(57)【要約】【課題】ポリカーボネート樹脂中のフリース生成物の量と残留一価及び二価フェノール化合物の量を共に低減できる簡単かつ有効な方法。【解決手段】ポリカーボネートに式（１）（式中、Ｒ1はアルコキシ、フェノキシ、ベンジルオキシ又はフェニルであり、Ｒ2は置換又は非置換Ｃ1−Ｃ30アルキル基、Ｃ6−Ｃ30アリール基、Ｃ7−Ｃ30アラルキル基又はＣ6−Ｃ30アリールオキシ基である。）の掃去剤を添加し、得られる混合物を、掃去剤が線状フリース生成物と反応して封止線状フリース生成物を形成し、また残留フェノール化合物（一価及び二価）と反応して封止フェノール化合物及びオルト置換フェノール化合物を形成するのに十分な高温で十分な時間処理することによって、反応副生物の含有量の低減したポリカーボネート樹脂を製造することができる。【化１】2005509069.tif 000011
2005509069.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応性の反応副生物の含有量の低減したポリカーボネート樹脂の製造方法であって、
（ａ）ジアリールカーボネートと二価フェノールとを溶融エステル交換反応にて反応させて、線状フリース生成物及び一価及び二価フェノール化合物からなる群から選択される１種以上の反応副生物とポリカーボネートポリマーとを含有する組成物を生じさせ、
（ｂ）上記組成物に次式の掃去剤を添加して混合物を形成し
【化１】
2005509069.tif 000009
（式中、Ｒ1はアルコキシ、フェノキシ、ベンジルオキシ又はフェニルであり、Ｒ2は置換又は非置換Ｃ1−Ｃ30アルキル基、Ｃ6−Ｃ30アリール基、Ｃ7−Ｃ30アラルキル基又はＣ6−Ｃ30アリールオキシ基である。）、
（ｃ）掃去剤が線状フリース生成物と反応して末端封止線状フリース生成物を形成するとともに、一価及び二価フェノール化合物とも反応して封止一価及び二価フェノール化合物及びオルト置換フェノール化合物を形成するように高温で十分な時間上記混合物を処理し、次いで
（ｄ）処理した混合物からオルト置換フェノール化合物を分離して、反応性の反応副生物の含有量の低減したポリカーボネート樹脂を得る
工程を含む方法。
【請求項２】
線状フリース生成物及び一価及び二価フェノール化合物からなる群から選択される１種以上の不要成分を含有するポリカーボネート樹脂組成物を改質する方法であって、
（ａ）上記組成物に次式の掃去剤を添加して混合物を形成し
【化２】
2005509069.tif 000010
（式中、Ｒ1はアルコキシ、フェノキシ、ベンジルオキシ又はフェニルであり、Ｒ2は置換又は非置換Ｃ1−Ｃ30アルキル基、Ｃ6−Ｃ30アリール基、Ｃ7−Ｃ30アラルキル基又はＣ6−Ｃ30アリールオキシ基である。）、
（ｂ）掃去剤が線状フリース生成物と反応して末端封止線状フリース生成物を形成するとともに、一価及び二価フェノール化合物とも反応して封止一価及び二価フェノール化合物及びオルト置換フェノール化合物を形成するように高温で十分な時間上記混合物を処理し、次いで
（ｃ）処理した混合物からオルト置換フェノール化合物を分離して、不要成分の含有量の低減したポリカーボネート樹脂を得る、
工程を含む方法。
【請求項３】
Ｒ1がメトキシ、ｎ−プロポキシ、フェノキシ及びベンジルオキシからなる群から選択される、請求項１又は請求項２記載の方法。
【請求項４】
Ｒ2が、アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、２−（アルコキシカルボニル）フェニルオキシカルボニル基、２−（フェノキシカルボニル）フェニルオキシカルボニル基、２−（ベンジルオキシカルボニル）フェニルオキシカルボニル基、２−（アルコキシカルボニル）フェニルオキシカルボニルオキシ基、２−（フェノキシカルボニル）フェニルオキシカルボニルオキシ基及び２−（ベンジルオキシカルボニル）フェニルオキシカルボニルオキシ基から選択される置換基で置換されている、請求項１乃至請求項３のいずれか１項の方法。
【請求項５】
掃去剤を添加するポリカーボネートのＭｎが２０００〜１６０００ｇ／モル、好ましくは５０００〜１５０００ｇ／モル、さらに好ましくは７０００〜１４０００ｇ／モルである、請求項１乃至請求項４のいずれか１項の方法。
【請求項６】
掃去剤と自由ＯＨ含量とのモル比が０．５〜２、好ましくは０．８〜１．３の範囲となるような量で掃去剤を添加する、請求項１乃至請求項５のいずれか１項の方法。
【請求項７】
バッチ反応器で実施される、請求項１乃至請求項６のいずれか１項の方法。
【請求項８】
連続反応システムで実施される、請求項１乃至請求項７のいずれか１項の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリカーボネート樹脂組成物中の反応性の反応副生物、特に線状フリース生成物及びビスフェノールＡ（ＢＰＡ）又はフェノールのような残留一価又は二価フェノール化合物などの副生物レベルを低減する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリカーボネート樹脂は、通常、ジフェニルカーボネートのようなジアリールカーボネートを二価フェノールと反応させる溶融エステル交換法で合成されている。この反応の過程で、所謂「フリース」生成物が形成される。フリース生成物は、図１に示すような線状又は枝分れ生成物であり、一般に、種々の用途に用いるポリカーボネート樹脂の特性に有害であると認識されている。つまり、具体的には、フリース生成物は、安定性の低下、添加剤との反応、着色の増大、透明性、耐湿性及び耐候性の低下に関連しているようである。さらに、フリース生成物の含有は延性及び衝撃強度の低下にも関連している。枝分れフリース生成物が存在すると、ポリカーボネートが塩化メチレンなどの慣用の溶剤に部分的に不溶となり、またその溶融流れ特性を変化させるおそれがある。（米国特許第５４６８８３６号参照）
【０００３】
フリース生成物のほかに、ポリカーボネート樹脂は、多くの場合、残留二価フェノール並びにエステル交換反応のフェノール系反応生成物を含有する。これらのフェノール化合物もポリカーボネート樹脂の品質を低減するおそれがある。例えば、芳香族モノヒドロキシ化合物の少ないポリカーボネート組成物は、湿熱への露呈後のひび割れレベルが低下し、付着材料を清掃除去するための連続射出成形プロセスの中断が少なくなり（即ち、プレートアウトの減少）、例えば黒点が付いたり褐色のすじが出る結果として不均一な色が発現するのが抑えられる、ことが確認されている（米国特許第５８５２１５６号）。プレートアウトは、ポリカーボネート中にあらゆる種類の残留モノマー、即ちフェノール、ジアリールカーボネート及び二価フェノールが多量に存在することとも関連している（欧州特許出願公開第０７０９４２１号）。
【０００４】
フリース生成物や一価フェノール及び残留二価フェノールなどの反応副生物は、ポリカーボネート樹脂の品質にとって望ましくないと認識されているが、このような副生物の量を減らそうとする試みは、その有効性が限られていたり、煩雑で高価であったりした。例えば特開平５−０１７５６５号に、溶融ポリカーボネートを５倍重量のジメチルカーボネートに添加し、沸点で５時間撹拌し、濾過し、次いで濾過ケーキを１００℃で５時間乾燥することによって、溶融ポリカーボネート中のフェノールなどの不純物のレベルを低下できることが教示されている。欧州特許出願公開第０９８５６９６号に線状フリース生成物を減らして蛍光を低下する方法が開示されている。この方法は、低温、特殊なスターラ及び特殊な触媒を用いてこの結果を達成している。したがって、線状フリース生成物の低減は、反応器の生産量や生成樹脂の分子量を犠牲にして実現されているが、残留フェノール系モノマーと関連した問題には対処していない。欧州特許出願公開第０７０９４２１号は酸性成分（リン酸など）を用いて残留モノマーを減らすが、フリース生成物の量は減らさない。
【特許文献１】米国特許第５４６８８３６号
【特許文献２】米国特許第５８５２１５６号
【特許文献３】欧州特許出願公開第０７０９４２１号
【特許文献４】特開平５−０１７５６５号
【特許文献５】欧州特許出願公開第０９８５６９６号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
したがって、ポリカーボネート樹脂中のフリース生成物の量と残留一価及び二価フェノール化合物の量を共に低減できる簡単かつ有効な方法が依然として必要とされている。本発明の目的は、かかる方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明による、反応性の反応副生物の含有量の低減したポリカーボネート樹脂を製造する方法は、
（ａ）ジアリールカーボネートと二価フェノールとを溶融エステル交換反応にて反応させて、ポリカーボネートポリマーと線状フリース生成物、一価フェノール化合物及び１種以上の残留未反応二価フェノールからなる群から選択される１種以上の反応副生物とを含有する組成物を生じさせ、
（ｂ）上記組成物に次式の掃去剤を添加して混合物を形成し
【０００７】
【化１】
2005509069.tif 000003
【０００８】
（式中、Ｒ1はアルコキシ、フェノキシ、ベンジルオキシ又はフェニルであり、Ｒ2は置換又は非置換Ｃ1−Ｃ30アルキル基、Ｃ6−Ｃ30アリール基、Ｃ7−Ｃ30アラルキル基又はＣ6−Ｃ30アリールオキシ基である。）、
（ｃ）掃去剤が線状フリース生成物と反応して封止線状フリース生成物を形成するとともに、残留一価及び二価フェノール化合物とも反応して揮発性オルト置換フェノール化合物及び封止フェノール化合物を形成するように高温で十分な時間上記混合物を処理し、
（ｄ）処理した混合物から（存在するなら）オルト置換フェノール化合物を分離して、反応性の反応副生物の含有量の低減したポリカーボネート樹脂を得る
工程を含む。
【０００９】
あるいは、除去が望まれる線状フリース生成物又は残留一価又は二価フェノール化合物を含有するポリカーボネート樹脂組成物に掃去剤を添加してもよい。したがって、本発明の別の態様では、ポリカーボネート樹脂組成物中の不要成分の量を低減する方法は、ポリカーボネート樹脂と線状フリース生成物及び残留一価及び二価フェノール化合物からなる群から選択される１種以上の成分とを含有する組成物に掃去剤を添加して混合物を形成し、掃去剤が線状フリース生成物と反応して封止線状フリース生成物を形成するとともに、残留フェノール化合物とも反応して揮発性オルト置換フェノール化合物及び封止フェノール化合物を形成するように高温で十分な時間上記混合物を処理し、次いで処理した混合物から揮発性のオルト置換フェノール化合物を分離する工程を含む。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明は、反応性の反応副生物の含有量の低減したポリカーボネート樹脂を製造する方法を提供する。本明細書及び特許請求の範囲で用いる用語「反応性の反応副生物」は線状フリース生成物及び残留フェノール化合物を意味する。残留フェノール化合物には、残留二価フェノール化合物及び一価フェノール化合物、例えばかかる材料が存在する場合にエステル交換副生物として生成するフェノールがある。
【００１１】
本発明は、線状フリース生成物及び残留フェノール化合物の両方と反応しうる共通の掃去剤を利用する。掃去剤は次式で表される。
【００１２】
【化２】
2005509069.tif 000004
【００１３】
式中、Ｒ1はアルコキシ、フェノキシ、ベンジルオキシ又はフェニルであり、Ｒ2は置換又は非置換Ｃ1−Ｃ30アルキル基、Ｃ6−Ｃ30アリール基、Ｃ7−Ｃ30アラルキル基又はＣ6−Ｃ30アリールオキシ基である。Ｒ1基の具体例としてはメトキシ、ｎ−プロポキシ、フェノキシ及びベンジルオキシが好ましい。Ｒ2が置換されている場合、適当な置換基としてはアルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、２−（アルコキシカルボニル）フェニルオキシカルボニル基、２−（フェノキシカルボニル）フェニルオキシカルボニル基、２−（ベノキシカルボニル）フェニルオキシカルボニル基、２−（アルコキシカルボニル）フェニルオキシカルボニルオキシ基、２−（フェノキシカルボニル）フェニルオキシカルボニルオキシ基及び２−（ベノキシカルボニル）フェニルオキシカルボニルオキシ基がある。
【００１４】
図２に、掃去剤と線状フリース生成物との反応を示す。図示のように、掃去剤はエステル交換反応に関与し、線状フリース生成物の潜在的枝分れ点にあるヒドロキシル基を封止する。この結果、自由ＯＨ基をもたない反応性の低い封止種が生成し、この封止種はポリカーボネート生成物の品質にあまり有害でない。線状フリース生成物の末端封止によって、有意な量の枝分れフリース生成物の形成をうまく回避できる。特に、カーボネートではなくエステル（二官能対一官能）で封止して生じる封止種は簡単にはそれ以上成長しない。
【００１５】
線状フリース生成物との反応に加えて、掃去剤は図３Ａ及び図３Ｂに示すように残留一価及び二価フェノール化合物とも反応する。図３Ａに、フェノールと掃去剤との反応を示す。エステル交換の結果、エステルと揮発性オルト置換フェノール化合物とが生じる。オルト置換フェノール化合物は、ポリカーボネートの分子量減成につながるバックバイト反応において、フェノールよりも反応性が低く、揮発性であり、さらに反応する前に、蒸留によって溶融物から簡単に除去できる。エステル生成物は除去されないが、エステル生成物はより高分子量であり、添加剤との反応性が低く（エステル対自由ＯＨ）、したがって色などに有害でない。
【００１６】
図３Ｂに、二価フェノール（ＢＰＡ）と本発明の掃去剤との反応を示す。
【００１７】
本発明の第１の実施態様では、ジアリールカーボネートと二価フェノールとを溶融エステル交換反応にて反応させることによって、ポリカーボネートを製造する。溶融エステル交換反応を行う方法は周知であり、例えばＫ．Ｊ．  Ｓａｕｎｄｅｒｓ著，  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，  １９７３，  Ｃｈａｐｍａｎ  ａｎｄ  Ｈａｌｌ  Ｌｔｄ．に記載され、また多数の米国特許、具体的には米国特許第３４４２８５４号、同第５０２６８１７号、同第５０９７０２２号、同第５１４２０１８号、同第５１５１４９１号及び同第５３４０９０５号に記載されている。当業界で周知のように、使用できるジアリールカーボネートと二価フェノールは多数存在する。特定のジアリールカーボネート及び特定の二価フェノールの選択は、所望のポリカーボネートの性質に依存する。使用できる普通のジアリールカーボネートとしては、ジフェニルカーボネート、ジトリルカーボネート、ｍ−クレジルカーボネート及びジナフチルカーボネートがあるが、これらに限定されない。普通の二価フェノールとしては、ビス（ヒドロキシアリール）アルカン類、例えばビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡともいう）、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−１−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）プロパン及び２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）プロパン；ビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類、例えば１，１−（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン及び１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン；ジヒドロキシアリールエーテル類、例えば４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル及び４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルフェニルエーテル；ジヒドロキシジアリールスルフィド類、例えば４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド及び４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルフィド；ジヒドロキシジアリールスルホキシド類、例えば４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド及び４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホキシド；並びにジヒドロキシジアリールスルホン類、例えば４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン及び４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホンがあるが、これらに限定されない。一実施形態では、芳香族ジヒドロキシ化合物がビスフェノールＡ（ＢＰＡ）である。
【００１８】
エステル交換反応は高温で溶融状態で行う。反応はバッチ反応器で行っても、スタチックミキサで行ってもよいが、混合ドラム、１個又は複数個の反応器（例えば２個）、１個又は複数個の重合釜（例えば２個）及び押出機を直列に並べた連続反応システムで反応を行うのが普通である。この結果、線状フリース生成物及び一価及び二価フェノール化合物からなる群から選択される１種以上の反応副生物とポリカーボネートポリマーとを含有する組成物が生成する。この組成物は残留ジアリールカーボネートを含有することもある。即ち、最終重合度に到達しているのが望ましいが、重合が最終重合度に到達している必要はない。
【００１９】
エステル交換反応は、ポリカーボネート生成物の特性を制御するのに用いるよく知られた添加剤の存在下で行ってもよい。このような添加剤には、ポリカーボネート生成物の末端封止レベルを制御する末端封止剤があるが、これらに限らない。
【００２０】
溶融エステル交換反応における少なくとも部分的な重合後、掃去剤を組成物に添加する。連続反応システムでは、掃去剤を、重合釜（通常第１重合釜）への導入に先立って反応器の一つ（通常最後の反応器）で溶融物に添加しても、重合釜の一つで溶融物に添加してもよい。掃去剤の添加は、ポリカーボネートがＭｎ２０００〜１６０００ｇ／モル、さらに好ましくは５０００〜１５０００ｇ／モル、特に好ましくは７０００〜１４０００ｇ／モルに達した後に、また、組成物中に存在する反応副生物の少なくとも一部、好ましくは反応副生物のほぼすべてと反応するのに十分な量、添加するのが適当である。掃去剤の添加量は、ＰＣ生成物の全自由ＯＨ含量に対するモル比又は化学量論的量として定義するのが好都合である。ここで、全自由ＯＨ含量は線状フリース、自由ＯＨ末端基、並びに一価及び二価フェノールの合計と定義される。掃去剤を、自由ＯＨ含量に対して０．５〜２のモル比で添加するのが適当であり、例えば０．８〜１．３のモル比で添加する。
【００２１】
このようにして得られる掃去剤とポリカーボネート含有組成物との混合物を高温で適当な時間処理し、その処理温度及び時間は、掃去剤が線状フリース生成物と反応して封止線状フリース生成物を形成し、また一価及び二価フェノール化合物と反応して揮発性のオルト置換フェノール化合物及び封止フェノール化合物を形成するのに十分なものである。例えば、混合物を２６０〜３２０度の温度で１〜３０分間処理するのが適当である。ポリカーボネートの追加重合が同時に進行してもよい。
【００２２】
処理済み混合物からオルト置換フェノール化合物を分離し、反応副生物の含有量の低減したポリカーボネート樹脂を得る。オルト置換フェノール化合物の沸点が混合物中の他の成分の沸点よりも大幅に低いので、この分離は蒸留によって適切に達成できる。
【００２３】
本発明による掃去剤の使用は、線状フリース生成物及び／又は一価又は二価フェノール化合物を含有するあらゆるポリカーボネート樹脂組成物に適用することができる。したがって、本発明の別の実施形態は、掃去剤を添加し、溶融条件下で処理することによって、ポリカーボネート組成物を上記成分の含有レベルが低くなるように改質する方法である。封止したフェノール化合物はポリカーボネート樹脂の特性に対する悪影響がはるかに少ない（自由ＯＨなし、より高い分子量）。
【００２４】
本発明は、線状フリース生成物と一価及び二価フェノール化合物との両方のレベルを下げることができ、また単一添加剤でそれを実現する。さらに、回収したオルト置換フェノール化合物は、所望のＲ2基を含有する適当なエステルとのエステル交換反応での反応によって掃去剤に簡単に戻すことができる。したがって、本発明は、反応副生物のレベルを下げ、ポリカーボネート樹脂の特性を向上する、簡単な低コストのアプローチを提供する。
【実施例】
【００２５】
以上全般にわたって説明した、特許請求の範囲に規定される本発明を、以下に実施例について説明するが、これらの実施例は本発明を限定するものではない。これらの実施例で、出発材料としてＡ、Ｂ、Ｃ又はＤグレードのポリカーボネートを使用した。これらのポリカーボネートの特性を表１にまとめて示す。
【００２６】
【表１】
2005509069.tif 000005
【００２７】
実施例及び比較例で製造したポリカーボネートの特性は次のように測定した。Ｍｗ及びＭｎは、ポリスチレン標準に対して、１ｍｇ／ｍｌのポリマーの塩化メチレン溶液をＧＰＣ分析することによって測定した。自由ＯＨ含量は、塩化メチレン溶液中でポリマーとＴｉＣｌ4とで形成された錯体のＵＶ−可視分析によって測定した。末端封止レベルは、自由ＯＨ含量及びＭｎ値から計算した。残留フェノール（ＰｈＯＨ）、ＢＰＡ及びＤＰＣの量は、高速液体クロマトグラフィ（ＨＰＬＣ）分析によって測定した。ポリカーボネートサンプルの全フリース含量は、メタノール中での塩基加水分解後のポリカーボネートのＨＰＬＣ分析によって求めた。ＮＭＲ分析を用いて、線状フリース対全フリースの比を求めた。ポリカーボネート中の線状フリースの量は、全フリース含量と、線状フリース対全フリースの比から計算した。
【００２８】
実施例１
バッチ反応管に、窒素中で、１２７．０ｇのポリカーボネートＡ及び掃去剤として１．８７ｇ（６．１２ｘ１０-3モル）の２−カルボメトキシ−フェニル−２−ナフトエート（２−ＣＭＰＮ）を仕込んだ。混合物を、窒素中、大気圧で温度３００℃に加熱し、３０分間撹拌した。反応管からポリマーを採取し、分析した。結果を表２に示す。
【００２９】
実施例２
掃去剤として１．９５ｇ（６．１２ｘ１０-3モル）の２−カルボメトキシ−フェニル−２−ステアレート（２−ＣＭＰＳ）を使用した以外は、実施例１を繰り返した。反応管からポリマーを採取し、分析した。結果を表２に示す。
【００３０】
実施例３
掃去剤として２．３５ｇ（６．１２ｘ１０-3モル）の２−カルボメトキシ−フェニル−ｐ−クミルフェニルカーボネート（２−ＣＭＰｐＣＣ）を使用した以外は、実施例１を繰り返した。反応管からポリマーを採取し、分析した。結果を表２に示す。
【００３１】
実施例４
実施例１で製造したポリカーボネート（２−ＣＭＰＮを含有）に０．５ｍｂａｒの真空を適用し、反応を３００℃でさらに３０分間続けた。反応管からポリマーを採取し、分析した。結果を表２に示す。
【００３２】
実施例５
実施例２で製造したポリカーボネート（２−ＣＭＰＳを含有）に０．５ｍｂａｒの真空を適用し、反応を３００℃でさらに３０分間続けた。反応管からポリマーを採取し、分析した。結果を表２に示す。
【００３３】
実施例６
実施例３で製造したポリカーボネート（２−ＣＭＰｐＣＣを含有）に０．５ｍｂａｒの真空を適用し、反応を３００℃でさらに３０分間続けた。反応管からポリマーを採取し、分析した。結果を表２に示す。
【００３４】
実施例７
複数の予備重合タンク及び１つの水平撹拌重合タンクからなる連続反応システムで、ポリカーボネートを製造した。ビスフェノールＡ及びジフェニルカーボネートをモル比１．０８：１にて加熱した撹拌タンクに連続的に供給し、そこで均一な溶液を形成した。この溶液に、約２５０マイクロ当量（２．５ｘ１０-4モル／モルＢＰＡ）の水酸化テトラメチルアンモニウムと１マイクロ当量（１ｘ１０-6モル／モルＢＰＡ）のＮａＯＨを触媒として添加した。次に溶液を直列に配置された予備重合タンク及び水平撹拌重合タンクに順次供給し、重縮合反応を進行させ、実施例７で第２予備重合タンクの出口流として出てくる出発ポリマー「Ｂ」を生成した。Ｍｗ＝８７５９ｇ／モル、Ｍｎ＝４７１０ｇ／モル、末端封止レベル約５５％。この材料の固有粘度ＩＶは約０．２１８ｄｌ／ｇであった。加熱したスタチックミキサによって、予備重合タンクの溶融ポリマー出口流（水平撹拌重合タンクの入口流）に、２−カルボメトキシ−フェニル−フェニルカーボネート（２−ＣＭＰＰＣ）を掃去剤として、溶融ポリマー流に対して１．９５質量％の量にて添加した。２−ＣＭＰＰＣを含有するポリマー流を水平撹拌重合タンクで、分子量Ｍｗが約１７０００〜２００００に増加し、数平均分子量Ｍｎが約７５００〜９０００に増加するまで、処理した。このポリマーの末端封止レベルは約１０〜２０％増加した。得られたポリマーを分析した。結果を表３に示す。
【００３５】
実施例８
掃去剤として２−カルボプロポキシ−フェニル−フェニルカーボネート（２−ＣＰｒＰＰＣ）を溶融ポリマー流に対して２．１５質量％の量使用して、実施例７の手順を繰り返した。得られたポリマーを分析した。結果を表３に示す。
【００３６】
実施例９
バッチ反応管に、窒素中、５０ｇのポリカーボネートＣと掃去剤として０．８３９０ｇ（２．７９ｘ１０-3モル）の２−カルボプロポキシ−フェニル−フェニルカーボネート（２−ＣＰｒＰＰＣ）を仕込んだ。混合物を温度３００℃に加熱し、圧力０．５ｍｂａｒにて２０分間反応させた。反応管からポリマーを採取し、分析した。結果を表４に示す。
【００３７】
実施例１０
バッチ反応管に、窒素中、５０ｇのポリカーボネートＤと掃去剤として０．５９０１ｇ（２．１７ｘ１０-3モル）の２−カルボメトキシ−フェニル−フェニルカーボネート（２−ＣＭＰＰＣ）を仕込んだ。混合物を温度３００℃に加熱し、圧力０．５ｍｂａｒにて２０分間反応させた。反応管からポリマーを採取し、分析した。結果を表４に示す。
【００３８】
比較例１
掃去剤の代わりに、１．３１ｇ（６．１２ｘ１０-3モル）のジフェニルカーボネートを反応管に仕込んだ以外は、実施例１を繰り返した。反応管からポリマーを採取し、分析した。結果を表２に示す。
【００３９】
比較例２
比較例１で製造したポリカーボネート（添加したＤＰＣを含有）に０．５ｍｂａｒの真空を適用し、反応を３００℃でさらに３０分間続けた。反応管からポリマーを採取し、分析した。結果を表２に示す。
【００４０】
比較例３
掃去剤の代わりにジフェニルカーボネートを加えた以外は、実施例７を繰り返した。重合タンクからポリマーを採取し、分析した。結果を表３に示す。
【００４１】
比較例４
掃去剤を添加しなかった以外は、実施例７を繰り返した。重合タンクからポリマーを採取し、分析した。結果を表３に示す。
【００４２】
比較例５
バッチ反応管に、窒素中、２５ｇのポリカーボネートＣを仕込んだ。混合物を温度３００℃に加熱し、圧力０．５ｍｂａｒにて２０分間反応させた。反応管からポリマーを採取し、分析した。結果を表４に示す。
【００４３】
比較例６
バッチ反応管に、窒素中、２５ｇのポリカーボネートＤを仕込んだ。混合物を温度３００℃に加熱し、圧力０．５ｍｂａｒにて２０分間反応させた。反応管からポリマーを採取し、分析した。結果を表４に示す。
【００４４】
【表２】
2005509069.tif 000006
【００４５】
【表３】
2005509069.tif 000007
【００４６】
【表４】
2005509069.tif 000008
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】線状及び枝分れフリース生成物の構造を示す。
【図２】掃去剤と線状フリース生成物との反応を示す。
【図３Ａ】掃去剤と残留一価フェノール化合物との反応を示す。
【図３Ｂ】掃去剤と残留二価フェノール化合物との反応を示す。
【図１】
2005509069.tif 000012
【図２】
2005509069.tif 000013
【図３Ａ】
2005509069.tif 000014
【図３Ｂ】
2005509069.tif 000015
【国際調査報告】
2005509069.tif 000016
2005509069.tif 000017
2005509069.tif 000018