(57)【要約】本発明は、ランニングまたは歩行の正確な機能を再確立および／または維持するための、モジュール式固有受容器性の整形中敷であって、前記中敷が、弾力性のある材料で作られており、その上面に、足の運びが踵によって常に始められると直ぐに、距骨および踵骨の間に位置する関節の受容体を活性化させるための手段（１）、および、それが歩行の生理学的な軸の上で拘束するようになる場合に足を誘導する手段（３、４、５）とを備え、また、その下面に、不十分なまたは過度に大きい足の運びの開始に対してそれぞれ外転または内転を与えることができる、および／または内反、外反、回外、および／又は回内を矯正することができる少なくとも１つの取り外し可能な矯正要素（１１、１２、１３、１４）を備える。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
歩行またはランニングの正確な力学を再確立および／または維持するための、モジュール式の固有受容器性の整形中敷であって、前記中敷が、弾力性のある材料で作られており、第１に、その上面に、足の運びが踵によって常に始められると直ぐに、距骨および踵骨の間に位置する関節の受容体を活性化させるための手段（１）、および、それが歩行の生理学的な軸の上で拘束するようになる場合に足を誘導する手段（３、４、５）とを備え、第二に、その下面で、不十分なまたは過度の足の運びの開始に対してそれぞれ外転または内転を与えることができる、および／または内反および／または外反足を矯正することができる少なくとも１つの取り外し可能な矯正要素（１１、１２、１３、１４）を備えることを特徴とする整形中敷。
【請求項２】
その下面で、中敷が、前記中敷の内側あるいは外側のエッジに沿って配置された少なくとも１つのへこみ（７、８、９、１０）を備え、そこに、中敷材料より堅い材料で作られた取り外し可能な矯正要素（１１〜１４）が配置されることができ、その形状がへこみ（７〜１０）の形状に対応することを、特徴とする前記請求項に記載の整形中敷。
【請求項３】
へこみ（７〜１０）の部分が、中敷の内側または外側のエッジから前記中敷の中央部分の方向に短い距離で増加し、そして減少することを、特徴とする請求項２に記載の整形中敷。
【請求項４】
へこみ（７〜１０）の壁は、へこみ（７〜１０）の端にへり（１５）を形成するために、前記へこみの内側に向かって中部へ底の部分からエッジまで傾斜されること、および、その周辺の取り外し可能な要素（１１〜１４）が面（１６）を備えて、へり（１５）がへこみ（７〜１０）内の位置に取り外し可能な要素を保持し、前記要素がへり（１５）の弾性変形によってへこみに挿入されることを特徴とする、請求項２または３に記載の整形中敷。
【請求項５】
その表面のうちの１つにある取り外し可能な要素（１１〜１４）が、取り外し可能な要素の連結をへこみの内で行うために、へこみ（７〜１０）の底に配置される雌部材（１８）と共働することができる雄連結部材（１７）を備えることを特徴とする、請求項２または３に記載の整形中敷。
【請求項６】
中敷の内側エッジに沿って配置され、土踏まずから足の親指まで伸びる抗外転へこみ（７）を備えることを特徴とする、請求項２から５に記載の整形中敷。
【請求項７】
中敷の外側エッジに沿って配置され、土踏まずからクッションまで足の小指の領域に伸びる抗内転へこみ（８）を備えることを、特徴とする請求項１から５に従う整形中敷。
【請求項８】
中敷の内側エッジに沿って、土踏まずの下に配置される抗外反または抗回内へこみ（１０）を備えることを、特徴とする請求項２から７に記載の整形中敷。
【請求項９】
中敷の外側エッジに沿って配置され、立方骨から第二の抗内転へこみ（８）まで伸びる抗内反または抗回外運動へこみ（９）を備えることを特徴とする請求項２から８に記載の整形中敷。
【請求項１０】
その上面に、副踵骨の縦方向の輪郭が刻まれた溝またはコンソール（１）を備え、その厚みが、踵から距骨頚に対し実質的に垂直に位置する領域まで、増加することを特徴とする前記請求項のいずれかに記載の整形中敷。
【請求項１１】
その上面に、足の内側に向かってコンソール（１）を伸ばしている全体的に半ドーム形状の副舟状骨の輪郭が刻まれた要素（３）を備えることを特徴とする請求項１０に記載の整形中敷。
【請求項１２】
その上面に、副舟状要素（３）の外側の側面に配置され、インゲンマメの形をしており、中敷の中央の縦軸におよそ４５°で後方へ向く凸面を有する副立方骨要素（４）を備えることを特徴とする請求項１０または１１に記載の整形中敷。
【請求項１３】
その上面に、中足骨部位の下に支持点を配置するために、前方へ広がり、中足骨頭部の前で丁度終わる倒卵形状の、中央足根骨の軸方向手段（５）を備えることを特徴とする請求項１１に記載の整形中敷。
【請求項１４】
その下面に、実質的に足の平坦部から踵まで伸びる、蛇行形状の溝（１９）を備え、汗の排出を行うために、中敷の上面に通じる、規則正しく間隔を置かれた孔（２０）を備えることを特徴とする前記請求項のいずれかに記載の整形中敷。
【請求項１５】
中敷の踵および前足部が、胞巣状構造を有することを特徴とする請求項１から１４のいずれかに記載の整形中敷。
【請求項１６】
胞巣構造が、ハチの巣形の構造から成ることを特徴とする請求項１５に記載の整形中敷。
【請求項１７】
後の外部踵領域および／または中足骨頭部領域（２３）において、および／または足の親指（２４）の下のクッション領域において、中敷の残部における小胞巣より小さいサイズの小胞巣を備えることを特徴とする請求項１５または１６に記載の整形中敷。
【請求項１８】
中敷の上面に配置される輪郭が刻まれた要素（１、３、４、５）の高さまたは深さ、前記中敷の下面に配置されるへこみ（７〜１０）の高さまたは深さ、およびへこみのうちの少なくとも１つに配置される取り外し可能な要素（１１〜１４）の高さまたは深さが、２，３ミリメートルを越えないことを特徴とする前記請求項のいずれかに記載の整形中敷。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ランニングまたは歩行の正確な機能を回復および／または保持するための、固有受容整形中敷に関するもので、内反、外反足、外転および／または内転を矯正するためのモジュール式手段を備える。
【背景技術】
【０００２】
靴の中へ置くことを目的とする中敷の分野において、いわゆる固有受容中敷は、歩行の正確な機能を回復および／または保持する目的であることは周知であり、これは、たとえば同じ登録者によるフランス特許ＦＲ２６７６９１８におけるケースである。前記発明の中敷は、足の運びが踵によって常に始められるとすぐに、距骨と踵骨の間に位置する間接筋受容体を活性化させるための手段を備え、筋緊張がこの最初の刺激によって促され、それから、歩行の生理学的な軸上に足を誘導する手段によって導かれる。この目的のためにその上面の中敷は、特に、直線部分をもつ表部部分を持ち、およびその厚みが、踵から実質的に距骨頚に垂直に位置した領域まで増加する、コンソールを備え、そのうえ、内反のまたは外反のねじれに対抗する手段を補い促している横向きの副立方骨（ｓｕｂ−ｃｕｂｏｉｄ）と副舟状骨（ｓｕｂ−ｓｃａｐｈｏｉｄ）を備え、中足骨部位の下に支持点を分布させる目的の軸方向の中央足根骨（ｍｅｄｉｏｔａｒｓａｌ）の手段を備える。
【０００３】
歩行をより快適にすることだけを単に目的とする従来技術の中敷は、たとえばランニングのような運動を実施する場合に中敷の固有受容の作用を上回る重大な支持点欠陥が、三空間面（ｔｈｒｅｅ  ｓｐａｔｉａｌ  ｐｌａｎｅ）にあるならば、効力がない。この支持点欠陥は、内反または回外、外反足または回内、関節に通じている足の外転または内転、腱と筋のアンバランス、運動を実施する場合に感じられる数多くのタイプの苦痛の源となる。
【０００４】
この点で、特に運動使用を目的とし、内反、外反足、外転または内転を矯正するための手段を備える整形中敷は、すでに周知であり、これは、例えば、モジュール式の整形中敷を記載している米国特許ＵＳ４８４１６４８におけるケースである。弾力的な材料で作られた前記中敷は、その上面に複数の矯正領域を備え、それは、弾力的な材料で作られた矯正要素が取り付けられる 「Ｖｅｌｃｒｏ」タイプ（登録商標）の固定手段のループを備え、その下面は矯正領域のループと共働することができるフックを備えている。いろいろな矯正要素は、カラーコード、番号コードまたはラベルによって都合よく参照をつけられ、その特性が中敷と共に同封される説明書で思い出され、ユーザーは運動を実施する場合に感じられる苦痛に従って一つ以上の矯正要素を中敷に配置することができる。
【０００５】
この種の整形中敷の矯正要素には、ユーザーが例えばランニング中の場合に中敷の表部の上面を滑べって行く不都合があり、したがって、その前記要素は、すぐに効果がなくなる。運動を実施する場合、体温と結びつく足の発汗と、足によって矯正要素に加えられる剪断応力は、これらの要素のずれを引き起こして、筋、腱または骨外傷に通じるかもしれない足支持点欠陥を引き起こすことによって、それらを無効にしあるいは、さらに危険にする。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の本目的のうちの１つは、歩行またはランニングの正確な機能を回復するために、固有受容整形中敷を提案することによって、全てのこれらの障害を乗り越えることであり、それはモジュール式の手段を備えて、 足内反、外反足、外転または内転を矯正する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この目的のために本発明によれば、モジュール式の固有受容整形中敷が、歩行またはランニングの正確な機能を回復および／または保持するために提案される。弾力性のある材料で作られるこの中敷は、第１に、その上面に、中敷は、それが歩行の生理学的な軸の上で拘束されるようになる場合に、足を誘導するための手段をもつかかとによって足の運びが常に始められるとすぐに、距骨と踵骨の間で位置する関節の受容体を活性化させるための手段を備え、第二に、その下面に、それは、不十分なまたは過剰な足の運びの開始に対してそれぞれの外転または内転を与えることができる、および／または内反または回外および／または外反、または回内を矯正することができる、少なくとも１つの取り外し可能な矯正要素を備えることが、注目に値する。
【０００８】
予期しない方法で以下が発見された、即ち、 距骨と踵骨の間に位置する関節の受容体を活性化させ、且つ歩行の生理学的な軸の上に足を誘導する中敷の上面に配置された手段をもつ、下面に配置された矯正要素の組み合わせは、外反のおよび／または内反および／または足外転および／または内転の改善された矯正を備え、一方、狭い厚みの矯正要素に頼り、それによって従来技術の整形中敷の不快感な感じを減らす。
【０００９】
特に都合が良い方法では、前記中敷は、少なくとも前記中敷の内側および／または外側のエッジに沿って配置される１つのへこみをその下面で備え、そこで、中敷材料より堅い材料で作られ、その形状がへこみの形状に対応している取り外し可能な矯正要素は、ランニングまたは歩行時に矯正要素の中敷の下にとどまるように、配置することができる。また、矯正要素が中敷の下面に置かれるので、それは足と接触せず、そのために従来技術の中敷と違って、切断、皮膚のまめ、裂け傷または類似のようなあらゆる足底の皮膚障害を防止することが、注目されるであろう。
【００１０】
他の長所と特徴は、次の様々な実施形態の説明で明らかになり、それは、以下の添付図面を参照して、本発明の固有受容整形中敷の非限定的な例として与えられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
簡略化のために、本発明の１つだけの中敷が、例えば左足に対応して記載され、右足は対称性によって推論される。
【００１２】
図１と２を参照すると、中敷の上面は、足の運びが踵によって常に始められるとすぐに、距骨と踵骨の間に位置する関節の受容体を活性化させるための手段と、それが歩行の生理学的な軸上で拘束されるようになる時に、足を誘導するための手段を備える。これらの手段が、コンソール１と呼ばれている本質的に輪郭が刻まれた溝と、足が誘導されるレールを形成するために、中敷の長さ方向に沿って配置される一組の輪郭が刻まれた要素３、４、５から成る。
【００１３】
コンソール１は、距骨頚に対して正確に垂直に踵から踵骨の前端まで縦に伸びる。前記コンソール１は、踵からその前端２まで厚みが増加する。詳しい例として、コンソール１の高さを、１ｍｍから２ｍｍまで、踵からその前端の２まで徐々に増加させる。
【００１４】
後ろから前への輪郭が刻まれた要素３、４、５の組、すなわち踵から足の先端までは、副舟状骨の輪郭が刻まれた要素３、副立方骨の輪郭が刻まれた要素４と中央足根骨の軸方向の手段５から成る。副舟状の輪郭が刻まれた要素３は、足の内側の方のコンソール１に半ドーム型に伸びる。この副舟状の輪郭が刻まれた要素３は、この例では、およそ２ｍｍの高さを持ち、そのためにコンソール１の前端２に伸びる。副立方骨輪郭が刻まれた要素４は、図１のような上面図から、中敷の上に立方骨の形状の投影に全体的に対応するインゲンマメの形状をしている。この要素４は、副舟状要素３の外側に配置され、その凸面は、中敷の中央の縦軸に対しおよそ４５°後方に向いている。前記要素４の厚みは、側面から中心に、後から前に増加し、徐々に約４ｍｍの高さに達する。中央足根骨の手段５は、倒卵形状、即ち概略水滴の形を持ち、前方へ広がり、そして足の中足骨頭部のちょうど前で終わる。この中央足根骨の要素５は、凸面であり、その高さは、縦に２．５ｍｍの高さから変化し、 その長さのおよそ３分の２の所で最大ほぼ３．５ｍｍ程度の高さに達する。
【００１５】
足の運びが行われる時、コンソール１は、足がフラットまたはアーチ型であるかどうかに関係なく踵骨を活性化し、適切な状態の下で足の運びを準備し、それから、足に対し側面安定部として作用する、輪郭が刻まれた要素、副舟状骨３および／または副立方骨４は、足を歩行の生理学的なレールの中にとどまるように促し、中央足根骨の要素５は、中足骨部位の下に足支持点を割り当てることによって、足の運びの最終的な趾行性段階を準備し、したがって、この支持点は、歩行の生理学的な軸が通過する第二の中足骨の軸に沿って導かれたままであることが述べられるであろう。
【００１６】
それに加えて、図２と３を参照すると、その下面で中敷は、前記中敷の内側と外側のエッジに沿って配置されたへこみ７、８、９および１０を備え、そこにへこみの形状に対応した形状の、取り外し可能な矯正要素１１、１２、１３および１４が配置されることができる。中敷は、抗外転へこみと呼ばれ、ほぼ長方形の形状をしており、中敷の内側エッジに沿って配置されて土踏まずから足の親指まで伸びている第一のへこみ７を備える。図３を参照すると、抗外転へこみ７の部分は、中敷の内側エッジから、中敷の中央の要素の方向に短い距離で増加し、それから減少する。また、図４を参照すると、抗外転へこみ７の壁は、その底の部分から前記へこみのエッジまで、すなわち中敷の下面まで、前記へこみ７の内部に向かって内部で傾斜し、へこみ７の端のへり１５を形成する。この抗外転へこみ７は、図５ａと５ｂに示す外転矯正要素１１を収容することができ、その形状は、抗外転へこみ７の形状、すなわち全体的には長方形形状に対応する。この外転矯正要素１１は、その辺縁に面１６を備え、そのためへこみ７の周辺の上のへり１５が、前記へこみ７の範囲内で適切な取り外し可能な要素を保持する。
【００１７】
中敷の内側エッジに隣接している外転矯正要素１１のエッジは、前記要素１１が抗外転へこみ７の内側に挿入される場合、明らかに面１６を持たない。
【００１８】
また、外転矯正要素１１は、中敷材料よりもより堅くより高密度な材料で作られ、それはへり１５の弾性変形によってへこみ７に挿入される。へこみ７の特定の形状と矯正要素１１に対応している特定の形状は、歩行またはランニング時の、あらゆる過度のずれと上述の矯正要素の全ての突出をを防ぐことが注目されるであろう。それに加えて、矯正要素は足と接触せず、そのために、切り傷、足のまめ、裂け傷または類似のようなあらゆる足底の皮膚障害を防止することが見られるであろう。
【００１９】
図２と３を参照すると、中敷は、また、その外側のエッジに沿って配置され、土踏まずから足の小指のクッション領域まで伸びる全体的に長方形形状の抗内転へこみ８と呼ばれる第二のへこみと、また、中敷の外側のエッジに沿って配置され、立方骨から第二の抗内転へこみ８まで伸びる、全体的に長方形形状の抗内反、または抗回外へこみ９と呼ばれる第３のへこみと、そして、中敷の内側エッジに沿って土踏まず下に配置される、半ドーム形状の抗外反、または抗回内へこみ１０と呼ばれている最終的なへこみを備える。以前と同様に、抗内転８、抗内反９、そして、抗外反足１０のへこみの壁は、前記へこみ８、９、そして、１０の内側に向かってそれらの底の部分からそれらのそれぞれのエッジまで内側へ傾斜して、前記へこみ８、９、そして、１０の端にへり１５を形成する。内転８、抗内反９、および、抗外反足１０のへこみの各々は、図６ａ、６ｂ、７ａ、７ｂ、そして、８ａ、８ｂで、連続して示される内転１２、抗内反１３、および、抗外反足１４に対して、対応する矯正要素を収容するように設計され、内転１２および抗内反１３の矯正要素は全体的に長方形形状であり、抗外反足矯正要素１４は半ドーム形状である。これらの矯正要素の各々は、平坦であり、中敷よりも堅く、高密度の材料で作られ、これらの要素も、それらのそれぞれのへこみの範囲内の位置に確実に固定するために、それらの辺縁上で面１６を備える。
【００２０】
本発明の中敷の実施形態の１つの変形によると、それらの上面の矯正要素１１、１２、１３、および１４の各々、すなわちへこみの底の表面支持点は、点線として図５ａから８ａ、および、５ｂから８ｂに示される２つの突起１７を備え、へこみ７、８、９、および１０の底に配置される２つの対応する孔１８と共働することができ、これらの矯正要素１１、１２、１３および１４には、面１６がなく、また、へこみ７、８、９および１０にはへり１５がない。
【００２１】
確かに、矯正要素の上面は、へこみの底に配置されるそれぞれの雄または雌部材と共働することができる任意のタイプの雌連結部材の雄を備えて、本発明の範囲から逸脱することなく取り外し可能な要素の連結をへこみの範囲内で実現する。
【００２２】
図９を参照すると、中敷はその裏側で、前足部から踵まで全体的に伸びる蛇行形状の溝１９を備え、そして、それは、中敷の上面に通じる規則正しく間隔を置いた孔２０を備える。また、溝１９は、孔２０を備える小さな第二の分岐２１を備え、土踏まずの下の中敷の中央縦軸に実質的に平行に伸びる。例えば、激しい運動の実施の間、この溝１９は靴の底の方へ汗を排出することができることに注目されるであろう。
【００２３】
また、中敷の踵と前足部は、有利には、胞巣構造を有し、また快適さを高めるために、ハチの巣状が好ましい。足の支持点強度が、後の外部踵領域、中足骨頭部領域、および足の親指の下のクッション領域で、足の運びをすると、より大きいので、中敷は、後の外部踵領域２２および／または中足骨領域２３および／または足の親指２４の下のクッション領域に、中敷の残部における小胞巣よりも小さいサイズの小胞巣を備えている。
【００２４】
中敷の上面に配置される輪郭が刻まれた要素の高さは、２、３ミリメートルを越えないので、最終的な中敷が足全てに対して適切な平均サイズからなることが注目されるであろう。また、予期しない方法で、中敷の下面に配置されるへこみの高さまたは深さ、およびへこみのうちの少なくとも１つに配置される取り外し可能な要素の高さまたは深さは、２、３ミリメートルを越えず、一方、外転、内転、内反および／または外反足の適切な矯正を備えていることが発見されるであろう。
【００２５】
また、取り外し可能な矯正要素は、粘着性の手段または「ベルクロ」（登録商標）のような任意の適切な手段で、発明の範囲から逸脱することなく、中敷の下面に配置されるへこみの中で保持されてもよい。
【００２６】
最後に、本発明の整形中敷は、明らかに、モールディングまたはモデリングによってわずかに弾力的である任意の一般の堅い材料で、作られてもよい。前述の実施形態は、また、本発明の適用領域を決して制限をしない明らかに特定の例証である。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の整形中敷の上から見た図である。
【図２】本発明の整形中敷の側面図である。
【図３】本発明の整形中敷の裏面図である。
【図４】図３が示す整形中敷のＩＶ−ＩＶ軸での断面図である。
【図５】ａは、本発明の整形中敷の取り外し可能な矯正要素の上から見た図である。ｂは、ａで示された整形中敷の取り外し可能な矯正要素の側面図である。
【図６】ａは、本発明の整形中敷の取り外し可能な矯正要素の上から見た図である。ｂは、ａで示された整形中敷の取り外し可能な矯正要素の側面図である。
【図７】ａは、本発明の整形中敷の取り外し可能な矯正要素の上から見た図である。ｂは、ａで示された整形中敷の取り外し可能な矯正要素の側面図である。
【図８】ａは、本発明の整形中敷の取り外し可能な矯正要素の上から見た図である。ｂは、ａで示された整形中敷の取り外し可能な矯正要素の側面図である。
【図９】本発明のこの整形中敷の異なる実施形態の裏面図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５ａ】
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【図５ｂ】
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【図６ａ】
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【図６ｂ】
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【図７ａ】
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【図７ｂ】
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【図８ａ】
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【図８ｂ】
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【図９】
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【国際調査報告】
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2005526558.tif 000018
2005526558.tif 000019
2005526558.tif 000020
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