(57)【要約】チップ（３０）を保護するための装置は、チップ（３０）を収納するためのチャンバ（１６）と、放射線の通過およびチップ（３０）への照射を許容する窓（１８）と、ガスの入口（２０）とを備える。ガスの入口はチャンバ（１６）と連結され、ガス供給源（２４）からガスの流れを受け取り、ガスの流れはチップ（３０）を保護する。
2005524112.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印加された信号に応じて変位可能なマイクロミラーを少なくとも１つ含むチップ（３０）を、放射線の照射を受けている間、チップの一部と反応成分との反応を原因とする劣化から保護する装置（１０）であって、上記装置（１０）は、
上記チップ（３０）を収納するためのチャンバ（１６）と、
上記放射線の透過と上記チップ（３０）の少なくとも一部への照射とを許容する窓（１８）とを備え、
ガスの流れによって上記チャンバ（１６）から上記反応成分が一掃されることを特徴とする装置。
【請求項２】
請求項１に記載の装置（１０）であって、
上記反応成分は周囲の空気に含まれる酸素であり、上記ガスの流れは上記チップ（３０）に当たる上記放射線によって上記チップ（３０）が作動している間に上記チップ（３０）の酸化可能な成分が酸化しないように保護することを特徴とする装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の装置（１０）であって、
上記チャンバ（１２）はガスが周囲の空気に漏洩することを許容することを特徴とする装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載の装置（１０）であって、
上記チャンバ（１６）は、上記チャンバ（１６）と連結されかつガス供給源（２４）から上記チャンバ（１６）を一掃するためのガスの流れを受取るように形成されたガスの入口（２０）を備えることを特徴とする装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載の装置（１０）であって、
上記チャンバ（１６）は、上記チャンバ（１６）と連結されたガスの出口を備え、上記ガスの出口は上記チャンバ（１６）からのガスを受取るように形成されていることを特徴とする装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかに記載の装置（１０）であって、
上記窓（１８）は上記チップ（３０）の表面に対し傾斜していることを特徴とする装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかに記載の装置（１０）であって、
上記放射線は紫外線であることを特徴とする装置。
【請求項８】
請求項７に記載の装置（１０）であって、
上記窓（１８）は上記紫外線を透過させるものであり、
上記チップ（３０）はアルミニウムまたはアルミニウム合金を含むマイクロミラーと、上記マイクロミラーを変位させるための電気的力を上記マイクロミラーとの間に発生させるための電極とを備え、
上記電極はＴｉＮで形成されるかまたはＴｉＮを含み、
上記チップはパッケージの内部に配置されていることを特徴とする装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれかに記載の装置（１０）であって、
上記チャンバ（１６）は、上記チップ（３０）と上記チャンバ（１６）の外部の電力供給手段との電気的接続のための手段を備えることを特徴とする装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれかに記載の装置（１０）であって、
上記装置（１０）はさらにハウジング（１２，１２ａ，１２ｂ）を備え、上記チャンバ（１６）は上記ハウジング（１２，１２ａ，１２ｂ）内の凹部によって形成されていることを特徴とする装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれかに記載の装置（１０）であって、
上記装置（１０）はさらにチップハウジング（１２ａ）と上板（１２ｂ）とを含むハウジングを備えることを特徴とする装置。
【請求項１２】
チップ（３０）を作動させる方法であって、上記チップ（３０）は、アルミニウムまたはアルミニウム合金を含むマイクロミラーと、上記マイクロミラーを変位させるため、上記マイクロミラーとの間に電気的力を発生させるための電極とを備え、上記方法は、
ガスの流れを上記チップ（３０）に当てるステップと、
上記ガスの流れが上記チップ（３０）に当てられている間に上記チップ（３０）に照射するステップとを備え、
上記チップ（３０）は照射されている間、劣化から保護されることを特徴とする方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の方法であって、
上記放射線は紫外線であることを特徴とする装置。
【請求項１４】
請求項１２または１３に記載の方法であって、
上記電極はＴｉＮから形成され、上記ガスの流れは、上記チップ（３０）に当たる放射線によって上記チップ（３０）が作動している間、上記電極の酸化を防止することを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子部品チップの劣化からの保護に関し、特に、チップの放射線の照射を受ける間の劣化からの保護に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
１個または複数個のチップの上に集積されたマイクロミラーを含む装置は、現在、光学スイッチの分野や光変調の分野などの多様な応用分野に使用されている。チップに含まれるマイクロミラーは、電気信号に応じて機械的に変位させられ、光源から照射されてマイクロミラーにより反射された光は、空間変調されることができる。約２４８ナノメートルの波長を有する紫外線光域の中で使用するために、この光域において良好な光学反射特性を備えたアルミニウムまたはアルミニウム合金から形成されたマイクロミラーが使用されている。
【０００３】
アルミニウムまたはアルミニウム合金から形成されたマイクロミラーを含む公知のチップは、マイクロミラーの下方に配置された電極を有する。電極には、マイクロミラーを変位させるために電気信号が印加される。典型的な装置では、電極は、チップの製造過程における化学機械的研磨処理（ＣＭＰ）の終点を決定するためのＴｉＮ（窒化チタン）で覆われている。
【０００４】
しかしながら、ＴｉＮで覆われた電極に高い電位が印加され、さらに紫外線光にさらされると、空気などの酸化環境中ではＴｉＮの酸化が引き起こされる。これは、例えば、ミラーとミラーのヒンジとの間に形成されたスリットを放射線が通過するときなどに発生する。
【０００５】
電極の酸化（二酸化チタンＴｉＯ2)による問題は、ＴｉＮが酸化した時にマイクロミラーの偏向が減少することである。マイクロミラーの偏向が減少する原因は完全には解明されていないが、しかし、絶縁に係る成分が酸化物（ＴｉＯ2)中に閉じ込められるのではないかと疑われている。閉じ込められた成分が、ミラーを偏向させるために印加された電気信号の減少を起こし、そのため、ミラーに作用して変位を引き起こす力が減少する。したがって、安定した効果を得るためには、電極上に配置されたＴｉＮ材料の酸化を防ぐことが必要である。
【０００６】
これまで、上述のチップのＴｉＮ電極の酸化の問題は、十分には解決されていない。酸素は空気中の高い割合を占めていることは一般的に知られているため、この問題を解決する一つの方法は、気密箱の中にチップを封入し、箱を真空にすることで、ＴｉＮ電極の空気との接触を避けることである。
【０００７】
この方法に関連する問題は、気密箱が、精密度の高い製造過程と、製造を高価で難しいものにする高品質材料によってのみ得られることである。さらに、箱を真空にすることで、外気によって引き起こされる力が箱に作用する。典型的には、ガス気密箱は、高水準の作業機器を用い、１個の部品から製造される。その箱を形成するために複数の部品が用いられる場合には、それらの部品のいくつかは精密度の高い封止力を備えていなければならない。
【０００８】
さらに、箱の中にチップを配置することで放射線が少なくともチップの一部に当たるように窓を用意する必要が発生し、その後、箱と窓の間に、例えば窓の周囲に施す目張りのような気密性の中間面が必要となる。このような封止にかかる費用も増大し、このような部品は例えば箱の船積みや取り扱い中などに簡単に損傷を受けやすい。
【０００９】
この方法に関連するもう１つ問題は、わずかな漏れでも気密箱に空気が入り込むことがあるので、定期的に漏れがないか箱を検査しなければならないために、メンテナンスの労力が必然的に増大することである。このような計測のために箱の中に気圧計などの追加装置が必要となる可能性がある。その結果、労力とコストが増大する。
【００１０】
チップを酸化から保護するもう一つの方法は、箱にチップを配置し、空気圧より高圧で保護ガスを箱に満たす方法である。しかし、この場合も、保護ガスが箱の外に急激に放出されるのを防ぎ、周囲の空気が箱の内部に侵入し保護ガスと混合するのを防ぐために、箱は気密でなければならない。したがって、上記の問題はこの方法にも当てはまる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
この先行技術を基にして、本発明の目的は、チップの安定作動を可能にするようチップを劣化から保護するため、より良い装置とより良い方法とを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
この目的は、クレーム１に記載の装置と、クレーム１２に記載の方法とで解決される。
【００１３】
本発明は、印加された信号に応じて変位可能なマイクロミラーを少なくとも１つ含むチップを、放射線の照射を受けている間、チップの一部と反応成分との反応を原因とする劣化から保護する装置を示し、この装置は、チップを収納するためのチャンバと、放射線の透過とチップの少なくとも一部への照射とを許容する窓とを備え、上記チャンバからガスの流れによって反応成分が一掃される。
【００１４】
さらに、本発明は、チップを作動させる方法を提供する。このチップは、アルミニウムまたはアルミニウム合金から形成されたマイクロミラーと、マイクロミラーを変位させるため、マイクロミラーとの間に電気的力を発生させるための電極とを備え、上記方法は、ガスの流れをチップに当てるステップと、チップにガスの流れが当てられている間にチップを照射するステップとを備え、上記チップは放射線の照射を受ける間の劣化から保護される。
【００１５】
本発明によれば、チップの安定作動は、ガスの流れでチップから空気を一掃することによりチップを劣化から保護し、酸化とそこからくる問題を防ぐことで得られる。この空気の除去は、ガスの供給源からチャンバにガスを流し込むガスの入口を有する、チップを収納するためのチャンバを準備することで達成される。このチャンバは、チップを保護するためのガス気密性が必要でないため、安価な方法で製造することができ、使用も容易である。
【００１６】
ある望ましい実施例によると、チップは、アルミニウムまたはアルミニウム合金から形成されたマイクロミラーと、ＴｉＮ材料から成る層で覆われ、マイクロミラーに静電気力を印加するためにチップ上でかつ電極の下方に配置された電極と、を備える。ＴｉＮ材料の酸化は、チップが少なくともその一部に紫外線の照射を受け、電極に印加された電気信号に応じてマイクロミラーを変位させるよう作動される間、ガスの流れによってチップから空気を一掃することにより、防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明の望ましい実施例は、添付した図面を参照しながら以下に説明する。
図１は本発明の望ましい実施例の平面図を示し、
図２は図１の実施例の側面図を示す。
【実施例１】
【００１８】
図１には、本発明の望ましい実施例に従う装置１０が示されている。装置１０はチップを劣化から保護するためのものであり、箱とも呼ばれるハウジング１２を備える。本発明のハウジング１２はある特定の形に限定されておらず、図示される形状に加え、円筒形など他の形状も本発明で使用可能である。
【００１９】
ハウジング１２は、凹所１６が形成された上面１４を持つ。凹所１６はチップを収納するのに適している。望ましくは、チップが凹所１６内に配置されるとき、チップと凹所１６の側壁との間にわずかな隙間のみが残るように、凹所１６はチップよりやや大きな寸法を有する。これにより、以下に詳細を説明するように、チップの表面に添ってガスの流れが当たるようになっている。
【００２０】
さらに、光学窓１８がハウジング１２の上面に設けられ、紫外線が光学窓１８を透過し、凹所１６内に配置されたチップの表面の少なくとも一部に当たることを許容する。光学窓１８は、光学窓１８に対面するチップの表面全体が紫外線の照射を受けられるように、凹所１６の寸法を超えて延びている。光学窓は、クォーツ材料や紫外線を通す他のいずれかの材料、例えばＭｇＦ2 （フッ化マグネシウム）から形成される。
【００２１】
装置１０は、ハウジング１２にガスの入口２０を含む。ガスの入口２０は管２２を収容する。ガスの入口２０は、管２２からハウジング１２の凹所１６にガスを吹き込ませるために、凹所１６と繋がっている。ガスの入口２０はハウジング１２の側面に配置されているが、この入口２０は、ハウジング１２に対し、上面１４に対向する底面か、または他の適切な場所に配置されてもよい。
【００２２】
ガス管２２のもう一方の端部は、保護ガスを貯留するガス供給源２４に連結されている。ガス供給源２４からハウジング１２の凹所１６へのガスの流れは、流量制御装置(mass flow controller)２６によって制御されている。
【００２３】
望ましくは、保護ガスはアルゴンまたは窒素／水素がよい。しかし、酸化から保護するために供給される公知のガスを他の実施例に使うことも可能である。
【００２４】
流量制御装置２６は、一般に使用可能なタイプのものであり、ハウジング１２の凹所１６の容量などの所定のパラメーターに従って、ガスの流量を制御することが可能である。
【００２５】
図２は、ハウジング１２と図１の管２０の断面図を示す。ハウジング１２は、ベース板の役割を果たすチップハウジング１２ａと、下方にのびるフランジ部２８を周囲に有する上板１２ｂとで構成される。チップハウジング１２ａは上板１２ｂに対面するように取り付けられている。凹所１６は上板１２ｂ内に形成され、上板１２ｂを貫通して延びている。窓１８は上板１２ｂの上面１４上に形成される。図２に示されるように、チップハウジング１２ａと上板１２ｂとが合体する時、凹所１６内にチップ３０が配置されるように、チップハウジング１２ａ上にチップ３０が配置される。図からわかるように、チップ３０と凹所１６との寸法は、チップと、凹所１６の側壁と、窓１８との間にギャップ３２が維持され、ガスがチップ３０を通過することを許容するような寸法に形成されている。ガス気密性が必要ではないので、チップ３０の変位は簡単である。
【００２６】
以下に、特定のチップ３０を使ったさらなる実施例に関連し、装置１０の作動をさらに詳細に説明する。チップ３０は、アルミニウムまたはアルミニウム合金から形成されたマイクロミラーを備える。電極に印加された電気信号に応じて、マイクロミラーに静電気力を与えるために、電極がマイクロミラーの下方に配置されている。電極は、チップの製造過程においてＣＭＰ処理の終点を決定するために、ＴｉＮで覆われている。
【００２７】
作動の工程において、電極を覆っているＴｉＮ材料の酸化を防ぐために、凹所１６と窓１８とチップハウジング１２ａとから形成されたチャンバの中にチップ３０が配置される。ガス供給源２４からの保護ガスは、流量制御装置２６で制御されながら、管２２とガスの入口２０からチャンバの内部に流れ込む。
【００２８】
ガスの入口２０からチャンバの内部に流れ込んだあと、ガスはギャップ３２からチップ３０に流れ、窓１８に対面するチップ３０の上面を通過する。チップ３０を通過するガスの流れによって、空気はチップ３０から一掃される。チャンバは気密構造ではなく、ガスとガスの流れによって除かれた空気とはチャンバから流れ出ることができる。ガスの流れがチップ３０の上面全体を覆うように、ハウジング１２は望ましくは、チャンバのガスの入口２０に対向する側面からガスの流出を可能にするように設計される。ガスをチャンバから流出させる追加的な手段は、ガスの入口２０に対向する側のフランジ２８内に設けることも可能である。
【００２９】
ある実施例では、ガスの入口２０に対向してガスの出口が設けられてもよい。ガスの出口が設けられた場合には、チャンバから流出するガスをガス供給源へと還流させ、ガスの閉回路を形成することが可能である。この実施例は、高価な保護ガスを使用したときに、保護ガスのロスを低減するために効果的である。
【００３０】
チャンバを通過するガスによってチャンバの空気は一掃され、チャンバはその後、チャンバ内にガスの流れが維持されている限り、空気には触れることがない。
【００３１】
さらに、ガスの流れは、以下に説明するように、放射線が当たることで熱を帯びたチップ３０を冷却する役割を果たす。
【００３２】
チップ３０の作動工程において、水銀灯やレーザーなどの適切な発生源によって生み出された紫外線は、窓１８に照射され、窓１８を透過して、窓１８に対面するチップ３０の上部表面上に配置されたマイクロミラーに当たる。窓１８は、高い割合の紫外線が窓１８を透過してチップ３０に当たるように、クォーツ、ＭｇＦ2 、または紫外線が透過可能な他のいずれかの材料から形成されている。望ましくは、二重画像(double imaging)を避けるために、チップ３０の上面に対して傾斜しているほうが良い。
【００３３】
マイクロミラーに当たる紫外線はそこで反射し、窓１８を透過した後に、ハウジング１２の外部に向けられる。電気信号は、チップ３０の上面に位置するマイクロミラーの下方に設けられた電極に印加される。チャンバ外部の電力供給手段から発生した電気信号は、電気接続手段を介して電極に印加される。
【００３４】
電気信号に応じて、静電気力がマイクロミラーに作用し、マイクロミラーを変位させる。マイクロミラーの変位は、反射した光線の向きを変化させる。したがって、電極に印加された電気信号に応じて、反射光線の空間変調(spatial modulation)は、反射光線が当たっている場所で達成される。
【００３５】
チャンバは、空気や酸素、湿気に触れないよう維持されているので、チャンバ内に配置されたチップ３０のために非酸化環境が達成される。これにより、チップ３０の作動中に、マイクロミラーの下方にある電極を覆っているＴｉＮ材料の酸化を防ぐ。この酸化は、もしチップ３０が空気中の酸素などの酸化反応成分にさらされたなら、発生していたであろう。上述のように、酸化環境の中でチップ３０を作動させている間のＴｉＮ材料の酸化は、電極に高電位が印加され、紫外線がマイクロミラーとマイクロミラーのヒンジとの間のスリットを通過してＴｉＮ材料に当たる時に発生する。もしＴｉＮ材料の酸化が防止できなければ、電極に印加された電気信号に応じたマイクロミラーの変位は減少し、チップの不安定な作動を引き起こす。
【００３６】
望ましくは、凹所１６はチップ３０と光学窓１８との間のギャップ３２が小さな断面をもつように設計されている。これにより、光学窓１８を透過した放射線が照射されたチップ３０の表面に沿って、ガスの急速な流れを可能にする。したがって、小さなギャップ３２があることで、放射線に照射された範囲など保護の必要な範囲では、チップ３０から空気が高速で除去される。さらに、ガス供給源２４からガスの入口へのガスの流れが、流量制御装置２６により低水準に設定されている時でさえ、小さなギャップ３２によって高度な保護が可能になる。
【００３７】
チャンバを通るガスの流れを与えるという本発明の解決法により、チャンバは気密性が必要とされず、ハウジング１２の製造が安価になるため、チップ３０の低価格での保護が実現する。
【００３８】
さらに、ガス供給源２２や流量制御装置２４などの技術的装置は、一般に利用できるタイプにすることが可能であり、コストの低減と取り扱いの容易さをさらに推進することができる。
【００３９】
加えて、安定的な作動のための漏洩の定期的検査を必要としないので、メンテナンスにかかる費用を低減できる。万一漏洩が発生した場合は、流量制御装置２４が漏えいの可能性を知らせるガスの流量増加を検出するためにも有効である。そのような場合、流量制御装置は、チャンバの内部に空気が入り込むのを防止するために、より高圧のガスを供給するように作動できる。
【００４０】
本発明の装置１０はさらに、放射線を変調するためのチップ３０に類似するチップを使用する既存のシステムの中に集積されることも可能である。特別な技術を必要としないため、このような集積は容易に達成可能である。
【００４１】
さらに、凹所１６の大きさや形状は、チップ３０からの条件に合わせて選ぶことができる。ある実施例では、チップ３０とそのパッケージとを一体にして凹所１６内に配置するよう意図されている。この実施例では、凹所１６はチップ３０をそのパッケージと共に受け入れるように設計されており、チャンバに供給されてパッケージの表面に沿って流され、チップから空気を一掃するガスの流れによって、チップ３０は空気に触れることがない。
【００４２】
上述の望ましい実施例では、チップ３０はアルミニウムまたはアルミニウム合金から形成された単一のマイクロミラーを備え、さらにＴｉＮに覆われた単一の電極を備えるように説明したが、本発明はこの特定のチップ３０に限定されるものではない。
【００４３】
一例を挙げると、複数のマイクロミラーと、ＴｉＮに覆われた複数の電極とを備えたチップ３０を使用する実施例も可能である。
【００４４】
さらに、上述の望ましい実施例では、チップ３０の紫外線による照射を受ける間に発生するＴｉＮの酸化の防止について説明したが、本発明はこの特定の保護に限定されない。
【００４５】
本発明はむしろ、チップ３０が照射を受けている間に反応成分の存在によって引き起こされる影響からのチップ３０の全般的な保護を提供することを目的としている。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明の望ましい実施例の平面図である。
【図２】図１の実施例の側面図である。
【符号の説明】
【００４７】
１０      装置
１２      ハウジング
１４      上面
１６      凹所
１８      光学窓
２０      ガスの入口
２４      ガス供給源
２６      流量制御装置
３０      チップ
【図１】
2005524112.tif 000003
【図２】
2005524112.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月23日(2004.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】印加された信号に応じて変位可能なマイクロミラーを少なくとも１つ含むチップ（３０）を、放射線の照射を受けている間、チップの一部と反応成分との反応を原因とする劣化から保護する装置（１０）であって、上記装置（１０）は、
上記チップ（３０）を収納するためのチャンバ（１６）と、
上記放射線の透過と上記チップ（３０）の少なくとも一部への照射とを許容する窓（１８）とを備え、
上記チャンバ（１６）は、
上記チャンバ（１６）と連結され、かつガス供給源（２４）からガスの流れを受取るように形成されたガスの入口（２０）と、
上記チャンバ（１６）と連結され、かつ上記チャンバ（１６）からのガスを受取るように形成されたガスの出口とを備えることを特徴とする装置。
【請求項２】請求項１に記載の装置（１０）であって、
上記反応成分は周囲の空気に含まれる酸素であり、上記ガスの流れは上記チップ（３０）に当たる上記放射線によって上記チップ（３０）が作動している間に上記チップ（３０）の酸化可能な成分が酸化しないように保護することを特徴とする装置。
【請求項３】請求項１または２に記載の装置（１０）であって、
上記チャンバ（１２）はガスが周囲の空気に漏洩することを許容することを特徴とする装置。
【請求項４】請求項１乃至３のいずれかに記載の装置（１０）であって、
上記窓（１８）は上記チップ（３０）の表面に対し傾斜していることを特徴とする装置。
【請求項５】請求項１乃至４のいずれかに記載の装置（１０）であって、
上記窓は紫外線を透過させるように形成されていることを特徴とする装置。
【請求項６】請求項５に記載の装置（１０）であって、
上記窓（１８）は上記紫外線を透過させるものであり、
上記チップ（３０）はアルミニウムまたはアルミニウム合金を含むマイクロミラーと、上記マイクロミラーを変位させるための電気的力を上記マイクロミラーとの間に発生させるための電極とを備え、
上記電極はＴｉＮで形成されるかまたはＴｉＮを含み、
上記チップはパッケージの内部に配置されていることを特徴とする装置。
【請求項７】請求項１乃至６のいずれかに記載の装置（１０）であって、
上記チャンバ（１６）は、上記チップ（３０）と上記チャンバ（１６）の外部の電力供給手段との電気的接続のための手段を備えることを特徴とする装置。
【請求項８】請求項１乃至７のいずれかに記載の装置（１０）であって、
上記装置（１０）はさらにハウジング（１２，１２ａ，１２ｂ）を備え、上記チャンバ（１６）は上記ハウジング（１２，１２ａ，１２ｂ）内の凹部によって形成されていることを特徴とする装置。
【請求項９】請求項１乃至８のいずれかに記載の装置（１０）であって、
上記装置（１０）はさらにチップハウジング（１２ａ）と上板（１２ｂ）とを含むハウジングを備えることを特徴とする装置。
【請求項１０】チップ（３０）を作動させる方法であって、上記チップ（３０）は、アルミニウムまたはアルミニウム合金を含むマイクロミラーと、上記マイクロミラーを変位させるため、上記マイクロミラーとの間に電気的力を発生させるための電極とを備え、上記方法は、
上記チップを劣化から保護するために、ガスの流れを上記チップ（３０）に当てるステップと、
上記ガスの流れが上記チップ（３０）に当てられている間に上記チップ（３０）に照射するステップとを備えることを特徴とする方法。
【請求項１１】請求項１０に記載の方法であって、
上記放射線は紫外線であることを特徴とする装置。
【請求項１２】請求項１０または１１に記載の方法であって、
上記電極はＴｉＮから形成され、上記ガスの流れは、上記チップ（３０）に当たる放射線によって上記チップ（３０）が作動している間、上記電極の酸化を防止することを特徴とする方法。


【手続補正書】
【提出日】平成16年10月26日(2004.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
請求項１または２に記載の装置（１０）であって、
上記チャンバ（１６）はガスが周囲の空気に漏洩することを許容することを特徴とする装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
チップ（３０）を作動させる方法であって、上記チップ（３０）は、アルミニウムまたはアルミニウム合金を含むマイクロミラーと、上記マイクロミラーを変位させるため、上記マイクロミラーとの間に電気的力を発生させるための電極とを備え、上記方法は、
上記チップを劣化から保護するために、ガスの流れを上記チップ（３０）に当てるステップと、
上記ガスの流れが上記チップ（３０）に当てられている間に上記チップ（３０）に放射線を照射するステップとを備えることを特徴とする方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
ある望ましい実施例によると、チップは、アルミニウムまたはアルミニウム合金から形成されたマイクロミラーと、ＴｉＮ材料から成る層で覆われ、マイクロミラーに静電気力を印加するためにチップ上でかつマイクロミラーの下方に配置された電極と、を備える。ＴｉＮ材料の酸化は、チップが少なくともその一部に紫外線の照射を受け、電極に印加された電気信号に応じてマイクロミラーを変位させるよう作動される間、ガスの流れによってチップから空気を一掃することにより、防止することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
さらに、ガス供給源２４や流量制御装置２６などの技術的装置は、一般に利用できるタイプにすることが可能であり、コストの低減と取り扱いの容易さをさらに推進することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
加えて、安定的な作動のための漏洩の定期的検査を必要としないので、メンテナンスにかかる費用を低減できる。万一漏洩が発生した場合は、流量制御装置２６が漏えいの可能性を知らせるガスの流量増加を検出するためにも有効である。そのような場合、流量制御装置は、チャンバの内部に空気が入り込むのを防止するために、より高圧のガスを供給するように作動できる。
【国際調査報告】
2005524112.tif 000005
2005524112.tif 000006
2005524112.tif 000007