(57)【要約】【課題】帯電電位の変化を抑制した電子写真感光体の提供。【解決手段】導電性基体と、導電性基体上に設けられ、結着樹脂、及び電荷輸送材料を含む電荷輸送層と、電荷輸送層上に設けられ、電荷発生材料と、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、及び−ＣＯＯＨから選択される置換基の少なくとも２つを持つ反応性電荷輸送材料とを含む組成物の硬化物で構成された電荷発生・電荷輸送層と、を有し、電荷発生・電荷輸送層を最表面層とする正帯電型の電子写真感光体。【選択図】図１
2018136463.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられ、結着樹脂、及び電荷輸送材料を含む電荷輸送層と、
前記電荷輸送層上に設けられ、電荷発生材料と、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、及び−ＣＯＯＨから選択される置換基の少なくとも２つを持つ反応性電荷輸送材料とを含む組成物の硬化物で構成された電荷発生・電荷輸送層と、
を有し、
前記電荷発生・電荷輸送層を最表面層とする正帯電型の電子写真感光体。
【請求項２】
前記反応性電荷輸送材料が、下記一般式（Ｉ）で示される化合物である請求項１に記載の電子写真感光体。
一般式(Ｉ)：  Ｆ−((−Ｒ１−Ｏ)ｎ１Ｒ２−Ｙ)ｎ２
（一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基又は単結合を示す。ｎ１は０又は１を示し、ｎ２は２以上４以下の整数を示す。Ｏは酸素を示し、Ｙはそれぞれ独立に、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、又は−ＣＯＯＨを示す。）
【請求項３】
前記一般式（Ｉ）で示される化合物が、下記一般式（ＩＩ）で示される化合物である請求項２に記載の電子写真感光体。
【化１】
2018136463.tif 000037
（一般式（ＩＩ）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Ｄは−（−Ｒ１−Ｏ）ｎ１Ｒ２−Ｙを示し、ｃはそれぞれ独立に０又は１を示し、ｋは０又は１を示し、Ｄの総数は２以上４以下である。また、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を示し、ｎ１は０又は１を示し、Ｏは酸素を示し、Ｙは−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、又は−ＣＯＯＨを示す。
【請求項４】
電荷発生・電荷輸送層が、前記電荷発生材料と、前記反応性電荷輸送材料と、前記反応性電荷輸送材料以外の硬化性化合物と、を含む組成物の硬化物で構成されている請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項５】
前記硬化性化合物が、フェノール樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、及びウレタン樹脂から選択される少なくとも１種である請求項４に記載の電子写真感光体。
【請求項６】
前記電荷発生・電荷輸送層が、前記電荷発生材料と、前記反応性電荷輸送材料として反応性正孔輸送材料と、電子輸送材料と、を含む組成物の硬化物で構成されている請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項７】
前記組成物の固形分に対する前記電荷発生材料の含有量が０．５質量％以上１０質量％以下であり、
前記組成物の固形分に対する前記反応性正孔輸送材料の含有量が５質量％以上９０質量％以下であり、
前記組成物の固形分に対する前記電子輸送材料の含有量が５質量％以上３０質量％以下である請求項６に記載の電子写真感光体。
【請求項８】
電荷発生・電荷輸送層の厚さが、１μｍ以上３．０μｍ未満である請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項９】
請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【請求項１０】
請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、「導電性支持体上に、電荷輸送層と、膜厚が３〜７μｍで、電荷発生物質、電荷輸送物質、及び酸化防止剤を含む電荷発生層とをこの順に有する電子写真感光体」が開示されている。また、特許文献１には、例えば、電子写真感光体の電荷発生層として、ジブロモアンスアンスロン、スチルベン、及びメチレンビス（ブチルメチルフェノール）を含む電荷発生層が開示されている。
【０００３】
特許文献２には、「導電性基体上に、結着剤樹脂、及び電荷輸送物質を含む電荷輸送層と、結着剤樹脂、正孔輸送物質、及び無機導電性粉末を含む電荷発生・輸送層と、をこの順に有する電子写真感光体」が開示されている。
【０００４】
特許文献３には、「導電性基体上に、ヒドラゾン化合物を含む電荷輸送層と、ピラゾロン染料及びインジゴイド染料の少なくとも１種を含む電荷発生層と。をこの順に有する電子写真感光体」が開示されている。
【０００５】
特許文献４〜５には、「導電性基体上に、バインダー樹脂としてポリアリレート樹脂。及び正孔輸送材料を含有する電荷輸送層と、バインダー樹脂としてポリカーボネート樹脂、電荷発生材料、正孔輸送材料、及び電子輸送材料を含有する電荷発生・輸送層と、をこの順に有する電子写真感光体」が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特公平０５−０３３７９２号公報
【特許文献２】特開平０１−０３５４５０号公報
【特許文献３】特開昭６２−２３１２６２号公報
【特許文献４】特開２０１４−１４６００１号公報
【特許文献５】特開２０１４−１４９３６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ここで、導電性基体上に電荷輸送層及び電荷発生・電荷輸送層をこの順に有する電子写真感光体は、表面からの電荷注入や表層の磨耗によって、電荷発生・電荷輸送層の帯電電位が変化しやすく、十分満足のいくものではない。
この摩耗を抑制するため、保護層を設けることも考えられるが、電子輸送性を必要とする正帯電型の電子写真感光体には、負帯電型の電子写真感光体で用いていた正孔輸送性の保護層は用いることができなかった。
【０００８】
そこで、本発明の課題は、導電性基体上に電荷輸送層及び電荷発生・電荷輸送層をこの順に有する電子写真感光体において、電荷発生・電荷輸送層が、電荷輸送材料として、正孔輸送材料（ＨＴ−２）及び電子輸送材料（ＩＶ−１）のみを含む場合に比べ、帯電電位の変化を抑制した正帯電型の電子写真感光体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題は、以下の手段により解決される。
【００１０】
請求項１に係る発明は、
導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられ、結着樹脂、及び電荷輸送材料を含む電荷輸送層と、
前記電荷輸送層上に設けられ、電荷発生材料と、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、及び−ＣＯＯＨから選択される置換基の少なくとも２つを持つ反応性電荷輸送材料とを含む組成物の硬化物で構成された電荷発生・電荷輸送層と、
を有し、
前記電荷発生・電荷輸送層を最表面層とする正帯電型の電子写真感光体。
【００１１】
請求項２に係る発明は、
前記反応性電荷輸送材料が、下記一般式（Ｉ）で示される化合物である請求項１に記載の電子写真感光体。
一般式(Ｉ)：  Ｆ−((−Ｒ１−Ｏ)ｎ１Ｒ２−Ｙ)ｎ２
（一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基又は単結合を示す。ｎ１は０又は１を示し、ｎ２は２以上４以下の整数を示す。Ｏは酸素を示し、Ｙはそれぞれ独立に、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、又は−ＣＯＯＨを示す。）
【００１２】
請求項３に係る発明は、
前記一般式（Ｉ）で示される化合物が、下記一般式（ＩＩ）で示される化合物である請求項２に記載の電子写真感光体。
【００１３】
【化１】
2018136463.tif 000003
（一般式（ＩＩ）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Ｄは−（−Ｒ１−Ｏ）ｎ１Ｒ２−Ｙを示し、ｃはそれぞれ独立に０又は１を示し、ｋは０又は１を示し、Ｄの総数は２以上４以下である。また、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を示し、ｎ１は０又は１を示し、Ｏは酸素を示し、Ｙは−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、又は−ＣＯＯＨを示す。
【００１４】
請求項４に係る発明は、
電荷発生・電荷輸送層が、前記電荷発生材料と、前記反応性電荷輸送材料と、前記反応性電荷輸送材料以外の硬化性化合物と、を含む組成物の硬化物で構成されている請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【００１５】
請求項５に係る発明は、
前記硬化性化合物が、フェノール樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、及びウレタン樹脂から選択される少なくとも１種である請求項４に記載の電子写真感光体。
【００１６】
請求項６に係る発明は、
前記電荷発生・電荷輸送層が、前記電荷発生材料と、前記反応性電荷輸送材料として反応性正孔輸送材料と、電子輸送材料と、を含む組成物の硬化物で構成されている請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【００１７】
請求項７に係る発明は、
前記組成物の固形分に対する前記電荷発生材料の含有量が０．５質量％以上１０質量％以下であり、
前記組成物の固形分に対する前記反応性正孔輸送材料の含有量が５質量％以上９０質量％以下であり、
前記組成物の固形分に対する前記電子輸送材料の含有量が５質量％以上３０質量％以下である請求項６に記載の電子写真感光体。
【００１８】
請求項８に係る発明は、
電荷発生・電荷輸送層の厚さが、１μｍ以上３．０μｍ未満である請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【００１９】
請求項９に係る発明は、
請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【００２０】
請求項１０に係る発明は、
請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の効果】
【００２１】
請求項１、２、又は３に係る発明によれば、導電性基体上に電荷輸送層及び電荷発生・電荷輸送層をこの順に有する電子写真感光体において、電荷発生・電荷輸送層が、電荷輸送材料として、正孔輸送材料（ＨＴ−２）及び電子輸送材料（ＩＶ−１）のみを含む場合に比べ、帯電電位の変化を抑制した電子写真感光体が提供される。
請求項４、又は５に係る発明によれば、電荷発生・電荷輸送層が、反応性電荷輸送材料以外の硬化性化合物を含まない組成物の硬化物で構成されている場合に比べ、電荷発生・電荷輸送層の耐傷性が向上した電子写真感光体が提供される。
請求項６、又は７に係る発明によれば、導電性基体上に電荷輸送層及び電荷発生・電荷輸送層をこの順に有する電子写真感光体において、電荷発生・電荷輸送層が、電荷輸送材料として、正孔輸送材料（ＨＴ−２）及び電子輸送材料（ＩＶ−１）のみを含む場合に比べ、帯電電位の変化を抑制した電子写真感光体が提供される。
請求項８に係る発明によれば、電荷発生・電荷輸送層の厚さが３．０μｍ以上の場合に比べ、前画像の履歴が残る残像現象（以下「ゴースト」とも称する）の発生が抑制された電子写真感光体が提供される。
請求項９、又は１０に係る発明によれば、導電性基体上に電荷輸送層及び電荷発生・電荷輸送層をこの順に有する電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジ又は画像形成装置において、電荷発生・電荷輸送層が、電荷輸送材料として、正孔輸送材料（ＨＴ−２）及び電子輸送材料（ＩＶ−１）のみを含む場合に比べ、画質の維持性に優れた電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジ又は画像形成装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。
【図２】本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
【図３】本実施形態に係る画像形成装置の他の例を示す概略構成図である。
【図４】（Ａ）〜（Ｃ）はそれぞれゴースト評価の基準を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明の一例である実施形態について説明する。
【００２４】
＜電子写真感光体＞
本実施形態に係る正帯電型の電子写真感光体（以下、「感光体」と称することがある）は、導電性基体と、導電性基体上に設けられた電荷輸送層と、電荷輸送層上に設けられた電荷発生・電荷輸送層と、を有する。
電荷輸送層は、結着樹脂、及び電荷輸送材料を含む。一方、電荷発生・電荷輸送層は、電荷発生材料と、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、及び−ＣＯＯＨから選択される置換基の少なくとも２つを持つ反応性電荷輸送材料（以下、単に「多官能型電荷輸送材料」とも称する）とを含む組成物の硬化物で構成されている。
そして、本実施形態に係る感光体は、電荷発生・電荷輸送層を最表面層とする。
なお、多官能型電荷輸送材料が「−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、及び−ＣＯＯＨから選択される置換基の少なくとも２つを持つ」とは、同じ種の置換基を２つ以上持つこと、異なる種の置換基を２つ以上もつことの双方を意味する。
【００２５】
ここで、正帯電で動作する正帯電型の感光体の正帯電プロセスに使用される正帯電性の放電（例えばコロナ放電）は、負帯電で動作する負帯電型の感光体の負帯電プロセスに使用される負帯電の放電に比べ、安定であり、発生オゾン量も少ない。そのため、感光体及び使用環境の影響が少なく、正帯電で動作する正帯電型の感光体が、負帯電で動作する負帯電型の感光体に比べ、有利である。
【００２６】
正帯電型の感光体としては、単層型感光体、積層型感光体のいずれも知られている。
単層型感光体は、電荷発生材料、正孔輸送材料、及び電子輸送材材料を同一層中に含有させるため、各材料間の影響が大きく、感度が低い傾向がある。
一方、積層型感光体は、導電性基体上に電荷輸送層及び電荷発生・電荷輸送層をこの順で有する構成を有するため、単層型感光体に比べ、感度が高い傾向がある。
【００２７】
しかし、正帯電型の積層型感光体は、電荷を発生する電荷発生・電荷輸送層を最表面層とするため、電荷発生・電荷輸送層が磨耗すると、電気特性への影響が大きくなり、帯電電位の変化が生じる。その結果、画質の維持性が低下する。
【００２８】
それに対して、本実施形態に係る感光体は、電荷発生材料と多官能型電荷輸送材料とを含む組成物の硬化物で、電荷発生・電荷輸送層を構成する。この硬化物で構成された電荷発生・電荷輸送層は、耐磨耗性が高く、磨耗が進行し難くなる。
【００２９】
そのため、本実施形態に係る感光体は、帯電電位の変化が抑制される。そして、画質の維持性にも優れる。
【００３０】
また、本実施形態に係る感光体において、電荷発生材料と多官能型電荷輸送材料とを併用すると、電荷発生材料の分散性も高まる。そのため、色点の発生も抑制される。
また、電荷発生材料と多官能型電荷輸送材料とを含む組成物の硬化物（つまり電荷発生・電荷輸送層）は、下層を溶解し難い塗布液の溶剤（例えばアルコール系溶剤等）を選択できるため、下層の電荷輸送層に対して明確な界面を形成しつつ形成できる。そのため、上層の電荷発生・電荷輸送層の成分が下層の電荷輸送層に拡散すること、及び下層の電荷輸送層の成分が上層の電荷発生・電荷輸送層に拡散することが抑えられる。その結果、互いの層の成分の拡散による電気特性の低下も抑制される。
【００３１】
以下、図面を参照しつつ、本実施形態に係る電子写真感光体を詳細に説明する。
図１は、本実施形態に係る電子写真感光体７の一部の断面を概略的に示している。
図１に示した電子写真感光体７は、例えば、導電性基体１を備え、導電性基体１上に、下引層２、電荷輸送層３、及び電荷発生・電荷輸送層４がこの順で設けられている。
ここで、下引層２は、必要に応じて設けられる層である。また、必要に応じてその他の層を設けてもよい。
【００３２】
以下、本実施形態に係る電子写真感光体の各層について詳細に説明する。なお、符号は省略して説明する。
【００３３】
（導電性基体）
導電性基体としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物（例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等）、金属（例えばアルミニウム、パラジウム、金等）又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
【００３４】
導電性基体の表面は、電子写真感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化されていることが好ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。
【００３５】
粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて導電性基体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。
【００３６】
粗面化の方法としては、導電性基体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。
【００３７】
陽極酸化による粗面化処理は、金属製（例えばアルミニウム製）の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。
【００３８】
陽極酸化膜の膜厚は、例えば、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。
【００３９】
導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。
【００４０】
ベーマイト処理は、例えば９０℃以上１００℃以下の純水中に５分から６０分間浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分から６０分間接触させて行う。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【００４１】
（下引層）
下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。
【００４２】
無機粒子としては、例えば、粉体抵抗（体積抵抗率）１０２Ωｃｍ以上１０１１Ωｃｍ以下の無機粒子が挙げられる。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
【００４３】
無機粒子のＢＥＴ法による比表面積は、例えば、１０ｍ２／ｇ以上がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。
【００４４】
無機粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。
【００４５】
無機粒子は、表面処理が施されていてもよい。無機粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを２種以上混合して用いてもよい。
【００４６】
表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤がより好ましい。
【００４７】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４８】
シランカップリング剤は、２種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４９】
表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。
【００５０】
表面処理剤の処理量は、例えば、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が好ましい。
【００５１】
ここで、下引層は、無機粒子と共に電子受容性化合物（アクセプター化合物）を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。
【００５２】
電子受容性化合物としては、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物；２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物；キサントン系化合物；チオフェン化合物；３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物；等の電子輸送性物質等が挙げられる。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。
【００５３】
電子受容性化合物は、下引層中に無機粒子と共に分散して含まれていてもよいし、無機粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。
【００５４】
電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着させる方法としては、例えば、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。
【００５５】
乾式法は、例えば、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。
【００５６】
湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、無機粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤除去して、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に無機粒子の含有水分を除去してもよく、その例として溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。
【００５７】
なお、電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を無機粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。
【００５８】
電子受容性化合物の含有量は、例えば、無機粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下がよく、好ましくは０．０１質量％以上１０質量％以下である。
【００５９】
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物；ジルコニウムキレート化合物；チタニウムキレート化合物；アルミニウムキレート化合物；チタニウムアルコキシド化合物；有機チタニウム化合物；シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。
【００６０】
これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂；ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
【００６１】
下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
【００６２】
添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００６３】
ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００６４】
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００６５】
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【００６６】
これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【００６７】
下引層は、ビッカース硬度が３５以上であることがよい。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／（４ｎ）（ｎは上層の屈折率）から１／２までに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
【００６８】
下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。
【００６９】
下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
【００７０】
下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。
【００７１】
下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【００７２】
下引層の膜厚は、例えば、好ましくは０．５μｍ以上、より好ましくは１μｍ以上５０μｍ以下の範囲内に設定される。
【００７３】
（中間層）
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【００７４】
これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。
【００７５】
中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【００７６】
中間層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲に設定される。なお、中間層を下引層として使用してもよい。
【００７７】
（電荷輸送層）
電荷輸送層は、結着樹脂と、電荷輸送材料と、を含む。具体的には、電荷輸送層は、結着樹脂と、電荷輸送材料として正孔輸送材料と、を含むことがよい。また、目的とする電気特性を得るために、電荷輸送層は、電荷輸送材料として正孔輸送材料に加え、電子輸送材料を含んでもよい。
【００７８】
−結着樹脂−
結着樹脂としては、特に制限はないが、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂等が挙げられる。結着樹脂は、単独又は２種以上混合して用いてもよい。
【００７９】
また、電荷輸送材料として高分子電荷輸送材料も挙げられる。高分子電荷輸送材料としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の公知の高分子電荷輸送材料が挙げられる。特に、高分子電荷輸送材料としては、特開平８−１７６２９３号公報、特開平８−２０８８２０号公報等に開示されているポリエステル系高分子電荷輸送材料が好ましい。このポリエステル系高分子電荷輸送材料は、他種に比べ高い電荷輸送性を有しているためである。高分子電荷輸送材は単独使用でも成膜可能であるが、他の結着樹脂と併用してもよい。
【００８０】
これらの結着樹脂の中でも、感光層の機械的強度等の観点から、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂等が好ましい。
また、感光層の成膜性の観点から、結着樹脂として、例えば、粘度平均分子量３００００以上８００００以下のポリカーボネート樹脂、及び粘度平均分子量３００００以上８００００以下のポリアリレート樹脂の少なくとも１種を用いることがよい。
【００８１】
なお、粘度平均分子量の測定は、以下の方法で行われる。具体的には、樹脂１ｇをメチレンクロライド１００ｃｍ３に溶解し、２５℃の測定環境下でウベローデ粘度計により、その比粘度ηｓｐを測定する。そして、ηｓｐ／ｃ＝〔η〕＋０．４５〔η〕２ｃの関係式（ただし、ｃは濃度（ｇ／ｃｍ３））より極限粘度〔η〕（ｃｍ３／ｇ）を求める。さらに、Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌによって与えられている式、〔η〕＝１．２３×１０−４Ｍｖ０．８３の関係式より粘度平均分子量Ｍｖを求める。このように、粘度平均分子量の測定には、例えば一点測定法が用いられる。
【００８２】
電荷輸送層の全固形分に対する結着樹脂の含有量は、例えば、３５質量％以上６０質量％以下、好ましくは４０質量％以上５５質量％以下である。
なお、結着樹脂と電荷輸送材料との配合比は質量比で１０：１から１：５までが好ましい。
【００８３】
−正孔輸送材料−
正孔輸送材料としては、特に制限はないが、例えば、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体；１，３，５−トリフェニル−ピラゾリン、１−［ピリジル−（２）］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導体；トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−４−アミン、トリ（ｐ−メチルフェニル）アミニル−４−アミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第３級アミノ化合物；Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ′−ジフェニルベンジジン等の芳香族第３級ジアミノ化合物、３−（４′−ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−（４′−メトキシフェニル）−１，２，４−トリアジン等の１，２，４−トリアジン誘導体；４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体；２−フェニル−４−スチリル−キナゾリン等のキナゾリン誘導体；６−ヒドロキシ−２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体；ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導体；エナミン誘導体；Ｎ−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体；ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール及びその誘導体等；上記した化合物で構成される基を主鎖又は側鎖に有する重合体；などが挙げられる。これらの正孔輸送材料は、１種又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００８４】
正孔輸送材料の具体例としては、例えば、下記一般式（Ｂ−１）で示される化合物、下記一般式（Ｂ−２）で示される化合物、下記一般式（Ｂ−３）で示される化合物等が挙げられる。さらに、下記一般式（ＩＩＩ）で示される化合物も挙げられる。
【００８５】
【化２】
2018136463.tif 000004
【００８６】
一般式（Ｂ−１）中、ＲＢ１は、水素原子またはメチル基を示す。ｎ１１は１または２を示す。ＡｒＢ１およびＡｒＢ２は各々独立に置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（ＲＢ３）＝Ｃ（ＲＢ４）（ＲＢ５）、または−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ６）（ＲＢ７）を示し、ＲＢ３乃至ＲＢ７はそれぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。置換基としてはハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、または炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基を示す。
【００８７】
【化３】
2018136463.tif 000005
【００８８】
一般式（Ｂ−２）中、ＲＢ８およびＲＢ８’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、を示す。ＲＢ９、ＲＢ９’、ＲＢ１０、およびＲＢ１０’は同一でも異なってもよく、各々独立にハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（ＲＢ１１）＝Ｃ（ＲＢ１２）（ＲＢ１３）、または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ１４）（ＲＢ１５）を示し、ＲＢ１１乃至ＲＢ１５は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。ｍ１２、ｍ１３、ｎ１２およびｎ１３は各々独立に０以上２以下の整数を示す。
【００８９】
【化４】
2018136463.tif 000006
【００９０】
一般式（Ｂ−３）中、ＲＢ１６およびＲＢ１６’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、を示す。ＲＢ１７、ＲＢ１７’、ＲＢ１８、およびＲＢ１８’は同一でも異なってもよく、各々独立にハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（ＲＢ１９）＝Ｃ（ＲＢ２０）（ＲＢ２１）、または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ２２）（ＲＢ２３）を示し、ＲＢ１９乃至ＲＢ２３は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。ｍ１４、ｍ１５、ｎ１４およびｎ１５は各々独立に０以上２以下の整数を示す。
【００９１】
ここで、一般式（Ｂ−１）で示される化合物、一般式（Ｂ−２）で示される化合物、及び一般式（Ｂ−３）で示される化合物のうち、特に、「−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ６）（ＲＢ７）」を有する一般式（Ｂ−１）で示される化合物、及び「−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ１４）（ＲＢ１５）」を有する一般式（Ｂ−２）で示される化合物が好ましい。
【００９２】
【化５】
2018136463.tif 000007
【００９３】
一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５、及びＲ３６は、各々独立に、水素原子、低級アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子、又は、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン原子から選ばれる置換基を有していてもよいフェニル基を示す。ｍ及びｎは、各々独立に、０又は１を示す。
【００９４】
一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ３１〜Ｒ３６が示す低級アルキル基としては、例えば、直鎖状又は分岐状で、炭素数１以上４以下のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。
これらの中でも、低級アルキル基としては、メチル基、エチル基が好ましい。
【００９５】
一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ３１〜Ｒ３６が示すアルコキシ基としては、例えば、炭素数１以上４以下のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
【００９６】
一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ３１〜Ｒ３６が示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【００９７】
一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ３１〜Ｒ３６が示すフェニル基としては、例えば、未置換のフェニル基；ｐ−トリル基、２，４−ジメチルフェニル基等の低級アルキル基置換のフェニル基；ｐ−メトキシフェニル基等の低級アルコキシ基置換のフェニル基；ｐ−クロロフェニル基等のハロゲン原子置換のフェニル基等が挙げられる。
なお、フェニル基に置換し得る置換基としては、例えば、Ｒ３１〜Ｒ３６が示す低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子が挙げられる。
【００９８】
一般式（ＩＩＩ）の正孔輸送材料の中でも、高感度化の観点から、ｍ及びｎが１を示す正孔輸送材料がよく、Ｒ３１〜Ｒ３６が各々独立に、水素原子、炭素数１以上４以下の低級アルキル基、又はアルコキシ基を示し、ｍ及びｎが１を示す正孔輸送材料が好ましい。
【００９９】
以下、正孔輸送材料の具体例として、下記構造式（ＨＴ−１）〜（ＨＴ−１２）を挙げるが、正孔輸送材料は、これらに限られるものではない。
【０１００】
【化６】
2018136463.tif 000008
【０１０１】
【化７】
2018136463.tif 000009
【０１０２】
【化８】
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【０１０３】
【化９】
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【０１０４】
【化１０】
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【０１０５】
電荷輸送層の全固形分に対する正孔輸送材料の含有量は、１０質量％以上６０質量％以下がよく、好ましくは２０質量％以上４０質量％以下である。
【０１０６】
−電子輸送材料−
電子輸送材料としては、例えば、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物；ジナフトキノン化合物；ジフェノキノン化合物；キサントン系化合物；ベンゾフェノン系化合物；シアノビニル系化合物；エチレン系化合物等の電子輸送性化合物が挙げられる。これらの電子輸送材料は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられるが、これらに限定されるものではない。
【０１０７】
これらの中でも、電子輸送材料としては、下記一般式（ＩＶ）で示されるフルオレノン化合物、及び下記一般式（Ｖ）で示されるジフェノキノン化合物から選択される少なくとも１種を用いることが好ましい。
【０１０８】
【化１１】
2018136463.tif 000013
【０１０９】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、及びＲ４７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。Ｒ４８は、アルキル基、−Ｌ１１１−Ｏ−Ｒ１１２、アリール基、又はアラルキル基を示す。ただし、Ｌ１１１はアルキレン基を示し、Ｒ１１２はアルキル基を示す。
【０１１０】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、及びＲ４７が示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。これらの中でもフッ素原子、又は塩素原子が好ましく、塩素原子がさらに好ましい。
【０１１１】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、及びＲ４７が示すアルキル基としては、例えば、直鎖状、又は分岐状で、炭素数１以上２０以下のアルキル基が挙げられる。直鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。
分岐状のアルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ−ノニル基、ｔｅｒｔ−ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ−デシル基、ｔｅｒｔ−デシル基等が挙げられる。これらの中でも、アルキル基の炭素数は、１以上４以下がより好ましく、１以上３以下がさらに好ましい。
【０１１２】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、及びＲ４７が示すアルコキシ基としては、例えば、炭素数１以上４以下（好ましくは１以上３以下）のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
【０１１３】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、及びＲ４７が示すアリール基は、置換基を有していてもよく、置換基を有していなくてもよく、例えば、置換又は未置換のフェニル基が挙げられる。アリール基が有する置換基としては、例えば、炭素数１以上１０以下のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。アリール基の具体例としては、例えば、フェニル基、メチルフェニル基（トリル基）、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基等が挙げられる。
【０１１４】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、及びＲ４７が示すアラルキル基としては、−Ｒ１１３−Ａｒ１１４で示される基が挙げられる。但し、Ｒ１１３は、アルキレン基を示し、Ａｒ１１４は、アリール基を示す。
【０１１５】
Ｒ１１３が示すアルキレン基としては、例えば直鎖状又は分岐状の炭素数１以上１２以下のアルキレン基が挙げられ、具体的には、例えば、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ｎ−ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ−ペンチレン基等が挙げられる。Ｒ１１３が示すアルキレン基の炭素数は、相溶性や溶解性の観点で、１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。
Ａｒ１１４が示すアリール基は、一般式（ＩＶ）中、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、及びＲ４７が示すアリール基と同様のものが挙げられ、アリール基が有する置換基についても同様である。
【０１１６】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、及びＲ４７が示すアラルキル基の具体例としては、例えば、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、フェニルエチル基、メチルフェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基等が挙げられる。
【０１１７】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ４８が示すアルキル基としては、例えば、炭素数１以上１２以下の直鎖状のアルキル基、炭素数３以上１０以下の分岐状のアルキル基、及び炭素数３以上８以下の環状のアルキル基が挙げられる。
直鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。
分岐状のアルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ−ノニル基、ｔｅｒｔ−ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ−デシル基、ｔｅｒｔ−デシル基等が挙げられる。
環状のアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロへプチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。
【０１１８】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ４８が示す−Ｌ１１１−Ｏ−Ｒ１１２で示される基は、Ｌ１１１がアルキレン基を示し、Ｒ１１２は、アルキル基を示す。
Ｌ１１１が示すアルキレン基としては、直鎖状又は分岐状の炭素数１以上１２以下のアルキレン基が挙げられ、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ｎ−ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ−ペンチレン基等が挙げられる。
Ｒ１１２が示すアルキル基としては、上記Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、及びＲ４７が示すアルキル基と同様の基が挙げられる。
【０１１９】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ４８が示すアリール基は、置換基を有していてもよく、置換基を有していなくてもよく、例えば、置換又は未置換のフェニル基が挙げられる。アリール基が有する置換基としては、例えば、炭素数１以上１０以下のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
なお、アリール基がさらにアルキル基又はアルコキシ基で置換されていることが、溶解性の観点で好ましい。アリール基に置換されるアルキル基又はアルコキシ基としては、上記のＲ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、及びＲ４７が示すアルキル基又はアルコキシ基と同様の基が挙げられる。例えば、アルキル基又はアルコキシ基で置換されたアリール基としては、メチルフェニル基（トリル基）、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル等）、メトキシフェニル基（ｐ−メトキシフェニル基等）、エトキシフェニル基等が挙げられる。
【０１２０】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ４８が示すアラルキル基としては、−Ｒ１１５−Ａｒ１１６で示される基が挙げられる。但し、Ｒ１１５は、アルキレン基を示す、Ａｒ１１６、アリール基を示す。
Ｒ１１５が示すアルキレン基としては、直鎖状又は分岐状の炭素数１以上１２以下のアルキレン基が挙げられ、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ｎ−ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ−ペンチレン基等が挙げられる。
Ａｒ１１６が示すアリール基としては、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基等が挙げられる。
【０１２１】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ４８が示すアラルキル基として具体的には、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、フェニルエチル基、メチルフェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基等が挙げられる。
【０１２２】
一般式（ＩＶ）で示される電子輸送材料としては、高感度化の観点から、Ｒ４８が炭素数５以上１０以下の分岐状のアルキル基又はアラルキル基を示す電子輸送材料が好ましく、特に、Ｒ４１〜Ｒ４７が各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を示し、かつ、Ｒ４８が炭素数５以上１０以下の分岐状のアルキル基又はアラルキル基を示す電子輸送材料が好ましい。
【０１２３】
以下、一般式（ＩＶ）で示される電子輸送材料の例示化合物を示すが、これに限定されるわけではない。なお、以下の例示化合物番号は、例示化合物（ＩＶ−番号）と以下表記する。具体的には、例えば、例示化合物１５は、「例示化合物（ＩＶ−１５）」と以下表記する。
【０１２４】
【化１２】
2018136463.tif 000014
【０１２５】
【化１３】
2018136463.tif 000015
【０１２６】
上記例示化合物中の略記号は、以下の意味を示す。「ｎ−Ｂｕ」はｎ−ブチル基を、「ｔ−Ｂｕ」はｔｅｒｔ−ブチル基を、「ｎ−Ｘｅｘ」はｎ−ヘキシル基を、「ｎ−Ｏｃｔ」はｎ−オクチル基を、「Ｃｌ」は塩素原子を、「Ｍｅ」はメチル基を、「ＭｅＯ」はメトキシ基を、「Ｐｈ」はフェニル基を、それぞれ表す。また、「＊」は結合部を表す。
【０１２７】
【化１４】
2018136463.tif 000016
【０１２８】
一般式（Ｖ）中、Ｒ５１、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４は、各々独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。
【０１２９】
一般式（Ｖ）中、Ｒ５１、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４が示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。これらの中でもフッ素原子、又は塩素原子が好ましく、塩素原子がさらに好ましい。
【０１３０】
一般式（Ｖ）中、Ｒ５１、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４が示すアルキル基としては、例えば、直鎖状、又は分岐状で、炭素数１以上２０以下のアルキル基が挙げられる。
直鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。
分岐状のアルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ−ノニル基、ｔｅｒｔ−ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ−デシル基、ｔｅｒｔ−デシル基等が挙げられる。これらの中でも、アルキル基の炭素数は、１以上５以下がより好ましく、１以上４以下がさらに好ましい。
【０１３１】
一般式（Ｖ）中、Ｒ５１、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４が示すアルコキシ基としては、例えば、炭素数１以上４以下（好ましくは１以上３以下）のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
【０１３２】
以下、一般式（Ｖ）で示される電子輸送材料の例示化合物を示すが、これに限定されるわけではない。
【０１３３】
【化１５】
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【０１３４】
電子輸送材料の具体例としては、一般式（ＩＶ）で示される電子輸送材料及び一般式（Ｖ）で示される電子輸送材料のほかに、その他の電子輸送材料として、例えば、下記構造式（ＥＴ−Ａ）〜（ＥＴ−Ｅ）で示される化合物も挙げられる。その他の電子輸送材料は、一般式（ＩＶ）及び一般式（Ｖ）で示される電子輸送材料の少なくとも１種と併用して用いてもよい。
【０１３５】
【化１６】
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【０１３６】
電荷輸送層の全固形分に対する電子輸送材料の含有量は、０質量％以上３０質量％以下が好ましく、５質量％以上２０質量％以下がより好ましい。
【０１３７】
−その他の添加剤−
電荷輸送層には、その他、周知の添加剤を含んでもよい。
【０１３８】
電荷輸送層には、例えば、界面活性剤を含むことが好ましい。
界面活性剤としては、フッ素原子、アルキレンオキサイド構造、シリコーン構造のうち少なくとも一種類以上の構造を含む界面活性剤であれば、特に制限はない。しかし、上記構造を複数有する界面活性剤が、電荷輸送材料との親和性・相溶性が高く、電荷輸送層形成用塗布液の成膜性が向上し、電荷輸送層のシワ、ムラが抑制されるため、好適である。
【０１３９】
フッ素原子を有する界面活性剤としては、様々なものが挙げられる。
フッ素原子およびアクリル構造を有する界面活性剤として具体的は、ポリフローＫＬ６００（共栄社化学社製）、エフトップＥＦ−３５１、ＥＦ−３５２、ＥＦ−８０１、ＥＦ−８０２、ＥＦ−６０１（以上、ＪＥＭＣＯ社製）、ＧＦ３００、ＧＦ４００（東亞合成製）などが挙げられる。アクリル構造を有する界面活性剤としては、アクリルもしくはメタクリル化合物などのモノマーを重合もしくは共重合したものが主に挙げられる。
【０１４０】
フッ素原子として、パーフルオロアルキル基を持つ界面活性剤として具体的には、パーフルオロアルキルスルホン酸類（例えば、パーフルオロブタンスルホン酸、パーフルオロオクタンスルホン酸など）、パーフルオロアルキルカルボン酸類（例えば、パーフルオロブタンカルボン酸、パーフルオロオクタンカルボン酸など）、パーフルオロアルキル基含有リン酸エステルが好適に挙げられる。パーフルオロアルキルスルホン酸類、及びパーフルオロアルキルカルボン酸類は、その塩及びそのアミド変性体であってもよい。
パーフルオロアルキルスルホン酸類の市販品としては、例えばメガファックＦ−１１４（ＤＩＣ社製）、エフトップＥＦ−１０１、ＥＦ１０２、ＥＦ−１０３、ＥＦ−１０４、ＥＦ−１０５、ＥＦ−１１２、ＥＦ−１２１、ＥＦ−１２２Ａ、ＥＦ−１２２Ｂ、ＥＦ−１２２Ｃ、ＥＦ−１２３Ａ（以上、ＪＥＭＣＯ社製）、Ａ−Ｋ、５０１（以上、ネオス社製）などが挙げられる。
パーフルオロアルキルカルボン酸類の市販品としては、例えばメガファックＦ−４１０（ＤＩＣ社製）、エフトップ  ＥＦ−２０１、ＥＦ−２０４（以上、ＪＥＭＣＯ社製）などが挙げられる。
パーフルオロアルキル基含有リン酸エステルの市販品としては、メガファックＦ−４９３、Ｆ−４９４（以上、ＤＩＣ社製）エフトップ  ＥＦ−１２３Ａ、ＥＦ−１２３Ｂ、ＥＦ−１２５Ｍ、ＥＦ−１３２、（以上、ＪＥＭＣＯ社製）などが挙げられる。
【０１４１】
アルキレンオキサイド構造を持つ界面活性剤としては、ポリエチレングリコール、ポリエーテル消泡剤、ポリエーテル変性シリコーンオイルなどが挙げられる。
ポリエチレングリコールとしては、数平均分子量が２０００以下のものが好ましい。数平均分子量が２０００以下のポリエチレングリコールとしては、ポリエチレングリコール２０００（数平均分子量２０００）、ポリエチレングリコール６００（数平均分子量６００）、ポリエチレングリコール４００（数平均分子量４００）、ポリエチレングリコール２００（数平均分子量２００）等が挙げられる。
ポリエーテル消泡剤としては、ＰＥ−Ｍ、ＰＥ−Ｌ（以上、和光純薬工業社製）、消泡剤Ｎｏ．１、消泡剤Ｎｏ．５（以上、花王社製）等が挙げられる。
【０１４２】
シリコーン構造を有する界面活性剤としては、ジメチルシリコーン、メチルフェニルシリコーン、ジフェニルシリコーン、それらの誘導体のような一般的なシリコーンオイルが挙げられる。
【０１４３】
さらに、フッ素原子、アルキレンオキサイド構造の両方を有する界面活性剤としてはアルキレンオキサイド構造、もしくはポリアルキレン構造を側鎖に有するものや、アルキレンオキサイドもしくはポリアルキレンオキサイド構造の末端がフッ素を含む置換基で置換されたものなどが挙げられる。アルキレンオキサイド構造を有する界面活性剤として、具体的には、例えば、メガファックＦ−４４３、Ｆ−４４４、Ｆ−４４５、Ｆ−４４６（以上、ＤＩＣ社製）、ＰＯＬＹ  ＦＯＸ  ＰＦ６３６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ６５６（以上、北村化学社製）などが挙げられる。
【０１４４】
アルキレンオキサイド構造、シリコーン構造の両方を有する界面活性剤としてはＫＦ３５１（Ａ）、ＫＦ３５２（Ａ）、ＫＦ３５３（Ａ）、ＫＦ３５４（Ａ）、ＫＦ３５５（Ａ）、ＫＦ６１５（Ａ）、ＫＦ６１８、ＫＦ９４５（Ａ）、ＫＦ６００４（以上、信越化学工業社製）、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４５０、ＴＳＦ４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４５３、ＴＳＦ４４６０（以上、ＧＥ東芝シリコン社製）、ＢＹＫ−３００、３０２、３０６、３０７、３１０、３１５、３２０、３２２、３２３、３２５、３３０、３３１、３３３、３３７、３４１、３４４、３４５、３４６、３４７、３４８、３７０、３７５、３７７，３７８、ＵＶ３５００、ＵＶ３５１０、ＵＶ３５７０等（以上、ビックケミー・ジャパン株式会社社製）が挙げられる。
【０１４５】
電荷輸送層の全固形分に対する界面活性剤の含有量は、０．０１質量％以上１質量％以下が好ましく、０．０２質量％以上０．５質量％以下がより好ましい。
界面活性剤の含有量を０．０１質量％以上とすることでシワ・ムラが抑制などの塗膜欠陥防止効果がより大きくなる傾向にある。
【０１４６】
−電荷輸送層の形成−
電荷輸送層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
【０１４７】
電荷輸送層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、２−ブタノン等のケトン類；塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類；テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状又は直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
【０１４８】
電荷輸送層の膜厚は、例えば、好ましく５μｍ以上５０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上３０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１４９】
（電荷発生・電荷輸送層）
電荷発生・電荷輸送層は、電荷発生材料と、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、及び−ＣＯＯＨから選択される置換基の少なくとも２つを持つ反応性電荷輸送材料（多官能型電荷輸送材料）とを含む組成物の硬化物で構成されている。つまり、電荷発生・電荷輸送層は、電荷発生材料と、多官能型電荷輸送材料の重合体又は架橋物と、を含む。
【０１５０】
電荷発生・電荷輸送層は、電荷発生材料と、反応性電荷輸送材料と、反応性電荷輸送材料以外の硬化性化合物と、を含む組成物の硬化物で構成されていてもよい。この構成の場合、電荷発生・電荷輸送層は、電荷発生材料と、多官能型電荷輸送材料及び硬化性の化合物の重合体又は架橋物と、を含む。
電荷発生・電荷輸送層は、硬化性の化合物を使用することで、架橋密度が上がり、電荷発生・電荷輸送層の耐傷性が高まる。また、塗布液（組成物）の製膜性も高まる。
【０１５１】
特に、電荷発生・電荷輸送層は、電荷発生材料と、多官能型電荷輸送材料として反応性正孔輸送材料と、電子輸送材料と、を含む組成物の硬化物で構成されていることが好ましい。この構成により、感度が高まる。なお、この組成物に、さらに硬化性の化合物を含むと、高感度化と共に、電荷発生・電荷輸送層の耐傷性が高まる。
【０１５２】
−電荷発生材料−
電荷発生材料としては、特に制限はないが、例えば、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料；ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；ペリレン顔料；ピロロピロール顔料；フタロシアニン顔料；酸化亜鉛；三方晶系セレン等が挙げられる。
【０１５３】
これらの中でも、近赤外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、金属フタロシアニン顔料、又は無金属フタロシアニン顔料を用いることがよい。具体的には、例えば、特開平５−２６３００７号公報、特開平５−２７９５９１号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン；特開平５−９８１８１号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン；特開平５−１４０４７２号公報、特開平５−１４０４７３号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン；特開平４−１８９８７３号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンが挙げられる。
【０１５４】
一方、近紫外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；チオインジゴ系顔料；ポルフィラジン化合物；酸化亜鉛；三方晶系セレンを用いることがよい。
【０１５５】
すなわち、電荷発生材料としては、例えば３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の露光波長の光源を用いる場合には、無機顔料を用いることがよく、７００ｎｍ以上８００ｎｍ以下の露光波長の光源を用いる場合には、金属及び無金属フタロシアニン顔料を用いることがよい。
【０１５６】
中でも、電荷発生材料としては、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種を用いることが好ましい。これらの電荷発生材料としては、単独又は２種以上混合して用いてもよい。感光体の高感度化の点から、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がよい。
【０１５７】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料としては、特に制限はないが、Ｖ型のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がよい。
特に、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料としては、例えば、６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて、８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がより優れた分散性が得られる観点から好ましい。電子写真感光体の材料として用いた場合に、優れた分散性と、十分な感度、帯電性及び暗減衰特性とが得られ易くなる。
【０１５８】
また、上記の８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が特定の範囲であり、且つ、ＢＥＴ比表面積が特定の範囲であることが好ましい。具体的には、平均粒径が０．２０μｍ以下であることが好ましく、０．０１μｍ以上０．１５μｍ以下であることがより好ましい。一方、ＢＥＴ比表面積は４５ｍ２／ｇ以上であることが好ましく、５０ｍ２／ｇ以上であることがより好ましく、５５ｍ２／ｇ以上１２０ｍ２／ｇ以下であることがさらに好ましい。平均粒径は、体積平均粒径（ｄ５０平均粒径）でレーザ回折散乱式粒度分布測定装置（ＬＡ−７００、堀場製作所社製）にて測定した値である。また、ＢＥＴ比表面積は、ＢＥＴ式比表面積測定器（島津製作所製：フローソープＩＩ２３００）を用い窒素置換法にて測定した値である。
ここで、平均粒径が０．２０μｍより大きい場合、又は比表面積が４５ｍ２／ｇ未満である場合は、顔料粒子が粗大化しているか、又は顔料粒子の凝集体が形成される場合がある。そして、分散性や、感度、帯電性及び暗減衰特性といった特性に欠陥が生じやすい場合があり、それにより画質欠陥が生じ易くなることがある。
【０１５９】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の最大粒径（一次粒子径の最大値）は、１．２μｍ以下であることが好ましく、１．０μｍ以下であることがより好ましく、より好ましくは０．３μｍ以下である。かかる最大粒径が上記範囲を超えると、色点が発生しやすい傾向にある。
【０１６０】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、感光体が蛍光灯などに暴露されたことに起因する濃度ムラを抑制する観点から、平均粒径が０．２μｍ以下、最大粒径が１．２μｍ以下であり、且つ、比表面積値が４５ｍ２／ｇ以上であることが好ましい。
【０１６１】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３°、１６．０°、２４．９゜、２８．０°に回折ピークを有するＶ型であることが好ましい。
【０１６２】
一方、クロロガリウムフタロシアニン顔料としては、特に制限はないが、電子写真感光体材料として優れた感度が得られる、ブラッグ角度（２θ±０．２°）７．４°、１６．６°、２５．５°、及び２８．３°に回折ピークを有するものであることが好ましい。
クロロガリウムフタロシアニン顔料の好適な分光吸収スペクトルの最大ピーク波長、平均粒径、最大粒径、及び比表面積値は、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料と同様である。
【０１６３】
感光層の全固形分に対する電荷発生材料の含有量は、１質量％以上５質量％以下がよく、１．２質量％以上４．５質量％以下であることが好ましい。
【０１６４】
−多官能型電荷輸送材料−
多官能型電荷輸送材料は、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、及び−ＣＯＯＨからなる群から選ばれる少なくとも２つの置換基を持つ電荷輸送材料である。多官能型電荷輸送材料は、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、及び−ＣＯＯＨからなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基を持つ単官能型電荷輸送材料を併用してもよい。
【０１６５】
多官能型電荷輸送材料は、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、及び−ＣＯＯＨから選択される置換基（反応性官能基）を少なくとも３つ以上持つものが好適に挙げられる。多官能型電荷輸送材料は置換基が増加することで、硬化（架橋）密度が上昇する。そのため、電荷発生・電荷輸送層形成用塗布液を電荷輸送層上に塗布するときにおいて、塗布液中の有機溶剤によって発生する電荷輸送層の溶解、膨潤等がより抑制され易くなる。また、電荷発生・電荷輸送層の耐傷性も向上する。
【０１６６】
多官能型電荷輸送材料としては、下記一般式（Ｉ）で示される化合物であることが好ましい。
(Ｉ)  Ｆ−((−Ｒ１−Ｏ)ｎ１Ｒ２−Ｙ)ｎ２
【０１６７】
一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基又は単結合を示す。ｎ１は０又は１を示し、ｎ２は２以上４以下の整数を示す。Ｏは酸素を示し、Ｙはそれぞれ独立に−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、又は−ＣＯＯＨを示す。
【０１６８】
一般式（Ｉ）中、Ｆを示す正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基における正孔輸送能を有する化合物としては、アリールアミン誘導体が好適に挙げられる。アリールアミン誘導体としては、トリフェニルアミン誘導体、テトラフェニルベンジジン誘導体が好適に挙げられる。
【０１６９】
そして、一般式（Ｉ）で示される化合物は、下記一般式（ＩＩ）で示される化合物であることが好ましい。一般式（ＩＩ）で示される化合物は、特に、電荷移動度、酸化などに対する安定性等に優れる。
【０１７０】
【化１７】
2018136463.tif 000019
【０１７１】
一般式（ＩＩ）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Ｄは−（−Ｒ１−Ｏ）ｎ１Ｒ２−Ｙを示し、ｃはそれぞれ独立に０又は１を示し、ｋは０又は１を示し、Ｄの総数は２以上４以下である。また、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を示し、ｎ１は０又は１を示し、Ｏは酸素を示し、Ｙは−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、又は−ＣＯＯＨを示す。
【０１７２】
一般式（ＩＩ）中、Ｄを示す「−(−Ｒ１−Ｏ)ｎ１Ｒ２−Ｙ」は、一般式（Ｉ）と同様であり、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基である。また、ｎ１として好ましくは、１である。また、Ｙとして好ましくは水酸基である。
なお、一般式（ＩＩ）におけるＤの総数は、一般式（Ｉ）におけるｎ２に相当し、好ましくは、２以上４以下であり、さらに好ましくは３以上４以下である。つまり、一般式（Ｉ）および一般式（ＩＩ）において、Ｄの総数は、好ましくは一分子中に２以上４以下、さらに好ましくは３以上４以下とすると、硬化（架橋）密度が上がり、電荷輸送層上に電荷発生・電荷輸送層形成用塗布液を塗布するときにおいて、塗布液中の有機溶剤によって発生する電荷輸送層の溶解、膨潤等がより抑制され易くなる。また、電荷発生・電荷輸送層の耐傷性も向上する。
【０１７３】
一般式（ＩＩ）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４としては、下記式（１）乃至（７）のうちのいずれかであることが好ましい。なお、下記式（１）乃至（７）は、各Ａｒ１乃至Ａｒ４に連結され得る「−（Ｄ）Ｃ」と共に示す。
【０１７４】
【化１８】
2018136463.tif 000020
【０１７５】
式（１）乃至（７）中、Ｒ９は水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルキル基もしくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基からなる群より選ばれる１種を表す。Ｒ１０乃至Ｒ１２はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表す。Ａｒは置換又は未置換のアリーレン基を表す。Ｄ及びｃは一般式（ＩＩ）における「Ｄ」、「ｃ」と同様であり、ｓはそれぞれ０又は１を表し、ｔは１以上３以下の整数を表す。
【０１７６】
ここで、式（７）中のＡｒとしては、下記式（８）又は（９）で表されるものが好ましい。
【化１９】
2018136463.tif 000021
【０１７７】
式（８）、（９）中、Ｒ１３及びＲ１４は、それぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表す。ｔは１以上３以下の整数を表す。
【０１７８】
また、式（７）中のＺ’としては、下記式（１０）乃至（１７）のうちのいずれかで表されるものが好ましい。
【０１７９】
【化２０】
2018136463.tif 000022
【０１８０】
式（１０）乃至（１７）中、Ｒ１５及びＲ１６はそれぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基もしくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表す。Ｗは２価の基を表し、ｑ及びｒはそれぞれ１以上１０以下の整数を表す。ｔはそれぞれ１以上３以下の整数を表す。
【０１８１】
上記式（１６）乃至（１７）中のＷとしては、下記（１８）乃至（２６）で表される２価の基のうちのいずれかであることが好ましい。但し、式（２５）中、ｕは０以上３以下の整数を表す。
【０１８２】
【化２１】
2018136463.tif 000023
【０１８３】
また、一般式（ＩＩ）中、Ａｒ５は、ｋが０のときはＡｒ１乃至Ａｒ４の説明で例示された上記（１）乃至（７）のアリール基であり、ｋが１のときはかかる上記（１）乃至（７）のアリール基から水素原子を除いたアリーレン基である。
【０１８４】
一般式（Ｉ）で示される化合物の具体例としては、以下に示す例示化合物（Ｉ−１）乃至例示化合物（Ｉ−３４）が挙げられる。ただし、上記一般式（Ｉ）で示される化合物は、これらにより何ら限定されるものではない。
なお、一般式（Ｉ）において、ｎ２が１を示す化合物も例示している。
【０１８５】
【化２２】
2018136463.tif 000024
【０１８６】
【化２３】
2018136463.tif 000025
【０１８７】
【化２４】
2018136463.tif 000026
【０１８８】
【化２５】
2018136463.tif 000027
【０１８９】
【化２６】
2018136463.tif 000028
【０１９０】
【化２７】
2018136463.tif 000029
【０１９１】
【化２８】
2018136463.tif 000030
【０１９２】
【化２９】
2018136463.tif 000031
【０１９３】
電荷発生・電荷輸送層形成用塗布液（組成物）の固形分に対する多官能型電荷輸送材料の含有量は、特に制限しないが、１０質量％以上であることが好ましい。上限値としては９８質量％以下であることが好ましい。より好ましくは３０質量％以上９５質量％以下である。多官能型電荷輸送材料は、単独で用いてもよく、２種以上混合して用いてもよい。多官能型電荷輸送材料を２種以上混合して用いる場合の含有量は、多官能型電荷輸送材料の合計量である。
【０１９４】
−硬化性化合物−
硬化性化合物としては、多官能型電荷輸送材料と反応可能な化合物であれば、特に限定されないが、例えば、フェノール化合物（フェノール骨格を有する化合物）、メラミン化合物（メラミン骨格を有する化合物）、グアナミン化合物（グアナミン骨格を有する化合物）、イソシアネート化合物（イソシアネート骨格を有する化合物）からなる群から選ばれる少なくとも一つの化合物を用いることがよい。
多官能型電荷輸送材料と硬化性化合物とは質量比で９９：１乃至１：９９の範囲が好ましく、より好ましくは９９：１乃至５０：５０が好ましい。
【０１９５】
フェノール化合物としては、フェノール、クレゾール、キシレノール、パラアルキルフェノール、パラフェニルフェノールなどの水酸基を１個含む置換フェノール類；カテコール、レゾルシノール、ヒドロキノンなどの水酸基を２個含む置換フェノール類；ビスフェノールＡ、ビスフェノールＺなどのビスフェノール類；ビフェノール類；などのフェノール構造を有する化合物と、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド等のアルデヒド類とを、酸またはアルカリ触媒下で反応させる化合物が挙げられる。そして、反応により得られたモノメチロールフェノール類、ジメチロールフェノール類、トリメチロールフェノール類の単量体、多量体（分子の構造単位の繰り返しが２以上２０以下）、２種以上の単量体の混合物、２種以上の多量体の混合物、１種または２種以上の単量体と１種または２種以上の多量体との混合物などが使用される。
【０１９６】
メラミン化合物およびグアナミン化合物としては、メラミンとホルムアルデヒドとを用いて公知の方法（例えば、実験化学講座第４版、２８巻、４３０頁参照）、及びグアナミンとホルムアルデヒドとを用いて公知の方法（例えば、実験化学講座第４版、２８巻、４３０頁参照）で合成される化合物が挙げられる。そして、メラミン化合物およびグアナミン化合物は、メチロール基がそのままのメチロール型、メチロール基がすべてアルキルエーテル化されたフルエーテル型、メチロール基がすべてイミノ化されたフルイミノ型、メチロール基とイミノ基との混合型など種々のものが使用できる。メラミン化合物およびグアナミン化合物は、組成物の安定性の点から、フルエーテル型を用いることがよい。
【０１９７】
イソシアネート化合物としては、多官能イソシアネート、イソシアヌレート、これらをアルコール類、ケトン類等のブロック化剤（封鎖剤）で封鎖したブロック化イソシアネートなどが挙げられる。イソシアネート化合物としては、組成物の安定性の点から、ブロック化イソシアネート、又はイソシアヌレートを用いることがよい。
【０１９８】
多官能型電荷輸送材料を単独で用いる場合、フェノール化合物またはメラミン化合物もしくはグアナミン化合物と混合して用いる場合には、酸触媒を用いて硬化することがよい。一方、多官能型電荷輸送材料とイソシアネート化合物とを混合して用いる場合には、アミン触媒または金属触媒を用いることがよい。
触媒の量は、電荷発生・電荷輸送層形成用塗布液（組成物）の固形分に対し、０．０１質量％以上２０質量％以下（好ましくは０．１質量％以上１０質量％以下）の範囲で用いることがよい。硬化反応させるときの温度は、室温（例えば、２５℃）以上２００℃以下（好ましくは、１００℃以上１５０℃以下）の範囲であることがよい。
【０１９９】
酸触媒としては、例えば、酢酸、クロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸、マレイン酸、マロン酸、乳酸などの脂肪族カルボン酸類；安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸などの芳香族カルボン酸類；メタンスルホン酸、ドデシルスルホン酸などの脂肪族スルホン酸類；ベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸などの芳香族スルホン酸類が挙げられる。
【０２００】
具体的な市販品としては、キングインダストリーズ社製の「ＮＡＣＵＲＥ２５０１」（トルエンスルホン酸解離、メタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．０以上ｐＨ７．２以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２１０７」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、ｐＨ８．０以上ｐＨ９．０以下、解離温度９０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５００」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．０以上ｐＨ７．０以下、解離温度６５℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５３０」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、メタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ５．７以上ｐＨ６．５以下、解離温度６５℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５４７」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、水溶液、ｐＨ８．０以上ｐＨ９．０以下、解離温度１０７℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５５８」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、エチレン／グリコール溶媒、ｐＨ３．５以上ｐＨ４．５以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−３５７」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、メタノール溶媒、ｐＨ２．０以上ｐＨ４．０以下、解離温度６５℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−３８６」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、水溶液、ｐＨ６．１以上ｐＨ６．４以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＣ―２２１１」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、ｐＨ７．２以上ｐＨ８．５以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５２２５」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．０以上ｐＨ７．０以下、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５４１４」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、キシレン溶媒、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５５２８」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、ｐＨ７．０以上ｐＨ８．０以下、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５９２５」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、ｐＨ７．０以上ｐＨ７．５以下、解離温度１３０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ１３２３」（ジノニルナフタレンスルホン酸解離、キシレン溶媒、ｐＨ６．８以上ｐＨ７．５以下、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ１４１９」（ジノニルナフタレンスルホン酸解離、キシレン／メチルイソブチルケトン溶媒、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ１５５７」（ジノニルナフタレンスルホン酸解離、ブタノール／２−ブトキシエタノール溶媒、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸ４９−１１０」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度９０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ３５２５」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ７．０以上ｐＨ８．５以下、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−３８３」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、キシレン溶媒、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ３３２７」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ４１６７」（リン酸解離、イソプロパノール／イソブタノール溶媒、ｐＨ６．８以上ｐＨ７．３以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−２９７」（リン酸解離、水／イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度９０℃、「ＮＡＣＵＲＥ４５７５」（リン酸解離、ｐＨ７．０以上ｐＨ８．０以下、解離温度１１０℃）等が挙げられる。
【０２０１】
アミン触媒としては、例えば、１，４−ジアザビシクロ（２，２，２）オクタン、Ｎ，Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアミン、Ｎ−メチルジシクロヘキルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルプロピレンジアミン、Ｎ−エチルモルホリン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、１，８−ジアザービシクロ［５，４，０］ウンデセンー７（ＤＢＵ）およびその塩が挙げられる。
金属触媒としては、例えば、ジブチル錫ラウレート、スタナスオクトエートが挙げられる。
【０２０２】
−電子輸送材料−
電子輸送材料としては、電荷輸送層で説明した電子輸送材料が挙げられる。これらの中でも、電子輸送材料としては、一般式（ＩＶ）で示されるフルオレノン化合物、及び一般式（Ｖ）で示されるジフェノキノン化合物から選択される少なくとも１種を用いることが好ましい。
【０２０３】
ここで、電荷発生・電荷輸送層が、電荷発生材料と、多官能型電荷輸送材料として反応性正孔輸送材料と、電子輸送材料と、を含む組成物の硬化物で構成されている場合、各成分の含有量は、帯電電位の変化抑制、感度向上の観点から、次の量であることが好ましい。
電荷発生・電荷輸送層形成用塗布液（組成物）の固形分に対する電荷発生材料の含有量は０．５質量％以上１０質量％以下が好ましく、１質量％以上８質量％以下がより好ましい。
電荷発生・電荷輸送層形成用塗布液（組成物）の固形分に対する反応性正孔輸送材料の含有量は３０質量％以上９５質量％以下が好ましく、４０質量％以上９０質量％以下がより好ましい。
電荷発生・電荷輸送層形成用塗布液（組成物）の固形分に対する固形分に対する電子輸送材料の含有量は５質量％以上３０質量％以下が好ましく、１０質量％以上２０質量％以下がより好ましい。
なお、各成分の含有量の範囲は、電荷発生・電荷輸送層に対する含有量の範囲としても好ましい。ただし、反応性正孔輸送材料（多官能型電荷輸送材料）の含有量は、反応後（硬化後）の含有量である。
【０２０４】
−その他の添加剤−
電荷発生・電荷輸送層には、その他、周知の添加剤を含んでもよい。
【０２０５】
電荷輸送層には、例えば、界面活性剤を含むことが好ましい。
界面活性剤としては、フッ素原子、アルキレンオキサイド構造、シリコーン構造のうち少なくとも一種類以上の構造を含む界面活性剤であれば、特に制限はない。しかし、上記構造を複数有する界面活性剤が、電荷輸送材料との親和性・相溶性が高く、電荷発生・電荷輸送層形成用塗布液の成膜性が向上し、電荷発生・電荷輸送層のシワ、ムラが抑制されるため、好適である。
なお、界面活性剤は、電荷輸送層で説明した界面活性剤と同様であるため、説明を省略する。
【０２０６】
電荷発生・電荷輸送層の全固形分に対する界面活性剤の含有量は、０．０１質量％以上１質量％以下が好ましく、０．０２質量％以上０．５質量％以下がより好ましい。
界面活性剤の含有量を０．０１質量％以上とすることでシワ・ムラが抑制などの塗膜欠陥防止効果がより大きくなる傾向にある。
【０２０７】
電荷発生・電荷輸送層には、帯電手段で発生するオゾン等の酸化性ガスによる劣化を防止する目的で、酸化防止剤を含むことが好ましい。感光体表面の機械的強度を高め、感光体が長寿命になると、感光体が酸化性ガスに長い時間接触することになるため、酸化耐性が要求される。
【０２０８】
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系又はヒンダードアミン系が好ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。
【０２０９】
例えば、代表としてヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナマイド、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、２，４−ビス［（オクチルチオ）メチル］−ｏ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、２−ｔ−ブチル−６−（３−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）等が挙げられる。
【０２１０】
電荷発生・電荷輸送層の全固形分に対する酸化防止剤の含有量は、２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましい。
【０２１１】
電荷発生・電荷輸送層には、残留電位を下げる目的、又は強度を向上させる目的で、各種粒子を含んでもよい。
【０２１２】
粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ、シリコーン粒子等が挙げられる。
【０２１３】
ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下、好ましくは１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下のシリカを、酸性もしくはアルカリ性の水分散液、アルコール、ケトン、又はエステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれ、一般に市販されているものを使用してもよい。
【０２１４】
電荷発生・電荷輸送層の全固形分に対するコロイダルシリカの含有量は、特に限定されるものではないが、製膜性、電気特性、強度の面から、０．１質量％以上５０質量％以下が好ましく、０．１質量％以上３０質量％以下がより好ましい。
【０２１５】
ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものが使用される。これらのシリコーン粒子は球状で、その平均粒径は好ましくは１ｎｍ以上５００ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。
【０２１６】
シリコーン粒子は、化学的に不活性で、樹脂への分散性に優れる小径粒子であり、さらに十分な特性を得るために必要とされる含有量が低いため、架橋反応を阻害することなく、感光体の表面性状が改善される。すなわち、強固な架橋構造中にバラツキが生じることなく取り込まれた状態で、電子写真感光体表面の潤滑性、撥水性を向上させ、長期にわたって良好な耐磨耗性、耐汚染物付着性が維持される。
電荷発生・電荷輸送層の全固形分に対するシリコーン粒子の含有量は、０．１質量％以上３０質量％以下が好ましく、０．５質量％以上１０質量％以下がより好ましい。
【０２１７】
その他の粒子としては、フッ素含有樹脂粒子（四フッ化エチレン、三フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン等）、「第８回ポリマー材料フォーラム講演予稿集  ｐ８９」に示される如く、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂からなる粒子、半導電性金属酸化物粒子（ＺｎＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＳｎＯ２−Ｓｂ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２、ＺｎＯ２−ＴｉＯ２、ＺｎＯ−ＴｉＯ２、ＭｇＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＦｅＯ−ＴｉＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＭｇＯ等）が挙げられる。
【０２１８】
特に、フッ素含有樹脂粒子が電荷発生・電荷輸送層に含有すると、耐摩耗性が向上する。電荷発生・電荷輸送層の全固形分に対するフッ素含有樹脂粒子の含有量は、１質量％以上２０質量％以下が好ましく、３質量％以上１０質量％以下がより好ましい。
【０２１９】
電荷発生・電荷輸送層には、残留電位を下げる目的、又は強度を向上させる目的で、シリコーンオイル等のオイルを含有してもよい。
シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル；アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル；ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類；１，３，５−トリメチル−１．３．５−トリフェニルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチル−１，３，５，７，９−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類；ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類；（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類；メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類；ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等が挙げられる。
【０２２０】
−電荷発生・電荷輸送層の形成−
電荷発生・電荷輸送層は、上記成分を混合した電荷発生・電荷輸送層形成用塗布液（組成物）を用いて形成される。
【０２２１】
塗布液は、無溶媒で調製してもよいし、溶剤を使用して調製してもよい。溶剤としては、特に限定しないが、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール等のアルコール溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン溶剤；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、２-メチルテトラヒドロフラン等のエーテル溶剤：塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン溶剤；トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶媒が挙げられる。これらの中でも、溶剤としては、沸点が１５０℃以下の溶剤が好ましく、特に、少なくとも１種以上の水酸基を持つ溶剤（例えば、アルコール類等）、エーテル溶剤（例えば、テトラヒドロフラン）がより好ましい。なお、溶剤は１種を単独で使用してもよいし、２種以上を混合してもよい。
【０２２２】
塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
特に、これらの分散方法を適用すると、分散による電荷発生材料の結晶型の変化が抑制される。なお、この分散の際、電荷発生材料の平均粒径を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、より好ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。
【０２２３】
塗布液の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法、インクジェット塗布法等の通常の方法が用いられる。
【０２２４】
電荷発生・電荷輸送層の膜厚（厚さ）は、５μｍ以上５０μｍ以下が好ましく、より好ましくは１０μｍ以上３０μｍ以下の範囲内に設定される。
特に、ゴーストの発生抑制の観点から、電荷発生・電荷輸送層の膜厚（厚さ）は、１μｍ以上３．０μｍ未満が好ましく、１μｍ以上２．５μｍ以下がより好ましい。
【０２２５】
＜画像形成装置（及びプロセスカートリッジ）＞
本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。そして、電子写真感光体として、上記本実施形態に係る電子写真感光体が適用される。
【０２２６】
本実施形態に係る画像形成装置は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置；トナー像の転写後、帯電前の電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えた装置；トナー像の転写後、帯電前に像保持体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置；電子写真感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための電子写真感光体加熱部材を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。
【０２２７】
中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、像保持体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。
【０２２８】
本実施形態に係る画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式（液体現像剤を利用した現像方式）の画像形成装置のいずれであってもよい。
【０２２９】
なお、本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、電子写真感光体を備える部分が、画像形成装置に対して着脱されるカートリッジ構造（プロセスカートリッジ）であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、本実施形態に係る電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。なお、プロセスカートリッジには、電子写真感光体以外に、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを備えてもよい。
【０２３０】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。
【０２３１】
図２は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１００は、図２に示すように、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、転写装置４０（一次転写装置）と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を記録媒体（例えば用紙）に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体５０、転写装置４０（一次転写装置）、及び二次転写装置（不図示）が転写手段の一例に相当する。
【０２３２】
図２におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置８（帯電手段の一例）、現像装置１１（現像手段の一例）、及びクリーニング装置１３（クリーニング手段の一例）を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材の一例）１３１を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。なお、クリーニング部材は、クリーニングブレード１３１の態様ではなく、導電性又は絶縁性の繊維状部材であってもよく、これを単独で、又はクリーニングブレード１３１と併用してもよい。
【０２３３】
なお、図２には、画像形成装置として、潤滑材１４を電子写真感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、及び、クリーニングを補助する繊維状部材１３３（平ブラシ状）を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。
【０２３４】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。
【０２３５】
−帯電装置−
帯電装置８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
【０２３６】
−露光装置−
露光装置９としては、例えば、電子写真感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
【０２３７】
−現像装置−
現像装置１１としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１１としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
【０２３８】
現像装置１１に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、周知のものが適用される。
【０２３９】
−クリーニング装置−
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。
【０２４０】
−転写装置−
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
【０２４１】
−中間転写体−
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
【０２４２】
図３は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図３に示す画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【０２４３】
なお、本実施形態に係る画像形成装置１００は、上記構成に限られず、例えば、電子写真感光体７の周囲であって、転写装置４０よりも電子写真感光体７の回転方向下流側でクリーニング装置１３よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、残留したトナーの極性を揃え、クリーニングブラシで除去しやすくするための第１除電装置を設けた形態であってもよいし、クリーニング装置１３よりも電子写真感光体の回転方向下流側で帯電装置８よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、電子写真感光体７の表面を除電する第２除電装置を設けた形態であってもよい。
【０２４４】
また、本実施形態に係る画像形成装置１００は、上記構成に限れず、周知の構成、例えば、電子写真感光体７に形成したトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の画像形成装置を採用してもよい。
【実施例】
【０２４５】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、実施例において、特に限定のないかぎり「部」は「質量部」を意味し、「％」は「質量％」を意味する。
【０２４６】
＜電荷輸送層の形成例＞
（電荷輸送層１）
結着樹脂として共重合型ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１）（粘度平均分子量４．５万）４６質量部、正孔輸送材料（ＨＴ−２）４０質量部、電子輸送材料（ＩＶ−１）２質量部、及びシリコーンオイルＫＰ３４０（信越化学工業（株）製）０．００１質量部を、テトラヒドロフラン２５０質量部及びトルエン２０質量部からなる混合溶媒に溶解し、塗布液を得た。得られた塗布液を一晩攪拌して、電荷輸送層形成用塗布液とした。この塗布液を浸漬塗布法にてアルミニウム基材上に塗布し、１３０℃、４０分の乾燥硬化を行い厚さ２２μｍの電荷輸送層を得た。これを電荷輸送層１とする。
【０２４７】
（電荷輸送層２）
電荷輸送層１において、共重合型ポリカーボネート樹脂をポリカーボネート樹脂（ＰＣ−２）（粘度平均分子量６万）、正孔輸送材料を正孔輸送材料（ＨＴ−４）、電子輸送材料を電子輸送材料（Ｖ−２）に変更した以外は、電荷輸送層１と同様にして電荷輸送層を得た。これを電荷輸送層２とする。
【０２４８】
（電荷輸送層３）
電荷輸送層１において、共重合型ポリカーボネート樹脂を共重合型ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−３）（粘度平均分子量４万）、正孔輸送材料を正孔輸送材料（ＨＴ−１）に変え、電荷輸送材料を加えなかった以外は、電荷輸送層１と同様にして電荷輸送層を得た。これを電荷輸送層３とする。
【０２４９】
＜電荷発生・電荷輸送層の形成例＞
（電荷発生・電荷輸送層１）
正孔輸送材料（Ｉ−１６）３０質量部、及び正孔輸送材料（Ｉ−８）２５質量部を２−ブタノール２５０質量部、シクロペンタノール２０質量部の混合溶剤に溶かした。この液に、電子輸送材材料（ＩＶ−２）１５質量部、及び電荷発生材料としてＣｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜、１６．０゜、２４．９゜、２８．０゜の位置に回折ピークを有するＶ型のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料３質量部からなる混合物を加え、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて３時間分散した。得られた分散液からガラスビーズをろ別した後、ろ液にポリフローＫＬ−６００（共栄社化学製）０．００１質量、及びＮＡＣＵＲＥ５２２５（楠本化成製ブロック酸触媒）０．０５質量部を加え、電荷発生・電荷輸送層用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて電荷輸送層上に塗布し、１５０℃、４０分の乾燥硬化を行い厚さ４μｍの電荷発生・電荷輸送層１を得た。これを電荷発生・電荷輸送層１とする。
【０２５０】
（電荷発生・電荷輸送層２）
電荷発生・電荷輸送層１において、さらに、硬化性化合物としてレゾール型フェノール樹脂（ＰＬ−４８５２、群栄化学製）５質量部を加えて、電荷発生・電荷輸送層用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて電荷輸送層上に塗布し、１５０℃、４０分の乾燥硬化を行い厚さ３μｍの電荷発生・電荷輸送層を得た。これを電荷発生・電荷輸送層２とする。
【０２５１】
（電荷発生・電荷輸送層３）
電荷発生・電荷輸送層１において、さらに、硬化性化合物としてメチル化メラミン樹脂（二カラック  ＭＷ−３９０、三和ケミカル製）３質量部を加えて、電荷発生・電荷輸送層用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて電荷輸送層上に塗布し、１５０℃、４０分の乾燥硬化を行い厚さ３μｍの電荷発生・電荷輸送層を得た。これを電荷発生・電荷輸送層３とする。
【０２５２】
（電荷発生・電荷輸送層４〜７）
電荷発生・電荷輸送層１において、表１に従って成分を変更した以外は、電荷発生・電荷輸送層用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて電荷輸送層上に塗布し、１５０℃、４０分の乾燥硬化を行い、表１に示す厚さの電荷発生・電荷輸送層を得た。これを電荷発生・電荷輸送層４〜７とする。
【０２５３】
（電荷発生・電荷輸送層Ｃ１）
電荷輸送層１で調製した電荷輸送層形成用塗布液に、電荷発生物質としてＣｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜、１６．０゜、２４．９゜、２８．０゜の位置に回折ピークを有するＶ型のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料３質量部からなる混合物と、テトラヒロドフラン３００質量部とを加え、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて３時間分散し、電荷発生・電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液をスプレーコート法にて電荷輸送層上に塗布し、１３５℃、３０分の乾燥硬化を行い厚さ３μｍの電荷発生・電荷輸送層を作製した。これを電荷発生・電荷輸送層Ｃ１とする。
【０２５４】
＜単層型感光層の形成例＞
（単層型感光層Ｃ２）
電荷発生・電荷輸送層Ｃ１でテトラヒロドフランを１５０質量部にした以外は同様に調製した電荷発生・電荷輸送層形成用塗布液を、浸漬塗布法にて電荷輸送層上に塗布し、１３５℃、４０分の乾燥硬化を行い厚さ２６μｍの単層型感光層（単層型感光層）を得た。これを単層型感光層Ｃ２とする。
【０２５５】
＜実施例１〜１３、比較例１〜３＞
酸化亜鉛粒子（平均粒径７０ｎｍ：ＭＺ−２００  テイカ社製：比表面積値１５ｍ２／ｇ）１００質量部をトルエン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ−５７３、信越化学工業社製）１．３質量部を添加し、２時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛粒子を得た。
表面処理を施した酸化亜鉛粒子６０質量部と硬化剤（ブロック化イソシアネート  スミジュール３１７５、住友バイエルウレタン社製）１３．５質量部とブチラール樹脂（エスレックＢＭ−１、積水化学工業（株）製）１５質量部をメチルエチルケトン１５０質量部に溶解した溶液を、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い、分散液を得た。
得られた分散液に、触媒としてジオクチルスズジラウレート：０．００５質量部、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）：２０質量部を添加し、下引層形成塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にてアルミニウム基体上に塗布し、１６０℃、４０分で乾燥硬化を行い膜厚が１μｍの下引層を得た。
【０２５６】
次に、表２に示す電荷輸送層と電荷発生・電荷輸送層との組み合わせで、各層を順次形成し、実施例及び比較例の各感光体を作製した。
ただし、比較例３の感光体は、アルミニウム基体上に、直接、単層型感光層Ｃ２を形成した単層型感光体を作製した。
【０２５７】
＜評価＞
（帯電維持性）
室温３０℃、湿度８０％の環境下で、Ｂｒｏｔｈｅｒ社製ＨＬ−２３６０Ｄを用い、Ａ４用紙に２０％ハーフトーン画像を１５０００枚出力した。そして、初期の感光体の表面電位と１５０００枚出力した後の感光体の表面電位の差ΔＶを下記基準で評価した。
Ａ：４０Ｖ以下で、全く問題なし。
Ｂ：４０Ｖ超え８０Ｖ以下で、許容範囲。
Ｃ：８０Ｖ超えで、画質上問題となるレベル。
【０２５８】
（画質維持性）
室温１０℃、湿度１５％の環境下で、Ｂｒｏｔｈｅｒ社製ＨＬ−２３６０Ｄを用い、Ａ４用紙に５０％ハーフトーン画像２００００枚出力した。２００００枚目の画質のかすれを目視で以下の基準で評価した。
Ａ：画質のかすれが発生なし
Ｂ：画質のかすれの発生が僅かにあり、画質上許容できるレベル
Ｃ：目視で明らかな画質のかすれが発生し、実使用上問題となるレベル。
【０２５９】
（耐傷性）
室温１０℃、湿度１５％の環境下で、Ｂｒｏｔｈｅｒ社製ＨＬ−２３６０Ｄを用い、Ａ４用紙に５０％ハーフトーン画像２００００枚出力した。そして、出力後の感光体の表面の傷の有無を下記基準で評価した。
Ａ：傷の発生がない
Ｂ：多少の傷があるが、許容できるレベル
Ｃ：傷が多く、実使用上問題となるレベル。
【０２６０】
（ゴースト）
室温１０℃、湿度１５％の環境下で、Ｂｒｏｔｈｅｒ社製ＨＬ−２３６０Ｄを用い、下記図４に示したＧと黒領域を有するパターンのチャートをプリントし、黒領域部分にＧの文字の現れ具合を下記基準で評価した。
Ａ：図４（Ａ）のごとく良好ないし軽微である。
Ｂ：図４（Ｂ）のことく若干目立つ程度であるが、許容できるレベル
Ｃ：図４（Ｃ）のごとくはっきり確認され、実使用上問題となるレベル。
【０２６１】
（色点）
室温３０℃、湿度８５％の環境下で、Ｂｒｏｔｈｅｒ社製ＨＬ-２３６０Ｄを用い、２０％ハーフトーン画像５０００枚印刷し、１０時間後に再度印刷し１０枚目の画像を評価し目視で黒点の有無を以下の基準で評価した。
Ａ：発生なし。
Ｂ：１０個以下であるが、許容できるレベル
Ｃ：１０個以上発生し、実使用上問題となるレベル。
【０２６２】
【表１】
2018136463.tif 000032
【０２６３】
【表２】
2018136463.tif 000033
【０２６４】
上記結果から、本実施例の感光体は、比較例の感光体に比べ、帯電維持性に優れていることがわかる。これにより、本実施例の感光体は、帯電電位の変化が抑制されることがわかる。
また、本実施例の感光体は、比較例の感光体に比べ、画質維持性、耐傷性に優れていることもわかる。
そして、本実施例の感光体は、比較例の感光体に比べ、ゴーストの発生が抑制されていることもわかる。
【０２６５】
なお、表１の略称等の詳細は以下の通りである。
・Ｉ−  ８：一般式（Ｉ）の多官能型電荷輸送材料の例示化合物（Ｉ−８）
・Ｉ−１６：一般式（Ｉ）の多官能型電荷輸送材料の例示化合物（Ｉ−１６）
【０２６６】
・ＩＶ−１：一般式（ＩＶ）の電子輸送材料の例示化合物（ＩＶ−１）
・ＩＶ−２：一般式（ＩＶ）の電子輸送材料の例示化合物（ＩＶ−２）
【０２６７】
・  Ｖ−２：一般式（Ｖ）の電子輸送材料の例示化合物（Ｖ−２）
【０２６８】
・ＨＴ−１：構造式（ＨＴ−１）で表される正孔輸送材料
・ＨＴ−２：構造式（ＨＴ−２）で表される正孔輸送材料
・ＨＴ−４：構造式（ＨＴ−４）で表される正孔輸送材料
【０２６９】
・「ＨＯＧａＰｃ」：ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜、１６．０゜、２４．９゜、２８．０゜の位置に回折ピークを有するＶ型のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料
・「ＣｌＧａＰｃ」：ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．４°、１６．６°、２５．５°、２８．３°の位置に回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン顔料。
【０２７０】
・ＰＣ−１：共重合型ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１）
【化３０】
2018136463.tif 000034
・ＰＣ−２：ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−２）
【化３１】
2018136463.tif 000035
・ＰＣ−３：共重合型ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−３）
【化３２】
2018136463.tif 000036
【符号の説明】
【０２７１】
１  下引層、２  感光層、３  導電性基体、７  電子写真感光体、８  帯電装置、９  露光装置、１１  現像装置、１３  クリーニング装置、１４  潤滑材、４０  転写装置、５０  中間転写体、１００  画像形成装置、１２０  画像形成装置、１３１  クリーニングブレード、１３２  繊維状部材（ロール状）、１３３  繊維状部材（平ブラシ状）、３００  プロセスカートリッジ
【図１】
2018136463.tif 000038
【図２】
2018136463.tif 000039
【図３】
2018136463.tif 000040
【図４】
2018136463.tif 000041