(57)【要約】  本発明では、トレンチ放電セルを有するプラズマディスプレイパネル、およびその製造方法が開示されている。多数のトレンチ放電セルを有するプラズマディスプレイパネルは、放電セル内に少なくとも１つの独立トレンチ(２２)を有する透明基板(２１)、および各トレンチ(２２)内にあり、トレンチ(２２)の外部へ延びる１つ以上の維持電極(２３)、および維持電極(２３)上にある１つ以上のバス電極(２４)、および、維持電極(２３)、バス電極(２４)、およびトレンチ(２２)を含む透明基板(２１)の全表面上に形成された誘電層(２５)を含んでおり、ここで、誘電層(２５)は、トレンチの底部上の第１部分、および基板のトレンチ外部の第２部分、およびトレンチの側壁上の第３部分を有しており、さらにトレンチ(２２)は、維持電極(２３)の方向に垂直な第１の長さ、および維持電極(２３)の方向に平行な第２の長さを有し、第１の長さが第２の長さより大きい。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のトレンチ放電セルを有するプラズマディスプレイパネルにおいて、
放電セル内に少なくとも１つの独立トレンチを有する透明基板と、
上記各トレンチ内にあり、該トレンチの外部へ延びる１つ以上の維持電極と、
上記維持電極上にある１つ以上のバス電極と、
上記維持電極、バス電極およびトレンチを含む透明基板の全表面上の誘電層とを有しており、
上記誘電層は、トレンチの底部上の第１部分、基板のトレンチ外部の第２部分およびトレンチの側壁上の第３部分を備え、
上記トレンチは、上記維持電極の方向に垂直な第１の長さ、および、維持電極の方向に平行な第２の長さを有し、また、第１の長さが第２の長さより大きい、プラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
上記放電セル内に陽光柱効果を発生させるよう、第１の長さが第２の長さより実質的に大きい、請求項１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
上記トレンチが、トレンチの底部に対して実質的に垂直な側壁を有する、請求項１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
上記トレンチが、トレンチの底部に対して９０°未満の角度を有する側壁を有する、請求項１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
上記トレンチが、トレンチの底部に対して９０°より大きい角度を有する側壁を有する、請求項１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
上記トレンチが、円形、多角形、楕円形、ダンベル、および平面図での任意の異形のうちの１つの形状を有している、請求項１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
上記トレンチの底部の１つ以上の維持電極が、駆動電圧を最小にするほどの狭いギャップによって分離されている、請求項１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】
上記維持電極間のギャップが、およそ２０から２００ミクロンの範囲である、請求項７のプラズマディスプレイパネル。
【請求項９】
上記維持電極が、およそ２０から２００ミクロンの範囲の厚みを有する誘電層で覆われている、請求項８のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０】
上記維持電極がトレンチの底部上に形成されていない、請求項１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１１】
上記維持電極を覆う誘電層の第１および第２の部分の厚みが実質的に同じである、請求項９のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１２】
上記第１および第２の部分がそれぞれ、第３部分より実質的に大きな厚みを有する、請求項１１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１３】
上記維持電極が、トレンチの底部の少なくとも一部分を露出させるよう形成された、請求項１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１４】
上記維持電極が、トレンチの底部に、縞、ハンマー、およびスパイクの形状のうちの１つの形状を有する、請求項１３のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１５】
上記維持電極が、トレンチの側壁の一部分を露出させるよう形成された、請求項１３のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１６】
上記誘電層の一部がバリアリブとして機能する、請求項１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１７】
上記誘電層上に、１対のバリアリブをさらに含む、請求項１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１８】
上記トレンチが、平坦、階段状、Ｖ字、およびＵ字形のうちの１つの底部形状を有する、請求項１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１９】
上記誘電層上に、保護層をさらに含む、請求項１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項２０】
上記保護層が、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）で形成された、請求項１９のプラズマディスプレイパネル。
【請求項２１】
上記バス電極が、透明基板の溝内に形成される、請求項１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項２２】
Ｐが動作圧力（Ｔｏｒｒ）、Ｒがトレンチを占める最大サイズの仮想のシリンダの半径（ｃｍ）である場合に、Ｐ×Ｒの値がおよそ０．１から１０の範囲となるようパネルが動作される、請求項１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項２３】
透明基板の放電セル内に少なくとも１つの独立トレンチを形成するステップと、
上記トレンチ内にあり、該トレンチの外部へ延びる１つ以上の維持電極を形成するステップと、
上記維持電極上に１つ以上のバス電極を形成するステップと、
上記維持電極、バス電極、およびトレンチを含む基板の全表面上に誘電層を形成するステップであって、該誘電層は、トレンチの底部上の第１部分、トレンチの外部の第２部分、およびトレンチの側壁上の第３部分を備え、該トレンチは、上記維持電極の方向に垂直な第１の長さ、および、維持電極の方向に平行な第２の長さを有し、また、第１の長さが第２の長さより大きい、ステップとを有している、プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２４】
上記トレンチが、ウェットエッチング、ドライエッチング、レーザアブレーション、サンドブラスティング、成形、および研磨のうちの１つにより形成される、請求項２３の方法。
【請求項２５】
１つ以上の維持電極を形成するステップが、
上記トレンチを含む透明基板の全表面上に導電層を形成するステップと、
上記維持電極を形成するために、透明導電層をパターン化するステップとを有する、請求項２３の方法。
【請求項２６】
上記透明導電層が、インジウム酸化スズ（ＩＴＯ）および酸化スズ（ＳｎＯ２）のうちの１つで形成される、請求項２５の方法。
【請求項２７】
上記透明導電層が、化学蒸着、ディッピング、真空蒸着、およびスパッタリングのうちの１つにより形成される、請求項２５の方法。
【請求項２８】
上記透明導電層が、レーザアブレーション、ウェットエッチング、およびドライエッチングのうちの１つによりパターン化される、請求項２５の方法。
【請求項２９】
上記バス電極が、導電ペースト、およびＣｒ／Ｃｕ／ＣｒまたはＣｒ／Ａｌの多層のうちの１つで形成される、請求項２３の方法。
【請求項３０】
上記バス電極が、印刷、フォトリソグラフィを伴う厚膜処理、およびフォトリソグラフィを伴う薄膜処理のうちの１つにより形成される、請求項２３の方法。
【請求項３１】
上記誘電層が、ＰｂＯペースト、およびＰｂＯグリーンシートのうちの１つで形成される、請求項２３の方法。
【請求項３２】
上記誘電層が、印刷、積層、およびディッピングのうちの１つにより形成される、請求項２３の方法。
【請求項３３】
上記誘電層上に保護層を形成することをさらに含む、請求項２３の方法。
【請求項３４】
上記保護層が酸化マグネシウム（ＭｇＯ）で形成される、請求項３３の方法。
【請求項３５】
上記透明基板内にバス電極を形成するために、透明基板内に溝を形成することをさらに含む、請求項２３の方法。
【請求項３６】
透明基板内に少なくとも１つの溝を形成するステップと、
上記溝内にあり、溝外部へ延びる１つ以上の維持電極を形成するステップと、
上記維持電極上に１つ以上のバス電極を形成するステップと、
上記維持電極、バス電極、およびトレンチを含む基板の全表面上に、上記溝の底部上の第１部分、溝の外部の第２部分、および溝の側壁上の第３部分を備えた第１誘電層を形成するステップと、
上記透明基板内に少なくとも１つの独立トレンチを形成するために、上記溝内に複数の隔壁を形成するステップとを有する、プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３７】
上記隔壁を含む第１誘電層上に保護層を形成することをさらに含む、請求項３６の方法。
【請求項３８】
上記保護層が酸化マグネシウム（ＭｇＯ）で形成される、請求項３７の方法。
【請求項３９】
上記隔壁が誘電材で形成される、請求項３６の方法。
【請求項４０】
上記溝内に複数の隔壁を形成するステップが、
上記溝内に第２誘電層を形成するステップと、
複数の隔壁を形成するために、第２誘電層を選択的に除去するステップとを有する、請求項３６の方法。
【請求項４１】
上記第２誘電層が、厚膜フォトリソグラフィにより選択的に除去される、請求項４０の方法。
【請求項４２】
上記透明基板内にバス電極を形成するために、該透明基板内に溝を形成することをさらに含む、請求項３６の方法。
【請求項４３】
第１基板内に１つ以上の溝を形成するステップと、
溝内にあり、該溝の外部へ延びる１つ以上の維持電極を形成するステップと、
上記維持電極上に１つ以上のバス電極を形成するステップと、
上記維持電極、バス電極、および溝を含む基板の全表面上に誘電層を形成するステップであって、該誘電層は、溝の底部上の第１部分、溝の外部の第２部分、および溝の側壁上の第３部分を有し、上記溝は、上記維持電極の方向に垂直な第１の長さ、および維持電極の方向に平行な第２の長さを有し、また、第１の長さは第２の長さより大きい、ステップと、
第２基板上にアドレス電極を形成するステップと、
上記第２基板を含むアドレス電極上に、第２誘電層を形成するステップと、
上記第１および第２の基板間に少なくとも１つの独立トレンチを形成するために、上記第２基板上に複数の突起を形成するステップとを有する、プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４４】
上記突起が誘電材で形成される、請求項４３の方法。
【請求項４５】
上記第２基板上にアドレス電極を形成する前に、１組のバリアリブを形成するよう、第２基板を部分的に除去することをさらに含む、請求項４３の方法。
【請求項４６】
上記バリアリブが、その上に突起を形成するための位置を提供する、請求項４５の方法。
【請求項４７】
上記第２誘電層上に１対のバリアリブを形成することをさらに含む、請求項４３の方法。
【請求項４８】
上記バリアリブが、その上に突起を形成するための位置を提供する、請求項４７の方法。
【請求項４９】
上記透明基板内にバス電極を形成するために、透明基板内に１つ以上の溝を形成することをさらに含む、請求項４３の方法。
【請求項５０】
上記第１部分が、第２および第３の部分より大きな厚みを有する、請求項１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５１】
上記第１部分が、第３部分の厚みより１．１〜４倍厚い厚みを有する、請求項１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５２】
上記第１部分が、第３部分の厚みより１．５〜２．５倍厚い厚みを有する、請求項１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５３】
上記トレンチが長さおよび幅を有し、幅に対する長さの比が１より大きい、請求項１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５４】
上記トレンチが、放電セルと実質的に同じ大きさである、請求項７のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５５】
上記維持電極間のギャップが、およそ２０から２００ミクロンの範囲である、請求項５４のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５６】
上記維持電極が、およそ２０から２００ミクロンの範囲の厚みを有する誘電層で覆われている、請求項５５のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５７】
上記維持電極が、トレンチの底部上に形成されていない、請求項５４のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５８】
上記維持電極を覆う誘電層の第１および第２の部分の厚みが、実質的に同じである、請求項５６のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５９】
上記第１および第２の部分が各々、第３部分より実質的に大きな厚みを有する、請求項５８のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６０】
複数のトレンチ放電セルを有するプラズマディスプレイパネルにおいて、
上記放電セル内に少なくとも１つの独立トレンチを有する透明基板と、
上記各トレンチ内にあり、トレンチ外部へ延びる１つ以上の維持電極と、
上記維持電極上にある１つ以上のバス電極と、
上記維持電極、バス電極、およびトレンチを含む透明基板の全表面上の誘電層とを有しており、
上記誘電層は、トレンチの底部上の第１部分、基板のトレンチ外部の第２部分、およびトレンチの側壁上の第３部分を備え、上記トレンチは、維持電極の方向に垂直な第１の長さ、および維持電極方向に平行な第２の長さを有し、また、上記放電セル内で陽光柱効果を起こすよう、第１の長さは第２の長さより実質的に大きい、プラズマディスプレイパネル。
【請求項６１】
トレンチが、トレンチの底部に対して実質的に垂直な側壁を有する、請求項６０のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６２】
上記トレンチが、トレンチの底部に対して９０°未満の角度を有する側壁を有する、請求項１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６３】
上記トレンチが、トレンチの底部に対して９０°より大きい角度を有する側壁を有する、請求項６０のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６４】
上記トレンチが、円形、多角形、楕円形、ダンベル、および平面図での任意の異形のうちの１つの形状を有している、請求項６０のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６５】
上記トレンチの底部の１つ以上の維持電極が、駆動電圧を最小にするほどの狭いギャップによって分離されている、請求項６０のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６６】
上記維持電極間のギャップが、およそ２０から２００ミクロンの範囲である、請求項６５のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６７】
上記維持電極が、およそ２０から２００ミクロンの範囲の厚みを有する誘電層で覆われている、請求項６６のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６８】
上記維持電極がトレンチの底部上に形成されていない、請求項６０のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６９】
上記維持電極を覆う誘電層の第１および第２の部分の厚みが実質的に同じである、請求項６７のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７０】
上記第１および第２の部分が各々、第３部分より実質的に大きな厚みを有する、請求項６９のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７１】
上記維持電極が、トレンチの底部の少なくとも一部分を露出させるよう形成される、請求項６０のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７２】
上記維持電極が、トレンチの底部に、縞、ハンマー、およびスパイク形のうちの１つの形状を有する、請求項７１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７３】
上記維持電極が、トレンチの側壁の一部分を露出させるよう形成された、請求項７１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７４】
上記誘電層の一部がバリアリブとして機能する、請求項６０のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７５】
上記誘電層上に１対のバリアリブをさらに含む、請求項６０のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７６】
上記トレンチが、断面図で平坦、階段状、Ｖ字、およびＵ字形状のうちの１つの底部形状を有する、請求項６０のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７７】
上記誘電層上に、保護層をさらに含む、請求項６０のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７８】
上記保護層が、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）で形成される、請求項７７のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７９】
上記バス電極が、透明基板の溝内に形成される、請求項６０のプラズマディスプレイパネル。
【請求項８０】
Ｐが動作圧力（Ｔｏｒｒ）、Ｒがトレンチ内に占められる最大サイズの仮想シリンダの半径（ｃｍ）である場合に、およそ０．１から１０の範囲のＰ×Ｒの値でパネルが動作される、請求項６０のプラズマディスプレイパネル。
【請求項８１】
上記第１部分が、第２および第３の部分より大きな厚みを有する、請求項６０のプラズマディスプレイパネル。
【請求項８２】
上記第１部分が、第３部分の厚みより１．１〜４倍厚い厚みを有する、請求項６０のプラズマディスプレイパネル。
【請求項８３】
上記第１部分が、第３部分の厚みより１．５〜２．５倍厚い厚みを有する、請求項６０のプラズマディスプレイパネル。
【請求項８４】
上記トレンチが長さおよび幅を有し、幅に対する長さの比が１より大きい、請求項６０のプラズマディスプレイパネル。
【請求項８５】
上記トレンチが、放電セルと実質的に同じ大きさである、請求項６５のプラズマディスプレイパネル。
【請求項８６】
上記維持電極間のギャップが、およそ２０から２００ミクロンの範囲である、請求項８５のプラズマディスプレイパネル。
【請求項８７】
上記維持電極が、およそ２０から２００ミクロンの範囲の厚みを有する誘電層で覆われている、請求項８６のプラズマディスプレイパネル。
【請求項８８】
上記維持電極が、トレンチの底部上に形成されていない、請求項８５のプラズマディスプレイパネル。
【請求項８９】
上記維持電極を覆う誘電層の第１および第２の部分の厚みが、実質的に同じである、請求項８７のプラズマディスプレイパネル。
【請求項９０】
上記第１および第２の部分が各々、第３部分より実質的に大きな厚みを有する、請求項８９のプラズマディスプレイパネル。
【請求項９１】
複数のトレンチ放電セルを有するプラズマディスプレイパネルにおいて、
上記放電セル内に少なくとも１つの独立トレンチを有する透明基板と、
上記各トレンチ内にあり、トレンチ外部へ延びる１つ以上の維持電極と、
上記維持電極上にある１つ以上のバス電極と、
上記維持電極、バス電極、およびトレンチを含む透明基板の全表面上の誘電層とを有しており、
上記誘電層は、トレンチの底部上の第１部分、基板のトレンチ外部の第２部分、およびトレンチの側壁上の第３部分を備え、該第１部分は、第２および第３の部分より大きな厚みを有している、プラズマディスプレイパネル。
【請求項９２】
上記トレンチが、維持電極の方向に垂直な第１の長さ、および維持電極の方向に平行な第２の長さを有し、第１の長さが第２の長さより大きい、請求項９１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項９３】
上記第１の長さが、放電セル内で陽光柱効果を起こすよう、第２の長さより実質的に大きい、請求項９２のプラズマディスプレイパネル。
【請求項９４】
上記トレンチが、トレンチの底部に対して実質的に垂直な側壁を有する、請求項９１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項９５】
上記トレンチが、トレンチの底部に対して９０°未満の角度を有する側壁を有する、請求項９１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項９６】
上記トレンチが、トレンチの底部に対して９０°より大きい角度を有する側壁を有する、請求項９１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項９７】
上記トレンチが、円形、多角形、楕円形、ダンベル、および平面図での任意の異形のうちの１つの形状を有している、請求項９１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項９８】
上記トレンチの底部の１つ以上の維持電極が、駆動電圧を最小にするほどの狭いギャップによって分離されている、請求項９１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項９９】
上記維持電極間のギャップが、およそ２０から２００ミクロンの範囲である、請求項９８のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１００】
上記維持電極が、およそ２０から２００ミクロンの範囲の厚みを有する誘電層で覆われている、請求項９９のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０１】
上記維持電極がトレンチの底部上に形成されていない、請求項９１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０２】
上記維持電極を覆う誘電層の第１および第２の部分の厚みが実質的に同じである、請求項１００のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０３】
上記第１および第２の部分が各々、第３部分より実質的に大きな厚みを有する、請求項１０２のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０４】
上記維持電極が、トレンチの底部の少なくとも一部分を露出させるよう形成される、請求項９１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０５】
上記維持電極が、トレンチの底部に、縞、ハンマー、およびスパイク形状のうちの１つの形状を有する、請求項１０４のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０６】
上記維持電極が、トレンチの側壁の一部分を露出させるよう形成される、請求項１０４のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０７】
上記誘電層の一部がバリアリブとして機能する、請求項９１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０８】
上記誘電層上に１対のバリアリブをさらに含む、請求項９１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０９】
上記トレンチが、断面図で平坦、階段状、V字、およびU字形のうちの１つの底部形状を有する、請求項９１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１１０】
上記誘電層上に、保護層をさらに含む、請求項９１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１１１】
上記保護層が、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）で形成される、請求項１０９のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１１２】
上記バス電極が、透明基板の溝内に形成される、請求項９１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１１３】
Ｐが動作圧力（Ｔｏｒｒ）、Ｒがトレンチを占める最大サイズの仮想シリンダの半径（ｃｍ）である場合に、およそ０．１から１０の範囲のＰ×Ｒの値で、パネルが動作される、請求項９１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１１４】
上記第１部分が、第３部分の厚みより１．１〜４倍厚い厚みを有する、請求項９１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１１５】
上記第１部分が、第３部分の厚みより１．５〜２．５倍厚い厚みを有する、請求項９１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１１６】
上記トレンチが長さおよび幅を有し、幅に対する長さの比が１より大きい、請求項９１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１１７】
上記トレンチが、放電セルと実質的に同じ大きさである、請求項９７のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１１８】
上記維持電極間のギャップが、およそ２０から２００ミクロンの範囲である、請求項１１７のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１１９】
上記維持電極が、およそ２０から２００ミクロンの範囲の厚みを有する誘電層で覆われている、請求項１１８のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１２０】
上記維持電極が、トレンチの底部上に形成されていない、請求項１１７のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１２１】
上記維持電極を覆う誘電層の第１および第２の部分の厚みが、実質的に同じである、請求項１１９のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１２２】
上記第１および第２の部分が各々、第３部分より実質的に大きな厚みを有する、請求項１２１のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１２３】
複数のトレンチ放電セル、１つ以上の維持電極、および１つ以上のバス電極を有するプラズマディスプレイパネルにおいて、
上記放電セル内に少なくとも１つの独立トレンチを有する透明基板を有しており、
上記トレンチは、維持電極の方向に垂直な第１の長さ、および維持電極の方向に平行な第２の長さを有し、また、第１の長さは第２の長さより実質的に大きい、プラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はプラズマディスプレイパネルに関し、とりわけ、トレンチ放電セルを有するプラズマディスプレイパネル及びその製造方法に関する。本発明は、広い適用範囲に適合するが、特に、プラズマディスプレイパネルにおける発光効率を高め、駆動電圧を低下させるのに適当である。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、紫外光を発生させる多数のプラズマセルから成っている。そして、紫外光は、蛍光体層により可視ディスプレイ発光に変換される。ディスプレイの輝度および効率は、主に、プラズマセルによる紫外光の生成の強度および効率に依存している。
【０００３】
交流型プラズマディスプレイパネルの従来の構造は、図１に示されている。従来の交流型プラズマディスプレイパネルは、前部基板および後部基板で形成されている。２つの基板間に形成された空間は、不活性ガスで満たされている。
【０００４】
前部基板は、第１ガラス基板１１、上部にストライプ形状を有する透明導電層１２、概して銀ペーストで形成されて、透明誘電層１４の高抵抗を補償するバス電極１３を含んでいる。透明誘電層１４は、電流量を制限し、蛍光体層からの可視光放電を伝達する。ブラックストライプ層１５は、コントラスト比を改良する黒色絶縁層で形成されている。保護層(図示せず)は、イオン放電中の衝撃に非常に耐久性があり、二次電子放電を高める酸化マグネシウム薄膜で形成されている。１つの放電セル内には、透明導電層１２およびバス電極１３で形成される１対の電極が形成されている。
【０００５】
後部基板は、その上に形成されたアドレス電極１７を有する第２ガラス基板１６、およびアドレス電極のための保護層１８、バリアリブ１９、およびその上に塗布された蛍光体層２０を含んでいる。
【０００６】
ここで、上記の構造を有するプラズマディスプレイパネルの動作を説明する。後部基板上のアドレス電極１７と、前部基板上の電極の対のうちの１つとの間に、強い放電が起こる。そして、プラズマ放電を維持する交流信号が、前部基板の電極の対のうちの１つへ送られる。放電の結果、紫外線領域の波長の光子が放出される。紫外線領域の光子の放電は、後部基板の蛍光体層２０を刺激し、蛍光体層はディスプレイ上への、絵や画像の形成に用いられる可視光を放出する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上述の構造を有するプラズマディスプレイ装置では、輝度および効率は、装置の品質を決定する主なファクターである。従来の交流型表面放電PDPには、以下の不都合がある。
【０００８】
放電セル内部および放電セル外部の放電経路の長さの違いのため、一様な電場が生成できない。そのため放電はユニット放電セルの内部ではより強く、セルの外部に近づくにつれより弱くなり、したがって、一定放電から生じる高発光効率は達成不可能である。さらには、電極は二次元平担面の構造を有している。したがって、高解像度になるにつれ電極面積がより小さくなり、発光効率が減少し、駆動電圧が増加することになる。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本出願は、以下の４つの仮出願の利益を要求するものであり、これらは全て、参照により本開示に組み込まれる：２００２年１月１４日に出願された、仮出願第６０/３４７,２９２号の「３次元電極構造を有するプラズマディスプレイパネル(Plasma Display Panel Having Three-Dimensional Electrode Structure)」；２００２年５月２９日に出願された、仮出願第６０/３８３,６０４号の「プラズマディスプレイパネルのためのトレンチセル(Trench Cells for Plasma Display Panel)」；２００２年７月２５日に出願された、仮出願第６０/３９８,１１２号の「プラズマディスプレイパネルのためのトレンチセル(Trench Cells for Plasma Display Panel)」；および、２００２年９月６日に出願された、仮出願第６０/４０９,２７７号の「キャピラリー放電プラズマ(Capillary Discharge Plasma)」。
【００１０】
したがって、本発明は、関連技術の制限および不都合に起因する問題の１つ以上を実質的に除去した、トレンチ放電セルを有するプラズマディスプレイパネル、およびその製造方法に向けられる。
【００１１】
本発明の付加的機能および利点は、以下の記述に詳述されており、その一部は、説明から明らかであり、または発明の実行により学ばれることになろう。本発明の目的および他の利点は、本願明細書の書面による説明および請求項のみならず、添付図面によって特に指摘された構造により、実現され、達成される。
【００１２】
これらの、および他の利点を達成し、さらに本発明の目的に従うよう、具体化され、および広範囲に説明されているように、多数のトレンチ放電セル、１つ以上の維持電極、および１つ以上のバス電極を有するプラズマディスプレイパネルは、放電セル内に少なくとも１つの独立トレンチを有する透明基板を含んでおり、ここで、トレンチは維持電極の方向に垂直な第１の長さ、および維持電極の方向に平行な第２の長さを有し、第１の長さは第２の長さより大きい。
【００１３】
本発明の他の態様では、多数のトレンチ放電セルを有するプラズマディスプレイパネルは以下のものを含んでいる。放電セル内に少なくとも１つの独立トレンチを有する透明基板；各トレンチ内にあり、トレンチの外部へ延びる１つ以上の維持電極；維持電極上にある１つ以上のバス電極；および、維持電極、バス電極、およびトレンチを含む透明基板の全表面上の誘電層。ここで、誘電層は、トレンチの底部上の第１部分、および基板のトレンチ外部の第２部分、およびトレンチの側壁上の第３部分を有しており、さらにトレンチは、維持電極の方向に垂直な第１の長さ、および維持電極の方向に平行な第２の長さを有し、第１の長さが第２の長さより大きい。
【００１４】
本発明の他の態様では、プラズマディスプレイパネルの製造方法は、透明基板の放電セル内に少なくとも１つの独立トレンチを形成すること、トレンチ内にあり、トレンチの外部へ延びる１つ以上の維持電極を形成すること、維持電極上に１つ以上のバス電極を形成すること、および、維持電極、バス電極、およびトレンチを含む基板の全表面上に誘電層を形成することを含んでおり、ここで、誘電層はトレンチの底部上の第１部分、トレンチの外部に延びる第２部分、およびトレンチの側壁上の第３部分を有し、さらに、トレンチは、維持電極の方向に垂直な第１の長さ、および維持電極の方向に平行な第２の長さを有し、第１の長さが第２の長さより大きい。
【００１５】
本発明の他の態様では、プラズマディスプレイパネルの製造方法は、透明基板内に少なくとも１つの溝を形成すること、溝内にあり、溝の外部へ延びる１つ以上の維持電極を形成すること、溝外部に位置する維持電極の延長部分の上のみに１つ以上のバス電極を形成すること、維持電極、バス電極、およびトレンチを含む基板の全表面上に第１誘電層を形成すること、ここで、第１誘電層は溝の底部上の第１部分、溝外部の第２部分、およびトレンチの側壁上の第３部分を有しており、および透明基板内に少なくとも１つの独立トレンチを形成するために、溝内に多数の隔壁を形成することを含んでいる。
【００１６】
本発明のさらなる態様では、プラズマディスプレイパネルの製造方法は、第１基板内に少なくとも１つの溝を形成すること、溝内にあり、溝の外部へ延びる１つ以上の維持電極を形成すること、溝外部に位置する維持電極の延長部分の上のみに１つ以上のバス電極を形成すること、維持電極、バス電極、および溝を含む基板の全表面上に第１誘電層を形成すること、ここで、第１誘電層は溝の底部上の第１部分、溝外部の第２部分、および溝の側壁上の第３部分を有しており、第２基板上にアドレス電極を形成すること、第２基板を含むアドレス電極上に第２誘電層を形成すること、および第１基板と第２基板との間に少なくとも１つの独立トレンチを形成するために、第２基板上に多数の突起を形成することを含んでいる。
【００１７】
本発明の他の態様では、多数のトレンチ放電セルを有するプラズマディスプレイパネルは以下のもの含む。放電セル内に少なくとも１つの独立トレンチを有する透明基板；各トレンチ内にあり、トレンチの外部へ延びる１つ以上の維持電極；維持電極上にある１つ以上のバス電極；および、維持電極、バス電極、およびトレンチを含む透明基板の全表面上の誘電層。ここで、誘電層は、トレンチの底部上の第１部分、基板のトレンチ外部の第２部分、およびトレンチの側壁上の第３部分を有しており、さらにトレンチは、維持電極の方向に垂直な第１の長さ、および維持電極の方向に平行な第２の長さを有し、放電セル内で陽光柱効果を起こすよう、第１の長さは第２の長さより実質的に大きい。
【００１８】
本発明のさらに他の態様では、多数のトレンチ放電セルを有するプラズマディスプレイパネルは以下のもの含む。放電セル内に少なくとも１つの独立トレンチを有する透明基板；各トレンチ内にあり、トレンチの外部へ延びる１つ以上の維持電極；維持電極上にある１つ以上のバス電極；および、維持電極、バス電極、およびトレンチを含む透明基板の全表面上の誘電層。ここで、誘電層は、トレンチの底部上の第１部分、基板のトレンチ外部の第２部分、およびトレンチの側壁上の第３部分を有しており、さらに第１部分は、第２部分および第３部分より大きな厚みを有している。
【００１９】
以上の概説および以下の詳細な説明は、典型的および説明的なものであり、請求項に記載された本発明の、さらなる説明を提供しようとするものであることを理解すべきである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明のさらなる理解を提供するために、本願に含まれ、さらに、本願の一部に組み込まれ、本願の一部を構成する添付図面は、本発明の実施例を示し、記述と共に本発明の原理を説明するのに役立つ。
【００２１】
以下、本発明の図示した実施例について、詳細に詳細する。その例は添付図面に示されている。可能な場合は、各図面を通して、同一の、または同様の部品を参照するために、同一の参照符号が用いられる。
【００２２】
図２Ａおよび図２Ｂは、本発明の第１実施例に従うプラズマディスプレイパネル用ユニット放電セルの概略平面図および断面図を示している。
【００２３】
図２Ａおよび図２Ｂに示されるように、１つより多い、区分されたトレンチ２２は、各トレンチが放電セル内で隔離されるよう、バス電極２４間のガラス基板２１内に形成されてもよい。ガラス基板２１を含むトレンチ２２内には、インジウム酸化スズ（ＩＴＯ）など、維持電極用の透明導電層２３が堆積される。バス電極２４は、図２Bに示されるように、ガラス基板２１の上部に形成されるのが好ましい。しかしながら、バス電極２４も、トレンチ２２内に部分的に、またはトレンチ２２内に完全に形成されてもよい。これらの実施例は、本発明の範囲内にある。透明誘電層２５および保護層としての酸化マグネシウム層（図示せず）は、表面全体にわたって連続して堆積される。
【００２４】
図３Ａから図３Ｄは、図２Ａおよび図２Ｂのトレンチの様々な形状の平面図を示している。
【００２５】
図３Ａから図３Ｄに示されるように、トレンチは、円形（図３Ｃ及び図３Ｄ）または正方形（図３Ａ及び図３Ｂ）を含む、いかなる形状を有していてもよい。さらには、図面には示されていないが、トレンチはまた、楕円形または長方形など、他の様々な幾何学的形状に形成されてもよい。本発明においては、１つより多い形状が結合され、様々なサイズに形成されてもよい。他の形状および組み合わせは、当業者に既知であろうし、本発明の範囲内である。
【００２６】
図４Ａから図４Ｄは、図２Ａおよび図２Ｂの様々なトレンチの概略断面図を示している。
【００２７】
第１実施例におけるトレンチは、図４Aから図４Dに示されるように、様々な断面形状を有していてもよい。例えば、これらは長方形平坦トレンチ形(図４Ａ)、および傾斜レンチ形（図４Ｂ）、および多段トレンチ形（図４Ｃ）、および円形トレンチ形（図４Ｄ）のうちの１つであってもよい。したがって、断面図の底部形状は、平坦、階段状、Ｖ字、およびＵ字形のうちの１つであってよい。他の形状および組み合わせは当業者に既知であり、本発明の範囲内である。
【００２８】
図５Ａから図５Ｄは、プラズマディスプレイパネルの放電セルを製造する連続プロセスを示す断面図である。
【００２９】
新しいセルは、化学エッチング、サンドブラスティング、レーザアブレーション（すなわち、エキシマまたはＣＯ２）、超音波ドリリング、または他の手段により第１ガラス基板に彫られた、１つ以上のトレンチから構成される。基板層の透明さ、および荒さは、直接輝度に影響を及ぼす。表面の荒さは、トレンチを彫った後、ＣｅＯ溶液を用いた平面研磨により改良可能である。２つの透明維持電極は、上部平面基板表面からトレンチの２つの対向壁へ延び、さらに、いくつかの実施例ではトレンチの床に沿って、および部分的に他の２つの壁上に延びている。２つの銀製バス電極は、トレンチ縁から離れた、基板プレートの上部平面に位置しているが、維持電極と接触している。トレンチ長は、バス電極間のトレンチの大きさにより決定され、概してその幅より大きい。その後、基板の上部平面、電極、トレンチ壁、および床上に、絶縁コーティングが施される。これは、例示のみを目的としてあげると、ペースト、またはテーピング法を用いる、スクリーン印刷、ディッピングにより達成されてもよい。図５Ｄに示されるように、絶縁層のないトレンチの深さは３０〜５００ミクロンであるが、１００〜２００ミクロンであることが好ましい。トレンチ長（Ｌ）は１００〜１０００ミクロンであってもよいが、２００〜８００ミクロンであることが好ましい。深さ（Ｄ）は、５０〜３５０ミクロンであってもよいが、セル単位で１つまたは複数のトレンチのいずれが用いられるかに依存することになる。トレンチのＬ／Ｄ比は、セルの最適性能のために、１より大きくてもよい。
【００３０】
図５Ａ−５Ｄに示されるように、ガラス基板５１は、図５Ａに示されるようにウェットエッチングまたはドライエッチングを用いて、１つ以上の独立トレンチ５２を形成するよう処理される。例えば、サンドブラスト法、ポリシングなどの機械的処理、または加圧成形法がドライエッチングに使用され得る。化学エッチング法は、ウェットエッチングに使用されてもよい。
【００３１】
図５Ｂでは、好ましくは、トレンチ５２外部にディスプレイ領域のガラス基板５１を含む、トレンチ５２内部には、ITOなどの透明導電層５３が堆積されている。もちろん、層５３はトレンチ内部にのみ存在してもよく、こうした構造は本発明の範囲内である。透明導電層５３は、維持電極を形成するよう、フォトリソグラフィを用いてパターン化される。
【００３２】
その後、図５Ｃに示されるように、バス電極５４が、トレンチ５２外部の透明導電層５３の縁に形成される。バス電極５４は、部分的にトレンチ５２内に、または完全にトレンチ５４内に形成されてもよい（図示せず）。
【００３３】
図５Ｄでは、バス電極５４の形成後に、スクリーン印刷法、ディップコーティング法、またはスプレー法を用いて、ディスプレイ領域上全体に誘電層５５が形成される。その後、例えば酸化鉛（ＰｂＯ）の誘電層５５がトレンチおよび電極構造にわたって配置される。誘電層の厚さは、材料の誘電率に依存する。しかしながら、ＰｂＯを用いる場合、誘電層は１０〜１００ミクロンの厚みを有し、好ましくは厚みは２０〜４０ミクロンの範囲となる。その後、誘電層５５は、二次電子のソースを提供し、プラズマ内のイオン衝撃のスパッタリングによる浸食から誘電層を保護するために、例えば酸化マグネシウム（ＭｇＯ）などの金属酸化物の層（図示せず）でコーティングされる。
【００３４】
さらに、酸化マグネシウム層などの保護層(図示せず)は、およそ３０００〜７０００ミクロンの厚みを有するよう誘電層５５上に堆積されてもよい。例えば、保護層は、電子ビーム真空蒸着法、スパッタリング法、またはイオンプレーティング法のうちの１つを用いて堆積されてもよい。
【００３５】
この構造の設計のため、主に、ガラス基板５１内にトレンチ５２を形成させることから生じる容積内で放電が起こる。電界線を電極に対して垂直に維持するよう、トレンチ壁は、製造限界に起因して僅かに傾斜させられ壁が僅かに傾むく場合を除き、実質的に垂直である。
【００３６】
図面には示されていないが、トレンチはまた、上述の方法を用いて、基板全体上に誘電層を堆積し、さらに、サンドブラスト法を用いて誘電層を処理することにより、形成されてもよい。この実施例は、トレンチの形状をより正確に制御するのに有利かもしれない。
【００３７】
本発明でのトレンチの大きさは、水平寸法（Ｌ）がおよそ２０〜２００００ミクロン、垂直寸法（Ｄ）がおよそ５〜１００００ミクロンの範囲となろう。トレンチは、維持電極の方向に垂直な第１の長さ、および維持電極の方向に平行な第２の長さを有している。放電セルの有効な動作のために、本発明では、第１の長さは第２の長さより実質的に大きい。
【００３８】
本発明は、様々な設計アプローチにより、PDP内での陽光柱の生成を考慮している。例えば、トレンチの底部上の維持電極は、維持電極の壁部分間のほぼ全域で安定したプラズマ放電を生成する、十分厚い誘電層で覆われている。このように、トレンチの底部上の維持電極からの電場寄与は、ほとんど、または全くない。
【００３９】
この電場構成を達成する他のセル構造は、トレンチの床上の維持電極を排除、またはほぼ排除し、さらに、トレンチの底部上の誘電層の厚さを数十ミクロン減少させる。これにより、放電は、主に、本発明のトレンチの垂直な電極表面間で起こることになる。
【００４０】
これらのセル構造では、「ポシディブプラズマコラム」と呼ばれる動作モードが確立されてもよい。
【００４１】
ポシディブプラズマコラムは、高効率でプラズマエネルギーを紫外光放射へ変換する同時低電流を引き起こす、非常に安定した効率的プラズマである。事実、ポシディブプラズマコラムは、通常、プラズマからの放射を生成させる、最もエネルギー効率がよいモードである。一般に使用されるこのプラズマモードの最も一般的な例は、蛍光灯である。何年間もＰＤＰ研究者は、ポシディブプラズマコラムをディスプレイセル内に確立させようと試みたが、その努力はいずれも成功していない。この技術の広範囲な市場商業化の成功には、発光効率の実質的増加が必要であるので、ポシディブプラズマコラムは、PDPにとり非常に望ましい。本発明は、初めて、PDPセル内にこうしたポシディブプラズマコラムを確立させている。
【００４２】
図６Ａから図６Ｇは、本発明の第１実施例に従うプラズマディスプレイパネルの放電セルを製造する他の連続プロセスを示す斜視図を示している。
【００４３】
初めに図６Ａを参照すると、一連の溝６２は、例えば、化学エッチング、レーザアブレーション、サンドブラスティング、または研磨などを用いて、ガラス基板６１に機械加工される。
【００４４】
図６Ｂでは、ガラス基板６１、および、そこに形成されたトレンチ６２上に、透明電極層６３が形成される。透明導電層６３は、その後の処理に耐える、インジウム酸化スズ（ＩＴＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、他の透明導電酸化物、および導電性高分子などの材料で形成されてもよい。透明導電層の堆積方法は、化学蒸着（ＬＶＤ）、ディップコーティング、スピンコーティング、真空蒸着（ｅビーム、又は他の方法）、またはスパッタリングのうちの１つを含んでいてもよい。
【００４５】
透明導電層６３は、図６Ｃに示されるように、分離維持電極６３−１を形成するよう、パターン化される。透明電極層６３のパターン化は、レーザアブレーション、従来のフォトリソグラフィ、またはミリングにより実行されてもよい。
【００４６】
図６Ｄでは、バス電極６４が維持電極６３−１上に形成される。バス電極６４の材料は、例えば、クロムと銅の薄膜（Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒ）、またはクロムとアルミニウムの薄膜（Ｃｒ／Ａｌ）、またはＰＤＰ産業で通常使用される金属の他の組み合わせなど、ＰＤＰ製作で使用される従来のペーストを含んでいてもよい。さらに、感光性ペーストも、バス電極のフォトリソグラフィ形成に使用されてよい。バス電極を製造する方法は、印刷、薄膜処理およびフォトリソグラフィ、または厚膜処理およびフォトリソグラフィを含んでいてもよい。
【００４７】
誘電層６５は、図６Ｅに示されるように、バス電極６４および透明電極６３−１を覆う表面全体に堆積される。誘電層６５は、ＰｂＯペースト、ＰｂＯグリーンシート材、および誘電スラリーのうちの１つで形成されてもよい。誘電層を堆積する方法は、印刷、積層、またはディッピングを含んでいてもよい。
【００４８】
図６Ｆでは、放電セルとして機能する独立トレンチを形成するために、溝６２内に多数の隔壁６６が形成される。隔壁６６は、従来のＰＤＰ生産でのバリアリブ形成に使われるものと同様の、セラミックペースト、または感光性ペーストで形成されてもよい。隔壁６６は、サンドブラスティングと厚膜処理、または厚膜処理とフォトリソグラフィの組み合わせを用いて形成されてもよい。
【００４９】
図６Ｇでは、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）コーティングが、保護層として表面全体に適用される。ＭｇＯコーティングは、スパッタリング処理、真空蒸着処理、または酸化層を堆積するいかなる他の処理を用いて適用されてもよい。
【００５０】
図７Ａから図７Ｃは、図６Ａから図６Ｆで説明された、隔壁誘電体の形成の代替的方法を示している。これらの処理では、隔壁誘電体は、アドレス電極および蛍光体層を含むバックパネルに配置されている。こうしたアプローチには、多くの重要な利点がある。例えば、この処理は、機械加工ステップの前に、誘電体の他コーティングステップを要しないので、若干の費用利点を有している。
【００５１】
図７Ａでは、バックパネルは、従来の方法で、ガラス板７００上にアドレス電極７１０を置くことにより製造される。その後、パネルは、誘電層７２０でコーティングされる。隔壁リブ７３０は、印刷処理または他の適切な方法で、誘電層７２０にわたって配置される。この構造では、フロントパネルのバックパネルへのネスティングが独立セル容積を形成するので、バリアリブは必要でない場合がある。
【００５２】
図７Ｂでは、ガラス板にバリアリブ７４０を作成するために、深い溝がエッチングされる。印刷、または追加マスクを伴う二次エッチング処理により、バリアリブ上に誘電隔壁７３０が形成される。続いて、ガラス板７００上に電極７１０が配置され、誘電層７２０でコーティングされる。
【００５３】
図７Ｃは、バリアリブ構造上に直接配置された誘電バリア７３０を伴う、バリアリブ構造７４０を示している。
【００５４】
図８Ａから図８Ｅは、本発明で設計されたパネル用に、バス電極を製造する代替方法を示している。
【００５５】
図８Ａに示されるように、トレンチ８０は、トレンチ溝の両側上のガラスのトップに刻まれる。その後、図８Ｂでは、ガラスは、ＩＴＯまたは他の透明導電材８１でコーティングされる。その後、図８Ｃでは、透明導電体８１は、電極パターンを形成するようエッチングされる。その後、図８Ｄでは、溝は、印刷処理、または他の適当な方法を用いて、銀または他の導電材８２で満たされる。その後、図８Ｅでは、パネル全体は、例えば、ディッピング処理、印刷処理、または積層処理を用いて、誘電材８３でコーティングされる。
【００５６】
図９Ａから図９Ｆは、本発明の第１実施例に従うプラズマディスプレイパネルの放電セルを製造する他の連続プロセスを示す斜視図である。
【００５７】
図９Ａでは、化学エッチング、レーザアブレーション、サンドブラスティング、または研磨を用いて、ガラス基板９１内に多数の独立トレンチ９２が機械加工される。この処理では、前の方法と比べ、処理ステップ数が減少する場合がある。
【００５８】
図９Ｂに示されるように、ガラス基板９１および独立トレンチ９２上に維持電極用透明導電層９３が形成される。透明導電層９３は、インジウム酸化スズ（ＩＴＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、他の透明導電酸化物、または、その後の処理ステップに耐えるならば導電性高分子などの材料で形成されてもよい。透明導電層９３を堆積する方法は、化学蒸着（ＣＶＤ）、ディッピングコーティング、真空蒸着(ｅビーム、または他の方法)、またはスパッタリングのうちの１つを含んでいてもよい。
【００５９】
図９Ｃは、分離された維持電極９３−１を形成するよう、透明導電層９３がパターン化されることを示している。この透明電極構造のパターン化は、レーザアブレーション、従来のフォトリソグラフィ、またはミリングのうちの１つを用いて実行されてもよい。
【００６０】
図９Ｄでは、バス電極９４が維持電極９３‐１上に形成される。バス電極９４は、トレンチ９２の外部に位置決めされる。バス電極９４は、例えば、クロムと銅の薄膜（Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒ）、またはクロムとアルミニウムの薄膜(Cr/Al)、またはＰＤＰ産業で使用される金属の他の組み合わせなど、ＰＤＰ製作で使用される従来のペーストのうちの１つで形成されてもよい。さらに、感光性ペーストが、バス電極９４のフォトリソグラフィ形成に使用されてもよい。バス電極の形成方法は、印刷、薄膜処理およびフォトリソグラフィ、または厚膜処理およびフォトリソグラフィのうちの１つを含んでいてもよい。
【００６１】
誘電層９５は、図９Ｅに示されるように、バス電極９４および透明電極９３−１をカバーする構造にわたって形成される。誘電層９５は、ＰｂＯペースト、ＰｂＯグリーンシート材、または誘電スラリーの１つで形成されてもよい。誘電層を形成する方法は、印刷、積層、またはディッピングを含んでいてもよい。
【００６２】
図９Ｆでは、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）コーティング９６が、構造全体に適用される場合もある。ＭｇＯコーティングは、スパッタリング処理、真空蒸着処理、または酸化層を堆積するいかなる他の処理を用いて適用されてもよい。
【００６３】
図１０Ａから図１０Ｅは、本発明の第２実施例に従うプラズマディスプレイパネル用ユニット放電セルの、概略平面図および断面図を示している。
【００６４】
図１０Ａおよび図１０Ｂに示されるように、１以上の連続トレンチ１０２は、バス電極１０４間のガラス基板１０１内に形成されてもよい。トレンチ１０２内には、ＩＴＯなどの透明電極１０３が形成される。透明電極１０３の一部は、基板１０１上のトレンチの外部へ延長される。透明誘電層１０５および酸化マグネシウム（ＭｇＯ）層(図示せず)は、構造上に連続して形成される。
【００６５】
図１１Ａから図１１Ｄは、図１０Ａおよび図１０Ｂに示されるトレンチの部分上面図である。
【００６６】
図１１Ａから図１１Ｄに示されるように、連続トレンチは、ユニットセル内で１つ以上の長方形となるように形成されてもよい。また、トレンチには、楕円形など、長方形以外の形状であってもよい。
【００６７】
図１０Ｃから図１０Ｅは、ユニット放電セルのトレンチの、異なる形状を示す平面図である。
【００６８】
図１０Ｃは、トレンチ形状１０ａが楕円であることを示している。図１０Ｄでは、トレンチ形状１０ｂは、トレンチの中央へ向かって細くなっている。図１０Ｅは、ダンベル形に形成されたトレンチ形状１０ｃを示している。本発明ではこれらの形状が示されているが、他の形状も可能であり、本発明の範囲内と考えられる。
【００６９】
セルの性能を最適化するために、トレンチの底部または床に沿って側壁から維持電極が延びる距離は、変更可能である。
【００７０】
図１２Ａから図１２Ｃは、維持電極間に様々なギャップ伴う実施例を示している。
【００７１】
図１２Ａでは、維持電極１３０、１４０は、電極間のギャップ１４５が、ガラス基板１１０内のトレンチ１２０の長さのおよそ３分の１となるように、離れている。
【００７２】
図１２Ｂでは、維持電極４１０、４２０は、ガラス基板１１０内のトレンチ１２０の壁を覆うだけであり、電極間のギャップ１４５は、ガラス基板１１０内のトレンチ１２０の全長と等しいか、またはほぼ等しい。
【００７３】
図１２Ｃでは、対照的に、維持電極４４０、４５０は、２つの電極間のギャップ４６０が非常に小さくなる方法で作成されており、電極４４０、４５０は、ガラス基板１１０内に作成されたトレンチ床１２０のほぼ全体を覆っている。
【００７４】
図１２Ｄは、維持電極１４０、１３０間にギャップ４６０を伴うトレンチ構造１８０の立体図を示している。この特定の場合は、ギャップ４６０はおよそ１００ミクロンであるが、駆動電圧を最小にし、発光効率を最大にする限り、ギャップはより狭くても、または、より広くてもよい。
【００７５】
図１２Ｅは、図１２Ｂで説明された構造の立体図を示している。この場合、維持電極４１０、４２０は、トレンチ１８０の１対の対向壁上にのみ存在する。
【００７６】
ポシディブプラズマコラムを確立させる上述の構造のうちの１つは、基板プレートの壁および上面の厚さと比べて、トレンチ床上の絶縁層（例えば、ＰｂＯ）の厚さを増加させることである。これは事実上、床上に配置された電極領域を主要放電からシールドし、１つの壁電極から他方へ垂直に延びる電界線を制限する。
【００７７】
他のアプローチは、図１２Ｆに１２Ｈに示されるように、トレンチの底部で維持電極を形づくることである。図１２Ｆから図１２Ｈは、トレンチの底部の維持電極の異なる形状の概略平面図である。図１２ｉは、図１２Ｆの斜視図である。図示されるように、トレンチの底部の維持電極の部分は、維持電極がそれぞれ、縞、ハンマー、およびスパイク形のうちの１つの形状を有するよう、除去される。
【００７８】
図示されてはいないが、本発明のこの実施例の変形形態は、トレンチの底部、およびトレンチの側壁上の双方の除去された部分を有する維持電極を含んでいる。
【００７９】
図１３Ａから図１３Ｄは、図１０Ａおよび図１０Ｂに示されるように、第２実施例のトレンチの概略断面図を示している。
【００８０】
第２実施例のトレンチは、様々な断面形状を有していてもよい。例えば、これらは平面トレンチ形状、傾斜トレンチ形状、多段トレンチ形状、および円形トレンチ形状のうちの１つであってもよい。したがって、断面図の底部形状は、平坦、階段状、Ｖ字、およびＵ字形のうちの１つであってよい。
【００８１】
従来のＰＤＰセルは、アドレス電極と蛍光体とを含むガラス基板の一部として形成された、バリアリブにより分離される。代替的設計は、維持電極を含む基板上にバリアリブを作成することである。
【００８２】
図１４は、本発明の実施例を示しており、バリアリブ６１０、６２０は、生長させられ、エッチングされ、サンドブラストされ、または、そうでなければ誘電層６３０に配置され、または接着されている。また、リブ６１０、および６２０は、誘電層６３０と共に堆積され、および形づくられてもよい。これにより、ＰＤＰの上下基板間の整列がより簡単に提供可能となろう。また、これは、蛍光体層のための単純構造を提供可能である。蛍光プレートは、アドレス電極および蛍光コーティングを伴う平面と同じくらい簡単であろう。この独特の構造は、２ステップサンドブラスティング、または、１つのマスクがバリアリブの形成に使用され、他のマスクがトレンチの形成に使用される、２つのマスクを使用するエッチング処理を用いて製造されてもよい。
【００８３】
図１５Ａから図１５Ｃは、本発明の第３実施例に従う、傾斜トレンチ壁を有するセル構造を示している。
【００８４】
図１５Ａには、傾斜壁を有するトレンチ８０５を伴う、セル構造の上面図が示されている。図１５Ｂでは、線Ｂ−Ｂに沿う断面図は、ガラス基板１１０内に切り込まれたトレンチ１２０の壁８１０、８２０が、所定の角度でトレンチ中心から離れるよう傾斜していることを示している。これにより、誘電層１７０のみならず、電極１３０、１４０も傾斜させることになる。壁の傾斜は、いかなる角度でもよく、水平方向から４５°より大きくてもよい。図１５Ｃは、このセルの、線Ｃ−Ｃに沿う断面を示しており、トレンチの壁がトレンチのこの断面にわたって傾けられていることを示している。
【００８５】
図１６Ａから図１６Ｃは、本発明の第４実施例に従う、傾斜トレンチ壁を有するセル構造を示している。図１６Ａには、傾斜壁を有するトレンチ９０５を伴う、セル構造の上面図が示されている。図１６Ｂでは、線Ｂ−Ｂに沿う断面図は、ガラス基板１１０内に切り込まれたトレンチ１２０の壁９１０、９２０が、所定の角度でトレンチ中心へ向かうよう内向きに傾斜していることを示している。これにより、誘電層１７０のみならず、電極１３０、１４０も傾斜させることになる。壁の傾斜は、いかなる角度でもよく、水平方向から４５°より大きくてもよい。図１６Ｃは、このセルの、線Ｃ−Ｃに沿う断面を示しており、トレンチの壁がトレンチのこの断面にわたって傾けられていることを示している。
【００８６】
図１７Ａから図１７Ｃは、本発明の第５実施例に従う、傾斜トレンチ壁を有するセル構造を示している。図１７Ａでは、傾斜壁を有するトレンチ１００５を伴う、セル構造の上面図が示されている。図１７Ｂでは、線Ｂ−Ｂに沿う断面図は、トレンチの底部に近い領域１０１０での誘電層１７０の厚みが、トレンチ壁に近い領域での厚みよりはるかに大きいことを示している。図１７Ｃは、線Ｃ−Ｃに沿うこのセルの断面図を示しており、トレンチの壁がこのトレンチの断面図にわたって傾けられており、さらに、誘電層はトレンチの底部でより厚くなっていることを示している。
【００８７】
図１８Ａは、容積の片面を、一定半径Rの円として近似する、トレンチ容積を示す概略図である。そして、図１８Ｂは、容積の片面を、半径ｒ１、ｒ２の楕円として近似する、トレンチ容積を示す概略図である。
【００８８】
図１８Ａでは、トレンチにより生成された容積１８００は、片面が一定半径Ｒ１８２０の円１８１０として近似した形で表されている。放電ランプにおいて報告されているように、最も効率的な動作は、ランプ半径（Ｒ）および圧力（Ｐ）の積が、およそ１ｔｏｒｒ ｃｍに等しいときに起こる。したがって、本発明は、パネル内の半径（Ｒ）および圧力（Ｐ）の積がほぼ１ｔｏｒｒ ｃｍに等しくなるように、トレンチのサイズを最適化するためのものである。例えば、ＰＤＰで使用される典型的な圧力はおよそ４５０ｔｏｒｒである。これは、ほぼ２２ミクロンの等価半径Rを有するトレンチを必要とすることになろう。ＳＶＧＡフォーマット用に設計された４２インチの対角パネルについては、個々のサブピクセルはおよそ３６０ミクロン幅である。
【００８９】
この場合、各サブ画素は、トレンチ間にどの程度薄い壁を作成可能であるかに依存して、最大１０以上のトレンチを有することができよう。この大きさは、パネルサイズおよびパネルのフォーマットに対して変更可能である。所与のパネルに対するセルピッチはディスプレイフォーマットおよびパネルサイズに依存するので、ＰＤＰ内のセルピッチサイズの範囲は数百ミクロンである。したがって、ガス圧力およびトレンチ幅は、圧力と等価半径との積が０．１〜１０ｔｏｒｒ ｃｍの間となるように選択されてもよい。
【００９０】
図１８Ｂは、トレンチ容量１８００が半径ｒ１：１８２０、ｒ２：１８２５の楕円としてよりぴったり近似される断面を有していることを除けば、図１８Ａと同様である。２つの半径Ｐｒ１、Ｐｒ２に対するＰＲ積は、０．１〜１０ｔｏｒｒ ｃｍの値の近くに保つことが望ましく、さらに１ｔｏｒｒ ｃｍ付近にすることが好ましい。
【００９１】
当業者であるならば、本発明の趣旨および範囲から逸脱することなく、本発明のトレンチ放電セルを有するプラズマディスプレイパネル、およびその製造方法の、様々な変更形態および変形形態がなし得ることは明白であろう。したがって、本発明は、請求項およびその等価物の範囲内に含まれる、本発明の変更形態および変形形態をカバーすることを意図している。
【図面の簡単な説明】
【００９２】
【図１】従来の交流型プラズマディスプレイパネルを示す拡大斜視図である。
【図２Ａ】本発明の第１実施例に従うプラズマディスプレイパネル用ユニット放電セルの概略平面図である。
【図２Ｂ】本発明の第１実施例に従うプラズマディスプレイパネル用ユニット放電セルの概略断面図である。
【図３Ａ】図２Ａおよび図２Ｂのトレンチの形状の平面図である。
【図３Ｂ】図２Ａおよび図２Ｂのトレンチの形状の平面図である。
【図３Ｃ】図２Ａおよび図２Ｂのトレンチの形状の平面図である。
【図３Ｄ】図２Ａおよび図２Ｂのトレンチの形状の平面図である。
【図４Ａ】図２Ａおよび図２Ｂのトレンチの概略断面図である。
【図４Ｂ】図２Ａおよび図２Ｂのトレンチの概略断面図である。
【図４Ｃ】図２Ａおよび図２Ｂのトレンチの概略断面図である。
【図４Ｄ】図２Ａおよび図２Ｂのトレンチの概略断面図である。
【図５Ａ】プラズマディスプレイパネルの放電セルを製造する連続プロセスの一部を示す断面図である。
【図５Ｂ】プラズマディスプレイパネルの放電セルを製造する連続プロセスの他の一部を示す断面図である。
【図５Ｃ】プラズマディスプレイパネルの放電セルを製造する連続プロセスのさらに他の一部を示す断面図である。
【図５Ｄ】プラズマディスプレイパネルの放電セルを製造する連続プロセスのさらに他の一部を示す断面図である。
【図６Ａ】本発明の第１実施例に従うプラズマディスプレイパネルの放電セルを製造する、他の連続プロセスの一部を示す斜視図である。
【図６Ｂ】本発明の第１実施例に従うプラズマディスプレイパネルの放電セルを製造する、他の連続プロセスの他の一部を示す斜視図である。
【図６Ｃ】本発明の第１実施例に従うプラズマディスプレイパネルの放電セルを製造する、他の連続プロセスのさらに他の一部を示す斜視図である。
【図６Ｄ】本発明の第１実施例に従うプラズマディスプレイパネルの放電セルを製造する、他の連続プロセスのさらに他の一部を示す斜視図である。
【図６Ｅ】本発明の第１実施例に従うプラズマディスプレイパネルの放電セルを製造する、他の連続プロセスのさらに他の一部を示す斜視図である。
【図６Ｆ】本発明の第１実施例に従うプラズマディスプレイパネルの放電セルを製造する、他の連続プロセスのさらに他の一部を示す斜視図である。
【図６Ｇ】本発明の第１実施例に従うプラズマディスプレイパネルの放電セルを製造する、他の連続プロセスのさらに他の一部を示す斜視図である。
【図７Ａ】図６Ｆに示された誘電隔壁を形成する代替方法を示す図である。
【図７Ｂ】図６Ｆに示された誘電隔壁を形成する代替方法を示す図である。
【図７Ｃ】図６Ｆに示された誘電隔壁を形成する代替方法を示す図である。
【図８Ａ】本発明で設計されたパネル用のバス電極を製造する代替方法を示す図である。
【図８Ｂ】本発明で設計されたパネル用のバス電極を製造する代替方法を示す図である。
【図８Ｃ】本発明で設計されたパネル用のバス電極を製造する代替方法を示す図である。
【図８Ｄ】本発明で設計されたパネル用のバス電極を製造する代替方法を示す図である。
【図８Ｅ】本発明で設計されたパネル用のバス電極を製造する代替方法を示す図である。
【図９Ａ】本発明の第１実施例に従うプラズマディスプレイパネルの放電セルを製造する他の連続プロセスの一部を示す斜視図である。
【図９Ｂ】本発明の第１実施例に従うプラズマディスプレイパネルの放電セルを製造する他の連続プロセスの他の一部を示す斜視図である。
【図９Ｃ】本発明の第１実施例に従うプラズマディスプレイパネルの放電セルを製造する他の連続プロセスのさらに他の一部を示す斜視図である。
【図９Ｄ】本発明の第１実施例に従うプラズマディスプレイパネルの放電セルを製造する他の連続プロセスのさらに他の一部を示す斜視図である。
【図９Ｅ】本発明の第１実施例に従うプラズマディスプレイパネルの放電セルを製造する他の連続プロセスのさらに他の一部を示す斜視図である。
【図９Ｆ】本発明の第１実施例に従うプラズマディスプレイパネルの放電セルを製造する他の連続プロセスのさらに他の一部を示す斜視図である。
【図１０Ａ】本発明の第２実施例に従うプラズマディスプレイパネル用ユニット放電セルの概略平面図である。
【図１０Ｂ】本発明の第２実施例に従うプラズマディスプレイパネル用ユニット放電セルの概略断面図である。
【図１０Ｃ】本発明の第２実施例に従うプラズマディスプレイパネル用ユニット放電セルの概略断面図である。
【図１０Ｄ】本発明の第２実施例に従うプラズマディスプレイパネル用ユニット放電セルの概略断面図である。
【図１０Ｅ】本発明の第２実施例に従うプラズマディスプレイパネル用ユニット放電セルの概略断面図である。
【図１１Ａ】図１０Ａおよび図１０Ｂに示されたトレンチの部分上面図である。
【図１１Ｂ】図１０Ａおよび図１０Ｂに示されたトレンチの部分上面図である。
【図１１Ｃ】図１０Ａおよび図１０Ｂに示されたトレンチの部分上面図である。
【図１１Ｄ】図１０Ａおよび図１０Ｂに示されたトレンチの部分上面図である。
【図１２Ａ】維持電極間にギャップを伴う実施例を示す図である。
【図１２Ｂ】維持電極間にギャップを伴う実施例を示す図である。
【図１２Ｃ】維持電極間にギャップを伴う実施例を示す図である。
【図１２Ｄ】維持電極間にギャップを伴うトレンチ構造の立体図である。
【図１２Ｅ】図１２Ｂで説明された構造の立体図である。
【図１２Ｆ】トレンチの底部の維持電極の形状の概略平面図である。
【図１２Ｇ】トレンチの底部の維持電極の形状の概略平面図である。
【図１２Ｈ】トレンチの底部の維持電極の形状の概略平面図である。
【図１２Ｉ】図１２Ｆの斜視図である。
【図１３Ａ】図１０Ａおよび図１０Ｂに示された第２実施例のトレンチの概略断面図である。
【図１３Ｂ】図１０Ａおよび図１０Ｂに示された第２実施例のトレンチの概略断面図である。
【図１３Ｃ】図１０Ａおよび図１０Ｂに示された第２実施例のトレンチの概略断面図である。
【図１３Ｄ】図１０Ａおよび図１０Ｂに示された第２実施例のトレンチの概略断面図である。
【図１４】本発明に従う基板上のバリアリブの代替設計を示す図である。
【図１５Ａ】本発明の第３実施例に従う、傾斜トレンチ壁を有するセル構造を示す図である。
【図１５Ｂ】本発明の第３実施例に従う、傾斜トレンチ壁を有するセル構造を示す図である。
【図１５Ｃ】本発明の第３実施例に従う、傾斜トレンチ壁を有するセル構造を示す図である。
【図１６Ａ】本発明の第４実施例に従う、傾斜トレンチ壁を有するセル構造を示す図である。
【図１６Ｂ】本発明の第４実施例に従う、傾斜トレンチ壁を有するセル構造を示す図である。
【図１６Ｃ】本発明の第４実施例に従う、傾斜トレンチ壁を有するセル構造を示す図である。
【図１７Ａ】本発明の第５実施例に従う、傾斜トレンチ壁を有するセル構造を示す図である。
【図１７Ｂ】本発明の第５実施例に従う、傾斜トレンチ壁を有するセル構造を示す図である。
【図１７Ｃ】本発明の第５実施例に従う、傾斜トレンチ壁を有するセル構造を示す図である。
【図１８Ａ】容積の片面を、一定半径Ｒの円として近似する、トレンチ容積を示す概略図である。
【図１８Ｂ】容積の片面を、半径ｒ１、ｒ２の楕円として近似する、トレンチ容積を示す概略図である。
【図１】
2005515590.tif 000003
【図２Ａ】
2005515590.tif 000004
【図２Ｂ】
2005515590.tif 000005
【図３Ａ】
2005515590.tif 000006
【図３Ｂ】
2005515590.tif 000007
【図３Ｃ】
2005515590.tif 000008
【図３Ｄ】
2005515590.tif 000009
【図４Ａ】
2005515590.tif 000010
【図４Ｂ】
2005515590.tif 000011
【図４Ｃ】
2005515590.tif 000012
【図４Ｄ】
2005515590.tif 000013
【図５Ａ】
2005515590.tif 000014
【図５Ｂ】
2005515590.tif 000015
【図５Ｃ】
2005515590.tif 000016
【図５Ｄ】
2005515590.tif 000017
【図６Ａ】
2005515590.tif 000018
【図６Ｂ】
2005515590.tif 000019
【図６Ｃ】
2005515590.tif 000020
【図６Ｄ】
2005515590.tif 000021
【図６Ｅ】
2005515590.tif 000022
【図６Ｆ】
2005515590.tif 000023
【図６Ｇ】
2005515590.tif 000024
【図７Ａ】
2005515590.tif 000025
【図７Ｂ】
2005515590.tif 000026
【図７Ｃ】
2005515590.tif 000027
【図８Ａ】
2005515590.tif 000028
【図８Ｂ】
2005515590.tif 000029
【図８Ｃ】
2005515590.tif 000030
【図８Ｄ】
2005515590.tif 000031
【図８Ｅ】
2005515590.tif 000032
【図９Ａ】
2005515590.tif 000033
【図９Ｂ】
2005515590.tif 000034
【図９Ｃ】
2005515590.tif 000035
【図９Ｄ】
2005515590.tif 000036
【図９Ｅ】
2005515590.tif 000037
【図９Ｆ】
2005515590.tif 000038
【図１０Ａ】
2005515590.tif 000039
【図１０Ｂ】
2005515590.tif 000040
【図１０Ｃ】
2005515590.tif 000041
【図１０Ｄ】
2005515590.tif 000042
【図１０Ｅ】
2005515590.tif 000043
【図１１Ａ】
2005515590.tif 000044
【図１１Ｂ】
2005515590.tif 000045
【図１１Ｃ】
2005515590.tif 000046
【図１１Ｄ】
2005515590.tif 000047
【図１２Ａ】
2005515590.tif 000048
【図１２Ｂ】
2005515590.tif 000049
【図１２Ｃ】
2005515590.tif 000050
【図１２Ｄ】
2005515590.tif 000051
【図１２Ｅ】
2005515590.tif 000052
【図１２Ｆ】
2005515590.tif 000053
【図１２Ｇ】
2005515590.tif 000054
【図１２Ｈ】
2005515590.tif 000055
【図１２Ｉ】
2005515590.tif 000056
【図１３Ａ】
2005515590.tif 000057
【図１３Ｂ】
2005515590.tif 000058
【図１３Ｃ】
2005515590.tif 000059
【図１３Ｄ】
2005515590.tif 000060
【図１４】
2005515590.tif 000061
【図１５Ａ】
2005515590.tif 000062
【図１５Ｂ】
2005515590.tif 000063
【図１５Ｃ】
2005515590.tif 000064
【図１６Ａ】
2005515590.tif 000065
【図１６Ｂ】
2005515590.tif 000066
【図１６Ｃ】
2005515590.tif 000067
【図１７Ａ】
2005515590.tif 000068
【図１７Ｂ】
2005515590.tif 000069
【図１７Ｃ】
2005515590.tif 000070
【図１８Ａ】
2005515590.tif 000071
【図１８Ｂ】
2005515590.tif 000072
【国際調査報告】
2005515590.tif 000073
2005515590.tif 000074