(57)【要約】本発明は、ドライシェービング器具のシェービングヘッド用洗浄装置に向けられている。洗浄装置１は、シェービングヘッドを受容するように適合されたレセプタクル２を含む。ポンプ５は、洗浄液体４をリザーバ３からレセプタクル２内に移送する為に動作する。レセプタクル２の下部領域とリザーバ３間の制御可能なドレイン９は、洗浄液体４が必要になるまでリザーバ３に戻らないことを確実にしている。これは、ポンプ５が永久に作動することを必要とせず、洗浄されるべきシェービングヘッドに洗浄液体４が接触する時間を引き延ばす。
2005518851.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レセプタクル、リザーバ、流体推進装置を備えたドライシェービング器具のシェービングヘッド用洗浄装置において、前記レセプタクルは、前記シェービングヘッドを受容するように適合され、前記リザーバは、洗浄液体を保存し、前記流体推進装置は、前記洗浄液体を前記リザーバから前記レセプタクル内に移送する、前記洗浄装置であって、
洗浄サイクルの為に前記レセプタクル（２）は、所定レベル（Ａ）まで洗浄液体（４）で満たされるように適合され、前記レセプタクル（２）は、制御可能なドレイン（９，１０，１７，１８）を有し、これらのドレイン（９，１０，１７，１８）を通して前記レセプタクル（２）が空にされることを特徴とする、前記洗浄装置。
【請求項２】
前記制御可能なドレインは、チャネル（９）であり、このチャネル（９）は、その下部領域（８）でレセプタクル（２）を洗浄液体（４）用前記リザーバ（３）に接続し、前記リザーバ（３）は、前記レセプタクル（２）の下に配置され、チャネル（９）は、前記洗浄サイクルに必要な最大液体レベル（Ａ）を超えて配置される少なくとも一つの部分（１０）を有することを特徴とする、請求項１記載の洗浄装置。
【請求項３】
前記レセプタクル（２）または前記チャネル（９）において、前記洗浄サイクルに必要な前記最大液体レベル（Ａ）を超えて位置する前記部分（１０）を迂回する際、前記チャネル（９）または前記洗浄サイクル用前記リザーバ（３）内に通じているバイパス（１１）を備えることを特徴とする、請求項１または２記載の洗浄装置。
【請求項４】
前記バイパス（１１）は、前記チャネル（９）と比較すると小さな有効流体断面を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の洗浄装置。
【請求項５】
前記バイパス（１１）は、前記洗浄液体（４）の排液を遅くする材料（１２）、特に繊維、好ましくは、マット型またはウィック型の材料を収容することを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の洗浄装置。
【請求項６】
前記制御可能なドレインは、チャネル（１７）であり、このチャネル（９）は、その下部領域（８）でレセプタクル（２）を洗浄液体（４）用前記リザーバ（３）に接続し、前記リザーバ（３）は、前記レセプタクル（２）の下に配置され、密閉装置（１８）が前記チャネル（１７）内に配置されていることを特徴とする、請求項１記載の洗浄装置。
【請求項７】
前記密閉装置（１８）は、バルブ、好ましくは電磁バルブであることを特徴とする、請求項６記載の洗浄装置。
【請求項８】
前記密閉装置（１８）は、前記洗浄液体（４）が前記レセプタクル（２）から前記洗浄液体用前記リザーバ（３）に通過できない方式で前記チャネル（１７）の可撓性壁部を閉じる可動要素を備える、請求項６記載の洗浄装置。
【請求項９】
前記液体レベルを測定する為にセンサ（１４）を備えることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の洗浄装置。
【請求項１０】
前記センサ（１４）は、静電容量または導電率を測定する為のセンサまたはフロートにより起動されるスイッチであることを特徴とする、請求項９記載の洗浄装置。
【請求項１１】
前記洗浄装置（４）は、前記リザーバ（３）から前記レセプタクル（２）内へインレット（７）により移送されるように適合され、前記インレット（７）は、前記下部領域（８）で前記レセプタクル（２）に通じていることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の洗浄装置。
【請求項１２】
前記洗浄装置（４）は、前記リザーバ（３）から前記レセプタクル（２）内へインレット（７）により移送されるように適合され、前記インレット（７）は、前記洗浄サイクルに必要な前記最大液体レベル（Ａ）を超えた位置で前記レセプタクル（２）に通じていることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の洗浄装置。
【請求項１３】
前記インレット（７）にチェックバルブ（１５）が配置されていることを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の洗浄装置。
【請求項１４】
前記レセプタクル（２）は、流出路（１３）を有することを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の洗浄装置。
【請求項１５】
前記流出路（１３）の一端部は、最大液体レベル（Ｂ）を超えた点でレセプタクル（２）に通じていることを特徴とする、請求項１４に記載の洗浄装置。
【請求項１６】
前記流出路（１３）の一端部は、前記洗浄液体（４）用前記リザーバ（３）又は前記チャネル（９，１７）の下端部に通じていることを特徴とする、請求項１〜１５に記載の洗浄装置。
【請求項１７】
前記洗浄装置（１）は、少なくとも一つの加熱素子（１６）を有することを特徴とする、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の洗浄装置。
【請求項１８】
前記加熱素子（１６）は、電気抵抗であることを特徴とする、請求項１７記載の洗浄装置。
【請求項１９】
前記電気抵抗（１６）は、ワイヤ、フォイル、厚膜、又は化学的又は物理的に堆積された薄膜である、請求項１８記載の洗浄装置。
【請求項２０】
前記加熱素子（１６）は、前記レセプタクル（２）の内側または外側に配置されていることを特徴とする、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の洗浄装置。
【請求項２１】
前記加熱素子（１６）は、伝熱体を介して洗浄液体（４）に接触したままになっていることを特徴とする、請求項１〜２０のいずれか一項に記載の洗浄装置。
【請求項２２】
前記加熱素子（１６）は、少なくとも電気的に絶縁性の中間層を介して洗浄液体（４）に接触したままになっていることを特徴とする、請求項１〜２１のいずれか一項に記載の洗浄装置。
【請求項２３】
前記レセプタクル（２）は、電気的に導電性のプラスチック材料から形成され、加熱素子（１６）として構成されていることを特徴とする、請求項１〜２２のいずれか一項に記載の洗浄装置。
【請求項２４】
前記加熱素子（１６）は、加熱用ラジエータであることを特徴とする、請求項１〜２３のいずれか一項に記載の洗浄装置。
【請求項２５】
渦電流が流される金属部分が、加熱素子（１６）として備えられていることを特徴とする、請求項１〜２４のいずれか一項に記載の洗浄装置。
【請求項２６】
前記シェービングヘッドの金属部分は、加熱素子（１６）として使用されることを特徴とする、請求項２５記載の洗浄装置。
【請求項２７】
少なくとも２つの化学物質が、発熱反応で加熱素子（１６）を形成することを特徴とする、請求項１７記載の洗浄装置。
【請求項２８】
前記洗浄液体（４）は、発熱反応用開始物質であることを特徴とする、請求項２７記載の洗浄装置。
【請求項２９】
前記レセプタクル（２）内に含まれる洗浄液体（４）または加熱素子（１６）の温度をモニタする為のセンサを備えることを特徴とする、請求項１〜２８のいずれか一項に記載の洗浄装置。
【請求項３０】
前記加熱素子（１６）は、温度に敏感な抵抗として設計されていることを特徴とする、請求項２９記載の洗浄装置。
【請求項３１】
前記洗浄装置（１）内で前記ドライシェービング器具をロックする為のロック要素（２５）を備えることを特徴とする、請求項１〜３０のいずれか一項に記載の洗浄装置。
【請求項３２】
前記ロック要素（２５）は、手動または自動で起動可能になることを特徴とする、請求項３１記載の洗浄装置。
【請求項３３】
前記ロック要素（２５）は、２つの双安定性制限位置（２６，２７）の間で移動可能であることを特徴とする、請求項１〜３２のいずれか一項に記載の洗浄装置。
【請求項３４】
前記ロック要素（２５）は、ポンプ（５）の回転方向に依存し、好ましくは２つの起動要素（１９，２４）により、２つの双安定性制限位置（２６，２７）の間で移動可能であることを特徴とする、請求項１〜３３のいずれか一項に記載の洗浄装置。
【請求項３５】
前記ポンプ（５）の下流側に、前記起動要素（１９，２４）を交互に制御可能とする制御バルブが備えられていることを特徴とする、請求項１〜３３のいずれか一項に記載の洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【発明の内容】
【０００１】
この発明は、レセプタクル、リザーバ、流体推進装置を備えたドライシェービング器具のシェービングヘッド用洗浄装置であって、レセプタクルは、シェービングヘッドを受容し、リザーバは、洗浄液体を保存し、流体推進装置は、リザーバからレセプタクル内に洗浄液体を移動させる為にモータで駆動されるのに適合されている、上記洗浄装置に関する。
【０００２】
この種の洗浄装置は、ＤＥ４４０２２３７Ｃ１から既知である。この装置において、ドライシェービング器具は、そのシェービングヘッドと共にレセプタクル内に挿入される。レセプタクルは、シェービングヘッドの外形に適合するようにトラフ状になっており、完全にシェービングヘッドを収容する。レセプタクルは、収集容器内に通じるアウトレット開口部と流出路を有する。収集容器は、導管により、洗浄液体を含むリザーバに接続されている。洗浄サイクルの初期に、洗浄液体は、モータ駆動推進装置によりリザーバ外からレセプタクル内に移される。アウトレット開口部と推進装置は、洗浄液体がアウトレット開口部を通って、更に、流出路を通って収集容器内に放出されるように調整される。流出路は、安全装置として同時に機能するが、この安全装置は、洗浄液体がレセプタクル内で所定レベルを超えることを防止する。この方法において、洗浄液体は、レセプタクルを介して連続的に洗浄サイクル中に洗い流される。髭の残留物は、レセプタクルの連続した洗い流しの結果、半永久的に運び去られる。
【０００３】
このアレンジメントの欠点は、レセプタクルの連続した洗い流しのため、洗浄サイクルの全期間中、推進装置が動作状態に維持されなければならない点である。さらに、洗浄サイクル中、レセプタクルが常に満たされている為には、或いは、洗浄液体がアウトレット開口部を通って、更に、流出路を通って放出される為には、推進装置が比較的に高い送出速度を持つ必要がある。これは、高いモータ速度のため、洗浄装置の使用者が外乱と考えるかもしれない現実的レベルのノイズが生じる。アウトレット開口部の大きさを減少し、それにより、洗浄液体の処理能力を減少することが企図されよう。モータとモータ駆動推進装置は、その後、低速で作動可能であり、これにより、ノイズは減少するであろう。しかし、アウトレット開口部は、洗い流された髭が放出されるために十分な大きさを持たなければならない。そのため、アウトレット開口部が願望で減少されることは不可能である。さらに、洗浄液体の流動処理能力を備えた洗浄装置の洗浄効果は、一定の場合、既に不十分になっている。特に、シェービングヘッドが、ドライシェービング器具の使用後ただちに洗浄されないとき、皮膚、髭粒子であって皮脂、汗、水及び／又はスキンクリームと結合したものを含むシェービングヘッド上の残留物は乾燥する可能性があり、それにより、特に頑強な堆積物を形成する。極端な場合、レセプタクル内の洗浄液体のストリームばかりかシェービングヘッドの追加的な運動でさえ、これらの頑強な付着堆積物を短時間で取り除くことは不充分である。洗浄サイクルに先立ち、短期間のソーキング段階で、これらの堆積物を確実に溶かすこと、或いは、少なくとも初期に取り除くことは可能でさえない。したがって、シェービングヘッド上に満足のいく洗浄効果を達成する為に、洗浄処理は非常に長時間かかる。しかし、モータ駆動推進装置とドライシェービング器具の長時間の運転は、相当なノイズ迷惑行為になる。さらに、洗浄液体の様々な成分（例えば、アルコール）は、洗浄装置及びドライシェービング器具の構成要素を長い洗浄時間中に腐食させる可能性があり、そのため、適切な材料や適用された表面仕上げの選択を限定する。
【０００４】
本発明の目的は、ドライシェービング器具のシェービングヘッド用洗浄装置であって、これを用いて、たとえシェービングヘッド上の頑強な堆積物でさえ除去可能であり、簡単な構成を持ち、可能な限りノイズが生じない、洗浄装置を提供することである。
【０００５】
この目的は、請求項１の特徴により達成される。従属する請求項には、有利な実施形態が記載されている。
【０００６】
本発明の洗浄装置は、制御可能なドレインを持ち、これを通って、レセプタクルは制御自在に空にすることができる。制御可能なドレインは、洗浄液体が早期にレセプタクルから排液されることを防止する。したがって、推進装置を駆動するモータは、洗浄液体がいったん、洗浄の為に十分なレセプタクル内の一定レベルに達したらスイッチが切られる。そのため、モータと推進装置が洗浄サイクル中に半永久的に作動する必要はないので、洗浄装置による相当のノイズ放出の減少になる。洗浄サイクル中にレセプタクルを満たすのに必要なポンプ速度は、所望の充填時間だけに制約され、洗浄装置の技術的特徴（例えば、アウトレット開口部を通過する量）に最早制約されない。したがって、ポンプ速度、すなわち、ノイズ放出は、更に減少可能である。新しい洗浄装置も同様に、使用者が処理中に聴覚的に害されることなく、実際の洗浄サイクル前のソーキング工程を可能にする。そのため、このソーキング工程は、相当に延長可能であり、洗浄液体を長時間残し、堅く付着した堆積物を溶かす。他の利点は、循環される洗浄液体の量が著しく減少される点である。半永久循環と異なり、洗浄液体は、洗浄液体のリザーバ内に長く滞在し、その結果、汚染粒子はシェービングヘッドから運び去られ、洗浄液体のリザーバ内に沈殿する為に、より長い時間を有する。洗浄液体が、次にリザーバから移されるとき、吸引される洗浄液体は、汚染粒子を伴う目詰まりが少ない。その結果、ポンプの上流側に接続されたフィルタは、汚染粒子を伴う目詰まりが少なく、そのため、使用可能な寿命が延びる。
【０００７】
有利な態様において、制御可能なドレインはチャネルであり、その構成は、ピペットの原理に基づく。チャネルは、下部領域内のレセプタクルを洗浄液体のリザーバに接続し、リザーバは、レセプタクルの下方に配置される。チャネルは、レセプタクル内の洗浄の為の最大液体レベルを超えて配置される部分を有する。レセプタクルは充填されるので、前記一部分の先に横たわるチャネルの一部は、同時に充填される。ドレインは、ポンプにより制御される。いったん、洗浄サイクルが終了すると、ポンプは一時的にスイッチが入れられるので、洗浄液体はレセプタクル内に供給され続ける。同時に、チャネル内の液体レベルは、洗浄に必要な最大液体レベルを超えて配置される上記部分まで上昇する。そのため、洗浄液体は、洗浄液体用リザーバ内に逆流可能である。ピペットの原理によると、たとえ、液体が洗浄に必要なレセプタクル内の最大レベル以下であっても、洗浄液体は、ポンプの遮断にも拘わらず、チャネルを通って洗浄液体のリザーバ内に流れ続ける。この方法で、レセプタクルは、短時間で、ほぼ完全に空にされる。空にするのに必要な時間は、この場合、実施される流量横断面と、レセプタクルの下部領域および洗浄液体用リザーバ間の高さの差と、に依存する。取り除かれる全粒子は、排液中に生じる吸入により確実にレセプタクルから除去される。この実施形態の利点は、物理的降下を使用するお陰で、レセプタクルを空にする為に何も追加の構成要素が必要ないことである。特に、洗浄液体が洗浄処理中にレセプタクル内に残ることを確実にするためにシールを付けることは不要である。さらに、制御可能なドレインは、残留物が収集可能なスロットル要素が不要である。
【０００８】
制御可能なドレインの結果、レセプタクルは、シェービングヘッド外への残留物の滴下より早く空にすることが可能である。洗浄液体の、この残留物量は、レセプタクルの下部領域内に集まるが、洗浄液体がピペット原理に従いチャネルを通って排出する液体レベルに達することはない。残留物量は、再び使用される前に、通常、次の日に蒸発する。これにより、許容できない高レベルの洗浄液体の消費が生じるであろう。この残留物量の蒸発は、バイパスアレンジメントにより防止可能である。バイパスは、洗浄の為に必要な最大液体レベルを超えて位置するチャネル部分を迂回する。さらに、バイパスは、特に小さな有効流体横断面を有する。その結果、レセプタクル内の液体レベルは、洗浄サイクル中、僅かに下がるだけであるが、残留物量は、それにも拘わらず、蒸発前に洗浄液体用リザーバ内に逆流可能である。一方、バイパスの小さな有効流体横断面は、洗浄液体の排出を妨害する為にバイパス内に置かれた材料により達成することができる。この材料は、例えば布でもよく、好ましくは、マット型またはウィック型の材料である。一方、小さな有効流体横断面は、非常に小さな直径を持つバイパスにより実現可能である。
【０００９】
特別に選択された流体横断面と、チャネルの開始部と終了部との間の適した高さの差のために、比較的に高い流速、従って、レセプタクルの早期排出を達成することが可能である。高い流速の利点は、洗浄中に取り除かれレセプタクルの下部領域内に沈殿する髭粒子と堆積物が、排出中、流体ストリームにより伴出され、そのため、効果的にバイパス開口部の目詰まりが防止できる点である。
【００１０】
他の態様において、制御可能なドレインは、チャネルであり、チャネルは、レセプタクルの下部領域を洗浄液体用リザーバに接続する。閉鎖装置は、バルブとして構成されるとき、特に簡単な構成を有する。バルブは、洗浄処理に依存し、必要に応じて開閉する。バルブは、例えば電磁バルブでもよい。さらに、洗浄液体がリザーバ内に排出しないように、この領域内の可撓性チャネル壁を絞る可動要素を閉鎖装置としてチャネルの周囲に配置することが考えられる。これらの態様の本質的な利点は、レセプタクルと洗浄液体用リザーバ間のチャネルの、比較的に短い長さにある。その結果、本発明の洗浄装置における空間的必要性は低い。
【００１１】
センサの配置形態は、十分な洗浄液体量を持つレセプタクルを充填するには有利である。制御可能なドレインとして実行する為、ピペット原理に基づきチャネルを使用する洗浄装置の場合、センサは、このチャネル内または上に都合良く配置される。この配置形態でセンサは、例えば、ドライシェービング器具がレセプタクル内に挿入されるときの損傷から保護される。この種のセンサは、例えば、ポンプを遮断する為にフロート起動型スイッチでもよい。この実施形態において、フロートは、レセプタクル内に入る洗浄液体と共に上昇する。いったん、洗浄液体がレセプタクル内の必要レベルまで達すると、スイッチはフロートにより起動され、更なる洗浄液体の流入が停止される。また、静電容量型センサを使用することも可能である。このセンサは、所望液体レベルの高さに配置される。いったん、洗浄液体がセンサに達すると、センサにより測定された信号（導電率、静電容量など）が変わる。ポンプは、この信号変化により制御可能である。
【００１２】
他の実施形態において、洗浄液体でレセプタクルを十分に満たすことは、ポンプが作動時間により特に簡単に調節可能である。ポンプの送出速度は一定なので、ポンプの作動時間も液体レベルの為の物差しとして使用可能である。この実施形態の本質的な利点は、レセプタクル付近に何も追加のセンサを置く必要がない点である。
【００１３】
もし、レセプタクルへの洗浄液体の為のインレットが、下部領域内に配置される場合、インレット内にチェックバルブを配置することが有利である。そのため、ポンプが起動していないとき、インレットは閉鎖され、洗浄液体がインレットを通って洗浄液体用リザーバ内に逆流することが不可能になる。他の実施形態において、もし、洗浄液体がリザーバ内に逆流することをポンプ段が防止するか、洗浄液体のレセプタクルへのインレットが洗浄処理に必要な液体レベルを超えて配置される場合、チェックバルブの配置形態を省くことは可能である。
【００１４】
例えば、制御可能なドレインの妨害又はポンプの非作動の為に洗浄液体がレセプタクルから外側に流出することを防止するように流出路を配置することは有利である。流出路は、制御可能なドレインを洗浄液体が通り、洗浄液体用リザーバ内に逆流する液体レベルを超えて配置されている。これにより、制御可能なドレインの動作は、特に、ピペット原理に基づくチャネルを使用するとき、流出路により妨害されない。流出路が洗浄液体用リザーバに接続されている場合、流出路は、リザーバの為の吸気および通気用導管として作動可能であるので、洗浄液体の大いに速い戻りを確実にする。
【００１５】
洗浄装置の洗浄効果は、レセプタクル又はレセプタクル内の洗浄液体が加熱素子で加熱されるとき、強化可能である。シェービングヘッド上の堆積物の付着効果は、皮脂とスキンクリームに主として起因している。スキンクリームの主成分は、ワセリンである。皮脂とワセリンの溶融点は、３７℃及び３９℃である。堆積物が４０℃を超えて加熱されると、これら２つの成分は、柔らかくなり、それらを取り除くことが容易になる。洗浄液体がシェービングヘッドによりかき回される場合、除去は一層改善可能である。これにより、洗浄液体内で堆積物が細かく分散されて見出し得る懸濁が生み出される。洗浄液体用リザーバ内に洗浄液体が移される間、洗浄液体の温度は降下し、洗浄液体の温度が溶融点未満に降下するとき、リザーバ内の取り除かれた堆積物を沈殿させる。
【００１６】
洗浄液体の加熱は、以下の利点を有する。一方、固く付着する堆積物は、より有効に軟化され、洗浄液体の高い温度の結果、これらの堆積物を液体ストリームにより簡単に除去できるようにして、初めて取り除かれる。一方、洗浄液体の加熱は、また、その化学的降下を高め、それは、再び、堆積物の除去を促進する。そのため、以前は除去するのが不可能であった堆積物を除去することが可能である。同時に、洗浄処理中、ドライシェービング器具の作動時間は、著しく減少可能であり、これは、使用者に対するノイズという迷惑行為が更に減じられることを意味する。洗浄液体の加熱は、液体の化学的効果を支持することを考慮すると、同一効果を達成する間、あまり攻撃的でない液体に頼ることが可能であり、それにより、環境公害および洗浄装置に作用する負荷（例えば、塗装及び表面仕上げ処理）を減少する。さらに、加熱は、シェービングヘッドの後の乾燥に使用可能である。従来の装置で使用されるタイプの送風機は、省くことができる。そのため、洗浄装置の構成は単純化される。また、これは、送風機に起因するノイズという迷惑行為もなくなるということを意味する。他の実施形態において、洗浄液体の既存の残留物量は、後の乾燥処理において、加熱器により蒸発可能である。そのため、シェービングヘッドは、広く消毒される。
【００１７】
加熱は、レセプタクル内、または、レセプタクルの直接近傍内のワイヤ、フォイル、印刷された化学的に堆積された電気的導電層の形式の一又は幾つかの電気抵抗により実施可能である。加熱器は、洗浄装置またはドライシェービング器具内に、伝熱体または少なくとも電気的に絶縁性の中間層を介して直接または間接的に洗浄液体に接触したままの加熱素子を備えて配置可能である。他の実施形態において、レセプタクルは、導電性プラスチック部分から構成され、そのため、加熱素子自体を形成する。
【００１８】
また、加熱素子は、電気加熱ラジエータとして加熱素子を構成することが考えられるが、これは、洗浄液体を直接加熱あるいは熱伝導体により加熱する。後者の場合、特に、加熱ラジエータは、設備の一地点に接続されない。
【００１９】
他の実施形態において、加熱素子は、金属部分で構成され、この中で渦電流が高周波電界で生成され、これが、金属部分の加熱になる。金属部分は、洗浄液体を直接的または間接的に加熱可能である。この実施形態において、特に有利なことは、シェービングヘッド、特に金属切断部分を加熱素子として使用する点である。この実施形態における加熱は、また、後の洗浄にも使用され、消毒効果は、洗浄液体の蒸発を有することなく、金属部分の温度を高めることにより、達成可能である。
【００２０】
熱したがって加熱の為に放出されたものを用いて、互いに接触または他の物質との接触を介して、一または幾つかの化学的物質を加熱素子として使用することも考えられる。選択されたシステムに依存して、化学反応は、一回あるいは数回、開始可能である。数回の開始は、特に当惑された回数第２の反応を追加することにより簡単に実施される。洗浄液体自体は、都合良く、反応が生じる反応体または成分である。反応が洗浄液体と別個に生じ、熱を洗浄液体に後で供給することは可能である。
【００２１】
適切な装置、好ましくは温度センサが提供され、所定の最大温度が維持される。特に適切なことは、加熱素子として、温度に敏感な抵抗を使用することである。この場合、加熱素子は、センサの作業を実施し、所定温度が超過したとき、自動的に加熱パワーを減らす。さらに、静止状態で丁度充分な温度に達するのに十分に低い加熱パワーを選択することが有利である。
【００２２】
洗浄液体の有効な動作のため、加熱パワーは、早く加熱処理を達成する為に、初期に高くすることができる。一定時間または一定状態の検出の後、加熱パワーは充分な低い温度まで減少される。有利なことに、洗浄液体を用いたレセプタクルの、たった一回の装入は、洗浄サイクル中の時はいつでも加熱される。残留洗浄液体は、室温のままなので、可能な後の洗い流し操作は、冷たい洗浄液体で実施可能である。この利点は、高温洗浄により取り除かれた脂っこい組成の部分が、滑剤として作用するシェービングヘッドの部品に均等に分布されることである。
【００２３】
洗浄サイクルが進行中の間、ドライシェービング器具が洗浄装置から除去できないことを確実にするため、ドライシェービング器具を洗浄装置に固着することが有利である。これにより、ドライシェービング器具が除去されるとき、洗浄液体が思いがけず流出することが防止される。このアレンジメントにおいて、ドライシェービング器具を洗浄サイクルの初期にロックし、使用者側の介入を有することなく、それが実施されるときにアンロックする自動ロックは、特に有利である。この種のロックは、使用者側の介入を有することなく実施されるので、非常に便利である。
【００２４】
ロックが、可逆回転型ポンプにより水圧で実施されるのは簡単である。ポンプが移動方向で動作するとき、ドライシェービング器具が適切なロック要素でロックされ、ポンプの回転方向が逆になったとき、それがアンロックされる。チェックバルブがレセプタクルに対するインレットに配置され、かつ、ロック要素を起動する為の圧力がチェックバルブを開く為の圧力より低い場合、ロック及びアンロックの為の循環は、洗浄の為の液体運搬に障害を生じることなく、流動的に洗浄用循環に接続可能である。このタイプの実施形態は、洗浄液体がレセプタクル内に運搬される前にドライシェービング器具が最初にロックされるという追加の利点を有する。
【００２５】
本発明の更なる目的、特徴、利点、応用可能性は、実施形態の後の説明から明らかになろう。例示で説明或いは表された単一特徴または単一特徴の組合せは、それらの請求項の概要または背景的参考資料に拘わらず、本発明の主題を形成することが理解されよう。
【００２６】
以下、幾つかの実施形態を参照して、本発明を説明する。
【００２７】
図１に示される洗浄装置１は、レセプタクル２，洗浄液体４の為のリザーバ３を有する。ポンプ５は、推進装置として配置され、これは、モータにより駆動される。ポンプ５は、歯車式ポンプとして構成されている。しかし、他の適した変位または流体ポンプが置換可能である。ポンプ５は、洗浄液体４をリザーバ３から吸入管６により吸い込み、それを、インレット７を通してレセプタクル２に移す。チェックバルブ１５は、インレット７に配置され、洗浄液体４がインレット７を通って排出することを防止する。洗浄液体がリザーバ３内に逆流することを防止するようにポンプ５が設計されている場合、チェックバルブは省くことができる。図示されていないが、ドライシェービング器具は、そのシェービングヘッドをレセプタクル内の下方に挿入可能であり、シェービングヘッドは完全にレセプタクル２により収容される。チャネル９の一端は、レセプタクル２の下部領域８内に配置される。チャネル９は、下部領域８から上方に伸びている。上部領域１０において、チャネル９は、下方に偏向され、洗浄液体４の為のリザーバ３内に導かれる。
【００２８】
バイパス１１は、レセプタクル２の下部領域８を、上部領域１０を迂回することによりチャネル９に接続する。バイパス１１は、マット型材料１２で満たされている。マット型材料１２は、洗浄液体４にとって低レベルの浸透率なので、レセプタクル２内の洗浄液体４のレベルは、全洗浄処理中、洗浄を損なわない量だけ低下し得る。リザーバ３内に同様に導く流出路１３は、チャネル９の領域１０を超えてレセプタクル２の上部に配置される。洗浄サイクルの初期に、ポンプは、洗浄液体４をレセプタクル２内に移し、これにより、チャネル９は、また、部分的に充填される（図の右側部分）。静電容量型液体レベルセンサ１４は、チャネル９内に配置されている。洗浄液体４が液体レベルセンサ１４に達すると、センサ１４により供給される信号が変わり、ポンプ５は停止する。この時点で、洗浄液体４は、レベルＡに達した。レベルＡは、洗浄に必要な最大液体レベルであり、ここで、ドライシェービング器具のシェービングヘッドが充分に洗浄液体４に浸される。レベルＡは、チャネル９の上部領域１０のすぐ下にある。レセプタクル２を空にする為に、ポンプ５は、再び始動し、追加の洗浄液体４をレセプタクル２に供給する。洗浄液体４は、そのため、急にレベルＢまで上昇する。その結果、洗浄液体４は、チャネル９の上部領域１０を通ってリザーバ３内に放出される。同時にポンプ５は停止される。チャネル９の、上部領域１０を備えた特別な幾何学的形状は、レセプタクル２を組合せ、サイフォンを形成し、これにより、上部領域１０より上流側にあるチャネル部がピペットを形成する。したがって、ポンプ５のスイッチが切られ、液体レベルがレベルＢやレベルＡの下方に降下しても、レセプタクル２が空になるまで、洗浄液体は、チャネル９を通りリザーバ３内に流れ続ける。この処理は、流体横断面が適切に設計されていれば、数分かかる。シェービングヘッドからしたたり落ちる洗浄液体４は、レセプタクル２の排出点が自動的に始まるであろうレベルＢに達することなく、下部領域８内に集まる。残っている残留物量は、バイパス１１を通ってのみリザーバ３に戻る。洗浄液体４がレベルＢを超えて上昇する場合、流出路１３は、洗浄液体４が確実にリザーバ３まで戻されることを保証する。レセプタクル２の下にある電気抵抗型加熱素子１６は、洗浄液体４が洗浄サイクル前および／あるいは洗浄サイクル中に加熱させる。
【００２９】
図２に示される洗浄装置１は、図１の洗浄装置と本質的に対応している。レセプタクル２は、洗浄液体４の為のリザーバ３の上方に配置されている。ポンプ５は、洗浄液体４をリザーバ３から吸い込み、それを、インレット７を通してレセプタクル２内に移す。レセプタクル２をリザーバ３に接続するチャネル１７は、下部領域８に配置されている。チャネル１７に置かれているのは、電磁バルブ１８であり、これが、チャネル１７を閉じる。流出路１３は、例えば、電磁バルブ１８が故障したとき、洗浄液体４が洗浄装置１から流出することを防止する為のセーフガードを与える。洗浄目的のため、レセプタクル２は、洗浄液体でレベルＡまで満たされる。ポンプ５の送出速度は既知なので、ポンプ５の作動時間にわたり、レベルＡまでレセプタクル２を満たすのに必要な洗浄液体量を制御することは非常に容易である。必要な作動時間は、ポンプコントローラで節約される。インレット７は、レベルＡを超えてレセプタクル２に通じ、そのため、レセプタクル２は、インレット７を通って空に排出されないので、インレット７には追加のバルブは不要である。電気抵抗型加熱素子１６は、下部領域８に配置され、レセプタクル２内の洗浄液体を加熱する。レセプタクル２が空にされるとき、電磁バルブ１８は起動され、それがチャネル１７を障害物が無い状態にし、よって、洗浄液体４をリザーバ３に戻すことができる。
【００３０】
図３の洗浄液体の構成は、図２の構成と本質的に対応している。追加で、洗浄装置１は、ポンプ５により起動されるロック装置を含み、これにより、ドライシェービング器具は固定され取り外せないようになり、洗浄装置の周囲は、洗浄サイクル中に流出する洗浄液体から保護される。例示を良好に明示するため、ロック装置は、洗浄装置付近に配置され、垂直軸の周りを外見上１８０°で回転するものとして示されている。ポンプ５は、３枚の相互にかみ合う歯車２０，２１，２２を備えた歯車式ポンプであり、外歯車２０，２２を備え、それぞれが中間歯車２１でポンプ段を形成する。ポンプ５は、２枚のアウトレット７，２３を有する。導管２９は、アウトレット７から分岐され、起動要素１９に接続されている。アウトレット２３は、第２の起動要素２４に通じている。２つの起動要素１９，２４は、これらが、２つの限界位置２６，２７間でロック要素２５を移動させるように構成されている。バネ２８は、２つの限界位置２６，２７内で、ロック要素２５の為に双安定性の支えを与える。ドライシェービング器具は、洗浄装置１内に洗浄の為に挿入される。洗浄サイクルの初期に、ポンプ５は、アウトレット７を通り洗浄液体を導管２９内に供給する。洗浄液体の圧力は、起動要素１９を起動させ、これがロック要素２５を制限位置２７に移動させる。ドライシェービング器具は、この限界位置２７で固着され、取り外せない。起動要素１９が起動されると、導管７，２９内の圧力が上昇する。この高い圧力に達するまで、チェックバルブ１５は開き、洗浄液体がレセプタクル２内に入る。洗浄処理が終了し、レセプタクル２が空にされると、ポンプ５の回転方向が逆になり、洗浄液体は導管２３を通って起動要素２４に供給される。その結果、ロック要素２５は、限界位置２６に移動される。限界位置２６において、ドライシェービング器具は、ロックされていないので、洗浄装置１から取り外すことができる。２段可逆回転形ポンプ５の代わりに、ポンプ５により供給された洗浄液体４が追加の制御バルブ（例えば、電気的にスイッチの切り替え可能なマルチウェイバルブ（図示せず））により選択的に導管２９又は導管２３のいずれかに迂回可能である場合、図１による単段ポンプ５を使用することが可能である。
【００３１】
洗浄装置内のドライシェービング器具の全洗浄サイクルは、プログラム制御で行われる。換言すれば、シェービングヘッドのソーキング操作、個々の洗い流しの数、期間が異なってもよい。例えば、シェービング器具にとって、ＤＥ１９６０６７１９Ａ１で詳細に説明されているように、そのシェービングヘッドの汚染度を決定する為の装置を有することは有利である。対応する洗浄プログラムは、その後、要求され、現在の汚染レベルに応じて実行される。その後、汚染度に応じて異なる温度まで加熱された洗浄液体を使用し洗浄が行われてもよいし、そのとき、それに応じて、洗い流すサイクル数が変更可能である。
【００３２】
シェービングヘッドの汚染レベルに関する情報はドライシェービング器具自体に保存されているので、ドライシェービング器具と洗浄装置の両方が通信用インターフェースを必要であり、これを介して、一方では汚染レベルに関する情報がドライシェービング器具から洗浄装置に送られ、他方では、ドライシェービング器具が対応する信号を受信し、洗浄が完了した後、汚染信号をリセットする。ドライシェービング器具と洗浄装置間の通信は、直接伝導接触、または、特に好都合なことに、適した電磁界とそれに必要な装置を使用する電磁誘導による非接触方式のいずれか一方により行うことが可能である。そのようなドライシェービング器具と洗浄装置間の伝送データ方法は、ＤＥ１９８１７２７３Ａ１から既知である。
【００３３】
例えば、ドライシェービング器具が、最後の使用と最後の洗浄動作との間で、かなり長時間が存在するという情報を有する場合、汚れ、特に、皮脂による汚れは既に乾燥され、そのため、取り除くことが難しいと仮定することができる。その後、この情報は、高温の洗浄液体と洗い流し操作回数の増加を伴う、特に集中的な洗浄プログラムの選択になる。
【００３４】
対称的に、洗浄液体の加熱を含まず、最少の洗浄操作回数を伴う集中的でない洗浄プログラムは、丁度今使用されて最後の洗浄が最後の使用の直前に行われたシェービング装置を洗浄する為に、洗浄品質をおまけに犠牲にすることなく、選択可能である。ドライシェービング器具の実際の汚染レベルに応じて洗浄プログラムの自動適合のために、電力と洗浄液体の消費を最小限にし、同時に、最適洗浄効果を確実にすることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】図１は、本発明の洗浄装置の概略図である。
【図２】図２は、洗浄装置の第２実施形態の概略図である。
【図３】図３は、洗浄装置の自動ロック装置の図である。
【符号の説明】
【００３６】
１…洗浄装置、２…レセプタクル、３…リザーバ、４…洗浄液体、５…ポンプ、６…吸い込み管、７…インレット、８…下部領域、９…チャネル、１０…上部領域、１１…バイパス、１２…マット型材料、１３…流出路、１４…静電容量型液体レベルセンサ、１５…チェックバルブ、１６…電気抵抗型加熱素子、１７…チャネル、１８…電磁バルブ、１９…起動要素、２０…外歯車、２１…中間歯車、２２…外歯車、２３…アウトレット、２４…起動要素、２５…ロック要素、２６…限界位置、２７…限界位置、２８…バネ、２９…導管。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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