(57)【要約】所定の輝度を有する光によって基板を構築する工程における基板表面の露光を制御する方法と装置において、光は偏向可能なミラーによって上記表面に対して方向付けられる。輝度は偏向可能なミラーの第１偏向において１番目の極大値（５０）を有し、偏向可能なミラーの第２偏向において１番目の極小値（５２）を有し、偏向可能なミラーの第３偏向において２番目の極大値（５４）を有し、偏向可能なミラーの第４偏向において２番目の極小値（５６）を有する。所定の輝度を示す信号と、２番目の極大値（５４）以下であるしきい値の輝度を示す信号とを受け取る。所定の輝度がしきい値の輝度よりも大きいか否かを決定し、所定の輝度がしきい値の輝度よりも大きい場合には偏向可能なミラーの偏向を第１偏向と第２偏向との間に制御し、所定の輝度がしきい値の輝度以下の場合にはミラーの偏向を第３偏向以上に制御する。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の輝度を有する光によって基板（１１２）を構築する工程における上記基板（１１２）の表面の露光を制御する方法であって、上記光は偏向可能なミラー（７８ｃ）によって上記表面に対して方向付けられ、上記輝度は上記偏向可能なミラー（７８ｃ）の第１偏向において１番目の極大値（５０）を有し、上記偏向可能なミラー（７８ｃ）の第２偏向において１番目の極小値（５２）を有し、上記偏向可能なミラー（７８ｃ）の第３偏向において２番目の極大値（５４）を有し、上記偏向可能なミラー（７８ｃ）の第４偏向において２番目の極小値（５６）を有する方法において、上記方法は、
上記所定の輝度を示す信号を受け取るステップと、
しきい値の輝度を示す信号を受け取るステップであって、このしきい値の輝度は上記２番目の極大値（５４）以下であるステップと、
上記所定の輝度が上記しきい値の輝度よりも大きいか否かを決定するステップと、
上記所定の輝度が上記しきい値の輝度よりも大きい場合には上記偏向可能なミラー（７８ｃ）の偏向を上記第１偏向と第２偏向との間に制御し、上記所定の輝度が上記しきい値の輝度以下の場合には上記偏向可能なミラー（７８ｃ）の偏向を上記第３偏向以上に制御するステップと、を備えることを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、
上記所定の輝度が上記しきい値の輝度以下の場合には、上記偏向可能なミラー（７８ｃ）の偏向を上記第３偏向と第４偏向との間に制御することを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の方法において、
上記１番目の極大値（５０）は上記偏向可能なミラー（７８ｃ）の輝度レスポンス曲線の最大輝度を持つ極大値であり、上記１番目の極小値（５２）は上記輝度レスポンス曲線において上記１番目の極大値の次に現れる極小値であり、上記２番目の極大値（５４）は上記輝度レスポンス曲線において上記１番目の極小値の次かまたはこれより大きな偏向において現れるより低い輝度を持つ極大値であり、上記２番目の極小値（５６）は上記輝度レスポンス曲線において上記２番目の極大値の次に現れる極小値であることを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１項に記載の方法において、
上記偏向可能なミラー（７８ｃ）は、干渉パターンを生成する空間光変調装置の反射要素であることを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の方法において、
上記制御するステップは、非線型駆動回路（８４）によって上記偏向可能なミラー作動させることを含む方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１項に記載の方法において、
上記しきい値の輝度は非ゼロの輝度であることを特徴とする方法。
【請求項７】
所定の輝度を有する光によって基板（１１２）を構築する工程における上記基板（１１２）の表面の露光を制御する装置（７０）であって、上記光は偏向可能なミラー（７８ｃ）によって上記表面に対して方向付けられ、上記輝度は上記偏向可能なミラー（７８ｃ）の第１偏向において１番目の極大値（５０）を有し、上記偏向可能なミラー（７８ｃ）の第２偏向において１番目の極小値（５２）を有し、上記偏向可能なミラー（７８ｃ）の第３偏向において２番目の極大値（５４）を有し、上記偏向可能なミラー（７８ｃ）の第４偏向において２番目の極小値（５６）を有する装置において、上記装置は、
上記所定の輝度を示す信号を受け取る手段（７２）と、
しきい値の輝度を示す信号を受け取る手段（７４）であって、このしきい値の輝度は上記２番目の極大値（５４）以下である手段と、
上記所定の輝度が上記しきい値の輝度よりも大きいか否かを決定するコンパレータ（８０）と、
上記所定の輝度が上記しきい値の輝度よりも大きい場合には上記偏向可能なミラー（７８ｃ）の偏向を上記第１偏向と第２偏向との間に制御し、上記所定の輝度が上記しきい値の輝度以下の場合には上記偏向可能なミラー（７８ｃ）の偏向を上記第３偏向以上に制御するコントローラと、を備えることを特徴とする装置。
【請求項８】
請求項７に記載の装置において、
上記コントローラはさらに、上記所定の輝度が上記しきい値の輝度以下の場合には上記偏向可能なミラー（７８ｃ）の偏向を上記第３偏向と第４偏向との間に制御するよう構成されていることを特徴とする装置。
【請求項９】
請求項７または８に記載の装置において、
上記１番目の極大値（５０）は上記偏向可能なミラー（７８ｃ）の輝度レスポンス曲線の最大輝度を持つ極大値であり、上記１番目の極小値（５２）は上記輝度レスポンス曲線において上記１番目の極大値の次に現れる極小値であり、上記２番目の極大値（５４）は上記輝度レスポンス曲線において上記１番目の極小値の次かまたはこれより大きな偏向において現れるより低い輝度を持つ極大値であり、上記２番目の極小値（５６）は上記輝度レスポンス曲線において上記２番目の極大値の次に現れる極小値であることを特徴とする装置。
【請求項１０】
請求項７乃至９のいずれか１項に記載の装置において、
上記偏向可能なミラー（７８ｃ）は、干渉パターンを生成する空間光変調装置の反射ミラーであることを特徴とする装置。
【請求項１１】
請求項７乃至１０のいずれか１項に記載の装置において、
上記偏向可能なミラーに関連するアクチュエータ（８６ａ，８６ｂ）と、
このアクチュエータ（８６ａ，８６ｂ）を駆動するための非線型駆動回路（８４）と、をさらに含む装置。
【請求項１２】
請求項７乃至１１のいずれか１項に記載の装置において、
上記しきい値の輝度は非ゼロの輝度であることを特徴とする装置。
【請求項１３】
光を発するための光源（１２０）と、
基板の表面に転写されるべき画素パターンを構成し、上記光源から光線を受け取り、かつ請求項７乃至１２のいずれか１項に記載の装置を備える空間光変調装置と、
上記基板（１１２）を支持するための可動テーブル（１３４）と、を備えることを特徴とする画像装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板表面の露光を制御する方法および装置に関する。特に、本発明は空間光変調装置（ＳＬＭ）を利用したマイクロリソグラフィパターン生成器（ジェネレータ）におけるより良好なＣＤ（Critical Dimension：限界寸法）制御に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の技術では、基板の表面に転写されるべきパターンを、ＳＬＭを利用して生成するためのパターン生成器を構成するために、基本的に２つの異なる方法が示されている。
【０００３】
第１の方法は、大きな画素偏向を用いる。すなわち、この場合の偏向は使用された放射線波長と比較した場合に大きいということである。さらに、実質的にデジタルの、すなわちｏｎとｏｆｆの入力を用いる。この第１の方法の例はテキサス・インストルメント社製のＤＬＰチップで、その偏向角度は±１０°である。画素格子サイズが１７μｍであるため、本方式は、個々の画素によって投影レンズ（輝点）もしくは吸収体（暗点）へと反射される古典的な光線を用いることが可能である。グレーの画素は、連続的な光源に対する時分割多重化と、パルス光源に対する多重露光とによって得ることができる。
【０００４】
第２の方法は放射線波長の約半分の偏向とアナログ入力を用いる。この方法においては、ＳＬＭは干渉を生成する位相格子として表現される。反射光は離散的な回折次数(diffraction orders)においてのみ現れる。一般的に、そのようなＳＬＭを備えたマイクロリソグラフィパターン生成器は、パターンを生成するためにゼロ次を用いる。すなわち、輝点は偏向されない画素に対して得られ、また暗点は偏向された画素に対して得られる。グレー画素は部分的な偏向による１つの光パルスによって生成されることができる。
【０００５】
マイクロリソグラフィパターン生成器においては、グレー画素は、入力グリッドを投射された画素グリッドよりも微細な形で得る必要がある。正確なグレーレベルは、マイクロリソグラフィパターン生成器の最も重要な性能パラメータの１つである、限界寸法（ＣＤ）の均一性に直接的に影響を与えるため、厳密に制御される必要がある。
【０００６】
上記従来技術の第１の方法は、多重露光に長い時間を必要とするという点において不利である。このことはマイクロリソグラフィパターン生成器の２番目に重要な性能パラメータである効率を下げることになる。アナログ入力を用い、デジタル入力と同様な大きな偏向を用いて基板のパターン化を行えば、この不利な点は解決されるであろう。しかしながら、偏向制御における精度の必要条件は満たされない。なぜなら、生成された画像における輝度または強度が偏向指令範囲(deflection addressing range)の小さな小数部において高速で変化するためである。さらなる欠点として、投射光学系のグレー画素のための非対称的な照明法は、たとえ微細な焦点エラーに対しても、ＣＤ制御を完全に損なう。
【０００７】
上記従来技術の第２の方法は、理想的にフラットな画素、例えば、ＳＬＭにおける理想的にフラットなマイクロミラーに有効である。ＣＤ制御は非常に良好であり、その限界寸法は画素（ミラー）から反射される輝度の非線型関数にも関わらず平滑である。また、反射された輝度は、図５に示すように、平滑ではあるが偏向の非線型の関数になる。図５はＳＬＭのミラーの相対偏向に対する相対輝度を示したグラフであり、すなわち、パターン化されるべき基板上の所定の画素における光の相対輝度が、ミラーの特定の偏向に対応して示される。グラフから分かるように、１番目の極大値（最大値）点５０の輝度は相対偏向が０のときに得られ、１番目の極小値点５２の輝度は相対偏向が１のときに得られる。さらに、２番目の極大値点と２番目の極小値点も示される。図５から分かるように、輝度における極大値と０の間のバイナリ切替は、相対偏向における０と１との間の切替によって単純に達成することができる。最大輝度は偏向が大きくなると急激に減少する。ゆえに、１に代えてどんな大きな相対偏向も、ゼロ（に近い）輝度を作り出すために利用されうるということである。さらに図５から分かるように、上記従来技術の第２の方法を用いることにより、輝度において、基準線量（最大線量すなわち相対輝度１）からゼロ（相対偏向１すなわち基準偏向において達成される）への連続的な変化を得ることができる。
【０００８】
グレーレベルをつくる際の不利な点は、完全にフラットでない画素（ミラー）から生じる。図６は歪みがあるかあるいは非平坦な画素における相対偏向に対する相対輝度を表している。明瞭に示すため、非平坦性が非常に強く、グラフから分かるように、１番目の極大値点５０における輝度は図５に示されている輝度より低い。より重要なことは、１番目の極小値点５２における輝度は、もはやゼロに達することはない。このことは、コントラストが減少することを意味する。この減少したコントラスト自体は、極小値がかなり低い値である限りにおいては問題にならないが、ミラーの非平坦性による重大な影響は、反射光の位相が変化することである。このことは、反射光の複素振幅を表す図７から詳細にうかがうことができる。図６と図７とにおいて、対応する点には参照記号のａからｅを付している。完全にフラットであるミラーに関しては、振幅は常に実数である。非平板なミラーに関しては、位相は偏向とともに連続的に変化する。特に、１番目の極小値点５２(ｂ)に関しては、位相が極大値点５０(ａ) の位相すなわちゼロから約９０°異なっている。完全な焦点合わせ、すなわち、パターン化されるべき表面が完全に焦点の範囲内にある時は、この位相変化はＣＤの小さな変化を引き起こす可能性があり、この変化さえ意味をもつ可能性がある。しかしながら、焦点から離れる際、フラット画素と比較した場合、ＣＤの変化が起こる。この焦点合わせの精度は有限であるため、パターン生成器におけるＣＤ制御は非常に制限されたものとなる。
【０００９】
図８と図９は、デフォーカス（焦点はずれ）パラメータに対するＣＤのBossung-plots(デフォーカスに対するＣＤを示す曲線)を示す。デフォーカスパラメータは、焦点（デフォーカスパラメータ＝０）からの相対的なずれを表す。図８と図９は、異なる線量に対するカーブの群を示しており、ここにおける線量とは露光時間全体の輝度を積分したものである。図８は理想的に平坦なマイクロミラーのBossung-plotsを表している。カーブはねじれがなく、すなわち、ＣＤがうまく制御されていることを示している。焦点を通過する際、ＣＤの変化は２次効果である。図９は強く非平坦な画素のBossung-plotsを示している。グラフは顕著なねじれを示しており、これはデフォーカスに伴うＣＤの変化である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
上記技術を基にして、本発明の目的は、焦点のずれた基板のいかなる配置にも関わらず、より良好なＣＤ制御を達成できる、基板の露光を制御する方法と装置とを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
この目的は、請求項１に記載の方法と請求項７に記載の装置とにより達成される。
【００１２】
本発明は、所定の輝度（または強度）を有する光によって基板を構築する工程における上記基板の表面の露光を制御する方法であって、上記光は偏向可能なミラーによって上記表面に対して方向付けられ、上記輝度は上記偏向可能なミラーの第１偏向において１番目の極大値を有し、上記偏向可能なミラーの第２偏向において１番目の極小値を有し、上記偏向可能なミラーの第３偏向において２番目の極大値を有し、上記偏向可能なミラーの第４偏向において２番目の極小値を有する方法を提供し、上記方法は、
上記所定の輝度を示す信号を受け取るステップと、
しきい値の輝度を示す信号を受け取るステップであって、このしきい値の輝度は上記２番目の極大値以下であるステップと、
上記所定の輝度が上記しきい値の輝度よりも大きいか否かを決定するステップと、
上記所定の輝度が上記しきい値の輝度よりも大きい場合には上記偏向可能なミラーの偏向を上記第１偏向と第２偏向との間に制御し、上記所定の輝度が上記しきい値の輝度以下の場合には上記偏向可能なミラーの偏向を上記第３偏向以上に制御するステップと、を備えている。
【００１３】
本発明は、所定の輝度を有する光によって基板を構築する工程における上記基板の表面の露光を制御する装置であって、上記光は偏向可能なミラーによって上記表面に対して方向付けられ、上記輝度は上記偏向可能なミラーの第１偏向において１番目の極大値を有し、上記偏向可能なミラーの第２偏向において１番目の極小値を有し、上記偏向可能なミラーの第３偏向において２番目の極大値を有し、上記偏向可能なミラーの第４偏向において２番目の極小値を有する装置を提供し、上記装置は、
所定の輝度を表す信号を受け取る手段と、
しきい値の輝度を示す信号を受け取る手段であって、このしきい値の輝度は上記２番目の極大値以下である手段と、
上記所定の輝度が上記しきい値の輝度よりも大きいか否かを決定するコンパレータと、
上記所定の輝度が上記しきい値の輝度よりも大きい場合には上記偏向可能なミラーの偏向を上記第１偏向と第２偏向との間に制御し、上記所定の輝度が上記しきい値の輝度以下の場合には上記偏向可能なミラーの偏向を上記第３偏向以上に制御するコントローラと、を備えている。
【００１４】
本発明の１つの態様によれば、光を発するための光源と、基板表面に転写されるべき画素パターンを構成し、光源から光を受け取り、かつ上述の本発明装置を含む空間光変調装置と、基板を支えるための可動テーブルと、を含む画像装置を提供する。
【００１５】
上記従来技術の方法とは対照的に、本発明の基本概念においては、輝度レスポンスの２番目の極小値またはより高次の極小値を基板の暗域として使用する。本発明は特に、マイクロミラーの回折パターンがマイクロミラーの平坦性または平板性に対して感度の高い空間光変調装置(ＳＬＭ)におけるマイクロミラーにおいて有利である。
【００１６】
本発明は、２番目の極小値を用いるという方法をとることで、限りなくゼロに近い輝度を得ることができるという長所を有する。その結果、生成されたパターンのコントラストは大幅に改善される。
【００１７】
本発明のさらなる長所として、新たな技術や製造工程を主として必要としないことが挙げられる。また、既存のアクチュエータ機構を継続使用することが可能である。より大きな偏向範囲を得るために、いくつかの技術的パラメータの調節及び／又は多少の構造変更を必要とするだけである。このような僅かな労力により、ＣＤ制御及び／又はＳＬＭを用いたパターン生成器におけるかなりの改善が達成される。
【００１８】
本発明の望ましい実施例は、添付図を参照しながら以下に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】相対偏向に対する相対輝度を示したグラフであり、本発明におけるパターン生成に用いられる部分のみを示す図である。
【図２】図１の輝度の複素振幅を示したグラフであり、本発明におけるパターン生成に用いられる部分のみを示す図である。
【図３】望ましい実施例にそった本発明の装置の概略図である。
【図４】本発明によって操作されるＳＬＭを含むパターン生成器の概略図である。
【図５】完全に平坦なミラーにおける相対偏向に対する相対輝度を示すグラフである。
【図６】非平坦のミラーにおける相対偏向に対する相対輝度を示すグラフである。
【図７】図６の輝度の複素振幅を示すグラフである。
【図８】平坦なミラーにおけるBossung-plotを示す図である。
【図９】非平坦のミラーにおけるBossung-plotを示す図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
図１は図６と類似した相対偏向に対する相対輝度を示すグラフであるが、実際に本発明に従ったパターン生成に用いられる部分５８，６０のみを示す。
【００２１】
図２は図１の輝度の複素振幅を示したグラフであり、上記と同様に本発明に従うパターン生成に用いられる部分のみを示している。前述の図６，図７との比較から分かるように、本発明における複素振幅の２番目の極小値(ｄ)は、１番目の極小値(ｂ)よりもはるかに小さな値である。したがって、１番目の極小値の代わりに２番目の極小値を用いることにより、図８，図９のBossung-plotsについて前述したデフォーカスに関する問題は少なくなる。グレー画素、すなわち中間的輝度をもつ画素は、１番目の極大値における位相とは異なる位相を持つが、９０°（正の虚数部の振幅）に近い最臨界領域は完全に除かれる。したがって、本発明に従えばＣＤ制御はより良好となり、多少のデフォーカスは重要でなくなる。角度が９０°付近の位相角度と、２番目の極小値における振幅の非ゼロの絶対値とを除くことにより、図８に理想的な平坦な画素として示されているものに類似するBossung-plotsが得られる。以上のような方法で、たとえパターン化されるべき基板がわずかに焦点からずれている場合でも、本発明による優れたＣＤ制御が達成される。
【００２２】
実際には、動作は図１，図２に示されているよりもさらに優れている。なぜなら、図１，図２，図６，図７のグラフの基礎を成すミラーの非平坦性はかなり大きいと想定されるからである。より現実的でより良好な平坦性のために、本発明によって用いられる複素振幅は実軸により近い状態に保たれる。したがって、本発明は焦点合わせを通じてはるかに優れたＣＤ制御を提供する。
【００２３】
ＣＤ制御に対する位相の影響は、本発明によって解決される主要な課題であるが、図１に示されているように、対応する輝度がほぼゼロとなるまで減少することは、肯定的で重要な副次的効果である。２番目の極小値が１番目の極小値に代わって用いられる場合には、最小輝度は大きな割合(factor)で減少する。したがって、生成されたパターンのコントラストは大きく改善されるのである。
【００２４】
非平坦なミラーに関しては、極小値は通常、偏向が大きくなるにつれて減少する。したがって、最小輝度をさらに減少させるには、さらに高次の極小値が利用されうる。しかしながら、この場合には、大した追加的利益がないのに偏向指令範囲を増大させる必要が生じるであろう。指令分解能を上げる必然性を回避するため、相対偏向の０と０.８の間にある第１部分５８においては高い偏向指令分解能を提供し、第２部分６０においては相対的に低い偏向指令分解能を提供し、同時に広い偏向指令範囲を提供するような非線型駆動回路が好ましい。望ましい非線型駆動回路は、輝度が偏向とともに急速に変化する小さい相対偏向部分に対しては、高い偏向指令分解能を提供し、また他方で、偏向範囲の上半分にあり、輝度が偏向とともにゆるやかにしか変化せず、したがって低い偏向分解能しか必要でない部分に関しては低い偏向指令分解能を提供することで、良好な相対的グレースケール分解能を可能にする。
【００２５】
本発明は、非平坦なミラーであっても高いグレースケール精度を得るための単純な方法を提供する。特に、本発明の方法はミラーの平坦性をさらに改善することよりも実行が容易である。つまり、マイクロミラーを制御するコントローラのかなり単純な修正を必要とするだけである。この修正は、既存のＳＬＭチップとマイクロリソグラフィパターン生成器に対しても実行することができる。それにより本発明は、望ましいＣＤ均一性を備えたＳＬＭおよびパターン生成器の、高速でかつ全体としてより安価な開発を可能にする。
【００２６】
本発明の基礎を成す概念は、新たな技術もしくは製造工程を主として必要としない。また、既存のアクチュエータ機構の継続的使用が可能である。より大きな偏向範囲に達するために、ただ技術的パラメータの調節及び／又はわずかな構成の変更だけが行われればよい。このような小さな労力により、現実的で有限の平坦性を有するＳＬＭを用いたパターン生成器におけるＣＤ制御及び／又はコントラストに関し、かなりの進歩が達成される。
【００２７】
既に上述したとおり、発明の基本概念は、ＳＬＭを回折可能な位相格子として用いるマイクロリソグラフィ以外の目的のために使用されるパターン生成器に対しても、容易に実現可能である。ＳＬＭを実現するためにいかなる技術が用いられるか、またいかなる効果や目的のために作られたかに関わらず、現実の装置においては、好ましくないシステム上の非平坦性とその結果としての位相変化に注意を払わねばならず、この位相変化を技術進歩によって減らすことは、困難で費用が掛かる。このような全ての場合において、本発明は大変小さな労力で画像品質を向上させる。
【００２８】
図３は、望ましい実施例にそった本発明の装置を示している。装置７０は、所定の輝度を表す信号を受け取るための入力７２と、しきい値の輝度、望ましくはゼロでないしきい値の輝度を表す信号を受け取るための入力７４を備える。所定の輝度を表す信号は通常、例えばコンピュータ等の外部デバイスから提供され、このコンピュータのメモリーの中で基板に転写されるべきパターンがビットマップとして蓄積されている。装置７０はさらにコンパレータ８０を含み、これは入力７２で受け取られる所定の輝度が入力７４で受け取られるしきい値の輝度よりも大きいか否かを判断する。さらに、装置７０はコントローラ８２を含み、これは入力７２と接続されて所定の輝度を受け取る。コントローラ８２はコンパレータ８０に接続されており、入力７２の所定の輝度が入力７４のしきい値の輝度より大きいか否かを示す信号を受け取る。コントローラ８２は駆動回路８４を制御し、この回路８４は例えばマイクロミラー７８ｃの下方で平行に配置された電極であるアクチュエータ８６ａ，８６ｂに接続されている。駆動回路８４はアクチュエータ８６ａ，８６ｂに電圧を印加し、それにより静電場および静電力をアクチュエータ８６ａ，８６ｂとマイクロミラー７８ｃとの間に発生させる。マイクロミラー７８ｃはヒンジ８８ａ，８８ｂに支えられている。マイクロミラー７８ｃは非平坦なマイクロミラーであり、その偏向に対する輝度レスポンス（輝度レスポンス曲線）と複素振幅とが図６及び図７に示されている。メモリー７６には輝度の２番目の極大値が蓄積される。上述の静電気的に制御された多数のミラーを備えたＳＬＭの構成に加え、他の公知のＳＬＭの構成を使用することが可能であり、その場合、画素の偏向はそれに応じて制御されるであろう。
【００２９】
もし、装置７０が入力７２で所定の輝度を表す信号を受け取り、その信号がしきい値の信号よりも大きければ、ミラーの偏向は、図１，図２の第１部分５８における輝度が得られるように、すなわち、１番目の極大値に対応する偏向と１番目の極小値に対応する偏向との間の偏向になるよう制御される。もし所定の輝度がしきい値の輝度以下である場合には、コントローラ８２は駆動回路８４とアクチュエータ８６ａ，８６ｂとを介してマイクロミラーを制御し、図１，図２の第２部分１６における輝度が得られるように、すなわち、２番目の極大値と２番目の極小値との間の偏向になるように制御する。
【００３０】
図４は基板１１２の露光のためのパターン生成器１１０の例を示している。このパターン生成器は、例えば上述の２番目の従来技術と類似している。つまり、もはや古典的な光線を用いないシステムであり、用いられたＳＬＭは干渉を生成する位相格子として表現される。このＳＬＭは上述した本発明の方法に従って制御される。基板１１２は、例えば薄いクロム層を持つ半導体ウエハもしくはクォーツ板であり、このクロム層はマスクを得るためにパターン化されるべきものである。生成されるべきパターンは、ＳＬＭの画素(ミラー)を適切にプログラムすることで生み出される。このパターンは２枚のレンズ１１６，１１８を持つ画像装置を通って基板に転写される。例えばレーザのような光源１２０は、光学系１２６と部分的反射板１２８とを介してＳＬＭ１４に照射される。孔１３２を備えたスクリーン１３０が配置されている。このようにして、ＳＬＭの偏向されていないマイクロミラーからの反射光は、孔１３２を通過して基板１１２上の関連した画素に照射される。スクリーン１３０は、ＳＬＭの偏向されたマイクロミラーからの反射光を遮断する。基板１１２は可動テーブル１３４に支持されている。
【００３１】
本発明は、古典的な光線を用いないシステムに応用されることが好ましい。
【符号の説明】
【００３２】
５０    １番目の極大値
５２    １番目の極小値
５４    ２番目の極大値
５６    ２番目の極小値
５８    第１部分
６０    第２部分
７０    コントローラ
７２    入力
７４    入力
７６    メモリー
７８ａ〜７８ｅ  マイクロミラー
８０    コンパレータ  
８２    論理デバイス
８４    駆動回路
８６ａ，８６ｂ  アクチュエータ
８８ａ，８８ｂ  ヒンジ
１１０  ステッパ
１１２  基板
１１４  レチクル
１１６  第１レンズ
１１８  第２レンズ
１２０  レーザ
１２２  光線拡大レンズ
１２４  コリメータ
１２６  フォーカスレンズ
１２８  部分的反射プレート
１３０  スクリーン
１３２  孔
１３４  ステージ
【図１】
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【図２】
2005535941.tif 000004
【図３】
2005535941.tif 000005
【図４】
2005535941.tif 000006
【図５】
2005535941.tif 000007
【図６】
2005535941.tif 000008
【図７】
2005535941.tif 000009
【図８】
2005535941.tif 000010
【図９】
2005535941.tif 000011
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月15日(2005.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
請求項１または２に記載の方法において、
上記１番目の極大値（５０）は上記偏向可能なミラー（７８ｃ）の輝度レスポンス曲線の最大輝度を持つ極大値であり、上記１番目の極小値（５２）は上記輝度レスポンス曲線において上記１番目の極大値の次に現れる極小値であり、上記２番目の極大値（５４）は上記輝度レスポンス曲線において上記１番目の極小値の次かまたはこれより大きな偏向において現れる上記最大輝度よりも低い輝度を持つ極大値であり、上記２番目の極小値（５６）は上記輝度レスポンス曲線において上記２番目の極大値の次に現れる極小値であることを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
請求項７または８に記載の装置において、
上記１番目の極大値（５０）は上記偏向可能なミラー（７８ｃ）の輝度レスポンス曲線の最大輝度を持つ極大値であり、上記１番目の極小値（５２）は上記輝度レスポンス曲線において上記１番目の極大値の次に現れる極小値であり、上記２番目の極大値（５４）は上記輝度レスポンス曲線において上記１番目の極小値の次かまたはこれより大きな偏向において現れる上記最大輝度よりも低い輝度を持つ極大値であり、上記２番目の極小値（５６）は上記輝度レスポンス曲線において上記２番目の極大値の次に現れる極小値であることを特徴とする装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
もし、装置７０が入力７２で所定の輝度を表す信号を受け取り、それがしきい値の信号よりも大きければ、ミラーの偏向は、図１，図２の第１部分５８における輝度が得られるように、すなわち、１番目の極大値に対応する偏向と１番目の極小値に対応する偏向との間の偏向になるよう制御される。もし所定の輝度がしきい値の輝度以下である場合には、コントローラ８２は駆動回路８４とアクチュエータ８６ａ，８６ｂとを介してマイクロミラーを制御し、図１，図２の第２部分６０における輝度が得られるように、すなわち、２番目の極大値と２番目の極小値との間の偏向になるように制御する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
図４は基板１１２の露光のためのパターン生成器１１０の例を示している。このパターン生成器は、例えば上述の２番目の従来技術と類似している。つまり、もはや古典的な光線を用いないシステムであり、用いられたＳＬＭは干渉を生成する位相格子として表現される。このＳＬＭは上述した本発明の方法に従って制御される。基板１１２は、例えば薄いクロム層を持つ半導体ウエハもしくはクォーツ板であり、このクロム層はマスクを得るためにパターン化されるべきものである。生成されるべきパターンは、ＳＬＭの画素(ミラー)を適切にプログラムすることで生み出される。このパターンは２枚のレンズ１１６，１１８を持つ画像装置を通って基板に転写される。例えばレーザのような光源１２０は、光学系１２２，１２４，１２６と部分的反射板１２８とを介してＳＬＭ１１４に照射される。孔１３２を備えたスクリーン１３０が配置されている。このようにして、ＳＬＭ１１４の偏向されていないマイクロミラーからの反射光は、孔１３２を通過して基板１１２上の関連した画素に照射される。スクリーン１３０は、ＳＬＭの偏向されたマイクロミラーからの反射光を遮断する。基板１１２は可動テーブル１３４に支持されている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
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【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
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【国際調査報告】
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