(57)【要約】本発明は、短い滞留時間又は短い接触時間で、触媒を用いて炭化水素を水蒸気改質する方法を提供する。また、本発明は、スピネル含有触媒も提供する。また、本発明の方法及び触媒で得られる驚くほど優れた結果及び特性も説明する。
2005502570.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水蒸気及び炭化水素を反応室中に通す工程を含み；且つ
該反応室が、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、ルテニウム、ＩＶｂ族の炭化物及びそれらの組合せから成る群より選択される材料を含む表面活性部位を有するスピネル含有触媒を含み；
該水蒸気及び炭化水素を通す速度を、該反応室における滞留時間が０．１秒未満であるように制御し；
該反応室における温度が５００℃ 〜 １０００℃であり；
該反応室を通過させた後に、該炭化水素の少なくとも６０％が生成物へと転化される
水蒸気改質法。
【請求項２】
水素が、少なくとも６０％の選択率で製造される請求項１記載の方法。
【請求項３】
該表面活性部位が、ロジウムを含む請求項２記載の方法。
【請求項４】
該方法が、少なくとも０．７ミリモル・ｓ-1・ｃｍ-3の水素生産性を有する請求項２記載の方法。
【請求項５】
１０ 〜 ２５ミリ秒の接触時間を有する請求項２記載の方法。
【請求項６】
該炭化水素が、Ｃ1 〜 Ｃ10アルカンを含む請求項５記載の方法。
【請求項７】
該炭化水素がメタンを含み、且つ該メタンの少なくとも９５％が、少なくとも９５％の水素選択率で生成物へと転化される請求項５記載の方法。
【請求項８】
（ａ）第一細孔表面積と少なくとも約０．１μｍの第一孔径とを有する第一多孔質構造；
（ｂ）第二細孔表面積と該第一孔径を下回る第二孔径とを有するスピネルを含む多孔質界面層、該多孔質界面層は該多孔質構造上に配置され４ｍｍ未満の厚さを有する；及び
（ｃ）ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、ルテニウム、ＩＶｂ族の炭化物及びそれらの組合せから成る群より選択され、該第二細孔表面積上に配置された水蒸気改質触媒
を含む触媒。
【請求項９】
該炭化物を、炭化タングステン、炭化モリブデン及びそれらの組合せから成る群より選択する請求項８記載の触媒。
【請求項１０】
該多孔質担体が、金属のフォーム又はフェルトを含む請求項８記載の触媒。
【請求項１１】
該触媒が、細孔容積を３０ 〜 ９５％有し、且つその細孔容積の少なくとも５０％が０．３ 〜 ２００ミクロンの範囲にある請求項１０記載の触媒。
【請求項１２】
アルミナ層；
該触媒の表面上において露出されている金属；
該アルミナ層と該金属との間に配置されたスピネル層
を含み、且つ
該スピネル層が、該アルミナ層と直接接触していて；
該金属が：ロジウム、イリジウム、ニッケル、白金、パラジウム、及びルテニウムから成る群より選択される金属を含む
触媒。
【請求項１３】
該アルミナ層が、多孔質金属担体上にアルミナ被覆を含む請求項１２記載の触媒。
【請求項１４】
該スピネル層を、マグネシア層とアルミナ層との間に配置し、且つ該金属を、該マグネシア層上に配置する請求項１２記載の触媒。
【請求項１５】
該触媒が、水蒸気の炭素に対する割合が３、接触時間２０ミリ秒、１２０ｐｓｉｇ及び８５０℃の条件下で水蒸気改質を１０００時間行なった後でも、炭化水素転化率の低下を示さない請求項１２記載の触媒。
【請求項１６】
該スピネル層が、２０ 〜 ５００ｍ2／ｇの表面積を有する請求項１２記載の触媒。
【請求項１７】
該スピネルが、式MgAl2O4を有する請求項１２記載の触媒。
【請求項１８】
該スピネル層が、４０ミクロン未満の厚さを有する請求項１２記載の触媒。
【請求項１９】
水蒸気及び炭化水素を反応室中に通す工程を含み；且つ
該反応室が、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、ルテニウム、ＶＩｂ族の炭化物及びそれらの組合せから成る群より選択される材料を含む表面活性部位を有するスピネル含有触媒を含み；
該水蒸気及び炭化水素を通す速度を、該反応室における滞留時間が０．１秒未満であるように制御し；
該反応室における温度が５００℃ 〜 １０００℃であり；そして
反応室容積一立方センチメートルあたり一秒間に水素ガスが少なくとも０．５ミリモル製造される
水蒸気改質法。
【請求項２０】
炭化水素転化率が、少なくとも５０％である請求項１９記載の方法。
【請求項２１】
水素選択率が、少なくとも５０％である請求項２０記載の方法。
【請求項２２】
反応室容積一立方センチメートルあたり一秒間に、少なくとも０．７ミリモルの水素ガスが製造される請求項２１記載の方法。
【請求項２３】
６５０ 〜 ９００℃の温度で運転される請求項２２記載の方法。
【請求項２４】
該炭化水素が実質的にメタンから成っていて、且つ炭化水素転化率が平衡転化率の少なくとも９０％である請求項２３記載の方法。
【請求項２５】
該接触時間が、５ 〜 １００ミリ秒である請求項２４記載の方法。
【請求項２６】
該接触時間が２５ミリ秒未満であり、且つ水素選択率が少なくとも８５％である請求項２３記載の方法。
【請求項２７】
反応室容積一立方センチメートルあたり一秒間に、０．５ 〜 ２ミリモルの水素ガスが製造される請求項２６記載の方法。
【請求項２８】
炭化水素転化率が、少なくとも９０％である請求項２２記載の方法。
【請求項２９】
水素選択率が少なくとも８５％であり、且つ連続反応７時間後でもＣＯ選択率が変化しない請求項２８記載の方法。
【請求項３０】
水蒸気及び炭化水素を反応室中に通す工程を含み；且つ
該反応室が、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、ルテニウム、ＶＩｂ族の炭化物及びそれらの組合せから成る群より選択される材料を含む表面活性部位を有するスピネル含有触媒を含み；
該水蒸気及び炭化水素を通す速度を、該反応室における滞留時間が０．１秒未満であるように制御し；
該反応室における温度が５００℃ 〜 １０００℃であり；
該反応室を通過させた後に、該炭化水素の少なくとも５０％が生成物へと転化される
水蒸気改質法。
【請求項３１】
水蒸気及び炭化水素を反応室中に通す工程を含み；且つ
該反応室が、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、ルテニウム、ＶＩｂ族の炭化物及びそれらの組合せから成る群より選択される材料を含む表面活性部位を有する触媒を含み；
該水蒸気及び炭化水素を通す速度を、該反応室における滞留時間が約０．１秒未満であるように制御し；
該反応室を通過させた後に、該炭化水素転化率が平衡転化率の少なくとも５０％に達する
水蒸気改質法。
【請求項３２】
該反応室が、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、及びそれらの組合せから成る群より選択される材料を含む表面活性部位を有する触媒を含み；且つ
該反応室を通過させた後に、該炭化水素の少なくとも５０％が生成物へと転化される
請求項３１記載の方法。
【請求項３３】
該反応室における温度が、５００℃ 〜 １０００℃である請求項３２記載の方法。
【請求項３４】
該触媒が、スピネル担体を含む請求項３２記載の方法。
【請求項３５】
該触媒が、ジルコニア担体を含む請求項３１記載の方法。
【請求項３６】
該触媒が：
第一細孔表面積と少なくとも約０．１μｍの第一孔径とを有する第一多孔質構造；及び
第二細孔表面積と該第一孔径を下回る第二孔径とを有する多孔質界面層
を含む請求項３１記載の方法。
【請求項３７】
該多孔質界面層が、スピネルを含む請求項３６記載の方法。
【請求項３８】
該第一多孔質構造が金属フォーム又は金属フェルトを含み、且つ該多孔質界面層がアルミナを含む請求項３６記載の方法。
【請求項３９】
該触媒が細孔容積を３０ 〜 ９５％有し、該触媒の細孔容積の少なくとも５０％が、０．３ 〜 ２００ミクロンのサイズの細孔から構成されている請求項３２記載の方法。
【請求項４０】
該炭化水素が平衡転化率の少なくとも９０％まで転化され、且つ水素選択率が少なくとも８５％である請求項３３記載の方法。
【請求項４１】
該触媒が、Ｒｈを含む表面活性部位を含む請求項４０記載の方法。
【請求項４２】
水蒸気及び炭化水素を反応室中に通す工程を含み；且つ
該反応室が；
第一細孔表面積と少なくとも約０．１μｍの第一孔径とを有する第一多孔質構造；
第二細孔表面積と該第一孔径を下回る第二孔径とを有する多孔質界面層；及び
触媒金属
を含む触媒を含む
水蒸気改質法。
【請求項４３】
該水蒸気及び炭化水素を通す速度を、該反応室における滞留時間が約０．１秒未満であるように制御し；
該反応室を通過させた後に、該炭化水素転化率が平衡転化率の少なくとも５０％に達する
請求項４２記載の方法。
【請求項４４】
表面活性部位を有する該触媒が、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、及びそれらの組合せから成る群より選択される材料を含む表面活性部位を有する請求項４３記載の方法。
【請求項４５】
該多孔質界面層が、アルミナ、スピネル及びジルコニアから成る群より選択される材料を含む請求項４３記載の方法。
【請求項４６】
水蒸気及び炭化水素を反応室中に通す工程を含み；且つ
該反応室が触媒を含み；
該触媒が：
細孔容積を３０ 〜 ９５％有し、且つ該触媒の細孔容積の少なくとも５０％が、０．３ 〜 ２００ミクロンのサイズの細孔から構成されていて；
触媒金属
を含む
水蒸気改質法。
【請求項４７】
該水蒸気及び炭化水素を通す速度を、該反応室における接触時間が５ 〜 １００ミリ秒であるように制御し；且つ
該反応室を通過させた後に、該炭化水素転化率が平衡転化率の少なくとも５０％に達する請求項４２記載の方法。
【請求項４８】
該触媒が、少なくとも０．７ミリモル・ｓ-1・ｃｍ-3の水素生産性を有する請求項４６記載の方法。
【請求項４９】
接触時間１０ 〜 ２５ミリ秒において、０．５ 〜 ２ミリモル・ｓ-1・ｃｍ-3の水素生産性を有する請求項３１記載の方法。
【請求項５０】
該炭化水素が、フィッシャー・トロプシュによって製造された合成燃料を含み、且つ  該反応室を通過させた後に、該炭化水素転化率が平衡転化率の少なくとも７０％に達する請求項３１記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【発明の開示】
【０００１】
関連出願
本出願は、米国特許出願第０９／７８８，２９３号（２００１年２月１６日出願）、現在は米国特許第６，２８４，２１７号である１９９９年８月１７日に出願された第０９／３７５，６１５号の分割出願である第０９／ ９３０，０４０号（２００１年８月１４日出願）、第０９／６４０，９０３号（２０００年８月１６日出願）、及び第０９／３７５，６１４号（１９９９年８月１７日出願）の一部継続出願であり、それらのすべての開示は、以下の説明で完全に再現されたものとして本明細書に引用したものとする。
【０００２】
発明の分野
本発明は、炭化水素を水蒸気改質する触媒及び方法に関する。
発明の背景
炭化水素の水蒸気改質は、一酸化炭素による水素化（フィッシャー・トロプシュ合成）、メタノール合成及び水素製造のための原料を製造するために通常用いられる。水蒸気改質は、水蒸気と炭化水素との混合物を、アルミナ担体とその上に触媒金属とを有する担持触媒に流し、その混合物を約６００℃ 〜 約１０００℃の温度で反応させて、 少なくとも１種類の生成物を形成させることによって、商業的に行なわれる。スピネル担体を含む多くのタイプの担体上触媒金属について研究が行なわれてきた。従来法のための滞留時間は、典型的には秒のオーダーであり、水蒸気の炭素に対する割合は約２．５超である。水蒸気の炭素に対する割合が２．５を超えている場合、触媒活性は、一般的に、コークス形成に起因して数時間から数日後に劣化する。担持触媒は再生させるか又は取り替えなければならない。
【０００３】
過剰の水蒸気（水蒸気の炭素に対する割合２．５超）を用いることによって、担持触媒の活性の劣化率は、従来法において低減された。しかしながら、過剰の水蒸気を用いる場合、過剰のエネルギーが必要であり、大きなシステム圧力の低下が起こり得る。水蒸気の量をより少なくすると、炭化水素からのコーキングが原因となって、触媒活性がより速く劣化する。
【０００４】
而して、大きな生成物収量を提供し且つ少ない水蒸気で炭化水素を改質する方法、及び触媒の触媒活性を維持する方法に関するニーズが存在する。
発明の概要
本発明は、水蒸気及び炭化水素を反応室中に通す蒸気改質法を提供する。反応室は多孔質触媒を含む。
【０００５】
更に、本発明は：反応室中に水蒸気及び炭化水素を通す工程を含み、且つ該水蒸気及び炭化水素を通す速度を、反応室における滞留時間が０．１秒未満であるように制御する水蒸気改質法を提供する。反応室は、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、ルテニウム、ＶＩｂ族の炭化物及びそれらの組合せから成る群より選択される材料を含む表面活性部位を有する触媒を含む。反応室を通過させると、炭化水素の少なくとも５０％は生成物へと転化された。
【０００６】
また、本発明は：反応室中に水蒸気及び炭化水素を通す工程を含み；且つ反応室が、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、ルテニウム、ＩＶｂ族の炭化物及びそれらの組合せから成る群より選択される材料を含む表面活性部位を有するスピネル含有触媒を含み；水蒸気及び炭化水素を通す速度を、反応室における滞留時間が０．１秒未満であるように制御し；反応室中の温度が５００℃〜１０００℃であり；及び反応室を通過させると、炭化水素の少なくとも６０％が、反応室を通過させた後に生成物へと転化される水蒸気改質法も提供する。「生成物へと転化される」とは、単純に、炭化水素が反応して、その化学式が変わったことを意味している（例えば、メタンはＣＯ及び水素に転化された）。
【０００７】
また、本発明は：（ａ）第一細孔表面積と少なくとも約０．１μｍの第一孔径とを有する第一多孔質構造；（ｂ）第二細孔表面積と該第一孔径を下回る第二孔径とを有するスピネルを含む多孔質界面層、該多孔質界面層は該多孔質構造上に配置され４ｍｍ未満の厚さを有する；及び（ｃ）ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、ルテニウム、ＩＶｂ族の炭化物及びそれらの組合せを含む、該第二細孔表面積上に配置された水蒸気改質触媒を含む触媒も提供する。
【０００８】
また、本発明は：アルミナ層；触媒の表面上において露出されている金属；及び該アルミナ層と該金属との間に配置されたスピネル層を含む触媒も提供する。スピネル層は、アルミナ層と直接接触していて、金属は：ロジウム、イリジウム、ニッケル、白金、パラジウム、及びルテニウムから成る群より選択される金属を含む。「表面上において露出されている」とは、触媒と接触させる反応体ガスに対して露出されているという意味であり；金属は、触媒の細孔及び割れ目の内部に、ならびに触媒のまさに外部に配置できる。
【０００９】
本発明の主題は、本明細書の結論部分で特に指摘され且つ直接クレームされる。しかしながら、本発明の更なる利点及び目的と一緒に、運転の機構及び方法も、同じ参照文字が同じ要素を指している添付の図面と関連させてある以下の説明を参照することによって最もよく理解できる。
【００１０】
好ましい態様の説明
触媒は、水蒸気改質反応に対する運動障壁を低下させる触媒活性表面部位を要する。好ましくは、表面露出部位のための触媒は：ルテニウム、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、及びＶＩｂ族の炭化物の１種類以上を含む。特に好ましくはロジウムである。
【００１１】
また、触媒は、担体材料、好ましくはスピネルも含む。スピネルは、硬質耐熱性材料の公知のクラスである。例えば、Wells， "Structural Inorganic Chemistry，" ５th ed．１９８７ pp．５９２−５９６，３１８．５のスピネルに関する説明を参照されたい。好ましくは、スピネルは、式MgAl2O4を有するが、実際には、小さな（例えば、５％）組成の違いが存在する可能性があることが予期される。ＢＥＴによって測定した場合に、触媒活性表面部位の存在を含むスピネルは、好ましくは、０．１マイクロメートル（μｍ）  未満の容積平均孔径（volumetric average pore size）を有する。ＢＥＴ、窒素物理吸着によって測定した場合に、触媒活性表面部位の存在を含むスピネルは、好ましくは１０ｍ2／ｇ、更に好ましくは２０ 〜 ５００ｍ2／ｇの表面積を有する。スピネルは、好ましくは４ｍｍ未満、更に好ましくは１ｍｍ未満の直径を有する粒子であることができ、又は更に好ましくは、スピネルは、４ｍｍ未満、更に好ましくは１ｍｍ未満、なお更に好ましくは４０μｍ未満の厚さを有する（凝集粒子又は連続膜の）層を形成する。
【００１２】
好ましい態様では、スピネル層は、例えばアルミナ、好ましくはγ（ガンマ）−アルミナのような高表面積材料で被覆され、好ましくは高表面積材料と接触した状態で被覆される。この配置により、良好な金属分散のための高表面積及び／又は高度の金属充填が提供され、また、優れた安定性及び最小表面酸性度（minimized surface acidity）のためのスピネル層も提供される。高表面積材料は多孔質であり；而して、高表面積材料「がその上に配置される」又は「で被覆される」スピネルという意味は、高表面積材料（又は介在層が存在していない大孔径担体）内に存在する割れ目及び空洞をスピネルも被覆できることを意味している。
【００１３】
触媒は、粉末又はペレットのような任意の従来の形態をとることができる。いくつかの好ましい配置では、触媒は下部大細孔担体を含む。好ましい大細孔担体としては、例えば、市販の金属フォームが挙げられ、更に好ましくは金属フェルトが挙げられる。アルミナ（存在する場合は）、スピネル及び表面露出触媒を堆積させる前は、大細孔担体は、少なくとも５％、更に好ましくは３０ 〜 ９９％、なお更に好ましくは７０ 〜 ９８％の多孔度を有する。好ましくは、該担体は、ＢＥＴで測定した場合に、０．１μｍ以上、更に好ましくは１ 〜 ５００μｍの容積平均孔径を有する。多孔質担体の好ましい形態は、フォーム及びフェルトであり、これらは、好ましくは、耐熱性で導電性の材料、好ましくは例えばステンレス鋼又はＦｅＣｒＡｌＹ合金のような金属から作製される。これらの多孔質担体は好ましくは薄く、例えば０．１ 〜 １ｍｍである。フォームは構造全体で細孔を画定している連続壁を有する連続構造である。フェルトは、繊維間に介在空間を有する繊維であって、スチールウールのような絡み合ったストランドを含む。フェルトは、従来、不織布繊維から作製されるものと定義される。様々な担体及び担体配置は、その内容を本明細書に引用したものとする米国特許出願第０９／６４０，９０３号（２０００年８月１６日出願）で説明されている。
【００１４】
大細孔担体を有する触媒（スピネル担持触媒を含む）は、多孔質材料の全容積を基準として、好ましくは５ 〜 ９８％、更に好ましくは３０ 〜 ９５％の細孔容積を有する。好ましくは、材料の細孔容積の少なくとも２０％（更に好ましくは少なくとも５０％）は、０．１ 〜 ３００ミクロン、更に好ましくは０．３ 〜 ２００ミクロン、なお更に好ましくは１ 〜 １００ミクロンのサイズ（直径）範囲の細孔から構成される。細孔容積及び孔径の分布は、水銀圧入法（円筒形の細孔を仮定している）及び窒素吸着によって測定される。公知のように、水銀圧入法及び窒素吸着は、相補的な技術であり、水銀圧入法は大孔径（３０ｎｍ超）を測定する場合により正確であり、窒素吸着は小孔径（５０ｎｍ未満）を測定する場合により正確である。孔径が約０．１ 〜 ３００ミクロンであると、ほとんどの気相触媒条件下で、材料中に分子として分散できる。
【００１５】
一つの態様では、大細孔基体は、水蒸気改質器の反応室（好ましくは小さなチャネル）中に配置できる波形形状を有する。
触媒は、安定であり、且つコークス形成に対して抵抗性である。好ましい態様では、
水蒸気の炭素に対する割合１、接触時間２７ミリ秒、１ｐｓｉｇ未満、及び９００℃においてメタン水蒸気改質を４０時間行なった後の炭化水素転化率の低下は５％未満である。別の好ましい態様では、水蒸気の炭素に対する割合３、接触時間２０ミリ秒、１２０ｐｓｉｇ、及び８５０℃において水蒸気改質を１０００時間行なった後でも、触媒は、炭化水素転化率の低下を示さない。好ましくは、同じ条件下でコ−クス形成は観察されない。
【００１６】
触媒を作製する一つの方法では、アルミナのような高表面積粉末を、可溶性マグネシウム溶液と一緒に含浸させる。次に、その得られた材料を乾燥させ焼成した。いくつかの好ましい態様では、（１）Ａｌ１モルにつきＭｇを０．５モル未満加えるか、又は（２）アルミナのすべてがスピネルへと転化しないように、焼成処理を充分に低い温度で又は短い時間行なう。第二の方法では、マグネシウム層をスピネル上に残す。スピネル形成後に、触媒活性材料を、堆積させ、乾燥させ、焼成し、活性化させる。
【００１７】
下部大細孔基体を用いるとき、上記粉末を、準備プロセスにおけるいずれかの工程で、該基体上にスラリー被覆することができると考えられる。例えば、スピネルを形成させるための焼成後に、粒子を基体上にスラリー被覆し、続いて、含浸法によって金属を堆積させ、乾燥させ、そして活性化させることができると考えられる。別法として、スピネル形成前に、アルミナ（又は他の高表面積材料）の蒸気被覆又は可溶性形態を、基体上に施用できると考えられる。溶液被覆又はスラリー被覆は、典型的には高価ではないが、様々な材料の蒸気被覆を用いることもできると考えられる。
【００１８】
また、本発明は、炭化水素を、例えば上記触媒のようなスピネル含有触媒を用いて、短い滞留時間（接触時間）で、水蒸気と反応させる水蒸気改質の方法も提供する。滞留時間は、好ましくは０．１秒未満である。短い接触時間は、好ましくは５ 〜 １００ミリ秒（ｍｓｅｃ）、更に好ましくは１０ 〜 ２５ミリ秒である。
【００１９】
炭化水素は：アルカン、アルケン、アルキン、芳香族炭化水素、及び例えばガソリン、ケロシン、ディーゼル、ＪＰ−８のような燃料を含むそれらの組合せである。好ましくは、炭化水素は、アルカン又は燃料である。好ましいアルカンは、例えばメタン、エタン、プロパン、ブタン、及びイソオクタンのようなＣ1 〜 Ｃ10アルカンである。
【００２０】
水蒸気改質反応は、好ましくは４００℃超、更に好ましくは５００ 〜 １０００℃、なお更に好ましくは６５０ 〜 ９００℃で行なう。反応は、周囲圧力以下から非常な高圧までの広範な圧力下で行うことができる。本発明の触媒を用いて、１２０ｐｓｉ、Ｈ2Ｏ／Ｃ比１、接触時間２５ミリ秒、及び９００℃で行なわれるメタン水蒸気改質反応では、コークス形成及びＣＯ選択率変化は、連続反応７時間後でも認められなかった。
【００２１】
本発明のある種の面は、転化率及び選択率のような特性によって最も申し分なく説明できる。好ましい態様では、図１に概略示してある装置又は同等な装置において、短い接触時間（又は滞留時間）で試験した場合、本発明の触媒は、良好な炭化水素転化率及び良好な選択率を示す。
【００２２】
触媒及び方法は、炭化水素転化率及び選択率によって特徴付けることができる。炭化水素転化率は、好ましくは少なくとも５０％、更に好ましくは少なくとも９０％、なお更に好ましくは少なくとも９５％である。生成物ガス中のＨ2におけるＨ原子のモル数を、すべての生成物ガス中のＨ原子モル数で割ることによって求められるものと規定される水素選択率は、好ましくは少なくとも５０％、更に好ましくは少なくとも６０％、なお更に好ましくは少なくとも８５％、なお更に好ましくは少なくとも９５％である。いくつかの態様のためには、一酸化炭素選択率は、好ましくは６５％未満、更に好ましくは４０％未満である。前記転化率の値は、絶対又は平衡転化率であることができる。特に断りがない場合は、転化率の値は、絶対転化率であると考えるのが普通である。転化率が１００％に近づく条件下では、絶対転化率と平衡転化率は同じである。「平衡転化率」は、古典的な様式で規定され、最大到達可能転化率は、反応室温度、圧力、及び供給組成物の関数である。炭化水素水蒸気改質反応の場合には、平衡転化率は、温度が上昇すると共に増加し、圧力が増加すると共に減少する。
【００２３】
本発明の触媒及び方法の好ましい態様は、それらの触媒体積あたりの予期外に高い水素生産性によって説明することもできる。好ましくは、該触媒（体積１立方センチメ−トルあたり）は、上記した短い接触時間で運転した場合、少なくとも０．７ミリモル・ｓ-1・ｃｍ-3の水素生産性を有する。いくつかの態様では、本発明の触媒及び方法は、短い接触時間で、０．５ 〜 ２ミリモル・ｓ-1・ｃｍ-3の生産性を有する。
【００２４】
（実施例１）
担持触媒は、マグネシア（ＭｇＯ）パッシベーション層と酸化ロジウム（Ｒｈ2Ｏ3）とを有するガンマ・アルミナ担体（γ−Ａｌ2Ｏ3）のスピネルであった。おおよその組成は、Ｒｈ2Ｏ3約１５重量％、ＭｇＯ約５重量％、及びγ−Ａｌ2Ｏ3約８０重量％であった。担持触媒は、（１）高表面積γ−Ａｌ2Ｏ3を５００℃で５時間焼成し；（２）硝酸マグネシウム溶液と共にインシピエントウェットネス(incipient wetness)法を用いて、γ−Ａｌ2Ｏ3にＭｇＯを含浸させて；ＭｇＯで改質されたγ−Ａｌ2Ｏ3担体を生成させ；（３）その得られた改質担体を１１０℃で４時間乾燥させ、次に（４）９００℃で２時間、第二焼成し；（５）その改質担体に対して、硝酸ロジウム溶液と共にインシピエントウェットネス法を用いて、Ｒｈ2Ｏ3を含浸させ；次に、（６）１１０℃で４時間最終乾燥させ、そして（７）５５０℃で３時間最終焼成して担持触媒の粉末を得ることにより、調製した。
【００２５】
マイクロリアクタは、内径４ｍｍ（ＩＤ）及び外径６．３５ｍｍ（ＯＤ）を有する石英管から作製した。担持触媒の粉末（７０ 〜 １００メシュ）約０．２ｇを、充填床配列にして、マイクロリアクタ中に配置した。触媒を評価する前に、１１０℃において１０％Ｈ2／Ｎ2（１００ｃｃ（ＳＴＰ）／分）中で４時間、触媒を活性化させた。
【００２６】
上記触媒を用いて様々な炭化水素に関して一連の試験を行なった。用いた炭化水素は、メタン、ブタン、イソオクタン、合成石油、ガソリン、ディーゼル、及びＪＰ−８であった。各場合において、６０％以上の転化率が観察された。
【００２７】
結果及び条件を以下の表にまとめた。
【表１】
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【００２８】
水蒸気の炭素に対する割合３及び接触時間２５ミリ秒の場合の結果が図２に示してある。
温度を上昇に伴って、転化率は約５２％ 〜 ９５％で、ＣＯ選択率は２２％ 〜 ７０％である。
【００２９】
図３は、水蒸気の炭素に対する割合１及び接触時間２５ミリ秒で、９００℃で４０時間にわたって行なったメタン水蒸気改質反応の結果である。担持触媒の劣化は観察されなかった。試験後の電子顕微鏡検査では、コークスの堆積は認められず、ＢＥＴ測定では、表面積の有意な損失は検出されなかった。接触時間２７ミリ秒及び水蒸気の炭素に対する割合を３：１ 〜 １：１の範囲で変化させながら同様な試験を行なった場合でも、４２時間で９回の熱サイクル後に触媒の劣化は認められなかった。
【００３０】
８５０℃及び１２０ｐｓｉ（一立方インチゲージあたりのポンド数）で１０００時間にわたって行なったメタン水蒸気改質反応において、水蒸気の炭素に対する割合３及び接触時間２０ミリ秒で、上記触媒を用いて試験を行なった。初期メタン転化率は８７％であり、最終のメタン転化率は９２％であって、初期ＣＯ選択率は６０％及び最終ＣＯ選択率は７０％であった。而して、水蒸気の炭素に対する割合が３において１０００時間運転した後でも、優れた触媒安定性（転化率％が低下しない）が認められた。
【００３１】
この実施例の触媒を用いて、１０及び２５ミリ秒でブタンを水蒸気改質した結果は図４に示してある。曲線の下の組は、接触時間１０ミリ秒である。図から認められるように、本発明は、７００℃近くの温度で、ほぼ最大のブタン転化率、すなわち約９５％以上の転化率を達成できる。水素選択率も、良好であり、７００℃近くの温度で、５０％超から１００％の選択率である。
【００３２】
図５に示してあるように、メタン水蒸気改質では、水蒸気の炭素に対する割合が増加すると、転化率が増加し、ＣＯ選択率が低下する。
（実施例２）：加工触媒
多孔質加工触媒を調製して、ＦｅＣｒＡｌＹ合金（該合金は、フロリダ州ディランド にあるTechneticsから入手した）の金属フェルト上に１３．８％Ｒｈ／６％ＭｇＯ／Ａｌ2Ｏ3から成る触媒を含有させた。１３．８重量％Ｒｈ６重量％ＭｇＯ／Ａｌ2Ｏ3粉末触媒は、１）高表面積ガンマアルミナを５００℃で５時間焼成し；２）硝酸マグネシウム水溶液と共にインシピエントウェットネス法を用いて、ガンマアルミナにＭｇＯを含浸させて；ＭｇＯで改質されたガンマアルミナ担体を生成させ；３）その得られた改質担体を１１０℃で４時間乾燥させ、次に４）９００℃で２時間、第二焼成し；５）その改質担体に対して、硝酸ロジウム溶液からインシピエントウェットネス法を用いて、Ｒｈ2Ｏ3を含浸させ；次に、６）１１０℃で４時間最終乾燥させ、そして７）５００℃で３時間最終焼成して担持触媒の粉末を得ることにより、調製した。その粉末触媒を一晩ボールミルし、次に、所望の充填が得られるまで、ＦｅＣｒＡｌＹフェルト上にスラリーにして浸漬被覆した。その被覆された触媒を９０℃で一晩乾燥させてから、３５０℃で４時間焼成した。触媒を評価する前に、１１０℃で４時間、１０％Ｈ2／Ｎ2（１００ｃｃ（ＳＴＰ）／分）中で触媒を還元した。
【００３３】
メタン水蒸気改質のための１つのマイクロチャネルを用いて、すべての実験を行ない、本発明を証明した。管炉内にマイクロチャネルを配置して、必要な吸熱反応熱を提供した。
触媒"ＤＦ"は、２つの単一フェルトから成る。両方のフェルト触媒は、同じ寸法（０．０１インチ ｘ ０．３５インチ ｘ ２インチ）を有しており、単一のチャネルデバイス（０．０３インチ x ０．３５インチ x ２インチ／０．０７５ｃｍ ｘ ０．８８ｃｍ ｘ ５．０ｃｍ）中で評価した。壁と密接に接触するように、２つのフェルトを、約０．０１インチの間隔を空けて、単一チャネルデバイス中に配置した。触媒室の容積は、単一チャネル容積として画定される（０．０３インチ x ０．３５インチ x ２インチ／０．０７５ｃｍ ｘ ０．８８ｃｍ ｘ ５．０ｃｍ）。
【００３４】
触媒"Ｃ" を次のようにして形成した。厚さ０．０１インチ（０．０２５ｃｍ）のフェルトを変形させてラッフルと呼ばれる波形形態にした。本発明で研究されるラッフルは、固体波長０．１１７インチ（０．２９５ｃｍ）及び固定振幅０．０５インチ（０．１２７ｃｍ）を有する。ラッフルの寸法は、幅０．３５インチ（０．８８ｃｍ）及び長さ２インチ（８．０ｃｍ）である。反応体は、前記波に対して直角の方向に流れる。単一ラッフルは単一チャネルデバイス（０．０５インチ x ０．３５インチ x ２インチ／０．１３ｃｍ ｘ ０．８８ｃｍ ｘ ５．０ｃｍ）中にぴったりと合わせ、触媒室容積を閉じる。触媒 "ＤＣ"は、二重ラッフル形状を有し、その間にシム（０．０１インチ x ０．３５インチ x ２インチ／０．０２５ｃｍ ｘ ０．８８ｃｍ ｘ ５．０ｃｍ）を有する２つの同じラッフルを積重ねることによってデザインされている。二重ラッフルを、より幅の広い単一チャネルデバイス（０．１１インチ x ０．３５インチ x ２インチ／０．２８ｃｍ ｘ ０．８８ｃｍ ｘ ５．０ｃｍ）中で評価した。二重ラッフルは触媒室容積を閉じている。
【００３５】
加工触媒を用いる水蒸気改質の結果は、図６ 〜 ８に示してある。波形形態は、おそらく、熱伝達がより不良であり、且つ／又は固定触媒床内にある触媒の量が少ないので、メタン転化率が低い。熱伝達が悪いと、波形形態ではＣＯ選択率が低いという事実によって確認されるように、平均触媒温度が比較的低くなり、ＣＯ選択率が低くなることがある。図において見ることができるように、大細孔担体上に担持された触媒（すなわち、加工触媒）は、最高の特性（最も高い転化率）を示した。粉末形態を超える加工触媒の驚くべき優位性は、公開された文献からは予測できなかった。
【００３６】
（実施例３）
メタン水蒸気改質のための１つのマイクロチャネルを用いて、プロパンの水蒸気改質を行ない、本発明を証明した。その結果は図９に示してある。管炉内にマイクロチャネルを配置して、必要な吸熱反応熱を提供した。マイクロチャネルは長さ２．５４ｃｍ及び長さ０．９５ｃｍであった。マイクロチャネルの幅（又は開口部）は０．０７６２ｃｍ又は７６２ミクロンであった。０．０７６２ｃｍの幅は、対向壁を隠蔽している２つの多孔質構造を含んでいて、そのそれぞれは、２５４ミクロンの２つの多孔質構造の間にバルク流路を残している２５４ミクロンの幅を有していた。多孔質構造は、フロリダ州ディランドにあるTechneticsから入手したＦｅＣｒＡｌＹ合金の金属フェルト上に１３．８％Ｒｈ／６％ＭｇＯ／Ａｌ2Ｏ3の触媒を含有していた。１３．８重量％Ｒｈ６重量％ＭｇＯ／Ａｌ2Ｏ3粉末触媒は、１）高表面積ガンマアルミナを５００℃で５時間焼成し；２）硝酸マグネシウム水溶液と共にインシピエントウェットネス法を用いて、ガンマアルミナにＭｇＯを含浸させて；ＭｇＯで改質されたガンマアルミナ担体を生成させ；３）その得られた改質担体を１１０℃で４時間乾燥させ、次に４）９００℃で２時間、第二焼成し；５）その改質担体に対して、硝酸ロジウム溶液からインシピエントウェットネス法を用いて、Ｒｈ2Ｏ3を含浸させ；次に、６）１１０℃で４時間最終乾燥させ、そして７）５００℃で３時間最終焼成して担持触媒の粉末を得ることにより、調製した。その粉末触媒を一晩ボールミルし、次に、所望の充填が得られるまで、ＦｅＣｒＡｌＹフェルト上にスラリーにして浸漬被覆した。浸漬被覆する前に、ＦｅＣｒＡｌＹフェルトを、空気中で、９００℃で２時間、熱処理した。その被覆された触媒を９０℃で一晩乾燥させてから、３５０℃で４時間焼成した。触媒を評価する前に、１１０℃で４時間、１０％Ｈ2／Ｎ2（１００ｃｃ（ＳＴＰ）／分）中で触媒を還元した。プロパン入口流量及び水（液体）流量を、水蒸気の炭素に対する割合が約３：１となるように設定した。総供給流量は、２６ 〜 １３３ミリ秒の接触時間に相当する。プロパン及び水は、マイクロチャネルに入れる前に、反応温度近くまで予熱した。図９に示してあるように、研究された条件（温度範囲５５０ 〜 ７００℃及び接触時間２６ 〜 １３３ミリ秒）下で、プロパン転化率＞９５％及び水素選択率＞９０％が達成された。
【００３７】
（実施例４）
１３．８％Ｒｈ／６％ＭｇＯ／Ａｌ2Ｏ3触媒を、硫黄含有燃料ＪＰ−８の水蒸気改質についても評価した。触媒の調製は、実施例３と同様に行なった。マイクロリアクタは、内径４ｍｍ（ＩＤ）及び外径６．３５ｍｍ（ＯＤ）を有する石英管から作製した。担持触媒の粉末（７０ 〜 １００メシュ）約０．２ｇを、充填床配列にして、マイクロリアクタ中に配置した。触媒を評価する前に、１１０℃において１０％Ｈ2／Ｎ2（１００ｃｃ（ＳＴＰ）／分）中で４時間、触媒を活性化させた。ＪＰ−８燃料及び水の流量は、水蒸気の炭素に対するモル比が３になるように調整した。総供給流量（ＳＴＰ）は接触時間２５ミリ秒に相当した。ＪＰ−８燃料及び水を、蒸発させ、混合し、６５０℃の反応温度まで予熱した。図２に示してあるように、研究された条件下で、ＪＰ−８転化率が＞９０％の初期活性が達成された。連続的な失活は、触媒の硫黄毒によるものであった。
【００３８】
（実施例５）
１３．８％Ｒｈ／６％ＭｇＯ／Ａｌ2Ｏ3触媒を、硫黄無含有合成燃料（フィッシャー・トロプシュ合成の生成物）の水蒸気改質について更に評価した。触媒は、実施例３で説明した手順で合成し、実施例４で説明した粉末形態で評価した。合成燃料は、６ 〜 ２２個の炭素を有するパラフィンを含む。合成燃料と水の流量は、水蒸気の炭素に対する割合が３になるように調整した。総流量は、５０ 〜 １００ミリ秒の接触時間が達成されるように調整した。図１１は、合成燃料の転化率を、接触時間及び触媒床温度の関数として示している。合成燃料の転化率は接触時間及び触媒床温度と共に増加する。４８０℃及び接触時間１００ミリ秒において、＞９０％の転化率が達成された。
【００３９】
（実施例６）
実施例５に記載した触媒を、粉末形態（触媒Ｂ）において、イソオクタン水蒸気改質についても評価し、第二触媒（４．９重量％Ｒｈ／ＺｒＯ2，触媒Ａ）と比較した。試験手順は、実施例４と同じであった。触媒Ａは、次のようにして：すなわち、（１）５００℃で５時間、高表面積ＺｒＯ2（表面積８０ｍ2／ｇを有し、Engelhardから入手した）を焼成し；（２）硝酸ロジウム溶液からインシピエントウェットネス法を用いて、ＺｒＯ2にＲｈ2Ｏ3を含浸させ；次に、（３）１１０℃で４時間最終乾燥させ、そして（４）５００℃で３時間最終焼成して担持触媒を得ることにより、調製した。図１２は、接触時間２５ミリ秒、水蒸気の炭素に対する割合２、大気圧、及び触媒床温度７００℃における、Ａ及びＢ双方の比較を示している。驚くべきことに、ジルコニア担持触媒は、スピネル担持触媒に比べてより活性であることを発見した。
【００４０】
結語
本発明の好ましい態様を説明してきたが、本発明のより広範な面において、本発明から逸脱せずに、多くの変更及び改良を行なってもよいことは当業者には明らかである。而して、添付の請求の範囲は、本発明の真の精神及び範囲内にあるものとして、すべてのそのような変更及び改良をカバーすることを意図している。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】触媒試験装置の概略図である。
【図２】接触時間２５ミリ秒でのスピネル担持粉末触媒によるメタン水蒸気改質における炉温度に対する転化率及び選択率のグラフである。
【図３】接触時間２５ミリ秒でのスピネル担持粉末触媒によるメタン水蒸気改質における時間に対する転化率及び選択率のグラフである。
【図４】接触時間１０及び２５ミリ秒でのスピネル担持粉末触媒によるブタン水蒸気改質における炉温度に対する転化率及びＨ2選択率のグラフである。
【図５】滞留時間６．３５ミリ秒（接触時間２７ミリ秒）でのスピネル担持粉末触媒によるメタン水蒸気改質における水蒸気対炭素比に対する転化率及びＣＯ選択率のグラフである。
【図６】様々な接触時間でのスピネル担持加工触媒によるメタン水蒸気改質における圧力に対する転化率のグラフである。
【図７】同じ条件下において、加工触媒と、同じ粉末触媒とを比較している、時間に対する転化率及びＣＯ選択率のグラフである。
【図８】様々な接触時間での加工触媒における圧力に対するＣＯ選択率のグラフである。
【図９】接触時間２６，６３及び１３３ミリ秒でのプロパン水蒸気改質における温度に対するプロパン転化率のグラフである。
【図１０】ＪＰ−８燃料の水蒸気改質における時間に対する転化率のグラフである。
【図１１】接触時間５０及び１００ミリ秒での触媒粉末による フィッシャー・トロプシュ合成燃料の水蒸気改質における触媒床温度に対する転化率のグラフである。
【図１２】（Ａ）Ｒｈ／ＺｒＯ2及び（Ｂ）Ｒｈ／スピネルに関して転化率（薄い斜線ブロック）及び水素への選択率（濃い斜線ブロック）を比較している棒グラフである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【国際公開パンフレット】
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2005502570.tif 000017
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2005502570.tif 000019
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【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
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【国際調査報告】
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