(57)【要約】【課題】画質に優れる電子写真機器用帯電ロールを提供する。【解決手段】軸体１２と、軸体１２の外周に形成された弾性体層１４と、弾性体層１４の外周に形成された表層１６と、を備え、表層１６が、ポリアミドおよび水酸基を有する改質剤を含み、表面に高さ０．１〜１．０μｍのベナールセル１８を有する電子写真機器用帯電ロール１０とする。水酸基を有する改質剤としては、水酸基を有するフッ素系改質剤、水酸基を有するシリコーン系改質剤、水酸基を有するアクリル系改質剤などが挙げられる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
弾性体層と、前記弾性体層の外周に形成された表層と、を備え、
前記表層がポリアミドおよび水酸基を有する改質剤を含み、前記水酸基を有する改質剤がフッ素系改質剤、シリコーン系改質剤、アクリル系改質剤の少なくとも１種であり、前記表層の表面に高さ０．１〜１．０μｍのベナールセルを有することを特徴とする電子写真機器用帯電部材。
【請求項２】
前記水酸基を有する改質剤が、フッ素系改質剤であることを特徴とする請求項１に記載の電子写真機器用帯電部材。
【請求項３】
前記表層が粗さ形成用粒子を含み、その平均粒径が３．０〜３０μｍの範囲内であることを特徴とする請求項１または２に記載の電子写真機器用帯電部材。
【請求項４】
前記ベナールセルの大きさが、２５０〜１１００μｍの範囲内であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の電子写真機器用帯電部材。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載の電子写真機器用帯電部材の製造方法であって、
前記表層は、前記ポリアミドおよび前記水酸基を有する改質剤を溶質として含みトルエンとメタノールの混合溶媒を溶媒として含む塗工液を前記弾性体層の外周に塗布した後、１００〜１５０℃の温度で３０〜６０分の時間をかけて乾燥することにより形成することを特徴とする電子写真機器用帯電部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真方式を採用する複写機、プリンター、ファクシミリなどの電子写真機器において好適に用いられる電子写真機器用帯電部材および電子写真機器用帯電部材の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電子写真機器の帯電部材としては、芯金の外周にゴム弾性を有するベース層を有し、そのベース層の外周に表層を有するものが知られている。また、帯電部材では、例えば荷電特性などから、表層のバインダー樹脂に粗さ形成用粒子を添加することがある。そして、特許文献１では、表層において、バインダー樹脂に対し、多孔質樹脂粒子とシリコーンオイルを配合することが開示されている。また、特許文献２では、塗膜層において、活性水素を持つフッ素樹脂に反応性の官能基を有するシリコーンオイルを添加することが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１５−９０４５４号公報
【特許文献２】特開２００２−２１４８７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１では、バインダー樹脂に対し多孔質樹脂粒子とシリコーンオイルを配合することで、表層の外周表面にベナールセルが発生しないようにしている。これは、ベナールセルの発生過程で多孔質樹脂粒子がセルの境界部に偏在するのを抑えるためである。また、特許文献２では、反応を介して塗膜層のフッ素樹脂にシリコーンオイルを固定することでシリコーンオイルのブリードを抑えている。
【０００５】
しかし、本発明者らが鋭意検討した結果、帯電部材の表層の表面にベナールセルを適度に存在させたほうが、画質向上の面で有利であるとの見解を得た。そしてこれにより、本発明を完成するに至った。
【０００６】
本発明が解決しようとする課題は、画質に優れる電子写真機器用帯電部材および電子写真機器用帯電部材の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するため本発明に係る電子写真機器用帯電部材は、弾性体層と、前記弾性体層の外周に形成された表層と、を備え、前記表層がポリアミドおよび水酸基を有する改質剤を含み、前記水酸基を有する改質剤がフッ素系改質剤、シリコーン系改質剤、アクリル系改質剤の少なくとも１種であり、前記表層の表面に高さ０．１〜１．０μｍのベナールセルを有することを要旨とするものである。
【０００８】
前記水酸基を有する改質剤は、フッ素系改質剤であることが特に好ましい。前記表層は、粗さ形成用粒子を含み、その平均粒径が３．０〜３０μｍの範囲内であることが好ましい。前記ベナールセルの大きさは、２５０〜１１００μｍの範囲内であることが好ましい。
【０００９】
本発明に係る電子写真機器用帯電部材の製造方法は、上記の本発明に係る電子写真機器用帯電部材の製造方法であって、前記表層は、前記ポリアミドおよび前記水酸基を有する改質剤を溶質として含みトルエンとメタノールの混合溶媒を溶媒として含む塗工液を前記弾性体層の外周に塗布した後、１００〜１５０℃の温度で３０〜６０分の時間をかけて乾燥することにより形成することを要旨とするものである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明に係る電子写真機器用帯電部材によれば、表層がポリアミドおよび水酸基を有する改質剤を含み、水酸基を有する改質剤がフッ素系改質剤、シリコーン系改質剤、アクリル系改質剤の少なくとも１種であり、表層の表面に高さ０．１〜１．０μｍのベナールセルを有することから、画質に優れる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の一実施形態に係る電子写真機器用帯電ロールの外観模式図（ａ）と、そのＡ−Ａ線断面図（ｂ）である。
【図２】図１に示す電子写真機器用帯電ロールの表層の表面構造を模式的に示したものであり、表面拡大図（ａ）とそのＢ−Ｂ線断面図（ｂ）である。
【図３】本発明に係る電子写真機器用帯電ロールの表層の表面構造を模式的に示した変形例であり、表面拡大図（ａ）とそのＣ−Ｃ線断面図（ｂ）である。
【図４】電子写真機器用帯電ロールの表層の表面構造を模式的に示した一例であり、表面拡大図（ａ）とそのＤ−Ｄ線断面図（ｂ）である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明について詳細に説明する。本発明に係る電子写真機器用帯電部材は、感光ドラムなどの被帯電体を帯電させるものであれば、特に形状が限定されるものではない。例えば、ロール状、プレート状、ブロック状などの形状のものが適用可能である。特に好ましいものとしては、ロール状のものである。以下、ロール状のもの（帯電ロール）を例に挙げて説明する。
【００１３】
本発明に係る電子写真機器用帯電ロール（以下、単に帯電ロールということがある。）について詳細に説明する。図１は、本発明の一実施形態に係る電子写真機器用帯電ロールの外観模式図（ａ）と、そのＡ−Ａ線断面図（ｂ）である。図２は、図１に示す帯電ロールの表層の表面構造を模式的に示したものであり、表面拡大図（ａ）とそのＢ−Ｂ線断面図（ｂ）である。
【００１４】
帯電ロール１０は、軸体１２と、軸体１２の外周に形成された弾性体層１４と、弾性体層１４の外周に形成された表層１６と、を備える。弾性体層１４は、帯電ロール１０のベースとなる層である。表層１６は、帯電ロール１０の表面に現れる層となっている。
【００１５】
表層１６は、ポリアミドおよび水酸基を有する改質剤を含み、表面に高さ０．１〜１．０μｍのベナールセル１８を有する。ベナールセル１８は、表層１６を形成する際、加熱などにより塗膜内部で渦流が生じ、その結果、主に六角形のセル構造が現れる現象によって生じるものである。渦流は、塗膜内部で上下方向に生じ、塗膜表面で中心から外側に生じる。ベナールセル１８は、セル壁１８ａにより囲まれた領域をいう。
【００１６】
ポリアミドは、表層１６のバインダーポリマーであり、ベースポリマーである。表層１６は、本発明に影響しない範囲であれば、バインダーポリマーとしてポリアミド以外のポリマーを含んでいてもよいが、バインダーポリマーはポリアミドのみで構成されていてもよい。ポリアミドは、表面自由エネルギーが比較的大きいポリマーである。このため、ポリアミドを含む塗膜はその乾燥過程でベナールセル現象が生じやすい。他のポリマーでは、ベナールセル現象が生じにくい。本発明では、このようなポリアミドを含む塗膜の性質を利用して、表層１６の表面にベナールセル１８を積極的に作るようにしている。
【００１７】
ポリアミドの種類は、特に限定されるものではない。ポリアミドとしては、脂肪族骨格を含むナイロン、芳香族骨格のみで構成されるアラミドが挙げられる。ナイロンとしては、ωアミノ酸の重縮合反応で合成されるｎ−ナイロン、ジアミンとジカルボン酸の共縮重合反応で合成されるｎ，ｍ−ナイロンが挙げられる。ｎ−ナイロンとしては、ナイロン６、ナイロン１１、ナイロン１２などが挙げられる。ｎ，ｍ−ナイロンとしては、ナイロン６６などが挙げられる。ポリアミドは、変性されたものであってもよいし、非変性のものであってもよい。変性基としては、例えば、Ｎ−メトキシメチル基、シリコーン基、フッ素基などを挙げることができる。これらのうちでは、高誘電性（帯電性）などの観点から、Ｎ−メトキシメチル化ナイロンが好ましい。
【００１８】
水酸基を有する改質剤は、ポリアミドを含む塗膜の表面張力を調整し、ベナールセル１８の高さを調整する。これは、改質剤の水酸基を介して改質剤がポリアミドと水素結合で分子間相互作用するためと推察される。官能基を有しない改質剤や、他の官能基を有し、水酸基を有しない改質剤では、ポリアミドを含む塗膜であってもベナールセル現象が抑えられ、ベナールセル１８が形成されない。官能基を有しない改質剤では、ポリアミドと水素結合で分子間相互作用できない。他の官能基（例えばカルボン酸基など）は、分子内水素結合が優先され、ポリアミドとの分子間相互作用が小さいためと推察される。表層１６の表面にベナールセル１８を形成するためには、水酸基を有する改質剤が必要である。
【００１９】
水酸基を有する改質剤は、ポリアミドを含む塗膜中に溶解・分散できるものであれば、常温において、固体であってもよいし、液体であってもよい。溶解・分散性により優れるなどの観点から、水酸基を有する改質剤は常温において液体であることがより好ましい。水酸基を有する改質剤としては、フッ素系、シリコーン系、アクリル系などが挙げられる。水酸基を有する改質剤は、これらのうちの１種のみを単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。これらのうちでは、フッ素系がより好ましい。表層１６の表面のタック性を抑える効果により優れ、残留トナーやトナー外添剤の付着が抑えられやすくなる。また、付着しても取れやすくなる。フッ素系改質剤としては、フッ素系界面活性剤などが挙げられる。フッ素系改質剤としては、ＤＩＣ製メガファックシリーズなどが挙げられる。シリコーン系改質剤としては、シリコーンオイルなどが挙げられる。アクリル系改質剤としては、アクリル系ポリマー、シリコーンアクリル系ポリマーなどが挙げられる。アクリル系ポリマーは、アクリル酸エステルもしくはメタクリル酸エステルの１種以上からなるアクリル系単独重合体またはアクリル系共重合体である。シリコーンアクリル系ポリマーは、シリコーン変性アクリル系ポリマーである。
【００２０】
表層１６において、水酸基を有する改質剤の含有量は、表層１６の表面にベナールセル１８を形成する効果に優れるなどの観点から、ポリアミド１００質量部に対し、０．１質量部以上であることが好ましい。より好ましくは０．３質量部以上、さらに好ましくは０．５質量部以上である。また、改質剤の凝集を抑えて分散性に優れるなどの観点から、３．０質量部以下であることが好ましい。より好ましくは２．０質量部以下、さらに好ましくは１．０質量部以下である。
【００２１】
ベナールセル１８は、表層１６の表面に分布することで、汚れ物質が局所に集中するのを抑える。ベナールセル１８のセル壁１８ａに汚れ物質が付着することで、汚れ物質が粗さ形成用粒子の周囲などの局所的にかたまるのを抑えるからである。汚れ物質は、残留トナーや外添剤などである。汚れ物質が局所に集中しないことで、画質が向上する。ベナールセル１８の高さは、０．１μｍ以上とする。高さが０．１μｍ未満であると、ベナールセル１８のセル壁１８ａに汚れ物質が付着せず、汚れ物質が局所的にかたまるのを抑えることができない。また、この観点から、より好ましくは高さ０．２μｍ以上、さらに好ましくは高さ０．３μｍ以上である。一方、ベナールセル１８の高さは、１．０μｍ以下とする。高さが１．０μｍ超であると、表面粗さへの影響が大きく、画質が低下する。また、この観点から、より好ましくは高さ０．８μｍ以下、さらに好ましくは高さ０．７μｍ以下である。ベナールセル１８の高さは、表層１６の表面をレーザー顕微鏡にて観察し、ベナールセル１８内の最大深さの位置からセル壁１８ａの頂点までの高さを計測し、任意のベナールセル１８の２０点の平均で表す。
【００２２】
ベナールセル１８の大きさは、均一帯電性などの観点から、２５０μｍ以上であることが好ましい。より好ましくは３００μｍ以上である。また、均一分散性、局所汚れ防止などの観点から、１１００μｍ以下であることが好ましい。より好ましくは１０００μｍ以下である。ベナールセル１８の大きさは、表層１６の表面をレーザー顕微鏡にて観察し、セル壁１８ａの頂点からその対角点までの最長距離を計測し、任意のベナールセル１８の２０点の平均で表す。
【００２３】
表層１６は、表層１６に粗さを形成するための粗さ形成用粒子を含んでいてもよい。表層１６が粗さ形成用粒子を含むと、帯電ロール１０の荷電特性をより向上することができる。
【００２４】
図３には、表層１６が粗さ形成用粒子２０を含む本発明の変形例を示している。図３（ａ）は表層１６の表面拡大図であり、図３（ｂ）は、そのＣ−Ｃ線断面図である。また、図４には、表層１６が粗さ形成用粒子２０を含む帯電ロールの一例を示している。図４（ａ）は表層１６の表面拡大図であり、図４（ｂ）は、そのＤ−Ｄ線断面図である。
【００２５】
本発明に係る帯電ロール１０は、上記するように、表層１６がポリアミドおよび水酸基を有する改質剤を含み、表面に高さ０．１〜１．０μｍのベナールセル１８を有する。ベナールセル１８の高さが１．０μｍ以下であるため、ベナールセル１８の発生過程で粗さ形成用粒子２０がセルの境界部（セル壁１８ａの近傍）に偏在するのが抑えられる。これにより、図３に示すように、粗さ形成用粒子２０は、表層１６において、ベナールセル１８のセル壁１８ａの位置にかかわらず均一に分散される。粗さ形成用粒子２０が表層１６において均一に分布することで、表面粗さや抵抗の均一性が確保される。これにより、画質が優れる。また、この観点から、より好ましくは高さ０．８μｍ以下、さらに好ましくは高さ０．７μｍ以下である。
【００２６】
これに対し、ベナールセル１８の高さが１．０μｍ超であると、図４に示すように、ベナールセル１８の発生過程で粗さ形成用粒子がセルの境界部（セル壁１８ａの近傍）に偏在し、表面粗さや抵抗の均一性が低下する。これにより、均一帯電性が低下し、画質が低下する。
【００２７】
粗さ形成用粒子２０は、樹脂製粒子などが用いられる。粗さ形成用粒子２０の材料は特に限定されるものではなく、アクリル粒子、シリコーン粒子、ウレタン粒子などが用いられる。粗さ形成用粒子２０の大きさは、特に限定されるものではないが、均一帯電性を確保しやすいなどの観点から、平均粒径３．０〜３０μｍのものが好ましい。より好ましくは平均粒径５．０〜１５μｍのものである。粗さ形成用粒子２０の平均粒径は、表層１６の表面をレーザー顕微鏡にて観察し、表面観察時に見える粗さ形成用粒子２０の直径を粒径とし、任意の粗さ形成用粒子２０の２０点の平均で表す。また、粗さ形成用粒子２０の含有量は、特に限定されるものではないが、均一帯電性を確保しやすいなどの観点から、表層１６のベースポリマーであるポリアミド１００質量部に対し、１０〜５０質量部の範囲内とすることが好ましい。より好ましくは１５〜４０質量部の範囲内である。
【００２８】
表層１６は、本発明に影響を与えない範囲において、ポリアミドおよび水酸基を有する改質剤に加え、表層１６に添加される各種添加剤を１種または２種以上含有していてもよい。このような添加剤としては、導電剤、充填剤、安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、離形剤、染料、顔料、難燃剤などが挙げられる。
【００２９】
導電剤としては、イオン導電剤、電子導電剤が挙げられる。イオン導電剤としては、第４級アンモニウム塩、第４級ホスホニウム塩、ホウ酸塩、界面活性剤などが挙げられる。電子導電剤としては、カーボンブラック、グラファイト、ｃ−ＴｉＯ２、ｃ−ＺｎＯ、ｃ−ＳｎＯ２（ｃ−は、導電性を意味する。）などの導電性酸化物などが挙げられる。
【００３０】
表層１６は、材料種、導電剤の配合などにより、所定の体積抵抗率に調整することができる。表層１６の体積抵抗率は、用途などに応じて１０５〜１０１１Ω・ｃｍ、１０８〜１０１０Ω・ｃｍの範囲などに適宜設定すればよい。表層１６の厚みは、特に限定されるものではなく、用途などに応じて１０〜３０μｍの範囲内などで適宜設定すればよい。表層１６の厚みは、粗さ形成用粒子が存在していない部分における厚みである。
【００３１】
表層１６は、表層形成用組成物を弾性体層１４の外周面に塗布・乾燥することにより形成することができる。表層形成用組成物は、ポリアミドおよび水酸基を有する改質剤を含む。また、必要に応じ、粗さ形成用粒子２０を含む。また、必要に応じ、表層に添加される各種添加剤を１種または２種以上含む。また、必要に応じ、溶媒を含む。
【００３２】
表層１６の表面におけるベナールセル１８の高さや大きさは、表層形成用組成物の成分組成、溶媒組成、粘度、濃度、塗布量、膜厚、乾燥条件（温度、時間など）などを調整することにより、調整することができる。特定の高さのベナールセル１８を形成するなどの観点から、また、所定の大きさのベナールセル１８を形成するなどの観点から、成分組成としては、ポリアミドおよび水酸基を有する改質剤を溶質として含むことが好ましい。また、溶媒組成としては、トルエンとメタノールの混合溶媒を溶媒として含むことが好ましい。トルエン／メタノール質量比は、例えば３／１〜１／３などが好ましい。固形分濃度としては、５〜３０質量％が好ましい。膜厚としては、２〜２５μｍが好ましい。また、乾燥条件としては、１００〜１５０℃の温度で３０〜６０分の時間をかけて乾燥することが好ましい。
【００３３】
弾性体層１４は、架橋ゴムを含有する。弾性体層１４は、未架橋ゴムを含有する導電性ゴム組成物により形成される。架橋ゴムは、未架橋ゴムを架橋することにより得られる。未架橋ゴムは、極性ゴムであってもよいし、非極性ゴムであってもよい。導電性に優れるなどの観点から、未架橋ゴムは極性ゴムがより好ましい。
【００３４】
極性ゴムは、極性基を有するゴムであり、極性基としては、クロロ基、ニトリル基、カルボキシル基、エポキシ基などを挙げることができる。極性ゴムとしては、具体的には、ヒドリンゴム、ニトリルゴム（ＮＢＲ）、ウレタンゴム（Ｕ）、アクリルゴム（アクリル酸エステルと２−クロロエチルビニルエーテルとの共重合体、ＡＣＭ）、クロロプレンゴム（ＣＲ）、エポキシ化天然ゴム（ＥＮＲ）などを挙げることができる。極性ゴムのうちでは、体積抵抗率が特に低くなりやすいなどの観点から、ヒドリンゴム、ニトリルゴム（ＮＢＲ）がより好ましい。
【００３５】
ヒドリンゴムとしては、エピクロルヒドリンの単独重合体（ＣＯ）、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド二元共重合体（ＥＣＯ）、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル二元共重合体（ＧＣＯ）、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル三元共重合体（ＧＥＣＯ）などを挙げることができる。
【００３６】
ウレタンゴムとしては、分子内にエーテル結合を有するポリエーテル型のウレタンゴムを挙げることができる。ポリエーテル型のウレタンゴムは、両末端にヒドロキシル基を有するポリエーテルとジイソシアネートとの反応により製造できる。ポリエーテルとしては、特に限定されるものではないが、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどを挙げることができる。ジイソシアネートとしては、特に限定されるものではないが、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネートなどを挙げることができる。
【００３７】
非極性ゴムとしては、イソプレンゴム（ＩＲ）、天然ゴム（ＮＲ）、スチレンブタジエンゴム（ＳＢＲ）、ブタジエンゴム（ＢＲ）などが挙げられる。
【００３８】
架橋剤としては、硫黄架橋剤、過酸化物架橋剤、脱塩素架橋剤を挙げることができる。これらの架橋剤は、単独で用いても良いし、２種以上組み合わせて用いても良い。
【００３９】
硫黄架橋剤としては、粉末硫黄、沈降硫黄、コロイド硫黄、表面処理硫黄、不溶性硫黄、塩化硫黄、チウラム系加硫促進剤、高分子多硫化物などの従来より公知の硫黄架橋剤を挙げることができる。
【００４０】
過酸化物架橋剤としては、パーオキシケタール、ジアルキルパーオキサイド、パーオキシエステル、ケトンパーオキサイド、パーオキシジカーボネート、ジアシルパーオキサイド、ハイドロパーオキサイドなどの従来より公知の過酸化物架橋剤を挙げることができる。
【００４１】
脱塩素架橋剤としては、ジチオカーボネート化合物を挙げることができる。より具体的には、キノキサリン−２，３−ジチオカーボネート、６−メチルキノキサリン−２，３−ジチオカーボネート、６−イソプロピルキノキサリン−２，３−ジチオカーボネート、５，８−ジメチルキノキサリン−２，３−ジチオカーボネートなどを挙げることができる。
【００４２】
架橋剤の配合量としては、ブリードしにくいなどの観点から、未架橋ゴム１００質量部に対して、好ましくは０．１〜２質量部の範囲内、より好ましくは０．３〜１．８質量部の範囲内、さらに好ましくは０．５〜１．５質量部の範囲内である。
【００４３】
架橋剤として脱塩素架橋剤を用いる場合には、脱塩素架橋促進剤を併用しても良い。脱塩素架橋促進剤としては、１，８−ジアザビシクロ（５，４，０）ウンデセン−７（以下、ＤＢＵと略称する。）もしくはその弱酸塩を挙げることができる。脱塩素架橋促進剤は、ＤＢＵの形態として用いても良いが、その取り扱い面から、その弱酸塩の形態として用いることが好ましい。ＤＢＵの弱酸塩としては、炭酸塩、ステアリン酸塩、２−エチルヘキシル酸塩、安息香酸塩、サリチル酸塩、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸塩、フェノール樹脂塩、２−メルカプトベンゾチアゾール塩、２−メルカプトベンズイミダゾール塩などを挙げることができる。
【００４４】
脱塩素架橋促進剤の含有量としては、ブリードしにくいなどの観点から、未架橋ゴム１００質量部に対して、０．１〜２質量部の範囲内であることが好ましい。より好ましくは０．３〜１．８質量部の範囲内、さらに好ましくは０．５〜１．５質量部の範囲内である。
【００４５】
弾性体層１４には、導電性付与のため、カーボンブラック、グラファイト、ｃ−ＴｉＯ２、ｃ−ＺｎＯ、ｃ−ＳｎＯ２（ｃ−は、導電性を意味する。）、イオン導電剤（４級アンモニウム塩、ホウ酸塩、界面活性剤など）などの従来より公知の導電剤を適宜添加することができる。また、必要に応じて、各種添加剤を適宜添加しても良い。添加剤としては、滑剤、加硫促進剤、老化防止剤、光安定剤、粘度調整剤、加工助剤、難燃剤、可塑剤、発泡剤、充填剤、分散剤、消泡剤、顔料、離型剤などを挙げることができる。
【００４６】
弾性体層１４は、架橋ゴムの種類、イオン導電剤の配合量、電子導電剤の配合などにより、所定の体積抵抗率に調整することができる。弾性体層１４の体積抵抗率は、用途などに応じて１０２〜１０１０Ω・ｃｍ、１０３〜１０９Ω・ｃｍ、１０４〜１０８Ω・ｃｍの範囲などに適宜設定すればよい。
【００４７】
弾性体層１４の厚みは、特に限定されるものではなく、用途などに応じて０．１〜１０ｍｍの範囲内などで適宜設定すればよい。弾性体層１４は、発泡体であってもよいし、非発泡体であってもよい。
【００４８】
弾性体層１４は、例えば、次のようにして製造することができる。まず、軸体１２をロール成形金型の中空部に同軸的に設置し、未架橋の導電性ゴム組成物を注入して、加熱・硬化（架橋）させた後、脱型するか、あるいは、軸体１２の表面に未架橋の導電性ゴム組成物を押出成形するなどにより、軸体１２の外周に弾性体層１４を形成する。
【００４９】
軸体１２は、導電性を有するものであれば特に限定されない。具体的には、鉄、ステンレス、アルミニウムなどの金属製の中実体、中空体からなる芯金などを例示することができる。軸体１２の表面には、必要に応じて、接着剤、プライマーなどを塗布しても良い。つまり、弾性体層１４は、接着剤層（プライマー層）を介して軸体１２に接着されていてもよい。接着剤、プライマーなどには、必要に応じて導電化を行なっても良い。
【００５０】
以上の構成の帯電ロール１０によれば、表層１６がポリアミドおよび水酸基を有する改質剤を含み、表面に高さ０．１〜１．０μｍのベナールセル１８を有することから、ベナールセル１８のセル壁１８ａに汚れ物質が付着し、汚れ物質が局所的にかたまるのを抑えることができる。また、表面粗さへの影響を抑えることができる。これにより、画質に優れる。また、表層１６が粗さ形成用粒子２０を含む場合には、ベナールセル１８の高さが１．０μｍ以下であるため、ベナールセル１８の発生過程で粗さ形成用粒子２０がセルの境界部（セル壁１８ａの近傍）に偏在するのが抑えられる。これにより、粗さ形成用粒子２０は、表層１６において、ベナールセル１８のセル壁１８ａの位置にかかわらず均一に分散される。粗さ形成用粒子２０が表層１６において均一に分布することで、表面粗さや抵抗の均一性が確保される。これにより、画質が優れる。
【００５１】
本発明に係る帯電ロールの構成としては、図１に示す構成に限定されるものではない。例えば、図１に示す帯電ロール１０において、軸体１２と弾性体層１４との間に他の弾性体層を備えた構成であってもよい。この場合、他の弾性体層は、帯電ロールのベースとなる層であり、弾性体層１４が帯電ロールの抵抗調整を行う抵抗調整層などとして機能する。他の弾性体層は、例えば、弾性体層１４を構成する材料として挙げられた材料のいずれかにより構成することができる。また、例えば、図１に示す帯電ロール１０において、弾性体層１４と表層１６との間に他の弾性体層を備えた構成であってもよい。この場合、弾性体層１４が帯電ロールのベースとなる層であり、他の弾性体層は、帯電ロールの抵抗調整を行う抵抗調整層などとして機能する。
【実施例】
【００５２】
以下、実施例および比較例を用いて本発明を詳細に説明する。
【００５３】
（実施例１〜１１）
＜導電性ゴム組成物の調製＞
ヒドリンゴム（ＥＣＯ、ダイソー製「エピクロマーＣＧ１０２」）１００質量部に対し、加硫助剤（酸化亜鉛、三井金属製「酸化亜鉛２種」）を５質量部、カーボン（ケッチェンブラックインターナショナル製「ケッチェンブラックＥＣ３００Ｊ」）を１０質量部、加硫促進剤（２−メルカプトベンゾチアゾール、大内新興化学工業社製「ノクセラーＭ−Ｐ」）を０．５質量部、硫黄（鶴見化学工業社製、「サルファックスＰＴＣ」）を２質量部、充填剤（炭酸カルシウム、白石工業製「白艶華ＣＣ」）を５０質量部添加し、これらを攪拌機により撹拌、混合して導電性ゴム組成物を調製した。
【００５４】
＜弾性体層の作製＞
成形金型（パイプ状）に芯金（軸体、直径６ｍｍ）をセットし、上記の導電性ゴム組成物を注入し、１８０℃で３０分加熱した後、冷却、脱型して、芯金の外周に厚み１．９ｍｍの弾性体層を形成した。
【００５５】
＜表層形成用組成物の調製＞
表１に記載の配合（質量部）となるように、バインダーポリマー、改質剤、粗さ形成用粒子を配合し、固形分濃度２０質量％となるようにトルエンとメタノールの混合溶媒（質量比１：２）で濃度調整した。固形分濃度は、溶媒以外の成分の合計の濃度である。
【００５６】
＜表層の作製＞
弾性体層の表面に表層形成用組成物をロールコートし、１３０℃で５０分加熱して、弾性体層の外周に、厚み１０μｍの表層を形成した。これにより、実施例１〜１１に係る帯電ロールを作製した。表層の厚みは、粗さ形成用粒子が存在していない部分における厚みである。
【００５７】
（実施例１２）
表層形成用組成物の調製において、表１に記載のように粗さ形成用粒子を配合しなかった以外は実施例１〜１１と同様にして、実施例１２に係る帯電ロールを作製した。
【００５８】
（実施例１３〜１４）
表層形成用組成物の調製において、表１に記載のように固形分濃度を変更した以外は実施例１〜１１と同様にして、実施例１３〜１４に係る帯電ロールを作製した。
【００５９】
（実施例１５）
表層形成用組成物の調製において、表１に記載のように電子導電剤を配合した以外は実施例１〜１１と同様にして、実施例１５に係る帯電ロールを作製した。
【００６０】
（比較例１）
表層形成用組成物の調製において、水酸基を有する改質剤に代えて、水酸基を有さずカルボン酸基を有する改質剤を用いた以外は実施例１〜１１と同様にして、比較例１に係る帯電ロールを作製した。
【００６１】
（比較例２）
表層形成用組成物の調製において、水酸基を有する改質剤に代えて、非変性改質剤を用いた以外は実施例１〜１１と同様にして、比較例２に係る帯電ロールを作製した。
【００６２】
（比較例３）
表層形成用組成物の調製において、改質剤を配合しなかった以外は実施例１〜１１と同様にして、比較例３に係る帯電ロールを作製した。
【００６３】
（比較例４）
表層形成用組成物の調製において、バインダーポリマーを変更した以外は比較例３と同様にして、比較例４に係る帯電ロールを作製した。
【００６４】
（表層形成用組成物の材料）
・バインダー１（バインダーポリマー）：Ｎ−メトキシメチル化ナイロン（ナガセケムテックス社製、「ＥＦ３０Ｔ」）
・バインダー２（バインダーポリマー）：フッ素樹脂（ダイキン工業社製、「ネオフロンＰＦＡ」）
・改質剤１：水酸基を有するフッ素系改質剤（ＤＩＣ製「メガファックＦ−４７７」）
・改質剤２：水酸基を有するアクリル系改質剤（東亞合成製「ＳＤ−１０」）
・改質剤３：水酸基を有するシリコーン系改質剤（モメンティブパフォーマンスマテリアルズ製「ＸＦ４２−Ｂ０９７０」）
・改質剤４：カルボン酸基を有するシリコーン系改質剤（信越シリコーン製「Ｘ−２２−３７０１Ｅ」）
・改質剤５：非変性シリコーン系改質剤（信越シリコーン製「ＫＦ−９６Ｌ−１ｃｓ」、ジメチルシリコーンオイル）
・電子導電剤：カーボンブラック、三菱化学社製「ダイアブラック♯３０３０」
【００６５】
作製した各帯電ロールについて、表層の表面を観察し、ベナールセルの発生と粗さ形成用粒子の分散状態を確認した。また、ベナールセルの高さ、大きさ、粗さ形成用粒子の粒径を測定した。また、画像評価を行った。評価結果および表層形成用組成物の配合組成（質量部）を以下の表に示す。
【００６６】
（表面観察）
帯電ロールの表層の表面を市販のレーザー顕微鏡（キーエンス製カラー３Ｄレーザー顕微鏡「ＶＫ−８７１０」）にて観察した。測定倍率４００倍、測定ピッチ０．１μｍ、レーザー光量１０００とした。
【００６７】
（ベナールセルの高さ）
上記表面観察時に、ベナールセル内の最大深さの位置からセル壁の頂点までの高さを計測し、任意のベナールセル２０点の平均で表した。
【００６８】
（ベナールセルの大きさ）
上記表面観察時に、セル壁の頂点からその対角点までの最長距離を計測し、任意のベナールセル２０点の平均で表した。
【００６９】
（粗さ形成用粒子の大きさ）
上記表面観察時に見える粗さ形成用粒子の直径を粒径とし、任意の粗さ形成用粒子２０点の平均で表した。
【００７０】
（画像評価）
各帯電ロールを市販のフルカラーＭＦＰに組み込み、２５℃×５０％ＲＨの環境下、印字パターンがハーフトーンにて画像出しを行った。初期および１万枚耐久後のそれぞれで評価した。画像に横スジがないものを良好「○」とし、１カ所でも画像に横スジがあるものを不良「×」とした。また、各帯電ロールを市販のフルカラーＭＦＰに組み込み、２５℃×５０％ＲＨの環境下で３０日間放置した後、画像評価を行った。感光ドラムとの当接部に相当する部分の画像を評価した結果、感光体ピッチで画像に横スジがないものを良好「○」とし、画像に横スジがあるものを不良「×」とした。
【００７１】
【表１】
2018136434.tif 000003
【００７２】
実施例および比較例から、ポリアミドを含む塗膜において改質剤を含まないと（比較例３）、ベナールセルの高さが大きく、粗さ形成用粒子がセル壁の近傍に偏在していた（図４参照）。このため、表面粗さや抵抗の均一性が低下し、均一帯電性の低下により初期からスジ画像が発生した。なお、これにより、接触放置後の試験は行わなかった。また、ポリアミドを含む塗膜において非変性の改質剤を含むだけ（比較例２）では、ベナールセルが発生せず、残留トナーや外添剤などの汚れ物質が粗さ形成用粒子の裾部などの局所にかたまり、耐久後にスジ画像が発生した。また、ポリアミドを含む塗膜においてカルボン酸基などの水酸基以外の官能基を有する改質剤を含むだけ（比較例１）では、ベナールセルが発生せず、残留トナーや外添剤などの汚れ物質が粗さ形成用粒子の裾部などの局所にかたまり、耐久後にスジ画像が発生した。これに対し、ポリアミドを含む塗膜において水酸基を有する改質剤を含む（実施例）ことで、表層の表面に所定の高さのベナールセルが形成され、ベナールセルによって残留トナーや外添剤などの汚れ物質が局所に集中しなくなった。また、粗さ形成用粒子はセル壁の近傍に偏在しておらず、表層の表面に均一分散していた（図３参照）。これにより、初期および耐久後においてスジ画像の発生が抑えられた。また、接触状態で放置後にも、スジ画像の発生が抑えられている。これは、表面に現れる改質剤の水酸基がバインダーポリマーのポリアミドと水素結合で分子間相互作用しているために感光ドラムへの移行が抑えられたためと推察される。他の官能基を有する改質剤や非変性の改質剤では、このような効果は得られない。例えば比較例１，２では、接触状態で放置後にも、横スジが発生しており、改質剤が感光ドラムに移行していることがわかる。そして、比較例４から、ポリアミド以外のバインダーポリマーでは、改質剤を添加しなくてもベナールセルの発生が抑えられている。しかし、ベナールセルが発生していないため、耐久後のスジ画像の発生は抑えられない。
【００７３】
以上、本発明の実施形態・実施例について説明したが、本発明は上記実施形態・実施例に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々の改変が可能である。
【符号の説明】
【００７４】
１０  帯電ロール
１２  軸体
１４  弾性体層
１６  表層
１８  ベナールセル
２０  粗さ形成用粒子
【図１】
2018136434.tif 000004
【図２】
2018136434.tif 000005
【図３】
2018136434.tif 000006
【図４】
2018136434.tif 000007