(57)【要約】本発明は、特にＸ線の露出後に高圧回路に存在する残余の又は余剰の電荷の減衰によって生成させられ得る望ましくないＸ線（Ｅ）の入射に対して、検査される対象を少なくとも実質的に保護するためのデバイスを含む、Ｘ線管に関する。このために、残余の及び／又は余剰の電荷によって生成させられた電子ビーム（Ｅ）を、少なくともそれが、陽極（２）のある領域（２２）における有意な範囲に入射しないような様式で、偏向させる及び／又はデフォーカスするための少なくとも一つのデバイス（３４１、３４２）が提供され、その陽極から、それによって発生させられたＸ線が、検査される対象へ向かって方向付けられる。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線管であって、
当該Ｘ線管の高圧回路における残余の又は余剰の電荷によって発生させられる、電子ビームを、少なくともそれが、陽極の領域における有意な範囲に入射しないで、前記陽極から、それによって発生させられるＸ線が、検査される対象に向かって方向付けられるような様式で、偏向させる及び／又はデフォーカスさせる偏向パルスを発生させるために、二つの継続的な露出の間に起動させることができる第一のデバイスを含むＸ線管。
【請求項２】
当該Ｘ線管の前記高圧回路に存在する前記残余の又は余剰の電荷が、少なくとも実質的除去されるように、前記電子ビームを誘発する放電パルスを発生させるために、二つの継続的な露出の間に起動させることができる第二のデバイスを含む、請求項１に記載のＸ線管。
【請求項３】
前記第一のデバイスは、少なくとも一つの電圧源のみならず、当該Ｘ線管の陰極の第一の管の半分及び第二の管の半分を備えた分割された陰極管を含み、
前記電圧源によって前記電子ビームを誘発すると共に前記誘発された電子ビームを偏向させる及び／又はデフォーカスさせるために、前記管の半分を異なる電気ポテンシャルに接続することができる、請求項１に記載のＸ線管。
【請求項４】
前記第一のデバイスは、電場を発生させるために、電圧源に接続される少なくとも一つの偏向板を含み、
前記電場によって前記電子ビームが、偏向させられる及び／又はデフォーカスさせられる、請求項１に記載のＸ線管。
【請求項５】
前記第一のデバイスは、磁場を発生させるために、電流源に接続される少なくとも一つの偏向コイルを含み、
前記磁場によって前記電子ビームが、偏向させられる及び／又はデフォーカスさせられる、請求項１に記載のＸ線管。
【請求項６】
前記第二のデバイスは、少なくとも一つの電圧源を含み、
前記電圧源によって前記電子ビームが、当該Ｘ線管をつなげることによって誘発される、請求項２に記載のＸ線管。
【請求項７】
前記偏向された電子ビームが方向付けられる放射収集器を含む請求項１に記載のＸ線管。
【請求項８】
前記Ｘ線管の高圧回路に存在する残余の又は余剰の電荷によって生成させられる、電子ビームを、少なくともそれが、陽極の領域における有意な範囲に入射しないで、前記陽極から、それによって発生させられるＸ線が検査される対象に向かって方向付けられるような様式で、偏向させる及び／又はデフォーカスさせる、偏向パルスを発生させることに役に立つ請求項１に記載のＸ線管用の電圧又は電流の供給及び制御ユニット。
【請求項９】
前記Ｘ線管の前記高圧回路に存在する前記残余の又は余剰の電荷が、少なくとも実質的に除去されるように、前記電子ビームを誘発する放電パルスを発生させることに役に立つ請求項２に記載のＸ線管用の電圧又は電流の供給及び制御ユニット。
【請求項１０】
請求項８又は９に記載の電圧又は電流の供給及び制御ユニットを含む、請求項１又は２に記載のＸ線管用の高電圧発生器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特に露出の終了後にＸ線管の高圧回路にまだ存在する残余の又は余剰の電荷の減衰によって生成させられ得る、望ましくないＸ線の入射に対して、少なくとも実質的に、検査される対象を保護するためのデバイスを含むＸ線管に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１は、サイリスター回路がＸ線管に対して平行に接続されるＸ線診断デバイスを開示する。陽極の電圧（高電圧）の中断によるＸ線の露出の終了後に、主としてサイリスター回路を介して及び副次的な程度でＸ線管を介してのみ、高電圧側での平滑コンデンサ及び電線の容量に存在する（残余の）電荷を除去するように、サイリスター回路を駆動回路によって作動させる。このように、Ｘ線の電圧及びＸ線の電流、よって、それによってもたらされると共に高電圧のスイッチを切った後にでさえ、特に高い管電圧、短い露出、及び小さいＸ線の電流の場合には、撮像の線量の実質的な部分をまだ構成することもある、望ましくないＸ線を、それぞれ、より速く減少させると共に回避することができ、Ｘ線管がスイッチを切られるときのエッジの急峻さをこのように改善することができる。
【０００３】
しかしながら、このデバイスの主要な欠点は、除去される残余の電荷の全体を、サイリスター回路における損失熱に変換する必要があることである。これは、特に、サイリスター回路が、結果的に出力を増加させることができる構成部品を含むべきであるように速い脈動の場合に、効果を有する。さらに、高圧回路における比較的大きい（特に寄生）容量のために、管電圧及び管電流を減少させることができるエッジの急峻さは、望ましくない放射線量を完全に回避することができるほどには、大きくない。
【０００４】
露出が、高電圧のスイッチを切ることによって終了されないが、格子を遮断することによって終了させられる、格子制御のＸ線管において、類似の問題に遭遇する。管電流は、Ｘ線を発生させることもまたできないように、露出の終わりの後には、これらの管において、もはや流れることができないことは、認められる。しかしながら、次の露出が、より低い高電圧で実行されるものであるとき、第一に、検査される対象が、望ましくない放射線量に露出されることを予防するために、高圧回路の容量にまだ存在する（余剰の）電荷による電圧の差を減少させなければならない。
【０００５】
最後に、望ましくない放射線量は、例えば、（小さい焦点を伴った）蛍光板透視モードから（大きい焦点を伴った）露出モードへ可能な限り速く切り替えることが望まれるとき、二つのフィラメントを含むＸ線管において生じることもある。一般的に言えば、この種のＸ線管において、小さい焦点を対象としたフィラメントのみを、他のフィラメントへの切り替えの際に電子ビームを発生させることができ、よって発生させられたＸ線が、フィラメントの電流を増加させるときに直ちに、すなわち、早くも露出に対する準備状態の間に、（残余の）電荷の結果として、（又は場合により、高電圧が、スイッチを入れられるとき）、高圧回路の容量にまだ存在するように、格子によって遮断することができる。
【０００６】
さらに、先の露出をより高い高電圧で実行したとすれば、この場合において、検査される対象が、初期に、望ましくない放射線量に再度露出されるように、より低い高電圧が現に存在する前に、高圧回路の容量にまだ蓄積される（余剰の）電荷によってもたらされる電圧の差を減少させることが、第一に必要であることになる。
【０００７】
上記の事例で述べたような望ましくない放射線量は、一般的に、特に患者の皮膚に負担を与えるか又は損傷さえさせ得る軟Ｘ線によって発生させられる。
【特許文献１】欧州特許第０２７９３１７号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従って、本発明の目的は、特に、Ｘ線の露出の後に高圧回路に存在する残余の又は余剰の電荷の減衰によって生成させられ得るであろう、望ましくないＸ線に対して、少なくとも実質的に、検査される対象を保護することができるような、Ｘ線管を提供することである。
【０００９】
特に、本発明の目的は、先の露出の間に使用されるものよりも低い、高電圧（陽極の電圧、ｋＶの電圧）での露出の実行の間に、高圧回路に蓄積される余剰の電荷の減衰によってもたらされる望ましくないＸ線によって、検査される対象が、負担を与えられないような、Ｘ線管を提供することである。
【００１０】
また、蛍光板透視モードから露出モードへの速い切り替えの場合においてさえ、特に二つのフィラメントの間における切り替えによって、格子によって遮断されるものでないフィラメントを、高圧回路の容量にまだ存在すると共に先の露出を起源とする残余の電荷及び／又は余剰の電荷により加熱する準備状態の間に、望ましくないＸ線を発生させないような、Ｘ線管を提供することも目的である。
【００１１】
最後に、格子無しのＸ線管の場合において、高電圧のスイッチを切った後で高圧回路における残余の電荷によって生成されると共にスイッチを切った後でＸ線の不十分なエッジの急峻さに至る、少なくとも実質的に望ましくないＸ線を除去することもまた目的である。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
請求項１に従って、上記目的は、Ｘ線管の高圧回路に存在する残余の又は余剰の電荷によって発生させられる、電子ビームを、少なくともそれが、陽極の領域における有意な範囲へ入射しないで、その陽極から、それによって発生させられるＸ線が、検査される対象に向かって方向付けられるような様式で、偏向させる及び／又はデフォーカスさせるための偏向パルスを発生させるために、二つの継続的な露出の間に起動させることができる第一のデバイスを含むＸ線管によって達成される。
【００１３】
この文脈において、“有意な範囲”は、望ましくない放射線量、すなわち、撮像のための明確に定められた様式で使用することができない、又は特に患者の皮膚に負担を与える放射線量に、検査される対象を露出させるＸ線が発生させられるような範囲を意味することが理解される。
【００１４】
この解決手段の特別な利点は、出力回路が要求されないように、高電圧側で電流を切り替えることが必要ではないという事実、及び、電荷が、電気部品において損失の出力へ変換されないという事実に存する。その上重要なことは、本発明による切り替えユニットは、むしろ小さいと共に経済的であり、管の付近に、例えば、管のヘッドに統合されるように、実現され得る。
【００１５】
さらに、本発明による解決手段は、上述したような望ましくないＸ線に対して達成される、減少を可能とするだけでなく、除去もまた完了する。
【００１６】
また、これらの利点に加えて、本発明による解決手段は、高電圧の切り替えによってスイッチが入れられたり切られたりするＸ線管に対して、より大きいエッジの急峻ささえも伴った、より速いパルス化された動作を可能とする。
【００１７】
従属請求項は、本発明のさらに好都合な実施形態に関する。
【００１８】
請求項２に開示される実施形態は、特に、格子制御のＸ線管を対象とし、そのＸ線管のために、請求項６は、好適な実施形態を開示する。
【００１９】
請求項３から５までは、第一のデバイスの好適な実施形態に関するが、それによって電子ビームの特に単純な及び有効な偏向及び／又はデフォーカスを実行することができる。
【００２０】
請求項７に従った実施形態は、偏向させられた電子ビームが、制御されてない様式で周囲に到達することができないという利点を提示する。
【００２１】
請求項８及び９は、Ｘ線管用の好適な高電圧発生器に関し、その発生器は、請求項１から６までに従ったデバイスを動作させることにもまた適する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
本発明のさらなる詳細、特徴、及び利点は、添付する図面を参照して与えられる以下の好適な実施形態の説明から明らかになると思われる。
【００２３】
これらの図における同一又は対応する部分又は構成部品は、同じ符号によって表示される。
【００２４】
示される実施形態は、特に、露出が格子の切り替え又は遮断によって終了させられる（ＧＣＦ：格子制御蛍光板透視法、ＧＡＦ：格子補助蛍光板透視法などの）格子切り替え又は格子制御のＸ線管に関係する。
【００２５】
また、本発明に従った原理を、先に述べた（例えば、小さい焦点及び大きい焦点用の）二つのフィラメントを備えたＸ線管に都合良く使用することができ、それらフィラメントで、格子切り替えの蛍光板透視モードから露出モードへの直接的な切り替えが起こり、その露出モードで、格子によって遮断されないものであると共に露出モードの役に立つフィラメント（大きい焦点）が、高い温度まで加熱される。
【００２６】
最後に、本発明による原理を、先に述べた格子無しのＸ線管にもまた使用することができ、そのＸ線管では、露出が、高電圧のスイッチを切ることによって終了され、そのＸ線管で、高圧回路の容量にまだ存在する残余の電荷が、Ｘ線が減衰すると共に不十分なエッジの急峻さとして明白になる。
【００２７】
このように、以後に記載される実施形態は、特にＸ線の露出後にまだ存在する残余の又は余剰の電荷の減衰によってもたらされ得る望ましくないＸ線の入射に対して、検査される対象の少なくとも実質的な保護に役に立つ。
【００２８】
このような残余の又は余剰の電荷は、特に、Ｘ線の露出の終了後に、高電圧の導線、高電圧の変圧器の二次巻線、又は他の、特に高圧回路の寄生容量に行き渡る電荷である。
【００２９】
検査される対象を保護するために、この電荷によって発生させられる電子ビームは、それが、撮像のために意図されたＸ線が、Ｘ線管の通常の動作で発生させられる陽極の部分に入射しない、又は少なくとも有意な範囲に入射しないような様式で、偏向パルスによって偏向させられる及び／又はデフォーカスさせられる。このような偏向を、電場及び／又は磁場によって実現することができる。あるいは、又は追加で、電子ビームのデフォーカスもまた、Ｘ線管の通常の動作で電子ビームを集中させるために役に立つ、電子レンズ又は偏向コイルのような他のデバイスの適切な制御によって、実行することができる。格子制御のＸ線管、又は格子によって遮断されるフィラメントの場合において、電子ビームは、放電パルスによって管をつなげることによって、除去されるものである。
【００３０】
図１は、本発明の第一の実施形態の概略的な表現である。
【００３１】
このように、本発明によるＸ線管は、陽極２及び陰極３が収容される真空の空間を囲むガラス又は金属の管の外囲器１を本質的に含む。陽極２及び陰極３の間に、陽極の電圧源４が、位置を定められ、それによって陽極の電圧（高電圧）が発生させられる。
【００３２】
陽極２は、陽極の棒２３のみならず斜めに切られた端の区域２２を備えた通例の様式の陽極の円盤２１に存する。固定子２４もまた提供され、その固定子を介して、陽極２を回転させる。
【００３３】
陰極３は、それが、互いに電気的に絶縁される第一の管の半分３４１及び第二の管の半分３４２からなるように、本実施形態では二つの部分に分割される陰極管（ウェーネルト円筒）のみならず、少なくとも一つのフィラメント３３に対して一次巻線３１及び二次巻線３２を備えたフィラメントの変圧器を含む。第一及び第二の管の半分３４１及び３４２が、フィラメント３３に対して正にバイアスをかけられるように、第一の管の半分３４１に接続されると共に自由選択でスイッチ４１ａを閉じることによって第二の管の半分３４２にもまた接続され得る、バイアス電圧源４１もまた提供される。
【００３４】
最後に、放射収集器１１が、管の外囲器の壁に、又は保護する管の筐体（ヘッド）に提供され、その収集器は、例えば、電線又は入射電子ビームを少なくとも実質的に吸収すると共に保護する管の筐体若しくは管の外囲器１の適切に強化された壁の区域によって形成されることもある他の材料で作られる。
【００３５】
露出モードにおいて、Ｘ線管は、スイッチ４１ａが閉じられる間に、フィラメント３３から放出されると共に陽極の電圧によって陰極管３４１、３４２によって集束させられる電子を加速することによって、通例の様式でＸ線ビームを発生させ、前記電子は、陽極の円盤２１の端の区域２２２上に電子ビームの形態で入射する。それから、このように発生させられたＸ線は、管の外囲器１における窓を介して、検査される対象に向かって方向付けられる。
【００３６】
電子ビームが遮られるように陰極管３４１、３４２をフィラメント３３に対して負にバイアスをかけるのような様式でのバイアス電圧源４１の切り替えによる露出の終了後に、時折、適用可能であるとすれば、高電圧のスイッチを切った後にもまた、非常に大量の残余の電荷が、陽極の電圧回路に残留する。特に、この露出が、より低い高電圧で行われるものであるとすれば、このような残余の電荷を、露出の開始より先に、除去しなければならない。高電圧が、スイッチを切られずに、より低い値へ直接切り替えられるとき、関連する余剰の電荷を除去しなければならない。
【００３７】
このために、第一の管の半分３４１が、フィラメント３３に対して、また、第二の管の半分３４２に対しても、正にバイアスをかけられるように、スイッチ４１ａが、開かれ、適切な正の電圧を、バイアス電圧源４１によって発生させる。このように、一方で、残余の又は余剰の電荷のために、電子ビームＥを発生させるように、管が、つなげられ、他方で、二つの管の半分３４１、３４２上の同等でないポテンシャルのために、電子ビームＥを放射収集器１１の方向に偏向させる。このように、バイアス電圧源４１上の前記正の電圧は、同時に偏向パルス及び放電パルスを表す。
【００３８】
このように、陽極２上でＸ線を発生させることなく、残余の又は余剰の電荷を除去する。
【００３９】
この点において、偏向及び放電パルスが、スイッチ４１ａが開放であるときのみ、発生させられることは、留意されることである。スイッチが開放である間の時間の周期、並びに、放電及び偏向パルスの持続時間は、残余の又は余剰の電荷が、本質的に完全に除去されるような様式で、釣り和せられる。引き続き、撮像の露出を、明確に定められた高電圧で、よって、所望のＸ線の線量で実行することができる。
【００４０】
図２は、本発明の第二の実施形態を示し、図１に示す部分と類似する又は対応する部分は、同じ符号によって表示される。
【００４１】
重ねて、この実施形態においては、ガラスの外囲器１は、斜めに切られた端の区域２２を伴った陽極の円盤２１及び固定子２４を介して駆動される陽極の棒２３を備えた陽極２を収容する。一次巻線３１及び二次巻線３２を備えたフィラメントの変圧器のみならず第一の管の半分３４１及び第二の管の半分３４２を含む二片の陰極管を備えた陰極３もまた提供される。二次巻線３２に接続される、少なくとも一つのフィラメント３３を、第一のバイアス電圧源４１によって、陰極管３４１、３４２に対して正又は負にバイアスをかけることができる。
【００４２】
また、第二のバイアス電圧源４２も提供され、それによって第一の管の半分３４１を、フィラメント３３に対して、正又は負にバイアスをかけることができる。第三のバイアス電圧源４３を使用して、第二の管の半分３４２もまた、スイッチ４３ａを閉じることによって、正又は負の電圧によってフィラメント３３に対してバイアスをかけることができる。
【００４３】
最後に、陽極の電圧源４は、陽極２に、及び第一のバイアス電圧源４１を介してフィラメント３３に、接続される。
【００４４】
Ｘ線の露出後に残余の又は余剰の電荷を除去するために、バイアス電圧源４１は、放電パルスを発生させ、それによって、Ｘ線管が、つなげられると共に残余の又は余剰の電荷が、電子ビームＥを生成させるように、フィラメント３３は、陰極管３４１、３４２に対して負にバイアスをかけられる。
【００４５】
この電子ビームＥは、スイッチ４３ａが開放である間に、フィラメント３３に対して十分に高い正のポテンシャルを、第二のバイアス電圧源４２によって第一の管の半分３４１へ印加するので、偏向パルスによって放射吸収体１１へ同時に偏向させられる。あるいは、スイッチ４３ａの閉じた位置において、第二及び第三のバイアス電圧源４２、４３の適切な反対の位相制御を使用して、フィラメント３３に対して正のポテンシャルを、第一の管の半分３４１に、及びフィラメント３３に対して負のポテンシャルを、第二の管の半分３４２に、印加することができる。
【００４６】
偏向パルスを、放電パルスより遅れて発生させないが、それと同時に又は好ましくは若干より早く発生させることは、留意されることである。これらのパルスの持続時間は、残余の又は余剰の電荷が、本質的に完全に除去されるようなものである。そして、引き続くＸ線の露出を、明確に定められた高電圧で、よって、所望のＸ線の線量で実行することができる。
【００４７】
図３は、本発明の第三の実施形態を示し、図１又は図２に示すものと類似又は同一である部分は、重ねて、同じ符号によって表示される。
【００４８】
重ねて、図３に示すＸ線管は、ガラス又は金属の管の外囲器１に収容された、固定子２４を介して回転させられる陽極の棒２３のみならず、陽極の円盤２１、斜めに切られた端の区域２２を備えた陽極２を含む。さらに、フィラメント３３のみならず、フィラメントの変圧器の一次巻線３１及び二次巻線３２を備えた陰極３が提供される。図１及び２に示す実施形態とは対照的に、この場合における陰極３は、一片の陰極管３４を含む。この陰極管３４を、第一のバイアス電圧源４１によって、フィラメント３３に対して正又は負にバイアスをかけることができる。
【００４９】
さらに、この第三の実施形態には、陽極２及び陰極３の間で互いに面するように配置される第一及び第二の偏向板５１、５２が提供される。第一の偏向板５１を、陰極管３４に対して正又は負にバイアスをかけるために、第二のバイアス電圧源５３は、二つの偏向板の間に接続される。最後に、この板をフィラメント３３に対して正又は負にバイアスをかけるために、第三のバイアス電圧源５４を、スイッチ５４ａを介して、第二の偏向板５２へ接続することができる。
【００５０】
露出モードにおいて、このＸ線管は、スイッチ５４ａの閉じた状態で、フィラメント３３を、第一のバイアス電圧源４１によって陰極管３４に対して負にバイアスをかける間に、放出された電子が、偏向板５１、５２によって集束させられ、陽極の電圧によって加速させられ、電子ビームの形態で、それら電子が撮像Ｘ線を発生させる陽極の円盤２１の端の区域２２に向かって方向付けられるという既知の様式で、Ｘ線ビームを発生させる。
【００５１】
露出の終了後に、特に、管が遮断されるように、陰極管３４が、フィラメント３３に対して負にバイアスをかけられるような様式で、第一のバイアス電圧源４１を切り替えることによって、残余の又は余剰の電荷を、再度、より低い高電圧での新たな露出の開始より先に、除去しなければならない。
【００５２】
このために、第一のバイアス電圧源４１は、放電パルスを発生させ、それによって、フィラメント３３は、Ｘ線管がつなげられると共に残余の又は余剰の電荷が電子ビームＥを生成させるように、陰極管３４に対して負にバイアスをかけられる。
【００５３】
同時に又は暫時それの前に、スイッチ５４ａの開放の状態で、第二のバイアス電圧源５３は、電子ビームＥが、放射収集器１１上へ方向付けられるように、第一の偏向板５１をフィラメント３３に対して正にバイアスをかける電圧（偏向パルス）を発生させる。あるいは、スイッチ５４ａの閉じた状態で、電子ビームＥのこのような偏向を、第二及び第三のバイアス電圧源５３、５４に反対の位相の適切な電圧を発生させることによってもまた達成することができ、それによって、第二の偏向板５２が、フィラメント３３に対して負にバイアスをかけられるのに対して、第一の偏向板５１は、フィラメント３３に対して正にバイアスをかけられる。
【００５４】
これらのパルスの持続時間は、残余の又は余剰の電荷が、本質的に完全に除去されるように、釣り合わせられる。引き続き、撮像の露出を、再度、明確に定められた高電圧で、よって、所望のＸ線の線量で行うことができる。
【００５５】
前に述べたように、偏向板５１、５２は、電場を発生させるために役に立ち、その電場によって電子ビームＥが、放射収集器１１に向かって方向付けられる、及び／又はその電場によって、それが、デフォーカスされる。このように、Ｘ線管の内部を、変更する必要が無いように、偏向板５１、５２もまた、望みであれば、管の外囲器１の外壁に提供することができる。他方で、それは、また、陽極の円盤２１の端の区域２２上に電子ビームを集束させるための集束板又は集束電極を含む既知のＸ線管でもある。一般的に言えば、このような場合には、集束板もまた、放射収集器１１に向かって電子ビームＥを偏向させるための偏向板５１、５２として使用することができる。
【００５６】
従って、この実施形態は、通常の動作における電子ビームの集束のために提供される偏向板を含むＸ線管に特に好都合である。
【００５７】
図４は、本発明の第四の実施形態を示し、図１から３までに示す部分と類似又は同一である部分は、重ねて、同じ符号で表示される。
【００５８】
重ねて、この実施形態は、管の外囲器１に収容された、固定子２４を介して回転させられる陽極の棒２３のみならず、斜めに切られた端の区域２２を伴った陽極の円盤２１を備えた陽極２１を含む。また、一次巻線３１及び二次巻線３２を含むフィラメントの変圧器からの電流が供給されるフィラメント３３のみならず一片の陰極管３４を備えた陰極３も提供される。
【００５９】
さらに、陰極３及び陽極の円盤２１の間に、第二の電流源６４によって供給される第二の偏向コイル６２のみならず、第一の電流源６３に接続される第一の偏向コイル６１が提供される。しかしながら、また、偏向コイル６１、６２を、管の外囲器１の外側に、特にその外壁に、位置を定めてもよい。さらに、四つのコイルの組み合わせによって形成される四重極子を、二つの偏向コイルの代わりに、使用することができる。
【００６０】
最後に、この実施形態は、陽極２及び陰極３の間に陽極の電圧を供給するための陽極の電圧源４のみならず、フィラメント３３に対して陰極管３４を正又は負にバイアスをかけるためのバイアス電圧源４１もまた含む。
【００６１】
バイアス電圧源４１によってフィラメント３３に対して負にバイアスをかけられる陰極管３４によって管を遮断することによって、Ｘ線の露出の終了後に、残余の又は余剰の電荷は、新たな露出の開始より先に、再度除去される。このために、バイアス電圧源４１は、放電パルスを発生させ、それによって、フィラメント３３は、陰極のシンク３４に対して負にバイアスをかけられる。
【００６２】
同時に、第一及び／又は第二の電流源６３、６４のいずれも（いずれかが）、第一の偏向コイル６１又は第二の偏向コイル６２を起動させるということで、偏向パルスを発生させ、このように、残余の又は余剰の電荷によって生成した電子ビームＥが、放射収集器１１に向かって偏向させられる、及び／又はこの電荷を除去してしまうまでデフォーカスさせられるように、磁場を発生させる。
【００６３】
引き続き、撮像の露出を、再度、明確に定められた高電圧で、よって、所望のＸ線の線量で実行することができる。
【００６４】
この実施形態は、例えば通常の露出モードで電子ビームを集束させるために提供される磁石コイルを含むＸ線管に、特に好都合である。
【００６５】
また、記載した実施形態の個々の特徴を、望みであれば、組み合わせることができる。
【００６６】
全ての実施形態において、残余の又は余剰の電荷によって生成された電子ビームＥもまた、放射収集器１１を不要にすることができるように、陽極の円盤２１の中央部分に向かって方向付けることができる。それが、陽極の円盤２１の端の区域２２に入射しないことのみが、重要であり、そこから、このように発生させられたＸ線が、検査される対象の方向に反射させられる。
【００６７】
あるいは又は偏向に追加して、また電子ビームを、全ての実施形態において、このように発生させられたＸ線の量が、許容される程小さいように、それが、低い強度でのみ端の区域２２へ入射するような範囲まで、デフォーカスすることもできる。このために、例えば、Ｘ線管に既に存在する集束デバイス（電子レンズ、コイルなど）を、デフォーカスパルスによって適切な電気的制御によって、適切にデフォーカスすることができる。
【００６８】
一般的に言えば、放射収集器１１は、管の外囲器１の適切に強化された壁の部分として構成される。あるいは、それは、また、電子ビームを吸収する別個の素子として形成されることもある。
【００６９】
必要であれば、追加の素子を、放射収集器１１又は陽極の円盤２１の中央部分で発生したＸ線の吸収のために提供することができる。
【００７０】
放電パルス及び偏向パルスを、前記第一から第三のバイアス電圧源若しくは電流源４１、４２及び４３、５３及び５４、６３及び６４のいずれかを含む、又は、Ｘ線系に存在する電圧源を適切に制御する、適切な回路の配置によって、両方とも発生させることができる。回路の配置は、自動的にか、又は撮像Ｘ線の露出の後に関連するＸ線系の使用者によってかのいずれかで、起動させられる。
【００７１】
また、陽極の円盤２１の代わりに静止した陽極を含むＸ線管の場合には、残余の又は余剰の電荷によって生成させられた電子ビームＥを、既存の捕獲ケージに向かって方向付けることができる。
【００７２】
本発明による解決手段を、金属の筐体を有する金属缶の管の場合にもまた使用することができる。そして、加えて、残余の又は余剰の電荷によって生成させられた電子ビームＥを、陽極の電圧の中断の形態で偏向パルスによって、正の金属の筐体に向かって方向付け、このように望ましくないＸ線の発生を予防することは、可能である。
【００７３】
Ｘ線が、高電圧を切り替えることによって、スイッチを入れられたり切られたりする、前述した格子無しのＸ線管の場合には、エッジの急峻さの実質的な強調を達成するために、説明した種類の偏向パルスを使用することができ、それと共にＸ線が、露出の終了後に、すなわち、特にＸ線管のパルスの動作の場合に、減衰する。残余の電荷によって生成させられた電子ビームが、陽極から離れて偏向させられる及び／又は適切にデフォーカスされると共にＸ線が、実質的により大きいエッジの急峻さで減衰するように、このような偏向パルスを、高電圧のスイッチを切ると同時に又は暫時スイッチを切る前に、このようなＸ線管の適切な偏向板（５１、５２）又は磁石コイル（６１、６２）へ印加することができる。
【００７４】
最後に、本発明の原理を、それにより電子ビームを偏向させる又はデフォーカスさせるが、この電子ビームが、除去される残余の又は余剰の電荷を起源とせずに異なる様式で生成させられる場合にもまた、使用することができる。
【００７５】
図５は、陽極２、管を遮断すると共に管をつなげる陰極管３４のみならず、陰極の二つのフィラメント３３１、３３２を備えたＸ線管１００のみならず、回路の配置の概略的な表現である。フィラメント３３１、３３２は、それらの一方が、他方が小さい焦点（ＳＦ）のために提供される一方で、大きい焦点（ＬＦ）のために提供され、（示さない）フィラメントの変圧器を介してフィラメントの電流を受ける。第一のステージ１１０及び第二のステージ１１１からなる高電圧の供給ユニットは、（示さない）変換器によって供給される交流電圧から陽極の電圧（ｋＶの電圧）を形成する。また、図は、光導電体１２１によって接続されるスイッチ１２２を介して操作者によって起動させることができる電圧又は電流の供給及び制御ユニット１２０を概略的に示す。ユニット１２０は、変換器１２３を介して、フィラメント３３１、３３２及び陰極管３４に接続されるのみならず、高電圧の供給ユニットの第一のステージ１１０に、接続される。
【００７６】
ユニット１２０は、同時に偏向パルスを発生させ、それによって残余の又は余剰の電荷のために生ずる電子ビームが、（示さない）放射収集器に向かって偏向させられることのみならず、記載した放電パルスを発生させ、それによってＸ線管１００が、つなげられるために役に立つ。
【００７７】
また、電圧又は電流の供給及び制御ユニット１２０を、Ｘ線管用の高電圧発生器の一部を形成するために、構成してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】本発明の第一の実施形態の回路図を示す。
【図２】本発明の第二の実施形態の回路図を示す。
【図３】本発明の第三の実施形態の回路図を示す。
【図４】本発明の第四の実施形態の回路図を示す。
【図５】Ｘ線管用の電圧供給ユニットのブロック図を示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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