(57)【要約】【解決手段】  本発明は、プロセスチャンバー内において、帯状の材料６を被覆するための真空被覆設備に関し、この真空被覆設備の場合、真空状態を形成可能な第１のリールチャンバー２内において、第１のローラ架構部１１を有する巻戻し装置４が設けられており、および、真空状態を形成可能な第２のリールチャンバー３内において、第２のローラ架構部１２を有する巻取り装置５が設けられており、これらのリールチャンバーの間で、被覆されるべき帯状の材料が、少なくとも１つの真空状態を形成可能なプロセスチャンバー１を通過し、その際、このプロセスチャンバー内において、帯状の材料、および冷却ローラ１５、１６のための案内装置を有するプロセスローラ架構部１４が設けられており、これら冷却ローラの表面の上方に、少なくとも１つのマグネトロンスパッタ供給源１７が設けられている様式の上記真空被覆設備において、本発明の根底をなす課題は、プロセスに関与している全てのローラの平行性における精密さを向上することである。この課題は、巻戻しリール用ローラ架構部、プロセスローラ架構部、および、巻取りリール用ローラ架構部が、所定の固定点１８、１９、２０、２１において固定されていること、および、設備の作動状態において、リールチャンバーとプロセスチャンバーとの間の圧力差は、最大で５０Ｐａであること、および、共通のローラ架構部が複数の冷却ローラのために構成されているによって解決される。
2005515299.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロセスチャンバー内において、帯状の材料を被覆するための真空被覆設備であって、
この真空被覆設備の場合、
真空状態を形成可能な第１のリールチャンバー内において、被覆されるべき帯状の材料の組み込まれた、第１のローラ架構部内において配設されている巻戻しリールを有する巻戻し装置が、および、
真空状態を形成可能な第２のリールチャンバー内において、第２のローラ架構部内において配設されている、被覆された材料の、取り外し可能な巻取りリールを有する、巻取り装置が備えられており、
これらのリールチャンバーの間で、被覆されるべき帯状の材料が、少なくとも１つの真空状態を形成可能なプロセスチャンバーを通過し、その際、
それぞれのプロセスチャンバー内において、帯状の材料、および冷却ローラのための案内装置を有するプロセスローラ架構部が設けられており、これら冷却ローラの表面の上方に、少なくとも１つのマグネトロンスパッタ供給源が設けられている様式の上記真空被覆設備において、
巻戻しリール（４）のためのローラ架構部（１１）が、第１のリールチャンバー（２）内における第１の固定点（１８）上で、
プロセスローラ架構部（１４）が、プロセスチャンバー（１）内における第２の、および第３の固定点（１９；２０）上で、および、
巻取りリール（５）のためのローラ架構部（１２）が、第２のリールチャンバー（３）内における第４の固定点（２１）上で固定されていること、および、
設備の作動状態において、リールチャンバー（２；３）とプロセスチャンバー（１）との間の圧力差は、最大で５０Ｐａであること、
を特徴とする真空被覆設備。
【請求項２】
第１の、および第２の固定点（１８；１９）は、共通の固定壁部（９）の両側に位置していることを特徴とする請求項１に記載の真空被覆設備。
【請求項３】
第３の、および第４の固定点（２０；２１）は、共通の固定壁部（１０）の両側に位置していることを特徴とする請求項１または２に記載の真空被覆設備。
【請求項４】
第１の固定点（１８）は、第１のリールチャンバー（２）内において、第１の別個の固定壁部に、および、第２の固定点（１９）が、プロセスチャンバー（１）内において、第２の別個の固定壁部に位置していることを特徴とする請求項１に記載の真空被覆設備。
【請求項５】
第３の固定点（２０）は、プロセスチャンバー（１）内において、第３の別個の固定壁部に、および、第４の固定点（２１）が、第２のリールチャンバー（３）内において、第４の別個の固定壁部に位置していることを特徴とする請求項１または４に記載の真空被覆設備。
【請求項６】
第１および第２の固定壁部、及び／または第３および第４の固定壁部は、互いに、安定化した状態で機械的に相互に結合されていることを特徴とする請求項４または５に記載の真空被覆設備。
【請求項７】
プロセスチャンバー内において、帯状の材料を被覆するための真空被覆設備であって、
この真空被覆設備の場合、
真空状態を形成可能な第１のリールチャンバー内において、被覆されるべき帯状の材料の組み込まれた、第１のローラ架構部内において配設されている巻戻しリールを有する巻戻し装置が、および、
真空状態を形成可能な第２のリールチャンバー内において、第２のローラ架構部内において配設されている、被覆された材料の、取り外し可能な巻取りリールを有する、巻取り装置が備えられており、
これらのリールチャンバーの間で、被覆されるべき帯状の材料が、少なくとも１つの真空状態を形成可能なプロセスチャンバーを通過し、その際、
それぞれのプロセスチャンバー内において、帯状の材料、および冷却ローラのための案内装置を有するプロセスローラ架構部が設けられており、これら冷却ローラの表面の上方に、少なくとも１つのマグネトロンスパッタ供給源が設けられている様式の上記真空被覆設備において、
複数の冷却ローラ（１５；１６）が、共通のプロセスローラ架構部（１４）内において固定されていることを特徴とする真空被覆設備。
【請求項８】
プロセスチャンバー（１）は、カバー壁（２２）によって閉鎖されており、このカバー壁が、冷却ローラ（１５；１６）の領域内において開口部（２３）を備えており、これら開口部が、それぞれに、扉（２４）によって真空密に閉鎖可能であることを特徴とする請求項７に記載の真空被覆設備。
【請求項９】
扉（２４）に、所属するマグネトロンスパッタ供給源が、１つの冷却ローラ（１５；１６）のマグネトロン囲繞部（２５）でもって固定されており、および、これら扉（２４）が、走行機構（２６）を装備しており、且つ冷却ローラ（１５；１６）から離脱運動可能であることを特徴とする請求項７または８に記載の真空被覆設備。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プロセスチャンバー内において、帯状の材料を被覆するための真空被覆設備に関し、この真空被覆設備の場合、
真空状態を形成可能な第１のリールチャンバー内において、被覆されるべき帯状の材料の組み込まれた、第１のローラ架構部内において配設されている巻戻しリールを有する巻戻し装置が、および、
真空状態を形成可能な第２のリールチャンバー内において、第２のローラ架構部内において配設されている、被覆された材料の、取り外し可能な巻取りリールを有する、巻取り装置が備えられている。
これらのリールチャンバーの間で、被覆されるべき帯状の材料が、少なくとも１つの真空状態を形成可能なプロセスチャンバーを通過し、その際、
それぞれのプロセスチャンバー内において、帯状の材料、および冷却ローラのための案内装置を有するプロセスローラ架構部が設けられており、これら冷却ローラの表面の上方に、少なくとも１つのマグネトロンスパッタ供給源が設けられている。
【背景技術】
【０００２】
ドイツ連邦共和国特許第１９７  ３５  ６０３号明細書(特許文献１)から、帯状の材料のための真空被覆設備が公知であり、これら真空被覆設備は、２つのプロセスチャンバーから成っている。それぞれのプロセスチャンバー内において、１つのローラ架構部が存在し、このローラ架構部内において、転向ローラ、帯材引張り力測定ローラ、および、冷却ローラが軸受けされている。それぞれのローラ架構部は、調節状態を相互に可能とするため、および従って、帯状の材料のしわ形成を回避するために、水平方向、および垂直方向に位置調節可能に構成されている。
【０００３】
巻戻しリール、および巻取りリールは、リールチャンバー内に設けられている。被覆されるべき材料は、第１のリールチャンバー内において、巻戻しリールによって巻戻され、被覆プロセスに供給され、および、引き続いて第２のリールチャンバー内において、巻取られる。この帯状の材料を被覆するために、マグネトロンスパッタ供給源が使用され、これらマグネトロンスパッタ供給源は、これらマグネトロンスパッタ供給源を軸平行にアジャスト可能とするために、それぞれの冷却ローラに対して水平方向に位置調節可能に配設されている。
【０００４】
プロセスチャンバー、およびリールチャンバーは、異なるガスでもって、および異なる圧力でもって作動可能とするために、帯材弁装置によって、真空的に、相互に分離されている。この帯材弁装置を通って、被覆されるべき帯状の材料は、移送される。
【０００５】
比較的に僅かになったシート厚さの場合、これらローラ架構部の、０．１〜０．２ｍｍの範囲内にある調節可能性の精度は、もはや不十分である。特に、これらローラ架構部の、規則的に大気圧の諸条件のもとで行われる正確な調節状態にもかかわらず、それにも拘らず、このプロセス内において、基体材料の不正案内の状態になることが判明した。
【特許文献１】ドイツ連邦共和国特許第１９７  ３５  ６０３号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従って、本発明の根底をなす課題は、設備に関与している全てのローラの平行性における精度を向上することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に従い、この課題は、冒頭に記載した様式の真空被覆設備において、
巻戻しリールのためのローラ架構部が、第１のリールチャンバー内における第１の固定点上で、
プロセスローラ架構部が、プロセスチャンバー内における第２の、および第３の固定点上で、および、
巻取りリールのためのローラ架構部が、第２のリールチャンバー内における第４の固定点上で固定されていることによって解決される。
設備の作動状態において、リールチャンバーとプロセスチャンバーとの間の圧力差は、最大で５０Ｐａである。
【発明の効果】
【０００８】
その際、１つの固定点は、必ずしも、点状の固定位置として理解される必要はない。むしろ、この固定点における固定は、同様に載置面、等として構成され得る。
【０００９】
本発明により、リールチャンバーおよびプロセスチャンバーの必要な真空状態における変形は、少なくとも、固定位置の領域において回避される。このことによって、大気圧のもとで行われる、ローラ架構部の調節状態のずれは回避される。
【００１０】
特に有利な本発明の実施形態において、第１の、および第２の固定点は、共通の固定壁部の両側に位置している。
【００１１】
更に別の有利な本発明の実施形態において、第３の、および第４の固定点は、共通の固定壁部の両側に位置している。
【００１２】
共通の固定壁部は、互いに隣接する基準点が、直接的に互いに機械的に連結されており、従って、調節の前、および後のほとんど全ての幾何学的なずれが回避されるという利点を与える。
【００１３】
更に別の本発明の実施形態において、第１の固定点は、第１のリールチャンバー内において、第１の別個の固定壁部に、および、第２の固定点が、プロセスチャンバー内において、第２の別個の固定壁部に位置している。
【００１４】
更に別の本発明の実施形態において、第３の固定点は、プロセスチャンバー内において、第３の別個の固定壁部に、および、第４の固定点が、第２のリールチャンバー内において、第４の別個の固定壁部に位置している。
【００１５】
別個の固定壁部は、リールチャンバー、またはプロセスチャンバーのような個別の構造部品群が、別個の構造部品群として形成され、且つ組み込まれるべき場合に使用される。これらチャンバーの間の、設備の作動状態における、本発明による僅かの５０Ｐａの圧力差によって、その場合に、同様に、ほぼ同じ圧力状態にある壁部の変形は、最低限に抑えられる。
【００１６】
ローラ架構部の整向における精度は、更に、第１および第２の固定壁部、及び／または第３および第４の固定壁部が、互いに、安定化した状態で機械的に相互に結合されていることによって向上される。
【００１７】
本発明により、この課題は、更に、複数の冷却ローラが、共通のローラ架構部内において固定されていることによって解決される。
【００１８】
従って、一方では、別個のローラ架構部の調節は、冷却ローラのために行う必要がない。他方では、如何なる幾何学的な変化も、個別の冷却ローラのための案内部の間で生じない。
【００１９】
更に別の有利な本発明の実施形態において、プロセスチャンバーが、カバー壁によって閉鎖されており、このカバー壁が、冷却ローラの領域内において開口部を備えており、これら開口部が、それぞれに、扉によって真空密に閉鎖可能である。
【００２０】
本発明の更なる構成において、扉に、所属するマグネトロンスパッタ供給源が、１つの冷却ローラのマグネトロン囲繞部でもって固定されており、および、これら扉が、走行機構を装備しており、且つ冷却ローラから離脱運動可能である。従って、プロセスローラ架構部が残っている場合、プロセスチャンバーまたはプロセスローラ架構部を分解すること無しに、ターゲット交換、またはメンテナンス作業が可能となる。
【００２１】
次に、実施例に基づいて、本発明を詳しく説明する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
真空被覆設備は、プロセスチャンバー１、その内において被覆されるべき帯状の材料６の巻戻しリール４が設けられているリールチャンバー２、および、その内において巻取りリール５が設けられているリールチャンバー３から成っている。このプロセスチャンバー１と、これらリールチャンバー２、３との間に、帯材弁装置７、および８が配設されており、これら帯材弁装置を通って、この帯状の材料６が案内されている。
【００２３】
この実施例において、プロセスチャンバー１からの第１のリールチャンバー２の分離は、両方のチャンバーのための第１の共通の固定壁部９によって行われる。これらリールチャンバー２、および３内において、それぞれ１つのローラ架構部１１、および１２が設けられており、このローラ架構部が、巻戻しリール４、もしくは巻取りリール５、および、材料のための案内装置１３が設けられている。このプロセスチャンバー１内において、プロセスローラ架構部１４が設けられており、このプロセスローラ架構部内において、２つの冷却ローラ１５、および１６が、それに所属の案内装置１３と共に固定されている。帯状の材料６を被覆するために、マグネトロンスパッタ供給源１７が、これら冷却ローラ１５、および１６の表面の上に設けられている。この巻戻しローラ架構部１１は、リールチャンバー２内において、第１の共通の固定壁部９に沿って、第１の固定点１８上で載置されている。第２の固定点１９は、この同じ固定壁部９に沿って、プロセスチャンバー側面上に設けられている。
【００２４】
同様に、プロセスチャンバー１内において、第３の固定点２０が、第２の共通の固定壁部１０に沿って設けられている。プロセスローラ架構部１４は、第２、および第３の固定点１９、および２０の上で載置されている。第２の共通の固定壁部１０は、このプロセスチャンバー１を、第２のリールチャンバー３から分離している。この固定壁部１０に沿って、リールチャンバー３内において、第４の固定点２１が設けられている。この固定点において、巻取りリール用ローラ架構部１２が固定されている。共通の固定壁部９、および１０、もしくは、固定点１８、１９、２０、および２１の変形は、このプロセスチャンバー１と、リールチャンバー２、または３との間で、最大５０Ｐａの圧力の違いによって、減少されている。
【００２５】
プロセスチャンバー１は、カバー壁２２によって閉鎖されており、このカバー壁内において、扉２４のための開口部２３を備えている。これら扉２４は、真空密に閉鎖され得る。これら扉２４に、冷却ローラ１５、または１６のマグネトロンを含むマグネトロン囲繞部２５が固定されている。これら扉２４の下方に、走行機構２６が組み付けられており、これら走行機構を介して、これら扉２４は、開放の後、これら冷却ローラ１５、または１６から離脱運動され得る。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】縦断面図における、真空被覆設備の原理図である。
【図２】透視図的な分解図である。
【符号の説明】
【００２７】
１    プロセスチャンバー
２    リールチャンバー（巻戻しリールのための）
３    リールチャンバー（巻取りリールのための）
４    巻戻しリール
５    巻取りリール
６    帯状の材料
７    帯材弁装置
８    帯材弁装置
９    固定壁部
１０  固定壁部
１１  ローラ架構部
１２  ローラ架構部
１３  案内装置
１４  プロセスローラ架構部
１５  冷却ローラ
１６  冷却ローラ
１７  マグネトロンスパッタ供給源
１８  第１の固定点
１９  第２の固定点
２０  第３の固定点
２１  第４の固定点
２２  カバー壁
２３  開口部
２４  扉
２５  マグネトロンを含むマグネトロン囲繞部
２６  走行機構
【図１】
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【図２】
2005515299.tif 000004
【国際調査報告】
2005515299.tif 000005
2005515299.tif 000006
2005515299.tif 000007
2005515299.tif 000008