(57)【要約】１９３ｎｍ以下の波長に対して半導体素子を生成するための投影レンズを有する、特には極端紫外線（ＥＵＶ）リソグラフィに使用するための照明システムが、光源（１）と、物体平面（１２）と、出口瞳（１５）と、光チャンネルを生成するための第１スクリーンエレメント（６）を有する第１光学エレメント（５）と、第２スクリーンエレメント（８）を有する第２光学エレメント（７）とを備えている。第２光学エレメント（７）のスクリーンエレメント（８）は、第１光学エレメント（５）の第１スクリーンエレメント（６）のうちの１つにより形成される各光チャンネルに割り当てられる。第１光学エレメント（５）及び前記第２光学エレメント（７）のスクリーンエレメント（６）は、これらスクリーンエレメントが各光チャンネルに対して光源（１）から物体平面（１２）までの連続したビーム進路を生成するように構成し又は配置することができる。第１光学エレメント（５）の第１スクリーンエレメント（６）の角度は、傾きを変更するために調整することができる。第２光学エレメント（７）における第２スクリーンエレメント（８）の位置及び／又は角度は、第１及び第２スクリーンエレメント（８）を変位及び／又は傾動させることにより、第２光学エレメント（７）の第２スクリーンエレメント（８）に対する第１光学エレメント（５）の第１スクリーンエレメント（６）の他の割り当てを実現するように個別に且つ互いに独立に調整することができる。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
特にはＥＵＶリソグラフィのための照明システムであって、１９３ｎｍ以下の波長に対して半導体素子を生成するための投影対物系と、光源と、物体平面と、出力瞳と、光チャンネルを生成するための第１格子エレメントを備える第１光学エレメントと、第２格子エレメントを備える第２光学エレメントとを有し、前記第１光学エレメントにおける前記第１格子エレメントの１つにより形成される各光チャンネルには前記第２光学エレメントの格子エレメントが割り当てられ、前記第１光学エレメント及び前記第２光学エレメントの格子エレメントは各光チャンネルに関する結果が前記光源から前記物体平面までの連続したビーム進路となるように構成し又は配置することが可能であるような照明システムにおいて、
前記第１光学エレメント（５）の第１格子エレメント（６）の角度は、該第１格子エレメント（６）を傾動させることにより、前記第２光学エレメント（７）の第２格子エレメント（８）に対する前記第１光学エレメント（５）の第１格子エレメント（６）の異なる割り当てを実行するために傾きを変更するように調整することができることを特徴とする照明システム。
【請求項２】
請求項１に記載の照明システムにおいて、前記第２光学エレメント（７）の第２格子エレメント（８）の数Ｍが前記第１光学エレメント（５）の格子エレメント（６）の数Ｎよりも大きいことを特徴とする照明システム。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の照明システムにおいて、前記第２光学エレメント（７）の第２格子エレメント（８）の位置及び／又は角度は個々に且つ互いに独立に制御することができ、これにより、前記第１及び第２格子エレメントの変位及び／又は傾動によって前記第２光学エレメント（７）の第２格子エレメント（８）に対する前記第１光学エレメント（５）の第１格子エレメント（６）の異なる割り当てを実行することを特徴とする照明システム。
【請求項４】
請求項３に記載の照明システムにおいて、前記第１格子エレメントは第１ミラーファセット（６）の形態のフィールドハニカムとして形成され、前記第２格子エレメントは第２ミラーファセット（８）の形態の瞳ハニカムとして形成され、前記第１ミラーファセット（６）及び第２ミラーファセット（８）が、各々、ミラー支持体（１６）上に配設されていることを特徴とする照明システム。
【請求項５】
請求項４に記載の照明システムにおいて、前記第１及び第２光学エレメント（５，７）のミラーファセット（６，８）の間の前記光チャンネルは、前記第１光学エレメント（５）の前記ミラーファセット（６）を前記ミラー支持体（１６）に対して傾動させることにより調整することができ、これにより、前記第２光学エレメント（７）の第２ミラーファセット（８）に対する前記第１光学エレメント（５）の第１ミラーファセット（６）の異なる割り当てを、従って前記出口瞳（１５）の異なる照明パターンを実施することを特徴とする照明システム。
【請求項６】
請求項４又は請求項５に記載の照明システムにおいて、前記第１光学エレメント（５）の第１ミラーファセット（６）と前記第２光学エレメント（７）の第２ミラーファセット（８）との間の前記光チャンネルは、前記第２光学エレメント（７）の第２ミラーファセット（８）を前記ミラー支持体（１６）に対して傾動及び変位させることにより調整することができることを特徴とする照明システム。
【請求項７】
請求項４に記載の照明システムにおいて、前記第１光学エレメント（５）及び／又は前記第２光学エレメント（７）の前記ミラーファセット（６，８）は、各々、対応する前記ミラー支持体（１６）に対しジョイント（２２）を介して接続されることを特徴とする照明システム。
【請求項８】
請求項７に記載の照明システムにおいて、前記ジョイント（２２）は固体ジョイントとして形成されることを特徴とする照明システム。
【請求項９】
請求項７又は請求項８に記載の照明システムにおいて、前記ミラーファセット（６，８）はｘ方向及び／又はｙ方向に傾動することができることを特徴とする照明システム。
【請求項１０】
請求項９に記載の照明システムにおいて、前記ジョイント（２２）が前記ミラーファセット（６，８）のｘ軸及び／又はｙ軸上に各々配置されていることを特徴とする照明システム。
【請求項１１】
請求項４に記載の照明システムにおいて、前記ミラーファセット（６，８）を変位及び／又は傾動させるために、前記格子エレメント（６，８）と前記ミラー支持体（１６）との間にアクチュエータ（２３）が配設されることを特徴とする照明システム。
【請求項１２】
請求項１１に記載の照明システムにおいて、前記アクチュエータ（２３）が圧電セラミック調整素子を有していることを特徴とする照明システム。
【請求項１３】
請求項１２に記載の照明システムにおいて、前記アクチュエータ（２３）には、磁気的に又は電気的に駆動することが可能な駆動エレメントが設けられていることを特徴とする照明システム。
【請求項１４】
請求項１１に記載の照明システムにおいて、前記アクチュエータ（２３）は前記格子エレメント（６，８）を制御ループを介して連続的に調整することを特徴とする照明システム。
【請求項１５】
請求項１１に記載の照明システムにおいて、前記アクチュエータ（２３）に対して終端位置が規定されることを特徴とする照明システム。
【請求項１６】
請求項４に記載の照明システムにおいて、前記ミラーファセット（６，８）は所定の経路上で変位することができることを特徴とする照明システム。
【請求項１７】
請求項１６に記載の照明システムにおいて、前記ミラーファセット（６，８）が各々個別に案内されるカム軌道が前記ミラー支持体（１６）に導入されていることを特徴とする照明システム。
【請求項１８】
請求項１７に記載の照明システムにおいて、前記ミラー支持体（１６）は案内ディスクとして形成され、該案内ディスクは制御ディスク（１８）と相互に作用し合い、該制御ディスクには前記ミラーファセット（６，８）を変位させるための案内軌道（１９）が配設されることを特徴とする照明システム。
【請求項１９】
請求項１８に記載の照明システムにおいて、前記制御ディスク（１８）が駆動されることを特徴とする照明システム。
【請求項２０】
請求項１７に記載の照明システムにおいて、前記ミラーファセット（６，８）の各々が前記ミラー支持体（１６）におけるカム軌道内で案内され、前記ミラーファセット（６，８）の各々は駆動エレメントにより個別に駆動することができることを特徴とする照明システム。
【請求項２１】
請求項２０に記載の照明システムにおいて、前記駆動エレメントはカム軌道内に各々配設され、前記ミラーファセット（６，８）の各々は尺取り虫運動原理に基づいて個別に移動されることを特徴とする照明システム。
【請求項２２】
半導体素子を生成するためのマイクロリソグラフィ用の投影露光装置であって、照明システムを有すると共に、１９３ｎｍ以下の波長に対して半導体素子を生成するための投影対物系と、光源と、物体平面と、出力瞳と、光チャンネルを生成するための第１格子エレメントを備える第１光学エレメントと、第２格子エレメントを備える第２光学エレメントとを有し、前記第１光学エレメントにおける前記第１格子エレメントの１つにより形成される各光チャンネルには前記第２光学エレメントの格子エレメントが割り当てられ、前記第１光学エレメント及び前記第２光学エレメントの格子エレメントは各光チャンネルに関する結果が前記光源から前記物体平面までの連続したビーム進路となるように構成し又は配置することが可能であるような投影露光装置において、
前記第１光学エレメント（５）の第１格子エレメント（６）の角度は、該第１格子エレメント（６）を傾動させることにより、前記第２光学エレメント（７）の第２格子エレメント（８）に対する前記第１光学エレメント（５）の第１格子エレメント（６）の異なる割り当てを実行するために傾きを変更するように調整することができることを特徴とする投影露光装置。
【請求項２３】
請求項２２に記載の投影露光装置において、前記第２光学エレメント（７）における第２格子エレメント（８）の数Ｍが、前記第１光学エレメント（５）における格子エレメント（６）の数Ｎよりも大きいことを特徴とする投影露光装置。  
【請求項２４】
請求項２２又は請求項２３に記載の投影露光装置において、前記第２光学エレメント（７）の第２格子エレメント（８）の位置及び／又は角度は個別に且つ互いに独立に制御することができ、これにより、前記第１及び第２格子エレメントの変位及び／又は傾動によって前記第２光学エレメント（７）の第２格子エレメント（８）に対する前記第１光学エレメント（５）の第１格子エレメント（６）の異なる割り当てを実行することを特徴とする投影露光装置。
【請求項２５】
請求項２４に記載の投影露光装置において、前記第１格子エレメントは第１ミラーファセット（６）の形態のフィールドハニカムとして形成され、前記第２格子エレメントは第２ミラーファセット（８）の形態の瞳ハニカムとして形成され、前記第１ミラーファセット（６）及び第２ミラーファセット（８）が、各々、ミラー支持体（１６）上に配設されていることを特徴とする投影露光装置。
【請求項２６】
請求項２５に記載の投影露光装置において、前記第１及び第２光学エレメント（５，７）のミラーファセット（６，８）の間の前記光チャンネルは、前記第１光学エレメント（５）の前記ミラーファセット（６）を前記ミラー支持体（１６）に対して傾動させることにより調整することができ、これにより、前記第２光学エレメント（７）の第２ミラーファセット（８）に対する前記第１光学エレメント（５）の第１ミラーファセット（６）の異なる割り当てを、従って前記出口瞳（１５）の異なる照明パターンを実施することを特徴とする投影露光装置。
【請求項２７】
請求項２５又は請求項２６に記載の投影露光装置において、前記第１光学エレメント（５）の第１ミラーファセット（６）と前記第２光学エレメント（７）の第２ミラーファセット（８）との間の前記光チャンネルは、前記第２光学エレメント（７）の第２ミラーファセット（８）を前記ミラー支持体（１６）に対して傾動及び変位させることにより調整することができることを特徴とする投影露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特には極端紫外線（ＥＵＶ）リソグラフィのための照明システムであって、１９３ｎｍ以下の波長に対して半導体素子を生成するための投影対物系と、光源と、物体平面と、出口瞳と、光チャンネルを生成するための第１格子エレメントを備える第１光学エレメントと、第２格子エレメントを備える第２光学エレメントとを有し、上記第１光学エレメントにおける第１格子エレメントの１つにより形成される各光チャンネルには上記第２光学エレメントの格子エレメントが割り当てられ、上記第１光学エレメント及び第２光学エレメントの格子エレメントは各光チャンネルに関する結果が上記光源から上記物体平面までの連続したビーム進路となるように構成し又は配置することが可能であるような照明システムに関する。
【０００２】
また、本発明は斯様な照明システムを有する投影露光装置にも関する。
【背景技術】
【０００３】
特には半導体部品等の電子部品の構造幅を低減するためには、マイクロリソグラフィに使用される光の波長は、更に一層減少されねばならない。現在の処、１９３ｎｍ以下の波長がリソグラフィに既に使用されている。
【０００４】
ここで、ＥＵＶリソグラフィに適した照明システムは、当該ＥＵＶリソグラフィのために予め規定されたフィールド（視野）、特には対物系の環状フィールドを可能な限り少ない反射で一様に、即ち均一に照明しなければならない。加えて、上記対物系の瞳は、上記フィールドとは独立に特定の満たしレベルσまで照明されねばならず、且つ、照明システムの出口瞳は対物系の入口瞳内に位置しなければならない。
【０００５】
一般的な従来技術に関しては、米国特許第5,339,346号、第5,737,137号、第5,361,292号及び第5,581,605号を参照されたい。
【０００６】
ヨーロッパ特許第EP0939341号はＥＵＶ域用の照明システムであって、多数の第１格子エレメントを備える第１光積分器と、多数の第２格子エレメントを備える第２光積分器とを有しているような照明システムを示している。この場合、出口フィールド内における照明の分布は絞りホイール（stop
wheel）を介して制御される。しかしながら、絞りホイールの使用は、かなりの光の損失につながる。四極照明分布及び交換可能な光学系により異なるように使用することが可能な照明システム等の他の提案された解決策は、しかしながら、第１に複雑であると共に、第２に特定の型式の照明に制限されてしまう。
【０００７】
ドイツ国特許出願公開第DE19903807A1号は、とりわけ、格子エレメントを備える２つのミラーを有するようなＥＵＶ照明システムを記載している。この型式のシステムは、ダブルファセット（double
facetted）ＥＵＶ照明システムとも呼ばれる。この場合、出口瞳の照明は第２ミラー上の格子エレメントの配置により決定される。この場合、該出口瞳における照明、即ち照明分布は規定されてしまう。
【０００８】
より以前のドイツ国特許出願第10053587.9号にも照明システムが記載されており、該照明システムの出口瞳には第１光学エレメントの格子エレメントと第２光学エレメントの格子エレメントとの間の適切な関連づけにより、所定の照明パターンを設定することができる。この型式の照明システムを使用して、レチクル面におけるフィールドは一様に且つ部分的に満たされた開口を用いて照明することができ、該照明システムの出口瞳は可変的態様で照明することもできる。この場合、当該出口瞳における如何なる所望の照明分布の可変設定も、多くは光の損失無しで実行することができる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、以前の特許出願の基本的思想を構造的解決策により実際に実施化することができるような照明システムを提供するという目的に基づくものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明によれば、この目的は、前記第１光学エレメントにおける第１格子エレメントの角度を、傾きを変更すべく調整することができるようにすることにより達成される。更に、前記第２光学エレメントの第２格子エレメントの位置及び／又は角度も個々に且つ互いに独立に制御することができ、これにより、前記第１及び第２格子エレメントの変位及び／又は傾動によって前記第２光学エレメントの第２格子エレメントに対する前記第１光学エレメントの第１格子エレメントの異なる割り当てを実行する。
【００１１】
上記格子エレメントの適切な変位及び／又は傾動により、可変構成の光チャンネルを達成することができる。
【００１２】
フィールドにおける格子エレメントとしてのフィールドハニカムの個々の光束が再び重なり合うようにするために、格子エレメントとしての瞳ハニカムは、瞳ハニカム板、即ち該瞳ハニカムのミラー支持体に対して適切に傾斜又は傾動させることができる。フィールドハニカム及び瞳ハニカムとしては、ミラーファセットが特に適している。
【００１３】
この場合、当該システムが、上記フィールドハニカム板、即ち第１光学エレメントのミラー支持体の後に光源の実中間像を有するようなシステムとして構築される場合には、上記瞳ハニカムを、同時に、光源をリソグラフィ対物系、即ち投影対物系の入口瞳へ結合投影するための、フィールドレンズとして使用することができる。
【００１４】
本発明の有利な改善例において、上記瞳ハニカム板（即ち、ミラー支持体）の第２格子エレメント（瞳ハニカム）の数Ｍが、照明される第１格子エレメント（フィールドハニカム）の数により決まるチャンネルの数Ｎより常に大きい場合は、前記出口瞳に可変の照明パターンを提供することができる。言い換えると、この場合、第２光学エレメント上には、第１光学エレメントの第１格子エレメントにより生成される光チャンネルの数にとり必要であるよりも、多くの瞳ハニカム又はミラーファセットが設けられる。Ｎチャンネルを持つ特定のフィールドハニカムに対して特定の設定が付与された場合、各々、上記瞳ハニカムの幾つかのみが照明される。従って、これは上記瞳ハニカムの区域化された又は区分された照明につながる。
【００１５】
本発明の他の有利な改良例及び発展例は、残りの従属請求項から及び主に図面を使用して説明する下記の例示的実施例から明らかとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
図１は、例えばレーザプラズマ、プラズマ若しくはピンチプラズマ源又はその他のＥＵＶ光源等の光源１と、単に原理的に図示された投影対物系２とを有する完全なＥＵＶ照明システムを備えるようなＥＵＶ投影照明装置を全体的概要図として示している。上記光源１とは別に、当該照明システムには、例えば互いに整列された複数のシェルを有し得るような集光器ミラー２と、平面鏡３又は反射性スペクトルフィルタと、上記光源の像を伴う（図示せず）開口絞り４と、多数のファセットミラー６（図２及び図３参照）を有する第１光学エレメント５と、該エレメントの後に配置されると共にファセットミラーの形態の多数の格子エレメント８を有する第２光学エレメント７と、２つの投影ミラー９ａ及び９ｂとが配設されている。投影ミラー９ａ及び９ｂは、第２光学エレメント７のファセットミラー８を投影対物系２の入口瞳に投影するために使用される。レチクル１２は走査システムとしてｙ方向に移動することができる。レチクル面１１は、同時に前記物体平面も構成する。
【００１７】
当該照明システムのビーム経路における設定を調整するための異なる光チャンネルを設けるために、例えば、第２光学エレメント７のミラーファセット８の数Ｍは、第１光学エレメント５のミラーファセット６の数Ｎに対応するよりも多い。図１には、明瞭化の理由により、ミラーファセットは図示されていない。第１光学エレメント５のミラーファセット６の角度は各々個別に調整することができる一方、第２光学エレメント７のミラーファセット８は角度及び位置の両者を調整することができる。後の文章で説明される図７ないし１４において、これに関する詳細が説明及び図示される。上記傾動可能な構成及びミラーファセット６及び８を変位させる能力の結果として、異なるビーム経路、従って異なる光チャンネルを、第１光学エレメント５と第２光学エレメント７との間に形成することができる。
【００１８】
続く投影対物系２は、６ミラー式の投影対物系として構築することができる。ウェファ１４は、露光されるべき物体としてキャリアユニット１３上に配置される。
【００１９】
ミラーファセット６及び８を調整する能力の結果として、当該照明システムの出口瞳１５（これは、同時に上記投影対物系２の入口瞳も形成する）に、異なる設定を実施することができる。
【００２０】
図２及び３において、本質的に異なる光チャンネルは、２つの光学エレメント５及び７におけるミラーファセット６及び８の異なる層及び角度により図示されている。この場合、該照明システムは図１における概念図に比較して簡素化された形で示されている（例えば、光学エレメント５及び７の位置に関して、及び１つの投影ミラー９しか備えないようにして）。
【００２１】
この場合、図２における概念図は一層大きな満たし係数σを示している。
【００２２】
σ＝１．０の場合、対物系瞳は完全に満たされ；
σ＝０．６は、従って、満たし不足を示す。
【００２３】
図２及び３には、光源１からレチクル１２を介して入口瞳１５までのビーム経路が図示されている。
【００２４】
図４は、ミラーファセット６の形態の多数の格子エレメントを有する第１光学エレメント５のミラー支持体１６の平面図を示している。該図は、長方形状のフィールド（視野）ハニカムとしての１４２個の個別に調整可能なミラーファセット６を示し、これらミラーファセットは入れ子にされた集光器ミラー２により照明される領域にブロックとして配置されている。ミラーファセット６の角度は、各々、個別に調整することができる。第２光学エレメント７のファセット８は、更に、これらファセット自体の間で、且つ、必要ならば互いに独立に変位させることができる。
【００２５】
図５は、第２光学エレメント７のミラー支持体１６、即ち瞳ハニカム板の平面図を示し、前記光チャンネルは結果として円形の設定となっている。
【００２６】
図６は、環状の設定のミラーファセットを有する第２光学エレメント７のミラー支持体１６の平面図を示している。他の可能性は、既知の四極設定（図示略）に存する。図５及び６において、照明されているミラーファセットは、各々、暗く図示されている。
【００２７】
図７は、第２光学エレメント７のミラー支持体１６の平面図を示し、該ミラー支持体１６は案内ディスクとして形成されている。該ミラー支持体１６、即ち案内ディスクには、多数の案内溝（明瞭化の理由で、図７では１つの案内溝１７しか示されていない）が設けられ、該案内溝内で円形ミラーファセット８が各々案内される。該案内溝１７は本質的に放射方向に、又は本目的のために僅かに湾曲された形態で延びている。案内溝１７の進路は、対応するアプリケーションに及びミラーファセット８の所望の変位方向に依存する。
【００２８】
ミラー支持体１６、即ち案内ディスクの下には、この案内ディスクと平行に且つ該案内ディスクに当接するように制御ディスク１８が配設され、該制御ディスクにも、同様に、上記案内溝１７に従ってミラーファセット８に対応する複数の制御溝１９が設けられている。このように、各ミラーファセット８は、案内１７内で且つ制御溝１９内で案内される。制御ディスク１８が、駆動デバイス（図示略）により図７における矢印２０の方向に移動されると、ミラーファセット８は案内溝１７に沿って半径方向内側又は外側に向かって移動される。この変位の結果として、光チャンネルの割り当て、従って照明が変化する。このことは、制御ディスク１８を案内ディスク１６に対して回転することにより、２つの溝１７及び１９の交差点における関連するミラーファセット８が、対応する案内溝１７に沿って変位されることを意味する。
【００２９】
図９及び１０は、第２光学エレメント７におけるミラーファセット８の、ミラー支持体１６の対応する案内溝１７内における変位に関する改良例を示し、各々には駆動デバイス２１が設けられている（図９及び１０では原理的にのみに、且つ、破線で図示されている）。この場合、各ミラーファセット８は関連する案内溝１７内に自身の駆動部を有するが、斯かる駆動部は例えば既知の圧電式尺取り虫運動原理に基づいて設けることが可能である。
【００３０】
勿論、この目的のために、ミラーファセット８を各々個別に調整することができるような他の駆動デバイスも可能である。案内溝１７内に各々直接的に駆動デバイスを配設する代わりに、必要なら、これら駆動デバイスは、勿論、ミラー支持体１６の下又は背後に独立に配設することもできる。
【００３１】
図１１及び１２は、第１光学エレメント５のミラーファセット６の拡大図を断面図及び平面図として示すもので、該ミラーファセットは固体ジョイントとして形成されたジョイント２２により第１光学エレメント５のミラー支持体１６に接続されている。この場合、全ての部品を一体とすることができるか、又は各ミラーファセット６が、下側に位置するミラー支持体１６に対して接続がなされるようなジョイント２２としての中央ウェブを有するようにすることができる。
【００３２】
ミラー支持体１６と各ミラーファセット６の下面との間に配置される、詳細には示されていないアクチュエータ２３により、各ミラーファセット６はミラー支持体１６に対して傾動させることができる。図１２による平面図は、ｙ軸上に配置されるアクチュエータ２３及びｘ軸上に配置される他のアクチュエータ２３により、両方向における傾動の可能性が提供されていることを示している。この場合、上記２つのアクチュエータ２３は、各々、これらアクチュエータに割り当てられた軸上において、これら軸の交差点外に配置されている。
【００３３】
各ミラーファセット６の調整又は傾動は非常に小さな程度にしか行われないので、アクチュエータ２３として例えば圧電セラミック素子を使用することができる。
【００３４】
図１３及び１４は、ミラーファセット６の大きな傾動を可能にさせるような改良例を示している。図１３から理解されるように、この場合、ミラーファセット６とミラー支持体１６との間には中央の傾動ジョイント又は傾動ベアリング２４が存在する。ここでも、アクチュエータ２３はミラーファセット６がｘ方向及びｙ方向の両方に傾動されることを保証する。この目的のために、この場合、２つのアクチュエータ２３がｙ軸上において上記２つの軸の交差点外に互いに或る距離隔てて配置されると共に、２つの他のアクチュエータ２３がｙ軸外においてｘ軸から等しい距離隔てて両側に配置される（図１４参照）。
【００３５】
図１１ないし１４に図示した傾動デバイスにより、第１光学エレメント５のミラーファセット６のみならず、第２光学エレメント７のミラーファセット８も、所望に応じて且つ互いに独立に調整することが可能となる。
【００３６】
長尺の又は狭い長方形の形状を有する第１光学エレメント５のミラーファセット６とは異なり、第２光学エレメント７のミラーファセット８は円形形状を有している。しかしながら、この差は、図１１ないし１４に図示した傾動デバイスの作動の型式又はモードに対して何の影響も有さない。
【００３７】
本質的に、第１光学エレメントのミラーファセット６は、同様にして、図７ないし１０に図示したのと同じ方法で変位させることができるが、実際には、これは一般的には必要ではなく、代わりに、純粋な傾動的調整で通常は充分であろう。
【００３８】
アクチュエータ２３としては、磁気的に又は電気的に駆動することができる駆動エレメントも可能である。この場合、アクチュエータ２３はミラーファセット６及び８を制御ループ（図示略）を介して連続的に調整することができる。同様に、上記アクチュエータは、ミラーファセット６及び８に対して２つの正確な傾動位置が各々予め規定されるような終端位置を規定することも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】図１は、光源、照明システム及び投影対物系を有するＥＵＶ照明システムの構造を示す。
【図２】図２は、ミラーファセットの形態の格子エレメントを備える２つのミラー及び集光器ユニットを有するビーム経路の基本概念図を示す。
【図３】図３は、ミラーファセットの形態の格子エレメントを備える２つのミラー及び集光器ユニットを有する他のビーム経路の基本概念図を示す。
【図４】図４は、多数のミラーファセットを有するフィールドハニカム板（ミラー支持体）の形態の第１光学エレメントの平面図を示す。
【図５】図５は、円形照明を伴う、多数のミラーファセットを有するミラー支持体としての瞳ハニカム板の形態の第２光学エレメントの平面図を示す。
【図６】図６は、環状照明を伴う、多数のミラーファセットを有する瞳ハニカム板の形態の第２光学エレメントの平面図を示す。
【図７】図７は、瞳ハニカム板の平面図を示す。
【図８】図８は、図７のVIII−VIII線に沿う断面図である。
【図９】図９は、制御ディスクとして構成された瞳ハニカム板の平面図を示す。
【図１０】図１０は、図９のＸ−Ｘ線に沿う断面図である。
【図１１】図１１は、固体ジョイントを有するミラーファセットの断面による拡大図を示す。
【図１２】図１２は、図１１によるミラーファセットの平面図を示す。
【図１３】図１３は他の型式の取付部を有するミラーファセットの断面による拡大図を示す。
【図１４】図１４は、図１３によるミラーファセットの平面図を示す。
【符号の説明】
【００４０】
２  集光器ミラー
３  平面鏡
４  開口絞り
５  第１光学エレメント
６  ファセットミラー
７  第２光学エレメント
８  ファセットミラー
９  投影ミラー
１１  レチクル面
１２  レチクル
１４  ウェファ
１５  出口瞳
１６  ミラー支持体
１７  案内溝
１８  制御ディスク
１９  制御溝
２１  駆動デバイス
２２  ジョイント
２３  アクチュエータ
２４  傾動ベアリング
【図１】
2005524236.tif 000003
【図２】
2005524236.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【国際調査報告】
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