(57)【要約】  本発明は、脱離基を担持した不飽和化合物と求核化合物とを反応させることにより、炭素−炭素結合もしくは炭素−ヘテロ原子結合を発生させるための方法に関するものである。また、本発明は、窒素有機誘導体のアリール化プロセスを用いて、炭素−窒素結合を発生させる方法に関するものでもある。脱離基を担持した不飽和化合物とその脱離基に取って代わり得る炭素原子もしくはヘテロ原子（ＨＥ）を組み込んだ求核化合物とを反応させることによりＣ−ＣもしくはＣ−ＨＥ結合を創出することによって炭素−炭素結合もしくは炭素−ヘテロ原子結合を発生させる本発明の方法は、反応が、元素の周期表の（ＶＩＩＩ）、（Ｉｂ）、および（ＩＩｂ）族から選択される金属元素Ｍをベースとした有効量の触媒、並びに、少なくとも１つの酸素原子および少なくとも１つの窒素原子である少なくとも２つのキレート化原子を含む少なくとも二座の少なくとも１つの配位子の存在下において実行されることを特徴とするものである。【特許請求の範囲】
【請求項１】
脱離基を担持した不飽和化合物と、該脱離基に取って代わり得る炭素原子またはヘテロ原子（ＨＥ）を担持した求核化合物とを反応させて、Ｃ−Ｃ結合またはＣ−ＨＥ結合を創出することによる、炭素−炭素結合または炭素−ヘテロ原子結合を創出するためのほう方であって、上記反応が、周期表の（ＶＩＩＩ）、（ＩＢ）および（ＩＩＢ）族から選択される金属元素Ｍをベースとした有効量の触媒、並びに、少なくとも２つのキレート化原子、即ち、少なくとも１つの酸素原子および少なくとも１つの窒素原子を包含した少なくとも１つの少なくとも二座配位子の存在下において行われることを特徴とする、前記方法。
【請求項２】
上記配位子が、オキシム、ジオキシム、またはヒドラゾンタイプの配位子であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
使用される上記配位子が、以下の式：
【化１】
2005513113.tif 000057
［式中：
・基ＲａおよびＲｂのうちの少なくとも１つは、少なくとも１つの酸素原子または酸素原子を包含した基を含んでおり；
・ＲａおよびＲｂは、独立的に、１個から２０個の炭素原子を包含した炭化水素基を表し、該炭化水素基は、線状または分枝状の、飽和もしくは不飽和の非環式脂肪族の基；単環式もしくは多環式の、飽和、不飽和もしくは芳香族の炭素環式もしくはヘテロ環式の基；または、上記基の連鎖であってよく；
・または、ＲａとＲｂが結合して、それらを担持する炭素原子と共に、３個から２０個の原子を包含する単環式または多環式の、飽和または不飽和の、炭素環式またはヘテロ環式の基を構成していてよく；
・基ＲａおよびＲｂのうちの多くても１つが水素原子を表し；
・Ｒｃは、水素原子、アルキル基、好適にはＣ１からＣ１２までのアルキル基；アルケニルもしくはアルキニル基、好適にはＣ２からＣ１２までのアルケニルもしくはアルキニル基；シクロアルキル基、好適にはＣ３からＣ１２までのシクロアルキル基；または、アリールもしくはアリールアルキル基、好適にはＣ６からＣ１２までのアリールもしくはアリールアルキル基を表している］
を有していることを特徴とする、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
上記配位子が式（Ｉａ１）を有していて、式中のＲｃが水素原子を表し、Ｒａが以下の基
【化２】
2005513113.tif 000058
［式中、Ｒｓは、アルキルもしくはアルコキシ基、好適にはＣ１からＣ４までのアルキルもしくはアルコキシ基、またはアミノ基を表していて、該基は、アルキル基、好適にはＣ１からＣ４までのアルキル基で置換されていてもよいし、置換されていなくてもよい］のうちの１つを表すことを特徴とする、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
使用される上記配位子が、次の式：
【化３】
2005513113.tif 000059
［式中：
・Ｒａ’およびＲｂ’は、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、酸素原子の存在が必須でない点を除き、式（Ｉａ１）または（Ｉａ２）で与えられている意味を有しており；
・Ｒａ及び／又はＲｂは水素原子を表していてよく；
・Ｒａ’およびＲｂ’は、５個または６個の原子を包含した炭素環式またはヘテロ環式の環を形成することができ、該環は、置換されていてもよいし、置換されていなくてもよく；
・Ｒｃは、水素原子、アルキル基、好適にはＣ１からＣ１２までのアルキル基；アルケニルもしくはアルキニル基、好適にはＣ２からＣ１２までのアルケニルもしくはアルキニル基；シクロアルキル基、好適にはＣ３からＣ１２までのシクロアルキル基；または、アリールもしくはアリールアルキル基、好適にはＣ６からＣ１２までのアリールもしくはアリールアルキル基を表しており；
・ＲｄおよびＲｅは同じものであってもよいし、異なるものであってもよく：
・水素原子；
・場合によってはハロゲン原子を担持し、好適には１個から４個の炭素原子を包含する、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチルまたはｔｅｒｔ−ブチルなどの、１個から１２個の炭素原子を包含した線状または分枝状の、アルキル基；
・ハロゲン原子；
を表し；
・ｍは０、１、２、または３であり、好適には０または１である］
を有していることを特徴とする、請求項２に記載の方法。
【請求項６】
上記配位子が式（Ｉｂ１）を有していて、式中のＲｃが水素原子を表し、ｍが０であり、Ｒａ’およびＲｂ’がメチル基を表し、または、シクロヘキサンタイプの環を形成していることを特徴とする、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
使用される上記配位子が、以下の式：
【化４】
2005513113.tif 000060
［式中：
・ＲａおよびＲｂは、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、式（Ｉａ１）および（Ｉａ２）で与えられている意味を有しており；
・基ＲａおよびＲｂのうちの少なくとも１つは、少なくとも１つの酸素原子もしくは酸素原子を包含した基を含んでおり；
・Ｒａ及び／又はＲｂは、水素原子を表していてよく；
・Ｒｃは同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、水素原子を表し、式（Ｉａ１）および（Ｉａ２）で与えられている意味を有しており、また、−ＣＯ−ＮＨ２基も表す］
を有していることを特徴とする、請求項２に記載の方法。
【請求項８】
上記配位子が式（Ｉｃ１）または（Ｉｃ２）を有していて、式中の基Ｒｃが、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、水素原子またはメチル基を表し、Ｒａが、以下の基：
【化５】
2005513113.tif 000061
［式中、Ｒｓは、アルキルもしくはアルコキシ基、好適にはＣ１からＣ４までのアルキルもしくはアルコキシ基、または、アミノ基を表していて、該基は、アルキル基、好適にはＣ１からＣ４までのアルキル基で置換されていてもよいし、置換されていなくてもよい］のうちの１つを表すことを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
使用される上記配位子が、以下の式：
【化６】
2005513113.tif 000062
［式中：
・ＲＡＡは、アミノ酸の残基、好適には水素原子、場合によって官能基を担持した線状もしくは分枝状のＣ１からＣ１２までのアルキル基、または、Ｃ６からＣ１２までのアリール基またはアリールアルキル基、好適にはヒドロキシル基を表しており；
・Ｒａ及び／又はＲｂは、水素原子を表していてよく；
・ＲａおよびＲｂは、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、式（Ｉａ１）および（Ｉａ２）で与えられている意味を有している］
を有することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
上記配位子が式（Ｉｄ１）および（Ｉｄ２）を有していて、式中のＲＡＡが、官能基、好適には−ＯＨ、−ＮＨ２、−ＣＯ−ＮＨ２、−ＮＨ−Ｃ（ＮＨ）−ＮＨ２（グアニジン）、−ＣＯＯＨ、−ＳＨ、−Ｓ−ＣＨ３、またはイミダゾール基を担持し得るアルキル基を表していることを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
上記配位子が式（Ｉｄ１）または（Ｉｄ２）を有していて、式中のＲＡＡが、水素原子またはメチル基を表しており、Ｒａが、以下の基：
【化７】
2005513113.tif 000063
［式中、Ｒｓは、アルキルもしくはアルコキシ基、好適にはＣ１からＣ４までのアルキルもしくはアルコキシ基、または、アミノ基を表しており、該基は、アルキル基、好適にはＣ１からＣ４までのアルキル基で置換されていてもよいし、置換されていなくてもよい］のうちの１つを表していることを特徴とする、請求項９または請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
使用される上記配位子が、以下の式：
【化８】
2005513113.tif 000064
2005513113.tif 000065
［式中：
・Ｒａは、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、式（Ｉａ１）および（Ｉａ２）で与えられている意味を有しており；
・Ｒｂは、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、式（Ｉａ１）および（Ｉａ２）で与えられている意味を有しており；
・Ｒａ及び／又はＲｂは、水素原子を表していてよく；
・Ψは、−ＨＮ−ＣＯ−ＮＨ−基、もしくは、次の一般式（Ｆ２）または（Ｆ３）：
【化９】
2005513113.tif 000066
［式（Ｆ２）および（Ｆ３）において：
・ＲｆおよびＲｇは、独立的に、水素原子、線状もしくは分枝状の、飽和もしくは不飽和の、非環式脂肪族の基であってよい、１個から２０個の炭素原子を包含する炭化水素基；単環式もしくは多環式の、飽和、不飽和もしくは芳香族の炭素環式またはヘテロ環式の基；または、それらの基の連鎖を表しており；
・あるいは、ＲｆとＲｇが一緒に結合して、それらを担持する炭素原子と共に、３個から２０個の原子を包含した炭素環式またはヘテロ環式の基を構成していてよく、および、該基は、飽和、不飽和、単環式または多環式であってよく；
・Ａｒ１およびＡｒ２は、独立的に、２つの置換されたまたは置換されていない芳香族、炭素環式またはヘテロ環式の環を表していて、該環は、縮合されていてもよいし、縮合されていなくてもよく、および、１つもしくはそれ以上のヘテロ原子を担持していてもよく；
・ｘおよびｙは、それぞれ、Ψとして示されている骨格と該イミン基との間の２つの結合を表している］
を有する骨格を表している］
を有していることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
上記配位子が式（Ｉｅ１）または（Ｉｅ２）を有していて、式中のＲｂが水素原子を表し、Ｒａが、以下の基：
【化１０】
2005513113.tif 000067
［式中、Ｒｓは、アルキルまたはアルコキシ基、好適にはＣ１からＣ４までのアルキルもしくはアルコキシ基、または、アミノ基を表しており、該基は、アルキル基、好適にはＣ１からＣ４までのアルキル基で置換されていてもよいし、置換されていなくてもよい］のうちの一つを表していることを特徴とする、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
上記配位子が式（Ｉｅ１）または（Ｉｅ２）を有していて、式中のΨが以下の環式の基：
【化１１】
2005513113.tif 000068
を表すことを特徴とする、請求項１２または請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
上記配位子が：サロックス、サロックス−Ｍｅ、５−ＭｅＯ−サロックス、アルドックス、３−Ｐｙ−アルドックス、４−ＮＥｔ２−サロックス、Ｂｚ−フェノックス、ベンゾフェノキシム、ＤＭＧ、ニオキシム、サルゾン、Ｍｅ−サルゾン、Ｐｙ−セミゾン、Ｍｅ２−サルゾン、Ｓａｌ−ｇｌｙ、Ｓａｌ−ｇｌｕ、Ｔｒａｎｓ−Ｃｈｘｎ−サレン、カルボサルゾン、およびサレン；から選択されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
使用される上記配位子の量が、該配位子のモル数と該金属のモル数との比が２から１までの範囲になるような量であることを特徴とする、請求項１から１５までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
上記求核基質が、非環式であってもよいし、環式であってもよい、電荷を担持していてもよいし、担持していなくてもよい自由電子対を担持した少なくとも１つの原子、好適には窒素、酸素、イオウ、リンもしくは炭素原子を含んでいることを特徴とした有機炭化水素化合物、または、該電子対を供与することができる炭素原子を含んでいることを特徴とした有機炭化水素化合物であることを特徴とする、請求項１から１６までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
上記求核基質が、以下の原子または基：
【化１２】
2005513113.tif 000069
のうちの少なくとも１つを含むことを特徴とする、請求項１から１７までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】
上記求核基質が、飽和、不飽和もしくは芳香族の環に含められた自由電子対を担持している少なくとも１つの窒素原子を含んでおり：前記環が、一般的には３個から８個の原子を含んでいることを特徴とする、請求項１から１７までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】
上記求核基質が、第一級または第二級アミン；ヒドラジンもしくはヒドラゾン誘導体；アミド；スルホンアミド；尿素誘導体；または、ヘテロ環式の誘導体、好適には窒素−及び／又はイオウ−含有ヘテロ環式誘導体であることを特徴とする、請求項１７に記載の方法。
【請求項２１】
上記求核基質が、以下の式：
【化１３】
2005513113.tif 000070
［式（ＩＩＩｈ）において：
・Ａは、炭素原子のうちの１つが少なくとも１つの求核原子、例えば窒素、イオウまたはリン原子などによって置換されている、単環式または多環式の、芳香族または非芳香族のヘテロ環系のすべてもしくは一部を形成している環の残基を表しており；
・Ｒ１２は、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、該環における置換基を表しており；
・ｎは、上記環における該置換基の個数を表している］
を有していることを特徴とする、請求項１７に記載の方法。
【請求項２２】
上記求核基質が式（ＩＩＩｈ）を有していて、式中のＡが、環、例えば：イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピラジン、オキサジアゾール、オキサゾール、テトラゾール、インドール、ピロール、フタラジン、ピリダジン、またはオキサゾリジンなどを表していることを特徴とする、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
上記求核基質が、アルコールまたはチオールタイプの化合物、好適にはヒドロキシまたはチオ芳香族タイプの化合物であることを特徴とする、請求項１７に記載の方法。
【請求項２４】
上記求核基質が、以下の式：
【化１４】
2005513113.tif 000071
［式中：
・Ｂは、単環式または多環式の芳香族炭素環式の基の残基、または２つもしくはそれ以上の単環式芳香族炭素環式の基の連鎖により構成された二価の基の残基を表しており；
・Ｒ１４は、１つもしくはそれ以上の置換基を表していて、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく；
・Ｚはヒドロキシルまたはチオール基を表しており；
・ｎ’は、５もしくはそれ以下の数である］
を有していることを特徴とする、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
上記求核基質が、求核炭素を包含した炭化水素化合物、好適にはマロナート、マロジントリル、シアノマロナート、ニトリル、アセチレニド、プロフェンタイプの化合物、アミノ酸、または、金属、好適にはリチウム、ナトリウム、マグネシウムもしくは亜鉛を対イオンとするカルボアニオンを包含した求核化合物であることを特徴とする、請求項１７に記載の方法。
【請求項２６】
上記求核基質が、ホスフィド、ホスフィン、ホスホニウムジアザイリド、ホスホニウムアザイリド、ボロン酸、またはそれらの誘導体であることを特徴とする、請求項１７に記載のプロセス。
【請求項２７】
上記求核基質が、ボロン酸、または、以下の式：
【化１５】
2005513113.tif 000072
［式中：
・Ｒ２５は、単環式または多環式の、芳香族の炭素環式もしくはヘテロ環式の基を表しており；
・Ｑ１、Ｑ２は、同じものであってもよいし異なるものであってもよく、水素原子、１個から２０個の炭素原子を包含した線状または分枝状の、飽和もしくは不飽和の脂肪族の基、またはＲ２５基を表している］
を有する誘導体であることを特徴とする、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
上記アリールボロン酸が、式（ＩＩＩｕ）を有していて、式中のＲ２５は、芳香族の炭素環式またはヘテロ環式の基、好適にはフェニルまたはナフチル基またはピロリル、ピリジル、ピリミジル、ピリダジニル、ピラジニル、１，３−チアゾリル、１，３，４−チアジアゾリルもしくはチエニル基を表していることを特徴とする、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
上記アリールボロン酸が式（ＩＩＩｕ）を有していて、式中のＱ１、Ｑ２は、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、水素原子、または、１個から２０個の炭素原子を包含した線状もしくは分枝状の非環式脂肪族の基を表しており、前記非環式脂肪族の基は、飽和していてもよいし、または該鎖に１つもしくはそれ以上の不飽和結合、好適には１個から３個の不飽和結合、好適には単純もしくは共役二重結合を含んでいてもよく；または、Ｑ１、Ｑ２が基Ｒ２５、好適にはフェニル基を表していることを特徴とする、請求項２７または２８に記載の方法。
【請求項３０】
脱離基Ｙを担持した上記化合物が、式（ＩＶ）：
Ｒ０−Ｙ  （ＩＶ）
［・式中、Ｒ０は、２個から２０個の炭素原子を包含し、および脱離基Ｙに対してα位に位置した二重結合もしくは三重結合を有する炭化水素基、または、単環式または多環式の芳香族の炭素環式及び／又はヘテロ環式の基を表している］
で表されることを特徴とする、請求項１から２９までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項３１】
脱離基を担持した上記化合物が式（ＩＶ）を有していて、
・Ｒ０が、該脱離基に対してα位置に二重結合または三重結合を包含した脂肪族の炭化水素基、または、該脱離基を担持した不飽和結合を包含する環式の炭化水素基を表し；
・Ｒ０が、単環式または多環式の芳香族の炭素環式及び／又はヘテロ環式の基を表し；
・Ｙが、脱離基、好適にはハロゲン原子または式−ＯＳＯ２−Ｒｅ［式中、Ｒｅは炭化水素基である］を有するスルホン酸エステル基を表している；
ことを特徴とする、請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
脱離基を担持した上記化合物が式（ＩＶ）を有していて、式中のＹが、臭素または塩素原子、または、式−ＯＳＯ２−Ｒｅを有するスルホン酸エステル基を表していて、前記式中のＲｅが、１個から４個の炭素原子を包含した線状または分枝状のアルキル基、好適にはメチルまたはエチル、またはフェニルまたはトリル基、またはトリフルオロメチル基であることを特徴とする、請求項３０または請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
脱離基を担持した上記化合物が式（ＩＶ）を有しており、以下の化合物：
・（１）二重結合を担持し、式（ＩＶａ）：
【化１６】
2005513113.tif 000073
［式（ＩＶａ）において：
・Ｒ２６、Ｒ２７、およびＲ２８は、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、水素原子、または１個から２０個の炭素原子を包含した炭化水素基を表し、該炭化水素基は、線状もしくは分枝状の、飽和もしくは不飽和の脂肪族の基；単環式もしくは多環式の、飽和、不飽和もしくは芳香族の炭素環式もしくはヘテロ環式の基；または、上で定義されている通りの脂肪族及び／又は炭素環式及び／又はヘテロ環式の基の連鎖を表してよく；
・Ｙは、上で定義されている通りの脱離基を表している］
で表すことができる脂肪族タイプの化合物；
・（２）三重結合を担持し、式（ＩＶｂ）：
【化１７】
2005513113.tif 000074
［式（ＩＶｂ）において：
・Ｒ２６は、式（ＩＶａ）で与えられている意味を有しており；
・Ｙは、上で定義されている通りの脱離基を表している］
で表される脂肪族タイプの化合物；
・（３）式（ＩＶｃ）：
【化１８】
2005513113.tif 000075
［式中：
・Ｄは、単環式または多環式の、芳香族の炭素環系及び／又はヘテロ環系のすべてまたは一部を形成する環の残基を表しており；
・Ｒ２９は、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、該環に存在する置換基を表しており；
・Ｙは、上で定義されている通りの脱離基を表しており；
・ｎ”は、該環に存在する置換基の個数を表している］
で表すことができる芳香族タイプの化合物；
から選択されることを特徴とする、請求項３０から３２までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項３４】
脱離基を担持した式（ＩＶ）を有する上記化合物が：塩化ビニル、臭化ビニル、ブロモアルキン、ヨードアルキン、β−ブロモスチレン、β−クロロスチレン、ｐ−クロロトルエン、ｐ−ブロモアニソール、およびｐ−ブロモトリフルオロベンゼン；から選択されることを特徴とする、請求項３０から３３までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項３５】
上記触媒が、以下の金属元素Ｍ：銅、銀、パラジウム、コバルト、ニッケル、鉄、及び／又は亜鉛；のうちの少なくとも１つを含むことを特徴とする、請求項１から３４までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項３６】
上記触媒が、銅触媒、好適には銅ハロゲン化物であることを特徴とする、請求項３５に記載の方法。
【請求項３７】
上記反応が塩基の存在下において実施されることを特徴とする、請求項１から３６までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項３８】
上記塩基が：アルカリ金属、好適にはナトリウム、カリウムもしくはセシウムの炭酸塩、重炭酸塩もしくは水酸化物、また、アルカリ土類金属、好適にはカルシウム、バリウムもしくはマグネシウムの炭酸塩、重炭酸塩もしくは水酸化物；アルカリ金属水素化物、好適には水素化ナトリウム；アルカリ金属アルコラート、好適にはナトリウムもしくはカリウムのアルコラート、より好適にはナトリウムメチラート、エチラートもしくはテルチオブチラート；および第三級アミン；から選択されることを特徴とする、請求項３７に記載の方法。
【請求項３９】
上記反応が有機溶媒の存在下において実施されることを特徴とする、請求項１から３８までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項４０】
上記有機溶媒が：線状または環式のカルボンアミド；ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）；ヘキサメチルホスホトリアミド（ＨＭＰＴ）；テトラメチル尿素；ニトロ化合物；脂肪族または芳香族のニトリル、好適にはアセトニトリル；テトラメチレンスルホン；有機炭酸塩；アルキルエステル；ハロゲン化芳香族炭化水素、好適にはクロロベンゼンまたはトルエン；および、窒素−含有ヘテロ環、好適にはピリジン、ピコリンまたはキノリン；から選択されることを特徴とする、請求項３９に記載の方法。
【請求項４１】
アリール化またはビニル化もしくはアルキン化反応の温度が、０℃から１２０℃までの範囲、好適には２０℃から１００℃までの範囲、より好適には２５℃から８５℃までの範囲の温度であることを特徴とする、請求項１から４０までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項４２】
上記配位子が、触媒金属元素Ｍを供給する化合物と同時に導入されることを特徴とする、請求項１から４１までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項４３】
上記触媒が、触媒金属元素Ｍを供給する化合物を該配位子と反応させることによりその場で調製される金属錯体であることを特徴とする、請求項１から４１までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項４４】
上記金属錯体が、反応の開始時に、配位子と金属元素Ｍを供給する化合物とから調製されることを特徴とする、請求項１から４１までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項４５】
上記金属元素Ｍが銅であることを特徴とする、請求項４２から４４までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項４６】
上記配位子が、オキシム、好適にはサロックスタイプのオキシムであることを特徴とする、請求項４２から４５までのいずれか一項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、脱離基を担持した不飽和化合物を求核化合物と反応させることにより、炭素−炭素結合もしくは炭素−ヘテロ原子結合を創出するためのプロセスに関する。
【０００２】
より詳細には、本発明は、窒素含有有機誘導体をアリール化するためのプロセスを用いて、炭素−窒素結合を創出するための方法に関するものである。
【背景技術】
【０００３】
農薬並びに製薬の分野においては、炭素−窒素結合を創出することにより求核化合物をアリール化することによってもたらされる、例えばアリールヒドラジンなどの多くの重要な化合物が存在する。
【０００４】
従来のアリール化方法は、触媒的な量もしくは化学量論的な銅の存在下において、高温でそれらの試薬を長時間加熱することにより、Ｕｌｌｍａｎｎ反応（Ｕｌｌｍａｎｎ  Ｆ．およびＫｉｐｐｅｒ  Ｈ．、Ｂｅｒ．Ｄｔｓｃｈ．Ｃｈｅｍ．Ｇｅｓ．１９０５、３８、２１２０−２１２６）を実施する方法を含む。それらの反応は、通常、アリールヨウ化物を使用すべく制限され、また、それらの収量は、二アリールホモカップリング生成物の競合的な形成により低減される。
【０００５】
アリール化反応は触媒を必要とする；これまでに数多くのタイプの触媒が報告されている。
【０００６】
Ｂｕｃｈｗａｌｄらにより、８０℃から１００℃のトルエン中における塩基の存在下において、パラジウムが、特にインドールアリール化（Ｏｒｇ．Ｌｅｔｔ．２０００、２、１４０３−１４０６）を実施するために使用された。総じて、その収量は満足のいくものであるが、パラジウムをベースとしたこのタイプの触媒の場合、その反応温度は尚も高い。
【０００７】
銅も、ＤＭＦ還流下での触媒量の銅の存在下におけるヨードベンゼンによりナトリウム塩とピラゾールのアリール化を果たすために使用されている（Ｃｈｉｒｉａｃら、Ｒｅｖ．Ｒｏｕｍ．Ｃｈｉｍ．１９６９、１４、１２６３−１２６７）。そこに記載されている条件は非常に過酷なもので、温度は１５３℃であり、反応時間は非常に長く、３０時間から４０時間にも及ぶ。
【０００８】
Ｂｅｌｅｔｓｋａｙａら（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．１９９８、３９、５６１７−５６２２）は、ベンゾトリアゾールをＮ−アリール化するときに、パラジウムと銅の組み合わせ提唱した。その反応の選択性を制御するためには、銅の存在は不可欠である。この触媒は相間移動触媒であり、工業的規模で使用するのは容易でない。
【０００９】
国際特許第ＷＯ−Ａ−９８／００３９９号はニッケル触媒の使用を提唱しているが、これは、イミダゾールなどのヘテロ環をアリール化するときには殆ど効果がないことが示されている。
【００１０】
また、Ｃｈａｎらは、相間移動条件下でのコバルト触媒の存在下におけるジアリールヨードニウム塩からのアゾールのアリール化を開示している（Ｊ．Ｃｈｅｍ．ＲＥＳ．（Ｓ）２０００、３６７−３６９）。
【００１１】
Ｂｕｃｈｗａｌｄら（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００１、１２３、７７２７−７７２９）は、最近、銅により触媒される窒素−含有求核剤をアリール化する方法を開発した。空気、ヨウ化第一銅、およびｔｒａｎｓ−１，２−ジアミノシクロヘキサン配位子に非感応性の触媒を含むこの触媒系は、ピラゾール、インドール、カルバゾール、ピロール、インダゾール、イミダゾール、フタラジノン、および７−アザインドールなどのヘテロ環を、１１０℃で、ジオキサンにアリール化することを可能にする。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
上述のプロセスの不都合な点は、アリール化がアリール塩化物により実施される場合、もしくは、アリールヨウ化物により実施される場合においてさえ、その温度が尚も高いことである。
【００１３】
本発明は、上で言及されている不都合な点を克服し、且つ、非常に多数の求核剤に適用可能なプロセスを提供することを目的としたものである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明者らは、今や、脱離基を担持した不飽和化合物とその脱離基に取って代わり得る炭素原子もしくはヘテロ原子（ＨＥ）を担持した求核化合物とを反応させることによりＣ−ＣもしくはＣ−ＨＥ結合を創出することによって炭素−炭素結合もしくは炭素−ヘテロ原子結合を創出するためのプロセスを発見し、このプロセスは、上述の反応が、周期表の（ＶＩＩＩ）、（ＩＢ）、および（ＩＩＢ）族から選択される金属元素Ｍをベースとした有効量の触媒、並びに、少なくとも２つのキレート化原子、即ち（少なくとも１つの酸素原子および少なくとも１つの窒素原子）を含む少なくとも二座の少なくとも１つの配位子の存在下において実行されることを特徴とするものであり、これが本発明の主題を構成する。
【００１５】
本発明のこのプロセスの第一変形態様においては、脱離基を担持した芳香族化合物を求核化合物と反応させることによりアリール化反応が実行される。
【００１６】
本発明のこのプロセスの更なる変形態様においては、それぞれ脱離基に対してα位置に二重結合もしくは三重結合を有する化合物を反応させることにより、ビニル化反応もしくはアルキン化反応が実行される。本発明の説明全体を通じ、「アリール化」という用語は、使用される化合物が、脱離基を担持し、不飽和の脂肪族タイプ、もしくは、芳香族の炭素環式またはヘテロ環式タイプのいずれかであることが想定されているため、広い意味で用いられている。
【００１７】
「求核」化合物という用語は、非環式もしくは環式であってよく、且つ、電荷を担っていてもよいし、担っていなくてもよい自由電子対を担持した少なくとも１つの原子、好適には窒素、酸素、イオウ、またはリン原子を含む、もしくは、その電子対を供与し得る炭素原子を含む、有機炭化水素化合物を意味している。
【００１８】
上述のように、求核化合物は、官能基によって担持され得る自由電子対を担持した少なくとも１つの原子を含んでいる。
【００１９】
そのような原子を含む官能基の例として、以下のものを挙げることができる：
【００２０】
【化１】
2005513113.tif 000002
2005513113.tif 000003
【００２１】
本発明の更なる一つの変形態様では、その求核化合物は、飽和、不飽和、または芳香族の環に包含されている自由電子対を担持した少なくとも１つの窒素原子を含んでいる；その環は、一般的に、３個から８個の原子を含む。
【００２２】
求核化合物が、上で例示されている１つもしくはそれ以上の負電荷を担持した官能基を含んでいるときには、その化合物は塩の形態を為していることに留意すべきである。その対イオンは、一般的には、アルカリ金属、好適にはナトリウムもしくはリチウム、またはアルカリ土類金属、好適にはカルシウムなどの金属カチオン、または、マグネシウムもしくは亜鉛化合物などの有機金属化合物の残基である。
【００２３】
本発明のプロセスの第一の利点は、そのプロセスが穏やかな温度で実行されることである。
【００２４】
更なる利点は、アリールヨウ化物だけでなく、アリール臭化物も含め、求核剤に対して広範囲のアリール化剤を使用できることである。
【００２５】
本発明のプロセスの尚も更なる利点は、触媒としてパラジウムではなく銅を使用できる可能性があり、これにより、付加的な経済的利点がもたらされることである。
【００２６】
本発明のプロセスによれば、触媒は、多座、少なくとも二座、三座または四座でさえあり得、且つ、少なくとも２つのキレート化原子、即ち、酸素及び窒素を含む配位子と組み合わされる。
【００２７】
配位子の例が化学式を用いて以下に例証されているが、それらの例は、非制限的な例として与えられている。
【００２８】
本発明のプロセスを実施するための配位子の第一のカテゴリーは、オキシム、ジオキシムまたはヒドラゾンタイプの配位子により構成される。
【００２９】
オキシム
【００３０】
【化２】
2005513113.tif 000004
式中：
・基ＲａおよびＲｂのうちの少なくとも１つは、少なくとも１つの酸素原子もしくは酸素原子を包含した基を含んでおり；
・ＲａおよびＲｂは、独立的に、１個から２０個の炭素原子を包含した炭化水素基を表していて、それらの炭化水素基は、線状または分枝状の、飽和もしくは不飽和の非環式脂肪族の基；単環式もしくは多環式の、飽和、不飽和もしくは芳香族の炭素環式もしくはヘテロ環式の基；または、それらの基の連鎖であってよく；
・または、ＲａとＲｂが結合して、それらを担持する炭素原子と共に、３個から２０個の原子を包含する単環式または多環式の、飽和または不飽和の、炭素環式またはヘテロ環式の基を構成していてよく；
・基ＲａおよびＲｂのうちの多くても１つが水素原子を表し；
・Ｒｃは、アルキル基、好適にはＣ１からＣ１２までのアルキル基；アルケニルもしくはアルキニル基、好適にはＣ２からＣ１２までのアルケニルもしくはアルキニル基；シクロアルキル基、好適にはＣ３からＣ１２までのシクロアルキル基；または、アリールもしくはアリールアルキル基、好適にはＣ６からＣ１２までのアリールもしくはアリールアルキル基を表している。
【００３１】
上述のように、基ＲａおよびＲｂのうちの少なくとも１つは、少なくとも１つの酸素原子もしくは酸素原子を包含した基を含んでおり；そのような基の例として、ヒドロキシル、エーテル、アシル、エステル、スルホキシド、スルホンまたはホスフィンオキシドを挙げることができる。ＯＨ基が好適である。
【００３２】
式（Ｉａ１）および（Ｉａ２）において、異なる記号は、個々に、以下に与えられている意味を有することができる。
【００３３】
従って、ＲａおよびＲｂは、独立的に、線状または分枝状の、飽和または不飽和の非環式脂肪族の基を表すことができる。
【００３４】
より精確には、ＲａおよびＲｂは、好ましくは、線状または分枝状の飽和した非環式脂肪族の基、好適にはＣ１からＣ１２まで、より好適にはＣ１からＣ４までのそのような非環式脂肪族の基を表している。
【００３５】
本発明は、その炭化水素鎖に、共役であってもよいし共役でなくてもよい１つもしくはそれ以上の二重結合などの不飽和結合が存在することを除外するものではない。
【００３６】
その炭化水素鎖は、場合によっては、ヘテロ原子（例えば酸素、イオウ、窒素もしくはリン）により、または、それが反応しないことを条件として、官能基により；特には−ＣＯ−などの基により中断されていてよい。
【００３７】
また、その炭化水素鎖は、場合によっては、それらが妨害しないことを条件として、１つまたはそれ以上の置換基（例えばハロゲン、エステル、アミノまたはアルキル、及び／又はアリールホスフィン）を担持していてよい。
【００３８】
上述の線状または分枝状の、飽和または不飽和の非環式脂肪族の基は、場合によっては、環式の置換基を担持していてよい。「環」という用語は、飽和、不飽和または芳香族の炭素環式またはヘテロ環式の環を意味している。
【００３９】
共有結合、ヘテロ原子、または、オキシ、カルボニル、カルボキシル、スルホニルなどの官能基を介して、その非環式脂肪族の基が環に結合されていてよい。
【００４０】
想定され得る環式置換基の例は、脂環式、芳香族またはヘテロ環式の置換基であって、特に、６個の炭素原子を包含する環またはベンゼン系の脂環式置換基であり、場合によっては、そのような環式置換基自体が、本発明のプロセスで生じる反応を妨害しないことを条件として、何らかの置換基を担持していてよい。そのような置換基の例として、Ｃ１からＣ４までのアルキルまたはアルコキシ基を特に挙げることができる。
【００４１】
環式の置換基を担持した更に詳細な脂肪族の基は、シクロアルキルアルキル基、例えばシクロヘキシルアルキル、または、アリールアルキル基、好適にはＣ７からＣ１２までのアリールアルキル基、特にはベンジルまたはフェニルエチルを含む。
【００４２】
式（Ｉａ１）および（Ｉａ２）の群において、基ＲａおよびＲｂは、独立的に、飽和しているか、もしくは、その環に１個または２個の不飽和結合を包含し、一般的にはＣ３からＣ８までであり、好適にはその環に６個の炭素原子を有する炭素環式の基を表すことができ；その環は置換されていてよい。このタイプの基の好適な例として、シクロヘキシル、１個から４個の炭素原子を包含する線状または分枝状のアルキル基で場合によっては置換されたシクロヘキシルを挙げることができる。
【００４３】
基ＲａおよびＲｂは、独立的に、芳香族の炭化水素基、特に一般式（Ｆ１）：
【００４４】
【化３】
2005513113.tif 000005
［式中：
・ｑは０から５までの整数を表し；
・Ｑは、線状または分枝状のＣ１からＣ６までのアルキル基、線状または分枝状のＣ１からＣ６までのアルコキシ基、線状または分枝状のＣ１からＣ６までのアルキルチオ基、−ＮＯ２基、−ＣＮ基、ハロゲン原子、またはＣＦ３基から選択される基である］
を有するベンゼン系の基を表す。
【００４５】
また、ＲａおよびＲｂは、独立的に、それらの間でオルト−縮合系もしくはオルト−およびペリ−縮合系を形成することができる複数の環を伴う多環式の芳香族炭化水素基を表すこともできる。より詳細な例としてナフチルを挙げることができ；その環は置換されていてよい。
【００４６】
更に、ＲａおよびＲｂは、少なくとも２個の飽和及び／又は不飽和の炭素環、もしくは、少なくとも２個の炭素環であって、そのうちの１個のみが芳香族であり、それらの間でオルト−縮合系またはオルト−およびペリ−縮合系を形成する炭素環により構成された多環式の炭化水素基を表すこともできる。一般的に、それらの環はＣ３からＣ８までであり、好適にはＣ６である。より詳細な例としてボルニル基およびテトラヒドロナフタレン基を挙げることができる。
【００４７】
また、ＲａおよびＲｂは、独立的に、飽和、不飽和または芳香族のヘテロ環式の基、特には、窒素原子（水素原子で置換されていない）、イオウまたは酸素などの１個または２個のヘテロ原子を含め、その環に５個もしくは６個の原子を包含するヘテロ環式の基も表すことができ；このヘテロ環の炭素原子も置換されていてよい。
【００４８】
更に、ＲａおよびＲｂは、各環に少なくとも１つのヘテロ原子を包含する少なくとも２個の芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環により構成され、それらの間でオルト−縮合系またはオルト−およびペリ−縮合系を形成された基、または、少なくとも１つの芳香族もしくは非芳香族の炭化水素環と少なくとも１つの芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環により構成され、それらの間でオルト−縮合系またはオルト−およびペリ−縮合系を形成された基のいずれかとして定義される多環式のヘテロ環式の基も表すことができ；それらの環の炭素原子は、場合によって、置換されていてよい。
【００４９】
例として挙げることができるヘテロ環式タイプの基ＲａおよびＲｂは、フリル、チエニル、イソキサゾリル、フラザンニル、イソチアゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピランニル、ホスフィノおよびキノリル、ナフチリジニル、ベンゾピランニルまたはベンゾフランニル基を含む。
【００５０】
各環に存在する置換基の個数は、その環の炭素縮合、並びに、その環における不飽和結合の存在ないしは他の状況に依存する。一つの環によって担持され得る置換基の最大の個数は、当業者であれば容易に決定することができる。
【００５１】
ＲａとＲｂが結合して、それらを担持する炭素原子と共に、少なくとも２つの環が２個の炭素原子を共有することを意味する２個または３個のオルト−縮合環を含む、３個から２０個の原子を包含した単環式または多環式の、飽和、不飽和または芳香族の炭素環式またはヘテロ環式の基を構成していてもよい。多環式化合物の場合、各環における原子の個数は、好適には３個から６個までの範囲である。ＲａとＲｂは、好適には、シクロヘキサンまたはフルオレノン環を形成する。
【００５２】
オキシムタイプの配位子についての式（Ｉａ１）および（Ｉａ２）において、Ｒｃは、好適には、水素原子またはＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。
【００５３】
式（Ｉａ１）を有する好適なオキシムタイプの配位子の場合、Ｒｃは水素原子を表し、Ｒａは、以下の基のうちの一つを表す：
【００５４】
【化４】
2005513113.tif 000006
Ｒｓは、アルキルまたはアルコキシ基、好適にはＣ１からＣ４までのアルキルまたはアルコキシ基またはアミノ基を表していて、それらの基は、アルキル基、好適にはＣ１からＣ４までのアルキル基で置換されていてもよいし、置換されていなくてもよい。
【００５５】
好適な配位子の例は以下の通りである：
【００５６】
【化５】
2005513113.tif 000007
2005513113.tif 000008
式（Ｉａ１）または（Ｉａ２）を有する配位子は、Ｈａｃｈ，Ｃ．Ｃ．；Ｂａｎｋｓ，Ｃ．Ｖ．；Ｄｉｅｈｌ，Ｈ．；（Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．；Ｃｏｌｌ．Ｖｏｌ．ＩＶ；Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．、１９６３、２３０−２３２）により記載されているように、既知の生成物である。
【００５７】
これらの配位子は：
・以下の式を有するアルデヒドまたはケトン：
【００５８】
【化６】
2005513113.tif 000009
［・式（ＩＩａ１）または（ＩＩａ２）において、ＲａおよびＲｂは、式（Ｉａ１）または（Ｉａ２）で与えられている意味を有している］；
を、
・式（ＩＩａ３）を有するヒドロキシルアミンまたはその誘導体：
【００５９】
【化７】
2005513113.tif 000010
［・式（ＩＩａ３）において、Ｒｃは、水素原子を表しており、または、式（Ｉａ１）もしくは（Ｉａ２）で与えられている意味を有している］；
と反応させることにより得られる。
【００６０】
本発明のプロセスにおいて使用される好適なオキシムタイプの配位子は、サリチルアルデヒド残基のヒドロキシル基により担持された酸素原子を含んでいる。好適には、それらの配位子は、サリチルアルデヒドをヒドロキシルアミンまたはＯ−メチルヒドロキシルアミンと反応させることによりもたらされる。
【００６１】
ジオキシム
【００６２】
【化８】
2005513113.tif 000011
式中：
・Ｒａ’およびＲｂ’は、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、酸素原子の存在が必須でない点を除き、式（Ｉａ１）または（Ｉａ２）で与えられている意味を有しており；
・Ｒａ’及び／又はＲｂ’は水素原子を表していてよく；
・Ｒａ’およびＲｂ’は、５個または６個の原子を包含する炭素環式またはヘテロ環式の環を形成することができ、その環は、置換されていてもよいし、置換されていなくてもよく；
・Ｒｃは、水素原子、アルキル基、好適にはＣ１からＣ１２までのアルキル基；アルケニルもしくはアルキニル基、好適にはＣ２からＣ１２までのアルケニルもしくはアルキニル基；シクロアルキル基、好適にはＣ３からＣ１２までのシクロアルキル基；または、アリールもしくはアリールアルキル基、好適にはＣ６からＣ１２までのアリールもしくはアリールアルキル基を表しており；
・ＲｄおよびＲｅは同じものであってもよいし、異なるものであってもよく：
・水素原子；
・１個から１２個の炭素原子を包含した線状または分枝状の、場合によってはハロゲン原子を担持し、好適には１個から４個の炭素原子を包含するメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、またはｔｅｒｔ−ブチルなどのアルキル基；
・ハロゲン原子；
を表し；
・ｍは０、１、２、または３であり、好適には０または１である。
【００６３】
好適なジオキシムタイプの配位子は、式（Ｉｂ１）を有していて、この式中のＲｃは水素原子を表し、ｍは０であり、Ｒａ’およびＲｂ’は、メチル基を表しており、または、シクロヘキサンタイプの環を形成している。
【００６４】
式（Ｉｂ１）を有する配位子は：
・ジケトン、好適には次の式を有するα−またはβ−ジケトン：
【００６５】
【化９】
2005513113.tif 000012
［・式中、Ｒａ’およびＲｂ’、Ｒｄ、ならびにＲｅは、式（Ｉｂ１）で与えられた意味を有している］；
を、
・式（ＩＩａ３）を有するヒドロキシルアミンまたはその誘導体；
と反応させることによりもたらされる。
【００６６】
好適なジオキシムタイプの配位子は、２，３−ブタンジオンまたは１，２−シクロヘキサンジオンとヒドロキシルアミンを反応させることによりもたらされる。それらの配位子は、Ｈａｃｈ，Ｃ．Ｃ．；Ｂａｎｋｓ，Ｃ．Ｖ．；Ｄｉｅｈｌ，Ｈ．；（Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．；Ｃｏｌｌ．Ｖｏｌ．ＩＶ；Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．、１９６３、２３０−２３２）により記載されている。
【００６７】
好適な配位子の例が以下に与えられている：
【００６８】
【化１０】
2005513113.tif 000013
【００６９】
【化１１】
2005513113.tif 000014
式中：
・ＲａおよびＲｂは、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、式（Ｉａ１）および（Ｉａ２）で与えられている意味を有しており；
・基ＲａおよびＲｂのうちの少なくとも１つは、少なくとも１つの酸素原子または酸素原子を包含した基を含んでおり；
・Ｒａ及び／又はＲｂは、水素原子を表していてよく；
・Ｒｃは同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、水素原子を表し、式（Ｉａ１）および（Ｉａ２）で与えられている意味を有しており、また、−ＣＯ−ＮＨ２基も表す。
【００７０】
好適なヒドラゾンタイプの配位子は、式（Ｉｃ１）または（Ｉｃ２）を有していて、その式中の基Ｒｃは、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、水素原子またはメチル基を表し、Ｒａは、以下の基のうちの１つを表している：
【００７１】
【化１２】
2005513113.tif 000015
Ｒｓは、アルキルまたはアルコキシ基、好適にはＣ１からＣ４までのアルキルまたはアルコキシ基、または、アミノ基を表していて、これらの基は、アルキル基、好適にはＣ１からＣ４までのアルキル基で置換されていてもよいし、置換されていなくてもよい。
【００７２】
ヒドラゾンタイプの配位子は：
・以下の式を有するアルデヒドまたはケトン：
【００７３】
【化１３】
2005513113.tif 000016
［・式（ＩＩｃ１）または（ＩＩｃ２）において、ＲａおよびＲｂは、式（Ｉｃ１）または（Ｉｃ２）で与えられている意味を有している］；
を、
・次の式（ＩＩｃ３）を有するヒドラジンまたはその誘導体、好適にはＯ−メチルヒドロキシルアミン：
【００７４】
【化１４】
2005513113.tif 000017
［・式（ＩＩｃ３）において、Ｒｃは、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、式（Ｉｃ１）または（Ｉｃ２）で与えられている意味を有している］；
と反応させることによりもたらされる。
【００７５】
本発明のプロセスにおいて使用される好適なヒドラゾンタイプの配位子は、サリチルアルデヒド残基のヒドロキシル基により担持された酸素原子を含んでいる。好適には、それらの配位子は、サリチルアルデヒドを、ヒドラジン、または、好適には１個から４個の炭素原子を包含するアルキル基によるＮ−置換もしくはＮ，Ｎ−二置換ヒドラジンと反応させることによりもたらされる。
【００７６】
好適な配位子の例は以下の通りである：
【００７７】
【化１５】
2005513113.tif 000018
【００７８】
本発明において使用するのに適した第二のカテゴリーまたは配位子は、三座配位子である：
【００７９】
【化１６】
2005513113.tif 000019
式中：
・ＲＡＡは、アミノ酸の残基、好適には水素原子、官能基を場合によって担持した線状または分枝状のＣ１からＣ１２までのアルキル基、または、Ｃ６からＣ１２までのアリール基もしくはアリールアルキル基、好適にはヒドロキシル基を表し；
・Ｒａ及び／又はＲｂは、水素原子を表していてよく；
・ＲａおよびＲｂは、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、式（Ｉａ１）および（Ｉａ２）で与えられている意味を有している。
【００８０】
式（Ｉｄ１）および（Ｉｄ２）において、ＲＡＡは、官能基を担持し得るアルキル基を表し、その官能基は、例えば、−ＯＨ、−ＮＨ２、−ＣＯ−ＮＨ２、−ＮＨ−Ｃ（ＮＨ）−ＮＨ２（グアニジン）、−ＣＯＯＨ、−ＳＨ、−Ｓ−ＣＨ３、またはイミダゾール基を含む。
【００８１】
好適な三座配位子は、式（Ｉｄ１）または（Ｉｄ２）を有していて、その式中のＲＡＡが水素原子またはメチル基を表し、Ｒａは、以下の基のうちの１つを表している：
【００８２】
【化１７】
2005513113.tif 000020
Ｒｓは、アルキルまたはアルコキシ基、好適にはＣ１からＣ４までのアルキルもしくはアルコキシ基、または、アミノ基を表しており、それらの基は、アルキル基、好適にはＣ１からＣ４までのアルキル基で置換されていてもよいし、置換されていなくてもよい。
【００８３】
式（Ｉｄ１）および（Ｉｄ２）を有する配位子は：
・以下の式を有するアルデヒドまたはケトン：
【００８４】
【化１８】
2005513113.tif 000021
［・式（ＩＩｄ１）または（ＩＩｄ２）において、ＲａおよびＲｂは、式（Ｉｄ１）または（Ｉｄ２）で与えられている意味を有している］；
を、
・アミノ酸、より詳細にはグリシン、システイン、アスパラギン酸、グルタミン酸またはヒスチジン；
と反応させることによりもたらされる。
【００８５】
日常的に使用されているアミノ酸が、ＶＯＬＨＡＲＤＴ、Ｃｈｉｍｉｅ  Ｏｒｇａｎｉｑｕｅ、Ｅｄｉｔｉｏｎｓ  Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔａｉｒｅｓ  １９９０、第２７章、１２３０頁で言及されている。
【００８６】
上述のアミノ酸は、それらの塩の形態で使用することができ、好適には、ナトリウム塩の形態で、または、「双性イオン」タイプのカルボン酸アンモニウムの形態で使用することができる。
【００８７】
好適な配位子の例は以下の通りである：
【００８８】
【化１９】
2005513113.tif 000022
【００８９】
本発明を実施するのに適した第三のカテゴリーの配位子は、四座配位子により形成される：
【００９０】
【化２０】
2005513113.tif 000023
式中：
・Ｒａは、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、式（Ｉａ１）および（Ｉａ２）で与えられている意味を有しており；
・Ｒｂは、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、式（Ｉａ１）および（Ｉａ２）で与えられている意味を有しており；
・Ｒａ及び／又はＲｂは、水素原子を表していてよく；
・Ψは、−ＨＮ−ＣＯ−ＮＨ−基、もしくは、次の一般式（Ｆ２）または（Ｆ３）：
【００９１】
【化２１】
2005513113.tif 000024
［式（Ｆ２）および（Ｆ３）において：
・ＲｆおよびＲｇは、独立的に、水素原子、１個から２０個の炭素原子を包含し、線状または分枝状の、飽和または不飽和の、非環式脂肪族の基であってよい炭化水素基；単環式または多環式の、飽和、不飽和または芳香族の炭素環式またはヘテロ環式の基；または、それらの基の連鎖を表しており；
・あるいは、ＲｆとＲｇが一緒に結合して、それらを担持する炭素原子と共に、３個から２０個の原子を包含する炭素環式またはヘテロ環式の基を構成していてよく、且つ、その基は、飽和、不飽和、単環式または多環式であってよく；
・Ａｒ１およびＡｒ２は、独立的に、２つの置換された、もしくは置換されていない芳香族の炭素環式またはヘテロ環式の環を表していて、それらの環は、縮合されていてもよいし、縮合されていなくてもよく、および、１つもしくはそれ以上のヘテロ原子を担持していてよく；
・ｘおよびｙは、それぞれ、Ψとして示されている骨格とイミン基との間の２つの結合を表している］
を有する骨格を表している。
【００９２】
式（Ｉｅ１）および（Ｉｅ２）において、記号ＲａおよびＲｂは、式（Ｉａ１）および（Ｉａ２）で与えられている意味を有することができる。
【００９３】
好適な四座配位子は、式（Ｉｅ１）または（Ｉｅ２）を有していて、その式中のＲｂは水素原子を表し、Ｒａは、以下の基のうちの一つを表している：
【００９４】
【化２２】
2005513113.tif 000025
Ｒｓは、アルキルまたはアルコキシ基、好適にはＣ１からＣ４までのアルキルもしくはアルコキシ基、または、アミノ基を表しており、それらの基は、アルキル基、好適にはＣ１からＣ４までのアルキル基で置換されていてもよいし、置換されていなくてもよい。
【００９５】
式（Ｆ２）および（Ｆ３）において、記号ＲｆおよびＲｇは、式（Ｉａ１）および（Ｉａ２）のＲａおよびＲｂに対して与えられている意味を有することができる。
【００９６】
好適には、ＲｆはＲｇと同じである。
【００９７】
更に、ＲｆとＲｇが一緒に結合して、飽和、不飽和または芳香族の単環式または多環式の、炭素環式またはヘテロ環式の基、好適には、少なくとも２つの環が２個の炭素原子が共有されていることを意味する二環式の炭素環式またはヘテロ環式の基を表すこともできる。多環式化合物の場合、各環の炭素原子の個数は、好適には３個から６個までの範囲である。
【００９８】
ＲｆとＲｇが結合して、それらを担持する炭素原子と共に、３個から２０個の原子を包含する飽和または不飽和の、単環式または多環式の炭素環式またはヘテロ環式の基、好適にはシクロヘキサンタイプの環を構成することもできる。
【００９９】
以下の環式の基を基Ψの例示として挙げることができる。
【０１００】
【化２３】
2005513113.tif 000026
【０１０１】
特に有利な化合物は、一般式（Ｆ２）を有していて、その式中：
・ＲｆおよびＲｇの両者はフェニルまたはナフチル基を表しており；
・ＲｆとＲｇが一緒に結合して、それらを担持する炭素原子と共に、シクロヘキサンなどの環を構成している。
【０１０２】
式（Ｆ３）において、Ａｒ１およびＡｒ２は共に芳香族の基を表しており、その芳香族の基は、６個から１２個の炭素原子を包含する炭素環、または、５個から１２個の原子を包含するヘテロ環であってよい。
【０１０３】
本発明の以下の説明において、「芳香族」という用語は、文献、特に、Ｊ．Ｍａｒｃｈによる「Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」、第４版、Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ、１９９２、ｐｐ．４０ｆｆで定義されている通りの芳香属性に関する通常の概念を意味している。
【０１０４】
本発明の文脈内において、芳香族誘導体は、単環式または多環式であってよい。
【０１０５】
単環式誘導体の場合、その誘導体は、その環に、窒素、リン、イオウ、および酸素原子から選択される１つまたはそれ以上ヘテロ原子を含んでいてよい。一つの好適な態様は、水素原子で置換されていない窒素原子を使用する。
【０１０６】
本発明において使用するのに適した単環式のヘテロ芳香族誘導体の例証的な例として、ピリジン、ピリミジン、ピリダジン、およびピラジン誘導体を挙げることができる。
【０１０７】
それらの芳香族誘導体の炭素原子は置換されていてもよい。芳香環に存在する２つの隣り合った置換基は、それらの担持する炭素原子と共に、炭化水素環、好適には芳香環を形成していてもよく、且つ、必要な場合には、その環は少なくとも１つのヘテロ原子を含んでいてよい。したがって、この芳香族誘導体は多環式誘導体である。
【０１０８】
このタイプの化合物の例証的な例として、ナフタレン誘導体、キノリン誘導体、およびイソキノリン誘導体を挙げることができる。
【０１０９】
一般式（Ｆ３）を有する化合物の代表的な例として、その式中のＡｒ１およびＡｒ２が共に、ジフェニル−２，２’−ジイル基から誘導される基またはジナフチル−２，２’−ジイル基のいずれかを形成する化合物を特に挙げることができる。
【０１１０】
以下の環式の基が、基Ψの例証的な例を構成する：
【０１１１】
【化２４】
2005513113.tif 000027
【０１１２】
式（Ｉｅ１）または（Ｉｅ２）を有する配位子は既知の生成物である。
【０１１３】
それらの配位子は：
・以下の式を有するアルデヒドまたはケトン：
【０１１４】
【化２５】
2005513113.tif 000028
［・式（ＩＩａ１）または（ＩＩａ２）において、ＲａおよびＲｂは、式（Ｉａ１）または（Ｉａ２）で与えられている意味を有している］；
を、
・ジアミンまたは式（ＩＩｅ３）を有する化合物：
Ｈ２Ｎ−Ψ−ＮＨ２  （ＩＩｅ３）
［・式（ＩＩｅ３）において、Ψは、式（Ｉｅ１）もしくは（Ｉｅ２）で与えられている意味を有しており、基−ＨＮ−ＣＯ−ＮＨ−、または、一般式（Ｆ２）もしくは（Ｆ３）を有する骨格を表している］；
と反応させることにより得られる。
【０１１５】
本発明のプロセスにおいて使用される好適な四座タイプの配位子は、サリチルアルデヒド残基のヒドロキシル基に担持された酸素原子を含む。それらの配位子は、好適には、サリチルアルデヒドを尿素、１，２−シクロヘキサンジアミン、または１，２−ジフェニルエチレンジアミン、エチレンジアミンと反応させることによりもたらされる。
【０１１６】
好適な配位子の例が以下に与えられている：
【０１１７】
【化２６】
2005513113.tif 000029
【０１１８】
言及されている配位子のうち、好適な配位子は、サリチルアルデヒド残基を含む配位子である。
【０１１９】
より詳細には、好適な配位子は、オキシムまたはヒドラゾンタイプの配位子である。
【０１２０】
本発明のプロセスにおいて使用されるそれらの種々の異なる配位子は、既知の生成物である。
【０１２１】
それらの量は、触媒の金属元素Ｍ、好適には銅の量の関数である。
【０１２２】
一般的には、その量は、配位子のモル数と金属のモル数との比が２から１までの範囲にあるような量である。
【０１２３】
この配位子は、触媒金属元素を供給する化合物と同時に導入されてよいことに留意すべきである。しかし、本発明は、触媒金属元素Ｍを供給する化合物と配位子とを反応させ、その後、単離することにより、金属錯体を前もって調製する場合も包含する。
【０１２４】
この配位金属錯体の反応も、本発明の反応、より詳細にはアリール化反応を触媒することができる。
【０１２５】
この錯体は、反応の開始時に配位子と金属元素を別々に加えることにより、反応前または反応中における準備なしで、即ち、その場で調製されてよい。
【０１２６】
本発明のプロセスは多数の求核化合物に関与し、例証のため、以下に幾つかの例が与えられているが、それらの例は決して限定的なものではない。
【０１２７】
本発明のプロセスが適用可能な第一のカテゴリーの基質は、有機的な窒素−含有誘導体、より詳細には第一級または第二級アミン；ヒドラジンまたはヒドラゾン誘導体；アミド；スルホンアミド；尿素誘導体、またはヘテロ環式誘導体、好適には窒素−含有及び／又はイオウ−含有ヘテロ環式誘導体により形成される。
【０１２８】
より精確には、第一級または第二級アミンは、次の一般式：
Ｒ１Ｒ２ＮＨ  （ＩＩＩａ）
［式（ＩＩＩａ）において：
・Ｒ１、Ｒ２は、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、水素原子を表し、もしくは、式（Ｉａ１）および（Ｉａ２）のＲａ及びＲｂに対して与えられている意味を有しており；
・Ｒ１およびＲ２のうちの多くても一つが水素原子を表す］
で表すことができる。
【０１２９】
好適なアミンは、式（ＩＩＩａ）を有していて、その式中のＲ１、Ｒ２は、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、Ｃ１からＣ１５までのアルキル基、好適にはＣ１からＣ１０までのアルキル基、Ｃ３からＣ８までのシクロアルキル基、好適にはＣ５またはＣ６のシクロアルキル基、またはＣ６からＣ１２までのアリールもしくはアリールアルキル基を表している。
【０１３０】
Ｒ１およびＲ２のより詳細な例として、Ｃ１からＣ４までのアルキル基、フェニル、ナフチルまたはベンジル基を挙げることができる。
【０１３１】
式（ＩＩＩａ）を有するアミンのより詳細な例として、アニリン、Ｎ−メチルアニリン、ジフェニルアミン、ベンジルアミン、およびジベンジルアミンを挙げることができる。
【０１３２】
アミノ基はアニオンの形態であってよいことに留意すべきである。対イオンは、金属カチオン、好適にはアルカリ金属カチオン、より好適にはナトリウムまたはカリウムである。そのような化合物の例として、ナトリウムまたはカリウムアミドを挙げることができる。
【０１３３】
本発明のプロセスにおいて使用することができる他の求核化合物は、式（ＩＩＩｂ）、（ＩＩＩｃ）、または（ＩＩＩｄ）を有するヒドラジン誘導体である：
ＮＨ２−ＮＨ−ＣＯＯＲ３  （ＩＩＩｂ）
ＮＨ２−ＮＨ−ＣＯＲ４  （ＩＩＩｃ）
ＮＨ２−Ｎ＝ＣＲ５Ｒ６  （ＩＩＩｄ）
式（ＩＩＩｂ）から（ＩＩＩｄ）までにおいて：
・Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６は、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、式（ＩＩＩａ）のＲ１およびＲ２に対して与えられている意味を有している。
【０１３４】
基Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６は、より詳細には、Ｃ１からＣ１５までのアルキル基、好適にはＣ１からＣ１０までのアルキル基、Ｃ３からＣ８までのシクロアルキル基、好適にはＣ５またはＣ６のシクロアルキル基、またはＣ６からＣ１２までのアリールもしくはアリールアルキル基を表している。
【０１３５】
式（ＩＩＩｂ）から（ＩＩＩｄ）までにおいて、Ｒ３は、好適にはテルチオブチル基を表し、Ｒ４はメチルまたはフェニル基を表し、Ｒ５、Ｒ６はフェニル基を表している。
【０１３６】
本発明は、アミドタイプの化合物、より詳細には式（ＩＩＩｅ）を有する化合物も包含する：
Ｒ７−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ８  （ＩＩＩｅ）
式（ＩＩＩｅ）において、Ｒ７およびＲ８は、式（ＩＩＩａ）のＲ１およびＲ２に対して与えられている意味を有している。
【０１３７】
式（ＩＩＩｅ）を有する化合物の例として、オキサゾリジン−２−オン、ベンズアミド、およびアセトアミドを挙げることができる。
【０１３８】
本発明は、スルホンアミドタイプの化合物にも適用することができる。
【０１３９】
それらの化合物は、以下の式を有することができる：
Ｒ９−ＳＯ２−ＮＨ−Ｒ１０  （ＩＩＩｆ）
式（ＩＩＩｆ）において、Ｒ９およびＲ１０は、式（ＩＩＩａ）のＲ１およびＲ２に対して与えられている意味を有している。
【０１４０】
式（ＩＩＩｆ）を有する化合物の例として、トシルヒドラジドを挙げることができる。
【０１４１】
他のタイプの求核基質として、式（ＩＩＩｇ）：
【０１４２】
【化２７】
2005513113.tif 000030
［式（ＩＩＩｇ）において、基Ｒ１１は、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、式（ＩＩＩａ）のＲ１およびＲ２に対して与えられている意味を有している］
で表され得るグアニジンなどの尿素誘導体を挙げることができる。
【０１４３】
式（ＩＩＩｇ）を有する化合物の例として、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルグアニジンを挙げることができる。
【０１４４】
本発明のプロセスにおいて使用するのに非常に適した求核基質は、少なくとも１つの求核原子、例えば窒素、イオウまたはリン原子などを含むヘテロ環式誘導体である。
【０１４５】
より詳細には、それらの基質は、次の一般式（ＩＩＩｈ）：
【０１４６】
【化２８】
2005513113.tif 000031
［式（ＩＩＩｈ）において：
・Ａは、炭素原子のうちの１つが少なくとも１つの求核原子、例えば窒素、イオウ、またはリン原子などによって置換されている、単環式または多環式の、芳香族または非芳香族のヘテロ環系のすべてまたは一部を形成している環の残基を表しており；
・Ｒ１２は、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、その環における置換基を表しており；
・ｎは、その環における置換基の個数を表している］
を有している。
【０１４７】
本発明は、式中のＡが一つの飽和もしくは不飽和または芳香族のヘテロ環を表し、特にその環に５個または６個の原子を包含し、および、おそらく１個または３個のヘテロ原子、例えば窒素、イオウ、または酸素などであって、そのうちの少なくとも１つがＮＨまたはＳなどの求核原子であるヘテロ原子も包含するヘテロ環を表す、式（ＩＩＩｈ）を有する単環式のヘテロ環式化合物に適用することができる。
【０１４８】
また、Ａは、各環に少なくとも１つのヘテロ原子を包含し、および、それらの間でオルト−縮合系もしくはオルト−およびペリ縮合系を形成する少なくとも２つの芳香族または非芳香族のヘテロ環により構成されているものとして定義される多環式のヘテロ環式化合物、または、それらの間でオルト−縮合系もしくはオルト−およびペリ−縮合系を形成する少なくとも１つの芳香族または非芳香族の炭素環と少なくとも１つの芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環とにより構成されている基を表すことができる。
【０１４９】
上述のような飽和、不飽和、または芳香族のヘテロ環と飽和、不飽和、または芳香族の炭素環との連鎖に由来する基質から始めることもできる。「炭素環」という用語は、好ましくは、３個から８個、好適には６個の炭素原子を包含する脂環式または芳香族の環を意味している。
【０１５０】
このへテロ環の炭素原子は、基Ｒ１２で完全にもしくは部分的に場合によって置換されていてよいことに留意すべきである。
【０１５１】
この環に存在する置換基の個数は、この環の原子の個数、および、この環における不飽和結合の存在ないしは他の状況に依存する。
【０１５２】
この環によって担持され得る置換基の最大の個数は、当業者であれば容易に決定することができる。
【０１５３】
式（ＩＩＩｈ）において、ｎは４かそれ以下の数であり、好適には０または１である。
【０１５４】
置換基の例が以下に与えられているが、このリストは決して限定的なものではない。
【０１５５】
基Ｒ１２は、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、好適には、以下の基のうちの１つを表している：
・線状または分枝状のＣ１からＣ６までのアルキル基、好適にはＣ１からＣ４までの炭素原子のアルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチルまたはｔｅｒｔ−ブチルなど；
・線状または分枝状のＣ２からＣ６までのアルケニルまたはアルキニル基、好適にはＣ２からＣ４までのアルケニルまたはアルキニル基、例えばビニルまたはアリルなど；
・線状または分枝状のＣ１からＣ６までのアルコキシまたはチオエーテル基、好適にはＣ１からＣ４までのアルコキシまたはチオエーテル基、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、またはブトキシなど、もしくは、アルケニルオキシ基、好適にはアリルオキシまたはフェノキシ基；
・シクロヘキシル、フェニル、またはベンジル基；
・例えば：ヒドロキシル、チオール、カルボキシル、エステル、アミド、ホルミル、アシル、アロイル、アミド、尿素、イソシアナート、チオイソシアナート、ニトリル、窒化物、ニトロ、スルホン、スルホン系、ハロゲン、シュードハロゲンまたはトリフルオロメチルなど；の基または官能基。
【０１５６】
本発明は、特に、式中の基Ｒ１２がより特定的にアルキルまたはアルコキシ基を表す式（ＩＩＩｈ）を有する化合物に適用することができる。
【０１５７】
より詳細には、場合によって置換されている残基Ａは、以下の環のうちの一つを表す：
【０１５８】
・１つもしくはそれ以上のヘテロ原子を包含した単環式のヘテロ環：
【０１５９】
【化２９】
2005513113.tif 000032
2005513113.tif 000033
【０１６０】
・一つの炭素環と１つもしくはそれ以上のヘテロ原子を包含した一つのヘテロ環とを含む二環；
【０１６１】
【化３０】
2005513113.tif 000034
【０１６２】
・少なくとも一つの炭素環もしくは１つもしくはそれ以上のヘテロ原子を包含したヘテロ環を含む三環；
【０１６３】
【化３１】
2005513113.tif 000035
【０１６４】
ヘテロ環式化合物の好適な例は、式中のＡが一つの環を表す式（ＩＩＩｈ）を有する化合物であって、例えば：イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピラジン、オキサジアゾール、オキサゾール、テトラゾール、インドール、ピロール、フタラジン、ピリダジン、またはオキサゾリジン；などである。
【０１６５】
本発明のプロセスにおいて使用することができる求核化合物の例として、以下の式で表されるアルコールまたはチオールタイプの化合物も挙げることができる：
Ｒ１３−Ｚ  （ＩＩＩｉ）
式（ＩＩＩｉ）において：
・Ｒ１３は、１個から２０個の原子を包含した炭化水素基を表し、および式（ＩＩＩａ）のＲ１またはＲ２に対して与えられている意味を有しており；
・ＺはＯＭ１またはＳＭ１タイプの基を表していて、その式中のＭ１は、水素原子、または金属カチオン、好適にはアルカリ金属カチオンを表している。
【０１６６】
好適な化合物は、式中のＲ１３が１個から２０個の炭素原子を包含した炭化水素基を表す式（ＩＩＩｉ）を有しており、その炭化水素基は、線状または分枝状の、飽和または不飽和の非環式脂肪族の基；単環式または多環式の、飽和、不飽和もしくは芳香族の、炭素環式またはヘテロ環式の基；または、それらの基の連鎖であってよい。
【０１６７】
より詳細には、Ｒ１３は、好ましくは、線状または分枝状の、飽和した非環式の、好適には１個から１２個の炭素原子を包含し、より好適には１個から４個の炭素原子を包含する脂肪族の基を表している。
【０１６８】
また、本発明は、その炭化水素鎖に、共役であってもよいし、共役でなくてもよい１つもしくはそれ以上の二重結合、または、一つの三重結合などの不飽和結合の存在も包含する。
【０１６９】
式（Ｉａ１）または（Ｉａ２）で定義されているＲａに対して説明されているように、この炭化水素鎖は、場合によっては、ヘテロ原子または官能基で中断されていてよく、あるいは、１つもしくはそれ以上の置換基を担持していてもよい。
【０１７０】
式（ＩＩＩｉ）において、Ｒ１３は、また、飽和または不飽和の炭素環式の基、好適には、その環に５個または６個の炭素原子を包含した炭素環式の基；１個または２個のヘテロ原子、例えば窒素、イオウ、酸素またはリン原子などを含め、その環に５個または６個の炭素原子を包含した飽和または不飽和のヘテロ環式の基；単環式の芳香族のヘテロ環式炭素環式の基、好適には、フェニル、ピリジル、フリル、ピランニル、チオフェニル、チエニル、ホスホリル、ピラゾリルまたはイミダゾリル、ピロリル、または、縮合されていてもよいし、縮合されていなくてもよい多環式の芳香族のヘテロ環式、炭素環式の基、好適にはナフチルを表すこともできる。
【０１７１】
Ｒ１３が環を含んでいるときには、この環も置換されていてよい。置換基の性状は、この置換基が主要な反応を妨害さえしなければ、重要でない。置換基の個数は、一般的には、１つの環当たり、多くても４個であり、通常は１個または２個である。式（ＩＩＩｈ）におけるＲ１２の定義を参照のこと。
【０１７２】
また、本発明は、Ｒ１３が脂肪族及び／又は環式、炭素環式及び／又はヘテロ環式の基の連鎖を含んでいる場合も包含する。
【０１７３】
一つの非環式脂肪族の基が、共有結合、ヘテロ原子、または官能基、例えばオキシ、カルボニル、カルボキシスルホニルなどを介して、環に結合されていてよい。
【０１７４】
より具体的な基は、シクロアルキルアルキル、例えばシクロヘキシルアルキル、または、７個から１２個の炭素原子を包含するアラルキル基、特にはベンジルまたはフェニルエチルである。
【０１７５】
更に、本発明は、炭素環式及び／又はヘテロ環式の基の連鎖、より詳細には、共有結合、または、原子または官能基Ｇ、例えば：酸素、イオウ、スルホ、スルホニル、カルボニル、カルボニルオキシ、イミノ、カルボニルイミノ、ヒドラゾまたはアルキレン（Ｃ１−Ｃ１０、好適にはＣ１）−ジイミノ；などにより分離されたフェニル基の連鎖も包含する。
【０１７６】
線状または分枝状の、飽和または不飽和の非環式脂肪族の基は、場合によっては、環式の置換基を担持することができる。この「環」という用語は、飽和、不飽和、もしくは芳香族の炭素環式またはヘテロ環式の環を意味している。
【０１７７】
式（ＩＩＩｉ）を有する好適な化合物は、一般式（ＩＩＩｉ１）：
【０１７８】
【化３２】
2005513113.tif 000036
［式中：
・Ｂは、単環式または多環式の芳香族炭素環式の基の残基、または２つもしくはそれ以上の単環式芳香族炭素環式の基の連鎖により構成された二価の基の残基を表しており；
・Ｒ１４は、１つもしくはそれ以上の置換基を表していて、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく；
・ＺはＯＭ１またはＳＭ１基を表していて、その式中のＭ１は、水素原子、または金属カチオン、好適にはアルカリ金属カチオンを表しており；
・ｎ’は、５もしくはそれ以下の数である］
を有している。
【０１７９】
置換基Ｒ１４の例は、式（ＩＩＩｈ）で定義されているＲ１２に対する例を参照することにより見出すことができる。
【０１８０】
式（ＩＩＩｉ１）を有する更に詳細な化合物は、式中の残基（Ｂ）が以下のものを表す化合物である：
・それらの環が一緒になって、式（Ｆ４）を有するオルト−縮合系を形成することができる複数の環を伴う、単環式または多環式の芳香族炭素環式の基：
【０１８１】
【化３３】
2005513113.tif 000037
［式（Ｆ４）において、ｍは０、１、または２を表しており、記号Ｒ１４およびｎ’は、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、上で与えられている意味を有している］；
・式（Ｆ５）を有する２つもしくはそれ以上の単環式の芳香族炭素環式の基の連鎖により構成される基：
【０１８２】
【化３４】
2005513113.tif 000038
［式（Ｆ５）において、記号Ｒ１４およびｎ’は、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、上で与えられている意味を有しており、ｐは０、１、２または３であり、ｗは、共有結合、Ｃ１からＣ４までのアルキレンまたはアルキリデン基、好適にはメチレン基もしくはイソプロピリデン基、またはＧなどの官能基を表している］。
【０１８３】
式（ＩＩＩｉ）を有する好適な化合物は、式（Ｆ４）及び（Ｆ５）を有していて、その式中：
・Ｒ１４は、水素原子、ヒドロキシル基、−ＣＨＯ基、−ＮＯ２基、または、１個から６個の炭素原子を包含した線状もしくは分枝状のアルキルもしくはアルコキシ基、好適には１個から４個の炭素原子を包含したアルキルもしくはアルコキシ基、より好適にはメチル、エチル、メトキシもしくはエトキシを表しており；
・ｗは、共有結合、１個から４個の炭素原子を包含したアルキレンもしくはアルキリデン基、または酸素原子を表しており；
・ｍは０または１であり；
・ｎ’は０、１、または２であり；
・ｐは０または１である。
【０１８４】
式（ＩＩＩｉ）を有する化合物の例証的な例として、特に以下のものを挙げることができる：
・式中の残基Ｂが式（Ｆ４）を有しており、式（Ｆ４）中のｍおよびｎ’が０であるフェノールまたはチオフェノールなどの化合物；
・式中の残基Ｂが式（Ｆ４）を有しており、式（Ｆ４）中のｍが０であって、ｎ’が１であるヒドロキノン、ピロカテキン、レゾルシン、アルキルフェノール、アルキルチオフェノール、アルコキシフェノール、サリチルアルデヒド、ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒド、サリチル酸メチル、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチルエステル、クロロフェノール、ニトロフェノールまたはｐ−アセトアミドフェノールなどの化合物；
・式中の残基Ｂが式（Ｆ４）を有しており、式（Ｆ４）中のｍが０であって、ｎ’が２であるジアルキルフェノール、バニリン、イソバニリン、２−ヒドロキシ−５−アセトアミドベンズアルデヒド、２−ヒドロキシ−５−プロピオンアミドベンズアルデヒド、４−アリルオキシベンズアルデヒド、ジクロロフェノール、メチルヒドロキノンまたはクロロヒドロキノンなどの化合物；
・式中の残基Ｂが式（Ｆ４）を有しており、式（Ｆ４）中のｍが０であって、ｎ’が３である４−ブロモバニリン、４−ヒドロキシバニリン、トリアルキルフェノール、２，４，６−トリニトロフェノール、２，６−ジクロロ−４−ニトロフェノール、トリクロロフェノール、ジクロロヒドロキノンまたは３，５−ジメトキシ−４−ベンズアルデヒドなどの化合物；
・式中の残基Ｂが式（Ｆ４）を有しており、式（Ｆ４）中のｍが１であって、ｎ’が１もしくはそれ以上であるジヒドロキシナフタレン、４−メトキシ−１−ナフトールまたは６−ブロモ−２−ナフトールなどの化合物；
・式中の残基Ｂが式（Ｆ５）を有しており、式（Ｆ５）中のｐが１であって、ｎ’が１もしくはそれ以上である２−フェノキシフェノール、３−フェノキシフェノール、フェニルヒドロキノン、４，４’−ジヒドロキシビフェニール、イソプロピリデン、４，４’−ジフェノール（ビスフェノールＡ）、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシドまたはテトラブロモビスフェノールＡなどの化合物。
【０１８５】
本発明のプロセスにおいて使用することができる他の求核化合物は、求核炭素を包含した炭化水素誘導体である。
【０１８６】
より詳細な例は、−ＯＯＣ−ＨＣ−−ＣＯＯ基を包含したマロナートタイプのアニオンである。
【０１８７】
式（ＩＩＩｊ）を有するアルキルマロナートアニオンを例として挙げることができる：
Ｒ１５−ＯＯＣ−Ｃ−（Ｒ１５”）−ＣＯＯ−Ｒ１５’  （ＩＩＩｊ１）
Ｒ１５−ＯＯＣ−Ｃ−（Ｒ１５”）−ＣＮ  （ＩＩＩｊ２）
式（ＩＩＩｊ１）および（ＩＩＩｊ２）において：
・Ｒ１５およびＲ１５’は、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、そのアルキル基に１個から１２個の原子、好適には１個から４個の原子を包含したアルキル基を表しており；
・Ｒ１５”は、以下のものを表している：
水素原子；
１個から１２個の炭素原子を包含したアルキル基；
５個または６個の炭素原子を包含したシクロアルキル基；
１つもしくはそれ以上の１個から４個の炭素原子を包含するアルキル基または１個もしくは４個の炭素原子を包含するアルコキシ遊離基で置換された、５個または６個の炭素原子を包含するシクロアルキル基；
フェニル基；
１つもしくはそれ以上の、１個から４個の炭素原子を包含するアルキル基または１個から４個の炭素原子を包含するアルコキシ基で置換されたフェニル基、または、１つもしくはそれ以上のハロゲン原子で置換されたフェニル基；
それの脂肪族部分が１個から６個の炭素原子を包含したフェニルアルキル基。
【０１８８】
ＮＣ−Ｃ−（Ｒ１５”）−ＣＮ基を包含したマロジニトリルタイプのアニオンも例として挙げることができ、その式中のＲ１５”は、上で与えられている意味を有している。
【０１８９】
次の式（ＩＩＩｋ）で表されるニトリルタイプの化合物も使用することができ：
Ｒ１６−ＣＮ  （ＩＩＩｋ）
その式中のＲ１６は、どんな性状のものであってもよく、Ｒ１に対して与えられている意味を有しており、また、金属カチオン、好適にはアルカリカチオン、より好適にはリチウム、ナトリウムまたはカリウムも表す。
【０１９０】
Ｒ１６は、Ｒ１に対して与えられている意味を有している。
【０１９１】
これらのニトリルの例として、アセトニトリル、場合によってはそのベンゼン環に１つもしくはそれ以上の置換基を担持したシアノベンゼン、またはエタナールシアンヒドリンＣＨ３ＣＨ（ＯＨ）ＣＮを挙げることができる。
【０１９２】
また、アセチレニドタイプの化合物も本発明のプロセスにおいて使用することができる。
【０１９３】
これらの化合物は、次の式（ＩＩＩｍ）で表すことができ：
【０１９４】
【化３５】
2005513113.tif 000039
【０１９５】
その式中のＲ１７は、どんな性状のものであってもよく、且つ、その対イオンは、金属カチオン、好適にはナトリウムまたはカリウム原子である。
【０１９６】
Ｒ１７は、Ｒ１に対して与えられている意味を有している。
【０１９７】
詳細な例として、アセチレン化または二アセチレン化ナトリウムまたはカリウムを挙げることができる。
【０１９８】
本発明のプロセスにおいて使用することができる他のクラスの求核化合物の例として、以下の式により表されるプロフェンタイプの化合物並びにそれらの誘導体を挙げることができ：
Ｒ１８−ＨＣ−−ＣＯＯ−Ｒ１９  （ＩＩＩｎ）
式中：
・Ｒ１８は、Ｒ１に対して与えられている意味を有しており；
・Ｒ１９は、そのアルキル基に１個から１２個の原子、好適には１個から４個の原子を包含したアルキル基を表している。
【０１９９】
好適な化合物は、式（ＩＩＩｎ）を有していて、式中のＲ１８が、１個から１２個の炭素原子を包含したアルキル基、５個もしくは６個の炭素原子を包含したシクロアルキル基、および６個もしくは１２個の炭素原子を包含したアリール基、または、５個または６個の原子を包含した窒素−含有ヘテロ環を表している化合物である。
【０２００】
本発明のプロセスにおいて使用することができる更なるカテゴリーの求核剤は、種々のアミノ酸並びにそれらの誘導体により形成され：
【０２０１】
【化３６】
2005513113.tif 000040
式中：
・ＲＡＡは、アミノ酸の残基、好適には水素原子、場合によっては官能基を担持した線状または分枝状のＣ１からＣ１２までのアルキル基、Ｃ６からＣ１２までのアリール基もしくはアリールアルキル基、または官能基、好適にはヒドロキシル基を表しており；
・Ｒ２０およびＲ２１は、式（ＩＩＩａ）においてＲ１およびＲ２に対して与えられた意味を有しており；
・Ｒｈは、水素原子、金属カチオン、好適にはアルカリ金属カチオン、または、１個から１２個の炭素原子を包含した炭化水素基、好適にはＣ１からＣ１２までのアルキル基を表している。
【０２０２】
式（ＩＩＩｏ）において、ＲＡＡは、官能基を担持していてよいアルキル基を表しており、それらの例として、−ＯＨ、−ＮＨ２、−ＣＯ−ＮＨ２、−ＮＨ−ＣＨＮ−、−ＨＮ−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ２、−ＣＯＯＨ、−ＳＨ、−Ｓ−ＣＨ３基、またはイミダゾール、ピロール、またはピラゾール基を挙げることができる。
【０２０３】
アミノ酸の例として、グリシン、システイン、アスパラギン酸、グルタミン酸およびヒスチジンを挙げることができる。
【０２０４】
求核化合物の例として、その対イオンが金属であり、且つ、以下の式を有するカルボアニオンを含む化合物も挙げることができ：
【０２０５】
【化３７】
2005513113.tif 000041
式中：
・基Ｒ２２は、以下のものを表し：
１個から１２個の炭素原子を包含したアルキル基；
５個または６個の炭素原子を包含したシクロアルキル基；
１つもしくはそれ以上の、１個から４個の炭素原子を包含するアルキル基または１個もしくは４個の炭素原子を包含するアルコキシ遊離基で置換された、５個または６個の炭素原子を包含するシクロアルキル基；
それの脂肪族部分が１個から６個の炭素原子を包含するフェニルアルキル基；
フェニル基；
１つもしくはそれ以上の、１個から４個の炭素原子を包含するアルキル基または１個から４個の炭素原子を包含するアルコキシ遊離基で置換されたフェニル基、または、１つもしくはそれ以上のハロゲン原子で置換されたフェニル基；
飽和、不飽和、もしくは芳香族のヘテロ環式の基であって、好適には、イオウ、酸素、または窒素であるヘテロ原子と共に５個または６個の原子を包含したヘテロ環式の基；
・基Ｒ２２’およびＲ２２”は、水素原子、またはＲ２２のような基を表しており；
・基Ｒ２２、Ｒ２２’、およびＲ２２”のうちの２つは、一緒に結合して、好適には５個または６個の炭素原子を包含した炭素環、または、飽和、不飽和もしくは芳香族のヘテロ環を形成していてよく；
・Ｍ２は、周期表の（ＩＡ）族からの金属元素を表しており；
・Ｍ３は、周期表の（ＩＩＡ）、（ＩＩＢ）族からの金属元素を表しており；
・Ｘ１は、塩素または臭素原子を表しており；
・ｖは、金属Ｍ３の原子価であり；
・ｗは０または１である。
【０２０６】
本明細書において、以下で為される周期表への参照は、Ｂｕｌｌｅｔｉｎ  ｄｅ  ｌａ  Ｓｏｃｉｅｔｅ  Ｃｈｉｍｉｑｕｅ  ｄｅ  Ｆｒａｎｃｅ，ｎ゜１（１９６６）において発表されている周期表への参照である。
【０２０７】
式（ＩＩＩｐ１）から（ＩＩＩｐ３）までを有する好適な化合物は、それらの金属がリチウム、ナトリウム、マグネシウムまたは亜鉛であり、Ｘ１が塩素原子を表す化合物を含む。
【０２０８】
基Ｒ２２、Ｒ２２’、およびＲ２２”は、有利には、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、シクロヘキシルまたはフェニル基であり；あるいは、それらの基が、ベンゼンまたはピリジンまたはチオフェン環を形成することもできる。
【０２０９】
例として、ｎ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、フェニルリチウム、メチル−またはエチル−またはフェニル−マグネシウム臭化物または塩化物、ジフェニルマグネシウム、ジメチルまたはジエチル亜鉛、シクロペンタジエン亜鉛、および、エチル亜鉛塩化物または臭化物を挙げることができる。
【０２１０】
それ以外の他の性状を有する求核化合物の例として、リンまたはリン−並びに窒素−含有化合物、より詳細には、以下の式を有する化合物を挙げることができ：
・式（Ｒ２３）２−Ｐ−を有するリン化物  （ＩＩＩｑ）
・式（Ｒ２３）３−Ｐ−を有するホスフィン  （ＩＩＩｒ）
・式（Ｒ２３）３−Ｐ＋−Ｎ２−を有するホスホニウムジアゾイリド  （ＩＩＩｓ）
・式（Ｒ２３）３−Ｐ＋−Ｎ−−Ｒ２３を有するホスホニウムアゾイリド  （ＩＩＩｔ）
式（ＩＩＩｑ）から（ＩＩＩｔ）において、基Ｒ２３、並びに基Ｒ２４は、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく以下のものを表している：
・１個から１２個の炭素原子を包含したアルキル基；
・５個または６個の炭素原子を包含したシクロアルキル基；
・１つもしくはそれ以上の１個から４個の炭素原子を包含するアルキル遊離基または１個もしくは４個の炭素原子を包含するアルコキシ遊離基で置換された、５個または６個の炭素原子を包含するシクロアルキル基；
・それの脂肪族部分が１個から６個の炭素原子を包含するフェニルアルキル基；
・フェニル基；
・１つもしくはそれ以上の１個から４個の炭素原子を包含するアルキル遊離基または１個から４個の炭素原子を包含するアルコキシで置換されたフェニル、あるいは、１つもしくはそれ以上のハロゲン原子で置換されたフェニル。
【０２１１】
リン−含有化合物のより詳細な例として、トリシクロヘキシルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、トリイソブチルホスフィン、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、トリベンジルホスフィン、ジシクロヘキシルフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、ジエチルフェニルホスフィン、およびジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルホスフィンを挙げることができる。
【０２１２】
使用することができる他の求核化合物は、ボロン酸またはそれらの誘導体、より詳細には、以下の式を有する化合物を含む：
【０２１３】
【化３８】
2005513113.tif 000042
式中：
・Ｒ２５は、単環式または多環式の、芳香族の炭素環式またはヘテロ環式の基を表しており；
・Ｑ１、Ｑ２は、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、水素原子、１個から２０個の炭素原子を包含した線状または分枝状の、飽和または不飽和の脂肪族の基、またはＲ２５基を表している。
【０２１４】
より詳細には、そのボロン酸は式（ＩＩＩｕ）を有していて、式中の基Ｒ２５が芳香族の炭素環式またはヘテロ環式の基を表している。Ｒ２５は、式（ＩＩＩｉ１）のＢに対して上で与えられている意味を有することができる。しかし、Ｒ２５は、より詳細には、炭素環式の基、例えばフェニル、ナフチルなど、もしくは、ヘテロ環式の基、例えばピロリル、ピリジル、ピリミジル、ピリダジニル、ピラジニル、１，３−チアゾリル、１，３，４−チアジアゾリルまたはチエニル基などを表している。
【０２１５】
その芳香環も置換されていてよい。置換基の個数は、一般的に、一つの環当たり多くても４個であるが、通常は１個か２個である。置換基の例に関しては、式（ＩＩＩｈ）におけるＲ１２の定義を参照のこと。
【０２１６】
好適な置換基は、１個から４個の炭素原子を包含したアルキルまたはアルコキシ基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子またはトリフルオロメチル基である。
【０２１７】
Ｑ１、Ｑ２は、同じものであってもよいし、異なるものであってもよくより詳細には、水素原子、または、１個から２０個の炭素原子を包含した線状もしくは分枝状の非環式脂肪族の基を表し、その脂肪族の基は、飽和していてもよいし、または、その鎖に１つもしくはそれ以上の不飽和結合、好適には１個から３個の不飽和結合、好適には単純もしくは共役の二重結合を含んでいてもよい。
【０２１８】
Ｑ１、Ｑ２は、好ましくは、１個から１０個の炭素原子、好適には１個から４個の炭素原子を包含したアルキル基、または、２個から１０個の炭素原子を包含したアルケニル基、好適にはビニルもしくは１−メチルビニル基を表している。
【０２１９】
また、Ｑ１、Ｑ２は、Ｒ２４に対して与えられている意味を有することができる；詳細には、どの環も、上で述べられているような置換基を担持していてもよい。
【０２２０】
好適には、Ｒ２５はフェニル基を表している。
【０２２１】
本発明の範囲は、ボロン酸の誘導体、例えば無水物およびエステル、より詳細には１個から４個の炭素原子を包含したアルキルエステルなどを含む。
【０２２２】
アリールボロン酸の詳細な例として以下のものを挙げることができる：ベンゼンボロン酸、２−チオフェンボロン酸；３−チオフェンボロン酸；４−メチルベンゼンボロン酸、３−メチルチオフェン−２−ボロン酸、３−アミノベンゼンボロン酸、３−アミノベンゼンボロン酸ヘミスルファート、３−フルオロベンゼンボロン酸、４−フルオロベンゼンボロン酸、ホルミルベンゼンボロン酸、３−ホルミルベンゼンボロン酸、４−ホルミルベンゼンボロン酸、２−メトキシベンゼンボロン酸、３−メトキシベンゼンボロン酸、４−メトキシベンゼンボロン酸、４−クロロベンゼンボロン酸、５−クロロチオフェン−２−ボロン酸、ベンゾ［ｂ］フラン−２−ボロン酸、４−カルボキシベンゼンボロン酸、２，４，６−トリメチルベンゼンボロン酸、３−ニトロベンゼンボロン酸、４−（メチルチオ）ベンゼンボロン酸、１−ナフタレンボロン酸、２−ナフタレンボロン酸、２−メトキシ−１−ナフタレンボロン酸、３−クロロ−４−フルオロベンゼンボロン酸、３−アセトアミドベンゼンボロン酸、３−トリフルオロメチルベンゼンボロン酸、４−トリフルオロメチルベンゼンボロン酸、２，４−ジクロロベンゼンボロン酸、３，５−ジクロロベンゼンボロン酸、３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンボロン酸、４，４’−ビフェニルジボロン酸、およびそれらの酸のエステル並びに無水物。
【０２２３】
本明細書は求核化合物のリストを開示しているが、それらの化合物は決して限定的なものではなく、あらゆるタイプの求核化合物を想定することができる。
【０２２４】
本発明のプロセスによれば、求核化合物を、脱離基に対してα位置に不飽和結合を包含した化合物と反応させることにより、−Ｃ−Ｃまたは−Ｃ−Ｎｕ−（Ｏ、Ｓ、Ｐ、Ｎ、Ｓｉ、Ｂ．．．）結合を創出することができる。
【０２２５】
より詳細には、そのような化合物は、脱離基Ｙを包含した次の式（ＩＶ）：
Ｒ０−Ｙ  （ＩＶ）
［・式中、Ｒ０は、２個から２０個の炭素原子を包含した炭化水素基を表しており、脱離基Ｙに対してα位に位置した二重結合もしくは三重結合を有しており、または、単環式もしくは多環式の芳香族の炭素環式及び／又はヘテロ環式の基を有している］
により表される化合物である。
【０２２６】
本発明のプロセスによれば、式（ＩＩＩ）を有する化合物が、式（ＩＶ）を有し、その式（ＩＶ）中：
・Ｒ０が、脱離基に対してα位置に二重結合もしくは三重結合を包含した脂肪族の炭化水素基、または、脱離基を担持した不飽和結合を包含する環式の炭化水素基を表し；
・Ｒ０が、単環式または多環式の芳香族の炭素環式及び／又はヘテロ環式の基を表し；
・Ｙが、脱離基、好適にはハロゲン原子または式−ＯＳＯ２−Ｒｅ［式中、Ｒｅは炭化水素基である］を有するスルホン酸エステル基を表す；
化合物と反応させられる。
【０２２７】
式（ＩＶ）を有する化合物を、以後、「脱離基担持化合物」と呼ぶ。
【０２２８】
上述のスルホン酸エステル基の式において、Ｒｅは、あらゆる性状の炭化水素基である。しかし、Ｙが脱離基であることを考慮すれば、経済的な観点から、Ｒｅはシンプルな性状のものであることが有利であり、より詳細には、１個から４個の炭素原子を包含した線状または分枝状のアルキル基、好適にはメチルまたはエチル基を表すことが有利であるが、例えば、フェニルまたはトリル基またはトリフルオロメチル基を表すこともできる。好適な基Ｙは、トリフルオロメチル基を表す基Ｒｅに対応するトリフラート基である。
【０２２９】
臭素または塩素原子は、好適な脱離基を構成する。
【０２３０】
より詳細には、本発明のプロセスにより使用される式（ＩＶ）を有する化合物は、以下の３つのグループに分類することができる：
・（１）次の式（ＩＶａ）で表すことができる、二重結合を担持した脂肪族タイプの化合物：
【０２３１】
【化３９】
2005513113.tif 000043
式（ＩＶａ）において：
・Ｒ２６、Ｒ２７、およびＲ２８は、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、水素原子、または、１個から２０個の炭素原子を包含した炭化水素基を表し、その炭化水素基は、線状もしくは分枝状の、飽和もしくは不飽和の脂肪族の基；単環式もしくは多環式の、飽和、不飽和もしくは芳香族の炭素環式もしくはヘテロ環式の基；または、上で定義されているような、脂肪族及び／又は炭素環式及び／又はヘテロ環式の基の連鎖を表していてよく；
・Ｙは、上で定義されている通りの脱離基を表している；
・（２）式（ＩＶｂ）により表される、三重結合を担持した脂肪族タイプの化合物：
３３／３５
式（ＩＶｂ）において：
・Ｒ２６は、式（ＩＶａ）で与えられている意味を有しており；
・Ｙは、上で定義されている通りの脱離基を表している；
・（３）次の式（ＩＶｃ）で表すことができる、以後「ハロゲノ芳香族化合物」と呼ぶ、芳香族タイプの化合物：
【０２３２】
【化４０】
2005513113.tif 000044
式中：
・Ｄは、単環式または多環式の、芳香族炭素環系及び／又はヘテロ環系のすべてまたは一部を形成する環の残基を表しており；
・Ｒ２９は、同じものであってもよいし、異なるものであってもよく、その環に存在する置換基を表しており；
・Ｙは、上で定義されている通りの脱離基を表しており；
・ｎ”は、その環に存在する置換基の個数を表している。
【０２３３】
本発明は、式中のＲ２６が、好ましくは、飽和した線状または分枝状の非環式脂肪族の基であって、好適には１個から１２個の炭素原子を包含した脂肪族の基を表す、式（ＩＶａ）および（ＩＶｂ）を有する不飽和化合物に適用することができる。
【０２３４】
本発明は、その炭化水素鎖に、更なる一つの三重結合または共役であってもよいし共役でなくてもよい１つまたはそれ以上の二重結合などの更なる不飽和結合が存在することを除外するものではない。
【０２３５】
この炭化水素鎖は、場合によっては、それが反応しないことを条件として、ヘテロ原子（例えば酸素またはイオウ）により、または、官能基により中断されていてよく；特に、この例として−ＣＯ−などの基を挙げることができる。
【０２３６】
その炭化水素鎖は、場合によっては、それらの置換基が反応条件下において反応しないことを条件として、１つもしくはそれ以上の置換基を担持していてよく；特に、そのような置換基の例として、ハロゲン原子、ニトリル基またはトリフルオロメチル基を挙げることができる。
【０２３７】
線状または分枝状の、飽和または不飽和の非環式脂肪族の基は、場合によっては、環式の置換基を担持していてよい。この「環」という用語は、飽和、不飽和または芳香族の、炭素環式またはヘテロ環式の基を意味している。
【０２３８】
この非環式脂肪族の基は、共有結合、ヘテロ原子、またはオキシ、カルボニル、カルボキシ、スルホニルなどの官能基を介して環に結合されてよい。
【０２３９】
想定され得る環式置換基の例は、脂環式、芳香族またはヘテロ環式の置換基であって、特には、その環に６個の炭素原子を包含した脂環式の置換基またはベンゼン系の置換基であり、場合によっては、それらの置換基自体が、本発明のプロセスで生じる反応を妨害しないことを条件として、何らかの置換基を担持していてよい。特に、そのような置換基の例として、１個から４個の炭素原子を包含したアルキルまたはアルコキシ基を挙げることができる。
【０２４０】
環式の置換基を担持した脂肪族の基のより詳細な例は、７個から１２個の炭素原子を包含したアラルキル基、特にはベンジルまたはフェニルエチルである。
【０２４１】
式（ＩＶａ）および（ＩＶｂ）において、Ｒ２６は、飽和していてもよいし、飽和していなくてもよい炭素環式の基、好ましくはその環に５個または６個の炭素原子を包含した炭素環式の基、好適にはシクロヘキシル；飽和していてもよいし、飽和していなくてもよいヘテロ環式の基、特には、その環に５個または６個の炭素原子を包含し、そのうちの１個または２個が窒素、イオウ、または酸素などのヘテロ原子であるヘテロ環式の基；単環式の芳香族炭素環式の基、好適にはフェニル、または、縮合されていてもよいし、縮合されていなくてもよい、多環式の芳香族炭素環式の基、好適にはナフチルを表すこともできる。
【０２４２】
Ｒ２７およびＲ２８に関して説明すると、それらは、好ましくは、水素原子、または、１個から１２個の炭素原子を包含したアルキル基もしくはフェニル基、または、７個から１２個の炭素原子を包含したアラルキル基、好適にはベンジル基を表している。
【０２４３】
式（ＩＶａ）及び／又は（ＩＶｂ）において、より詳細には、Ｒ２６、Ｒ２７、およびＲ２８は水素原子を表し、または、Ｒ２６がフェニル基を表し、Ｒ２７、Ｒ２８が水素原子を表している。
【０２４４】
式（ＩＶａ）および（ＩＶｂ）を有する化合物の例として、塩化ビニルもしくは臭化ビニル、β−ブロモ−もしくはβ−クロロスチレン、またはブロモアルキンもしくはヨードアルキンを挙げることができる。
【０２４５】
本発明は、特に、式（ＩＶｃ）を有するハロゲノ芳香族化合物であって、式中のＤが、環式化合物の残基、好ましくはその環に少なくとも４個の炭素原子、好適には５個または６個の炭素原子を包含し、場合によっては置換された、以下の環のうちの少なくとも１つを表す環式化合物の残基を表しているハロゲノ芳香族化合物に適用される：
・単環式または多環式の芳香族の炭素環、即ち、少なくとも２つの芳香族の炭素環であって、それらの間でオルト−縮合系またはオルト−およびペリ−縮合系を形成している少なくとも２つの芳香族炭素環により構成された化合物、または、少なくとも２つの炭素環であって、そのうちの１つのみが芳香族であり、および、それらの間でオルト−縮合系またはオルト−およびペリ−縮合系を形成している少なくとも２つの炭素環により構成された化合物；
・少なくとも１つのヘテロ原子Ｐ、Ｏ、Ｎ、もしくはＳを包含した単環式の芳香族へテロ環、または、多環式の芳香族へテロ環、即ち、各環に少なくとも１つのヘテロ原子を包含した少なくとも２つのヘテロ環であって、それら２つの環のうち少なくとも１つが芳香族であり、および、それらの間でオルト−縮合系またはオルト−およびにペリ−縮合系を形成している少なくとも２つのヘテロ環により構成された化合物、または、少なくとも１つの炭素環と少なくとも１つのヘテロ環であって、それらの環のうちの少なくとも１つが芳香族であり、および、それらの間でオルト−縮合系またはオルト−およびペリ−縮合系を形成している少なくとも１つの炭素環と少なくとも１つのヘテロ環により構成された化合物。
【０２４６】
より詳細には、場合によっては置換されている残基Ｄは、好適には、ベンゼンなどの芳香族の炭素環、ナフタレンなどの２つの芳香族炭素環を包含した芳香族の二環；または、テトラヒドロ−１，２，３，４−ナフタレンなどのそのうちの１つが芳香族である２つの炭素環を包含した部分的に芳香族の二環の残基を表している。
【０２４７】
また、本発明は、Ｄが、式（ＩＩＩｈ）を有する化合物よりも求電子性が高いことを条件として、ヘテロ環の残基を表し得ることも想定している。
【０２４８】
詳細な例として、フランまたはピリジンなどの芳香族のヘテロ環；ベンゾフランまたはベンゾピリジンなどの芳香族炭素環と芳香族へテロ環とを含む芳香族の二環；メチレンジオキシベンゼンなどの芳香族炭素環とヘテロ環とを含む部分的に芳香族の二環；１，８−ナフチルピリジンなどの２つの芳香族へテロ環を含む芳香族の二環；５，６，７，８−テトラヒドロキノリンなどの炭素環と芳香族へテロ環とを含む部分的に芳香族の二環を挙げることができる。
【０２４９】
本発明のプロセスでは、式（ＩＶｃ）を有するハロゲノ芳香族化合物であって、式中のＤが芳香核、好適にはベンゼン核またはナフタレン核を表すハロゲノ芳香族化合物が好適に使用される。
【０２５０】
式（ＩＶｃ）を有する芳香族化合物は、１つまたはそれ以上の置換基を担持することができる。
【０２５１】
本明細書において、「数個の」という用語は、一般的に、その芳香核に存在する置換基Ｒ２９の個数が４個未満であることを意味している。
【０２５２】
置換基の例に関しては、式（ＩＩＩｈ）におけるＲ１２の定義を参照のこと。
【０２５３】
また、Ｒ２９は、ヘテロ原子としてイオウ、酸素または窒素を含む、５個または６個の原子を包含した飽和、不飽和または芳香族のヘテロ環も表す。例として特にピラゾリルまたはイミダゾリル基を挙げることができる。
【０２５４】
式（ＩＶｃ）において、ｎ”は、４もしくはそれ未満の数であり、好適には１または２である。
【０２５５】
式（ＩＶｃ）を有する化合物の例として、ｐ−クロロトルエン、ｐ−ブロモアニソール、およびｐ−ブロモトリフルオロベンゼンを挙げることができる。
【０２５６】
式（ＩＶ）、好適には式（ＩＶａ）または（ＩＶｂ）または（ＩＶｃ）を有する、脱離基を担持した化合物の量は、一般的に、求核化合物の量に関して表現され、化学量論に近い。脱離基を担持した化合物のモル数と求核化合物のモル数との比は、通常、０．９から１．２までの範囲である。
【０２５７】
本発明のプロセスによれば、好適には式（ＩＩＩａ）から（ＩＩＩｔ）までを有する求核化合物が、（ＶＩＩＩ）、（ＩＢ）および（ＩＩＢ）族から選択される金属元素をベースとした有効量の触媒、並びに、本発明において定義されている通りの配位子の存在下において、式（ＩＶ）、好適には式（ＩＶａ）または（ＩＶｂ）または（ＩＶｃ）を有する脱離基を担持した化合物と反応させられる。
【０２５８】
本明細書において、以下で、Ｂｕｌｌｅｔｉｎ  ｄｅ  ｌａ  Ｓｏｃｉｅｔｅ  Ｃｈｉｍｉｑｕｅ  ｄｅ  Ｆｒａｎｃｅ，ｎ゜１（２３６６）において発表された周期表への参照が為される。
【０２５９】
混合物として、特には銅との混合物として、種々の異なる金属Ｍを使用することができる。有利には、パラジウムと銅を含む混合物を使用することができる。
【０２６０】
金属Ｍの例として、銅、銀、パラジウム、コバルト、ニッケル、鉄、及び／又は亜鉛を挙げることができる。
【０２６１】
単一の金属Ｍを使用する場合には、好適には銅またはパラジウムが選択される。
【０２６２】
使用し得る触媒の例として、銅金属、または、銅（Ｉ）もしくは銅（ＩＩ）の有機あるいは無機化合物を挙げることができる。
【０２６３】
本発明のプロセスにおいて使用される触媒は、既知産物である。
【０２６４】
本発明の銅触媒の例として、臭化第一銅、臭化第二銅、ヨウ化第一銅、ヨウ化第二銅、塩化第二銅、塩基性炭酸銅（ＩＩ）、硝酸第一銅、硝酸第二銅、硫酸第一銅、硫酸第二銅、亜硫酸第一銅、酸化第一銅、酢酸第一銅、酢酸第二銅、トリフルオロメチルスルホン酸第二銅、水酸化第二銅、銅（Ｉ）メチラート、銅（ＩＩ）メチラート、および、式ＣｌＣｕＯＣＨ３を有するクロロ第二銅メチラートを挙げることができる。
【０２６５】
パラジウム触媒が本発明のプロセスにおいて使用される。そのパラジウムは、微細に分割された金属の形態で、または、酸化物または水酸化物などの無機誘導体の形態で供給することができる。無機塩、好適には硝酸塩、硫酸塩、オキシ硫酸塩、ハロゲン化物、オキシハロゲン化物、ケイ酸塩、炭酸塩、または、有機誘導体、好適にはシアニド、シュウ酸塩、またはアセチルアセトナート；アルコラート、より好適にはメチラートまたはエチラート；または、カルボン酸塩、更に一層好適には酢酸塩を使用することができる。錯体、特には、パラジウム及び／又はアルカリ金属、好適にはナトリウム、カリウムまたはアンモニウムを伴う塩素−含有またはシアン化物含有錯体も使用することができる。
【０２６６】
本発明の触媒を調製するために使用することができる化合物の例として、臭化パラジウム（ＩＩ）、塩化パラジウム（ＩＩ）、ヨウ化パラジウム（ＩＩ）、シアン化パラジウム（ＩＩ）、硝酸パラジウム（ＩＩ）水和物、酸化パラジウム（ＩＩ）、硫酸パラジウム（ＩＩ）二水和物、酢酸パラジウム（ＩＩ）、プロピオン酸パラジウム（ＩＩ）、酪酸パラジウム（ＩＩ）、安息香酸パラジウム（ＩＩ）、パラジウム（ＩＩ）アセチルアセトナート、テトラクロロパラジウム（ＩＩ）酸アンモニウム、ヘキサクロロパラジウム（ＩＶ）酸カリウム、テトラアミンパラジウム（ＩＩ）硝酸塩、パラジウム（ＩＩ）ジクロロビス（アセトニトリル）、パラジウム（ＩＩ）ジクロロビス（ベンゾニトリル）、パラジウム（ＩＩ）ジクロロ（１，５−シクロオクタジエン）、パラジウム（ＩＩ）ジクロロジアミン、パラジウム（０）テトラキストリフェニルホスフィン、酢酸パラジウム（ＩＩ）、およびトリスベンジリデンアセトンパラジウム（０）を挙げることができる。
【０２６７】
ニッケル誘導体の詳細な例として、ニッケル（ＩＩ）ハロゲン化物、例えば塩化ニッケル（ＩＩ）、臭化ニッケル（ＩＩ）、またはヨウ化ニッケル（ＩＩ）など；硫酸ニッケル（ＩＩ）；炭酸ニッケル（ＩＩ）；１個から１８個の炭素原子を包含した有機酸の塩、特には酢酸塩またはプロピオン酸塩；ニッケル（ＩＩ）錯体、例えばニッケル（ＩＩ）アセチルアセトナート、ニッケル（ＩＩ）ジブロモ−ビス−（トリフェニルホスフィン）、ニッケル（ＩＩ）ジブロモ−ビス（ピリジン）など；または、ニッケル（０）錯体、例えばニッケル（０）ビス−（シクロオクタ−１，５−ジエン）もしくはニッケル（０）ビス−ジフェニルホスフィノエタンなどを挙げることができる。
【０２６８】
また、一般的には酸化物、水酸化物、または、ハロゲン化物などの塩、好適には塩化物、硝酸塩もしくは硫酸塩の形態において、鉄もしくは亜鉛をベースとした触媒も使用することができる。
【０２６９】
好適には、塩化第二銅または臭化第二銅および酸化第一銅が選択される。
【０２７０】
触媒のモル数と式（ＩＶ）を有する化合物のモル数とのモル比で表した触媒の使用量は、一般的には、０．０１から０．１までの範囲である。
【０２７１】
本発明のプロセスにおいて塩基も使用され、その役割は脱離基を捕捉することである。
【０２７２】
その塩基の特徴は、２またはそれ以上、好適には４から３０までの範囲のｐＫａを有していることである。
【０２７３】
溶媒として水を使用した場合、そのｐＫａは、酸／塩基対のイオン解離定数として定義される。
【０２７４】
適切なｐＫａを有する塩基を選択するためには、とりわけ、「Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ」、第６６版、ｐ．Ｄ−１６１およびＤ−１６２を参照のこと。
【０２７５】
例として挙げ得る適切な塩基は、無機塩基、例えば、アルカリ金属、好適にはナトリウム、カリウム、セシウムまたはアルカリ土類金属、好適にはカルシウム、バリウム、またはマグネシウムの炭酸塩、重炭酸塩または水酸化物を含む。
【０２７６】
また、アルカリ金属水素化物、好適には水素化ナトリウム、または、アルカリ金属アルコラート、好適にはナトリウムまたはカリウムのアルコラート、より好適にはナトリウムメチラート、エチラート、もしくはテルチオブチラートも使用することができる。
【０２７７】
更に、第三級アミンのような有機塩基、より詳細にはトリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、メチルジブチルアミン、メチルジシクロヘキシルアミン、エチルジイソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルシクロヘキシルアミン、ピリジン、ジメチルアミノ−４−ピリジン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−エチルピペリジン、Ｎ−ｎ−ブチルピペリジン、１，２−メチルピペリジン、Ｎ−メチルピロリジン、および１，２−ジメチルピロリジンも使用することができる。
【０２７８】
好適な塩基はアルカリ金属炭酸塩である。
【０２７９】
使用する塩基の量は、塩基のモル数と脱離基を担持した芳香族化合物のモル数との比が好適には１から４までの範囲になるような量である。
【０２８０】
本発明のアリール化またはビニル化またはアルキニル化は、通常、有機溶媒の存在下において実施される。
【０２８１】
その反応条件下において反応しない有機溶媒が使用される。
【０２８２】
使用される溶媒のタイプは、以下のように、好適には極性有機溶媒であり、より好適には非プロトン性溶媒である：
・線状または環式のカルボンアミド、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジエチルホルムアミド、または１−メチル−２−ピロリジノン（ＮＭＰ）など；
・ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）；
・ヘキサメチルホスホトリアミド（ＨＭＰＴ）；
・テトラメチ尿素；
・ニトロ化合物、例えばニトロメタン、ニトロエタン、１−ニトロプロパン、２−ニトロプロパンまたはそれらの混合物、およびニトロベンゼンなど；
・脂肪族または芳香族のニトリル、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル、ブタンニトリル、イソブタンニトリル、ペンタンニトリル、２−メチルグルタロニトリルまたはアジポニトリルなど；
・テトラメチレンスルホン（スルホラン）；
・有機炭酸塩、例えば炭酸ジメチル、炭酸ジイソプロピルまたは炭酸ジ−ｎ−ブチルなど；
・アルキルエステル、例えば酢酸エチルまたは酢酸イソプロピルなど；
・ハロゲン化もしくは非ハロゲン化芳香族炭化水素、例えばクロロベンゼンまたはトルエンなど；
・ケトン、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなど；
・窒素−含有ヘテロ環、例えばピリジン、ピコリン、およびキノリンなど。
【０２８３】
溶媒の混合物を使用することもできる。
【０２８４】
使用すべき有機溶媒の量は、選定される有機溶媒の性状の関数として決定される。
【０２８５】
その量は、有機溶媒中における脱離基を担持した化合物の濃度が重量で好ましくは５％から４０％までの範囲になるように決定される。
【０２８６】
求核化合物のアリール化またはビニル化もしくはアルキニル化反応は、有利には０℃から１２０℃までの範囲、好適には２０℃から１００℃までの範囲、より好適には２５℃から８５℃までの範囲の温度で行われる。
【０２８７】
アリール化またはビニル化もしくはアルキニル化反応は、一般的には大気圧において実行されるが、例えば１０バールまでなどのより高い圧力を使用することもできる。
【０２８８】
実施に際して、その反応は簡単に実施することができる。
【０２８９】
それらの試薬を使用する順番はさほど重要ではない。好適には、触媒（好適には銅触媒）、配位子、式（ＩＩＩ）を有する求核化合物、塩基、式（ＩＶ）を有する脱離基を担持した化合物、および有機溶媒が装荷される。
【０２９０】
上述のように、一つの変形態様では、金属元素と配位子を包含した金属錯体を使用することができる。
【０２９１】
反応媒質が所望の温度にまで加熱される。
【０２９２】
脱離基を担持した化合物の消失を追跡することにより、反応の進捗度がモニタリングされる。
【０２９３】
反応が終了すると、Ｒ−Ｎｕ−Ｒ０タイプの生成物［式中、Ｒは、求核化合物の残基を表している］が得られ、より詳細には、求核化合物の残基と求電子化合物の残基とを包含した、好適には以下の式（Ｖ）：
【０２９４】
【化４１】
2005513113.tif 000045
［式（Ｖ）において、Ｄ、Ｒ、Ｒ２８、Ｎｕ、およびｎ”は、上で与えられている意味を有している］
を有するアリール化化合物が得られる。
【０２９５】
得られた化合物は、従来の技術、特には、有機溶媒からの結晶化により回収される。
【０２９６】
有機溶媒のより詳細な例として、脂肪族または芳香族の、ハロゲン化または非ハロゲン化炭化水素、カルボンアミド、およびニトリルを挙げることができる。特に、例として、シクロヘキサン、トルエン、ジメチルホルムアミド、およびアセトニトリルを挙げることができる。
【０２９７】
次に、本発明の実施例を与える。これらの実施例は、例証として与えられるものであり、決して限定的なものではない。
【０２９８】
実施例を開示する前に、別な具合に指示されていない限りすべての実施例で使用される操作プロトコルについて説明する。特定の配位子、触媒、および金属錯体の調製についても例証される。
【０２９９】
これらの実施例において、変換度（ＴＴ）は、変換された基質のモル数と投入された基質のモル数との比を表している。
【０３００】
収率（ＲＲ）は、形成された生成物のモル数と投入された基質のモル数との比を表している。
【０３０１】
選択性（ＲＴ）は、形成された生成物のモル数と変換された基質のモル数との比を表している。
【実施例】
【０３０２】
操作プロトコル
以下のものを、窒素雰囲気下に置かれた３５ｍｌ用Ｓｃｈｌｅｎｋチューブに連続的に導入する：
・銅触媒（０．０５ミリモル）；
・配位子（０．１ミリモル）；
・求核化合物（０．７５ミリモル）；
・塩基（１ミリモル）；
・５６μｌのヨードベンゼン（０．５ミリモル）；および
・３００μｌのアセトニトリル。
【０３０３】
この混合物を、５０℃の温度の油浴に入れ、９０時間攪拌する。
【０３０４】
この期間の後、反応媒質のサンプルを取り出して、セライト（または濾過媒質）上で濾過し、溶解度に応じてエーテルかジクロロメタンかのいずれかにより溶出する。得られたアリール化化合物をエーテルまたはジクロロメタンで抽出した後、蒸留水で抽出し、得られた生成物を、内部基準として１，３−ジメトキシベンゼンを用い、ガスクロマトグラフィーにより分析する。
【０３０５】
配位子の調製：
ａ−サロックスの調製
この配位子は、Ｈａｃｈ，Ｃ．Ｃ．；Ｂａｎｋｓ，Ｃ．Ｖ．；Ｄｉｅｈｌ，Ｈ．；（Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．；Ｃｏｌｌ．Ｖｏｌ．ＩＶ；Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．１９６３、２３０−２３２）により説明されている操作様式を用いて調製された。
【０３０６】
氷浴中において冷却された３０ｍｌの蒸留水中における１３．５１ｇの水酸化カリウム（２４０．８ミリモル）の溶液を、同じく氷浴中において冷却された３０ｍｌの蒸留水中に溶解された１６．７３ｇの塩酸ヒドロキシルアミン（２４０．８ミリモル）の溶液に加えた。
【０３０７】
この混合液を０℃で２０分間攪拌した後、９．５ｍｌのサリチルアルデヒド（８９．２ミリモル）をゆっくりと加えた。攪拌を０℃で３０分間続けた後、１００℃で３時間攪拌した。
【０３０８】
次いで、反応混合物を冷蔵庫に入れて褐色の固体を沈殿させ、フリットを通じる濾過によりその固体を単離し、多量の水で洗い、次に石油エーテルで洗った後、デシケーター内において乾燥させた。
【０３０９】
サリチルアルドジムを、石油エーテル／クロロホルム混合液から再結晶化させることにより精製した。
【０３１０】
８１％の収率に相当する９．９１ｇの白−オレンジ色の結晶が得られた。
【０３１１】
その特性は以下の通りであった：
・Ｍ．Ｐｔ：５７．５℃（石油エーテル／ＣＨＣｌ３）（Ｌｉｔ：５７℃：Ｈｏｌｌｙ，Ｆ．Ｗ．；Ｃｏｐｅ．Ａ．Ｃ．；Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９４４、６６、１８７５−１８７９）；
・１Ｈ  ＮＭＲ／ＤＭＳＯ−ｄ６：δ１１．３４（広帯域ｓ、１Ｈ、ＯＨオキシム）、１０．１１（広帯域ｓ、１Ｈ、フェノール性ＯＨ）、８．３６（ｓ、１Ｈ、Ｈ７）、７．４７（ｍ、１Ｈ、Ｈ６）、７．２１（ｍ、１Ｈ、Ｈ４）、６．８１−６．９１（ｍ、２Ｈ、Ｈ３，５）。
【０３１２】
・１３Ｃ  ＮＭＲ／ＤＭＳＯ−ｄ６：δ１５６．０２（Ｃ２）、１４７．９２（Ｃ７）、１３０．３７（Ｃ４）、１２８．０７（Ｃ６）、１１９．２７（Ｃ５）、１１８．１２（Ｃ１）、１１５．９７（Ｃ３）。
【０３１３】
ｂ−ニオキシム（シクロヘキサン−１，２−ジオンジオキシム）の調製：
この配位子は、Ｈａｃｈ，Ｃ．Ｃ．；Ｂａｎｋｓ，Ｃ．Ｖ．；Ｄｉｅｈｌ，Ｈ．；（Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．；Ｃｏｌｌ．Ｖｏｌ．ＩＶ；Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．１９６３、２３０−２３２）により説明されている操作様式を用いて調製された。
【０３１４】
氷浴中において冷却された５０ｍｌの蒸留水中における１３．５１ｇの水酸化カリウム（２４０．８ミリモル）の溶液を、同じく氷浴中において冷却された５０ｍｌの蒸留水中に溶解された１６．７３ｇの塩酸ヒドロキシルアミン（２４０．８ミリモル）の溶液に加えた。
【０３１５】
この混合液を０℃で２０分間攪拌した後、１０ｇの溶融シクロヘキサン−１，２−ジオン（８９．２ミリモル）をゆっくりと加えた。
【０３１６】
攪拌を０℃で３０分間続けた後、１００℃で３時間攪拌した。
【０３１７】
次いで、反応混合物を数時間冷蔵庫に入れて卵黄色の固体を沈殿させ、フリットを通じる濾過によりその固体を単離し、多量の水で洗い、次に石油エーテルで洗った後、デシケーター内において乾燥させた。
【０３１８】
ニオキシムを、９８／２のアセトン／水混合液から再結晶化させることにより精製した。
【０３１９】
４８％の収率に相当する６．１０ｇの白色の結晶が得られた。
【０３２０】
その特性は以下の通りであった：
・Ｍ．Ｐｔ：１９３−１９４℃（アセトン／水）（Ｌｉｔ：１９３−１９６℃、ジオキサン：Ｂｉｓｃｈｏｆｆ，Ｃ．；Ｏｈｍｅ，Ｒ．；Ｊ．Ｐｒａｋｔ．Ｃｈｅｍ．１９７３、３１５、５０５−５０９）；
・１Ｈ  ＮＭＲ／ＤＭＳＯ−ｄ６：δ１１．０７（広帯域ｓ、２Ｈ、ＯＨ）、２．４８（ｍ、４Ｈ、Ｈ２，５）、１．５５（ｍ、４Ｈ、Ｈ３，４）。
【０３２１】
・１３Ｃ  ＮＭＲ／ＤＭＳＯ−ｄ６：δ１５１．８９（Ｃ１およびＣ６）、２４．６８（Ｃ２およびＣ５）、２１．８２（Ｃ３およびＣ４）。
【０３２２】
触媒の調製：
使用した触媒は、活性Ｃｕ（Ａ）および活性Ｃｕ（Ｂ）を除き、商業的に入手可能な製品であった。実施例において使用した前述の触媒を調製するための操作様式も提供される。
【０３２３】
ａ−金属銅の精製により調製された活性Ｃｕ（Ａ）：
１００ｍｌのアセトン中に溶解した２ｇのヨウ素を含む溶液中において、数グラムの銅粉末を１５分間すりつぶした。
【０３２４】
この混合物をフリットを通じて濾過し、濃塩酸（７５ｍｌ）およびアセトン（７５ｍｌ）を含む１５０ｍｌの溶液で洗い、１００ｍｌのアセトニトリル、次いで、１００ｍｌのアセトンを用いて洗った。
【０３２５】
高度に可溶性（２７．５１ｇ／ｌ）の溶媒であるアセトニトリルで洗浄することにより、すべてのヨウ化第一銅の消失を確実化した。
【０３２６】
活性銅を、Ｐ２Ｏ５の存在下において、真空デシケーター内において乾燥させた。
【０３２７】
調製後、直ちにその活性銅を使用した。
【０３２８】
ｂ−硫酸銅の還元による活性Ｃｕ（Ｂ）の調製
１００ｍｌの蒸留水と５ｍｌの塩酸を含む溶液に、３０ｇの硫酸銅五水和物（１２０ミリモル）を溶解した。
【０３２９】
温度が４０℃を超えないように注意しながら、この溶液に１．９６ｇの亜鉛（３０ミリモル）をゆっくりと加えた。
【０３３０】
沈殿した銅を、フリットを通じる濾過により単離し、蒸留水で洗い、次いで、アセトンで洗った後、Ｐ２Ｏ５の存在下において、デシケーター内において乾燥させた。
【０３３１】
調製後、その活性銅を使用した。
【０３３２】
１：２の比における銅Ｉとサロックスをベースとした金属錯体の調製
最小体積のアセトニトリル中に溶解した１．３３ｇのヨウ化第一銅（７ｍｍｏｌ）の溶液を、最小体積のジエチルエーテル中に溶解した１．９２ｇのサロックス（１４ｍｍｏｌ）の溶液に、攪拌しながら加えた。
【０３３３】
３０分間攪拌すると、その溶液は曇った。
【０３３４】
窒素を流すことにより、溶媒を部分的に濃縮した。
【０３３５】
２０℃において２４時間後、微細な灰色がかった粉末が析出した。
【０３３６】
−５℃において７日後、固体の量が増大していた。
【０３３７】
フラスコの底部に、小さな針状結晶と微細で半透明な結晶を識別することができた。
【０３３８】
それを濾過した後、濾液で３回すすいだ。
【０３３９】
濾液を直ちに−５℃に冷却した。
【０３４０】
１週間後、フラスコの底部に、小さな半透明の針状結晶が析出していた。
【０３４１】
得られた結晶の特性は以下の通りであった：
結晶のアリコートを取り出し、直ちに質量分析した：３３６および３３５に、錯体｛Ｃｕ［サロックス］２−｛Ｈ｝｝および｛Ｃｕ［サロックス］２−｛２Ｈ｝｝の存在を示す２つのピークが確認された。
【０３４２】
（実施例１から８）
比較例ａ：
この一連の試験では、ピラゾールを、種々の異なる銅触媒：活性Ｃｕ（Ａ）、活性Ｃｕ（Ｂ）、ＣｕＩ、ＣｕＢｒ、Ｃｕ２Ｏ、ＣｕＯ、ＣｕＢｒ２の存在下において、ブロモベンゼンでアリール化した。
【０３４３】
ピラゾール（５１ｍｇ）を、炭酸セシウム（３２５．８ｍｇ；１ミリモル）、および銅触媒：活性Ｃｕ（Ａ）（３．１７ｍｇ；０．０５ミリモル）；活性Ｃｕ（Ｂ）（３．１７ｍｇ；０．０５ミリモル）；ＣｕＩ（９．５２ｍｇ；０．０５ミリモル）；ＣｕＢｒ（７．１７ｍｇ；０．０５ミリモル）；Ｃｕ２Ｏ（７．１５ｍｇ；０．０５ミリモル）；ＣｕＯ（３．９７ｍｇ；０．０５ミリモル）；ＣｕＢｒ２（１１．１７ｍｇ；０．０５ミリモル）；の存在下において、ブロモベンゼン（５３μｌ；０．５ミリモル）でアリール化した。
【０３４４】
配位子の量は、銅に関して２モル当量であった。
【０３４５】
アセトニトリルは、ブロモベンゼンの濃度が１．６７Ｍとなるような量で使用された。
【０３４６】
反応は、５０℃で９０時間行われた。
【０３４７】
本発明において定められているように、また、表（Ｉ）に記述されているように、配位子の存在下において、本発明のアリール化反応で種々の異なる銅触媒を使用した。
【０３４８】
比較のため、配位子として１，１０−フェナントロリンを用いた点を除き、同じ反応を実行した。
【０３４９】
本発明の実施例並びに比較例における、２４時間の反応後に決定された１−フェニル−１Ｈ−ピラゾールの収率が表（Ｉ）に示されている：
【０３５０】
【表１】
2005513113.tif 000046
2005513113.tif 000047
【０３５１】
（実施例９）
ブロモベンゼンをヨードベンゼンに置き換え、実施例１を繰り返した。
触媒は、１０％の量の活性Ｃｕ（Ａ）であった。
得られた１−フェニル−１Ｈ−ピラゾールの収率は１００％であった。
【０３５２】
（実施例１０）
ブロモベンゼンをヨードベンゼンに置き換え、実施例２を繰り返した。
触媒は、５％の量の酸化第一銅であった。
反応は２０℃で実行された。
得られた１−フェニル−１Ｈ−ピラゾールの収率は８０％であった。
【０３５３】
（実施例１１から１５）
この一連の実施例では、ピラゾール（５１ｍｇ）とブロモベンゼン（５３μｌ；０．５ミリモル）を、酸化第一銅（３．５７ｍｇ；０．０２５ミリモル、５％）、サロックス（２０％）、および炭酸セシウム、並びに、表（ＩＩ）に記載されている通りの種々の異なる溶媒の存在下において反応させた。
【０３５４】
アセトニトリルは、ブロモベンゼンの濃度が１．６７Ｍとなるような量で使用された。
【０３５５】
反応は、８２℃で２４時間にわたって行われた。
【０３５６】
得られた１−フェニル−１Ｈ−ピラゾールの収率が表（ＩＩ）に示されている：
【０３５７】
【表２】
2005513113.tif 000048
【０３５８】
（実施例１６から２０）
以下の実施例では、ピラゾール（５１ｍｇ）とブロモベンゼンを、酸化第一銅（５％）、サロックス、ＤＭＧ、または２−Ｐｙ−アルドックス配位子（２０％）、および炭酸セシウムまたはカリウムテルチオブチラート（１１２ｍｇ／１ミリモル）の存在下において、アセトニトリルの存在下で反応させた。
【０３５９】
アセトニトリルは、ブロモベンゼンの濃度が１．６７Ｍとなるような量で使用された。
【０３６０】
反応は、８２℃で２４時間にわたって行われた。
【０３６１】
得られた１−フェニル−１Ｈ−ピラゾールの収率が表（ＩＩ）に示されている：
【０３６２】
【表３】
2005513113.tif 000049
【０３６３】
（実施例２１から３３）
以下の実施例では、ピラゾール（５１ｍｇ）とブロモベンゼンを、種々の異なる銅触媒、種々の異なる配位子（２０％）、および炭酸セシウム（２当量）の存在下において、アセトニトリルの存在下で反応させた。
【０３６４】
アセトニトリルは、ブロモベンゼンの濃度が１．６７Ｍとなるような量で使用された。
【０３６５】
反応は、８２℃で２４時間にわたって行われた。
【０３６６】
得られた１−フェニル−１Ｈ−ピラゾールの収率が表（ＩＶ）に示されている：
【０３６７】
【表４】
2005513113.tif 000050
2005513113.tif 000051
【０３６８】
（実施例３３）
この実施例は、その場で調製された金属錯体を使用した。
【０３６９】
１：２の比におけるヨウ化第一銅とサロックスから行われるその調製方法は、既に上で説明されいる。
【０３７０】
この錯体の結晶をスパチュラで回収し、濾紙上で乾燥させた。
【０３７１】
必要な量が、以下の操作プロトコルを用いて、ピラゾールをヨードベンゼンでアリール化するための試験に直ちに投入された。
【０３７２】
２３．２ｍｇのこの金属錯体（０．０５ｍｍｏｌのＣｕ）と、５１ｍｇのピラゾール（０．７５ｍｍｏｌ）、および３２５．８ｍｇの炭酸セシウム（１ｍｍｏｌ）を、既に１００℃でオーブン乾燥させられていて、磁気攪拌機（１２×４．５ｍｍ）を備え、窒素雰囲気下に置かれた３５ｍｌ用のＳｃｈｌｅｎｋチューブに導入した。
【０３７３】
そのＳｃｈｌｅｎｋチューブを真空下でパージした後、窒素を再充填した。注射器を用いて５６μｌのアリール化剤（０．５ｍｍｏｌ）を加え、その後、３００μｌの無水アセトニトリルを加えた。
【０３７４】
反応器を５０℃の温度の油浴中に入れ、２４時間攪拌した。
【０３７５】
この期間の終了後、その冷却された反応混合物に６５μｌの１，３−ジメトキシベンゼン（内部基準）を導入し、その後、５ｍｌのジエチルエーテルで希釈した。
【０３７６】
アリコートを取り出し、セライトで濾過し、ジエチルエーテルで溶出し、蒸留水で３回抽出した後、ガスクロマトグラフィーで分析した。
【０３７７】
収率８０％の１−フェニル−１Ｈ−ピラゾールが得られた。
【０３７８】
その選択性は１００％であった。
【０３７９】
（実施例３４から３６）
以下の実施例では、ピラゾール（５１ｍｇ）を、酸化第一銅（５％）、サロックス（２０％）、および炭酸セシウム（２当量）の存在下において、表（Ｖ）に示されている種々の異なる置換されたアリール臭化物とアセトニトリルの存在下で反応させた。
【０３８０】
アセトニトリルは、ブロモベンゼンの濃度が１．６７Ｍとなるような量で使用された。
【０３８１】
反応は、８２℃で２４時間にわたって行われた。
【０３８２】
得られた種々の異なるアリールピラゾールの収率が表（Ｖ）に示されている：
【０３８３】
【表５】
2005513113.tif 000052
【０３８４】
（実施例３７から３９）
以下の実施例では、表（Ｖ）に示されている種々の異なるピラゾールを、酸化第一銅（５％）、サロックス（２０％）、および炭酸セシウム（２当量）の存在下において、アセトニトリルの存在下でブロモベンゼンと反応させた。
【０３８５】
反応は、８２℃で２４時間にわたって行われた。
得られた種々の異なるアリールピラゾールの収率が表（ＶＩ）に示されている：
【０３８６】
【表６】
2005513113.tif 000053
【０３８７】
（実施例４０から４２）
以下の実施例では、イミダゾール（５１ｍｇ）とヨードベンゼンを、酸化第一銅（５％）、表（ＶＩＩ）に示されている種々の異なる配位子（２０％）、および炭酸セシウム（２当量）の存在下において、アセトニトリルの存在下で反応させた。
【０３８８】
温度と反応時間が表（ＶＩＩ）に示されている。
【０３８９】
得られたＮ−フェニルイミダゾールの収率が表（ＶＩＩ）に示されている：
【０３９０】
【表７】
2005513113.tif 000054
【０３９１】
（実施例４３から４５）
以下の実施例では、イミダゾール（５１ｍｇ）とブロモベンゼンを、酸化第一銅（５％）、表（ＶＩＩ）に示されている種々の異なる配位子（２０％）、および炭酸セシウム（２当量）の存在下において、アセトニトリルの存在下で反応させた。
【０３９２】
温度は８２℃であり、反応時間は２４時間であった。
【０３９３】
得られたＮ−フェニルイミダゾールの収率が表（ＶＩＩＩ）に示されている：
【０３９４】
【表８】
2005513113.tif 000055
【０３９５】
（実施例４６）
ｔ−ブチルカルバザート（９９ｍｇ）の酸素に窒素αをアリール化した。
【０３９６】
この目的で、ｔ−ブチルカルバザート（Ｈ２Ｎ−ＮＨ−Ｂｏｃ）を、ＣｕＢｒ、炭酸セシウム、およびＤＭＧ（ジメチルグロキシム）の存在下において、ヨードベンゼンと反応させた。
【０３９７】
反応は、アセトニトリル中において実行された。
【０３９８】
８２℃において２４時間後、Ｎ（α）−フェニルテルチオブチルカルバザートが、３３％の収率で得られた。
【０３９９】
得られたこの化合物は、以下の式を有していた：
【０４００】
【化４２】
2005513113.tif 000056
【０４０１】
また、この化合物は、以下の特性を有していた：
・ＢＰｔ：１２５℃／０．１５ｍｍＨｇ；
・１Ｈ  ＮＭＲ／ＣＤＣｌ３：δ７．４３−７．４７（ｍ、２Ｈ、Ｈ７、１１）、７．２９−７．３４（ｍ、２Ｈ、Ｈ８、１０）、７．１０−７．１４（ｍ、１Ｈ、Ｈ９）、４．４４（ｓ、２Ｈ、ＮＨ２）、１．５０（ｓ、９Ｈ、Ｈ１−３）；
・１３Ｃ  ＮＭＲ／ＣＤＣｌ３；δ１５５．１９（Ｃ５）、１４３．１７（Ｃ６）、１２８．１４（Ｃ８、１０）、１２４．５９（Ｃ９）、１２３．４６（Ｃ７、１１）、８１．６９（Ｃ４）、２８．３３（Ｃ１−３）；
・ＧＣ／ＭＳ：ｒｔ＝１５．９５分、Ｍ／Ｚ＝１５２（Ｃ４Ｈ９フラグメントの消失）、純度＝９９％；
・Ｒｆ＝０．２７（溶離液：ジクロロメタン）。
【０４０２】
（実施例４７）
ピペリジン（５６ｍｇ；０．７５ミリモル）を、酸化第一銅（３．６ｍｇ；０．０２５ミリモル、５％）、サロックス配位子（２０％）、および炭酸セシウム（０．３２５ｇ、１ミリモル、２当量）の存在下において、アセトニトリルの存在下でヨードベンゼンと反応させることによりアリール化した。
【０４０３】
温度は８２℃であり、反応時間は２４時間であった。
【０４０４】
１７．７％の収率でＮ−フェニルピペリジンが得られた。
【０４０５】
（実施例４８）
４−ｔ−ブチルフェノール（１１２．５ｍｇ；０．７５ミリモル）を、酸化第一銅（５％）、サロックス配位子（２０％）、および炭酸セシウムの存在下において、アセトニトリルの存在下でヨードベンゼンと反応させることによりアリール化した。
【０４０６】
反応の開始時に、反応媒質に１５０ｍｇの３Ａシーブを加えた。
【０４０７】
温度は８２℃であり、反応時間は２４時間であった。
【０４０８】
８０．５％の収率で４−ｔ−ブチルフェニルエーテルが得られた。
【０４０９】
（実施例４９）
オキサゾリジン−２−オン（６５．３ｍｇ）を、酸化第一銅、サロックス配位子、および炭酸セシウムの存在下において、アセトニトリルの存在下でヨードベンゼンと反応させることによりアリール化した。
【０４１０】
温度は８２℃であり、反応時間は２４時間であった。
【０４１１】
５４．２％の収率で、対応する３−フェニルオキサゾリジン−２−オンが得られた。
【０４１２】
（実施例５０）
インドール（８７．９ｍｇ、０．７５ミリモル）を、酸化第一銅、サロックス配位子、および炭酸セシウムの存在下において、アセトニトリルの存在下でヨードベンゼンと反応させることによりアリール化した。
【０４１３】
温度は８２℃であり、反応時間は２４時間であった。
【０４１４】
８２．２％の収率で、対応するＮ−フェニルインドールが得られた。
【０４１５】
（実施例５１）
ベンゾフェノンヒドラゾン（１４７．２ｍｇ）をヨードベンゼンでアリール化した。
【０４１６】
温度は８２℃であり、反応時間は２４時間であった。
【０４１７】
８２．２％の収率で、対応するＮ−フェニルヒドラゾンが得られた。
【０４１８】
（実施例５２）
３．６ｍｇのＣｕ２Ｏ（０．０２５ｍｍｏｌ）、１３．７ｍｇのサロックス（０．１ｍｍｏｌ）、および３２．６ｍｇのＫＣＮ（０．５ｍｍｏｌ）を、既に１００℃でオーブン乾燥させられていて、磁気攪拌機（１２×４．５ｍｍ）を備え、窒素雰囲気下に置かれた３５ｍｌ用のＳｃｈｌｅｎｋチューブに導入した。
【０４１９】
そのＳｃｈｌｅｎｋチューブを真空下でパージした後、窒素を再充填した。注射器を用いて５６μｌのアリール化剤（０．５ｍｍｏｌ）を加え、その後、３００μｌの無水ＤＭＦを加えた。
【０４２０】
反応器を１１０℃の温度の油浴中に入れ、４８時間攪拌した。
【０４２１】
この期間の終了後、その冷却された反応混合物に６５μｌの１，３−ジメトキシベンゼン（内部基準）を導入し、その後、５ｍｌのジエチルエーテルで希釈した。
【０４２２】
アリコートを取り出し、セライトで濾過し、ジエチルエーテルで溶出し、蒸留水で３回抽出した後、ガスクロマトグラフィーで分析した。
【０４２３】
収率８５％のベンゾニトリルが得られた。
【国際調査報告】
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