(57)【要約】【解決手段】  Ｘ線源又は検出器（１３）の一部として放射（１１）を透過させるための放射窓装置（１０）は、実質的な真空を被るように構成された支持部（１４）と、放射を透過させるように構成された開口部（１８）とを有する。フィルム（２２）は、開口部に亘って支持部に直接取り付けられ、軟Ｘ線を透過させるように選択された材料及び厚さを有する。接着剤（２６）は、フィルムを支持部に直接接着させる。コーティング（３０，３４）は、フィルムの吸引側及び環境側の少なくとも１つの露出部分と、該フィルムを取り囲む支持部の一部分とを覆う。支持部、フィルム及び接着剤は、一方の側が実質的な真空を被るとき該実質的な真空を維持することができる真空気密アッセンブリを形成する。更には、真空気密アッセンブリは、約２５０℃よりも高い温度に耐えることができる。
2005539351.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射を透過させるように構成された窓装置であって、
（ａ）  実質的な真空を被るように構成され、放射を透過させるように構成された開口部を有する、支持部と、
（ｂ）  前記開口部に亘って前記支持部に直接的に取り付けられたフィルムであって、該フィルムは、軟Ｘ線を透過させるように選択された、材料及び厚さを有すると共に、実質的な真空に面するように構成された吸引側と実質的な真空から離れる方に面して構成された環境側とを有する、前記フィルムと、
（ｃ）  前記フィルムを前記支持部に直接接着させる接着剤と、
（ｄ）  前記フィルムの前記吸引側及び前記環境側の少なくとも１つの露出部分と、該フィルムを取り囲む前記支持部の一部分とを覆う、コーティングと、
を備え、
（ｅ）  前記フィルム、前記接着剤、及び、前記コーティングは、一方の側が実質的な真空を被るとき該実質的な真空を維持することができる真空気密アッセンブリを形成し、
（ｆ）  前記真空気密アッセンブリは、約２５０℃よりも高い温度に耐えることができる、窓装置。
【請求項２】
前記フィルムは、応力解放構造部無しで前記支持部に直接接着されている、請求項１に記載の窓装置。
【請求項３】
前記コーティングは、前記接着剤の露出部分を更に覆っている、請求項１に記載の窓装置。
【請求項４】
前記コーティングは、前記フィルムの前記吸引側及び前記環境側の両方の露出部分を覆っている、請求項１に記載の窓装置。
【請求項５】
前記接着剤は、有機材料を含み、前記コーティングは、無機質材料を含んでいる、請求項１に記載の窓装置。
【請求項６】
前記フィルムは、前記コーティングにより覆われる、本来の酸化物カバーを含んでいる、請求項１に記載の窓装置。  
【請求項７】
前記支持部は、モネルメタル（Ｒ）、コバール（Ｒ）、ステンレス鋼及びニッケルからなるグループから選択された材料を含み、前記接着剤は、共有結合を形成するように前記支持部の材料と化学反応するポリイミドを含む、請求項１に記載の窓装置。  
【請求項８】
前記フィルム及び前記接着剤は、極性材料を含み、前記接着剤は、機械的結合を形成するため毛細管作用により前記フィルム内の粒状境界隙間を充填するのに十分に低い粘性率を有する、請求項１に記載の窓装置。
【請求項９】
前記フィルムはベリリウムを含み、前記接着剤はポリイミド材料を含む、請求項８に記載の窓装置。
【請求項１０】
前記フィルムの材料及び厚さは、１８．５オングストロームより長い波長の入射放射のうち少なくとも１０％を透過させるように選択される、請求項１に記載の窓装置。
【請求項１１】
前記支持部は、密封吸引チャンバーの一部を形成し、前記窓装置は、Ｘ線検出器又はＸ線源を更に備える、請求項１に記載の窓装置。
【請求項１２】
放射を透過させるように構成された窓装置であって、
（ａ）  実質的な真空を被るように構成され、放射を透過させるように構成された開口部を有する、支持部と、
（ｂ）  前記開口部に亘って前記支持部に直接的に取り付けられたフィルムであって、該フィルムは、ベリリウム材料を含み、約２３μｍより小さい厚さを有すると共に、実質的な真空に面するように構成された吸引側と実質的な真空から離れる方に面して構成された環境側とを有する、前記フィルムと、
（ｃ）  ポリマー材料を含み、前記フィルムを前記支持部に接着させる接着剤と、
（ｄ）  前記フィルムの前記吸引側及び前記環境側の少なくとも１つの露出部分と、該フィルムを取り囲む前記支持部の一部分とを覆う、ホウ素−水素の組成物を含むコーティングと、
を備え、
（ｅ）  前記フィルム、前記接着剤、及び、前記コーティングは、一方の側が実質的な真空を被るとき該実質的な真空を維持することができる真空気密アッセンブリを形成し、
（ｆ）  前記真空気密アッセンブリは、約２５０℃よりも高い温度に耐えることができる、窓装置。
【請求項１３】
前記フィルムは、応力解放構造部無しで前記支持部に直接接着されている、請求項１２に記載の窓装置。
【請求項１４】
前記コーティングは、前記接着剤の露出部分を更に覆っている、請求項１２に記載の窓装置。
【請求項１５】
前記コーティングは、前記フィルムの前記吸引側及び前記環境側の両方の露出部分を覆っている、請求項１２に記載の窓装置。
【請求項１６】
前記フィルムは、表面を極性にさせると共に、前記コーティングにより覆われるベリリウム酸化物カバーを備える、請求項１２に記載の窓装置。  
【請求項１７】
前記支持部は、モネルメタル（Ｒ）、コバール（Ｒ）、ステンレス鋼及びニッケルからなるグループから選択された材料を含み、前記接着剤は、共有結合を形成するように前記支持部の材料と化学反応する、請求項１２に記載の窓装置。  
【請求項１８】
前記接着剤は、機械的結合を形成するため毛細管作用により前記フィルム内の粒状境界隙間を充填するのに十分に低い粘性率を有する、請求項１２に記載の窓装置。
【請求項１９】
前記フィルムは、１８．５オングストロームより長い波長の入射放射のうち少なくとも１０％を透過させる、請求項１２に記載の窓装置。
【請求項２０】
前記支持部は、密封吸引チャンバーの一部を形成し、前記窓装置は、Ｘ線検出器又はＸ線源を更に備える、請求項１２に記載の窓装置。
【請求項２１】
放射窓装置を作るための方法であって、
（ａ）  軟Ｘ線を透過することができるフィルムと支持部との間の接触領域に液体接着剤を塗布し、
（ｂ）  前記フィルムを前記支持部の開口部に亘って該支持部上に配置し、
（ｃ）  前記接着剤を硬化させるため約２５０℃より高い温度を該接着剤、前記フィルム及び前記支持部に適用し、
（ｄ）  前記フィルムの露出部分を、少なくとも（ｉ）  実質的な真空に面するように構成された該フィルムの吸引側、又は、（ｉｉ）実質的な真空から離れる方に面して構成された該フィルムの環境側に、有機材料で被覆する、各工程を備える方法。
【請求項２２】
温度を適用する前記工程は、約４５０℃よりも高い温度を適用する工程を更に備える、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
温度を適用する前記工程は、前記接着剤を硬化させるため、該接着剤、前記フィルム及び前記支持部に実質的な真空を適用する工程を更に備える、請求項２１に記載の方法。
【請求項２４】
前記塗布工程は、ホウ素−水素の組成物を塗布するため化学蒸着を使用する工程を更に備える、請求項２１に記載の方法。
【請求項２５】
前記被覆工程は、前記フィルムの前記吸引側及び前記環境側の両方の露出部分を被覆する工程を更に備える、請求項２３に記載の方法。
【請求項２６】
放射窓装置を作るための方法であって、
（ａ）  ベリリウムフィルムと支持部との間の接触領域に液体ポリイミド接着剤を塗布し、
（ｂ）  前記フィルムを前記支持部の開口部に亘って該支持部上に配置し、
（ｃ）  前記接着剤を硬化させるため約２５０℃より高い温度を該接着剤、前記フィルム及び前記支持部に適用し、
（ｄ）  前記フィルムの露出部分を、少なくとも（ｉ）  実質的な真空に面するように構成された該フィルムの吸引側、又は、（ｉｉ）実質的な真空から離れる方に面して構成された該フィルムの環境側に、ホウ素−水素の組成物で被覆する、各工程を備える方法。
【請求項２７】
温度を適用する前記工程は、約４５０℃よりも高い温度を適用する工程を更に備える、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
前記塗布工程は、ホウ素−水素の組成物を塗布するため化学蒸着を使用する工程を更に備える、請求項２６に記載の方法。
【請求項２９】
前記被覆工程は、前記フィルムの前記吸引側及び前記環境側の両方の露出部分を被覆する工程を更に備える、請求項２６に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、概して、真空チャンバーを密封すると共に放射又は電子を透過させるための窓に関する。
【背景技術】
【０００２】
Ｘ線源又はＸ線検出器は、Ｘ線が透過する窓を備えた真空チャンバーを利用する。窓は、典型的には、圧延により作られたベリリウムフォイルから形成することができる。圧延工程は、ガスを漏らすことができる粒状境界を備えたクリスタライトのモザイクを生成し得る。真空チャンバーでは、少量のガスでさえ、Ｘ線検出器及びＸ線放射器の作動及び長い寿命に深刻な脅威を与える。ベリリウム窓は、典型的には、漏れを防止するため比較的厚く作られている（約２３μｍより大きい）。残念ながら、窓の厚さは、ナトリウムと、より低い原子番号（Ｚ）の元素により放射された軟Ｘ線の透過を妨げる。ベリリウム窓が薄くなればなるほど、その結果できたアッセンブリで漏れを残すこと無しには、支持構造に取り付けることは困難であることが判った。
【０００３】
更には、ベリリウム窓は、その取り付けが応力集中を促進する場合には漏れを助長させ得る。加熱されるときでさえその形状を維持するリングに亘ってベリリウム窓を取り付けることにより応力集中の少なくとも一部を緩和することが提案された。当該窓は、取り付け中又は使用中に熱を受ける可能性がある。
【０００４】
ベリリウム窓は、典型的には、真空チャンバーに取り付け、２５０℃を超える温度で処理されることができる窓アッセンブリを形成するため支持構造部にブレーズ溶接される。ブレーズ溶接は、比較的厚い窓（約３０μｍを超える厚さ）に対して有効であるが、関心のある軟Ｘ線を透過するのに十分に薄いベリリウム窓に対しては有効ではないことが判った。
【０００５】
代替の手段は、接着剤の使用である。接着剤は、真空チャンバーが吸引されるとき、何種類かのガス（例えば酸素）がそれらの窓を通って拡散することをなおも可能にすることができる。加えて、窓は、漏れを回避するのになおも十分に厚くなければならず、この厚さは軟Ｘ線を遮蔽する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
（１）例えば２５０℃より高い温度、又は、４５０℃より高い温度等の上昇した温度で使用することができ、（２）  真空チャンバー内で実質的な真空を維持することができ、（３）軟Ｘ線を透過させることができる、Ｘ線源又は検出器のための窓を開発することが有利であろうことが認知された。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、放射若しくは電子を透過させるように構成された窓装置を提供する。窓は、実質的な真空を被るように構成され、放射を透過させるように構成された開口部を有する、支持部を備える。フィルムは、開口部に亘って支持部に直接的に取り付けられ、軟Ｘ線を透過させるように選択された、材料及び厚さを有する。該フィルムは、実質的な真空に面するように構成された吸引側と実質的な真空から離れる方に面して構成された環境側とを有する。接着剤は、フィルムを支持部に直接接着させる。コーティングは、フィルムの吸引側及び環境側の少なくとも１つの露出部分と、該フィルムを取り囲む支持部の一部分とを覆う。フィルム、接着剤、及び、コーティングは、一方の側が実質的な真空を被るとき該実質的な真空を維持することができる真空気密アッセンブリを形成する。更には、真空気密アッセンブリは、約２５０℃よりも高い温度に耐えることができる。
【０００８】
本発明のより詳細な態様によれば、フィルムは、ベリリウム材料を含み、約２３μｍより小さい厚さを有する。加えて、接着剤はポリマー材料を含むことができる。更には、コーティングは、ホウ素−水素の組成物を含むことができる。
【０００９】
本発明は、放射窓装置を作るための方法を更に提供する。液体接着剤が、軟Ｘ線を透過することができるフィルムと支持部との間の接触領域に塗布される。フィルムは、支持部の開口部に亘って該支持部上に配置される。接着剤を硬化させるため約２５０℃より高い温度が該接着剤、フィルム及び支持部に適用される。実質的な真空を硬化プロセスを援助するため適用することができる。フィルムの露出部分は、少なくとも（ｉ）  実質的な真空に面するように構成された該フィルムの吸引側、又は、（ｉｉ）実質的な真空から離れる方に面して構成された該フィルムの環境側に、有機材料で被覆される。
【００１０】
本発明の追加の特及び利点は、添付図面を参照して、次の詳細な説明から明らかとなろう。該添付図面は、本発明の特徴を一例として示している。
【実施例】
【００１１】
以下、図面に示された実施例を参照する。特定の用語が該実施例を説明するため使用される。それにも係わらず、本発明の範囲の制限が意図されていないことが理解されよう。本願で示されている本発明の特徴の変形及び更なる変更、並びに、関連分野の当業者に想到され、本開示内容に含まれる、本発明の原理の追加の用途は、本発明の範囲内にあるとみなすべきである。
【００１２】
図１乃至図３に示されるように、全体として１０で指し示される、本発明に係る放射窓、装置又はアッセンブリは、真空チャンバー又は吸引チャンバー１２を密封すると共に電子又は放射（図３でライン１１により表される）を透過させる。かくして、放射窓１０は、Ｘ線源又はＸ線検出器（図３）の一部として利用することができる。Ｘ線源及び検出器は、当該技術分野で十分理解されているので、本願ではこれ以上詳細には説明しないことにする。放射窓１０は、他のイオン化放射源に関しても使用することができる。
【００１３】
放射窓１０は、有利に真空を維持し又は漏れに耐え、低い原子番号Ｚの元素により放射された軟Ｘ線を透過させることができ、２５０℃を超える温度、或いは４５０℃さえも超える温度における用途又は処理に耐えることができる。高温処理の一例は、ブレーズ溶接、半田付け又は溶接工程を含んでいる。高温用途の例には、火炎又は加熱線の近傍での使用が含まれている。軟Ｘ線を透過し、真空を維持し、高温に耐えることができる窓が長い間、求められていた。
【００１４】
放射窓１０は、開口部１０が形成された支持部１４又は支持構造部を備えている。支持部１４は、壁を備え、Ｘ線源又は検出器１３（図３）の吸引又は真空チャンバー１２（図３）の一部を形成することができる。支持部１４は、内部の真空に伴う圧力に耐え、外部の環境圧力に伴う圧力に耐えるようにサイズが定められ、形成されている。支持部１４は、例えば、リング又はワッシャー形状を始めとする、図に示されたものとは異なる形態又は形状を持つことができる。支持部１４は、実質的な真空状態を被る、内側即ち吸引側と、環境圧力を受ける、外側即ち環境側とを有する。電子銃、検出器又はＸ線源（図１３の１３により表される）は、チャンバー１２（図３）内に配置することができる。開口部１８は、チャンバーの内外における、Ｘ線、イオン化放射等を始めとする、電磁放射、電子、又は、それらの両方の透過を可能にする。
【００１５】
フィルム２２は、チャンバーの内部で真空を維持する仕方で、支持部１４に配置され、開口部１８に亘って配置される。フィルム２２は、実質的な真空に面する、内部即ち吸引側と、真空側とは反対側に面する、外部即ち環境側とを有する。フィルム２２は、真空を維持し、所望の電磁放射及び／又は電子を透過するように選択された、材料から形成され、そのように選択された厚さを有する。一態様では、フィルムの材料及び厚さは、Ｆ放射（フッ素）の少なくとも約１０％、又は、約１８．５Å（オングストローム）より長い波長を有する入射放射、又は、例えばナトリウム等の８よりも大きい原子番号（Ｚ）を有する他の元素からの特性Ｘ線放射を透過させることができる。加えて、当該フィルムの材料及び厚さは、入射電子の少なくとも約１０％を透過させることができる。
【００１６】
例えば、フィルム２２は、ベリリウムから形成され、約２３μｍ（マイクロメートル）より薄い厚さを持つことができる。ベリリウムは、圧延により形成されたベリリウムフォイルであってもよい。圧延工程は、ガスを漏らすことができる粒状境界を備えたクリスタライトのモザイクを生成し得る。少量のガスでさえ、フィルム又は支持部の吸引側で、Ｘ線検出器及びＸ線放射器の作動及び長い寿命に深刻な脅威を与える。より厚い窓を漏れを回避するため使用することができ、約２３μｍより大きい厚さは、ナトリウム及びより小さい原子番号（Ｚ）の幾つかの元素により放射されたような軟Ｘ線の透過を防止することができる。
【００１７】
ベリリウムは、不純物又は実質的な量の例えば鉄等の重元素を含んでいてもよい。Ｘ線照射の下では、その重元素は、分析物から生じるＸ線の正確な測定結果を妨げるＸ線を放射する。そのような薄いベリリウムフィルム又は窓は、ナトリウムやより小さい原子番号（Ｚ）の元素により放射された軟Ｘ線を透過させることができ、より厚いベリリウムフィルムと比べたとき重元素からの妨げを減少させる。
【００１８】
フィルム２２及び開口部１８は、例えば、円形、四角形、スロット、又は、様々な形状の多数孔を含む、様々に異なる形状を持つことができる。加えて、複数の窓を、一つのチャンバーに設置してもよく、窓は様々に異なる種類のものであってもよい。
【００１９】
フィルム２２は、支持部１４上に直接取り付けることができる。ブレーズ溶接は、より厚い窓（約３０μｍを超える厚さ）に対して有効であるが、関心のある軟ｘ線を透過するのに十分に薄いベリリウム窓に対しては有効ではないことが判った。かくして、フィルム２２を、接着剤２６を用いて支持部に取り付けることができる。接着剤２６は、フィルム２２を支持部１４に直接接着させることができる。該接着剤は、約２５０℃を超える温度で焼くことができる材料を含んでいてもよい。例えば、該接着剤は、例えばポリイミド接着剤等の有機材料を含んでいてもよい。
【００２０】
当該接着剤は、支持部１４及びフィルム２２と機械的結合及び化学的結合又は反応の両方を形成することができる。一態様では、支持部１４は、モネルメタル（Ｒ）、ステンレス鋼、ニッケル又はコバール（Ｒ）を含んでいてもよい。ポリイミド接着剤は、該接着剤を支持部１４に保持するため共有結合を形成するようにニッケルと化学的に反応することができる（モネルメタル（Ｒ）及びコバール（Ｒ）は、主要にはニッケルであり、ステンレス鋼は４乃至１１％のＮｉを含む）。加えて、ポリイミド接着剤は、酸化ベリリウムのように、他の極性材料を湿らすことができるように非常に極性を持つことができる。ポリイミド接着剤は、毛細管作用によりフィルム２２のベリリウム内の粒状境界の隙間を充填させるため、十分に低い粘性率を持つことができ、又は、十分に低い粘性率を持つように用意することができる。かくして、硬化時には、多数の機械的結合が形成される。
【００２１】
しかし、ポリイミド類は、一方側で吸引され、他方の側で大気にさらされる場合に、例えば酸素等の何種類かのガスが該ポリイミド類を通って拡散することをなおも可能にすることができる。加えて、水は、ポリイミドが硬化したとき該ポリイミド内部で発生される。水は、除去されるか又は密封されなければならない。そうでなければ水は時間の経過と共に漏れ出し、真空を汚染するであろう。放射への長期間露出は、典型的には、ガス透過問題を惹起する。
【００２２】
更には、上述のように、フィルム２２のベリリウムは、多結晶であってもよく、かくして、全体的に滑らかではない表面を持ち、粒状境界により交差される。これらの境界及び他の欠陥は、特に上述されたような薄い層において、漏れ経路を提供することができる。従って、フィルムを密封し、真空を維持するためフィルム２２に亘ってコーティングを印加することができる。コーティングは、ベリリウム内の漏れ経路を覆うことができる。例えば、米国特許番号５，２２６，０６７号を参照せよ。該特許の内容は、ここで参照したことにより本願に組み込まれる。加えて、当該コーティングは、接着剤の露出部分に亘って適用することができる。フィルム２２、接着剤２６及びコーティングは、一方の側が実質的な真空を受け、他方の側が環境圧力を受けるとき、実質的な真空を維持することができる真空気密アッセンブリを形成する。
【００２３】
コーティングは、フィルム２２又はベリリウム材料に接着させることができる。一態様では、コーティングは、覆われるべきフィルム２２と同じ極性を少なくとも幾分かは持つことができる。露出されたベリリウムは、その本来の酸化物により覆われるようになり、表面極性を作ることができる。一態様では、コーティング３０及び３４は、例えば、ホウ素−水素又は水素化ホウ素等、実質的にホウ素と水素との組成物を持つ無機質材料を含むことができる。ホウ素−水素の組成物は、化学蒸着により適用することができる。例えば、窒化ホウ素、炭化ホウ素及び炭化シリコン等を含む、他の無機質材料を使用することもできる。
【００２４】
コーティングは、フィルムの吸引側及び環境側のいずれか一方又は両方で、フィルム２２又はその露出部分を覆うことができる。例えば、コーティング３０、又は、外側若しくは環境側のコーティングは、フィルム２２の環境側に配置することができ、コーティング３４、又は、内側若しくは吸引コーティングは、フィルム２２の吸引側に配置することができる。更には、コーティング３０及び／又は３４は、接着剤２６の露出部分と、図示のように、フィルムを取り囲む支持部１４の一部分とを覆うことができる。かくして、コーティングは、接着剤を通したガス漏れに耐えることができる。一態様では、コーティング３０及び３４は、図１に示されるように、フィルム２２の両側に形成されてもよく、図２ｃに示されるように、フィルムの環境側にのみ形成され、又は、図２ｄに示されるように、フィルムの吸引側にのみ形成されてもよい。
【００２５】
更に加えて、フィルム２２を、応力解放構造無しに支持部１４に取り付けることができる。驚くべきことに、フィルム２２は、たとえ応力集中が明らかに存在したとしても漏れをもたらさない。薄いフィルム２２と、接着剤２６又はポリイミド接着剤と、コーティング３０及び３４との間の相乗効果が非常にうまくいくことが判明した。ポリマー接着剤は、非常に薄いベリリウムフォイルの使用を可能にするのに十分に圧力を分布させる。ベリリウムの薄さは、適切なＸ線透過又は電子透過にとって必要である。残念ながら、薄いベリリウムは、圧力差の下でゆっくりとしたガス漏れを可能にする。ポリマーも、透過によりガスを透過させる。次に施される水素化ホウ素コーティングは、漏れ及びガス流出を防止するため、ベリリウム及び接着剤の両方を密封している。これらの部分の全ては、高い真空のための高温ベークアウト（通常、２５０℃よりも高い温度）の間にそれらの重要な特性を維持する。この部分の組み合わせは、透過性、永久的な高い真空、高温耐性の窓アッセンブリを提供し、これに対しては、長い間希求されてきた。
【００２６】
支持部１４は、開口部１８を取り囲む凹部４０を備えることができる。フィルム２２は、凹部４０に配置することができ、凹部４０は、フィルム２２が凹部４０内にへこまされるようにフィルム２２の厚さよりも大きい深さを持つことができる。凹部４０は、フィルム２２を取り囲む突起部を形成することができ、当該フィルムを他の物体との接触から保護するように作用する。
【００２７】
フィルム２２は、例えば、ポリマーフィルム、薄い結晶シート（例えば雲母）、ダイアモンドフィルム、又は、炭化シリコン、窒化シリコン、窒化ホウ素若しくは炭化ホウ素等の他の無機フィルム等の他の放射透過性材料を始めとした、他の材料から形成することができる。
【００２８】
図２ａ乃至図２ｄを参照すると、上述した放射窓装置又はアッセンブリ１０を作るための方法は、フィルム２２を支持部１４に取り付け又は装着する工程を備えている。フィルム２２を、応力解放構造無しに、支持部１４に直接取り付け又は装着することができる。上述されたように、支持部１４は、例えば、モネルメタル（Ｒ）、コバール（Ｒ）、ステンレス鋼又はニッケル等の金属材料から形成することができる。例えば機械加工、打ち抜き加工、鋳造工程等の追加の製造技術から支持部を形成することができる。更に、上述されたように、フィルム２２は、所望の厚さに圧延されたベリリウムから形成することができる。しかし、他の材料及び製造技術を使用することもできる。ベリリウムフォイルは市販されている。
【００２９】
フィルム２２は、接着剤２６を用いて支持部１４に取り付け又は装着することができる。接着剤は、液体として塗布することができる。液体接着剤２６は、フィルム２２と支持部１４との間の接触領域に塗布することができる。例えば、液体接着剤２６は、図２ａに示されるように、開口部１８の回りに、又は、支持部１４の凹部４０内で支持部１４に塗布することができる。次に、フィルム２２を接着剤２６上に配置することができる。代替例として、接着剤は、フィルム、又は、支持部及びフィルムの両方に塗布することができる。
【００３０】
液体接着剤２６は、例えばポリイミド樹脂又は酸等のポリマー接着剤とすることができる。ポリイミド接着剤は、接着剤の粘性率を低下させるため溶媒を用いて希釈化されてもよい。接着剤２６は、フィルム２２又はフィルムのベリリウムとの機械的結合を形成することができる。かくして、接着剤２６は、機械的結合を形成するため毛細管作用によりフィルム内の粒状境界隙間を充填するため十分に低い粘性率を持つことができる。更には、ポリイミド接着剤２６は、支持部１４、又は、支持部のニッケル材料と共有結合を形成するため化学的に反応することができる。接着剤２６は、接着剤から溶媒を除去するための初期ベークアウト工程（約１００℃の温度）を経験し得る。フィルムと支持部との間の接触領域に約１．５ＫＰａの圧力を伝達して、フィルムと支持部との間の強固な結合のための所望の接着剤厚さと、ガスの拡散のための最小の厚さとを形成することができる。
【００３１】
更には、接着剤は、高温及び真空で硬化することができる。その温度は、少なくとも約２５０℃であり、少なくとも約４５０℃までの温度とすることができる。かくして、フィルム２２と支持部１４とを含むアッセンブリ全体が、そのような温度に耐えることができるようになる。
【００３２】
フィルム２２の露出部分はコーティングで被覆されている。更には、フィルム２２を取り囲む支持部１４の部分、並びに、フィルム２２と支持部１４との間の接着剤２６の露出部分を被覆することができる。コーティングは、例えばホウ素−水素の組成物等の無機質材料とすることができる。コーティング又はホウ素−水素の組成物を、当該技術分野で知られているように、化学蒸着（ＣＶＤ）により塗布することができる。例えば米国特許番号５，２２６，０６７号を参照せよ。炭化シリコン、窒化シリコン、炭化ホウ素、窒化ホウ素又はＣＶＤダイアモンドコーティングを含む、他の無機質材料もコーティングのために使用することができる。フィルム２２は、コーティングで被覆される前にその本来の酸化物被覆を含むことができ、又は、該酸化物被覆を形成することを可能にされている。例えば、露出されたベリリウムは、空気へのさらしにより、その本来の酸化物により被覆され、その表面を極性にし、かくして、フィルムへのコーティングの接着を容易にするためのコーティングと同じ極性を幾分持つようになっていてもよい。
【００３３】
フィルム２２の両側を、図１に示されるように、コーティング３０及び３４で被覆することができる。その代わりに、図２ｃに示されるように、フィルム２２の外側又は環境側のみがコーティング３０で被覆されていてもよい。更なる代替例として、図２ｄに示されるように、フィルム２２の内側又は真空側のみがコーティング３４で被覆されていてもよい。コーティングは、フィルム及びコーティングが真空を維持することができるようにフィルム２２を密封することができる。加えて、コーティングは、フィルムへの保護を提供することができる。更には、コーティングは、接着剤を真空漏れに対して密封することができる。
【００３４】
幾つかの場合には、コーティングは、追加の処理（例えば、溶接、半田付け、又は、ブレーズ溶接）を抑制し得る。マスクを用いることによって、コーティングがそれらの領域に蒸着することを防止することができる。或いは、その代わりに、コーティングを、アッセンブリの選択部分から化学的にエッチングし又は研磨することができる。窓装置１０は、例えば吸引チャンバー１２（図３）等の他の構造部に取り付けられていてもよい。
【００３５】
上述した構成は、本発明の原理のための応用を示したものであると理解されるべきである。本発明は、本発明の例としての実施例と関連して図面に示され、説明される一方で、本発明の精神及び範囲から逸脱すること無しに多数の変更及び代替実施例を工夫することができることが理解されるべきである。請求の範囲に記載された本発明の原理及びコンセプトから逸脱すること無しに多数の変更をなすことができることは当業者には明らかであろう。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】図１は、本発明の実施例に係る窓アッセンブリ又は装置の概略断面図である。
【図２】図２ａ乃至ｄは、図１の窓装置を作る方法の概略断面図である。
【図３】図３は、図１の窓装置を利用するＸ線源又はＸ線検出器の概略図である。
【図１】
2005539351.tif 000003
2005539351.tif 000004
【図３】
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【国際調査報告】
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