(57)【要約】【課題】従来よりも大きいファラデー効果を示すガラス材を提供する。【解決手段】ＥｕＯを含有するガラス材を製造するための方法であって、  成形型の成形面に開口するガス噴出孔から還元性ガス及び不活性ガスから選択される少なくとも１種のガスを噴出させることにより、成形面の上方にガラス原料塊を浮遊させて保持した状態で加熱融解させて溶融ガラスを得た後に、溶融ガラスを冷却する工程を備えることを特徴とする、ガラス材の製造方法。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＥｕＯを含有するガラス材を製造するための方法であって、
成形型の成形面に開口するガス噴出孔から還元性ガス及び不活性ガスから選択される少なくとも１種のガスを噴出させることにより、成形面の上方にガラス原料塊を浮遊させて保持した状態で加熱融解させて溶融ガラスを得た後に、溶融ガラスを冷却する工程を備えることを特徴とする、ガラス材の製造方法。
【請求項２】
ガラス材が、モル％で、ＥｕＯを４０％以上含有することを特徴とする請求項１に記載のガラス材の製造方法。
【請求項３】
ガラス材が、さらに、モル％で、Ｂ２Ｏ３  ０〜６０％、Ｐ２Ｏ５  ０〜６０％、ＳｉＯ２  ０〜６０％、Ａｌ２Ｏ３  ０〜６０％を含有することを特徴とする請求項１または２に記載のガラス材の製造方法。
【請求項４】
ガラス材が、モル％で、Ｂ２Ｏ３＋Ｐ２Ｏ５＋ＳｉＯ２  ０〜６０％を含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のガラス材の製造方法。
【請求項５】
ガスとして、還元性ガスを使用することを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のガラス材の製造方法。
【請求項６】
ガスとして、還元性ガスとして水素を使用することを特徴とする請求項５に記載のガラス材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光アイソレータ、光サーキュレータ、磁気センサ、磁気メモリ、磁気光学読み取り装置等の磁気デバイスを構成する磁気光学素子等の磁性材料に好適なガラス材の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁性化合物である酸化ユーロピウムを含むガラス材は、磁気光学効果の一つであるファラデー効果を示すことが知られている。ファラデー効果とは、磁場中におかれた材料を通過する直線偏光の偏光面を回転させる効果である。このような効果は光アイソレータや磁界センサなどに利用されている。
【０００３】
ファラデー効果による旋光度（偏光面の回転角）θは、磁場の強さをＨ、偏光が通過する物質の長さをＬとして、以下の式により表される。式中において、Ｖは物質の種類に依存する定数であり、ベルデ定数と呼ばれる。ベルデ定数は反磁性体の場合は正の値、常磁性体の場合は負の値となる。ベルデ定数の絶対値が大きいほど、旋光度の絶対値も大きくなり、結果として大きなファラデー効果を示す。
【０００４】
θ＝ＶＨＬ
【０００５】
従来、酸化ユーロピウムを用いたファラデー効果を示すガラス材として、Ｂ２Ｏ３−Ａｌ２Ｏ３−ＥｕＯ系のガラス材（非特許文献１参照）等が知られている。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００６】
【非特許文献１】Journal of the American Ceramic Society, volume 49, (1966), p.261
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ファラデー回転素子等の磁気光学素子に対して、近年ますます小型化が求められているため、小さな部材でも十分な旋光度を示すよう、さらなるファラデー効果の向上が要求されている。
【０００８】
以上に鑑み、本発明は、従来よりも大きいファラデー効果を示すガラス材の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明のガラス材の製造方法は、ＥｕＯを含有するガラス材を製造するための方法であって、成形型の成形面に開口するガス噴出孔から還元性ガス及び不活性ガスから選択される少なくとも１種のガスを噴出させることにより、成形面の上方にガラス原料塊を浮遊させて保持した状態で加熱融解させて溶融ガラスを得た後に、溶融ガラスを冷却する工程を備えることを特徴とする。
【００１０】
本発明のガラス材の製造方法は、ガラス原料塊を浮遊させた状態で溶融する、いわゆる無容器浮遊法に関するものである。ＥｕＯを含有する組成、特にＥｕＯを多量に含む組成の場合、ガラス化が困難な場合が多いが、当該方法によれば、溶融容器を用いた通常の溶融方法ではガラス化が困難な組成であっても、失透を伴わずにガラス化させることが可能となる。
【００１１】
また本発明の製造方法では、還元性ガス及び不活性ガスから選択される少なくとも１種のガスを用いてガラス原料塊を浮遊させることを特徴とする。Ｅｕは一般にガラス中にＥｕ２＋またはＥｕ３＋の状態で存在しており、これらのうちＥｕ２＋が磁気光学効果を示す。それゆえ、これらのガスを使用することにより、Ｅｕを還元したりＥｕの酸化を抑制して、全Ｅｕ成分に占めるＥｕ２＋の割合を効果的に高めることができる。
【００１２】
なお、ガラス中のＥｕ含有量が多くなるにつれて、Ｅｕ成分は還元されにくくなるため、Ｅｕ２＋の割合を増やすためには、より高温での溶融が望ましい。本発明の製造方法によれば、通常の溶融容器を用いた溶融法よりも高温での溶融が可能であるため、Ｅｕの含有量が多い場合であっても、Ｅｕ２＋の割合を効果的に高めることができる。結果として、大きなファラデー効果を示すガラス材を得ることが可能となる。
【００１３】
本発明のガラス材の製造方法において、ガラス材が、モル％で、ＥｕＯを４０％以上含有することが好ましい。このようにすれば、大きなファラデー効果を示すガラス材が得られやすくなる。また、既述の通り、無容器浮遊法を適用した場合の効果が享受しやすい。
【００１４】
本発明のガラス材の製造方法において、ガラス材が、さらに、モル％で、Ｂ２Ｏ３  ０〜６０％、Ｐ２Ｏ５  ０〜６０％、ＳｉＯ２  ０〜６０％、Ａｌ２Ｏ３  ０〜６０％を含有することが好ましい。Ｂ２Ｏ３、Ｐ２Ｏ５、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３はガラス骨格を構成する成分であるため、これらの成分を含有させることにより、比較的容易にガラス化を行うことができる。
【００１５】
本発明のガラス材の製造方法において、ガラス材が、モル％で、Ｂ２Ｏ３＋Ｐ２Ｏ５＋ＳｉＯ２  ０〜６０％を含有することが好ましい。なお、本明細書において、「○＋○＋・・・」は該当する各成分の合量を意味する。
【００１６】
本発明のガラス材の製造方法において、ガスとして、還元性ガスを使用することが好ましい。このようにすれば、溶融中にＥｕが還元されて全Ｅｕ成分に占めるＥｕ２＋の割合を効果的に高めることができる。
【００１７】
本発明のガラス材の製造方法において、ガスとして、還元性ガスとして水素を使用することが好ましい。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、従来よりも大きいファラデー効果を示すガラス材を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明に従い、ガラス材を製造するための装置の一実施形態を示す模式的断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
図１は、本発明の方法によりガラス材を作製するための製造装置の一例を示す模式的断面図である。以下、図１を参照しながら、ガラス材の製造方法について説明する。
【００２１】
ガラス材の製造装置１は成形型１０を有する。成形型１０は溶融容器としての役割も果たす。成形型１０は、成形面１０ａと、成形面１０ａに開口している複数のガス噴出孔１０ｂとを有する。ガス噴出孔１０ｂは、ガスボンベなどのガス供給機構１１に接続されている。このガス供給機構１１からガス噴出孔１０ｂを経由して、成形面１０ａにガスが供給される。ガスの種類は、一酸化炭素、水素等の還元性ガスや、窒素、アルゴン、ヘリウム、二酸化炭素等の不活性ガスを、単独または二種以上を混合して使用することができる。なかでも、全ＥｕにおけるＥｕ２＋の割合を高めるため、還元性ガスを使用することが好ましく、特に安全性の観点からは水素と不活性ガスの混合ガスを用いることが好ましい。
【００２２】
製造装置１を用いてガラス材を製造するに際しては、まず、ガラス原料塊１２を成形面１０ａ上に配置する。ガラス原料塊１２としては、例えば、原料粉末をプレス成型等により一体化したものや、原料粉末をプレス成型等により一体化した後に焼結させた焼結体や、目標ガラス組成と同等の組成を有する結晶の集合体等が挙げられる。
【００２３】
次に、ガス噴出孔１０ｂからガスを噴出させることにより、ガラス原料塊１２を成形面１０ａ上で浮遊させる。すなわち、ガラス原料塊１２を、成形面１０ａに接触していない状態で保持する。その状態で、レーザー光照射装置１３からレーザー光をガラス原料塊１２に照射する。なお、ガラス原料塊１２が成形面１０ａに接触した状態で、レーザー光照射装置１３からレーザー光をガラス原料塊１２に照射し、その後ガラス原料塊１２が溶解する過程で、あるいは溶解完了と同時に、ガラス原料塊１２が成形面１０ａ上に浮遊させるようにしてもよい。このようにしてガラス原料塊１２を加熱溶融してガラス化させ、溶融ガラスを得る。なお、加熱溶融する方法としては、レーザー光を照射する方法以外にも、輻射加熱であってもよい。
【００２４】
その後、溶融ガラスを冷却することにより、ガラス材を得ることができる。ガラス原料塊１２を加熱溶融する工程と、溶融ガラス、さらにはガラス材の温度が少なくとも軟化点以下となるまで冷却する工程においては、少なくともガスの噴出を継続し、ガラス原料塊１２、溶融ガラス、さらにはガラス材と成形面１０ａとの接触を抑制することが好ましい。
【００２５】
なお、得られたガラス材をアニールする場合は、不活性雰囲気または還元性雰囲気で行うことが好ましい。そのようにすれば、Ｅｕ２＋からＥｕ３＋への酸化が抑制される。使用する還元性ガスとしては、一酸化炭素、水素等が挙げられ、不活性ガスとしては、窒素、アルゴン、ヘリウム、二酸化炭素等が挙げられる。Ｅｕ成分の酸化を効果的に抑制する観点からは還元性雰囲気が好ましく、なかでも安全性の観点からは水素と不活性ガスの混合ガスの雰囲気であることが好ましい。
【００２６】
アニール温度は、ガラス材のガラス転移点±５０℃、特にガラス転移点±３０℃であることが好ましい。熱処理温度が低すぎると、歪が十分に除去されにくい。一方、熱処理温度が高すぎると、失透しやすくなる。
【００２７】
熱処理時間は０．５時間以上、特に１時間以上であることが好ましい。熱処理時間が短すぎると、歪が十分に除去されにくい。一方、熱処理時間の上限は特に限定されないが、長すぎてもさらなる効果が得られず、エネルギーロスにつながるため、１００時間以下、５０時間以下、特に１０時間であることが好ましい。
【００２８】
本発明の製造方法により得られるガラス材は、モル％でＥｕＯを４０モル％以上、５０％以上、５８％以上、５９％以上、特に６０％以上含有することが好ましい。ＥｕＯの含有量が少なすぎると、ベルデ定数の絶対値が小さくなり、十分なファラデー効果が得られにくくなる。ＥｕＯの含有量の上限は特に限定されないが、ガラス化の安定性を考慮して、９５％以下、９０％以下、特に８０％以下であることが好ましい。
【００２９】
なお、本発明におけるＥｕＯの含有量は、ガラス中に存在するＥｕを全て２価の酸化物に換算して表したものである。
【００３０】
ガラス材におけるＥｕ２＋の割合が大きいほど、ファラデー効果が大きくなるため好ましい。具体的には、全Ｅｕ中におけるＥｕ２＋の割合は、モル％で、５０％以上、６０％以上、７０％以上、８０％以上、特に９０％以上であることが好ましい。
【００３１】
ガラス材には、ＥｕＯ以外にも、以下に示す種々の成分を含有させることができる。なお、以下の各成分の含有量に関する説明において、特に断りのない限り、「％」は「モル％」を意味する。
【００３２】
Ｂ２Ｏ３は主なガラス骨格となり、ガラス化範囲を広げる成分である。ただし、Ｂ２Ｏ３は磁化率の向上に寄与しないため、その含有量が多すぎると十分なファラデー効果が得られにくくなる。従って、Ｂ２Ｏ３の含有量は０〜６０％、０〜５０％、０〜４２％、１〜４１％、１〜４０％、特に２〜３５％であることが好ましい。
【００３３】
Ｐ２Ｏ５はガラス骨格となり、ガラス化範囲を広げる成分である。ただし、Ｐ２Ｏ５は磁化率の向上に寄与しないため、その含有量が多すぎると十分なファラデー効果が得られにくくなる。従って、Ｐ２Ｏ５の含有量は０〜６０％、０〜５０％、０〜４２％、１〜４１％、１〜４０％、特に２〜３５％であることが好ましい。
【００３４】
ＳｉＯ２はガラス骨格となり、ガラス化範囲を広げる成分である。ただし、ＳｉＯ２は磁化率の向上に寄与しないため、その含有量が多すぎると十分なファラデー効果が得られにくくなる。従って、ＳｉＯ２の含有量は０〜６０％、０〜５０％、０〜４２％、０〜４０％、特に０〜３５％（ただし０％は含まない）であることが好ましい。
【００３５】
なお、ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３の含有量は０〜６０％、０〜５０％、０〜４２％、１〜４１％、１〜４０％、特に２〜３５％であることが好ましい。Ｂ２Ｏ３＋Ｐ２Ｏ５の含有量は０〜６０％、０〜５０％、０〜４２％、１〜４１％、１〜４０％、特に２〜３５％であることが好ましい。ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３＋Ｐ２Ｏ５の含有量は０〜６０％、０〜５０％、０〜４２％、１〜４１％、１〜４０％、特に２〜３５％であることが好ましい。
【００３６】
Ａｌ２Ｏ３は中間酸化物としてガラス骨格を形成し、ガラス化範囲を広げる成分である。ただし、Ａｌ２Ｏ３は磁化率の向上に寄与しないため、その含有量が多すぎると十分なファラデー効果が得られにくくなる。従って、Ａｌ２Ｏ３の含有量は０〜６０％、０〜５０％、０〜４２％、１〜４１％、０〜４０％、０〜３５％、０〜３０％（ただし０％を含まない）であることが好ましい。
【００３７】
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯはガラス化の安定性を高める効果や、化学的耐久性を高める効果がある。ただし、磁化率の向上に寄与しないため、その含有量が多すぎると十分なファラデー効果が得られにくくなる。従って、これらの成分の含有量は各々０〜１０％、特に０〜５％であることが好ましい。
【００３８】
Ｔｂ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、Ｅｒ２Ｏ３、Ｔｍ２Ｏ３、Ｄｙ２Ｏ３、ＣｅＯ２はガラス化の安定性を高めるとともに磁化率の向上にも寄与する。ただし、その含有量が多すぎるとかえってガラス化しにくくなる。よって、Ｔｂ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、Ｅｒ２Ｏ３、Ｔｍ２Ｏ３、Ｄｙ２Ｏ３、ＣｅＯ２の含有量は各々０〜１５％、特に０〜１０％であることが好ましい。
【００３９】
Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３はガラス化の安定性を高める効果があるが、その含有量が多すぎるとかえってガラス化しにくくなってしまう。よって、これらの成分の含有量は各々０〜１０％、特に０〜５％であることが好ましい。
【００４０】
Ｇａ２Ｏ３はガラス形成能を高め、ガラス化範囲を広げる効果を有する。ただし、その含有量が多すぎると、かえって失透しやすくなる。また、Ｇａ２Ｏ３は磁化率の向上に寄与しないため、その含有量が多すぎると十分なファラデー効果が得られにくくなる。従って、Ｇａ２Ｏ３の含有量は０〜６％、特に０〜５％であることが好ましい。
【００４１】
ＧｅＯ２はガラス骨格となり、ガラス化範囲を広げる効果がある。ただし、ＧｅＯ２は磁化率の向上に寄与しないため、その含有量が多すぎると十分なファラデー効果が得られにくくなる。また、バッチコストが高くなる傾向がある。従って、ＧｅＯ２の含有量は０〜２０％、０〜１０％、特に０〜５％であることが好ましい。
【００４２】
フッ素はガラス形成能を高め、ガラス化範囲を広げる効果を有する。ただし、その含有量が多すぎると溶融中に揮発して組成変動を引き起こしたり、ガラス化の安定性に悪影響を及ぼす恐れがある。従って、フッ素の含有量（Ｆ２換算）は０〜１０％、０〜７％、特に０〜５％であることが好ましい。
【００４３】
還元剤としてＳｂ２Ｏ３を添加することができる。ただし、着色を避けるため、あるいは環境への負荷を考慮して、Ｓｂ２Ｏ３の含有量は０．１％以下であることが好ましい。
【実施例】
【００４４】
以下、本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００４５】
表１は本発明の実施例及び比較例を示している。
【００４６】
【表１】
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【００４７】
まず、表１に示したガラス組成になるように調合した原料をプレス成型し、８００〜１４００℃で６時間焼結することによりガラス原料塊を作製した。次に、乳鉢中でガラス原料塊を粗粉砕し、０．０５〜１．５ｇの小片とした。得られたガラス原料塊の小片を用いて、図１に準じた装置を用いた無容器浮遊法によってガラス材（直径約１〜１０ｍｍ）を作製した。なお、熱源としては１００Ｗ  ＣＯ２レーザー発振器を用いた。
【００４８】
実施例１〜７では、ガラス原料塊を成形面の上方に浮遊させるためのガスとして、体積％で、Ｈ２  ４％、Ｎ２  ９６％の混合ガスを用いた。一方、比較例ではＯ２ガスを用いた。
【００４９】
なお、得られたガラス材に対し、各ガラス材のガラス転移点にて、Ｎ２雰囲気で３時間熱処理を行った。
【００５０】
全Ｅｕに対するＥｕ２＋の割合は、１５１Ｅｕメスバウアー分光法を用いて測定した。γ線源には１５１Ｓｍ２Ｏ３を用い、室温にて測定を行った。
【００５１】
ベルデ定数は、回転検光子法を用いて測定した。具体的には、得られたガラス材を１ｍｍの厚さとなるよう研磨加工し、１０ｋＯｅの磁場中で波長５００〜１１００ｎｍの範囲におけるファラデー回転角を測定し、波長６３３ｎｍでのベルデ定数を算出した。
【００５２】
表１から明らかなように実施例１〜７のガラス材は−０．８５〜−１．２３のベルデ定数を示した。一方、比較例であるＮｏ．８のガラス材のベルデ定数は−０．１０であり、絶対値が小さかった。これはガラス原料塊を浮遊させるためのガスにＯ２ガスを用いたことにより、Ｅｕ２＋からＥｕ３＋への酸化が進み、全Ｅｕ成分に占めるＥｕ２＋の割合が低減したためである。
【産業上の利用可能性】
【００５３】
本発明の方法により製造されるガラス材は、アイソレータ、光サーキュレータ、磁気センサ、磁気メモリ、磁気光学読み取り装置等の磁気デバイスを構成する、ファラデー回転子やカー回転子等の磁気光学素子として好適である。
【符号の説明】
【００５４】
１：ガラス材の製造装置
１０：成形型
１０ａ：成形面
１０ｂ：ガス噴出孔
１１：ガス供給機構
１２：ガラス原料塊
１３：レーザー光照射装置
【図１】
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