(57)【要約】本発明は、印刷画像を被印刷物（４０）に形成するための方法及び装置であって、この場合に画像支持体（１０）の印刷に有効な表面上に親水性の膜（５２）を分子の膜厚さで形成する形式のものに関する。パターン化プロセスによって親水性の領域（６８）と疎水性の領域（６４）とを印刷すべき印刷画像のパターンに相応して形成する。続いて画像支持体（１０）の表面に湿し液膜（５４）を施し、この場合に、親水性の領域（６８）にのみ湿し液膜（５４）を形成することによって、所定のパターンに相応したインキ親油性の領域とインキレジスト性の領域とを生ぜしめる。画像支持体の表面にインキを塗布し、該インキはインキ親油性の領域（６４）に付着し、かつインキレジスト性の領域（６８）には受容されない。
2005527395.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷画像を被印刷物（４０）に形成するための方法であって、
画像支持体（１０）の印刷に有効な表面上に親水性の膜（５２）を分子の膜厚さで形成し、
パターン化プロセスによって親水性の領域（６８）と疎水性の領域（６４）とを印刷すべき印刷画像のパターンに相応して形成し、
画像支持体（１０）の表面に湿し液膜（５４）を施し、この場合に、親水性の領域（６８）にのみ湿し液膜（５４）を形成することによって、所定のパターンに相応したインキ親油性の領域とインキレジスト性の領域とを生ぜしめ、
画像支持体の表面にインキを塗布し、該インキはインキ親油性の領域（６４）に付着し、かつインキレジスト性の領域（６８）に受容されず、
塗布されたインキを続く経過中に被印刷物（４０）に伝達し、
新たなパターン化プロセスの前に画像支持体（１０）の表面をクリーニングして、新たに親水性の膜（５２）を形成することを特徴とする、親水性の膜を形成しかつパターン化して印刷するための方法。
【請求項２】
画像支持体の表面の親水性の膜（５２）が１００ｎｍより小さい厚さ、有利には１０ｎｍより小さい厚さを有している請求項１記載の方法。
【請求項３】
画像支持体の表面の親水性の膜が、該表面の活性化によって行われる請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
活性化のために化学的な活性化剤及び／又は反応性のガスを用い、かつ／又はエネルギー供給を行う請求項３記載の方法。
【請求項５】
画像支持体（１０）の表面にSiO2・膜を備え、該膜を熱水及び／又は熱い水蒸気の作用によって、及び／又はアルカリ液、有利にはNaOH、親水性の膜によって形成し、該膜がSiOH・分子を含んでいる請求項１から４のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
画像支持体（１０）の表面の火炎処理によって親水性の膜を形成する請求項１から５のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
親水性の膜の形成のために親水性の物質（５２）を画像支持体（１０）の表面に塗布する請求項１から６のいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
親水性の物質として界面活性剤若しくはアルコールを用いる請求項７記載の方法。
【請求項９】
親水性の物質を１００ｎｍより小さい、有利には１０ｎｍより小さい膜厚さで塗布する請求項７又は８記載の方法。
【請求項１０】
親水性の物質の塗布をローラ、ドクター若しくはスプレーによって行う請求項７から９のいずれか１項記載の方法。
【請求項１１】
親水性の膜のクリーニング及び形成を唯一のプロセス段階で行う請求項１から１０のいずれか１項記載の方法。
【請求項１２】
クリーニングのために熱い水及び／又は水蒸気を用いる請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
パターン形成のためにビームを用いる請求項１から１２までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１４】
レーザー機構、レーザーダイオード、LEDs若しくはレーザーダイオードアレイのビームを用いる請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
被印刷物（４０）へのインキの伝達の前にインキ膜の分割を行う請求項１から１４のいずれか１項記載の方法。
【請求項１６】
画像支持体（１０）の表面を円筒外周面若しくはエンドレスなベルトによって形成する請求項１から１５のいずれか１項記載の方法。
【請求項１７】
印刷画像を被印刷物（４０）に形成するための装置であって、
画像支持体（１０）の印刷に有効な表面上に親水性の膜（５２）を分子の膜厚さで形成する手段が設けられており、
パターン化プロセスによって親油性の領域（６８）と疎水性の領域（６４）とが、印刷すべき印刷画像のパターンに相応して形成されるようになっており、
画像支持体（１０）の表面に湿し液膜（５４）が施されるようになっており、
この場合に、親水性の領域（６８）にのみ湿し液膜（５４）が形成され、これによって所定のパターンに相応したインキ親油性の領域とインキレジスト性の領域とが生ぜしめられるようになっており、
画像支持体の表面にインキを塗布するようになっており、該インキがインキ親油性の領域（６４）に付着し、かつインキレジスト性の領域（６８）に受容されず、
塗布されたインキが続く経過中に被印刷物（４０）に伝達されるようになっており、
新たなパターン化プロセスの前に画像支持体（１０）の表面がクリーニングされ、かつ新たに親水性の膜（５２）が形成されるようになっていることを特徴とする、親水性の膜を形成しかつパターン化して印刷するための装置。
【請求項１８】
画像支持体（１０）の表面の親水性の膜（５２）が１００ｎｍより小さい、有利には１０ｎｍより小さい膜厚さを有している請求項１７記載の装置。
【請求項１９】
親水性の膜が画像支持体の表面の活性化によって形成されるようになっている請求項１７又は１８記載の装置。
【請求項２０】
活性化のために化学的な活性化剤及び／又は反応性のガスが用いられ、かつ／又はエネルギー供給が行われるようになっている請求項１９記載の装置。
【請求項２１】
画像支持体（１０）の表面がSiO2・膜を有しており、該膜が熱水、熱い水蒸気の作用によって、及び／又はアルカリ液、有利にはNaOH、親水性の膜によって形成されており、該膜がSiOH・分子を含んでいる請求項１７から２０のいずれか１項記載の装置。
【請求項２２】
画像支持体（１０）の表面の火炎処理によって親水性の膜が形成されている請求項１７から２１のいずれか１項記載の装置。
【請求項２３】
親水性の膜の形成のために親水性の物質（５２）が画像支持体（１０）の表面に塗布されている請求項１７から２２のいずれか１項記載の装置。
【請求項２４】
親水性の物質が界面活性剤若しくはアルコールから成っている請求項２３記載の装置。
【請求項２５】
親水性の物質が１００ｎｍより小さい、有利には１０ｎｍより小さい膜厚さで塗布されている請求項２３又は２４記載の装置。
【請求項２６】
親水性の膜のクリーニング及び形成が唯一のプロセス段階で行われるようになっている請求項１７から２５のいずれか１項記載の装置。
【請求項２７】
パターン形成がビームによって行われるようになっている請求項１７から２６のいずれか１項記載の装置。
【請求項２８】
ビームがレーザー機構、レーザーダイオード、LEDs若しくはレーザーダイオードアレイによって生ぜしめられるようになっている請求項２７記載の装置。
【請求項２９】
被印刷物（４０）へのインキの伝達の前にインキ膜の分割が行われるようになっている請求項１７から２８のいずれか１項記載の装置。
【請求項３０】
画像支持体（１０）の表面が円筒外周面若しくはエンドレスなベルトによって形成されている請求項１７から２９のいずれか１項記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、印刷画像を被印刷物に形成するための方法及び装置に関するものであり、この場合、画像支持体の表面上にインキ親油性の領域とインキレジスト性の領域とを、印刷すべき印刷画像のパターンに相応して形成し、インキレジスト性の領域に、インキレジスト性の媒体から成る膜（層）を備え、画像支持体の表面にインキを塗布し、インキはインキ親油性の領域に付着し、かつインキレジスト性の領域に受容されず、画像支持体の表面に分配されたインキを被印刷物に印刷するようになっている。
【０００２】
従来周知の水無しオフセット印刷においては、版板の画像のない領域は油をはじくようになっていて、従って印刷インキを受容しない。これに対して画像部の領域は親油性であり、油分含有の印刷インキを受容する。印刷すべき印刷画像のパターンに相応して版板に、インキ親油性の領域とインキレジスト性の領域とを分配してある。版板は複数回の印刷過程に用いられる。各印刷画像にとっては、インキ親油性及びインキレジスト性の領域を備えた新たな版板を必要とする。
【０００３】
米国特許第Ａ-５３７９６９８号明細書により公知の方法はダイレクトイメーシング印刷と呼ばれ、この場合には印刷装置内で、シリコン被覆された多層構造のシートにシリコンカバー層の選択的な火炎作用によって印刷画像を形成するようになっている。シリコンのない箇所は、インキ親油性の領域であり、該領域は印刷過程中に印刷インキを受容する。各新たな印刷画像のためには新たなシートを必要とする。
【０００４】
水を用いて運転されるスタンダードなオフセット印刷においては、画像支持体の表面に疎水性及び親水性の領域を印刷すべき印刷画像のパターンに相応して形成するようになっている。インキを塗布する前に、着けローラ若しくはスプレー装置を用いてまず、薄い湿し液膜を画像支持体に形成し、該湿し液膜は画像支持体の親水性の領域を濡らす。続いてインキ装置によってインキを画像支持体の表面に伝達するものの、インキは、湿し液膜で覆われてない領域にのみ付着する。インキ着けの後に、インキは最終的に被印刷物に移される。
【０００５】
公知のオフセット印刷においては、画像支持体として無処理タイプの多層状のサーマルプレートを用いている（例えば国際公開００／１６９８８号パンフレット、参照）。印刷すべき印刷画像のパターンに相応して画像支持体の表面の疎水性の膜を局所的な火炎作用によって除去して、親水性の膜を露出させるようになっている。親水性の膜はインキレジスト性の湿し液で濡らされる。疎水性の領域はインキ受理性であり、インキ過程中に印刷インキを受容する。新たな印刷画像の形成のためには、新たな版板を必要とする。
【０００６】
さらに、米国特許第Ａ-６０１６７５０号明細書により公知の方法においては、シートからインキ親油性の物質を熱転移法によって分離して、画像支持体の親水性の表面に移して、固着プロセスによって固着するようになっている。印刷プロセスにおいて、露出した親水性領域はインキレジスト性の湿し液で濡らされる。続いてインキを画像支持体の表面に塗布するものの、インキはインキ親油性の物資の含まれる領域にのみ付着する。インキ着けされた印刷画像は続いて被印刷物に転写される。新たな印刷画像の形成のためには、インキ親油性の物質を含む新たなシートを必要とする。
【０００７】
スタンダードなオフセット印刷若しくは平版印刷においては、インキレジスト性の湿し液での版板の濡らしは、版板表面の粗面化及びパターン形成によって達成される。この場合に生じる表面積増大及び多孔性は微細管現象を生ぜしめ、ひいては有効な表面エネルギーを高め、その結果、湿し液の良好な濡らし若しくは拡張に役立つ。別の手段として、オフセット印刷においては濡らし促進作用の物質を湿し液に添加している。濡らし促進作用の物質は湿し液の表面張力を減らし、その結果、画像支持体の表面の濡らしの改善に役立つ。これに関連して、文献としてTeschner, H. :Offsettechnik, 5. Auflage, Fellbach, Fachschriften-Verlag 1983, S. 193- 202 und S. 350（テシュナー、Ｈ. オフセット技術、第５版、フェルバッハ、ファッハシュリフテン・出版、1983年、193乃至202頁及び350頁）を挙げることができる。
【０００８】
米国特許Ａ-５０６７４０４号明細書により公知の印刷法においては、画像支持体の表面に湿し液を塗布するようになっている。湿し液は画像領域内へビームエネルギーを選択的に作用させることによって蒸発させられる。湿し液のない領域は、インキ保持作用のある領域を形成することになり、該領域は現像ユニットの近くを通過させられ、次いでインキ蒸気によってインキ着けされる。パターン化された湿し液膜の形成のために、局所的にエネルギーの集中される蒸発過程を必要である。
【０００９】
さらに、国際公開第９７／３６７４６号パンフレット及び国際公開第９８／３２６０８号パンフレットを挙げることができる。国際公開第９７／３６７４６号パンフレットに記載されている方法においては、湿し液はわずかな水量の蒸気によって生ぜしめられ、蒸気は画像支持体の表面で凝結する。国際公開第９８／３２６０８号パンフレット（米国特許Ａ-６２９５９２８号明細書）に記載の方法では、連続的な氷膜を形成して、パターン化するようになっている。両方の例においては、パターン化のために局所的に高い熱エネルギーを作用させなければならない。前記米国特許Ａ-５０６７４０４号明細書、国際公開第９８／３２６０８号パンフレット（米国特許Ａ-６２９５９２８号明細書）及び同一出願人の国際公開第９７／３６７４６号パンフレットに記載の内容は、本発明の開示内容の理解に役立ち、本発明の開示内容に用いられるものである。
【００１０】
同一出願人のドイツ連邦共和国特許出願第Ａ-１０１３２２０４号明細書（未公開）にCTP-印刷法(Computer-To-Press-Verfahren)を記載してあり、この場合には、画像支持体の同一表面にパターン形成過程を複数回にわたって繰り返すようになっている。画像支持体の表面は、インキレジスト性若しくはインキ親油性の膜で覆われる。パターン化プロセスによって、インキ親油性の領域とインキレジスト性の領域とを、印刷すべき印刷画像に相応してパターン形成するようになっている。続いてインキ親油性の領域はインキを着けられる。新たなパターン化プロセスの前に画像支持体の表面はクリーニングされ、新たにインキレジスト性若しくはインキ親油性の膜で覆われる。膜としては湿し液膜若しくは氷膜（アイス膜）を用いてある。前記ドイツ連邦共和国特許出願第Ａ-１０１３２２０４号明細書に記載の内容は、本発明の開示内容の理解に役立ち、本発明の開示内容に用いられるものである。
【００１１】
本発明の課題は、同一の画像支持体での異なる印刷画像のデジタル印刷のための簡単な印刷法及び印刷装置を提供し、該方法及び印刷装置によって高い印刷品質を可能にすることである。
【００１２】
前記課題は、請求項１に記載の手段を有する方法によって解決される。
【００１３】
本発明では、画像支持体の印刷に有効な表面上に親水性の膜を分子の膜厚さで形成するようにしてある。湿し液膜の塗布形成の前に、パターン化プロセスによって親水性の膜に影響を及ぼし、これによって親水性の領域と疎水性の領域とを、印刷すべき印刷画像のパターンに相応して形成する。続いて行う湿し液膜の形成に際して、湿し液膜は親水性の領域でのみ付着して、その結果、インキ親油性の領域とインキレジスト性の領域とは所定のパターンに相応して生じる。転写並びにクリーニングの後に、画像支持体の表面は新たにパターン形成され、かつ場合によっては異なる印刷画像を現像される。
【００１４】
本発明によって、パターン形成の際のコストを削減できる。親水性の膜をパターン化するために必要なエネルギーは、湿し液膜のパターン化に比べて減少されている。これによって、ハードウエアコストも減少されている。
【００１５】
本発明の別の課題は、前記方法を実施できる印刷装置を提供することである。方法及び装置の従属請求項に、有利な実施態様を記載してある。
【００１６】
付言すると、明細書においてインキレジスト性若しくはインキ親油性の膜なる用語をしばしば用いてある。該膜は、塗布すべきインキに適合されているものである。例えば、水分含有の湿し液膜及び油分含有のインキにおいて、湿し液膜はインキレジスト性で、即ちインキをはじくものである。このような湿し液膜は、インキが水分含有のものである場合にはインキ親油性で、即ちインキを吸着するものである。実際には一般的に油分含有のインキを使用するので、水分含有の湿し液膜はインキをはじく。
【００１７】
本発明の実施例を以下に図面に沿って説明する。図面において、
図１は界面活性剤膜を塗布形成される印刷装置の概略図であり、
図２は画像支持体の、レーザービームによるパターン形成の前及び後の状態の概略的な横断面図であり、
図３は親水性化された膜をパターン形成する実施例の概略図であり、
図４は塗布形成された親水性の膜をパターン形成する実施例の概略図であり、
図５は画像支持体の、親水性の膜のパターン形成の前及び後の状態の概略的な横断面図であり、
図６は親水性化をコロナ放電によって行う実施例の概略図であり、
図７は絶縁された電極の横断面図であり、
図８はプラスチック・画像支持体における装置の概略図であり、
図９は間接的なコロナ放電処理のための実施例の概略図であり、及び
図１０は湿し液膜厚さの調節装置を備えた印刷装置の概略図である。
【００１８】
図１に概略的に示す印刷装置は、例えば同一出願人の米国特許Ａ-５０６７４０４号明細書に記載の印刷装置に類似して構成してある。画像支持体１０、実施例でエンドレスなベルトは、前処理装置１２を通して案内されるようになっており、前処理装置は呼び出しローラ１４及び塗布ローラ１６を有している。呼び出しローラ１４は、容器１３内の液体に浸されており、液体は濡らし促進作用のある物質を含んでいる。画像支持体１０の表面は塗布ローラ１６を介して、界面活性剤を含む物質を分子の層厚さで塗布される。層厚さは標準的には０．１μｍよりも小さい。画像支持体１０の表面は次いで、矢印Ｐ１の方向で湿し装置１８へ導かれ、湿し装置は呼び出しローラ２０及び塗布ローラ２２を介して湿し液貯蔵容器２４から、インキレジスト性の湿し液、例えば水を、若しくはインキ親油性の湿し液を画像支持体１０の表面に塗布するようになっている。原理的には、水と異なる別の湿し液を用いてもよい。湿し液膜の塗布形成は、別の方法で、例えば蒸着法若しくはスプレー法で行われてもよい。画像支持体１０の印刷に有効な表面は全体的に湿し液膜を施される。湿し液膜は標準的には１μｍよりも小さい層厚さを有している。
【００１９】
一般的にインキレジスト性の湿し液膜は、続いて画像形成装置２６によってパターン化される。このために実施例ではレーザービーム２８を用いるようになっている。パターン化プロセス時に、インキ新油性の領域とインキレジスト性の領域とを印刷すべき印刷画像のパターンに相応して形成する。続いて、パターン化された湿し液膜はインキ装置３０に到達し、インキ装置はローラ３２，３４，３６を介して貯蔵容器３８からインキを画像支持体１０の表面に移す。油分含有のインキは、水分含有の湿し液のない領域に付着する。付言すると、インキはスプレー法、ドクター法若しくは凝結法によって画像支持体１０の表面に移されてよい。
【００２０】
画像支持体１０の引き続く搬送に際して、被印刷物４０、例えばウエブへの転写を行うようになっている。転写のために、被印刷物４０は２つのローラ４２，４４間を通して案内される。転写プロセスのためにローラ４２と画像支持体１０との間に、図示を省略してあるもののゴムブランケット胴及び別の中間胴を接続していてよく、このようなゴムブランケット胴及び中間胴はオフセット印刷技術の分野で周知であるようにインキ膜分割を行う。
【００２１】
画像支持体１０のさらなる搬送に際して、画像支持体１０の表面はクリーニングステーション４６でクリーニングされる。これによって、インキ残留物並びに界面活性剤膜の残留物は除去される。クリーニングステーション４６はブラシ４８及び拭き取りリップ５０を備えており、ブラシ及び拭き取りリップは画像支持体１０の表面に接触させられるようになっている。クリーニングはさらに超音波、高圧流体及び／又は蒸気によって助成されてよい。クリーニングはクリーニング液体及び／又は溶剤を用いて行われてもよい。
【００２２】
次いで濡らし促進作用の物質の新たな塗布、例えば界面活性剤塗布及び湿し液塗布並びに新たなパターン形成を行うことができる。このようにして画像支持体１０の各循環毎に新たな印刷画像を印刷できる。同一の印刷画像を複数回繰り返し印刷することも可能である。この場合にはクリーニング装置４６、装置１２及び装置２６は非作動状態に切り換えられる。残ったインキを含む印刷画像は再びインキ装置３０によって再びインキを着けられ、次いで転写される。このような運転形式においては同一の多数の印刷画像を印刷できる。
【００２３】
図２は、レーザービーム２８によるパターン化の後の画像支持体１０の横断面を概略的に示している。本発明に基づき濡らしは、画像支持体表面１０への濡らし促進作用の物質の塗布によって促進される。このことは印刷サイクル内でインキ反撥性の湿し液の塗布の前に行われる。濡らし促進作用の物質は該物質の物理的及び化学的な特性に基づき、わずかな分子量の有利には０．１μｍよりも小さい極めて薄い層として表面に塗布される。このような層は、層の露出する表面でインキ反撥性の湿し液による濡らしを促進するために十分であり、これによって湿し液は同じく有利には０．１μｍよりも小さい極めて薄い層５４として塗布され得る。後続の印刷プロセスは濡らし促進作用の物質、実施例では界面活性剤の量の少ないことによって損なわれない。物質は、印刷サイクル内に組み込まれたクリーニングプロセスによって容易に除去される。
【００２４】
効果は特に、デジタル式の平版印刷若しくはオフセット印刷の領域で、即ち印刷サイクル毎に印刷情報の変わる平版印刷技術若しくはオフセット印刷技術で現れる。濡らし促進作用の層５２は、一般的に用いられる粗面化された多孔性の版板表面を不要にする。画像支持体１０の平滑な表面を可能にし、平滑な表面は明らかにわずかな手間でクリーニングされる。迅速かつ安定的なクリーニング過程は、デジタル式の平版印刷技術若しくはオフセット印刷技術にとって不可欠であり、かつ効果的な印刷のための重要なファクタである。従って画像支持体１０の表面は、スタンダードのオフセット印刷で用いられる粗さよりも小さい粗さを有している。典型的には平均的な粗さの深さＲｚは１０μｍよりも小さく、有利には５μｍよりも小さい。平均粗さ値Ｒａとして表現すると、粗さ値は２μｍ、有利には１μｍよりも小さい範囲にある。
【００２５】
画像支持体の材料の分子構造若しくは原子構造の変化並びに画像支持体の表面と堅く結合されて濡らし促進作用のある永続的な膜は不要である。付加的に塗布されて濡らし作用を促進する提案の物質、例えば界面活性剤膜５２は、最小の量で濡らし作用を発揮するものである。従って、画像支持体１０の特性への物質の影響はほとんど無視できる。さらなる利点は、オフセット印刷で湿し液内に一般的に用いられる濡らし促進作用の添加剤を省略できることにある。
【００２６】
図２に示してあるように、レーザービーム２８によって湿し液膜５４及び界面活性剤膜５２を所定の画像パターンに相応して除去する。該領域は次いでインキ装置３０によってインキを着けられる。画像支持体１０の極めて平滑な表面に基づき、クリーニングは容易になり、界面活性剤膜５２は再び完全に除去される。さらに、画像支持体１０の表面の磨耗も減少される。
【００２７】
続く図面において同じ機能の部材には同じ符号を付けてある。図３、図４及び図５には本発明の別の実施例を示してある。図１の実施例と異なって、図３では画像支持体の有効な表面にインキレジスト性の膜若しくはインキ新油性の膜を塗布形成する前に、分子レベルの膜厚さの親水性膜のパターン化を行う。図示の実施例では蒸着装置６０を用いており、蒸着装置は画像支持体１０の表面に熱い水蒸気を負荷する、即ち供給するようになっている。画像支持体１０はその表面にSiO2-層を形成される。蒸着処理の後に、画像支持体１０は吸引装置６２によって乾燥される。熱い水蒸気は外側の表面に親水性の分子パターン、例えばSiOHを生ぜしめるようになっている。
【００２８】
続いてパターン化装置２６のレーザービーム２８を用いて行われるパターン化によって、親水性の領域と疎水性の領域とは印刷すべき印刷画像のパターンに相応して生じる。後続の湿し装置１８によって、画像支持体１０の有効な表面は全体的に膜状の湿し液と接触させられ、この場合に湿し液は親水性の領域でのみ付着し、その結果、インキ新油性の領域とインキレジスト性の領域は予め行われた前記パターン化に相応して生じる。続いてインキ着けはインキ装置３０によって行われ、この場合に、油分含有のインキは水分含有の湿し液のない領域に付着する。続いて、印刷画像を被印刷物４０へ転写するようになっている。
【００２９】
画像支持体１０の引き続く搬送中に、画像支持体の表面はクリーニングステーション４６内でクリーニングされる。インキ残留物並びに濡らし促進作用の物質の残留物は除去される。次いで新たなパターン化プロセスを行うことができる。
【００３０】
図３に示す実施例では、画像支持体１０の表面上の親水性の膜を印刷画像に相応してパターン化するようになっている。親水性の膜は極端に薄く、数ナノメートルの厚さ、典型的には４μｍよりも小さい厚さしか有していない。従って該親水性の膜は極めてわずかなエネルギー量で印刷サイクル中にパターン化され、この場合に親水性の分子層は消滅する。続いて湿し液を塗布し、湿し液は親水性でない領域に湿し液膜を生ぜしめる。インキ着け及び転写は平版印刷若しくはオフセット印刷の公知の原理で行われる。クリーニング（この際にインキ残留物のほかに親水性の膜も除去されるものの、必ずしも除去されなくてもよい）の後に、印刷サイクルは新たに開始される。親水性の膜は再生され、若しくは新たに塗布形成され、続いて親水性の膜は新たな画像データに相応してパターン化される。
【００３１】
図３の実施例では親水性の膜の形成は、画像支持体の表面の活性化及び外側の分子の表面構造の変化によって行われる。このことは例えば、化学的な活性化剤及び／又は反応性のガスの使用及び／又は適当なエネルギー供給によって可能である。水蒸気の使用のほかに、熱水を作用させかつ例えばNaOHのような溶液によって親水性のSiOH-パターンを表面に形成することもできる。これによって画像支持体１０はSiO2-被覆を備えることになる。さらに、活性化剤浴を通して画像支持体を走行させて、画像支持体の表面を親水性化することも可能である。ノズル機構を介して活性化剤を塗布することも可能である。画像支持体１０の表面の火炎処理によって親水性の膜を形成することも可能である。この場合にも、濡らし促進作用の表面パターンは分子の層厚さで生じる。
【００３２】
有利な配置は、親水性化とクリーニングとのコンビネーションである。例えば、熱いウォータジェット若しくは熱い水蒸気ジェットのクリーニング並びに親水性化の作用を活用することができる。続いて親水性の膜のクリーニング及び形成は唯一のプロセス工程で行われる。
【００３３】
図４には別の変化例を示してある。ここでは親水性の膜を形成するために、濡らし促進作用の物質を画像支持体の表面に塗布するようになっている。変化例では、図１の実施例で述べてある前処理装置１２を利用してある。呼び出しローラ１４及び塗布ローラ１６を用いて容器１３から湿し液を分子状の層厚さで塗布するようになっており、湿し液は濡らし促進作用の物質、例えば界面活性剤を含んでいる。ここでも層厚さは典型的には０．１μｍよりも小さくなっている。濡らし促進作用の別の物質としてアルコールも考慮される。塗布は選択的にドクター法、スプレー法若しくは蒸着法によって行われてよい。
【００３４】
分子の層厚さの極めて薄い親水性の膜に基づき、該親水性の膜の局所的な除去は、局所的な熱エネルギー供給によって行われる。わずかな層厚さに基づき、エネルギー量はわずかでよい。図３及び図４で用いてあるレーザービーム２８のほかに、レーザーダイオード、LED・コーム若しくは加熱部材を使用することも可能である。
【００３５】
図３及び図４の実施例でも、画像支持体１０の循環毎に新たにパターン化を行うことができ、これによって循環毎に新たな印刷画像を印刷することができる。図１の実施例に示してあるように、同一の印刷画像を繰り返し印刷することも可能であり、パターン形成されている印刷画像はインキ装置３０によって新たにインキ着けされ、次いで転写される。この場合には、パターン形成のための装置は非作動状態に切り換えられている。
【００３６】
図５は、図４の実施例においてレーザービーム２８によってパターン形成した後の画像支持体１０の横断面を示している。画像支持体１０の表面は、前に述べた実施例の場合と同じく極めて平滑である。薄い界面活性剤膜５２はレーザービーム２８によってパターン形成され、即ち界面活性剤膜に親水性の領域６８と疎水性の領域６４とを形成する。湿し装置１８によって、水分含有の薄い湿し液膜は親水性の領域６８にのみ塗布形成される。続いてインキ装置３０によって領域６４に油分含有のインキを着けられ、インキは親水性の領域６８では湿し液５４によってはじかれる。
【００３７】
図６乃至図９には画像保持体１０の表面の、自由なイオンの負荷による親水性化を行う実施例を示してある。このような実施例は図３の実施例と組み合わせることもできる。
【００３８】
一般的にインキレジスト性の湿し液膜との良好な濡らしを保証するためには、画像支持体１０の表面エネルギーは湿し液膜の表面張力と少なくとも同じ大きさでアレイねばならない。このことは、画像支持体１０の表面と湿し液との間の接触角度の値が９０°より小さい値を有していなければならないことを意味している。実際には、厚さほぼ１μｍの湿し液膜を形成するために２５°より小さい接触角度を達成することが必要である。従って、特にインキレジスト性の湿し液のベースとして極めて高い表面張力値、即ち７２ｍＮ／Ｍの水を使用する場合に、画像支持体１０の表面エネルギーに対する高い要求が課せられる。このような要求を、プラスチック・画像支持体若しくは金属製の画像支持体は適当な処理なしには、例えば粗面化、界面活性剤の塗布、若しくは微細孔の形成等なしには達成し得るものではない。例えば水とポリイミド若しくはポリカーボネートとの間の接触角度はほぼ７５°である。極めて高い表面エネルギーひいては最小の接触角度を有する金属表面でさえ、通常の環境条件下では疎水性の作用を示す。このことは、標準条件下で金属表面に常に生じる酸化膜と密接に関連している。極めて少ない汚れでも、表面エネルギーにとって不都合に作用する。その結果、接触角度は実際にしばしば７０°を超えてしまう。
【００３９】
図６に示す実施例においては親水性化のために、画像支持体１０の表面にコロナ放電処理を施すようになっている。高電圧発生器７０は１０乃至３０ｋＶの範囲、有利には１５乃至２０ｋＶの範囲の交流電圧を生ぜしめるようになっており、この場合に周波数は１０乃至４０ｋＨｚ、有利には１５乃至２５ｋＨｚの範囲である。高電圧発生器７０の一方の接続部は、絶縁された電極７２に接続されている。他方の接続部は、金属製の画像支持体１０の実施例ではスライドコンタクト７４に接続されており、スライドコンタクトを画像支持体１０に接続してある。
【００４０】
電極７２に印加された高い電圧は空気のイオン化をもたらす。コロナ放電を生ぜしめ、これによって画像支持体１０の表面は自由なイオンで負荷される。プラスチック表面の場合にはイオンの負荷は、典型的な有機質の汚れ、例えば脂肪、油やワックスなどを除去するクリーニング作用のほかに、表面にラジカルを生ぜしめ、ラジカルは酸素と関連して強い親水性の官能基を形成する。この場合特に、カルボニル基（−Ｃ＝Ｏ−）、カルボキシル基（ＨＯＯＣ−）、ヒドロペルオキシド基（ＨＯＯ−）、及びヒドロキシル基（ＨＯ−）が生じる。金属製の画像支持体１０においてはクリーニング作用が中心になっており、この場合、表面の脂肪及び酸化膜の除去によって表面エネルギーを高め、ひいては金属の親水性特性を得ることができる。このようにして、プラスチック表面若しくは金属表面と水との間の２０°までの接触角度を達成することができる。コロナ放電処理は、支持体の物理的な表面特性を変えるもので、支持体の機械的な特性を変えるものではない。例えば走査形電子顕微鏡を用いても目に見える変化は認められない。電圧若しくは周波数の大きさを変えることによって、画像支持体１０の表面への作用は調整されて、被印刷物に適合される。親水性化はプロセスガス、有利には酸素若しくは窒素の供給によって行われてよい。
【００４１】
図１の実施例と同じく、図６の実施例でも画像支持体１０の親水性化された表面に湿し装置１８によって湿し液を塗布し、続いてレーザービーム２８によってパターン形成するようになっている。パターン形成された湿し液膜は、インキ装置３０によってインキ着けされ、インキは後に被印刷物４０に転写される。クリーニングステーション４６でインキ残留物を除去するようになっている。画像支持体１０の表面は前に述べた実施例と同じく極めて平滑であるので、クリーニングプロセスは簡単にかつ高い効果をもって行われる。続いて、印刷プロセスは新たに周期的に開始され得る。新たなパターン形成を省略することもでき、この場合にはこれまでの印刷画像をインキ着けして、転写する。
【００４２】
図７は絶縁された電極７２を示している。金属性のコア７６はセラミック外被７８によって取り囲まれている。このような構造によってフラッシュオーバーは避けられる。このことは、画像支持体１０として金属を用いる場合に特に有利である。別の例として、絶縁をプラスチック外被によって行うことも可能である。
【００４３】
図８は、プラスチックから成る画像支持体１０における構成を示している。電極プレート８０は画像支持体１０の、電極７２と相対する側に配置されている。電極７２は絶縁なしに形成されている。
【００４４】
図９は、間接的なコロナ放電処理装置による親水性化法を示している。高電圧発生器７０の出力側接続部は２つの電極８２，８４に接続されており、電極は画像支持体１０の上側に配置されている。高電圧によって両方の電極８２，８４に生ぜしめられた放電はイオンを発生させ、イオンは空気流若しくはプロセスガス流によって画像支持体１０の表面へ導かれ、そこで濡らし促進作用を発揮する。流れの形成のために送風機８６を用いてある。
【００４５】
別の実施例として低圧プラズマ処理法を投入することもでき、低圧プラズマ処理法は画像支持体１０の表面の表面エネルギーを高めるものである。この場合には真空下で、例えば０．３乃至２０バールの範囲で高電圧放電を生ぜしめ、高電圧放電によってプロセスガスをイオン化して、プラズマ状態に移す。プラズマは画像支持体１０の表面と直接に接触する。プラズマの作用はコロナ放電の作用に類似している。
【００４６】
前述の親水性化法は種々の利点をもたらす。スタンダードなオフセット印刷におけるような粗面化された多孔性の版板表面の使用を避けることができる。代わりに、極めて平滑な表面を用いるようになっており、該表面の粗さは極めて小さく、例えば平均粗さ値Ｒａ＜１μｍの範囲である。これによって、表面のための迅速かつ安定的なクリーニング過程を可能にできる。前述の印刷プロセスにとって、画像支持体の材料の分子構造若しくは原子構造の永続的な変化も、画像支持体に固着して濡らし促進作用のある永続的な層も不要である。前述の親水性化プロセスによって画像支持体は、表面エネルギーを考慮することなく種々の要求に適合される。
【００４７】
前述の親水性化プロセスは、オフセット印刷において湿し液のために用いられる濡らし促進作用のある添加剤の省略を可能にする。濡らし促進作用のある付加的な物質の塗布はもはや不要である。このことは、プロセスの煩雑性を避け、かつ消費物質のコストを節減することにつながる。さらに親水性化法のクリーニング作用も利点である。親水性化は、デジタル式の印刷法にとって必要なクリーニングプロセスを助成し、ひいてはハードウエアコストの節減に寄与する。
【００４８】
図１０は別の実施例を示している。オフセット印刷、特に例えば同一出願人の米国特許第Ａ６２９５９２８号明細書及び米国特許第Ａ５０６７４０４号明細書に記載のデジタル式の印刷法においては、画像支持体の表面上の湿し液膜の正確に規定された一定の厚さは、印刷法の安定性及び能率の重要なファクターである。図１０に示す実施例で用いられる印刷装置は、湿し液の制御可能及び調整可能な規定された極めて薄い塗布を可能にして維持するものである。標準化されたオフセット印刷において一般的に、湿し液の塗布のための回転する複数のローラから成る湿し装置を用いている。水を良好に運ぶ粗面性若しくは多孔性の版板と一緒に、標準的なオフセット印刷にとって十分に安定した湿し水膜を生ぜしめるようになっている。湿し液量及び湿し液膜の厚さは、例えば所定のローラ間の間隔調節若しくは元ローラの回転速度の調節によって調整される。この場合に湿し装置の蓄え作用並びに版板の蓄え作用は、調節から遅れて表れる。十分に安定した湿し水膜を形成するためには、粗面化され、即ち粗面処理されて確実に湿し水を蓄える版板は不可欠である。従来技術として、版板の冷却及びこれによって生じる版板上での湿気の凝結によって極めて薄い湿し水膜を形成することは公知である。しかしながらこの場合には、湿し水膜の厚さは周囲条件、例えば空気湿度及び温度に強く依存していて、長い時間にわたって一定に保たれ得ない。
【００４９】
図１０の実施例で用いられている構成は、ドイツ連邦共和国特許出願第Ａ-１０１３２２０４号明細書に記載の構成に類似していて、CTP-印刷法(Computer-To-Press-Verfahren)を実施できるものである。印刷装置はインキ装置３０を含んでおり、インキ装置は複数のローラを備えており、該ローラを介して油分含有のインキは貯蔵容器３８から画像支持体１０の表面に伝達される。画像支持体１０のインキ着けされた表面はインキをゴム胴９０へ伝達する。そこから、インキはペーパーウエブ４０に移され、このためにペーパーウエブは圧胴４２によってゴム胴９０に向けて押圧されている。
【００５０】
湿し装置１８は３つのローラを介して湿し液、例えば水を湿し液貯蔵容器２４から画像支持体１０の表面へ伝達する。湿し液膜の塗布形成の前に、画像支持体１０の表面はすでに前に述べてあるように、濡らし媒体及び／又は界面活性剤を用いて若しくはコロナ放電処理及び／又はプラズマ処理によって親水性状態に移されてよい。引き続く経過中に、湿し液膜はレーザービーム２８を用いたエネルギー供給によって選択的に除去されて、所望の画像パターンを形成する。すでに述べてあるように、続いてインキ着けをインキ装置３０によって画像パターンのインキ親油性の領域に行う。パターン形成の後に、インキは定着装置９２を用いて定着されてよい。
【００５１】
該実施例も２つの運転形式を可能にしている。第１の運転形式では、画像支持体の表面における新たなパターン形成の前に複数回の印刷過程を実行する。画像支持体１０上に存在する印刷画像は印刷毎にインキ着けされて、転写され、即ち印刷画像はインキ着けと転写を複数回行われる。第２の運転形式では、画像支持体の表面に新たな印刷画像を形成する。その前に、パターン形成されてインキレジスト性のこれまでの膜並びにインキ残留物は除去されており、このためにクリーニングステーション４６を設けてある。クリーニングステーションは矢印Ｐ２で示すように画像支持体１０に向けて旋回移動させられ、かつ再び画像支持体から離れる方向へ旋回移動させられてよい。図１０の実施例の印刷装置の構成の詳細は前記ドイツ連邦共和国特許出願公開第-Ａ-１０１３２２０４号明細書に記載されている。
【００５２】
移送方向Ｐ１で見て、湿し装置１８の後にエネルギー源９４を配置してあり、エネルギー源は熱エネルギーを画像支持体１０の表面上の湿し液膜に放出する。該エネルギーは湿し液膜の厚さを減少させる。移送方向で見てエネルギー源の後に膜厚さ測定装置９６を配置してある。膜厚さ測定装置９６は湿し液膜の現在の厚さを測定して、該厚さに相応する電気信号を制御装置９８に発信するようになっている。制御装置９８は膜厚さの測定された実際値を設定値（目標値）と比較するようになっている。目標値と実際値との差異のある場合にはエネルギー源９４は、湿し液膜の厚さを目標厚さに減少させるように制御される。
【００５３】
膜厚さ測定装置９６は、例えば三角測量法、透過法若しくは容量法に基づき無接触式に作動するようになっていてよい。エネルギー源９４は１つ若しくは複数の赤外線ランプ、加熱ヒーター、レーザー機構、レーザーダイオード、若しくは加熱エレメントから成っていてよい。
【００５４】
エネルギー源９４、膜厚さ測定装置９６及び制御装置９８は、監視機能だけを生ぜしめるように構成されていてよい。膜厚さが設定値を超えている、若しくは下回っている場合には、適切な警報信号を発信し、これに対応してエネルギー源９４のためのエネルギー供給を新たに調節する。エネルギー源９４、膜厚さ測定装置９６及び制御装置９８は１つの制御回路に接続されていてよく、これによってエネルギー源９４は、膜厚さの実際値と設定値との間の差異を最小にし、有利にはゼロに調整するように制御される。
【００５５】
エネルギー源９４は、信号列１００によって示してあるように変調パルスによってデジタル式に若しくはアナル号式の電圧調整によって制御されてよい。図１０の実施例において第１のプロセス段階では画像支持体１０の有効な幅にわたって厚さの一定な湿し液膜を形成し、該湿し液膜は後続の第２の段階で所定の膜厚さに減少される。その結果、規定された著しく薄い厚さの均一な湿し液膜を得ることができる。続くパターン形成は最小のエネルギーで正確に行われる。最終的に印刷品質を高めることができる。図示の印刷装置の利点は、湿し液膜の膜厚さの変化に直接に応働して、湿し液膜の厚さを調節し、その結果、極めて薄い湿し液膜を形成できることにある。さらに、デジタル式の印刷のために必要なパターン化エネルギーを最小にすることができる。
【００５６】
前述の実施例のさらなる変化例が可能である。例えば画像支持体としてエンドレスベルト並びに円筒体を用いることができる。被印刷物への転写は直接に行われ、若しくはゴム胴或いはインキ膜分割のための別の中間胴を介在して行われてよい。図１０の実施例における膜厚さ調節は、別の実施例にも利用され得るものである。同じく、図１乃至図９の実施例のおいても移されたインキの定着を定着装置を用いて行ってよい。さらにクリーニングステーション４６、湿し装置１８及び画像形成装置は、例えば旋回によって非作動状態と作動状態とに切り換えられてよい。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】界面活性剤膜を塗布形成される印刷装置の概略図
【図２】画像支持体の、レーザービームによるパターン形成の前及び後の状態の概略的な横断面図
【図３】親水性化された膜をパターン形成する実施例の概略図
【図４】塗布形成された親水性の膜をパターン形成する実施例の概略図
【図５】画像支持体の、親水性の膜のパターン形成の前及び後の状態の概略的な横断面図
【図６】親水性化をコロナ放電によって行う実施例の概略図
【図７】絶縁された電極の横断面図
【図８】プラスチック・画像支持体における装置の概略図
【図９】間接的なコロナ放電処理のための実施例の概略図
【図１０】湿し液膜厚さの調節装置を備えた印刷装置の概略図
【符号の説明】
【００５８】
１０  画像支持体、  １２  前処理装置、  １３  容器、  １４  呼び出しローラ、  １６  塗布ローラ、  １８  湿し装置、  ２０  呼び出しローラ、  ２２  塗布ローラ、  ２４  湿し液貯蔵容器、  ２６  画像形成装置、  ２８  レーザービーム、  ３０  インキ装置、  ３２，３４，３６  ローラ、  ３８  貯蔵容器、  ４０  被印刷物、  ４２，４４  ローラ、  ４６  クリーニングステーション、  ４８  ブラシ、  ５０  拭き取りリップ、  ５２  界面活性剤膜、  ５４  湿し液膜、  ６０  蒸着装置、  ６２  吸引装置、  ６４  疎水性の領域、  ６８  親水性の領域、  ７０  高電圧発生器、  ７２  電極、  ７４  スライドコンタクト、  ７６  コア、  ７８  セラミック外被、  ８０  電極プレート、  ８２，８４  電極、  ８６  送風機、  ９０  ゴム胴、  ９２  定着装置、  ９４  エネルギー源、  ９６  膜厚さ測定装置、  ９８  制御装置
【図１】
2005527395.tif 000003
【図２】
2005527395.tif 000004
【図３】
2005527395.tif 000005
【図４】
2005527395.tif 000006
【図５】
2005527395.tif 000007
【図６】
2005527395.tif 000008
【図７】
2005527395.tif 000009
【図８】
2005527395.tif 000010
【図９】
2005527395.tif 000011
【図１０】
2005527395.tif 000012
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月10日(2003.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷画像を被印刷物（４０）に形成するための方法であって、
画像支持体（１０）の印刷に有効な表面上に親水性の膜（５２）を分子の膜厚さで形成し、
パターン化プロセスによって親水性の領域（６８）と疎水性の領域（６４）とを印刷すべき印刷画像のパターンに相応して形成し、
画像支持体（１０）の表面に湿し液膜（５４）を施し、この場合に、親水性の領域（６８）にのみ湿し液膜（５４）を形成することによって、所定のパターンに相応したインキ親油性の領域とインキレジスト性の領域とを生ぜしめ、
画像支持体の表面にインキを塗布し、該インキはインキ親水性の領域（６４）に付着し、かつインキレジスト性の領域（６８）に受容されず、
塗布されたインキを続く経過中に被印刷物（４０）に伝達し、
新たなパターン化プロセスの前に画像支持体（１０）の表面をクリーニングして、新たに親水性の膜（５２）を形成する形式のものにおいて、
親水性の膜の形成のために、界面活性剤膜（５２）を画像支持体（１０）の表面に施すことを特徴とする、親水性の膜を形成しかつパターン化して印刷するための方法。
【請求項２】
画像支持体の表面の親水性の膜（５２）が１００ｎｍより小さい厚さ、有利には１０ｎｍより小さい厚さを有している請求項１記載の方法。
【請求項３】
親水性の物質の塗布をローラ、ドクター若しくはスプレーによって行う請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
親水性の膜のクリーニング及び形成を唯一のプロセス段階で行う請求項１から３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
クリーニングのために熱い水及び／又は水蒸気を用いる請求項４記載の方法。
【請求項６】
パターン形成のためにビームを用いる請求項１から５までのいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
レーザー機構、レーザーダイオード、LEDs若しくはレーザーダイオードアレイのビームを用いる請求項６記載の方法。
【請求項８】
被印刷物（４０）へのインキの伝達の前にインキ膜の分割を行う請求項１から７のいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
画像支持体（１０）の表面を円筒外周面若しくはエンドレスなベルトによって形成する請求項１から８のいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
印刷画像を被印刷物（４０）に形成するための装置であって、
画像支持体（１０）の印刷に有効な表面上に親水性の膜（５２）を分子の膜厚さで形成する手段が設けられており、
パターン化プロセスによって親水性の領域（６８）と疎水性の領域（６４）とが、印刷すべき印刷画像のパターンに相応して形成されるようになっており、
画像支持体（１０）の表面に湿し液膜（５４）が施されるようになっており、
この場合に、親水性の領域（６８）にのみ湿し液膜（５４）が形成され、これによって所定のパターンに相応したインキ親油性の領域とインキレジスト性の領域とが生ぜしめられるようになっており、
画像支持体の表面にインキを塗布するようになっており、該インキがインキ親油性の領域（６４）に付着し、かつインキレジスト性の領域（６８）に受容されず、
塗布されたインキが続く経過中に被印刷物（４０）に伝達されるようになっており、
新たなパターン化プロセスの前に画像支持体（１０）の表面がクリーニングされ、かつ新たに親水性の膜（５２）が形成されるようになっている形式のものにおいて、
親水性の膜の形成のために、界面活性剤膜（５２）が画像支持体（１０）の表面に施されるようになっていることを特徴とする、親水性の膜を形成しかつパターン化して印刷するための装置。
【請求項１１】
画像支持体（１０）の表面の親水性の膜（５２）が１００ｎｍより小さい、有利には１０ｎｍより小さい膜厚さを有している請求項１０記載の装置。
【請求項１２】
親水性の膜のクリーニング及び形成が唯一のプロセス段階で行われるようになっている請求項１０又は１１記載の装置。
【請求項１３】
パターン形成がビームによって行われるようになっている請求項１０から１２のいずれか１項記載の装置。
【請求項１４】
ビームがレーザー機構、レーザーダイオード、LEDs若しくはレーザーダイオードアレイによって生ぜしめられるようになっている請求項１３記載の装置。
【請求項１５】
被印刷物（４０）へのインキの伝達の前にインキ膜の分割が行われるようになっている請求項１０から１４のいずれか１項記載の装置。
【請求項１６】
画像支持体（１０）の表面が円筒外周面若しくはエンドレスなベルトによって形成されている請求項１０から１５のいずれか１項記載の装置。
【請求項１７】
印刷画像を被印刷物（４０）に形成するための方法であって、
画像支持体（１０）の印刷に有効な表面上に親水性の膜（５２）を分子の膜厚さで形成し、
パターン化プロセスによって親水性の領域（６８）と疎水性の領域（６４）とを印刷すべき印刷画像のパターンに相応して形成し、
画像支持体（１０）の表面に湿し液膜（５４）を施し、この場合に、親水性の領域（６８）にのみ湿し液膜（５４）を形成することによって、所定のパターンに相応したインキ親油性の領域とインキレジスト性の領域とを生ぜしめ、
画像支持体の表面にインキを塗布し、該インキはインキ親水性の領域（６４）に付着し、かつインキレジスト性の領域（６８）に受容されず、
塗布されたインキを続く経過中に被印刷物（４０）に伝達し、
新たなパターン化プロセスの前に画像支持体（１０）の表面をクリーニングして、新たに親水性の膜（５２）を形成する形式のものにおいて、
画像支持体（１０）の表面にSiO2・膜を備え、熱い水蒸気の作用によって
親水性の膜によって形成し、該膜がSiOH・分子を含んでいることを特徴とする、親水性の膜を形成しかつパターン化して印刷するための方法。
【請求項１８】
親水性の物質を１００ｎｍより小さい、有利には１０ｎｍより小さい膜厚さで塗布する請求項１７記載の方法。
【請求項１９】
親水性の膜のクリーニング及び形成を唯一のプロセス段階で行う請求項１７又は１８記載の方法。
【請求項２０】
クリーニングのために熱い水及び／又は水蒸気を用いる請求項１９記載の方法。
【請求項２１】
パターン形成のためにビームを用いる請求項１７から２０までのいずれか１項記載の方法。
【請求項２２】
レーザー機構、レーザーダイオード、LEDs若しくはレーザーダイオードアレイのビームを用いる請求項２１記載の方法。
【請求項２３】
被印刷物（４０）へのインキの伝達の前にインキ膜の分割を行う請求項１７から２２のいずれか１項記載の方法。
【請求項２４】
画像支持体（１０）の表面を円筒外周面若しくはエンドレスなベルトによって形成する請求項１７から２３のいずれか１項記載の方法。
【請求項２５】
印刷画像を被印刷物（４０）に形成するための装置であって、
画像支持体（１０）の印刷に有効な表面上に親水性の膜（５２）を分子の膜厚さで形成する手段が設けられており、
パターン化プロセスによって親水性の領域（６８）と疎水性の領域（６４）とが、印刷すべき印刷画像のパターンに相応して形成されるようになっており、
画像支持体（１０）の表面に湿し液膜（５４）が施されるようになっており、
この場合に、親水性の領域（６８）にのみ湿し液膜（５４）が形成され、これによって所定のパターンに相応したインキ親油性の領域とインキレジスト性の領域とが生ぜしめられるようになっており、
画像支持体の表面にインキを塗布するようになっており、該インキがインキ親油性の領域（６４）に付着し、かつインキレジスト性の領域（６８）に受容されず、
塗布されたインキが続く経過中に被印刷物（４０）に伝達されるようになっており、
新たなパターン化プロセスの前に画像支持体（１０）の表面がクリーニングされ、かつ新たに親水性の膜（５２）が形成されるようになっている形式のものにおいて、
画像支持体（１０）の表面がSiO2・膜を有しており、この場合に
熱い水蒸気の作用によって親水性の膜を形成するようになっており、該膜がSiOH・分子を含んでいることを特徴とする、親水性の膜を形成しかつパターン化して印刷するための装置。
【請求項２６】
親水性の膜（５２）が１００ｎｍより小さい、有利には１０ｎｍより小さい膜厚さを有している請求項２５記載の装置。
【請求項２７】
親水性の膜のクリーニング及び形成が唯一のプロセス段階で行われるようになっている請求項２５又は２６記載の装置。
【請求項２８】
パターン形成がビームによって行われるようになっている請求項２５から２７のいずれか１項記載の装置。
【請求項２９】
ビームがレーザー機構、レーザーダイオード、LEDs若しくはレーザーダイオードアレイによって生ぜしめられるようになっている請求項２８記載の装置。
【請求項３０】
被印刷物（４０）へのインキの伝達の前にインキ膜の分割が行われるようになっている請求項２５から２９のいずれか１項記載の装置。
【請求項３１】
画像支持体（１０）の表面が円筒外周面若しくはエンドレスなベルトによって形成されている請求項２５から３０のいずれか１項記載の装置。
【国際調査報告】
2005527395.tif 000013
2005527395.tif 000014
2005527395.tif 000015
2005527395.tif 000016
2005527395.tif 000017
2005527395.tif 000018