(57)【要約】製氷機および冷蔵コンテナのような冷蔵システム内の水または空気または表面を連続的または定期的に洗浄かつ浄化するための方法および装置。酸化剤および酸化剤ラジカルは空気流内に電気的に生成され、結果として得られるガスは、冷蔵システムを通して流れる水流または空気内に噴射され、別の酸化剤をこの下流側の水流または空気流内に生成することが可能である。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気をコロナ放電室のような酸化室を通して通過させることによって酸化剤を電気的に生成するステップと、前記酸化剤と水流または空気流とを混合し、これによって、前記酸化剤が、スケールと微生物とエチレンとを含む前記システム内の汚染物質の除去、酸化、殺菌または凝集および濾過を引き起こすステップと、を含む冷蔵システム内の水または空気または表面を洗浄かつ浄化する方法。
【請求項２】
水中または空気中または表面の汚染物質と反応してそれらを除去するために、前記冷蔵システムを通して流れる水中または空気中にオゾンおよび／またはヒドロキシルラジカルを生成するステップを含む冷蔵システム内の水または表面または空気を洗浄かつ浄化する方法。
【請求項３】
酸素と水蒸気とを含有する空気を酸化室を通して通過させて、オゾン、過酸化水素、ヒドロキシルラジカル、ヒドロキシルイオン、酸素原子、および酸素原子イオンの形態の１つ以上の酸化剤を生成するステップと、前記冷蔵システムを通した水流または空気流内に前記酸化剤を噴射しかつ混合するステップと、を含む冷蔵システム内の水または表面または空気を洗浄かつ浄化する方法。
【請求項４】
オゾンと過酸化水素とが酸化室内に生成され、次に、水中または空気中に噴射され、次に、前記過酸化水素が介在物として作用しかつオゾンと反応して、酸化された水または空気が流れる前記冷蔵システム内を含む水流または空気流内への噴射点の下流側に、ヒドロキシルラジカルを形成する請求項３に記載の冷蔵システム内の水または表面または空気を洗浄かつ浄化する方法。
【請求項５】
電気手段のみによって酸化剤を生成するステップを含む
請求項２、３または４のいずれか１項に記載の冷蔵システム内の水または表面または空気を洗浄かつ浄化する方法。
【請求項６】
空気をオゾン発生器を通して通過させ、次に、前記冷蔵システムを洗浄かつ浄化するために前記冷蔵システムを通して流れる水または空気内に前記オゾンを噴射しかつ混合するステップを含む冷蔵システム内の水または表面または空気を洗浄かつ浄化する方法。
【請求項７】
空気を乾燥しかつ圧縮し、乾燥した圧縮空気を酸素供給器を通して通過させて空気から窒素を除去し、次に、エアロゾルまたは蒸気またはミストまたは液滴の形態の水を前記ガス内に加えるステップと、高濃度の酸素と水蒸気とを有する前記ガスを電気酸化室を通して通過させるステップと、結果として得られる前記酸化剤を水流または空気流内に噴射するステップと、を含む冷蔵システム内の水または表面または空気を洗浄かつ浄化する方法。
【請求項８】
空気入口と、前記空気入口に接続された入口を有する酸化剤またはオゾン発生器と、前記水または空気入口と出口との間の通路に接続された前記出口とを含み、これによって、前記酸化剤またはオゾン発生器からの生成物が水または空気内に通過させられかつ混合されて、冷蔵システムを洗浄かつ浄化する冷蔵システムを洗浄かつ浄化するための装置。
【請求項９】
酸素供給器が前記酸化剤またはオゾン発生器の前の空気ラインに配置され、これにより、酸素濃縮空気が前記酸化剤またはオゾン発生器に通過させられて、水流または空気流の下流側に発生されるオゾンおよび／またはヒドロキシルラジカルを生成することを特徴とする請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記空気入口ラインに配置された空気乾燥機を特徴とする請求項８または請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記装置の入口空気を加圧して、前記装置を通して空気流を引き起こすように、既存の再循環ファンの出口にまたはその近傍に接続される入口空気チューブを特徴とする請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
水スプレ、水エアロゾル、ミスト、液滴または蒸気によってガスを加湿するために、前記酸素供給器と前記酸化剤またはオゾン発生器との間のガスラインに配置された加湿器を特徴とする請求項９に記載の装置。
【請求項１３】
前記酸化された水または空気流が、前記冷蔵システムに入る前にミキサを通過することを特徴とする請求項８〜１２のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１４】
酸化された水流を脱気器を通して通過させて非溶解ガスを除去し、また前記装置を出て、前記冷蔵システムに入る前に前記非溶解ガスを水流内に再噴射することを特徴とする請求項８〜１３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１５】
酸化剤を水に部分的に溶解して、ある酸化剤が水から空気中に通気することを可能にし、この結果、前記酸化剤が前記冷蔵機の内側の空気スペースおよび前記冷蔵機の非湿潤面の汚染物質と反応しかつそれらを除去するステップを含む冷蔵機を洗浄かつ浄化するための装置。
【請求項１６】
水中の塩をミクロ凝集させ、水中の摩擦チューブを通して空気を泡立たせることによって原動力を水中に生成し、この凝集された物質および水を水フィルタを通して通過させ、このようにして水中の塩の濃度を低減する手段を含む冷蔵システムを洗浄かつ浄化するための装置。
【請求項１７】
コロナ放電場または同様の界を生成する放出器を含み、前記放出器が、エポキシ充填ガラスを含む誘電体材料によって封止またはラミネートされる１つ以上の導電性電極を含み、この結果、前記電極がガス流に露出または隣接しない冷蔵システムを洗浄かつ浄化するための装置。
【請求項１８】
前記装置全体が、ウレタンまたはエポキシまたは同様の材料のような注封体の内側に封止される冷蔵システムを洗浄かつ浄化するための請求項８〜１７のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１９】
前記冷蔵システムが、製氷機、冷水機、飲料水冷却器、低温室、冷却室、冷蔵コンテナ、冷蔵トラック、家庭用冷蔵庫および商業用冷蔵庫のような冷蔵機またはスペースを含むシステムから選択されることを特徴とする請求項１〜１８のいずれか１項に記載の冷蔵システムまたは装置内の水または表面または空気を洗浄かつ浄化する方法。
【請求項２０】
完全に注封されるかあるいは封止される構成要素であり、前記構成要素が、冷蔵コンテナの冷蔵ユニットの内側に配置されるかまたは冷蔵コンテナの冷蔵ユニットの外面に挿入されることを含めて、冷蔵システムの内側に、あるいは製氷機の内側に配置される請求項８〜１９のいずれか１項に記載の冷蔵システム内の空気または水または表面を洗浄かつ浄化するための装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
冷蔵浄化器は、冷蔵システム内の空気、水および表面の品質を制御する製品である。これらのシステムは、空気または水または製品を冷却するために使用される冷蔵ユニットまたはプラントである。冷蔵ユニットは冷蔵機（例えば製氷機）の一体部分であり得るか、あるいは冷蔵スペース（例えば冷却室）を形成するために使用し得る。
【背景技術】
【０００２】
冷蔵機は製氷機、飲料水冷却器および噴水式水飲み器を含む。このような機械は水と様々な電気的および機械的要素を収容する。水は再循環可能であり、および／または空気と相互作用し得る。したがって、汚染物が液体または凍結水に、構成要素表面、及び機械内または機械からの出口点の空気スペースに形成する可能性がある。汚染物は微生物、有機物、スケール、異臭、まずい味および変色を含むことがある。一部の冷蔵機は、水をパージして汚染物を抑制し、したがって水の浪費が生じる。
【０００３】
冷蔵スペースは低温室、冷却室、冷蔵船舶コンテナ、冷蔵トラック、商業用冷蔵庫および住宅用冷蔵庫を含む。このようなスペースは空気および製品を収容する。空気は、一般に、スペースの周りにまた冷蔵ユニットを通して繰り返し再循環される。空気は冷たく、したがって、水蒸気が凝縮する傾向を有し、湿った環境を形成する。汚染物は空気中、製品表面および水エアロゾル内に形成する可能性がある。汚染物は微生物、有機物、エチレンおよびスケールを含むことがある。製品のあるものは典型的に冷蔵スペースで廃棄状態になる。
【０００４】
冷蔵機および冷蔵スペース等の冷蔵システムは清潔に維持する必要がある。洗浄は浄化または衛生処理または消毒とも呼ばれる。洗浄は定期的または連続的であり得る。
次に、代表的な冷蔵機、すなわち製氷機を一例として挙げる。製氷機は、水を冷やして製氷するための冷媒を使用する製品である。製氷機は家庭、商業施設および工業施設に使用される。用途の中には、製氷機はアイスディスペンサ機またはポストミックスシロップ機またはドリンクディスペンサに接続され、氷を様々な位置に供給するものがある。製氷機は、世界中のホテル、クラブ、業務用キッチン、パブ、レストラン、バー、家庭用冷蔵庫および工業施設で一般的である。
【０００５】
製氷機は図１に概念的に示されている。
製氷機は３つの主室を備える。第１の室は冷蔵ユニット２と称してもよく、コンプレッサ、冷媒、冷却コイル等のような、低温状態を発生する構成要素を備える。第２の室は第１の室に隣接し、製氷棚室３と称し得る。この室は、製氷棚４、流体移送装置５（本図の場合水ポンプ）、水タンク６、および水供給孔８を有するパイプ７を備える。水は製氷機内で規則的に循環する。第３の室はホッパ９であり、また最初の２つの室の下に配置し得る。当然、製氷機は、機械に近接してあるいは主水供給部が施設に入る場所において、１１で濾過可能な給水部１０に接続される。一部の水は、汚染物を出口パイプ１を通して除去するように、「ブリードまたはダンプまたはパージ水」としてシステムを出ることが可能である。上記配置の多くの別形態が可能である。
【０００６】
次に、製氷機用の典型的な作動モードについて記述する。製氷サイクルは、例えば１０〜６０分かかることがあり、また水弁を作動し得る様々な制御部によって決定される水が機械に入る時間をもって開始する。この水がリザーバ６を満たす。次に、水ポンプ５は水をパイプ７に揚送し、水は孔８から流出し、重力で製氷棚４の上に落ちる。したがって、水は空気の中を流れる。次に、水はリザーバ内に再び捕捉され、再循環される。冷蔵室内の構成要素は、製氷棚４を冷却するために使用され、このようにして氷が製造される。次に、機械的運動を介してまたは逆サイクル冷蔵システムによってホッパ９内に氷を解放することが可能であり、この際に製氷棚が一時的に加熱される。ホッパ内のセンサは、氷の需給速度に基づき作動を制御し得る。この作動には多くの別形態が可能である。
【０００７】
次に、代表的冷蔵スペース、すなわち冷蔵コンテナを一例として挙げる。冷蔵コンテナは、食物製品を船、鉄道、飛行機およびトラックで輸送するために使用される。冷蔵コンテナは、コンテナの一方の端部に取り付けられた冷蔵ユニットを備える。空気はスペース全体にわたって、ユニットを通して繰り返し再循環され、そこで冷却される。
【０００８】
冷蔵コンテナは図２に概念的に示されている。
冷蔵コンテナは２つの主室を収容する。第１の室は冷蔵室２と称してもよく、またコンプレッサ、冷媒、冷却コイル等の低温状態を発生する構成要素を備える。第２の室は第１の室に隣接し、製品室３と称し得る。この室は、製品、絶縁体、アクセスドア等を備える。流体移送装置５（本図では空気ファン）は２つの室の間で空気を再循環させる。一部の空気は、エチレンを含む汚染物を出口通気口１を通して除去するように、廃気としてシステムを出ることが可能である。この配置の多くの別形態が可能である。
【０００９】
次に、冷蔵コンテナの典型的な作動モードについて記述する。空気は製品室２０の頂部からファン５を通して冷蔵室２内に吸引され、この冷蔵室で、空気は冷却コイルを通して下方に通過するときに冷却され、おそらくは乾燥される。次に、空気は冷蔵室の基部２１から製品室内に強制流入して戻され、この製品室で、空気はみぞを通して、次に上方流２２で製品を冷却する。この作動の多くの別形態が可能である。
この方法は、水または空気が作動流体として常に存在しかつ冷却される冷蔵システム内の空気、水および表面の品質制御装置に関する。したがって、水および空気の品質は人間の健康および安全という理由の故に重要であり、同様に、冷蔵システムの有効な作動に関する理由で重要である。
【００１０】
次に、様々な冷蔵システムに共通の様々な汚染物および洗浄反応について記述する。
様々な汚染物は、水または空気または人間の接触を介するか、或いは製品の存在の何れかにより冷蔵機またはスペースに入る。供給された空気または水が正確に濾過されないならば、空気または水または表面の汚染物が存在し得る。したがって、汚染は冷蔵機またはスペース内に形成される可能性がある。この汚染はバイオフィルムまたはバイオスライムを含む。バクテリア、ウイルス、藻、菌類および原生動物のような他の微生物も溜まることがある。その他の汚染物は塩とスケール、臭い、変色およびまずい味を含む。これらの汚染物は水または製品それ自体を不健康またはまずい味覚または非衛生にする原因となり得る。バイオフィルムは目障りであり、ある場合には、目に見える黒い斑点を氷または水中に堆積させることがある。
【００１１】
食物製品を収容する冷蔵スペースの場合、貯蔵寿命を最大にし、また食物の腐敗を最小にすることが重要である。腐敗は食物製品の表面の微生物によって、および／または食物製品が熟すときに食物製品からのエチレンの発生によって引き起こされ、次に、食物製品のより速い分解をもたらす。このような冷蔵スペースは、スペースから多少の空気を放出してエチレンを除去し得るが、これによって、冷却効率が低下する。他の冷蔵スペースは、貯蔵寿命を延ばすために化学薬品または修正雰囲気で連続的に充填されるが、これは高価である。
【００１２】
一部の施設では、酵母菌が存在する。それらの例は、キッチンでパンが製造される施設である。このような場合、バイオフィルムの程度は過度のことがある。
冷蔵機に入る空中の酵母菌が原因で、大きなフィルムが生じることがある。このことは、特に製氷機で問題である。
大部分の組織では、冷蔵機およびスペースを１週間から１年の間に１度洗浄する。「洗浄」という用語は、機械またはスペースの内側からの堆積物およびデブリスおよびスケールの除去を指して用いられる。「浄化」という用語は、機械またはスペースの内側の微生物の殺菌を指して区別して用いられる。したがって、洗浄および浄化の両方の目的を達成することが必要である。
【００１３】
冷蔵洗浄用流体およびプロセスは周知である。大部分は液体化学薬品またはエアロゾルを使用する。
共通のプロセスは以下の通りである。組織は、腐食剤ベースの溶液、洗剤、消泡剤、塩素化合物、キレート剤、アルカリ塩、ヨウ素等を含むことができる化学薬品を購入する。冷蔵システムは部分的に分解され、これらの洗浄用流体を手で加え、また刷り落としが行われる。次にすすぎ洗いが行われ、化学的残渣が除去されるが、さもなければ、この残渣は、水または氷または製品の味に影響を及ぼすであろう。このプロセスには、請負労働が利用され得る。危険な化学薬品が使用される可能性がある。
【００１４】
自動洗浄を含む様々な製品および特別な機器も利用可能である。このような装置は、例えば付属品として製氷機に取り付けられる。ある装置は、遠心ポンプのような化学薬品配量装置に送られる液体化学薬品を使用する。装置は弁およびタイマまたは他の制御装置を含むことが多い。ある装置は、ガスまたはエアロゾルを空気スペース内に解放する化学装置を使用する。化学薬品は、以前に挙げた化学薬品を含むことができる。
【００１５】
化学薬品は消耗品であり、したがって、化学薬品は、しばしば購入、輸送、貯蔵および分配する必要がある。このことは継続的な購入費用およびロジスティックスコストを生じる。化学薬品は本質的に危険であり得る。
このことは、輸送、貯蔵および取扱い中に職業上の健康および安全の問題を生じる。
取扱いは、容器間の注入および水で希釈する必要を含み得る。化学薬品は、冷蔵システムの洗浄後にすすぎ洗いの段階を必要とし得る。すすぎ洗いが不完全であるならば、氷は「まずい味」を免れないか、あるいは有害になり得る。洗浄後の化学薬品および汚染物は、冷蔵システムから除去して廃棄処理する必要があり得る。化学薬品および汚染物は時として有毒であり得るので排水管または下水管に流すべきでない。化学薬品および汚染物が有毒であるならば、代わりの廃棄処理コストは高い。化学薬品および汚染物が下水管に流されるならば、操作者は法律を犯している可能性がある。化学薬品は浸漬時間を必要とする場合がある。したがって、操作者の労働コストは高くなることがある。化学薬品の或るものは、効率的に洗浄しないか、あるいは効率的に浄化しない。また化学薬品の或るものは過度に腐食性であり、このことは、浸漬時間が必要とされる場合には尚更である。
【００１６】
塩が冷蔵機の給水に存在するならば、製氷機内のそれらの塩の濃度は時間の経過につれて高まるかもしれない。塩は表面（湿潤面および乾燥面の両方）に堆積し、したがってスケールを形成する可能性がある。このスケールは、移動部分の汚れの原因となり、腐食の原因となり得る。このことは構成要素の寿命を縮め、修理の必要性を増し、故障率を高め、白い染みの形成等の美観上の問題、等々を引き起こす。同様に、冷蔵構成要素の冷却効率を低下させ、電気の消費を増加することがある。この結果、例えば製氷機からの水を連続的または定期的にダンプまたはパージしなければならない。このようにして、容認できない濃度の塩または他の汚染物がシステムから放出される可能性がある。しかし、ダンプ水またはパージ水は完全な解決方法ではなく、高価な水使用および水浪費をもたらす。
【発明の開示】
【００１７】
（発明の目的）
本発明の目的は、冷蔵システム内の空気、水および表面の品質の制御およびこのようなシステムの洗浄および浄化に関連する上述の課題の１つ以上を克服することである。
本発明のさらなる目的は、消耗品を購入する必要がなくまた汚染物質が使用されない冷蔵システム内の空気と水および湿潤面と乾燥面の品質を制御するためのシステムを提供することである。
【００１８】
（発明の簡単な説明）
したがって、冷蔵システム内の水、空気および表面を洗浄かつ浄化する方法であって、空気をコロナ放電室のような酸化室を通して通過させることによって酸化剤を電気的に生成するステップと、酸化剤と水流および空気流とを混合し、これによって、酸化剤が、スケールと微生物とエチレンとを含むシステム内の汚染物質の除去、酸化、殺菌または凝集および濾過を引き起こすステップとを含む方法が、本発明により提供される。
【００１９】
また、冷蔵システム内の水または空気または表面を洗浄かつ浄化する方法であって、水中または空気中または表面の汚染物質と反応してそれらを除去するために、冷蔵システムを通して流れる水中または空気中にオゾンおよび／またはヒドロキシルラジカルを生成するステップを含む方法が、本発明により提供される。
さらに、冷蔵システム内の水または空気または表面を洗浄かつ浄化する方法であって、酸素と水蒸気とを含有する空気を酸化室を通して通過させて、オゾン、過酸化水素、ヒドロキシルラジカル、ヒドロキシルイオン、酸素原子、および酸素原子イオンの形態の１つ以上の酸化剤を生成するステップと、冷蔵システムを通した水流または空気流内に酸化剤を噴射しかつ混合するステップとを含む方法が、本発明により提供される。
【００２０】
また、冷蔵機を洗浄かつ浄化する方法であって、酸化剤を水に部分的に溶解させて、一部の酸化剤が水から空気中に通気することを可能にし、この結果、これらの酸化剤が冷蔵機の内側の空気スペースおよび冷蔵機の非湿潤面の汚染物質と反応しかつそれらを除去するステップを含む方法が、本発明により提供される。
また、冷蔵システムを洗浄かつ浄化するための装置であって、該装置が、水中の塩をミクロ凝集させ、水中の摩擦チューブを通して空気を泡立たせることによって原動力を発生させ、この凝集された物質および水を水フィルタを通して通過させ、このようにして塩を捕捉する手段を含む装置が提供される。
次に、本発明をより詳細に記述するために添付図を参照する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
図３は、製氷機のような冷蔵機に浄化器１２を配置できる方法の一例を示している。浄化器は任意の位置に締結または掛けることできる。取付けを容易にするために浄化器を位置１２の室の外側に配置できるか、あるいは浄化器を位置１３の冷蔵室の内側にまたは位置１４の製氷棚室の内側に配置できる。
浄化器は入口孔１５を有し、この入口孔は、好ましくは、製品の外側のように空気が比較的乾燥している位置から、浄化器に空気を供給する。小型チューブおよび空気フィルタをこの入口孔に取り付けることが可能である。浄化器は、好ましくはリザーバ６内の水に酸化剤を供給するための出口チューブ１６も有し、このリザーバ内で、好ましくは多孔性ディフューザ１７を用いることによって酸化剤が水に溶解される。或いは、ディフューザは長い装置であり、製氷皿の下のリザーバ内の位置１８に配置できる。浄化器は、製氷機の水ポンプの端末のような電源に、断続的に、あるいは製氷時にのみ浄化器の作動を可能にする回路に接続される。
【００２２】
典型的に、浄化器は、製氷機がオンでありかつ製氷時にのみオンである。さらに、循環する任意の製氷機構成要素に浄化器を接続し得る。例えば、主水圧によりリザーバの水充填が行われた場合に、水ポンプはターンオンすることが可能である。浄化器が水ポンプに電気接続されるならば、水ポンプは、リザーバが水でいっぱいである場合にのみターンオンする。浄化器は、例えば５分間それを作動させるタイマを有し得る。製氷サイクルは２０分であり得る。したがって、浄化器は、水面が最も高い場合にのみ作動可能であり、酸化剤と水との溶解を高める。このような断続的使用は浄化器の寿命も延ばす。
【００２３】
２つの理由から、酸化剤のすべてが水に溶解するわけではない。第１に、ディフューザが水位の下方にある場合、一部の酸化剤は溶解するが、一部の酸化剤は泡として残り、水面から空気に通気する。第２に、いくつかの製氷機では、水位が変化し、ディフューザが時々水位の上方に突出することがあり、この場合、酸化剤は直接空気に入る。両方の場合に、このことは、水と空気の両方を処理することが望ましいので有利である。一部の酸化剤が空気中に通過するように浄化器を実現または設計することによって、気相酸化剤が冷蔵室の内面全体、湿潤面および乾燥面の両方に到達することが保証される。気相酸化剤はホッパの内面にも到達でき、ホッパ内の角氷の間の空隙を通過できる。したがって、酸化剤は、製氷機室の湿潤面および乾燥面の微生物を殺すかまたは制御するように作用する。
【００２４】
酸化剤により、水の処理（水が浄化されるように）および空気の処理（同様に非湿潤面が浄化されるように）の両方を行うことが好ましい。このことは、酸化剤のあるものが水から空気中に通気し、次に表面に分散されることがこの場合避けられないので、ディフューザを水中に配置することによって達成される。或いは、ディフューザは水中よりも、むしろ空気中に配置できるので、酸化剤は空気中を通して表面に流れ、ある酸化剤は水中に洗い落とされる。本発明は、水中よりも、むしろ空気中にディフューザを配置するこの代替例を含む。
或いは、ベンチュリをパイプ７に配置するかあるいはバイパスをパイプ７に接続してもよく、この場合、ポンプ５からの（または新しいポンプからの）原動力により、酸化剤はチューブ１６を通してベンチュリ内に、したがって水流内に吸引される。
【００２５】
図４は、冷蔵コンテナのような冷蔵スペースに使用されるように、浄化器１２を配置できる方法の一例を示している。容易なアクセスのために、浄化器を冷蔵室の外面に配置できるが、或いは、浄化器が外面と面一であるように、浄化器をこのスペースに挿入できる。浄化器は、それに空気を供給するための入口孔１５を有する。酸化剤はチューブ１６を通して離れる。酸化剤は浄化器から空気流の下流側に向かって放出され、この結果、冷蔵室それ自体の中において、浄化器入口への酸化剤の近道または復帰はない。酸化剤を冷却コイルの下流側に供給して、腐食を最小にすることが好ましい。
【００２６】
浄化器１２は、チューブ１６から浄化器それ自体を通した入口１５内へのガス流を供給するために、組み込み済みの空気コンプレッサを含み得る。あるいは、浄化器は、入口１５をファン出口５の近傍に接続する別のチューブを含んでもよい。様々に賦形された入口コーンおよびベンチュリを有するファン出口の近くにこの別のチューブを配置することによって、ファンは、必要とされる小さな空気流量を浄化器を通して送るに十分な圧力を供給できる。低圧軸流ファンの場合、大きな管径が必要である。したがって、浄化器１２は、冷蔵システム自体のファンによって生じる空気流を代わりに利用するので、空気コンプレッサを必要としなくてよい。
【００２７】
冷蔵浄化器は空気から強力な酸化剤を生成する。これらの酸化剤は、電気エネルギを用いることによって、例えば、水蒸気を含み得る空気をコロナ放電場を通して通過させることによって形成される。生成される酸化剤は、オゾン（三価の酸素）、ヒドロキシルラジカル、ヒドロキシルイオン、過酸化水素、酸素原子、酸素原子イオン、二価の酸素イオン、水素イオン、窒素イオン等の１つ以上を含み得る。次に、これらの酸化剤は、多孔性ディフューザまたはベンチュリのような接触機構を用いることによって水中に溶解されるかあるいは空気と混合される。次に、この酸化剤の混合気は冷蔵システムを通して流れる。オゾンが過酸化水素のような介在酸化剤と反応し、これによって、システムの下流側にヒドロキシルラジカルがさらに生成される別の現象が存在し得る。
【００２８】
酸化された水は以下のものを含み得る。
水に適切に溶解されかつ有効に液相内にある酸化剤。
水に存在するが、溶解されず、なお気相内にあり、例えば、水面から通気する水中の泡として見ることが可能なある酸化剤。或いは、製品を出る前に泡を除去し、次にトラップガスを水中に再噴射できる。
空気中に（例えば冷蔵スペースで）直接混合される一部の酸化剤。
浄化器の効率が１００％未満である結果、存在する一部の残気（二価の酸素原子分子と窒素分子および水蒸気）。
【００２９】
酸化された水および空気の両方は冷蔵システムからの汚染物を洗浄かつ浄化する。
ｉ．洗浄は、主として、水中または空気中あるいは表面の無機物質および非生物有機物質の酸化のプロセスによるか、同様に、表面の他の汚染物の基材として作用する微生物を殺すプロセスによるか、同様に、酸化された水または空気が表面を通過して流れる摩擦プロセスによる。
ｉｉ．同様に、洗浄は、水中に塩をミクロ凝集させ、次に、凝集物を水フィルタに捕捉するプロセスによる。
ｉｉｉ．浄化は、酸化剤が微生物の蛋白質構造の変性を引き起こし、これによって微生物を殺すプロセスによる。
典型的に、浄化器は、冷蔵システムが作動しているときに作動する。したがって、水および空気処理は連続的または半連続的である。
【００３０】
図５は、コンパクトな冷蔵浄化器である本発明の第１の実施態様を示している。空気供給原料は、周囲空気から空気入口１５を通して供給することが可能であり、コンプレッサ２３に、次に酸化室２４に直接流れる。周囲空気は幾ばくかの自然の水蒸気を含有する。或いは、空気供給原料は周囲空気から代替空気入口２５を通して供給することが可能であり、次に、水蒸気がコンプレッサおよび酸化室に通過する前に、水蒸気を部分的または完全に除去するように乾燥機２６を通過する。酸化室は、強力な酸化剤を生成するためにコロナ放電場を利用する。酸化剤は気相内にあり、同様に、蒸気または液体エアロゾルとして水相内にあり得る。次に、酸化剤はチューブ１６を通して接触器１７に通過する。接触器は多孔性ディフューザであることが好ましく、このディフューザは、水を有する冷蔵機のリザーバ内に遠くに配置されるか、あるいは冷蔵スペースの再循環空気流内に直接配置される。
【００３１】
図６は、同様にコンパクトな冷蔵浄化器である本発明の別形態を示している。この装置は図５と同様であるが、接触器はベンチュリ噴射器１９である。次に、原動力を供給するために、冷蔵システムの既存の流体移送装置（ポンプまたはファン）を使用できる。水または空気がベンチュリを流れるとき、真空がベンチュリのガスポート内に生じ、これによって、酸化室２４を通してガスが吸引される。したがって、コンプレッサ構成要素は必要とされない。本発明の一形態では、図５と図６に示した部分は注封体内に完全に封止される。破線２７は、接触器装置をこの注封体内に含むことができるか、あるいは遠隔配置できることを示している。破線は図７〜図９で同様の意味を有する。
【００３２】
図７は、酸素供給器としても公知の酸素濃縮器装置を用いることによって酸化剤の濃度を高めるための本発明の別形態を示している。製品は、より大型の商業用および工業用冷蔵システムに適するためのより大型のユニットである。空気供給原料は周囲空気から入口１５を通して供給することが可能であり、次に、コンプレッサ２８のような空気供給システムを通して、チューブを通して酸素供給器２９に通過し、窒素３０を除去して、高い酸素濃度を達成する。或いは、空気供給原料を周囲空気から代替空気入口２５を通して供給することが可能であり、次に、空気供給原料がコンプレッサ２８に通過する前に乾燥機２６を通過する。酸素供給器からの出力は酸化室２４に通過する。次に、浄化器システムの残部は、図５と図６を参照して前述したものと同様である。接触器装置は多孔性ディフューザ１７であるか、代わりにベンチュリ１９または単にホースチューブ出口であり得る。
【００３３】
図８は、酸化剤出口で高濃度の酸化剤を生成するための、同様に、製品の効率と寿命を最適化するための本発明の別形態を示している。供給原料の空気は空気入口２５に入り、２８で圧縮されまた２９で酸素供給される前に２６で乾燥される。したがって、ガスは主に乾いた酸素を含む。しかし、このガスが酸化室２４に流入する前に、ガスは加湿器装置３１によって加湿される。水流は別個の源から供給されるか、あるいは主水流からライン３２を通して加湿器装置３１に抽出され、これによって、酸素供給器から酸化室に流れているガス内にエアロゾルまたは液滴または蒸気の形態で水が混合される。加湿器装置は膜接触装置を備えることが好ましく、この膜接触装置により、加圧水は膜の小気孔を通過し、したがって、酸素流に入ることが可能になる。したがって、水蒸気またはエアロゾル（Ｈ２Ｏ）と酸素（Ｏ２）および少量の残気は酸化室内に通過する。次に、浄化器システムの残部は、図５と図６を参照して前述したものと同様である。接触器装置は多孔性ディフューザ１７であるか、又はベンチュリ１９または単にホースチューブ出口であり得る。
【００３４】
図９は、効率的な混合、脱気および再噴射を含みまた水を利用する冷蔵機に適用される本発明の別形態を示している。主水流は水入口３３を通して入り、次に水ソレノイド弁３４を通過する。水供給原料は加圧本管系からのものでもよく、あるいはタンクまたはダムからのものでもよく、この場合、水ポンプを浄化器製品に含めてもよい。任意のソレノイド３４は、逆流防止装置として、あるいは浄化器の電気機器がフロースイッチ３５から電気信号を受信する当該フロースイッチに接続されるときに浄化器の電気機器を作動する自動方法の両方として機能できる。酸化剤が水と接触した後、酸化剤は混合コイル３６によって水中で混合される。
【００３５】
混合コイル内の酸化された水は、溶解されるある酸化剤と、なお泡形態のある酸化剤とを含有する。この「非溶解の」成分は通常浪費され、また最初の機会に空気に通気する。次に、本発明では、酸化された水は、泡が水から分離される脱気器室３７を通過する。泡は通気出口３８にガスとして放出され、一方、酸化された水は、酸化された水の出口３９の製品を離れる。脱気器室の一形態は、酸化された水が入る圧力容器またはタンクを備え、このようにして水の速度が遅くなり、水面に泡が上昇することを可能にし、これによって、室の頂部にガススペースが形成される。このガスが増大するとき、室内の水位は低下して、フロートスイッチ４０が電気信号を脱気器ソレノイド４１に送信し、この結果、脱気器ソレノイドが開いて、フロートスイッチがソレノイドを移動させて閉位置に戻すまで、ガスがチューブ３８を通して通気することを可能にする。通気チューブ３８はオゾンガスを収容する。好ましくは、通気チューブは、チェック弁またはソレノイド４２のちょうど下流側のガスライン内に接続されるか、あるいは接触器１９の第２のガスポートに、または第１の接触器の上流側または下流側に配置し得る第２の接触器のガスポート内に接続される。このようにして、オゾンガスは効率的に利用される。
【００３６】
図１０は、水を利用する冷蔵機に特殊な水フィルタおよび摩擦チューブ構成要素が付加される本発明の他の別形態を示している。この構成要素は水からのある汚染物または物質を除去する。特に、この構成要素は水から「凝集塩」を除去できる。塩は酸化剤によりミクロ凝集のプロセスを受け、この結果、塩分は溶解形態から非溶解形態に変化する。水中の酸化剤は水中の有機汚染物のイオン化を引き起こす。次に、これらのイオン化汚染物は塩と結合して、複合有機／無機化合物を生成する。これらの化合物は水から凝集し、フィルタに捕捉できる。周期タイマを用いて浄化器を繰り返しターンオンおよびターンオフすることにより、部分酸化を意図的に生成することによって、このプロセスを補強することが可能であり、この結果、水中の酸化剤濃度は時間と共に変化し、また少なくともある時間の間、完全酸化は別として部分酸化が生じるようなレベルであることは確かである。
【００３７】
好ましくは、適切なミクロンサイズの水フィルタを水中に配置して、水からミクロ凝集物を濾過することが好ましい。次に、さらに必要なことは、フィルタを通した水の通過を引き起こす原動力に過ぎない。この原動力は独立型のポンプであり得るか、あるいは冷蔵システム内の既存の主水ポンプであり得る。あるいは、以下に記述する新規な方法を利用できる。以下に記述するように、この原動力を提供するための別の構成要素を必要としないという費用効率的な方法で、水流がこのフィルタを通過するように摩擦チューブを使用することが可能である。
浄化器は、典型的に、水タンク６に配置された多孔性ディフューザ１７にチューブ１６を通して酸化剤を供給する空気コンプレッサまたは空気ポンプを既に含む。この多孔性ディフューザはその気孔から気泡４３を放出し、そのあるものは水中に溶解し、またそのあるものは水面に急速に上昇する。ディフューザ１７は円筒状カートリッジフィルタ４４の内側に配置される。本発明の１つの別形態では、摩擦チューブまたはチューブ状形状部をこのカートリッジフィルタの内側にさらに配置し得る。気泡がカートリッジから上昇するときに摩擦効果が生じ、これがフィルタ内への水４５の随伴を引き起こす。このようにして、水は、低い流量であるが連続的にカートリッジの外側から内側に吸引される。したがって、冷蔵システム内には有効な「水ポンプおよび水フィルタ」があり、これは、水運動のための原動力が冷蔵浄化器内に既に存在する加圧ガス流を用いることによって生成されるので、費用効率が高い。例えば冷蔵システムが一般的修理を受けるとき、水フィルタを定期的に交換または洗浄することによって、塩が凝集され、濾過され、次にシステムから完全に除去されていることが理解できる。
【００３８】
上述のような発明は、使用する空気入口に応じて２組の酸化剤を生成できることが試験および調査によって確認されている。
ｉ．図５と図６では、空気入口２５を使用する場合、供給原料の空気が乾燥され、水蒸気が除去され、また酸素および水素が残る。したがって、結果として得られる供給原料は水素原子を含まない。次に、酸化室によって生成された主な酸化剤は中濃度のオゾンである。
ｉｉ．図５と図６では、空気入口１５を使用する場合、供給原料の空気は水蒸気、酸素および水素を含有する。酸化室によって生成された主な酸化剤は中濃度の気相内のオゾンであり、同様に、水相内の過酸化水素およびヒドロキシルラジカルであり、両方は相当の濃度である。
ｉｉｉ．図７では、空気入口２５を使用する場合、水蒸気が乾燥機によって除去され、窒素が酸素供給器によって除去され、また高濃度の酸素が残る。次に酸化室によって生成された主な酸化剤は高濃度のオゾンである。
ｉｖ．図７では、空気入口１５を使用する場合、窒素が除去されるが、水蒸気および高濃度の酸素は残る。酸化室によって生成された主な酸化剤は高濃度の気相内のオゾンであり、また水相内の過酸化水素およびヒドロキシルラジカルであり、両方は中濃度である。
ｖ．図８では、空気入口２５を使用する。乾燥機が水蒸気を除去し、酸素供給器が窒素を除去し、また高濃度の酸素が酸素供給器２９の下流側に残る。次に、加湿器３１が微細なエアロゾル形態の水蒸気を加える。酸化室によって生成された主な酸化剤は高濃度の気相内のオゾンであり、また水相内の過酸化水素およびヒドロキシル基であり、両方は高濃度である。
【００３９】
ヒドロキシルラジカルを生成する利点は、ヒドロキシルラジカルが非常に強力な酸化剤であり、酸化プロセスの改良を提供することである。例えば、ボルトで測定して、塩素ガスの酸化電位は１．３６、オゾンは２．０７、またヒドロキシルラジカルは２．８０である。合成のおよび天然のある有機化学薬品を含む多くの物質があり、これらの物質は、オゾンとの反応速度は遅いが、ヒドロキシル基との反応速度は速く、このような場合、ヒドロキシル基は非常に優れた酸化剤である。ヒドロキシル基は１秒の何分の１かの短い半減期を有し、一方、オゾンは洗浄水内で最高３０分のより長い半減期を有する。したがって、残留酸化剤のあるレベルがある時間期間必要である微生物消毒のために、オゾンは非常に優れた酸化剤である。最適な酸化剤の形態を提供するために、ヒドロキシル基またはオゾンあるいはそれらの両方を選択できる他の例も存在する。
【００４０】
さらに、本発明は、ヒドロキシルラジカルを下流側の水流または空気流に生成できる。例えば図８では、湿った酸素が酸化室への供給原料として使用され、これによって、気相内にオゾンおよび水相内に過酸化水素が生成され、またヒドロキシルラジカルも一部生成される。オゾンおよび過酸化水素は互いに独立してまた同時にまた単一操作で生成され、一方、供給原料は放出器の放出ギャップを通過する。次に、オゾンおよび過酸化水素が接触器の主水流または空気流内に混合される。次に、過酸化水素は介在物として作用する。過酸化水素は、この下流側の流れの中でオゾンのある部分と徐々に反応して、別のヒドロキシルラジカルを生成する。したがって、本発明は、下流側の流れの中に、例えばリザーバ内にあるいは分配管構造物または再循環空気冷蔵システム内に生成または発生されるオゾンおよびヒドロキシルラジカルを提供する。ヒドロキシル基が酸化室それ自体の中にのみ生成されたならば、ヒドロキシル基は１秒の何分の１かである短い半減期のためすぐに消滅するので、ヒドロキシル基は下流側の水流または空気流で有用な働きを行うことができないであろう。しかし、本発明は下流側の流れの中にヒドロキシル基の生成を可能にするので、この制限が解消され、酸化剤は下流側のより大きな水または空気本体に、また冷蔵機器の表面にも作用できる。
【００４１】
オゾンは、自然半減期を有する水または空気で分解する。このようにオゾンが分解すると、ヒドロキシルラジカルが一時的な副生成物として発生される。しかし、過酸化水素に関連する上述のプロセスは別々の現象であり、またオゾンと過酸化水素との間の反応からより大量のヒドロキシルラジカルの発生を伴う。
酸化室の放出スペースに存在する水蒸気は、さもなければ、スペースが乾いていたならば達成されたであろうオゾン出力速度およびオゾン濃度を低減するように作用する。しかし、この効果は過酸化水素の生成によって相殺され、次に、これによって、より大量のヒドロキシルラジカルの発生が可能になる。
酸化室は、湿った（湿気のある）空気または湿った（湿気のある）酸素を受容することによって、オゾンおよび過酸化水素とヒドロキシル基を生成できるように設計される。コロナ放電場が発生される。主電源の電気入力は、二価の酸素原子および水蒸気分子を酸素原子および水素原子に分離して、次に、必要な酸化剤への再結合を可能にするように、最適な組み合わせの電圧、周波数および波形に変換される。
【００４２】
本発明は、ヒドロキシルラジカルおよび／またはオゾンが必要とされ、したがって、湿った空気または湿った酸素供給原料が使用される用途のために、腐食速度を最小にするように、また構成要素の寿命を延ばすように設計される。
ｉ．図５と図６では、入口１５を使用する場合、水蒸気および窒素が酸化室内のコロナ場を通して流れる。硝酸のような微量レベルの物質が形成する可能性があり、この物質は、ガス流にある酸化室内のステンレス鋼を含む構成要素の表面を徐々に腐食させるかもしれない。酸化室は、非腐食性であるように設計される。酸化室は放出器、電源、プリント回路基板等を備える。所望の酸化剤出力および濃度を達成するように、並列または直列の多数の放出器が存在し得る。コロナ場は放出器内に形成され、供給原料がこの界を通して流れる。放出器は高電圧電極、接地電極および誘電体を含む。電極は、ステンレス鋼、または導電性である他の材料を含む金属から製造することが可能であり、このような材料はある程度腐食性である。誘電体は、シリコンまたはマイカまたはエポキシが充填されたガラス、あるいは高い耐食性を有するガラスを含むセラミックベースの材料から製造される。放出器の設計は、誘電体が高電圧電極の頂部に位置するか、あるいは高電圧電極が誘電体内に封止されるようにラミネートされる。したがって、この電極は供給原料流に隣接せず、したがって電極は腐食しない。さらにあるいは他の一つとして、接地電極に第２の誘電体を配置することにより、同様に接地電極をラミネートできるか、あるいは誘電体で接地電極を封止できる。このようにして、放出器を通して流れる供給原料から一方または両方の電極を完全に取り除くことができ、したがって腐食は低減され、酸化室の効率が維持される。
【００４３】
ｉｉ．図７には窒素を除去する酸素供給器があり、したがって、硝酸のような物質は酸化室に生成されず、したがって腐食が抑制される。しかし、入口１５の場合、水蒸気は酸素供給器を通して流れ、このことは酸素供給器内の分子篩媒体を損傷させ、また媒体寿命を縮めるかあるいは酸素濃度の効率を低下させることがある。酸素供給器は、余剰量の分子篩媒体を含むように設計され、この場合、この媒体を定期的な修理間隔で容易に交換することが可能である。
【００４４】
ｉｉｉ．図８は冷蔵浄化器の好ましい構造を示している。乾燥機２６は、酸素供給器２９内の分子篩材料が損傷されないように、また酸素濃度の効率が維持されるように水蒸気を除去する。酸素供給器は、硝酸のような物質が酸化室に生成されないように窒素を除去する。水蒸気は、最適な位置のシステム、すなわち加湿器３１に付加され、この結果、ヒドロキシルラジカルを酸化室それ自体にあるいは過酸化水素介在物を介して下流側の流れに生成できる。酸化室は、追加レベルの腐食保護をもたらすように、前述のようなラミネート電極を有する放出器設計も利用できる。
【００４５】
本発明は、様々な構成要素の選択および構成を用いることによって構成し得る。
タイマ装置を接続して、装置をサイクルオンオフすることが可能である。本発明の１つの別形態では、このサイクル作動は、次に塩と結合してミクロ凝集として公知のプロセスをもたらす有機汚染物の部分酸化を達成することによって、得られる利益の達成に重要な貢献を果たすことができる。乾燥機構成要素２６は、再生ヒータ回路付きまたはなしの乾燥剤媒体を備え得るか、あるいは冷蔵乾燥機であり得るか、あるいはコエレスカまたは水トラップ装置またはミストフィルタであり得る。微粒子フィルタを付加して、汚染物を除去し、コンプレッサと酸素供給器および酸化室を保護し得る。酸素供給器は分子篩、または圧力スイング吸着設計、または膜設計を利用し得る。コンプレッサは回転または往復動装置あるいは空気ポンプまたはダイヤフラムポンプであり得る。コンプレッサ２８および酸素供給器２９はボトル詰め酸素で交換し得る。加湿器は、酸素が水と部分的または完全に飽和することを可能にする多孔性膜または他の任意の方法を利用し得る。酸化室はコロナ放電、プラズマ放電、サイレント電気放電、誘電バリアＡＣ放電または紫外線放射、あるいは酸化剤を生成する他の電気的方法を含み得る。
酸化室は、触媒表面に印加される電位を有するかまたは有しない二酸化チタンのような触媒を含み得る。酸化室内の放出器は、管状であるかあるいは平行プレートの形状を利用する電極を備えることが可能である。電極は固体材料であり得るか、あるいは顆粒状であり得る。
【００４６】
接触器は、ベンチュリ、あるいはベイスンまたは接触タワーまたはパイプ内に泡を発生する多孔性ディフューザ、あるいは膜装置を備え得る。あるいは、接触器は、酸化ガスが通過する蠕動ポンプを利用することが可能であり、このポンプは多孔性ディフューザを通してガスを強制して水流内に送る。あるいは、主水圧が使用されないならば、デュアルヘッド蠕動ポンプを利用することが可能であり、この場合、一方のポンプ頭部は主水流のための加圧水を生成し、また他方の頭部は加圧酸化ガスを生成し、次に、このガスは多孔性ディフューザを通して水流内に強制して送られる。混合コイルは、パイプセクションに配置された静的な混合装置と置き換えるか、あるいはそれと連結して使用し得る。製品は前述の代替空気入口付きまたはなしで構成でき、またオゾンのみというよりも、むしろ介在物として過酸化水素を含むヒドロキシルラジカルおよびオゾンの生成が行われる入口のみを組み込むことが好ましい。酸化室は多数の放出器を含むことが可能であり、これらの放出器の各々は、エポキシのような注封用樹脂に封止されることが好ましい。これによって、低電磁干渉、安全な電気絶縁および防水を達成する方法が提供される。冷却フィンは鋳型注封形状に成形することが可能である。
【００４７】
本発明の利点は以下のものを含む。
ｉ．ヒドロキシルラジカルおよびオゾンは冷蔵システム内の下流側の水流または空気流に生成される。このようにして、これらの酸化剤は、水と空気の主体および冷蔵システム表面の洗浄および浄化のような有用な働きを行うことができる。ヒドロキシルラジカルは、オゾンと過酸化水素のような介在酸化剤との間の反応の故に冷蔵システムそれ自体に生成され、これらの介在酸化剤は製品の酸化室に事前に生成され、次に、主水流または空気流内に混合される。ヒドロキシルラジカルは、無機物および非生物有機物を酸化するために理想的な非常に強力な酸化剤であり、一方、オゾンは、微生物を殺すために理想的である一時的な残留酸化レベルを生成する。
ｉｉ．プロセスは、すべて電気により進行される酸化プロセスである。化学薬品または消耗品はない。このことは、継続的な購入およびロジスティックスの相当の節減をもたらす。下流側の空気または水に発生される（上述の点ｉにより）ヒドロキシル基とすべて電気のこのプロセスとの組み合わせは、ユニークかつ革新的な組み合わせである。
【００４８】
ｉｉｉ．表面のスケール（塩あるいはスライムまたはバイオフィルムとも呼ばれる）の形成が低減される。スケールは鉱物スケールおよび有機フィルムを含む。これにより、移動部分の付着物を低減でき、腐食を低減できる。このことは構成要素の寿命を延ばし、修理の必要性を低減し、故障率を低減し、白い染みの形成のような美観上の問題、等々を低減する。同様に、このことは冷蔵構成要素の冷却効率を高め、電気の使用を低減することができる。
ｉｖ．エチレンは、食料を収容する冷蔵スペースの場合、混合酸化剤によって酸化される。このことは貯蔵寿命を延ばし、腐敗を低減する。
ｖ．危険な化学薬品はない。このことは、職業上の健康および安全の利点、および輸送、貯蔵および取扱い中のロジスティックスの利点をもたらす。
ｖｉ．酸化剤は効率的に洗浄し、効率的に浄化する。シュードモナス菌と大腸菌バクテリアおよびジアルジアとクリプトスポリジウム原生動物を含む広範囲の微生物が殺される。
ｖｉｉ．不快臭が低減される。
ｖｉｉｉ．水または氷の色および味が良くなる。水および氷は純粋かつ衛生的である。
【００４９】
ｉｘ．水の消費が低減し、「環境に優しい」。パージ水を完全に低減または排除できるので、このことが実現される。同様に、冷蔵スペースからのパージ空気が低減され、これによって、冷却効率が向上する。
ｘ．水および空気の使用が減るため、ランニングコストが低減し、定期メンテナンスを低減できる。これは、パージ水および空気が低減または完全に排除されるためであり、同様に、スケールの形成および腐食が少なくなるためである。
ｘｉ．酸化剤は、冷蔵システムの取付け具を過度に腐食しない。腐食速度は、塩素処理された主水の場合よりも遅くなる可能性がある。
ｘｉｉ．器具を使用して、酸化プロセスが行われているかどうかを十分正確に表示することができる。
【００５０】
このようにして、冷蔵システム内の水、空気および表面の品質を有効に制御でき、また化学薬品を使用せずに連続的に洗浄かつ浄化できることが理解できる。酸化プロセスの進行を行うユニットを接続し、また酸化された水または空気を冷蔵システムを通して通過させることによって、有効かつ安全なシステムの洗浄および浄化が行われる。さらに、本発明は、住宅あるいは商業または工業の冷蔵プロセスの再循環液体またはガスを使用する任意の機器に適用できる。
本発明の代替形態についてある程度詳細に記述してきたが、本発明はそれらに限定されず、本発明の精神と範囲に含まれる変更と修正を含むことができることを認識すべきである。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】従来技術の製氷機の図面である。
【図２】従来技術の冷蔵コンテナの図面である。
【図３】製氷機に配置された冷蔵浄化器の例である。
【図４】冷蔵コンテナに配置された冷蔵浄化器の例である。
【図５】ディフューザを含む本発明のコンパクトな形態である。
【図６】ベンチュリを含む本発明のコンパクトな形態である。
【図７】酸素供給器を含む本発明の代替形態である。
【図８】加湿器を含む本発明の代替形態である。
【図９】脱気器を含む本発明の代替形態である。
【図１０】摩擦チューブと水フィルタとを含む本発明の代替形態である。
【符号の説明】
【００５２】
５  ポンプ                  １２  浄化器
１３、１４  浄化器位置      １５  入口孔
１６  出口チューブ          １７  多孔性ディフューザ
１８  レザーバ内位置        １９  ベンチュリ噴射器
２３、２８  コンプレッサ    ２４  酸化室
２５  代替空気入り口        ２６  乾燥機
２７  破線                  ２９  酸素供給器
３０  窒素                  ３１  加湿器装置
３２  ライン                ３３  水入口
３４  水ソレノイド弁        ３５  フロースイッチ
３６  混合コイル            ３７  脱気器室
３８  通気出口              ４０  フロートスイッチ
４１  脱気器ソレノイド
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【国際公開パンフレット】
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2005506891.tif 000050
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【手続補正書】
【提出日】平成16年2月2日(2004.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
冷蔵システムの一部である流体（水および／または空気を含む）に酸化剤を生成して、前記冷蔵システム内の汚染物質と反応しかつそれらを除去するステップを含み、前記酸化剤が空気および／または水の分子から発生され、したがって酸素および／または水素原子のみを含有し、またヒドロキシルラジカルまたは過酸化水素のようなオゾン以外の酸化剤を含む冷蔵システム内の水または空気または機器表面または食物表面または食品を洗浄かつ浄化する方法。
【請求項２】
流体流を前記冷蔵システムの一部として供給するステップと、酸素と水蒸気とを含有する空気を酸化室を通して通過させて、過酸化水素の形態の酸化剤と、ヒドロキシルラジカル、オゾン、ヒドロキシルイオン、酸素原子および酸素原子イオンの１つ以上とを生成するステップと、前記冷蔵システム内の流体流（水または空気を含む）内に前記酸化剤を噴射しかつ混合するステップと、を含む冷蔵システム内の水または表面または空気を洗浄かつ浄化する方法。
【請求項３】
オゾンと過酸化水素とが酸化室内に生成され、次に水中または空気中に噴射され、次に前記過酸化水素が介在物として作用しかつオゾンと反応して、酸化された水または空気が流れる前記冷蔵システム内を含む水流または空気流内への噴射点の下流側に、ヒドロキシルラジカルを形成する冷蔵システム内の水または表面または空気を洗浄かつ浄化する方法。
【請求項４】
電気手段のみによって酸化剤を生成するステップを含む請求項１、２または３のいずれか１項に記載の冷蔵システム内の水または表面または空気を洗浄かつ浄化する方法。
【請求項５】
空気をオゾン発生器を通して通過させ、次に、前記冷蔵システムを洗浄かつ浄化するために前記冷蔵システムを通して流れる水または空気内に前記オゾンを噴射しかつ混合するステップを含む請求項１、２または３のいずれか１項に記載の冷蔵システム内の水または表面または空気を洗浄かつ浄化する方法。
【請求項６】
空気を乾燥しかつ圧縮し、乾燥した圧縮空気を酸素供給器を通して通過させて空気から窒素を除去し、次に、エアロゾルまたは蒸気またはミストまたは液滴の形態の水を前記ガス内に加えるステップと、高濃度の酸素と水蒸気とを有する前記ガスを電気酸化室を通して通過させるステップと、結果として得られる前記酸化剤を水流または空気流内に噴射するステップと、を含む請求項１、２または３のいずれか１項に記載の冷蔵システム内の水または表面または空気を洗浄かつ浄化する方法。
【請求項７】
空気入口と、前記空気入口に接続された入口を有する酸化剤またはオゾン発生器と、前記水または空気入口と出口との間の通路に接続された前記出口とを含み、これによって、前記酸化剤またはオゾン発生器からの生成物が水または空気内に通過させられかつ混合されて、冷蔵システムを洗浄かつ浄化する請求項１、２または３のいずれか１項に記載の冷蔵システムを洗浄かつ浄化するための装置。
【請求項８】
酸素供給器が前記酸化剤またはオゾン発生器の前の空気ラインに配置され、これにより、酸素濃縮空気が前記酸化剤またはオゾン発生器に通過させられて、水流または空気流の下流側に発生されるオゾンおよび／またはヒドロキシルラジカルを生成することを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記空気入口ラインに配置された空気乾燥機を特徴とする請求項７または請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前期装置の入口空気を加圧して、前期装置の酸化室を通して空気流を引き起こすように、既存の再循環ファンの出口にまたはその近傍に接続される入口空気チューブを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の冷蔵システムを洗浄かつ浄化するための装置。
【請求項１１】
水スプレ、水エアロゾル、ミスト、液滴または蒸気によってガスを加湿するために、前記酸素供給器と前記酸化剤またはオゾン発生器との間のガスラインに配置された加湿器を特徴とする請求項８に記載の装置。
【請求項１２】
前記酸化された水または空気流が、前記冷蔵システムに入る前にミキサを通過することを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の冷蔵システムを洗浄かつ浄化するための装置。
【請求項１３】
酸化された水流を脱気器を通して通過させて非溶解ガスを除去し、また前記装置を出て、前記冷蔵システムに入る前に前記非溶解ガスを水流内に再噴射することを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の冷蔵システムを洗浄かつ浄化するための装置。
【請求項１４】
酸化剤を水に部分的に溶解して、ある酸化剤が水から空気中に通気することを可能にし、この結果、前記酸化剤が前記冷蔵機の内側の空気スペースおよび前記冷蔵機の非湿潤面の汚染物質と反応しかつそれらを除去するステップを含む請求項１〜１３のいずれか１項に記載の冷蔵機を洗浄かつ浄化するための装置。
【請求項１５】
水中の塩をミクロ凝集させ、水中の摩擦チューブを通して空気を泡立たせることによって原動力を水中に生成し、この凝集された物質および水を水フィルタを通して通過させ、このようにして水中の塩の濃度を低減する手段を含む請求項１〜１４のいずれか１項に記載の冷蔵システムを洗浄かつ浄化するための装置。
【請求項１６】
コロナ放電場または同様の界を生成する放出器を含み、前記放出器が、ガラスまたはセラミックまたはエポキシ充填ガラスを含む誘電体材料によって封止またはラミネートされる１つ以上の導電性電極を含み、この結果、前記電極がガス流に露出または隣接しない請求項１〜１５のいずれか１項に記載の冷蔵システムを洗浄かつ浄化するための装置。
【請求項１７】
前記装置全体または装置の部分が、ウレタンまたはエポキシまたは同様の材料のような注封体の内側に封止される請求項１〜１６のいずれか１項に記載の冷蔵システムを洗浄かつ浄化するための装置。
【請求項１８】
前記冷蔵システムが、製氷機、冷水機、飲料水冷却器、低温室、冷却室、冷蔵輸送コンテナ、大型冷蔵庫、ソフトアイス機、アイスクリーム機、冷蔵トラック、家庭用冷蔵庫および商業用冷蔵庫のような冷蔵機またはスペースを含むシステムから選択されることを特徴とする請求項１〜１７のいずれか１項に記載の冷蔵システムまたは装置内の水または表面または空気を洗浄かつ浄化する方法。
【請求項１９】
完全に注封されるかあるいは封止される構成要素であり、前記構成要素が、冷蔵コンテナの冷蔵ユニットの内側に配置されるかまたは冷蔵コンテナの冷蔵ユニットの外面に挿入されることを含めて、冷蔵システムの内側に、あるいは製氷機の内側に配置される請求項１〜１８のいずれか１項に記載の冷蔵システム内の空気または水または表面を洗浄かつ浄化するための装置。
【国際調査報告】
2005506891.tif 000052
2005506891.tif 000053
2005506891.tif 000054
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