(57)【要約】本発明は、区別可能の光機能を示す少なくとも２つの領域を有する基板から構成される構造化光学素子に関する。該領域にある層構造は、それぞれ特定領域の内側部分層構造と、該領域の全てに共通の補足的な部分層構造とに分けることができる。補足的な部分層構造は少なくとも１つの層から構成され、内側部分層構造は、該内側部分層構造が少なくとも１つの層から構成されている領域において、基板と補足的な部分層構造との間に配設されている。
2005516251.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１領域（５）及び第２領域（５'）を表面に備える基板（３）を含む構造化光学素子（１）であって、前記第１領域（５）が、第１内側部分層構造（９）及び補足的な部分層構造（１１）からなる光機能をもつ第１層構造を備え、前記第１内側部分層構造（９）が、少なくとも１つの層を備えると共に前記第２領域（５'）には広がっておらず、前記補足的な部分層構造（１１）が、少なくとも１つの層を含むと共に前記第１領域（５）及び前記第２領域（５'）に広がっており、該第２領域（５'）において、前記補足的な部分層構造（１１）が、前記第１層構造の光機能とは異なる光機能をもつ、第２層構造の少なくとも一構成要素となっている、構造化光学素子（１）において、
前記第１内側部分層構造（９）が、前記基板（３）と前記補足的な部分層構造（１１）との間に配置されている、ことを特徴とする構造化光学素子。
【請求項２】
請求項１に記載の構造化光学素子（１）であって、前記基板（３）の前記表面が、前記第１領域（５）において、前記第１層構造と共同で、１つの又は異なる波長幅で構成される第１波長域が割り当てられた第１光学フィルタを形成し、前記基板の前記表面が、前記第２領域（５'）において、前記第２層構造と共に、１つの又は異なる波長幅で構成される第２波長域が割り当てられた第２光学フィルタを形成し、前記基板（３）の前記表面が、少なくとももう１つの更なる層構造をもつ、１つの又は異なる波長幅で構成されるもう１つの波長域が割り当てられたもう１つの光学フィルタを形成する、少なくとももう１つの領域（５''，５'''）を備え、多くとも、前記波長域の１つが、可視光の全スペクトルを含んでおり、且つ、各光学フィルタが、そこに割り当てられた波長域の光を基本的に透過又は反射させ、そこに割り当てられていない波長域の光を反射させ、それぞれ透過させる、ことを特徴とする構造化光学素子。
【請求項３】
前記補足的な部分層構造（１１）が、周囲の媒質に対して前記基板（３）から回避された、境界表面に対して前記第１、第２及びもう１つ又は複数の層構造の閉鎖状態を形成している、ことを特徴とする請求項２に記載の構造化光学素子。
【請求項４】
請求項２及び３のいずれか１項に記載の構造化光学素子に基づいた構造化カラーフィルタであって、前記第１波長域が、青色及び緑色光に対応する波長のみから基本的に構成されるのに対して、前記第２波長域が、青色及び赤色光に対応する波長のみから基本的に構成され、前記波長域のもう１つが、緑色及び赤色光に対応する波長のみから基本的に構成される、ことを特徴とする構造化カラーフィルタ。
【請求項５】
前記基板（３）の前記表面上に、前記領域（５，５'，５''，５'''）の少なくとも１つにおいて、前記第２部分層構造（１１）が前記基板（３）に直接置かれており、前記第２部分層構造（１１）が、光機能をもつ層構造として、好ましくは屈折低減層構造として形成されている、ことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の構造化光学素子。
【請求項６】
第１、第２及び必要なら第３層構造は、前記基板（３）の前記表面上で、必要なら前記基板（３）の両側辺上で、基板表面に関して垂直方向に少なくともほぼ閉じていると予見される光軸に沿った透過中に、前記基板（３）が可変光機能をもつ前記層構造の少なくとも２つを通る透過光により通過されるような方法で配置されている、ことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の構造化光学素子。
【請求項７】
少なくとも２つ好ましくは３つの光学的及び機械的接触基板（３，３'，３''）からなると共に、該基板（３，３'，３''）の少なくとも１つの上に、請求項１〜５のいずれか１項に対応する構造化光学素子が形成されている構造化光学カラーフィルタにおいて、前記基板（３，３'，３''）の何れにも、１つ以上の構造化層構造が付着されていない、ことを特徴とする構造化光学素子。
【請求項８】
前記基板（３）は、透明な円く作られたディスク、特に環状の形に作られたディスクであり、必要なら接触基板（３，３'，３''）が円形のディスク、特に環状のディスクを形成し、前記構造化光学素子が光学ホイール、特にカラーホイールである、ことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の構造化光学素子。
【請求項９】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の構造化光学素子から構成されるカラードラムにおいて、基板（３）の幾何学的形状はガラスシリンダ又はガラス管に対応している、ことを特徴とするカラードラム。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の構造化光学素子を製造する方法において、該製造が、
ａ）  各基板領域について、各領域について予見される光機能を果す層構造であって、周囲の媒質に関して閉鎖していると共に全領域で同一である、１つ又は複数の層からなる部分層構造から構成される前記層構造を決定するステップと、
ｂ）  特定領域の内側部分層構造（９，９'，９''，…）及び全領域に共通の補足的な部分層構造（１１）に前記層構造を区分けするステップと、
ｃ）  好ましくは真空めっき法及びリフトオフ法により、それぞれ前記内側部分層構造（９，９'，９''，…）に割り当てられた各領域（５，５'，５''，…）において前記内側部分層構造（９，９'，９''，…）を付着するステップと、
ｄ）  全領域を被覆する被覆ステップにより、好ましくは真空めっき法により、前記基板の全領域にわたって前記補足的な部分層構造（１１）を同時付着するステップと、
を含む、ことを特徴とする方法。
【請求項１１】
構造化光学素子を製造する方法において、前記基板（３）が、プレート状の形状を特徴としてもっており、且つ、請求項１０に記載の方法に対応して、双方の基板表面が呼応して構造化被覆を受け、所要の層構造の決定中に、対向する領域の光機能が合わさって光学合計機能になることが考慮に入れられている、ことを特徴とする方法。
【請求項１２】
構造化光学素子を製造する方法において、少なくともほぼ等しい表面を有する２つのプレート状基板（３，３'）が、一側に請求項１０の方法に基づいて構造化被覆を呼応して備えており、基板の未被覆の側は、好ましくは光学接着剤（２１）により、必要ならば前記基板プレート間で、光学的及び機械的に接触されており、追加の基板プレートは好ましくは構造化層構造（１７）を備えて一体化されている、ことを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、請求項１の前提部分に記載の構造化光学素子に関し、また、請求項１０に記載のかかる構造化光学素子のための製造方法に関する。
【０００２】
前記構造化光学素子は、例えば、モノリシックなカラーホイールもしくは色相環において採用されている構造化カラーフィルタとすることができる。これらは、カラーイメージを映すための重要な構成要素である。“モノリシック”という表現は、この場合、少なくとも１つの基板の表面が、この表面の異なる表面領域が異なる機能層を特徴としてもっているような方法で、構造化被覆を備えていることを意味しているので、局所的に限定すると、該基板表面が少なくとも２つの決定光機能を特徴としてもっている。従って、モノリシックなカラーホイールは、部分に分かれたカラーホイールとは区別されていなければならない。これら後者のユニットでは、表面がその表面を覆う唯一つの機能層を特徴としてもっている２つ以上の基板が１つのカラーホイールに配置されている。
【０００３】
他方、基板の表面構造化は、マイクロメータの範囲内又はしかもそれ以下の構造サイズの選択を可能にする。このような微細構造化した光学素子は、現在では、隣接する画素が異なる波長範囲の光に当たるような方法で光放射が画像再生素子（光弁）に直接に当たるのを可能とすることが最終的に必要とされねばならないときに、プロジェクション技術においてもまた広範に使用されつつある。
【０００４】
構造化手順のため、光は、それが表面に当たる領域に基づいて、それぞれの機能層次第で、反射されるか、伝達されるか、吸収されるか、曲げられるか、或いは別の方法で拡散されるかすることが実現可能になる。この場合、幾つかの領域が所定基板上に実現されていることが肝要である。１つの領域は、相互に接続された表面を必ずしも合成しなければならないことはないが、複数の別個の、独立した領域から成り立ちうる。複数の領域を提供することにより、幾つかの基板を隣接する位置に配置しなければならないことが避けられる。
【０００５】
この技術の現状から既知であるように、かかる構造化層は、例えば、米国特許第６２３８５８３号においてスペルガー(Sperger）等により記載されているように、表面被覆及びリソグラフィックリフトオフ法の組合せにより造ることができる。最初に、基板が洗浄される。続いて、フォトレジストが付着され、マスキングされ、露光され、そして現像される。その後、第１層が第１構造のために付着される。表面に被覆が付けられたレジストは、湿潤化学プロセスにおいて溶解されるであろう。従って、この層は、フォトレジストの付着中にマスキングされていて、そのため、基板上で直接に被覆されていた諸部位にのみ残留する。続いて、基板は、次の層構造を付着するために清浄にされるであろう。このプロセスは、所要の全ての異なる機能層について繰り返される。構造化した光学面上で、光を透過するに過ぎない領域、即ち、中性の機能層が実現されるべきである領域が設けられるべきであれば、殆どの場合、これらの領域に反射低減被覆、いわゆる反射防止被覆（ＡＲコーティング）を付着させなければならないであろう。この場合、他の領域の機能層上への被覆の単純な重ね合わせの場合のように、これまでに被覆されていなかった基板領域上のみにＡＲコーティングが付着されていることに配慮しなければならず、これはその光学特徴に通常影響を与えるであろう。従って、かかるＡＲコーティングのために、上述したマスキングプロセスがまた必要とされるであろう。
【０００６】
このような手順は、通常複雑であると共に、明らかに１００％に満たない歩留りをもたらすのが普通である。特に不利であるのは、これらのプロセスが結合されているという事実である。その上、被覆のより広い領域が周囲の影響を受け易い。
【０００７】
独国第１９６４１３０３号は、構造化光学素子を製造するために、エッチブロッキング層で最初に全光学表面を被覆し、続いてその上に機能層を付着させると共に構造化させる方法について記載している。中性素子が必要とされる領域については、このブロッキング層は、それがＭｇＦ２からなる限り、反射低減層として作用することが明らかに指摘されている。加えて、機能層の設計には上述したブロッキング層の光学的特性が含まれうることが指摘されている。これは、中性の領域に必要とされる構造化ステップに取って代わり得る。
【０００８】
それにもかかわらず、ＭｇＦ２は、特に追加の機能層が付着されているときに、例えば割れ目を生じた層のような表面的な問題という結果になりうる被覆材料である。特定の機能層については、通常、他の被覆材料が利用されており、そしてリフトオフプロセスの助けにより、エッチブロッキング層を完全に放棄することが通常可能である。特に幾つかの使用法については、個々のＭｇＦ２層は十分に反射を低減する特性を有していない。そういうわけで、ＭｇＦ２を完全に放棄することを指示しうる。
【０００９】
これら既知プロセスの別の欠点は、リフトオフ技術では、被覆の主要部分が除去されることにある。特に、これは被覆プロセスを非効率的かつ不経済にする。
【００１０】
構造化の前に、在来の材料をもつ反射防止被覆を付着させることが明らかに試みられている。しかし、このような層構造では、かかる被覆は基板から雰囲気への、同時に基板から残留層構造への移行に対して調節されねばならないので、残留機能層に対する適応が難しいことが証明されてきた。更に、このような形式の構造化では、より広い部分が依然未被覆のままである。従って、かかるフィルタの環境抵抗ファクターが一般に低下する。
【００１１】
本発明の目的は、この技術の状態の欠点を排除することである。特に、本発明の目的は、可能な最大程度まで分離されるべき前記構造化素子を製造するための手順のステップの数を最小化することであり、かくして、特に光学的及び機械的特性に関して高品質であると共に、特に高度の経済性をもつ構造化光学素子を製造する。
【００１２】
本発明によると、この課題は、請求項１及び１０に基づいて実施することにより解決される。従属請求項は、その他の有利な実施形態に言及している。
【００１３】
本発明によると、異なる光機能をもつ諸領域の層構造は、２つの部分層構造、各領域で異なっている１つの内側部分層構造と、全領域を完全に覆っている補足的な部分構造とに小分けされている。本発明によると、最初に内側部分層構造が、各領域について構造化プロセスを必要としている異なる諸領域上に付着される。続いて、補足的な部分層構造が構造化のプロセスなしに１つのステップで全領域に付着される。こうして、補足的な部分層構造は、全領域の層構造の少なくとも一構成要素になる。従って、領域のうちの一つにおいて、補足的な部分層構造と同一の層構造により、所望の光機能を多く達成することが可能である。従って、第１部分層構造は、この領域において層を備えておらず、その結果、この領域については構造化プロセスがもはや必要とされない。この可能性は、特に基板が、光が基板を効率的な方法で透過させられるべき領域を備える、ときにもたらされる。補足的な部分層構造はその後、反射低減層として設計されることになろう。
【００１４】
本発明の重要な特徴の１つは、諸内側部分層構造が基板と補足的な部分層構造との間に一体化されていることである。その結果、製造中、全ての構造化プロセスは、補足的なあらゆるものを含む部分層構造の適用を進めると共に、これらの構造に対してマイナスの影響を及ぼさない。更に、薄膜設計の研究は、かかる共同の部分層構造が構造化プロセスを進める共同の被覆というよりむしろ最終層として容易に実現されうることを驚くほど明らかにした。特にこの手順で、連続的に完全に付着された最終層構造が表面を被覆し、従って、機械的保護をもたらすことが達成されうる。
【００１５】
また、このような手順はまた、中性ではない光機能をもつ各領域について、基板が各領域に対応する第１部分層構造を付着されるときに、全ての構造化プロセスの分離を可能とする。この分離は、異なる個々の構造化プロセスと結合された歩留りが分離され、そして包括的なプロセスと結合された歩留りが明らかに増大することを意味している。その後、補足的な部分層構造が全体として付着され、未だ被覆されていない領域において反射低減特性を特徴としてもつ。基板を組み合わせることにより、最高レベルで、光学的合計機能の効果が達成されていないときに、非中性の光機能をもつ領域が光学長を隻分することに注意されている。
【００１６】
以下、概略的な図面及び実施形態に基づいて、本発明を説明する。
【００１７】
第１実施形態において、構造化光学素子の製造について図１に示すように説明されるであろう。それは基板３を備えている。また、この構造化光学素子１は、青色光のみを透過させる第１領域５を備えているべきである。その上、素子１は、緑色光のみを透過させる第２領域５'を備えているべきである。素子１の第３領域５''において、緑色光及び青色光の双方が透過させられるべきであり、そして赤色光のみが反射されるべきである。これが達成されうるために、一旦基板３に付着されると赤色光を反射し緑色光及び青色光を透過する働きのある層構造が先ず決定される。かかる層構造を決定するために、例えば、薄膜設計最適化プログラムが利用されうる。ある材料特徴の場合、このような最適化プログラムは、通常、希望のスペクトル特徴に対応する、あるターゲット機能に関する層構造の層の数及び厚さ拡散を最適化するのに良い状態にある。このようなソフトウエアは、技術に習熟した平均的な者にとって基本的に既知であると共に、購入することができる（例えば、オプティレイヤー(Optilayer)と呼ばれるソフトウエアパッケージ）。現在のフィルタの考え方では、このようなソフトウエアは特別に満足できる方法で利用されうる。それにもかかわらず、層構造を決定するために、分析手法もまた部分的に結果をもたらしうる。基板３上に付着された際に、赤色光を反射し緑色光及び青色光を透過する働きがのある、こうして決定された層構造は、補足的な部分層構造１１に対応している。例えば屈折率ｎ＝１.５のガラス基板、例えばＴｉＯ２のような光屈折率ｎＨ＝２.４の高屈折力を有する材料、例えばＳｉＯ２のような光屈折率ｎＬ＝１.４８ｍの低屈折力を有する材料のような透明基板３について、テーブル１は、その第１コラムに、補足的な部分層構造１１に対応するナノメータの物理的厚さで表わされた設計データを表示している。これは、垂直方向にぶつかる光について最適化される。続いて、青色光を透過させ赤色光及び緑色光を反射させる層構造が決定されることになろう。また、この目的のために、既知の最適化プログラムの一つが利用されうる。それにもかかわらず、この層構造を決定するときの基本条件は、それが補足的な部分層構造１１と同一である最終層構造を含むことにある。基板と補足的な部分層構造との間に一体化される、この層構造に求められる追加の層は、第１内側部分層構造９に対応している。テーブル１の第２コラムは、再びナノメータで表わされた物理的厚さで、この赤色―緑色反射層構造の設計データのリストを描写している。別のステップにおいて、緑色光のみを透過させ赤色光及び青色光を反射する層構造が決定されるであろう。そして最終層は再び補足的な部分層構造１１と同一である。追加の層は第２内側部分層構造９'に対応している。この赤色―青色反射層構造に対応する設計データは、先と同様にナノメータで表わされた物理的厚さで前記テーブル１の第３コラムにリストされている。
【００１８】
設計データの決定後、先ず、基板３はフォトレジスト層で被覆されるであろう。これは、青色光のみを透過させるべき領域５において基板が自由に露出されると共に、他の全ての領域がフォトレジスト層で被覆されるように、マスキングされ、露光され、現像されるであろう。その後、基板は、第１内側部分層構造９で被覆されるであろう。重ね合わされた層と一緒の残りのフォトレジストの除去は、対応する第１内側部分層構造９が所望の領域５の内側のみに残ることになる結果となろう。
【００１９】
次のステップとして、専ら、緑色光のみを透過させるべきである第２領域５'においてのみ、基板３が未被覆であるように、再びフォトレジスト層が付着され、マスキングされ、露光され、現像されるであろう。続いて、この第２領域５'に対応する第２内側部分層構造９'が付着されるであろう。上から覆い被さる層と一緒に残りのフォトレジストを除去することは、対応する追加の第１内側部分層構造９'が所望の領域５'のみに残る結果となろう。このステップまでに、基板のどの領域も所望の光機能を特徴としてもっていない。これは、補足的な部分層構造１１が全体として基板３上に付着される追加の手順により達成されるに過ぎないであろう。こうして、一方では、それぞれ青色又は緑色光のみを透過させるべき領域５及び５'の層構造が完了される。他方では、この手順のため、基板３の未だ被覆されていない領域５''は、単に赤色光を反射させ青色光及び緑色光を透過させる層構造を受け取る。一方、構造化プロセスはこうして省略される。加えて、構造化手順の間、部分層構造のみが除去され、その結果、被覆が全体としてもっと効果的な方法で起こる。
【００２０】
第２の実施形態において、４つの領域５，５'，５''、５'''を備える構造化光学素子の製造について記載されている。このような素子は図２に示されている。第１領域５において、専ら青色光が透過され、第２領域５'において、緑色光が透過され、第３領域５''において、赤色光が透過され、そして第４領域５'''において、全可視スペクトルが透過される。このような光学素子は、例えば、順次色分割に基づいて、プロジェクターにおいて使用されているようなカラーホイールでよい。
【００２１】
このような光学素子を製造するために、先ず、所要の層設計が再び決定される。この手順は、一旦基板上に付着されると反射低減作用をもつ層構造で開始される。これは、第４領域５'''の所望の光学的に中性の機能に対応している。その上、この層構造は、他の領域の補足的な部分層構造１１の全体を形成する。続いて、青色光を反射させ赤色及び緑色光を透過させる層設計が決定される。
【００２２】
緑色光を反射させ青色及び赤色光を透過させる別の設計が決定される。加えて、赤色光を反射させ青色及び緑色光を透過させる設計が決定される。設計を決定している間、終端層が補足的な部分層構造１１に対応していることが常に境界条件である。
【００２３】
設計データの決定後、補足的な部分層構造１１の一部ではない異なる領域の層は、被覆及び構造化手順により付着される、即ち、第１領域において、第１内側部分層構造９が付着され、第２領域において、第２内側部分層構造９'が付着され、第３領域において、第３内側部分層構造９''が付着される。別の手順のステップにおいて、補足的な部分層構造１１が次いで基板３上に付着される。そのときすでに基板３の表面は、赤、青又は緑の一色がそれぞれ反射される領域のみならず、光学的に中性の領域を含んでいる。基板の裏面では、それぞれ２つの層構造が、両者が光学的に中性である、即ち、可視光を透過させるか、或いは両者が光学的に中性ではなく、同じ色を透過させることなく、相互に対向した位置にあるように注意を向けて、類似の手順が行われる。例えば、第１領域５において、第２内側部分層構造９'付着され、第２領域５'において、第３内側部分層構造９''が付着され、第３領域５''において、第１内側部分層構造９が、続いて全体として補足的な部分層構造１１が付着されるであろう。こうして、諸領域が所要の光機能を特徴としてもって、素子が形成される。テーブル２は、この素子に必要なフィルタを備えた設計を特徴としてもっている。光は基板表面に垂直に当たると仮定する。光は、指数ｎ＝１.５をもつ基板と同様に、基本的に入力媒質と考えられる。
【００２４】
また、高屈折材料については、屈折率ｎＨ＝２.４が妥当であるが、低屈折材料については、屈折率ｎＬ＝１.４８が妥当であることを前提としている。上に既に概説したように、高屈折材料はＴｉＯ２であり、一方、低屈折材料はＳｉＯ２であろう。
【００２５】
別の実施形態において、カラーホイールを製造するのに必要な構造化方法が本発明に従ってどのようにして完全に分けられるかについて記載されるであろう。これは、３つの基板３，３'，３”の形で実行可能であり、該基板の各裏面は被覆されねばならないことはない。素子の概略図は図３に示されている。先ず、この場合もやはり被覆に必要な設計が決定される。補足的な部分層構造（１１，１１'）であると同時的に考えられうる反射低減被覆を備えた設計が必要とされる。加えて、補足的な部分層構造１１と共同で、赤色光を反射させる第１の内側部分層構造９の設計が必要とされる。また、追加の補足的な部分層構造１１'と共同で、赤色光を反射させる第２の内側部分層構造９'の設計が必要とされる。更に、層構造１７の設計は緑色光を専ら反射させ、そして入力媒質が空気から構成されず例えば光学接着剤である設計では注意が払われねばならない。基板３上に、本発明によると、第１内側部分層構造９が青色光を反射させるべき領域５，５'において付着されるであろう。続いて、被覆され構造化された基板表面が以前に決定された補足的な部分層構造１１で被覆されるので、基板３の被覆された表面は今や領域５及び５'において青色光を反射させ、他の領域において殆ど完全に光を透過させる。
【００２６】
別の基板３'上で、緑色光を反射させる層構造が、緑色光が反射されるべき領域５及び５'において付着されるであろう。
【００２７】
本発明によると、別の基板３''の一側上で、第２内側部分層構造９'が、赤色光が反射されるべき領域５'及び５''において付着されるであろう。前記基板３，３'及び３''を保管する場合に、外側に位置付けられるこの一側は、被覆されており、即ち、空気に対して閉じられている。続いて、基板３''の被覆され構造化された表面は、以前に決定された補足的な部分層構造１１'で被覆されるであろうから、基板３”の被覆された表面は今や、領域５'及び５''において赤色光を反射させ、全ての他の領域において光をほぼ完全に透過させる。
【００２８】
これらのステップのため、青色反射領域５，５'をもつ基板が得られ、赤色反射領域５'，５''をもつ１つの基板が得られ、そして緑色反射領域５''，５をもつ基板が得られる。これら３つの基板は今では、例えば光学接着剤２１で光学的に接触している。この手順において、基板は、青色反射層構造を特徴としてもつ側が空気に対する１つの閉鎖状態を形成し、赤色反射層構造を特徴としてもつ外側部分が空気に対する別の閉鎖状態を形成するような方法で配置されている。反射層構造で覆われた該基板領域の表面形状は、基板を重ね合わせた際に、常に２つの異なるカラーフィルタが合わさって所定領域を伝わる光線に作用するような方法で選択されている。第１領域５において、その後赤色光のみが透過され、第２領域５'において、緑色光のみが透過され、そして第３領域５''において、青色光のみが透過されるであろう。第４領域５'''もまた実現可能であり、そこでは可視光の全スペクトルが透過されるであろう、即ち、光は、補足的な部分層構造１１及び他の補足的な部分層構造１１'のみを通り、前記素子に入り、そして出る。
【００２９】
その意味では、全ての構造化方法は分離されており、そして基板の裏面のどれもが被覆されるべきでないことに注目すべきである。
【００３０】
本発明は、３つの異なる実施形態についてのみ説明された。しかし、複数の関連実施形態がまた可能であると共に、明らかである。この方法では、カラーホイールに加えて、構造化カラーフィルタを特に備えたガラス管であるカラードラムもまた製造しうる。このようなカラードラムもまた、プロジェクターにおいて使用されている。実施形態のうちの２つについて、具体的実施形態が層設計のために示された。しかし、基板及び被覆材料を選択する場合、薄膜技術において既知の他の材料も、また本発明により実現された他の層厚構造も使用しうると考えるべきである。特に、薄膜構造はまた、明らかに確定された制限領域で限界が決められるのではなく，例えば、１つの層から隣接する層への屈折率の段階的移行を特徴としてもつ諸層から構成されることができる。
【００３１】
従って、本発明により、構造化光学素子の製造中に、構造化プロセスを既知の方法と比較して最大限有効に使いうることが達成される。本発明によれば、補足的な部分層構造は１つ以上の領域を備えている。その結果、被覆は、全体としてより効果的となると共に、構造化素子は、特に境界領域において、機械的及び化学的により安定となる。
【００３２】
略述すると、本発明の一実施形態は、構造化プロセスの分離、従って、個々のプロセスの歩留りの分離を可能とし、これは生産経済のかなりの増大を意味している。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】異なる光機能の３つの領域をもつ基板上に構造化皮膜を有する、本発明による光学素子を横断面で示している。
【図２】基板の両側に図１による構造化皮膜を備えた構造化光学素子を横断面で示しており、諸領域における合計機能として光機能は基板両側の光機能から結果として生ずる。
【図３】３つの単一構造化基板から構成される光学素子を示している。
【符号の説明】
【００３４】
１      構造化光学素子
３      基板
３'     基板
３''     基板
５      第１領域
５'      第２領域
５''     第３領域
５”'     第４領域
９      第１の内側部分層構造
９'      第２の内側部分層構造
９''     第３の内側部分層構造
１１    補足的な部分層構造
１１'   別の補足的な部分層構造
１７    層構造
２１    光学接着剤
【図１】
2005516251.tif 000003
【図２】
2005516251.tif 000004
【図３】
2005516251.tif 000005
【国際調査報告】
2005516251.tif 000006
2005516251.tif 000007
2005516251.tif 000008
2005516251.tif 000009
2005516251.tif 000010
2005516251.tif 000011