(57)【要約】本発明は、厚さ＝０．７０ｍｍを有し、そして電磁用途に用いられる冷間圧延鋼ストリップ又はシート金属に関する。前記ストリップは、Ｃ：＜０．０１重量％、Ｓｉ：３．２〜７重量％、Ａｌ：＜２重量％、Ｍｎ：≦１重量％、鉄及び不純物である残部を含有する鋼からなる。溶融して出発材料、例えば、スラブ、薄スラブ、又は薄ストリップを形成した後に、前記生成物を鋳造し、次いで加熱してＴＲ＞１０００℃とし、そして熱間圧延温度ＴＦ＞８００℃で熱間圧延してホットストリップを形成する。次いで、前記の加熱されたストリップを、７５０℃以上であるが８５０℃未満である温度ＴＣから、４００℃／分以上の冷却速度ΔＴ／Δｔで、３００℃未満の温度まで冷却する。冷却後、鋼ストリップを、表面処理、例えば、機械的スケール除去及び／又はエッチングに付する。前記表面処理後、鋼ストリップを、最大温度ＴＣＲ５００℃で冷間圧延し、次いで焼きなましする。【特許請求の範囲】
【請求項１】
・Ｃ：＜０．０１重量％
Ｓｉ：３．２〜７重量％
Ａｌ：＜２重量％
Ｍｎ：≦１重量％
を含み、残部が鉄及び通常の不純物である鋼からなり、そして
・前記鋼を溶融した後に、鋳造して基材、例えば、スラブ、薄スラブ、又は薄ストリップを形成し、
・次いで、前記基材を全体的に加熱して温度ＴＲ＞１０００℃とし、そして
・熱間圧延最終温度ＴＦ＞８００℃で仕上げ熱間圧延して、ホットストリップを形成し、
・次いで、７５０℃以上であるが８５０℃未満であるホットストリップの温度ＴＣから出発して、４００℃／分以上の冷却速度ΔＴ／Δｔで、３００℃未満の温度まで、前記ホットストリップを冷却し、
・冷却後に、表面処理、例えば、機械的スケール除去及び／又は酸洗いに付し、
・前記表面処理後、最大で５００℃になる温度ＴＣＲで冷間圧延し、そして
・次に、最終焼きなましを行った、
厚さ≦０．７０ｍｍの電磁用途用の冷間圧延鋼ストリップ又はシート。
【請求項２】
前記ホットストリップが、冷間圧延の開始時に室温であることを特徴とする、請求項１に記載の鋼ストリップ又はシート。
【請求項３】
前記冷間圧延が温度≦２００℃で実施されることを特徴とする、前記請求項のいずれか一項に記載の鋼ストリップ又はシート。
【請求項４】
前記ホットストリップが、熱間圧延の前に、２０分未満の時間内で、２００℃〜５００℃の温度まで加熱し、そしてこの温度範囲内にある温度で冷間圧延されたことを特徴とする、請求項１に記載の鋼ストリップ又はシート。
【請求項５】
前記最終焼きなましが脱炭雰囲気中で実施されたことを特徴とする、前記請求項のいずれか一項に記載の鋼ストリップ又はシート。
【請求項６】
前記最終焼きなましが非脱炭雰囲気中で実施されたことを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の鋼ストリップ又はシート。
【請求項７】
前記厚さが最大０．３５ｍｍであることを特徴とする、前記請求項のいずれか一項に記載の鋼ストリップ又はシート。
【請求項８】
前記鋼がＳｉ４．０〜５．０重量％を含有することを特徴とする、前記請求項のいずれか一項に記載の鋼ストリップ又はシート。
【請求項９】
前記鋼がＳｉ＞５．０〜６．８重量％を含有することを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の鋼ストリップ又はシート。
【請求項１０】
前記鋼がＳｉ６．０〜６．８重量％を含有することを特徴とする、請求項９に記載の鋼ストリップ。
【請求項１１】
・Ｃ：＜０．０１重量％
Ｓｉ：３．２〜７重量％
Ａｌ：＜２重量％
Ｍｎ：≦１重量％
を含み、残部が鉄及び通常の不純物である鋼を溶融し、
・前記鋼を鋳造して基材、例えば、スラブ、薄スラブ、又は薄ストリップを形成し、
・前記基材を全体的に加熱して温度ＴＲ＞１０００℃とし、
・全体的に加熱した前記基材を、熱間圧延最終温度ＴＦ＞８００℃で仕上げ熱間圧延してホットストリップを形成し、
・前記仕上げ熱間圧延後、前記ホットストリップを、７５０℃以上であるが８５０℃未満であるホットストリップの温度ＴＣから出発して、４００℃／分以上の冷却速度ΔＴ／Δｔで、３００℃未満の温度まで冷却し、
・冷却したホットストリップを表面処理し、
・表面処理した前記ホットストリップを、最大で５００℃になる温度ＴＣＲで冷間圧延し、そして
・得られた冷間圧延鋼ストリップ又はシートを最終焼きなましする
工程を実施する、電磁用途用の冷間圧延鋼ストリップ又はシートの製造方法。
【請求項１２】
前記冷却速度ΔＴ／Δｔが≧２０００℃／分であることを特徴とする、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記基材の再加熱を、１０００℃〜１１９０℃の範囲の温度で実施することを特徴とする、請求項１１又は１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記基材を、最大で７回の通過により９０％を超える総変形率で、ホットストリップ厚さ最大１．５ｍｍまで、仕上げ熱間圧延することを特徴とする、請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
冷間圧延の間の変形度が６０％より大きいが８２％未満であることを特徴とする、請求項１１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
得られた冷間圧延鋼ストリップ又はシートが最大０．３５ｍｍの厚さを有することを特徴とする、請求項１１〜１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
前記ホットストリップが冷間圧延の開始時に室温であることを特徴とする、請求項１１〜１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
前記冷間圧延を温度≦２００℃で実施することを特徴とする、請求項１１〜１７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】
前記ホットストリップを、熱間圧延の前に、２０分未満の時間内で、２００℃〜５００℃の温度まで加熱し、そしてこの範囲内の温度で冷間圧延することを特徴とする、請求項１１〜１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】
前記最終焼きなましを脱炭雰囲気中で実施することを特徴とする、請求項１１〜１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
前記最終焼きなましを非脱炭雰囲気中で実施することを特徴とする、請求項１１〜２０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２】
前記鋼がＳｉ４．０〜５．０重量％を含有することを特徴とする、請求項１１〜２１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２３】
前記鋼がＳｉ＞５．０〜６．８重量％を含有することを特徴とする、請求項１１〜２１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２４】
前記鋼がＳｉ６．０〜６．８重量％を含有することを特徴とする、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
Ａｌの含有量が不可避の不純物の範囲に限定されることを特徴とする、請求項１１〜２４のいずれか一項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、Ｓｉ含有量が３．２重量％以上及びＡｌ含有量が２重量％未満である、厚さ≦０．７０ｍｍの電磁用途用の冷間圧延された鋼ストリップ又はシート、並びにその製造方法に関する。高いケイ素含有量のＦｅＳｉ鋼を基材として製造される前記コールドストリップ又はシートは、通常、無方向性電気シートとして用いられる。
【０００２】
用語「無方向性電気シート」は、この場合、ＤＩＮ−ＥＮ−１０１０６（「最終焼きなましされた電気シート」）及びＤＩＮ−ＥＮ−１０１６５（「最終焼きなましされていない電気シート」）に属する製品を意味するものと理解されたい。これに加えて、方向性電気シートであるとはみなされないという条件で、より強い異方性のタイプも包含される。従って、以下において、用語「電磁用途用の鋼ストリップ」及び「電磁用途用の鋼シート」、並びに「電気ストリップ」及び「電気シート」は同義的に使用する。
【０００３】
通常、無方向性電気シートの製造には、Ｓｉ含有量が最大３．５重量％であるＦｅＳｉ鋼が用いられる。限定された前記Ｓｉ含有量を有するＦｅＳｉ鋼合金は、通常の製造手段による問題のない製造が可能である。特に、Ｓｉ含有量を≦３．０重量％までに制限することによって、通常の技術を用いて得られるシートは、冷間圧延後にクラックを含まない。
【０００４】
通常の製造過程では、鋼合金の溶融後に、溶鋼を鋳造してスラブ又は薄スラブを形成する。次いで、この基材を、一般に複数のロールスタンドを用いて、スタッガード熱間圧延処理において実施される、スケール除去、粗圧延、及び仕上げ熱間圧延を含む熱間圧延処理において、再加熱しないで、又は冷却し、次いで再加熱した後で、直接的な適用で圧延されてホットストリップを形成する。次いで、前記ホットストリップを、一般に酸洗いとして実施される表面処理（これは、焼きなましと組み合わせることができる）に付する。必要ならば、ホットストリップを冷間圧延してコールドストリップを形成する前に、高温焼きなまし（ｈｏｔ  ａｎｎｅａｌｉｎｇ）も実施する。ストリップは、最終焼きなましされるか又は焼きなましに続いて変形させられる。
【０００５】
Ｓｉ含有量が３重量％を超えるとすぐに、高い圧延力の形態での冷間圧延及びクラックの増加傾向を伴う第一の困難が現れる。例えば、３．５重量％より高いＦｅＳｉ含有量のＦｅＳｉ合金から製造されるホットストリップを冷間圧延する場合に一様にクラックが現れ、このことは、通常の製造手段による、厚さ≦０．７５ｍｍを有する高品質電気シート製品の製造を不可能にする。
【０００６】
製造に伴う困難を相殺するのは、Ｓｉ含有量の増加が電気抵抗の増加をもたらし、従って使用時における磁気損失の低減をもたらすという事実である。従って、３．５重量％〜７．０重量％の範囲のＳｉ含有量を有するＦｅＳｉ合金から製造される電気シートは、一連の用途、特に、オーディオ、ビデオ、データ処理、及び医療技術分野で用いられる小型及び超小型の機器、並びに高周波で作動する磁心及び駆動装置に対して、とりわけ興味深いものである。極めて高いケイ素含有量を有するこれらの材料は、他の低磁性材料、例えば、Ｆｅ、ＦｅＮｉ、又はＦｅＣｏ系のアモルファス合金、ナノ結晶質低磁性材料、又は低磁性フェライトに関して高度の飽和磁化を有している。この高い飽和磁化は、従来の電気技術的な鋼と比較して高い値の電気抵抗、及びそれゆえの低い磁気損失を兼ね備えており、その結果として、高周波での適用が可能とされている。
【０００７】
６．５重量％に近いＳｉ含有量を有するＦｅＳｉ材料が市販されている。これらの製品の製造は、シリコン含有量が極めて高くされたＦｅＳｉ層の通常の電気ストリップ上への化学蒸着及び引き続く拡散焼きなましによって行われている。
【０００８】
このようにして、高いケイ素含有量を有するシートの通常の製造によって、実際に、困難を避けることができる。しかしながら、前記方法には、製造を複雑で高価なものにする追加の作業工程が必要とされる。
【０００９】
３．２重量％より多いＳｉ含有量を有するＦｅＳｉ合金の成形挙動を調査し、及びこの性質の鋼の通常の冶金手段による製造可能性を考察した多数の研究が科学文献中にある。このように、例えば、「Ｇ．Ｓｃｈｌａｔｔｅ，Ｗ．Ｐｉｅｔｓｃｈ，Ｚｅｉｔｓｃｈｒｉｆｔ  ｆｕｅｒ  Ｍｅｔａｌｌｋｕｎｄｅ（金属科学誌），第６６版（１９７５），第１１巻，第６６１頁以降」及び「Ｗ．Ｐｅｐｐｅｒｈｏｆｆ，Ｗ．Ｐｉｅｔｓｃｈ，Ａｒｃｈｉｖ  Ｅｉｓｅｎｈｕｅｔｔｅｎｗｅｓｅｎ」（冶金学記録）４７（１９７６），Ｎｏ．１１，第６８５頁以降」は、約６重量％までのケイ素を有する鋼を、４００℃近辺〜３００℃（臨界温度：３００℃）の温度においてまだ変形又は成形することができるという事実に言及している。臨界温度（これは、Ｓｉ含有量に依存する）より低い温度で、脆性挙動が起こり、そしてこの結果として、如何なる冷間成形も許容しない冷脆性（Ｋａｌｔｓｐｒｏｅｄｉｇｋｅｉｔ）が起こる。対照してみると、前記臨界温度を超えた温度では、更に、それぞれの場合に、処理される合金を７００℃未満の温度から４００℃未満の温度まで冷却するという条件で、４重量％より多い量のケイ素を有するＦｅＳｉ合金について成形が可能である。言及した技術文献において同定された臨界温度を超える温度範囲に対する成形性に関しての制限は、通常の製造手段によるケイ素含有量の極めて高い電気鋼製品の製造の可能性も制限する。
【００１０】
「Ｇ．Ｒａｓｓｍａｎｎ，Ｐ．Ｋｌｅｍｍ，Ｎｅｕｅ  Ｈｕｅｔｔｅ（新しい冶金学），第７巻，第８年刊シリーズ，１９６３，第４０３頁以降」により、５及び６重量％のＳｉを有する合金に対して、約４０％までの総成形又は総形成、及び室温における更なる圧延によって、２２０℃又は３５０℃における冷間圧延を達成することができることが確立された。しかしながら、異なる温度において２段階で実施されるこの種類の冷間圧延に関して、冷間圧延段階までの材料の履歴は少しも重要ではない。
【００１１】
しかしながら、前記で言及したＧ．Ｓｃｈｌａｔｔｅ及びＷ．Ｐｉｅｔｓｃｈによる研究が確証するように、何れかの方法で単純に製造されたホットストリップに対して更なる苦心なしに前記のような冷間圧延を実施することが実際にはできないこと、すなわち、極めて高いケイ素含有量を有するホットストリップを加工してコールドストリップに成形する可能性に対してホットストリップの製造がかなりの影響を与えることが、実際に示されている。
【００１２】
前記で言及した従来技術に加えて、最終圧延（仕上げの熱間圧延）の前に、粒度の作用として、熱間圧延により達成される総形成又は総成形の程度を調節する原理が、ＥＰ０２２９８４６Ｂ１から公知である。しかしながら、この方法は、最終圧延前の粒度が再加熱及び予備圧延の条件並びに個々の化学組成に依存するという欠点を負っている。結果として、仕上げ熱間圧延段階に入る前の予備圧延鋼一次製品中に存在する粒度は、明確に特定されない。このことに加えて、実際に連続的に実施される製造工程中での粒度の測定は、技術及び費用の観点から、許容することができる程度の努力及び支出では実施することができない。
【００１３】
ＥＰ０３７７７３４Ｂ１には、スラブの再加熱後に、６００℃以上の温度で成形を実施し、そしてその後に、更なる熱間圧延又は４００℃以上の温度までの繰り返し加熱への直接的な適用及び続いて熱間圧延を実施する、ＦｅＳｉ合金に対する方法が記載されている。これに続いて、最終厚さまでの冷間圧延が実施される。これらの処理パラメータは、高いケイ素含有量の合金に対して特別なものではない。実際に、本発明により処理されるタイプの、ケイ素含有量の極めて高いＦｅＳｉ合金に対して、ＥＰ０３７７７３４Ｂ１から公知の処理段階を用いても、満足できる加工結果を達成することはできないことが示された。
【００１４】
ＥＰ０４６７２６５Ａ２によれば、１２０℃〜３５０℃の範囲のシート温度で冷間圧延を実施することにより、ケイ素含有量の極めて高いＦｅＳｉ鋼を冷間圧延することができる。しかしながら、この方法で処理することができるホットストリップはどのようにして製造しなけらばならないかということに関して、この条件下には示されていない。従って、この公知の方法の実際の適用にあたり、前記言及した技術文献及び本願出願人によって実施された独自の調査が証明するように、ケイ素含有量の極めて高い電気鋼の処理は、ホットストリップ処理の間にわたり維持されるパラメータに単純に依存するものではないという問題が生じる。このように、実際の実験では、３．５重量％を超えるＳｉ含有量のホットストリップの通常の製造方法及びそれに続くＥＰ０４６７２６５Ａ２に与えられている条件下での冷間圧延を用いた場合、最初の冷間圧延通過の時点においてさえクラック形成が一様に発生することが示された。
【００１５】
出発点として、ここまで概説した従来技術を考慮すれば、本発明の目的は、厚さが最大で０．７０ｍｍ及びＳｉ含有量が３．５重量％以上であり、製造に実用的であり及び電磁用途に適している冷間圧延鋼シート又はストリップを提供すること、並びに、このタイプの製品を経済的に製造することができる方法を述べることにある。
【００１６】
製品に関して、この目的は、Ｃ：＜０．０１重量％、Ｓｉ：３．２〜７重量％、Ａｌ：＜２重量％、Ｍｎ：≦１重量％を含み、残部が鉄及び通常の不純物である鋼から製造され、そして前記鋼を、溶融後に、鋳造して基材、例えば、スラブ、薄スラブ、又は薄ストリップを形成し、次いで、前記基材を全体的に加熱して温度ＴＲ＞１０００℃とし、そしてホットストリップ最終温度ＴＦ＞８００℃で熱間仕上げ圧延してホットストリップを形成し、次いで、前記ホットストリップを、７５０℃以上であるが８５０℃未満であるホットストリップの温度ＴＣから出発して、４００℃／分以上になる冷却速度ΔＴ／Δｔで、３００℃未満の温度まで冷却し、冷却後、表面処理、例えば、機械的スケール除去及び／又は酸洗いに付し、前記表面処理後、最大で５００℃になる温度ＴＣＲで冷間圧延し、そして、次に、最終焼きなましを行った、厚さ≦０．７０ｍｍの電磁用途用の冷間圧延鋼ストリップ又はシートによって達成される。
【００１７】
方法に関して、記載した目的の本発明による解決は、電磁用途用の冷間圧延鋼ストリップ又はシートの製造の間に、下記工程、すなわち、
・Ｃ：＜０．０１重量％、Ｓｉ：３．２〜７重量％、Ａｌ：＜２重量％、Ｍｎ：≦１重量％を含み、残部が鉄及び通常の不純物である鋼を溶融し、
・前記鋼を鋳造して基材、例えば、スラブ、薄スラブ、又は薄ストリップを形成し、
・前記基材を全体的に加熱して温度ＴＲ＞１０００℃とし、
・全体的に加熱した前記基材を、熱間圧延最終温度ＴＦ＞８００℃で仕上げ熱間圧延してホットストリップを形成し、
・前記仕上げ熱間圧延後、前記ホットストリップを、７５０℃以上であるが８５０℃未満であるホットストリップの温度ＴＣから出発して、４００℃／分以上の冷却速度ΔＴ／Δｔで、３００℃未満になる温度まで冷却し、
・冷却したホットストリップを表面処理し、
・表面処理した前記ホットストリップを、最大で５００℃になる温度ＴＣＲで冷間圧延し、そして
・得られた冷間圧延鋼ストリップ又はシートを最終焼きなましする
工程を実施しとおすことにある。
【００１８】
本発明は、
・再加熱温度、
・熱間圧延最終温度、
・仕上げ圧延の終了後に、特定の温度範囲にある温度から出発するホットストリップの急速な冷却、及び
・冷間圧延時におけるストリップの温度
が本発明により明示される方法に相互に適合しているならば、
３．２重量％〜７重量％という極めて高いケイ素量、並びに、２重量％までのＡｌ量を含有する通常に構成される鋼合金から出発して、通常のコールドストリップ製造に用いられる加工工程を維持しながら、高品質の、特に、クラックを含まないコールドストリップを製造することができるという理解に基づく。
【００１９】
驚くべきことに、関与するパラメータの本発明による組み合わせを維持することによるだけで、処理された材料の過剰の脆性を回避することができ、そしてそのホットストリップが、望ましい最終厚さが最大で０．７０ｍｍ、そして好ましくは、最大で０．３５ｍｍであるクラックを含まない電気シートの製造に必要とされる正当で適正な方法による冷間圧延に対して、充分な靭性を有していることが示された。
【００２０】
この場合に、関与する各パラメータは、等しい重要性で調和する。従って、冷却の開始に対して示される温度範囲が所定の許容範囲より上回り又は下回った場合に、クラックを含まない製品を得ることができないと判断した。
【００２１】
熱間圧延最終温度が８００℃より高いが８５０℃未満になる場合、ホットストリップの冷却は、前記熱間圧延の直後に実施することができる。他方では、ホットストリップの温度が、本発明により特定される急冷が始まるべき範囲内に下がるまで、急冷の開始を待つ必要がある。
【００２２】
当然のことながら、本発明により冷却されたホットストリップは、更に処理されてコールドストリップを形成するように先へと進められる前に、製造順序の中の適当な時点で、コイルに巻き取ることができる。
【００２３】
また、当然のことながら、本発明による製造順序をプレートに限定することもできる。この場合には、ホットストリップ形成からコールドストリップの製造への移行に関して、熱間圧延後にホットストリップの急冷を実施する速度に特別な重要性が伴う。本発明により維持されるべき冷却速度の下限の領域においてさえ、冷脆性がまだ生じない時間内にホットストリップのコールドストリップへの追加の処理を実施するならば、比較的低い冷却速度でさえクラックを含まない冷間圧延鋼製品を製造することが依然として可能である。しかしながら、ホットストリップ製造と冷間圧延との間に長時間、例えば、多くの日又は週が経過する場合は、本発明による方法で製造される電磁用途用のクラック不含鋼ストリップ又はシートは、冷却速度ΔＴ／Δｔが２０００℃／分以上で、依然として容易に製造することができる。このような高い冷却速度の結果として、ホットストリップの長期間の保存及びゆっくりとなされる冷却について予想されるべき脆性化効果を、容易に回避することができる。
【００２４】
好ましくは、基材の再加熱は、フェヤライト（Ｆｅｙａｌｉｔ）の形成を確実に回避するために、１０００℃〜１１９０℃の範囲の温度で実施する。
【００２５】
基材（場合により予備圧延されたもの）を、最大で７回の通過によって９０％より大きい総変形でホットストリップ最終厚さ最大１．５ｍｍに仕上げ圧延する場合、得られた冷間圧延電気シートには、特に良好な電磁特性がもたらされる。冷間圧延における変形度が６０％より大きいが８２％より小さい場合に、同じ目的が果たされる。
【００２６】
本発明の別の重要な特徴には、冷間圧延の間、処理されるストリップの温度の本発明により特定される上限が、製造処理により不可避的に課せられる許容範囲内に維持されるという事実が含まれる。従って、基本的には、冷間圧延の開始時にホットストリップが室温を有していることが有利である。この場合、冷間圧延の間の変形エネルギーの供給の結果として避けることができない発熱が、温度≦２００℃を超えないように処理することが好ましい。それにもかかわらず、序文で言及した研究結果を考慮すると、高温で実施される冷間圧延の場合には、前記温度が２００℃〜５００℃の範囲にあることが好ましい。この場合において、熱間圧延の前のホットストリップの予備加熱に対して与えられる時間は、他の場合に生じそして脆性化出現を招く顕微鏡組織変化を避けるために、２０分より短い時間に限定することが好ましい。
【００２７】
本発明は、ケイ素含有量の極めて高い鋼のうち低い方の範囲の（Ｓｉ４．０〜５．０重量％を含有する）電気鋼シートの製造に、高いケイ素含有量の鋼のうち中間の範囲にある（５．０重量％より多いＳｉを含有する）電気鋼シートの製造に、並びに、高いケイ素含有量の鋼のうち高い方の範囲にある（Ｓｉ６．０〜６．８重量％を含有する）電気鋼シートの製造に適している。この場合、特に、より高いＳｉ含有量を有する合金に関して、Ａｌの含有量は、不可避の不純物の範囲に限定することができる。
【００２８】
以下において、態様に基づいて本発明を更に詳細に説明する。
本発明の効果を証明するために、ＨｉＳｉ鋼及びＬｏＳｉ鋼を溶融し、そして鋳造してスラブを形成した。ＨｉＳｉ鋼及びＬｏＳｉ鋼の合金を表１に示す。
【００２９】
【表１】
2005530033.tif 000002
【００３０】
スラブを再加熱温度ＴＲまで再加熱し、粗圧延し、そして次に７つの圧延のスタンドを含む熱間圧延工程において熱間圧延最終温度ＴＦで最終的に熱間圧延して、厚さＷＢＤを有するホットストリップを形成する。
【００３１】
熱間圧延工程を出た後、ホットストリップを、その温度ＴＣが７５０℃〜８５０℃の範囲内になったらすぐに、４００℃／分以上になる冷却速度ΔＴ／Δｔで冷却した。次いで、このようにして冷却したホットストリップを、その表面の機械的予備処理に付し、次いで酸洗いした。
【００３２】
冷間圧延の前にホットストリップの加熱の影響を調べるために、前記の方法により製造されたホットストリップの一部を、各々の場合において時間ｔＣＲ以内に、各々の場合において温度ＴＣＲまで、加熱した。
冷間圧延自体の間に、総変形度ΔＫＷが達成された。
【００３３】
表２は、本発明によって製造された６つのコールドストリップＥ１〜Ｅ６についての製造の間に維持された処理パラメータを示す。
【００３４】
【表２】
2005530033.tif 000003
【００３５】
これらの例は、処理された両方の鋼合金の高いケイ素含有量にもかかわらず、再加熱温度、熱間圧延最終温度、冷却が始まる温度、冷却速度、及び熱間圧延の温度が本発明において特定される範囲内に保たれる限り、ＨｉＳｉ及びＬｏＳｉクラック不含電気鋼シートを製造することができるということを証明している。
【００３６】
このことを更に確認するために、本発明によるサンプルＥ１〜Ｅ６の製造の間に用いられた処理工程を用いるが、本発明の条件の外にある処理パラメータを用いて、合金ＨｉＳｉから３つのコールドストリップＶ１〜Ｖ３を、そして合金ＬｏＳｉからコールドストリップＶ４を製造した。比較の目的で製造した、本発明によらないコールドストリップＶ１〜Ｖ４についての関連するパラメータを、表３に示す。
【００３７】
【表３】
2005530033.tif 000004
【００３８】
わずか１つの処理パラメータでさえそれを逸脱すれば、クラックを含まないコールドストリップをもはや製造することができない状況に至ることが示された。例えば、比較サンプルＶ１に関して、急速な冷却が始まる出発点としての過度に高い温度ＴＣは、本発明によるサンプルＥ１と本質的に一致する、本発明の範囲内にある他のパラメータを用いても、既にクラック形成に至った。比較サンプルＶ２に伴う過度に低い温度ＴＣ及び比較サンプルＶ３、Ｖ４に伴う過度に低い冷却速度ΔＴ／Δｔに関しても、同じ影響が惹起された。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月20日(2004.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
・Ｃ：＜０．０１重量％
Ｓｉ：３．２〜７重量％
Ａｌ：＜２重量％
Ｍｎ：≦１重量％
を含み、残部が鉄及び通常の不純物である鋼を溶融し、
・前記鋼を鋳造して基材、例えば、スラブ、薄スラブ、又は薄ストリップを形成し、
・前記基材を全体的に加熱して温度ＴＲ＞１０００℃とし、
・全体的に加熱した前記基材を、熱間圧延最終温度ＴＦ＞８００℃で仕上げ熱間圧延してホットストリップを形成し、
・前記仕上げ熱間圧延後、前記ホットストリップを、７５０℃以上であるが８５０℃未満であるホットストリップの温度ＴＣから出発して、４００℃／分以上の冷却速度ΔＴ／Δｔで、３００℃未満の温度まで冷却し、
・冷却したホットストリップを表面処理し、
・表面処理した前記ホットストリップを、最大で５００℃になる温度ＴＣＲで冷間圧延し、そして
・得られた冷間圧延鋼ストリップ又はシートを最終焼きなましする
工程を実施する、電磁用途用の冷間圧延鋼ストリップ又はシートの製造方法。
【請求項２】
前記冷却速度ΔＴ／Δｔが≧２０００℃／分であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記基材の再加熱を、１０００℃〜１１９０℃の範囲の温度で実施することを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記基材を、最大で７回の通過により９０％を超える総変形率で、ホットストリップ厚さ最大１．５ｍｍまで、仕上げ熱間圧延することを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
冷間圧延の間の変形度が６０％より大きいが８２％未満であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
得られた冷間圧延鋼ストリップ又はシートが最大０．３５ｍｍの厚さを有することを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記ホットストリップが冷間圧延の開始時に室温であることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記冷間圧延を温度≦２００℃で実施することを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記ホットストリップを、熱間圧延の前に、２０分未満の時間内で、２００℃〜５００℃の温度まで加熱し、そしてこの範囲内の温度で冷間圧延することを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記最終焼きなましを脱炭雰囲気中で実施することを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記最終焼きなましを非脱炭雰囲気中で実施することを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記鋼がＳｉ４．０〜５．０重量％を含有することを特徴とする、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記鋼がＳｉ＞５．０〜６．８重量％を含有することを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記鋼がＳｉ６．０〜６．８重量％を含有することを特徴とする、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
Ａｌの含有量が不可避の不純物の範囲に限定されることを特徴とする、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
前記表面処理が、機械的スケール除去及び／又は酸洗いを含むことを特徴とする、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の方法。
【国際調査報告】
2005530033.tif 000005
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2005530033.tif 000007
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