Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
(57)【要約】【課題】痛みの治療。【解決手段】痛みの治療で用いるために、(＋)-ネフォパムが鼻腔内投与用に製剤化される。【特許請求の範囲】
【請求項１】
痛みの治療で用いるための、鼻腔内投与用医薬品製品を目的とした(＋)-ネフォパムの使用。
【請求項２】
鼻腔内投与に適切な、(＋)-ネフォパムを含有する組成物。
【請求項３】
粘膜接着剤、溶解度増強剤、保湿剤、緩衝液、および水のうちの１つ以上を含む、請求項２に記載の組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ネフォパムの新規な製剤、および痛みの治療におけるその使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
ネフォパムは中枢作用性の非麻酔性鎮痛薬であり、他の鎮痛薬とは構造的に関連しない。ネフォパムは痛みの動物モデルにおいて、およびヒトにおいて痛覚抑制を誘導することが示された（Ｈｅｅｌら、非特許文献１）。しかし、ネフォパムはマウスの尾部の鞭打ち試験において、ラットにおけるホットプレート試験、またはＲａｎｄａｌｌ-Ｓｅｌｉｔｔｏ圧試験において活性ではなく（ＣｏｎｗａｙおよびＭｉｔｃｈｅｌｌ、非特許文献２）、この鎮痛機構が、麻酔性でも抗炎症性でもないことを示唆している。ネフォパムの痛覚抑制は、ナラキソンによって阻害されず、その鎮痛の作用がアヘン剤受容体を介さないことをさらに示唆する。
【０００３】
ネフォパムの光学異性体でのインビトロおよびインビボ研究によって、(＋)-ネフォパムは、(−)-ネフォパムよりも強力な抗鎮痛の、ならびにドーパミン、ノルエピネフリン、およびセロトニン吸収阻害の特性を有することが示され、効能の順序は、(＋)-ネフォパム＞(±)-ネフォパム＞(−)-ネフォパムとされた（Ｆａｓｍｅｒら、非特許文献３；ＲｏｓｌａｎｄおよびＨｏｌｅ、非特許文献４；Ｍａｔｈｅｒら、非特許文献５）。Ｍａｔｈｅｒら（２０００）は、「（ネフォパムの）個々の光学異性体を投与またはモニターすることを正しいと判断するための説得力のある理論的な根拠は現在なにもない」と結論する。
【０００４】
ネフォパムが患者管理無痛法の試験においてモルヒネとともに投与された場合、アヘン剤寛容性（ｏｐｉａｔｅ−ｓｐａｒｉｎｇ）であることが示された（Ｍｉｍｏｚら、非特許文献６）。
【０００５】
【非特許文献１】Ｄｒｕｇｓ  １９（４）：２４９〜６７、１９８０
【非特許文献２】Ａｒｃｈ．Ｉｎｔ．Ｐｈａｒｍａｃｏｄｙｎ．Ｔｈｅｒ．２２６（１）：１５６〜７１、１９７７
【非特許文献３】Ｊ．Ｐｈａｒｍ．Ｐｈａｒｍａｃｏｌ．４２(６)：４３７〜８、１９８７
【非特許文献４】Ｊ．Ｐｈａｒｍ．Ｐｈａｒｍａｃｏｌ．４２(６)：４３７〜８、１９９０
【非特許文献５】Ｃｈｉｒａｌｉｔｙ  １２(３)：１５３〜９、２０００
【非特許文献６】Ａｎａｅｓｔｈｅｓｉａ、５６(６)：５２０〜５、２００１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ネフォパムの従来の放出製剤は、中程度から重篤までの痛みの治療に使用するために、何年もの間市販されてきた。しかし、ネフォパムの短い放出半減期（４時間）は、通常の投薬周期（１日３回）では鎮痛効果を維持することが困難であることを意味する。ネフォパムの用量の増加は、鎮痛と関連される有害な薬物反応の頻度の増加をもたらし、ならびに脈拍および血圧に対する有害な影響が、ネフォパムの治療用量の非経口投与後に観察された（Ｈｅｅｌら、１９８０）。ネフォパムが経口的に投与される場合、心臓に対する変時性およびイオン性の影響はみられない（Ｂｈａｔｔら、Ｂｒ．Ｊ．Ｃｌｉｎ．Ｐｈａｒｍａｃｏｌ．１１(２)：２０９〜１１、１９８１）。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
痛みの治療で用いるための、鼻腔内投与用医薬品製品を目的とした(＋)-ネフォパムの使用。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、哺乳動物における急性の、慢性の、または神経障害性の痛み（ガン、手術、関節炎、歯科手術、有痛性の神経障害、外傷、筋骨格損傷もしくは疾患、および内臓疾患に関連する痛みを含むが、これらに制限されない）、ならびに片頭痛が、新規な、すなわち鼻腔内投与のための製剤に(＋)-ネフォパムを使用することによって治療が可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
活性物質は、遊離塩基もしくは薬学的に許容される任意の塩、例えば塩酸塩の形態に、または代謝産物もしくはプロドラッグの形態にあり得る。このような形態は、当業者に公知である。
【００１０】
ネフォパムは、鼻腔内投与用の組成物における製剤に適切な特性を有する。これは低分子量であって、鼻腔吸収に至適であり得るｐＨ５．５〜６．５を含む広範なｐＨ範囲（４〜７）にわたり、溶液中で非常に可溶性であり安定である。従って、ネフォパムは鼻腔から迅速におよび完全に吸収され得、そして痛みの緩和をもたらすために必要とされる作用を迅速に開始させる。
【００１１】
さらに、ネフォパムは、高濃度（５ｍＭを上回る）であっても、鼻上皮細胞内層（ＲＰＭＩ２６５０）に対して、細胞障害性を示さないと決定されてきた。ネフォパムは、ヒトにおける経鼻送達後、鼻粘膜を刺激してはならない。
【００１２】
本発明における使用のために、医薬品は公知である成分を本目的のために含有してよい。ネフォパムの鼻腔内投与によって、ファーストパス代謝が回避される。経鼻送達により、副作用が減少されると同時に、有意な濃度の(＋)-ネフォパムがＣＮＳに導入される。この状況において、典型的な日用量は、６０ｍｇ未満の(＋)-ネフォパム、例えば１〜５０ｍｇである。
【００１３】
特に、ＣＮＳにおける濃度を最大にしながら(鎮痛効果を最大にする)、血管平滑筋への末梢曝露を減少する（血管緊張に対する影響を最小にする）様式においてネフォパムを投与することは有益である。このことは、経鼻送達によってなされ得、ＣＮＳにおける薬物の濃度を最大にしながら、全身性の負荷を減少する。一例としてのみであるが、鼻腔内送達のための組成物は、ネフォパムに加えて、プロピレングリコールのような溶解度増強剤、マンニトールのような保湿剤、緩衝液、および水のうちの１つ以上を含む。粘膜接着剤および浸透増強剤を使用してもよい。このような薬剤および増強剤は、当業者に公知である。
【００１４】
ネフォパムを、痛みの治療のために使用される他の薬物と組み合わせて使用することは、しばしば有利である。このような他の薬物は、アヘン剤またはバクロフェンのような非アヘン剤であり得る。特に神経障害性の痛みの治療について、ガバペンチンとの同時投与が好ましい。使用され得る他の化合物としては、アセトアミノフェン、非ステロイド性抗炎症性薬物、麻酔鎮痛薬、局部麻酔薬、ＮＭＤＡ拮抗薬、神経弛緩剤、抗けいれん剤、鎮痙剤、抗うつ剤、または筋肉弛緩剤が挙げられる。
【００１５】
以下の実施例によって、本発明を説明する。
【実施例】
【００１６】
以下の組成物において、１〜１０ｍｇのネフォパムが１００μｌの：
【００１７】
【表１】
2005531612.tif 000002
【００１８】
中に含まれる。
【００１９】
ネフォパムと全ての腑形剤との安定性は、２５℃および５０℃の両方での４週間のインキュベーション後に個々に実証された。
【国際調査報告】
2005531612.tif 000003
2005531612.tif 000004
(57)【要約】硫酸溶液中の三酸化バナジウム（Ｖ2Ｏ3）の懸濁液を生成し、そしてＶ2Ｏ3懸濁液を制御された条件下に強酸化剤と接触させて、ＶＯＳＯ4を製造することを含んでなる、硫酸バナジル溶液（ＶＯＳＯ4）の製造方法。好ましい酸化剤は過酸化水素であり、これは、反応が激しいものであるため、Ｖ2Ｏ3懸濁液に非常にゆっくり添加される。【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）三酸化バナジウム（Ｖ2Ｏ3）を含んでなる出発原料を準備し、
（２）三酸化バナジウムを硫酸溶液と接触させて、三酸化バナジウム懸濁液を製造し、そして
（３）三酸化バナジウム懸濁液を、バナジウムの原子価または酸化状態を上げることができる強酸化剤と接触させることにより、三酸化バナジウムを硫酸に溶解させて、硫酸バナジル溶液（ＶＯＳＯ4）を製造する、
工程を含む、硫酸バナジル溶液の製造方法。
【請求項２】
強酸化剤が、過酸化水素、過酸化ナトリウム、過マンガン酸カリウム、ヨウ素、ヨウ素酸カリウム、臭素酸カリウム、臭素、過硫酸アンモニウム、ナトリウムおよびカリウムの過硫酸塩、硫酸セリウム（ＩＶ）、ならびに重クロム酸カリウムよりなる群から選択されるものである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
強酸化剤が過酸化水素である、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
過酸化水素が三酸化バナジウム懸濁液に滴下される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
過酸化水素の添加が、硫酸バナジウム溶液の還元電位が所定の終点に達したときに停止される、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
終点が約６００ミリボルトである、請求項５に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、硫酸バナジル溶液の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
五酸化バナジウムを激しい攪拌下に熱希硫酸に溶解し、そして二酸化硫黄を還元剤として用いて継続的に加熱することにより硫酸バナジルを製造することは、公知である。
【０００３】
酸性水溶液での二酸化硫黄の限られた溶解度は、溶液からの二酸化硫黄の排出をもたらし、そしてこのことは環境への危険を引き起こす。ＳＯ2ガスを溶液に過剰に加えると、硫酸バナジル（ＶＯＳＯ4）ではなく、所望ではない、低原子価の硫酸バナジウム、すなわちＶ2ＳＯ4の生成をもたらす。
【０００４】
硫酸への五酸化バナジウムの溶解は吸熱的であるので、硫酸バナジルの生成を促進するためには、熱を加える必要がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
このように、硫酸バナジルの新規な製造方法が、常に必要とされている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に従えば、硫酸バナジル溶液の製造方法は、
（１）三酸化バナジウム（Ｖ2Ｏ3）を含んでなる出発原料を準備し、
（２）三酸化バナジウムを硫酸溶液と接触させて、三酸化バナジウム懸濁液を製造し、そして
（３）三酸化バナジウム懸濁液を、バナジウムの原子価または酸化状態を上げることができる強酸化剤と接触させることにより、三酸化バナジウムを硫酸に溶解させて、硫酸バナジル溶液（ＶＯＳＯ4）を製造する、
工程を含む。
【０００７】
例えば、過酸化水素、過酸化ナトリウム、および過マンガン酸カリウム等の過酸化物および過マンガン酸塩を含む種々の強酸化剤を使用することができる。最終生成物中に不純物を一切持ち込まないので、過酸化水素が特に好ましい。
【０００８】
過酸化水素は、反応が激しいものであるため、一般的に、三酸化バナジウム懸濁液にゆっくり添加される。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明を、単に例示の目的で、添付の図面によりさらに詳細に説明する。
本発明の要点は、三酸化バナジウム（Ｖ2Ｏ3）を硫酸溶液に溶解して硫酸バナジル（ＶＯＳＯ4）を製造するために、一般にＨｉｖｏｘと称される強酸化剤を使用することである。
【００１０】
この方法を行う上で、例えば、過酸化物または過マンガン酸塩等の強酸化剤を用いて、一定の攪拌をしながら、Ｖ2Ｏ3を温硫酸溶液に溶解する。例えば、過酸化水素、過酸化ナトリウム、過マンガン酸カリウム、ヨウ素、ヨウ素酸カリウム、臭素酸カリウム、臭素、過硫酸アンモニウム、ナトリウムおよびカリウムの過硫酸塩、硫酸セリウム（ＩＶ）、ならびに重クロム酸カリウム等の種々の強酸化剤を使用することができるが、最終生成物中に不純物を一切持ち込まないので、過酸化水素が好ましい。
【００１１】
工業的等級のＨｉｖｏｘの品質は、一般的に１１５〜１２２パーセント当量のＶ2Ｏ5の範囲であるので、図１は、使用された出発原料の品質に応じて、本方法で使用するのに適当なＶ2Ｏ3の品質を決定するために用いることができる。所要の溶液は、溶解プロセスの間、図２に示されるように、ミリボルトでのその還元電位をモニターすることにより得ることができる。硫酸バナジルの製造の開始は、グラフが鋭く下降するポイントで明らかにされる。
【００１２】
ここで、本発明を以下の非制限的な実施例で説明する。
【実施例】
【００１３】
過酸化水素を用いて、一定に攪拌しながら、Ｈｉｖｏｘ（Ｖ2Ｏ3）３．０ｇを温かい（５０℃）４．０モル濃度の硫酸溶液に溶解した。過酸化水素は、溶液と激しく反応するので、滴下した。溶解プロセスの間、溶液の還元電位を連続的にモニターし、そして、溶液が６００ミリボルトの終点に達したとき、過酸化水素の添加を停止した。
【００１４】
この方法は、以下の式に従って進行した。
【００１５】
２Ｖ2Ｏ3 ＋ ４Ｈ2ＳＯ4 ＋ Ｈ2Ｏ2 → ４ＶＯＳＯ4 ＋ ４Ｈ2Ｏ ＋ Ｈ2↑
【００１６】
このプロセスの間、溶液は最初に、Ｖ3+イオンの存在を示す、緑色となり、その後、硫酸バナジル最終生成物中に存在するＶＯ2+イオンの存在を示す、青色になった。
【００１７】
上記より、硫酸バナジルが、Ｖ2Ｏ5を用いる従来法よりも、一般に、より費用効率が高くそしてより危険性の低いＨｉｖｏｘ（Ｖ2Ｏ3）を用いて、容易に製造できることは明らかである。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】４．０モル濃度の硫酸溶液中の、一定の４．５ｇＶ2Ｏ5量に対する、Ｖ2Ｏ5で表される様々な品質のＶ2Ｏ3との間の量関係を示すグラフである。
【図２】使用したＶ2Ｏ3の量に対する、ミリボルトでの還元電位を示すグラフである。
【図１】
2005528314.tif 000002
【図２】
2005528314.tif 000003
【国際調査報告】
2005528314.tif 000004
2005528314.tif 000005
(57)【要約】【課題】  本発明の目的は、適格な材料で作られ、好ましくは硬質の平板（１〜６）で形成された仮設二重層迅速展開地表被覆構造である。【解決手段】  前記平板（１〜６）が、互いに平行に配置され、連接結合部材（Ｂ）によって縦続に互いに連結され、その結果、２つの連続する平板の間で、前記部材（Ｂ）が第１に平板の１つの１端に、第２にかつ好ましくは他の平板の中心領域で連結され、前記部材は平板の縦軸または横軸に平行に平板間連接軸を形成することを特徴とするものである。
2005528540.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
適格な材料で作られ、好ましくは硬質の平板（１〜６）で形成された仮設二重層迅速展開地表被覆構造において、前記平板（１〜６）が、互いに平行に配置され、連接結合部材（Ｂ）によって縦続に互いに連結され、その結果、２つの連続する平板の間で、前記部材（Ｂ）が第１に平板の１つの１端に、第２にかつ好ましくは他の平板の中心領域で連結され、前記部材は平板の縦軸または横軸に平行に平板間連接軸を形成することを特徴とする仮設二重層迅速展開地表被覆構造。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、仮設二重層迅速展開地表被覆構造に関するものである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００２】
本発明の目的は、プラスチックまたは複合材料で作られた硬質の個別の平板により形成された、例えば矩形のパネルにより形成され、製品の貯蔵または乗物の移動のための仮設表面または軌道を形成するために容易かつ迅速に展開することが可能な構造を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００３】
そのために、本発明の目的は、適格な材料で作られ、好ましくは硬質の平板で形成された仮設二重層迅速展開地表被覆構造において、前記平板は、互いに平行に配置され、連接された結合部材によって縦続に互いに連結され、その結果、２つの連続する平板の間で、前記部材が第１に平板の１つの１端に、第２にかつ好ましくは他の平板の中心領域で連結され、前記部材は平板の縦軸または横軸に平行に平板間連接軸を形成することを特徴とする仮設二重層迅速展開地表被覆構造である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００４】
平板１〜６は、例えば、矩形で、同一であり、互いに平行である。
【０００５】
図１は構造の保管形勢を図示しており、図２は地上に展開した形勢を図示している。
【０００６】
平板１〜６は、各平板の半面に、好ましくはその全長にわたり連続的に取り付けられた柔軟バンドＢによって連結されている。
【０００７】
２枚の連続する平板の間で、バンドＢは、ヒンジをなし、１枚の平板の端を後続の平板の中心部に連結する、連接結合領域Ｌを形成する。
【０００８】
図３〜５は、図２の二重被覆層に到るために図１の平板１〜６の展開を例示しており、ここで平板は、食い違い状に重ね合わされ、すべて同じ方向で整列されており、それは例えば、２層の平板間に完全に展開され挟まれたバンドＢの横方向軸に平行であり、さらに実際上隣接している。
【０００９】
図６および７は、連接結合部材がヒンジＣであり、その一方の部材が平板１の端に固定されており、他方の部材が関係する平板２のその中心部に固定されている、別の変更態様を例示している。
【００１０】
ヒンジＣは、単一のものであり、平板２の全幅（または長さ）にわたって延びるか、またはいくつかの個別の整列された部材から形成される。
【００１１】
図８は、下層の平板（奇数平板）が上層の（偶数）平板に関して縦方向にずらされている変更態様を例示している。この場合、例えば、ヒンジＣの連結部材は、平板の全長にわたって延びるのではなく、重なり合う領域に向かい合ってだけ延びる。
【００１２】
これは、２つの被覆構造を、他方の構造（Ｎｏ２）による一方の構造（Ｎｏ１）の部分的重なり合いを有しつつ、並んでかつ隣接して位置づけることを可能にする（図９）。従って、構造１と２との間には、平板のそれぞれ縦軸および横軸によって規定される２つの方向において、下層に対する平板の上層のずれに起因する低強度のいかなる領域も存在しない。
【００１３】
２つの構造１と２との間に、例えば一方の構造の底部平板と第２の構造の上部平板との間に、構造の良好な位置決めおよびそれらの間の完全な連結を保証するために、可逆的な機械式ロックを設けることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の第１の実施形態を図式的に例示する図である。
【図２】本発明の第２の実施形態を図式的に例示する図である。
【図３】図１の平板を図２の二重被覆層に到らせる第１の展開図である。
【図４】図１の平板を図２の二重被覆層に到らせる第２の展開図である。
【図５】図１の平板を図２の二重被覆層に到らせる第３の展開図である。
【図６】本発明で使用するヒンジの一実施例を示す図である。
【図７】本発明で使用するヒンジの他の実施例を示す図である。
【図８】下層の平板（奇数平板）が上層の（偶数）平板に関して縦方向にずらされている変更態様を例示している図である。
【図９】２つの被覆構造を、他方の構造（Ｎｏ２）による一方の構造（Ｎｏ１）の部分的重なり合いを有しつつ、並んでかつ隣接して位置づけることを可能にする図である。
【符号の説明】
【００１５】
１〜６  平板
Ｂ  バンド
Ｃ  ヒンジ
Ｌ  連接結合領域
【図１】
2005528540.tif 000003
【図２】
2005528540.tif 000004
【図３】
2005528540.tif 000005
【図４】
2005528540.tif 000006
【図５】
2005528540.tif 000007
【図６】
2005528540.tif 000008
【図７】
2005528540.tif 000009
【図８】
2005528540.tif 000010
【図９】
2005528540.tif 000011
【国際調査報告】
2005528540.tif 000012
2005528540.tif 000013
2005528540.tif 000014
2005528540.tif 000015
(57)【要約】本発明は、喫煙癖又は飲酒癖の離脱手段に関する。これに用いられる薬剤はアルファ・ケトグルタル酸及び５−ヒドロキシメチルフルフラールを含み、好ましくはその質量比は２：１ないし１２：１である。好ましくはこの薬剤は飲み物としてリッター当り次の成分を含むものとして供される：アルファ・ケトグルタル酸  ４〜８ｇ、５−ヒドロキシメチルフルフラール  ０．２〜０．６ｇ、サッカロース  ２０〜４０ｇ、重炭酸ナトリウム  ２．５〜５ｇ、ソルビン酸  ０．３〜０．８ｇ及び場合によりクエン酸  ０．５ｇ以下。ｐＨ値は４〜５である。【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルファ・ケトグルタル酸及び５−ヒドロキシメチルフルフラールを喫煙癖又は飲酒癖の離脱剤の製造に使用すること。
【請求項２】
アルファ・ケトグルタル酸の５−ヒドロキシメチルフルフラールに対する質量比が２：１ないし１２：１であることを特徴とする請求項１記載の使用。
【請求項３】
リッター当り次の成分を含むことを特徴とする飲み物：
アルファ・ケトグルタル酸            ４〜８ｇ
５−ヒドロキシメチルフルフラール    ０．２〜０．６ｇ
サッカロース                        ２０〜４０ｇ
重炭酸ナトリウム                    ２．５〜５ｇ
ソルビン酸                          ０．３〜０．８ｇ
場合によりクエン酸                  ０．５ｇ以下
【請求項４】
ｐＨ値が４〜５であることを特徴とする請求項３記載の飲み物。
【発明の詳細な説明】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は，喫煙癖又は飲酒癖を止めさせてこれから離脱する薬剤を含む離脱手段に関する。
【０００２】
アルファ・ケトグルタル酸（Alpha-Ketoglutarsaeure）及び５−ヒドロキシメチルフルフラール（5-Hydroxymethylfurfural）が悪性腫瘍を破壊する効果を有することは、オーストリア特許３９３２２１Ｂにより既知である。
【０００３】
一方、この薬剤が人の喫煙又は過度の飲酒の習慣を止めさせることに著しく適していることが見出された。特に注目すべきことは、この薬剤が、尿意の増大が認められる他にはほとんど不要な効果を有しないことである。
【０００４】
従って本発明は、アルファ・ケトグルタル酸及び５−ヒドロキシメチルフルフラールを喫煙癖又は飲酒癖の離脱剤の製造に使用することを提案する。
【０００５】
好ましくは、アルファ・ケトグルタル酸の５−ヒドロキシメチルフルフラールに対する質量比は２：１ないし１２：１である。
【０００６】
オーストリア特許３９３２２１Ｂによれば、この薬剤は侵液（Infusion）の形態により用いられる。喫煙又は過度の飲酒の習慣を止めさせるために、この薬剤は飲み物の形態により供される。このため、本発明は飲み物としてリッター当り次の成分を含むものを提供することをも課題とする：
アルファ・ケトグルタル酸                  ４〜８ｇ
５−ヒドロキシメチルフルフラール          ０．２〜０．６ｇ
サッカロース（Sacharose）                 ２０〜４０ｇ
重炭酸ナトリウム（Natriumbicarbonat）     ２．５〜５ｇ
ソルビン酸（Sorbinsaeure）                ０．３〜０．８ｇ
場合によりクエン酸（Zitronensaeure）      ０．５ｇ以下
この飲み物のｐＨ値は４〜５が好ましい。この飲み物は清涼飲料のような飲み易い味を有する。
【０００７】
好都合にもこの飲み物には５−ヒドロキシメチルフルフラールによる気分を爽快にする効果がある。従って、この飲み物は規則正しく摂取することに適しており、これにより決定的に好ましい効果を得ることができる。
【０００８】
アルファ・ケトグルタル酸及び５−ヒドロキシメチルフルフラールは、ラジカルキャッチャーとして機能し、これが本発明の効果の根拠を提供している。この特性はオーストリア特許３９３２２１Ｂからは知り得ないものである。ラジカルは今まで悪性腫瘍の生成との関係において論じられてきた。喫煙の場合、自由ラジカルは煙の吸引毎に１０１４にも達する。過度の飲酒もラジカルを生じさせる。ラジカルを捕える効果によって、煙草又はアルコールのこのような効果(自由ラジカルの生成)が抑えられ、煙草又はアルコールに対する欲望が減退するものと考えることができる。
【０００９】
すべてが喫煙者（日に２０〜４０本の喫煙）である複数のテスト対象者について、次の成分を含む飲み物を供した（以下は飲み物１リッター当りの数値）：
アルファ・ケトグルタル酸            ５ｇ
５−ヒドロキシメチルフルフラール    ０．５ｇ
サッカロース                        ３０ｇ
重炭酸ナトリウム                    ３．６６ｇ
ソルビン酸                          ０．５ｇ
クエン酸                            ０．５ｇ
ｐＨ値は約４．５であった。
【００１０】
テスト対象者は上記の飲み物を実質的量において、即ち、１日につき上記の飲み物１リッターを１２時間に均等に分割して、常に空腹状態において摂取した。
【００１１】
１週間後に次の結果が得られた：
約２５％：喫煙中止の効果なし。
約２５％：喫煙欲減退。但し、煙草消費は変らず。
約２５％：喫煙欲減退。煙草消費は１／２未満に減少（但し、なお喫煙継続）。
約２５％：最早喫煙せず。
【００１２】
また、リッター当り次の成分を含む飲み物についてテストを実施した：
アルファ・ケトグルタル酸            ６ｇ
５−ヒドロキシメチルフルフラール    ０．４ｇ
サッカロース                        ４０ｇ
重炭酸ナトリウム                    ４．２ｇ
ソルビン酸                          ０．６ｇ
クエン酸                            ０．２ｇ
ｐＨ値は約４．５であった。
【００１３】
効果は前記のテストと類似であった。但し、両飲み物には味に若干の相異があった。
【国際調査報告】
2005528419.tif 000002
2005528419.tif 000003
2005528419.tif 000004
2005528419.tif 000005
(57)【要約】内燃機関のためのピストン内に鋳ぐるまれる冷却式のリング支持体において、冷却式のリング支持体のアルフィン層の形成の際に空気が冷却通路からリング支持体材料を通って溶融内に入り込み酸化物を形成することを防止する。このためにリング支持体が、冷却通路に向いている領域で被覆されている。
2005501199.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディーゼルエンジンのピストンのための冷却式のリング支持体であって、リング支持体部分（１）及び薄板部分（３）を備えており、薄板部分がリング支持体部分（１）に向かって開いていて、リング支持体部分（１）に溶接され、かつリング支持体部分（１）と一緒に閉じた冷却通路を形成している形式のものにおいて、リング支持体の、薄板部分（３）に向いた表面が少なくとも部分的に被覆されていることを特徴とする、ピストンのための冷却式のリング支持体。
【請求項２】
被覆（２）が少なくともリング支持体背部に施されている請求項１記載のリング支持体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディーゼルエンジンのピストンのための、請求項１の上位概念に記載の形式の冷却式のリング支持体に関する。
【０００２】
前記形式のリング支持体は、ドイツ連邦共和国特許出願公開第１９７５００２１号明細書により公知である。
【０００３】
リング支持体は、ピストン材料で鋳ぐるむ前にアルミニウム・珪素溶融中に浸漬されて、アルフィン層が形成される。アルフィン層はピストン材料とリング支持体材料との間の結合層として役立つ。
【０００４】
一般的に知られているように、アルフィン層の形成に際してリング支持体から温度に起因した過圧及びレジスト材料の通気性に基づき空気が流出して、冷却通路内に酸化物を生ぜしめる。従って多くの場合に良好なアルフィン層の形成が達成されない。
【０００５】
本発明の課題は、アルフィン層の形成の際にリング支持体に酸化物が生じることを防止することである。該課題が請求項１に記載の構成によって解決される。有利な実施態様が従属請求項に記載してある。
【０００６】
本発明の思想は、リング支持体の、薄板冷却通路に向いた領域を被覆して、アルフィン層の形成の際に空気がリング支持体材料を通り抜けることを阻止することにある。被覆が、有利には電気めっきによって行われる。
【０００７】
次に本発明を図示の実施例に基づき詳細に説明する。
【０００８】
リング支持体１が、該リング支持体に向かって開いた薄板部分３に溶接されている。リング支持体はリング支持体自体の半径方向内側に向いた面に被覆２を有しており、従ってリング支持体が薄板部分に対して気密である。薄板部分３はV2A-鋼若しくは類似の材料から成っていて、気密である。層材料として、特にニッケル、クロム若しくは鉄が考えられる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】冷却式のリング支持体の部分図
【図２】冷却式のリング支持体の部分図
【符号の説明】
【００１０】
１  リング支持体、２  被覆、３  薄板部分
【国際公開パンフレット】
2005501199.tif 000003
2005501199.tif 000004
2005501199.tif 000005
2005501199.tif 000006
2005501199.tif 000007
【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
2005501199.tif 000008
2005501199.tif 000009
【国際調査報告】
2005501199.tif 000010
2005501199.tif 000011
2005501199.tif 000012
2005501199.tif 000013
(57)【要約】オーディオ入力信号を処理するオーディオ処理装置は、少なくとも１つの雑音低減手段と、雑音レベル特定手段と、雑音低減手段を制御するために雑音レベル測定手段に接続される制御手段とを有する。オーディオ処理装置は更に、オーディオ入力信号が供給される自動信号水平化回路を有し、自動信号水平化回路の出力信号は、雑音低減手段に供給される。自動信号水平化回路は、雑音測定手段が、特定のオーディオレベルより上のオーディオ信号を検出しない場合に、自動信号水平化回路及び雑音低減手段のうち少なくとも１つをオンにし、雑音測定手段が、特定のオーディオレベルより上のオーディオ信号より上のオーディオ信号を検出すると、自動信号レベル回路及び雑音低減手段をオフにするよう制御手段によって制御される。
2005501460.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オーディオ入力信号を受信する少なくとも１つの入力端末と、
前記入力端末に接続される１つ以上の雑音低減手段と、
前記入力端末における雑音レベルを測定する雑音レベル測定手段と、
前記雑音低減手段を制御するために、前記雑音レベル測定手段に接続される制御手段と、を有する、オーディオ入力信号を処理するオーディオ処理装置であって、
前記入力端末と前記雑音低減手段との間に接続される自動信号水平化回路を更に有し、
前記自動信号水平化回路は、前記雑音測定手段が特定のオーディオレベルより上のオーディオ信号を検出しない場合に、前記自動信号水平化回路及び前記雑音低減手段のうち少なくとも１つをオンにし、前記雑音測定手段が前記特定のオーディオレベルより上のオーディオ信号を検出する場合に、前記自動信号水平化回路及び前記雑音低減手段をオフにするよう、前記制御手段により制御されることを特徴とする装置。
【請求項２】
前記雑音低減手段には、特に、低域通過フィルタ手段である帯域幅制限手段と、音量低減手段が設けられることを特徴とする請求項１記載のオーディオ処理装置。
【請求項３】
前記雑音低減手段には、前記自動信号水平化手段の出力信号を、前記オーディオ処理手段の出力端末に、直接か、又は、少なくとも１つの雑音低減手段を介して供給するよう前記制御手段により制御されるスイッチ手段が設けられることを特徴とする請求項２記載のオーディオ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、オーディオ入力信号を処理するオーディオ処理装置に係り、この装置は、オーディオ入力信号を受信する少なくとも１つの入力端末と、入力端末に接続される１つ以上の雑音低減手段と、入力端末における雑音レベルを測定する雑音レベル測定手段と、雑音低減手段を制御するよう雑音レベル測定手段に接続される制御手段とを有する。
【０００２】
このようなオーディオ処理装置は、国際特許出願ＷＯ‐Ａ‐９９／３０４１５から公知である。
【０００３】
主流のＴＶでは、オーディオ要件を信号対雑音比（５０ｄＢ以上）に見合うようにすることは、困難であり、特に、集積回路が、アナログ回路とスイッチ回路を共に有する場合に困難である。この低信号対雑音比の問題は、認可の間、又は、ダイアログ又はスピーチを聞いている際に、時として、現れる。オーディオ帯域幅を制限する、又は、オーディオ音量を小さくすることによって雑音を低減することで状況は改善されるかもしれないが、このことは常に可能であるわけではなく、又は、更には、望ましいわけではない。上述の文書からは、雑音レベル測定手段によって、オーディオ入力信号における雑音が特定の閾値レベルを超え、信号対雑音比が低すぎることが分かると、雑音を低減することが知られている。入力信号が時間的にひどく変化し、その結果、雑音低減手段がオン及びオフにされる際に問題が発生する。
【０００４】
本発明は、この問題を軽減し、且つ、信号対雑音比が更に改善されるオーディオ処理装置を提供することを目的とする。
【０００５】
従って、本発明によると、冒頭部に記載したようなオーディオ処理装置は、このオーディオ処理装置は更に、入力端末と雑音低減手段との間に接続される自動信号水平化回路を有し、この自動信号水平化回路は、雑音測定手段が、特定のオーディオレベルより上のオーディオ信号を検出しない場合、自動信号水平化回路及び雑音低減手段のうち少なくとも１つがオンにされ、雑音測定手段が、特定のオーディオレベルより上のオーディオ信号を検出すると、自動信号水平化回路及び雑音低減手段がオフにされるよう制御手段によって制御されることを特徴とする。
【０００６】
１つの好適な実施例では、雑音低減手段は、特に、低域通過フィルタ手段である帯域幅制限手段と、音量低減手段とが設けられる。更に、雑音低減手段は、スイッチ手段が設けられ、このスイッチ手段は、自動信号水平化手段の出力信号を、オーディオ処理手段の出力端末に、直接か、又は、少なくとも１つの雑音低減手段を介して供給するよう制御手段によって制御される。
【０００７】
本発明の実施例は更に、添付図面を参照して以下に説明する。
【０００８】
図１は、オーディオ信号水平化回路（ＡＳＬ）１と、低域通過フィルタ（ＬＰＦ）３の形である帯域幅制限手段及び音量低減手段４を有する雑音低減手段２と、雑音レベル測定手段５と、制御手段６を示す。
【０００９】
オーディ入力信号は、オーディオ処理装置の入力端末７を介して、ＡＳＬ１と、雑音レベル測定手段５に供給される。測定された雑音レベルに基づいて、雑音レベル測定手段５に接続される制御手段６は、ＡＳＬ１をオンにする又はオフにし、ＡＳＬ１とオーディオ処理装置の出力端末８との間のオーディオ信号経路にＬＰＦ３及び音量低減手段４を挿入するか又は挿入しないよう、制御信号を供給する。
【００１０】
平均的なオーディオ信号が、強度においてひどく変動しており、ＡＳＬがオンにされていると、雑音レベルは、ＡＳＬの利得により増加し、これは、不快である。この場合、雑音レベルは、帯域幅を制限する、及び／又は、オーディオ信号の音量を低減することによって減少される。従って、制御手段６により制御されるスイッチ手段が、ＬＰＦ及び音量低減手段内に組み込まれ、それにより、ＡＳＬ１と出力端末８との間の信号経路に帯域幅制限手段及び／又は音量低減手段を挿入する。
【００１１】
ＡＳＬのスイッチがオフにされ、オーディオ入力信号が特定の閾値レベルを超えない場合、雑音レベルは、帯域幅制限手段及び／又は音量低減手段を、オーディオ信号経路に挿入することにより減少される。オーディオ入力信号がこの閾値レベルを超える場合、帯域幅制限手段及び／又は音量低減手段は、オーディオ信号経路からは外れるようオフにされる。
【００１２】
ＡＳｌがオン又はオフにされることの決定は、制御手段６により行われ、これは、雑音レベル測定手段からの情報に基づく。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明のオーディオ処理装置を示すブロック図である。
【国際公開パンフレット】
2005501460.tif 000003
2005501460.tif 000004
2005501460.tif 000005
2005501460.tif 000006
2005501460.tif 000007
【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
2005501460.tif 000008
【国際調査報告】
2005501460.tif 000009
2005501460.tif 000010
(57)【要約】本文なし。【特許請求の範囲】
【請求項１】
本文なし。
【発明の詳細な説明】
本文なし。
(57)【要約】リベットに反作用が及ぼされる間、バーワッシャーを定位置に拘束しておくバックアップツール10が開示されている。ツール10は、内部をスライドすることが可能なように、マウントされたシャフト14を備えるスリーブ12を有している。スリーブ12は、その一端部にワッシャーを受け入れるために形成された凹部22を有する。シャフト14は、一端部に取り付けられたハンドル16を有し、前記ハンドル16は、シャフト14をスリーブ12の内部において長手方向に移動するように作動する。【選択図】図１
2005501720.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リベットと一緒に用いるツールであって、前記ツールは、一端部に凹部を備えるスリーブ部分と、前記スリーブ部分内にスライド可能に配置されたシャフトとを有しており、前記凹部は、リベットに反作用を及ぼすワッシャーを拘束するように作用するツール。
【請求項２】
前記シャフトは、リベットに反作用が及ぼされた後、ワッシャーをスリーブから分離するように作用する請求項１記載のツール。
【請求項３】
前記シャフトは、凹部から遠い一端部にあるハンドルを含んでいる請求項１または２記載のツール。
【請求項４】
リベットに反作用を及ぼす方法であって、前記方法は、
(ａ)対象物に形成された孔にリベットを挿入する、ステップと、
(ｂ)請求項１〜３のいずれか１記載のツール内にワッシャーを挿入する、ステップと、
(ｃ)ツールとワッシャーを、リベットの一部がワッシャー内に延出するように、孔を取り囲む対象物の面と向き合って配置する、ステップと、
(ｄ)リベットに反作用を及ぼしてワッシャーを拘束する、ステップと、そして、
(ｅ)ツールのシャフトを用いてワッシャーをツールから分離する、ステップとを有する方法。
【請求項５】
添付図面に関して実質的に上に記載したリベットと一緒に用いるためのツール。
【請求項６】
添付図面の図２に関して上に実質的に記載したリベットに反作用を及ぼす方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、リベット打ちツールまたはその改良に関する。
【背景技術】
【０００２】
バー(burr)ワッシャーをリベットの片側に嵌め込みたい場合がよくある。しかしながら、リベットに反作用を及ぼすバーワッシャーを定位置に嵌め込んで固定することはしばしば困難である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
前記の問題を克服するリベット打ちツールを提供することがこの発明の１つの目的である。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
この発明の１つの様相においては、リベットと一緒に用いるツールが提供され、このツールは、一端部に凹部を備えるスリーブ部分と、スリーブ部分内にスライド可能に配置されたシャフトとを有しており、前記凹部は、リベットに反作用を及ぼすワッシャーを拘束するように作動する。
【０００５】
この発明の第２の様相によれば、リベットに反作用を及ぼす方法が提供され、この方法は、
(ａ)対象物に形成された孔にリベットを挿入する、
(ｂ)ワッシャーを上に述べたようにツール内に挿入する、
(ｃ)ツールとワッシャーを、リベットの一部がワッシャー内に延出するように、孔を取り囲む対象物の面と向き合って配置する、
(ｄ)リベットに反作用を及ぼしてワッシャーを拘束する、そして、
(ｅ)ツールのシャフトを用いてワッシャーをツールから分離する。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
この発明をよりよく理解するために、例示のみによって添付図面を参照する。
図１を参照すれば、この発明のツール１０が図示されている。このツール１０は、シャフト１４が設けられているスリーブ１２を有する。シャフト１４は、スリーブ１２内でスライドすることができ一端部１８にハンドル１６を装着している。シャフト１４の他端部２０はフリーである。スリーブ１２の一端部２４には、(図示を省略する)バーワッシャーを収容するために１つの凹部が形成されている。ハンドル１６は、シャフト１４の端部１８にあるねじ山部分２８が中にねじ込まれることができるねじ穴２６を備えている。スリーブ１２が拘束されるとき、矢印３０によって示される方向へのハンドル１６の移動が、シャフト１４をスリーブ１２内において移動する。
【０００７】
図１には示されていないが、スリーブ１２内におけるシャフト１４の移動の範囲は、シャフト１４の端部２０が、示されているように、スリーブ１２の端部２４を越えて延出することができるか、スリーブ１２の内部に引っ込められる(図示されていない)ような範囲である。
【０００８】
ハンドル１６は、任意の適当な形状であって差し支えなく、この特別な具体例においては、ボルトとワッシャーの構造体３２を装着している。
スリーブ１２は、アルミニュームのバー或いは管から製造されてよく、シャフト１４は、シルバー鋼(silver steel)のバーから製造されてよい。当然とことながら、これらのコンポーネントは、任意の適当な材料から製造されてもよい。
【０００９】
図２に戻れば、ツール１０の作用が説明されている。ツール１０もまた、凹部２２内に配置されたバー(burr)ワッシャー４０と共に示されている。この場合、シャフト１４の端部２０は、凹部２２内に延出していない。２つの材料片４２、４４は、スリーブ４８とピン５０を備えるリベット４６によって接合されることになる。図示するように、リベットピン５０を受け入れるために、通常そうであるように、材料片４２、４４に孔５２、５４がそれぞれ形成される。ツール１０は、バーワッシャー４０がピン５０のフリーな端部に位置付けられるように材料片４４の表面５６に向かって移動されるので、ピン５０は、スリーブ１２内に延出する。ツール１０が、表面５６と向き合って接しているので、２つの材料片４２、４４は、定位置において表面５６と向き合うバーワッシャー４０と接合される。
【００１０】
リベット４６が一旦反作用を受けると、ハンドル１６は、矢印５８によって示される方向に表面５６に向かって押されてこの間スリーブ１２を拘束し、ツール１０を、バーワッシャー４０を定位置に残して表面５６から移動する。
ツール１０のスリーブ１２は、バーワッシャー４０を定位置に保持する間、リベット４６のための反作用表面として機能することがわかるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】この発明のツールの概略的断面図。
【図２】この発明のツールの作用を説明する概略的断面図。
【図１】
2005501720.tif 000003
【図２】
2005501720.tif 000004
【国際公開パンフレット】
2005501720.tif 000005
2005501720.tif 000006
2005501720.tif 000007
2005501720.tif 000008
2005501720.tif 000009
2005501720.tif 000010
2005501720.tif 000011
【国際調査報告】
2005501720.tif 000012
2005501720.tif 000013
2005501720.tif 000014
(57)【要約】静電スプレーガンの電源における変成器は、最大所望出力電流が達成される以前に、飽和し始めるように設計されている。飽和中においては、変成器の二次電流が上昇するので、出力電圧は低下し、その結果、それほど大きくないチップ抵抗を有する所望の出力負荷曲線が得られる。変成器は早く飽和するように設計されたので、寸法も小さくなった。このように、ガンの全体寸法及び重量が従来の電源に比べて小さくなったことは、大きい変成器及びチップ抵抗器を可能にした。
2005501714.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
変成器を有する電源と、増倍器と、最大出力電流とを有するスプレーガンであって、
前記変成器は、前記最大出力電流が達成される以前に、飽和し始めるように設計されているスプレーガン。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この出願は２００１年９月６日に出願された米国特許出願第６０／３１７，８６４号の利益を主張している。
【背景技術】
【０００２】
静電スプレーガンは塗料及びコーティング材料の効率的な塗布のための有用なツールであることがわかっている。非静電ガンと比べて、このようなツールは比較的重くて大きいことがわかっている。重さ及び／又は寸法を減らすのに役立つ改良が好評を得ている。
【特許文献１】
アメリカ合衆国特許第４，１２０，０１７号明細書
【特許文献２】
アメリカ合衆国特許第３，７２３，８５０号明細書
【特許文献３】
アメリカ合衆国特許第３，７３１，１４５号明細書
【特許文献４】
アメリカ合衆国特許第４，５０８，２７６号明細書
【特許文献５】
アメリカ合衆国特許第２，９８５，８１２号明細書
【特許文献６】
アメリカ合衆国特許第３，５２６，８２１号明細書
【特許文献７】
アメリカ合衆国特許第３，９１１，３２４号明細書
【特許文献８】
アメリカ合衆国特許第４，９１０，６５４号明細書
【発明の開示】
【０００３】
手持ち式の静電ガンにおける臨界スペースを確保するために、変成器があるレベルで飽和するように設計された。そのレベルとは、変成器の寸法及び電流制限抵抗の値を低減することを可能にするレベルである。
【０００４】
静電気の電源においては、電圧を上昇させて電圧増倍器へ供給するのに、変成器が使用される。過去においては、この変成器は、最大ガン操作点よりもかなり上で飽和するように設計された。その後、所望の出力負荷曲線（チップ電圧と電流との間の反比例関係）を得るために、大容量のチップ抵抗器が使用されている。
【０００５】
この発明の変成器は、最大所望出力電流が達成される以前に、飽和し始めるように設計されている。飽和中においては、変成器の二次電流が上昇するので、出力電圧は低下し、その結果、それほど大きくないチップ抵抗を有する所望の出力負荷曲線が得られる。変成器は早く飽和するように設計されたので、寸法も小さくなった。このように、ガンの全体寸法及び重量が従来の電源に比べて小さくなったことは、大きい変成器及びチップ抵抗器を可能にした。
【０００６】
これら及びその他の目的及び利点は添付の図面を参照してなされる以下の記載から一層十分に明らかになるであろう。なお、図面においては、各図面を通して、同一の参照符号は同一又は類似の部材を参照している。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
一般に符号１０で示されているこの発明のスプレーガン１２においては、静電気の電源１４は変成器１６を有している。この変成器は電圧を上昇させて電圧増倍器１８へ供給するために使用される。この発明の変成器１６は最大所望出力電流が達成される以前に、飽和し始めるように設計されている。飽和中においては、変成器の二次電流が上昇するので、出力電圧は低下し、その結果、それほど大きくないチップ抵抗を有する所望の出力負荷曲線が得られる。変成器は早く飽和するように設計されたので、寸法も小さくなった。
【０００８】
電源については、発明の精神及び添付の特許請求の範囲によって限定された発明の範囲を逸脱することなく種々の変更及び修正が可能であると考えられる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】この発明で使用される電源の部分平面断面図である。
【図２】この発明で使用される電源の側面断面図である。
【図３】この発明で使用される電源の端部断面図である。
【図４】この発明で使用される増倍器の略図である。
【図５】この発明で使用される回路基板の略図である。
【図６】図５の略図における部材のリストを示す図である。
【図７】この発明の変成器の部分切り欠き図である。
【図８】この発明の変成器の略図である。
【図９ａ】この発明の変成器の主要部を示す図である。
【図９ｂ】この発明の変成器の主要部を示す図である。
【図１０】この発明の変成器のコア部分を示す図である。
【図１１ａ】この発明の変成器のシャーシを示す図である。
【図１１ｂ】この発明の変成器のシャーシを示す図である。
【図１２】スプレーガンにおける電源を示す図である。
【図１】
2005501714.tif 000003
【図２】
2005501714.tif 000004
【図４】
2005501714.tif 000005
【図５】
2005501714.tif 000006
【図６】
2005501714.tif 000007
【図７】
2005501714.tif 000008
【図８】
2005501714.tif 000009
【図９ａ】
2005501714.tif 000010
【図９ｂ】
2005501714.tif 000011
【図１０】
2005501714.tif 000012
【図１１ａ】
2005501714.tif 000013
【図１１ｂ】
2005501714.tif 000014
【国際公開パンフレット】
2005501714.tif 000015
2005501714.tif 000016
2005501714.tif 000017
2005501714.tif 000018
2005501714.tif 000019
2005501714.tif 000020
2005501714.tif 000021
2005501714.tif 000022
2005501714.tif 000023
2005501714.tif 000024
2005501714.tif 000025
2005501714.tif 000026
【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
2005501714.tif 000027
【国際調査報告】
2005501714.tif 000028
(57)【要約】スプレーガン（１２）の背面（１４）のディスプレイ（Ｋ）は、オペレータにチップ電圧とチップ電流とを知らせる。この情報は瞬時にシステム操作と塗料抵抗を検証するのに利用される。塗装工は塗装中における適切な操作のためにライトバー（Ｋ）をモニターできる。【選択図】図１
2005501715.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チップ電圧及び電流を発生しオペレータに面する後端を有する静電スプレーガンにおいて、改良として前記チップ電圧及びスプレー電流の少なくとも１つの可視インジケータを有する静電スプレーガン。
【請求項２】
前記可視インジケータがバーディスプレイを有する請求項１に記載の静電スプレーガン。
【請求項３】
前記可視インジケータがチップ電圧とスプレー電流の両方を表示する２列のＬＥＤアレイを有する請求項２に記載の静電スプレーガン。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願は２００１年９月６日出願のアメリカ合衆国特許出願第６０／３１７，８０７号の利益を主張する。
【背景技術】
【０００２】
静電スプレーガンは塗料やコーティング材を効率的に塗布するための有効な工具であることが立証されている。ファラデー箱や他の影響のために、ガンは必ずしも所望の電圧でスプレーできない。より古いガンモデルには壁掛け式電圧及び電流ディスプレイを有するものもあるが、これらのガンモデルではスプレー中にディスプレイを見るのは困難又は不可能であった。
【発明の開示】
【０００３】
スプレーガンの裏にあるディスプレイは、静電ガンのオペレーターにチップ電圧及びチップ電流を知らせる。この情報はシステム作動と塗料の抵抗率を瞬時に点検するのに利用される。塗装工は適切な作業をするために、塗装中にライトバーをモニターすることができる。
【０００４】
静電スプレーガンは、高性能のハンドルに埋め込まれたＰＣＢアセンブリを有する。このＰＣＢアセンブリは、可撓性のケーブル線により静電気源に接続されている。ＰＣＢは、チップ電流及び電源基準電圧の両方を検知するようにプログラムされたマイクロプロセッサを有する。マイクロプロセッサはこれらの入力データに基づきチップ電圧を算出する。その後、チップ電流およびチップ電圧は、２列の９セグメントの発光ダイオードのライトバーディスプレイに表示される。上のバーはチップ電圧を表し、下のバーはチップ電流を表す。電力供給工程によりチップ電流が増加するとチップ電圧は減少する。
【０００５】
このライトバーディスプレイは、スプレー中に、オペレータが容易に一目でチップ電圧や電流レベルを見ることを可能にする。デジタルディスプレイよりもむしろライトバーのほうが利用されるので、塗装に集中したままでこの情報を見ることができる。この情報は瞬時にシステム設定と塗料の抵抗率を点検するのみでなく、塗装工の訓練をするための補助として利用することができる。
【０００６】
本発明のこれらおよびその他の利点は添付の図面に関連してなされる以下の説明より十分に明らかになるであろう。図面において同様な参照符号はすべての図を通じて同一もしくは類似の部材を示す。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
図１に示しかつ全体に１０を付番した本発明は、（オペレータに面する）後端１４を有する静電スプレーガン１２について示されている。流体ニードル(fluid needle)の移動を調整する流体バルブＦがその後端に設けられている。ファンエア調整バルブＧは、ファンのサイズと形を調整する。ＥＳ  オン／オフスイッチＩは、静電気をオン又はオフに切り替える。電圧／電流ディスプレイＫは電圧（Ｖ）及び電流（Ａ）を示し、緑色でスプレーの状態を、黄／赤で故障修理をすべきだということを示す。ＥＳ  ＨＩ／ＬＯスイッチＬは電圧を出荷時設定の高（ＨＩ）又は低（ＬＯ）に設定し、又、プラグＭを外すことで、これら４つの設定値に調整できる。
【０００８】
以下の特許請求の範囲によって規定される発明の精神及び範囲から逸脱することなく静電スプレーガンに様々な変更及び変形をなすことができることが考えられる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明のディスプレイを有する静電スプレーガンの背面図である。
【図２】ディスプレイ用回路の回路図である。
【図２】
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【国際公開パンフレット】
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【国際調査報告】
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