(57)【要約】本発明は、水性溶液を人工的紫外線で照射することによって得られる、表面、特に医療機器の表面を処理するための作用物質に関する。前記水性溶液は、任意的に腐食防止剤、緩衝剤成分、錯化剤、湿潤剤および／または他の補助物質もしくは活性物質と共に、化学殺菌剤、特に過酢酸を含有する。種々の滅菌方法も開示される。【特許請求の範囲】
【請求項１】
任意的に腐食防止剤、緩衝剤成分、錯化剤、湿潤剤および／または他の補助物質もしくは活性物質と共に、化学殺菌剤を含有する水性溶液の人工的ＵＶ照射によって得られる医療機器処理用の作用物質。
【請求項２】
化学殺菌剤が、任意的に他の補助物質もしくは活性物質および／または水と共に、オゾン、二酸化塩素、次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸、過酸化水素、有機過酸または無機過酸またはそれらの組合せより選択されることを特徴とする、請求項１に記載の作用物質。
【請求項３】
前記有機過酸が以下
ａ）次の一般式Ｉ：
Ｒ2−Ｏ2Ｃ−（ＣＨ2）x−ＣＯ3Ｈ  （Ｉ）
［式中、Ｒ2 は水素または１ないし４炭素原子数を有するアルキル基であり、ｘは１ないし４の数である。］の過酸または過酸の塩、および／または
ｂ）過カルボン酸部分が１ないし１８炭素原子数を有するフタルイミド過カルボン酸II、および／または
ｃ）次の式III：
Ｒ1−ＣＯ3Ｈ  （III）
［式中、Ｒ1 は１ないし１８炭素原子数を有するアルキル基またはアルケニル基である。］の化合物、
より選択されることを特徴とする、請求項２に記載の作用物質。
【請求項４】
ａ）存在する一般式Ｉの過酸が、Ｒ2 が水素またはメチル基である過酸であり、および／または
ｂ）存在する過酸が、過カルボン酸部分が１ないし８炭素原子数を有するフタルイミド過カルボン酸であり、および／または
ｃ）存在する一般式III の過酸が、１ないし１２炭素原子数を有するアルキル基またはアルケニル基をもった過酸であることを特徴とする、請求項３に記載の作用物質。
【請求項５】
存在する過酸が、過酢酸、過プロピオン酸、過オクタン酸、フタルイミド過ヘキサン酸、フタルイミド過オクタン酸、過コハク酸、過コハク酸モノメチル、過グルタル酸、過グルタル酸モノメチル、過アジピン酸、過アジピン酸モノメチル、過コハク酸および過コハク酸モノメチルより選択される１種以上の化合物であることを特徴とする、請求項４に記載の作用物質。
【請求項６】
存在する過酸が過酢酸であることを特徴とする、請求項５に記載の作用物質。
【請求項７】
ＵＶ照射によって処理される溶液が非分解性成分を含まないことを特徴とする、請求項１ないし請求項６のいずれかに記載の作用物質。
【請求項８】
ＵＶ照射によって処理される溶液が、全溶液を基準として、０．０００１ないし１重量％の殺菌剤を含有する、請求項１ないし請求項７のいずれかに記載の作用物質。
【請求項９】
ＵＶ照射によって処理される溶液が、全溶液を基準として、０．０００２ないし０．０１重量％の殺菌剤を含有する、請求項８に記載の作用物質。
【請求項１０】
医療機器の微生物学的に汚染された表面の滅菌処理方法であって、当該医療機器の表面を、任意的に洗浄工程の後に、請求項１ないし請求項９のいずれかに記載の作用物質と接触させ、次に無菌水を用いて濯ぐ方法。
【請求項１１】
無菌水を用いた濯ぎを行わない、医療機器の微生物学的に汚染された表面の滅菌処理方法であって、
ａ）任意的に腐食防止剤、緩衝剤成分、錯化剤、湿潤剤および／または他の補助物質もしくは活性物質と共に、化学滅菌剤の水性溶液を供給し、
ｂ）当該汚染された医療機器の表面をａ）による溶液で除染し、次に
ｃ）当該汚染された医療機器の表面を、非分解性成分を含まない液状化学殺菌剤の他の水性溶液で処理する方法において、用いられる他の水性溶液ｃ）が請求項７に記載の作用物質であることを特徴とする方法。
【請求項１２】
純粋な無菌水を用いた濯ぎを行わない、医療機器の微生物学的に汚染された表面の滅菌処理方法であって、
ａ）当該汚染された医療機器の表面を請求項１ないし請求項９のいずれかに記載の第１の作用物質で除染し、次に
ｂ）当該汚染された医療機器の表面を請求項７に記載の他の作用物質で処理する方法において、上記他の作用物質中の殺菌剤の割合が上記第１の作用物質中の殺菌剤の割合よりも低い方法。
【請求項１３】
上記他の作用物質中の殺菌剤の割合は、ＵＶ光の追加的使用を行わなければ、前記割合が、時間および温度のような選択される処理条件下で病原性細菌のある一定の群、例えばミコバクテリアまたは胞子を破壊するのに不充分であるように選択されることを特徴とする、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
任意的に純粋な無菌水を用いない、医療機器の滅菌処理システムであって、
ａ）ＵＶ光源、
ｂ）任意的に他の補助物質もしくは活性物質および／または水と共に、オゾン、二酸化塩素、次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸、過酸化水素、有機過酸または無機過酸またはそれらの組合せより選択される化学滅菌剤、および任意的に
ｃ）腐食防止剤および／または
ｄ）緩衝剤成分および／または
ｅ）錯化剤および／または
ｆ）湿潤剤および／または
ｇ）他の補助物質もしくは活性物質
を含むシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、殺菌剤溶液の人工的ＵＶ照射によって得られる医療機器処理用の作用物質、および無菌水濯ぎを用いる及び無菌水濯ぎを用いない医療機器の滅菌処理方法に関する。本発明はさらにＵＶ光源および殺菌剤から成る医療機器の滅菌処理システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
US 4,731,222およびUS 4,992,706は液状殺菌剤を用いて医療機器の滅菌を扱っている。このプロセスでは、医療機器が、例えば水道水の無菌フィルターを通じた濾過によって生じる無菌水により、殺菌剤残留物が無くなるまで濯がれる。
【０００３】
US 6,103,189は、非分解性成分の無い滅菌溶液を用いた濯ぎにより、濯ぎ用水としての無菌水を省略する方法を開示している。第５欄第１６〜１８行の実施例によれば、用いられる水道水の滅菌を達成するように諸条件が選択される。
【０００４】
医療機器の滅菌処理方法の技術水準は、実質的に化学殺菌剤を使用して関連する微生物を破壊するものである。これら公知の技術の不利な点は、満足のいく効力を得るために必要な殺菌剤の量および必要な時間に付随して高い費用がかかる場合があることである。医療機器の滅菌処理か又は濯ぎ用液の調整に用いられるこれらの大量の殺菌剤は、深刻な問題を生じさせる。医療機器の表面に残留する殺菌剤の量が多いほど、その後に該医療機器を使用する患者との接触に持ち込まれる殺菌剤の量も多くなる。他方、使用される量を任意的に減少させることは、本発明の実施例にも示されるように、重要な細菌スペクトルに対する作用に隙間が発生し得るし、そのような隙間は特に医療部門では実際に許容不可能であるので、できない。
【発明の開示】
【０００５】
従って本発明の目的は、関連する細菌に対する充分な効力を依然として達成しながら、滅菌処理に必要な化学殺菌剤の量、特に処理の完了後に医療機器に残留する化学殺菌剤の量を減少させるための作用物質、方法およびシステムに関する。
【０００６】
従って、本発明は、任意的に腐食防止剤、緩衝剤成分、錯化剤、湿潤剤および／または他の補助物質もしくは活性物質と共に、化学殺菌剤を含有する水性溶液の人工的ＵＶ照射によって得られる医療機器処理用の作用物質を提供するものであり、この化学殺菌剤は、任意的に他の補助物質もしくは活性物質および／または水と共に、オゾン、二酸化塩素、次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸、過酸化水素、有機過酸または無機過酸またはそれらの組合せより選択されることが好ましい。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本発明により特に好ましい作用物質は、前記有機過酸が以下
ａ）次の一般式Ｉ：
Ｒ2−Ｏ2Ｃ−（ＣＨ2）x−ＣＯ3Ｈ  （Ｉ）
［式中、Ｒ2 は水素または１ないし４炭素原子数を有するアルキル基であり、ｘは１ないし４の数である。］の過酸または過酸の塩、および／または
ｂ）過カルボン酸部分が１ないし１８炭素原子数を有するフタルイミド過カルボン酸II、および／または
ｃ）次の式III：
Ｒ1−ＣＯ3Ｈ  （III）
［式中、Ｒ1 は１ないし１８炭素原子数を有するアルキル基またはアルケニル基である。］の化合物、
より選択されるものである。
【０００８】
本発明により非常に特に好ましい作用物質は、
ａ）存在する一般式Ｉの過酸が、Ｒ2 が水素またはメチル基である過酸であり、および／または
ｂ）存在する過酸が、過カルボン酸部分が１ないし８炭素原子数を有するフタルイミド過カルボン酸であり、および／または
ｃ）存在する一般式III の過酸が、１ないし１２炭素原子数を有するアルキル基またはアルケニル基をもった過酸であるものである。
【０００９】
本発明の非常に特に好ましい実施態様において、本発明による作用物質中の過酸が、過酢酸、過プロピオン酸、過オクタン酸、フタルイミド過ヘキサン酸、フタルイミド過オクタン酸、過コハク酸、過コハク酸モノメチル、過グルタル酸、過グルタル酸モノメチル、過アジピン酸、過アジピン酸モノメチル、過コハク酸および過コハク酸モノメチルより選択される１種以上の化合物であり、この化合物の選択の中で過酢酸が好ましい。本発明による作用物質が最終濯ぎ工程での使用を意図されない場合には、８ないし１２炭素原子数を有する脂肪酸および／または以下のＣ8-Ｃ18−アルキル硫酸塩、Ｃ8-Ｃ18−アルキルエーテル硫酸塩、Ｃ8-Ｃ18−アルカンスルホン酸塩、Ｃ8-Ｃ18−α−オレフィンスルホン酸塩、スルホン化Ｃ8-Ｃ18−脂肪酸、Ｃ8-Ｃ18−アルキルベンゼンスルホン酸塩、モノ-およびジ-Ｃ1-Ｃ12−アルキルスルホコハク酸塩、Ｃ8-Ｃ18−アルキルポリグリコールエーテルカルボン酸塩、Ｃ8-Ｃ18−Ｎ−アシルタウリド、Ｃ8-Ｃ18−Ｎ−サルコシネート、Ｃ8-Ｃ18−アルキルイセチオネートおよび上記の混合物より選択されるアニオン性界面活性剤も含有することが好ましい。
【００１０】
溶液中に含有される前記殺菌剤の分解生成物および水は別として、非分解性成分を含まない溶液のＵＶ照射によって本発明による作用物質を得ることも好ましい。本発明に関して、該作用物質の成分は、意図的に添加されるものであり、記載の条件下で安定な状態を保つものを意味するとして理解されるべきである。従って、意図せずに添加される成分、例えば水道水を使用するときに該作用物質に入る塩類は、この文脈では考慮されるべきでない。非分解性成分は、実質的な時間、例えば１日または１週間の経過後であっても、当初の濃度で依然として存在する。これに対して、本発明によれば、例えば不均化またはその酸化的特性のために徐々に分解して、その切断生成物が当初の物質よりも低い抗微生物性もしくは低い毒性であるか又は少なくとも充分に不安定であって他の成分と迅速に反応して当初の物質よりも低い抗微生物性もしくは低い毒性である分解生成物を与える物質が存在する。非分解性成分を含まない作用物質または溶液を本発明の構成内で言及する場合には、これらは前記作用物質または溶液中に含有される殺菌剤の分解生成物および水を基本的には排除するものである。
【００１１】
本発明による作用物質の一つの好ましい実施態様において、ＵＶ照射によって処理される溶液は、全溶液を基準として、０．０００１ないし０．２重量％の殺菌剤を含有する。
【００１２】
非分解性成分を含まない本発明による作用物質の特別の実施態様を用いる場合には、ＵＶ照射によって処理される溶液は、全溶液を基準として、好ましくは０．０００２ないし０．０１重量％、特に好ましくは０．００１ないし０．００５重量％、そして非常に特に好ましくは０．０３重量％以下の殺菌剤を含有する。
【００１３】
本発明は、医療機器の微生物学的に汚染された表面の滅菌処理方法であって、当該医療機器の表面を、任意的に洗浄工程の後に、本発明による作用物質と接触させ、次に無菌水を用いて濯ぐ方法も提供する。
【００１４】
本発明は、無菌水を用いた濯ぎを行わない医療機器の微生物学的に汚染された表面の滅菌処理方法であって、
ａ）任意的に腐食防止剤、緩衝剤成分、錯化剤、湿潤剤および／または他の補助物質もしくは活性物質と共に、化学殺菌剤の水性溶液を供給し、
ｂ）当該汚染された医療機器の表面をａ）による溶液で除染し、次に
ｃ）当該汚染された医療機器の表面を、非分解性成分を含まない液状化学殺菌剤の他の水性溶液で処理する方法において、用いられる上記他の水性溶液が本発明による作用物質の実施態様であることを特徴とし、好ましくは該作用物質の調製のために処理される溶液中に存在する殺菌剤の割合が全溶液を基準として０．００２ないし０．０１重量％であることを条件とする方法も提供する。
【００１５】
本発明は、純粋な無菌水を用いた濯ぎを行わない、医療機器の微生物学的に汚染された表面の滅菌処理方法であって、
ａ）当該汚染された医療機器の表面を本発明による第１の作用物質で除染し、次に
ｂ）当該汚染された医療機器の表面を本発明による他の作用物質で処理する方法において、本発明による上記他の作用物質中の殺菌剤の割合が本発明による上記第１の作用物質中の殺菌剤の割合よりも低い方法も提供する。
【００１６】
特に好ましくは、上記他の作用物質中の殺菌剤の割合は、ＵＶ光の追加的使用を行わなければ、前記割合が、時間および温度のような選択される処理条件下で病原性細菌のある一定の群、例えばミコバクテリアまたは胞子を破壊するのに不充分であるように選択される。
【００１７】
本発明は、任意的に純粋な無菌水を用いない、医療機器の滅菌処理システムであって、
ａ）ＵＶ光源、
ｂ）任意的に他の補助物質もしくは活性物質および／または水と共に、オゾン、二酸化塩素、次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸、過酸化水素、有機過酸または無機過酸またはそれらの組合せより選択される化学殺菌剤、および任意的に
ｃ）腐食防止剤および／または
ｄ）緩衝剤成分および／または
ｅ）錯化剤および／または
ｆ）湿潤剤および／または
ｇ）他の補助物質もしくは活性物質
を含むシステムも提供する。
【実施例】
【００１８】
手順：
本発明の構成内で、殺菌剤溶液ＤＥＳ１すなわち以下の配合：６１．１重量％の脱イオン水、２８．７重量％の過酸化水素および１０．２重量％の酢酸の混合物を用いて、微生物学的試験を行った。その結果生じたＤＥＳ１中の過酢酸の割合は、全ＤＥＳ１を基準として４．５重量％である。
【００１９】
実験のために用いた試験細菌は、緑膿菌シュードモナス・アエルギノーザ（Pseudomonas aeruginosa）(DSM 939）および枯草菌バシラス・サチルス(Bacillus subtilis）(ATCC 6633）、胞子懸濁液であった。
【００２０】
用いられる水は、以下の濃度の試験微生物で汚染した：
シュードモナス・アエルギノーザ  約１０4 〜１０5 ＣＦＵ／ｍｌ
バシラス・サチルス              約１０3 〜１０4 ＣＦＵ／ｍｌ
【００２１】
水を前記細菌種の一方のみで汚染した場合には、これを以下で明確に記載した。
【００２２】
ＵＶ装置のスイッチを入れ、加熱して（誘導時間：３０分）、最初にＤＥＳ１を含有しない汚染水を用いて実験を行い、次に一の実験の溶液が約３０ｐｐｍおよび他の実験の溶液が約１０ｐｐｍの過酢酸を含有するような量でＤＥＳ１を含有する汚染水を用いてそれぞれ実験を行った。各実験後に装置を水で濯ぎ、殺菌して、残留試験細菌が次の実験の結果を歪めないようにした。
【００２３】
用いられるＵＶ装置は、流通（flow-through）法による液体の殺菌に適したＵＶ装置であり、人工的ＵＶ−Ｃ照射が低圧水銀蒸気ランプによって生じる。ＵＶランプからの全照射の約８０％が波長２５４ｎｍである（ＤＮＡの吸収曲線は２６０ｎｍに極大を示す）。前記ＵＶ装置の出力は６４０ないし８００ｌ／ｈであるのが好ましい。
【００２４】
実際の過酢酸濃度は電流法を用いて正規サンプリングをすることにより決定した。この実際の過酢酸濃度を表１と表２のブラケットに示す。
【００２５】
また以下の実験も行った：
ＵＶ装置のスイッチを切り、ＤＥＳ１を添加することなく、汚染水（シュードモナス・アエルギノーザのみにより汚染）を用いて実験を行った。
ＵＶ装置のスイッチを切り、一の実験において汚染水（シュードモナス・アエルギノーザのみ）中の約３０ｐｐｍおよび他の実験において約１０ｐｐｍの過酢酸の濃度に相当する量のＤＥＳ１を用いて実験を行った。これらの実験では、ＤＥＳ１の各添加後に装置も汚染された。
ＵＶ装置のスイッチを入れ、ＤＥＳ１を添加することなく、汚染水（シュードモナス・アエルギノーザのみにより汚染）を用いて実験を行った。
【００２６】
サンプリング：
サンプリングは充分な量の水の採取および不活性化溶液による活性物質の中和を含み、その後に膜濾過ならびに希釈系列の調製および細菌カウント数の決定を行った。
【００２７】
結果：
試験細菌シュードモナス・アエルギノーザ（最も重要な水媒介細菌の１つでもある）は生成物ＤＥＳ１の存在下で装置において顕著に減少した。細菌減少のために必要なＤＥＳ１の濃度は、ＵＶ装置のスイッチを入れることにより実質的に減少させることができる。結果を表に示す。対照的に、ＵＶ処理のみでは、この試験細菌の僅かな減少のみの効力を有する。
【００２８】
試験細菌バシラス・サチルスのカウント数は、ＵＶ処理により既に顕著に減少される。ＤＥＳ１のみではこの場合殆ど効力を有しないが、ＤＥＳ１の存在下でのＵＶを用いた実験における細菌減少は、ＵＶ処理を用いた実験およびＤＥＳ１を用いない実験の場合よりも実質的に大きい。
【００２９】
２種の試験細菌を全体として考察すると、ＵＶ光と組み合わせたＤＥＳ１の使用は、良好な効力を生じる。そのような有利な効果は、ＤＥＳ１またはＵＶ照射のいずれか一方のみを用いても達成できない。ＵＶ光とＤＥＳ１との組合せがこの驚くべき効力の増大を生じさせることができると考えられる。ＵＶ照射を用いた追加的処理により、両試験細菌を完全に破壊するために必要なＤＥＳ１の量を実質的に減少させることが可能であることが特に指摘される。この事実は、過酢酸の濃度を５０ｐｐｍの限界よりも低く保つことを可能とするので特に重要である；このレベルを超えると操作者は酢酸／過酢酸の臭気に困惑することが経験的に分かっている。このことは別にして、抗微生物物質の濃度を減少させる可能性は、毒物学的観点からも歓迎される。したがって、本発明による原理を遵守する作用物質、方法およびシステムは、毒物学的に臨界的となり得る物質の残留濃度を非常に低くすることを確保するものである。
【００３０】
【表１】
2005500291.tif 000002
【国際公開パンフレット】
2005500291.tif 000003
2005500291.tif 000004
2005500291.tif 000005
2005500291.tif 000006
2005500291.tif 000007
2005500291.tif 000008
2005500291.tif 000009
2005500291.tif 000010
2005500291.tif 000011
2005500291.tif 000012
2005500291.tif 000013
2005500291.tif 000014
2005500291.tif 000015
2005500291.tif 000016
2005500291.tif 000017
2005500291.tif 000018
【手続補正書】
【提出日】平成15年1月28日(2003.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無菌水を用いた濯ぎを行わないで、微生物学的に汚染された表面、特に医療機器を処理するための、任意的に腐食防止剤、緩衝剤成分、錯化剤、湿潤剤および／または他の補助物質もしくは活性物質と共に、化学殺菌剤を含有する水性溶液の人工的ＵＶ照射によって得られる作用物質の使用であって、
ａ）前記表面を上記の第１の作用物質で除染し、次に
ｂ）前記表面を、非分解性成分を含まない他の作用物質で処理し、ここで
ｃ）上記他の作用物質中の殺菌剤の割合が上記第１の作用物質中の殺菌剤の割合よりも低い、使用。
【請求項２】
化学殺菌剤が、任意的に他の補助物質もしくは活性物質および／または水と共に、オゾン、二酸化塩素、次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸、過酸化水素、有機過酸または無機過酸またはそれらの組合せより選択されることを特徴とする、請求項１に記載の使用。
【請求項３】
前記有機過酸が以下
ａ）次の一般式Ｉ：
Ｒ2−Ｏ2Ｃ−（ＣＨ2）x−ＣＯ3Ｈ  （Ｉ）
［式中、Ｒ2 は水素または１ないし４炭素原子数を有するアルキル基であり、ｘは１ないし４の数である。］の過酸または過酸の塩、および／または
ｂ）過カルボン酸部分が１ないし１８炭素原子数を有するフタルイミド過カルボン酸（II）、および／または
ｃ）次の式III：
Ｒ1−ＣＯ3Ｈ  （III）
［式中、Ｒ1 は１ないし１８炭素原子数を有するアルキル基またはアルケニル基である。］の化合物、
より選択されることを特徴とする、請求項２に記載の使用。
【請求項４】
ａ）存在する一般式Ｉの過酸が、Ｒ2 が水素またはメチル基である過酸であり、および／または
ｂ）存在する過酸が、過カルボン酸部分が１ないし８炭素原子数を有するフタルイミド過カルボン酸であり、および／または
ｃ）存在する一般式III の過酸が、１ないし１２炭素原子数を有するアルキル基またはアルケニル基をもった過酸であることを特徴とする、請求項３に記載の使用。
【請求項５】
存在する過酸が、過酢酸、過プロピオン酸、過オクタン酸、フタルイミド過ヘキサン酸、フタルイミド過オクタン酸、過コハク酸、過コハク酸モノメチル、過グルタル酸、過グルタル酸モノメチル、過アジピン酸、過アジピン酸モノメチル、過コハク酸および過コハク酸モノメチルより選択される１種以上の化合物であることを特徴とする、請求項４に記載の使用。
【請求項６】
存在する過酸が過酢酸であることを特徴とする、請求項５に記載の使用。
【請求項７】
ＵＶ照射によって処理される溶液が非分解性成分を含まないことを特徴とする、請求項１ないし請求項６のいずれかに記載の使用。
【請求項８】
ＵＶ照射によって処理される溶液が、全溶液を基準として、０．０００１ないし１重量％の殺菌剤を含有する、請求項１ないし請求項７のいずれかに記載の使用。
【請求項９】
ＵＶ照射によって処理される溶液が、全溶液を基準として、０．０００２ないし０．０１重量％の殺菌剤を含有し、該溶液が非分解性成分を含まないことを特徴とする、請求項８に記載の使用。
【請求項１０】
上記他の作用物質中の殺菌剤の割合は、ＵＶ光の追加的使用を行わなければ、前記割合が、時間および温度のような選択される処理条件下で病原性細菌のある一定の群、例えばミコバクテリアまたは胞子を破壊するのに不充分であるように選択されることを特徴とする、請求項１ないし請求項９のいずれかに記載の方法。
【国際調査報告】
2005500291.tif 000019
2005500291.tif 000020
2005500291.tif 000021
2005500291.tif 000022
2005500291.tif 000023
2005500291.tif 000024
2005500291.tif 000025
2005500291.tif 000026