(57)【要約】ある態様によれば、本発明は、レーザ照射を反射するための共振空洞を形成している一対の間隔を置いたミラーと、放電空間と、少なくとも上記放電空間を囲んでいるハウジングとを備えるパルス・レーザを含む。上記パルス・レーザは、さらに、上記レーザが脈動する時間内にコヒーレンスの長さを等化するために、拡散素子を備える。本発明の他の態様については、詳細な説明、図面および特許請求の範囲を参照されたい。
2005537658.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ照射を反射するための共振空洞を形成している一対の間隔を置いたミラー、および誘導放出が行われる前記共振空洞内のある領域を備えるパルス・レーザであって、前記パルス・レーザが、さらに、前記レーザが脈動する時間内に前記レーザ照射の発散を等化するために、前記共振空洞内に位置する拡散素子を備えるパルス・レーザ。
【請求項２】
前記拡散素子が前記レーザ照射を位相変調する、請求項１に記載のレーザ。
【請求項３】
前記拡散素子が、前記共振空洞を形成している前記ミラーのうちの少なくとも一方と一体になっている、請求項２に記載のレーザ。
【請求項４】
前記ミラーのうちの少なくとも一方は湾曲している、請求項２に記載のレーザ。
【請求項５】
前記少なくとも一方の湾曲ミラーが球形をしている、請求項４に記載のレーザ。
【請求項６】
前記少なくとも一方の湾曲ミラーが非球形をしている、請求項５に記載のレーザ。
【請求項７】
前記少なくとも一方のミラーは、多層反射コーティングを備える、請求項２に記載のレーザ。
【請求項８】
１つの方向だけに前記拡散素子により、前記レーザの前記コヒーレンス性を修正する、請求項２に記載のレーザ。
【請求項９】
２つの方向に前記拡散素子により、前記レーザのコヒーレンス性を修正する、請求項２に記載のレーザ。
【請求項１０】
レーザ照射を反射するための共振空洞を形成している一対の間隔を置いたミラー、および誘導放出が行われる前記共振空洞内のある領域を備えるパルス・レーザであって、前記ミラーのうちの少なくとも一方が、前記レーザが脈動する時間内に、前記レーザ照射の発散を等化するために非球形をしているパルス・レーザ。
【請求項１１】
レーザ照射を反射するための共振空洞を形成している一対の間隔を置いたミラー、および誘導放出が行われる前記共振空洞内のある領域を備えるパルス・レーザであって、前記レーザが脈動する時間内に、前記レーザ照射の発散を等化するために、前記ミラーのうちの少なくとも一方が、前記レーザの光学軸の付近のある領域内でほぼ平らであり、前記少なくとも一方のミラーの周辺部が球形をしているパルス・レーザ。
【請求項１２】
拡散素子が、発散の大きいコンパクトなレーザを生成するために、前記ミラーのうちの前記少なくとも一方のミラーの前記ほぼ平らな領域内に設置されている、請求項１１に記載のレーザ。
【請求項１３】
前記拡散素子が、共振空洞内に配置されている少なくとも１つの別の半透明プレートであり、前記レーザ照射を位相変調するための表面プロファイルを有する、請求項２に記載のレーザ。
【請求項１４】
共振空洞を形成している一対のミラーを提供するステップと、
誘導放出が行われる前記共振空洞内にある領域を提供するステップと、
共振空洞内の前記領域内にレーザ光を発生する材料を提供するステップと、
前記レーザ・ビームの前記コヒーレンス性を修正するために、前記共振空洞内に拡散素子を提供するステップとを含む、コヒーレンス性が改善されたパルス・レーザ・ビームを生成するための方法。
【請求項１５】
前記拡散素子により前記レーザ照射を位相変調する、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記拡散素子が、前記共振空洞を形成している前記ミラーのうちの少なくとも一方と一体になっている、請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】
前記少なくとも一方のミラーが、多層反射コーティングを備える、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
１つの方向だけに前記拡散素子により、レーザのコヒーレンス性を修正する、請求項１４に記載の方法。
【請求項１９】
２つの方向に前記拡散素子により、前記レーザの前記コヒーレンス性を修正する、請求項１４に記載の方法。
【請求項２０】
前記ミラーのうちの少なくとも一方が湾曲している、請求項１４に記載の方法。
【請求項２１】
前記ミラーのうちの少なくとも一方が、前記レーザの光学軸の付近のある領域内でほぼ平らになっていて、前記少なくとも一方のミラーの周辺部が球形をしている、請求項１４に記載の方法。
【請求項２２】
前記拡散素子が、発散の大きいコンパクトなレーザを生成するために、前記ミラーのうちの前記少なくとも一方のミラーの前記ほぼ平らな領域内に設置されている、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記湾曲ミラーが球形をしている、請求項２０に記載の方法。
【請求項２４】
前記湾曲ミラーが非球形をしている、請求項２０に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パルス・レーザに関し、特にパルス・レーザ用のコヒーレンス低減方法およびデバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
エキシマ・レーザは、クリプトン、キセノン、アルゴンまたはネオンのような希ガス、および、例えば、有効分としてＦ２およびＨＣｌのようなハロゲン化物を含むハロゲン化物ガスを使用する。有効分および他のガスは、各端部にレーザ光学系、およびガス内で横方向の放電を起こさせるための縦方向に延びるレーザ光線を発生するための電極を備える放電空間内に収容される。電極には高電圧パルスが供給され、電気パルス放電により希ガスの原子をその準安定状態に励起させる。この準安定状態は、後でレーザ光からなる光子を放出させる。
【０００３】
高いＭ２数を有するパルス・レーザ、特にエキシマ・レーザは、パルス中に時間に依存する発散を起こす。その後で、レーザ光はパルス内でさらにコヒーレントになる。パターン形成、計測学および検査のようなある種の用途の場合には、パルス端部におけるこのような高度のコヒーレンスは画像にスペックル現象を生じ、これが問題となる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
それ故、本発明の１つの目的は、上記問題を克服するまたは少なくとも低減するパルス・レーザのコヒーレンス性を修正するための方法およびデバイスを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の第１の態様によれば、この目的は、とりわけ、レーザ照射を反射するための共振空洞を形成している一対の間隔を置いたミラー、および誘導放出が行われる上記共振空洞にある領域を備えるパルス・レーザにより達成される。この場合、上記パルス・レーザは、さらに、上記レーザが脈動する時間内に上記レーザ照射の発散を等化するために、上記共振空洞内に設置されている拡散素子を備える。
【０００６】
本発明による他の実施形態の場合には、上記拡散素子は、上記レーザ照射を位相変調する。
【０００７】
本発明による他の実施形態の場合には、上記拡散素子は、共振空洞を形成している上記ミラーのうちの少なくとも一方と一体になっている。
【０００８】
本発明による他の実施形態の場合には、上記ミラーのうちの少なくとも一方は湾曲している。
【０００９】
本発明による他の実施形態の場合には、上記少なくとも一方の湾曲ミラーは球形をしている。
【００１０】
本発明による他の実施形態の場合には、上記少なくとも一方の湾曲ミラーは非球形をしている。
【００１１】
本発明による他の実施形態の場合には、上記少なくとも一方のミラーは、多層反射コーティングで塗布されている。
【００１２】
本発明による他の実施形態の場合には、上記拡散素子は、１つの方向だけにレーザのコヒーレンス性を修正する。
【００１３】
本発明による他の実施形態の場合には、上記拡散素子は、２つの方向にレーザのコヒーレンス性を修正する。
【００１４】
本発明は、また、レーザ照射を反射するための共振空洞を形成している一対の間隔を置いたミラー、および誘導放出が行われる上記共振空洞内のある領域を備えるパルス・レーザに関する。この場合、上記ミラーのうちの少なくとも一方は、上記レーザが脈動している時間内に上記レーザ照射の発散を等化するために非球形をしている。
【００１５】
本発明は、さらに、レーザ照射を反射するための共振空洞を形成している一対の間隔を置いたミラー、および誘導放出が行われる上記共振空洞内のある領域を備えるパルス・レーザに関する。この場合、上記レーザが脈動する時間内に上記レーザ照射の発散を等化するために、上記ミラーのうちの少なくとも一方は、上記レーザの光学軸の付近のある領域内はほぼ平らであり、上記少なくとも一方のミラーの周辺部は球形をしている。
【００１６】
本発明による他の実施形態の場合には、拡散素子は、発散の大きいコンパクトなレーザを生成するために、上記ミラーのうちの上記少なくとも一方のミラーのほぼ平らな領域に設置されている。
【００１７】
本発明による他の実施形態の場合には、上記拡散素子は、共振空洞内に配置されていて、レーザ照射を位相変調するための表面プロファイルを有する別の半透明プレートである。
【００１８】
本発明は、また、共振空洞を形成している一対のミラーを提供するステップと、誘導放出が行われる上記共振空洞内にある領域を提供するステップと、共振空洞の上記領域内にレーザ光を発生する材料を提供するステップと、上記レーザ・ビームのコヒーレンス性を修正するために、上記共振空洞内に拡散素子を提供するステップとを含むコヒーレンス性が改善されたパルス・レーザ・ビームを生成するための方法に関する。
【００１９】
本発明による他の実施形態の場合には、上記拡散素子は、上記レーザ照射を位相変調する。
【００２０】
本発明による他の実施形態の場合には、上記拡散素子は、共振空洞を形成している上記ミラーのうちの少なくとも一方と一体になっている。
【００２１】
本発明による他の実施形態の場合には、上記少なくとも一方のミラーは、多層反射コーティングで塗布されている。
【００２２】
本発明による他の実施形態の場合には、上記拡散素子は、１つの方向だけにレーザのコヒーレンス性を修正する。
【００２３】
本発明による他の実施形態の場合には、上記拡散素子は、２つの方向にレーザのコヒーレンス性を修正する。
【００２４】
本発明による他の実施形態の場合には、上記ミラーのうちの少なくとも一方は湾曲している。
【００２５】
本発明による他の実施形態の場合には、上記ミラーのうちの少なくとも一方は、上記レーザの光学軸の付近のある領域内でほぼ平らになっていて、上記少なくとも一方のミラーの周辺部は球形をしている。
【００２６】
本発明による他の実施形態の場合には、上記拡散素子は、高度の発散を有するコンパクトなレーザを生成するために、上記ミラーのうちの上記少なくとも一方のミラーのほぼ平らな領域内に設置されている。
【００２７】
本発明による他の実施形態の場合には、上記湾曲ミラーは球形をしている。
【００２８】
本発明による他の実施形態の場合には、上記湾曲ミラーは非球形をしている。
【００２９】
本発明の他の特徴および利点は、添付の図１〜図８を参照しながら本発明の好ましい実施形態の以下の詳細な説明を読めば理解することができるだろう。上記図面は例示としてのものであって、本発明を制限するものではない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
図面を参照しながら本発明について以下に詳細に説明する。本発明を説明するために好ましい実施形態について説明するが、この説明は本発明の範囲を制限するためのものではない。本発明の範囲は特許請求の範囲に記載してある。通常の当業者であれば、以下の説明を読めば種々の同じような変更を思い付くことができるだろう。
【００３１】
さらに、エキシマ・レーザを参照しながら好ましい実施形態について説明する。通常の当業者であれば、例えば、Ｎｄ：ＹＡＧレーザ、ダイ・レーザ、銅蒸気レーザ、ルビー・レーザ、ガーネット・レーザ、ＣＯ２レーザ、自由電子レーザ、スズ−サファイヤ・レーザ、半導体レーザ等のような光学的または電気的にポンプしたガス、液体、またはソリッド・ステート・レーザのようなエキシマ・レーザ以外のソースを同様に適用することができる状況があることを理解することができるだろう。他のレーザについては、Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ＢｏｏｋｓまたはＪｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｑｕａｎｔｕｍ  ＥｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓのＳｉｅｇｍａｎの「Ｌａｓｅｒｓ」を参照されたい。
【００３２】
本発明は、例えば、エキシマ・レーザ内のレーザ・パルス内のパルスの発生から消滅までの時間内のコヒーレンス内の変動を等化するための方法に関する。このようなレーザは、空間光変調装置（ＳＬＭ）により、被加工物をパターン形成する場合に役に立つ。
【００３３】
図１は、例えば、エキシマ・レーザのような従来技術の横方向に励起したレーザである。上記レーザは、一緒に共振空洞１７０を形成している第１のミラー１１０および第２のミラーを備える。レーザは、さらに、一緒に放電空間１６０を形成している第１の電極１３０および第２の電極１４０を備える。ハウジング１５０は、上記放電空間１６０および上記共振空洞１７０を囲んでいる。ミラー１１０および１２０のうちの一方は、上記共振空洞内で発生した放射線のビームを放射することができるように部分反射を行う。他方のミラーは全反射を行う。ハウジングは、上記部分反射ミラーが配置されている端部内で放射された波長に対して透明である。
【００３４】
図２ａは、レーザ１００内で生成された光子の第１の波１８０を示す。上記第１の波１８０は、電極１３０、１４０および／またはミラー１１０および１２０からの内部反射を全然起こさないでレーザから放射される。それ故、光子の上記第１の波は、上記放電空間の端部のところで上記放射線を放射することができるので、比較的発散が多いということができる。この場合、上記端部は部分反射ミラーの近くに位置する。
【００３５】
図２ｂは、レーザ１００内で生成された光子の第２の波１８２である。このレーザは、図２ａの実施形態の素子に類似の素子を備えているので、説明を簡単にするために、対応する素子に同じ参照番号をつけることにより、このような素子の詳細な説明はここでは省略する。図２ｃについても同じことが言える。上記第２の波１８２は、全反射を行うミラーから１回反射した後で、レーザから放射される。光子のこのような第２の波は、光子の第１の波と比較すると発散が少ないか、またはよりコヒーレントである。何故なら、電極エリアを２回目に通過中に幾何学的に頂部が切り取られるからである。
【００３６】
図２ｃは、レーザ１００内で生成された光子の第３の波１８４を示す。上記第３の波１８４は、部分反射ミラーのところで１回、全反射ミラーのところで１回反射したレーザから放射される。それ故、光子の上記第３の波は、上記第２の波よりも発散が少なく、また光子の上記第１の波よりさらに遥かに発散が少ないと言える。
【００３７】
図３は、発散が等化された光子の波を生成するための、本発明による第１の実施形態である。本発明のこの実施形態の場合には、共振空洞１７０を形成しているミラー１１０、１２０は拡散面１９０、１９２を備える。上記拡散面１９０、１９２は、パルス端部でビームが狭くなるのを防止し、往復の回数が何回であろうとも、一定の放射線パターンを維持する。この場合、図では両方のミラー１１０、１２０は、拡散面１９０、１９２を備えているが、これらのうちの一方だけが上記拡散面を有するようにすることもできる。上記拡散面１９０、１９２は、上記ミラー１１０、１２０と等しいものでもよいし、等しくないものでもよい。
【００３８】
図４ａ〜ｅは、拡散特性を有する位相面４１０の４つのタイプを示す。上記位相面は、ミラーであっても別のプレートであってもよい平らな基板４００のところに位置する。図４ａは、一次元であっても二次元であってもよい連続周期または非周期格子４１０を示す。図４ｂは、球形または非球形面を形成する連続的位相に光の拡散を加えたものを示す。非球形面は、回転に対して対称なものでも、相互に直交する２つの異なる方向で異なる対称を有するものでも、非対称のものであってもよい。図４ｃは、平らな部分からなる位相面を示す。上記平らな部分は、規則正しく対称にまたは非対称に配置することができる。例えば、相互に隣接して配置されている平らな部分は、表面全体上で異なる位相を有することができる。平らな部分は、また表面上にランダムに配置することもできる。位相の数は、２つ、３つまたはそれ以上であってもよい。平らな部分の上記状態は、上記平らな部分の頂部からミラー内または外の仮想面までの距離である。図４ｄは、キノフォーム面を示す。この実施形態の場合のキノフォーム面は平らな部分からなる。図４ａ〜ｄに示す位相面は、すべて多層反射コーティングからなる。この場合、レーザのコヒーレンス性は、共振装置内に少量の光の散乱を導入することにより修正されている。上記位相パターンおよび上記パターンの深さは、散乱の大きさおよび角度特性を容易に調整することができるので、レーザを特定の用途に合わせて調整することができる。図４ｅの場合には、位相面は、不規則なパターンになるように配置されている。
【００３９】
図５ａ〜ｄは、上記位相面の生成方法を示す。図５ａは、形成面５１０を含む基板５００の側面図である。上記形成面５１０の頂部上には、多層反射コーティング５２０が堆積されている。形成面５１０は、所望の形にエッチングまたは研磨したイオンであってもよい。多層５２０は、例えば、当業者であれば周知の１つまたは複数の異なる光学材料を蒸着することにより生成される。図５ｂは、輪郭を描いた層５３０を平らな基板５０５の頂部に堆積することができることを示す。すなわち、第１の上記の輪郭を描いた層５３０が基板上に堆積され、その後で上記多層コーティング５２０が上記の輪郭を描いた層上に堆積される。輪郭を描いた層５３０は、１つまたは一連の機械的マスクを通して第１の層を蒸着することにより生成することができる。この方法により、制御量の光の散乱を行い、エネルギーの抽出およびコヒーレンスを最適化する面を提供するキノフォームを生成することができる。図５ｃは、平らな表面５５０の一部を上記多層コーティング５２５を堆積する前に、蒸着またはプラズマ・エッチングすることができることを示す。図５ｄは、平らな頂面を形成するもう１つのコーティング５６０と一緒に多層コーティング５２５を配置することができることを示す。
【００４０】
図６は、本発明の他の実施形態を示す。この場合、拡散ミラー１１０、１２０のうちの一方の代わりに、平らなミラー６１０および拡散プレート６２０が使用されている。この図の実施形態は、放電空間１６０の外にＢｒｅｗｓｔｅｒウィンドウ６３０およびミラー６１０および拡散プレート６２０を有する。この実施形態は、図３の実施形態と同じものであると見なされる。同様に、プレート６２０およびＢｒｅｗｓｔｅｒウィンドウ６３０を同じ構成部材に内蔵させることができる。すなわち位相変調を行う表面プロファイルを有するＢｒｅｗｓｔｅｒウィンドウにすることができる。
【００４１】
図７ａ〜ｆは、拡散ミラーまたは上記拡散プレートの表面の位相マップのいくつかの実施形態の頂面図である。図７ａは円形対称パターンを示し、図７ｂは楕円対称パターンを示し、図７ｃは長方形対称パターンを示し、図７ｄは正方形の非対称パターンを示し、図７ｅは長方形非対称パターンを示し、図７ｆは六角形パターンを示す。同様に、ランダム・パターンも使用することができる。図７ｇおよび図７ｈ参照。しかし、もちろん、これらパターンをマトリックス内に表示することもできる。コヒーレンスを１つの方向だけに修正しさえすればよい場合には、一次元格子を使用することができる。
【００４２】
図８は、１つの横方向のモードをサポートしている従来技術の安定半球形共振装置８７０を示す。上記共振装置は、湾曲ミラー８１０、８２０からできている。図９は、多くの横方向のノードをサポートしている湾曲ミラー９１０、９２０を備える安定共振装置を示す。図８および図９の実施形態間の違いは、共振空洞を形成しているミラーの大きさである。図１０は、ミラー１０１０、１０２０からなる共振空洞１０７０を示す。この空洞内においては、ストップおよび電極の幾何学的拘束によりモードが制限される。
【００４３】
図１１は、本発明による散乱または拡散ミラーを備えるレーザを示す。平らなミラー１１１０、１１２０および上記ミラー１１１０、１１２０の頂部に取り付けられている拡散層１１９０、１１９２は損失を増大する。何故なら、光の一部が共振空洞の開放エリアの外に回折するからである。
【００４４】
図１２の場合、共振空洞は、平らなミラーで共振空洞の外に散乱する光をその中に向ける湾曲ミラー１２１０、１２２０（非球形で示す）で幾分修正してある。上記湾曲ミラーは、光散乱面１２９０、１２９２を備える。上記湾曲ミラーは、抽出効率を改善し、同様に散乱面を使用しないで発散を増大する。米国特許出願第２００２／００１２３７６号および米国仮特許出願第６０／３３２，３８６号は球形ミラーを示す。
【００４５】
図１３は、本発明によるもう１つの実施形態を示す。この場合、共振装置の幾何学的形状は、抽出効率が高くなるようにまた発散が大きくなるように設計される。共振装置内のミラー１３１０、１３２０の周辺部は球形に近く、一方、光学軸１３９５に近い中央部はかなり平らになっている。一実施形態の場合には、中央の曲率は平面と半球形の間であり、光散乱構造体１３９０が少なくとも１つのミラーの中心近くに位置する。効率的抽出により、放電領域１３６０を短くすることができる、すなわち放電空間を短くすることができ、それにより発散の大きい小型レーザを生成することができる。
【００４６】
図１３の非球形により、抽出効率が向上し、それ自身内の発散が増大し、ミラーの拡散により発散がさらに改善される。一実施形態の場合には、上記非球形湾曲は、平らな基板の頂部上の上記多層コーティングにより形成される。もう１つの実施形態の場合には、上記基板は、拡散層を全然有さない非球形をしている。さらに、もう１つの実施形態の場合には、上記基板は、その頂部上に塗布された拡散コーティングを含む非球形をしている。ミラーのうちの１つだけを非球形にするだけでよい。一方をコーティングを含まない非球形にし、他方を拡散コーティングを含む平らな面にすることもできる。両方のミラーを拡散コーティングで覆われた平らな面にすることもできる。もう１つの実施形態の場合には、一方のミラーがコーティングを含まない平面であり、他方のミラーはコーティングを含まない非球形である。さらにもう１つの実施形態の場合には、両方のミラーが非球形であり、一方のミラーは拡散コーティングを含み、他方のミラーはコーティングを含まない。上記の個々の実施形態からの異なる特徴を結合することにより、他の実施形態を思い付くことができる。
【００４７】
好ましい実施形態および例示としての詳細な説明を参照しながら本発明を説明してきたが、これらの例は説明のためのものであって、本発明を制限するものでないことを理解されたい。当業者であれば、種々の修正および組合わせを容易に思い付くことができるだろう。上記修正および組合わせは、本発明の範囲に入り、下記の特許請求の範囲の範囲内に入る。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】従来技術のエキシマ・レーザの側面図である。
【図２ａ】エキシマ・レーザ・パルス内の光子の第１の波である。
【図２ｂ】エキシマ・レーザ・パルス内の光子の第２の波である。
【図２ｃ】エキシマ・レーザ・パルス内の光子の第３の波である。
【図３】本発明による拡散ミラーの第１の実施形態を含むエキシマ・レーザ内の光子の第３の波である。
【図４ａ】本発明による位相面の第１の実施形態である。
【図４ｂ】本発明による位相面の第２の実施形態である。
【図４ｃ】本発明による位相面の第３の実施形態である。
【図４ｄ】本発明による位相面の第４の実施形態である。
【図４ｅ】本発明による位相面の第５の実施形態である。
【図５ａ】本発明による位相面を生成するための第１の方法である。
【図５ｂ】本発明による位相面を生成するための第２の方法である。
【図５ｃ】本発明による位相面を生成するための第３の方法である。
【図５ｄ】本発明による位相面を生成するための第４の方法である。
【図６】位相面を配置するための他の実施形態である。
【図７ａ】本発明による位相パターンのいくつかの実施形態である。
【図７ｂ】本発明による位相パターンのいくつかの実施形態である。
【図７ｃ】本発明による位相パターンのいくつかの実施形態である。
【図７ｄ】本発明による位相パターンのいくつかの実施形態である。
【図７ｅ】本発明による位相パターンのいくつかの実施形態である。
【図７ｆ】本発明による位相パターンのいくつかの実施形態である。
【図７ｇ】本発明による位相パターンのいくつかの実施形態である。
【図７ｈ】本発明による位相パターンのいくつかの実施形態である。
【図８】従来技術の安定半球形共振装置である。
【図９】従来技術の安定共振装置である。
【図１０】従来技術の平面−平面共振装置である。
【図１１】本発明による共振装置のある実施形態である。
【図１２】本発明による共振装置のもう１つの実施形態である。
【図１３】本発明による新規な実施形態の幾何学的形状である。
【図１】
2005537658.tif 000003
【図２ａ】
2005537658.tif 000004
2005537658.tif 000005
【図３】
2005537658.tif 000006
2005537658.tif 000007
2005537658.tif 000008
2005537658.tif 000009
2005537658.tif 000010
【図６】
2005537658.tif 000011
2005537658.tif 000012
2005537658.tif 000013
【図８】
2005537658.tif 000014
【図９】
2005537658.tif 000015
【図１０】
2005537658.tif 000016
【図１１】
2005537658.tif 000017
【図１２】
2005537658.tif 000018
【図１３】
2005537658.tif 000019
【国際調査報告】
2005537658.tif 000020
2005537658.tif 000021