(57)【要約】【課題】撥水性に優れるとともに、外観に優れた成形体を提供する。【解決手段】  本発明の成形体は熱可塑性樹脂とシリル化ポリオレフィンとを含む樹脂組成物から成形される成形体であって、前記成形体は表面にピッチが２０ｎｍ〜１０００ｎｍである微細凹凸構造を有する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱可塑性樹脂とシリル化ポリオレフィンとを含む樹脂組成物から成形される成形体であって、前記成形体は表面にピッチが２０ｎｍ〜１０００ｎｍである微細凹凸構造を有する、成形体。
【請求項２】
前記微細凹凸構造の高さが５０ｎｍ〜１００００ｎｍである、請求項１に記載の成形体。
【請求項３】
前記熱可塑性樹脂がポリオレフィンである、請求項１または２に記載の成形体。
【請求項４】
成形体がフィルムまたはシートである、請求項１〜３のいずれかに記載の成形体。
【請求項５】
全光線透過率が９０％以上である請求項１〜４のいずれかに記載の成形体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表面に微細な凹凸構造を有する成形体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ナノインプリント技術の進歩に伴い、成形体の表面に微細な凹凸構造を配することにより撥水機能等を付与することに関心が高まっている。
【０００３】
例えば特許文献１は、フィルム表面に疎水性微粒子や滑剤成分等の改質剤を添加せずに、表面加工を施すことにより表面に撥水性能を付与したフィルムを提供することを目的とし、熱可塑性樹脂を含む樹脂組成物を加熱溶融する工程と、加熱溶融した樹脂組成物を賦型版上に押出して加圧成形する工程により表面に凹凸構造を有する撥水フィルムを得ることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１５−２４５４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、用途によってはより高い撥水性が求められる。また、本発明者らの検討によれば、従来の熱ナノインプリント技術では、熱可塑性樹脂フィルムをモールドから取り出すときにフィルムが伸びてしまう、或いは全体的に凹凸形状の転写が不十分である、或いは転写にむらがある等の成形不良が生じやすいことが明らかになった。
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、撥水性に優れるとともに、外観、微細凹凸形状の転写性に優れた成形体を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
すなわち、本発明は以下に示すことができる。
［１］
熱可塑性樹脂とシリル化ポリオレフィンとを含む樹脂組成物から成形される成形体であって、前記成形体は表面にピッチが２０ｎｍ〜１０００ｎｍである微細凹凸構造を有する、成形体。
［２］
前記微細凹凸構造の高さが５０ｎｍ〜１００００ｎｍである、上記［１］に記載の成形体。
［３］
熱可塑性樹脂がポリオレフィンである、上記［１］または［２］に記載の成形体。
［４］
成形体がフィルムまたはシートである、上記［１］〜［３］のいずれかに記載の成形体。
［５］
全光線透過率が９０％以上である上記［１］〜［４］のいずれかに記載の成形体。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、撥水性に優れた成形体を提供することができる。また、本発明の成形体は、微細凹凸形状のパターン転写性に優れた組成を有しており製造安定性に優れる。そのため、外観に優れた成形体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】実施例１〜２、比較例１〜２で得られた、微細凹凸構造が転写されたフィルムのＳＥＭ画像である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下に、本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。なお、文中の数値範囲を示す記号「ａ〜ｂ」はとくに断りがない限り、ａ以上からｂ以下を表すものとする。
【００１０】
本実施形態の成形体は、熱可塑性樹脂とシリル化ポリオレフィンとを含む樹脂組成物から成形される成形体であって、前記成形体は表面にピッチが２０ｎｍ〜１０００ｎｍである微細凹凸構造を有している。
【００１１】
（熱可塑性樹脂）
熱可塑性樹脂としては、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・メタクリル酸共重合体、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、ＡＢＳ樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリイミド、ポリウレタン、ポリ乳酸などが挙げられ、１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。熱可塑性樹脂としては、ポリオレフィンが好ましい。
【００１２】
ここで、ポリオレフィンとは、構成単位中にシリコーン鎖を含まないポリオレフィンを意味する。ポリオレフィンとしては、例えば炭素数２〜２０のオレフィンに由来する構造単位を含む重合体を挙げることができる。好ましいポリオレフィンとしては、エチレンの単独重合体または共重合体、プロピレンの単独重合体または共重合体を挙げることができる。
【００１３】
エチレンの単独または共重合体中のエチレン含量は５０〜１００モル％であることが好ましく、６０〜１００モル％がより好ましい。共重合成分としては、炭素数３以上のα−オレフィンが挙げられる。
【００１４】
エチレンの単独または共重合体のＭＦＲ（ＡＳＴＭ  Ｄ１２３８、１９０℃、２．１６ｋｇ荷重）は、例えば、０．０１〜８０ｇ／１０分が好ましく、０．１〜５０ｇ／１０分がより好ましい。
低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン等も好ましいポリエチレンである。
【００１５】
プロピレンの単独または共重合体としては、プロピレン含量が５０〜１００モル％であることが好ましい。共重合成分としては、エチレン、炭素数４以上のα−オレフィン等が挙げられる。
また、ＭＦＲ（ＡＳＴＭ  Ｄ１２３８、２３０℃、２．１６ｋｇ荷重）は、例えば、０．１〜１００ｇ／１０分が好ましく、０．３〜５０ｇ／１０分がより好ましい。
【００１６】
（シリル化ポリオレフィン）
シリル化ポリオレフィンは、シリコーン鎖とポリオレフィン鎖を有する限りどのような構造でもよい。例えばポリオレフィンにシリコーンがグラフトした構造であるシリコーングラフトポリオレフィン、ポリオレフィンとシリコーンとのブロック共重合体、シリコーンにポリオレフィンがグラフトした構造、前記ブロック共重合体のシリコーン部分にポリオレフィンがグラフトした構造等を挙げることができる。シリル化ポリオレフィンは１種類でもよいし、または２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００１７】
ブロック共重合体としては、（ポリオレフィン鎖）−（シリコーン鎖）の順に結合したブロック共重合体、（ポリオレフィン鎖）−（シリコーン鎖）−（ポリオレフィン鎖）の順に結合したブロック共重合体等を挙げることができる。
ポリオレフィン鎖は例えば炭素数２〜５０、好ましくは炭素数２〜２０のオレフィンに由来する構造単位を含む重合体鎖を例示できる。
中でも下記一般式（１）で表される構造を有するものが好ましい。
【００１８】
【化１】
2018095799.tif 000002
【００１９】
上記式（１）において、Ａ１、Ａ２およびＡ３は各々独立に、ポリオレフィン鎖または炭素数１〜２０の炭化水素基である。Ｒは炭素数１〜２０の炭化水素基である。各Ｒは同一でも異なっていてもよい。ｍは１〜１０，０００の整数である。Ａ３が複数存在する場合、各Ａ３は同一でも異なっていてもよい。ただし、Ａ１、Ａ２、Ａ３のうち、少なくとも１つはポリオレフィン鎖を表す。
【００２０】
上記Ａ１、Ａ２およびＡ３におけるポリオレフィン鎖は、例えば炭素数２〜５０、好ましくは炭素数２〜２０のオレフィンに由来する構造単位を含む重合体鎖である。
【００２１】
炭素数２〜５０のオレフィンとしては、具体的には、エチレン、炭素数３〜５０のα−オレフィン（プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、３−メチル−１−ブテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン、３−メチル−１−ペンテン、３，４−ジメチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ヘキセン、３−エチル−１−ペンテン、３−エチル−４−メチル−１−ペンテン、３，４−ジメチル−１−ヘキセン、４−メチル−１−ヘプテン、３，４−ジメチル−１−ヘプテン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、１−エイコセン、ビニルシクロヘキサン等）が挙げられる。
これらのうち、エチレン、炭素数３〜１２のα−オレフィンが好ましく、エチレン、炭素数３〜８のα−オレフィンがより好ましく、エチレンが特に好ましい。
ポリオレフィン鎖は単独重合体鎖であっても、共重合体鎖であってもよい。
【００２２】
なかでも、エチレンおよび炭素数３〜５０のα−オレフィンから選ばれる炭素数２〜５０のオレフィンのみから構成される重合体鎖が好ましく、さらには、エチレン単独重合体鎖、プロピレン単独重合体鎖、またはエチレン・炭素数３〜２０のα−オレフィンの共重合体鎖が好ましい。エチレン・炭素数３〜２０のα−オレフィンの共重合体鎖において、全構成単位を１００モル％としたとき、炭素数３〜２０のα−オレフィン由来の構造単位は、例えば０モル％を超え２０モル％以下とすることができ、０モル％を超え１０モル％以下とすることもできる。
【００２３】
また、上記ポリオレフィン鎖は所望により、他のオレフィン由来の構造単位を含んでもよい。他のオレフィンとしては、シス−２−ブテン等の内部二重結合を含むオレフィン；イソブテン等のビニリデン化合物；スチレン等のアリールビニル化合物；α−メチルスチレン等のアリールビニリデン化合物；メタクリル酸メチル等の官能基置換ビニリデン化合物；５−メチル−２−ノルボルネン、テトラシクロドデセン、シクロペンタジエン、ジシクロペンタジエン等の内部二重結合を含む脂肪族環状オレフィン；インデン等の芳香環を含有する環状オレフィン；ブタジエン、イソプレン、エチリデンノルボルネン、ビニルノルボルネン等の鎖状または環状のポリエン等が挙げられる。
【００２４】
他のオレフィン由来の構造単位の含有量は、ポリオレフィン鎖を構成する全構成単位を１００モル％としたとき、０〜１０モル％が好ましく、０〜５モル％がより好ましい。
【００２５】
上記ポリオレフィン鎖は、下記のＧＰＣ法により求めた数平均分子量が１００以上５００，０００以下であることが好ましく、２００以上１００，０００以下がさらに好ましく、５００以上５０，０００以下がさらに好ましく、７００以上１０，０００以下がさらに好ましい。
また、上記ポリオレフィン鎖は、下記のＧＰＣ法により求めた分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．１〜３．０の範囲にあることが好ましい。
【００２６】
ＧＰＣ測定法：
ＧＰＣ測定は、温度１４０℃、オルトジクロロベンゼンを溶媒として使用して測定し、ポリエチレン換算値として分析値（重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｎ）およびＭｗ／Ｍｎ）を得ることができる。
【００２７】
測定は以下の条件で行うことができる。また、分子量は、市販の単分散標準ポリスチレンを用いて検量線を作成し、下記の換算法に基づいて求めることができる。
装置：ゲル浸透クロマトグラフＡｌｌｉａｎｃｅＧＰＣ２０００型（Ｗａｔｅｒｓ社製）
溶剤：ｏ−ジクロロベンゼン
カラム：ＴＳＫｇｅｌカラム（東ソー社製）×４
流速：１．０ｍｌ／分
試料：０．１５ｍｇ／ｍＬｏ−ジクロロベンゼン溶液
温度：１４０℃
分子量換算：ＰＳ換算／汎用較正法
なお、汎用較正の計算には、以下に示すＭａｒｋ−Ｈｏｕｗｉｎｋ粘度式の係数を用いることができる。
ポリスチレン（ＰＳ）の係数：ＫＰＳ＝１．３８×１０−４，ａＰＳ＝０．７０
ポリエチレン（ＰＥ）の係数：ＫＰＥ＝５．０６×１０−４，ａＰＥ＝０．７０
【００２８】
上記Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＲにおいて、炭素数１〜２０、このましくは炭素数１〜１０の炭化水素基としては、アルキル基、アリールアルキル基、アルケニル基、アリール基が挙げられる。
【００２９】
アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、オクチル基、デシル基、オクタデシル基等の直鎖状または分岐状アルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基等のシクロアルキル基等が挙げられる。
アリールアルキル基としては、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等が挙げられる。
アルケニル基としては、ビニル基、プロペニル基、シクロヘキセニル基等が挙げられる。
アリール基としては、フェニル基、トリル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【００３０】
上記式（１）において、ｍは１〜１０，０００の整数である。ｍは５以上が好ましく、１０以上がより好ましい。また、ｍは１，０００以下が好ましく、３００以下がより好ましく、５０以下がより好ましい。
【００３１】
上記Ａ１、Ａ２、単数または複数のＡ３は、全てがポリオレフィン鎖であってもよいし、一部の基がポリオレフィン鎖でその他は炭素数１〜２０の炭化水素基であってもよい。
【００３２】
上記式（１）において、ｍが２以上であり、Ａ３のうちの少なくとも１つが他のＡ３と異なる場合、複数種の下記ユニットが存在するが、その並ぶ順序に特に制限はなく、ブロック的であってもランダム的であってもよい。
【００３３】
【化２】
2018095799.tif 000003
【００３４】
上記式（１）としては、下記（１Ａ）、（１Ｂ）または（１Ｃ）で表される構造体が好ましく、その中でも（１Ａ）がより好ましい。
【００３５】
（１Ａ）上記式（１）において、Ａ１およびＡ２がポリオレフィン鎖であり、Ａ３が炭素数１〜２０の炭化水素基である、構造体。
（１Ｂ）上記式（１）において、Ａ１、Ａ２の一方がポリオレフィン鎖であり、他方が炭素数１〜２０の炭化水素基であり、Ａ３が炭素数１〜２０の炭化水素基である、構造体。
（１Ｃ）上記式（１）において、Ａ１およびＡ２が炭素数１〜２０の炭化水素基であり、Ａ３のうち少なくとも１つがポリオレフィン鎖である、構造体。
【００３６】
本実施形態に係るシリル化ポリオレフィンにおいて、シリコーン鎖／ポリオレフィン鎖（重量比）は特に限定されるものではないが、例えば、好ましくは５／９５〜９９／１であり、より好ましくは１０／９０〜９５／５である。
【００３７】
本実施形態に係るシリル化ポリオレフィンの製造方法は特に限定されるものではないが、例えば、ＷＯ２０１２／０９８８６５号公報の段落００８９〜０１４５や段落０１９６〜０２０７等に記載された方法により製造することができる。
【００３８】
（樹脂組成物）
樹脂組成物は、熱可塑性樹脂およびシリル化ポリオレフィンを含む。
熱可塑性樹脂およびシリル化ポリオレフィンの合計を１００重量％としたとき、シリル化ポリオレフィンの含有量が０．１〜９０重量％であることが好ましく、０．１〜５０重量％がより好ましく、０．３〜３０重量％が特に好ましい。熱可塑性樹脂の含有量は、１０〜９９．９重量％であることが好ましく、５０〜９９．９重量％がより好ましく、７０〜９９．７重量％が特に好ましい。なお、成形体は、熱可塑性樹脂およびシリル化ポリオレフィンを上記の量で含んでなる。
熱可塑性樹脂およびシリル化ポリオレフィンが上記の量で含まれることにより、撥水性により優れる。
【００３９】
該樹脂組成物は熱可塑性樹脂およびシリル化ポリオレフィンのみにより構成されていてもよいが、所望により、本発明の目的を損なわない範囲で、さらに他の樹脂や添加剤等を含むことができる。添加剤としては、例えば、可塑剤、紫外線安定化剤、着色防止剤、艶消し剤、消臭剤、難燃剤、耐候剤、帯電防止剤、糸摩擦低減剤、スリップ剤、離型剤、抗酸化剤、イオン交換剤、および着色顔料等を添加することができる。これら添加剤は、樹脂組成物全体に対して、好ましくは１〜２０質量％、好ましくは１〜１０質量％の範囲で添加される。
【００４０】
各成分は、公知の方法、例えば単軸や二軸の押出機、ニーダー、ヘンシェルミキサー、バンバリーミキサー、タンブラーミキサー等を用いて溶融混練することができ、必要に応じてペレット化して使用することもできる。
また、シリル化ポリオレフィンの濃度が高いマスターバッチを調整し、マスターバッチを熱可塑性樹脂で希釈して使用してもよい。
【００４１】
（微細凹凸構造）
本実施形態の成形体表面の微細凹凸構造は、本発明の効果の観点から、ピッチが２０ｎｍ〜１０００ｎｍであり、好ましくは３０ｎｍ〜７００ｎｍであり、より好ましくは５０ｎｍ〜４００ｎｍである。
【００４２】
また微細凹凸構造の高さは、本発明の効果の観点から、５０ｎｍ〜１００００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは５０ｎｍ〜１０００ｎｍであり、より好ましくは１００ｎｍ〜５００ｎｍである。
アスペクト比（高さ／ピッチ）は例えば１０〜０．１とすることができ、５〜０．５であることが好ましい。
【００４３】
微細凹凸構造としてはピラーパターン、ホールパターン、モスアイ構造、ハニカム構造、格子パターン、ライン／スペースパターン、その他のパターンを挙げることができるが、これらに限定されるものではなく、所望のパターンを採用することができる。
【００４４】
凸部の形状としては、円錐状、角錐状、楕円錐状、円柱状、円筒状、角柱状、角筒状、錐台、半球、半楕円体、おわん型等を例示できるがこれらに限定されるものではなく、所望の形状を採用できる。
【００４５】
本実施形態の表面に微細凹凸構造を有する成形体は、モールドに形成された微細凹凸の転写パターンを、熱可塑性樹脂とシリル化ポリオレフィンを含む樹脂組成物に転写するナノインプリント方法を用いて製造することができる。
ナノインプリント方法としては、以下の方法１〜３が例示される。
【００４６】
方法１：前記樹脂組成物から形成される成形体（例：フィルム等）の表面をモールドの微細凹凸パターンを有する面で押圧する方法。
【００４７】
より具体的には、成形体にガラス転移温度以上に加熱したモールドを圧着させる方法、成形体をガラス転移温度以上に加熱してモールドを圧着させる方法、または成形体とモールドをガラス転移温度以上に加熱してモールドを圧着させる方法が挙げられる。
【００４８】
モールドを圧着させる際の加熱温度はガラス転移温度以上分解温度未満の温度であり、好ましくは（ガラス転移温度＋５℃）〜（ガラス転移温度＋３０℃）である。結晶性樹脂の場合、加熱温度は融点以上分解温度未満の温度であり、好ましくは融点＋５℃〜融点＋３０℃である。また圧着圧力は０．１ＭＰａ〜５０ＭＰａが好ましく、より好ましくは０．２ＭＰａ〜２０ＭＰａである。圧着時間は１０〜６００秒間保持した後、冷却してパターンを転写させた成形体とモールドとを分離する。分離時の温度は、ガラス転移温度以下の温度で行うことが好ましく、さらに（ガラス転移温度−３０℃）以下の温度で行うことが好ましい。結晶性樹脂の場合、分離時の温度は融点以下の温度で行うことが好ましく、融点−３０℃以下の温度で行うことが好ましい。
【００４９】
方法２：前記樹脂組成物を加熱溶融し、加熱溶融した樹脂組成物をモールドの微細凹凸パターンを有する面上に押出して加圧成形する方法。
【００５０】
樹脂組成物を加熱溶融する温度は、好ましくは１００〜４００℃、より好ましくは１２０〜３５０℃、さらに好ましくは１５０〜３００℃である。
モールドは、加熱装置や冷却装置等の温度調節装置を備えてなることが好ましい。賦型版の温度は、好ましくは５０〜３００℃、より好ましくは６０〜２７０℃、さらに好ましくは７０〜２５０℃である。
【００５１】
モールドとしては、ロール状や平板状のモールドを用いることができる。
１例として、Ｔダイから押出しされた加熱溶融した前記樹組成物を、表面が微細凹凸加工されたチルロールとニップロールとの間を通過させたときに加圧することにより、フィルムを成形することができる。この実施形態では、チルロールがロール状のモールドとして用いられる。
他の例として、前記樹脂組成物からなる樹脂ペレットを、表面に凹凸構造を有する平板状のモールドで、加熱しながら加圧することで、フィルムを成形することもできる。
【００５２】
方法３：前記樹脂組成物を含む溶液ないし分散液をモールドの微細凹凸パターンを有する面に接触した後に乾燥させる方法。
前記樹脂組成物を溶解あるいは分散可能な媒体に溶解させて溶液または分散液を調整する。溶液または分散液中の樹脂組成物の濃度に特に制限はない。
溶液または分散液はモールドに塗布してもよいし、基盤等に塗布した後、モールドを接触させてもよい。
【００５３】
塗布する方法としては、例えば、スピンコート法、ディッピング法、スプレーコート法、ディスペンス法、インクジェット法、ロールｔｏロール法、グラビア法、ダイコート法、バーコート法、カーテンコート法などが挙げられる。
乾燥温度、時間は媒体の沸点、揮発性等を考慮して適宜設定することができる。
【００５４】
（成形体）
本実施形態の成形体としては、表面に前記した微細凹凸構造を有する限りどのような形状でも構わないが、フィルムまたはシートであることが好ましい。
【００５５】
本実施形態の成形体は、前記樹脂組成物を、押出成形法、射出成形法、溶融流涎法、インフレーション成形法、圧縮成形法、トランスファー成形法、注型成形法等の公知の方法により成形することができる。
【００５６】
また本実施形態の成形体は積層体であってもよい。
積層体の製造方法としては、例えば、
１）前記樹脂組成物から形成された微細凹凸構造を有する層と、他の層とを、表面が微細凹凸構造となるように貼り合わせる方法、
２）共押出成形や貼り合わせ等の公知の方法により、前記樹脂組成物からなる層と他の層との積層体を得たのち、前記樹脂組成物からなる層の表面に微細凹凸を転写する方法、
等を挙げることができる。
【００５７】
他の層は１層であっても２層以上でもよい。また他の層を構成する材料も樹脂、金属、紙、布等の種々の材料を用途に応じて適宜選択できる。
本実施形態の成形体は撥水性に優れるとともに、外観に優れている。さらに、成形体の透明性が改善される場合もある。
【００５８】
例えばポリオレフィンとシリル化ポリオレフィンを含む樹脂組成物から形成されるフィルムの表面では、結晶やランダムな凹凸などによる光の乱反射で外部ヘイズが生じるが、微細凹凸形状（好ましくはモスアイ構造；好ましくは４００ｎｍ以下のピッチ）によりこれを解消して透明性を改良することができる。得られた成形体の全光線透過率は特に限定されるものではないが、透明性が要求される用途に使用する場合は、例えば９０％以上とすることができる。
【００５９】
（用途）
本実施形態の成形体の用途としては、例えば以下が例示されるが、これらに限定されるものではない。
【００６０】
撥水フィルム、撥油フィルム、包装材料；主に携帯電話、スマートフォン、タブレット、タッチパネル、太陽電池、ＬＥＤなど向けの反射防止フィルム、保護フィルム、反射型偏光フィルム；太陽電池向け光取り込みフィルム；有機ＥＬパネルの光取出しフィルム；導光板；抗菌シート；細胞培養向け材料；ウィルス検知センサー材料；ＬＥＤの高輝度化；反透明マイクロミラー
【実施例】
【００６１】
以下、実施例・比較例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例等に限定されるものではない。
【００６２】
［合成例１］
国際公開第２０１２／０９８８６５号の合成例２に記載の方法に準じて片末端ビニル基含有エチレン系重合体（Ｐ−１）を合成した。この片末端ビニル基含有エチレン系重合体（Ｐ−１）（単体）の物性は以下の通りであった。
融点（Ｔｍ）１２７℃（ＤＳＣ）
Ｍｗ＝４８００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．３（ＧＰＣ）
末端不飽和率  ９７％
【００６３】
［合成例２］
３００ｍｌの２ツ口フラスコに、［合成例１］で得た片末端ビニル基含有エチレン系重合体（Ｐ−１）２５．１ｇ（１１．８ｍｍｏｌ）を装入し、窒素雰囲気下、下記構造のヒドロシランＡ（Ｇｅｌｅｓｔ，Ｉｎｃ．製、ＤＭＳ−Ｈ１１）６．２ｇ（５．９ｍｍｏｌ；Ｓｉ−Ｈ基として１１．８ｍｍｏｌ相当）と、国際公開第２０１２／０９８８６５号の合成例３に準じて調製した白金触媒組成物（Ｃ−１）をヒドロシランＡで２００倍希釈したもの１５０μｌ（Ｐｔ換算で１．４×１０−６ｍｍｏｌ）を装入した。予め内温１３０℃に昇温しておいた油浴中に、上記反応器をセットし、撹拌した。油浴中にて６時間撹拌した後に冷却し、メタノール約２００ｍｌを加え、３００ｍｌビーカーに内容物を取り出し２時間攪拌した。その後、固体をろ取し乾燥させることにより、式（１）において、Ａ１，Ａ２がエチレン単独重合体鎖であり、Ａ３がメチル基であり、Ｒがメチル基であり、ｍが１２〜１３である白色固体のシリル化ポリオレフィン３３．５ｇを得た。ＮＭＲ解析の結果、得られたシリル化ポリオレフィンは収率９９％、オレフィン転化率１００％、異性化率１％であった。ＧＰＣで分析した数平均分子量は５，０００であった。
ヒドロシランＡ：ＨＳｉ（ＣＨ３）２Ｏ−（−Ｓｉ（ＣＨ３）２−Ｏ−）ｎ−Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｈ（ｎ＝１２〜１３）
【００６４】
［実施例１］
（２層フィルムの作成）
低密度ポリエチレン（三井デュポンポリケミカル社製、ミラソン１２Ｐ）９０質量部と合成例２で得られたシリル化ポリオレフィン１０質量部を東芝機械社製ＴＥＭ−２６ＳＳ２軸押出機（Ｌ／Ｄ＝６０）にてシリンダー温度２００℃で溶融混合し、樹脂組成物（Ｃ１）を得た。サーモ・プラスティックス工業社製３種３層フィルム成形装置を用いてＴダイ温度２００℃で、片側表層５μｍに得られた樹脂組成物（Ｃ１）層、基材層４５μｍに低密度ポリエチレン（三井デュポンポリケミカル社製、ミラソン１２Ｐ）層フィルムを有する２層フィルムを成形した。厚みは５０μｍであった。
【００６５】
この２層フィルムと純水の接触角を、接触角測定機（協和界面科学株式会社製、固体表面エナジー解析装置ＣＡ−ＸＥ型）を用いて測定したところ、１０１°であった。
また、この２層フィルムの全光線透過率およびヘイズを東京電色社製のヘイズメータＴＣ−ＨIIIＤＰＫを用いて測定したところ、全光線透過率が８９．６％であり、ヘイズが１７．７％であった。
【００６６】
（ナノインプリント）
熱圧着法によるナノインプリントは、東レエンジニアリング社製、小型熱インプリント装置を使用した。
前記２層フィルムを１４０℃に加熱し、モールドの微細凹凸パターン面をＣ１層に接触させ、５ＭＰａで熱圧着して３０秒間保持した。４０℃に冷却後、フィルムをモールドから取出し、Ｃ１層に微細凹凸が転写された厚さ５０μｍのフィルムを得た。なお上記モールドとしては、表面に平均高さが２５０ｎｍ、ピッチが２５０ｎｍのモスアイ構造を有するものを使用した。得られた凹凸転写フィルムは外観が良好で、パターンの転写性も良好であった。ＳＥＭ画像を図１に示す。
また、凹凸転写フィルムの純水の接触角を、接触角測定機（協和界面科学株式会社製、固体表面エナジー解析装置ＣＡ−ＸＥ型）を用いて測定したところ１２４°であった。
また、凹凸転写フィルムの全光線透過率およびヘイズを東京電色社製のヘイズメータＴＣ−ＨIIIＤＰＫを用いて測定したところ、全光線透過率が９２．９％であり、ヘイズが２．７％であった。
【００６７】
［比較例１］
シリル化ポリオレフィンを用いなかった以外は実施例１と同様にして凹凸転写フィルムを得た。得られた凹凸転写フィルムはモールドから取り出す際に伸びてしまい、外観が不良であった。ＳＥＭ画像を図１に示す。
また、得られた凹凸転写フィルムは成形不良で表面が均一でなく、水接触角のバラツキが大きかった。
【００６８】
［実施例２］
（２層フィルムの作成）
ポリプロピレン（プライムポリマー社製ポリプロピレン、Ｆ３００ＳＰ）９０質量部と合成例２で得られたシリル化ポリオレフィン１０質量部を東芝機械社製ＴＥＭ−２６ＳＳ２軸押出機（Ｌ／Ｄ＝６０）にてシリンダー温度２３０℃で溶融混合し、樹脂組成物（Ｃ２）を得た。サーモ・プラスティックス工業社製３種３層フィルム成形装置を用いてＴダイ温度２３０℃で、片側表層５μｍに得られた樹脂組成物（Ｃ２）層、基材層４５μｍにポリプロピレン（プライムポリマー社製ポリプロピレン、Ｆ３００ＳＰ）層フィルムを有する２層フィルムを成形した。厚みは５０μｍである。
この２層プレスフィルムと純水の接触角を実施例１と同様に測定したところ、１０３°であった。
【００６９】
（ナノインプリント）
熱圧着法によるナノインプリントは、東レエンジニアリング社製、小型熱インプリント装置を使用した。前記２層フィルムを１８０℃に加熱し、モールドの微細凹凸パターン面をＣ２層に接触させ、５ＭＰａで熱圧着しそのまま３０秒間保持した。４０℃に冷却後、フィルムをモールドから取出し、Ｃ２層に微細凹凸が転写された厚さ５０μｍのフィルムを得た。なお上記モールドとしては、表面に平均高さが２５０ｎｍ、ピッチが２５０ｎｍのモスアイ構造を有するものを使用した。得られた凹凸転写フィルムは外観が良好で、パターンの転写性も良好であった。ＳＥＭ画像を図１に示す。
また、凹凸転写フィルムと純水の接触角を実施例１と同様に測定したところ、１３０°であった。また、凹凸転写フィルムの全光線透過率を実施例１と同様に測定したところ、９３．０％であった。
【００７０】
［比較例２］
シリル化ポリオレフィンを用いなかった以外は実施例２と同様にして凹凸転写フィルムを得た。得られた凹凸転写フィルムは微細凹凸の転写にムラがあり、全体的に転写が不十分であった。ＳＥＭ画像を図１に示す。
また、得られた凹凸転写フィルムは成形不良で表面が均一でなく、水接触角のバラツキが大きかった。
【図１】
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