(57)【要約】【課題】化学増幅型あるいは非化学増幅型のレジストを塗布したプレートなどパッケージされた材料と、このようなパッケージされた材料を準備する工程と、少なくとも３カ月間パッケージ内部にこのような材料を保存して、こうした保存後も、その感度、解像力および性能を保護する方法とを提供すること。【解決手段】本発明は、パッケージされた被覆付きワークピースを含む。このパッケージされた被覆付きワークピースは、それが少なくとも１つのゲッタ作用物質を有するという条件で、（１）光放射、微粒子または化学汚染物質の影響を受けるレジスト被膜を塗布したワークピースと、（２）被覆付きワークピースおよび任意選択で第１ゲッタ作用物質を封入して密封第１容器を作り出すように密封された内部仕切りと、（３）密封第１容器および任意選択で第２ゲッタ作用物質を封入して、感度、解像力または性能を大きく損なわずに、少なくとも１週間の保存に適するパッケージされた被覆付きワークピースを作り出すように密封された外部仕切りとを有する。また、本発明は、パッケージされた被覆付きワークピースを準備する工程と、感度、解像力または性能を大きく損なわずに、被覆付きワークピースの保存期間を少なくとも１週間まで延ばす方法とを含む。【選択図】図１
2005508509.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光放射、微粒子または化学汚染物質の影響を受けるレジスト被膜を塗布したワークピースと、
外部環境から前記被覆付きワークピースを分離する１つまたは複数の仕切りを備える密封容器と、
化学汚染物質が実質的に存在しない容器を作り出す１つまたは複数のゲッタ作用物質とを備え、
感度、解像力またはプロセス許容範囲を大きく損なわずに少なくとも１週間の保存に適するパッケージされた被覆付きワークピース。
【請求項２】
前記パッケージされた被覆付きワークピースが少なくとも１つのゲッタ作用物質を有することを条件とし、
前記被覆付きワークピースおよび任意選択で第１ゲッタ作用物質を封入して密封第１容器を作り出すように密封された内部仕切りと、
前記密封第１容器および任意選択で第２ゲッタ作用物質を封入して、感度、解像力または性能を大きく損なわずに少なくとも１週間の保存に適するパッケージされた被覆付きワークピースを作り出すように密封された外部仕切りとを備える、請求項１に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
【請求項３】
前記レジスト被膜が、化学増幅型レジストまたは非化学増幅型レジストである、請求項１または２に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
【請求項４】
前記被覆付きワークピースが、レジストを塗布したマスク・ブランクである、請求項３に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
【請求項５】
前記被覆付きワークピースが、レジストを塗布した石英ブランク上のクロム被膜である、請求項４に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
【請求項６】
前記ワークピースが、超小型電子デバイスの製作に適した基板である、請求項１または２に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
【請求項７】
前記ワークピースが、電子ビーム、Ｘ線、粒子ビーム、励起状態原子ビーム、イオン・ビームおよびフォト用のマスクからなる群から選択されるマスクの製作に適した基板である、請求項１または２に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
【請求項８】
前記密封容器が内部仕切りおよび外部仕切りを備える、請求項１または２に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
【請求項９】
前記内部仕切りおよび外部仕切りが、光放射および微粒子を透過させない材料で形成される、請求項８に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
【請求項１０】
前記微粒子が塵を含む、請求項９に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
【請求項１１】
前記光放射が、ＵＶ（紫外）放射および可視放射からなる群から選択される、請求項９に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
【請求項１２】
前記ＵＶ（紫外）放射が深紫外放射である、請求項１１に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
【請求項１３】
前記内部仕切りが任意選択で１つまたは複数の開口を有し、それによって化学汚染物質を透過させるという条件で、前記内部仕切りおよび外部仕切りが、化学汚染物質を透過させない材料で形成される、請求項８に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
【請求項１４】
前記内部仕切り中の前記１つまたは複数の開口が任意選択で微孔性材料で覆われ、それによって前記１つまたは複数の覆われた開口が微粒子を透過させない、請求項１３に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
【請求項１５】
前記化学汚染物質が、前記被覆付きワークピースの少なくとも１つの性能特性を減ずる恐れがある固体、液体または蒸気の汚染物質である、請求項１４に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
【請求項１６】
前記化学汚染物質が酸前駆体または塩基前駆体を含む、請求項１４に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
【請求項１７】
前記酸前駆体が、ＮＯ２およびＳＯ２放出ガスおよび水分を含む、請求項１６に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
【請求項１８】
前記化学汚染物質が酸または塩基である、請求項１４に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
【請求項１９】
前記化学汚染物質が水分である、請求項１４に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
【請求項２０】
前記内部仕切りおよび外部仕切りが、金属箔、プラスチックおよび充填プラスチックからなる群から選択される材料で形成される、請求項９に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
【請求項２１】
前記密封容器が、外部環境から前記被覆付きワークピースを分離するための内部仕切りおよび外部仕切りと、
前記内部仕切りまたは前記外部仕切りあるいはその両方の中に封入されて化学汚染物質が実質的に存在しない容器を作り出す前記少なくとも１つのゲッタ作用物質とを備え、
前記パッケージされた被覆付きワークピースが、感度、解像力またはプロセス許容範囲を大きく損なわずに少なくとも３カ月の保存に適する、請求項１に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
【請求項２２】
仕切り内に塗布済みワークピースおよびゲッタ作用物質を密封して前記被覆付きワークピースおよび前記ゲッタ作用物質を封入し、それによってパッケージされた被覆付きワークピースを作り出すステップを含む、
感度、解像力または性能を大きく損なわずに少なくとも１週間の保存に適するパッケージされた被覆付きワークピースを準備する工程。
【請求項２３】
被覆付きワークピースを密封する前記ステップが、任意選択で、内部仕切り内に第１ゲッタ作用物質を密封して前記被覆付きワークピースおよび前記任意選択の第１ゲッタ作用物質を封入し、それによって密封第１容器を作り出すステップを含み、
前記パッケージされた被覆付きワークピースが少なくとも１つのゲッタ作用物質を有するという条件で、外部仕切り内に前記密封第１容器および任意選択で第２ゲッタ作用物質を密封して前記第１密封容器および前記任意選択の第２ゲッタ作用物質を封入し、それによって前記パッケージされた被覆付きワークピースを作り出すステップをさらに含む、請求項２２に記載の工程。
【請求項２４】
前記被覆付きワークピースが、レジストを塗布したマスク・ブランクである、請求項２３に記載の工程。
【請求項２５】
中間仕切り内に前記密封第１容器および任意選択で中間ゲッタ作用物質を密封して前記密封第１容器および前記任意選択の中間ゲッタ作用物質を封入し、それによって前記外部仕切り内に封入する中間容器を形成することをさらに含む、請求項２３に記載の工程。
【請求項２６】
前記外部仕切り内に封入する前に、追加の中間仕切りを形成することをさらに含む、請求項２５に記載の工程。
【請求項２７】
感度、解像力または性能を大きく損なわずに、被覆付きワークピースの保存期間を少なくとも１週間まで延ばす方法であって、請求項２２または２３に記載の工程によって被覆付きワークピースをパッケージすることを含む方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、化学汚染物質が実質的に存在せず、感度、解像力またはプロセスの許容範囲を損なわずに保存するための容器内に１つまたは複数の仕切りおよびゲッタ作用物質（getter agent）を備える密封容器内にパッケージされた被覆付きワークピースに関する。より詳細には、環境の影響を受けるレジスト被覆付きマスク・ブランクを保存するパッケージに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＣＡＲ（化学増幅型レジスト（chemically amplified resist））は、汚染物質の影響が極めて大きい。一般に、超小型電子デバイスの製造では、化学増幅型レジストを製造し、制御された環境および装置群の現場で使用する。それらは保存用に梱包されていない。マスク・ブランクの書込みにおいては、マスク・ブランク製造業者が、通常はマスク工場で化学増幅型レジストをブランクに塗布し、それらを露光しその後加工してマスクにすることができる場所に出荷する。このような場合、パッケージングは非常に重要である。
【０００３】
レジスト被覆付きマスク・ブランクのこのような製造および輸送に関連する問題の１つは、程度が変動する汚染から生じるレジスト被覆付きマスク・ブランクの性能のばらつきである。実用的な方法では、レジスト被覆付きマスク・ブランクの欠陥の存在を早期に検出することができないので、このような欠陥は、使用がかなり進んだ段階、すなわち、何時間も画像形成および現像の作業をし、レジスト被覆付きマスク・ブランクの特性の劣化が明らかになるときまで顕在化しない。
【０００４】
塗布された感光性材料被膜を適切に保存することは、水分、熱および溶剤の吸収に関連した一般的な問題である。これらの影響は、たとえば、（１）米国特許第６，１２０，９８３号、（２）被膜中の残余のキャスティング溶剤とＰＡＧの分解および保存による影響の様子を含む、ＮＭＲによるＤＵＶレジストの研究が開示されているH. ItoおよびM. Sherwoodの論文J. Photopolymer Science and Tech. 12、625〜636頁、1999年、（３）化学増幅型レジストのプロフィールに対するＤＭＦの影響が記載されているG.CzechらのMicroelectronic Engineering 23、331〜5頁、1994年に記載されている。さらに、W. Hinsberg、S.MacDonald、N. Clecak、C. Snyder、およびH. Itoの「Airborne Contaminants and ChemicallyAmplified Resist Stability」という名称の論文SPIE Proceed. 1925、43〜53頁、1993年に記載されているように、化学増幅型レジストはアミンおよび水分を吸収しやすい。米国特許第５，９８５，５２４号、第５，９６２，１８４号、第５，８６１，２３１号、第５，７１２，０７８号、第５，５８５，２２０号、第５，２９６，３３２号、および第４４９１６２８号には、酸感受性官能基、たとえばｔ−ブチルエステル、カーボネート、アセタールまたはケタールを含む酸感受性レジストを酸の触媒作用を利用して除去することに基づくＣＡＲ（化学増幅型レジスト）が記載されている。塩基感受性レジストも周知のものである。いずれのタイプのレジストも、ドーズ量が１平方ｃｍ２当たり５０ｍＪ未満のフォトリソグラフィ用、ならびに１平方ｃｍ２当たり５０μＣ未満の範囲の電子ビーム用の高解像度で高速なレジストとして、過去２０年間にわたり開発されてきたものである。
【０００５】
電子ビームまたはレーザ・ビームによりあらゆる波長で露光可能な高速で高解像度のレジストは、次世代のフォトマスク・ブランクの生産にも不可欠なものである（T. Segawらの「Positive Chemically Amplified Resist for Next GenerationPhotomask Fabrication」、SPIE Proceed. 3236、82〜93頁、1999年を参照のこと）。このプロセスでは、クロムで覆われた石英上にレジストをあらかじめ塗布したプレートを、レーザまたは電子ビームのパターン生成器で描画する。一般に、あらかじめ塗布されたプレートは、ブランク製造業者から受け入れる。
【０００６】
レジスト被膜は極めて薄く、すなわち厚さ４００ｎｍ未満なので、塗布された６インチ角のプレートには約１０ｍｇのレジストしかない。このようなレジストは、マイクログラム・レベルで吸収された酸の影響を受けやすいはずであり、その後、増幅型レジストの脱保護反応に触媒作用を及ぼすことがある。したがって、ＣＡＲレジストを長期保存する場合、酸、特にｐｋａが６未満の酸、ｐｋｂが６未満の塩基、ならびに溶剤および水分が少量でも保存環境中に存在すべきではない。周囲の空気は水分を含み、また、酸前駆体、たとえばＳＯ２（二酸化硫黄）、ＮＯ２（二酸化窒素）を含むこともある。これらは、環境中で通常はｐｐｍレベルで発生する一般的な汚染物質である。酸前駆体により生じる汚染については、J. Lynch、C. VanBowersoxおよびJ. GrimmのEnvironmental Science andTechnology 34、940〜9頁、2000年を参照されたい。
【０００７】
ＣＡＲ（化学増幅型レジスト）を保護しようとする従来技術の試みは、ポリアクリル酸の上部被覆を設けるというものであった。これは、S. Kishimura、J. Sakai、K. Tsujita、Y. Matsuiの「Effect of GaseousPermeability of Overcoat Layer on KrF Chemically Amplified Positive Resists」という名称の論文J.Vac. Sci and Tech. B14、4234〜8頁、1996年に記載されている。あるいは、触れている環境を濾過してアンモニアおよびアミンを除去するというものであり、これは、A.Saikiらの「Development of Ammonia Absorption Filter and Its application in LSIManufacturing Environment」という名称の論文J. Photopolymer Science and Tech. 8、599〜606頁、1995年に記載されている。いくつかの例では、こうした上部被覆により、性能の劣化（プロセスによるスカムの発生（processscumming））が生じ、かつ／またはレジスト被膜に被覆欠陥が導入された。これは、前出のS. Kishimura、J. Sakai、K. Tsujita、Y.MatsuiのJ. Vac. Sci and Tech. B14、4234〜8頁、1996年に記載されている。プロセス用空気の濾過作用を利用して、露光後ベーク中に「Ｔトップ」のスカムの発生（"T-top"scumming）を防止した例が、前出のW. Hinsberg、S. MacDonald、N. Clecak、C. SnyderおよびH. ItoのSPIEProceed. 1925、43〜53頁、1993年およびA. SaikiらのJ. Photopolymer Science and Tech. 8、599〜606頁、1995年に記載されている。しかし、こうした手法は、酸性蒸気や長期保存の条件下では使用されなかった。
【０００８】
米国特許第６，１２０，８６０号は、バッグ内部に反応性液体有機アミンを保存するパッケージを記載している。このパッケージは、ポリ塩化ビニリデンを塗布したアルミニウム処理したナイロンを使用する。この特許は、放出される酸、蒸気および水分を含めて、光放射、微粒子または化学汚染物質の影響を受けるレジスト被膜を塗布したワークピースの保存について言及していない。このパッケージ中にはゲッタ作用物質は含まれていない。
【０００９】
マスク製作に使用する放射感受性化学増幅型ポリヒドロキシスチレンケタール・レジストの酸の触媒作用を利用した脱保護およびその保存が、米国特許第６，０４３，００３号および第６，０３７，０９７号、ならびにW. Huangらの「A CA Resist with High Sensitivity and sub 100 nmResolution for Advanced Mask Making」、Proceedings of SPIE 4066、150〜159頁、2000年に記載されている。単一層ポリマー・パッケージ、すなわち単一のプラスチック・バッグ中に、被覆付きプレートをパッケージすることによってプレートを保護する試みが、米国特許第６，０４３，００３号および第６，０３７，０９７号に記載されている。しかし、この方法は十分に効果的なものではない。たとえば、パッケージ材料自体、レジスト被覆付きマスク・ブランク、あるいはレジスト被覆付きマスク・ブランクのキャリアまたはホルダからの、酸性または塩基性で有機または無機の蒸気、または放出される可能性がある酸、蒸気、および水分の浸透に対して効果的ではない。
【００１０】
いずれの上記の参照文献も、感度、解像力またはプロセスの許容範囲を損なわずに、化学汚染物質が実質的に存在しない容器内で、環境の影響を受けるレジスト被覆付きマスク・ブランクを保存することについて記載していない。いずれの上記の参照文献も、程度が変動する汚染から生じるレジスト被覆付きマスク・ブランクの性能のばらつきの問題に実質的に対処していない。実用的な方法では、レジスト被覆付きマスク・ブランクの欠陥の存在を早期に検出することができないので、このような欠陥は、使用がかなり進んだ段階、すなわち、何時間も画像形成および現像の作業をし、特性の劣化が観察可能になるときまで顕在化しない。いずれの上記の参照文献も、レジスト被覆付きマスク・ブランクの性能のばらつきの問題に対する解決策を示していないし、再現可能な性能特性を作り出す方法を提案していない。したがって、産業界では、感度、解像力、プロセスの許容範囲および性能を損なわずに、このような感光性材料の塗布被膜を再現可能に保存する手段が大いに求められている。
【００１１】
感光性材料を塗布したプレートが少なくとも３カ月間保たれ、レジストが、焼き付けるためのドーズ量に関して変化せず、また線幅に関して約５％を超えて変化しないことが極めて望ましい。さらに、ＣＡＲ（化学増幅型レジスト）被膜は、特に水分ならびにＳＯ２およびＮＯ２など酸前駆体の影響を受けるはずなので、パッケージ内部の蒸気を物理的または化学的に除去してフォトマスク・ブランクを保存し、それによって、反応性蒸気および放出される汚染物質の浸透から保護することが極めて望ましいはずである。
【特許文献１】
米国特許第６，１２０，９８３号
【特許文献２】
米国特許第５，９８５，５２４号
【特許文献３】
米国特許第５，９６２，１８４号
【特許文献４】
米国特許第５，８６１，２３１号
【特許文献５】
米国特許第５，７１２，０７８号
【特許文献６】
米国特許第５，５８５，２２０号
【特許文献７】
米国特許第５，２９６，３３２号
【特許文献８】
米国特許第４４９１６２８号
【特許文献９】
米国特許第６，１２０，８６０号
【特許文献１０】
米国特許第６，０４３，００３号
【特許文献１０】
米国特許第６，０３７，０９７号
【非特許文献１】
H. ItoおよびM. SherwoodのJ.Photopolymer Science and Tech. 12、625〜636頁、1999年
【非特許文献２】
G. CzechらのMicroelectronicEngineering 23、331〜5頁、1994年
【非特許文献３】
W. Hinsberg、S. MacDonald、N. Clecak、C.Snyder、およびH. Itoの「Airborne Contaminants and Chemically Amplified ResistStability」、SPIE Proceed. 1925、43〜53頁、1993年
【非特許文献４】
T. Segawらの「Positive ChemicallyAmplified Resist for Next Generation Photomask Fabrication」、SPIE Proceed. 3236、82〜93頁、1999年
【非特許文献５】
J. Lynch、C. VanBowersoxおよびJ. GrimmのEnvironmentalScience and Technology 34、940〜9頁、2000年
【非特許文献６】
S. Kishimura、J. Sakai、K. Tsujita、Y.Matsuiの「Effect of Gaseous Permeability of Overcoat Layer on KrF ChemicallyAmplified Positive Resists」、J. Vac. Sci and Tech. B14、4232〜8頁、1996年
【非特許文献７】
A. Saikiらの「Development of AmmoniaAbsorption Filter and Its application in LSI Manufacturing Environment」、J. PhotopolymerScience and Tech. 8、599〜606頁、1995年
【非特許文献８】
W. Huangらの「A CA Resist with HighSensitivity and sub 100 nm Resolution for Advanced Mask Making」、Proceedings ofSPIE 4066、150〜159頁、2000年
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
したがって、本発明の目的は、化学増幅型あるいは非化学増幅型のレジストを塗布したプレートなどパッケージされた材料と、このようなパッケージされた材料を準備する工程と、少なくとも３カ月間パッケージ内部にこのような材料を保存して、こうした保存後も、その感度、解像力および性能を保護する方法とを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、（１）光放射、微粒子または化学汚染物質の影響を受けるレジスト被膜を塗布したワークピースと、（２）外部環境から被覆付きワークピースを分離する１つまたは複数の仕切りを備える密封容器と、（３）化学汚染物質が実質的に存在しない容器を作り出す１つまたは複数のゲッタ作用物質とを備えるパッケージされた被覆付きワークピースを含む。このパッケージされたレジスト被覆付きワークピースは、感度、解像力またはプロセスの許容範囲を大きく損なわずに、少なくとも１週間の保存に適する。
【００１４】
また、本発明は、（１）光放射、微粒子または化学汚染物質の影響を受けるレジスト被膜を塗布したワークピースと、（２）外部環境から被覆付きワークピースを分離する内部仕切りおよび外部仕切りを備える密封容器と、（３）化学汚染物質が実質的に存在しない容器を作り出す内部仕切りまたは外部仕切りあるいはその両方の中に封入された少なくとも１つのゲッタ作用物質とを備えるパッケージされた被覆付きワークピースを含む。このパッケージされた被覆付きワークピースは、感度、解像力またはプロセスの許容範囲を大きく損なわずに、少なくとも３カ月間の保存に適する。
【００１５】
さらに、本発明は、パッケージされた被覆付きワークピースが少なくとも１つのゲッタ作用物質を有するという条件で、（１）光放射、微粒子または化学汚染物質の影響を受けるレジスト被膜を塗布したワークピースと、（２）被覆付きワークピースおよび任意選択で第１ゲッタ作用物質を封入して密封第１容器を作り出すように密封された内部仕切りと、（３）密封第１容器および任意選択で第２ゲッタ作用物質を封入してパッケージされた被覆付きワークピースを作り出すように密封された外部仕切りとを備えるパッケージされた被覆付きワークピースを含む。この被覆付きワークピースは、感度、解像力または性能を大きく損なわずに、少なくとも１週間の保存に適する。
【００１６】
さらに、本発明は、感度、解像力または性能を大きく損なわずに、少なくとも１週間の保存に適するパッケージされた被覆付きワークピースを準備する工程を含む。この工程は、仕切り内に被覆付きワークピースおよびゲッタ作用物質を密封して被覆付きワークピースおよびゲッタ作用物質を封入し、それによってパッケージされた被覆付きワークピースを作り出すステップを含む。別の実施形態では、この工程は、パッケージされた被覆付きワークピースが少なくとも１つのゲッタ作用物質を有するという条件で、（ａ）内部仕切り内に被覆付きワークピースおよび任意選択で第１ゲッタ作用物質を密封して被覆付きワークピースおよび任意選択の第１ゲッタ作用物質を封入し、それによって密封第１容器を作り出すステップと、（ｂ）外部仕切り内に密封第１容器および任意選択で第２ゲッタ作用物質を密封して密封第１容器および任意選択の第２ゲッタ作用物質を封入し、それによってパッケージされた被覆付きワークピースを作り出すステップとを含む。
【００１７】
さらに、本発明は、感度、解像力または性能を大きく損なわずに、被覆付きワークピースの保存期間を少なくとも１週間まで延ばす方法を含む。この方法は、仕切り内に被覆付きワークピースおよびゲッタ作用物質を密封して被覆付きワークピースおよびゲッタ作用物質を封入し、それによってパッケージされた被覆付きワークピースを作り出すステップを含む工程によって被覆付きワークピースをパッケージすることを含む。別の実施形態では、この方法は、パッケージされた被覆付きワークピースが少なくとも１つのゲッタ作用物質を有するという条件で、（ａ）内部仕切り内に被覆付きワークピースおよび任意選択で第１ゲッタ作用物質を密封して被覆付きワークピースおよび任意選択の第１ゲッタ作用物質を封入し、それによって密封第１容器を作り出すことと、（ｂ）外部仕切り内に密封第１容器および任意選択で第２ゲッタ作用物質を密封して密封第１容器および任意選択の第２ゲッタ作用物質を封入し、それによってパッケージされた被覆付きワークピースを作り出すこととを含む工程によって被覆付きワークピースをパッケージすることを含む。
【００１８】
本発明は、仕切り材料およびゲッタ材料の組合せを使用して、ほぼダスト・フリーかつ化学的に不活性な環境で、感度、解像力および性能を大きく損なわずに、化学増幅型あるいは非化学増幅型のレジスト・プレートなどの被覆付きワークピースを少なくとも１週間保存するパッケージ・システムを提供する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
単一の仕切り、好ましくは内部および外部仕切りなどの２つの仕切りを有し、水分、酸および塩基用の物理的または化学的ゲッタ作用物質などのゲッタ作用物質を封入するように密封されたパッケージ構造が、レジストを塗布したブランクの優れた保護をもたらすことがわかっている。
【００２０】
一実施形態では、本発明は、単一の仕切り内に封入された被覆付きワークピースおよびゲッタ作用物質を含む。
【００２１】
一般に、被覆付きワークピースは、化学増幅型あるいは非化学増幅型のレジストであり得るレジスト被膜を塗布したプレートである。この被覆付きワークピースは、レジスト被覆付きマスク・ブランク、たとえば石英ブランク上のレジスト被覆付きクロム被膜であることが好ましい。
【００２２】
被覆付きワークピースは、超小型電子デバイスの製作に適した基板、またはマスクの製作に適した基板、たとえば、電子ビーム・マスク、Ｘ線マスク、粒子ビーム・マスク、励起状態原子ビーム（excited state atom beam）・マスク、イオン・ビーム・マスク、あるいはフォト・マスクであることが好ましい。
【００２３】
別の実施形態では、本発明は、密封内部仕切り内に封入された被覆付きワークピースおよびゲッタ作用物質を含み、第１密封容器を作り出す。さらに、この実施形態によれば、第１容器および第２ゲッタ作用物質が外部仕切り内に密封され、パッケージされた被覆付きワークピースを作り出す。
【００２４】
さらに、パッケージされた被覆付きワークピースは、内部仕切りと外部仕切りの間に密封された中間容器、すなわち、密封第１容器および任意選択で中間ゲッタ作用物質を封入するように密封された中間仕切りを有することができる。さらに、このパッケージされた被覆付きワークピースは、追加の中間仕切りを有することもできる。
【００２５】
パッケージされた被覆付きワークピースは、感度、解像力または性能を大きく損なわずに、少なくとも１週間、好ましくは少なくとも３カ月間の保存に適する。
【００２６】
外部仕切りは、酸性、塩基性の蒸気および水分の浸透に対する高い障壁層を提供する。この外部仕切りは、微孔性材料内にパッケージされた１つまたは複数のゲッタを封入して、微粒子による汚染をなくす。一般に、微孔性材料は、たとえば、フッ素化炭化水素材料から作られるナノポーラス（nanoporous）膜である。フッ素化炭化水素材料は、フッ化炭素、フッ化ビニリデン単独重合体、フッ化ビニリデン共重合体、ゴアテックス（Ｒ）、テフロン（Ｒ）、またはそれらの組合せであることが好ましい。
【００２７】
内部仕切りは、好ましくは垂直のホルダ内に置かれる被覆付きワークピース、通常は被覆付きプレートを含む。ゲッタ作用物質が内部仕切りの内部に含まれ、汚染物質に対する追加の保護をもたらす。
【００２８】
本来、パッケージ材料自体が、潜在的に酸、蒸気および水分を放出しやすいものでないことが極めて望ましい。パッケージ材料は、乾燥またはガス抜きを行って、酸、蒸気または水分が放出する可能性がほぼないように準備することが好ましい。パッケージする際に、残余の酸、アミンおよび水分が実質的に存在しない乾燥した不活性ガス中で、これらの仕切りを密封することが好ましい。
【００２９】
内部および外部仕切りは、金属箔、プラスチックまたは充填プラスチックなどの材料で形成する。この仕切り材料は、カーボン充填プラスチック、グラファイト充填プラスチック、金属粒子または金属ファイバ充填プラスチック、有機または無機イオン導体充填プラスチック、紫外線吸収体含有プラスチック、赤外線吸収体含有プラスチック、またはそれらの組合せとすることができる。
【００３０】
内部および外部仕切りの仕切り材料は、ＵＶ（紫外）、深紫外および可視放射を含む光放射を透過させないことが好ましい。この仕切り材料は、塵などの微粒子も透過させない。
【００３１】
さらに、内部および外部仕切りは、化学汚染物質も透過させない材料で形成する。ただし、この内部仕切りは、任意選択で１つまたは複数の開口を有することができる。こうした開口により、この内部仕切りは、被覆付きワークピースから放出される酸、蒸気および水分である化学汚染物質を含む化学汚染物質を透過させる。内部仕切り中のこれらの開口は、微孔性材料で覆うことができる。
【００３２】
内部仕切り中の開口を微孔性材料で覆った後、依然としてこの内部仕切りは、化学汚染物質を透過させるが、微粒子は透過させない。内部および外部仕切りはそれぞれ、密封可能なバッグとすることができる。
【００３３】
一般に、こうした化学汚染物質は、被覆付きワークピースの少なくとも１つの性能特性を減ずる恐れがある固体、液体または蒸気性の汚染物質である。このような化学汚染物質は、酸前駆体または塩基前駆体を含む。酸前駆体は、ＮＯ２およびＳＯ２放出ガスならびに水分を含むが、化学汚染物質は、酸、塩基または水分である。
【００３４】
ゲッタ作用物質は、その性質に応じて、下記の１つまたは複数の機能を行うことができる。すなわち、（１）酸性汚染物質を中和する、（２）塩基性汚染物質を中和する、および（３）容器内の望ましい相対湿度レベルを、たとえば室温で２５％未満に維持することである。
【００３５】
第１および第２ゲッタ作用物質はそれぞれ独立に、化学的乾燥薬剤、水吸収剤、塩基吸収剤、酸吸収剤、ガス吸収剤、またはそれらの組合せとすることができる。汚染物質の性質が予測可能な場合、あるいはわかっている場合には、１つまたは２つのタイプのゲッタ作用物質だけを使用することができるが、化学的乾燥薬剤、水吸収剤、塩基吸収剤、酸吸収剤、およびガス吸収剤をすべて組み合せてパッケージ内に含ませ、レジストを塗布したマスク・ブランクに有害な影響を与え得るいかなるタイプの汚染物質からも保護されるようにすることが好ましい。したがって、好ましいゲッタ作用物質は、たとえば、酸性または塩基性汚染物質を中和することができ、また容器内で望ましい相対湿度レベルを維持するシリカゲル、活性木炭および炭酸カリウムの組合せである。
【００３６】
ゲッタ作用物質には、酸性アルミナ、塩基性アルミナ、酸性シリカゲル、塩基性シリカゲル、活性木炭、クエン酸、炭酸カリウム、アミン、硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム、およびそれらの組合せが含まれる。当業者に知られている他の多くのゲッタ作用物質も使用することができる。ゲッタ作用物質は、酸性または塩基性汚染物質あるいはその両方を中和し、ガス状汚染物質を吸収し、また容器内の相対湿度レベルを室温で２５％未満に維持するシリカゲル、活性木炭および炭酸カリウムの組合せであることが好ましい。
【００３７】
パッケージされた被覆付きワークピース内にゲッタ作用物質を含めることは任意選択であるが、最終的なパッケージされた被覆付きワークピースは、パッケージされた全体構造内に少なくとも１つのゲッタ作用物質を含まなければならない。
【００３８】
図１を参照すると、密封容器内にパッケージされた被覆付きワークピース、たとえばレジスト被覆付きマスク・プレート１の概略図が示されている。この密封容器は、単一の仕切り６を含む。レジスト被覆付きマスク・プレート１は、プレート固定具となり得るプレート・キャリア３上の溝に配設するのが好ましい。この密封容器は、ゲッタ保持受け皿２ａおよび２ｂ中に置かれたゲッタ作用物質を含む。
【００３９】
プレート・キャリア３は、ゲッタ保持受け皿２ｂ中に置かれたゲッタ作用物質を保持するダミー・プレート５を有する。レジスト被覆付きマスク・プレート１、ゲッタ保持受け皿２ｂを保持するダミー・プレート５、およびプレート・キャリア３は、任意選択でハウジング４内に配置することができる。ハウジング４は、箱などの密封容器、または、１つまたは複数の開口を有し、それによってゲッタ保持受け皿２ａ中のゲッタ作用物質により汚染物質を除去できる容器とすることができる。ハウジング４（存在する場合）内のレジスト被覆付きマスク・プレート１、ダミー・プレート５、ゲッタ保持受け皿２ｂ、およびプレート・キャリア３は、ゲッタ保持受け皿２ａにより追加のゲッタ能力がもたらされるように、ゲッタ保持受け皿２ａとともに仕切り６内に直接配置される。
【００４０】
被覆付きワークピース、すなわち被覆付きプレートは、単一ピースあるいは複数ピースからなるアレイとすることができる。それらは、パッケージ内に任意の順序、配置または構成で配置することができる。これらのプレートは、プレート・キャリアなどのキャリア上に配置するのが好ましい。あるいは、被覆付きプレートを定位置に保持する固定具を使用することもできる。
【００４１】
被覆付きプレートに加えて、プレート・キャリア３は、ゲッタ保持受け皿２ｂ中に置かれたゲッタ作用物質を保持するダミー・プレート５を有する。ゲッタ保持受け皿２ｂは、ダミー・プレート５上に配置し、たとえばばねホルダを使用して保持する手段によって固定するのが好ましい。このばねホルダは、ダミー・プレート上で定位置にとどまるようにゲッタ受け皿２ｂを固定する。ダミー・プレート５は、ゲッタ保持受け皿２ｂが置かれ固定される開口を有し、それによって、ゲッタ保持受け皿２ｂが受け皿の両側で周囲の雰囲気と接触し、それによって、周囲の雰囲気に露出される有効表面積が倍になることが好ましい。
【００４２】
図２を参照すると、複数の仕切りを有する密封容器内にパッケージされた被覆付きワークピース、たとえばレジスト被覆付きマスク・プレート１１の概略図が示されている。この密封容器は、ゲッタ保持受け皿１２ｃ、内部仕切り１６およびその内容物を封入する外部仕切り１７を含む。外部仕切り１７および内部仕切り１６はともに、化学汚染物質を透過させない材料で形成する。内部仕切りは、任意選択で１つまたは複数の開口を有することができ、それによって内部仕切りは化学汚染物質を透過させる。微孔性材料を使用して内部仕切り１６中の開口を覆う場合、依然として内部仕切り１６は化学汚染物質を透過させるが、他の汚染物質は透過させない。
【００４３】
この実施形態では、密封内部仕切り１６の内容物は、上記で図１に示すように、プレート固定具にもなり得るプレート・キャリア１３上の溝に配設されることが好ましいレジスト被覆付きマスク・プレート１１を含む。密封内部仕切り１６は、ゲッタ保持受け皿１２ａおよび１２ｂ中に置かれたゲッタ作用物質を含む。プレート・キャリア１３は、ゲッタ保持受け皿１２ｂ中に置かれたゲッタ作用物質を保持するダミー・プレート１５を有する。レジスト被覆付きマスク・プレート１１、ゲッタ保持受け皿１２ｂを保持するダミー・プレート１５、およびプレート・キャリア１３は、任意選択でハウジング１４内に配置することができる。ハウジング１４は、箱などの密封容器、または、１つまたは複数の開口を有し、それによってゲッタ保持受け皿１２ａ中のゲッタ作用物質により汚染物質を除去できる容器とすることができる。ハウジング１４（存在する場合）内のレジスト被覆付きマスク・プレート１１、ダミー・プレート１５、ゲッタ保持受け皿１２ｂ、およびプレート・キャリア１３は、ゲッタ保持受け皿１２ａにより追加のゲッタ能力がもたらされるように、ゲッタ保持受け皿１２ａとともに内部仕切り１６内に直接配置される。
【００４４】
内部仕切りで画定される容積と、内部および外部仕切りの間に形成される容積との間で、内部仕切り１６中の開口を通って蒸気およびガスが自由に流れるので、ゲッタ保持受け皿１２ｃにより追加のゲッタ能力がもたらされる。上述したように、開口を微孔性材料で覆うときでさえ、依然として内部仕切り１６は化学汚染物質を透過させる。
【００４５】
図３を参照すると、本発明に従って異なる温度および湿度でパッケージされたＫＲＳ−ＸＥのレジスト被覆付きウエハをエージングした後の、ウエハのエージング時間に対する被膜の損失がグラフで示されている。ゲッタ作用物質がないと、温度および湿度が温度２０℃および相対湿度４４％と低くても、３０日間保存した後の被膜の損失は大きかった。より高い温度および湿度では、わずか数日間の保存でも被膜の損失は著しかった。
【００４６】
図４、５、６および７を参照すると、下記の異なる保存期間後、２種類のドーズ量を使用して１００ｎｍの等幅ライン＆スペースを解像させたＫＲＳ−ＸＥレジスト被覆付きウエハの走査型電子顕微鏡写真（ＳＥＭ）が示されている。すなわち、ａ）５０日間の保存後、２０μＣ／ｃｍ２、ｂ）５０日間の保存後、２１μＣ／ｃｍ２、ｃ）０日間の保存後（コントロール）、２０μＣ／ｃｍ２、およびｄ）０日間の保存後（コントロール）、２１μＣ／ｃｍ２という条件である。
【００４７】
図８、９、１０および１１を参照すると、下記の異なる保存期間後、２種類のドーズ量を使用して７５ｎｍの等幅ライン＆スペースを解像させたＫＲＳ−ＸＥレジスト被覆付きウエハの走査型電子顕微鏡写真（ＳＥＭ）が示されている。すなわち、ａ）５０日間の保存後、２０μＣ／ｃｍ２、ｂ）５０日間の保存後、２１μＣ／ｃｍ２、ｃ）０日間の保存後（コントロール）、２０μＣ／ｃｍ２、およびｄ）０日間の保存後（コントロール）、２１μＣ／ｃｍ２という条件である。
【００４８】
図４を図６と比べ、図５を図７と、図８を図１０と、図９を図１１と比べると、５０日間保存したウエハについて得られた結果と、コントロール・ウエハについて得られた結果は同じであることがはっきりとわかる。これらのＳＥＭ画像は、周囲の温度および相対湿度で５０日間保存した後、コントロール・ウエハに対して、保存したレジスト被覆付きシリコン・ウエハの感度、性能、画像解像力または画質の顕著な低減または劣化はなかったことを示している。ＫＲＳ−ＸＥ被膜は、本発明のパッケージ・システム内で５０日間保存した後でさえ劣化しなかった。
【００４９】
さらに本発明は、感度、解像力または性能を大きく損なわずに、少なくとも１週間の保存に適するパッケージされた被覆付きワークピースを準備する工程を含む。この工程は、仕切り内に被覆付きワークピースおよびゲッタ作用物質を密封して被覆付きワークピースおよびゲッタ作用物質を封入し、それによってパッケージされた被覆付きワークピースを作り出すステップを含む。
【００５０】
また別の実施形態では、本発明は、感度、解像力または性能を大きく損なわずに、少なくとも１週間の保存に適するパッケージされた被覆付きワークピースを準備する工程を含む。この工程は、パッケージされた被覆付きワークピースが少なくとも１つのゲッタ作用物質を有するという条件で、内部仕切り内に被覆付きワークピースおよび任意選択で第１ゲッタ作用物質を密封して被覆付きワークピースおよび任意選択の第１ゲッタ作用物質を封入し、それによって密封第１容器を作り出すステップと、外部仕切り内に密封第１容器および任意選択で第２ゲッタ作用物質を密封して密封第１容器および任意選択の第２ゲッタ作用物質を封入し、それによってパッケージされた被覆付きワークピースを作り出すステップとを含む。
【００５１】
一般に、密封は、広く入手可能な熱密封装置を使用して行われる。仕切り材料のバッグまたはポーチ内に被覆付きワークピースを配置した後、バッグまたはポーチの開いた縁部または端部を、熱密封装置を使用して熱プレスする。この密封ステップは、２つ以上のシールが得られるまで繰り返し、それによってシールの１つが破損する可能性に対して防護策を提供することが好ましい。
【００５２】
さらに別の実施形態では、この工程は、中間仕切り内に密封第１容器および任意選択で中間ゲッタ作用物質を密封して密封第１容器および任意選択の中間ゲッタ作用物質を封入し、それによって外部仕切り内に封入する中間容器を形成することをさらに含むことができる。この工程は、外部仕切り内に封入する前に、追加の中間仕切りを形成することをさらに含むことができる。
【００５３】
さらに本発明は、感度、解像力または性能を大きく損なわずに、被覆付きワークピースの保存期間を少なくとも１週間まで延ばす方法を含む。この方法は、仕切り内に被覆付きワークピースおよびゲッタ作用物質を密封して被覆付きワークピースおよびゲッタ作用物質を封入し、それによってパッケージされた被覆付きワークピースを作り出すステップを含む工程によって、被覆付きワークピースをパッケージすることを含む。
【００５４】
別の実施形態では、本発明は、感度、解像力または性能を大きく損なわずに、被覆付きワークピースの保存期間を少なくとも１週間まで延ばす方法を含む。この方法は、パッケージされた被覆付きワークピースが少なくとも１つのゲッタ作用物質を有するという条件で、内部仕切り内に被覆付きワークピースおよび任意選択で第１ゲッタ作用物質を密封して被覆付きワークピースおよび任意選択の第１ゲッタ作用物質を封入し、それによって密封第１容器を作り出すことと、外部仕切り内に密封第１容器および任意選択で第２ゲッタ作用物質を密封して第１密封容器および任意選択の第２ゲッタ作用物質を封入し、それによってパッケージされた被覆付きワークピースを作り出すことを含む工程によって、被覆付きワークピースをパッケージすることを含む。
【００５５】
水分、酸および塩基にさらされる周囲の条件でプレートを保存する要求を満たすには、環境の制御が必要である。こうした外部の作用物質から保護することにより、フォトマスク・ブランクの加工を経済的に行うことができ、塗布したレジスト被膜の保存期間が確実に延びる。
【００５６】
本発明を以下の実施例でさらに説明するが、これらの実施例は例示するためのものであり、限定するためのものではない。
【００５７】
例１（比較）
シリコン・ウエハ上に塗布したＫＲＳ−ＸＥ（ケタール・レジスト・システム）レジストについて、塗布被膜の感受性を示す。シリコン・ウエハ上に塗布したＫＲＳ−ＸＥレジストを室温でジャー内に保存し、０．２６３ＮのＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）中で現像した後の３２４０Åの被膜について、レジスト被膜の損失を以下の表に示す。
【００５８】
【表１】
2005508509.tif 000003
【００５９】
例２（比較）
ＫＲＳ−ＸＥを塗布したシリコン・ウエハを様々な環境条件に曝露し、得られた被膜損失を測定した。室温で１週間曝露した後に得られた結果を以下に要約する。
【００６０】
【表２】
2005508509.tif 000004
【００６１】
例３（比較）
酸による汚染の研究：
ＫＲＳ−ＸＥレジストを塗布したシリコン・ウエハを準備し、被覆の被膜厚さを測定した。被覆付きシリコン・ウエハを環境試験チャンバ内に置き、所定の期間保存した。指定期間保存した後、被覆付きシリコン・ウエハを０．２６３ＮのＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）現像液中に６０秒間浸し、被覆の被膜厚さを再度測定した。現像後の被膜損失を測定し記録した。
【００６２】
現像後の被膜損失量を以下の表に示す。
【００６３】
【表３】
2005508509.tif 000005
【００６４】
例４（比較）
温度および湿度（ＲＨ）チャンバの研究
相対湿度チャンバすなわちＲＨチャンバ内で、ゲッタ作用物質なしで、ＫＲＳ−ＸＥレジストを塗布したシリコン・ウエハの異なる温度および湿度におけるエージングを研究した。図３に、ウエハのエージング時間に対する被膜損失をグラフで示す。ゲッタ作用物質がないと、温度および湿度が温度２０℃および相対湿度４４％と低くても、３０日間保存した後の被膜の損失は大きかった。より高い温度および湿度では、わずか数日間の保存でも被膜の損失は著しかった。
【００６５】
例５
米国ミネソタ州所在の3M Companyから入手可能な静電気を逃がすポリエチレンのパッケージ材料を含むMoistureBarrier Bagaのアルミニウム被覆したポリエステル内に、ゲッタ作用物質として、米国ミネソタ州ミネアポリス所在のDonaldson, Inc.社から入手可能なシリカゲル／木炭をあらかじめ混ぜ合わせて受け皿箱に入れ、３５０ｎｍの被膜厚さを有するＫＲＳ−ＸＥレジストを塗布したシリコン・ウエハを本発明に従ってパッケージした。追加のゲッタ作用物質として、別の受け皿箱に炭酸カリウムも含めた。周囲の温度および相対湿度で５０日間、パッケージされたレジスト被覆付きウエハを保存した。その後、このエージングしたＫＲＳ−ＸＥレジスト被覆付きシリコン・ウエハを、７５ｋＶの電子ビーム放射でパターン状に露光し、次いで、０．２６３ＮのＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）中で現像して１００ｎｍおよび７５ｎｍのライン＆スペース・フィーチャを作り出した。コントロール・ウエハは保存せず、すなわち湿気にさらさなかった。それらを電子ビーム放射でパターン状に露光し、同じ日に現像した。ここで、得られた実験の詳細および結果を以下および図４、５、６、７、８、９、１０および１１に要約する。
【００６６】
図４、５、６および７：下記の異なる保存期間後、２種類のドーズ量を使用して１００ｎｍの等幅ライン＆スペースを解像させたＫＲＳ−ＸＥの走査型電子顕微鏡写真（ＳＥＭ）：ａ）５０日間の保存後、２０μＣ／ｃｍ２、ｂ）５０日間の保存後、２１μＣ／ｃｍ２、ｃ）０日間の保存後（コントロール）、２０μＣ／ｃｍ２、ｄ）０日間の保存後（コントロール）、２１μＣ／ｃｍ２。図８、９、１０および１１：下記の異なる保存期間後、２種類のドーズ量を使用して７５ｎｍの等幅ライン＆スペースを解像させたＫＲＳ−ＸＥの走査型電子顕微鏡写真（ＳＥＭ）：ａ）５０日間の保存後、２０μＣ／ｃｍ２、ｂ）５０日間の保存後、２１μＣ／ｃｍ２、ｃ）０日間の保存後（コントロール）、２０μＣ／ｃｍ２、ｄ）０日間の保存後（コントロール）、２１μＣ／ｃｍ２。図４を図６と比べ、図５を図７と、図８を図１０と、図９を図１１と比べる。図から、保存しないコントロール・ウエハについて得られた結果と５０日間保存したウエハについて得られた結果とは同じであることがはっきりとわかる。上記のＳＥＭ画像は、ＫＲＳ−ＸＥ被膜が、上記で説明したパッケージ・システム中で５０日間保存した後でさえ劣化しないことを示している。したがって、周囲の温度および相対湿度で５０日間保存した後、保存しなかったレジスト被覆付きシリコン・ウエハと比べたとき、保存したレジスト被覆付きシリコン・ウエハの感度、性能、画像解像力または画質の顕著な低減または劣化はなかった。
【００６７】
好ましい実施形態を具体的に参照して本発明を説明した。上記の説明および実施例は、本発明の単なる例であることを理解されたい。当業者は、本発明の趣旨および範囲から逸脱することなく、本発明の様々な代替形態および改変形態を考案することができる。したがって、本発明は、添付の特許請求の範囲の範囲に含まれるこうした代替形態、改変形態および変形形態すべてを包含するものとする。
【００６８】
定義
１．光放射、微粒子または化学汚染物質の影響を受けるレジスト被膜を塗布したワークピースと、
外部環境から前記被覆付きワークピースを分離する１つまたは複数の仕切りを備える密封容器と、
化学汚染物質が実質的に存在しない容器を作り出す１つまたは複数のゲッタ作用物質とを備え、
感度、解像力またはプロセス許容範囲を大きく損なわずに少なくとも１週間の保存に適するパッケージされた被覆付きワークピース。
２．前記レジスト被膜が、化学増幅型レジストまたは非化学増幅型レジストである、定義１に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
３．前記被覆付きワークピースが、レジストを塗布したマスク・ブランクである、定義２に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
４．前記被覆付きワークピースが、レジストを塗布した石英ブランク上のクロム被膜である、定義３に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
５．前記ワークピースが、超小型電子デバイスの製作に適した基板である、定義１に記載の記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
６．前記ワークピースが、電子ビーム、Ｘ線、粒子ビーム、励起状態原子ビーム、イオン・ビームおよびフォト用のマスクからなる群から選択されるマスクの製作に適した基板である、定義１に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
７．前記密封容器が内部仕切りおよび外部仕切りを備える、定義１に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
８．前記内部仕切りおよび外部仕切りが、光放射および微粒子を透過させない材料で形成される、定義７に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
９．前記微粒子が塵を含む、定義８に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
１０．前記光放射が、ＵＶ（紫外）放射および可視放射からなる群から選択される、定義８に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
１１．前記ＵＶ（紫外）放射が深紫外放射である、定義１０に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
１２．前記内部仕切りが任意選択で１つまたは複数の開口を有し、それによって化学汚染物質を透過させるという条件で、前記内部仕切りおよび外部仕切りが、化学汚染物質を透過させない材料で形成される、定義７に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
１３．前記内部仕切り中の前記１つまたは複数の開口が任意選択で微孔性材料で覆われ、それによって前記１つまたは複数の覆われた開口が微粒子を透過させない、定義１２に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
１４．前記化学汚染物質が、前記被覆付きワークピースの少なくとも１つの性能特性を減ずる恐れがある固体、液体または蒸気の汚染物質である、定義１３に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
１５．前記化学汚染物質が酸前駆体または塩基前駆体を含む、定義１３に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
１６．前記酸前駆体が、ＮＯ２およびＳＯ２放出ガスおよび水分を含む、定義１５に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
１７．前記化学汚染物質が酸または塩基である、定義１３に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
１８．前記化学汚染物質が水分である、定義１３に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
１９．前記内部仕切りおよび外部仕切りが、金属箔、プラスチックおよび充填プラスチックからなる群から選択される材料で形成される、定義８に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
２０．光放射、微粒子または化学汚染物質の影響を受けるレジスト被膜を塗布したワークピースと、
外部環境から前記被覆付きワークピースを分離する内部仕切りおよび外部仕切りを備える密封容器と、
化学汚染物質が実質的に存在しない容器を作り出す前記内部仕切りまたは前記外部仕切りあるいはその両方の中に封入された少なくとも１つのゲッタ作用物質とを備え、
感度、解像力またはプロセスの許容範囲を大きく損なわずに、少なくとも３カ月間の保存に適するパッケージされた被覆付きワークピース。
２１．パッケージされた被覆付きワークピースが少なくとも１つのゲッタ作用物質を有するという条件で、
光放射、微粒子または化学汚染物質の影響を受けるレジスト被膜を塗布したワークピースと、
前記被覆付きワークピースおよび任意選択で第１ゲッタ作用物質を封入して密封第１容器を作り出すように密封された内部仕切りと、
前記密封第１容器および任意選択で第２ゲッタ作用物質を封入して、感度、解像力または性能を大きく損なわずに少なくとも１週間の保存に適するパッケージされた被覆付きワークピースを作り出すように密封された外部仕切りとを備えるパッケージされた被覆付きワークピース。
２２．前記レジスト被膜が、化学増幅型レジストまたは非化学増幅型レジストである、定義２１に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
２３．前記被覆付きワークピースが、レジストを塗布したマスク・ブランクである、定義２２に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
２４．前記被覆付きワークピースが、レジストを塗布した石英ブランク上のクロム被膜である、定義２３に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
２５．前記ワークピースが、超小型電子デバイスの製作に適した基板である、定義２１に記載の記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
２６．前記ワークピースが、電子ビーム、Ｘ線、粒子ビーム、励起状態原子ビーム、イオン・ビームおよびフォト用のマスクからなる群から選択されるマスクの製作に適した基板である、定義２１に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
２７．前記内部仕切りおよび外部仕切りが、光放射および微粒子を透過させない材料で形成される、定義２１に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
２８．前記微粒子が塵を含む、定義２７に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
２９．前記光放射が、ＵＶ（紫外）放射および可視放射からなる群から選択される、定義２７に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
３０．前記ＵＶ（紫外）放射が深紫外放射である、定義２９に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
３１．前記内部仕切りが任意選択で１つまたは複数の開口を有し、それによって化学汚染物質を透過させるという条件で、前記内部仕切りおよび外部仕切りが、化学汚染物質を透過させない材料で形成される、定義２１に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
３２．前記内部仕切り中の前記１つまたは複数の開口が任意選択で微孔性材料で覆われ、それによって前記１つまたは複数の覆われた開口が微粒子を透過させない、定義３１に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
３３．前記化学汚染物質が、前記被覆付きワークピースの少なくとも１つの性能特性を減ずる恐れがある固体、液体または蒸気の汚染物質である、定義３２に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
３４．前記化学汚染物質が酸前駆体または塩基前駆体を含む、定義３２に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
３５．前記酸前駆体が、ＮＯ２およびＳＯ２放出ガスおよび水分を含む、定義３４に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
３６．前記化学汚染物質が酸または塩基である、定義３２に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
３７．前記化学汚染物質が水分である、定義３２に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
３８．前記第１ゲッタ作用物質および前記第２ゲッタ作用物質がそれぞれ、前記容器内の相対湿度レベルを、室温で２５％未満に維持することができる、定義２１に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
３９．前記第１ゲッタ作用物質および前記第２ゲッタ作用物質がそれぞれ独立に、化学的乾燥薬剤、水吸収剤、塩基吸収剤、酸吸収剤、ガス吸収剤、およびそれらの組合せからなる群から選択される、定義３８に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
４０．前記第１ゲッタ作用物質および前記第２ゲッタ作用物質がそれぞれ独立に、アルミナ、シリカゲル、活性木炭、クエン酸、炭酸カリウム、アミン、およびそれらの組合せからなる群から選択される、定義３９に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
４１．前記第１ゲッタ作用物質および前記第２ゲッタ作用物質がそれぞれ、シリカゲル、活性木炭および炭酸カリウムの組合せである、定義４０に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
４２．前記第１ゲッタ作用物質または前記第２ゲッタ作用物質の少なくとも一部が、微孔性材料内に封入される、定義２１に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
４３．前記微孔性材料がフッ素化炭化水素材料である、定義２１に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
４４．前記フッ素化炭化水素材料が、フッ化炭素、フッ化ビニリデン単独重合体、フッ化ビニリデン共重合体、ゴアテックス（Ｒ）、テフロン（Ｒ）、およびそれらの組合せからなる群から選択される、定義４３に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
４５．前記内部仕切りおよび外部仕切りが、金属箔、プラスチックおよび充填プラスチックからなる群から選択される材料で形成される、定義８に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
４６．前記材料が、カーボン充填プラスチック、グラファイト充填プラスチック、金属粒子、金属小板または金属ファイバ充填プラスチック、有機または無機イオン導体充填プラスチック、紫外線吸収体含有プラスチック、赤外線吸収体含有プラスチック、およびそれらの組合せからなる群から選択される、定義４５に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
４７．前記内部仕切りおよび前記外部仕切りがそれぞれ密封可能なバッグである、定義２１に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
４８．前記内部仕切りと前記外部仕切りの間に、前記密封第１容器および任意選択で中間ゲッタ作用物質を封入して密封中間容器を作り出すように密封された中間仕切りをさらに備える、定義２１に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
４９．追加の中間仕切りをさらに備える、定義４８に記載のパッケージされた被覆付きワークピース。
５０．仕切り内に塗布済みワークピースおよびゲッタ作用物質を密封して前記被覆付きワークピースおよび前記ゲッタ作用物質を封入し、それによって前記パッケージされた被覆付きワークピースを作り出すステップを含む、感度、解像力または性能を大きく損なわずに少なくとも１週間の保存に適するパッケージされた被覆付きワークピースを準備する工程。
５１．パッケージされた被覆付きワークピースが少なくとも１つのゲッタ作用物質を有するという条件で、
内部仕切り内に被覆付きワークピースおよび任意選択で第１ゲッタ作用物質を密封して前記被覆付きワークピースおよび前記任意選択の第１ゲッタ作用物質を封入し、それによって密封第１容器を作り出すステップと、
外部仕切り内に前記密封第１容器および任意選択で第２ゲッタ作用物質を密封して前記密封第１容器および前記任意選択の第２ゲッタ作用物質を封入し、それによって前記パッケージされた被覆付きワークピースを作り出すステップとを含む、感度、解像力または性能を大きく損なわずに少なくとも１週間の保存に適するパッケージされた被覆付きワークピースを準備する工程。
５２．前記被覆付きワークピースが、レジストを塗布したマスク・ブランクである、定義５１に記載の工程。
５３．中間仕切り内に前記密封第１容器および任意選択で中間ゲッタ作用物質を密封して前記密封第１容器および前記任意選択の中間ゲッタ作用物質を封入し、それによって前記外部仕切り内に封入する中間容器を形成することをさらに含む、定義５１に記載の工程。
５４．前記外部仕切り内に封入する前に、追加の中間仕切りを形成することをさらに含む、定義５３に記載の工程。
５５．仕切り内に被覆付きワークピースおよびゲッタ作用物質を密封して前記被覆付きワークピースおよび前記ゲッタ作用物質を封入し、それによって前記パッケージされた被覆付きワークピースを作り出すステップを含む工程によって被覆付きワークピースをパッケージすることを含む、感度、解像力または性能を大きく損なわずに、被覆付きワークピースの保存期間を少なくとも１週間まで延ばす方法。
５６．パッケージされた被覆付きワークピースが少なくとも１つのゲッタ作用物質を有するという条件で、
内部仕切り内に被覆付きワークピースおよび任意選択で第１ゲッタ作用物質を密封して前記被覆付きワークピースおよび前記任意選択の第１ゲッタ作用物質を封入し、それによって密封第１容器を作り出すことと、
外部仕切り内に前記密封第１容器および任意選択で第２ゲッタ作用物質を密封して前記密封第１容器および前記任意選択の第２ゲッタ作用物質を封入し、それによって前記パッケージされた被覆付きワークピースを作り出すこととを含む工程によって被覆付きワークピースをパッケージすることを含む、感度、解像力または性能を大きく損なわずに、被覆付きワークピースの保存期間を少なくとも１週間まで延ばす方法。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】密封容器内のパッケージされた被覆付きワークピースを示す概略図である。この密封容器は単一の仕切りを備え、１つまたは複数のゲッタ作用物質を含む。
【図２】２つの仕切りをもつ密封容器内のパッケージされた被覆付きワークピースを示す概略図である。
【図３】異なる温度および湿度でＫＲＳ−ＸＥウエハをエージングした後の、ウエハのエージング時間に対する被膜の損失を示すグラフである。
【図４】１００ｎｍの等幅ライン＆スペースを解像させたＫＲＳ−ＸＥレジスト被覆付きウエハの走査型電子顕微鏡写真（ＳＥＭ）である。
【図５】１００ｎｍの等幅ライン＆スペースを解像させたＫＲＳ−ＸＥレジスト被覆付きウエハの走査型電子顕微鏡写真（ＳＥＭ）である。
【図６】１００ｎｍの等幅ライン＆スペースを解像させたＫＲＳ−ＸＥレジスト被覆付きウエハの走査型電子顕微鏡写真（ＳＥＭ）である。
【図７】１００ｎｍの等幅ライン＆スペースを解像させたＫＲＳ−ＸＥレジスト被覆付きウエハの走査型電子顕微鏡写真（ＳＥＭ）である。
【図８】７５ｎｍの等幅ライン＆スペースを解像させたＫＲＳ−ＸＥレジスト被覆付きウエハの走査型電子顕微鏡写真（ＳＥＭ）である。
【図９】７５ｎｍの等幅ライン＆スペースを解像させたＫＲＳ−ＸＥレジスト被覆付きウエハの走査型電子顕微鏡写真（ＳＥＭ）である。
【図１０】７５ｎｍの等幅ライン＆スペースを解像させたＫＲＳ−ＸＥレジスト被覆付きウエハの走査型電子顕微鏡写真（ＳＥＭ）である。
【図１１】７５ｎｍの等幅ライン＆スペースを解像させたＫＲＳ−ＸＥレジスト被覆付きウエハの走査型電子顕微鏡写真（ＳＥＭ）である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【国際公開パンフレット】
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【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
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【国際調査報告】
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