(57)【要約】酸化マグネシウムなどの塩基性金属酸化物オレフィン異性化触媒を処理するプロセスが提供される。触媒は、活性化条件において体積で５ｐｐｍを超えない分子状酸素を含む脱酸素された窒素との接触により活性化される。本願で記載されるオレフィン異性化プロセスおよび触媒は、２−ブテンなどの内部型オレフィンからの１−ブテンなどの末端型オレフィンの製造のために使用されるのが有利である。【特許請求の範囲】
【請求項１】
体積で約５ｐｐｍを超えない分子状酸素を含む乾燥不活性ガスと塩基性金属酸化物触媒を活性化条件において接触させる少なくとも１つの工程を含むことを特徴とする塩基性金属酸化物異性化触媒を活性化するための方法。
【請求項２】
前記不活性ガスは、約２ｐｐｍを超えない分子状酸素を含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記不活性ガスは、約１ｐｐｍを超えない分子状酸素を含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記不活性ガスは、窒素であることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記少なくとも１つの工程の活性化条件は、少なくとも約５５０℃の温度と、少なくとも約６時間の長さの時間とを含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記塩基性金属酸化物は、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化リチウム、およびこれらの組合わせから成る群より選択されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項７】
前記塩基性金属酸化物は、酸化マグネシウムであることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記方法は、前記乾燥不活性ガスと触媒を接触させる前に、触媒を脱コークスする工程をさらに含み、触媒を脱コークスすることは、少なくとも約４６０℃の温度で少なくとも約６時間、重量で少なくとも約２パーセントの分子状酸素と組合わされた不活性ガスと触媒を接触させることを含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項９】
触媒を脱コークスすることは、少なくとも約５００℃の温度で少なくとも約１８時間、少なくとも約２０パーセントの分子状酸素と組合わされた不活性ガスと触媒を接触させることをさらに含むことを特徴とする請求項８記載の方法。
【請求項１０】
請求項１記載の方法に従って処理されることを特徴とする異性化のための塩基性金属酸化物触媒。
【請求項１１】
前記塩基性金属酸化物は、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化リチウム、およびこれらの組合わせから成る群より選択されることを特徴とする請求項１０記載の塩基性金属酸化物触媒。
【請求項１２】
前記塩基性金属酸化物は、酸化マグネシウムであることを特徴とする請求項１１記載の塩基性金属酸化物触媒。
【請求項１３】
ａ）  塩基性金属酸化物オレフィン異性化触媒を備え、
ｂ）  体積で約５ｐｐｍを超えない分子状酸素を含む乾燥不活性ガスを用いる少なくとも１つの工程と塩基性金属酸化物触媒を活性化条件において接触させることにより塩基性金属酸化物オレフィン異性化触媒を活性化させ、
ｃ）  活性化された塩基性金属酸化物触媒とオレフィン供給原料をオレフィン異性化条件において接触させて、異性化された生成物を提供する、
ことを特徴とするオレフィン供給原料を異性化する方法。
【請求項１４】
前記塩基性金属酸化物触媒は、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化リチウム、およびこれらの組合わせから成る群より選択されることを特徴とする請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
前記塩基性金属酸化物触媒は、酸化マグネシウムであることを特徴とする請求項１３記載の方法。
【請求項１６】
前記不活性ガスは、約２ｐｐｍを超えない分子状酸素を含むことを特徴とする請求項１３記載の方法。
【請求項１７】
前記不活性ガスは、約１ｐｐｍを超えない分子状酸素を含むことを特徴とする請求項１３記載の方法。
【請求項１８】
前記不活性ガスは、窒素であることを特徴とする請求項１３記載の方法。
【請求項１９】
前記方法は、塩基性金属酸化物触媒とオレフィン供給原料を接触させる前に、オレフィン供給原料中の分子状酸素の含有量を低下させる工程をさらに含むことを特徴とする請求項１３記載の方法。
【請求項２０】
前記オレフィン供給原料の分子状酸素の含有量を低下させる工程は、還元された金属とオレフィン供給原料を接触させることを含むことを特徴とする請求項１９記載の方法。
【請求項２１】
前記還元された金属は、銅であることを特徴とする請求項２０記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、異性化反応系の活性寿命を向上させるためのオレフィン異性化プロセスへの供給原料およびオレフィン異性化触媒を処理するプロセスに関する。
【背景技術】
【０００２】
１−ブテンまたは１−ヘキセンなどの末端型（アルファ）オレフィンの必要性が増大している。アルファオレフィンの市販用の生産は、相対的に高い濃度の１−異性体を含む炭化水素の流れからアルファオレフィンを単離することにより一般に達成されている。例えば、１−ブテンは、水蒸気熱分解のＣ４生成物から単離できる。水蒸気熱分解Ｃ４の流れは、１−ブテンの流ればかりでなく、２−ブテン、イソブチレン、ブタジエン、さらには、ノルマルブタンおよびイソブタンの両方を含む。１−ブテンは、抽出蒸留によりまずブタジエンを分離すること、または、水素化によりブタジエンを除去することによって、単離される。イソブチレンは、反応（例えば、メタノールとのＭＴＢＥを形成する反応）によって、または、分留によって、除去でき、残りのｎ−ブテンは、蒸留により１−ブテンのオーバーヘッドの流れと２−ブテンの残留物生成物とに分離される。アルファオレフィンの代替の製造プロセスは、１−ブテンを形成するエチレンの二量化、または、１−ヘキセンを形成するエチレンの三量化を含む。他の方法は、鎖状オレフィン（低濃度で使用される）の分子ふるい吸着を含む。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
アルファオレフィンを提供する別のプロセスは、オレフィン分子内における、例えば、内部位置（２−ブテン）から末端位置（１−ブテン）への、二重結合の移動を達成する内部型オレフィンからの触媒異性化である。内部型オレフィンのアルファオレフィンへの異性化は、高温が好ましい。しかしながら、高温では、触媒寿命を短くする触媒コークス化が生じる傾向がある。触媒活性の継続時間は、プロセスの経済的な実行可能性に関する重要な要因である。触媒再生のために必要なプロセスの中断が頻繁になればなるほど、プロセスは、より費用の掛かるものとなる。従って、より長い期間に亘って高温で最高の触媒活性を維持するためのプロセスは、オレフィン異性化にとって大いに有利である。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
体積で約５ｐｐｍを超えない分子状酸素を含む乾燥不活性ガスと塩基性金属酸化物触媒を活性化条件において接触させる、塩基性金属酸化物異性化触媒を活性化するためのプロセスが本願で提供される。
【０００５】
残留量の分子状酸素をオレフィン異性化供給原料から除去することによりオレフィン異性化供給原料を処理するプロセスがさらに提供される。
【０００６】
本願の発明は、相対的に高い異性化温度において長期間触媒活性を有する塩基性酸化物異性化触媒を提供するのが有利である。異性化プロセスは、２−ブテンなどの内部型オレフィンの１−ブテンなどの末端型オレフィンへの異性化のために使用するのが有利である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本発明のさまざまな実施態様が、図面を参照してここに記載される。
【０００８】
本願のオレフィン異性化プロセスは、内部型オレフィン化合物の末端型オレフィン化合物への変換に向けられる。プロセスは、特に２−ブテンの１−ブテンへの変換に関して以下に説明されるとはいえ、どのような内部型オレフィン化合物の末端型オレフィン異性体への変換も、本発明の範囲内に包含される。従って、例えば、２−ペンテンから１ペンテン、２−ヘキセンまたは３−ヘキセンから１−ヘキセン、２−ヘプテンまたは３−ヘプテンから１−ヘプテン、などの変換も考慮される。
【０００９】
通常のオレフィン製造設備では、飽和炭化水素が、熱分解、水蒸気分解、流動接触分解などの分解プロセスによりオレフィンの混合物に変換される。
【００１０】
この分解反応から結果として得られた流出物は、一連の蒸留塔および冷却熱交換を用いて炭素数留分に分けられる。１つのシーケンスにおいて、脱メタン装置が、メタンと水素の除去のために使用され、その次に、エタン、エチレン、およびＣ２アセチレンの除去のための脱エタン装置が続く。この脱エタン装置塔の残留物は、Ｃ３からＣ６の炭素数範囲の化合物の混合物から成る。この混合物は、通常は分留により異なる炭素数に分離される。
【００１１】
Ｃ３カットすなわち主にプロピレンが、生成物として除去され、最終的には、ポリプロピレンの製造のために使用され、あるいは、クメン、プロピレンオキシド、アクリロニトリル、または他の重要な化学中間体の合成のための供給原料として使用される。メチルアセチレンおよびプロパジエン（ＭＡＰＤ）不純物は、分留または水素化によって除去する必要がある。水素化は、これらの高度に不飽和化されたＣ３化合物のいくつかが最後にはプロピレンとなりそれによって収率が増加するので、好ましい。
【００１２】
Ｃ４アセチレン、ブタジエン、イソブテン、ノルマルブテン、イソブタン、およびノルマルブタンから成るＣ４カットは、多くの方法で処理できる。通常の水蒸気分解装置Ｃ４カットは、表１に示すような成分を含む。表１は、例示の目的として与えられているだけである。Ｃ４の流れの成分百分率は、表１に与えられた範囲を外れることもあり得る。
【表１】
2005506172.tif 000002
【００１３】
好ましい方法では、Ｃ４の流れの処理は、図１に図式的に例示される。Ｃ４成分の混合物を含む流れ１０は、Ｃ４−アセチレンおよびブタジエンを１−ブテンおよび２−ブテンに水素化するための触媒蒸留／水素化ユニット１１に送られる。水素化は、固定層において従来の仕方であるいは触媒蒸留ユニットにおいて実行できる。触媒水素化ユニット１１は、例えば、充填層内のアルミナ上のパラジウムなどのどのような適切な水素化触媒も使用できる。水素は、ジエンおよびアセチレンをオレフィンに水素化するのに必要とされる水素の１．０から１．５倍に相当するレベルで添加できる。条件は、反応器の設計に依存して変わり得る。例えば、触媒水素化ユニット１１が、触媒蒸留ユニットとして作動される場合は、温度および圧力は、分留条件と一致する。触媒水素化ユニット１１により製造されたＣ４留分１２は、主に１−ブテン、２−ブテン、イソブテン、および、他の少量のノルマルブタンおよびイソブタンなどの成分、を含む。
【００１４】
このような水素化の条件下では、水素異性化反応も生じる。かなりの量の２−ブテンが、ブタジエンの水素化により製造される１−ブテンの水素異性化により形成される。今やオレフィンおよびパラフィンだけを含む留分１２は、ユニット１３内でイソブチレン留分を除去するために処理される。これを達成することになるプロセスは、多数存在する。
【００１５】
好ましいプロセスでは、イソブテンは、ユニット１３内で水素異性化と精密蒸留を組合わせた触媒蒸留により除去される。水素異性化によって、１−ブテンは２−ブテンに変換され、精密蒸留によって、流れ１４内のイソブテンが除去されて、いくらかのイソブタンとｎ−ブタンを含む相対的に純粋な２−ブテンの流れ１５が残る。このシステム内で１−ブテンを２−ブテンに変換する利点は、２−ブテンの沸点（トランス異性体では１℃、シス異性体では４℃）が、１−ブテンの沸点（−６℃）より、イソブチレンの沸点（−７℃）からいっそう離れており、それによって、精密蒸留によるイソブテンの除去がより容易になるとともにより費用が掛からなくなり、また、イソブチレンと一緒の１−ブテンのオーバヘッドの損失が回避される。相対的に純粋な２−ブテンの流れ１５が、以下に説明するオレフィン異性化プロセスのための原材料の流れＦとして使用される。
【００１６】
あるいは、ユニット１３（イソブチレン除去）は、ＭＴＢＥを形成するメタノールとの反応を介してイソブチレンが除去されるＭＴＢＥユニットとすることもできる。１−ブテンおよび２−ブテンから成る残りのノルマルオレフィン（流れ１５）は、この反応では相対的に影響を受けない。
【００１７】
図２をここで参照すると、システム２０による主に２−ブテンを含む原材料Ｆの異性化が例示される。
【００１８】
最初に、供給原料Ｆは、保護層３１を通して流されて分子状酸素が除去され、さらに１３Ｘモレキュラーシーブである保護層３２を通して流される。従来技術のプロセス（例えば、モンゴメリー（Ｍｏｎｔｇｏｍｅｒｙ）に付与された米国特許第４，２１７，２４４号）は、異性化反応器内へ導入する前に１３Ｘモレキュラーシーブを通して原材料Ｆを流すことを含む。１３Ｘモレキュラーシーブは、水およびアルコールなどの極性化合物を除去するが、分子状酸素は除去しない。驚くべきことに、我々は、極性化合物の除去に加えて、痕跡レベルの分子状酸素を、≦１ｐｐｍｖまで除去することで、触媒寿命が向上することになることを見出した。これは、最も通常は適切な担体上に還元状態で銅を含む特別な吸収剤層を使用することにより保護層３１内で達成される。酸素は、銅と反応して酸化銅を形成し、それによって、分子状酸素が、オレフィンに富む原材料の流れから除去される。酸素保護層３１は、水が分子状酸素除去層３１内で形成され得るので、１３Ｘ保護層３２の上流に配置するのが好ましい。保護層３１および３２に続いて、脱酸素された原材料Ｆは、２−ブテン再循環の流れＲと混合され、第１の熱交換器２１へと送られ、そこで、熱が、異性化反応器２３の流出物の流れ２４から回収される。次に、原材料Ｆは、加熱器２２へと送られ、この加熱器は、原材料の流れの温度を３００℃から６００℃、好ましくは３４０℃から５００℃の好ましい異性化温度へと上昇させる。次に、原材料Ｆは、異性化反応器２３に流入し、そこで、原材料Ｆは、異性化温度において、以下に説明するものなどの異性化触媒と接触する。反応圧力は、それほど重要ではなく、大気圧より低い圧力から、４００ｐｓｉｇを超えるまでの範囲に及ぶことができる。反応器２３は、軸流、半径流、または並流などの異性化に適切などのような反応器とすることもできる。触媒は、粉末、ペレット、押し出し品などの粒状の形態とすることができる。
【００１９】
上述したように、より高い温度によって、１−ブテンの生成に有利なように反応平衡が移動する。上に示した異性化温度において、１−ブテンへの２０パーセントから３０パーセントの２−ブテン変換が達成できる。
【００２０】
流出物２４は、熱回収のために熱交換器２１を通して流され、次に、１−ブテン異性体および２−ブテン異性体の分離のために分留塔２５へと送られる。凝縮器２６が、還流のために１−ブテンを再循環させる。相対的に純粋な１−ブテンの流れが、オーバヘッド生成物Ｐとして引き出される。未反応の２−ブテンおよびブタンを含む残留物留分Ｂが、生成される。２−ブテンに富む残留物の一部は、再循環の流れＲを介して、原材料Ｆへと送り戻される。残留物留分の小量部分は、流れ２８に抜き出される。原材料Ｆは、未反応で分留器の残留物と共に分離されるいくらかのブタンを含むので、ブタンは、再循環を通して蓄積することになり、それによって、残留物が抜き出されない場合はエネルギーを浪費することになるであろう。当業者ならば、残留物抜き出しの流れ２８および再循環を介する流れＲの量を調節してシステム２０の最も経済的な作動を達成するであろう。
【００２１】
有用な異性化触媒としては、個別にまたは組合わせた、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、および酸化リチウムなどの塩基性金属酸化物が挙げられる。酸化ナトリウムまたは酸化カリウムなどの他の酸化物を、助触媒として触媒中に組み込むことができる。本願で説明する異性化プロセスに使用するのに好ましい触媒は、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）であり、本発明は、酸化マグネシウムに関して説明するけれども、理解されるように、上述した他の塩基性金属酸化物も、本発明の範囲内にあると考えられる。酸化マグネシウム触媒は、粉末、ペレット、押し出し品などの形態をとることができる。
【００２２】
酸化マグネシウムおよび他の塩基性酸化物触媒に付随する問題の１つは、アルファオレフィンを形成する高温の有利な異性化条件下におけるその触媒活性の継続時間の短さである。従来の酸化マグネシウム（または他の塩基性金属酸化物）触媒は、作動操業の約２０〜４０時間後には、触媒活性の急速な低下を経験する。２−ブテンへの１−ブテンの変換率の損失により測定される失活速度は、ほぼ０．３パーセント変換率損失／ｈｒまたはそれを上回っている。新鮮な触媒または再生触媒としての初期活性のこのような急速な損失によって、このプロセスは、経済的により実施可能でなくなり、異性化触媒としての酸化マグネシウムのより広範な使用が妨げられる。
【００２３】
一般に、触媒は、異性化反応に使用する前に乾燥不活性ガス中で処理されて、残留する水と二酸化炭素が除去される。水と二酸化炭素は、一般に、水酸化マグネシウムおよび炭酸マグネシウムの形態で酸化マグネシウムに化学的に結合している。どのような説明にも拘束されることを望むものではないが、これらの化合物は、システムの操業中のサイクル寿命を制限する汚れた反応を促進させる酸点として機能すると信じられている。
【００２４】
オレフィン異性化プロセスに使用するための好ましい触媒は、（弁理士名簿番号第１０９４−７号により）本願と同時に出願された米国特許出願番号第 号に開示および記載されており、この出願は、参照することによって本願に組み込まれる。
【００２５】
オレフィン異性化反応に最初に使用する前に、酸化マグネシウム（または他の塩基性金属酸化物触媒）は、活性に影響を及ぼす実質的に全ての量の水および二酸化炭素を除去するのに十分な高温において乾燥不活性雰囲気中で加熱される。酸化マグネシウム触媒の適切な活性化処理は、１つまたは複数の段階で実行できる。好ましくは、二段階処理を行うのが好ましく、酸化マグネシウム触媒は、乾燥第１段階として、乾燥不活性雰囲気中で最低３５０℃の温度において少なくとも約１５時間、予熱される。より詳細には、窒素などの乾燥純粋不活性ガスの流れが、少なくとも約１５時間、少なくとも約３５０℃の温度において酸化マグネシウム触媒層を通して流され、同時に、流出物が、水と二酸化炭素の放出をモニタされる。流出物の水濃度は、１ｐｐｍより下に低下される。
【００２６】
好ましい第２段階において、触媒は、おおよそ少なくとも５００℃、好ましくはおおよそ少なくとも５５０℃において少なくとも約６時間、不活性ガス（例えば、窒素）に接触させることにより活性化される。
【００２７】
触媒寿命の大幅な向上が、不純物として窒素に通常付随する酸素を除去することにより達成される。脱酸素は、当業技術において知られるどのような従来のプロセスによっても実行できる。従って、従来の窒素の供給源（例えば、空気の極低温分留に由来する窒素）は、１０ｐｐｍまでまたはそれを上回る酸素を含むけれども、この窒素を上述した触媒処理プロセスに使用する前に、例えば、窒素をＯ２吸着層に通して流すことによって、この酸素を除去することで、結果として、触媒の寿命が大幅に長くなる。脱酸素された窒素は、好ましくは約５ｐｐｍを超えない酸素、より好ましくは約２ｐｐｍを超えない酸素、最も好ましくは約１ｐｐｍを超えない酸素を有する。活性に影響を及ぼす実質的に全ての量の二酸化炭素と水が、脱酸素された窒素を用いて除去される。
【００２８】
上述した処理プロセスは、触媒特性を向上させ、１５０時間に亘る時間、異性化の実施を可能とするけれども、コークス堆積物を除去する触媒再生を可能にするオレフィン異性化プロセスが、繰り返される必要がある。上に述べた処理プロセスにより達成される乾燥の利点は、標準的な再生処理が用いられるときの第２のサイクルにおいて失われる。
【００２９】
本願の再生プロセスは、触媒を実質的にその最初の新鮮な状態に回復させるものであり、脱コークス段階を含み、好ましくはその後に高温触媒再活性化段階が続く。
【００３０】
脱コークス段階は、全ての活性に影響を及ぼす量のコークス、水、および二酸化炭素を触媒から実質的に完全に除去し、触媒を実質的にその最初の活性レベルに回復させる。高温再活性化段階は、触媒寿命をさらに延長するために、触媒活性に影響を及ぼし得る水および二酸化炭素の少なくとも一方の残留するどのような痕跡量も実質的に除去する。
【００３１】
より詳細には、脱コークス段階は、実質的に完全に全てのコークスを触媒から除去するように、少なくとも約５００℃の再生温度において少なくとも、約６時間、好ましくは約１２時間、最も好ましくは約１８時間、乾燥不活性ガス（例えば、窒素）および酸化剤（例えば、酸素）を含む流れ雰囲気と触媒を接触させることを含む。再生は、参照することによって本願に組み込まれる米国特許第４，２１７，２４４号に記載されているように、漸進的に温度と酸素濃度を増加する段階で進行する。好ましくは、純粋な乾燥空気が、流れ雰囲気として使用される。
【００３２】
脱コークス段階は、脱コークス時間の全体が少なくとも約２４時間となるように、５００℃で１８時間、２０パーセント酸素雰囲気と触媒を接触させる前に、少なくとも約４６０℃の温度で少なくとも約６時間、少なくとも約２パーセントの酸素を含む乾燥不活性ガスから成る流れ雰囲気と触媒を接触させることによって、触媒を予熱することを含むのが好ましい。
【００３３】
高温再活性化段階は、残留するどのような水および二酸化炭素も脱着するように、少なくとも約５００℃の温度において、好ましくは脱コークス温度より約５０℃高い温度（すなわち、少なくとも約５５０℃）において、少なくとも約６時間、純粋な乾燥不活性ガス（例えば、窒素）から成る流れ雰囲気と脱コークス触媒を接触させることを含む。窒素は、上述したように酸素を除去するために前もって処理するのが好ましい。脱酸素された窒素は、好ましくは、約５ｐｐｍを超えない酸素、より好ましくは、約２ｐｐｍを超えない酸素、最も好ましくは約１ｐｐｍを超えない酸素を含む。
【００３４】
再生の前に、触媒は、周囲温度または高温で乾燥不活性ガスをさっと流して、炭化水素または他の揮発性成分を除去するのが好ましい。
【００３５】
図３をここで参照すると、再生／活性化システムが、反応器２３と関連して示される。再生段階の間に、不活性ガスすなわち窒素と空気の組合わせが、触媒からコークスを除去するように酸素濃度と温度を上昇させる漸進性の段階に使用される。窒素は、最初、酸素除去保護層５２の周りにバイパスされ、空気と混合される。熱交換器５３が、反応器２３に流入する気体の温度を所望の程度に調節する。流出物気体は、システムから排出されるかまたは熱回収に送られる。酸素は、コークスを燃焼するのに使用されているので、酸素は、この位置で不活性ガスから除去する必要はない。再生に続き、再活性化プロセスが、上述したように行われる。このプロセスにおける最後の段階として、乾燥不活性ガス（窒素）が、再生サイクル中の最大温度よりおおよそ５０℃高い温度において触媒に亘って通される。これによって、水酸化物および炭酸塩として再生中にＭｇＯに化学的に結合した水とＣＯ２の除去が可能となる。この最後の不活性段階では、どのような酸素も最後の掃除作動中に触媒上に物理的に吸着するのを防止するように、脱酸素気体が使用される。この段階では、窒素が、次に、酸素除去保護層５２を通して流される。この段階では、空気は使用されない。ここでは約１ｐｐｍを下回る酸素を含有する不活性ガスが、熱交換器５３を通して流され、そこで、温度が、所望のレベルに調節される。気体は、次に、反応器２３に進み、そこで、最後の再活性化段階に使用される。再生／活性化に続く全く分子状酸素のない層と、作動中のどのような痕跡量の分子状酸素も連続的に除去することとの組合わせによって、結果として、反応サイクル中の触媒寿命が長くなる。
【００３６】
本発明のさまざまな態様が、以下に与えられる実施例によって例示される。
【実施例１】
【００３７】
触媒寿命に対する痕跡量の分子状酸素の影響を例示するために、ここでは試料Ａおよび試料Ｂと呼ぶ２つの同一のＭｇＯ触媒に、同一の最初の乾燥処理を行った。これらは、次に、高温で１−ブテンを２−ブテンに異性化するのに使用した。いくらかの長さの時間、作動した後に、両方の試料とも活性を失ったが、再生させた。両方の試料とも、６９２ｐｐｍの鉄、２３３５ｐｐｍの硫黄、３５２２ｐｐｍのカルシウム、および２５０ｐｐｍを下回るナトリウムを含有する従来の等級の酸化マグネシウムであった。窒素をさっと流した後に、コークス化された試料の両方とも、漸近的に上昇する温度および分子状酸素濃度を含む窒素に曝した。最後の再生段階は、５００℃で１８時間、２１パーセントの分子状酸素を含有する窒素に曝すことであった。その後、５５０℃で乾燥窒素に試料を曝すことによって全ての試料に高温再活性化段階を実行した。しかしながら、試料Ａは、本発明のプロセスに従って１ｐｐｍを超えない分子状酸素を含む精製窒素で処理したが、この窒素は、分子状酸素吸着層に通して精製した。比較のために、試料Ｂは、約１０ｐｐｍまたはそれを上回る分子状酸素を含む従来の供給源からの窒素で処理した。
【００３８】
試料は、次に、１−ブテンの異性化において個別に試験した。１−ブテンは、酸素保護層を通して流した。両方の試料とも、おおよそ７５ｐｓｉｇ、５１０°Ｆ、および９ＷＨＳＶで行われる異性化反応において試験した。原材料の流れは、６５パーセントの流出物を含んでいた。モル％での１−ブテンの２−ブテンへの変換率を、異性化の間にモニタした。結果は、以下の表ＩＩに示すとともに、図４および図５に図示する。
【表２】
2005506172.tif 000003
【００３９】
上の結果から理解できるように、本発明のプロセスによって、酸化マグネシウム触媒の失活速度は、比較試料の失活速度の３分の１より下にまで低下した。
【００４０】
理解されるように、さまざまな変形が、ここに説明した実施態様に行い得る。従って、上述した説明は、多くの詳細を含むとはいえ、これらの詳細は、本発明の範囲に対する限定としてではなく、本発明の好ましい実施態様の単なる例示として解釈する必要がある。当業者は、添付の請求項により規定される本発明の範囲および趣旨の中に含まれる他の多くの可能な変形物を構想するものである。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】分解装置からのＣ４化合物の混合物を処理するためのプロセスの概略流れ図。
【図２】本発明のオレフィン異性化プロセスの概略流れ図。
【図３】触媒再生システムの概略流れ図。
【図４】本発明のプロセスに従って処理された触媒の時間に亘る１−ブテンオレフィン異性化変換率を例示するグラフ。
【図５】従来方法に従って処理された触媒の時間に亘る１−ブテンオレフィン異性化変換率を例示するグラフ。
【図１】
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【図２】
2005506172.tif 000005
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際公開パンフレット】
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【国際調査報告】
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