(57)【要約】【化１】2005526852.tif 000140  本発明は、Ｘ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６が明細書に記載した通りである式（Ｉ）の新規な化合物、該誘導体の製造法ならびに該誘導体を含んでなる製薬学的組成物を目的とする。本発明の化合物はてんかんの処置に有用である。本発明はさらに、Ｘ、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６が明細書に記載した通りである式（ＸＸ）の化合物の製造法を目的とする。
2005526852.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
【化１】
2005526852.tif 000102
［式中、
ＸはＣＨ２又はＯから選ばれ；
Ｒ１は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルキル−アルキル、シクロアルケニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリール−アルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキル−アルキル、アルコキシカルボニルアルキル、−（Ｃ２−８アルキル）−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２、−ＳＯ２Ｒ１２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここで単独のもしくはＲ１置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
Ｒ２はヒドロキシ、アルキル、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルキル−アルキル、シクロアルケニル、アリール、アリールオキシ、アラルキル、アラルキルオキシ、ヘテロアリール、ヘテロアリール−アルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、−（Ｃ２−８アルキル）−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｓｉ（Ｒ１７）３、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２、−ＳＯ２Ｒ１２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ１３）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここで単独のもしくはＲ２置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ９は独立してアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ９置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１０は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１０置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１１は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１１置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１２は独立してアミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１２置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりアルキル、ハロゲン、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキル、アルコキシ、ニトロ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、アリールカルボニルアミノ、アラルキルカルボニルアミノ、アリール、ヘテロアリール、ベンゼンスルホニル又はフェノキシから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；ここでフェノキシ基は場合によりハロゲン、アルキル、アルコキシ又はニトロから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１３は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１３置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１７は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１７置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか；
あるいはまた、Ｒ１及びＲ２は、それらが結合しているＮ原子と一緒になって、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基を形成し；ここでヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、オキソ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、シアノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アミノ、−Ｃ（＝ＮＨ）アルキルアミノ又は−Ｃ（＝ＮＨ）−ジアルキルアミノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；ここでアリール置換基は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、シアノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アミノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アルキルアミノ又は−Ｃ（＝ＮＨ）−ジアルキルアミノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；ここで−Ｃ（＝ＮＨ）−アミノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アルキルアミノ又は−Ｃ（＝ＮＨ）−ジアルキルアミノ基は、アリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル上の窒素又は炭素原子に結合しており；そしてここで１個より多い−Ｃ（＝ＮＨ）−アミノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アルキルアミノ又は−Ｃ（＝ＮＨ）−ジアルキルアミノ基がアリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキルに結合していることはないか；
あるいはまた、Ｒ１及びＲ２は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ１４）２を形成し；
ここで各Ｒ１４は独立して水素、アルキル、シクロアルキル、ジアルキルアミノ、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１４置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；但し、少なくとも１個のＲ１４は水素及びアルキルより成る群から選ばれるか；
あるいはまた、２個のＲ１４基は、それらが結合している炭素原子と一緒になって式
【化２】
2005526852.tif 000103
のヘテロシクロアルキル基を形成し、
ここでＲ２０は低級アルキルであり；
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、ＸがＣＨ２の場合、Ｒ５及びＲ６は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、ＸがＯの場合、Ｒ３とＲ４及び／又はＲ５とＲ６は一緒になって式：
【化３】
2005526852.tif 000104
のメチレンジオキシ基であることができ、
ここでＲ７及びＲ８は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成し；
但し、Ｒ１がアルキルである場合、Ｒ２はアルキル以外であり；
さらに但し、Ｒ１が水素である場合、Ｒ２はアルキル、メチルカルボニル、フェニル、ベンジル又はカルボキシアルキル以外であり；
さらに但し、Ｒ１及びＲ２は、それらが結合している窒素原子と一緒になる場合、イミダゾリル以外であり；
さらに但し、ＸがＯであり、Ｒ２及びＲ３が一緒になって式：
【化４】
2005526852.tif 000105
のメチレンジオキシ基を形成し、
Ｒ４及びＲ５が一緒になって式：
【化５】
2005526852.tif 000106
のメチレンジオキシ基を形成し、
ここでＲ７及びＲ８はそれぞれの場合にそれぞれメチルであり、
且つＲ１が水素である場合、Ｒ２は
イソプロピルスルホニル、４−（Ｎ−ベンジル）−ピペリジニル又は４−ピリジル以外である］
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩。
【請求項２】
式（Ｉｔ）
【化６】
2005526852.tif 000107
［式中、
Ｒ１は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルキル−アルキル、シクロアルケニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリール−アルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキル−アルキル、アルコキシカルボニルアルキル、−（Ｃ２−８アルキル）−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２、−ＳＯ２Ｒ１２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここで単独のもしくはＲ１置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
Ｒ２はヒドロキシ、アルキル、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルキル−アルキル、シクロアルケニル、アリール、アリールオキシ、アラルキル、アラルキルオキシ、ヘテロアリール、ヘテロアリール−アルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、−（Ｃ２−８アルキル）−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｓｉ（Ｒ１７）３、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２、−ＳＯ２Ｒ１２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ１３）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここで単独のもしくはＲ２置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ９は独立してアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ９置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１０は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１０置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１１は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１１置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１２は独立してアミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１２置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりアルキル、ハロゲン、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキル、アルコキシ、ニトロ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、アリールカルボニルアミノ、アラルキルカルボニルアミノ、アリール、ヘテロアリール、ベンゼンスルホニル又はフェノキシから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；ここでフェノキシ基は場合によりハロゲン、アルキル、アルコキシ又はニトロから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１３は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１３置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１７は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１７置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか；
あるいはまた、Ｒ１及びＲ２は、それらが結合しているＮ原子と一緒になって、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基を形成し；ここでヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、オキソ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、シアノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アミノ、−Ｃ（＝ＮＨ）アルキルアミノ又は−Ｃ（＝ＮＨ）−ジアルキルアミノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；ここでアリール置換基は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、シアノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アミノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アルキルアミノ又は−Ｃ（＝ＮＨ）−ジアルキルアミノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；ここで−Ｃ（＝ＮＨ）−アミノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アルキルアミノ又は−Ｃ（＝ＮＨ）−ジアルキルアミノ基は、アリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル上の窒素又は炭素原子に結合しており；且つここで１個より多い−Ｃ（＝ＮＨ）−アミノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アルキルアミノ又は−Ｃ（＝ＮＨ）−ジアルキルアミノ基がアリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキルに結合していることはないか；
あるいはまた、Ｒ１及びＲ２は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ１４）２を形成し；
ここで各Ｒ１４は独立して水素、アルキル、シクロアルキル、ジアルキルアミノ、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１４置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；但し、少なくとも１個のＲ１４は水素及びアルキルより成る群から選ばれるか；
あるいはまた、２個のＲ１４基は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、式
【化７】
2005526852.tif 000108
のヘテロシクロアルキル基を形成し、
ここでＲ２０は低級アルキルであり；
但し、Ｒ１がアルキルである場合、Ｒ２はアルキル以外であり；
さらに但し、Ｒ１が水素である場合、Ｒ２はアルキル、メチルカルボニル、フェニル、ベンジル又はカルボキシアルキル以外であり；
さらに但し、Ｒ１及びＲ２は、それらが結合している窒素原子と一緒になる場合、イミダゾリル以外であり；
さらに但し、Ｒ１が水素である場合、Ｒ２はイソプロピルスルホニル、４−（Ｎ−ベンジル）−ピペリジニル又は４−ピリジル以外である］
の請求項１に記載の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩。
【請求項３】
Ｒ１が水素、低級アルキル及びアラルキルより成る群から選ばれ；
Ｒ２がヒドロキシ、アルキル、ベンズヒドリル、アルコキシ、アルケニル、アリール、アラルキル、アラルキルオキシ、アルコキシカルボニルアルキル、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、アルコキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、窒素含有ヘテロアリール、窒素含有ヘテロシクロアルキル、−ＳＯ２Ｒ１２、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｓｉ（Ｒ１７）３、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ１３）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここで単独のもしくは置換基の一部としてのアルキル、アラルキル、窒素含有ヘテロアリール又は窒素含有ヘテロシクロアルキルは、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
但し、Ｒ１が低級アルキルである場合、Ｒ２はアルキル以外であり；
さらに但し、Ｒ１が水素である場合、Ｒ２はアルキル、メチルカルボニル、フェニル、ベンジル又はカルボキシアルキル以外であり；
さらに但し、Ｒ１が水素である場合、Ｒ２はイソプロピルスルホニル、４−（Ｎ−ベンジル）−ピペリジニル又は４−ピリジル以外である
請求項１に記載の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩。
【請求項４】
Ｒ２が−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）及び−ＳＯ２Ｒ１２より成る群から選ばれる請求項３に記載の化合物。
【請求項５】
Ｒ１及びＲ２が、それらが結合している窒素原子と一緒になって、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキルから選ばれる基を形成し；
ここでヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、オキソ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、シアノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アミノ、−Ｃ（＝ＮＨ）アルキルアミノ又は−Ｃ（＝ＮＨ）−ジアルキルアミノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；ここでアリール置換基は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、シアノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アミノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アルキルアミノ又は−Ｃ（＝ＮＨ）−ジアルキルアミノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；ここで−Ｃ（＝ＮＨ）−アミノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アルキルアミノ又は−Ｃ（＝ＮＨ）−ジアルキルアミノ基は、アリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル上の窒素又は炭素原子に結合しており；且つここで１個より多い−Ｃ（＝ＮＨ）−アミノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アルキルアミノ又は−Ｃ（＝ＮＨ）−ジアルキルアミノ基がアリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキルに結合していることはなく；
但し、Ｒ１及びＲ２は、それらが結合している窒素原子と一緒になる場合、イミダゾリル以外である
請求項１に記載の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩。
【請求項６】
Ｒ１及びＲ２が、それらが結合しているＮ原子と一緒になって、モルホリニル又は１−（２−イソプロポキシ−フェニル）−ピペラジニル、イソインドール−１，３−ジオンから選ばれる基を形成する請求項５に記載の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩。
【請求項７】
Ｒ１及びＲ２が、それらが結合している窒素原子と一緒になって、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ１４）２を形成し；
ここでＲ１４は水素、ジアルキルアミノ、シクロアルキル及びアリールより成る群から選ばれ；ここでシクロアルキル又はアリールは、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか；
あるいはまた、２個のＲ１４基は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、式
【化８】
2005526852.tif 000109
のヘテロシクロアルキル基を形成し、
ここでＲ２０は低級アルキルである
請求項３に記載の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩。
【請求項８】
Ｒ１４が水素、ジ（低級アルキル）アミノ、アリール及びシクロアルキルより成る群から選ばれる
請求項７に記載の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩。
【請求項９】
Ｒ１４がジメチルアミノ、シクロヘキシル及びフェニルより成る群から選ばれる
請求項８に記載の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩。
【請求項１０】
２個のＲ１４基が、それらが結合している炭素原子と一緒になって、２−（１−メチル−ピロリジニル）を形成する請求項７に記載の化合物。
【請求項１１】
Ｒ１が水素、アルキル、アラルキル及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
Ｒ２がヒドロキシ、ハロゲン化アルキル、ベンズヒドリル、アルコキシ、アルケニル、アラルキル（ここでアラルキルは場合によりアルコキシから選ばれる置換基で置換されていることができる）、アラルキルオキシ、アルコキシカルボニルアルキル、カルボキシアルキル、アルキルカルボニル（ここでアルキルは場合によりカルボキシ又はアルコキシカルボニルから選ばれる置換基で置換されていることができる）、アリールカルボニル（ここでアリールは場合によりアルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル又はカルボキシから選ばれる置換基で置換されていることができる）、アラルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルコキシアルキルカルボニル、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル、ジアルキルアミノアルキル、窒素含有ヘテロアリール、窒素含有ヘテロシクロアルキル、アミノスルホニル（ここでアミノ基は場合により１〜２個の低級アルキルで置換されていることができる）、アルキルスルホニル（ここでアルキル基は場合によりハロゲンから独立して選ばれる１〜３個の置換基で置換されていることができる）、アリールスルホニル（ここでアリール基は場合によりアルキル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ハロゲン、アルコキシ、アルキルカルボニルアミノ、アセトアミド、ニトロ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ又は２−クロロ−４−ニトロフェノキシから独立して選ばれる１〜３個の置換基で置換されていることができる）、アラルキルスルホニル、ビフェニルスルホニル、ヘテロアリールスルホニル（ここでヘテロアリールは場合によりハロゲン、アルキル、ヘテロアリール又はベンゼンスルホニルから独立して選ばれる１〜２個の置換基で置換されていることができる）、ベンズヒドリル、−Ｓｉ−（アリール）３、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｓｉ（アリール）３、−Ｐ（＝Ｏ）（アリール）２、−Ｐ（＝Ｏ）（アルコキシ）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
但し、Ｒ１が水素である場合、Ｒ２はメチルカルボニル、フェニル、ベンジル又はカルボキシアルキル以外であり；
さらに但し、Ｒ１が水素である場合、Ｒ２はイソプロピルスルホニル又は４−ピリジル以外である
請求項３に記載の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩。
【請求項１２】
Ｒ１が水素、メチル、エチル、ベンジル及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
Ｒ２がヒドロキシ、メトキシ、アリル、１−（２−ブロモ）−エチル、１−（２−エトキシカルボニル）エチル、メトキシカルボニルメチル、メトキシカルボニルエチル、１−（メトキシカルボニル）−ｎ−プロピル、カルボキシメチル、１−（３−カルボキシ）−ｎ−プロピル、１−（２−カルボキシ）エチル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、メチルカルボニル、エチルカルボニル、ｎ−プロピルカルボニル、イソブチルカルボニル、フェニルエチルカルボニル、ベンジルカルボニル、フェニルカルボニル、２−メトキシカルボニルフェニル−カルボニル、２−カルボキシフェニル−カルボニル、メトキシカルボニル−エチルカルボニル、カルボキシエチルカルボニル、ジエトキシ−ホスフィニル、トリフェニルシリル、トリフェニルシリルオキシカルボニル、トリフルオロメチルスルホニル、ジメチルアミノエチル、ベンジル、４−メトキシベンジル、ベンジルオキシ、３−ピロリジニル、４−ピリジル、４−（Ｎ−ベンジル）−ピペリジニル，ＳＥＭ、ジフェニルホスフィニル、ベンズヒドリル、２−メトキシフェニルカルボニル、３−メトキシフェニルカルボニル、４−メトキシフェニルカルボニル、メトキシメチルカルボニル、２−トリルカルボニル、３−トリルカルボニル、４−トリルカルボニル、５−ヘプチルカルボニル、アミノスルホニル、４−トリフルオロメトキシフェニルスルホニル、１−ナフチルスルホニル、２−ナフチルスルホニル、１−（５−ジメチルアミノ）−ナフチル−スルホニル、４−ビフェニルスルホニル、２−チエニルスルホニル、２−（３−（２−ピリジル）−チエニル）−スルホニル、４−トリフルオロメチルフェニルスルホニル、３−トリフルオロメチルフェニルスルホニル、２，６−ジフルオロフェニルスルホニル、ベンジルスルホニル、４−メトキシフェニルスルホニル、４，５−ジブロモ−２−チエニルスルホニル、２−ベンゼンスルホニル−５−チエニルスルホニル、トリフルオロメチルスルホニル、３−トリフルオロメチルフェニルスルホニル、２，２，２−トリフルオロエチルスルホニル、フェニルスルホニル、２，４，６−トリメチルフェニル−スルホニル、２−クロロ−１−エチルスルホニル、イソプロピルスルホニル、イソブチルスルホニル、１−ブチルスルホニル、４−（２，１，３−ベンズオキサジアゾリル）スルホニル、４−（２−クロロ−４−ニトロフェノキシ）−３，５−ジクロロフェニルスルホニル、４−ブロモフェニルスルホニル、エチルスルホニル、８−キノリニルスルホニル、３，５−ジメチル−４−イソオキサゾリルスルホニル、４−（２，１，３−ベンゾチジアゾリル）スルホニル、１−プロピルスルホニル、４−メチルカルボニルアミノフェニル−スルホニル、４−アセトアミドフェニルスルホニル及び４−ニトロフェニルスルホニルより成る群から選ばれ；
但し、Ｒ１が水素である場合、Ｒ２はメチルカルボニル、フェニル、ベンジル又はカルボキシメチル以外であり；
さらに但し、Ｒ１が水素である場合、Ｒ２はイソプロピルスルホニル、４−（Ｎ−ベンジル）−ピペリジニル又は４−ピリジル以外である
請求項１１に記載の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩。
【請求項１３】
Ｒ１が水素及びメチルより成る群から選ばれ；
Ｒ２がヒドロキシ、メトキシ、アリル、１−（３−メトキシカルボニル）−ｎ−プロピル、１−（２−カルボキシ）エチル、１−（２−ブロモ）−エチル、１−（２−エトキシカルボニル）エチル、メトキシカルボニルメチル、ｔ−ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、メチルカルボニル、エチルカルボニル、トリフェニルシリル、トリフェニルシリルオキシカルボニル、トリフルオロメチルスルホニル及びベンズヒドリルより成る群から選ばれるか；
あるいはまた、Ｒ１及びＲ２が、それらが結合している窒素原子と一緒になって、１−（２−イソプロポキシフェニル）−ピペリジニルを形成し；
但し、Ｒ１が水素である場合、Ｒ２はメチルカルボニル以外である
請求項１２に記載の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩。
【請求項１４】
製薬学的に許容され得る担体及び請求項１の化合物を含んでなる製薬学的組成物。
【請求項１５】
請求項１の化合物及び製薬学的に許容され得る担体を混合することにより調製される製薬学的組成物。
【請求項１６】
請求項１の化合物及び製薬学的に許容され得る担体を混合することを含んでなる製薬学的組成物の調製法。
【請求項１７】
請求項１の化合物の治療的に有効な量を患者に投与することを含んでなる、必要のある患者におけるてんかんの処置方法。
【請求項１８】
式（Ｉｊ）
【化９】
2005526852.tif 000110
［式中、
ＸはＣＨ２又はＯから選ばれ；
Ｒ１ａは水素、置換エチル、アルケニル（ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、シクロアルケニル（ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、ヘテロアリール−Ｃ１アルキル、ヘテロシクロアルキル−Ｃ１アルキル、アルコキシカルボニルＣ２アルキル、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基であり；
ここで単独のもしくはＲ１置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
Ｒ２ａは置換エチル、アルケニル（ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、シクロアルケニル（ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、ベンジルオキシ、ヘテロアリール−Ｃ１アルキル、ヘテロシクロアルキル−Ｃ１アルキル、アルコキシカルボニルＣ２アルキル、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｓｉ（Ｒ１７）３、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ１３）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基であり；
ここで単独のもしくはＲ２置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ９は独立してアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ９置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１０は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１０置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１１は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１１置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１３は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１３置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１７は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１７置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか；
あるいはまた、Ｒ１ａ及びＲ２ａはそれらが結合している窒素原子と一緒になって式
【化１０】
2005526852.tif 000111
の基を形成し；
ここでｎは１〜３の整数であり；そしてここで各Ｒ１５はハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ及びシアノより成る群から独立して選ばれるか；
あるいはまた、２個のＲ１５基はそれらが結合している炭素原子と一緒になって、フェニル環を形成し；ここでフェニル環は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか；
あるいはまた、Ｒ１ａ及びＲ２ａは、それらが結合している窒素原子と一緒になって、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ１４）２を形成し；
ここで各Ｒ１４は独立して水素、ジアルキルアミノ、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１４置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；但し、少なくとも１個のＲ１４は水素及びアルキルより成る群から選ばれるか；
あるいはまた、２個のＲ１４基は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、式
【化１１】
2005526852.tif 000112
のヘテロシクロアルキル基を形成し、
ここでＲ２０は低級アルキルであり；
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、ＸがＣＨ２である場合、Ｒ５及びＲ６は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、ＸがＯである場合、Ｒ３とＲ４及び／又はＲ５とＲ６は一緒になって式：
【化１２】
2005526852.tif 000113
のメチレンジオキシ基であることができ、
ここでＲ７及びＲ８は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成する］
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩を脱−保護条件下で反応させることを含んでなる式（ＸＸ）
【化１３】
2005526852.tif 000114
［式中、
ＸはＣＨ２又はＯから選ばれ；
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、ＸがＣＨ２である場合、Ｒ５及びＲ６は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、ＸがＯである場合、Ｒ３とＲ４及び／又はＲ５とＲ６は一緒になって式：
【化１４】
2005526852.tif 000115
のメチレンジオキシ基であることができ、
ここでＲ７及びＲ８は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成する］
の化合物の製造法。
【請求項１９】
脱−保護条件が接触還元である請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
脱−保護条件が酸開裂である請求項１８に記載の方法。
【請求項２１】
脱−保護条件が塩基性開裂である請求項１８に記載の方法。
【請求項２２】
式（Ｉｊ）の化合物をヒドラジン、メチルヒドラジン又はフェニルヒドラジンと反応させる請求項１８に記載の方法。
【請求項２３】
式（ＸＸ）の化合物が式（ＸＸａ）
【化１５】
2005526852.tif 000116
の化合物である請求項１８に記載の方法。
【請求項２４】
式（Ｉｋ）
【化１６】
2005526852.tif 000117
［式中、
Ｒ１ａは水素、置換エチル、アルケニル（ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、シクロアルケニル（ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、ヘテロアリール−Ｃ１アルキル、ヘテロシクロアルキル−Ｃ１アルキル、アルコキシカルボニルＣ２アルキル、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基であり；
ここで単独のもしくはＲ１置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
Ｒ２ａは置換エチル、アルケニル（ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、シクロアルケニル（ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、ベンジルオキシ、ヘテロアリール−Ｃ１アルキル、ヘテロシクロアルキル−Ｃ１アルキル、アルコキシカルボニルＣ２アルキル、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｓｉ（Ｒ１７）３、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ１３）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基であり；
ここで単独のもしくはＲ２置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ９は独立してアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ９置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１０は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１０置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１１は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１１置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１３は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１３置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１７は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１７置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか；
あるいはまた、Ｒ１ａ及びＲ２ａは、それらが結合している窒素原子と一緒になって式
【化１７】
2005526852.tif 000118
の基を形成し；
ここでｎは１〜３の整数であり；そしてここで各Ｒ１５はハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ及びシアノより成る群から独立して選ばれるか；
あるいはまた、２個のＲ１５基はそれらが結合している炭素原子と一緒になってフェニル環を形成し；ここでフェニル環は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか；
あるいはまた、Ｒ１ａ及びＲ２ａは、それらが結合している窒素原子と一緒になって、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ１４）２を形成し；
ここで各Ｒ１４は独立して水素、ジアルキルアミノ、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１４置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；但し、少なくとも１個のＲ１４は水素及びアルキルより成る群から選ばれるか；
あるいはまた、２個のＲ１４基は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、式
【化１８】
2005526852.tif 000119
のヘテロシクロアルキル基を形成し、
ここでＲ２０は低級アルキルである］
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩を脱−保護条件下で反応させることを含んでなる式（ＸＸａ）
【化１９】
2005526852.tif 000120
の化合物の製造法。
【請求項２５】
脱−保護条件が接触還元である請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
脱−保護条件が酸開裂である請求項２４に記載の方法。
【請求項２７】
脱−保護条件が塩基性開裂である請求項２４に記載の方法。
【請求項２８】
式（Ｉｋ）の化合物をヒドラジン、メチルヒドラジン又はフェニルヒドラジンと反応させる請求項２４に記載の方法。
【請求項２９】
式（Ｉｊ）
【化２０】
2005526852.tif 000121
［式中、
ＸはＣＨ２又はＯから選ばれ；
Ｒ１ａは水素、置換エチル、アルケニル（ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、シクロアルケニル（ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、ヘテロアリール−Ｃ１アルキル、ヘテロシクロアルキル−Ｃ１アルキル、アルコキシカルボニルＣ２アルキル、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基であり；
ここで単独のもしくはＲ１置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
Ｒ２ａは置換エチル、アルケニル（ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、シクロアルケニル（ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、ベンジルオキシ、ヘテロアリール−Ｃ１アルキル、ヘテロシクロアルキル−Ｃ１アルキル、アルコキシカルボニルＣ２アルキル、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｓｉ（Ｒ１７）３、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ１３）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基であり；
ここで単独のもしくはＲ２置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ９は独立してアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ９置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１０は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１０置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１１は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１１置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１３は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１３置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１７は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１７置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか；
あるいはまた、Ｒ１ａ及びＲ２ａはそれらが結合している窒素原子と一緒になって式
【化２１】
2005526852.tif 000122
の基を形成し；
ここでｎは１〜３の整数であり；そしてここで各Ｒ１５はハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ及びシアノより成る群から独立して選ばれるか；
あるいはまた、２個のＲ１５基はそれらが結合している炭素原子と一緒になってフェニル環を形成し；ここでフェニル環は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか；
あるいはまた、Ｒ１ａ及びＲ２ａはそれらが結合している窒素原子と一緒になって−Ｎ＝Ｃ（Ｒ１４）２を形成し；
ここで各Ｒ１４は独立して水素、ジアルキルアミノ、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１４置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；但し、少なくとも１個のＲ１４は水素及びアルキルより成る群から選ばれるか；
あるいはまた、２個のＲ１４基は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、式
【化２２】
2005526852.tif 000123
のヘテロシクロアルキル基を形成し、
ここでＲ２０は低級アルキルであり；
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、ＸがＣＨ２である場合、Ｒ５及びＲ６は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、ＸがＯである場合、Ｒ３とＲ４及び／又はＲ５とＲ６は一緒になって式：
【化２３】
2005526852.tif 000124
のメチレンジオキシ基であることができ、
ここでＲ７及びＲ８は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成し；
さらに但し、Ｒ１が水素である場合、Ｒ２はメチルカルボニル又はカルボキシエチル以外である］
の請求項１に記載の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩。
【請求項３０】
式（Ｉｋ）
【化２４】
2005526852.tif 000125
の請求項２９に記載の化合物。
【請求項３１】
式（Ｉｊ）
【化２５】
2005526852.tif 000126
［式中、
ＸはＣＨ２又はＯから選ばれ；
Ｒ１ａは水素、置換エチル、アルケニル（ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、シクロアルケニル（ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、ヘテロアリール−Ｃ１アルキル、ヘテロシクロアルキル−Ｃ１アルキル、アルコキシカルボニルＣ２アルキル、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基であり；
ここで単独のもしくはＲ１置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
Ｒ２ａは置換エチル、アルケニル（ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、シクロアルケニル（ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、ベンジルオキシ、ヘテロアリール−Ｃ１アルキル、ヘテロシクロアルキル−Ｃ１アルキル、アルコキシカルボニルＣ２アルキル、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｓｉ（Ｒ１７）３、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ１３）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基であり；
ここで単独のもしくはＲ２置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ９は独立してアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ９置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１０は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１０置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１１は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１１置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１３は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１３置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１７は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１７置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか；
あるいはまた、Ｒ１ａ及びＲ２ａはそれらが結合している窒素原子と一緒になって式
【化２６】
2005526852.tif 000127
の基を形成し；
ここでｎは１〜３の整数であり；そしてここで各Ｒ１５はハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ及びシアノより成る群から独立して選ばれるか；
あるいはまた、２個のＲ１５基はそれらが結合している炭素原子と一緒になってフェニル環を形成し；ここでフェニル環は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか；
あるいはまた、Ｒ１ａ及びＲ２ａはそれらが結合している窒素原子と一緒になって−Ｎ＝Ｃ（Ｒ１４）２を形成し；
ここで各Ｒ１４は独立して水素、ジアルキルアミノ、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１４置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；但し、少なくとも１個のＲ１４は水素及びアルキルより成る群から選ばれるか；
あるいはまた、２個のＲ１４基はそれらが結合している炭素原子と一緒になって式
【化２７】
2005526852.tif 000128
のヘテロシクロアルキル基を形成し、
ここでＲ２０は低級アルキルであり；
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、ＸがＣＨ２である場合、Ｒ５及びＲ６は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、ＸがＯである場合、Ｒ３とＲ４及び／又はＲ５とＲ６は一緒になって式：
【化２８】
2005526852.tif 000129
のメチレンジオキシ基であることができ、
ここでＲ７及びＲ８は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成する］
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩を脱−保護条件下で反応させることにより製造される生成物。
【請求項３２】
式（Ｉｊ）の化合物が式（Ｉｋ）
【化２９】
2005526852.tif 000130
の化合物である請求項３１に記載の生成物。
【請求項３３】
式（Ｉ）
【化３０】
2005526852.tif 000131
［式中、
ＸはＣＨ２又はＯから選ばれ；
Ｒ１は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルキル−アルキル、シクロアルケニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリール−アルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキル−アルキル、アルコキシカルボニルアルキル、−（Ｃ２−８アルキル）−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２、−ＳＯ２Ｒ１２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここで単独のもしくはＲ１置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
Ｒ２はヒドロキシ、アルキル、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルキル−アルキル、シクロアルケニル、アリール、アリールオキシ、アラルキル、アラルキルオキシ、ヘテロアリール、ヘテロアリール−アルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、−（Ｃ２−８アルキル）−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｓｉ（Ｒ１７）３、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２、−ＳＯ２Ｒ１２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ１３）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここで単独のもしくはＲ２置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ９は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ９置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１０は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１０置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１１は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１１置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１２は独立してアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１２置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキル、アルコキシ、ニトロ、アルキルカルボニルアミノ、アリールカルボニルアミノ、アラルキルカルボニルアミノ、アリール、ベンゼンスルホニル又はフェノキシから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；ここでフェノキシ基は場合によりハロゲン、アルキル、アルコキシ又はニトロから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１３は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１３置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１７は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１７置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか；
あるいはまた、Ｒ１及びＲ２はそれらが結合しているＮ原子と一緒になってヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基を形成し；ここでヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、オキソ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、シアノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アミノ、−Ｃ（＝ＮＨ）アルキルアミノ又は−Ｃ（＝ＮＨ）−ジアルキルアミノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；ここでアリール置換基は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、シアノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アミノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アルキルアミノ又は−Ｃ（＝ＮＨ）−ジアルキルアミノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；ここで−Ｃ（＝ＮＨ）−アミノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アルキルアミノ又は−Ｃ（＝ＮＨ）−ジアルキルアミノ基は、アリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル上の窒素又は炭素原子に結合しており；そしてここで１個より多い−Ｃ（＝ＮＨ）−アミノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アルキルアミノ又は−Ｃ（＝ＮＨ）−ジアルキルアミノ基がアリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキルに結合していることはないか；
あるいはまた、Ｒ１及びＲ２は、それらが結合している窒素原子と一緒になって−Ｎ＝Ｃ（Ｒ１４）２を形成し；
ここで各Ｒ１４は独立して水素、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１４置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；但し、少なくとも１個のＲ１４は水素及びアルキルより成る群から選ばれ；
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、ＸがＣＨ２である場合、Ｒ５及びＲ６は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、ＸがＯである場合、Ｒ３とＲ４及び／又はＲ５とＲ６は一緒になって式：
【化３１】
2005526852.tif 000132
のメチレンジオキシ基であることができ、
ここでＲ７及びＲ８は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成し；
但し、Ｒ１がアルキルである場合、Ｒ２はアルキル以外であり；
さらに但し、Ｒ１が水素である場合、Ｒ２はアルキル、メチルカルボニル、フェニル、ベンジル又はカルボキシアルキル以外であり；
さらに但し、Ｒ１及びＲ２は、それらが結合している窒素原子と一緒になる場合、イミダゾリル以外であり；
さらに但し、ＸがＯであり、Ｒ２及びＲ３が一緒になって式：
【化３２】
2005526852.tif 000133
のメチレンジオキシ基を形成し、
Ｒ４及びＲ５が一緒になって式：
【化３３】
2005526852.tif 000134
のメチレンジオキシ基を形成し、
ここでＲ７及びＲ８はそれぞれの場合にそれぞれメチルであり、
且つＲ１が水素である場合、Ｒ２は
イソプロピルスルホニル、４−（Ｎ−ベンジル）−ピペリジニル又は４−ピリジル以外である］
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩。
【請求項３４】
式（Ｉｊ）
【化３４】
2005526852.tif 000135
［式中、
ＸはＣＨ２又はＯから選ばれ；
Ｒ１ａは水素、置換エチル、アルケニル（ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、シクロアルケニル（ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、ヘテロアリール−Ｃ１アルキル、ヘテロシクロアルキル−Ｃ１アルキル、アルコキシカルボニルＣ２アルキル、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基であり；
ここで単独のもしくはＲ１置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
Ｒ２ａは置換エチル、アルケニル（ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、シクロアルケニル（ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、ベンジルオキシ、ヘテロアリール−Ｃ１アルキル、ヘテロシクロアルキル−Ｃ１アルキル、アルコキシカルボニルＣ２アルキル、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｓｉ（Ｒ１７）３、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ１３）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基であり；
ここで単独のもしくはＲ２置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ９は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ９置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１０は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１０置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１１は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１１置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１３は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１３置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１７は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１７置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか；
あるいはまた、Ｒ１ａ及びＲ２ａはそれらが結合している窒素原子と一緒になって式
【化３５】
2005526852.tif 000136
の基を形成し；
ここでｎは１〜３の整数であり；そしてここで各Ｒ１５はハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ及びシアノより成る群から独立して選ばれるか；
あるいはまた、２個のＲ１５基はそれらが結合している炭素原子と一緒になってフェニル環を形成し；ここでフェニル環は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか；
あるいはまた、Ｒ１ａ及びＲ２ａは、それらが結合している窒素原子と一緒になって−Ｎ＝Ｃ（Ｒ１４）２を形成し；
ここで各Ｒ１４は独立して水素、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１４置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
但し、少なくとも１個のＲ１４は水素及びアルキルより成る群から選ばれ；
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、ＸがＣＨ２である場合、Ｒ５及びＲ６は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、ＸがＯである場合、Ｒ３とＲ４及び／又はＲ５とＲ６は一緒になって式：
【化３６】
2005526852.tif 000137
のメチレンジオキシ基であることができ、
ここでＲ７及びＲ８は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成する］
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩を脱−保護条件下で反応させ、対応する式（ＸＸ）の化合物を得ることを含んでなる式（ＸＸ）
【化３７】
2005526852.tif 000138
［式中、
ＸはＣＨ２又はＯから選ばれ；
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、ＸがＣＨ２である場合、Ｒ５及びＲ６は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、ＸがＯである場合、Ｒ３とＲ４及び／又はＲ５とＲ６は一緒になって式：
【化３８】
2005526852.tif 000139
のメチレンジオキシ基であることができ、
ここでＲ７及びＲ８は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成する］
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩の製造法。
【発明の詳細な説明】
【関連出願へのクロスリファレンス】
【０００１】
本出願は、２００２年５月１３日に申請された米国仮出願第６０／３７８，０１７号明細書の利益を請求し、それは引用することによりその記載事項全体が本明細書の内容となる。
【技術分野】
【０００２】
発明の分野
本発明は、一般式（Ｉ）：
【０００３】
【化１】
2005526852.tif 000003
【０００４】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＸは本明細書で定義する通りである］
の新規な抗痙攣性誘導体及び該誘導体を含有する製薬学的組成物に関する。式（Ｉ）の化合物はてんかんの処置において有用である。
【０００５】
本発明はさらに、式（ＸＸ）
【０００６】
【化２】
2005526852.tif 000004
【０００７】
［式中、Ｘ、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は本明細書で定義する通りである］
の化合物の製造法を目的とする。
【０００８】
本発明はさらに、本明細書に記載される方法のいずれかに従って製造される化合物を目的とする。
【背景技術】
【０００９】
発明の背景
てんかんは、人が慢性の根源的なプロセスの故の再発性発作を有する状態を記述している。てんかんは、１つの疾患自体ではなくて臨床的現象を指し、それは、てんかんの多くの形態及び原因が存在するからである。てんかんの定義を２回もしくはそれより多い正当な理由のない発作として用いると、てんかんの発生率は世界中の種々の集団において約０．３〜０．５パーセントと見積もられ、てんかんの有病率は１０００人当たり５〜１０人と見積もられる。
【００１０】
発作を有する患者の評価及び処置における必須の段階は、起こった発作の型を決定することである。発作の種々の部門を区別する主な特徴は、発作活動が部分性（病巣性（ｆｏｃａｌ）と同義）か又は全身性かである。
【００１１】
部分発作は、発作活動が大脳皮質の分離された領域に限られているものである。発作の間、意識が完全に保持されていれば、臨床的発現は比較的単純であると考えられ、発作は単純−部分発作と呼ばれる。意識が損なわれている場合、発作は複雑−部分発作と呼ばれる。重要な追加のサブグループは、部分発作として始まり、次いで皮質全体に拡散して広がる発作を含み、それは二次的全身化を有する部分発作として既知である。
【００１２】
全身性発作は、同時に左右対称的な様式で脳の拡散領域を含む。アブセンスもしくは小発作は、体位制御の喪失のない突然で短時間の意識の喪失により特徴付けられる。非定型的なアブセンス発作は典型的に、意識の喪失の比較的長い持続時間、比較的急激でない開始及び停止ならびに中心的もしくは側面的特徴（ｆｏｃａｌ  ｏｒ  ｌａｔｅｒａｌｉｚｉｎｇ  ｆｅａｔｕｒｅｓ）を含み得るより明らかな運動的兆候を含む。全身性発作の主な型である全身性強直−間代もしくは大発作は、警告のない急激な開始により特徴付けられる。発作の初期は通常、筋肉の緊張性収縮、呼吸障害、心拍数、血圧及び瞳孔の大きさの向上に導く交感神経緊張の顕著な強化である。１０〜２０秒後、発作の強直期は典型的に、緊張性筋肉収縮上に筋肉弛緩の期間が重なることにより生ずる間代期に進む。通常１分より長くは続かない発作期の最後まで、弛緩の期間が徐々に増加する。発作後の段階（ｐｏｓｔｉｃｔａｌ  ｐｈａｓｅ）は、非応答状態、筋肉弛緩状態ならびにぜん鳴性呼吸及び部分的気道閉塞を引き起こし得る過剰な唾液分泌過多により特徴付けられる。非強直性（ａｔｏｎｉｃ）発作は、１〜２秒間続く体位筋肉緊張の突然の喪失により特徴付けられる。意識は短時間損なわれるが、発作後錯乱は通常ない。間代性筋痙攣発作は、突然且つ短時間の筋肉収縮により特徴付けられ、それは体の一部又は体全体を含むことができる。（ｗｗｗ．ｈａｒｒｉｓｏｎｓｏｎｌｉｎｅ．ｃｏｍ，Ｍａｒｃｈ  ２９，２００１）
特許文献１は、ある種類の新規な抗−てんかん性化合物を開示している。これらの化合物の１つ、トピラメートとして既知の２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメートは、ヒトのてんかんの臨床試験において、単純及び複雑部分発作ならびに二次的に全身化した発作の処置における付属治療として又はモノテラピー（ｍｏｎｏｔｈｅｒａｐｙ）として有効であることが示された（非特許文献１；非特許文献２）。
【特許文献１】米国特許第４，５１３，００６号明細書
【非特許文献１】Ｅ．Ｆａｕｇｈｔ，Ｂ．Ｊ．Ｗｉｌｄｅｒ，Ｒ．Ｅ．Ｒａｍｓｅｙ，Ｒ．Ａ．Ｒｅｉｆｅ，Ｌ．Ｄ．Ｋｒａｍｅｒ，Ｇ．．Ｐｌｅｄｇｅｒ，Ｒ．Ｍ．Ｋａｒｉｍ，ｅｔ  ａｌ．著，Ｅｐｉｌｅｐｓｉａ，３６（Ｓ４），１９９５年，３３
【非特許文献２】Ｓ．Ｋ．Ｓａｃｈｄｅｏ，Ｒ．Ｃ．Ｓａｃｈｄｅｏ，Ｒ．Ａ．Ｒｅｉｆｅ，Ｐ．Ｌｉｍ  ａｎｄ  Ｇ．Ｐｌｅｄｇｅｒ著，Ｅｐｉｌｅｐｓｉａ，３６（Ｓ４），１９９５年，３３
【発明の開示】
【００１３】
発明の要約
本発明は、式（Ｉ）
【００１４】
【化３】
2005526852.tif 000005
【００１５】
［式中、
ＸはＣＨ２又はＯから選ばれ；
Ｒ１は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルキル−アルキル、シクロアルケニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリール−アルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキル−アルキル、アルコキシカルボニルアルキル、−（Ｃ２−８アルキル）−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２、−ＳＯ２Ｒ１２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここで単独のもしくはＲ１置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
Ｒ２はヒドロキシ、アルキル、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルキル−アルキル、シクロアルケニル、アリール、アリールオキシ、アラルキル、アラルキルオキシ、ヘテロアリール、ヘテロアリール−アルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、−（Ｃ２−８アルキル）−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｓｉ（Ｒ１７）３、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２、−ＳＯ２Ｒ１２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ１３）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここで単独のもしくはＲ２置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ９は独立してアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ９置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１０は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１０置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１１は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１１置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１２は独立してアミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１２置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキル、アルコキシ、ニトロ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、アリールカルボニルアミノ、アラルキルカルボニルアミノ、アリール、ヘテロアリール、ベンゼンスルホニル又はフェノキシから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；ここでフェノキシ基は場合によりハロゲン、アルキル、アルコキシ又はニトロから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１３は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１３置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１７は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１７置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか；
あるいはまた、Ｒ１及びＲ２はそれらが結合しているＮ原子と一緒になってヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基を形成し；ここでヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、オキソ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、シアノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アミノ、−Ｃ（＝ＮＨ）アルキルアミノ又は−Ｃ（＝ＮＨ）−ジアルキルアミノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；ここでアリール置換基は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、シアノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アミノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アルキルアミノ又は−Ｃ（＝ＮＨ）−ジアルキルアミノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；ここで−Ｃ（＝ＮＨ）−アミノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アルキルアミノ又は−Ｃ（＝ＮＨ）−ジアルキルアミノ基は、アリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル上の窒素又は炭素原子に結合しており；そしてここで１個より多い−Ｃ（＝ＮＨ）−アミノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アルキルアミノ又は−Ｃ（＝ＮＨ）−ジアルキルアミノ基がアリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキルに結合していることはないか；
あるいはまた、Ｒ１及びＲ２はそれらが結合している窒素原子と一緒になって−Ｎ＝Ｃ（Ｒ１４）２を形成し；
ここで各Ｒ１４は独立して水素、シクロアルキル、アルキル、ジアルキルアミノ、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１４置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；但し、少なくとも１個のＲ１４は水素及びアルキルより成る群から選ばれるか；
あるいはまた、２個のＲ１４基はそれらが結合している炭素原子と一緒になって式
【００１６】
【化４】
2005526852.tif 000006
【００１７】
のヘテロシクロアルキル基を形成し、
ここでＲ２０は低級アルキルであり；
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、ＸがＣＨ２である場合、Ｒ５及びＲ６は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、ＸがＯである場合、Ｒ３とＲ４及び／又はＲ５とＲ６は一緒になって式：
【００１８】
【化５】
2005526852.tif 000007
【００１９】
のメチレンジオキシ基であることができ、
ここでＲ７及びＲ８は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成し；
但し、Ｒ１がアルキルである場合、Ｒ２はアルキル以外であり；
さらに但し、Ｒ１が水素である場合、Ｒ２はアルキル、メチルカルボニル、フェニル、ベンジル又はカルボキシアルキル以外であり；
さらに但し、Ｒ１及びＲ２は、それらが結合している窒素原子と一緒になる場合、イミダゾリル以外であり；
さらに但し、ＸがＯであり、Ｒ２及びＲ３が一緒になって式：
【００２０】
【化６】
2005526852.tif 000008
【００２１】
のメチレンジオキシ基を形成し、
Ｒ４及びＲ５が一緒になって式：
【００２２】
【化７】
2005526852.tif 000009
【００２３】
のメチレンジオキシ基を形成し、
ここでＲ７及びＲ８はそれぞれの場合にそれぞれメチルであり、
且つＲ１が水素である場合、Ｒ２は
イソプロピルスルホニル、４−（Ｎ−ベンジル）−ピペリジニル又は４−ピリジル以外である］
の新規な化合物又はその製薬学的に許容され得る塩に関する。
【００２４】
本発明の実例は、本明細書に記載されるいずれかの化合物及び製薬学的に許容され得る担体を含んでなる製薬学的組成物である。
【００２５】
本発明の例は、本明細書に記載されるいずれかの化合物及び製薬学的に許容され得る担体を合わせることにより調製される製薬学的組成物である。
【００２６】
本発明の例は、本明細書に記載されるいずれかの化合物及び製薬学的に許容され得る担体を合わせることを含んでなる製薬学的組成物の調製法である。
【００２７】
本発明の実例は、本明細書に記載されるいずれかの化合物又は製薬学的組成物の治療的に有効な量を必要のある患者に投与することを含んでなる、てんかんの処置の方法である。
【００２８】
本発明の実例は、必要のある患者においててんかんを処置するための薬剤の製造における、本明細書に記載される化合物の使用である。
【００２９】
本発明は、さらに、式（ＸＸ）
【００３０】
【化８】
2005526852.tif 000010
【００３１】
［式中、
ＸはＣＨ２又はＯから選ばれ；
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、ＸがＣＨ２である場合、Ｒ５及びＲ６は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、ＸがＯである場合、Ｒ３とＲ４及び／又はＲ５とＲ６は一緒になって式：
【００３２】
【化９】
2005526852.tif 000011
【００３３】
のメチレンジオキシ基であることができ、
ここでＲ７及びＲ８は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成する］
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩の製造法に関し、その方法は式（Ｉｊ）
【００３４】
【化１０】
2005526852.tif 000012
【００３５】
［式中、
ＸはＣＨ２又はＯから選ばれ；
Ｒ１ａは水素、置換エチル、アルケニル（ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、シクロアルケニル（ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、ヘテロアリール−Ｃ１アルキル、ヘテロシクロアルキル−Ｃ１アルキル、アルコキシカルボニルＣ２アルキル、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基であり；
ここで単独のもしくはＲ１置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
Ｒ２ａは置換エチル、アルケニル（ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、シクロアルケニル（ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、ベンジルオキシ、ヘテロアリール−Ｃ１アルキル、ヘテロシクロアルキル−Ｃ１アルキル、アルコキシカルボニルＣ２アルキル、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｓｉ（Ｒ１７）３、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ１３）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基であり；
ここで単独のもしくはＲ２置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ９は独立してアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ９置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１０は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１０置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１１は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１１置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１３は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１３置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１７は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１７置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか；
あるいはまた、Ｒ１ａ及びＲ２ａはそれらが結合している窒素原子と一緒になって式
【００３６】
【化１１】
2005526852.tif 000013
【００３７】
の基を形成し；
ここでｎは１〜３の整数であり；そしてここで各Ｒ１５はハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ及びシアノより成る群から独立して選ばれるか；
あるいはまた、２個のＲ１５基はそれらが結合している炭素原子と一緒になってフェニル環を形成し；ここでフェニル環は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか；
あるいはまた、Ｒ１ａ及びＲ２ａはそれらが結合している窒素原子と一緒になって−Ｎ＝Ｃ（Ｒ１４）２を形成し；
ここで各Ｒ１４は独立して水素、ジアルキルアミノ、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１４置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
但し、少なくとも１個のＲ１４は水素及びアルキルより成る群から選ばれるか；
あるいはまた、２個のＲ１４基はそれらが結合している炭素原子と一緒になって式
【００３８】
【化１２】
2005526852.tif 000014
【００３９】
のヘテロシクロアルキル基を形成し、
ここでＲ２０は低級アルキルであり；
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、ＸがＣＨ２である場合、Ｒ５及びＲ６は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、ＸがＯである場合、Ｒ３とＲ４及び／又はＲ５とＲ６は一緒になって式：
【００４０】
【化１３】
2005526852.tif 000015
【００４１】
のメチレンジオキシ基であることができ、
ここでＲ７及びＲ８は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成する］
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩を脱−保護条件下で反応させて対応する式（ＸＸ）の化合物を得ることを含んでなる。
【００４２】
本発明はさらに、本明細書に記載されるいずれかの方法に従って製造される生成物に関する。
【００４３】
発明の詳細な記述
本発明は、てんかんの処置のために有用な式（Ｉ）
【００４４】
【化１４】
2005526852.tif 000016
【００４５】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＸは前に定義した通りである］
の化合物に関する。
【００４６】
本発明の１つの態様において、式（Ｉ）
【００４７】
【化１５】
2005526852.tif 000017
【００４８】
［式中、
ＸはＣＨ２又はＯから選ばれ；
Ｒ１は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルキル−アルキル、シクロアルケニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリール−アルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキル−アルキル、アルコキシカルボニルアルキル、−（Ｃ２−８アルキル）−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２、−ＳＯ２Ｒ１２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここで単独のもしくはＲ１置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
Ｒ２はヒドロキシ、アルキル、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルキル−アルキル、シクロアルケニル、アリール、アリールオキシ、アラルキル、アラルキルオキシ、ヘテロアリール、ヘテロアリール−アルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、−（Ｃ２−８アルキル）−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｓｉ（Ｒ１７）３、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２、−ＳＯ２Ｒ１２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ１３）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここで単独のもしくはＲ２置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ９は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ９置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１０は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１０置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１１は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１１置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１２は独立してアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１２置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキル、アルコキシ、ニトロ、アルキルカルボニルアミノ、アリールカルボニルアミノ、アラルキルカルボニルアミノ、アリール、ベンゼンスルホニル又はフェノキシから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；ここでフェノキシ基は場合によりハロゲン、アルキル、アルコキシ又はニトロから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１３は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１３置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１７は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１７置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか；
あるいはまた、Ｒ１及びＲ２は、それらが結合しているＮ原子と一緒になってヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基を形成し；ここでヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、オキソ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、シアノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アミノ、−Ｃ（＝ＮＨ）アルキルアミノ又は−Ｃ（＝ＮＨ）−ジアルキルアミノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；ここでアリール置換基は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、シアノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アミノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アルキルアミノ又は−Ｃ（＝ＮＨ）−ジアルキルアミノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；ここで−Ｃ（＝ＮＨ）−アミノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アルキルアミノ又は−Ｃ（＝ＮＨ）−ジアルキルアミノ基は、アリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル上の窒素又は炭素原子に結合しており；そしてここで１個より多い−Ｃ（＝ＮＨ）−アミノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アルキルアミノ又は−Ｃ（＝ＮＨ）−ジアルキルアミノ基がアリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキルに結合していることはないか；
あるいはまた、Ｒ１及びＲ２は、それらが結合している窒素原子と一緒になって−Ｎ＝Ｃ（Ｒ１４）２を形成し；
ここで各Ｒ１４は独立して水素、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１４置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；但し、少なくとも１個のＲ１４は水素及びアルキルより成る群から選ばれ；
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、ＸがＣＨ２である場合、Ｒ５及びＲ６は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、ＸがＯである場合、Ｒ３とＲ４及び／又はＲ５とＲ６は一緒になって式：
【００４９】
【化１６】
2005526852.tif 000018
【００５０】
のメチレンジオキシ基であることができ、
ここでＲ７及びＲ８は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成し；
但し、Ｒ１がアルキルである場合、Ｒ２はアルキル以外であり；
さらに但し、Ｒ１が水素である場合、Ｒ２はアルキル、メチルカルボニル、フェニル、ベンジル又はカルボキシアルキル以外であり；
さらに但し、Ｒ１及びＲ２は、それらが結合している窒素原子と一緒になる場合、イミダゾリル以外であり；
さらに但し、ＸがＯであり、Ｒ２及びＲ３が一緒になって式：
【００５１】
【化１７】
2005526852.tif 000019
【００５２】
のメチレンジオキシ基を形成し、
Ｒ４及びＲ５が一緒になって式：
【００５３】
【化１８】
2005526852.tif 000020
【００５４】
のメチレンジオキシ基を形成し、
ここでＲ７及びＲ８はそれぞれの場合にそれぞれメチルであり、
且つＲ１が水素である場合、Ｒ２は
イソプロピルスルホニル、４−（Ｎ−ベンジル）−ピペリジニル又は４−ピリジル以外である］
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩がある。
【００５５】
本発明の１つの態様において、ＸはＯである。
【００５６】
本発明の他の態様において、Ｒ３とＲ４及びＲ５とＲ６は式
【００５７】
【化１９】
2005526852.tif 000021
【００５８】
のメチレンジオキシ基として一緒になり、
ここでそれぞれの場合にＲ７及びＲ８は両方とも水素であるか、又は両方とも低級アルキルである。好ましくは、Ｒ７及びＲ８は両方とも水素又はメチルである。
【００５９】
本発明の１つの態様に、ＸがＯであり、Ｒ３とＲ４及びＲ５とＲ６が式
【００６０】
【化２０】
2005526852.tif 000022
【００６１】
のメチレンジオキシ基として一緒になり、ここでそれぞれの場合にＲ７及びＲ８はそれぞれ低級アルキル、好ましくはメチルである式（Ｉ）の化合物がある。
【００６２】
本発明の他の態様において、式（Ｉｔ）
【００６３】
【化２１】
2005526852.tif 000023
【００６４】
［式中、Ｒ１及びＲ２は前に定義した通りである］
の化合物がある。
【００６５】
本発明の１つの態様において、Ｒ１は水素、低級アルキル及びアラルキルより成る群から選ばれ、好ましくはＲ１は水素、メチル又はベンジルである。本発明の他の態様において、Ｒ１は水素又は低級アルキルであり、好ましくは、Ｒ１は水素、メチル又はエチルである。本発明のさらに別の態様において、Ｒ１は水素である。
【００６６】
本発明の１つの態様において、Ｒ２はヒドロキシ、アルキル、ベンズヒドリル、アルコキシ、アルケニル、アリール、アラルキル、アラルキルオキシ、アルコキシカルボニルアルキル、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、アルコキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、窒素含有ヘテロアリール、窒素含有ヘテロシクロアルキル、−ＳＯ２Ｒ１２、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｓｉ（Ｒ１７）３、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ１３）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここで単独のもしくは置換基の一部としてのアルキル、アラルキル、窒素含有ヘテロアリール又は窒素含有ヘテロシクロアルキルは、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができる。
【００６７】
本発明の他の態様において、Ｒ２はヒドロキシ、ハロゲン化アルキル、ベンズヒドリル、アルコキシ、アルケニル、アラルキル（ここでアラルキルは場合によりアルコキシから選ばれる置換基で置換されていることができる）、アラルキルオキシ、アルコキシカルボニルアルキル、カルボキシアルキル、アルキルカルボニル（ここでアルキルは場合によりカルボキシ又はアルコキシカルボニルから選ばれる置換基で置換されていることができる）、アリールカルボニル（ここでアリールは場合によりアルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル又はカルボキシから選ばれる置換基で置換されていることができる）、アラルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルコキシアルキルカルボニル、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル、ジアルキルアミノアルキル、窒素含有ヘテロアリール（好ましくは、窒素含有ヘテロアリールは４−ピリジル以外である）、窒素含有ヘテロシクロアルキル、アミノスルホニル（ここでアミノ基は場合により１〜２個の低級アルキルで置換されていることができる）、アルキルスルホニル（ここでアルキル基は場合によりハロゲンから独立して選ばれる１〜３個の置換基で置換されていることができる）、アリールスルホニル（ここでアリール基は場合によりアルキル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ハロゲン、アルコキシ、アルキルカルボニルアミノ、アセトアミド、ニトロ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ又は２−クロロ−４−ニトロフェノキシから独立して選ばれる１〜３個の置換基で置換されていることができる）、アラルキルスルホニル、ビフェニルスルホニル、ヘテロアリールスルホニル（ここでヘテロアリールは場合によりハロゲン、アルキル、ヘテロアリール又はベンゼンスルホニルから独立して選ばれる１〜２個の置換基で置換されていることができる）、ベンズヒドリル、−Ｓｉ−（アリール）３、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｓｉ（アリール）３、−Ｐ（＝Ｏ）（アリール）２、−Ｐ（＝Ｏ）（アルコキシ）２及びＳＥＭより成る群から選ばれる。
【００６８】
本発明の他の態様において、Ｒ２はヒドロキシ、ハロゲン化アルキル、ベンズヒドリル、アルコキシ、アルケニル、アルコキシ置換アラルキル、アラルキルオキシ、アルコキシカルボニルアルキル、置換アルキルカルボニル（ここでアルキルカルボニルのアルキル部分はカルボキシ又はアルコキシカルボニルから選ばれる置換基で置換されている）、アリールカルボニル（ここでアリールは場合によりアルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル又はカルボキシから選ばれる置換基で置換されていることができる）、アラルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルコキシアルキルカルボニル、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル、ジアルキルアミノアルキル、窒素含有ヘテロアリール（好ましくは、窒素含有ヘテロアリールは４−ピリジル以外である）、窒素含有ヘテロシクロアルキル、アミノスルホニル（ここでアミノ基は場合により１〜２個の低級アルキルで置換されていることができる）、アルキルスルホニル（ここでアルキル基は場合によりハロゲンから独立して選ばれる１〜３個の置換基で置換されていることができる）、アリールスルホニル（ここでアリール基は場合によりメチル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ハロゲン、アルコキシ、メチルカルボニルアミノ、アセトアミド、ニトロ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ又は２−クロロ−４−ニトロフェノキシから独立して選ばれる１〜３個の置換基で置換されていることができる）、アラルキルスルホニル、ビフェニルスルホニル、ヘテロアリールスルホニル（ここでヘテロアリールは場合によりハロゲン、アルキル、ヘテロアリール又はベンゼンスルホニルから独立して選ばれる１〜２個の置換基で置換されていることができる）、ベンズヒドリル、−Ｓｉ−（アリール）３、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｓｉ（アリール）３、−Ｐ（＝Ｏ）（アリール）２、−Ｐ（＝Ｏ）（アルコキシ）２及びＳＥＭより成る群から選ばれる。
【００６９】
好ましくは、Ｒ２はヒドロキシ、メトキシ、アリル、１−（２−ブロモ）−エチル、１−（２−エトキシカルボニル）エチル、メトキシカルボニルメチル、メトキシカルボニルエチル、１−（メトキシカルボニル）−ｎ−プロピル、カルボキシメチル、１−（３−カルボキシ）−ｎ−プロピル、１−（２−カルボキシ）エチル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、メチルカルボニル、エチルカルボニル、ｎ−プロピルカルボニル、イソブチルカルボニル、フェニルエチルカルボニル、ベンジルカルボニル、フェニルカルボニル、２−メトキシカルボニルフェニル−カルボニル、２−カルボキシフェニル−カルボニル、メトキシカルボニル−エチルカルボニル、カルボキシエチルカルボニル、ジエトキシ−ホスフィニル、トリフェニルシリル、トリフェニルシリルオキシカルボニル、トリフルオロメチルスルホニル、ジメチルアミノエチル、ベンジル、４−メトキシベンジル、ベンジルオキシ、３−ピロリジニル、ＳＥＭ、ジフェニルホスフィニル、ベンズヒドリル、２−メトキシフェニルカルボニル、３−メトキシフェニルカルボニル、４−メトキシフェニルカルボニル、メトキシメチルカルボニル、２−トリルカルボニル、３−トリルカルボニル、４−トリルカルボニル、５−ヘプチルカルボニル、アミノスルホニル、４−トリフルオロメトキシフェニルスルホニル、１−ナフチルスルホニル、２−ナフチルスルホニル、１−（５−ジメチルアミノ−ナフチル）−スルホニル、４−ビフェニルスルホニル、２−チエニルスルホニル、２−（３−（２−ピリジル）−チエニル）−スルホニル、４−トリフルオロメチルフェニルスルホニル、３−トリフルオロメチルフェニルスルホニル、２，６−ジフルオロフェニルスルホニル、ベンジルスルホニル、４−メトキシフェニルスルホニル、４，５−ジブロモ−２−チエニルスルホニル、２−ベンゼンスルホニル−５−チエニルスルホニル、トリフルオロメチルスルホニル、３−トリフルオロメチルフェニルスルホニル、２，２，２−トリフルオロエチルスルホニル、フェニルスルホニル、２，４，６−トリメチルフェニル−スルホニル、２−クロロ−１−エチルスルホニル、イソブチルスルホニル、１−ブチルスルホニル、４−（２，１，３−ベンズオキサジアゾリル）スルホニル、４−（２−クロロ−４−ニトロフェノキシ）−３，５−ジクロロフェニルスルホニル、４−ブロモフェニルスルホニル、エチルスルホニル、８−キノリニルスルホニル、３，５−ジメチル−４−イソオキサゾリルスルホニル、４−（２，１，３−ベンゾチジアゾリル）スルホニル、１−プロピルスルホニル、４−メチルカルボニルアミノ−フェニル−スルホニル、４−アセトアミドフェニルスルホニル及び４−ニトロフェニルスルホニルより成る群から選ばれる。
【００７０】
本発明の１つの態様において、Ｒ２はヒドロキシ、メトキシ、アリル、１−（３−メトキシカルボニル）−ｎ−プロピル、１−（２−カルボキシ）エチル、１−（２−ブロモ）−エチル、１−（２−エトキシカルボニル）エチル、メトキシカルボニルメチル、ｔ−ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、メチルカルボニル、エチルカルボニル、トリフェニルシリル、トリフェニルシリルオキシカルボニル、トリフルオロメチルスルホニル及びベンズヒドリルより成る群から選ばれる。
【００７１】
本発明の１つの態様において、Ｒ２は−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）及び−ＳＯ２Ｒ１２より成る群から選ばれる。
【００７２】
本発明の他の態様において、Ｒ２は−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９であり；ここでＲ９はアルキル、アリール（ここでアリール基は場合によりアルキル又はアルコキシから選ばれる置換基で置換されていることができる）及びアラルキルより成る群から選ばれる。好ましくは、Ｒ９はメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソブチル、５−ヘプチル、フェニル、ベンジル、フェニルエチル、２−メトキシフェニル、３−メトキシフェニル、４−メトキシフェニル、２−トリル、３−トリル及び４−トリルより成る群から選ばれる。
【００７３】
本発明のさらに別の態様において、Ｒ２は−ＳＯ２−Ｒ１２であり；ここでＲ１２はアミノ、低級アルキルアミノ、ジ（低級アルキル）アミノ、アルキル（ここで単独のもしくは置換基の一部としてのアルキル基は、場合によりハロゲンから独立して選ばれる１〜３個の置換基で置換されていることができる）、アリール（ここでアリール基は場合によりアルキル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ハロゲン、アルコキシ、アルキルカルボニルアミノ、アセトアミド、ニトロ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ又は２−クロロ−４−ニトロフェノキシから独立して選ばれる１〜３個の置換基で置換されていることができる）、アラルキル、ビフェニル及びヘテロアリール（ここでヘテロアリールは場合によりハロゲン、アルキル、ヘテロアリール又はベンゼンスルホニルから独立して選ばれる１〜２個の置換基で置換されていることができる）より成る群から選ばれる。好ましくは、Ｒ１２はトリフルオロメチル、４−トリフルオロメトキシフェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、１−（５−ジメチルアミノ−ナフチル）、４−ビフェニル、２−チエニル、４−トリフルオロメチルフェニル、３−トリフルオロメチルフェニル、２，６−ジフルオロフェニル、ベンジル、４−メトキシフェニル、４，５−ジブロモ−２−チエニル、２−ベンゼンスルホニル−５−チエニル、２−（３−（２−ピリジル）−チエニル）、３−トリフルオロメチルフェニル、２，２，２−トリフルオロエチル、フェニル、２，４，６−トリメチルフェニル、２−クロロ−１−エチル、イソブチル、１−ブチル、４−（２，１，３−ベンズオキサジアゾリル）、４−（２−クロロ−４−ニトロフェノキシ）−３，５−ジクロロフェニル、４−ブロモフェニル、エチル、８−キノリニル、３，５−ジメチル−４−イソオキサゾリル、４−（２，１，３−ベンゾチジアゾリル）、１−プロピル、４−メチルカルボニルアミノ−フェニル、４−アセトアミドフェニル及び４−ニトロフェニルより成る群から選ばれる。
【００７４】
本発明の１つの態様において、Ｒ１及びＲ２は、それらが結合している窒素原子と一緒になってヘテロアリール又はヘテロシクロアルキルから選ばれる基を形成し；ここでヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、オキソ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、シアノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アミノ、−Ｃ（＝ＮＨ）アルキルアミノ又は−Ｃ（＝ＮＨ）−ジアルキルアミノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；ここでアリール置換基は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、シアノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アミノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アルキルアミノ又は−Ｃ（＝ＮＨ）−ジアルキルアミノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；ここで−Ｃ（＝ＮＨ）−アミノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アルキルアミノ又は−Ｃ（＝ＮＨ）−ジアルキルアミノ基は、アリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル上の窒素又は炭素原子に結合しており；そしてここで１個より多い−Ｃ（＝ＮＨ）−アミノ、−Ｃ（＝ＮＨ）−アルキルアミノ又は−Ｃ（＝ＮＨ）−ジアルキルアミノ基がアリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキルに結合していることはない。
【００７５】
好ましくは、Ｒ１及びＲ２は、それらが結合している窒素原子と一緒になってヘテロシクロアルキル基、６員単環式ヘテロアリール基又は９〜１０員二環式ヘテロアリール基を形成し、ここでヘテロシクロアルキル又はヘテロアリール基は場合により前に定義された通りに置換されていることができる。より好ましくは、Ｒ１及びＲ２は、それらが結合している窒素原子と一緒になってヘテロシクロアルキル基又は９〜１０員二環式ヘテロアリール基を形成し、ここでヘテロシクロアルキル又はヘテロアリール基は場合により前に定義された通りに置換されていることができる。さらにもっと好ましくは、Ｒ１及びＲ２は、それらが結合している窒素原子と一緒になってモルホリニル、１−（２−イソプロポキシフェニル）−ピペラジニル、イソインドール−１，３−ジオンから選ばれる基を形成する。
【００７６】
本発明の１つの態様において、Ｒ１及びＲ２は、それらが結合している窒素原子と一緒になって−Ｎ＝Ｃ（Ｒ１４）２を形成し；ここでＲ１４は水素、ジアルキルアミノ、シクロアルキル及びアリールより成る群から選ばれ；ここでシクロアルキル又はアリールは、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができる。好ましくは、Ｒ１４は水素、ジ（低級アルキル）アミノ、３〜８員単環式シクロアルキル及びアリールより成る群から選ばれ、より好ましくは、Ｒ１４は水素、ジメチルアミノ、シクロヘキシル及びフェニルより成る群から選ばれる。
【００７７】
本発明の１つの態様において、Ｒ１及びＲ２は、それらが結合している窒素原子と一緒になって−Ｎ＝Ｃ（Ｒ１４）２を形成し；ここで２個のＲ１４基はそれらが結合している炭素原子と一緒になって、式
【００７８】
【化２２】
2005526852.tif 000024
【００７９】
のヘテロシクロアルキル基を形成し、
ここでＲ２０は低級アルキルである。好ましくは、２個のＲ１４基はそれらが結合している炭素原子と一緒になって２−（１−メチル−ピロリジニル）を形成する。
【００８０】
１つの態様において、本発明は式（Ｉｊ）
【００８１】
【化２３】
2005526852.tif 000025
【００８２】
［式中、
ＸはＣＨ２又はＯから選ばれ；
Ｒ１ａは水素、置換エチル、アルケニル（ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、シクロアルケニル（ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、ヘテロアリール−Ｃ１アルキル、ヘテロシクロアルキル−Ｃ１アルキル、アルコキシカルボニルＣ２アルキル、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基であり；
ここで単独のもしくはＲ１置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
Ｒ２ａは置換エチル、アルケニル（ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、シクロアルケニル（ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、ベンジルオキシ、ヘテロアリール−Ｃ１アルキル、ヘテロシクロアルキル−Ｃ１アルキル、アルコキシカルボニルＣ２アルキル、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｓｉ（Ｒ１７）３、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ１３）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基であり；
ここで単独のもしくはＲ２置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ９は独立してアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ９置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１０は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１０置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１１は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１１置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１３は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１３置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１７は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１７置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか；
あるいはまた、Ｒ１ａ及びＲ２ａはそれらが結合している窒素原子と一緒になって式
【００８３】
【化２４】
2005526852.tif 000026
【００８４】
の基を形成し；
ここでｎは１〜３の整数であり；そしてここで各Ｒ１５はハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ及びシアノより成る群から独立して選ばれるか；
あるいはまた、２個のＲ１５基はそれらが結合している炭素原子と一緒になってフェニル環を形成し；ここでフェニル環は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか；
あるいはまた、Ｒ１ａ及びＲ２ａは、それらが結合している窒素原子と一緒になって−Ｎ＝Ｃ（Ｒ１４）２を形成し；
ここで各Ｒ１４は独立して水素、ジアルキルアミノ、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１４置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；但し、少なくとも１個のＲ１４は水素及びアルキルより成る群から選ばれるか；
あるいはまた、２個のＲ１４基はそれらが結合している炭素原子と一緒になって式
【００８５】
【化２５】
2005526852.tif 000027
【００８６】
のヘテロシクロアルキル基を形成し、
ここでＲ２０は低級アルキルであり；
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、ＸがＣＨ２である場合、Ｒ５及びＲ６は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、ＸがＯである場合、Ｒ３とＲ４及び／又はＲ５とＲ６は一緒になって式：
【００８７】
【化２６】
2005526852.tif 000028
【００８８】
のメチレンジオキシ基であることができ、
ここでＲ７及びＲ８は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成し；
但し、Ｒ１が水素の場合、Ｒ２はメチルカルボニル又はカルボキシエチル以外である］
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩を目的とする。
【００８９】
本発明の他の態様において式（Ｉｋ）
【００９０】
【化２７】
2005526852.tif 000029
【００９１】
［式中、
Ｒ１ａは水素、置換エチル、アルケニル（ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、シクロアルケニル（ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、ヘテロアリール−Ｃ１アルキル、ヘテロシクロアルキル−Ｃ１アルキル、アルコキシカルボニルＣ２アルキル、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基であり；
ここで単独のもしくはＲ１置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
Ｒ２ａは置換エチル、アルケニル（ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、シクロアルケニル（ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、ベンジルオキシ、ヘテロアリール−Ｃ１アルキル、ヘテロシクロアルキル−Ｃ１アルキル、アルコキシカルボニルＣ２アルキル、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｓｉ（Ｒ１７）３、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ１３）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基であり；
ここで単独のもしくはＲ２置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ９は独立してアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ９置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１０は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１０置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１１は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１１置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１３は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１３置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１７は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１７置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか；
あるいはまた、Ｒ１ａ及びＲ２ａはそれらが結合している窒素原子と一緒になって式
【００９２】
【化２８】
2005526852.tif 000030
【００９３】
の基を形成し；
ここでｎは１〜３の整数であり；そしてここで各Ｒ１５はハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ及びシアノより成る群から独立して選ばれるか；
あるいはまた、２個のＲ１５基はそれらが結合している炭素原子と一緒になってフェニル環を形成し；ここでフェニル環は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか；
あるいはまた、Ｒ１ａ及びＲ２ａはそれらが結合している窒素原子と一緒になって−Ｎ＝Ｃ（Ｒ１４）２を形成し；
ここで各Ｒ１４は独立して水素、ジアルキルアミノ、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１４置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；但し、少なくとも１個のＲ１４は水素及びアルキルより成る群から選ばれるか；
あるいはまた、２個のＲ１４基はそれらが結合している炭素原子と一緒になって式
【００９４】
【化２９】
2005526852.tif 000031
【００９５】
のヘテロシクロアルキル基を形成し、
ここでＲ２０は低級アルキルであり；
但し、Ｒ１が水素の場合、Ｒ２はメチルカルボニル又はカルボキシエチル以外である］
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩がある。
【００９６】
本発明の１つの態様において、Ｒ１ａ置換基が酸性（酸開裂）脱−保護条件下で除去され得る置換基である式（Ｉｊ）及び（Ｉｋ）の化合物がある。本発明の他の態様において、Ｒ１ａ置換基が塩基性脱−保護条件下で除去され得る置換基である式（Ｉｊ）及び（Ｉｋ）の化合物がある。本発明のさらに別の態様において、Ｒ１ａ置換基が接触還元条件下で除去され得る置換基である式（Ｉｊ）及び（Ｉｋ）の化合物がある。
【００９７】
本発明の１つの態様において、Ｒ２ａ置換基が酸性（酸開裂）脱−保護条件下で除去され得る置換基である式（Ｉｊ）及び（Ｉｋ）の化合物がある。本発明の他の態様において、Ｒ２ａ置換基が塩基性脱−保護条件下で除去され得る置換基である式（Ｉｊ）及び（Ｉｋ）の化合物がある。本発明のさらに別の態様において、Ｒ２ａ置換基が接触還元条件下で除去され得る置換基である式（Ｉｊ）及び（Ｉｋ）の化合物がある。
【００９８】
本発明の１つの態様において、Ｒ１ａ及びＲ２ａが、それらが結合している窒素原子と一緒になって、脱−保護条件下で除去され得る基を形成する式（Ｉｊ）及び（Ｉｋ）の化合物がある。
【００９９】
式（Ｉｊ）及び（Ｉｋ）の化合物は、それぞれ対応する式（ＸＸ）
【０１００】
【化３０】
2005526852.tif 000032
【０１０１】
［式中、Ｘ、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は前に定義した通りである］
の化合物及び式（ＸＸａ）
【０１０２】
【化３１】
2005526852.tif 000033
【０１０３】
の化合物の製造のための中間体として有用である。
【０１０４】
本発明はさらに、式（ＸＸ）
【０１０５】
【化３２】
2005526852.tif 000034
【０１０６】
［式中、
ＸはＣＨ２又はＯから選ばれ；
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、ＸがＣＨ２の場合、Ｒ５及びＲ６は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、ＸがＯの場合、Ｒ３とＲ４及び／又はＲ５とＲ６は一緒になって式：
【０１０７】
【化３３】
2005526852.tif 000035
【０１０８】
のメチレンジオキシ基であることができ、
ここでＲ７及びＲ８は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルから選ばれるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成する］
の化合物の製造法に関し、その方法は式（Ｉｊ）
【０１０９】
【化３４】
2005526852.tif 000036
【０１１０】
［式中、
ＸはＣＨ２又はＯから選ばれ；
Ｒ１ａは水素、置換エチル、アルケニル（ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、シクロアルケニル（ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、ヘテロアリール−Ｃ１アルキル、ヘテロシクロアルキル−Ｃ１アルキル、アルコキシカルボニルＣ２アルキル、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基であり；
ここで単独のもしくはＲ１置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
Ｒ２ａは置換エチル、アルケニル（ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、シクロアルケニル（ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、ベンジルオキシ、ヘテロアリール−Ｃ１アルキル、ヘテロシクロアルキル−Ｃ１アルキル、アルコキシカルボニルＣ２アルキル、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｓｉ（Ｒ１７）３、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ１３）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基であり；
ここで単独のもしくはＲ２置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ９は独立してアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ９置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１０は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１０置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１１は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１１置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１３は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１３置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１７は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１７置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか；
あるいはまた、Ｒ１ａ及びＲ２ａはそれらが結合している窒素原子と一緒になって式
【０１１１】
【化３５】
2005526852.tif 000037
【０１１２】
の基を形成し；
ここでｎは１〜３の整数であり；そしてここで各Ｒ１５はハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ及びシアノより成る群から独立して選ばれるか；
あるいはまた、２個のＲ１５基はそれらが結合している炭素原子と一緒になってフェニル環を形成し；ここでフェニル環は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか；
あるいはまた、Ｒ１ａ及びＲ２ａはそれらが結合している窒素原子と一緒になって−Ｎ＝Ｃ（Ｒ１４）２を形成し；
ここで各Ｒ１４は独立して水素、ジアルキルアミノ、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１４置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；但し、少なくとも１個のＲ１４は水素及びアルキルより成る群から選ばれるか；
あるいはまた、２個のＲ１４基はそれらが結合している窒素原子と一緒になって式
【０１１３】
【化３６】
2005526852.tif 000038
【０１１４】
のヘテロシクロアルキル基を形成し、
ここでＲ２０は低級アルキルであり；
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、ＸがＣＨ２である場合、Ｒ５及びＲ６は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、ＸがＯである場合、Ｒ３とＲ４及び／又はＲ５とＲ６は一緒になって式：
【０１１５】
【化３７】
2005526852.tif 000039
【０１１６】
のメチレンジオキシ基であることができ、
ここでＲ７及びＲ８は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成する］
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩を脱−保護条件下で反応させて、対応する式（ＸＸ）の化合物を得ることを含んでなる。式（ＸＸ）の化合物はてんかんの処置に有用である。
【０１１７】
本発明の１つの態様において、式（ＸＸ）
【０１１８】
【化３８】
2005526852.tif 000040
【０１１９】
［式中、
ＸはＣＨ２又はＯから選ばれ；
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、ＸがＣＨ２の場合、Ｒ５及びＲ６は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、ＸがＯの場合、Ｒ３とＲ４及び／又はＲ５とＲ６は一緒になって式：
【０１２０】
【化３９】
2005526852.tif 000041
【０１２１】
のメチレンジオキシ基であることができ、
ここでＲ７及びＲ８は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成する］
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩を製造する方法であって、式（Ｉｊ）
【０１２２】
【化４０】
2005526852.tif 000042
【０１２３】
［式中、
ＸはＣＨ２又はＯから選ばれ；
Ｒ１ａは水素、置換エチル、アルケニル（ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、シクロアルケニル（ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、ヘテロアリール−Ｃ１アルキル、ヘテロシクロアルキル−Ｃ１アルキル、アルコキシカルボニルＣ２アルキル、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基であり；
ここで単独のもしくはＲ１置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
Ｒ２ａは置換エチル、アルケニル（ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、シクロアルケニル（ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、ベンジルオキシ、ヘテロアリール−Ｃ１アルキル、ヘテロシクロアルキル−Ｃ１アルキル、アルコキシカルボニルＣ２アルキル、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｓｉ（Ｒ１７）３、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ１３）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基であり；
ここで単独のもしくはＲ２置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ９は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ９置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１０は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１０置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１１は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１１置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１３は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１３置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１７は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１７置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか；
あるいはまた、Ｒ１ａ及びＲ２ａはそれらが結合している窒素原子と一緒になって式
【０１２４】
【化４１】
2005526852.tif 000043
【０１２５】
の基を形成し；
ここでｎは１〜３の整数であり；そしてここで各Ｒ１５はハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ及びシアノより成る群から独立して選ばれるか；
あるいはまた、２個のＲ１５基はそれらが結合している炭素原子と一緒になってフェニル環を形成し；ここでフェニル環は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか；
あるいはまた、Ｒ１ａ及びＲ２ａはそれらが結合している窒素原子と一緒になって−Ｎ＝Ｃ（Ｒ１４）２を形成し；
ここで各Ｒ１４は独立して水素、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１４置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
但し、少なくとも１個のＲ１４は水素及びアルキルより成る群から選ばれ；
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、ＸがＣＨ２の場合、Ｒ５及びＲ６は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、ＸがＯである場合、Ｒ３とＲ４及び／又はＲ５とＲ６は一緒になって式：
【０１２６】
【化４２】
2005526852.tif 000044
【０１２７】
のメチレンジオキシ基であることができ、
ここでＲ７及びＲ８は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成する］
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩を脱−保護条件下で反応させ、対応する式（ＸＸ）の化合物を得ることを含んでなる方法がある。
【０１２８】
本発明の１つの態様において、式（ＸＸａ）
【０１２９】
【化４３】
2005526852.tif 000045
【０１３０】
の化合物を製造する方法であって、式（Ｉｋ）
【０１３１】
【化４４】
2005526852.tif 000046
【０１３２】
［式中、
Ｒ１ａは水素、置換エチル、アルケニル（ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、シクロアルケニル（ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、ヘテロアリール−Ｃ１アルキル、ヘテロシクロアルキル−Ｃ１アルキル、アルコキシカルボニルＣ２アルキル、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基であり；
ここで単独のもしくはＲ１置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
Ｒ２ａは置換エチル、アルケニル（ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、シクロアルケニル（ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、ベンジルオキシ、ヘテロアリール−Ｃ１アルキル、ヘテロシクロアルキル−Ｃ１アルキル、アルコキシカルボニルＣ２アルキル、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｓｉ（Ｒ１７）３、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ１３）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基であり；
ここで単独のもしくはＲ２置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ９は独立してアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ９置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１０は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１０置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１１は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１１置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１３は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１３置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；
ここで各Ｒ１７は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１７置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか；
あるいはまた、Ｒ１ａ及びＲ２ａはそれらが結合している窒素原子と一緒になって式
【０１３３】
【化４５】
2005526852.tif 000047
【０１３４】
の基を形成し；
ここでｎは１〜３の整数であり；且つここで各Ｒ１５はハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ及びシアノより成る群から独立して選ばれるか；
あるいはまた、２個のＲ１５基はそれらが結合している炭素原子と一緒になってフェニル環を形成し；ここでフェニル環は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか；
あるいはまた、Ｒ１ａ及びＲ２ａはそれらが結合している窒素原子と一緒になって−Ｎ＝Ｃ（Ｒ１４）２を形成し；
ここで各Ｒ１４は独立して水素、ジアルキルアミノ、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ；ここで単独のもしくはＲ１４置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる１個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ；但し、少なくとも１個のＲ１４は水素及びアルキルより成る群から選ばれるか；
あるいはまた、２個のＲ１４基はそれらが結合している炭素原子と一緒になって式
【０１３５】
【化４６】
2005526852.tif 000048
【０１３６】
のヘテロシクロアルキル基を形成し、
ここでＲ２０は低級アルキルである］
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩を脱−保護条件下で反応させ、対応する式（ＸＸａ）の化合物を得ることを含んでなる方法がある。式（ＸＸａ）の化合物はてんかんの処置に有用である。
【０１３７】
本発明はさらに、前に定義した式（Ｉｊ）の化合物を脱−保護条件下で反応させることにより製造される生成物に関する。本発明の１つの態様において、前に定義した式（Ｉｋ）の化合物を脱−保護条件下で反応させることにより製造される生成物がある。
【０１３８】
本明細書で用いられる場合、「ハロゲン」は塩素、臭素、フッ素及びヨウ素を意味するものとする。
【０１３９】
本明細書で用いられる場合、単独で又は置換基の一部として用いられる「アルキル」という用語は、直鎖及び分枝鎖を含む。例えばアルキル基にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチルなどが含まれる。好ましくは、アルキル基は１〜８個の炭素原子を含む。他にことわらなければ、アルキルと一緒に用いられる「低級」は、１〜４個の炭素原子の炭素鎖組成を意味する。
【０１４０】
本明細書で用いられる場合、「アルケニル」という用語は、１個もしくはそれより多い二重結合、好ましくは１〜２個の二重結合を含有する部分的不飽和直鎖状及び分枝鎖状アルキル鎖を示すものとする。適した例にはアリル、ブテニル、プロペニルなどが含まれる。好ましくは、アルケニル基上の二重結合は、結合点から少なくとも炭素原子１個移動した位置にある。
【０１４１】
類似して、「アルキニル」という用語は、１個もしくはそれより多い三重結合、好ましくは１〜２個の三重結合、より好ましくは１個の三重結合を含有する部分的不飽和直鎖状及び分枝鎖状アルキル鎖を示すものとする。適した例にはプロパルギル、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＣＨなどが含まれ；ここでアルキニル基上の三重結合は、結合点から少なくとも炭素原子１個移動した位置にある。
【０１４２】
本明細書で用いられる場合、「シクロアルキル」という用語は、いずれかの安定な３〜８員単環式又は９〜１４員飽和二環式環系を意味するものとする。適した例にはシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、オクタヒドロインデニル、デカヒドロナフチルなどが含まれる。「シクロアルケニル」という用語は、１個もしくはそれより多い二重結合を含有するいずれかの安定な３〜８員単環式部分的不飽和環系あるいはいずれかの安定な９〜１４員二環式部分的不飽和（すなわち１個もしくはそれより多い二重結合を含有する）又は部分的芳香族環系を意味するものとする。適した例にはシクロヘキセニル、シクロペンテニル、シクロプロペニル、シクロヘキシ−１，４−ジエニル、テトラヒドロナフチル、インダニルなどが含まれる。
【０１４３】
本明細書で用いられる場合、他にことわらなければ、単独でもしくは置換基の一部として用いられる「アリール」は、炭素環式芳香族基、例えばフェニル、ナフチルなどを指すものとする。
【０１４４】
本明細書で用いられる場合、他にことわらなければ、単独でもしくは置換基の一部として用いられる「アラルキル」は、フェニル、ナフチルなどのようなアリール基で置換されたいずれかの低級アルキル基を意味するものとする。適した例にはベンジル、フェニルエチル、ナフチルメチルなどが含まれる。
【０１４５】
本明細書で用いられる場合、他にことわらなければ、単独でもしくは置換基の一部として用いられる「アルコキシ」は、上記の直鎖状もしくは分枝鎖状アルキル基の酸素エーテル基を示すものとする。例えばメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−ヘキシルオキシなど。類似して、「アリールオキシ」及び「アラルキルオキシ」という用語は、それぞれ上記のアリール及びアラルキル基の酸素エーテル基を示すものとする。
【０１４６】
本明細書で用いられる場合、他にことわらなければ、単独でもしくは置換基の一部として用いられる「ヘテロアリール」は、Ｏ、Ｎ及びＳより成る群から選ばれる少なくとも１個のヘテロ原子を含有し、場合によりＯ、Ｎ及びＳより成る群から独立して選ばれる１〜３個の追加のヘテロ原子を含有することができるいずれかの５もしくは６員単環式芳香族環構造；あるいはＯ、Ｎ及びＳより成る群から選ばれる少なくとも１個のヘテロ原子を含有し、場合によりＯ、Ｎ及びＳより成る群から独立して選ばれる１〜４個の追加のヘテロ原子を含有することができるいずれかの９もしくは１０員二環式芳香族環構造を示すものとする。ヘテロアリール基は、結果が安定な構造であるように、環のいずれのヘテロ原子又は炭素原子において結合していることもできる。好ましくは、ヘテロアリール基は、結果が安定な構造であるように、環のいずれかの炭素原子において結合している。
【０１４７】
適したヘテロアリール基の例にはピロリル、フリル、チエニル、オキサゾリル、イミダゾリル、プラゾリル、イソオキサゾリル、イソチアゾリル、トリアゾリル、チアジアゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、ピラニル、フラザニル、インドリジニル、インドリル、イソインドリニル、インダゾリル、ベンゾフリル、ベンゾチエニル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリル、ベンズチジアゾリル、ベンズオキサジアゾリル、プリニル、キノリジニル、キノリニル、イソキノリニル、イソチアゾリル、シンノリニル、フタラジニル、キナゾリニル、キノキサリニル、ナフチリジニル、プテリジニルなどが含まれるが、これらに限られない。
【０１４８】
特に好ましいヘテロアリール基にはチエニル、２，１，３−ベンズオキサジアゾリル、２，１，３−ベンゾチジアゾリル、キノリニル及びイソオキサゾリルが含まれる。
【０１４９】
本明細書で用いられる場合、単独でもしくは置換基の一部として用いられる「ヘテロシクロアルキル」という用語は、Ｏ、Ｎ及びＳより成る群から選ばれる少なくとも１個のヘテロ原子を含有し、場合によりＯ、Ｎ及びＳより成る群から独立して選ばれる１〜３個の追加のヘテロ原子を含有することができるいずれかの５〜７員単環式飽和もしくは部分的不飽和環構造；あるいはＯ、Ｎ及びＳより成る群から選ばれる少なくとも１個のヘテロ原子を含有し、場合によりＯ、Ｎ及びＳより成る群から独立して選ばれる１〜４個の追加のヘテロ原子を含有することができるいずれかの９〜１０員飽和、部分的不飽和もしくは部分的芳香族二環式環系を示すものとする。ヘテロシクロアルキル基は、結果が安定な構造であるように、環のいずれのヘテロ原子又は炭素原子において結合していることもできる。
【０１５０】
適したヘテロシクロアルキル基の例には、ピロリニル、ピロリジニル、ジオキサラニル、イミダゾリニル、イミダゾリジニル、ピラゾリニル、ピラゾリジニル、ピペリジニル、ジオキサニル、モルホリニル、ジチアニル、チオモルホリニル、ピペラジニル、トリチアニル、インドリニル、クロメニル、３，４−メチレンジオキシフェニル、２，３−ジヒドロベンゾフリル、２，３−ジヒドロ−１Ｈ−イソインドールなどが含まれるが、これらに限られない。
【０１５１】
特に好ましいヘテロシクロアルキル基にはピロリジニル、ピペリジニル、モルホリニル、ピペラジニル及び２，３−ジヒドロ−１Ｈ−イソインドールが含まれる。
【０１５２】
置換基と関連して、「独立して」という用語は、１個より多いそのような置換基が可能な場合、そのような置換基が同一であるか又は互いに異なることができることを意味する。
【０１５３】
特定の基が「置換されている」場合（例えばフェニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール）、その基は１個もしくはそれより多い置換基、好ましくは１〜４個の置換基、より好ましくは１〜３個の置換基、さらにもっと好ましくは１〜２個の置換基を有することができる。
【０１５４】
本明細書で用いられる場合、記号
【０１５５】
【化４７】
2005526852.tif 000049
【０１５６】
は、分子の平面の上方の結合を示すものとする。類似して、記号
【０１５７】
【化４８】
2005526852.tif 000050
【０１５８】
は、分子の平面の下方の結合を示すものとする。
【０１５９】
薬剤における使用のために、本発明の化合物の塩は、無毒性の「製薬学的に許容され得る塩」を指す。しかしながら他の塩は、本発明に従う化合物又はそれらの製薬学的に許容され得る塩の製造において有用であり得る。
【０１６０】
化合物の適した製薬学的に許容され得る塩には酸付加塩が含まれ、それは例えば化合物の溶液を製薬学的に許容され得る酸、例えば塩酸、硫酸、フマル酸、マレイン酸、コハク酸、酢酸、安息香酸、クエン酸、酒石酸、炭酸又はリン酸の溶液と混合することにより形成することができる。
【０１６１】
さらに、本発明の化合物が酸性部分を有している場合、あるいはＲ１又はＲ１ａが水素の場合、適したその製薬学的に許容され得る塩にはアルカリ金属塩、例えばナトリウムもしくはカリウム塩；アルカリ土類金属塩、例えばカルシウムもしくはマグネシウム塩；ならびに適した有機リガンドを用いて形成される塩、例えば第１級、第２級、第３級もしくは第４級アンモニウム塩、例えばモルホリニル、ｔ−ブチルアミノ、コリンなどが含まれ得る。
【０１６２】
代表的な製薬学的に許容され得る塩には以下も含まれる：
酢酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、安息香酸塩、重炭酸塩、重硫酸塩、重酒石酸塩、ホウ酸塩、カルシウムエデト酸塩、カムシレート、炭酸塩、クラブラネート、クエン酸塩、エデト酸塩、エジシレート、エストレート、エシレート、フマル酸塩、グルセプテート、グルコン酸塩、グルタミン酸塩、グリコリルアルサニレート、ヘキシルレゾルシネート、ヒドラバミン、ヒドロブロミド、ヒドロクロリド、ヒドロキシナフトエート、ヨーダイド、イソチオネート、乳酸塩、ラクトビオネート、ラウリン酸塩、リンゴ酸塩、マレイン酸塩、マンデル酸塩、メシレート、メチルブロミド、メチルナイトレート、メチルサルフェート、粘液酸塩、ナプシレート、硝酸塩、Ｎ−メチルグルカミンアンモニウム塩、オレイン酸塩、パモ酸塩（エンボネート）、パルミチン酸塩、パントテン酸塩、リン酸塩／二リン酸塩、ポリガラクツロン酸塩、サリチル酸塩、ステアリン酸塩、硫酸塩、サブアセテート、コハク酸塩、タンニン酸塩、酒石酸塩、テオクレート、トシレート、トリエチオダイド、吉草酸塩、ベンザンチン、クロロプロカイン、コリン、ジエタノールアミン、エチレンジアミン、メグルミン、プロカイン、アルミニウム、カルシウム、リチウム、マグネシウム、カリウム、ナトリウム及び亜鉛。
【０１６３】
本発明は、本発明の化合物のプロドラッグをその範囲内に含む。一般にそのようなプロドラッグは化合物の官能基誘導体であり、それは生体内で容易に必要な化合物に転換可能である。かくして本発明の処置の方法において、「投与」という用語は、特定的に開示される化合物又は特定的に開示されていないかもしれないが、患者への投与の後に生体内で特定の化合物に転換される化合物を用いて、記載される種々の障害を処置することを包含するものとする。適したプロドラッグ誘導体の選択及び製造のための通常の方法は、例えば“Ｄｅｓｉｇｎ  ｏｆ  Ｐｒｏｄｒｕｇｓ”，Ｈ．Ｂｕｎｄｇａａｒｄ編集，Ｅｌｓｅｖｉｅｒ，１９８５年に記載されている。
【０１６４】
本発明に従う化合物が少なくとも１個のキラル中心を有する場合、それらは従ってエナンチオマーとして存在することができる。化合物が２個もしくはそれより多いキラル中心を有する場合、それらは従ってジアステレオマーとして存在することができる。すべてのそのような異性体及びそれらの混合物が本発明の範囲内に包含されることが理解されねばならない。さらに、化合物に関する結晶形のいくつかは多形相として存在することができ、そのまま本発明に含まれることが意図されている。さらに、化合物のいくつかは水（すなわち水和物）又は通常の有機溶媒と溶媒和物を形成することができ、そのような溶媒和物も本発明の範囲内に包含されることが意図されている。
【０１６５】
本明細書で用いられる場合、「患者」という用語は、処置、観察又は実験の対象である動物、好ましくは哺乳類、最も好ましくはヒトを指す。
【０１６６】
本明細書で用いられる場合、「治療的に有効な量」という用語は、研究者、獣医、医師又は他の臨床医により追及されている組織系、動物又は人間における生物学的もしくは医学的応答を引き出す活性化合物又は製薬学的薬剤の量を意味し、応答には処置されている疾患又は障害の症状の軽減が含まれる。
【０１６７】
本明細書で用いられる場合、「組成物」という用語は、特定の量における特定の成分ならびに特定の量における特定の成分の組み合わせから直接もしくは間接に生ずるいずれかの生成物を含んでなる生成物を包含することが意図されている。
【０１６８】
明細書、特にスキーム及び実施例中で用いられる略語は以下の通りである：
ＡｃＮ                ＝アセトニトリル
Ｂｅｎｚｈｙｄｒｙｌ  ＝−ＣＨ（フェニル）２
ＣＤＩ                ＝１，１’−カルボニルジイミダゾール
ＤＡＦ                ＝ジアセトンフルクトース
ＤＣＣ                ＝１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド
ＤＣＭ                ＝ジクロロメタン
ＤＩＰＥＡ            ＝ジイソプロピルエチルアミン
ＤＭＥ                ＝ジメトキシエタン
ＤＭＦ                ＝ジメチルホルムアミド
ＥｔＯＡｃ            ＝酢酸エチル
ＥｔＯＨ              ＝エタノール
ＧＣ                  ＝ガスクロマトグラフィー
ＨＢＴＵ              ＝Ｏ−（１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート
ＨＰＬＣ              ＝高圧液体クロマトグラフィー
ＭｅＯＨ              ＝メタノール
ＳＥＭ                ＝２−（トリメチルシリル）エトキシメチル
ＳＥＭ−Ｃｌ          ＝２−（トリメチルシリル）エトキシメチルクロリド
ＴＢＡＨ              ＝テトラブチルアンモニウムヒドロキシド
ＴＥＡ                ＝トリエチルアミン
ＴＨＦ                ＝テトラヒドロフラン
ＴＬＣ                ＝薄層クロマトグラフィー
Ｔｏｐｉｒａｍａｔｅ＝２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメート
式（Ｉ）の化合物は、スキーム１に概述される方法に従って製造することができる。
【０１６９】
【化４９】
2005526852.tif 000051
【０１７０】
さらに特定的に、既知の化合物である式（ＩＩ）の化合物（１９８５年４月２３日発行の米国特許第４，５１３，００６号、Ｍａｒｙａｎｏｆｆ，ｅｔ  ａｌ．，に開示されている通りに製造される）を、好ましくは約１〜約２当量の範囲内の量における、既知の化合物又は既知の方法により製造される化合物である式（ＩＩＩ）の適切に置換されたアミンと、アセトニトリル、ＴＨＦ、ＤＭＥ、塩化メチレンなどのような有機溶媒中で、ピリジン、ＤＩＰＥＡ、ＴＥＡなどのような有機塩基の存在下で反応させ、対応する式（Ｉ）の化合物を得る。
【０１７１】
あるいはまた、Ｒ１又はＲ２の１つがヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ又はアラルキルオキシから選ばれる式（Ｉ）の化合物を、スキーム２に概述される方法に従って製造することができる。
【０１７２】
【化５０】
2005526852.tif 000052
【０１７３】
さらに特定的に、式（ＩＩ）の化合物を、好ましくは約１〜約２当量の範囲内の量における、Ｒ１ｂ又はＲ２ｂの１つがヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ又はアラルキルオキシである適切に置換された式（ＩＶ）の化合物、既知の化合物又は既知の方法により製造される化合物と、アセトニトリル、ＴＨＦ、ＤＭＥなどのような有機溶媒中で、Ｋ２ＣＯ３、ＤＩＰＥＡ、ＴＥＡなどのような塩基、好ましくはＫ２ＣＯ３の存在下で反応させ、対応する式（Ｉａ）の化合物を得る。
【０１７４】
Ｒ１の１つが水素であり、Ｒ２がアルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル又はアラルキルオキシカルボニルから選ばれる（すなわちＲ１又はＲ２が−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｒ１６であり、ここでＲ１６はアルキル、アリール又はアラルキルである）式（Ｉ）の化合物は、スキーム３に概述される方法に従って製造することができる。
【０１７５】
【化５１】
2005526852.tif 000053
【０１７６】
さらに特定的に、既知の化合物又は既知の方法により製造される化合物である式（Ｖ）の化合物を、Ｒ１６がアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれる適切に置換された式（ＶＩ）の化合物、既知の化合物又は既知の方法により製造される化合物と、アセトニトリル、ＴＨＦなどのような有機溶媒中で、水酸化ナトリウム、Ｋ２ＣＯ３、Ｎａ２ＣＯ３、ＣｓＣＯ３などのような無機塩基又はＴＥＡ、ＤＩＰＥＡ、ピリジンなどのような有機塩基の存在下、好ましく有機塩基の存在下で反応させ、対応する式（Ｉｂ）の化合物を得る。
【０１７７】
Ｒ１及びＲ２の両方が−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｒ１６から選ばれ、ここでＲ１６は前に定義した通りである式（Ｉ）の化合物は、式（Ｉｂ）の化合物を、適切に置換された式Ｒ１６−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｃｌの化合物又は適切に置換された式Ｒ１６−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｏ−Ｒ１６の対称もしくは非対称化合物と、ＴＥＡ、ＤＩＰＥＡ、ピリジンなどのような塩基の存在下に、アセトニトリル、ＴＨＦなどのような有機溶媒中でさらに反応させることにより製造することができる。
【０１７８】
あるいはまた、式（Ｉ）の化合物を式（ＸＸ）
【０１７９】
【化５２】
2005526852.tif 000054
【０１８０】
の化合物から直接製造することができる。
【０１８１】
Ｒ１又はＲ２の１つが−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９より成る群から選ばれ、ここでＲ９は前に定義した通りである式（Ｉ）の化合物は、スキーム４に概述される方法に従って製造することができる。
【０１８２】
【化５３】
2005526852.tif 000055
【０１８３】
従って、式（ＸＸ）の化合物を適切に置換された対称もしくは非対称無水物、好ましくは適切に置換された対称無水物、既知の化合物又は既知の方法により製造される化合物であるＲ９が前に定義した通りである式（ＶＩＩＩ）の化合物と、ＴＥＡ、ＤＩＰＥＡ、ピリジンなどのような有機塩基の存在下に、ＴＨＦ、ＡｃＮ、酢酸エチル、ＤＭＥなどのような有機溶媒中で反応させ、対応する式（Ｉｃ）の化合物を得る。
【０１８４】
あるいはまた、式（ＸＸ）の化合物を、適切に置換された酸クロリド、Ｒ９が前に定義した通りである式（ＩＸ）の化合物と、ＴＥＡ、、ＤＩＰＥＡ、ピリジンなどのような有機塩基の存在下に、ＴＨＦ、アセトニトリル、酢酸エチル、ＤＭＥなどのような有機溶媒中で反応させ、対応する式（Ｉｃ）の化合物を得る。
【０１８５】
当該技術分野における熟練者は、上記のスキーム４に概述した方法において、式（ＩＸ）の酸クロリド化合物を代わりに適切に置換された酸ブロミド（すわち式Ｒ９−Ｃ（Ｏ）−Ｂｒの化合物）又は適切に置換された酸フルオリド（すわち式Ｒ９−Ｃ（Ｏ）−Ｆの化合物）で置き換え、式（ＸＸ）の化合物と反応させて対応する式（Ｉｃ）の化合物を得ることができることを認識するであろう。
【０１８６】
Ｒ１及びＲ２の両方が−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９から選ばれる式（Ｉ）の化合物は、上記の方法に従って式（ＸＸ）の化合物を、少なくとも２当量の式（ＩＸ）の適切に置換された酸クロリドと反応させることにより製造することができる。
【０１８７】
あるいはまた、Ｒ１及びＲ２の両方がそれぞれ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９から選ばれ、且つ同じでない式（Ｉ）の化合物は、上記の方法に従って式（Ｉｃ）の化合物を、適切に置換された式（ＩＸ）の酸クロリドと反応させることにより製造することができる。
【０１８８】
類似して、Ｒ１又はＲ２の１つが−ＳＯ２−Ｒ１２より成る群から選ばれ、ここでＲ１２は前に定義した通りである式（Ｉ）の化合物は、スキーム４に概述した方法に従い、式（ＶＩＩＩ）の対称もしくは非対称無水物の代わりに適切に置換された対称もしくは非対称スルホン酸無水物（Ｒ１２−ＳＯ２−Ｏ−ＳＯ２−Ｒ１２）を選び且つ置き換えて、あるいは式（ＩＸ）の酸クロリドの代わりに適切に置換されたスルホニルクロリド（Ｒ１２−ＳＯ２−Ｃｌ）を選び且つ置き換えて製造することができる。当該技術分野における熟練者はさらに、適切に置換されたスルホニルクロリドの代わりに適切に置換されたスルホニルブロミド（Ｒ１２−ＳＯ２−Ｂｒ）を用いて所望の生成物を得ることができることを認識するであろう。
【０１８９】
類似して、Ｒ１又はＲ２の１つが−ＳＯ２−Ｒ１２から選ばれ、Ｒ１２がアミノ、アルキルアミノ及びジアルキルアミノより成る群から選ばれる式（Ｉ）の化合物は、適切に置換された式（ＸＸ）の化合物をスルフリルクロリド（ＳＯ２Ｃｌ２）と反応させ、次いで適切に置換されたアミン、アルキルアミン又はジアルキルアミンと反応させることにより製造することができる。
【０１９０】
Ｒ１もしくはＲ２の１つ又は両方がＳＥＭである式（Ｉ）の化合物は、式（ＸＸ）の化合物をＳＥＭ−Ｃｌと、水素化ナトリウム、ｎ−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミドなどのような塩基の存在下に、ＴＨＦ、ＤＭＥ、アセトニトリル、酢酸エチルなどのような有機溶媒中で反応させることにより製造することができる。Ｒ１又はＲ２の１つがＳＥＭの場合、ＳＥＭ−Ｃｌ試薬は約１当量に等しい量で存在する。Ｒ１及びＲ２の両方がＳＥＭの場合、ＳＥＭ−Ｃｌ試薬は１当量より多い量で、好ましくは約２当量に等しいかもしくはそれより多い量で存在する。
【０１９１】
Ｒ１が−Ｐ（Ｏ）（Ｒ１３）２であり、ここでＲ１３は前に定義した通りである式（Ｉ）の化合物は、スキーム５に概述される方法に従って製造することができる。
【０１９２】
【化５４】
2005526852.tif 000056
【０１９３】
従って、スキーム２に記載した通りに製造される適切に置換された式（Ｉｂ’）の化合物を、既知の化合物又は既知の方法により製造される化合物である適切に置換された式（ＸＩ）の化合物と、ＴＥＡ、ＤＩＰＥＡ、ピリジンなどのような塩基の存在下に、トルエン、キシレン、ベンゼンなどのような有機溶媒中で、下げられた温度において反応させ、対応する式（ＸＩＩ）の化合物を得、それを高められた温度で、好ましくは約８０℃より高いかもしくはそれと等しい温度で加熱し、対応する式（Ｉｄ）の化合物を得る。
【０１９４】
当該技術分野における熟練者は、上記のスキーム５に概述される方法において、式Ｂｒ−Ｐ（Ｒ１３）２の適切に置換された化合物を式（ＸＩ）の化合物の代わりに置き換え、式（Ｉｂ’）の化合物と反応させて対応する式（ＸＩＩ）の化合物を得、それを次いでさらに反応させて対応する式（Ｉｄ）の化合物を得ることができることを認識するであろう。
【０１９５】
Ｒ１及びＲ２が、それらが結合するＮ原子と一緒になって式−Ｎ＝Ｃ（Ｒ１４）２の基を形成し；且つここで少なくとも１個のＲ１４が水素及びアルキルより成る群から選ばれる式（Ｉ）の化合物は、スキーム６に概述される方法に従って製造することができる。
【０１９６】
【化５５】
2005526852.tif 000057
【０１９７】
従って、既知の化合物である適切に置換された式（ＸＸ）の化合物を、既知の化合物又は既知の方法により製造される化合物である適切に置換された式（ＸＩＩＩ）の化合物と、ＭｅＯＨ、ＴＨＦ、ＡｃＮなどのような有機溶媒中で、好ましくは触媒量の酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ＨＣｌなどのような酸の存在下に反応させ、対応する式（Ｉｅ）の化合物を得る。
【０１９８】
類似して、Ｒ１及びＲ２が、それらが結合する窒素原子と一緒になって−Ｎ＝Ｃ（Ｒ１４）２を形成し、ここで１個のＲ１４がジアルキルアミノである式（Ｉ）の化合物は、適切に置換された式（ＸＸ）の化合物を、既知の化合物又は既知の方法により製造される化合物である式
【０１９９】
【化５６】
2005526852.tif 000058
【０２００】
の適切に置換された化合物と、塩化メチレン、ジエチルエーテル、ＴＨＦなどのような有機溶媒中で反応させることにより製造することができる。
【０２０１】
類似して、Ｒ１及びＲ２が、それらが結合する窒素原子と一緒になって−Ｎ＝Ｃ（Ｒ１４）２を形成し、ここで２個のＲ１４基が、それらが結合している炭素原子と一緒になって式
【０２０２】
【化５７】
2005526852.tif 000059
【０２０３】
のヘテロシクロアルキル基を形成する式（Ｉ）の化合物は、適切に置換された式（ＸＸ）の化合物を、既知の化合物又は既知の方法により製造される化合物である式
【０２０４】
【化５８】
2005526852.tif 000060
【０２０５】
の適切に置換された化合物と、水素化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドなどのような塩基の存在下に、塩化メチレン、ジエチルエーテル、ＴＨＦなどのような有機溶媒中で反応させることにより製造することができる。
【０２０６】
Ｒ１及びＲ２が、それらが結合する窒素原子と一緒になって式
【０２０７】
【化５９】
2005526852.tif 000061
【０２０８】
の基を形成する式（Ｉ）の化合物は、スキーム７に概述される方法に従って製造することができる。
【０２０９】
【化６０】
2005526852.tif 000062
【０２１０】
従って、既知の化合物又は既知の方法により製造される化合物である式（ＸＸ）の化合物を、Ｗが−ＯＨ、−Ｃｌ、−Ｂｒ又は−Ｆである式（ＸＩＶ）の適切に置換された化合物、既知の化合物又は既知の方法により製造される化合物と、ＤＣＣ、ＣＤＩ、ＨＢＴＵなどのようなカップリング剤の存在下に、ＤＩＰＥＡ、ＴＥＡ、ピリジンなどのような有機塩基の存在下で、ＤＣＭ、ＴＨＦ、ＤＭＦなどもしくはそれらの混合物のような有機溶媒中において反応させ、対応する式（Ｉｆ）の化合物を得る。式（ＸＩＶ）の化合物においてＷがＣｌ、Ｂｒ又はＦである場合、有機塩基は有機第３級アミン塩基、例えばＴＥＡ、ＤＩＰＥＡ、ピリジンなどである。
【０２１１】
式（Ｉｆ）の化合物を、アセトン、メタノール、ＤＭＦ、ＴＨＦなどのような極性有機溶媒中でＮａＯＨ、ＫＯＨ、ＴＢＡＨなどのような塩基と反応させ、対応する式（Ｉｇ）の化合物を得る。
【０２１２】
式（Ｉｇ）の化合物を、ＣＤＩ、ＤＣＣ、ＨＢＴＵなどのようなカップリング剤の存在下に、ＤＩＰＥＡ、ＴＥＡ、ピリジンなどのような有機塩基の存在下で、ＴＨＦ、ＤＭＦ、ＡｃＮなどのような有機溶媒中において閉環させ、対応する式（Ｉｈ）の化合物を得る。
【０２１３】
式（ＸＸ）の化合物は、スキーム８に概述される方法に従って製造することができる。
【０２１４】
【化６１】
2005526852.tif 000063
【０２１５】
従って、上記のスキームのいずれかにおける通りに製造される式（Ｉｊ）の化合物を脱−保護条件下で反応させ（例えばＴ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ  ＆  Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ，Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，１９９１に記載されている通り）、対応する式（ＸＸ）の化合物を得る。
【０２１６】
Ｒ１ａが水素、ベンジル、ヘテロアリール−Ｃ１アルキル、ヘテロシクロアルキル−Ｃ１アルキル及びベンジルオキシカルボニルより成る群から選ばれ；且つＲ２ａがベンジル、ヘテロアリール−Ｃ１アルキル、ヘテロシクロアルキル−Ｃ１アルキル及びベンジルオキシカルボニルより成る群から選ばれる式（Ｉｊ）の化合物の場合；式（Ｉｊ）の化合物を接触還元に供し、対応する式（ＸＸ）の化合物を得る。さらに特定的に、式（Ｉｊ）の化合物を、炭素上の１０％Ｐｄ、炭素上のＰｔなどのような触媒の存在下に、エタノール、メタノールなどのような有機溶媒中において、Ｈ２ガスのような還元剤で、好ましくは約１〜約７０ｐｓｉ、好ましくは約５０ｐｓｉの圧力における水素ガスで処理し、対応する式（ＸＸ）の化合物を得る。
【０２１７】
あるいはまた、Ｒ１ａが水素、置換エチル、アルケニル（ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、シクロアルケニル（ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２及びＳＥＭより成る群から選ばれ；且つＲ２ａが置換エチル、アルケニル（ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、シクロアルケニル（ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子１個移動した位置にある）、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｓｉ（Ｒ１７）３、−Ｓｉ（Ｒ１０）（Ｏ０−１Ｒ１１）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ１３）２及びＳＥＭより成る群から選ばれるか；あるいはＲ１ａ及びＲ２ａが、それらが結合している窒素原子と一緒になって式−Ｎ＝Ｃ（Ｒ１４）２の基を形成する式（Ｉｊ）の化合物の場合；式（Ｉｊ）の化合物を酸開裂に供し、対応する式（ＸＸ）の化合物を得る。さらに特定的に、式（Ｉｊ）の化合物をアセトン、ＴＨＦ、ＤＣＭなどのような極性溶媒、好ましくはアセトン中で、塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸などのような酸と反応させ、対応する式（ＸＸ）の化合物を得る。
【０２１８】
あるいはさらにまた、Ｒ１ａが水素、アルコキシカルボニルＣ２アルキル及び−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）より成る群から選ばれ；且つＲ２ａがカルボキシエチル、アルコキシカルボニルＣ２アルキル及び−Ｃ（Ｏ）−Ｒ９、−Ｃ（Ｏ）−（アルキル）−Ｏ−（アルキル）より成る群から選ばれる式（Ｉｊ）の化合物の場合；式（Ｉ）の化合物を塩基性開裂に供し、対応する式（ＸＸ）の化合物を得る。さらに特定的に、式（Ｉｊ）の化合物を、ＴＨＦ、ＤＭＦなどのような有機溶媒中で水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ＴＢＡＨなどのような塩基と反応させ、対応する式（ＸＸ）の化合物を得る。
【０２１９】
Ｒ１ａ及びＲ２ａが一緒になって式
【０２２０】
【化６２】
2005526852.tif 000064
【０２２１】
の基を形成する式（Ｉｊ）の化合物を脱−保護条件下で反応させ、対応する式（ＸＸ）の化合物を得ることができる。例えば式（Ｉｊ）の化合物を、低級アルコール（例えばエタノール、メタノール、イソプロパノールなど）、ＴＨＦ、ＤＭＦなどのような有機溶媒中で、ヒドラジン、メチルヒドラジン又はフェニルヒドラジンのような試薬と反応させる。
【０２２２】
当該技術分野における熟練者は、Ｒ１ａ及びＲ２ａが独立して同じ条件下で除去され得ない基である場合（例えばＲ１ａ基は酸開裂により除去され得、Ｒ２ａ基は塩基性開裂により除去され得る場合）、式（Ｉｊ）の化合物をＲ１ａ及びＲ２ａ基のために必要なそれぞれの脱−保護条件に、逐次的又は同時的やり方で供し、対応する式（ＸＸ）の化合物を得ることができることを認識するであろう。
【０２２３】
本発明の１つの好ましい態様に、脱−保護条件下（例えばＴ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ  ＆  Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ，Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，１９９１に記載されているような）で式（Ｉｋ）の化合物を反応させることを含んでなる、式（ＸＸａ）の化合物の製造法がある。
【０２２４】
本発明の１つの態様において、式（Ｉｊ）の化合物を上記の方法に従って接触還元に供することにより、式（Ｉｊ）の化合物を脱−保護する。本発明の他の態様において、式（Ｉｊ）の化合物を上記の方法に従って酸開裂に供することにより、式（Ｉｊ）の化合物を脱−保護する。本発明のさらに別の態様において、式（Ｉｊ）の化合物を上記の方法に従って塩基性開裂に供することにより、式（Ｉｊ）の化合物を脱−保護する。本発明のさらに別の態様において、式（Ｉｊ）の化合物を上記の方法に従ってヒドラジン、メチルヒドラジン又はフェニルヒドラジンのような試薬と反応させることにより、式（Ｉｊ）の化合物を脱−保護する。
【０２２５】
本発明の１つの態様において、式（Ｉｋ）の化合物を上記の方法に従って接触還元に供することにより、式（Ｉｋ）の化合物を脱−保護する。本発明の他の態様において、式（Ｉｋ）の化合物を上記の方法に従って酸開裂に供することにより、式（Ｉｋ）の化合物を脱−保護する。本発明のさらに別の態様において、式（Ｉｋ）の化合物を上記の方法に従って塩基性開裂に供することにより、式（Ｉｋ）の化合物を脱−保護する。本発明のさらに別の態様において、式（Ｉｋ）の化合物を上記の方法に従ってヒドラジン、メチルヒドラジン又はフェニルヒドラジンのような試薬と反応させることにより、式（Ｉｋ）の化合物を脱−保護する。
【０２２６】
本発明に従う化合物の製造法が立体異性体の混合物を生ずる場合、これらの異性体を調製的クロマトグラフィーのような通常の方法により分離することができる。化合物をラセミ体において製造することができるか、あるいはエナンチオマー特異的合成により、又は分割により個々のエナンチオマーを製造することができる。例えば、光学的に活性な酸、例えば（−）−ジ−ｐ−トルオイル−ｄ−酒石酸及び／又は（＋）−ジ−ｐ−トルオイル−ｌ−酒石酸との塩形成によるジアステレオマー対の形成ならびに続く分別結晶化及び遊離の塩基の再生のような標準的方法により、化合物をそれらの成分エナンチオマー（ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ  ｅｎａｎｔｉｏｍｅｒｓ）に分割することができる。ジアステレオマーエステル又はアミドの形成ならびに続くクロマトグラフィー分離及びキラル助剤の除去により化合物を分割することもできる。あるいはまた、キラルＨＰＬＣカラムを用いて化合物を分割することができる。
【０２２７】
本発明の化合物の製造のためのいずれの方法の間にも、関連するいずれかの分子上の敏感なもしくは反応性の基を保護することが必要及び／又は望ましいかもしれない。これは、通常の保護基、例えばＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｊ．Ｆ．Ｗ．ＭｃＯｍｉｅ編集，Ｐｌｅｎｕｍ  Ｐｒｅｓｓ，１９７３年；及びＴ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ  ＆  Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ，Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，１９９１年に記載されているものにより達成することができる。簡便な続く段階に当該技術分野から既知の方法を用い、保護基を除去することができる。
【０２２８】
当該技術分野における熟練者はさらに、本発明の反応段階を多様な適した溶媒中で行なうことができる場合、該反応段階を適した溶媒の混合物中で行なうこともできることを認識するであろう。
【０２２９】
本発明は、１種もしくはそれより多い本発明の化合物を製薬学的に許容され得る担体と一緒に含んでなる製薬学的組成物も提供する。好ましくは、これらの組成物は経口的、非経口的、鼻内、舌下又は直腸的投与のためあるいは吸入又は吹入による投与のための単位投薬形態物、例えば錠剤、丸薬、カプセル、粉剤、顆粒剤、無菌非経口用溶液又は懸濁剤、計量エアゾール又は液体スプレー、ドロップス、アンプル剤、自動注入装置（ａｕｔｏｉｎｊｅｃｔｏｒ  ｄｅｖｉｃｅｓ）又は座薬において存在する。あるいはまた、組成物は週に１回又は月に１回の投与に適した形態で存在することができ；例えば活性化合物の不溶性塩、例えばデカン酸塩を筋肉内注入のためのデポ剤（ｄｅｐｏｔ  ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ）を与えるように適応させることができる。錠剤のような固体組成物の調製のためには、主な活性成分を製薬学的担体、例えばコーンスターチ、ラクトース、スクロース、ソルビトール、タルク、ステアリン酸、ステアリン酸マグネシウム、リン酸二カルシウム又はゴムのような通常の錠剤化成分及び他の製薬学的希釈剤、例えば水と混合し、本発明の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩の均一な混合物を含有する固体予備調製組成物（ｓｏｌｉｄ  ｐｒｅｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ  ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ）を形成する。これらの予備調製組成物を均一と言う場合、活性成分が組成物全体に均一に分散し、組成物が錠剤、丸薬及びカプセルのような等しく有効な投薬形態物に容易に細分され得ることを意味する。この固体予備調製組成物を次いで、約５〜約２０００ｍｇの本発明の活性成分を含有する上記のような型の単位投薬形態物に細分する。新規な組成物の錠剤又は丸薬をコーティングするか又は他のやり方で配合し、長期間の作用の利点を与える投薬形態物を与えることができる。例えば錠剤又は丸薬は内部投薬及び外部投薬成分を含み、後者が前者を覆う外被の形態にあることができる。胃における崩壊に抵抗するように働き、内部成分が十二指腸中に無損傷で通過するか、又は放出が遅れることを可能にする腸溶層により、２つの成分を分離することができる。そのような腸溶層又はコーティングのために多様な材料を用いることができ、そのような材料にはシェラック、セチルアルコール及び酢酸セルロースのような材料と一緒に複数の高分子酸が含まれる。
【０２３０】
経口的に又は注入により投与するために本発明の新規な組成物を導入することができる液体形態物には、水溶液、適切に風味付けられたシロップ、水性もしくは油懸濁剤ならびに綿実油、ごま油、ココナツ油又はピーナツ油のような食用油ならびにエリキサー及び類似の製薬学的ビヒクルを用いる風味付けられた乳剤が含まれる。水性懸濁剤のための適した分散剤又は懸濁化剤には合成及び天然ゴム、例えばトラガカント、アラビアゴム、アルギネート、デキストラン、ナトリウムカルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ポリビニルピロリドン又はゼラチンが含まれる。
【０２３１】
本発明に記載されるてんかんの処置の方法を、本明細書で定義されるいずれかの化合物及び製薬学的に許容され得る担体を含んでなる製薬学的組成物を用いて行なうこともできる。製薬学的組成物は約１ｍｇ〜約２０００ｍｇ、好ましくは約５ｍｇ〜約１０００ｍｇ、より好ましくは約１０ｍｇ〜約５００ｍｇの化合物を含有することができ、選ばれる投与の様式に適したいずれの形態に構成されることもできる。担体には、結合剤、懸濁化剤、潤沢剤、風味剤、甘味料、防腐剤、染料及びコーティングを含むがこれらに限られない、必要且つ不活性な製薬学的賦形剤が含まれる。経口的投与に適した組成物には固体形態物、例えば丸薬、錠剤、キャプレット（ｃａｐｌｅｔｓ）、カプセル（それぞれ即時放出、適時放出（ｔｉｍｅｄ  ｒｅｌｅａｓｅ）及び持続放出調剤を含む）、顆粒剤及び粉剤ならびに液体形態物、例えば溶液、シロップ、エリキサー、乳剤及び懸濁剤が含まれる。非経口的投与に有用な形態物には無菌溶液、乳剤及び懸濁剤が含まれる。
【０２３２】
有利には、本発明の化合物を１回の１日の投薬量において投与することができるか、あるいは１日の投薬量全体を１日２、３又は４回の分割された投薬量において投与することができる。さらに、適した鼻内ビヒクルの局所的使用を介して鼻内形態物において、あるいは当該技術分野における通常の熟練者に周知の経皮的皮膚パッチを介して本発明の化合物を投与することができる。経皮送達系の形態で投与するためには、投薬量投与はもちろん、投薬量管理全体を通じて断続的ではなくて継続的であろう。
【０２３３】
例えば、錠剤又はカプセルの形態における経口的投与のために、活性薬剤成分を経口用無毒性の製薬学的に許容され得る不活性担体、例えばエタノール、グリセロール、水などと合わせることができる。さらに、望ましいかもしくは必要な場合、適した結合剤、滑沢剤、崩壊剤及び着色剤を混合物中に導入することもできる。適した結合剤には澱粉、ゼラチン、天然の糖類、例えばグルコース又はベータ−ラクトース、コーン甘味料、天然及び合成ゴム、例えばアラビアゴム、トラガカント又はオレイン酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸マグネシウム、安息香酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、塩化ナトリウムなどが含まれるが、これらに限られない。崩壊剤には澱粉、メチルセルロース、寒天、ベントナイト、キサンタンゴムなどが含まれるが、これらに限られない。
【０２３４】
液体形態物は、適切に風味付けられた懸濁化剤又は分散剤、例えば合成及び天然ゴム、例えばトラガカント、アラビアゴム、メチルセルロースなどを含むことができる。非経口的投与のためには、無菌の懸濁剤及び溶液が望ましい。静脈内投与が望ましい場合、一般に適切な防腐剤を含有する等張調製物が用いられる。
【０２３５】
本発明の化合物をリポソーム送達系、例えば小さい単層小胞、大きい単層小胞及び多層小胞の形態で投与することもできる。リポソームは、多様なリン脂質、例えばコレステロール、ステアリルアミン又はホスファチジルコリンから形成することができる。
【０２３６】
化合物分子をカップリングさせた個別の担体としてモノクローナル抗体を用いることにより本発明の化合物を送達することもできる。本発明の化合物を、標的化可能な薬剤担体としての可溶性ポリマーとカップリングさせることもできる。そのようなポリマーにはポリビニルピロリドン、ピランコポリマー、ポリヒドロキシプロピルメタクリルアミドフェノール、ポリヒドロキシエチルアスパルタミドフェノール又はパルミトイル残基で置換されたポリエチレンオキシドポリリシンが含まれ得る。さらに、制御された薬剤の放出の達成に有用なある種の生分解性ポリマー、例えばポリ乳酸、ポリエプシロンカプロラクトン、ポリヒドロキシ酪酸、ポリオルトエステル、ポリアセタール、ポリジヒドロピラン、ポリシアノアクリレート及びヒドロゲルの架橋されたもしくは両親媒性ブロックコポリマーに本発明の化合物をカップリングさせることができる。
【０２３７】
てんかんの処置が必要な場合には常に、前記のいずれかの組成物において且つ当該技術分野において確立された投薬管理に従って、本発明の化合物を投与することができる。
【０２３８】
生成物の１日の投薬量は、１日当たり成人につき５〜１，０００ｍｇの広い範囲に及んで変わることができる。経口的投与の場合、処置されるべき患者に投薬量を症状的に調節するため、組成物は好ましくは５．０、１０．０、１５．０、２５．０、５０．０、１００、２５０及び５００ミリグラムの活性成分を含有する錠剤の形態で与えられる。薬剤の有効量は通常１日に体重のｋｇ当たり約０．０１ｍｇ〜約５０ｍｇの投薬量レベルで供給される。好ましくは、範囲は１日に体重のｋｇ当たり約０．１ｍｇ〜約２５ｍｇ、より好ましくは１日に体重のｋｇ当たり約０．２ｍｇ〜約１０ｍｇ、より好ましくは１日に体重のｋｇ当たり約０．５ｍｇ〜約１０ｍｇである。化合物を１日につき１〜４回の管理で投与することができる。
【０２３９】
投与されるべき最適投薬量は当該技術分野における熟練者により容易に決定され得、用いられる特定の化合物、調製物の濃度、投与の様式及び疾患状態の進行とともに変わるであろう。さらに、患者の年令、体重、食事及び投与の時間を含む、処置されている特定の患者に関連する因子が投薬量を調節する必要を生ずるであろう。
【０２４０】
下記の実施例は本発明をより詳細に記述し、本発明を例示することが意図されているが、それを制限することは意図されていない。
［実施例１］
【０２４１】
Ｎ−アリル−２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメート（化合物＃２）
【０２４２】
【化６３】
2005526852.tif 000065
【０２４３】
温度計、攪拌棒、滴下ロート及びＮ２出口が備えられた５００ｍＬの３つ口反応フラスコに、アリルアミン（２．１ｍＬ，２８ミリモル）、テトラヒドロフラン（８５ｍＬ）及びトリエチルアミン（４．７ｍＬ，３３．５ミリモル）を入れた。滴下ロートに２，２，７，７−テトラメチル−テトラヒドロ−ビス［１，３］ジオキソロ［４，５−ｂ；４’，５’−ｄ］ピラン−３ａ−イルメチルエステルクロロ硫酸（１０．０ｇ，２８ミリモル）及びテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）を入れ、それを室温でゆっくり（１０分かけて）加えた。完全に滴下したら、反応物を５０℃に温め、４時間攪拌した。得られる懸濁液を濾過し、濃縮して粗油を得た。油を酢酸エチル（２００ｍＬ）中に取り上げ、飽和ＮＨ４Ｃｌ（１ｘ５０ｍＬ）及びブライン（１ｘ５０ｍＬ）で洗浄した。相分離の後、有機層をＮａ２ＳＯ４（１５０ｇ）上で乾燥し、次いで濾過し、真空下で濃縮して明黄色の油（９．３ｇ）を得た。油をシリカゲルに適用し、酢酸エチル及びヘキサン（３０％）で溶離させ、表題化合物を得た。放置すると化合物はゆっくり結晶化し、低融点の白色の固体を与えた。
融点  ５１〜５２℃
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ  ５．９９−５．８０（１Ｈ，ｍ），５．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．５Ｈｚ），５．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ），４．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．３，２．５Ｈｚ），４．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），４．２７（１Ｈ，ｓ），４．１９（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１２．９，１０．５Ｈｚ），３．９３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３．０，１．９Ｈｚ），３．８３−３．７４（３Ｈ，ｍ），１．５６（３Ｈ，ｓ），１．４９（３Ｈ，ｓ），１．４４（３Ｈ，ｓ），１．３６（３Ｈ，ｓ）。
元素分析：（Ｔ＝理論値，Ｆ＝測定値）
Ｔ：Ｃ，４７．４８；Ｈ  ６．６４；Ｎ，３．６９；Ｏ，３３．７３；Ｓ，８．４５
Ｆ：Ｃ，４７．５２；Ｈ  ６．７７
化合物＃３〜６，８，２１〜２７，３７〜３９及び４５は、上記のアリルアミンの代わりに適切に置換されたアミンを適宜に選択し且つ置き換えて、上記の方法に従い、類似して製造された。
［実施例２］
【０２４４】
Ｎ−ヒドロキシ−２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメート（化合物＃９）
【０２４５】
【化６４】
2005526852.tif 000066
【０２４６】
温度計、攪拌棒、滴下ロート及びＮ２出口が備えられた２５０ｍＬの３つ口反応フラスコに、ヒドロキシルアミンヒドロクロリド（２．０ｇ，２９ミリモル）、テトラヒドロフラン（６５ｍＬ）、水（１．７ｍＬ）及び炭酸カリウム（３．８ｇ，２７ミリモル）を入れた。テトラヒドロフラン（２０ｍＬ）中の２，２，７，７−テトラメチル−テトラヒドロ−ビス［１，３］ジオキソロ［４，５−ｂ；４’，５’−ｄ］ピラン−３ａ−イルメチルエステルクロロ硫酸（９．３ｇ，２６ミリモル）を、室温で滴下ロートを介し、ゆっくり（１０分かけて）加えた。完全に滴下したら、懸濁液を１２時間攪拌した。反応混合物を濾過し、濃縮して表題生成物を白色の固体として得た。
【０２４７】
第３級ブチルメチルエーテル／ヘキサンからの再結晶により生成物をさらに精製し、白色の固体を得た。
融点  ４５〜４８℃
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ  ７．１０（１Ｈ，ｓ），７．０５（１Ｈ，ｓ），４．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０，２．５Ｈｚ），４．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ），４．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．９３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３．０，１．８Ｈｚ），３．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．９Ｈｚ），３．６９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝１７．４，１２．０Ｈｚ），１．５５（３Ｈ，ｓ），１．４９（３Ｈ，ｓ），１．４０（３Ｈ，ｓ），１．３６（３Ｈ，ｓ）。
【０２４８】
化合物＃１０〜１２は、上記のヒドロキシルアミンヒドロクロリドの代わりに適切に置換されたアミンを適宜選択し且つ置き換えて、上記の方法に従い、類似して製造された。
［実施例３］
【０２４９】
Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメート（化合物＃１４）
【０２５０】
【化６５】
2005526852.tif 000067
【０２５１】
攪拌棒及びＮ２出口が備えられた１００ｍＬの反応フラスコに、クロロスルホニルイソシアノエート（１．８５ｍＬ，２１ミリモル）及びジクロロメタン（１０ｍＬ）を入れた。室温で第３級ブチルアルコール（２．０３ｍＬ，２１ミリモル）をゆっくり加え、溶液を３０分間攪拌した。次いで反応物を濃縮し、残留物をＡｃＮ（２０ｍＬ）中に取り上げた。次いで滴下ロートを介してピリジン（２．６ｍＬ，３２ミリモル）中のＤＡＦ（５．５ｇ，２１ミリモル）を加え、反応物を終夜攪拌した。次いで材料を濃縮乾固して油を得た。油をＤＣＭ（１００ｍＬ）中に取り上げ、０．５Ｎ  ＨＣｌ（２ｘ５０ｍＬ）及びブライン（１ｘ５０ｍＬ）で洗浄した。相分離の後、有機層をＮａ２ＳＯ４（１５０ｇ）上で乾燥し、濾過し、真空下で濃縮して明黄色の油（１０．５ｇ）を得た。油をシリカゲルに適用し、酢酸エチル及びヘキサン（３０％）で溶離させて表題化合物を白色の粉末として得た。
融点  ８８〜９０℃
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ  ４．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），４．４５−４．３４（２Ｈ，ｍ），４．３０−４．１９（２Ｈ，ｍ），３．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．８Ｈｚ），３．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．０Ｈｚ），１．６０−１．３８（１８Ｈ，ｍ），１．３３（３Ｈ，ｓ）
元素分析：（Ｔ＝理論値，Ｆ＝測定値）
Ｔ：Ｃ，４６．４６；Ｈ，６．６５；Ｎ，３．１９；Ｏ，３６．４１；Ｓ，７．３０
Ｆ：Ｃ，４６．７８；Ｈ，６．８９；Ｎ，３．１５
化合物＃１３は、第３級ブチルアルコールの代わりにトリフェニルシリノールに置き換えて、上記の方法に従って類似して製造され、白色の固体を与えた。
［実施例４］
【０２５２】
Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメート（化合物＃１５）
【０２５３】
【化６６】
2005526852.tif 000068
【０２５４】
段階Ａ：
【０２５５】
【化６７】
2005526852.tif 000069
【０２５６】
−［［［（クロロスルホニル）アミノ］カルボニル］オキシ］−ベンゼンの製造
攪拌棒、熱電対及びＮ２出口が備えられた２５０ｍＬの反応フラスコに、クロロスルホニルイソシアノエート（１０．０ｍＬ，１１５ミリモル）及びジクロロメタン（２０ｍＬ）を入れた。反応フラスコを０℃に冷却した後、滴下ロートを介し、３０分かけてベンジルアルコール（１１．９ｍＬ，１１５ミリモル）を加えた。内部温度を１０℃より低く保った。完全な添加の後、反応混合物を室温に温め、１５分間攪拌し、次いで真空下で濃縮して白色の固体を得た。白色の固体を石油エーテル（１００ｍＬ）中で磨砕した。濾過により固体を集め、石油エーテル（２ｘ５０ｍＬ）で洗浄し、真空下で乾燥し、最終的生成物を白色の微粉末として得た。
段階Ｂ：
攪拌棒及びＮ２出口が備えられた１００ｍＬの反応フラスコに、［［［（クロロスルホニル）アミノ］カルボニル］オキシ］−ベンゼン（５．０ｇ，２１ミリモル）及びアセトニトリル（２０ｍＬ）を入れた。次いで滴下ロートを介し、ピリジン（２．４ｍＬ，３０ミリモル）中のジアセトンフルクトース（５．２ｇ，２０ミリモル）を加え、反応物を終夜攪拌した。次いで材料を濃縮乾固して油を得た。油をＤＣＭ（１００ｍＬ）中に取り上げ、０．５Ｎ  ＨＣｌ（２ｘ５０ｍＬ）及びブライン（１ｘ５０ｍＬ）で洗浄した。相分離の後、有機層をＮａ２ＳＯ４（１５０ｇ）上で乾燥し、濾過し、真空下で濃縮して粘着性の白色の固体を得た（９．３ｇ）。材料をシリカゲルに適用し、酢酸エチル及びヘキサン（５０％）で溶離させて表題化合物を粘性の油として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ  ８．５８（１Ｈ，ｓ），７．４５−７．３０（５Ｈ，ｍ），５．２１（１Ｈ，ｓ），４．５８−４．５０（１Ｈ，ｍ），４．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．６，３．０Ｈｚ），４．３５−４．１７（３Ｈ，ｍ），３．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．４Ｈｚ），３．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ），１．５１（３Ｈ，ｓ），１．４３（３Ｈ，ｓ），１．３６（３Ｈ，ｓ），１．３２（３Ｈ，ｓ）
元素分析：（Ｔ＝理論値，Ｆ＝測定値）
Ｔ：Ｃ，５０．７３；Ｈ，５．７５；Ｎ，２．９６；Ｏ，３３．７９；Ｓ，６．７７
Ｆ：Ｃ，５０．９７；Ｈ，６．１０；Ｎ，２．６７
［実施例５］
【０２５７】
Ｎ−プロパノイル−２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメート（化合物＃２８）
【０２５８】
【化６８】
2005526852.tif 000070
【０２５９】
攪拌棒、滴下ロート及びＮ２出口が備えられた２００ｍＬの３つ口反応フラスコに、トピラメート（３．０ｇ，９ミリモル）、トリエチルアミン（１．５ｍＬ，１１ミリモル）、テトラヒドロフラン（８８ｍＬ）、無水プロピオン酸（３．４ｍＬ，２７ミリモル）及び触媒量の１，１−ジメチルアミノピリジン（０．５ｇ，４ミリモル）を入れた。反応混合物を室温で１６時間攪拌し、その後、水（２００ｍＬ）及び酢酸エチル（１５０ｍＬ）を用いて反応をクエンチングした。有機層をブライン（１ｘ１００ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４（７５ｇ）上で乾燥し、濾過し、濃縮して表題化合物を粘性の油として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ  ４．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０，２．６Ｈｚ），４．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７），４．３３−４．２０（３Ｈ，ｍ），３．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．４Ｈｚ），３．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．４），２．５４−２．３４（２Ｈ，ｍ），１．５４（３Ｈ，ｓ），１．４７（３Ｈ，ｓ），１．４２（３Ｈ，ｓ），１．３４（３Ｈ，ｓ），１．１６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）
元素分析：（Ｔ＝理論値，Ｆ＝測定値）
Ｔ：Ｃ，４５．５６；Ｈ，６．３７；Ｎ，３．５４；Ｏ，３６．４２；Ｓ，８．１１
Ｆ：Ｃ，４５．２８；Ｈ，６．４７；Ｎ，３．２６
化合物＃２９は、無水プロピオン酸の代わりに無水酢酸に置き換え、上記の方法に従って類似して製造され、黄色の油を与えた。
【０２６０】
化合物＃４９〜６１は、無水プロピオン酸の代わりに適切に置換された酸クロリドを選択し且つ置き換え、上記の方法に従って類似して製造された。
［実施例６］
【０２６１】
Ｎ−アセチル−２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメートナトリウム塩（化合物＃１８）
【０２６２】
【化６９】
2005526852.tif 000071
【０２６３】
攪拌棒、滴下ロート及びＮ２出口が備えられた２００ｍＬの３つ口反応フラスコに、水素化ナトリウム（０．２ｇ，８ミリモル）及びテトラヒドロフラン（７０ｍＬ）を入れた。滴下ロートを介し、Ｎ−アセチル−２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメート（３．２ｇ，８ミリモル）のテトラヒドロフラン（１５ｍＬ）溶液をゆっくり加えた。混合物を室温で１時間攪拌し、その後溶媒を減圧下で除去した。ヘキサンを用いて固体を磨砕し、生成物を固体として得た。
【０２６４】
固体生成物の試料をアセトンから再結晶し、濾過し、ナトリウム塩としての表題生成物を白色の微粉末として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ  ４．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０，２．７Ｈｚ），４．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），４．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），３．８９−３．６８（３Ｈ，ｍ），３．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．３Ｈｚ），１．７０（３Ｈ，ｓ），１．４３（３Ｈ，ｓ），１．３４（３Ｈ，ｓ），１．２７（３Ｈ，ｓ）
元素分析：（Ｔ＝理論値，Ｆ＝測定値）
Ｔ：Ｃ，４１．６９；Ｈ，５．５０；Ｎ，３．４７；Ｎａ，５．７０；Ｏ，３５．７０；Ｓ，７．９５
Ｆ：Ｃ，４１．５６；Ｈ，５．８９；Ｎ，２．９４；Ｎａ，５．９３
化合物＃１６、１７、１９及び２０は、上記の方法に従い、類似して製造された。
［実施例７］
【０２６５】
Ｎ−トリフルオロメチルスルホニル−２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメート（化合物＃３０）
【０２６６】
【化７０】
2005526852.tif 000072
【０２６７】
攪拌棒及びＮ２出口が備えられた１００ｍＬの反応フラスコに、トピラメート（３．０ｇ，９ミリモル）、ピリジン（０．８ｍＬ，１０ミリモル）及びテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）を入れた。室温でＮ−トリフルオロメタンスルホニルクロリド（０．９４ｍＬ，９ミリモル）を滴下し、２．５時間攪拌した。１．０Ｎ  ＨＣｌ（５０ｍＬ）の添加により反応をクエンチングし、酢酸エチル（１００ｍＬ）で抽出した。相分離の後、有機層をブライン（１ｘ５０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４（１００ｇ）上で乾燥し、濾過し、真空下で濃縮して粘着性の白色の固体を得た（３．０ｇ）。固体をヘキサン／エーテルから再結晶し、表題化合物を白色の粉末として得た。
融点  １２６℃
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ  ４．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０，２．７Ｈｚ），４．３６−４．２（４Ｈ，ｍ），３．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．０，１．９Ｈｚ），３．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．０Ｈｚ），１．５６（３Ｈ，ｓ），１．５１（３Ｈ，ｓ），１．４４（３Ｈ，ｓ），１．３７（３Ｈ，ｓ）
元素分析：（Ｔ＝理論値，Ｆ＝測定値）
Ｔ：Ｃ，３３．１２；Ｈ，４．２８；Ｎ，２．９７；Ｏ，３３．９４；Ｓ，１３．６０；Ｆ，１２．０９
Ｆ：Ｃ，３３．２５；Ｈ，４．１８；Ｎ，３．０６
化合物＃４４及び６２〜９１は、Ｎ−トリフルオロメタンスルホニルクロリドの代わりに適切に置換されたクロリドを適宜選択し且つ置き換え、上記の方法に従って類似して製造された。
［実施例８］
【０２６８】
Ｎ−トリフルオロメチルスルホニル−２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメートモルホリニル塩（化合物＃３１）
【０２６９】
【化７１】
2005526852.tif 000073
【０２７０】
攪拌棒及びＮ２出口が備えられた５０ｍＬの３つ口反応フラスコに、Ｎ−トリフルオロスルホニル−２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメート（０．４ｇ，１ミリモル）、テトラヒドロフラン（１０ｍＬ）を入れ、続いてモルホリン（０．０７ｍＬ，１ミリモル）を加えた。室温で１２時間攪拌した後、反応物を濃縮し、得られる固体をヘキサン／酢酸エチルから再結晶し、水溶性塩としての表題生成物をオフホワイト色の固体として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ  ４．７０（８Ｈ，ｓ），４．４３−４．３７（２Ｈ，ｍ），４．１６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ），３．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．７Ｈｚ），３．８３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），３．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．７Ｈｚ），１．５２（３Ｈ，ｓ），１．４４（３Ｈ，ｓ），１．３８（３Ｈ，ｓ），１．３３（３Ｈ，ｓ）
化合物＃３２は、モルホリンの代わりにｔ−ブチルアミンに置き換え、上記の方法に従って類似して製造され、白色の固体を与えた。
［実施例９］
【０２７１】
Ｎ，Ｎ−ジ（２−（トリメチルシリル）エトキシメチル）−２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメート（化合物＃３３）
【０２７２】
【化７２】
2005526852.tif 000074
【０２７３】
攪拌棒及びＮ２出口が備えられた１００ｍＬの３つ口反応フラスコに、トピラメート（１．０ｇ，３ミリモル）、ジイソプロピルエチルアミン（０．６ｍＬ，４ミリモル）及びテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）を入れた。室温で２−（トリメチルシリル）エトキシメチルクロリド（ＳＥＭ−Ｃｌ）（０．５５ｍＬ，３ミリモル）を滴下し、１４時間攪拌した。飽和塩化ナトリウム（５０ｍＬ）の添加により反応をクエンチングし、酢酸エチル（１００ｍＬ）で抽出した。相分離の後、有機層をブライン（１ｘ５０ｍＬ）で洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４（５０ｇ）上で乾燥し、濾過し、真空下で濃縮して濃い油を得た。油の材料をシリカゲルに適用し、酢酸エチル及びヘキサン（３０％）を用いて溶離させ、主生成物としての表題生成物を油として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ  ４．７６（４Ｈ，ｓ），４．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０，２．７Ｈｚ），４．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ），４．２７−４．２４（１Ｈ，ｍ），４．２２（１Ｈ，ｓ），４．１４−４．１０（１Ｈ，ｍ），３．９１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３．０，２．０Ｈｚ），３．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．８Ｈｚ），３．６６−３．５７（４Ｈ，ｍ），１．５５（３Ｈ，ｓ），１．４８（３Ｈ，ｓ），１．４１（３Ｈ，ｓ），１．３２（３Ｈ，ｓ），０．０１（１８Ｈ，ｓ）
元素分析：（Ｔ＝理論値，Ｆ＝測定値）
Ｔ：Ｃ，４８．０５；Ｈ，８．２３；Ｎ，２．３３；Ｏ，２６．６７；Ｓ，５．３５；Ｓｉ，９．３６
Ｆ：Ｃ，４８．３３；Ｈ，８．１５；Ｎ，２．１２
［実施例１０］
【０２７４】
Ｎ−ジフェニルホスフィニル−２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメート（化合物＃３４）
【０２７５】
【化７３】
2005526852.tif 000075
【０２７６】
攪拌棒及びＮ２出口が備えられた５０ｍＬの反応フラスコに、Ｎ−ヒドロキシトピラメート誘導体（２．１ｇ，６ミリモル）、トリエチルアミン（０．９ｍＬ，７ミリモル）及びトルエン（１６ｍＬ）を入れた。混合物を０℃に冷却し、クロロジフェニルホスフィン（１．１７ｍＬ，７ミリモル）を滴下し、反応混合物を室温で１時間攪拌した。セライトを介して懸濁液を濾過し、濾液を８０℃に１４時間温めた。容器を冷却し、反応混合物を濃縮乾固し、白色の固体を得、それを第３級ブチルメチルエーテルから再結晶して表題生成物を白色の固体として得た。
融点  １３７〜１３８℃
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ  ７．５２−７．３９（４Ｈ，ｍ），７．１７−７．００（６Ｈ，ｍ），４．２２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．９，２．５Ｈｚ），３．９０−３．８６（１Ｈ，ｍ），３．８４（１Ｈ，ｓ），３．６８（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１６．１，９．９Ｈｚ），３．４９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３．０，１．８Ｈｚ），３．２４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．０Ｈｚ），１．１１（３Ｈ，ｓ），０．９８（３Ｈ，ｓ），０．９６（３Ｈ，ｓ），０．８９（３Ｈ，ｓ）
元素分析：（Ｔ＝理論値，Ｆ＝測定値）
Ｔ：Ｃ，５３．４３；Ｈ，５．６０；Ｎ，２．６０；Ｏ，２６．６９；Ｐ，５．７４；Ｓ，５．９４
Ｆ：Ｃ，５３．７２；Ｈ，５．４２；Ｎ，２．３３
［実施例１１］
【０２７７】
Ｎ−（４−カルボキシ−１−プロピル）−２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメート（化合物＃７）
【０２７８】
【化７４】
2005526852.tif 000076
【０２７９】
攪拌棒及びＮ２出口が備えられた５０ｍＬの反応フラスコに、酪酸メチル、２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメート（０．７９ｇ，２ミリモル）及びアセトン（６ｍＬ）を入れた。溶液に１．０Ｎの水酸化ナトリウム（１．９ｍＬ，１．９ミリモル）を加え、反応混合物を室温で１５分間攪拌した。真空下でアセトンを除去した。次いで酢酸エチル（５０ｍＬ）を加え、１．０Ｎ  ＨＣｌを用いてｐＨを約ｐＨ３に調節した。層を分離し、有機層をＮａ２ＳＯ４（２５ｇ）上で乾燥し、濾過し、濃縮して表題化合物を濃い油として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ  ５．３０（１Ｈ，ｓ），４．６３−４．５５（１Ｈ，ｍ），４．３５−４．２８（１Ｈ，ｍ），４．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），４．１２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝２０．４，１１．４Ｈｚ），３．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．８Ｈｚ），３．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．７Ｈｚ），３．１９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝１２．３，５．７Ｈｚ），２．４１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），１．８９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），１．５３（３Ｈ，ｓ），１．４５（３Ｈ，ｓ），１．４０（３Ｈ，ｓ），１．３３（３Ｈ，ｓ）
元素分析：（Ｔ＝理論値，Ｆ＝測定値）
Ｔ：Ｃ，４５．１７；Ｈ，６．４０；Ｎ，３．２９；Ｏ，３７．６１；Ｓ，７．５４
Ｆ：Ｃ，４４．９５；Ｈ，６．２２；Ｎ，３．０５
化合物＃３５及び３６は、酪酸ブチルの代わりに適切に置換されたエステルを適宜に選択し且つ置き換え、上記の方法に従い、類似して製造された。
［実施例１２］
【０２８０】
２，２，７，７−テトラメチル−テトラヒドロ−ビス［１，３］ジオキソロ［４，５−ｂ；４’，５’−ｄ］ピラン−３ａ−イルメチルエンジリデンスルホネート（化合物＃４７）
【０２８１】
【化７５】
2005526852.tif 000077
【０２８２】
攪拌棒、Ｎ２出口及びＤｅａｎ−Ｓｔａｒｋトラップが備えられた１００ｍＬの反応フラスコに、２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメート（３．３９ｇ，１０ミリモル）及びトルエン（５０ｍＬ）を入れた。ベンズアルデヒド（１．１ｍｌ，１１ミリモル）及び１０滴の酢酸を加え、反応物を温めて終夜還流させた。次いで反応物を冷却し、濃縮して濃い油を得た。（注：回転蒸発器上における濃縮の前に、セライトを介して反応混合物を濾過し、固体粒子を除去した）。次いで油をＥｔＯＡｃ（１５０ｍＬ）中に取り上げ、ＮａＨＣＯ３（２ｘ５０ｍＬ）で洗浄した。有機物を乾燥し、次いでシリカゲル（１０ｇ）の栓を介して濾過した。溶離物を濃縮して表題生成物を粗油として得た。
ＨＰＬＣ／ＭＳ／ＥＳ＋［Ｍ＋１］＋質量＝４２８．０
化合物＃４６は上記の方法に従い、類似して製造された。
［実施例１３］
【０２８３】
Ｎ−（２−メトキシカルボニルフェニル）カルボニル−２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメート（化合物＃４０）
【０２８４】
【化７６】
2005526852.tif 000078
【０２８５】
攪拌棒、Ｎ２出口及び滴下ロートが備えられた３００ｍＬの反応フラスコに、フタル酸モノメチル（５．６ｇ，３１ミリモル）、ジクロロメタン（１００ｍＬ）及び１滴のＤＩＰＥＡを入れた。反応混合物を０℃に冷却した。次いで反応混合物に、滴下ロートを介してゆっくりＤＣＣ（６．７ｇ，３２ミリモル）及びジクロロメタン（２５ｍＬ）を加えた。得られる溶液を次いで０℃で３０分間攪拌した。次いで反応混合物に２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメート（１０．０ｇ，２９ミリモル）をジクロロメタン及びＤＩＰＥＡ（５．７ｍＬ，３２ミリモル）の溶液として加えた。攪拌を続けながら、反応物をゆっくり室温に温めた（１２時間）。次いで反応混合物を濃縮して濃い油とした。油をＤＣＭ（１００ｍＬ）中に取り上げ、次いで０．５Ｎ  ＨＣｌ（２ｘ５０ｍＬ）及びブライン（１ｘ５０ｍＬ）で洗浄した。有機層を分離し、Ｎａ２ＳＯ４（１５０ｇ）上で乾燥し、濾過し、真空下で濃縮し、明黄色の油を得た。油をシリカゲルに適用し、ＥｔＯＡｃ／ヘキサン（６０％）を用いて溶離させ、表題化合物を油として得た。
［実施例１４］
【０２８６】
Ｎ−（２−カルボキシフェニル）カルボニル−２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメート（化合物＃４１）
【０２８７】
【化７７】
2005526852.tif 000079
【０２８８】
攪拌棒及びＮ２出口が備えられた１００ｍＬの反応フラスコに、実施例１３における通りに製造された化合物（４．０ｇ，８ミリモル）及びアセトン（２００ｍＬ）を入れた。室温でＮａＯＨ（１．０Ｍ，２０ｍｌ，２０ミリモル）を加え、反応物を終夜攪拌した。次いで反応物を濃縮し、残留油をＥｔＯＡｃ（２５０ｍＬ）中に取り上げた。抽出の後、層を分離した。１．０Ｎ  ＨＣｌ（２５ｍＬ）を用いて水層を約ｐＨ１に調節した。ＥｔＯＡｃ（２００ｍＬ）を用いて生成物を抽出し、有機層をＮａ２ＳＯ４（１５０ｇ）上で乾燥し、濾過し、真空下で濃縮して表題化合物を明黄色の油として得た。
【０２８９】
化合物＃４２及び４３は、上記の実施例１３及び１４に記載した方法に従い、類似して製造された。
［実施例１５］
【０２９０】
２，２，７，７−テトラメチル−テトラヒドロ−ビス［１，３］ジオキソロ［４，５−ｂ；４’，５’−ｄ］ピラン−３ａ−イルメチル−１，３−ジオキソ−１，３−ジヒドロ−イソインドール−２−スルホネート（化合物＃４８）
【０２９１】
【化７８】
2005526852.tif 000080
【０２９２】
１００ｍＬの丸底フラスコに実施例１５における通りに製造された化合物（１．２ｇ，２．２ミリモル）及びＤＭＦ（２５ｍＬ）を入れた。次いで反応容器にＣＤＩ（０．５ｇ，３ミリモル）を入れ、反応混合物を室温で１時間攪拌した。次いで反応混合物にＤＩＰＥＡ（０．５１ｍＬ，３ミリモル）を加え、反応を終夜続けさせた。反応混合物をシリカゲル（５０ｇ）で処理し、セライトの栓を介して濾過した。トルエン（３ｘ５０ｍＬ）を用いてセライトのパッド及びシリカゲルを洗浄した。濾液を濃縮して表題化合物を明黄色の油として得た。
ＨＰＬＣ／ＭＳ（ＥＳ＋）［Ｍ＋Ｎａ］＋＝４９２．１；［Ｍ＋Ｋ］＋＝５０８．２ｍ／ｚ
［実施例１６］
【０２９３】
２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメート（トピラメートとしても既知）
【０２９４】
【化７９】
2005526852.tif 000081
【０２９５】
２５０ｍＬの水素化容器にＮ−フェノキシカルボニル−２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメート（実施例４における通りに製造）（１．０ｇ，２．１ミリモル）、エタノール（２１ｍＬ）及びパラジウムカーボン（０．１ｇ，１０％ｗ／ｗ，公称湿潤）を入れた。室温においてＰａｒｒ水素化器を用い、容器を５０ｐｓｉのＨ２に供した。５時間後、反応物にＮ２をパージし、セライトの栓を介して濾過した。濾液を濃縮して濃い油とした。油をエタノール（１５ｍＬ）及び水（１ｍＬ）で処理し、得られる濁った混合物を温め（５０℃）、熱濾過して不溶性材料を除去した。濾液を０℃に冷却し、終夜結晶化させた。固体を濾過により集め、次いで真空下で乾燥し、表題生成物を白色の固体として得た。
融点  １２６℃
［実施例１７］
【０２９６】
２，３：４，５−ビス−Ｏ（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメート（トピラメートとしても既知）
【０２９７】
【化８０】
2005526852.tif 000082
【０２９８】
２０ｍｌのフラスコに、実施例１２における通りに製造された化合物（０．１８ｇ，０．４２ミリモル）及びアセトン（５ｍＬ）を入れた。室温で触媒量の２．０Ｎ  ＨＣｌ（０．２ｍＬ，０．２ミリモル）を反応混合物に加え、得られる明黄色の溶液を室温で攪拌した。ＧＣ及びＴＬＣを用いて反応の進行を監視した。１．５時間後、反応が完了した。次いで反応混合物をＥｔＯＡｃ（１ｘ５０ｍＬ）及び水（５ｍＬ）で希釈し、有機層を分離し、乾燥し（Ｎａ２ＳＯ４）、濾過し、濃縮した。ＥｔＯＨからの結晶化の後に生成物が白色の固体として単離された。
【０２９９】
固体の１ＨＮＭＲはトピラメートと一致した。
［実施例１８］
【０３００】
２，３：４，５−ビス−Ｏ（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメート（トピラメートとしても既知）
【０３０１】
【化８１】
2005526852.tif 000083
【０３０２】
攪拌棒及びＮ２出口が備えられた２０ｍＬの反応フラスコに、Ｎ−（２−メトキシカルボニルフェニル）カルボニル−２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメート、実施例１３における通りに製造された化合物（０．３ｇ，０．６ミリモル）及びＤＭＦ（６ｍＬ）を入れた。室温でＮａＯＨ（３．０Ｍ，１．２ｍｌ，３．６ミリモル）を加えた。反応物を８０℃に温め、反応を終夜続けさせた（約１２時間）。次いで反応混合物を室温に冷却した。１．０Ｎ  ＨＣｌ（１０ｍＬ）を加え、続いてＥｔＯＡｃ（７５ｍＬ）で希釈した。層を分離し、有機層をＮａ２ＳＯ４（１０ｇ）上で乾燥し、濾過し、濃縮して表題化合物を濃い油として得た。
【０３０３】
固体の１ＨＮＭＲはトピラメートと一致した。
［実施例１９］
【０３０４】
Ｎ−スルファモイル−２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメートモルホリニル塩（化合物＃１００）
【０３０５】
【化８２】
2005526852.tif 000084
【０３０６】
冷却された（−６０℃）ＴＨＦ（３００ｍＬ）中のトピラメート（３９．０２ｇ，０．１１４モル）及びピリジン（１８．１９ｇ，０．２３モル）の混合物に、−６０℃より低い温度を保持しながら１０分間かけてスルフリルクロリド（３１．０４ｇ，０．２３モル）を滴下した。３０分後、氷浴を除去し、混合物を１Ｌのガラスで内張りされたオートクレーブ中に注いだ。無水アンモニアを用い、反応器を周囲温度で２４ｐｓｉに加圧し、終夜保持した。翌朝、得られる暗褐色の混合物を減圧下で濃縮し、得られる赤がかった褐色の残留物（５３．０４ｇ）を蒸留水中に溶解し、ＣＨ２Ｃｌ２（４ｘ１００ｍＬ）で抽出した。水層を減圧下で濃縮して表題化合物を脆い淡褐色の泡として得た。
【０３０７】
この泡の３つの別の試料（３０〜４０ｍＬの水中に溶解された６．０ｇ、ＭｅＯＨ中に溶解された４．６ｇ及び溶媒系中に溶解された２．０ｇ）を、１８Ｃカラムを用いてＷａｔｅｒｓ  Ｐｒｅｐ  ５００上でクロマトグラフィーにかけ、ＭｅＯＨ：ＡｃＮ：０．５Ｍ  ＮａＣｌ（１５：３５：５０）を用いて溶離させた。生成物を含有する最もきれいな画分を合わせ、減圧下で濃縮して生成物を淡褐色の固体として得た。
ＭＳ  ＭＨ＋＝４１８
［実施例２０］
【０３０８】
Ｎ−（１−メチル−ピロリジン−２−イリデン）−２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメートモルホリニル塩（化合物＃１０２）
【０３０９】
【化８３】
2005526852.tif 000085
【０３１０】
Ｎ−メチルピロリジオン（１３０．０１ｇ，１．３１モル）及びジメチルサルフェート（１５３．９４ｇ，１１５．５ｍＬ，１．２２モル）を蒸気浴上で１時間加熱した。得られる黒い溶液を、塩化メチレン（６６０ｍＬ）中にトピラメート（１０４．５ｇ，０．３１モル）及びナトリウムメトキシド（６６．５ｇ，１．２２モル）を含有する混合物に加え、次いで蒸気浴上で４時間加熱還流した。反応混合物を１Ｎ  ＮａＯＨ（４ｘ１００ｍＬ）で洗浄し、層を分離し、水層をＣＨ２Ｃｌ２（４ｘ１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、減圧下で濃縮して黄色の残留物を得、それは放置すると結晶化した。混合物を濾過し、ヘキサンで洗浄して黄色の結晶性固体を得た。粗固体を蒸留水中でスラリ化し、蒸気浴上で加熱した。透明な溶液が得られるまでエタノールを加えた。熱溶液を攪拌しながら終夜冷却した。白色の沈殿が観察された。混合物を濾過し、冷水で洗浄し、乾燥して表題化合物を白色の結晶性の固体として得た。
ＭＳ  ＭＨ＋＝４２０
［実施例２１］
【０３１１】
Ｎ−（ジメチルアミノメチレン）−２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメートモルホリニル塩（化合物＃１０３）
【０３１２】
【化８４】
2005526852.tif 000086
【０３１３】
ジエチルエーテル（６７２ｍＬ）中のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２６．２０ｇ，０．３５８モル）の攪拌溶液に、３５分間かけて塩化オキサリル（４５．４８ｇ，０．３５８モル）を滴下した。すぐに白色の固体が溶液から析出し始めた。滴下が完了した後、混合物を１時間攪拌し、次いで減圧下で濃縮して溶媒を除去した。この固体に、塩化メチレン（８００ｍＬ）中に溶解されたトピラメート（１０５．５４ｇ，０．３１１モル）を加えた。黄色の溶液をアルゴン下に、周囲温度で３時間攪拌し、次いで１Ｎ  ＮａＯＨ（４ｘ１００ｍＬ）で洗浄した。水層を塩化メチレン（４ｘ１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、減圧下で濃縮し、濃い黄色の残留物を得た。蒸気浴上で温めながら残留物を蒸留水（１００ｍＬ）中でスラリ化し、続いて透明な溶液が得られるまでエタノール（１０〜１５ｍＬ）を加えた。熱を除去し、溶液を攪拌しながら終夜周囲温度に冷ました。固体が溶液から析出した。混合物を濾過し、冷水で洗浄し、表題生成物を白色の固体として得た。
ＭＳ  ＭＨ＋＝３９４．４４
［実施例２２］
【０３１４】
Ｎ−２−（５−（２−ピリジル）−チエニル）−２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメートモルホリニル塩（化合物＃９８）
【０３１５】
【化８５】
2005526852.tif 000087
【０３１６】
トピラメート（１．５グラム，４．４ミリモル）、５−（ピリド−２−イル）チエン−２−イル−スルホニルクロリド（２．４グラム，９ミリモル）、ＤＭＡＰ（０．５グラム）、ＴＥＡ（１．９ｍｌ．１３ミリモル）の混合物をジクロロメタン（１００ｍＬ）中で５時間攪拌した。真空下で溶媒を除去して残留物を得た。残留物に酢酸エチル（２００ｍＬ）を加えた。次いで溶液を飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄した。有機層を硫酸ナトリウム上で乾燥し、溶媒を真空下で除去し、粗油を得た。粗油をカラム上で精製し（５％ＭｅＯＨ／ＣＨ２Ｃｌ２を用いて溶離）、表題化合物を固体として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ１．２３（ｓ，３Ｈ），δ１．３２（ｓ，３Ｈ），δ１．３９（ｓ，３Ｈ），δ１．４２（ｓ，３Ｈ），δ３．６８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１２．３ＭＨｚ），δ３．８１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１２．３ＭＨｚ），δ４．１０−４．２５（ｍ，４Ｈ），δ４．４７（ｄｄ  １Ｈ，Ｊ＝２．４６ＭＨｚ，Ｊ＝７．８８ＭＨｚ），δ７．１４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．２ＭＨｚ），δ７．３６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９３ＭＨｚ），δ７．５４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７１ＭＨｚ），δ７．５９（ｄ  １Ｈ，Ｊ＝７．７１ＭＨｚ），δ７．６７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９９ＭＨｚ），δ８．４９（ｄ  １Ｈ，Ｊ＝４．６ＭＨｚ）。
［実施例２３］
【０３１７】
Ｎ−（ベンジルオキシ−カルボニル）−２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメートナトリウム塩
【０３１８】
【化８６】
2005526852.tif 000088
【０３１９】
１００ｍＬの丸底フラスコに、水素化ナトリウム（０．１ｇ，４ミリモル）及びＴＨＦ（２０ｍＬ）を入れた。得られる懸濁液を、ＴＨＦ（１０ｍＬ）中のＮ−（ベンジルオキシ−カルボニル）−２，３：４，５−ビス−Ｏ−（１−メチルエチリデン）−β−Ｄ−フルクトピラノーススルファメート（１．８ｇ，４ミリモル）（実施例４における通りに製造）の溶液でゆっくり処理した。添加の完了後、反応物をさらに３０分間攪拌した。溶媒を真空下で濃縮し、白色の固体を得、それを９５％エタノール（４０ｍＬ）で処理して表題化合物を白色の固体として得た。
融点  ＞２５０℃。
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ）δ  ７．４５−７．２０（５Ｈ，ｍ），４．８６（２Ｈ，ｓ），４．５５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，２．４Ｈｚ），４．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ），４．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），３．８４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝２８．２，１０．５Ｈｚ），３．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．３Ｈｚ），３．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．９Ｈｚ），１．４４（３Ｈ，ｓ），１．３４（３Ｈ，ｓ），１．３３（３Ｈ，ｓ），１．２５（３Ｈ，ｓ）
上記の方法に従い、表１、２及び３に挙げる本発明の代表的な化合物を製造した。塩として製造された化合物の場合、Ｒ１を塩カチオンで置き換える。
【０３２０】
【表１】
2005526852.tif 000089
【０３２１】
【表２】
2005526852.tif 000090
【０３２２】
【表３】
2005526852.tif 000091
【０３２３】
【表４】
2005526852.tif 000092
【０３２４】
【表５】
2005526852.tif 000093
【０３２５】
【表６】
2005526852.tif 000094
【０３２６】
表１、２及び３に挙げた代表的化合物に関する分子量をＡｇｉｌｅｎｔ  １１００  ＨＰＬＣ／ＭＳＤ質量分析計上で測定し、表４に挙げる結果を得た。
【０３２７】
【表７】
2005526852.tif 000095
【０３２８】
【表８】
2005526852.tif 000096
［実施例２４及び２５］
【０３２９】
生体内試験、最大電気ショック発作
全身性強直−間代発作のための標準的ＭＥＳモデルを用いて抗痙攣活性を決定した（Ｓｗｉｎｙａｒｄ  ＥＡ，Ｗｏｏｄｈｅａｄ  ＪＨ，Ｗｈｉｔｅ  ＨＳ，Ｆｒａｎｋｌｉｎ  ＭＲ，Ｉｎ：Ｌｅｖｙ  ＲＨ，Ｍａｔｔｓｏｎ  ＲＨ，Ｍｅｌｄｒｕｍ  ＢＳ，Ｐｅｎｒｙ  ＪＫ，Ｄｒｅｉｆｕｓｓ  ＦＥ編集，Ａｎｔｉｅｐｉｌｅｐｔｉｃ  ｄｒｕｇｓ．Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ：Ｒａｖｅｎ  Ｐｒｅｓｓ，１９８９：８５−１０２）。
【０３３０】
０．２秒の持続時間の６０Ｈｚ、マウスにおいて５０ｍＡ、ラットにおいて１５０ｍＡの電気刺激を、麻酔薬（０．９％食塩水中の０．５％テトラカイン・塩酸）を含有する電解質溶液が注入された（ｐｒｉｍｅｄ  ｗｉｔｈ）角膜電極を介して送達した。
【０３３１】
マウス又はラットを無作為に標準及び試験グループに選択した。動物にビヒクル又は種々の濃度における試験化合物を投薬した。マウスを試験化合物の投与から３０分及び４時間後に電気刺激に供した。ラットを試験化合物の投与から１５分後〜４時間後の時間間隔で電気刺激に供した。後肢緊張性伸筋成分の全廃（ａｂｏｌｉｔｉｏｎ  ｏｆ  ｔｈｅ  ｈｉｎｄ  ｌｉｍｂ  ｔｏｎｉｃ  ｅｘｔｅｎｓｏｒ  ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ）が、ＭＥＳ−誘導発作の広がりを妨げる試験化合物の能力の指標であった。
【０３３２】
ＥＤ５０（試験された動物の５０％において最大電気ショック発作の後肢緊張性−伸筋成分を遮断するのに必要な算出される用量）を算出した。ＥＤ５０の算出にプロビット分析（Ｆｉｎｎｅｙ  ＤＪ．Ｐｒｏｂｉｔ  Ａｎａｌｙｓｉｓ．Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ，Ｅｎｇｌａｎｄ：Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ  Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ  Ｐｒｅｓｓ，１９７１）を用いた。
【０３３３】
上記のマウス法に従い、本発明の代表的な化合物をマウスにおける生物学的活性に関して試験し、表５に挙げる結果を得た。試験化合物の投与後の時間における活性なマウスの数／試験されたマウスの合計数としてマウス活性を挙げる。
【０３３４】
【表９】
2005526852.tif 000097
【０３３５】
【表１０】
2005526852.tif 000098
【０３３６】
上記のラット法に従い、本発明の代表的な化合物をラットにおける生物学的活性に関して試験し、表６及び７に挙げる結果を得た。試験化合物の投与後の時間における活性なラットの数／試験されたラットの合計数としてラット活性を挙げる。
【０３３７】
【表１１】
2005526852.tif 000099
【０３３８】
【表１２】
2005526852.tif 000100
【０３３９】
【表１３】
2005526852.tif 000101
【０３４０】
前記の明細書は本発明の原理を記載しており、例示の目的で実施例を示したが、本発明の実施は、前記の請求項及びそれらの同等事項の範囲内に含まれる通常の変更、適合化及び／又は修正のすべてを包含することが理解されるであろう。
【国際調査報告】
2005526852.tif 000141
2005526852.tif 000142
2005526852.tif 000143
2005526852.tif 000144
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2005526852.tif 000146