(57)【要約】本発明は光学部品の担持および光信号の接続のための担体構成（１０）に関するものであって、特に、少なくとも１つの孔（１２）を有する基板（１１）を含み、前記孔には前記光信号を接続するための光伝導性充填部（１３）が設けられている担体構成に関する。光学充填部（１３）は少なくとも２つの異なる光導体層（１３１、１３２）を前記孔の長手方向に含む。
2005507515.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
特に光学部品の担持および光信号の接続のための担体構成（１０）であって、少なくとも１つの孔（１２）を有する基板（１１）を含み、前記孔には前記光信号を接続するための光伝導性充填部（１３）が設けられている担体構成において、
前記光学充填部（１３）が少なくとも２つの異なる光導体層(light conductive layer)（１３１、１３２）を前記孔の長手方向に含むことを特徴とする担体構成。
【請求項２】
前記基板（１１）が少なくとも部分的にセラミック材料からなることを特徴とする請求項１記載の構成。
【請求項３】
前記基板（１１）が少なくとも部分的には、少なくとも１つの導体層（１１３、１１４、１１５）が設けられたＬＴＣＣ（低温同時焼成セラミック）（１１０）材またはＨＴＣＣ（高温同時焼成セラミック）材などのガラス複合材料からなることを特徴とする請求項１および２記載の構成。
【請求項４】
前記基板（１１）が少なくとも部分的に誘電性材料（１１６）からなることを特徴とする請求項１〜３記載の構成。
【請求項５】
孔（１２）がキャビティ、スルーホール、またはバイアとして設けられていることを特徴とする請求項１記載の構成。
【請求項６】
孔（１２）が２つの隣接する基板（１１）の間に配置されていることを特徴とする請求項１および４記載の構成。
【請求項７】
孔（１２）の表面（１２１）の少なくとも一部が鍍金されていることを特徴とする請求項１および５〜６記載の構成。
【請求項８】
前記金属化を電気化学鍍金、化学鍍金、または液体金属への浸漬、溶射、電着、ＰＶＣ（物理蒸着）、またはＣＶＤ（化学蒸着）による金属化によって行うことを特徴とする請求項７記載の構成。
【請求項９】
前記少なくとも１つの光伝導性充填部（１３）が有機および／または無機非金属材料からなることを特徴とする請求項１記載の構成。
【請求項１０】
少なくとも１つの光伝導性充填部（１３）がセラミック材料、ガラスなどの透明な複合材料、ガラスセラミック材料、ファイバ複合材料などの複合材料、プラスチック複合材料、ポリマー等からなることを特徴とする請求項９記載の構成。
【請求項１１】
少なくとも１つの光伝導性充填部（１３）を粉末形状で施し、その後前記層に変質させることを特徴とする請求項９〜１０記載の構成。
【請求項１２】
担体構成（１０）の基板（１１）の少なくとも一方の面に部品（１４）を設けたことを特徴とする請求項１記載の構成。
【請求項１３】
前記部品（１５）がＭＥＭＳ（超小型電子機械システム）またはＭＣＭ（マルチチップモジュール）のどちらか一方であることを特徴とする請求項１２記載の構成。
【請求項１４】
前記部品（１４）のうちの１つまたはいくつかが光センサ（１４１）を含むことを特徴とする請求項１２または１３記載の構成。
【請求項１５】
少なくとも１つの基板（１１）を含む、特に光学部品の担持および光信号の接続のための担体構成（１０）の製造方法であって、
前記孔（１２）を前記基板（１１）に設ける工程と、少なくとも１つの光伝導性充填部（１３）を前記少なくとも１つの孔（１２）に粉末形状で施す工程と、初期の工程のうちの少なくとも１つの工程で前記粉末を溶融して固体形状にする工程とを含む、担体構成の製造方法。
【請求項１６】
追加の表面処理を孔（１２）の少なくとも１つの表面（１２１） に施すことを特徴とする請求項１５記載の方法。
【請求項１７】
孔（１２）の表面（１２１）を金属化することを特徴とする請求項１５記載の方法。
【請求項１８】
孔（１２）の表面（１２１）を滑らかな面にするために、レーザーを用いて前記孔（１２）を作成する請求項１５記載の方法。
【請求項１９】
基板（１１）を伝導体層（１１３、１１４、１１５）を挟持するセラミック材料から構成し、誘電性材料（１１６）を基板（１１）の一表面上の少なくとも１つの層に施すことを特徴とする請求項１５記載の方法。
【請求項２０】
最初に前記孔（１２）を基板（１１）の層に設け、次に前記層を積層することを特徴とする請求項１５記載の方法。
【請求項２１】
最初に第１の光伝導性物質（１３１）を孔（１２）の周縁に施し、次に第２の光伝導性物質（１３２）を孔（１２）の内部コア材として施すことによって光伝導性充填部（１３）を構成することを特徴とする請求項１５記載の方法。
【請求項２２】
前記周縁の第１の光伝導性物質（１３１）とコア部の第２の光伝導性物質（１３２）とが２つの異なる屈折率（ｎ１、ｎ２）を持つことを特徴とする請求項２１記載の方法。
【請求項２３】
前記少なくとも１つの光伝導性材料（１３）の屈折率が孔（１２）の中で段階的に変化するように構成することを特徴とする請求項２１記載の方法。
【請求項２４】
屈折率の段階的変化が第１の光伝導性物質（１３１）とコア部として配置された第２の光伝導性物質（１３２）との間で起こることを特徴とする請求項２１記載の方法。
【請求項２５】
請求項１〜１４のいずれか１項記載の担体構成（１０）を含む分析装置。
【請求項２６】
前記装置が、サンプルが置かれた前記孔を照射するための手段、および前記孔を通る照射を検出するための検出器をさらに含むことを特徴とする請求項２５記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、担体構成、特に光学部品の担持および光信号の接続のための担体構成に関し、前記担体構成は少なくとも１つの孔を持つ基板を含む。この孔は、前記光信号を接続するための光伝導性充填部(optically conducting filling)を有す。本発明は、またその製造プロセスに関する。
【背景技術】
【０００２】
配線板、特に多層配線板（ＰＣＢ）は、例えば部品端子を挿入するためのバイア(vias)を含むが、その主用途は１つの層の導体路を別の層に接続するためである。
【０００３】
従来技術は、導電性ペーストで充填されたバイア孔を含む技術を開示している。
【０００４】
米国特許第６,１５９,７６７号は、マルチチップモジュールおよびシングルチップモジュールに関する。誘電体材料がチップの上部表面に施されており、この誘電体材料はチップの少なくともいくつかの接点パッドへのバイア孔を含む。このモジュールは、誘電体層の上に金属化層も含む。被覆ガラスが設けられた回路が示されているが、前記ガラスはバイア孔内の導電性ペーストに取って代わるものではない。
【０００５】
米国特許第５,７６７,５７５号は、例えばチップボンディングパッドを電気的に結合するための微小充填バイアなどの導電体に関する。微小充填バイアには、従来の鍍金バイアに一般に存在していた鍍金された材料が存在しない。さらに、この明細書には、結合材およびこの結合材中に分散した多数の粒子を含む「微小充填バイア」材料について記載されている。結合材は、導電性または非導電性ポリマーなどの任意の材料とすることができる。粒子は、導電性ポリマーまたは導電性金属などの導電材料で形成することができる。
【０００６】
米国特許第５,２３９,４４８号は、可撓担体に一体的に取り付けるＭＣＭ（マルチチップモジュール）の領域を縮小する方法に関する。バイアは、例えば電着または鍍金によって導電性材料で充填される。
【０００７】
ただし、分子サンプルの分析、つまり体液または生体試料などの生体分子サンプルの検出に透明な材料が使用されることは公知である。米国特許第５,９３６,７３０号明細書には、透明な基板上に配置された光伝導体層に複数のテストサイトを含む生体分子分析器が示されている。
【０００８】
技術論文誌「センサーとアクチュエータ(Sensor and Actuators)」、第９３号、１９９９年、ｐ．１５３−１６８に発表されたシューネマン(Shuenemann)らの「機械的超小型電気システムのための非常に柔軟な設計および製造フレームワーク(A highly flexible design and production framework for mechanical micro-electrical systems)」には、下部側にボールグリッド構造を含み、上部側にランドグリッド構造を含むトップボトムボールグリッド配列が開示されている。これはＬＴＣＣ〔低温同時焼成セラミック(Low Temperature Cofired Ceramic)〕構造のパッケージ化された回路であり、微小光学バイアが示されている。ただし、このパッケージは、基板を層構成に構成しておらず、孔はバイア孔およびスルーホールではないので、光は前記回路を通って導かれない。
【０００９】
ＥＰ特許出願公開第９８６２９７号（Ａ２）の目的は、光学部品と電子部品の実装の高密度化および高効率化を可能とするために、光学部品と電子部品を同じ基板上の実装構造に混在させた光送受信方法を提供することである。２つの平面型発光／受光素子がフリップチップ接合方式によって多層基板の上部表面に裏返しに取り付けられ、スルーホールがそれぞれ平面型発光／受光素子の中央直下の領域に形成されている。スルーホールの内壁には、表面に鍍金処理が施された導体層からなるクラッド層が形成されるとともに、ポリマー樹脂からなるコア層がその中心に形成されている。多層基板の下部表面には、１つのスルーホールの直下領域から別のスルーホールの直下領域まで直線的に延びる光導波路が形成されている。さらに、４５度のマイクロミラーが光導波路の両端面にそれぞれ形成されている。
【００１０】
英国特許第２２７５５７６号明細書によると、電子回路アッセンブリは、基板の相対する面に電子部品が取り付けられた印刷配線板からなる。この基板は基板の相対する面の間を延びる光伝送バイアを持つ。基板の両面上の部品は、送受信手段がバイアを通して伝送する光信号によって相互に通信する。バイアは、エキシマレーザーアブレーション(excimer laser ablation)によってマスクを使用して形成してもよい。バイアには、空気以外の伝導性材料は追加して充填されていない。
【００１１】
米国特許第４,２６８,１１３号では、固体光変換器がセラミック基板上に搭載され、金属ピン形状に予備成形された孔を、変換器の活性領域と位置合わせして、基板に追加することによって、光信号路が設けられている。金属ピンには、光ファイバからなる光伝送コア部が設けられ、ほかの中実ピンを基板に固定するために使用されるピン挿入手法と同じ手法を用いて予備成形孔に挿入される。ファイバは接着剤によって固定される。
【００１２】
ＥＰ特許第０４０５４８２号は、電子素子、電気光学素子および／または光学素子を接続するための配線基板、およびこのような基板の製造方法に関する。信号導体層を形成するために、導電性フィラメントまたは光伝導性フィラメントをスクライブすることによって配線が形成される。配線基板は、支持部材としてのベース、ベースにラミネートされた信号導体層、および信号導体層にラミネートされた表面導体層を含む。信号導体層と表面導体層との間の層間接続は、表面導体パターンの一部を形成するために、または表面導体パターンに接続するために、信号導体層から配線板の表面近くまで配設された信号導体層の伝導性フィラメントのセグメントによって形成される。
【発明の開示】
【００１３】
本発明の目的は、例えば、検出器によって光信号を個別におよび選択的に検出するための、支持および担持用の構成を提供することである。したがって、本発明の主な目的は、担体のバイア方向に光を伝搬することによって通信用などの光信号伝送を可能にするためのバイアを持つ、ＬＴＣＣ（低温同時焼成セラミック）またはＨＴＣＣ〔高温同時焼成セラミック(High Temperature Cofired Ceramic)〕などのセラミック材料から主になる担体構成を提供することである。
【００１４】
このような理由により、最初に述べた担体構成では、光学充填部は、前記孔の長手方向に少なくとも２つの異なる光伝導体層を含む。基板は、少なくとも部分的にセラミック材料からなる。
【００１５】
基板は、少なくとも部分的にはＬＴＣＣ（低温同時焼成セラミック）またはＨＴＣＣ（高温同時焼成セラミック）材などのガラス複合材からなり、少なくとも１つの伝導体層が設けられることが好ましい。基板は、少なくとも部分的に誘電性材料で構成してよい。
【００１６】
孔はキャビティ、スルーホール、またはバイアとして設ける。孔は、２つの隣接する基板の間に配置することができる。孔の表面の少なくとも一部は、鍍金によって金属化することができる。金属化は、電気化学鍍金法、化学鍍金法によって行うか、または液体金属への浸漬、溶射、電着、ＰＶＣ〔物理蒸着(Physical Vapour Deposition)〕またはＣＶＤ〔化学蒸着(Chemical Vapour Deposition)〕による金属化が好ましい。
【００１７】
１つの実施形態では、光伝導性充填部を有機および／または無機非金属材料で構成する。光伝導性充填部は、セラミック材料、ガラスなどの透明な複合材料、ガラスセラミック材料、ファイバ複合材料などの複合材料、プラスチック複合材料、ポリマーなどで構成してもよい。光伝導性充填部は、粉末形状で施してから、前記層に変質させることができる。
【００１８】
この担体構成は、基板の少なくとも一方の面に部品を設けることができる。この部品は、１つまたはいくつかのＭＥＭＳ〔超小型電子機械システム(Micro Electro Mechanical System)〕またはＭＣＭ〔マルチチップモジュール(Multi Chip Modules)〕とすることができる。前記部品の１つまたはいくつかには、光センサが含まれることが好ましい。
【００１９】
本発明は、また、少なくとも１つの基板を含む担体構成の製造方法、特に光部品を担持し、光信号を接続するための担体構成の製造方法であって、前記孔を前記基板中に設ける工程と、少なくとも１つの光伝導充填部を粉末形状で前記少なくとも１つの孔に施す工程と、前記粉末を初期の工程のうちの少なくとも１つの工程で溶融して固体形状にする工程とを含む。この方法は、追加の表面処理を孔の少なくとも１つの表面に施す工程をさらに含む。この方法は、孔の表面を金属化する工程をさらに含む。
【００２０】
この方法は、孔の表面を滑らかな面にするために、レーザーを用いて前記孔を作成する工程をさらに含む。この基板は導体層を狭持するセラミック材料からなり、誘電性材料が基板の一表面上の少なくとも１つの層に設けられる。この方法は、前記孔を基板の層に最初に設け、その後で前記層を積層する工程をさらに含む。光伝導性充填部は、最初に第１の光伝導性物質(optically conductive substance)を孔の周縁部に施し、次に第２の光伝導性物質を孔の内部コア材料として施すことによって構成する。周縁部の第１の光伝導性物質とコア部の第２の光伝導性物質とは、２つの異なる屈折率を持つことが好ましい。少なくとも１つの光伝導性材料は、孔の中で屈折率が段階的に変化するように構成されることが好ましい。屈折率の段階的変化は、第１の光伝導性物質と、コア部として配置された第２の光伝導性物質との間で発生する。
【００２１】
本発明はまた、担体構成を含む分析装置に関する。この装置は、サンプルが設けられた前記孔を照射するための手段、および前記孔を通過する照射を検出するための検出器をさらに含む。
【００２２】
次に、以下の添付図面に従って実施形態に関連づけながら本発明を説明する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
図１に概略的に示す本発明による担体構成１０は、基板１１、少なくとも２つの材料１３１と１３２とを含む光伝導性充填部によって充填された１つまたはいくつかのキャビティ又はバイア１２から主に構成される。光伝導性材料は、使用される波長に対して透過的な材料であることが好ましい。担体の少なくとも一方の面には、例えば電気光学部品１４、すなわち光信号を電気信号に変換するための光検出器を配置する。これらの部品は、能動素子および／または抵抗、コンデンサなどの受動素子を含んでよい。
【００２４】
好適な実施形態においては、基板１１はセラミック材料、例えばＬＴＣＣ（低温同時焼成セラミック）１１０またはＨＴＣＣ（高温同時焼成セラミック）などのガラス複合材料で作る。ＬＴＣＣ材料は、例えば、銅製導体などの導電体層(electrically conductive layers)１１３、１１４および１１５を狭持して構成されるいくつかの層１１１および１１２に施してもよい。基板１１の一方の表面には、ＢＣＢ〔ベンゾシクロブタン(Benzocyklobutan)〕材１１６などの誘電性材料を１つまたはいくつかの層に施す。誘電体層を省くことも任意である。誘電体層の露出領域に形成される開口部は、サンプルの分析のために使用できるクレーターを形成する。この場合、物質をクレーター内に用意し、照射し、バイアを通過する照射を反対側の検出器によって検出することができる。このように、本発明は分析装置の一部として使用することができる。ただし、本発明はこの用途に限定されるものではない。
【００２５】
基板１１には、キャビティ又はバイア１２を形成する１つまたはいくつかのスルーホールを設ける。キャビティはスルーホール、バイア１２などの一部として設けることができる。基板１１には、以下に詳述するように、部品を取り付けることもできる。ただし、本発明の１つの実施形態では、部品の全体または一部を基板１１の内部に配置する、つまり基板１１にほぼ埋め込むことができる。この結果、キャビティを少なくとも２つの層の間に延ばすことができる。さらに、スルーホールを２つまたはいくつかの隣接する基板１１の間に配置することもできる。
【００２６】
最も好適な実施形態においては、図１、２および３に示すように、最初に第１の光伝導性材料１３１をバイア１２内の周縁部に配置し、次に第２の光伝導性材料１３２をコア部として配置することによって、光伝導性材料を施す。この結果、周縁部の第１の光伝導性材料１３１とコア部の第２の光伝導性材料１３２とは、２つの異なる屈折率ｎ１およびｎ２を持つ。したがって、２つの光伝導性材料１３１と１３２とは、中間境界層が明確に規定された２つの層に明確に分割されて配置される。バイアの断面における半径方向の屈折率分布図は任意の形状をとることができる。
【００２７】
製造段階において、光伝導性材料１３１または１３２のどちらか１つが段階的に移行する屈折率を持つことも可能である。この結果、屈折率の段階的変化は、第１の光伝導性材料１３１とコア部として配置された第２の光伝導性材料１３２との間で発生する。
【００２８】
光伝導性材料１３１および１３２は、ハート（ｈａｒｔs）などの有機材料で構成するか、あるいはセラミック材料、ガラスなどの透明な複合材料、ガラスセラミック材料、ファイバ複合材料、プラスチック複合材料、ポリマーなどの無機材料で構成してもよい。実際、光伝導性充填部１３は、可視信号または特定波長の照射などの光信号を光学的に案内つまり伝送するようにした、波長に合った材料にすることができる。ただし、光伝導性充填部１３は、上記のように透明であるように構成することが好ましい。
【００２９】
部品１４は、１つまたはいくつかのバイアと連通するように、基板の片面または両面に配置する。好適な実施形態においては、検出器などの部品１４は、バイア１２に隣接して、例えば基板１１の一方の面にあるバイア１１の正面に、例えば前記バイア１２に対してほぼ中央に、取り付ける。
【００３０】
孔はサイズと形状を変えられることが好ましい。さらに、製造プロセスの結果として、バイア１２の内部表面１２１は、表面の粗さまたは滑らかさなどの特定の表面特性を得る。
【００３１】
バイア１２の表面１２１は、例えば０．１〜６００μｍの表面粗さに用意できるので、その後、好ましくはバイア１２の前記内部表面１２１に追加の表面処理又は粗目仕上げを施さずに、第１の光透過性材料１３１をバイア１２に施すことができる。
【００３２】
さらに、レーザーを用いてバイア１２を作成する本発明の別の実施形態においては、滑らかで光沢のある内部表面１２１を得ることができる。
【００３３】
光伝導性材料は、粉末形状で施し、その後加熱することによって溶融することが好ましい。バイア１２に施した粉末材料を加熱すると、その有機物質が溶融し、光学導体１３が孔形状のバイア１２の中に形成され、シリンダ、ガラスプラグ、ガラスロッドなどが形成される。このようにして得られる光導体１３は透明であることが好ましい。
【００３４】
部品１４はセンサーまたは検出器のいずれにもすることができ、ＭＣＭ（マルチチップモジュール）およびＭＥＭＳ（超小型電子機械システム）などのいわゆるフリップチップ(flip chip)によって取り付けることが好ましい。前記部品のいくつかに、光線、レーザーなどの照射体を含むことともできる。
【００３５】
図４に示す本発明の別の好適な実施形態においては、金属層１２２をバイア１２の表面１２１に設け、光透過性の層１３をその上に配置する。この場合、適切な金属化方法は、例えば電気化学鍍金または化学鍍金などの鍍金である。その他の金属化方法として、例えば液体金属への浸漬、溶射、電着、ＰＶＣ（物理蒸着）またはＣＶＤ（化学蒸着）がある。
【００３６】
本発明による光学バイアは、担体を通して光信号を伝送する必要があるあらゆる用途、例えば通信装置、より具体的には電気通信装置に利用できる。
【００３７】
本発明は、上記の実施形態に限定されるものではなく、請求項の範囲から逸脱することなく、例えば上記の実施形態を２つまたはそれ以上組み合わせることによって何通りもの方法に変更することができ、また構成と方法は用途、機能ユニット、ニーズ、および要件などに応じて、さまざまな方法で実施することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】は、本発明による担体構成の第１の実施形態の断面図である。
【図２】は、図１の囲み部分の断面であり、光伝導性材料によって充填されたバイアの第２の実施形態に基づき囲み部分をより詳細に示す。
【図３】は、図２の側面図の断面である。
【図４】は、図１の囲み部分の断面であり、本発明の第３の実施形態に基づき囲み部分をより詳細に示す。
【国際公開パンフレット】
2005507515.tif 000003
2005507515.tif 000004
2005507515.tif 000005
2005507515.tif 000006
2005507515.tif 000007
2005507515.tif 000008
2005507515.tif 000009
2005507515.tif 000010
2005507515.tif 000011
2005507515.tif 000012
2005507515.tif 000013
2005507515.tif 000014
2005507515.tif 000015
2005507515.tif 000016
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月2日(2003.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
特に光学部品の担持および光信号の接続のための担体構成（１０）であって、少なくとも１つの孔（１２）を有する基板（１１）を含み、前記孔には前記光信号を接続するための光導波充填部(optically guiding filling)（１３）が設けられている担体構成において、
前記光導波充填部（１３）が少なくとも２つの異なる光導波層(light guiding layers)（１３１、１３２）を前記孔の長手方向に含むことを特徴とする担体構成。
【請求項２】
前記基板（１１）が少なくとも部分的にセラミック材料からなることを特徴とする請求項１記載の構成。
【請求項３】
前記基板（１１）が少なくとも部分的には、少なくとも１つの導体層（１１３、１１４、１１５）が設けられたＬＴＣＣ（低温同時焼成セラミック）（１１０）材またはＨＴＣＣ（高温同時焼成セラミック）材などのガラス複合材料からなることを特徴とする請求項１および２記載の構成。
【請求項４】
前記基板（１１）が少なくとも部分的に誘電性材料（１１６）からなることを特徴とする請求項１〜３記載の構成。
【請求項５】
孔（１２）がキャビティ、スルーホール、またはバイアとして設けられていることを特徴とする請求項１記載の構成。
【請求項６】
孔（１２）が２つの隣接する基板（１１）の間に配置されていることを特徴とする請求項１および４記載の構成。
【請求項７】
孔（１２）の表面（１２１）の少なくとも一部が鍍金されていることを特徴とする請求項１および５〜６記載の構成。
【請求項８】
前記金属化を電気化学鍍金、化学鍍金、または液体金属への浸漬、溶射、電着、ＰＶＣ（物理蒸着）、またはＣＶＤ（化学蒸着）による金属化によって行うことを特徴とする請求項７記載の構成。
【請求項９】
前記少なくとも１つの光導波充填部（１３）が有機および／または無機非金属材料からなることを特徴とする請求項１記載の構成。
【請求項１０】
少なくとも１つの光導波充填部（１３）がセラミック材料、ガラスなどの導波複合材料、ガラスセラミック材料、ファイバ複合材料などの複合材料、プラスチック複合材料、ポリマー等からなることを特徴とする請求項９記載の構成。
【請求項１１】
少なくとも１つの光導波充填部（１３）を粉末形状で施し、その後前記層に変質させることを特徴とする請求項９〜１０記載の構成。
【請求項１２】
担体構成（１０）の基板（１１）の少なくとも一方の面に部品（１４）を設けたことを特徴とする請求項１記載の構成。
【請求項１３】
前記部品（１５）がＭＥＭＳ（超小型電子機械システム）またはＭＣＭ（マルチチップモジュール）のどちらか一方であることを特徴とする請求項１２記載の構成。
【請求項１４】
前記部品（１４）のうちの１つまたはいくつかが光センサ（１４１）を含むことを特徴とする請求項１２または１３記載の構成。
【請求項１５】
少なくとも１つの基板（１１）を含む、特に光学部品の担持および光信号の接続のための担体構成（１０）の製造方法であって、
孔（１２）を前記基板（１１）に設ける工程と、
第１の光導波充填部（１３）を前記少なくとも１つの孔（１２）に粉末形状で施し、第１の工程において前記粉末を溶融して固体形状にする工程と、
第２の光導波充填部を前記少なくとも１つの孔（１２）に粉末形状で施し、第２の工程において前記粉末を溶融して固体形状にする工程とを含む、担体構成の製造方法。
【請求項１６】
追加の表面処理を孔（１２）の少なくとも１つの表面（１２１） に施すことを特徴とする請求項１５記載の方法。
【請求項１７】
孔（１２）の表面（１２１）を金属化することを特徴とする請求項１５記載の方法。
【請求項１８】
孔（１２）の表面（１２１）を滑らかな面にするために、レーザーを用いて前記孔（１２）を作成する請求項１５記載の方法。
【請求項１９】
基板（１１）を伝導体層（１１３、１１４、１１５）を挟持するセラミック材料から構成し、誘電性材料（１１６）を基板（１１）の一表面上の少なくとも１つの層に施すことを特徴とする請求項１５記載の方法。
【請求項２０】
最初に前記孔（１２）を基板（１１）のすべての層に設け、次に前記層を積層することを特徴とする請求項１５記載の方法。
【請求項２１】
最初に第１の光導波物質(optically guiding substance)（１３１）を孔（１２）の周縁に施し、次に第２の光導波物質（１３２）を孔（１２）の内部コア材として施すことによって光導波充填部（１３）を構成することを特徴とする請求項１５記載の方法。
【請求項２２】
前記周縁の第１の光伝導性物質（１３１）とコア部の第２の光導波物質（１３２）とが２つの異なる屈折率（ｎ１、ｎ２）を持つことを特徴とする請求項２１記載の方法。
【請求項２３】
前記少なくとも１つの光導波材料（１３）の屈折率が孔（１２）の中で段階的に変化するように構成することを特徴とする請求項２１記載の方法。
【請求項２４】
屈折率の段階的変化が第１の光導波物質（１３１）とコア部として配置された第２の光導波物質（１３２）との間で起こることを特徴とする請求項２１記載の方法。
【請求項２５】
請求項１〜１４のいずれか１項記載の担体構成（１０）を含む分析装置。
【請求項２６】
前記装置が、サンプルが置かれた前記孔を照射するための手段、および前記孔を通る照射を検出するための検出器をさらに含むことを特徴とする請求項２５記載の装置。
【国際調査報告】
2005507515.tif 000017
2005507515.tif 000018
2005507515.tif 000019