(57)【要約】【課題】  本発明は、波面収差を判断する方法において、使用位置においてわずかな時間しか要さずに実施されうる測定に基づいて波面収差を高精度で判断することを可能にする方法を提供する。【解決手段】  結像光学系の結像特性のキャラクタリゼーションのために波面収差を判断する方法において、連続する時期に実施される２つの異なる測定方法による測定結果が組み合わされる。この場合に、先行する第１の測定方法において判断される少なくともいくつかの収差パラメータは、第２の測定方法を利用して収差パラメータを判断するための所定の前提条件として用いられるとともに、しかるべく評価される。その結果として、少なくとも２つの測定方法の長所が組み合わされた形態で用いられるとともに、前記方法の固有の短所を回避しうるハイブリッド法が得られる。
2005527117.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結像光学系の結像特性のキャラクタリゼーションのために波面収差を判断する方法において：
前記結像系により生じしめられる波面収差を第１の測定方法を用いて判断する工程と；
前記波面収差に関して少なくとも１個の第１の収差パラメータを前記第１の測定方法に基づいて判断する工程と；
前記結像系により生じしめられる波面収差を、前記第１の測定方法と異なる時期に用いられる第２の測定方法を利用して判断する工程と；
前記波面収差から少なくとも１個の第２の収差パラメータを、前記第１の測定方法によって得られる少なくとも１個の第１の収差パラメータを用いて前記第２の測定方法に基づいて判断する工程とからなる方法。
【請求項２】
前記第１の測定方法を用いて第１集合の第１のゼルニケ係数が判断されるとともに、前記第２の測定方法を用いて第２集合の第２のゼルニケ係数が判断されて、前記波面収差のキャラクタリゼーションが行なわれる請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１の測定方法を用いて、変動に対して本質的に安定な少なくとも１個の第１の収差パラメータが判断され、前記少なくとも１個の安定な収差パラメータが前記第２の測定方法の実施時に考慮に入れられて前記第２の収差パラメータが判断され、前記パラメータの値は前記第１の測定方法を用いて判断される請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
少なくとも１個の安定な第１の収差パラメータは、２次より高次のゼルニケ係数に対応する請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記第１の測定方法は、前記結像光学系が製造される場所において実施され、前記第２の測定方法は、前記結像方法が用いられる場所において実施される請求項の１項に記載の方法。
【請求項６】
前記結像系は、前記第１の測定方法の実施時と前記第２の測定方法の実施時との間において第１の測定場所から第２の測定場所に輸送される請求項の１項に記載の方法。
【請求項７】
前記第１の測定方法は、波面収差を直接判断する直接法である請求項の１項に記載の方法。
【請求項８】
前記第１の測定方法は、特にシヤリング干渉計に基づく干渉計測法である請求項の１項に記載の方法。
【請求項９】
前記第２の測定方法は、波面収差を間接的に判断する間接法である請求項の１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記第２の測定方法は、前記結像系により生じしめられる空中像を測定する工程からなる請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記第２の測定方法は、感光層により被覆される基板を少なくとも１回露光する工程と、前記露光された基板を測定する工程とからなる、レジストを基本とする方法である請求項９に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、結像光学系の結像特性のキャラクタリゼーションのために波面収差を判断する方法に関する。好適な適用分野は、マイクロリソグラフィー用投影対物レンズの測定である。
【背景技術】
【０００２】
マイクロリソグラフィー投影露光装置は、半導体素子およびその他の微細構造部品の製造に用いられる。この場合、マスクまたはレチクルのパターンは、投影対物レンズを利用して、感光層が施された基板上において結像せしめられる。結像せしめられる構造が微細であるほど、得られる投影の品質が、使用される結像光学系の結像誤差により左右されかつ制限される度合いは高くなる。例として、これらの結像誤差は、結像せしめられる構造の像の線幅および像の位置に影響を及ぼす。
【０００３】
結像特性は、一般に波面収差に基づいて特徴付けられて、実際の像と理想像との間における不一致に関する質的尺度が得られる。波面収差を判断することは、結像光学系の製造工程において、適切な調節によって、最小限の結像誤差を有する光学系を製造することを可能にするために重大な工程である。高性能光学系の結像品質は、温度、圧力および機械的負荷等の環境の影響にも大きく依存するため、顧客の施設において使用場所で結像品質を監視することと、さらに可能性として結像系を操作することにより収差を制御することもまた肝要である。この目的のために、信頼性のある十分に正確な測定方法を利用して、投影対物レンズを原位置、すなわちウェーハステッパまたはウェーハスキャナ内の取付け空間内において迅速に測定することができなければならない。
【０００４】
波面収差による結像誤差のキャラクタリゼーションは、ある位置の形態をとる物体が理想レンズにより結像せしめられると、その物体に源を発する球面波は、１つの位置の形態をとるとともに像側において前記球面波の中心に位置する像に至るまで、レンズの像側において球面波として持続するという考え方に基づく。収差を有する実際のレンズの場合には、像側における波面の形状が球形ではないため、像側の光線は、結合して１つの位置の形態をとる像ではなしに、不明瞭な像を形成する。生じしめられる結像誤差の量的記述を可能にするために、光軸上において結像系の射出ひとみと交差する波面が一般に考慮される。実際の波面と理想的な波面との間における距離（ナノメートルを単位とする）は、波面収差と呼ばれる。波面収差関数は、一般に複雑な形を有する。この関数は、一般に、標準関数Ｚｉの総和として記述される。さまざまなグループの関数Ｚｉを用いて、収差のキャラクタリゼーションを行なうことができる。いわゆる「ゼルニケ多項式」が、マイクロリソグラフィーの分野において一般に用いられる。ゼルニケ多項式または対応するゼルニケ係数は、異なる測定方法により導出または抽出されうる。
【０００５】
さまざまな方法を用いて、使用位置において波面収差を判断することができ、この場合は、対物レンズの現在の状態を判断する直接法と間接法との間において相違点が指摘されうる。
【０００６】
以下の本文においてリテル（ＬＩＴＥＬ）法と呼ばれる１つの周知の直接法において、波面の局所的傾斜は、特殊構造のレチクルを利用して、結像面におけるゆがみに変換される。このゆがみは、その後、標準のボックスインボックス法を用いて測定され、このゆがみから計算により波面が再生される。この方法の精度は、ほとんどの用途においては十分である。しかしながら、分析時間は、数時間の範囲内となる。
【０００７】
異なるＮＡおよび露出設定（多照度設定、ＭＩＳ）による測定が、いずれの場合も利用可能な間接法において行なわれる。この場合は、空中像測定とレジストプロファイル測定との間において相違点が指摘されうる。レジストを基本とする１つの測定技術は、いわゆる収差リング試験（ＡＲＴ）である（たとえば、Ｐ．ダークセン、Ｃ．ユッフェルマンス、Ａ．エンゲレン、Ｐ．デビスホップ、Ｈ．ミュエレルケ（P. Dirksen, C. Juffermans, A. Engelen, P. De Bisschop, H. Muellerke）の論文「高次収差が収差モニタの性能に及ぼす影響（Impact of high order aberrations on the performance of the aberration monitor）」、ＳＰＩＥ会報（Proc. SPIE）４０００（２０００年）、ｐ．９以下、またはＭ．メールス、Ｈ．ファンデルラーン、Ｍ．ツェレラート、Ｗ．ボイユ、Ｎ．ボードリー、Ｋ．Ｄ．カミングス、Ａ．ファンツォール、Ａ．ベヒトおよびＲ．ウィルカース（M. Moers, H. van der Laan, M. Zellerrath, W. de Boeij, N. Beaudry, K. D. Cummings, A. van Zwol, A. Becht and R. Willekers）のＳＰＩＥ講演、マイクロリソグラフィーに関する第２６回年次国際シンポジウム（the 26th Annual International Symposium on Microlithography）、２００１年２月２５日〜３月２日、カリフォルニア州サンタクララを参照されたい）。この収差リング試験においては、環状の物体が像面において結像せしめられる。一連の焦点における物体像に関して測定されうるリング直径およびリング形状の変形は、特定の種類の収差（集中収差）、たとえば球面、コマ、非点およびトレフォイル歪みに対応する各フーリエ成分の形態で分析されうる。このようにして判断されうるフーリエ成分と、ゼルニケ係数によって記述されうる波面収差との間には本質的に線形の関係が成り立つと仮定されて、個別のゼルニケ係数を適切なモデルに基づいて集中収差から抽出することができるようにする。この方法は、精度が、シミュレーションに用いられるモデルの品質に依存するという欠点を有する。しかしながら、波面収差の高精密直接干渉計測（独国特許第１０１ ０９ ９２９号参照）を利用して得られた収差データとの比較から、本モデルは、ある限られた程度までしか適さないことがわかる。このこととは別に、前記方法は、抽出されることを意図されるゼルニケ係数の次数が高くなるほど安定しなくなる。
【特許文献１】独国特許第１０１ ０９ ９２９号
【非特許文献１】Ｐ．ダークセン、Ｃ．ユッフェルマンス、Ａ．エンゲレン、Ｐ．デビスホップ、Ｈ．ミュエレルケ（P. Dirksen, C. Juffermans, A. Engelen, P. De Bisschop, H. Muellerke）の論文「高次収差が収差モニタの性能に及ぼす影響（Impact of high order aberrations on the performance of the aberration monitor）」、ＳＰＩＥ会報（Proc. SPIE）４０００（２０００年）、ｐ．９以下
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、波面収差を判断する方法において、使用位置においてわずかな時間しか要さずに実施されうる測定に基づいて波面収差を高精度で判断することを可能にする方法を提供するという目的に基づいている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この目的を達成するために、本発明は、請求項１の特徴を有する方法を提供する。好適な開発形態は、従属請求項に記載されている。全ての請求項の語句表現は、本明細書の内容を参照している。
【発明を実施する形態】
【００１０】
本発明にしたがった方法において、結像系によって引き起こされる波面収差は、最初に第１の測定方法を利用して判断される。この第１の測定方法に基づいて、少なくとも１個の第１の収差パラメータが、こうして判断される波面収差から判断される。多数の第１の収差パラメータを有する集合が、一般に判断される。この用途のための収差パラメータは、前記測定方法により判断される波面収差を数量化可能または数量表示可能な適切な数値または関数表現である。第２の測定方法は、異なる時期に前記第１の測定方法に対して使用されるとともに、前記第１の測定方法の原理とは異なる測定原理に基づく。結像系によって引き起こされる波面収差は、同様に、この第２の測定方法を利用して判断される。これらの波面収差は、前記第２の測定方法にしたがって波面収差を特徴付ける少なくとも１個の第２の収差パラメータを判断するための基礎として用いられる。このような係数の固有の特性、たとえばゼルニケ係数のフィールド依存性もまた用いられうる。本発明によれば、少なくとも１個の第１の収差パラメータを用いて、第２の収差パラメータが判断される。このことは、第１の測定方法の結果が、使用される前記少なくとも１個の第１の収差パラメータを介して、第２の測定方法の評価に含まれることを意味する。その結果として、少なくとも２つの測定方法の長所が組み合わされて用いられ、これらの方法の固有の短所が測定に悪影響を及ぼすことがないハイブリッド法が得られる。
【００１１】
使用されるさまざまな測定方法の結果を互いに比較可能かつ互いに対して計算可能にするためには、「共通言語」が、測定結果のレベルにおいて有利である。第１の測定方法により測定されるところの波面収差を特徴付けるとともに、第１の収差パラメータとして用いられる第１集合の第１のゼルニケ係数を第１の測定方法を用いて判断することが有利である。第２の測定方法を用いて判断される波面収差は、第２集合の第２のゼルニケ係数を利用して表されうる。適切な係数が、第１のゼルニケ係数から選択されうるとともに、第２のゼルニケ係数を判断する際に考慮に入れられうる。好ましくは、この場合もまた、多数のこうした収差パラメータを有する集合が判断される。波面収差を表すのに適するその他の収差パラメータ、特にゼルニケ係数に変換されうる収差パラメータも用いられうる。
【００１２】
本発明者は、全体としての波面収差に寄与するものの中に、温度、圧力または機械的影響等の環境の影響に相対的に無感応なある特定の種類の収差があることを発見した。これらは、以下の本文において、安定、変動無感性または変動に対して敏感でないと呼ばれる。これに対して、その他のゼルニケ係数は、相対的に外乱に影響されやすい。これらは、不安定、変動に対して敏感または変動感応性と呼ばれる。回転対称系の結像誤差とそのフィールドプロファイルとに関してべき級数法を考慮する場合は、対称重畳から、波面収差関数が３つの変数ｒ２、φ２およびｒ＊φに依存することを導出することができ、ここで、ｒはフィールド半径であり、φはひとみの半径であり、ｒ＊φはこれら２つのスカラ積である。波面収差関数をこれらの３つの変数のべき級数に展開すると、その結果として、表１に示される項が得られる。
【表１】
2005527117.tif 000003
【００１３】
本発明者は、種類にかかわりなく、結像系に対する外乱は、最初により低い次数で起こることを発見した。縮尺および焦点ずれは、外乱の影響に最大限に、すなわち一次項において反応する。続いてザイデル収差が、次の項において起こる。本発明者によって得られたこの知識は、特定の対物レンズの設計における感応性計算によって確認された。すなわち、光学性能は、温度および圧力等の環境の影響だけではなしに、レンズ分離における機械的変動に関しても、べき級数展開の次数順に反応する。このことから、より高次の収差の寄与は、より低次の収差の寄与より安定であること、すなわち輸送による変化、環境条件の変化等に相対的に感応しにくいことが導出されうる。多数の実験から、ザイデル収差を含む項までは、有意な、すなわち測定可能な変動を受けうる一方で、より高次の領域における変動は、一般に無視可能であり、かつこうした変動の判断に用いられる方法の測定精度の範囲内であることがわかった。測定精度が高くなり、かつ精度要件が高くなると、変動感応性の項（より低次の項）と相対的に変動無感性の項（より高次）との間における限界は、より高次の方へと移動しうる。
【００１４】
これらの考察に基づいて、少なくとも１個の安定な、すなわち変動無感性の第１の収差パラメータ、たとえば少なくとも１個のより高次のゼルニケ係数および／またはそのフィールド依存性を第１の測定方法を用いて判断するとともに、第２の収差パラメータを判断または計算する一方で第２の測定方法を実行する際に、第１の測定方法を用いて判断されるところの値またはプロファイルを有する前記少なくとも１個の安定な収差パラメータを考慮に入れることが有利であることがわかった。このため、第２の測定方法の評価時において変動せしめられうる全てのパラメータを変動させて、ゼルニケ係数または同等のパラメータを測定結果と一致させる必要はない。実際のところ、前の測定方法により既知となるいくつかの値を所定値と仮定して、その他の値のみを現行測定から判断すればよいようにすることができる。したがって、第２の測定方法は、はるかに安定かつ正確な態様で評価されうる。
【００１５】
実践において、第１の測定方法は、一般に、結像光学系が製造される場所において行なわれ、第２の測定方法は、結像光学系が用いられる場所、たとえば半導体チップ製造元の施設において行なわれる。波面収差は、一般に、いかなる場合も製造元の施設において製品の検定のために非常に高い精度で判断される。これらの波面収差は、第１集合の第１のゼルニケ係数および／またはそのフィールド依存性によって記録されうる。その後、製造場所から使用場所への輸送が行なわれる。次に、第２の測定方法が、使用に備えた据付後、製造開始前または製造休止時において、原位置で結像系に関して実施されうる。本発明者の知識に基づいて、より低次の収差項のみが、結像対物レンズの製造元からの配送時と顧客の施設におけるウェーハスキャナまたはウェーハステッパの作動時との間において有意に変化しうるため、より高次の項を顧客の施設において再び測定する必要はない。適切な方法を用いて、変動の影響を受けやすいより低次の項の収差のみを判断しさえすればよい。より高次の項を既知であると仮定すれば、対応する評価方法は、より安定かつ正確になる。さらにまた、特に迅速に実施可能な方法を選んで使用位置において測定を行なって、変動感応性の項を十分な精度で判断することができる。
【００１６】
特により高次の収差に関して適切な測定精度を保証する全ての方法を用いて、第１の測定方法を実施することができる。最初に記載された種類の直接法が、特に適する。干渉法は、高い測定精度を達成することができるため、好ましい。シヤリング干渉法を用いるこのような１つの方法は、独国特許第１０１ ０９ ９２９号において説明されている。この特許における前記方法に関する開示内容は、参照により本明細書の内容に含まれる。
【００１７】
一般に結像系の使用位置において実施される第２の測定方法は、判断される必要がある変動感応性の収差項の所要測定時間と測定精度とに関して選択されうる。たとえば、異なるＮＡ／露出設定に関して最初に記載された種類の何らかの間接法（空中像測定またはレジストプロファイル測定）を用いることができる。空中像が結像系の像面の領域においてさまざまなフィールド位置およびさまざまな露出設定に関して最適な焦点位置をｘ、ｙおよびｚ方向において走査する空中像測定を用いる１つの適切な方法は、Ｈ．ファンデルラーン、Ｍ．ディーリクス、Ｈ．ファングレーフェンブロエク、Ｅ．マックー、Ｆ．ストッフェルス、Ｒ．ポンガースおよびＲ．ウィルカース（H. van der Laan, M. Dierichs, H. van Greevenbroek, E. McCoo, F. Stoffels, R. Pongers and R. Willekers）の論文「迅速な収差設定および照明瞳検証のための空中像測定法（Aerial image measurement method for fast aberration set-up and illumination pupil verification）」、ＳＰＩＥ会報４３４６（２００１年）、ｐ．３９４〜４０７に説明されている。この論文の開示内容は、参照により本明細書の内容に含まれる。
【００１８】
前記およびその他の特徴は、特許請求の範囲だけではなしに詳細な説明および図面においても説明されており、この場合、個別の各々の特徴は、それ自体単独で、または部分組合せの形態をとる２つ以上の特徴の形態で本発明の実施例またはその他の分野において実施されうるとともに、それ自体が特許可能である有利な実施例を表しうる。
【００１９】
波面収差の干渉計測が、独国特許出願第１０１ ０９ ９２９．０号にしたがったシヤリング干渉計を用いて、投影対物レンズの製造元の施設において行なわれる例証的な実施例を参照して、本発明を説明する。前記出願における測定装置の説明は、参照により本明細書の内容に含まれる。当業者に周知のあらゆる適切な方法を用いて、測定される波面収差を表す収差パラメータを判断することができる。この記載の方法により、マイクロリソグラフィー投影対物レンズのひとみにおける波面収差の直接測定を、現時点ではいかなる他の測定手段によっても達成されない精度で行なうことができる。製造された投影対物レンズの最終的な合格判定後に、この対物レンズにより生じしめられる波面収差に関する詳細を、たとえばより低次およびより高次のゼルニケ係数（たとえばＺ３５まで）とこれらのゼルニケ係数のフィールドプロファイルとを含む１組の干渉計測データの形態で得ることができる。このデータは、第１の収差パラメータを形成する。
【００２０】
最終的な合格判定後に、投影対物レンズは、損傷から保護すべく包装されて、遠方の顧客へと適切な輸送手段により輸送される。顧客の施設において、投影対物レンズは、該投影対物レンズに加えて適切な照明装置とレチクルおよびウェーハ用走査装置とをさらに含むウェーハステッパに取り付けられる。このようなマイクロリソグラフィー投影照明装置の設計は、当業者にはよく知られている。ウェーハステッパは、最終顧客、一般に半導体チップまたはその他の微細構造部品の製造元へと配送されうる。
【００２１】
投影対物レンズが取り付けられると、その結像特性は、適切な原位置測定技術と、本例の場合は異なる露出およびシャッター設定で結像せしめられる試験構造とを用いて判断される。これらの像の結果は、さまざまなパラメータ、たとえばｘ、ｙおよびｚ方向における結像構造の最適焦点位置および／または空中像の曲率および／または非対称性により特徴付けられる。
【００２２】
測定結果を表すこれらのパラメータは、対物レンズの波面収差から導出されうる。本例においては、露出およびシャッター設定に対応するパラメータが下式にしたがって重み付きゼルニケ係数の総和として表されるいわゆる線形モデルがこの目的のために用いられる：
【数１】
2005527117.tif 000004
【００２３】
ここで、ｓは、対応する露出およびシャッター設定であり、
2005527117.tif 000005
【００２４】
は、露出／シャッター設定ｓに関するゼルニケ係数Ｚｎの重み係数であり、Ｚｎは、ゼルニケ係数ｎである。このモデルは、相対的に近代的な投影対物レンズにおいて頻繁に起こる収差等の小さい収差に十分な精度で適用されうることがわかった。重み係数は、理論的シミュレーションにより判断される。
【００２５】
異なる露出／シャッター設定による試験構造の結像と引き合いに出された前記線形モデルとを組み合わせることにより、測定されるリソグラフィック・パラメータに適用される逆解法によって、ひとみにおける波面収差を導出することが可能になる。しかしながら、この方法では、いくつかのより低次のゼルニケ係数しか判断することができず、精度も限られる（Ｈ．ヴァンデルラーン（H. van der Laan）らの論文、ＳＰＩＥ会報４３４６（２００１年）、ｐ．３９４〜４０７を参照されたい）。
【００２６】
たとえば対物レンズ製造元とウェーハステッパの製造元と最終顧客とからの収差測定データの相関、または修理のために製造元に返送された対物レンズの場合における干渉計測値の比較に基づいて本発明者により行なわれた詳細な研究および分析から、ある特定のゼルニケ係数は、時間が経っても相対的に一定であること、すなわち本質的に安定であることまたは変動の影響を受けにくいことがわかった。その一方で、たとえば輸送の影響またはその他の環境の影響の結果として時間が経つと変動しうる結像誤差群が定義されうる。本例においては、以下の収差パラメータは、不安定または変動の影響を受けやすいものとして識別された：
‐  トリミング可能な非常に低次の非点収差（二乗フィールドプロファイル）
‐  センタリング可能な非常に低次の非点収差（線形フィールドプロファイル）
‐  トリミング可能な非常に低次のコマ収差（線形フィールドプロファイル）
‐  センタリング可能な非常に低次のコマ収差（フィールドにおいて一定）
‐  トリミング可能な非常に低次の球面収差（フィールドにおいて一定）
あらゆるその他の結像誤差については、この場合は、対物レンズ製造元により測定されるところの干渉計測データとこのデータにより表される結像誤差とは、時間が経っても一定のままであると仮定される。
【００２７】
第１工程において、この干渉計測データを用いて、線形モデルを利用してリソグラフィック・パラメータにより前記波面構造において起こりうる系統誤差が補正される。これらの系統誤差の原因は、波面再生のための逆解法において考慮に入れられないより高次のゼルニケ係数の影響である。使用されうるひとつの適切な補正手順は、以下のとおりである。
【００２８】
８つの異なる露出／シャッター設定でのｘおよびｙ方向（光軸に対して直角の平面）における空中像偏移の空中像測定後に、ゼルニケ係数が、線形モデルに基づいて下記のように計算されうる：
【数２】
2005527117.tif 000006
【００２９】
この場合は、ベクトルｄｘ ｈｉｇｈは、Ｚ２、Ｚ７およびＺ１４を除くゼルニケ係数によって引き起こされるｘ方向における全てのパターン偏移の総和を含む。Ｚ２、Ｚ７およびＺ１４を計算する標準手順は、最小二乗法の一致という意味において式（２）に基づく。感度マトリクスの擬逆マトリクスを用いると、前記式は、以下のように書かれうる：
【数３】
2005527117.tif 000007
【００３０】
式（３）の線形性を用いて、結果Ｚは、２つの部分に分けられうる：
【数４】
2005527117.tif 000008
【数５】
2005527117.tif 000009
【００３１】
値Ｚ０は、ｄｘ ｈｉｇｈを無視した、空中像測定の結果である。よって、値ΔＺは、Ｚ２、Ｚ７およびＺ１４を除くゼルニケ係数の影響を表す。この誤差ベクトルは、ゼルニケ係数Ｚ２、Ｚ７およびＺ１４とは無関係である。
【００３２】
前記補正手順は、このことを基本として容易に行なわれうる。最初に、ΔＺが一旦、式（５）を用いて、各々の対物レンズに関して計算される。
【００３３】
次に、ベクトルｄｘ ｈｉｇｈが、全ての設定に関して、以下のように線形モデルを用いて干渉計測により判断されるゼルニケ係数Ｚｎから計算される：
【数６】
2005527117.tif 000010
【００３４】
その後、ΔＺが、各々の空中像測定に関して得られたゼルニケ係数から減じられる。
【００３５】
第２工程において、干渉計測データは、スキャナにおける波面収差の原位置測定による測定データにより補正される。前記のように、対物レンズ製造元により測定されるところの対物レンズのデータは、波面収差を最大精度で表すことを可能にする。
【００３６】
前記のように、対物レンズの波面収差は、スキャナにおける取付け後に変化したと仮定される。この場合は、ある特定数の波面収差、またはこの収差を表す収差パラメータのみが変化した（不安定な収差パラメータ）と仮定される。
【００３７】
ゼルニケ係数をスキャナに一体化された形態（この形態は、以下の本文においてフィンガープリントと呼ばれる）で考慮すると、本例の場合には、Ｚ７（傾斜）、Ｚ７（偏移）、Ｚ８（偏移）およびＺ９（偏移）のパラメータのみが変化すると仮定される。本例においては、ここで、これらのパラメータのみが、再び適切な原位置測定技術を用いて、すなわち特にリソグラフィック・パラメータによる波面再生のための空中像測定技術を用いて測定される。その後、この測定の結果と干渉計測データとから、組合せデータ記録が創出される。このようにして、製造元の施設において判断される収差パラメータは、最終顧客の施設における原位置測定に用いられるとともに、前記最終顧客の施設における測定結果に含まれる。
【００３８】
まず最初に、全てのゼルニケ係数のフィールドプロファイルが干渉計測データから転送される。
【００３９】
次に、これらのフィールドプロファイルを操作して、操作された干渉計測データの前記の所定のパラメータ（本例ではＺ７（傾斜）およびＺ７／８／９（偏移））が原位置測定技術を用いて測定されたパラメータに対応するようにする。全てのその他のゼルニケ係数のフィールドプロファイルは、変化しないままに保たれる。
【００４０】
より詳細な説明のために、図１に、干渉計測データが空中像測定によるデータと組み合わされる例が示されている。互いに隣り合わせに図示されている３つのグラフは、それぞれＺ７（コマｘ）、Ｚ８（コマｙ）およびＺ９（球面収差）に関してＸ方向に沿ってウェーハの高さレベル（投影対物レンズの像面）で測定されたフィールドプロファイルを示す。この場合は、丸印により識別される実線は、製造元により判断されたところの干渉計測データに基づくフィールドプロファイルを示す。十字印により識別される点線は、空中像測定による対応するフィールドプロファイルを表す。四角印により識別される各々の破線は、干渉計測による測定データと空中像測定によるデータとを含む組合せ結果を示す。本例から、干渉計測データが置き換えられるのではなしに、単に「傾斜および偏移」により原位置測定データの結果に一致せしめられるだけであることがはっきりとわかる。全てのその他の係数のフィンガープリントは、変化しないままに保たれる。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】原位置での空中像測定技術の測定データを用いた干渉計測データの補正の例を示す図である。Ｘ軸はウェーハの高さレベルの測定値（ｍｍ）で、Ｙ軸はゼルニケ係数（ｎｍ）である。
【図１】
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【国際調査報告】
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