(57)【要約】患者に流体を投与するための装置（１０）が提供される。本装置には、経皮的な患者アクセスツールに連結するようになっている出口ポートアセンブリ（７０）と、出口ポートアセンブリ（７０）に連結するようになっている通路（２５０）を確定する少なくとも２つの、積層した材料層（２５２、２５４）と、通路（２５０）と流体連通してリザーバ（３０）から出口ポートアセンブリ（７０）への流体流れを制御するための拡張自在のアキュミュレータ（２３４）と、が含まれる。積層した材料層を含む構成により、装置（１０）の寸法、複雑さ及びコストを一層低減するための装置の設計形状及び製造の簡易化と、装置（１０）それ自体を小型で且つ本来使い捨て性のものとすることを含む、数多くの利益が提供される。
2005507688.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体を患者に投与するための装置であって、
Ａ）経皮的な患者アクセスツールに連結するようになっている出口ポートアセンブリと、
Ｂ）出口ポートアセンブリに連結した通路を確定する、少なくとも２つの、積層した材料層と、前記通路と流体連通する拡張自在のアキュミュレーターとを含むディスペンサと、
を含む装置。
【請求項２】
ディスペンサの少なくとも１つの材料層が弾性のダイヤフラムを含む請求項１の装置。
【請求項３】
ディスペンサの、少なくとも２つの、積層した材料層が、
第１層と、
第１層と接触して該第１層に受けられる第２層にして、第２層及び第１層が、出口ポートアセンブリに連結した通路を確定する少なくとも１つの溝を含み、第２層が、前記通路と流体連通する開口を含み、弾性のダイヤフラムが第２層上に受けられて前記開口を覆う第２層と、
第２層上でダイヤフラム上に受けられる第３層にして、ダイヤフラムを覆い且つ第２層の開口と整列するパルスチャンバと、該パルスチャンバと流体連通するポートとを有する第３層と、
を含む請求項２の装置。
【請求項４】
パルスチャンバが所定の容積を有する請求項３の装置。
【請求項５】
第２層及び第３層の一方が、ダイヤフラムを受ける凹所を確定し、該凹所がダイヤフラムの厚さと約等しい深さを有し、かくしてダイヤフラムが第２層と第３層との間で実質的に液密態様下に固定される請求項３の装置。
【請求項６】
凹所の長さ及び幅がダイヤフラムの長さ及び幅よりも大きい請求項５の装置。
【請求項７】
ディスペンサの、少なくとも２つの、積層した材料層が、
第１層にして、出口ポートアセンブリに結合された通路と、該通路と流体連通する開口とを確定し、ダイヤフラムが該第１層上で前記開口を覆う状態で第１層上に受けられる第１層と、
第１層上で、ダイヤフラム上に受けられる第２層にして、ダイヤフラムを覆い且つ第１層の開口と整列するパルスチャンバと、該パルスチャンバと流体連通するポートとを有する第２層と、
第２層上に受けられ、第２層のポートと流体連通する二次チャンバを確定する第３層と、
を含む請求項２の装置。
【請求項８】
パルスチャンバから離間する方向にダイヤフラムを偏倚させるバネを更に含む請求項３の装置。
【請求項９】
ディスペンサの、少なくとも２つの、積層した材料層が、
凹所と、該凹所から伸延する溝とを確定する表面を有する第１層を含み、
第１層の表面上に受けられる弾性のダイヤフラムにして、該ダイヤフラムが、前記凹所と該ダイヤフラムとが拡張自在のアキュミュレータを確定し、前記溝とダイヤフラムとが、出口ポートアセンブリに結合した通路を確定するように受けられる請求項２の装置。
【請求項１０】
第１層の表面が、溝内に座着する弁を更に確定する請求項７の装置。
【請求項１１】
第１層の表面が、溝内部に閉塞センサ用の凹所を更に確定する請求項７の装置。
【請求項１２】
第１層の表面が、リザーバと、該リザーバとアキュミュレータとの間を伸延する第２溝とを更に確定する請求項７の装置。
【請求項１３】
第１層の表面が、泡沫除去ベイと、リザーバとを更に確定する請求項１２の装置。
【請求項１４】
ディスペンサの、少なくとも２つの、積層した材料層が、
第１層と、
該第１層に接触して該第１層に受けられた第２層にして、第１層及び第２層の少なくとも一方が、出口ポートアセンブリに連結した通路を確定する溝を有し、第２層が、第１層から離間して該第１層に面し且つ、凹所と、該凹所と通路との間に流体連通を提供する開口とを有する表面を含む第２層と、
を含み、
弾性のダイヤフラムが、第２層を覆い、拡張自在のアキュミュレータを形成する請求項２の装置。
【請求項１５】
ダイヤフラムを凹所内に押し込んでアキュミュレータの容積を減少させるアクチュエータを更に含む請求項１４の装置。
【請求項１６】
アクチュエータが、回転自在のカムを含む請求項１５の装置。
【請求項１７】
ダイヤフラムに接触して該ダイヤフラムに且つ第２層上で受けられ、第２層の凹所と整列する穿孔を有する第３層を更に含み、
アクチュエータが、前記穿孔内に摺動自在に受けられたピストンを含む請求項１４の装置。
【請求項１８】
賦活されるとダイヤフラムに抗してピストンを偏倚させるための、ピストンと同中心状態で第３層内に受けられた磁気コイルを更に含む請求項１７の装置。
【請求項１９】
第３層と接触して該第３層に受けられ、第３層の穿孔と整列する穿孔を有する第４層を更に含み、
ディスペンサが、第４層の穿孔を加圧してピストンをダイヤフラムに抗して偏倚させるための、第４層の前記穿孔内に受けられたガス発生器を含んでいる請求項１７の装置。
【請求項２０】
通路に関してシーケンス的に配列された多数のアキュミュレータを含む請求項１７の装置。
【請求項２１】
ディスペンサの、少なくとも２つの、積層した材料層が、
ダイヤフラムを間部分に位置決めした第１層及び第２層にして、該第１層及び第２層の一方が、出口ポートアセンブリに結合した通路を確定する溝を有し、他方が、ダイヤフラムにより分離された凹所を有する第１層及び第２層を含み、
ディスペンサが、賦活されるとダイヤフラムを通路内に押し込むための、凹所に受けられたアクチュエータを更に含んでいる請求項２の装置。
【請求項２２】
アクチュエータが、圧電材料の部片にして、変形及び非変形の何れかの状態を取るに際してダイヤフラムを押すように配列した圧電材料を含む請求項２１の装置。
【請求項２３】
通路に関してシーケンス的に配列した多数の圧電材料の部片を含む請求項２２の装置。
【請求項２４】
ディスペンサの、少なくとも２つの、積層された材料層が、
第１層と、
該第１層に接触して該第１層に受けられた第２層にして、第２層と第１層とが、出口ポートアセンブリに連結した通路を確定し、第１層及び第２層の一方が、通路と連通する穿孔を含む第２層とを含み、
ディスペンサが、該穿孔内に摺動自在に受けられたピストンを含む請求項１の装置。
【請求項２５】
ディスペンサが、ピストンを通路に向けて偏倚するバネを更に含む請求項２４の装置。
【請求項２６】
ディスペンサが、賦活されるとピストンを通路方向及び通路から離れる方向の何れかに偏倚させるための、ピストンと同中心状態で第１層及び第２層の一方に受けられた磁気コイルを更に含む請求項２４の措置。
【請求項２７】
リザーバからアキュミュレータへの流れを制御する入口弁と、アキュミュレータと出口ポートアセンブリとの間の流れを制御する出口弁とを更に含む請求項１の装置。
【請求項２８】
通路が各弁のための開口を含み、各弁が、該開口を覆う弾性の液密材料層と、該弾性の液密材料層を覆う圧電材料層とを含み、該圧電材料層が、変形及び非変形の何れかの状態を取るに際して弾性の液密材料を通路の開口に押し込み、かくして実質的に通路を閉塞するように配列される請求項２７の装置。
【請求項２９】
通路と平行に伸延し、ピボット点を中心として廻動自在に取り付けたバーを含み、各弁が、該バーから伸延してピボット点の各側で通路に入るゲートを含む請求項２７の装置。
【請求項３０】
各弁が逆止弁を含む請求項２７の装置。
【請求項３１】
各弁がダックビル弁を含む請求項３０の装置。
【請求項３２】
積層した材料層が、通路を二分する穿孔を確定し、ディスペンサが弁アセンブリを更に含み、弁アセンブリが、
前記穿孔内に可動状態下に受けられ且つ開口を含む弁部材と、
弁部材の開口が通路から垂直方向にオフセットされ、かくして通路が弁部材により閉塞されるように弁部材を偏倚するバネと、
賦活されると弁部材の開口を通路と整列するように弁部材を移動させるアクチュエータと、
を含む請求項１の装置。
【請求項３３】
アクチュエータが、賦活されると穿孔を加圧するガスを発生するガス発生器を含む請求項３２の装置。
【請求項３４】
リザーバを更に含み、ディスペンサが、該リザーバから出口ポートアセンブリに向かう流体流れを制御する請求項１の装置。
【請求項３５】
リザーバが治療用流体を収納する請求項３４の装置。
【請求項３６】
リザーバに連結した充填ポートを更に含む請求項３４の装置。
【請求項３７】
リザーバが、出口ポートアセンブリに連結した経皮的な患者アクセスツールを更に含む請求項３４の装置。
【請求項３８】
出口ポートアセンブリに連結した経皮的な患者アクセスツールを更に含む請求項１の装置。
【請求項３９】
ディスペンサに連結され、該ディスペンサをして、流れ指令に基づいてのリザーバから出口ポートアセンブリへの流体流れを許容せしめるローカルプロセッサと、
該ローカルプロセッサに接続され、別個の遠隔制御装置からの流れ指令を受け、受けた流れ指令をローカルプロセッサに送るための無線受信装置と、
出口ポートアセンブリと、ディスペンサと、ローカルプロセッサと、無線受信装置とを収納し、ローカルプロセッサに流れ指令を提供するためのユーザー入力部品を持たないハウジングと、
を更に含む請求項１の装置。
【請求項４０】
請求項３９の流体投与装置を含み、該流体投与装置から分離した遠隔制御装置を更に含むシステムであって、
遠隔プロセッサと、
該遠隔プロセッサに接続され、ユーザーが該遠隔プロセッサに流れ指令を提供することができるようにするためのユーザーインターフェースと、
流れ指令を流体投与装置の受信装置に伝送するために遠隔プロセッサに接続された送信装置と、
を更に含むシステム。
【請求項４１】
ディスペンサに接続され、該ディスペンサをして、流れ指令に基づいてのリザーバから出口ポートアセンブリへの流体流れを許容せしめるようにプログラムされ、また、前記流れ指令を提供するようにプログラムされたローカルプロセッサと、
該ローカルプロセッサに接続され、別個の遠隔制御装置にローカルプロセッサからの流れ指令を伝送するための無線送信装置と、
出口ポートアセンブリと、ディスペンサと、ローカルプロセッサと、無線送信装置とを収納し、ローカルプロセッサからの流れ指令をユーザーに提供するためのユーザー出力部品を持たないハウジングと、
を更に含む請求項１の装置。
【請求項４２】
請求項４１の流体投与装置を含み、該流体投与装置から分離した遠隔制御装置を更に含むシステムであって、
遠隔プロセッサと、
ユーザーが流れ指令を受けることができるようにするための、該遠隔プロセッサに接続したユーザー出力部品と、
流体投与装置の伝送装置からの流れ指令を受けるための、遠隔プロセッサに接続した受信装置と、
を更に含むシステム。
【請求項４３】
アキュミュレータの入口に連結した入口弁と、
アキュミュレータの出口を出口ポートアセンブリに連結する出口弁と、
入口弁と出口弁とを同時に開放状態に維持するためのプライミング機構と、
を更に含む請求項１の装置。
【請求項４４】
プライミング機構が、
ピボット廻動自在の可動の第１リンクにして、該第１リンクがピボット廻動すると入口弁が開放するように該入口弁に作動上連結した第１リンクと、
ピボット廻動自在の可動の第２リンクにして、該第２リンクがピボット廻動すると出口弁が開放するように該出口弁に作動上連結された第２リンクと、
プライミング用の可動のロッドにして、第１リンク及び第２リンクをピボット廻動させるように第１リンク及び第２リンクに作動上連結されたロッドと、
を含む請求項４３の装置。
【請求項４５】
各入口弁と各出口弁とが、開閉の各位置間を可動の弁部材を含み、
第１リンクが、入口弁の弁部材とプライミング用の可動のロッドとの間を伸延し且つ該第１リンクの、入口弁の弁部材とプライミング用の可動のロッドとの間に位置付けられたピボット点を中心としてピボット廻動自在であり、
第２リンクが、出口弁の弁部材とプライミング用のロッドとの間を伸延し且つ該第２リンクの、出口弁の弁部材とプライミング用の可動のロッドとの間に位置付けられたピボット点を中心としてピボット廻動自在であり、
プライミング様の可動のロッドが直線方向に可動である、
請求項４４の装置。
【請求項４６】
針を受けるようになっている充填ポートと、
プライミング用の可動のロッドに連結され且つ充填ポート内に受けられたカラーにして、充填ポート内に挿通した針を受け、該挿通された針が該カラーとプライミング用の可動のロッドとを移動せしめて第１リンク及び第２リンクをピボット廻動させるようになっているカラーとを更に含む請求項４４の装置。
【請求項４７】
出口ポートアセンブリが、既知の内部流体容積を有する経皮的な患者アクセスツールを更に含む請求項１の装置。
【請求項４８】
ディスペンサを制御するプロセッサを更に含み、該プロセッサが、ディスペンサをして、指令を受けた際に経皮的な患者アクセスツールの既知の内部流体容積と等しい量の流体を送らせるようにプログラムされる請求項４７の装置。
【請求項４９】
ディスペンサと経皮的な患者アクセスツールとの間に位置決めした流れ検出器を更に含む請求項４７の装置。
【請求項５０】
ディスペンサを制御し、流れ検出器からの信号を受けるプロセッサにして、ディスペンサをして、指令を受けた際及び、経皮的な患者アクセスツールにおける流体の初期流れを表示する流れ検出器からの信号を受けた際に、所定時間に渡り所定の流量の流体を送らせるようにプログラムされ、前記所定時間に渡る所定の流量が、経皮的な患者アクセスツールの既知の内部容量と実質的に等しい流量を創出する請求項４９の装置。
【請求項５１】
ディスペンサと経皮的な患者アクセスツールとの間に位置決めした流れ検出器を更に含む請求項４７の装置。
【請求項５２】
ディスペンサを制御し、また、流体検出器からの信号を受けるプロセッサを更に含み、該プロセッサが、ディスペンサをして、指令を受けた際に、また、流体検出器から該流体検出器に流体の初期流れが流入したことを示す信号を受けた際に所定の流量の流体を送らせるようにプログラムされ、前記所定時間に渡る所定の流量が、経皮的な患者アクセスツールの既知の内部容量と実質的に等しい請求項５１の装置。
【請求項５３】
経皮的な患者用アクセスツールが針を含む請求項４７の装置。
【請求項５４】
ディスペンサに流入する流体から泡沫を除去するための、ディスペンサに結合したガス除去フィルタを更に含む請求項１の装置。
【請求項５５】
リザーバにして、該リザーバから出口ポートアセンブリへの流体流れをディスペンサが制御するリザーバと、
充填ポートと、
充填ポートをリザーバに連結するガス除去フィルタとを更に含む請求項１の装置。
【請求項５６】
流体を収納するためのガス透過性のリザーバを更に含み、ディスペンサが、リザーバから出口ポートアセンブリへの流体流れを制御する請求項１の装置。
【請求項５７】
リザーバにして、該リザーバから出口ポートアセンブリへの流体流れをディスペンサが制御するリザーバと、
充填ポートと、
を含み、前記充填ポートが、
リザーバと流体連通する通路と、
該通路内に位置決めされ、リザーバへの逆止的な流れを許容する弁と、
通路をシールする取り外し自在の隔膜と、
を含む請求項１の装置。
【請求項５８】
充填ポートが、通路内に取り外し自在に受けられた小開口端部と、隔膜に受けられた大開口端部とを有するファンネルとを更に含む請求項５７の装置。
【請求項５９】
充填ポートが、ファンネルの小開口端部が通路内に取り外し自在に受けられた場合に、ファンネルの大開口端部を取り外し自在に受ける開口を有する第１壁を更に含む請求項５８の装置。
【請求項６０】
充填ポートが、隔膜の厚さ以上に第１壁から離間され且つ針を通すが隔膜は通さないようにする開口を有する第２壁を更に含む請求項５９の装置。
【請求項６１】
充填ポートが、隔膜の通過を防止する開口を有する第１壁と、少なくとも略隔膜の厚さの距離、第１壁から離間され、針の通過を許容する開口を有する第２壁とを更に含み、該第２壁と、該第２壁の開口とが、少なくとも所定の力が隔膜に加えられた場合に隔膜を通すことができるようになっている請求項５７の装置。
【請求項６２】
所定の力が、隔膜から針を引き抜くための力よりも小さい請求項６１の装置。
【請求項６３】
出口ポートアセンブリが複数の出口ポートアセンブリを含み、各出口ポートアセンブリが、独立して配置可能であり且つ配置された場合にディスペンサとの流体連通を提供するようになっている経皮的な患者アクセスツールを含む請求項１の装置。
【請求項６４】
各経皮的な患者アクセスツールが針を含む請求項６３の装置。
【請求項６５】
各経皮的な患者アクセスツールが、配置される以前に殺菌状況に維持される請求項６３の装置。
【請求項６６】
患者に流体を投与するための装置であって、
経皮的な患者アクセスツールに連結するようになっている出口ポートアセンブリと、
アキュミュレーターと、
アキュミュレータの入口に連結する入口弁と、
アキュミュレータの出口を出口ポートアセンブリに連結する出口弁と、
入口弁と出口弁とを同時に開放する状態に維持するためのプライミング機構と、
を含む装置。
【請求項６７】
プライミング機構が、
ディスペンサの入口弁に、ピボット廻動すると前記入口弁が開放するように作動上連結した、ピボット廻動自在に可動の第１リンクと、
ディスペンサの出口弁に、ピボット廻動すると前記出口弁が開放するように作動上連結した、ピボット廻動自在に可動の第２リンクと、
第１リンク及び第２リンクに、移動すると前記第１リンク及び第２リンクをピボット移動させるべく作動上連結した可動のプライミング用のロッドと、
を含む請求項６６の装置。
【請求項６８】
入口弁と出口弁とが各々、開閉の各位置間を可動の弁部材を含み、
第１リンクが、入口弁の弁部材とプライミング用のロッドとの間を伸延し且つ、入口弁の弁部材とプライミング用のロッドとの間に位置付けた該第１リンクのピボット点を中心としてピボット廻動自在であり、
第２リンクが、出口弁の弁部材とプライミング用のロッドとの間を伸延し且つ、出口弁の弁部材とプライミング用のロッドとの間に位置付けた該第２リンクのピボット点を中心としてピボット廻動自在であり、
プライミング用のロッドが直線方向に可動である請求項６７の装置。
【請求項６９】
針を受けるようになっている充填ポートと、
プライミング用のロッドに連結され且つ充填ポート内に受けられたカラーにして、充填ポート内に挿通した針を受け、該挿通された針が、該カラーとプライミング用のロッドとを移動せしめて第１リンク及び第２リンクをピボット廻動させるようになっているカラーとを更に含む請求項６７の装置。
【請求項７０】
アキュミュレータを確定する、少なくとも２つの、積層した材料層を更に含む請求項６６の装置。
【請求項７１】
既知の内部流体容積を有する経皮的な患者アクセスツールと、
リザーバから前記経皮的な患者アクセスツールに送るためのディスペンサと、
を含む、患者に流体を投与するための装置。
【請求項７２】
ディスペンサを制御するプロセッサを更に含み、該プロセッサが、ディスペンサをして、指令を受けると経皮的な患者アクセスツールの内部流体容積と等しい量の流体を送らせるようにプログラムされる請求項７１の装置。
【請求項７３】
流れ検出器が、ディスペンサと経皮的な患者アクセスツールとの間に位置決めされる請求項７１の装置。
【請求項７４】
ディスペンサを制御し且つ流れ検出器からの信号を受けるプロセッサを更に含み、該プロセッサが、ディスペンサをして、指令を受けると、また、流体が経皮的な患者アクセスツールへの流動を開始したことを表示する流れ検出器からの信号を受けると所定量の流体を送らせるようにプログラムされ、流体の該所定量が、経皮的な患者アクセスツールの内部流体容積と略等しい流量を生じる請求項７３の装置。
【請求項７５】
ディスペンサと経皮的な患者アクセスツールとの間に位置決めした流体検出器を更に含む請求項７１の装置。
【請求項７６】
ディスペンサを制御し且つ流れ検出器からの信号を受けるプロセッサを更に含み、該プロセッサが、ディスペンサをして、指令を受けると、また、流体が経皮的な患者アクセスツールへの流入を開始したことを表示する流体検出器からの信号を受けると所定量の流体を送らせるようにプログラムされ、流体の該所定量が、経皮的な患者アクセスツールの内部流体容積と略等しい流量を生じる請求項７５の装置。
【請求項７７】
患者に流体を投与するための装置であって、
経皮的な患者アクセスツールに連結自在の出口ポートアセンブリと、
出口ポートアセンブリへの流体流れを制御するディスペンサと、
ディスペンサに流入する気泡を除去するための、ディスペンサに連結したガス除去フィルタと、
を含む患者に流体を投与するための装置。
【請求項７８】
ガス除去フィルタに連結したリザーバと、該リザーバに連結した充填ポートとを更に含む請求項７７の装置。
【請求項７９】
ガス除去フィルタと、ディスペンサとの間に連結したリザーバと、ガス除去フィルタに連結した充填ポートとを更に含む請求項７７の装置。
【請求項８０】
患者に流体を投与するための装置であって、
Ａ）リザーバと、
Ｂ）充填ポートにして、
リザーバと流体連通する通路と、
通路内に位置決めされ、リザーバ内への逆止的な流れを許容する弁と、
通路をシールする取り外し自在の隔膜と、を含む充填ポートと、
を含む装置。
【請求項８１】
充填ポートが、通路内に取り外し自在に受けられた小開口端部と、隔膜に受けられた大開口端部とを有するファンネルを更に含む請求項８０の装置。
【請求項８２】
充填ポートが、ファンネルの小開口端部が通路内に取り外し自在に受けられた場合に、ファンネルの大開口端部を取り外し自在に受ける開口を有する第１壁を更に含む請求項８１の装置。
【請求項８３】
充填ポートが、隔膜の厚さ以上の距離、第１壁から離間され且つ針を通すが隔膜は通さないようにする開口を有する第２壁を更に含む請求項８２の装置。
【請求項８４】
充填ポートが、隔膜の通過を防止する開口を有する第１壁と、少なくとも略隔膜の厚さの距離、第１壁から離間され、針の通過を許容する開口を有する第２壁とを更に含み、該第２壁と、該第２壁の開口とが、少なくとも所定の力が隔膜に加えられた場合に隔膜を通すことができるようになっている請求項８０の装置。
【請求項８５】
所定の力が、隔膜から針を引き抜くための力よりも小さい請求項８４の装置。
【請求項８６】
患者に流体を投与するための装置であって、
複数の、経皮的な患者アクセスツールと、
経皮的な患者アクセスツールへの流体流れを制御するようになっているディスペンサと、
を含み、
各経皮的な患者アクセスツールが、個別に配置可能であり且つ配置されるとディスペンサとの流体連通を提供するようになっている装置。
【請求項８７】
各経皮的な患者アクセスツールが針を含む請求項８６の装置。
【請求項８８】
各経皮的な患者アクセスツールが、
ディスペンサに連結したルーメンと、
経皮的な患者アクセスツールに固定されたレバーにして、該レバーを第１位置から第２位置に移動した際に経皮的な患者アクセスツールが配置されるように配列され、該レバーが、第１位置にある場合にルーメンを閉塞するべく配置した閉塞部材を有する請求項８６の装置。
【請求項８９】
各経皮的な患者アクセスツールが、配置される以前に殺菌状態に維持される請求項８６の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、２００１年８月３１日に提出された米国特許出願番号第０９／９４３，９９２号の関連出願である。
本発明は一般に医療装置、医療システム、医療方法に関し、詳しくは、小型及び低コストで且つ携帯型の、治療薬を患者に供給する際の正確且つ高度な、そしてプログラム可能な流れ模様を実現するために使用することのできる流体投与装置及び流体投与方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
今日、薬剤、栄養剤、生物由来のあるいは生物的な活性剤、ホルモン及び遺伝子ベースの材料その他、固形あるいは液状の物質を含む様々の薬品によって処置される数多くの病気や疾患がある。そうした薬品は、その活性成分が消化管や肝臓内での触媒的酵素によって劣化されないようにするため、患者の消化系をバイパスさせることがしばしば望ましい。腸管以外を利用する薬品投与は腸管外あるいは非経口投与として知られている。投与薬物の効果を高め、薬物を変質させずに有意濃度で所期の部位に確実に到達させるために、液状の様々の薬品を非経口投与することがしばしば望ましい。そうすることで、例えば、全身毒性のような、その他の投与経路に関わる望まれざる副作用もまた、恐らく回避され得る。
【０００３】
液状においてのみ入手し得る薬品、あるいは液化薬品が、固形剤あるいは錠剤では実現し得ない所望の特性を持つことがしばしばある。液状の薬品は、静脈あるいは動脈を介して心臓血管系内に輸液する、皮下組織内に輸液する、あるいは臓器、腫瘍、腔、骨及びその他の体内の特定部位内に直接輸液することにより最良投与することができる。
【０００４】
体内への液状薬品の腸管外投与は、しばしば、針及びリザーバを使用するボーラス注射投与により実施され、あるいは重力駆動式のディスペンサあるいは皮膚パッチ法により継続的に実施される。ボーラス注射による投与量は、しばしば患者に臨床上必要な投与量と完全には一致せず、投与時に望ましいそれよりも通常は多くなる。重力供給システムを介して薬品を継続投与すると患者の活動や生活スタイルが損われることから、療法は単純な流量及び流れプロファイルによるものに限定される。皮膚パッチは、特にそれが分子構造に係わるものであることから、投与すべき薬品に特別の条件が要求され、重力供給システムと同様に投与量の調節は厳しく制限される。
【０００５】
患者に液状薬品を投与する携帯型の輸液ポンプが開発された。そうした流体投与装置には、ボーラス条件、即ち、継続的な輸液及び可変流量での投与を実現する高度の流体投与プロファイルを提供する能力がある。こうした能力によれば、通常は薬品はずっと効果的なものとなり、患者に対する毒性も少なくなる。携帯型の輸液ポンプの１使用例は、真性糖尿病治療のためのインスリン投与である。そうした輸液ポンプによれば、米国特許第４，４９８，８４３号に記載されるようにインスリンを連続バーサル（頻回）ベースのみならずボーラス（基礎）ベースで投与することができる。
【０００６】
携帯型の輸液ポンプではしばしば、液状薬品を収納するためのカートリッジあるいはリザーバのような容器が備えられ、この輸液ポンプから経皮刺通した針を介し、あるいは患者の皮膚を通して患者に薬品を投与する電子機械的なポンピング技法あるいは調量技法が使用される。これらの技法によれば、装置のハウジングに位置付けられ、患者あるいは臨床医がアクセスする電子機械的なボタンあるいはスイッチを介しての制御及びプログラムが可能となる。これらの装置には、例えば、警報機あるいは警告灯、可聴信号あるいは振動信号やアラームを含み得るところの、ＬＣＤとして知られる液晶ディスプレイのような文字スクリーンあるいはグラフィックスクリーンを介しての可視的なフィードバックが含まれる。またこうした装置はハーネス、あるいはポケット、若しくはストラップを使用して患者に装着させることができる。
【０００７】
現在入手することのできる携帯型の流体投与装置は高価であり、プログラムや輸液のための調整が難しく、嵩高で重くしかも非常に壊れやすい。これらの装置の充填は困難であり、患者は目的の薬品だけでなく充填用のアクセサリーをも装着する必要がある。こうした装置は特別の注意、管理を必要とし、正しく機能させ、意図される長期間に渡り安全に使用できるように清掃する必要がある。既存の装置が高価であるために、健康管理のプロバイダは携帯型の流体投与装置及びそうした装置を用いる治療を認定する患者数を制限している。
従って、正確でしかも信頼性があり、小型、軽量且つ低コストで、臨床医及び患者に対して腸管外液体投与に代えて簡単に使用することのできる、プログラム可能で且つ調節自在の投与システムに対する需要がある。
【０００８】
そうした需要に鑑み、本件出願人は、小型で低コスト、軽量且つ使用の容易な、液状薬品を患者に投与するための装置を提供した。この装置は現在出願中の米国特許出願番号第０９／９４３，９９２号にその詳細が記載されており、出口ポートと、別個の、遠隔制御装置からの流れ指令に基づき、リザーバの液体をこの出口ポートに送るディスペンサと、流れ指令を受信するためにローカルプロセッサに接続した無線受信装置と、を含んでいる。装置の大きさ、複雑さ及び高いコストを低減させるべく、ローカルプロセッサに流れ指令を与えるためのキーパッド等のユーザー入力部品を無くしたハウジングが設けられた。
患者に流体を投与するための新規且つ改善された装置が尚、望まれている。そうした流体投与装置は、寸法形状、複雑さ、コストを更に低減させ、それ自体が小型で且つ本来使い捨て性を有するように、設計形状が簡単で、製造が安価で且つ容易であることが好ましい。
【０００９】
【特許文献１】
米国特許出願番号第０９／９４３，９９２号明細書
【特許文献２】
米国特許第４，４９８，８４３号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
寸法形状、複雑さ、コストを更に低減させ、それ自体が小型で且つ本来使い捨て性を有するように、設計形状が簡単で、製造が安価で且つ容易である、患者に流体を投与するための新規且つ改善された装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明によれば、経皮的な患者アクセスツールに結合するようになっている出口ポートアセンブリと、少なくとも２つの、積層した材料層を含む積層構造を有し、出口ポートアセンブリに連結する通路を確定するディスペンサと、リザーバから出口ポートアセンブリへの流体流れを制御するために前記通路と流体連通する拡張自在のアキュミュレータとを含む、患者に流体を投与するための装置が提供される。ディスペンサが積層構造を有することにより、これに限定するものではないが、装置の設計形状及び製造の簡易化、装置の寸法形状、複雑さ並びにコストの一層の低減を含む数多くの利益が提供される。従って、本発明の装置はそれ自体が小さく且つ本来使い捨て性のものとなる。
【００１２】
本発明の１様相では、ディスペンサの少なくとも１つの層が弾性のダイヤフラム（以下、単にダイヤフラムとも称する）を含む。本発明の他の様相では、ディスペンサの積層構造の少なくとも２つの層が更に、第１層と、この第１層と接触して第１層に受けられる第２層とを含み、第２層と第１層とが出口ポートアセンブリに連結する通路を確定し、第２層が、この通路と流体連通する開口を含んでいる。弾性のダイヤフラムは第２層の上に受けられて前記開口を覆い、第２層上に受けられたこのダイヤフラムを覆う状態で、このダイヤフラム上に第３層が受けられる。第３層は、ダイヤフラムを覆い且つ第２層の開口と整列するパルスチャンバと、パルスチャンバと流体連通するポートとを有する。
本発明の他の様相によれば、第２層と第３層とが、ダイヤフラムを受ける凹所を確定し、この凹所が、ダイヤフラムの厚さとほぼ等しい深さを有し、かくしてダイヤフラムが第２層と第３層との間に実質的に液密態様下に固定される。凹所の長さと幅とは、ディスペンサに要求される製造上の許容誤差を低減させるためにダイヤフラムの長さ及び幅よりも大きいことが好ましい。
【００１３】
本発明の更に他の様相によれば、少なくとも２つの層が、第１層と、この第１層と接触してこの第１層に受けられた第２層とを含み、第２層と第１層とが、出口ポートアセンブリに連結する通路を確定し、第２層が、第１層から離れて第１層と相対し且つ凹所を有する表面と、この凹所及び第１層、第２層により確定される通路との間を流体連通させる開口とを含む。弾性のダイヤフラムが、第２層の上に受けられて凹所を覆い、拡張自在のアキュミュレータを形成する。
本発明の他の様相によれば、装置は、ダイヤフラムを凹所に押し込んでアキュミュレーターの容積を減少させるアクチュエータを含む。本発明の他の様相によればこのアクチュエータは回転自在のカムを含む。
【００１４】
本発明の更に他の様相によれば、第３層がダイヤフラムと接触してこのダイヤフラムに受けられ、第３層が、第２層の凹所と整列する穿孔を有し、アクチュエータがこの穿孔内に摺動状態下に受けられるピストンを含んでいる。本発明の他の様相によれば、第３層内でピストンと同中心状態に磁気コイルが受けられ、この磁気コイルが、帯電されるとダイヤフラムに抗してピストンを偏倚させる。本発明の他の様相によれば、ディスペンサが、通路に関してシーケンス的に配列した多数のアキュミュレータと、各アキュミュレータと関連する磁気コイル及びピストンとを含んでいる。
【００１５】
本発明のまた他の様相によれば、第３層が、ダイヤフラムに接触してこのダイヤフラムに受けられ、第２層の凹所と整列する穿孔を有し、第４層が、第３層と接触してこの第３層に受けられ且つ、第３層の穿孔と整列する穿孔を有し、また、第４層の穿孔内に受けられたガス発生器にして、起動すると第４層の穿孔を加圧し、ダイヤフラムに抗してピストンを偏倚させるガスを発生するガス発生器が含まれる。本発明の他の様相によれば、ディスペンサが、通路に関してシーケンス的に配列した多数のアキュミュレータと、各アキュミュレータと関連するガス発生器及びピストンが含まれる。
【００１６】
本発明の更に他の様相によれば、ディスペンサが、溝を確定する表面を有する第１層を含み、ダイヤフラムが、このダイヤフラムと溝とが出口ポートアセンブリに連結する通路を確定するように、第１層の表面と接触する状態で位置決めされる。第２層が、ダイヤフラムと接触してダイヤフラムに受けられると共に、ダイヤフラムにより通路から分離される凹所を含み、通路の、この凹所と反対側の部分が拡張自在のアキュミュレータを含む。アクチュエータが、作動するとダイヤフラムを第１層に向けて押し出してアキュミュレータの容積を減少させるべく、第２層の凹所内に受けられる。本発明の他の様相によれば、アクチュエータは、収縮するに際してダイヤフラムを押すように配列した圧電材料の部片を含む。本発明の他の様相によれば、アクチュエータは、凹所内の通路に関してシーケンス的に配列した圧電材料の多数の部片を含む。
【００１７】
本発明の他の様相によれば、第２層と接触して第２層に受けられた第１層が含まれ、第１層及び第２層が、出口ポートアセンブリに連結した通路を確定し、第２層が、第１層に面する凹所を含み、ディスペンサが、第２層の凹所内に摺動自在に受けられたピストンにして、このピストンと凹所とが拡張自在のアキュミュレータを確定するピストンを更に含む。本発明の他の様相によれば、バネがピストンを第１層に向けて偏倚させる。本発明の他の様相によれば、帯電されるとピストンを第１層に向けて偏倚させるための磁気コイルが、ピストンと同中心状態で第２層内に受けられる。
【発明の効果】
【００１８】
寸法形状、複雑さ、コストを更に低減させ、それ自体が小型で且つ本来使い捨て性を有するように、設計形状が簡単で、製造が安価で且つ容易である、患者に流体を投与するための新規且つ改善された装置が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
図１及び図２を参照するに、本発明に従う構成の流体投与装置１０（以下、単に装置１０とも称する）が例示される。本発明の流体投与装置を使用して投与することのできる液体形式には、これに限定するものではないが、インスリン、抗生物質、栄養液、高カロリー輸液（ＴＰＮ）、鎮痛剤、モルヒネ、ホルモンあるいはホルモン剤、遺伝子療法剤、血液凝固阻止剤、心血管薬剤、ＡＺＴあるいは化学療法剤が含まれる。本発明の流体投与装置を使用して治療する医学的症状には、糖尿病、心血管疾患、疼痛、慢性的疼痛、癌、ＡＩＤＳ、神経病、アルツハイマー病、ＡＬＳ、肝炎、パーキンソン病、痙性がある。
【００２０】
図２を参照するに、流体投与装置１０は一般に、経皮的な患者アクセスツール、例えば針を結合させるようになっている出口ポートアセンブリ７０と、リザーバ３０から流体を出口ポートアセンブリに送るためのディスペンサ４０と、このディスペンサ４０に結合したプロセッサあるいは電子マイクロコントローラ５０（以下、“ローカルプロセッサ”とも称する）とを含む。
【００２１】
ローカルプロセッサ５０は、その一例を図１に示すところの、別個の遠隔制御装置１００からの流れ指令に基づき、流体流れを出口ポートアセンブリ７０に送るようにプログラムされる。図２を参照するに、流体投与装置１０は更に、この別個の遠隔制御装置１００からの流れ指令を受け、受けた流れ指令をローカルプロセッサに送信するための、ローカルプロセッサ５０に結合した無線受信装置６０を含む。流体投与装置は更に、出口ポートアセンブリ７０と、リザーバ３０と、ディスペンサ４０と、ローカルプロセッサ５０と、無線受信装置６０とを格納するためのハウジング２０を更に含む。
【００２２】
図示されるように、ハウジング２０はローカルプロセッサ５０に流れ指令を提供するための、例えばハウジングの外面２１上の電子機械的スイッチもしくはボタン、あるいは、ローカルプロセッサ５０を介して、プログラムされた流量を調節するためにユーザーが別の方法でアクセスすることのできる、インターフェースのようなユーザー入力部品は設けられない。ユーザー入力部品を有さないことで、流体投与装置１０の寸法形状、複雑さそしてコストが実質的に減少し、かくして流体投与装置１０はそれ自体が小型で且つ本来使い捨て性のものとなる。
【００２３】
流体投与装置１０は、プログラム及びプログラムの調整、あるいはそうでない場合にはユーザー入力をローカルプロセッサ５０に伝達するための、図１に示す別個の遠隔制御装置１００からのユーザー入力を受けるための無線通信要素、即ち無線受信装置６０を含む。遠隔制御装置１００の、図２に示すアンテナ１３０を外側に含み得るあるいは結合し得る通信要素（図示せず）を介し、信号が送信され得る。
【００２４】
遠隔制御装置１００は、図示される膜状のキーパッド１２０のような、電子機械的なスイッチ列を含む。遠隔制御装置１００はまた、液晶（ＬＣＤ）１１０のような可視ディスプレーをも含む。あるいは遠隔制御装置は、ユーザーが入力及び出力するためのタッチスクリーンを設けることができる。図１には示されないが、遠隔制御装置１００はそれ自身のプロセッサ（以下、遠隔プロセッサとも称する）がキーパッド１２０及びＬＣＤ１１０に接続される。遠隔制御装置１００はキーパッド１２０からのユーザー入力を受け、流体投与装置１０に伝達する“流れ”指令を提供し、またＬＣＤに情報を提供する。遠隔制御装置１００に可視ディスプレーを設けることで流体投与装置１０から情報スクリーンを無くすことができ、その場合は流体投与装置の寸法形状、複雑さそしてコストが一層低減される。
【００２５】
流体投与装置１０の無線受信装置６０は、無線周波数あるいはその他の無線通信規格及びプロトコルを用いて遠隔制御装置１００からの電子的通信を好ましく受信する。好ましい実施例では無線受信装置６０は、流体投与装置１０が遠隔制御装置１００に情報を戻せるようにするための受信装置と、送信装置と、を含む双方向通信要素である。そうした実施例では遠隔制御装置１００は、この遠隔制御装置１００が流体投与装置１０から送信される情報を受けることができるようにするための送受信装置をも含む。
【００２６】
流体投与装置１０のローカルプロセッサ５０はユーザーが所望する流れ模様をプログラムし、このプログラムを必要に応じて調節するために必要な全てのコンピュータープログラム及び電子回路を収納する。それらの電子回路には、１つ以上のマイクロプロセッサ、デジタル及びアナログの集積回路、レジスタ、キャパシタ、トランジスタその他の半導体その他、当業者に知られた電子部品が含まれ得る。ローカルプロセッサ５０には、必要な時間間隔でディスペンサ４０を正しく作動させるためのプログラム、電子回路及びメモリも含まれる。
【００２７】
図２の実施例では流体投与装置１０は、ローカルプロセッサ５０に電力を供給するためのバッテリあるいはキャパシタのような電源８０を含む。電源８０は流体投与装置１０に好ましく一体化されるが、交換自在の、例えば交換式のバッテリーとして取り付けることができる。
【００２８】
やはり図示されないが、この実施例の流体投与装置は、ディスペンサ４０を何時どのように作動させるかを表示させるために、あるいは流量、ポンプ流路の最良状態、接触センサ、回転運動その他運動のインジケータ、のみならず、リザーバ３０が空であることあるいは漏洩があること、あるいはリザーバからの流量が過剰あるいは過小であることを示すその他のパラメータを表示させるための情報をローカルプロセッサ５０に伝達するための、リザーバ容量トランスデューサあるいはリザーバ圧力トランスデューサのようなトランスデューサを含み得る。
【００２９】
リザーバ３０の容量は、投与する医療用流体の入手可能な濃度、流体投与装置１０の再充填あるいは廃棄に許容される時間、寸法上の制約事項その他のような要因に基づき、流体投与装置１０を使用する治療用途に最も良く適するように選択される。リザーバ３０は装置製造者側あるいは提携の薬剤製造者側で充填され得、あるいは例えば、針刺通用隔膜あるいはルアーコネクタを有する充填ポートのような外部充填手段を含むことができる。更には、装置１０には取り外し自在のリザーバを設けることができる。
【００３０】
出口ポートアセンブリ７０は、患者の皮膚に刺し通すための要素、あるいは経皮的な送り手段を含む標準の注入装置に結合させることができるようになっている。皮膚刺通用のカニューラ内で終端する針連結管が、出口ポートアセンブリ７０の一体部品としての、例えば、針のような剛性部材を含む皮膚刺通カニューラを提供し得る。あるいは、出口ポートアセンブリ７０に、剛性の針のような皮膚刺通用カニューラを含む標準の注入装置に結合させるためのルアーコネクタを設けることができる。何れにせよ、出口ポートアセンブリ７０には、仮に前充填する場合は保管及び輸送中の、またユーザーが充填する場合にはプライミング中の、そして使用前の漏洩を防止するための取り外し自在の栓（図示せず）を設けることができる。
【００３１】
流体投与装置１０には、この流体投与装置１０を図１に示すように患者の皮膚に直接固定するための接着剤層をハウジング２０の外面上に設けることができる。やはり図示されないが、接着剤層は、刺通された皮膚の周囲に対する保護シールを提供させるべく、出口ポートアセンブリ７０を囲む楕円形状に連続配置することが好ましい。ハウジング２０は可撓性材料から作製され、あるいは、患者が動くと撓んで流体投与装置１０が外れないようにして患者の快適性を補助する可撓性のヒンジセクションを設けることができる。
【００３２】
ディスペンサ４０は図２に示すように、流体連通状態でリザーバ３０と連結される。装置１０は、加圧（即ち、大気圧以上の圧力下の流体が内部に維持される状態）したリザーバ３０を有する場合はディスペンサ４０が、図３ａ及び図３ｂの例示的な実施例に示されるように、このリザーバに結合した入口弁４１と、出口ポートアセンブリ７０に結合した出口弁４２と、入口弁と出口弁との間に連結したアキュミュレータ４３とを含み得る。リザーバ３０内の流体の圧力が大気圧以上に維持されることで、入口弁４１を開放するとアキュミュレータ４３にリザーバ圧力が充填され得、その後、入口弁４１が閉じられる。ローカルプロセッサ５０のプログラム及び遠隔制御装置１００から受ける指示により決定された如き適切な時間に於いて出口弁４２が開放され得、患者の圧力下に、あるいは大気圧力下に、流体が出口ポートアセンブリ７０に送られ得る。次いで、アキュミュレータ４３が大気圧となり、出口弁４２が閉じられ、次の反復サイクルの準備状態となる。
【００３３】
図３ａ及び図３ｂの実施例のディスペンサ４０は、このディスペンサを貫く流路に何ら駆動力あるいはポンピング力を生じさせず、むしろ調量装置として作用し、加圧されたリザーバ３０から流体のパルス容量が大気圧下にディスペンサ４０を通り抜け、出口ポートアセンブリ７０へと通過することを可能とする。ディスペンサ４０の入口弁４１と出口弁４２とは、ディスペンサ４０の高度の流体送りプログラム及び制御を可能とする電子的プログラム、制御構造及び回路を含むローカルプロセッサ５０により制御される。
【００３４】
図３ａには、大気圧下のアキュミュレータ４３を備えたディスペンサ４０が示される。アキュミュレータメンブレン４４が大気圧のみによる非膨張あるいは非拡張状態で示されている。入口弁４１は閉じ、出口弁４２は開放あるいは閉じた状態で示されるが、最後に入口弁４１が開放された場合は開放されているべきである。図３ｂには、出口弁４２が閉じ、入口弁４１が開放した状態が示される。リザーバ３０からの高圧の流体により、アキュミュレータメンブレン４４が拡張し、アキュミュレータ４３の容積がアキュミュレータ容積４５に増大する。入口弁４１が閉じられた後、出口弁４２を開放してアキュミュレータ容積４５を開放し、アキュミュレータメンブレン４４を図３ａに示す位置に引き込ませることができる。
【００３５】
ディスペンサ４０の入口弁４１及び出口弁４２と、ローカルプロセッサ５０とは、入口弁４１と出口弁４２とが同時に開放しないようにし、それによりリザーバ３０から出口ポートアセンブリ７０に流体が直接流れるのを防止するような設計形状のものとされる。入口弁４１と出口弁４２とが同時に開放しないようにすることは重要であり、機械的手段、電気的手段あるいはその両方を介して、また、ディスペンサ４０及びローカルプロセッサ５０の一方あるいは両方の設計形状により達成され得る。
【００３６】
図３ａ及び図３ｂに示すディスペンサ４０は起動する毎にパルス容量（ＰＶ）と称される有限パルスでの流体容量を発生する。ＰＶはアキュミュレータ４３及びアキュミュレータメンブレン４４の特性、材料及び構成により決定される。流体投与装置により送られるＰＶは、代表的には、治療上有意であると考えられる容量に関し、少ない量で選択される。１ミリリットル当たり１００単位の濃度下にインスリンを投与する場合のＰＶは２マイクロリットル未満、代表的には０．５マイクロリットルとするのが妥当である。遠隔制御装置１００を介して流体投与装置１０の毎時投与量を２単位とプログラムした場合は、ディスペンサによる毎時発生パルスは４０、即ち１．５分に１パルスとなる。そうしたパルス流れは、ＰＶが十分小さい場合には連続的であると考えられる。別の薬物あるいは別の濃度ではずっと大きいＰＶが許容され得る。パルスの時間間隔を調整することにより様々のＰＶを実現させ得る。ＰＶを一定あるいはボーラスベースのものとするためには、そうしたＰＶが達成されるまで多数のパルスを急速に連続発生させる。
【００３７】
ＰＶは、流体投与装置１０の正確な要件を満たすに十分な程に常に一定であるとは限らない。ＰＶに影響を与える１つの要因はリザーバ３０の圧力である。流体投与装置１０には、リザーバ３０の圧力を監視すると共に、パルス間隔を調節して所望の流れ模様を実現するための補償手段が含まれ得る。そうした補償動作の一例は、リザーバ３０の圧力が減少するに従いパルス間隔を短くし、プログラムされた流量を維持することである。リザーバ３０の圧力を監視するための別法はリザーバ３０の容積を監視する事である。この場合、単一あるいは一連のパルスが送られる毎に監視されるリザーバ３０の容量計測値により、単独パルス及び累積パルスの両方のための適正流量の存否が示され得る。投与システムを、エラーの検出に際して流量を補償するようにも設計することができる。
【００３８】
図４ａ及び図４ｂを参照するに、本発明によれば、図１及び図２の流体投与装置１０と共に使用するための改良されたディスペンサ２４０が示される。図４ａ及び図４ｂのディスペンサの動作は図３ａ及び図３ｂに示すディスペンサ４０のそれと類似のものである。加えて、図４ａ及び図４ｂのディスペンサ２４０の幾つかの構成要素は図３ａ及び図３ｂに示すディスペンサ４０のものと類似であり、それらの構成要素の参照番号は番号の頭に“２”を付記して示される。
【００３９】
しかしながら、図４ａ及び図４ｂのディスペンサ２４０は出口ポートアセンブリ７０と連結するための通路２５０を確定する、積層した少なくとも２つの材料層２５２、２５４と、リザーバ３０から出口ポートアセンブリ７０への流体流れを制御するために通路２５０と流体連通する拡張自在のアキュミュレータ２４３とを含む。前記積層構造が、これに限定するものではないが、ディスペンサ２４０の設計形状及び製造を簡易化し、また寸法形状、複雑さそしてコストを一層低減させることを含む数多くの利益を提供する。かくして、本実施例のディスペンサ２４０はそれ自体が小型化され且つ本来使い捨て性のものとなる。
【００４０】
図４ａ及び図４ｂの実施例では、ディスペンサ２４０は第１層２５２と、この第１層と接触して第１層２５２に受けられた第２層２５４とを含み、第１層及び第２層の少なくとも一方が、出口ポートアセンブリ７０と連結する通路２５０を確定する表面溝を含む。第２層２５４は通路２５０と流体連通する開口２４６を含む。第１層２５２及び第２層２５４はまた、第２層２５４上に受けられて前記開口２４６を覆う弾性のダイヤフラム２４４と、第２層２５４を覆う状態でこの第２層上に受けられた第３層２５６とを含む。この第３層２５６はダイヤフラム２４４を覆い且つ第２層２５４の開口２４６と整列するパルスチャンバ２４５と、パルスチャンバ２４５と流体連通するリリーフポート２４７とを有する。
【００４１】
図４ａにはアキュミュレータ２３４が、ダイヤフラム２４４が非膨張である大気圧下にある状態で示される。入口弁２４１は閉じ、出口弁２４２は開放あるいは閉じた状態であり得るが、入口弁２４１が最後に開放されていた場合は開放されているべきである。図４ｂには、出口弁２４２が閉じ、入口弁２４１が開放された状況が示される。リザーバ３０からの流体の圧力が高いことから、この流体が弾性のダイヤフラム２４４をパルスチャンバ２４５（リリーフポート２４７がパルスチャンバ２４５の脱気を許容する状態での）へと拡張させ、かくして、アキュミュレータ２４３の容積をほぼパルスチャンバ２４５の容積へと増大させる。入口弁２４１を閉じた後、出口弁２４２を開放してアキュミュレータの容積を分与させ、ダイヤフラム２４４を図４ａに示す位置に復帰させることができる。
【００４２】
積層構造を有するディスペンサ２４０により、ディスペンサ２４０の大抵の製造上の公差を低下させることが可能となり、製造プロセスをディスペンサ２４０の性能及び信頼性に影響を与えることなく簡易化することが可能となる。高い公差は、ディスペンサ２４０の発生するＰＶにそのディメンションが影響する故に、パルスチャンバ２４５の容積並びにダイヤフラム２４４の弾性に対してのみ要求される。ディスペンサ２４０のその他の寸法形状及び性質は、ディスペンサのコストを低減させるために比較的緩やかなものとすることができる。例えば、図示される実施例では、第２層２５４及び第３層２５６の少なくとも一方が、ダイヤフラム２４４を受ける凹所２６０を確定する。この凹所２６０は深さがダイヤフラム２４４の厚さとほぼ等しく、それ故、ダイヤフラムは第２層２５４と第３層２５６との間に実質的に液密態様下に固定される。しかしながら凹所２６０の長さ及び幅は、ディスペンサ２４０に要求される製造上の公差を低減させるためにダイヤフラム２４４の長さ及び幅よりも大きくされる。
【００４３】
ディスペンサ２４０は“ドロップダウン”プロセスにより製造することが好ましい。この場合、第１層２５２、第２層２５４、第３層２５６に個別に、必要とされる開口、溝、凹所を形成する。次いで第１層２５２を配置し、入口弁２４１と出口弁２４２を、第１層の溝２５０内に正しく位置決めした図示されない凹所内に落し込む。次いで第２層２５４を第１層２５２に載せ、ダイヤフラム２４４を第２層の凹所２６０内に配置し、最後に、第３層２５６をダイヤフラム２４４及び第２層２５４を覆う状態に位置決めする。第１層２５２、第２層２５４、第３層２５６は好適には、例えばプラスチックあるいはステンレス鋼のような強剛性材料から作製し得、また、接着剤あるいは溶接等の好適な態様下に相互に固定することができる。ダイヤフラム２４４は、ゴムあるいは合成ゴムのような好適なしかし弾性の材料から作製することができる。
【００４４】
図５ａ及び図５ｂを参照するに、本発明に従う別態様でのディスペンサ２７０が示される。ディスペンサ２７０は図４ａ及び図４ｂのディスペンサ２４０と類似のものであり、同じ構成要素は同じ参照番号で示される。第１層２５２が、出口ポートアセンブリ７０と連結する通路２５０と、この通路と流体連通する開口２４６とを確定する。弾性のダイヤフラム２４４が開口２４６を覆う状態で第１層２５２上に受けられ、第２層２５４が、ダイヤフラム２４４を覆い且つ第１層２５２の開口２４６と整列するパルスチャンバ２４５と、このパルスチャンバ２４５と流体連通するリリーフポート２４７とを有する。第３層２５６が、第２層２５４上に受けられ且つ、第２層２５２のリリーフポート２４７と流体連通するリリーフチャンバ２４８を確定する。リリーフチャンバ２４８は、ダイヤフラム２４４が拡張した際のパルスチャンバ２４５の脱気を可能としつつも尚、パルスチャンバをシール状態に保持してリリーフポートを保護する。リリーフチャンバ２４８は、ディスペンサ２７０により創出されるＰＶを更に調節するべく加圧することもできる。
【００４５】
図６には本発明に従う別の実施例のディスペンサ２８０が示される。ディスペンサ２８０は図４ａ及び図４ｂのディスペンサ２４０と類似のものであり、同じ構成要素は同じ参照番号で示される。しかしながら、ディスペンサ２８０はダイヤフラム２４４をパルスチャンバ２４５から遠ざけるように偏倚する圧縮バネ２８２を更に含んでいる。圧縮バネの長さは、所定のＰＶが提供されるよう、パルスチャンバ２４５の容量並びにダイヤフラム２４４の弾性と共に設定される。
【００４６】
図７〜図１１ａ及び図１１ｂには、本発明により提供される積層構造を組み込んだ流体投与装置２９０が全体的に示される。流体投与装置２９０は図１及び図２の装置と類似のものであるが、第１層２５２と、この第１層の表面上に受けられた弾性のダイヤフラム２８８とを含んでいる。第１層２５２の前記表面は凹所と、この凹所から出口ポートアセンブリ７０に向けて伸延する溝とを有し。第１層２５２と、ダイヤフラム２８８の部分２４４とが拡張自在のアキュミュレータ２４３を確定し、前記溝とダイヤフラム２８８とが、出口ポートアセンブリ７０と連結する通路２５０を確定する。
【００４７】
図７に示されるように、第１層２５２の表面の溝の内部には弁座２９２が配置され、前記溝の、この弁座２９２と出口ポートアセンブリ７０との間には閉鎖センサチャンバ２９４も設けられる。第１層２５２の前記表面にはリザーバ凹所２９６と、リザーバとアキュミュレータ２４３との間を伸延する溝２９８と、この溝２９８内部の弁座２９１とが更に含まれる。更に、第１層２５２はその表面上に、泡沫除去ベイあるいは泡沫除去チャンバ３００と、泡沫除去チャンバ３００とリザーバ凹所２９６との間を伸延する溝３０２と、充填ポート凹所３０４と、この充填ポート凹所３０４と泡沫除去チャンバ３００との間を伸延する溝２９８とを含む。
【００４８】
図８〜図１１ａ及び図１１ｂに示されるように、ダイヤフラム２８８と第１層２５２とは、閉塞センサチャンバ２９４と、リザーバ凹所２９６と、泡沫除去チャンバ３００と、連結用の各溝２９８、３０２、３０６を確定する。凹所及び溝の各間部分で、ダイヤフラム２８８が接着剤によるなどして液密態様下に第１層２５２の表面に固定される。ダイヤフラム２８８の部分２４４は、リザーバ内部の流体を加圧するべくリザーバ凹所２９６を充填すると図８から図１０に最も良く示されるように拡張する。更に、閉塞が生じると流体が閉塞センサチャンバ２９４に逆流し、ダイヤフラム２８８の、閉鎖センサチャンバ２９４を覆う部分を拡張させ、この閉塞センサチャンバ２９４内部の圧力を増大させる。図９に示すように、閉塞センサチャンバ２９４内には閉塞を監視するためのスイッチ３０８が取り付けられる。スイッチ３０８は、閉塞センサチャンバ２９４を覆うダイヤフラム２８８部分が拡張した場合に、このスイッチが閉じて閉塞が表示されるように配列される。あるいは、閉塞センサチャンバ２９４を覆うダイヤフラム２８８部分に歪みゲージを取り付け得、あるいは、閉塞センサチャンバ２９４内に圧力センサを配置して閉塞を監視するようにしても良い。
【００４９】
ダイヤフラム２８８は全体的に、弾性の如き一貫した特性を与え、若しくは一貫性のない特性を含ませ得る。例えば、リザーバ凹所２９６を覆うダイヤフラム２８８の部分２４４の厚みを大きくしてこの部分の弾性を高め、一方、弁座２９１、２９２を覆うダイヤフラム２８８部分の厚さを薄くしてこの部分の弾性を低下させることが可能である。加えて、ダイヤフラム２８８は、ガスを通過させつつも尚、液体の通過を防止し、かくしてダイヤフラム２８８を泡沫除去フィルタとしても作用させることのできる材料から作製することができる。更に、ダイヤフラム２８８の、流路と接触する表面を、流れを促進し且つ沈殿（例えばインスリン結晶化）を回避する材料でコーティングすることができる。ダイヤフラム２８８には、
例えば、ローカルプロセッサと装置の他の構成部品との間の電気信号の送信をサポートする線状の導電性材料をコーティングすることもできる。
【００５０】
図７に示されるように第１層２５２は、ローカルプロセッサ５０，無線通信ユニット６０、電源あるいはバッテリー８０を含む、装置の他の構成部品のための、ダイヤフラム２８８によっては覆われない凹所３１０、３１２、３１４をも確定する。図１１ａ及び図１１ｂには、流体投与装置２９０のハウジング２０を完成するカバー３１６を第１層２５２に取り付けた状態が示される。カバー３１６は流体投与装置２９０の、バッテリー８０と、無線通信ユニット６０と、ローカルプロセッサ５０とを収納する。カバー３１６はまた、第１層２５２の弁座２９１及び２９２を覆う状態で整列する入口弁２４１及び出口弁２４２をも含む。入口弁２４１及び出口弁２４２と、アキュミュレータ２４３とは、加圧されたリザーバ凹所２９６と共に使用するためのディスペンサ３２０を含む。図示されるように、カバー３１６は、ダイヤフラム部分２４４がリザーバ凹所２９６を覆う状態で拡張可能な包囲空間をも提供する。
【００５１】
図１２ａ及び図１２ｂには、積層型のディスペンサの一部若しくは、積層構造を有する流体投与装置の一部としての、本発明に従う構成の弁３３０が示される。弁３３０は、例えば、リザーバからアキュミュレータ内への流量を制御する、ディスペンサの入口弁を含み得る。弁３３０は第１層２５２及び第２層２５４からなる通路２５０の一部であり、第２層２５４がこの通路と連通する開口３３２を含んでいる。弁３３０は開口３３２を覆う弾性の液密材料層３３４と、この弾性の液密材料層を覆う圧電材料層３３６とを含む。
【００５２】
弾性の液密材料層３３４と圧電材料層３３６とは、収縮した場合に、図１２ａに示すように、圧電材料層３３６が弾性の液密材料３３４の層を通路２５０の開口３３２内に押し込み、通路を実質的に塞ぐように配列される。図示されるように、圧電材料層３３６には、図示されない電源に接続するための電線３３８が含まれる。電源からの電力が圧電材料層３３６に印加されると、図１２ｂに示すように圧電材料層は真っ直ぐとなって通路２５０を開放する。弾性の液密材料層３３４を、ディスペンサのアキュミュレータを形成する弾性のダイヤフラムの一部分として設けることができる。好ましい実施例では圧電材料層３３６は、通路２５０を常閉するよう、賦活されない状態では湾曲され、賦活されると変形して真っ直ぐな幾何学形状となる。
【００５３】
図１３ａ及び図１３ｂには本発明に従う構成の他の実施例における弁３４０が示される。弁３４０は図１２ａ及び図１２ｂに示すものと類似のものであり、同じ構成要素には同じ参照番号が付記される。しかしながら、図１３ａ及び図１３ｂに示す弁３４０は第１層２５２における開口３３２と、第１層のこの開口を覆う弾性の液密材料層３３４と、この液密材料層３３４を覆う圧電材料層３３６とを更に含んでいる。図示されるように、各圧電材料層３３６は、電源を遮断すると通路２５０を塞ぎ（図１３ａ）、賦活される床の通路を開放する（図１３ｂ）用、相互に反応する。別の実施例では弁３４０は、弾性の、管状の液密材料層と、通路内の環状の開口を覆う状態で位置決めした、管状の圧電材料層とを含むことができる。
【００５４】
図１４には本発明に従う構成の弁アセンブリ３５０が例示される。弁アセンブリ３５０は、第１層２５２、第２層２５４、第３層２５６を有する積層型のディスペンサの一部として示される。第１層２５２はパルスチャンバ２４５と、リリーフポート２４７と、アキュムレータ２４３を形成するべくパルスチャンバを覆うダイヤフラム２４４を受ける拡張した凹所２６０とを確定する。第２層２５４は、通路２５０のための溝と、パルスチャンバ２４５と整列する状態でこの溝と連通する開口２４６と、第２層２５４の表面上で開口２４６と整列する凹所３５１とを確定する。第３層２５６は、第２層の凹所３５１と整列する状態で第２層２５４と向き合う弁アセンブリチャンバ３５２を確定する。
【００５５】
弁アセンブリ３５０は、弁部材３５４と、バネ３５６と、流体抵抗カバー３５８とを含む。弁部材３５４が、第３層２５６の弁アセンブリチャンバ３５２の内部に受けられ、通路２５０と平行に延びるバー３６０を含む。バー３６０はアキュミュレータ２４３と整列するピボット点３６４を中心としてピボット回転自在の状態で第３層上に取り付けられる。ピボット点３６４の反対側（且つアキュミュレータ２４３の反対側）には、入口弁３６１と出口弁３６２とがバー３６０から通路２５０内に向けて伸延される。バー３６０と第３層２５６との各端部間には、これらの各端部を第２層２５４に向けて偏倚させるバネ３５６が位置決めされる。流体抵抗カバー３５８は第２層２５４の凹所３５１の内部に受けられ（該凹所は製造上の公差を低減させるために流体抵抗カバーに関してオーバーサイズのものであることが好ましい）、通路２５０と弁アセンブリ３５０との間に液密シールを提供する。
【００５６】
やはり図示されないが、弁アセンブリ３５０には弁部材３５４をピボット廻動させるアクチュエータも含まれる。このアクチュエータは例えば、回転モーターと、リニアモーターと、時計バネと、圧電材料とを含み得る。所望に応じて弁部材３５４をピボット廻動させるために、形式の異なる多数のアクチュエータを使用することができる。弁部材３５４がピボット廻動する構成の弁アセンブリ３５０によれば、通路２５０が入口弁３６１及び出口弁３６２によって交互に且つ常に閉塞されることから、出口ポートアセンブリに未調整の流れが送られないとうような利益が提供される。図１４に示すように、弁アセンブリ３５０の全ての構成要素は製造を簡易化するために第２層２５４の上方から組み込まれる。
【００５７】
図１５には本発明に従う構成の他の弁アセンブリ３７０が示される。弁アセンブリ３７０は、第１層２５２と第２層２５４とを有し、またこれらの各層間に通路２５０が確定されるように積層したディスペンサの一部分として示される。積層された第１層２５２と第２層２５４とは、通路２５０を２分割し且つ弁アセンブリ３７０を受ける穿孔３７２をも確定する。
【００５８】
弁アセンブリ３７０は、穿孔３７２内に可動状態で受けられた弁部材３７４を含み、この弁部材３７４は、開口３７６と、この開口３７６が通路２５０から常オフセットされ且つ通路が弁部材３７４により常閉塞されるように弁部材３７４を偏倚するバネ３７８とを含む。弁アセンブリ３７０は、起動すると弁部材３７４を移動させ、開口３７６を通路２５０と整列させ、かくして流体が通路を通して流動することができるようにするアクチュエータをも含む。図示された実施例ではこのアクチュエータは、起動すると穿孔３７２を加圧するガス発生器３８０を含む。ガス発生器３８０は、第２層に嵌着した栓８２に取り付けられ、穿孔３７２と連通するガス釈放ポート３８４を有している。図１５に示すように、弁アセンブリ３７０は、製造を簡易化するべく弁の全ての構成要素を第２層２５４の上方から組み付けることの可能な“ドロップダウン”構成も用いている。
【００５９】
作動中、ガス発生器３８０は穿孔３７２の弁部材３７４よりも上方の部分を加圧して弁部材を時計バネ３７８に押し付け、開口３７６を通路２５０と整列させてこの開口を開放させる。ガス釈放ポート３８４は、穿孔３７２内の全圧が制限され、かくして圧力の減衰が制御され得るよう、穿孔３７２を出るガス量が所定量であるようにする。１実施例では、弁アセンブリ３７０は流体投与装置の使用寿命を制限するべく、流体投与装置の出口ポートアセンブリに接近して位置決めされる。例えば、流体投与装置は、この流体投与装置を患者に固定するに際してガス発生器３８０を起動させる自動手段あるいは手動手段を含み得、また、このガス発生器３８０には、弁部材３７４を３日間開放させておくに十分な燃料を提供させ得る。弁アセンブリ３７０は、ガス発生器３８０のガス発生量と、ガス釈放ポート３８４からのガス釈放量とにおける時定数が最大パルス量よりも僅かに小さい限りパルス流体を生じさせるためにも用いることができる。
【００６０】
図１６には本発明に従う構成の他の積層型のディスペンサ３９０が示される。ディスペンサ３９０は加圧形のリザーバと共に使用するためのものであり、入口弁２４１と、アキュミュレータ２４３と、出口弁２４２とを含み、第１層２５２と、第２層２５４と、第３層２５６共含んでいる。第１層２５２と第２層２５４とが、出口ポートアセンブリに連結する通路２５０を確定し、第２層２５４が、この通路２５０と連通するパルスチャンバ２４５を確定する。
【００６１】
パルスチャンバ２４５内にはピストン３９２が摺動自在に受けられ、ピストンと壁との間には実質的に液密のシールが設けられる。ピストン３９２は実際は、アキュミュレータ２４３の拡張自在の膜を含む。第３層２５６が第２層２５４上に受けられてパルスチャンバ２４５を閉鎖し、バネ３９４が第３層とピストン３９２との間に位置決めされてピストンを第３から遠ざけるように偏倚させる。ディスペンサが作動すると出口弁２４２が閉じられ、入口弁２４１が開く。これによりリザーバからの加圧された流体がバネ３９４に抗してピストン３９２を移動させ、ピストンをパルスチャンバ２４５に押し込み、かくしてアキュミュレータ２４３が所定のパルス容量により拡大される。次いで弁２４１が閉じ、出口弁２４２が開き、偏倚されたピストン３９２が流体のパルス容量を出口ポートアセンブリに押送する。
【００６２】
図１７ａ及び図１７ｂを参照するに、本発明に従う構成の追加的な積層型のディスペンサ４００が示される。ディスペンサ４００は図示されない非加圧形のリザーバと共に使用するためのものであり、従って、単なる調節器ではなくポンプとして作用する設計形状を有している。ディスペンサ４００は入口弁４０２と、アキュミュレータ４０４と、出口弁４０６とを含む。入口弁４０２と出口弁４０６とは、ダックビル弁のような逆止弁を含み、アキュミュレータ４０４は、これまで説明したディスペンサで使用する“受動的”なアキュミュレーターとは逆の“能動的”なアキュミュレーターである。
【００６３】
ディスペンサ４００の第１層２５２と第２層２５４とは、リザーバと出口ポー夫の間を結ぶ通路２５０を確定し、第２層２５４が、この通路２５０と連通する穿孔４０８を確定する。穿孔内にはピストン４１０が摺動自在に受けられ、アキュミュレーター４０４の拡張自在の膜として作用する。ディスペンサ４００は、ピストン４１０を穿孔４０８内で移動させて入口弁４０２を通してリザーバから流体を抜き出し（逆止弁である出口弁４０６が、この出口弁４０６を通しての流体の抜き出しを防止する）、抜き出した液体を出口弁４０６を通して出口ポートアセンブリに排出する（逆止弁である入口弁４０２が、この入口弁４０２を通しての流体の排出を防止する）。
【００６４】
図示された実施例ではアクチュエータは、磁性材料から作製したピストン４１０と同中心状態で、第２層２５４内に設けた環状溝内に受けられた磁気コイル４１２を含む。第２層２５４内で栓４１４が、ピストン４１０と磁気コイル４１２とを、穿孔４０８のピストン４１０と栓４１４との間部分にアキュミュレータ４０４のパルスチャンバが含まれるようにシールする。ディスペンサ４００は、栓４１４とピストン４１０との間に位置決めされてピストンを通路２５０に向けて偏倚させる圧縮コイルバネ４１６を含む。磁気コイル４１２は、賦活されるとこの圧縮コイルバネ４１６に抗してピストン４１０を偏倚させるべく配列される。
【００６５】
図１７ａに示すように、ディスペンサ４００の作動中に磁気コイル４１２が賦活されると、ピストン４１０がアキュミュレータ４０４を拡張させて入口弁４０２を通してリザーバから流体を抜き出され、次いで穿孔４０８内に入る。アキュミュレータ４０４が完全に拡張すると入口弁４０２が閉じ、次いで磁気コイル４１２への電力が遮断されると、図１７ｂに示すように圧縮コイルバネ４１６がピストン４１０を通路２５０に向けて押し戻し、アキュミュレータ４０４を圧迫し、かくして流体は、逆止弁であるところの出口弁４０６を通して出口ポートアセンブリに排除される。
【００６６】
図１８ａ及び図１８ｂには本発明に従う構成を有し、また図１７ａ及び図１７ｂのディスペンサ４００と類似の様式で作動する、別の実施例における積層型のディスペンサ４２０が示される。ディスペンサ４２０は逆止弁であるところの入口弁４０２と、“能動”的なアキュミュレーター４２４と、逆止弁であるところの出口弁４０６とを含み、このディスペンサ４２０の第１層２５２と第２層２５４とが、図示されないリザーバと、図示されない出口ポートアセンブリとの間を連結する通路２５０を確定する。
【００６７】
アキュミュレータ４２４は第１層２５２から離れて第１層に向き合う表面に形成したパルスチャンバ４４６と、このパルスチャンバ４２６と通路２５０との間に流体連通を提供する開口４２８とを含む。弾性のダイヤフラム４３０が第２層２５４上に受けられ、液密態様下にパルスチャンバ４２６を覆う。
【００６８】
ディスペンサ４２０は、ダイヤフラム４３０をパルスチャンバ４２６に押し込んでアキュミュレータ４２４の容積を低減させ且つパルス容積を創出するアクチュエータ４３２をも含む。図示された実施例では、アクチュエータは回転自在のカム４３２と、図示しないモーターその他の、カム４３２を回転させるための回転装置とを含む。作動中、カム４３２はダイヤフラム４３０から離れる方向に回転し、かくして、図１８ａに示すようにダイヤフラムがアキュミュレータ４２４を拡張させ、入口弁４０２を通してリザーバから流体が抜き出され、抜き出された流体がパルスチャンバ４２６に入る。入口弁４０２は、アキュミュレータ４２４が完全に拡張されると閉じ、次いで、図１８ｂに示すように、カム４３２がダイヤフラム４３０の内部に回転して戻り、ダイヤフラムがパルスチャンバ４２６を圧縮し、流体が出口弁４０６を通して出口ポートアセンブリへと排出される。
【００６９】
図１９ａ及び図１９ｂを参照するに、本発明に従う構成とした追加的な、積層型のディスペンサ４４０が例示される。ディスペンサ４４０は図示されない非圧縮性のリザーバと共に使用するためのものであり、従って、単なるレギュレータ、つまり調節器ではなくポンプとして作用するものとして設計される。ディスペンサ４４０は複数の“能動”的なアキュミュレータ４４２を含み、入口弁あるいは出口弁は設けられない。各アキュミュレータ４４２は、通路２５０に関して連続的に配列され、ディスペンサ４４０が蠕動ポンプの如く作動するように順次作動する。
【００７０】
ディスペンサ４４０の第１層２５２及び第２層２５４は、リザーバと出口ポートアセンブリとの間を結合する通路２５０を確定する。第２層２５４と第３層２５６との間には弾性のダイヤフラム４４４が液密態様下に位置決めされる。第２層２５４は、各アキュミュレータ４４２のための、通路２５０と連通するパルスチャンバ４４６を確定し、第３層２５６が、このパルスチャンバと整列する穿孔４４８を確定する。
【００７１】
ディスペンサ４４０は、パルスチャンバ４４６を圧縮してパルス容積の流体を出口ポートアセンブリに排出させるためのアクチュエータをも含む。図示された実施例ではアクチュエータは、磁性材料から作製され且つ穿孔４４８内に受けられるピストン４５０と、第３層２５６の内部に設けられる環状溝内に受けられ且つピストン４５０と同中心状態とした磁気コイル４５２とを含む。磁気コイル４５２の各々は、賦活されるとダイヤフラム４４４に抗してピストン４５０を押し出してパルスチャンバ４４６を潰し、アキュミュレータ４４２からパルス容量の流体を排出させ、次いで通路２５０に流入させる。磁気コイル４５２への電力が遮断されると、磁気コイル４５２はピストン４５０を釈放し、ダイヤフラム４４４がピストンを押し戻し、かくして流体のパルス容量がパルスチャンバ４４６内に抜き出される。ディスペンサ４４０の作動中、磁気コイル４５２は順次賦活及び電力遮断され、かくして流体はリザーバから抜き出され、排出され、そして順次、アキュミュレータ４４２内に抜き出される。常にピストン４５０の少なくとも１つが閉じて通路を閉塞するように位置決めし、通路を通して出口ポートアセンブリに向かう流体の自由流れが生じないようにすることが好ましい。別の実施例ではバネを使用してピストン４５０を閉位置に偏倚させ、磁気コイル４５２が、賦活された場合に通路からピストンを引き離すように配列され得る。
【００７２】
図２０ａ及び図２０ｂには、本発明に従う他の、積層型のディスペンサ４６０が例示される。ディスペンサ４６０は図１９ａ及び図１９ｂに示すディスペンサ４４０と類似のものであるが、第３層２５６の穿孔４４８と整列する穿孔４６２を確定する第４層２５８を含む。加えて、各アクチュエータは、ピストン４５０と、第４層２５８の穿孔４６２内に受けられるガス発生器４６４とを含む。各は穿孔４４８、４６２を加圧し、また、賦活されるとダイヤフラム４４４に抗してピストン４５０を偏倚させる。第４層２５８は穿孔４６２と連通するガス釈放ポート４６６をも含む。
【００７３】
図２１ａ、図２１ｂ、図２１ｃを参照するに、本発明に従う構成とした、更に他の実施例における積層型のディスペンサ４７０が例示される。ディスペンサ４７０もまた、非圧縮性のリザーバと共に使用するためのものであり、単なるレギュレータではなくポンプとしても作用するようになっている。ディスペンサ４７０は、複数の“能動”的なアキュミュレータ４７２を含み、入口弁あるいは出口弁は設けられない。アキュミュレータ４７２は、通路２５０に関して連続的に配列され、ディスペンサ４７０が蠕動ポンプの如く作動するように、順受作動する。
【００７４】
ディスペンサ４７０は、凹所４７６を有する第１層２５２を含み、第１層２５２の表面と接触してダイヤフラム４７４が位置決めされる。第２層２５４が、ダイヤフラム４７４と接触する状態でこのダイヤフラム４７４に受けられ、また、溝を確定する表面を含み、ダイヤフラムと溝とが、リザーバを出口ポートアセンブリに連結する通路２５０を確定する。
【００７５】
各アキュミュレータ４７２はアクチュエータ４７８を含む。アクチュエータ４７８は第１層２５２の凹所４７６の内部で通路２５０に関して連続的に位置決めされる。アクチュエータ４７８は、賦活されるとダイヤフラム４７４を第２層２５４に向けて押し出すように配列される。凹所４７６の、ダイヤフラム４７４の上方の部分にはアキュミュレータ４７２のパルスチャンバが含まれる。
【００７６】
図示された実施例ではアクチュエータは圧電材料４７８のセグメントを含み、各セグメントは、電力遮断時には通常、ダイヤフラム４７４を第２層に向けて押し出すような曲線的な幾何学形状を取り、また賦活時には直線的な幾何学形状に変形してダイヤフラムが原位置に復帰することができるように取り付け及び配列される。好ましい実施例では、全ての圧電材料のセグメントを、電力遮断時には通常、曲線状態となって通路２５０を閉塞し、通路を通して出口ポートアセンブリに向かう流体の自由流れが生じないようにする。
【００７７】
図２２ａ及び図２２ｂを参照するに、本発明により提供される、ディスペンサ５０６の入口弁５０２及び出口弁５０４を同時に開放状態に維持するためのプライミング機構５００が例示される。前記入口弁及び出口弁が同時に開放状態に維持されることで、流体はリザーバ３０の充填中にディスペンサ（やはりアキュミュレータ５０７を有する）を通して出口ポートアセンブリ７０に流動することができる。プライミングにより、流体投与装置の流体搬送路の全容量が、装置作動以前に流体で充填されていることが保証され、かくして、正確な容量の流体が流体投与装置により投与され得ることが保証される。
【００７８】
図示された特定の実施例では、プライミング機構５００は入口弁５０２に作動上連結したピボット廻動自在の第１リンク５０８を含み、この第１リンク５０８がピボット廻動すると入口弁が開放されるようになっている。また、ピボット廻動自在の第２リンク５１０が出口弁５０４に作動上連結され、この第２リンク５１０がピボット廻動すると出口弁が開放するようになっている。プライミング機構５００は更に、第１リンク５０８及び第２リンク５１０に作動上連結された可動のプライミングロッド５１６を含み、このプライミングロッド５１６が移動すると第１リンク５０８及び第２リンク５１０がピボット廻動するようになっている。
【００７９】
図示されるように、入口弁５０２と出口弁５０４とは各々、開閉の各位置間を可動の第１弁部材５１２及び第２弁部材５１４を含む。第１リンク５０８は第１弁部材５１２とプライミングロッド５１６との間を伸延し、第１弁部材５１２とプライミングロッドとの間に位置付けた第１リンクのピボット点５１８を中心としてピボット廻動自在である。第２リンク５１０は、第２弁部材５１４とプライミングロッド５１６との間を伸延し、第１弁部材５１４とプライミングロッドとの間に位置付けた第２リンクのピボット点５２０を中心としてピボット廻動自在である。プライミングロッド５１６は直線的に移動して第１リンク５０８及び第２リンク５１０をピボット廻動させ、次いで第１弁部材５１２及び第２弁部材５１４を開放させる。プライミングロッド５１６は流体投与装置のハウジング２０を超えて伸延し、ユーザーによってハウジング２０の内部に押し込まれると、充填ポート５２２を通してリザーバ３０が充填される以前に、入口弁５０２と出口弁５０４とを開放させる。ダックビル弁５２４のような逆止弁が、充填ポート５２２の内部及びディスペンサ５０６の通路５２６の内部に位置決めされる。図２２ｂには、プライミングロッド５１６がハウジング２０に押し込まれ、入口弁５０２と出口弁５０４とを開放さた状態が示され、また、図２２ａには、プライミングロッド５１６がハウジング２０の外側に伸延され、入口弁５０２と出口弁５０４とが閉じた状態が示される。
【００８０】
図２３ａ及び図２３ｂには、本発明に従う別のプライミング機構５３０が示される。プライミング機構５３０は図２２ａ及び図２２ｂに示すプライミング機構５００と類似のものであり、同じ構成要素には同じ参照番号が付記される。しかしながら、プライミング機構５３０は、プライミングロッド５１６に連結され且つ、流体投与装置の充填ポート５２２内に受けられたカラー５３２を含む。充填ポート５２２はリザーバ３０に連結され、リザーバを充填するための針５３４を受けるようになっている。カラー５３２は充填ポート５２２内に挿通した針５３４を摩擦状態で受けるようになっており、かくして、挿通された針はカラー５３２とプライミングロッド５１６とを移動させ、第１リンク５０８及び第２リンク５１０がピボット廻動する。従って、図２３ｂに示すように、入口弁５０２と出口弁５０４とは開放され、装置はリザーバ３０を充填する際に自動的にプライミング処理される。
【００８１】
図２４及び図２６を参照するに、本発明により提供される、自動プライミングシステム６００、６１０、６２０を有する流体投与装置１０が例示される。各装置１０には、既知の内部容積を有する一体式の、経皮的な患者アクセスツールを含む出口ポートアセンブリが設けられる。図示される特定実施例では患者アクセスツール６７０は針である。針６７０の先端に送られる容量は既知であることから、装置１０のローカルプロセッサ５０は針６７０を自動的にプライミング処理するためにプログラムすることが可能である。
【００８２】
図２４に示す好ましい実施例では、ローカルプロセッサ５０がディスペンサ４０に対し、針６７０の既知の内部容積と等しい流量を針６７０に送る指示を与えるようにプログラムされる。遠隔制御装置１００には、ユーザーが選択する“プライミング”指令を持たせることが好ましい。図２４に示される遠隔制御装置１００の実施例では、プライミング指令用のボタン１１１が、“初期化”指令用のボタン１１２の次ぎの位置でタッチスクリーン１１０上に配置された状況が例示される。プライミング指令用のボタン１１１を選択すると、遠隔制御装置１００が流体投与装置１０と連通し、ローカルプロセッサ５０に対し、針６７０をプライミング処理する指令を出す。
【００８３】
図２５の流体投与装置６１０には、ディスペンサ４０から針６７０へと通過する流体の容量を表示する信号をローカルプロセッサ５０に提供するように配列した流れセンサ６１２が含まれる。ローカルプロセッサ５０は、針６７０にこの針の既知の内部容積と等しい流量が送られたことがこの流れセンサ６１２によってローカルプロセッサに表示されるまで、ディスペンサ４０に流体を送り出す指示を与えて針６７０をプライミング処理するようにプログラムされる。またローカルプロセッサ５０は、流れセンサ６１２からの信号を使用して、針６７０がプライミング処理された段階で針６７０を閉塞させるべくプログラムされる。
【００８４】
図２６の流体投与装置６２０は図２４の流体投与装置６００と類似のものであるが、針６７０の内部への流体の通過を表示する信号をローカルプロセッサ５０に提供するための、ディスペンサ４０と針６７０との間に位置決めした流体検出器６２２を更に含む。ローカルプロセッサ５０は、流体が流体検出器６２２に到達したことの初期表示をこの流体検出器６２２から受けた後、所定の時間且つ所定の流量で流体を送り出す指示をディスペンサ４０に与えて針６７０をプライミング処理させるようにプログラムされる。加えて、ローカルプロセッサ５０は、ディスペンサ４０の作動時に、及び針６７０がプライミング処理された後に、流体検出器６２２における流体の存在を示す表示が止まった際に、流路内に空気が検出されたことを示す信号が提供されるようにプログラムすることができる。
【００８５】
図２７及び図２８を参照するに、本発明により提供される流体投与装置の実施例７００、７１０が例示され、患者から流体投与装置内に注入される流体から気泡（例えば空気）を除去するためのガス除去フィルタ７０２を含んでいる。ガス除去フィルタ７０２は一般に、ガスは通すが流体は通さない材料から構成される。ガス除去フィルタは、例えば、ニューヨーク州イーストヒルズのＰａｌｌ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（ｗｗｗ．ｐａｌｌ．ｃｏｍ）から入手することができる。図２７の番号７００で示す実施例ではガス除去フィルタ７０２はリザーバ３０とディスペンサ４０との間に位置決めされる。しかしながら、図２８の番号７２０で示す実施例ではガス除去フィルタ７０２は充填ポート３１とリザーバ３０との間に位置決めされる。その他の実施例、例えば、ガス除去フィルタを別個に有する代わりに、ガス除去材料から作製したリザーバを有する実施例を使用することもできる。
【００８６】
感染並びに汚染の問題があることから、本発明の流体投与装置の使用回数は一回のみに限定することが望ましい。図２９ａ〜図２９ｄには、流体投与装置のリザーバ３０を一回だけ充填することのできる“単一使用”型の充填ポート８００を提供する実施例が示される。充填ポート８００はリザーバ３０と流体連通する通路８０２と、この通路内に位置決めされてリザーバ３０への逆止的な流れを許容する弁８０４と、通路８０２をシールする、取り外し自在の針挿通隔膜８０６とを含む。針挿通隔膜８０６は、針１５０を差し込み、リザーバ３０への流体の追加を可能としつつ、針１５０の周囲にシールを提供する、シリコーンのような再シール性のエラストマーから成り得る。
【００８７】
図２９ａ〜図２９ｄの実施例では充填ポート８００は、通路８０２の内部に取り外し自在に受けられた小開口端部８１０と、針挿通隔膜８０６に受けられる大開口端部８１２とを有するファンネル８０８を含む。充填ポート８００は図２９ａ〜図２９ｄに示すように、ファンネル８０８の小開口端部８１０が通路８０２内に取り外し自在に受けられた場合にファンネルの大開口端部８１２を取り外し自在に受ける開口８１６を有する第１壁８１４も含んでいる。図２９ｃ及び図２９ｄに示すように、針挿通用隔膜８０６の厚さ寸法以上の距離、第１壁８１４から離間する位置に第２壁８１８が配置される。第２壁８１８は、針１５０は通すが針挿通用隔膜８０６は通さない寸法形状とした開口８２０を有する。図２９ｃ及び図２９ｄに示すように、充填ポート８００から針１５０を取り外すとファンネル８０８が通路８０２から出され、かくして充填ポート８００を通してのリザーバ３０へのそれ以上の再充填が防止される。
【００８８】
図３０ａ及び図３０ｂには、本発明に従う構成の他の充填ポート８５０が例示される。充填ポート８５０は、図３０ａに示す如く、針挿通用隔膜８０６を通さない開口８５４と、少なくとも概略針挿通隔膜の厚さ寸法の距離、第１壁８５２から離間され且つ針１５０を通す開口８５８を有する第２壁８５６とを含む。第２壁８５６と、この第２壁８５６の開口とは、針挿通用隔膜に少なくとも所定の力が加えられた場合には針挿通用隔膜８０６を通すようになっている。前記所定の力とは、図３０ｂに示すように、針１５０を針挿通用隔膜８０６から引抜く際に、引き抜かれた針１５０が針挿通用隔膜８０６を充填ポート８５０の外に引き出すような力よりは小さいことが好ましい。
【００８９】
図３１を参照するに、本発明により提供される、多数の経皮的な患者アクセスツール９７０を有する流体投与装置９００が例示される。各経皮的な患者アクセスツール９７０は通路９７２を介してディスペンサ４０に個別に連結され、通路９７２が閉塞されるように初期状態では引き込まれている。各経皮的な患者アクセスツール９７０は個別に配置可能でもある。各経皮的な患者アクセスツール９７０を配置すると、配置した経皮的な患者アクセスツール９７０の通路９７２が釈放され、この配置した経皮的な患者アクセスツール９７０を通しての流体流れが許容される。各経皮的な患者アクセスツール９７０は図３２に示すように剛性の針９７４を含むことが好ましい。
【００９０】
個別に展開させることのできる多数の針９７４は流体投与装置９００の使用寿命を有益に延長させる。米疾病防疫センター（ＣＤＣ）の定める基準によれば、注射針あるいは静脈注射針のような単一針は、患者の皮膚に通す注射部位位置での汚染の恐れを最小化するため、３日以上患者に配置したままにすべきではない。従って本発明は、多数の、個別に配置可能な針９７４を使用する流体投与装置を提供することにより、単一の流体投与装置９００の使用寿命を増長させる。仮に、引抜き自在の針９７４を３本とし、各針が、例えばＣＤＣの基準に従う３日間の最大許容期間使用される流体投与装置では装置の使用寿命は９日間に延長される。図３１に示す実施例における流体投与装置９００では針９７４は３本配置されるが、所望に応じて且つ適宜に、２本あるいは３本以上の針を設けることが可能である。
【００９１】
図３２に番号９００で示すような特定の実施例における流体投与装置では、各針９７４は手動で配置可能であり、これらの各針に固定され、患者のアクセス用に装置のハウジング２０の外側に伸延する摺動自在のレバー９７６を含んでいる。針９７４は図３２では引き込まれた状態で示され、通路９７２が、ハウジング２０の壁から伸延するボス９８０と接触する状態でこの通路９７２を挟む、前記レバー９７６から伸延する閉塞部材９７８により閉塞されている。流体投与装置９００は、患者の皮膚に取り付けられるとレバー９７６を単に皮膚の方向に向けて摺動させて通路９７２を釈放させ、針９７４を皮膚に差し込ませる。３日後、患者はレバー９７６を皮膚から遠ざける方向に摺動させて皮膚から針９７４を抜き取り、通路９７２を閉塞させる。次いで、次の針が配置され得る。本装置には、各針９７４を、配置される以前に個別に殺菌状況に維持するための、例えば、ハウジング２０における針開口を覆い、針を配置する際に針を突き通す、別個のシール膜のような手段をも設け得る。
以上、本発明を実施例を参照して説明したが、本発明の内で種々の変更をなし得ることを理解されたい。
【図面の簡単な説明】
【００９２】
【図１】本発明に従う流体投与装置の第１実施例の、患者に固定した状態における斜視図であり、同時に使用する遠隔制御装置が、例示目的上、患者及び流体投与装置に関して拡大して示されている。
【図２】図１の流体投与装置の側方断面図である。
【図３ａ】ディスペンサの動作を例示するための、図１の流体投与装置のディスペンサの側方断面図である。
【図３ｂ】ディスペンサの動作を例示するための、図１の流体投与装置のディスペンサの側方断面図である。
【図４ａ】ディスペンサの動作を例示するための、本発明に従う他のディスペンサの側方断面図である。
【図４ｂ】ディスペンサの動作を例示するための、本発明に従う他のディスペンサの側方断面図である。
【図５ａ】ディスペンサの動作を例示するための、本発明に従う追加的なディスペンサの側方断面図である。
【図５ｂ】ディスペンサの動作を例示するための、本発明に従う追加的なディスペンサの側方断面図である。
【図６】本発明に従う追加的実施例におけるディスペンサの断面図である。
【図７】本発明に従う流体投与装置の一部分の平面図である。
【図８】図７を線８−８で切断した流体投与装置の部分断面図である。
【図９】図７を線９−９で切断した流体投与装置の部分断面図である。
【図１０】図７を線１０−１０で切断した流体投与装置の部分断面図である。
【図１１ａ】流体投与装置の動作を例示するための、図７の流体投与装置の全体断面図である。
【図１１ｂ】流体投与装置の動作を例示するための、図７の流体投与装置の全体断面図である。
【図１２ａ】弁の動作を例示するための、本発明に従う弁の実施例の断面図である。
【図１２ｂ】弁の動作を例示するための、本発明に従う弁の実施例の断面図である。
【図１３ａ】弁の動作を例示するための、本発明に従う弁の他の実施例の断面図である。
【図１３ｂ】弁の動作を例示するための、本発明に従う弁の他の実施例の断面図である。
【図１４】本発明に従う弁の更に他の実施例の断面図である。
【図１５】本発明に従う弁の他の実施例の断面図である。
【図１６】本発明に従うディスペンサの他の実施例の断面図である。
【図１７ａ】ディスペンサの動作を例示するための、本発明に従うディスペンサの他の実施例の断面図である。
【図１７ｂ】ディスペンサの動作を例示するための、本発明に従うディスペンサの他の実施例の断面図である。
【図１８ａ】ディスペンサの動作を例示するための、本発明に従うディスペンサの他の実施例の断面図である。
【図１８ｂ】ディスペンサの動作を例示するための、本発明に従うディスペンサの他の実施例の断面図である。
【図１９ａ】ディスペンサの動作を例示するための、本発明に従うディスペンサの他の実施例の断面図である。
【図１９ｂ】ディスペンサの動作を例示するための、本発明に従うディスペンサの他の実施例の断面図である。
【図２０ａ】ディスペンサの動作を例示するための、本発明に従うディスペンサの他の実施例の断面図である。
【図２０ｂ】ディスペンサの動作を例示するための、本発明に従うディスペンサの他の実施例の断面図である。
【図２１ａ】ディスペンサの動作を例示するための、本発明に従うディスペンサの他の実施例の断面図である。
【図２１ｂ】ディスペンサの動作を例示するための、本発明に従うディスペンサの他の実施例の断面図である。
【図２１ｃ】ディスペンサの動作を例示するための、本発明に従うディスペンサの他の実施例の断面図である。
【図２２ａ】本発明に従う構成のプライミング機構を含む流体投与装置の他の実施例の一部の、またこのプライミング機構の動作を例示する断面図である。
【図２２ｂ】本発明に従う構成のプライミング機構を含む流体投与装置の他の実施例の一部の、またこのプライミング機構の動作を例示する断面図である。
【図２３ａ】本発明に従う構成のプライミング機構を含む流体投与装置の追加的な実施例の一部の、またこのプライミング機構の動作を例示する断面図である。
【図２３ｂ】本発明に従う構成のプライミング機構を含む流体投与装置の追加的な実施例の一部の、またこのプライミング機構の動作を例示する断面図である。
【図２４】本発明に従う流体投与装置の更に他の実施例の概略図である。
【図２５】本発明に従う流体投与装置並びに遠隔制御装置の更に他の実施例の概略図である。
【図２６】本発明に従う流体投与装置の追加的な実施例の概略図である。
【図２７】本発明に従う流体投与装置の更に他の実施例の概略図である。
【図２８】本発明に従う流体投与装置の更に他の実施例の概略図である。
【図２９ａ】本発明に従う構成の充填ポートの、またこの充填ポートの動作を例示する実施例の断面図である。
【図２９ｂ】本発明に従う構成の充填ポートの、またこの充填ポートの動作を例示する実施例の断面図である。
【図２９ｃ】本発明に従う構成の充填ポートの、またこの充填ポートの動作を例示する実施例の断面図である。
【図２９ｄ】本発明に従う構成の充填ポートの、またこの充填ポートの動作を例示する実施例の断面図である。
【図３０ａ】本発明に従う構成の充填ポートの、またこの充填ポートの動作を例示する更に他の実施例の断面図である。
【図３０ｂ】本発明に従う構成の充填ポートの、またこの充填ポートの動作を例示する更に他の実施例の断面図である。
【図３１】本発明に従う構成の更に他の流体投与装置の平面図である。
【図３２】図３１の流体投与装置の部分破除した側方断面図である。
【符号の説明】
【００９３】
１０  流体投与装置
２０  ハウジング
２１  外面
３０  リザーバ
３１  充填ポート
４０  ディスペンサ
４１  入口弁
４２  出口弁
４３  アキュミュレータ
４４  アキュミュレータメンブレン
４５  アキュミュレータ容積
５０  ローカルプロセッサ
６０  無線受信装置
７０  出口ポートアセンブリ
８０  電源
８２  栓
１００  遠隔制御装置
１１０  タッチスクリーン
１１１  プライミング指令用のボタン
１１２  初期化指令用のボタン
１２０  キーパッド
１３０  アンテナ
１５０  針
２３４  アキュミュレータ
２４０  ディスペンサ
２４１  入口弁
２４２  出口弁
２４３  アキュムレータ
２４４  ダイヤフラム
２４５  パルスチャンバ
２４６  開口
２４７  リリーフポート
２４８  リリーフチャンバ
２５０  通路
２５２  第１層
２５４  第２層
２５６  第３層
２５８  第４層
２６０  凹所
２７０  ディスペンサ
２８２  圧縮バネ
２８８  ダイヤフラム
２９０  流体投与装置
２９１  弁座
２９２  弁座
２９４  閉塞センサチャンバ
２９６  リザーバ凹所
２９８  溝
３００  泡沫除去チャンバ
３０２  溝
３０４  充填ポート凹所
３０８  スイッチ
３１０、３１２、３１４  凹所
３１６  カバー
３３０  弁
３３２  開口
３３４  弾性の液密材料層
３３６  圧電材料層
３４０  弁
３５０  弁アセンブリ
３５１  凹所
３５２  弁アセンブリチャンバ
３５４  第２層
３５６  バネ
３５８  流体抵抗カバー
３６０  バー
３６１  入口弁
３６２  出口弁
３６４  ピボット点
３７０  弁アセンブリ
３７２  穿孔
３７４  弁部材
３７６  開口
３７８  時計バネ
３８０  ガス発生器
３８４  ガス釈放ポート
３９０  ディスペンサ
３９２  ピストン
３９４  バネ
４００  ディスペンサ
４０２  入口弁
４０４  アキュミュレータ
４０６  出口弁
４０８  穿孔
４１０  ピストン
４１２  磁気コイル
４１４  栓
４１６  圧縮コイルバネ
４２０  ディスペンサ
４２４  アキュミュレータ
４２６  パルスチャンバ
４２８  開口
４３０  ダイヤフラム
４３２  カム
４４０  ディスペンサ
４４２  アキュミュレータ
４４４  ダイヤフラム
４４６  パルスチャンバ
４４８  穿孔
４５０  ピストン
４５２  磁気コイル
４６０  ディスペンサ
４６２  穿孔
４６４  ガス発生器
４６６  ガス釈放ポート
４７０  ディスペンサ
４７２  アキュミュレータ
４７４  ダイヤフラム
４７６  凹所
４７８  アクチュエータ
４７８  圧電材料
５００  プライミング機構
５０２  入口弁
５０４  出口弁
５０６  ディスペンサ
５０７  アキュミュレータ
５０８  第１リンク
５１０  第２リンク
５１２  第１弁部材
５１４  第２弁部材
５１６  プライミングロッド
５１８  第１リンクのピボット点
５２０  第２リンクのピボット点
５２２  充填ポート
５２４  ダックビル弁
５３０  プライミング機構
５３２  カラー
５３４  針
６００  自動プライミングシステム
６１２  センサ
６２２  流体検出器
６７０  針
７００  流体投与装置
７０２  ガス除去フィルタ
８００  充填ポート
８０２  通路
８０４  弁
８０６  針挿通用隔膜
８０８  ファンネル
８１０  小開口端部
８１２  大開口端部
８１４、８１８、８５２、８５６  壁
８１６、８２０、８５４、８４８  開口
８５０  充填ポート
９００  単一の流体投与装置
９００  流体投与装置
９７０  経皮的な患者アクセスツール
９７２  通路
９７４  針
【図４ａ】
2005507688.tif 000003
【図２４】
2005507688.tif 000004
【国際公開パンフレット】
2005507688.tif 000005
2005507688.tif 000006
2005507688.tif 000007
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2005507688.tif 000071
2005507688.tif 000072
【国際調査報告】
2005507688.tif 000073