(57)【要約】中心軸線を有するハウジング、このハウジングに関して固定してあり且つこの中心軸線と同軸の静止部材、およびこの静止部材に関して中心軸線周りに回転可能な回転可能部材を含むディスクドライブ記憶システムが説明してある。動圧軸受がこの静止部材と回転可能部材を相互結合し、そして、好ましくは接着層上に作った、低摩擦耐摩耗性コーティングを含む少なくとも一つの作動面を含む。【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心軸線を有するハウジング；
該ハウジングに対して固定してあり且つこの中心軸線と同軸の静止部材；
ハウジングに対して固定したステータ；
静止部材に対して中心軸線周りに回転可能な回転可能部材；
該回転可能部材によって支持され且つステータと磁気的に結合したロータ；
回転可能部材に取付けられ且つそれと同軸の少なくとも一つのデータ記憶ディスク；
該データ記憶ディスクと交信するために、記憶ディスクに近接してヘッドを支持するアクチュエータ；および
静止部材と回転可能部材を相互結合し、かつ耐摩耗性層上に作った低摩擦層を含む少なくとも一つの作動面を有する流動動圧軸受、を含むディスクドライブ記憶システム。
【請求項２】
耐摩耗性層が、無定形炭素およびダイヤモンド状炭素およびこれらの組合せから成るグループから選択した材料を含む請求項１に記載されたディスクドライブ記憶システム。
【請求項３】
低摩擦層が、水素化無定形炭素、窒素化無定形炭素、水素化ダイヤモンド状炭素、窒素化ダイヤモンド状炭素および第６Ｂ族金属の硫化物から成るグループから選択した材料を含む請求項１に記載されたディスクドライブ記憶システム。
【請求項４】
第６Ｂ族金属の硫化物が二硫化タングステン（ＷＳ２）である請求項３に記載されたディスクドライブ記憶システム。
【請求項５】
耐摩耗性層の厚さが約１００ナノメートル（ｎｍ）ないし約５マイクロメートル（μｍ）の範囲内にある請求項１に記載されたディスクドライブ記憶システム。
【請求項６】
低摩擦層の厚さが約５ナノメートル（ｎｍ）ないし約５０ナノメートル（ｎｍ）の範囲内にある請求項１に記載されたディスクドライブ記憶システム。
【請求項７】
耐摩耗性層が接着層の上に作ってある請求項１に記載されたディスクドライブ記憶システム。
【請求項８】
接着層が、クロム（Ｃｒ）、シリコン（Ｓｉ）、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、炭化シリコン（ＳｉＣ）、およびそれらの組合せから成るグループから選択した材料を含む請求項７に記載されたディスクドライブ記憶システム。
【請求項９】
接着層の厚さが約１ナノメートル（ｎｍ）ないし約１マイクロメートル（μｍ）の範囲内にある請求項７に記載されたディスクドライブ記憶システム。
【請求項１０】
中心軸線を有するハウジング；
該ハウジングに対して固定してあり且つ中心軸線と同軸の静止部材；
ハウジングに対して固定したステータ；
静止部材に対して中心軸線周りに回転可能な回転可能部材；
該回転可能部材によって支持され且つステータと磁気的に結合したロータ；および
静止部材と回転可能部材を相互結合し、かつ耐摩耗性層上の低摩擦層を含む少なくとも一つの作動面を有する流体動圧軸受、を含むモータ。
【請求項１１】
耐摩耗性層が、無定形炭素およびダイヤモンド状炭素およびこれらの組合せから成るグループから選択した材料を含む請求項１０に記載されたモータ。
【請求項１２】
低摩擦層が、水素化無定形炭素、窒素化無定形炭素、水素化ダイヤモンド状炭素、窒素化ダイヤモンド状炭素および第６Ｂ族金属の硫化物から成るグループから選択した材料を含む請求項１０に記載されたモータ。
【請求項１３】
第６Ｂ族金属の硫化物が二硫化タングステン（ＷＳ２）である請求項１２に記載されたモータ。
【請求項１４】
耐摩耗性層の厚さが約１００ナノメートル（ｎｍ）ないし約５マイクロメートル（μｍ）の範囲内にある請求項１０に記載されたモータ。
【請求項１５】
低摩擦層の厚さが約５ナノメートル（ｎｍ）ないし約５０ナノメートル（ｎｍ）の範囲内にある請求項１０に記載されたモータ。
【請求項１６】
耐摩耗性層が接着層の上に作ってある請求項１に記載されたモータ。
【請求項１７】
接着層が、クロム（Ｃｒ）、シリコン（Ｓｉ）、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、炭化シリコン（ＳｉＣ）、およびそれらの組合せから成るグループから選択した材料を含む請求項１６に記載されたモータ。
【請求項１８】
接着層の厚さが約１ナノメートル（ｎｍ）ないし約１マイクロメートル（μｍ）の範囲内にある請求項１６に記載されたモータ。
【請求項１９】
静止部材と回転可能部材を相互結合し、少なくとも一つの作動面を有する流体動圧軸受を含み；
少なくとも一つの作動面が摩耗減少手段の上に作った摩擦減少手段、を含むモータ。
【請求項２０】
摩耗減少手段が接着手段の上に作ってある請求項１９に記載されたモータ。
【請求項２１】
第１保護層で塗被した静止軸；
該静止軸の周りに回転する回転可能ハブ；および
第２保護層で被覆した内面、および前記軸と前記内面との間の潤滑媒体を有し、前記静止軸を前記回転可能ハブに結合する軸受、を含むモータ。
【請求項２２】
前記第１保護層が更に低摩擦層および耐摩耗性層を含む請求項２１に記載されたモータ。
【請求項２３】
前記第２保護層が更に低摩擦層および耐摩耗性層を含む請求項２１に記載されたモータ。
【請求項２４】
前記第１保護層が前記第２保護層と同じである請求項２１に記載されたモータ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この出願は、２００２年６月２４日に提出した米国仮特許出願第６０／３９１，３７４号の特権を主張し、その出願を参考までにここに援用する。
【０００２】
本発明は、ディスクドライブ・データ記憶装置用流体力学的モータの分野に関し、更に詳しくは、低摩擦、耐摩耗性コーティングを有する一つ以上の軸受面を備えるスピンドルモータに関する。
【背景技術】
【０００３】
“ウィンチェスタ”型ディスクドライブとして知られる、ディスクドライブ・データ記憶装置は、この業界でよく知られている。ウィンチェスタディスクドライブでは、ディジタルデータを回転するディスクの表面上にある磁化可能材料の薄い層に読み書きする。読み書き作業は、スライダ本体が坦持する変換器によって行う。このスライダおよび変換器は、時にはまとめてヘッドと呼び、典型的には各ディスク面に一つのヘッドが関連する。これらのヘッドは、アクチュエータ装置によって、ディスク面上の複数の円形、同心データトラックのどれか一つへ、電子回路装置の制御の下で選択的に動かされる。各スライダ本体は、自動空気軸受面を含む。ディスクが回転すると、このディスクが空気軸受面の下の空気を引きずり、それがスライダをディスク面の上０．１３〜０．１５μｍに持上げ且つ浮動させる揚力を発生する。
【０００４】
現世代のディスクドライブ製品で、最も普通に使われるアクチュエータの種類は、回転可動コイルアクチュエータである。ディスクそれ自体は、典型的には、ブラシレス直流スピンドルモータのハブ構造体に“積重ねて”取付けてある。スピンドルモータの回転速度は、モータ駆動回路装置によって精密に制御され、その装置は、モータのステータ巻線に向けたコミュテーション信号のタイミングと電力の両方を制御する。典型的なスピンドルモータの速度は、３，６００ｒｐｍの範囲内にあった。だが、現在の技術は、スピンドルモータの速度を７，２００ｒｐｍ、１０，０００ｒｐｍ、１５，０００ｒｐｍおよびそれ以上まで増大した。
【０００５】
ディスクドライブ記憶装置の主な騒音源の一つは、このスピンドルモータである。ディスクドライブ製造業者は、最近スピンドルモータの従来のボールまたはローラベアリングを、流体動圧軸受または流体静圧軸受のような、“流体”軸受で置換えることに注目し始めた。流体動圧軸受は、軸受面を分離する流体フィルムに依存し、従って従来のボールベアリングより遥かに静かで、一般的に振動が低い。流体動圧軸受は、流体分離を維持するために内部に圧力を発生する、自己ポンピング軸受である。流体動圧軸受は、この流体分離を維持するために外部加圧流体源を要する。流体動圧軸受の軸受面間の相対運動は、軸受面間に接触が起らないように、全体的にこの流体フィルム内に生じる剪断要素を引き起こす。
【０００６】
流動動圧軸受では、潤滑流体またはガスが、例えば、ハウジングの静止部材とディスクハブの回転部材の間の軸受面となる。典型的潤滑剤には、油または強磁性流体がある。流体動圧軸受は、一連の接触点を含むボールベアリング組立体に比べて、軸受面を大きな表面積に亘って拡げる。これは、軸受面の増大が回転および固定部材間の揺れまたは振れを減少するので望ましい。
【０００７】
潤滑流体が存在するにも拘らず、従来の流体動圧軸受スピンドルモータでは、軸受面がまだ絶えざる摩耗を免れない。その結果、軸受面間の隙間がこの装置の生涯を通して、屡々軸受面の端から端まで均一ではないように、次第に変化する。これは、性能が低下し、結局このディスクドライブが破損する結果となる。その上、ガス潤滑動圧軸受に対しては、軸受面の低摩擦特性も要求される。
【０００８】
従って、この技術で、低摩擦特性は勿論、耐摩耗性の向上した動圧流体軸受面に対する需要がある。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明のディスクドライブデータ記憶システムは、中心軸線を有するハウジング、このハウジングに関して固定してあり且つこの中心軸線と同軸の静止部材、およびこの静止部材に関してこの中心軸線周りに回転可能な回転可能部材を含む。ステータがこのハウジングに関して固定してある。ロータがこの回転可能部材によって支持してあり且つこのステータに磁気的に結合してある。少なくとも一つのデータ記憶ディスクがこの回転可能部材に取付けてあり且つそれと同軸である。動圧軸受がこの静止部材を回転可能部材に結合する。この流体動圧軸受は、低摩擦耐摩耗性コーティングの付いた少なくとも一つの作動面を含む。
【００１０】
本発明の上記特徴を達成する方法を詳細に理解できるように、以上において簡単に要約した、この発明の更に詳しい説明を、添付の図面に示すその実施例を参照して得てもよい。
【００１１】
しかし、添付の図面は、この発明の典型的実施例しか示さず、従って、この発明は他の同等に有効な実施例を認めるかも知れないので、その範囲を限定すると考えるべきでないことに注目すべきである。
【実施例】
【００１２】
本発明は、一つ以上の軸受面に低摩擦耐摩耗性コーティングを付してある、流体動圧軸受スピンドルモータを有するディスクドライブデータ記憶装置である。図１は、本発明が役立つディスクドライブ１０の平面図である。ディスクドライブ１０は、ハウジングベース１２を含み、それは上部カバー１４と結合して封止した環境を作り、内部部品をこの封止した環境の外部からの物質による汚染から保護する。
【００１３】
ディスクドライブ１０は、更に、ディスククランプ１８によってスピンドルモータ（図示せず）上に回転するように取付けたディスクパック１６を含む。ディスクパック１６は、複数の個々のディスクを含み、それらは中心軸線周りに共回転するように取付けてある。各ディスク面は、関連するヘッド２０を有し、それは、このディスク面と交信するためにこのディスクドライブ１０に取付けてある。図１に示す例では、ヘッド２０が屈曲部２２によって支持してあり、次にそれは、アクチュエータ本体２６のヘッド取付けアーム２４に取付けてある。図１に示すアクチュエータは、回転可動コイルアクチュエータとして知られる種類のものであり、全体を２８で示すボイスコイルモータ（ＶＣＭ）を含む。ボイスコイルモータ２８は、アクチュエータ本体２６をそれに取付けたヘッド２０と共にピボット軸３０の周りに回転し、ヘッド２０を弧状経路に沿って所望のデータトラックの上に配置する。回転アクチュエータを図１に示すが、本発明は、リニアアクチュエータのような、他の種類のアクチュエータを有するディスクドライブにも有用である。
【００１４】
図２は、本発明による流体動圧軸受スピンドルモータの断面図である。スピンドルモータ３２は、静止部材３４、ハブ３６およびステータ３８を含む。図２に示す実施態様で、この静止部材は、ナット４０および座金４２によってベース１２に固定し且つ取付けた軸である。ハブ３６は、軸３４の周りに回転するように流体動圧軸受３７によって軸３４に相互結合してある。軸受３７は、半径方向作動面４４および４６、並びに軸方向作動面４８および５０を含む。軸３４は、潤滑流体６０を供給し且つこの流体を軸受の作動面に沿って循環するのを手伝う流体口５４、５６および５８を含む。潤滑流体６０は、軸３４の内部と既知の方法で結合した流体源（図示せず）によって軸３４へ供給する。
【００１５】
スピンドルモータ３２は、更に、流体動圧軸受３７の軸方向作動面４８および５０を形成する、スラスト軸受４５を含む。カウンタプレート６２が作動面４８を圧迫してこの流体動圧軸受に軸方向安定性を与え且つハブ３６をスピンドルモータ３２内に配置する。Ｏ−リング６４がカウンタプレート６２とハブ３６の間に設けてあり、この流体動圧軸受を封止する。このシールは、流体力学的流体６０がカウンタプレート６２とハブ３６の間から逃げるのを防ぐ。
【００１６】
ハブ３６は、中心コア６５およびディスク坦持部材６６を含み、その部材は、ディスクパック１６（図１に示す）を軸３４の周りに回転するように支持する。ディスクパック１６は、ディスククランプ１８（やはり図１に示す）によってディスク坦持部材６６上に保持される。永久磁石７０がハブ３６の外径に取付けてあり、それはスピンドルモータ３２用のロータとして作用する。コア６５は、磁性材料で作ってあり、磁石７０の背鉄として作用する。ロータ磁石７０は、一体の、環状リングとして作ることができ、またはハブ３６の外面の周りに離間した複数の個々のリングで作ることができる。ロータ磁石７０は、磁化して一つ以上の磁極を作る。
【００１７】
ステータ３８は、ベース１２に取付けてあり、ステータ積層７２およびステータ巻線７４を含む。ステータ巻線７４は、積層７２に取付けてある。ステータ巻線７４は、ロータ磁石７０およびハブ３６が中心軸線８０の周りに回転出来るようにするために、ロータ磁石７０から半径方向に離間している。ステータ３８は、ボルト７８によってベース１２に固定した一つ以上のＣ形クランプ７６のような、既知の方法でベースに取付けてある。
【００１８】
ステータ巻線７４に加えたコミュテーションパルスが回転磁界を発生し、それがロータ磁石７０と連絡してハブ３６を軸受３７の中心軸線８０の周りに回転させる。これらのコミュテーションパルスは、時間調節した、分極選択した直流パルスで、それを逐次選択したステータ巻線へ送ってこのロータ磁石を駆動し、その速度を制御する。
【００１９】
図２に示す実施態様では、スピンドルモータ３２が“ハブ下”型モータで、ステータ３８の軸方向位置がハブ３６の下にある。ステータ３８は、ハブ３６の外部にある半径方向位置も有し、それでステータ巻線７４が積層７２の内径面８２（図３）に固定してある。代替実施態様では、このステータが、ハブの下ではなく、ハブ内に位置する。このステータは、半径方向位置がハブの内部にあっても、外部にあってもよい。その上、図２は軸を固定したスピンドルモータを描くが、このスピンドルモータの軸は、回転してもよい。この場合、軸受は、この回転軸およびこの回転軸と同軸の外静止スリーブの間にある。
【００２０】
図３は、流体動圧軸受スピンドルモータ３２の図２の線３−３による、明確さのために一部除去した、概略断面図である。ステータ３８は、ロータ磁石７０および中心コア６５と同軸の積層７２およびステータ巻線７４を含む。ステータ巻線７４は、積層７２の歯の周りに巻いた相巻線Ｗ１、Ｖ１、Ｕ１、Ｗ２、Ｖ２およびＵ２を含む。これらの相巻線は、コイル軸線が中心軸線８０と直角を成し且つそれと交差するコイルで出来ている。例えば、相巻線Ｗ１は、中心軸線８０と直角を成すコイル軸線８３を有する。流体動圧軸受３７の半径方向作動面４４および４６は、軸３４の外径面と中心コア６５の内径面によって出来ている。軸３４および中心コア６５は、例えば、鋼またはアルミニウムのような金属で構成してもよい。半径方向作動面４４および４６は、潤滑流体によって分離され、その流体が通常動作中隙間ｃを維持する。
【００２１】
図４は、図３の流体動圧スピンドルモータ３２の拡大断面図を描く。流体動圧軸受３７の半径方向作動面４４および４６のどちらかまたは両方を、低摩擦、耐摩耗性コーティング４４ｃおよび４６ｃを含む保護層で処理してもよい。低摩擦、耐摩耗性コーティング４４ｃおよび４６ｃは、半径方向作動面４４および４６を物理的により耐久性があるようにすることによって、作動面４４および４６の耐摩耗性を改善する。摩耗による金属粒子発生が減り、作動面４４および４６の機械的損傷が遥かに減る結果となる。低摩擦、耐摩耗性コーティング４４ｃおよび４６ｃは、耐摩耗性の改善をもたらし、一般的にこのスピンドルモータの生涯を通して一定の隙間ｃを提供する。
【００２２】
これらの低摩擦、耐摩耗性コーティング４４ｃおよび４６ｃは、例えば、二硫化タングステン（ＷＳ２）のような、第６Ｂ族金属の硫化物は勿論、例えば、水素化無定形炭素、窒素化無定形炭素、水素化ダイヤモンド状炭素、窒素化ダイヤモンド状炭素の低摩擦最上層を備える無定形炭素、またはダイヤモンド状炭素のような耐摩耗性材料の複合材料を含んでもよい。この低摩擦最上層は、低摩擦係数（摩擦係数約０．１未満）の耐摩耗性面を形成する。
【００２３】
この耐摩耗性材料層は、厚さが約１００ナノメートル（ｎｍ）ないし約５マイクロメートル（μｍ）の範囲内にあってもよい。この低摩擦最上層は、厚さが約５ナノメートル（ｎｍ）ないし約５０ナノメートル（ｎｍ）の範囲内にあってもよい。低摩擦、耐摩耗性コーティング４４ｃおよび４６ｃの好適厚さは、とりわけ、軸３４の外径および中心コア６５の内径の組合せ、隙間ｃの大きさ、表面粗さ並びに負荷の様な要因に依存する。
【００２４】
ある実施態様では、低摩擦耐摩耗性コーティング４４ｃおよび４６ｃを含む保護層を、スパッタリング法によるような、物理蒸着（ＰＶＤ）によって被着する。他の実施態様では、低摩擦耐摩耗性コーティング４４ｃおよび４６ｃを含む保護層を、プラズマ加速化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）のような、化学蒸着（ＣＶＤ）によって被着する。別の実施態様では、低摩擦耐摩耗性コーティング４４ｃおよび４６ｃを含む保護層を、イオンビーム蒸着によって被着する。この低摩擦耐摩耗性コーティングは、例えば、水素（Ｈ２）または窒素（Ｎ２）のあるところでスパッタして、その耐摩耗性および摩擦特性を向上してもよい。
【００２５】
図４は、低摩擦耐摩耗性コーティング４４ｃおよび４６ｃを耐摩耗性材料および低摩擦最上層の単一層から成るとして描くが、低摩擦耐摩耗性コーティング４４ｃおよび４６ｃが複数のコーティング層から成ることも、この発明の範囲内である。最適の密着力を得、亀裂成長を減少し並びに軸３４および中心コア６５の耐腐食性を向上するために、低摩擦耐摩耗性コーティング４４ｃおよび４６ｃが多層から成ることが屡々望ましい。ある実施態様では、低摩擦耐摩耗性コーティング４４ｃおよび４６ｃが二層以上の耐摩耗性材料を含む。
【００２６】
ある実施態様では、低摩擦耐摩耗性コーティング４４ｃおよび４６ｃを含む保護層を被着する前に、軸３４の外径および中心コア６５の内径に、それぞれ、一つ以上の接着層４４ｉおよび４６ｉを被着する。接着層４４ｉおよび４６ｉは、低摩擦耐摩耗性コーティング４４ｃおよび４６ｃの軸３４の外径および中心コア６５の内径に対する接着および機械的特性を改善する。接着層は、例えば、クロム（Ｃｒ）、シリコン（Ｓｉ）、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、炭化シリコン（ＳｉＣ）、およびそれらの組合せを含んでもよい。
【００２７】
別の実施態様では、一つ以上の接着層４４ｉおよび４６ｉを一つ以上の低摩擦耐摩耗性コーティング４４ｃおよび４６ｃと組合わせて使ってもよい。例えば、接着層を耐摩耗性材料層および低摩擦最上層と組合わせて使ってもよい。
【００２８】
接着層４４ｉおよび４６ｉの厚さは、約１ナノメートル（ｎｍ）ないし約１マイクロメートル（μｍ）の範囲内にあってもよい。接着層４４ｉおよび４６ｉの好適厚さは、低摩擦耐摩耗性コーティング４４ｃおよび４６ｃについて上に列挙したものと類似の要因に依存する。ある実施態様では、軸３４の外径および中心コア６５の内径のどちらかまたは両方を、それに接着層４４ｉおよび４６ｉまたは低摩擦耐摩耗性コーティング４４ｃおよび４６ｃを被着する前に、ニッケル（Ｎｉ）または隣化ニッケル（ＮｉＰ）めっき液で処理してもよい。無電解ニッケルめっき液も使ってよい。
【００２９】
ある実施態様では、接着層４４ｉおよび４６ｉを含む保護層を、スパッタリング法によるような、物理蒸着（ＰＶＤ）によって被着する。他の実施態様では、接着層４４ｉおよび４６ｉを、プラズマ加速化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）のような、化学蒸着（ＣＶＤ）によって被着する。別の実施態様では、接着層４４ｉおよび４６ｉをイオンビーム蒸着によって被着する。
【００３０】
ある実施態様では、この接着層および／または低摩擦耐摩耗性コーティングを被着する前に、この基体をエッチングする。接着層を被着しない場合は、低摩擦耐摩耗性コーティングを被着する前に、この基体をエッチングしてもよい。この基体は、例えば、プラズマエッチング法によってエッチングしてもよい。このプラズマエッチング法は、基板を、例えば、アルゴン（Ａｒ）のような、不活性ガスのイオンで衝撃する工程を含んでもよい。
【００３１】
その代りに、または軸３４の外径および中心コア６５の内径に被着した低摩擦耐摩耗性コーティング４４ｃおよび４６ｃに加えて、低摩擦耐摩耗性コーティングを、例えば、図２に示す、スラスト軸受４５の軸方向作動面４８またはカウンタプレート６２の下面６９のような、このスピンドルモータの他の作動面に被着してもよい。任意に、この低摩擦耐摩耗性コーティングを被着する前に、上に議論したものような、接着層を被着してもよい。
【００３２】
接着層を鋼基体上に被着した。この接着層は、クロム（Ｃｒ）を含んでいる。この接着層をスパッタリング法によって被着し、不活性ガスがクロムターゲットから材料をスパッタした。厚さ約０．３マイクロメートル（μｍ）ないし約０．５μｍのクロム接着層を被着した。
【００３３】
耐摩耗性材料層をこのクロム接着層の上に被着した。この耐摩耗性材料層は、炭素を含んでいる。この耐摩耗性材料層をスパッタリング法によって被着し、不活性ガスが炭素ターゲットから材料をスパッタした。厚さ約１．５μｍ（マイクロメートル）ないし約２μｍの耐摩耗性炭素層を被着した。この耐摩耗性炭素層は、鋼基体への優れた密着性を示した。
【００３４】
低摩擦最上層をこの耐摩耗性炭素層の上に被着した。この低摩擦最上層は、二硫化タングステン（ＷＳ２）を含んだ。この低摩擦最上層をスパッタリング法によって被着し、不活性ガスが二硫化タングステン（ＷＳ２）ターゲットから材料をスパッタした。厚さ約２５ナノメートル（ｎｍ）ないし約３０ｎｍの低摩擦最上層を被着した。
【００３５】
接着層を鋼基体上に被着した。この接着層は、クロム（Ｃｒ）を含んだ。この接着層をスパッタリング法によって被着し、不活性ガスがクロムターゲットから材料をスパッタした。厚さ約０．３マイクロメートル（μｍ）ないし約０．５μｍのクロム接着層を被着した。
【００３６】
耐摩耗性材料層をこのクロム接着層の上に被着した。この耐摩耗性材料層は、炭素を含んだ。この耐摩耗性材料層をスパッタリング法によって被着し、不活性ガスが炭素ターゲットから材料をスパッタした。厚さ約１．５μｍ（マイクロメートル）ないし約２μｍの耐摩耗性炭素層を被着した。この耐摩耗性炭素層は、鋼基体への優れた密着性を示した。
【００３７】
低摩擦最上層をこの耐摩耗性炭素層の上に被着した。この低摩擦最上層は、水素化炭素を含んだ。この低摩擦最上層をスパッタリング法によって被着し、不活性ガスが水素（Ｈ２）のあるところで炭素ターゲットから材料をスパッタした。厚さ約２５ナノメートル（ｎｍ）ないし約３０ｎｍの低摩擦最上層を被着した。
【００３８】
摩耗性能を改善するために、低摩擦、耐摩耗性コーティングおよび接着層を使うことは、上に説明したスラスト軸受設計に限らない。低摩擦耐摩耗性および接着コーティングを、例えば、この技術で知られる他の形状寸法の軸受面を有するスピンドルモータに使ってもよい。軸受面の摩耗を減らすために、円錐形または球形軸受面を、本発明の低摩擦、耐摩耗性コーティングを含む保護層で塗被してもよい。
【００３９】
図５を参照すると、図１のディスクドライブ１０のディスクを駆動するために使用できる、円錐形軸受面を有する流体動圧軸受が示してある。この流体動圧軸受は、スピンドルモータ１５０に組込んで示す。この設計は、軸１５２に回転可能に結合した駆動ロータまたはハブ１１４を含む。軸１５２は、この軸に対して回転するスリーブ１５８で受けた、上半球または凸部１５４および下半球または凸部１５６を含む。この軸は、ベース１６０に固定してあり、そのベースは、図１に関して上に説明したハウジングベース１２に組込んでも、それから支持してもよい。スリーブ１５８は、軸１５２のジャーナル１６２を受け、且つ上半球形、凹レセプタクル１６４および下半球形、凹レセプタクル１６６を有する。この動圧軸受に軸受流体を供給するために、この軸の溜１５９まで注入孔１６８も設けてある。ロータ１１４は、カウンタプレート１７０を含み、それを使ってこの動圧軸受の一端を周囲雰囲気に対して閉鎖する。作動する際、この図に示す軸受は、動圧軸受を構成し、油のような流体を、軸１５２である固定部材と、この場合はスリーブ１５８である回転部材との間の隙間の中を循環させる。これらの軸受面の一つ以上も本発明の低摩擦、耐摩耗性層で塗被してもよい。
【００４０】
上記は、本発明の好適実施例に向けられているが、この発明のその他および更なる実施例を、その基本的範囲から逸脱することなく案出することも可能で、その範囲は、添付の請求項によって決る。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明によるディスクドライブデータ記憶装置の平面図である。
【図２】本発明による動圧軸受スピンドルモータの断面図である。
【図３】この動圧軸受スピンドルモータの図２の線３−３に沿った、明確さのために一部除去した、概略断面図である。
【図４】図３の拡大図で、この動圧軸受の一つ以上の作動面に作った低摩擦耐摩耗性コーティングを示す。
【図５】円錐軸受面を備える動圧軸受の断面図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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