(57)【要約】本発明は、(a)アノードを収容するアノード液室、カソードを収容するカソード液室、及びアノード液室とカソード液室とを分離するカチオン選択性膜を有するところの電解槽を用意すること、(b)精製されるべき第四級アンモニウムヒドロキシドを含む循環塩基溶液の廃棄物流をアノード液室に入れ、かつ任意的に第四級アンモニウムヒドロキシドを含んでいてよいところの水をカソード液室に入れること、(c)電解槽に電流を通して、精製された水性の第四級アンモニウムヒドロキシド溶液をカソード液室において製造すること、(d)該精製された水性の第四級アンモニウムヒドロキシド溶液をカソード液室から回収すること、(e)適切な溶剤でアノード液室を洗浄すること、そして(f)段階(b)から(e)を繰返すことの段階を含むところの、第四級アンモニウムヒドロキシドを含む組成物の循環塩基溶液の廃棄物流を精製する方法に関する。該方法はとりわけ、多数の反応サイクルにおいて4‐アミノジフェニルアミンの製造において使用されたところの、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドを含む水性溶液の純度を改善するために適している。【特許請求の範囲】
【請求項１】
(a)アノードを収容するアノード液室、カソードを収容するカソード液室、及びアノード液室とカソード液室とを分離するカチオン選択性膜を有するところの電解槽を用意すること、
(b)精製されるべき第四級アンモニウムヒドロキシドを含む循環塩基溶液の廃棄物流をアノード液室に入れ、かつ任意的に第四級アンモニウムヒドロキシドを含んでいてよいところの水をカソード液室に入れること、
(c)電解槽に電流を通して、精製された水性の第四級アンモニウムヒドロキシド溶液をカソード液室において製造すること、
(d)該精製された水性の第四級アンモニウムヒドロキシド溶液をカソード液室から回収すること、
(e)適切な溶剤でアノード液室を洗浄すること、そして
(f)段階(b)から(e)を繰返すこと
の段階を含むところの、第四級アンモニウムヒドロキシドを含む組成物の循環塩基溶液の廃棄物流を精製する方法。
【請求項２】
アノード液室が、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)を含む水性溶液を入れられるところの請求項1記載の方法。
【請求項３】
アノード液室が、5〜40重量%のTMAHを含む水性溶液を入れられるところの請求項1又は2記載の方法。
【請求項４】
アノード液室が、多数の反応サイクルにおいて4‐アミノジフェニルアミンの製造において使用されたところの、TMAHを含みかつ任意的にアニリンを含んでいてよい水性溶液を入れられるところの請求項1〜3のいずれか一つに記載の方法。
【請求項５】
カソード液室が、精製されるべき組成物中に存在する第四級アンモニウムヒドロキシドと同一であるところの第四級アンモニウムヒドロキシドの水性溶液を入れられるところの請求項1〜4のいずれか一つに記載の方法。
【請求項６】
カソード液室が、水性の5〜25重量%のTMAH溶液を入れられるところの請求項5記載の方法。
【請求項７】
1〜7のpH、好ましくは4〜7のpHがアノード液室において達成されると、電気分解が停止されるところの請求項1〜6のいずれか一つに記載の方法。
【請求項８】
カチオン選択性膜が、パーフッ素化膜であるところの請求項1〜7のいずれか一つに記載の方法。
【請求項９】
溶剤がアニリンであるところの請求項1〜8のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１０】
段階(e)と(f)との間に、アノード液室が水で洗浄されるところの請求項1〜9のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１１】
循環塩基溶液の廃棄物流が、第四級アンモニウムヒドロキシド及び、電気分解により第四級アンモニウムヒドロキシドに転化され得るところの第四級アンモニウム塩又は第四級アンモニウム塩の混合物のある量を含むところの請求項1〜10のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１２】
循環塩基溶液の廃棄物流が、TMAH及び、テトラメチルアンモニウムカーボネート及びテトラメチルアンモニウムハイドロジェンカーボネートの少なくとも一つを含むところの請求項11記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、第四級アンモニウムヒドロキシドを含む循環塩基溶液の廃棄物流の純度を改善するための方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
第四級アンモニウムヒドロキシド、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)は、とりわけ、プリント回路板及び超小型チップの製造におけるフォトレジストのための現像剤として、及び4‐アミノジフェニルアミン(4‐ADPA)の製造における塩基として使用される。4‐ADPAのアルキル化誘導体、例えば、N‐(1.3‐ジメチルブチル)‐N’‐フェニル‐p‐フェニレンジアミン(6‐PPD)が、ゴム組成物及びゴム物品、例えば、タイヤにおける耐劣化剤として使用される。
【０００３】
4‐ADPAの該製造において、(以下においてまた、循環塩基溶液と言われる)典型的には水性溶液の形態における塩基が多数回循環される。しかし、ある回数の反応サイクルの後、水性塩基溶液の活性含有量が、それがもはや製造プロセスにおいて使用されることができないような程度に減少し、かついくらかの循環水性塩基溶液が取り除かれそして新鮮な廃棄物溶液と交換されるか、又はその全てが廃棄物として廃棄されるかのいずれかであり、そしてそれは、4‐ADPA及びそれから製造された6‐PPDのコストに加算される。本発明は、この廃棄物問題に対する解決を提供する。また、反応サイクルの増加数に伴って、4‐ADPA含有有機相からの水性の廃棄物溶液の液‐液分離は、より多大な困難性を伴って行われる。
【０００４】
TMAHが塩基として使用されるとき、取り除かれた/排出された水性の循環塩基溶液は、とりわけ、種々のテトラメチルアンモニウム(TMA)塩、例えば、テトラメチルアンモニウムアセテート、ホーメート、クロライド、カーボネート、及びオキサレート、並びに4‐ADPAを製造するための出発物質の一つであるアニリンを含む。それは更に、少量の種々の他の塩及び他の有機不純物を含む。
【０００５】
第四級アンモニウムヒドロキシドは典型的には、電気分解により製造される。例えば、TMAHは、アノードを収容するアノード液室及びカソードを収容するカソード液室を含む二室電解槽を使用してテトラメチルアンモニウムクロリドから製造され得る。ここで、該室はカチオン選択性膜により分画される。該膜はまた、カチオン交換膜と当業者に言われる。この製造方法において、第四級アンモニウムヒドロキシドが製造されるところの第四級アンモニウム塩がアノード液室にチャージされる。TMAHの製造方法は、米国特許第4,572,769号明細書に開示されている。この方法は、電気分解によるテトラメチルアンモニウムホーメートからのTMAHの合成を開示するが、しかし、循環塩基溶液からのTMAHの精製を開示していない。同様に米国特許第4,394,226号明細書において、TMAHが、電解槽において、テトラメチルアンモニウムハライド、とりわけ、クロリドから製造されるが、しかし、TMAHを含む循環塩基溶液の精製は開示されていない。
【０００６】
電気分解により第四級アンモニウムヒドロキシドを含む混合物の純度を改善することがまた当業者に公知である。例えば、米国特許第4,714,530号明細書は、第四級アンモニウムヒドロキシドを含む水性溶液がアノード液室にチャージされるところの、カチオン交換膜を備えられた二室電解槽を使用する電気分解により高純度の第四級アンモニウムヒドロキシドを製造する方法を開示している。この方法は、TMAHを含む循環塩基溶液に関するものではないが、しかし、新しく製造されたTMAHの純度を改善し、かつ該方法は更にアノードにおいて固体物質の析出をもたらす方法をもたらすことに関する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
我々は、二室電解槽のアノード液室に4‐ADPAの製造から得られるような循環TMAH の廃棄物流を入れることによる該廃棄物流の電気分解が、その開始後直ぐに、アノードに固体物質の有意量の形成をもたらし、そしてそれが、電極及びアノード液室を汚染しかつ少しの時間の後に電気分解を実質的に停止したことを見出した(比較例A及びB参照)。
【０００８】
驚くべきことに、我々は続いて、電気分解が本発明に従って実行されたとき、これの問題が余り過酷ではないか又は生じさえしなかったことを見出した。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に従う第四級アンモニウムヒドロキシドを含む組成物の循環塩基溶液の廃棄物流を精製する方法は、
(a)  アノードを収容するアノード液室、カソードを収容するカソード液室、及びアノード液室とカソード液室とを分離するカチオン選択性膜を有するところの電解槽を用意すること、
(b)  精製されるべき第四級アンモニウムヒドロキシドを含む循環塩基溶液の廃棄物流をアノード液室に入れ、かつ任意的に第四級アンモニウムヒドロキシドを含んでいてよいところの水をカソード液室に入れること、
(c)  電解槽に電流を通して、精製された水性の第四級アンモニウムヒドロキシド溶液をカソード液室において製造すること、
(d)  該精製された水性の第四級アンモニウムヒドロキシド溶液をカソード液室から回収すること、
(e)  適切な溶剤でアノード液室を洗浄すること、及び
(f)  段階(b)から(e)を繰返すこと
の段階を含む。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
4‐ADPAの製造から得られるところの循環塩基の場合に、本発明の方法は、循環塩基に存在するより少ない量のアニオン、例えば、アセテート、ホーメート、クロリド、カーボネート、及びオキサレートを含み、かつ所望なら、より多い第四級アンモニウムヒドロキシド含有量を有する水性溶液のカソード液室からの回収をもたらす。典型的には、回収された水性溶液はまた、循環塩基中に存在するところの中性の有機化合物、例えば、アニリンの部分/フラクションを含む。
【００１１】
アノード液室及びカソード液室が水性溶液を含むと言う事実の故に、酸素ガスがアノードで形成され、かつ水素ガスがカソードで形成される。アノード液室におけるテトラメチルアンモニウムカーボネート及び/又はテトラメチルアンモニウムビカーボネートの存在は、二酸化炭素ガスの形成を生じさせ得、これはアノード液室における水性溶液のpHに依存する。これらのガスは、慣用の方法で取り扱われかつ処理される。
【００１２】
本発明の方法は、慣用の電極及びカチオン選択性膜を備えられた任意の公知の電解槽を使用して実行され得、ここで、該電極及び膜は、チャージされかつアノード液室及びカソード液室に形成されるところの溶液と適合性を有する。
【００１３】
アノード及びカソードは種々の物質から作られえる。アノードは、酸素形成/放出に適していなければならず、かつカソードは、水素形成/放出に適していなければならない。適切なアノード及びカソードは当業者に公知である。カソードはまた、酸素還元/酸素減極カソードであり得る。好ましくは、白金アノード及びステンレス鋼カソードが使用される。
【００１４】
カチオン選択性膜は、第四級アンモニウムヒドロキシドへの第四級アンモニウム塩の電気分解及び第四級アンモニウムヒドロキシドの電解精製に使用されているところのカチオン選択性膜であり得る。種々の適切なカチオン選択性膜が当業者に入手し得る。パーフッ素化膜と非パーフッ素化膜との区別がある。好ましくは、本発明に従って使用されるべきカチオン選択性膜は、例えば、DuPont製の商標Nafionのもとに販売されているもののようなポリテトラフルオロエチレンから作られたパーフッ素化膜である。他の適切なカチオン選択性膜は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン‐ジビニルベンゼン、及び(スルホン化)ポリスルホンから作られた膜を含む。
【００１５】
カチオン選択性膜がカチオンの通過を許しかつアニオンの移送を妨げると言う事実に加えて、該膜はまたカチオンのタイプのために選択的である。例えば、当業者にプロトン選択性膜は公知である。好ましくは、本発明の方法は、精製されるべき第四級アンモニウムヒドロキシドを含む組成物中に存在するところの第四級アンモニウムイオンのために選択性のある膜を使用することにより実行される。
【００１６】
本発明の方法に従って精製されるところの第四級アンモニウムヒドロキシド含有組成物は典型的には、1〜45重量%、好ましくは5〜40重量%、より好ましくは10〜35重量%の第四級アンモニウムヒドロキシドを含む水性溶液である。これらの組成物は有機溶剤を含み得る。これらはまた、無機ヒドロキシド、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム又は水酸化セシウムを含み得る。
【００１７】
本発明の方法において使用される第四級アンモニウムヒドロキシド含有組成物は、任意の第四級アンモニウムヒドロキシドを含み得る。典型的には、該組成物は、テトラヒドロカルビルアンモニウムヒドロキシド又はヒドロカルビレンジ(トリヒドロカルビル)アンモニウムジヒドロキシドを含む。該組成物はまた、第四級アンモニウムヒドロキシド及び無機ヒドロキシドの混合物を含み得る。典型的な例は、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、コリンヒドロキシド、フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、及びビス‐(ジブチルエチル)ヘキサメチレンジアンモニウムヒドロキシド(ヘキサメチレン1,6-ビス(ジブチルエチル)アンモニウムジヒドロキシド)を含む。他の適切な例は、上記の先行文献、即ち、米国特許第4,714,530号明細書(第2欄第60頁から第3欄第2行)及び米国特許第5,389,211号明細書(第5欄第43〜60頁)に開示されている。好ましくは、該組成物は、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)を含む。より好ましくは、本発明の従って精製されるべき組成物は、多数の反応サイクルにおいて4‐ADPAの製造において使用されたところの水性溶液(循環塩基廃棄物流)であり、最も好ましくはTMAHを含む水性溶液である。循環塩基廃棄物流は典型的にはアニリンを含む。循環塩基廃棄物流はまた無機ヒドロキシドを含み得る。
【００１８】
本発明の方法において使用されるべき第四級アンモニウムヒドロキシド含有組成物はまた、循環塩基溶液及び他の化合物の混合物、例えば、循環塩基溶液中の塩の電気分解と共に電気分解により第四級アンモニウムヒドロキシドに転化され得るところの、多数の適切な新鮮な第四級アンモニウム塩又は塩混合物であり得る。例えば、テトラメチルアンモニウムカーボネート及び/又はテトラメチルアンモニウムハイドロジェンカーボネートが、水性の循環TMAH流に加えられ得る。循環塩基中の塩からの第四級アンモニウムヒドロキシドの回収と共に新鮮な第四級アンモニウムヒドロキシドの製造のための、循環塩基溶液への適切な新鮮な第四級アンモニウム塩又は塩混合物の添加がまた、アノードを収容するアノード液室、カソードを収容するカソード液室、及びカチオン選択性膜によりアノード液室とカソード液室とから分離されるところの少なくとも一つの中間室を含むところの電解槽で行われ得る。
【００１９】
電解の開始において、カソード液室は、任意的に第四級アンモニウムヒドロキシドを含んでいてもよい水を含む。好ましくは、脱塩水又は軟水が本発明の方法に使用される。カソード液室におけるカソード溶液の伝導度が、第四級アンモニウムヒドロキシドを含むことにより増加される。アノード液室及びカソード液室における電解質の存在は、電流が、電気分解の開始後に直ちに電解槽を通って流れることを許す。それは、電解質含有水性溶液がカソード液室に存在するところの本発明の方法に重要でないことが注意されるべきである。該選択は主として、カソード液室から回収されるべき水性の第四級アンモニウムヒドロキシド溶液の所望の純度及び所望の活性含有量により決定されるであろう。好ましくは、所望の活性含有量は、15〜25重量%の範囲にあり、より好ましくは約20重量%である。
【００２０】
好ましくは、カソード液室は、第四級アンモニウムヒドロキシドの水性溶液を含み、それは、精製されるべき組成物中に存在する第四級アンモニウムヒドロキシドと同一である。実際のカソード溶液は、始めは、第四級アンモニウムヒドロキシドの水性の1〜35重量%、好ましくは5〜25重量%、より好ましくは5〜20重量%溶液である。好ましくは、カソード液室は、高純度の水性の第四級アンモニウムヒドロキシド溶液、例えば、所望の純度を有する溶液を入れられる。活性含有量は所望により変化し得る。より好ましくは、水性のTMAH溶液が出発カソード溶液として使用される。
【００２１】
本発明の方法は、バッチ法又は半連続法のいずれかとして操作される。バッチ法を使用することが実際的である。好ましくは、本発明の方法は、精製されるべき第四級アンモニウムヒドロキシドを含む組成物のバッチをアノード液室に入れて、そしてアノード液室に次のバッチを入れる前に実質的に全ての第四級アンモニウムイオンがそこから取り除かれるまで電気分解を継続することにより実行される。循環塩基の場合に、電解槽のアノード液室にそれを入れる前に水で循環塩基を希釈することが有利であることが分かった。アノード液室に存在する処理されたバッチは、全体的に又は部分的に廃棄され得、そして次いで、夫々、次のバッチで置き換えられるか又は混合される。循環塩基の場合に、好ましくは、処理されたバッチ、即ち、いわゆるヒールの一部が、循環塩基の新鮮な部分と混合される。より好ましくは、ほぼ等しい重量部のヒールと新鮮な循環塩基がアノード液室にチャージされる。
【００２２】
本発明に従って、電解槽のアノード液室は適切な溶剤で洗浄される。とりわけ、循環塩基の場合に、精製されるべき第四級アンモニウムヒドロキシドを含む組成物の第一のバッチの電気分解の間にアノード液室に、固体物質が形成されたことが分かった。結果として、電極、アノード液室、及びアノード液室流体の循環装置、即ち、循環ループ、ループフィルター、循環容器、及び循環ポンプの汚染が生じた。適切な溶剤は、電解装置の任意の部分に影響を及ぼすことなしに、形成されるところの固体物質を溶解するところの溶剤である。これは当業者に容易に決定され得る。適切な溶剤は、アニリン及びN,N-ジメチルホルムアミド、N-メチル-2-ピロリドン、及びジメチルスルホキシドを含む。循環塩基の場合に、好ましくはアニリンが溶剤として使用される。洗浄段階が、必要なだけの溶剤量を使用して夫々のバッチの処理(半連続処理されたバッチ)の最後に実行される。使用されるべき溶剤の量は、当業者により容易に決定され得る。好ましくは、適切な溶剤での洗浄後に、アノード液室は、アノード液室に新しいバッチを入れる前に水で洗浄される。循環塩基の場合及び溶剤としてアニリンを使用するとき、後に水で洗浄することによりアニリンを取り除くことが最も適切である。
【００２３】
溶剤洗浄段階は典型的には、高められた温度、好ましくは40〜80℃、より好ましくは40〜60℃、最も好ましくは40〜50℃で実行される。水での洗浄は典型的には、20〜50℃の温度で実行される。
【００２４】
第四級アンモニウムヒドロキシドを含む組成物の電気分解は、通常4,000A/m2までの電流密度でアノードとカソードとの間に直流電流を施与することによりなされる。実際の範囲は500〜1,500A/m2である。電流は、アノード液室からカソード液室に好ましくは全ての第四級アンモニウムイオンの移送を許すために十分な時間、電解槽に施与される。本発明の方法の進行を監視するための重要なパラメータは、アノード液室における水性溶液のpHである。
【００２５】
精製されるべき第四級アンモニウムヒドロキシドを含む組成物の電気分解の間に、アノード液室の溶液のpHは、アノード液室におけるプロトンの生成及びアノード液室からカソード液室への第四級アンモニウムイオンの移送に故に減少する。アニオン、例えば、クロリドイオンはカチオン選択性膜を通過できない。しかし、弱酸、例えば、酢酸は、拡散のためにカチオン選択性膜を通過し得る。好ましくは1〜7、より好ましくは4〜7、更に好ましくは4〜6、最も好ましくは約5のpHがアノード液室において達成されると、電気分解は停止される。アノード液室に存在する処理された組成物の一部のみが、次のバッチにより置き換えられるなら、pHは、ある選ばれた値、例えば、5〜7の間に維持され得る。
【００２６】
典型的には、電解槽の室に存在する水性溶液は、例えば、別々に夫々の室のための循環ループ、循環容器、及びポンプを使用することにより慣用的な方法においてポンプ送液することにより循環される。これらの循環ループは慣用のフィルターを備えられてよい。
【００２７】
電気分解の間に、室内の溶液の温度は典型的には、10〜90℃、好ましくは40〜80℃、より好ましくは40〜60℃、最も好ましくは40〜50℃に維持される。
【００２８】
本発明は次の実施例により説明される。
【００２９】
(比較例A及びB)
2回の1バッチ実験が、アノードを収容するアノード液室及びカソードを収容するカソード液室を含む二室Micro Flow Cell(Electro  Cell製)を使用して実行された。ここで、該室は、カチオン選択性膜により分離されていた。EPDMガスケット及びTeflonフレームが使用された。
【００３０】
第1の実験、即ち、比較例Aにおいて、Nafion 450膜(DuPont製)が使用された。アノードは白金電極であり、カソードはステンレス鋼であった(両者ともElectroCell製)。循環塩基がアノード液室にチャージされ、そしてそれは13.61重量%のTMAHを含んでいた。出発カソード溶液は、13.85重量%の水性TMAHであった。
【００３１】
第2の実験、即ち、比較例Bにおいて、Nafion 117膜が使用された。アノードは酸素放出のためにDSAであり、カソードはステンレス鋼であった(両者ともElectroCell製)。循環塩基がアノード液室にチャージされ、そしてそれは12.68重量%のTMAHを含んでいた。カソード溶液は12.09重量%の水性TMAHであった。
【００３２】
これらの実験の結果は表1〜3に示されている。
【００３３】
アノードにおいて、電極を汚染しかつ電気分解を継続し得るために定期的に取り除かれなければならないところの固体物質の有意量が形成されたことが分かった。最後に、電気分解は実質的に停止した(カーボネートに結合されたTMA+は、アノード液室からカソード液室に移送されなかった)。結果として、電気分解は、得られるべきTMAHの経済的に魅力的な回収のために十分に長く実行されることができなかった。加えて、この固体の除去は時間を要しかつ扱い難いものであった。
【００３４】
検出限界は下記の通りである。即ち、TMA‐アセテート(0.0023重量%)、TMA‐ホーメート(0.0013重量%)、TMA‐クロリド(0.0015重量%)、TMA2‐カーボネート(0.0350重量%)、TMA2‐オキサレート(0.0027重量%)、及びTMAH(0.0100重量%)である。
【００３５】
【表１】
2005505413.tif 000002
【００３６】
【表２】
2005505413.tif 000003
Astartは出発アノード溶液であり、Afinalは最終アノード溶液であり、Cstartは出発カソード溶液であり、かつCfinalは最終カソード溶液であり、nmは測定可能でないこと(検出限界未満)を意味し、ndは測定されなかったことを意味する。
【００３７】
【表３】
2005505413.tif 000004
Astartは出発アノード溶液であり、Afinalは最終アノード溶液であり、Cstartは出発カソード溶液であり、かつCfinalは最終カソード溶液であり、nmは測定可能でないこと(検出限界未満)を意味し、ndは測定されなかったことを意味する。
【００３８】
(実施例1)
DSAアノード、ステンレス鋼カソード、及びNafion 324カチオン選択性膜(DuPont製)を備えられた2室Multi Purpose Cell(Electro  Cell製)が、64時間の合計(電気分解)時間、循環塩基の6バッチで、比較例A及びBにおいて述べられた手順と類似した手順(即ち、12.5V、40〜50℃、最終pH5)に従って操作された。夫々の時に、電気分解されるべき組成物は、比較例A及びBにおいて述べられた組成物に類似する組成を有する新鮮な循環塩基の1,600グラム、及び循環塩基の予め処理されたバッチのいわゆるヒールの1,600グラムの混合物(即ち、3,200グラムの合計重量を有する夫々のバッチ)から構成され、そして700グラムのヒールが廃棄された。夫々のバッチの処理の最後に、精製された水性のTMAH溶液がカソード液室から回収され、かつアノード流体の循環ループ及び循環容器を有するアノード液室が空にされそして循環容器が1,000グラムのアニリンで満たされた。アニリンが、50℃においてアノード液室を通して30分間循環された。次いで、アニリン洗浄液が取り除かれ、そして洗浄手順が1,000グラムの水で繰返され、これは20〜50℃で5分間循環された。ここで、水は循環の間に温められた。夫々の洗浄手順の後に、循環塩基にヒールを加えた次の3,200グラムのバッチがアノード液室にチャージされ、そして電気分解に付された。
【００３９】
電解槽の能力は実質的に変化されないままであった。即ち、それは、第1バッチのために40.31モルTMA+/m2/hであり、かつ第6バッチのために35.73モルTMA+/m2/hであった(TMA+は、テトラメチルアンモニウムイオンを表す)。6回のバッチの処理後の電解槽のインスペクションは、アノード、アノード液室又はアノード液室流体の循環装置に何らの汚染も示さなかった。
【国際公開パンフレット】
2005505413.tif 000005
2005505413.tif 000006
2005505413.tif 000007
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2005505413.tif 000013
2005505413.tif 000014
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2005505413.tif 000016
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2005505413.tif 000018
2005505413.tif 000019
【国際調査報告】
2005505413.tif 000020
2005505413.tif 000021
2005505413.tif 000022