(57)【要約】イオン注入装置用エンドステーションは、イオンビームを受ける真空チャンバを有する。ウエハホルダは、チャンバ壁に付けられた基端部を有する走査アームの末端部で取り付けられている。走査アームは、アームに関節を与え、真空チャンバを通してビーム軌道に対し横断方向の走査面内で２つの直交する走査方向においてウエハホルダの運動を許容する少なくとも２つのロータリジョイントを有する。
2005530329.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イオン注入装置の為のエンドステーションであって、
内部の所定ビーム軌道に沿って伸びるイオンビームを受けるように配置され、チャンバ壁を有する真空チャンバと、
ウエハ面にウエハを保持する為のウエハホルダと、
前記ウエハホルダを前記真空チャンバ内で支持する末端部と、前記チャンバ壁に付けられた基端部を有する走査アームであって、少なくとも第１ロータリジョイント及び第２ロータリジョイントを有し、前記第１ロータリジョイント及び第２ロータリジョイントは、前記ビーム軌道に対し横断する走査面内で２つの直交する走査方向において、前記基板ホルダの運動を許容する為に前記アームに関節を与える、前記走査アームと、
前記ビーム軌道に関する所望の２次元走査パターンにおいて、前記走査面内で前記基板ホルダを移動させる為に動作可能な走査アームドライバと、
を備える、前記エンドステーション。
【請求項２】
前記基板ホルダを前記走査アームの前記末端部に取り付ける第３ロータリジョイントを含み、前記ウエハ面に垂直な回転軸を有する、請求項１記載のエンドステーション。
【請求項３】
前記走査アームの前記基端部を前記チャンバ壁に取り付ける第４ロータリジョイントを含み、前記走査面に平行な回転軸を有し、前記第４ロータリジョイントにおける前記走査アームの回転が前記ビーム軌道に関し前記走査面を回転させる、請求項１または２記載のエンドステーション。
【請求項４】
前記第１ロータリジョイント及び第２ロータリジョイントは、前記ウエハ面に対し直交する軸を有し、これにより、前記走査面が前記ウエハ面に対し平行になる、請求項１〜３のいずれか一項に記載のエンドステーション。
【請求項５】
前記第１ロータリジョイント及び第２ロータリジョイントは、前記ウエハ面に対し直交する軸を有し、前記第４ロータリジョイントの軸は、前記ウエハ面内にある、請求項３記載のエンドステーション。
【請求項６】
前記第４ロータリジョイントの軸は、前記ビーム軌道を遮断する、請求項５記載のエンドステーション。
【請求項７】
前記第４ロータリジョイントの軸は、前記ビーム軌道に対し直交する、請求項５記載のエンドステーション。
【請求項８】
前記第１ロータリジョイント及び第２ロータリジョイントは、前記ウエハ面に対し直交する軸を有し、前記走査アームドライバは、前記所望の走査パターン中、上記ウエハホルダの向きを一定に維持するように、前記第３ロータリジョイントを駆動する為に動作可能である、請求項２記載のエンドステーション。
【請求項９】
前記走査アームドライバは、ビーム軌道に関する上記基板ホルダのリニア直交ラスタ走査パターンを提供する為に動作可能であり、所定走査ピッチだけ分離されたビーム軌道を横切る上記ウエハホルダの平行リニア走査を備える、請求項１〜８のいずれか一項に記載のエンドステーション。
【請求項１０】
前記走査アームドライバは、前記第１ロータリジョイント及び第２ロータリジョイントを駆動する各々の第１モータ及び第２モータと、前記所望の走査パターンを与えるように前記第１モータ及び第２モータを制御するモータコントローラと、を備える、請求項１〜９のいずれか一項に記載のエンドステーション。
【請求項１１】
ワークピースを所望の２次元走査パターンで移動させる方法であって、上記アームに関節を与える少なくとも２つのロータリジョイントを用いて、上記ワークピースを、走査アームの末端部でワークピースホルダ上に取り付けるステップであって、走査面内の２つの直交する走査方向で前記ホルダの移動を許容する、前記ステップと、
前記所望の２次元走査パターン内の前記走査面において、前記ホルダを移動させるために上記走査アームを駆動するステップと、
を備える、前記方法。
【発明の詳細な説明】
【発明の分野】
【０００１】
この発明は、イオン注入装置及び、イオン注入される半導体ウエハ又は他の基板の複数方向の機械的走査の為に装置を組み込む為のエンドステーションに関する。本発明は、また、イオン注入装置内のイオン注入用基板の複数方向の機械的走査の為の方法に関する。
【０００２】
発明の背景
典型的なイオン注入装置において、比較的に小さな横断面のドーパントイオンビームは、シリコンウエハ又は他の基板に関して走査される。これは、３つの方法のいずれかにより行われるが、３つの方法とは、静止状態のウエハに関する２方向でビームを走査すること、静止状態のビームに関する２方向でウエハを走査すること、ビームを一方向で走査し、同時に、ウエハを機械的に第２の方向、通常は直交する方向で走査するというハイブリッド技術である。
【０００３】
イオン注入装置のエンドステーションにおいて一群のウエハの同時イオン注入の為に設計されたバッチ式イオン注入装置は、通常、その周辺部付近で多くのウエハを運ぶ回転ホィールを有する。ホィールは、各ウエハがイオンビームを交互に通過し、その後、実質的に半径方向を横切ってホィール上のウエハの円周軌道を平行移動させる為にホィールの回転軸を往復運動させ、ウエハの全部が均等にイオン注入されることを確実にする。そのような走査ホィール型バッチ式イオン注入装置の例が米国特許第５３８９７９３号に開示されている。
【０００４】
静止状態のウエハに関する２次元方向でイオンビームを走査する為のシステムは、米国特許第４７３６１０７号に開示され、一方向に走査されるビームと直交する方向に機械的に走査されるウエハを用いるハイブリッド技術は、米国特許第５８９８１７９号、米国特許第５００３１８３号、米国特許第５２２９６１５号、米国特許第５４０６０８８号に開示されている。
【０００５】
２次元ビーム走査システム及びハイブリッド走査システムは、通常、１枚ずつ単一ウエハをイオン注入するのに好都合である。しかし、イオンビームを走査することに関連した配置形態は、好結果のイオン注入装置の設計に対し一定の難題を提示する。可変磁界を用いたイオンビーム走査は、静電的ビーム型走査以上に好都合であるが、これは、電界の存在がビームプラズマからの電子を中性化することを取り去り、ビーム制御問題を生じる空間電荷を引き起こすからである。これは、低いエネルギで高いビーム電流で、本質的に厳しい。しかし、ビーム走査システム、特に磁気走査システムは、巨大であり、比較的高価であり、延長されたビームラインが必要であり、半導体製造設備内のイオン注入装置の全体的なスペースを実質的に増加し得る。
【０００６】
発明の概要
本発明は、実質的に静止状態のイオンビームを横切りウエハの２次元走査の為の機構を備えたイオン注入装置用エンドステーションを提供することにより、単一ウエハ用イオン注入装置におけるビーム走査配置に伴う問題を避けることを追求する。
【０００７】
したがって、本発明は、イオン注入装置の為のエンドステーションであって、内部の所定ビーム軌道に沿って伸びるイオンビームを受けるように配置され、チャンバ壁を有する真空チャンバと、ウエハ面にウエハを保持する為のウエハホルダと、前記ウエハホルダを前記真空チャンバ内で支持する末端部と、前記チャンバ壁に付けられた基端部を有する走査アームであって、少なくとも第１ロータリジョイント及び第２ロータリジョイントを有し、前記第１ロータリジョイント及び第２ロータリジョイントは、前記ビーム軌道に対し横断する走査面内で２つの直交する走査方向において、前記基板ホルダの運動を許容する為に前記アームに関節を与える、前記走査アームと、前記ビーム軌道に関して所望の２次元走査パターンにおいて、前記走査面内で前記基板ホルダを移動させる為に動作可能な走査アームドライバと、を備える、前記エンドステーションを提供する。
【０００８】
この構成は、必要な２次元走査パターンを機械的にウエハホルダに適用させ、ロータリジョイントだけを使用し、走査アームに提供された２つのロータリジョイントを含む。
【０００９】
好ましくは、前記基板ホルダを走査アームの末端部に取り付け、前記ウエハ面に垂直な回転軸を有する第３ロータリジョイントが提供される。それから、この第３ロータリジョイントは、ウエハホルダの走査中、ウエハ面に垂直な回転軸に関しウエハホルダを一定に保持する為に、走査中に動作可能である。
【００１０】
好ましくは更に、前記走査アームの前記基端部を前記チャンバ壁に取り付ける第４ロータリジョイントが提供される。第４ロータリジョイントは、前記走査面に平行な回転軸を有してもよく、これにより、前記第４ロータリジョイントにおける走査アームの回転が、ビーム軌道に関し前記走査面を回転する。これにより、イオン注入の角度が調整可能になる。好ましくは、第４ロータリジョイントの軸はウエハ面内にあり、さらに好ましくは、真空チャンバを通してビーム軌道を遮断する。そのとき、イオン注入の角度の調整は、走査面の中心のビーム軌道に沿って距離を変更することなく、行われる。
【００１１】
本発明は、また、ワークピースを所望の２次元走査パターンで移動させる方法であって、上記ワークピースを、上記アームに関節を与える少なくとも２つのロータリジョイントを用いて、走査アームの末端部でワークピースホルダ上に取り付けるステップであって、走査面内の２つの直交する走査方向で前記ホルダの移動を許容する、前記ステップと、前記所望の２次元走査パターン内の前記走査面において、前記ホルダを移動させるために上記走査アームを駆動するステップと、を備える、前記方法を提供する。
【００１２】
以下、添付図面を参照して本発明の実施例を説明する。
【００１３】
好適実施形態の詳細な説明
図１は、イオン注入装置の概略的例示を提供する。イオン源１０は、プラズマチャンバ１１を含み、プラズマチャンバ１１内で、イオン注入されるべきイオン種が形成される。イオンは、イオンビーム１４を形成する為に、抽出電極１３により制御される電界により、プラズマチャンバ１１の全面にあるスリット１２を通して抽出される。イオンビーム１４は、質量分解装置１５に入り、その中で、図の紙面に垂直に向けられる磁界が、イオンを湾曲軌道１６に移動させるが、その曲率半径は、分析装置に入るイオンの運動量及び電荷状態に依存する。質量分解装置に入るイオンは、プラズマチャンバ１１と質量分解装置１５間の電位差により定められる同一エネルギを有するので、質量分解装置内のイオンの曲率半径は、実際には、イオンの質量対電荷比に依存する。
【００１４】
その結果、異なる質量対電荷比のイオンの軌跡は、それらが質量分解装置を離れるとき図の紙面内で分散され、質量分解スリット１７は、選択された質量対電荷比のイオンだけを外側に通過させ、イオン注入装置のエンドチャンバ１８に入れるように配置される。これまで説明されたイオン注入装置の詳細な動作及び構造は、当該技術分野の当業者に理解可能であり、更なる情報は、例えば、米国特許第５３８９７９３号、米国特許第５９６９３６６号から入手可能である。
【００１５】
エンドチャンバ１８において、選択された質量対電荷比のイオン（通常は、特定質量の単電荷イオン）のイオンビーム１９は、半導体ウエハ２０に向けられ、所定の半導体生産処理により規定されたようにウエハ内にイオンを注入する。ウエハの前で、イオンビーム１９は知られたタイプの電子フラッドシステム３２（米国特許第５３９９８７１号参照）を通過し、イオン注入中、ウエハ表面の正電荷蓄積を中性化する為に電子を提供する。
【００１６】
イオンビーム１９は、衝突するとき、ウエハ上で１０ｍｍから４０ｍｍの間の直径を有するが、ウエハは、通常、２００ｍｍ、最近は３００ｍｍを超える直径を有する。イオン注入手順において非常に重要なことは、半導体ウエハ２０の各単位面積に送出されるイオンの照射量がウエハ２０の全表面積にわたり均一であることを確実にする点である。したがって、本実施形態において、エンドチャンバ１８内のイオンビーム１９は、走査されず、実質的に一定のビーム軸２１を有することから、ウエハ表面にわたり照射量の均一分布を確実にする為に、半導体ウエハ２０は機械的に平行移動可能であり、ビーム１９はウエハ２０上に所定の走査パターンを描くことを保証することが重要である。
【００１７】
エンドチャンバ１８内の半導体ウエハ２０を保持し、要求されているようにウエハを、イオンビーム１９を横切って走査する為の機構を、以下、詳細に説明する。この機構は、図１の平面図に例示されており、図２の斜視図で更に例示されている。
【００１８】
認識されるように、イオン注入装置のエンドチャンバ１８は、真空チャンバを構成し、真空チャンバは、所定ビーム軸２１に沿って伸びるイオンビーム１９を受ける。半導体ウエハ２０は、ウエハホルダ２２上に保持され、それ自体、走査アーム２４の外側または末端部２３に取り付けられている。走査アームの付近または基端部２５は、エンドチャンバ１８の壁２６に取り付けられている。
【００１９】
走査アーム２４は、走査アームの基端部で第１ロータリジョイント２７、走査アーム２４の長さに沿っておよそ中間で第２ロータリジョイント２８により関節でつながれている。ジョイント２７、２８の回転軸２９、３０は、互いに平行になっており、また、図１の紙面に垂直に伸びるビーム軸２１（例えば、図２に例示された向きにおける垂直平面）を内包する平面にも平行である。
【００２０】
ビーム軸２１を通ってウエハ２０の所望の２次元走査パターンを与える為に、走査アーム２４の動作は、図３の概略図に最良に例示されている。この図において、図１または図２のコンポーネントに共通なコンポーネントは、同一の参照符合が付与されている。図３の線図は、ビーム軸２１に沿って（すなわち、図１及び図２の矢印３１の方向から）直接見るものである。したがって、関節付き走査アーム２４は、内側部分４０と外側部分４１を備え、これらは、ロータリジョイント２７により、共に関節でつながれている。内側部分４０は、ロータリジョイント２８により、それ自体、壁２６に接続されている。
【００２１】
ウエハ２０に対する平行リニアラスタ走査パターンは、ライン４２により表示されるが、これは、ロータリジョイント２７，２８の適切な動作によりイオンビーム１９を通してウエハが走査されるとき、ウエハホルダ２２上に保持されたウエハ２０の中心点の軌跡である。図３において、中央走査ライン４３に沿った単一の横移動（図３において左から右）は、走査アーム部分４０，４１及びウエハ２０の実線及び点線表示により特別に例示されている。
【００２２】
ロータリジョイント２７，２８の各々は、図１，図２に最良に示されるように、各電気モータ４４，４５により駆動される。
【００２３】
走査アーム２４は、アーム部分４０，４１を提供する中空の細長い部材から構成されるが、ロータリジョイント２７，２８は、真空密閉されたジョイントであり、走査アームの内部が大気圧にあり、アームはエンドチャンバ１８内部の真空環境内で動作する。ロータリ真空密閉部は、真空技術で十分に確立されているので、ジョイント２７，２８の為に使用される密閉部は、例えば磁性流体真空密閉でもよいが、他の種類のロータリ真空密閉が使用可能である。ロータリジョイント２７，２８は、例えば、電気モータ、更に必要であれば、冷却用流体ラインを供給する為に、電気導体を含む様々な設備のジョイントを介する接続を許容するように設計されている。多くの適用例において、ホルダ２２上のウエハ２０は、イオン注入中に冷却されなければならず、冷却用流体供給ラインは、走査アーム２４に沿って伸び、回転するジョイント２７，２８を通じて提供される。
【００２４】
図３に例示されたラスタ走査４２を実行する為に、モータ４４及びモータ４５は、走査アーム用コントローラ４６（図１）により供給された駆動電圧により制御される。走査アーム用コントローラ４６は、同時に、所定の制御アルゴリズムに従って、モータ４５，モータ４６の回転速度を制御し、ウエハ２０は、イオンビームを横切り所望の走査パターンに従って移動される。例えば、同時に起こるロータリジョイント２７周りの走査アーム部分４０の同時反時計回りの運動とロータリジョイント２８周りの走査アーム部分４１の時計廻りの運動は、図３に例示された走査ライン４３に沿った半導体ウエハ２０のリニア走査運動を生み出すことを必要とする。走査アーム用コントローラは、所定のアルゴリズムに従って、モータ４４，４５の速度を制御し、ライン４３に沿ってウエハの一定走査速度を提供する。走査アームコントローラは、モータ４４，４５と共に、走査アームドライバを共に構成し、走査アームドライバは、エンドチャンバ１８内部のウエハの位置を制御し、所望の２次元走査パターンを生み出すことができる。
【００２５】
図３に示された配置において、走査アーム２４の軸２７，２８は、紙面に垂直なので、この関節付き走査アームにより生み出された２次元走査パターンは、紙面に平行な走査面内にある。
【００２６】
好ましい配置において、走査アーム２４は、エンドチャンバの壁２６に、更なるロータリジョイント４７により取り付けられるが、ロータリジョイント４７は、走査アーム２４の関節により規定された走査面に平行な回転軸４８を有する。全体の走査アーム機構２４は、モータ４９により軸４８の周りに回転可能である。軸４８周りの走査アーム２４の回転は、イオンビーム軸２１に関する走査面の対応した回転を生み出す。この方法において、走査面は、ウエハホルダ２２上の半導体ウエハ内のイオン注入の所望の角度を可能とするように角度を付けることができる。
【００２７】
重要なことに、説明された実施例において、走査アームの回転軸４８は、ウエハホルダ２２上のウエハ２０により占められた平面内にあり、また、図２，図３で最良に示されるように、ビーム軸２１を遮断する。この幾何学的形状が、確実にすることは、ビーム軸２１に沿った走査パターンの中心運動を生み出すことなく、ウエハ２０のイオン注入角度を軸４８周りの走査アーム２４の回転により調整可能とすることであり、これは、等心（isocentric）イオン注入角度調整として呼ばれてきた。
【００２８】
ウエハホルダ２２は、回転軸５１の周りに回転できるように、走査アーム２４の末端部でロータリジョイント５０により回転可能に取り付けられてもよい。軸５１は、軸２９，３０と平行になるように配置される。軸５１の周りのウエハホルダ２２の回転は、更なるモータ５２により制御され、モータ５２は、また、走査アーム用コントローラ４６から制御される。好ましい配置において、走査アーム用コントローラ４６は、ウエハホルダが走査ライン４３に沿って平行移動されるとき（図３）、モータ５２にウエハホルダ２２を反時計回りに回転させ、軸５１の周りでウエハ２０（及びウエハホルダ２２）の向きを一定に維持する。モータ５２は、走査パターン４２の他の要素中、対応する回転を生み出すので、ウエハの向きは、一貫して一定に維持される。
【００２９】
モータ５２は、所定アルゴリズムに従い、モータ４４，４５の制御と同一方法で、走査アームコントローラ４６により制御される。走査アーム２４の様々なモータを制御する為のアルゴリズムは、走査アーム用コントローラ４６内のメモリに保存可能である。適切なアルゴリズムを案出することは、当業者にとって、問題ではなかろう。例えば、様々なモータ４４，４５，５２の回転位置と、ウエハホルダの所望の位置との間の関係は、当業者により簡単に導かれる三角法の式により定められる。
【００３０】
図３により例示されたラスタ走査パターンは、短い横方向運動により相互接続された回転軸４８に平行な、比較的に長い往復直線運動を提供し、ビーム軸２１に関し一連の平行な走査ラインを生み出す。代替えの走査の向き及びパターンは、使用可能である。例えば図４において、図３の走査パターンは、軸４８に関し、およそ４５°で回転されていた。適切なアルゴリズムは、容易に案出され、走査アーム用コントローラ４６に保存され、図４に例示された走査パターンを実行する。図４の走査パターンの利点は、平行走査ライン６０により表示されたウエハの長い往復運動が、末端の走査アーム部分４１の比較的大きな回転運動、基部の走査アーム部分４０の比較的に小さな角度運動により達成されることであろう。これは、走査パターンの実行中、モータ４４，４５上の負荷を減少することができる。適切な照射量均一性または、比較的高いビーム電流から、要求された低い全照射量を達成する為に、更に、いかなる場合でも、生産性を最大にする為に、走査は、比較的、高速で実行されるべきである点が理解されよう。
【００３１】
図４の走査パターンは、図中、左上と右下間に斜めに伸びる急速走査ライン６０で例示されているが、走査アームは、エンドチャンバ内に取り付け可能であり、重力は、矢印６１の方向において、走査ライン６０に実質的に直交して走査アームに作用することが理解される。そのとき、ウエハホルダの走査ラインに沿った主要な往復運動は、水平であり、走査アームの駆動モータ４４，４５の負荷を最小限にする。
【００３２】
図５は、実施例による更なる配置を例示する。図５において、基部の走査アーム部分７０は、チャンバの床部に関し、イオン注入装置のエンドチャンバ内で実質的に垂直となるように、ロータリジョイント７１の周りで回転するように取り付けられている。末端の走査アーム部分７３は、ほぼ水平に伸び、イオンビーム軸７４は、基部のアーム部分７０および末端のアーム部分７３間のロータリジョイント７７の高さに実質的になっている。ウエハホルダ７６は、ロータリジョイント７７により、アーム部分７３の末端部で回転自在に取り付けられている。ウエハホルダ７６は、所望の走査パターン内で、ロータリジョイント７１，７５，７６を駆動する各々のモータの適切な同時制御により、ビーム軸７４を横切って走査可能である。
【００３３】
この配置において、好ましくは、ジョイント７１，７５、７６の軸はビーム軸に対し平行であり、ウエハホルダ７６は、ジョイント７７の軸及びビーム軸７４に垂直となるように、イオン注入されるウエハを保持する。図６は、イオン注入角度を調整可能とする変形例を例示する。
【００３４】
図６において、図５の走査アームは、図５の矢印８０の方向に沿って表示され、対応する部品は同一の参照符合が付与されている。しかし、ロータリジョイント７５は、ビーム軸７４及びジョイント７５の軸と直交する回転軸８２を有する更なるロータリジョイント８１により基部の走査アーム部分７０の末端部に取り付けられているので、末端の走査アーム部分７３は、ウエハホルダ７６と共に軸８２の周りに旋回可能であり、ホルダ７６上のウエハに対する垂線は、イオンビーム軸７４に対し選択された角度θを示す。好ましくは、例示されているように、ジョイント８１の軸８２は、ホルダ７６上のウエハの平面内にあり、角度θでのウエハの走査は、アイソセントリックである。
【００３５】
図５，図６の配置は、特に好都合かもしれないが、これは、末端の走査アーム部分７３により交換される走査ホィールを備えたバッチ式エンドステーション（例えば、米国特許５６４１９６９号に示されたもの）の基本的機械的構造を使用することができる。
【００３６】
図３，図４、図５、図６は、リニア平行ラスタ走査パターンを例示するが、あらゆる望ましい二次元走査パターンを実行する為に、走査アーム２４の移動範囲で、適したアルゴリズムが走査アームコントローラ４６に保存可能であることが理解される。例えば、円形及び螺旋走査パターンは、適した制御アルゴリズムを用いて適応可能である。
【００３７】
説明され、図に例示された発明の実施例において、走査アーム用ドライバは、各ロータリジョイント上に同軸に取り付けられた各電気モータを含む。その代わり、１以上の電気モータは、各ロータリジョイントの軸から離れて取り付けられ、歯車リンク又は駆動ベルト及びプーリーによりジョイントを駆動する為に結合される。また、１以上のドライバの電気モータは、各ジョイント２８、５０に駆動を与える為に走査アームの部分４０、４１に沿って伸びるリンクや駆動ベルトを用いて、走査アームをエンドチャンバ壁に連結する主要ハブに或いはその付近に収容可能である。
【００３８】
説明された実施例において、走査アームドライバ内に含まれる電気モータは、精密モータであり、通常は、走査アームコントローラに対するポジションフィードバックを備えたサーボモータである。走査アーム用コントローラは、連続したモータ位置の、保存されたテーブルを使用して動作可能であり、これらの位置は、ともに、完全な走査パターン中、ウエハホルダ２２の望ましい連続した位置に対応する。あるいは、数学的アルゴリズムは、ウエハホルダ２２の位置及び運動を記述するデータを、走査パターンの経過中、所定走査パターンを達成する為に必要な走査アーム用ドライバのモータの対応する位置及び運動に変換する数式を含む走査アーム用コントローラ内に提供されてもよい。
【００３９】
図面を参照して説明された本発明の実施例において、走査アーム２４の２つの部分４０，４１は、同一の長さである。２つのアーム部分が、それらの間で走査面を通じてウエハホルダ２２の必要な変位の範囲にある限り、一方の部分が他の部分より実質的に短くてもよいことは、当業者により理解されるであろう。
【００４０】
一般的に、特に前述された配置と異なる他の配置は、当業者にとって明らかであろう。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】図１は、本発明を実施するエンドステーションを組み込むイオン注入装置を、一部横断面で示す概略図である。
【図２】図２は、図１のイオン注入装置のエンドステーションにおける機械的ウエハ走査システムの斜視図である。
【図３】図３は、ラスタ走査パターンの生成を例示した図１，図２の機械的走査システムの動作の、概略的表示である。
【図４】図４は、走査システムの異なる動作の概略表示である。
【図５】図５は、本発明の更なる実施形態の概略表示である。
【図６】図６は、図５の実施形態の変形例の部分的横断面の図である。
【符号の説明】
【００４２】
１０…イオン源、１１…プラズマチャンバ、１２…スリット、１３…抽出用電極、１４…イオンビーム、１５…質量分解装置、１６…湾曲軌道、１７…質量分解用スリット、１８…エンドチャンバ、１９…イオンビーム、２０…半導体ウエハ、２１…ビーム軸、２２…ウエハホルダ、２３…末端部、２４…走査アーム、２５…基端部、２６…壁、２７…第１ロータリジョイント、２８…第２ロータリジョイント、２９、３０…回転軸、３１…矢印、３２…電子フラッドシステム、４０…内側部分、４１…外側部分、４２…ライン、４３…中央走査ライン、４４、４５…電気モータ、４６…走査アーム用コントローラ、４７…更なるロータリジョイント、４８…回転軸、４９…モータ、５０…ロータリジョイント、５１…軸、５２…モータ、６０…急速走査ライン、６１…矢印、７０…基部の走査アーム部分、７１…ロータリジョイント、７２…チャンバ床部、７３…末端の走査アーム部分、７４…イオンビーム軸、７５…ロータリジョイント、７６…ウエハホルダ、７７…ロータリジョイント、８０…矢印、８１…ロータリジョイント、８２…軸。
【図１】
2005530329.tif 000003
【図２】
2005530329.tif 000004
【図３】
2005530329.tif 000005
【図４】
2005530329.tif 000006
【図５】
2005530329.tif 000007
【図６】
2005530329.tif 000008
【国際調査報告】
2005530329.tif 000009
2005530329.tif 000010