(57)【要約】第１および第２電極パターン（１１２；２１２）を含む開口窓（１２４）を有する液晶光シャッタが開示される。第１および第２基板が所定の相互距離で設けられる。電極パターンはそれぞれ、一連の行電極を含み、第１電極パターンの一連の行電極が、第２電極パターンの一連の行電極と４５度未満の角度で整列され、液晶光シャッタ内に高い内部電気抵抗が生み出される。それによって、液晶光シャッタ内の任意の点と直列の高い内部電気抵抗が実現されると共に、光シャッタの全外部抵抗が低いレベルに維持され、電気火花の発生が著しく低減される。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の本質的に平坦な基板（１１０；２１０）上に配置された第１電極電極パターン（１１２；２１２）と、
第２の本質的に平坦な基板（１２０；２２０）上に配置された第２電極電極パターン（１２２；２２２）であって、該第１基板と該第２基板とが所定の相互距離（ｄ）をおいて設けられる第２電極電極パターンと、
該第１基板と該第２基板の間に設けられた液晶材料と
を備えた開口窓（１２４）を有する液晶光シャッタであって、
該第１電極パターンおよび該第２電極パターン（１１２、１２２；２１２、２２２）がそれぞれ、一連の本質的に平行な行電極（１１２ａ〜ｇ、１２２ａ〜ｇ）からなり、
該第１電極パターン（１１２）の該一連の行電極（１１２ａ〜ｇ）が、該第２電極パターン（１２２）の該一連の行電極（１２２ａ〜ｇ）と４５度未満の角度で整列され、それによって液晶光シャッタ内の任意の点と直列の高い内部電気抵抗が生み出されると共に、光シャッタの全外部抵抗が低いレベルに維持されることを特徴とする液晶光シャッタ。
【請求項２】
前記第１電極パターン（１１２）の前記一連の行電極（１１２ａ〜ｇ）が、前記第２電極パターン（１２２）の前記一連の行電極（１２２ａ〜ｇ）と２５度未満、好ましくは１０度未満の角度に整列され、最も好ましくは本質的に平行に整列される請求項１に記載の光シャッタ。
【請求項３】
少なくとも１つの電極パターンの前記行電極が電気的に並列に接続される請求項１または２に記載の光シャッタ。
【請求項４】
前記電極パターンのそれぞれが、前記行電極を電気的に並列に接続する接触面（１１２ｈ、１２２ｈ）からなる請求項１、２、または３に記載の光シャッタ。
【請求項５】
前記第１電極パターンの前記接触面（１１２ｈ）および前記第２電極パターンの前記接触面（１２２ｈ）が、前記光シャッタの両縁に設けられる請求項４に記載の光シャッタ。
【請求項６】
前記第１電極パターン（１１２）の前記行電極（１１２ａ〜ｇ）が、前記第２電極パターン（１２２）の前記電極ギャップと重なるように配置され、逆も同様である請求項１から５のいずれか一項に記載の光シャッタ。
【請求項７】
前記第１電極パターン（１１２）の前記行電極（１１２ａ〜ｇ）が、前記第２電極パターン（１２２）の前記行電極（１２２ａ〜ｇ）と重なるように配置され、逆も同様である請求項１から５のいずれか一項に記載の光シャッタ。
【請求項８】
前記電極パターンのうち少なくとも１つの前記行電極間の最大距離（ｇ）が、前記第１基板と前記第２基板の間の前記相互距離（ｄ）の約２倍未満である請求項１から７のいずれか一項に記載の光シャッタ。
【請求項９】
前記第１基板と第２基板の間の前記相互距離（ｄ）が４マイクロメートルから４０マイクロメートルの間であり、より好ましくは１０マイクロメートルから３０マイクロメートルの間である請求項１から８のいずれか一項に記載の光シャッタ。
【請求項１０】
前記光シャッタが、５０ボルトから３００ボルトの間、より好ましくは１００ボルトから２００ボルトの間の電圧で動作するように構成される請求項１から９のいずれか一項に記載の光シャッタ。
【請求項１１】
前記光シャッタが、高光散乱状態と高透過状態の間で切り替わるように構成される請求項１から１０のいずれか一項に記載の光シャッタ。
【請求項１２】
前記液晶材料が、コレステリック液晶からなる請求項１から１１のいずれか一項に記載の光シャッタ。
【請求項１３】
前記基板のうち少なくとも１つの基板上の前記行電極が、少なくとも部分的には、一連の幾何学的に直線の線からなり、好ましくは一定の厚さを有する請求項１から１２のいずれか一項に記載の光シャッタ。
【請求項１４】
前記基板の少なくとも１つの基板上の前記行電極が、少なくとも部分的には、非直線の一連の行からなる請求項１から１２のいずれか一項に記載の光シャッタ。
【請求項１５】
前記基板のうち少なくとも１つの基板上の前記行電極が、少なくとも部分的には一連のジグザグ線からなり、好ましくは一定の厚さを有する請求項１から１２のいずれか一項に記載の光シャッタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般には、高電圧で動作する液晶光シャッタに関し、より詳細には、コレステリック液晶材料を用いる大型高電圧光シャッタに関する。
【背景技術】
【０００２】
多種多様なタイプの光シャッタが長年にわたって開発されてきた。光シャッタは一般に、外部印加電場の印加時に、２つ以上の光学的状態を切り換えることが可能である。透過、反射、および吸収の点で異なる光学的状態を有する。
【０００３】
現況技術による光シャッタは通常、オンまたはオフ（すなわちその一方が反射性または透過性である）することが可能な１つの大きな画素すなわち「ピクセル」からなる活性領域すなわち開口窓を有する。しかし、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）と比較して、例えば光シャッタは比較的大きい開口窓を有する。４００ｍｍｘ４００ｍｍもの大きさの開口窓は珍しくない。
【０００４】
当技術分野で周知の光シャッタの１タイプは、コレステリック液晶材料を使用する。ここで、コレステリック液晶を、フォーカル・コニック組織（ｆｏｃａｌ  ｃｏｎｉｃ  ｔｅｘｔｕｒｅ）と呼ばれる高光散乱状態と、ホメオトロピック・フェーズと呼ばれる透過状態との間で電子的に切り換えることが可能である。さらに、当技術分野で周知の１技法の結果として、印加電圧で活性化されたときにコレステリック液晶光シャッタが非常に透過性となり、電圧が除かれたときに非常に光散乱性となる。
【０００５】
従来技術は、コレステリック液晶光シャッタが一般に２つの平行平面基板からなることを開示している。基板の内面はしばしば、やはり主に光透過性の、導電性の薄層または電極で被覆される。さらに、電極はしばしば、前記基板間の電流を最小限に抑えるために１つまたは複数の絶縁層またはハードコート層で被覆される。２つの基板の表面で液晶材料の必要な分子アラインメントを誘発する目的で絶縁層の頂部に追加の薄層被覆が存在することもあり、または存在しないこともある。
【０００６】
基板間の距離ギャップはしばしば、前記基板間に短距離の球またはスペーサを配置することによって制御される。スペーサの直径が正確に制御され、したがって厳密かつ均一なセル・ギャップが得られる。さらに、フォーカル・コニック組織の状態にあるときに高いレベルの光散乱を得るために、コレステリック液晶光シャッタに対して大きなセル・ギャップを使用することがしばしば必要となる。１０から３０マイクロメートルの間の典型的なセル・ギャップがしばしば使用される。
【０００７】
液晶材料は２つの平行基板の間に束縛される。セルの両側の各電極の接触面に電圧が印加されるとき、セルの両側の前記導電層が相互に重なる領域内に局在化した液晶材料に電圧が働き、したがって前記領域内の液晶材料を、必要とされる光学的状態に切り換える。したがって、セルの両側の２つの導電層間の重なり領域が、光シャッタの活性領域すなわち開口窓を構成する。
【０００８】
光シャッタのスイッチング速度は、光シャッタがある光学的状態から別の状態に変化するのにかかる時間と定義される。多くの応用例では、光デバイスを通る光路を迅速に変調するために迅速なスイッチング速度が必要である。さらに、強い電場を使用して液晶材料を操作することによって高速なスイッチング速度を得ることが可能であることが当業者には周知である。
【０００９】
例えば、１マイクロメートル当り１２ボルトを超える強さの電場を使用して、光を散乱するフォーカル・コニック組織から、非常に透過性のホメオトロピック状態にコレステリック液晶光シャッタを迅速に切り換えることが可能である。したがって、２０マイクロメートルのセル厚を有するコレステリック液晶光シャッタでは、２４０ボルトを超える外部印加電圧が必要である。したがって、スイッチング応答で必要とされる速度を達成するために、超高電圧でコレステリック液晶光シャッタを操作することがしばしば必要となる。
【００１０】
従来技術では、コレステリック液晶光シャッタの開口窓が、限定はしないがしばしば矩形または楕円形であることが開示されている。セルの両側の電極のこのような幾何形状の結果として、各基板の導電層内の電気抵抗が低くなる。例えば、正方形の開口窓を有し、電極材料として１スクエア当り１０オームの真性面積抵抗を有するインジウム・ドープ酸化スズ（ＩＴＯ）薄膜を使用する光シャッタでは、各基板の全電気抵抗はわずか１０オームとなる。
【００１１】
図１ａ〜ｃに、現況技術による矩形開口窓を有する光シャッタで使用される電極の幾何形状を示す。図１ａは、第１電極１２がその上に設けられた第１の概して平坦な側部すなわち基板１０を示し、図１ｂは、第２電極２２がその上に設けられた第２の概して平坦な側部すなわち基板２０を示す。基板１０、２０は、一様な相互距離で配置され、コレステリック液晶の形の液晶材料（図が見やすいように、図１ａ〜ｃには図示せず）が、２つの基板１０と２０の間に設けられる。各電極の相互の重なり２４が開口窓を画定する。
【００１２】
ここで、セルの両側の電極の幾何形状に関連して電気抵抗が低いことにより、絶縁層に存在する何らかの欠陥点を通って大きな漏れ電流が流れることが可能となり、したがって電気的破壊の発生が可能となる。液晶セル中の絶縁層のうち１つまたは複数の中の、限定はしないが例えばピンホール、クラッキング、汚染粒子などの欠陥点の結果として、２つのセル基板間の前記欠陥点で何らかの漏れ電流が生じる可能性がある。さらに、現況技術による矩形または楕円形の開口窓の幾何形状に関連して各基板上の導電層の全電気抵抗が低い結果として、前記欠陥点を通る電流漏れを制限するための、欠陥と直列の電気抵抗がほとんど存在しない。この電流漏れおよび関連する欠陥点の局所的加熱により、２つの基板間で電気火花が発生する可能性がある。こうした電気火花の結果として、光学的欠陥として見える焼け跡が液晶セル内に形成される可能性がある。
【００１３】
現況技術のコレステリック液晶光シャッタにおける開口窓の幾何形状によるセルの両端の導電層の低い全電気抵抗と、十分なスイッチング速度を達成するために必要な超高電圧とにより、前記基板間で電気火花が発生する危険性が高くなる。これにより、コレステリック液晶光シャッタの製造品質に対する要求が非常に高くなる。具体的には、液晶セルの基板上の２つの電極を覆う絶縁層に存在する欠陥点の数を最小限に抑えるべきであることが当業者には周知である。
【００１４】
さらに、光シャッタのサイズまたは面積が増大するにつれて、そのような欠陥が製造公差のために生じる危険が高くなる。したがって、現況技術の電極設計を使用して、高電圧で動作すべきである大型のコレステリック液晶光シャッタを製造することは難しいことがわかっている。
【００１５】
従来技術では、コレステリック液晶光シャッタ内で電気火花が発生する危険を低減するのに使用することが可能な１技法が説明されており、それによって余分の厚い絶縁層または絶縁被覆のいくつかの積層がセルの両端の内面に付着する。しかし、このようなセル設計は製造するのが複雑であり、製造コストを著しく増大させる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
本発明の目的は、２つのセル基板間で電気火花が発生することなく高電圧で動作することが可能な広面積の開口窓を有する液晶光シャッタを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明は、セルの２つの基板の内面上の導電層または電極の幾何形状を変更することにより、任意の所与の欠陥点と直列の内部電気抵抗を著しく増大させることが可能であり、さらにはそれが開口窓の表面全体にわたって均一にすることも可能であるという洞察に基づく。この直列抵抗により、欠陥点を通って流れることが可能な漏れ電流が制限され、したがって電気火花の発生が防止される。
【００１８】
さらに、導電層の幾何形状は、全体として液晶セルの全抵抗が低いままとなるように設計される。このことは、液晶セルの急速な電気容量充電／放電を可能にし、したがって高速な光シャッタ・スイッチング速度を可能にするために重要な基準である。
【００１９】
本発明によれば、請求項１による液晶光シャッタが提供される。したがって、第１および第２電極パターンがそれぞれ一連の本質的に平行な行電極を含み、第１電極パターンの一連の行電極が、第２電極パターンの一連の行電極と４５度未満の角度で整列され、それによって液晶光シャッタ内の任意の点と直列の高い内部電気抵抗が生み出されると同時に、光シャッタの全外部抵抗が低レベルに保たれる光シャッタが提供される。
【００２０】
本発明の光シャッタでは、従来技術の光シャッタの欠点が回避され、または少なくとも軽減される。本発明の着想を使用することにより、電気火花の発生を著しく低減するように大型の液晶光シャッタを設計することが可能である。
【００２１】
さらに、全体として液晶セルの全抵抗を低いままとなるように導電層を設計することにより、液晶セルの急速な電気容量充電／放電が可能となり、したがって高速な光シャッタ・スイッチング速度が可能となる。
【００２２】
好ましい実施形態では、第１電極パターンの一連の行電極が、第２電極パターンの一連の行電極と２５度未満、好ましくは１０度未満の角度に整列され、最も好ましくは本質的に平行に整列される。
【００２３】
別の好ましい実施形態では、所与の基板表面上の電極パターニングの隣接する領域間の最大距離が臨界距離未満に保たれる。これにより、電極の縁部での外縁電圧が、電極パターニング構造間のギャップ領域内に束縛された液晶材料を同時に活性化させることが可能となる。前記ギャップ領域内の液晶材料の活性化により、電極パターニング・レイアウトが光シャッタ内で視覚的に識別されることが防止される。別の好ましい実施形態が本明細書の従属請求項に定義される。
【００２４】
次に、添付の図面を参照しながら例示によって本発明を説明する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
図１ａ〜ｃは従来技術に関連して論じてあり、したがってこれ以上は図１ａ〜ｃを扱わない。
図２に、本発明の１実施形態による矩形開口窓を有する光シャッタ中の電極の幾何形状パターニングを示す。図２ａは、第１電極パターン１１２がその上に設けられた第１の概して平坦な側部すなわち基板１１０を示し、図２ｂは、第２電極パターン１２２がその上に設けられた第２の概して平坦な側部すなわち基板１２０を示す。基板１１０、１２０は一様な相互距離ｄ（図３参照）で配置され、コレステリック液晶の形態の液晶材料（図が見やすいように、各図には図示せず）が、２つの基板１１０と１２０の間に設けられる。第１電極パターン１１２は、幾何学的に直線状かつ相互に平行な、一定の厚さを有する電極材料の一連の行１１２ａ〜ｇを含む。この一連の行は、すべての行が基板の一端で同一の第１接触面１１２ｈに直接接続されることによって電気的に並列に接続され、したがって同一の電圧がすべての行に同時に印加される。ここで、各行は、基板表面上で内部的に互いに電気的に並列に接続される。
【００２６】
第２電極パターン１２２は第１電極パターンの鏡像であり、第１接触面が配置される基板１２０の縁部と反対側の縁部に沿って配置された第２接触面１２２ｈによって互いに電気的に並列に接続された一連の行１２２ａ〜ｇを含む。
【００２７】
第１電極パターン１１２の各行は、第２電極パターン１２２の各行と本質的に平行に、かつ第２電極パターン１２２の各行と重なるように整列される。
電極の相互の重なりが矩形開口窓１２４を画定する。図２ｃから明らかなように、開口窓は、セルの両側の一連の平行電極行からなる。さらに、セルの２つの基板上の２組の行は、大部分が相互に平行となるように配向される。
【００２８】
電極パターニング構造により、液晶セルの絶縁層内に存在する可能性のある任意の所与の欠陥点と直列の高い内部電気抵抗が存在する。高い直列抵抗により、前記欠陥点を流れることが可能な漏れ電流の大きさが制限され、したがって電気的破壊の発生が軽減される。
【００２９】
さらに、本発明による開口窓により、所与の欠陥点と直列の電気抵抗が、液晶セル中の欠陥点の位置とは無関係に、開口窓の表面全体にわたって厳密に同じとなることが保証される。
【００３０】
さらに、各行の縁部での外縁電圧が乱され、外縁電圧が、図２ｃの開口窓の詳細な断面図である図３に示す行間のギャップ領域内で一定の距離に延びる。図３では、電極行１１２ａ、１１２ｂ、１２２ａ、および１２２ｂがそれぞれ内面に設けられた第１基板１１０および第２基板１２０が示されている。図では、第１電極行と第２電極行の間に延びる電場１２６ａ、１２６ｂが示されている。行電極の縁部では、電場がわずかに曲がり、または乱され、電極の縁部の外に延びるいわゆる外縁電圧が形成される。
【００３１】
外縁電圧の延長距離は、図３および４の距離「ｄ」として示されるセル・ギャップ距離の約２倍として与えられることが当業者に周知である。例えば、２０マイクロメートルのセル・ギャップでは、外縁電圧は、異なる行電極の縁部間のギャップ領域内で約４０マイクロメートルに延びる。
【００３２】
所与の基板上の２つの隣接する行間の最大距離ｇ（図３参照）を、外縁電場がギャップ領域内で延びる距離未満に保つことが好ましい。これにより、セルの両側の電極に印加される電圧が、セルの両側の行の相互の重なりによって束縛される液晶材料だけでなく、前記行間のギャップ領域に局在化する液晶材料も活性化することが保証される。これにより、セルの両端の電極パターニングが、完全な光シャッタで視覚的に識別されないことが保証される。
【００３３】
開示される幾何電極構造を使用するとき、全体としての完全な液晶セルの全抵抗は低いままとなる。これにより、液晶光シャッタに関する電気容量充電／放電時間が最小限に抑えられることが保証され、したがって光学的状態間の高速なスイッチング応答が可能となる。
【００３４】
例えば、本発明の１実施形態による厚さＴの直線状かつ相互に平行な一連の行からなり、真性面積抵抗Ｒを有する透過性導電薄膜を電極材料として使用する、長さＬおよび幅Ｗの矩形開口窓を有する光シャッタでは、所与の基板上の各電極行の全電気抵抗は（ＬｘＲ／Ｔ）となる。これは、液晶セルの絶縁層に存在する可能性のある任意の所与の欠陥点と直列な全電気抵抗となり、前記欠陥点を流れることが可能な漏れ電流を制限することになり、したがって電気火花の発生を防止する。さらに、光シャッタの開口窓を構成する全行数は、（Ｗ／Ｔ）によって与えられる。
【００３５】
行間のギャップが無視可能であると仮定すると、液体結晶光シャッタ内の各基板表面の全抵抗は、並列に接続されるすべての行抵抗を足し合わせることによって得られ、１／（Ｔ／ＬｘＲ）ｘ（Ｗ／Ｔ）＝（Ｌ／Ｗ）ｘＲによって与えられる。この結果は、単一の矩形ピクセルからなる非パターン化矩形開口窓を有する光シャッタ内の基板が従来技術に従って有することになる全抵抗と厳密に同じであることが当業者には周知である。したがって、本発明による開口窓を有する光シャッタの全抵抗は、現況技術による非パターン化された単一ピクセル開口窓を有する光シャッタの場合と同一であり、したがってセルの全抵抗は、液体結晶セルの急速な電気容量充電／放電を可能にするために低いレベルに維持される。
【００３６】
より具体的には、幅０．１ｍｍの電極行からなり、１スクエア当り１００オームの真性面積抵抗を有する電極材料を使用した、開示の電極設計を使用する４００ｍｍｘ４００ｍｍの寸法のコレステリック液晶光シャッタでは、各行の全抵抗が（ＬｘＲ）／Ｔ＝０．４ＭΩによって与えられる。この内部抵抗は、セル中の任意の所与の欠陥点と直列であり、したがって前記欠陥点を流れることが可能な電流を制限する。さらに、全体としての完全な液晶光シャッタ内の各基板表面の全抵抗は（Ｌ／ＷＳ）ｘＲ＝１００オームで与えられる。
【００３７】
さらに、セル・ギャップが２０マイクロメートルであり、各基板上の行間のギャップが４０マイクロメートル未満である場合、外縁電圧がギャップ領域中の液晶材料を活性化し、したがって、電極パターニングは、完全な光シャッタ内で視覚的に識別されることはない。
【００３８】
本発明による光シャッタの代替実施形態を図４に示す。図２ａ〜ｃおよび３を参照しながら説明した第１実施形態と同様に、この光シャッタの第２実施形態は、第１電極パターン２１２がその上に設けられた第１の概して平坦な側部すなわち基板２１０と、第２電極パターン２２２がその上に設けられた第２の概して平坦な側部すなわち基板２２０とを備える。
【００３９】
しかし、この第２実施形態では、第１電極パターンの電極行２１２ａ、ｂが、第２電極パターンの電極ギャップと重なるように配置される。得られる横方向電場は、ギャップ領域中の液晶材料を活性化する助けになり、したがって電極パターニングが光シャッタ内で視覚的に識別されないことが保証される。
【００４０】
従来技術は、パッシブ・マトリックス液晶ディスプレイを開示している。ここで、液晶セルの一方の側部に一連の電極行が存在し、前記セルの他方の側部に一連の電極列が存在する。行と列は、大部分が互いに垂直に配向し、セルの一方の側部の行と前記セルの他方の側部の列との相互の重なりが、液晶ディスプレイ内の画素またはピクセルを画定する。電圧が各行および各列に別々に印加され、画像が行ごとにディスプレイ内に走査される。
【００４１】
本発明による液晶光シャッタの電極パターニングは、液晶セル内の２つの基板表面上の２組の電極行が大部分は互いに平行に配向する点で現況技術のパッシブ・マトリックス・ディスプレイの設計とは異なる。さらに、セルの一方の側のその一連の行が電気的に並列に接続され、したがってすべての行に同じ電圧が同時に印加される。
【００４２】
図２ａ〜ｃを参照しながら説明した実施形態では、行電極が概して直線状であった。しかし、図５ａ〜ｃに示す代替実施形態では、電極パターンの個々の行電極がジグザグの形状を有する。したがって、第１電極パターン３１２は、一定の厚さの電極材料の、ジグザグ形であるが依然として相互に平行な一連の行３１２ａ〜ｄを有する。この一連の行は、すべての行が同一の基板の一方の端部で第１接触面に直接接続されることによって電気的に互いに並列に接続され、したがって同じ電圧がすべての行に同時に印加される。
【００４３】
第２電極パターン３２２は第１電極パターンの鏡像であり、第１接触面が配置される基板３２０の縁部と反対側の縁部に沿って配置された第２接触面３２２ｅによって互いに電気的に並列に接続された一連の行３２２ａ〜ｄを含む。
【００４４】
第１および第２電極パターン３１２、３２２の各行の全体の幾何形状は、図２ａ〜ｃに示す第１実施形態と同様に、直線状かつ本質的に相互に平行であるが、図５ｃに示すように、局所的に比較的大きい角度で互いに交差する。この構成も、液晶セル内に存在する可能性のある任意の欠陥点と直列の、高くかつ均一な内部電気抵抗を提供すると共に、セルの全外部抵抗を低レベルに維持する。
【００４５】
本明細書で好ましい実施形態を図示および説明したが、本発明の着想から逸脱することなく、好ましい実施形態に対して様々な修正を行うことが可能である。したがって、本発明を限定的にではなく例示的に説明したことを理解されたい。
【００４６】
本発明による光シャッタと共にコレステリック液晶を説明した。しかし、コレステリック液晶と類似の特性を示すどんな液晶も本発明と共に使用することが可能である。
液晶セル内の各基板の内面上の電極のパターニングによって高い内部直列抵抗を実現することを可能にする他の液晶セル光シャッタ構成も可能であることが当業者には明らかであろう。例えば、２つの基板面上の２組の電極行を、前記各組の行の間に小さい交差角が存在するように配向することが可能である。この相互の交差角は４５度程度の大きさにすることが可能であるが、２５度未満の交差角度が好ましく、１０度未満交差角度がさらに好ましい。しかし、好ましい実施形態は、本明細書で示すように、２組の行が本質的に相互に平行となるときである。２つの基板表面上の２組の行の間のゼロでない交差角度は、セルの全電気抵抗を最小限に抑えるわけではないが、それでも、前記光シャッタでの電気火花の発生を軽減する助けになる高い内部抵抗が得られる。
【００４７】
さらに、本明細書では矩形の開口窓を説明したが、開口窓は、楕円形や円形などの他の幾何形状も取ることが可能である。これは、曲線状の電極などの非線形電極を設けることによって得ることが可能である。さらに、電極行は、必ずしも全体の長さにわたって一様かつ一定の幅を有する必要はなく、電極行は他と同じ幅を有する必要はない。
【００４８】
各電極の行が、２つの基板のそれぞれの上で内部的に電気的に平行に接続されるように示したが、それらを他の手段によって基板の外部で電気的に平行に接続することも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】（ａ）は現況技術による矩形開口窓を有する光シャッタ用セルの各側部上の電極の幾何形状を示す図、（ｂ）は現況技術による矩形開口窓を有する光シャッタ用セルの各側部上の電極の幾何形状を示す図、（ｃ）は図１ａおよび図１ｂに示す２つの側部についての完全な液晶セル内の組合せ電極幾何形状を示す図。
【図２】（ａ）は本発明の一実施形態による光シャッタ用セルの各側部上の電極幾何形状を示す図、（ｂ）は本発明の一実施形態による光シャッタ用セルの各側部上の電極幾何形状を示す図、（ｃ）は図２ａおよび図２ｂに示す２つの側部についての完全な液晶セル内の組合せ電極幾何形状を示す図。
【図３】電極パターン中の行の縁部での外縁電圧を示す、本発明による光シャッタの断面図。
【図４】本発明による光シャッタの代替実施形態の断面図。
【図５】（ａ）は本発明の代替実施形態による光シャッタ用セルの各側部上の電極幾何形状を示す図、（ｂ）は本発明の代替実施形態による光シャッタ用セルの各側部上の電極幾何形状を示す図、（ｃ）は図５ａおよび図５ｂに示す２つの側部についての完全な液晶セル内の組合せ電極幾何形状を示す図。
【図１】
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【図３】
2005530216.tif 000005
【図４】
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2005530216.tif 000007
【国際調査報告】
2005530216.tif 000008
2005530216.tif 000009
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