(57)【要約】【課題】イオン注入機、特にバッチ型のイオン注入機に用いるウエハパッドアセンブリ及び作動システムを提供する。【解決手段】本発明のウエハパッドアセンブリは、ウエハを取り付ける上側表面と、ハウジングに回転可能に取り付けられる下側表面を有する回転可能なウエハ支持パッドを有する。下側表面は、回転可能な軸に連結されたフランジを有し、軸は、アクチュエータに連結されたこの軸を選択的に割り出す。そのためこのウエハ支持パッドは、パッドの幾何学中心の回りに回転して割り出される。下側表面は、ハウジングのかみ合い支持面内で回転可能に取付け外側湾曲表面を有するフレームに連結される。この湾曲フレームは、ウエハ辞支持パッドを動かす複数のリンク機構に連結され、ウエハがその幾何学中心の回りに旋回、即ち傾斜することができる。
2005513776.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バッチ型イオン注入機において、回転ディスクが、ディスク円周回りに配置された複数のウエハパッドアセンブリを有し、各ウエハバッドアセンブリが、
フレームと、
ウエハを取り付けるための上側表面、及び前記フレームに回転可能に取り付けられた下側表面を有するウエハ支持パッドとを含み、
さらに、前記ウエハ支持パッドの前記下側表面は、回転可能な軸に連結されたフランジ
を有し、前記軸は、アクチュエータに連結して選択的に前記軸を回転させ、前記ウエハ支持パッドが順次割り出されることを特徴とするウエハパッドアセンブリ。
【請求項２】
前記ウエハ支持パッドは、このパッドの幾何学中心の回りに回転することを特徴とする請求項１記載のウエハパッドアセンブリ。
【請求項３】
前記ウエハ支持パッドの前記上側表面は、真空状態下で作動可能であり、かつ前記ウエハ支持パッドの前記下側表面は、大気中で作動可能であることを特徴とする請求項１記載のウエハパッドアセンブリ。
【請求項４】
前記フランジは、ユニバーサルジョイントを介して前記軸に連結されていることを特徴とする請求項１記載のウエハパッドアセンブリ。
【請求項５】
前記軸は、さらに前記ウエハ支持パッドのチルト動作を与えるために入れ子式部分を含むことを特徴とする請求項１記載のウエハパッドアセンブリ。
【請求項６】
前記ウエハ支持パッドの前記下側表面は、さらに、前記ウエハ支持パッドの回転を可能にする周回り軸受を含むこと特徴とする請求項１記載のウエハパッドアセンブリ。
【請求項７】
前記ウエハ支持パッドの下側表面は、外側湾曲表面を有し、この外側湾曲表面は、ハウジングの相対する湾曲かみ合い軸受面内に回転可能に取り付けられ、前記外側湾曲表面は、湾曲したフレーム内でウエハ支持パッドを回転させるために複数のリンク機構に連結されていることを特徴とする請求項５記載のウエハパッドアセンブリ。
【請求項８】
前記ウエハ支持パッドは、このパッドの中心回りに約０°〜約２７０°の範囲で回転可能であることを特徴とする請求項１記載のウエハパッドアセンブリ。
【請求項９】
前記アクチュエータは、プーリと一対の押出し／引張りケーブルを有することを特徴とする請求項１記載のウエハパッドアセンブリ。
【請求項１０】
バッチ型イオン注入機において、回転ディスクが、ディスク円周回りに配置された複数のウエハパッドアセンブリを有し、各ウエハバッドアセンブリが、
ウエハを取り付けるための上側表面と、フレームの内側表面に連結される下側表面と、を有するウエハ支持パッドを含み、
前記フレームは、さらに、１つのハウジングのかみ合い軸受表面内に回転可能に取り付けられる外側湾曲表面を含み、
前記フレームが、ハウジング内でフレームを回転させるために複数のリンク機構に連結されていることを特徴とするウエハパッドアセンブリ。
【請求項１１】
前記フレームは、さらに、上部フランジと下部フランジを有し、前記上部フランジは、第１リンク機構の第１端部に連結され、前記第１リンク機構の第２端部は、前記ハウジングに旋回可能に取り付けられた第２リンク機構の第１端部に連結され、前記第２リンク機構の第２端部は、第３リンク機構の第１端部に連結され、前記第３リンク機構の第２端部は、前記下部フランジに連結されていることを特徴とする請求項１０記載のウエハパッドアセンブリ。
【請求項１２】
前記ウエハ支持パッドは、さらに前記ウエハパッドアセンブリのフレームに回転可能に取り付けられる下側表面を有し、前記ウエハ支持パッドの前記下側表面は、さらに回転可能な軸に連結されたフランジを含み、前記軸は、アクチュエータに連結されて選択的に回転し、前記ウエハ支持パッドが順次割り出されることを特徴とする請求項１０記載のウエハパッドアセンブリ。
【請求項１３】
前記ウエハ支持パッドは、このパッドの中心回りに約０°〜±約３５°の範囲で傾斜可能であることを特徴とする請求項１０記載のウエハパッドアセンブリ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般的に、半導体ウエハを製造するためのイオン注入装置に関し、特に、バッチ型イオン注入機におけるウエハ支持ペデスタルを傾斜及び回転（twisting)するための機構に関する。
【背景技術】
【０００２】
イオン注入機は、半導体ウエハ内に導電率を変える不純物を添加するのに使用される。この目的のために、所望の不純物材料は、イオン源によってイオン化され、そして、規定のエネルギーのイオンビームを形成するために加速される。このイオンビームは、半導体ウエハの表面に向けられ、イオンビーム内のイオンが半導体材料を貫通し、結晶格子内に埋め込まれる。これにより、所望の導電領域が形成される。
【０００３】
半導体ウエハの製造において、効果的なイオン注入機を達成するのに考察すべきいくつかの重要な問題がある。
１つの重要な要因は、処理能力、即ち、単位時間当たりに処理されるウエハの数である。さらに、ウエハ移送時間、ウエハ注入時間、及び中断時間が他の重要な注意事項である。他の重要な要因は、高角度のチルトでイオン注入を行う能力である。
【０００４】
高い傾斜角度は、一般的に約20°〜約35°の範囲にあり、この角度は、イオンビームへの障害に対してシリコン構造物にドーピングすることができる。いくつかの電子素子は、ウエハ上で互いに対して直交関係に指向されているので、高い傾斜角度によるドーピングは、４つの象限のそれぞれにおいて、実行できるであろう。こうして、さらに、ウエハの中心を通る長手軸線の回りにウエハを回転、即ち旋回できることが望ましい。
【０００５】
市販のイオン注入機は、２つの異なる形式の機械、即ち、シリアル型及びバッチ型からなる。シリアル型のシステムでは、ウエハは一度に処理される。一般的にパッチ型のイオン注入機は、回転ディスクを用い、このディスク上で処理されるウエハが、ディスク回りに配置されたペデスタル(支持体）上に取り付けられる。現在のシリアル型イオン注入システムは、高い傾斜角度のイオン注入とウエハ回転を与えるものであり、このシリアル型システムは、イオンビームのスキャンニングを用い、機械的なスキャン機構を用いるバッチ型システムに比較して、ドース量の均一性を保てないという欠点を有している。
【０００６】
一方、バッチ型システムは、ウエハ全体の群を単一の注入処理においてイオン注入を行うので、イオンビームによって発生した熱がバッチ内のウエハ内に分配され、ウエハの冷却を容易に管理することができる。また、バッチ型システムは、ウエハの高い処理能力を有するが、従来のバッチ型システムの欠点として、高い傾斜角度のイオン注入を行うこと、また、ディスク上にウエハを留めてウエハに回転を与えることができなかった。また、このシステムは、回転するディスクの周囲に配置される各ウエハに生じる遠心力による荷重が生じるために、さらに、機械的な複雑さが増大する問題がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
それゆえ、バッチ型イオン注入装置は、高いウエハ処理能力、均一なドーズ量、及び高い傾斜角度によるイオン注入ができ、かつ所望のウエハ回転が望まれている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の１つの構成によれば、イオン注入機内に配置されたウエハパッドアセンブリを備え、このアセンブリ上にウエハを取り付け、回転、および割り出し（インデックス）を行うことができる。このウエハパッドアセンブリは、ウエハを取り付けるための上側表面と、下側表面を有するウエハ支持パッドを含んでいる。下側表面は、ウエハパッドアセンブリのフレームに回転可能に取り付けられる。ウエハ支持パッドの下側表面は、１つの軸に回転可能に結合されたフランジを含む。この軸は、選択的に軸の割出し動作を行うアクチュエータに連結され、このウエハ支持パッドは、回転して割り出される。
【０００９】
本発明の別の構成によれば、イオン注入機内にウエハパッドアセンブリを配置し、このアセンブリ上に、ウエハを取り付けて傾斜させることができる。このウエハパッドアセンブリは、ウエハを取り付けるための上側表面と、下側表面とを有するウエハ支持パッドを含んでいる。下側表面は、湾曲したフレームの内側表面に連結して固定される。湾曲したフレームは、さらに外側に湾曲した表面を有し、この湾曲表面は、ハウジングの相対するかみ合い支持表面内に回転可能に取り付けられる。湾曲したフレームは、このフレーム内でウエハ支持パッドを回転させるために複数のリンク機構に連結される。
【００１０】
本発明のこれらおよび他の構成と特徴は、容易に理解でき、また、以下の詳細な説明から、図面を参照しながら本発明を実施するための最良の形態を、当業者であれば容易に理解することができるであろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
図面を参照すると、図１には、ターミナル１２、ビームライン１４、及びエンドステーション１６からなるイオン注入機１が示されている。一般的に、ターミナル１２は、イオンビームを出力し、ビームラインアセンブリ１４は、このイオンビームを集束させかつエネルギーレベルを調整して、イオンビームをエンドステーション１６に位置するウエハＷに指向させる。
【００１２】
ターミナル１２は、イオン源室を有するイオン源１８を含み、この室内にガス源２０からのドーパントガスを噴射させる。エネルギーがイオン化可能なドーパントガスに分与されて、イオン室内に正のイオンが発生する。高電圧源２４によって励起された引出電極２２は、イオン源室から正のイオンビーム２６を引き出し、そして、質量分析磁石２８に向けて引き出されたイオンを加速する。質量分析磁石２８は、適当な電荷質量比のイオンのみをビームラインアセンブリ１４上を通過させる機能を有する。質量分析磁石２８が設けられたビーム経路２９の排気は、真空ポンプ３０によって与えられる。
【００１３】
ビームラインアセンブリ１４は、四極子レンズ３２、フラグファラデー３４、電子シャワー３６、及び選択的にイオンビームを加速／減速する装置(図示略)を含んでいる。四極子レンズ３２は、ターミナル１２から出力されるイオンビームの焦点を合わせ、フラグファラデー３４は、システムのセットアップ中、イオンビーム特性を測定する。選択的な加速／減速用の電極は、エンドステーション１６でウエハにイオン注入する前に、集束したイオンビームを加速または減速して、所望のエネルギーレベルにするために用いられる。ビームラインアセンブリ１４に設けられたビーム経路の排気は、１つ以上の真空ポンプ３８によって与えられる。
【００１４】
エンドステーション１６は、回転ディスク４０等のウエハ支持台を含み、この回転ディスク上に複数のウエハＷが取り付けられる。回転ディスク駆動機構４２は、回転ディスクに回転動作を与えるために設けられ、また、リニア駆動機構４４が回転ディスクに直線移動を与えるために設けられている。ロボットアーム４６は、ロードロック室４８を介して回転ディスク４０上にウエハＷを載置する。このシステムの操作は、エンドステーション１６の端部に配置されたオペレータ制御ステーション５０によって制御される。
【００１５】
回転ディスク４０上の複数のペデスタル（ワーク受け台）には、ウエハが取り付けられ、これらのペデスタルは、図２に示すように、本発明に従って構成されたウエハパッドアセンブリ１００をそれぞれ含んでいる。ウエハパッドアセンブリ１００は、(i)そこに取り付けられる各ウエハＷが、約０°〜約３５°の範囲で傾斜できる高いウエハ傾斜角度 、および(ii)個々のウエハＷの回転（すなわち、旋回（twisting）)を提供する。チルト操作は、直交軸ｘ、ｙ、ｚのＸ軸の回りにウエハＷを旋回することと定められる。そして、図２に示すように、傾斜位置及び非傾斜位置のいずれにあっても、Ｘ軸は、ウエハ平面内にあってウエハの中心を通る。割り出された回転（即ち、旋回動作）は、Ｘ−Ｚ平面（図４に示す非傾斜位置における）内の中心でＹ軸の回りに回転するウエハＷの回転と定められる。
【００１６】
ウエハパッドアセンブリ１００は、ウエハ支持パッド１０２、ウエハ支持パッドのチルト動作を形成するウエハパッド半球フレーム２００、及びウエハ支持パッド１０２のチルト動作とツイスト動作を与えるためのチルト／ツイストリンク機構３００を含んでいる。
【００１７】
各ウエハＷは、1つ以上の通常のクランプ(図示略)または他の公知の手段を介してウエハ支持パッド１０２に取り付けられて固定される。ウエハ支持パッドは、半球フレーム２００が固定位置のままでＹ軸回りに回転できるように、半球フレーム２００に対して回転可能に取り付けられる。
【００１８】
ウエハ支持パッド１０２は、ウエハＷを取り付けるための平坦な上側表面１０４を有するほぼ平坦な円形板を含む。このウエハ支持パッドは、さらに、以下で詳細に説明するチルト／ツイストリンク機構３００に連結するための中央取付けフランジ１０８を有する下側表面１０６を有する。また、ウエハ支持パッドは、下側表面１０６上に取り付けられる周回り軸受１１０を含む。この周回り軸受は、真空に対してシールされたアンギュラー軸受２０２内に収容されて、周回り軸受１１０およびウエハ支持パッド全体が半球フレーム２００に独立したＹ軸回りに回転できるようになっている。アンギュラー軸受２０２は、以下で詳細に説明するように半球フレーム２００上に取り付けられる。
【００１９】
ウエハ支持パッド１０２のＹ軸回りの旋回（割り出し）を容易にするために、中央フランジ１０８の第１端部に、第１ユニバーサルジョイント１２０が連結されている。このユニバーサルジョイント１２０は、ウエハ支持パッド１０２のチルト動作により、長さを伸縮することができる入れ子式スプライン軸１３０に連結されている。この入れ子式スプライン軸１３０の第２端部は、第２ユニバーサルジョイント１３５に連結されている。第２ユニバーサルジョイント１３５の中間軸１４０に連結され、この中間軸の先端部には、プーリが取り付けられている。
【００２０】
プーリ１５０は、第１、第２組の溝１５２,１５４を有し、これらの溝は、それぞれ押し出しケーブル１６０及び引張りケーブル１６２を受け入れる。ケーブル１６０，１６２は、回転ディスク４０の中央に配置された中央割り出しリングまたはハブ(図示略)に直接連結される。ハブの間欠回転により、対応する個々のケーブル１６０,１６２が、プーリ１５０を回転させるために対応する方向に間欠作動する。プーリ１５０の回転は、軸１３０，１４０を回転させ、次にウエハパッド支持体１０２を不連続的に角度変化させる。９０°、１８０°、２７０°（クォードラント注入に対して）の割り出し回転または他の所望の角度位置を得ることができる。
【００２１】
ウエハ支持パッド１２０がどの角度に傾斜または非傾斜位置に旋回（割り出し）することが可能であることが重要である。いずれの位置においても、ツイスト動作の原因となるチルト／ツイストリンク機構３００の一部分は、ケーブル１６０,１６２からプーリ１５０及び軸１３０，１４０を介して、そして、ユニバーサルジョイント１２０，１３５を介してウエハ支持パッド１０２にトルクを伝達する。第１、第２軸の支持軸受１７０，１７２は、中間軸１４０を支持する（図５参照）。
【００２２】
ウエハパッドアセンブリ１００は、それぞれの幾何学中心の回りに回転する、個々のウエハＷの高い傾斜角度注入を与える。ウエハパッドアセンブリ１００は、ウエハパッドをウエハのＸ軸回りに約０〜±３５°の範囲内で高チルト動作を与えることができる。このチルト動作を行うために、ウエハ支持パッド１０２は半球フレーム２００に取り付けられている。半球フレーム２００は、アンギュラー軸受２０２に連結された内側表面２０３と、ハウジング４００のかみ合い凹部形状表面４１０内に回転可能に取り付けられた外側凸形状表面(外側湾曲表面）２０４とを有する。半球フレーム２００の外側凸形状表面２０４は、ハウジングの凹部形状表面４１０と摺動可能に係合している。磨耗プレートが、それぞれ２つのかみ合い表面２０４．４１０に取り付けられ、これらのプレートは、ダイヤモンドに似た炭素（ＤＬＣ）等の低摩擦係数を有する材料で構成されている。このＤＬＣは、ほとんど摩擦がなくスムーズな摺動面を有する。
【００２３】
図３Ａに示すように、１つ以上の支持アーム２１０は、半球フレーム２００に取り付けられた第１端部２１２と、ピローブロック２１６に取り付けられた第２端部とを有する。このピローブロックは、支持レール２００を摺動可能に受け入れる大きさに形作られた１つの内部通路を有する。支持レールは、ハウジング４００上に取り付けられ、かみ合い表面２０４,４１０として、同一の曲率半径を与えるように形成されている。そのため、支持アーム２１０、ピローブロック２１６、及び支持レール２２０は、半球フィレ−ム２００をハウジング４００に結合し、かつハウジング４００の凹部形状表面４１０とかみ合い係合にあるフレーム２００の外側凸形状表面２０４を保持する機能を有する。その結果、半球フレーム２００及びウエハ支持パッド１０２が、Ｘ軸の回りを旋回できる。
【００２４】
チルト動作を行うチルト／ツイストリンク機構３００の部分は、４本バーリンク機構とここでは言及するもので、ウエハをウエハの幾何学的中心であるＸ軸回りに旋回、すなわち傾斜させるようになっている。この４本バーリンク機構は、一体となって作動する、第１、第２の三角形部材３１０ａ,ｂ及び３２０ａ,ｂと、上側チルトアーム３３０と、一対の下側チルトアーム３４０ａ,ｂと、引張り棒４５０（図４参照）とからなる。各対の三角形部材の間及び上側チルトアームと下側チルトアームの間には、上述したように、ツイスト動作を行うチルト／ツイストリンク機構３００の部分がある。
【００２５】
上側チルトアーム３３０は、半球フレーム２００の内側表面３３６上に取り付けられたフランジ３３４に旋回可能に連結されている。上側チルトアーム３３０は、第１端部３３２の近くに配置された約１６０°に曲げられたエルボー部分３３１を有し、チルトリンク機構の回転に余裕を与える機能を備える。図３Ｂに示すように、上側チルトアーム３３０の中間部３３５は、第１横部材３５０に連結されており、この第１横部材は、第１組の三角形部材３１０ａ,ｂの上端部、即ち頂点３１２ａ,ｂに結合されている。
上側チルトアーム３３０の第２端部３３７は、第２横部材３５２に連結されており、この第２横部材は、第２組の三角形部材３２０ａ,ｂの上端部、即ち頂点３２２ａ,ｂに結合されている。
【００２６】
図４に示すように、４本バーリンク機構の下側チルトアーム３４０ａ,ｂのそれぞれは、半球フレーム２００の内側表面３３６上のフランジ３４４ａ,ｂに取り付けられた第１端部３４２ａ,ｂを有する。下側チルトアーム３４０ａ,ｂの各第２端部は、フォーク状の端部３４６ａ,ｂと３４８ａ,ｂからなる。このフォーク状の端部３４６ａ,ｂは、第１組の三角形部材３１０ａ,ｂの下端部３１４ａ,ｂに結合されている。また、フォーク状の端部３４８ａ,ｂは、第２組の三角形部材３２０ａ,ｂの下端部３２４ａ,ｂに結合されている。
【００２７】
三角形部材３１０ａ,ｂと３２０ａ,ｂのそれぞれは、図４において、Ａ、Ｂ、Ｃで示された頂点を有する同一の形状を有している。各三角形部材は、Ａで指示された頂点の回りに旋回、即ち回転する。上側チルトアーム３３０を半球フレーム２００（Ｂで示す）上のフランジ３３４に連結し、下側チルトアーム３４０ａ,ｂを半球フレーム２００上のフランジ３４４ａ,ｂ（図４において、Ｃで示す）に連結して、ウエハＷの幾何学中心（図４において、Ａで示す）が三角形部材３１０ａ,ｂと３２０ａ,ｂと同一の幾何学的関係を形成するようにする。点Ａ'は、図２におけるＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸の交差点に一致する。
【００２８】
さらに、各三角形部材３１０ａ,ｂ及び３２０ａ,ｂの旋回点Ａは、好ましくは、ウエハの幾何学中心Ａ'と共直線性を有する。さらに、各三角形部材３１０ａ,ｂ及び３２０ａ,ｂの旋回点ＢとＣは、好ましくは、ウエハ支持パッド１０２の旋回点Ｂ'とＣ' と共直線性を有する。リンク機構が、好ましくはオフセット距離ｄを有して設計され、ウエハをその幾何学中心Ａ'の回りに旋回させる機能を有することに注目してほしい。このオフセット距離ｄは、旋回点Ａ'へのベクトルＢ'Ｃ'によって決められるラインからの垂直距離として定義される。オフセット距離ｄがなければ、それぞれの幾何学中心の回りに旋回する各三角形部材は、ウエハが幾何学中心の後にあるいくつかの点の回りに旋回することになる。
【００２９】
４本バーリンク機構のアクチュエータは、三角形部材３２０ａ,ｂの下端部を相互接続する引張りバー４５０である。引張りバー４５０の作動により、三角形部材３１０ａ,ｂ及び３２０ａ,ｂがそれぞれ旋回点Ａの回りに回転する。各三角形部材３１０ａ,ｂ及び３２０ａ,ｂが回転すると、上側チルトアーム３３０と下側チルトアーム３４０は、直列接続で半球フレーム２００を回転させ、そのため、ウエハＷを点Ａ'の回りに回転させる。
【００３０】
チルト／ツイストリンク機構３００は、大気中で作動する、半球フレーム２００及びハウジング４００内に組み込まれテイル異に注目してほしい。しかし、ウエハＷは、一般的に1.0e〜７トルの範囲内の高い真空環境下に配置される。それゆえ、差動ポンプ式シール３５６が、半球フレーム２００の凸形状表面２０４とハウジング４００の凹部形状表面４１０との境界面を与える。
【００３１】
本発明は、その特定の実施形態に関して図示しかつ記載してきたが、これらの実施形態は、制限よりも説明の目的のためであり、ここに示す特定の実施形態の変形及び修正は、ここに添付する特許請求の範囲で示される本発明の意図された技術的思想及び範囲内において当業者であれば、明らかであろう。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】図１は、本発明のウエハパッドアセンブリを包含するイオン注入装置の平面図である。
【図２】図２は、ウエハパッドが傾斜位置にある、本発明のウエハパッドアセンブリの側断面図である。
【図３】図３Ａ及び図３Ｂは、傾斜していない位置にある、本発明のウエハパッドアセンブリの後方から見た斜視図であり、図３Ｂでは、明瞭化のためにハウジングを取り除いた状態を示す斜視図である。
【図４】図４は、傾斜していない位置にある、本発明のウエハパッドアセンブリの側断面図である。
【図５】図５は、ハウジングと傾斜機構を除いたウエハパッドアセンブリの後方斜視図で、インデックス機構を詳細に示す図である。
【図６】図６は、ウエハパッドアセンブリの後方断面図ある。
【図７】図７は、図６に示す7−7線に沿って見た側断面図である。
【符号の説明】
【００３３】
１０  イオン注入機
回転ディスク４０
１００  ウエハパッドアセンブリ
１０２  ウエハ支持パッド
１０４  上側表面
１０６  下側表面
１１０  周回り軸受
１２０，１３５  ユニバーサルジョイント
１５０  プーリ
１６０,１６２  ケーブル
２００  半球フレーム
２０４  外側凸形状表面
３００  チルト／ツイストリンク機構
４１０  凹部形状表面
【図１】
2005513776.tif 000003
【図２】
2005513776.tif 000004
【図３Ａ】
2005513776.tif 000005
【図３Ｂ】
2005513776.tif 000006
【図４】
2005513776.tif 000007
【図５】
2005513776.tif 000008
【図６】
2005513776.tif 000009
【図７】
2005513776.tif 000010
【国際調査報告】
2005513776.tif 000011
2005513776.tif 000012
2005513776.tif 000013