(57)【要約】本発明は、ガラス板から作製される２枚の基板の間の間隔、より特にディスプレイスクリーン、真空型の複層ガラス又は平面ランプなどのデバイスにおける板基板の全面にわたる、一般に数ミリメートル未満の限定された厚さを有する間隔を維持するように設計され、且つ表面が少なくとも部分的に導電性であるスペーサに関する。このスペーサは、形状及び構成材料が最終デバイスにおける基板の耐熱機械的性質を確保するように選択される電子導電性を有しないコアからなり、このコアが、少なくとも１つの電子導電性を有するガラス層により少なくとも部分的に被覆されて、５０℃で１０-13〜１０Ω-1・ｃｍ-1の電子導電率をスペーサに与えるように適合される。【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス板から形成される２枚の基板の間の間隔、より特にディスプレイスクリーン、真空型の複層ガラス又はフラットランプなどのデバイスにおける基板の全面にわたる、一般に数ミリメートル未満の小さな厚さの間隔を維持し、且つ表面が少なくとも部分的に導電性であるスペーサであって、前記スペーサが、電子導電性を示さないコアから形成されており、前記コアの形状及び構成材料が、最終デバイスにおける基板の熱機械的完全性を提供するために選択されており、前記コアが、電子導電性を示す少なくとも１つのガラス層により少なくとも部分的に被覆されて、５０℃で１０-13〜１０Ω-1・ｃｍ-1の電子導電率をスペーサに与えられることを特徴とする、スペーサ。
【請求項２】
１０-12〜１０-2Ω-1・ｃｍ-1の電子導電率を有することを特徴とする、請求項１に記載のスペーサ。
【請求項３】
コーティング層を構成する前記ガラスが、複数の酸化状態において存在することが可能な、元素周期表の第ＩＢ、ＩＩＩＢ、ＶＢ、ＶＩＢ、ＶＩＩＢ及びＶＩＩＩ族の遷移元素のうちの少なくとも１つの酸化物を、少なくとも１モル％、好ましくは少なくとも５モル％を含むことを特徴とする、請求項１及び２のいずれかに記載のスペーサ。
【請求項４】
前記遷移元素が、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｔｍ及びＹｂから選択されることを特徴とする、請求項３に記載のスペーサ。
【請求項５】
コーティング層を構成する前記ガラスが、全体１００モル％に対するモル％での以下の組成を有するガラスであることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載のスペーサ：
（Ａ）ＳｉＯ2 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・２５〜７５
（Ｂ）請求項３及び４のいずれかで定義される遷移元素のうちの少なくとも１つの酸化物                            ・・・・・・・・・・・  １〜３０
（Ｃ）Ａｌ2Ｏ3・・・・・・・・・・・・・・・・・・  ０〜４０
（Ｄ）ＺｒＯ2 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・  ０〜１０
（Ｅ）Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ及びＫ2Ｏのうちの少なくとも１つ
・・・・・・・・・・・  ０〜１０
（Ｆ）ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯのうちの少なくとも１つ
・・・・・・・・・・・  ０〜４０
（Ｈ）Ｂ2Ｏ3・・・・・・・・・・・・・・・・・・・  ０〜３０
（Ｉ）Ｐ2Ｏ5・・・・・・・・・・・・・・・・・・・  ０〜５
（Ｊ）ＴｉＯ2 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・  ０〜１０
（Ｋ）ＺｎＯ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・  ０〜１０
（Ｍ）通常の添加剤・・・・・・・・・・・・・・・・  ０〜１
（Ｎ）通常の不純物・・・・・・・・・・合計が１００ｍｏｌ％となる残部。
【請求項６】
前記コーティングが、単一層からなるコーティングであることを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載のスペーサ。
【請求項７】
前記コーティングガラス層が１〜１００００ｎｍ、好ましくは１〜２０００ｎｍの厚さを有することを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載のスペーサ。
【請求項８】
前記コーティングと前記コアとの接着及び／又は結合を促進するための少なくとも１つの剤の少なくとも１つの層が、前記コアと前記コーティングとの間に配置されていることを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載のスペーサ。
【請求項９】
前記コアが、ソーダ石灰ガラス、アルミノケイ酸塩型ガラス及びホウケイ酸塩型ガラスなどのガラス、セラミックス及びポリマーから選択される材料から作製され、有利には前記コアは、スペーサと共に用いることを意図する基板を形成するガラスと同じガラスから形成されていることを特徴とする、請求項１〜８のいずれかに記載のスペーサ。
【請求項１０】
前記コアが、２０〜３００℃において、６０×１０-7〜１０５×１０-7Ｋ-1、好ましくは６０×１０-7〜９５×１０-7Ｋ-1、特に７５×１０-7〜９５×１０-7Ｋ-1の膨張率を有するガラスであり、ここで前記ホウケイ酸塩型ガラスは、３０×１０-7〜５０×１０-7Ｋ-1の膨張率を有することが可能であることを特徴とする、請求項９に記載のスペーサ。
【請求項１１】
前記コアが、５００℃より大きい歪点温度を有するガラスであることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれかに記載のスペーサ。
【請求項１２】
前記コアが、９０ＧＰａより大きく、好ましくは１００ＧＰａより大きく、特に１３０ＧＰａより大きい弾性率を有するガラスであることを特徴とする、請求項１〜１１のいずれかに記載のスペーサ。
【請求項１３】
前記コアが、全体１００モル％に対するモル％での以下の組成を有するガラスであることを特徴とする、請求項１〜１２のいずれかに記載のスペーサ：
（Ａ’）ＳｉＯ2 ・・・・・・・・・・・・・・・・  ２５〜７５
（Ｃ’）Ａｌ2Ｏ3・・・・・・・・・・・・・・・・・  ０〜４０
（Ｄ’）ＺｒＯ2 ・・・・・・・・・・・・・・・・・  ０〜１０
（Ｅ’）Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ及びＫ2Ｏのうちの少なくとも１つ
・・・・・・・・・・・  ０〜１０
（Ｆ’）ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯのうちの少なくとも１つ
・・・・・・・・・・・  ０〜４０
（Ｇ’）Ｙ、Ｌａ及びランタニド系列元素のうちの少なくとも１つのものの、少なくとも１つの酸化物                ・・・・・・・・・・・  ０〜２５
（Ｈ’）Ｂ2Ｏ3・・・・・・・・・・・・・・・・・・  ０〜３０
（Ｉ’）Ｐ2Ｏ5・・・・・・・・・・・・・・・・・・  ０〜５
（Ｊ’）ＴｉＯ2 ・・・・・・・・・・・・・・・・・  ０〜１０
（Ｋ’）ＺｎＯ・・・・・・・・・・・・・・・・・・  ０〜１０
（Ｌ’）結合している形態の窒素・・・・・・・・・・  ０〜２０
（Ｍ’）通常の添加剤・・・・・・・・・・・・・・・  ０〜１
（Ｎ’）通常の不純物・・・・・・・・・・・合計が１００ｍｏｌ％となる残部。
【請求項１４】
前記コアが、角柱状、特に柱状、細長い梁状、円柱状又は球状の形状を有することを特徴とする、請求項１〜１３のいずれかに記載のスペーサ。
【請求項１５】
１０-5〜１０7ＧΩの電気抵抗率を有することを特徴とする、請求項１〜１４のいずれかに記載のスペーサ。
【請求項１６】
３超の密度を有することを特徴とする、請求項１〜１５のいずれかに記載のスペーサ。
【請求項１７】
黒又は暗い色であることを特徴とする、請求項１〜１６のいずれかに記載のスペーサ。
【請求項１８】
表面電荷をスペーサから基板上に配置された電極へと容易に除去するために、柱状のスペーサの断面又は細長い梁状のスペーサの末端に金属電極が配置されていることを特徴とする、柱状又は細長い梁状の形状を有する請求項１〜１７のいずれかに記載のスペーサ。
【請求項１９】
少なくとも１つのコーティングガラス層を、既に製造されたコア又はコアの製造における１つの段階で得られる要素から選択される少なくとも１つの要素の少なくとも一部上に堆積させ、ここで堆積のために用いられるガラスが、この組成物が堆積の間に変性される場合にも、最終製品においてそれが請求項１〜７のいずれかに記載の組成物であるように選択される組成を有することを特徴とする、請求項１〜１８のいずれかに記載のスペーサの製造方法。
【請求項２０】
多角形断面の予備成形棒状体、有利にはすべての側面が磨かれている多角形断面の予備成形棒状体を延伸し；
延伸された棒状体をいくつかのロッドへ切断し；
それらが適切に保持されるようにして、前記ロッドをまとめて互いに平行になるようにし；
所望の長さに切断して、スペーサを形成し；
場合により、スペーサの末端を全て一緒に研磨し；そして
スペーサを互いにバラバラにすること、
によって、前記コアを一連の操作により製造し、ここで、１又は複数のコーティング層を堆積させる操作を、延伸される前の予備成形棒状体に、及び／又は所望の長さに切断される前のロッドに、及び／又はまとめられたスペーサの末端に、及び／又は個々のスペーサに行う、請求項１９に記載の製造方法。
【請求項２１】
コーティングされる少なくとも１つの要素を、真空容器中で支持体上に正確に配置し、前記真空容器中に、蒸着させるガラスを保持する耐熱容器を配置すること、及び
耐熱容器を５００〜２０００℃の温度に加熱し、コーティングされる前記要素を比較的低い温度に維持することによって、ガラスを昇華させ、コーティングされる前記要素の表面にコーティング層を形成する条件を造り出すこと、
を含む、前記コーティング層を蒸着により形成することを特徴とする、請求項１９及び２０のいずれかに記載の方法。
【請求項２２】
低圧のガスを保持する容器中に、堆積させるガラスから形成されているターゲットを配置し、このターゲットを、コーティングされる少なくとも１つの要素と対面させること、
前記容器中に保持されているガスを、イオン化させること、及び
ガス粒子がターゲットに衝突し、そこから材料を分離し、その材料がコーティングされる前記要素に堆積するように、ターゲットの電位を制御すること、
を含む、コーティング層がスパッタリングにより形成されることを特徴とする、請求項１９及び２０のいずれかに記載の方法。
【請求項２３】
前記コーティングガラス層を堆積させる前に、前記コーティングの接着性又は結合性を改善する少なくとも１つの剤の層を、コーティングされる前記要素上に堆積させることを特徴とする、請求項１９〜２２のいずれかに記載の方法。
【請求項２４】
電子導電性及び／又は第２放出係数及び／又は誘電特性及び／又はコーティングの結合性を調整する目的のために、所望の長さに切断されるの前ロッドにより形成されているコーティングされた要素、又は最終的なコアにより形成されているコーティングされた要素に、酸化性又は還元性雰囲気での熱処理を行うことを特徴とする、請求項２０〜２２のいずれかに記載の方法。
【請求項２５】
請求項１９〜２４のいずれかに記載の方法により得られるスペーサ。
【請求項２６】
少なくとも２枚のガラス板を有するディスプレイスクリーン、真空型グレージング及びフラットランプのためのスペーサとしての、請求項１〜１８のいずれかに記載のスペーサ、又は請求項１９〜２４のいずれかに記載の方法により製造されるスペーサの使用。
【請求項２７】
請求項１〜１８のいずれかに記載のスペーサ、又は請求項１９〜２４のいずれかに記載の方法により製造されるスペーサにより分離される少なくとも２枚のガラス板を有する、ディスプレイスクリーン、特にプラズマ又は電界放出型のディスプレイスクリーン、より特に電界放出型のディスプレイスクリーン、真空型グレージング及びフラットランプ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラスなどの材料の板により形成される二枚の基板を、間隔を空けて維持するためのスペーサに関する。
【背景技術】
【０００２】
本発明の用途を限定するものではないが、本発明は特に、２枚のガラス板の間の間隔、より特にガラス板の全面にわたる一般に１ミリメートル未満又は数ミリメートル未満の小さな厚さの間隔を維持するために用いられるスペーサに関して説明する。
【０００３】
こうした構造は、いずれの技術を用いる場合であっても、ディスプレイスクリーンの製造のために必要とされる。これらのディスプレイスクリーンとしては、プラズマ・スクリーン、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）、例えばマイクロチップ・スクリーン、エレクトロルミネッセンススクリーンが挙げられる。
【０００４】
こうした構造は、真空型の複層ガラス又はフラットランプの製造のためにも望ましい場合がある。こうしたデバイスは、少なくとも２枚のガラス板と、２枚の隣接しているガラス板の間に維持されなければならない少なくとも１つの間隙とを含む。表現「フラットランプ」は、これらのランプの技術に関わらず、その表面の少なくとも一部に曲がりを有することが可能なランプをも包含するものとして理解されるべきである。
【０００５】
前述のスクリーン又は他のデバイスにおいて、高い光透明度を示すことは、少なくとも外側のガラス板又は他の外側の基板、すなわち観察者が見ることが可能な物にとって必須である。従って、スペーサは最も見えにくいものでなければならない。
【０００６】
スペーサの場所が前記スペーサ周りの輝く面又は暗い面いずれの出現によっても見えるようにならないことも、ディスプレイスクリーン使用の間に必要である。ディスプレイスクリーンの特殊なケースにおいて、この現象は画像の品質を乱し、従って許容することはできない。このスペーサ周りの輝化及び／又は暗化現象は、既に知られており、また説明されている。この現象は、実際、材料の２次電子放出係数のために、スペーサでの電荷注入による。ここでこの材料の２次電子放出係数は、受け取られる１次電子数に対する再放出される２次電子数の比率により定義される。この２次電子放出係数が１と異なることは、局所的な帯電効果をもたらし、それが正又は負のいずれであるかに応じて、電子経路の偏りによって輝くか又は暗くなる効果をもたらす。
【０００７】
種々のタイプのスペーサが従来技術で公知である：第一の公知のタイプのスペーサは、ガラススペーサ、特に最も見えにくくするように磨かれたビーズ又は円筒の形態をとるガラススペーサである。
【０００８】
矩形断面を有する繊維型のガラススペーサを製造することも、知られている。
【０００９】
後者に対して改善されるスペーサは、欧州特許出願ヨーロッパ特許公開第０６２７３８９号から知られる。ここでは、多角形断面のガラス多面体を製造するための方法を開示しており、この方法は、有利にはすべてのその側面を磨いた多角形断面の予備成形棒状体を延伸し、延伸した棒状体をいくつかのロッドに切断し、これらのロッドを適切に保持するようにして互いに平行に一緒にし、これらを所望の長さに切断し、ロッドの末端を全てまとめて磨き、そしてそれらを互いに分離する。特にこの方法は、ほぼ多角形型の断面を有するガラス多面体であって、その側面の寸法が１ミリメートル未満であり、その多角形の角が１０ミクロン未満の曲率半径に丸められているガラス多面体を製造するために用いられる。
【００１０】
米国特許５６７５２１２号には、十分に強いとは見なされないガラスからではなく、セラミックから作製されるスペーサが提案されている。一つの特定の実施形態は、電気絶縁性コアと、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｆｅ及びＶなどの遷移金属の酸化物を含むセラミックから形成される導電性コーティング層とで構成されるセラミックスペーサからなる。
【００１１】
国際公開９９／５６３０２号には、スクリーンの「ピクセル」領域を侵害することなしに正確に位置取りすることができる多角形形状のガラススペーサが開示されている。更に、ディスプレイスクリーン、例えばプラズマ又は電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）型ディスプレイスクリーンにおいて輝く領域又は暗い領域によりスペーサ近傍で画像が乱されるのを防止するための一つの手段も、ここでは開示されている。ここでは、電荷がスペーサに蓄積することを防止して「崩壊」効果（国際公開９９／５６３０２号の８頁３〜１５行に記載されている現象）の危険を避けるために、スペーサは、少なくとも部分的に電子導電性を示す表面を有することが可能である。電子導電性は、ホウ素、リン、ヒ素又はアンチモンでドープされていても、されていなくてもよい化学蒸着（ＣＶＤ）により堆積されるアモルファスシリコンから、又は導電性元素（銀、金、銅）から製造することが可能であるが、熱処理又はイオン交換処理により表面上に移動するようにして作製される導電性コーティングにより与えられている。
【００１２】
国際公開０１／６６４７８号には、表面でなく本体が電子導電性を示すガラススペーサが開示されている。この導電性を得るために、特定の組成のガラスが用いられる。ここでこのガラスマトリックスは、複数の酸化状態で存在する遷移元素の酸化物を少なくとも１％含む。
【００１３】
上記の特定のガラスが常に熱機械的特性の要求事項に適合するとは限らないことは、明らかである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
出願人は、この欠点を改善し、更に局所的に蓄積する傾向のある正又は負の電荷（「局所的帯電効果」、国際公開０１／６６４７８号の３頁１〜７行を参照）の除去することによって目に見えないままであることを可能とする電子導電性を示しながら、熱機械的特性の要求事項に適合できるスペーサの製造を追求してきた。これによれば、国際公開０１／６６４７８号に記載されている特定のガラスを用いてスペーサ全体を形成するたことが不要であること、及びこのタイプのガラスを、スペーサの全体又は一部にわたるコーティングとして用い、スペーサはできるだけ所望の熱機械的特性に適合する材料から作製することで十分であることが見出された。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明によるスペーサは、それを被覆する導電性層が、前述の電荷を、電子浸透深さに相当する１０μｍ又はそれ未満の深さにわたり除去することを可能とするので、見えないままである。従って、本発明のスペーサは有利には基板と同じガラスから作製することが可能であるコアを有し、それによってスペーサの熱機械的特性は基板のそれらと類似になる。それらは、費用及び機械的強度の良好な歩み寄りも可能にする。
【００１６】
従って、本発明の主題は第一に、ガラス板から形成される２枚の基板の間の間隔、より特にディスプレイスクリーン、真空型の複層ガラス又はフラットランプなどのデバイスにおける板基板の全面にわたる、一般に数ミリメートル未満の小さな厚さの間隔を維持するためのスペーサである。ここでこのスペーサの表面は、少なくとも部分的に導電性である。また、コアの形状及び構成材料が最終デバイスにおける基板の熱機械的完全性を提供するように選択される電子導電性を示さないコアから、スペーサが形成されることを特徴とする。このコアは、電子導電性を示す少なくとも１つのガラス層により少なくとも部分的に被覆されることによって、５０℃で１０-13〜１０Ω-1・ｃｍ-1、好ましくは１０-12〜１０-2Ω-1・ｃｍ-1、なおより好ましくは１０-8〜１０-2Ω-1・ｃｍ-1の電子導電率をスペーサに与えることができる。
【００１７】
電子導電性は、アルカリ金属を含有する従来型のソーダ石灰ガラスの場合において見られるイオン導電性とは異なる。本発明では、コアの電子導電性はゼロであるか、又は例えば原料中に常に存在している鉄不純物のような不純物のせいで常に電子導電性の残余分があり得るので実質的にゼロである。同様に、コーティングにおいても、例えば移動可能な低レベルのアルカリ金属が存在する場合があり、その結果、たとえイオン導電率の値が電子導電率のそれよりも数段低いとしても、アルカリ金属がイオン導電率に寄与することがある。
【００１８】
エネルギー効率の観点から、スペーサの電子導電性により失われる出力は、固定値未満のままであらねばならず、この固定値は、例えばマイクロチップ・スクリーンのためには１〜５０Ｗ／ｍ2である。
【００１９】
特にコーティング層を構成するガラスは、複数の酸化状態において存在することが可能である元素周期表の第ＩＢ、ＩＩＩＢ、ＶＢ、ＶＩＢ、ＶＩＩＢ、ＶＩＩＩ族遷移元素の少なくとも１つの酸化物を、少なくとも１モル％、好ましくは少なくとも５モル％を含む。こうした遷移元素の例には、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｔｍ及びＹｂを挙げることが可能である。相当する酸化物の例としては、Ｆｅ2Ｏ3及びＶ2Ｏ5を挙げることが可能である。
【００２０】
遷移元素の導入は、スペーサに電子導電性を付与することだけでなく他の利点を有することが可能である。これは、これらの遷移元素が、例えばＦｅ及びＣｒの場合におけるように高発色力を有する場合、少なくともそれらを堆積させる基板を通して見られるスペーサの断面に関して、得られるスペーサの外見を黒く又は暗くすることが可能であることによる。この黒い外見は、一部のスクリーンの場合において、スペーサを「ブラック・マトリクス」の構成要素として考えることを可能にする。ここでこのブラック・マトリクスは、ピクセルを画定し、スペーサが固定される領域に相当する。これは、スペーサを中間的な「結合性」材料なしで直接基板に固定することが可能であることによる。次に、第一の可能性は、スペーサの寸法よりもわずかに大きな寸法を有するくぼみを与えるために、所定の領域が前もって、例えば写真平版により切り抜かれている「ブラック・マトリクス」中に、スペーサを挿入することである。この操作はスペーサを基板にしっかりと留めるに十分であることが可能である。場合により第一のものと同時に実施される第二の可能性は、スペーサを「陽極結合」により基板に固定すること、すなわちアルカリ金属イオンがスペーサのコアのガラスマトリクス中に存在する場合に、２つの材料間の化学結合を確立するために、所定の電界及び所定の温度をかけることにある。
【００２１】
本発明では、コーティング層を構成するガラスは、特に全体１００モル％に対するモル％での以下の組成を有するガラスである：
（Ａ）ＳｉＯ2 ・・・・・・・・・・・・・・・・・  ２５〜７５
（Ｂ）上に定義される遷移元素の少なくとも１つの酸化物
・・・・・・・・・・  １〜３０
（Ｃ）Ａｌ2Ｏ3・・・・・・・・・・・・・・・・・・  ０〜４０
（Ｄ）ＺｒＯ2 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・  ０〜１０
（Ｅ）Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ及びＫ2Ｏのうちの少なくとも１つ
・・・・・・・・・・・  ０〜１０
（Ｆ）ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯのうちの少なくとも１つ
・・・・・・・・・・・  ０〜４０
（Ｈ）Ｂ2Ｏ3・・・・・・・・・・・・・・・・・・・  ０〜３０
（Ｉ）Ｐ2Ｏ5・・・・・・・・・・・・・・・・・・・  ０〜５
（Ｊ）ＴｉＯ2 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・  ０〜１０
（Ｋ）ＺｎＯ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・  ０〜１０
（Ｍ）通常の添加剤・・・・・・・・・・・・・・・・  ０〜１
（Ｎ）通常の不純物・・・・・・・・・・合計が１００ｍｏｌ％となる残部
【００２２】
（Ａ）ＳｉＯ2は網状組織形成酸化物であり、有利には、その含量は、融点を低下させると共に、炉を作り上げる耐熱物の過度に急激な分解を防止するために７３％未満である。２５％未満では、ガラス安定性は不十分となり、失透の危険性が増す。
【００２３】
（Ｃ）Ａｌ2Ｏ3は、ガラスマトリクスに安定化の役割を提供し、特に失透の危険性を、特に低シリカ含量ガラスに関して、限定されたものにすることを可能とする。有利には、その含量は３５％未満、好ましくは２０％未満であり、それによって高温でのガラスマトリクスの粘度が大きくなりすぎないようにする。
【００２４】
（Ｄ）Ａｌ2Ｏ3と違ってＺｒＯ2は、高温でのガラスマトリクスの粘度を増大させない。その含量は、融解を単純化し、失透の危険性を限定するために、１０％、好ましくは８％を超えることはない。
【００２５】
（Ｅ）アルカリ金属酸化物（Ｅ）に関して、これらは、本質的にガラス製造条件のため、より特に融点及び高温粘度を許容限界内に維持するため、及び融解の間に組成物の均一性を改善するために、ガラスマトリクス中に導入される。有利には、それらの含量は、所望の電子導電性を妨げることがあるそれらの移動性のために、１０％未満、更に好ましくは５％未満に維持される。
【００２６】
（Ｆ）アルカリ土類金属酸化物（Ｆ）に関して、これらはアルカリ金属酸化物と類似の理由で導入され、更に、それらは、失透の危険性の観点からガラスの安定性を改善することを可能とする。ＳｒＯ又はＢａＯなどの重い酸化物は、特にアルカリ金属イオンの移動性を限定し、結果として、イオン導電率を低下させ、例えばアルカリ金属イオンによるスクリーン汚染の危険性を避けるために好ましい。実際、アルカリ金属の拡散は電子導電性を乱し、例えばＦＥＤにおける高電場（アノード／カソード電位差）においてエージング現象を起こす層をもたらすことが、指摘されるべきである。
【００２７】
（Ｈ）本発明では、満足な機械的性質を維持するために、３０％を超えず、有利には１０％未満で酸化物Ｂ2Ｏ3を導入できる。Ｂ2Ｏ3は、特に融解の間の組成物の均一性を改善することを可能とすると共に、それがＳｉＯ2を置換する場合に、組成物の融点を低下させる。それはまた、高温粘度を低下させることを可能とする。本発明の別の変形では、ガラスマトリクスはホウケイ酸塩型であり、その場合には、Ｂ2Ｏ3含量は８％より大きく、好ましくは１０％より大きい。
【００２８】
（Ｉ）酸化物Ｐ2Ｏ5は、特に高温粘度を低下させるために、５％を超えない含量において用いることが可能である。
【００２９】
（Ｊ）（Ｋ）酸化物ＴｉＯ2及びＺｎＯは、特にガラス組成物の融解パラメータを規制することに関して、Ｂ2Ｏ3及びＰ2Ｏ5について記載されたものと類似の理由で用いることが可能である。
【００３０】
すべての酸化物は、スペーサの導電率σ（電子＋イオン導電率）、第２放出係数δ及び誘電率εを制御するように選択される。これは、三つの量σ、δ及びεが、電荷及び表面電位の値に影響を及ぼし、それによって例えばＦＥＤにおいて、スペーサ周りの暗化／輝化現象の強度に影響を及ぼすことによる。酸化物は、一方でエージング現象を、及び他方でエネルギー損失を限定するように選択される。
【００３１】
（Ｍ）（Ｎ）他の追加の元素は、ガラスマトリクス中に１％未満の含量で存在することが可能である。それらは、例えば融解及び純化を容易にするために導入される（Ａｓ、Ｓｂ、Ｆ、Ｃｌ、ＳＯ3、など）か、あるいは、それらは、用いられるバッチ材料中の不純物、又は耐熱物の被覆物からくる不純物の形で導入される。
【００３２】
コーティングガラスは、高温でるつぼ中において製造することが可能である。ガラスの酸化還元条件、すなわち各カチオンの各々の可能な酸化状態のそれぞれの割合は、融解雰囲気の比較的に還元性の性質を制御することによって融解容器の温度によって、場合によりコークスなどの還元剤をガスで融解容器中に導入することによって、調整される。この酸化還元制御は、特にそれがエネルギー損失を限定しながら電荷を除去することを可能とするようにして、電子導電率を制御することを可能とする。
【００３３】
本発明では、コーティングはいくつかの層から形成することが可能であるが、コーティングが単一層を有することは費用要因からは好ましい。
【００３４】
コーティングガラス層の厚さは非常に様々でよい：それは１〜１００００ｎｍ、好ましくは１〜２０００ｎｍであることが可能である。
【００３５】
本発明によるスペーサの別の態様では、コーティングのコアに対する接着及び／又は結合を促進するための少なくとも１つの剤の少なくとも１つの層が、コアとコーティングとの間に配置することができる。これらの剤の例として、ＮｉＣｒ及びＡｌ2Ｏ3を挙げることが可能である。
【００３６】
本発明によるスペーサのコアは、ガラス、セラミックス及びポリマーから選択される材料から製造することが可能である。
【００３７】
ポリマーと違って、ガラスは熱の影響下で変形する又はつぶれる傾向（スクリーンの端を密封するために熱処理が必要とされる）を持たないので、ガラスは好ましい。セラミックは良好な機械的強度を有するが、ガラスと比べて、それらの形状を変えることは難しく、またそれらを製造することは更に高価となる。
【００３８】
あらゆるタイプのガラスを用いることが可能であるが、好ましくはガラスは、ソーダ石灰ガラス、アルミノケイ酸塩型ガラス及びホウケイ酸塩型ガラスから選択される。選択されるガラスは感光性であることが可能であるが、こうした選択は特に好ましいものではない。
【００３９】
好ましくは、コアガラスは、基板のそれらに類似の熱機械的特性を有するように選択される。本発明によるスペーサのコアは、スペーサと共に用いることを意図される基板を形成するガラスと同じガラスから、なお更に有利に形成することが可能である。
【００４０】
従って、２０〜３００℃で６０×１０-7〜１０５×１０-7Ｋ-1、好ましくは６０×１０-7〜９５×１０-7Ｋ-1、特に７５×１０-7〜９５×１０-7Ｋ-1の膨張率を有するコアガラスを選択することは、有利なことがある。但し、ホウケイ酸塩型ガラスでは、３０×１０-7〜５０×１０-7Ｋ-1の膨張率を有することが有利なことがある。
【００４１】
有利には、特にＦＥＤスクリーンを形成する目的のために、基板の外周を密閉する段階の間につぶれないような十分高い歪点温度を有するコアガラスを選択することも、可能である。一般に、この温度（Ｔ歪）は５００℃、好ましくは５４０℃より大きい。
【００４２】
有利には、コアガラスは、例えば９０ＧＰａ、好ましくは１００ＧＰａ、特に１３０ＧＰａより大きい高弾性率Ｅを有する。弾性率Ｅは、酸化物（Ｇ’）をガラス組成物中に導入することにより−これはまたガラス密度を増大させる効果を有する−あるいは窒素を導入することにより増大し、１３０ＧＰａを超える弾性率Ｅを得ることが可能である。酸化物（Ｇ’）及び窒素の導入は、それぞれ（Ｇ’）及び（Ｌ’）に関する以下の項でより詳細に説明される。
【００４３】
出願人は特に、それらの間に真空が生み出される基板、例えばスクリーンを形成する平らな基板により及ぼされる圧力をスペーサが受ける場合に、スペーサの機械的強度を決定するヨーロッパ特許公開第０６２７３８９号に開示される方法によって、スペーサを製造する場合に弾性率がそのスペーサの特性であることを実証してきた。米国特許第５６７５２１２号が説明しているように、これまでは、これらの用途のためのガラススペーサの強度を決定する重要な要因は、スペーサ表面の微小割れの存在であると一般的に考えられていた。従って、出願人は、特にヨーロッパ特許公開第０６２７３８９号に記載されている方法により製造されるスペーサの場合、スペーサの機械的性質が直接にその弾性不安定性、従ってその弾性率に応じて決まることを実証してきた。ここでは、いかなる他の介入もなしでこの方法により製造されたスペーサの特に顕著な表面状態により、この現象を説明している。すなわち、この方法により製造されるスペーサは、それらの用途に関係する応力を受けた場合に割れを引き起こすことがある欠陥を含んでいない。
【００４４】
高弾性率Ｅを有すると、コアガラスの機械的強度が改善され、スペーサの数を減少させることが可能であるので、高弾性率Ｅを有する利点は実質的である。従って、コーティング層の厚さ及び／又は電子導電性は、許容可能値のスペーサ機能によって、全体のエネルギー損失を維持しながら増大させることが可能である。別の利点は、スペーサの設置費用が低減されることである。
【００４５】
全体１００モル％に対するモル％で以下の組成を有するコアガラスについて言及することが可能である：
（Ａ’）ＳｉＯ2 ・・・・・・・・・・・・・・・・  ２５〜７５
（Ｃ’）Ａｌ2Ｏ3・・・・・・・・・・・・・・・・・  ０〜４０
（Ｄ’）ＺｒＯ2 ・・・・・・・・・・・・・・・・・  ０〜１０
（Ｅ’）Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ及びＫ2Ｏのうちの少なくとも１つ
・・・・・・・・・・・  ０〜１０
（Ｆ’）ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯのうちの少なくとも１つ
・・・・・・・・・・・  ０〜４０
（Ｇ’）Ｙ、Ｌａ及びランタニド系列元素のうちの少なくとも１つの少なくとも１つの酸化物                        ・・・・・・・・・・・  ０〜２５
（Ｈ’）Ｂ2Ｏ3・・・・・・・・・・・・・・・・・・  ０〜３０
（Ｉ’）Ｐ2Ｏ5・・・・・・・・・・・・・・・・・・  ０〜５
（Ｊ’）ＴｉＯ2 ・・・・・・・・・・・・・・・・・  ０〜１０
（Ｋ’）ＺｎＯ・・・・・・・・・・・・・・・・・・  ０〜１０
（Ｌ’）結合形態における窒素・・・・・・・・・・・  ０〜２０
（Ｍ’）通常の添加剤・・・・・・・・・・・・・・・  ０〜１
（Ｎ’）通常の不純物・・・・・・・・・  合計が１００ｍｏｌ％となる残部
【００４６】
このコアガラス組成物の種々の構成成分（Ａ’）、（Ｃ’）、（Ｄ’）、（Ｅ’）、（Ｆ’）、（Ｈ’）、（Ｉ’）、（Ｊ’）、（Ｋ’）、（Ｍ’）及び（Ｎ’）は、それぞれガラスコーティングの構成成分（Ａ）、（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）、（Ｆ）、（Ｈ）、（Ｉ）、（Ｊ）、（Ｋ）、（Ｍ）及び（Ｎ）に関連して上に更に詳細に記載されている。これらのコアガラス構成成分を説明するために有用なさらなる情報、及び構成成分（Ｇ’）及び（Ｌ’）の詳細な説明を、以下に挙げる。必要ならば、さらなる詳細は、また国際公開０１／６６４７８号を参照することで可能である。本発明によるスペーサのそれぞれコア及びコーティングにおける（Ａ）及び（Ａ’）、（Ｃ）及び（Ｃ’）、などの割合が必ずしも同一でないことは、言うまでもないことである。
【００４７】
（Ａ’）ＳｉＯ2含量は、それが機械的性質、特に弾性率に役立つことを望まれる場合、好ましくは５５％未満である。２５％未満では、ガラスの安定性は不十分となり、失透の危険性が増す。
【００４８】
（Ｃ’）５％を超えると、Ａｌ2Ｏ3は、機械的性質、特に弾性率を改善するために有利に寄与する。
【００４９】
（Ｄ’）ＺｒＯ2、Ａｌ2Ｏ3などは、歪点温度を増大させることを可能とする。これは、特に製造の間に熱処理を行うスクリーンのためのスペーサの場合に重要である。
【００５０】
（Ｅ’）有利には、酸化物Ｌｉ2Ｏの存在は、機械的性質、特に弾性率が望まれる場合に好ましい。酸化物Ｎａ2Ｏ及びＫ2Ｏが完全にマトリクスからなくすことは、選択肢として可能である。他方、経済的な制約が本質的である場合、酸化物Ｌｉ2Ｏはマトリクスからなくすことが可能である。ここで、この酸化物Ｌｉ2Ｏは他の酸化物よりも高価である。少なくとも１％のアルカリ金属酸化物含量は、陽極結合型の接着性を得るために有利に必要とされる。
【００５１】
（Ｆ’）アルカリ土類金属酸化物は、歪点温度を増大させることを可能とする。酸化物ＭｇＯ及びＣａＯは、高弾性率が望まれる場合、特に好ましい。
【００５２】
（Ｇ’）少なくとも１つの酸化物（Ｇ’）のガラスマトリクス中への導入は、場合によっては１４０ＧＰａまでの弾性率値を達成することを可能とする。好ましくは、酸化物（Ｇ’）含量の合計値は、１％より大きく、有利には２５％を超えない。酸化物（Ｇ’）は、好ましくは、以下から選択される：Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、Ｃｅ2Ｏ3、Ｐｒ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｓｍ2Ｏ3、Ｅｕ2Ｏ3、Ｇｄ2Ｏ3、Ｔｂ2Ｏ3、Ｄｙ2Ｏ3、Ｈｏ2Ｏ3、Ｅｒ2Ｏ3、Ｔｍ2Ｏ3、Ｙｂ2Ｏ3、Ｌｕ2Ｏ3。
【００５３】
（Ｈ’）高弾性率が望まれる場合、Ｂ2Ｏ3は好ましくは５％未満の含量で導入される。
【００５４】
（Ｉ’）Ｐ2Ｏ5は、機械的性質、特に弾性率を過度に下げることなく、特に高温粘度を低下させるために、５％を超えない含量において用いることが可能である。
【００５５】
（Ｊ’）（Ｋ’）ＴｉＯ2及びＺｎＯの存在は、促進された機械的性質、特に弾性率を得ることが望まれる場合に、特に好ましい。
【００５６】
（Ｌ’）本発明は有利には、ガラスマトリクス中に窒素を導入する。本発明により、これは、１４０ＧＰａより大きく、場合によっては１８０ＧＰａまでの弾性率を得るために導入される。窒素は、融解操作の間に、中性又は還元性雰囲気、例えばアルゴン、窒素又は窒素−水素混合物の雰囲気において融解操作を達成することによって導入できる。次に、窒素は、例えばＳｉ3Ｎ4、ＡｌＮ、ＢＮの形態で、バッチ材料に導入される。窒素はまた、スペーサを黒く着色できる利点を有する。
【００５７】
（Ｍ’）（Ｎ’）上記（Ｍ）（Ｎ）欄を参照することが可能である。
【００５８】
コアガラスは、コーティングガラスを製造するために上述したもののように、本来公知のやり方で製造される。
【００５９】
本発明によるスペーサのコアは、角柱状、特に底部が四角、長方形、台形、十字形などの直角柱状、円柱状、特に円形断面の直円柱状、又は球体などのあらゆる形状を有することが可能である。
【００６０】
球体形状のコアは、それらが回転すると共に、小さなスペーサ／基板接触面積のせいで基板を高応力にさらすことになる傾向性を有するので、好ましくない。
【００６１】
特に好ましいコア形状として、ヨーロッパ特許公開第０６２７３８９号に記載されているもの及び／又はこの文献に記載されている方法により製造されるものなどのガラス多面体、及びまた国際公開９９／５６３０２号に記載されているスペーサのすべての形状を挙げることが可能である。後者は、寸法ａ及びｂの長方形に内接する少なくとも１つの直線的な支持面を有するほぼ多角形の支持断面を有するものとして記載され、スペーサは高さｌまで達する。それらの寸法は以下の関係を満足する：ａ＜３００μｍ；０．２ｍｍ＜ｌ＜２０ｍｍ；及びｂ／ａ＜１０００、及び好ましくはｂ／ａ＜２００。
−例として、延伸断面が台形であり、支持表面、すなわち例えばガラス板と接触する表面が長方形であり、寸法ａ及びｂを有し、スペーサの高さｌが、理想的な間隔ｌを２枚のガラス板の間に維持することを可能とする、リブ又は細長い梁状体からなるタイプのコアを挙げることが可能であり、
−また、延伸断面が十字形からなり、今度は延伸断面に相当する支持断面が寸法ａ及びｂの長方形の直線的な表面を有し、スペーサが更に高さｌを有する柱状体からなるタイプのコアを挙げることが可能である。
【００６２】
国際公開９９／５６３０２号の図３及び４には、それぞれ十字形断面の梁形状及び柱形状が説明されている。例として与えられるこれら二つの形状は、機械的強度の理由で、及びまたそれらの構造のせいで、部品を基板上に配置することがより容易であるので好ましい。
【００６３】
上記ａ値と同程度の直径を有する円筒形のコアも、例として挙げることが可能である。
【００６４】
本発明によるスペーサは、有利には、１０-5〜１０7ＧΩ、好ましくは０．１ＧΩより大きい電気抵抗率を有する。
【００６５】
また有利には、スペーサは３を超える密度を有し、取り扱い及び設置をより容易にする。
【００６６】
本発明によるスペーサは、有利には、柱状又は細長い梁状の形状を有するタイプであり、スペーサからの表面電荷を基板上に配置された電極に除去することを容易にするために、柱状体の断面又は細長い梁状体の末端上に金属電極が配置されている。
【００６７】
本発明はまた、少なくとも１つのコーティングガラス層を、既に製造されたコア又はコアの製造における１つの段階で得られる要素から選択される少なくとも１つの要素の少なくとも一部分に堆積させることを特徴とする、上に定義されるスペーサを製造するための方法に関する。ここで、堆積のために用いられるガラスは、この組成物が堆積の間に変性される場合にも、最終製品においてそれが上に定義される組成を有するように選択される組成を有する。
【００６８】
コアは以下の一連の操作により製造することが可能である：
有利にはすべての側面が磨かれている多角形断面の予備成形棒状体を延伸し；
延伸された棒状体をいくつかのロッドへ切断し；
それらが適切に保持されるようにして、互いに平行になるようにこれらのロッドをまとめ；
スペーサを形成するために所望の長さへ切断し；
場合により、スペーサの末端を全て一緒に研磨し；そして
スペーサを互いにバラバラにする。ここで１又は複数のコーティング層を堆積させる操作は、延伸される前の予備成形棒状体、及び／又は所望の長さに切断される前のロッド、及び／又はまとめられたスペーサの末端、及び／又は個々のスペーサに行う。
【００６９】
ここで、コーティングは、
延伸される前の予備成形棒状体に堆積させ、コアと同時にコーティング層を延伸すること；又は
有利には、所望の長さに切断される前のロッド（又は繊維）に直接に堆積させること；又は
予備成形棒状体の延伸及び切断後に、形成されたコアに堆積させること、
が可能である。
【００７０】
最初の二つのケースでは最終スペーサの側面のみが当該コーティングを有し；第３のケースでは場合により１つの面を除いて、スペーサのすべての面が被覆される。
【００７１】
コア製造のためのヨーロッパ特許公開第０６２７３８９号で公知の方法が思い出される。ここでは、予備成形棒状体は、ガラスをロッドに延伸することを可能とする加熱リングに通過させ、得られたロッドを、互いに平行にまとめ、適切な結合剤、例えば低融点ワックス又は接着剤で一緒に固める。棒状体は高温で加熱リングを通過するので、ロッドの側面がさらなる研磨（フレークなどの欠陥の数及び寸法を減少させるために）を行わねばならないことを避けるに十分な「炎磨き（ｆｉｒｅ  ｐｏｌｉｓｈ）」外見を有することは、強調されるべきである。ロッドは、全て一緒に切断し、場合によってはガラス断面を機械的に研磨して、スペーサを形成する。このスペーサは、結合剤を融解するか又は溶解することによって回収される。この操作手順は、正確な寸法を低コストで得ることを可能とする。
【００７２】
本発明による方法を実施する第１の方法では、１又は複数のコーティング層は蒸着により形成する。この方法は、
少なくとも１つのコーティングされる要素を真空容器中で支持体上に正確に配置し、この真空容器中に、蒸着させるガラスを保持する耐熱容器を配置すること、及び
ガラスが昇華し、コーティングされる１又は複数の要素の表面上にコーティング層を形成する条件を造り出すために、比較的低い（一般に、少なくとも２０℃比較的低い）温度にコーティングされる１又は複数の要素を維持しながら、耐熱容器を５００〜２０００℃の温度に加熱すること、
からなる段階を含む。
【００７３】
実施の第２の方法では、１又は複数のコーティング層をスパッタリングにより形成する。この方法は、
低圧でガスを保持する容器中に、堆積させるガラスから形成され、且つコーティングされる少なくとも１つの要素に向かい合っているターゲットを配置すること、
容器中に保持されているガスをイオン化させる（プラズマを形成する）こと、及び
ガス粒子がターゲットに衝突し、そこから材料を分離し、次にその材料がコーティングされる１又は複数の要素上に堆積するように、ターゲットの電位を制御すること、
からなる段階を含む。
【００７４】
これら二つの実施方法のいずれにおいても、酸化還元は、表面電荷の値に影響を及ぼすコーティングの特性、特に電子導電性に関して重要な役割を演じることは指摘されるべきである。ある種の堆積条件下では、既に示したように、酸化還元及び／又はコーティングを形成するガラスの組成は、るつぼ中に配置される初期のガラス（蒸着の場合）又はターゲットを形成するガラス（スパッタリングの場合）の組成とは異なることがある。
【００７５】
本発明の方法を実施する特定の方法では、コーティングガラス層を堆積させる前に、コーティングの接着性又は結合性を改善する少なくとも１つの剤の層を、コーティングされる要素に堆積させることが可能である。また酸化性又は還元性雰囲気での熱処理は、電子導電性及び／又は第２放出係数及び／又は誘電特性及び／又はコーティングの結合性を調整するために、所望の長さに切断される前のロッド又は最終コアにより形成されるコーティングされた要素に行うことが可能である。
【００７６】
電極として機能する金属コーティングは、最終的なスペーサ上に形成することが可能である。これを行うために、例えば既に公知である技術を用いて、延伸される前の予備成形棒状体、及び／又は個々のロッド、及び／又はまとめられたスペーサ及び／又は個々のスペーサに、金属をスパッタ又は蒸着することが可能である。
【００７７】
本発明はまた、上記で定義される方法により得られるスペーサに関し、少なくとも２枚のガラス板を含むディスプレイスクリーン、真空型グレージング及びフラットランプのためのスペーサとしての、上記で定義されるスペーサ又は上記で定義される方法により製造されるスペーサの使用に関し、及び上記で定義されるスペーサ又は上記で定義される方法により製造されるスペーサにより分離される少なくとも２枚のガラス板を含む、ディスプレイスクリーン、とりわけプラズマ又は電界放出型のディスプレイスクリーン、特に電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）型のディスプレイスクリーン、真空型グレージング及びフラットランプに関する。
【実施例】
【００７８】
以下の実施例は本発明を説明するが、その範囲を限定しない。
【００７９】
これらの実施例において、
・σはガラスの導電率を示し、Ω-1・ｃｍ-1の単位で表される。これはイオン及び電子導電率の合計値である。層の導電率は以下のやり方で測定する。層を、薄い電極を有する基板上に堆積させる。導電率は、既知の電位差が二つの電極間に提供され、層の厚さ、電極の長さ及びこれら電極を分離する距離が測定されている場合、電流の測定値から推定する。更に、測定値を５０〜１００℃で変動する温度に対して検証した。次に、種々の周波数及び種々の温度での測定によって、又はこれらの試験片に温度１００℃及びＤＣ電圧１００ボルトの試験を行ったときの導電率の変化を観察することによって、電子導電率をイオン導電率から識別する。イオン導電性試料の場合、時間の関数としての導電率の急激な減少が見られる。この導電率の減少は、電場において容易に移動するイオン、例えばＮａイオンの移動によるものである。他方、電子導電性試験片の場合には、導電率は時間を通してほぼ一定である。
【００８０】
・Ｅは弾性率、すなわちヤング率を表す。
Ｅは、検討対象ガラスから作製した１００×１０×４ｍｍ3の寸法の試験片での４点曲げ試験により測定した。試験片を切り出す棒状体は、最初に１０13ポアズの粘度に相当する温度で１時間にわたり焼きなましを行い、次に２℃／分の速度で室温に戻した。
【００８１】
・Ｔ歪（歪点）は１０14.5ポアズの粘度に相当する温度である。
【００８２】
・αは２０〜３００℃で測定される膨張係数である。
【００８３】
・ｄはガラスの密度である。
【００８４】
実施例１
国際公開９９／５６３０２号の図４に記載の形状を有するスペーサのコアの第１バッチ（ＳＣ１）を、ヨーロッパ特許公開第０６２７３８９号、国際公開９９／５６３０２号又は国際公開０１／６６４７８号等に記載されている延伸装置中で、予備成形棒状体から出発して製造した。モル％で表されるコアＳＣ１のガラス組成、及び相当するσ、Ｅ、Ｔ歪、α及びｄの値は以下の表１に与えられる。
【００８５】
この延伸加工では、予備成形棒状体と得られるスペーサ・コアとの間でほとんど同じ断面形状を維持することが可能である。
【００８６】
すべての面を研磨された予備成形棒状体（ａ＝１ｍｍ；ｂ＝２１ｍｍ）を延伸装置中で延伸した後、延伸された棒状体をいくつかのロッド（ａ＝０．１ｍｍ；ｂ＝２．１ｍｍ）に切断し、複数のロッドを一緒にまとめて、それのロッドを一緒に適切に保持し、３ｍｍの長さに切断し、ロッドの端をすべて一緒に機械的に研磨し、ロッドを互いに分離して、コアＳＣ１を得た。この方法はヨーロッパ特許公開第０６２７３８９号に記載されている。
【００８７】
真空を生み出すことができる試験容器中に、試験片ホルダー又は支持体上に配列されたコアＳＣ１、及びコアＳＣ１上に堆積させるコーティングガラスＣＧを保持するモリブデンのるつぼを配置した。
【００８８】
ガラスＣＧの組成はモル％で以下であった：
ＳｉＯ2 ・・・・・・・・・・６３．３
Ｆｅ2Ｏ3・・・・・・・・・・１１．５
Ｖ2Ｏ5・・・・・・・・・・・  １．５
Ａｌ2Ｏ3・・・・・・・・・・  ０．２
Ｎａ2Ｏ ・・・・・・・・・・  ２．７
ＳｒＯ・・・・・・・・・・・  ６．０
ＢａＯ・・・・・・・・・・・１４．８
計  １００
【００８９】
ガラスＣＧは以下の特性を有していた：
５０℃でのσ（Ω-1・ｃｍ-1）：８×１０-11
Ｅ（ＧＰａ）                  ：８１
Ｔ歪（℃）                    ：５４８
α（１０-7Ｋ-1）              ：８１
ｄ                            ：３．５１
【００９０】
約１０-6ｍｂａｒの絶対圧を試験容器中で確立し、２００ｎｍ厚さのガラスＣＧ層を１ｎｍ／秒の速度で堆積させた。堆積段階の間、コアＳＣ１が保持されている試験片ホルダーを、コアのすべての面上に均一な厚さの層を得るために回転させた。
【００９１】
実施例２及び３
コアガラスＳＣ１をそれぞれコアガラスＳＣ２及びＳＣ３に代えて実施例１を繰り返した。コアガラスＳＣ２及びＳＣ３の組成及びσ、Ｅ、Ｔ歪、α及びｄ値を表１に与える。
【００９２】
実施例１〜３のスペーサの表面層を形成するガラスＣＧｃを、ＳＩＭＳにより分析した。その組成はモル％で以下に示している：
ＳｉＯ2 ・・・・・・・・・６６．３
Ｆｅ2Ｏ3・・・・・・・・・２６．５
Ｖ2Ｏ5・・・・・・・・・・  ３．３
Ａｌ2Ｏ3・・・・・・・・・  ０．１
Ｎａ2Ｏ ・・・・・・・・・  ２．２
ＳｒＯ・・・・・・・・・・  ０．１
ＢａＯ・・・・・・・・・・  １．５
計  １００
【００９３】
ガラスＣＧと比べて、ガラスＣＧｃは、電子導電率を改善するのに寄与する遷移元素Ｆｅ及びＶの酸化物を多く含んでいた。
【００９４】
ガラスＣＧｃは、２０℃で測定される導電率σ、３×１０-7Ω-1・ｃｍ-1を有した。この値は、同じ条件下で測定されるガラスＣＧに対して得られたσ値、８×１０-12Ω-1・ｃｍ-1よりも極めて大きい。融解試験により、ガラスＣＧｃは可融性でないことが示された：これは融剤として機能するアルカリ土類金属Ｎａ、Ｓｒ及びＢａの酸化物の低含量のせいであると考えられる。
【００９５】
蒸着によりコア上にコーティングガラスを堆積させることは、それが出発ガラスよりも高い電子導電率レベルを達成すること、また全体として非可融性であるガラス層を形成することを可能とするので、特に有利である。
【００９６】
実施例１〜３のスペーサ及びガラスＳＣ１製の基板で形成されるＦＥＤ型スクリーンは、スペーサ近辺で何らの暗化／輝化現象も、いかなるエージングも示さなかった。スクリーンの機械的完全性は、特に端を密封する段階の間、満足の行くものであった。
【００９７】
【表１】
2005527458.tif 000002
【国際調査報告】
2005527458.tif 000003
2005527458.tif 000004
2005527458.tif 000005
2005527458.tif 000006
2005527458.tif 000007
2005527458.tif 000008