(57)【要約】      （修正有）【課題】十分な透明性、ゼロ位相差性を有し、面内での位相差の変動が小さい光学フィルムを提供する。【解決手段】下記構成単位を有する（共）重合体からなる位相差低減剤と特定のシクロオレフィン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアリレート系樹脂、及びポリイミド系樹脂のうち少なくとも１種の樹脂とからなる光学フィルムを用いる。式中、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、アルキル基を表し、ａは０〜５の整数を表す。2018151526.tif 000043【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）：
【化１】
2018151526.tif 000036
式（１）中、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、アルキル基を表し、ａは０〜５の整数を表す；
で表される構成単位を有する重合体又は共重合体からなる位相差低減剤。 
【請求項２】
前記共重合体は、下記式（２）：
【化２】
2018151526.tif 000037
式（２）中、Ｘ３及びＸ４は、それぞれ独立して、アルキル基を表す；
で表される構成単位をさらに有する、請求項１に記載の位相差低減剤。
【請求項３】
前記式（２）中、Ｘ３及びＸ４は、それぞれ独立して、炭素数１〜１２の直鎖アルキル基、炭素数４〜１２の分岐状アルキル基、又は炭素数３〜１２の環状アルキル基を表す、請求項２に記載の位相差低減剤。
【請求項４】
前記共重合体は、ラジカル重合性基を１つ有するモノマー由来の構成単位（ただし、前記式（１）で表される構成単位及び前記式（２）で表される構成単位を除く）をさらに有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の位相差低減剤。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の位相差低減剤と、
シクロオレフィン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアリレート系樹脂、及びポリイミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と、
を含む、光学フィルム。
【請求項６】
前記シクロオレフィン系樹脂は、下記式（３）：
【化３】
2018151526.tif 000038
式（３）中、Ａ１〜Ａ４は、それぞれ独立して、下記（ｉ）〜（ｉｖ）：
（ｉ）水素原子
（ｉｉ）ハロゲン原子、
（ｉｉｉ）炭化水素基、若しくは
（ｉｖ）水素結合受容性基、
を表すか、下記（ｖ）又は（ｖｉ）：
（ｖ）Ａ１とＡ２、又はＡ３とＡ４は、互いに結合してアルキリデン基を形成し、前記結合に関与しないＡ１〜Ａ４は、それぞれ独立して、前記（ｉ）〜（ｉｖ）から選択される基を表す、
（ｖｉ）Ａ１とＡ３、Ａ１とＡ４、Ａ２とＡ３、又はＡ２とＡ４は、互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環状構造を形成し、前記結合に関与しないＡ１〜Ａ４は、それぞれ独立して、前記（ｉ）〜（ｉｖ）から選択される基を表す；
を表し、ｂは０又は１を表し、ｃは０以上の整数を表す；
で表されるモノマー由来の構成単位を有する、請求項５に記載の光学フィルム。
【請求項７】
前記式（３）中、Ａ１及びＡ２は水素原子を表し、Ａ３はメチル基を表し、Ａ４はメトキシカルボニル基を表し、ｂは０を表す、請求項６に記載の光学フィルム。
【請求項８】
偏光子の少なくとも一方の面に、請求項５〜７のいずれか１項に記載の光学フィルムが配置されてなる、偏光板。
【請求項９】
請求項５〜７のいずれか１項に記載の１項に記載の光学フィルム、又は、請求項８に記載の偏光板を有する、表示装置。 
【請求項１０】
下記式（４）：
【化４】
2018151526.tif 000039
式（４）中、Ｙ１は、それぞれ独立して、アルキル基を表し、Ｗは、それぞれ独立して、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換の芳香族基、エステル基、又はカルボキシル基を表す；
で表される構成単位を有する重合体又は共重合体からなる位相差低減剤と、
下記式（５）：
【化５】
2018151526.tif 000040
式（５）中、Ｂ１〜Ｂ４は、それぞれ独立して、下記（ｉ）〜（ｉｖ）：
（ｉ）水素原子
（ｉｉ）ハロゲン原子、
（ｉｉｉ）炭化水素基、若しくは
（ｉｖ）水素結合受容性基、
を表すか、下記（ｖ）又は（ｖｉ）：
（ｖ）Ｂ１とＢ２、又はＢ３とＢ４は、互いに結合してアルキリデン基を形成し、前記結合に関与しないＢ１〜Ｂ４は、それぞれ独立して、前記（ｉ）〜（ｉｖ）から選択される基を表す、
（ｖｉ）Ｂ１とＢ３、Ｂ１とＢ４、Ｂ２とＢ３、又はＢ２とＢ４は、互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環状構造を形成し、前記結合に関与しないＢ１〜Ｂ４は、それぞれ独立して、前記（ｉ）〜（ｉｖ）から選択される基を表す；
を表し、ｄは０又は１を表し、ｅは０以上の整数を表す；
で表されるモノマー由来の構成単位を有するシクロオレフィン系樹脂と、
を含む、光学フィルム。
【請求項１１】
前記式（４）中、Ｗは、それぞれ独立して、置換若しくは無置換の芳香族基、又はエステル基を表す、請求項１０に記載の光学フィルム。
【請求項１２】
前記共重合体は、下記式（６）：
【化６】
2018151526.tif 000041
式（６）中、Ｙ２は、それぞれ独立して、アルキル基を表し、Ｙ３は、それぞれ独立して、アルコキシ基、アリールオキシ基、エステル基、水酸基、カルボキシル基、ハロゲン原子、又はシアノ基を表し、ｆは１〜５の整数を表す；
で表される構成単位と、
下記式（７）：
【化７】
2018151526.tif 000042
式（７）中、Ｙ４及びＹ５は、それぞれ独立して、アルキル基を表す；
で表される構成単位と、
を有する、請求項１０又は１１に記載の光学フィルム。
【請求項１３】
前記共重合体は、ラジカル重合性基を少なくとも１つ有するモノマー由来の構成単位（ただし、前記式（４）で表される構成単位、前記式（６）で表される構成単位、及び前記式（７）で表される構成単位を除く）をさらに有する、請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項１４】
前記式（５）中、Ｂ１及びＢ２は水素原子を表し、Ｂ３はメチル基を表し、Ｂ４はメトキシカルボニル基を表し、ｄは０を表す、請求項１０〜１３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項１５】
偏光子の少なくとも一方の面に、請求項１０〜１４のいずれか１項に記載の光学フィルムが配置されてなる、偏光板。
【請求項１６】
請求項１０〜１４のいずれか１項に記載の１項に記載の光学フィルム、又は、請求項１５に記載の偏光板を有する、表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特定の構成単位を有する重合体又は共重合体からなる位相差低減剤、及びこれを含む光学フィルム、偏光板、並びに表示装置に関する。より詳細には、光学フィルムにおいて、透明性及びゼロ位相差性を向上させるための技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ、ＬＣＤ）は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＶＡ（Ｖｉｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｃｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式等の種々の方式が開発されている。そのうち、ＩＰＳ方式は、ＴＮ方式やＶＡ方式に比べて視野角性能に優れており、諸用途に用いられている。なお、ＩＰＳ方式の液晶セルは、ネマチック液晶に横電界をかけてスイッチングする方式であり、詳しくはＰｒｏｃ．ＩＤＲＣ（Ａｓｉａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  １９９５）、５７７〜５８０頁及び同７０７〜７１０頁に記載されている。
【０００３】
ＩＰＳ方式に用いられる偏光板用光学フィルムとして、ＩＰＳ方式の特性上、光学的に等方性（以下、「ゼロ位相差性」とも称する）を有する偏光板用光学フィルムが求められる。等方性（ゼロ位相差性）を示す偏光板用光学フィルムとして、従来、セルローストリアセテート（Ｔｒｉａｃｅｔｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ、ＴＡＣ）フィルムがその取扱い性のよさから広く用いられている。しかし、位相差の値が完全にはゼロではないため、その改良が求められていた。
【０００４】
近年、ゼロ位相差性を示す偏光板用光学フィルムとして、シクロオレフィン系樹脂を用いた光学フィルムも用いられている。特許文献１には、シクロオレフィン系樹脂を用いたゼロ位相差性を示す光学フィルムが開示されている。
【０００５】
一方、特許文献２及び３には、２種のフィルムを張り合わせることによって位相差を調整した位相差フィルムが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１１−１２８３５６号公報
【特許文献２】特開２０１２−３２８３０号公報
【特許文献３】特開２００３−９０９１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
現在、種々の表示装置に用いられている光学フィルム用のシクロオレフィン系樹脂は、固有複屈折率が正の値である。したがって、溶融製膜法で光学フィルムを製造する際は、搬送方向への伸びや、熱延伸により、正の配向複屈折性に由来する位相差を発現する。このような位相差の発現は、製造時のプロセス条件の調整だけでは完全に抑制することは難しい。
【０００８】
また、溶液流延法で光学フィルムを製造する際は、上記の理由に加え、加圧ダイスリットからドラムやベルト上に流延した後の乾燥過程で樹脂鎖が配向することで位相差が発現する。さらには、溶剤が残留している状態の光学フィルムをクリップで幅手方向に保持しながら搬送する際に、乾燥により光学フィルムが収縮することで疑似的に延伸され、結果的に位相差が発現することもある。
【０００９】
そこで、シクロオレフィン系樹脂に、固有複屈折率が負の値である高分子材料をさらに添加して、不要な位相差を補償することによりゼロ位相差性を保つ必要があった。
【００１０】
従来、固有複屈折率が負の値である高分子材料としてアクリル樹脂やポリスチレンが知られているが、アクリル樹脂は位相差が小さく、ゼロ位相差性を発現させる効果が十分でない。また、ポリスチレンは、低温領域での光弾性係数が大きいため、わずかな応力で位相差が変化するといった位相差の安定性の問題や、耐熱性が低いという実用上の問題を有していた。
【００１１】
さらに、シクロオレフィン系樹脂にそれら固有複屈折率が負の値である高分子材料を添加して、ゼロ位相差性を示す薄膜の光学フィルムを作製しようとしても、フィルムが相溶せず、不透明になったり、光学フィルム面の場所によって位相差の値が変動しやすくなるという新たな問題が見出された。
【００１２】
一方、特許文献２及び３に記載された技術を用いて、ゼロ位相差性を示す光学フィルムを得ようと試みたが、貼合に伴う角度のずれによって性能が低下するという問題を有していた。
【００１３】
そこで本発明は、十分な透明性、ゼロ位相差性を有し、面内での位相差の変動が小さい光学フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明者は、上記課題に鑑み、鋭意検討を行った。その結果、特定の構成単位を有する重合体又は共重合体（単に「（共）重合体」とも称する）を位相差低減剤として用いることにより、光学フィルムにおける上記課題が解決されることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明の上記課題は、以下の手段により解決される。
【００１５】
下記式（１）：
【００１６】
【化１】
2018151526.tif 000002
【００１７】
式（１）中、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、アルキル基を表し、ａは０〜５の整数を表す；
で表される構成単位を有する重合体又は共重合体からなる位相差低減剤。
【００１８】
下記式（４）：
【００１９】
【化２】
2018151526.tif 000003
【００２０】
式（４）中、Ｙ１は、それぞれ独立して、アルキル基を表し、Ｗは、それぞれ独立して、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換の芳香族基、エステル基、又はカルボキシル基を表す；
で表される構成単位を有する重合体又は共重合体からなる位相差低減剤と、
下記式（５）：
【００２１】
【化３】
2018151526.tif 000004
【００２２】
式（５）中、Ｂ１〜Ｂ４は、それぞれ独立して、下記（ｉ）〜（ｉｖ）：
（ｉ）水素原子
（ｉｉ）ハロゲン原子、
（ｉｉｉ）炭化水素基、若しくは
（ｉｖ）水素結合受容性基、
を表すか、下記（ｖ）又は（ｖｉ）：
（ｖ）Ｂ１とＢ２、又はＢ３とＢ４は、互いに結合してアルキリデン基を形成し、前記結合に関与しないＢ１〜Ｂ４は、それぞれ独立して、前記（ｉ）〜（ｉｖ）から選択される基を表す、
（ｖｉ）Ｂ１とＢ３、Ｂ１とＢ４、Ｂ２とＢ３、又はＢ２とＢ４は、互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環状構造を形成し、前記結合に関与しないＢ１〜Ｂ４は、それぞれ独立して、前記（ｉ）〜（ｉｖ）から選択される基を表す；
を表し、ｄは０又は１を表し、ｅは０以上の整数を表す；
で表されるモノマー由来の構成単位を有するシクロオレフィン系樹脂と、
を含む、光学フィルム。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、十分な透明性、ゼロ位相差性を有し、面内での位相差の変動が小さい光学フィルムを提供することが可能となる。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明を実施するための形態を説明する。
【００２５】
本明細書において、範囲を示す「Ｘ〜Ｙ」は、「Ｘ以上Ｙ以下」を意味する。また、特記しない限り、操作及び物性等の測定は室温（２０〜２５℃）、相対湿度４０〜５０％ＲＨ以下の条件で測定する。
【００２６】
本発明の第１形態によると、下記式（１）：
【００２７】
【化４】
2018151526.tif 000005
【００２８】
式（１）中、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、アルキル基を表し、ａは０〜５の整数を表す；
で表される構成単位を有する重合体又は共重合体からなる位相差低減剤が提供される。
【００２９】
また、本発明の第２形態によると、下記式（４）：
【００３０】
【化５】
2018151526.tif 000006
【００３１】
式（４）中、Ｙ１は、それぞれ独立して、アルキル基を表し、Ｗは、それぞれ独立して、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換の芳香族基、エステル基、又はカルボキシル基を表す；
で表される構成単位を有する重合体又は共重合体からなる位相差低減剤と、
下記式（５）：
【００３２】
【化６】
2018151526.tif 000007
【００３３】
式（５）中、Ｂ１〜Ｂ４は、それぞれ独立して、下記（ｉ）〜（ｉｖ）：
（ｉ）水素原子
（ｉｉ）ハロゲン原子、
（ｉｉｉ）炭化水素基、若しくは
（ｉｖ）水素結合受容性基、
を表すか、下記（ｖ）又は（ｖｉ）：
（ｖ）Ｂ１とＢ２、又はＢ３とＢ４は、互いに結合してアルキリデン基を形成し、前記結合に関与しないＢ１〜Ｂ４は、それぞれ独立して、前記（ｉ）〜（ｉｖ）から選択される基を表す、
（ｖｉ）Ｂ１とＢ３、Ｂ１とＢ４、Ｂ２とＢ３、又はＢ２とＢ４は、互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環状構造を形成し、前記結合に関与しないＢ１〜Ｂ４は、それぞれ独立して、前記（ｉ）〜（ｉｖ）から選択される基を表す；
を表し、ｄは０又は１を表し、ｅは０以上の整数を表す；
で表されるモノマー由来の構成単位を有するシクロオレフィン系樹脂と、
を含む、光学フィルムが提供される。
【００３４】
第１形態及び第２形態のいずれにおいても、光学フィルムの位相差低減剤として特定の構成単位を有する（共）重合体を用いることにより、十分な透明性、ゼロ位相差性を有し、面内での位相差の変動が小さい光学フィルムを得ることが可能となる。本発明によりこれらの効果が奏されるメカニズムは定かではないが、本発明者らは以下のように推察している。
【００３５】
すなわち、位相差低減剤として用いられる（共）重合体が上記の特定の構成単位を有することにより、溶媒への溶解性が向上する。これにより、光学フィルムに用いられる樹脂（例えば、シクロオレフィン系樹脂）と溶液混合することが容易となる。
【００３６】
また、従来のアクリル樹脂やポリスチレンなどの位相差低減剤は、光学フィルムに用いられる樹脂（例えば、シクロオレフィン系樹脂）との間でミクロな相分離が生じやすく、光学フィルムの製造工程での昇温や冷却、延伸によって相分離が増大することによって、光学フィルムの面内における位相差の変動が生じると考えられる。しかしながら、本発明に係る特定の構成単位を有する（共）重合体からなる位相差低減剤は、樹脂との間でのミクロな相分離が生じにくいため、フィルムとの相溶性が良好であることから、光学フィルムの面内での位相差の変動が生じにくいと推察される。
【００３７】
なお、上記メカニズムはあくまでも推測に基づくものであり、その正誤が本発明の特許性に影響を及ぼすものではない。
【００３８】
−第１形態−
まず、本発明の第１形態について説明する。
【００３９】
＜位相差低減剤＞
本発明の第１形態によると、下記式（１）：
【００４０】
【化７】
2018151526.tif 000008
【００４１】
式（１）中、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、アルキル基を表し、ａは０〜５の整数を表す；
で表される構成単位を有する重合体又は共重合体からなる位相差低減剤が提供される。
【００４２】
本形態に係る位相差低減剤は、固有複屈折率が負の値を有することで、固有複屈折率が正の値である樹脂からなるフィルムの位相差を低減し、光学フィルムにおいてゼロ位相差性を発現させる機能を有する。
【００４３】
式（１）中、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、アルキル基を表し、ａは０〜５の整数を表す。
【００４４】
Ｘ１として示されるアルキル基としては、炭素数１〜１２の直鎖アルキル基、炭素数３〜１２の分岐鎖アルキル基、炭素数３〜１２の環状アルキル基が挙げられる。具体的には、炭素数１〜１２の直鎖アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ；炭素数３〜１２の分岐鎖アルキル基としては、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ；炭素数３〜１２の環状アルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、テトラヒドロジシクロペンタジエニル基等が挙げられる。なかでも、重合性の観点から、Ｘ１は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基が好ましく、メチル基、エチル基がより好ましい。
【００４５】
Ｘ２として示されるアルキル基としては、炭素数１〜１２の直鎖アルキル基、炭素数３〜１２の分岐鎖アルキル基、炭素数３〜１２の環状アルキル基が挙げられる。具体的には、炭素数１〜１２の直鎖アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ；炭素数３〜１２の分岐鎖アルキル基としては、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ；炭素数３〜１２の環状アルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、テトラヒドロジシクロペンタジエニル基等が挙げられる。なかでも、重合性の観点から、Ｘ２は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基が好ましく、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基がより好ましい。
【００４６】
ａは０〜５の整数を表す。なかでも、重合性の観点から、ａは０〜３であることが好ましく、０〜２であることがより好ましく、１であることがさらに好ましい。なお、ａが２以上である場合、Ｘ２として示される基は、互いに同じであってもよいし、異なってもよい。
【００４７】
位相差低減剤は、構成単位（１）を１種のみ単独で含む重合体であってもよく、２種以上含む共重合体であってもよい。
【００４８】
また、位相差低減剤を構成する共重合体は、構成単位（１）以外に、下記式（２）で表される構成単位（以下、「構成単位（２）」とも称する）をさらに有することが好ましい。構成単位（２）を有することにより、重合性を向上させることができる。
【００４９】
【化８】
2018151526.tif 000009
【００５０】
式（２）中、Ｘ３及びＸ４は、それぞれ独立して、アルキル基を表す。
【００５１】
Ｘ３及びＸ４として示されるアルキル基としては、炭素数１〜１２の直鎖アルキル基、炭素数３〜１２の分岐鎖アルキル基、炭素数３〜１２の環状アルキル基が挙げられる。ここで、具体的には、炭素数１〜１２の直鎖アルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ；炭素数３〜１２の分岐鎖アルキル基としては、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ；炭素数３〜１２の環状アルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、テトラヒドロジシクロペンタジエニル基等が挙げられる。なかでも、溶媒への溶解性という観点から、Ｘ３及びＸ４は、それぞれ独立して、炭素数１〜１２の直鎖アルキル基、炭素数４〜１２の分岐状アルキル基、又は炭素数３〜１２の環状アルキル基であることが好ましく、具体的には、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基が好ましく、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基がより好ましい。
【００５２】
共重合体に含まれる構成単位（２）は、１種のみ単独で含まれていてもよいし、２種以上が組み合わされて含まれていてもよい。
【００５３】
位相差低減剤が、構成単位（１）及び構成単位（２）を有する共重合体である場合の、各構成単位の含有割合は、特に制限されないが、光学フィルムにおけるゼロ位相差性を向上させる観点、脆性を低減させる観点から、構成単位（１）部分及び構成単位（２）部分の総質量１００質量％に対して、構成単位（１）部分の質量が２〜９０質量％、構成単位（２）部分の質量が１０〜９８質量％であることが好ましく、構成単位（１）部分の質量が５〜７０質量％、構成単位（２）部分の質量が３０〜９５質量％であることがより好ましく、構成単位（１）部分の質量が１０〜７０質量％、構成単位（２）部分の質量が３０〜９０質量％であることがさらに好ましい。すなわち、本形態に係る位相差低減剤を構成する共重合体の原料となる下記式（１ａ）で表されるモノマー（以下、「モノマー（１ａ）」とも称する）及び下記式（２ａ）で表されるモノマー（以下、「モノマー（２ａ）」とも称する）の総質量１００質量％に対する、モノマー（１ａ）及びモノマー（２ａ）のそれぞれの割合は、モノマー（１ａ）が２〜９０質量％、モノマー（２ａ）が１０〜９８質量％であることが好ましく、モノマー（１ａ）が５〜７０質量％、モノマー（２ａ）が３０〜９５質量％であることがより好ましく、モノマー（１ａ）が１０〜７０質量％、モノマー（２ａ）が３０〜９０質量％であることがさらに好ましい。
【００５４】
【化９】
2018151526.tif 000010
【００５５】
式（１ａ）中、Ｘ１、Ｘ２、ａの定義は、それぞれ式（１）と同様である。
【００５６】
モノマー（１ａ）としては、例えば、ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、ケイ皮酸シクロヘキシル、４−メチルケイ皮酸メチル、４−メチルケイ皮酸エチル、３，４−ジメチルケイ皮酸メチル、３，５−ジメチルケイ皮酸エチル、４−ｔｅｒｔ−ブチルケイ皮酸メチルなどが挙げられるが、これらに制限されない。
【００５７】
【化１０】
2018151526.tif 000011
【００５８】
式（２ａ）中、Ｘ３及びＸ４の定義は、それぞれ式（２）と同様である。
【００５９】
モノマー（２ａ）としては、例えば、フマル酸ジ−ｓｅｃ−ブチル、フマル酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル、フマル酸ジシクロプロピル、フマル酸ジシクロヘキシル、フマル酸ジイソプロピル、フマル酸ジエチルなどが挙げられるが、これらに制限されない。
【００６０】
位相差低減剤を構成する共重合体は、構成単位（１）及び構成単位（２）以外に、ラジカル重合性基を１つ有するモノマー（以下、「他のモノマー」とも称する）由来の構成単位（以下、「他の構成単位」とも称する）をさらに有してもよい。他の構成単位を含むことにより、位相差低減剤と樹脂との相溶性を向上させることができる。
【００６１】
ラジカル重合性基を１つ有するモノマー（他のモノマー）としては、以下のモノマーが挙げられる。
【００６２】
（１）スチレン系モノマー
スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、α−メチルスチレン、ｐ−フェニルスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｐ−ｎ−ブチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、ｐ−ｎ−ヘキシルスチレン、ｐ−ｎ−オクチルスチレン、ｐ−ｎ−ノニルスチレン、ｐ−ｎ−デシルスチレン、ｐ−ｎ−ドデシルスチレン、２，４−ジメチルスチレンなど。
【００６３】
（２）（メタ）アクリル酸エステル系モノマー
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ステアリルアクリレート、ラウリルアクリレート、フェニルアクリレートフェニル、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、フェニルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、イソボルニルアクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、ジシクロペンタニルアクリレートなど。
【００６４】
（３）オレフィン類
エチレン、プロピレン、イソブチレン、ビニルシクロヘキサンなど。
【００６５】
（４）ビニルエステル類
プロピオン酸ビニル、酢酸ビニル、ベンゾエ酸ビニルなど。
【００６６】
（５）ビニルエーテル類
ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルシクロヘキシルエーテルなど。
【００６７】
（６）ビニルケトン類
ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトン、ビニルヘキシルケトンなど。
【００６８】
（７）Ｎ−ビニル化合物類
Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルインドール、Ｎ−ビニルピロリドンなど。
【００６９】
（８）その他
ブタジエン、ビニルナフタレン、ビニルピリジンなどのビニル化合物類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミドなどのアクリル酸あるいはメタクリル酸誘導体、無水マレイン酸など。
【００７０】
なかでも、樹脂との相溶性を向上させる観点から、ラジカル重合性基を１つ有するモノマーは、（メタ）アクリル酸エステル系モノマー、オレフィン類、ビニルエーテル類であることが好ましく、（メタ）アクリル酸エステル系モノマーであることがより好ましい。
【００７１】
共重合体に含まれる他の構成単位は、１種のみ単独で含まれていてもよいし、２種以上が組み合わされて含まれていてもよい。
【００７２】
位相差低減剤を構成する共重合体が、他の構成単位をさらに有する場合の、他の構成単位の含有割合は、特に制限されないが、十分な位相差低減効果を発揮させる観点から、構成単位（１）部分及び構成単位（２）部分の総質量１００質量部に対して、他の構成単位部分の質量が１〜５０質量部であることが好ましく、３〜４０質量部であることがより好ましく、５〜３０質量部であることがさらに好ましく、５〜２０質量部であることが特に好ましい。
【００７３】
位相差低減剤の重量平均分子量（Ｍｗ）は、溶媒への溶解性、シクロオレフィン系樹脂との相溶性の観点から、５０００〜３０００００であることが好ましく、８０００〜１０００００であることがより好ましく、１００００〜８００００であることがさらに好ましい。なお、本明細書において、重量平均分子量（Ｍｗ）又は数平均分子量（Ｍｎ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定したポリスチレン換算の値を採用するものとする。
【００７４】
＜位相差低減剤の製造方法＞
本形態に係る位相差低減剤は、従来公知の手法を適宜参照することにより製造することができる。より詳しくは、上記モノマー（１ａ）、必要に応じて用いられるモノマー（２ａ）及び／又はラジカル重合性基を１つ有するモノマーを、ラジカル重合により重合させることによって製造することができる。
【００７５】
ラジカル重合に用いるラジカル重合開始剤は、特に制限されず、フリーラジカルを発生する有機過酸化物、アゾビス系のラジカル重合開始剤等の公知の化合物を適宜採用することができる。
【００７６】
有機過酸化物としては、ジアセチルパーオキサイド、ジベンゾイルパーオキサイド（過酸化ベンゾイル）、ジイソブチロイルパーオキサイド、ジ（２，４−ジクロロベンゾイル）パーオキサイド、ジ（３，５，５−トリメチルヘキサノイル）パーオキサイド、ジオクタノイルパーオキサオド、ジラウロイルパーオキサイド、ジステアロイルパーオキサイド、ビス｛４−（ｍ−トルオイル）ベンゾイル｝パーオキサイドなどのジアシルパーオキサイド類；
メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイドなどのケトンパーオキサイド類；
過酸化水素、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、α−クメンハイドロパーオキサイド、ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ヘキシルハイドロパーオキサイドなどのハイドロパーオキサイド類；
ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジラウリルパーオキサイド、α，α’−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼン、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチルクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ヘキシン−３などのジアルキルパーオキサイド類；
ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔｅｒｔ−ヘキシルパーオキシピバレート、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン、１−シクロヘキシル−１−メチルエチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔｅｒｔ−ヘキシルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシマレエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシラウレート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｍ−トルオイルパーオキシ）ヘキサン、α，α’−ビス（ネオデカノイルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼン、クミルパーオキシネオデカノエート、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、１−シクロヘキシル−１−メチルエチルパーオキシネオデカノエート、ｔｅｒｔ−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシネオドデカノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔｅｒｔ−ヘキシルパーオキシベンゾエート、ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）イソフタレート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシｍ−トルオイルベンゾエート、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノンなどのパーオキシエステル類；
１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ヘキシルパーオキシ）３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）シクロドデカン、２，２−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ピバレート、２，２−ビス（４，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシシクロヘキシル）プロパンなどのパーオキシケタール類；
ｔｅｒｔ−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキシルモノカーボネート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアリルモノカーボネートなどのパーオキシモノカーボネート類；
ジ−ｓｅｃ−ブチルパーオキシジカーボネート、ジ−ｎ−プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−２−メトキシブチルパーオキシジカーボネート、ジ（３−メチル−３−メトキシブチル）パーオキシジカーボネートなどのパーオキシジカーボネート類；
その他、ｔｅｒｔ−ブチルトリメチルシリルパーオキサイドなどが挙げられるが、本発明で用いられる有機過酸化物はこれらの例示化合物に限定されるものではない。
【００７７】
アゾビス系ラジカル重合開始剤としては、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリル、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２−（カルバモイルアゾ）イソブチロニトリル、２，２’−アゾビス［２−メチル−Ｎ−｛１，１−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル｝プロピオンアミド］、２，２’−アゾビス［２−メチル−Ｎ−｛２−（１−ヒドロキシブチル）｝プロピオンアミド］、２，２’−アゾビス［２−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−プロピオンアミド］、２，２’−アゾビス［Ｎ−（２−プロペニル）−２−メチルプロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス（Ｎ−シクロヘキシル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス［２−（５−メチル−２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］ジハイドロクロライド、２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］ジハイドロクロライド、２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］ジサルフェート・ジハイドレート、２，２’−アゾビス［２−（３，４，５，６−テトラヒドロピリミジン−２−イル）プロパン］ジハイドロクロライド、２，２’−アゾビス［２−｛１−（２−ヒドロキシエチル）−２−イミダゾリン−２−イル｝プロパン］ジハイドロクロライド、２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミジン）ジハイドロクロライド、２，２’−アゾビス［Ｎ−（２−カルボキシエチル）−２−メチル−プロピオンアミジン］、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミドキシム）、ジメチル２，２’−アゾビスブチレート、４，４’−アゾビス（４−シアノペンタノイックアシッド）、２，２’−アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）、１，１’−アゾビス（１−アセトキシ−１−フェニルエタン）、ジメチル２，２’−アゾビスイソブチレート（２，２’−アゾビス（イソ酪酸）ジメチル）などが挙げられるが、本発明で用いられるアゾビス系ラジカル重合開始剤はこれらの例示化合物に限定されるものではない。
【００７８】
ラジカル重合開始剤の使用量は、モノマーの総量１００ｍｏｌ％に対して、通常０．０１〜２０ｍｏｌ％であり、０．０５〜１０ｍｏｌ％であることが好ましく、０．１〜５ｍｏｌ％であることが好ましい。
【００７９】
ラジカル重合には、触媒が用いられてもよい。触媒は、特に限定されず、例えば、公知のアニオン重合触媒、配位重合触媒、カチオン重合触媒などが挙げられる。
【００８０】
ラジカル重合は、ラジカル重合開始剤や触媒の存在下で、上記モノマーを、塊状重合法、溶液重合法、沈殿重合法、乳化重合法、懸濁重合法、又は塊状−懸濁重合法などの従来公知の方法で（共）重合させることにより行われる。
【００８１】
＜光学フィルム＞
本発明の一形態によると、上記位相差低減剤と、シクロオレフィン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアリレート系樹脂、及びポリイミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と、を含む光学フィルムが提供される。
【００８２】
［樹脂］
本形態において、光学フィルムを構成する樹脂は、シクロオレフィン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアリレート系樹脂、及びポリイミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂を含むものであれば、特に制限されない。
【００８３】
（シクロオレフィン系樹脂）
シクロオレフィン系樹脂は、特に制限されず、公知の材料を適宜採用することができる。なかでも、溶媒への溶解性の観点から、シクロオレフィン系樹脂は、下記式（３）で表されるモノマー由来の構成単位を有することが好ましい。
【００８４】
【化１１】
2018151526.tif 000012
【００８５】
式（３）中、Ａ１〜Ａ４は、それぞれ独立して、下記（ｉ）〜（ｉｖ）：
（ｉ）水素原子
（ｉｉ）ハロゲン原子、
（ｉｉｉ）炭化水素基、若しくは
（ｉｖ）水素結合受容性基、
を表すか、下記（ｖ）又は（ｖｉ）：
（ｖ）Ａ１とＡ２、又はＡ３とＡ４は、互いに結合してアルキリデン基を形成し、前記結合に関与しないＡ１〜Ａ４は、それぞれ独立して、前記（ｉ）〜（ｉｖ）から選択される基を表す、
（ｖｉ）Ａ１とＡ３、Ａ１とＡ４、Ａ２とＡ３、又はＡ２とＡ４は、互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環状構造を形成し、前記結合に関与しないＡ１〜Ａ４は、それぞれ独立して、前記（ｉ）〜（ｉｖ）から選択される基を表す；
を表し、ｂは０又は１を表し、ｃは０以上の整数を表す。
【００８６】
式（３）中、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【００８７】
式（３）中、炭化水素基としては、炭素数１〜３０の炭化水素基が挙げられ、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；ビニル基、アリル基、プロペニル基等のアルケニル基；フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等の芳香族基等が挙げられる。これらの炭化水素基は置換されていてもよく、置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、フェニルスルホニル基等が挙げられる。
【００８８】
本明細書中、「水素受容性基」とは、フッ素原子、酸素原子、窒素原子などの陰性原子を含有し、水素結合形成可能な基を意味する。水素結合受容性基としては、例えば、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアシルオキシ基、炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、アミド基、イミド環含有基、トリオルガノシロキシ基、トリオルガノシリル基、アシル基、炭素数１〜１０のアルコキシシリル基、スルホニル含有基、及びカルボキシ基など挙げられる。これらの水素受容性基についてさらに具体的に説明すると、アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられ；アシルオキシ基としては、例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基等のアルキルカルボニルオキシ基、及びベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基が挙げられ；アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等が挙げられ；アリールオキシカルボニル基としては、例えば、フェノキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基、フルオレニルオキシカルボニル基、ビフェニリルオキシカルボニル基等が挙げられ；トリオルガノシロキシ基としては、例えば、トリメチルシロキシ基、トリエチルシロキシ基等が挙げられ；トリオルガノシリル基としてはトリメチルシリル基、トリエチルシリル基等が挙げられ；アルコキシシリル基としては、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等が挙げられる。
【００８９】
式（３）中、Ａ１〜Ａ４のうちの１つ又は２つは、水素結合受容性基であることが好ましい。このような構造を有することによって、容易に溶媒に溶解させることができる。なお、式（３）中のＡ１〜Ａ４に存在する水素結合受容性基の割合は、例えば、１３Ｃ核磁気共鳴（１３ＣＮＭＲ）分光法を用いて同定することができる。
【００９０】
式（３）中、溶媒への溶解性を向上させる観点から、Ａ１及びＡ３は、水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基であることが好ましく、炭素数１〜４の炭化水素基であることがより好ましく、炭素数１〜２の炭化水素基であることがさらに好ましい。また、溶液流延法での製膜が容易になるという観点から、Ａ２及びＡ４の少なくとも一つは水素結合受容性基であることが好ましい。また、ガラス転移温度を高める観点、及び、機械的強度を向上させるという観点から、ｂ＝０、ｃ＝１であることが好ましい。
【００９１】
さらには、溶液流延法での製膜がしやすく、薄膜化を容易に行うことができるという観点から、式（３）中、Ａ１及びＡ２は水素原子であり、Ａ３はメチル基であり、Ａ４はメトキシカルボニル基であり、ｂは０であることが好ましい。
【００９２】
シクロオレフィン系樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）は、８０００〜１０００００であることが好ましく、１００００〜８００００であることがより好ましく、１２０００〜５００００であることがさらに好ましい。また、重量平均分子量（Ｍｗ）は、２００００〜３０００００であることが好ましく、３００００〜２５００００であることがより好ましく、４００００〜２０００００であることがさらに好ましい。数平均分子量（Ｍｎ）又は重量平均分子量（Ｍｗ）が上記範囲内であると、シクロオレフィン系樹脂の耐熱性、耐水性、耐薬品性、機械的特性が向上するとともに、光学フィルムとしての成形加工性が良好となる。
【００９３】
シクロオレフィン系樹脂の固有粘度［η］ｉｎｈ（測定温度３０℃）は、０．２〜５ｃｍ３／ｇであることが好ましく、０．３〜３ｃｍ３／ｇであることがより好ましく、０．４〜１．５ｃｍ３／ｇであることがさらに好ましい。固有粘度［η］ｉｎｈが上記範囲内であると、シクロオレフィン系樹脂の耐熱性、耐水性、耐薬品性、機械的特性が向上するとともに、光学フィルムとしての成形加工性が良好となる。なお、固有粘度［η］ｉｎｈは、測定対象のシクロオレフィン樹脂をクロロホルムに溶解させた樹脂溶液を、ウベローデ型粘度計を用いて測定（測定温度３０℃）することができる。
【００９４】
シクロオレフィン系樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、通常１１０℃以上であり、１１０〜３５０℃であることが好ましく、１２０〜２５０℃であることがより好ましく、１２０〜２２０℃であることが特に好ましい。ガラス転移温度（Ｔｇ）が１１０℃以上であると、高温条件下での使用や、コーティング、印刷などの二次加工による変形が抑制されるため好ましい。また、ガラス転移温度（Ｔｇ）が３５０℃以下であると、成形加工や成形加工時の熱による樹脂劣化が抑制されるため好ましい。なお、本明細書において、ガラス転移温度（Ｔｇ）は、後述の実施例に記載の方法で測定された値を採用する。
【００９５】
シクロオレフィン系樹脂は、公知の手法により合成したものを用いてもよいし、市販品を用いてもよい。市販品の例としては、ＪＳＲ株式会社製のアートン（ＡＲＴＯＮ）Ｇ（具体的にはＧ７８１０）、アートンＦ、アートンＲ（具体的にはＲ５０００）、及びアートンＲＸ（具体的にはＲＸ４５００）（アートン（ＡＲＴＯＮ）は登録商標）が挙げられる。
【００９６】
光学フィルムに含まれるシクロオレフィン系樹脂の含有量は、特に制限されないが、光学フィルムの耐熱性を向上させる観点から、光学フィルムの固形分の総量１００質量％に対して、５１〜９９質量％であることが好ましい。
【００９７】
（セルロース系樹脂）
セルロース系樹脂は、特に制限されないが、セルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素数が６以下の脂肪酸を意味する。セルロース系樹脂としては、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等や、特開平１０−４５８０４号公報、同０８−２３１７６１号公報、米国特許第２３１９０５２号等に記載されているセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることができる。なかでも、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましい。これらのセルロース系樹脂は、１種のみを単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００９８】
（ポリカーボネート系樹脂）
ポリカーボネート系樹脂は、特に制限されないが、芳香族二価フェノール系化合物と、ホスゲン又は炭酸ジエステルとを反応させることにより得られる、芳香族ホモ又はコポリカーボネート樹脂であることが好ましい。
【００９９】
芳香族二価フェノール系化合物としては、例えば、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジエチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジエチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１−フェニル−１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタンなどが挙げられる。これらは、１種のみを単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１００】
炭酸ジエステルとしては、例えば、ジフェニルカーボネート、ジトルイルカーボネート、ビス（クロロフェニル）カーボネートなどのジアリールカーボネート；ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネートなどのジアルキルカーボネート；ホスゲンなどのカルボニルハライド；２価フェノールのジハロホルメートなどのハロホルメートなどを用いることができる。なかでも、ジフェニルカーボネートが好ましい。これらは、１種のみを単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１０１】
ポリカーボネート樹脂としては、例えば、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン又は１，１，１−トリス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）エタンのような三官能以上の多官能性芳香族化合物を共重合した分岐ポリカーボネート樹脂であっても、芳香族又は脂肪族の二官能性カルボン酸を共重合したポリエステルカーボネート樹脂であってもよい。また、得られたポリカーボネート樹脂を２種又はそれ以上混合して得られた混合物であってもよい。
【０１０２】
ポリカーボネート系樹脂は、公知の手法により合成したものを用いてもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、パンライト（登録商標）Ｌ−１２２５Ｙ、帝人株式会社製等が挙げられる。ポリカーボネート樹脂の製造方法は、特に制限されず、公知の手法を採用することができ、例えば、芳香族二価フェノール系化合物にホスゲンなどを直接反応させる方法（界面重合法）や、芳香族二価フェノール系化合物とジフェニルカーボネートなどの炭酸ジエステルとを溶融状態でエステル交換反応させる方法（溶液法）などが挙げられる。
【０１０３】
（ポリアリレート系樹脂）
ポリアリレート系樹脂は、少なくとも芳香族ジアルコール由来の構成単位と芳香族ジカルボン酸由来の構成単位とを含む。
【０１０４】
芳香族ジアルコールは、好ましくは下記式（Ｉ）で表されるビスフェノール類、より好ましくは下記式（ＩＩ）で表されるビスフェノール類である。
【０１０５】
【化１２】
2018151526.tif 000013
【０１０６】
式（Ｉ）及び式（ＩＩ）中、Ｌは、２価の基を表す。２価の基は、好ましくは単結合、アルキレン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−、−ＣＯ−又は−ＣＲ１Ｒ２−（Ｒ１とＲ２は互いに結合して脂肪族環又は芳香族環を形成する）である。
【０１０７】
アルキレン基は、好ましくは炭素数１〜１０のアルキレン基であり、その例には、メチレン基、エチレン基、イソプロピリデン基等が含まれる。アルキレン基は、ハロゲン原子やアリール基等の置換基をさらに有してもよい。
【０１０８】
−ＣＲ１Ｒ２−のＲ１及びＲ２は、それぞれ互いに結合して脂肪族環又は芳香族環を形成している。脂肪族環は、好ましくは炭素数５〜２０の脂肪族炭化水素環であり、好ましくは置換された又は非置換のシクロヘキサン環である。芳香族環は、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環であり、好ましくは置換された又は非置換のフルオレン環である。置換された又は非置換のシクロヘキサン環を形成する−ＣＲ１Ｒ２−の例には、シクロヘキサン−１，１−ジイル基、３，３，５−トリメチルシクロヘキサン−１，１−ジイル基等が含まれる。置換された又は非置換のフルオレン環を形成する−ＣＲ１Ｒ２−の例には、下記式で表されるフルオレンジイル基が含まれる。
【０１０９】
【化１３】
2018151526.tif 000014
【０１１０】
式（Ｉ）及び（ＩＩ）のＲは、それぞれ独立して、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数６〜１０のアリール基でありうる。ｎは、それぞれ独立して、０〜４の整数、好ましくは０〜３の整数である。
【０１１１】
ポリアリレート系樹脂を構成する芳香族ジアルコール成分は、１種のみを単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１１２】
芳香族ジカルボン酸は、テレフタル酸、イソフタル酸又はそれらの混合物でありうる。
【０１１３】
ポリアリレート系樹脂は、テレフタル酸及びイソフタル酸以外の芳香族ジカルボン酸由来の構成単位をさらに含んでもよい。そのような芳香族ジカルボン酸成分の例には、オルトフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、ジフェン酸、４，４’−ジカルボキシジフェニルエーテル、ビス（ｐ−カルボキシフェニル）アルカン、４，４’−ジカルボキシフェニルスルホン等が含まれる。
【０１１４】
（ポリイミド系樹脂）
ポリイミド系樹脂は、ジアミン化合物由来の構成単位と、カルボン酸無水物由来の構成単位とを含む。ポリイミド系樹脂は、特に限定はされないが、下記式（ＩＩＩ）及び下記式（ＩＶ）で表される構成単位を有することが好ましい。
【０１１５】
【化１４】
2018151526.tif 000015
【０１１６】
一般式（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）中、Ｒは、それぞれ独立して、芳香族炭化水素環若しくは芳香族複素環、又は、炭素数４〜３９の４価の脂肪族炭化水素基若しくは脂環式炭化水素基を表す。Φは、それぞれ独立して、炭素数２〜３９の２価の脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、又はこれらの組み合わせからなる基であって、結合基として、−Ｏ−、−ＳＯ２−、−ＣＯ−、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＯＳｉ（ＣＨ３）２−、−Ｃ２Ｈ４Ｏ−及び−Ｓ−からなる群から選択される少なくとも１種を含有していてもよい。
【０１１７】
なお、以上で挙げた樹脂は、１種のみを単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１１８】
ポリイミド系樹脂は、公知の手法により合成したものを用いてもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、セピクセリア（登録商標）ＴＰ００３、ソマール株式会社製等が挙げられる。
【０１１９】
光学フィルムにおける、位相差低減剤及び樹脂の含有量は、特に制限されないが、ゼロ位相差性や、位相差低減剤と樹脂との相溶性の観点から、シクロオレフィン系樹脂５１〜９９質量％、位相差低減剤１〜４９質量％であることが好ましく、シクロオレフィン系樹脂６０〜９８質量％、位相差低減剤２〜４０質量％であることがより好ましく、シクロオレフィン系樹脂７０〜９７質量％、位相差低減剤３〜３０質量％であることがさらに好ましい。
【０１２０】
［添加剤］
光学フィルムは、位相差低減剤及び樹脂以外に、下記の添加剤（マット剤、可塑剤、紫外線吸収剤）を含んでもよい。
【０１２１】
（マット剤）
光学フィルムは、製造された光学フィルムがハンドリングされる際の、傷つきや、搬送性が悪化することを防止するため、マット剤を含有することが好ましい。マット剤としては特にシリカ粒子を含有することが好ましい。
【０１２２】
シリカ粒子とは、二酸化ケイ素を主成分とする粒子である。主成分とは、粒子を構成する成分の５０％以上を含有することをいい、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上、特に好ましくは９０％以上含まれることをいう。
【０１２３】
また、二酸化ケイ素系の粒子で、かつ表面がアルキル化処理により疎水化処理された微粒子を添加すると、溶媒に対しての分散性がよく、異物の発生を抑制できることから、好ましい。
【０１２４】
シリカ粒子に対する疎水化処理は、アルキル化処理であることが好ましい。アルキル化処理された微粒子の表面はアルキル基を有し、そのアルキル基の炭素数は１〜２０の範囲であることが好ましく、より好ましくは炭素数１〜１２の範囲であり、特に好ましくは、炭素数１〜８の範囲である。
【０１２５】
シリカ粒子において、表面に炭素数１〜２０の範囲のアルキル基を有するものは、例えば、二酸化ケイ素の粒子をオクチルシランで処理することにより得ることができる。また、表面にオクチル基を有するものの一例としては、アエロジルＲ８０５（日本アエロジル株式会社製）の商品名（アエロジルは登録商標）で市販されており、好ましく用いられる。
【０１２６】
シリカ粒子の一次粒子の平均粒径は、５〜４００ｎｍの範囲内が好ましく、さらに好ましいのは１０〜３００ｎｍの範囲内である。
【０１２７】
シリカ粒子の二次粒子の平均粒径は、１００〜４００ｎｍの範囲内であることが好ましく、１００〜４００ｎｍの範囲内であれば、凝集せずに一次粒子として含まれていることも好ましい。
【０１２８】
シリカ粒子は、市販品を好ましく使用することができ、上記アエロジルＲ８０５以外に、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ９７６Ｓ、Ｒ８１２、Ｒ８１２Ｓ、ＲＹ３００、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上、日本アエロジル株式会社製）の商品名（アエロジルは登録商標）で市販されており、使用することができる。
【０１２９】
これらの中でもアエロジルＲ８０５、Ｒ８１２、Ｒ９７６Ｓが、ハンドリング時の取扱い性を向上しかつ光学フィルムのヘイズを低く保つことができ、好ましい。
【０１３０】
（可塑剤）
可塑剤としては、ポリエステル、多価アルコールエステル、多価カルボン酸エステル（フタル酸エステルを含む）、グリコレート、及びエステル（脂肪酸エステルやリン酸エステルなどを含む）が挙げられる。なかでも、ジカルボン酸とジオールを反応させて得られる繰り返し単位を含むポリエステルであることが好ましい。これらは、単独で用いても、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１３１】
ポリエステルを構成するジカルボン酸は、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸又は脂環式ジカルボン酸であり、好ましくは芳香族ジカルボン酸である。ジカルボン酸は、１種類であっても、２種類以上の混合物であってもよい。
【０１３２】
ポリエステルを構成するジオールは、芳香族ジオール、脂肪族ジオール又は脂環式ジオールであり、好ましくは脂肪族ジオールであり、より好ましくは炭素数１〜４のジオールである。ジオールは、１種類であっても、２種類以上の混合物であってもよい。
【０１３３】
なかでも、ポリエステルは、少なくとも芳香族ジカルボン酸を含むジカルボン酸と、炭素数１〜４のジオールとを反応させて得られる繰り返し単位を含むことが好ましく、芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジカルボン酸とを含むジカルボン酸と、炭素数１〜４のジオールとを反応させて得られる繰り返し単位を含むことがより好ましい。
【０１３４】
ポリエステルの分子の両末端は、封止されていても、封止されていなくてもよいが、光学フィルムの透湿性を低減する観点からは、封止されていることが好ましい。
【０１３５】
また、多価アルコールエステルは、２価以上の脂肪族多価アルコールと、モノカルボン酸とのエステル（アルコールエステル）であり、好ましくは２〜２０価の脂肪族多価アルコールエステルである。多価アルコールエステルは、分子内に芳香環又はシクロアルキル環を有することが好ましい。
【０１３６】
脂肪族多価アルコールの好ましい例には、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリメチロールエタン、キシリトール等が含まれる。なかでも、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールなどが好ましい。
【０１３７】
モノカルボン酸は、特に制限はなく、脂肪族モノカルボン酸、脂環式モノカルボン酸又は芳香族モノカルボン酸等でありうる。光学フィルムの透湿性を高め、かつ揮発しにくくするためには、脂環式モノカルボン酸又は芳香族モノカルボン酸が好ましい。モノカルボン酸は、１種類であってもよいし、２種以上の混合物であってもよい。また、脂肪族多価アルコールに含まれるＯＨ基の全部をエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。
【０１３８】
脂肪族モノカルボン酸は、炭素数１〜３２の直鎖又は側鎖を有する脂肪酸であることが好ましい。脂肪族モノカルボン酸の炭素数はより好ましくは１〜２０であり、さらに好ましくは１〜１０である。脂肪族モノカルボン酸の例には、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸；ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等が含まれる。
【０１３９】
脂環式モノカルボン酸の例には、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸などが含まれる。
【０１４０】
芳香族モノカルボン酸の例には、安息香酸；安息香酸のベンゼン環にアルキル基又はアルコキシ基（例えば、メトキシ基やエトキシ基）を１〜３個を導入したもの（例えば、トルイル酸など）；ベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸（例えば、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸など）が含まれ、好ましくは安息香酸である。
【０１４１】
多価アルコールエステルの具体例は、特開２００６−１１３２３９号公報段落「００５８」〜「００６１」に記載の化合物が挙げられる。
【０１４２】
多価カルボン酸エステルは、２価以上、好ましくは２〜２０価の多価カルボン酸と、アルコールとのエステルである。多価カルボン酸は、２〜２０価の脂肪族多価カルボン酸であるか、３〜２０価の芳香族多価カルボン酸又は３〜２０価の脂環式多価カルボン酸であることが好ましい。
【０１４３】
多価カルボン酸エステルの例には、トリエチルシトレート、トリブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート（ＡＴＥＣ）、アセチルトリブチルシトレート（ＡＴＢＣ）、ベンゾイルトリブチルシトレート、アセチルトリフェニルシトレート、アセチルトリベンジルシトレート、酒石酸ジブチル、酒石酸ジアセチルジブチル、トリメリット酸トリブチル、ピロメリット酸テトラブチル等が含まれる。
【０１４４】
グリコレートの例には、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が含まれる。アルキルフタリルアルキルグリコレート類の例には、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が含まれ、好ましくはエチルフタリルエチルグリコレートである。
【０１４５】
エステルには、脂肪酸エステル、クエン酸エステルやリン酸エステルなどが含まれる。脂肪酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、及びセバシン酸ジブチル等が含まれる。クエン酸エステルの例には、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、及びクエン酸アセチルトリブチル等が含まれる。リン酸エステルの例には、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ビフェニルジフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、及びトリブチルホスフェート等が含まれ、好ましくはトリフェニルホスフェートである。
【０１４６】
なかでも、ポリエステル、グリコレート、リン酸エステルが好ましく、ポリエステルが特に好ましい。
【０１４７】
可塑剤の含有量は、樹脂（特にシクロオレフィン系樹脂）１００質量部に対して、好ましくは１〜２０質量％の範囲であり、より好ましくは１．５〜１５質量％の範囲である。可塑剤の含有量が上記範囲内であると、可塑性の付与効果が発現でき、光学フィルムからの可塑剤の耐染みだし性にも優れる。
【０１４８】
（紫外線吸収剤）
光学フィルムは、偏光板や液晶表示装置に照射される不要な紫外線を遮蔽するために、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。紫外線吸収剤を含有することにより、液晶セル中の液晶分子の劣化を防止できるため偏光板や表示装置が太陽光等に長時間曝されても偏光機能を維持することができる。
【０１４９】
紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号公報、特開平８−３３７５７４号公報に記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号公報に記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。
【０１５０】
光学フィルムを、光学補償フィルムの他に、偏光板の保護フィルムとして用いる場合、紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ液晶の表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ない特性を備えていることが好ましい。
【０１５１】
紫外線吸収剤の添加量は、光学フィルムに含まれる固形分の総量１００質量部に対して０．１〜１０質量部の範囲内であることが好ましく、０．５〜７．０質量部の範囲内であることがさらに好ましい。
【０１５２】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（３’’，４’’，５’’，６’’−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５’−メチルフェニル］ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−［３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−［３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。
【０１５３】
また、市販品として、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２８」「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９２８」（以上、商品名、ＢＡＳＦジャパン社製）（ＴＩＮＵＶＩＮは登録商標）を好ましく使用できる。
【０１５４】
＜光学フィルムの物性＞
［ヘイズ］
光学フィルムは、ヘイズが１％未満であることが好ましく、０．５％未満であることがより好ましい。ヘイズを１％未満とすることにより、光学フィルムの透明性がより高くなり、光学用途のフィルムとしてより用いやすくなるという利点がある。光学フィルムにおいて、マット剤を使用する場合には、上記ヘイズの観点から、均一な粒子径を有するシリカ粒子を分散させて用いることが好ましい。これにより、粒子による光散乱の程度が低くし、透明性に優れた光学フィルムを得ることができる。なお、本明細書において、ヘイズは、後述の実施例に記載の方法により測定された値を採用する。
【０１５５】
［ガラス転移温度］
光学フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）は、１３０〜２１０℃の範囲内であることが好ましい。光学フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）が、２１０℃以下であれば、内部応力の上昇が少なく、クラック耐性がより大きいので好ましい。なお、本明細書において、ガラス転移温度は、実施例に記載の方法で測定された値を採用する。
【０１５６】
［フィルム長、幅、膜厚］
光学フィルムは、長尺であることが好ましく、具体的には、１００〜４００００ｍ程度の長さであることが好ましく、ロール状に巻き取られる。また、光学フィルムの幅は１ｍ以上であることが好ましく、さらに好ましくは１．３ｍ以上であり、特に１．３〜４ｍであることが好ましい。
【０１５７】
延伸後の光学フィルムの膜厚は、５〜２０μｍの範囲内である。より好ましくは１０〜１５μｍである。膜厚が５μｍ以上であれば、一定以上の光学フィルム強度を発現させることができ、クラック耐性の観点から好ましい。膜厚が２０μｍ以下であれば、偏光板及び表示装置の薄型化に適用できる。特に、光学フィルムがシクロオレフィン系樹脂を含む場合、薄膜でもクラック耐性が良く、光学フィルム面の場所による位相差の変動を低減することができる。
【０１５８】
−第２形態−
次に、本発明の第２形態について説明する。
【０１５９】
＜光学フィルム＞
本発明の第２形態によると、下記式（４）：
【０１６０】
【化１５】
2018151526.tif 000016
【０１６１】
式（４）中、Ｙ１は、それぞれ独立して、アルキル基を表し、Ｗは、それぞれ独立して、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換の芳香族基、エステル基、又はカルボキシル基を表す；
で表される構成単位を有する重合体又は共重合体からなる位相差低減剤と、
下記式（５）：
【０１６２】
【化１６】
2018151526.tif 000017
【０１６３】
式（５）中、Ｂ１〜Ｂ４は、それぞれ独立して、下記（ｉ）〜（ｉｖ）：
（ｉ）水素原子
（ｉｉ）ハロゲン原子、
（ｉｉｉ）炭化水素基、若しくは
（ｉｖ）水素結合受容性基、
を表すか、下記（ｖ）又は（ｖｉ）：
（ｖ）Ｂ１とＢ２、又はＢ３とＢ４は、互いに結合してアルキリデン基を形成し、前記結合に関与しないＢ１〜Ｂ４は、それぞれ独立して、前記（ｉ）〜（ｉｖ）から選択される基を表す、
（ｖｉ）Ｂ１とＢ３、Ｂ１とＢ４、Ｂ２とＢ３、又はＢ２とＢ４は、互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環状構造を形成し、前記結合に関与しないＢ１〜Ｂ４は、それぞれ独立して、前記（ｉ）〜（ｉｖ）から選択される基を表す；
を表し、ｄは０又は１を表し、ｅは０以上の整数を表す；
で表されるモノマー由来の構成単位を有するシクロオレフィン系樹脂と、
を含む、光学フィルムが提供される。
【０１６４】
本形態に係る光学フィルムは、固有複屈折率が負の値である位相差低減剤を添加することにより、固有複屈折率が正の値であるシクロオレフィン系樹脂を含むフィルムの位相差を低減し、ゼロ位相差性を発現させることができる。
【０１６５】
［位相差低減剤］
位相差低減剤は、下記式（４）で表される構成単位（以下、「構成単位（４）」とも称する）を有する（共）重合体からなる。
【０１６６】
【化１７】
2018151526.tif 000018
【０１６７】
式（４）中、Ｙ１は、それぞれ独立して、アルキル基を表し、Ｗは、それぞれ独立して、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換の芳香族基、エステル基、又はカルボキシル基を表す。
【０１６８】
Ｙ１として示されるアルキル基としては、炭素数１〜１２の直鎖アルキル基、炭素数３〜１２の分岐鎖アルキル基、炭素数３〜１２の環状アルキル基が挙げられる。具体的には、炭素数１〜１２の直鎖アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ；炭素数３〜１２の分岐鎖アルキル基としては、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ；炭素数３〜１２の環状アルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。なかでも、重合性という観点から、Ｙ１は、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基が好ましく、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基がより好ましい。
【０１６９】
Ｗが置換若しくは無置換のアルキル基である場合のアルキル基としては、炭素数１〜１２の直鎖アルキル基、炭素数３〜１２の分岐鎖アルキル基、炭素数３〜１２の環状アルキル基が挙げられる。具体的には、炭素数１〜１２の直鎖アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ；炭素数３〜１２の分岐鎖アルキル基としては、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ；炭素数３〜１２の環状アルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
【０１７０】
Ｗが置換若しくは無置換の芳香族基である場合の芳香族基としては、炭素数６〜２４のアリール基が挙げられる。具体的には、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ビフェニル基、フルオレニル基、アンスリル基、ピレニル基、アズレニル基、アセナフチレニル基、ターフェニル基、フェナンスリル基等が挙げられる。
【０１７１】
Ｗが置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換の芳香族基である場合に存在しうる置換基としては、例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、アミド基（アセトアミド、ベンズアミド等）、カルバモイル基（メチルカルバモイル、ブチルカルバモイル、フェニルカルバモイル等）、エステル基（エチルオキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、フェニルオキシカルボニル等）、カルボニルオキシ基（メチルカルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキシ、フェニルカルボニルオキシ等）、シアノ基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、ブトキシ等）、アリールオキシ基（フェノキシ、ナフチルオキシ等）、スルホニル基（メタンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル等）、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ、ブチルチオ等）、アリールチオ（フェニルチオ等）、スルホンアミド基（メタンスルホンアミド、ドデシルスルホンアミド、ｐ−トルエンスルホンアミド等）、スルファモイル基（メチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等）、アミノ基、アルキルアミノ基（エチルアミノ、ジメチルアミノ、ヒドロキシアミノ等）、アリールアミノ基（フェニルアミノ、ナフチルアミノ等）が挙げられる。
【０１７２】
Ｗとして示されるエステル基としては、式：−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ又はＣ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒで表される基が挙げられる。この際、Ｒは、アルキル基又は芳香族基であり、上記で定義したアルキル基又は芳香族基と同様である。具体的には、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等が挙げられる。
【０１７３】
式（４）中、Ｗは、それぞれ独立して、置換若しくは無置換の芳香族基、又はエステル基を表すことが好ましい。このような構造を有することにより、負の位相差発現性を大きくすることができる（すなわち、位相差低減剤が有する負の固有複屈折率値がより小さくなる（絶対値は大きくなる））。
【０１７４】
また、本形態に係る位相差低減剤は、下記式（６）で表される構成単位（以下、「構成単位（６）」とも称する）と、下記式（７）で表される構成単位（以下、「構成単位（７）」とも称する）と、を有する共重合体からなることが好ましい。
【０１７５】
【化１８】
2018151526.tif 000019
【０１７６】
式（６）中、Ｙ２は、それぞれ独立して、アルキル基を表し、Ｙ３は、それぞれ独立して、アルコキシ基、アリールオキシ基、エステル基、水酸基、カルボキシル基、ハロゲン原子、又はシアノ基を表し、ｆは１〜５の整数を表す。
【０１７７】
Ｙ２として示されるアルキル基としては、炭素数１〜１２の直鎖アルキル基、炭素数３〜１２の分岐鎖アルキル基、炭素数３〜１２の環状アルキル基が挙げられる。具体的には、炭素数１〜１２の直鎖アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ；炭素数３〜１２の分岐鎖アルキル基としては、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ；炭素数３〜１２の環状アルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。なかでも、重合性の観点から、Ｙ２は、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基が好ましく、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基がより好ましい。
【０１７８】
Ｙ３として示されるアルコキシ基としては、炭素数１〜１０のアルコキシ基が挙げられる。具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、２-エチルヘキシルオキシ基等が挙げられる。
【０１７９】
Ｙ３として示されるアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基、フルオレニルオキシ基、ビフェニリルオキシ基等が挙げられる。
【０１８０】
Ｙ３として示されるエステル基としては、式：−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ又はＣ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒで表される基が挙げられる。この際、Ｒは、アルキル基又は芳香族基である。ここでいうアルキル基としては、炭素数１〜１２の直鎖アルキル基、炭素数３〜１２の分岐鎖アルキル基、炭素数３〜１２の環状アルキル基が挙げられる。具体的には、炭素数１〜１２の直鎖アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ；炭素数３〜１２の分岐鎖アルキル基としては、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ；炭素数３〜１２の環状アルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。ここでいう芳香族基としては、炭素数６〜２４のアリール基が挙げられる。具体的には、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ビフェニル基、フルオレニル基、アンスリル基、ピレニル基、アズレニル基、アセナフチレニル基、ターフェニル基、フェナンスリル基等が挙げられる。
【０１８１】
Ｙ３として示されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【０１８２】
ｆは１〜５の整数を表す。なかでも、重合性の観点から、ｆは１〜３であることが好ましく、１〜２であることがより好ましく、１であることがさらに好ましい。ｆが２以上である場合、Ｙ３として示される基は、互いに同じであってもよいし、異なってもよい。
【０１８３】
共重合体に含まれる構成単位（６）は、１種のみ単独で含まれていてもよいし、２種以上が組み合わされて含まれていてもよい。
【０１８４】
構成単位（７）は下記式（７）で表される。
【０１８５】
【化１９】
2018151526.tif 000020
【０１８６】
式（７）中、Ｙ４及びＹ５は、それぞれ独立して、アルキル基を表す。
【０１８７】
Ｙ４及びＹ５として示されるアルキル基としては、炭素数１〜１２の直鎖アルキル基、炭素数３〜１２の分岐鎖アルキル基、炭素数３〜１２の環状アルキル基が挙げられる。ここで、具体的には、炭素数１〜１２の直鎖アルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ；炭素数３〜１２の分岐鎖アルキル基としては、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ；炭素数３〜１２の環状アルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。なかでも、溶解性の観点から、Ｙ４及びＹ５は、それぞれ独立して、炭素数１〜６の直鎖アルキル基、炭素数４〜８の分岐状アルキル基、又は炭素数３〜６の環状アルキル基であることが好ましく、具体的には、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基が好ましく、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基がより好ましい。
【０１８８】
共重合体に含まれる構成単位（７）は、１種のみ単独で含まれていてもよいし、２種以上が組み合わされて含まれていてもよい。
【０１８９】
位相差低減剤が、構成単位（６）及び構成単位（７）を有する共重合体である場合の、各構成単位の含有割合は、特に制限されないが、光学フィルムにおけるゼロ位相差性を向上させる観点、脆性を低減させる観点から、構成単位（６）部分及び構成単位（７）部分の総質量１００質量％に対して、構成単位（６）部分の質量が２〜９０質量％、構成単位（７）部分の質量が１０〜９８質量％であることが好ましく、構成単位（６）部分の質量が５〜７０質量％、構成単位（７）部分の質量が３０〜９５質量％であることがより好ましく、構成単位（６）部分の質量が１０〜７０質量％、構成単位（７）部分の質量が３０〜９０質量％であることがさらに好ましい。すなわち、本形態に係る位相差低減剤を構成する共重合体の原料となる下記式（６ａ）で表されるモノマー（以下、「モノマー（６ａ）」とも称する）及び下記式（７ａ）で表されるモノマー（以下、「モノマー（７ａ）」とも称する）の総質量１００質量％に対する、モノマー（６ａ）及びモノマー（７ａ）のそれぞれの割合は、モノマー（６ａ）が２〜９０質量％、モノマー（７ａ）が１０〜９８質量％であることが好ましく、モノマー（６ａ）が５〜７０質量％、モノマー（７ａ）が３０〜９５質量％であることがより好ましく、モノマー（６ａ）が１０〜７０質量％、モノマー（７ａ）が３０〜９０質量％であることがさらに好ましい。
【０１９０】
【化２０】
2018151526.tif 000021
【０１９１】
式（６ａ）中、Ｙ２、Ｙ３、ｆの定義は、それぞれ式（６）と同様である。
【０１９２】
モノマー（６ａ）としては、例えば、４−メトキシケイ皮酸メチル、４−メトキシケイ皮酸エチル、３−５−ジメトキシケイ皮酸エチル、４−イソプロポキシケイ皮酸エチル、４−イソプロポキシケイ皮酸エチル、４−エトキシカルボニルケイ皮酸エチル、などが挙げられるが、これらに制限されない。
【０１９３】
【化２１】
2018151526.tif 000022
【０１９４】
式（７ａ）中、Ｙ４及びＹ５の定義は、それぞれ式（７）と同様である。
【０１９５】
モノマー（７ａ）としては、例えば、フマル酸ジエチル、フマル酸ジイソプロピル、フマル酸ジ−ｓｅｃ−ブチル、フマル酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル、フマル酸ジシクロヘキシル、フマル酸ジプロピル、フマル酸ジ２-エチルヘキシルなどが挙げられるが、これらに制限されない。
【０１９６】
位相差低減剤を構成する共重合体は、構成単位（４）、構成単位（６）、及び構成単位（７）以外に、ラジカル重合性基を少なくとも１つ有するモノマー（以下、「他のモノマー」とも称する）由来の構成単位（以下、「他の構成単位」とも称する）をさらに有してもよい。他の構成単位を含むことにより、位相差低減剤と樹脂との相溶性を向上させることができる。
【０１９７】
ラジカル重合性基を少なくとも１つ有するモノマー（他のモノマー）としては、以下のモノマーが挙げられる。
【０１９８】
（１）スチレン系モノマー
スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、α−メチルスチレン、ｐ−フェニルスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｐ−ｎ−ブチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、ｐ−ｎ−ヘキシルスチレン、ｐ−ｎ−オクチルスチレン、ｐ−ｎ−ノニルスチレン、ｐ−ｎ−デシルスチレン、ｐ−ｎ−ドデシルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、ジビニルベンゼン、マレイン酸ジビリル、プロパンジオールジビニルエーテルなど。
【０１９９】
（２）（メタ）アクリル酸エステル系モノマー
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ステアリルアクリレート、ラウリルアクリレート、フェニルアクリレートフェニル、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、フェニルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、イソボルニルアクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレートなど。
【０２００】
（３）オレフィン類
エチレン、プロピレン、イソブチレン、ビニルシクロヘキサンなど。
【０２０１】
（４）ビニルエステル類
プロピオン酸ビニル、酢酸ビニル、ベンゾエ酸ビニルなど。
【０２０２】
（５）ビニルエーテル類
ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルシクロヘキシルエーテルなど。
【０２０３】
（６）ビニルケトン類
ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトン、ビニルヘキシルケトンなど。
【０２０４】
（７）Ｎ−ビニル化合物類
Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルインドール、Ｎ−ビニルピロリドンなど。
【０２０５】
（８）その他
ブタジエン、ビニルナフタレン、ビニルピリジンなどのビニル化合物類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミドなどのアクリル酸あるいはメタクリル酸誘導体、無水マレイン酸、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミドなど。
なかでも、シクロオレフィン系樹脂との相溶性を向上させる観点から、ラジカル重合性基を少なくとも１つ有するモノマーは、（メタ）アクリル酸エステル系モノマー、オレフィン類、ビニルエーテル類であることが好ましく、（メタ）アクリル酸エステル系モノマーであることがより好ましい。
【０２０６】
共重合体に含まれる他の構成単位は、１種のみ単独で含まれていてもよいし、２種以上が組み合わされて含まれていてもよい。
【０２０７】
位相差低減剤を構成する共重合体が、他の構成単位をさらに有する場合の、他の構成単位の含有割合は、特に制限されないが、位相差低減効果を向上させる観点から、構成単位（６）部分及び構成単位（７）部分の総質量１００質量部に対して、他の構成単位部分の質量が１〜５０質量部であることが好ましく、３〜４０質量部であることがより好ましく、５〜３０質量部であることがさらに好ましく、１０〜２０質量部であることが特に好ましい。
【０２０８】
位相差低減剤の重量平均分子量（Ｍｗ）は、溶媒への溶解性、シクロオレフィン系樹脂との相溶性の観点から、５０００〜３０００００であることが好ましく、８０００〜１０００００であることがより好ましく、１００００〜８００００であることがさらに好ましい。なお、本明細書において、重量平均分子量（Ｍｗ）又は数平均分子量（Ｍｎ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定したポリスチレン換算の値を採用するものとする。
【０２０９】
［位相差低減剤の製造方法］
本形態に係る位相差低減剤は、前述の第１形態で説明した＜位相差低減剤の製造方法＞と同様であるため、ここでは詳細な説明を省略する。
【０２１０】
［シクロオレフィン系樹脂］
シクロオレフィン系樹脂は、下記式（５）で表されるモノマー由来の構成単位を有する。
【０２１１】
【化２２】
2018151526.tif 000023
【０２１２】
式（５）中、Ｂ１〜Ｂ４は、それぞれ独立して、下記（ｉ）〜（ｉｖ）：
（ｉ）水素原子
（ｉｉ）ハロゲン原子、
（ｉｉｉ）炭化水素基、若しくは
（ｉｖ）水素結合受容性基、
を表すか、下記（ｖ）又は（ｖｉ）：
（ｖ）Ｂ１とＢ２、又はＢ３とＢ４は、互いに結合してアルキリデン基を形成し、前記結合に関与しないＢ１〜Ｂ４は、それぞれ独立して、前記（ｉ）〜（ｉｖ）から選択される基を表す、
（ｖｉ）Ｂ１とＢ３、Ｂ１とＢ４、Ｂ２とＢ３、又はＢ２とＢ４は、互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環状構造を形成し、前記結合に関与しないＢ１〜Ｂ４は、それぞれ独立して、前記（ｉ）〜（ｉｖ）から選択される基を表す；
を表し、ｄは０又は１を表し、ｅは０以上の整数を表す。
【０２１３】
式（５）中、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【０２１４】
式（５）中、炭化水素基としては、炭素数１〜３０の炭化水素基が挙げられ、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；ビニル基、アリル基、プロペニル基等のアルケニル基；フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等の芳香族基等が挙げられる。これらの炭化水素基は置換されていてもよく、置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、フェニルスルホニル基等が挙げられる。
【０２１５】
本明細書中、「水素受容性基」とは、フッ素原子、酸素原子、窒素原子などの陰性原子を含有していて、水素結合形成可能な基を意味する。水素結合受容性基としては、例えば、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアシルオキシ基、炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、アミド基、イミド環含有基、トリオルガノシロキシ基、トリオルガノシリル基、アシル基、炭素数１〜１０のアルコキシシリル基、スルホニル含有基、及びカルボキシ基など挙げられる。これらの水素受容性基についてさらに具体的に説明すると、アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられ；アシルオキシ基としては、例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基等のアルキルカルボニルオキシ基、及びベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基が挙げられ；アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等が挙げられ；アリールオキシカルボニル基としては、例えば、フェノキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基、フルオレニルオキシカルボニル基、ビフェニリルオキシカルボニル基等が挙げられ；トリオルガノシロキシ基としては、例えば、トリメチルシロキシ基、トリエチルシロキシ基等が挙げられ；トリオルガノシリル基としてはトリメチルシリル基、トリエチルシリル基等が挙げられ；アルコキシシリル基としては、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等が挙げられる。
【０２１６】
式（５）中、Ｂ１〜Ｂ４のうちの１つ又は２つは、水素結合受容性基であることが好ましい。このような構造を有することによって、溶解性を向上させることができる。なお、式（５）中のＢ１〜Ｂ４に存在する水素結合受容性基の割合は、例えば、１３Ｃ核磁気共鳴（１３ＣＮＭＲ）分光法を用いて同定することができる。
【０２１７】
式（５）中、溶解性の観点から、Ｂ１及びＢ３は、水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基であることが好ましく、炭素数１〜４の炭化水素基であることがより好ましく、炭素数１〜２の炭化水素基であることがさらに好ましい。また、溶液流延法での製膜が容易になるという観点から、Ｂ２及びＢ４の少なくとも一つは水素結合受容性基であることが好ましい。また、ガラス転移温度を高める観点、及び、機械的強度を向上させるという観点から、ｄ＝０、ｅ＝１であることが好ましい。
【０２１８】
さらには、溶液流延法での製膜がしやすく、薄膜化を容易に行うことができるという観点から、式（５）中、Ｂ１及びＢ２は水素原子であり、Ｂ３はメチル基であり、Ｂ４はメトキシカルボニル基であり、ｄは０であることが好ましい。
【０２１９】
シクロオレフィン系樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）は、８０００〜１０００００であることが好ましく、１００００〜８００００であることがより好ましく、１２０００〜５００００であることがさらに好ましい。また、重量平均分子量（Ｍｗ）は、２００００〜３０００００であることが好ましく、３００００〜２５００００であることがより好ましく、４００００〜２０００００であることがさらに好ましい。数平均分子量（Ｍｎ）又は重量平均分子量（Ｍｗ）が上記範囲内であると、シクロオレフィン系樹脂の耐熱性、耐水性、耐薬品性、機械的特性が向上するとともに、光学フィルムとしての成形加工性が良好となる。
【０２２０】
シクロオレフィン系樹脂の固有粘度［η］ｉｎｈ（測定温度３０℃）は、０．２〜５ｃｍ３／ｇであることが好ましく、０．３〜３ｃｍ３／ｇであることがより好ましく、０．４〜１．５ｃｍ３／ｇであることがさらに好ましい。固有粘度［η］ｉｎｈが上記範囲内であると、シクロオレフィン系樹脂の耐熱性、耐水性、耐薬品性、機械的特性が向上するとともに、光学フィルムとしての成形加工性が良好となる。なお、固有粘度［η］ｉｎｈは、測定対象のシクロオレフィン樹脂をクロロホルムに溶解させた樹脂溶液を、ウベローデ型粘度計を用いて測定（測定温度３０℃）することができる。
【０２２１】
シクロオレフィン系樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、通常１１０℃以上であり、１１０〜３５０℃であることが好ましく、１２０〜２５０℃であることがより好ましく、１２０〜２２０℃であることが特に好ましい。ガラス転移温度（Ｔｇ）が１１０℃以上であると、高温条件下での使用や、コーティング、印刷などの二次加工による変形が抑制されるため好ましい。また、ガラス転移温度（Ｔｇ）が３５０℃以下であると、成形加工や成形加工時の熱による樹脂劣化が抑制されるため好ましい。なお、本明細書において、ガラス転移温度（Ｔｇ）は、後述の実施例に記載の方法で測定された値を採用する。
【０２２２】
シクロオレフィン系樹脂は、公知の手法により合成したものを用いてもよいし、市販品を用いてもよい。市販品の例としては、ＪＳＲ株式会社製のアートン（ＡＲＴＯＮ）Ｇ、アートンＦ、アートンＲ、及びアートンＲＸ（アートン（ＡＲＴＯＮ）は登録商標）が挙げられる。
【０２２３】
光学フィルムに含まれるシクロオレフィン系樹脂の含有量は、特に制限されないが、光学フィルムの耐熱性を向上させる観点から、光学フィルムの固形分の総量１００質量％に対して、５１〜９９質量％であることが好ましい。
【０２２４】
［添加剤］
光学フィルムは、位相差低減剤及びシクロオレフィン系樹脂に、下記の添加剤（マット剤、可塑剤、紫外線吸収剤）を含んでもよい。
【０２２５】
（マット剤）
光学フィルムは、製造された光学フィルムがハンドリングされる際の、傷つきや、搬送性が悪化することを防止するため、マット剤を含有することが好ましい。マット剤としては特にシリカ粒子を含有することが好ましい。
【０２２６】
シリカ粒子とは、二酸化ケイ素を主成分とする粒子である。主成分とは、粒子を構成する成分の５０％以上を含有することをいい、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上、特に好ましくは９０％以上含まれることをいう。
【０２２７】
また、二酸化ケイ素系の粒子で、かつ表面がアルキル化処理により疎水化処理された微粒子を添加すると、溶媒に対しての分散性がよく、異物の発生を抑制できることから、好ましい。
【０２２８】
シリカ粒子に対する疎水化処理は、アルキル化処理であることが好ましい。アルキル化処理された微粒子の表面はアルキル基を有し、そのアルキル基の炭素数は１〜２０の範囲であることが好ましく、より好ましくは炭素数１〜１２の範囲であり、特に好ましくは、炭素数１〜８の範囲である。
【０２２９】
シリカ粒子において、表面に炭素数１〜２０の範囲のアルキル基を有するものは、例えば、二酸化ケイ素の粒子をオクチルシランで処理することにより得ることができる。また、表面にオクチル基を有するものの一例としては、アエロジルＲ８０５（日本アエロジル株式会社製）の商品名（アエロジルは登録商標）で市販されており、好ましく用いられる。
【０２３０】
シリカ粒子の一次粒子の平均粒径は、５〜４００ｎｍの範囲内が好ましく、さらに好ましいのは１０〜３００ｎｍの範囲内である。
【０２３１】
シリカ粒子の二次粒子の平均粒径は、１００〜４００ｎｍの範囲内であることが好ましく、１００〜４００ｎｍの範囲内であれば、凝集せずに一次粒子として含まれていることも好ましい。
【０２３２】
シリカ粒子は、市販品を好ましく使用することができ、上記アエロジルＲ８０５以外に、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ９７６Ｓ、Ｒ８１２、Ｒ８１２Ｓ、ＲＹ３００、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上、日本アエロジル株式会社製）の商品名（アエロジルは登録商標）で市販されており、使用することができる。
【０２３３】
これらの中でもアエロジルＲ８０５、Ｒ８１２、Ｒ９７６Ｓが、ハンドリング時の取扱い性を向上しかつ光学フィルムのヘイズを低く保つことができ、好ましい。
【０２３４】
（可塑剤）
可塑剤としては、ポリエステル、多価アルコールエステル、多価カルボン酸エステル（フタル酸エステルを含む）、グリコレート、及びエステル（脂肪酸エステルやリン酸エステルなどを含む）が挙げられる。なかでも、ジカルボン酸とジオールを反応させて得られる繰り返し単位を含むポリエステルであることが好ましい。これらは、単独で用いても、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【０２３５】
ポリエステルを構成するジカルボン酸は、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸又は脂環式ジカルボン酸であり、好ましくは芳香族ジカルボン酸である。ジカルボン酸は、１種類であっても、２種類以上の混合物であってもよい。
【０２３６】
ポリエステルを構成するジオールは、芳香族ジオール、脂肪族ジオール又は脂環式ジオールであり、好ましくは脂肪族ジオールであり、より好ましくは炭素数１〜４のジオールである。ジオールは、１種類であっても、２種類以上の混合物であってもよい。
【０２３７】
なかでも、ポリエステルは、少なくとも芳香族ジカルボン酸を含むジカルボン酸と、炭素数１〜４のジオールとを反応させて得られる繰り返し単位を含むことが好ましく、芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジカルボン酸とを含むジカルボン酸と、炭素数１〜４のジオールとを反応させて得られる繰り返し単位を含むことがより好ましい。
【０２３８】
ポリエステルの分子の両末端は、封止されていても、封止されていなくてもよいが、光学フィルムの透湿性を低減する観点からは、封止されていることが好ましい。
【０２３９】
また、多価アルコールエステルは、２価以上の脂肪族多価アルコールと、モノカルボン酸とのエステル（アルコールエステル）であり、好ましくは２〜２０価の脂肪族多価アルコールエステルである。多価アルコールエステルは、分子内に芳香環又はシクロアルキル環を有することが好ましい。
【０２４０】
脂肪族多価アルコールの好ましい例には、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリメチロールエタン、キシリトール等が含まれる。なかでも、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールなどが好ましい。
【０２４１】
モノカルボン酸は、特に制限はなく、脂肪族モノカルボン酸、脂環式モノカルボン酸又は芳香族モノカルボン酸等でありうる。光学フィルムの透湿性を高め、かつ揮発しにくくするためには、脂環式モノカルボン酸又は芳香族モノカルボン酸が好ましい。モノカルボン酸は、１種類であってもよいし、２種以上の混合物であってもよい。また、脂肪族多価アルコールに含まれるＯＨ基の全部をエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。
【０２４２】
脂肪族モノカルボン酸は、炭素数１〜３２の直鎖又は側鎖を有する脂肪酸であることが好ましい。脂肪族モノカルボン酸の炭素数はより好ましくは１〜２０であり、さらに好ましくは１〜１０である。脂肪族モノカルボン酸の例には、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸；ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等が含まれる。
【０２４３】
脂環式モノカルボン酸の例には、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸などが含まれる。
【０２４４】
芳香族モノカルボン酸の例には、安息香酸；安息香酸のベンゼン環にアルキル基又はアルコキシ基（例えば、メトキシ基やエトキシ基）を１〜３個を導入したもの（例えば、トルイル酸など）；ベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸（例えば、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸など）が含まれ、好ましくは安息香酸である。
【０２４５】
多価アルコールエステルの具体例は、特開２００６−１１３２３９号公報段落「００５８」〜「００６１」に記載の化合物が挙げられる。
【０２４６】
多価カルボン酸エステルは、２価以上、好ましくは２〜２０価の多価カルボン酸と、アルコールとのエステルである。多価カルボン酸は、２〜２０価の脂肪族多価カルボン酸であるか、３〜２０価の芳香族多価カルボン酸又は３〜２０価の脂環式多価カルボン酸であることが好ましい。
【０２４７】
多価カルボン酸エステルの例には、トリエチルシトレート、トリブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート（ＡＴＥＣ）、アセチルトリブチルシトレート（ＡＴＢＣ）、ベンゾイルトリブチルシトレート、アセチルトリフェニルシトレート、アセチルトリベンジルシトレート、酒石酸ジブチル、酒石酸ジアセチルジブチル、トリメリット酸トリブチル、ピロメリット酸テトラブチル等が含まれる。
【０２４８】
グリコレートの例には、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が含まれる。アルキルフタリルアルキルグリコレート類の例には、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が含まれ、好ましくはエチルフタリルエチルグリコレートである。
【０２４９】
エステルには、脂肪酸エステル、クエン酸エステルやリン酸エステルなどが含まれる。脂肪酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、及びセバシン酸ジブチル等が含まれる。クエン酸エステルの例には、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、及びクエン酸アセチルトリブチル等が含まれる。リン酸エステルの例には、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ビフェニルジフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、及びトリブチルホスフェート等が含まれ、好ましくはトリフェニルホスフェートである。
【０２５０】
なかでも、ポリエステル、グリコレート、リン酸エステルが好ましく、ポリエステルが特に好ましい。
【０２５１】
可塑剤の含有量は、樹脂（特にシクロオレフィン系樹脂）１００質量部に対して、好ましくは１〜２０質量部の範囲であり、より好ましくは１．５〜１５質量部の範囲である。可塑剤の含有量が上記範囲内であると、可塑性の付与効果が発現でき、光学フィルムからの可塑剤の耐染みだし性にも優れる。
【０２５２】
（紫外線吸収剤）
光学フィルムは、偏光板や液晶表示装置に照射される不要な紫外線を遮蔽するために、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。紫外線吸収剤を含有することにより、液晶セル中の液晶分子の劣化を防止できるため偏光板や表示装置が太陽光等に長時間曝されても偏光機能を維持することができる。
【０２５３】
紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号公報、特開平８−３３７５７４号公報に記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号公報に記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。
【０２５４】
光学フィルムを、光学補償フィルムの他に、偏光板の保護フィルムとして用いる場合、紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ液晶の表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ない特性を備えていることが好ましい。
【０２５５】
紫外線吸収剤の添加量は、光学フィルムに含まれる固形分の総量１００質量部に対して０．１〜１０．０質量部の範囲内であることが好ましく、０．５〜７．０質量部の範囲内であることがさらに好ましい。
【０２５６】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（３’’，４’’，５’’，６’’−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５’−メチルフェニル］ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−［３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−［３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。
【０２５７】
また、市販品として、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２８」「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９２８」（以上、商品名、ＢＡＳＦジャパン社製）（ＴＩＮＵＶＩＮは登録商標）を好ましく使用できる。
【０２５８】
＜光学フィルムの物性＞
［ヘイズ］
光学フィルムは、ヘイズが１％未満であることが好ましく、０．５％未満であることがより好ましい。ヘイズを１％未満とすることにより、光学フィルムの透明性がより高くなり、光学用途のフィルムとしてより用いやすくなるという利点がある。光学フィルムにおいて、マット剤を使用する場合には、上記ヘイズの観点から、均一な粒子径を有するシリカ粒子を分散させて用いることが好ましい。これにより、粒子による光散乱の程度が低くし、透明性に優れた光学フィルムを得ることができる。なお、本明細書において、ヘイズは、後述の実施例に記載の方法により測定された値を採用する。
【０２５９】
［ガラス転移温度］
光学フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）は、１３０〜２１０℃の範囲内であることが好ましい。光学フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）が、２１０℃以下であれば、内部応力の上昇が少なく、クラック耐性がより大きいので好ましい。なお、本明細書において、ガラス転移温度は、後述の実施例に記載の方法により測定された値を採用する。
【０２６０】
［フィルム長、幅、膜厚］
光学フィルムは、長尺であることが好ましく、具体的には、１００〜４００００ｍ程度の長さであることが好ましく、ロール状に巻き取られる。また、光学フィルムの幅は１ｍ以上であることが好ましく、さらに好ましくは１．３ｍ以上であり、特に１．３〜４ｍであることが好ましい。
【０２６１】
延伸後の光学フィルムの膜厚は、５〜２０μｍの範囲内である。より好ましくは１０〜１５μｍである。膜厚が５μｍ以上であれば、一定以上の光学フィルム強度を発現させることができ、クラック耐性の観点から好ましい。膜厚が２０μｍ以下であれば、偏光板及び表示装置の薄型化に適用できる。特に、光学フィルムがシクロオレフィン系樹脂を含む場合、薄膜でもクラック耐性が良く、光学フィルム面の場所による位相差の変動を低減することができる。
【０２６２】
［位相差値及び位相差変動度］
本形態に係る光学フィルムは、ゼロ位相差性が高く、かつ、フィルム面内における位相差変動度が低いという特性を有する。具体的には、光学フィルムの面内方向の位相差値Ｒｏ及び厚さ方向の位相差値Ｒｔが、それぞれ０〜５ｎｍ、−１０〜１０ｎｍであることが好ましい。本明細書において、位相差値Ｒｏ、及び位相差値Ｒｔの値は、後述の実施例に記載の方法により測定された値を採用するものとする。また、後述の実施例に記載の方法により測定される位相差変動度が１０個以下であることが好ましく、７個以下であることが好ましい。位相差値及び位相差変動度が上記範囲内であることにより、特にＩＰＳ方式の液晶表示装置の偏光板用光学フィルムとして好適に使用されうる。
【０２６３】
−第１形態及び第２形態−
以下、第１形態及び第２形態に係る光学フィルムの製造方法並びに用途について説明する。
【０２６４】
＜光学フィルムの製造方法＞
本形態に係る光学フィルムの製造方法は、特に制限はないが、溶液流延製膜法によって製造することが、透明性のある薄膜のフィルムを製造しやすいため、好ましい。
【０２６５】
特に、シクロオレフィン系樹脂の薄膜の光学フィルムを、溶液流延製膜法で製造した場合、樹脂鎖のほぐれが、溶融流延よりも大きいため、樹脂鎖間の絡み合いが大きい。その結果、相溶性が向上し、透明性のあるフィルムが作製できると推測している。
【０２６６】
溶液流延製膜法によって製膜するに当たって、樹脂と位相差低減剤と有機溶媒とを含有するドープを、溶解温度１５〜５０℃の範囲内で調製することが好ましい。
【０２６７】
光学フィルムは、少なくとも樹脂及び位相差低減剤を含有するドープを調製する工程（ドープ調製工程）と、前記ドープを支持体上に流延してウェブ（流延膜ともいう）を形成する工程（流延工程）と、支持体上でウェブから溶媒を蒸発させる工程（溶媒蒸発工程）と、ウェブを支持体から剥離する工程（剥離工程）と、得られた光学フィルムを乾燥させる工程（予備乾燥工程）と、延伸後の光学フィルムをさらに乾燥させる工程（乾燥工程）と、得られた光学フィルムを巻取る工程（巻取り工程）と、によって製造されることが好ましい。また、製造された光学フィルムロールからの取り効率を考慮し、予備乾燥工程の後に光学フィルムを延伸する工程（延伸工程）を設け、延伸してもよい。
【０２６８】
［ドープ調製工程］
溶液流延法に用いられる溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタンなどの塩素系溶媒；トルエン、キシレン、ベンゼン、及びこれらの混合溶媒などの芳香族系溶媒；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノールなどのアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、酢酸エチル、ジエチルエーテル；などが挙げられる。これら溶剤は１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０２６９】
溶媒が良溶媒と貧溶媒の混合溶媒である場合、良溶媒は、例えば、塩素系有機溶媒としては、ジクロロメタン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン、等が挙げられ、なかでもジクロロメタンであることが好ましい。貧溶媒としてはアルコール系溶媒が好ましく用いられる。なかでも、剥離性を改善し、高速度流延を可能にする観点から、メタノール、エタノール及びブタノールから選択されることが好ましく、エタノールより好ましい。
【０２７０】
溶媒が良溶媒と貧溶媒の混合溶媒である場合、溶解性の観点から、良溶媒を溶媒全体量に対して５５質量％以上を用いることが好ましく、７０質量％以上用いることが好ましく、８０質量％以上用いることがさらに好ましい。
【０２７１】
［流延工程］
ドープを、送液ポンプ（例えば、加圧型定量ギヤポンプ）を通して加圧ダイに送液し、無限に移送する無端の金属支持体、例えば、ステンレスベルト、又は回転する金属ドラム等の金属支持体上の流延位置に、加圧ダイスリットから流延し、ウェブを形成する工程である。
【０２７２】
［溶媒蒸発工程］
ウェブを流延用金属支持体上で加熱し、溶媒を蒸発させる工程であり、後述する剥離時の残留溶媒量を制御する工程である。
【０２７３】
溶媒を蒸発させるには、ウェブ側から風を吹かせる方法又は支持体の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏面液体伝熱方法が、乾燥効率がよく好ましい。
【０２７４】
［剥離工程］
金属支持体上で溶媒が蒸発したウェブを、剥離位置で剥離する工程である。剥離されたウェブは光学フィルムとして次工程に送られる。
【０２７５】
金属支持体上の剥離位置における温度は好ましくは１０〜４０℃の範囲であり、さらに好ましくは１１〜３０℃の範囲である。
【０２７６】
剥離する時点での金属支持体上でのウェブの残留溶媒量は、１５〜１００質量％の範囲内とすることが好ましい。残留溶媒量の制御は、溶媒蒸発工程における乾燥温度及び乾燥時間で行うことが好ましい。残留溶媒量が１５質量％以上であると、支持体上での乾燥過程において、シリカ粒子が厚さ方向に分布を持たず光学フィルム中に均一に分散した状態になるため、好ましい。また、残留溶媒量が１００質量％以内であれば、光学フィルムが自己支持性を有し、光学フィルムの剥離不良を回避でき、ウェブの機械的強度も保持できることから剥離時の平面性が向上し、剥離張力によるツレや縦スジの発生を抑制できる。
【０２７７】
［乾燥及び延伸工程］
乾燥工程は予備乾燥工程、本乾燥工程に分けて行うこともできる。
【０２７８】
金属支持体からウェブ剥離して得られた光学フィルムは、予備乾燥させる。光学フィルムの予備乾燥は、光学フィルムを、上下に配置した多数のローラーにより搬送しながら乾燥させてもよいし、テンター乾燥機のように光学フィルムの両端部をクリップで固定して搬送しながら乾燥させてもよい。
【０２７９】
ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ローラー、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で、熱風で行うことが好ましい。
【０２８０】
ウェブの予備乾燥工程における乾燥温度は好ましくは光学フィルムのガラス転移点−５℃以下であって、３０℃以上の温度で１分以上３０分以下の熱処理を行うことが効果的である。乾燥温度は４０〜１５０℃の範囲内、さらに好ましくは５０〜１００℃の範囲内で乾燥が行われる。
【０２８１】
［延伸工程］
光学フィルムは、延伸装置にて残留溶媒量下で延伸処理を行うことで、薄膜の光学フィルムを製造したり、広幅の光学フィルムを製造したり、光学フィルムの平面性を向上したりすることができる。また、光学フィルム内の分子の配向を制御することで、位相差値Ｒｏ及びＲｔを調整することができる。
【０２８２】
光学フィルムの製造において、延伸工程にて延伸する場合、延伸開始時の残留溶媒量を５質量％以上３０質量％未満とすることが好ましい。より好ましくは１０〜２５質量％の範囲内である。延伸開始時の残留溶媒量が５％以上であれば、延伸時に光学フィルムに発生する応力を低くし、樹脂鎖の配向に伴う位相差の発現を抑制し、位相差値をゼロ位相差性の範囲に調整しやすい。また、延伸開始時の残留溶媒量が３０％以下であれば、残留溶媒を含んだ光学フィルムの安定性、例えば、搬送方向（長手方向、ＭＤ方向、流延方向ともいう）、又は幅手方向（搬送方向と直交する方向、ＴＤ方向ともいう）のタルミ抑制の観点で好ましい。
【０２８３】
延伸操作は多段階に分割して実施してもよい。また、二軸延伸を行う場合には同時二軸延伸を行ってもよいし、段階的に実施してもよい。この場合、段階的とは、例えば、延伸方向の異なる延伸を順次行うことも可能であるし、同一方向の延伸を多段階に分割し、かつ異なる方向の延伸をそのいずれかの段階に加えることも可能である。
【０２８４】
すなわち、例えば、次のような延伸ステップも可能である：
・長手方向に延伸→幅手方向に延伸→長手方向に延伸→長手方向に延伸
・幅手方向に延伸→幅手方向に延伸→長手方向に延伸→長手方向に延伸
・幅手方向に延伸→斜め方向に延伸
また、同時二軸延伸には、一方向に延伸し、もう一方を、張力を緩和して収縮させる場合も含まれる。
【０２８５】
［乾燥工程］
乾燥工程では、乾燥装置によって延伸後の光学フィルムを加熱して乾燥させる。
【０２８６】
光学フィルム中に含有する有機溶媒量を調整するのに、乾燥工程の条件を適宜調整して行うことが好ましい。
【０２８７】
熱風等により光学フィルムを加熱する場合、使用済みの熱風（溶媒を含んだエアーや濡れ込みエアー）を排気できるノズルを設置して、使用済み熱風の混入を防ぐ手段も好ましく用いられる。熱風温度は、４０〜３５０℃の範囲がより好ましい。また、乾燥時間は５秒〜６０分程度が好ましく、１０秒〜３０分がより好ましい。
【０２８８】
乾燥工程においては、残留溶媒量が一般的には２質量％以下になるまで、光学フィルムを乾燥することが好ましい。
【０２８９】
［巻取り工程］
光学フィルム中の残留溶媒量が２質量％以下となってから光学フィルムとして巻取る工程であり、残留溶媒量を好ましくは１質量％以下にすることにより寸法安定性の良好な光学フィルムを得ることができる。
【０２９０】
巻取り方法は、一般に使用されているものを用いればよく、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等があり、それらを使い分ければよい。
【０２９１】
＜光学フィルムの用途＞
光学フィルムは、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置等の各種表示装置やタッチパネルに用いられる機能フィルムであることが好ましい。具体的には、光学フィルムは、液晶表示装置又は有機ＥＬ表示装置用の偏光板保護フィルム、位相差フィルム、反射防止フィルム、輝度向上フィルム、ハードコートフィルム、防眩フィルム、帯電防止フィルムなどでありうる。ここで、位相差フィルムとは、ゼロ位相差性の位相差領域のフィルムも含む。
【０２９２】
特に好ましい応用は、ＩＰＳ型液晶表示装置用の光学フィルムである。光学フィルムは、前記位相差フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムとして用いることもできる。
【０２９３】
［偏光板］
本発明の一形態によると、偏光子の少なくとも一方の面に、上記光学フィルムが配置されてなる偏光板が提供される。
【０２９４】
（偏光子）
偏光子は、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、その例には、ポリビニルアルコール系偏光フィルムが含まれる。
【０２９５】
ポリビニルアルコール系偏光フィルムには、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものとがある。
【０２９６】
偏光子は、ポリビニルアルコールフィルムを一軸延伸した後、染色するか又はポリビニルアルコールフィルムを染色した後、一軸延伸して、好ましくはホウ素系化合物で耐久性処理をさらに行って得ることができる。
【０２９７】
偏光子の膜厚は、５〜３０μｍの範囲内が好ましく、５〜１５μｍの範囲内であることがより好ましい。
【０２９８】
ポリビニルアルコールを支持体上に塗布した後、延伸することにより得られる塗布型偏光子であることがより薄膜化できる点で好ましい。
【０２９９】
ポリビニルアルコールフィルムとしては、特開２００３−２４８１２３号公報、特開２００３−３４２３２２号公報等に記載のエチレン単位の含有量１〜４モル％、重合度２０００〜４０００、ケン化度９９．０〜９９．９９モル％のエチレン変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。また、特開２０１１−１００１６１号公報、特許第４６９１２０５号公報、特許第４８０４５８９号公報に記載の方法で、偏光子を作製し本発明の光学と貼り合わせて偏光板を作製することが好ましい。
【０３００】
（接着剤）
水糊
偏光板は、光学フィルムを完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液（水糊）を用いて偏光子に貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には他の偏光板保護フィルムを貼合することができる。光学フィルムは液晶表示装置とされた際に、偏光子の液晶セル側に設けられることが好ましく、偏光子の液晶セルとは反対側の光学フィルムは、本形態に係る光学フィルム、及び従来の偏光板保護フィルムのどちらでも用いることができる。
【０３０１】
例えば、従来の偏光板保護フィルムとしては、市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック  ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ６ＵＹ、ＫＣ６ＵＡ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−Ｃ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、ＫＣ４ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、以上、コニカミノルタ株式会社製）が好ましく用いられる。
【０３０２】
活性エネルギー線硬化性接着剤
また、偏光板においては光学フィルムと偏光子とが、活性エネルギー線硬化性接着剤により貼合されていることが好ましい。
【０３０３】
活性エネルギー線硬化性接着剤は、紫外線硬化型接着剤を用いることが好ましい。光学フィルムと偏光子との貼合に紫外線硬化型接着剤を適用することにより、薄膜でも強度が高く、平面性に優れた偏光板を得ることができる。紫外線硬化型接着剤を用いた偏光板の製造方法に特に制限はなく、従来公知の方法で製造することができる。
【０３０４】
保護フィルム
偏光子を挟んで光学フィルムとは反対側に配置されるフィルムは、偏光子の保護フィルムとして機能するフィルムであることが好ましい。
【０３０５】
このような保護フィルムとしては、本形態に係る光学フィルムを用いてもよいが、例えば、市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタックＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ４ＳＲ、ＫＣ４ＢＲ、ＫＣ４ＣＲ、ＫＣ４ＤＲ、ＫＣ４ＦＲ、ＫＣ４ＫＲ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ６ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ２ＵＡ、ＫＣ４ＵＡ、ＫＣ６ＵＡＫＣ、ＫＣ２ＵＡＨ、ＫＣ４ＵＡＨ、ＫＣ６ＵＡＨ、以上、コニカミノルタ株式会社製、フジタックＴ４０ＵＺ、フジタックＴ６０ＵＺ、フジタックＴ８０ＵＺ、フジタックＴＤ８０ＵＬ、フジタックＴＤ６０ＵＬ、フジタックＴＤ４０ＵＬ、フジタックＲ０２、フジタックＲ０６、以上、富士フイルム株式会社製）も好ましく用いることができる。光学フィルムを保護フィルムとして使用し、偏光子の両側に光学フィルムを配置しても良い。
【０３０６】
また、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート等の樹脂フィルム、脂環式ポリオレフィン（例えば、日本ゼオン株式会社製、ゼオノア（登録商標）、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、シクロオレフィンコポリマー、ポリイミド（例えば、三菱ガス化学株式会社製、ネオプリム（登録商標））、フルオレン環変性ポリカーボネート、脂環変性ポリカーボネート、アクリロイル系化合物等の樹脂フィルムが挙げられる。これら樹脂基材のうち、コストや入手の容易性の点では、ポリエチレンテレフタレート（略称：ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（略称：ＰＥＮ）、ポリカーボネート（略称：ＰＣ）等のフィルムが保護フィルムとして好ましく用いられる。
【０３０７】
上記保護フィルムの厚さは、特に制限されないが、１０〜２００μｍ程度とすることができ、好ましくは１０〜１００μｍの範囲内であり、より好ましくは１０〜７０μｍの範囲内である。
【０３０８】
［表示装置］
本発明の一形態によると、上記光学フィルム、又は、上記偏光板を有する、表示装置が提供される。
【０３０９】
（液晶表示装置）
光学フィルムを貼合した偏光板を液晶表示装置に用いることによって、種々の視認性に優れた液晶表示装置を作製することができる。
【０３１０】
光学フィルムを貼合した偏光板は、ＳＴＮ、ＴＮ、ＯＣＢ、ＨＡＮ、ＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）、ＩＰＳ、ＯＣＢなどの各種駆動方式の液晶表示装置に用いることができる。好ましくはＩＰＳ型液晶表示装置である。
【０３１１】
液晶表示装置には、通常視認側の偏光板とバックライト側の偏光板の２枚の偏光板が用いられるが、偏光板を両方の偏光板として用いることも好ましく、片側の偏光板として用いることも好ましい。特に偏光板は外部環境に直接触れる視認側の偏光板として用いることが好ましく、本形態に係る光学フィルムが保護フィルムである場合は視認側表面、又は本形態に係る光学フィルムが光学補償フィルムである場合は、液晶セル側に配置されることが好ましい。ＩＰＳ型液晶表示装置の光学補償フィルムとして用いる場合には、液晶セルの両側に配置されることが好ましい。
【０３１２】
また、バックライト側の偏光板は本形態以外の偏光板を用いることもでき、その場合は偏光子の両面に、例えば、市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタックＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ４ＳＲ、ＫＣ４ＢＲ、ＫＣ４ＣＲ、ＫＣ４ＤＲ、ＫＣ４ＦＲ、ＫＣ４ＫＲ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ６ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ２ＵＡ、ＫＣ４ＵＡ、ＫＣ６ＵＡ、ＫＣ２ＵＡＨ、ＫＣ４ＵＡＨ、ＫＣ６ＵＡＨ、以上コニカミノルタ株式会社製、フジタックＴ４０ＵＺ、フジタックＴ６０ＵＺ、フジタックＴ８０ＵＺ、フジタックＴＤ８０ＵＬ、フジタックＴＤ６０ＵＬ、フジタックＴＤ４０ＵＬ、フジタックＲ０２、フジタックＲ０６、以上富士フイルム株式会社製等）を貼合した偏光板が好ましく用いられる。
【０３１３】
また、バックライト側の偏光板として、偏光子の液晶セル側に本形態に係る光学フィルムを用い、反対側の面に上記市販の保護フィルムや位相差フィルム、ポリエステルフィルム、アクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、又は他のシクロオレフィンフィルムを貼合した偏光板も好ましく用いることができる。
【０３１４】
本形態に係る光学フィルムを貼合した偏光板を用いることで、特に画面が３０型以上の大画面の液晶表示装置であっても、表示ムラ、正面コントラスト、視野角など視認性に優れた液晶表示装置を得ることができる。
【０３１５】
（有機エレクトロルミネッセンス表示装置）
本形態に係る光学フィルム（特に、シクロオレフィン系樹脂を含む光学フィルム）はフリーフォームでの打ち抜き加工適正が高いため、有機エレクトロルミネッセンス表示装置にも好適である。
【０３１６】
有機エレクトロルミネッセンス表示装置に適用可能な有機ＥＬ素子の概要については、例えば、特開２０１３−１５７６３４号公報、特開２０１３−１６８５５２号公報、特開２０１３−１７７３６１号公報、特開２０１３−１８７２１１号公報、特開２０１３−１９１６４４号公報、特開２０１３−１９１８０４号公報、特開２０１３−２２５６７８号公報、特開２０１３−２３５９９４号公報、特開２０１３−２４３２３４号公報、特開２０１３−２４３２３６号公報、特開２０１３−２４２３６６号公報、特開２０１３−２４３３７１号公報、特開２０１３−２４５１７９号公報、特開２０１４−００３２４９号公報、特開２０１４−００３２９９号公報、特開２０１４−０１３９１０号公報、特開２０１４−０１７４９３号公報、特開２０１４−０１７４９４号公報等に記載されている構成を挙げることができる。
【実施例】
【０３１７】
本発明を、以下の実施例及び比較例を用いてさらに詳細に説明する。ただし、本発明の技術的範囲が以下の実施例のみに限定されるわけではない。なお、特記しない限り、「％」及び「部」は、それぞれ、「質量％」及び「質量部」を意味する。また、各モノマー残基の混合比は、仕込み質量比を用いることとする。
【０３１８】
−第１形態−
＜位相差低減剤（（共）重合体）の合成＞
［位相差低減剤１Ａ−１］
５００ｍｌの３頭コルベンに、フマル酸ジシクロヘキシル５０ｇ、ケイ皮酸メチル５０ｇ、過酸化ベンゾイル０．５６ｇ、純水２００ｍｌを加えて、窒素フローしながら、室温で１時間激しく撹拌した。その後、７０℃に昇温して２４時間撹拌を続けた。反応終了後、水を減圧除去し、テトラヒドロフラン１００ｍｌを加えて、加温溶解した。その際、析出している不溶物をろ過して取り除き、得られた溶液を撹拌しているメタノール５Ｌ中に滴下して再沈精製を行った。十分に撹拌した後、析出物をろ過、乾燥して、位相差低減剤１Ａ−１を３４ｇ得た。なお、ＧＰＣにて測定した位相差低減剤１Ａ−１の重量平均分子量（Ｍｗ）は３２０００であった。
【０３１９】
［位相差低減剤１Ａ−２］
５００ｍｌの３頭コルベンに、フマル酸ジシクロヘキシル５０ｇ、４−メチルケイ皮酸エチル５０ｇ、２，２’−アゾビス（イソ酪酸）ジメチル０．５ｇ、純水２００ｍｌを加えて、窒素フローしながら、室温で１時間激しく撹拌した。その後、７０℃に昇温して２４時間撹拌を続けた。反応終了後、水を減圧除去し、テトラヒドロフラン１００ｍｌを加えて、加温溶解した。その際、析出している不溶物をろ過して取り除き、得られた溶液を撹拌しているメタノール５Ｌ中に滴下して再沈精製を行った。十分に撹拌した後、析出物をろ過、乾燥して、位相差低減剤１Ａ−２を６１ｇ得た。なお、ＧＰＣにて測定した位相差低減剤１Ａ−２の重量平均分子量（Ｍｗ）は４４０００であった。
【０３２０】
［位相差低減剤１Ａ−３〜１Ａ−２６］
モノマーの種類及び混合質量比をそれぞれ表１−１に示す値としたこと以外は、位相差低減剤１Ａ−１と同様の方法で、位相差低減剤１Ａ−３〜１Ａ−２６を合成した。ＧＰＣにて測定した位相差低減剤１Ａ−３〜１Ａ−２６の重量平均分子量（Ｍｗ）を表１−１に併せて示す。
【０３２１】
【表１】
2018151526.tif 000024
【０３２２】
＜光学フィルムの作製＞
［光学フィルム１Ｂ−１］
（微粒子分散液の調製）
１１．３質量部の微粒子（アエロジル  Ｒ８１２、日本アエロジル株式会社製）と、８４質量部のエタノールとを、ディゾルバーで５０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散し、分散液を得た。溶解タンク中で十分撹拌されているジクロロメタン（１００質量部）に、５質量部の分散液を、ゆっくりと添加した。さらに、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線株式会社製のファインメットＮＦで濾過し、微粒子分散液を調製した。
【０３２３】
（主ドープの調製）
下記組成の主ドープを調製した。まず加圧溶解タンクにジクロロメタン及びエタノールを添加した。ジクロロメタンの入った加圧溶解タンクにシクロオレフィン系樹脂１Ｐ−１、上記で合成した位相差低減剤１Ａ−２及び微粒子分散液を撹拌しながら投入した。これを加熱し、撹拌しながら完全に溶解し、これを安積濾紙株式会社製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用してろ過して、主ドープを調製した。
【０３２４】
１Ｐ−１（シクロオレフィン系樹脂、ＡＲＴＯＮ（登録商標）Ｇ７８１０、ＪＳＲ株式会社製）
９５質量部
ジクロロメタン                                                  ３００質量部
エタノール                                                        ２０質量部
位相差低減剤１Ａ−２                                                ５質量部
微粒子分散液                                                    ７．６質量部。
【０３２５】
（光学フィルムの作製）
無端ベルト流延装置を用い、上記で調製した主ドープを温度３１℃、１８００ｍｍ幅でステンレスベルト支持体上に均一に流延した。ステンレスベルトの温度は２８℃に制御した。ステンレスベルトの搬送速度は２０ｍ／ｍｉｎとした。ステンレスベルト支持体上で、流延（キャスト）したフィルム中の残留溶剤量が４０％になるまで溶剤を蒸発させた。次いで、剥離張力１２８Ｎ／ｍで、ステンレスベルト支持体上からフィルムを剥離した。剥離したフィルムを、１７５℃の条件下で幅手方向に１．１５倍延伸した。延伸開始時の残留溶剤は５質量％であった。次いで、乾燥ゾーンを多数のローラーで搬送させながら乾燥を終了させ、テンタークリップで挟んだ端部をレーザーカッターでスリットし、その後、巻き取り、膜厚１０μｍの光学フィルム１Ｂ−１を作製した。
【０３２６】
［光学フィルム１Ｂ−２〜１Ｂ−２５の作製］
位相差低減剤の種類、添加量、をそれぞれ表１−２に示す値としたこと以外は、光学フィルム１Ｂ−１と同様の方法で、光学フィルム１Ｂ−２〜１Ｂ−２５を作製した。なお、位相差低減剤の添加量を変化させた場合は、樹脂及び位相差低減剤の合計量が１００質量部になるように調整した。
【０３２７】
なお、表１−２に示す樹脂１Ｐ−２〜１Ｐ−６は、それぞれ以下のとおりである。
【０３２８】
１Ｐ−２（シクロオレフィン系樹脂、ＡＲＴＯＮ（登録商標）Ｒ５０００、ＪＳＲ株式会社製）
１Ｐ−３（シクロオレフィン系樹脂、ＡＲＴＯＮ（登録商標）ＲＸ４５００、ＪＳＲ株式会社製）
１Ｐ−４（セルローストリアセテート（アセチル置換度２．９））
１Ｐ−５（ポリカーボネート、パンライト（登録商標）Ｌ−１２２５Ｙ、帝人株式会社
製）
１Ｐ−６（ポリイミド、セピクセリア（登録商標）ＴＰ００３、ソマール株式会社製）。
【０３２９】
［光学フィルム１Ａの作製］
（主ドープの調製）
下記組成の主ドープを調製した。まず加圧溶解タンクにジクロロメタン及びエタノールを添加した。ジクロロメタンの入った加圧溶解タンクに上記で合成した位相差低減剤１Ａ−４及び上記で調製した微粒子分散液を撹拌しながら投入した。これを加熱し、撹拌しながら完全に溶解し、これを安積濾紙株式会社製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用してろ過して、主ドープを調製した。
【０３３０】
主ドープの組成
ジクロロメタン                                                  ３００質量部
エタノール                                                        ２０質量部
位相差低減剤１Ａ−４                                            １００質量部
微粒子分散液                                                    ７．６質量部。
【０３３１】
（光学フィルムの作製）
無端ベルト流延装置を用い、上記で調製した主ドープを温度３１℃、１８００ｍｍ幅でステンレスベルト支持体上に均一に流延した。ステンレスベルトの温度は２８℃に制御した。ステンレスベルトの搬送速度は２０ｍ／ｍｉｎとした。ステンレスベルト支持体上で、流延（キャスト）したフィルム中の残留溶剤量が４０％になるまで溶剤を蒸発させた。次いで、剥離張力１２８Ｎ／ｍで、ステンレスベルト支持体上からフィルムを剥離した。剥離したフィルムを、１７０℃の条件下で幅手方向に１．１５倍延伸した。延伸開始時の残留溶剤は５質量％であった。次いで、乾燥ゾーンを多数のローラーで搬送させながら乾燥を終了させ、テンタークリップで挟んだ端部をレーザーカッターでスリットし、その後、巻き取り、膜厚１０μｍの光学フィルム１Ａを作製した。
【０３３２】
［比較光学フィルム１Ｃ−１〜１Ｃ−３の作製］
位相差低減剤として本発明の範囲外である下記の化合物を用い、添加量及び膜厚をそれぞれ表１−２に示す値としたこと以外は光学フィルム１Ｂ−１と同様の方法で比較光学フィルム１Ｃ−１〜１Ｃ−３を作成した。なお、位相差低減剤の添加量を変化させた場合は、シクロオレフィン系樹脂及び位相差低減剤の合計量が１００質量部になるように調整した。
【０３３３】
比較光学フィルム１Ｃ−１      ＳＭＡＥＰ８０（ＣＲＡＹ  ＶＡＬＬＥＹ製）
比較光学フィルム１Ｃ−２      ハイマーＳＴＥＲＴ−１２０（三洋化成工業株式会社製）
比較光学フィルム１Ｃ−３      フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸エチルの共重合体（組成比９０／１０（質量比）、重量平均分子量（Ｍｗ）１２０００）。
【０３３４】
【表２】
2018151526.tif 000025
【０３３５】
＜光学フィルムの評価＞
上記で作製した光学フィルム１Ｂ−１〜１Ｂ−２５、光学フィルム１Ａ、比較光学フィルム１Ｃ−１〜１Ｃ−３について、下記の方法でガラス転移温度（Ｔｇ）、ヘイズ、位相差値、位相差変動度を測定した。
【０３３６】
［ガラス転移温度（Ｔｇ）］
光学フィルムの耐熱性を評価するために、ガラス転移温度（Ｔｇ）を測定した。具体的には、セイコーインスツル株式会社製の示差走査熱量計ＤＳＣ２２０を用いて、昇温速度２０℃／分で測定し、ＪＩＳ  Ｋ７１２１（１９８７）に従い求めた中間点ガラス転移温度をＴｇとした。
【０３３７】
［ヘイズ］
ヘイズ値の測定は、２３℃、相対湿度５０％ＲＨの環境下、ヘイズメーター（日本電色工業株式会社製、ＮＤＨ２０００）により、光学フィルムの幅手方向に等間隔で１０点の測定を行い、その平均値を求めヘイズとした。
【０３３８】
［位相差値］
光学フィルムの面内方向の位相差値Ｒｏ、及び厚さ方向の位相差値Ｒｔは自動複屈折率計アクソスキャン（Ａｘｏ  Ｓｃａｎ  Ｍｕｅｌｌｅｒ  Ｍａｔｒｉｘ  Ｐｏｌａｒｉｍｅｔｅｒ：アクソメトリックス社製）を用いて、２３℃、相対湿度５５％ＲＨの環境下、５９０ｎｍの波長において、三次元屈折率測定を行い、得られた屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚから下記式を用いて算出した。
【０３３９】
式（ｉ）：Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ｎｍ）
式（ｉｉ）：Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ（ｎｍ）
（式（ｉ）及び式（ｉｉ）において、ｎｘは、フィルムの面内方向において遅相軸方向ｘにおける屈折率を表す。ｎｙは、フィルムの面内方向において、上記方向ｘと直交する方向ｙにおける屈折率を表す。ｎｚは、フィルムの厚さ方向ｚにおける屈折率を表す。ｄは、フィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。）
［位相差変動度］
幅手方向１８００ｍｍの光学フィルムを準備し、５ｃｍおきに３５点の箇所で面内位相差値Ｒｏを測定した。幅手方向１８００ｍｍの光学フィルム３枚について上記測定を行い計１０５点の測定を行った。Ｒｏの平均値を計算し、１０５点の測定点のうち位相差値が平均値から２ｎｍ以上離れている点の個数を位相差変動度とした。
【０３４０】
結果を表１−３に示す。
【０３４１】
【表３】
2018151526.tif 000026
【０３４２】
表１−３の結果から、本発明の光学フィルムは、ヘイズが小さく、ゼロ位相差性が高く、かつ、位相差変動度が小さいことが示された。
【０３４３】
＜紫外線吸収剤を含む光学フィルムの作製及び評価＞
光学フィルムの作製において、紫外線吸収剤としてＴＩＮＵＶＩＮ９２８（ＢＡＳＦ社製）（登録商標）を固形分の総質量１００質量部に対して５質量部添加したこと以外は、光学フィルム１Ｂ−１、１Ｂ−３、１Ｂ−５、１Ｂ−６、１Ｂ−９、１Ｂ−１０、１Ｂ−１３と同様の方法で、紫外線吸収剤を含む光学フィルム１Ｄ−１、１Ｄ−３、１Ｄ−５、１Ｄ−６、１Ｄ−９、１Ｄ−１０、１Ｄ−１３を作製した。
【０３４４】
また、上記で製造した紫外線吸収剤を含む光学フィルムについて、上記と同様の方法で、ガラス転移温度（Ｔｇ）、ヘイズ、位相差値、位相差変動度を測定した。結果を表１−４に示す。
【０３４５】
【表４】
2018151526.tif 000027
【０３４６】
表１−４の結果から、紫外線吸収剤を含む本発明の光学フィルムについても、ヘイズが小さく、ゼロ位相差性が高く、かつ、位相差変動度が小さいことが示された。
【０３４７】
＜偏光板の作製＞
［偏光板１ＰＬ−１の作製］
（積層体の作製）
帯電防止処理が施された厚さ１２０μｍの非晶性ポリエチレンテレフタレートシートの表面をコロナ処理し、熱可塑性樹脂層Ａとした。親水性高分子としてポリビニルアルコール粉末（商品名：ＪＣ−２５、平均重合度２５００、ケン化度９９．０モル％以上、日本酢ビ・ポバール株式会社製）を９５℃の熱水中に溶解させ濃度８質量％のポリビニルアルコール水溶液を調製した。得られたポリビニルアルコール水溶液を、積層用の熱可塑性樹脂層Ａ上に、リップコーターを用いて塗工し、８０℃で２０分間乾燥させ、熱可塑性樹脂層Ａとポリビニルアルコールから構成される親水性樹脂層（偏光子１）を積層した積層体１を作製した。なお、親水性樹脂層（偏光子１）の厚さは、１２．０μｍであった。
【０３４８】
（延伸工程）
上記積層体１を、搬送方向（ＭＤ方向）に１６０℃で５．３倍の自由端一軸延伸処理を施し、延伸積層体１を作製した。なお、延伸積層体１における親水性樹脂層（偏光子１）の厚さは５．６μｍであった。
【０３４９】
（染色工程）
延伸積層体１を６０℃の温浴に６０秒浸漬し、水１００質量部あたりヨウ素を０．０５質量部及びヨウ化カリウムを５質量部それぞれ含有する水溶液に、温度２８℃で６０秒間浸漬した。次いで、緊張状態に保ったまま、水１００質量部あたりホウ酸を７．５質量部及びヨウ化カリウムを６質量部それぞれ含有するホウ酸水溶液に、温度７３℃で３００秒間浸漬した。その後、１５℃の純水で１０秒間洗浄した。水洗したフィルムを緊張状態に保ったまま、７０℃で３００秒間乾燥し、熱可塑性樹脂層Ａと偏光子１からなる延伸積層体１を得た。
【０３５０】
（偏光板の作製１）
下記工程１〜６に従って、上記で作製した延伸積層体１と、本発明の光学フィルム１Ｂ−１を貼合し、次いで熱可塑性樹脂層Ａを剥離して、偏光板１ＰＬ−１を作製した。
工程１：光学フィルム１Ｂ−１にコロナ放電処理を施した。なお、コロナ放電処理の条件は、コロナ出力強度２．０ｋＷ、ライン速度１８ｍ／分とした。
工程２：延伸積層体１の偏光子１を有する面に、固形分が２質量％のポリビニルアルコール接着剤を塗布した。
工程３：工程２でポリビニルアルコール接着剤を塗布した面（偏光子１形成面）と、工程１で処理した光学フィルム１Ｂ−１とが相対するよう配置した。なお光学フィルム１Ｂ−１は、偏光子１の吸収軸と光学フィルム１Ｂ−１の遅相軸が垂直になるように貼合した。
工程４：工程３で重ね合わせた試料を、圧力２０〜３０Ｎ／ｃｍ２、搬送スピードは約２ｍ／分で貼合した。
工程５：８０℃の乾燥機中で工程４で作製した貼合試料を２分間乾燥し、光学フィルム１Ｂ−１、偏光子１、熱可塑性樹脂層Ａからなる偏光板を得た。
工程６：得られた偏光板から熱可塑性樹脂層Ａを剥離し、偏光板１ＰＬ−１ａを得た。
【０３５１】
（偏光板の作製２）
下記工程７〜１１に従って、上記で作製した偏光板１ＰＬ−１ａと、コニカミノルタタック２ＵＡＨ（商品名）（コニカミノルタ株式会社製）（以下「ＫＣ２ＵＡＨ」と称する。）を貼合し、偏光板１ＰＬ−１を作製した。
工程７：ＫＣ２ＵＡＨを６０℃の２モル／Ｌ水酸化ナトリウム溶液に９０秒間浸漬し、次いで水洗及び乾燥して、偏光子と貼合する側を鹸化した。
工程８：偏光板１ＰＬ−１ａの光学フィルム１Ｂ−１が貼合されていない側の偏光子１の面に、固形分が２質量％のポリビニルアルコール接着剤を塗布した。
工程９：工程８でポリビニルアルコール接着剤を塗布した面と、工程７で処理したＫＣ２ＵＡＨのハードコート層が付与されていない面とが相対するよう配置した。
工程１０：工程９で重ね合わせた試料を、圧力２０〜３０Ｎ／ｃｍ２、搬送スピードは約２ｍ／分で貼合した。
工程１１：８０℃の乾燥機中で工程１０で作製した貼合試料を２分間乾燥し、偏光板１ＰＬ−１ａ、ＫＣ２ＵＡＨからなる偏光板、すなわち、光学フィルム１Ｂ−１、偏光子１、偏光板保護フィルムＫＣ２ＵＡＨからなる偏光板１ＰＬ−１を得た。
【０３５２】
［偏光板１ＰＬ−２〜１ＰＬ−７の作製］
光学フィルムの種類を表１−５に示すものとしたこと以外は、上記偏光板１ＰＬ−１と同様の方法で偏光板１ＰＬ−２〜１ＰＬ−７を作製した。
【０３５３】
＜偏光板の評価＞
上記で作製した偏光板１ＰＬ−１〜１ＰＬ−７について、湿熱耐久性を測定した。
【０３５４】
［湿熱耐久性（偏光子の退色）］
湿熱による偏光子の退色への影響を以下の方法で評価した。液晶パネルに搭載された状態を再現するために、光学フィルムの偏光子とは反対側の面を、粘着層を介してガラスに貼り付けた後、４０℃、相対湿度９０％ＲＨの環境下で１０００時間保管した際の保管前後での偏光子の退色を目視で観察し、下記の評価基準で評価した。
◎：退色無し
○：わずかに退色が見られるが偏光性能に支障はない
×：明らかに退色している。
【０３５５】
［湿熱耐久性（光漏れ）］
湿熱による偏光性能（光漏れ）への影響を以下の方法で評価した。耐久処理を施していない偏光板１ＰＬ−１を、ＫＣ２ＵＡＨがシャーカステン側に、光学フィルムが視認側にくるようにして、シャーカステン上に置いた。その上に、上記でガラスに貼り付けて耐久処理を施した偏光板を、ガラスがシャーカステン側、ＫＣ２ＵＡＨが視認側となるようにして置いた。すなわち、光源から順に、シャーカステン、ＫＣ２ＵＡＨ（耐久していない）、偏光子（耐久していない）、光学フィルム（耐久していない）、ガラス、粘着層、光学フィルム（耐久後）、偏光子（耐久後）、ＫＣ２ＵＡＨ（耐久後）となるようにした。この時、上記２つの偏光子は、吸収軸が互いに垂直（クロスニコル）になるように配置した。その状態で、光源を点灯し、正面から目視で観察し、下記の評価基準で評価した。
◎：光漏れがない
○：ごくわずかに光漏れがある
×：明らかに光漏れがある。
【０３５６】
結果を表１−５に示す。
【０３５７】
【表５】
2018151526.tif 000028
【０３５８】
表１−５の結果から、本発明に係る偏光板は、湿熱耐久性に優れることが示された。
【０３５９】
＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した偏光板の特性を評価するため、ＩＰＳモードである株式会社日立製作所製の液晶テレビ（Ｗｏｏｏ（登録商標）Ｗ３２−Ｌ７０００）の液晶パネルの観察者側の前面及び背面に貼付している偏光板を剥がし、この剥がした箇所に、上記で作製した偏光板１ＰＬ−１〜１ＰＬ−７を光源側（背面）と視認側（前面）に、それぞれ元々貼合されていた偏光板の透過軸と同一にして、アクリル系透明粘着剤を用いて貼合し、液晶表示装置１ＣＬＤ−１〜１ＣＬＤ−７を作製した。
【０３６０】
＜液晶表示装置の評価＞
上記で作製した液晶表示装置１ＣＬＤ−１〜１ＣＬＤ−７について、湿熱耐久性を評価した。
【０３６１】
＜液晶表示装置の湿熱耐久性（黒色度）＞
液晶表示装置を４０℃、相対湿度９０％ＲＨの環境下で１０００時間保管した際の保管前後の黒表示部を目視で観察し、下記の評価基準で評価した。
◎：耐久前と変化なく、良好な黒色を維持している。
○：耐久前より僅かに黒輝度の低下を感じるが、黒色を維持している。
×：明らかに黒色度が低下している。
【０３６２】
結果を表１−６に示す。
【０３６３】
【表６】
2018151526.tif 000029
【０３６４】
表１−６の結果から、本発明に係る液晶表示装置は、湿熱耐久性に優れることが示された。
【０３６５】
−第２形態−
＜位相差低減剤（（共）重合体）の合成＞
［位相差低減剤２Ａ−１］
５００ｍｌの３頭コルベンに、フマル酸ジシクロヘキシル５０ｇ、２，２’−アゾビス（イソ酪酸）ジメチル０．４１ｇ、、純水２００ｍｌを加えて、窒素フローしながら、室温で１時間激しく撹拌した。その後、７０℃に昇温して２４時間撹拌を続けた。反応終了後、水を減圧除去し、テトラヒドロフラン１００ｍｌを加えて、加温溶解した。その際、析出している不溶物をろ過して取り除き、得られた溶液を撹拌しているメタノール５Ｌ中に滴下して再沈精製を行った。十分に撹拌した後、析出物をろ過、乾燥して、位相差低減剤２Ａ−１を６５ｇ得た。なお、ＧＰＣにて測定した位相差低減剤２Ａ−１の重量平均分子量（Ｍｗ）は７８０００であった。
【０３６６】
［位相差低減剤２Ａ−１０］
５００ｍｌの３頭コルベンに、フマル酸ジシクロヘキシル６０ｇ、４−メトキシケイ皮酸エチル４０ｇ、過酸化ベンゾイル０．４９ｇ、純水２００ｍｌを加えて、窒素フローしながら、室温で１時間激しく撹拌した。その後、７０℃に昇温して２４時間撹拌を続けた。反応終了後、水を減圧除去し、テトラヒドロフラン１００ｍｌを加えて、加温溶解した。その際、析出している不溶物をろ過して取り除き、得られた溶液を撹拌しているメタノール５Ｌ中に滴下して再沈精製を行った。十分に撹拌した後、析出物をろ過、乾燥して、位相差低減剤２Ａ−１０を７１ｇ得た。なお、ＧＰＣにて測定した位相差低減剤２Ａ−１０の重量平均分子量（Ｍｗ）は２５０００であった。
【０３６７】
［位相差低減剤２Ａ−１２］
５００ｍｌの３頭コルベンに、フマル酸ジシクロヘキシル５０ｇ、４−メトキシケイ皮酸エチル５０ｇ、ジシクロペンタニルメタクリレート１０ｇ、過酸化ベンゾイル０．５６ｇ、純水２００ｍｌを加えて、窒素フローしながら、室温で１時間激しく撹拌した。その後、７０℃に昇温して２４時間撹拌を続けた。反応終了後、水を減圧除去し、テトラヒドロフラン１００ｍｌを加えて、加温溶解した。その際、析出している不溶物をろ過して取り除き、得られた溶液を撹拌しているメタノール５Ｌ中に滴下して再沈精製を行った。十分に撹拌した後、析出物をろ過、乾燥して、位相差低減剤２Ａ−１２を８２ｇ得た。なお、ＧＰＣにて測定した位相差低減剤２Ａ−１２の重量平均分子量（Ｍｗ）は５４０００であった。
【０３６８】
［位相差低減剤２Ａ−２〜２Ａ−９、２Ａ−１１、２Ａ−１３〜２Ａ−２８］
モノマーの種類及び混合質量比をそれぞれ表２−１に示す値としたこと以外は、位相差低減剤２Ａ−１と同様の方法で、位相差低減剤２Ａ−２〜２Ａ−９、２Ａ−１１、２Ａ−１３〜２Ａ−２８を合成した。ＧＰＣにて測定した位相差低減剤２Ａ−２〜２Ａ−９、２Ａ−１１、２Ａ−１３〜２Ａ−２８の重量平均分子量（Ｍｗ）を表２−１に併せて示す。
【０３６９】
【表７】
2018151526.tif 000030
【０３７０】
＜光学フィルムの作製＞
［光学フィルム２Ｂ−１］
（微粒子分散液の調製）
１１．３質量部の微粒子（アエロジル  Ｒ８１２、日本アエロジル株式会社製）と、８４質量部のエタノールとを、ディゾルバーで５０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散し、分散液を得た。溶解タンク中で十分撹拌されているジクロロメタン（１００質量部）に、５質量部の分散液を、ゆっくりと添加した。さらに、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線株式会社製のファインメットＮＦで濾過し、微粒子分散液を調製した。
【０３７１】
＜主ドープの調製＞
下記組成の主ドープを調製した。まず加圧溶解タンクにジクロロメタン及びエタノールを添加した。ジクロロメタンの入った加圧溶解タンクにシクロオレフィン系樹脂２Ｐ−１、上記で合成した位相差低減剤２Ａ−１及び微粒子分散液を撹拌しながら投入した。これを加熱し、撹拌しながら完全に溶解し、これを安積濾紙株式会社製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用してろ過して、主ドープを調製した。
【０３７２】
主ドープの組成
２Ｐ−１（シクロオレフィン系樹脂、ＡＲＴＯＮ（登録商標）Ｇ７８１０、ＪＳＲ株式会社製）
９５質量部
ジクロロメタン                                                  ３００質量部
エタノール                                                        ２０質量部
位相差低減剤２Ａ−１                                                ５質量部
微粒子分散液                                                    ７．６質量部。
【０３７３】
（光学フィルムの作製）
無端ベルト流延装置を用い、上記で調製した主ドープを温度３１℃、１８００ｍｍ幅でステンレスベルト支持体上に均一に流延した。ステンレスベルトの温度は２８℃に制御した。ステンレスベルトの搬送速度は２０ｍ／ｍｉｎとした。ステンレスベルト支持体上で、流延（キャスト）したフィルム中の残留溶剤量が４０％になるまで溶剤を蒸発させた。次いで、剥離張力１２８Ｎ／ｍで、ステンレスベルト支持体上からフィルムを剥離した。剥離したフィルムを、１７５℃の条件下で幅手方向に１．１５倍延伸した。延伸開始時の残留溶剤は５質量％であった。次いで、乾燥ゾーンを多数のローラーで搬送させながら乾燥を終了させ、テンタークリップで挟んだ端部をレーザーカッターでスリットし、その後、巻き取り、膜厚１０μｍの光学フィルム２Ｂ−１を作製した。
【０３７４】
［光学フィルム２Ｂ−２〜２Ｂ−１９の作製］
位相差低減剤の種類、添加量をそれぞれ表２−２に示す値としたこと以外は、光学フィルム２Ｂ−１と同様の方法で、光学フィルム２Ｂ−２〜２Ｂ−１９を作製した。なお、位相差低減剤の添加量を変化させた場合は、樹脂及び位相差低減剤の合計量が１００質量部になるように調整した。
【０３７５】
なお、表２−２に示す樹脂２Ｐ−２、２Ｐ−３は、それぞれ以下のとおりである。
【０３７６】
２Ｐ−２（シクロオレフィン系樹脂、ＡＲＴＯＮ（登録商標）Ｒ５０００、ＪＳＲ株式会社製）
２Ｐ−３（シクロオレフィン系樹脂、ＡＲＴＯＮ（登録商標）ＲＸ４５００、ＪＳＲ株式会社製）。
【０３７７】
［比較光学フィルム２Ｃ−１〜２Ｃ−２の作製］
位相差低減剤として本発明の範囲外である下記の化合物を用い、添加量及び膜厚をそれぞれ表２−２に示す値としたこと以外は光学フィルム２Ｂ−１と同様の方法で比較光学フィルム２Ｃ−１〜２Ｃ−２を作成した。なお、位相差低減剤の添加量を変化させた場合は、シクロオレフィン系樹脂及び位相差低減剤の合計量が１００質量部になるように調整した。
【０３７８】
比較光学フィルム２Ｃ−１      ＳＭＡＥＰ８０（ＣＲＡＹ  ＶＡＬＬＥＹ製）
比較光学フィルム２Ｃ−２      ハイマーＳＴＥＲＴ−１２０（三洋化成工業株式会社製）。
【０３７９】
【表８】
2018151526.tif 000031
【０３８０】
＜光学フィルムの評価＞
上記で作製した光学フィルム２Ｂ−１〜２Ｂ−１９、比較光学フィルム２Ｃ−１〜２Ｃ−２について、下記の方法でガラス転移温度（Ｔｇ）、ヘイズ、位相差値、位相差変動度を測定した。
【０３８１】
［ガラス転移温度（Ｔｇ）］
光学フィルムの耐熱性を評価するために、ガラス転移温度（Ｔｇ）を測定した。具体的には、セイコーインスツル株式会社製の示差走査熱量計ＤＳＣ２２０を用いて、昇温速度２０℃／分で測定し、ＪＩＳ  Ｋ７１２１（１９８７）に従い求めた中間点ガラス転移温度をＴｇとした。
【０３８２】
［ヘイズ］
ヘイズ値の測定は、２３℃、相対湿度５０％ＲＨの環境下、ヘイズメーター（日本電色工業株式会社製、ＮＤＨ２０００）により、光学フィルムの幅手方向に等間隔で１０点の測定を行い、その平均値を求めヘイズとした。
【０３８３】
［位相差値］
光学フィルムの面内方向の位相差値Ｒｏ、及び厚さ方向の位相差値Ｒｔは自動複屈折率計アクソスキャン（Ａｘｏ  Ｓｃａｎ  Ｍｕｅｌｌｅｒ  Ｍａｔｒｉｘ  Ｐｏｌａｒｉｍｅｔｅｒ：アクソメトリックス社製）を用いて、２３℃、相対湿度５５％ＲＨの環境下、５９０ｎｍの波長において、三次元屈折率測定を行い、得られた屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚから下記式を用いて算出した。
【０３８４】
式（ｉ）：Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ｎｍ）
式（ｉｉ）：Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ（ｎｍ）
（式（ｉ）及び式（ｉｉ）において、ｎｘは、フィルムの面内方向において遅相軸方向ｘにおける屈折率を表す。ｎｙは、フィルムの面内方向において、上記方向ｘと直交する方向ｙにおける屈折率を表す。ｎｚは、フィルムの厚さ方向ｚにおける屈折率を表す。ｄは、フィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。）
［位相差変動度］
幅手方向１８００ｍｍの光学フィルムを準備し、５ｃｍおきに３５点の箇所で面内位相差値Ｒｏを測定した。幅手方向１８００ｍｍの光学フィルム３枚について上記測定を行い計１０５点の測定を行った。Ｒｏの平均値を計算し、１０５点の測定点のうち位相差値が平均値から２ｎｍ以上離れている点の個数を位相差変動度とした。
【０３８５】
結果を表２−３に示す。
【０３８６】
【表９】
2018151526.tif 000032
【０３８７】
表２−３の結果から、本発明の光学フィルムは、ヘイズが小さく、ゼロ位相差性が高く、かつ、位相差変動度が小さいことが示された。
【０３８８】
＜紫外線吸収剤を含む光学フィルムの作製及び評価＞
光学フィルムの作製において、紫外線吸収剤としてＴＩＮＵＶＩＮ９２８（ＢＡＳＦ社製）（登録商標）を固形分の総質量１００質量部に対して５質量部添加したこと以外は、光学フィルム２Ｂ−２、２Ｂ−３、２Ｂ−４、２Ｂ−６、２Ｂ−１２、２Ｂ−１３、２Ｂ−１８と同様の方法で、紫外線吸収剤を含む光学フィルム２Ｄ−２、２Ｄ−３、２Ｄ−４、２Ｄ−６、２Ｄ−１２、２Ｄ−１３、２Ｄ−１８を作製した。
【０３８９】
また、上記で製造した紫外線吸収剤を含む光学フィルムについて、上記と同様の方法で、ガラス転移温度（Ｔｇ）、ヘイズ、位相差値、位相差変動度を測定した。結果を表２−４に示す。
【０３９０】
【表１０】
2018151526.tif 000033
【０３９１】
表２−４の結果から、紫外線吸収剤を含む本発明の光学フィルムについても、ヘイズが小さく、ゼロ位相差性が高く、かつ、位相差変動度が小さいことが示された。
【０３９２】
＜偏光板の作製＞
［偏光板２ＰＬ−１の作製］
（積層体の作製）
帯電防止処理が施された厚さ１２０μｍの非晶性ポリエチレンテレフタレートシートの表面をコロナ処理し、熱可塑性樹脂層Ａとした。親水性高分子としてポリビニルアルコール粉末（商品名：ＪＣ−２５、平均重合度２５００、ケン化度９９．０モル％以上、日本酢ビ・ポバール株式会社製）を９５℃の熱水中に溶解させ濃度８質量％のポリビニルアルコール水溶液を調製した。得られたポリビニルアルコール水溶液を、積層用の熱可塑性樹脂層Ａ上に、リップコーターを用いて塗工し、８０℃で２０分間乾燥させ、熱可塑性樹脂層Ａとポリビニルアルコールから構成される親水性樹脂層（偏光子１）を積層した積層体１を作製した。なお、親水性樹脂層（偏光子１）の厚さは、１２．０μｍであった。
【０３９３】
（延伸工程）
上記積層体１を、搬送方向（ＭＤ方向）に１６０℃で５．３倍の自由端一軸延伸処理を施し、延伸積層体１を作製した。なお、延伸積層体１における親水性樹脂層（偏光子１）の厚さは５．６μｍであった。
【０３９４】
＜染色工程＞
延伸積層体１を６０℃の温浴に６０秒浸漬し、水１００質量部あたりヨウ素を０．０５質量部及びヨウ化カリウムを５質量部それぞれ含有する水溶液に、温度２８℃で６０秒間浸漬した。次いで、緊張状態に保ったまま、水１００質量部あたりホウ酸を７．５質量部及びヨウ化カリウムを６質量部それぞれ含有するホウ酸水溶液に、温度７３℃で３００秒間浸漬した。その後、１５℃の純水で１０秒間洗浄した。水洗したフィルムを緊張状態に保ったまま、７０℃で３００秒間乾燥し、熱可塑性樹脂層Ａと偏光子１からなる延伸積層体１を得た。
【０３９５】
（偏光板の作製１）
下記工程１〜６に従って、上記で作製した延伸積層体１と、本発明の光学フィルム２Ｂ−２を貼合し、次いで熱可塑性樹脂層Ａを剥離して、偏光板２ＰＬ−１ａを作製した。
工程１：光学フィルム２Ｂ−２にコロナ放電処理を施した。なお、コロナ放電処理の条件は、コロナ出力強度２．０ｋＷ、ライン速度１８ｍ／分とした。
工程２：延伸積層体１の偏光子１を有する面に、固形分が２質量％のポリビニルアルコール接着剤を塗布した。
工程３：工程２でポリビニルアルコール接着剤を塗布した面（偏光子１形成面）と、工程１で処理した光学フィルム２Ｂ−２とが相対するよう配置した。なお光学フィルム２Ｂ−２は、偏光子１の吸収軸と光学フィルム２Ｂ−２の遅相軸が垂直になるように貼合した。
工程４：工程３で重ね合わせた試料を、圧力２０〜３０Ｎ／ｃｍ２、搬送スピードは約２ｍ／分で貼合した。
工程５：８０℃の乾燥機中で工程４で作製した貼合試料を２分間乾燥し、光学フィルム２Ｂ−２、偏光子１、熱可塑性樹脂層Ａからなる偏光板を得た。
工程６：得られた偏光板から熱可塑性樹脂層Ａを剥離し、偏光板２ＰＬ−１ａを得た。
【０３９６】
（偏光板の作製２）
下記工程７〜１１に従って、上記で作製した偏光板２ＰＬ−１ａと、コニカミノルタタック２ＵＡＨ（商品名）（コニカミノルタ株式会社製）（以下「ＫＣ２ＵＡＨ」と称する。）を貼合し、偏光板２ＰＬ−１を作製した。
工程７：ＫＣ２ＵＡＨを６０℃の２モル／Ｌ水酸化ナトリウム溶液に９０秒間浸漬し、次いで水洗及び乾燥して、偏光子と貼合する側を鹸化した。
工程８：偏光板２ＰＬ−１ａの光学フィルム２Ｂ−２が貼合されていない側の偏光子１の面に、固形分が２質量％のポリビニルアルコール接着剤を塗布した。
工程９：工程８でポリビニルアルコール接着剤を塗布した面と、工程７で処理したＫＣ２ＵＡＨのハードコート層が付与されていない面とが相対するよう配置した。
工程１０：工程９で重ね合わせた試料を、圧力２０〜３０Ｎ／ｃｍ２、搬送スピードは約２ｍ／分で貼合した。
工程１１：８０℃の乾燥機中で工程１０で作製した貼合試料を２分間乾燥し、偏光板２ＰＬ−１ａ、ＫＣ２ＵＡＨからなる偏光板、すなわち、光学フィルム２Ｂ−２、偏光子１、偏光板保護フィルムＫＣ２ＵＡＨからなる偏光板２ＰＬ−１を得た。
【０３９７】
［偏光板２ＰＬ−２〜２ＰＬ−７の作製］
光学フィルムの種類を表２−５に示すものとしたこと以外は、上記偏光板２ＰＬ−１と同様の方法で偏光板２ＰＬ−２〜２ＰＬ−７を作製した。
【０３９８】
＜偏光板の評価＞
上記で作製した偏光板２ＰＬ−１〜２ＰＬ−７について、湿熱耐久性を測定した。
【０３９９】
［湿熱耐久性（偏光子の退色）］
湿熱による偏光子の退色への影響を以下の方法で評価した。液晶パネルに搭載された状態を再現するために、光学フィルムの偏光子とは反対側の面を、粘着層を介してガラスに貼り付けた後、４０℃、相対湿度９０％ＲＨの環境下で１０００時間保管した際の保管前後での偏光子の退色を目視で観察し、下記の評価基準で評価した。
◎：退色無し
○：わずかに退色が見られるが偏光性能に支障はない
×：明らかに退色している。
【０４００】
［湿熱耐久性（光漏れ）］
湿熱による偏光性能（光漏れ）への影響を以下の方法で評価した。耐久処理を施していない偏光板２ＰＬ−１を、ＫＣ２ＵＡＨがシャーカステン側に、光学フィルムが視認側にくるようにして、シャーカステン上に置いた。その上に、上記でガラスに貼り付けて耐久処理を施した偏光板を、ガラスがシャーカステン側、ＫＣ２ＵＡＨが視認側となるようにして置いた。すなわち、光源から順に、シャーカステン、ＫＣ２ＵＡＨ（耐久していない）、偏光子（耐久していない）、光学フィルム（耐久していない）、ガラス、粘着層、光学フィルム（耐久後）、偏光子（耐久後）、ＫＣ２ＵＡＨ（耐久後）となるようにした。この時、上記２つの偏光子は、吸収軸が互いに垂直（クロスニコル）になるように配置した。その状態で、光源を点灯し、正面から目視で観察し、下記の評価基準で評価した。
◎：光漏れがない
○：ごくわずかに光漏れがある
×：明らかに光漏れがある。
【０４０１】
結果を表２−５に示す。
【０４０２】
【表１１】
2018151526.tif 000034
【０４０３】
表２−５の結果から、本発明に係る偏光板は、湿熱耐久性に優れることが示された。
【０４０４】
＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した偏光板の特性を評価するため、ＩＰＳモードである株式会社日立製作所製の液晶テレビ（Ｗｏｏｏ（登録商標）Ｗ３２−Ｌ７０００）の液晶パネルの観察者側の前面及び背面に貼付している偏光板を剥がし、この剥がした箇所に、上記で作製した偏光板２ＰＬ−１〜２ＰＬ−７を光源側（背面）と視認側（前面）に、それぞれ元々貼合されていた偏光板の透過軸と同一にして、アクリル系透明粘着剤を用いて貼合し、液晶表示装置２ＣＬＤ−１〜２ＣＬＤ−７を作製した。
【０４０５】
＜液晶表示装置の評価＞
上記で作製した液晶表示装置２ＣＬＤ−１〜２ＣＬＤ−７について、湿熱耐久性を評価した。
【０４０６】
＜液晶表示装置の湿熱耐久性＞
液晶表示装置を４０℃、相対湿度９０％ＲＨの環境下で１０００時間保管した際の保管前後の黒表示部を目視で観察し、下記の評価基準で評価した。
◎：耐久前と変化なく、良好な黒色を維持している。
○：耐久前より僅かに黒輝度の低下を感じるが、黒色を維持している。
×：明らかに黒色度が低下している。
【０４０７】
結果を表２−６に示す。
【０４０８】
【表１２】
2018151526.tif 000035
【０４０９】
表２−６の結果から、本発明に係る液晶表示装置は、湿熱耐久性に優れることが示された。