(57)【要約】開裂しやすい基（Ｒ）で４，７−二置換されたa＝：１−１，３−ジヒドロフロ〔３，４−ｃ〕ピリジン（Ｉ）の製造方法であって、式（Ｒ−Ｃ≡Ｃ−ＣＨ2）2Ｏ（II）のビス（３−Ｒ−置換２−プロピニル）エーテルを、脂肪族、脂環式もしくは芳香族炭化水素溶媒中、または試薬であると同時に溶媒としての過剰のアセトニトリル中、または単独の水もしくはエーテル系共溶媒と混合した水中、または前述のタイプの溶媒２種以上の混合物中、式ＸＣｏ（Ｉ）Ｌｉｇ1/2（III）（式中、Ｘはシクロペンタジエニル、アセチルシクロペンタジエニル、インデニルまたはフェニルボリナトを意味し、Ｌｉｇ1/2はシクロオクタジエンまたはノルボルナジエンリガンド（Ｌｉｇ1）または２個のカルボニルもしくはエテンリガンド（Ｌｉｇ2）を意味する）のコバルト（Ｉ）錯体触媒の存在下、約０℃〜約８０℃の範囲の温度で、約３００nm〜約８００nmの範囲の波長の光を照射しれ、可能な限り大気酸素を排除した状態でアセトニトリルと反応させることを含む方法。そのようにして製造された４，７−二(Ｒ)置換６−メチル−１，３−ジヒドロフロ［３，４−ｃ］ピリジンは、ビタミンＢ6、特にピリドキシンを製造するための多段法で中間体として有用である。さらに本発明は、式（Ｒ′−Ｃ≡Ｃ−ＣＨ2）2Ｏ（II′）（式中、Ｒ′はトリ（Ｃ2-8アルキル）シリル基を意味する）の新規なビス（３−Ｒ′−置換２−プロピニル）エーテル類および新規な４，７−二（Ｒ′）置換６−メチル−１，３−ジヒドロフロ［３，４−ｃ］ピリジン類に関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式Ｉ
【化１】
2005503438.tif 000009
（式中、Ｒは、開裂しやすい基を意味する）
の４，７−二置換６−メチル−１，３−ジヒドロフロ［３，４−ｃ］ピリジンの製造方法であって、一般式
【化２】
2005503438.tif 000010
（式中、Ｒは、上述の意味を有する）
のビス（３−Ｒ−置換２−プロピニル）エーテルとアセトニトリルとを、脂肪族、脂環式もしくは芳香族炭化水素溶媒中、または試薬であると同時に溶媒としての過剰のアセトニトリル中、または単独の水もしくはエーテル系共溶媒と混合した水中、または前記タイプの溶媒２種以上の混合物中、一般式
【化３】
2005503438.tif 000011
（式中、Ｘは、シクロペンタジエニル、アセチルシクロペンタジエニル、インデニルまたはフェニルボリナトを意味し、
Ｌｉｇ1/2は、シクロオクタジエンまたはノルボルナジエンリガンド（Ｌｉｇ1）または２個のカルボニルもしくはエテンリガンド（Ｌｉｇ2）を意味する）
のコバルト（Ｉ）錯体触媒の存在下、約０℃〜約８０℃の範囲の温度で、約３００nm〜約８００nmの範囲の波長の光を照射して、可能な限り大気酸素を排除した状態で反応させることを特徴とする方法。
【請求項２】
開裂しやすい基Ｒが、トリ（Ｃ1-8アルキル）シリル基、好ましくはトリメチルシリルまたはtert−ブチルジメチルシリル基である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
式IIIのコバルト（Ｉ）錯体が、シクロペンタジエニル−シクロオクタジエニル−コバルト（Ｉ）、アセチルシクロペンタジエニル−シクロオクタジエニル−コバルト（Ｉ）、インデニル−シクロオクタジエニル−コバルト（Ｉ）、フェニルボリナト−シクロオクタジエニル−コバルト（Ｉ）、シクロペンタジエニル−ビスカルボニル−コバルト（Ｉ）、またはシクロペンタジエニル−ビスエテン−コバルト（Ｉ）、好ましくはシクロペンタジエニル−シクロオクタジエニル−コバルト（Ｉ）である、請求項１または請求項２に記載の方法。
【請求項４】
脂肪族、脂環式または芳香族炭化水素溶媒が、それぞれＣ5-16アルカン、Ｃ5-8シクロアルカン、または場合によってはアルキル（特にメチル）置換ベンゼン、好ましくはそれぞれペンタン、ヘキサン、またはヘプタン；シクロヘキサン；またはトルエンであるか、水とエーテル系共溶媒との混合物の非水性成分（エーテル系共溶媒）が、低級脂肪族エーテルまたは環式エーテル、好ましくはそれぞれジエチルエーテルまたはジオキサンもしくはテトラヒドロフランである、請求項１〜３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
約２０℃〜約６０℃の温度で実施される、請求項１〜４のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
約３５０nm〜約５００nmの波長範囲で実施される、請求項１〜５のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
アセトニトリルが反応体かつ溶媒としては使用されず、反応混合物中のアセトニトリルと式IIのビス（３−Ｒ−置換２−プロピニル）エーテルとのモル比が約１：１〜約１０：１であるか、アセトニトリルが、一つの反応体としてだけでなく、溶媒としても使用され、この場合の前記モル比が約５０：１〜約１００００：１、好ましくは約１００：１〜約１０００：１である、請求項１〜６のいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
より少ないモル量にある、式IIの反応体ビス（３−Ｒ−置換２−プロピニル）エーテル又はアセトニトリルの使用量に対する式IIIの触媒のモル％量が約０．１〜約２．０mol％、好ましくは約０．５〜約１．２mol％である、請求項１〜７のいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
アセトニトリルが反応体かつ溶媒としては使用されず、式IIのビス（３−Ｒ−置換２−プロピニル）エーテル１mmolあたり使用される溶媒の量が、約０．５〜約２０ml/mmol、好ましくは７〜１０ml/mmol、より好ましくは３〜７ml/mmolである、請求項１〜８のいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
一般式II′
【化４】
2005503438.tif 000012
（式中、Ｒ′は、トリ（Ｃ2-8アルキル）シリル基を意味する）
のビス（３−Ｒ′−置換２−プロピニル）エーテル。
【請求項１１】
一般式
【化５】
2005503438.tif 000013
（式中、Ｒ′は、トリ（Ｃ2-8アルキル）シリル基を意味する）
の４，７−二置換６−メチル−１，３−ジヒドロフロ［３，４−ｃ］ピリジン。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ビタミンＢ6、特にピリドキシンの製造方法、より具体的には、中間体化合物、すなわち４，７−二置換６−メチル−１，３−ジヒドロフロ［３，４−ｃ］ピリジンを、一定の反応条件下、ビス（３−置換２−プロピニル）エーテルとアセトニトリルとの触媒による〔２＋２＋２〕付加環化により製造する、多段階製造法の中間工程に関する。
【０００２】
６−メチル−４，７−ビス（トリメチルシリル）−１，３−ジヒドロフロ〔３，４−ｃ〕ピリジンをもたらす、ビス（３−トリメチルシリル−２−プロピニル）エーテルとアセトニトリルとのコバルト錯体触媒による〔２＋２＋２〕付加環化は、K. Schleich等、Helv. Chim. Acta 67, 1274-1282 (1984)、およびK. P. C. Vollhardt等、Tetrahedron 41, No. 24, 5791-5796 (1985)の研究から公知である。Schleich等は〔２＋２＋２〕付加環化のための触媒としてコバルトセン（ジシクロペンタジエニルコバルト、〔ＣｏＣｐ2〕）を用い、反応を、オートクレーブ中１４５°Ｃで、１００barの圧力下、溶媒として大過剰のアセトニトリル中で１時間実施した。触媒としてシクロペンタジエニル−ジカルボニル−コバルト、〔ＣｐＣｏ（ＣＯ）2〕を用いて、Vollhardt等は、脱酸素化したｍ−キシレンおよび過剰のアセトニトリル中で還流温度、すなわち約１３９℃で、２５０Ｗスライド投影機のランプで反応混合液に光を照射しながら同じ反応を実施した。合計反応時間は、約３６時間であった。両方の場合とも、反応条件は厳しく、反応温度は高く、相対的に多量の触媒を必要とし、高い圧力または長い反応時間のどちらかを伴う。その上、Schleich等は、反応の副生成物が２分子のビス（３−トリメチルシリル−２−プロピニル）エーテルから３個のアルキン基の芳香環化反応により生成されるが、その生成は大過剰のアクリロニトリルを使用することで大きく抑制されることを報告している。これらは、６−メチル−４，７−ビス（トリメチルシリル）−１，３−ジヒドロフロ〔３，４−ｃ〕ピリジン製造工程で遭遇する従来技術の欠点を示している。
【０００３】
本発明の目的は、６−メチル−４，７−ビス（トリメチルシリル）−１，３−ジヒドロフロ〔３，４−ｃ〕ピリジンおよび類似の４，７−二置換６−メチル−１，３−ジヒドロフロ［３，４−ｃ］ピリジン類（４−および７−置換基は、開裂しやすい基、好ましくはトリアルキルシリル基である）の製造方法であって、既知の方法の、上記に示した欠点を持たない方法を提供することである。本目的は、本発明の方法、すなわち、一般式Ｉ
【０００４】
【化６】
2005503438.tif 000002
【０００５】
（式中、Ｒは、開裂しやすい基を意味する）
の４，７−二置換６−メチル−１，３−ジヒドロフロ［３，４−ｃ］ピリジンの製造方法であって、一般式II
【０００６】
【化７】
2005503438.tif 000003
【０００７】
（式中、Ｒは、上述の意味を有する）
のビス（３−Ｒ−置換２−プロピニル）エーテルを、脂肪族、脂環式もしくは芳香族炭化水素溶媒中、または試薬であると同時に溶媒としての過剰のアセトニトリル中、または単独の水もしくはエーテル系共溶媒と混合した水中、または前述のタイプの溶媒２種以上の混合物中、一般式
【０００８】
【化８】
2005503438.tif 000004
【０００９】
（式中、Ｘは、シクロペンタジエニル、アセチルシクロペンタジエニル、インデニルまたはフェニルボリナトを意味し、
Ｌｉｇ1/2は、シクロオクタジエンまたはノルボルナジエンリガンド（Ｌｉｇ1）または２個のカルボニルもしくはエテンリガンド（Ｌｉｇ2）を意味する）
のコバルト（Ｉ）錯体触媒の存在下、約０℃〜約８０℃の範囲の温度で、約３００nm〜約８００nmの範囲の波長の光を照射して、可能な限り大気酸素を排除しながら、アセトニトリルと反応させることを特徴とする方法によって実質的に達成される。
【００１０】
式ＩおよびIIの上述の化合物で、開裂しやすい基Ｒは、好ましくはトリ（Ｃ1-8アルキル）シリル基である。その中に３個以上の炭素原子をもつこれらのアルキル基は、直鎖状または分岐鎖状であってもよい。３個のアルキル基は同じものでも異なるものでもよく、このようなトリアルキルシリル基の例は、トリメチルシリル、トリエチルシリルおよびtert−ブチルジメチルシリルである。基Ｒは、好ましくはトリメチルシリルまたはtert−ブチルジメチルシリルである。
【００１１】
本発明の方法で触媒として利用される式IIIのコバルト（Ｉ）錯体は、それぞれの場合において公知の化合物であるか、公知の錯体を製造するための公表されている方法（例えばJ. Organomet. Chem. 160, 17-23 (1978)および同書451, 23-31 (1993)を参照）と類似の方法で製造することができる。
【００１２】
これらのコバルト（Ｉ）錯体の例は、シクロペンタジエニル−シクロオクタジエニル−コバルト（Ｉ）、〔ＣｐＣｏ（ｃｏｄ）〕；アセチルシクロペンタジエニル−シクロオクタジエニル−コバルト（Ｉ）、〔ＣｐacＣｏ（ｃｏｄ）〕；インデニル−シクロオクタジエニル−コバルト（Ｉ）、〔ＩｎｄＣｏ（ｃｏｄ）〕；フェニルボリナト−シクロオクタジエニル−コバルト（Ｉ）、〔（ＰｈＢ）Ｃｏ（ｃｏｄ）〕；シクロペンタジエニル−ビスカルボニル−コバルト（Ｉ）、〔ＣｐＣｏ（ＣＯ）2〕；およびシクロペンタジエニル−ビスエテン−コバルト（Ｉ）、〔ＣｐＣｏ（Ｃ2Ｈ4）2〕であり、その中では、〔ＣｐＣｏ（ｃｏｄ）〕が好ましいコバルト（Ｉ）錯体触媒であり、市販されている。
【００１３】
代替溶媒の中で本発明の方法に使用することができる非極性非プロトン性炭化水素溶媒、好ましくは脂肪族、脂環式または芳香族炭化水素は、特にそれぞれＣ5-16アルカン、Ｃ5-8シクロアルカン、または場合によってはアルキル（特にメチル）置換ベンゼンである、中でも好ましい例は、それぞれペンタン、ヘキサン、およびヘプタン；シクロヘキサン；ならびにトルエンである。過剰のアセトニトリルまたは水は別として、さらなる代替溶媒は、非水性成分、すなわち共溶媒がエーテル系溶媒であり、後者が好適には低脂肪族エーテルまたは環式エーテル、例えばそれぞれジエチルエーテル、またはジオキサンもしくはテトラヒドロフランであるところの水性混合物である。そのようなエーテル系共溶媒の性質に依存して、これは、水非混和性であるもの、例えばジエチルエーテルであってもよいし、有意に水混和性であるもの、例えばジオキサンまたはテトラヒドロフランであってもよく、そのため単相または二相溶媒系が本発明の方法で使用可能な水性エーテル系溶媒として問題となる。予見される他の混合溶媒（「前述タイプの溶媒２種以上の混合物」）の場合、これらもまた、そのような系の成分の性質に依存して、単相または二相溶媒系であってもよい。
【００１４】
一般的に本方法は約０℃〜約８０℃、好ましくは約２０℃〜約６０℃の温度で実施される。
【００１５】
さらに、一般的に本方法は、約３００nm〜約８００nmの上述の波長範囲の光照射下で行われる。好ましくは、この範囲は、約３５０nm〜約５００nmである。前述の波長範囲の光照射を発する光源の実際の性質は、本方法の成功には重要ではなく、例えば灯具、たとえばスライド投影ランプまたは自然光照射は太陽光を意味し、中でも、前述の広範囲の波長をもつ太陽光は好ましい照射源である。
【００１６】
なおまた、本方法は好都合なことに高い圧力を使用する必要がなく実施され、一般的に大気圧条件が適当である。
【００１７】
本方法の間、可能な限り大気中酸素の排除を維持することを確実にするため、不活性雰囲気、好ましくはガス状窒素またはアルゴン下で好都合に実施される。
【００１８】
さらに、反応混合物中でのアセトニトリル（溶媒と兼用ではなく、一方の反応体としてのみ使用される場合）と式IIのビス（３−Ｒ−置換２−プロピニル）エーテルとのモル比は、好都合には約１：１〜約１０：１である。アセトニトリルが一方の反応体としてだけではなく溶媒としても使用され、したがって、用いられる式IIのジインの量に基づいて比較的大過剰に使用されるならば、モル比は、好都合には約５０：１〜約１００００：１、好ましくは約１００：１〜１０００：１である。
【００１９】
使用される式IIIの触媒の量は、反応体［式IIのビス（３−Ｒ−置換２−プロピニル）エーテルまたはアセトニトリル］の、より少ないモル量にある方（通常、式IIのジイン）の使用量に対する触媒のモル％量が約０．１〜約２．０mol％、好ましくは約０．５〜約１．２mol％になるような量である。
【００２０】
好都合には、式IIのビス（３−Ｒ−置換２−プロピニル）エーテル１mmolのあたり約０．５〜約２０mlの溶媒（アクリロニトリル自身が反応体と溶媒の両方の役割で過剰に使用されない場合）が使用される。好ましくは、この範囲は７〜１０ml/mmol、より好ましくは３〜７ml/mmolである。
【００２１】
一般的に、実際の反応は約２〜約１０時間、好ましくは約４〜約６時間続く。
【００２２】
本発明の方法は、バッチ式または連続的、好ましくは連続的に実施可能であり、一般に、室温で、触媒を含むアセトニトリルおよびさらなる溶媒にジインを添加する、または触媒を含むジインおよびさらなる溶媒にアセトニトリルを添加したのち（所望の順序で一方の反応体を他方に加える）、反応混合物を所望の温度および照射レベルで絶えず撹拌しながら加熱し、照射を加えることを含む、操作的に非常に単純な方法で実施される。
【００２３】
反応終了後、生成した、式Ｉの４，７−二置換６−メチル−１，３−ジヒドロフロ［３，４−ｃ］ピリジンもまた、非常に簡単な方法で、例えば反応終了後、混合物を冷却し、得られた結晶質生成物をろ過により集める、または最初に溶媒および残存する反応体を上記混合物から蒸発により除去したのち、適当な高温および減圧下で目的生成物を留出させることにより、単離および精製することができる。
【００２４】
本発明の方法を現在の技術水準（Schleich等およびVollhardt等；上記参照）と比較した場合に関してすでに挙げた、より低い反応温度および反応時間、必要な触媒の減量ならびに高圧の回避の利点を上回る利点は、式Ｉの目的生成物のはるかに選択性な合成、すなわち、式IIのジイン出発物質２分子からの３個のアルキン基の芳香環化により生ずる副生成物および他の副生成物の生成が顕著な抑制である。
【００２５】
式IIの出発ビス（３−Ｒ−置換２−プロピニル）エーテル類は、特定の化合物であるビス（３−トリメチルシリル−２−プロピニル）エーテルは別として、新規化合物である。ビス（３−トリメチルシリル−２−プロピニル）エーテルそのものは、K. Schleich等およびK. P. C. Vollhardt等の前述の文献から既知であり、それらの文献で記載されている方法、すなわち、それぞれグリニャ−ル反応またはジ（２−プロピル）エーテルのブチルリチウム誘導体のシリル化を含む方法によって製造することができる。残りの式IIの新規なビス（３−トリアルキルシリル−２−プロピニル）エーテル類は、既知のビス（３−トリメチルシリル−２−プロピニル）エーテルの製造方法と類似の方法によって製造することができる。式IIの新規なビス（３−Ｒ−置換２−プロピニル）エーテル類、すなわちＲの代わりに記号Ｒ′をもち、Ｒ′がトリ（Ｃ2-8アルキル）シリル基である式II′のものが、本発明のさらなる態様を構成する。
【００２６】
同様に、Ｒが、上記Ｒ′として示されるトリ（Ｃ2-8アルキル）シリル基を意味する式Ｉの化合物、すなわち以下の一般式
【００２７】
【化９】
2005503438.tif 000005
【００２８】
の化合物もまた新規であり、本発明のさらなる態様を構成する。
【００２９】
本発明は以下の実施例により説明される。
【００３０】
式Ｉの４，７−二置換６−メチル−１，３−ジヒドロフロ［３，４−ｃ］ピリジン類の製造
【実施例１】
【００３１】
式IIのビス（３−Ｒ−置換２−プロピニル）エーテル１mmol（ジイン反応体；例えばビス（３−トリメチルシリル−２−プロピニル）エーテル０．２３８g）、アセトニトリル１mmol（０．０５ml）および触媒（例えばシクロペンタジエニル−シクロオクタジエニル−コバルト（Ｉ）、〔ＣｐＣｏ（ｃｏｄ）〕２．３mg）０．０１mmolを含む使用溶媒１mlを、アルゴン雰囲気下、サーモスタット、電磁撹拌器および不活性ガス（アルゴン）気化装置を備えた二口反応フラスコに導入した。その後、溶媒さらに９mlを加え、反応混合物をサーモスタット選択温度で撹拌し、２個の４６０ＷのPhillips HPM 12ランプにより発光された約３５０nmの波長の光を連続的に照射した。それぞれの場合で６時間の反応期間後、反応が完了したことが立証された。
【００３２】
溶媒としてペンタンを使用したとき、製造された式Ｉの４，７−二置換６−メチル−１，３−ジヒドロフロ［３，４−ｃ］ピリジン（例えば６−メチル−４，７−ビス（トリメチルシリル）−１，３−ジヒドロフロ〔３，４−ｃ〕ピリジン）は、混合物を冷蔵庫で冷却して溶液から結晶化させ、ろ過により分離することもできるし、反応の最後で混合物の蒸留により、溶媒および残存する反応体を除去することによって単離することもできる。他の溶媒、例えばヘキサン、シクロヘキサンまたはトルエンを使用したときは、製造されたピリジン誘導体を蒸留により分離した。
【００３３】
種々の反応条件（触媒、ジイン反応体：Ｒの意味、温度および溶媒）およびそれぞれの場合における各生成物の収率（使用したジイン反応体の量に基づく）を次の表に示す。
【００３４】
【表１】
2005503438.tif 000006
【００３５】
製造された化合物、６−メチル−４，７−ビス（トリメチルシリル）−１，３−ジヒドロフロ〔３，４−ｃ〕ピリジン（Ia）および６−メチル−４，７−ビス（tert−ブチルジメチルシリル）−１，３−ジヒドロフロ〔３，４−ｃ〕ピリジン（Ib）の特性決定
【００３６】
【表２】
2005503438.tif 000007
【実施例２】
【００３７】
ビス（３−tert−ブチルジメチルシリル−２−プロピニル）エーテル０．６４５g（２mmol）、アセトニトリル０．１ml（２mmol）および触媒シクロペンタジエニル−シクロオクタジエニル−コバルト（Ｉ）、〔ＣｐＣｏ（ｃｏｄ）〕４．６mg（０．０２mmol）を含むヘキサン１０mlを、アルゴン雰囲気下、サーモスタット、電磁撹拌器および不活性ガス（アルゴン）気化装置を備えた二口反応フラスコに導入した。反応混合物をサーモスタット選択温度（４０℃）で撹拌し、２個の４６０ＷのPhillips HPM 12ランプにより発光された約３５０nmの波長の光を連続的に照射した。約６時間の反応期間後、反応が完了したことが立証された。６−メチル−４，７−ビス（tert−ブチルジメチルシリル）−１，３−ジヒドロフロ〔３，４−ｃ〕ピリジンを、蒸留により、反応混合物から３０％の収率で分離した。生成物は実施例１の最後の化合物Iｂで得られたような特性決定データを示した。
【実施例３】
【００３８】
ビス（３−tert−ブチルジメチルシリル−２−プロピニル）エーテル０．６４５g（２mmol）、アセトニトリル０．１ml（２mmol）および触媒フェニルボリナト−シクロオクタジエニル−コバルト（Ｉ）、〔（ＰｈＢ）Ｃｏ（ｃｏｄ）〕０．０２mmolを含むトルエン１０mlを、アルゴン雰囲気、サーモスタット、電磁撹拌器および不活性ガス（アルゴン）気化装置を備えた二口反応フラスコに導入した。反応混合物をサーモスタット選択温度（４０℃）で撹拌し、２個の４６０ＷのPhillips HPM 12ランプにより発光された約３５０nmの波長の光を連続的に照射した。約６時間の反応期間後、反応が完了したことが立証された。６−メチル−４，７−ビス（tert−ブチルジメチルシリル）−１，３−ジヒドロフロ〔３，４−ｃ〕ピリジンを、蒸留により、反応混合物から５０％の収率で分離した。生成物は、実施例１の最後の化合物Iｂで得られたような特性決定データを示した。
【実施例４】
【００３９】
ビス（３−tert−ブチルジメチルシリル−２−プロピニル）エーテル０．６４５g（２mmol）、アセトニトリル０．１ml（２mmol）および触媒フェニルボリナト−シクロオクタジエニル−コバルト（Ｉ）、〔（ＰｈＢ）Ｃｏ（ｃｏｄ）〕０．０２mmolを含むシクロヘキサン１０mlを、アルゴン雰囲気下、サーモスタット、電磁撹拌器および不活性ガス（アルゴン）気化装置を備えた二口反応フラスコに導入した。反応混合物をサーモスタット選択温度（４０℃）で撹拌し、２個の４６０ＷのPhillips HPM 12ランプにより発光された約３５０nmの波長の光を連続的に照射した。約６時間の反応期間後、反応が完了したことが立証された。６−メチル−４，７−ビス（tert−ブチルジメチルシリル）−１，３−ジヒドロフロ〔３，４−ｃ〕ピリジンを、蒸留により、反応混合物から７０％の収率で分離した。生成物は、実施例１の最後の化合物Iｂで得られたような特性決定データを示した。
【実施例５】
【００４０】
ビス（３−tert−ブチルジメチルシリル−２−プロピニル）エーテル０．６４５g（２mmol）、アセトニトリル０．１ml（２mmol）および触媒フェニルボリナト−シクロオクタジエニル−コバルト（Ｉ）、〔（ＰｈＢ）Ｃｏ（ｃｏｄ）〕０．０２mmolを含むヘキサン１０mlを、アルゴン雰囲気下、サーモスタット、電磁撹拌器および不活性ガス（アルゴン）気化装置を備えた二口フラスコに導入した。反応混合物をサーモスタット選択温度（４０℃）で撹拌し、２個の４６０ＷのPhillips HPM 12ランプにより発光された約３５０nmの波長の光を連続的に照射した。約６時間の反応期間後、反応が完了したことが立証された。６−メチル−４，７−ビス（tert−ブチルジメチルシリル）−１，３−ジヒドロフロ〔３，４−ｃ〕ピリジンを、蒸留により、反応混合物から７０％の収率で分離した。生成物は、実施例１の最後の化合物Iｂで得られたような特性決定データを示した。
【００４１】
式IIのビス（３−Ｒ−置換２−プロピニル）エーテル反応体の製造
【実施例６】
【００４２】
マグネシウム削りくず２．０６６g（８５mmol）およびテトラヒドロフラン９mlを、電磁撹拌器、滴下漏斗および環流凝縮器を備えた１００ml三口フラスコに導入した。その後、テトラヒドロフラン９ml中の新たに蒸留した臭化エチル６．４８ml（８７mmol）をこの混合物に加えた。反応混合物を還流温度で１時間撹拌した。
【００４３】
その後、テトラヒドロフラン２５ml中ジプロパギルエーテル４．３６ml（４２．５mmol）を、撹拌しながら最高４０℃の温度を維持しながら１時間にわたって加え、続いてさらに１時間以内に４０℃でテトラヒドロフラン１８ml中のtert−ブチルジメチルクロロシラン１３g（０．８６mmol）を反応混合物に滴下した。混合物を４０℃でさらに１時間撹拌したのち、室温まで冷ました。水１５．７mlを添加すると、黄土色の懸濁液が生じた。分けた水相をテトラヒドロフラン１２mlで洗浄し、合わせた有機相を塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、モレキュラーシーブで乾燥させた。蒸発により有機溶媒を除去したのち、残渣を９１℃/０．０３４mbar（３．４Pa）で蒸留した。ビス（３−tert−ブチルジメチルシリル−２−プロピニル）エーテルが約８０％の収率で単離された。
【００４４】
【表３】
2005503438.tif 000008
【国際公開パンフレット】
2005503438.tif 000014
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【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
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【手続補正書】
【提出日】平成15年11月18日(2003.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式Ｉ
【化１】
2005503438.tif 000028
（式中、Ｒは、開裂しやすい基を意味する）
の４，７−二置換６−メチル−１，３−ジヒドロフロ［３，４−ｃ］ピリジンの製造方法であって、一般式
【化２】
2005503438.tif 000029
（式中、Ｒは、上述の意味を有する）
のビス（３−Ｒ−置換２−プロピニル）エーテルとアセトニトリルとを、脂肪族、脂環式もしくは芳香族炭化水素溶媒中、または試薬であると同時に溶媒としての過剰のアセトニトリル中、または単独の水もしくはエーテル系共溶媒と混合した水中、または前述のタイプの溶媒２種以上の混合物中、一般式
【化３】
2005503438.tif 000030
（式中、Ｘは、シクロペンタジエニル、アセチルシクロペンタジエニル、インデニルまたはフェニルボリナトを意味し、
Ｌｉｇ1/2は、シクロオクタジエンまたはノルボルナジエンリガンド（Ｌｉｇ1）または２個のエテンリガンド（Ｌｉｇ2）を意味する）
のコバルト（Ｉ）錯体触媒の存在下、約０℃〜約８０℃の範囲の温度で、約３００nm〜約８００nmの範囲の波長の光を照射して、可能な限り大気酸素を排除した状態で反応させ、より少ないモル量にある、式IIの反応体ビス（３−Ｒ−置換２−プロピニル）エーテル又はアセトニトリルの使用量に対する式IIIの触媒のモル％量が約０．１〜約２．０mol％であることを特徴とする方法。
【請求項２】
開裂しやすい基Ｒが、トリ（Ｃ1-8アルキル）シリル基、好ましくはトリメチルシリルまたはtert−ブチルジメチルシリル基である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
式IIIのコバルト（Ｉ）錯体が、シクロペンタジエニル−シクロオクタジエニル−コバルト（Ｉ）、アセチルシクロペンタジエニル−シクロオクタジエニル−コバルト（Ｉ）、インデニル−シクロオクタジエニル−コバルト（Ｉ）、フェニルボリナト−シクロオクタジエニル−コバルト（Ｉ）またはシクロペンタジエニル−ビスエテン−コバルト（Ｉ）、好ましくはシクロペンタジエニル−シクロオクタジエニル−コバルト（Ｉ）である、請求項１または請求項２に記載の方法。
【請求項４】
脂肪族、脂環式または芳香族炭化水素溶媒が、それぞれＣ5-16アルカン、Ｃ5-8シクロアルカン、または場合によってはアルキル（特にメチル）置換ベンゼン、好ましくはそれぞれペンタン、ヘキサン、またはヘプタン；シクロヘキサン；またはトルエンであるか、水とエーテル系共溶媒との混合物の非水性成分（エーテル系共溶媒）が、低級脂肪族エーテルまたは環式エーテル、好ましくはそれぞれジエチルエーテルまたはジオキサンもしくはテトラヒドロフランである、請求項１〜３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
約２０℃〜約６０℃の温度で実施される、請求項１〜４のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
約３５０nm〜約５００nmの波長範囲で実施される、請求項１〜５のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
アセトニトリルが反応体かつ溶媒としては使用されず、反応混合物中のアセトニトリルと式IIのビス（３−Ｒ−置換２−プロピニル）エーテルとのモル比が約１：１〜約１０：１であるか、アセトニトリルが、一つの反応体としてだけでなく、溶媒としても使用され、この場合の前記モル比が約５０：１〜約１００００：１、好ましくは約１００：１〜約１０００：１である、請求項１〜６のいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
より少ないモル量にある、式IIの反応体ビス（３−Ｒ−置換２−プロピニル）エーテル又はアセトニトリルの使用量に対する式IIIの触媒のモル％量が約０．５〜約１．２mol％である、請求項１〜７のいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
アセトニトリルが反応体かつ溶媒としては使用されず、式IIのビス（３−Ｒ−置換２−プロピニル）エーテル１mmolあたり使用される溶媒の量が、約０．５〜約２０ml/mmol、好ましくは７〜１０ml/mmol、より好ましくは３〜７ml/mmolである、請求項１〜８のいずれか１項記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
（式中、Ｘは、シクロペンタジエニル、アセチルシクロペンタジエニル、インデニルまたはフェニルボリナトを意味し、
Ｌｉｇ1/2は、シクロオクタジエンまたはノルボルナジエンリガンド（Ｌｉｇ1）または２個のエテンリガンド（Ｌｉｇ2）を意味する）
のコバルト（Ｉ）錯体触媒の存在下、約０℃〜約８０℃の範囲の温度で、約３００nm〜約８００nmの範囲の波長の光を照射して、可能な限り大気酸素を排除しながら、アセトニトリルと反応させ、式IIの反応体ビス（３−Ｒ−置換２−プロピニル）エーテル又はアセトニトリルの、より少ないモル量にある方の使用量に対する式IIIの触媒のモル％量が約０．１〜約２．０mol％であることを特徴とする方法によって実質的に達成される。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
これらのコバルト（Ｉ）錯体の例は、シクロペンタジエニル−シクロオクタジエニル−コバルト（Ｉ）、〔ＣｐＣｏ（ｃｏｄ）〕；アセチルシクロペンタジエニル−シクロオクタジエニル−コバルト（Ｉ）、〔ＣｐacＣｏ（ｃｏｄ）〕；インデニル−シクロオクタジエニル−コバルト（Ｉ）、〔ＩｎｄＣｏ（ｃｏｄ）〕；フェニルボリナト−シクロオクタジエニル−コバルト（Ｉ）、〔（ＰｈＢ）Ｃｏ（ｃｏｄ）〕およびシクロペンタジエニル−ビスエテン−コバルト（Ｉ）、〔ＣｐＣｏ（Ｃ2Ｈ4）2〕であり、その中では、〔ＣｐＣｏ（ｃｏｄ）〕が好ましいコバルト（Ｉ）錯体触媒であり、市販されている。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
使用される式IIIの触媒の量は、反応体［式IIのビス（３−Ｒ−置換２−プロピニル）エーテルまたはアセトニトリル］の、より少ないモル量にある方（通常、式IIのジイン）の使用量に対する触媒のモル％量が一般には約０．１〜約２．０mol％、好ましくは約０．５〜約１．２mol％になるような量である。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
式IIの出発ビス（３−Ｒ−置換２−プロピニル）エーテル類は、特定の化合物であるビス（３−トリメチルシリル−２−プロピニル）エーテルは別として、新規化合物である。ビス（３−トリメチルシリル−２−プロピニル）エーテルそのものは、K. Schleich等およびK. P. C. Vollhardt等の前述の文献から既知であり、それらの文献で記載されている方法、すなわち、それぞれグリニャ−ル反応またはジ（２−プロピル）エーテルのブチルリチウム誘導体のシリル化を含む方法によって製造することができる。残りの式IIの新規なビス（３−トリアルキルシリル−２−プロピニル）エーテル類は、既知のビス（３−トリメチルシリル−２−プロピニル）エーテルの製造方法と類似の方法によって製造することができる。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
の化合物もまた新規である。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
【表１】
2005503438.tif 000031
【国際調査報告】
2005503438.tif 000032
2005503438.tif 000033
2005503438.tif 000034
2005503438.tif 000035
2005503438.tif 000036