(57)【要約】本発明は、チタンアルミニウム酸化物から作製された少なくとも１つの層を含む層システムに関する。チタ−アルミニウム酸化物から作製された前記層は、光学的に活性でない中間層が割り込んでいない機能層、およびチタン−アルミニウム酸化物を含む中間層が割り込んでいる金属酸化物から作製された機能層でありうる。この層システムは６００℃を超える動作温度において構造および温度に関して安定である。この層システムはただ１つの機能層からも、多層システム、好ましくは高屈折率の機能層と低屈折率の機能層を含む交互層システムからも作製することができる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属酸化物から形成された少なくとも１つの機能層を有する層システムであって、金属酸化物から形成された少なくとも１つの機能層がチタンアルミニウム酸化物を含んでいることを特徴とする層システム。
【請求項２】
チタンアルミニウム酸化物を含む少なくとも１つの機能層が、該機能層に割り込みかつ該機能層とは異なる金属酸化物から形成される少なくとも１つの中間層を有しており、該中間層が光学的に不活性である請求項１記載の層システム。
【請求項３】
前記中間層が、光学的に活性になり得る厚さより薄い請求項２記載の層システム。
【請求項４】
前記中間層の厚さｄｚが、０．３〜１０ｎｍ、好ましくは０．５〜４ｎｍ、特に好ましくは１．０〜２．５ｎｍである請求項３記載の層システム。
【請求項５】
前記中間層が酸化ケイ素を含んでいる請求項３または４記載の層システム。
【請求項６】
前記中間層が前記チタンアルミニウム酸化物を含む機能層と同一の屈折率を有しており、前記中間層を光学的に不活性にすることができる請求項２記載の層システム。
【請求項７】
前記中間層が酸化ジルコニウムを含んでいる請求項６記載の層システム。
【請求項８】
金属酸化物から形成された少なくとも１つの機能層を有する層システムであって、チタンアルミニウム酸化物を含む少なくとも１つの中間層が、少なくとも１つの、該中間層とは異なる金属酸化物から形成された機能層に割り込んでおり、該中間層が光学的に不活性であることを特徴とする層システム。
【請求項９】
前記のチタンアルミニウム酸化物を含む中間層が、光学的に活性になり得る厚さより薄い請求項８記載の層システム。
【請求項１０】
前記中間層の厚さｄｚが、０．３〜１０ｎｍ、好ましくは０．５〜４ｎｍ、特に好ましくは１．０〜２．５ｎｍである請求項９記載の層システム。
【請求項１１】
前記中間層が酸化ケイ素を含んでいる請求項９または１０記載の層システム。
【請求項１２】
前記機能層が前記のチタンアルミニウム酸化物を含む中間層と同一の屈折率を有しており、前記中間層を光学的に不活性にすることができる請求項８記載の層システム。
【請求項１３】
前記機能層が酸化ジルコニウムを含んでいる請求項１２記載の層システム。
【請求項１４】
前記のチタンアルミニウム酸化物を含む層がＴｉｘＡｌ１−ｘＯｙ（０＜ｘ＜１）からなる請求項１〜１３のいずれか１項に記載の層システム。
【請求項１５】
前記のチタンアルミニウム酸化物を含む層の屈折率ｎをチタン対アルミニウムの量比によって１．５５≦ｎ≦２．５０に設定することができる請求項１４記載の層システム。
【請求項１６】
複数の機能層、好ましくは高い屈折率を有する金属酸化物の機能層と低い屈折率を有する金属酸化物の機能層からなる交互層システムを含んでいる請求項１〜１５のいずれか１項に記載の層システム。
【請求項１７】
前記高屈折率の機能層がチタンアルミニウム酸化物を含んでいる請求項１６記載の層システム。
【請求項１８】
前記低屈折率の機能層が酸化ケイ素を含んでいる請求項１７に記載の層システム。
【請求項１９】
チタンアルミニウム酸化物を含む高屈折率の機能層が、酸化ケイ素を含む低屈折率の中間層によって割り込まれており、かつ／または酸化ケイ素を含む低屈折率の機能層が、チタンアルミニウム酸化物を含む高屈折率の機能層によって割り込まれている請求項１８記載の層システム。
【請求項２０】
前記各層が、化学気相成長法、好ましくはプラズマＣＶＤ法、特に好ましくはインパルスプラズマＣＶＤ法により製造されている請求項１〜１９のいずれか１項に記載の層システム。
【請求項２１】
前記各層がＰＶＤ法により製造されている請求項１〜１９のいずれか１項に記載の層システム。
【請求項２２】
前記各層がゾル−ゲル法により製造されている請求項１〜１９のいずれか１項に記載の層システム。
【請求項２３】
請求項１〜２２のいずれか１項に記載の層システムを含むコーティングを有する照明体。
【請求項２４】
ＩＲＣランプまたはＩＲＣトーチである請求項２３記載の照明体。
【請求項２５】
請求項１〜２２のいずれか１項に記載の層システムを含むコーティングを有する反射体。
【請求項２６】
ガラスセラミックス反射体である請求項２５記載の反射体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくとも１つの金属酸化物層を有しており、該酸化物がチタンアルミニウム酸化物を含んでいる層システムに関する。本層システムは、特に６００℃を超える動作温度において高い構造安定性および温度安定性を有しており、光学コーティングに特に適しているが、この特定の用途には限られない。
【背景技術】
【０００２】
光学層システム、特に高屈折率を有する薄膜と低屈折率を有する薄膜とを交互に積層してなる交互層システムは、以前から広い用途を有することで知られている。これらは、光干渉膜として働き、その光学特性は、高い屈折率を有する層および／または低い屈折率を有する層の材料の選択、したがって対応する屈折率の選択により、個々の層の配列により、また個々の層の厚さの選択によって定まる。その選択は、実質的に所望の光学特性および加工特性の基準に従って公知の光学設計規則および設計支援に基づいて行われる。
【０００３】
例えば、反射体、鏡、フィルター、ランプ、ＩＲＣトーチ／ランプなどに用いる、この種のコーティングを製造するための適切な出発原料の例には、とりわけ、ＴｉＯ２およびＳｉＯ２が含まれる。
【０００４】
通常、これらの材料の薄膜は、ＣＶＤ法（ＣＶＤ＝化学気相成長）、ＰＶＤ法（ＰＶＤ＝物理気相成長）またはゾル−ゲル法により形成され、硬く、化学的に安定であり、高い屈折率差を有することで際だって優れている。
【０００５】
高温安定性に関しては、酸化ケイ素ではほとんど問題がないと予想される。しかし、酸化チタンを高屈折率層の材料として使用する場合、例えば、ガラスセラミックス反射体またはＩＲＣランプが到達し得る高い動作温度（＞６００℃）において問題が生じる。酸化チタンは、これらの高温では変化する。これは、特にＪ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．６６（１９８９）において、Ｈ．ＳａｎｋｕｒおよびＷ．Ｇｕｎｎｉｎｇが広範囲に記述しているように、非晶質状態で使用されるＴｉＯ２の相転移に起因する。３５０℃を超える温度においてＴｉＯ２は結晶化してアナターゼ相を形成し、次いで約６００℃の温度においてルチル相を形成する。これにより、コーティング中に混濁が生じ、特定の光学設計によって最適化され光学特性が悪化してしまう。
【０００６】
ＤＥ３２２７０６９Ａ１には、高温に適しており、低屈折率を有する層材料としてのＳｉＯ２および高屈折率を有する層材料としてのＴａ２Ｏ５から作製された、交互層システムを含む光学コーティングが開示されている。このコーティングは高温に耐えることができ、コーティングされた物体、特にハロゲンランプの作業効率を改善することを目的としている。
【０００７】
確かに、高屈折率層としてＴｉＯ２を使用する場合に比較すれば作業効率の改善およびより高い熱安定性が達成できるが、高温領域でＴａ２Ｏ５を使用すると層中にかなりの混濁が生じ、したがってこれらのコーティングは多くの利用分野で不適切である。
【非特許文献１】Ｈ．Ｓａｎｋｕｒ、Ｗ．Ｇｕｎｎｉｎｇ、Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．６６（１９８９）
【特許文献１】ＤＥ３２２７０６９Ａ１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、実質的に構造的に安定であり、高い動作温度でも（目視による）混濁のないコーティングを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明によれば、この目的は、特許請求の範囲の請求項１〜２４に記載の層システムにより達成される。
【００１０】
本発明に係る層システムは、チタンアルミニウム酸化物を含む金属酸化物から形成された少なくとも１つの層を含んでいる。例えば、層システムの特定の光学設計を行うために必要とされる層システムの個々の層を、以下、機能層と呼ぶ。
【００１１】
チタンアルミニウム酸化物から形成された機能層は、金属酸化物から形成された公知の機能層よりはるかに高い熱安定性および構造安定性を有する。
【００１２】
チタンアルミニウム酸化物を含む機能層においては、より高い熱安定性が本来的に確実に得られるので、別の金属酸化物から形成された中間層による割り込み（または介在）を付加すれば、機能層をさらに安定させることができる点で目的を達成する一因となる面もあるが、主としてチタンアルミニウム酸化物を含む機能層の機械的特性および光学的特性をさらに改善することに役立つ。中間層からの光学的に望ましくない影響を避けるために、中間層の厚さまたは屈折率をこの層が光学的に不活性になるように選択すべきである。高い熱安定性に加え、この種の層は例えば高い光沢性を有し、反射率または透過率、および高い耐引掻性など所望の光学特性値を向上させる。
【００１３】
本発明に係る他の層システムにおいては、同様に、金属酸化物から形成された少なくとも１つの機能層を含んでおり、チタンアルミニウム酸化物を含む少なくとも１つの中間層が、中間層とは異なる金属酸化物から形成された少なくとも１つの機能層に割り込んで（または介在して）いる。この場合、中間層の厚さまたは屈折率をこの層が光学的に不活性になるように選択すべきである。
【００１４】
チタンアルミニウム酸化物を含む中間層により、金属酸化物から形成された機能層の形態に割り込むことにより、金属酸化物から形成された機能層の所望の熱安定性および構造安定性を達成することが同様に可能である。さらに、これらの中間層による割り込みにより、金属酸化物から形成された機能層の機械的特性および光学的特性を大きく改善することが可能になる。このことは、本発明に係る層システムに広範囲な利用分野を開くものである。
【００１５】
機能層に、大きな熱負荷をかけても構造上いかなる変化も受けないサブレイヤーを形成するように割り込むことは目的にかなっている。例えば、個々のサブレイヤーが５０ｎｍ未満の厚さである、金属酸化物から形成されたアモルファス機能層は高温で作動した場合にいかなる結晶化も受けない。
【００１６】
本発明の１つの特別な効果は、アルミニウムとチタンとの量比を設定することによってチタンアルミニウム酸化物を含む層の屈折率を設定できることである。屈折率ｎを、１．５５≦ｎ≦２．５０の範囲で変化させることができる。アルミニウム含有量が増加すると層の屈折率ｎは減少する。たとえ少量のアルミニウム（例えば、Ａｌ：Ｔｉが、約１：３．８４でｎ＝２．３４）でも機能層の構造安定性および熱安定性を大幅に改善する。これにより、これらの層を使用する際の融通性が非常に大きくなる。
【００１７】
機能層の屈折率を中間層の屈折率に合わせ、あるいはその逆を行うために、チタンアルミニウム酸化物を含む層の屈折率を設定できる能力を特に有利に利用することができる。したがって、１．５５≦ｎ≦２．５０の範囲にある屈折率ｎを有する金属酸化物（例えば、ｎが約２．１である酸化ジルコニウムまたは例えば酸化イットリウムなどの安定化材料を添加して安定化した安定化酸化ジルコニウム）から形成された機能層に、光学的な影響を及ぼすことなく、チタンアルミニウム酸化物から形成された中間層を割り込ませることができる。この場合、もはや中間層は光学的に活性になりうる厚さ未満の厚さでなければならない、異なった屈折率を有する中間層の薄い厚さである必要はない。金属酸化物から形成された中間層がチタンアルミニウム酸化物の機能層に割り込む場合にも同じことがあてはまる。
【００１８】
本発明による層システムは、単一の機能層または複数の機能層を含む層システム、好ましくは高屈折率の機能層と低屈折率の機能層とから形成された交互層システムを含む。
【００１９】
この場合、高屈折率の機能層としてのチタンアルミニウム酸化物を含む機能層と中間層により割り込まれたチタンアルミニウム酸化物機能層とからなる交互層システム、またはチタンアルミニウム酸化物中間層により部分的に割り込まれ、高屈折率の金属酸化物から形成された機能層からなる交互層システムが等しく利用可能である。
【００２０】
高屈折率の機能層と低屈折率の機能層とから形成された交互層システムのような、本発明に係る層システムの好ましい一実施形態では、高屈折率の機能層はチタンアルミニウム酸化物を含む。好ましくは、この層はＴｉｘＡｌ１−ｘＯｙからなり、ここで０＜ｘ＜１、好ましくは０．３＜ｘ＜１、特に好適には０．５＜ｘ＜１である。アルミニウムのレベルが低くなるほど、機能層の屈折率は高くなる。次に、低屈折率の機能層は酸化ケイ素、好ましくは二酸化ケイ素を含む。二酸化ケイ素は、同様に高温に耐えることができ、チタンアルミニウム酸化物に較べると屈折率が低い。
【００２１】
光学設計については、各機能層の順序と厚さに関して一定の層構造が予め決定される。対応する光学的層厚ｎ＊ｄは、
【数１】
2005538871.tif 000002
の大きさまたはそれ以下の程度である。次に、近赤外および可視域で本発明による機能層を適用するための機能層の厚さｄＦの値は、好ましくは５ｎｍ≦ｄＦ≦２００ｎｍである。光学分野用のこの種の層システムは、高温範囲、すなわち、６００℃を超える動作温度で使用するのに非常に適している。
【００２２】
さらに、高屈折率の機能層が低屈折率の中間層により割り込まれている場合やその逆の場合は、機能層に割り込んでいる中間層が、システム全体として光学的に活性になり得る厚さ未満の厚さであることが特に光学層システムに関して重要である。次に、中間層の適切な厚さｄＺは、０．３ｎｍ≦ｄＺ≦１０ｎｍ、好ましくは０．５ｎｍ≦ｄＺ≦４．０ｎｍ、特に好ましくは１．０ｎｍ≦ｄＺ≦２．５ｎｍの範囲である。好ましくは、中間層の用途と数とは、機能層から形成されたサブレイヤーの厚さｄＴがおおよそ２０ｎｍ≦ｄＴ≦２５０ｎｍになるように選択しなければならない。したがって、割り込まれることになる機能層の適切な層厚さはｄＴ＝４０ｎｍである。
【００２３】
こうした状況下では、特に高屈折率を有する機能層および低屈折率を有する機能層から形成された交互システムでは、高屈折率の機能層が低屈折率の機能層から形成された中間層により割り込まれているかどうかがプロセス工学の手順にとって重要である。さらに、低屈折率の機能層に高屈折率の層材料から形成された中間層が割り込むことができる。この場合はすべての機能層に割り込むことは必ずしも必要ではない。
【００２４】
しかし、中間層が機能層とは異なる屈折率を有することは必須ではなく、むしろ、中間層は高温によりコーティングの光学特性の劣化が生じないように、機能層における構造形成に対して適切な影響を与えるものでなければならない。したがって、例えば、酸化チタンから形成された高屈折率を有する機能層に、チタンアルミニウム酸化物から形成された高屈折率を有する中間層を割り込ませることも可能である。
【００２５】
好適には、化学気相成長法、好ましくはプラズマＣＶＤ、特にＰＩＣＶＤ（ＰＩＣＶＤ＝Ｐｌａｓｍａ  Ｉｍｐｕｌｓｅ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ（プラズマインパルス気相成長法））が本発明による層システムの製造に適している。
【００２６】
これらの方法により、均一で精密な層の製造が可能となり、そのためこれらの方法は工業的なコーティング方法に非常に適したものになっている。さらに、この方法を用いて、チタン含有量とアルミニウム含有量の比を、特に簡単な方法で制御することができる。
【００２７】
好適には、ゾル−ゲル法も同様にこのコーティングの工業的製造に適している。
しかし、原理的には、本発明による層システムを、例えば、蒸着コーティング（ｅｖａｐｏｒａｔｉｎｇ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スパッタリングまたはその他の方法などのＰＶＤ法（ＰＶＤ＝Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ（物理気相成長法））を使用して製造することも可能である。
【００２８】
コーティングされた物体の利用分野に主として応じて広範囲の基板材料を使用することができる。高温領域で使用するには、それに伴う熱負荷を適切に考慮しなければならない。適切な基板材料は、金属、ガラス、ガラス−セラミックスおよびプラスチックである。
【００２９】
本発明によれば、層システムは、反射体のコーティング、特にガラス−セラミックス反射体のコーティングに使用される。これらコーティングによればコーティングの構造安定性および熱安定性が良好なため、長時間の強度の熱負荷の下でも反射体の優れた光学的特性および機械的特性を発揮することができる。
【００３０】
さらに、本発明に係る層システムは、照明体、特にＩＲＣトーチ／ランプのコーティングに使用される。この場合もまた、これらのコーティングによれば、コーティングの構造安定性および熱安定性が良好なため、長時間の強度の熱負荷の下でも照明体の優れた光学的特性および機械的特性を発揮することができる。
例示的実施形態および図に基づいて、本発明を以下にさらに詳細に説明する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
図１は、本発明に係る反射体用の光学層システムを示す。この反射体は可視光の波長領域で高い反射率を有するため照明目的に非常に適している。この層システムは近赤外領域での高い透過率およびその結果としての低い熱反射率のため、温度集中型の照明に特に適しており、例えば、デジタルプロジェクタに使用することができる。
【００３２】
この層システムは交互層システムであり、４３層の機能層からなる。低屈折率の機能層はＳｉＯ２から形成され、高屈折率の機能層はＴｉｘＡｌ１−ｘＯｙから形成されている。
【００３３】
チタンとアルミニウムとの量比は、Ａｌ：Ｔｉ＝１：２．０９である。この量比では、ＴｉｘＡｌ１−ｘＯｙ層は屈折率ｎ＝２．２６を有する。詳細な配列および個々の層厚を図１の表に示す。
【００３４】
個々の機能層をＰＩＣＶＤ法により製造した。この方法によれば、当業者は通常の手法でアルミニウム含有量を制御することができ、チタンアルミニウム酸化物層の屈折率を目標通りに設定することができる。
【００３５】
次いで、このような方法で製造した反射体を４５０℃、６５０℃および７５０℃の熱負荷に曝した。これらの反射体はかかる熱負荷の後でもいかなる混濁も示さなかった。
【００３６】
図２は、上述の異なる各熱負荷の下での反射体の反射特性を示す。本発明による反射体コーティングの反射特性試験では、高い動作温度が反射特性に実質的な影響をほとんど及ぼさず、特に反射体の反射特性は
【数２】
2005538871.tif 000003
の望ましい波長領域で安定していることを証明できた。同時に、近赤外における反射体の透過率も維持されていた。
【００３７】
一例として上述した本発明に係る、構造安定性および熱安定性コーティングを有する反射体はデジタルプロジェクタに使用することができるが、高電圧および低電圧技術での照明目的、例えばハロゲン照明技術での使用にも適している。
【００３８】
さらに、本発明に係る個々の層の性質を調査した。
この目的のため、石英ガラスからなる複数の基板を、ＰＩＣＶＤ法により、それぞれ５００ｎｍの層厚を有する１つのＴｉｘＡｌ１−ｘＯｙ（０＜ｘ＜１）単独層でコーティングした。１．５５≦ｎ≦２．５０の可能な最小値および最大値の間で屈折率を変化させるため、アルミニウムとチタンとの異なる量比をコーティング工程中に設定した。各層中に設定した比はＥＤＸ（エネルギー分散型Ｘ線分析装置）で測定した。対応する量比はａｔ％で表した測定割合から求めることができる。ａｔ％で表したチタンとアルミニウムとの量比の個々の値、そのＴｉ：Ａｌ量比、および対応する屈折率を図４に要約して示す。
【００３９】
アルミニウム含有量が増加すると層の屈折率ｎは減少する。
次に、コーティングした各基板を６５０℃および８５０℃の熱負荷にそれぞれ１時間曝した。図３に示す、６５０℃および８５０℃における熱処理後の個々の試料のＸ線試験結果から、各試料のうちで唯一、最小アルミナ含有率のｎ＝２．３４を有する層だけがアナターゼ相の初期形成を示したことが分かる。しかし、アルミニウムを少量加えるだけで、高温負荷における結晶の形成を阻止するには十分である。純粋なチタン酸化物と比較すると、低温でアナターゼを形成する非晶質相の結晶化や６００℃を超える高温でルチル相を形成する再結晶化が共に抑制されている。試験したどの層でも混濁現象は何ら生じなかった。
【００４０】
したがって、本発明に係る単独の機能層でコーティングした各基板は６００℃を超える熱負荷の下でも何ら混濁を生じることなく構造的に安定しているので、非常に幅広い用途、特に高温領域で使用することができる。
【００４１】
本発明に係る層システムのＩＲＣランプ／トーチへの使用はさらなる用途の例である。この場合の層システムは、高屈折率の機能層および低屈折率の機能層から形成された交互層システムを含んでいる。これらの干渉層システムは通常は３０層を超える機能層を含んでいる。
【００４２】
この種のランプまたはトーチ用の交互層システムの設計は周知である。設計は、ランプで発生した可視波長領域の光は透過し、同時に発生した赤外放射を光発生体中へ反射する（ＩＲＣシステム＝赤外反射コーティング）ように行われる。
【００４３】
反射された放射は発光体の動作温度に到達するのに大きな寄与をしている。ランプバルブまたはトーチの温度はある環境下では１０００℃を超える温度にまで達する。
【００４４】
これまで公知の交互層システムは約６００℃までの熱負荷にしか耐えることができなかったが、これは特に高屈折率層の熱安定性が不十分なためであった。
【００４５】
アルミニウムチタン酸化物から形成された高屈折率の適切な機能層、および／または中間層を割り込ませた金属酸化物機能層をコーティングに使用することにより、ＩＲＣランプ／トーチの熱安定性は６００℃を優に超える温度にまで高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】反射体コーティングのための本発明に係る層システムを示す図である。
【図２】４５０℃、６５０℃および７５０℃の各温度における反射体の反射特性を示すグラフである。
【図３】６５０℃および８５０℃で処理した後の種々の屈折率を有するチタンアルミニウム酸化物層それぞれの回折図である。
【図４】図３に示すチタンアルミニウム酸化物層の回折図のＡｌ：Ｔｉ量比を要約して示す表である。
【図１】
2005538871.tif 000004
【図２】
2005538871.tif 000005
【図３】
2005538871.tif 000006
【図４】
2005538871.tif 000007
【手続補正書】
【提出日】平成16年11月12日(2004.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属酸化物から形成された少なくとも１つの機能層を有し、６００℃以上の動作温度において高い熱安定性を有する層システムであって、金属酸化物から形成された少なくとも１つの機能層がチタンアルミニウム酸化物を含んでいることを特徴とする層システム。
【請求項２】
チタンアルミニウム酸化物を含む少なくとも１つの機能層が、該機能層に割り込みかつ該機能層とは異なる金属酸化物から形成される少なくとも１つの中間層を有しており、該中間層が光学的に不活性である請求項１記載の層システム。
【請求項３】
前記中間層が、光学的に活性になり得る厚さより薄い請求項２記載の層システム。
【請求項４】
前記中間層の厚さｄｚが、０．３〜１０ｎｍ、好ましくは０．５〜４ｎｍ、特に好ましくは１．０〜２．５ｎｍである請求項３記載の層システム。
【請求項５】
前記中間層が酸化ケイ素を含んでいる請求項３または４記載の層システム。
【請求項６】
前記中間層が前記チタンアルミニウム酸化物を含む機能層と同一の屈折率を有しており、前記中間層を光学的に不活性にすることができる請求項２記載の層システム。
【請求項７】
前記中間層が酸化ジルコニウムを含んでいる請求項６記載の層システム。
【請求項８】
金属酸化物から形成された少なくとも１つの機能層を有し、６００℃以上の動作温度において高い熱安定性を有する層システムであって、チタンアルミニウム酸化物を含む少なくとも１つの中間層が、少なくとも１つの、該中間層とは異なる金属酸化物から形成された機能層に割り込んでおり、該中間層が光学的に不活性であることを特徴とする層システム。
【請求項９】
前記のチタンアルミニウム酸化物を含む中間層が、光学的に活性になり得る厚さより薄い請求項８記載の層システム。
【請求項１０】
前記中間層の厚さｄｚが、０．３〜１０ｎｍ、好ましくは０．５〜４ｎｍ、特に好ましくは１．０〜２．５ｎｍである請求項９記載の層システム。
【請求項１１】
前記中間層が酸化ケイ素を含んでいる請求項９または１０記載の層システム。
【請求項１２】
前記機能層が前記のチタンアルミニウム酸化物を含む中間層と同一の屈折率を有しており、前記中間層を光学的に不活性にすることができる請求項８記載の層システム。
【請求項１３】
前記機能層が酸化ジルコニウムを含んでいる請求項１２記載の層システム。
【請求項１４】
前記のチタンアルミニウム酸化物を含む層がＴｉｘＡｌ１−ｘＯｙ（０＜ｘ＜１）からなる請求項１〜１３のいずれか１項に記載の層システム。
【請求項１５】
前記のチタンアルミニウム酸化物を含む層の屈折率ｎをチタン対アルミニウムの量比によって１．５５≦ｎ≦２．５０に設定することができる請求項１４記載の層システム。
【請求項１６】
複数の機能層、好ましくは高い屈折率を有する金属酸化物の機能層と低い屈折率を有する金属酸化物の機能層からなる交互層システムを含んでいる請求項１〜１５のいずれか１項に記載の層システム。
【請求項１７】
前記高屈折率の機能層がチタンアルミニウム酸化物を含んでいる請求項１６記載の層システム。
【請求項１８】
前記低屈折率の機能層が酸化ケイ素を含んでいる請求項１７に記載の層システム。
【請求項１９】
チタンアルミニウム酸化物を含む高屈折率の機能層が、酸化ケイ素を含む低屈折率の中間層によって割り込まれており、かつ／または酸化ケイ素を含む低屈折率の機能層が、チタンアルミニウム酸化物を含む高屈折率の機能層によって割り込まれている請求項１８記載の層システム。
【請求項２０】
前記各層が、化学気相成長法、好ましくはプラズマＣＶＤ法、特に好ましくはインパルスプラズマＣＶＤ法により製造されている請求項１〜１９のいずれか１項に記載の層システム。
【請求項２１】
前記各層がＰＶＤ法により製造されている請求項１〜１９のいずれか１項に記載の層システム。
【請求項２２】
前記各層がゾル−ゲル法により製造されている請求項１〜１９のいずれか１項に記載の層システム。
【請求項２３】
請求項１〜２２のいずれか１項に記載の層システムを含むコーティングを有する照明体。
【請求項２４】
ＩＲＣランプまたはＩＲＣトーチである請求項２３記載の照明体。
【請求項２５】
請求項１〜２２のいずれか１項に記載の層システムを含むコーティングを有する反射体。
【請求項２６】
ガラスセラミックス反射体である請求項２５記載の反射体。
【国際調査報告】
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2005538871.tif 000009
2005538871.tif 000010
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