(57)【要約】フォトマスク注文の電子注文入力および自動処理のための方法およびシステムが開示される。フォトマスク部品の製造における注文入力および処理の方法は、製品注文情報ファイルを電子的に受け取ることを含む。製品注文情報は、自動的に、標準データベース・フォーマットに変換される。そして、変換された製品注文情報ファイルは、予め決められた組の顧客要求事項を製品注文情報ファイルに適用するために規則エンジンを使用して、製品注文情報が注文入力モジュールにロードされるように自動的に処理される。注文入力モジュールは、製品注文情報ファイルに従ってフォトマスク部品の生産を行うために必要な生産ファイルを自動的に生成するために使用される。
2005531851.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトマスク部品の製造における注文入力および処理の方法であって、
前記フォトマスク部品に関する製品注文情報ファイルを電子的に受け取るステップと、
前記製品注文情報ファイルを標準データベース・フォーマットに自動的に変換するステップと、
予め決められた組の顧客要求事項を前記製品注文情報ファイルに適用するための規則エンジンを使用して、前記製品注文情報ファイルが注文入力モジュールにロードされるように前記変換された製品注文情報ファイルを自動的に処理するステップと、
前記製品注文情報ファイルに従って前記フォトマスク部品を生産するために、自動的に創造するように前記注文入力モジュールを使用するステップとを備える方法。
【請求項２】
さらに、
顧客仕様を含んだテンプレートを少なくとも１つの基準に基づいて自動的に選択するステップと、
どんな不一致でも識別するように前記製品注文情報ファイルを前記テンプレートと自動的に比較して、前記製品注文情報ファイルの妥当性を検査するステップとを備える、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
さらに、
前記製品注文情報ファイルの妥当性検査に基づいて、識別された不一致を操作員に通知するステップを備える、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記通知が、電子メール通知を含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
さらに、
少なくとも１つの不一致を識別した後で、製品注文情報ファイルのテンプレートを手動で選択するステップを備える、請求項２に記載の方法。
【請求項６】
さらに、顧客、製造、製品の種類、テンプレートの階級、およびテンプレートの領域から成るグループから選択された前記少なくとも１つの基準を備える、請求項２に記載の方法。
【請求項７】
前記製品注文情報ファイルが、セミ・ファイルを基にしたフォーマットである、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記製品注文情報ファイルが、非セミ・ファイルを基にしたフォーマットである、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記標準データベース・フォーマットが、標準セミ・データベース・フォーマットを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記標準データベース・フォーマットが、さらに、前記セミ標準フォーマットに含まれない顧客仕様情報を含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
さらに、前記製品注文情報を標準ファイル・フォーマットに変換するステップを備える、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
さらに、前記製品注文情報を、ＸＭＬ構成に従った拡張可能マーク付け言語（ＸＭＬ）フォーマットで構成するステップを備える、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記ＸＭＬ構成が、仕様情報を含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
フォトマスク部品を生産するための生産データ・ファイルが、リソグラフィ指示およびパターン形成情報を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記フォトマスク部品を生産するための前記生産データ・ファイルを生成することが、前記製品注文情報ファイルを使用して、前記フォトマスク部品を生産するための前記生産データ・ファイルを準備する際に使用する顧客固有注文テンプレートを選択することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
さらに、ほぼ１分足らずで前記製品注文情報を標準データベース・フォーマットに変換するステップを備える、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
さらに、ほぼ１時間足らずで前記フォトマスク部品を生産するための前記生産データ・ファイルを準備するステップを備える、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
さらに、前記フォトマスク部品を生産するために必要なデータを、複数の製造現場で使用可能な前記標準データベース・フォーマットで維持することを備える、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
さらに、０．５パーセント未満の誤り率の注文入力プロセスを有する前記方法を備える、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
フォトマスク部品注文の電子注文入力および自動処理のためのシステムであって、
コンピュータ読出し可能媒体と、
前記コンピュータ読出し可能媒体中の符号化された実行可能な指示とを備え、前記実行可能な指示が、コンピュータに、
製品注文情報ファイルを電子的に受け取り、
前記製品注文情報ファイルを標準データベース・ファイルに自動的に変換し、
予め決められた組の顧客要求事項を前記製品注文情報ファイルに適用するために規則エンジンを使用して、前記製品注文情報ファイルが注文入力モジュールにロードされるように前記変換された製品注文情報ファイルを自動的に処理し、さらに
前記製品注文情報ファイルに従って前記フォトマスク部品を生産するための生産データ・ファイルを自動的に生成するように、指示するために使用可能であるシステム。
【請求項２１】
前記実行可能な指示が、さらに、
顧客仕様を含んだテンプレートを少なくとも１つの基準に基づいて選択し、そして、
少なくとも１つの不一致を識別するように前記製品注文情報ファイルを前記テンプレートと自動的に比較して、前記製品注文情報ファイルの妥当性を検査するために使用可能である、請求項２０に記載のシステム。
【請求項２２】
さらに、前記妥当性検査動作中に、何か不一致が識別されたかどうかを操作員に通知するようにさらに使用可能な前記実行可能な指示を備える、請求項２１に記載のシステム。
【請求項２３】
さらに、前記製品注文情報ファイルと前記選択されたテンプレートの間の少なくとも１つの不一致を識別した後で、製品注文情報ファイルのテンプレートの手動選択を容易にするようにさらに使用可能な前記実行可能な指示を備える、請求項２１に記載のシステム。
【請求項２４】
フォトマスク部品を製造する方法であって、
製品注文情報ファイルを電子的に受け取るステップと、
前記製品注文情報ファイルをＸＭＬデータベース・フォーマットに自動的に変換するステップと、
予め決められた組の顧客要求事項を前記製品注文情報ファイルに適用するために規則エンジンを使用して、前記製品注文情報ファイルが注文入力モジュールにロードされるように前記ＸＭＬデータベース・フォーマットを自動的に処理するステップと、
前記製品注文情報ファイルに指示された少なくとも１つの基準に基づいて、顧客仕様を含むテンプレートを選択するステップと、
どんな不一致も識別するように前記製品注文情報を前記テンプレートと自動的に比較して、前記製品注文情報の妥当性を検査するステップと、
前記製品注文情報に従ってフォトマスク部品の生産を指示するための生産データ・ファイルを自動的に生成するように前記注文入力モジュールを使用するステップとを備える方法。
【請求項２５】
さらに、前記製品注文情報ファイルの妥当性検査中に、何か不一致が識別されたかどうかを操作員に電子的に通知するステップを含む、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
電子的に通知することが、電子メール通知を生成することを含む、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
さらに、少なくとも１つの不一致を識別した後で、製品注文情報のテンプレートを手動で選択するステップを含む、請求項２４に記載の方法。
【請求項２８】
前記生産データ・ファイルが、リソグラフィ指示およびパターン形成情報を含む、請求項２４に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は一般的にフォトリソグラフィに関し、より詳細には、フォトマスク注文（ｐｈｏｔｏｍａｓｋ  ｏｒｄｅｒ）の電子注文入力（ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ  ｏｒｄｅｒ  ｅｎｔｒｙ）および自動処理のための方法およびシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイス製造業者はより小さなデバイスを生産し続けるので、このデバイスの製作で使用されるフォトマスクに対する要求は厳しくなり続けている。レチクルまたはマスクとしても知られているフォトマスクは、一般に、基板上に形成されたパターン層（例えば、クロムまたはモリブデン・シリサイド）を有する基板（例えば、高純度石英またはガラス）から成る。パターン層は、リソグラフィ・システムで半導体ウェーハに転写されるかもしれない回路像を表すパターンを含む。半導体デバイスの特徴サイズが減少するにつれて、フォトマスク上の対応する回路像もまたより小さく、かつより複雑になる。その結果として、フォトマスクを注文する際に必要とされる技術仕様はますます複雑になる。例えば、フォトマスクの１つの注文ファイルは、３５から４０ページの詳細な技術仕様を有するかもしれない。
【０００３】
現在、フォトマスク注文の注文入力および技術計画の機能は、大抵の注文および顧客の場合に手動で行われている。自動操作が存在する場合でも、そのような自動操作は顧客固有で、順応性がなく、かつしばしば故障しやすい。現在、フォトマスクの手動注文入力および技術計画は、人為ミスの重大な危険性を伴い、延長された注文処理時間（「サイクルタイム」）のために遅れの原因になることが多く、そして、一般に、製造用の注文を準備するためにかなりの数の作業員を必要とする。
【０００４】
この問題を解決するための１つの以前の試みは、結果として、半導体製造装置材料協会（Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  Ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ  ａｎｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ）によって公布されたセミ（ＳＥＭＩ）Ｐ１０標準となった（ｗｗｗ．ｓｅｍｉ．ｏｒｇを参照されたい）。セミＰ１０標準は、（１）ソフトウェア・システム間のマスク注文データの伝達を容易にし、（２）マスク顧客による自動注文設定を可能にし、さらに（３）注文の自動処理およびデータの自動送付／処理を可能にするために意図されたデータ構造仕様である。
【０００５】
セミＰ１０標準を使用することによって、マスク顧客かマスク製作所かどちらかのために独立に書かれたソフトウェアは、他方の当事者によって書かれたソフトウェアと一義的に通信することができるはずである。セミＰ１０構造は、伝達されるファイル（一般に、ＡＳＣＩＩファイルを介して伝達される）のデータ・フォーマットを定義するだけである。この標準によって指定される特別なデータベースまたはプログラム言語はない。
【０００６】
セミＰ１０標準は、５つの重要な不利点を有する。すなわち、（１）適応性の欠如、（２）産業界による限られた採用、（３）人間が容易に読むことができない、（４）特定の使用方法（すなわち、プログラム言語またはデータベース）を指定しないこと、および（５）他の基本的なフロントエンド操作に対処しないこと、である。
【０００７】
図１は、フォトマスクの注文処理に現在使用されているようなセミＰ１０処理の型を示す。セミ１０標準は、注文入力のデータ構造を定めるので、顧客から受け取られたセミ・ファイル１００は、必要以上に複雑であるかもしれない。例えば、セミＰ１０標準は、セミ・ファイル１０００の特定の内容を識別するために使用される「タグ」の全産業的な組を制定する。タグは特定の注文で使用されなければならないし、また全ての注文で同じ要素を表さなければならない。そのようなものとして、顧客およびマスク製作所は、セミ・ファイル１００を使用できる方法が制限されている。いくらかの顧客に関しては、このことで、簡単な注文に必要なものよりも相当に複雑なファイルを提出することになる。
【０００８】
セミＰ１０標準の使用は、フォトマスク注文を提出するために長い間使用されたシステムを放棄するように会社に要求するか、または、多くの場合、所有権のあるファイル・フォーマットで格納されているフォトマスク注文出力をセミＰ１０標準に変えるように顧客に要求する。そのようなものとして、会社は、セミＰ１０標準に移行する際に非常に気が進まないことを表明した。
【０００９】
一般に、セミ・ファイル１００がマスク製作所で受け取れるとき、ファイルは２つの異なる経路で進む。第１の経路は、フォトマスク注文をクリーン・ルームで完全に書くことができるようにフォトマスク注文を製造システムにロードする注文準備１０１である。一般に、注文準備１０１は、適切な構文解析プログラムに向けられるべき注文情報をセグメント化する事前構文解析系１０２から始まる。Ｎａｔｉｏｎａｌ１０４、ＴＩ１０６、ＩＢＭ１０８およびＭｏｔｏｒｏｌａ１１０のような構文解析プログラムで、注文情報をセミＰ１０標準フォーマットからＤＰＩ標準セミ・ファイル１１２のような標準ファイルの型に変換する。ブロック１１４での他の自動変換処理の後で、ＤＰＩ標準セミ・ファイル１１２は、デミ（ＤＥＭＩ）・ファイル１１６に変換され、このデミ・ファイル１１６は、注文をＤＰＩのオラクル・データベース１３２（すなわち、ｅＭａｓｋ（商標））にロードすることができるようにする。
【００１０】
セミＰ１０標準に準拠した、ＡＳＣＩＩフォーマットのセミ・ファイル１００は、一般的な多層注文の場合に、４０ページ以上のシングル・スペース・テキストを含むことが多い。これは自動システムにとっては満足なものかもしれないが、セミＰ１０標準の注文を受け取る際に自動操作を使用しないマスク製造業者は、そのような大量のテキストを注文に変換するというきつい仕事に直面する。例の方法として、ＴＩセミ構文解析系（ＴＩ注文のセミＰ１０標準の自動化使用を可能にする）を使用する前に、顧客サービス技術者は、多くの場合、ファイルを手動で解読するための２１ページの「キー」を使用した。
【００１１】
第２の経路は、フォトマスクを生成するリソグラフィ・ツールに出て行く書込み準備済み情報をつくるデータ準備１１８である。データ準備１１８は、一般に、注文準備１０１に比べて手動操作であるので、多くの場合、フォトマスク注文のクリティカル・パスと考えられる。
【００１２】
技術計画立案者のためのデータを準備するＦＥオートメーション１２０およびｓＢｒｉｄｇｅ１２２のようないくつかの初期プログラム・ルーチンの後で、注文ファイルは、注文で指定されたようなフォトマスクの実現に基づいて適切な処理およびルーチンを選択する技術計画の手動操作に入る。ＣＤ構文解析プログラム１２６を使用してデータ計画を構文解析した後で、データが機械インタフェース１３０に設定され、したがってＤＰＩのオラクル・データベース１３２（すなわち、ｅＭａｓｋ（商標））にロードされるように、データは、ＫＭＳスクリプト１２８を介して機械言語に変換される。
【００１３】
セミＰ１０標準に関する他の問題は、標準をどのように使用すべきかについての指示が与えられていないことである。このことは標準の適応性を高めるために意図されたかもしれないが、そうではなくて、そのことで混乱が増し、採用が限られた。
【００１４】
セミＰ１０標準は、マスク顧客およびフォトマスク製造業者が注文を伝える方法として設計された。セミＰ１０標準は、注文の妥当性検査およびデータ準備の残りのステップのどれにも対処できない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
本発明の教示に従って、フォトマスクのような所望の製品を記述するために必要な注文または他の情報の入力および処理に関連した不利点および問題は、非常に減少するかまたは無くなる。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明の一実施例に従って、フォトマスク部品の製造における注文入力および処理の方法は、製品注文情報ファイルを電子的に受け取ることを含む。製品注文情報ファイルは、自動的に標準データベース・フォーマットに変換される。規則エンジンは、予め決められた組の顧客要求事項を製品注文情報に適用して、製品注文情報が注文入力モジュールにロードされるように、変換された製品注文情報を自動的に処理する。そして、注文入力モジュールは、製品注文情報ファイルに従ってフォトマスク部品の生産をするために必要なデータを自動的に生成する。
【００１７】
本発明の他の実施例に従って、フォトマスク部品の電子注文入力および自動処理のためのシステムは、コンピュータ読出し可能媒体およびコンピュータ読出し可能媒体中の符号化された実行可能な指示を含む。実行可能な指示は、実行されるとき、任意のフォーマットの製品注文情報ファイルを電子的に受け取ることを含んだ動作を行うように、コンピュータに指示する。コンピュータ動作は、また、製品注文情報ファイルを標準データベース・フォーマットに自動的に変換することを含む。さらに、コンピュータ動作は、予め決められた組の顧客要求事項を製品注文情報ファイルに適用するために規則エンジンを使用して、製品注文情報ファイルが注文入力モジュールにロードされるように、変換された製品注文情報ファイルを自動的に処理することを含む。最後に、コンピュータ動作は、製品注文情報ファイルに従ってフォトマスク部品を生産するために必要なデータを自動的に生成する注文入力モジュールを含む。
【００１８】
本発明のさらに他の実施例に従って、フォトマスク部品を製造する方法は、任意のフォーマットの製品注文情報ファイルを電子的に受け取ることを含む。本方法は、製品注文情報ファイルをＸＭＬデータベース・フォーマットに自動的に変換する。本方法は、予め決められた組の顧客要求事項を製品注文情報ファイルに適用するために規則エンジンを使用して、製品注文情報ファイルが注文入力モジュールにロードされるように、ＸＭＬデータベース・フォーマットを自動的に処理する。本方法は、製品注文情報ファイルに関連した少なくとも１つの基準に基づいて、顧客仕様を含んだテンプレートを選択する。本方法は、どのような不一致も識別するように製品注文情報をテンプレートと自動的に比較して、製品注文情報の妥当性を検査する。本方法は、注文入力モジュールを使用して、製品注文情報に従ってフォトマスク部品を生産するために必要なデータを自動的に生成する。
【００１９】
本発明の特定の実施例の重要な技術的有利点には、注文情報を受け取る既存の手動プロセスを自動化システムに取り替えることによる、フォトマスクを製造するために必要なサイクル時間の減少がある。
【００２０】
本発明の特定の実施例の他の技術的有利点には、複数の異なるフォーマットのうちのどのフォーマットの注文情報でも受け取りそして標準化されたフォーマットの注文入力を生成する適応性のあるシステムがある。
【００２１】
特定の実施例のさらに重要な技術的有利点は、操作員の係わり合いを減らすことによって注文プロセスに起因する誤りを低減することを含む。
【００２２】
本発明の様々な実施例には、これらの技術的有利点のいくつか全てが存在しているかもしれないし、またはこれらの技術的有利点は全く存在していないかもしれない。他の技術的有利点は、図、説明および特許請求の範囲から、当業者には容易に明らかになるであろう。
【００２３】
本発明およびその有利点のより完全な理解は、添付の図面に関連して行われる次の説明を参照して得ることができる。この図面では、同様な参照数字は同様な特徴を示す。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
本発明は、フォトマスク注文システムの場合の使用について、ここで説明する。当業者には理解されることであろうが、元のフォトマスク注文は、フォトマスクに対する特定の要求事項を電子フォーマットで表すことができる顧客または、人間または非人間である任意の他のオペレータによって供給されるかもしれない。また、当業者には理解されることであろうが、本発明の一般的な方法およびシステムは、フォトマスクの生産以外の分野で応用することができる。
【００２５】
本発明の好ましい実施例およびそれの利点は、図２から５を参照して最も良く理解され、この図では、同様な数字は同様な部分および対応する部分を示すように使用される。
【００２６】
図２は、模範仕様に適合したフォトマスク・アセンブリ１０の断面図を示す。フォトマスク・アセンブリ１０は、ペリクル・アセンブリ１４に結合されたフォトマスク１２を含む。基板１６およびパターン層１８は、別にマスクまたはレチクルとして知られているフォトマスク１２を形成し、このフォトマスクは、円形、長方形または正方形を含みこれらに限定されない様々なサイズおよび形状を有することができる。フォトマスク１２は、また、回路パターンの像を半導体ウェーハに投影するために使用できる１回限りのマスタ、５インチ・レチクル、６インチ・レチクル、９インチ・レチクル、または任意の他の適切なサイズに作られたレチクルを含みこれらに限定されないどのような様々なフォトマスクの型であってもよい。フォトマスク１２は、さらに、リソグラフィ・システムで使用するのに適した２値マスク、位相シフト・マスク（ＰＳＭ）、光学的近接補正（ＯＰＣ）マスク、または任意の他の型のマスクであってもよい。
【００２７】
フォトマスク１２は基板１６上に形成されたパターン層１８を含み、このパターン層１８は、リソグラフィ・システムの電磁エネルギーに曝されたとき、半導体ウェーハ（はっきりと示されていない）の表面にパターンを投影する。基板１６は、ほぼ１０ナノメートル（ｎｍ）からほぼ４５０ｎｍまでの波長を有する入射光の少なくとも７５パーセント（７５％）を透過する石英、合成石英、溶融シリカ、弗化マグネシウム（ＭｇＦ２）、弗化カルシウム（ＣａＦ２）、または任意の他の適切な材料のような透明材料であるかもしれない。代替えの実施例では、基板１６は、ほぼ１０ナノメートル（ｎｍ）からほぼ４５０ｎｍまでの波長を有する入射光のほぼ５０パーセント（５０％）よりも多くを反射するシリコンまたは任意の他の適切な材料のような反射材料であるかもしれない。
【００２８】
パターン層１８は、クロム、窒化クロム、金属酸炭窒化物（Ｍ‐Ｏ‐Ｃ‐Ｎ）のような金属材料であることができ、この場合、金属は、クロム、コバルト、鉄、亜鉛、モリブデン、ニオブ、タンタル、チタン、タングステン、アルミニウム、マグネシウム、およびシリコンから成るグループ、および紫外（ＵＶ）範囲、ディープ紫外（ＤＵＶ）範囲、真空紫外（ＶＵＶ）範囲および／または極端紫外範囲（ＥＵＶ）の波長を有する電磁エネルギーを吸収する任意の他の適切な材料から選択される。代替えの実施例では、パターン層１８は、モリブデン・シリサイド（ＭｏＳｉ）のような部分的に透過性の材料であるかもしれない。モリブデン・シリサイド（ＭｏＳｉ）は、ＵＶ、ＤＵＶ、ＶＵＶ、および／またはＥＵＶの範囲で、ほぼ１パーセント（１％）からほぼ３０パーセント（３０％）までの透過率を有する。他の実施例では、パターン層１８は、任意の適切な数の材料層であるかもしれない。この層は、リソグラフィ・システムの露光波長に対して不透明、部分的透過性、および／または透明であることができる。
【００２９】
フレーム２０およびペリクル膜２２は、ペリクル・アセンブリ１４を形成することができる。フレーム２０は、一般に、陽極酸化アルミニウムで形成されるが、リソグラフィ・システム内で電磁エネルギーに曝されたとき劣化せずまたはガスを放出しないステンレス鋼、プラスティック、または他の適切な材料で形成されるかもしれない。ペリクル膜２２は、ニトロセルロース、アセチルセルロース、Ｅ．Ｉ．ｄｕ  Ｐｏｎｔ  ｄｅ  Ｎｅｍｏｕｒｓ  ａｎｄ  Ｃｏｍｐａｎｙで製造されるＴＥＦＬＯＮ（登録商標）ＡＦまたはＡｓａｈｉ  Ｇｌａｓｓで製造されるＣＹＴＯＰ（登録商標）のようなアモルファス・フルオロポリマー、または、ＵＶ、ＤＵＶ、ＥＵＶおよび／またはＶＵＶの範囲の波長に対して実質的に透明な他の適切な膜のような材料で形成された薄膜メンブレンであることができる。ペリクル膜２２は、スピン成形のような従来技術で準備することができる。
【００３０】
ペリクル膜２２は、汚染物がフォトマスク１２から定められた距離だけ離れていることを保証することによって、塵粒子のような汚染物からフォトマスク１２を保護する。このことは、リソグラフィ・システムで特に重要であるかもしれない。リソグラフィ・プロセス中に、フォトマスク・アセンブリ１０は、リソグラフィ・システム内のエネルギー源で生成される電磁エネルギーに曝される。電磁エネルギーは、水銀アーク灯のほぼＩラインからＧラインまでの波長のような様々な波長の光、またはＤＵＶ、ＶＵＶまたはＥＵＶの光を含むかもしれない。動作の際に、ペリクル膜２２は、電磁エネルギーの大きな割合がペリクル膜を通過するように設計されている。ペリクル膜２２の上に集まった汚染物は、処理されているウェーハの表面に恐らく焦点が合っていない。したがって、ウェーハに露光される像ははっきりしているはずである。本発明の教示に従って形成されたペリクル膜２２は、電磁エネルギーの全ての種類について申し分なく使用することができ、この出願で述べたような光波に限定されない。
【００３１】
フォトマスク・アセンブリ１０は、完成製品を組み立てるために使用される様々なフォトマスク部品を含む。各フォトマスク部品に対して使用可能な相当な量の選択および仕様を考慮に入れると、フォトマスク・アセンブリ１０の注文入力および処理は、非常に詳細でかつ顧客固有であるかもしれない。以下で示すように、フォトマスク部品の注文入力および処理の方法は、フォトマスク・アセンブリ１０の少なくとも１つの部品またはいくつかのフォトマスク・アセンブリ１０を製造するために使用することができる。
【００３２】
図３は、注文入力および標準データベース・フォーマット１６０への変換のための流れ図を示す。フォトマスク・アセンブリ１０の少なくとも１つの部品の自動注文は、一般に、顧客または他の操作員が、習慣的に「事務処理」と呼ばれる製品注文情報を電子的な形でマスク製作所に提出することを必要とする。一般に、事務処理は、電子メールおよびファイル転送プロトコルを介して受け取られる。
【００３３】
そのようなものとして、顧客は一般に２つの異なる部類に分けられる。第１の部類は、一般にセミ顧客１４０と呼ばれるセミＰ１０標準に従うことを選んだそんな顧客であり、この顧客は、セミＰ１０標準に従った製品注文情報すなわちセミ・ファイル１４４を提出する。顧客の第２の部類は、セミＰ１０標準に従わない、一般に非セミ顧客１４２と見なされる顧客であり、この顧客は、製品注文情報を非セミ・フォーマット１４６で伝える。セミ・ファイル１４４および非セミ・ファイル１４６は、全体的に、製品注文情報ファイルと呼ぶことができる。
【００３４】
ファイルがセミＰ１０標準に従おうと従わなかろうと、製品注文情報ファイルは、フォトマスク製作所で、一般にアプリケーション・サーバ１４８で受け取られる。製品注文情報のファイル・フォーマット例には、Ｍｉｃｒｏｓｏｆｔ  Ｅｘｃｅｌ（商標）のようなスプレッドシート・ファイル、Ｍｉｃｒｏｓｏｆｔ  Ｗｏｒｄ（商標）のようなワード・プロセシング・ファイル、ＡＳＣＩＩテキスト・ファイル、またはポストスクリプト・ファイルがあるが、これらに限定されない。いったん受け取られると、注文情報は、自動的に、拡張可能マーク付け言語（ｅｘｔｅｎｓｉｂｌｅ  ｍａｒｋｕｐ  ｌａｎｇｕａｇｅ）（ＸＭＬ）フォーマットのような標準ファイル・フォーマット１５４に変換される。製品注文情報の変換は、完全に「手操作不要の」操作であるかもしれず、したがって、ブロック１５０およびブロック１５２に示すように、注文情報の提出時に自動的に行われる。
【００３５】
１つの例の実施例では、変換はＸＭＬ「スキーマ」を手段として行われる。ＸＭＬスキーマは、共有語彙を表し、機械が定義された規則を実行することができるようにする。ＸＭＬスキーマは、ＸＭＬ文書の構造、内容および意味を定義する手段を実現する。本発明の一実施例は、固有のマスク製造スキーマの開発を必要とする。
【００３６】
変換プロセスは、顧客および工場固有の（ｆａｂ  ｓｐｅｃｉｆｉｃ）ＸＭＬ「構成」（ｃｏｎｆｉｇｕｒａｔｉｏｎ）を使用することができ、この固有のＸＭＬ「構成」は、上述のマスク製造スキーマを使用して、顧客情報を、所有権のあるＤＰＩセミ標準データベース・フォーマットのような標準データベース・フォーマット１６０に変換するための論理を実現する。このプロセスを自動化することで、最近の注文情報ファイルは、１分足らずで標準データベース・フォーマット１６０に変換することができる。
【００３７】
ある特定の実施例では、ＸＭＬ構成は、顧客または工場あるいは顧客と工場の組合せごとに１つの構成に限定される。ＸＭＬ構成は、好ましくは、セミ・ファイル（Ｓｅｍｉ  Ｆｉｌｅ）１４４か非セミ・ファイル（Ｎｏｎ−Ｓｅｍｉ  Ｆｉｌｅ）１４６かのどちらか、セミ・ファイル１５６か非セミ・ファイルのＸＭＬ構成１５８かのどちらかに関してそれぞれ使用するために、さらに明確に定義することができる。
【００３８】
変換がいったん完成すると、製品注文情報ファイルは、標準データベース・フォーマット１６０で格納される。標準データベース・フォーマット１６０は、標準セミ・データベース・フォーマットを含み、また、いくつかの実施例では、セミＰ１０標準で扱われない顧客により要求される追加の機能のような、セミ標準フォーマットに含まれない顧客固有情報も含む。標準データベース・フォーマット１６０は、顧客注文固有情報を選択的に使用するか操作することができる他のソフトウェア・アプリケーション（ｅＭａｓｋ（商標）、ｓＢｒｉｄｇｅ、データ・フラクチャ・エンジン（ｄａｔａ  ｆｒａｃｔｕｒｅ  ｅｎｇｉｎｅ）、その他）に利用することができる。
【００３９】
図４は、標準データベース・フォーマット１６０を処理しかつ注文入力データを検査するための流れ図を示す。顧客の特定の電子提出が標準データベース・フォーマット１６０にいったん変換されると、製品注文情報は、操作員の側での入力要求を必要としないで自動的に、ｅＭａｓｋ（商標）処理モジュール１６６の注文入力モジュール１６８にロードされる。この自動操作は、既存の手動注文入力機能に取って代わる。好ましくは自動操作に含まれる２つのサブプロセスがある。
【００４０】
ｅＭａｓｋ（商標）プロセス・モジュール１６６の１つのサブプロセスは、自動テンプレート選択プロセス１６２であり、この自動テンプレート選択プロセス１６２は、顧客の仕様との一貫性に基づいて、注文の５０から８０パーセント（５０〜８０％）を注文が到着する前に完了することができるようにする。しかし、注文が手動で入力されるとき、操作員は、次の基準すなわち顧客、工場、製品の種類、記述、およびテンプレートの階級のうちの少なくとも１つに基づいて、注文ごとにテンプレートを選択しなければならない。自動テンプレート選択プロセス１６２の下では、好ましくはＸＭＬフォーマットを使用する「規則を基にした構文解析」プロセス１６４を使用して、上述の基準に自動的に基づいたシステムによって適切なテンプレートが選択される。さらに、自動テンプレート選択プロセス１６２は、領域固有テンプレートの選択を支持するようにマスクがどの領域で製造されるかを識別することをさらに含むことができる。
【００４１】
好ましい例の実施例では、規則を基にした構文解析プロセス１６４は、顧客注文の受取りのような起動事象の結果として始まる。規則を基にした構文解析プロセス１６４に続いて顧客注文に適用される規則は、一般に、顧客注文で受け取られた彼または彼女のデータをどのように処理するかの顧客定義に部分的に基づいている。顧客または注文の複雑さに依存して、各顧客は、彼または彼女の注文に対して設定された２５程度の少ない規則を有するかもしれないが、一方で、他の顧客は１５０を超える規則を有するかもしれない。一般に、規則は顧客と無関係に定義されるので、規則が特定の順番の顧客と関連するようになることがある。例えば、顧客の格子を計算するとき、その後の規則と共に使用されるアドレス情報を得て正しい格子を計算するために、最初にアドレス規則がデータに適用されなければならない。
【００４２】
いったん正しいテンプレートが選択されると、ブロック１６９で示すように、以前に標準データベース・フォーマット１６０に変換されたテンプレートと製品注文情報の間の自動比較によって、注文の妥当性を検査するかまたは確認することができる。システムが、テンプレートで予想されたものと注文の一部として電子的に提出されたものの間に不一致を識別した場合には、ブロック１７０に示すように、システムは、好ましくは、電子メールと進行中の作業の画面への入力の両方を介して操作員に通知する。注文とテンプレートの間に差が識別されない場合には、システムは電子メールを介して「アップロード成功」通知を、例えば適切な操作員に送ることができ、そして、注文を技術計画およびデータ準備プロセスに公開する。公開された注文によって、注文入力モジュールは、製品注文情報ファイルに従ってフォトマスク部品を生産するための生産データ・ファイルを自動的につくることができるようになるかもしれない。さらに、公開された各注文は、例えばアジア、ヨーロッパまたは北アメリカをそれぞれ含むかもしれない領域１７４、１７６、１７６のような特定の使用領域に基づいているかもしれないし、さらにそのような使用のために標準データベース・フォーマット１６０で格納または維持されるかもしれない。一般に、自動プロセスの使用によって、注文入力プロセスは０．５パーセント未満の誤り率を有することができるようになる。
【００４３】
しかし、操作員が誤りを知らされるように不一致が決定された場合には、ブロック１７２に示すように、操作員はプロセスを手動操作に移すことができる。手動操作では、操作員は、異なるテンプレートを選んで注文データと比較するか、またはテンプレートと一致するように注文データを訂正するかどちらかを行うことができる。いずれの事象でも、プロセスは、システムが解決することができない問題または不一致を手動操作で解決することができるようにする。
【００４４】
図５は、フォトマスク・アセンブリ１０の少なくとも１つの部品を生産するためのデータ準備プロセス１８０の流れ図を示す。製品注文情報ファイルに基づいて標準データベース・フォーマット１６０を構築した後で、注文入力および処理は、データ準備プロセス１８０に移すことができる。
【００４５】
十分な情報を提供した多くの顧客に関して、本発明はまた、データ準備プロセス１８０のための完全に「手操作不要の」プロセスを与える。データ準備プロセス１８０は、リソグラフィ指示の生成（ジョブデック生成）、技術計画およびパターン・フォーマット化（データ・フラクチャリング）［ｐａｔｔｅｒｎ  ｆｏｒｍａｔｔｉｎｇ（ｄａｔａ  ｆｒａｃｔｕｒｉｎｇ）］を含むことができる。ブロック１８２で示すように、データ準備プロセス１８０は、注文入力および変換プロセスで設定された標準データベース・フォーマット１６０を使用し、かつこれにアクセスする。データ準備プロセスは、同一ＸＭＬスキーマおよび上と同様なＸＭＬテンプレート構造を介してアプリケーション・サーバ１４８を使用して標準データベース・フォーマット１６０を操作する。一般に、プロセスは、ほぼ１時間足らずでフォトマスク部品を生産するための生産データ・ファイルを準備することができる。
【００４６】
例えば、ログ・ファイル１８４は、ブロック１８０で作られたフラクチャ・データ（ｆｒａｃｔｕｒｅｄ  ｄａｔａ）であるかもしれない。ログ・ファイル１８４は、ブロック１８６を介して標準ログ・ファイル・フォーマット１８８に変えることができる。この標準ログ・ファイル・フォーマットは、標準ＸＭＬフォーマットを含むかもしれない。同様に、標準ログ・ファイル・フォーマット１８８は、ＸＭＬログ構成１９０を使用して構成することができ、このＸＭＬログ構成１９０は、上で述べたようなＸＭＬ構成に似ている。ログ・ファイル１８４の変換がいったん完成すると、情報は、異なる製造領域による使用のために、標準データベース・フォーマット１６０で維持される。
【００４７】
本発明は詳細に説明したが、添付の特許請求の範囲で定義されるような本発明の精神および範囲から逸脱することなく、様々な変化、代替え、および変更を行うことができることは理解すべきである。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】既存のセミＰ１０処理システムの例を示す図である。
【図２】本発明の教示に従った、注文入力および処理のシステムまたは方法に基づいてつくられたフォトマスク・アセンブリを示す断面図である。
【図３】本発明の例の実施例に従った、注文入力および標準データベース・フォーマットへの変換を示す流れ図である。
【図４】本発明の例の実施例に従った、標準データベース・フォーマットの処理および注文入力データの検証を示す流れ図である。
【図５】本発明の例の実施例に従った、フォトマスクを生産するためのデータ準備プロセスを示す流れ図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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