(57)【要約】本発明は、包まれた光学製品のための方法および装置を通じて上記必要性に対する解決法を提供する。第１基材の外側表面は、第１ホルダーを有するつかみである。それにより、第１基材の外側表面は、第１ホルダーの内側表面に維持される。第２基材の外側表面は、第２ホルダーを備えるつかみである。それにより、第２基材の外側表面は、第２ホルダーの内側表面に維持される。第１ホルダーと第２ホルダーの内側表面は、互いに選択された角度関係にて面するように配置され、光学製品は、第１基材と第２基材との間に挿入される。ここで接着剤の第１層は、光学製品の第１表面と第１基材の内側表面との間にあり、接着剤の第２層は、光学製品の第２表面と第２基材の内側表面との間にある。【特許請求の範囲】
【請求項１】
多層光学製品を形成するための方法であって、該方法は、以下：
第１ホルダーで第１基材の外側表面を把握する工程であって、それにより、該第１基材の該外側表面は、該第１ホルダーの内側表面に保持される、工程；
第２ホルダーで第２基材の外側表面を把握する工程であって、それにより、該第２基材の該外側表面は、該第２ホルダーの内側表面に保持される、工程；
該第１ホルダーおよび第２ホルダーの該内側表面を、選択された角度の関係にて互いに面するように配置する工程；
該第１基材と該第２基材との間に、光学製品を挿入する工程であって、ここで接着剤の第１層は、該光学製品の第１表面と、該第１基材の該内側表面との間にあり、そして接着剤の第２層は、該光学製品の第２層と、該第２基材の該内側表面との間にある、工程；
該第１基材と該第２基材の該内側表面が、接着剤の該第１層と該第２層と、該光学製品とを、接着剤の該第１層と該第２層との間で接触させるように、該第１ホルダーと該第２ホルダーとを、互いに向かって動かす工程；および
該第１ホルダーと該第２ホルダーの該内側表面が、該選択された角度関係にて存在して、該光学製品を包む多層製品を形成すると同時に、該接着剤を少なくとも部分的に硬化する工程であって、ここで該第１ホルダーと該第２ホルダーを外した後に、該少なくとも部分的に硬化された接着剤は、該多層製品が、該第１ホルダーと該第２ホルダーにより保持された相対位置にて、該光学製品を備える該多層製品を維持する、工程、
を包含する、方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、前記第１基材と前記第２基材との間に光学製品を挿入する工程は、以下の工程：
該第１基材の内側表面または該第２基材の該内側表面上に接着剤を配置する工程；
予め形成した光学製品を、該接着剤の上に挿入する工程；および
該予め形成した光学製品の表面に接着剤を配置する工程、
を包含する、方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法であって、前記接着剤を配置する工程は、毛細管作用を介して接着剤を引き寄せる工程を包含する、方法。
【請求項４】
請求項２に記載の方法であって、前記接着剤を配置する工程は、接着剤を、注入する工程、押し出し成形する工程、注ぐ工程、ピペッティングする工程、ロールコーティングする工程、ブレードコーティングする工程、またはスプレーする工程、を包含する、方法。
【請求項５】
請求項２に記載の方法であって、前記第１基材の前記内側表面または前記第２基材の前記内側表面の上に接着剤を配置する工程は、該第１基材または該第２基材にある穴を通して、前記第１ホルダーまたは前記第２ホルダーにある対応する穴を介して、該接着剤を分配する工程、を包含する、方法。
【請求項６】
請求項１に記載の方法であって、前記基材の外側表面は、ホルダーの内側表面に、真空力を使用して維持される、方法。
【請求項７】
請求項１に記載の方法であって、前記基材の外側表面は、ホルダーの内側表面に、電磁力を使用して保持される、方法。
【請求項８】
請求項１に記載の方法であって、前記ホルダーは、透明プレートである、方法。
【請求項９】
請求項１に記載の方法であって、前記ホルダーは、真空力を基材に適用するために、該ホルダーに少なくとも１つの真空溝を有する、方法。
【請求項１０】
請求項１に記載の方法であって、前記ホルダーは、該ホルダーを通して接着剤を分配するために、少なくとも１つの穴を有する、方法。
【請求項１１】
請求項１に記載の方法であって、前記基材は、ガラス、珪素、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸、またはこれらの任意の組み合わせから作製される、方法。
【請求項１２】
請求項１に記載の方法であって、前記基材は、該基材を通して接着剤を分配するために、少なくとも１つの穴を有する、方法。
【請求項１３】
請求項１に記載の方法であって、前記基材の形状は、四角、矩形、円形または楕円形であり得る、方法。
【請求項１４】
請求項１に記載の方法であって、前記基材は、厚みが約２５μｍ〜約３ｍｍである、方法。
【請求項１５】
請求項１に記載の方法であって、前記第１基材または前記第２基材の外側表面は、表面レリーフパターンを備える、方法。
【請求項１６】
請求項１に記載の方法であって、前記第１基材または前記第２基材の前記内側表面は、表面レリーフパターンまたは回折格子を備える、方法。
【請求項１７】
請求項１に記載の方法であって、前記第１基材または前記第２基材は、光学製品である、方法。
【請求項１８】
請求項１７に記載の方法であって、前記光学製品は、偏光子、半波長板、四分の一波長板、または中性密度フィルターである、方法。
【請求項１９】
請求項１に記載の方法であって、前記第１基材または前記第２基材の前記内側表面または前記外側表面を清浄にした後、前記第１ホルダーまたは前記第２ホルダーにより把握する工程をさらに包含する、方法。
【請求項２０】
請求項１９に記載の方法であって、前記清浄にする工程は、以下の工程：
洗浄溶媒を、前記基材の表面に塗布する工程；および
該基材を回転することによって、該溶媒をエバポレートする工程、
を包含する、方法。
【請求項２１】
請求項１に記載の方法であって、前記光学製品を包む前記多層製品は、約３００ｎｍ〜１６００ｎｍの波長にて約０．０５波動／ｃｍ〜約１波動／ｃｍの平均表面平坦度を有する、方法。
【請求項２２】
請求項１に記載の方法であって、前記光学製品を包む前記多層製品は、約３００ｎｍ〜１６００ｎｍの波長にて約０．０５波動／ｃｍ〜約１波動／ｃｍの平均伝送平坦度を有する、方法。
【請求項２３】
請求項１に記載の方法であって、前記接着剤は、熱エネルギーまたは照射エネルギーを利用して硬化される、方法。
【請求項２４】
請求項２３に記載の方法であって、前記照射エネルギーでの硬化を促進するように、熱の使用をさらに包含する、方法。
【請求項２５】
請求項１に記載の方法であって、前記挿入された光学製品は、偏光子、複屈折プレート、回折オプティクス、中性密度フィルター、半波長板、または四分の一波長板である、方法。
【請求項２６】
請求項９に記載の方法であって、前記多層製品は、ホルダー真空溝に気体を注入することによって、前記ホルダーから解放される、方法。
【請求項２７】
請求項１に記載の方法であって、前記選択された角度関係は、平行関係である、方法。
【請求項２８】
請求項１に記載の方法であって、前記多層製品は、０．９以上のストレール値を有する、方法。
【請求項２９】
請求項１に記載の方法であって、硬化する工程の間、前記第１ホルダーまたは前記第２ホルダーのいずれかは、ｚ軸に沿って動かされる、方法。
【請求項３０】
多層光学製品を形成するための方法であって、該方法は、以下の工程：
第１ホルダーで基材の外側表面を把握する工程であって、それにより、該基材の該外側表面は、該第１ホルダーの内側表面に保持される、工程；
第２ホルダーと該第１ホルダーの内側表面に、選択された角度関係にて互いに面するように配置する工程；
光学製品を、該基材と該第２ホルダーとの間に挿入する工程であって、ここで接着剤の第１層は、該光学製品の第１表面と、該基材の該内側表面との間にあり、そして接着剤の第２層は、該光学製品の第２表面と、該第２ホルダーの該内側表面との間にある、工程；
該基材の該内側表面と第２ホルダーが、該接着剤の第１層と該第２層と、光学製品とを、接着剤の該第１層と該第２層との間で接触させるように、該第１ホルダーおよび該第２ホルダーを、互いに向かって動かす工程；ならびに
該第１ホルダーと第２ホルダーの該内側表面は、該選択された角度関係にあって、光学製品を包む多層製品を形成すると同時に、該接着剤を少なくとも部分的に硬化する工程であって、ここで該第１ホルダーと該第２ホルダーを外した後に、該少なくとも部分的に硬化した接着剤は、該多層製品が、該第１ホルダーと該第２ホルダーにより保持された相対位置にて、該光学製品を備える該多層製品を維持する、工程、
を包含する、方法。
【請求項３１】
請求項３０に記載の方法であって、前記光学製品を前記基材と第２ホルダーとの間に挿入する工程は、以下の工程：
該基材の内側表面に接着剤を配置する工程；
該接着剤を光学製品に挿入する工程；および
予め形成された光学製品の表面上に接着剤を配置する工程、
を包含する、方法。
【請求項３２】
請求項３１に記載の方法であって、前記接着剤を配置する工程は、毛細管作用を介して接着剤を引き寄せる工程を包含する、方法。
【請求項３３】
請求項３１に記載の方法であって、前記接着剤を配置する工程は、接着剤を、注入する工程、押し出し成形する工程、注ぐ工程、ピペッティングする工程、ロールコーティングする工程、ブレードコーティングする工程、またはスプレーする工程、を包含する、方法。
【請求項３４】
請求項３１に記載の方法であって、前記接着剤を前記基材の前記内側表面に配置する工程は、該基材にある穴を通して、前記第１ホルダーまたは前記第２ホルダーにある対応する穴を介して、該接着剤を分配する工程、を包含する、方法。
【請求項３５】
請求項３０に記載の方法であって、前記基材の外側表面は、ホルダーの内側表面に、真空力を使用して維持される、方法。
【請求項３６】
請求項３０に記載の方法であって、前記基材の外側表面は、ホルダーの内側表面に、電磁力を使用して保持される、方法。
【請求項３７】
請求項３０に記載の方法であって、前記ホルダーは、透明プレートである、方法。
【請求項３８】
請求項３０に記載の方法であって、前記ホルダーは、真空力を前記基材に適用するために、該ホルダーに少なくとも１つの真空溝を有する、方法。
【請求項３９】
請求項３０に記載の方法であって、前記ホルダーは、該ホルダーを通して接着剤を分配するために、少なくとも１つの穴を有する、方法。
【請求項４０】
請求項３０に記載の方法であって、前記基材は、ガラス、珪素、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸、またはこれらの任意の組み合わせから作製される、方法。
【請求項４１】
請求項３０に記載の方法であって、前記基材は、該基材を通して接着剤を分配するために、少なくとも１つの穴を有する、方法。
【請求項４２】
請求項３０に記載の方法であって、前記基材の形状は、四角、矩形、円形または楕円形であり得る、方法。
【請求項４３】
請求項３０に記載の方法であって、前記基材は、厚みが約２５μｍ〜約３ｍｍである、方法。
【請求項４４】
請求項３０に記載の方法であって、前記基材の外側表面は、表面レリーフパターンを備える、方法。
【請求項４５】
請求項３０に記載の方法であって、前記基材の前記内側表面は、表面レリーフパターンまたは回折格子を備える、方法。
【請求項４６】
請求項３０に記載の方法であって、前記基材は、光学製品である、方法。
【請求項４７】
請求項４６に記載の方法であって、前記光学製品は、偏光子、中性密度フィルター、半波長板、または四分の一波長板である、方法。
【請求項４８】
請求項３０に記載の方法であって、前記基材の前記内側表面または前記外側表面を清浄にした後、前記第１ホルダーにより把握する工程をさらに包含する、方法。
【請求項４９】
請求項４８に記載の方法であって、前記清浄にする工程は、以下の工程：
洗浄溶媒を、前記基材の表面に塗布する工程；および
該基材を回転することによって、該溶媒をエバポレートする工程、
を包含する、方法。
【請求項５０】
請求項３０に記載の方法であって、前記光学製品を包む前記多層製品は、約３００ｎｍ〜１６００ｎｍの波長にて約０．０５波動／ｃｍ〜約１波動／ｃｍの平均表面平坦度を有する、方法。
【請求項５１】
請求項３０に記載の方法であって、前記光学製品を包む前記多層製品は、約３００ｎｍ〜１６００ｎｍの波長にて約０．０５波動／ｃｍ〜約１波動／ｃｍの平均伝送平坦度を有する、方法。
【請求項５２】
請求項３０に記載の方法であって、前記接着剤は、熱エネルギーまたは照射エネルギーを利用して硬化される、方法。
【請求項５３】
請求項５２に記載の方法であって、前記照射エネルギーでの硬化を促進するように、熱の使用をさらに包含する、方法。
【請求項５４】
請求項３０に記載の方法であって、前記挿入された光学製品は、偏光子、複屈折プレート、または回折オプティクスである、方法。
【請求項５５】
請求項３５に記載の方法であって、前記多層製品は、ホルダー真空溝に気体を注入することによって、前記ホルダーから解放される、方法。
【請求項５６】
請求項３０に記載の方法であって、前記選択された角度関係は、平行関係である、方法。
【請求項５７】
請求項３０に記載の方法であって、前記多層製品は、０．９以上のストレール値を有する、方法。
【請求項５８】
請求項３０に記載の方法であって、硬化する工程の間、前記第１ホルダーまたは前記第２ホルダーのいずれかは、ｚ軸に沿って動かされる、方法。
【請求項５９】
多層光学製品を形成するための方法であって、該方法は、以下の工程：
第１ホルダーの内側表面上に第１接着剤を配置する工程；
該第１接着剤上に光学製品を挿入する工程；
予め形成した光学製品の表面に第２接着剤を配置する工程；
該第２ホルダーが、該第２接着剤と、該光学製品とを、接着剤の該第１層と該第２層との間で接触させるように、該第１ホルダーと該第２ホルダーを、互いに向かって動かす工程；ならびに
該第１ホルダーと該第２ホルダーの内側表面が、選択された角度関係にあって、該光学製品を包む多層製品を形成すると同時に、該接着剤を少なくとも部分的に硬化する工程であって、ここで該第１ホルダーと該第２ホルダーを外した後に、該少なくとも部分的に硬化された接着剤は、該多層製品が、該第１ホルダーと該第２ホルダーにより保持された相対位置にて、該光学製品を備える該多層製品を維持する、工程、
を包含する、方法。
【請求項６０】
請求項５９に記載の方法であって、前記接着剤を配置する工程は、毛細管作用を介して接着剤を引き寄せる工程を包含する、方法。
【請求項６１】
請求項５９に記載の方法であって、前記接着剤を配置する工程は、接着剤を、注入する工程、押し出し成形する工程、注ぐ工程、ピペットで配置する工程、ロールコーティングする工程、ブレードコーティングする工程、またはスプレーする工程、を包含する、方法。
【請求項６２】
請求項５９に記載の方法であって、前記光学製品を包む前記多層製品は、約３００ｎｍ〜１６００ｎｍの波長にて約０．０５波動／ｃｍ〜約１波動／ｃｍの平均表面平坦度を有する、方法。
【請求項６３】
請求項５９に記載の方法であって、前記光学製品を包む前記多層製品は、約３００ｎｍ〜１６００ｎｍの波長にて約０．０５波動／ｃｍ〜約１波動／ｃｍの平均伝送平坦度を有する、方法。
【請求項６４】
請求項５９に記載の方法であって、前記接着剤は、熱エネルギーまたは照射エネルギーを利用して硬化される、方法。
【請求項６５】
請求項６４に記載の方法であって、前記照射エネルギーでの硬化を促進するように、熱の使用をさらに包含する、方法。
【請求項６６】
請求項５９に記載の方法であって、前記挿入された光学製品は、偏光子、複屈折プレート、または回折オプティクスである、方法。
【請求項６７】
請求項５９に記載の方法であって、前記選択された角度関係は、平行関係である、方法。
【請求項６８】
請求項５９に記載の方法であって、前記多層製品は、０．９以上のストレール値を有する、方法。
【請求項６９】
請求項５９に記載の方法であって、硬化する工程の間、前記第１ホルダーまたは前記第２ホルダーのいずれかは、ｚ軸に沿って動かされる、方法。
【請求項７０】
以下を備える多層製品：
第１基材；
第２基材；
該第１基材と該第２基材との間に位置した製品；
部分的に硬化した接着剤の第１層であって、ここで該部分的に硬化した接着剤の第１層は、該第１基材と該製品との間に配置される、第１層；および
部分的に硬化した接着剤の第２層であって、ここで該部分的に硬化した接着剤の第２層は、該第２基材と該製品との間に配置される、第２層。
【請求項７１】
請求項７０に記載の多層製品であって、前記多層製品は、約３００ｎｍ〜１６００ｎｍの波長にて約０．０５波動／ｃｍ〜約１波動／ｃｍの表面平坦度を有し、そして約３００ｎｍ〜１６００ｎｍの波長にて約０．０５波動／ｃｍ〜約１波動／ｃｍの伝送平坦度を有し、ここで前記第１基材と前記第２基材上の接着剤によりもたらされる力は、該表面平坦度および伝送平坦度を維持する、多層製品。
【請求項７２】
請求項７０に記載の多層製品であって、前記基材は、ガラス、シリコン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸、またはこれらの任意の組み合わせから作製される、多層製品。
【請求項７３】
請求項７０に記載の多層製品であって、前記基材は、該基材を通して接着剤を分配するために、少なくとも１つの穴を有する、多層製品。
【請求項７４】
請求項７０に記載の多層製品であって、前記基材の形状は、四角、矩形、円形または楕円形であり得る、多層製品。
【請求項７５】
請求項７０に記載の多層製品であって、前記基材は、厚みが約２５μｍ〜約３ｍｍである、多層製品。
【請求項７６】
請求項７０に記載の多層製品であって、前記第１基材または前記第２基材の外側表面は、表面レリーフパターンを備える、多層製品。
【請求項７７】
請求項７０に記載の多層製品であって、前記第１基材または前記第２基材の前記内側表面は、表面レリーフパターンまたは回折格子を備える、多層製品。
【請求項７８】
請求項７０に記載の多層製品であって、前記第１基材または前記第２基材は、光学製品である、多層製品。
【請求項７９】
請求項７０に記載の多層製品であって、前記光学製品は、偏光子、半波長板、四分の一波長板、中性密度フィルター、複屈折プレートまたは回折格子である、多層製品。
【請求項８０】
請求項７０に記載の多層製品であって、前記接着剤は、熱エネルギーまたは照射エネルギーを利用して硬化される、多層製品。
【請求項８１】
請求項７０に記載の多層製品であって、該製品は、０．９以上のストレール値を有する、多層製品。
【請求項８２】
以下を備える多層製品：
基材；
製品；
少なくとも部分的に硬化した接着剤の第１層であって、ここで該接着剤の第１層は、該基材と該製品の第１表面との間に配置される、第１層；および
少なくとも部分的に硬化した接着剤の第２層であって、ここで該接着剤の第２層は、該製品の第２表面に配置される、第２層。
【請求項８３】
請求項８２に記載の多層製品であって、前記多層製品は、約３００ｎｍ〜１６００ｎｍの波長にて約０．０５波動／ｃｍ〜約１波動／ｃｍの表面平坦度を有し、そして約３００ｎｍ〜１６００ｎｍの波長にて約０．０５波動／ｃｍ〜約１波動／ｃｍの伝送平坦度を有し、ここで前記第１基材上の接着剤によりもたらされる力は、該表面平坦度および伝送平坦度を維持する、多層製品。
【請求項８４】
請求項８２に記載の多層製品であって、前記基材は、ガラス、シリコン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸、またはこれらの任意の組み合わせから作製される、多層製品。
【請求項８５】
請求項８２に記載の多層製品であって、前記基材は、該基材を通して接着剤を分配するために、少なくとも１つの穴を有する、多層製品。
【請求項８６】
請求項８２に記載の多層製品であって、前記基材の形状は、四角、矩形、円形または楕円形であり得る、多層製品。
【請求項８７】
請求項８２に記載の多層製品であって、前記基材は、厚みが約25μｍ〜約3ｍｍである、多層製品。
【請求項８８】
請求項８２に記載の多層製品であって、前記基材の外側表面は、表面レリーフパターンを備える、多層製品。
【請求項８９】
請求項８２に記載の多層製品であって、前記基材の前記内側表面は、表面レリーフパターンまたは回折格子を備える、多層製品。
【請求項９０】
請求項８２に記載の多層製品であって、前記基材は、光学製品である、多層製品。
【請求項９１】
請求項８２に記載の多層製品であって、前記製品は、偏光子、半波長板、四分の一波長板、中性密度フィルター、複屈折プレート、または回折格子である、多層製品。
【請求項９２】
請求項８２に記載の多層製品であって、前記接着剤は、熱エネルギーまたは照射エネルギーを利用して硬化される、多層製品。
【請求項９３】
請求項８２に記載の多層製品であって、該多層製品は、０．９以上のストレール値を有する、多層製品。
【請求項９４】
以下を備える多層製品：
製品；
少なくとも部分的に硬化した接着剤の第１層であって、ここで該接着剤の第１層は、該製品の第１表面との間に配置される、第１層；および
少なくとも部分的に硬化した接着剤の第２層であって、ここで該接着剤の第２層は、該製品の第２表面に配置され、該多層製品は、約３００ｎｍ〜１６００ｎｍの波長にて約０．０５波動／ｃｍ〜約１波動／ｃｍの表面平坦度を有し、そして約３００ｎｍ〜１６００ｎｍの波長にて約０．０５波動／ｃｍ〜約１波動／ｃｍの伝送平坦度を有する、第２層。
【請求項９５】
請求項９４に記載の多層製品であって、前記製品は、偏光子、半波長板、四分の一波長板、中性密度フィルター、複屈折プレート、または回折格子である、多層製品。
【請求項９６】
請求項９４に記載の多層製品であって、前記接着剤は、熱エネルギーまたは照射エネルギーを利用して硬化される、多層製品。
【請求項９７】
請求項９４に記載の多層製品であって、該多層製品は、０．９以上のストレール値を有する、多層製品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
（技術分野）
本発明は、光学製品の一般分野に関する。より詳細には、本発明は、改良された光学特性をもつ多層光学製品を形成することに関する。
【背景技術】
【０００２】
（背景）
多くの光学システムは、特別の光学特性、特に、表面平坦度、厚さの均一性、および／または弧形度を有するデバイスを必要とする。製品の表面平坦度は、規定の表面プロフィール（例えば、このプロフィールは、特定の弧形度を有し得る）からの製品の表面の変動を測定することにより決定される。厚さの均一性は、規定の厚さまたはプロフィール（例えば、平行またはＶ字形）からの製品の変動により測定される。これらパラメーターの両方は、代表的には、伝送距離あたりの規定のプロフィールからの変動の光学波の単位（例えば、波／ｃｍ）で測定される。ここで、この波は、規定された波長、例えば、測定のため、または最終的な目的のために用いられている特定の光の波長である。本明細書中で用いられるとき、波／ｃｍの単位は、所望の光学特徴を有することが意図される製品の領域に亘る平均測定を示す。弧形度は、図１に示されるように決定される物理的測定値である。製品の中心から、平表面が製品と出会う２つの接点間に引かれた直線までの距離Ｂを、その直線の距離Ｙの半分で除する。この単位（例えば、Ｂｃｍ／（Ｙ／２）ｃｍ）は、割り切れて単位のない値を与える。
【０００３】
その製品を通過する光に対する製品の影響に関心がある光学用途には、代表的には、物理的厚さの均一性は依存されない。それに代わり、伝送平坦度が、光学経路長さ（以下に議論される）の予め選択されたプロフィールからの偏差を測定することにより決定され、そして図２は、この測定を、均一厚さを有することが所望される形態（すなわち、平行表面）について示す。伝送平坦度はまた、波／ｃｍで表され、そして当業者に公知であるように、伝送平坦度はまた、Ｊ．Ｗ．Ｇｏｏｄｍａｎ、Ｉｎｔｒｏｄｕｃｔｉｏｎ  ｔｏ  Ｆｏｕｒｉｅｒ  Ｏｐｔｉｃｓ、ＭｃＧｒａｗ−Ｈｉｌｌ、１９６８で論議されるように、ｒｍｓ（根２乗平均）波／ｃｍで、またはストレール（Ｓｔｒｅｈｌ）値で表され得る。図２は、多層製品を通る２つの経路を示し、これら経路は、製品を横に横切って互いから距離ｚに位置する。距離ｚを横切る物理的経路長さの差異は、｜ｌ’−ｌ｜であり、そして正確な厚さ均一性からの変動は、｜ｌ’−ｌ｜／ｚであり、これは、代表的には、マイクロメーター／ｃｍで測定される。この物理的経路長さは、個々の層１０、１２、および１４の屈折率、または用いられている光の波長によって影響されないし、これらを考慮もしない。
【０００４】
光学経路長さ（ＯＰＬ）は、伝送平坦度に関係あるパラメーターであり、そして以下の式により表される：
ここで、
【０００５】
【数１】
2005501285.tif 000002
ｎ［ｊ］は、層ｊの屈折率であり、そして
Ｌ［ｊ］は、層ｊを通る物理的経路長さである。
【０００６】
物理的経路長さとは対照的に、このＯＰＬは、屈折率に依存する。例えば、図２の製品のような多層製品では、このＯＰＬは、層１０、１２、および１４の屈折率に依存する。詳細には、図２の製品を横切るＯＰＬの差異（ΔＯＰＬ）は以下に等しい：
【０００７】
【数２】
2005501285.tif 000003
この等式は、目的が小ＯＰＬ差異である場合、基板が比較的大きな個々の厚さ変動を有するが、全体厚さの変動が比較的小さい場合、基板の屈折率が近接していることが有用であることを示す。図２に反映されるように、伝送平坦度は、平行形態が所望されると仮定すると、それ故、ΔＯＰＬ／ｚである。光学用途には、ＯＰＬにおける選択されたプロフィールからの変動が、横断単位あたりの物理的経路長さにおける変化よりも意味があることは明瞭である。
【０００８】
伝送および表面平坦度値は、波／ｃｍで表され、ここで、得られる値は、規定の波長についてである。本明細書におけるこのような波／ｃｍの使用は、この値が、物理的経路長さとは対照的に光学経路長さについてであることを示す。本出願の目的には、波／ｃｍの値が、少なくとも約０．３〜約０．９マイクロメーターの範囲の波長について有用であるが、本発明の概念は、この範囲を超えて広がる。
【０００９】
光学用途で代表的に用いられる基板には、表面および伝送平坦度に影響する３つの基本的タイプの厚さの変動がある。第１のタイプは、基板の表面上の低から高への直線状の厚さの変化であり、これにより基板は本質的にＶ字型の形態をとる。このような基板の厚さの単位長さあたりの変動は、比較的一定である。第２のタイプの変動は、段階的な、波状の、またはランダムな変動であり、ここで、厚さは、基板の幅を横切って、例えば、低から、高へ、低へ、段階的に高へ変動する。このような基板の単位長さあたりの厚さ変動は、比較的一定であるが、基板は、Ｖ字形の形態をとらない。第３のタイプの変動は、局在化された鋭いくぼみ（ｄｉｖｏｔ）または突出部（ｐｅａｋ）である。このようなくぼみまたは突出部は、代表的には、基板に沿って異なる位置で取られた厚さ測定値において急速な変動を引き起こし、従ってｒｍｓ測定値を歪め得る。この第３のタイプの変動を有する構造体は、代表的には、当該分野で公知のように、スクラッチおよび壕（ｄｉｇ）に関して測定される。明らかに、これらの特徴は、しばしば、低表面平滑度変動、低厚さ均一性変動、および／または低弧形度の組み合わせを用いる構造体を形成するための試行のとき、多くの困難性を引き起こす。
【００１０】
正確な用途で用いられる製品は、望ましくは、０．１波／ｃｍまたはそれより良好な表面および伝送平坦度を有する。平行表面が所望される伝送用途のための製品は、望ましくは、１０−２以下の弧形度（数字が小さいほど弧形度が小さい）を有し、そして平行表面が所望される反射用途のための製品は、望ましくは、１０−５以下の弧形度を有する。このような特性を有する基板または多層製品を調製または得ることは困難である。例えば、平坦なパネルディスプレイのために意図された高品質ガラス（本明細書ではディスプレイガラスと称される）は、約０．２５〜約４波／ｃｍの範囲の表面および伝送平坦度値を有する。より良好な、そしてより一貫した平坦値を得るために、厚いガラス片を得、そしてこのガラスを所望の平坦度まで研磨することが必要である。しかし、このような化学的／機械的研磨は、高価でありそして時間を消費し、そしてなお上記の特性を有する基板および製品を調製するためには不適切であり得る。基板の光学平坦度を改良し、そして光学製品、例えば、特定の弧形度、厚さ均一度、および表面平坦度を有する製品を形成するためのより容易かつより安価な方法が、特に、不適切な表面平坦度、厚さ均一度、または弧形度で先に既に形成された光学製品について所望される。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【００１１】
（発明の要旨）
本発明は、多層光学製品のための方法および装置によって上記の必要性に対する解決法を提供する。本発明の１実施形態において、第１の基板の外表面は、第１のホルダーで把握され、それによって第１の基板外表面は、第１のホルダーの内表面に保持される。第２の基板の外表面は、第２のホルダーで把握され、それによって、該第２の基板の外表面は、該第２のホルダーの内表面に保持される。第１のホルダーの内表面および第２のホルダーの内表面は、整列されて、選択された角度の関係で互いに対向し、そして光学製品が第１の基板と第２の基板の間に挿入され、ここで接着剤の第１層が、光学製品の第１表面と第１の基盤の内表面との間であり、そして接着剤の第２層が、光学製品の第２表面と第２の基盤の内表面との間である。第１のホルダーおよび第２のホルダーは、互いの方向に移動し、その結果、第１の基板および第２の基板の内表面は、接着剤の第１の層と第２の層との間で、光学製品と接着剤の第１の層および第２の層を接触させる。次いで、接着剤は、少なくとも部分的に硬化されるが、第１のホルダーおよび第２のホルダーの内表面は、選択された角度の関係にあり、光学製品を包む多層製品を形成する。第１のホルダーおよび第２のホルダーの除去の後、少なくとも部分的に硬化された接着剤が、多層製品を維持し、この多層製品は、多層製品が第１のホルダーおよび第２のホルダーによって保持された状況の光学製品を含む。
【００１２】
本発明のさらなる実施形態において、多層光学製品は、第１のホルダーを用いて基板の外表面を始めに把握することによって形成し、それによって、基板の外表面は、第１のホルダーの内表面に保持される。第２のホルダーおよび第１のホルダーの内表面は、選択された角度の関係で互いの面に対して整列する。光学製品は、基板と第２のホルダーとの間に挿入され、ここで、接着剤の第１の層は、光学製品の第１の表面と基板の内表面との間であり、そして接着剤の第２の層は、光学製品の第２の表面と第２のホルダーの内表面との間である。第１のホルダーおよび第２のホルダーは、互いの方向に移動し、その結果、基板および第２のホルダーの内表面は、接着剤の第１の層と第２の層との間の光学製品と、接着剤の第１の層および第２の層を接触させる。この接着剤は、少なくとも部分的に硬化されるが、第１のホルダーおよび第２のホルダーの内表面は、選択された角度の関係にあるり、光学製品を包む多層製品を形成する。第１のホルダーおよび第２のホルダーの除去の後、少なくとも部分的に硬化された接着剤は、多層製品を維持し、この多層製品は、多層製品が第１のホルダーおよび第２のホルダーによって保持された状況の光学製品を含む。
【００１３】
本発明のさらなる実施形態において、多層光学製品は、第１のホルダーの内表面上の接着剤を始めに配置することによって形成される。次いで、光学製品は、接着剤上に挿入される。次いで、第２の接着剤は、挿入された光学製品上に配置される。第１のホルダーは、第２のホルダーの方向に移動され、その結果、第２のホルダーは、接着剤の第１の層と第２の層との間の光学製品と、第２の接着剤とを接触させる。この接着剤は、少なくとも部分的に硬化されるが、第１のホルダーおよび第２のホルダーの内表面は、選択された角度の関係にあり、光学製品を包む多層製品を形成する。第１のホルダーおよび第２のホルダーの除去の後、少なくとも部分的に硬化された接着剤は、多層製品を維持し、この多層製品は、多層製品が第１のホルダーおよび第２のホルダーによって保持された状況の光学製品を含む。
【００１４】
本発明の実施形態における多層製品は、第１の基板、第２の基板および第１の基板と第２の基板との間に位置する製品を含む。部分的に硬化された接着剤の第１の層は、第１の基板と製品との間に配置され、そして部分的に硬化された接着剤の第２の層は、第２の基板と製品との間に配置される。本発明の別の実施形態における多層製品は、基板、製品、基板と製品の第１の表面との間に少なくとも部分的に硬化された接着剤の第１の層、および製品の第２の表面上に配置された少なくとも部分的に硬化された接着剤の第２の層を含む。
【００１５】
本発明の別の実施形態における多層製品は、製品の第１の表面上で少なくとも部分的に硬化された第１の層および製品の第２の表面上に配置された少なくとも部分的に硬化された接着剤の第２の層を有する製品を含む。多層製品は、約３００ｎｍ〜１６００ｎｍの波長で約０．０５波／ｃｍ〜約１波／ｃｍの表面平坦度、および約３００ｎｍ〜１６００ｎｍの波長で約０．０５波／ｃｍ〜約１波／ｃｍの伝送平坦度を有する。
【００１６】
本発明のなお別の実施形態は、以下の詳細な説明から当業者に明らかになり、そこでは、本発明を実施するために企図される最良の様式の例示によって、本発明の実施形態のみが示され、かつ記載されている。理解され得るように、本発明は、種々の自明な局面で、すべてが本発明の思想および範囲から逸脱することなく改変され得る。従って、図面および詳細な説明は、本来例示的であり、そして制限的でないとみなされるべきである。
【００１７】
本発明のシステムおよび方法の特徴ならびに利点は、以下の説明から明らかである。
【００１８】
（詳細な説明）
本発明は、予め形成された光学製品を含む、多層光学製品を製造するための方法に関する。第１の基板の外表面は、第１のホルダーで把持され、それによって、第１の基板の外表面は、第１のホルダーの内表面に保持される。第２の基板の外表面は、第２のホルダーの内表面で把持され、それによって、第２の基板の外表面は、第２のホルダーの内表面に保持される。第１のホルダーおよび第２のホルダーの内表面は、選択された角度関係で互いに面するように配置され、そして光学製品は、第１の基板と第２の基板との間に挿入され、ここで、被着剤の第１の層は、光学製品の第１の層と第１の基板の内表面との間にあり、そして、被着剤の第２の層は、光学製品の第２の層と第２の基板の内表面との間にある。第１のホルダーおよび第２のホルダーは、互いに向って移動され、その結果、第１の基板と第２の基板の内表面は、被着剤の第１の層と第２の層との間における光学製品と、被着剤の第１の層と第２の層を接触させる。被着剤は、少なくとも部分的に硬化され、一方、第１のホルダーおよび第２のホルダーの内表面は、光学製品を包む多層製品を形成するような選択された角度関係である。第１のホルダーおよび第２のホルダーの除去後、少なくとも部分的に硬化された被着剤は、多層製品が、第１のホルダーおよび第２のホルダーによって保持された状態の光学製品を含む多層製品を維持する。
【００１９】
本発明のさらなる実施形態において、多層光学製品は、第１のホルダーで基板の外表面を初めに把持することによって形成され、それによって、基板の外表面は、第１のホルダーの内表面に保持される。第２のホルダーおよび第１のホルダーの内表面は、選択された角度関係で互いに面するように配置される。光学製品は、基板と第２のホルダーとの間に挿入され、ここで、被着剤の第１の層は、光学製品の第１表面と基板の内表面との間にあり、そして、非着剤の第２の層は、光学製品の第２の表面と第２のホルダーの内表面との間にある。第１のホルダーおよび第２のホルダーは、互いに向って移動され、その結果、基板の内表面および第２のホルダーは、被着剤の第１の層と第２の層との間における光学製品と、被着剤の第１の層および第２の層を接触させる。被着剤は、少なくとも部分的に硬化され、一方、第１のホルダーおよび第２のホルダーの内表面は、光学製品を包む多層製品を形成するような選択された角度関係である。第１のホルダーおよび第２のホルダーの除去後、少なくとも部分的に硬化された被着剤は、多層製品が、第１のホルダーおよび第２のホルダーによって保持された状態の光学製品を含む多層製品を維持する。
【００２０】
本発明のさらなる実施形態において、多層光学製品は、第１のホルダーの内表面上の被着剤を初めに処理することによって形成される。次いで、光学製品は、被着剤上に挿入される。次いで、第２の被着剤は、挿入された光学製品上に処理される。第１のホルダーは、第２のホルダーに向って移動され、その結果、第２のホルダーは、被着剤の第１の層と第２の層との間における光学製品と、第２の被着剤を接触させる。被着剤は、少なくとも部分的に硬化され、一方、第１のホルダーおよび第２のホルダーの内表面は、光学製品を包む多層製品を形成するような選択された角度関係である。第１のホルダーおよび第２のホルダーの除去後、少なくとも部分的に硬化された被着剤は、多層製品が、第１のホルダーおよび第２のホルダーによって保持された状態の光学製品を含む多層製品を維持する。
【００２１】
上記表面平坦度、伝送平坦度、および／または弧形度を維持するために、上記ホルダー（単数または複数）の内表面は、連続的な表面部分を備えなければならず、これに対し、上記基板の少なくとも一部分が実質的に一致する。本明細書で用いられるとき、用語ホルダーは、とりわけ、このような連続的表面部分を備える製品を規定することが意図される。この連続的表面部分は、基板の不一致を許容し得る不連続性を有さない（この連続的表面部分は、この不連続性が、このような不一致を許容しない限り、比較的小さな不連続性、例えば、穴を有することは可能である。）。この連続的表面部分は、把握力が付与される領域、例えば、（図３ａおよび３ｂにおけるような）真空溝と境を接するか、またはこの把握力は、この連続的表面部分の周りおよび／またはその中の１つ以上の領域、例えば、（図４ａおよび４ｂにおけるような）いくつかの真空溝またはいくつかの真空穴で付与されるかことが可能である。上記把握力は、例えば、電磁材料により、全体の連続的表面部分を通じて付与され得ることもまた可能である。上記平坦度および／また弧形度が維持されるのは、この連続的表面部分の上である。真空が、形成された多層光学製品を開放するように開放される場合、真空溝または真空穴は、空気を注入するために使用され得る。
【００２２】
図３ａおよび３ｂは、このような連続表面部分を含む、本発明における使用に適切なホルダー６０を示す。（図３ｂは、図３ａの線ａ−ａ’に沿った側断面図である。）。このホルダー６０は、真空（図示せず）に付着されている単一の真空溝６２を含む。この真空の溝６２は、連続的表面６４と境を接し、真空の付与に際し、これに対して表面が実質的に一致する。このホルダー６０の表面６６は、真空溝６２の外側にあり、そして連続的表面部分の一部分ではない。基板は、真空の付与に際し、この表面６６とは実質的に一致するように押し付けられない。
【００２３】
図４ａおよび４ｂは、本発明における使用に適切な別のホルダー７０を示す。（図４ｂは、図４ａの線ｂ−ｂ’に沿った側断面図である。）。このホルダー７０は、２つの真空の溝−外側真空溝７２および内側真空溝７４を含む。連続的表面７６は、溝７２と溝７４との間にある。表面７８（外側真空溝７２の外側に横たわる）は、連続的表面部分の一部分ではない。また、図４ａおよび４ｂに示されるように、ホルダー７０は、表面８０の領域に位置する穴を有することが可能であり、その場合、表面８０は、連続的表面部分の一部分ではない。
【００２４】
ホルダーが基板を把握するために電磁力を用いる場合には、この連続的表面部分は、その全体の上に力を付与することが可能であるか、またはこの連続的部分は、その周縁の周りに特別の、例えば、環または方形の形状にある領域を有することが可能であり、その中に力が付与される。後者の実施形態では、基板の状態は、力が付与される環または方形の上およびその中で維持される。
【００２５】
上記のホルダーの実施形態とは対照的に、真空の環は、本発明に従うホルダーを構成しない。なぜなら、環の真空溝は、連続的表面部分とは境を接することなく−環の中央のギャップが、基板の不一致を可能にする不連続性を提供するからである。
【００２６】
本発明のホルダーの内表面は、光学的に所望の形状および／または表面を有している。有利には、ホルダーの内表面は、約０．０５〜約０．２５波／ｃｍの表面平坦度を有する。ホルダーの内表面はまた、多層製品の要求される表面平坦度に依存して、この範囲より大きい表面平坦度を有し得うる。例えば、ホルダーの内表面は、約１．０波／ｃｍの表面平坦度を有し得る。また、有利には、ホルダーの内表面は、特に、伝送用途のために意図される製品については、約１０−２またはそれより良好な弧形度を有し、その一方、反射用途のために意図される製品には、約１０−５またはそれより良好な弧形度が有利である。これら実施形態の工程は、上記で提示規律とは別の規律で実施されることが可能である。
【００２７】
有利には、本発明の多層製品は、約０．０５〜約０．２５波／ｃｍの表面平坦度および伝送平坦度を有し、これらの数は、少なくとも約０．３〜約０．９μｍの波長に対して有用でありるが、本発明の概念は、この範囲を超え得る。例えば、表面平坦度値および伝送平坦度は、約１．０波／ｃｍであり得る。また、有利には、特に２つの基板が使用される場合、この製品は、約１０−２またはそれより少ない、そしてより有利には、１０−５またはそれより少ない弧形度を有する（得に反射用途について）。
【００２８】
ホルダーの内表面間の選択された角度の関係が、平行関係であることが有利であり、２つのホルダーの内表面の連続的表面部分間の距離（必要に応じて内表面の全体）が約１波／ｃｍ以上は変動しないことが重要である。平行基板を有する多層製品は、有利には、約０．０５〜０．２５波／ｃｍの表面平坦度および伝送平坦度、０．５またはそれより大きい（より有利には０．９またはそれ以上）ストレール値および約１０−２またはそれより小さい弧形度を有する（反射用途については、有利には１０−５またはそれより小さい）。
【００２９】
有利には、接着剤が連続層中に配置される。基板または多層製品の改良された平坦度および／または弧形度は、この接着剤が基板（単数または複数）と接触する領域内で主に達成される。接着剤の領域は、代表的には、ホルダー（単数または複数）の連続的表面部分の領域内にある。接着剤の領域を超えて、特に、連続的表面部分を越えて伸びる基板（単数または複数）の部分は、ホルダー（単数または複数）が除去された後には、それらの初期の状態に戻る傾向がある。基板または製品の平坦度、ストレール値、および弧形度が本明細書で論議されるとき、言及されるこの平坦度、ストレール値、および弧形度は、この領域のものであり、ここで、接着剤は、基板の平坦度および／または弧形度、または多層製品の平坦度および／または弧形度を維持する。
【００３０】
図６ａ〜６ｅに示されるように、２つの基板を利用する本発明の実施形態に従って、相対的に低い弧形度を有する内表面を有する２つのホルダー２０，２２は、選択された角度関係（本実施形態においては、平行関係）とされる。簡潔さのために、ホルダー２０，２２の内表面の連続表面部分は示されない。例えば、ホルダー２０，２２が、図３ａおよび図３ｂもしくは図４ａおよび図４ｂの構成を有することは可能である。本実施形態において、２つのホルダー２０，２２は、それらが平行関係となるように操作され、そして互いに向って移動することを可能とするように配置される。例えば、ホルダー２２が、傾斜および偏揺において（すなわち、そのｘ軸およびｙ軸について）回転するジンバルに装着され、そしてホルダー２０が、ホルダー２２より上の装置に装着されることが可能であり、その結果、ホルダー２０は、傾斜−偏揺（すなわち、ｘ−ｙ）において固定されるが、ｚ軸に沿った移動は可能である。ホルダー２０，２２の内表面の平行度を測定するために、ならびに適切な矯正を可能にするために、フィゾー干渉計法（例えば、Ｅ．Ｈｅｃｈｔ、Ｏｐｔｉｃｓ、Ａｄｄｉｓｏｎ−Ｗｅｓｌｅｙ  Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ、１９８７、において議論されている）、または当該分野で公知の類似の方法を使用することは可能である。このような方法はまた、ホルダー間の任意の選択された角度関係を測定することを可能にする。
【００３１】
一旦、ホルダ２０、２２が平行関係に整列されると、基板２４、２６は、ホルダ２０、２２上に配置され、これらのホルダは、以下に考察されるいくつかの方法のうちの１つによって、基板２４、２６の外部表面を維持する（本発明の他の実施形態において、ホルダの内部表面は、このプロセス中の後の段階（例えば、基板２４、２６がホルダ２０、２２上に配置された後）で、平行関係にされることが可能である）。図６ａは、基板２４、２６がホルダ２０、２２の表面に保持される前の、ホルダ２０、２２および基板２４、２６を示す。基板２４は、緩やかな波打った厚さの変化を伴って示され、そして基板２６は、楔形の変化を伴って示される。
【００３２】
図６ｂに示されるように、力または誘引が、基板２４、２６の外部表面を、ホルダ２０、２２の連続表面部分（図示せず）に実質的に従わせる。基板２４、２６の外部表面を、減圧、静電的誘引もしくは磁気的誘引、または一時的な化学的結合（例えば、接着剤）によって保持することが可能である。一時的結合または静電的誘引が使用される場合（例えば、薄い可撓性基板が使用される場合）基板２４、２６は、ホルダ２０、２２の表面に伸展性を提供する様式で、ホルダ２０、２２上で圧迫される必要がある。このような様式の１つは、ローラーの使用である。一旦、基板２４、２６の外部表面が、ホルダ２０、２２の内部表面上に保持されると、基板２４、２６が、これらの方法の使用を可能にする透明物質である場合、Ｆｉｚｅａｕまたは類似の方法により、ホルダ２０、２２の内部表面の平行を確認することが可能である。例えば、基板２４、２６が透明でありかつホルダに接触する面上に反射防止コーティングを有する場合、Ｆｉｓｅａｕ方法が首尾よく使用されることが可能である。上記のように、ホルダ２０、２２の内部表面は、連続的な表面部分を含む。
【００３３】
本発明のこの実施形態によれば、基板２４、２６がホルダ２０、２２の平坦な表面に従って保持されると、接着剤２８が、基板２６の内部表面上に塗布される。この接着剤をこのプロセスの早い段階で塗布することもまた可能である。予め形成された光学物品２９が、接着剤２８上に挿入される。例えば、この光学物品は、偏光子、半波長板もしくは四分の一波長板、ニュートラルデンシティフィルタ、複屈折板または回折光学であり得る。接着剤２７は、予め形成された光学物品２９の外部表面に適用される。ホルダ２０は、基板２４の内部表面を、この接着剤２７に接触させ、一方でホルダ２０、２２の内部表面（および従って、第一の基板２４および第二の基板２６の外部表面）は、図６ｃに示されるように、平行関係に維持される。ホルダ２０、２２は、基板２４と２６との間の光学物品２９の周りで、接着剤２７、２８の所望の広がりを得るために、そして／または接着剤２７、２８と基板２４、２６との間での所望の接触レベルを得るために十分な力で、基板２４、２６を一緒に圧迫するべきである。ホルダ２０、２２が、接着剤２７、２８の硬化の前に、基板２４、２６を握り、そして基板２４、２６を接着剤２７、２８と一緒に圧迫しつつ平行であることを確認するために、Ｆｉｚｅａｕまたは類似の方法を実施することが有用である。
【００３４】
次いで、接着剤２７、２８は、少なくとも部分的に硬化され、その結果、ホルダ２０、２２が除去される場合、光学物品２９を囲む接着剤２７、２８によって基板２４、２６の内部表面に対して発揮される剛性または力は、基板２４、２６の外部表面に対して付与された実質的に平行な関係（すなわち、低い弧形度）ならびに表面および透過の平坦性を維持する。上記のように、弧形度および平坦性は、ホルダ２４、２６の連続表面部分の領域内、そして主に接着剤２７、２８が接触する領域内で、維持される。この関係を維持することに関与する力は、以下に考察する。
【００３５】
議論を容易にするために、ホルダ２０、２２は、この実施形態において別個のホルダとして記載される。しかし、ホルダが２片の単一の部品であることが可能である。
【００３６】
図５に反映されるような、１つの基板を使用する本発明の１実施形態において、１つの基板および１つの接着剤層を使用して囲まれた光学物品を作製して、予め形成された光学物品を囲むことが可能である。本発明のこの実施形態において、基板３２がホルダ３０の平坦な表面に従って保持されて、接着剤３４が、基板３２の内部表面に塗布される。予め形成された光学物品３９は、接着剤３４上に挿入される。光学物品３９を囲むのに十分な接着剤３８が、次いで、光学物品３９の表面に塗布される。ホルダ３６は、接着剤３８に接触され、一方でホルダ３０、３６の内部表面は、平行関係で維持される。この様式において、基板３２の外部表面および接着剤３８は、平行関係に維持される。ホルダ３０、３６は、接着剤３８とホルダ３６の内部表面との間の所望の接着レベルを得るために十分な力で、基板３２および接着剤３８を一緒に圧迫するべきである。
【００３７】
次いで、接着剤３２、３８は、少なくとも部分的に硬化されて、その結果、ホルダ３０、３６が除去される場合、接着剤３４によって基板３２の内部表面上に対して発揮される剛性または力は、基板３２の外部表面および接着剤３８の外部表面に対して付与された、実質的に平行な関係ならびに表面および透過平滑性を維持する。この弧形度および平滑性は、ホルダ３０、３６の連続表面部分の領域、および主に接着剤３４、３８が接触する領域において、維持される。
【００３８】
本発明のさらなる実施形態において、予め形成された光学物品を囲むために二層の接着剤を利用して、囲まれた光学物品を作製することが可能である。基板は使用されない。本発明のこの実施形態において、接着剤は、第一のホルダの内部表面に塗布される。予め形成された光学物品が、この接着剤上に挿入される。次いで、光学物品を囲むのに十分な接着剤が、光学物品の表面に塗布される。第二のホルダは、この接着剤に接触されるが、一方で第一のホルダおよび第二のホルダの両方の内部表面は、平行関係で維持される。この様式で、光学物品を囲んでいる接着剤の外部表面は、平行関係で維持される。これらのホルダは、接着剤とホルダとの間の所望の接触レベルを得るのに十分な力で、光学物品を囲む接着剤を一緒に圧迫するべきである。次いで、この接着剤は少なくとも部分的に硬化され、その結果、これらのホルダが除去される場合、これらのホルダによって接着剤の外部表面に付与される、実質的に平行な関係、ならびに表面および透過平滑性が維持される。この弧形度および平滑性はホルダの連続表面部分の領域内で、維持される。
【００３９】
本発明の方法は、クリーンルーム環境で有利に実施される。とりわけ、クリーンルームは、ホルダ、基板、および／または接着剤の間に塵粒子のような汚染物が沈積することを防ぐことを助ける。波長で測定される厚さ変動で、単一の塵粒子でさえ（代表的には、１〜１０波長の直径を有する）、全体製品の平坦度に影響することが明らかである。
【００４０】
接着剤は、任意の適切な方法により基板または複数の基板上に配置され、そして液体または固体形態で用いられる。接着剤は、多層構造の縁部にて接着剤を塗布することによって、そして基板／光学物品間の毛管力が、この接着剤を引き込むことを可能にすることによって、導入され得る。さらに、接着剤は、シリンジもしくはピペットを介して基板／光学物品へと塗布され得るか、または任意の混合装置もしくは測定装置から、基板／光学物品上に注入され得る。さらに、接着剤は、当業者に公知の種々の技術を介して、これら基材のいずれかまたは両方に対して、コーティングされ得る。これらの技術は、手動でバードブレードまたは巻線ロッドを使用して、所望の厚さの接着剤をこの基板上にコーティングすることであり得る。あるいは、コーティング装置もまた使用され得る。異なる設計および構成で利用可能な種々の装置および機構が、所望の量の接着剤をこの基板上に塗布し得る。コーティング装置の例としては、基材がロール間を通過して、この基材上に接着剤が沈着される、ロールコーターが挙げられるがこれに限定されない。ロールコーティングとしては、逆ロールコーター、キスコーター、ニップコーター、グラビアコーター、ビードコーターおよびディップコーターが挙げられる。他のコーティング機構としては、ナイフコーター、ラウンドバー、巻線コーター、丸出隅、エアドクター、ブラシ、スプレーコーター、押出コーター、キャストコーターおよびカレンダーコーターが挙げられる。基板は、接着剤が注入される穴を有し得る。この接着剤は、基板および囲まれた光学物品に十分に接着し、そして／または基板および囲まれた光学物品に剛性を提供する、任意の物質を含み、その結果、ホルダの除去の際に、囲まれた光学物品を有する基板または多層物品は、ホルダによって保持された姿勢で維持される。
【００４１】
本発明を任意の特定のモデルまたは理論に限定するものではないが、上記状態の維持に必要な力は、単一基板および２つの基板の両方について、以下の最も簡単なモデルによって表現され得ると考えられる。Ｌ．Ｄ．Ｌａｎｄａｕら、Ｔｈｅｏｒｙ  ｏｆ  Ｅｌａｓｔｉｃｉｔｙ、Ｐｅｒｇａｍｏｎ  Ｐｒｅｓｓ、Ｏｘｆｏｒｄ、第３英語版、１９８６、特に４４ページもまた参照のこと。以下の等式について、基板は円形であり、かつ初期には球の弧形度を有し、そして目的は、ゼロの弧形度を達成することである。図７に反映されるように、単一の基板５０について、応諾を生じる（すなわち、弧形度をゼロに低減する）ために必要な基板を横切る圧力差Ｐは、以下で与えられる。
【００４２】
【数３】
2005501285.tif 000004
ここで：
ｈ＝基板厚さ、
ｂ＝中心における基板の弧形度の高さ、
ｄ＝基板の直径、
Ｐ１＝基板の自由表面上の空気圧、
Ｐ２＝基板の真空平坦表面上の空気圧、
Ｐ＝Ｐ１−Ｐ２＝基板を横切る圧力、
σ’＝基板のポアソン比、
Ｅ＝基板のヤング弾性率である。
【００４３】
図８の３層の製品では、基板５２、５４（各々は、上記のように初期弧形度高さｂを有する）が、それらの当初の形態に戻ろうとし、そしてそれによって接着剤層５６に対して押すとき、残存弧形度高さｂ’が存在する。このモデルについてさらなるパラメーターは：
ｂ’＝３層製品中の残存弧形度高さ、
ｔ＝結合層厚さ（ｔ＞＞ｂ’）、
σ’＝接着剤のポアソン比、
Ｅ’＝接着剤層のヤング弾性率である。
【００４４】
この最も簡略にされたモデルについて、セル直径に対する最終セル表面弧形度高さの比は以下で与えられる：
【００４５】
【数４】
2005501285.tif 000005
接着剤層と基板との間の接着剤強さは、従って、いずれかの基板を（ｂ−ｂ’）に等しい量で配置するために必要な圧力差Ｐを超える必要がある。例えば、ｂ’＜０．１μｍ（約０．２波長）には、ｄは５０ｍｍに等しく、ｔは１ｍｍに等しく、Ｅ／Ｅ’は２に等しく、σ’は約０．２５に等しく、σ’は約ゼロに等しく、そしてｈは１ｍｍに等しく、初期基板弧形度（２ｂ／ｄ）の限界は１／４より小さい。
【００４６】
接着剤は、光硬化可能であるか、その他で硬化可能である（例えば、照射または化学的硬化可能）。熱は照射硬化を加速させるために使用され得る。接着剤はまた、必要な接着を達成するために相変化（例えば、液体から固体）を行う物質であることが可能である。本明細書で用いられるとき、用語硬化および硬化可能は、このような任意の方法によりゲル化または固化する材料を包含することが意図される。光硬化可能な接着剤は、可視光、ＵＶ光、およびｘ線を含む、種々の任意の波長に曝されるとき、硬化する材料を含む。電子または粒子ビームにより硬化可能である接着剤を用いることも可能である。有用な接着剤は、感光性である光硬化可能な接着剤を含み、用語感光性は、光源への曝露（例えば、選択的、局在化曝露）に応答して、その物理的および／または化学的特徴を変える材料を意味する。このような感光性接着剤は、特定の感光性アクリレートおよびビニルモノマーが挙げられるが、これらに限定されない。感光性接着剤は、接着剤および記録媒体の両方として作用するので有用である。エポキシドに基づくような接着剤もまた有用である。
【００４７】
接着剤は、接着剤プロモーター、光開始剤、吸収性材料、または偏光子のような添加剤を含むことが可能である。硬化後の接着剤の厚さは、いくつかの因子に依存して変動し、これらの因子としては、用いた接着剤、付与の方法、付与された接着剤の量、および基板により接着剤に及された力が挙げられる。異なる厚さが異なる用途に所望される。必要な硬化のレベルは、用いられる特定の接着剤により、およびホルダーにより与えられる位置に箱詰された光学製品を有する基板または多層製品を維持するために必要な力により決定される。光硬化可能、熱硬化可能、または化学的に硬化可能である材料については、適切な硬化は、数％〜１００％までの範囲であることが可能である。必要な接着を達成するために完全相変化（例えば、液体から固体）を行う物質については、完全な相変化が、この用途の目的には完全硬化であると考えられる。
【００４８】
少なくとも部分的な硬化の後、基板および箱詰された光学製品の屈折率に近い屈折率を有する接着剤が有利である。ほぼ均一な屈折率をもつ多層製品を有することが有利である。なぜなら、上記のＯＰＬの論議で示されたように、製品の特定の複数領域を通じてほぼ均一な屈折率は、これら領域におけるＯＰＬの変化を低減するからである。換言すれば、基板における厚さ変動は、このような変動を満たすか、または補償する接着剤が基板自身の屈折率に近い屈折率を有する場合、ΔＯＰＬに対して大きな影響を有さない。例えば、２つの基板の各々が、５波／ｃｍの厚さ変動を有する場合（すなわち、合計１０波／ｃｍ）、この屈折率は、望ましくは、０．１波／ｃｍの伝送平坦度を維持するために基板の屈折率の平均の１％（０．０１）以内である。２つの基板が用いられる場合、これら基板は、有利には、２つの小数位で等価である屈折率を有し、そして接着剤の屈折率は、有利には、第１の基板および第２の基板の屈折率の平均に対し、２つの小数位で等価である。いくつかの用途では、接着剤が高い光学的性質（例えば、均一性、泡がない、および低散乱性）であることが有利である。
【００４９】
ホルダーは、上記で論議したように、それらの内表面上に、基板が実質的に応諾する連続的表面部分を有する。ホルダーは、有利には、真空チャックされ、これは、その中にホルダーの内表面が１つ以上の溝を有し、そこで真空の付与により把握力が溝を通じて基板に創製される平坦な表面を意味する。あるいは、把握工程は、静電引力または電磁引力の使用によるか、または一時的な化学的結合（例えば、接着剤）により実施される。この把握力または一時的結合力は、基板をホルダーの内表面に対して保持し、特に、上記で論議したように、内表面の連続的表面部分にわたって実質的な応諾を達成する。必要な力は、用いられる特定の基板のパラメーター（例えば、組成物、厚さ、初期平坦度、可撓性）に依存して変動する。２つのホルダーを用いる実施形態では、これらホルダーは、上記の実施形態で与えられた整列のような、選択された角度の関係の達成を可能にする任意の方法で整列される。
【００５０】
２つのホルダー形態では、少なくとも１つのホルダーが、このホルダーを硬化工程の間にほとんど抵抗なくしてそのｚ軸に沿って移動することを可能にする機構に取り付けられることが有利である。（ｘ軸およびｙ軸は、接着剤が配置される平面を規定し、そしてｚ軸は残りの軸である。）  例えば、ホルダーは、ホルダーおよび基板の重量により引き起こされる下方向圧力を同等にするピストン機構に取り付けられ得、それによってホルダーを、ピッチおよびヨーに固定されたまま、ｚ軸に沿ってほとんど浮遊することを可能にする。このような機構を提供することは有利である。なぜなら、いくつかの接着剤は、硬化の間に接触し、そして両方のホルダーが硬化の間に移動不能に固定された場合、このような固定は、接着剤と基板との間の接着剤およびホルダー間の角度の関係の両方に有害に影響し得るからである。
【００５１】
ホルダーは、平坦な表面を維持し、そして基板に把握力を付与し得るか、または一時的な化学結合を適切に維持し得る任意の材料から作製され得る。上記で論議したような光硬化可能な接着剤の場合には、ホルダーは、有利には、ガラス、または適切な硬化を得るため、および有利なホルダーの並行度を確認するＦｉｚｅａｕ方法または類似の方法の使用を可能にするために十分な光伝送を可能にする別の材料である。硬化のために光を必要としない接着剤の場合には、不透明材料を用いることが可能であるが、このような材料の角度の関係を確認するために、その他の方法を用いなければならない。ホルダーのために選択される材料はまた、利用される把握力または一時的結合のタイプ（例えば、接着力または磁気引力）、および製作される多層製品または基板の意図される使用に依存する。
【００５２】
同一材料または異なる材料である第１の基板および第２の基板は、形成される製品または基板の意図される使用に依存して、セラミックス（ガラスを含む）、シリコン、金属、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、またはアクリルあるいはプラスチックから形成される。また、上記で論議したように、ホルダーに関して、基板は、単一部分の複数の片であることが可能である。基板は、任意の要求される形状である。例えば、基板は、正方形、長方形、円、または楕円であり得る。これら基板は、有利には、把握力の付与が、基板を損傷することなくホルダー表面との実質的な応諾を達成できないような高いレベルで平坦度変動を有さない。ガラスプレートのような自己支持性基板に加え、基板は、ホルダー上にスプレーされるポリマー材料、Ｍｙｌａｒ  Ｒｅｇｉｓｔｅｒｅｄ  ＴＭのような薄いポリマーフィルム、またはポリカーボネートのようなポリマーシートであることが可能である。ポリマー材料またはフィルムが、ガラスプレートのような自己支持性材料と組み合せられて単一の基板を形成することもまた可能である。このような２層基板の材料またはフィルムは、感光性材料であり得、そして本発明の方法は、このような基板の光学特性を改良することに有用である。基板自身は、光学製品（例えば、偏光子、二分の一波プレートまたは四分の一波プレート、中立密度フィルター、複屈折プレート、または回折工学部品）であり得る。例えば、横断偏光子は、偏光子基板および偏光子が挿入された光学製品を利用することで構成され得る。光学データ記憶産業における記憶媒体として使用されるような、ディスクの表面上にエンボス加工されたトラッキングパターンとしてしようされるような、代表的に、基板は、可視光の表面起伏パターンを有し得、波長より小さいかまたは等しい特徴と有する。
【００５３】
基板の外表面の平行性および品質を確認するためにＦｉｚｅａｕ法を設計することが重要である。例えば、平面波照射および両側面上で光学的に平坦であるウェッジホルダーを用いることが有利である。さらに、いくつかの理由のため、基板上の抗反射性（ａｎｔｉｆｌｅｃｔｉｖｅ：ＡＲ）被覆が有利である。ＡＲ被覆なしで、基板表面とホルダー表面との間の界面反射がないことは、選択された角度の関係を決定するための干渉計方法を利用することを困難にする。さらに、基板とホルダーとの間のｖａｎ  ｄｅｒ  Ｗａａｌｓ力と残存真空力は、ホルダーからの基板の分離を困難にし、そして抗反射性被覆は、このような力を低減する。また、抗反射性被覆は、光のスループットを増大し、そして多層基板内の内部反射を低減する。有利には、ホルダーと接触する基板の側面のみにＡＲ被覆が与えられる。接着剤が配置される基板の側面上のＡＲ被覆は、乏しい接着を誘導するか、および／または接着剤と基板との間の所望されないさらなる反射を起し得る。しかし、いくつかの形態では、接着剤プロモーターのようなその他の被覆が、接着剤が配置される基板の側面上に有利に配置される。このような被覆は、有利には、５００オングストロームよりは厚くない。
【００５４】
２つの基板を使用する本発明の実施形態において、ウェッジタイプの厚さ変動を補償することは可能である。なぜなら、ホルダーの内表面が、基板の外表面に選択された角度の関係を与え、そして基板におけるウェッジタイプ変動は製品の内部に変形され、そこで接着剤が、この角度の関係を維持しながらこの変動を補償するからである。同様に、接着剤は、基板の内表面上の鋭いまたは段階的な波状変動を、このような変動におけるｆｇにより補償する。（ａ）ホルダーと一致する基板の側面上の少なくともいくつかの段階的波状変動が基板の対向する側面に伝送されるような方法が実施され、そして（ｂ）接着剤が、基板の対向する側面上の伝送された変動を充填または重層する場合、基板の接着剤が配置されなかった側面上の段階的な波状変動を補償することが可能である。さらに、このような多層製品中で接着剤が、基板の屈折率に近い硬化後屈折率を有する場合、接着剤を含む領域でほぼ均一の屈折率が達成され、そして製品のこれらの領域を横切る光学経路長さにおける変化は、それ故、低減される。
【００５５】
本発明の方法は、種々のその他のタイプの製品を形成するため、特に、高品質なミラー、フラット、窓、プリズム、ビームスプリッター、フィルター、およびレンズを含む、光学システムにおける使用のために有用である。さらに、接着剤は、光規定されたパターン（例えば、ホログラフィーパターン）を支持し得る。この場合において、接着剤は、ホログラフィー記憶媒体として使用される光ポリマーの分類に属し得る。ホログラフィデータ記憶システムのためのメモリーセルは、例えば、Ｈ．−Ｙ．Ｌｉら、「三次元ホログラフィディスク」Ａｐｐｌ．Ｏｐｔ．３３、３７６４〜３７７４頁（１９９４）、およびＡ．Ｐｕら、「光ポリマーフィルムにおけるホログラフィデータ記憶のための新たな方法」Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ  ｆｒｏｍ  ＩＥＥＥ／ＩＥＯＳ  １９９４シンポジウム、４３３〜４３５頁中で論議され、それらの開示は、本明細書によって参考として援用される。本発明に従って作製されたセルはまた、デジタルホログラフィー記憶に使用することは可能であり、ここで、セルは、約０．２５波／ｃｍまたはより良好な表面および伝送平坦度、および約１０−２以下の弧形度を有するべきである。基板の間に感光性ポリマーを配置する従来法は、これらの必要とされる特性を提供しない。
【００５６】
ホログラフィーメモリーセルの形成において、２つの基板は有利に使用され、両方の基板は有利に同じ材料である。光学製品は、２つの基板の間に挿入され得、そして挿入された光学製品と各基板との間に接着剤の層を有する。使用された接着剤が、光ポリマー材料である場合に、この実施形態は、ホログラフィーデータ記憶が可能な２層の接着剤を提供する。これら基板は、有利には、ガラス、サファィア、ポリカーボネート、および石英から選択される。ホログラフィ記憶システムで用いられている波長に対して透過性であり、そしてメモリーセルのための適切な機構上の特性を有する任意のその他の材料もまた基板として用いられ得る。これら基板は、有利には、約０．１から約１ｍｍ厚さである。初期の基板は、代表的には、約０．１〜約１０波／ｃｍの表面平坦度および伝送平坦度値、および約０．１またはそれより小さい弧形度を有する。市販のディスプレイガラスは、これらの特性を示し、そして代表的には有意なくぼみおよび突出部はなく、４０／２０またはそれより良好のスクラッチおよび壕（ｄｉｇ）を意味する。このようなディスプレイガラスは、メモリーセルの製造に適している。
【００５７】
上記に論じられるように、基板の屈折率に近い屈折率をもつ接着剤を有することが有利である。なぜなら、多層製品を通じてほぼ均一な屈折率は、ＯＰＬにおける変動を低減するからである。デジタルホログラフィ用のホログラフィメモリーセルを製作することにおいて、第１の基板の屈折率が、第２の基板の屈折率に対して小数点以下２桁で等価であること、および接着剤の屈折率が、第１および第２の基板の平均屈折率に対して小数点以下２桁で等価であることが有利である。
【００５８】
ホログラフィセル中の接着剤はまた、連続層で塗られること、およびこの接着剤は感光性ポリマーであること、すなわち、硬化後ホログラフィデータ記憶システム中でデータを記憶し得ることが有利である。上記で論議されたような感光性ポリマーは、本発明に従って作製されたホログラフィメモリーセルのための有用な接着剤であることが見出された。なぜなら、これらの材料は、接着剤として、および感光性記録媒体の両方として機能するからである。硬化の後、メモリーセル中の接着剤の厚さは、有利には、約０．２〜約２ｍｍである。硬化後のメモリーセルは、有利には、約０．０５〜約０．２５波／ｃｍ、より有利には約０．０５〜約０．１波／ｃｍの表面平坦度値および伝送平坦度値、ならびに約１０−２またはそれより小さい弧形度を有する。メモリーセルはまた、有利には、約０．９またはそれより大きいストレール値を有する。上記で論議したように、これらの特性は、ホルダーの内表面の連続的表面部分の領域内、そして主に接着剤が基板と接触している場所の多層製品の領域についていう。接着剤−接触領域を超えて伸びる基板の領域は、代表的には、これらの特性を示さない。一様な円領域は、接着剤の連続層が基板の内表面に接触する領域であり、ホルダーの真空溝によって規定された領域内にある。より高い密度の縞を有する外側領域は、ガラス基板の間に光ポリマーを有さず、ならびに、縞密集領域は、２つの基板の矯正されなかった伝送平坦度から生じる。
【００５９】
本発明の方法に従って作製されたメモリーセルの特性を評価するために有用な品質因子（すなわちＱ）は、所定の領域の上で測定した場合の、波／ｃｍ  ｒｍｓ伝送平坦度で除されたストレール値である。有利には、本発明の方法に従って作製されたメモリーセルは、１より大きい、そしてより有利には４より大きいＱを有する。比較として、ディスプレイガラスは、代表的には、約０．５のＱを有し、窓ガラスのＱは約０．０５である。基板がホルダーの内表面の少なくとも連続的な表面部分と実質的に一致するように基板を把握する本発明の工程がないと、接着剤を間に配置した２つの基板からなるセルは、主に、ガラスの初期ストレール、ホルダーのゆがみ、そして接着剤の収縮に起因して、約０．０８のＱを有し得る。
【００６０】
本発明はさらに、システム、例えば、光学システムに関し、これは、１つまたは２つの基板およびこれら基板に接着した少なくとも部分的に硬化した接着剤の層をもち、ここで、この製品は、約０．０５〜約０．２５波／ｃｍ、好ましくは、０．０５〜約０．１波／ｃｍの表面平坦度値および伝送平坦度値を有し、そしてここで、これら基板上の接着剤により与えられる力がこの平坦度を維持する。幾つかの適用において、この製品はまた、約１０−２またはそれより小さい弧形度（反射用途には有利には約１０−５またはそれより小さい）を有し、そしてこのような用途では、基板上の接着剤により奏される力が同様に弧形度を維持する。このシステムは、ホログラフィ記憶システム、特に、デジタルホログラフィ記憶システムであることが可能である。ホログラフィ記憶システムのエレメントは、例えば、上記で引用した論文、およびＳ．Ｐａｐｐｕ、「Ｈｏｌｏｇｒａｐｈｉｃ  Ｍｅｍｏｒｉｅｓ；ａ  ｃｒｉｔｉｃａｌ  ｒｅｖｉｅｗ」Ｉｎｔ．Ｊ．Ｏｐｔｏｅｌｅｃｔ、５、２５１〜２９２頁（１９９０）；Ｌ．Ｈｅｓｓｅｌｉｎｋら、「Ｏｐｔｉｃａｌ  ｍｅｍｏｒｉｅｓ  ｉｍｐｌｅｍｅｎｔｅｄ  ｗｉｔｈ  ｐｈｏｔｏｒｅｆｒａｃｔｉｖｅ  ｍｅｄｉａ」Ｏｐｔ．Ｑｕａｎｔ．Ｅｌｅｃｔ．２５、§§６１１−６６１（１９９３）；およびＤ．Ｐｓａｌｔｉｓら、「Ｈｏｌｏｇｒａｐｈｉｃ  Ｍｅｍｏｒｉｅｓ」Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ  Ａｍｅｒｉｃａｎ、１９９５年１１月中で論議され、これらの開示は本明細書によって参考として援用される。ホログラフィーデータ記憶システムのメモリーセルのパラメータは、上記で議論されている通りである。
【００６１】
本発明は、単に例示であることを意図した以下の実施例によって、さらに分類される。
【実施例】
【００６２】
（実施例１）
本発明の方法を、光学的に平坦な偏光子を生成するための、光学的に平坦な包装において、偏光子材料を箱詰するために使用した。光学的に平坦な偏光子を生成するに先立って、偏光子材料は、その光学平坦度において、１．７３波／ｃｍより大きい変化を示した。
【００６３】
０．００５波／ｃｍの表面平坦度を有する、２つの１０ｃｍ直径、約１．９ｃｍ厚さのガラスフラットを、ホルダーに利用した。各々のホルダー中において、約３．２ｍｍ幅、約１．６ｍｍ深さの円形の真空が接近可能な溝は、約６．４ｃｍの内径を有する刻まれた溝であった。ホルダーを、アセトン、次いでメタノールを用いるドロップおよびドラッグ法により清澄にした。
【００６４】
１つの側面上に抗反射性被覆を有し、７５ｍｍ×７５ｍｍ×約１．１１ｍｍの寸法で、そして約１波／ｃｍの表面平坦度および伝送平坦度を有する、ディスプレイガラスの方形ガラス基板を、同様に清澄にした。あるいは、基板の表面に溶媒を適用し、続いて、溶媒を蒸発させるために基板を回転させることによって、基板を清澄にした。ホルダーを、装置中に、それらの一方が他方の上に位置するように取り付け、そしてそれらの真空溝を、約０．１大気圧でハウス真空に付着させた。ホルダーを、底部ホルダーがピッチおよびヨーで回転し得るが、ｚ軸に沿って動かないように、その一方、先端ホルダーを、ピッチおよびヨーで固定したが、ｚ軸に沿って垂直方向に移動するように整列させた。ホルダーの平行性を測定するために、拡張、コリメートＨｅＮｅレーザービームを、上からわずかに角度をもたせホルダーの中心部分向けた。ホルダーがほぼ接触したとき、ホルダーの２つの内表面からの反射は、これらホルダーの平行性の程度を示した。底部ホルダーを、干渉反射が、雄牛の目パターンを示すまで（これは、０．０５波／ｃｍ以内の平行関係を示した）調整した。
【００６５】
一旦平行性が確立されると、先端ホルダーを上に移動させ、真空ポンプをスタートし、そしてこれらの基板を、ホルダーの内表面上に、抗反射性被覆を有する基板の側面がホルダーと接触するように配置した。真空力（約０．１大気圧）は、基板の、ホルダーの表面（主に真空溝に取り囲まれ、およびそれを含む領域上）との実質的なコンアライアンスをもたらした。約０．４ｍＬの紫外線硬化接着剤を、底部基板の内表面上に、シリンジおよび皮下注射針を用い、このＵＶ接着剤が液体の小さなプールを形成するまで導入した。（６５ｍｍ直径のプールを形成するために必要な接着剤液体の量は、２５０μｍの層厚さあたり約１ｍＬである。）偏光子材料を、ＵＶ接着剤のプール上の、底部基板の内表面に配置した。さらに約０．４ｍＬのもう１つ別の紫外線硬化接着剤を、偏光子材料の内表面上に、シリンジおよび皮下注射針を用い、このＵＶ接着剤が小さな液体のプールを形成するまで導入した。上の基板を下げ、光ポリマーと接触させ、そして基板間の力が、接着剤を、基板の間に挟まれた偏光子材料の内表面を横切って円形パターンで拡散させた。
【００６６】
偏光子材料の軸に対応するレーザー光を調整することによって、平行性は、Ｆｉｚｅａｕ法で確認した。セルを、均一強度の紫外フラッドランプで約２０〜３０分間上から照射し、偏光子材料を通じる紫外線硬化接着剤の硬化を確実にした。次いで、真空を解放し、多層セルを取り出した。
【００６７】
終了したセルの接着剤が基板に接触した領域（ホルダーの真空溝により規定される連続的表面部分内に存在した）は、０．４４波／ｃｍより良好なｒｍｓ表面値および伝送平坦度値、０．９４のストレール値を有していた。これらのパラメーターは、Ｚｙｇｏ  Ｆｉｚｅａｕ干渉計により測定した。
【００６８】
本発明の他の実施形態は、本明細書で開示された本発明の明細書および実施を考慮することで、当業者にとって明白である。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】図１は、製品における弧形度を示す。
【図２】図２は、多層製品を通じた物理経路長および光学経路長を示す。
【図３Ａ】図３Ａは、本発明の１つの実施形態のホルダーの内表面を示す。
【図３Ｂ】図３Ｂは、図３Ａのホルダーの線ａ−ａ’に沿った、断面図を示す。
【図４Ａ】図４Ａは、本発明の別の実施形態のホルダーの内表面を示す。
【図４Ｂ】図４Ｂは、図４Ａのホルダーの線ｂ−ｂ’に沿った、断面図を示す。
【図５】図５は、本発明の方法の１つの実施形態における工程を示す。
【図６Ａ】図６Ａは、本発明の方法のさらなる実施形態における工程を示す。
【図６Ｂ】図６Ｂは、本発明の方法のさらなる実施形態における工程を示す。
【図６Ｃ】図６Ｃは、本発明の方法のさらなる実施形態における工程を示す。
【図６Ｄ】図６Ｄは、本発明の方法のさらなる実施形態における工程を示す。
【図６Ｅ】図６Ｅは、本発明の方法のさらなる実施形態における工程を示す。
【図７】図７は、本発明に従って作製された製品の光学特性を維持するために要求される力を示す。
【図８】図８は、本発明に従って作製された製品の光学特性を維持するために要求される力を示す。
【図３Ｂ】
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【図４Ｂ】
2005501285.tif 000007
【国際公開パンフレット】
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2005501285.tif 000009
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2005501285.tif 000052
【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
2005501285.tif 000053
【国際調査報告】
2005501285.tif 000054