(57)【要約】  紫外光フォトリソグラフィーのための非反射性コーティング材料は、少なくとも１つの吸光性化合物；および少なくとも１つのポロゲン、少なくとも１つの高沸性溶剤、少なくとも１つのキャッピング剤、少なくとも１つの均展剤、少なくとも１つの触媒、少なくとも１つの交代溶剤、少なくとも１つのpH調整剤および／またはそれらの組合せのような少なくとも１つの材料改質剤を含み、これらは無機ベース材料または無機組成物および／または化合物中に組み込まれる。適切な吸光性化合物は、フォトリソグラフィーに使用され得る365nm、248nm、193nmおよび157nmのような波長付近を吸収するものである。【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの無機ベース化合物、少なくとも１つの組込み可能な吸光性化合物、および少なくとも１つの材料改質剤を含んでなる吸光性組成物。
【請求項２】
前記少なくとも１つの材料改質剤が、少なくとも１つのポロゲン、少なくとも１つの高沸性溶剤、少なくとも１つの触媒、少なくとも１つのキャッピング剤、少なくとも１つの均展剤、少なくとも１つの交代溶剤、少なくとも１つのpH調整剤、少なくとも１つの接着促進剤、またはそれらの組合せを含む、請求項１の吸光性組成物。
【請求項３】
前記組込み可能な吸光性化合物が、有機ベース化合物である、請求項１の組成物。
【請求項４】
前記吸光性化合物が、375nmより小さい波長で少なくとも約0.5nm幅の波長域にわたり光を強く吸収する、請求項１の組成物。
【請求項５】
前記吸光性化合物が、375nmより小さい波長で少なくとも約10nm幅の波長域にわたり光を強く吸収する、請求項１の組成物。
【請求項６】
前記波長域が、約260nmより小さい波長を含む、請求項４の組成物。
【請求項７】
前記吸光性化合物が、少なくとも１つのベンゼン環；およびヒドロキシル基、アミン基、カルボン酸基および置換シリル基を含んでなる群から選択される反応基を含んでなる、請求項１の組成物。
【請求項８】
前記吸光性化合物が、２つまたはそれを越えるベンゼン環を含んでなる、請求項７の組成物。
【請求項９】
前記２つまたはそれを越えるベンゼン環が融合している、請求項８の組成物。
【請求項１０】
前記有機吸光性化合物が、アントラフラビ酸、９−アントラセンカルボン酸、９−アントラセンメタノール、アリザリン、キニザリン、プリムリン、２−ヒドロキシ−４（３−トリエトキシシリルプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸、トリエトキシシリルプロピル−１，８−ナフタールイミド、９−アントラセンカルボキシ−アルキルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、１０−フェナントレンカルボキシ−メチルトリエトキシシラン、４−フェニルアゾフェノール、４−エトキシフェニルアゾベンゼン−４−カルボキシ−メチルトリエトキシシラン、４−メトキシフェニルアゾベンゼン−４−カルボキシ−メチルトリエトキシシランまたはそれらの混合物を含む吸光性化合物を含む、請求項７の組成物。
【請求項１１】
前記無機ベース化合物が、ケイ素ベース化合物を含んでなる、請求項１の組成物。
【請求項１２】
前記ケイ素ベース化合物が、ポリマーを含んでなる、請求項１１の組成物。
【請求項１３】
前記ポリマーが、有機シロキサン化合物、例えば、メチルシロキサン、メチルシルセスキオキサン、フェニルシロキサン、フェニルシルセスキオキサン、アクリル性シロキサンポリマー、メチルフェニルシロキサン、メチルフェニルシルセスキオキサン、ケイ酸ポリマー、シラザンポリマーまたはそれらの混合物を含む、請求項１２の組成物。
【請求項１４】
前記ポリマーが、ヒドロゲンシロキサン、ヒドロゲンシルセスキオキサン、有機ヒドリドシロキサン、シルセスキオキサンをベースとする化合物、ケイ酸の誘導体および有機ヒドリドシルセスキオキサンポリマー；ヒドロゲンシルセスキオキサンおよびアルコキシヒドリドシロキサンのコポリマー、ヒドロキシヒドリドシロキサン、ケイ酸の誘導体、またはそれらの混合物を含む、請求項１２の組成物。
【請求項１５】
前記ポリマーが、(H0-1.0SiO1.5-2.0)x（ここでxは4より大きい）および(H0-1.0SiO1.5-2.0)n(R0-1.0SiO1.5-2.0)m（ここでmは0より大きく、nとmの和は約4〜約5000、RはC1〜C20アルキル基またはC6〜C12アリール基である）を含む一般式のものである、請求項１２の組成物。
【請求項１６】
前記少なくとも１つのpH調製剤が水を含んでなる、請求項２の組成物。
【請求項１７】
前記少なくとも１つのpH調製剤が塩基を含んでなる、請求項２の組成物。
【請求項１８】
前記少なくとも１つの塩基がアミンを含んでなる、請求項１７の組成物。
【請求項１９】
前アミンが、アミンをベースとするオリゴマーを含んでなる、請求項１８の組成物。
【請求項２０】
前記少なくとも１つのpH調製剤が酸を含んでなる、請求項２の組成物。
【請求項２１】
前記少なくとも１つの高沸性溶剤がグリセリンを含んでなる、請求項２の組成物。
【請求項２２】
前記少なくとも１つの高沸性溶剤がカルビトールを含んでなる、請求項２の組成物。
【請求項２３】
前記少なくとも１つの高沸性溶剤がジプロピレングリコール（DPG）を含んでなる、請求項２の組成物。
【請求項２４】
前記少なくとも１つの交代溶剤が、イソプロピルアルコール、エタノール、PGMEAまたは２−ヘプタノンを含む、請求項２の組成物。
【請求項２５】
前記少なくとも１つの触媒が弱酸を含んでなる、請求項２の組成物。
【請求項２６】
前記少なくとも１つの接着促進剤が、樹脂をベースとする材料を含んでなる、請求項２の組成物。
【請求項２７】
前記樹脂ベース材料が、少なくとも１つのフェノール含有樹脂、ノボラック樹脂、有機アクリレート樹脂またはスチレン樹脂を含む、請求項２６の組成物。
【請求項２８】
前記接着促進剤が、ポリジメチルシロキサンをベースとする材料、エトキシ又はヒドロキシ含有シランモノマー、ビニル含有シランモノマー、アクリル化シランモノマーまたはシリルヒドリド化合物を含む、請求項２の組成物。
【請求項２９】
前記少なくとも１つのキャッピング剤が終止モノマーを含んでなる、請求項２の組成物。
【請求項３０】
前記終止モノマーがシラン化合物を含んでなる、請求項２９の組成物。
【請求項３１】
前記少なくとも１つのポロゲンが有機化合物を含んでなる、請求項２の組成物。
【請求項３２】
前記有機化合物がポリマーを含んでなる、請求項３１の組成物。
【請求項３３】
前記ポリマーがポリ（エチレンオキシド）を含んでなる、請求項３２の組成物。
【請求項３４】
前記少なくとも１つのポロゲンが触媒を更に含んでなる、請求項２の組成物。
【請求項３５】
前記触媒がTMAAを含んでなる、請求項３４の組成物。
【請求項３６】
請求項１の組成物および追加の溶剤または溶剤混合物を含んでなるコーティング用溶液。
【請求項３７】
前記溶液が、吸光性材料の重量で約0.5%〜約20%である、請求項３６のコーティング用溶液。
【請求項３８】
吸光性組成物の製造方法であって、
少なくとも１つの無機ベース化合物、少なくとも１つの組込み可能な吸光性化合物、少なくとも１つの材料改質剤、酸／水混合物、および１つ又はそれを越える溶剤を組み合わせて反応混合物を形成すること；および
前記反応混合物を室温で吸光性組成物に形成すること；
を含んでなる製造方法。
【請求項３９】
前記材料改質剤が、少なくとも１つのポロゲン、少なくとも１つの高沸性溶剤、少なくとも１つの触媒、少なくとも１つの交代溶剤、少なくとも１つのキャッピング剤、少なくとも１つの均展剤、少なくとも１つの接着促進剤、少なくとも１つのpH調整剤、またはそれらの組合せを含む、請求項３８の製造方法。
【請求項４０】
吸光性組成物の製造方法であって、
少なくとも１つの無機ベース化合物、少なくとも１つの組込み可能な吸光性化合物、少なくとも１つの材料改質剤、酸／水混合物、および１つ又はそれを越える溶剤を組み合わせて反応混合物を形成すること；および
前記反応混合物を加熱して吸光性組成物を形成すること；
を含んでなる製造方法。
【請求項４１】
前記材料改質剤が、少なくとも１つのポロゲン、少なくとも１つの高沸性溶剤、少なくとも１つの触媒、少なくとも１つの交代溶剤、少なくとも１つのキャッピング剤、少なくとも１つの均展剤、少なくとも１つの接着促進剤、少なくとも１つのpH調整剤、またはそれらの組合せを含む、請求項４０の製造方法。
【請求項４２】
吸光性組成物の製造方法であって、
少なくとも１つの無機ベース化合物、少なくとも１つの組込み可能な吸光性化合物、少なくとも１つの材料改質剤、および１つ又はそれを越える溶剤を組み合わせて反応混合物を形成すること、ここで前記少なくとも１つの材料改質剤が少なくとも１つの酸および水を含んでなり；および
前記反応混合物を加熱して、吸光性材料、コーティングまたはフィルムを形成すること；
を含んでなる製造方法。
【請求項４３】
前記材料改質剤が、少なくとも１つのポロゲン、少なくとも１つの高沸性溶剤、少なくとも１つの触媒、少なくとも１つの交代溶剤、少なくとも１つのキャッピング剤、少なくとも１つの均展剤、少なくとも１つの接着促進剤、少なくとも１つのpH調整剤、またはそれらの組合せを含む、請求項４２の製造方法。
【請求項４４】
吸光性組成物の製造方法であって、
少なくとも１つの無機ベース化合物、少なくとも１つの組込み可能な吸光性化合物、少なくとも１つの材料改質剤、および１つ又はそれを越える溶剤を組み合わせて反応混合物を形成すること、ここで前記少なくとも１つの材料改質剤が少なくとも１つの酸および水を含んでなり；および
前記反応混合物を、吸光性材料、コーティングまたはフィルムに形成すること；
を含んでなる製造方法。
【請求項４５】
前記材料改質剤が、少なくとも１つのポロゲン、少なくとも１つの高沸性溶剤、少なくとも１つの触媒、少なくとも１つの交代溶剤、少なくとも１つのキャッピング剤、少なくとも１つの均展剤、少なくとも１つの接着促進剤、少なくとも１つのpH調整剤、またはそれらの組合せを含む、請求項４４の製造方法。
【請求項４６】
前記少なくとも１つの吸光性化合物が、少なくとも１つのベンゼン環；およびヒドロキシル基、アミン基、カルボン酸基、または置換シリル基（ここでケイ素原子は、アルコキシ基、アセトキシ基またはハロゲン原子を含んでなる吸光性化合物上の少なくとも１つの置換体に結合している）を含んでなる群から選択される反応基を含む、請求項３８、４０、４２又は４４のいずれか１項の製造方法。
【請求項４７】
前記少なくとも１つの吸光性化合物が、アントラフラビ酸、９−アントラセンカルボン酸、９−アントラセンメタノール、アリザリン、キニザリン、プリムリン、２−ヒドロキシ−４（３−トリエトキシシリルプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸、トリエトキシシリルプロピル−１，８−ナフタールイミド、９−アントラセンカルボキシ−アルキルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、１０−フェナントレンカルボキシ−メチルトリエトキシシラン、４−フェニルアゾフェノール、４−エトキシフェニルアゾベンゼン−４−カルボキシ−メチルトリエトキシシラン、４−メトキシフェニルアゾベンゼン−４−カルボキシ−メチルトリエトキシシランまたはそれらの混合物を含む、請求項３８、４０、４２又は４４のいずれか１項の製造方法。
【請求項４８】
前記少なくとも１つの無機ベース化合物が、トリエトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、トリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、トリクロロシラン、メチルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、テトラクロロシラン、クロロトリエトキシシラン、クロロトリメトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、クロロエチルトリエトキシシラン、クロロフェニルトリエトキシシラン、クロロメチルトリメトキシシラン、クロロエチルトリメトキシシラン、クロロフェニルトリメトキシシラン、テトラアセトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、ジフェニルジアセトキシシラン、およびジメチルジアセトキシシランを含む、請求項３８、４０、４２又は４４のいずれか１項の製造方法。
【請求項４９】
前記少なくとも１つのpH調製剤が水を含んでなる、請求項４１、４３又は４５のいずれか１項の製造方法。
【請求項５０】
前記少なくとも１つのpH調製剤が塩基を含んでなる、請求項４１、４３又は４５のいずれか１項の製造方法。
【請求項５１】
前記少なくとも１つの塩基がアミンを含んでなる、請求項５０の製造方法。
【請求項５２】
前記アミンが、アミンをベースとするオリゴマーを含んでなる、請求項５１の製造方法。
【請求項５３】
前記少なくとも１つのpH調製剤が酸を含んでなる、請求項４１、４３又は４５のいずれか１項の製造方法。
【請求項５４】
前記少なくとも１つの高沸性溶剤がグリセリンを含んでなる、請求項４１、４３又は４５のいずれか１項の製造方法。
【請求項５５】
前記少なくとも１つの高沸性溶剤がカルビトールを含んでなる、請求項４１、４３又は４５のいずれか１項の製造方法。
【請求項５６】
前記少なくとも１つの高沸性溶剤がジプロピレングリコール（DPG）を含んでなる、請求項４１、４３又は４５のいずれか１項の製造方法。
【請求項５７】
前記少なくとも１つの交代溶剤が、イソプロピルアルコール、エタノール、PGMEAまたは２−ヘプタノンを含む、請求項４１、４３又は４５のいずれか１項の製造方法。
【請求項５８】
前記少なくとも１つの触媒が弱酸を含んでなる、請求項４１、４３又は４５のいずれか１項の製造方法。
【請求項５９】
前記少なくとも１つの接着促進剤がノボラック樹脂を含んでなる、請求項４１、４３又は４５のいずれか１項の製造方法。
【請求項６０】
前記少なくとも１つの接着促進剤が、樹脂をベースとする材料を含んでなる、請求項４１、４３又は４５のいずれか１項の製造方法。
【請求項６１】
前記樹脂ベース材料が、少なくとも１つのフェノール含有樹脂、ノボラック樹脂、有機アクリレート樹脂またはスチレン樹脂を含む、請求項６０の製造方法。
【請求項６２】
前記接着促進剤が、ポリジメチルシロキサンをベースとする材料；エトキシ、メトキシ、アセトキシまたはヒドロキシ含有シランモノマー；ビニル含有シランモノマー；アクリル化シランモノマー；またはシリルヒドリド化合物を含む、請求項４１、４３又は４５のいずれか１項の製造方法。
【請求項６３】
前記終止モノマーがシラン化合物を含んでなる、請求項５８の製造方法。
【請求項６４】
前記少なくとも１つのポロゲンが有機化合物を含んでなる、請求項４１、４３又は４５のいずれか１項の製造方法。
【請求項６５】
前記有機化合物がポリマーを含んでなる、請求項６４の製造方法。
【請求項６６】
前記ポリマーがポリ（エチレンオキシド）を含んでなる、請求項６５の製造方法。
【請求項６７】
前記少なくとも１つのポロゲンが触媒を更に含んでなる、、請求項４１、４３又は４５のいずれか１項の製造方法。
【請求項６８】
前記触媒がTMAAを含んでなる、請求項６７の製造方法。
【請求項６９】
吸光性材料を含有するコーティング用溶液の製造方法であって、
少なくとも１つのアルコキシシランまたはハロシランまたはアセトキシシラン、少なくとも１つの組込み可能な吸光性化合物、少なくとも１つのポロゲン、少なくとも１つの高沸性溶剤、少なくとも１つの触媒、少なくとも１つの交代溶剤、少なくとも１つのキャッピング剤、少なくとも１つの接着促進剤、少なくとも１つのpH調整剤またはそれらの組合せ；酸及び水混合物；および１つ又はそれを越える溶剤を組み合わせて、反応混合物を形成すること；および
前記混合物をほぼ室温で発熱式に反応させてコーティング用溶液を形成すること；
を含んでなる製造方法。
【請求項７０】
吸光性材料を含有するコーティング用溶液の製造方法であって、
少なくとも１つのアルコキシシランまたはハロシランまたはアセトキシシラン、少なくとも１つの組込み可能な吸光性化合物；少なくとも１つのポロゲン、少なくとも１つの高沸性溶剤、少なくとも１つの触媒、少なくとも１つの交代溶剤、少なくとも１つのキャッピング剤、少なくとも１つの均展剤、少なくとも１つの接着促進剤、少なくとも１つのpH調整剤またはそれらの組合せ；酸／水混合物；および１つ又はそれを越える溶剤を組み合わせて、反応混合物を形成すること；および
前記反応混合物を加熱してコーティング用溶液を形成すること；
を含んでなる製造方法。
【請求項７１】
前記少なくとも１つのpH調製剤が水を含んでなる、請求項６９又は７０のいずれかの製造方法。
【請求項７２】
前記少なくとも１つのpH調製剤が塩基を含んでなる、請求項６９又は７０のいずれかの製造方法。
【請求項７３】
前記少なくとも１つの塩基がアミンを含んでなる、請求項７２の製造方法。
【請求項７４】
前記アミンが、アミンをベースとするオリゴマーを含んでなる、請求項７３の製造方法。
【請求項７５】
前記少なくとも１つのpH調製剤が酸を含んでなる、請求項６９又は７０のいずれかの製造方法。
【請求項７６】
前記少なくとも１つの高沸性溶剤がグリセリンを含んでなる、請求項６９又は７０のいずれかの製造方法。
【請求項７７】
前記少なくとも１つの高沸性溶剤がカルビトールを含んでなる、請求項６９又は７０のいずれかの製造方法。
【請求項７８】
前記少なくとも１つの高沸性溶剤がジプロピレングリコール（DPG）を含んでなる、請求項６９又は７０のいずれかの製造方法。
【請求項７９】
前記少なくとも１つの交代溶剤が、イソプロピルアルコール、エタノール、PGMEAまたは２−ヘプタノンを含む、請求項６９又は７０のいずれかの製造方法。
【請求項８０】
前記少なくとも１つの触媒が弱酸を含んでなる、請求項６９又は７０のいずれかの製造方法。
【請求項８１】
前記少なくとも１つの接着促進剤が、樹脂をベースとする材料を含んでなる、請求項６９又は７０のいずれかの製造方法。
【請求項８２】
前記樹脂ベース材料が、少なくとも１つのフェノール含有樹脂、ノボラック樹脂、有機アクリレート樹脂またはスチレン樹脂を含む、請求項８１の製造方法。
【請求項８３】
前記接着促進剤が、ポリジメチルシロキサンをベースとする材料、エトキシまたはヒドロキシ含有シランモノマー、ビニル含有シランモノマー、アクリル化シランモノマーまたはシリルヒドリド化合物を含んでなる、請求項６９又は７０のいずれかの製造方法。
【請求項８４】
前記少なくとも１つのキャッピング剤が終止モノマーを含んでなる、請求項６９又は７０のいずれかの製造方法。
【請求項８５】
前記終止モノマーがシラン化合物を含んでなる、請求項８４の製造方法。
【請求項８６】
前記少なくとも１つのポロゲンが有機化合物を含んでなる、請求項６９又は７０のいずれかの製造方法。
【請求項８７】
前記有機化合物がポリマーを含んでなる、請求項８６の製造方法。
【請求項８８】
前記ポリマーがポリ（エチレンオキシド）を含んでなる、請求項８７の製造方法。
【請求項８９】
前記少なくとも１つのポロゲンが触媒を更に含んでなる、請求項６９又は７０のいずれかの製造方法。
【請求項９０】
前記触媒がTMAAを含んでなる、請求項８９の製造方法。
【請求項９１】
１つ又はそれを越える希釈溶剤を前記吸光性組成物に加えてコーティング用溶液を生成することを更に含んでなる、請求項６９又は７０のいずれかの製造方法。
【請求項９２】
レジスト材料と対合した請求項１の吸光性組成物を含んでなる層化材料。
【請求項９３】
請求項１の吸光性組成物を含んでなる半導体部品。
【請求項９４】
請求項１の吸光性組成物を含んでなるフィルム。
【請求項９５】
請求項１の吸光性組成物を含んでなる電子部品。
【請求項９６】
前記吸光性組成物が少なくとも部分的に除去されるようにデザインされている、請求項１の組成物。
【請求項９７】
前記レジスト材料が、157nm、193nm、248nmおよび365nmが含まれる波長域にわたり光を吸収する、請求項９２の組成物。
【請求項９８】
前記少なくとも１つのポロゲンが、ポリエチレンオキシド、ポリ（プロピレングリコール）ジプロピレングリコールを含んでなる、請求項１の吸光性組成物。
【請求項９９】
前記少なくとも１つのポロゲンが分子量を持ち、前記無機ベース化合物がマトリックスを形成する、請求項１の吸光性組成物。
【請求項１００】
前記分子量が前記マトリックスの溶解度と適合性である、請求項９９の吸光性組成物。
【請求項１０１】
少なくとも１つの無機ベースモノマーを前記反応混合物に加えることを更に含む、請求項３８の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、概して非反射性コーティング材料に関し、より詳しくは、フォトリソグラフィにおける使用のための非反射性層およびそれら材料の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
より速いパフォーマンスについての要求を満たすため、集積回路デバイスの特徴である特性的寸法は小さくなりつつある。より小さい特徴的サイズを持つデバイスの作製は、半導体作製に慣例的に使用されている多くの製造において新しい試みを導く。これらの作製工程の最も重要なものの１つがフォトリソグラフィである。
【０００３】
フォトリソグラフィにより作られるパターン内の線幅は、半導体ウエハ上の基層に反射する光からの光学的干渉からもたらされ得ると長い間認識されている。また、その基層のトポグラフィに起因する様々なフォトレジスト厚も線幅の多様性を誘導する。フォトレジスト層下に適用される非反射性コーティング（ARC）は、干渉を照射ビームの反射から防ぐために使用されている。加えて、フォトレジスト厚は均一であるので、非反射性コーティングはウエハトポグラフィを部分的に平坦化し、段差上にかかる線幅バリエーションを改善することに役立つ。
【０００４】
有機ポリマーフィルム、特にフォトレジストを露光するために慣例的に使用されているｉ線（365nm）およびｇ線（436nm）波長でおよび最近使用されている157nm、193nm、248nm波長で吸収するフィルムは、非反射性コーティングとして使用され、或いは試験されている。しかし、有機ARCは有機フォトレジストと共に多くの化学特性を共有するということが、使用可能な工程配列を制限し得る。さらに、有機および無機ARCの双方を含め、ARCはフォトレジスト層と混ざり合い得る。有機および無機ARCは、それらを十分にベークさせるか又は硬化させなければ、フォトレジストと混ざり合い得る。
【０００５】
互いの混ざり合いを回避する１つの解決策は、例えば、Flaim等へのUS特許第5,693,691号に記載されているように、有機ARCの添加化合物として熱硬化性バインダーを導入することである。色素をARC中に組み込んでもよく、また場合により、Arnold等へのUS特許第4,910,122号に記載されているように湿潤剤、接着促進剤、保存料および可塑剤のような追加の添加物も同様である。混ざり合いを防ぐための他の試みは、Iguchi等へ発行されたUS特許6,268,108号に見出される。しかし、Iguchiにおいて見出された非反射性コーティングを形成するための組成物は、酸を生成させて順々に架橋反応を活性化するために化学線で照射されなければならない。これら先行特許は混ざり合いでの幾つかの問題を解決し得るものではあるが、対を成したARC層のためレジストエッジ上の86〜90度均一性の欠如という問題は、先行技術において解決されていない。
【０００６】
また、フォトレジストと非反射性コーティングは、パターンがレジスト内へひとたび展開されると非反射性コーティングおよび／またはレジスト材料の化学特性がそのレジストを“倒れかかり（Fall over）”に導き得るという程、互いに影響を与え得るものである。換言すると、パターン化されたレジスト側壁は、フォトレジスト展開後に非反射性コーティングに対して約90度の度角を維持することができない。そうはいかずレジストは非反射性コーティングに対して120度または80度角をとるであろう。これら不完全性は、フォトレジスト材料と非反射性コーティングが必ずしも化学的、物理的又は機械的に適合していないということの示唆でもある。
【０００７】
また、フォトレジストおよび非反射性コーティングは、標準に達しないか又は許容できないエッチ選択性および剥奪（stripping）選択性を有し得る。乏しいエッチ選択性および剥奪選択性は、プリント工程からエッチ工程を通じて重要な寸法の不十分な転写を導き得る。2001年4月6日に公開されたJP特許出願2001-92122号において見られるように、シラン化合物を特定のシラン化合物にコンデンスできる置換基を持つ高吸光性物質を提供することによりエッチ比を改善するという試みがなされている。しかし、これら反応性化合物で得られるエッチ選択性は、殆どのフォトレジストおよび非反射性コーティングにとって十分ではなく、不要であろう追加的な化学反応工程を要求する。
【０００８】
加えて、フォトレジストおよび非反射性レジストコーティングは、しばしばその表面のあらゆる平坦化が深刻に悪化するまでにビア構造内の充填偏りおよび空洞化での困難性を有する。しばしば、エッチ選択性を高めることおよび充填偏りと空洞化を最小化するという２つの目標は直接的に相容れないものであり、それは、各グループの用途の目標を見直して理解することが重要であることの理由である。また、アレイを介して十分に充填し且つ平坦化することは、比較的厚い非反射性コーティングが存在することを要求する。そのARCコーティングが有機的なものであるなら、そのような厚いコーティングは、フィルム積重を通じてパターン化された重要な寸法の正確な転写を更に悪化させることとなる。
【０００９】
非反射性層として使用できる材料の１クラスは、色素を含有するスピンオンガラス（SOG）組成物である。Yau等、US特許第4,587,138号は、約1wt%の量のスピンオンガラスと混合させたベーシックイエロー#11のような色素を開示する。Allman等、US特許第5,100,503号は、TiO2、Cr2O7、MoO4、MnO4又はScO4のような無機色素および接着促進剤を含有する架橋されたポリ有機シロキサンを開示する。加えてAllmanは、スピンオンガラス組成物も平坦化層として役立つことを教示する。しかし、当時開示されたスピンオンガラス、色素の組合せは、小さな特徴的サイズを持つデバイスを製造するために使用することになる遠紫外線、特に248および193nmの光源に曝すには最適なものではない。さらには、すべての色素が任意のスピンオンガラス組成物中に容易に組込み可能であるとは限らない。また、これらARCは前述した有機ARCとは化学的に異なるものであるが、対合したレジスト層は展開された後の“倒れかかり”を未だ欠点とし、これはARC層とレジスト層との化学的、物理的および機械的な非適合性に基づくので、レジスト材料と非反射性コーティングを対合させようとする場合の共通の問題である。
【００１０】
ａ）紫外線スペクトル領域において強力且つ均一に吸収することができ；ｂ）レジスト材料を“倒れかかり”および意図されたレジスト線の外側の拡がり又は内側の接触から保持することができ；且つｃ）フォトレジスト現像剤およびスピンオンガラス非反射性コーティングの製造方法に影響され得ない非反射性コーティングを開発することにおいて、Baldwin等は、従来の非反射性コーティングに優る幾つかの非反射性コーティングを開発した。それには、2001年7月31日に発行されたUS特許第6,268,457号；2002年4月2日に発行された第6,365,765号；2002年4月9日に発行された第6,368,400号；2000年1月26日に提出されたUS特許出願第09/491166号；2001年11月5日に提出された第10/012651号；2001年11月5日に提出された第10/012649号；2001年11月15日に提出された第10/001143号；2000年6月8日に提出された国際特許出願PCT/US00/15772号；2001年7月12日に提出されたWO02/06402；2001年11月15日に提出されたPCT/US01/45306；2002年10月31日に提出された係属中の国際特許出願（出願番号は未付与）；2000年6月6日に提出されたヨーロッパ特許出願第00941275.0号；および2001年7月17日に提出された第01958953.0号が含まれ、これらはすべて通例の譲受人に帰属しており、参照によってそれら全体が本願明細書中に組み込まれる。また、Honeywell Electronic Materials（商標）は、低誘電率メチルフェニルシルセスキオキサン（methylphenylsilsesquioxane）化合物を含んでなるスピンオンポリマーであるACCUSPIN（登録商標）を製造している。この製品の有機含量は約47%であり、ｎ−プロポキシプロパノールのような高い引火点に調合されている。193nm波長でのその“ｎ”および“ｋ”特性は、それぞれ約1.9および0.6である。しかし、これらすべての材料で、そこに記載されている材料、コーティングおよびフィルムを改質し、エッチ選択性および／または剥奪選択性を改善し充填偏りを最小化できることは有益であろう。
【００１１】
したがって、ａ）紫外線スペクトル領域において強力且つ均一に吸収することができ；ｂ）レジスト材料を“倒れかかり”および意図されたレジスト線の外側の拡がり又は内側の接触から保持することができ；且つｃ）フォトレジスト現像剤および記載のSOG非反射性コーティングの製造方法に影響されることがなく；ｄ）エッチ選択性および／または剥奪選択性を増加するという如何なる目標も達成することができ；且つｅ）ビア構造における充填偏りおよび空洞化を最少化するという如何なる目標も達成することができる吸光性で非反射性のコーティングおよびリソグラフィー材料は、層化材料、つまり電子部品および半導体部品の製造を進展させるのに望ましいものであろう。
【発明の要旨】
【００１２】
紫外線フォトリソグラフィーのための非反射性コーティング材料は、少なくとも１つの無機ベース化合物；少なくとも１つの吸光性化合物；および少なくとも１つの材料改質剤を含んでなる。少なくとも１つの材料改質剤には、得られる材料のフォトリソグラフィック適合性または物理的品質を改善するために、例えば、エッチ選択性および／または剥奪選択性を改善することによって或いは充填偏りを最小化することによってコーティング材料を改質することができるあらゆる化合物または組成物が含まれ得る。少なくとも１つの材料改質剤は、無機質ベースの材料または化合物に組み込まれるものであって、少なくとも１つのポロゲン（porogen）、少なくとも１つの高沸性溶剤、少なくとも１つの触媒、少なくとも１つの均展剤、少なくとも１つのpH調整剤、少なくとも１つの交代溶剤、少なくとも１つのキャッピング剤、樹脂ベースの材料またはその組合せのような少なくとも１つの接着促進剤を含んでもよい。樹脂ベースの接着促進剤は、フェノール含有樹脂、ノボラック樹脂、例えば、CRJ-406またはHRJ-11040（双方ともSchenectady International, Inc.からのもの）、有機アクリレート樹脂および／またはスチレン樹脂を含んでもよい。他の接着促進剤は、ポリジメチルシロキサン材料、エトキシ又はヒドロキシ含有シランモノマー、ビニル含有シランモノマー、アクリル化シランモノマー、またはシリルヒドリドを含んでもよい。
【００１３】
無機材料および無機ベース化合物は、シリコンベース、ガリウムベース、ヒ素ベース、ホウ素ベースまたはそれら無機元素と材料の組合せのような無機部分を含んでなるあらゆる化合物、材料および組成物を含んでもよい。幾つかの企図される無機材料は、スピンオンガラス材料、例えば、メチルシロキサン、メチルシルセスキオキサン、フェニルシロキサン、フェニルシルセスキオキサン、ジメチルシロキサン、ジフェニルシロキサン、メチルフェニルシロキサン、メチルフェニルシルセスキオキサン、シリケートポリマー、およびそれらの混合物を含んでもよい。本願明細書に使用されているような“スピンオンガラス材料”として知られているグループも、シロキサンポリマー、一般式(H0-1.0SiO1.5-2.0)xのヒドロゲンシロキサンポリマー、および一般式(HSiO1.5)xを有するヒドロゲンシルセスキオキサンポリマー（ここでxは約4より大きい）を含んでなる。また、ヒドロゲンシルセスキオキサンおよびアルコキシヒドリドシロキサンまたはヒドロキシヒドリドシロキサンのコポリマーも含まれる。スピンオンガラス材料は、有機シロキサンポリマー、アクリル性シロキサンポリマー、シルセスキオキサンをべースとするポリマー、ケイ酸の誘導体、一般式(H0-1.0SiO1.5-2.0)n(R0-1.0SiO1.5-2.0)mの有機ヒドリドシロキサンポリマー、および一般式(HSiO1.5)n(ＲSiO1.5)mの有機ヒドリドシルセスキオキサンポリマー（ここでmはゼロより大きく、nとmの和は約4より大きく、Rはアルキルまたはアリールである）を追加的に含む。
【００１４】
無機材料および無機ベース化合物への組込みに適する吸光性化合物は、375nm未満または約260nm未満の波長で強く吸収する。特に、適した吸光性化合物は、248nm、193nm、157nmのような波長またはフォトリソグラフィーに使用され得る365nmのような他の紫外波長の辺りである。適した化合物の発光団は、典型的には少なくとも１つのベンゼン環を有し、それらの例では、２つ又はそれを越えるベンゼン環があり、それら環が融合していてもよいし、融合していなくともよい。組込み可能な吸光性化合物は、その発光団に付いた利用可能な反応基を有し、それら反応基には、ヒドロキシル基、アミン基、カルボン酸基、および１つ、２つもしくは３つのアルコキシ基、アセトキシ基、ヒドロキシもしくはハロゲン元素置換体に結合したケイ素での置換シリル基が含まれる。それら反応基は発光団に直接結合してもよいし、それら反応基は炭化水素架橋、カルボニル含有基またはエステル、ケトンおよび／または酸素連結を介して発光団に付いてもよい。また、それら発光団は、ケイ素をベースとする化合物、または無機材料を調合するのに使用されるそれらポリマーに類似するポリマーを含んでもよい。
【００１５】
上述した通り、少なくとも１つの材料改質剤は、無機質ベースの材料または化合物に組み込まれる、例えば、少なくとも１つのポロゲン、少なくとも１つの高沸性溶剤、少なくとも１つの触媒、少なくとも１つのpH調整剤、少なくとも１つのキャッピング剤、少なくとも１つの交代溶剤、少なくとも１つの均展剤、樹脂ベースの材料および／またはそれらの組合せのような少なくとも１つの接着促進剤である。樹脂ベースの接着促進剤は、フェノール含有樹脂、ノボラック樹脂、例えば、CRJ-406またはHRJ-11040（双方ともSchenectady International, Inc.からのもの）、有機アクリレート樹脂および／またはスチレン樹脂を含んでもよい。他の接着促進剤は、ポリジメチルシロキサン材料、エトキシ又はヒドロキシ含有シランモノマー、ビニル含有シランモノマー、アクリル化シランモノマー、またはシリルヒドリドを含んでもよい。ポロゲン、高沸性溶剤、触媒、均展剤、pH調整剤、１つの交代溶剤、キャッピング剤、１つの接着促進剤および／またはそれらの組合せである材料改質剤は、製造される構成部材または層化材料の設計目標に合うよう非反射性コーティング材料を改質または調整するために添加される。より具体的には、材料改質剤は、ａ）そのコーティング材料のエッチ選択性および／または剥奪比を増加させ；ｂ）そのビア構造内の充填偏りおよび／または空洞化を最小化し；ｃ）パターンがレジスト内に展開されたときのレジスト“倒れかかり”を低減するであろう。
【００１６】
吸光性で非反射性の材料は、慣例的には、シランおよびケイ素をベースとする反応体、例えば、トリエトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、トリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、テトラアセトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、およびジフェニルジアセトキシシランから合成される。しかし、ガリウム、ヒ素、ゲルマニウム、ホウ素、類似の原子および材料を、吸光性で非反射性の材料を製造するためにケイ素原子と一緒に使用してもよいし、その単独原子の材料として使用してもよい。またハロシラン類、特にクロロシランをシラン反応体として使用してもよい。
【００１７】
吸光性非反射性組成物を製造する方法は、少なくとも１つの無機ベース組成物；少なくとも１つの組込み可能な吸光性化合物；および少なくとも１つのポロゲン、少なくとも１つの高沸性溶剤、少なくとも１つの均展剤、少なくとも１つの触媒、少なくとも１つのpH調整剤、少なくとも１つのキャッピング剤、少なくとも１つの接着促進剤および／または少なくとも１つの交代溶剤、硝酸／水混合物のような酸／水混合物、および少なくとも１つの溶剤が含まれる材料改質剤を組合せて反応混合物を形成すること、および次いでほぼ室温で放置し発熱式に反応させるか、40℃よりも高い温度まで温めるか、又はその反応混合物を還流させて吸光性組成物を形成することを含む。次いで、形成された非反射性組成物は様々な厚みのフィルムを製造するためのコーティング用溶液を提供するために少なくとも１つの溶剤で希釈される。コーティング用溶液は、スピンオンコーティング、ディッピング、ローリング、またはディップコーティングのようなあらゆる適切な方法または装置により塗布され得る。また他のやり方では、少なくとも１つのポロゲン、少なくとも１つの高沸性溶剤、少なくとも１つの均展剤、少なくとも１つのキャッピング剤、少なくとも１つの触媒、少なくとも１つのpH調整剤、少なくとも１つの交代溶剤および／またはそれらの組合せのような材料改質剤は、還流工程の間または還流工程の後に添加されてもよい。
【００１８】
吸光性で非反射性の組成物を製造する他の方法では、少なくとも１つの無機ベース組成物または無機材料；少なくとも１つの組込み可能な吸光性化合物；少なくとも１つのポロゲン、少なくとも１つの高沸性溶剤、少なくとも１つの触媒、少なくとも１つのpH調整剤、少なくとも１つの均展剤、少なくとも１つのキャッピング剤、少なくとも１つの交代溶剤、少なくとも１つの接着促進剤および／またはそれらの組合せのような少なくとも１つの材料改質剤；および少なくとも１つの追加の溶剤を組み合わせて反応混合物を形成することができる。次いで、その反応混合物をほぼ室温で放置して発熱式に反応させるか、約40℃またはそれよりも高い温度まで温めるか、又は還流させて吸光性非反射性組成物を形成させる。形成された非反射性組成物は、少なくとも１つの溶剤で希釈され、あらゆる適切な工程によって表面に塗布されて様々な厚みのフィルムを生成することができるコーティング用溶液を提供する。本法におけるpH調整剤は、慣用的な様々の酸／水混合物であることができ、そこで異なる酸が添加されても、少なめの酸が添加されても、或いは多めの水が添加されてもよい。しかし、選択されるpH調整剤に関係なく、基礎的な主要部分は維持されたままとなり、つまりそれは、そのpHがpH調整剤に影響を受けるということにとどまらず、ARCの化学的、機械的および物理的特性をもが影響を受け、より適合性のジスト／ARC対合をもたらすということである。
【００１９】
開示される主題のまた別の側面において、吸光性で非反射性の組成物が製造され、それは少なくとも１つのケイ素をベースとする化合物；約375nmより小さい波長で光を吸収する少なくとも１つの組込み可能な吸光性化合物；および、少なくとも１つのポロゲン、少なくとも１つの高沸性溶剤、少なくとも１つのキャッピング剤、少なくとも１つの触媒、少なくとも１つの均展剤、少なくとも１つのpH調整剤、少なくとも１つの接着促進剤および／または少なくとも１つの交代溶剤のような少なくとも１つの材料改質剤を含んでなる。更に、少なくとも１つのケイ素ベース化合物または組込み可能な吸光性化合物が、少なくとも１つのアルキル基、アルコキシ基、アセトキシ基、ケトン基またはアゾ基を含んでなる吸光性スピンオン組成物が提供される。
【００２０】
本発明のまた別の側面によれば、９−アントラセンカルボキシ−アルキルトリアルコキシシランを含む化学クラスの吸光性化合物を含んでなる組成物が提供される。９−アントラセンカルボキシ−アルキルトリアルコキシシラン類のいずれか１つを合成する方法は、９−アントラセンカルボン酸、クロロアルキルトリアルコキシシラン、トリエチルアミン、および反応混合物を形成するための溶剤を組み合わせること；その反応混合物を還流すること；還流させた反応混合物を冷却して沈殿物と残留溶液を形成すること；および残留溶液をろ過して液体状９−アントラセンカルボキシ−アルキルトリアルコキシシランを生成することを含む。吸光性化合物は、無機ベース化合物であってもよい。
【００２１】
別のやり方では、吸光性で非反射性の組成物を製造するまた別の方法は、その重合化反応が“仕込まれたシラン添加”方法で開始した後に添加される少なくとも１つの無機ベースモノマーを要求する。次いで、残りのあらゆるシランモノマー、約375nmより小さい波長で光を吸収する組込み可能な吸光性化合物、および少なくとも１つのポロゲン、少なくとも１つの高沸性溶剤、少なくとも１つの触媒、少なくとも１つのpH調整剤、少なくとも１つの均展剤、少なくとも１つの接着促進剤、少なくとも１つの交代溶剤、少なくとも１つのキャッピング剤および／またはそれらの組合せが含まれる材料改質剤を、重合化後にその反応混合物に加える。
【００２２】
テーブル１は、アセトンフリーおよびアセトン／IPAフリー混合物を使用する予備熟成実験を示す。PORはコントロールである。
テーブル２は、企図された材料の６つの“実施”について、還流時間、温度、ガスクロマトグラフィ情報、厚さ、光学的特性、水、エタノール、ブタノールおよびPGMEAの比率、密度、pHおよび固体のトータルパーセントを示す。
テーブル３は、テーブル２に表された６つの実施についての熱立ち上げデータを示す。
テーブル４（第１部および第２部）は、異なるｐH測定値での幾つかの企図された材料について、これに対し異なるｐH測定値での高い沸点溶剤を持つ他の企図された材料について、ビア充填  対  厚さおよびピッチのまとめを示す。
テーブル５は、水コントロール実験からの親配合物QC結果を示す。
テーブル６は、水コントロール実験からの子配合物QC結果を示す。
テーブル７は、図３１に図示される実施例４について集計したデータを示す。
テーブル８は、本主題の企図された化合物を使用して行われたエッチ溶液実験を示す。
【詳細な記載】
【００２３】
紫外フォトリソグラフィのための非反射性コーティング材料は、少なくとも１つの無機ベース化合物または無機材料；少なくとも１つの吸光性化合物、および少なくとも１つの材料改質剤を含んでなる。少なくとも１つの材料改質剤には、得られる材料のフォトリソグラフィック適合性および／または物理的資質を改善するために、例えば、エッチ選択性および／または剥奪選択性を改善することによって或いは充填偏りを最小化することによってコーティング材料を改質することができるあらゆる化合物または組成物が含まれ得る。少なくとも１つの材料改質剤は、無機質ベース材料または化合物中に組み込まれるものであって、少なくとも１つのポロゲン、少なくとも１つの均展剤、少なくとも１つの高沸性溶剤、少なくとも１つの触媒、少なくとも１つのpH調整剤、少なくとも１つのキャッピング剤、少なくとも１つの交代溶剤、少なくとも１つの接着促進剤、例えば、樹脂ベース材料および／またはそれらの組合せを含んでもよい。樹脂ベースの接着促進剤は、有機樹脂、例えば、フェノール含有樹脂、ノボラック樹脂、例えば、CRJ-406またはHRJ-11040（双方ともSchenectady International, Inc.からのもの）、およびアクリレート樹脂および／またはスチレン樹脂を含んでもよい。他の接着促進剤は、ポリジメチルシロキサン材料、エトキシ又はヒドロキシ含有シランモノマー、ビニル含有シランモノマー、アクリル化シランモノマー、またはシリルヒドリドを含んでもよい。
【００２４】
吸光性組成物は、適切な溶剤中に更に希釈されてコーティング用溶液を形成し、層化材料、電子デバイスおよび半導体デバイスの製造における材料の様々な層に適用される。コーティング用溶液は、表面上へのスピニング、表面上へのディッピング、表面上へのローリングおよび／またはこれらの方法もしくは工程のあらゆる組合せを含む適切な方法または工程により塗布され得る。吸光性非反射性コーティングは、存在する層化材料、電子部材または半導体製造工程へ容易に統合（integrate）するようにデザインされる。統合を容易にする幾つかの特性には、ａ）現像剤耐性、ｂ）標準フォトレジスト加工の間の熱安定性、およびｃ）基層に対する選択的除去が含まれる。
【００２５】
無機ベース材料および無機化合物
無機ベース化合物および／または材料、および／または企図されるスピンオン無機ベース化合物および／または材料、例えば、シリコンベース、ガリウムベース、ゲルマニウムベース、ヒ素ベース、ホウ素ベースの化合物またはそれらの組合せが、本願明細書において企図される。シリコンベース化合物の例には、シロキサン化合物、例えば、メチルシロキサン、メチルシルセスキオキサン、フェニルシロキサン、フェニルシルセスキオキサン、メチルフェニルシロキサン、メチルフェニルシルセスキオキサン、シラザンポリマー、ジメチルシロキサン、ジフェニルシロキサン、メチルフェニルシロキサン、シリケートポリマー、ケイ酸誘導体、およびそれらの混合物が含まれる。企図されるシラザンポリマーは、発光団が付着できる“透光性”ポリマー主鎖を有するペルヒドロシラザンである。
【００２６】
本願明細書に使用されるような無機ベース材料、無機化合物およびスピンオンガラス材料には、シロキサンポリマーおよびブロックポリマー、つまり一般式(H0-1.0SiO1.5-2.0)xのヒドロゲンシロキサンポリマー、一般式(HSiO1.5)xを有するヒドロゲンシルセスキオキサンポリマー（ここでｘは約４より大きい）およびケイ酸の誘導体も含まれる。また、ヒドロゲンシルセスキオキサンおよびアルコキシヒドリドシロキサンまたはヒドロキシヒドリドシロキサンのコポリマーも含まれる。本願明細書において企図される材料には、有機シロキサンポリマー、アクリル性シロキサンポリマー、シルセスキオキサンをべースとするポリマー、ケイ酸の誘導体、一般式(H0-1.0SiO1.5-2.0)n(R0-1.0SiO1.5-2.0)mの有機ヒドリドシロキサンポリマー、および一般式(HSiO1.5)n(RSiO1.5)mの有機ヒドリドシルセスキオキサンポリマー（ここでｍはゼロより大きく、ｎとｍの和は約４より大きく、Rはアルキルまたはアリールである）が追加的に含まれる。幾つかの有用な有機ヒドリドシロキサンポリマーは、ｎとｍの和が約4〜約5000でありRがC1-C20アルキル基またはC6-C12アリール基を有する。有機ヒドリドシロキサンポリマーおよび有機ヒドリドシルセスキオキサンポリマーは、代わりにスピンオンポリマーとも表される。幾つかの具体例には、アルキルヒドリドシロキサン、例えば、メチルヒドリドシロキサン、エチルヒドリドシロキサン、プロピルヒドリドシロキサン、ｔ−ブチルヒドリドシロキサン、フェニルヒドリドシロキサン；およびアルキルヒドリドシルセスキオキサン、例えば、メチルヒドリドシルセスキオキサン、エチルヒドリドシルセスキオキサン、プロピルヒドリドシルセスキオキサン、ｔ−ブチルヒドリドシルセスキオキサン、フェニルヒドリドシルセスキオキサン、およびそれらの組合せが含まれる。
【００２７】
本願明細書に使用されているような“スピンオン材料”、“スピンオン有機材料”、“スピンオン組成物”および“スピンオン無機組成物”という用語は、互いに換言可能に使用されるものであり、基板または表面にスピンオン（回転塗布）されることができるそれら溶液および組成物を意味する。さらに、“スピンオンガラス材料”という用語は、“スピンオン無機材料”の部分集合を意味し、ここでスピンオンガラス材料”は、ケイ素をベースとする化合物および／またはポリマーを全体的または部分的に含んでなるそれらスピンオン材料を意味することが企図される。
【００２８】
幾つかの企図される態様において、本願明細書において利用される特定の有機ヒドリドシロキサン樹脂は、下記の一般式を有する：
【００２９】
【化１】
2005509913.tif 000002
【００３０】
その式中、ｎおよびｍの和またはｘ、ｙおよびｚの和が約8〜約5000であり、ｍまたはｙは、炭素含有成分が約40ぺーセント未満の量（低有機含量＝LOSP）または約40パーセントを越える量（高有機含量＝HOSP）のいずれかで存在するように選択され、；Rは置換または非置換で標準的分岐状アルキル（メチル、エチル、ブチル、プロピル、ペンチル）、アルケニル基（ビニル、アリル、イソプロペニル）、シクロアルキル、シクロアルケニル基、アリール（フェニル基、ベンジル基、ナフタレニル基、アントラセニル基、およびフェナントレニル基）、およびそれらの混合物であり；且つそこで炭素含有置換体の特定のモルパーセントが出発材料の量の比率の関数である。幾つかのLOSP態様において、約15モルパーセント〜約25モルパーセントの範囲にある炭素含有置換体の特定のモルパーセントで特に好ましい結果が得られる。幾つかのHOSP態様において、約55モルパーセント〜約75モルパーセントの範囲にある炭素含有置換体の特定のモルパーセントで好ましい結果が得られる。
【００３１】
幾つかの企図されるポリマーは、ケイ素および炭素原子を交互に包含するポリマーポリマー主鎖を含んでなる。従来知られている有機シロキサン樹脂とは対照的に、本願明細書において利用されるそれらポリマー、無機ベース組成物および材料の幾つかは、主鎖ケイ素原子に結合するヒドロキシルまたはアルコキシ基を本質的に有さない。というよりも、各ケイ素原子は、上述の主鎖炭素原子に加えて、式１，２，３および４において規定されるような水素原子および／またはＲ基だけに結合する。ポリマー内において水素および／またはＲ基だけが直接的に主鎖ケイ素原子に付くことにより、望ましくない鎖伸長および架橋が回避される。とりわけ、本発明の樹脂内において望ましくない鎖伸長および架橋を避けると、これら樹脂溶液の貯蔵寿命が従来知られている有機シロキサン樹脂と比べて増強される。さらには、ケイ素−炭素結合はケイ素−水素結合よりも反応性が小さいので、本願明細書に記載される有機ヒドリドシロキサン樹脂溶液の貯蔵寿命は、従来知られているヒドリドシロキサン樹脂と比べて増強される。
【００３２】
既述の企図される化合物の幾つかは、通例的に譲受されたUS特許第6,143,855号および係属中の2002年2月19日に提出されたUS出願第10/078919号により教示されたもの；Honeywell International Incの市販HOSP（登録商標）製品；通例的に譲受されたUS特許第6,372,666号により教示されるようなナノ多孔性シリカ；Honeywell International Incの市販NANOGLASS（登録商標）E製品；通例的に譲受されたWO 01/29052により教示される有機シルセスキオキサン；および通例的に譲受されたUS特許第6,440,550号により教示されるフルオロシルセスキオキサンであり、これらは本願明細書に全部取り込まれる。他の企図される化合物は、参照により本願明細書に全部取り込まれる下記の発行特許および係属出願：（2000年6月8日に提出されたPCT/US00/15772；1999年6月10日に提出されたUS出願第09/330248号；1999年6月10日に提出されたUS出願第09/491166号；2002年4月2日に発行されたUS特許第6,365,765号；2001年7月31日に発行されたUS特許第6,268,457号；2001年11月10日に提出されたUS出願第10/001143号；2000年1月26日に提出されたUS出願第09/491166号；1999年1月7日に提出されたPCT/US00/00523；2001年1月23日に発行されたUS特許第6,177,199号；2002年3月19日に発行されたUS特許第6,358,559号；2001年4月17日に発行されたUS特許第6,218,020号；2002年3月26日に発行されたUS特許第6,361,820号；2001年4月17日に発行されたUS特許第6,218,497号；2002年3月19日に発行されたUS特許第6,359,099号；2000年11月7日に発行されたUS特許第6,143,855号；1998年3月20日に提出されたUS出願第09/611528号；およびUS出願第60/043,261号）に記載されている。本願明細書において企図されるシリカ化合物は、発行されたUS特許：第6,022,812号；第 6,037,275号；第6,042,994号；第6,048,804号；第6,090,448号；第6,126,733号；第6,140,254号；第6,204,202号；第6,208,041号；第6,318,124号および第6,319,855号に見出されるそれら化合物である。
【００３３】
本願明細書に使用されているような“架橋”という用語は、少なくとも２つの分子、または長い分子の２つの部分が化学反応によって互いに繋がるプロセスを意味する。そのような相互作用は、共有結合の形成、水素結合の形成、疎水性、親水性、イオン性または静電気性の相互作用が含まれる多くの異なった方法で起こり得る。さらに、分子相互作用は、分子それ自体との間、または２つ又はそれを越える分子間での少なくとも一時的な物理的接合により特性付けられるとしてもよい。
【００３４】
幾つかの企図される態様において、ポリマー主鎖コンフォメーションは、かご型配置（cage configuration）である。それによれば、かご型コンフォメーションが与えられるポリマー内には非常に低いレベルまたは反応性の末端部分のみが存在する。また、かご型コンフォメーションのポリマー主鎖は、望ましくない鎖伸長性重合化が溶液内で起こらず、貯蔵寿命の増大が得られることを保証する。そのポリマーの各ケイ素原子は、少なくとも３つの酸素原子に結合している。そのポリマー主鎖に結合する部分には、水素および本願明細書に記載する有機基が含まれる。本願明細書に記載されるような“主鎖”という用語は、ポリマーストランドを形成する原子または残基の隣接する鎖であって、それら原子または残基のいずれかの除去がその鎖の中断をもたらすような共有結合をしているものを意味する。
【００３５】
本願明細書に記載されるような“モノマー”という用語は、それ自体とまたは化学的に異なる化合物と反復式に共有結合を形成することができるあらゆる化合物を意味する。モノマー間の反復的結合は、直線状、分岐状、超分岐状または３次元的な生成物を導き出し得る。さらに、モノマーはそれら自体が反復性構築用ブロックを含んでもよく、重合された時にそのようなモノマーから形成されたポリマーが“ブロックポリマー”と呼ばれる。モノマーは、有機、有機金属または無機の分子が含まれる様々な化学クラスの分子に属し得る。モノマーの分子量は、約40ダルトンから20000ダルトンまでの間を大きく変動し得る。しかし、特にモノマーが反復性構築用ブロックを含んでなる場合、モノマーでも高い分子量を有する。また、モノマーは架橋のために使用される基のような添加基を含んでもよい。
【００３６】
幾つかの企図される態様において、無機ベース化合物の分子量は、材料の溶解度を変えるために高くし得る。そして、材料の溶解度を変えることは、空洞化を防止することに役立ち、且つその材料の平坦化能力を高める。
【００３７】
吸光性化合物
ナフタレン−、フェナントレン−およびアントラセンをベースとする化合物の多くは、248nm以下での有意な吸光性を有する。ベンゼンをベースとする（本願明細書においてフェニルをベースとするのと同等に称される）化合物は、200nmよりも短い波長での有意な吸光性を有する。これらナフタレン−、アントラセン−、フェナントレン−およびフェニルをベースとする化合物は頻繁に色素と呼ばれるが、本明細書では吸光性化合物という用語が用いられる。なぜなら、これら化合物の吸収は可視領域スペクトル内の波長に限定されないからである。しかし、そのようなすべての吸光性化合物が、非反射性コーティング材料用の無機ベース材料中に組み込むことができる訳ではない。使用に適する好ましい吸光性化合物は、フォトリソグラフィに使用され得る248nm、193nm、157nmのような波長または365nmのような他の紫外波長付近に中心を持つ限定的吸収ピークを有する。好ましい“限定的吸収ピーク”は、少なくとも0.5nmの幅のものであり、その幅はフォトリソグラフィの技術分野において一般に知られている方法により計算されることが企図される。より好ましい態様では、その限定的吸収ピークは少なくとも1nmの幅がある。さらにより好ましい態様では、その限定的吸収ピークは少なくとも5nmの幅がある。もっとも好ましい態様では、その限定的吸収ピークは少なくとも10nmの幅がある。
【００３８】
適切な吸光性化合物の発光団は、典型的には、少なくとも１つのベンゼン環を有し、２つ又はそれを越えるベンゼン環の場合には、それら環は融合していても、融合していなくともよい。組込み可能な吸光性化合物は、発光団に付いた利用可能な反応基を有し、それら反応基には、ヒドロキシル基；アミン基；カルボキシル酸基；およびアルコキシ基、アセトキシ基またはハロゲン原子のような１つ、２つまたは３つの“離脱基”に結合したケイ素を持つ置換シリル基が含まれる。エトキシまたはメトキシ基または塩素原子は、離脱基として頻繁に使用される。好ましい反応基は、シリコンアルコキシ、シリコンジアルコキシ、およびシリコントリアルコキシ基、例えば、シリコンエトキシ、シリコンジエトキシ、シリコントリエトキシ、シリコンメトキシ、シリコンジメトキシ、およびシリコントリメトキシ基、およびハロシリル基、例えば、クロロシリル、ジクロロシリル、およびトリクロロシリル基、およびメチルトリアセトキシシラン、テトラアセトキシシランのようなアセトキシ基を含んでなる。
【００３９】
例えば、フェニルトリエトキシシランにおけるように、反応基は発光団に直接結合してもよいし、例えば、９−アントラセン  カルボキシ−アルキル  トリアルコキシシランにおけるように、反応基はエステル、ケトンおよび／または酸素連結または炭化水素ブリッジを介して発光団に付着してもよい。シリコントリアルコキシ基の発光団への内包は、特に吸光性SOGフィルムの安定性の促進に有利であることが分かった。他の有用な吸光性化合物は、特に365nm付近での吸収が特定の用途のために望まれる場合、アゾ基、-N=N-および利用可能な反応基を含有する化合物、特にベンゼン環に連結するアゾ基を含有する化合物である。アゾ基は、単鎖分子、環状分子またはハイブリッド単鎖／環状分子の一部として含まれ得る。
【００４０】
吸光性化合物は、無機ベース材料マトリックス内に介在的に組み込まれ得る。また、吸光性化合物は、無機ベース材料またはポリマーに化学的に結合し得る。幾つかの企図される態様において、組込み可能な吸光性化合物は、利用可能な反応基を介して無機ベース材料主鎖またはポリマー主鎖との結合を形成する。
【００４１】
また、吸光性組成物および材料は、ケイ素ベース化合物および約375nm未満の波長の光を吸収する組込み可能な吸光性化合物を含んでもよい。さらには、他の態様において、少なくとも１つのケイ素ベース化合物または組込み可能な吸光性化合物は、少なくとも１つのアルキル基、アルコキシ基、ケトン基、アセトキシ基、またはアゾ基を含んでなる。
【００４２】
使用に適する吸光性化合物の例には、365nm、248nm、193nmおよび157nmのような約375nm未満の波長付近に限定的吸収ピークを有する吸光性化合物が含まれ、それには、アントラフラビ酸（１）、９−アントラセン  カルボン酸（２）、９−アントラセン  メタノール（３）、９−アントラセン  エタノール（４）、９−アントラセン  プロパノール（５）、９−アントラセン  ブタノール（６）、アリザリン（７）、キニザリン（８）、プリムリン（９）、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリルプロポキシ）−ジフェニルケトン（１０）、２−ヒドロキシ−４−（３−トリメトキシシリルプロポキシ）−ジフェニルケトン（１１）、２−ヒドロキシ−４−（３−トリブトキシシリルプロポキシ）−ジフェニルケトン（１２）、２−ヒドロキシ−４−（３−トリプロポキシシリルプロポキシ）−ジフェニルケトン（１３）、ロゾール酸（１４）、トリエトキシシリルプロピル−１，８−ナフタールイミド（１５）、トリメトキシシリルプロピル−１，８−ナフタールイミド（１６）、トリプロポキシシリルプロピル−１，８−ナフタールイミド（１７）、９−アントラセン  カルボキシ−メチル  トリエトキシシラン（１８）、９−アントラセン  カルボキシ−エチル  トリエトキシシラン（１９）、９−アントラセン  カルボキシ−ブチル  トリエトキシシラン（２０）、９−アントラセン  カルボキシ−プロピル  トリエトキシシラン（２１）、９−アントラセン  カルボキシ−メチル  トリメトキシシラン（２２）、９−アントラセン  カルボキシ−エチル  トリブトキシシラン（２３）、９−アントラセン  カルボキシ−メチル  トリプロポキシシラン（２４）、９−アントラセン  カルボキシ−プロピル  トリメキシシラン（２５）、フェニルトリエトキシシラン（２６）、フェニルトリメトキシシラン（２７）、フェニルトリプロポキシシラン（２８）、１０−フェナントレン  カルボキシ−メチル  トリエトキシシラン（２９）、１０−フェナントレン  カルボキシ−エチル  トリエトキシシラン（３０）、１０−フェナントレン  カルボキシ−メチル  トリメトキシシラン（３１）、１０−フェナントレン  カルボキシ−プロピル  トリエトキシシラン（３２）、４−フェニルアゾフェノール（３３）、４−エトキシフェニルアゾベンゼン−４−カルボキシ−メチル  トリエトキシシラン（３４）、４−メトキシフェニルアゾベンゼン−４−カルボキシ−エチル  トリエトキシシラン（３５）、４−エトキシフェニルアゾベンゼン−４−カルボキシ−プロピル  トリエトキシシラン（３６）、４−ブトキシフェニルアゾベンゼン−４−カルボキシ−プロピル  トリエトキシシラン（３７）、４−メトキシフェニルアゾベンゼン−４−カルボキシ−メチル  トリエトキシシラン（３８）、４−エトキシフェニルアゾベンゼン−４−カルボキシ−メチル  トリエトキシシラン（３９）、４−メトキシフェニルアゾベンゼン−４−カルボキシ−エチル  トリエトキシシラン（４０）、４−メトキシフェニルアゾベンゼン−４−カルボキシ−プロピル  トリエトキシシラン（４１）、およびそれらの組合せが含まれる。吸光性化合物１〜４１の化学式は図１ａ〜１ｆに表される。有利な結果は、例えば、９−アントラセン  カルボキシ−メチル  トリエ��キシシラン（１８）で、９−アントラセン  メタノール（３）、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリルプロポキシ）−ジフェニルケトン（１０）およびロゾール酸（１４）の組合せで、およびフェニルトリエトキシシラン（２６）で得られた。しかし、特定化合物のこのリストは網羅的リストではなく、企図される好ましい化合物は、これら特定化合物が含まれる化合物クラスから選ばれ得ると認識されるべきである。また、適切な吸光性化合物は有機ベースまたは無機ベース化合物であり得ることも認識されるべきである。しかし、幾つかの企図される態様において、その吸光性化合物は、ARCがフォトレジスト材料と同じ化学特性を共有せず、それが使用可能な工程配列を限定し得るなら、有機ベースのものでよい。しかし、そのクラスのフォトレジスト材料は幅広いものであり得る。なぜなら、pH調整剤のような材料改質剤の添加があらゆるフォトリソグラフィックレジスト材料を非反射性コーティングに適合可能にし、それらを互いに適合性のものにするからである。幾つかの企図されるフォトリソグラフィックレジスト材料の例は、アクリレートをベースとするレジスト材料、エポキシをベースとし化学的に増幅されたレジスト、フルオロポリマーレジスト（157nm吸収波長が企図される場合に特に有用である）、ポリ（ノルボルネン（norbornene）−無水マレイン酸）交互コポリマー、ポリスチレン系、およびジアゾナフトキノン／ノボラックレジストを含んでなる。
【００４３】
吸光性化合物１〜２５および２９〜４１は、例えば、Aldrich Chemical Company (Milwaukee, WI)から商業的に入手可能である。９−アントラセン  カルボキシ−アルキル  トリアルコキシシランは、実施例セクションで後述する通り、エステル化法を使用して合成される。吸光性化合物２６〜２８は、Gelest, Inc. (Tullytown, PA)から商業的に入手可能である。吸光性化合物（２６〜２８）に加えてフェニルをベースとする吸光性化合物は（それらの多くはGelest, Incからも商業的に入手可能である）、フェニル環にまたはメチルフェニル、クロロフェニルおよびクロロメチルフェニルのような置換フェニルに付着したケイ素ベース反応基を持つ構造を含む。特定のフェニルベース吸光性化合物には、数例のみを挙げると、フェニルトリメトキシシラン、ベンジルトリクロロシラン、クロロメチルフェニルトリメトキシシラン、フェニルトリフルオロシランが含まれる。１つまたは２つの“離脱基”を含むジフェニルシラン類、例えば、ジフェニルメチルエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランおよびジフェニルジクロロシラン（これらもまた数例のみを挙げる）も適切な組込み可能な吸光性化合物である。また、アルコキシベンゾイック酸も吸光性化合物として使用し得るもので、メトキシベンゾイック酸が含まれる。
【００４４】
９−アントラセン  カルボキシ−アルキル  トリアルコキシシラン化合物を合成する一般的方法は、９−アントラセン  カルボン酸およびクロロメチル  トリアルコキシシラン化合物を反応体として使用することを含んでなる。具体的には、９−アントラセン  カルボキシ−メチル  トリエトキシシラン（１８）の合成方法は、９−アントラセン  カルボン酸（２）およびクロロメチル  トリエトキシシラン化合物を反応体として使用する。それら反応体は、トリエチルアミンおよびメチルイソブチルケトン（MIBK）と組み合わされ、予め4Å分子篩上で乾燥させて反応混合物を形成し、それを還流のために加熱し、そして約6〜10時間還流させる。還流後、その反応混合物を一晩冷やし、多量の固体沈殿物を導く。残りの溶液は回転蒸発させてシリカゲルカラムを通じてろ過し、そして2度目の回転蒸発をさせて、精製し得る濃琥珀色油性液体として９−アントラセン  カルボキシ−メチル  トリエトキシシラン（１８）を生成する。この方法は、９−アントラセン  カルボキシ−エチル  トリエトキシシラン、９−アントラセン  カルボキシ−プロピル  トリメトキシシランおよび９−アントラセン  カルボキシ−プロピル  トリエトキシシランが含まれる９−アントラセン  カルボキシ−アルキル  トリアルコキシシランのクラス内のあらゆる化合物を生成するための使用に適しているので重要である。
【００４５】
ポロゲン
少なくとも１つのポロゲンは、無機ベース材料または組成物のエッチ選択性および／または剥奪選択性を高めるために無機ベース組成物または無機材料に添加し得る。いかなる特定の理論にも縛られないが、本願明細書内の主題の１つの側面において、少なくとも１つのポロゲンの無機ベース材料への添加は、その材料、コーティングおよび／またはフィルム内に形成される孔または空洞を生じさせると理解される。それら孔または空洞は、孔または空洞または自由体積（free volume）の増大が残存するような材料の構造的再配置または欠失の結果として形成され得る。材料、コーティングおよび／またはフィルム内の孔または空洞は、コーティングまたはフィルム内の追加的な表面積を作り出し、それが終局的には、その材料、コーティングおよび／またはフィルムのエッチ選択性および／または剥奪選択性を高める。加えて、そのフィルムのプラズマエッチ比は多孔性の上昇と共に大きくなり、フォトレジストへのより良いドライエッチ選択性を与える。このドライエッチ選択性は、プリントからエッチを介しての重大な寸法の適正な転写を維持するのに必要である。少なくとも１つのポロゲンを加えることは、吸光性フィルムの非反射性特性のリソグラフィックパフォーマンスを低下させることなく、ポロゲン含量に対する吸光性材料、コーティングおよび／またはフィルムのドライおよびウエットエッチ比の双方を大きくする。ポロゲンの分子量は、ポロゲンがその材料中の無機ベース化合物のマトリックスと適合性であるか否かを決定するのに使用されることもできる。この適合係数は、無機ベース化合物のマトリックスの溶解度パラメーターと関係している。理想的な場合においてポロゲンは、硬化前のマトリックスコーティング用配合物の溶解度パラメーターと一致すべきであり、配合物分子量が既知である場合にポロゲンの適切な分子量は、溶解度パラメーターをそのマトリックスと一致させることにより決定するといった具合である。溶解度パラメーターは、屈折率、誘電率、表面張力および極限粘度数との関係により実験的に決定してもよいし、群寄与法（group contribution method）を使用する計算又は凝集エネルギーの分子モデルによって決定してもよい。（review ref Physical Propertics of Polymers Handbook, Chapter 16 “Solubility Parameters” Y. Du, Y. Xue, H.L. Frisch pp227-239; James E. Mark Ed., 1996, American Institute of Physics, Woodbury, NY）
【００４６】
本願明細書に教示されている主題の他の側面において、ポロゲンは二重の目的または多段階的な目的に役立ち得る。ポロゲンは、極性および／または官能基に基づき、特定の吸光性組成物について特異的に選択され得る。ひとたびポロゲンが組成物中に組み込まれると、それは“マグネット”として効果的に作用し、ポロゲンとの間の極性の相違を利用することによってまたはポロゲン上の官能基を利用することによって剥奪用および／またはエッチング用溶液をポロゲンに引きつける。このポロゲンによる誘引効果は、幾つかのやり方で活性化することができる。例えば、ポロゲンが吸光性組成物中に室温で組み込まれる時に起こる発熱反応であってもよく、ポロゲンを“活性化”するために加えることが必要とされる外部エネルギーおよび／または熱であってもよく、または吸光性組成物へ適用され、ポロゲンを“活性化”する圧力差であってもよい。しかし、エネルギーが加えられるか否かに関わらず、ポロゲンが一旦添加されると、本態様では、ポロゲンは完全な孔または空洞を形成するところまで活性化され、そしてポロゲンはリソグラフィ工程が完了するまで残存していると理解されるべきである。リソグラフィ工程が一旦完了すると、ポロゲンを含んでなる吸光性組成物は、ポロゲンが孔または空洞を形成することができるように更に加熱されてもよい。この時点で、材料、コーティングおよび／またはフィルム内の孔または空洞は、そのコーティングまたはフィルム内に追加的な表面積を作り出し、それが終局的には前態様に記載したようにその材料、コーティングおよび／またはフィルムのエッチ選択性および／または剥奪選択性を高める。
【００４７】
本願明細書に使用されているような“孔”という用語には、材料内の空洞およびセルが含まれ、その材料内においてガスにより占められた空間を意味するあらゆる他の用語が含まれる。また、“孔”という用語には、自由体積が増大したところの材料密度の差も含まれる（“孔性質”が導かれている）。適切なガスには、比較的純粋なガスおよびそれらの混合物が含まれる。主としてＮ2およびO2の混合物である空気が孔内に通常分布しているが、窒素、ヘリウム、アルゴン、CO2またはCOのような純粋ガスも企図される。孔は、典型的には球形であるが、択一的にまたは追加的に管状、薄層状、円板状、他の形状を有する空洞あるいは前記形状の組合せが含まれてもよく、開放されていても閉塞されていてもよい。本願明細書に使用されている“ポロゲン”という用語は、孔を形成するのに利用可能な様々なメカニズムを有し得るものであるが、一般的には、除去されると“孔”または“空洞”のいずれかを残す材料または“孔”または“空洞”を作り出すために再配置可能な材料である。１つの態様において、ポロゲンは、放射、熱的、化学的または水分分解性である分解可能な材料であるか、崩壊性、脱重合性あるいは他の方法で破壊可能であり、固体、液体またはガス状材料が含まれる。
【００４８】
分解したポロゲンは、除去可能であるかまたは部分的もしくは完全に架橋されたマトリックスを通じて揮発または拡散可能であり、その後に完全に硬化するマトリックス内に孔を作り出し、こうしてマトリックスの誘電率が低下して犠牲的特性が増強される。他の態様において、そのポロゲンは、分解はしないがマトリックスの外で溶解して“孔”を残すことができる材料であってもよい。第３の態様において、そのポロゲンは、分解はしないが250〜350℃のような特定の上昇温度で放散するのに十分に揮発性である材料であってもよい。CO2のような臨界超過材料をポロゲンおよび分解されたポロゲン片を除去するのに使用してもよい。好ましくは、熱分解性ポロゲンに関し、そのポロゲンは、材料の最小架橋温度よりも大きい分解温度を有する材料を含んでなる。好ましくは、当該新規なポロゲンは、約300℃までの崩壊または分解温度を有し、幾つかのケースでは約300℃よりも大きい。好ましくは、崩壊又は分解したポロゲンは、そのポロゲンが組み合わされた材料の最小架橋温度よりも大きい温度で揮発する。好ましくは、崩壊又は分解したポロゲンは、約50℃〜約450℃の温度で揮発する。
【００４９】
国際特許公開WO00/31183は、ポロゲンは熱硬化性ベンゾシクロブテン、ポリアリーレンまたは熱硬化性ペルフルオロエチレンモノマーにそれらの多孔性を高めるために添加され、こうしてその樹脂の誘電率を低下させ得ることを教示するが、その文献は、第１のマトリックス系と共に上手く機能することが知られているポロゲンは他のマトリックス系とでは必ずしも上手く機能しないことを教示する。
【００５０】
公知のポロゲン、例えば、線状ポリマー、スターポリマー、架橋ポリマー性ナノ球体、ブロックコポリマー、および超分岐状ポリマーは、無機ベース化合物および材料と共に企図された態様において使用され得る。適切な線状ポリマーは、ポリエーテル、例えば、ポリ（エチレンオキシド）およびポリ（プロピレンオキシド）；ポリアクリレート、例えば、ポリ（メチルエメタクリレート）；脂肪族ポリカーボネート、例えば、ポリ（プロピレンカーボネート）およびポリ（エチレンカーボネート）；ポリエステル；ポリスルホン；ポリスチレン（ハロゲン化スチレンおよびヒドロキシ置換スチレンから選択されるモノマーユニットが含まれる）；ポリ（α−メチルスチレン）；および他のビニルベースのポリマーである。有用なポリエステルポロゲンには、ポリカプロラクトン；ポリエチレン  テレフタレート；ポリ（オキシアジポイルオキシ−１，４−フェニレン）；ポリ（オキシテレフタロイルオキシ−１，４−フェニレン）；ポリ（オキシアジポイルオキシ−１，６−ヘキサメチレン）；ポリグリコライド、ポリラクチド（ポリ乳酸）、ポリラクチド−グリコライド、ポリピルビン酸、ポリカーボネート、例えば、約500〜約2500の分子量を有するポリ（ヘキサメチレン  カーボネート）ジオール；およびポリエーテル、例えば、約300〜約6500の分子量を有するポリ（ビスフェノールA−ｃｏ−エピクロロヒドリン）が含まれる。適切な架橋化不溶解度ナノ球体（ナノエマルジョンとして調製されるもの）は、ポリスチレンまたはポリ（メチルメタクリレート）を適切に含んでなる。適切なブロックコポリマーは、ポリ−グリコライド、ポリ乳酸、ポリ（スチレン−ｃｏ−α−メチルスチレン、ポリ（スチレン−エチレン  オキシド）、ポリ（エーテルラクトン）、ポリ（エステルカーボネート）およびポリ（ラクトンラクチド）である。適切な超分岐状ポリマーは、超架橋化ポリステル、例えば、超架橋化ポリ（カプロラクトン）、およびポリエステル、例えば、ポリエチレン  オキシドおよびポリプロピレン  オキシドである。他の有用なポロゲンは、エチレン  グリコール−ポリ（カプロラクトン）。有用なポリマーブロックには、ポリビニルピリジン、水素化ポリビニル芳香族、ポリアクリロニトリル、ポリシロキサン、ポリカプロラクタム、ポリウレタン、ポリジエン、例えば、ポリブタジエンおよびポリイソプレン、ポリビニル  クロライド、ポリアセタール、およびアミンキャップ化アルキレン  オキシドが含まれる。他の有用な熱可塑性材料には、ポリイソプレン、ポリエトラヒドロフラン、およびポリエチルオキサゾリンが含まれる。
【００５１】
企図される態様における使用に適した他の適切なポロゲンには、ポリマー、好ましくは、ヒドロキシルまたはアミノのような１つ又はそれを越える反応基を有するポリマーが含まれる。これらの一般的パラメーター内において、本願明細書に開示されている組成物および方法における使用に適したポリマーポロゲンは、例えば、ポリアルキレンオキシド、ポリアルキレンオキシドのモノエーテル、ポリアルキレンオキシドのジエーテル、ポリアルキレンオキシドのビスエーテル、脂肪族ポリエステル、脂肪族ポリマー、アセタールポリマー、ポリ（カプロラクトン）、ポリ（バレラクトン）、ポリ（メチルメタクリレート）、ポリ（ビニルブチラール）、および／またはそれらの組合せである。ポロゲンがポリアルキレンオキシドモノエーテルである場合、１つの特定の態様は、酸素原子間のC1〜約C6アルキル鎖およびC1〜約C6アルキルエーテル残基であり、そのアルキル鎖は置換または未置換であり、例えば、ポリエチレングリコール  モノメチルエーテル、ポリエチレングリコール  ジメチルエーテル、またはポリプロピレングリコール  モノメチルエーテルである。
【００５２】
少なくとも２つの融合芳香環を含んでなり、融合した芳香環の各々がそれらに少なくとも１つのアルキル置換体を有し、且つ隣接する芳香環上の少なくとも２つのアルキル置換体の間に結合が存在するポロゲンは、企図される態様に使用され得る。好ましいポロゲンには、未官能化ポリアセナフチレン  ホモポリマー、官能化ポリアセナフチレン  ホモポリマー、下記のポリアセナフチレン  コポリマー、ポリ（２−ビニルナフタレン）およびビニルアントラセン、およびそれらの互いのブレンド物が含まれる。他の有用なポロゲンには、アダマンタン、ジアマンタン、フラーレン、およびポリノルボルネンが含まれる。上に列挙したものを含むこれらポロゲンの各々は、お互いにまたは他のポロゲン材料、例えば、ポリカプロラクトン、ポリスチレン、およびポリエステルとブレンドし得る。有用なブレンドには、未官能化ポリアセナフチレン  ホモポリマーおよびポリカプロラクトンが含まれる。より好ましいポロゲンは、未官能化ポリアセナフチレン  ホモポリマー、官能化ポリアセナフチレン  ホモポリマー、ポリアセナフチレン  コポリマー、およびポリノルボルネンである。
【００５３】
有用なポリアセナフチレン  ホモポリマーは、好ましくは約300〜約20,000；より好ましくは約300〜約10,000；そして最も好ましくは約1000〜約7000の平均分子量有し、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（AIBN）；di−tert−ブチルアゾジカルボキシレート；ジ−フェニルアゾジカルボキシレート；１，１’−アゾビス（シクロヘザンカルボニトリル）；ベンゾイルペルオキシド（BPO）；ｔ−ブチルペルオキシド；およびボロントリフルオライドジエチルエーテレートのような各種開始剤を使用し、アセナフチレンから重合化し得る。ポリアセナフチレン  ホモポリマーは、その鎖末端に三重結合または二重結合のような官能末端基を有してもよいし、アリルアルコール、プロパルギルアルコール、ブチノール、ブテノール、またはヒドロキシエチルメタクリレートのような二重または三重結合アルコールで急冷されてカチオン性重合を有するものでよい。
【００５４】
ヨーロッパ特許公開第315453号は、シリカおよび一定の金属酸化物が炭素と反応して揮発性亜酸化物およびガス状酸化炭素を形成して孔を作り得ることを教示し、そして、炭素の供給源にはポリアセナフチレンを含むあらゆる適切な有機ポリマーが含まれることを教示する。しかし、その文献は、ポリアセナフチレンが非金属材料において有用なポロゲンであること、マトリックスの誘電率を低下させることに有用なポロゲンであること、あるいは吸光性スピンオン材料のエッチ選択性を高めることに有用なポロゲンであることについて教示も示唆もしていない。
【００５５】
有用なポリアセナフチレン  コポリマーは、線状ポリマーでもよいし、スターポリマーでもよいし、超架橋ポリマーでもよい。そのコモノマーは、ポリアセナフチレン  ホモポリマーのものと類似するコポリマーコンフォメーションを生じさせる嵩のある側基を有してもよいし、またはポリアセナフチレン  ホモポリマーのものとは類似しないコポリマーコンフォメーションを生じさせる嵩のない側基を有していてもよい。嵩のある側基を有するコモノマーには、ビニルピバレート；tert−ブチルアクリレート；スチレン；α−メチルスチレン；tert−ブチルスチレン；２−ビニルナフタレン；５−ビニル−２−ノルボルネン；ビニルシクロヘキサン；ビニルシクロペンタント；９−ビニルアントラセン；４−ビニルビスフェニル；テトラフェニルブタジエン；スチルベン；tert−ブチルスチルベン；およびインデン；そして、好ましくはビニルピバレートが含まれる。ヒドリドポリカルボシランは追加のコ−モノマーまたはコポリマー成分として、アセナフチレンおよび少なくとも１つの前述のコモノマーと共に使用し得る。有用なヒドリドポリカルシランの例は、10%または75%アルキル基を有する。嵩のない側基を有するコモノマーには、酢酸ビニル、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、およびビニルエーテル、そして好ましくは酢酸ビニルが含まれる。
【００５６】
孔発生を説明する場合、“崩壊する（degrade）”という用語は、共有結合の破壊を意味する。そのような結合の破壊は、ヒテロリシス的およびホモリシス的破壊を含む多大な道筋で起こり得る。その結合の破壊は完全である必要はなく、すなわち、破壊可能なすべての結合が開裂しなければならない訳ではない。さらには、結合の破壊は、幾つかの結合において他の結合より速く起こってもよい。エステル結合は、例えば、アミノ結合よりも一般に不安定であり、したがってより速い速度開裂する。また、結合の破壊は、その崩壊部分の化学組成に依存して互いに異なる断片の放出を生じてもよい。
【００５７】
孔発生工程の好ましい態様において、熱的に崩壊可能なポロゲンに関しては、熱エネルギーがポロゲン含有材料に適用され、そのポロゲンは実質的に崩壊または分解されてそれの出発成分またはモノマーになる。本願明細書に使用されているような“実質的に崩壊する”とは、好ましくは、少なくとも約40重量パーセントのポロゲンが崩壊または分解することを意味する。より好ましい態様において、少なくとも約50重量パーセントのポロゲンが崩壊または分解し、そして、最も好ましい態様においては、少なくとも約80パーセントのポロゲン崩壊または分解する。他の態様では、ポロゲンは、別個の工程段階においてまたは工程の他の段階との組合せにおいて、例えば、フォトリソグラフィ現像の間、またはポロゲン含有材料の実際の湿式剥奪の間に溶出させる。
【００５８】
好ましい態様に関し、熱エネルギーは、実質的に崩壊または分解したポロゲンを吸光性化合物マトリックスの外へ揮発させるためにも適用される。好ましくは、同じ熱エネルギーが崩壊および揮発工程の双方に使用される。揮発され崩壊されるポロゲンの量が増加するに従い、非反射性材料、コーティングおよび／またはフィルムに生じる多孔性性が高まる。
【００５９】
あらゆる適切な手順または条件を、少なくとも１つのポロゲンを少なくとも部分的に除去するために使用することができ、通例的に譲受された特許公開PCT/US96/08678およびUS特許第6,042,994号；第6,080,526号；第6,177,143号；第6,235,353号（これらは参照により本願明細書内に全部取り込まれる）により教示される通り、それには、熱、溶剤における溶解、選択的エッチング、放射線への曝露、電磁放射、例えば、紫外光、Ｘ線、レーザーまたは赤外照射；機械的エネルギー、例えば、超音波または物理的圧力；または粒子照射、例えば、ガンマ線、アルファ粒子、中性子ビームまたは電子ビームが含まれる。
【００６０】
溶剤
少なくとも１つの高沸性溶剤および／または少なくとも１つの交代溶剤は、非反射性材料、コーティングおよび／またはフィルムに添加され得る。いかなる特定の理論にも縛られないが、高沸性溶剤の添加は、そのフィルムを“ゆっくり乾燥する”フィルムにすることによって空洞化を防止し平坦化を改善すると理解される。本願明細書に使用される通り、“高沸性溶剤”という用語は、溶剤がその材料、コーティングおよび／またはフィルムの乾燥および／または硬化温度に近い温度、好ましくは僅かに高い温度で揮発することを意味する。好ましい高沸性溶剤には、グリセリン、ジブチルエーテル、ジブチルグリセリン、ジメチルスルフォキシド（DMSO）、ジメチルホルムアミド（DMF）、Ｎ−メチル−ピロリドン（NMP）、ジメチル−アセトアミド（DMAc）、高沸性芳香性ベース溶剤、石油エーテル、そのカルビトールファミリー、およびそのグリコールエーテルファミリーが含まれる。高沸点溶剤は、ジプロピレングリコールまたは乳酸エチルのようなポロゲンとしても作用することができる。
【００６１】
また、少なくとも１つの交代溶剤は、コーティングおよび／またはフィルムの平坦化を改善し且つ空洞化を低減するために、初期の非反射性コーティング材料内のアセトン（または他の低沸性溶剤）を置換するように使用され得る。その交代溶剤は、必ずしも高沸性溶剤である必要はないが、使用されている慣例的な溶剤よりも、材料、コーティングおよび／またはフィルムの平坦化能力を改善するものでなければならない。また、交代溶剤は、置換される溶剤に関して近いベーク温度での優れた剥奪特性を導くことが示されている-OHのような追加の官能基を含んでなるものでもよい。いかなる特定の理論にも縛られないが、追加の官能基は、その交代溶剤をほとんどポロゲンのように作用させ得るものであり、剥奪性化学物質（stripping chemistry）を組成物に引きつけるであろうと理解される。このポロゲン様作用は、マトリックスまたは剥奪性化学物質との交代溶剤の水素結合に基づくものであり得る。また、アセトンは、材料、コーティングおよび／またはフィルムの平坦化能力への改善に依存して、材料、コーティングおよび／またはフィルムの外部へ出る。典型的な交代溶剤は、イソプロピルアルコール、プロパノール、ブタノール、エタノール、PGMEA、乳酸エチルおよび／または２−ヘプタノンを含んでなる。
【００６２】
上記の企図された態様を更に説明すると、その溶剤は二重の目的または多段階的な目的に役立ち得る。溶剤は、吸光性組成物にブレンドするかまたはそれを溶解させるのに溶剤により必要とされるそれらの特性以外に極性および／または官能基に基づき、特定の吸光性組成物について特異的に選択され得る。ひとたび溶剤が組成物中に組み込まれると、それは“マグネット”として効果的に作用し、溶剤との間の極性の相違を利用することによってまたは溶剤上の官能基を利用することによって剥奪用および／またはエッチング用溶液を溶剤に引きつける。この溶剤による誘引効果は、幾つかのやり方で活性化することができる。例えば、溶剤が吸光性組成物中に室温で組み込まれる時に起こる発熱反応であってもよく、溶剤を“活性化”するために加えることが必要とされる外部エネルギーおよび／または熱であってもよく、または吸光性組成物へ適用され、溶剤を“活性化”する圧力差であってもよい。しかし、エネルギーが加えられるか否かに関わらず、溶剤が一旦添加されると、本態様では、リソグラフィ工程が完了するまでに、溶剤がもはや存在しなくなるというところまで加熱されることも活性化されることもないと理解されるべきである。リソグラフィ工程が一旦完了すると、溶剤を含んでなる吸光性組成物は、その溶剤が蒸発できるように更に加熱されてもよい。この時点で、材料、コーティングおよび／またはフィルムは、前態様に記載したように更に加工されることができる。
【００６３】
また、典型的な溶剤は、本願明細書において吸光性化合物および無機ベース化合物および材料として使用されることが企図されるモノマーおよびポリマーを溶解することができる溶剤である。企図される溶剤には、望ましい温度で揮発するもので、有機、有機金属または無機分子のあらゆる適切な精製物または混合物が含まれる。また、溶剤は、極性および非極性化合物のあらゆる適切な精製物または混合物を含んでなる。好ましい態様において、その溶剤は、水、エタノール、プロパノール、アセトン、トルエン、エーテル、シクロヘキサノン、ブチロラクトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、Ｎ−メチルピロリドン、ポリエチレングリコールメチルエーテル、メシチレン、乳酸エチル、PGMEA、アニソール、およびポリ−エーテル溶剤のファミリー、例えば、カルビトール（ヒドロキシ、アルコキシまたはカルボキシ基によりキャップされたエチレングリコールエーテルのファミリーを構成する）および類縁のプロピレングリコールエーテルを含んでなる。
【００６４】
触媒
他の企図される態様において、少なくとも１つの触媒を、エッチ選択性および／または剥奪選択性を改善するために吸光性材料に添加し得る。触媒は孔形成を促進するためにポロゲンと共に添加されてもよい。本願明細書に使用されている通り、“触媒”という用語は、それ自体が消費されることも化学的変化を受けることもなく、化学反応の速度に影響を与えるあらゆる物質を意味する。触媒は無機物でもよいし、有機でもよいし、有機基とハロゲン化金属の複合体でもよい。また、触媒は液体でもよいし、固体でもよいし、ガスでもよいし、それらの組合せでもよい。ポロゲン添加とは関係なく添加される企図された触媒は、酸、例えば、HNO3、HCl、乳酸、酢酸、シュウ酸、コハク酸、マレイン酸、およびそれらに類したものを含んでなる。企図されるポロゲン脱重合触媒には、上記の単なる酸、超酸性光感受性分子、例えば、トリアリールスルホニウム、トリアリールオキソニウムまたはジアリールオドニウム塩、ビニルベース、アクリルベース（および他の多結合性モノマーベースのポリマー）の重合のために典型的に使用されるフリーラジカル発生体、および他のフリーラジカルベースの化学物質（例えば、ベンゾイルペルオキシド、アゾビスイソブチロニトリル）が含まれる。
【００６５】
接着促進剤
本願明細書に使用されているような“接着促進剤”という用語は、熱分解性ポリマーと比較して、熱分解性ポリマーと共に使用された時に基体へのそれらの接着性を改善するあらゆる成分を意味する。好ましくは、少なくとも１つの接着促進剤は、熱分解性ポリマーと共に使用される。その接着促進剤は、熱分解性ポリマー前駆体と反応するコポリマーであってもよいし、熱分解性ポリマー前駆体への添加物であってもよい。有用な接着促進剤の例は、2002年5月30日に提出され通例的に譲受された係属中US特許出願第158513号（本願明細書に全部取り込まれる）に開示されている。
【００６６】
本願明細書において企図される接着促進剤は、少なくとも二官能性を有する化合物を含んでもよく、その二官能性は同一のものでも異なるものでもよく、そして前記第１の官能性および前記第２の官能性の少なくとも１つが、Si含有基；N含有基；O含有基に結合したC；ヒドロキシル基；およびC含有基と二重結合したCからなる群から選択される。本願明細書に使用されるような“少なくとも二官能性を有する化合物”という用語は、下記のように相互作用するかもしくは反応するまたは結合を形成する能力のある少なくとも２つの官能基を有するあらゆる化合物を意味する。それら官能基は多大なやり方で反応し、それには付加反応、求核性および求電子性置換または除去、ラジカル反応等が含まれる。さらには、別の反応には、非共有結合、例えば、ファンデルワールス、静電気的結合、イオン結合および水素結合の形成が含まれる。
【００６７】
少なくとも１つの接着促進剤の幾つかの態様において、好ましくは、第１の官能性および前記第２の官能性の少なくとも１つは、Si含有基；N含有基；O含有基に結合したC；ヒドロキシル基；およびC含有基と二重結合したCからなる群から選択される。好ましくは、Si含有基はSi-H、Si-OおよびSi-Nから選択され、；N含有基はC-NH2または他の第二および第三アミン、イミン、アミドおよびイミドのようなものから選択され、；O含有基に結合したCは=CO、カルボニル基、例えば、ケトンおよびアルデヒド、エステル、-COOH、１〜５炭素原子を有するアルコキシル、エーテル、グリシジルエーテル；およびエポキシから選択され、；ヒドロキシル基はフェノールであり；そして、C含有基と二重結合したCは、アリルおよびビニル基から選択される。半導体用途により好ましい官能基には、Si含有基；O含有基に結合したC；ヒドロキシル基；およびビニル基が含まれる。
【００６８】
また、企図される接着促進剤は、フェノール含有樹脂、ノボラック樹脂、例えば、CRJ-406またはHRJ-11040（双方ともSchenectady International, Inc.からのもの）、有機アクリレートおよび／またはスチレン樹脂を更に含んでなる有機樹脂をベースとする接着促進剤を含んでもよい。また、他の接着促進剤は、ポリジメチルシロキサン材料、エトキシ又はヒドロキシ含有シランモノマー、ビニル含有シランモノマー、アクリル化シランモノマー、またはシリルヒドリドを含んでもよい。
【００６９】
Si含有基を有する企図される接着促進剤の例は、式I：(R14)k(R15)lSi(R16)m(R17)nのシランであり、ここでR14、R15、R16およびR17は各々独立に、水素、ヒドロキシル、未飽和または飽和アルキル、置換体がアミノまたはエポキシである置換または未置換アルキル、飽和または未飽和アルコキシル、未飽和または飽和カルボン酸ラジカル、またはアリールを表し；R14、R15、R16およびR17の少なくとも２つが、水素、ヒドロキシル、飽和または未飽和アルコキシル、未飽和アルキル、または未飽和カルボン酸ラジカルで表され；そしてk＋l＋m＋n≦4である。具体例には、ビニルシラン、例えば、H2C=CHSi(CH3)2HおよびH2C=CHSi(R18)3（ここでR18はCH3O、C2H5O、AcO、H2C=CHまたはH2C=C(CH3)O-である）またはビニルフェニルメチルシラン；式H2C=CHCH2-Si(OC2H5)3およびH2C=CHCH2-Si(H)(OCH3)2のアリルシラン；グリシドキシプロピルシラン、例えば、(３−グリシドキシプロピル）メチルジエトキシシランおよび（３−グリシドキシプロピル）トリメトキシシラン；式H2C=(CH3)COO(CH2)3-Si(OR19)3（ここでR19はアルキル、好ましくはメチルまたはエチル）のメタクリルオキシプロピルシラン；H2N(CH2)3Si(OCH2CH3)3、H2N(CH2)3Si(OH)3またはH2N(CH2)3OC(CH3)2CH=CHSi(OCH3)3を含むアミノプロピルシラン誘導体が含まれる。上記のシラン類はGelestから市販されている。
【００７０】
O含有基に結合したCを有する好ましい接着促進剤の例は、グリシジルエ−テルであり、TriQuestから市販されている１，１，１−トリス−（ヒドロキシフェニル）エタン  トリグリシジルエーテルが含まれるが、これに限定されない。
【００７１】
O含有基に結合したCを有する好ましい接着促進剤の例は、少なくとも１つのカルボン酸基を含む未飽和カルボン酸のエステルである。具体例には、三官能性メタクリレートエステル、三官能性アクリルエステル、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリトリトールペンタアクリレート、およびグリシジルメタクリレートが含まれる。前記のものはすべてSartomerから市販されている。
【００７２】
ビニル基を有する好ましい接着促進剤の例は、その環式基がピリジン、芳香族またはヘテロ芳香族であるビニルサイクリックピリジンオリゴマーまたはポリマーである。有用な例には、これに限定されないが、Reillyから市販されている２−ビニルピリジンおよび４−ビニルピリジン；およびこれらに限定されないが、ビニルキノリン、ビニルカルバゾール、ビニルイミダゾールおよびビニルオキサゾールを含むビニルヘテロ芳香族が含まれる。
【００７３】
Si含有基を有する好ましい接着促進剤の例は、1999年11月23日に提出され通例的に譲受され同時係属の許可されたUS特許出願第09/471299号（これは参照によって本願明細書に全部取り込まれる）に開示されているポリカルボシランである。そのポリカルボシランは次式II：
【００７４】
【化２】
2005509913.tif 000003
【００７５】
において示され、ここでR20、R26およびR29は各々独立に、置換または未置換のアルキレン、シクロアルキレン、ビニレン、アリレンまたはアリーレンで表され；R21、R22、R23、R24、R27およびR28は各々独立に、水素原子またはアルキル、アルキレン、ビニル、シクロアルキル、アリルもしくはアリールを含んでなる有機基を表し、それらは線状でも分岐状でもよい；R25は有機ケイ素、シラニル、シロキシルまたは有機基を表し；且つ、ｐ、ｑ、ｒおよびｓは［4≦ｐ＋ｑ＋ｒ＋ｓ≦100,000］の条件を満たし；且つ、ｐ、ｑ、ｒおよびｓは集合で又は独立にゼロである。それら有機基は、18炭素原子まで含み得るものであるが、概して約1〜約10炭素原子を含む。有用なアルキル基には-CH2-およびｔ>1の-(CH2)t-が含まれる。
【００７６】
企図されるポリカルボシランには、ジヒドリドポリカルボシラン（R20が置換または未置換のアルキレンまたはフェニルであり、R21基が水素原子であり、そしてそのポリカルボシラン鎖中に付加ラジカルが存在せず；ｑ、ｒおよびｓがすべてゼロである）が含まれる。他の好ましい群のポリカルボシランは、式IIのR21、R22、R23、R24、R25およびR28基が２〜１０炭素原子を有する置換または未置換のアルケニル基であるものである。そのアルケニル基は、エーテニル、プロペニル、アリル、ブテニル、または１０炭素原子まで有するあらゆる他の未飽和有機主鎖ラジカルでもよい。そのアルケニル基はジエニルの性質であり、別のアルキルまたは未飽和有機ポリマー主鎖へ付加または置換されたアルケニルラジカルを含む。これらの好ましいポリカルボシランの例には、ジヒドリドまたはアルケニル置換ポリカルボシラン、例えば、ポリジヒドリドカルボシラン、ポリアリルヒドリドカルボシラン、およびポリヒドリドカルボシランとポリアリルヒドリドカルボシランのランダムコポリマーが含まれる。
【００７７】
より好ましいポリカルボシランにおいて、式IIのR21基は水素原子であり、R21はメチレンであり、そしてその付加ラジカルｑ、ｒおよびｓはゼロである。他の好ましい本発明のポリカルボシラン化合物は、式IIのポリカルボシランであり、そこでR21およびR27は水素、R20およびR29はメチレン、R28はアルケニル、そして付加ラジカルｑおよびｒはゼロである。それらポリカルボシラン類は、周知の先行技術工程から調製し得るし、ポリカルボシラン組成物の製造業者からも提供され得る。最も好ましいポリカルボシランにおいて、式IIのR21基は水素原子であり；R24は-CH2-であり；ｑ、ｒおよびｓはゼロであり、そしてｐは５〜２５である。これらの最も好ましいポリカルボシランは、Starfire Systems, Incから得ることができる。これら最も好ましいポリカルボシランの具体例は次のものである。
【００７８】
【表１】
2005509913.tif 000004
【００７９】
式II中に見られるように、使用されるポリカルボシランは、r>0の場合、シロキシル基の形態の酸化ラジカルを含有してもよい。従って、r>0の場合、R25は有機ケイ素、シラニル、シロキシルまたは有機基を示す。酸化された形のポリカルボシラン（r>0）は非常に効率的に作用し、首尾良く本発明の範囲内にある。等しく明らかなように、ｒは、ｐ、ｑおよびｓとは無関係にゼロでよく、唯一の条件は式IIのラジカルｐ、ｑ、ｒおよびｓが［4＜ｐ＋ｑ＋ｒ＋ｓ＜100,000］の条件を満足しなければならいことであり、そしてｑおよびｒは集合的にまたは独立にゼロである。
【００８０】
カルボシランは、多くの製造業者から現在市販されている出発材料から、慣例的な重合工程を使用することにより製造され得る。ポリカルボシランの合成の例として、それら出発材料は、出発材料としての一般的有機シラン化合物からまたはポリシランから、ポリボロシロキサンとポリシランの混合物を不活性雰囲気中で加熱してそれにより対応ポリマーを製造することによって、あるいは低分子量カルボシランとポリシランの混合物を不活性雰囲気中で加熱してそれにより対応ポリマーを製造することによって、あるいは低分子量カルボシランとポリシランの混合物を不活性雰囲気中で、ポリボロジフェニルシロキサンのような触媒の存在下で加熱してそれにより対応ポリマーを製造することによって調製し得る。また、ポリカルボシランは、参照により本願明細書中に全部取り込まれるUS特許第5,153,295号に報告されているグリニャール反応により合成してもよい。
【００８１】
ヒドロキシル基を有する好ましい接着促進剤の例は、式III：-[R30C6H2(OH)(R31)]u（ここでR30は置換または未置換のアルキレン、シクロアルキレン、ビニル、アリルまたはアリールであり；R31はアルキル、アルキレン、ビニレン、シクロアルキレン、アリレンまたはアリールであり；且つu=3〜100である）のフェノールホルムアルデヒド樹脂またはオリゴマーである。有用なアルキル基の例には、v>1である-CH2-および-(CH2)v-が含まれる。特に有用なフェノール−ホルムアルデヒド樹脂オリゴマーは1500の分子量を有し、これはSchenectady International Inc.から市販されている。
本接着促進剤は、少ないが有効な量、本熱分解性ポリマーの重量に基づき、好ましくは約0.01%〜約15%、より好ましくは約0.05%〜約7%で添加される。
【００８２】
また、接着促進剤は二重の目的または多段階的な目的に役立ち得る。接着促進剤は、吸光性組成物における接着を促進するため接着促進剤により必要とされるそれらの特性以外に極性および／または官能基に基づき、特定の吸光性組成物について特異的に選択され得る。ひとたび接着促進剤が組成物中に組み込まれると、それは“マグネット”として効果的に作用し、接着促進剤との間の極性の相違を利用することによってまたは接着促進剤上の官能基を利用することによって、剥奪用および／またはエッチング用溶液を接着促進剤に引きつける。この接着促進剤による誘引効果は、幾つかのやり方で活性化されることができる。例えば、接着促進剤が吸光性組成物中に室温で組み込まれる時に起こる発熱反応であり得るし、接着促進剤を“活性化”するために加えることが必要とされる外部エネルギーおよび／または熱であり得るし、接着促進剤の化学組成に依存して組成物に加えられるエネルギーである必要はなく、あるいは吸光性組成物へ適用されて接着促進剤を“活性化”する圧力差であってもよい。しかし、エネルギーが加えられるか否かに関わらず、接着促進剤が一旦添加されると、本態様では、リソグラフィ工程が完了するまでは、それが化学的に修飾または破壊されるところまで加熱されることも活性化されることもないと理解されるべきである。リソグラフィ工程が一旦完了すると、接着促進剤を含んでなる吸光性組成物は、未加熱のまま放置されてもよいし、その接着促進剤の化学組成が変化してその組成物と更に適合することができるように更に加熱されてもよい。この時点で、そのコーティングまたはフィルムが、前記の態様に記載したように更に加工されることができる。
【００８３】
pH調整剤
pH調整剤は、最終的な吸光性組成物のpHを365nm、248nm、193nmおよび157nm付近の吸収ピークを持つものが含まれるあらゆる選択されたレジスト材料と適合性となるかまたはより適合性となるようにそれを“調整（Tune）”または調節（adjust）するために無機ベース材料および吸光性化合物の混合物に添加される化合物、材料または液体である。本願明細書において企図されるpH調整剤は、2001年11月15日に提出された通例的に譲受された国際特許出願第PCT/US01/45306号に見出されるものである。
【００８４】
しかし、pH調整剤は、吸光性材料、コーティングおよび／またはフィルムのpHを調節するだけでなく、層化材料、電子部品または半導体部品の一部である吸光性材料、コーティングおよび／またはフィルムの化学的パフォーマンスおよび特性、機械的パフォーマンス並びに構造的性質に対し、その吸光性材料、コーティングおよび／またはフィルムがこれに対合するレジスト材料とより適合するように影響を与えると認識されるべきである。より詳しくは、pH調整剤は、光学的レジストパフォーマンスのための非反射性コーティングの表面特性を高めることによって最適化されたフィルム構成をもたらすポリマー特性、構造的性質および空間的配向に強い影響を与える。換言すれば、吸光性材料、コーティングおよび／またはフィルムあるいは対合したレジスト材料の機械的特性および構造的性質に影響を与えることなく単にスピンオン材料のpHを調節するというpH調整剤は、本願明細書において企図されるものではない。
【００８５】
企図されるpH調整剤は、２つの別個および時折関連する機能：ａ）それが添加されている組成物のpHに影響を与えること；およびｂ）吸光性材料、コーティングおよび／またはフィルムの機械的パフォーマンスおよび／または構造的性質に影響を与えること（光学的レジストパフォーマンスのための非反射性コーティングの表面特性の増強をもたらすポリマー特性、構造的性質および空間的配向に強い影響を与えることとして言及されてもよい）を発揮しなければならない。
【００８６】
企図されるpH調整剤は、それが添加される組成物のpHに影響を与えるように多少デザインされる。可能性のあるpH調整剤のクラスは、ａ）あらゆる適切な酸性または塩基性溶液、化合物および／または成分、および／またはｂ）あらゆる適切な強さまたは濃度の酸性または塩基性溶液、化合物および／または成分を含んでなる。この寄せ集めの適切な“影響物（influencer）”は、そこから終局的なpH調整剤が選択される化合物の大きなセットである。なぜなら、そのpH“影響物”は、吸光性材料、コーティングおよび／またはフィルムを適合性にするかまたはより適合性にしつつ、吸光性材料、コーティングおよび／またはフィルムの機械的パフォーマンスおよび／または構造的性質に影響を与えることができなければならないからである。このことによって、例えば、選択されたpH調整剤は、スピンオン材料および有機吸光性化合物混合物の溶解度パラメーター、分子量、融点または幾つかの他の物理的特性に合致するようにデザインされることも意図される。換言すれば、pH調整剤および無機マトリックス材料と吸光性化合物との混合物は、pH調整剤がその混合物のpHに影響を与える第１の機能を発揮する場合でさえ、望ましい物理的特性に依存して物理的に適合性であることはない。好ましい態様において望ましい物理的性質は、溶解度パラメーターまたは分子量である。より好ましい態様において望ましい物理的性質は、溶解度パラメーターである。
【００８７】
また、pH調整剤は、レジスト材料／ARC対のパフォーマンスおよび特性にも機械的および構造的な影響を与えるであろうと認識される。例えば、pH調整がなされた吸光性材料、コーティングおよび／またはフィルムが基体または層化材料に適用され、次いでレジスト材料がその吸光性材料、コーティングおよび／またはフィルムに適用される。そのレジスト材料は、露光されてその後現像された時、吸光性材料、コーティングおよび／またはフィルム（現像ライン）に対して85〜90度を有するであろう。換言すれば、そのレジスト材料は、吸光性材料、コーティングおよび／またはフィルム上へ“倒れかかる”ことはなく、有用な現像ラインを有するであろう。吸光性材料、コーティングおよび／またはフィルムがpH調整されない場合、そのレジスト材料は、エッチング後に吸光性材料、コーティングおよび／またはフィルム上へ“倒れかかり”得るものとなり、それは明らかに欠陥のあるレジスト材料および／または欠陥のある層化材料を導く。この場合において、pH調整がなされた吸光性材料、コーティングおよび／またはフィルムは、その吸光性材料、コーティングおよび／またはフィルムの機械的および構造的な完全性並びにそのレジスト材料／ARC対の適合性に影響を与える。本願明細書に使用される通り、“対合された”または“合対”という用語は、２つの材料または組成物が、それら２つの材料を互いに物理的、機械的および／または化学的に結合させるところまで互いの上に並置されることを意味する。
【００８８】
幾つかの適切なpH調整剤の例には、様々なモル濃度のアミンのクラス、例えば、γ−アミノアルキルトリアルコキシシラン、具体的にはγ−アミノプロピルトリエトキシシラン（APTFまたはAPTEOS）；水；酸化物およびアルコキシド、例えば、ナトリウムアルコキシド、カリウムアルコキシド、カリウムヒドロキシド；ハロゲン化水素、例えば、臭化水素、塩酸；酢酸；硫酸；乳酸；硝酸；TMAH；プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（PGMEA）；ケイ素のような無機原子を持つオリゴマーを含むアミンベースのオリゴマー、およびそれらの組合せが含まれる。pH調整剤の企図されるモル濃度には、レジスト材料について選択されるpH調整剤に依存して、純粋、10モル、1.0モル、0.1モルおよび0.01モル濃度が含まれる。
【００８９】
別の態様において、高められたpH溶液は、pH調整されていない溶液から造られたフィルムよりも密である特性を示すフィルムをもたらす。湿式剥奪テストが高密化の程度を決定するのに使用された。フォトレジスト工程におけるような有効なARC密度は次の通りである。ARCが密でないならば、レジスト内における過多の光発生酸（フォトレジストのUV放射への曝露の間に発生する）がフォトレジスト−ARCの境界を横切って放散し、フォト酸の局所的濃度の低下を生じ、その局所的酸触媒性反応の崩壊が生じ、レジストフーチングを導き得る過小反応レジスト（ポジティブトーンレジスト）を生じる。これとは逆に、ARCが密過ぎるならば、局所的に発生した酸の蓄積がその界面で起こり、局所的酸触媒性反応の増加を生じ、レジストアンダーカット（ポジティブトーンレジスト）を導き得る過大反応レジストを生じる。
【００９０】
他の態様において、pH調整剤は、その配合物から物理的には別ものである固体支持材料（例えば、プロピルアミン付加シリカ、アミンをベースとするポリマー、例えば、メラミン、または加工溶剤条件において不溶性である他のアミン付加材料）上に見出し得る。例えば、そのpHは配合物を固体支持材料に透過させて調整してもよいし、後でろ過される固体支持材料を持つスラリーにおいて調整してもよい。
【００９１】
また、pH調整剤は二重の目的または多段階的な目的に役立ち得る。pH調整剤は、吸光性組成物を“調整”するためpH調整剤により必要とされる特性以外に極性および／または官能基に基づき、特定の吸光性組成物について特異的に選択され得る。ひとたびpH調整剤が組成物中に組み込まれると、それは“マグネット”として効果的に作用し、pH調整剤との間の極性の相違を利用することによってまたはpH調整剤上の官能基を利用することによって、剥奪用および／またはエッチング用溶液をpH調整剤に引きつける。このpH調整剤による誘引効果は、幾つかのやり方で活性化されることができる。例えば、pH調整剤が吸光性組成物中に室温で組み込まれる時に起こる発熱反応であり得るし、pH調整剤を“活性化”するために加えることが必要とされる外部エネルギーおよび／または熱であり得るし、pH調整剤の化学組成に依存して組成物に加えられるエネルギーである必要はなく、あるいは吸光性組成物へ適用されてpH調整剤を“活性化”する圧力差であってもよい。しかし、エネルギーが加えられるか否かに関わらず、pH調整剤が一旦添加されると、本態様では、リソグラフィ工程が完了するまでは、それが化学的に修飾または破壊されるところまで加熱されることも活性化されることもないと理解されるべきである。リソグラフィ工程が一旦完了すると、pH調整剤を含んでなる吸光性組成物は、未加熱のまま放置されてもよいし、そのpH調整剤の化学組成が変化してその組成物と更に適合することができるように更に加熱されてもよい。この時点で、そのコーティングまたはフィルムは、前記の態様に記載したように更に加工されることができる。
【００９２】
キャッピング剤
少なくとも１つのキャッピング剤も、吸光性組成物に材料改質剤として添加され得る。本願明細書に使用されている通り、“キャッピング剤”という用語は、特定のポリマーの分子量をそのポリマーの端部を“キャッピング”することにより効果的にコントロールする終止モノマーを意味する。企図される態様においてキャッピング剤は、エトキシ反応基のような唯一の反応基を持ち、そのモノマーの残部はメチル基であるシランモノマーを含んでなる。さらには、そのシランモノマーは吸光性組成物を形成する親反応の終期に添加される。TMEOSのようなシラン組成物を含め、あらゆる適切な終止モノマーを本用途に使用し得る。
【００９３】
また、キャッピング剤は二重の目的または多段階的な目的に役立ち得る。キャッピング剤は、吸光性組成物の構成物のすべてまたは一部をキャップするためにキャッピング剤により必要とされる特性以外に極性および／または官能基に基づき、特定の吸光性組成物について特異的に選択され得る。分子量および存在する官能基の極性をコントロールすることによって、キャッピング剤はマトリックス材料の溶解度パラメーターを調節するように機能し得るものでもあり、工程全体にわたりそれの溶解度適合性を改善する。ひとたびキャッピング剤が組成物中に組み込まれると、それは“マグネット”として効果的に作用し、キャッピング剤との間の極性の相違を利用することによってまたはキャッピング剤上の官能基を利用することによって、剥奪用および／またはエッチング用溶液をキャッピング剤またはキャッピング剤を含んでなる化合物に引きつける。このキャッピング剤による誘引効果は、幾つかのやり方で活性化されることができる。例えば、キャッピング剤が吸光性組成物中に室温で組み込まれる時に起こる発熱反応であり得るし、キャッピング剤を“活性化”するために加えることが必要とされる外部エネルギーおよび／または熱であり得るし、キャッピング剤の化学組成に依存して組成物に加えられるエネルギーである必要はなく、あるいは吸光性組成物へ適用されてキャッピング剤を“活性化”する圧力差であってもよい。しかし、エネルギーが加えられるか否かに関わらず、キャッピング剤が一旦添加されると、本態様では、リソグラフィ工程が完了するまでは、それが化学的に修飾または破壊されるところまで加熱されることも活性化されることもないと理解されるべきである。リソグラフィ工程が一旦完了すると、キャッピング剤を含んでなる吸光性組成物は、未加熱のまま放置されてもよいし、そのキャッピング剤の化学組成が変化してその組成物と更に適合することができるように更に加熱されてもよい。この時点で、そのコーティングまたはフィルムは、前記の態様に記載したように更に加工されることができる。
【００９４】
均展剤
少なくとも１つの均展剤も、吸光性組成物に材料改質剤として添加し得る。本願明細書に企図される通り、少なくとも１つの均展剤は、本材料におけるビア充填偏りを改善するために吸光性組成物に添加される。企図される均展剤はポリアクリレートを含んでなり、BYK380およびBYK381のようなイオン性および非イオン性の双方である。
【００９５】
また、均展剤は二重の目的または多段階的な目的に役立ち得る。均展剤は、吸光性組成物の全部または一部の均展化または平坦化を助けるために均展剤により必要とされる特性以外に極性および／または官能基に基づき、特定の吸光性組成物について特異的に選択され得る。ひとたび均展剤が組成物中に組み込まれると、それは“マグネット”として効果的に作用し、均展剤との間の極性の相違を利用することによってまたは均展剤上の官能基を利用することによって、剥奪用および／またはエッチング用溶液を均展剤または均展剤を含んでなる化合物に引きつける。この均展剤による誘引効果は、幾つかのやり方で活性化されることができる。例えば、均展剤が吸光性組成物中に室温で組み込まれる時に起こる発熱反応であり得るし、均展剤を“活性化”するために加えることが必要とされる外部エネルギーおよび／または熱であり得るし、均展剤の化学組成に依存して組成物に加えられるエネルギーである必要はなく、あるいは吸光性組成物へ適用されて均展剤を“活性化”する圧力差であってもよい。しかし、エネルギーが加えられるか否かに関わらず、均展剤が一旦添加されると、本態様では、リソグラフィ工程が完了するまでは、それが化学的に修飾または破壊されるところまで加熱されることも活性化されることもないと理解されるべきである。リソグラフィ工程が一旦完了すると、均展剤を含んでなる吸光性組成物は、未加熱のまま放置されてもよいし、その均展剤の化学組成が変化してその組成物と更に適合性になるように更に加熱されてもよい。この時点で、そのコーティングまたはフィルムは、前記の態様に記載したように更に加工されることができる。
【００９６】
製造方法
本題の他の側面によって、本願明細書に記載されている吸光性組成物を合成する方法が提供される。吸光性材料は、典型的には、様々なシラン反応体、例えば、トリエトキシシラン（HTEOS）、テトラエトキシシラン（TEOS）、メチルトリエトキシシラン（MTEOS）、ジメチルジエトキシシラン、テトラメトキシシラン（TMOS）、ジメチルジエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン（MTMOS）、トリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン（TMEOS）、フェニルトリエトキシシラン（PTEOS）、フェニルトリメトキシシラン（PTMOS）、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、テトラアセトキシシラン（TAS）、メチルトリアセトキシシラン（MTAS）、フェニルトリアセトキシシラン（PTAS）、ジメチルジアセトキシシラン、およびジフェニルジアセトキシシランが含まれるシラン反応体から合成される。しかし、ガリウム、ヒ素、ゲルマニウム、ホウ素、類似の原子および材料を、吸光性材料を製造するためにケイ素原子と一緒にまたはその単独原子材料として使用してもよい。
【００９７】
トリクロロシラン、メチルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、テトラクロロシラン、ジクロロシラン、メチルジクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、クロロトリエトキシシラン、クロロトリメトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、クロロエチルトリエトキシシラン、クロロフェニルトリエトキシシラン、クロロメチルトリメトキシシラン、クロロエチルトリメトキシシランおよびクロロフェニルトリメトキシシランのようなクロロシラン類を含むハロシラン類も、シラン反応体として使用される。
【００９８】
概して、吸光性組成物を生成するためには、吸光性化合物１〜４０またはそれらの組合せのような吸光性化合物を吸光性材料の合成に際してシラン反応体と組み合わせる。また、材料改質剤、例えば、少なくとも１つのポロゲン、少なくとも１つの高沸性溶剤、少なくとも１つの均展剤、少なくとも１つのキャッピング剤、少なくとも１つの触媒、少なくとも１つの交代溶剤、少なくとも１つの接着促進剤、少なくとも１つのpH調整剤および／またはそれらの組合せを、吸光性材料の合成の間にまたは少なくとも１つのキャッピング剤の場合にその合成を完了させてから、シラン反応体と組み合わせてもよい。
【００９９】
吸光性組成物を作るための１つの企図される方法は、少なくとも１つの無機ベース材料、少なくとも１つの組合せ可能な吸光性化合物、少なくとも１つの材料改質剤、例えば、少なくとも１つのポロゲン、少なくとも１つの均展剤、少なくとも１つの高沸性溶剤、少なくとも１つの触媒、少なくとも１つのキャッピング剤、少なくとも１つの交代溶剤、少なくとも１つのpH調整剤、少なくとも１つの接着促進剤および／またはそれらの組合せ、酸／水混合物、例えば、硝酸／水混合物、および少なくとも１つの溶剤を組み合わせ、反応混合物を形成すること；および、その反応混合物を約40℃又はそれを越える温度まで加熱するかまたは還流して吸光性組成物を形成することを含む。形成された吸光性組成物は、様々な厚みのフィルムを生成することができるコーティング用溶液を提供するために少なくとも１つの溶剤で希釈される。その還流の間または還流／加熱段階の後に、少なくとも１つの材料改質剤、例えば、少なくとも１つのポロゲン、少なくとも１つの高沸性溶剤、少なくとも１つのキャッピング剤、少なくとも１つの均展剤、少なくとも１つの触媒、少なくとも１つの交代溶剤、少なくとも１つのpH調整剤、少なくとも１つの接着促進剤および／またはそれらの組合せをまた加えてもよいし、代替的に加えてもよい。
【０１００】
吸光性組成物を作るための他の企図される方法において、少なくとも１つの無機ベース材料、少なくとも１つの組合せ可能な吸光性化合物、少なくとも１つの材料改質剤、例えば、少なくとも１つのポロゲンまたは少なくとも１つの有機タイプポリマー、少なくとも１つの高沸性溶剤、少なくとも１つの触媒、少なくとも１つのキャッピング剤、少なくとも１つの均展剤、少なくとも１つの接着促進剤、少なくとも１つの交代溶剤、少なくとも１つのpH調整剤および／またはそれらの組合せ、および少なくとも１つの追加的溶剤を、反応混合物を形成するために組み合わせることができる。次いで、その反応混合物を約40℃又はそれを越える温度まで加熱するかまたは還流して吸光性組成物を形成する。形成された吸光性組成物は、様々な厚みのフィルムを生成することができるコーティング用溶液を提供するために少なくとも１つの溶剤で希釈される。本法におけるpH調整剤は、慣用的な様々の酸／水混合物でもよく、そこで異なる酸が添加されても、少なめの酸が添加されても、或いは多めの水が添加されてもよい。しかし、選択されるpH調整剤に関係なく、基礎的な主要部分は維持され、つまりそれは、そのpHがpH調整剤に影響を受けるということだけでなく、ARCの化学的、機械的および物理的特性をもが影響を受け、より適合性のレジスト／ARC対がもたらされるということである。
【０１０１】
より詳しくは、シラン反応体、例えば、HTEOSまたはTEOSおよびMTEOS、TMEOSまたはTMOSおよびMTMOS；または代替的にテトラクロロシランおよびメチルトリクロロシラン、吸光性化合物１〜４１のような少なくとも１つの吸光性化合物；APTFのような少なくとも１つのpH調整剤；溶剤または溶剤の組合せ；および酸／水混合物を含む反応混合物が反応容器内に形成される。適切な溶剤には、アセトン、２−プロパノールおよび他の単純なアルコール、ケトンおよびエステル、例えば、１−プロパノール、MIBK、プロポキシプロパノールおよび酢酸プロピルが含まれる。酸／水混合物は、例えば、硝酸および水である。他のプロトン酸または酸無水物、例えば、酢酸、乳酸、シュウ酸、ギ酸、リン酸、塩酸、または酢酸無水物が、その酸混合物中に代替的に使用される。その反応混合物を約40℃又はそれを越える温度まで加熱するかまたは約1〜24時間還流して吸光性溶液を生成する。上記した通り、選択されるレジスト材料に依存して、材料改質剤、例えば、少なくとも１つのポロゲン、少なくとも１つの高沸性溶剤、少なくとも１つの触媒、少なくとも１つのキャッピング剤、少なくとも１つの交代溶剤、少なくとも１つのpH調整剤、少なくとも１つの接着促進剤、少なくとも１つの均展剤および／またはそれらの組合せをその加熱／還流段階の間にまたはその後に加えてもよい。また上記した通り、酸／水混合物における酸濃度および／または強度および水濃度は、pH調整剤となるために、特定の層化材料、電子部品または半導体部品用途に選択されるレジスト材料に依存して変動させてもよい。
【０１０２】
吸光性材料は、様々な厚みのフィルムを生成するコーティング用溶液を獲得するために適切な溶剤で希釈することができる。適切な希釈溶剤には、アセトン、２−プロパノール、エタノール、ブタノール、メタノール、酢酸プロピル、乳酸エチル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、およびプロピレングリコールプロピルエーテルが含まれ、商業的に言及すれば、乳酸エチルおよびプロピレングリコールプロピルエーテルのような高沸点を持つプロパゾール-P希釈溶剤が有益であることが分かっている。高沸点溶剤は、気泡フィルム欠陥の形成の可能性を低下させると考えられる。対照的に、低沸点溶剤はフィルムの架橋最上層の下に捕捉され、続いてベーキング工程段階の間に放出された時に空洞を作る。本発明に有用な追加の溶剤には、エチレングリコールジメチルエーテル、他の用語でグライム、アニソール、ジブチルエーテル、ジプロピルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートおよびプロパノールが含まれる。場合によっては、界面活性剤を利用することができ、これら任意の界面活性剤についてのデータ／観察結果は下記の実施例部分に存在する；ただし、これらデータおよび観察結果は行われた検討を網羅するものではなく、試験されたすべての界面活性剤を表すものではない。例えば、次のクラスの界面活性剤が試験された：ポリアクリレート（イオン性および非イオン性の双方）（BYKブランド界面活性剤、具体的にはBYK306、307、308、380および381）、官能性ポリジメチルシロキサン（Tagoprenブランド界面活性剤）、シリコーン、フッ化アルキルエステル（FCブランド界面活性剤、具体的には3M（Minneapolis, MN）により提供されているFC4430、FC430またはFC4432）、ポリエーテルおよび脂肪族炭化水素鎖界面活性剤（Brij界面活性剤）、Magaface R8製品（DIC（日本）により提供されている）または一般的にフルオロカーボン表面活性剤のクラスをコーティング用溶液を添加する。さらに、BYK410およびBYK420のような、幾つかの増性剤をコーティング用溶液の粘度を得るためにコーティング用溶液に添加してもよい。コーティング用溶液は、典型的には約0.5〜20重量%ポリマーである。使用前に、コーティング用溶液は標準フィルタレーション技術によりろ過される。
【０１０３】
吸光性材料を形成する第２の方法によると、少なくとも１つのシラン反応体；吸光性化合物１〜４１のような少なくとも１つの吸光性化合物；少なくとも１つのポロゲン、少なくとも１つの高沸性溶剤、少なくとも１つの触媒、少なくとも１つの均展剤、少なくとも１つのキャッピング剤、少なくとも１つの交代溶剤、少なくとも１つのpH調整剤、少なくとも１つの接着促進剤および／またはそれらの組合せが含まれる少なくとも１つの材料改質剤；および追加の溶剤または溶剤の組合せを含む反応混合物を反応容器内に形成する。その反応混合物を約40℃またはそれを越える温度まで加熱し、その望ましい温度で約1〜24時間維持する。シラン反応体および溶剤は、上記第１の方法に記載した通りである。上記の通り、酸／水混合物を反応混合物に攪拌しながら加える。その反応混合物を約40℃またはそれを越える温度まで加熱し、その望ましい温度で約1〜24時間維持して、吸光性材料を生成する。その吸光性材料を上記の通り希釈してろ過し、コーティング用溶液を形成する。また、既に述べた通り、その最初の加熱段階の間またはその後に少なくとも１つのポロゲン、少なくとも１つの高沸性溶剤、少なくとも１つの触媒、少なくとも１つの交代溶剤、少なくとも１つの均展剤、少なくとも１つの接着促進剤、少なくとも１つのpH調整剤、および／またはそれらの組合せを添加してもよい。
【０１０４】
吸光性有機ヒドリドシロキサン材料を形成する方法は、非極性溶剤及び極性溶剤の双方を含む二相溶剤および相転移触媒の混合物を形成すること；少なくとも１つの有機トリハロシラン、ヒドリドトリハロシランを添加すること；少なくとも１つのポロゲン、少なくとも１つのキャッピング剤、少なくとも１つの高沸性溶剤、少なくとも１つの均展剤、少なくとも１つの触媒、少なくとも１つの交代溶剤、少なくとも１つの接着促進剤、少なくとも１つのpH調整剤および／またはそれらの組合せのような少なくとも１つの材料改質剤；および吸光性化合物１〜４１のような少なくとも１つの吸光性化合物を添加して二相反応混合物を提供すること；および、その二相反応混合物を1〜24時間反応させて吸光性有機ヒドリドシロキサンポリマーを生成することを含む。その相転移触媒には、テトラブチルアンモニウムクロライドおよびベンゾイルトリメチルアンモニウムクロライドが含まれるが、これらに限定されない。例示的な非極性溶剤には、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、四塩化炭素のようなハロゲン化溶剤およびそれらの混合物が含まれるが、これらに限定されない。有用な極性溶剤には、水、アルコール、およびアルコール−と水の混合物が含まれる。その吸光性ポリマーは、上記の通り希釈されてろ過され、コーティング用溶液を形成する。
【０１０５】
他の態様において、触媒は、固相上にその表面上への重合化処理で存在していてもよい。その支持材料には、典型的には、スルホン酸またはあらゆる他の酸含有ポリマー（例えば、使用される溶剤条件において不溶性である、ポリラクチド、ポリアクリル酸、ポリビニルスルホン酸）のような付加酸基を有するシリカベースのイオン交換樹脂が含まれ得る。
【０１０６】
他の態様において、吸光性コーティング組成物の合成および／または調製の間またはその後における組成物の含水量は、そのポリマーの分子量成長をコントロールするためにコントロールすることができる。含水量をコントロールすることは、ポリマー分子量成長にキャッピング剤と類似する効果を有する。
【０１０７】
別の方法において、吸光性非反射性組成物を作るまた別の方法は、その重合化反応を“仕込まれたシラン添加”仕様で開始した後に添加される少なくとも１つの無機ベースモノマーを要求する。次いで、残りのあらゆるシランモノマー；約375nmより小さい波長の光を吸収する組込み可能な収性化合物；および少なくとも１つのポロゲン、少なくとも１つの高沸性溶剤、少なくとも１つの触媒、少なくとも１つのpH調整剤、少なくとも１つの均展剤、少なくとも１つのキャッピング剤、少なくとも１つの接着促進剤、少なくとも１つの交代溶剤および／またはそれらの組合せのような少なくとも１つの材料改質剤を、その反応混合物に添加する。
【０１０８】
用途
吸光性コーティング用溶液は、様々な基体に塗布され、その特定の作製工程に依存し、典型的には慣例的スピンオン堆積技術によって層化材料、半導体加工に使用される層または電子部品に使用される層に形成される。これらの技術には、吸光性非反射コーティングを製造するためのディスペンススピン（dispense spin）、シックネススピン（thickness spin）、および熱ベーク段階が含まれる。典型的な工程は、1000〜4000rpmの約20秒間シックネススピン、および80℃〜300℃の温度で各々約1分間の1〜3ベーク段階を含む。本発明による吸光性非反射性コーティングは、約1.3〜約2.0の屈折率および約0.07を越える吸光率を示す。
【０１０９】
本願明細書において企図される基体には、あらゆる望ましい実質的な固体材料が含まれ得る。特に望ましい基体層は、フィルム、ガラス、セラミック、プラスチック、金属もしくはコーティングされた金属、または複合材料を含んでなるものであろう。好ましい態様において、基体には、ヒ化ケイ素またはゲルマニウムダイまたはウエハ表面、銅、銀、ニッケルもしくは金めっきリードフレームに見られるようなパッケージング表面、回路基盤またはパッケージ相互接続線に見られるような銅表面、ビア壁または剛化材界面（“銅”には裸銅およびその酸化物を考慮することが含まれる）、ポリイミドをベースとするフレックスパッケージに見られるようなポリマーベースのパッケージングまたはボード界面、リードまたは他の合金ハンダ球体表面、ガラスおよびポリイミドのようなポリマーが含まれる。より好ましい態様において、基体には、ケイ素、銅、ガラス；及び他のポリマーのようなパーケージングおよび回路基盤産業において一般的な材料が含まれる。
【０１１０】
企図されるコーティング材料、コーティング用溶液およびフィルムは、様々な電子デバイス、マイクロ電子デバイス、特に、ハードマスク層、誘電層、エッチ止め層および埋設エッチ止め層を含め、半導体集積回路並びに電子および半導体部品のための様々な層化材料の作製に利用され、有用なものであることができる。これらコーティング材料、コーティング用溶液およびフィルムは、層化材料およびデバイス、例えば、アダマンタンをベースとする化合物、ジアマンタンをベースとする化合物、ケイ素をコアとする化合物、有機誘電体、およびナノ多孔性誘電体に使用され得る他の材料とかなりの適合性である。本願明細書において企図されるコーティング材料、コーティング用溶液およびフィルムと相当に適合性である化合物は、2001年10月17日に提出された国際特許出願PCT/US01/32569号；2001年12月31日に提出された国際特許出願PCT/US01/50812号；US特許出願第09/538276号；US特許出願第09/544504号；US特許出願第09/587851号；US特許第6,214,746号；US特許第6,171,687号；US特許第6,172,128号；US特許第6,156,812号；2002年1月15日に提出されたUS特許出願第60/350187号；および2002年1月8日に提出されたUS特許出願第60/347195号（これらは参照により本願明細書に全部取り込まれる）に開示されている。
【０１１１】
本発明による吸光性材料をフォトリソグラフィック工程における非反射性コーティングとして使用する一般的方法は、図２ａ〜２ｈに表される。図２ａに示されるように、誘電層２２をケイ素基体２０上に堆積させる。誘電層２２は、例えば、TEOSから誘導される二酸化ケイ素層、シランをベースとする二酸化ケイ素層、熱成長酸化物、または化学蒸着法により生成されるメチルヒドリドシロキサン、OSG、FSG、NANOGLASS（商標）タイプの材料、または二酸化ケイ素が組み込まれる他の元素や化合物を含む、様々な誘電性材料により構成されることができる。誘電層２２は、典型的には光学的に透明な媒体であるが、光学的に透明な媒体でなければならないというものではない。吸光性非反射性コーティング層２４は誘電層２２の上に塗布され（図２ｂ）、これは図２ｃに示される積層体を作るように慣例的なポジティブフォトレジストのフォトレジスト層２６により覆われる。図２ｃの積層体は、図２ｄに示されるようにマスク３０を介して紫外光照射３２に曝される。その曝露の間に吸光性ARC層２４は、フォトレジストを透過するUV光３２を吸収する。誘電層２２は一般的且つ通常はUV波長域において透光性であるので、もし吸光性ARC層２４が存在しなければ、そのUV光３２は下層のケイ素層２０またはポリケイ素、銅のような他の反射性表面および窒化ケイ素等のような高反射率表面に反射して、重大な寸法、例えば、露光フォトレジストの重大な寸法２７を崩壊させるであろう。この例では、直接的な像転写を提供するポジティブフォトレジストが仮定される。ただし、幾つかの有機誘電体は光学的に透過性でないことが認識されるべきである。
【０１１２】
その露光積層体は現像されて、図２ｅの積層体を作る。吸光性ARC層２４は、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（TMAH）の2.3%溶液のような慣例的フォトレジスト現像剤に耐性である。対照的に、フォトレジスト材料の幾つかの化学特性を有するARC層は、フォトレジスト現像剤にもっと感受性である。さらには、吸光性ARC層はフォトレジスト剥奪工程に耐性であるが、有機ARCは耐性ではないと予想される。したがって、吸光性材料の使用は、ARC層を再適用することを必要とせずに、フォトレジスト再加工（rework）を容易にすることができる。
【０１１３】
次に、パターンをフォトレジスト層２６における開口を通じて吸光性ARC層２４にエッチングし、図２ｆのエッチ化積層体を作る。フォトレジストに高い選択性を有するフルオロカーボンエッチを使用して吸光性スピンオンARC層２４をエッチングする。吸光性層のフルオロカーボンへの応答は、酸素プラズマエッチ［RIEベースプラズマ］を要求する有機ARC層を越える吸光性層の追加的な利点を提供する。酸素プラズマエッチは、有機ベースであるフォトレジストも酸素プラズマによってエッチングされてしまうので、現像されたフォトレジストの重要な寸法を崩壊させ得る。フルオロカーボンプラズマは、酸素プラズマほどフォトレジストを消滅させない。より短いUV波長での焦点要求の深さは、図２ｄに示される露光段階でのフォトレジスト２６の厚みを制限するであろう。例えば、193nmでフォトレジスト層の厚みは約300nmであるべきであり、幾つかの企図される態様では約250nmの厚みが使用されると予期される。このように、これらの短い波長を使用し始めると、フォトレジストに関して選択的にエッチングされることができるARC層を有することが重要となるであろう。有機ARCのフォトレジストに対するプラズマエッチ選択性は２：１を越える。Si-OベースARCは６：１を越えるエッチ選択性を示すことができる。
【０１１４】
フルオロカーボンエッチは誘電層２２を通じるまで続けられ、図２ｇの積層体が作られる。フォトレジスト層２６は、その継続的エッチプロセスの間に部分的に消滅する。最終的に、フォトレジスト層２６は、幾つかの場合における酸素プラズマまたは水素低減化学物質のような適切なエネルギー供給源を使用しあるいは湿潤性物質により剥奪し、そしてARC層２４は、緩衝化酸素エッチ、例えば、標準的フッ化水素酸／水混合物、部分的もしくは完全に非水性のフッ化物薬品、または水性もしくは非水性有機アミンのいずれかを使用して剥奪させる。有利なことにARC層は、下層の誘電層に関する優れた選択性を示す溶液で剥奪させることができる。このように、図２ａ〜２ｈに示される概略的フォトリソグラフィック方法は、非反射性コーティング層としておよび犠牲的な非反射性コーティングとしての吸光性材料の製法的利点を示す。
【０１１５】
本願明細書に記載されている化合物、コーティング、フィルム、材料およびそれらに類したものは、電子部品および／または半導体部品の一部となるか、それらの一部を形成するか、またはそれらを形成するのに使用され得る。本願明細書に使用されている通り、“電子部品”という用語は、幾つかの所望の電気作用を得るための回路に使用されることができるあらゆるデバイスまたは部分をも意味する。本願明細書において企図される電子部品は、能動的部品および受動的部品への分類を含め、多くの異なるやり方で分類され得る。能動的部品は、増幅、振動またはシグナルコントロールのようなその操作のために電力供給源を通常要求する幾つかの動的機能を果たすことができる電子部品である。具体例は、バイポーラトランジスター、電界効果トランジスターおよび集積回路である。受動的部品は、操作において静電的である、すなわち大抵は増幅または振動の能力がなく、通常それらの特性的操作のために電力を要求しない電子部品である。具体例は、慣例的なレジスター、キャパシタ、インダクター、ダイオード、整流器およびヒューズである。
【０１１６】
また、本願明細書において企図される電子部品は、導電体、半導体または絶縁体として分類されてもよい。ここで、導電体とは、荷電キャリヤー（電子のようなもの）を電流内で原子間を容易に移動可能とする部品のことである。導電体部品の例は、金属を含んでなる回路線およびビアである。絶縁体とは、他の部品を電気的に隔離することに使用される材料のようにその機能が電流の伝導に極度に抵抗性である材料の能力に実質的に関係する部品のことであり、他方で、半導体とは、導電体と絶縁体との中間の性質上の抵抗性で電流を伝導する材料の能力に実質的に関係する機能を有する部品のことである。半導体部品の例は、トランジスター、ダイオード、幾つかのレーザー、整流器、サイリスターおよびフォトセンサーである。
【０１１７】
また、本願明細書において企図される電子部品は、電力供給体または電力消費体として分類されてもよい。電力供給体部品とは、典型的には他の部品に電気を供給するために使用されるもので、バッテリー、キャパシタ、コイルおよび燃料電池が含まれる。電力消費体部品には、レジスター、トランジスター、集積回路（IC）、センサーおよびそれらに類したものが含まれる。
【０１１８】
さらにまた、本願明細書において企図される電子部品は、個別体または集積体として分類されてもよい。個別部品とは、回路内の一箇所に集中させた１つの特定の電気的特性を提供するデバイスのことである。具体例は、レジスター、キャパシタ、ダイオード及びトランジスターである。集積部品とは、回路内の一箇所で複数の電気的特性を提供することができる部品の組合せのことである。具体例は、論理のような複数または複雑な機能を行うために複数の部品および接続線が組み合わされた集積回路である。
【実施例】
【０１１９】
分析的試験法：
収縮：フィルム収縮は、加工前およびその後にフィルム厚を決定することにより測定される。収縮は、初期フィルム厚のパーセントで表される。収縮はそのフィルム厚が低下するなら正である。その実際の厚み測定は、n&kアナライザー  スペクトルフォトメーターを光学的に使用して行われる。
屈折率：屈折率（ｎ）測定は、n&kアナライザー  スペクトルフォトメーターを使用する厚み測定と共に行われる。
吸収係数：吸収係数（ｋ）測定は、n&kアナライザー  スペクトルフォトメーターを使用する厚み測定と共に行われる。
分子量：分子量（Ｍｗ）測定は、ガス相クロマトグラフィーを使用することにより行われる。
被覆フィルム厚：被覆フィルム厚測定は、N&Kアナライザーを使用して行われる。
ビア充填％：ビア充填％測定は、走査電子顕微鏡と共にビア充填ウエハを使用して行われる。
フィルム品質：フィルム品質測定は、顕微鏡と共に目視検査を使用して行われる。
【０１２０】
空洞化を低減しつつ、レジスト材料の適合性と結びつきこれを改善し、エッチ選択性および／または剥奪選択性を向上させ且つ平坦化能力を高めるために、少なくとも１つの無機ベース材料または組成物；および少なくとも１つのポロゲン、少なくとも１つの高沸性溶剤、少なくとも１つのキャッピング剤、少なくとも１つの均展剤、少なくとも１つの触媒、少なくとも１つの交代溶剤、少なくとも１つの接着促進剤、少なくとも１つのpH調整剤および／またはそれらの組合せが含まれる少なくとも１つの材料改質剤を含んでなる吸光性材料を合成する方法は、下記の実施例に表される。下記の実施例において調製される溶液およびコーティングは、157nm、193nm、248nmおよび375nm付近を吸収するものが含まれる幾つかのフォトレジスト材料と適合するために調整されかつ／または調製される。193nmレジスト材料の例は、アクリレートレジスト材料である。
【０１２１】
実施例１
22リットルフラスコ内で、6497.86グラムの溶剤、2633.78グラムのTEOS、1639.78グラムのMTEOS、958.97グラムの９−アントラセンカルボキシ−メチルトリエトキシシラン、119.24グラムの0.1M硝酸および1425.58グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、932.80グラムのブタノールおよび20650.0ｇの乳酸エチルを加えた。アセトン単独またはその反応に正規に使用されている２−プロパンノール／アセトン混合物を少なくとも１つの交代溶剤で置換する。１つの態様では、エタノール／PGMEAの2:1混合物が少なくとも１つの交代溶剤として使用される。別の態様では、PGMEA／エタノールの2:1混合物が少なくとも１つの交代溶剤として使用される。実施例６〜２１に見出されるいずれの化合物および／または混合物を上で言及した化合物に代用してもよいことに留意することが重要である。また、実施例６〜２１は吸光性化合物およびpH調整剤添加を扱うが、本願明細書に記載されているような吸光性組成物を生成するために、本実施例に記載されているアセトンの無い状況に伴い、pH調整剤を含めてもよいし、それを除外してもよいことに留意することも重要である。
【０１２２】
テーブル１は、アセトンフリーおよびアセトン／IPAフリー混合物を使用する予備熟成実験を示す。テーブル１においてPORはコントロールを示し、アセトンおよびIPAの双方を溶剤として使用する。
図３〜１４は、テーブル１に見られる予備熟成データを図示し、7日間にわたる分子量、厚み、多分散性およびpH安定性が含まれる。
【０１２３】
テーブル２は、上で言及した材料の６つの“実施”について、還流時間、温度、ガスクロマトグラフィ情報、厚さ、光学的特性、水、エタノール、ブタノールおよびPGMEAの比率、密度、pHおよびトータルの固体パーセントを示す。テーブル３は、それら６つの実施（各実施は、特定還流時間  対  還流温度を意味する特定の“実施ID”を有する）について熱立ち上げデータを示し、図１５は、それら６つの実施についてその時間  対  温度を図示する。熱立ち上げ実験は、適用される熱に対しそれら材料がどの程度首尾良く応答するかを示すようにデザインされている。材料の温度は、一定の熱が適用されながら、特定の時間間隔で測定される。
【０１２４】
実施例２
22リットルフラスコ内で、6331.20グラムの２−プロパノール、アセトンのような3166.66グラムの溶剤、2633.78グラムのTEOS、1639.78グラムのMTEOS、958.97グラムの９−アントラセンカルボキシ−メチルトリエトキシシラン、119.24グラムの0.1M硝酸および1425.58グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、932.80グラムのブタノールおよび20650.0ｇの乳酸エチルを加えた。このセットの実施例に関して添加された材料改質剤は、少なくとも１つの高沸性溶剤であり、この場合グリセリンとした。このセットの実験データに関し、吸光性組成物コーティング材料中の空洞を除去し且つビア充填%を改善するために1%グリセリンが混合物に添加された。実施例６〜２１に見出されるいずれの化合物および／または混合物を上で言及した化合物に代用してもよいことに留意することが重要である。また、実施例６〜２１は吸光性化合物およびpH調整剤添加を扱うが、本願明細書に記載されているような吸光性組成物を生成するために、本実施例に記載されている高沸性溶剤条件に伴い、pH調整剤を含めてもよいし、それを除外してもよいことに留意することも重要である。
【０１２５】
テーブル４（第１部および第２部）は、異なるｐH測定値でのコントロール材料について、これに対し異なるｐH測定値で高い沸点溶剤を加えたそのコントロール材料について、ビア充填  対  厚さおよびピッチのまとめを示す。図１６〜２７は、テーブル４（第１部および第２部）における被覆フィルム厚および充填％に関するデータ並びに生じた傾向を図示する。図２８は、吸光性組成物でのウエハおよび高沸点溶剤を更に含んでなる吸光性組成物でのウエハについての実際のSEMデータを示す。
【０１２６】
実施例３
22リットルフラスコ内で、6331.20グラムの２−プロパノール、3166.66グラムのアセトン、2633.78グラムのTEOS、1639.78グラムのMTEOS、958.97グラムの９−アントラセンカルボキシ−メチルトリエトキシシラン、119.24グラムの0.1M硝酸および1425.58グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その加熱／還流時間を４つの相対的な等時間間隔に分割し、各々の時点でTMEOSをそれぞれ0.2g、0.5g、1gおよび5gの量で加えた。その溶液に20650.0ｇの乳酸エチルを加えた。また、幾つかの態様において、932.80グラムのブタノールをTMEOSの添加が完了した後に加えた。このセットの実施例に関して添加された材料改質剤は、少なくとも１つのキャッピング剤であり、この場合TMEOSとした。実施例６〜２１に見出されるいずれの化合物および／または混合物を上で言及した化合物に代用してもよいことに留意することが重要である。また、実施例６〜２１は吸光性化合物およびpH調整剤添加を扱うが、本願明細書に記載されているような吸光性組成物を生成するために、本実施例に記載されている高沸性溶剤条件に伴い、pH調整剤を含めてもよいし、それを除外してもよいことに留意することも重要である。
【０１２７】
それら親配合物を1週間40℃で熟成させた。その熟成親配合物に関し、TMEOSの添加の回数はポリマー分子量成長にとって重要ではなかった。ポリマー分子量成長は5gのTMEOSが添加された３つの熟成親配合物に関して最も小さかった。5gのTMEOSが添加された３つの熟成親配合物（ブタノール前、ブタノール後、還流に3時間）に関して、そのGCは、TMEOSが添加され還流3時間の親配合物を除き、TMEOSについてのピークを示した。最も小さいポリマー分子量成長傾きを持つ５つの試料が可能性のある候補として選ばれた。選ばれた親配合物は、すべて5gのTMEOSが添加された３つの試料、1gのTMEOSが添加されて還流に3時間の１つの試料、およびブタノールの他に1gのTMEOSが添加された１つの試料であった。それら５つの親配合物は、吸光性コーティング組成物を形成するために希釈し、1週間40℃で熟成させた。その熟成化子配合物に関し、ポリマー分子量成長は5gのTMEOSが添加された３つの子配合物について最も小さかった。
【０１２８】
そのポリマー分子量成長は、ポリマー分子量成長の大部分が親配合物分子量に関係なく希釈で起こることから、親配合物配合物の水分含量をコントロールすることによってコントロールおよび／または停止することもできる。幾つかの態様において、その水分を約20%低下させた。テーブル５およびテーブル６は、水分コントロール実験からの親配合物および子配合物QC結果を示す。図２９および３０は、分子量  対  時間（時間単位）に基づく水分コントロール実験データを図示する。
【０１２９】
実施例４
22リットルフラスコ内で、6331.20グラムの２−プロパノール、3166.66グラムのアセトンのような溶剤、2633.78グラムのTEOS、1639.78グラムのMTEOS、958.97グラムの９−アントラセンカルボキシ−メチルトリエトキシシラン、119.24グラムの0.1M硝酸および1425.58グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に20650.0ｇの乳酸エチルおよび932.80グラムのブタノールを加えた。このセットの実施例に関して添加された材料改質剤は、交代溶剤、または少なくとも１つの均展剤のような幾つかの剤と少なくとも１つの交代溶剤との組合せのような、いずれか１つの特定剤とした。実施例６〜２１に見出されるいずれの化合物および／または混合物を上で言及した化合物に代用してもよいことに留意することが重要である。また、実施例６〜２１は吸光性化合物およびpH調整剤添加を扱うが、本願明細書に記載されているような吸光性組成物を生成するために、本実施例に記載されている高沸性溶剤条件に伴い、pH調整剤を含めてもよいし、それを除外してもよいことに留意することも重要である。テーブル７は、本実施例に関して収集されたデータを示し、図３１は、本データ−デルタ厚（単独の密度）の幾つかを図示する。
【０１３０】
他の関連する実施例では、吸光性組成物の粘度を次の手順により改変した。上で調製された吸光性組成物であって、交代溶剤を含み、アセトンを含まない吸光性組成物を2000RPM、3000Åの厚みで、BYK306界面活性剤の存在下でスピンオンした。約2グラムの均展性および粘性剤、BYK410、420、380および／または381を添加し得る。界面活性剤は、均展および／または粘性剤が添加される場合に追加実施例において存在してもよいし、しなくてもよい。添加剤は子配合物（上の実施例におけるように既に希釈されたもの）に添加してもよく、それらを添加剤の添加後または未添加後に更に希釈してもいい。あるいは、添加剤を親配合物に加えてから希釈してもよいし、しなくてもよい。加えられる添加剤は僅か１つでもよいし、また試料へ１つ以上使用する添加剤を組み合わせてそれらの組合せ効果を得てもよい。それら特性への効果を試験するために、ある範囲の希釈ファクターを410、420、380および381について使用した。我々が期待していた主たる効果は、これらの試料がパターン化ウエハ上にスピンオンされてSEM下で見たときのビア充填であった。
【０１３１】
界面活性剤に関するデータについて下記の摘要を用いる：
【０１３２】
【表２】
2005509913.tif 000005
【０１３３】
今回、上に列挙した界面活性剤の幾つかは、様々なローディングポイントで縦じわ（striation）を除去するのに首尾良く利用される。利用された界面活性剤の幾つかについてのデータおよび観察結果は下記に示されるが、これらのデータおよび観察結果は行われた検討を網羅するものでなく、試験された界面活性剤のすべてを示すものではない。例えば、次のクラスの界面活性剤が試験された：ポリアクリレート（イオン性および非イオン性の双方）（BYKブランド界面活性剤）、官能性ポリジメチルシロキサン（Tagoprenブランド界面活性剤）、シリコーン、フッ化アルキルエステル（FCブランド界面活性剤）、ポリエーテルおよび脂肪族炭化水素鎖界面活性剤（Brij界面活性剤）。
【０１３４】
FC-4430
５つの200mm試料を0.007〜0.116のローディング範囲のFC-4430で作り、すべてをろ過前およびその後に試験し、最も高い３つのローディング体を8''ウエハへの試験のためにSunnyvaleに送った。すべての充填体はろ過前およびその後に縦じわを有していた。
次いで、FC-4430を0.004〜0.019のローディング範囲で300mm材料へ試験した。それら縦じわはローディングが増加すると急激に減少することが分かり、ローディング0.019の幾つかのウエハは目に見える縦じを有さず、他のものは目に見える縦じわを有していた。
FC-4430  300mm試料、複数のスピン速度で界面活性剤ローディング0.015、0.019、0.023を伴う。0.015および0.019ローディングウエハに縦じわが見られ、0.023ローディングウエハの幾つかは目に見える縦じわを有し、他のものは有さなかった。
【０１３５】
FC-4432
200mm試料ローディング0.004〜0.2、試料ローディング0.08および0.1におけるFC-4432は目に見える縦じわを有さなかったので、8''ウエハ上へスピンオンさせるためにSunnyvaleへ標準200mm材料と共に送り、同様に0.1ローディング試料上に縦じわが見えず、脱湿潤が顕著であった。ろ過相互影響を排除するためにろ過は行わなかった。
FC-4432を0.004〜0.11のローディングにおける小さな増加分で200mmおよび300mmに試験し、FC-4432が縦じわを除去するように作用するその最低濃度を決定した。そのローディングは300mmにおいて0.005および200mmにおいて0.04であることが分かった。ろ過相互影響を排除するためにろ過は行わなかった。
FC-4432、上記試料において行った試料ローディングを、大きな試料サイズで繰り返し、半分をろ過し、半分を未ろ過とした。200mm材料はローディング0.03〜0.06を有した。300mmは0.04〜0.06のローディングを有した。ろ過試料は、縦じわを除去するのに未ろ過のものよりも若干高い界面活性剤ローディングを要求した。
【０１３６】
Tagopren 5884
Tagopren 5884を300mmにおいて0.006〜0.11のローディングで試験した。いずれのウエハも縦じわを有しなかったが、ウエハのエッジ周りに大きな厚み変化があった。
Tagopren 5884を他の界面活性剤と混合したところ大きなエッジ厚変化を有さず、Tagopren 5851および8557およびFC-4430で混合が縦じわおよびエッジ厚変化を作らないか否かを決定した。エッジ厚変化は排除されなかった。
Tagopren 5884を前述の実験（ローディング0.004、0.006および0.008）に行ったのと同じローディングに使用した。それら試料を作ってろ過したところ、いずれも縦じわを有しなかった。
【０１３７】
Tagopren 5863
Tagopren 5863を300mmにおいて0.006〜0.11のローディングで試験した。0.015以上のローディングでの試料は縦じわを示さず、0.015より低いローディングでの試料は縦じわを有した。そのウエハのエッジ周りに大きな厚み変化はなかった。
Tagopren 5863を他の界面活性剤と混合したところ大きなエッジ厚変化を有さず、Tagopren 5851および8557で混合が縦じわおよびエッジ厚変化を作らないか否かを決定した。エッジ厚変化は排除されなかった。
Tagopren 5863を前述の実験（ローディング0.015、0.017および0.019）に行ったのと同じローディングに使用した。ローディング0.019での試料は縦じわを有さず、0.015および0.017は幾らか縦じわを有したが、縦じわパターンを示さなかった。
【０１３８】
Tagopren 5851、および5857
Tagopren 5851および5857を300mmにおいて0.006〜0.11のローディングで試験した。スピンされたすべてのウエハが目に見える縦じわを有した。そのウエハのエッジ周りに大きな厚み変化はなかった。
Tagopren 5851および5857を他の界面活性剤と混合したところ縦じわを有さず、これら界面活性剤が他のTagopren試料に見られるエッジ厚変化を排除するか否かを見るために、混合が縦じわおよびエッジ厚変化を作らないか否かを決定した。その混合界面活性剤試料にエッジ厚変化が見られた。
L-18459
この試料はELの10%溶液において試験され、0.003〜0.02のローディングで試験され、そして0.005以上のローディングでのウエハは縦じわを示さなかった。
【０１３９】
実施例５
既に述べた通り、吸光性組成物のエッチング選択性および／または剥奪選択性を改善するのに最も優れた方法の１つは、その材料へのポロゲンの添加を介して表面積を増大させ、次いでエネルギーの適用後に孔を作ることである。
【０１４０】
22リットルフラスコ内で、6331.20グラムの２−プロパノール、3166.66グラムのアセトン、2633.78グラムのTEOS、1639.78グラムのMTEOS、958.97グラムの９−アントラセンカルボキシ−メチルトリエトキシシラン、119.24グラムの0.1M硝酸および1425.58グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に20650.0ｇの乳酸エチルおよび932.80グラムのブタノールを加えた。このセットの実施例に関して添加された材料改質剤は、ポリ（エチレンオキシド）（PEO）またはポリ（プロピレンオキシド）（PPO）のような少なくとも１つのポロゲンとした。実施例６〜２１に見出されるいずれの化合物および／または混合物を上で言及した化合物に代用してもよいことに留意することが重要である。また、実施例６〜２１は吸光性化合物およびpH調整剤添加を扱うが、本願明細書に記載されているような吸光性組成物を生成するために、本実施例に記載されている高沸性溶剤条件に伴い、pH調整剤を含めてもよいし、それを除外してもよいことに留意することも重要である。テーブル８は、吸光性化合物を本実施例に使用して行われた実験のセットを示す。やはりまた、それら吸光性化合物のいずれか１つをこれら実験において代用することができることに留意すべきである。テーブル８において、次の略語が使用される：PEO＝ポリ（エチレンオキシド）；TMAA＝テトラメチル酢酸アンモニウム；TMAH＝23℃で2.3%のエッチング溶液。
【０１４１】
【表３】
2005509913.tif 000006
【０１４２】
【表４】
2005509913.tif 000007
【０１４３】
実施例６
９−アントラセンカルボキシ−メチルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
22リットルフラスコ内で、6331.20グラムの２−プロパノール、3166.66グラムのアセトン、2633.78グラムのTEOS、1639.78グラムのMTEOS、958.97グラムの９−アントラセンカルボキシ−メチルトリエトキシシラン、119.24グラムの0.1M硝酸および1425.58グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に932.80グラムのブタノールおよび20650.0ｇの乳酸エチルを加えた。その溶液をろ過してpH調整実験に使用した。pH調整剤、つまり0.1M硝酸を、約1.5の開始pHを有するスピンオン材料の650gの２つの個別溶液に加えた。その硝酸は次の量で加えられて次のpHが与えられた：ａ）2.794g（pH＝0.7）；ｂ）0.293g（pH=0.75）。APTEOSを、同じスピンオン材料の650gの２つの追加の個別溶液に次の量で加え、次のpH値が与えられた：ａ）0.053g（pH＝4.13）；ｂ）0.151g（pH＝5.47）。次いで、それら溶液を分けてから3000rpmシックネススピンを20秒行い、各々1分間80℃および180℃でベークした。光学特性は、N&K Technology Model 1200アナライザーで測定した。そのフィルム厚は、1402.17Åであった。248nmで屈折率（ｎ）は1.47であり、吸収係数（ｋ）は0.429であった。同じスピンおよびベーク工程パラメーター並びに測定技術を、下記のすべての実施例に使用した。
【０１４４】
９−アントラセンカルボキシ−メチルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する他の吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、60グラムの９−アントラセンカルボキシ−メチルトリエトキシシラン、0.6グラムの0.1M硝酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に115グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。その溶液をろ過した。次いで、その溶液を小分けにしてから3000rpmシックネススピンを20秒間行い、80℃および180℃で各々1分間ベークした。光学特性は、N&K Technology Model 1200アナライザーで測定した。そのフィルム厚は1635Åであった。248nmで屈折率（ｎ）は1.373であり、吸収係数（ｋ）は0.268であった。ただし、本実施例および下記に企図されるすべての実施例に関する屈折率および吸収係数データは、初期反応体および出発化合物の純度に依存して変化し得ると認識されるべきである。同じスピンおよびベーク工程パラメーター並びに測定技術を下記のすべての実施例に使用した。
【０１４５】
９−アントラセンカルボキシ−メチルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、60グラムの９−アントラセンカルボキシ−メチルトリエトキシシラン、0.6グラムの0.01M硝酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に115グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。その溶液をろ過した。次いで、その溶液を小分けにしてから3000rpmシックネススピンを20秒間行い、80℃および180℃で各々1分間ベークした。光学特性は、N&K Technology Model 1200アナライザーで測定した。そのフィルム厚は1635Åであった。248nmで屈折率（ｎ）は1.373であり、吸収係数（ｋ）は0.268であった。
【０１４６】
９−アントラセンカルボキシ−メチルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、60グラムの９−アントラセンカルボキシ−メチルトリエトキシシラン、0.6グラムの0.1M硝酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に115グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。その溶液をろ過した。次いで、その溶液を小分けにしてから3000rpmシックネススピンを20秒間行い、80℃および180℃で各々1分間ベークした。光学特性は、N&K Technology Model 1200アナライザーで測定した。そのフィルム厚は1635Åであった。
【０１４７】
９−アントラセンカルボキシ−メチルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、60グラムの９−アントラセンカルボキシ−メチルトリエトキシシラン、0.6グラムの0.1M硝酸および100グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に115グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。その溶液をろ過した。次いで、その溶液を小分けにしてから3000rpmシックネススピンを20秒間行い、80℃および180℃で各々1分間ベークした。光学特性は、N&K Technology Model 1200アナライザーで測定した。そのフィルム厚は1635Åであった。
【０１４８】
９−アントラセンカルボキシ−メチルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、60グラムの９−アントラセンカルボキシ−メチルトリエトキシシラン、0.6グラムの0.1M硝酸および130グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に115グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。その溶液をろ過した。次いで、その溶液を小分けにしてから3000rpmシックネススピンを20秒間行い、80℃および180℃で各々1分間ベークした。光学特性は、N&K Technology Model 1200アナライザーで測定した。そのフィルム厚は1635Åであった。
【０１４９】
９−アントラセンカルボキシ−メチルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、60グラムの９−アントラセンカルボキシ−メチルトリエトキシシラン、0.6グラムの0.1M硝酸および77グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。還流の間にその溶液に1gのAPTEOSを加えた。還流後、その溶液に115グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。その溶液をろ過した。次いで、その溶液を小分けにしてから3000rpmシックネススピンを20秒間行い、80℃および180℃で各々1分間ベークした。光学特性は、N&K Technology Model 1200アナライザーで測定した。そのフィルム厚は1635Åであった。248nmで屈折率（ｎ）は1.373であり、吸収係数（ｋ）は0.268であった。
【０１５０】
９−アントラセンカルボキシ−メチルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、60グラムの９−アントラセンカルボキシ−メチルトリエトキシシラン、0.6グラムの0.1M硝酸および77グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。還流後にその溶液に1gのAPTEOSを加えた。還流後、その溶液に115グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。その溶液をろ過した。次いで、その溶液を小分けにしてから3000rpmシックネススピンを20秒間行い、80℃および180℃で各々1分間ベークした。光学特性は、N&K Technology Model 1200アナライザーで測定した。そのフィルム厚は1635Åであった。
【０１５１】
９−アントラセンカルボキシ−エチルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、60グラムの９−アントラセンカルボキシ−エチルトリエトキシシラン、0.6グラムの10M酢酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に115グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。その溶液をろ過した。次いで、その溶液を小分けにしてから3000rpmシックネススピンを20秒間行い、80℃および180℃で各々1分間ベークした。光学特性は、N&K Technology Model 1200アナライザーで測定した。
【０１５２】
９−アントラセンカルボキシ−エチルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、60グラムの９−アントラセンカルボキシ−エチルトリエトキシシラン、0.6グラムの1.0M酢酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に115グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。その溶液をろ過した。次いで、その溶液を小分けにしてから3000rpmシックネススピンを20秒間行い、80℃および180℃で各々1分間ベークした。光学特性は、N&K Technology Model 1200アナライザーで測定した。
【０１５３】
９−アントラセンカルボキシ−エチルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、60グラムの９−アントラセンカルボキシ−エチルトリエトキシシラン、0.6グラムの純酢酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に115グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。その溶液をろ過した。次いで、その溶液を小分けにしてから3000rpmシックネススピンを20秒間行い、80℃および180℃で各々1分間ベークした。光学特性は、N&K Technology Model 1200アナライザーで測定した。
【０１５４】
９−アントラセンカルボキシ−エチルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、60グラムの９−アントラセンカルボキシ−エチルトリエトキシシラン、0.6グラムの10M酢酸および100グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に115グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。その溶液をろ過した。次いで、その溶液を小分けにしてから3000rpmシックネススピンを20秒間行い、80℃および180℃で各々1分間ベークした。光学特性は、N&K Technology Model 1200アナライザーで測定した。
【０１５５】
９−アントラセンカルボキシ−エチルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、60グラムの９−アントラセンカルボキシ−エチルトリエトキシシラン、0.6グラムの1.0M酢酸および130グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に115グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。その溶液をろ過した。次いで、その溶液を小分けにしてから3000rpmシックネススピンを20秒間行い、80℃および180℃で各々1分間ベークした。光学特性は、N&K Technology Model 1200アナライザーで測定した。
【０１５６】
９−アントラセンカルボキシ−エチルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、60グラムの９−アントラセンカルボキシ−エチルトリエトキシシラン、0.6グラムの純酢酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に115グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。その溶液をろ過した。次いで、その溶液を小分けにしてから3000rpmシックネススピンを20秒間行い、80℃および180℃で各々1分間ベークした。光学特性は、N&K Technology Model 1200アナライザーで測定した。
【０１５７】
９−アントラセンカルボキシ−エチルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、60グラムの９−アントラセンカルボキシ−エチルトリエトキシシラン、0.6グラムの10M酢酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。1.0gの水酸化カリウムを還流の間に加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に115グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。その溶液をろ過した。次いで、その溶液を小分けにしてから3000rpmシックネススピンを20秒間行い、80℃および180℃で各々1分間ベークした。光学特性は、N&K Technology Model 1200アナライザーで測定した。
【０１５８】
９−アントラセンカルボキシ−エチルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、60グラムの９−アントラセンカルボキシ−エチルトリエトキシシラン、0.6グラムの1.0M酢酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。還流の前に1.0gの水酸化カリウムを加えた。また、その溶液に115グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。その溶液をろ過した。次いで、その溶液を小分けにしてから3000rpmシックネススピンを20秒間行い、80℃および180℃で各々1分間ベークした。光学特性は、N&K Technology Model 1200アナライザーで測定した。
【０１５９】
９−アントラセンカルボキシ−プロピルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、178グラムの２−プロパノール、89グラムのアセトン、52グラムのTEOS、59グラムのMTEOS、29グラムの９−アントラセンカルボキシ−プロピルトリエトキシシラン、3.3グラムの純乳酸および40グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に26グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。その溶液をろ過した。次いで、その溶液を小分けにしてから3000rpmシックネススピンを20秒間行い、80℃および180℃で各々1分間ベークした。光学特性は、N&K Technology Model 1200アナライザーで測定した。厚みは1487.1オングストローム；k=0.4315；n=1.4986。
【０１６０】
９−アントラセンカルボキシ−プロピルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、178グラムの２−プロパノール、89グラムのアセトン、52グラムのTEOS、59グラムのMTEOS、29グラムの９−アントラセンカルボキシ−プロピルトリエトキシシラン、3.3グラムの10M乳酸および40グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に26グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。その溶液をろ過した。次いで、その溶液を小分けにしてから3000rpmシックネススピンを20秒間行い、80℃および180℃で各々1分間ベークした。光学特性は、N&K Technology Model 1200アナライザーで測定した。
【０１６１】
９−アントラセンカルボキシ−プロピルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、178グラムの２−プロパノール、89グラムのアセトン、52グラムのTEOS、59グラムのMTEOS、29グラムの９−アントラセンカルボキシ−プロピルトリエトキシシラン、3.3グラムの純乳酸および40グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に26グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。その溶液をろ過した。次いで、その溶液を小分けにしてから3000rpmシックネススピンを20秒間行い、80℃および180℃で各々1分間ベークした。光学特性は、N&K Technology Model 1200アナライザーで測定した。
【０１６２】
９−アントラセンカルボキシ−プロピルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、178グラムの２−プロパノール、89グラムのアセトン、52グラムのTEOS、59グラムのMTEOS、29グラムの９−アントラセンカルボキシ−プロピルトリエトキシシラン、3.3グラムの1.0M乳酸および70グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に26グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。その溶液をろ過した。次いで、その溶液を小分けにしてから3000rpmシックネススピンを20秒間行い、80℃および180℃で各々1分間ベークした。光学特性は、N&K Technology Model 1200アナライザーで測定した。
【０１６３】
９−アントラセンカルボキシ−プロピルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、178グラムの２−プロパノール、89グラムのアセトン、52グラムのTEOS、59グラムのMTEOS、29グラムの９−アントラセンカルボキシ−プロピルトリエトキシシラン、3.3グラムの10M乳酸および90グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に26グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。その溶液をろ過した。次いで、その溶液を小分けにしてから3000rpmシックネススピンを20秒間行い、80℃および180℃で各々1分間ベークした。光学特性は、N&K Technology Model 1200アナライザーで測定した。
【０１６４】
９−アントラセンカルボキシ−プロピルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、178グラムの２−プロパノール、89グラムのアセトン、52グラムのTEOS、59グラムのMTEOS、29グラムの９−アントラセンカルボキシ−プロピルトリエトキシシラン、3.3グラムの10M乳酸および40グラムの脱イオン水を組み合わせた。1.5gのTMAHをその溶液に還流前に加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に26グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。その溶液をろ過した。次いで、その溶液を小分けにしてから3000rpmシックネススピンを20秒間行い、80℃および180℃で各々1分間ベークした。光学特性は、N&K Technology Model 1200アナライザーで測定した。
【０１６５】
９−アントラセンカルボキシ−プロピルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、178グラムの２−プロパノール、89グラムのアセトン、52グラムのTEOS、59グラムのMTEOS、29グラムの９−アントラセンカルボキシ−プロピルトリエトキシシラン、3.3グラムの10M乳酸および40グラムの脱イオン水を組み合わせた。1.5gのTMAHをその溶液に還流の間に加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に26グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。その溶液をろ過した。次いで、その溶液を小分けにしてから3000rpmシックネススピンを20秒間行い、80℃および180℃で各々1分間ベークした。光学特性は、N&K Technology Model 1200アナライザーで測定した。
【０１６６】
９−アントラセンカルボキシ−プロピルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、178グラムの２−プロパノール、89グラムのアセトン、52グラムのTEOS、59グラムのMTEOS、29グラムの９−アントラセンカルボキシ−プロピルトリエトキシシラン、3.3グラムの10M乳酸および40グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。1.5gのTMAHをその溶液に還流後に加えた。また、還流後にその溶液に26グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。その溶液をろ過した。次いで、その溶液を小分けにしてから3000rpmシックネススピンを20秒間行い、80℃および180℃で各々1分間ベークした。光学特性は、N&K Technology Model 1200アナライザーで測定した。
【０１６７】
９−アントラセンカルボキシ−プロピルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、178グラムの２−プロパノール、89グラムのアセトン、52グラムのTEOS、59グラムのMTEOS、29グラムの９−アントラセンカルボキシ−プロピルトリエトキシシラン、3.3グラムの10M乳酸および40グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、26グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。その溶液をろ過した。次いで、その溶液を小分けにしてから3000rpmシックネススピンを20秒間行い、80℃および180℃で各々1分間ベークした。光学特性は、N&K Technology Model 1200アナライザーで測定した。厚みは1487.1オングストローム；k=0.4315；n=1.4986。
【０１６８】
実施例７
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、25グラムの９−アントラセンメタノール、10グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、5グラムのロゾール酸、0.6グラムの0.1M硝酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、111グラムのブタノール、459グラムの２−プロパノール、230グラムのアセトン、309グラムのエタノール、50グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。厚み=1436Å、n=1.479、k=0.1255。
【０１６９】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、25グラムの９−アントラセンメタノール、10グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、5グラムのロゾール酸、0.6グラムの0.01M硝酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、111グラムのブタノール、459グラムの２−プロパノール、230グラムのアセトン、309グラムのエタノール、50グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０１７０】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、25グラムの９−アントラセンメタノール、10グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、5グラムのロゾール酸、0.6グラムの1.0M硝酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、111グラムのブタノール、459グラムの２−プロパノール、230グラムのアセトン、309グラムのエタノール、50グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０１７１】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、25グラムの９−アントラセンメタノール、10グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、5グラムのロゾール酸、0.6グラムの0.1M硝酸および95グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、111グラムのブタノール、459グラムの２−プロパノール、230グラムのアセトン、309グラムのエタノール、50グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０１７２】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、25グラムの９−アントラセンメタノール、10グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、5グラムのロゾール酸、0.6グラムの0.1M硝酸および110グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、111グラムのブタノール、459グラムの２−プロパノール、230グラムのアセトン、309グラムのエタノール、50グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０１７３】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、25グラムの９−アントラセンメタノール、10グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、5グラムのロゾール酸、0.6グラムの0.1M硝酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。1.2gのAPTEOSをその溶液に還流前に加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、111グラムのブタノール、459グラムの２−プロパノール、230グラムのアセトン、309グラムのエタノール、50グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０１７４】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、25グラムの９−アントラセンメタノール、10グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、5グラムのロゾール酸、0.6グラムの0.1M硝酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。1.2gのAPTEOSをその溶液に還流の間に加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、111グラムのブタノール、459グラムの２−プロパノール、230グラムのアセトン、309グラムのエタノール、50グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０１７５】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、25グラムの９−アントラセンメタノール、10グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、5グラムのロゾール酸、0.6グラムの0.1M硝酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。1.2gのAPTEOSをその溶液に還流後に加えた。また、還流後にその溶液に、111グラムのブタノール、459グラムの２−プロパノール、230グラムのアセトン、309グラムのエタノール、50グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０１７６】
実施例８
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性SOGの合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、93グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、20グラムの９−アントラセンメタノール、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、5グラムのロゾール酸、0.5599グラムの10M酢酸および71.90グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０１７７】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性SOGの合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、93グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、20グラムの９−アントラセンメタノール、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、5グラムのロゾール酸、0.5599グラムの1.0M酢酸および71.90グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０１７８】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性SOGの合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、93グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、20グラムの９−アントラセンメタノール、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、5グラムのロゾール酸、0.5599グラムの純酢酸および71.90グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０１７９】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性SOGの合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、93グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、20グラムの９−アントラセンメタノール、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、5グラムのロゾール酸、0.5599グラムの10M酢酸および95グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０１８０】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性SOGの合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、93グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、20グラムの９−アントラセンメタノール、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、5グラムのロゾール酸、0.5599グラムの10M酢酸および120グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０１８１】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性SOGの合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、93グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、20グラムの９−アントラセンメタノール、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、5グラムのロゾール酸、0.5599グラムの10M酢酸および71.90グラムの脱イオン水を組み合わせた。2.2gの水酸化カリウムをその溶液に還流前に加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０１８２】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性SOGの合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、93グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、20グラムの９−アントラセンメタノール、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、5グラムのロゾール酸、0.5599グラムの10M酢酸および71.90グラムの脱イオン水を組み合わせた。2.2gの水酸化カリウムをその溶液に還流の間に加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０１８３】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性SOGの合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、93グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、20グラムの９−アントラセンメタノール、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、5グラムのロゾール酸、0.5599グラムの1075M酢酸および71.90グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。2.2gの水酸化カリウムをその溶液に還流後に加えた。また、還流後にその溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０１８４】
実施例９
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性SOGの合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、108グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、10グラムの９−アントラセンメタノール、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、5グラムのロゾール酸、0.5599グラムの1.0M硝酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。厚み=4275Å、n=1.529、k=0.124。
【０１８５】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性SOGの合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、108グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、10グラムの９−アントラセンメタノール、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、5グラムのロゾール酸、0.5599グラムの0.01M硝酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。厚み=4275Å、n=1.529、k=0.124。
【０１８６】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性SOGの合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、108グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、10グラムの９−アントラセンメタノール、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、5グラムのロゾール酸、0.5599グラムの1.0M硝酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。厚み=4275Å、n=1.529、k=0.124。
【０１８７】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性SOGの合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、108グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、10グラムの９−アントラセンメタノール、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、5グラムのロゾール酸、0.5599グラムの0.1M硝酸および95グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。厚み=4275Å、n=1.529、k=0.124。
【０１８８】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性SOGの合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、108グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、10グラムの９−アントラセンメタノール、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、5グラムのロゾール酸、0.5599グラムの0.1M硝酸および125グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。厚み=4275Å、n=1.529、k=0.124。
【０１８９】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性SOGの合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、108グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、10グラムの９−アントラセンメタノール、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、5グラムのロゾール酸、0.5599グラムの0.1M硝酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。3gのAPTEOSをその溶液に還流前に加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。厚み=4275Å、n=1.529、k=0.124。
【０１９０】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性SOGの合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、108グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、10グラムの９−アントラセンメタノール、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、5グラムのロゾール酸、0.5599グラムの0.1M硝酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。3gのAPTEOSをその溶液に還流の間に加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。厚み=4275Å、n=1.529、k=0.124。
【０１９１】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性SOGの合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、108グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、10グラムの９−アントラセンメタノール、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、5グラムのロゾール酸、0.5599グラムの0.1M硝酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。3gのAPTEOSをその溶液に還流後に加えた。また、還流後にその溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。厚み=4275Å、n=1.529、k=0.124。
【０１９２】
実施例１０
２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトンおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、51グラムのMTEOS、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、0.6グラムの0.1M硝酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。厚み=3592Å、n=1.563、k=0.067。
【０１９３】
２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトンおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、51グラムのMTEOS、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、0.6グラムの0.01M硝酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０１９４】
２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトンおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、51グラムのMTEOS、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、0.6グラムの1.0M硝酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０１９５】
２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトンおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、51グラムのMTEOS、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、0.6グラムの0.1M硝酸および90グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０１９６】
２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトンおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、51グラムのMTEOS、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、0.6グラムの0.1M硝酸および125グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０１９７】
２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトンおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、51グラムのMTEOS、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、0.6グラムの0.1M硝酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。0.26gのAPTEOSをその溶液に還流前に加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０１９８】
２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトンおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、51グラムのMTEOS、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、0.6グラムの0.1M硝酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。0.26gのAPTEOSをその溶液に還流の間に加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０１９９】
２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトンおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、51グラムのMTEOS、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、0.6グラムの0.1M硝酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。0.26gのAPTEOSをその溶液に還流後に加えた。また、還流後にその溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２００】
２−ヒドロキシ−４−（３−トリメトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトンおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、51グラムのMTEOS、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリメトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、0.6グラムの10M乳酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２０１】
２−ヒドロキシ−４−（３−トリメトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトンおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、51グラムのMTEOS、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリメトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、0.6グラムの1.0M乳酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２０２】
２−ヒドロキシ−４−（３−トリメトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトンおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、51グラムのMTEOS、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリメトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、0.6グラムの1.0M乳酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２０３】
２−ヒドロキシ−４−（３−トリメトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトンおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、51グラムのMTEOS、75グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリメトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、0.6グラムの10M乳酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２０４】
２−ヒドロキシ−４−（３−トリメトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトンおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、51グラムのMTEOS、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリメトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、0.6グラムの10M乳酸および115グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２０５】
２−ヒドロキシ−４−（３−トリメトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトンおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、51グラムのMTEOS、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリメトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、0.6グラムの10M乳酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。0.06gのAPTEOSをその溶液に還流前に加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２０６】
２−ヒドロキシ−４−（３−トリメトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトンおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、51グラムのMTEOS、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリメトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、0.6グラムの10M乳酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。0.06gのAPTEOSをその溶液に還流の間に加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２０７】
２−ヒドロキシ−４−（３−トリメトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトンおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、51グラムのMTEOS、60グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリメトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、0.6グラムの10M乳酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。0.06gのAPTEOSをその溶液に還流後に加えた。また、還流後にその溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２０８】
実施例１１
９−アントラセンメタノールおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、10グラムの９−アントラセンメタノール、0.6グラムの0.1M塩酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２０９】
９−アントラセンメタノールおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、10グラムの９−アントラセンメタノール、0.6グラムの0.01M塩酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２１０】
９−アントラセンメタノールおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、10グラムの９−アントラセンメタノール、0.6グラムの1.0M塩酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２１１】
９−アントラセンメタノールおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、10グラムの９−アントラセンメタノール、0.6グラムの0.1M塩酸および100グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２１２】
９−アントラセンメタノールおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、10グラムの９−アントラセンメタノール、0.6グラムの0.1M塩酸および130グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２１３】
９−アントラセンメタノールおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、10グラムの９−アントラセンメタノール、0.6グラムの0.1M塩酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。1.2gの水酸化カリウムをその溶液に還流前に加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２１４】
９−アントラセンメタノールおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、10グラムの９−アントラセンメタノール、0.6グラムの0.1M塩酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。1.2gの水酸化カリウムをその溶液に還流の間に加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２１５】
９−アントラセンメタノールおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、10グラムの９−アントラセンメタノール、0.6グラムの0.1M塩酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。1.2gの水酸化カリウムをその溶液に還流後に加えた。また、還流後にその溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２１６】
実施例１２
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、20グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、25グラムの９−アントラセンメタノール、および5グラムのロゾール酸、0.6グラムの1.0M酢酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。厚み=3503Å、n=1.475、k=0.193。
【０２１７】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、20グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、25グラムの９−アントラセンメタノール、および5グラムのロゾール酸、0.6グラムの10M酢酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２１８】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、20グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、25グラムの９−アントラセンメタノール、および5グラムのロゾール酸、0.6グラムの純酢酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２１９】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、20グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、25グラムの９−アントラセンメタノール、および5グラムのロゾール酸、0.6グラムの10M酢酸および98グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２２０】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、20グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、25グラムの９−アントラセンメタノール、および5グラムのロゾール酸、0.6グラムの10M酢酸および120グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２２１】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、20グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、25グラムの９−アントラセンメタノール、および5グラムのロゾール酸、0.6グラムの10M酢酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。1.5gのTMAHをその溶液に還流前に加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２２２】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、20グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、25グラムの９−アントラセンメタノール、および5グラムのロゾール酸、0.6グラムの10M酢酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。1.5gのTMAHをその溶液に還流の間に加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２２３】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、20グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、25グラムの９−アントラセンメタノール、および5グラムのロゾール酸、0.6グラムの10M酢酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。1.5gのTMAHをその溶液に還流後に加えた。また、還流後にその溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２２４】
実施例１３
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、5グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、25グラムの９−アントラセンメタノール、および5グラムのロゾール酸、0.6グラムの10M乳酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。厚み=3119Å、n=1.454、k=0.175。
【０２２５】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、5グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、25グラムの９−アントラセンメタノール、および5グラムのロゾール酸、0.6グラムの1.0M乳酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２２６】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、5グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、25グラムの９−アントラセンメタノール、および5グラムのロゾール酸、0.6グラムの純乳酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２２７】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、5グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、25グラムの９−アントラセンメタノール、および5グラムのロゾール酸、0.6グラムの10M乳酸および100グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２２８】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、5グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、25グラムの９−アントラセンメタノール、および5グラムのロゾール酸、0.6グラムの10M乳酸および130グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２２９】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、5グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、25グラムの９−アントラセンメタノール、および5グラムのロゾール酸、0.6グラムの10M乳酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。0.1gのAPTEOSをその溶液に還流前に加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２３０】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、5グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、25グラムの９−アントラセンメタノール、および5グラムのロゾール酸、0.6グラムの10M乳酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。0.1gのAPTEOSをその溶液に還流の間に加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２３１】
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸およびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、5グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、25グラムの９−アントラセンメタノール、および5グラムのロゾール酸、0.6グラムの10M乳酸および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。0.1gのAPTEOSをその溶液に還流後に加えた。また、その還流後にその溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
【０２３２】
実施例１４
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸、キニザリン、アリザリンおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、20グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、25グラムの９−アントラセンメタノール、および5グラムのロゾール酸、2グラムのキニザリン、2グラムのアリザリン、0.6グラムの0.1M硝酸、1.0M硝酸および0.01Mの硝酸（３つの個別の混合物に加える）および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。0.1M硝酸を含有する２つの他の溶液中にそれぞれ90gおよび110gの脱イオン水を加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。厚み=3554Å、n=1.489、k=0.193。
３つの追加の溶液中に1.1gの水酸化カリウムを加えた。各々の溶液中に水酸化カリウムをそれぞれ還流段階の前、その間およびその後に加えた。
【０２３３】
実施例１５
９−アントラセンメタノール、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、ロゾール酸、アリザリンおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、51.5グラムのMTEOS、5グラムの２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリプロポキシ）−ジフェニルケトン、25グラムの９−アントラセンメタノール、および5グラムのロゾール酸、および2グラムのアリザリン、0.5599グラムの1.0M、10M及び純酢酸（それぞれ３つの個別の混合物に加える）および71.90グラムの脱イオン水を組み合わせた。10M酢酸を含有する２つの他の溶液中にそれぞれ90gおよび110gの脱イオン水を加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、56.68グラムのブタノール、87.99グラムの２−プロパノール、44.10グラムのアセトン、59.31グラムのエタノール、9.55グラムの脱イオン水および3.75グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
３つの追加の溶液中に0.25gのAPTEOSを加えた。各々の溶液中にAPTEOSそれぞれを還流段階の前、その間およびその後に加えた。
【０２３４】
実施例１６
９−アントラセンカルボキシ−メチルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、30グラムの９−アントラセンカルボキシ−メチルトリエトキシシラン、0.6グラムの1.0M、0.01M及び1.0M硝酸（それぞれ３つの個別の溶液に加える）および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。0.1M硝酸を含有する２つの他の溶液中にそれぞれ90gおよび110gの脱イオン水を加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.7グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
３つの追加の溶液中に0.25gのHClを加えた。各々の溶液中にHClをそれぞれ還流段階の前、その間およびその後に加えた。
【０２３５】
９−アントラセンカルボキシ−エチルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、30グラムの９−アントラセンカルボキシ−エチルトリエトキシシラン、0.6グラムの1.0M、10M及び純乳酸（それぞれ３つの個別の溶液に加える）および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。10M乳酸を含有する２つの他の溶液中にそれぞれ90gおよび110gの脱イオン水を加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.7グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
３つの追加の溶液中に1.2gのAPTEOSを加えた。各々の溶液中にAPTEOSをそれぞれ還流段階の前、その間およびその後に加えた。
【０２３６】
９−アントラセンカルボキシ−プロピルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、30グラムの９−アントラセンカルボキシ−プロピルトリエトキシシラン、0.6グラムの1.0M、10M及び純乳酸（それぞれ３つの個別の溶液に加える）および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。10M乳酸を含有する２つの他の溶液中にそれぞれ90gおよび110gの脱イオン水を加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.7グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
３つの追加の溶液中に0.2gのAPTEOSを加えた。各々の溶液中にAPTEOSをそれぞれ還流段階の前、その間およびその後に加えた。
【０２３７】
９−アントラセンカルボキシ−ペンチルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、30グラムの９−アントラセンカルボキシ−ペンチルトリエトキシシラン、0.6グラムの0.1M、0.01M及び1.0M硝酸（それぞれ３つの個別の溶液に加える）および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。0.1M硝酸を含有する２つの他の溶液中にそれぞれ90gおよび110gの脱イオン水を加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.7グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
３つの追加の溶液中に1.0gの水酸化カリウムを加えた。各々の溶液中に水酸化カリウムをそれぞれ還流段階の前、その間およびその後に加えた。
【０２３８】
９−アントラセンカルボキシ−メチルトリメトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、30グラムの９−アントラセンカルボキシ−メチルトリメトキシシラン、0.6グラムの0.1M、10M及び純酢酸（それぞれ３つの個別の溶液に加える）および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。10M酢酸を含有する２つの他の溶液中にそれぞれ90gおよび110gの脱イオン水を加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.7グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
３つの追加の溶液中に2.4gのTMAHを加えた。各々の溶液中にTMAHをそれぞれ還流段階の前、その間およびその後に加えた。
【０２３９】
９−アントラセンカルボキシ−エチルトリメトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、30グラムの９−アントラセンカルボキシ−エチルトリメトキシシラン、0.6グラムの1.0M、10M及び純乳酸（それぞれ３つの個別の溶液に加える）および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。10M乳酸を含有する２つの他の溶液中にそれぞれ90gおよび110gの脱イオン水を加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.7グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
３つの追加の溶液中に1.2gのAPTEOSを加えた。各々の溶液中にAPTEOSをそれぞれ還流段階の前、その間およびその後に加えた。
【０２４０】
９−アントラセンカルボキシ−プロピルトリメトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOS、30グラムの９−アントラセンカルボキシ−プロピルトリメトキシシラン、0.6グラムの0.1M、0.01M及び1.0M塩酸（それぞれ３つの個別の溶液に加える）および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。0.1M塩酸を含有する２つの他の溶液中にそれぞれ90gおよび110gの脱イオン水を加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.7グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
３つの追加の溶液中に1.4gのAPTEOSを加えた。各々の溶液中にAPTEOSをそれぞれ還流段階の前、その間およびその後に加えた。
【０２４１】
実施例１７
９−アントラセンメタノールおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOSおよび10グラムの９−アントラセンメタノールを組み合わせた。その溶液を6時間還流した。0.6グラムの0.1M、0.01M及び1.0M塩酸の混合物（それぞれ３つの個別の溶液に加える）および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。0.1M塩酸を含有する２つの他の溶液中にそれぞれ90gおよび110gの脱イオン水を加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.7グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
３つの追加の溶液中に1.4gのAPTEOSを加えた。各々の溶液中にAPTEOSをそれぞれ還流段階の前、その間およびその後に加えた。
【０２４２】
９−アントラセンエタノールおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOSおよび10グラムの９−アントラセンエタノールを組み合わせた。その溶液を6時間還流した。0.6グラムの0.1M、0.01M及び1.0M硝酸の混合物（それぞれ３つの個別の溶液に加える）および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。0.1M硝酸を含有する２つの他の溶液中にそれぞれ90gおよび110gの脱イオン水を加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.7グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
３つの追加の溶液中に0.4gのAPTEOSを加えた。各々の溶液中にAPTEOSをそれぞれ還流段階の前、その間およびその後に加えた。
【０２４３】
９−アントラセンプロパノールおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、123グラムのTEOS、77グラムのMTEOSおよび10グラムの９−アントラセンプロパノールを組み合わせた。その溶液を6時間還流した。0.6グラムの1.0M、10M及び純酢酸の混合物（それぞれ３つの個別の溶液に加える）および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。10M酢酸を含有する２つの他の溶液中にそれぞれ90gおよび110gの脱イオン水を加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラムのブタノール、88グラムの２−プロパノール、44グラムのアセトン、59グラムのエタノール、9.5グラムの脱イオン水および3.7グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
３つの追加の溶液中に1.25gのTMAHを加えた。各々の溶液中にTMAHをそれぞれ還流段階の前、その間およびその後に加えた。
【０２４４】
実施例１８
９−アントラセンカルボキシ−メチルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、90グラムのTEOS、59グラムのMTEOS、60グラムの９−アントラセンカルボキシ−メチルトリエトキシシラン、0.6グラムの1.0M、10M及び純酢酸（それぞれ３つの個別の溶液に加える）および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。10M酢酸を含有する２つの他の溶液中にそれぞれ90gおよび110gの脱イオン水を加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、115グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
３つの追加の溶液中に1.25gのTMAHを加えた。各々の溶液中にTMAHをそれぞれ還流段階の前、その間およびその後に加えた。
【０２４５】
９−アントラセンカルボキシ−エチルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、90グラムのTEOS、59グラムのMTEOS、60グラムの９−アントラセンカルボキシ−エチルトリエトキシシラン、0.6グラムの0.1M、0.01M及び1.0M硝酸（それぞれ３つの個別の溶液に加える）および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。0.1M硝酸を含有する２つの他の溶液中にそれぞれ90gおよび110gの脱イオン水を加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、115グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
３つの追加の溶液中に0.25gのTMAHを加えた。各々の溶液中にTMAHをそれぞれ還流段階の前、その間およびその後に加えた。
【０２４６】
９−アントラセンカルボキシ−メチルトリメトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、90グラムのTEOS、59グラムのMTEOS、60グラムの９−アントラセンカルボキシ−メチルトリメトキシシラン、0.6グラムの1.0M、10M及び純乳酸（それぞれ３つの個別の溶液に加える）および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。10M乳酸を含有する２つの他の溶液中にそれぞれ90gおよび110gの脱イオン水を加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、115グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
３つの追加の溶液中に1.5gの水酸化カリウムを加えた。各々の溶液中に水酸化カリウムをそれぞれ還流段階の前、その間およびその後に加えた。
【０２４７】
９−アントラセンカルボキシ−プロピルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、90グラムのTEOS、59グラムのMTEOS、60グラムの９−アントラセンカルボキシ−プロピルトリエトキシシラン、0.6グラムの0.1M、0.01M及び1.0M硝酸（それぞれ３つの個別の溶液に加える）および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。0.1M硝酸を含有する２つの他の溶液中にそれぞれ90gおよび110gの脱イオン水を加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、115グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
３つの追加の溶液中に0.5gのTMAHを加えた。各々の溶液中にTMAHをそれぞれ還流段階の前、その間およびその後に加えた。
【０２４８】
９−アントラセンカルボキシ−メチルトリプロポキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、90グラムのTEOS、59グラムのMTEOS、60グラムの９−アントラセンカルボキシ−メチルトリプロポキシシラン、0.6グラムの1.0M、10M及び純酢酸（それぞれ３つの個別の溶液に加える）および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。10M酢酸を含有する２つの他の溶液中にそれぞれ90gおよび110gの脱イオン水を加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、115グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
３つの追加の溶液中に0.75gのTMAHを加えた。各々の溶液中にTMAHをそれぞれ還流段階の前、その間およびその後に加えた。
【０２４９】
９−アントラセンカルボキシ−エチルトリブトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148グラムのアセトン、90グラムのTEOS、59グラムのMTEOS、60グラムの９−アントラセンカルボキシ−エチルトリブトキシシラン、0.6グラムの1.0M、10M及び純酢酸（それぞれ３つの個別の溶液に加える）および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。10M酢酸を含有する２つの他の溶液中にそれぞれ90gおよび110gの脱イオン水を加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、115グラムのブタノール、488グラムの２−プロパノール、245グラムのアセトン、329グラムのエタノール、53グラムの脱イオン水および3.8グラムの10% FC430（3M, Minneapolis, MN）を加えた。
３つの追加の溶液中に1.00gのTMAHを加えた。各々の溶液中にTMAHをそれぞれ還流段階の前、その間およびその後に加えた。
【０２５０】
実施例１９
フェニルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラム（4.798モル）の２−プロパノール、148グラム（2.558モル）のアセトン、123グラム（0.593モル）のTEOS、104グラム（0.432モル）のフェニルトリエトキシシラン、0.6グラムの1.0M、10M及び純酢酸（それぞれ３つの個別の溶液に加える）および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。10M酢酸を含有する２つの他の溶液中にそれぞれ90gおよび110gの脱イオン水を加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラム（0.769モル）のブタノール、88グラム（1.422モル）の２−プロパノール、44グラム（0.758モル）のアセトン、59グラム（1.227モル）のエタノール、9.5グラム（0.528モル）の脱イオン水を加えた。厚み=1727Å、n=1.957、k=0.384。
３つの追加の溶液中に1.00gのTMAHを加えた。各々の溶液中にTMAHをそれぞれ還流段階の前、その間およびその後に加えた。
【０２５１】
フェニルトリメトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラム（4.798モル）の２−プロパノール、148グラム（2.558モル）のアセトン、123グラム（0.593モル）のTEOS、104グラム（0.432モル）のフェニルトリエトキシシラン、0.6グラムの0.1M、0.01M及び1.0M硝酸（それぞれ３つの個別の溶液に加える）および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。0.1M硝酸を含有する２つの他の溶液中にそれぞれ90gおよび110gの脱イオン水を加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラム（0.769モル）のブタノール、88グラム（1.422モル）の２−プロパノール、44グラム（0.758モル）のアセトン、59グラム（1.227モル）のエタノール、9.5グラム（0.528モル）の脱イオン水を加えた。
３つの追加の溶液中に1.00gのAPTEOSを加えた。各々の溶液中にAPTEOSをそれぞれ還流段階の前、その間およびその後に加えた。
【０２５２】
フェニルトリプロポキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラム（4.798モル）の２−プロパノール、148グラム（2.558モル）のアセトン、123グラム（0.593モル）のTEOS、104グラム（0.432モル）のフェニルトリエトキシシラン、0.6グラムの1.0M、10M及び純乳酸（それぞれ３つの個別の溶液に加える）および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。10M乳酸を含有する２つの他の溶液中にそれぞれ90gおよび110gの脱イオン水を加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラム（0.769モル）のブタノール、88グラム（1.422モル）の２−プロパノール、44グラム（0.758モル）のアセトン、59グラム（1.227モル）のエタノール、9.5グラム（0.528モル）の脱イオン水を加えた。
３つの追加の溶液中に0.75gのAPTEOSを加えた。各々の溶液中にAPTEOSをそれぞれ還流段階の前、その間およびその後に加えた。
【０２５３】
フェニルトリブトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラム（4.798モル）の２−プロパノール、148グラム（2.558モル）のアセトン、123グラム（0.593モル）のTEOS、104グラム（0.432モル）のフェニルトリエトキシシラン、0.6グラムの1.0M、10M及び純酢酸（それぞれ３つの個別の溶液に加える）および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。10M酢酸を含有する２つの他の溶液中にそれぞれ90gおよび110gの脱イオン水を加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラム（0.769モル）のブタノール、88グラム（1.422モル）の２−プロパノール、44グラム（0.758モル）のアセトン、59グラム（1.227モル）のエタノール、9.5グラム（0.528モル）の脱イオン水を加えた。
３つの追加の溶液中に0.5gのAPTEOSを加えた。各々の溶液中にAPTEOSをそれぞれ還流段階の前、その間およびその後に加えた。
【０２５４】
実施例２０
４−エトキシフェニルアゾベンゼン−４−カルボキシ−メチルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラム（4.798モル）の２−プロパノール、148グラム（2.558モル）のアセトン、123グラム（0.593モル）のTEOS、77グラム（0.432モル）のMTEOS、44.5グラム（0.13モル）の４−エトキシフェニルアゾベンゼン−４−カルボキシ−メチルトリエトキシシラン、0.6グラムの1.0M、10M及び純酢酸（それぞれ３つの個別の溶液に加える）および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。10M酢酸を含有する２つの他の溶液中にそれぞれ90gおよび110gの脱イオン水を加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラム（0.769モル）のブタノール、88グラム（1.422モル）の２−プロパノール、44グラム（0.758モル）のアセトン、59グラム（1.227モル）のエタノール、9.5グラム（0.528モル）の脱イオン水を加えた。
３つの追加の溶液中に0.50gのAPTEOSを加えた。各々の溶液中にAPTEOSをそれぞれ還流段階の前、その間およびその後に加えた。
【０２５５】
４−エトキシフェニルアゾベンゼン−４−カルボキシ−エチルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラム（4.798モル）の２−プロパノール、148グラム（2.558モル）のアセトン、123グラム（0.593モル）のTEOS、77グラム（0.432モル）のMTEOS、44.5グラム（0.13モル）の４−エトキシフェニルアゾベンゼン−４−カルボキシ−メチルトリエトキシシラン、0.6グラムの1.0M、10M及び純乳酸（それぞれ３つの個別の溶液に加える）および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。10M乳酸を含有する２つの他の溶液中にそれぞれ90gおよび110gの脱イオン水を加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラム（0.769モル）のブタノール、88グラム（1.422モル）の２−プロパノール、44グラム（0.758モル）のアセトン、59グラム（1.227モル）のエタノール、9.5グラム（0.528モル）の脱イオン水を加えた。
３つの追加の溶液中に0.25gのAPTEOSを加えた。各々の溶液中にAPTEOSをそれぞれ還流段階の前、その間およびその後に加えた。
【０２５６】
４−メトキシフェニルアゾベンゼン−４−カルボキシ−プロピルトリエトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラム（4.798モル）の２−プロパノール、148グラム（2.558モル）のアセトン、123グラム（0.593モル）のTEOS、77グラム（0.432モル）のMTEOS、44.5グラム（0.13モル）の４−エトキシフェニルアゾベンゼン−４−カルボキシ−メチルトリエトキシシラン、0.6グラムの0.1M、0.01M及び1.0M硝酸（それぞれ３つの個別の溶液に加える）および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。0.1M硝酸を含有する２つの他の溶液中にそれぞれ90gおよび110gの脱イオン水を加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラム（0.769モル）のブタノール、88グラム（1.422モル）の２−プロパノール、44グラム（0.758モル）のアセトン、59グラム（1.227モル）のエタノール、9.5グラム（0.528モル）の脱イオン水を加えた。
３つの追加の溶液中に0.10gのAPTEOSを加えた。各々の溶液中にAPTEOSをそれぞれ還流段階の前、その間およびその後に加えた。
【０２５７】
４−メトキシフェニルアゾベンゼン−４−カルボキシ−プロピルトリメトキシシランおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、297グラム（4.798モル）の２−プロパノール、148グラム（2.558モル）のアセトン、123グラム（0.593モル）のTEOS、77グラム（0.432モル）のMTEOS、44.5グラム（0.13モル）の４−エトキシフェニルアゾベンゼン−４−カルボキシ−メチルトリエトキシシラン、0.6グラムの0.1M、0.01M及び1.0M塩酸（それぞれ３つの個別の溶液に加える）および72グラムの脱イオン水を組み合わせた。0.1M塩酸を含有する２つの他の溶液中にそれぞれ90gおよび110gの脱イオン水を加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、57グラム（0.769モル）のブタノール、88グラム（1.422モル）の２−プロパノール、44グラム（0.758モル）のアセトン、59グラム（1.227モル）のエタノール、9.5グラム（0.528モル）の脱イオン水を加えた365nmでn=1.449、k=0.162。
３つの追加の溶液中に0.50gのTMAHを加えた。各々の溶液中にTMAHをそれぞれ還流段階の前、その間およびその後に加えた。
【０２５８】
実施例２１
PGMEAおよびpH調整剤を含有する吸光性材料の合成
1リットルフラスコ内で、504.892gのPGMEA、123.6グラムのTEOS、76.9グラムのMTEOS、5.608グラムの0.1M硝酸および66.869グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に43.777グラムのブタノールを加えた。その溶液をろ過してpH調整実験に使用した。
【０２５９】
別の1リットルフラスコ内で、297グラムの２−プロパノール、148.560のアセトン、139.902グラムのTEOS、19.10グラムのMTEOS、51.7gのPTEOS、5.624グラムの0.1M硝酸および66.827グラムの脱イオン水を組み合わせた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に43.93グラムのブタノールを加えた。その溶液をろ過してpH調整実験に使用した。
【０２６０】
調製した２つの溶液を組合せ、そしてpH調整剤、APTEOSを、約1.7の出発pHを有するその組合せ材料の650gの６つの個別溶液に加えた。APTEOSは次の量で加えられ、次のpHを示した：ａ）1.49g（pH=8.07）；ｂ）0.26g（pH=7.12）；ｃ）0.1g（pH=6.29）；ｄ）0.06g（pH=5.50）；ｅ）0.03g（pH=2.49）；ｆ）0グラム（pH=1.76）。次いで、それら溶液を小分けにしてから3000rpmシックネススピンを20秒間行い、80℃および180℃で各々1分間ベークした。光学特性は、N&K Technology Model 1200アナライザーで測定した。光学特性は、上に示したＡ〜Ｆ溶液の各々について次の通りである。
ａ）厚み=1686オングストローム；k=0.297；n=1.802；エッチ比（er）=9.33
ｂ）厚み=1332オングストローム；k=0.295；n=1.802；エッチ比（er）=8.5
ｃ）厚み=1298オングストローム；k=0.294；n=1.802；エッチ比（er）=8.316
ｄ）厚み=1292オングストローム；k=0.293；n=1.802；エッチ比（er）=8.17
ｅ）厚み=1304.9オングストローム；k=0.292；n=1.802；エッチ比（er）=8.01
ｆ）厚み=1263.9オングストローム；k=0.289；n=1.802；エッチ比（er）=7.83
【０２６１】
実施例２２〜４５
下記の実施を次のマトリックスによって行った。
【０２６２】
【表５】
2005509913.tif 000008
【０２６３】
1リットルフラスコ内で、［356〜89］グラムのPGMEA、［356〜89］グラムのEtOH、5.608グラムの0.1M硝酸および66.869グラムの脱イオン水を組み合わせた。次いで、［140〜0］グラムのTEOS、［19〜0］グラムのMTEOS、［52〜0］グラムのPTEOSを加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液に、［140〜0］グラムのTEOS、［52〜0］グラムのMTEOS、［52〜0］グラムのPTEOSを加えた。そのフラスコを1〜12時間還流および／または加熱した。その溶液を希釈し、所望の厚みにしてから分析した。
【０２６４】
【表６】
2005509913.tif 000009
【０２６５】
実施例４６
kが極めて低い誘電体（約3未満の誘電率）を介するビア第一銅二重ダマシンパターニングは非常に難しい。主な問題は、これら超低k誘電性材料からの犠牲充填材料の選択的除去である。以前の研究では、誘電層がSi-OをベースするならばSi-O充填材料（UV吸光性又は透過性のいずれかである充填材料）が光学的材料プラットフォームであることが示される。除去選択性を改善するため、その充填材料は本願明細書に記載されているような材料改質剤の添加を介して化学的に弱められる。ただし、2.5%TMAHベースフォトレジスト現像剤への耐性、フォトレジスト（またはSi-O充填材料が透光性ならば吸光性材料）を含んでなる溶剤への耐性の双方、それと同時に超低k誘電性材料、コーティングおよび／またはフィルムへの高い選択的剥奪を示すようにSi-O充填材料はバランスをとる必要がある。
【０２６６】
この問題を解決するためにフォトレジストを直接にSi-O材料上にパターン化することができる。パターン化可能とするためにその充填材料は2.5%フォトレジスト現像剤およびArF、KrFおよび他のタイプのフォトレジストを含んでなる溶剤に耐性であるべきである。次いで吸光性組成物層が、化学的に弱いSi-Oベース充填材料の上に適用されなければならない。驚いたことに、非水性溶剤（この場合はPGMEA）に対して耐性を維持することができ、それと同時に標準フォトレジスト現像剤（水中の2.5%TMAH）系による完全な除去が可能となる。そのような化学耐性における対照性は、有機吸光性組成物層を極度に弱いSi-Oフィルム上にコーティングすべきことを意味する。そして、フォトレジストパターニングは、Si-O層上ではなく、有機吸光性組成物層上に生じるであろう。そのSi-Oはマイルドな2.5%TMAH溶液中で速やかに除去され得るので、それを他のフッ化物およびより攻撃的なアルカリ性化学薬品中で容易に除去することもできる。そのような剥奪比率の上昇は超低kフィルムへの必要とされる選択性を提供する。
【０２６７】
Si-Oをベースとする有機シロキサン溶液（この場合、248nm吸光性組成物を使用した）に、ポリエチレンオキシドポロゲン（行われた本検討では、2.2%のポリエチレンオキシドを使用した）を加えた。それらフィルムを、ビアを含むウエハ（ビア第一銅二重ダマシンパターン）上にキャストし、次いで約250〜275℃の温度までベークした。我々のデータでは、このベーク温度でその“多孔性”248nm吸光性組成物フィルムがPGMEAに耐性であることが示される。吸光性組成物／非反射性工程（170〜220℃のどこであっても）によってそのベーク温度より75℃高い温度が要求されることもある。次に有機吸光性組成物／非反射性フィルムをSi-O層の上にコーティングしてベークする。そのビア充填は弱いSi-Oベース層によりなされるので、薄い有機吸光性組成物／非反射性層を使用することができる。薄い有機吸光性組成物／非反射性層は、そのSi-Oおよび超低k層を通し且つその中へのフォトレジストのパターン転写を容易にする。また、そのSi-O層は現段階でかなり弱いので、平坦化を改善するのに十分な厚みまでコーティングされることができる。また、そのSi-O層はパターンニング波長で吸光性にし得るので、もはや有機吸光性組成物／非反射性物上で厚み制約はない。その有機吸光性組成物／非反射性層は、弱いSi-Oフィルムへの単なるキャップとして作用するのに十分に薄いものにすることができる。有機吸光性組成物／非反射性物をそのように薄くするとは、プラズマエッチの使用によりレジスト内のイメージ化パターンを下方の誘電体に正確に転写する能力を更に改善する。
【０２６８】
次いで、フォトレジストを有機吸光性組成物／非反射性層上に堆積させてからトレンチパターン化をする。次いで、そのトレンチパターンは、有機吸光性組成物／非反射性層、Si-O層を通じ、超低k層内までエッチングされる。そのエッチングが完了すると、残ったフォトレジストを除去し、有機吸光性組成物／非反射性物を除去し、その後、残ったSi-O層を除去する。現段階でトレンチ−ビアパターンが規定され、金属化のための準備がなされる。
【０２６９】
要するに、多孔性フィルムは、ポロゲンを追い出さない低い温度にベークされる。そのポロゲン導管（conduit）はSi-O非反射性コーティングフィルム内に残り、これが2.3%TMAHに曝された時に完全に除去される。ただし、PGMEAに曝された時は何も起こらない。
【０２７０】
かくして、吸光性化合物を含んでなり、且つ少なくとも１つのポロゲン、少なくとも１つの高沸性溶剤、少なくとも１つの触媒、少なくとも１つの交代溶剤、少なくとも１つのキャッピング剤、少なくとも１つの均展剤、少なくとも１つの接着促進剤、少なくとも１つのpH調整剤および／またはそれらの組合せのような少なくとも１つの材料改質剤を含んでなる無機ベース材料、スピンオン材料、スピンオン無機材料、およびスピンオンガラス材料を製造するための組成物および方法の特定の態様および用途が開示された。しかし、当業者には、本願の発明概念から逸脱することなく、既に記載したものの他に多くの更なる変法が可能であることは明らかである。したがって、本発明の主題は、添付した特許請求の範囲の精神を除き、制限を受けるものではない。更に、本願明細書および特許請求の範囲の両者を解釈する際、すべての用語は当該文脈に従って可能な限り広く解釈されるべきである。特に“含む”および“含んでなる”という用語は、要素、成分または段階を非排他的に記載していると解釈されるべきであり、記載された要素、成分または段階は、明示されていない他の要素、成分または段階と共に存在してもよいし、利用されてもよし、組み合わされてもよいということが示される。
【０２７１】
【表７】
2005509913.tif 000010
【０２７２】
【表８】
2005509913.tif 000011
【０２７３】
【表９】
2005509913.tif 000012
【０２７４】
【表１０】
2005509913.tif 000013
【０２７５】
【表１１】
2005509913.tif 000014
【０２７６】
【表１２】
2005509913.tif 000015
【０２７７】
【表１３】
2005509913.tif 000016
【０２７８】
【表１４】
2005509913.tif 000017
【０２７９】
【表１５】
2005509913.tif 000018
【０２８０】
【表１６】
2005509913.tif 000019
【図面の簡単な説明】
【０２８１】
【図１Ａ】図１Ａは、無機ベース組成物および材料中に組み込まれる吸光性化合物の化学式を示す。
【図１Ｂ】図１Ｂは、無機ベース組成物および材料中に組み込まれる吸光性化合物の化学式を示す。
【図１Ｃ】図１Ｃは、無機ベース組成物および材料中に組み込まれる吸光性化合物の化学式を示す。
【図１Ｄ】図１Ｄは、無機ベース組成物および材料中に組み込まれる吸光性化合物の化学式を示す。
【図１Ｅ】図１Ｅは、無機ベース組成物および材料中に組み込まれる吸光性化合物の化学式を示す。
【図１Ｆ】図１Ｆは、無機ベース組成物および材料中に組み込まれる吸光性化合物の化学式を示す。
【図２】図２ａ〜２ｈは、吸光性非反射性組成物のフォトリソグラフィ工程における使用を表す。
【図３】図３は、企図された化合物について約40℃でのＭｗ（ダルトン  ）対  日数を図示する。
【図４】図４は、企図された化合物について約40℃でのＭｗ（ダルトン）  対  日数を図示する。
【図５】図５は、企図された化合物について約40℃でのＭｗ（ダルトン）  対  日数を図示する。
【図６】図６は、企図された化合物について約40℃での厚さ（オングストローム）  対  日数を図示する。
【図７】図７は、企図された化合物について約40℃での厚さ（オングストローム）  対  日数を図示する。
【図８】図８は、企図された化合物について約40℃での厚さ（オングストローム）  対  日数を図示する。
【図９】図９は、企図された化合物について約40℃での多分散性（Mｗ／Mn−単位無し）  対  日数を図示する。
【図１０】図１０は、企図された化合物について約40℃での多分散性（Mw／Mn−単位無し）  対  日数を図示する。
【図１１】図１１は、企図された化合物について約40℃での多分散性（Mｗ／Mn−単位無し）  対  日数を図示する。
【図１２】図１２は、企図された化合物について約40℃でのpH（単位無し）  対  日数を図示する。
【図１３】図１３は、企図された化合物について約40℃でのpH（単位無し）対日数を図示する。
【図１４】図１４は、企図された化合物について約40℃でのpH（単位無し）  対  日数を図示する。
【図１５】図１５は、企図された一群の化合物について、温度（℃）  対  時間（分）を図示する。
【図１６】図１６は、企図された化合物について、充填％（ビア／ビア深度にわたる厚さ）  対  被覆フィルム厚さ（オングストローム）を図示する。
【図１７】図１７は、企図された化合物について、充填％（ビア／ビア深度にわたる厚さ）  対  被覆フィルム厚さ（オングストローム）を図示する。
【図１８】図１８は、企図された化合物について、充填％（ビア／ビア深度にわたる厚さ）  対  被覆フィルム厚さ（オングストローム）を図示する。
【図１９】図１９は、企図された化合物について、充填％（ビア／ビア深度にわたる厚さ）  対  被覆フィルム厚さ（オングストローム）を図示する。
【図２０】図２０は、企図された化合物について、充填％（ビア／ビア深度にわたる厚さ）  対  被覆フィルム厚さ（オングストローム）を図示する。
【図２１】図２１は、企図された化合物について、充填％（ビア／ビア深度にわたる厚さ）  対  被覆フィルム厚（オングストローム）を図示する。
【図２２】図２２は、企図された化合物について、充填％（ビア／ビア深度にわたる厚さ）  対  被覆フィルム厚（オングストローム）を図示し、また企図された１つの態様についてSEMデータを示す。
【図２３】図２３は、企図された化合物について、充填％（ビア／ビア深度にわたる厚さ）  対  被覆フィルム厚（オングストローム）を図示し、また企図された１つの態様についてSEMデータを示す。
【図２４】図２４は、企図された化合物について、充填％（ビア／ビア深度にわたる厚さ）  対  被覆フィルム厚（オングストローム）を図示し、また企図された１つの態様についてSEMデータを示す。
【図２５】図２５は、企図された化合物について、充填％（ビア／ビア深度にわたる厚さ）  対  被覆フィルム厚（オングストローム）を図示する。
【図２６】図２６は、企図された化合物について、充填％（ビア／ビア深度にわたる厚さ）  対  被覆フィルム厚（オングストローム）を図示し、また企図された１つの態様についてSEMデータを示す。
【図２７】図２７は、企図された化合物について、充填％（ビア／ビア深度にわたる厚さ）  対  被覆フィルム厚（オングストローム）を図示し、また企図された１つの態様についてSEMデータを示す。
【図２８】図２８は、本主題の企図された態様についてSEMデータを示す。
【図２９】図２９は、本主題の幾つかの企図された態様について、Mw（ダルトン）  対  時間（時間単位）を図示する。
【図３０】図３０は、本主題の幾つかの企図された態様について、フィルム厚（オングストローム）  対  時間（時間単位）を図示する。
【図３１】図３１は、本主題の幾つかの企図された態様について、デルタ厚（オングストローム）  対  ビア間の距離（nm）を図示する。
【図１Ａ】
2005509913.tif 000020
【図１Ｂ】
2005509913.tif 000021
【図１Ｃ】
2005509913.tif 000022
【図１Ｄ】
2005509913.tif 000023
【図１Ｅ】
2005509913.tif 000024
【図１Ｆ】
2005509913.tif 000025
【図２ａ】
2005509913.tif 000026
【図２ｂ】
2005509913.tif 000027
【図２ｃ】
2005509913.tif 000028
【図２ｄ】
2005509913.tif 000029
【図２ｅ】
2005509913.tif 000030
【図２ｆ】
2005509913.tif 000031
【図２ｇ】
2005509913.tif 000032
【図２ｈ】
2005509913.tif 000033
【図３】
2005509913.tif 000034
【図４】
2005509913.tif 000035
【図５】
2005509913.tif 000036
【図６】
2005509913.tif 000037
【図７】
2005509913.tif 000038
【図８】
2005509913.tif 000039
【図９】
2005509913.tif 000040
【図１０】
2005509913.tif 000041
【図１１】
2005509913.tif 000042
【図１２】
2005509913.tif 000043
【図１３】
2005509913.tif 000044
【図１４】
2005509913.tif 000045
【図１５】
2005509913.tif 000046
【図１６】
2005509913.tif 000047
【図１７】
2005509913.tif 000048
【図１８】
2005509913.tif 000049
【図１９】
2005509913.tif 000050
【図２０】
2005509913.tif 000051
【図２１】
2005509913.tif 000052
【図２５】
2005509913.tif 000053
【図２９】
2005509913.tif 000054
【図３０】
2005509913.tif 000055
【図３１】
2005509913.tif 000056
【図２２】
2005509913.tif 000057
【図２３】
2005509913.tif 000058
【図２４】
2005509913.tif 000059
【図２６】
2005509913.tif 000060
【図２７】
2005509913.tif 000061
【図２８】
2005509913.tif 000062
【国際調査報告】
2005509913.tif 000063