(57)【要約】導電性重合体のパターニング方法は、支持体上に導電性重合体の表面を形成し、この表面にマスクを施し、光照射を行って露光された導電性重合体の領域と露光されなかった導電性重合体の領域とを形成し、前記のマスクを除去し、次いで前記の露光された導電性重合体の領域を非化学的手段によって徐々に除去することからなる。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性重合体表面のパターニング方法であって、支持体上に導電性重合体の表面を形成し；前記表面にマスクを施し；光照射を行って露光導電性重合体の領域と未露光導電性重合体の領域とを形成し；前記のマスクを取り除き；次いで前記の露光導電性重合体の領域を非化学的手段によって徐々に除去する工程からなる導電性重合体表面のパターニング方法。
【請求項２】
前記の支持体が、ガラス、石英、シリカ、ケイ素、窒化ケイ素、アルミナ、窒化アルミニウム、チタニア、窒化チタン、ダイヤモンド、ワックス、ポリエステル、ポリ酢酸ビニル、ポリオレフィン、ポリエーテル、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルブチルエーテル、ポリアミド、ポリアクリルアミド、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリケトン、弗素重合体、芳香族炭化水素重合体、アクリル酸エステル及びアクリル酸重合体、フェノール重合体、ポリビニルアルコール、ポリアミン、ポリペプチド、シロキサン重合体、ポリ塩化ビニル、ポリビニルベンジルクロリド、ポリクロロスチレン、ポリビニルブチラール、これらの共重合体、及びこれらの混合物からなる群の中から選択されるものである請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記の導電性重合体が、シス及びトランス-ポリアセチレン、ポリチオフェン、ポリジアセチレン、ポリパラフェニレン、ポリピロール、ポリビチオフェン、ポリイソチオフェン、ポリフェニルビニレン、ポリチエニルビニレン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアニリン、これらの誘導体、及びこれらの混合物からなる群の中から選択されるものである請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記の導電性重合体がドープされるものである請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記の導電性重合体がポリピロールである請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記の導電性重合体がポリアニリンである請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記の導電性重合体がポリチオフェンである請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記の導電性重合体がPEDOT:PSSである請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記の光照射が紫外線照射である請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記の照射の波長が＜400nmである請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
さらに密着促進剤を使用する工程を有する請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記の露光導電性重合体の領域を除去する工程が超音波処理によるものである請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記の超音波処理が温和な溶媒、アルコール溶液、水又はこれらの組み合わせの中で行われるものである請求項12に記載の方法。
【請求項１４】
前記の露光導電性重合体の領域を除去する前記工程が、温和な溶媒、アルコール溶液、水又はこれらの組み合わせを用いて噴霧洗浄することによるものである請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記の露光導電性重合体の領域を除去する前記工程が、ワイピング、ラビング、タッピング又はブローイングによるものである請求項１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、支持体すなわち基板上に導電性重合体を選択的にパターン形成するための安価で且つ簡単な方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレー（LCD）や有機発光デバイス（OLED）などの大部分の電子機器は、導電性で透明な電極を必要とする。典型的には、In2O3：Sn (ITO) が、高導電性であり且つ可視領域(400〜800nm)で透明であるという理由から電極として使用される。ITOはガラス又はプラスチック製支持体上に蒸着、スパッタリング又は化学もしくはパルスレーザー蒸着(CVD)される。500Ω/□よりも小さい表面抵抗と、＞80％の高い透明性とを有するITOフィルムは、前記の付着方法を使用して容易に得ることができる。しかし、ITOの製造は、真空下で行わなければならず、しかも非常に費用がかかる。また、追加の多工程写真平板法は、支持体に特定の用途の所定のパターン平面図形(pattern geometry)を提供する事が必要である。写真平板パターニング方法は、種々の化学薬品、例えば洗浄溶液、フォトレジスト／溶媒、酸性エッチング剤、現像液及びストリッパーを使用し、これらの大部分は環境に有毒及び有害である。
【０００３】
重合体は、多共役した形態である場合には導電性であり得ることが知られている。しかし、1.5〜４eＶの比較的大きいバンドギャップにより、重合体は本質的に絶縁性であるか又は極めて低い導電率を有する。これらの半導体重合体の導電率は、該重合体に適切な酸化剤、例えばＩ2 、FeCl3 、スルホン酸塩類、過塩素酸塩類、AsF5 及び SO3 をドープすることによって劇的に増大させ得る。重合体上に生じた正電荷は、負に帯電した対イオンによって補償される。ドープ処理導電性重合体は、一般に有機溶媒に溶解し、あるものはその置換基及び重合方法に応じて水に溶解する場合さえもある。導電性重合体フィルムの表面抵抗は、〜100−200Ω/□の範囲にあることが認められ、これはITOなどの金属酸化物について報告されている値に極めて類似している。導電性重合体は、種々の硬質又は軟質支持体の表面に種々の方法、例えば 回転塗布又は噴霧塗布及びインクジェット印刷によって加工し得る。導電性重合体の高導電性及び易加工性により、これらの導電性重合体は、LCDやOLEDなどのディスプレーデバイス用の可能な電極として、集積チップやプリント回路基板における配線として大きな注目を集めている。別の電子用途としては、静電防止及び電磁遮蔽が挙げられる。透明導電性重合体アノードを用いて作成された発光デバイスが慣用のITOアノードよりも向上した性能を生じることが明らかにされている。この改良は、重合体アノードが再生可能な清浄な界面であってデバイス劣化を実質的に遅らせる界面を作成することができることによる。
【０００４】
しかし、慣用のアノード材料を用いる場合のように、導電性重合体は、特定のデバイスに適した平面図形(geometry)デザインを用いてパターン形成する必要がある。例えば、256×64ピクセルをもつ80mm×20mmサイズの単純マトリックスOLED、すなわち導電層は、典型的には〜100μm幅と、ストライプ同士の間の〜100μm間隔とをもつ一連のストライプでパターン形成される。従って、デバイスに使用される材料の新規な費用効率のよいパターニング法を開発することが極めて重要である。さらにまた、導電率、光透過性及び物理的特性などのその固有特性を維持する導電性重合体が、極めて望ましい。
【０００５】
慣用の写真平板法は、導電性重合体をパターン形成するのに使用し得る。しかし、この方法は、当初は、導電層の固有の電気的及び物理的性質が比較的過酷な処理及び複雑な湿式プロセスによって影響を及ぼされない金属酸化物のパターニングのために開発された。このパターニング法は、導電性重合体の表面抵抗を劇的に増大させるという理由から、導電性重合体に適していない。また、導電層の平面図形も、支持体から都合悪く(detrimentally)変性されか又はエッチング処理されるかもしれない。導電性重合体をパターン形成するための穏やかで、簡単で且つ経済的な方法が、電子デバイス、電子光学デバイス及びオプトエレクトロニクデバイスにおけるその実現に必要である。
【０００６】
チオフェン単量体、3,4-エチレンジオキシチオフェン(EDOT)を使用する導電性重合体のパターニング方法は、既に特許許可されている。米国特許第5,976,284号及び第5,447,824号明細書参照。EDOTは、酸化剤 トリス(トルエンスルホン酸)Fe(III)と、塩基 イミダゾールとを1-ブタノールに溶解した溶液と混合される。得られた溶液を回転塗布した後に、得られた塗布層を所定のパターンに従って強いUV光線（λ＜300mm）に露光させる。次いで、この層を加熱して重合反応を開始させる。未露光領域では、導電性重合体は低い方形抵抗（square resistance）などの電気的特性を保持し、これに対して強いUV光線に露光された領域では絶縁性重合体が形成される。次いで、この重合体層をメタノール、水又は1-ブタノールで抽出して酸化剤を減少させる。しかし、この方法は、支持体上での重合反応速度を下げるために塩基の量の厳密な調節を必要とする。また、反応混合物は、不安定であり、室温又はそれよりも高い温度でさえも自然に反応して重合する。また、未反応酸化剤を完全に除去することは不可能であり、大量の溶媒を必要とする。この方法は、導電性領域と不導電性領域との導電率の差が、電流が不導電性部分を流れ続けるように十分に大きくないという欠点を招く。導電性部分と不導電性部分の導電率が、それぞれ〜300 S/cm及び10-2 S/cmであることが要求される。不導電性部分の導電率は、さらに極めて高く、この方法を大部分の用途、例えば電子デバイス及び半導体デバイスの用途について適しないものにする。さらにまた、例えば単純マトリックスデバイスに使用した場合には、隣り合った電極の間でクロストーク(cross talk)が生じる。
【０００７】
同様の導電性重合体のパターニング方法は、支持体上に回転塗布される共役重合体と、ポリアニリンと、光酸発生剤（UV照射により遊離酸を発生する）と、溶媒との混合物を使用する。欧州特許出願公開第399299号明細書参照。加熱し、フォトマスクを介してUV照射し、次いでさらに加熱した後には、重合体層の露光領域は導電性になり、これに対して非露光領域は不導電性のままである。あいにく、この方法は0.01〜0.1S/cmの特異的な導電率を提供し、これは電子デバイス及び半導体デバイスにおける実用にはあまりにも低い。
【０００８】
多工程従来法の例は、次の通りである。従来技術は、フォトレジストと、該レジストを剥ぎ取る化学薬品とを必要とする。フォトレジストが導電性重合体を有する支持体上に回転塗布され、次いで支持体、重合体及びフォトレジストが100℃で３分間、露光前ベークされる。次いで、支持体を380nmの波長の光に露光させ、次いで露光後ベークする。次いで、支持体はAZ303現像液の20％溶液中で40秒間現像される。現像後直ちに、支持体は脱イオン水で40秒間洗浄しなければならない。次いで、支持体は、90℃で１〜３分間乾燥され、次いで全平面が暴露される。ここで、フォトレジストはメトキシプロパノールを使用して30秒間剥離され、次いで脱イオン水で洗浄される。水洗後に、支持体は再び90℃で１〜３分間乾燥される。
【０００９】
これらの確立された方法は、複雑な処理、クロストーク、及び漏洩電流などの幾つかの不都合を有する。さらにまた、有機単量体、オリゴマー又は重合体の光学透明性が、UV照射によって光分解、光重合及び光架橋などの光誘起反応により変化する。これは光学シフト又はスペクトルシフトと、露光部分と非露光部分の間の導電性重合体の透明性の変化とを招き、これは肉眼には明らかである。わずかな光学変化でさえも、特にディスプレーデバイスにおいては不都合がある、何故ならばかかる光学的相違はさらにモデュレーター又はコントローラーを用いて補わなければならないからである。理想的には、フィルムの不導電性部分は、完全に除去して、慣用のLCDディスプレーにおいて認められるようなパターン形成された領域のみを残さなければならない。従って、導電性重合体を選択的にパターン形成する新規且つ簡単な方法の開発が、電子デバイスにおける電極としてのその実現には必要である。本発明は、簡単で、経済的で且つ環境上安全な方法で導電性重合体をパターン形成する独特な方法を提供する。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【００１０】
従って、本発明の一つの目的は、導電性重合体表面の新規なパターニング方法を提供することにある。
【００１１】
本発明の別の目的は、パターン形成された導電性重合体を調製する方法であって、導電性重合体のパターンを提供する導電性重合体表面のパターニング方法を提供することにある。
【００１２】
本発明の別の目的は、費用のかからない、簡単な導電性重合体表面のパターニング方法を提供することにある。
【００１３】
本発明の別の目的は、導電性重合体表面のパターニング方法であって良好な光透過性を示す導電性重合体のパターンを提供する導電性重合体表面のパターニング方法を提供することにある。
【００１４】
これらの目的及びその他の目的（これらは以下の詳細な説明で明らかになるであろう）は、優れた特性を示すパターン形成された導電性重合体表面を、支持体上に導電性重合体の表面を形成し；前記表面にマスクを施し；UV照射を使用して露光された導電性重合体の領域と露光されなかった導電性重合体の領域とを形成し；前記のマスクを除去し；次いで前記の露光された導電性重合体の領域を除去することによって調製し得るという本発明者らの知見によって達成された。
【００１５】
図面の簡単な説明
本発明及びその多数の付属した利点についてのさらに完全な認識は、添付の図面に関連して考慮した場合に下記の詳細な説明を参照してよりよく理解されるようになるように
容易に得られるであろう。
【００１６】
図１は、OLEDデバイス構造の概略図である。
【００１７】
図２は、波長に対する強度のグラフにおいてAlq3のPLスペクトルと比較した、PEDOTアノードデバイスのELスペクトルの図である。
【００１８】
図３は、デバイスの電流密度−電圧−輝度特性のイルミネーション(illumination)である。
【００１９】
図４は、種々の超音波処理時間後の導電性重合体フィルムのUV-Vis スペクトルの図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
従って、第一の態様において、本発明は、導電性重合体表面のパターニング方法であって、支持体上に導電性重合体の表面を形成し；前記表面にマスクを施し；紫外線照射を使用して露光された導電性重合体の領域と露光されなかった領域とを形成し；前記のマスクを除去し；次いで前記の露光された導電性重合体の領域を除去することによる導電性重合体表面のパターニング方法を提供する。
【００２１】
本発明は、種々の硬質及び／又は軟質支持体10、例えばシリコンウェーハ、石英、ガラス及びプラスチックス表面に塗布された導電性重合体フィルム20の新規なパターニング方法を記載する。導電性重合体20としては、溶媒溶解性及び／又は水溶性形のポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール、これらの誘導体などが挙げられる。導電性重合体に関する本発明は、ディスプレーデバイス、オプトエレクトニックデバイス、電子デバイス及び電気光学デバイスなどの多数の用途の簡単で、費用効率が良く且つ環境上安全なフィルムのパターン形成方法を提供する。これらのデバイスとしては、液晶ディスプレー（LCD)、有機発光ディスプレー(OLED)、及び有機薄膜トランジスタが挙げられるが、これらに限定されない。その他の用途としては、太陽光発電、静電防止剤及び導線が挙げられるが、これらに限定されない。
【００２２】
本発明の開示は、導電性重合体20と支持体10との間の表面エネルギーを変化させることによって導電性重合体20を選択的にパターン形成する独特な方法を記載する。支持体10と有機層の間の良好な密着は、電子デバイス及び半導体デバイスの性能に重要であり、数十年間のこの産業において主要な問題点であった。ガラス、シリコンウェーハ、金属酸化物及びプラスチックスの表面を種々の化学的及び物理的処理によって変性することができることは周知である。例えば、無定形Si、結晶性Si、及びSiO2の親水性表面は、30％H2O2溶液及び濃H2SO4を用いる処理により都合よく得ることができる。また、シリコンウェーハが、真空中でのUV照射により完全にヒドロキシル化されてしまうことが報告されている。Kimらは、ITOの酸素-プラズマ処理が、高い極性と全表面エネルギーとを誘導し、ITOと発光重合体の間の界面形成の向上をもたらし、従って発光ダイオードの性能が向上することを報告した。ポリエチレンテレフタレート（PET）フィルムの酸素プラズマ処理は、アルコール基、カルボニル基及びカルボキシル基に富む表面を作り出し、従ってよりいっそう親水性である表面を作り出す。
【００２３】
図１は、典型的なOLEDデバイス構造の概略図である。本発明の具体的態様において、支持体10はガラス製支持体であり、導電性重合体20はPEDOT:PSS（130 nm）である。パターン形成された重合体表面にTPDの層30（50nm）が設けることができ、次いで該TPD30の上部にAlq3の層40（70nm）を設けることができる。次に、この一つの態様では、Mg：Ag（160 nm @18：１) 50を設けることができる。
【００２４】
本発明の記載において、種々の支持体10の表面の導電性重合体20を精細にパターニングする簡単で且つ環境に優しい方法が記載される。この方法は、導電性重合体20などの有機材料と種々の支持体10との間の密着性を弱めるために光照射法を利用する。前記の有機材料は、支持体を温和な溶媒中が又は水の中で洗浄するか又は超音波処理することによって容易に除去される。この方法は、数種類の支持体、例えばガラス（Corning 1737F）、ITO（1000Å、Applied Films）、PETフィルム（Du Pont Melinex）及び p-ドープSiウェーハ（International Wafer Services）についてよく行われることが例証されている。その他の可能な支持体としては、石英、シリカ、窒化ケイ素、アルミナ、窒化アルミニウム、チタニア、窒化チタン、ダイヤモンド、ワックス、ポリエステル、ポリ酢酸ビニル、ポリオレフィン、ポリエーテル、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルブチルエーテル、ポリアミド、ポリアクリルアミド、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリケトン、弗素重合体、芳香族炭化水素重合体、アクリル酸エステル及びアクリル酸重合体、フェノール重合体、ポリビニルアルコール、ポリアミン、ポリペプチド、シロキサン重合体、ポリ塩化ビニル、ポリビニルベンジルクロリド、ポリクロロスチレン、ポリビニルブチラール、これらの共重合体、並びにこれらの混合物が挙げられる。
【００２５】
本発明の方法を、一般的用語で幾つかの具体例に従って説明する。支持体10は、最初に慣用の方法を使用して十分に洗浄しなければならない。高密着性が要求される場合には、酸素プラズマ処理を適用し得る。0.45μmのPVDFフィルターを通して濾過した後に、導電性重合体20が支持体10表面に回転塗布される。可能な導電性重合体としては、ポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリパラフェニレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリビチオフェン、ポリイソチオフェン、ポリフェニルビニレン、ポリチエニルビニレン、ポリフェニレンスルフィド、及びポリアニリンが挙げられる。好ましい導電性重合体としては、溶媒可溶性及び／又は水溶性形のポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン、これらの誘導体、及びこれらの混合物のが挙げられる。可能な回転塗布パラメーターは、約５〜500秒間で100〜5000 rpmの速度である。フィルムの均一性及び密着性を高めるために、回転塗布の前に、分散物に少量のアルコール又は界面活性剤を加えてもよい。密着性を促進するために化学的方法又は物理的方法が、塗布の前に又は塗布と一緒に適用し得る。次いで、得られたフィルムは加熱され、優れた光学的性質を有するピンホールの無いフィルムをもたらす。50〜300℃の温度で３〜10分間の加熱が可能である。また、得られたフィルムはテープ試験に対して及び有機溶媒又は水で湿らした綿棒によるラビングに対して良好な密着性を有する。フィルムは、それにパターン形成させるために、支持体表面にパターン形成したフォトマスクを通して光源(λ＜400 nm)に露光させる。支持体は、露光中に光反応を促進するために加熱してもよい。フィルムの光照射は、導電性重合体の密着性を低下させ、該導電性重合体を有機溶媒、水又はこれら２種類の溶媒の混合物中で約１〜20秒間の超音波処理中に支持体から容易に又徐々に除去することを可能にする。パターン形成された導電性重合体だけが、導電性及び光透過性を失うことなく残る。有機溶媒又は水を用いた簡単な洗浄又は噴霧、あるいは綿棒又は布による穏やかなラビングは、前記重合体の光照射された部分を取り除くのに効果的に働く。穏やかな除去としては、超音波処理、噴霧、ラビング、タッピング、ワイピング、洗浄、浴浸漬又はブローイングが挙げられるが、これらに限定されない。穏やかな除去は、通常は、酸化性、還元性、酸性又は塩基性の化学薬品、例えば過マンガン酸塩、漂白剤、又はジクロム酸塩を含まない。
【００２６】
図２は、波長に対する強度のグラフにおいて、Alq3のPLスペクトルと比較した、PEDOTアノードデバイスのELスペクトルの図である。
【００２７】
図３は、デバイスの電流密度−電圧−輝度特性のイルミネーション(illumination)である。
【００２８】
図４は、種々の時間で超音波処理した後の導電性重合体フィルムのUV-Vis スペクトルの図である。
【実施例】
【００２９】
実施例１
ガラス製支持体を、ガラスを洗浄剤溶液中で５分間、脱イオンH2O中５分間３回、アセトン中で５分間、イソプロパノール中で５分間超音波処理し、最後にＮ2で乾燥することによって清浄化した。これらのガラス製支持体をO2プラズマを用いて処理して、その表面の親水性を高めた。商業的に入手できる導電性重合体 Baytron P〔Bayer製、ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)ポリ(スチレンスルホネート)〕の水性分散物（PEDT/PSS 又はPEDOT/PSS）を、0.45μmのMillex PVDFフィルターに通して濾過し、次いで支持体上に500〜5000 rpmの速度で180秒間回転塗布した。前記分散物に、濾過する前に、さらによりよい密着性を促進するためにグリセロール（0.1〜10重量％）を加えた。回転塗布後に、得られたフィルムを200℃で３〜10分間アニールした。このフィルムをメタノールで洗浄し、Ｎ2で乾燥した。このフィルムに、254nm UVランプ(６インチの間隔で〜300μＷ/cm2)を使用して該フィルムの上面に置いたパターン形成フォトマスクを通して光照射した。次いで、光照射された重合体を、H2O、アルコール又はこれら２種類の溶媒の混合物中で１〜20秒間超音波処理することによって支持体から除去した。得られたフィルムの表面抵抗及び光透過性を超音波処理の前後に測定し、変化がないことを認めた。＜10μmの解像度を用いてパターン形成された導電性重合体フィルムが、この方法を使用して都合よく得られた。図４は、超音波処理の種々の時間の前後のフィルムのUV可視スペクトルを示す。露光されなかった重合体の透明性は、超音波処理により影響を受けず且つ変化が無いことが明確に示される。表１に、光照射及び超音波処理の前後のフィルムの表面抵抗の変化を要約する。露光されなかった重合体の表面抵抗が超音波処理後に変化がないままであることを認めることができる。重合体の露光部分は露光されなかった導電性重合体のパターン形成された線だけを残して支持体から完全に除去されることが明らかである。
【００３０】
表１  重合体 フィルムの表面抵抗の変化
2005507148.tif 000003
【００３１】
実施例２
Ｐ-ドープシリコンウェーハ (International Wafer製) 支持体を、洗浄剤溶液中で５分間、脱イオンH2O中５分間３回、アセトン中で５分間、イソプロパノール中で５分間超音波処理し、最後にＮ2で乾燥することによって清浄化した。この支持体を、O2プラズマを用いて処理してその表面の親水性を高めた。商業的に入手できる導電性重合体 Baytron P〔Bayer製、ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)ポリ(スチレンスルホネート)〕の水性分散物（PEDT/PSS 又はPEDOT/PSS）を、0.45μmのMillex PVDFフィルターに通して濾過し、次いで支持体上に500〜5000rpmの速度で180秒間回転塗布した。前記分散物に、濾過する前に、さらによりよい密着性を促進するためにグリセロール（0.1〜10重量％）を加えた。回転塗布後に、得られたフィルムを200℃で３〜10分間アニールした。このフィルムをメタノールで洗浄し、Ｎ2で乾燥した。このフィルムに、254nm UVランプ(６インチの間隔で〜300μＷ/cm2)を使用して該フィルムの上面に置いたパターン形成フォトマスクを通して光照射した。次いで、光照射された重合体を、H2O、アルコール又はこれら２種類の溶媒の混合物中で１〜20秒間超音波処理することによって支持体から取り除いた。得られたフィルムの表面抵抗及び光透過性を超音波処理の前後に測定し、変化がないことを認めた。＜10μmの解像度を用いてパターン形成された導電性重合体フィルムが、この方法を使用して都合よく得られた。
【００３２】
実施例３
PET製支持体を、洗浄剤溶液中で５分間、脱イオンH2O中５分間３回、アセトン中で５分間、イソプロパノール中で５分間超音波処理し、最後にＮ2で乾燥することによって該ガラスを清浄化した。この支持体を、O2プラズマを用いて処理してその表面の親水性を高めた。商業的に入手できる導電性重合体 Baytron P〔Bayer製、ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)ポリ(スチレンスルホネート)〕の水性分散物（PEDT/PSS又はPEDOT/PSS）を、0.45μmのMillex PVDFフィルターに通して濾過し、次いで支持体上に500〜5000rpmの速度で180秒間回転塗布した。前記分散物に、濾過する前に、さらによりよい密着性を促進するためにグリセロール(0.1〜10重量％)を加えた。回転塗布後に、得られたフィルムを140℃で３〜10分間アニールした。このフィルムをメタノールで洗浄し、Ｎ2で乾燥した。このフィルムに、254nm UVランプ(６インチの間隔で〜300μＷ/cm2)を使用して該フィルムの上面に置いたパターン形成フォトマスクを通して光照射した。次いで、光照射された重合体を、H2O、アルコール又はこれら２種類の溶媒の混合物中で１〜20秒間超音波処理することによって支持体から除去した。得られたフィルムの表面抵抗及び光透過性を超音波処理の前後に測定し、変化がないことを認めた。＜10μmの解像度を用いてパターン形成された導電性重合体フィルムが、この方法を使用して都合よく得られた。
【００３３】
本発明は、導電性重合体を微細パターン形成するための簡単で、費用効率が良く且つ環境に優しい方法を提供し、しかも硬質又は軟質支持体に適用できる。また、支持体のサイズに制限はない。パターニング工程の全てが、連続法で実施できる。この方法は、複雑な真空プロセス又は費用のかかる装置を必要としない。この方法は、方法全体を通じて有毒性の溶媒及び酸を必要としないことから、他のパターニング方法よりも環境上安全な条件を提供する。また、剥離工程が前記の実施例で例証されるように水を使用して行うことができることから、水性系導電性重合体も使用できる。また、適切なマスク系を使用すると、サブミクロンの解像度を得ることができる。マスクは、パターン形成された導電性重合体層について所望の形状又は平面図形を提供する。
【００３４】
本発明の多数の部分改変又は改変本発明が上記の方法に照らして可能である。従って、特許請求の範囲内で、本発明は本明細書に具体的に記載された内容以外にも実施し得ることが理解されるべきである。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】OLEDデバイス構造の概略図である。
【図２】波長に対する強度のグラフにおけるAlq3のPLスペクトルと比較した、PEDOTアノードデバイスのELスペクトルの図である。
【図３】デバイスの電流密度−電圧−輝度特性のイルミネーションである。
【図４】種々の超音波処理時間後の導電性重合体フィルムのUV-Vis スペクトルの図である。
【図１】
2005507148.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際公開パンフレット】
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2005507148.tif 000009
2005507148.tif 000010
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【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
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【国際調査報告】
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