(57)【要約】【課題】簡単な構成でシャッタの退避空間の縮小が可能なシャッタ機構を提供する。【解決手段】重なり縁部をそれぞれ有する第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂを有するシャッタ６と、第１のシャッタ板１１Ａをターゲットの基材対向面の法線方向に延びる第１の回転軸回りに回転自在に支持する第１の回転支持部１３Ａと、第２のシャッタ板１１Ｂを前記法線方向に延びる第２の回転軸回りに回転自在に支持する第２の回転支持部１３Ｂとを備え、第１および第２の回転支持部は、重なり縁部同士が互いに重なり合った閉位置と開位置との間で移行できるように、第１および第２のシャッタ板を回転自在に支持し、第１および第２の回転軸は、第１および第２のシャッタ板のそれぞれの重なり縁部が開位置において基材対向面の辺に沿うように、閉位置において重なり縁部が互いに重なり合う領域を挟んで両側に分かれて配置されているターゲット用シャッタ機構。【選択図】図２
2018095927.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スパッタリングに用いられるターゲットを開閉自在に覆うシャッタ機構であって、
前記ターゲットにおいてスパッタリングによって成膜される基材に対向する基材対向面と前記基材との間の位置において当該基材対向面に沿う方向に移動可能であり、当該基材対向面と前記基材との間の位置で互いに接触または近接することが可能な縁部をそれぞれ有する第１のシャッタ板および第２のシャッタ板を有するシャッタと、
前記基材対向面の法線方向に延びる第１の回転軸回りに前記第１のシャッタ板を回転自在に支持する第１の回転支持部と、
前記基材対向面の法線方向に延びる第２の回転軸回りに前記第２のシャッタ板を回転自在に支持する第２の回転支持部と、
前記第１のシャッタ板および第２のシャッタ板を前記第１の回転軸回りおよび前記第２の回転軸回りに回転駆動する駆動部と、
を備え、
前記第１の回転支持部および前記第２の回転支持部は、前記第１のシャッタ板および前記第２のシャッタ板の前記第１の回転軸回りおよび前記第２の回転軸回りのそれぞれの回転により、前記基材対向面と前記基材との間の位置において当該第１のシャッタ板および当該第２のシャッタ板の前記縁部同士が互いに接触または近接する状態で当該第１のシャッタ板および当該第２のシャッタ板が前記基材対向面を閉じる閉位置と前記縁部同士が離間するように当該第１のシャッタ板および当該第２のシャッタ板がそれぞれ前記基材対向面と前記基材との間の位置から退避した開位置との間で移行できるように、当該第１のシャッタ板および当該第２のシャッタ板を回転自在に支持し、
前記第１の回転軸および前記第２の回転軸は、前記第１のシャッタ板および前記第２のシャッタ板のそれぞれの前記縁部が前記開位置において前記基材対向面の外周の縁の少なくとも一部に沿うように、前記閉位置において前記縁部が互いに接触または近接する領域を挟んで両側に分かれて配置されている、
ターゲット用シャッタ機構。
【請求項２】
前記第１の回転軸および前記第２の回転軸は、これらの間に前記基材対向面を挟むように当該基材対向面の両側に配置されている、
請求項１に記載のターゲット用シャッタ機構。
【請求項３】
前記ターゲットの前記基材対向面は、矩形形状を有し、
前記閉位置における前記縁部が互いに接触または近接する領域は、当該基材対向面の２つの対角線のうちの特定の１つの対角線に沿って配置され、
前記第１の回転軸および前記第２の回転軸は、前記特定の１つの対角線の両側に分かれて配置されている、
請求項２に記載のターゲット用シャッタ機構。
【請求項４】
前記第１の回転軸は、前記特定の１つの対角線の延長線と前記基材対向面における外周の縁における互いに対向する２つの辺のうちの一方の辺とのなす角度を二等分する半直線の上に配置され、
前記第２の回転軸は、前記特定の１つの対角線の延長線と前記基材対向面における外周の縁における互いに対向する２つの辺のうちの他方の辺とのなす角度を二等分する半直線の上に配置されている、
請求項３に記載のターゲット用シャッタ機構。
【請求項５】
前記シャッタは、前記基材対向面と前記基材との間の位置において当該基材対向面に沿う方向に移動可能であり、当該基材対向面と前記基材との間の位置で互いに接触または近接することが可能な縁部をそれぞれ有する第３のシャッタ板および第４のシャッタ板をさらに有し、
前記第３のシャッタ板および前記第４のシャッタ板は、前記第１のシャッタ板および前記第２のシャッタ板に対して前記基材対向面と前記基材との間の位置において前記基材対向面に沿う方向にずれた位置に配置され、
前記第１のシャッタ板、前記第２のシャッタ板、前記第３のシャッタ板、および前記第４のシャッタ板によって、前記基材対向面を開閉するように前記シャッタが構成され、
前記シャッタ機構は、前記基材対向面の法線方向に延びる第３の回転軸回りに前記第３のシャッタ板を回転自在に支持する第３の回転支持部と、前記基材対向面の法線方向に延びる第４の回転軸回りに前記第４のシャッタ板を回転自在に支持する第４の回転支持部とをさらに備え、
前記駆動部は、前記第３のシャッタ板および第４のシャッタ板を前記第３の回転軸回りおよび前記第４の回転軸回りに回転駆動し、
前記第３の回転支持部および前記第４の回転支持部は、前記第３のシャッタ板および前記第４のシャッタ板の前記第３の回転軸回りおよび前記第４の回転軸回りのそれぞれの回転により、前記基材対向面と前記基材との間の位置において当該第３のシャッタ板および当該第４のシャッタ板の前記縁部同士が互いに接触または近接する状態で当該第３のシャッタ板および当該第４のシャッタ板が前記基材対向面を閉じる閉位置と前記縁部同士が離間するように当該第３のシャッタ板および当該第４のシャッタ板がそれぞれ前記基材対向面と前記基材との間の位置から退避した開位置との間で移行できるように、当該第３のシャッタ板および当該第４のシャッタ板を回転自在に支持し、
前記第３の回転軸および前記第４の回転軸は、前記第３のシャッタ板および前記第４のシャッタ板のそれぞれの前記縁部が前記開位置において前記基材対向面の外周の縁の少なくとも一部に沿うように、前記閉位置において前記縁部が互いに接触または近接する領域を挟んで両側に分かれて配置されている、
請求項１〜４のいずれか１項に記載のターゲット用シャッタ機構。
【請求項６】
請求項１に記載のターゲット用シャッタ機構と、
基材を収容する成膜チャンバと、
基材対向面を有し、当該基材対向面が前記基材を向くように前記成膜チャンバに設置された前記ターゲットと、
を備え、
前記シャッタ機構の前記第１のシャッタ板および前記第２のシャッタ板は、前記成膜チャンバの内部において前記基材対向面と前記基材との間の位置に開閉自在に配置されている、
ことを特徴とする成膜装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スパッタリングに用いられるターゲットを開閉自在に覆うターゲット用シャッタ機構およびそれを備えた成膜装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
スパッタリングによって基材表面における成膜を行う成膜装置において、異なる材料の複数のターゲットを用いてそれぞれ個別に成膜プロセスを行う場合には、使用していないターゲットの表面が他のターゲットから飛び出る粒子による汚染を抑制するために、ターゲットを個別に覆うシャッタ機構が必要である。また、ターゲットを覆うシャッタ機構は、プレスパッタのときにも用いられる。すなわち、ターゲットの表面に付着した汚れを除去するために、当該ターゲットを用いた成膜プロセスの前に、プリスパッタと呼ばれる工程が行われることがある。プリスパッタ時には基材への膜付着を最小限に留めるため、シャッタで覆い隠した状態でターゲットに電圧を印加してターゲットの表面に存在する物質の粒子を放出させることにより行われる。シャッタは、上記のような成膜プロセスまたはプレスパッタにおいていずれも、汚れが付着し易い。
【０００３】
従来のスパッタ装置に搭載されたシャッタ機構は、特許文献１に記載されるように、ターゲットにおける基材に対向する面（以下、ターゲット面という）に沿った方向に延びる回転軸と、当該回転軸を回転中心としてターゲットから基材へ向かう方向またはその反対の方向へ搖動することによって開閉するシャッタ板とを備えている。この構成では、成膜プロセスなどで汚れたシャッタ板が開くときに基材に近づく方向へ移動するので、シャッタ板に付着した汚れの破片が剥離して基材に付着する恐れがある。このような基材への汚れの付着は、基材に形成される膜の欠陥や当該膜の密着不良の原因になる。また、ターゲットと基材との間にシャッタ板を開閉するためのスペースを必要とするので、成膜装置の小型化が難しい。
【０００４】
そこで、上記の基材の汚染の問題およびシャッタ機構の設置スペースの問題を解決するためには、シャッタ板が基板に近づかないよう、ターゲット面に沿う方向に、すなわち、ターゲット面と平行にシャッタ板を移動させて開閉させることが考えられる。
【０００５】
例えば、特許文献２記載のスパッタ装置に搭載されたシャッタ機構は、ターゲット面の全体を覆う当該ターゲット面の面積より広い面積を有するシャッタと、当該シャッタをターゲット面を覆う閉位置とターゲット面から当該ターゲット面に沿う方向に離間した開位置に移動させる移動機構とを有する。移動機構は、ターゲット面を避けた位置において当該ターゲット面の法線方向に延びる回転軸部と、回転軸部の先端に固定され、ターゲット面に沿う方向に延びるアームとを有する。アームの先端には、シャッタが固定されている。この移動機構では、回転軸部を上記の法線方向へ沿って移動させることにより、シャッタをターゲット面に近づく方向または遠ざかる方向へ直線移動させることが可能である。さらに、回転軸部をその軸回りに回転させることにより、回転軸部を回転中心としてターゲット面に沿う方向にシャッタおよびアームを揺動させることが可能である。シャッタは、ターゲット面を覆う閉位置から開位置へ移動する場合、移動機構によって、ターゲット面から遠ざかるように当該ターゲット面の法線方向へ直線移動し、その後、回転軸部を回転中心としてターゲット面に沿う方向に揺動することにより、ターゲット面から側方に退避した場所である開位置へ移動することが可能である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平５−３３９７２５号公報
【特許文献２】特開２００９−１５５７０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記の特許文献２に記載のシャッタ機構では、シャッタを開く場合、ターゲット面の全体を覆うシャッタをターゲット面から離れる方向へ直線移動させた後、当該シャッタを回転軸部を回転中心として揺動させて、当該ターゲットの側方の退避空間へ退避させる。そのため、ターゲットの側方には、ターゲット面の面積よりも広い面積を有するシャッタが配置可能な大きさを有するシャッタの退避空間を必要とする。したげって、シャッタの退避空間を小さくすることが難しい。とくに、成膜装置を小型化する場合には、真空チャンバ内部におけるターゲット周辺において当該ターゲットの退避空間の確保はより難しくなる。
【０００８】
また、上記のようにシャッタの直線移動および揺動を可能にするための移動機構を有するシャッタ機構の構造は複雑である。そのため、成膜プロセス時に発生する皮膜の破片などが移動機構に付着することによってシャッタ機構の動作不良が生じるおそれがある。
【０００９】
本発明はかかる問題を解消するためになされたものであり、簡単な構成でシャッタの退避空間の縮小が可能なターゲット用シャッタ機構を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明のターゲット用シャッタ機構は、スパッタリングに用いられるターゲットを開閉自在に覆うシャッタ機構であって、前記ターゲットにおいてスパッタリングによって成膜される基材に対向する基材対向面と前記基材との間の位置において当該基材対向面に沿う方向に移動可能であり、当該基材対向面と前記基材との間の位置で互いに接触または近接することが可能な縁部をそれぞれ有する第１のシャッタ板および第２のシャッタ板を有するシャッタと、前記基材対向面の法線方向に延びる第１の回転軸回りに前記第１のシャッタ板を回転自在に支持する第１の回転支持部と、前記基材対向面の法線方向に延びる第２の回転軸回りに前記第２のシャッタ板を回転自在に支持する第２の回転支持部と、前記第１のシャッタ板および第２のシャッタ板を前記第１の回転軸回りおよび前記第２の回転軸回りに回転駆動する駆動部と、を備え、前記第１の回転支持部および前記第２の回転支持部は、前記第１のシャッタ板および前記第２のシャッタ板の前記第１の回転軸回りおよび前記第２の回転軸回りのそれぞれの回転により、前記基材対向面と前記基材との間の位置において当該第１のシャッタ板および当該第２のシャッタ板の前記縁部同士が互いに接触または近接する状態で当該第１のシャッタ板および当該第２のシャッタ板が前記基材対向面を閉じる閉位置と前記縁部同士が離間するように当該第１のシャッタ板および当該第２のシャッタ板がそれぞれ前記基材対向面と前記基材との間の位置から退避した開位置との間で移行できるように、当該第１のシャッタ板および当該第２のシャッタ板を回転自在に支持し、前記第１の回転軸および前記第２の回転軸は、前記第１のシャッタ板および前記第２のシャッタ板のそれぞれの前記縁部が前記開位置において前記基材対向面の外周の縁の少なくとも一部に沿うように、前記閉位置において前記縁部が互いに接触または近接する領域を挟んで両側に分かれて配置されている、ことを特徴とする。
【００１１】
本発明は、シャッタを構成する複数のシャッタ板がターゲットの基材対向面に沿う方向に揺動して開閉する簡単な構成において、当該複数のシャッタ板が開位置においてターゲットの基材対向面の外周の縁に沿って分散して配置するように構成されている。すなわち、シャッタは、スパッタリング用のターゲットを開閉自在に覆う複数に分割されたシャッタ板、すなわち、第１のシャッタ板および第２のシャッタ板を有している。これら第１のシャッタ板および第２のシャッタ板は、駆動部の回転駆動力を受けて第１の回転軸および第２の回転軸の回りに基材対向面に沿う方向に揺動して、当該第１のシャッタ板および第２のシャッタ板の縁部が互いに接触または近接する閉位置とターゲットの基材対向面から退避した開位置との間で移行する。
【００１２】
ここで、第１の回転軸および第２の回転軸は、第１のシャッタ板および第２のシャッタ板のそれぞれの縁部が開位置において基材対向面の外周の縁の少なくとも一部に沿うように、前記閉位置における縁部が互いに接触または近接する領域を挟んで両側に分かれて配置されている。これにより、第１のシャッタ板および第２のシャッタ板は、開位置にあるときには、それぞれの縁部が基材対向面の外周の縁に沿った状態で、分散して配置することが可能になる。したがって、ターゲットの側方においてシャッタを退避させるために必要な広い空間を確保する必要がなくなり、その結果、シャッタの退避空間の縮小が可能になる。
【００１３】
前記第１の回転軸および前記第２の回転軸は、これらの間に前記基材対向面を挟むように当該基材対向面の両側に配置されているのが好ましい。
【００１４】
かかる構成によれば、第１のシャッタ板および第２のシャッタ板は、閉位置から開位置へ移行したときには、それらの縁部がターゲットの基材対向面の外周の縁における互いに対向する部分にそれぞれ沿った状態で、分散して配置される。これにより、第１のシャッタ板および第２のシャッタ板の閉位置から開位置への回転角度を小さくすることが可能になる。その結果、シャッタの退避空間をより小さくすることが可能になる。
【００１５】
前記ターゲットの前記基材対向面は、矩形形状を有し、前記閉位置における前記縁部が互いに接触または近接する領域は、当該基材対向面の２つの対角線のうちの特定の１つの対角線に沿って配置され、前記第１の回転軸および前記第２の回転軸は、前記特定の１つの対角線の両側に分かれて配置されているのが好ましい。
【００１６】
かかる構成では、第１のシャッタ板および第２のシャッタ板が閉位置から開位置へ移行したときには、当該第１のシャッタ板および第２のシャッタ板は、それぞれの縁部がターゲットの矩形形状の基材対向面の外周の縁における互いに対向する２つの辺に沿って平行に延びた状態で、分散して配置される。これにより、第１のシャッタ板および第２のシャッタ板の閉位置から開位置への回転角度を小さくすることが可能になる。その結果、矩形形状の基材対向面を有するターゲットの周辺においてシャッタの退避空間を小さくすることが可能になる。
【００１７】
前記第１の回転軸は、前記特定の１つの対角線の延長線と前記基材対向面における外周の縁における互いに対向する２つの辺のうちの一方の辺とのなす角度を二等分する半直線の上に配置され、前記第２の回転軸は、前記特定の１つの対角線の延長線と前記基材対向面における外周の縁における互いに対向する２つの辺のうちの他方の辺とのなす角度を二等分する半直線の上に配置されているのが好ましい。
【００１８】
かかる構成によれば、第１の回転軸および第２の回転軸が上記の位置に配置されることにより、これらの回転軸を回転中心として上記の対角線を旋回させたときに基材対向面における外周の縁における互いに対向する２つの辺のいずれかに重なり合う位置関係になる。したがって、第１のシャッタ板および第２のシャッタ板が閉位置から開位置へ移行したときには、当該第１のシャッタ板および第２のシャッタ板のそれぞれの縁部は、ターゲットの基材対向面の外周の縁における互いに対向する２つの辺に沿って平行に延びる位置に確実に配置される。よって、矩形形状の基材対向面を有するターゲットの周辺においてシャッタの退避空間をより小さくするシャッタ機構を容易かつ確実に得ることが可能になり、シャッタ機構の設計を容易にする。
【００１９】
前記シャッタは、前記基材対向面と前記基材との間の位置において当該基材対向面に沿う方向に移動可能であり、当該基材対向面と前記基材との間の位置で互いに接触または近接することが可能な縁部をそれぞれ有する第３のシャッタ板および第４のシャッタ板をさらに有し、前記第３のシャッタ板および前記第４のシャッタ板は、前記第１のシャッタ板および前記第２のシャッタ板に対して前記基材対向面と前記基材との間の位置において前記基材対向面に沿う方向にずれた位置に配置され、前記第１のシャッタ板、前記第２のシャッタ板、前記第３のシャッタ板、および前記第４のシャッタ板によって、前記基材対向面と前記基材との間を開閉するように前記シャッタが構成され、前記シャッタ機構は、前記基材対向面の法線方向に延びる第３の回転軸回りに前記第３のシャッタ板を回転自在に支持する第３の回転支持部と、前記基材対向面の法線方向に延びる第４の回転軸回りに前記第４のシャッタ板を回転自在に支持する第４の回転支持部とをさらに備え、前記駆動部は、前記第３のシャッタ板および第４のシャッタ板を前記第３の回転軸回りおよび前記第４の回転軸回りに回転駆動し、前記第３の回転支持部および前記第４の回転支持部は、前記第３のシャッタ板および前記第４のシャッタ板の前記第３の回転軸回りおよび前記第４の回転軸回りのそれぞれの回転により、前記基材対向面と前記基材との間の位置において当該第３のシャッタ板および当該第４のシャッタ板の前記縁部同士が互いに接触または近接する状態で当該第３のシャッタ板および当該第４のシャッタ板が前記基材対向面を閉じる閉位置と前記縁部同士が離間するように当該第３のシャッタ板および当該第４のシャッタ板がそれぞれ前記基材対向面と前記基材との間の位置から退避した開位置との間で移行できるように、当該第３のシャッタ板および当該第４のシャッタ板を回転自在に支持し、前記第３の回転軸および前記第４の回転軸は、前記第３のシャッタ板および前記第４のシャッタ板のそれぞれの前記縁部が前記開位置において前記基材対向面の外周の縁の少なくとも一部に沿うように、前記閉位置において前記縁部が互いに接触または近接する領域を挟んで両側に分かれて配置されているのが好ましい。
【００２０】
かかる構成では、シャッタが４枚のシャッタ板を有しているので、これらのシャッタ板を開閉することにより、ターゲットの基材対向面が特定方向に長い形状（例えば長細い矩形形状）の場合であっても、基材対向面を隙間なく閉じることが可能である。また、このような構成であっても、４枚のシャッタ板は、開位置では、それぞれの縁部が基材対向面の外周の縁に沿った状態で、分散して配置することが可能になる。その結果、４枚のシャッタ板を有する構成であっても、シャッタの退避空間の縮小が可能になる。
【００２１】
本発明の成膜装置は、上記のシャッタ機構と、基材を収容する成膜チャンバと、基材対向面を有し、当該基材対向面が前記基材を向くように前記成膜チャンバに設置された前記ターゲットと、を備え、前記シャッタ機構の前記第１のシャッタ板および前記第２のシャッタ板は、前記成膜チャンバの内部において前記基材対向面と前記基材との間の位置に開閉自在に配置されていることを特徴とする。
【００２２】
本発明の成膜装置では、上記のシャッタ機構におけるシャッタを構成する第１のシャッタ板および前記第２のシャッタ板は、前記成膜チャンバの内部において前記基材対向面と前記基材との間の位置に開閉自在に配置されているが、シャッタの第１のシャッタ板および第２のシャッタ板は、開位置にあるときには、それぞれの縁部が基材対向面の外周の縁に沿った状態で、分散して配置される。これによって、成膜チャンバ内部におけるシャッタの退避空間は縮小され、その結果、成膜チャンバの小型化が可能になる。
【発明の効果】
【００２３】
以上のように、本発明のターゲット用シャッタ機構によれば、簡単な構成でシャッタの退避空間を縮小することができる。
【００２４】
本発明の成膜装置によれば、成膜チャンバの小型化を達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の実施の形態にかかるターゲット用シャッタ機構を備えた成膜装置の断面平面図である。
【図２】図１の成膜装置のＩＩ−ＩＩ線断面図である。
【図３】図２の成膜装置のＩＩＩ−ＩＩＩ線断面図である。
【図４】図１のシャッタ板の重なり縁部の拡大図である。
【図５】図２のシャッタが閉じた状態を示す説明図である。
【図６】図２のシャッタが開いた状態を示す説明図である。
【図７】図５〜６に示される矩形形状の基材対向面を有するターゲットに対する第１おの回転軸および第２の回転軸の好ましい位置を示す説明図である。
【図８】本発明の他の実施形態にかかる４枚のシャッタ板を有するシャッタを備えたターゲット用シャッタ機構の概略説明図である。
【図９】（ａ）〜（ｃ）本発明のターゲット用シャッタ機構におけるさらに他の実施形態として、正方形形状の基材対向面を有するターゲットに対する回転軸の相対的な位置とシャッタ板の開位置との関係を示す説明図である。
【図１０】（ａ）〜（ｂ）は本発明のターゲット用シャッタ機構におけるさらに他の実施形態として、正方形形状の基材対向面を有するターゲットに対する回転軸の相対的な位置とシャッタ板の開位置との関係を示す説明図である。
【図１１】本発明のターゲット用シャッタ機構におけるさらに他の実施形態として、円形の基材対向面を有するターゲットとそれを覆うシャッタ板とを示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
本発明の好ましい実施の形態を、図面を参照しながら説明する。
【００２７】
本実施形態の成膜装置１は、基材Ｗをスパッタリングによって成膜する装置であり、図１〜３に示されるように、ターゲット３を開閉自在に覆うシャッタ機構１０を備えている。具体的には、成膜装置１は、基材Ｗを収容する成膜チャンバ２と、複数のターゲット３と、ターゲット３にスパッタリング用の電圧を印加するスパッタ源４と、基材Ｗが搭載される基材搭載部５と、複数のターゲット３のそれぞれと基材Ｗとの間で開閉する複数のシャッタ機構１０とを備えている。
【００２８】
この成膜装置１では、成膜チャンバ２の内部を真空状態に近い状態まで減圧し、真空条件の下でスパッタ源４からターゲット３へ電圧が印加されることにより、ターゲット３における基材Ｗに対向する基材対向面３０からターゲット材料の粒子が放出され、当該粒子が基材Ｗの表面に付着することにより、所望の材質の膜を基材Ｗの表面に生成することが可能である。
【００２９】
複数のターゲット３は、それぞれ異なる材料（例えば、アルミやチタンなど）からなる。各ターゲット３から個別に粒子を放出することにより、１台の成膜装置１を用いて、複数種類の材料の成膜が可能になる。一つのターゲット３から粒子を放出するときには、他のターゲット３は、シャッタ機構１０のシャッタ６が閉じることによって当該粒子による汚染を防止できる。また、シャッタ６を閉じた状態でプレスパッタを行うことにより、ターゲット３の基材対向面３０をクリーニングすることが可能である。
【００３０】
以下、成膜装置１の各構成要素についてより詳細に説明する。
【００３１】
成膜チャンバ２は、複数の開口２ｂを有する中空箱体の本体２ａと、各開口２ｂを開閉することができるように本体２ａに取り付けられた複数の閉じ板２ｃとを有する。閉じ板２ｃは、本体２ａに垂直方向に延びる回転軸回りに揺動するドアパネルでもよいし、本体２ａに着脱可能なパネルであってもよい。各閉じ板２ｃには、ターゲット３、スパッタ源４およびシャッタ機構１０が取り付けられている。したがって、閉じ板２ｃを開ければ、ターゲット３ならびにシャッタ機構１０の第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂの交換やメンテナンスを容易に行なうことが可能である。この成膜装置１は、このように閉じ板２ｃにこれらターゲット３、スパッタ源４およびシャッタ機構１０が取り付けられたコンパクトな構成になっており、従来のスパッタ装置と比較して非常に小型である。
【００３２】
基材搭載部５は、例えば、成膜チャンバ２の内部に回転自在に取り付けられた回転テーブルであり、基材Ｗを垂直軸を回転中心として自転または公転可能に支持する。
【００３３】
ターゲット３は、基材対向面３０を有し、当該基材対向面３０が基材Ｗを向くように成膜チャンバ２に設置されている。本実施形態では、ターゲット３は、成膜チャンバ２の閉じ板２ｃの取付け穴２ｄ内部に設置されているが、当該成膜チャンバ２の内部の他の場所に設置されてもよい。
【００３４】
本実施形態では、基材対向面３０は、矩形形状を有し、対向する一対の長辺３０ａと、対向する一対の短辺３０ｂとを有する。なお、基材対向面３０の形状については、本発明ではとくに限定されない。したがって、後述の図９〜１０に示される正方形の基材対向面３０や図１１に示される円形の基材対向面３０であってもよい。
【００３５】
シャッタ機構１０は、ターゲット３の基板対向面３０を開閉自在に覆う構成を有している。シャッタ機構１０は、シャッタ６の退避空間を小さくするための構成として、基材対向面３０に沿う方向Ｘに揺動して開閉する複数のシャッタ板１１Ａ，１１Ｂを備え、当該複数のシャッタ板１１Ａ，１１Ｂが図６に示される開位置においてターゲット３の基材対向面３０の外周の縁に沿うように回転自在に支持される点を特徴としている。
【００３６】
具体的には、シャッタ機構１０は、図１〜３に示されるように、第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂを有するシャッタ６と、第１の回転支持部１３Ａと、第２の回転支持部１３Ｂと、駆動部１４とを備えている。
【００３７】
第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂは、成膜チャンバ２の内部において基材対向面３０と基材Ｗとの間の位置において、当該基材対向面３０に沿う方向Ｘに移動して開閉できるように配置されている。
【００３８】
第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂは、同一の形状、例えば、長細い矩形平板形状を有している。第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂは、それぞれ、当該基材対向面３０と基材Ｗとの間の位置で互いに近接する、例えば、互いに当該基材対向面３０の法線方向Ｙに重なり合う、ことが可能な縁部である重なり縁部１１ａをそれぞれ有する。第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂの重なり縁部１１ａは、図１および図４に示されるように、法線方向Ｙに互いに離間した状態で当該法線方向Ｙに互いに重なり合うことができるように、これらシャッタ板１１Ａ、１１Ｂの縁におけるある所定の幅の部分が法線方向Ｙに互いに相反する方向へ突出している。なお、第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂの重なり縁部１１ａは、第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂの開閉に支障が無い程度であれば、法線方向Ｙに互いに若干接触した状態で当該法線方向Ｙに互いに重なり合うようにしてもよい。
【００３９】
第１の回転支持部１３Ａは、基材対向面３０の法線方向Ｙに延びる第１の回転軸ＳＡ回りに第１のシャッタ板１１Ａを回転自在に支持するように構成されている。第１の回転支持部１３Ａは、軸受１３ａと、第１のシャッタ板１１Ａに固定され、当該軸受１３ａに回転自在に支持されたシャフト１３ｂとを有する。第１の回転時支部１３Ａのシャフト１３ｂは、基材対向面３０の法線方向Ｙに延び、第１の回転軸ＳＡを回転中心として回転できるように当該第１の回転軸ＳＡに沿って配置されている。
【００４０】
第２の回転支持部１３Ｂは、基材対向面３０の法線方向Ｙに延びる第２の回転軸ＳＢ回りに第２のシャッタ板１１Ｂを回転自在に支持するように構成されている。第２の回転支持部１３Ｂは、軸受１３ａと、第２のシャッタ板１１Ｂに固定され、当該軸受１３ａに回転自在に支持されたシャフト１３ｂとを有する。第２の回転時支部１３Ｂのシャフト１３ｂは、基材対向面３０の法線方向Ｙに延び、第２の回転軸ＳＢを回転中心として回転できるように当該第２の回転軸ＳＢに沿って配置されている。
【００４１】
なお、第１の回転支持部１３Ａおよび第２の回転支持部１３Ｂのそれぞれは、第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂのそれぞれを回転自在に支持するものであればよく、上記のシャフト１３ｂが第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂにそれぞれ固定された構成にとくに限定されない。第１の回転支持部１３Ａおよび第２の回転支持部１３Ｂは、他の構成として、例えば、シャフト１３ｂ一方の端部が成膜チャンバ２に固定され、他方の端部が第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂのそれぞれを貫通することにより、第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂを回転自在に支持することが可能な構成を有してもよい。
【００４２】
駆動部１４は、第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂをそれぞれ第１の回転軸ＳＡ回りおよび第２の回転軸ＳＢ回りに回転駆動する。本実施形態では、第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂのそれぞれに固定されたシャフト１３ｂを回転駆動するために２つの駆動部１４が成膜チャンバ２の外部に設けられている。なお、共通の駆動部１４によって当該それぞれのシャフト１３ｂを回転駆動してもよい。
【００４３】
第１の回転支持部１３Ａおよび第２の回転支持部１３Ｂは、第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂを、第１の回転軸ＳＡ回りおよび第２の回転軸ＳＢ回りに回転して図５に示される閉位置と図６に示される開位置との間で揺動できるように回転自在に支持している。具体的には、第１の回転支持部１３Ａおよび第２の回転支持部１３Ｂは、第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂの第１の回転軸ＳＡ回りおよび第２の回転軸ＳＢ回りのそれぞれの回転により、図５に示される閉位置と図６に示される開位置との間で移行できるように、当該第１のシャッタ板１１Ａおよび当該第２のシャッタ板１１Ｂを回転自在に支持する。
【００４４】
図５に示される閉位置では、基材対向面３０と基材Ｗとの間の位置において、第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂの重なり縁部１１ａ同士が互いに重なり合った状態で、第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂが基材対向面３０を閉じる。
【００４５】
一方、図６に示される開位置では、上記の第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂの重なり縁部１１ａ同士が離間するように、第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂは、それぞれ基材対向面３０と基材Ｗとの間の位置から退避するように開いた状態になっている。
【００４６】
第１の回転軸ＳＡおよび第２の回転軸ＳＢは、第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂのそれぞれの重なり縁部１１ａが図６に示される開位置において基材対向面３０の外周の縁の少なくとも一部（具体的には、図６の基材対向面３０の対向する一対の長辺３０ａ）に沿うように、図２および図５に示される閉位置において重なり縁部１１ａが互いに重なり合う領域２０を挟んで両側に分かれて配置されている。
【００４７】
したがって、本実施形態のシャッタ機構１０では、第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂは、図６に示される開位置にあるときには、それぞれの重なり縁部１１ａが基材対向面３０の外周の縁を構成する対向する一対の長辺３０ａに沿った状態で、分散して配置することが可能になる。したがって、ターゲット３の側方においてシャッタ６を退避させるために必要な広い空間を確保する必要がなくなり、その結果、シャッタ６の退避空間の縮小が可能になる。
【００４８】
また、本実施形態の成膜装置１は、上記のシャッタ機構１０が成膜チャンバ２内部におけるシャッタ６の退避空間は縮小されることによって、成膜チャンバ２の小型化が可能になる。
【００４９】
さらに、本実施形態のシャッタ機構１０では、図２および図５〜６に示されるように、第１の回転軸ＳＡおよび第２の回転軸ＳＢは、これらの間に基材対向面３０を挟むように当該基材対向面３０の両側に配置されている。この構成では、第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂは、図５に示される閉位置から図６に示される開位置へ移行したときには、それらの重なり縁部１１ａがターゲット３の基材対向面３０の外周の縁における互いに対向する長辺３０ａにそれぞれ沿った状態で、分散して配置される。これにより、第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂの閉位置から開位置への回転角度を小さくすることが可能になる。その結果、シャッタ６の退避空間をより小さくすることが可能になっている。
【００５０】
さらに、本実施形態のシャッタ機構１０では、図５に示されるように、ターゲット３の基材対向面３０が矩形形状を有する場合において、閉位置における重なり縁部１１ａが互いに重なり合う領域２０は、当該基材対向面３０の２つの対角線のうちの特定の１つの対角線Ｌに沿って配置されている。第１の回転軸ＳＡおよび第２の回転軸ＳＢは、この対角線Ｌの両側に分かれて配置されている。この構成では、第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂが図５に示される閉位置から図６に示される開位置へ移行したときには、当該第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂは、それぞれの重なり縁部１１ａがターゲット３の矩形形状の基材対向面３０の外周の縁における互いに対向する２つの長辺３０ａに沿って平行に延びた状態で、分散して配置される。これにより、第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂの閉位置から開位置への回転角度を小さくすることが可能になる。その結果、矩形形状の基材対向面３０を有するターゲット３の周辺においてシャッタ６の退避空間を小さくすることが可能になっている。
【００５１】
ここで、上記のように、ターゲット３の基材対向面３０が矩形形状を有し、重なり縁部１１ａが重なり合う領域２０が当該基材対向面３０の上記の対角線Ｌに沿って配置されている構成では、図７に示されるように、第１の回転軸ＳＡおよび第２の回転軸ＳＢの位置は、対角線Ｌがこれら回転軸ＳＡ、ＳＢを回転中心として旋回したときに対向する２つの長辺３０ａに一致するような位置にあるのが好ましい。
【００５２】
具体的には、第１の回転軸ＳＡは、特定の１つの対角線Ｌの延長線Ｌａと基材対向面３０における外周の縁における互いに対向する２つの長辺３０ａのうちの一方の辺３０ａとのなす角度を二等分する半直線Ｂの上に配置され、第２の回転軸ＳＢは、特定の１つの対角線Ｌの延長線Ｌａと基材対向面３０における外周の縁における互いに対向する２つの長辺３０ａのうちの他方の辺３０ａとのなす角度を二等分する半直線Ｂの上に配置されているのが好ましい。この構成では、によれば、第１の回転軸ＳＡおよび第２の回転軸ＳＢが上記の位置に配置されることにより、これらの回転軸ＳＡ、ＳＢを回転中心として上記の対角線Ｌを旋回させたときに基材対向面３０における外周の縁における互いに対向する２つの長辺３０ａのいずれかに重なり合う位置関係になる。したがって、第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂが図５に示される閉位置から図６に示される開位置へ移行したときには、当該第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂのそれぞれの重なり縁部１１ａは、ターゲット３の基材対向面３０の外周の縁における互いに対向する２つの長辺３０ａに沿って平行に延びる位置に確実に配置される。よって、矩形形状の基材対向面３０を有するターゲット３の周辺においてシャッタ６の退避空間をより小さくするシャッタ機構１０を容易かつ確実に得ることが可能になる。その結果、シャッタ機構１０の設計が容易になる。
【００５３】
上記の実施形態では、シャッタ機構１０は、一対のシャッタ板１１Ａ、１１Ｂを有しているが、本発明はこれに限定されるものではない。本発明は、複数のシャッタ板を有していればよく、シャッタ板の枚数を限定するものではない。例えば、本発明のシャッタ機構の他の実施形態として、図８に示されるように、シャッタ６は、４枚のシャッタ板を有する構成であってもよい。
【００５４】
具体的には、図８に示されるシャッタ６は、第１のシャッタ板１１Ａ、第２のシャッタ板１１Ｂ、第３のシャッタ板１１Ｃ、および第４のシャッタ板１１Ｄを有する。言い換えれば、第１のシャッタ板１１Ａ、第２のシャッタ板１１Ｂ、第３のシャッタ板１１Ｃ、および第４のシャッタ板１１Ｄによって、ターゲット３の長細い矩形形状の基材対向面３０を開閉自在に覆うシャッタ６が構成されている。
【００５５】
第１のシャッタ板１１Ａ、第２のシャッタ板１１Ｂは、上記の図１〜３に示される第１のシャッタ板１１Ａ、第２のシャッタ板１１Ｂと同じ構成を有するので、説明を省略する。
【００５６】
第３のシャッタ板１１Ｃおよび第４のシャッタ板１１Ｄは、上記の第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂと同様に、基材対向面３０と基材Ｗとの間の位置において当該基材対向面３０に沿う方向Ｘ（図１参照）に移動可能であり、当該基材対向面３０と基材Ｗとの間の位置で互いに近接する、例えば、当該基材対向面３０の法線方向Ｙに互いに重なり合う、ことが可能な縁部である重なり縁部１１ａをそれぞれ有する。また、第３のシャッタ板１１Ｃおよび第４のシャッタ板１１Ｄには、それぞれ基材対向面３０の法線方向（図８の紙面垂直方向）に延びるシャフト１３ｂが固定されている。
【００５７】
第３のシャッタ板１１Ｃおよび第４のシャッタ板１１Ｄは、第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂに対して基材対向面３０と基材Ｗとの間の位置において基材対向面３０に沿う方向（具体的には、図８における下方）にずれた位置に配置されている。
【００５８】
図８に示されるシャッタ機構は、上記の第１の回転支持部１３Ａおよび第２の回転支持部１３Ｂとともに、第３の回転支持部１３Ｃおよび第４の回転支持部１３Ｄをさらに備えている。
【００５９】
第３の回転支持部１３Ｃは、基材対向面３０の法線方向に延びる第３の回転軸ＳＣ回りに第３のシャッタ板１１Ｃを回転自在に支持する構成を有する。第４の回転支持部１３Ｄは、基材対向面３０の法線方向に延びる第４の回転軸ＳＤ回りに第４のシャッタ板１１Ｄを回転自在に支持する構成を有する。これらの第３の回転支持部１３Ｃおよび第４の回転支持部１３Ｄは、上記の第１の回転支持部１３Ａおよび第２の回転支持部１３Ｂと同様に、第３のシャッタ板１１Ｃおよび第４のシャッタ板１１Ｄに固定されたシャフト１３ｂを有し、当該シャフト１３ｂは、軸受等によって回転自在に支持される。
【００６０】
さらに、図８に示される構成では、第３のシャッタ板１１Ｃおよび第４のシャッタ板１１Ｄは、図示されない駆動部による回転駆動力よって、第３の回転軸ＳＣ回りおよび第４の回転軸ＳＤ回りに回転する。
【００６１】
第３の回転支持部１３Ｃおよび第４の回転支持部１３Ｄは、第３のシャッタ板１１Ｃおよび第４のシャッタ板１１Ｄの第３の回転軸ＳＣ回りおよび第４の回転軸ＳＤ回りのそれぞれの回転により、基材対向面３０と基材Ｗとの間の位置（図１参照）において当該第３のシャッタ板１１Ｃおよび当該第４のシャッタ板１１Ｄの重なり縁部１１ａ同士が互いに重なり合った状態で当該第３のシャッタ板１１Ｃおよび当該第４のシャッタ板１１Ｄが基材対向面３０を閉じる閉位置と重なり縁部１１ａ同士が離間するように当該第３のシャッタ板１１Ｃおよび当該第４のシャッタ板１１Ｄがそれぞれ基材対向面３０と基材Ｗとの間の位置から退避した開位置との間で移行できるように、当該第３のシャッタ板１１Ｃおよび当該第４のシャッタ板１１Ｄを回転自在に支持する。
【００６２】
第３の回転軸ＳＣおよび第４の回転軸ＳＤは、第３のシャッタ板１１Ｃおよび第４のシャッタ板１１Ｄのそれぞれの重なり縁部１１ａが開位置において基材対向面３０の外周の縁の少なくとも一部（具体的には、図８に示される対向する一対の長辺３０ａ）に沿うように、閉位置において重なり縁部１１ａが互いに重なり合う領域２０を挟んで両側に分かれて配置されている。
【００６３】
図８に示されるシャッタ機構では、シャッタ６が４枚のシャッタ板１１Ａ、１１Ｂ，１１Ｃ、１１Ｄを有しているので、これらのシャッタ板を開閉することにより、ターゲット３の基材対向面３０が特定方向に長い形状（例えば長細い矩形形状）の場合であっても、基材対向面３０を隙間なく閉じることが可能である。具体的には、第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂが基材対向面３０を斜めに横切る領域２０を形成するように互いに重なり合い、同様に、第３のシャッタ板１１Ｃおよび第４のシャッタ板１１Ｄが基材対向面３０を斜めに横切る領域２０を形成するように互いに重なり合う。さらに、第２のシャッタ板１１Ｂおよびその下方に位置する第３のシャッタ板１１Ｃも互いに重なり合うことによって、基材対向面３０を隙間なく閉じることが可能である。
【００６４】
また、図８に示される構成においても、４枚のシャッタ板１１Ａ、１１Ｂ，１１Ｃ、１１Ｄは、開位置では、それぞれの重なり縁部１１ａが基材対向面３０の外周の縁に沿った状態で、分散して配置することが可能になる。その結果、４枚のシャッタ板１１Ａ、１１Ｂ，１１Ｃ、１１Ｄを有する構成であっても、シャッタ６の退避空間の縮小が可能になる。
【００６５】
また、図８に示されるシャッタ６は、４枚のシャッタ板１１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃ、１１Ｄが開いている状態では、第１のシャッタ板１１Ａおよびその下方に位置する第３のシャッタ板１１Ｃが互いに重なり合い、同様に、第２のシャッタ板１１Ｂおよびその下方に位置する第４のシャッタ板１１Ｄが互いに重なり合う。このように、シャッタ６が開いた状態では、第１のシャッタ板１１Ａおよび第３のシャッタ板１１Ｃの重なり合いと第２のシャッタ板１１Ｂおよび第４のシャッタ板１１Ｄの重なり合いによって、シャッタ６の退避空間を４枚のシャッタ板１１Ａ、１１Ｂ，１１Ｃ、１１Ｄの総面積よりも小さくすることが可能になる。
【００６６】
また、本発明のシャッタ機構の更に他の実施形態として、図９〜１０に示されるように、ターゲット３の基材対向面３０は正方形形状であってもよい。
【００６７】
ここで、正方形形状の基材対向面３０の場合におけるシャッタ６の退避空間を最小にするシャッタ６を構成する１枚のシャッタ板１１の回転軸Ｓの位置を以下のように考察する。
【００６８】
図９〜１０に示される例では、シャッタ板１１は、正方形形状の基材対向面３０を特定の１つの対角線Ｌで２つに分割した領域と同じ形状、すなわち、直角二等辺三角形の形状の部分を有している。シャッタ板１１は、閉位置において対角線Ｌに一致する重なり縁部１１ａを有する。また、シャッタ板１１を回転自在に支持するために当該シャッタ板１１に固定された上記の回転支持部のシャフト１３ｂの中心は、回転軸Ｓに一致している。また、基材対向面３０の各辺３０ａの長さは１００ｍｍと定められている。
【００６９】
図９（ａ）に示されるように、シャッタ板１１の回転軸Ｓが基材対向面３０の対角線Ｌの延長線Ｌａ上に位置する場合において、シャッタ板１１が回転軸Ｓ回りに回転して基材対向面３０から退避した開位置まで移動したとき、すなわち、シャッタ板１１の重なり縁部１１ａが基材対向面３０の右上の角部３０ｃを通過する位置に到達したときを考える。このとき、シャッタ板１１の重なり縁部１１ａと対角線Ｌのなす回転角が３６．４５６８度、シャッタ板１１における基材対向面３０から最も離れている位置（図９（ａ）の右端の角部）から上記の基材対向面３０の角部３０ｃまでの水平距離である退避距離が７３．３８５５ｍｍとなる。
【００７０】
図９（ｂ）、（ｃ）に示されるように、回転軸Ｓを対角線Ｌの延長線Ｌａから上方へ離れた位置へ移動させた場合、上記の回転角は大きくなるが、退避距離は小さくなる傾向がある。この退避距離は、シャッタ６の退避空間の幅であると考えられる。したがって、図９（ａ）〜（ｃ）の例を見れば、シャッタ６の退避空間を小さくするためには、回転軸Ｓを対角線Ｌの延長線から遠ざけた方が好ましいと考えられる。
【００７１】
つぎに、図１０（ａ）には、回転軸Ｓが、基材対向面３０の右下の角部３０ｄを回転中心として水平に延びる基準線Ｈから２２．５度だけ反時計方向へ回転した位置にある場合を考える。回転軸Ｓがこの位置にある場合、対角線Ｌを回転軸Ｓ回りに時計回りに４５度旋回すれば、基材対向面３０の辺３０ａに一致する位置に到達する。したがって、シャッタ板１１は、回転軸Ｓ回りに４５度回転させれば、当該シャッタ板１１の重なり縁部１１ａが基材対向面３０の辺３０ａに沿うように開くことが可能になる。このとき、シャッタ板１１の退避距離は７０．７１０７ｍｍとなり上記の図９（ａ）〜（ｃ）よりも小さくなる。
【００７２】
ただし、図１０（ｂ）に示されるように、回転軸Ｓが図１０（ａ）に示される位置よりもさらに上方の位置、すなわち、上記の基準線から３０度だけ反時計方向へ回転した位置では、シャッタ板１１が重なり縁部１１ａが基材対向面３０の角部３０ｃに到達する位置まで開いても、シャッタ板１１の一部が基材対向面３０に重なる。そのため、シャッタ板１１はさらに回転軸Ｓ回りに回転させて基材対向面３０から遠ざける必要があり、シャッタ６の退避空間の縮小ができなくなる。
【００７３】
以上の考察から、正方形形状の基材対向面３０の場合には、図１０（ａ）に示される回転軸Ｓが角部３０ｄを回転中心として水平に延びる基準線Ｈから２２．５度だけ反時計方向へ回転した位置にあるときに、シャッタ６の退避空間が最小になる。
【００７４】
このような図１０（ａ）に示される回転軸Ｓの位置は、上記の図７の矩形形状の基材対向面３０の場合の回転軸ＳＡ、ＳＢの位置と同様に、対角線Ｌの延長線Ｌａと基材対向面３０の辺３０ａとのなす角度を二等分する半直線の上の位置になっている。
【００７５】
さらに、本発明のシャッタ機構の更に他の実施形態として、図１１に示されるように、ターゲット３の基材対向面３０は円形形状であってもよい。この場合、円形の基材対向面３０に外接する正方形を対角線上で２分割したシャッタ板１１を有するシャッタ６を用いることによって、上記の図１０（ａ）に示される正方形状の基材対向面３０の場合と同様に、シャッタ６の退避空間を縮小することが可能になる。
【００７６】
以上の実施形態では、第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂが閉位置にあるときに第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂの縁部同士がターゲット３の基材対向面３０と基材Ａとの間の位置で互いに近接する例として、図１〜６に示される第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂの重なり縁部１１ａ同士が基材対向面３０と基材Ａとの間の位置で互いに基材対向面３０の法線方向Ｙに重なり合うことを例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００７７】
本発明の変形例として、例えば、第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂが閉位置にあるときに第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂの縁部の対向面（端面）同士が基材対向面３０と基材Ｗとの間の位置で互いに接触してもよい。この場合も、上記実施形態と同様の効果を奏することができる。すなわち、このような変形例のシャッタ機構においても簡単な構成でシャッタの退避空間を縮小することができる。また、成膜装置における成膜チャンバの小型化を達成することができる。
【００７８】
上記と同様に、図８に示される４枚のシャッタ板、すなわち、第１のシャッタ板１１Ａおよび第２のシャッタ板１１Ｂの他に、第３のシャッタ板１１Ｃおよび第４のシャッタ板１１Ｄを備えたシャッタ機構においても、第３のシャッタ板１１Ｃおよび第４のシャッタ板１１Ｄが閉位置にあるときに第３のシャッタ板１１Ｃおよび第４のシャッタ板１１Ｄの縁部の対向面（端面）同士が基材対向面３０と基材Ｗとの間の位置で互いに接触してもよい。この場合も、上記実施形態と同様の効果を奏することができる。
【符号の説明】
【００７９】
１  成膜装置
２  チャンバ
３  ターゲット
６  シャッタ
１０シャッタ機構
１１Ａ〜１１Ｄ  第１〜第４のシャッタ板
１３Ａ〜１３Ｄ  第１〜第４の回転支持部部
１４  駆動部
３０  基材対向面
ＳＡ〜ＳＤ  第１〜第４の回転軸  
Ｗ  基材
【図１】
2018095927.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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