(57)【要約】ポリアクリレート系接着剤材料を製造する方法であって、タイプ（Ｌ）ｙＭ［ここで、Ｍ＝金属原子または金属イオン、Ｌ＝対イオンまたは配位子、ｙ＝０から６］の少なくとも１種の金属化合物をＣ−Ｓ−Ｃ原子配列を含有するポリアクリレート材料に添加することを特徴とする方法。【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリアクリレート系感圧接着剤を製造する方法であって、原子配列Ｃ−Ｓ−Ｃを含有するポリアクリレート組成物をタイプ（Ｌ）ｙＭ
［ここで、
Ｍ＝金属原子または金属イオン、
Ｌ＝対イオンまたは配位子、
ｙ＝０から６］
の少なくとも１種の金属化合物と混合することを特徴とする方法。
【請求項２】
少なくとも下記の段階：
−  原子配列Ｃ−Ｓ−Ｃを含有する少なくとも１種の化合物を調節剤として用いてモノマー混合物を重合させ、
−  タイプ（Ｌ）ｙＭの金属化合物を添加し、
−  ポリマーを濃縮することでホットメルト組成物を生じさせ、
−  前記ポリマーを化学放射線で架橋させる、
段階を含んで成る請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記原子配列Ｃ−Ｓ−Ｃを含有する化合物が下記の構造：
【化１】
2005535769.tif 000010
［ここで、Ｒ＊、Ｒ＊＊およびＲ＊＊＊は、互いに独立して、芳香もしくは脂肪飽和もしくは不飽和炭化水素基である］
の中の１つで表され得ることを特徴とする前請求項の少なくとも１項記載の方法。
【請求項４】
基Ｒ＊、Ｒ＊＊および／またはＲ＊＊＊が全体または部分的にオリゴマーおよび／またはポリマー形態で存在することを特徴とする請求項３記載の方法。
【請求項５】
前記金属化合物（Ｌ）ｙＭが金属塩、金属水酸化物または金属錯体化合物であることを特徴とする前請求項の少なくとも１項記載の方法。
【請求項６】
前記ポリマーを架橋させる前にそれを支持体材料に付着させておくことを特徴とする前請求項の少なくとも１項記載の方法。
【請求項７】
前記ポリアクリレート組成物の少なくとも５０％がアクリル系モノマーが基になっていることを特徴とする前請求項の少なくとも１項記載の方法。
【請求項８】
前記ポリアクリレート組成物の少なくとも一部が一般式
ＣＨ２＝ＣＨ（Ｒ１）（ＣＯＯＲ２）
［式中、
Ｒ１＝ＨまたはＣＨ３、
Ｒ２＝Ｈ、または炭素原子を１から３０個含有する炭化水素基］
で表されるモノマーが基になっていることを特徴とする前請求項の少なくとも１項記載の方法。
【請求項９】
前記金属Ｍを下記の群：銅、ニッケル、鉄、亜鉛、錫、カドミウム、アルミニウム、コバルト、銀、金から選択することを特徴とする前請求項の少なくとも１項記載の方法。
【請求項１０】
前記対イオンおよび／または配位子Ｌを互いに独立して下記の群：ハライド、アルコキサイド、ボライド、ヒドロキサイド、ナイトレート、ホスフェート、パークロレート、フタロシアニン、オキシネート、アセテート、アセチルアセトネート、カーボネート、フォルメート、シアニド、ナフタロシアニン、ロダニド（チオシアネート）、カルボキシレート、キレート、レジネート、カーバイド、ホスフィン、アルキル、アルケニル、アルキニル、ジオン、アリール、置換アリール、サイトレート、複素環、ペンタジエニル、アミン、多官能アミン、エーテル、クラウンエーテルから選択することを特徴とする前請求項の少なくとも１項記載の方法。
【請求項１１】
ポリアクリレートが基になった感圧接着剤であって、構造
（Ｌ）ｚ−Ｍ−（ＳＲ）ｘ
［ここで、
Ｍは、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｃｏ、ＡｇおよびＡｕから成る群の金属を表し、
Ｒは、各場合とも独立して、脂肪、芳香、飽和、不飽和、オリゴマーまたはポリマー基を表し、
Ｌは、ハライド、アルコキサイド、ボライド、ヒドロキサイド、ナイトレート、ホスフェート、パークロレート、フタロシアニン、オキシネート、アセテート、アセチルアセトネート、カーボネート、フォルメート、シアニド、ナフタロシアニン、チオシアネート、カルボキシレート、キレート、レジネート、カーバイド、ホスフィン、アルキル、アルケニル、アルキニル、ジオン、アリール、置換アリール、サイトレート、複素環、ペンタジエニル、アミン、多官能アミン、エーテル、クラウンエーテルから成る群のイオンまたは配位子を表す］
で表される少なくとも１種の金属−硫黄化合物が存在することを特徴とする感圧接着剤。
【請求項１２】
前記式（Ｌ）ｚ−Ｍ−（ＳＲ）ｘで表される金属−硫黄化合物が親ポリマーを基準にして少なくとも２５ｐｐｍ存在することを特徴とする請求項１１記載の感圧接着剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アクリレート系感圧接着剤材料（ｐｒｅｓｓｕｒｅ−ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  ａｃｒｙｌａｔｅ  ａｄｈｅｓｉｖｅ  ｍａｔｅｒｉａｌｓ）を製造する方法、そのようにして入手可能な感圧接着剤（ＰＳＡ）およびそれらの使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
産業用ＰＳＡテープ用途ではポリアクリレート系（ｐｏｌｙａｃｒｙｌａｔｅ）ＰＳＡの使用が非常に一般的である。ポリアクリレートは他のエラストマーに比べていろいろな利点を有する。それらは紫外光、酸素およびオゾンに対して非常に安定である。それとは対照的に、合成および天然ゴム系の接着剤は一般に二重結合を含有していることからこのような接着剤は上述した環境の影響に対して安定でない。
【０００３】
ポリアクリレートの別の利点は、透明であることと比較的幅広い温度範囲に渡って有用である点にある。
【０００４】
ポリアクリレート系ＰＳＡの製造は一般に溶液の状態のフリーラジカル重合で行われる。一般的には、コーティングバー（ｃｏａｔｉｎｇ  ｂａｒ）を用いてポリアクリレートを溶液の状態で相当する支持体材料に塗布した後に乾燥させることが行われている。凝集力（ｃｏｈｅｓｉｏｎ）を向上させる目的で前記ポリマーを架橋させることが行われている。硬化は熱でか或は紫外架橋またはＥＢ硬化（ＥＢ：電子ビーム）で進行する。この記述した操作は相対的に費用がかかりかつ環境的に問題がある、と言うのは、一般に溶媒の再利用は行われておらずかつ有機溶媒を多い量で消費することは環境にとって負担が大きいことに相当する。
【０００５】
その上、ＰＳＡテープの製造を発泡が起こらないようにしながら高い被膜重量で行うのは非常に困難である。
【０００６】
そのような欠点を改善する１つの方法はホットメルト（ｈｏｔｍｅｌｔ）方法である。この方法ではＰＳＡを溶融状態で支持体材料に付着させる。
【０００７】
しかしながら、このような技術には制限がある。被覆を行う前にＰＳＡから溶媒を乾燥用押出し加工機で除去することが行われている。このような乾燥操作は比較的高い温度およびせん断の影響を伴い、その結果として、特に高い分子量を有するポリアクリレート系ＰＳＡはひどく損傷を受ける。分子量が小さくなると結果としてアクリル系ＰＳＡゲル、即ち低分子量画分の量が非常に多くなってしまう。両方の影響とも望ましくない、と言うのは、それらはその用途にとって不利であるからである。そのような接着剤はもはや塗布不能であるか或はそれの接着特性が変化してしまう、と言うのは、例えばせん断力が接着剤に作用すると低分子量画分が滑剤として働くようになることで接着剤の不履行があまりにも早期に起こってしまうからである。
【０００８】
低い平均分子量と狭い分子量分布を示すポリアクリレート接着剤を用いることによってそのような欠点を軽減する１つの解決法が提案された。この場合には、重合工程の結果としてポリマーに含まれる低分子量分子と高分子量分子の分率を大きく低下させることが行われる。高分子量画分の量を少なくすると流動粘度（ｆｌｏｗ  ｖｉｓｃｏｓｉｔｙ）が低下しかつそのような接着剤が示すゲル化の傾向も低下する。低分子量画分の量を少なくすると、結果として、ＰＳＡのせん断強度を低下させるオリゴマーの数が少なくなる。
【０００９】
低分子量のＰＳＡを生じさせるに適した重合方法は多様である。最新技術は調節剤（ｒｅｇｕｌａｔｏｒｓ）、例えばアルコールまたはチオールなどを用いる技術である（非特許文献１）。そのような調節剤を用いると分子量が小さくなりはするが、分子量分布が広がってしまう。
【００１０】
しかしながら、熱暴露、例えばホットメルト工程に典型的な如き熱暴露の時間が長引くと、熱劣化またはせん断の結果として揮発性チオールが放出され、そのようなチオールは不快な臭気を有する。
【００１１】
非特許文献１では、ラジカル重合反応の調節を向上させようとする試みが成された。それにも拘らず、高い反応性と高い変換率を得ることを可能にすることに加えて高い分子量と低い多分散性（ｐｏｌｙｄｉｓｐｅｒｓｉｔｙ）を得ることも可能にする重合方法が求められている。そのような要求を満たそうとする研究が特許文献１で成された。
【００１２】
ポリアクリレートを製造するに適したさらなる変法はＲＡＦＴ（ｒｅｖｅｒｓｉｂｌｅ  ａｄｄｉｔｉｏｎ−ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ  ｃｈａｉｎ  ｔｒａｎｓｆｅｒ）方法である。この方法は特許文献２および３に詳細に記述されているが、そこに挙げられている様式はＰＳＡの調製には適さない、と言うのは、達成された変換率は非常に低くかつ生じたポリマーの平均分子量もアクリル系ＰＳＡにとってはあまりにも低すぎるからである。従って、その記述されたポリマーをアクリル系ＰＳＡとして用いるのは不可能である。特許文献４に記述された方法を用いるとある改良が達成された。
【００１３】
しかしながら、そのような方法でも熱分解またはせん断の影響で生じる揮発性チオール化合物が原因で起こる臭気の不快さに関する問題は継続して存在する。
【００１４】
その上、アクリレート系ＰＳＡテープの製造では、一般に、高エネルギーの（化学）放射線を用いて、この上に記述した方法で生じさせておいたポリアクリレートを架橋させる必要がある。そのような方法でも同様にチオールを含有する断片が生じ（特に電子ビームによる照射の結果として）、それによって不快な臭気が生じてしまう。
【００１５】
従って、アクリレート系ホットメルトＰＳＡが熱貯蔵（ｔｈｅｒｍａｌ  ｓｔｏｒａｇｅ）下、せん断下および化学放射線下に置かれた時に生じる臭気の不快さに関する問題はそのままであり、従って、この上に記述したようにして生じさせたＰＳＡの用途分野を広げることは閉ざされたままである。
【特許文献１】ＤＥ  １００  ３６  ８０１
【特許文献２】ＷＯ  ９８０１４７８
【特許文献３】ＷＯ  ９９３１１４４
【特許文献４】ＤＥ  １００  ３０  ２１７．３
【非特許文献１】Ｍａｋｒｏｍｏｌｅｋｕｌｅ、Ｈａｎｓ−Ｇｅｏｒｇ  Ｅｌｉａｓ、第５版、１９９０、Ｈｕｔｈｉｇ  ＆  Ｗｅｐｆ  Ｖｅｒｌａｇ  Ｂａｓｅｌ
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
従って、本発明の目的は、ホットメルト工程における熱貯蔵下、せん断下および化学放射線下で示す臭気挙動（ｏｄｏｒ  ｂｅｈａｖｉｏｒ）が低下しているか或は全く臭気を示さないＰＳＡをもたらす方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
驚くべきことに、金属−硫黄化合物を用いた方法は所望の特性を示すアクリレート系ホットメルトＰＳＡをもたらしかつ金属−硫黄化合物を用いたアクリレート系ホットメルトＰＳＡを用いて製造したポリアクリレート系ＰＳＡテープはホットメルトコーティング（ｈｏｔｍｅｌｔ  ｃｏａｔｉｎｇ）後および化学放射線を用いた架橋後に全く臭気挙動を示さないことを見いだした。
【００１８】
従って、本発明は、ポリアクリレート系感圧接着剤を製造する方法を提供し、この方法では、原子配列Ｃ−Ｓ−Ｃを含んで成るポリアクリレート組成物から出発してこれにタイプ（Ｌ）ｙＭ［ここで、Ｍは金属原子または金属イオンを表し、Ｌは対イオンまたは配位子を表し、そしてｙは０から６であるように選択される］の少なくとも１種の金属化合物を添加する。
【００１９】
本発明の方法の特に適切な１変法は、少なくとも下記の段階：
−  原子配列Ｃ−Ｓ−Ｃを含んで成る少なくとも１種の化合物を調節剤として用いてモノマー混合物を重合させ、
−  タイプ（Ｌ）ｙＭの金属化合物を添加し（ａｄｄｉｔｉｚｉｎｇ  ｗｉｔｈ）、
−  ポリマーに濃縮を受けさせることでホットメルト組成物を生じさせ、
−  前記ポリマーを化学放射線で架橋させる、
段階を含んで成る。
【００２０】
本発明の方法は、結果として生じたポリマーに組み込まれた原子配列Ｃ−Ｓ−Ｃがポリマー鎖１本当たり少なくとも１個存在するようにすると非常に有利な様式で進行する。
【００２１】
アクリレート系ＰＳＡを製造する時の本発明の方法の１つの好適な手順では、下記の式
ＣＨ２＝ＣＨ（Ｒ１）（ＣＯＯＲ２）
［式中、Ｒ１＝ＨまたはＣＨ３、そしてＲ２は炭素原子数が１−３０のアルキル鎖またはＨである］で表されるアクリル酸エステルおよび／またはメタアクリル酸エステルおよび／またはこれらの遊離酸［モノマーａ）］からポリマーを生じさせる。重合させるモノマー混合物の中のモノマーａ）の比率を有利には７−９９．９重量％、特に７５−１００重量％にする。
【００２２】
加うるに、好適な手順では、官能基を含有するオレフィン系不飽和モノマー［モノマーｂ）］を重合させるべきモノマー混合物にコモノマーとして添加することも可能である。それらの比率を有利には０−３０重量％にする。モノマーａ）の比率とモノマーｂ）の比率を加えると有利に１００％になるようにしてもよいが、また、さらなるコモノマーをモノマー混合物に加える結果として前記総量をより低くすることも可能である。
【００２３】
１つの有利な手順ではアクリル系モノマーをモノマーａ）として用いるが、それには、炭素原子数が４から１４、好適には炭素原子数が４から９のアルキル基を有するアクリル酸エステルおよび／またはメタアクリル酸エステルが含まれる。具体例には、この列挙で不必要に限定することを望むものでないが、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｎ−ペンチル、アクリル酸ｎ−ヘキシル、アクリル酸ｎ−ヘプチル、アクリル酸ｎ−オクチル、アクリル酸ｎ−ノニル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸ベヘニル、そしてそれらの分枝異性体、例えばアクリル酸２−エチルヘキシルなどが含まれる。モノマーａ）として同様に添加可能（好適には少量であるが）なさらなる種類の化合物はメタアクリル酸メチル、メタアクリル酸シクロヘキシルおよびメタアクリル酸イソボルニルである。
【００２４】
本発明の方法の非常に好適な１つの変法では、少なくとも１種のビニル化合物を伴う光開始剤をモノマーｂ）として用いる。そのような光開始剤は有利にはＮｏｒｒｉｓｈ  ＩまたはＮｏｒｒｉｓｈ  ＩＩ型であり得る。そのような光開始剤は、好適には下記の基：ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ヒドロキシアルキルフェノン、フェニルシクロヘキシルケトン、アントラキノン、トリメチルベンゾイルホスフィンオキサイド、メチルチオフェニルモルホリンケトン、アミノケトン、アゾベンゾイン、チオキサントン、ヘキサアリールビスイミダゾール、トリアジンまたはフルオレノンの中の１つ以上を構造成分として含有し、前記基は各々が追加的に１つ以上のハロゲン原子および／または１つ以上のアルコキシ基および／または１つ以上のアミノ基および／または１つ以上のヒドロキシル基で置換されていてもよい。代表的な概要がＪ．−Ｐ．Ｆｏｕａｓｓｉｅｒ著、「Ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｉｏｎ，Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ  ａｎｄ  Ｐｈｏｔｏｃｕｒｉｎｇ，Ｆｕｎｄａｍｅｎｔａｌｓ  ａｎｄ  Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ」、Ｈａｎｓｅｒ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ、Ｍｕｎｉｃｈ、Ｖｉｅｎｎａ、Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ  １９９５に与えられている。さらなる詳細に関してはＡ．Ｃａｒｒｏｙ、Ｃ．Ｄｅｃｋｅｒ、Ｊ．Ｐ．Ｄｏｗｌｉｎｇ、Ｐ．Ｐａｐｐａｓ、Ｂ．Ｍｏｎｒｏｅ著、「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ＆  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ  ｏｆ  ＵＶ  ＆  ＥＢ  Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ  ｆｏｒ  Ｃｏａｔｉｎｇｓ，Ｉｎｋｓ  ＆  Ｐａｉｎｔｓ」、Ｐ．Ｋ．Ｔ．Ｏｌｄｒｉｎｇ編集、第５巻、ＳＩＴＡ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（ロンドン、英国）出版（１９９４）が参考になり得る。
【００２５】
その例はアクリレート化ベンゾフェノン、例えばＵＣＢのＥｂｅｃｒｙｌ  Ｐ  ３６（商標）など、またはベンゾインアクリレートである。
【００２６】
モノマーｂ）として同様に有利に使用可能なモノマーは、ビニルエステル、ビニルエーテル、ハロゲン化ビニル、ハロゲン化ビニリデン、そして芳香環をα位に有するビニル化合物および複素環をα位に有するビニル化合物が含まれる。ここでも、排除するものでないが、下記のいくつかの例を挙げることができる：酢酸ビニル、ビニルホルムアミド、ビニルピリジン、エチルビニルエーテル、塩化ビニル、塩化ビニリデンおよびアクリロニトリル。モノマーｂ）の非常に好適なさらなる変形として下記の官能基を含有するモノマーを用いる：ヒドロキシル、カルボキシル、エポキシ、酸アミド、イソシアナトまたはアミノ基。
【００２７】
１つの有利な変法では、下記の一般式：
【００２８】
【化１】
2005535769.tif 000002
【００２９】
［式中、Ｒ＝ＨまたはＣＨ３であり、そして基−ＯＲ’は官能基を表すか或は官能基を含有し、例えば、特に好適な１つの変法では、紫外線による架橋を助長するＨ供与効果（Ｈ  ｄｏｎｏｒ  ｅｆｆｅｃｔ）を有する］
に相当するアクリル系モノマーをモノマーｂ）として用いる。
【００３０】
成分ｂ）の特に好適な例は、アクリル酸ヒドロキシエチル、アクリル酸ヒドロキシプロピル、メタアクリル酸ヒドロキシエチル、メタアクリル酸ヒドロキシプロピル、アリルアルコール、無水マレイン酸、無水イタコン酸、イタコン酸、アクリルアミドおよびメタアクリル酸グリセリジル、アクリル酸ベンジル、メタアクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニル、メタアクリル酸フェニル、アクリル酸ｔ−ブチルフェニル、メタアクリル酸ｔ−ブチルフェニル、アクリル酸フェノキシエチル、メタアクリル酸フェノキシエチル、メタアクリル酸２−ブトキシエチル、アクリル酸２−ブトキシエチル、メタアクリル酸ジメチルアミノエチル、アクリル酸ジメチルアミノエチル、メタアクリル酸ジエチルアミノエチル、アクリル酸ジエチルアミノエチル、メタアクリル酸シアノエチル、アクリル酸シアノエチル、メタアクリル酸グリセリル、メタアクリル酸６−ヒドロキシエチル、Ｎ−ｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタアクリルアミド、Ｎ−（ブトキシメチル）メタアクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−（エトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、ビニル酢酸、アクリル酸テトラヒドロフルフリル、β−アクリロイルオキシプロピオン酸、トリクロロアクリル酸、フマル酸、クロトン酸、アコニチン酸、ジメチルアクリル酸であるが、この列挙は決定的ではない。
【００３１】
１つの好適なさらなる手順では、芳香中心部が好適にはＣ４からＣ１８炭化水素基で構成されておりかつまたヘテロ原子も含有していてもよい芳香族ビニル化合物を成分ｂ）として用いる。特に好適な例はスチレン、４−ビニルピリジン、Ｎ−ビニルフタルイミド、メチルスチレン、３，４−ジメトキシスチレン、４−ビニル安息香酸であるが、この列挙は決定的ではない。
【００３２】
本発明のさらなる手順では、また、チオエーテル、チオエステルまたはチオカーボネート官能を少なくとも１個含有するモノマーを用いることも可能である。
【００３３】
重合では、モノマーを、結果として生じるポリマーが産業用途のＰＳＡとして使用可能なように選択し、特に結果として生じるポリマーがＤｏｎａｔａｓ  Ｓａｔａｓ著、「Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｐｒｅｓｓｕｒｅ  Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ」（ｖａｎ  Ｎｏｓｔｒａｎｄ、ニューヨーク、１９８９）に従って感圧接着特性を示すように選択する。そのような用途では、結果として生じるポリマーが示す静的ガラス転移温度が有利に２５℃未満になるようにする。
【００３４】
そのようなポリマーを生じさせようとする時にはラジカル重合方法を選択するのが有利であるが、他の重合方法、特にアニオン方法を本発明から排除するものでない。
【００３５】
ラジカル重合の場合、好適には、ラジカル開始剤系、特に熱で分解してラジカルを発生するアゾもしくはパーオキソ開始剤または酸化還元系を用いる。しかしながら、原則として、アクリレートに適することが知られている通常の開始剤のいずれも本目的で用いるに適する。Ｃ中心ラジカル（Ｃ−ｃｅｎｔｅｒｅｄ  ｒａｄｉｃａｌｓ）の発生がＨｏｕｂｅｎ  Ｗｅｙｌ、Ｍｅｔｈｏｄｅｎ  ｄｅｒ  Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ  Ｃｈｅｍｉｅ、Ｅ  １９ａ巻、６０−１４７頁に記述されている。このような方法も同様に優先的に用いる。
【００３６】
ラジカル源の例は過酸化物、ヒドロパーオキサイドおよびアゾ化合物であり、ここで典型的なラジカル開始剤として挙げることができる数多くの非排他的例には、ペルオキソ二硫酸カリウム、ジベンゾイルパーオキサイド、クメンヒドロパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、アゾジイソブチロニトリル、シクロヘキシルスルホニルアセチルパーオキサイド、ジイソプロピルパーカーボネート、過カプリル酸ｔ−ブチル、ベンズピナコールが含まれる。非常に好適な１つの変法で用いるラジカル開始剤は、１，１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）［ＤｕＰｏｎｔのＶａｚｏ  ８８（商標）］である。
【００３７】
この重合は塊状でか、有機溶媒の存在下でか、有機溶媒混合物中でか、水の存在下でか、或は有機溶媒と水の混合物中で実施可能である。この目的は溶媒の使用量を最小限にすることにある。適切な有機溶媒または溶媒混合物は簡単なアルカン（ヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン）、芳香族炭化水素（ベンゼン、トルエン、キシレン）、エステル（酢酸エチル、プロピル、ブチルもしくはヘキシル）、ハロゲン置換炭化水素（クロロベンゼン）、アルカノール（メタノール、エタノール、エチレングリコール、エチレングリコールのモノメチルエーテル）、エーテル（ジエチルエーテル、ジブチルエーテル）またはこれらの混合物である。反応混合物がモノマー変換中に均一相の形態で存在することを確保する目的で、水性重合反応に水混和性もしくは親水性の共溶媒を添加することも可能である。本発明で有利に使用可能な共溶媒は、脂肪族アルコール、グリコール、エーテル、グリコールエーテル、ピロリジン、Ｎ−アルキルピロリジノン、Ｎ−アルキルピロリドン、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、アミド、カルボン酸およびこれらの塩、エステル、スルホキサイド、スルホン、アルコール誘導体、ヒドロキシエーテル誘導体、アミノアルコール、ケトンなど、そしてまたこれらの誘導体および混合物から成る群から選択される共溶媒である。
【００３８】
チオエーテル官能を少なくとも１個含有するポリアクリレートを生じさせようとする場合にはチオールおよび／またはジチオエーテルを添加するのが特に好適に適切である。そのような化合物は重合調節剤として働く。完全さを主張するものでないが、２つの例はドデカンチオールおよびヘキサデカンチオールである。
【００３９】
重合時間は変換率および温度に応じて４から７２時間の範囲である。選択可能な反応温度が高ければ高いほど、言い換えれば反応混合物の熱安定性が高ければ高いほど、短い反応時間を選択することができる。
【００４０】
この重合を開始させる時に熱で分解する開始剤を用いる場合、熱の導入が必須である。そのように熱で分解する開始剤の場合、開始剤の時間に応じて５０から１６０℃に加熱すると重合が始まり得る。別法として、紫外光と紫外光開始剤を用いて重合を開始させることも可能であり、この場合には、その紫外光開始剤が重合を開始させるラジカルの発生をもたらす。紫外線量を用いてフリーラジカルの数を調節することができる。
【００４１】
多分散性が３．０未満のポリアクリレートを生じさせようとする場合には調節ラジカル重合（ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  ｒａｄｉｃａｌ  ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎｓ）の使用が好適である。
【００４２】
用いる調節剤は、原子配列Ｃ−Ｓ−Ｃを示す化合物である。特に、酸素原子の中の少なくとも１つ、好適には酸素原子の中の２つ以上、特に好適には酸素原子の全部が硫黄原子で置換されている有機エーテル、エステルおよびカーボネートが本目的で用いるに適する。望まれるならば、酸素原子の中の１つまたはいくつかが同様に他のヘテロ原子、例えば窒素などで置換されていてもよい。
【００４３】
特に有利に用いる調節剤は、下記の構造：
【００４４】
【化２】
2005535769.tif 000003
【００４５】
［ここで、Ｒ＊、Ｒ＊＊およびＲ＊＊＊は、互いに独立して、芳香もしくは脂肪飽和もしくは不飽和炭化水素基である］
の中の１つで表され得る化合物であり、これらはモノマー、オリゴマーまたはポリマーとして存在していてもよい。
【００４６】
少なくともジチオエステルを含有するポリアクリレートを生じさせようとする場合には、一般式：
【００４７】
【化３】
2005535769.tif 000004
【００４８】
［式中、
・  ＲおよびＲ’は、互いに独立してか或は同じに選択され、
−  分枝および未分枝のＣ１からＣ１８アルキル基；Ｃ３からＣ１８アルケニル基；Ｃ３からＣ１８アルキニル基；
−  ＨまたはＣ１からＣ１８アルコキシ；
−  少なくとも１個のＯＨ基または少なくとも１個のハロゲン原子または少なくとも１個のシリルエーテルで置換されているＣ３からＣ１８アルキニル基、Ｃ３からＣ１８アルケニル基、Ｃ１からＣ１８アルキル基；
−  酸素原子および／またはＮＲ’基を炭素鎖中に少なくとも１個有するＣ２−Ｃ１８ヘテロアルキル基；
−  少なくとも１個のエステル基、アミン基、カーボネート基、シアノ、イソシアノおよび／またはエポキシド基および／または硫黄で置換されているＣ３−Ｃ１８アルキニル基、Ｃ３−Ｃ１８アルケニル基、Ｃ１−Ｃ１８アルキル基、
−  Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキル基、
−  Ｃ６−Ｃ１８アリール基またはベンジル基、
−  水素、
である］
で表される調節剤（ｃｏｎｔｒｏｌ  ｒｅａｇｅｎｔｓ）を重合で用いるのが好適である。
【００４９】
１つの有利な手順では、タイプ（Ｋ−Ｉ）の調節剤を下記の特徴を有する化合物で構成させる：
−  ハロゲンは好適にはＦ、Ｃｌ、ＢｒまたはＩ、より好適にはＣｌおよびＢｒである。−  いろいろな置換基中のアルキル、アルケニルおよびアルキニル基として、線状およびまた分枝鎖を有利に用いる。
−  炭素原子を１から１８個含有するアルキル基として挙げることができる例にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、２−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、２−エチルヘキシル、ｔ−オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、トリデシル、テトラデシル、ヘキサデシルおよびオクタデシルが含まれる。
−  炭素原子数が３から１８のアルケニル基の例はプロペニル、２−ブテニル、３−ブテニル、イソブテニル、ｎ−２，４−ペンタジエニル、３−メチル−２−ブテニル、ｎ−２−オクテニル、ｎ−２−ドデセニル、イソドデセニルおよびオレイルである。
−  炭素原子数が３から１８のアルキニルの例はプロピニル、２−ブチニル、３−ブチニル、ｎ−２−オクチニルおよびｎ−２−オクタデシニルである。
−  ヒドロキシ置換アルキル基の例はヒドロキシプロピル、ヒドロキシブチルまたはヒドロキシヘキシルである。
−  ハロゲン置換アルキル基の例はジクロロブチル、モノブロモブチルまたはトリクロロヘキシルである。
−  酸素原子を炭素鎖中に少なくとも１個有する適切なＣ２−Ｃ１８ヘテロアルキル基は例えば−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ３である。
−  用いるＣ３−Ｃ１２シクロアルキル基の例にはシクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルまたはトリメチルシクロヘキシルが含まれる。
−  用いるＣ６−Ｃ１８アリール基の例にはフェニル、ナフチル、ベンジル、４−ｔ−ブチル−ベンジル−またはさらなる置換フェニル、例えばエチル、トルエン、キシレン、メシチレン、イソプロピルベンゼン、ジクロロベンゼンまたはブロモトルエンなどが含まれる。
【００５０】
この上に挙げたリストは単に代表的な群の化合物の例として示したものであり、決して完全さを主張するものでない。
【００５１】
その上、また、下記の種類の化合物も調節剤として用いるに適する：
【００５２】
【化４】
2005535769.tif 000005
【００５３】
ここで、ＲおよびＲ’は、この上で定義した通りであり、そしてＲ”にも同様に上述した基ＲまたはＲ’が含まれ得るが、それらの選択から独立している。
【００５４】
本発明の特に好適な１つの態様では、化合物（Ｋ−Ｉａ）および（Ｋ−ＩＩａ）：
【００５５】
【化５】
2005535769.tif 000006
【００５６】
を調節剤として用いる。
【００５７】
タイプ（Ｌ）ｙＭ［ここで、Ｍは金属原子または金属イオンを表し、Ｌは対イオンまたは配位子を表し、そしてｙは０から６として選択される］の少なくとも１種の金属化合物をポリアクリレート組成物に添加する。用いる金属化合物は好適には金属塩、金属水酸化物または金属錯体化合物である。
【００５８】
非常に適切な金属Ｍは、金属錯体の中の中心原子または中心イオンとして非常に適切な金属である。非常に有利には、金属Ｍを下記の群：銅、ニッケル、鉄、亜鉛、錫、カドミウム、アルミニウム、コバルト、銀、金、パラジウム、白金、ルテニウム、ロジウム、オスミウム、イリジウム、マンガンおよびレニウムから成る群から選択する。
【００５９】
使用する金属はとりわけまた希土類金属であってもよい。
【００６０】
前記対イオンおよび／または配位子Ｌは、有利に、互いに独立して下記の群：ハライド、アルコキサイド、ボライド、ヒドロキサイド、ナイトレート、ホスフェート、パークロレート、フタロシアニン、オキシネート（ｏｘｉｎａｔｅｓ）、アセテート、アセチルアセトネート、カーボネート、フォルメート、シアニド、ナフタロシアニン、チオシアネート、カルボキシレート、キレート、レジネート（ｒｅｓｉｎａｔｅｓ）、カーバイド、ホスフィン、アルキル、アルケニル、アルキニル、ジオン、アリール、置換アリール、サイトレート、複素環、ペンタジエニル、アミン、多官能アミン、エーテル、クラウンエーテルから選択可能である。
【００６１】
しかしながら、また、他の対イオンおよび／または配位子をＬとして用いることも可能である。特に、硫黄含有配位子の添加そして／または硫黄含有配位子による置換に役立たせるのが有利である（例えばＭ−Ｌ結合エネルギーの結果として）。
【００６２】
原則として、タイプ（Ｌ）ｙＭの金属化合物を本発明の手順中に添加する時点は自由に選択可能であるが、好適には、重合後であるが次の架橋を行う前にそれを添加する。本発明の方法では、ホットメルト工程前またはホットメルト工程中に前記金属化合物を前記調節剤を含有するポリアクリレートに添加するのが特に有利である。
【００６３】
この添加は溶液または溶融物の状態で実施可能である。そのようにしてせん断によってか或は熱負荷の結果として生じたチオ化合物はタイプ（Ｌ）ｙＭの金属化合物と反応し、従って、本発明のポリアクリレートＰＳＡはタイプ（Ｌ）ｚ−Ｍ−（ＳＲ）ｘの化合物を伴って生じ得る。この場合の反応は、当該金属が追加的配位部位を占めるか或はｙ個の配位子もしくは対イオンＬの中のいくつかまたは全部が置き換わるような反応であるように思われる。Ｌ当たりに占める配位部位の数は変わる可能性がある。
【００６４】
前記モノマー混合物もしくはポリマーを重合前、重合中または重合後に（さらなる）いろいろな添加剤と混合してもよい。
【００６５】
前記ポリマー（ポリアクリレート）をＰＳＡとして用いる場合、最適化の目的で、それを少なくとも１種の樹脂と混合するのが有利である。添加する粘着付与用樹脂（ｔａｃｋｉｆｙｉｎｇ  ｒｅｓｉｎｓ）として、文献に記述されていて既に公知のあらゆる粘着付与剤樹脂を用いることができる。代表例として、ピネン樹脂、インデン樹脂およびロジン、これらの不均化誘導体、水添誘導体、重合誘導体、エステル化誘導体および塩、脂肪族および芳香族炭化水素樹脂、テルペン樹脂およびテルペン−フェノール樹脂、およびＣ５、Ｃ９および他の炭化水素樹脂を挙げることができる。何が望まれているかに応じて、結果として得る接着剤の特性を調整する目的で前記およびさらなる樹脂の如何なる所望組み合わせも使用可能である。一般的に言って、相当するポリアクリレートに相溶（溶解）し得る樹脂のいずれも使用可能であり、特に、脂肪族、芳香族およびアルキル芳香族炭化水素樹脂、１種類のみのモノマーが基になった炭化水素樹脂、水添炭化水素樹脂、官能性炭化水素樹脂および天然樹脂の全部を挙げることができる。Ｄｏｎａｔａｓ  Ｓａｔａｓ著、「Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｐｒｅｓｓｕｒｅ  Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ」（ｖａｎ  Ｎｏｓｔｒａｎｄ、１９８９）に示されている最新技術の記述が明らかに参考になる。
【００６６】
有利なさらなる進展では、本ポリアクリレートに１種以上の可塑剤、例えば低分子量のポリアクリレート、フタル酸エステル、水溶性可塑剤または可塑化用樹脂などを添加する。
【００６７】
本ポリアクリレートに追加的に１種以上の添加剤、例えば老化抑制剤、光安定剤、オゾン保護剤、脂肪酸、樹脂、核形成剤、発泡剤、配合剤および／または促進剤などを混合してもよい。老化抑制剤に関しては、特に一次および二次老化抑制剤を挙げることができ、これらはＣｉｂａ  Ｇｅｉｇｙから商標ＩｒｇａｎｏｘＴＭの下で商業的に入手可能でありかつＣｌａｒｉａｎｔからＨｏｓｔａｎｏｘ（商標）の下で商業的に入手可能である。
【００６８】
これらに更に１種以上の充填材、例えば繊維、カーボンブラック、酸化亜鉛、二酸化チタン、固体状もしくは中空ガラス（微細）球、他の材料の微細球、シリカ、シリケートおよびチョークなどを混合してもよく、ブロックされていない（ｂｌｏｃｋｉｎｇ−ｆｒｅｅ）イソシアネートを添加することも更に可能である。
【００６９】
次の架橋段階を助長する目的で、有利には、本ポリアクリレートに架橋剤物質を混合してもよい。（化学）放射線の下で架橋をもたらす好適な物質は、例えば二官能もしくは多官能アクリレート、二官能もしくは多官能ウレタンアクリレート、二官能もしくは多官能イソシアネート、または二官能もしくは多官能エポキシドなどである。しかしながら、ここでは、また、ポリアクリレートを架橋させ得ることが本分野の技術者に良く知られているさらなる二官能もしくは多官能化合物のいずれも使用可能である。
【００７０】
架橋効率を向上させる目的で、望まれるならば、代わりか或は追加的に本ポリアクリレートに光開始剤を混合してもよい。ＮｏｒｒｉｓｈタイプＩおよびタイプＩＩの開裂を起こす化合物が本目的で用いるに好適に適し、非排他的に挙げることができる両方の種類の数多くの例には下記が含まれる：ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ヒドロキシアルキルフェノン、フェニルシクロヘキシルケトン、アントラキノン、チオキサントン、トリアジンまたはフルオレノン誘導体。代表的な概要が例えばＪ．−Ｐ．Ｆｏｕａｓｓｉｅｒ著、「Ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｉｏｎ，Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ  ａｎｄ  Ｐｈｏｔｏｃｕｒｉｎｇ：Ｆｕｎｄａｍｅｎｔａｌｓ  ａｎｄ  Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ」、Ｈａｎｓｅｒ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ、Ｍｕｎｉｃｈ、Ｖｉｅｎｎａ、Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ  １９９５およびＡ．Ｃａｒｒｏｙ、Ｃ．Ｄｅｃｋｅｒ、Ｊ．Ｐ．Ｄｏｗｌｉｎｇ、Ｐ．Ｐａｐｐａｓ、Ｂ．Ｍｏｎｒｏｅ著、「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ＆  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ  ｏｆ  ＵＶ  ＆  ＥＢ  Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ  ｆｏｒ  Ｃｏａｔｉｎｇｓ，Ｉｎｋｓ  ＆  Ｐａｉｎｔｓ」、Ｐ．Ｋ．Ｔ．Ｏｌｄｒｉｎｇ編集、第５巻、ＳＩＴＡ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（ロンドン、英国）出版（１９９４）に示されている。
【００７１】
本発明の方法のさらなる進展では、重合（これを好適には変換率が＞９８％になるまで実施する）後のポリマーに濃縮を受けさせてホットメルトにするが、有利には、前記ポリマーが溶融物の形態になるように溶媒をこれの最大残存含有量が０．１％になるまで除去する。
【００７２】
好適には、濃縮用押出し加工機を用いて溶媒を減圧下で除去するが、この目的で例えば単軸もしくは二軸押出し加工機を用いることができ、好適には、溶媒を異なるか或は同じ真空段階で留出させかつ供給材料予熱器が備わっている押出し加工機を用いる。
【００７３】
前記架橋剤物質および／または光開始剤の添加を有利には架橋段階直前に行う、言い換えればそれらを溶融物に添加する。
【００７４】
本発明の方法をうまく行う有利な１つの方法では、前記ポリマーを溶融状態で更に加工する、特にそれをゲルのない状態で支持体に被覆することで加工する［「ゲルのない状態」は、この目的で通常用いられることが本分野の技術者に良く知られているコーティング装置を用いて当該組成物の被覆を行うことができると言った要求、特にコーティングを通常用いられるコーティングノズル（ｃｏａｔｉｎｇ  ｎｏｚｚｌｅｓ）を用いて行った時に異質部分も条痕もない均一（均質）外観を有することで区別される塗膜がもたらされると言った要求に従うことを指す］。
【００７５】
適切な支持体材料の例には、本分野の技術者に良く知られている材料、例えばフィルム（例えばポリエステル、ＰＥＴ、ＰＥ、ＰＰ、ＢＯＰＰ、ＰＶＣ）、不織布、発泡体、織布、織フィルム（ｗｏｖｅｎ  ｆｉｌｍｓ）、剥離紙（例えばグラシン、ＨＤＰＥ、ＬＤＰＥ）が含まれる。
【００７６】
さらなる段階において、本発明に従って生じさせたポリアクリレート組成物に架橋反応を特に化学放射線の影響下で受けさせてもよい。この架橋を未被覆状態の感圧接着剤を用いて実施してもよいが、特に有利には、それを支持体に被覆した後に架橋を起こさせる。
【００７７】
本発明の１つの方法では、紫外光開始剤を添加するか或はそれを共重合させた状態で紫外光による照射を実施するが、そのようにすると揮発性チオールの生成が助長されかつそれが加速される。また、支持体材料の上に位置させておいたポリアクリレートに紫外線照射を受けさせることでそれを架橋させる。
【００７８】
紫外線照射を非常に好適には波長が２００から４５０ｎｍの範囲の紫外線照射を短時間行うことで実施し、特に出力が８０から２４０Ｗ／ｃｍの高圧もしくは中圧水銀ランプを用いて実施する。しかしながら、紫外線による架橋では、また、レーザーの形態の単色放射線を用いることも可能である。過熱が起こらないようにする目的で、紫外線路の一部を遮蔽するのも適切であり得る。また、そのような過熱を防止する目的で冷光発光体として働く特殊な反射装置を用いることも可能である。
【００７９】
本発明の特に好適な１つの方法では、記述したポリアクリレートに電子ビームによる照射を受けさせる。用いることができる典型的な照射装置には、電子ビーム加速装置に関しては、線形陰極装置、走査装置またはセグメント化陰極装置（ｓｅｇｍｅｎｔｅｄ  ｃａｔｈｏｄｅ  ｓｙｓｔｅｍｓ）が含まれる。最新技術および主要な工程パラメーターの詳細な記述をＳｋｅｌｈｏｒｎｅ、「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ＆  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ  ｏｆ  ＵＶ  ＆  ＥＢ  Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ  ｆｏｒ  Ｃｏａｔｉｎｇｓ，Ｉｎｋｓ  ＆  Ｐａｉｎｔｓ」、第１巻、Ｓｉｔａ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ出版、ロンドン、１９９１の中の「Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｂｅａｍ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ」に見ることができる。典型的な加速電圧は５０ｋＶから５００ｋＶ、好適には８０ｋＶから３００ｋＶの範囲内にある。用いる放射線量は５から１５０ｋＧｙ、特に２０から１００ｋＧｙの範囲である。
【００８０】
電子照射中に生じたチオールフラグメント（ｆｒａｇｍｅｎｔｓ）が前記ポリアクリレートの中でタイプ（Ｌ）ｙ−Ｍの化合物とインサイチューで反応し、そのようにして、本発明の方法では、ポリマーマトリックスの中にタイプ（Ｌ）ｙ−Ｍ−（ＳＲ）ｘの化合物がインサイチューで生じ得る。
【００８１】
本発明のさらなる変法では、ローラーを本ポリアクリレートで覆って、前記ローラーに接触用媒体（ｃｏｎｔａｎｔ  ｍｅｄｉｕｍ）を供給しそして化学放射線を用いて本ポリアクリレートを前記接触用媒体の上で架橋させる。このような方法に関するさらなる情報をＤＥ  １００  １４  ５６３およびＤＥ  １００  ３４  ０６９に見ることができる。
【００８２】
架橋用装置をホットメルトＰＳＡ用の冷却用装置と組み合わせてもよい、言い換えれば、冷却を架橋中に有利に実施してもよい。本発明の方法に適した装置の１つの好適な態様では、その目的で回転式ローラーを用い、非常に好適な１つの変法では、冷却用ロールを用いる。
【００８３】
冷却用ロールを用いて架橋を起こさせると、結果として、架橋に要する放射線量をこれのレベルが実質的に高くなるように選択することが可能になり、特に、電子ビームで架橋を起こさせる場合に、通常の架橋方法の場合よりも実質的に高くなるように選択することが可能になる。
【００８４】
ＰＳＡの架橋を考えない時にもまたＰＳＡを冷却用装置に通すのが有効であり、特にそれを冷却ローラーの上に置くのが有利であることを確認することができるであろう。
【００８５】
有利には、接触用媒体をローラーに塗布してもよく、そして化学放射線による照射を行った後、適宜、それの少なくとも一部を再び除去してもよい。
【００８６】
非常に有利な１つの方法では、そのような接触用媒体にタイプ（Ｌ）ｙＭの物質を含有させておき、次に、前記物質を前記接触用媒体経由で本ポリアクリレートの中に移行させる。
【００８７】
この場合には、前記接触用媒体をＰＳＡ層の裏面または冷却用ロールのいずれかに塗布してもよいが、しかしながら、そのような接触用媒体を接触無しに付着させることも同様に可能であり、例えば噴霧などで付着させることも可能である。
【００８８】
用いる冷却用ロールは、一般に、電子ビームによる架橋の場合、衝突する電子を吸収しかつその過程で生じたＸ線を吸収するようにアースされた金属ローラーである。これにはかなりの量の熱を運び去るに有効な冷却装置が装備されていなければならない。前記ローラーが腐食を起こさないようにそれを通常は保護コートで被覆しておく。後者を好適にはそれが前記接触用媒体で良好に湿るように選択する。一般的には、その表面が電気および／または熱伝導性を示すようにする。しかしながら、また、絶縁もしくは半導性材料の被膜１層または２層以上で前記ロールを被覆しておくことも可能であり、その方がより有利であり得る。その上、ＰＳＡ発泡体が安定になるように、その冷却機能は非常に顕著であるべきである。従って、好適な１つの手順では、温度が２５℃未満になるまで冷却を行い、非常に好適な手順では５℃未満の温度になるまで冷却を行う。
【００８９】
用いる接触用媒体は、ＰＳＡとローラー表面の間の接触をもたらし得る材料、特にざらつきのあるＰＳＡ層とローラー表面の間の中空部を埋める材料であってもよい。
【００９０】
この目的で用いるに適した材料は、幅広い粘度範囲内で使用可能な流動し得る材料である。加うるに、柔らかな「適合する（ｃｏｎｆｏｒｍｉｎｇ）」材料を接触用媒体として用いることも可能である。一方では、好適には、柔−弾性材料、例えば軟質ゴム、可塑剤含有ＰＶＣ、他の可塑剤含有ポリマーおよび同様な材料などを用いることができる。それらが冷却用ロールにしっかり連結するとして、それらは充分な放射線安定性を示すべきでありかつまた充分な熱伝導性および電気伝導性も示すべきである。
【００９１】
前記接触用媒体が前記ローラーの上に永久的に残らないようにし、その代わりに、照射を実行する前にそれをローラーに塗布しそして照射を実行した後にそれを再びローラーから除去するのが特に有利である。有利なさらなる１つの態様における接触はローラーの上に位置させる交換式ジャケット（ｒｅｐｌａｃａｂｌｅ  ｊａｃｋｅｔ）の形態である。そのような接触用媒体を照射実施中に交換してもよい（連続的交換）か或は個々の照射実施の間に交換してもよい（不連続的交換）。連続的交換を行うと、継続中の照射（これによって接触用媒体の機能が失われる）によってそれがあまりにも大きく悪化することが防止される。
【００９２】
この用いる接触用媒体に有利には液体を含め、これに所望に応じて追加的機能を果たす添加剤を入れる。それらには、湿りおよび電気伝導性の向上およびまた放射線の吸収によって生じるラジカルおよび他の活性種の捕捉が含まれる。
【００９３】
接触用液体として有利に水を用いてもよく、これは、要求される機能を満足させるものである。さらなる変法では、当該接触用媒体に少なくともある程度溶解する物質を前記媒体に添加しておく。水を接触用媒体として用いる場合の適切な添加剤には、例えばアルキルアルコラート、例えばエタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノールなどが含まれる。また、特に比較的長鎖のアルコール、ポリグリコール、ケトン、アミン、カルボキシレート、スルホネートなども非常に有利である。
【００９４】
有利な接触用媒体は低い表面張力を示すものである。非イオン性および／またはアニオン性および／またはカチオン性界面活性剤を接触用媒体に少量添加することで表面張力の低下を達成することができる。最も簡単なケースとして、前記目的で好適には市販の液状洗剤または石鹸溶液を接触用媒体としての水の中に１リットル当たり数ｇの濃度で用いてもよい。特殊な界面活性剤の使用が特に適切であり、これもまた低濃度で使用可能である。ここでは、スルホニウム界面活性剤［例えばβ−ジ（ヒドロキシアルキル）スルホニウム塩］およびまた例えばエトキシル化ノニルフェニル−スルホン酸アンモニウム塩などを挙げることができる。ここでは、特にＵｌｌｍａｎｎ’ｓ  Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、第６版、２０００  Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ  Ｒｅｌｅａｓｅ、Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ  Ｗｅｉｎｈｅｉｍ  ２０００の中の「界面活性剤」の下の最新技術が参考になり得る。
【００９５】
接触用媒体として、また、上述した液体を水の添加無しに用いることも可能であり、各場合とも単独または互いの組み合わせとして使用可能である。
【００９６】
そのような接触用媒体の特性を向上［例えば、耐せん断性を向上させること、界面活性剤などがライナー（ｌｉｎｅｒ）の表面に移行する度合を低くし、従って最終製品に関するクリーニングポシビリティー（ｃｌｅａｎｉｎｇ  ｐｏｓｓｉｂｉｌｉｔｉｅｓ）を向上させることなど］させる目的で、有利には、その用いる接触用媒体および／または添加剤に追加的に塩、ゲルおよび同様な粘度向上用添加剤を添加してもよい。
【００９７】
液状の接触用媒体の場合に可能な１つの卓越した手順は、２番目のローラー（これに有利には湿り得るか或は吸収する表面を持たせる）を当該接触用媒体を入れておいた浴の中で回転させ、それによって、それを前記接触用媒体で湿らせるか或はそれに前記接触用媒体を染み込ませた後、それを冷却用ロールに接触させることで、前記接触用媒体の膜を付着させる手順である。
【００９８】
架橋後の構造化された（ｓｔｒｕｃｔｕｒｅｄ）ＰＳＡを好適には支持体材料に付着させるか或はさらなるＰＳＡと積層させる。
【００９９】
当該支持体材料の誘導供給（ｇｕｉｄｅｄ  ｓｕｐｐｌｙ）を有利には特定の接触圧力下で実施してもよい。それによって、ＰＳＡと支持体の間に気泡が入り込む可能性を低くする。それによってまた接触用液体の量を必要な度合に制限することも可能になる。
【０１００】
そのような接触圧力は適切なウエブ張力（ｗｅｂ  ｔｅｎｓｉｏｎ）を設定するか或は（さらなる）ローラーを用いて圧力をかけることで達成可能である。後者の場合には、支持体表面上に位置させたＰＳＡ層がそのような接触用ローラーに粘着しないようにする目的で、前記ローラーの表面に充分な剥離効果を持たせるべきである。
【０１０１】
接触圧力を生じさせるさらなる方法は、例えばエアジェット（ａｉｒ  ｊｅｔｓ）またはエアクッション（ａｉｒ  ｃｕｓｈｉｏｎｓ）の使用または静電力の利用などである。
【０１０２】
代替手順では、ＰＳＡがノズルから出た時点でそれを永久的な支持体材料の上に直接置きそして望まれるならばその上で架橋させてもよい。
【０１０３】
本発明は、更に、一般構造（Ｌ）ｚ−Ｍ−（ＳＲ）ｘ［これらの記号はこの上で定義した通りである］で表される金属−硫黄化合物を測定可能な分率で含有するアクリレートが基になった感圧接着剤を提供する。これは、有利には、この上に示した方法の１つで入手したか或は入手可能な感圧接着剤である。そのような感圧接着剤は架橋した形態または架橋していない形態であってもよい。
【０１０４】
好適な１つの態様では、前記ポリマーに持たせる平均分子量Ｍｗ（重量平均）を少なくとも１０００００ｇ／モル、特に１０００００から２００００００ｇ／モルの範囲にするが、これらの分子量はゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて測定した分子量であり、これはＰＭＭＡ標準と対比させて測定した分子量でありかつこの測定ではトリフルオロ酢酸含有量が０．１重量％のテトラヒドロフランを溶離剤として用いた。別法として、マトリックス補助レーザー脱離／イオン化質量分光測定（ｍａｔｒｉｘ−ａｓｓｉｓｔｅｄ  ｌａｓｅｒ  ｄｅｓｏｒｐｔｉｏｎ／ｉｏｎｉｚａｔｉｏｎ  ｍａｓｓ  ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）（ＭＡＬＤＩ−ＭＳ）または光散乱を用いて分子量を測定することも可能である。
【０１０５】
１つの好適な態様では、ＰＳＡが示す多分散性Ｄ＝Ｍｗ／Ｍｎが３．０以下であるようにする（Ｍｎ：平均分子量；数平均）。
【０１０６】
本発明では、更に、一般構造（Ｌ）ｚ−Ｍ−（ＳＲ）ｘで表される金属−硫黄化合物を測定可能な分率で含有するアクリレートが基になった感圧接着剤を感圧接着剤が片面もしくは両面に与えられている接着テープまたは別の形態の片面もしくは両面被覆接着体（ｂｏｄｙ）、例えば接着性シート、接触性ラベルなどの目的で用いることも提供する。
【０１０７】
詳細には、そのような感圧接着剤を支持体の片面または両面に付着させる。この場合の付着を、有利には、架橋した状態または架橋していない状態の溶融物を用いて実施し、支持体材料としては、例えば本分野の技術者に良く知られている材料、例えばフィルム（例えばポリエステル、ＰＥＴ、ＰＥ、ＰＰ、ＢＯＰＰ、ＰＶＣ）、不織布、発泡体、織布、織フィルム、剥離紙（例えばグラシン、ＨＤＰＥ、ＬＤＰＥ）などが非常に適切である。
【０１０８】
実施例
試験方法
ＰＳＡを調製してこれらの接着特性および一般特性を評価する目的で下記の試験方法を用いた。
１８０°接着強度試験（試験Ａ）
幅が２０ｍｍのアクリル系ＰＳＡ片をポリエステルに層として付着させて、この片を鋼板に付着させた。２ｋｇの重りを用いて前記ＰＳＡ片を前記基質の上に２回押し付けた。その後直ちに前記接着テープを前記基質から１８０°の角度で３００ｍｍ／分の引き剥がし速度で剥がした。前記鋼板を前以てアセトンで２回そしてイソプロパノールで１回洗浄しておいた。その結果をＮ／ｃｍで報告し、これは３回行った測定の平均である。全ての測定を室温で実施した。
気体放出試験の測定（試験Ｂ）
ＧＣ−ＭＳを用いて揮発性成分を測定した。使用した装置は下記の通りであった：
ＧＣ：Ｈｅｗｌｅｔｔ  Ｐａｃｋａｒｄ  ＨＰ  ５８９０  ＳＥＲＩＥＳ  １１
ＭＳ：Ｈｅｗｌｅｔｔ  Ｐａｃｋａｒｄ  ＨＰ  ５９８９  Ａ
測定では、長さが６０ｍで内径が０．２５ｍｍで膜厚が１μｍのＤＢ−５カラムを取り付けた。５０℃（３分）−１５０℃／分−２６０℃（２分）の温度プログラムを用いて測定を実施した。使用した担体ガスは水素（９０ｋＰａ）であり、これの流量を１ｍｌ／分にした。スプリット比（ｓｐｌｉｔ  ｒａｔｉｏ）を１：１０にした。
試験片の調製：
ホットメルト方法を用いてＰＥＴフィルムを接着剤で被覆した。被膜重量を約５０ｇ／ｍ２にした。紫外線照射を受けさせる前または後のスオッチ試験片（ｓｗａｔｃｈ  ｓｐｅｃｉｍｅｎ）から約４０ｃｍ２のサンプル表面を切り取り、ガラス球（直径：６０−８０μｍ）を散乱させ（ｓｃａｔｔｅｒｅｄ  ｗｉｔｈ）、巻き上げた後、塔頂空間部が２５ｍｌの小瓶の中に移した。そのサンプルを１００℃で１時間焼いた後、最後に、蒸気空間部の揮発性成分をＧＣに注入した。
【０１０９】
外部標準に対比させて量化を実施した。
ゲル浸透クロマトグラフィーＧＰＣ（試験Ｃ）
平均分子量Ｍｗと多分散性ＰＤをゲル浸透クロマトグラフィーで測定した。用いた溶離剤はトリフルオロ酢酸含有量が０．１体積％のＴＨＦであった。測定を２５℃で実施した。用いたプレカラムはＰＳＳ−ＳＤＶ、ＳＤＶ、５μ、１０３Å、ＩＤ８．０ｍｍｘ５０ｍｍであった。カラムＰＳＳ−ＳＤＶ、５μ、１０３および１０５および１０６（各場合ともＩＤ８．０ｍｍｘ３００ｍｍ）を用いて分離を実施した。サンプルの濃度を４ｇ／ｌにし、流量を１分当たり１．０ｍｌにした。測定をＰＭＭＡ標準に対比させて実施した。
ゲル分率の測定（試験Ｄ）
注意深く乾燥させた無溶媒の接着剤サンプルをポリエチレン製不織布（市販Ｔｙｖｅｋウエブ）で出来ているパウチの中に入れて溶着させた。トルエンで抽出する前と後のサンプル重量の差からゲル指数（ｇｅｌ  ｉｎｄｅｘ）、即ちトルエンに不溶なポリマーの重量分率を決定する。
実施手順：
自記押出し加工機（ｒｅｃｏｒｄｉｎｇ  ｅｘｔｒｕｄｅｒ）を用いたホットメルト工程の実施（方法Ｅ）：
ＨａａｋｅのＲｈｅｏｍｉｘ  ６１０ｐ自記押出し加工機を用いてアクリレートホットメルト工程（ａｃｒｙｌａｔｅ  ｈｏｔｍｅｌｔ  ｐｒｏｃｅｓｓ）を模擬した。利用したドライブユニット（ｄｒｉｖｅ  ｕｎｉｔ）はＲｈｅｏｃｏｒｄ  ＲＣ  ３００ｐ装置であった。この装置をＰｏｌｙＬａｂ  ｓｙｓｔｅｍソフトウエアで制御した。前記押出し加工機に各場合とも無溶媒のアクリレート系ＰＳＡを５２ｇ仕込んだ（〜８０％の充填レベル）。この実験を１２０℃の混練り温度において４０ｒｐｍの回転速度で２４時間の混練り時間実施した。その後、加熱可能ローラーが２本備わっているホットメルトコーター（ｈｏｔｍｅｌｔ  ｃｏａｔｅｒ）を用いて、Ｓａｒａｎ下塗り剤が下塗りされている厚みが２３μｍのＰＥＴフィルムを前記サンプルで被覆率が５０ｇ／ｍ２になるように被覆した。
紫外線照射
Ｅｌｔｏｓｃｈの紫外線装置を用いて紫外線照射を実施した。この装置には強度が１２０Ｗ／ｃｍの中圧Ｈｇ紫外線ランプが備わっている。前記スオッチサンプルの各々を前記装置の中に２０ｍ／分の速度で通したが、照射線量を多くしようとする時にはそれを複数回通すことでそれに照射を受けさせた。ＥｌｔｏｓｃｈのＰｏｗｅｒ−Ｐｕｃｋを用いて紫外線量を測定した。１回の照射パスの線量はおおよそＵＶ−Ｂの範囲が１４０ｍＪ／ｃｍ２でＵＶ−Ｃの範囲が２５ｍＪ／ｃｍ２であった。
電子ビーム照射
Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｃｒｏｓｓｌｉｎｋｉｎｇ  ＡＢ（Ｈａｌｍｓｔａｄ、スウェーデン）の装置を用いて電子による照射を実施した。照射を受けさせるＰＳＡテープ試験片を加速装置のＬｅｎａｒｄウインドの下側に標準として存在する冷却用ロールで誘導した。照射領域内の大気の酸素を高純度窒素でフラッシュ洗浄することで追い出した。処理速度（ｏｕｔｓｐｅｅｄ）を各場合とも１０ｍ／分にした。
重合調節剤の合成：
ビス−２，２’−フェニルエチルトリチオカーボネート（Ｉａ）の調製
Ｓｙｎｔｈ．Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎｓ  １８（１３）、１５３１−１５３６頁、１９８８の仕様に従って、２−フェニルエチルブロマイドと二硫化炭素と水酸化ナトリウムから出発してビス−２，２’−フェニルエチルトリチオカーボネートを合成した。蒸留後の収率：７２％。特徴付け：１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：７．２０−７．４０（ｍ、１０Ｈ）、１．５３、１．５９（２ｘｄ、６Ｈ）、３．７１、３．８１（２ｘｍ、２Ｈ）。
ポリマーの調製
ポリマー１：
ラジカル重合に通常の２Ｌのガラス製反応槽にアクリル酸を２０ｇ、アクリル酸ｎ−ブチルを３８０ｇ、ビス−２，２’−フェニルエチルトリチオカーボネートを０．５５ｇおよびアセトンを１７０ｇ仕込んだ。撹拌を行いながら窒素ガスを前記反応槽の中に４５分間通しつつ前記反応槽を５８℃に加熱した後、アゾイソブチロニトリル［ＡＩＢＮ、Ｖａｚｏ  ６４（商標）、ＤｕＰｏｎｔ］を０．２ｇ加えた。その後、外部加熱用浴を７５℃に加熱して、反応を絶えず前記外部温度で実施した。１時間の反応時間後にＡＩＢＮを更に０．２ｇ加えた。４時間後および８時間後に各場合ともアセトンを１００ｇづつ用いた希釈を実施した。４８時間後に室温に冷却することで反応を終結させた。平均分子量および多分散性を試験Ｃで測定した。
【０１１０】
このポリマーに濃縮を真空乾燥用オーブンの中で１０トールの圧力下８０℃で受けさせた。
ポリマー２：
ラジカル重合に通常の２Ｌのガラス製反応槽にアクリル酸を２０ｇ、アクリル酸ｎ−ブチルを３８０ｇ、ビス−２，２’−フェニルエチルトリチオカーボネートを０．５５ｇおよびアセトンを１７０ｇ仕込んだ。撹拌を行いながら窒素ガスを前記反応槽の中に４５分間通しつつ前記反応槽を５８℃に加熱した後、アゾイソブチロニトリル［ＡＩＢＮ、Ｖａｚｏ  ６４（商標）、ＤｕＰｏｎｔ］を０．２ｇ加えた。その後、外部加熱用浴を７５℃に加熱して、反応を絶えず前記外部温度で実施した。１時間の反応時間後にＡＩＢＮを更に０．２ｇ加えた。４時間後および８時間後に各場合ともアセトンを１００ｇづつ用いた希釈を実施した。４８時間後に室温に冷却することで反応を終結させた。この冷却を実施している過程で撹拌を行いながらベンゾフェノンを０．５重量％混合した。平均分子量および多分散性を試験Ｃで測定した。
【０１１１】
このポリマーに濃縮を真空乾燥用オーブンの中で１０トールの圧力下８０℃で受けさせた。
ポリマー３：
ラジカル重合に通常の２Ｌのガラス製反応槽にアクリル酸を２０ｇ、アクリル酸ｎ−ブチルを３８０ｇ、ドデカンチオールを０．５ｇおよびアセトンを２６６ｇ仕込んだ。撹拌を行いながら窒素ガスを前記反応槽の中に４５分間通しつつ前記反応槽を５８℃に加熱した後、アゾイソブチロニトリル［ＡＩＢＮ、Ｖａｚｏ  ６４（商標）、ＤｕＰｏｎｔ］を０．２ｇ加えた。その後、外部加熱用浴を７５℃に加熱して、反応を絶えず前記外部温度で実施した。１時間の反応時間後にＡＩＢＮを更に０．２ｇ加えた。４時間後および８時間後に各場合ともアセトンを１００ｇづつ用いた希釈を実施した。８時間後および１０時間後に各場合ともビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキサニル）パーオキシジカーボネート［Ｐｅｒｋａｄｏｘ  １６（商標）、Ａｋｚｏ  Ｎｏｂｅｌ］を０．６ｇづつ添加することで残存開始剤の量を少なくした。２４時間後に室温に冷却することで反応を終結させた。平均分子量および多分散性を試験Ｃで測定した。
実施例：
【実施例１】
【０１１２】
（参考）
ポリマー１に濃縮を真空乾燥用オーブンの中で１０トールの圧力下８０℃で受けさせた。その後、方法Ｅに従ってホットメルト工程を実施しかつ被覆を実施した。その被覆を受けさせたサンプルにＬａｕｆｅｎｂｅｒｇのシリコン被覆剥離紙を張り付けた後、電子ビームを用いた架橋を１８０ｋＶの加速電圧を用いて５０ｋＧｙで受けさせた（電子ビーム照射を参照）。試験方法Ａ、ＢおよびＤを用いて分析を実施した。
【実施例２】
【０１１３】
（参考）
ポリマー２に濃縮を真空乾燥用オーブンの中で１０トールの圧力下８０℃で受けさせた。その後、方法Ｅに従ってホットメルト工程を実施しかつ被覆を実施した。その被覆を受けさせたサンプルにＬａｕｆｅｎｂｅｒｇのシリコン被覆剥離紙を張り付けた後、電子ビームを用いた架橋を１８０ｋＶの加速電圧を用いて５０ｋＧｙで受けさせた（電子ビーム照射を参照）。試験方法Ａ、ＢおよびＤを用いて分析を実施した。
【実施例３】
【０１１４】
ポリマー１を２重量％の量の樹脂酸亜鉛と混合した後、それに濃縮を真空乾燥用オーブンの中で１０トールの圧力下８０℃で受けさせた。その後、方法Ｅに従ってホットメルト工程を実施しかつ被覆を実施した。その被覆を受けさせたサンプルにＬａｕｆｅｎｂｅｒｇのシリコン被覆剥離紙を張り付けた後、電子ビームを用いた架橋を１８０ｋＶの加速電圧を用いて５０ｋＧｙで受けさせた（電子ビーム照射を参照）。試験方法Ａ、ＢおよびＤを用いて分析を実施した。
【実施例４】
【０１１５】
ポリマー２を２重量％の量の樹脂酸亜鉛と混合した後、それに濃縮を真空乾燥用オーブンの中で１０トールの圧力下８０℃で受けさせた。その後、方法Ｅに従ってホットメルト工程を実施しかつ被覆を実施した。その被覆を受けさせたサンプルにＬａｕｆｅｎｂｅｒｇのシリコン被覆剥離紙を張り付けた後、電子ビームを用いた架橋を１８０ｋＶの加速電圧を用いて５０ｋＧｙで受けさせた（電子ビーム照射を参照）。試験方法Ａ、ＢおよびＤを用いて分析を実施した。
【実施例５】
【０１１６】
ポリマー２を２重量％の量の樹脂酸亜鉛と混合した後、それに濃縮を真空乾燥用オーブンの中で１０トールの圧力下８０℃で受けさせた。その後、方法Ｅに従ってホットメルト工程を実施しかつ被覆を実施した。その被覆を受けさせた試験片に紫外光による照射を開放状態で受けさせた（紫外照射を参照）。試験方法Ａ、ＢおよびＤを用いて分析を実施した。
【実施例６】
【０１１７】
ポリマー３を２重量％の量の樹脂酸亜鉛と混合した後、それに濃縮を真空乾燥用オーブンの中で１０トールの圧力下８０℃で受けさせた。その後、方法Ｅに従ってホットメルト工程を実施しかつ被覆を実施した。その被覆を受けさせたサンプルにＬａｕｆｅｎｂｅｒｇのシリコン被覆剥離紙を張り付けた後、電子ビームを用いた架橋を１８０ｋＶの加速電圧を用いて５０ｋＧｙで受けさせた（電子ビーム照射を参照）。試験方法Ａ、ＢおよびＤを用いて分析を実施した。
結果
以下の表１に試験方法Ｃに従うＧＰＣで測定した分子量データを挙げる：
【０１１８】
【表１】
2005535769.tif 000007
【０１１９】
実施例１および２は参考試験片として調製した実施例であった。これらの参考試験片の合成では、トリチオカーボネート調節重合後に添加剤を添加しないで電子ビームによる架橋を実施した。実施例３および４も同様にトリチオカーボネート調節重合で調製したが、この場合には、これに樹脂酸亜鉛を混合した後、電子ビームによる照射を受けさせた。実施例５も同じ原理に従って調製したが、これには紫外線による架橋を受けさせた。最後に、実施例６はチオエーテル含有ポリマーの調製であり、この場合にも、これに樹脂酸亜鉛を混合した後、電子ビームによる照射を受けさせた。
【０１２０】
塔頂空間部のＧＣ測定（試験方法Ｂ）を実施しそして生じた揮発性画分を特徴付けることで臭気の特徴付けを実施した。実施例１および２の臭気は非常に劣り、ブタンチオールおよび高級同族体を注目すべき分率で示す。実施例１および２は臭気が劣っていたが、ＥＢ照射後にそのような化合物が生じたことでそのことを容易に説明することができる。従って、試験方法Ｂを用いて遊離ブタンチオールの分率を測定して、実施例１から６の中の互いの比較を実施した。そのようなＧＣ検査の結果を表２に挙げる。
【０１２１】
【表２】
2005535769.tif 000008
【０１２２】
この結果は、明らかに、樹脂酸亜鉛を混合すると照射後のブタンチオール分率が有意に低下することを示している。ブタンチオールは樹脂酸亜鉛と反応して安定な硫化亜鉛錯体を形成するが、その錯体は非常に低い揮発性を示すことからポリマーの中に残存したままである。いろいろな実施例３から６は、トリチオカーボネート調節ポリマー（ｔｒｉｔｈｉｏｃａｒｂｏｎａｔｅ−ｒｅｇｕｌａｔｅｄ  ｐｏｌｙｍｅｒ）およびチオール調節ポリマーばかりでなくまた紫外線照射およびＥＢ照射を受けさせたポリマーも結果（好適には、金属による捕捉の結果、即ち亜鉛チオール化合物が生成する結果）としていずれのケースでも遊離チオールが放出されないことでむかつくような臭気の原因にならないことから全く臭気を示さないことを立証している。また、そのようなポリマーを感圧接着剤として用いることができるか否かを確かめる目的で、そのようなＰＳＡが起こす架橋の度合およびまたそれらが鋼に対して示す瞬間接着力も測定した。その結果を表３に要約する。
【０１２３】
【表３】
2005535769.tif 000009
【０１２４】
測定ゲル指数値は、実施例１から６が顕著な架橋を起こすこととそれらが示す架橋度合が５０％を超えることは正常な範囲内であることを立証している。このことはまた接着強度にも相当する。実施例３から６が示した測定接着強度の方が実施例１および２が示したそれよりもいくらか高かった。
【国際調査報告】
2005535769.tif 000011
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