(57)【要約】  電極封止部を保護するために、リングレーザジャイロスコープの電流制御器バイアスが採用される。リングレーザジャイロスコープのフレーム２１４は、これに装着される２つ以上の電極２０６、２１２を有する。電場は、ジャイロスコープの動作中に電極間に創出され、これが、フレーム内のイオンを最低電位に向けて移動させる。電極封止部２１０は、電極とフレームの間に位置する。正の電源電圧Ｖｓを供給すること、および、電流制御器２０２を電源２０４の非アース側に接続することにより、搭載構造体２０８は、最低電位とすることができる。したがって、イオンは、搭載構造体に向かって移動し、これが、電極への移動を大幅に低減する。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電極封止部を保護するためにリングレーザジャイロスコープにバイアスをかけるためのシステムであって、
フレームであって、複数の電極は前記フレームに装着され、電場はジャイロスコープの動作中に前記複数の電極間に創出され、かつ、前記電場は前記フレーム内のイオンを最低電位に向けて移動させる、フレームと、
各々が前記複数の電極の１つと前記フレームとの間に位置する複数の封止部と、
正の電位を供給するための電源であって、アース側および非アース側を有する電源と、
前記電源の前記非アース側に電気的に位置する電流制御器と、
前記最低電位となるために電気的に接続される搭載構造体と、
を組み合わせて含むシステム。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムであって、前記複数の電極は、少なくとも１つのカソードを含む、システム。
【請求項３】
請求項１に記載のシステムであって、前記複数の電極は、少なくとも１つのアノードを含む、システム。
【請求項４】
請求項１に記載のシステムであって、前記イオンは、前記搭載構造体に移動し、前記複数の電極への移動は、最小に抑えられる、システム。
【請求項５】
請求項１に記載のシステムであって、前記搭載構造体は、イオンの蓄積があっても実質的に動作可能である、システム。
【請求項６】
請求項１に記載のシステムであって、前記搭載構造体は、ディザモータである、システム。
【請求項７】
請求項１に記載のシステムであって、前記複数の封止部の各々は、インジウム、スズ、鉛、インジウム合金、スズ合金、および、鉛合金からなるグループから選択される材料で構成される、システム。
【請求項８】
請求項１に記載のシステムであって、前記複数の封止部の各々は、インジウムから構成される、システム。
【請求項９】
請求項１に記載のシステムであって、前記フレームは、ガラスセラミックから構成される、システム。
【請求項１０】
請求項９に記載のシステムであって、前記ガラスセラミックは、Ｚｅｒｏｄｕｒである、システム。
【請求項１１】
請求項１に記載のシステムであって、前記電源は、実質的に＋６００ボルトを供給する、システム。
【請求項１２】
請求項１に記載のシステムであって、前記ジャイロスコープは、継続的な用途の応用例において動作可能である、システム。
【請求項１３】
電極封止部を保護するためにリングレーザジャイロスコープにバイアスをかけるための方法であって、該方法は、
搭載構造体および複数の電極を設けるステップを含み、
前記搭載構造体は、最低電位にある、方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の方法であって、イオンは、前記搭載構造体に移動し、前記複数の電極への移動は、最小に抑えられる、方法。
【請求項１５】
請求項１３に記載の方法であって、前記搭載構造体は、イオンの蓄積があっても実質的に動作可能である、方法。
【請求項１６】
請求項１３に記載の方法であって、前記搭載構造体は、ディザモータである、方法。
【請求項１７】
請求項１３に記載の方法であって、電源は、前記搭載構造体を前記最低電位に置くために接続される正電圧を供給する、方法。
【請求項１８】
請求項１７に記載の方法であって、前記電源は、＋６００ボルトを供給する、方法。
【請求項１９】
請求項１３に記載の方法であって、複数の封止部の各々は、インジウム、スズ、鉛、インジウム合金、スズ合金、および、鉛合金からなるグループから選択される材料で構成される、方法。
【請求項２０】
請求項１３に記載の方法であって、前記電極封止部の各々は、インジウムから構成される、方法。
【請求項２１】
フレームに装着される複数の電極を有し、各々が前記複数の電極の１つと前記フレームの間に位置する複数の封止部を有し、入力電圧を供給する電源を有し、かつ、電流制御器および搭載構造物を有するリングレーザジャイロスコープシステムの継続的な用途の応用例において、改良方法であって、
イオンの移動が前記搭載構造体に実質的に向かって指し向けられるように前記リングレーザジャイロスコープシステムにバイアスをかけ、それにより、前記複数の電極への移動を最初に抑えるステップを含む改良方法。
【請求項２２】
請求項２１に記載の改良方法であって、前記搭載構造体は、イオンの蓄積があっても実質的に動作可能である、改良方法。
【請求項２３】
請求項２１に記載の改良方法であって、前記バイアスをかけるステップは、前記搭載構造体を、前記複数の電極のいずれかの電位と少なくとも同じに低い電位に置くステップを含む、改良方法。
【請求項２４】
継続的な用途の応用例において電極封止部を保護するためにリングレーザジャイロスコープにバイアスをかけるためのシステムであって、
Ｚｅｒｏｄｕｒで構成されるフレームであって、複数の電極は前記フレームに装着され、前記複数の電極は少なくとも１つのカソードおよび少なくとも１つのアノードを含み、電場は前記ジャイロスコープの動作中に前記複数の電極間に創出され、かつ、前記電場は前記フレーム内のイオンを最低電位に向けて移動させる、フレームと、
各々が前記複数の電極の１つと前記フレームとの間に位置するインジウムから構成される複数の封止部と、
実質的に＋６００ボルトの正電位を供給するための電源であって、アース側および非アース側を有する電源と、
前記電源の前記非アース側に電気的に位置する電流制御器と、
前記最低電位となるために電気的に接続される搭載構造体であって、イオンは前記搭載構造体に移動し、前記複数の電極への移動は最小に抑えられ、前記搭載構造体はイオンの蓄積があっても実質的に動作可能であり、かつ、前記搭載構造体はディザモータである、搭載構造体と、
を組み合わせて含むシステム。
【請求項２５】
請求項２４に記載のシステムであって、継続的な用途の応用例は、航空機、船舶、タンク、および、パイプラインから構成されるグループから選択される、システム。
【請求項２６】
請求項２４に記載のシステムであって、イオンの移動は、温度と共に増加する、システム。
【請求項２７】
請求項２４に記載のシステムであって、前記電流制御器は、低圧電源、高電圧制御器、および、低電圧制御器および比較器を含む、システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般的に、リングレーザジャイロスコープに関し、より詳細には、電極の封止部の劣化を防止する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
リングレーザジャイロスコープは、Ｓａｇｎａｃ効果に従う２つの逆回転レーザビーム間の周波数差を測定することにより、角速度を検出および測定する。２つのレーザビームは、ジャイロスコープの空洞内を同時に循環する。各ビームを空洞周辺に反射するために、ミラーが使用される。センサが休止している時、２つのレーザビームは、同一の周波数を理想的に有する。センサが回転されれば、それらのビームは、異なる周波数を有する。この周波数差は、回転の速度を提供するために測定される。
【０００３】
ジャイロスコープは、航行、安定化、誘導、および、制御の応用例で使用され、航空機、船舶、タンク、パイプライン、および、ミサイルに設置される。応用例は、全般に、単一または短い期間の用途、および、継続的または長い期間の用途の２つの分類の１つの中に該当する。リングレーザジャイロスコープの単一用途の応用の例は、ミサイルの応用例である。ジャイロスコープは、ミサイルをその目標に誘導し、衝撃を受けると破壊される。このタイプのジャイロスコープは、分単位で測定することができる動作寿命を有し、継続的な用途のジャイロスコープがさらされる過酷な動作条件にはさらされない。単一用途のリングレーザジャイロスコープは、継続的用途のジャイロスコープより一般に小さく、それらとは異なる材料で製造される。
【０００４】
リングレーザジャイロスコープの継続的用途応用の例は、航空機の応用例である。商用機上のリングレーザジャイロスコープの動作寿命は、１０から２０年になることもある。このジャイロスコープは、延長された時間にわたる極端な温度および圧力の変動にさらされる。継続的用途のジャイロスコープが動作することがある極端な条件のために、このタイプのジャイロスコープのフレームは、広い温度範囲にわたる膨張に対して耐性を持つ材料を使用して製造されなければならない。１つのそのような材料は、極端に小さな熱膨張係数を持つガラスセラミック材料であるＺｅｒｏｄｕｒである。
【０００５】
このタイプのフレーム材料を使用するうえでの問題の１つは、その材料が他の誘電体材料より大きなイオン伝導度値を有する傾向を持つことである。これらのフレーム材料は、電場の存在下で高度に可動であるアルカリ性イオンを含む。このイオンは、ジャイロスコープのフレーム上に搭載されるカソードに引き寄せられる。なぜなら、ジャイロスコープに電力を印加する典型的な方法のために、それが最も低い電位にあるからである。カソードへのアルカリ性イオンの移動は、カソードとフレームとの間に位置する封止部上に、イオンの豊富な層を堆積させる。
【０００６】
インジウムは、セラミックと金属の双方に固着し、熱膨張の存在下でもその真空封止を失わないというその独特な特性のために、封止部材料として頻繁に選択される。ジャイロスコープの適切な動作のために、この封止部は、劣化して、レーザを発する気体を逃れさせてはならない。したがって、封止部の劣化を防止する必要性がある。
【０００７】
米国特許第５，８５６，９９５号明細書、「Ｒｉｎｇ  Ｌａｓｅｒ  Ｇｙｒｏｓｃｏｐｅ  ｗｉｔｈ  Ｉｏｎ  Ｆｌｕｘ  Ｔｒａｐ  Ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ」は、イオンがカソードに移動する前にイオンをトラップする方法を説明した。この方法は、図１に見られるように、電極リングがカソードを取り囲むフレームと電気的な直接接触に置かれることを必要とする。電極リングは、カソードよりも負側の電位を有する。これがイオンをカソードではなくリングに引き寄せ、イオンが封止部を劣化させることを防止する。電極リングは、導電性接着剤が付着した銅の薄いシートで作ることができ、薄い金属膜が真空蒸着により施されるか、機械加工された金属合金が機械的手段により装着されるか、または、導電性インクがフレーム表面上に塗られる。
【０００８】
他の技術は、本発明と同じ譲受人に譲渡された米国特許第６，０２５９１４号明細書、「Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｓｅａｌ  Ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ  Ｍｉｇｒａｔｉｏｎ  Ｒｅｓｉｓｔａｎｔ  Ｄｉｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｍａｔｅｒｉａｌ」に述べられる。この方法は、図２に見られるように、ジャイロスコープのフレームとカソードの間に誘電体障壁材料を追加する。誘電体障壁材料層は、ジャイロスコープのフレームに形成される電場を低減し、したがって、イオンの移動を低減する。誘電体障壁は、蒸着、または、カソードとフレームの間に材料のシートを溶接することにより形成することができる。
【０００９】
リングレーザジャイロスコープの製造工程を修正せずに、電極封止部上にイオン層が形成されることを防止することが望ましい。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【００１０】
リングレーザジャイロスコープ上の電極封止部を保護するための電流制御器バイアスの使用に対する例示的実施形態が説明される。封止部は、ジャイロスコープのフレームと電極の各々との間に位置する。ジャイロスコープが通電されると、フレーム内のイオンは、より低い電位に向かって全体的に移動する。電極の１つが最も低い電位にある場合、イオンは、電極封止部上に層を形成し、これを劣化させる。電源の非アース側に正の電源電圧を供給し、ここに電流制御を位置させることによって、搭載構造体は、最も低い電位となる。
【００１１】
本発明の本好ましい実施形態を、様々な図面において同じ参照番号が同じ要素を指す添付の図面に関連して、以下に説明する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
図３は、リングレーザジャイロスコープシステム１００の概略を与え、これは、リングレーザジャイロスコープ１１８、電流制御器１０２、電源１０４、および、搭載構造体１０８を含む。
【００１３】
リングレーザジャイロスコープ１１８は、フレーム１１４、電極１０６、１１２、電極封止部１１０、空洞、および、ミラーから構成される。フレーム１１４は、極端に小さな熱膨張係数を有するＺｅｒｏｄｕｒなどのガラスセラミックから構成することができる。他のフレーム材料も適することがある。例示的な実施形態において、フレーム１１４上に位置する電極は、１つのカソード１０６および２つのアノード１１２を含むが、他の配置構成も可能である。例えば、リングレーザジャイロスコープ１１８は、２つのカソード１０６および１つのアノード１１２を有することができる。電極封止部１１０は、フレーム１１４と電極１０６、１１２の各々との間に位置する。例示的実施形態における電極封止部１１０は、インジウムで構成される。スズ、鉛、または、インジウム、スズ、もしくは、鉛で作る合金などの他の材料も、封止部を構成するために使用することができる。ジャイロスコープ１１８の空洞は、フレーム１１４内に位置する。ミラーは、レーザビームを空洞周辺に指し向けるために使用される。空洞およびミラーは、図３に示さない。
【００１４】
電源１０４は、電流制御器１０２とカソード１０６の間に位置することができる。電源１０４は、アース１１６に電気的に接続される１つの側と、非アース側に電気的に接続される他の側とを有することができる。電流制御器１０２は、安定抵抗１２０を介してリングレーザジャイロスコープ１１８のフレーム１１４上のアノード１１２に接続される。電流制御器１０２は、アノード１１２に進入する電流を一定のレベルに保持するために使用することができる。安定抵抗１２０は、採用されるリングレーザジャイロスコープ１１８の大きさおよびレーザを発する気体のタイプに基づき選択され、レーザを発する気体の発振を最小に抑えるために使用される。
【００１５】
フレーム１１４は、搭載構造体１０８上に搭載される。例示的な実施形態における搭載構造体１０８は、ディザモータ（ｄｉｔｈｅｒ  ｍｏｔｏｒ）である。他の搭載構造体も採用可能である。
【００１６】
図３は、リングレーザジャイロスコープシステム１００に電力を供給する典型的な方法を表す概略図である。電源１０４は、ジャイロスコープ１１８に負の電圧を供給する。典型的な供給値は−５００ボルトであるが、他の負電圧も使用することができる。電流制御器１０２は、電源１０４のアース１１６側に接続される。これは、電流の不釣合いを引き起こすことがある漏れ電流を最小に抑えるために、電流制御器１０２がアースまたはその付近に留まることを可能にする。カソード１０６は、搭載構造体１０８に関して負にバイアスをかけることができる。もしカソード１０６がリングレーザジャイロスコープシステム１００の最低電位にあれば、イオンは、これに移動することができる。イオンは、カソード１０６に関する電極封止部１１０上に層を形成することができ、これが封止部１１０を時間と共に劣化させることがある。
【００１７】
図４は、リングレーザジャイロスコープシステム２００に電力を供給する例示的実施形態の概略図である。リングレーザジャイロスコープシステム２００は、リングレーザジャイロスコープ２１８、電流制御器２０２、電源２０４、および、搭載構造体２０８を含む。リングレーザジャイロスコープ２１８および搭載構造体２０８は、リングレーザジャイロスコープシステム１００のリングレーザジャイロスコープ１１８および搭載構造体１０８と実質的に同じとすることができる。
【００１８】
リングレーザジャイロスコープ２１８は、フレーム２１４、カソード２０６、２つのアノード２１２、電極封止部２１０、空洞、および、ミラーから構成される。電極封止部２１０は、フレーム２１４とカソード２０６およびアノード２１２の各々との間に位置する。ジャイロスコープ２１８の空洞は、フレーム２１４内に位置する。ミラーは、レーザビームを空洞周辺に指し向けるために使用される。空洞およびミラーは、図４には示さない。
【００１９】
電源２０４は、電流制御器２０２とカソード２０６の間に位置する。電源２０４のアース２１６側は、カソード２０６に接続され、非アース側は、電流制御器２０２に接続される。電流制御器２０２は、安定抵抗２２０を介してリングレーザジャイロスコープ２１８上のアノード２１２に接続される。抵抗値は、採用されるリングレーザジャイロスコープ２１８の大きさおよびレーザを発する気体のタイプに基づき選択される。
【００２０】
図５は、例示的電圧値を示す例示的実施形態の概略図である。電源２０４は、正の電源電圧を供給する。典型的な供給電圧は、＋６００ボルトであるが、供給値は、採用されるリングレーザジャイロスコープ２１８の大きさおよびレーザを発する気体のタイプに基づく。より大きなジャイロスコープ２１８およびレーザを発する気体のより高い圧力は、より高い供給値を必要とすることがある。
【００２１】
正の電源電圧を供給すること、および、電源２０４の非アース側に電流制御器２０２を位置させることによって、搭載構造体２０８とカソード２０６の双方とも、リングレーザジャイロスコープシステム２００の最低電位となることができる。この時、イオンの拡散は、搭載構造体２０８およびカソード１０６の双方に向かい、かつ、アノード１１２から離れるように指し向けることができる。アノード２１２と搭載構造体２０８の間のインピーダンスが、アノード２１２とカソード２０６の間のインピーダンスより小さいため、イオンは、カソード２０６に到達する前に搭載構造体２０８に到達する。したがって、実質的に少ないイオンがカソード２０６に移動する。電極封止部２１０のイオン性劣化は、低減することができ、封止部２１０の寿命を延長し、それにより、ジャイロスコープ２１８の動作寿命を延長する。電極リングまたは誘電体障壁の追加などのリングレーザジャイロスコープ２１８の製造工程の修正は必要ない。
【００２２】
この例示的実施形態において、イオンは、搭載構造体２０８に向かって移動する。搭載構造体２０８は、ジャイロスコープ２１８の動作寿命の間のイオンの蓄積によって損害を受けないことが可能である。搭載構造体２０８がレーザを発する気体を含む空洞の一部を形成する可能性は低い。したがって、レーザを発する気体の空洞への漏れおよび汚染が、電極封止部２１０の故障形態となる可能性がある一方、これは、搭載構造体２０８の典型的な故障形態とはならない。
【００２３】
図６は、リングレーザジャイロスコープシステム３００の例示的実施形態の概略図である。リングレーザジャイロスコープシステム３００は、カソード抵抗３２２が追加されたリングレーザジャイロスコープシステム２００と実質的に同じである。リングレーザジャイロスコープシステム３００にカソード抵抗３２２を追加することにより、カソード３０６は、搭載構造体３０８より高い電位になることができる。搭載構造体３０８は、システム３００の最低電位となることができる。したがって、イオンの移動は、搭載構造体３０８に向かって指し向けることができる。電極封止部３１０のイオン性劣化は、さらに低減され、封止部３１０の寿命を延長し、それにより、ジャイロスコープ３１８の動作寿命を延長する。リングレーザジャイロスコープ３１８の製造工程に対する修正は必要なく、搭載構造体は、ジャイロスコープ３１８の動作寿命の間、イオンの蓄積により損害を受けずにいることができる。
【００２４】
図７は、例示的な電流制御器４０２のブロック図を示す例示的なリングレーザジャイロスコープシステム４００の概略図である。電流制御器４０２は、リングレーザジャイロスコープシステム２００の電流制御器２０２と実質的に同じである。電流制御器４０２は、低電圧制御器および比較器回路４０６、低圧電源４０８、および、高電圧制御回路４１０を含むことができる。低圧電源４０８は、低電圧制御器および比較器回路４０６、および、高電圧制御回路４１０の双方に低圧電力を供給する。低圧電源４０８は、電源４０４の非アース側にも電気的に接続することができる。電源４０４は、リングレーザジャイロスコープシステム２００の電源２０４と実質的に同じである。
【００２５】
低電圧制御器および比較器回路４０６は、リングレーザジャイロスコープ４１２に進入する電流の量を参照値と比較し、信号を高電圧制御回路４１０に送る。高電圧制御回路４１０は、リングレーザジャイロスコープ４１２に進入する定電流を実質的に維持する。リングレーザジャイロスコープ４１２は、リングレーザジャイロスコープシステム２００のリングレーザジャイロスコープ２１８と実質的に同じである。
【００２６】
ともに本発明と同じ譲受人に譲渡された米国特許第５，４１４，７２７号明細書、「Ａｃｔｉｖｅ  Ｃｕｒｒｅｎｔ  Ｃｏｎｔｒｏｌ  Ａｐｐａｒａｔｕｓ」、および、米国特許第５，２７１，０２７号明細書、「Ｇａｓ  Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ  Ｄｅｖｉｃｅ  Ｃｕｒｒｅｎｔ  Ｃｏｎｔｒｏｌ  Ｃｉｒｃｕｉｔ」に概説されるものと同様の設計などの他の電流制御器の設計も、使用することができる。
【００２７】
リングレーザジャイロスコープは、以前、ジャイロスコープが非常に短い動作寿命を有する単一または限定された用途の応用例において、正の供給電圧で電力を供給されていた。これらの応用例は、ジャイロスコープの動作寿命を分単位で測定することができるミサイル誘導システムを含む。電極封止部のイオン性劣化は、これらの応用例において動作上の問題とはならない。なぜなら、ジャイロスコープはイオンが層を形成するのを可能にするのに十分長い時間にわたっては動作しないからである。
【００２８】
加えて、単一または限定された用途の応用例で使用されるリングレーザジャイロスコープは、様々なタイプの電極封止材料および／またはフレーム材料を採用することができる。なぜなら、それらの応用例は、熱膨張が決定的な要因となる条件下でジャイロスコープが動作することを必要としなくてよいからである。例えば、フリット封止部を使用することができる。これらの封止部は、より少ないイオン性劣化を経験する。なぜなら、フリット封止部の結合エネルギが、インジウム封止部の結合エネルギよりもはるかに大きいからである。硬質ホウケイ酸クラウンガラスであるＢＫ７などのフレーム材料を使用することができる。このタイプのフレーム材料から生成されるイオンは、より緩慢な拡散速度を有し、これが、イオン性劣化の問題を経験するためにかかる時間を延長する。
【００２９】
電極封止部を保護するために電流制御器バイアスは、リングレーザジャイロスコープが航空機、船舶、タンク、および、パイプラインの応用例におけるものなどの長期または継続的な用途の応用例を有する時にのみ必要とされる。例えば、商用機内に設置されるジャイロスコープの動作寿命は、１０から２０年になることもある。電極封止部のイオン性劣化の問題が問題点となるまでに、ジャイロスコープの動作の数年がかかることもある。封止部の劣化が発生するまでの時間の長さは、動作時間、上昇した温度、および、熱サイクルの組み合わせに基づく。イオンの拡散は、温度に強く依存することがあり、高温により多くさらされることは電極封止部が劣化する速度を上昇させることがある。例えば、高温の応用例を持つジャイロスコープと１０年間の平均寿命は、ジャイロスコープの動作の２から３年後に電極封止部劣化の問題と遭遇する。加速動作寿命試験は、封止部へのイオンの拡散を低減することによる電極封止部の動作寿命の３から４倍の延長を実証することができる。例えば、電極封止部の動作寿命は、５，０００時間から１５，０００時間に延長させることができる。リングレーザジャイロスコープの動作について実施形態が説明された一方、それらは、ジャイロスコープの製造にも適用できる。正の供給電圧を供給すること、および、電源の非アース側に電流制御器を定置することにより、電極封止部は、ジャイロスコープの販売前のフレームのバーンイン試験中にイオン性劣化から保護することができる。バーンイン試験は、納品前に欠陥を識別するために上昇させた温度で行われる。
【００３０】
本発明の様々な実施形態は、本発明自体の範囲から逸脱することなく様々な異なる装置およびデバイスを使用して実施することができる。本発明が、同じくイオンの移動により影響を受ける可能性のある他の材料にも適用することも理解されたい。例えば、電流制御器バイアスは、パス長制御（ＰＬＣ）ドライバとトランスデューサミラーの間のエポキシ接着を保護することができる。特許請求の範囲は、限定の効果のために述べられない限り、説明した順序または要素に限定されると読むべきではない。したがって、冒頭の特許請求の範囲およびそれらの均等物の範囲および精神内に該当する全ての実施形態は、本発明として主張される。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】電極リングを採用した技術の平面図である。
【図２】誘電体障壁材料を採用した技術の平面図である。
【図３】アースに関して、典型的な電流制御器の位置を示すリングレーザジャイロスコープシステムの概略図である。
【図４】本発明の例示的実施形態によるアースに関して電流制御器の位置を示すリングレーザジャイロスコープシステムの概略図である。
【図５】本発明の例示的実施形態による例示的電圧値を示すリングレーザジャイロスコープシステムの概略図である。
【図６】本発明の例示的実施形態によるアースに関して電流制御器の位置を示すリングレーザジャイロスコープの概略図である。
【図７】本発明の例示的実施形態による例示的な電流制御器のブロック図を示すリングレーザジャイロスコープシステムの概略図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【国際調査報告】
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2005512077.tif 000011
2005512077.tif 000012