(57)【要約】陰極線管（ＣＲＴ）の前面パネルの内面に提供される、複数の実質的に等しいサイズの開口部を備える吸光マトリックスを有する発光スクリーンアセンブリを製造する方法。管は、前面パネルの内面から間隔が置かれた色の選択電極を有し、色の選択電極はスロットでインターリーブされた複数のストランドを有する。かかる方法は、光の多大な線量が第一の耐光層の可溶性を減少するように、光に露出された場合に可溶性が変化される、第一の耐光層を提供する段階を含む。第一の耐光層は、前面パネルの内面に適用される。第一の耐光層は、中心の供給源の位置に関する２つの対称的な供給源の位置と同様に、中心の供給源の位置に関して位置された光源からの光に露出される。選択的な露出は、多大な可溶性を備える領域と劣った可溶性の領域を第一の耐光層の照射されたエリアに生成するように、第一の耐光層の照射されたエリアの可溶性を変化する。多大な可溶性の領域は、前面パネルの内面のエリアをカバーしないように実質的に取り除かれ、一方で劣った可溶性の領域を保持する。次いで、前面パネルの内面および保持された領域は、吸光物質でオーバーコーティングされる。その後、第一の耐光層の保持された領域および前述の領域上の吸光物質は除去され、前面パネルの部分をカバーせず、前面パネルの内面の吸光物質の第一のガードバンドを定義する。フォトリソグラフィープロセスは、吸光物質の第二のガードバンドおよび吸光物質の第三のガードバンドをそれぞれ定義するために第二の耐光層および第三の耐光層で繰り返される。しかしながら、第二の耐光層および第三の耐光層における光源の位置は、中心の供給位置に関して非対称な位置に配置される。
2005504418.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のスロット（３３）を有する色を選択する電極を備える前面パネルの内面から間隔が置かれた該色を選択する電極（２５）を有する陰極線管（１０）の前面パネル（１２）の内面に、複数の実質的に等しいサイズの開口部を有する吸光マトリックス（２３）の製造方法であって、該方法は、
（ａ）前記色を選択する電極のスロットを介する光に対して前面パネルの内面に形成された第一の耐光層（５６）を露出する段階と、
（ｂ）前記第一の耐光層の露出されていない部分を除去する段階と、
（ｃ）前記前面パネルの内面を吸光のマトリックス物質でオーバーコートする段階と、
（ｄ）前記前面パネルの内面の吸光物質の第一のガードバンドを形成するために前記第一の耐光層の保持された部分を除去する段階と、
（ｅ）第二および第三の耐光層（１５６、２１５）をそれぞれ使用して吸光物質の第二および第三のガードバンドを形成するためにさらに２回前述の（ａ）から（ｄ）の段階を繰り返す段階とからなり、
前記段階（ａ）で、紫外線は２つの外部および１つの内部を含む３つの供給源の位置から生成され、前記２つの外部の供給源は前記内部の供給源の位置に関して対称的に位置し、前記内部の位置は中心の供給源の位置であり、
前記段階（ｅ）で、前記第二および第三の露出段階の各々における３つの供給源の位置は、前記中心の供給源の位置に関して非対称に位置されることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記前面パネルの表面の前記第三のガードバンドの形成後、前記吸光マトリックスの保護コーティングを適用する段階によってさらに特徴とされる請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記保護コーティングはケイ酸カリウムを含むことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記吸光のマトリックス物質は黒鉛からなることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記黒鉛は酸化バリアからなることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記酸化バリアは、二酸化シリコン（ＳｉＯ２）および酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）から構成される群から選択されることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記段階（ｃ）は、前記前面パネルの表面にオーバーコーティングされた前記吸光物質を約４０℃乃至約６０℃の範囲内の温度に加熱することからなることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記前面パネルの表面にオーバーコートされた吸光物質は、質量の約５％乃至８％の範囲内で固体内容を有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記第二および第三の耐光層（９４、２１０）は、前記第一の耐光層（５６）からと同様に、互いからの異なるスピン速度で適用されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記第二および第三の吸光物質は、前記第一の吸光層（５９）からと同様に、互いからの異なるスピン速度で適用されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記第一、第二および第三の耐光層（５６、９４、２１０）は、固定された軸に関して前記前面パネルにおける異なる方向を使用して前面パネルに適用されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記第一、第二および第三の吸光物質の層は、固定された軸に関して前記前面パネルにおける異なる方向を使用して前面パネルに適用されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
複数のスロット（３３）を有する色を選択する電極を備える前面パネル（１２）の内面から間隔が置かれた該色を選択する電極（２５）を有する陰極線管（１０）の前面パネル（１２）の内面に、複数の実質的に等しいサイズの開口部を有する吸光マトリックス（２３）の製造方法であって、該方法は、
ａ）光に露出される場合に可溶性が変化される、前記前面パネルの内面に第一の耐光層（５６）を適用する段階と、
ｂ）１つの色の供給源と、中心の主要な供給源の位置に関する−ΔＸおよび＋ΔＸである２つの対称的に配置する位置で整列された前記中心の主要な供給源の位置を含む少なくとも３つの供給源の位置からの前記色を選択する電極の前記スロットによる光に対して前記第一の耐光層を露出する段階と、
ｃ）前記第一の耐光層の露出されていない部分を除去する段階と、
ｄ）前記前面パネルの内面を吸光マトリックスの物質でオーバーコーティングする段階と、
ｅ）前記前面パネルの内面に吸光物質の第一のガードバンドを形成するために前記第一の耐光層の保持部分を除去する段階と、
ｆ）第二および第三の耐光層（９４、２１０）をそれぞれ使用して吸光物質の第二および第三のガードバンドを形成するためにさらに２回前述の（ａ）から（ｄ）の段階を繰り返す段階とからなり、
ｉ）前記第二のガードバンドを印刷するための３つの供給源の位置は、下記の供給源の位置からの露出を含み、かかる位置は、前記中心の主要な供給源の位置に向かうΔＸによる主要な供給源の位置から配置された位置と、前記中心の主要な位置に向かうΔＸによる二次的な供給源の位置から配置された位置と、および主要な供給源の位置であり、
ｉｉ）前記第三のガードバンドを印刷するための３つの供給源の位置は、下記の供給源の位置からの露出を含み、かかる位置は、前記中心の主要な供給源の位置に向かうΔＸによる別の主要な供給源の位置から配置された位置と、前記中心の主要な位置に向かうΔＸによる別の二次的な供給源の位置から配置された位置と、および別の主要な供給源の位置であることを特徴とする方法。
【請求項１４】
前記第二のガードバンドは、前記第一のガードバンド以前に印刷されることを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記第三のガードバンドは、前記第一のガードバンド以前に印刷されることを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
前記中心の主要な供給源の位置からの露出は、該中心の主要な供給源の位置のΔＸ／２以内である、少なくとも１つの供給源の位置からの露出によって置き換えられることを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】
前記主要な供給源の位置からの露出は、該主要な供給源の位置のΔＸ／２以内である、少なくとも１つの供給源の位置からの露出によって置き換えられることを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１８】
前記別の主要な供給源の位置からの露出は、該別の主要な供給源の位置のΔＸ／２以内である、少なくとも１つの供給源の位置からの露出によって置き換えられることを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１９】
光に対する露出と、吸光マトリックを形成するために陰極線管（１０）の前面パネル（１２）の内面に耐光物質層を選択的に強固にすることを含む、吸光マトリックス（２３）を形成する方法であって、該選択的な露出は、
ａ）第一の露出において少なくとも３つの光源を、該光源と前面パネルの内面との間に位置するマスク（２５）のスロット（３３）により前記耐光物質層に投射する段階と、
ｂ）第二の露出において前記光源を、前記マスクのスロットにより第二の耐光物質層に投射する段階と、
ｃ）第三の露出において前記光源を、前記マスクのスロットにより第三の耐光物質層に投射する段階とからなり、
前記ａ）段階で、光源の１つは、中心の供給源の位置０に沿って第一の色の供給源の位置Ｇと整列し、残りの光源は、前記中心の色の供給源の位置のいずれかの側に−ΔＸおよびΔＸである少なくとも２つの対称的に配置した位置から位置づけされ、
前記ｂ）段階で、光源の少なくとも１つは、前記中心の供給源の位置からの距離−Ｘで代替となる色の供給源の位置Ｂで整列し、２つの光源は、前記中心の供給源の位置から−Ｘ＋ΔＸおよび２Ｘ−ΔＸである２つの位置で位置づけされ、
前記ｃ）段階で、光源の少なくとも１つは、前記中心の供給源の位置からの距離Ｘで代替となる色の供給源の位置Ｒで整列し、２つの光源は、前記中心の供給源の位置からＸ−ΔＸおよび−２Ｘ＋ΔＸである２つの位置で位置づけされることを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般的に色陰極線管（ＣＲＴ）に関し、より詳細には、発光スクリーンアセンブリを有する色陰極線管に関する。アパーチャマスクは電子銃とスクリーンとの間に配置される。スクリーンは陰極線管の前面の内面に配置される。アパーチャマスクは、陰極線管のスクリーンの適切な色を放射する発光体に向けて電子銃で生じる電子ビームを導くように機能する。
【背景技術】
【０００２】
スクリーンは発光スクリーンであってよい。発光スクリーンは、一般的に、３つの異なる色を放射する発光体（例えば、緑、青、および赤）のアレイからなる。各色を放射する発光体は、マトリックスラインによって互いに分離される。マトリックスラインは、光を吸収する黒い不活性物質の形態である。
【０００３】
マトリックスラインは、米国特許第３，５５８，３１０号明細書に記載のように、アパーチャマスクのフォトリソグラフィープロセスを使用するスクリーンに沈着されてよい。アパーチャマスクのフォトリソグラフィープロセスにおいて、アパーチャマスクの画像は、化学作用のある紫外線（ＵＶ）への露出および適切な現像液での現像により、スクリーンにコーティングされた耐光物質の層に形成され、スクリーンの表面にカバーされたエリアおよびカバーされないエリアを提供する。スクリーン表面上のカバーされたエリアは、化学作用のある紫外線のより多い線量に対して露出され、一方で、スクリーン表面上のカバーされないエリアは、化学作用のある紫外線のより少ない線量に対して露出される。
【０００４】
アパーチャマスクのリソグラフィープロセスにおいて、アパーチャマスクは、スクリーンから固定された距離で位置づけされる。それは、化学作用のある紫外線に対する露出段階でスクリーンへの耐性コーティングに投影されたそこからの影が、スクリーンの適切な位置に配置した所望の規模を有する耐光のマトリックスラインの開口部をカバーしない。カバーされたエリアは、発光体物質で満たされるだろうマトリックスラインの開口部を定義する。カバーされないエリアは、黒く、光を吸収するマトリックスラインを定義する。
【０００５】
マトリックスラインは、スクリーン表面のカバーされたエリアおよびカバーされないエリアの両エリアのマトリックス物質を沈着することによって形成される。典型的にはコロイド状の黒鉛を含むマトリックス物質が乾燥した後、腐食液は化学作用のある紫外線の多大な線量に露出された、残りの耐光を可溶性にするために適用される。マトリックスラインの構造は、残存の耐光およびその残存の耐光をコーティングするマトリックス物質が放出されるように高圧水で開発することによって完全にされ、それによって残存の耐光のカバーされていないエリアをコーティングされたマトリックス物質だけをスクリーンの表面の背後に残す。
【０００６】
従来のアパーチャマスクは、典型的に、約１８％乃至２２％の送信を有する。最近では、マトリックスの開口部のそれぞれのサイズを増大せずに陰極線管の輝度を高くするために、約１８％乃至２２％の送信を有するアパーチャマスクは、色陰極線管に組み込まれる。しかしながら、アパーチャマスクから投影された光の画像が、規模を変更するのと同様に、スクリーン表面に謝って整列されたマトリックスラインの位置をもたらして互いに重なり合うために、約３０％乃至８０％の送信を有するアパーチャマスクを使用するマトリックスライン情報は、米国特許第３，５５８，３１０号明細書に記載のような従来のマトリックスプロセスを活用して達成できない。
【０００７】
したがって、発光スクリーン上のマトリックスの新規の製造方法を必要とする。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、陰極線管の前面パネルの内面で、複数の実質的に等しいサイズの開口部を備える吸光マトリックスを有する、発光スクリーンアセンブリの製造方法に関する。陰極線管は、色を選択する電極を有するか、または色を選択する電極が複数のスロットを有する前面パネルの内面から一定間隔で配置されたアパーチャマスクを有する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前述の方法は、中心の源の位置に関して２つの対称の源の位置と同様に、中心の源の位置に関して位置して、光源からの光に対して第一の耐光層を露出する段階を含む。露出は、より多大な可溶性を備えた領域および劣った可溶性の領域を生成するために、第一の耐光層の照射されたエリアの可溶性を選択的に変化する。多大な可溶性の領域は、前面のパネルの内面のエリアをカバーしないために実質的に取り除かれ、一方で、劣った可溶性の領域を保持する。次いで、前面パネルの内面および保持された領域は、吸光物質でオーバーコーティングされる。その後、第一の耐光層の保持領域および前述の保持領域上の吸光物質は取り除かれ、前面パネルの部分がカバーされないで、前面パネルの内面の吸光物質の第一のガードバンド（ｇｕａｒｄｂａｎｄｓ）を定義する。フォトリソグラフィープロセスは、吸光物質の第二のガードバンドおよび吸光物質の第三のガードバンドをそれぞれ定義するために第二の耐光層および第三の耐光層で繰り返される。しかしながら、第二の耐光層および第三の耐光層における光源の位置は、中心源の位置に関する非対称の位置に配置される。
【００１０】
前面パネルの内面に適用される吸光物質は、好ましくは、固体質量の約５％より多量を含む。加えて、オーバーコーティング層は、かかる層をシールし、かつその層の孔隙率を減少するために吸光物質上に適用されてよい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
図１は、前面パネル１２と、漏斗管１５によって接続された管状のネック１４とからなるガラス包１１を有する色陰極線管（ＣＲＴ）１０を示す。漏斗管１５は、ネック１４に対する陽極ボタン１６と接触し、かつ前述のボタン１６から冤罪する内部の伝導性コーティング（示されていない）を有する。
【００１２】
前面パネル１２は、見る前面プレート１８と、ガラスフリット２１によって漏斗管１５に密封された周辺のフランジまたは側壁２０とからなる。三色の発光体スクリーン２２は、見る前面プレート１８の内面に維持される。図２の断面図で示されるスクリーン２２は、三構造で配置される、赤色、緑色、青色の発光体ストライプＲ、ＧおよびＢのそれぞれからなる多様なスクリーン要素を有するラインスクリーンであり、各三構造は３色の各々の発光体ラインを含む。Ｒ、Ｇ、Ｂの発光体ストライプは、一般的に垂直方向で印刷される。
【００１３】
図２に示される吸光マトリックス２３は、発光体ラインを分離する。好ましくは、アルミニウムである、伝導性の層（示されていない）は、スクリーン２２に重なり、前面プレートにより発光体要素から放射される反射光と同様に、スクリーン２２に対して均一な第一の陽極電位を適用するための手段を提供する。スクリーン２２および重なるアルミニウム層は、スクリーンアセンブリからなる。
【００１４】
マルチアパーチャの色を選択する電極、またはマスク２５は、スクリーン２２に関する所定の間隔で、前面パネル１２内に従来の手段によって取り外し式で設置される。前述の間隔の関係または前面パネル１２からのマスク２５からの距離は、“Ｑ”間隔として呼ばれる。
【００１５】
図１の点線で概略して示される電子銃２６は、スクリーン２２に対してマスク２５を通過する集中経路に沿って３つのインライン電子ビームと、センタービーム２８と、及び２つのサイド又は外部ビームを生成して導くようにネック４内の中心に設置される。センタービーム２８のインライン方向は、紙面に対してほぼ垂直である。
【００１６】
図１の陰極線管１０は、漏斗管とネックの結合に近隣で外部の磁気偏向ヨーク３０で使用されるように設計される。活性化された場合、ヨーク３０は、スクリーン２２上の長方形のラスターで水平及び垂直に走査するビームを引き起こす、磁場に対して３つのビーム２８を当てる。
【００１７】
図３に示されるように、マスク２５は、好ましくは、２つの水平な側部および２つの垂直な側部を有する約０．０５ｍｍ（２ｍｉｌ）厚の低炭素スチールの薄い長方形シートから形成される。マスク２５の２つの水平な側部はマスク中心の主軸Ｘと平行であり、２つの垂直な側部はマスク中心の短軸Ｙと平行である。図２および３を参照するに、マスク２５は、マスクの短軸Ｙと平行である、スロット３３によって分離された複数の拡張されたストランド３２を有するアパーチャ部分を有する。
【００１８】
一つの形態において、ストランド３２と隣接するスロット３３の横方向の規模として定義されたマスクピッチＤｍは、０．８７ｍｍ（３７ｍｉｌｓ）である。図２に示されるように、各ストランド３２は約０．３８ｍｍ（１５ｍｉｌｓ）の横方向の規模、または巾、ｗを有し、各スロット３３は約０．５３ｍｍ（２１ｍｉｌｓ）の巾、ａ´を有する。スロット３３は、マスクの一つの水平な側部からマスクのもう一方の水平な側部まで延在する。マスク２５のＤｍのピッチは変化でき得る。例えば、約０．６８ｍｍ（２７ｍｉｌｓ）のマスクピッチおよび約０．３ｍｍ（１２ｍｉｌｓ）のストランドの巾を有する第二の形態において、各マトリックスの開口部は約０．１３ｍｍ（５ｍｉｌｓ）の巾ｃを有する。再度図２を参照するに、見る前面プレート１８に形成されたスクリーン２２は、発色する発光体ラインが配置された長方形の開口部を備える吸光マトリックス２３を有する。対応するマトリックスの開口部は、約０．２０ｍｍ（８ｍｉｌｓ）の巾ｃを有する。各マトリックスラインの巾ｄは約０．１０ｍｍ（４ｍｉｌｓ）であり、各発光体の三構造は約０．９６ｍｍ（３８ｍｉｌｓ）の巾またはスクリーンピッチを有する。前述の実施態様において、マスク２５は、前面パネル１２の内面の中心から約１５．２４ｍｍ（６００ｍｉｌｓ）の距離Ｑ（これより以後、Ｑ間隔）で間隔付けされている。
【００１９】
好ましい実施態様による吸光マトリックスの製造プロセスは、フッ化水素酸（ＨＦ）などの酸で前面プレート１８の内面の洗浄で開始する。図４ａのパネルの洗浄段階５０として示された洗浄プロセスは、豊富な多量の水で前面プレート１８をリンスすることによって完結する。
【００２０】
ポリマーのプレコート層（示されていない）は、図４ａの段階５２によって示されるように、前面プレート１８の内面に適用されてよい。ポリマーのプレコート層は、吸光物質の粘着を高め、マトリックスラインの高い不透明さを促進する薄膜である。ポリマーのプレコート層は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）などの物質を含んでよい。ポリマーのプレコート層は、０．１乃至０．３％の水溶性のＰＶＡ溶液をかかる層にスピンコーティングすることによって沈着されてよい。ポリマーのスピンコーティングは、典型的には、約０．２５μｍよりも厚くない厚さを有する。
【００２１】
図５ａおよび図４ａの段階５８を参照するに、第一の耐光層５６は、見る前面プレート１８の内面にスピンコーティングによって適用される。第一の耐光層５６は、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）−ジアジドスチルベンシステムと、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）−二クロム酸塩システムと、または他の適切な負の耐光システムとを含んでよい。
【００２２】
図５ｂに示されるように、マスク２５は、前面パネル１２およびライトハウス（示されていない）に配置されたパネルとマスクのアセンブリの近隣に固定される。マスク２５は、図６に示されるように、前面パネル１２と移動可能な光源５１との間に位置づけられる。第一の耐光層５６は、図４ａの段階７８によって示されるように、ＲＢ供給源の位置（緑色源の位置）からマスク２５のスロット３３により光に露出される。第一の色の供給源の位置である＋Ｇは、中心の供給源の位置または標準の緑色位置である０に関して距離ΔＸで位置する。第二の色の供給源の位置である−Ｇは、中心の供給源の位置である０に関して距離−ΔＸで位置する。６８ｃｍマスクにおいて、ΔＸは約１．７８ｍｍ（７０ｍｉｌｓ）となり得る。第三の供給源の位置は、好ましくは、中心の供給源の位置０である。しかしながら、前述の第三の供給源の位置は、−ΔＸとΔＸとの間の少なくとも一つの位置となり得る。第三の供給源の位置は、第一の耐光層５６の領域５３が全体的に露出されて、それによって劣る可溶性の所望のレベルを位置になすことを確実にする。
【００２３】
第一の耐光層５６が配置された、マスク２５と前面パネル１２の内面との間のＱ間隔は、約４４９ｍｉｌｓである。３つの供給源の位置から放射する光は、第一の耐光層５６の照射されたエリアの可溶性を変化し、それによって劣る可溶性の領域５３をなす。第一の耐光層５６のエリア５４および５４ａは、マスクストランドによって暗くされる。エリア５４および５４ａは変化せず、多大な可溶性のエリアを構成する。エリア５４は、＋ＧがガードバンドＲＢの赤色エッジを定義し、−ＧがガードバンドＲＢの青色エッジを定義する、マトリックスのＲＢガードバンドを定義する。エリア５４ａは、発光体スクリーンが終了することを定義する。
【００２４】
図５ｃに示され、図４ａの段階８４によって提示されるように、第一の耐光層５６は、例えば、水などの適切な溶媒でパネル１２をリンスすることによって現像される。前述の現像段階は、多大な可溶性の領域５４および５４ａを取り除き、それによってパネル１２の表面のエリア５７を露出し、一方で劣った可溶性を有する層５６の照射されたエリア５３を完全に残す。
【００２５】
図５ｄに示され、図４ａの段階８８に提示されるように、マトリックスは、吸光物質５９の第一層で劣った可溶性を有する層５６の保持されたエリア５３と同様に、パネル１２の表面の露出されたエリア５７をオーバーコーティングすることによって形成される。吸光物質５９の第一層は、カバーされていないエリア５７および５７ａで前面パネル１２の内面に接着する。吸光物質５９の第一層は、好ましくは、米国ミシガン州ポートフロンのアキソンコロイドカンパニーから入手可能な適切な黒鉛の化合物からなる。
【００２６】
吸光物質５９の第一層は、好ましくは、サブミクロンの黒鉛のコロイドの懸濁からなる。加えて、吸光物質の第一層はまた、表面活性剤を含んでよい。吸光物質層における表面活性剤は、かかる層でのフィルムの形成において前面パネル１２の改善された湿りを促進する。
【００２７】
懸濁での黒鉛のコロイドは、酸化バリアと任意にコーティングされる。適切な酸化バリアは、例えば、二酸化シリコン（ＳｉＯ２）および酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）などの酸化物を含んでよい。酸化バリアは、後の管の処理段階において黒鉛の酸化を削減すると信じられている。約５．５％と約８．０％との間の固体濃度を有する吸光物質を含有する組成は、劣った可溶性の保持されたエリア５３と同様にカバーされないエリア５７および５７ａに適用される。図４ａの段階９０によって示されるように、吸光物質の第一層は、約３乃至５分間かけて約４０℃乃至７０℃の範囲内の温度で乾燥される。吸光物質の第一層の厚さは、約１μｍである。
【００２８】
図５ｅおよび図４ａの段階９２を参照するに、劣った可溶性を有する層５６の下に存在する保持されたエリア５３を柔軟にかつ増大するように、例えば、水性の過ヨウ素酸または等価である適切な溶媒をマトリックスに沈着することによって吸光マトリックスは現像される。次いで、マトリックスは、そのマトリックスで開口部を形成する、層５６の弛緩されて、可溶性が劣り、保持されたエリア５３を除去するために水で洗浄されるが、前面パネル１２の内面の露出された部分に付加した吸光物質のＲＢガードバンドおよびボーダー６２を残す。
【００２９】
上述したプロセスは、ＧＲ供給源の位置（青色供給源の位置）およびＧＢ供給源の位置（赤色供給源の位置）において、２回以上繰り返される。このように、第二の耐光層９４は、図７ａに示されて図４ｂの段階９５に提示されるように、前面パネル１２の内面に適用される。図４ｂの段階９６と同様に、図７ｂおよび８を参照するに、第二の耐光層９４は、ライトハウス（示されていない）内でＧＲ供給源の位置５１からマスク２５により光に露出される。６８ｃｍマスクで形成されたＧＲ供給減の位置において、色の第一の供給源の位置である＋Ｂは、中心の供給源の位置０に関して距離２Ｘ＋ΔＸの約８．９９ｍｍ（３５４ｍｉｌｓ）で非対称に位置される。−Ｘおよび２Ｘの位置は、青色におけるそれぞれの主要な供給源の位置および二次的な供給源の位置として周知である。第二の色の供給源の位置である−Ｂは、中心の供給源の位置０に関して距離−Ｘ＋ΔＸの約−３．６１ｍｍ（−１４２ｍｉｌｓ）で非対称に位置される。第三の位置は、青色で−Ｘで−２１２ｍｉｌｓ（あるいは、スクリーニングプロセスでの青色発光体ラインの印刷および従来のマトリックスプロセスでの青色マトリックスの開口部の印刷に使用される標準的な青色の位置）における主要な供給源の位置である。しかしながら、前述の第三の供給源の位置は、−Ｘ−ΔＸと−Ｘ＋ΔＸとの間の少なくとも一つの位置であり得る。
【００３０】
図７ｂに示されるように、マスク２５と前面パネル１２の内面との間のＱ間隔は約４４９ｍｉｌｅｓである。ＧＲ供給源の位置から放射する光は、第二の耐光層９４の照射エリアの可溶性を選択的に変化し、それによって劣った可溶性の領域を生成する。マスクストランド３２によって暗くされた第二の耐光層９４のエリアは不変であり、多大な可溶性の領域１５２および１５２ａを構成する。（ここから開始する。）
図７ｃおよび図４ｂの段階９８を参照するに、耐光物質は、多大な可溶性の領域１５２および前面パネル１２の内面のカバーしていないエリア１５４を除去して、水で現像される。劣った可溶性を有する第二の耐光層９４の領域１５０が保持される。
【００３１】
図７ｄに示されて、図４ｂの段階１００で提示されるように、マトリックスは、吸光物質１５６の第二の層を備える前面パネル１２の内面のカバーされないエリア１５４および劣った可溶性の保持領域１５０をオーバーコーティングすることによって形成される。吸光物質１５６の第二の層は、好ましくは、吸光物質の第一の層と同様の組成、厚さなどを有し、同様のプロセスを用いて適用されてよい。
【００３２】
図４ｂの段階１０２で示されるように、吸光物質１５６の第二の層は乾燥されて、吸光物質１５６の第二の層と同様に第二の耐光層９４の保持領域１５０は取り除かれる。図７ｅに示され、図４ｂの段階１０４によって提示されるように、第二の耐光層９４の保持領域１５０は、水性の過ヨウ素酸または等価の適切な溶媒を使用して前面パネル１２をリンスすることによって取り除かれる。第二の耐光層９４の保持領域１５０が取り除かれた後に、ＧＲガードバンドと、すでに形成されたＲＢガードバンドと、ボーダー６２は前面パネル１２の内面に保持される。
【００３３】
図９ａに示され図４ｃの段階２００に提示されるように、耐光物質２１０の第三の層が前面パネル１２の内面に提供される場合、前述のプロセスは３回繰り返される。図４ｃの段階２０２と同様に図９ｂおよび１０を参照するに、第三の耐光層２１０は、ライトハウス（示されていない）内でＧＢ供給源の位置からマスク２５により光に露出される。６８ｃｍを使用して形成されたＧＢの供給源の位置において、第一の色の供給源の位置である＋Ｒは、中心の供給源の位置である０に関して距離Ｘ−ΔＸの約３．６１ｍｍ（１４２ｍｉｌｓ）で非対称に位置する。第二の色の供給源の位置である−Ｒは、中心の供給源の位置である０に関して距離−２Ｘ＋ΔＸの約−８．９９ｍｍ（−３５４ｍｉｌｓ）で非対称に位置する。Ｘおよび−２Ｘの位置は、赤色におけるそれぞれの主要な供給源の位置および二次的な供給源の位置として周知である。第三の供給源の位置は、赤色でＸの２１２ｍｉｌｓ（あるいは、スクリーニングプロセスでの青色発光体ラインの印刷および従来のマトリックスプロセスでの青色マトリックスの開口部の印刷に使用される標準的な赤色の位置）における主要な供給源の位置である。しかしながら、前述の第三の供給源の位置は、Ｘ−ΔＸとＸ＋ΔＸとの間の少なくとも一つの位置であり得る。
【００３４】
図９ｂに示されるように、第三の耐光層２１０が配置される、マスク２５と前面パネル１２の内面との間のＱ間隔は約４４９ｍｉｌｅｓに維持する。ＧＲ供給源の位置から放射する光は、第三の耐光層２１０の照射エリアの可溶性を選択的に変化し、それによって劣った可溶性の領域５０６を生成する。マスクストランド３２によって暗くされた第三の耐光層２１０のエリアは不変であり、多大な可溶性の領域５０８および５０８ａを構成する。
【００３５】
図９ｃおよび図４ｃの段階２０４を参照するに、第三の耐光層２１０は水で現像されて、それによって多大な可溶性の領域５０８および５０８ａを取り除き、それによって前面パネル１２の内面のエリア５１０をカバーしない。劣った可溶性を備える第三の耐光層２１０の領域５０６は保持される。
【００３６】
図９ｄに示されて、図４ｃの段階２０６で提示されるように、マトリックスは、吸光物質２１５の第三の層を備える前面パネル１２の第三の耐光層２１０の保持領域５０６と同様にカバーされないエリア５１０をオーバーコーティングすることによって形成される。吸光物質２１５の第三の層は、好ましくは、吸光物質５９の第一の層および吸光物質１５６の第二の層と同様の組成、厚さなどを有する。
【００３７】
図４ｃの段階２０７で示されるように、吸光物質の第三の層は乾燥されて、吸光物質２０６と同様に第三の耐光層２１０の保持領域５０６は取り除かれる。図９ｅに示され、図４ｃの段階２０８によって提示されるように、第三の耐光層２１０の保持領域５０６は、水性の過ヨウ素酸または等価の適切な溶媒を使用して前面パネル１２をリンスすることによって取り除かれる。第三の耐光層２１０の保持領域５０６が取り除かれた後に、ＧＲガードバンドと、すでに形成されたＲＢガードバンドと、ＲＢガードバンドと、ボーダー６２は前面パネル１２の内面に保持される。
【００３８】
一連の３つのガードバンドの形成後、ケイ酸カリウムのコーティング（示されていない）はマトリックス上に沈着されてよい。ケイ酸を適用する以前に、ガードバンド間のエリアと同様に、脱イオン水は、第一のガードバンドＲＢと、第二のガードバンドＧＢと、第三のガードバンドＧＲに適用される。そうでなければ、前述のエリアはマトリックスの開口部として周知である。脱イオン水は、好ましくは、約４０℃を維持する。次いで、余剰な脱イオン水は除去されて、ケイ酸カリウム溶液が約４０℃で適用される。好ましくは、ケイ酸カリウム溶液は脱イオン水の質量の約３．５％濃度である。余剰のケイ酸カリウムは、約３０秒間の１３０ｒｐｍの回転率で除去された。次いで、ケイ酸カリウムのフィルムは、約５分間にわたって約４０℃乃至６０℃の温度で乾燥された。適切なケイ酸カリウムの化合物は、米国ＰＡ州バレイフォルジのＰＱコーポレーションから入手可能なＫＡＳＩＬ（登録商標）ブランドなどの市販品である。好ましくは、ケイ酸カリウムのコーティングは約０．５μｍ乃至約１．０μｍの厚さを有する。ガードバンドおよびマトリックスの開口部上のケイ酸カリウムのコーティングの存在は、後の処理段階におけるガードバンドの劣化を防ぐ。
【００３９】
さらに、米国特許第６，０１３，４００号明細書に記載のマトリックスプロセスに対する改善は、３つの耐光層を適用するために使用される技術を故意に変更することによって認識される。特に、第一の耐光層５６と、第二の耐光層９４と、および第三の耐光層２１０は、互いに関して異なる方向∠Ａ、∠Ｂおよび∠Ｃを使用して適用してよい。例えば、図１１ａ乃至１１ｃは、耐光層形成の開始において前面パネル１２の異なる方向を例示し、前面パネル１２の主軸１３はスピンコートの機械の固定されたＸ軸に関して方向づけされる。
【００４０】
代替として、吸光物質５９の第一の層と、吸光物質１５６の第二の層と、および吸光物質２５１の第三の層は、互いに関して異なる方向∠Ｄ、∠Ｅおよび∠Ｆを使用して適用してよい。例えば、図１１ａ乃至１１ｃは、吸光物質の適用の開始において前面パネルの異なる方向を例示し、前面パネル１２の主軸１３はスピンコートの機械の固定されたＸ軸に関して方向づけされる。
【００４１】
加えて、第一の耐光層５６と、第二の耐光層９４と、および第三の耐光層２１０はまた、異なるスピンの割合Ａ´、Ｂ´およびＣ´を用いて前面パネル１２に適用してよい。例えば、９０ｒｐｍ、１１０ｒｐｍおよび１３０ｒｐｍなどのスピンの割合は、Ａ´、Ｂ´およびＣ´においてそれぞれ使用されてよい。同様に、第一の吸光物質５９と、第二の吸光物質１５６と、および第三の第一の吸光物質２１５は、異なるスピンの割合Ｄ´、Ｅ´およびＦ´を用いて前面パネル１２に適用してよい。再度、例えば、９０ｒｐｍ、１１０ｒｐｍおよび１３０ｒｐｍなどのスピンの割合は、Ｄ´、Ｅ´およびＦ´においてそれぞれ使用されてよい。
【００４２】
方向および／または耐光層のスピンの割合および／または吸光物質の調整は、互いに関して不一致とされた吸光物質の複数のストリークパターンを生成する。人間の目で見た結果は、終了したＣＲＴの前面パネルでの任意のネットストリークパターンを解決する困難さを有する。上述した技術を使用して生成した“光の混乱”は、ディスプレイスクリーンの目立たないパターンの知覚を減少するかまたは削除する。
【００４３】
本発明の露出の連続はまた、米国特許第６，０１３，４００号明細書に対する改善を表し、つまり、各ガードバンドにおける沈着の連続での第三（すなわち、ガードバンドＲＥにおける０、ガードバンドＧＲでのＢ、ガードバンドＧＢでのＲである中心の供給源の位置）の露出が新規である。第三の露出が新規であり、この露出は、特にさらに低いマスク送信での印刷から変則または余分なガードバンドを防ぐ。
【００４４】
例えば、約４５％以下のマスクの送信値において、変則的なガードバンドが印刷されてよい。図５ｂ、７ｂおよび９ｃを参照するに、低いマスク送信において、任意の与えられたガードバンドの印刷の連続において、ガードバンド（つまり、領域５３と領域１５０と領域５０６）間の中心エリアで耐光を強固にするために第一の露出（つまり、−Ｇと、−Ｂと、および−Ｒ）と第二の露出（つまり、＋Ｇと、＋Ｂと、および＋Ｒ）との間の十分なオーバーラップが存在しないことが可能である。結果は、変則的なガードバンドがディスプレイスクリーンに機能を与えない前述の中心エリアで形成されてよいことである。しかしながら、図６、８および１０を参照するに、第三の露出（つまり、０と、Ｂと、およびＲ）の組み込みは、図５ｅ、７ｅおよび９ｅにそれぞれ示される意図したガードバンドの位置を除くすべてのエリアでの耐光を強固にするために十分な露出を提供する。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明による色陰極線管（ＣＲＴ）の部分的な軸部の平面図である。
【図２】スクリーンアセンブリを示す、図１のＣＲＴのマスク部および前面パネル部を示す図である。
【図３】図１のＣＲＴで使用されるマスクおよびフレームの平面図である。
【図４ａ】図２のスクリーンアセンブリにおけるＲＢガードバンドの製造プロセスの流れ図である。
【図４ｂ】図２のスクリーンアセンブリにおけるＧＲガードバンドの製造プロセスの流れ図である。
【図４ｃ】図２のスクリーンアセンブリにおけるＧＢガードバンドの製造プロセスの流れ図である。
【図５ａ】ＲＢガードバンドの形成段階における前面パネルの内面を描写する図である。
【図５ｂ】ＲＢガードバンドの形成段階における前面パネルの内面を描写する図である。
【図５ｃ】ＲＢガードバンドの形成段階における前面パネルの内面を描写する図である。
【図５ｄ】ＲＢガードバンドの形成段階における前面パネルの内面を描写する図である。
【図５ｅ】ＲＢガードバンドの形成段階における前面パネルの内面を描写する図である。
【図６】ＲＢガードバンドを形成するために使用される光源の位置を示す図である。
【図７ａ】ＧＲガードバンドの形成段階における前面パネルの内面を描写する図である。
【図７ｂ】ＧＲガードバンドの形成段階における前面パネルの内面を描写する図である。
【図７ｃ】ＧＲガードバンドの形成段階における前面パネルの内面を描写する図である。
【図７ｄ】ＧＲガードバンドの形成段階における前面パネルの内面を描写する図である。
【図７ｅ】ＧＲガードバンドの形成段階における前面パネルの内面を描写する図である。
【図８】ＧＲガードバンドを形成するために使用される光源の位置を示す図である。
【図９ａ】ＧＢガードバンドの形成段階における前面パネルの内面を描写する図である。
【図９ｂ】ＧＢガードバンドの形成段階における前面パネルの内面を描写する図である。
【図９ｃ】ＧＢガードバンドの形成段階における前面パネルの内面を描写する図である。
【図９ｄ】ＧＢガードバンドの形成段階における前面パネルの内面を描写する図である。
【図９ｅ】ＧＢガードバンドの形成段階における前面パネルの内面を描写する図である。
【図１０】ＧＢガードバンドを形成するために使用される光源の位置を示す図である。
【図１１ａ】耐光および／または吸光物質の沈着の開始における前面パネルの異なる方向を例示する図である。
【図１１ｂ】耐光および／または吸光物質の沈着の開始における前面パネルの異なる方向を例示する図である。
【図１１ｃ】耐光および／または吸光物質の沈着の開始における前面パネルの異なる方向を例示する図である。
【図４ａ】
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【図４ｂ】
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【図４ｃ】
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【図６】
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【図８】
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【図１０】
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【国際公開パンフレット】
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【国際調査報告】
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