(57)【要約】【課題】小型化及び像面湾曲低減を達成しつつ、さらに走査線湾曲も低減することができる光走査装置を提供する。【解決手段】本発明に係る光走査装置は、第１及び第２の光源から出射する第１及び第２の光束を第１の偏向面により偏向して第１及び第２の被走査面を主走査方向に走査する偏向器と、偏向器によって偏向された第１及び第２の光束を第１及び第２の被走査面に導光する第１及び第２の結像光学素子と、を備え、第１及び第２の光束は、主走査断面内及び副走査断面内のそれぞれにおいて互いに異なる角度で第１の偏向面に入射しており、第１の光束の第１の偏向面上での入射位置の副走査方向高さの最大値と最小値との差は第２の光束の該差よりも大きく、主走査方向における各位置での第１の結像光学素子の入射面及び出射面の副走査断面内の傾きの平均値の最大値と最小値との差は第２の結像光学素子の該差よりも大きい。【選択図】図１
2018151502.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１及び第２の光源から出射する第１及び第２の光束を第１の偏向面により偏向して第１及び第２の被走査面を主走査方向に走査する偏向器と、
前記偏向器によって偏向された前記第１及び第２の光束を前記第１及び第２の被走査面に導光する第１及び第２の結像光学素子と、を備え、
前記第１及び第２の光束は、主走査断面内及び副走査断面内のそれぞれにおいて互いに異なる角度で前記第１の偏向面に入射しており、
前記第１の光束の前記第１の偏向面上での入射位置の副走査方向における高さの最大値と最小値との差は、前記第２の光束の前記第１の偏向面上での入射位置の副走査方向における高さの最大値と最小値との差よりも大きく、
主走査方向における各位置での前記第１の結像光学素子の入射面及び出射面の副走査断面内の傾きの平均値の最大値と最小値との差は、主走査方向における各位置での前記第２の結像光学素子の入射面及び出射面の副走査断面内の傾きの平均値の最大値と最小値との差よりも大きいことを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
前記第１及び第２の光源から出射する前記第１及び第２の光束を前記偏向器の前記第１の偏向面に入射させる第１及び第２の入射光学系を備え、
主走査断面内において、前記第１の入射光学系の光軸が前記第１の結像光学素子の光軸となす角度の絶対値は、前記第２の入射光学系の光軸が前記第２の結像光学素子の光軸となす角度の絶対値よりも大きいことを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
前記第１及び第２の光源から出射する前記第１及び第２の光束を前記偏向器の前記第１の偏向面に入射させる第１及び第２の入射光学系を備え、
副走査断面内において、前記第１の入射光学系の光軸が主走査断面となす角度の絶対値は、前記第２の入射光学系の光軸が主走査断面となす角度の絶対値よりも大きいことを特徴とする請求項１または２に記載の光走査装置。
【請求項４】
前記第１及び第２の結像光学素子の入射面及び出射面の副走査断面内の傾きの絶対値は、主走査方向において、光軸上から軸外にいくにつれて大きくなっていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光走査装置。
【請求項５】
主走査方向における各位置での前記第１の結像光学素子の入射面の副走査断面内の傾きと出射面の副走査断面内の傾きとの平均値の主走査方向における位置に関する一階微分の最大値と最小値との差、及び主走査方向における各位置での前記第２の結像光学素子の入射面の副走査断面内の傾きと出射面の副走査断面内の傾きとの平均値の主走査方向における位置に関する一階微分の最大値と最小値との差はそれぞれ、１００分／ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の光走査装置。
【請求項６】
前記第１の結像光学素子の光軸上における入射面の副走査断面内の傾きの絶対値と出射面の副走査断面内の傾きの絶対値との差、前記第２の結像光学素子の光軸上における入射面の副走査断面内の傾きの絶対値と出射面の副走査断面内の傾きの絶対値との差はそれぞれ、１０分以下であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の光走査装置。
【請求項７】
前記第１の結像光学素子の光軸上における入射面の副走査断面内の傾きと出射面の副走査断面内の傾きとの平均値の絶対値、及び前記第２の結像光学素子の光軸上における入射面の副走査断面内の傾きと出射面の副走査断面内の傾きとの平均値の絶対値はそれぞれ、５分以下であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の光走査装置。
【請求項８】
前記偏向器によって偏向された第３及び第４の光束を第３及び第４の被走査面に導光する第３及び第４の結像光学素子を備え、
前記偏向器は、第３及び第４の光源から出射する前記第３及び第４の光束を第２の偏向面により偏向して前記第３及び第４の被走査面を主走査方向に走査し、
前記第３及び第４の光束は、主走査断面内及び副走査断面内のそれぞれにおいて互いに異なる角度で前記第２の偏向面に入射しており、
前記第３の光束の前記第２の偏向面上での入射位置の副走査方向における高さの最大値と最小値との差は、前記第４の光束の前記第２の偏向面上での入射位置の副走査方向における高さの最大値と最小値との差よりも大きく、
主走査方向における各位置での前記第３の結像光学素子の入射面及び出射面の副走査断面内の傾きの平均値の最大値と最小値との差は、主走査方向における各位置での前記第４の結像光学素子の入射面及び出射面の副走査断面内の傾きの平均値の最大値と最小値との差よりも大きいことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の光走査装置。
【請求項９】
前記第１及び第３の結像光学素子は互いに同一形状であり、且つ、前記第２及び第４の結像光学素子は互いに同一形状であることを特徴とする請求項８に記載の光走査装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一項に記載の光走査装置と、該光走査装置により前記被走査面に形成される静電潜像をトナー像として現像する現像器と、現像された前記トナー像を被転写材に転写する転写器と、転写された前記トナー像を前記被転写材に定着させる定着器と、を備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１１】
請求項１乃至９のいずれか一項に記載の光走査装置と、外部機器から出力されたコードデータを画像信号に変換して前記光走査装置に入力するプリンタコントローラと、を備えることを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光走査装置に関し、特にレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）やデジタル複写機、マルチファンクションプリンタ（ＭＦＰ）等の画像形成装置に好適なものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、光走査装置の小型化を達成するために、複数の光束を主走査断面内及び副走査断面内のそれぞれにおいて互いに異なる角度で偏向器に入射させ、その複数の光束により複数の被走査面を走査する構成が提案されている。
特許文献１は、そのような光走査装置において、像面湾曲を低減するように結像光学素子の形状を設計することを開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１３−３３１２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１では、複数の光束を互いに異なる角度で偏向器に入射させることに伴って発生する走査線湾曲について何ら検討されていない。
そこで、本発明は、小型化及び像面湾曲低減を達成しつつ、さらに走査線湾曲も低減することができる光走査装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明に係る光走査装置は、第１及び第２の光源から出射する第１及び第２の光束を第１の偏向面により偏向して第１及び第２の被走査面を主走査方向に走査する偏向器と、偏向器によって偏向された第１及び第２の光束を第１及び第２の被走査面に導光する第１及び第２の結像光学素子と、を備え、第１及び第２の光束は、主走査断面内及び副走査断面内のそれぞれにおいて互いに異なる角度で第１の偏向面に入射しており、第１の光束の第１の偏向面上での入射位置の副走査方向における高さの最大値と最小値との差は、第２の光束の第１の偏向面上での入射位置の副走査方向における高さの最大値と最小値との差よりも大きく、主走査方向における各位置での第１の結像光学素子の入射面及び出射面の副走査断面内の傾きの平均値の最大値と最小値との差は、主走査方向における各位置での第２の結像光学素子の入射面及び出射面の副走査断面内の傾きの平均値の最大値と最小値との差よりも大きいことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、小型化及び像面湾曲低減を達成しつつ、さらに走査線湾曲も低減することができる光走査装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】第一実施形態に係る光走査装置の主走査断面図及び副走査断面図。
【図２】第一実施形態に係る光走査装置において、光束が偏向器によって偏向される様子及び偏向器の回転角度の定義を示した図。
【図３】第一実施形態に係る光走査装置における偏向器の回転角度に対する偏向点の高さの変化を示した図。
【図４】第一実施形態に係る光走査装置における第２のｆθレンズの入射面及び出射面の副走査チルト量、該副走査チルト量の平均値及び該副走査チルト量の平均値の主走査方向位置に関する一階微分の主走査方向位置依存性を示した図。
【図５】第一実施形態に係る光走査装置における各主走査方向位置での第２のｆθレンズの副走査断面内形状を模式的に示した図。
【図６】第一実施形態に係る光走査装置が走査する各被走査面上の光束の集光位置の副走査方向高さの像高依存性を示した図。
【図７】第二実施形態に係る光走査装置の主走査断面図及び副走査断面図。
【図８】第三実施形態に係る光走査装置の主走査断面図及び副走査断面図。
【図９】本発明に係る光走査装置が搭載されたカラー画像形成装置の要部副走査断面図。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本実施形態に係る光走査装置について図面に基づいて説明する。なお、以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために、実際とは異なる縮尺で描かれている場合がある。
【０００９】
なお、以下の説明において、主走査方向（Ｙ方向）は、偏向器の回転軸及び光学系の光軸（Ｘ方向）に垂直な方向に対応し、副走査方向（Ｚ方向）は、偏向器の回転軸に平行な方向に対応する。また、主走査断面は、副走査方向に垂直な断面に対応し、副走査断面は、主走査方向に垂直な断面に対応する。
【００１０】
［第一実施形態］
図１（ａ）は、第一実施形態に係る光走査装置１０の主走査断面図を示している。図１（ｂ）は、第一実施形態に係る光走査装置１０が備える入射光学系１１１ａ及び１１１ｂの副走査断面図を示している。図１（ｃ）は、第一実施形態に係る光走査装置１０が備える結像光学系１１２ａ及び１１２ｂの副走査断面図を示している。
【００１１】
本実施形態に係る光走査装置１０は、光源１０１ａ（第１の光源）及び１０１ｂ（第２の光源）、副走査絞り１０２ａ及び１０２ｂ、コリメータレンズ１０３ａ及び１０３ｂ、シリンドリカルレンズ１０４ａ及び１０４ｂ、主走査絞り１０５ａ及び１０５ｂを備えている。また、光走査装置１０は、偏向器１０６、第１のｆθレンズ１０７、第２のｆθレンズ１０８ａ（第１の結像光学素子）及び１０８ｂ（第２の結像光学素子）、防塵ガラス１０９ａ及び１０９ｂ、反射部材１１５、１１６、１１７及び１１８を備えている。
【００１２】
光源１０１ａ及び１０１ｂとしては、例えば、複数の発光点を有する半導体レーザーなどが用いられる。
副走査絞り１０２ａ及び１０２ｂはそれぞれ、光源１０１ａ及び１０１ｂより射出された光束ＬＡ（第１の光束）及びＬＢ（第２の光束）の副走査方向の光束径を制限する。
コリメータレンズ１０３ａ及び１０３ｂはそれぞれ、光源１０１ａ及び１０１ｂより出射した光束ＬＡ及びＬＢを平行光束に変換する。なおここで、平行光束とは、厳密な平行光束だけでなく、弱発散光束や弱収束光束等の略平行光束を含むものとする。
シリンドリカルレンズ１０４ａ及び１０４ｂはそれぞれ、副走査断面内に有限のパワー（屈折力）を有しており、コリメータレンズ１０３ａ及び１０３ｂを通過した光束ＬＡ及びＬＢを副走査方向に集光する。
主走査絞り１０５ａ及び１０５ｂはそれぞれ、シリンドリカルレンズ１０４ａ及び１０４ｂを通過した光束ＬＡ及びＬＢの主走査方向の光束径を制限する。
【００１３】
このようにして、光源１０１ａ及び１０１ｂから出射した光束ＬＡ及びＬＢは、偏向器１０６の偏向面１０６ａ（第１の偏向面）の近傍において副走査方向にのみ集光され、主走査方向に長い線像として結像される。
なお、副走査絞り１０２ａ、コリメータレンズ１０３ａ、シリンドリカルレンズ１０４ａ及び主走査絞り１０５ａによって、本実施形態に係る光走査装置１０の第１の入射光学系１１１ａが構成される。
また、副走査絞り１０２ｂ、コリメータレンズ１０３ｂ、シリンドリカルレンズ１０４ｂ及び主走査絞り１０５ｂによって、本実施形態に係る光走査装置１０の第２の入射光学系１１１ｂが構成される。
【００１４】
主走査断面内において、入射光学系１１１ａの光軸が結像光学系１１２ａの光軸に対してなす角度、及び入射光学系１１１ｂの光軸が結像光学系１１２ｂの光軸に対してなす角度はそれぞれ、８６度及び８０度である。
すなわち、光源１０１ａ及び１０１ｂそれぞれから出射した光束ＬＡ及びＬＢは、主走査断面内において、互いに異なった角度で偏向器１０６に入射している。
また、副走査断面内において、入射光学系１１１ａ及び１１１ｂの光軸それぞれが主走査断面に対してなす角度は２．２度及び−２．２度である。
すなわち、光源１０１ａ及び１０１ｂそれぞれから出射した光束ＬＡ及びＬＢは、副走査断面内において、互いに異なった角度で偏向器１０６に入射している。
【００１５】
ここで、第１の入射光学系１１１ａ及び第２の入射光学系１１１ｂをまとめて入射光学系１１１と呼ぶ場合がある。
【００１６】
偏向器１０６は、不図示のモーター等の駆動手段により図中矢印Ａ方向に回転して、光束ＬＡ及びＬＢをそれぞれ、被走査面１１０ａ及び１１０ｂに向けて偏向する。例えば、偏向器１０６は、ポリゴンミラーなどで構成される。
第１のｆθレンズ１０７、第２のｆθレンズ１０８ａ及び１０８ｂは、主走査断面内と副走査断面内とで異なるパワーを有するアナモフィック結像レンズであり、偏向器１０６によって偏向された光束ＬＡ及びＬＢを被走査面１１０ａ及び１１０ｂ上に集光（導光）する。
また、第２のｆθレンズ１０８ａ及び１０８ｂの入射面及び出射面は、後述するように、副走査断面内の傾き（チルト）が主走査方向の位置に応じて変化する副走査チルト変化面となっている。
【００１７】
反射部材１１５、１１６、１１７及び１１８は、光束を反射する手段であり、蒸着ミラーなどが用いられる。
防塵ガラス１０９ａ及び１０９ｂは、光走査装置１０の内部へのゴミ等の侵入を防ぐために設けられており、平行平板などで構成される。
【００１８】
なお、第１のｆθレンズ１０７及び第２のｆθレンズ１０８ａによって、本実施形態に係る光走査装置１０の第１の結像光学系１１２ａが構成される。
また、第１のｆθレンズ１０７及び第２のｆθレンズ１０８ｂによって、本実施形態に係る光走査装置１０の第２の結像光学系１１２ｂが構成される。
そして、第１の結像光学系１１２ａ及び第２の結像光学系１１２ｂをまとめて結像光学系１１２と呼ぶ場合がある。
【００１９】
光源１０１ａから出射した光束ＬＡは、副走査絞り１０２ａを通過し、コリメータレンズ１０３ａによって平行光束に変換される。そして、変換された光束ＬＡは、シリンドリカルレンズ１０４ａによって副走査方向に集光され、主走査絞り１０５ａを通過し、副走査方向下側から偏向器１０６の偏向面１０６ａに入射する。
また、光源１０１ｂから出射した光束ＬＢは、副走査絞り１０２ｂを通過し、コリメータレンズ１０３ｂによって平行光束に変換される。そして、変換された光束ＬＢは、シリンドリカルレンズ１０４ｂによって副走査方向に集光され、主走査絞り１０５ｂを通過し、副走査方向上側から偏向器１０６の偏向面１０６ａに入射する。
【００２０】
そして、光源１０１ａから出射し、偏向器１０６の偏向面１０６ａに入射した光束ＬＡは、偏向器１０６により偏向された後、第１のｆθレンズ１０７及び第２のｆθレンズ１０８ａを通過し、反射部材１１５で反射されることによって被走査面１１０ａ（第１の被走査面）上に集光され、被走査面１１０ａを等速度で走査する。
また、光源１０１ｂから出射し、偏向器１０６の偏向面１０６ａに入射した光束ＬＢは、偏向器１０６により偏向された後、第１のｆθレンズ１０７及び第２のｆθレンズ１０８ｂを通過し、反射部材１１６、１１７及び１１８で反射されることによって被走査面１１０ｂ（第２の被走査面）上に集光され、被走査面１１０ｂを等速度で走査する。
【００２１】
なお、偏向器１０６は図中Ａ方向に回転しているため、偏向走査された光束ＬＡ及びＬＢはそれぞれ、被走査面１１０ａ及び１１０ｂを図中Ｂ方向に走査する。
【００２２】
本実施形態では、被走査面１１０ａ及び１１０ｂとして、感光ドラムを用いている。
また、感光ドラム１１０ａ及び１１０ｂ上における副走査方向の露光分布の作成は、主走査露光毎に、感光ドラム１１０ａ及び１１０ｂを副走査方向に回転させることによって達成している。
【００２３】
次に、本実施形態に係る光走査装置１０の入射光学系１１１ａ、１１１ｂ及び結像光学系１１２ａ、１１２ｂの諸特性をそれぞれ以下の表１乃至表３に示す。
【００２４】
【表１】
2018151502.tif 000003
【００２５】
【表２】
2018151502.tif 000004
【００２６】
【表３】
2018151502.tif 000005
【００２７】
なお、表１乃至表３において、各レンズ面と光軸との交点を原点としたときの、光軸方向、主走査断面内において光軸と直交する軸、及び副走査断面内において光軸と直交する軸をそれぞれ、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸としている。また、表１及び表３において、「Ｅ−ｘ」は、「×１０-x」を意味している。
【００２８】
本実施形態では、コリメータレンズ１０３ａ及び１０３ｂは、球面レンズであり、その形状は、以下の式（１）で表される。
【数１】
2018151502.tif 000006
ここで、Ｒは曲率半径、ｋは離心率である。
【００２９】
また、第１のｆθレンズ１０７、第２のｆθレンズ１０８ａ及び１０８ｂそれぞれのレンズ面の主走査断面内における非球面形状（母線形状）は、以下の式（２）で表される。
【数２】
2018151502.tif 000007
ここで、Ｒは曲率半径、ｋは離心率、Ｂi（ｉ＝４、６、８、…、１６）は非球面係数である。なお、ｙに関してプラス側とマイナス側で係数Ｂiが異なる場合は、表２及び表３にあるように、プラス側の係数には添字ｕを付し（すなわち、Ｂiu）、マイナス側の係数には添字ｌを付している（すなわち、Ｂil）。
【００３０】
また、第１のｆθレンズ１０７、第２のｆθレンズ１０８ａ及び１０８ｂそれぞれのレンズ面の副走査断面内における非球面形状（子線形状）は、以下の式（３）で表される。
【数３】
2018151502.tif 000008
ここで、Ｍjk（ｊ＝０、２、４、６、８、及びｋ＝１）は非球面係数である。なお、ｙに関してプラス側とマイナス側で係数Ｍjkが異なる場合は、表２及び表３にあるように、プラス側の係数には添字ｕを付し（すなわち、Ｍjku）、マイナス側の係数には添字ｌを付している（すなわち、Ｍjkl）。
【００３１】
また、副走査断面内の曲率半径ｒ’は、レンズ面のｙ座標に従って、以下の式（４）のように連続的に変化する。
【数４】
2018151502.tif 000009
ここで、ｒは光軸上における副走査断面内の曲率半径、Ｅj（ｊ＝２、４、６、８、１０）は副走査断面内の曲率半径の変化係数である。なお、ｙに関してプラス側とマイナス側で係数Ｅjが異なる場合は、表２及び表３にあるように、プラス側の係数には添字ｕを付し（すなわち、Ｅju）、マイナス側の係数には添字ｌを付している（すなわち、Ｅjl）。
【００３２】
式（３）における子線形状Ｓに関するＺの１次の項は、副走査断面内でのレンズ面の傾き量（子線チルト量）に寄与する項である。よって、ｙ軸方向におけるプラス側での非球面係数Ｍj1uとマイナス側での非球面係数Ｍj1lとを互いに異なる数値にすることで、子線チルト量を主走査方向において非対称に変化させることができる。
【００３３】
次に、本実施形態に係る光走査装置１０における第２のｆθレンズ１０８ａ及び１０８ｂの副走査チルト変化面について詳細に説明する。
【００３４】
なお、以下では、第２のｆθレンズ１０８ａ及び１０８ｂの副走査チルト変化面による効果を説明するために、図中に示した座標系を用いる。具体的には、主走査方向（Ｙ方向）は、偏向器の回転軸及び入射光学系の光軸（Ｘ方向）に垂直な方向に対応し、副走査方向（Ｚ方向）は、偏向器の回転軸に平行な方向に対応する。また、主走査断面は、主走査方向及び入射光学系の光軸を含む断面に対応し、副走査断面は、主走査方向に垂直な断面に対応する。
また、回転方向は反時計回りの方向を正の方向と定義し、角度については、反時計回りを正とする。
【００３５】
図２（ａ）及び（ｂ）はそれぞれ、本実施形態に係る光走査装置１０において、光束ＬＡ及びＬＢが偏向器１０６によって偏向される様子を主走査断面内及び副走査断面内において示した図である。
ここで、図中Ｃ及びＤはそれぞれ、入射光学系１１１ａ及び１１１ｂの光軸である。
また、図２（ｃ）は、偏向器１０６の回転角度θの定義を示している。
【００３６】
図２（ａ）に示されているように、偏向器１０６は回転しているため、偏向器１０６の偏向面１０６ａは、例えば１０６ａ１や１０６ａ２の位置を取る。
また、図１（ａ）に示されているように、偏向器１０６はＡ方向に回転しているため、偏向器１０６の偏向面１０６ａは、位置１０６ａ２から１０６ａ１へ移動する。
【００３７】
そして、光束ＬＡ及びＬＢはそれぞれ、偏向面１０６ａが位置１０６ａ１にあるとき、偏向点Ｅで偏向されて光束ＬＡ１及びＬＢ１となる。
また、光束ＬＡ及びＬＢはそれぞれ、偏向面１０６ａが位置１０６ａ２にあるとき、偏向点Ｆ及び偏向点Ｇで偏向されて光束ＬＡ２及びＬＢ２となる。
【００３８】
図２（ｂ）に示されているように、光束ＬＡは、偏向面１０６ａに対して副走査方向下側から入射し、一方で、光束ＬＢは、偏向面１０６ａに対して副走査方向上側から入射する。
そのため、偏向面１０６ａの位置１０６ａ１及び１０６ａ２に関して、光束ＬＡの偏向点（入射位置）Ｅと偏向点Ｆとの間の副走査方向の高さ（Ｚ座標）の差ＥＦと、光束ＬＢの偏向点Ｅと偏向点Ｇとの間の副走査方向の高さの差ＥＧは互いに異なることとなる。
従って、偏向面１０６ａが取る各位置において、光束ＬＡ及びＬＢそれぞれの偏向面１０６ａに入射する主走査断面内及び副走査断面内の入射角度の違いに応じて、偏向点の主走査断面に対する副走査方向における高さ（以下、副走査方向高さと呼ぶ。）が異なってくる。
【００３９】
図３は、本実施形態に係る光走査装置１０における偏向器１０６の回転角度θに対する光束ＬＡ及び光束ＬＢの偏向点の副走査方向高さ（Ｚ座標）の変化を示している。
なお、ここで、偏向器１０６の回転角度θは、主走査断面内における、結像光学系の光軸と偏向面１０６ａの法線とがなす角度で定義する。
また、偏向点の副走査方向高さについては、結像光学系の光軸を含む主走査断面の位置を０としている。
【００４０】
図３に示されているように、本実施形態に係る光走査装置１０では、光束ＬＡの方が光束ＬＢよりも、偏向点の副走査方向高さの最大値と最小値との差（以下、これを偏向点の副走査方向高さのＰＶ（Ｐｅａｋ ｔｏ Ｖａｌｌｅｙ）と呼ぶ。）が大きい。
具体的には、光束ＬＡの偏向点の副走査方向高さのＰＶは０．０８７ｍｍであり、光束ＬＢの偏向点の副走査方向高さのＰＶは０．０７０ｍｍである。
なおここで、最大値と最小値との差とは、最大値−最小値であり、場合によっては絶対値を取ることがある。これについては、以降のＰＶについても同様である。
【００４１】
図４（ａ）は、本実施形態に係る光走査装置１０における第２のｆθレンズ１０８ａの入射面の副走査チルト量φ１及び出射面の副走査チルト量φ２の主走査方向位置依存性を示している。
図４（ｂ）は、本実施形態に係る光走査装置１０における第２のｆθレンズ１０８ｂの入射面の副走査チルト量φ１及び出射面の副走査チルト量φ２の主走査方向位置依存性を示している。
図４（ｃ）は、第２のｆθレンズ１０８ａ及び１０８ｂの入射面及び出射面それぞれの副走査チルト量の平均値（φ１＋φ２）／２の主走査方向位置依存性を示している。
図４（ｄ）は、第２のｆθレンズ１０８ａ及び１０８ｂの入射面及び出射面それぞれの副走査チルト量の平均値の主走査方向位置に関する一階微分ｄ（（φ１＋φ２）／２）／ｄＹの主走査方向位置依存性を示している。
【００４２】
図５（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）はそれぞれ、本実施形態に係る光走査装置１０における主走査方向における位置（以下、主走査方向位置と呼ぶ。）Ｙが１０５ｍｍ、０ｍｍ及び−１５０ｍｍそれぞれでの第２のｆθレンズ１０８ａ及び１０８ｂの副走査断面内形状（副走査チルト面）を模式的に示している。
なお、図５（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）において、左方が入射面であり、右方が出射面である。
また、図５（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）において、４０１乃至４０６は、第２のｆθレンズ１０８ａ及び１０８ｂの入射面及び出射面の平均形状（副走査チルト量の平均値）を示している。
また、図５（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）において、４０７乃至４１８は、第２のｆθレンズ１０８ａ及び１０８ｂの入射面及び出射面のチルトに対応する方向を示している。
【００４３】
ここで、入射面及び出射面のチルト（副走査断面内の傾き）、すなわち、副走査チルト量は、第２のｆθレンズの入射面及び出射面の子線の結像光学系の光軸を含む主走査断面との交点における法線が該主走査断面に対してなす角度で定義する。
【００４４】
図４（ａ）及び（ｂ）に示されているように、本実施形態に係る光走査装置１０では、第２のｆθレンズ１０８ａ及び１０８ｂの入射面及び出射面は、主走査方向の位置に応じて傾きが変化する副走査チルト変化面となっている。
また、第２のｆθレンズ１０８ａ及び１０８ｂの入射面及び出射面のチルトの絶対値は、主走査方向において、光軸上から軸外に向かって大きくなっている。
【００４５】
ここで、図４（ａ）及び（ｂ）に示されているように、第２のｆθレンズ１０８ａの入射面の副走査チルト量φ１の最大値と最小値との差（以下、これを副走査チルト量のＰＶと呼ぶ。）は３９８．７分であり、第２のｆθレンズ１０８ｂの入射面の副走査チルト量φ１のＰＶは３８０．４分である。
また、図４（ａ）及び（ｂ）に示されているように、第２のｆθレンズ１０８ａの出射面の副走査チルト量φ２のＰＶは４９７．８分であり、第２のｆθレンズ１０８ｂの出射面の副走査チルト量φ２のＰＶは４７７．９分である。
さらに、図４（ｃ）に示されているように、第２のｆθレンズ１０８ａの入射面及び出射面それぞれの副走査チルト量の平均値（φ１＋φ２）／２の最大値と最小値との差（以下、これを副走査チルト量平均値のＰＶと呼ぶ。）は４４８．３分であり、第２のｆθレンズ１０８ｂの副走査チルト量平均値のＰＶは４２９．１分である。
【００４６】
このように、本実施形態に係る光走査装置１０では、光束ＬＢに対して主走査断面内の偏向器１０６への入射角度が大きい光束ＬＡの光路上に配置された第２のｆθレンズ１０８ａの副走査チルト量平均値のＰＶが、光束ＬＢの光路上に配置された第２のｆθレンズ１０８ｂの副走査チルト量平均値のＰＶよりも大きくなるように、第２のｆθレンズ１０８ａ及び１０８ｂを設計している。
【００４７】
図６は、本実施形態に係る光走査装置１０が走査する被走査面１１０ａ及び１１０ｂ上の光束ＬＡ及びＬＢの集光位置の副走査方向高さの像高依存性を示している。
なお、図６では、比較例として、第二の結像光学系１１２ｂにおいて、第２のｆθレンズ１０８ｂの代わりに第２のｆθレンズ１０８ａを配置した場合も示している。この比較例においては、第２のｆθレンズ１０８ａは副走査方向に反転させたものとなっている。
【００４８】
図６に示されているように、本実施形態に係る光走査装置１０を用いた場合、被走査面１１０ａ上における光束ＬＡの集光位置の副走査方向高さの最大値と最小値との差（以下、これを集光位置の副走査方向高さのＰＶと呼ぶ。）及び被走査面１１０ｂ上における光束ＬＢの集光位置の副走査方向高さのＰＶはそれぞれ、０．００５ｍｍ及び０．００４ｍｍと十分にバラツキは抑えられており、結果として、略一様な走査線を描くことができる。
それに対して、比較例では、集光位置の副走査方向高さのＰＶは０．０５０ｍｍとなり、走査線の傾きが発生していることがわかる。
【００４９】
以上のように、本実施形態に係る光走査装置１０では、主走査断面内において、入射光学系１１１ａの光軸が結像光学系１１２ａの光軸に対してなす角度（鋭角）の絶対値が、入射光学系１１１ｂの光軸が結像光学系１１２ｂの光軸に対してなす角度（鋭角）の絶対値よりも大きい。それに伴って、光束ＬＡの方が光束ＬＢよりも偏向点の高さのＰＶが大きくなっており、それに対応するように、第２のｆθレンズ１０８ａの副走査チルト量平均値のＰＶが、第２のｆθレンズ１０８ｂの副走査チルト量平均値のＰＶよりも大きくなるように、第２のｆθレンズ１０８ａ及び１０８ｂを設計している。
それにより、被走査面１１０ａ及び１１０ｂ上における光束ＬＡ及びＬＢの集光位置の副走査方向高さのバラツキを十分に抑える、すなわち走査線湾曲を抑えることによって略一様な走査線を描くことができる。
【００５０】
また、本実施形態に係る光走査装置１０では、被走査面１１０ａ上の走査線湾曲と被走査面１１０ｂ上の走査線湾曲との差を低減するために、第２のｆθレンズ１０８ａの光源側の副走査断面内におけるパワーを第２のｆθレンズ１０８ｂの光源側の副走査断面内におけるパワーより小さくしている。
【００５１】
また、図４（ｄ）に示されているように、本実施形態に係る光走査装置１０では、第２のｆθレンズ１０８ａの入射面及び出射面それぞれの副走査チルト量の平均値の主走査方向位置に関する一階微分ｄ（（φ１＋φ２）／２）／ｄＹの最大値と最小値との差（以下、これを副走査チルト量平均値の一階微分のＰＶと呼ぶ。）及び第２のｆθレンズ１０８ａの副走査チルト量平均値の一階微分のＰＶはそれぞれ、２７．６分／ｍｍ及び２７．７分／ｍｍとなっており、双方とも１００分／ｍｍ以下となっている。
このように、本実施形態に係る光走査装置１０では、副走査チルト量平均値の一階微分のＰＶを１００分／ｍｍ以下にすることで、第２のｆθレンズ１０８ａ及び１０８ｂが主走査方向に変位（横ずれ）したときの走査線の劣化を小さくすることができる。
また、本実施形態に係る光走査装置１０のように、副走査チルト量平均値の一階微分のＰＶを５０分／ｍｍ以下にすることは、走査線の劣化をより低減することができるため、より好ましい構成である。
【００５２】
さらに、本実施形態に係る光走査装置１０では、結像光学系１１２ａの光軸上及びその近傍における第２のｆθレンズ１０８ａの入射面のチルトの絶対値と出射面のチルトの絶対値との差、及び結像光学系１１２ｂの光軸上及びその近傍における第２のｆθレンズ１０８ｂの入射面のチルトの絶対値と出射面のチルトの絶対値との差はそれぞれ、１０分以下となっている。
これにより、走査線の劣化、走査線の被走査面間差、すなわち色ズレ等を低減することができる。
【００５３】
また、本実施形態に係る光走査装置１０では、結像光学系１１２ａの光軸上及びその近傍における第２のｆθレンズ１０８ａの入射面のチルトと出射面のチルトとの平均値の絶対値、及び結像光学系１１２ｂの光軸上及びその近傍における第２のｆθレンズ１０８ｂの入射面のチルトと出射面のチルトとの平均値の絶対値はそれぞれ、５分以下となっている。
これにより、走査線の劣化、走査線の被走査面間差、すなわち色ズレ等を低減することができる。
【００５４】
表４に、上記の本実施形態に係る光走査装置１０の諸特性を示す。
【表４】
2018151502.tif 000010
【００５５】
［第二実施形態］
図７（ａ）は、第二実施形態に係る光走査装置２０の主走査断面図を示している。図７（ｂ）は、第二実施形態に係る光走査装置２０が備える入射光学系１１１ａ、１１１ｂ、１１１ｃ及び１１１ｄの副走査断面図を示している。図７（ｃ）は、第二実施形態に係る光走査装置２０が備える結像光学系１１２ａ、１１２ｂ、１１２ｃ及び１１２ｄの副走査断面図を示している。
第二実施形態に係る光走査装置２０は、第一実施形態に係る光走査装置１０とは異なり、両側走査光学系を採用している。
【００５６】
本実施形態に係る光走査装置２０は、光源１０１ａ（第１の光源）、１０１ｂ（第２の光源）、１０１ｃ（第３の光源）及び１０１ｄ（第４の光源）、副走査絞り１０２ａ、１０２ｂ、１０２ｃ及び１０２ｄを備えている。また、本実施形態に係る光走査装置２０は、コリメータレンズ１０３ａ、１０３ｂ、１０３ｃ及び１０３ｄ、シリンドリカルレンズ１０４ａ、１０４ｂ、１０４ｃ及び１０４ｄ、主走査絞り１０５を備えている。また、光走査装置２０は、偏向器１０６、第１のｆθレンズ１０７ａ及び１０７ｂ、第２のｆθレンズ１０８ａ（第１の結像光学素子）、１０８ｂ（第２の結像光学素子）、１０８ｃ（第３の結像光学素子）及び１０８ｄ（第４の結像光学素子）を備えている。さらに、光走査装置２０は、防塵ガラス１０９ａ、１０９ｂ、１０９ｃ及び１０９ｄ、反射部材１１５ａ、１１６ａ、１１７ａ、１１８ａ、１１５ｂ、１１６ｂ、１１７ｂ及び１１８ｂを備えている。
なお、第二実施形態に係る光走査装置２０では、各部材については、第一実施形態に係る光走査装置１０のものと同一であるため、同一の符番を付して、説明を省略する。
【００５７】
光源１０１ａから出射した光束ＬＡ（第１の光束）は、副走査絞り１０２ａを通過し、コリメータレンズ１０３ａによって平行光束に変換される。そして、変換された光束ＬＡは、シリンドリカルレンズ１０４ａによって副走査方向に集光され、主走査絞り１０５を通過し、副走査方向下側から偏向器１０６の偏向面１０６ａ（第１の偏向面）に入射する。
また、光源１０１ｂから出射した光束ＬＢ（第２の光束）は、副走査絞り１０２ｂを通過し、コリメータレンズ１０３ｂによって平行光束に変換される。そして、変換された光束ＬＢは、シリンドリカルレンズ１０４ｂによって副走査方向に集光され、主走査絞り１０５を通過し、副走査方向上側から偏向器１０６の偏向面１０６ａに入射する。
また、光源１０１ｃから出射した光束ＬＣ（第３の光束）は、副走査絞り１０２ｃを通過し、コリメータレンズ１０３ｃによって平行光束に変換される。そして、変換された光束ＬＣは、シリンドリカルレンズ１０４ｃによって副走査方向に集光され、主走査絞り１０５を通過し、副走査方向上側から偏向器１０６の偏向面１０６ｂ（第２の偏向面）に入射する。
また、光源１０１ｄから出射した光束ＬＤ（第４の光束）は、副走査絞り１０２ｄを通過し、コリメータレンズ１０３ｄによって平行光束に変換される。そして、変換された光束ＬＤは、シリンドリカルレンズ１０４ｄによって副走査方向に集光され、主走査絞り１０５を通過し、副走査方向下側から偏向器１０６の偏向面１０６ｂに入射する。
このようにして、光源１０１ａ及び１０１ｂから出射した光束ＬＡ及びＬＢは、偏向器１０６の偏向面１０６ａの近傍において副走査方向にのみ集光され、主走査方向に長い線像として結像される。また、光源１０１ｃ及び１０１ｄから出射した光束ＬＣ及びＬＤは、偏向器１０６の偏向面１０６ｂの近傍において副走査方向にのみ集光され、主走査方向に長い線像として結像される。
【００５８】
なお、副走査絞り１０２ａ、コリメータレンズ１０３ａ、シリンドリカルレンズ１０４ａ及び主走査絞り１０５によって、本実施形態に係る光走査装置２０の第１の入射光学系１１１ａが構成される。
また、副走査絞り１０２ｂ、コリメータレンズ１０３ｂ、シリンドリカルレンズ１０４ｂ及び主走査絞り１０５によって、本実施形態に係る光走査装置２０の第２の入射光学系１１１ｂが構成される。
また、副走査絞り１０２ｃ、コリメータレンズ１０３ｃ、シリンドリカルレンズ１０４ｃ及び主走査絞り１０５によって、本実施形態に係る光走査装置２０の第３の入射光学系１１１ｃが構成される。
また、副走査絞り１０２ｄ、コリメータレンズ１０３ｄ、シリンドリカルレンズ１０４ｄ及び主走査絞り１０５によって、本実施形態に係る光走査装置２０の第４の入射光学系１１１ｄが構成される。
そして、第１の入射光学系１１１ａ、第２の入射光学系１１１ｂ、第３の入射光学系１１１ｃ及び第４の入射光学系１１１ｄをまとめて入射光学系１１１と呼ぶ場合がある。
【００５９】
そして、光源１０１ａから出射し、偏向器１０６の偏向面１０６ａに入射した光束ＬＡは、偏向器１０６により偏向された後、第１のｆθレンズ１０７ａ及び第２のｆθレンズ１０８ａを通過し、反射部材１１５ａで反射されることによって被走査面１１０ａ（第１の被走査面）上に集光され、被走査面１１０ａを等速度で走査する。
また、光源１０１ｂから出射し、偏向器１０６の偏向面１０６ａに入射した光束ＬＢは、偏向器１０６により偏向された後、第１のｆθレンズ１０７ａ及び第２のｆθレンズ１０８ｂを通過し、反射部材１１６ａ、１１７ａ及び１１８ａで反射されることによって被走査面１１０ｂ（第２の被走査面）上に集光され、被走査面１１０ｂを等速度で走査する。
また、光源１０１ｃから出射し、偏向器１０６の偏向面１０６ｂに入射した光束ＬＣは、偏向器１０６により偏向された後、第１のｆθレンズ１０７ｂ及び第２のｆθレンズ１０８ｃを通過し、反射部材１１６ｂ、１１７ｂ及び１１８ｂで反射されることによって被走査面１１０ｃ（第３の被走査面）上に集光され、被走査面１１０ｃを等速度で走査する。
また、光源１０１ｄから出射し、偏向器１０６の偏向面１０６ｂに入射した光束ＬＤは、偏向器１０６により偏向された後、第１のｆθレンズ１０７ｂ及び第２のｆθレンズ１０８ｄを通過し、反射部材１１５ｂで反射されることによって被走査面１１０ｄ（第４の被走査面）上に集光され、被走査面１１０ｄを等速度で走査する。
【００６０】
なお、第１のｆθレンズ１０７ａ及び第２のｆθレンズ１０８ａによって、本実施形態に係る光走査装置２０の第１の結像光学系１１２ａが構成される。
また、第１のｆθレンズ１０７ａ及び第２のｆθレンズ１０８ｂによって、本実施形態に係る光走査装置２０の第２の結像光学系１１２ｂが構成される。
また、第１のｆθレンズ１０７ｂ及び第２のｆθレンズ１０８ｃによって、本実施形態に係る光走査装置２０の第３の結像光学系１１２ｃが構成される。
また、第１のｆθレンズ１０７ｂ及び第２のｆθレンズ１０８ｄによって、本実施形態に係る光走査装置２０の第４の結像光学系１１２ｄが構成される。
そして、第１の結像光学系１１２ａ、第２の結像光学系１１２ｂ、第３の結像光学系１１２ｃ及び第４の結像光学系１１２ｄをまとめて結像光学系１１２と呼ぶ場合がある。
【００６１】
本実施形態に係る光走査装置２０においては、第１の入射光学系１１１ａ及び第１の結像光学系１１２ａと第３の入射光学系１１１ｃ及び第３の結像光学系１１２ｃとが、偏向器１０６の中心を原点としたＹ軸周りの１８０度回転対称の関係になっている。
また、第２の入射光学系１１１ｂ及び第２の結像光学系１１２ｂと第４の入射光学系１１１ｄと第４の結像光学系１１２ｄとが、偏向器１０６の中心を原点としたＹ軸周りの１８０度回転対称の関係になっている。
このように構成することで、本実施形態に係る光走査装置２０において、各部材について第一実施形態に係る光走査装置１０と同一のものを用いることができる。
具体的には、第２のｆθレンズ１０８ａと第２のｆθレンズ１０８ｃとを互いに同一形状、且つ、第２のｆθレンズ１０８ｂと第２のｆθレンズ１０８ｄとを互いに同一形状にすることができる。
【００６２】
そして、第一実施形態に係る光走査装置１０と同様に、本実施形態に係る光走査装置２０においても、光束ＬＡ乃至ＬＤの間の偏向器１０６の偏向面１０６ａ及び１０６ｂへの入射角度の違いに応じて、第２のｆθレンズ１０８ａ乃至１０８ｄの入射面及び出射面の副走査チルト量を調整している。
それにより、被走査面１１０ａ乃至１１０ｄそれぞれにおける光束ＬＡ乃至ＬＤの集光位置の副走査方向高さのバラツキを十分に抑えることができ、結果として、略一様な走査線を描くことができる。
【００６３】
［第三実施形態］
図８（ａ）は、第三実施形態に係る光走査装置３０の主走査断面図を示している。図８（ｂ）は、第三実施形態に係る光走査装置３０が備える入射光学系１１１ａ及び１１１ｂの副走査断面図を示している。図８（ｃ）は、第三実施形態に係る光走査装置３０が備える結像光学系１１２ａ及び７１２ｂの副走査断面図を示している。
なお、第三実施形態に係る光走査装置３０では、第２のｆθレンズ１０８ｂの代わりに第２のｆθレンズ７０８ｂを設けている以外は、第一実施形態に係る光走査装置１０と同一の構成であるため、同一の部材には同一の符番を付して、説明を省略する。
【００６４】
本実施形態に係る光走査装置３０は、光源１０１ａ及び１０１ｂ、副走査絞り１０２ａ及び１０２ｂ、コリメータレンズ１０３ａ及び１０３ｂ、シリンドリカルレンズ１０４ａ及び１０４ｂ、主走査絞り１０５ａ及び１０５ｂを備えている。また、光走査装置３０は、偏向器１０６、第１のｆθレンズ１０７、第２のｆθレンズ１０８ａ及び７０８ｂを備えている。さらに、光走査装置３０は、防塵ガラス１０９ａ及び１０９ｂ、反射部材１１５、１１６、１１７、１１８を備えている。
【００６５】
光源１０１ａから出射した光束ＬＡは、副走査絞り１０２ａを通過し、コリメータレンズ１０３ａによって平行光束に変換される。そして、変換された光束ＬＡは、シリンドリカルレンズ１０４ａによって副走査方向に集光され、主走査絞り１０５ａを通過し、副走査方向下側から偏向器１０６の偏向面１０６ａに入射する。
また、光源１０１ｂから出射した光束ＬＢは、副走査絞り１０２ｂを通過し、コリメータレンズ１０３ｂによって平行光束に変換される。そして、変換された光束ＬＢは、シリンドリカルレンズ１０４ｂによって副走査方向に集光され、主走査絞り１０５ｂを通過し、副走査方向上側から偏向器１０６の偏向面１０６ａに入射する。
このようにして、光源１０１ａ及び１０１ｂから出射した光束ＬＡ及びＬＢは、偏向器１０６の偏向面１０６ａの近傍において副走査方向にのみ集光され、主走査方向に長い線像として結像される。
なお、第三実施形態に係る光走査装置３０では、第一実施形態に係る光走査装置１０とは異なり、副走査断面内において、入射光学系１１１ａ及び１１１ｂの光軸それぞれが主走査断面に対してなす角度は２．２度及び−３．０度である。
すなわち、副走査断面内において、互いの角度の絶対値が異なっており、偏向器１０６の偏向面１０６ａに互いに主走査断面に対して非対称に入射する。
【００６６】
副走査絞り１０２ａ、コリメータレンズ１０３ａ、シリンドリカルレンズ１０４ａ及び主走査絞り１０５ａによって、本実施形態に係る光走査装置３０の第１の入射光学系１１１ａが構成される。
また、副走査絞り１０２ｂ、コリメータレンズ１０３ｂ、シリンドリカルレンズ１０４ｂ及び主走査絞り１０５ｂによって、本実施形態に係る光走査装置３０の第２の入射光学系１１１ｂが構成される。
そして、第１の入射光学系１１１ａ及び第２の入射光学系１１１ｂをまとめて入射光学系１１１と呼ぶ場合がある。
【００６７】
そして、光源１０１ａから出射し、偏向器１０６の偏向面１０６ａに入射した光束ＬＡは、偏向器１０６により偏向された後、第１のｆθレンズ１０７及び第２のｆθレンズ１０８ａを通過し、反射部材１１５で反射されることによって被走査面１１０ａ上に集光され、被走査面１１０ａを等速度で走査する。
また、光源１０１ｂから出射し、偏向器１０６の偏向面１０６ａに入射した光束ＬＢは、偏向器１０６により偏向された後、第１のｆθレンズ１０７及び第２のｆθレンズ７０８ｂを通過し、反射部材１１６、１１７及び１１８で反射されることによって被走査面１１０ｂ上に集光され、被走査面１１０ｂを等速度で走査する。
【００６８】
なお、第１のｆθレンズ１０７ａ及び第２のｆθレンズ１０８ａによって、本実施形態に係る光走査装置３０の第１の結像光学系１１２ａが構成される。
また、第１のｆθレンズ１０７ａ及び第２のｆθレンズ７０８ｂによって、本実施形態に係る光走査装置３０の第２の結像光学系７１２ｂが構成される。
そして、第１の結像光学系１１２ａ及び第２の結像光学系７１２ｂをまとめて結像光学系７１２と呼ぶ場合がある。
【００６９】
次に、本実施形態に係る光走査装置３０の入射光学系１１１ａ、１１１ｂ及び結像光学系７１２ｂの諸特性を、以下の表５及び表６に示す。
【００７０】
【表５】
2018151502.tif 000011
【００７１】
【表６】
2018151502.tif 000012
【００７２】
また、表７に、本実施形態に係る光走査装置３０の諸特性を示す。
【表７】
2018151502.tif 000013
【００７３】
表７に示されているように、本実施形態に係る光走査装置３０では、主走査断面内において、入射光学系１１１ａの光軸が結像光学系１１２ａの光軸に対してなす角度（鋭角）の絶対値が、入射光学系１１１ｂの光軸が結像光学系７１２ｂの光軸に対してなす角度（鋭角）の絶対値よりも大きい。また、副走査断面内において、入射光学系１１１ａの光軸が主走査断面に対してなす角度の絶対値は、入射光学系１１１ｂの光軸が主走査断面に対してなす角度の絶対値よりも小さい。それに伴って、第一実施形態に係る光走査装置１０とは異なり、光束ＬＢの方が光束ＬＡよりも、偏向点の高さのＰＶが大きくなっている。
そして、それに対応するように、第２のｆθレンズ７０８ｂの副走査チルト量平均値のＰＶが、第２のｆθレンズ１０８ａの副走査チルト量平均値のＰＶよりも大きくなるように、第２のｆθレンズ１０８ａ及び７０８ｂを設計している。
それにより、被走査面１１０ａ及び１１０ｂ上における光束ＬＡ及びＬＢの集光位置の副走査方向高さのＰＶは、共に０．００５ｍｍとなり、十分にバラツキは抑えられており、結果として、略一様な走査線を描くことができる。
【００７４】
以上、第一乃至第三実施形態に係る光走査装置について説明したが、これに限定されず、種々の変更が可能である。
例えば、第一乃至第三実施形態に係る光走査装置では、１つの偏向面に２つの光束が入射していたが、これに限定されず、１つの偏向面に３つ以上の光束が入射しても構わない。その場合においても、偏向点の高さのＰＶと副走査チルト量平均値のＰＶとが上記の関係を満たしていれば、第一乃至第三実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００７５】
［画像形成装置］
図９は、第一又は第三実施形態に係る光走査装置が搭載されたカラー画像形成装置９０の要部副走査断面図である。
【００７６】
画像形成装置９０は、２つの第一又は第三実施形態に係る光走査装置を各々並行して並べて、像担持体である各感光ドラム面上に画像情報を記録するタンデムタイプのカラー画像形成装置である。
画像形成装置９０は、第一又は第三実施形態に係る光走査装置１１、１２、像担持体としての感光ドラム２３、２４、２５、２６及び現像器１５、１６、１７、１８を備えている。また、画像形成装置９０は、搬送ベルト９１、プリンタコントローラ９３及び定着器９４を備えている。
【００７７】
画像形成装置９０には、パーソナルコンピュータ等の外部機器９２から出力されたＲ（レッド）、Ｇ（グリーン）、Ｂ（ブルー）の各色信号（コードデータ）が入力される。入力された色信号は、画像形成装置９０内のプリンタコントローラ９３によって、Ｃ（シアン），Ｍ（マゼンタ），Ｙ（イエロー）、Ｋ（ブラック）の各画像データ（ドットデータ）に変換される。変換された各画像データはそれぞれ、光走査装置１１、１２に入力される。そして、光走査装置１１、１２からはそれぞれ、各画像データに応じて変調された光ビーム５９、６０、６１、６２が射出され、これらの光ビームによって感光ドラム２３、２４、２５、２６の感光面が露光される。
【００７８】
感光ドラム２３、２４、２５、２６の表面を一様に帯電せしめる帯電ローラ（不図示）が表面に当接するように設けられている。そして、帯電ローラによって帯電された感光ドラム２３、２４、２５、２６の表面に、光走査装置１１、１２によって光ビーム５９、６０、６１、６２が照射されるようになっている。
【００７９】
上で述べたように、光ビーム５９、６０、６１、６２は各色の画像データに基づいて変調されており、光ビーム５９、６０、６１、６２を照射することによって感光ドラム２３、２４、２５、２６の表面に静電潜像が形成される。形成された静電潜像は、感光ドラム２３、２４、２５、２６に当接するように配設された現像器１５、１６、１７、１８によってトナー像として現像される。
【００８０】
現像器１５乃至１８によって現像されたトナー像は、感光ドラム２３乃至２６に対向するように配設された不図示の転写ローラ（転写器）によって、搬送ベルト９１上を搬送される不図示の用紙（被転写材）上に多重転写され、１枚のフルカラー画像が形成される。
【００８１】
以上のようにして、未定着トナー像が転写された用紙は、さらに感光ドラム２３、２４、２５、２６後方（図９において左側）の定着器９４へと搬送される。定着器９４は、内部に定着ヒータ（不図示）を有する定着ローラとこの定着ローラに圧接するように配設された加圧ローラとで構成されている。転写部から搬送されてきた用紙は、定着ローラと加圧ローラの圧接部にて加圧しながら加熱されることにより、用紙上の未定着トナー像が定着される。さらに定着ローラの後方には不図示の排紙ローラが配設されており、排紙ローラは定着された用紙を画像形成装置９０の外に排出せしめる。
【００８２】
カラー画像形成装置９０は、光走査装置１１、１２を２個並べ、各々がＣ、Ｍ、Ｙ、Ｋの各色に対応し、各々並行して感光ドラム２３、２４、２５、２６の感光面上に画像信号（画像情報）を記録し、カラー画像を高速に印字するものである。
外部機器９２としては、例えばＣＣＤセンサを備えたカラー画像読取装置が用いられても良い。この場合には、このカラー画像読取装置と、カラー画像形成装置９０とで、カラーデジタル複写機が構成される。
【００８３】
なお、カラー画像形成装置９０では、２つの第一又は第三実施形態に係る光走査装置を用いているが、この代わりに、１つの第二実施形態に係る光走査装置を用いても構わない。
また、本実施形態に係る画像形成装置の記録密度は、特に限定されない。しかしながら、記録密度が高くなればなるほど、高画質が求められることを考えると、１２００ｄｐｉ以上の画像形成装置において、第一乃至第三実施形態の効果はより発揮される。
【符号の説明】
【００８４】
１０  光走査装置
１０１ａ、１０１ｂ  光源（第１の光源、第２の光源）
１０６  偏向器
１０６ａ  偏向面（第１の偏向面）
１０８ａ、１０８ｂ  第２のｆθレンズ（第１の結像光学素子、第２の結像光学素子）
１１０ａ、１１０ｂ  被走査面（第１の被走査面、第２の被走査面）
ＬＡ、ＬＢ  光束（第１の光束、第２の光束）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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