃に変更し、第１の被膜の形成条件（設定条件）を、Ａｒガス流量：１００ｃｃｍ、雰囲気圧力：０．３Ｐａ、パワー：９ｋＷ、バイアス電圧：−１２０Ｖ、基材温度：２００℃に変更した以外は、前記実施例５と同様にして時計用部品（腕時計用ケース）を製造した。
【０２６７】
（比較例８）
基材として、表面加工（研磨加工、粗面化加工等）を施していない純Ｔｉ製のもの（第１の被膜が形成される側の表面の原子間力顕微鏡による測定を行った場合の、平坦面を基準としたときの表面積増加率が２．５％のもの）を用い、第１の被膜の形成条件（設定条件）を、Ａｒガス流量：１５０ｃｃｍ、雰囲気圧力：５Ｐａ、パワー：１ｋＷ、バイアス電圧：−５０Ｖ、基材温度：１００℃に変更した以外は、前記実施例１と同様にして時計用部品（腕時計用ケース）を製造した。
【０２６８】
（比較例９）
基材として表面加工（研磨加工、粗面化加工等）を施していない純Ｔｉ製のもの（下地層、第２の被膜、第１の被膜が形成される側の表面の原子間力顕微鏡による測定を行った場合の、平坦面を基準としたときの表面積増加率が２．５％のもの）を用い、第２の被膜の形成条件（設定条件）を、Ａｒガス流量：１５０ｃｃｍ、Ｃ２Ｈ２ガス流量：３０ｃｃｍ、雰囲気圧力：４．５Ｐａ、パワー：３ｋＷ、バイアス電圧：−８０Ｖ、基材温度：１００℃に変更し、第１の被膜の形成条件を、Ａｒガス流量：１５０ｃｃｍ、雰囲気圧力：５Ｐａ、パワー：１ｋＷ、バイアス電圧：−５０Ｖ、基材温度：１００℃に変更した以外は、前記実施例５と同様にして時計用部品（腕時計用ケース）を製造した。
【０２６９】
各実施例および各比較例の時計用部品の構成を表１にまとめて示す。なお、比較例１については、Ｐｔからなる膜の条件を第１の被膜の欄に示した。また、第１の被膜中における表１に示した以外の成分の含有率（複数の成分の含有率の和）は、各実施例および各比較例のいずれについても、１．５質量％以下であった。また、時計用部品を構成する各部位について、表中に示す成分の含有率は、いずれも、９９．９質量％以上であった。
【０２７０】
【表１】
2018151299.tif 000005
【０２７１】
［２］評価
［２−１］目視による外観評価
前記各実施例および各比較例で製造した各時計用部品について、目視による観察を行い、以下の基準に従い評価した。
【０２７２】
Ａ：適度な光沢感を有しつつも、明度が高すぎず落ち着いた印象の高級感のある極めて優れた外観を呈する。
Ｂ：適度な光沢感を有しつつも、明度が高すぎず落ち着いた印象の高級感のある非常に優れた外観を呈する。
Ｃ：適度な光沢感を有しつつも、明度が高すぎず落ち着いた印象の高級感のある優れた外観を呈する。
Ｄ：光沢感が不十分、または、明度が高すぎて、やや劣った外観を呈する。
Ｅ：光沢感が低い、または、極端に明度が高く、劣った外観を呈する。
【０２７３】
［２−２］分光測色計による外観評価
［２−２−１］Ｌ＊についての評価
前記各実施例および各比較例で製造した時計用部品について、分光測色計（コニカミノルタ社製、ＣＭ−５）を用いた測定を行い、以下の基準に従い評価した。
【０２７４】
Ａ：ＪＩＳ  Ｚ  ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、Ｌ＊が７４．０以上７８．２以下の範囲内である。
Ｂ：ＪＩＳ  Ｚ  ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、Ｌ＊が７２．０以上７８．３以下の範囲内である（ただし、Ａの範囲を除く）。
Ｃ：ＪＩＳ  Ｚ  ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、Ｌ＊が７０．０以上７８．４以下の範囲内である（ただし、ＡおよびＢの範囲を除く）。
Ｄ：ＪＩＳ  Ｚ  ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、Ｌ＊が６８．０以上８０以下の範囲内である（ただし、Ａ、ＢおよびＣの範囲を除く）。
Ｅ：ＪＩＳ  Ｚ  ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、Ｌ＊が６８．０以上８０以下の範囲外の値である。
【０２７５】
なお、分光測色計の光源としては、ＪＩＳ  Ｚ  ８７２０で規定されるＤ６５のものを用い、視野角：２°で測定した。
【０２７６】
［２−２−２］ａ＊およびｂ＊についての評価
前記各実施例および各比較例で製造した時計用部品について、分光測色計（コニカミノルタ社製、ＣＭ−５）を用いた測定を行い、以下の基準に従い評価した。
【０２７７】
Ａ：ＪＩＳ  Ｚ  ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、ａ＊が−１．０以上２．０以下でありかつｂ＊が１．０以上８．０以下の範囲内である。
Ｂ：ＪＩＳ  Ｚ  ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、ａ＊が−１．５以上２．５以下でありかつｂ＊が０．０以上９．０以下の範囲内である（ただし、Ａの範囲を除く）。
Ｃ：ＪＩＳ  Ｚ  ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、ａ＊が−２．０以上３．０以下でありかつｂ＊が−１．０以上１０．０以下の範囲内である（ただし、ＡおよびＢの範囲を除く）。
Ｄ：ＪＩＳ  Ｚ  ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、ａ＊が−３．０以上４．０以下でありかつｂ＊が−２．０以上１１．０以下の範囲内である（ただし、Ａ、ＢおよびＣの範囲を除く）。
Ｅ：ＪＩＳ  Ｚ  ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、ａ＊が−３．０以上４．０以下でありかつｂ＊が−２．０以上１１．０以下の範囲外である。
【０２７８】
なお、分光測色計の光源としては、ＪＩＳ  Ｚ  ８７２０で規定されるＤ６５のものを用い、視野角：２°で測定した。
【０２７９】
［２−３］耐食性評価
デシケーター内に人工汗を入れ、４５℃で１２時間放置した。その後、デシケーター内に、各時計用部品を入れ、さらに４５℃で放置した。このとき、各時計用部品は、人工汗中に浸漬しないように配置した。１２０時間後、各時計用部品をデシケーター内から取り出し、時計用部品の色調を分光測色計（コニカミノルタ社製、ＣＭ−５）を用いて測定し、前記曝気試験を行う前後での色差を求め、以下の基準に従い評価した。
【０２８０】
Ａ：色差ΔＥが３未満である。
Ｂ：色差ΔＥが３以上４未満である。
Ｃ：色差ΔＥが４以上５未満である。
Ｄ：色差ΔＥが５以上６未満である。
Ｅ：色差ΔＥが６以上である。
【０２８１】
なお、分光測色計の光源としては、ＪＩＳ  Ｚ  ８７２０で規定されるＤ６５のものを用い、視野角：２°で測定した。
【０２８２】
［２−４］耐擦傷性・耐磨耗性評価
前記各実施例および各比較例で製造した各時計用部品について、以下に示すような試験を行い、耐擦傷性・耐磨耗性を評価した。
【０２８３】
スガ磨耗試験機（スガ試験機社製、ＮＵＳ−ＩＳＯ−１）を用いて、荷重：２００ｇｆという条件で、各時計用部品の表面を、合計３００ＤＳ（ダブルストローク）磨耗した後の各時計用部品の外観を目視により観察し、これらの外観を以下の基準に従い評価した。なお、上記試験は、住友スリーエム社製、ラッピングフィルム（酸化アルミニウム、粒度：３０μｍ）を用いて行った。
【０２８４】
Ａ：表面に傷の発生が全く認められない。
Ｂ：表面に傷の発生がほとんど認められない。
Ｃ：表面に傷の発生がわずかに認められる。
Ｄ：表面に傷の発生が顕著に認められる。または、被膜（第１の被膜、コート層等）の剥離が認められる。
【０２８５】
［２−５］耐打痕性評価
前記各実施例および各比較例で製造した各時計用部品について、以下に示すような試験を行うことにより、耐打痕性を評価した。
【０２８６】
各時計用部品の特定の部位に向けて、ステンレス鋼製の球（径１ｃｍ）を高さ１００ｃｍの位置から落下させて、時計用部品表面の凹みの大きさ（凹み痕の直径）の測定を行い、以下の基準に従い評価した。
【０２８７】
Ａ：凹み痕の直径が０．５ｍｍ未満、または、凹み痕が求められない。
Ｂ：凹み痕の直径が０．５ｍｍ以上１．０ｍｍ未満。
Ｃ：凹み痕の直径が１．０ｍｍ以上１．５ｍｍ未満。
Ｄ：凹み痕の直径が１．５ｍｍ以上。
これらの結果を、表２にまとめて示す。
【０２８８】
【表２】
2018151299.tif 000006
【０２８９】
表２から明らかなように、本発明では優れた結果が得られた。また、国際皮膚学会によるＩＣＤＲＧの基準に基づくパッチテストを行ったところ、本発明の時計用部品では、アレルギー反応は確認されなかった。また、ＪＣＷＡ−Ｔ００３、ＥＮ１８１１に基づく人口汗による溶出テストを行ったところ、アレルギー反応が問題となる成分の溶出は確認されなかった。これに対し、比較例では満足のいく結果が得られなかった。また、フッ素含有有機ケイ素化合物を含む材料で構成されたコート層を有する実施例９、１０の時計用部品では、防汚性、手触り感等が特に優れていた。
【０２９０】
基材の形状をバンドに変更した以外は、前記各実施例および各比較例と同様にして時計用部品（バンド）を製造して、前記と同様の評価を行ったところ、前記と同様の結果が得られた。
【０２９１】
また、第２の被膜をＴｉＣの代わりにＴｉＣＮで構成されたものとして形成した以外は、前記実施例５〜１０と同様にして時計用部品を製造して、前記と同様の評価を行ったところ、前記と同様の結果が得られた。
【０２９２】
また、前記各実施例および各比較例で製造した時計用部品を用いて、図６に示すような腕時計を組み立てた。これらの腕時計にて、上記と同様な評価を行ったところ、上記と同様の結果が得られた。
【符号の説明】
【０２９３】
１０…時計用部品、１…基材、２…第１の被膜、２１…第１の面、２２…第２の面（表面）、３…下地層（第１の下地層）、４…第２の被膜、４２…表面、５…下地層（第２の下地層）、６…コート層、Ｗ１０…腕時計（時計）、Ｗ２２…胴（ケース）、Ｗ２３…裏蓋、Ｗ２４…ベゼル（縁）、Ｗ２５…ガラス板（風防ガラス）、Ｗ２６…巻真パイプ、Ｗ２７…りゅうず、Ｗ２７１…軸部、Ｗ２７２…溝、Ｗ２８…プラスチックパッキン、Ｗ２９…プラスチックパッキン、Ｗ３０…ゴムパッキン（りゅうずパッキン）、Ｗ４０…ゴムパッキン（裏蓋パッキン）、Ｗ５０…接合部（シール部）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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