(57)【要約】プローブステーション（１０）は、プラテン（１８）における開口を経て延びるプローブ装置（１６）によって調査されるべき電気的装置（１４）を支持するチャック（１２）を含み、外側シールドボックス（２４）は、チャック（１２）に関してポジショナ（２２）によって横に動かされるのに十分な空間を与え、チャック（１２）は、外側シールドボックス（２４）内で自由に運動できるため、ガード電位に電気的に相互接続された吊り下げ部材（２６）は、チャック（１２）上で容易に位置を定めることができる。
2005526380.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）テスト下の装置をテストするプローブを支持するのに適したプラテンと、
（ｂ）前記テスト下の装置をその上に支持するのに適した支持部と、
（ｃ）導電性部材とを具えるプローブステーション。
【請求項２】
テスト下の装置を調査する方法において、
（ａ）前記テスト下の装置を第１支持部において保持するステップと、
（ｂ）電気的プローブを第２支持部において保持するステップと、
（ｃ）光学プローブを第３支持部において保持するステップと、
（ｄ）前記電気的プローブを前記テスト下の装置に対して一般に前記テスト下の装置の表面に垂直の第１方向において移動して前記テスト下の装置の電気的特長を検知し、前記光学プローブは、前記テスト下の装置のエッジに実質的に整列されたままで前記テスト下の装置の光学的特長を検知するステップとを含むことを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法において、前記第１支持部はチャックであることを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項３に記載の方法において、前記チャックは実質的に平面の上側表面を含むことを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項２に記載の方法において、前記第２支持部は前記テスト下の装置の上に配置されたプラテンであることを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項５に記載の方法において、前記プラテンは、前記電気的プローブの一部が通って延びる開口を規定することを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項２に記載の方法において、前記第１支持部は、前記第２支持部と前記第３支持部との間に配置されたことを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項２に記載の方法において、前記第２支持部及び第３支持部は互いに関して静止したままであり、前記第１支持部は移動中前記テスト下の装置に対して移動することを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項２に記載の方法において、前記第１方向はｚ軸方向であることを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項２に記載の方法において、前記電気的プローブは前記光学プローブと無関係に移動されることができることを特徴とする方法。
【請求項１１】
テスト下の装置をテストするプローブステーションにおいて、
（ａ）電気的プラテンを支持する第１プラテンと、
（ｂ）前記テスト下の装置を支持するチャックと、
（ｃ）光学プローブを支持する第２プラテンとを具え、
（ｄ）前記第１プラテンは前記テスト下の装置の上に配置され、前記第２プラテンは前記テスト下の装置の下に配置され、
（ｅ）前記第２プラテンの上部表面の少なくとも７０％は、前記光学プローブがその上に支持されていない場合、自由空間において終わることを特徴とするプローブステーション。
【請求項１２】
請求項１１に記載のプローブステーションにおいて、前記第２プラテンの上部表面の少なくとも８０％は、前記光学プローブがその上に支持されていない場合、自由空間において終わることを特徴とするプローブステーション。
【請求項１３】
請求項１１に記載のプローブステーションにおいて、前記第２プラテンの上部表面の少なくとも８０％は、前記光学プローブがその上に支持されていない場合、自由空間において終わることを特徴とするプローブステーション。
【請求項１４】
請求項１１に記載のプローブステーションにおいて、前記第２プラテンの上部表面の少なくとも８５％は、前記光学プローブがその上に支持されていない場合、自由空間において終わることを特徴とするプローブステーション。
【請求項１５】
請求項１１に記載のプローブステーションにおいて、前記第２プラテンの上部表面の少なくとも９０％は、前記光学プローブがその上に支持されていない場合、自由空間において終わることを特徴とするプローブステーション。
【請求項１６】
請求項１１に記載のプローブステーションにおいて、前記第２プラテンの上部表面の少なくとも９５％は、前記光学プローブがその上に支持されていない場合、自由空間において終わることを特徴とするプローブステーション。
【請求項１７】
請求項１１に記載のプローブステーションにおいて、前記第２プラテンは、前記第１プラテンより大きい上部表面積を有することを特徴とするプローブステーション。
【請求項１８】
請求項１１に記載のプローブステーションにおいて、前記第２プラテンは、前記第１プラテンより小さい上部表面積を有することを特徴とするプローブステーション。
【請求項１９】
請求項１１に記載のプローブステーションにおいて、前記第２プラテンは、前記第１プラテンと同じ表面積を有することを特徴とするプローブステーション。
【請求項２０】
請求項１１に記載のプローブステーションにおいて、前記第１プラテンは、前記第２プラテンに対して、該プローブステーションが上側を下に回転された場合、前記第１プラテンが前記第２プラテンから自由落下するように位置において保持されたことを特徴とするプローブステーション。
【請求項２１】
テスト下の装置をテストするプローブステーションにおいて、
（ａ）電気的プローブを支持する上側プラテンと、
（ｂ）テスト下の装置を支持するチャックと、
（ｃ）前記上側プラテンは前記テスト下の装置の上に配置され、
（ｄ）前記上側プラテンを制御された方法において横に移動し、前記上側プラテンの表面積の少なくとも２０％が、前記横移動の前に前記上側プラテンによって専有されていなかった空間領域に横に移動されるようにする移動メカニズムとを具えることを特徴とするプローブステーション。
【請求項２２】
請求項２１に記載のプローブステーションにおいて、前記制御された方法は前記表面積の少なくとも３０％であることを特徴とするプローブステーション。
【請求項２３】
請求項２１に記載のプローブステーションにおいて、前記制御された方法は前記表面積の少なくとも４０％であることを特徴とするプローブステーション。
【請求項２４】
請求項２１に記載のプローブステーションにおいて、前記制御された方法は前記表面積の少なくとも５０％であることを特徴とするプローブステーション。
【請求項２５】
テスト下の装置をテストするプローブステーションにおいて、
（ａ）電気的プローブを支持する上側プラテンと、
（ｂ）前記テスト下の装置を支持するチャックと、
（ｃ）前記上側プラテンは前記テスト下の装置の上に配置され、
（ｄ）前記上側プラテンを制御された方法において角度的に移動し、前記上側プラテンが、前記テスト下の装置を調査する場合の前記上側プラテンの角度に対して少なくとも５度の角度に傾けられるようにする移動メカニズムとを具えることを特徴とするプローブステーション。
【請求項２６】
請求項２５に記載のプローブステーションにおいて、前記制御された方法は少なくとも１０度であることを特徴とするプローブステーション。
【請求項２７】
請求項２５に記載のプローブステーションにおいて、前記制御された方法は少なくとも２０度であることを特徴とするプローブステーション。
【請求項２８】
請求項２５に記載のプローブステーションにおいて、前記制御された方法は少なくとも４５度であることを特徴とするプローブステーション。
【請求項２９】
請求項２５に記載のプローブステーションにおいて、前記制御された方法は少なくとも７５度であることを特徴とするプローブステーション。
【請求項３０】
テスト下の装置を調査する方法において、
（ａ）前記テスト下の装置を第１支持部において支持するステップと、
（ｂ）電気的プローブを第２支持部において支持するステップと、
（ｃ）光学プローブを第３支持部において支持するステップであって、前記第１支持部の上側表面は前記第２支持部と前記第３支持部との間に配置されるようにする、ステップと、
（ｄ）
（ｉ）前記第１支持部を前記第２支持部に対して、
（ｉｉ）前記第２支持部を前記第３支持部に対して、
（ｉｉｉ）前記第１支持部を前記第３支持部に対して選択的に移動するステップとを含むことを特徴とする方法。
【請求項３１】
請求項３０に記載の方法において、前記第２支持部は前記第３支持部によって支持されることを特徴とする方法。
【請求項３２】
請求項３０に記載の方法において、前記支持部は他の支持部によって支持されることを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願は、２００２年１月２５日に出願された米国仮出願第６０／３５１８４４号の利益を請求する。
本願はプローブステーションに関する。
【背景技術】
【０００２】
プローブステーションは、シリコンウェハのような電気的装置の特性を測定するように設計されている。プローブステーションは、代表的に、電気的装置を支持するチャックを含み、チャック上に置かれたメンブレン上のニードル又は接点によって調査される。制御された環境を与え、電気的装置を調査するために、今日のプローブステーションの多くは、チャックを環境エンクロージャによって取り囲み、テスト中、温度、湿度等が、予め決められた範囲内に保たれ得るようにしている。環境エンクロージャは、装置を、そうでなければ測定に悪影響を及ぼす疑似気流から守り、周囲環境条件以外における電気的装置の熱試験を容易にもする。エンクロージャ内の環境条件は、ドライエアベンチレーションシステムと、通常はチャックの下に位置し、テストされている電気的装置を熱伝導によって過熱又は冷却する温度素子とによって原理的に制御される。
【０００３】
しばしば、外部電磁気源からの電気的ノイズが電気的装置の特性の正確な測定を妨げるおそれがある高周波テスト中に必須の電気的に静かな環境を与えるために、多くのプローブステーションは、環境エンクロージャ内又は周囲の防護及び電磁干渉（ＥＭＩ）シールド構造も含む。防護及びＥＭＩシールド構造は、よく知られており、技術文献において広く議論されている。たとえば、１９９０年１１月、評価エンジニアリング、１５０〜１５３ページにおいて現れる、「小電流／低電圧パラメトリック試験用設備」と表題をつけられた、ウィリアムクナウア（William Knauer）による文献を参照されたい。
【０００４】
ＥＭＩシールド構造を含むプローブステーションは、通常、テスト信号を少なくとも部分的に、前記テスト信号に近似し、したがって、前記テスト信号経路からそのすぐ周囲の環境への電磁的漏れ電流を抑制するガード信号で取り囲む。同様に、ＥＭＩシールド構造は、プローブステーションの周囲の多くを囲むシールド信号を、環境エンクロージャに与えてもよい。環境エンクロージャは、代表的に、アースグランド、計測器グランド、又は何か他の所望の電位に接続される。
【０００５】
ちょうど説明した形式のシステムに関する防護及びシールドを与えるために、存在するプローブステーションは、試験されているとき電気的装置が置かれるマルチステージチャックを含んでもよい。電気的装置を保持する前記チャックの上部ステージは、代表的に、テスト信号がこれを通って経路選択されてもよい固体導電性金属プレートを具える。チャックの中央ステージ及び下部ステージは、同様に、これを通ってガード信号及びシールド信号が各々経路選択されてもよい固体導電性金属プレートを具える。この方法において、このようなマルチステージチャック上に置かれた電気的装置は、下から防御され、シールドされることができる。
【０００６】
図１は、プローブステーション１０の一般化された図式を示す。プローブステーション１０は、プラテン１８における開口を経て延びるプローブ装置１６によって調査されるべき電気的装置１４を支持するチャック１２を含む。外側シールドボックス２４は、ポジショナ２２によって横に運動させられるのに十分な空間をチャック１２に与える。チャック１２は、外側シールドボックス２４内で自由に運動できるため、ガード電位に電気的に相互接続された吊り下げ部材２６は、容易にチャック１２上に置かれることができる。吊り下げガード部材２６は、プラテン１８によって規定された開口に整列された開口を規定し、プローブ装置１６がガード部材２６を経て延び、電気的装置１４を調査できるようにする。プローブ装置１６に供給されたテスト信号と実質的に同じガード信号に接続された場合、吊り下げガード部材２６は、低ノイズテストに関して追加の防護を与える。このような設計は、参照によってここに含まれる欧州登録特許第０５０５９８１号によって例で示される。
【０００７】
実質的に閉じられた環境を与えるために、外側シールドボックス２４は、シールドボックス２４のより小さい全周の一部を規定するスライディングプレート組み立て部品２８を含む。スライディングプレート組み立て部品２８は、多数の重なったプレート部材を具える。各々のプレート部材は、これを通ってポジショナ２２が延びることができる中心開口３０を規定する。各々の連続的により高いプレートは、サイズにおいてより小さく、これを通ってポジショナ２２が延びる、より小さい開口３０を規定する。スライディングプレート組み立て部品２８は、シールドボックス２４に関する実質的に閉じられたより小さい全周を保持しながら、ポジショナ２２と、したがってチャック１２との横への動きを可能にするように含まれる。
【０００８】
図２を参照し、多くの場合において、このようなプローブステーション内でテストされる半導体ウェハは、エッジ結合フォトニクス装置である。エッジ結合フォトニクス装置は、通常、装置の直交アレイにおいて各々の半導体ウェハ内に配置される。代表的に、ウェハは、図３において例示されるように、複数の個々の光学装置の薄いストリップにおいてスライスされる。エッジ結合フォトニクス装置は、たとえば、レーザ、半導体光増幅器、光学モジュール（たとえば、マッハツェンダー、電子吸収）、エッジ結合フォトダイオード、及び、パッシブ装置を含んでもよい。図４を参照し、このようなフォトニクス装置は、該装置の一方の側を経て光出力を与える。通常、フォトニクス装置は、該装置の反対側を経て光源から光を受ける。前記装置の他方の側において、１つ又はそれ以上の電気的接点が設けられる。代表的な動作において、前記装置によって与えられた光は、該装置への入力光及び／又は電気信号を変化させることによって、変調又はそうでなければ変更されてもよく、又は、電気出力は、入力光を変化させることによって、変調又はそうでなければ変更されてもよい。同様に、他のフォトニクス装置は、表面結合され、図５において例示されるように、電気的接点及び光出力（又は光入力）が両方とも該装置の同じ側にある。このような表面結合フォトニクス装置は、ＶＣＳＥＬレーザである。
【０００９】
図６を参照し、プローブステーション内でこのようなフォトニクス装置をテストする代表的な配置が示される。一組の電気的プローブポジショナ５０は、プラテン上に配置され、求められるようにテスト下の装置に電気信号を与え、この装置から電気信号を受ける。加えて、１つ又はそれ以上の光学プローブポジショナ６０は、前記プラテン上に置かれ、テスト下の装置からの光出力を感知し、テスト下の装置に光を与える。認められるように、光学属性及び電気的属性の両方を含む装置をテストする場合、ポジショナの数は、重大になるかもしれず、それによって、プラテン上の空間はすべての必要なポジショナを有効に収容するには不十分になるかもしれない。加えて、前記プラテンによって与えられる開口は、通常は比較的小さく、その結果、前記プローブが前記プラテンを経て延びるために利用可能な空間は限定される。同様に、光学プローブの端は、代表的にｘ／ｙ／ｚ方向において０．１０ミクロン以内に位置決めされる必要があり、これは前記チャック上のプラテンにおける位置から幾分扱いにくい。さらに、光学プローブの端部分の角度方向は、同様に、光学プローブとテスト下の装置との間で光を結合するためにきわめて正確にする必要があり、これは同様に困難である。多くの用途において、極度の位置及び角度精度が、光導波路又は自由空間光経路（すなわち、光学プローブ）を、フォトニクス装置又は他の光導波路に結合するために必要とされる。さらに、ウェハのテスト中、光学プローブは、頻繁に整列から外れる傾向にあり、装置の各々を調査しながら各々のフォトニクス装置に関して手動の整列をする必要がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
したがって、必要とされるのは、電気的プローブ及び光学プローブの正確な整列を容易にするプローブステーションである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
テスト中、光学プローブの端は、代表的に、テスト下の装置の端に整列され、電気的プローブは、代表的に、テスト下の装置の上側表面上の接点に整列され、電気的プローブ及び光学プローブの双方は、プラテンによって支持される。多くの場合において、プラテン全体は、電気的プローブをテスト下の装置において選択的に接触させるために、ｚ軸方向において運動される。代わりに、チャックは、ｚ軸方向において運動される。プラテンのｚ軸運動は、すべての電気的及び光学プローブの一貫した同時の相対的な運動を可能にする。テスト下の装置の各々の構成要素は、ｘ及び／又はｙ横方向において、電気的プローブに対して、チャック又は他の支持部を電気的プローブの下の場所に使用することによって、連続的に運動される。
【００１２】
本発明は、プラテン又はチャックのｚ軸運動を考慮して同時調査を実行し、プラテンの通常のｚ軸運動が代表的に、十分な追加のｚ軸運動によってプローブをテスト下の装置に接触させ、結果として、接触表面の横擦りを生じ、良好な接触を与えることが実現されることになる。調査されている特定の回路、異なった電子構成要素、装置の平面さ、及び、装置間の異なった接点の高さにおける差に非常に依存するかもしれない電気的プローブのこの追加のｚ軸運動は、結果として、プラテン又はチャックと一緒にｚ軸方向において同様に運動されている光学プローブの不正確な整列を生じるかもしれない。装置の光入力及び出力の整列は、これらがすべてにおいて著しく変化する場合、接点と同じように変化しない傾向にある。要約において、電気的プローブの適切なｚ軸運動は、テストされている特定の装置に依存して変化し、光学プローブの適切なｚ軸運動は、テスト下の装置に対して実質的に固定された位置になる傾向にあり、これは、電気的プローブに与えられたｚ軸運動と一致しないかもしれない。さらに、比較的長い光学装置は、環境の温度変化と共に伸び縮みする傾向にあり、結果として、光学プローブを適切に位置決めするのに追加の困難さが生じる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
前述の実現に照らして、本発明者は、従来のプローブステーションは、光学プローブ及び電気的プローブの少なくとも部分的に独立の運動、又はそうでなければ分離を容易にするために、ある方法で変更されるべきであることを決定した。図７を参照し、変更されたプローブステーション１００は、テスト下の装置１０４を支持するチャック１０２を含む。テスト下の装置１０４は、多くの実例において、１つ又はそれ以上のフォトニクス装置である。上側プラテン１０６は、その中に開口１０８を規定し、チャック１０２の上に置かれる。開口１０８は、たとえば、上側プラテン１０６によって完全に取り囲まれてもよく、上側プラテン１０６の一部の切断であってもよい。電気的プローブ１１０は、上側プラテン１０６によって支持される。プラテン１０６は、複数の支持部１１２ａ、１１２ｂ、１１２ｃ及び１１２ｄによって支持される。支持部１１２ａ−１１２ｄの下に置かれるのは、下側プラテン１１４である。光学プローブ１１６は、下側プラテン１１４によって支持される。図示されないマイクロスコープは、テスト下の装置１０６をプローブ１１０及び１１６に対して位置決めるのに使用されてもよい。調査中、上側プラテン１０６は、ｚ軸方向において運動され、電気的プローブ１１０とテスト下の装置１０４との間に接触を形成する。チャック１０２（したがって、テスト下の装置１０４）の電気的プローブ１１０に対するｘ及び／又はｙ位置は変更され、その後、上側プラテン１０６はｚ方向において運動され、電気的接点１１０とテスト下の装置１０４との間の接触を形成する。テスト中、光学プローブ１１６は、テスト下の装置１１４のエッジと整列される。
【００１４】
テスト下の装置が、テストされているテスト下の装置１０４のエッジに対して垂直の方向において運動される場合において、光学プローブ１１６は、テストされている各々の装置に関して再位置決めされる必要がないかもしれないことが認められるかもしれない。光学プローブ１１６の再整列が必要な場合、最小限の調節しか必要でないというよい可能性がある。特に、チャック１０２はテスト下の装置１０４をテストする間、水平面内で運動するため、光学プローブ１１６の高さは正確であるという高い可能性がある。光学プローブ１１６は、上側プラテン１０６のｚ軸運動から有効に分離されることが認められる。さらに、電気的プローブ１１０をテスト下の装置１０４と接触させる間の上側プラテン１０６の運動は、結果として、テスト下の装置１０４に対する光学プローブ１１６の運動を生じない。同様に、光学プローブ１１６の運動は、結果として、電気的プローブ１１０の運動を生じないことが認められる。
【００１５】
図７において例示されるように、光学プローブ１１６を位置決めするために、下側プラテン１１４において実質的な開空間が存在するのが認められる。さらに、この開空間は、オペレータが光学プローブ１１６にアクセスし、必要なように調節を行うことを可能にする。たとえば、下側プラテン１１４は、チャック及び支持部のような他の構成要素及び構造から自由で、その上における光学構成要素の位置決めに利用可能な、その表面積の少なくとも７０％を含んでもよい。より特には、下側プラテン１１４の表面積の少なくとも８０％、８５％、９０％及び９５％は、他の構成要素及び構造から自由である。さらに、前記支持部の周囲によって規定された領域から、下側プラテン１１４は、好適には、＋ｘ、−ｘ、＋ｙ又は−ｙ方向のような任意の外向き方向においてその上の他の構成要素及び構造から自由な上側プラテン１１４の表面領域の７０％、８０％、８５％、９０％又は９５％を有する。この自由空間は、セットアップするために多大な自由空間及び柔軟性をしばしば必要とするその上の自由空間光学系の取り付けをより容易に可能にする。上側プラテン１０６のサイズは、下側プラテン１１４より小さい、と同じ、又はより大きい表面領域を有してもよい。たとえば、下側プラテン１１４（たとえば、光学プラテン）は、上側プラテン１０６（たとえば、非光学プラテン）より２５％、３５％又は５０％、又はそれ以上大きい表面領域を有するかもしれない。この上側プラテン１０６に対して増加された下側プラテン１１４の表面領域は、近い上側プラテン１０６から結果として生じる制限なしにその上の光学構成要素の位置を定めるために、下側プラテン１１４へのよりオープンなアクセスを可能にする。好適には、下側プラテン１１４は、単一の完全体の部材、又はそうでなければ、堅く相互に接続された一組の部材である。もちろん、前記システムは、望まれるように２つより多くのプラテンを含んでもよいことは理解されるべきである。加えて、電気的構成要素は、望まれるように下側プラテン上で位置決めされてもよい。また、光学構成要素は、望まれるように上側プラテン上で位置決めされてもよく、望まれるならば光学ブレッドボード用の穴を含んでもよい。さらに、プローブステーションが横を下に向けられた場合、支持部から分離するような、主に重力によって位置において保持されている上側プラテンに関して、異なった上側プラテンの一組が設けられてもよく、これらの各々は、特定のテストに特に好適になるように設計される。たとえば、いくつかの上側プラテンは、小さい、大きい、楕円形、長方形、薄い、厚い、等であってもよい。
【００１６】
含まれてもよい他の特徴は、制御された方法において、上側プラテンが邪魔にならないところに移動する能力である。上側プラテンの移動は、その下の光学構成要素の調節及び取り付けを容易にする。たとえば、上側プラテンを支持し、上側プラテンがプローブステーションの残りの部分、特に下側プラテンに対して移動される機械的支持メカニズムが含まれてもよい。たとえば、上側プラテンは、その表面領域の少なくとも２０％（又は少なくとも３０％、又は少なくとも４０％、又は少なくとも５０％）が支持部におけるその元の位置を越えて横に移動されるように移動されてもよい。代わりに、上側プラテンは、上方へ傾けられてもよい。たとえば、上側プラテンは、その表面領域が、水平であるような調査中のその位置に対して少なくとも５度（又は少なくとも１０度、又は少なくとも２０度、又は少なくとも４５度、又は少なくとも７５度）傾けられるように傾けられてもよい。
【００１７】
図８を参照し、変更されたプローブステーション２００は、一組の上側支持部２１２ａ−２１２ｄによって支持された上側プラテン２０６を含む。上側支持部２１２ａ−２１２ｄは、下側プラテン２１４における個々の開口２２０ａ−２２０ｄを経て延び、ベース２２２によって支持される。下側プラテン２１４は、ベース２２２によって支持された一組の支持部２２４ａ−２２４ｄによって支持される。支持部２２４ａ−２２４ｄ及び２１２ａ−２１２ｄは、好適には高さにおいて調節可能である。チャック２０２は、下側プラテン２１４における開口２２６を経て延び、ベース２２２によって支持される。この構造に関して、下側プラテン２１４によって支持された１つ又はそれ以上の光学プローブ２１６は、チャック２０２によって支持されたテスト下の装置２０４に対してｚ軸方向において同時に運動されてもよい。また、１つ又はそれ以上の電気的プローブ２１０は、チャック２０２によって支持されたテスト下の装置２０４に対してｚ軸方向において同時に運動されてもよい。さらに、１つ又はそれ以上の電気的プローブ２１０は、光学プローブ２１６に対して、またはこの逆に、ｚ軸方向において同時に運動されてもよく、これらの双方は、テスト下の装置２０４に対して運動されてもよい。これは、１つ又はそれ以上の光学プローブ２１６の、テスト下の装置２０４のエッジに対する有効な再整列を可能にする。この方法において、光学プローブ２１６の整列の少なくとも一部は、光学プローブ２１６に取り付けられた個々のポジショナとは対照的に、プローブステーションによって行われてもよい。下側プラテン２１４は、好適には、テスト下の装置２０４の下の場所において置かれ、上側プラテン２０６は、テスト下の装置２０４の上に置かれることは、理解されるべきである。また、下側プラテン２１４は、テスト下の装置２０４の上の場所に置かれてもよく、上側プラテン２０６は、テスト下の装置２０４の上に同様に置かれてもよいことは、理解されるべきである。また、下側プラテン２１４は、テスト下の装置２０４の下の場所に置かれてもよく、上側プラテン２０６は、テスト下の装置２０４の下に同様に置かれてもよいことは、理解されるべきである。さらに、前記支持部の運動の範囲は、上側プラテン２０６及び／又は下側プラテン２１４が、テスト下の装置２０４の上の位置からテスト下の装置２０４の下の位置に運動することを可能にする。
【００１８】
図９を参照し、変更されたプローブステーション３００は、下側プラテン２１４によって支持されているチャック２０２を含む。この方法において、チャック２０２及び下側プラテン２１４は、ｚ軸において一緒に運動する。これは、光学プローブとテスト下の装置との間の相対的整列を維持するのを支援するのに、少なくとも部分的に有益である。
【００１９】
図７−９を参照し、下側プラテン（又は上側プラテン）は、光学装置を係合するのに好適に規定された一組の開口１７０を含んでもよい。代表的に、開口１７０は、直交アレイにおいて配置される。開口１７０は、下側プラテンと光学プローブとの間の相互接続のための便利なメカニズムを与える。
【００２０】
プローブステーションは、光学特性に基づいて最適化された光学テスト経路を含むフォトニクス装置のテストを容易にする。加えて、プローブステーションは、同様に電気的特性に基づいて最適化された電気的テスト経路を含むフォトニクス装置のテストを容易にする。代表的に、多数の電気的プローブは、支持され、テスト下の装置に同時に接触される。この方法において、プローブステーションは、最適化された電気的テスト経路及び最適化された光学テスト経路を共にテスト下の装置において集める構造を含む。
【００２１】
図１０を参照し、上側プラテン１０６（又は他のプラテン）は、複数の支持部３５０ａ−３５０ｄによって支持される。好適には、プラテン１０６は、一組の接点３５２ａ−３５２ｄによって支持される。接点３５２ａ−３５２ｄは、好適には、上側プラテン１０６に固定して相互接続されず、ねじ又はボルトのような固定された相互接続がない重力の力によって接触において保持される。したがって、上側プラテン１０６は、単に上側プラテン１０６を上げることによって、支持部３５０ａ−３５０ｄから除去されることができる。一組の相互接続部材３５４、３５６及び３５８は、支持部３５０ａ−３５０ｄに増加された強固さを与えるために含まれてもよい。加えて、相互接続部材３５４、３５６及び３５８の長さは、支持部３５０ａ−３５０ｄを通って延びるように、又はそうでなければ相互接続部材これら自身に関する長さ調節メカニズムを含むように調節可能であってもよい。この方法において、上側プラテン１０６は支持部３５０ａ−３５０ｄから持ち上げられることができ、支持部３５０ａ−３５０ｄの位置及びこれらの相対的な間隔は変更されることができ、上側プラテン１０６は支持部３５０ａ−３５０ｄにおいて再位置決めされることができる。加えて、機械的持ち上げメカニズム３５８は、上側プラテン１０６を上下させるために含まれてもよい。また、支持部３５０ａ−３５０ｄは、ｚ軸運動に関する内部高さ調節を含んでもよい。さらに、コンピュータ制御持ち上げ制御メカニズムは、同様に使用されてもよい。さらに、上側プラテン１０６は、ｚ軸方向においてと、ｘ及び／又はｙ方向において、上側プラテン１０６を単に動かすことによって運動されることができることが認められる。代わりの実施例において、支持部３５０ａ−３５０ｄは、上側プラテン１０６をｘ及び／又はｙ方向において動かすために、水平運動構造を含んでもよい。一例において、前記水平運動構造は、上側プラテン１０６の選択的な横運動を可能にする一組のローラであってもよい。
【００２２】
図１１を参照し、実質的に囲まれた環境４００は、テスト下の装置の周囲に与えられる。この環境は、アースグランド電位、装置グランド電位、ガード電位、シールド電位に電気的に接続されてもよく、又はそうでなければフローティングのままであってもよい。光学ボックス４０２は、テスト下の装置の周囲に実質的に光を通さない環境を与えるために、プローブステーションの下側の領域内に設けられてもよく、これは多くの用途に関して有用であるかもしれない。光学ボックス４０２は、好適には、光学プローブへのアクセスを可能にする複数のシール可能な開口を含む。電気的ボックス４０４は、アースグランド電位、装置グランド電位、ガード電位、シールド電位に電気的に接続されてもよく、又はそうでなければフローティングのままであってもよい。
【００２３】
前述の明細書において用いられた語句及び表現は、ここでは説明の語句として使用され、限定の語句としては使用されず、図示及び説明された特徴又はその一部の等価物を除いて、このような語句及び表現の使用において意図はなく、本発明の範囲は請求項によってのみ規定及び限定されることが認識される。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】実在するプローブステーションの断面図を示す。
【図２】ウェハをその上のフォトニクス装置と共に例示する。
【図３】フォトニクス装置のストリップを例示する。
【図４】エッジ結合されたフォトニクス装置を例示する。
【図５】上側表面結合されたフォトニクス装置を例示する。
【図６】電気的プローブ及び光学プローブを有する図１のプローブステーションの断面図を示す。
【図７】変更されたプローブステーションの絵入り図を示す。
【図８】他の変更されたプローブステーションの絵入り図を示す。
【図９】依然として他の変更されたプローブステーションの絵入り図を示す。
【図１０】図７のプローブステーション用の支持部組み立て部品の絵入り図を示す。
【図１１】さらに変更されたプローブステーションの絵入り図を示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【国際調査報告】
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