(57)【要約】【課題】【解決手段】    クリーンルーム内の半導体製造装置（４）を据え付けるための据え付け台（３）において、ワッフルスラブに載置される基部フレーム（３a）と、据え付け台に前記半導体製造装置を据え付けるとき、当該半導体製造装置との接続が容易で、周囲から保守点検区域の範囲を規定するようにこの据え付け台の外周に設置されるか、または、この据え付け台の表面の一部を横切るように設置される多目的接続部（５）と、を含む据え付け台。
2005519467.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
クリーンルーム内の半導体製造装置（４）を据え付けるための据え付け台（３）において、
ワッフルスラブに載置される基部フレーム（３a）と、据え付け台に前記半導体製造装置を据え付けるとき、当該半導体製造装置との接続が容易で、周囲から保守点検区域の範囲を規定するようにこの据え付け台の外周に設置されるか、または、この据え付け台の表面の一部を横切るように設置される多目的接続部（５）と、を含む据え付け台。
【請求項２】
前記基部フレーム（３a）から一定の間隔をおいて配置された上支持フレーム（３ｃ）と、前記上支持フレームと基部フレームを脚部（３ｃ）で相互に連結して箱枠型に形成した請求項１の据え付け台。
【請求項３】
前記支持フレーム（３ｂ）の水平化を可能とするために脚部（３ｃ）を調節できるようにした請求項２の据え付け台。
【請求項４】
前記支持フレーム（３ｂ）が吊り床（１）のタイルの位置を決める請求項２または請求項３の据え付け台。
【請求項５】
前記基部フレーム（３a）が、床（１）を支持する請求項２乃至３のいずれかに記載の据え付け台。
【請求項６】
前記多目的接続部（５）が、前記基部フレーム（３a）の周囲に集められるとともに、複数の製造装置群４の周囲の位置に一致するように配置される請求項１から５のいずれかに記載の据え付け台。
【請求項７】
クリーンルーム内の半導体製造装置（4）を据え付けるためにワッフルスラブ（2）上に載置されて用いられ、前記多目的接続部（5）および／または付属装置（７a）を収容する開口フレーム構造の据え付け台。
【請求項８】
水平なワッフルスラブと、前記ワッフルスラブの上方の上げ床と、前記ワッフルスラブと前記上げ床の間に位置し、前記ワッフルスラブ上に載置された上記したいずれかの請求項に記載の据え付け台と、を有する半導体の製造設備のためのクリーンルーム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、半導体製造装置の据え付け台に関する。
（背景技術）
【０００２】
半導体の製造装置は、大型であり、種種の多目的接続部を必要とする。
【０００３】
これにより、製造設備、または、通常のモジュール式組立部品であって高さがある床の上のメインフレームに接続される多目的接続部および配管（分岐管及びこれと同種のもの）が収容される大きなメインフレームを想定して設計されることとなった。
【０００４】
この設計は多目的接続部と装置の支持部品への迅速なメンテナンス・アクセスを可能とするためになされているのであるが、これにより、装置は非常に複雑になり、製造設備への据え付けは厄介なものになり、また、接続部が煩雑になってしまった。
【０００５】
上記構造の代表例として、EP-A-1107288の特に、図5,6,7,8,12,13,14,15,16,18に図示されている、いわゆるワンボックスシステムがある。
【０００６】
代替的な提案としては、いわゆるツーボックスシステムがある。このシステムにおいて、製造システムは、メインシステムと、例えば、電子機器用ラック、電源、電気配線などを格納するとともに、おそらく床に載置されるか、壁に懸架される第二キャビネットとに分割されている。
【０００７】
ツーボックスの概念は、アクセスとメンテナンスの容易さに利点がある反面、機器の載置面積を著しく増大させることになった。
【０００８】
クリーンルーム内に設置しなければならないこれら全ての装置の載置面積は、基板製造設備の建築・維持費に著しく影響を及ぼす。
（発明の開示）
【０００９】
一の態様による本発明は、クリーンルーム内の半導体製造装置を据え付けるための据え付け台において、ワッフルスラブに載置される基部フレームと、据え付け台に前記半導体製造装置を据え付けるとき、当該半導体製造装置との接続が容易で、周囲から保守点検区域の範囲を規定するようにこの据え付け台の外周に設置されるか、または、この据え付け台の表面の一部を横切るように設置される多目的接続部と、を含む据え付け台により構成される。
【００１０】
高品質のクリーンルームでは、床は、通常ワッフルスラブとして公知の穿孔構造の支持体上の支柱に支持された床か懸架された床である。
【００１１】
この構造は、層流が上記の上げ床または吊り床を通過し、ワッフルスラブを通過し、その下の給気空間へ帰還することを可能にするためのものである。そしてその後、空気は空気調節装置へと再循環する。
【００１２】
ワッフルスラブと上げ床の間のスペース（典型的には600ｍｍ）は、通常、有効利用されていない。
【００１３】
しかしながら、例外的に、大型装置のためにワッフルスラブに荷重を直接伝えるための台座が割り当てられることもあるが、ほとんどの製造装置は上げ床上に支持されている。
【００１４】
現在の好ましい実施の形態において、装置の載置面積を著しく増加させることなく、上述の製造装置に所要の載置面積を減少させるために、据え付け台は,ワッフルスラブと、上げ床または吊り床の間のスペース内に適合する寸法にされている。なぜなら、据え付け台は、多目的接続部などの構成部分に囲まれていないからである。
【００１５】
しかしながら、据え付け台の載置面積は、この装置の寸法に限定されるものではなく、これより大きくてもよいし小さくてもよい。
【００１６】
据え付け台は、箱型フレームのような開口フレーム構造の形に形成することが、特にのぞましい。また、便利なように、据え付け台は、基部フレームを上フレームから一定の間隔をおいて配置し、脚部により相互に連結することがのぞましい。
【００１７】
開口フレーム構造により、ワッフルスラブレベル下の給気空間からの基部フレームへのアクセスは容易になったうえ、多目的供給部または接続部のメンテナンスを容易に行うことを可能になり、実際に、製造装置の底面へのアクセスが非常に簡便になった。
【００１８】
脚部の長さは、支持フレームの水平化が可能なように、調節可能になっていることが好ましい。この水平化は、特に上支持フレームのレベルを床と同一水準にするためのものである。
【００１９】
装置内で取り扱われる基板に重力が垂直に働くように、正確な水平標準を保つため、更なる調節が、支持フレームと製造装置の間で可能になっている。
【００２０】
上支持フレームにより、吊り床または上げ床のタイルを位置決めするようにしてもよい。
【００２１】
基部フレームは床を支持し、この床を、便利なように液受けトレイとして構成してもよい。
【００２２】
複数の製造装置群の周囲の垂れ下がる接続を可能にするために、フレームの周囲に多目的接続部を集めるようにしてもよい。
【００２３】
据え付け台に、例えば、真空ポンプ、冷却循環器、熱交換器、電源、制御システムおよび他の付属装置を収容してもよい。しかし、これらの付属装置は、保守点検アクセスを邪魔しないように、また、付属装置自体に、保守点検区域から迅速にアクセス可能なように配置するべきである。
【００２４】
他の実施の形態による本発明は、クリーンルーム内の半導体製造装置を据え付けるためにワッフルスラブ上に載置されて用いられ、前記多目的接続部および／または付属装置を収容する開口フレーム構造の据え付け台で構成されている。
【００２５】
更なる形態の本発明は、ワッフルスラブレベルと、ワッフルスラブ上の上げ床と、ワッフルスラブ上に載置されワッフルスラブと上げ床の間に位置する上記記載において定義された据え付け台とを有する半導体の製造装置設備のためのクリーンルームで構成される。
【００２６】
既に指摘した利点に加えて、半導体装置の購入者にとって著しい経済的な利点がある。
【００２７】
現在、半導体装置は単一の施設で組み立てられる傾向がある。なぜなら、これらの施設は、世界の高い賃金の地域にある傾向がある。その理由は、全体的に複雑な本装置は、熟練した知識の豊富なエンジニアが、組立ておよびテストを行わなければものだからである。
【００２８】
しかしながら、提案された本件据え付け台は、組み立てが比較的容易で、そして、低賃金の地域のそれほど技術レベルの高くない工場で作ることが可能である。
【００２９】
従って、本件据え付け台は、製造原価の値下げの機会を提供する。
【００３０】
さらに、ユーザーは、装置が届く前に、据え付け台をクリーンルームに据え付けることができ、従って、装置の据え付けと試運転の時間を削減することができる。
【００３１】
そして、また、ユーザーは異なる出所からの装置をテストする間、あるいは、一つの製造装置を別のものにとりかえる場合にも、据え付け台を据置いたままにしておくことができた。
【００３２】
本発明は上述のように定義されているが、以下に示すいかなる発明の組み合わせも含むものと解される。
【００３３】
本発明は、添付の図面で言及される例により示される、様様な方法で実施してもよい。
【００３４】
図1は,クリーンルーム内の据え付け台上に取り付けられた半導体装置の概略図である.
また、図２は、据え付け台を別の形式で詳細に示した図である。
【００３５】
図１において、床１は、不図示の支持体によりワッフルスラブ２上に支持される。
【００３６】
開口フレーム構造の据え付け台３は、ワッフルスラブに据え付けられ、床１とワッフルスラブ２の間のスペースに位置する。
【００３７】
据え付け台は、４で概略的に図示された半導体製造装置を支持する。
【００３８】
多目的接続部（例えば、冷却水、プロセス流体、抽出物配管、電源など）は５に一般的に示されていて、必要な保守点検のための複数の接続部を有する分岐管６に接続してもよい。
【００３９】
接続部５および分岐管６の両方がアクセス可能に床を通るので、メンテナンスを容易に行うことができることができる。
【００４０】
分岐管６は、基本的に据え付け台３の上面の一部を横切るように延びているので保守点検区域へのアクセスを制限しない。
【００４１】
しかしながら、図２に示すようにこれらの設備は、フレーム３内の周囲に配置することがのぞましい。
【００４２】
図２によれば、７に示される、液体、真空およびガス用の分岐管とケーブル配線は、据え付け台内の周囲と据え付け台外の周囲のいずれかを囲むように延びていることがわかる。
【００４３】
さらに７aで示される付属装置を、フレーム３に取り付けてもよい。
【００４４】
据え付け台３自体を、基部フレーム３a、上フレーム３ｂと脚部３ｃを有する箱枠型に形成してもよい。
【００４５】
このオープン構造は、種種の管体等を懸架状態に固定することができ、保守点検アクセスをし易くしている。
【００４６】
基部フレーム３aの使用は、以下のような更なる効果をもたらす。
【００４７】
第一に、脚部３ｃをワッフルスラブ層の孔に合わせることなしに、ワッフルスラブ層のいかなる場所にも設置することができる。
【００４８】
第二に、据え付け台の周囲または基部フレームシステムの周りの床を調節することにより、アクセスのための口が開口可能になる。また、層流に乗ったり、ワッフルスラブ区域を汚染する液体を、確実に減少させるための液受けトレイとして機能する床８を基部フレーム３a内に設置することがとりわけ簡単にできる。
【００４９】
固定具９は、ワッフルスラブ層を支持する横柱を固定するために位置調節ができるようにフレーム３a上でスライド可能に設置されている
装置４が設置される支持フレーム３ｂ（図１参照）には、上げ床１のタイルを支持するための外周フランジ１０を設けてもよい。
【００５０】
図１中に示される装置４は、完全なものではなく、基板処理装置や、制御装置などを含むメイン中央ユニットを分かり易く図示してある。
【００５１】
顧客が選択した製造装置群を、スロットバルブ４ｂを通じて基板にアクセスするための中央ユニット４aの周りに配置してもよい。
【００５２】
これらの装置群のための保守点検接続部は、中央ユニット４aに付属された装置群の位置に一致するように、フレーム３の周囲の然るべき位置に集められるようになっている。
【００５３】
このような接続部の配置は１１で図示されている。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】図１は、クリーンルーム内の据え付け台上に取り付けられた半導体装置の概略図。
【００５５】
【図２】図２は、据え付け台を別の形式で詳細に示した図。
【符号の説明】
【００５６】
１  床
２  ワッフルスラブ
３  据え付け台
４  半導体製造装置
５  多目的接続部
６  分岐管
７  付属装置
８  液受けトレイ用床
９  固定具
【図１】
2005519467.tif 000003
【図２】
2005519467.tif 000004
【国際調査報告】
2005519467.tif 000005
2005519467.tif 000006
2005519467.tif 000007