(57)【要約】      （修正有）【課題】隣り合っている発光構造物の最小絶縁距離よりも非発光領域の大きさ及び面積を減少させ、且つ、隣り合っている発光構造物が短い水平距離にもかかわらず十分に絶縁され得るディスプレイ装置を提供する。【解決手段】互いに異なる色を具現し、隣接して位置する発光領域上に位置する発光構造物が下部基板１１０を基準に異なる高さを有するようにし、隣り合っている発光領域の間に位置する非発光領域の大きさを減少させる。本発明によるディスプレイ装置は、下部基板の第１発光領域上に位置する第１発光構造物と下部基板の第１発光領域と異なる色を具現する第２発光領域上に位置する第２発光構造物とを備え、下部基板と第２発光構造物との間の垂直距離は、下部基板と第１発光構造物との間の垂直距離より大きくなるように構成されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部基板の第１発光領域上に位置する第１発光構造物と、
前記下部基板の前記第１発光領域と異なる色を具現する第２発光領域上に位置する第２発光構造物と、を含み、
前記下部基板と前記第２発光構造物との間の垂直距離は、前記下部基板と前記第１発光構造物との間の垂直距離より大きい、ディスプレイ装置。
【請求項２】
前記第２発光構造物の垂直長さは、前記第１発光構造物の垂直長さと同一である、請求項１に記載のディスプレイ装置。
【請求項３】
前記下部基板の前記第１発光領域及び前記第２発光領域と異なる色を具現する第３発光領域上に位置する第３発光構造物をさらに含み、
前記下部基板と前記第３発光構造物との間の垂直距離は、前記下部基板と前記第１発光構造物との間の垂直距離と同一である、請求項１に記載のディスプレイ装置。
【請求項４】
前記第２発光領域は前記第１発光領域と前記第３発光領域との間に位置する、請求項３に記載のディスプレイ装置。
【請求項５】
前記下部基板と前記第１発光構造物との間に位置し、前記下部基板と前記第２発光構造物との間に延びる下部絶縁膜と、
前記下部絶縁膜と前記第２発光構造物との間に位置する上部絶縁膜と、
をさらに含む、請求項１に記載のディスプレイ装置。
【請求項６】
前記上部絶縁膜は前記下部絶縁膜と異なる物質を含む、請求項５に記載のディスプレイ装置。
【請求項７】
前記下部絶縁膜は、前記第１発光構造物の下部電極が延びる第１下部コンタクトホール、及び前記第２発光構造物の下部電極が延びる第２下部コンタクトホールを含み、
前記第２下部コンタクトホールの大きさは前記第１下部コンタクトホールの大きさより大きい、請求項５に記載のディスプレイ装置。
【請求項８】
前記上部絶縁膜は前記第１発光構造物の下部電極の縁を覆う、請求項７に記載のディスプレイ装置。
【請求項９】
前記上部絶縁膜は前記第２下部コンタクトホールの内側に延びる、請求項７に記載のディスプレイ装置。
【請求項１０】
前記上部絶縁膜は、前記第２発光構造物の下部電極で埋められる上部コンタクトホールを含み、
前記上部コンタクトホールは前記第２下部コンタクトホールの内側に延びる、請求項９に記載のディスプレイ装置。
【請求項１１】
下部基板上に位置する下部オーバーコート層と、
前記下部オーバーコート層上に位置し、互いに離隔している第１発光構造物と、
前記第１発光構造物との間に位置する上部オーバーコート層と、
前記上部オーバーコート層上に位置する第２発光構造物と、
を含むディスプレイ装置。
【請求項１２】
前記上部オーバーコート層は前記下部オーバーコート層と同じ物質を含む、請求項１１に記載のディスプレイ装置。
【請求項１３】
前記上部オーバーコート層の側面は逆テーパー形状を有する、請求項１１に記載のディスプレイ装置。
【請求項１４】
それぞれの第１発光構造物は第１下部電極、第１発光層、及び第１上部電極を含み、
それぞれの第２発光構造物は第２下部電極、第２発光層、及び第２上部電極を含み、
前記第２下部電極、前記第２発光層、及び前記第２上部電極はそれぞれ、前記第１下部電極、前記第１発光層、及び前記第１上部電極と同じ物質を含む、請求項１３に記載のディスプレイ装置。
【請求項１５】
前記第２下部電極及び前記第２発光層はそれぞれ前記第１下部電極及び前記第１発光層と離隔している、請求項１４に記載のディスプレイ装置。
【請求項１６】
前記第１発光構造物と重なり、前記下部オーバーコート層を貫通する第１貫通ホールと、
前記第２発光構造物と重なり、前記下部オーバーコート層及び前記上部オーバーコート層を貫通する第２貫通ホールと、
をさらに含み、
前記第１貫通ホールの側面及び前記第２貫通ホールの側面は逆テーパー形状を有する、請求項１３に記載のディスプレイ装置。
【請求項１７】
前記第１貫通ホール内に位置し、第１コンタクトホールを含む第１中間絶縁膜と、
前記第２貫通ホール内に位置し、第２コンタクトホールを含む第２中間絶縁膜と、
をさらに含み、
前記第１コンタクトホールの側面及び前記第２コンタクトホールの側面は正テーパー形状を有する、請求項１６に記載のディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、互いに異なる色を具現する発光領域を含むディスプレイ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、モニタ、ＴＶ、ノートパソコン、デジタルカメラなどのような電子機器は、映像を具現するためのディスプレイ装置を含む。例えば、上記ディスプレイ装置は液晶表示装置及び有機発光表示装置を含む。
【０００３】
上記ディスプレイ装置は、互いに異なる色を具現する発光領域を含むことができる。例えば、上記ディスプレイ装置は、青色を具現する青色発光領域、赤色を具現する赤色発光領域、緑色を具現する緑色発光領域、及び白色を具現する白色発光領域を含むことができる。
【０００４】
上記ディスプレイ装置の各発光領域上には、特定の色を具現する光を生成する発光構造物が位置し得る。例えば、それぞれの発光構造物は、順に積層された下部電極、発光層及び上部電極を含むことができる。隣接して位置する発光構造物は独立して駆動することができる。例えば、それぞれの発光構造物の下部電極は、隣接して位置する発光構造物の下部電極と離隔及び絶縁され得る。
【０００５】
上記ディスプレイ装置において、隣り合っている発光領域の間の距離は解像度に反比例し得る。例えば、上記ディスプレイ装置は、隣り合っている発光領域の間に位置する非発光領域の大きさ及び面積を減らして高解像度を具現することができる。しかしながら、隣り合っている発光構造物の下部電極の間を十分に絶縁するためには、隣り合っている発光領域の間が一定以上の水平距離を維持する必要がある。したがって、上記ディスプレイ装置は、解像度を高めるために、非発光領域の大きさ及び面積を減少させるには限界があるという問題点があった。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明が解決しようとする課題は、隣り合っている発光構造物の最小絶縁距離よりも非発光領域の大きさ及び面積を減少し得るディスプレイ装置を提供することである。
【０００７】
本発明が解決しようとする他の課題は、隣り合っている発光構造物が短い水平距離にもかかわらず十分に絶縁され得るディスプレイ装置を提供することである。
【０００８】
本発明が解決しようとする課題は、上述の課題に限定されない。ここで述べていない課題は、以下の記載から、通常の技術者にとって明確に理解されるだろう。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記解決しようとする課題を達成するための本発明の技術的思想によるディスプレイ装置は、下部基板の第１発光領域上に位置する第１発光構造物、及び下部基板の第１発光領域と異なる色を具現する第２発光領域上に位置する第２発光構造物を含む。下部基板と第２発光構造物との間の垂直距離は、下部基板と第１発光構造物との間の垂直距離より大きい。
【００１０】
第２発光構造物の垂直長さは第１発光構造物の垂直長さと同一であってもよい。
【００１１】
前記下部基板の前記第１発光領域及び前記第２発光領域と異なる色を具現する第３発光領域上には第３発光構造物が位置してもよい。下部基板と第３発光構造物との間の垂直距離は、下部基板と第１発光構造物との間の垂直距離と同一であってもよい。
【００１２】
第２発光領域は第１発光領域と第３発光領域との間に位置してもよい。
【００１３】
前記下部基板と前記第１発光構造物との間には下部絶縁膜が位置してもよい。下部絶縁膜は下部基板と第２発光構造物との間に延びてもよい。下部絶縁膜と第２発光構造物との間には上部絶縁膜が位置してもよい。
【００１４】
上部絶縁膜は下部絶縁膜と異なる物質を含んでもよい。
【００１５】
下部絶縁膜は、第１発光構造物の下部電極が延びる第１下部コンタクトホール、及び第２発光構造物の下部電極が延びる第２下部コンタクトホールを含んでもよい。第２下部コンタクトホールの大きさは第１下部コンタクトホールの大きさより大きくてもよい。
【００１６】
上部絶縁膜は第１発光構造物の下部電極の縁を覆ってもよい。
【００１７】
上部絶縁膜は第２下部コンタクトホールの内側に延びてもよい。
【００１８】
上部絶縁膜は第２発光構造物の下部電極で埋められる上部コンタクトホールを含んでもよい。上部コンタクトホールは第２下部コンタクトホールの内側に延びてもよい。
【００１９】
前記解決しようとする他の課題を達成するための本発明の技術的思想によるディスプレイ装置は、下部基板上に位置する下部オーバーコート層を含む。下部オーバーコート層上には第１発光構造物が位置する。第１発光構造物は互いに離隔する。第１発光構造物の間には上部オーバーコート層が位置する。上部オーバーコート層上には第２発光構造物が位置する。
【００２０】
上部オーバーコート層は下部オーバーコート層と同じ物質を含んでもよい。
【００２１】
上部オーバーコート層の側面は逆テーパー形状を有してもよい。
【００２２】
それぞれの第１発光構造物は第１下部電極、第１発光層及び第１上部電極を含んでもよい。それぞれの第２発光構造物は第２下部電極、第２発光層及び第２上部電極を含んでもよい。第２下部電極、第２発光層及び第２上部電極はそれぞれ、第１下部電極、第１発光層及び第１上部電極と同じ物質を含んでもよい。
【００２３】
第２下部電極及び第２発光層はそれぞれ第１下部電極及び第１発光層と離隔してもよい。
【００２４】
第１発光構造物と重なる第１貫通ホールが下部オーバーコート層を貫通してもよい。第２発光構造物と重なる第２貫通ホールが下部オーバーコート層及び上部オーバーコート層を貫通してもよい。第１貫通ホールの側面及び第２貫通ホールの側面は逆テーパー形状を有してもよい。
【００２５】
第１貫通ホール内には第１中間絶縁膜が位置してもよい。第１中間絶縁膜は第１コンタクトホールを含んでもよい。第２貫通ホール内には第２中間絶縁膜が位置してもよい。第２中間絶縁膜は第２コンタクトホールを含んでもよい。第１コンタクトホールの側面及び第２コンタクトホールの側面は正テーパー形状を有してもよい。
【発明の効果】
【００２６】
本発明の技術的思想によるディスプレイ装置は、隣り合っている発光構造物が最小絶縁距離より短い水平距離でも十分に絶縁され得る。これによって、本発明の技術的思想によるディスプレイ装置では非発光領域の大きさ及び面積を発光構造物の間の最小絶縁距離よりさらに減少させることができる。したがって、本発明の技術的思想によるディスプレイ装置では解像度を大きく向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の実施例に係るディスプレイ装置を概略的に示す図である。
【図２】本発明の他の実施例に係るディスプレイ装置を示す図である。
【図３】本発明の他の実施例に係るディスプレイ装置を示す図である。
【図４】本発明の他の実施例に係るディスプレイ装置を示す図である。
【図５Ａ】本発明の実施例に係るディスプレイ装置の形成方法を順次に示す図である。
【図５Ｂ】本発明の実施例に係るディスプレイ装置の形成方法を順次に示す図である。
【図５Ｃ】本発明の実施例に係るディスプレイ装置の形成方法を順次に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
本発明の上述した目的と技術的構成及びそれによる作用効果に関する詳細な事項は、本発明の実施例を示す図面を参照している以下の詳細な説明によって一層明確に理解できるだろう。ここで、本発明の実施例は、当業者に本発明の技術的思想が十分に伝達され得るようにするために提供するものであるから、本発明は以下に説明する実施例に限定されないように他の形態として具体化してもよい。
【００２９】
また、明細書全体にわたって同一の参照番号で表示された部分は同一の構成要素を意味し、図中、層又は領域の長さ及び厚さは便宜のために誇張して表現されることがある。なお、第１構成要素が第２構成要素“上”にあると記載される場合は、上記第１構成要素が上記第２構成要素と直接接触する上側に位置する場合だけでなく、上記第１構成要素と上記第２構成要素との間に第３構成要素が位置する場合も含む。
【００３０】
ここで、上記第１、第２などの用語は様々な構成要素を説明するためのものであり、一つの構成要素を他の構成要素から区別する目的で使われる。ただし、本発明の技術的思想から逸脱しない範囲では第１構成要素と第２構成要素を当業者の便宜によって任意に命名することができる。
【００３１】
本発明の明細書で使う用語は単に特定の実施例を説明するためのものであり、本発明を限定しようとする意図ではない。例えば、単数で表現された構成要素は、文脈において明白に単数だけを意味しない限り、複数の構成要素をも含む。また、本発明の明細書において、「含む」又は「有する」などの用語は、明細書上に記載された特徴、数字、段階、動作、構成要素、部分品又はそれらを組み合わせたものが存在することを指定しようとするものであり、一つ又はそれ以上の他の特徴や数字、段階、動作、構成要素、部分品又はそれらを組み合わせたものの存在又は付加の可能性をあらかじめ排除しないものと理解すべきである。
【００３２】
なお、別に定義されない限り、技術的又は科学的な用語を含めてここで使われる全ての用語は、本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者にとって一般的に理解される意味と同じ意味をもつ。一般に使われる辞書に定義されているのと同じ用語は、関連技術の文脈上で有する意味と一致する意味があるものと解釈しなければならず、本発明の明細書で明白に定義しない限り、理想的又は過度に形式的な意味として解釈してはならない。
【００３３】
（実施例）
図１は、本発明の実施例に係るディスプレイ装置を概略的に示す図である。
【００３４】
図１を参照すると、本発明の実施例に係るディスプレイ装置は、下部基板１１０、オーバーコート層１３０、薄膜トランジスタ２００、発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗ、及びバンク絶縁膜３５０を含むことができる。
【００３５】
上記下部基板１１０は、上記薄膜トランジスタ２００及び上記発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗを支持することができる。上記下部基板１１０は絶縁性物質を含むことができる。例えば、上記下部基板１１０は、ガラス又はプラスチックを含むことができる。
【００３６】
上記下部基板１１０は、発光領域ＢＥＡ，ＲＥＡ，ＧＥＡ，ＷＥＡ及び非発光領域ＮＥＡを含むことができる。上記非発光領域ＮＥＡは、上記発光領域ＢＥＡ，ＲＥＡ，ＧＥＡ，ＷＥＡの間に位置し得る。上記発光領域ＢＥＡ，ＲＥＡ，ＧＥＡ，ＷＥＡを上記非発光領域ＮＥＡによって分離することができる。
【００３７】
上記下部基板１１０は、互いに異なる色を具現する発光領域ＢＥＡ，ＲＥＡ，ＧＥＡ，ＷＥＡを含むことができる。例えば、上記下部基板１１０は、青色を具現する青色発光領域ＢＥＡ、赤色を具現する赤色発光領域ＲＥＡ、緑色を具現する緑色発光領域ＧＥＡ、及び白色を具現する白色発光領域ＷＥＡを含むことができる。上記発光領域ＢＥＡ，ＲＥＡ，ＧＥＡ，ＷＥＡは同じ水平長さを有し得る。
【００３８】
上記薄膜トランジスタ２００は上記下部基板１１０上に位置し得る。例えば、それぞれの薄膜トランジスタ２００は、半導体パターン２１０、ゲート絶縁膜２２０、ゲート電極２３０、層間絶縁膜２４０、ソース電極２５０、及びドレイン電極２６０を含むことができる。
【００３９】
上記半導体パターン２１０は、上記下部基板１１０の近くに位置し得る。上記半導体パターン２１０は半導体物質を含むことができる。例えば、上記半導体パターン２１０は非晶質シリコン又は多結晶シリコンを含むことができる。例えば、上記半導体パターン２１０はＩＧＺＯのような酸化物半導体物質を含むことができる。
【００４０】
上記半導体パターン２１０は、ソース領域、ドレイン領域、及びチャネル領域を含むことができる。上記チャネル領域は上記ソース領域と上記ドレイン領域との間に位置し得る。上記チャネル領域の伝導率（ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｉｔｙ）を上記ソース領域の伝導率及び上記ドレイン領域の伝導率より低くできる。例えば、上記ソース領域及び上記ドレイン領域は導電型不純物を含むことができる。
【００４１】
本発明の実施例に係るディスプレイ装置は、各薄膜トランジスタ２００の半導体パターン２１０が下部基板１１０と直接接触するとして説明される。しかし、本発明の他の実施例に係るディスプレイ装置は、下部基板１１０と薄膜トランジスタ２００との間に位置するバッファ層をさらに含んでもよい。上記バッファ層は絶縁性物質を含むことができる。例えば、上記バッファ層はシリコン酸化物を含むことができる。
【００４２】
上記ゲート絶縁膜２２０は上記半導体パターン２１０上に位置し得る。上記ゲート絶縁膜２２０は上記半導体パターン２１０の外側に延在し得る。例えば、各薄膜トランジスタ２００のゲート絶縁膜２２０は互いにつながり得る。上記ゲート絶縁膜２２０は絶縁性物質を含むことができる。例えば、上記ゲート絶縁膜２２０はシリコン酸化物及び／又はシリコン窒化物を含むことができる。上記ゲート絶縁膜２２０はＨｉｇｈ−Ｋ（高誘電率）物質を含むことができる。例えば、上記ゲート絶縁膜２２０はハフニウム酸化物又はチタニウム酸化物を含むことができる。上記ゲート絶縁膜２２０は多重層構造であってもよい。
【００４３】
上記ゲート電極２３０は上記ゲート絶縁膜２２０上に位置し得る。上記ゲート電極２３０は上記半導体パターン２１０の上記チャネル領域と重なり得る。上記ゲート電極２３０は導電性物質を含むことができる。例えば、上記ゲート電極２３０はアルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）などのような金属を含むことができる。
【００４４】
上記層間絶縁膜２４０は、上記ゲート絶縁膜２２０及び上記ゲート電極２３０上に位置し得る。上記ゲート電極２３０は上記層間絶縁膜２４０によって完全に覆われ得る。上記層間絶縁膜２４０は上記半導体パターン２１０の外側に延在し得る。例えば、各薄膜トランジスタ２００の層間絶縁膜２４０は互いにつながり得る。上記層間絶縁膜２４０は絶縁性物質を含むことができる。例えば、上記層間絶縁膜２４０はシリコン酸化物及び／又はシリコン窒化物を含むことができる。上記層間絶縁膜２４０は多重層構造であってもよい。
【００４５】
上記ソース電極２５０及び上記ドレイン電極２６０は、上記層間絶縁膜２４０上に位置し得る。上記ソース電極２５０は上記半導体パターン２１０の上記ソース領域と電気的に連結され得る。上記ドレイン電極２６０は上記半導体パターン２１０の上記ドレイン領域と電気的に連結され得る。例えば、上記ゲート絶縁膜２２０及び上記層間絶縁膜２４０は、各薄膜トランジスタ２００の半導体パターン２１０のソース領域を露出するコンタクトホール、及びドレイン領域を露出するコンタクトホールを含むことができる。上記ドレイン電極２６０は上記ソース電極２５０と離隔し得る。
【００４６】
上記ソース電極２５０及び上記ドレイン電極２６０は導電性物質を含むことができる。例えば、上記ソース電極２５０及び上記ドレイン電極２６０は、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）などのような金属を含むことができる。上記ドレイン電極２６０は上記ソース電極２５０と同じ物質を含むことができる。例えば、上記ドレイン電極２６０は上記ソース電極２５０と同じエッチング工程によって形成され得る。上記ゲート電極２３０は、上記ソース電極２５０及び上記ドレイン電極２６０と異なる物質を含むことができる。
【００４７】
本発明の実施例に係るディスプレイ装置は、各薄膜トランジスタ２００の半導体パターン２１０が下部基板１１０とゲート電極２３０との間に位置するとして説明される。しかし、本発明の他の実施例に係るディスプレイ装置は、各薄膜トランジスタ２００が下部基板１１０と半導体パターン２１０との間に位置するゲート電極２３０を含んでもよい。
【００４８】
上記オーバーコート層１３０は上記薄膜トランジスタ２００上に位置し得る。上記オーバーコート層１３０は、上記薄膜トランジスタ２００による段差を除去することができる。上記オーバーコート層１３０は絶縁性物質を含むことができる。例えば、上記オーバーコート層１３０は有機絶縁物質を含むことができる。
【００４９】
本発明の実施例に係るディスプレイ装置は、薄膜トランジスタ２００がオーバーコート層１３０と直接接触するとして説明される。しかし、本発明の他の実施例に係るディスプレイ装置は、薄膜トランジスタ２００とオーバーコート層１３０との間に位置する下部保護膜をさらに含んでもよい。上記下部保護膜は絶縁性物質を含むことができる。上記下部保護膜は、上記オーバーコート層１３０と異なる物質を含むことができる。例えば、上記下部保護膜はシリコン酸化物及び／又はシリコン窒化物を含むことができる。上記下部保護膜は多重層構造であってもよい。
【００５０】
上記発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗはそれぞれ特定色を具現する光を生成することができる。例えば、各発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗは順に積層された、下部電極３１０Ｂ，３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｗ、発光層３２０、及び上部電極３３０を含むことができる。
【００５１】
各発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗは、上記下部基板１１０の発光領域ＢＥＡ，ＲＥＡ，ＧＥＡ，ＷＥＡの中の一つと重なり得る。例えば、上記発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗは、上記青色発光領域ＢＥＡと重なり合う青色発光構造物３００Ｂ、上記赤色発光領域ＲＥＡと重なり合う赤色発光構造物３００Ｒ、上記緑色発光領域ＧＥＡと重なり合う緑色発光構造物３００Ｇ、及び上記白色発光領域ＷＥＡと重なり合う白色発光領域３００Ｗを含むことができる。
【００５２】
上記発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗは、上記薄膜トランジスタ２００によって選択的に駆動し得る。例えば、各発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗの下部電極３１０Ｂ，３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｗは、上記薄膜トランジスタ２００の中の一つのドレイン電極２６０と電気的に連結され得る。上記発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗは、上記オーバーコート層１３０上に位置し得る。例えば、上記オーバーコート層１３０は、各発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗの下部電極３１０Ｂ，３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｗが延びるコンタクトホール１３１ｈ，１３２ｈを含むことができる。
【００５３】
上記下部電極３１０Ｂ，３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｗは、反射率の高い物質を含むことができる。例えば、上記下部電極３１０Ｂ，３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｗは、アルミニウム（Ａｌ）及び銀（Ａｇ）のような金属を含むことができる。上記下部電極３１０Ｂ，３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｗは多重層構造であってもよい。例えば、上記下部電極３１０Ｂ，３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｗは、ＩＴＯ及びＩＺＯなどのような透明導電性物質を含む透明電極の間に反射率の高い物質を含む反射電極が位置する構造であってもよい。
【００５４】
上記発光層３２０は、該当の発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗの下部電極３１０Ｂ，３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｗと上部電極３３０との電圧差に対応する輝度の光を生成することができる。例えば、上記発光層３２０は、発光物質を含む発光物質層（Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｍａｔｅｒｉａｌ  Ｌａｙｅｒ；ＥＭＬ）を含むことができる。上記発光物質は有機物質、無機物質又はハイブリッド物質を含むことができる。例えば、本発明の実施例に係るディスプレイ装置は、有機物質の発光層３２０を含む有機発光表示装置であってもよい。
【００５５】
上記発光層３２０は、発光効率を高めるために多重層構造であってもよい。例えば、上記発光層３２０は、正孔注入層（Ｈｏｌｅ  Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ  Ｌａｙｅｒ；ＨＩＬ）、正孔輸送層（Ｈｏｌｅ  Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ  Ｌａｙｅｒ；ＨＴＬ）、電子輸送層（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｔｒａｎｐｏｒｔ  Ｌａｙｅｒ；ＥＴＬ）及び電子注入層（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ  Ｌａｙｅｒ；ＥＩＬ）のうち少なくとも一つをさらに含むことができる。
【００５６】
本発明の実施例に係るディスプレイ装置は、発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗが同じ色を具現することができる。例えば、各発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗの発光層３２０は、隣り合っている発光領域ＢＥＡ，ＲＥＡ，ＧＥＡ，ＷＥＡ上に延び得る。隣り合っている発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗの発光層３２０は互いにつながり得る。
【００５７】
上記上部電極３３０は導電性物質を含むことができる。上記上部電極３３０は上記下部電極３１０と異なる構造であってもよい。例えば、上記上部電極３３０はＩＴＯ及びＩＺＯなどのような透明な物質を含む透明電極であってもよい。上記発光層３２０によって生成された光は、上記上部電極３３０の方向に放出され得る。
【００５８】
本発明の実施例に係るディスプレイ装置は、発光層３２０による光が上部電極３３０を通過するとして説明される。しかし、本発明の他の実施例に係るディスプレイ装置は、発光層３２０による光が下部基板１１０の外側方向に進行してもよい。または、本発明の他の実施例に係るディスプレイ装置は、発光層３２０によって生成された光が下部電極３１０及び上部電極３３０の両方を通過してもよい。例えば、本発明の他の実施例に係るディスプレイ装置は背面発光方式又は両面発光方式であってもよい。
【００５９】
上記上部電極３３０は上記発光層３２０に沿って延在し得る。例えば、各発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗの上部電極３３０は、隣り合っている発光領域ＢＥＡ，ＲＥＡ，ＧＥＡ，ＷＥＡ上に延び得る。上記発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗは、つながっている上部電極３３０を含むことができる。
【００６０】
上記バンク絶縁膜３５０は上記オーバーコート層１３０上に位置し得る。上記バンク絶縁膜３５０は、上記下部基板１１０の上記発光領域ＢＥＡ，ＲＥＡ，ＧＥＡ，ＷＥＡのうち一部の発光領域ＢＥＡ，ＲＥＡ，ＧＥＡ，ＷＥＡ上に位置し得る。例えば、上記バンク絶縁膜３５０は、上記下部基板１１０の隣り合っている２つの発光領域ＢＥＡ，ＲＥＡ，ＧＥＡ，ＷＥＡのうち一つの発光領域ＢＥＡ，ＲＥＡ，ＧＥＡ，ＷＥＡ上に位置し得る。例えば、上記バンク絶縁膜３５０は、上記下部基板１１０における並んで位置する青色発光領域ＢＥＡ、赤色発光領域ＲＥＡ、緑色発光領域ＧＥＡ、及び白色発光領域ＷＥＡのうち、上記赤色発光領域ＲＥＡ及び上記白色発光領域ＷＥＡ上に位置し得る。
【００６１】
上記バンク絶縁膜３５０は、上記オーバーコート層１３０と該当の発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗとの間に位置し得る。例えば、上記赤色発光構造物３００Ｒ及び上記白色発光構造物３００Ｗは、上記バンク絶縁膜３５０上に位置し得る。上記下部基板１１０と上記赤色発光構造物３００Ｒ又は上記白色発光構造物３００Ｗとの間の垂直距離を、上記下部基板１１０と上記青色発光構造物３００Ｂ又は上記緑色発光構造物３００Ｇとの間の垂直距離より大きくできる。
【００６２】
本発明の実施例に係るディスプレイ装置は、隣り合っている２つの発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗの中の一つがバンク絶縁膜３５０上に位置し得る。すなわち、本発明の実施例に係るディスプレイ装置では、隣り合っている２つの発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗが異なる高さを有し得る。これによって、本発明の実施例に係るディスプレイ装置では、隣り合っている発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗが、短い水平距離でも十分に絶縁され得る。したがって、本発明の実施例に係るディスプレイ装置では、隣り合う発光領域ＢＥＡ，ＲＥＡ，ＧＥＡ，ＷＥＡの間に位置する非発光領域（ＮＥＡ）の水平長さを減少させることができる。
【００６３】
上記バンク絶縁膜３５０は絶縁性物質を含むことができる。例えば、上記バンク絶縁膜３５０は、ベンゾシクロブテン（ＢＣＢ）、ポリイミド（ｐｏｌｙ−ｉｍｉｄｅ）及びフォトアクリル（ｐｈｏｔｏ  ａｃｒｙｌ）などのような有機絶縁物質を含むことができる。上記バンク絶縁膜３５０は、上記オーバーコート層１３０と異なる物質を含むことができる。
【００６４】
上記バンク絶縁膜３５０は、該当の発光領域ＢＥＡ，ＲＥＡ，ＧＥＡ，ＷＥＡに隣り合っている発光領域ＢＥＡ，ＲＥＡ，ＧＥＡ，ＷＥＡ上に位置する下部電極３１０Ｂ，３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｗの縁を覆うことができる。例えば、上記バンク絶縁膜３５０は、上記青色発光構造物３００Ｂの下部電極３１０Ｂ及び上記緑色発光構造物３００Ｇの下部電極３１０Ｇの縁を覆うことができる。
【００６５】
上記バンク絶縁膜３５０上に位置する発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗの下部電極３１０Ｂ，３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｗは、上記バンク絶縁膜３５０の間に位置する発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗの下部電極３１０Ｂ，３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｗと異なる工程で形成することができる。例えば、上記赤色発光構造物３００Ｒの下部電極３１０Ｒ及び上記白色発光構造物３００Ｗの下部電極３１０Ｗを形成する工程は、上記青色発光構造物３００Ｂの下部電極３１０Ｂ及び上記緑色発光構造物３００Ｇの下部電極３１０Ｇを形成する工程と独立して行うことができる。上記赤色発光構造物３００Ｒの下部電極３１０Ｒ及び上記白色発光構造物３００Ｗの下部電極３１０Ｗは、上記青色発光構造物３００Ｂの下部電極３１０Ｂ及び上記緑色発光構造物３００Ｇの下部電極３１０Ｇと異なる形態を有することができる。
【００６６】
上記バンク絶縁膜３５０上に位置する発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗの下部電極３１０Ｂ，３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｗを形成する工程を、上記バンク絶縁膜３５０の間に位置する発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗの下部電極３１０Ｂ，３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｗを形成する工程と同じ方式で行ってもよい。例えば、上記赤色発光構造物３００Ｒの下部電極３１０Ｒ及び上記白色発光構造物３００Ｗの下部電極３１０Ｗは、上記青色発光構造物３００Ｂの下部電極３１０Ｂ及び上記緑色発光構造物３００Ｇの下部電極３１０Ｇと同じ構造を有してもよい。上記赤色発光構造物３００Ｒの垂直長さ及び上記白色発光構造物３００Ｗの垂直長さは、上記青色発光構造物３００Ｂの垂直長さ及び上記緑色発光構造物３００Ｇの垂直長さと同一であってもよい。例えば、上記赤色発光構造物３００Ｒの下部電極３１０Ｒ及び上記白色発光構造物３００Ｗの下部電極３１０Ｗは、上記青色発光構造物３００Ｂの下部電極３１０Ｂ及び上記緑色発光構造物３００Ｇの下部電極３１０Ｇと同じ物質を含むことができる。
【００６７】
上記バンク絶縁膜３５０は、該当の発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗの下部電極３１０Ｂ，３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｗが延びるバンクコンタクトホール３５０ｈを含むことができる。上記バンクコンタクトホール３５０ｈは上記オーバーコート層１３０を貫通し得る。例えば、上記オーバーコート層１３０は、上記バンク絶縁膜３５０が形成されていない発光領域ＢＥＡ，ＲＥＡ，ＧＥＡ，ＷＥＡ上に位置する第１オーバーコンタクトホール１３１ｈ、及び上記バンク絶縁膜３５０が形成されている発光領域ＢＥＡ，ＲＥＡ，ＧＥＡ，ＷＥＡ上に位置する第２オーバーコンタクトホール１３２ｈを含むことができる。上記バンクコンタクトホール３５０ｈは上記第２オーバーコンタクトホール１３２ｈと整列し得る。
【００６８】
上記バンクコンタクトホール３５０ｈは上記第２オーバーコンタクトホール１３２ｈ内に延在し得る。上記バンクコンタクトホール３５０ｈの下端部は上記第２オーバーコンタクトホール１３２ｈ内に位置し得る。上記バンクコンタクトホール３５０ｈの大きさは上記第１オーバーコンタクトホール１３１ｈの大きさと同一であってもよい。例えば、上記第２オーバーコンタクトホール１３２ｈの大きさは、上記第１オーバーコンタクトホール１３１ｈの大きさより大きくできる。上記バンク絶縁膜３５０は上記オーバーコート層１３０の上記第２オーバーコンタクトホール１３２ｈの側面上に延在し得る。
【００６９】
本発明の実施例に係るディスプレイ装置は、発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗ上に位置する素子保護膜４００をさらに含むことができる。上記素子保護膜４００は外部衝撃及び水分から発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗを保護することができる。上記素子保護膜４００は絶縁性物質を含むことができる。例えば、上記素子保護膜４００はシリコン酸化物及び／又はシリコン窒化物を含むことができる。上記素子保護膜４００は多重層構造であってもよい。
【００７０】
本発明の実施例に係るディスプレイ装置は、素子保護膜４００上に位置する上部基板５００をさらに含むことができる。上記上部基板５００は上記下部基板１１０と対向し得る。上記上部基板５００は絶縁性物質を含むことができる。上記上部基板５００は透明な物質を含むことができる。例えば、上記上部基板５００はガラス又はプラスチックを含むことができる。
【００７１】
上記上部基板５００上にはブラックマトリックス６１０及びカラーフィルター６２０Ｂ，６２０Ｒ，６２０Ｇが位置し得る。上記ブラックマトリックス６１０は、上記下部基板１１０の上記非発光領域ＮＥＡと重なり得る。上記カラーフィルター６２０Ｂ，６２０Ｒ，６２０Ｇは上記ブラックマトリックス６１０の間に位置し得る。上記カラーフィルター６２０Ｂ，６２０Ｒ，６２０Ｇは、上記下部基板１１０の上記発光領域ＢＥＡ，ＲＥＡ，ＧＥＡ，ＷＥＡと重なり得る。例えば、上記カラーフィルター６２０Ｂ，６２０Ｒ，６２０Ｇは、上記青色発光領域ＢＥＡと重なり合う青色カラーフィルター６２０Ｂ、上記赤色発光領域ＲＥＡと重なり合う赤色カラーフィルター６２０Ｒ、及び上記緑色発光領域ＧＥＡと重なり合う緑色カラーフィルター６２０Ｇを含むことができる。上記下部基板１１０の上記白色発光領域ＷＥＡと重なり合う上記上部基板５００の表面上には、カラーフィルター６２０Ｂ，６２０Ｒ，６２０Ｇが位置しなくてよい。上記上部基板５００は接着層７００によって上記下部基板１１０と合着し得る。
【００７２】
結果的に、本発明の実施例に係るディスプレイ装置は、隣り合っている２つの発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗが下部基板１１０からの異なる垂直長さを有し、上記隣り合っている２つの発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗが短い水平距離でも十分に絶縁され得るため、隣り合っている発光領域ＢＥＡ，ＲＥＡ，ＧＥＡ，ＷＥＡの間に位置する非発光領域ＮＥＡの水平長さを減少させることができる。
【００７３】
本発明の実施例に係るディスプレイ装置は、オーバーコート層１３０上に位置するバンク絶縁膜３５０によって、隣り合っている２つの発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗの位置が異なるとして説明される。しかし、本発明の他の実施例に係るディスプレイ装置は、オーバーコート層１３０を用いて隣り合っている２つの発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗが異なる位置を有するようにしてもよい。例えば、図２に示すように、本発明の他の実施例に係るディスプレイ装置は、オーバーコート層１３０が下部オーバーコート層１３１、及び該下部オーバーコート層１３１から突出する上部オーバーコート層１３２を含むことができる。上記上部オーバーコート層１３２は互いに離隔し得る。例えば、本発明の他の実施例に係るディスプレイ装置において上記下部オーバーコート層１３１及び上記上部オーバーコート層１３２を含むオーバーコート層１３０は、薄膜トランジスタ１２０を覆う有機絶縁膜を部分的にエッチングして形成することができる。上記上部オーバーコート層１３２は上記下部オーバーコート層１３１と同じ物質を含むことができる。
【００７４】
本発明の他の実施例に係るディスプレイ装置において上記上部オーバーコート層１３２の側面１３２ｓは逆テーパー形状を有し得る。各発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗの発光層３２０は蒸発（ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）を用いた蒸着工程で形成されるため、上記発光層３２０は上記上部オーバーコート層１３２の逆テーパー形状を有する側面１３２ｓ上に蒸着しなくて済む。これによって、本発明の他の実施例に係るディスプレイ装置では、隣り合っている発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗが互いに分離している発光層３２０を含むことができる。また、本発明の他の実施例に係るディスプレイ装置では、下部電極３１０Ｂ，３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｗが蒸発を用いた蒸着工程によって形成されるため、パターニング工程無しで各発光領域ＢＥＡ，ＲＥＡ，ＧＥＡ，ＷＥＡ上に、隣り合う発光領域ＢＥＡ，ＲＥＡ，ＧＥＡ，ＷＥＡと絶縁される下部電極３１０Ｂ，３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｗを形成することができる。したがって、本発明の他の実施例に係るディスプレイ装置では、各発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗの下部電極３１０Ｂ，３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｗ、発光層３２０、及び上部電極３３０を一つの工程チャンバーで真空状態を維持しながら形成することができ、工程時間を大幅に減らすことができる。また、本発明の他の実施例に係るディスプレイ装置では、パターニング工程無しで下部電極３１０Ｂ，３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｗが形成されるため、上記下部電極３１０Ｂ，３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｗに使用し得る物質を幅広く選択することができ、後続工程、例えば、リペア工程を容易に進行することができる。
【００７５】
本発明の他の実施例に係るディスプレイ装置は、オーバーコート層１３０の上部オーバーコート層１３２が下部オーバーコート層１３１と同じ物質を含むとして説明される。しかし、図３に示すように、本発明の更に他の実施例に係るディスプレイ装置は、オーバーコート層１３０が下部オーバーコート層１３１と異なる物質又は物理的特性を有する上部オーバーコート層１３３を含んでもよい。例えば、本発明の更に他の実施例に係るディスプレイ装置は、コンタクトホール１３１ｈ，１３４ｈが形成されている下部オーバーコート層１３１上に有機絶縁膜を形成し、上記有機絶縁膜をパターニングして逆テーパー形状の側面１３３ｓを有する上部オーバーコート層１３３を形成して完成したオーバーコート層１３０を含むことができる。これによって、本発明の更に他の実施例に係るディスプレイ装置において下部オーバーコート層１３１のコンタクトホール１３１ｈ，１３４ｈと上部オーバーコート層１３３のコンタクトホール１３５ｈとの関係は、図１に示した本発明の実施例に係るディスプレイ装置と同一であり得る。
【００７６】
本発明の他の実施例に係るディスプレイ装置は、上部オーバーコート層１３２，１３３の側面が逆テーパー形状を有するが、コンタクトホールの側面は正テーパー形状であるとして説明される。しかし、図４に示すように、本発明の更に他の実施例に係るディスプレイ装置は、オーバーコート層１３０が逆テーパー形状の側面を有する貫通ホール１３６ｈ，１３７ｈを含むことができる。本発明の更に他の実施例に係るディスプレイ装置は、オーバーコート層１３０の上記貫通ホール１３６ｈ，１３７ｈ内に位置する中間絶縁層８１０，８２０をさらに含むことができる。上記中間絶縁層８１０，８２０は、正テーパー形状の側面を有するコンタクトホール８１０ｈ，８２０ｈを含むことができる。これによって、本発明の更に他の実施例に係るディスプレイ装置では、上部オーバーコート層１３２の側面に逆テーパー形状を形成する工程によって下部電極３１０Ｂ，３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｗの電気的連結が不安定になることを防止することができる。
【００７７】
図５Ａ〜図５Ｃは、図３に示す本発明の実施例に係るディスプレイ装置の形成方法を順次に示す図である。
【００７８】
図３及び図５Ａ〜図５Ｃを参照して、本発明の実施例に係るディスプレイ装置の形成方法を説明する。まず、図５Ａに示すように、本発明の実施例に係るディスプレイ装置の形成方法は、下部基板１１０上に薄膜トランジスタ２００を形成する工程、上記薄膜トランジスタ２００を覆う下部オーバーコート層１３１を形成する工程、及び上記下部オーバーコート層１３１に下部コンタクトホール１３１ｈ，１３４ｈを形成する工程を含むことができる。
【００７９】
上記下部オーバーコート層１３１の上記下部コンタクトホール１３１ｈ，１３４ｈをそれぞれ該当の発光領域ＢＥＡ，ＲＥＡ，ＧＥＡ，ＷＥＡと重なり合うように形成することができる。
【００８０】
図５Ｂに示すように、本発明の実施例に係るディスプレイ装置の形成方法は、上記下部コンタクトホール１３１ｈ，１３４ｈが形成された下部オーバーコート層１３１上に有機絶縁膜１３３ａを形成してオーバーコート層１３０を構成する工程を含むことができる。
【００８１】
上記有機絶縁膜１３３ａは、上記下部オーバーコート層１３１と同じ物質を含むことができる。上記下部オーバーコート層１３１に上記下部コンタクトホール１３１ｈ，１３４ｈを形成する工程は硬化工程を含むことができる。これによって、本発明の実施例に係るディスプレイ装置において上記有機絶縁膜１３３ａが上記下部オーバーコート層１３１と物理的特性が異なるようにすることができる。上記有機絶縁膜１３３ａは上記下部オーバーコート層１３１の上記下部コンタクトホール１３１ｈ，１３４ｈの内側に延在し得る。上記下部オーバーコート層１３１の上記下部コンタクトホール１３１ｈ，１３４ｈは上記有機絶縁膜１３３ａによって埋められる。
【００８２】
図５Ｃに示すように、本発明の実施例に係るディスプレイ装置の形成方法は、上記有機絶縁膜１３３ａをパターニングして逆テーパー形状の側面１３３ｓを有する上部オーバーコート層１３３を形成してオーバーコート層１３０を完成する工程を含むことができる。
【００８３】
上記上部オーバーコート層１３３を形成する工程は、上記上部オーバーコート層１３３に上記下部オーバーコート層１３１の上記下部コンタクトホール１３４ｈと整列される上部コンタクトホール１３５ｈを形成する工程を含むことができる。
【００８４】
図３に示すように、本発明の実施例に係るディスプレイ装置の形成方法は、上記オーバーコート層１３０上に発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗを形成する工程、上記発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗが形成されている下部基板１１０上に、カラーフィルター６２０Ｂ，６２０Ｒ，６２０Ｇが形成されている上部基板５００を整列する工程、及び接着層７００を用いて上記下部基板１１０と上記上部基板５００とを合着する工程を含むことができる。
【００８５】
上記発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗを形成する工程は、下部電極３１０Ｂ，３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｗを形成する工程、隣り合っている発光領域ＢＥＡ，ＲＥＡ，ＧＥＡ，ＷＥＡから分離された発光層３２０を形成する工程及び上部電極３３０を形成する工程を含むことができる。
【００８６】
上記下部電極３１０Ｂ，３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｗを形成する工程、上記発光層３２０を形成する工程、及び上記上部電極３３０を形成する工程は同じ方式の工程を含むことができる。例えば、上記下部電極３１０Ｂ，３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｗ、上記発光層３２０、及び上記上部電極３３０を、蒸発を用いた蒸着工程で形成することができる。上記下部電極３１０Ｂ，３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｗを形成する工程、上記発光層３２０を形成する工程、及び上記上部電極３３０を形成する工程を一つの工程チャンバー内で真空状態を維持しながら順次に行うことができる。
【００８７】
結果的に、本発明の実施例に係るディスプレイ装置は、隣り合っている発光領域ＢＥＡ，ＲＥＡ，ＧＥＡ，ＷＥＡの間に位置する非発光領域ＮＥＡを大きく減らして解像度を向上させると同時に、発光構造物３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗを形成するためにかかる時間を大きく短縮して全体的な生産効率を向上させることができる。
【符号の説明】
【００８８】
１１０    下部基板
１３０    オーバーコート層
１３１    下部オーバーコート層
１３２    上部オーバーコート層
２００    薄膜トランジスタ
３００Ｂ，３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｗ    発光構造物
３５０    バンク絶縁膜
【図１】
2018073829.tif 000003
【図２】
2018073829.tif 000004
【図３】
2018073829.tif 000005
【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
2018073829.tif 000008
【図５Ｃ】
2018073829.tif 000009