(57)【要約】タッチセンサーに使用するための光学部品およびその製造方法を開示する。光学部品は、多層光学膜を備え、その少なくともいくつかの層は、同一の製造ライン上でかつ同一の製造方法を用いて製造される。多層光学膜の各層は、所望の関連特性を提供するように主として設計される。
2005535548.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶融金属浴上で溶融ガラス基板を形成するステップと、大気圧化学気相成長を用いて、該ガラス基板上に、
所定の光学的透明度および導電率を有するように主として設計された第１の膜と、
該ガラス基板から該第１の膜を分離するように主として設計された第２の膜と、
摩耗に耐えるように主として設計された第３の膜と、
反射を減少させるように主として設計された第４の膜と、
を含む少なくとも４層の膜を形成するステップと、
を含む、タッチセンサー部品を製造する方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法によって製造されたタッチセンサー部品を備える、タッチセンサー。
【請求項３】
製造ライン上でガラス基板を形成するステップと、同一の製造ライン上で該ガラス基板上に多層光学膜を逐次的に配設するステップとを含み、該多層光学膜の各層が、同一の堆積技術を用いて堆積され、該多層膜が、
所定の光学的透明度およびシート導電率を提供するように主として設計された第１の膜と、
該基板から該第１の膜を分離するように該第１の膜と該基板との間に配設された第２の膜と、
少なくとも所定の耐摩耗性を提供するように主として設計された第３の膜と、
を含む、タッチセンサーに使用するための光学部品を製造する方法。
【請求項４】
前記タッチセンサーが容量式である、請求項３に記載の製造方法。
【請求項５】
前記ガラスがフロートライン上で形成される、請求項３に記載の製造方法。
【請求項６】
前記多層光学膜を逐次的に配設するために用いられる技術が化学気相成長を含む、請求項３に記載の製造方法。
【請求項７】
前記多層光学膜を逐次的に配設するために用いられる技術が大気圧化学気相成長を含む、請求項３に記載の製造方法。
【請求項８】
前記多層光学膜を逐次的に配設するために用いられる技術が真空蒸着を含む、請求項３に記載の製造方法。
【請求項９】
前記光学部品の前面および背面の少なくとも一方がマット面である、請求項３に記載の製造方法。
【請求項１０】
グレアを減少させるように主として設計された第４の膜をさらに含む、請求項３に記載の多層光学膜。
【請求項１１】
前記第４の膜が、正反射を減少させるように主として設計される、請求項１０に記載の多層光学膜。
【請求項１２】
前記第４の膜が、拡散反射を減少させるように主として設計される、請求項１０に記載の多層光学膜。
【請求項１３】
前記第４の膜が二酸化ケイ素を含む、請求項１０に記載の多層光学膜。
【請求項１４】
前記第４の膜が酸化アルミニウムを含む、請求項１０に記載の多層光学膜。
【請求項１５】
前記ガラス基板がドーパントを含む、請求項３に記載の製造方法。
【請求項１６】
前記第１の膜がインジウムスズ酸化物を含む、請求項３に記載の製造方法。
【請求項１７】
前記第１の膜がフッ素ドープド酸化スズを含む、請求項３に記載の製造方法。
【請求項１８】
前記第１の膜がアンチモンスズ酸化物を含む、請求項３に記載の製造方法。
【請求項１９】
前記第１の膜が酸化亜鉛を含む、請求項３に記載の製造方法。
【請求項２０】
前記第２の膜が二酸化ケイ素を含む、請求項３に記載の製造方法。
【請求項２１】
前記第２の膜が酸化スズを含む、請求項３に記載の製造方法。
【請求項２２】
前記第３の膜が酸化スズを含む、請求項３に記載の製造方法。
【請求項２３】
前記第３の膜が酸化アルミニウムを含む、請求項３に記載の製造方法。
【請求項２４】
前記第３の膜が酸化タンタルを含む、請求項３に記載の製造方法。
【請求項２５】
前記第３の膜が酸化ジルコニウムを含む、請求項３に記載の製造方法。
【請求項２６】
前記第３の膜が酸化チタンを含む、請求項３に記載の製造方法。
【請求項２７】
前記第３の膜がチタンニトリトを含む、請求項３に記載の製造方法。
【請求項２８】
前記第３の膜がシリコーンニトリトを含む、請求項３に記載の製造方法。
【請求項２９】
タッチセンサーに使用するための多層光学膜を製造する方法であって、
製造ライン上でフロートガラス基板を形成するステップと、同一の製造ライン上で、
所定の光透過率およびシート抵抗を提供するように主として設計された透明導電性膜を該ガラス基板上に配設するステップと、
該ガラス基板から該導電性膜を分離するように主として設計されたバリヤー膜を該透明導電性膜と該ガラス基板との間に配設するステップと、
を含み、
該透明導電性膜および該バリヤー膜が、同一の膜堆積技術を用いて配設される、方法。
【請求項３０】
前記タッチセンサーが抵抗式である、請求項２９に記載の製造方法。
【請求項３１】
前記ガラス基板の形成が、溶融金属上にガラスを浮かべるステップを含む、請求項２９に記載の製造方法。
【請求項３２】
前記膜堆積技術が化学気相成長を含む、請求項２９に記載の製造方法。
【請求項３３】
前記膜堆積技術が大気圧化学気相成長を含む、請求項２９に記載の製造方法。
【請求項３４】
前記膜堆積技術が真空蒸着を含む、請求項２９に記載の製造方法。
【請求項３５】
前記多層光学膜の前面および／または背面がマット面である、請求項２９に記載の製造方法。
【請求項３６】
請求項２９に記載の方法によって作製された多層光学膜を備える、タッチセンサー。
【請求項３７】
タッチセンサーに使用するための多層光学部品であって、光透過性基板上に配設された少なくとも３層の膜を備え、
該基板が、フロート技術を用いて製造され、
該少なくとも３層の膜が、フロート技術を用いて製造され、
少なくともその第１の膜が、所定の光学的透明度および導電率をもつように主として設計され、
少なくともその第２の膜が、該基板から該第１の膜を分離するように主として設計され、そして
少なくともその第３の膜が、所定の耐摩耗性を提供するように主として設計される、多層光学部品。
【請求項３８】
前記少なくとも３層の膜を製造するために用いられる製造技術が化学気相成長を含む、請求項３７に記載の多層光学部品。
【請求項３９】
前記少なくとも３層の膜を製造するために用いられる製造技術が大気圧化学気相成長を含む、請求項３７に記載の多層光学部品。
【請求項４０】
前記少なくとも３層の膜を製造するために用いられる製造技術が真空蒸着を含む、請求項３７に記載の多層光学部品。
【請求項４１】
フロート技術を用いて形成されたガラス基板と、
大気圧化学気相成長技術を用いて該ガラス基板上に逐次的に配設された少なくとも４層の光学膜とを備え、
その第１の膜が、所定の光学的透明度および導電率をもつように主として設計され、
その第２の膜が、該基板から該第１の膜を分離するように主として設計され、
その第３の膜が、摩耗に耐えるように主として設計され、そして
その第４の膜が、反射を減少させるように主として設計される、
タッチセンシングディスプレイシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般的には、タッチセンシングデバイスに関する。本発明は、とくに、電子ディスプレイシステムで使用されるそのようなデバイスに適用可能である。
【背景技術】
【０００２】
タッチスクリーンを用いれば、キーボードの必要性を軽減または回避することにより、ユーザーは、電子ディスプレイシステムと便利にインターフェースをとることが可能になる。たとえば、ユーザーは、あらかじめプログラムされたアイコンにより特定された位置でスクリーンに単にタッチするだけで複雑な一連の指示を与えることができる。スクリーン上のメニューは、用途に応じて支援ソフトウェアを再プログラムすることにより、変更可能である。
【０００３】
抵抗式および容量式が、２つの一般的なタッチセンシング方式である。両方式とも、典型的には、タッチ位置を検出する電子回路の一部分として１層以上の透明導電性膜が組み込まれている。
【０００４】
タッチスクリーンの性能は、スクリーンの種々の特性により記述される。そのような特性の１つは、光透過率である。タッチスクリーンの光透過率が改良されるにつれて、画像の明るさおよびコントラストは増大する。限られた寿命の電池によりディスプレイに電力供給することの多い携帯型機器では、高い光透過率がとくに望まれる。光透過率は、タッチスクリーンのさまざまな層の光学的透明度を改良することにより、および種々の境界における反射を減少させることにより、最適化が可能である。典型的には、反射防止コーティングを用いて反射損失を減少させる。
【０００５】
タッチスクリーンの他の特性は、グレアの量である。タッチスクリーンの被研磨表面は、周囲光を目視者の方向に正反射する。そのような正反射は、一般にグレアと呼ばれる。これは、表示情報の目視性を減少させるであろう。被研磨表面からのグレアは、典型的には、表面を光拡散性にすることにより低減される。そのような拡散表面は、マット表面または粗表面と呼ばれることもある。グレアはまた、マット表面または粗表面を有する膜を被研磨表面にコーティングすることにより低減させることも可能である。そのようなコーティングは、アンチグレアコーティングと呼ばれることもある。
【０００６】
タッチスクリーンの他の特性は、耐久性である。一般に、タッチスクリーンは、引掻き傷のような物理的損傷を受けやすい。ユーザーは、タッチするために、スタイラス、指、ペン、または任意の他の便利なタッチ手段を使用する可能性がある。引掻きに耐えるタッチスクリーンの能力は、スクリーンの耐久性に影響を及ぼし、したがって、スクリーンの寿命に影響を及ぼす。典型的には、タッチスクリーンの耐久性は、引掻き傷を受けやすい表面に耐引掻性膜をコーティングすることより改良される。そのような膜は、耐摩耗性膜と呼ばれることもある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
タッチスクリーンの他の特性は、全コストである。一般に、製造コストは、タッチスクリーンの層の数が増加すると共に増加する。１つのスクリーン特性を改良した場合、１つ以上の他の特性が劣化することが多い。たとえば、製造コストを削減しようとして、タッチスクリーンの層の数を減少させると、それが原因で、耐久性、光透過率、またはコントラストのようなタッチスクリーンの他の性質が損なわれるおそれがある。その結果、所与の用途に対する性能基準を最もよく満たすように、タッチスクリーンに対して特定のトレードオフがなされる。したがって、改良された全体性能を備えたタッチスクリーンが依然として必要とされている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
一般的には、本発明は、トレードオフがまったくないかまたはほとんどない１組の所望の特性を備えることが望ましくかつ製造コストを削減することがさらに望ましいタッチセンサーおよびタッチセンシングディスプレイに関する。
【０００９】
本発明の一態様において、タッチセンサー部品の製造方法は、ガラス基板を製造するステップと、続いて、大気圧化学気相成長を用いてガラス基板上に少なくとも４層の膜を堆積させるステップと、を含み、第１の膜は、所望の光学的透明度およびシート抵抗をもつように主として設計され、第２の膜は、基板から第１の膜を分離するように主として設計され、第３の膜は、摩耗に耐えるように主として設計され、そして第４の膜は、グレアを減少させるように主として設計される。
【００１０】
本発明の他の態様において、タッチセンサーに使用するための光学部品の製造方法は、同一の堆積技術を用いてガラス基板上に多層光学膜を形成することを含み、すべて同一の製造ライン上で製造され、多層光学膜は、所望の光学的透明度およびシート抵抗をもつように主として設計された第１の膜と、基板から第１の膜を分離するように主として設計された第２の膜と、所望の耐摩耗性を提供するように主として設計された第３の膜と、を含む。
【００１１】
本発明の他の態様において、タッチセンサーに使用するための多層光学膜の製造方法は、製造ライン上でガラス基板を形成することと、同一の製造ライン上でかつ同一の膜堆積技術を用いて、所望の光透過率およびシート抵抗を提供するように主として設計された透明導電性膜および基板から導電性膜を分離するように主として設計されたバリヤー膜を堆積させることと、を含む。
【００１２】
本発明の他の態様において、タッチセンサーに使用するための光学部品は、フロート技術を用いて製造された基板と、同一の技術を用いて基板上に形成された少なくとも３層の膜と、を備え、少なくとも第１の膜は、所望の光学的透明度および導電率を提供するように主として設計され、少なくとも第２の膜は、基板から第１の膜を分離するように主として設計され、そして少なくとも第３の膜は、耐摩耗性を提供するように主として設計される。
【００１３】
本発明の他の態様において、タッチ感知ディスプレイは、フロートガラス基板と、大気圧化学気相成長技術を用いてガラス基板上に形成された少なくとも４層の膜と、を備え、第１の膜は、所定の光学的透明度および導電率をもつように主として設計され、第２の膜は、基板から第１の膜を分離するように主として設計され、第３の膜は、摩耗に耐えるように主として設計され、そして第４の膜は、グレアを減少させるように主として設計される。
【００１４】
本発明の種々の実施形態に関する以下の詳細な説明を添付の図面に関連させて検討すれば、本発明についてより完全に理解し正しく評価することができよう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明は、一般的には、タッチスクリーン、電子ディスプレイシステムと併用されるタッチスクリーンに適用可能であり、とくに、タッチスクリーンが高い光透過率、高いコントラスト、高い耐久性、低いグレア、低い反射、および低い製造コストを有することが望ましい場合に適用可能である。本発明は、トレードオフがまったくないかまたはほとんどない状態でタッチスクリーンの望ましい特性の最適化を可能にする。本発明はさらに、列挙された望ましい特性のいくつかを単一層に組み入れることにより設計および製造のコストを削減することについて記載する。
【００１６】
タッチスクリーンは、開状態にあった電気回路がタッチされたときに閉状態になるという一般原理に基づいて動作することができる。閉回路で発生した信号の特性により、タッチ位置の検出を行うことができる。さまざまな技術を利用してタッチ位置を検出することが可能である。そのような技術の１つは、抵抗式である。抵抗式タッチでは、タッチされると、２つの物理的に分離された状態にあった導電性膜が相互に直接的な物理的接触状態になる。物理的接触状態になると、開状態にあった電子回路が閉状態になって抵抗結合による電気信号が発生する。発生した信号の特性により、タッチ位置の検出が可能になる。
【００１７】
容量式は、タッチ位置を検出するのによく使用される他の技術である。この場合、ユーザーの指のような導電性タッチアプリケーターが２つの導体間の容量結合を可能にするのに十分な程度に導電性膜に接近したときに、信号が発生する。２つの導体は、たとえばアースグランドを介して、互いに電気的に接続されている。発生した信号の特性により、タッチ位置の検出が可能になる。他の実用可能な技術としては、表面弾性波、赤外線、および力が挙げられる。
【００１８】
本発明は、タッチスクリーンが耐引掻性であり、低いグレア、低い反射、高い光透過率、および低い製造コストを有することが望ましいタッチセンシングスクリーンに適用可能である。本発明は、とくに、タッチ位置を検出するのに抵抗式または容量式技術を利用するタッチスクリーンに適用可能である。たとえば、本発明の一実施形態は、最適化された耐摩耗性および反射防止特性を備えるとともに製造コストを削減することが望ましい容量式タッチスクリーンに使用するのにきわめて好適である。本発明の他の実施形態は、導電性シートが拡散表面を有するとともに製造コストを削減することが望ましい抵抗式タッチスクリーンに使用するのにとくに好適である。
【００１９】
本発明によれば、所望のレベルでタッチセンサーの特定の特性を提供するように各層を主として設計することにより、タッチセンサーの全体性能を改良することができる。たとえば、所定の光透過率およびシート抵抗を提供するように、タッチセンサー中の所与の層を主として設計することができる。所定の最小の耐摩耗性を提供するように、異なる層を主として設計することができるとともに、グレアを減少させるように、異なる層を主として設計することができる。
【００２０】
本発明によれば、単一の多機能層を設計することにより、タッチセンサーの２つ以上の所望の特性を同時に効果的に提供できない場合、所定のレベルでその特性を提供することに主として専用に用いられる個別の層を設計することにより、それぞれの特性を提供する。たとえば、従来の容量式タッチセンサーでは、典型的には、タッチが繰り返されることによる損傷から透明導電性シートを保護するために耐摩耗性膜が組み込まれる。典型的には、同一の膜がさらに、反射を減少させるように設計される。しかしながら、耐摩耗性および低反射性という２つの特性に対する最適設計値を得るには、典型的には、一方または両方の特性の妥協点を求めることが必要となる。たとえば、効果的な耐摩耗性材料は、反射を減少させるために使用される材料よりも高い屈折率を有する傾向がある。このほか、耐摩耗性を提供する設計は、典型的には、効果的に反射を減少させる設計と実質的に異なる可能性のある膜厚さを必要とする。その結果、単一の膜で十分な耐摩耗性および低反射性を同時に提供するのは困難になる。本発明によれば、十分な耐摩耗性を提供するように第１の層を主として設計することができるとともに、グレアを減少させるように第２の層を主として設計することができる。２つの層は、異なる屈折率、厚さ、および材料組成を有することができる。
【００２１】
本発明によれば、層の数の増加により増大する可能性のある製造コストは、構成層の少なくとも一部分を同一の製造ライン上で逐次的に堆積させることにより削減することができる。たとえば、ガラスの製造プロセス時、ガラス基板にコーティングを施すことができる。たとえば、フロート浴中のまたはそこから出た高温フロートガラスにコーティングを施すことができる。米国特許第６，１０６，８９２号明細書および同第６，２４８，３９７号明細書には、高温ガラス上への酸化ケイ素コーティングの堆積が開示されている。米国特許第５，７７３，０８６号明細書には、高温ガラスの表面への酸化インジウムコーティングの堆積が開示されている。本発明の特定の一実施形態では、多層光学部品は、次のステップを含む形で製造される。第１に、ガラス基板をフロート浴上で製造する。第２に、浴上にある状態でまたは浴からガラス基板を取り出した後で、大気圧化学気相成長（ＡＰＣＶＤ）を用いて二酸化ケイ素または酸化スズのバリヤー層を高温ガラス基板上に堆積させる。次に、フッ素ドープド酸化スズのような透明導体の層をバリヤー層上に堆積させる。透明導体は、所定の光学的透明度およびシート抵抗を有するように主として設計される。バリヤー層は、フロートガラスから透明導体を分離するように主として設計される。最後に、ＡＰＣＶＤを用いて透明導体膜上に反射防止膜コーティングを堆積させる。反射防止膜コーティングは、所望のレベルに反射を減少させるように主として設計される。ＡＰＣＶＤまたは異なる製造技術を用いて同一のまたは異なる製造ライン上で追加の層を堆積させることにより追加の機能を提供できることは理解されよう。
【００２２】
図１は、本発明の特定の一実施形態に係る多層光学膜１００の概略断面図を示す。光学膜１００は、たとえばタッチセンサーに使用するのに好適な素子である。光学膜１００は、基板１０１、透明導電性膜１０２、耐摩耗性膜１０３、および反射防止膜１０４を備える。基板１０１は、可撓性であっても剛性であってもよい。基板１０１は、好ましくは、高度に光透過性である。透明導電性膜１０２は、所望の光学的透明度、シート抵抗、およびシート抵抗均一性を提供するように主として設計される。耐摩耗性膜１０３は、摩耗に対する最適な保護を提供するように主として設計される。反射防止膜１０４は、光の干渉を用いて所望のレベルに反射を減少させるように主として設計される。光学膜１００中の異なる膜は、それぞれ、単一層であっても多層であってもよい。たとえば、反射防止膜１０４は、高いまたは低い屈折率の１層以上の層を含んでいてもよい。反射防止膜１０４に好適な材料としては、低い屈折率（たとえば、１．３５〜１．５の範囲）を有する材料が挙げられるが、いくつかの用途では、他の屈折率を用いることもできる。このほか、反射防止膜中の各層の光学的厚さ（ここで、光学的厚さは、層の物理的厚さと屈折率の積として定義される）は、典型的には、波長の四分の一の近傍、たとえば、５０〜１５０ナノメーターの範囲であるが、用途に応じてより薄いまたはより厚い膜を用いることもできる。耐摩耗性膜１０３にとくに好適な材料は、典型的には、高い屈折率（たとえば、１．６〜２．７の範囲）を有するが、いくつかの用途では、他の屈折率を用いることもできる。このほか、適切な耐摩耗性を提供するために、耐摩耗性膜は、十分に厚くなければならない。また、十分な厚さは、１／４波長よりもかなり厚くてもよいしそうでなくてもよい。
【００２３】
製造コストを削減するために、公知の構成では、単一の膜に２つ以上の特性を付与するように設計することが一般的である。しかしながら、先に述べたように、この方法では、性能低下を招くおそれのある矛盾した設計パラメーターを用いることを余儀なくされることが多い。たとえば、図１の光学膜１００で、単一の膜に耐摩耗性および低反射性の特性を付与するように設計した場合、材料組成、屈折率、および厚さの要件が矛盾して、多くの場合、１つまたは両方の特性の妥協点を用いることになる。より特定的には、たとえば、十分な摩耗を提供するように主として設計された耐摩耗性膜１０３の厚さは、所望のレベルに反射を減少させるように主として設計された反射防止膜１０４の厚さよりも厚くすることが可能である。このほか、耐摩耗性膜１０３の屈折率は、典型的には、反射防止膜１０４の屈折率よりも大きい。したがって、単一の膜に摩耗防止性および反射防止性を付与するように設計したとすれば、妥協点を探す必要があろう。本発明は、主として所望の耐摩耗性を提供するように耐摩耗性膜１０３を設計し、主として反射を減少させるように反射防止膜１０４を設計することにより、この妥協点を探す必要性を軽減する。したがって、本発明では、これらの各特性は、独立して、個別の膜により付与され、各膜は、より少ない層で複数の機能を提供しようとしたときに用いられることの多い妥協点に関してとくに考慮することなく所望のレベルに合わせて特定の特性を提供するように設計される。
【００２４】
本発明に記述されている各膜は、全体構成におけるその関連特性を提供する役割を主として担っているが、膜は、主として設計されたものでない特性にも寄与しうる。たとえば、反射防止膜が反射防止機能の主要な提供元になるように設計されていたとしても、耐摩耗性膜は、反射の減少に寄与しうる。
【００２５】
他の例として、光学的透明度および導電率を提供するように主として設計された透明導電性膜１０２の厚さは、一般的には、反射を減少させるように主として設計された反射防止膜１０４の厚さとは異なる。公知の構成では、製造コストを削減するために、典型的には、単一の膜に導電率および低反射性の特性を付与するように設計される。しかしながら、それぞれの特性は一般的には異なる厚さを必要とするので、２つの特性のうちの少なくとも一方は、望ましくないレベルで残存することになる。本発明は、所望の透明度および導電率を提供するように個別の膜１０２を設計し、反射を最小限に抑えるように他の膜１０４を設計することにより、両方の特性の最適化を可能にする。
【００２６】
論述したように、光学膜１００の製造コストは、同一の好適な製造ライン上で光学膜１００中のほとんどまたはすべての膜をコーティングすることにより削減することができる。代表的な製造方法としては、化学気相成長（ＣＶＤ）、ＡＰＣＶＤ、真空蒸着（たとえば、蒸発またはスパッタリング）、溶媒系コーティング、キャストおよびキュアー、ならびに他の類似のコーティング技術が挙げられる。
【００２７】
基板１０１がガラス製の場合、ＡＰＣＶＤはとくに有利である。この場合、ガラス基板を製造するのと同一の汎用ライン上で、層１０２、１０３、および１０４をコーティングすることにより、コストを削減することができる。たとえば、異なるコーティングステーションで、高温ガラス基板上に高温で層を逐次的に堆積させることができる。そのような条件は、堆積膜の光学的特性、電気的特性、および耐久性を改良する傾向があるので、高温で高温基板上に堆積させることは、とくに有利である可能性がある。耐久性には、機械的耐久性、加工耐久性、および環境耐久性が包含される。他の選択肢として、ＡＰＣＶＤを用いて膜１０２および１０３を堆積させることができるとともに、真空蒸着のような異なる方法を用いて層１０４を堆積させることができる。
【００２８】
層１０２、１０３、および１０４を堆積させるために、スパッタリングのような真空蒸着を用いることも可能である。基板１０１は、可撓性であっても剛性であってもよい。たとえば、基板１０１は、高分子材料のロールの形態であってもよい。この場合、層１０２、１０３、および１０４をウェブライン上で逐次的にコーティングすることが可能である。
【００２９】
他の選択肢として、光学膜１００の異なる層を溶媒コーティングまたはキャスティングしてキュアーさせることができる。たとえば、可撓性高分子基材のロール上に層をロールコーティングすることが可能である。透明導電性膜が透明有機導体である場合、そのような方法はとくに有利である。この場合、層１０２、１０３、および１０４を基板１０１上に逐次的にコーティングし、乾燥／キュアーさせることが可能である。
【００３０】
光学膜１００は、タッチセンサーに使用するのに好適であり、とくに容量式タッチセンサーに使用するのに好適である。光学膜１００は、高い光透過率、低い反射、高い耐摩耗性、および最適なシート抵抗をトレードオフがまったくないかまたはほとんどない状態で達成することのできる手段を提供する。光学膜１００中の所与の層は、所与の特性を最適化するように主として設計されるが、主要な特性を損なうことなく１つ以上の二次的な特性を最適化することも可能であるは理解されよう。そのような二次的な特性の最適化は、設計により、偶然により、または主要な目標の結果として、行われうる。たとえば、透明度および光学的導電率を提供するように透明導電性膜１０２が主として設計される所与の用途では、界面反射を減少させるように層１０２の厚さを設定することができる。他の例として、十分な耐摩耗性を提供するように耐摩耗性膜１０３が主として設計される適用では、耐摩耗性の主要な目標特性を損なうことなく同時に反射を減少させるように膜厚さを設定することができる。
【００３１】
光学膜１００は、反射光を光拡散させることにより、アンチグレア性をさらに備えることが可能である。本発明のさまざまな態様に係るそのような４つの代表的実施形態を図８Ａ〜８Ｄに示す。図８Ａの光学膜８００Ａは、実質的に平滑な表面８０１Ａ’を有する基板８０１Ａ、実質的に平滑な表面８０２Ａ’を有する透明導電性膜８０２Ａ、実質的に平滑な表面８０３Ａ’を有する耐摩耗性膜８０３Ａ、実質的に平滑な表面８０４Ａ’を有する反射防止膜８０４Ａ、および拡散表面８０５Ａ’を有するアンチグレア膜（アンチグレア膜）８０５Ａを含む。層８０１Ａ〜８０４Ａは、図１を参照して説明した光学膜１００の層に類似している。
【００３２】
アンチグレア膜８０５Ａは、たとえば、反射光を拡散させることにより、特定の用途に合った所望のレベルに正反射を減少させるように主として設計される。図８Ａによれば、アンチグレア膜８０５Ａは、マット表面８０５Ａ’によりグレアを減少させる。アンチグレア膜８０５Ａは、たとえば、周囲の材料と異なる屈折率を有する粒子を組み込むことにより、バルク拡散性を備えることも可能である。マット表面８０５Ａ’は、いくつかの方法で生成可能である。たとえば、層８０５Ａをマット工具に当接させてエンボス化することにより、表面を生成させることが可能である。他の選択肢として、膜８０５Ａを堆積させるときに堆積パラメーターを適切に選択することにより、マット表面を生成させることが可能である。たとえば、アンチグレア膜８０５Ａを溶媒コーティングする場合、乾燥時にマット表面８０５Ａ’を生じるように乾燥条件を選択することができる。他の選択肢として、得られる膜がマット表面を有するように、真空蒸着、ＣＶＤ、またはＡＰＣＶＤを用いて、アンチグレア膜８０５Ａをコーティングすることができる。他の選択肢として、アンチグレア膜８０５Ａは、ホスト材料中に分散された粒子のコーティングを備えうる。この場合、粒子は、たとえば、ホスト材料から部分的に突出することにより、膜にマット表面を付与する。さらに他の例として、膜８０５Ａをテクスチャー工具に当接させてキャスティングおよびキュアリングすることにより、マット表面８０５Ａ’を生成させることが可能である。他の選択肢として、ゾルやゲルのような材料を、たとえば液滴の形態で、膜８０４Ａ上にスプレーすることにより、アンチグレア膜８０５Ａを作製することができる。スプレーされる材料は、膜８０４Ａの材料と同じであってもよい。
【００３３】
図８Ａによれば、光学膜８００Ａは、追加の膜８０５Ａによりアンチグレア性を有する。他の選択肢として、図１の反射防止膜１０４の表面を粗面化することにより、アンチグレア性を達成することができる。これを図８Ｂに示す。図８Ｂの光学膜８００Ｂは、実質的に平滑な表面８０１Ｂ’を有する基板８０１Ｂ、実質的に平滑な表面８０２Ｂ’を有する透明導電性膜８０２Ｂ、実質的に平滑な表面８０３Ｂ’を有する耐摩耗性膜８０３Ｂ、およびマット表面８０４Ｂ’を有する反射防止膜８０４Ｂを含む。層８０１Ｂ〜８０３Ｂは、図１を参照して説明した光学膜１００の層と類似している。この構成では、反射を減少させるように主として設計された反射防止膜８０４Ｂは、表面８０４Ｂ’により追加されたアンチグレア性を有する。アンチグレア性は、膜８０４Ｂの主要な目標をほとんどまたはまったく損なうことなく達成される。
【００３４】
図８Ｃは、本発明の他の実施形態を示す。図８Ｃの光学膜８００Ｃは、実質的に平滑な表面８０１Ｃ’を有する基板８０１Ｃ、実質的に平滑な表面８０２Ｃ’を有する透明導電性膜８０２Ｃ、マット表面８０３Ｂ’を有する耐摩耗性膜８０３Ｃおよびマット表面８０４Ｃ’を有する反射防止膜８０４Ｃを含む。層８０１Ｃ〜８０２Ｃは、図１を参照して説明した光学膜１００の層と類似している。光学膜８００Ｃでは、耐摩耗性膜８０３Ｃは、十分な耐摩耗性を提供するように主として設計される。耐摩耗性膜８０３Ｃはまた、マット表面８０３Ｃ’を有する。反射防止膜の膜８０４Ｃを層８０３Ｃ上に実質的にコンフォーマルにコーティングした場合、光学膜８００Ｃにアンチグレア性を提供するマット表面８０４Ｃ’が生成される。この構成は、たとえば、層８０４Ｃにマット仕上げを施すよりも層８０３Ｃに直接施すほうが容易または有利である場合、とくに好適である。光学膜８００Ｃでは、層８０３Ｃ上に層８０４Ｃを実質的にコンフォーマルにコーティングすることにより、マット表面を層８０３Ｃに直接生成させ、層８０４Ｃに間接的に生成させる。
【００３５】
図８Ｄは、本発明のさらに他の態様に係る光学膜８００Ｄを示している。光学膜８００Ｄは、マット表面８０１Ｄ’を有する基板８０１Ｄ、マット表面８０２Ｄ’を有する透明導電性膜８０２Ｄ、マット表面８０３Ｄ’を有する耐摩耗性膜８０３Ｄ、およびマット表面８０４Ｄ’を有する反射防止膜８０４Ｄを含む。光学膜８００Ｄでは、最初に、基板８０１Ｄにマット表面８０１Ｄ’を直接生成させる。たとえば、基板８０１Ｄの製造時にマット表面８０１Ｄ’を生成させることができる。次に、層８０２Ｄ〜８０４Ｄ（層８０２Ｃ〜８０４Ｃに類似している）を逐次的にかつ実質的にコンフォーマルにコーティングすると、反射防止層８０４Ｄにマット表面８０４Ｄ’が生成される。たとえば、基板８０１Ｄがガラスである場合、化学エッチングを用いて表面８０１Ｄ’を生成させることが可能である。他の選択肢として、たとえば、テクスチャー工具に当接させてガラスを形成することによりガラス基板を製造する場合、表面８０１Ｄ’を生成させることができる。次に、たとえば、ＡＰＣＶＤ法を用いて、すべての他の層を高温ガラス基板上に高温で逐次的にかつコンフォーマルにコーティングすることが可能である。したがって、ＡＰＣＶＤにより、低コストで、かつ所望の光透過率、反射、グレア、耐摩耗性、および導電率をもたせて、光学膜８００Ｄを作製することができる。
【００３６】
図８のさまざまな層のシーケンスまたは順序を用途に応じて変更させうることは理解されよう。たとえば、図８Ｄでは、耐摩耗性膜８０３Ｄを基板８０１Ｄ上に堆積させた後で透明導電性膜８０２Ｄを堆積させることが可能である。
【００３７】
図２は、本発明の実施形態に係る容量式タッチセンサー２００を模式的に示している。容量式タッチセンサー２００は、タッチパネル２１０、電気リード線２０５、２０６、２０７、２０８、および電気回路２０９を備える。タッチパネル２１０は、基板２０１、透明導電性膜２０２、耐摩耗性膜２０３、および反射防止膜２０４を備える。タッチパネル２１０の層は、図１の光学膜１００を参照して説明したものに類似している。タッチパネル２１０は、容量式タッチパネルである。電気リード線２０５、２０６、２０７、および２０８は、透明導電性膜２０２の４つの隅角部を電気回路２０９に電気接続する。電気回路２０９は、所与の用途で望まれるようにタッチ位置の決定および収集情報の処理を行う電子部品およびソフトウェアを備える。電気回路２０９は、用途に応じたユーザーメニューを提供するためのおよび情報を処理するためのソフトウェアをさらに備える。一例として、ユーザーが位置Ｘでタッチパネル２１０に指でタッチした場合、透明導電性膜２０２の４つの隅角部を通って電流が流れる。この電流は、ユーザーの指または他の導電性タッチ手段に容量結合する。その後、電気回路２０９は、透明導電性膜２０２の４つの隅角部に接続された４本のリード線を通って流れる電流の相対的な大きさを比較することによりタッチ位置を決定する。
【００３８】
タッチパネル２１０は、パネルを横切る電界を線形化するようなパターンで抵抗体を備えることができる。そのパターンは、簡潔にするために図２に示されていないが、なんら一般性を損なうものではない。そのような線形化法の１つが、米国特許第４，３７１，７４６号明細書に記載されている。
【００３９】
タッチパネル２１０は、増大された透過率、低減された反射、および最適化された耐摩耗性を、トレードオフがまったくないかまたはほとんどない状態で提供することができる。基板２０１は、好ましくは光透過性であり、用途で必要とされる機械的な剛性または可撓性を提供するように設計される。透明導電性膜２０２は、光学的透明度および所望のシート抵抗を主として提供するように設計される。耐摩耗性膜２０３は、タッチパネル２１０が主として摩耗に耐えるように設計される。そのような摩耗は、たとえば、ユーザーが硬いもしくは粗いスタイラスでパネルにタッチするかまたはタッチを繰り返した場合に生じる可能性がある。耐摩耗性は、透明導電性膜２０２を保護しかつタッチパネル２１０の光学的、電気的、および表面的特性をその予想寿命にわたり保持するうえで重要である。反射防止膜２０４は、主として反射を減少させることによりグレアを減少させコントラストを増大させるように設計される。反射防止膜２０４は、単一層であっても多層であってもよい。反射防止膜２０４の各層は、典型的には、所定の光学的厚さ、たとえば可視領域において、たとえば波長の四分の一の近傍の光学的厚さを有する。各層はさらに、有機物であっても無機物であってもよい。本発明によれば、トレードオフに対して妥協策をとる必要性がまったくないかまたはほとんどない状態で、光透過率、シート抵抗、耐摩耗性、および低反射性のようなタッチパネル２１０の特性を、それぞれ独立して、所望のレベルに調整できることは理解されよう。さらに、図８Ａ〜８Ｄを参照して説明した実施形態または本発明に係る任意の他の好適な実施形態と同じように、図２のタッチパネル２１０を組み立てうることも理解されよう。
【００４０】
図３は、本発明の他の実施形態に係る光学膜３００の概略断面図を示す。光学膜３００は、基板３０１、光学的透明度および導電率を提供するように主として設計された透明導電性膜３０３、主として摩耗防止性を提供するように設計された耐摩耗性膜３０４、主として反射を減少させるように設計された反射防止膜３０５、およびグレアを低減または回避するように主として設計されたアンチグレア膜３０６を備える。光学膜３００は、主として基板３０１から透明導電性膜３０３を分離するように設計されたバリヤー膜３０２をさらに備える。そのような分離は、基板３０１と透明導電性膜３０３との間で生じる可能性のある望ましくない相互作用を低減または回避するうえで望まれる可能性がある。そのような相互作用の１つは、基板３０１と透明導電性膜３０３との化学反応である可能性があり、これは、たとえば、透明導電性膜３０３の光学的および／または電気的特性に悪影響を及ぼすおそれがある。他の例として、基板３０１には、バリヤー膜３０２の不在下で透明導電性膜３０３中に移動して透明導電性膜３０３の電気的および／または光学的特性に悪影響を及ぼすおそれのある粒子または不純物が含まれている可能性がある。そのような移動は、光学膜３００の加工および製造時に、組立て時に、使用時に、または他の理由で起こる可能性がある。バリヤー膜３０２は、そのような移動を停止または減少させる。たとえば、基板３０１は、ナトリウムのような不純物を有するガラスである可能性があり、透明導電性膜３０３は、透明導電性酸化物（ＴＣＯ）である可能性がある。ＴＣＯの例としては、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、フッ素ドープド酸化スズ、アンチモンスズ酸化物（ＡＴＯ）、および酸化亜鉛（ＺｎＯ）、たとえば、アルミニウムをドープした酸化亜鉛が挙げられる。バリヤー膜３０２の不在下では、ガラス中の不純物は、ＴＣＯ中に移動することにより、そのシート抵抗の増大および／またはその光学的透明度の減少を引き起こす可能性がある。そのような移動は、たとえば、高温で短時間で、またはより低い温度で長時間かけて起こる可能性がある。たとえば、ＴＣＯは、典型的には高温で、たとえば１５０℃以上で、堆積される。そのような温度では、不純物は、基板から堆積ＴＣＯ膜中に移動することにより、その導電率および／または光学的透明度を減少させる可能性がある。さらに、膜の堆積後に高温で膜を焼成した場合、ＴＣＯ膜の電気的および光学的特性が改良される可能性がある。堆積後の焼成は、アニーリングと呼ばれることもある。バリヤー膜の不在下では、ＴＣＯ膜が最初に低温で堆積されたとしても、不純物は、アニーリング時に基板からＴＣＯ膜中に移動する可能性がある。バリヤー膜３０２の不在下では、基板３０１は不純物を実質的に含まないことが望ましいであろう。不純物を含まない基板にすると、基板の選択が制限され、コストが増大する。バリヤー膜３０３を追加すれば、フロートガラスのような不純物を含むガラスが使用可能になる。
【００４１】
アンチグレア膜３０６は、残留反射を拡散させることによりグレアをさらに減少させるかまたは排除するように主として設計される。アンチグレア膜３０６は、粗表面３０７を有することによりアンチグレア性を備えうる。そのような粗表面は、たとえば、コーティング条件および乾燥条件を最適化することにより、アンチグレア膜３０６を堆積させながら生成させることが可能である。表面３０７はまた、他の方法により、たとえば、エンボス法、マイクロレプリカ法、スプレー法、またはそれ以外の方法により、生成させることも可能である。他の選択肢として、アンチグレア膜３０７は、膜にテクスチャー表面を付与するバルクディフューザーを備えうる。他の選択肢として、図８Ａ〜８Ｄを参照して説明したものと類似した構成を組み込むことにより、光学膜３００にアンチグレア性をもたせうることは理解されよう。
【００４２】
さらに、光学膜３００が所望の光透過率、シート導電率、反射、グレア、および耐摩耗性をトレードオフがまったくないかまたはほとんどない状態で提供することも理解されよう。さらに、光学膜３００は、基板３０１から透明導電性膜３０３を分離することにより、たとえば、真空中または大気圧に近い環境における高温加工を可能にする。このほか、１層以上の層３０４〜３０６は、望ましからぬ影響、たとえば、酸化、空気中に存在する可能性のある不純物、およびさらなる加工時に生じるおそれのあるそれ以外の望ましからぬ影響から、透明導電性膜３０３を保護するのに寄与しうる。光学膜３００は、タッチセンサーに使用するのに好適である。たとえば、光学膜は、図２に示される回路と類似した容量式タッチセンサーで使用することが可能である。
【００４３】
図４は、本発明の他の実施形態に係る光学膜４００の概略断面図を示している。光学膜４００は、基板４１０、光学的透明度および導電率を提供するように主として設計された透明導電性膜４０３、ならびに透明導電性膜４０３から基板４０１を分離するように主として設計されたバリヤー膜４０２を備える。光学膜４００のさまざまな層は、図３を参照して説明した実施形態に記載されているものに類似している。透明導電性膜４０３は、グレアを減少させるためにテクスチャー表面４０４を有する。したがって、本発明のこの特定の実施形態では、透明導電性膜は、光学的透明度およびシート導電率の主要な特性を損なうことなく二次的なアンチグレア性を有する。テクスチャー表面４０４は、透明導電性膜４０３の堆積時に生成可能である。たとえば、透明導電性膜４０３の真空蒸着時に、最終的な粗表面４０４が得られるように堆積パラメーターを選択することが可能である。他の選択肢として、堆積後の乾式または湿式の化学的または機械的エッチングにより、表面を粗面化することができる。他の選択肢として、（ＣＶＤ）または（ＡＰＣＶＤ）を用いて、完成粗表面４０４を有する透明導電性膜４０３を堆積させることができる。たとえば、ＡＰＣＶＤを用いて高温ガラス基板４０１上にバリヤー膜４０３を堆積させることができる。次に、ＡＰＣＶＤを用いて高温バリヤー膜４０２および基板４０１の上に透明導電性膜４０３を堆積させることができる。図４のそれぞれの膜が２層以上の層を備えうることは理解されよう。
【００４４】
先に述べたように、ＡＰＣＶＤに特有な利点は、光学膜４００のほとんどまたはすべての層を大気圧および高温で堆積させることができるという点である。そのような加工条件は、一般的には、コストを削減し、光学的および電気的性能を改良する。さらに、同一の製造ライン上で層を逐次的にコーティングすることにより、さらにコストを削減することができる。ＡＰＣＶＤに特有な他の利点は、ガラス基板４０１を製造するのと同一のライン上で層をコーティングすることによりコストがさらに削減されるという点である。バリヤー膜４０２は、基板４０１から透明導電性膜４０３への不純物の移動を低減または回避する。このため、不純物を含む低価格のガラスを用いて、ガラス基板を作製することが可能である。バリヤー膜４０２は、基板からの不純物の移動を阻止することにより、導体の光学的および電気的特性を損なうことなく高温における透明導電性膜４０３の堆積を可能にする。本発明によれば、光学膜４００の耐摩耗性を増大させるように主として設計された耐摩耗性膜のような他の層を光学膜４００が備えうることは理解されよう。さらに、図８を参照して述べたように、マット表面４０４は、透明導電性膜４０３に直接生成させることも可能であるし、またはたとえば、最初にバリヤー膜４０２にマット表面を直接生成させてからバリヤー膜４０２上に実質的にコンフォーマルに透明導電性膜をコーティングしてマット表面４０４を得ることにより間接的に生成させることも可能であることも理解されよう。
【００４５】
図５は、本発明の他の態様に係る抵抗式タッチセンサー５００の概略図を示している。抵抗式タッチパネル５００は、上端シート５３０および下端シート５４０を備える。上端シート５３０は、下端シートに対向する透明導体５１１を備える。電極５０５は、透明導体５１１に電気接触する。下端シート５４０は、基板５０１、光学的透明度およびシート導電率を提供するように主として設計された透明導電性膜５０３、ならびに透明導電性膜５０３から基板５０１を分離するように主として設計されたバリヤー膜５０２を備える。透明導電性膜５０３の上端表面（表面５０４）は、粗面であってもテクスチャー面であってもよい。電極５０６は、透明導電性膜５０３に電気接触した状態である。リード線５０７および５０８は、上端透明導体５１１および下端透明導体５０３を電気回路５１０に接続する。
【００４６】
タッチが行われると、上端および下端の透明導体５１１および５０３は、タッチ位置で互いに物理的接触状態になる。タッチ位置は、次のように決定される。最初に、電極５０５に電力を印加し、導体５０３を用いてタッチ位置のｙ座標を決定する。次に、電極５０６に電力を印加し、上端シート導体５１１を用いてタッチ位置のｘ座標を決定する。
【００４７】
下端シート５４０は、所望の光学的透明度およびシート導電率を提供する。粗面化表面５０４は、グレアを低減または回避する。このほか、マット表面５０４は、とくに、タッチ位置またはその近傍において、上端シートと下端シートとの間の光学干渉を低減または回避する。そのような光学干渉は、ニュートンリングと呼ばれることもあり、一般的には、目視者に明瞭に見える。ニュートンリングは、一般的には望ましくない。なぜなら、コントラストを減少させて、タッチセンサー５００により表示される情報を容易に目視できなくするからである。粗面化表面５０４は、ニュートンリングを許容レベルに減少させるかまたはそれを回避する。本発明によれば、タッチセンサー５００が所望の光学的透明度、グレア、実質的に目に見えないニュートンリング、所望のシート抵抗、および製造コストの削減をトレードオフがほとんどまたはまったくない状態で提供することは理解されよう。
【００４８】
図６は、本発明の他の実施形態に係る光学膜６００の概略断面図を示している。光学膜６００は、粗い上端表面６０４を有する基板６０１、粗い上端表面６０５を有するバリヤー膜６０２、および粗い上端表面６０６を有する透明導電性膜６０３を備える。透明導電性膜６０３は、最適な光学的透明度およびシート導電率を提供するように主として設計される。透明導電性膜６０３はまた、マット表面６０６により二次的なアンチグレア性を有する。バリヤー膜６０２は、基板６０１から透明導電性膜６０３を分離するように主として設計され、二次的なアンチグレア性を有する。光学膜６００のグレアは、拡散表面６０４、６０５、および６０６により低減または回避される。光学膜６００は、タッチセンサーに使用するのに好適であり、所望の光学的透明度、グレア、基板からの透明導電性膜の分離、および製造コストの削減をトレードオフがほとんどまたはまったくない状態で提供する。光学膜６００は、次のように作製することができる。最初に、基板６０１に拡散表面６０４を形成する。次に、バリヤー膜６０２の上端表面６０５もまた粗面化またはテクスチャー化されるように、バリヤー膜６０２を実質的にコンフォーマルに基板６０１上に堆積させる。表面６０４および６０５は、テクスチャーおよび粗さレベルの点で互いに類似しうる。
【００４９】
他の選択肢として、表面６０４および６０５の拡散特性は、異なっていてもよい。その後、透明導電性膜６０３の上端表面６０６もまた粗面化またはテクスチャー化されるように、透明導電性膜６０３を実質的にコンフォーマルにバリヤー膜６０２上に堆積させる。表面６０４、６０５、および６０６は、テクスチャーおよび粗さレベルの点で類似しうる。他の選択肢として、これらの表面は、テクスチャーおよび／または粗さ度の点で異なりうる。
【００５０】
光学膜６００は、たとえば、最初に基板に粗表面を生成させてから、基板の粗さが少なくともある程度までコーテッド層に複製されるようにバリヤー層および透明導電性膜を基板にコーティングすることにより、透明導電性膜に拡散表面を形成することが有利である場合、とくに好適である。たとえば、いくつかの用途では、透明導電性膜６０６に粗表面を直接形成することが困難であるかまたはそれほど有利ではない可能性がある。そのような場合、基板に粗表面を形成し、基板上にコンフォーマルに他の層をコーティングすることにより粗表面を複製する形で、そのような粗表面を間接的に生成させることができる。
【００５１】
図６を見れば、他の選択肢として、基板６０１の表面６０４が実質的に平滑であってもよいことは理解されよう。この場合、粗表面をバリヤー膜６０２に直接形成し、そしてバリヤー膜６０２上に実質的にコンフォーマルに透明導電性膜６０３をコーティングすることにより、それを透明導電性膜６０３中に複製することができる。
【００５２】
バリヤー膜６０２は、基板６０１と透明導電性膜６０３との間の望ましからぬ相互作用を低減または回避する。たとえば、バリヤー膜６０２は、不純物の移動を低減または回避することができる。他の選択肢として、バリヤー膜６０２は、化学反応を低減または回避することができる。一般的には、バリヤー膜６０２は、基板６０１から透明導電性膜６０３を分離する。その分離は、バリヤー膜の不在下で基板および／または透明導電性膜の性能に影響を及ぼすおそれのある望ましからぬ相互作用を回避または低減する。
【００５３】
ＡＰＣＶＤを用いて、多層光学膜６００を作製することができる。たとえば、従来のガラス製造プロセスを用いて、フロートガラスのようなガラス基板６０１を作製することができる。次に、高温ガラス基板にバリヤー膜６０２のコーティングを施す。コーティング温度は、４００℃を超えてもよい。コーティングは、フロート浴中のガラスに施すかまたはそれを浴から取り出した後で施すことが可能である。バリヤー膜は、テクスチャー表面６０５がバリヤー膜に生成されるようにコンフォーマルにガラスをコーティングする。次に、透明導電性膜６０３をバリヤー膜上にコーティングする。導電性コーティングもまた、フロート浴中で施すことが可能であり、コーティング温度は、５００℃を超えてもよい。同一のライン上でかつ高温で一部分または全部の層を作製することができるので、ＡＰＣＶＤは、光学膜６００の作製にとくに有利である。したがって、製造コストが削減される。さらに、高温で堆積させた場合、層の性能が改良される可能性がある。
【００５４】
他の選択肢として、有利な場合には、ＣＶＤまたはＣＶＤとＡＰＣＶＤの組合せを用いて、光学膜６００を作製することができる。たとえば、ＡＰＣＶＤを用いてバリヤー膜６０２を基板６０１上にコーティングし、ＣＶＤを用いて透明導電性膜６０３をコーティングすることが可能である。コーティングは、同一の製造ライン上で行うことができる。他の好適な方法を用いて、層をコーティングすることもできる。たとえば、透明導電性膜６０３は、透明有機導体であってもよい。この場合、ナイフコーティング、スクリーン印刷、インクジェット印刷、または任意の他の好適なコーティング法を用いて、有機導体をバリヤー膜６０２上にコーティングすることができる。
【００５５】
基板６０１は、剛性であっても可撓性であってもよい。基板は、高分子であっても任意のタイプのガラスであってもよい。たとえば、基板は、フロートガラスであってもよいし、またはポリカーボネート、アクリレートなどのような有機材料で作製されたものであってもよい。バリヤー膜６０２は、二酸化ケイ素であっても酸化スズであってもよい。透明導電性膜は、半導体、ドープド半導体、半金属、金属酸化物、有機導体、導電性ポリマーなどであってよい。代表的な無機材料としては、透明導電性酸化物、たとえば、（ＩＴＯ）、フッ素ドープド酸化スズ、（ＡＴＯ）などが挙げられる。代表的な有機材料としては、導電性有機金属化合物および導電性ポリマー（ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレン、ポリチオフェンなど）、たとえば、欧州特許出願公開第１−１７２−８３１−Ａ２号明細書に開示されているものが挙げられる。
【００５６】
図７は、本発明の一態様に係るディスプレイシステム７００の概略断面図を示している。ディスプレイシステム７００は、ディスプレイ７０１およびタッチセンサー７０２を備える。タッチセンサー７０２は、本発明の実施形態に係る光学膜を備える。たとえば、タッチセンサー７０２は、図１の光学膜１００、図３の光学膜３００、図６の光学膜６００、図８Ａ〜８Ｄの光学膜、または本発明に係る任意の他の光学膜を備えることができる。ディスプレイ７０１は、永久的なまたは交換可能なグラフィックス（たとえば、画像、地図、アイコンなど）および電子ディスプレイ、たとえば、液晶ディスプレイ、陰極線管、プラズマディスプレイ、エレクトロルミネセンスディスプレイ、有機エレクトロルミネセンスディスプレイ、電気泳動ディスプレイなどを備えることができる。図７では、ディスプレイ７０１およびタッチセンサー７０２は２つの個別の素子として示されているが、２つを単一ユニットに一体化させることも可能であることは理解されよう。
【００５７】
以上で引用した特許、特許出願、および他の刊行物は、いずれも、参照によりあたかも完全に複製されたかのごとく本文書に組み入れられるものとする。本発明の種々の態様の説明を容易にするために本発明の特定例が以上で詳細に説明されているが、当然のことながら、本発明をこれらの例の詳細事項に限定しようとするものではない。そうではなく、添付の特許請求の範囲に規定されている本発明の精神および範囲に含まれる変更形態、実施形態、および代替形態はすべて、本発明に包含されるものとする。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】本発明の実施形態に係る光学部品の概略側面図を示す。
【図２】本発明の他の実施形態に係るタッチセンサーの概略三次元図を示す。
【図３】本発明の他の実施形態に係る光学部品の概略側面図を示す。
【図４】本発明のさらに他の実施形態に係る光学部品の概略側面図を示す。
【図５】本発明の他の実施形態に係るタッチセンサーの概略三次元図を示す。
【図６】本発明の他の実施形態に係る光学部品の概略側面図を示す。
【図７】本発明の他の実施形態に係るディスプレイシステムの概略側面図を示す。
【図８Ａ−８Ｄ】本発明の他の実施形態に係る４つの光学部品の概略側面図を示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【国際調査報告】
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