(57)【要約】【課題】良好な研磨カス包摂性、および施術時間が長引いた場合であっても良好な研磨作業性が得られ、かつ使用後の研磨器具の洗浄性に優れた、爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物を提供する。【解決手段】研磨カス飛散防止組成物が含有する全溶媒成分量に対する水の割合が３０〜７０質量％であり、高分子化合物の全質量に対する、アルコールおよび水に対して溶解性を有する高分子化合物の占める割合が８５質量％以上である、爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶媒成分として少なくとも水およびアルコールを含有し、更に高分子化合物を少なくとも含有する爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物であって、該研磨カス飛散防止組成物が含有する全溶媒成分量に対する水の割合が３０〜７０質量％であり、該高分子化合物の全質量に対する、アルコールおよび水に対して溶解性を有する高分子化合物の占める割合が８５質量％以上であることを特徴とする、爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、爪または皮膚を研磨した際に生じる、研磨カスの飛散を防止する研磨カス飛散防止組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
白癬は、白癬菌と称される真菌の感染により生じる皮膚感染症の一種である。白癬は、白癬菌が感染した部位により名称が異なっている。例えば、白癬菌が足に感染した場合は「足白癬」と呼ばれ、白癬菌が爪に感染した場合は「爪白癬」と呼ばれる。足白癬は日本人の５人に１人が罹患しており、爪白癬は日本人の１０人に１人が罹患しているといわれている。
【０００３】
爪白癬の症状としては爪の肥厚や変形などがよく知られているが、爪周囲炎となることもある。また、糖尿病患者では壊疽に進展することもある。糖尿病患者では足白癬や爪白癬などに罹患しやすいといわれている。近年、足白癬または爪白癬を発症している糖尿病患者の数が増加しており、診療上の重要な項目となっている。
【０００４】
足白癬および爪白癬の患者に対して、特に医療業界ではフットケアとして、爪をグラインダーや爪やすり等を用いて研磨し、あるいは爪の形を整えたりする場合があり、また肥厚した皮膚を角質やすりなどを用いて滑らかにすることがある。このように爪または皮膚を研磨すると、白癬菌を有する多量の研磨カスが発生し、且つ白癬菌を有する研磨カスが研磨施術者及び研磨対象者の周辺に飛散し、白癬菌の感染リスクが懸念される。
【０００５】
このような問題に対し特許文献１では、アルコールを５０〜９０質量％、前記したアルコールに対し非溶解性でかつ水溶性の多糖類をゲル化剤とし、該ゲル化剤を２〜１０質量％、およびヒドロキシプロピルセルロースやカルボキシビニルポリマーなどの増粘用高分子化合物を３〜１０質量％含有する、爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物が開示されており、かかる飛散防止組成物を、研磨する箇所にあらかじめ塗布しておくことで研磨カスを包摂し、研磨カスの飛散を効果的に防止できることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１２−１３１７３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら爪または皮膚を研磨する際、施術する箇所の症状や形状によっては、爪や皮膚の研磨に要する時間が長引く場合があるが、このような場合において、時間の経過と共にグラインダーや爪やすり等の研磨器具の凹部に、爪や皮膚の研磨カスを含有する組成物が固着し、研磨作業効率が次第に低下するとの問題が生じ、改善が求められていた。また該組成物が固着、乾燥した研磨器具の洗浄作業は非常に煩雑であり、かかる研磨器具の洗浄性に関しても、改善が求められていた。
【０００８】
本発明は、良好な研磨カス包摂性、および施術時間が長引いた場合であっても良好な研磨作業性が得られ、かつ使用後の研磨器具の洗浄性に優れた、爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、鋭意検討した結果、以下の構成を有する研磨カス飛散防止組成物によって、上記課題を解決できることを見いだした。
【００１０】
（１）溶媒成分として少なくとも水およびアルコールを含有し、更に高分子化合物を少なくとも含有する爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物であって、該研磨カス飛散防止組成物が含有する全溶媒成分量に対する水の割合が３０〜７０質量％であり、該高分子化合物の全質量に対する、アルコールおよび水に対して溶解性を有する高分子化合物の占める割合が８５質量％以上であることを特徴とする、爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物。
【発明の効果】
【００１１】
本発明により、良好な研磨カス包摂性、および施術時間が長引いた場合であっても良好な研磨作業性が得られ、かつ使用後の研磨器具の洗浄性に優れた、爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下に、本発明の組成物について詳細に説明する。
【００１３】
本発明の爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物（以下「本発明の組成物」ともいう）は、爪や皮膚上に均一に塗布することが容易であり、研磨しようとする爪および／または皮膚上に塗布して使用する。使用方法の一例としては、チューブ容器に内包された本発明の組成物を少量取り出し、研磨しようとする爪または皮膚上に薄くのばして塗布し、該組成物が塗布された爪または皮膚を、グラインダーや爪やすり、角質やすりなどの研磨器具を用いて研磨する。研磨した際に生じる爪または皮膚の研磨カスは、本発明の組成物内に包摂され、周囲に飛散することなく施術することができる。本発明の組成物は、アルコールの蒸発や研磨時の振動等により、研磨カスを含有した状態でそのまま固形化（ゲル化）する。固形化した組成物をティッシュペーパーなどで拭き取ることで、研磨カスを飛散させずに爪または皮膚の研磨を終えることができる。
【００１４】
前述した特許文献１（特開２０１２−１３１７３４号公報）においては、研磨カス飛散防止組成物中に占めるアルコールの割合が５０〜９０質量％と極めて多いため、良好な研磨カス包摂性を得るためには、ゲル化剤として、アルコールに非溶解性でかつ水溶性の高分子化合物が必要であった。しかしながらアルコールの含有量が多い組成物においては、溶媒成分の揮発速度が速いことから、グラインダーや爪やすり等の研磨器具の凹部に、爪または皮膚の研磨カスを含有した研磨カス飛散防止組成物が固着しやすくなり、良好な研磨作業性を得ることは非常に困難であった。
【００１５】
これに対し本発明では、該組成物が含有する全溶媒成分量に対する水の割合を３０〜７０質量％とすることで、溶媒成分の揮発速度を低下させると共に、そのような系においては研磨カス飛散防止組成物が含有する高分子化合物のうち、アルコールおよび水に対して溶解性を有する高分子化合物の占める割合を８５質量％以上にまで増加させることで、研磨カスを含有した状態で、固形化（ゲル化）できることを見いだし、本発明に至った。また、研磨カス飛散防止組成物が含有する高分子化合物中に占める、アルコールおよび水に対して溶解性を有する高分子化合物の割合を８５質量％以上に高めた場合、アルコールに非溶解性でかつ水溶性の高分子化合物（従来技術におけるゲル化剤）の含有量が相対的に低下するが、ゲル化剤の含有量の低下に伴い、使用後の研磨器具の洗浄性が著しく改善できることを見いだし、本発明に至った。
【００１６】
本発明の爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物が含有するアルコールは、人体に対する毒性が低いものであれば特に限定されない。そのようなアルコールの好ましい例としては、エタノールおよびイソプロパノールが挙げられる。これらのアルコールは、単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。また本発明の組成物が含有する他の溶媒成分としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、メチルセロソルブ、ヘキシレングリコール等が例示される。
【００１７】
本発明の組成物が含有する高分子化合物としては、アルコール及び水に対して溶解性を有する高分子化合物や、アルコールに非溶解性でかつ水溶性の高分子化合物が挙げられる。ここで該高分子化合物がアルコールに対して溶解性を有する、および水溶性の高分子化合物の水溶性とは、２０℃のアルコール、または２０℃の水に対して、該高分子化合物が０．５質量％以上の溶解性を有することを意味する。
【００１８】
前者のアルコール及び水に対して溶解性を有する高分子化合物としては、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシビニルポリマー、ステアロキシヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースステアロキシエーテル、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドンビニルアセテート、低ケン化度ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルピロリドン等が例示され、中でもヒドロキシプロピルセルロースとカルボキシビニルポリマーが好ましい。これにより、爪または皮膚への塗布性にとりわけ優れた研磨カス飛散防止組成物を得ることができる。
【００１９】
ヒドロキシプロピルセルロースとは、セルロースの水酸基の一部または全部が（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−Ｏ）ｍＨ（式中、ｍは１以上の整数）で置換されたセルロース誘導体であり、この置換度などについては特に限定されない。このようなヒドロキシプロピルセルロースは、一般に市販されているものを入手し、利用することが可能であり、例えば日本曹達（株）社製のセルニー（登録商標）シリーズなどを使用することができる。
【００２０】
カルボキシビニルポリマーとは、増粘剤として一般に広く使用されている化合物であり、カルボキシル基を有する水溶性のビニルポリマーである。このようなカルボキシビニルポリマーとしては、例えばルーブリゾール（株）社製のＣＡＲＢＯＰＯＬ（登録商標）シリーズ、和光純薬工業（株）社製のハイビスワコー（登録商標）シリーズ、住友精化（株）社製のアクペック（登録商標）シリーズ等として市販されているので、これらを入手し使用することができる。
【００２１】
後者の、アルコールに非溶解性でかつ水溶性の高分子化合物は、従来技術においてゲル化剤として知られる化合物であり、アルコールに非溶解性でかつ水溶性の多糖類が例示される。かかる多糖類としては、グルコマンナン、カラギーナン、寒天、ペクチン、キサンタンガム、グアガム、ジェランガム、アルギン酸、タラガム、トラガントガム、カードラン、タマリンドシードガム、サイリウムシードガム、カラヤガム、デンプンおよびセルロースなどが例示される。
【００２２】
本発明の組成物は上記した化合物以外にも、例えば塩酸テルビナフィンなどの抗真菌薬；塩化ベンザルコニウムや塩化ベンゼトニウム、クロルヘキシジンなどの殺菌消毒薬；天然保湿成分やビタミン製剤、ヒアルロン酸、スクワランなどの保湿剤、グリセリンに代表される低分子量の粘性調整剤などを含有することができる。また、本発明の研磨カス飛散防止組成物は、着色剤や着香剤を含有することができる。
【００２３】
本発明の組成物のｐＨは、特に限定されない。例えば添加成分などに応じてｐＨは２〜８の範囲内で調整される。
【００２４】
本発明の組成物は、溶媒成分として少なくとも水およびアルコールを含有し、該組成物が含有する全溶媒成分量に対する水の割合が３０〜７０質量％を占める。水の含有量が３０質量％より少なくなると、アルコール成分の含有比率が相対的に高くなることから溶媒成分の揮発性が高まり、グラインダーや爪やすり等の研磨器具の凹部に、爪または皮膚の研磨カスを含有した研磨カス飛散防止組成物が固着しやすくなる。したがって、水の含有量が３０質量％より少ないと、施術時間が長引いた際に、良好な研磨作業性は得られない。また研磨器具の洗浄性も悪化する。
【００２５】
一方、水の含有量が７０質量％を超えると、研磨カス飛散防止組成物の固形化（ゲル化）が起こりにくくなり、研磨カス包摂性が低下する。また包摂性の低下に伴い、包摂できなかった研磨カスが研磨器具の凹部に堆積することから、施術時間が長引いた際に、良好な研磨作業性が得られなくなる。本発明の研磨カス飛散防止組成物が含有する水は、全溶媒成分量に対し４５〜６０質量％であることがより好ましい。これにより研磨作業性と研磨カス包摂性にとりわけ優れた爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物を得ることができる。
【００２６】
本発明の組成物の調製方法は、特に限定されない。例えば水やアルコールを含有する溶媒中に、上記したアルコール及び水に対して溶解性を有する高分子化合物やアルコールに非溶解性でかつ水溶性の高分子化合物などを添加し、攪拌することで、本発明の組成物を調製することができる。あるいは、水やアルコールを含有する溶媒中に、上記したアルコール及び水に対して溶解性を有する高分子化合物やアルコールに非溶解性でかつ水溶性の高分子化合物などを分散し、該分散後の組成物中における固形成分を膨潤する膨潤工程を経た後、該組成物を改めて攪拌、溶解し、本発明の組成物を調製することができる。
【実施例】
【００２７】
以下に本発明を実施例により更に詳細に示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００２８】
（実施例１）
蒸留水６３ｇ、エタノール３３．４ｇを混合した後、平均分子量が１４０，０００のヒドロキシプロピルセルロースであるセルニーＬ（日本曹達（株）社製）０．６ｇ、平均分子量が９１０，０００のヒドロキシプロピルセルロースであるセルニーＨ（日本曹達（株）社製）２．０ｇ、カルボキシビニルポリマーであるハイビスワコー１０３（和光純薬（株）社製）１．０ｇをこの順に混合し、後に株式会社シンキー製ＡＲＥ−３１０にて撹拌し、実施例１の研磨カス飛散防止組成物を得た。なお、該組成物は均一なゲル状の組成物であり、作製後は溶媒成分が揮発しないように、容器内にて密閉した。
【００２９】
（実施例２〜４、比較例１〜２）
実施例１の研磨カス飛散防止組成物中の作製において、蒸留水およびエタノールの使用量を後述の表１に示した量に変更した以外は同様にして、実施例２〜４および比較例１〜２の研磨カス飛散防止組成物を得た。なお、得られた組成物は何れも均一なゲル状の組成物であり、作製後は溶媒成分が揮発しないように、容器内にて密閉した。
【００３０】
このようにして得られた実施例１〜４および比較例１〜２の研磨カス飛散防止組成物について、研磨カス包摂性、研磨作業性、および研磨器具の洗浄性をそれぞれ評価した。
【００３１】
＜研磨カス包摂性＞
実施例１〜４および比較例１〜２の研磨カス飛散防止組成物を、木ベラを使って混ぜた後に、それぞれ容器内から取り出し、施術する箇所に塗布した。適切な塗布がしにくい組成物については組成物の量を多く塗布するなどして、可能な限り適切に塗布を行った。その後、グラインダーを用いて爪を研磨し、目視にて組成物と研磨カスの飛散の様子を以下の基準で評価した。この結果を表１に示す。
○：研磨カスが飛散せず包摂性は良好である。
△：研磨カスが僅かに飛散したが、実用上十分な包摂性が認められた。
×：組成物及び研磨カスが飛散し、包摂性に問題がある。
【００３２】
＜研磨作業性＞
実施例１〜４および比較例１〜２の研磨カス飛散防止組成物を、木ベラを使って上記した研磨カス包摂性の評価と同様にして施術する箇所に塗布した。その後、グラインダーを用いて爪の研磨を行い、研磨状況を以下の基準で評価した。この結果を表１に示す。
○：爪の研磨作業を開始してから３０分経過した後であっても、良好な研磨効率が維
持されていた。
△：爪の研磨作業を開始後、１５分経過した後に研磨効率が低下したが、実用上問題
ないレベルである。
×：爪の研磨作業を開始後、１０分経過した後に研磨効率が低下し、不満なレベルで
ある。
【００３３】
＜研磨器具の洗浄性＞
実施例１〜４および比較例１〜２の研磨カス飛散防止組成物を、木ベラを使って上記した研磨カス包摂性の評価と同様にして施術する箇所に塗布した。その後、グラインダーを用いて３０分間、爪の研磨作業を行い、使用後のグラインダーを水と共に超音波洗浄器内に投入して洗浄した。この時の洗浄性を以下の基準で評価した。この結果を表１に示す。
○：５分間未満の超音波洗浄により洗浄が完了した。
△：５分以上３０分未満の超音波洗浄により洗浄が完了した。
×：洗浄の完了まで３０分以上の時間を要した。
【００３４】
【表１】
2018095589.tif 000002
【００３５】
（比較例３）
蒸留水５４ｇ、エタノール４２．４ｇを混合した後、アルコールに非溶解性でかつ水溶性の多糖類としてグルコマンナンであるレオレックス（登録商標）Ｏｎｅ（清水化学社製）０．９ｇ、平均分子量が１４０，０００のヒドロキシプロピルセルロースであるＮＩＳＳＯ  ＨＰＣ  Ｌ（日本曹達社製）０．６８ｇ、平均分子量が９１０，０００のヒドロキシプロピルセルロースであるＮＩＳＳＯ  ＨＰＣ（登録商標）  Ｈ（日本曹達社製）２．０２ｇをこの順に混合し、後に株式会社シンキー製ＡＲＥ−３１０にて撹拌し、比較例３の研磨カス飛散防止組成物を得た。また該組成物は均一なゲル状の組成物であり、作製後は溶媒成分が揮発しないように、容器内にて密閉した。
【００３６】
（実施例５）
蒸留水５４ｇ、エタノール４２．４ｇを混合した後、アルコールに非溶解性でかつ水溶性の多糖類としてグルコマンナンであるレオレックスＯｎｅ（清水化学社製）０．１８ｇ、平均分子量が１４０，０００のヒドロキシプロピルセルロースであるＮＩＳＳＯ  ＨＰＣ  Ｌ（日本曹達社製）０．８６ｇ、平均分子量が９１０，０００のヒドロキシプロピルセルロースであるＮＩＳＳＯ  ＨＰＣ  Ｈ（日本曹達社製）２．５７ｇをこの順に混合し、後に株式会社シンキー製ＡＲＥ−３１０にて撹拌し、実施例５の研磨カス飛散防止組成物を得た。また該組成物は均一なゲル状の組成物であり、作製後は溶媒成分が揮発しないように、容器内にて密閉した。
【００３７】
このようにして得られた比較例３、および実施例５の研磨カス飛散防止組成物について、先の実施例１〜４および比較例１〜２と同様にして研磨カス包摂性、研磨作業性、および研磨器具の洗浄性をそれぞれ評価した。この結果を表２に示す。
【００３８】
【表２】
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【００３９】
以上の結果から明らかなように、本発明によれば、良好な研磨カス包摂性、および施術時間が長引いた場合であっても良好な研磨作業性が得られ、かつ使用後の研磨器具の洗浄性に優れた、爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物を提供することが可能となる。
【産業上の利用可能性】
【００４０】
本発明の研磨カス飛散防止組成物は、爪疾患または皮膚疾患の患者に対してフットケアを行う医療機関や、ネイルケアを行うネイルサロンなどにおける、真菌感染の拡大の予防に有用である。