(57)【要約】  フッ化水素を少なくとも１つの無水溶媒に添加することによる、フッ化水素、その１以上の塩、又はそれらの２以上の混合物を含有する高純度溶液を製造する方法であり、フッ化水素はガス、液化ガス、又はガスと液化ガスとの混合物の形態で無水溶媒（単数又は複数）に添加される。本発明の方法により製造される高純度フッ化水素溶液及びフッ化アンモニウム溶液も開示される。【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの無水溶媒にフッ化水素を添加する工程を含み、ここで、約１０から約３５重量％のフッ化水素を、ガス又は液化ガス又はガスと液化ガスとの混合物の形態で無水溶媒（単数又は複数）に加える、
フッ化水素、その１以上の塩、又はそれらの２以上の混合物を含有する高純度溶液の製造方法。
【請求項２】
少なくとも１つの無水溶媒が極性溶媒である、請求項１の方法。
【請求項３】
少なくとも１つの無水溶媒が、ポリオール、カルボン酸、カルボン酸誘導体、有機硫黄化合物、脂肪族又は芳香族窒素化合物、及びそれらの２以上の混合物からなる群より選択される、請求項１の方法。
【請求項４】
少なくとも１つの無水溶媒が酢酸である、請求項３の方法。
【請求項５】
フッ化水素に加えて、少なくとも１つの追加のガス、少なくとも１つの追加の液体、少なくとも１つの追加の固体、又はそれらの２以上の混合物が成分として用いられる、請求項１の方法。
【請求項６】
アンモニアガスが追加の成分として用いられる、請求項５の方法。
【請求項７】
少なくとも１つの無水溶媒がＤＭＡ、ＤＭＳＯ、またはそれらの混合物である、請求項６の方法。
【請求項８】
塩化水素ガス、臭化水素ガス、又はそれらの混合物が追加の成分（単数又は複数）として用いられる、請求項５の方法。
【請求項９】
フッ化水素が金属あたり１ｐｐｂ未満の金属イオン含有量で用いられる、請求項１の方法。
【請求項１０】
溶液が金属あたり１００ｐｐｔ未満の金属イオン含有量で用いられる、請求項１の方法。
【請求項１１】
少なくとも１つの無水溶媒中に約１０から約３５重量％のフッ化水素を含む、高純度溶液。
【請求項１２】
該溶媒が酢酸である、請求項１１の溶液。
【請求項１３】
溶液において、金属当たりの金属イオン含有量が１００ｐｐｔ未満である、請求項１１の溶液。
【請求項１４】
水、フッ化アンモニウム、塩化水素、及び臭化水素からなる群より選択される１以上の成分をさらに含む、請求項１１の溶液。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
発明の背景
本発明は、フッ化水素（ＨＦ）、その塩、又はそれらの混合物を含有する高純度溶液（highly pure solution）の製造方法に関し、フッ化水素はガス及び／又は液化ガスとして無水溶媒に導入される。
【背景技術】
【０００２】
数ある中でも、エレクトロニクス及び半導体産業は、高純度プロセス溶液を必要とする。これらの溶液の中でも、必要とされるのは、ＨＦ，ＨＦ塩、又はそれらの混合物を含有する溶液である（他の成分の有無にかかわらない）。
【０００３】
最も高純度の要請が課されるフッ化アンモニウム溶液は、一般には、US-A-5,320,709に記載されている通り、結晶性フッ化アンモニウムを対応する溶液に溶解することによって製造される。この方法の不利な点の１つは、金属不純物が一般にｐｐｍ領域にあり、そのため、金属含有量に関し厳格な純度の要求がある使用分野には不適切であるということである。しかし、相当低い金属含有量である高純度溶液を製造するため結晶性アンモニウムフッ化物をさらに精製することは困難である。
【０００４】
さらに不利な点は、製造において、バッチ間でフッ化アンモニウム溶液中の遊離フッ化水素を再現性のよい濃度で得ることは非常に困難であるという点である。しかし、一部の工業用途では、一定である遊離フッ化水素は重要である。
【０００５】
純度が高いフッ化水素及びフッ化水素塩の溶液、及び、遊離フッ化水素濃度がバッチ間で比較的一定であるフッ化水素塩溶液が依然として必要とされている。
【発明の開示】
【０００６】
発明の要旨
この必要は、本発明により充たされる。本発明は、フッ化水素及びその塩の溶液を今まで得られなかったレベルの純度で製造できる方法を提供する。
【０００７】
従って、本発明の１つの側面では、単独で又は組み合わせて、フッ化水素又はその１以上の塩を含有する高純度溶液を製造する方法を提供し、この方法では、フッ化水素を少なくとも１つの無水溶媒に通過させることにより、フッ化水素がガス及び／又は液化ガスとして無水溶媒（単数又は複数）に導入される。
【０００８】
フッ化水素が可溶である任意の無水溶媒を、無水溶媒として使用することができる。一般に、これらは極性無水溶媒である。従って、本発明は、少なくとも１つの無水溶媒が極性溶媒である上記の方法を含む。
【０００９】
本発明は、フッ化水素及び無水溶媒（単数又は複数）に加えて少なくとも１つの他の成分が使用される、高純度溶液が製造される態様も含む。
従って、本発明は、フッ化水素に加え、少なくとも１つの他のガス又は少なくとも１つの他の液体又は少なくとも１つの固体又はそれら２以上の混合物を無水溶媒（単数又は複数）に導入する、上記の方法にも関する。
【００１０】
本発明のこの態様の好ましい側面では、アンモニアがフッ化水素に加えて使用される成分であり、それによりフッ化アンモニウム溶液が製造される。
このように、本発明は、アンモニアが追加の成分として用いられる上記の高純度フッ化アンモニウムの製造方法にも関する。原理的には液体アンモニアを使用できるが、アンモニアガスが好ましい。
【００１１】
本発明の方法のこの態様の別の好ましい側面では、追加の成分がエッチングにおける反応ガスとして用いられる別のガスである。中でも、例として塩化水素及び臭化水素が挙げられる。
【００１２】
従って、本発明は、塩化水素ガス、臭化水素ガス、又はそれらの組み合わせが追加の成分として用いられる上記の方法にも関する。本発明の方法では、フッ化水素：塩化水素及び／又は臭化水素の量論比が好ましくは１以下であり、より好ましくは１より小さい。
【００１３】
本発明は、上記の方法で製造されたフッ化水素又はそれらの１以上の塩（例えばフッ化アンモニウムであり、単独でも組み合わせてもよい）の高純度溶液をも含み、該高純度溶液は追加の成分を任意に含有する。
【００１４】
フッ化水素は、本質的に慣用の手段により、無水ガス及び／又は液化ガスとしてフッ化水素を無水溶液（単数又は複数）に加えられる。好ましい態様では、無水溶媒（単数又は複数）が適切な容器に入れられる。容器の材料は、生成溶液の高純度を保証するため、フッ化水素との接触に適しており不純物フリーである本質的に任意の材料で作ってもよい。容器は高純度溶液と接触する内壁を有し、その内壁はＨＤＰＥ，ＰＦＡ、ポリプロピレン、ＰＶＤＦ、パーフルオロポリエチレンプロピレン（ＦＥＰ）等の金属フリーのポリマーで作られることが好ましい。
【００１５】
ポリマーの中でも、未安定化ＨＤ−ポリエチレン、例えば比重が0.940-0.970 g/cm3、特に0.942-0.961 g/cm3であるＨＤ−ポリエチレンが適している。これは、商標名Lupolen（登録商標）（例えば、Lupolen（登録商標）6021D、Lupolen（登録商標）5021D、Lupolen（登録商標）4261AQ149、Lupolen（登録商標）4261AQ135）で販売されるポリエチレンが含まれる。本発明の方法で用いられる容器は１層以上からなってもよく、溶液と接触しない１以上の外層は本質的に任意の材料で作ることができる。
【００１６】
フッ化水素をガス及び／又は液化ガスとして容器に輸送するラインには、無水溶媒（単数又は複数）を入れることができ、該ラインも本質的に任意の適切な材料からなってもよい。高純度ＰＦＡでできたホースカップリングは、本発明の方法で好ましく使用される。
【００１７】
無水溶媒（単数又は複数）に添加される前に、本発明の方法によりフッ化水素ガスが液化される場合、液化は本質的に任意の慣用の手段で行うことができる。
本発明の方法により、フッ化水素がガス状及び液化ガスの形態でで無水溶液（単数又は複数）に添加される場合、初めにガス状のフッ化水素、そして液化フッ化水素を加えることができる。初めに液化フッ化水素を、そしてガス状のフッ化水素を加えることもできる。さらに、ガス状のフッ化水素と液化フッ化水素とを同時に導入することもでき、ガス状及び液化フッ化水素は導入前に混合してもよい。
【００１８】
本発明の方法では、ガス及び／又は液化ガスとして無水溶媒（単数又は複数）に導入されるフッ化水素を、導入前に所定の温度にすることができる。無水溶媒（単数又は複数）を導入前に所定の温度にすることもできる。フッ化水素を無水溶媒（単数又は複数）に導入する間、溶液を所定の温度にしてもよく、及び／又は所定の温度に保っても良い。温度調整は、本質的に慣用の手段により行うことができる。
【００１９】
フッ化水素を無水溶媒（単数又は複数）に添加する間、本質的に慣用の技術により溶液を均質化することができる。本発明の好ましい態様では、フッ化水素の転化が終了した後、１以上のポンプオーバーライン（pump-over line）で再循環される。
【００２０】
本発明の方法の好ましい態様では、無水溶媒（単数又は複数）はポリオール、カルボン酸、カルボン酸誘導体、有機硫黄化合物、脂肪族又は芳香族窒素化合物、及びそれらの２以上の混合物から選ばれる。
【００２１】
中でも、ポリオールの例には、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリメチレングリコール、ポリエチレングリコール、及びグリセロールが含まれる。比較的粘度の低いポリオールが特に好ましい。さらに、ポリアルキレングリコール、特に数平均分子量が２５０から６０００のポリエチレングリコールも好ましく、さらに好ましくは数平均分子量が２５０から５，０００、特に２５０から１，０００を有する。
【００２２】
カルボン酸には、周囲条件で液体である脂肪族、環式脂肪族、芳香族酸が含まれ、１以上の酸基を有してもよい。中でも、例にはギ酸、酢酸、及びプロピオン酸が挙げられる。カルボン酸の酸誘導体、例えばそれらのエステル又はアミドは、適切な溶媒でもある。さらに、アクリル誘導体、カルボン酸、又はカルボン酸誘導体を使用することもできる。可能な置換基には、水酸基及びハロゲンが含まれる。可能な溶媒には、アミノカルボン酸も含まれる。
【００２３】
サルフェート、スルフォネート、スルホキシド、スルホン等の無水有機硫黄化合物も適切な溶媒であり、ＤＭＳＯ，ジメチルサルファイト、ジエチルサルファイト、グリコールサルファイト、ジメチルスルホン、ジエチルスルホン、ジプロピルスルホン、ジブチルスルホン、テトラメチレンスルホン、メチルスルホラン、ジエチルスルホキシド、ジプロピルスルホキシド、ジブチルスルホキシド、テトラメチレンスルホキシド、エチルメタンスルホナート、１，４−ブタンジオールビス（メタンスルホナート）、ジエチルサルフェート、ジプロピルサルフェート、ジブチルサルフェート、ジヘキシルサルフェート、ジオクチルサルフェート等が含まれる
さらに、エチレンカルボネート、プロピレンカルボネート、ジメチルカルボネート、ジエチルカルボネート、ジプロピルカルボネート、ジイソプロピルカルボネート、ジブチルカルボネートも、本発明の方法で用いられる適切な無水溶媒である。
【００２４】
フッ化水素が可溶となるように置換された無水脂肪族化合物も、溶媒として用いることができる。中でも、ハロゲン置換基は可能な置換基といえる。
可能性のある溶媒の別の群は脂肪族及び芳香族アミンであり、例えば、エタノールアミン等の置換されたアミノアルコールである。
【００２５】
本発明の方法により、フッ化水素をまず一部の無水溶媒（単数又は複数）に添加し、導入後にさらに溶媒をくわえてもよい。
本発明の方法において２以上の異なる無水溶媒が用いられる場合、フッ化水素をまずこれらの１以上の溶媒に加え、そして生成する混合物を他の１以上の溶媒に加えてもよい。フッ化水素の２以上の溶媒を上記の方法で製造し、続いて該２以上の溶液を混合してもよい。
【００２６】
追加の成分（単数又は複数）がフッ化水素と反応しない場合、導入の順番は重要ではない。追加の成分（単数又は複数）はフッ化水素の無水溶媒溶液に導入してもよい。初めに無水溶媒（単数又は複数）を追加の成分（単数又は複数）と組み合わせ、そしてフッ化水素を加えることもできる。さらに、追加の成分（単数又は複数）をフッ化水素と共に無水溶媒（単数又は複数）に導入することができる。さらに、無水溶媒（単数又は複数）に、追加の成分（単数又は複数）をフッ化水素と一緒に導入することができる。必要な場合には、無水溶媒（単数又は複数）に添加する前に、フッ化水素を少なくとも１つの追加の成分（単数又は複数）と混合し、生じる混合物を無水溶媒（単数又は複数）に添加することができる。
【００２７】
追加の成分がアンモニアである場合、無水溶媒（単数又は複数）を所望の量のフッ化水素ガスと接触させ、その後に対応する量のアンモニアガスを導入してもよい。最初に無水溶媒（単数又は複数）を所望の量のアンモニアガスと接触させ、その後に対応する量のフッ化水素ガスを導入してもよい。２つのガス成分は、溶媒（単数又は複数）に同時に、そして空間的には別々に導入してもよい。２つのガス成分の１つを導入し、一定時間の後、他のガス成分の導入を開始してもよい。
【００２８】
本発明の特に好ましい態様では、初めに無水溶媒（単数又は複数）を所望の量のフッ化水素ガスで処理し、前述の通り溶媒を再循環させる。そして、この均質化された溶液にアンモニアガスを導入し、次に、生じる溶液をポンプで再循環させ、そして均質化させる。
【００２９】
反応容器の温度は、アンモニアガスの導入の間に最大３５℃、好ましくは最大３０℃、特に好ましくは３０℃未満となるよう、制御される。
本発明の方法により生成されるフッ化アンモニウムの高純度溶液の濃度は、本質的には溶媒（単数又は複数）におけるフッ化アンモニウムの濃度のみに依存し、この枠組み内の任意のレベルでありうる。溶媒（単数又は複数）中のフッ化アンモニウムの飽和溶液を生成することもでき、フッ化アンモニウムが固体として沈殿するような量のアンモニア及びフッ化水素を導入することもできる。
【００３０】
本発明の好ましい態様では、本発明の方法により、フッ化アンモニウムの高純度溶液が溶媒（単数又は複数）中に生成され、その濃度は一般に０．１から５０重量％、好ましくは１から３０重量％、特に好ましくは２．５から１０重量％の範囲にある。
【００３１】
爆発性アンモニア−空気混合物の生成を避けるために、容器の中及び周囲に不活性雰囲気を用いてもよく、アンモニアガスは無水溶液（単数又は複数）に加えられ、その溶液にはフッ化水素が既に溶解されている。本質的には任意の不活性ガス、例えば、中でも窒素又はアルゴンが適切である。溶媒、及び、必要な場合にはフッ化水素で充たされる前に、容器雰囲気は不活性化されることが好ましい。
【００３２】
原則としては、上記の溶媒全てを、フッ化アンモニウムが生成される溶媒として用いることができる。好ましい態様では、無水ポリオールが用いられ、特に好ましい態様では、無水エチレングリコールが用いられる。
【００３３】
本発明は、再現性よく設定される一定の量の遊離フッ化水素を有する高純度フッ化アンモニウム溶液の生成を可能にする方法も提供する。本発明の方法により生成される高純度フッ化アンモニウム溶液に含有される遊離フッ化水素の含有量は、溶媒（単数又は複数）へ単に当量でフッ化水素ガスとアンモニアガスとを添加することにより設定することができる。ガス成分の使用により正確な測定が可能となり、それにより、正確に再現される精密に規定された含有量の遊離フッ化水素を有する高純度溶液を生成することができる。特に、０．０１重量％未満の遊離フッ化水素を有する高純度フッ化アンモウム溶液を生成することができる。
【００３４】
本発明の方法により作成されたフッ化水素溶液は、エッチングプロセスに用いられる。本発明の方法は、エッチングプロセスの純度の要求を充たす溶液の調製に用いることができる。本発明の方法は、今まで知られていなかった濃度のフッ化水素を有する溶液の製造に用いることもできる。本発明による好ましい溶液は、約１０から約３５重量％のフッ化水素を含有する。
【００３５】
追加のガス成分（単数又は複数）が前述の無水溶媒（単数又は複数）に可溶である限り、原理的には前述の無水溶媒の全てを、本発明の方法のこの態様に用いることができる。好ましい態様では、無水溶媒として、酢酸若しくは酢酸混合物及び酢酸エステル、又はDMSO及びDMAの混合物が用いられる。DMSO及びDMAの混合物が使用される場合、DMSO及びDMAの量論混合比は約30:70から約70:30の範囲にある。本発明の特に好ましい態様では、DMSO/DMA混合物中に高純度フッ化水素溶液が製造され、ここでフッ化水素、DMSO、及びDMAはおなじ重量割合である。
【００３６】
追加の成分がエッチングで用いられる別の反応ガス（例えば塩化水素又は臭化水素）である場合、ガスを無水溶媒（単数又は複数）に加える順序は重要ではない。ガスを無水溶媒（単数又は複数）に逐次的に加えても同時に加えてもよく、必要に応じ、１つのフィーダーに空間的に離して加えてもよく、一緒に加えてもよい。さらに、慣用の技術（例えば、フッ化水素の導入について上に述べた方法）によって、無水溶媒（単数又は複数）へ添加する前に、他のガス成分（単数又は複数）を液化し、該液化ガス（単数又は複数）を無水溶媒（単数又は複数）に導入することができる。
【００３７】
本発明の方法により、フッ化水素ガス及びアンモニアガスの他に、塩化水素ガス及び／又は臭化水素ガスを無水溶媒（単数又は複数）に導入することもできる。個々の成分を導入する順序は、原則として限定されない。
【００３８】
高純度溶液の使用に関する分野、又は本発明の分野では、フッ化水素ガスに加え、少なくとも１つの更なる反応ガスも成分として用いられるが、該分野は前述のエッチングに限定されるものではない。
【００３９】
本明細書で使用される「純度」という語句は、本発明により作成される溶液が有しうる可能性のある全ての不純物に関する。中でも、金属イオン、ハロゲン化物（例えば塩化物又は臭化物）、さらにアニオン（例えば硝酸イオン、リン酸イオン、硫酸イオン）、有機化合物、広く特定の不純物（generally particular impurities）、ウイルス、バクテリア、及びそれらの副生物（例えばエンドトキシン又はマイコトキシン）は、全て可能性のある不純物に含まれる。
【００４０】
本明細書で使用される「高純度（highly pure）」という語は、一定の不純物に関し純度の程度を表し、1 ppb未満の範囲にある。
高純度溶液は、可能性のある全ての不純物に関して高純度な本発明の方法により作成することができる。本発明の方法の好ましい態様では、非常に低含有量の金属イオンを有する非常に高純度の溶液が作成される。
【００４１】
本発明の方法では、使用される成分において、可能性のある不純物全てに関して不純物濃度が低いため、さらに精製工程を経なくても、ユーザーに求められる純度を有する非常に高純度の溶液を作成することができる。
【００４２】
製造される高純度溶液に求められる純度の程度に従い、本発明の方法により、高純度フッ化水素ガス及び／又は１以上の高純度溶媒を使用することができる。少なくとも１つの前述の追加成分が使用される場合、この成分も高純度でありうる。
【００４３】
前述の通り極めて低含有量の金属イオンを有する高純度溶液の製造に関し、本発明の方法は、フッ化水素ガス、1ppb未満、好ましくは100 ppt未満の金属イオン含有量を用いる。
【００４４】
本発明により作成される高純度溶液に関し、金属の例は、中でも、アルミニウム、アンチモン、ヒ素、バリウム、ベリリウム、鉛、カドミウム、カルシウム、クロム、鉄、ガリウム、ゲルマニウム、金、インジウム、カリウム、コバルト、銅、リチウム、マグネシウム、マンガン、モリブデン、ナトリウム、ニッケル、白金、銀、ケイ素、ストロンチウム、タリウム、チタン、バナジウム、ビスマス、亜鉛、スズ、又はジルコニウムである。
【００４５】
作成される溶液に求められる純度に依存して、必要に応じ、慣用的な従来の方法により無水溶媒（単数又は複数）の不純物含有量を、1ppb未満の範囲、好ましくは100ppt未満の範囲となるよう低減することができる。特に、蒸留法を用いて無水溶媒（単数又は複数）を精製することができ、例えば通常の蒸留又はマイクロ波照射を用いる蒸留により精製できる。
【００４６】
従って、本発明は、金属イオン含有量が金属当たり100 ppt未満である高純度溶液も提供する。フッ化水素又はその１以上の塩が単独で又は組み合わせて用いられる、可能性のある全ての用途において、本発明により作成された非常に高純度の溶液を使用することができる。特に、半導体の分野、エレクトロニクス産業、分析化学、及び（バイオ）医薬において、用途が見出される。
【００４７】
本発明の方法により作成される高純度溶液は、エッチングガスとしての使用に特に非常に適している。本発明の高純度フッ化アンモニウム溶液のフッ化水素含有量が製造において一貫して再現しうるという事実は、特に有利である。これにより、溶液のエッチングレートについて極端に狭いプロセスウィンドウを提供しうる。
【００４８】
特に、本発明の方法により作成される高純度溶液は、ウエハを製造するプラズマエッチング法において、有機金属残渣又は有機ケイ素残渣を選択的に除去するためのエッチング剤として用いられる。この選択性に関し、本発明の方法は、追加の反応ガス（例えば、前述の塩化水素及び臭化水素）の添加によって、溶液のエッチング選択性を制御するために特に有利に用いることができる。
【００４９】
本発明の別の態様では、エッチング選択性を改変するため、高純度溶液に水を混合することができる。本発明の少なからぬ利点は、高純度溶液が無水であること、例えば、高純度のフッ化アンモニウム溶液をフッ化水素ガス、アンモニアガス、及び無水溶媒を用いて製造でき、高純度溶液を製造した後に水を添加することにより、極めて正確に再現性よく含水量を設定できるという点にある。
【００５０】
本発明の無水の高純度溶液を製造した後、追加成分の水性液を該溶液に添加することも可能である。中でも、製造される溶液の含水量を、正確に、無水溶液に基づいて、１以上の追加の成分も導入する単一の工程で設定できるという点が有利である。その例は、中でも、リン酸、塩酸（aqueous hydrochloric acid）、又は酢酸溶液等の他の水性の酸でありうる。
【００５１】
本発明の特に好ましい態様では、少なくとも１つの物質を追加の成分として無水溶媒に加え、中でも、エッチング剤として用いられる高純度溶液の表面活性特性（surface-active properties）に影響を及ぼす物質を加える。ここで、適切な極性及び非極性物質を用いることができる。中でも、その例は、脂肪族又は芳香族アミンである。鎖長が５から１２炭素原子の脂肪族アミンが好ましく用いられる。可溶性の目的で必要なら、アミンは置換されていてもよく、中でもＯＨ基又はハロゲン化物残基（halogenide residues）が可能性のある置換基である。
【００５２】
高純度溶液に求められる程度の純度を得るため、使用前に、表面活性に影響を及ぼす物質を精製することが必要となる場合こともある。ここで、本質的に任意の適切で慣用である従来技術の方法を用いることができる。
【００５３】
以下に述べる非限定的な例は本発明の一定の側面を説明する。特に断らない限り、全ての部及びパーセンテージは重量であり、全ての温度はセルシウス度である。
【実施例】
【００５４】
実施例１  フッ化水素のエチレングリコール溶液の製造
８００ｇのエチレングリコールを１０００ｍｌバッチ容器に入れた。インジェクターで約８０ｇの無水フッ化水素を凝縮し、エチレングリコールに溶解させた。その中で、フッ化水素の含量の増加を分析的にモニターした。液体酸の添加は、１０重量％の含量で停止した。
【００５５】
停止後、ポンプオーバーライン（pump-over line）によって溶液を１時間にわたり再循環させ、均質化した。該溶液では、金属当たり１００ｐｐｔ未満の金属イオン含量であった。
実施例２  フッ化アンモニウムのエチレングリコール溶液の製造
１０００ｍｌバッチ容器を１時間、窒素ブランケットした。続いて、実施例１と同様の手順を繰り返し、ＨＦのエチレングリコール溶液を得た。
【００５６】
このＨＦのエチレングリコール溶液にアンモニアガスを導入し、ここでアンモニア：フッ化水素のモル比は１：１であった。温度は外部冷却及びアンモニア添加速度の制御によって制御し、温度が３０℃を超えないようにした。
【００５７】
アンモニア全量を導入した後、溶液を３０分間、冷却しながら再循環させた。生成した溶液では、金属あたりの金属イオン含量は１００ｐｐｔ未満であった。
実施例３−６  
実施例３では、エチレングリコールを氷酢酸に置換して、実施例１を繰り返した。実施例４では、氷酢酸を再び溶媒として用い、氷酢酸：ＨＦの重量比を９０：１０とした（７２０ｇの氷酢酸、８０ｇのＨＦ）。実施例５及び６は、氷酢酸：ＨＦの重量比として８０：２０及び７０：３０を用い、実施例４を繰り返した（それぞれ、６４０ｇの氷酢酸及び１６０ｇのＨＦ；５６０ｇの氷酢酸、２４０ｇのＨＦ）。
【００５８】
前述の実施例及び好ましい態様の記載は、請求の範囲によって定義される本発明を制限するものではなく、説明的なものとして受け取られるべきである。容易に理解される通り、請求項で述べる本発明から逸脱することなく、多くの変更及び前述の特徴の組み合わせを使用することができる。その様な変更は本発明の趣旨及びスクリプト（script）からの逸脱とみなされず、全てのその様な変更は、以下の請求項の範囲内にあることが意図される。
【国際調査報告】
2005528316.tif 000002
2005528316.tif 000003