(57)【要約】  食器かごに配列された、様々に異なる汚れの付着した洗浄食器を、汚れ具合に応じて最適に洗浄することを可能にする装置及び方法を提供するという課題は、少なくとも１つの食器かご（１）を備えた食器洗浄機内の洗浄食器を洗浄するための、本発明による装置が、少なくとも１つの食器かご（１）が組み込まれたスプレー装置（２ａ〜２ｄ）を有しており、装置が、少なくとも１つの食器かご（１）のスプレー装置（２ａ〜２ｄ）の所定領域を洗浄の間に制御するための制御装置（４）を有していることにより解決される。さらに少なくとも１つの食器かご（１）を有する食器洗浄機内の洗浄食器を洗浄するための、本発明による方法により、食器かご（１）の下方に配置されたスプレー装置（２ａ〜２ｄ）に所定領域を設け、前記スプレー装置が、前記範囲に対応配置された遮断装置（３）を介して、食器かごの、ほぼ直接の上方に位置する領域に洗浄液を負荷し、この所定領域の制御を、制御装置（４）を行うことにより解決される。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
食器洗浄機内の洗浄食器を洗浄する装置であって、少なくとも１つの食器かご（１）が設けられている形式のものにおいて、少なくとも１つの食器かご（１）が、組み込まれたスプレー装置（２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ）を有しており、装置が、洗浄の間に少なくとも１つの食器かご（１）のスプレー装置（２ａ〜２ｄ）の所定領域を制御するための制御装置（４）を有していることを特徴とする、食器洗浄機内の洗浄食器を洗浄するための装置。
【請求項２】
スプレー装置（２ａ〜２ｄ）が、食器かご（１）の下方に配置されている、請求項１記載の装置。
【請求項３】
スプレー装置（２ａ〜２ｄ）が、スプレーフロアの形で構成されている、請求項２記載の装置。
【請求項４】
スプレーフロアが、個々の領域に分割可能に構成されている、請求項３記載の装置。
【請求項５】
前記領域が、１／４区分の形に構成されている、請求項４記載の装置。
【請求項６】
スプレーフロアの個々の領域が、遮断手段（３）を介して、別の領域に対して遮断可能に構成されている、請求項４記載の装置。
【請求項７】
遮断手段（３）が弁であり、制御装置（４）を介して制御されるようになっている、請求項６記載の装置。
【請求項８】
スプレーフロアに４つの領域が構成されており、これらの４つの領域が、それぞれ弁を介して制御可能であり、ひいては制御時に、制御された領域の直接の上方にのみ洗浄液を負荷する、請求項７記載の装置。
【請求項９】
少なくとも１つの食器かご（１）を備えた食器洗浄機内の洗浄食器を洗浄する方法において、食器かご（１）の下方に配置されたスプレー装置（２ａ〜２ｄ）に複数の所定領域を設け、これらの所定領域が、当該領域に対応配置された遮断手段（３）を介して、食器かご（１）のほぼ直接の上方に位置する領域に洗浄液を負荷するようにし、該所定領域の制御を、制御装置（４）を介して行う、食器洗浄機内の洗浄食器を洗浄するための方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくとも１つの食器かごを備えた食器洗浄機内の洗浄食器を洗浄するための装置及び方法に関する。
【０００２】
ドイツ連邦共和国特許公開第２７０２６４４号明細書につき、食器洗浄機のための食器かごが公知である。この食器かごの積載領域には複数の管が設けられており、これらの管にはそれぞれ開口部が設けられており、これにより、開口部の直接の上方に位置する洗浄食器が洗浄液により負荷されるようになっている。洗浄プログラムの間に、洗浄液は、食器かごの、流入導管の形で構成された管に構成された全ての開口部を通過する。狭い流入管を介して、管の流入部から最も離れた点にまで著しい圧力低下が生じる。この圧力低下に基づいて、洗浄力若しくはスプレー力は食器かごの全ての領域に一様に構成されていおらず、従って流入部から最も離れた領域では、スプレー噴射は、よりわずかな速度で洗浄食器に当たることになる。
【０００３】
この欠点は、食器かごの、流入部から遠く離れた領域に、特に頑固に汚れた洗浄食器が配列されており、これにより、食器かご内の洗浄特性が異なってしまう場合には、一層重大である。
【０００４】
そこで本発明の課題は、食器かごに配列された、様々に異なる汚れの付着した洗浄食器を、汚れ具合に応じて最適に洗浄することを可能にする装置及び方法を提供することである。
【０００５】
本発明の有利な発展形が従属請求項に記載されている。
【０００６】
少なくとも１つの食器かごを備えた食器洗浄機内の洗浄食器を洗浄するための、本発明による装置では、本発明によれば少なくとも１つの食器かごが、組み込まれたスプレー装置を有しており、本発明の装置は、洗浄の間に少なくとも１つの食器かごのスプレー装置の所定領域を制御するための制御装置を有している。
【０００７】
有利には、前記スプレー装置は食器かごの下方に配置されており、特に有利な実施例では、スプレー装置はスプレーフロアの形で構成されている。
【０００８】
有利には、スプレーフロアは、個々の領域、有利には１／４区分に分割可能に構成されている。これらの１／４区分は、それぞれ遮断手段を介して、他の領域に対して閉鎖可能に構成されており、これにより、所定領域を制御するための制御装置は、個々の領域への洗浄液を意図的に制御することができるようになっており、ひいては本発明により、頑固な汚れの付着した洗浄食器にはより集中的に洗浄液を負荷することができ、例えばグラスのみを装入された別の領域は、よりわずかに集中的なスプレー処理を被る。
【０００９】
目的に応じて、選択された領域が、遮断手段を介して互いに分離可能に構成されている。
【００１０】
少なくとも１つの食器かごを備えた食器洗浄機内の洗浄食器を洗浄するための、本発明による方法によれば、食器かごの下方に配置されたスプレー装置には所定領域が設けられており、この所定領域は、この所定領域に対応配置された遮断手段を介して、食器かごの、ほぼ直接の上方に位置する領域に洗浄液を負荷し、この所定領域の制御は制御装置を介して得られるようになっている。
【００１１】
本発明による装置若しくは本発明による方法によって、有利には、それぞれの洗浄プログラムのための消費量、特に水又はエネルギ消費量が最適化される、すなわち、水消費若しくはエネルギ消費が平均して低下することが達成される。
【００１２】
本発明による装置若しくは本発明による方法は、家庭用食器洗浄機にも業務用食器洗浄機にも使用することができ、さらにこれらのそれぞれの機器の上かごにも下かごにも、さらにそれぞれ別々に１つの食器かごにみに使用することもできる。
【００１３】
次に本発明による装置及び本発明による方法を、本発明の装置の概略な的平面図を示した唯一の図面に基づきさらに詳しく説明する。
【００１４】
唯一の図面に基づいた、本発明による装置には、概略的にスプレー装置２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄを有する食器かご１が示されている。この場合、スプレー装置２ａ〜２ｄはそれぞれ別々に閉鎖手段３で開口している。スプレー装置２ａ〜２ｄは食器かごの下方に配置されており、図示の実施例ではスプレーフロアの形で構成されており、このスプレーフロアは複数の個別の領域に分割可能である。これらの領域は、図示の実施例では１／４区分の形で構成されている。遮断手段３への流入領域は、循環ポンプ６の方向で一緒になっており、これにより、中央領域が構成されている。この中央領域から、スプレー装置２ａ〜２ｄへそれぞれの流入領域が遮断手段３を介して得られる。図示の実施例では、この遮断手段３は電磁弁の形で構成されている。個々の所定領域はそれぞれ、遮断手段３を介して別の領域に対して遮断可能に構成されている。
【００１５】
遮断手段３は制御装置４を介して制御され、この制御装置４自体は、食器洗浄機の制御装置（図示しない、若しくは食器洗浄機に組み込まれている）に接続されていて、この場合、洗浄プログラムを制御するそれぞれの制御リズムは、制御プログラムに記憶されている。スプレー装置２ａ〜２ｄのそれぞれの領域を選択に応じて制御するためには、制御装置４が操作エレメント５に接続されている。この操作エレメント５はスプレー装置領域２ａ〜２ｄの概略表示を有しており、有利には発光エレメントを介して、選択された領域をそれぞれ表示する。選択された１／４区分の区分、すなわち、ほぼ正方形に構成された食器かご１の、４つの等しい大きさの面への区分を有する図示の実施例では、操作エレメント５の操作ボードに４つのキーを有するキー領域が設けられている。これらの４つのキーは、集中洗浄プログラムのために設けられたそれぞれの１／４区分を反映している。
【００１６】
１／４区分の区分の場合、すなわち、ほぼ正方形に構成された食器かご１が４つの等しい大きさの面に分割されている場合には、操作ボードには例えば４つのキーを有するキー領域が設けられていてよい。これらの４つのキーは、集中洗浄プログラムのために設けられたそれぞれの１／４区分を反映している。
【００１７】
それぞれの１／４区分又はゾーンの選択時には、使用者は、選択が手により行われる場合には、対応するキーの操作により、集中的に洗浄することが望ましい１つの領域を選択することができる。目的に応じて、本発明による方法はオプションとして選択することができるか、若しくは所定の洗浄プログラムに設けられている。
【００１８】
それぞれの領域の選択の他に、さらに、例えば循環ポンプモータの回転数制御調整を変更することにより、スプレー噴射強度を変更することが可能であり、ひいてはスプレー噴射の流出速度を、それぞれの要請に応じて適合させることができる。操作ボードを介した、使用者の手による領域選択を設ける可能性の他に、さらに本発明によれば、洗浄容器内に取り付けられたセンサ、例えばカメラにより、特に頑固な汚れの付着した洗浄食器を認識し、次いで、洗浄プログラムの間に集中的な洗浄を被ることが望ましいそれぞれの領域を手により選択するか、又は自動的に選択させることが可能である。
【００１９】
本発明による装置及び本発明による方法により、頑固な汚れの付着した洗浄食器に洗浄液を集中的に負荷することができ、かつ例えばグラスのみを装入された別の領域は、よりわずかに集中的なスプレー処理を被ることが達成される。これにより、食器かご１に配列された、様々に異なった汚れの付着した洗浄食器を、汚れ具合に応じて最適に洗浄することを可能にする装置と方法が提供されている。
【００２０】
さらに、本発明による装置及び本発明による方法により、有利には、それぞれの洗浄プログラムのための消費量、特に水及びエネルギ消費量が最適化される、すなわち、水消費若しくはエネルギ消費が平均して低下する。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明による、スプレー装置を備えた食器かごの概略的な平面図である。
【図１】
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【国際調査報告】
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