(57)【要約】式Ｉの化合物およびそれらの農業的に適する塩が開示されており、それらは、望ましくない植生を抑制するのに有用である。【化１】2005504000.tif 000072式中、Ｒ１はＣ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ２ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ３アルケニル、シクロプロピルまたはＮＲ３Ｒ４であり；Ｒ２はＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルケニル、Ｃ２〜Ｃ３ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ４アルキニル、シクロプロピル、ハロシクロプロピル、Ｃ２〜Ｃ３アルコキシアルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルキルカルボニル、Ｃ２〜Ｃ４アルコキシカルボニル、ＣｌまたはＢｒであるか；あるいはＲ２は場合によりハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキルおよびＣ１〜Ｃ２アルコキシから独立して選択される１〜２個の置換基で置換されていてもよいフェニルであり；Ｒ３はＨまたはＣ１〜Ｃ２アルキルであり；Ｒ４はＣ１〜Ｃ３アルキルまたはＣ１〜Ｃ２アルコキシであり；ただし、Ｒ１がＣＦ３である場合にはＲ２がＣＨ２ＯＣＨ３以外であり、Ｒ１がＮ（ＣＨ３）２である場合にはＲ２はＣＨ３以外であり、Ｒ１がＣＨ２ＣＨ３である場合にはＲ２は２−フルオロフェニル以外である。さらに、式Ｉの化合物を含有する組成物、および望ましくない植生を抑制するための方法も開示されているが、その方法には、植生またはその環境を、式Ｉの化合物の有効な量と接触させることが含まれる。
2005504000.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ
【化１】
2005504000.tif 000071
式中、
Ｒ１はＣ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ２ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ３アルケニル、シクロプロピルまたはＮＲ３Ｒ４であり、
Ｒ２はＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルケニル、Ｃ２〜Ｃ３ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ４アルキニル、シクロプロピル、ハロシクロプロピル、Ｃ２〜Ｃ３アルコキシアルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルキルカルボニル、Ｃ２〜Ｃ４アルコキシカルボニル、ＣｌまたはＢｒであるか、あるいはＲ２は場合によりハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキルおよびＣ１〜Ｃ２アルコキシから独立して選択される１〜２個の置換基で置換されていてもよいフェニルであり、
Ｒ３はＨまたはＣ１〜Ｃ２アルキルであり、
Ｒ４はＣ１〜Ｃ３アルキルまたはＣ１〜Ｃ２アルコキシであり、
ただし、Ｒ１がＣＦ３である場合にはＲ２がＣＨ２ＯＣＨ３以外であり、Ｒ１がＮ（ＣＨ３）２である場合にはＲ２はＣＨ３以外であり、Ｒ１がＣＨ２ＣＨ３である場合にはＲ２は２−フルオロフェニル以外である、
の化合物またはそれらの農業的に適する塩。
【請求項２】
Ｒ２がＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルケニル、Ｃ２〜Ｃ３ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ４アルキニル、シクロプロピル、Ｃ２〜Ｃ４アルキルカルボニル、Ｃ２〜Ｃ４アルコキシカルボニルまたはＣｌであるか、あるいはＲ２が場合によりＦ、ＣｌまたはＣ１〜Ｃ２アルキルから選択される１〜２個の置換基で置換されていてもよいフェニルである、
請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
Ｒ１がＣ１〜Ｃ３アルキル、シクロプロピルまたはジメチルアミノである、
請求項２に記載の化合物。
【請求項４】
Ｒ２がＣ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３フルオロアルキル、シクロプロピル、Ｃ２〜Ｃ４アルコキシカルボニル、Ｃｌまたはフェニルである、
請求項３に記載の化合物。
【請求項５】
Ｒ２がＣ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３フルオロアルキルまたはＣ２〜Ｃ３アルコキシカルボニルである、
請求項４に記載の化合物。
【請求項６】
Ｒ１がＣ１〜Ｃ３アルキルまたはシクロプロピルであり、
Ｒ２がＣ１〜Ｃ３フルオロアルキルである、
請求項５に記載の化合物。
【請求項７】
Ｒ２がＣ１フルオロアルキルである請求項６に記載の化合物。
【請求項８】
Ｒ１がＣ１〜Ｃ３アルキルである請求項７に記載の化合物。
【請求項９】
Ｒ１がメチルまたはエチルである請求項８に記載の化合物。
【請求項１０】
Ｒ２がＣＨ２Ｆである請求項９に記載の化合物。
【請求項１１】
Ｒ２がＣＨＦ２である請求項９に記載の化合物。
【請求項１２】
Ｒ２がＣＦ３である請求項９に記載の化合物。
【請求項１３】
２−（ジフルオロメチル）−Ｎ−［［（４，６−ジメトキシ−２−ピリミジニル）アミノ］カルボニル］−６−［（メチルスルホニル）オキシ］ベンゼンスルホンアミドである請求項１に記載の化合物。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の化合物の有効な量及び、界面活性剤、固体または液体希釈剤のうちの少なくとも１種を含んでなる、望ましくない植生（ｖｅｇｅｔａｔｉｏｎ）の生長を抑制するための農業的に適する組成物。
【請求項１５】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の化合物の除草的に有効な量を植生の場所に施用することを含んでなる、望ましくない植生の生長の抑制方法。
【請求項１６】
植生の場所がイネ作物である請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
望ましくない植生が、アセトラクテート合成酵素阻害性除草剤に対して抵抗性の少なくとも１種のバイオタイプを含んでなる請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
抵抗性バイオタイプがスキルプス（Ｓｃｉｒｐｕｓ）種である請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
植生の場所がコムギ作物である請求項１５に記載の方法。
【請求項２０】
植生の場所がオオムギ作物である請求項１５に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スルホニル尿素除草剤に対して一般的に抵抗性を有する望ましくない植生の場所に対してある種のスルホニル尿素除草剤を施用することによって、望ましくない植生の生長を抑制する方法、および前記の植生の生長を抑制する除草剤混合物および除草剤組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
望ましくない植生を抑制することは、農業における効率を高めるためには、極めて重要なことである。これは、有用作物たとえば、イネ、ダイズ、テンサイ、トウモロコシ、ジャガイモ、コムギ、オオムギ、アルファルファ、トマトなどや、プランテーション作物特にカンキツ類やサトウキビのような場合に、雑草の生長を選択的に抑制することによって、達成される。そのような有用作物の中で雑草が生長するのを放置していると、生産性が顕著に低下し、その結果として消費者への価格が高騰することになる。非農耕地でも、望ましくない植生を抑制することは重要である。
【０００３】
この２０年以上の間に、アセトラクテート合成酵素（ＡＬＳ；ＥＣ４．１．３．１８）を阻害するスルホニル尿素その他の除草剤が、雑草を抑制するための非常に重要な製品となってきた。しかしながら、これらの除草剤に抵抗性を有する雑草バイオタイプもまた出現することとなった。これらの抵抗性を有するバイオタイプが広まってくると、充分な抑制を行うためには別の除草剤が必要となってくる。したがって、抵抗性を有する雑草バイオタイプに対して有効な、新しい除草剤が必要とされる。驚くべき事には新規の一群のスルホニル尿素タイプの除草剤が、抵抗性を有する雑草に有効であり、しかもこの新規な一群は重要農作物に対しては安全であるということが今や見出されたのである。
【０００４】
特許文献１および特許文献２には、本発明の化合物が一般論的には包含されているが、そこでは、特に名指しがされている訳ではなく、またイネ、コムギおよびオオムギ作物中の抵抗性を有する雑草を抑制するための特別な使用法は開示されていない。
【特許文献１】
米国特許第４，５１５，６２４号明細書
【特許文献２】
米国特許第４，８７８，９３８号明細書
【発明の開示】
【０００５】
発明の概要
本発明は、それらのすべての異性体、それらの農業的に適する塩を包含する式Ｉの化合物、それらを含む農業的組成物、および望ましくない植生（ｖｅｇｅｔａｔｉｏｎ）を抑制するためのその使用に関する：
【０００６】
【化１】
2005504000.tif 000003
【０００７】
式中、
Ｒ１はＣ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ２ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ３アルケニル、シクロプロピルまたはＮＲ３Ｒ４であり；
Ｒ２はＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルケニル、Ｃ２〜Ｃ３ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ４アルキニル、シクロプロピル、ハロシクロプロピル、Ｃ２〜Ｃ３アルコキシアルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルキルカルボニル、Ｃ２〜Ｃ４アルコキシカルボニル、ＣｌまたはＢｒであるか；あるいはＲ２は場合によりハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキルおよびＣ１〜Ｃ２アルコキシから独立して選択される１〜２個の置換基で置換されていてもよいフェニルであり；
Ｒ３はＨまたはＣ１〜Ｃ２アルキルであり；
Ｒ４はＣ１〜Ｃ３アルキルまたはＣ１〜Ｃ２アルコキシであり；
ただし、Ｒ１がＣＦ３である場合にはＲ２はＣＨ２ＯＣＨ３以外であり、Ｒ１がＮ（ＣＨ３）２である場合にはＲ２はＣＨ３以外であり、Ｒ１がＣＨ２ＣＨ３である場合にはＲ２は２−フルオロフェニル以外である。
【０００８】
より具体的には、本発明が関わるのは、式Ｉの化合物、またはそれらの農業的に適する塩、または前記の化合物（農業的に適する塩の形態であってもよい）の除草的に有効な量及び、界面活性剤、固体または液体希釈剤のうちの少なくとも１種を含んでなる組成物である。本発明はさらに、除草的に有効な量の前記化合物を植生の場所に施用することを含んでなる望ましくない植生を抑制するための方法にも関するが、この化合物は農業的に適する塩の形態であってもよく、また、界面活性剤、固体または液体希釈剤のうちの少なくとも１種を含んでなる組成物の形態に製剤化されていてもよい。
【０００９】
発明の詳細
上記の説明において、「アルキル」という用語は、単独で使用または「アルコキシ」とか「ハロアルキル」のように派生語や複合語の中で使用する場合には、たとえば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、または各種のブチル異性基のような、直鎖状または分枝状のアルキルを含む。「アルケニル」には、たとえば、エテニル、１−プロペニル、２−プロペニル、および各種のブテニル異性体のような、直鎖状または分枝状アルケンを含む。「アルケニル」にはさらに、ポリエン、たとえば、１，２−プロパジエニルおよび１，３−ブタジエニルを含む。「アルキニル」には、直鎖状または分枝状アルキン、たとえば、エチニル、１−プロピニル、２−プロピニルおよび各種のブチニル異性体を含む。「アルコキシ」には、たとえばメトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシおよびイソプロピルオキシを含む。「アルコキシアルキル」は、アルキル基の上にアルコキシ置換をしたものを指す。「アルコキシアルキル」の例としては、ＣＨ３ＯＣＨ２、ＣＨ３ＯＣＨ２ＣＨ２およびＣＨ３ＣＨ２ＯＣＨ２がある。
【００１０】
「ハロゲン」という用語は、単独で使用または「ハロアルキル」のように複合語中で使用する場合に、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素を含む。さらに、「ハロアルキル」のように複合語の中で使用する場合、そのようなアルキルは、同一または別種のハロゲンによって部分的または完全に置換されていてもよい。「ハロアルキル」の例としてはＦ３Ｃ、ＣｌＣＨ２、ＣＦ３ＣＨ２およびＣＦ３ＣＣｌ２などがある。「ハロアルケニル」などの用語も、「ハロアルキル」と同様に定義される。「ハロアルケニル」の例には、（Ｃｌ）２Ｃ＝ＣＨＣＨ２や、Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＦ２などがある。
【００１１】
置換基の中の炭素原子の総数は、「Ｃｉ〜Ｃｊ」という接頭辞の形で示されるが、式中ｉとｊは１から４までの数である。たとえば、Ｃ２アルコキシアルキルはＣＨ３ＯＣＨ２を意味し、Ｃ３アルコキシアルキルは、たとえば、ＣＨ３ＣＨ（ＯＣＨ３）、ＣＨ３ＯＣＨ２ＣＨ２またはＣＨ３ＣＨ２ＯＣＨ２を意味する。「アルキルカルボニル」の例としては、Ｃ（Ｏ）ＣＨ３、Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３およびＣ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ３）２がある。「アルコキシカルボニル」の例としては、ＣＨ３ＯＣ（＝Ｏ）、ＣＨ３ＣＨ２ＯＣ（＝Ｏ）、ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（＝Ｏ）および（ＣＨ３）２ＣＨＯＣ（＝Ｏ）がある。
【００１２】
本発明の化合物は、１つ以上の立体異性体として存在することができる。この各種異性体に含まれるのは、エナンチオマー、ジアステレオマー、アトロプ異性体および幾何異性体などである。当業者であれば、ある１つの立体異性体を他の立体異性体に比較して濃縮したり、他の異性体から分離すると、より活性が上がったり高い効果を示したりすることを理解できるであろう。さらに、当業者であれば、そのような立体異性体を分離、富化させる方法や、選択的に調製する方法を知っている。したがって、本発明には式Ｉから選択される化合物およびその農業的に適する塩が含まれる。本発明の化合物は、立体異性体の混合物、個々の立体異性体、または光学活性な形態で存在することができる。
【００１３】
本発明の化合物の農業的に適する塩の例をあげれば、アルカリ金属（たとえば、リチウム、ナトリウム、カリウム）、アルカリ土類金属（たとえば、マグネシウム、カルシウム）、アンモニア、置換アミン（たとえば、イソプロピルアミン、ジメチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン）、４級アンモニウム（たとえば、ベンジルトリメチルアンモニウム、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム）、および三元スルフィドおよび誘導体（たとえば、トリメチルスルホニウム（トリメシウム）およびトリメチルスルホキソニウム）などがある。
【００１４】
本発明の好ましい実施態様には、アセトラクテート合成酵素を阻害する除草剤に抵抗性を有する少なくとも１種のバイオタイプを含んでなる植生を、抑制するための方法が含まれ、その方法には、除草的に有効な量の式Ｉの化合物を望ましくない植生の場所に施用することを含んでなる。特に好ましい実施態様には、その望ましくない植生がスキルプス（Ｓｃｉｒｐｕｓ）種であるような場合における方法が含まれる。
【００１５】
本発明の別の好ましい実施態様には、特に水田耕作においてイネ作物中の望ましくない植生を選択的に抑制するための方法が含まれ、そのためには、イネ作物の場所に除草的に有効な量の式Ｉの化合物を施用する。
【００１６】
本発明のさらに別の好ましい実施態様には、コムギまたはオオムギ作物中の望ましくない植生を選択的に抑制するための方法が含まれ、そのためには、コムギまたはオオムギ作物の場所に除草的に有効な量の式Ｉの化合物を施用する。
【００１７】
合成が容易なことおよび／または除草的に性能が高いことなどの理由から、Ｒ１が、好ましくはＣ１〜Ｃ３アルキル、シクロプロピルまたはジメチルアミノ、より好ましくはＣ１〜Ｃ３アルキルまたはシクロプロピル、さらにより好ましくはＣ１〜Ｃ３アルキル、もっとより好ましくはメチルまたはエチル、最も好ましくはメチルであるのがよい。好ましくはＲ２が、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルケニル、Ｃ２〜Ｃ３ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ４アルキニル、シクロプロピル、Ｃ２〜Ｃ４アルキルカルボニル、Ｃ２〜Ｃ４アルコキシカルボニルまたはＣｌであるか；あるいはＲ２が場合によりＦ、ＣｌまたはＣ１〜Ｃ２アルキルから選択される１〜２個の置換基で置換されていてもよいフェニルである。より好ましくはＲ２が、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３フルオロアルキル、シクロプロピル、Ｃ２〜Ｃ４アルコキシカルボニル、Ｃｌまたはフェニルである。さらにより好ましくはＲ２が、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３フルオロアルキルまたはＣ２〜Ｃ３アルコキシカルボニルである。さらにより好ましくは、Ｒ２がＣ１フルオロアルキルである。最も好ましくはＲ２がＣＨ２Ｆであるか、またはＲ２がＣＨＦ２であるか、またはＲ２がＣＦ３である。
【００１８】
本発明の化合物について、良好な活性および／または合成の容易さの理由から、好ましい基を例示すると：
１．式Ｉの化合物であり、ただし、Ｒ１がＣ１〜Ｃ２ハロアルキルである場合にはＲ２はＣ２〜Ｃ３アルコキシアルキル以外であり、Ｒ１がＮＲ３Ｒ４である場合にはＲ２はＣ１〜Ｃ４アルキル以外であり、Ｒ１がＣ１〜Ｃ３アルキルである場合にはＲ２はハロフェニル以外である。
２．式Ｉの化合物であり、式中、Ｒ２が、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ３ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルケニル、Ｃ２〜Ｃ３ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ４アルキニル、シクロプロピル、Ｃ２〜Ｃ４アルキルカルボニル、Ｃ２〜Ｃ４アルコキシカルボニルまたはＣｌであるか、あるいはＲ２が場合によりＦ、ＣｌまたはＣ１〜Ｃ２アルキルから選択される１〜２個の置換基で置換されていてもよいフェニルである。
３．Ｒ１がＣ１〜Ｃ３アルキル、シクロプロピルまたはジメチルアミノである、好適例２の化合物。
４．Ｒ２がＣ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３フルオロアルキル、シクロプロピル、Ｃ２〜Ｃ４アルコキシカルボニル、Ｃｌまたはフェニルである、好適例３の化合物。
５．Ｒ２がＣ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３フルオロアルキルまたはＣ２〜Ｃ３アルコキシカルボニルである、好適例４の化合物。
６．Ｒ１がＣ１〜Ｃ３アルキルまたはシクロプロピルであり、Ｒ２がＣ１〜Ｃ３フルオロアルキルである、好適例５の化合物。
７．Ｒ２がＣ１フルオロアルキルである、好適例６の化合物。
８．Ｒ１がＣ１〜Ｃ３アルキルである、好適例７の化合物。
９．Ｒ１がメチルまたはエチルである、好適例８の化合物。
１０．Ｒ２がＣＨ２Ｆである、好適例９の化合物。
１１．Ｒ２がＣＨＦ２である、好適例９の化合物。
１２．Ｒ２がＣＦ３である、好適例９の化合物。
【００１９】
除草効率が最高および／または作物に対する安全性が最高という理由で、特に好適なものは：
・式Ｉの化合物であって、式中Ｒ１がメチルであり、Ｒ２がＣＨＦ２である、２−（ジフルオロメチル）−Ｎ−［［（４，６−ジメトキシ−２−ピリミジニル）アミノ］カルボニル］−６−［（メチルスルホニル）オキシ］ベンゼンスルホンアミドである。
【００２０】
式Ｉの化合物は、以下の方法の１つ以上により調製することができる。
【００２１】
第１の方法として、式Ｉの化合物はスキーム１に示した手順によって調製することができる。
【００２２】
【化２】
2005504000.tif 000004
【００２３】
式中Ｒ１およびＲ２は、先に定義した通りである。
スキーム１の反応は、欧州特許公開ＥＰ−Ａ−８５，０２８号に記載されているのと類似の反応により、等モル量の式１のスルホンアミドと式２のピリミジニルフェニルカルバメートとを、等モル量の有機塩基たとえば、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）または無機塩基たとえば、水酸化リチウムの存在下に、接触させることによって実施することができる。式２のフェニルカルバメートは、欧州特許公開第ＥＰ−Ａ−７０，８０２号および同第ＥＰ−Ａ−７０，８０４号に記載された方法によって調製することができる。
【００２４】
第１の方法に類似した方法によって、式Ｉの化合物はスキーム２に示した手順によって調製することができる。
【００２５】
【化３】
2005504000.tif 000005
【００２６】
式中Ｒ１およびＲ２は先に定義した通りであり、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７はそれぞれ独立してＣ１〜Ｃ４アルキルである。
【００２７】
スキーム２の反応は、米国特許第５，０９０，９９３号に記載されているのと類似の方法により、等モル量の式３のシリルスルホンアミドと式２のピリミジニルフェニルカルバメートとを、等モル量のフルオリド原料たとえばテトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオリドの存在下に、接触させることにより実施することができる。式３のシリルスルホンアミドで、Ｒ５がｔｅｒｔ−ブチルであり、Ｒ６およびＲ７が共にメチルであるものは、本反応においては、特に有用な中間体である。
【００２８】
式Ｉの化合物の多くのものは、スキーム３に示した手順により調製することができる。
【００２９】
【化４】
2005504000.tif 000006
【００３０】
式中Ｒ１およびＲ２は、先に定義した通りである。
スキーム２に示した反応は、式４のフェニルカルバメートと式５のアミノピリミジンとを、不活性有機溶媒たとえばジオキサンまたはテトラヒドロフラン中で、温度約２０〜１００℃で、約１．５〜２４時間接触させることによって実施することができる。この反応生成物は、反応溶媒を蒸発させることで単離し、先に述べた方法によって精製することができる。
【００３１】
式４のフェニルカルバメートは、欧州特許公開第ＥＰ−Ａ−４４，８０８号および同第ＥＰ−Ａ−７０，８０２号に記載された方法、または当業者には公知のその変法によって、対応する式１のスルホンアミドから調製することができる。
【００３２】
スキーム４に示すように、式Ｉの化合物の多くのものは、式６のスルホニルイソシアナートと式５のアミノピリミジンとを反応させることによっても、調製することができる。
【００３３】
【化５】
2005504000.tif 000007
【００３４】
式中Ｒ１およびＲ２は、先に定義した通りである。
この反応は、不活性な非プロトン性有機溶媒たとえばジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、テトラヒドロフランまたはアセトニトリル中で、温度２０〜８５℃の間で実施するのが最適である。添加していく順序は決定的なものではないが、通常は、アミンの懸濁液を撹拌しながらそれに、スルホニルイソシアナートまたはそれを反応溶媒に溶解させた溶液を添加するのが、好都合である。
【００３５】
場合によっては、目的の反応生成物が環境温度では反応溶媒に溶解せず、純品の形でそれから結晶として析出することもある。反応生成物が反応溶媒に可溶ならば、溶媒を蒸発させて単離する。次いで蒸発残渣を１−クロロブタンまたはエチルエーテルのような溶媒の中ですり砕いてから濾過するか、または１，２−ジクロロエタン、１−クロロブタンおよびヘプタンのような溶媒混合物から再結晶するか、またはシリカゲルを用いたクロマトグラフィによって、式Ｉの化合物を精製する。
【００３６】
式６のスルホニルイソシアナートは、以下の２つの一般的な方法のいずれかを用いて、対応する式１のスルホンアミドから調製する。
【００３７】
第１の方法では、スルホンアミド１とアルキルイソシアナート（たとえば、ｎ−ブチルイソシアナート）とを、キシレンまたは沸点が１３５℃を超える他の溶媒の中で、触媒量の１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］ビシクロオクタン（ＤＡＢＣＯ）の存在下または非存在下で混合し、１３５〜１４０℃に加熱する。５〜６０分後に、この加熱混合物中にホスゲンを、温度が１３３〜１３５℃の間に維持できるような速度で、ゆっくりと添加する。ホスゲンの消費が止まったら、反応混合物を冷却し、濾過によって不溶分を除去する。最後に、溶媒、アルキルイソシアナートおよび過剰のホスゲンを蒸発させると、スルホニルイソシアナート６が残る。
【００３８】
所望により、アルキルイソシアナートとスルホンアミドとのアダクトを作り、ホスゲンと反応させる前に単離することもできる。この場合、スルホンアミド１、アルキルイソシアナート、および無水塩基（たとえば、Ｋ２ＣＯ３）を極性の非プロトン性溶媒（たとえば、アセトン、ブタノンまたはアセトニトリル）中で混合し、還流条件下で１〜６時間加熱する。次いでこの反応混合物を水で稀釈し、酸（たとえば、ＨＣｌ、Ｈ２ＳＯ４）を用いてｐＨを約３に調整する。アダクトを濾過で取り出し、乾燥し、次いで上述のようにしてホスゲンと反応させる。この改良手順は、スルホンアミド１の融点が高くそしてホスゲン化溶媒への溶解性が低い場合には、特に有用である。
【００３９】
スルホニルイソシアナート６は、スキーム５に示すような第２の方法によっても調製することができる。
【００４０】
【化６】
2005504000.tif 000008
【００４１】
式中Ｒ１およびＲ２は、先に定義した通りである。
スルホンアミド１を、過剰の塩化チオニル中で、還流温度に加熱する。この反応を、スルホンアミドのプロトンが、プロトン核磁気共鳴スペクトルで検出できなくなるまで続ける。チオニルアミド７への転化を完全にさせるには、通常、１６時間から５日かければ充分である。塩化チオニルを蒸発させ、残渣を、少なくとも１当量（典型的には２〜３当量）のホスゲンを含む不活性溶媒（たとえば、トルエン）で処理する。触媒量のピリジン（典型的には０．１当量）を添加し、この混合物を約６０〜１４０℃、好ましくは８０〜１００℃に加熱する。イソシアナート６への転化は通常、１５分〜３時間の間に実質的に完了する。次いでこの混合物を冷却し、濾過し、溶媒を蒸発させると、スルホニルイソシアナート６が残る。
【００４２】
スキーム６に示すように、式１のスルホンアミドは、対応する式８のスルホニルクロリドから調製することもできる。
【００４３】
【化７】
2005504000.tif 000009
【００４４】
式中Ｒ１およびＲ２は、上に定義した通りである。
この方法では、式８のスルホニルクロリドを少なくとも２当量のアンモニアで処理することを含む。典型的にはこの反応は、不活性溶媒たとえばジクロロメタンまたはテトラヒドロフランの中で実施する。この反応は急激に進み、発熱反応であるので、通常反応混合物にはアンモニアを−３０〜−１０℃の温度で添加する。
【００４５】
式１のスルホンアミドはまた、対応するスルホニルクロリド８をα−メチルベンジルアミンで処理し、続いてトリフルオロ酢酸に溶解させることによって、α−メチルベンジル基を除去することによっても、調製することができる。この代替方法は、Ｒ１またはＲ２がキラルであって、１のエナンチオマーを分離することが望ましい場合には特に有用である。（Ｒ）−（＋）−α−メチルベンジルアミンと（Ｓ）−（−）−α−メチルベンジルアミンのうちいずれをアミノ化剤として使用してもよい。得られるジアステレオマーのＮ−α−メチルベンジルスルホンアミド中間体の物理的性質が異なるので、液体クロマトグラフィや分別結晶などの技法によってそれらを分離することが可能である。
【００４６】
式３のシリルスルホンアミドは、米国特許第５，０９０，９９３号に記載の一般的な方法にしたがって、対応する式８のスルホニルクロリドを、アミノシランのＲ３Ｒ４Ｒ５ＳｉＮＨ２で処理することによって調製することができる。
【００４７】
式８のスルホニルクロリドは、スキーム７に示すようにして、調製することができる。
【００４８】
【化８】
2005504000.tif 000010
【００４９】
式中Ｒ１およびＲ２は、上に定義した通りである。
このプロセスには、式９のアニリンのジアゾ化と、それに続く、銅（ＩＩ）の存在下での二酸化硫黄および塩素イオンとのカップリングが含まれるが、この方法は、Ｈ．メーヤワイン（Ｍｅｅｒｗｅｉｎ）、Ｇ．ディットマー（Ｄｉｔｔｍａｒ）、Ｒ．ゴルナー（Ｇｏｌｌｎｅｒ）、Ｋ．ハフナー（Ｈａｆｎｅｒ）、Ｆ．メンシュ（Ｍｅｎｓｃｈ）、Ｏ．シュタインフォート（Ｓｔｅｉｎｆｏｒｔ）、Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ、１９５７、９０、８４１〜８５２および、当業者に公知のその変法によればよい。プロパン酸が、ジアゾ化およびカップリング媒体の両方に使用できる共溶媒として特に有用である。
【００５０】
式９のアニリンは、スキーム８に示すようにして、調製することができる。
【００５１】
【化９】
2005504000.tif 000011
【００５２】
式中Ｒ１およびＲ２は、上に定義した通りである。
式１０のニトロベンゼンの式９のアニリンへの還元は、各種の標準的な方法の１つ以上を用いて実施することができる。これらの方法のうちには、たとえば炭素に担持させたパラジウム（一般的な方法については、Ｐ．ライランダー（Ｒｙｌａｎｄｅｒ）『有機合成における接触水素化（Ｃａｔａｌｙｔｉｃ  Ｈｙｄｒｏｇｅｎａｔｉｏｎ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ）』（アカデミック・プレス（Ａｃａｄｅｍｉｃ  Ｐｒｅｓｓ）、ニューヨーク州、１９７９）、第７章およびそこに引用されている文献を参照されたい）または硫化白金（一般的な方法については、Ｆ．Ｓ．ドウベル（Ｄｏｖｅｌ）およびＨ．グリーンフィルド（Ｇｒｅｅｎｆｉｅｌｄ）、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．、１９６５、８７、２７６７〜２７６８を参照されたい）のような不均一系触媒を使用する水素化がある。その他の還元方法としては、酢酸中の鉄による処理（Ｃ．Ａ．ビューラー（Ｂｕｅｈｌｅｒ）およびＤ．Ｅ．ピアソン（Ｐｅａｒｓｏｎ）による総説『有機合成研究（Ｓｕｒｖｅｙ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ）』（ワイリー・インターサイエンス（Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ）、ニューヨーク州、１９７０）、ｐ．４１３〜４１４）、酢酸中でのスズによる処理（Ｍ．シーハン（Ｓｈｅｅｈａｎ）、Ｄ．Ｊ．クラム（Ｃｒａｍ）、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．、１９６９、９１、３５４４〜３５５２）、塩化スズ（ＩＩ）による処理（Ｆ．Ｄ．ベラミー（Ｂｅｌｌａｍｙ）、Ｋ．オウ（Ｏｕ）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．、１９８４、２５、８３９〜８４２）、および塩化チタン（ＩＩＩ）による処理（Ｍ．ソメイ（Ｓｏｍｅｉ）、Ｋ．カトウ（Ｋａｔｏ）、Ｓ．イノウエ（Ｉｎｏｕｓ）、Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．、１９８０、２８、２５１５〜２５１８）などがある。
【００５３】
特にＲ２が、アルキルカルボニルまたはアルコキシカルボニルのような電子吸引性の基である場合、式８のスルホニルクロリドは、対応する式１０のニトロベンゼンから調製することもできるが、その場合には、ニトロ基をアルキルチオール酸またはベンジルチオール酸のナトリウムまたはカリウム塩で処理して求核置換をさせ、次いで生成したチオエーテル部分を水性の塩素または次亜塩素酸で酸化させて、スルホニルクロリド８とする。この方法については、Ｋ．Ｋ．アンダーセン（Ａｎｄｅｒｓｅｎ）『スルホン酸およびその誘導体（Ｓｕｌｆｏｎｉｃ  Ａｃｉｄｓ  ａｎｄ  Ｔｈｅｉｒ  Ｄｅｒｉｖａｔｉｖｅｓ）』（『総合有機化学（Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）』（ペルガモン・プレス（Ｐｅｒｇａｍｏｎ  Ｐｒｅｓｓ）、ニューヨーク州）第１１．１９章、ｐ．３３２〜３５９およびそこに引用されている文献を参照されたい。
【００５４】
スルホネート１０は、スキーム９に示すようにして、調製することができる。
【００５５】
【化１０】
2005504000.tif 000012
【００５６】
式中Ｒ１およびＲ２は、上に定義した通りである。
この方法では、式１１のフェノールを少なくとも１当量の式１２のスルホニルクロリドと、少なくとも１当量の塩基の存在下に接触させる。この反応は、ジクロロメタンのような不活性溶媒およびトリエチルアミンのような３級アミン塩基を使用して、好適に実施することができる。式１２のスルホニルクロリドは、市販されているし、当該分野でよく知られている方法により調製することもできる。
【００５７】
式１１のフェノールは、スキーム１０に示すようにして、調製することができる。
【００５８】
【化１１】
2005504000.tif 000013
【００５９】
式中Ｒ２は上で定義した通りである。
この方法では、式１３のアニソールから、三臭化ホウ素を用い、好ましくはジクロロメタンのような不活性溶媒中で、脱メチル化反応をさせる。芳香族メチルエーテルを脱メチル化させるこの方法については、Ｊ．Ｆ．Ｗ．マコーミー（ＭｃＯｍｉｅ）、Ｍ．Ｌ．ワッツ（Ｗａｔｔｓ）、Ｄ．Ｅ．ウェスト（Ｗｅｓｔ）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ、１９６８、２４、２２８９〜２２９２に記載がある。
【００６０】
式１３ａ（Ｒ２がＣＨ２Ｆの式１３）、式１３ｂ（Ｒ２がＣＨＦ２の式１３）および式１３ｃ（Ｒ２がＣＦ３の式１３）のスルホンアミドは、スキーム１１に示すようにして調製することができる。
【００６１】
【化１２】
2005504000.tif 000014
【００６２】
式１３ａ、１３ｂおよび１３ｃのフルオロアルキルベンゼンは、式１４、１５および１６それぞれで示す、対応するアルコール、アルデヒドおよびカルボン酸を四フッ化硫黄で処理することによって調製することができるが、その手順については、以下の総説がある。Ｇ．Ａ．ボズウェル（Ｂｏｓｗｅｌｌ）、Ｊｒ．、Ｗ．Ｃ．リプカ（Ｒｉｐｋａ）、Ｒ．Ｍ．スクライブナー（Ｓｃｒｉｂｎｅｒ）、Ｃ．Ｗ．ターロック（Ｔｕｒｌｏｃｋ）、『オーガニック・リアクションズ（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ）』（ワイリー（Ｗｉｌｅｙ）、ニューヨーク州、１９７４）第２１巻、第１章、ｐ．１〜４０６；Ｃ．−Ｌ．Ｊ．ワン（Ｗａｎｇ）『四フッ化硫黄によるフッ素化（Ｆｌｕｏｒｉｎａｔｉｏｎ  ｂｙ  Ｓｕｌｆｕｒ  Ｔｅｔｒａｆｌｕｏｒｉｄｅ）』（『オーガニック・リアクションズ（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ）』（ワイリー（Ｗｉｌｅｙ）、ニューヨーク州、１９８５）第３４巻、第２章、ｐ．３１９〜４００）；および、Ｍ．Ｒ．Ｃ．ゲルステンベルガー（Ｇｅｒｓｔｅｎｂｅｒｇｅｒ）、Ａ．ハース（Ｈａａｓ）、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．、１９８１、２０、６４７〜６６７。四フッ化硫黄で処理する前に、塩化チオニルによる処理をして、式１６のカルボン酸を対応するアシルクロライドに転化させれば、また別の方法となる。これらの転化反応のための四フッ化硫黄の代替とするのに好適な試薬としては、（ジエチルアミノ）三フッ化硫黄（ＤＡＳＴ）があるが、これについてはＷ．Ｊ．ミドゥルトン（Ｍｉｄｄｌｅｔｏｎ）によるＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．、１９７５、４０、５７４−５７８の記載がある。ＤＡＳＴを使用したフッ素化に関する総説としては、Ｍ．ハドリッキー（Ｈｕｄｌｉｃｋｙ）『ジエチルアミノ三フッ化硫黄および関連のアミノフルオロスルフランを用いてフッ素化（Ｆｌｕｏｒｉｎａｔｉｏｎ  ｗｉｔｈ  Ｄｉｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｓｕｌｆｕｒ  Ｔｒｉｆｌｕｏｒｉｄｅ  ａｎｄ  Ｒｅｌａｔｅｄ  Ａｍｉｎｏｆｌｕｏｒｏｓｕｌｆｕｒａｎｅｓ）』（『オーガニック・リアクションズ（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ）』（ワイリー（Ｗｉｌｅｙ）、ニューヨーク州、１９８８）第３５巻、第３章、ｐ．５１３〜６３７）がある。
【００６３】
式１５のアルデヒドは、市販されている（たとえば、アルドリッチ・ケミカル社（Ａｌｄｒｉｃｈ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｍｐａｎｙ）。式１４のアルコールおよび式１６のカルボン酸は、アルデヒド１５からの転化も含めて、当該分野で公知の一般的な方法を用いて調製することができる。たとえば、アルデヒド１５を還元してアルコール１４とすることができるが、その際に用いる試薬としてはたとえば、テトラヒドロフラン中のジボラン（一般的な方法としては、Ｈ．Ｃ．ブラウン（Ｂｒｏｗｎ）、Ｂ．Ｃ．Ｓ．ラオ（Ｒａｏ）、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．、１９６０、８２、６８１〜６８６を参照されたい）およびリチウムシアノボロハイドライド（一般的な方法としては、Ｒ．Ｆ．ボルフ（Ｂｏｒｃｈ）、Ｈ．Ｄ．デュルスト（Ｄｕｒｓｔ）、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．、１９６９、９１、３９９６〜３９９７を参照されたい）などがある。アルデヒド１５を酸化させてカルボン酸１６とすることもできるが、その際に用いる試薬としては、たとえば、亜塩素酸ナトリウム（Ｂ．Ｓ．バル（Ｂａｌ）、Ｗ．Ｅ．チルダー（Ｃｈｉｌｄｅｒｓ），Ｊｒ．、Ｈ．Ｗ．ピニック（Ｐｉｎｎｉｃｋ）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ、１９８１、３７、２０９１〜２０９４）、亜塩素酸ナトリウムおよび過酸化水素（Ｅ．ダルカナーレ（Ｄａｌｃａｎａｌｅ）、Ｆ．モンタナリ（Ｍｏｎｔａｎａｒｉ）、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．、１９８６、５１、５６７〜５６９）、過酸化ニッケル（Ｋ．ナカガワ（Ｎａｋａｇａｗａ）、Ｓ．ミネオ（Ｍｉｎｅｏ）、Ｓ．カワムラ（Ｋａｗａｍｕｒａ）、Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．、１９７８、２６、２９９〜３０２）および過マンガン酸テトラブチルアンモニウム（Ｔ．サラ（Ｓａｌａ）、Ｍ．Ｖ．サージェント（Ｓａｒｇｅｎｔ）、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．、１９７８、２５３〜２５４）などがある。あるいは、アルデヒド１５を塩素化して、カルボン酸１６に対応するアシルクロリドとし（一般的な方法としては、Ｈ．Ｔ．クラーク（Ｃｌａｒｋｅ）、Ｅ．Ｒ．テイラー（Ｔａｙｌｏｒ）、『オーガニック・シンセシス（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ）』（ワイリー（Ｗｉｌｅｙ）、ニューヨーク州）、Ｃｏｌｌ．Ｖｏｌ．１、ｐ．１５５〜１５６を参照されたい）、次いでそれを直接四フッ化硫黄で処理して、式１３のトリフルオリドとすることができる。
【００６４】
式１３の化合物でＲ２が、式１３ａのフルオロメチル基または式１３ｂのジフルオロメチル基に類似しているがより長鎖であるものもまた、スキーム１１と同様な方法で、それぞれ対応する長鎖のアルコールまたはケトンを四フッ化硫黄またはＤＡＳＴで処理することによって調製することができる。同様にして、フッ素以外のハロゲンを含むＲ２ハロアルキル基も、対応するアルコール、アルデヒド、ケトンおよびカルボン酸基から、当業者周知のハロゲン化試薬を用いて調製することができる。さらに、Ｒ２アルコキシアルキル基も、対応するクロロ、ブロモまたはヨードアルキルＲ２基からハロゲンの求核置換により調製することができるが、それには、当業者周知の方法、たとえば、適当なアルカリ金属または４級アンモニウムアルコキシドで処理する方法を用いる。
【００６５】
式１５のカルボキシアルデヒドは、求核試薬と縮合させて、本発明のＲ２置換基を導入するのに特に有用である。たとえば、カルボキシアルデヒド１５を、ホスホニウムイリド、たとえばウィッティッヒ試薬で処理して、オレフィンとすることができる（ウィッティッヒ反応に関する総説としては、Ａ．メーカー（Ａ．Ｍａｅｒｃｋｅｒ）の『ウィッティッヒ反応（Ｔｈｅ  Ｗｉｔｔｉｇ  Ｒｅａｃｔｉｏｎ）』（『オーガニック・リアクションズ（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ）』（ワイリー（Ｗｉｌｅｙ）、ニューヨーク州、１９６５）第１４巻、第３章、ｐ．２７０〜４９０）を参照されたい）。スキーム１２に示すように、メチルトリフェニルホスホニウムブロミド（Ｒ６がＨ）またはメトキシメチルトリフェニルホスホニウムブロミド（Ｒ６がＯＣＨ３）の脱プロトン化によって誘導されるイリド１７で処理することによって、対応する式１８のスチレンが得られる。
【００６６】
【化１３】
2005504000.tif 000015
【００６７】
式中Ｒ６はＨまたはＯＣＨ３である。
【００６８】
式１８でＲ６がＯＣＨ３である場合、スキーム１３に示すように、水性の酸を用いてエノールエーテル部分を加水分解させて対応するアルデヒド１９とすることができるが、それをさらに、四フッ化硫黄またはＤＡＳＴを用いて処理することによってジフルオリド１３ｄに転化させることができる（これは、スキーム１１において、式１５を式１３ｂに転化させたのと同様の反応である）。
【００６９】
【化１４】
2005504000.tif 000016
【００７０】
さらに、式１９のアルデヒドを、還元してアルコールにするかまたは酸化してカルボン酸にし、さらにフッ素化剤で処理することによって、それぞれ式１３の化合物（Ｒ２がＣＨ２ＣＨ２Ｆ）または（Ｒ２がＣＨ２ＣＦ３）とすることができるが、この反応は、スキーム１１に示した転化反応と類似のものである。あるいは、アルデヒド１９を還元させることによって得られるアルコールを、当業者周知の試薬を用いてブロミドまたはアイオダイドに転化させ、次いでアルカリ金属メトキシドで処理して、ハロゲンを置換させて、Ｒ２がＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ３である式１３の化合物を得ることもできる。さらに、式１９のアルデヒドを求核試薬、たとえばウィッティッヒ試薬と反応させ、当業者周知の方法によって手を加えることによって、本発明のまた別のＲ２とすることもできる。
【００７１】
式１８においてＲ６がＨである場合、カルベンまたはカルベノイド試薬で処理することによって、スキーム１４に示すように、対応する式１３ｅの化合物とすることができる。
【００７２】
【化１５】
2005504000.tif 000017
【００７３】
式中、Ｒ７およびＲ８はそれぞれ独立して水素またはハロゲンである。
ハロカルベンは、対応するハロメタン（たとえば、トリブロモメタンまたはトリクロロメタン）を脱プロトン化させることによって得ることができる。ハロカルベンはまた、ハロ酢酸塩、たとえばトリクロロ酢酸ナトリウムを熱分解させることによっても得ることができる。ハロシクロプロパンを調製するためにハロカルベンを合成、使用する方法については、Ｌ．スカッテボル（Ｓｋａｔｔｅｂｏｌ）らによる、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．、１９７３、（１６）、１３６７〜１３７０；Ｅ．Ｖ．デームロー（Ｄｅｈｍｌｏｗ）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．、１９７６、（２）、９１〜９４；Ｗ．Ｅ．パラム（Ｐａｒｈａｍ）およびＥ．Ｅ．シュバイツアー（Ｓｃｈｗｅｉｚｅｒ）、『ハロカルベンからのハロシクロプロパン（Ｈａｌｏｃｙｃｌｏｐｒｏｐａｎｅｓ  ｆｒｏｍ  Ｈａｌｏｃａｒｂｅｎｅｓ）』（『オーガニック・リアクションズ（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ）』（ワイリー（Ｗｉｌｅｙ）、ニューヨーク州、１９６３）第１３巻、第２章、ｐ．５５〜９０）；およびそれらに引用されている文献類を参照されたい。（Ｒ７およびＲ８がＦである式１３ｅのジフルオロシクロプロパンを調製するのに特に有用な方法には、スチレン１８（Ｒ６がＨ）を、スルホラン中で１８５℃にすることによってクロロジフルオロ酢酸ナトリウムから発生させたジフルオロカルベンと反応させるものがある。）Ｒ７およびＲ８のハロゲンの一方または両方を還元させてＨとするには、当業者公知の各種の還元剤たとえば、トリ−ｎ−ブチルスズハイドライドを使用する（Ｎ．Ｉ．ヤクシュキナ（Ｙａｋｕｓｈｋｉｎａ）ら、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．Ｕ．Ｓ．Ｓ．Ｒ．、１９８０、１６、１５５３〜１５５７；Ｌ．Ａ．パケット（Ｐａｑｕｅｔｔｅ）ら、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．、１９７９、１０１、４６４５〜４６５５；Ｗ．Ｐ．ノイマン（Ｎｅｕｍａｎｎ）、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、１９８７、６６５〜６８３；およびそれらに引用されている文献類を参照されたい）。
【００７４】
スキーム１１〜１４およびそれらに関する説明は、キーとなる式１３の中間体を調製する方法を説明するものであって、広い範囲の好適なＲ２基を示し、本発明の範囲を拡げている。あるいは、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルスルホンアミドをオルトリチウム化（ｏｒｔｈｏ  ｌｉｔｈｉａｔｉｏｎ）することにより式１のスルホンアミド中間体を調製することもできる。
【００７５】
たとえば、スキーム１５に示すように、式１９のｔｅｒｔ−ブチルスルホンアミドを室温で過剰のトリフルオロ酢酸に添加することによって、式１のスルホンアミドを調製することができる。トリフルオロ酢酸を蒸発させれば、式１のスルホンアミドが残る。
【００７６】
【化１６】
2005504000.tif 000018
【００７７】
式中Ｒ２は上で定義した通りである。
【００７８】
式１９のスルホネートは、対応する式２０のフェノールから、スキーム１６に示すようにして調製することができるが、これはスキーム９に類似の反応である。
【００７９】
【化１７】
2005504000.tif 000019
【００８０】
式中Ｒ１およびＲ２は、上に定義した通りである。
【００８１】
スキーム１７に示すように、式２０のフェノールは、式２１のｔｅｒｔ−ブチルスルホンアミドのリチウム化、ホウ酸トリメチルとの反応、および酸化によって得ることができる。リチウム化は、テトラヒドロフラン中−４０℃でｔｅｒｔ−ブチルスルホンアミド２１を少なくとも２当量（典型的には２．２当量）のｎ−ブチルリチウムで処理することにより実施できるが、次いで０℃まで温めてから、ホウ酸トリメチルを添加する。（リチウム化の手順については、Ｍ．Ａ．ハナガン（Ｈａｎａｇａｎ）の米国特許第４，６０４，１３１号を参照されたい。）フェノール２０への酸化は、酢酸中の過酸化水素を使用して実施するが、その一般的な条件については、Ｒ．Ｌ．キドウェル（Ｋｉｄｗｅｌｌ）ら、『オーガニック・シンセシス（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｍｎｔｈｅｓｅｓ）』（ワイリー（Ｗｉｌｅｙ）、ニューヨーク州、１９６９）Ｃｏｌｌ．Ｖｏｌ．４９、ｐ．９０〜９３）を参照されたい。
【００８２】
【化１８】
2005504000.tif 000020
【００８３】
式中Ｒ１およびＲ２は、上に定義した通りである。
リチウム化が他のオルト位の水素に対してよりもラテラルにＲ２で起きやすいようなら（たとえばＲ２がＣＨ３またはＣＨ２ＣＨ３の時）、スキーム１７の方法を修正する。この修正では、ラテラルなリチウム化の後で、その反応混合物をクロロトリメチルシランで処理して、トリメチルシリル誘導体にする。その後にリチウム化をくり返す。リチウム化が再び置換基にラテラルに起きるようならば、（たとえば出発時のＲ２がＣＨ３、この時点ではシリル化されてＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）３となっている）、クロロトリメチルシランによる処理をくり返して、ビス−トリメチルシリル誘導体にする。ラテラルな位置での活性な水素がトリメチルシリル基によって置換されてしまえば、リチウム化が所望のオルト位で進行するようになる。スキーム１７に示したステップが完了したら、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中のフッ化セシウム、または、テトラヒドロフラン中のテトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオリドを用いて、トリメチルシリル基を除去するが、これはＲ．Ｊ．ミルズ（Ｍｉｌｌｓ）らのＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．、１９８９、５４、４３７２〜４３８５に記載された一般的な方法によればよい。
【００８４】
式２１のｔｅｒｔ−ブチルスルホンアミドは、スキーム６の手順と同様にして、対応するスルホニルクロリドをｔｅｒｔ−ブチルアミンで処理することによって、調製することができる。スルホニルクロリドは、対応するチオールまたはアルキルチオエーテルもしくはベンジルチオエーテルから当業者周知の方法、たとえば水の存在下における塩素化、によって調製することができるが、この方法については、Ｋ．Ｋ．アンダーセン（Ａｎｄｅｒｓｅｎ）『スルホン酸およびその誘導体（Ｓｕｌｆｏｎｉｃ  Ａｃｉｄｓ  ａｎｄ  Ｔｈｅｉｒ  Ｄｅｒｉｖａｔｉｖｅｓ）』（ペルガモン・プレス（Ｐｅｒｇａｍｏｎ  Ｐｒｅｓｓ）、ニューヨーク州、１９７９）第１１．１９章、ｐ．３３２〜３５９、およびそれに引用された文献類を参照されたい。
【００８５】
スキーム１６〜１７の合成方法は、リチウム化によってフェニル環にヒドロキシル官能基が加わる前にＲ２基が設けてあったものである。しかしながら、スキーム１８〜２０に示すように、既にあるヒドロキシ基を保護した形にしておいてから、フェニルのリチウム化を用いてＲ２基を導入することもできる。たとえば、スキーム１８に示すように、式２０のスルホンアミド中間体は、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルエーテル２２をフルオリドイオン反応剤、たとえばテトラヒドロフラン中のテトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオリド（Ｅ．Ｊ．コーリー（Ｃｏｒｅｙ）およびＡ．ベンカテスワルウ（Ｖｅｎｋａｔｅｓｗａｒｌｕ）、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．、１９７２、９４（１７）、６１９０〜６１９１）、または、テトラヒドロフラン中のフッ化ナトリウムおよびフッ化水素の等モル混合物水溶液（Ｐ．Ｍ．ケンダール（Ｋｅｎｄａｌｌ）ら、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．、１９７９、４４（９）、１４２１〜１４２４）で処理して脱保護させることによって調製することができる。
【００８６】
【化１９】
2005504000.tif 000021
【００８７】
式中Ｒ２は上で定義した通りである。
【００８８】
この式２２の中間体は、スキーム１９に示した方法によって各種のＲ２基を持つものが調製できる。
【００８９】
【化２０】
2005504000.tif 000022
【００９０】
式中Ｒ２は上で定義した通りであり、ＸはＢｒまたはＩである。
【００９１】
スキーム１９の方法は、式２３のｔｅｒｔ−ブチルスルホンアミドのリチウム化から出発するが、それにはスキーム１７に記載した一般的な方法にしたがって、少なくとも２当量（典型的には２．２当量）のｎ−ブチルリチウムを使用する。得られるリチウム化中間体２４は、各種のルートを経て式２２のｔｅｒｔ−ブチルスルホンアミドを調製するのに有用である。枝分かれ（ａ）で示したように、リチウム化された中間体２４を直接に炭素系の求電子試薬と直接反応させて、本発明のＲ２基を直接与えることもできるし、あるいはその代わりに、さらに後の化学変化によって本発明のＲ２基に転化させることが可能な中間基とすることもできる。たとえば、２４を脂肪族アルデヒドまたはケトンと反応させれば、１−ヒドロキシアルキル置換基が得られるが、それを脱水させればアルケニル基のＲ２が得られ、酸化させればアルキルカルボニル基のＲ２が得られ、または、ヒドロキシ官能基をハロゲンで置換してハロアルキル基のＲ２を得てもよい。このように官能基を相互に変換するための各種の反応は、化学品業界では周知である。さらなる例を挙げれば、２４をエチレンオキシドと反応させれば、２−ヒドロキシエチル中間体が得られ、このものはたとえば、ＤＡＳＴで処理すれば２−フルオロエチルであるＲ２に転化させることができるし、またそれとは別に、トリメチルオキソニウムテトラフルオロボレートおよびジイソプロピルエチルアミンで処理すれば２−メトキシエチルであるＲ２に転化させることができる。さらにこのリチウム化中間体２４を銅（Ｉ）塩で処理して、対応する有機銅反応剤とし、それをアルキル、アルケニルおよびアルキニルハライドと反応させて、それぞれ、アルキル、アルケニルおよびアルキニルであるＲ２を得ることもできる。銅塩をエノンに共役付加させれば、また別のＲ２基を作ることもできる。有機銅反応剤を用いた合成については、Ｂ．Ｈ．リプシュッツ（Ｌｉｐｓｈｕｔｚ）およびＳ．セングプタ（Ｓｅｎｇｕｐｔａ）による『有機銅反応剤：置換、共役付加、炭素／金属銅化反応およびその他の反応（Ｏｒｇａｎｏｃｏｐｐｅｒ  Ｒｅａｇｅｎｔ：Ｓｕｂｓｔｉｔｕｔｉｏｎ、Ｃｏｎｊｕｇａｔｅ  Ａｄｄｉｔｉｏｎ、Ｃａｒｂｏ／ｍｅｔａｌｌｏｃｕｐｒａｔｉｏｎ、ａｎｄ  Ｏｔｈｅｒ  Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ）』（『オーガニック・リアクションズ（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ）』（ワイリー（Ｗｉｌｅｙ）、ニューヨーク州、１９９２）第２章、ｐ．１３５〜６３１）に詳細な総説がある。
【００９２】
スキーム１９の枝分かれ（ｂ）に示されているように、リチウム化中間体２４は、ハロゲンで処理して式２５のハロゲン化フェニルとすることもできる。式２５のハロゲン化フェニルもまた、有用な中間体で、各種のその他のＲ２基を導入することができる。たとえば、このハロゲンは、ヘック反応によりパラジウム触媒の存在下で１−アルケニル基に置換することができる（総説としては、Ｒ．Ａ．アブラモビッチ（Ａｂｒａｍｏｖｉｔｃｈ）ら、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ、１９８８、４４（１１）、３０３９〜３０７１；Ｗ．カブリ（Ｃａｂｒｉ）およびＩ．カンジアニ（Ｃａｎｄｉａｎｉ）、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、１９９５、２８（１）、２〜７；および、Ｒ．Ｆ．ヘック（Ｈｅｃｋ）『パラジウム触媒による有機ハライドのビニル化（Ｐａｌｌａｄｉｕｍ−ｃａｔａｌｙｚｅｄ  Ｖｉｎｙｌａｔｉｏｎ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｈａｌｉｄｅｓ）』（『オーガニック・リアクションズ（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ）』（ワイリー（Ｗｉｌｅｙ）、ニューヨーク州、１９８２）第２７巻、第２章、ｐ．３４５〜３９０）などを参照されたい）。このヘック反応は、ある種のハロアルケン、たとえば３，３，３−トリフルオロプロペンがあっても問題ない（Ｇ．メアザ（Ｍｅａｚｚａ）ら、Ｐｌａｓｔｉｃ  Ｓｃｉ．、１９９２、３５、１３７〜１４４を参照されたい）。１−アルケニル基は、スキーム１４に示したようなシクロプロパン環とすることもできるし、ハロゲンと反応させてハロアルキル基、あるいは水素化してアルキル基のＲ２とすることも可能である。さらに、式２５のハロゲン化フェニルをシュティレ反応を用いて、アルケニル−、アルキニル−およびフェニル−スタンナンと反応させて、それぞれ、アルケニル、アルキニルおよびフェニル基であるＲ２とすることも可能であるが、この反応についての総説は、Ｖ．ファリーナ（Ｆａｒｉｎａ）ら『シュティレ反応（Ｔｈｅ  Ｓｔｉｌｌｅ  Ｒｅａｃｔｉｏｎ）』（『オーガニック・リアクションズ（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ）』（ワイリー（Ｗｉｌｅｙ）、ニューヨーク州、１９９７）第５０巻、第１章、ｐ．１〜６５２）がある。
【００９３】
スキーム１９の枝分かれ（ｃ）に示したように、リチウム化中間体２４をトリ−ｎ−ブチルスズクロリドと反応させて、式２６のスタンナンとすることができる。ここでもシュティレ反応を使用して、アルケニルおよびフェニルのブロマイドおよびアイオダイドとスタンナン２６をカップリングさせることによって、Ｒ２としてそれぞれアルケニルおよびフェニル基を得ることができる。
【００９４】
式２３のｔｅｒｔ−ブチルスルホンアミドは、スキーム２０に示した方法によって調製される。
【００９５】
【化２１】
2005504000.tif 000023
【００９６】
この方法では、ヒドロキシベンゼンチオール２７のヒドロキシ基を、塩基たとえばイミダゾール（これは触媒としても作用する）および、溶媒たとえばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの存在下に、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルクロリドで処理することによって、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルエーテル（２８）として保護するが、これは当業者には公知の方法で、たとえば、Ｅ．Ｊ．コーリー（Ｃｏｒｅｙ）およびＡ．ベンカテスワルウ（Ｖｅｎｋａｔｅｓｗａｒｌｕ）、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．、１９７２、９４（１７）、６１９０〜６１９１、およびＰ．Ｍ．ケンダール（Ｋｅｎｄａｌｌ）ら、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．、１９７９、４４（９）、１４２１〜１４２４に記載がある。ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル反応剤はチオール基をシリル化することも可能ではあるが、平衡条件下では、熱力学的にヒドロキシル基のシリル化が優先する。ついでチオール２８を酸化的に塩素化して式２９のスルホニルクロリドとするが、そのためには、アセトニトリルやＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドのような非プロトン性溶媒中で、それぞれ２当量以上の無機硝酸塩およびスルフリルクロリドで処理するが、これは、Ｙ．Ｊ．パーク（Ｐａｒｋ）らの、Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｌｅｔｔｅｒｓ、１９９２、１４８３〜１４８６の一般的な手順にしたがえばよい。このようにして得られた式２９のスルホニルクロリド中間体を、ジクロロメタンのような不活性溶媒中で、少なくとも２当量のｔｅｒｔ−ブチルアミンで処理することによって、式２３のスルホンアミドに転化させる。
【００９７】
スキーム１８〜２０ではｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルを使用しているが、その他の保護基も使用でき、たとえば、Ｂ．Ｈ．リプシュッツ（Ｌｉｐｓｈｕｔｚ）およびＪ．Ｊ．テグラム（Ｔｅｇｒａｍ）のＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．、１９８０、２１、３３４３〜３３４６に記載があるような、２−（トリメチルシリル）エトキシメチルも有用である。
【００９８】
式Ｉの化合物を調製するための上記のスキームのいくつかでは、記載した試薬や反応条件が、中間体の中に存在しているある種の官能基に適合しないことがあり得る、ということは認識しておくべきである。そのような場合には合成に、保護／脱保護の手順や官能基の相互転換を導入することが、目的の生成物を得るためには役立つことであろう。保護基の選択と使用については、化学合成に従事する者には明らかとなるであろう（たとえば、Ｔ．Ｗ．グリーン（Ｇｒｅｅｎｅ）；Ｐ．Ｇ．Ｍ．ワッツ（Ｗｕｔｓ）、『有機合成における保護基（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）第２版』（ワイリー（Ｗｉｌｅｙ）、ニューヨーク州、１９９１）を参照されたい）。当業者であれば、場合によっては、個々のスキーム中に記載されているようにして所定の試薬を加えてから式Ｉの化合物の合成を完結させるためには、ここには詳細には記載されていないが日常的な合成ステップをさらに実施することが必要となることもあることを認識するであろう。さらに、当業者であれば、式Ｉの化合物を調製するために、上記のスキームで説明したステップを組み合わせる場合に、ここで示した特定の順を入れ替えて実施することが必要となることもあることを認識するであろう。
【００９９】
さらに、当業者であれば、本明細書に記載した式Ｉの化合物およびその中間体に、各種の求電子、求核、ラジカル、有機金属、酸化、および還元などの反応を施して、置換基を加えたり、既存の置換基を変性させたりすることもできることを認識するであろう。
【０１００】
式Ｉの化合物の農業的に適する塩もまた除草剤としても有用であり、当業者公知の各種の方法によって調製することができる。たとえば、金属塩は、式Ｉの化合物を、充分に塩基性なアニオン（たとえば、ヒドロキシド、アルコキシド、カーボネートまたはハイドライド）を有するアルカリまたはアルカリ土類金属の塩の溶液と接触させることによって作ることができる。４級アミン塩も同様な方法で作ることができる。
【０１０１】
式Ｉの化合物の塩はまた、あるカチオンを別なカチオンと交換させることによっても調製することができる。カチオン交換は、式Ｉの化合物の塩（たとえば、アルカリまたは４級アミン塩）の水溶液を、交換する相手のカチオンを含む溶液に直接接触させることによって実施することができる。この方法は、交換させたカチオンを含む目的の塩が、水に不溶で、濾過により分離できるような場合には、特に効果的である。
【０１０２】
さらに交換は、式Ｉの化合物の塩（たとえば、アルカリ金属または４級アミン塩）の水溶液を、元の塩のカチオンと交換するべきカチオンを含むカチオン交換樹脂を充填したカラムに通すことによって、実施することもでき、目的の生成物はカラムから溶出されてくる。この方法は、目的の塩が水溶性（たとえば、カリウム、ナトリウムまたはカルシウム塩）である場合には特に有用である。
【０１０３】
これ以上説明をしなくても、ここまでの説明を利用する当業者ならば、本発明をその最大限にまで活用できるものと考えられる。したがって以下の合成例は、単に説明のためだけのものであって、いかなる面においても本開示に制限を加えるものではないと受け取るべきである。クロマトグラフィ用溶媒混合物の場合または特段の指示がない限り、パーセントは重量基準である。クロマトグラフィ用溶媒混合物における部およびパーセントは、特段の指示がない限り、容量基準である。１Ｈ  ＮＭＲスペクトルは、テトラメチルシランから低磁場側へのｐｐｍで表現し、また、ｓはシングレット、ｄはダブレット、ｔはトリプレット、ｑはカルテット、ｍはマルチプレット、ｄｄはダブレットのダブレット、ｄｔはトリプレットのダブレット、ｂｒｓはブロードなシングレットである。
【０１０４】
合成例１  ２−（ジフルオロメチル）−Ｎ−［［（４，６−ジメトキシ−２−ピリミジニル）アミノ］カルボニル］−６−［（メチルスルホニル）オキシ］ベンゼンスルホンアミドの調製
ステップＡ  １−（ジフルオロメチル）−３−メトキシ−２−ニトロベンゼンの調製
３−メトキシ−２−ニトロベンズアルデヒド（１５．０ｇ、８２．８ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１００ｍＬ）中に溶解させた溶液を、窒素雰囲気下で撹拌しながら、（ジエチルアミノ）三フッ化硫黄（ＤＡＳＴ、１３．１ｍＬ、１００ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１００ｍＬ）に溶解させた溶液中に添加した。この反応混合物を室温で２時間撹拌してから、氷水（２００ｍＬ）の中に注いだ。相分離をさせてから、有機層を重炭酸塩−炭酸塩（１：１）の水性緩衝溶液で洗浄し、次いで乾燥させた（ＭｇＳＯ４）。溶媒をロータリーエバポレーターで除去し、残分をトリクロロメタンに溶解させ、再びロータリーエバポレーターで蒸発させると、表題の化合物が赤みがかった油状物として得られた（１８．７６ｇ）。
１Ｈ  ＮＭＲ：δ  ３．９２（ｓ、ＯＣＨ３）、６．８０（ｔ、Ｊ＝５６Ｈｚ、ＣＨＦ２）、７．３（ｍ、２Ｈ、アリールＨ）、７．５９（ｔ、１Ｈ、アリールＨ）。
【０１０５】
ステップＢ  ３−（ジフルオロメチル）−２−ニトロフェノールの調製
１−（ジフルオロメチル）−３−メトキシ−２−ニトロベンゼン（８．２７ｇ、４１ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（５０ｍＬ）に溶解させた溶液を、撹拌しながら窒素雰囲気下に、−４０℃以下まで冷却した。この冷却したジクロロメタン溶液に、三臭化ホウ素（１．０Ｍ、４３ｍＬ、４３ｍｍｏｌ）の溶液を添加し、その反応混合物を暖まって室温になるまで放置した。３０分後に、その反応混合物を氷水（１２０ｍＬ）中に注ぎ、ジクロロメタンをさらに使用してすすぎ洗いをした。相分離させて、水層をジクロロメタンで２度抽出した。有機抽出層を合わせ、数部の重炭酸塩水溶液と水とで洗浄した。重炭酸塩と水の洗浄液を塩酸（６Ｎ）で酸性にし、２部の酢酸エチルで逆抽出した。ジクロロメタンと酢酸エチルの有機層を合わせてから、乾燥させ（Ｎａ２ＳＯ４）、ロータリーエバポレーターで蒸発させると、表題の生成物が油状物として得られた（９．０ｇ）。
１Ｈ  ＮＭＲ（９０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３−（ＣＤ３）２ＳＯ）：δ  ６．８５（ｔ、Ｊ＝５７Ｈｚ、ＣＨＦ２）、７．２（ｍ、３Ｈ、芳香族Ｈ）、１０．２（ＯＨ）。酢酸エチルがいくらか残存しているのが、不純物として認められた。粗製物のまま、次のステップに直接使用した。
【０１０６】
ステップＣ  ３−（ジフルオロメチル）−２−ニトロフェノールメタンスルホネートの調製
３−（ジフルオロメチル）−２−ニトロフェノール（９．０ｇ、４７．６ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（９５ｍＬ）に溶解させた溶液を撹拌しながら、氷水浴を用いて冷却し、次いでメタンスルホニルクロリド（３．８ｍＬ、４８．６ｍｍｏｌ）を添加した。次いで、トリエチルアミン（７．３ｍＬ、５２ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（３０ｍＬ）に溶解させた溶液を、撹拌している反応混合物の温度が１０℃を未満になるような速度で、徐々に添加した。次いでその反応混合物を暖まって室温になるまで放置した。１時間後に、その反応混合物を数部の水と塩酸（１Ｎ）とでそれぞれ１回ずつ洗浄してから、乾燥させた（ＭｇＳＯ４）。溶媒をロータリーエバポレーターで除去すると、粗製物が得られた（１０．６ｇ）。このものを、極性の強い不純物を除去するためにシリカゲルのカラムに通して溶出させて、ロータリーエバポレーターで蒸発させると、表題の生成物が暗褐色の油状物として残った（９．６ｇ）。
１Ｈ  ＮＭＲ：δ  ３．２９（ＣＨ３Ｓ（Ｏ）２Ｏ−）、６．９０（ｔ、Ｊ＝５６Ｈｚ、ＣＨＦ２）、７．７５（ｍ、３Ｈ、芳香族Ｈ）。ＩＲ：  １１７０、１３６０ｃｍ−１（−ＯＳＯ２−）。
【０１０７】
ステップＤ  ２−アミノ−３−（ジフルオロメチル）フェノールメタンスルホネートの調製
パラジウム／炭素触媒（１０％、１．０ｇ）を窒素雰囲気下で、３−（ジフルオロメチル）−２−ニトロフェノールメタンスルホネート（９．５ｇ、３８ｍｍｏｌ）を酢酸（１３０ｍＬ）に溶解させた溶液に添加した。この反応混合物を、圧力４７から３６．５ｐｓｉ（３２４から２５２ｋＰａ）の水素ガスと共に、５．５時間振盪させた。次いでこの反応混合物を窒素気流下で、セライト（Ｃｅｌｉｔｅ）（登録商標）珪藻土濾過助剤を通過させて濾過し、その珪藻土濾過助剤は酢酸を用いて完全にすすぎ洗いをした。濾液から酢酸をロータリーエバポレーターで除去し、次いで残渣にエーテル（２５０ｍＬ）を加えてスラリー状とした。このスラリーを、重炭酸塩−炭酸塩（１：１）の水性緩衝溶液（１００ｍＬ）で処理した。水層を分離させると、そのｐＨは８以上であった。次いでこの水層を、エーテルを用いて２回抽出した。エーテル抽出層を合わせ、重炭酸塩水溶液で１回、塩水で１回洗浄してから、乾燥させた（Ｋ２ＣＯ３）。エーテルをロータリーエバポレーターで除去すると、表題の生成物が油状物として得られた。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ３．１９（ＣＨ３Ｓ（Ｏ）２Ｏ−）、４．４５（ＮＨ２）、６．７６（ｔ、Ｊ＝５６Ｈｚ、ＣＨＦ２）、６．７５（ｔ、芳香族Ｈ）、７．２（ｄ、芳香族Ｈ）、７．３（ｄ、芳香族Ｈ）。ＩＲ：  ３４００、３５００ｃｍ−１（ＮＨ２）。微量の残存エーテルが唯一の不純物として、ＮＭＲスペクトルに認められた。粗製物のまま、次のステップに直接使用した。
【０１０８】
ステップＥ  ２−（ジフルオロメチル）−６−［（メチルスルホニル）オキシ］ベンゼンスルホニルクロリドの調製
２−アミノ−３−（ジフルオロメチル）フェノールメタンスルホネート（８．１ｇ、３４ｍｍｏｌ）を、プロパン酸（８０ｍＬ）、塩酸（６Ｎ、３０ｍＬ）および水（３０ｍＬ）に溶解させた溶液を撹拌しながら氷浴を使用して冷却して０℃とした。次いでこの反応混合物に撹拌しながら、亜硝酸ナトリウム（２．７２ｇ、４０ｍｍｏｌ）を水（２０ｍＬ）に溶解させた溶液を約２０分かけて添加したが、反応混合物の温度が５℃未満に保てるよう添加速度を調節した。このジアゾ化反応混合物を、０℃でさらに１０分間撹拌した。
【０１０９】
それとは別に、もう１つの反応フラスコ（ドライアイスコンデンサー付き）に、塩化銅（ＩＩ）（１．１ｇ、８ｍｍｏｌ）をプロパン酸（１００ｍＬ）、酢酸（２５ｍＬ）および濃塩酸（１０ｍＬ）に溶解させた溶液を撹拌しながら、０℃まで冷却した。真空ジャケット付きの滴下ロートを用いて、液化二酸化硫黄（１７ｍＬ、４００ｍｍｏｌ）を添加した。このメーヤワインカップリング反応混合物に撹拌しながら、氷冷ジャケットで冷却した滴下ロートから、上述のジアゾ化反応混合物を滴下した。このジアゾ化反応混合物の添加は、メーヤワインカップリング反応混合物の温度が５〜１２℃の間（約１０℃）に保たれるような速度で行った。この反応混合物をさらに１時間約１０℃で撹拌してから、室温になるまで放置し、さらに２．５時間撹拌した。次いでこの反応混合物を氷／水浴を用いて冷却し、過剰の水で稀釈して、固形物が懸濁する状態とした。この混合物を３０分撹拌してから、濾過し、水ですすぎ洗いをした。濾過で得られた桃色の固形分をデシケータ中で乾燥させると、表題の生成物が得られ、その融点は１００〜１２３℃であった。
１Ｈ  ＮＭＲ：δ  ３．４４（ＣＨ３Ｓ（Ｏ）２Ｏ−）、７．５５（５、Ｊ＝５６Ｈｚ、ＣＨＦ２）、７．９０（ｍ、３Ｈ、芳香族Ｈ）。
【０１１０】
ステップＦ  ２−（ジフルオロメチル）−６−［（メチルスルホニル）オキシ］ベンゼンスルホンアミドの調製
２−（ジフルオロメチル）−６−［（メチルスルホニル）オキシ］ベンゼンスルホニルクロリド（３ｇ、９．３６ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４０ｍＬ）に溶解させた溶液を、ドライアイスコンデンサー付きフラスコ中で撹拌しながら−３０℃以下に冷却した。液化アンモニア（０．７ｍＬ、２８．１ｍｍｏｌ）を加えると、温度が上昇した。この反応混合物を温度が０℃になるまで放置してから、充分な量の２％塩酸を加えてｐＨを２未満にまで下げた。この反応混合物を酢酸エチルで２回抽出した。酢酸エチル抽出物を合わせて、塩水で洗浄してから乾燥させた（ＭｇＳＯ４）。ロータリーエバポレータ−での残渣は、静置すると結晶化した。この固形物をジクロロメタンと１−クロロブタンとの混合物から再結晶させ、集めて、１−クロロブタンですすぎ洗いをすると、表題の生成物が得られ、その融点は１１０〜１１２℃であった。同じスケールで同様な合成を行うと、収量は２．３８ｇであった。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ３．３８（ｓ、３Ｈ、ＣＨ３Ｓ（Ｏ）２Ｏ−）、５．４４（ｂｒｓ、ＮＨ２）、７．６２（ｔ、Ｊ＝５６Ｈｚ、ＣＨＦ２）、７．７５（ｍ、２Ｈ、芳香族Ｈ）、７．８８（ｍ、１Ｈ、芳香族Ｈ）。ＩＲ：  ３２８０ｓｈ、３３２０、３４５０ｃｍ−１（ＮＨ２）。
【０１１１】
ステップＧ  ２−（ジフルオロメチル）−Ｎ−［［（４，６−ジメトキシ−２−ピリミジニル）アミノ］カルボニル］−６−［（メチルスルホニル）オキシ］ベンゼンスルホンアミドの調製
２−（ジフルオロメチル）−６−［（メチルスルホニル）オキシ］ベンゼンスルホンアミド（０．６２ｇ、２．０６ｍｍｏｌ）を無水のアセトニトリル（９ｍＬ）に溶解させた溶液に、撹拌しながら、フェニル（４，６−ジメトキシ−２−ピリミジニル）カルバメート（０．６９ｇ、２．７５ｍｍｏｌ）を加えると、クリーム色のスラリーが得られた。このスラリーに、撹拌しながら、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデク−７−エン（ＤＢＵ、０．３７ｍＬ、２．７５ｍｍｏｌ）を加えると、直ぐに暗金色の溶液となった。この反応混合物を室温で３０分間撹拌した。次いで水（６０ｍＬ）と塩酸（１Ｎ、３ｍＬ）をこの順で加えると、ゴム状の固形物が沈殿した。この混合物を３０分間よく撹拌し、その間そのゴム状の固形物をこすって結晶化を促進させた。白色の固形物を濾過で取り出し、水でよく洗浄してから真空乾燥器の中で乾燥させると、表題の生成物（０．８８ｇ）が得られるが、このものが本発明の化合物であり、その融点は１９９〜２０１℃であるが、明らかに分解を伴っていた。そのＮＭＲスペクトルは、それより前の実験のものと類似していた。
１Ｈ  ＮＭＲ：δ  ３．５７（ｓ、ＣＨ３Ｓ（Ｏ）２Ｏ−）、３．９０（ｓ、６Ｈ、ＯＣＨ３）、６．０２（ｓ、ピリミジニルＨ）、７．８３（ｔ、Ｊ＝５５Ｈｚ、ＣＨＦ２）、７．９〜８（ｍ、３Ｈ、芳香族Ｈ）、１０．８（ＮＨ）、１３．１（ＮＨ）。
【０１１２】
本明細書に記載した手順を、当業者公知の方法と組み合わせることによって以下の表Ａの化合物類を調製することができた。この表で、「Ｐｈ」はフェニルを意味する。
【０１１３】
【表１】
2005504000.tif 000024
【０１１４】
【表２】
2005504000.tif 000025
【０１１５】
【表３】
2005504000.tif 000026
【０１１６】
【表４】
2005504000.tif 000027
【０１１７】
製剤形態／有用性
式Ｉの化合物は一般に、液体もしくは固体希釈剤および／または界面活性剤を含む、農業的に適する担体と組み合わせた製剤形態で使用されるが、ここでその製剤形態は、活性成分の物理的性質、施用方式、それに土壌の種類、湿度、温度といった環境因子に適合させる。有用な製剤形態には、液剤があり、たとえば、溶液（乳化可能な濃厚液剤を含む）、懸濁剤、乳剤（マイクロエマルションおよびサスポエマルションを含む）などであるが、増粘させてゲル状にしてあってもよい。有用な製剤形態にはさらに、固形剤があり、たとえば、粉剤（ｄｕｓｔ）、粗粉剤（ｐｏｗｄｅｒ）、粒剤、ペレット剤、錠剤、フィルム剤などがあり、それらは水分散性（水和性（ｗｅｔｔａｂｌｅ））や水溶性であってもよい。活性成分を（マイクロ）カプセル化することもでき、それをさらに懸濁剤や固形剤の製剤形態とすることもできるし、別な方法で、活性な成分を含む全体の剤型をカプセル化（または「オーバーコート」）することもできる。カプセル化することによって、活性成分の放出を調節したり、遅らせたりすることができる。噴霧スプレー可能な製剤形態は、適当な媒体に混合して増量させ、１ヘクタールあたり約１〜数百リットルの散布量で使用することができる。高力価組成物（ｈｉｇｈ−ｓｔｒｅｎｇｔｈ  ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ）は、さらなる製剤形態とするための中間体として主として使用される。
【０１１８】
典型的にはこれらの製剤形態には、有効な量の活性成分、希釈剤および界面活性剤が含まれ、それらのおおよその範囲を次の表に示す（合計が１００重量％になるようにする）。
【０１１９】
【表５】
2005504000.tif 000028
【０１２０】
典型的な固体希釈剤については、ワトキンス（Ｗａｔｋｉｎｓ）らによる『殺虫剤粉剤、希釈剤および担体ハンドブック（Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｉｎｓｅｃｔｉｃｉｄｅ  Ｄｕｓｔ  Ｄｉｌｕｅｎｔｓ  ａｎｄ  Ｃａｒｒｉｅｒｓ）第２版』（ドーランド・ブックス（Ｄｏｒｌａｎｄ  Ｂｏｏｋｓ）、コールドウェル（Ｃａｌｄｗｅｌｌ）、ニュージャージー州）に記載がある。典型的な液体希釈剤については、マースデン（Ｍａｒｓｄｅｎ）の『溶媒ガイド（Ｓｏｌｖｅｎｔｓ  Ｇｕｉｄｅ）第２版』（インターサイエンス（Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ）、ニューヨーク州、１９５０）に記載がある。『マッカチオンズ洗剤および乳化剤アニュアル（ＭｃＣｕｔｃｈｅｏｎ’ｓ  Ｄｅｔｅｒｇｅｎｔｓ  ａｎｄ  Ｅｍｕｌｓｉｆｉｅｒｓ  Ａｎｎｕａｌ）』（アラード・パブリッシャー社（Ａｌｌｕｒｅｄ  Ｐｕｂｌ．  Ｃｏｒｐ．）、リッジウッド（Ｒｉｄｇｅｗｏｏｄ）、ニュージャージー州）、および、シスレー（Ｓｉｓｅｌｙ）およびウッド（Ｗｏｏｄ）『界面活性剤百科（Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｓｕｒｆａｃｅ  Ａｃｔｉｖｅ  Ａｇｅｎｔｓ）』（ケミカル・パブリッシャー社（Ｃｈｅｍｃａｌ  Ｐｕｂｌ．Ｃｏ．Ｉｎｃ．）、ニューヨーク州、１９６４）には、界面活性剤とその推奨使用法のリストがある。いずれの製剤形態においても、発泡、ケーキング、腐食、微生物成長などを防止するための少量の添加剤や、粘度を上昇させるための増粘剤が含まれていてもよい。
【０１２１】
界面活性剤としては、たとえば、ポリエトキシル化アルコール、ポリエトキシル化アルキルフェノール、ポリエトキシル化ソルビタン脂肪酸エステル、ジアルキルスルホスクシネート、アルキルスルフェート、アルキルベンゼンスルホネート、有機シリコーン、Ｎ，Ｎ−ジアルキルタウレート、リグニンスルホネート、ナフタレンスルホネート  ホルムアルデヒド縮合物、ポリカルボキシレート、およびポリオキシエチレン／ポリオキシプロピレンブロックコポリマーなどがある。固体希釈剤としては、たとえば、ベントナイト、モンモリロナイト、アタパルジャイト、およびカオリンのようなクレーや、デンプン、糖類、シリカ、タルク、珪藻土、尿素、炭酸カルシウム、炭酸ナトリウムおよび重炭酸ナトリウム、およびナトリウムスルフェートなどがある。液体希釈剤にはたとえば、水、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−アルキルピロリドン、エチレングリコール、ポリプロピレングリコール、パラフィン、アルキルベンゼン、アルキルナフタレン、オリーブ油、ヒマシ油、アマニ油、キリ油、ゴマ油、トウモロコシ油、ピーナッツ油、綿実油、ダイズ油、ナタネ油、ココナッツ油などの油類、脂肪酸エステル、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、イソホロンおよび４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなどのケトン類、メタノール、シクロヘキサノール、デカノール、ベンジルアルコールおよびテトラヒドロフルフリルアルコールのようなアルコール類、などがある。
【０１２２】
溶液（乳化可能な濃厚液剤を含む）は、成分を単に混合するだけで調製することができる。化学的に安定化させた水性スルホニル尿素や、農業的に適するスルホニル尿素塩分散物については、米国特許第４，９３６，９００号に教示がある。化学的安定性を向上させたスルホニル尿素の溶液型製剤形態については、米国特許第４，５９９，４１２号に教示がある。粉剤および粗粉剤は、ブレンドをして、通常ハンマーミルまたは流体エネルギーミルなどで粉砕して調製することができる。懸濁剤は通常、湿式混合（ｗｅｔ−ｍｉｌｌｉｎｇ）によって調製するが、これについては、たとえば、米国特許第３，０６０，０８４号を参照されたい。粒剤およびペレット剤は、予備成形させた粒状担体に活性原料を噴霧するか、あるいは凝集法技術を用いて調製することができる。ブラウニング（Ｂｒｏｗｎｉｎｇ）の『凝集（Ａｇｇｌｏｍｅｒａｔｉｏｎ）』、Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ、１９６７年１２月４日号、ｐ．１４７〜４８、『ペリーズ・ケミカル・エンジニアーズ・ハンドブック（Ｐｅｒｒｙ’ｓ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒ’ｓ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ）第４版』（マグローヒル（ＭａｃＧｒａｗ−Ｈｉｌｌ）、ニューヨーク州、１９６３）ｐ．８−５７以下、およびＷＯ９１／１３５４６号を参照されたい。ペレット剤は米国特許第４，１７２，７１４号の記載にしたがって調製することもできる。水分散性および水溶性粒剤は、米国特許第４，１４４，０５０号、同第３，９２０，４４２号およびドイツ国特許第３，２４６，４９３号の教示にしたがって調製することができる。錠剤は、米国特許第５，１８０，５８７号、同第５，２３２，７０１号および同第５，２０８，０３０号の教示にしたがって調製することができる。フィルム剤は、ＧＢ２，０９５，５５８号および米国特許第３，２９９，５６６号の教示にしたがって、調製することができる。
【０１２３】
製剤技術に関するさらなる情報については、Ｔ．Ｓ．ウッズ（Ｗｏｏｄｓ）『フォミュレーターズ・ツールボックス−殺虫剤化学およびバイオサイエンスにおける近代農業のため製造形態（Ｔｈｅ  Ｆｏｒｍｕｌａｔｏｒ’ｓ  Ｔｏｏｌｂｏｘ−Ｐｒｏｄｕｃｔ  Ｆｏｒｍｓ  ｆｏｒ  Ｍｏｄｅｒｎ  Ａｇｒｉｃｕｌｔｕｒｅ）』（Ｔ．ブルックス（Ｂｒｏｏｋｓ）およびＴ．Ｒ．ロバーツ（Ｒｏｂｅｒｔｓ）編『食品−環境への挑戦（Ｔｈｅ  Ｆｏｏｄ−Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔ  Ｃｈａｌｌｅｎｇｅ）』、ｐ．１２０〜１３３、『殺虫剤化学に関する第９回国際会議議事録（Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ  ｏｆ  ｔｈｅ  ９ｔｈ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｃｏｎｇｒｅｓｓ  ｏｎ  Ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）』（Ｔｈｅ  Ｒｏｙａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、ケンブリッジ、１９９９）を参照されたい。また、米国特許第３，２３５，３６１号第６欄第１６行〜第７欄第１９行および実施例１０〜４１；米国特許第３，３０９，１９２号第５欄第４３行〜第７欄第６２行および実施例８、１２、１５、３９、４１、５２、５３、５８、１３２、１３８〜１４０、１６２〜１６４、１６６、１６７および１６９〜１８２；米国特許第２，８９１，８５５号第３欄第６６行〜第５欄第１７行および実施例１〜４；クリングマン（Ｋｌｉｎｇｍａｎ）、『科学としての雑草抑制（Ｗｅｅｄ  Ｃｏｎｔｒｏｌ  ａｓ  ａ  Ｓｃｉｅｎｃｅ）』（ワイリー（Ｗｉｌｅｙ）、ニューヨーク州、１９６１）ｐ．８１〜９６；および、ハンス（Ｈａｎｃｅ）ら、『雑草抑制ハンドブック（Ｗｅｅｄ  Ｃｏｎｔｒｏｌ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ）第８版』（ブラックウェル・サイエンティフィック・パブリケーションズ（Ｂｌａｃｋｗｅｌｌ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ  Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎｓ）、オクスフォード、１９８９）も、参照されたい。
【０１２４】
式Ｉの化合物と、アセトラクテート合成酵素阻害性のものを含む他の除草剤、さらには殺虫剤および殺かび剤との混合物は、多くの方法で製剤化できる：
（ａ）式Ｉの化合物とその他の除草剤、殺虫剤および殺かび剤を別々に製剤化して、別々に施用したり、またはたとえばタンク混合物として適当な重量比にして同時に施用したりすることができるし：または、
（ｂ）式Ｉの化合物とその他の除草剤、殺虫剤および殺かび剤を適当な割合で一緒に製剤化することもできる。
【０１２５】
以下の実施例では、パーセントはすべて重量％であり、すべての製剤形態は常法にしたがって調製する。
【実施例】
【０１２６】
【表６】
2005504000.tif 000029
【０１２７】
【表７】
2005504000.tif 000030
【０１２８】
【表８】
2005504000.tif 000031
【０１２９】
【表９】
2005504000.tif 000032
【０１３０】
【表１０】
2005504000.tif 000033
【０１３１】
有用性
式Ｉのスルホニル尿素化合物は、農作物の商業生産では厄介な多くの雑草に対して優れた除草剤活性を有することが見出された。さらにこれらの化合物は、ある種の農作物、特にイネおよび冬型穀物たとえば、コムギおよびオオムギに対しては比較的薬害が少ないことも、見出されている。注目すべきは、これらの化合物は、イネ植物に対しては薬害が少ないがイネ作物中で非常に問題の多い各種雑草を抑制し、また同様に、コムギおよびオオムギに対しては薬害が少ないがこれらの作物中で農業的に非常に問題の多い雑草を抑制することが見出された。さらに注目すべき、驚くべきことには、これらの化合物が、スルホニル尿素除草剤および他のアセトラクテート合成酵素阻害性除草剤に対して抵抗性の雑草のバイオタイプを有効に抑制することが見出されたのである。そのような除草剤には、イネ、コムギおよびオオムギの耕作で実用化されている、たとえば、ベンスルフロンメチル、ピラゾスルフロンエチル、メトスルフロンメチル、チフェンスルフロンメチル、トリアスルフロン、トリベヌロンメチルおよびクロルスルフロンなどがある。これらのバイオタイプの多くのものの抵抗性のタイプは、アセトラクテート合成酵素（ＡＬＳ：ＥＣ４．１．３．１８）の突然変異によって、アセトラクテート合成酵素阻害性除草剤の阻害性を低下させているものと考えられるので、本発明の特定のスルホニル尿素化合物が有効であることは、注目すべき、驚くべきことである。
【０１３２】
稲作においてスルホニル尿素除草剤が主として用いられるのは、広葉雑草およびカヤツリグサ科雑草（ｓｅｄｇｅｓ）を抑制するためであるが、ある種のイネ科雑草（ｇｒａｓｓ  ｗｅｅｄｓ）たとえば、ヒメタイヌビエ（ｂａｒｎｙａｒｄｇｒａｓｓ）に対しても有効である。それらはカヤツリグサ科の抑制に関して特に価値があるが、その他のイネには安全な除草剤では、カヤツリグサ科雑草、たとえばシペルス（Ｃｙｐｅｒｕｓ）種およびスキルプス（Ｓｃｉｒｐｕｓ）種に対して効果のあるものがほとんど無いからである。本発明の特定のスルホニル尿素化合物は、既存のスルホニル尿素除草剤に対する抵抗性を示すバイオタイプを含めて、カヤツリグサ科雑草を抑制するのに効果があるので、稲作でのカヤツリグサ科雑草ならびにその他の雑草に対して、商品として受け入れられる抑制性を保持している点で、高い価値を有している。本発明の化合物によってスキルプス（Ｓｃｉｒｐｕｓ）種の抑制ができるのが、特に有益である。さらに、スルホニル尿素除草剤に対する抵抗性を示すある種の雑草のバイオタイプを抑制するために、別の作用機構を有する除草剤が現在では使用できるが、それらの他の除草剤に対する抵抗性を有するバイオタイプがいずれ出てくることであろう。したがって、本発明の特定のスルホニル尿素化合物は、アセトラクテート合成酵素阻害性除草剤全般に対して感受性、抵抗性の両方のバイオタイプを含めて、広い範囲の雑草に効力を有するために、これらの化合物は農作物、特にイネの耕作にとっては特に価値の高いものとなる。
【０１３３】
コムギおよびオオムギの耕作においても、本発明のスルホニル尿素除草剤は主として、広葉雑草を抑制するの有用であるが、それらはある種のイネ科雑草に対しても同様に顕著な効果を有している。
【０１３４】
イネ、コムギおよびオオムギの式Ｉの化合物に対する耐性は、代謝作用からきているものと考えられ、したがって、アセトラクテート合成酵素阻害性除草剤による阻害に対して抵抗性のアセトラクテート合成酵素の形態を含む、含まないに関わらず、イネ、コムギおよびオオムギ品種について、選択的な雑草抑制をするのに使用することができる。式Ｉの化合物の多くは、感受性の強いイネのジャポニカ品種に対しても良好な薬害安全性を示し、インディカ品種ではより良好な耐性を典型的に示す。
【０１３５】
式Ｉの化合物は、単独でも、あるいは、抵抗性バイオタイプの雑草を抑制するための他のアセトラクテート合成酵素阻害性除草剤と組み合わせても、効果的に使用することができる。別な方法で、式Ｉの化合物を、アセトラクテート合成酵素阻害性除草剤に対する抵抗性を有する雑草バイオタイプの発生を抑制するための管理プログラムの一部として使用することもできる。
【０１３６】
式Ｉの化合物は、作物または雑草の、発芽後または発芽前のいずれに施用してもよい。本発明の化合物は、発芽前および発芽後いずれでも除草剤活性を有していて、望ましくない植生を枯らしたり被害を与えたりすることによって、またはその生長を抑制することによって、望ましくない植生を抑制するので、これらの化合物を各種の方法により効果的に施用することができる。そのような方法としては、本発明の化合物、または前記化合物及び界面活性剤、固体希釈剤または液体希釈剤のうちの少なくとも１種を含んでなる組成物の除草的に有効な量を、望ましくない植生の茎葉またはその他の部分に接触させたり、または、望ましくない植生の環境、たとえば、望ましくない植生が生長している土壌または水、あるいは、望ましくない植生の種子や他のむかごを取り巻く環境（すなわち、望ましくない植生の場所）に施用する方法がある。
【０１３７】
本発明の化合物の除草的に有効な量は、各種の因子から決めることができる。その様な因子に含まれるものとしては、選択した製剤形態、施用方法、現存している植生の量とタイプ、生長状態などがある。一般的には、主題となっている化合物の除草的に有効な量として、０．００１〜２０ｋｇ／ｈａの量、好ましくは約５〜２００ｇ／ｈａの範囲の量で施用する。特に好適な式Ｉの化合物で、Ｒ１がメチル、Ｒ２がＣＨＦ２である、２−（ジフルオロメチル）−Ｎ−［［（４，６−ジメトキシ−２−ピリミジニル）アミノ］カルボニル］−６−［（メチルスルホニル）オキシ］ベンゼンスルホンアミドは一般に約１０〜２５０ｇ／ｈａ、イネ作物に使用するほとんどの場合では好ましくは２０〜８０ｇ／ｈ、コムギおよびオオムギ作物に使用するほとんどの場合では好ましくは１６〜２５０ｇ／ｈａ、の範囲の散布量で施用される。これらの範囲の低い方の量は他の除草剤と組み合わせた場合に特に有用であり、一方これらの範囲の高い方の量は、ある種の抵抗性バイオタイプの雑草を完全に抑制するのに必要とされるものである。当業者ならば、雑草抑制をどの程度のレベルで行いたいかで必要な散布量を容易に決定することができる。
【０１３８】
式Ｉの化合物はさらに、他の市販の除草剤、殺虫剤または殺かび剤と組み合わせて使用することもできる。イネ作物において使用されるアセトラクテート合成酵素阻害性除草剤の抵抗性管理のためには、式Ｉの化合物と併用して有用な市販除草剤としては、たとえば、アジムスルフロン、ベンスルフロンメチル、ビスピリバックナトリウム塩、クロリムロンエチル、シノスルフロン、シクロスルファムロン、エトキシスルフロン、イマゾスルフロン、ハロスルフロンメチル、メトスルフロンメチル、ニコスルフロン、ピラゾスルフロンエチルおよびピリミノバックなどがある。コムギおよびオオムギ作物において使用されるアセトラクテート合成酵素阻害性除草剤の抵抗性管理のためには、式Ｉの化合物と併用して有用な市販除草剤としては、たとえば、アミドスルフロン、クロルスルフロン、フロラスラム、フルカルバゾンおよびナトリウムなどのその塩、フルピルスルフロンメチル（ｆｌｕｐｙｒｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）およびナトリウムなどのその塩、イマザメタベンズメチル（ｉｍａｚａｍｅｔｈａｂｅｎｚ−ｍｅｔｈｙｌ）、ヨードスルフロンメチル（ｉｏｄｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、メゾスルフロン（ｍｅｓｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、メトスラム（ｍｅｔｏｓｕｌａｍ）、メトスルフロンメチル、ペノクスラム、プロポキシカルバゾン、プロスルフロン、スルホスルフロン、チフェンスルフロンメチル、トリアスルフロン、トリベヌロンメチルおよびトリトスルフロンなどがある。
【０１３９】
さらに、イネに薬害を与えずアセトラクテート合成酵素を阻害しない、以下のような除草剤も、式Ｉの化合物に組み合わせ相手としては特に有用である：アニロフォス、ベンフレセート、ブタクロール、カフェンストロール、フェトラザミド、カルフェントラゾンエチル、シハロホップブチル、ダイムロン、ジメピペレート、エトベンザニド、インダノファン、メフェナセット、モリネート、オキサジクロメフォン、ペントキサゾン、プレチラクロール、プロパニル、ビリブチカルブ、キンクロラック、テニルクロールおよびチオベンカルブ。殺草スペクトルを拡大させるだけではなく、これらの除草剤のあるもの、たとえばダイムロンやチオベンカルブは、式Ｉの化合物のイネに対する薬害を防ぐこともできる。
【０１４０】
コムギおよびオオムギに薬害を与えずアセトラクテート合成酵素を阻害しない、以下のような除草剤も、式Ｉの化合物に組み合わせ相手としては特に有用である：ベンタゾン、ビフェノックス、ブロモキシニルおよびオクタノエートのようなそのエステル、カルフェントラゾンエチル、シニドンエチル（ｃｉｎｉｄｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、クロルトルロン、クロピラリド、クロジナホップ（ｃｌｏｄｉｎａｆｏｐ）およびプロパルギルのようなそのエステル、２，４−Ｄならびにブトチル、ブチル、イソオクチルおよびイソプロピルのようなそのエステルならびにナトリウム、カリウム、ジメチルアンモニウム、ジオールアミンおよびトロールアミン、ジアレート、ジカンバならびにジメチルアンモニウム、カリウムおよびナトリウムのようなその塩、ジクロホップおよびメチルのようなそのエステル、ジフェンゾコート塩たとえばメチル硫酸塩、ジフルフェニカン、フェノキサプロップおよびフェノキサプロップＰならびにエチルのようなそれらのエステル、フラムプロップおよびフラムプロップＭならびにメチルおよびイソプロピルのようなそれらのエステル、フルロキシピル（ｆｌｕｒｏｘｙｐｙｒ）、フルログリコフェン（ｆｌｕｒｏｇｌｙｃｏｐｈｅｎ）およびエチルのようなそのエステル、フルルタモン（ｆｌｕｒｔａｍｏｎｅ）、イクソキサベン、アイオキシニルおよびオクタノエートのようなそのエステルおよびナトリウムなどのその塩、イソプロツロン、リニュロン、ＭＣＰＡならびにジメチルアンモニウム、カリウムおよびナトリウムのようなその塩およびイソオクチルのようなそのエステル、メコプロプおよびメコプロプＰならびにカリウム、イソブチルおよびジメチルアンモニウムのようなそれらの塩、メタベンズチアズロン、ネブロン、ペンジメタリン、ピコリナフェン、プロスルホカルブ、テルブトリン、トラルコキシジム（ｔｒａｌｋｏｘｙｄｉｍ）、トリアレート、およびトリフルラリン。
【０１４１】
以下の除草剤もまた、式Ｉの化合物と組み合わせ相手として有用である：アセトクロール、アシフルオルフェンおよびナトリウムなどのその塩、アクロレイン（２−プロペナール）、アラクロール、アメトリン、アミトロール、スルファミン酸アンモニウム、アシュラム、アトラジン、ベナゾリンおよびエチルのようなそのエステル、ベンフルラリン、ベンスライド、ブロマシルおよびリチウムのようなその塩、ブトラリン、ブチレート、カルベタミド（ｃａｒｂｅｔａｍｉｄｅ）、クロメトキシフェン、クロルアンベン、クロルブロムロン、クロリダゾン、クロルニトロフェン、２−［４−クロロ−５−（シクロペンチルオキシ）−２−フルオロフェニル］−４，５，６，７−テトラヒドロ−１Ｈ−インデン−１，３（２Ｈ）−ジオン、３−［４−クロロ−２−フルオロ−５−（１−メチル−２−プロピニルオキシ）フェニル］−５−（１−メチルエチリデン］−２，４−オキサキソリジンジオン、クロルプロファム、クロルタルジメチル、シンメチリン、クレトジム、クロマゾン、クロピラリド、クロピラリドオラミン（ｃｌｏｐｙｒａｌｉｄ−ｏｌａｍｉｎｅ）、クロランスラムメチル（ｃｌｏｒａｎｓｕｌａｍ−ｍｅｔｈｙｌ）、シアナジン、シクロエート、シクロキシジム、ダラポンおよびナトリウムなどのその塩、ダゾメット、２，４−ＤＢならびにジメチルアンモニウム、カリウムおよびナトリウムのようなその塩、デスメディファム、デスメトリン、ジクロベニル、３−［２，４−ジクロロ−５−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−５−（１，１−ジメチルエチル）−１，３，４−オキサジアゾル−２（３Ｈ）−オン、ジクロプロップ、ジクロスラム、ジメフロン、６−［［６，７−ジヒドロ−６，６−ジメチル−３Ｈ，５Ｈ−ピロロ［２，１−ｃ］［１，２，４］チアジアゾール−３−イリジン］アミノ］−７−フルオロ−４−（２−プロピニル）−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−３（４Ｈ）−オン、ジメチルアルシン酸およびナトリウムなどのその塩、ジニトラミン、ジフェナミド、ジクワット塩たとえばジブロミド、ジチオピル、ジウロン、ＤＮＯＣ、エンドタール、ＥＰＴＣ、エスプロカルブ、エタルフルラリン、エタメトスルフロンメチル（ｅｔｈａｍｅｔｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、エトフメセート、エチル［２−クロロ−５−［４−クロロ−５−（ジフルオロメトキシ）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル］−４−フルオロフェノキシ］アセテート、エチル−α，２−ジクロロ−５−［４−（ジフルオロメチル）−４，５−ジヒドロ−３−メチル−５−オキソ−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル］−４−フルオロベンゼンプロパノエート、フェニュロン、フェニュロンＴＣＡ、フラザスルフロン、フルアジホップおよびフルアジホップＰおよびブチルのようなそれらのエステル、フルクロラリン、フルメトスラム（ｆｌｕｍｅｔｓｕｌａｍ）、フルミクロラック（ｆｌｕｍｉｃｌｏｒａｃ）およびペンチルのようなそのエステル、フルミオキサジン、フルオメツロン（ｆｌｕｏｍｅｔｕｒｏｎ）、フルオログリコフェンエチル、フルポキサム、フルリドン、フルロクロリドン、フルチアセットメチル、ホメサフェン、ホサミンアンモニウム、グルホシネートおよび���ンモニウムのようなその塩、グリホサートならびにイソプロピルアンモニウム、セスキナトリウムおよびトリメシウムのようなその塩、ハロキシホップならびにメチルおよびエトチルのようなそのエステル、ヘキサジノン、イマザピル、イマザキン、イマゼタピル、イソウロン、ラクトフェン、レナシル、マレインヒドラジド、メフルイジド、メタムおよびナトリウムなどのその塩、メタザクロール（ｍｅｔａｚａｃｈｌｏｒ）、メチルアルソン酸ならびにカルシウム、モノアンモニウム、モノナトリウムおよびジナトリウムのようなその塩、メチル［［［１−［５−［２−クロロ−４−（トリフルオロメチル）フェノキシ］−２−ニトロフェニル］−２−メトキシエチリデン］アミノ］オキシ］アセテート、（ＡＫＨ−７０８８）、メチル５−［［［［（４，６−ジメチル−２−ピリミジニル）アミノ］カルボニル］アミノ］スルホニル］−１−（２−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレート、Ｎ−（４−フルオロフェニル）−Ｎ−（１−メチルエチル）−２−［［５−（トリフルオロメチル）−１，３，４−チアジアゾール−２−イル］オキシ］アセトアミド、メトベンズロン（ｍｅｔｏｂｅｎｚｕｒｏｎ）、メトラクロール、メトスラム（ｍｅｔｏｓｕｌａｍ）、メトキシウロン、メトリブジン、モノリニューロン、ナプロパミド、ナプタラム、ノルフルラゾン、オリザリン、オキサジアルギル、オキサジアゾン、オキサスルフロン（ｏｘａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、オキシフルオルフェン、パラコートジクロリド、ペブレート、パーフルイドン、フェンメディファム、ピクロラムおよびカリウムのようなその塩、プリミスルフロンメチル（ｐｒｉｍｉｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、プロメトン、プロメトリン、プロパクロール、プロパキザホップ、プロパジン、プロファム、プロピザミド、ピラゾリネート、ピリデート、ピリチオバックおよびナトリウムなどのその塩、キンメラック（ｑｕｉｎｍｅｒａｃ）、キザロホップおよびキザロホップＰならびにエチルおよびテフリルのようなそれらのエステル、リムスルフロン、セトキシジム、シデュロン、シマジン、スルフェントラゾン（ｓｕｌｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ）、スルホメツロンメチル（ｓｕｌｆｏｍｅｔｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ＴＣＡおよびナトリウムなどのその塩、テブタム、テブチウロン、ターバシル、テルブティラジン、トリベヌロンメチル、トリクロピルおよびブトチルのようなそのエステルおよびトリエチルアンモニウムのようなその塩、トリジファン、トリフロキシスルフロン、トリスルフロンメチル、およびバーノレート。
【０１４２】
上記の組み合わせ相手の除草剤を含む本発明の組成物では、前記の組み合わせ相手の数は幾つでもよい。酸中心または塩基中心を有するような組み合わせ相手は、塩の形態であってもよい。さらに、エステルまたは塩の形態の組み合わせ相手では、単一のエステルまたは塩の形態であってもよいし、または、２種以上のエステルまたは塩の混合物であってもよい。
【０１４３】
以下の試験における試験化合物は、インデックス表Ａに示されたものである。
【０１４４】
【表１１】
2005504000.tif 000034
【０１４５】
試験１プロトコール
この試験で評価する化合物は、界面活性剤を含む植物に毒性のない溶媒混合物中に配合して、植物の苗が芽生える前に土壌表面に施用（発芽前施用）、および１〜４葉期の間に施用（発芽後施用）した。発芽前試験および発芽後試験では、砂壌土土壌（ｓａｎｄｙ  ｌｏａｍ  ｓｏｉｌ）を用いた。
【０１４６】
発芽前および発芽後試験に用いた植物種は、冬オオムギ（ｗｉｎｔｅｒ  ｂａｒｌｅｙ）（ホルデウム・ウルガレ（Ｈｏｒｄｅｕｍ  ｖｕｌｇａｒｅ））、ヒメタイヌビエ（ｂａｒｎｙａｒｄｇｒａｓｓ）（エキノクロア・クルスガリ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ））、ブラックグラス（ｂｌａｃｋｇｒａｓｓ）（アロペクルス・ミオスロイデス（Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓ  ｍｙｏｓｕｒｏｉｄｅｓ））、ハコベ（ｃｈｉｃｋｗｅｅｄ）（ステラリア・メディア（Ｓｔｅｌｌａｒｉａ  ｍｅｄｉａ））、オナモミ（ｃｏｃｋｌｅｂｕｒ）（キサンチウム・ストルマリウム（Ｘａｎｔｈｉｕｍ  ｓｔｒｕｍａｒｉｕｍ））、トウモロコシ（ｃｏｒｎ）（ゼア・メイズ（Ｚｅａ  ｍａｙｓ））、ワタ（ｃｏｔｔｏｎ）（ゴシッピウム・ヒルスツム（Ｇｏｓｓｙｐｉｕｍ  ｈｉｒｓｕｔｕｍ））、メヒシバ（ｃｒａｂｇｒａｓｓ）（ディジタリア・サングイナリス（Ｄｉｇｉｔａｒｉａ  ｓａｎｇｕｉｎａｌｉｓ））、ウマノチャヒキ（ｄｏｗｎｙ  ｂｒｏｍｅ）（ブロムス・テクトルム（Ｂｒｏｍｕｓ  ｔｅｃｔｏｒｕｍ））、アキノエノコログサ（ｇｉａｎｔ  ｆｏｘｔａｉｌ）（セタリア・ファベリ（Ｓｅｔａｒｉａ  ｆａｂｅｒｉｉ））、ヒメモロコシ（ｊｏｈｎｓｏｎｇｒａｓｓ）（ソルガム・ハルペンセ（Ｓｏｒｇｈｕｍ  ｈａｌｐｅｎｓｅ））、シロザ（ｌａｍｂｓｑｕａｒｔｅｒｓ）（ケノポジウム・アルブム（Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉｕｍ  ａｌｂｕｍ））、アサガオ（ｍｏｒｎｉｎｇｇｌｏｒｙ）（イポモエア・ヘデラセア（Ｉｐｏｍｏｅａ  ｈｅｄｅｒａｃｅａ））、イネ（ｒｉｃｅ）（オリザ・サティバ（Ｏｒｙｚａ  ｓａｔｉｖａ））、セイヨウアブラナ（ｒａｐｅ）（ブラシカ・ナプス（Ｂｒａｓｓｉｃａ  ｎａｐｕｓ））、ダイズ（ｓｏｙｂｅａｎ）（グリシン・マックス（Ｇｌｙｃｉｎｅ  ｍａｘ））、テンサイ（ｓｕｇａｒ  ｂｅｅｔ）（ベータ・ウルガリス（Ｂｅｔａ  ｖｕｌｇａｒｉｓ））、イチビ（ｖｅｌｖｅｔｌｅａｆ）（アブチロン・テオフラスティ（Ａｂｕｔｉｌｏｎ  ｔｈｅｏｐｈｒａｓｔｉ））、春コムギ（ｓｐｒｉｎｇ  ｗｈｅａｔ）（トリティクム・エスティブム（Ｔｒｉｔｉｃｕｍ  ａｅｓｔｉｖｕｍ））、ソバカズラ（ｗｉｌｄ  ｂｕｃｋｗｈｅａｔ）（ポリゴナム・コンボルブルス（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ  ｃｏｎｖｏｌｖｕｌｕｓ））、および野生カラスムギ（ｗｉｌｄ  ｏａｔｓ）（アベナ・ファツア（Ａｖｅｎａ  ｆａｔｕａ））である。この試験のうちの発芽前試験では、すべての植物種について、播種してから１日後に化合物を施用した。これらの種の植え付けを調節して、適当な大きさに育ててから、この試験のうちの発芽後試験を行った。すべての植物の種は、通常の温室作業にしたがって生育させた。処理した植物に現れる薬害を、試験化合物を施用してから約１４〜２１日後に、非処理の対照と比較して、目視で評価し記録した。試験化合物に対する植物の応答を、０〜１００のスケールを用いて、表１にまとめたが、ここで０は効果無し、１００は完全な抑制であったことを表している。ダッシュ（−）は、試験結果なしを意味する。
【０１４７】
【表１２】
2005504000.tif 000035
【０１４８】
【表１３】
2005504000.tif 000036
【０１４９】
【表１４】
2005504000.tif 000037
【０１５０】
【表１５】
2005504000.tif 000038
【０１５１】
【表１６】
2005504000.tif 000039
【０１５２】
【表１７】
2005504000.tif 000040
【０１５３】
【表１８】
2005504000.tif 000041
【０１５４】
【表１９】
2005504000.tif 000042
【０１５５】
【表２０】
2005504000.tif 000043
【０１５６】
試験２プロトコル
この試験で評価する化合物は、有機溶媒、界面活性剤および水を含む植物に毒性のない溶媒混合物中に配合した。この混合物を、適当な濃度で、試験種の植えてあるポットの土壌表面上のに湛水に施用した。この湛水試験で用いた植物種は、イネ（オリザ・サティバ（Ｏｒｙｚａ  ｓａｔｉｖａ））、タマガヤツリ（ｓｍａｌｌｆｌｏｗｅｒ  ｆｌａｔｓｅｄｇｅ）（シペルス・ディフォルミス（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｄｉｆｆｏｒｍｉｓ））、アメリカコナギ（ｄｕｃｋｓａｌａｄ）（ヘテランテラ・リモサ（Ｈｅｔｅｒａｎｔｈｅｒａ  ｌｉｍｏｓａ））およびヒメタイヌビエ（エキノクロア・クルスガリ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ））で、２葉期に生長したものについて試験した。処理した植物および対照は、１２〜１６日間温室内で管理し、その後にすべての種について対照と比較して目視により評価した。植物の応答を０〜１０のスケールを用いて表２にまとめたが、ここで０は効果無し、１０は完全な抑制であったことを表している。
【０１５７】
【表２１】
2005504000.tif 000044
【０１５８】
試験３プロトコル
この試験で評価した化合物は、界面活性剤を含む植物に毒性のない溶媒混合物中に配合し、１葉期から４葉期の植物に施用した（発芽後施用）。この発芽後試験では、砂壌土土壌と温室鉢植え用混合物を６０：４０の比率で混合したものを用いた。発芽前に植え付けをしてから、直ちに砂壌土土壌を用いて化学薬品を施用した。
【０１５９】
これらの作物および雑草の植え付けを調節して、適当な大きさに育ててから、発芽後試験を行った。すべての植物の種は、通常の温室作業にしたがって生育させた。試験した作物および雑草種は、一年生イチゴツナギ（ａｎｎｕａｌ  ｂｌｕｅｇｒａｓｓ）（ポア・アヌア（Ｐｏａ  ａｎｎｕａ））、ブラックグラス（アロペクルス・ミオスロイデス（Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓ  ｍｙｏｓｕｒｏｉｄｅｓ））、イヌホオズキ（ｂｌａｃｋ  ｎｉｇｈｔｓｈａｄｅ）（ソラニム・ニグラ（Ｓｏｌａｎｕｍ  ｎｉｇｒａ））、カラスノチャヒキ（ｃｈｅａｔｇｒａｓｓ）（ブロムス・セカリヌス（Ｂｒｏｍｕｓ  ｓｅｃａｌｉｎｕｓ））、ハコベ（ステラリア・メディア（Ｓｔｅｌｌａｒｉａ  ｍｅｄｉａ））、ウマノチャヒキ（ブロムス・テクトルム（Ｂｒｏｍｕｓ  ｔｅｃｔｏｒｕｍ））、グンバイナズナ（ｆｉｅｌｄ  ｐｅｎｎｙｃｒｅｓｓ）（タラスピ・アルベンセ（Ｔｈａｌａｓｐｉ  ａｒｖｅｎｓｅ））、スミレ（ｆｉｅｌｄ  ｖｉｏｌｅｔ）（ビオラ・アルベンシス（Ｖｉｏｌａ  ａｒｖｅｎｓｉｓ））、ヤエムグラ（ｂｅｄｓｔｒａｗ）（ガリウム・アパリーネ（Ｇａｌｉｕｍ  ａｐａｒｉｎｅ））、エノコログサ（ｇｒｅｅｎ  ｆｏｘｔａｉｌ）（セタリア・ビリディス（Ｓｅｔａｒｉａ  ｖｉｒｉｄｉｓ））、イタリアンライグラス（Ｉｔａｌｉａｎ  ｒｙｅｇｒａｓｓ）（ロリウム・ムルチフロラム（Ｌｏｌｉｕｍ  ｍｕｌｔｉｆｌｏｒｕｍ））、ヤギムギ（ｊｏｉｎｔｅｄ  ｇｏａｔｇｒａｓｓ）（エギロプス・シリンドリカ（Ａｅｇｉｌｏｐｓ  ｃｙｌｉｎｄｒｉｃａ））、ハハチヂ（ｋｏｃｈｉａ）（コチア・スコパリア（Ｋｏｃｈｉａ  ｓｃｏｐａｒｉａ））、シロザ（ケノポジウム・アルブム（Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉｕｍ  ａｌｂｕｍ））、ナタネ（ｒａｐｅｓｅｅｄ）（ブラシカ・ナプス（Ｂｒａｓｓｉｃａ  ｎａｐｕｓ））、オカヒジキ（Ｒｕｓｓｉａｎ  Ｔｈｉｓｔｌｅ）（サルソラ・カリ（Ｓａｌｓｏｌａ  ｋａｌｉ））、イヌカミルレ（ｓｃｅｎｔｌｅｓｓ  ｃｈａｍｏｍｉｌｅ）（マトリカリア・イノドーラ（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａ  ｉｎｏｄｏｒａ））、春オオムギ（ホルデウム・ウルガレ（Ｈｏｒｄｅｕｍ  ｖｕｌｇａｒｅ））、テンサイ（ベータ・ウルガリス（Ｂｅｔａ  ｖｕｌｇａｒｉｓ））、オオイヌノフグリ（ｂｉｒｄｓｅｙｅ  ｓｐｅｅｄｗｅｌｌ）（ベロニカ・ペルシカ（Ｖｅｒｏｎｉｃａ  ｐｅｒｓｉｃａ））、フラサバソウ（ｉｖｙｌｅａｆ  ｓｐｅｅｄｗｅｌｌ）（ベロニカ・ヘデラエフォリア（Ｖｅｒｏｎｉｃａ  ｈｅｄｅｒａｅｆｏｌｉａ））、春コムギ（トリティクム・エスティブム（Ｔｒｉｔｉｃｕｍ  ａｅｓｔｉｖｕｍ））、冬コムギ（トリティクム・エスティブム（Ｔｒｉｔｉｃｕｍ  ａｅｓｔｉｖｕｍ））、ソバカズラ（ポリゴナム・コンボルブルス（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ  ｃｏｎｖｏｌｖｕｌｕｓ））、野生カラスムギ（アベナ・ファツア（Ａｖｅｎａ  ｆａｔｕａ））、および冬オオムギ（ホルデウム・ウルガレ（Ｈｏｒｄｅｕｍ  ｖｕｌｇａｒｅ））である。
【０１６０】
処理した植物および非処理の対照を、約２１〜２８日間温室内で管理し、その後にすべての処理した植物を、非処理の対照と比較して、目視により評価した。植物の応答を０〜１００のスケールを用いて表３にまとめたが、ここで０は効果無し、１０は完全な抑制であったことを表している。ダッシュ応答（−）は、試験結果なしを意味する。
【０１６１】
【表２２】
2005504000.tif 000045
【０１６２】
【表２３】
2005504000.tif 000046
【０１６３】
【表２４】
2005504000.tif 000047
【０１６４】
【表２５】
2005504000.tif 000048
【０１６５】
【表２６】
2005504000.tif 000049
【０１６６】
【表２７】
2005504000.tif 000050
【０１６７】
以下の試験においては、化合物１を湛水施用にて試験した。これらの試験のあるものでは、ベンスルフロンメチル、アジムスルフロンおよびピラゾスルフロンエチルとの比較を含めたが、これらはイネの生育のための市販の除草剤中のスルホニル尿素系活性成分である。
【０１６８】
試験４、５および６には、イネと共に問題の多いイネ雑草も含めている。この試験で用いたイネの品種の「日本晴」および「Ｍ２０２」はいずれもジャポニカ種であって、これらは、インディカ種のイネよりもスルホニル尿素系除草剤に対する薬害感受性が強いことで知られている。実際の耕作では、イネの稚苗は典型的には少なくとも２ｃｍの深さに移植されるが、以下の試験においては、薬害の評価をより容易にするために、もっと浅く移植した場合もある。ピラゾスルフロンエチルと比較することによって、作物に受容可能な安全性があることを証明したが、これは、ピラゾスルフロンエチルが、ジャポニカ種のイネでの雑草抑制のための単一の活性成分除草剤として実際に使用されているからである。
【０１６９】
試験４プロトコル
プラスチックポット（直径１１ｃｍ）に部分的に、滅菌していないタマシルトローム土壌（砂：シルト：クレー＝３５：５０：１５、有機物２．６％）を入れた。米国産の通常の感受性バイオタイプのヘテランテラ・リモサ（Ｈｅｔｅｒａｎｔｈｅｒａ  ｌｉｍｏｓａ）（アメリカコナギ）１種（Ｈｌ−Ｓ）、米国産の通常のバイオタイプのエキノクロア・クルスガリ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ）（ヒメタイヌビエ）１種（Ｅｃ−Ｓ）、米国産のスルホニル尿素除草剤抵抗性バイオタイプのシペルス・ディフォルミス（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｄｉｆｆｏｒｍｉｓ）（タマガヤツリ）１種（Ｃｄ−Ｒ１）、および、４本１株のイネ稚苗（オリザ・サティバ（Ｏｒｙｚａ  ｓａｔｉｖａ）ｃｖ．「Ｍ２０２」）の苗を単一の１１ｃｍポットにそれぞれの割合で植えた。この植え付けを得るために、Ｃ．ディフォルミスとＨ．リモサの種子をそれぞれ別々に土壌に混合し、深さ１ｃｍとして、ポットの中の特定の場所に種子を含む土壌層として加えた。植え付け直後に、土壌表面より上が水田状態となるような水位とした。Ｅ．クルスガリとイネの種は、シルトローム土壌中のキャビティ・トレイ（ｃａｖｉｔｙ  ｔｒａｙ）中に植え、それぞれ１．５葉期および２．０葉期の時に移植した。Ｅ．クルスガリとイネの苗は、約２ｃｍの深さに移植した。植え付けは順に行っていって、処理する時にこれらの植物種がすべて１１ｃｍポット中で２．０〜２．５葉期に達しているようにした。植物は、温室内で昼温／夜温が約２９．５／２６．７℃となるようにし、補光を調節して日長が１６時間を維持できるようにした。
【０１７０】
処理する場合には、試験ポットには土壌表面から３ｃｍまで湛水させ、試験期間の間はこの水深を保った。化学処理剤はアセトン中に配合し、直接水田の水に施用した。試験用ポットは温室内で管理した。１３日後に処理した雑草を対照と比較し、目視により評価した。植物の応答を０〜１００のスケールで評価して表４に示したが、ここで０は効果無し、１００は完全に抑制できたことを表す。
【０１７１】
【表２８】
2005504000.tif 000051
【０１７２】
表４から、ベンスルフロンメチルのような市販のスルホニル尿素系除草剤に対して抵抗性を有するシペルス・ディフォルミス（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｄｉｆｆｏｒｍｉｓ）のバイオタイプを含めて、問題の多いイネ雑草を良好に抑制できることが分かる。
【０１７３】
試験５プロトコル
２００ｃｍ２の面積を有する容器に部分的に、滅菌していないクレーローム土壌（砂：シルト：クレー＝３６：４４：２０、有機物１．２％）を入れた。この土壌の上に水をはり、代かきをしてイネの稚苗（オリザ・サティバ（Ｏｒｙｚａ  ｓａｔｉｖａ）ｃｖ．「日本晴」、２．２葉期）を深さ０ｃｍおよび２ｃｍに移植した。感受性バイオタイプのスキルプス・ジュンコイデス（Ｓｃｒｉｐｕｓ  ｊｕｎｃｏｉｄｅｓ）１種（Ｓｊ−Ｓ）、日本産の抵抗性バイオタイプのスキルプス・ジュンコイデス（Ｓｃｒｉｐｕｓ  ｊｕｎｃｏｉｄｅｓ）２種（Ｓｊ−Ｒ１、Ｓｊ−Ｒ２）、およびイタリア産の抵抗性バイオタイプのスキルプス・ムクロナツス（Ｓｃｉｒｐｕｓ  ｍｕｃｒｏｎａｔｕｓ）１種（Ｓｍ−Ｒ１）を、別々に土壌中に植えた。この容器は、試験の期間中は戸外に置いた。処理する時（イネの移植後５日、スキルプスの１．５〜２葉期）には、水のレベルを土壌から３ｃｍまで上げた。化学処理剤はアセトン中に配合し、直接水田の水に施用した。イネおよび雑草をそれぞれ、１４日後および３４日後に対照と比較して、目視により評価した。（イネ薬害の薬害の測定は早めに行ったが、それはイネ植物は後になって回復してしまうからである。）植物の応答を０〜１００のスケールで評価して表５に示したが、ここで０は効果無し、１００は完全に抑制できたことを表す。
【０１７４】
【表２９】
2005504000.tif 000052
【０１７５】
試験５では、化合物１は、ベンスルフロンメチルよりは通常のスキルプス・ジュンコイデス（Ｓｃｒｉｐｕｓ  ｊｕｎｃｏｉｄｅｓ）バイオタイプには、良好（ｇｏｏｄ）またはより良好（ｂｅｔｔｅｒ）な抑制を示した。３種類の抵抗性バイオタイプの抑制にも、同様に良好であったが、それに対して、ベンスルフロンメチルはほとんど効果がなかった。
【０１７６】
試験６プロトコル
コンクリートポット（５０ｃｍ×５０ｃｍ）に部分的に、滅菌していないクレーローム土壌（砂：シルト：クレー＝３６：４４：２０、有機物１．２％）を入れた。次いで、土壌の上に水をはった。通常の感受性バイオタイプのモノコリア・バギナリス（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａ  ｖａｇｉｎａｌｉｓ）（Ｍｖ−Ｓ）、シペルス・ディフォルミス（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｄｉｆｆｏｒｍｉｓ）（Ｃｄ−Ｓ）、ロターラ・インディカ（Ｒｏｔａｌａ  ｉｎｄｉｃａ）（Ｒｉ−Ｓ）、リンデルニア・プロクムベンス（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ  ｐｒｏｃｕｍｂｅｎｓ）（Ｌｐ−Ｓ）およびスキルプス・ジュンコイデス（Ｓｃｒｉｐｕｓ  ｊｕｎｃｏｉｄｅｓ）（Ｓｊ−Ｓ）の種子を同一の土壌に混ぜ込み、水田上に撒いてから、代かきをした。また、日本産の抵抗性バイオタイプのスキルプス・ジュンコイデス（Ｓｃｒｉｐｕｓ  ｊｕｎｃｏｉｄｅｓ）２種（Ｓｊ−Ｒ２、Ｓｊ−Ｒ３）、イタリア産の抵抗性バイオタイプのスキルプス・ムクロナツス（Ｓｃｉｒｐｕｓ  ｍｕｃｒｏｎａｔｕｓ）１種（Ｓｍ−Ｒ２）、日本産の抵抗性バイオタイプのリンデルニア・デュビア（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ  ｄｕｂｉａ）１種（Ｌｄ−Ｒ１）、および、スペイン産の抵抗性バイオタイプのシペルス・ディフォルミス（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｄｉｆｆｏｒｍｉｓ）１種（Ｃｄ−Ｒ２）を、直径１０ｃｍのプラスチックチューブで区分けした、所定の場所の土壌表面に播いたが、このチューブは化学薬品処理の２日前に取り除いた。イネ稚苗（オリザ・サティバ（Ｏｒｙｚａ  ｓａｔｉｖａ）ｃｖ．「日本晴」、２．２葉期）を、深さ０、１および２ｃｍに移植した。０および１ｃｍに植えたものについては、プラスチックの紐で支えた。通常の感受性バイオタイプのサギッタリア・ピグマエア（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａ  ｐｙｇｍａｅａ）（Ｓｐ−Ｓ）、シペルス・セロチヌス（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｓｅｒｏｔｉｎｕｓ）（Ｃｓ−Ｓ）およびエレオカリス・クログワイ（Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓ  ｋｕｒｏｇｕｗａｉ）（Ｅｋ−Ｓ）の塊茎も土壌の中に植えた。このポットは、試験の期間中は戸外に置いた。
【０１７７】
イネ移植の５日後（５ＤＡＴ）における処理の時には、水のレベルを土壌表面から４ｃｍ上にまで上げた。化学処理剤はアセトン中に配合し、直接水田の水に施用した。それぞれのコンクリートポットの中の水田の水を土壌を通過させ底部の穴を通して、処理の直後から２４時間あたり７．５リットルの速度で２日間にわたり、抜き出した。最初の２４時間の抜き出し後に水のレベルを４ｃｍにまで上げ、抜き出しが終了した時に３ｃｍまで上げた。試験の期間を通して、試験ポットはこの水レベルに保った。処理したイネおよび雑草種は、処理後１４日目に対照と比較し、目視により評価した。植物の応答を０〜１００のスケールで評価して表６Ａおよび６Ｂに示したが、ここで０は効果無し、１００は完全に抑制できたことを表す。
【０１７８】
【表３０】
2005504000.tif 000053
【０１７９】
【表３１】
2005504000.tif 000054
【０１８０】
試験６では、化合物１は、通常の雑草バイオタイプの抑制においては、ベンスルフロンメチルおよびピラゾスルフロンエチルと対等の効果が与えた。雑草抑制が同程度となる散布量では、化合物１は市販の除草剤のピラゾスルフロンエチルよりも、イネへの薬害が少なかったが、これは、化合物１のイネに対する植物毒性が商品として受け入れられることを示している。抵抗性を有する雑草に対しては、化合物１がやはり優れた抑制性を示すのに対し、ベンスルフロンメチルおよびピラゾスルフロンエチルはほとんど、あるいは全然効果がなかった。
【０１８１】
試験７プロトコル
１００ｃｍ２の面積を有するプラスチックポットに部分的に、滅菌していないクレーローム土壌（砂：シルト：クレー＝３６：４４：２０、有機物１．２％）を入れた。次いで、土壌の上に水をはって、代かきをした。通常の感受性バイオタイプのサギッタリア・ピグマエア（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａ  ｐｙｇｍａｅａ）、シペルス・セロチヌス（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｓｅｒｏｔｉｎｕｓ）、サギッタリア・トリフォリア（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａ  ｔｒｉｆｏｌｉａ）およびエレオカリス・クログワイ（Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓ  ｋｕｒｏｇｕｗａｉ）の塊茎を土壌に植えた。これらのポットは、試験の期間の間は温室に保管した。雑草の処理は、Ｓ．ピグマエア（ｐｙｇｍａｅａ）は３葉期に達した時で他の雑草種は高さが１０ｃｍに達した時に行った。処理する時には、試験ポットには土壌表面から３ｃｍまで湛水させ、残りの試験期間の間はこの水深を保った。化学処理剤はアセトン中に配合し、直接水田の水に施用した。処理した雑草を処理後２８日目に対照と比較し、目視により評価した。植物の応答を０〜１００のスケールで評価して表７に示したが、ここで０は効果無し、１００は完全に抑制できたことを表す。
【０１８２】
【表３２】
2005504000.tif 000055
【０１８３】
試験７では、化合物１は４種類の問題の多い多年生イネ雑草に、ベンスルフロンメチルおよびアジムスルフロンよりは良好（ｇｏｏｄ）またはより良好（ｂｅｔｔｅｒ）な抑制を示した。
【０１８４】
試験８プロトコル
２００ｃｍ２の面積を有する容器に部分的に、滅菌していないクレーローム土壌（砂：シルト：クレー＝３６：４４：２０、有機物１．２％）を入れた。次いで、土壌の上に水をはって、代かきをした。通常の感受性バイオタイプのエキノクロア・オリジコラ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｏｒｙｚｉｃｏｌａ）、リンデルニア・プロクムベンス（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ  ｐｒｏｃｕｍｂｅｎｓ）およびスキルプス・ジュンコイデス（Ｓｃｒｉｐｕｓ  ｊｕｎｃｏｉｄｅｓ）の種子を土壌表面に播いた。これらのポットは、試験の期間の間は温室に保管した。稚苗を処理したのは、Ｅ．オリジコラ（ｏｒｙｚｉｃｏｌａ）は３．１葉期に達した時で、その時点では、Ｓ．ジュンコイデス（ｊｕｎｃｏｉｄｅｓ）は２．５葉期、Ｌ．プロクムベンス（ｐｒｏｃｕｍｂｅｎｓ）は１葉期であった。処理の時には、試験ポットの水面は土壌表面の上４ｃｍであった。
【０１８５】
化学処理剤はアセトン中に配合し、直接水田の水に施用した。それぞれの容器の中の水田の水を土壌を通過させ底部の穴を通して、処理の直後から２４時間あたり０．６リットルの速度で２日間にわたり、抜き出した。最初の２４時間の抜き出し後に水のレベルを４ｃｍにまで上げ、抜き出しが終了した時に３ｃｍまで上げた。次いで残りの試験の期間を通して、試験ポットはこの水深に保った。処理した雑草種すべてについて、処理後２４日目に対照と比較し、目視により評価した。植物の応答を０〜１００のスケールで評価して表８に示したが、ここで０は効果無し、１００は完全に抑制できたことを表す。
【０１８６】
【表３３】
2005504000.tif 000056
【０１８７】
試験８では、化合物１は特にＥ．オリジコラ（ｏｒｙｚｉｃｏｌａ）およびＳ．ジュンコイデス（ｊｕｎｃｏｉｄｅｓ）に、ベンスルフロンメチルよりは良好（ｇｏｏｄ）またはより良好（ｂｅｔｔｅｒ）な抑制を示した。
【０１８８】
試験９プロトコル
１００ｃｍ２の面積を有するプラスチックポットに部分的に、滅菌していないライトクレー土壌（砂：シルト：クレー＝１５：７：３、有機物１．２％）を入れた。次いで、土壌の上に水をはって、代かきをした。バイオタイプの７種の雑草種の種子を土壌表面に別々に播種した。それらに含まれるのは、アリスマ・プランタゴ・アクアチカ（Ａｌｉｓｍａ  ｐｌａｎｔａｇｏ−ａｑｕａｔｉｃａ）（サジオモダカ（ｗａｔｅｒ  ｐｌａｎｔａｉｎ））でイタリア産の通常の感受性バイオタイプ１種（Ａｐ−Ｓ）、イタリア産の抵抗性バイオタイプ２種（Ａｐ−Ｒ１、Ａｐ−Ｒ２）およびスペイン産の抵抗性バイオタイプ１種（Ａｐ−Ｒ３）；日本産の抵抗性バイオタイプのリンデルニア・デュビア（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ  ｄｕｂｉａ）３種（Ｌｄ−Ｒ１、Ｌｄ−Ｒ２、Ｌｄ−Ｒ３）；日本産の通常の感受性のバイオタイプのリンデルニア・プロクムベンス（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ  ｐｒｏｃｕｍｂｅｎｓ）１種（Ｌｐ−Ｓ）；スキルプス・ジュンコイデス（Ｓｃｒｉｐｕｓ  ｊｕｎｃｏｉｄｅｓ）で、日本産の通常の感受性バイオタイプ１種（Ｓｊ−Ｓ）および、日本産の抵抗性バイオタイプ５種（Ｓｊ−Ｒ１、Ｓｊ−Ｒ２、Ｓｊ−Ｒ４、Ｓｊ−Ｒ５、Ｓｊ−Ｒ６）；スキルプス・ムクロナツス（Ｓｃｉｒｐｕｓ  ｍｕｃｒｏｎａｔｕｓ）（タタラカンガレイ（ｒｉｃｅｆｉｅｌｄ  ｂｕｌｒｕｓｈ））で、イタリア産の通常の感受性バイオタイプ１種（Ｓｍ−Ｓ）およびイタリア産の抵抗性バイオタイプ２種；シペルス・ディフォルミス（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｄｉｆｆｏｒｍｉｓ）（タマガヤツリ（ｕｍｂｒｅｌｌａ  ｓｅｄｇｅ））で、日本産の通常の感受性バイオタイプ１種（Ｃｄ−Ｓ）およびスペイン産の抵抗性バイオタイプ１種（Ｃｄ−Ｒ２）；および、モノコリア・コルサコウィ（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａ  Ｋｏｒｓａｋｏｗｉｉ）で日本産の通常の感受性バイオタイプ１種（Ｍｋ−Ｓ）および日本産の抵抗性バイオタイプ１種（Ｍｋ−Ｒ１）である。これらのポットは、試験の期間の間は温室に保管した。これらの植物を処理したのは、Ａ．プランタゴ・アクアチカ（Ａ．ｐｌａｎｔａｇｏ−ａｑｕａｔｉｃａ）、Ｍ．コルサコウィ（Ｍ．Ｋｏｒｓａｋｏｗｉｉ）、Ｓ．ジュンコイデス（Ｓ．ｊｕｎｃｏｉｄｅｓ）およびＳ．ムクロナツス（Ｓ．ｍｕｃｒｏｎａｔｕｓ）の苗が２葉期に達した時、Ｃ．ディフォルミス（Ｃ．ｄｉｆｆｏｒｍｉｓ）、Ｌ．デュビア（Ｌ．ｄｕｂｉａ）およびＬ．プロクムベンス（Ｌ．ｐｒｏｃｕｍｂｅｎｓ）の苗が１葉期に達した時である。処理する時には、試験ポットには土壌表面の上３ｃｍまで湛水させ、残りの試験期間の間はこの水深を保った。化学処理剤はアセトン中に配合し、直接水田の水に施用した。処理した雑草を処理後２３日目に対照と比較し、目視により評価した。植物の応答を０〜１００のスケールで評価して表９Ａ、９Ｂおよび９Ｃに示したが、ここで０は効果無し、１００は完全に抑制できたことを表す。
【０１８９】
【表３４】
2005504000.tif 000057
【０１９０】
【表３５】
2005504000.tif 000058
【０１９１】
【表３６】
2005504000.tif 000059
【０１９２】
試験９では、化合物１は通常の雑草のバイオタイプには、ベンスルフロンメチルよりは良好（ｇｏｏｄ）またはより良好（ｂｅｔｔｅｒ）な抑制を示した。化合物１は抵抗性を有する雑草のバイオタイプには、ベンスルフロンメチルよりははるかに良好な抑制を示した。
【０１９３】
試験１０プロトコル
１００ｃｍ２の面積を有するプラスチックポットに部分的に、滅菌していないライトクレー土壌（砂：シルト：クレー＝１５：７：３、有機物１．２％）を入れた。次いで、土壌の上に水をはって、代かきをした。スキルプス・ジュンコイデス（Ｓｃｒｉｐｕｓ  ｊｕｎｃｏｉｄｅｓ）で日本産の抵抗性バイオタイプ３種（Ｓｊ−Ｒ１、Ｓｊ−Ｒ２、Ｓｊ−Ｒ７）および通常の感受性バイオタイプ１種（Ｓｊ−Ｓ）、および、スキルプス・ムクロナツス（Ｓｃｉｒｐｕｓ  ｍｕｃｒｏｎａｔｕｓ）でイタリア産の抵抗性バイオタイプ１１種（Ｓｍ−Ｒ１、Ｓｍ−Ｒ５、Ｓｍ−Ｒ６、Ｓｍ−Ｒ７、Ｓｍ−Ｒ８、Ｓｍ−Ｒ９、Ｓｍ−Ｒ１０、Ｓｍ−Ｒ１１、Ｓｍ−Ｒ１２、Ｓｍ−Ｒ１３、Ｓｍ−Ｒ１４）および通常の感受性バイオタイプ１種（Ｓｍ−Ｓ）の種子を、土壌の表面に播種した。試験用のポットは、試験の期間の間グロースチャンバーに保管した（昼／夜＝１６時間、３０℃／８時間、２５℃）。雑草の処理は、スキルプスの苗が２葉期に達した時に行った。処理する場合には、試験ポットには土壌表面の上３ｃｍまで湛水させ、残りの試験期間の間はこの水深を保った。化学処理剤はアセトン中に配合し、直接水田の水に施用した。１１日後に処理した雑草を対照と比較し、目視により評価した。植物の応答を０〜１００のスケールで評価して表１０Ａおよび１０Ｂに示したが、ここで０は効果無し、１００は完全に抑制できたことを表す。
【０１９４】
【表３７】
2005504000.tif 000060
【０１９５】
【表３８】
2005504000.tif 000061
【０１９６】
試験１０では、化合物１は通常のバイオタイプのスキルプス雑草種には、ベンスルフロンメチルと同等の抑制性を示した。化合物１は抵抗性のバイオタイプの抑制でも効果が落ちないが、それに対して、ベンスルフロンメチルはそれらにはほとんど効果がなかった。
【０１９７】
試験１１プロトコル
１００ｃｍ２の面積を有するプラスチックポットに部分的に、滅菌していないクレーローム土壌（砂：シルト：クレー＝３６：４４：２０、有機物１．２％）を入れた。次いで、土壌の上に水をはって、代かきをした。スキルプス・ムクロナツス（Ｓｃｉｒｐｕｓ  ｍｕｃｒｏｎａｔｕｓ）でイタリア産の抵抗性バイオタイプ６種（Ｓｍ−Ｒ２、Ｓｍ−Ｒ１５、Ｓｍ−Ｒ１６、Ｓｍ−Ｒ１７、Ｓｍ−Ｒ１８、Ｓｍ−Ｒ１９）および通常の感受性バイオタイプ１種（Ｓｍ−Ｓ）の種子を土壌表面に播種した。これらのポットは、試験の期間の間は温室に保管した。雑草の処理は、スキルプスの苗が２葉期に達した時に行った。処理する場合には、試験ポットには土壌表面の上３ｃｍまで湛水させ、残りの試験期間の間はこの水深を保った。化学処理剤はアセトン中に配合し、直接水田の水に施用した。２０日後に処理した雑草を対照と比較し、目視により評価した。植物の応答を０〜１００のスケールで評価して表１１に示したが、ここで０は効果無し、１００は完全に抑制できたことを表す。
【０１９８】
【表３９】
2005504000.tif 000062
【０１９９】
試験１１では、化合物１は、スキルプス・ムクロナツス（Ｓｃｉｒｐｕｓ  ｍｕｃｒｏｎａｔｕｓ）の抵抗性バイオタイプを、感受性バイオタイプの場合と同じように良好に抑制することができた。ベンスルフロンメチルでは、抵抗性バイオタイプの抑制ではかなり劣っていた。抵抗性バイオタイプの抑制では、ベンスルフロンメチルの施用量をかなり高くしても、化合物１と同じレベルにはならなかった。
【０２００】
試験１２プロトコル
施用量あたり４つのプラスチックポット（３つが直径１６ｃｍ、１つが直径１１ｃｍ）に、部分的に、滅菌したタマシルトローム土壌（砂：シルト：クレー＝３５：５０：１５、有機物２．６％）を入れた。米国産のヘテランテラ・リモサ（Ｈｅｔｅｒａｎｔｈｅｒａ  ｌｉｍｏｓａ）（アメリカコナギ）の通常の感受性バイオタイプ１種（Ｈｌ−Ｓ）、米国産のシペルス・ディフォルミス（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｄｉｆｆｏｒｍｉｓ）の通常の感受性バイオタイプ１種（Ｃｄ−Ｓ）、および米国産のアマニア・アウリクラータ（Ａｍｍａｎｉａ  ａｕｒｉｃｕｌａｔａ）（レッドステム（ｒｅｄｓｔｅｍ））の通常の感受性バイオタイプ１種（Ａａ−Ｓ）の種子を、それぞれの施用量のための１６ｃｍポットに播種した。米国産のシペルス・イリア（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｉｒｉａ）の通常の感受性バイオタイプ１種（Ｃｉ−Ｓ）、米国産のレプトクロア・ファスキキュラリス（Ｌｅｐｔｏｃｈｌｏａ  ｆａｓｃｉｃｕｌａｒｉｓ）（ベアデッド・スラングルトップ（ｂｅａｒｄｅｄ  ｓｐｒａｎｇｌｅｔｏｐ））の通常の感受性バイオタイプ１種（Ｌｆ−Ｓ）の種子と、９または１０本の直まきのイネ稚苗（オリザ・サティバ（Ｏｒｙｚａ  ｓａｔｉｖａ）ｃｖ．「ジャポニカ−Ｍ２０２」）１株、および６本の移植したイネ稚苗（オリザ・サティバ（Ｏｒｙｚａ  ｓａｔｉｖａ）ｃｖ．「ジャポニカ−Ｍ２０２」）１株を、それぞれの施用量のための１６ｃｍポットに植えた。米国産のエキノクロア・クルスガリ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ）（ヒメタイヌビエ）の通常の感受性バイオタイプ１種（Ｅｃ−Ｓ）、米国産のエキノクロア・オリジコラ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｏｒｙｚｉｃｏｌａ）（タイヌビエ（ｌａｔｅ  ｗａｔｅｒｇｒａｓｓ））の通常の感受性バイオタイプ１種（Ｅｏ−Ｓ）、米国産のエキノクロア・オリゾイデス（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｏｒｙｚｏｉｄｅｓ）（サヤヌカグサ（ｅａｒｌｙ  ｗａｔｅｒｇｒａｓｓ））の通常の感受性バイオタイプ１種（Ｅｏｚ−Ｓ）、および、米国産のエキノクロア・コロナム（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｃｏｌｏｎｕｍ）（コヒメビエ）の通常の感受性バイオタイプ１種（Ｅｃｏｌ−Ｓ）の種子を、それぞれの施用量のための１６ｃｍポットに播種した。米国産のシペルス・ディフォルミス（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｄｉｆｆｏｒｍｉｓ）の抵抗性バイオタイプ１種（Ｃｄ−Ｒ１）を、それぞれの施用量のための１１ｃｍポットに植えた。植え付けは、順に行っていって、処理する時にこれらの雑草種がすべて、２．０〜２．５葉期に達しているようにした。
【０２０１】
ヘテランテラ・リモサ（Ｈｅｔｅｒａｎｔｈｅｒａ  ｌｉｍｏｓａ）、シペルス・ディフォルミス（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｄｉｆｆｏｒｍｉｓ）およびアマニア・アウリクラータ（Ａｍｍａｎｉａ  ａｕｒｉｃｕｌａｔａ）の種子は、それぞれタマ土壌の１ｃｍと混ぜ合わせ、同じ１６ｃｍポットの中の目的に添った（ｓｔｒａｔｅｇｉｃ）位置に埋めた。植えた直後から土壌を覆うような水位とし、「代かき状態（ｐｕｄｄｌｅｄ）」とした。第２の１６ｃｍポットには、シペルス・イリア（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｉｒｉａ）、レプトクロア・ファスキキュラリス（Ｌｅｐｔｏｃｈｌｏａ  ｆａｓｃｉｃｕｌａｒｉｓ）、および移植および直まきのオリザ・サティバ（Ｏｒｙｚａ  ｓａｔｉｖａ）ｃｖ．「ジャポニカＭ２０２」を目的に添った位置に植えたものが含まれている。このポットは、植えた直後から「代かき状態」とした。シペルス・イリア（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｉｒｉａ）は直接土壌表面に置き、レプトクロア・ファスキキュラリス（Ｌｅｐｔｏｃｈｌｏａ  ｆａｓｃｉｃｕｌａｒｉｓ）は１週間水に漬けておいてから、ポット土壌表面にタマ土壌の小さな畝（０．５ｃｍ）の上に置いた。オリザ・サティバ（Ｏｒｙｚａ  ｓａｔｉｖａ）ｃｖ．「ジャポニカＭ２０２」の種子の１組は、タマ土壌とメトロミックス（Ｍｅｔｒｏ−Ｍｉｘ）を５０：５０の割合で含むキャビティ・トレイ中に植えた。２．０葉期になったところで、それらを第２の試験ポットに移植した。もう１組のオリザ・サティバ（Ｏｒｙｚａ  ｓａｔｉｖａ）ｃｖ．「ジャポニカＭ２０２」の種子を、２４時間水に浸漬させてから、トレイ上に拡げ、バーラップで覆った。このバーラップは、種子が発芽するまで常に湿らせておいた。発芽の時点で、種子を「代かき状態」のところへ移した。エキノクロア・クルスガリ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ）、エキノクロア・オリジコラ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｏｒｙｚｉｃｏｌａ）、エキノクロア・オリゾイデス（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｏｒｙｚｏｉｄｅｓ）およびエキノクロア・コロナム（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｃｏｌｏｎｕｍ）は、第３の１６ｃｍポットに植えた。このポットの土壌表面は、それぞれの種をその定めた位置に植え付けた後、常に湿らせておいた。エキノクロア種それぞれについて、それぞれのポットの土壌を１ｃｍ押し込んだ。エキノクロア・クルスガリ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ）の種子は、特別な処置をすることなく、ポットに直に植えた。それぞれの種の種子は、特定の深さに植え、土壌で覆って軽く押さえた。植え付け前にエキノクロア・オリジコラ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｏｒｙｚｉｃｏｌａ）は、水と次亜塩素酸ナトリウムの５０：５０混合漂白液中に１５分間浸漬させてから、水道水ですすいだ。エキノクロア・オリゾイデス（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｏｒｙｚｏｉｄｅｓ）は植え付け前に３日間水中に漬けておき、またエキノクロア・コロナム（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｃｏｌｏｎｕｍ）は、水と次亜塩素酸ナトリウムの８０：２０混合漂白液中に１０分間浸漬させてから、水道水ですすいでから、植え付けた。抵抗性のシペルス・ディフォルミス（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｄｉｆｆｏｒｍｉｓ）は別に１１ｃｍのポットに植���たが、種子と１ｃｍのタマ土壌とを混合し、この土壌／種子混合物を土壌表面に拡げ、軽く叩いてから、水をやって「代かき状態」にした。植物は、温室内で昼温／夜温が約２９．５／２６．７℃となるようにし、補光を調節して日長が１６時間を維持できるようにした。
【０２０２】
処理する場合には、試験ポットには土壌表面の上３ｃｍまで湛水させ、試験期間の間はこの水深を保った。化学処理剤はアセトン中に配合し、直接水田の水に施用した。試験用ポットは温室内で管理した。処理したイネと処理した雑草を２０日後に対照と比較し、目視にて評価した。植物の応答を０〜１００のスケールで評価したが、ここで０は効果無し、１００は完全に抑制できたことを表す。植物の応答評価を表１２に示す。
【０２０３】
【表４０】
2005504000.tif 000063
【０２０４】
試験１３プロトコル
施用量ごとに３つのプラスチックポット（直径１６ｃｍ）に部分的に、滅菌したタマシルトローム土壌（砂：シルト：クレー＝３５：５０：１５、有機物２．６％）を入れた。米国産のマルシレア・クアドリフォリア（Ｍａｒｓｉｌｅａ  ｑｕａｄｒｉｆｏｌｉａ）（デンジソウ（ｆｏｕｒ−ｌｅａｆ  ｗａｔｅｒ  ｃｌｏｖｅｒ））の通常の感受性バイオタイプ１種（Ｍｑ−Ｓ）の挿し穂、および、米国産のスフェノクレア・ゼイラニカ（Ｓｐｈｅｎｏｃｌｅａ  ｚｅｙｌａｎｉｃａ）（ナガボノウルシ（ｇｏｏｓｅｗｅｅｄ））の通常の感受性バイオタイプ１種（Ｓｚ−Ｓ）の種子を、それぞれの施用量について１つの１６ｃｍポットに植えた。米国産のアリスマ・プランタゴ・アクアチカ（Ａｌｉｓｍａ  ｐｌａｎｔａｇｏ−ａｑｕａｔｉｃａ）（サジオモダカ（ｗａｔｅｒ  ｐｌａｎｔａｉｎ））の通常の感受性バイオタイプ１種（Ａｐ−Ｓ）、米国産のスキルプス・ムクロナツス（Ｓｃｉｒｐｕｓ  ｍｕｃｒｏｎａｔｕｓ）（タタラカンガレイ（ｒｉｃｅ  ｆｉｅｌｄ  ｂｕｌｒｕｓｈ））の通常の感受性バイオタイプ１種（Ｓｍ−Ｓ）の種子と、９または１０本の直まきのイネ稚苗（オリザ・サティバ（Ｏｒｙｚａ  ｓａｔｉｖａ）ｃｖ．「ジャポニカ−Ｍ２０２」）１株、および６本の移植したイネ稚苗（オリザ・サティバ（Ｏｒｙｚａ  ｓａｔｉｖａ）ｃｖ．「ジャポニカ−Ｍ２０２」）１株を、それぞれの施用量のための１６ｃｍポットに植えた。米国産のエキノクロア・クルスガリ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ）（ヒメタイヌビエ）の通常の感受性バイオタイプ１種（Ｅｃ−Ｓ）、米国産のエキノクロア・オリジコラ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｏｒｙｚｉｃｏｌａ）（タイヌビエ（ｌａｔｅ  ｗａｔｅｒｇｒａｓｓ））の通常の感受性バイオタイプ１種（Ｅｏ−Ｓ）、米国産のエキノクロア・オリゾイデス（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｏｒｙｚｏｉｄｅｓ）（サヤヌカグサ（ｅａｒｌｙ  ｗａｔｅｒｇｒａｓｓ））の通常の感受性バイオタイプ１種（Ｅｏｚ−Ｓ）、および、米国産のエキノクロア・コロナム（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｃｏｌｏｎｕｍ）の通常の感受性バイオタイプ１種（Ｅｃｏｌ−Ｓ）の種子を、それぞれの施用量のための１６ｃｍポットに播種した。植え付けは、順に行っていって、処理する時にこれらの雑草種がすべて、２．０〜２．５葉期に達しているようにした。
【０２０５】
成熟したマルシリエア・クアドリフォリア（Ｍａｒｓｉｌｉｅａ  ｑｕａｄｒｉｆｏｌｉａ）のプラグ（ｐｌｕｇ）を切り取って、第１の１６ｃｍポットの特定に場所に植えた。スフェノクレア・ゼイラニア（Ｓｐｈｅｎｏｃｌｅａ  ｚｅｙｌａｎｉａ）の種子を１ｃｍのタマ土壌に混ぜ込み、第１のポットの特定に場所に植えた。植えた直後からポットの中の水位を「代かき状態」とした。第２の１６ｃｍポットには、アリスマ・プランタゴ・アクアチカ（Ａｌｉｓｍａ  ｐｌａｎｔａｇｏ−ａｑｕａｔｉｃａ）およびスキルプス・ムクロナツス（Ｓｃｉｒｐｕｓ  ｍｕｃｒｏｎａｔｕｓ）、それに移植および直まきのオリザ・サティバ（Ｏｒｙｚａ  ｓａｔｉｖａ）ｃｖ．「ジャポニカＭ２０２」を、目的に添った位置に植えた。このポットは、植えた直後から「代かき状態」とした。アリスマ・プランタゴ・アクアチカ（Ａｌｉｓｍａ  ｐｌａｎｔａｇｏ−ａｑｕａｔｉｃａ）の種子は植え付ける前２週間、水の中に漬けておいた。それらを水ですすいでから、５０ｍＬの水を入れたガラス製のシャーレに置いた。根が出てきたら、その種子をポットの土壌表面に植えた。スキルプス・ムクロナツス（Ｓｃｉｒｐｕｓ  ｍｕｃｒｏｎａｔｕｓ）は植え付けの約３日前に、シャーレに入れて、１ｃｍの水で覆い、温室の中に置いた。発芽し、１葉となったら、それらを土壌表面に直接植えた。オリザ・サティバ（Ｏｒｙｚａ  ｓａｔｉｖａ）ｃｖ．「ジャポニカＭ２０２」の種子の１組は、タマ土壌とメトロミックス（Ｍｅｔｒｏ−Ｍｉｘ）（登録商標）生長培地（ｇｒｏｗｉｎｇ  ｍｅｄｉｕｍ）を５０：５０の割合で含むキャビティ・トレイ中に植えた。２．０葉期になったところで、それらを試験ポットに移植した。もう１組のオリザ・サティバ（Ｏｒｙｚａ  ｓａｔｉｖａ）ｃｖ．「ジャポニカＭ２０２」の種子を、２４時間水に浸漬させてから、トレイ上に拡げ、バーラップで覆った。このバーラップは、種子が発芽するまで常に湿らせておいた。発芽の時点で、種子を「代かき状態」のところへ移した。エキノクロア・クルスガリ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ）、エキノクロア・オリジコラ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｏｒｙｚｉｃｏｌａ）、エキノクロア・オリゾイデス（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｏｒｙｚｏｉｄｅｓ）およびエキノクロア・コロナム（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｃｏｌｏｎｕｍ）は、第３の１６ｃｍポットに植えた。このポットの土壌表面は、それぞれの種をその定めた位置に植え付けた後、常に湿らせておいた。エキノクロア種それぞれについて、それぞれのポットの土壌を１ｃｍ押し込んだ。それぞれの種の種子は、特定の深さに植え、土壌で覆って軽く押さえた。エキノクロア・クルスガリ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ）の種子は、特別な処置をすることなく、ポットに直に植えた。植え付け前にエキノクロア・オリジコラ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｏｒｙｚｉｃｏｌａ）は、水と次亜塩素酸ナトリウムの５０：５０混合漂白液中に１５分間浸漬させてから、水道水ですすいだ。エキノクロア・オリゾイデス（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｏｒｙｚｏｉｄｅｓ）は、植え付け前に３日間、水のなかに漬けた。植え付け前にエキノクロア・コロナム（Ｅｃｈ��ｎｏｃｈｌｏａ  ｃｏｌｏｎｕｍ）は、水と次亜塩素酸ナトリウムの漂白液中に１０分間浸漬させてから、水道水ですすいだ。植物は、温室内で昼温／夜温が約２９．５／２６．７℃となるようにし、補光を調節して日長が１６時間を維持できるようにした。
【０２０６】
処理する場合には、試験ポットには土壌表面の上３ｃｍまで湛水させ、試験期間の間はこの水深を保った。化学処理剤はアセトン中に配合し、直接水田の水に施用した。試験用ポットは温室内で管理した。処理したイネと処理した雑草を２１日後に対照と比較し、目視にて評価した。植物の応答を０〜１００のスケールで評価したが、ここで０は効果無し、１００は完全に抑制できたことを表す。植物の応答評価を表１３に示す。
【０２０７】
【表４１】
2005504000.tif 000064
【０２０８】
試験１４プロトコル
プラスチックポット（直径１１ｃｍ）に部分的に、滅菌していないシルトローム土壌（砂：シルト：クレー＝３５：５０：１５、有機物２．６％）を入れた。米国産のヘテランテア・リモサ（Ｈｅｔｅｒａｎｔｈｅａ  ｌｉｍｏｓａ）（アメリカコナギ（ｄｕｃｋｓａｌａｄ））の通常の感受性バイオタイプ１種（Ｈｌ−Ｓ）、米国産のシペルス・ディフォルミス（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｄｉｆｆｏｒｍｉｓ）の抵抗性バイオタイプ１種（Ｃｄ−Ｒ１）、場合により米国産のエキノクロア・クルスガリ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ）（ヒメタイヌビエ（ｂａｒｎｙａｒｄｇｒａｓｓ））の通常のバイオタイプ１種（Ｅｃ−Ｓ）の種子と、イネ稚苗（オリザ・サティバ（Ｏｒｙｚａ  ｓａｔｉｖａ）ｃｖ．「シプレス（Ｃｙｐｒｅｓｓ）」、熱帯ジャポニカ種）の４本１株を、それぞれの施用量ごとに、１１ｃｍの１つのポットに植え付けてもよい。植え付けは、順に行っていって、処理する時にこれらの雑草種がすべて、２．０〜２．５葉期に達しているようにした。シペルス・ディフォルミス（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｄｉｆｆｏｒｍｉｓ）およびアメリカコナギの種子は、１ｃｍのタマシルトローム土壌に混ぜ込み、同じ１１ｃｍポットの中の、目的に添った位置に植えた。植え付け直後に、土壌表面より上が水田状態となるような水位とした。Ｅ．クルスガリ（ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ）およびオリザ・サティバ（Ｏｒｙｚａ  ｓａｔｉｖａ）ｃｖ．「シプレス（Ｃｙｐｒｅｓｓ）」の種子は、キャビティ・トレイに植えて、それぞれ１．５葉期および２．０葉期に移植した。植物は、温室内で昼温／夜温が約２９．５／２６．７℃となるようにし、補光を調節して日長が１６時間を維持できるようにした。
【０２０９】
処理する場合には、試験ポットには土壌表面の上３ｃｍまで湛水させ、試験期間の間はこの水深を保った。化学処理剤はアセトン中に配合し、直接水田の水に施用した。試験用ポットは温室内で管理した。１４日後に処理した雑草を対照と比較し、目視により評価した。植物の応答を０〜１００のスケールで評価して表１４に示したが、ここで０は効果無し、１００は完全に抑制できたことを表す。
【０２１０】
【表４２】
2005504000.tif 000065
【０２１１】
【表４３】
2005504000.tif 000066
【０２１２】
温室内で生育させたイネは、戸外で生育させたイネよりも、除草剤に対する感受性が高い傾向がある。ベンスルフロンメチルは、イネのジャポニカ種およびインディカ種での選択的雑草抑制剤として商業的に使用されており、約４０〜７０ｇａ．ｉ．／ｈａならば作物に対して十分安全である。（「ａ．ｉ．」は、「活性成分」を意味する。）したがって、この温室試験で４０％の薬害を示す化合物の使用量では、イネ作物にとっては充分に安全であろうと期待できる。
【０２１３】
試験１５プロトコル
プラスチックポット（直径１１ｃｍ）に部分的に、滅菌していないシルトローム土壌（砂：シルト：クレー＝３５：５０：１５、有機物２．６％）を入れた。米国産のヘテランテア・リモサ（Ｈｅｔｅｒａｎｔｈｅａ  ｌｉｍｏｓａ）（アメリカコナギ（ｄｕｃｋｓａｌａｄ））の通常の感受性バイオタイプ１種（Ｈｌ−Ｓ）、米国産のエキノクロア・クルスガリ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ）（ヒメタイヌビエ（ｂａｒｎｙａｒｄｇｒａｓｓ））の通常のバイオタイプ１種（Ｅｃ−Ｓ）、米国産のシペルス・ディフォルミス（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｄｉｆｆｏｒｍｉｓ）の感受性（通常の）バイオタイプ１種（Ｃｄ−Ｓ１）、米国産のシペルス・ディフォルミス（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｄｉｆｆｏｒｍｉｓ）の抵抗性バイオタイプ１種（Ｃｄ−Ｒ１）の種子と、イネ稚苗（オリザ・サティバ（Ｏｒｙｚａ  ｓａｔｉｖａ）ｃｖ．「ジャポニカ−Ｍ２０２」）の４本１株を、それぞれの施用量ごとに、２つの１１ｃｍのポットに植え付けた。植え付けは、順に行っていって、処理する時にこれらの雑草種がすべて、２．０〜２．５葉期に達しているようにした。シペルス・ディフォルミス（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｄｉｆｆｏｒｍｉｓ）（Ｃｄ−Ｓ１）およびアメリカコナギの種子は、１ｃｍのタマシルトローム土壌に混ぜ込み、同じ１１ｃｍポットの中の、目的に添った位置に植えた。Ｅ．クルスガリ（ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ）およびオリザ・サティバ（Ｏｒｙｚａ  ｓａｔｉｖａ）ｃｖ．「ジャポニカ−Ｍ２０２」の種子は、キャビティ・トレイに植えて、それぞれ１．５葉期および２葉期に移植した。別なポットで、シペルス・ディフォルミス（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｄｉｆｆｏｒｍｉｓ）（Ｃｄ−Ｒ１）の種子を１ｃｍのタマシルトローム土壌に混ぜ込み、１１ｃｍのポットに植えた。植え付け直後に、土壌表面より上が水田状態となるような水位とした。植物は、温室内で昼温／夜温が約２９．５／２６．７℃となるようにし、補光を調節して日長が１６時間を維持できるようにした。
【０２１４】
処理する場合には、試験ポットには土壌表面から３ｃｍまで湛水させ、試験期間の間はこの水深を保った。化学処理剤はアセトン中に配合し、直接水田の水に施用した。比較のために、イネ作物での選択的雑草抑制剤として商業的に使用されベンスルフロンメチルおよびメトスルフロンメチルをこの試験に加えた。試験用ポットは温室内で管理した。２１日後に処理した雑草を対照と比較し、目視により評価した。植物の応答を０〜１００のスケールで評価して表１５に示したが、ここで０は効果無し、１００は完全に抑制できたことを表す。
【０２１５】
【表４４】
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【０２１６】
一般に、温室内で生育させたイネは、戸外で生育させたイネよりも、除草剤に対する感受性が高い傾向がある。さらに、この試験で使用したイネの栽培品種「Ｍ２０２」はジャポニカ種であって、これは一般に、典型的なイネのインディカ種に比較すると、スルホニル尿素を含めた除草剤からの薬害を受けやすいことが知られている。メトスルフロンメチルは、特にインディカ種のイネにおいて選択的な雑草抑制に商業的に使用されているが、２〜６ｇａ．ｉ．／ｈａの量で作物には充分安全である。したがって、ジャポニカ種のイネの試験で３０％の薬害を示す化合物の使用量では、インディカ種のイネ作物にとっては充分に安全であろうと期待できる。
【０２１７】
試験１６プロトコル
サッサフラスサンディロームとメトロ−ミックス（Ｍｅｔｒｏ−Ｍｉｘ）（登録商標）（スコッツ−シエラ・ホーティカルチュラル・プロダクツ（Ｓｃｏｔｔｓ−Ｓｉｅｒｒａ  Ｈｏｒｔｉｃｕｌｔｕｒａｌ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓ）、オハイオ州、メアリズビル）ポッティング媒体とが６０：４０からなる滅菌した土壌媒体を入れた、６．４ｃｍ四方のポットに、雑草をほぼ１ｃｍの深さに植えたが、後に、ポット１つあたり植物１つの均一な株になるよう間引いた。コムギおよびオオムギも同様にして、レジ−アース（Ｒｅｄｉ−Ｅａｒｔｈ）（登録商標）プラグおよびシードリングミックス（Ｓｅｅｄｌｉｎｇ  Ｍｉｘ）（スコッツ−シエラ・ホーティカルチュラル・プロダクツ（Ｓｃｏｔｔｓ−Ｓｉｅｒｒａ  Ｈｏｒｔｉｃｕｌｔｕｒａｌ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓ）、オハイオ州、メアリズビル）ポッティング媒体に植え付け、高さと植物密度が揃うように選別した。すべての試験種は、温室内で、日長１４時間で生育させ、必要に応じて生長を最適にするために養分の稀釈溶液として注水した。昼温を２６．７±１．６℃、夜温を１８．９±１．６℃とした。相対湿度は、３０〜９０％の間であった。試験した種、処理をした時点での苗齢、生長段階について、表１６Ａにまとめた。
【０２１８】
【表４５】
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【０２１９】
試験物質の噴霧溶液をそれぞれ、植物には毒性のない界面活性剤含有溶媒混合物を用いて化合物１の工業グレード活性成分から、または、トリベヌロンメチルもしくはクロルスルフロンの７５％活性水分散性粒剤から、および、または、メトスルフロンメチルの６０％活性水分散性粒剤から調製した。活性成分を含まない界面活性剤含有溶媒混合物は、試験種に対しては何の効果も示さなかった。試験化合物の施用量は、オオムギに対する薬害が受容できる範囲内の量としたが、化合物１では、１６、３２、６４および１２５ｇａ．ｉ．／ｈａ；トリベヌロンメチルおよびクロルスルフロンではそれぞれ、４、８おおよび１６ｇａ．ｉ．／ｈａ；メトスルフロンメチルでは、２、４および８ｇａ．ｉ．／ｈａの施用量とした。すべての噴霧溶液は、その散布量が３０９Ｌ／ｈａとなるようにし、植物の草冠の上約４１ｃｍのところから、フラットファンノズルセット付きの、計量済みベルト噴霧器を使用して散布した。処理後に、試験種の植わっているポットを温室に戻し、順序付けた第１ブロックを有する３つの反復試験（２つはデスクライニア・ソフィア（Ｄｅｓｃｕｒａｉｎｉａ  ｓｏｐｈｉａ）用）からなる完全乱塊法にしたがって、ベンチに並べた。試験種は、実験に期間中は温室内で管理した。
【０２２０】
これらの植物を処理後２０日目に目視にて０〜１００のスケールで評価したが、ここで０は非処理の対照と比較して効果が無かったことを、１００は植物が完全に枯死したことをあらわしている。植物の応答の評価点の平均値を表１６Ｂに示す。
【０２２１】
【表４６】
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【０２２２】
【表４７】
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【０２２３】
試験１６の結果から分かるように、化合物１は１２５ｇ／ｈａまでの施用量ではコムギには薬害を与えず、また、オオムギには高施用量の場合にのみわずかな薬害を与える。化合物１は、感受性バイオタイプのガリウム・アパリーネ（Ｇａｌｉｕｍ  ａｐａｒｉｎｅ）に対しては優れた抑制性を示し、オオムギに対する薬害が許容される限度内では、比較例化合物よりも良好な抑制性を有している。化合物１はまた、抵抗性バイオタイプに対しても顕著な効果を保持するが、それに対して、比較例の除草剤は、試験した施用量では全く効果が無くなってしまう。化合物１はさらに、感受性バイオタイプのアンテミス・コチューラ（Ａｎｔｈｅｍｉｓ  ｃｏｔｕｌａ）およびソンクス・アスペル（Ｓｏｎｃｈｕｓ  ａｓｐｅｒ）にも優れた抑制性を有し、これらの雑草種の抵抗性バイオタイプに対してさえも良好な抑制性を有している。他方、比較例の除草剤では、これらの抵抗性バイオタイプに対しての効果は大幅に低下を示す。化合物１は、感受性バイオタイプのポリゴナム・スカブルム（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ  ｓｃａｂｒｕｍ）に良好な抑制性を有するが、抵抗性バイオタイプに対しては、比較例の除草剤と同様、抑制効果が低下している。化合物１は、感受性バイオタイプのパパウェル・ロエアス（Ｐａｐａｖｅｒ  ｒｈｏｅａｓ）、デスクライニア・ソフィア（Ｄｅｓｃｕｒａｉｎｉａ  ｓｏｐｈｉａ）およびルドベッキア・ヒルタ（Ｒｕｄｂｅｃｋｉａ  ｈｉｒｔａ）に対しては優れた抑制性を有しているが、これは比較例の除草剤でも同様である。
【０２２４】
上記の試験から、本発明の化合物は、オオムギ、コムギおよびイネの耕作において、雑草を抑制するための最上級の実用性を有していることがわかる。これらの化合物の抵抗性バイオタイプに対する効果は、驚くべきものであり、商業的な価値は高い。
【国際公開パンフレット】
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【国際調査報告】
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