(57)【要約】本発明は、式（Ｉ）、Ｘ−Ｃ≡Ｃ−Ｙ［式中、Ｘ及びＹは、同一の又は異なる有機残基である］の有機アルキン化合物を、式（Ｉａ）であるＸ−Ｈａｌ［Ｈａｌは、塩素又は臭素である］の有機ハロゲン化合物と式（Ｉｂ）であるＨ−Ｃ≡Ｃ−Ｙの有機末端アルキン化合物とを不活性溶媒中で、マイクロ波照射の作用下で、少なくとも１種の金属化合物及び少なくとも１種の塩基の存在で反応させることによって製造する方法に関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉａ
Ｘ−Ｈａｌ    （Ｉａ）
の有機ハロゲン化合物と式Ｉｂ
Ｈ−Ｃ≡Ｃ−Ｙ    （Ｉｂ）
の有機末端アルキン化合物とを不活性溶媒中で、マイクロ波照射の作用下で、少なくとも１種の金属化合物及び少なくとも１種の塩基の存在で反応させることにより、式Ｉ
Ｘ−Ｃ≡Ｃ−Ｙ    （Ｉ）
［式中、Ｘ及びＹは同一の又は異なる有機残基である］の有機アルキン化合物の製造方法において、Ｈａｌが塩素又は臭素であることを特徴とする、式Ｉの有機アルキン化合物の製造方法。
【請求項２】
少なくとも１種の金属化合物の存在で実施され、この金属化合物が、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀、金、亜鉛、カドミウム及び水銀からなるグループから選択された金属を含有している、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記方法が銅化合物の存在で実施され、請求項１記載の方法。
【請求項４】
Ｘ及びＹが、同一の又は異なる飽和又は不飽和の炭素環式残基又は複素環式残基を含有する有機残基であって、この有機残基では、−Ｈａｌ及びＨ−Ｃ≡Ｃ−が直接的に飽和又は不飽和の炭素環式残基又は複素環式残基に結合している、請求項１から３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
Ｘが、式ＩＩａ
Ｐ１−Ｙ１−（Ａ１−Ｙ３）ｍ′−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−    （ＩＩａ）
の残基に、
Ｙが、式ＩＩｂ
−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−（Ｙ４−Ａ２）ｎ′−Ｙ２−Ｐ２    （ＩＩｂ）
の残基に相当し、
式中、Ｐ１，Ｐ２は、互いに無関係に水素、Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル、重合可能な又は重合に適した基若しくは重合可能な又は重合に適した基を有する残基であるか、
又は
Ｐ１及び／又はＰ２が、反応条件下で安定な前駆体基であるＰ１′及び／又はＰ２′にそれぞれ対応していて、これらの前駆体基Ｐ１′及び／又はＰ２′が、反応して、対応する重合可能な又は重合に適した基Ｐ１及び／又はＰ２若しくは重合可能な又は重合に適した基を有する残基Ｐ１及び／又はＰ２となる、又はこれらの対応する重合可能な又は重合に適した基Ｐ１及び／又はＰ２若しくは重合可能な又は重合に適した基を有する残基Ｐ１及び／又はＰ２で置換されることが可能であり、
Ｙ１，Ｙ２，Ｙ３，Ｙ４は、互いに無関係に化学的単結合、−Ｏ−、−Ｓ−，−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ）−、−（Ｒ）Ｎ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−，−Ｏ−ＣＯ−Ｎ（Ｒ）−、−（Ｒ）Ｎ−ＣＯ−Ｏ−又は−（Ｒ）Ｎ−ＣＯ−Ｎ（Ｒ）−であり、
Ｂ１，Ｂ２は、互いに無関係に化学的単結合、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ）−、−（Ｒ）Ｎ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−，−Ｏ−ＣＯ−Ｎ（Ｒ）−、−（Ｒ）Ｎ−ＣＯ−Ｏ−又は−（Ｒ）Ｎ−ＣＯ−Ｎ（Ｒ）−であり、
Ｒは、互いに無関係にかつＹ１〜Ｙ４，Ｂ１及びＢ２中のそれぞれが表すものとも無関係に水素又はＣ１〜Ｃ４−アルキルであり、
Ａ１，Ａ２は、互いに無関係に、３０個までの炭素原子を有するスペーサであり、
Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３，Ｔ４は、互いに無関係に、二価の飽和又は不飽和の炭素環式残基又は複素環式残基であり、
ｍ′，ｍ，ｎ′，ｎは、互いに無関係に０又は１である、請求項１から３までのいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
式ＩＩａ及びＩＩｂ中の残基Ｔ１〜Ｔ４が、
【化１】
2005532307.tif 000009
からなるグループから選択されている、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
不活性溶媒としてジメチルホルムアミド又はＮ−メチルピロリドン又はこれら両者からなる混合物を使用する、請求項１から６までのいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
不活性溶媒としてジメチルホルムアミドを使用する、請求項１から６までのいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
少なくとも１種の塩基としてアルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属リン酸塩及びトリ（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）アミンからなるグループから選択された化合物を使用する、請求項１から８までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
塩基として少なくとも１種のアルカリ金属炭酸塩を使用する、請求項１から８までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１１】
塩基として炭酸カリウムを使用する、請求項１から８までのいずれか１項記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、式Ｉａ
Ｘ−Ｈａｌ    （Ｉａ）
の有機ハロゲン化合物と式Ｉｂ
Ｈ−Ｃ≡Ｃ−Ｙ    （Ｉｂ）
の有機末端アルキン化合物とを不活性溶媒中で、マイクロ波照射の作用下で、少なくとも１種の金属化合物及び少なくとも１種の塩基の存在で反応させることにより、式Ｉ
Ｘ−Ｃ≡Ｃ−Ｙ    （Ｉ）
［前記式中、Ｘ及びＹは同一の又は異なる有機残基であり、Ｈａｌは塩素又は臭素である］の有機アルキン化合物の製造する方法に関する。
【０００２】
Sonogashira反応の通常の条件下では、ハロゲン化アリール又はハロゲン化アルケニルが、パラジウム塩又は銅塩を用いた触媒反応下で、高められた温度で、末端アルキン化合物と反応して、対応する置換アルキン化合物になる。
【０００３】
反応時間の著しい短縮は、マイクロ波照射の作用下でこの反応を行った場合に達成することができる。
【０００４】
これについては、J. -X. Wang et al.（J. Chem. Research (S)、2000、536〜537頁）により、種々の末端アルキンと有機ヨウ素化合物との、ヨウ化銅（Ｉ）／トリフェニルホスフィン及び炭酸カリウムの存在でのジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）中での反応が記載されている。この刊行物の表２に記載されている、一方はＤＭＦを還流しながら、もう一方は３７５Ｗの出力のマイクロ波照射源を作用下という反応の対比によれば、目を引くのは、同様な収量の場合に、後者では前者より４８〜１４４倍迅速に反応が進むということである。
【０００５】
ヨウ化アリール、ヨウ化ヘテロアリール及びヨウ化ビニルと末端アルキンとの、パラジウム／ヨウ化銅（Ｉ）／トリフェニルホスフィン及び酸化アルミニウムに担持されたフッ化カリウムの存在で、マイクロ波照射の作用下での溶媒不含の反応は、G.W. Kabalka et al.（Tetrahedron Lett. 41、2000、5151〜5154頁）により実施されている。この刊行物で（5152頁）著者らは、塩化アリール及び臭化アリールは反応せず、出発物質が変化しないままであることについて言及している。
【０００６】
しかし、意外にも、有機塩素化合物及び有機臭素化合物も、良好から極めて良好な収量で末端有機アルキン化合物と反応してアルキン誘導体となることが見出された。
【０００７】
従って、式Ｉａ
Ｘ−Ｈａｌ    （Ｉａ）
の有機ハロゲン化合物と式Ｉｂ
Ｈ−Ｃ≡Ｃ−Ｙ    （Ｉｂ）
の有機末端アルキン化合物とを不活性溶媒中で、マイクロ波照射の作用下で、少なくとも１種の金属化合物及び少なくとも１種の塩基の存在で反応させることによる、式Ｉ
Ｘ−Ｃ≡Ｃ−Ｙ    （Ｉ）
［式中、Ｘ及びＹは同一の又は異なる有機残基である］の有機アルキン化合物の製造方法において、Ｈａｌが塩素又は臭素であることを特徴としている製造方法が見出された。
【０００８】
この場合、不活性溶媒というのは、反応条件下で、出発物とも生成物とも反応しない液体又は液体混合物であると解釈される。
【０００９】
特に、この不活性溶媒は、プロトン性液体を使用する場合にはプロトン化によって引き起こされる不都合な副反応を考慮に入れなくてはならないことが理由で、極性非プロトン性液体である。
【００１０】
簡単にするために、以下、個々の場合に、例えば使用される１種又は複数種の塩基又は１種又は複数種の金属化合物が完全には溶解しておらず懸濁液（又はエマルジョン）で存在する場合にも、「溶媒」若しくは「溶解する」等の言葉を用いる。
【００１１】
金属化合物としては、有利には、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀、金、亜鉛、カドミウム及び水銀からなるグループから選択された金属を含有するものが挙げられる。特に有利には、銅化合物を使用する。
【００１２】
金属化合物としては、ハロゲン化物、特に前述の金属の塩化物及び臭化物、とりわけヨウ化物を挙げることができる。これらのハロゲン化物が、トリアリールホスフィン、例えばトリフェニルホスフィンとの付加化合物を形成するのであれば、有利には、これらのハロゲン化物をその付加化合物の形態で使用するのが有利である。
【００１３】
金属化合物としては、さらに、金属自体、特に、前述の金属の元素の形態であると解釈される。さらには、複数種の金属化合物の組み合わせ、複数種の金属、とりわけ金属と金属化合物との組み合わせも使用することができる。反応中に触媒活性の金属を含有する種は、必ずしも使用される金属化合物と同一である必要はなく、インサイトゥで出発物又は１種又は複数種の塩基との反応によって初めて生成させることができる。
【００１４】
有機残基Ｘ及びＹは、飽和又は不飽和炭化水素残基、ならびに飽和及び不飽和分子部分を含有する炭化水素残基であると解釈される。さらに、炭化水素残基中には、通常のヘテロ原子、例えば窒素、酸素、リン、硫黄、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素も含まれていてよい。有機残基Ｘ及びＹは、通常、約６００ｇ／ｍｏｌまでの分子量を有している。しかし、個々の場合で、残基Ｘ及びＹの分子量はより高くてよい。
【００１５】
有利な有機残基Ｘ及びＹは、飽和又は不飽和の炭素環式残基又は複素環式残基を含有しており、この有機残基Ｘ及びＹでは、−Ｈａｌ、つまり塩素又は臭素も、Ｈ−Ｃ≡Ｃ−Ｈも直接的に飽和又は不飽和の炭素−又は複素環式残基に結合している。
【００１６】
特に、Ｘは式ＩＩａ
Ｐ１−Ｙ１−（Ａ１−Ｙ３）ｍ′−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−    （ＩＩａ）
に相当し、Ｙは式ＩＩｂ
−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−（Ｙ４−Ａ２）ｎ′−Ｙ２−Ｐ２    （ＩＩｂ）
に相当しており、
式中、Ｐ１，Ｐ２は、互いに無関係に水素、Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル、重合可能な又は重合に適した基若しくは重合可能な又は重合に適した基を有する残基であるか、
又は
Ｐ１及び／又はＰ２は、反応条件下で安定な前駆体基を表す残基Ｐ１′及び／又はＰ２′にそれぞれ対応しており、この前駆体基は反応して、対応する重合可能な又は重合に適した基Ｐ１及び／又はＰ２若しくは重合可能な又は重合に適した基を有する残基Ｐ１及び／又はＰ２になることができ、
Ｙ１，Ｙ２，Ｙ３，Ｙ４は、互いに無関係に化学的単結合、−Ｏ−、−Ｓ−，−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ）−、−（Ｒ）Ｎ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−，−Ｏ−ＣＯ−Ｎ（Ｒ）−、−（Ｒ）Ｎ−ＣＯ−Ｏ−又は−（Ｒ）Ｎ−ＣＯ−Ｎ（Ｒ）−であり、
Ｂ１，Ｂ２は、互いに無関係に化学的単結合、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ）−、−（Ｒ）Ｎ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−，−Ｏ−ＣＯ−Ｎ（Ｒ）−、−（Ｒ）Ｎ−ＣＯ−Ｏ−又は−（Ｒ）Ｎ−ＣＯ−Ｎ（Ｒ）−であり、
Ｒは、互いに無関係にかつＹ１〜Ｙ４，Ｂ１及びＢ２中のそれぞれが表すものとは無関係に水素又はＣ１〜Ｃ４−アルキルであり、
Ａ１，Ａ２は、互いに無関係に、３０個までの炭素原子を有するスペーサであり、
Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３，Ｔ４は、互いに無関係に、二価の飽和又は不飽和の炭素環式残基又は複素環式残基であり、
ｍ′，ｍ，ｎ′，ｎは、互いに無関係に０又は１である。
【００１７】
式ＩＩａ及びＩＩｂ中の残基Ｔ１〜Ｔ４としては、特に、
【００１８】
【化１】
2005532307.tif 000002
からなるグループから選択されたものが挙げられる。
【００１９】
式Ｉ中のＰ１及びＰ２に対して、Ｃ１〜Ｃ１２−アルキルとしては、分枝鎖状の又は非分枝鎖状のＣ１〜Ｃ１２−アルキル鎖が挙げられ、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、１−メチルエチル、ｎ−ブチル、１−メチルプロピル、２−メチルプロピル、１，１−ジメチルエチル、ｎ−ペンチル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、２，２−ジメチルプロピル、１−エチルプロピル、ｎ−ヘキシル、１，１−ジメチルプロピル、１，２−ジメチルプロピル、１−メチルペンチル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、４−メチルペンチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、３，３−ジメチルブチル、１−エチルブチル、２−エチルブチル、１，１，２−トリメチルプロピル、１，２，２−トリメチルプロピル、１−エチル−１−メチルプロピル、１−エチル−２−メチルプロピル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、２−エチルヘキシル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル及びｎ−ドデシルである。
【００２０】
有利な、Ｐ１及びＰ２のためのアルキルは、分枝鎖状又は非分枝鎖状のＣ１〜Ｃ６アルキル鎖であって、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、１−メチルエチル、ｎ−ブチル、１−メチルプロピル、２−メチルプロピル、１，１−ジメチルエチル、ｎ−ペンチル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、２，２−ジメチルプロピル、１−エチルプロピル及びｎ−ヘキシルである。
【００２１】
重合可能な又は重合に適した基として若しくは重合可能な又は重合に適した基を有する残基としては（以下、このような基又は残基を単に「反応性残基」とも呼ぶ）、Ｐ１及びＰ２に対して、特に以下のもの
【００２２】
【化２】
2005532307.tif 000003
［式中、残基Ｒ１〜Ｒ３は、同一であるか又は異なっていてよく、水素又はＣ１〜Ｃ４アルキル、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル又はｔ−ブチルである］が挙げられる。
【００２３】
Ｐ１及びＰ２のための重合可能な基としては、特に、アクリレート基、メタクリレート基及びビニル基が有利である。
【００２４】
結合単位Ｙ１〜Ｙ４及びＢ１，Ｂ２において挙げられた基である−ＣＯ−Ｎ（Ｒ）−、−（Ｒ）Ｎ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｎ（Ｒ）−、−（Ｒ）Ｎ−ＣＯ−Ｏ−及び−（Ｒ）Ｎ−ＣＯ−Ｎ（Ｒ）−中のＲのためのＣ１〜Ｃ４アルキルとしては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチルが挙げられる。単位Ｙ１〜Ｙ４及びＢ１，Ｂ２のうち１つの中に、１つ又は２つの残基Ｒが存在していれば、場合によっては残りの単位中に存在する残基Ｒは、同一であるか又は異なっていてよい。このような場合には、１つの単位中に２つの残基が存在する場合に当てはまる。
【００２５】
スペーサＡ１及びＡ２としては、その目的のために当業者に公知の全ての基が考慮に入れられる。スペーサは、通常、３０個まで、有利には１２個まで、特に有利には１〜６個の炭素原子を含有しており、主に直鎖状の脂肪族基からなっている。これらのスペーサは、鎖中で、例えば隣接していない酸素原子又は硫黄原子又はイミノ−又はアルキルイミノ基、例えばメチルイミノ基によって中断されていてよい。スペーサ鎖のための置換基としては、フッ素、塩素、臭素、シアン、メチル及びエチルが挙げられる。
【００２６】
代表的なスペーサは、例えば：
【００２７】
【化３】
2005532307.tif 000004
［式中、ｕ、ｖ及びｗは整数値をとり、ｕは１〜３０、有利には１〜１２、ｖは１〜１４、有利には１〜５、そして、ｗは１〜９、有利には１〜３］である。
【００２８】
有利なスペーサは、エチレン、プロピレン、ｎ−ブチレン、ｎ−ペンチレン及びｎ−ヘキシレンである。
【００２９】
残基Ｔ１〜Ｔ４は、フッ素、塩素、臭素、シアン、ヒドロキシ、ホルミル、ニトロ、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキル、Ｃ１〜Ｃ２０−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ２０−アルコキカルボニル、Ｃ１〜Ｃ２０−モノアルキルアミノカルボニル、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキルカルボニロキシ又はＣ１〜Ｃ２０−アルキルカルボニルアミノによって置換されていてよい環系である。
【００３０】
有利には、残基Ｔ１〜Ｔ４は：
【００３１】
【化４】
2005532307.tif 000005
【００３２】
反応性残基Ｐ１及び／又はＰ２が、反応条件下で安定でない場合には、出発物
Ｐ１′−Ｙ１−（Ａ１−Ｙ３）ｍ′−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−Ｈａｌ及び／又は
Ｈ−Ｃ≡Ｃ−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−（Ｙ４−Ａ２）ｎ′−Ｙ２−Ｐ２′
［式中、残基Ｐ１′及び／又はＰ２′は、反応条件下で安定な前駆体基を表し、この前駆体基は次の段階で反応して、対応する反応性残基Ｐ１及び／又はＰ２になる、又はこの反応性残基Ｐ１及び／又はＰ２と置換されてよい］から出発することもできる。
【００３３】
これによって、例えば構造
Ｐ１′−Ｙ１−（Ａ１−Ｙ３）ｍ′−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−Ｃ≡Ｃ−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−（Ｙ４−Ａ２）ｎ′−Ｙ２−Ｐ２′
に対応する化合物を、本発明による製造方法の直接的な生成物と見なすことができる。
【００３４】
逆合成の考察より、フラグメント
−（Ａ１−Ｙ３）ｍ′−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−Ｃ≡Ｃ−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−（Ｙ４−Ａ２）ｎ′−Ｙ２−Ｐ２、
−（Ａ１−Ｙ３）ｍ′−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−Ｃ≡Ｃ−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−（Ｙ４−Ａ２）ｎ′−Ｙ２−Ｐ２′、
−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−Ｃ≡Ｃ−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−（Ｙ４−Ａ２）ｎ′−Ｙ２−Ｐ２、
−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−Ｃ≡Ｃ−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−（Ｙ４−Ａ２）ｎ′−Ｙ２−Ｐ２′、
Ｐ１−Ｙ１−（Ａ１−Ｙ３）ｍ′−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−Ｃ≡Ｃ−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−（Ｙ４−Ａ２）ｎ′−、
Ｐ１′−Ｙ１−（Ａ１−Ｙ３）ｍ′−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−Ｃ≡Ｃ−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−（Ｙ４−Ａ２）ｎ′−、
Ｐ１−Ｙ１−（Ａ１−Ｙ３）ｍ′−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−Ｃ≡Ｃ−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−、
Ｐ１′−Ｙ１−（Ａ１−Ｙ３）ｍ′−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−Ｃ≡Ｃ−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−、
−（Ａ１−Ｙ３）ｍ′−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−Ｃ≡Ｃ−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−（Ｙ４−Ａ２）ｎ′−、
−（Ａ１−Ｙ３）ｍ′−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−Ｃ≡Ｃ−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−、
−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−Ｃ≡Ｃ−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−（Ｙ４−Ａ２）ｎ′−、又は
−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−Ｃ≡Ｃ−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−
に相当するアルキン化合物を本発明による方法によって製造し、次にこれらと、相応の補完的な化合物とを１つ又は複数の段階で反応させて、目的化合物
Ｐ１−Ｙ１−（Ａ１−Ｙ３）ｍ′−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−Ｃ≡Ｃ−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−（Ｙ４−Ａ２）ｎ′−Ｙ２−Ｐ２
に変えることも有利である。
【００３５】
よって、前記のフラグメントには、例えば以下のような化合物
ＨＯ−（Ａ１−Ｙ３）ｍ′−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−Ｃ≡Ｃ−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−（Ｙ４−Ａ２）ｎ′−Ｙ２−Ｐ２、
ＨＯ−（Ａ１−Ｙ３）ｍ′−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−Ｃ≡Ｃ−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−（Ｙ４−Ａ２）ｎ′−Ｙ２−Ｐ２′、
ＨＯ−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−Ｃ≡Ｃ−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−（Ｙ４−Ａ２）ｎ′−Ｙ２−Ｐ２、
ＨＯ−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−Ｃ≡Ｃ−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−（Ｙ４−Ａ２）ｎ′−Ｙ２−Ｐ２′、
Ｐ１−Ｙ１−（Ａ１−Ｙ３）ｍ′−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−Ｃ≡Ｃ−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−（Ｙ４−Ａ２）ｎ′−ＯＨ、
Ｐ１′−Ｙ１−（Ａ１−Ｙ３）ｍ′−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−Ｃ≡Ｃ−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−（Ｙ４−Ａ２）ｎ′−ＯＨ、
Ｐ１−Ｙ１−（Ａ１−Ｙ３）ｍ′−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−Ｃ≡Ｃ−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−ＯＨ、
Ｐ１′−Ｙ１−（Ａ１−Ｙ３）ｍ′−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−Ｃ≡Ｃ−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−ＯＨ、
ＨＯ−（Ａ１−Ｙ３）ｍ′−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−Ｃ≡Ｃ−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−（Ｙ４−Ａ２）ｎ′−ＯＨ、
ＨＯ−（Ａ１−Ｙ３）ｍ′−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−Ｃ≡Ｃ−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−ＯＨ、
ＨＯ−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−Ｃ≡Ｃ−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−（Ｙ４−Ａ２）ｎ′−ＯＨ又は
ＨＯ−（Ｔ１−Ｂ１−）ｍ−Ｔ３−Ｃ≡Ｃ−Ｔ４−（Ｂ２−Ｔ２−）ｎ−ＯＨ
が対応する。
【００３６】
式ＩＩａ及びＩＩｂ中の残基Ｘ及びＹの定義によれば、前述の化合物の中でのバリエーションには、上で挙げた順序に対応してそれぞれ以下のような意味
Ｐ１＝水素、Ｙ１＝−Ｏ−、
Ｐ１＝水素、Ｙ１＝−Ｏ−、
Ｐ１＝水素、Ｙ１＝−Ｏ−、ｍ′＝０、
Ｐ１＝水素、Ｙ１＝−Ｏ−、ｍ′＝０、
Ｐ２＝水素、Ｙ２＝−Ｏ−、
Ｐ２＝水素、Ｙ２＝−Ｏ−、
Ｐ２＝水素、Ｙ２＝−Ｏ−、ｎ′＝０、
Ｐ２＝水素、Ｙ２＝−Ｏ−、ｎ′＝０、
Ｐ１＝Ｐ２＝水素、Ｙ１＝Ｙ２＝−Ｏ−、
Ｐ１＝Ｐ２＝水素、Ｙ１＝Ｙ２＝−Ｏ−、ｎ′＝０、
Ｐ１＝Ｐ２＝水素、Ｙ１＝Ｙ２＝−Ｏ−、ｍ′＝０及び
Ｐ１＝Ｐ２＝水素、Ｙ１＝Ｙ２＝−Ｏ−、ｍ′＝ｎ′＝０
を表す。
【００３７】
さらに、ヒドロキシ基の代わりに、例えばカルボキシル基（Ｐ１＝水素かつＹ１＝−ＯＣＯ−及び／又はＰ２＝水素かつＹ２＝−ＣＯＯ−）であってもよい。さらには、二置換化合物では、ヒドロキシ基及びカルボキシル基が存在していてよい。
【００３８】
例示されたこれらのヒドロキシ化合物若しくはカルボン酸化合物若しくはヒドロキシ／カルボン酸化合物も同様に、本発明による製造方法の直接的な生成物と見なすことができる。
【００３９】
式Ｉａ及びＩｂの出発物は、通常、２：１〜１：２のモル比で、少なくとも１種の金属化合物及び少なくとも１種の塩基と共に不活性溶媒中で溶解する。溶液の製造は、通常の場合には室温で行われるが、個々の場合では、それより高い又はそれより低い温度で行ってよい。
【００４０】
マイクロ波照射の作用下での本来の反応の際の温度は重要ではない。通常、反応は、室温と使用される溶媒の沸点との間の温度で行われる。
【００４１】
溶媒としては、有利には、ジメチルホルムアミド（「ＤＭＦ」）、Ｎ−メチルピロリドン（「ＮＭＰ」）又はこれら両者からなる混合物も使用される。特に有利には、本発明による方法で、ＤＭＦを溶媒（若しくは懸濁媒体）として使用する。
【００４２】
少なくとも１種の塩基としては、有利には、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属リン酸塩及びトリ（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）アミンが挙げられ、この場合、アルカリ金属炭酸塩が有利である。
【００４３】
適当な塩基のグループは、特に、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、トリメチルアミン、トリエチルアミン及びトリイソプロピルアミンを含む。
【００４４】
特に有利には、炭酸カリウムを使用する。
【００４５】
個々の場合では、ヨウ化カリウムを添加することが反応のために有利となり得る。この場合、このような有利な効果が得られるかどうか、及びヨウ化カリウムの量を場合によってはどのくらい添加しなくてはならないのかは、予備試験によって簡単に確定することができる。
【００４６】
使用されるマイクロ波照射源の出力は、通常、数１０〜数１００ワットであって、反応開始時の体積に適合させることができる。照射源の適当な寸法は、通常、当業者に公知であるかつ／又は予備試験によって簡単に算出することができる。
【００４７】
得られたアルキン化合物の処理及び洗浄は、有機合成の通常の方法で行われる。
【００４８】
例えば：
以下に述べる試験のためには、次の物質を使用した：
【００４９】
【表１】
2005532307.tif 000006
【００５０】
試験の実施：
一般的な反応式は次の通りである：
【００５１】
【化５】
2005532307.tif 000007
【００５２】
４−ハロゲン安息香酸（ハロゲン：塩素、臭素又はヨウ素）５ｍｍｏｌ、フェニルアセチレン７．５ｍｍｏｌ、ヨウ化銅（Ｉ）０．５ｍｍｏｌ、トリフェニルホスフィン１．０ｍｍｏｌ、炭酸カリウム７．５ｍｍｏｌ及びＤＭＦ１０ｍｌを、アルゴン雰囲気下で、磁気攪拌機を備えた１００ｍｌ−４つ口フラスコ内に装入し、５分間で室温から１５５℃の温度に加熱し、２０分間、還流しながらマイクロ波装置（MLS-Ethos 1600；非パルス型；マグネトロン周波数２４５０ＭＨｚ；最大出力３７５Ｗ）の最大の照射出力にさらした。
【００５３】
処理のためには、固体（主に炭酸カリウム）を濾別し、ジクロロメタン１００ｍｌで後洗浄し、得られた溶液を塩化ナトリウムの飽和水溶液５０ｍｌでそれぞれ３回抽出した。ジクロロメタン溶液の乾燥を硫酸ナトリウムによって、続いて溶媒の除去を回転蒸発器で行った。
【００５４】
比較のために、ヨウ化カリウム０．５ｍｍｏｌを添加した場合の試験も行った。使用された残りの物質は変更せず、同様に試験実施の流れ及び処理は前述のものと全く同じである。
【００５５】
結果：
試験結果を以下の表に示す。
【００５６】
【表２】
2005532307.tif 000008
【００５７】
４−ヨード安息香酸を使用した場合（例１（比較））には、間隔を置いて最も低い収量が得られ、これに対して４−ブロモ安息香酸及び特に４−クロロ安息香酸を使用した場合（例４及び５ならびに２及び３）には、所望の目的化合物の、明らかにより高い収量が得られた。ここで実施された比較では、ヨウ化カリウムを添加した場合（例３及び５）に、ヨウ化カリウム不含の試験実施（例２及び４）に対して結果が悪くなることが確かめられた。しかし、個々の場合、ヨウ化カリウムの添加によって有利な作用が必然的に得られることが考えられる。
【国際調査報告】
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