(57)【要約】本発明は、殊に点火に使用するための半導体回路装置に関するものであって、第１の主接続部（１０２）と第２の主接続部（１０１）と制御接続部（１０３）とを有する半導体パワースイッチ装置（１００）が設けられており、第１の主接続部（１０２）と制御接続部（１０３）との間に接続された、前記第１の主接続部（２０２）に印加された外部の電圧（ＶＡ）をクランピングするためのクランピングダイオード装置（２０５ａ，２０５ｂ）が設けられており、該クランピングダイオード装置（２０５ａ、２０５ｂ）が、第１のクランピング電圧を有する第１の部分（２０５ａ）と、第２のクランピング電圧（ＶＫＬ′）を有する第２の部分（２０５ｂ）とを備えており、第２の部分（２０５ｂ）が第１の部分（２０５ａ）に対して直列で接続されており、制御可能な半導体スイッチ装置（４０２，６５０）が設けられていて、該半導体スイッチ装置が、第１の部分（２０５ａ）を制御可能に橋絡するために、第１の部分（２０５ａ）に対して並列に接続されており、それによって、第１及び第２のクランピング電圧の合計電圧（ＶＫＬ）又は、第１の主接続部（２０２）に印加された外部の電圧（ＶＡ）をクランピングするための第２のクランピング電圧（ＶＫＬ′）が提供されるようになっており、半導体パワースイッチ装置（１００）の所定の運転状態に基づいて、制御可能な半導体スイッチ装置（４０２）を制御するための制御回路（４０３）が設けられている。
2005506707.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
殊に点火に使用するための半導体回路装置であって、
第１の主接続部（１０２）と第２の主接続部（１０１）と制御接続部（１０３）とを有する半導体パワースイッチ装置（１００）が設けられており、
第１の主接続部（１０２）と制御接続部（１０３）との間に接続された、前記第１の主接続部（２０２）に印加された外部の電圧（ＶＡ）をクランピングするためのクランピングダイオード装置（２０５ａ，２０５ｂ）が設けられており、
該クランピングダイオード装置（２０５ａ、２０５ｂ）が、第１のクランピング電圧を有する第１の部分（２０５ａ）と、第２のクランピング電圧（ＶＫＬ′）を有する第２の部分（２０５ｂ）とを備えており、第２の部分（２０５ｂ）が第１の部分（２０５ａ）に対して直列で接続されており、
制御可能な半導体スイッチ装置（４０２，６５０）が設けられていて、該半導体スイッチ装置が、第１の部分（２０５ａ）を制御可能に橋絡するために、第１の部分（２０５ａ）に対して並列に接続されており、それによって、第１及び第２のクランピング電圧の合計電圧（ＶＫＬ）又は、第１の主接続部（２０２）に印加された外部の電圧（ＶＡ）をクランピングするための第２のクランピング電圧（ＶＫＬ′）が提供されるようになっており、
半導体パワースイッチ装置（１００）の所定の運転状態に基づいて、制御可能な半導体スイッチ装置（４０２）を制御するための制御回路（４０３）が設けられていることを特徴とする、殊に点火に使用するための半導体回路装置。
【請求項２】
所定の運転状態が、半導体パワースイッチ装置（１００）の運転パラメータである、請求項１記載の半導体回路装置。
【請求項３】
半導体パワースイッチ装置（１００）の運転パラメータを算出するための温度センサ（ＴＳ）が設けられており、制御回路は、半導体パワースイッチ装置（１００）の運転パラメータが所定の温度を超えると、半導体スイッチ装置（４０２，６５０）を制御するように構成されている、請求項２記載の半導体回路装置。
【請求項４】
所定の運転状態が、制御接続部（１０３）に供給された制御信号（ＳＴ）の状態切換え後における所定の時間的遅れ後に生じる状態である、請求項１記載の半導体回路装置。
【請求項５】
制御回路（４０３）が、状態切換え後における時間的遅れを算出するための時限素子を有しており、該制御回路（４０３）は、算出された時間的遅れが所定の時間的遅れを超えた時に、半導体スイッチ装置（４０２，６５０）を橋絡するために制御するように構成されている、請求項４記載の半導体回路装置。
【請求項６】
制御可能な半導体スイッチ装置（４０２，６５０）が第２のＮＭＯＳトランジスタ（６５０）であって、該第２のＮＭＯＳトランジスタ（６５０）の制御接続部（６５３）が抵抗装置（６５９）を介して第１の主接続部（１０２）に接続されている、請求項１から５までのいずれか１項記載の半導体回路装置。
【請求項７】
制御回路（４０３）と切換え可能な半導体スイッチ装置（４０２，６５０）との間に電圧変換装置が設けられており、該電圧変換装置が第１のＮＭＯＳトランジスタ（５７０）を有しており、該ＮＭＯＳトランジスタの第１の主接続部（５７１）が第２のＮＭＯＳトランジスタ（６５０）の制御接続部（６５３）に接続されていて、このＮＭＯＳトランジスタの第２の主接続部（５７２）及び制御接続部（５７３）を介して制御回路（４０３）が接続されている、請求項６記載の半導体回路装置。
【請求項８】
請求項１から７までのいずれか１項記載の半導体回路装置において、
半導体パワースイッチ装置（１００）が垂直なＩＧＢＴであって、該ＩＧＢＴが、
第２の回路型式（ｐ＋）の後ろ側のエミッタ領域（１０５）と、
第１の回路型式（ｎ−）のドリフト領域（１０４）と、
第１の主接続部（１０２）としての後ろ側のアノード接点と、
前記ドリフト領域（１０４）と後ろ側のエミッタ領域（１０５）との間の付加的なバッファ領域（１４０）と、
前側のソース領域（１０６）及びボディ領域（１０８）を備えた、ドリフト領域（１０４）内に挿入された前側のＭＯＳ制御構造体と、
ボディ領域（１０７，１０８）及びこのボディ領域に隣接する、ドリフト領域（１０４）の部分を介して絶縁されて配置された、制御接続部（１０３）としての制御接点と、
前側のソース領域（１０６）及びボディ領域（１０８）に接続された前側のカソード接点（１０１）と
を有しており、
この場合、半導体パワースイッチ装置（１００）の縁部接続金属化部（１５２）と活性領域（１３０）との間で前側に、クランピングダイオード装置（２０５ａ，２０５ｂ）と、半導体スイッチ装置（４０２，６５０）とが組み込まれていることを特徴とする、半導体回路装置。
【請求項９】
請求項１から８までのいずれか１項記載の半導体回路装置を点火に使用する使用法であって、第１の主接続部（１０２）を点火コイル（２１１）接続し、この際に、半導体回路スイッチ装置（１００）の所定の運転状態を、これが、点火コイル（２１１）の二次巻線に接続された点火プラグ（２１２）において点火火花を発生させるために設けられた時点（ｔｆ）の時間的に後で生じるように選定することを特徴とする、半導体回路装置を点火に使用する使用法。
【請求項１０】
合計電圧（ＶＫＬ）を２００Ｖと６５０Ｖとの間に設定し、第２のクランピング電圧（ＶＫＬ′）を３５Ｖと７５Ｖとの間に設定する、請求項９記載の使用法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
従来の技術
本発明は、特に点火に使用するための半導体回路装置に関する。
【０００２】
その他の類似の半導体デバイスも使用できるが、本発明及び、本発明が根拠としている問題点は、点火に使用するための垂直なＩＧＢＴ（Ｉｎｓｕｌａｔｅｄ  Ｇａｔｅ  Ｂｉｐｏｌａｒ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ；絶縁ゲート２極トランジスタ）に関連して説明されている。
【０００３】
一般的に、ＩＧＢＴはパワースイッチ（電力スイッチ）として数百から数千ボルトまでの範囲の遮断電圧若しくは逆方向電圧に使用される。特に、このようなＩＧＢＴを点火トランジスタとしてつまりスイッチとして点火コイルの一次側に使用することが重要である。
【０００４】
垂直なＩＧＢＴの構造は、ＶＤＭＯＳの構造と類似しているが、勿論、ＶＤＭＯＳトランジスタにおける場合のｎ＋基板の代わりに、アノード側にｐ＋エミッタを配置するという違いがある。ドイツ連邦共和国特許第３１１０２３０号明細書によれば、垂直なＩＧＢＴの基本構造を備えた垂直なＭＯＳＦＥＴデバイスが公知である。
【０００５】
この場合、原則として、垂直なＩＧＢＴ若しくはＶ−ＩＧＢＴの２つの型式は異なっている。つまり、いわゆるパンチスルー（Ｐｕｎｃｈ−Ｔｈｒｏｕｇｈ）ＩＧＢＴ（ＰＴ）及びいわゆるノンパンチスルー（Ｎｏｎ−Ｐｕｎｃｈ−Ｔｈｒｏｕｇｈ）ＩＧＢＴ（ＮＰＴ）である。これは例えば、Ｌａｓｋａ  ｅｔ  ａｌ．，  Ｓｏｌｉｄ−Ｓｔａｔｅ−Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ，  Ｂａｎｄ  ３５，  Ｎｒ．５，  Ｓｅｉｔｅｎ  ６８１−６８５（ラスカその他、ソリッドステートエレクトロニクス、第３５巻、第５号、第６８１頁〜第６８５頁）に記載されている。
【０００６】
図６を用いて、これら２つのＩＧＢＴ型式について説明する。
【０００７】
図６には、一般的に符号１００が付けられている、公知のＰＴ−ＩＧＢＴ若しくはＮＰＴ−ＩＧＢＴの概略的な横断面図が示されている。
【０００８】
ＰＴ−ＩＧＢＴは、一般的に、エピタキシャルに被着されたｎバッファ層１４０と同様にエピタキシャルに被着されたｎ−ドリフト領域１０４とを備えた、厚いｐ＋ドーピングされた基板上に製造される。ｎ−ドリフト領域１０４の厚さはできるだけ小さい順方向電圧のために、所望の遮断特性において必要とされるｎ−ドリフト領域１０４内の空間電荷ゾーンの幅よりも小さく選定されるので、ｎバッファ層１４０は、空間電荷が、基板に設けられた後ろ側のｐ＋エミッタ１０５に向かって突き抜けるのを避けるために用いられる。良好なｐ＋エミッタ１０５にも拘わらず、電流の迅速な遮断を得るために、担体体耐用年数は、生存時間消去に亘って、例えば放射によって小さく維持されるか、かつ／又はｎバッファ層１４０のドーピングが相応に高く選定される。順方向電圧は、ｎバッファ層１４０のドーピングダイオードが大きくなるのに伴って大きくなるので、高ドーピングされたｎバッファ層１４０を備えた、順方向特性と逆方向（遮断）特性との間の良好な妥協が得られる。
【０００９】
ＮＰＴ−ＩＧＢＴは、ｎバッファ層４０が省かれて、ドリフト領域１０４の厚さが、所望の遮断能力において必要とされる空間電荷ゾーンの幅よりも大きく選定されることによって、ＰＴ−ＩＧＢＴから誘導される。ＮＰＴ−ＩＧＢＴは、一般的に高い電荷担体耐用年数を有する低くドーピングされた基板上に製造され、この場合、ウェーハ前側に拡散プロフィールを被着した後で、数μｍだけの侵入深さ（２０μｍよりも著しく小さい）及び低品質のエミッタ効率を有する偏平なｐ＋エミッタ１０５がウェーハ裏側に形成される。このような形式の透明なｐ＋エミッタ１０５は、遮断特性を小さく維持することを目的として、デバイスのダイナミックな運転中に電流を迅速に遮断することを保証するために用いられる。低品質のｐ＋エミッタ１０５にも拘わらず満足のいく順方向特性を得るために、ｎマイナスドリフト領域１０４内の担体耐用年数ははできるだけ長く選定されており、さらにｎ−ドリフト領域１０４の厚さは、デバイスの所望の遮断特性を考慮してできるだけ小さく維持されている。
【００１０】
前側では、ＰＴ−ＩＧＢＴ若しくはＮＰＴ−ＩＧＢＴが活性領域１０３及び縁部閉鎖領域１５０より構成されており、この場合、縁部閉鎖領域は、チップの縁部に向かって所望の遮断特性を保証する。活性領域１３０は、並列接続された多数のセル（隔室）状又は条片状のＭＯＳ制御ヘッド１０６，１０７，１０８より構成されている。このＭＯＳ制御ヘッド１０６，１０７，１０８は、垂直なＩＧＢＴの機能形式に関連して後で詳しく説明されている。
【００１１】
ＭＯＳ制御ヘッド１０６，１０７，１０８は、図６にその半分が示されている。つまり、図６でＡ−Ａ′線とＢＢ′線との間に、Ａ−Ａ′線で半分に断面されたハーフセルの鏡面対称によって示されている。縁部領域１５０内の構造は、所望の遮断特性を得るために磁気抵抗素子構造が一般的である。この磁気抵抗素子構造は一般的に、金属磁気抵抗素子として構成されたカソード１０１と、図示していない三次元に亘ってこのカソード１０１と電気的に接続されたポリ磁気抵抗素子１５３ａと、ｎ＋チャンネルストッパ１５５に接続された金属化部１５２と、図示していない三次元に亘ってこの金属化部１５２と電気的に接続されたポリシリコン磁気抵抗素子１５３ｂとから構成されている。更に符号１５９で電界酸化物が示されていて、符号１１０で中間誘電体が示されている。この中間誘電体１１０は、所望の接触は度外視して、金属化部平面をポリシリコン平面に対して電気的に絶縁するために用いられる。
【００１２】
次に順方向の場合におけるＮＰＴ−ＩＧＢＴ若しくはＰＴ−ＩＧＢＴの機能形式について詳しく説明する。
【００１３】
薄いゲート酸化物１０９だけによって半導体に対して絶縁された、一般的にポリシリコンより成るゲート１０３は、カソード１０１に対してＭＯＳ制御ヘッド１０６，１０７，１０８の閾電圧の上側の電位にもたらされる。次いでボディ領域１０８の領域内でゲート１０３が形成され、次いで半導体表面は、半導体表面ｎ−ドリフト領域１０４の領域内で蓄積状態にある。カソード１０１に対して正（ｐｏｓｉｔｉｖ）の電圧がアノード１０２に形成されると、電子（Ｅｌｅｋｔｒｏｎｅｎ）が、ｎ＋ソース領域１０６と、誘導されたＭＯＳチャンネルと、蓄積層とを介してｎ−ドリフト領域１０４に注入される。次いでアノード側のｐ＋エミッタ１０５が孔を介して注入され、それによってｎ−ドリフト領域１０４は、その活性領域１３０内の伝導性、及びこれらに隣接する縁部閉鎖領域１５０内の伝導性が高められるような形式で、荷電担体からオーバーフローせしめられる。これらの部分は、一般的な順方向電流密度において高注入状態にある。これによって約１５０〜２００Ｖの遮断特性を有するＩＧＰＴは、アノードとカソードとの間でより小さい電圧降下を有する、均一な降伏電圧を有するＭＯＳトランジスタよりも高い電流密度を生ぜしめる状態にある。電流は順方向の場合アノード１０２からカソード１０１へ流れる。電流は電子によって運ばれ、この電子は、ｎ−ドリフト領域１０４内に注入されて、アノード側のｐ＋エミッタ１０５を介してアノード１０２に流入し、孔を介してアノード側のｐ＋エミッタからｎ−ドリフト領域１０４内に注入され、ｐ領域１０７，１０８を介してカソード１０１に流入する。
【００１４】
以上説明したフラットで垂直なＩＧＢＴ構造の他に、溝の形状で半導体表面に形成される、いわゆるトレンチ・ゲートを備えた垂直なＩＧＢＴが提供される。これについては、「Ｏｍｕｒａ  ｅｔ  ａｌ．，  ＩＳＰＳＤ  ’９７，  Ｃｏｎｆ．  Ｐｒｏｃ．，  Ｓ．  ２１７−２２０」参照。このようなトレンチ・ゲートを備えた垂直なＩＧＢＴの機能形式は、前記構造と完全に同じであるが、順方向電圧降下の利点を提供する。
【００１５】
次に、逆方向（遮断）の場合のＮＰＴ−ＩＧＢＴ若しくはＰＴ−ＩＧＢＴの機能形式について説明する。逆方向においては、ゲート１０３はカソード１０１に対して閾電圧を下回る電圧にもたらされる。アノード１０２が正の電位にもたらされると、ｐボディ領域１０８とｎ−ドリフト領域１０４との間の境界において形成された空間電荷は、もっぱらｎ−ドリフト領域１０４内に延びる。
【００１６】
ＮＰＴ−ＩＧＢＴにおいては、ｎドリフトゾーン１０４の厚さは、デバイスの所定の最大遮断特性において空間電荷ゾーンが有する幅よりも大きく選定されている。これによって図６に示したように、デバイスの厚さ方向ｙに沿った電気的な電界強度│Ｅ│の三角形形状の延び（破線）が得られる。この場合、電界強度│Ｅ│の最大は、ＭＯＳ制御ヘッド１０６，１０７，１０８の領域内にある。
【００１７】
ＰＴ−ＩＧＢＴにおいて、ｎ−ドリフト領域１０４の厚さは、デバイスの所定の最大遮断特性において空間電荷が有する幅よりも小さくなるように選定されている。空間電荷ゾーンが、後ろ側のｐ＋エミッタ１０５に達するのを避けるために、ここではｎドーピングされたバッファ層１４０が被着されており、これによって突き抜けが避けられるようになっている。これによって図６に示したような、素子の厚さ方向ｙに沿った電界強度│Ｅ│の台形形状の延び（実線）が形成される。この場合、電界の最大は、同様にＭＯＳ制御ヘッド１０６，１０７，１０８の領域内にある。
【００１８】
図７には、一般的な回路トポロジー（回路配置構造）が示されている。この図７では、図６に示した垂直なＩＧＢＴ１００が内燃機関のための点火コイルの一次回路内に配置された点火トランジスタとして使用されている。点火トランジスタとして使用するために、従来では約４００Ｖ〜６００Ｖの必要な遮断特性を有するＶ−ＩＧＢＴが使用されていた。
【００１９】
図７によれば、Ｖ−ＩＧＢＴ１００が、主接続部１０１に相当するカソードと、符号１０２に相当するアノードと、制御接続部１０３に相当するゲートとを有していて、点火コイル２１１の一次巻線を介してノード２１０におけるバッテリー電圧ＶＢａｔに接続されている。点火コイル２１１の二次巻線側には、点火コイル２１２と、１〜２ｋΩの保護抵抗２１４と、起動火花を抑制するためのダイオード２１３とが接続されている。
【００２０】
Ｖ−ＩＧＢＴ１００は、回路装置２００内に組み込まれており、この回路装置２００は接続ノード２０１，２０２及び２０３を有している。この場合、接続ノード２０２は、Ｖ−ＩＧＢＴ１００の第１の主接続部１０２に直接接続されていて、アースＧＮＤに通じている接続ノード２０３は、Ｖ−ＩＧＢＴ１００の第２の主接続部１０１に接続されている。
【００２１】
回路装置２００内に配置されたその他の回路デバイスは、Ｖ−ＩＧＢＴ１００を制御及びクランピングするために用いられる。この場合、ダイオード２０４は、このダイオード２０４に接続されたゲート１０３を過電圧に対して保護するために使用される。ダイオード２０６は、順方向電流の場合に、制御接続部１０３から主接続部１０２に電流が流れるのを阻止する。主接続部１０２は、Ｖ−ＩＧＢＴの半導体材料を介して接続部ｂ１５２に接続されている。例えば１ｋΩの抵抗２０７と、例えば１０〜２５ｋΩの抵抗２０８とは、一方では制御信号ＳＴのための接続部ノード２０１における回路装置２００の入力抵抗を規定し、他方ではクランピングダイオード装置２０５の負荷を形成する。このクランピングダイオード装置２０５は、一般的に遮断方向（逆方向）の極性を有する多数のポリシリコンツェナーダイオード（Ｐｌｙｉｌｉｚｉｕｍ−Ｚｅｎｅｒｄｉｏｄｅ）より成るクランピングダイオード連鎖（Ｋｌａｍｍｅｒｄｉｏｄｅｎｋｅｔｔｅ）として構成されている。素子２０４，２０５，２０６，２０７及び２０８は、一般的にＶ−ＩＧＢＴとモノリシックに集積されており、この場合、素子２０５以外にダイオード２０４，２０６も一般的にはポリシリコンより成っている。
【００２２】
図示されているように、クランピングダイオード装置２０５は、アノード１０２の金属化部に直接接続されてはいない。何故ならば、アノード１０２の金属化部はチップの下側に位置していて、アクセス（接近）しにくいからである。むしろ、クランピングダイオード装置２０５は、チャネルストッパ１５５の金属化部１５２に接触している。この金属化部１５２は、順方向電圧に至るまで、アノード１０２と同じ電位を有している。回路装置２００は、制御装置によって接続ノード２０１を介して直接駆動される。このために、接続ノード２０１に、例えば５Ｖの正電圧を有する制御信号ＳＴが供給され、次いで点火コイル２１１によって電流上昇が開始される。
【００２３】
所定の時点で、接続ノード２０１の電圧が約０Ｖに減少され、次いで金属化部１５２及び主接続部１０２及びひいては接続ノード２０２における電圧が急勾配で上昇する。この電圧上昇は、点火コイル２１１の二次側で高変換され、点火プラグ２１２の点火火花を生ぜしめる。この場合、クランピングダイオード連鎖２０５は、一方ではＶ−ＩＧＢＴ１００を保護し、他方では回路装置２００の残りの回路構成素子を保護するために、主接続部１０２における電圧上昇を、約４００Ｖのいわゆるクランピング電圧ＶＫＬに制限する課題を有している。これは特にいわゆるパルス低下時に重要である。
【００２４】
パルス低下は、点火ケーブルが抜け落ちたことによって点火火花が発生しない場合に生じる。この場合は、Ｖ−ＩＧＢＴ１００を含む回路装置２００が、そうでなければ火花に変換されるエネルギーを受容する必要がある。
【００２５】
図３には、一般的な回路装置２００におけるアノード電圧のクランピングの時間的な経過が概略的に示されている。
【００２６】
第１の主接続部１０２若しくは接続ノード２０２における電圧ＶＡの時間的な経過は、図３では破線の曲線３０２で示されている。この場合、ｔ＜０のためのイグニッションスイッチが所定の時間スイッチオンされていて、従って時点ｔ＝０において、典型的には７〜２０Ａの電流がＶ−ＩＧＢＴ１００及び点火コイル２１１を通って流れることが示されている。Ｖ−ＩＧＢＴ１００が、接続ノード２０１における制御信号ＳＴの電圧低下によって、ｔ＝０において０Ｖにスイッチオフされると、点火コイル２１１は、Ｖ−ＩＧＢＴ１００にまずまだ完全な電流を強制供給する。
【００２７】
次いで第１の主接続部１０２において電圧ＶＡが上昇する。この場合、電圧が制限されないと、第１の主接続部１０２における電圧ＶＡは、Ｖ−ＩＧＢＴ１００の降伏値に達するまで上昇して、このＶ−ＩＧＢＴ１００を破壊することになる。これはクランピングダイオード装置２０５によって次のようにして避けられる。つまり、前もって選定されたクランピング電圧ＶＫＬが時点ｔｒ（ｔｒは典型的な場合では数μｓである）において得られると、Ｖ−ＩＧＢＴ１００のゲート１０３は、主接続部１０２におけるクランピング電圧ＶＫＬを越えることが避けられる程度に強く制御される。
【００２８】
パルス低下が発生しない、図３に実線で示した曲線３０１に基づく通常の運転状態においては、第１の主接続部１０２において電圧ＶＡが約ｔ１−ｔｒ＝１５μｓ後に投入され、さらに約１５μｓ後にｔｆにおいて点火プラグ２１２で点火火花が生ぜしめられる。その結果、点火燃焼時間ｔ３〜ｔｆの間に燃焼室内で点火コイル２１１に蓄えられたエネルギーの転換が行われる。点火燃焼時間ｔ３〜ｔｆにおいて、第１の主接続部１０２には、殆どの時間、約ＶＢ＝３０Ｖの逆変換された燃焼電圧だけが印加される。火花燃焼時間ｔ３〜ｔｆの終わりに、主接続部１０２における電圧ＶＡは再びバッテリー電圧ＶＢａｔ＝１４Ｖに低下する。
【００２９】
これに対して、図３で破線３０２で示されたパルス低下時には、約４００Ｖの高いクランピング電圧が時点ｔ４までに生じ、従って点火コイル２１１及びＶ−ＩＧＢＴ１００を通って流れる電流は、時点ｔ４まで線状に低下する。時点ｔ４においてコイルエネルギーは崩壊する。つまりコイルエネルギーは回路装置２００内で熱に変換され、接続部１０２における電圧ＶＡはバッテリー電圧ＶＢａｔに急激に低下する。時間ｔ４〜ｔｒは数μｓだけ続くが、この運転状態は、高変換された電力によって、ＩＧＢＴ１００のパルス強度に対する高い要求を課す。この要求は、常に十分に保証されない。その結果、最悪の場合にはＩＧＢＴ１００が破壊されることになる。
【００３０】
Ｊ．  Ｙｅｄｉｎａｋ  ｅｔ  ａｌ．，  ＩＳＰＳＤ  ’９８，  Ｃｏｎｆ．  Ｐｒｏｃ．，  Ｓ．  ３９９−４０２（ジェイ、イェディナクその他、ＩＳＰＤ１９９８年、Ｃｏｎｆ．  Ｐｒｏｃ．第３９９頁〜第４０２頁）には、故障は次のようにして起こることが、ＰＴ−ＩＧＢＴの例として示されている。つまりパルス低下中に空間電荷ゾーンが全ｎ−ドリフト領域１０４をとらえる。電子が、クランピングダイオード２０５によってコントロールされた、ゲート１０３の制御を介して、形成されたＭＯＳチャンネルを通ってｎ−ドリフト領域１０４に注入され、この電子が後ろ側のｐ＋エミッタ１０５を制御する。ＭＯＳ制御ヘッド１０６，１０７，１０８の領域内の高い電気的な電界強度及びひいては高い損失電力、及び高い電流密度に従って、特にカソード１０１なお領域内の素子が非常に熱くなり、次いでＭＯＳ制御ヘッド１０６，１０７，１０８から電子漏れ流が発生する。電子（エレクトロン）は、アノード１０２に向かって流れ、ｐ＋エミッタ１０５を制御する。つまり電子はＩＧＢＴ１００を付加的に制御する。
【００３１】
電圧をクランピング電圧の値に維持するために、クランピングダイオード２０５を介してゲート１０３の制御が相応に減少される。所定の運転条件下で、熱的に制限された電子漏れ流による開放制御は、Ｖ−ＩＧＢＴ１００がゲートを開放制御することなしに負荷電流を生ぜしめる程度に強い。従ってＶ−ＩＧＢＴ１００の制御可能性は失われる。次いで、素子の温度及び漏れ流がさらに高くなる。ひいては、熱的な正帰還が生じＶ−ＩＧＢＴ１００が破壊に至る。Ｚ．  Ｊ．  Ｓｈｅｎ  ｅｔ  ａｌ．，  ＩＥＥＥ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｄｅｖｉｃｅ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，  Ｂａｎｄ  ２１，  Ｎｒ．  ３，  Ｍａｅｒｚ  ２０００，  Ｓ．  １１１９−１２２（ツェット  ジェイ  シェンその他著の、ＩＥＥＥエレクトロン装置レター、第２１巻、第３号、２００年３月、第１１９頁〜第１２２頁）によるクランピング電圧のＶ−ＩＧＢＴのパルス強度に関連した実験によれば、パルス強度はクランピング電圧が低下するにつれて著しく強くなることが記載されている。その理由は、低下したクランピング電圧に従って、Ｖ−ＩＧＢＴ１００内で変換された電力が低下するからである。これによってパルス低下中に、ＭＯＳ制御ヘッド１０６，１０７，１０８の領域内で発生した最大温度が減少される。
【００３２】
自動車の標準的な点火装置においては、この点火装置内でクランピング電圧を自由に選択することは不可能であって、特に大きく低下させることはできない。クランピング電圧が大きく低下されると、点火火花の確実な発生を妨げることになる。
【００３３】
Ｚ．  Ｊ．  Ｓｈｅｎ  ｅｔ  ａｌ．，  ＰＣＩＭ  ’９６，  Ｃｏｎｆ．  Ｐｒｏｃ．，  Ｓ．  １１−１６（ツェット  ジェイ  シェンその他著による、ＰＣＩＭ１９９６年  Ｃｏｎｆ．Ｐｒｏｃ．第１１頁〜第１６頁）には、ポリシリコンダイオードが温度センサとして使用されている、電流制限器及び温度超過遮断器を備えた集積されたＶ−ＩＧＢＴについて開示されている。スイッチオンされた状態、ＩＧＢＴは所定の閾温度に達すると、モノリシックに集積された制御回路がゲート電圧を減少させることによって、遮断される。しかしながらこのＩＧＢＴは点火トランジスタとしては適していない。何故ならばクランピングが行われないからである。しかも温度超過遮断は、パルス低下時にゲート電圧が減少することによって反生産的である。何故ならば温度超過遮断は、同様にゲート電圧を介して作用するクランピングを無効にするからである。
【００３４】
本発明の課題は、パルス低下に対して良好に保護することができる半導体パワースイッチ装置を備えた、特に点火に使用するための改良された半導体回路装置を提供することである。
【００３５】
発明の利点
請求項１の特徴部若しくは請求項９に記載した使用法を有する、特に点火に使用するための本発明による半導体回路装置は次のような利点を有している。つまり、半導体パワースイッチ装置が、予め規定可能な運転段階において、その他の規定可能な時間段階においてクランピング電圧を減少させることなしに、良好に保護されるようになっている、という利点を有している。時間段階を規定する本発明による制御のために必要な回路は、半導体パワースイッチ装置内に有利にはモノリシックに集積可能である。
【００３６】
本発明の考え方は、クランピングダイオード装置が、第１のクランピング電圧を有する第１の部分と、第２のクランピング電圧を有する第２の部分とを備えており、第２の部分が第１の部分に対して直列で接続されている、という点にある。さらに、制御可能な半導体スイッチ装置が設けられていて、該半導体スイッチ装置が、第１の部分を制御可能に橋絡するために、第１の部分に対して並列に接続されており、それによって、第１及び第２のクランピング電圧の合計電圧又は、第１の主接続部に印加された外部の電圧をクランピングするための第２のクランピング電圧が提供されるようになっている。制御回路は、制御可能な半導体スイッチ装置を、半導体パワースイッチ装置の所定の運転状態に関連して制御するために用いられる。
【００３７】
従属請求項には、本発明の有利な実施態様及び改良が記載されている。
【００３８】
本発明の有利な実施態様によれば、所定の運転状態が、半導体パワースイッチ装置の運転パラメータである。
【００３９】
本発明の別の有利な実施態様によれば、半導体パワースイッチ装置の運転パラメータを算出するための温度センサが設けられており、制御回路は、半導体パワースイッチ装置の運転パラメータが所定の温度を超えると、半導体スイッチ装置を制御するように構成されている。
【００４０】
本発明の別の有利な実施態様によれば、所定の運転状態が、制御接続部に供給された制御信号の状態切換え後における所定の時間的遅れ後に生じる状態である。
【００４１】
本発明の別の有利な実施態様によれば、制御回路が、状態切換え後における時間的遅れを算出するための時限素子を有しており、該制御回路は、算出された時間的遅れが所定の時間的遅れを超えた時に、半導体スイッチ装置を橋絡するために制御するように構成されている。
【００４２】
本発明の別の有利な実施態様によれば、制御可能な半導体スイッチ装置が第２のＮＭＯＳトランジスタであって、該第２のＮＭＯＳトランジスタの制御接続部が抵抗装置を介して第１の主接続部に接続されている。
【００４３】
本発明のさらに別の有利な実施態様によれば、制御回路と切換え可能な半導体スイッチ装置との間に電圧変換装置が設けられており、該電圧変換装置が第１のＮＭＯＳトランジスタを有しており、該ＮＭＯＳトランジスタの第１の主接続部が第２のＮＭＯＳトランジスタの制御接続部に接続されていて、このＮＭＯＳトランジスタの第２の主接続部及び制御接続部を介して制御回路が接続されている。
【００４４】
本発明のさらに別の有利な実施態様によれば、半導体パワースイッチ装置が垂直なＩＧＢＴであって、該ＩＧＢＴが、第２の回路型式の後ろ側のエミッタ領域と、第１の回路型式のドリフト領域と、第１の主接続部としての後ろ側のアノード接点と、前記ドリフト領域と後ろ側のエミッタ領域との間の付加的なバッファ領域と、前側のソース領域及びボディ領域を備えた、ドリフト領域内に挿入された前側のＭＯＳ制御構造体と、ボディ領域及びこのボディ領域に隣接する、ドリフト領域の部分を介して絶縁されて配置された、制御接続部としての制御接点と、前側のソース領域及びボディ領域に接続された前側のカソード接点とを有しており、この場合、半導体パワースイッチ装置の縁部接続金属化部と活性領域との間で前側に、クランピングダイオード装置と、半導体スイッチ装置とが組み込まれている。
【００４５】
図面
本発明の複数の実施例が図面に示されていて、以下に詳しく説明されている。
【００４６】
図１は、本発明の第１実施例による、点火に使用するための半導体回路装置の概略的な横断面図、
図２は、本発明の第２実施例による、点火に使用するための半導体回路装置の制御部およびスイッチ部の概略的な横断面図、
図３は、点火に使用するための一般的な半導体回路装置及び本発明の実施例における、半導体パワースイッチ装置のアノード電圧のクランピングの時間的経過を示す概略図、
図４は、本発明の実施例による、点火に使用するための半導体回路装置の回路技術的な集積解決策の概略的な横断面図、
図５は、本発明の実施例による、点火に使用するための半導体回路装置の回路技術的な集積解決策の概略的な平面図、
図６は、公知のＮＰＴ−ＩＧＢＴもしくはＰＴ−ＩＧＢＴの概略的な横断面図、
図７は、垂直なＩＧＢＴが内燃機関のための点火コイルの一次回路内の点火トランジスタとして使用されている一般的な回路トポロジー（回路配置構造）を示す図である。
【００４７】
実施例の説明
図面には同じ構成部材又は機能的に同じ構成部材には同じ符号が示されている。
【００４８】
図１には、本発明の第１実施例による、点火に使用するための半導体回路装置の概略的な横断面図が示されている。
【００４９】
図１の符号４００で、第１実施例による点火に使用するための、一般的な半導体回路装置が示されている。この半導体回路装置は、クランピングダイオード装置２０５ａ，２０５ｂの領域内で特別な回路４０１を有している。この回路４０１は、金属化部１５２を介して第１の主接続部１０２と制御接続部１０３との間に接続されている。図１の符号４０４，４０５，４０６，４０７は、後で説明する所定の回路ノードを示している。
【００５０】
クランピングダイオード装置２０５ａ，２０５ｂは、回路ノード４０４，４０５間で第１のクランピング電圧を有する第１の連鎖部分２０５ａと、第２のクランピング電圧を有する第２の連鎖部分２０５ｂとから構成されており、この場合、第２の部分２０５ｂは第１の部分２０５ａと直列接続されている。
【００５１】
さらに制御可能な半導体スイッチ装置４０２が設けられており、この半導体スイッチ装置４０２は、第１の部分２０５ａと並列接続されていて、第１の部分２０５ａを制御可能に橋絡するために用いられるようになっているので、第１のクランピング電圧と第２のクランピング電圧との合計電圧、又は第１の主接続部１０２に供給される外部の電圧ＶＡをクランピングするための第２のクランピング電圧とが設けられている。
【００５２】
制御回路４０３は、Ｖ−ＩＧＢＴ１００として構成された半導体パワースイッチ装置の所定の運転状態に関連して、制御可能な半導体スイッチ装置４０２を制御するために用いられる。
【００５３】
特に、前記実施例による回路装置は、別個の回路形成によって、図３に破線の特性曲線３０３によって示されているようなクランピング特性を形成することができる。
【００５４】
この第１実施例における中心的な考え方は、クランピング電圧が、火花発生後の時点ｔ２＞ｔｆにおいて、ＶＫＬ＝４００Ｖの高いレベルから著しく低いレベルＶＫＬ′に切り換えられる、という点にある。この低いクランピング電圧ＶＫＬ′は、標準運転中に燃焼過程を妨害しないようにするために、フィードバックされた燃焼電圧ＶＢの有利には上側にある。例えば値ＶＫＬ′＝５０Ｖが有利な値である。時点ｔ２は有利には、時点ｔｆにおける火花発生のできるだけ直後に選択しなければならない。火花発生後のクランピング電圧を減少させることによって、一方では、火花発生段階中の高いクランピング電圧ＶＫＬを維持することによる確実な火花発生が保証される。他方では、Ｖ−ＩＧＢＴ１００内で発生する損失効率及びパルス低下時の熱発生を著しく低下させ、ひいてはパルス強度を低下させる。図３に示されているように、点火コイル２１１に蓄えられたエネルギーの崩壊は、時点ｔ５で終わる長い時間間隔に亘って分配されている。
【００５５】
この特性は、この実施例によれば、図７に示した公知のクランピングダイオード連鎖２０５が、例えば３５０Ｖの破壊電圧を有する遮断特性の高い部分２０５ａと、例えば５０Ｖの降伏電圧を有する遮断特性の低い部分２０５ｂとに分割されていて、遮断特性の高い部分２０５ａが半導体回路装置４０２に橋絡可能である。開放されたスイッチ装置４０２においては、全クランピング電圧ＶＫＬ＝４００Ｖであって、閉鎖されたスイッチ装置４０２においては減少されたクランピング電圧ＶＫＬ′が存在する。
【００５６】
スイッチ装置４０２の切換え状態の選択は、所定の基準に従って相応に構成された制御回路４０３によって行われる。例えば第１実施例においては、温度制御は、チップ温度に基づいて温度センサＴＳを用いて行われる。
【００５７】
温度制御された回路の変化実施例においては、スイッチ装置４０２がｔ＝０においてまず開放されている。温度センサによって検出されたチップ温度は、パルス低下によって所定の温度値を越えると、スイッチ装置４０２は制御回路４０３によって閉鎖され、それによってクランピング電圧は、パルス低下の最後まで電圧ＶＫＬ′に減少せしめられる。パルス低下の最後は、同様に温度を介してつまり例えば所定の温度値を下回ることによって検出されるか、又は所定の時間の経過後に自動的に規定される。
【００５８】
このような温度に関連した制御のために必要な温度センサＴＳは、例えばポリシリコンダイオードによって形成され、その温度に基づく順方向電圧が評価される。これについては、Ｚ．  Ｊ．  Ｓｈｅｎ  ｅｔ  ａｌ．，  ＰＣＩＭ  ’９６，  Ｃｏｎｆ．  Ｐｒｏｃ．，  Ｓ．  １１−１６（ツェット  ジェイ  シェン  その他、ＰＣＩＭ、１９９６年、Ｃｏｎｆ．Ｐｒｏｃ．第１１頁〜第１６頁参照）。さらに一般的に、温度に関連した、ＰＮ移行部の逆方向電流の評価、又は温度に関連した、温度センサＴＳとしてのＭＯＳトランジスタの閾電圧の評価が考えられる。温度センサＴＳは有利には活性領域１３０の中央に配置されている。何故ならば、この箇所でチップが最も熱くなるからである。しかしながら、所定の温度勾配を考慮して、制御回路４０３内での評価を適当に仕様すれば、温度センサＴＳを、チップ中央若しくは活性領域１３０の中央から離れた位置に配置することも同様に可能である。温度センサＴＳ並びに所属の制御回路４０３への電圧供給は、例えば従来技術に従ってアノード電圧又は回路ノード４０５，４０６から行うことができる。
【００５９】
図２には、本発明の第２実施例による点火に使用するための半導体回路装置の制御及びスイッチ部分４０１の概略的な横断面が示されている。
【００６０】
この第２実施例においては、図１に示したスイッチ装置４０２の切換え状態の時間制御された選択が行われており、この切換え状態の選択は、この実施例では制御接続部６５３を備えたＮＭＯＳトランジスタ６５０によって実現され、この場合、別の回路部分がブロック４０３の外側で、電圧レベルスイッチ装置を形成している。
【００６１】
一般的に時間制御された選択においては、スイッチ装置４０２は時点ｔ＝０で同様に開放されている。ｔ＝０で接続ノード２０１における制御信号ＴＳの電圧の遮断後の所定の時間Ｚ２において、スイッチ装置４０２は閉鎖され、クランピング電圧はＶＫＬ′に低下される。
【００６２】
図２に示した特別な制御回路４０３は、抵抗５１０とコンデンサ５１１とから成るＲＣ時限素子を有しており、このＲＣ時限素子は、薄いゲート酸化物５０９だけによって半導体から分離されたポリシリコン電極より形成されている。ＲＣ時限素子は、ｔ＜０の間、接続ノード２０１に印加された制御信号ＳＴの正の電圧から、ダイオード５０９及び減結合抵抗５１４を介して、最大で、ダイオード５０４によって規定された電圧まで負荷される。
【００６３】
これによって、第１及び第２の主接続部５７１若しくは５７２並びに制御接続部５７３を備えた第１のＮＭＯＳトランジスタ５７０は、ｔ＜０の間、スイッチオンされている。ｔ＝０の時点で、接続ノード２０１に０Ｖ（０ボルト）が印加されることによって、Ｖ−ＩＧＢＴ１００はスイッチオフされる。回路ノード４０６は同様に０Ｖとなり、ダイオード５０９は、ＲＣ時限素子の衝撃的な放電を避けるので、ＮＭＯＳトランジスタ５７０はまずスイッチオン状態に維持される。
【００６４】
接続ノード２０１における電圧を遮断することによって、主接続部１０２における電圧ＶＡは、４００Ｖの高いクランピング電圧ＶＫＬまで上昇する。このクランピング電圧ＶＫＬは、ほぼ金属化部１５２及びひいては回路ノード４０４にも存在し、これに対してノード４０５及びノード５１３においてはほぼ低いクランピング電圧ＶＫＬ′が存在する。このために、ダイオード５０５の降伏電圧は、第２の部分ダイオード連鎖２０５ｂの降伏電圧に相当するように選択されている。さらに、ＩＧＢＴチップの縁部領域内に配置された第２のＮＭＯＳトランジスタ６５０のためのゲート保護ダイオード５０７ａ、５０７ｂが設けられており、このゲート保護ダイオードはまず遮断された状態に維持されている。
【００６５】
続いて、ＲＣ時限素子のコンデンサ５１１は、抵抗５１０を介して放電され、これによって、所定の時点ｔ＝ｔ２において第１のＮＭＯＳトランジスタ５７０のスイッチオフが行われる。例えばＶ−ＩＧＢＴ縁部領域内に蛇行状（メアンダ状）に配置された、高電圧に対して強いポリシリコン抵抗６５９を介する順方向電流に従って、ノード５１３における電圧は上昇し、第２のＮＭＯＳトランジスタ６５０を制御する。この第２のＮＭＯＳトランジスタ５６０は、図１に示したスイッチ装置４０２に相当するので、クランピングダイオード連鎖の、遮断特性の高い部分２０５ａが橋絡され、従ってクランピング電圧はＶＫＬ′に低下される。
【００６６】
第１若しくは第２実施例による前記回路装置によって、原理的にすべての使用された素子はＶ−ＩＧＢＴ１００にモノリシックに集積することができる。
【００６７】
図４には、本発明の実施例による点火装置に使用するための半導体回路装置の回路技術的な集積解決策が示されている。
【００６８】
図４に符号６００で一般的な、活性領域１３０と論理回路領域６７０と縁部接続領域１５０′とを備えた集積された回路装置が示されており、この場合、ｎ−バッファ層１４０は選択的である。
【００６９】
図６に示した、構成部分１５２，１５３ｂ，１５５との公知の縁部接続に、図２に示した、遮断特性の高い蛇行状のポリシリコン抵抗６５９及び第２のＮＭＯＳトランジスタ６５０が補われる。
【００７０】
第２のＮＭＯＳトランジスタ６５０はソース金属化部６５１より成っており、このソース金属化部６５１は、高い遮断特性を得るために、所属のポリシリコンゲート６５３のような磁気抵抗素子を備えている。符号６５６はｎ＋ソース領域、符号６５７はｐ＋接点拡散、符号６５８でボディ領域がそれぞれ示されており、このボディ領域の、ゲート６５３下に存在する表面に反転チャンネルを形成することができる。
【００７１】
断面ＢＢ′と断面ＣＣ′との間に配置された、ｐ−論理トラフ５７７（ｐ−Ｌｏｇｉｋｗａｎｎｅ）を備えた論理領域内には、別の素子の代わりを成す第１のＮＭＯＳ−トランジスタ５７０が示されている。このＮＭＯＳ−トランジスタ５７０は、ソース金属化部５７１と、Ｎ＋ソース領域５７６と、ｎ＋ドレーン金属化部５７２と、ｎ＋ドレーン領域５７５と、ゲート電極５７３とから成っている。符号５７７で、所属のｐ−トラフ（Ｐ−Ｗａｎｎｅ）が示されている。
【００７２】
接続回路の大きい自由度を得るために、ｎ＋ソース源５７６は、ソース金属化部５２１を介して個別に接触可能であって、ｐ−トラフ５７７に短絡されていない。ｐトラフ５７７は、Ｖ−ＩＧＢＴのカソード領域１０１，１０７，１０８と同じポテンシャルにある。従ってｐ−トラフ５７７は、アノード側のエミッタ１０５によってエミッタされた孔のようにみなされる。できるだ妨害のない論理機能を保証するために、ｐ−論理トラフ５７７はできるだけ多くの箇所で、Ｐ＋接点拡散１０７を介してカソード１０１に接合される。最適な解決策によれば、図４に示されているように、各個別のＮＭＯＳトランジスタを、カソード接続部１０１に接続されたｐ＋接点拡散及びボディ拡散１０７，１０８によって完全にリング状に包囲するようになっている。
【００７３】
図５には、本発明の実施例による、点火装置に使用するための半導体回路装置の回路技術的な集積解決策の概略的な平面図が示されている。
【００７４】
図５には、既に使用された符号７０３に対して付加的に、ポリシリコンダイオード連鎖２０５ａ，２０５ｂ、５０５，５０６内に配置された領域が示されている。符号７０２は、ゲート１０３に電気的に接続された金属性のゲートボンディングランドを示す。符号７０１は、Ｖ−ＩＧＢＴの活性部分１３０内に配置されたカソード１０１のカソード金属化部の部分領域であるカソードボンディングランドを示す。
【００７５】
本発明は、もっぱら図示の有利な実施例を用いて説明されているが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではなく、多くの変化実施例が可能である。
【００７６】
本発明は、面状のｎ−チャンネル−ＰＴ−ＩＧＢＴについて説明されているが、原則として、例えば面状のｐ−チャンネルＰＴ−ＩＧＢＴ、平面状のＮＰＴ−ＩＧＢＴ、トレンチ−ＰＴ−ＩＧＢＲＴ、トレンチ−ＮＰＴ−ＩＧＢＴ、ＳＰＴ−ＩＧＢＴ、平面状のゲート又はトレンチ−ゲートその他を備えたＭＯＳトランジスタ等の別の電力スイッチに転用することもできる。
【００７７】
例えばドーピング形式及び印加された電圧の正負を入れ替えることによって、ｎ−チャンネル−ＩＧＢＴから相応のｐ−チャンネル−ＩＧＢＴを得ることができる。一般的にｐ−チャンネル−ＩＧＢＴは、ｎ−チャンネル−ＮＰＴ−ＩＧＢＴに対して、ラッチアップ（Ｌａｔｃｈ−ｕｐ）強度に関しては有利であるが、アバランシェ（Ａｖａｌａｎｃｈｅ）強度に関しては不利である。
【００７８】
μｓ領域内に時定数を有するＲＣ時限素子を図示するにはスペースが小さすぎる。同様に集積可能な選択は、後置接続された周波数分割器を有するマルチバイブレータを、制御回路内におけるＲＣ時限素子の代わりに、例えばＮＭＯＳ−抵抗論理内に使用することである。接続されたクランピングの前記実施例は、以下の図示していない実施例ではさらに簡略化されている。多数の火花が連続的に生ぜしめられない場合のことを考慮すれば、図３に示した特性曲線３０３による長いパルスの連続が生じた場合、平均的な損失効率が図３に示した特性曲線３０２によるパルスの連続と比較して上昇する。その結果生じる、回路装置の構造技術的及び接続技術的な損傷を避けるために、運転時に補助論理によって警告信号が生ぜしめられ、この警告信号は最終段階制御がさらに行われることを阻止する。
【００７９】
例えば時点ｔ２と時点ｔ５との間の時点ｔにおいて、ノード４０５又はゲート接続部１０３の電圧状態が問い合わせられる。この電圧状態が所定の閾値を越えて、図３の特性曲線３０３で示したパルス低下を示すと、まずノード４０６において正の制御信号が抑制されるか、又はエラーカウンターに記録される。このエラーカウンターは、図３に示した特性曲線３０３に従って所定数のパルスに達すると、ノード４０６における別の正の制御信号を阻止する。必要な論理及び場合によっては必要なエラーカウンターは、一般的な形式で同様にモノリシックに集積されるか、若しくは外部に配置される。
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明の第１実施例による、点火に使用するための半導体回路装置の概略的な横断面図である。
【図２】
本発明の第２実施例による、点火に使用するための半導体回路装置の制御部およびスイッチ部の概略的な横断面図である。
【図３】
点火にしようするための一般的な半導体回路装置及び本発明の実施例における、半導体パワースイッチ装置のアノード電圧のクランピングの時間的経過を示す概略図である。
【図４】
本発明の実施例による点火に使用するための半導体回路装置の回路技術的な集積分解の概略的な横断面図である。
【図５】
本発明の実施例による、点火に使用するための半導体回路装置の回路技術的な集積解決策の概略的な平面図である。
【図６】
公知のＮＰＴ−ＩＧＢＴもしくはＰＴ−ＩＧＢＴの概略的な横断面図である。
【図７】
垂直なＩＧＢＴが内燃機関のための点火コイルの一次回路内の点火トランジスタとして使用されている一般的な回路トポロジーを示す図である。
【符号の説明】
ＶＳ，ＲＳ  前側、後ろ側
ＡＡ′，ＢＢ′，ＣＣ′  断面
１０２  アノード接続部
１０１  カソード接続部
１０５  裏側のＰ＋エミッタ
１４０  ｎバッファ層
１０４  ｎ−ドリフト領域
１０９  ゲート酸化物
１０８  ｐ−ボディ領域
１０６  ｎ＋ソース領域
１０７  ｐ＋接点領域
１０３  ゲート接続部
１１０  中間誘電体
１３０  活性領域
１５０  縁部領域
１５３ａ  ポリ−磁気抵抗素子
１５３ｂ  ポリ−磁気抵抗素子
１５２  金属化部
１５５  チャンネルストッパ
１５９  電界酸化物
Ｅ    電界強さ
Ｙ    厚膜形成方向
２００，４００  回路装置
２０１，２０２，２０３  接続ノード
２０４，２０６  ダイオード
２０５  クランピングダイオード連鎖
２０５ａ，２０５ｂ  部分クランピングダイオード連鎖
２０７，２０８  抵抗
ＧＮＤ  アース
ＶＡ  電圧
１００  Ｖ−ＩＧＢＴ
２１０  ＶＢａｔのためのノード
２１１  点火コイル
２１３  ダイオード
２１４  抵抗
２１２  点火プラグ
ＳＴ  制御信号
４０１  補助回路
４０２  スイッチ装置
４０３  制御回路
ＴＳ  温度センサ
４０４，４０５，４０６，４０７  回路ノード
５０９，５０４  ダイオード
５１０，５１１  ＲＣ−時限素子
５７０  第１のＮＭＯＳ−トランジスタ
５７１，５７２，５７３  ５７０の接続部
５０５，５０６，５０７ａ／ｂ，５０８，５１２  ダイオード
５１３  ノード
６５０  第２のＮＭＯＳ−トランジスタ
６５３  ６５０の制御接続部
３０１，３０２，３０３  クランピング特性曲線
ｔ  時間
ＶＢ  フィードバックされた燃焼電圧
ＶＫＬ，ＶＫＬ′  クランピング電圧
５７５，５７６  ５７０のソース、ドレーン
５７７  ５７０のｐ−トラフ
６５１  ６５０のソース金属化部
６５７，６５８  ６５０の接点核酸
６５６  ６５０のソース
７０１  カソードボンディングランド
７０２  ゲートボンディングランド
７０３  ダイオード連鎖領域
【国際公開パンフレット】
2005506707.tif 000003
2005506707.tif 000004
2005506707.tif 000005
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2005506707.tif 000047
2005506707.tif 000048
【国際調査報告】
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