(57)【要約】合成ヘパリノイドの製造における使用のための合成単糖、二糖、三糖、四糖および五糖の製造。【特許請求の範囲】
【請求項１】
合成ヘパリノイドを製造するための五糖構成ブロック(pentasaccharide building block)であって、該構成ブロック(building block)は一般式Ｉのものであり、
【化１】
2005505565.tif 000074
式中、単糖単位の立体配置および内部結合の立体化学は、Ｄ−グルコ−アルファ−１，４−Ｄ−グルクロノ−ベータ−１，４−Ｄ−グルコ−アルファ−１，４−Ｌ−イズロノ−ベータ−１，４−Ｄ−グルコのように定義され、そして置換基は以下のように定義される；
Ｘ1は、ヒドロキシ、アルケニルオキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、イミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲH1は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲH2は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は独立して一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｃｂｚ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド、ＮＨ−Ａｃ、ＮＨ−アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS2は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS3は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS4は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、
あるいはＲS4とＲBは組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲS5は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
あるいはＲS5とＲHは組み合わさって環式アセタールまたはケタール部分を形成し得；
ＲE1は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲE2は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲBは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲB1は、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP1は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP2は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；、カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択される。
【請求項２】
式中、単糖ユニットの立体配置および内部結合の立体化学が、Ｄ−グルコ−アルファ−１，４−Ｄ−グルクロノ−ベータ−１，４−Ｄ−グルコ−アルファ−１，４−Ｌ−イズロノ−ベータ−１，４−Ｄ−グルコのように定義され、そして、
式中：
Ｘ1が、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適なリポアミノ酸からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲH、ＲH1、およびＲH2が独立してベンジルまたは置換ベンジル保護基から選択され、あるいはＲH1とＲAまたはＲH2とＲB1が、独立して、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAが、アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｃｂｚ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド；または他のこのような好適な保護されたアミノ官能基からなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1、ＲS2、ＲS3、ＲS4およびＲS5が、独立して、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基から選択され；あるいはＲS4とＲBが、組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲE1およびＲE2が、独立して、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基から選択され；
ＲBおよびＲB1が、独立して、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基から選択され；更に、ＲS4とＲBあるいはＲH2とＲB1が、独立して、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP1およびＲP2が、独立して、ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシル、およびアルキルアリールアシル保護基；およびカーボネート保護基から選択される、
請求項１に記載の五糖構成ブロック。
【請求項３】
Ｘ1が、ヒドロキシ、メトキシ、エトキシ、アリルオキシ、ｎ−ペンテニルオキシ、Ｃ１−５アルコキシ、Ｃ３−７アルケニルオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオメチル、チオエチル、チオクレシル、チオフェニル、クロロ、ブロモ、フルオロ、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシ、２−トリメチルシリルオキシエトキシ（ＳＥＭ）、または他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲHが、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され；
ＲH1が、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲH2が、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1が独立して一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAが、アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｃｂｚ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド、ＮＨ−Ａｃ、ＮＨ−Ａｌｌｏｃからなる群から選択され；あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基；ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、アリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、メトキシメチル、メトキシエチル、トリメチルシロキシエチル（ＳＥＭ）、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS2が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基；ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、アリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、メトキシメチル、メトキシエチル、トリメチルシロキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS3が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基；ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、アリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、メトキシメチル、メトキシエチル、トリメチルシロキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS4が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基；ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、アリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、メトキシメチル、メトキシエチル、トリメチルシロキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBが組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲS5が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基；ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、アリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、メトキシメチル、メトキシエチル、トリメチルシロキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲE1が、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲE2が、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲBが、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲB1が、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1が一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP1が、ベンジル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP2が、ベンジル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；ベンゾイル、４−クロロベンゾイル、クロロアセチル、アセチル、レブリノイル、ピバロイル、４−メトキシベンゾイル、４−アジドベンゾイル、アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基からなる群から選択される、
請求項１に記載の五糖構成ブロック。
【請求項４】
式中、単糖単位の立体配置および内部結合の立体化学が、Ｄ−グルコ−アルファ−１，４−Ｄ−グルクロノ−ベータ−１，４−Ｄ−グルコ−アルファ−１，４−Ｌ−イズロノ−ベータ−１，４−Ｄ−グルコのように定義され、そして、
式中:
Ｘ1が、ヒドロキシ、メトキシ、チオメチル、チオエチル、チオクレシル、チオフェニル、トリクロロアセトイミドイル、tブチルジフェニルシリルオキシ  送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適なリポアミノ酸からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲH、ＲH1、およびＲH2が、独立して、ベンジルまたは置換ベンジル保護基から選択され、あるいはＲH1とＲAまたはＲH2とＲB1は、独立して、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAが、アジド官能基、ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得、
ＲS1、ＲS2、ＲS3、ＲS4およびＲS5が、独立して、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル；ベンゾイルから選択され、あるいはＲS4とＲBが組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲE1およびＲE2が、独立して、メチル、アリルまたは、ベンジルおよび置換ベンジル基から選択され；
ＲBおよびＲB1が、独立して、アジド官能基；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基から選択され；更に、ＲS4とＲBまたはＲH2とＲB1が、独立して、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP1がベンジルであり；
ＲP2が、ベンジル；ベンゾイル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択される、
請求項１に記載の五糖構成ブロック。
【請求項５】
Ｘ1がＣ１−Ｃ５アルコキシである、請求項１に記載の五糖構成ブロック。
【請求項６】
ＲAがアジドまたは−ＮＨ−ＤＴＰＭである、請求項１に記載の五糖構成ブロック。
【請求項７】
ＲP1、ＲHおよびＲH1がベンジルである、請求項１に記載の五糖構成ブロック。
【請求項８】
ＲS1、ＲS2、ＲS3、ＲS4およびＲS5が、独立して、ベンゾイル、４−メトキシベンジル、４−メトキシフェニル、４−クロロベンゾイル、またはｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、アリル、トリメチルシロキシエチルから選択される、請求項１に記載の五糖構成ブロック。
【請求項９】
ＲP1およびＲP2がベンジルまたは置換ベンジルである、請求項１に記載の五糖構成ブロック。
【請求項１０】
ＲE2がメチルである、請求項１に記載の五糖構成ブロック。
【請求項１１】
ＲBがアジドであり、あるいはＲBとＲS4が組み合わさって環式カルバメートを形成している、請求項１に記載の五糖構成ブロック。
【請求項１２】
ＲS1およびＲS2がベンゾイルであり、そしてＲAがアジドまたは−ＮＨ−ＤＴＰＭであり、あるいはＲAとＲH1が一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成している、請求項１に記載の五糖構成ブロック。
【請求項１３】
ＲP2がベンジル、クロロアセチル、アセチル、ベンゾイル、置換ベンゾイル、ピバロイル、レブリニル（levulinyl）またはアリルオキシカルボニルから選択される、請求項１に記載の五糖構成ブロック。
【請求項１４】
ＲB1がアジドまたは−ＮＨ−ＤＴＰＭである、請求項１に記載の五糖構成ブロック。
【請求項１５】
Ｘ1がＣ１−Ｃ５アルコキシであり、ＲS1およびＲS2がベンゾイルであり、ＲS3、ＲS4およびＲS5が、独立して、ベンゾイル、４−メトキシベンジル、４−メトキシフェニル（4-methoxypheyl）、４−クロロベンゾイル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、アリルから選択され、ＲE2がメチルであり、ＲP1、ＲH、ＲH1およびＲH2がベンジルであり、そしてＲP2がベンジル、クロロアセチル、アセチル、ベンゾイル、置換ベンゾイル、ピバロイル、レブリニル（levulinyl）またはアリルオキシカルボニルから選択される、請求項１に記載の五糖構成ブロック。
【請求項１６】
請求項１に記載の五糖を合成する方法であって、以下の工程を包含する：
式IIの三糖ＥＤＣ
【化２】
2005505565.tif 000075
［式中
Ｘ2は、チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、ｎ−ペンテニルから選択され、そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲH2は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は独立して一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS3は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS4は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲS5は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基、アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチル、カルバメート保護基、トリチルからなる群から選択され；あるいは、ＲS5とＲHは組み合わさって環式アセタールまたはケタール部分を形成し得；
ＲE1は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲBは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲB1は、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP1は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；、カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP2は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；、カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択される。］
を形成する工程；
ならびに式IIIの二糖ＢＡ
【化３】
2005505565.tif 000076
［式中
Ｘ1は、アルコキシ、アルケニルオキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲH1は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｃｂｚ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド、ＮＨ−Ａｌｌｏｃ、ＮＨ−Ａｃからなる群から選択され；あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS2は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲQは、ａ）−（Ｃ＝Ｏ）−ＯＲE2（式中、ＲE2は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択される）；
あるいはｂ）−（ＣＨ2）−ＯＲM（式中、ＲMはｐ−メトキシフェニル、ｐ−メトキシベンジル、トリチル基、アリル、レブリノイルから選択される）のいずれかであり；
ＲLはＨである］
を形成する工程；
ならびに該三糖を該二糖へ結合させて該五糖を形成する工程。
【請求項１７】
請求項１６に記載の方法：
式中
Ｘ1が、ヒドロキシ、メトキシ、チオメチル、チオエチル、チオクレシル、トリクロロアセトイミドイル、tブチルジフェニルシリルオキシ  送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適なリポアミノ酸からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲH、ＲH1、およびＲH2が、独立して、ベンジルまたは置換ベンジル保護基から選択され、あるいは、ＲH1とＲAまたはＲH2とＲB1が、独立して、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAが、アジド官能基、ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得、
ＲS1、ＲS2、ＲS3、ＲS4およびＲS5が、独立して、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル；ベンゾイルから選択され、あるいはＲS4とＲBが組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲE1およびＲE2が、独立して、メチル、アリルまたは、ベンジルおよび置換ベンジル基から選択され；
ＲBおよびＲB1が、独立して、アジド官能基；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基から選択され；更に、ＲS4とＲBまたはＲH2とＲB1が、独立して、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP1がベンジルであり；
ＲP2が、ベンジル；ベンゾイル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、
Ｘ2が、チオメチル、チオクレシル、またはトリクロロアセトイミドイルから選択され、そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく、
ＲQが、ａ）−（Ｃ＝Ｏ）−ＯＲE2（式中、ＲE2は、メチル、アリルまたはベンジルである）；
あるいはｂ）−（ＣＨ2）−ＯＲM（式中、ＲMはｐ−メトキシフェニル、ｐ−メトキシベンジル、トリチル基から選択される）のいずれかであり、
ＲLがＨであり、
ならびに該三糖を該二糖へ結合させて該五糖を形成すること。
【請求項１８】
請求項１に記載の五糖を合成する方法であって、以下の工程を包含する：
四糖ＥＤＣＢ（式IV）
【化４】
2005505565.tif 000077
［式中：
Ｘ2は、チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基から選択され、そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲH2は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は独立して一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS2は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS3は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS4は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲS5は、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基からなる群から選択され；４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；あるいはＲS5とＲHは組み合わさって環式アセタールまたはケタール部分を形成し得；
ＲE1は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲE2は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲBは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲB1は、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP1は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP2は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択される。］
を合成する工程；
ならびに該四糖を式Ｖの単糖
【化５】
2005505565.tif 000078
［式中：
Ｘ1は、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲH1は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｃｂｚ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド、ＮＨ−Ａｃ、ＮＨ−アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得、
ＲS1は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択される。］
へ結合させる工程。
【請求項１９】
Ｘ1が、ヒドロキシ、メトキシ、チオメチル、チオエチル、チオクレシル、トリクロロアセトイミドイル、tブチルジフェニルシリルオキシ  送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適なリポアミノ酸からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲH、ＲH1、およびＲH2が、独立して、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAまたはＲH2とＲB1が、独立して、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAが、アジド官能基  ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭからなる群から選択され；あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得、
ＲS1、ＲS2、ＲS3、ＲS4およびＲS5が、独立して、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル；ベンゾイルから選択され、あるいはＲS4とＲBが組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲE1およびＲE2が、独立して、メチル、アリルまたは、ベンジルおよび置換ベンジル基から選択され；
ＲBおよびＲB1が、独立して、アジド官能基；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基から選択され；更に、ＲS4とＲBまたはＲH2とＲB1が、独立して、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP1がベンジルであり；
ＲP2がベンジル；ベンゾイル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、
Ｘ2が、チオメチル、チオクレシル、またはトリクロロアセトイミドイルから選択され、そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく、
ＲE2が、メチル、アリルまたはベンジルである、
請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
請求項１に記載の五糖を合成する方法であって、以下の工程を包含する：
式VIの四糖ＤＣＢＡ
【化６】
2005505565.tif 000079
［Ｘ1は、ヒドロキシ、アルケニルオキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、イミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲH1は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｃｂｚ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド、ＮＨ−Ａｃ、ＮＨ−アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得、
ＲS1は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、
ＲS2は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、
ＲS3は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、
ＲS4は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、
あるいはＲS4とＲBは組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく、
ＲE1は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲE2は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され、
ＲBは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得、
ＲP1は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP2は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択される。］
を合成する工程；
ならびに該四糖を式VIIの単糖
【化７】
2005505565.tif 000080
［式中
Ｘ2は、チオアルキル、チオアリール、トリクロロアセトイミドイルから選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲS5は、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基からなる群から選択され；４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；あるいはＲS5とＲHは組み合わさって環式アセタールまたはケタール部分を形成し得；
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲH2は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は独立して一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲB1は、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得る。］
へ結合させる工程。
【請求項２１】
Ｘ1が、ヒドロキシ、メトキシ、チオメチル、チオエチル、チオクレシル、トリクロロアセトイミドイル、tブチルジフェニルシリルオキシ  送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適なリポアミノ酸からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲH、ＲH1、およびＲH2が、独立して、ベンジルまたは置換ベンジル保護基から選択され、あるいはＲH1とＲAまたはＲH2とＲB1が、独立して、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAが、アジド官能基  ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得、
ＲS1、ＲS2、ＲS3、ＲS4およびＲS5が、独立して、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル；ベンゾイルから選択され、あるいはＲS4とＲBが、組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲE1およびＲE2が、独立して、メチル、アリルまたは、ベンジルおよび置換ベンジル基から選択され；
ＲBおよびＲB1が、独立して、アジド官能基；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基から選択され；更に、ＲS4とＲBまたはＲH2とＲB1が、独立して、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP1がベンジルであり；
ＲP2が、ベンジル；ベンゾイル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、
Ｘ2が、チオメチル、チオクレシル、またはトリクロロアセトイミドイルから選択され、そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく、
ＲE2が、メチル、アリルまたはベンジルである、
請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
請求項１に記載の五糖を合成する方法であって、以下の工程を包含する：
式VIIIの二糖ＥＤ
【化８】
2005505565.tif 000081
［式中
Ｘ2は、チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基から選択され、そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲS5は、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基からなる群から選択され；４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；あるいはＲS5とＲHは組み合わさって環式アセタールまたはケタール部分を形成し得；
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲH2は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は独立して一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲB1は、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲE2は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され、
ＲP1は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP2は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；、カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択される。］
を形成する工程；
ならびに式IXの三糖ＣＢＡ
【化９】
2005505565.tif 000082
［式中
Ｘ1は、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく、但し、Ｘ1がハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートまたは関連するホスフェートエステル型脱離基である場合、Ｘ2は同一ではあり得ず；
ＲBは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｃｂｚ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド、ＮＨ−Ａｃ、ＮＨ−アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS2は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS3は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS4は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲH1は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲE2は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択される。］
を形成する工程；
ならびに該二糖を該三糖へ結合させる工程。
【請求項２３】
Ｘ1が、ヒドロキシ、メトキシ、チオメチル、チオエチル、チオクレシル、トリクロロアセトイミドイル、tブチルジフェニルシリルオキシ  送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適なリポアミノ酸からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲH、ＲH1、およびＲH2が、独立して、ベンジルまたは置換ベンジル保護基から選択され、あるいはＲH1とＲAまたはＲH2とＲB1が、独立して、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAが、アジド官能基、ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得、
ＲS1、ＲS2、ＲS3、ＲS4およびＲS5が、独立して、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル；ベンゾイルから選択され、あるいはＲS4とＲBが組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲE1およびＲE2が、独立して、メチル、アリルまたは、ベンジルおよび置換ベンジル基から選択され；
ＲBおよびＲB1が、独立して、アジド官能基；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基から選択され；更に、ＲS4とＲBまたはＲH2とＲB1が、独立して、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP1がベンジルであり；
ＲP2が、ベンジル；ベンゾイル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
Ｘ2が、チオメチル、チオクレシル、またはトリクロロアセトイミドイルから選択され、そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく、
ＲE2が、メチル、アリルまたはベンジルである、
請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
Ｘ1が、アルファもしくはベータのチオメチルまたはチオクレシルまたはトリクロロアセトイミドイルまたは（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）、アルファメトキシからなる群から選択され；
ＲH1が、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され；
ＲAが、アジド官能基、ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、ベンゾイル、４−クロロベンゾイルからなる群から選択される、
請求項１に記載の五糖。
【請求項２５】
Ｘ1が、アルファもしくはベータのチオメチルまたはチオクレシルまたはトリクロロアセトイミドイルまたは（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）、アルファメトキシからなる群から選択され；
ＲH1が、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され；
ＲAが、アジド官能基、ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、ベンゾイル、４−クロロベンゾイルからなる群から選択され；
ＲHが、ベンジルからなる群から選択され；
ＲS2が、ベンゾイル、置換アリールアシル保護基からなる群から選択され；
ＲE2が、メチルまたはアリルまたはベンジルである、
請求項１に記載の五糖。
【請求項２６】
Ｘ1が、アルファもしくはベータのチオメチルまたはチオクレシルまたはトリクロロアセトイミドイルまたは（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）、アルファメトキシからなる群から選択され；
ＲS3が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、ベンゾイル、４−クロロベンゾイル、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲS4が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、ベンゾイル、４−クロロベンゾイル、アリルからなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBが組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲBが、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得る、
請求項１に記載の五糖。
【請求項２７】
Ｘ1が、アルファもしくはベータのチオメチルまたはチオクレシルまたはトリクロロアセトイミドイルまたは（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）、アルファメトキシからなる群から選択され；
ＲE1が、メチル、アリル、ベンジルからなる群から選択され；
ＲP1がベンジルであり；
ＲP2が、ベンジル；ベンゾエート；またはアリルオキシカルボニルからなる群から選択される、
請求項１に記載の五糖。
【請求項２８】
Ｘ1が、アルファもしくはベータのチオメチルまたはチオクレシルまたはトリクロロアセトイミドイルまたは（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）、アルファメトキシからなる群から選択され；
ＲHがベンジルであり；
ＲH2がベンジルであり；
ＲS5が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、ベンゾイル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルからなる群から選択され；
ＲB1が、アジド官能基、ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得る、
請求項１に記載の五糖。
【請求項２９】
一般式Ｘの単糖：
【化１０】
2005505565.tif 000083
式中
Ｘ1は、ヒドロキシ、アルケニルオキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、イミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲH1は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｃｂｚ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド、ＮＨ−Ａｃ、ＮＨ−アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲLは、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；γ−アミノブチリル、４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロへキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基；アリルオキシカルボニル、アリルエーテル、カーボネート型保護基から選択され；あるいはＲLとＲS1は組み合わさってベンジリデンまたは置換ベンジリデン環を形成し得る。
【請求項３０】
Ｘ1が、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲH1が、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され；
ＲAが、アジド官能基、ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、４−クロロベンゾイル、アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲLが、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；γ−アミノブチリル、４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロへキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基から選択され；あるいはＲLとＲS1が組み合わさってベンジリデンまたは置換ベンジリデン環を形成し得る、
請求項２９に記載の単糖。
【請求項３１】
Ｘ1が、アルファもしくはベータのチオメチルまたはチオクレシルまたはトリクロロアセトイミドイルまたは（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）、アルファメトキシからなる群から選択され；
ＲH1が、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され；
ＲAが、アジド官能基、ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、ベンゾイル、４−クロロベンゾイルからなる群から選択され；
ＲLが、Ｈ原子または（レブリノイル）である、
請求項２９に記載の単糖。
【請求項３２】
ＲAがアジドであるか、あるいはＲAとＲH1が組み合わさって環式カルバメートを形成する、請求項２９に記載の単糖。
【請求項３３】
ＲH1がベンジルである、請求項２９に記載の単糖。
【請求項３４】
ＲS1がベンゾイル、４−メトキシベンジル、４−メトキシフェニル、４−クロロベンゾイルから選択される、請求項２９に記載の単糖。
【請求項３５】
一般式XIの単糖：
【化１１】
2005505565.tif 000084
式中、
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲS2は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲE2は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲLは、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；γ−アミノブチリル、４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロへキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基；アリルオキシカルボニル、アリルエーテル、カーボネート型保護基から選択され；
Ｘ2は、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、イミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよい。
【請求項３６】
ＲHが、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され；
ＲS2が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲE2が、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲLが、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；−アミノブチリル、γ−４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロヘキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基から選択され；
Ｘ2が、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、トリクロロアセトイミドイルから選択され、そして立体化学はアルファであってもベータであってもよい、
請求項３５に記載の単糖。
【請求項３７】
ＲHがベンジルからなる群から選択され；
ＲS2がベンゾイル、置換アリールアシル保護基からなる群から選択され；
ＲE2が、メチル、（他のもの、アリル  ベンジルをサーチする）であり；
ＲLがＨ原子；レブリノイルから選択され；
Ｘ2がｔ−ブチルジフェニルシロキシ、トリクロロアセトイミドイルから選択され、そして立体化学がアルファであってもベータであってもよい、これらをサーチする
請求項３５に記載の単糖。
【請求項３８】
ＲHが、ベンジルからなる群から選択され；
ＲS2がベンゾイル、置換アリールアシル保護基からなる群から選択され；
ＲE2が、メチル、（他のもの、アリル  ベンジルをサーチする）であり；
ＲLがＨ原子；レブリノイルから選択され；
Ｘ2がチオメチルまたはチオクレシルから選択され、そして立体化学がアルファであってもベータであってもよい、これらをサーチする
請求項３５に記載の単糖。
【請求項３９】
一般式XIIの単糖：
【化１２】
2005505565.tif 000085
式中：
Ｘ2は、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、イミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲS2は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲLは、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；γ−アミノブチリル、４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロへキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基；アリルオキシカルボニル、アリルエーテル、カーボネート型保護基から選択され；
ＲMは、ｐ−メトキシフェニルまたはｐ−メトキシベンジル保護基または他の好適な酸化不安定性保護基；トリチル基から選択され；
あるいはＲMとＲLは一緒に組み合わさって環式アセタールまたはケタールを形成する。
【請求項４０】
Ｘ2が、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、トリクロロアセトイミドイルから選択され、そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲS2が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲHが、ベンジルまたは置換ベンジル保護基であり；
ＲLが、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；−アミノブチリル、γ４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロヘキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基から選択され；
ＲMが、ｐ−メトキシフェニルまたはｐ−メトキシベンジル保護基または他の好適な酸化不安定性保護基；トリチル基から選択され；
あるいはＲMとＲLが一緒に組み合わさってイソプロピリデン、ベンジリデン、４−メトキシベンジリデン、置換ベンジリデン、シクロヘキシリデンまたは他のアルキリデン保護基を形成する（for）、
請求項３９に記載の単糖。
【請求項４１】
Ｘ2がチオメチルまたはチオクレシルから選択され、そして立体化学がアルファであってもベータであってもよく；
ＲS2がベンゾイルであり；
ＲHがベンジルであり；
ＲLがＨ原子；レブリノイルから選択され；
ＲMが、ｐ−メトキシフェニルまたはｐ−メトキシベンジル保護基から選択され；あるいはＲMとＲLが一緒に組み合わさってイソプロピリデン、（ベンジリデン）、（４−メトキシベンジリデン）を形成する（for）、
請求項３９に記載の単糖。
【請求項４２】
Ｘ2が、トリクロロアセトイミドイルまたはｔ−ブチルジフェニルシリルオキシから選択され、そして立体化学がアルファであってもベータであってもよく；
ＲS2がベンゾイルであり；
ＲHがベンジルであり；
ＲLがＨ原子；レブリノイルから選択され；
ＲMが、ｐ−メトキシフェニルまたはｐ−メトキシベンジル保護基から選択され；あるいはＲMとＲLが一緒に組み合わさってイソプロピリデン、（ベンジリデン）、（４−メトキシベンジリデン）を形成する（for）、
請求項３９に記載の単糖。
【請求項４３】
一般式XIIIの単糖：
【化１３】
2005505565.tif 000086
式中：
ＲS3は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS4は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲBは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲLは、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；γ−アミノブチリル、４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロへキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基；アリルオキシカルボニル、アリルエーテル、カーボネート型保護基から選択され；
Ｘ3は、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、イミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよい。
【請求項４４】
ＲS3が、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルからなる群から選択され；
ＲS4が、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルからなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBが組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲBが、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲLが、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；−アミノブチリル、γ４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロヘキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基から選択され；
Ｘ3が、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよい、
請求項４３に記載の単糖。
【請求項４５】
ＲS3が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、ベンゾイル、４−クロロベンゾイル、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲS4が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、ベンゾイル、４−クロロベンゾイル、アリルからなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBが組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲBが、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲLが、Ｈ原子またはレブリノイル基から選択され；
Ｘ3が、チオメチル、チオエチル、チオフェニル、チオクレシル、トリクロロアセトイミドイル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルオキシから選択され、そして立体化学はアルファであってもベータであってもよい、
請求項４３に記載の単糖。
【請求項４６】
一般式XIVの単糖：
【化１４】
2005505565.tif 000087
式中、
ＲE1は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲP1は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP2は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；、カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択され；
Ｘ4は、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、イミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲLは、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；γ−アミノブチリル、４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロヘキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基；アリルオキシカルボニル、アリルエーテル、カーボネート型保護基から選択される。
【請求項４７】
ＲE1が、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲP1が、４−メトキシフェニル；ベンジル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基（アリルオキシカルボニルを含む）からなる群から選択され；
ＲP2が、４−メトキシフェニル；ベンジル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基（アリルオキシカルボニルを含む）からなる群から選択され；
Ｘ4が、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲLが、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；−アミノブチリル、γ４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロヘキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基から選択される、
請求項４６に記載の単糖。
【請求項４８】
ＲE1が、メチル、アリル、ベンジルからなる群から選択され；
ＲP1がベンジルであり；
ＲP2が、ベンジル；ベンゾエート；またはアリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
Ｘ4が、ｔｅｒｔブチルジフェニルシリルオキシ、トリクロロアセトイミドイルまたはフルオロから選択され、そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲLが、Ｈ原子；レブリノイル、ピバロイル、ベンゾイル、アリルから選択される、
請求項４６に記載の単糖。
【請求項４９】
一般式XVの単糖：
【化１５】
2005505565.tif 000088
式中：
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲH2は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1が、独立して、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS5は、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基からなる群から選択され；４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、あるいはＲS5とＲHは組み合わさって環式アセタールまたはケタール部分を形成し得；
ＲB1は、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
Ｘ5は、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよい。
【請求項５０】
ＲHが、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され；
ＲH2が、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1が、独立して、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS5が、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルからなる群から選択され；
ＲB1が、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1が一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
Ｘ5が、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよい、
請求項４９に記載の単糖。
【請求項５１】
ＲHがベンジルであり；
ＲH2がベンジルであり；
ＲS5が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、ベンゾイル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルからなる群から選択され；
ＲB1が、アジド官能基、ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1が一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
Ｘ5が、チオメチル、チオクレシル、トリクロロアセトイミデートから選択され、そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく、但し、全てのＲB1がアジドでありそしてＲH2が非置換ベンジルでありそしてＲS5が非置換ベンゾイルである場合、Ｘ5はトリクロロアセトイミデートではあり得ない、
請求項４９に記載の単糖。
【請求項５２】
一般式XVIの単糖：
【化１６】
2005505565.tif 000089
式中
Ｘ1は、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲLは、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；γ−アミノブチリル、４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロへキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基；アリルオキシカルボニル、アリルエーテル、カーボネート型保護基から選択され；
ＲS6は、４−メトキシフェニル、４−メトキシベンジル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルからなる群から選択され；
ＲLとＲS6はまた、一緒に組み合わさってアルキリデン、イソプロピリデン、ベンジリデンまたは置換ベンジリデン環を形成してもよい。
【請求項５３】
Ｘ１が、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲLが、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；γ−アミノブチリル、４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロヘキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基から選択され；
ＲS6が、４−メトキシフェニル、４−メトキシベンジル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルからなる群から選択され；
ＲLとＲS6がまた、一緒に組み合わさってアルキリデン、イソプロピリデン、ベンジリデンまたは置換ベンジリデン環を形成してもよい、
請求項５２に記載の単糖。
【請求項５４】
Ｘ１が、チオメチル、チオクレシル、トリクロロアセトイミドイル、またはtブチルジフェニルシリルオキシからなる群から選択され、そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲLが、Ｈ原子；レブリノイルから選択され；
ＲS6が、４−メトキシフェニル、４−メトキシベンジル；ベンゾイル、４−クロロベンゾイル、またはｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルからなる群から選択され；
ＲLとＲS6がまた、一緒に組み合わさってイソプロピリデン、ベンジリデンまたは４−メトキシベンジリデン環を形成してもよい、
請求項５２に記載の単糖。
【請求項５５】
式XVIIの二糖：
【化１７】
2005505565.tif 000090
式中、
Ｘ1は、ヒドロキシ、アルケニルオキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、イミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲH1は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルから選択され、あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｃｂｚ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド、ＮＨ−Ａｃ、ＮＨ−アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS2は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲE2は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲLは、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；γ−アミノブチリル、４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロへキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基；アリルオキシカルボニル、アリルエーテル、カーボネート型保護基から選択される。
【請求項５６】
Ｘ1が、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲHが、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され；
ＲH1が、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAが、アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｃｂｚ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド；または、他のこのような好適な保護されたアミノ官能基からなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1が、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルからなる群から選択され；
ＲS2が、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルからなる群から選択され；
ＲE2が、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲLが、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；−アミノブチリル、γ４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロヘキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基から選択される、
請求項５５に記載の二糖。
【請求項５７】
Ｘ1が、アルファもしくはベータチオメチルまたはチオクレシルまたはトリクロロアセトイミドイルまたは（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）、アルファメトキシからなる群から選択され；
ＲH1が、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され；
ＲAが、アジド官能基、ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、ベンゾイル、４−クロロベンゾイルからなる群から選択され；
ＲHが、ベンジルからなる群から選択され；
ＲS2が、ベンゾイル、置換アリールアシル保護基からなる群から選択され；
ＲE2が、メチル、（（他のもの、アリル  ベンジルをサーチする）であり；
ＲLが、Ｈ原子；レブリノイルから選択される、
請求項５５に記載の二糖。
【請求項５８】
一般式XVIIIの二糖構成ブロック：
【化１８】
2005505565.tif 000091
式中
Ｘ1は、ヒドロキシ、アルケニルオキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、イミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲAは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｃｂｚ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド、ＮＨ−Ａｃ、ＮＨ−アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS2は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲH1は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲMは、ｐ−メトキシフェニルまたはｐ−メトキシベンジル保護基または他の好適な酸化不安定性保護基；トリチル基から選択され；
あるいはＲMとＲLは、一緒に組み合わさってイソプロピリデン、ベンジリデン、置換ベンジリデン、シクロヘキシリデン、または他のアセタールもしくはケタール保護基を形成しており；
ＲLは、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；γ−アミノブチリル、４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロへキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基；アリルオキシカルボニル、アリルエーテル、カーボネート型保護基から選択される。
【請求項５９】
Ｘ1が、ヒドロキシ、アルケニルオキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、イミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲAが、アジド官能基、ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1が、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基からなる群から選択され；
ＲS2が、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基からなる群から選択され；
ＲHが、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され；
ＲH1が、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲMが、ｐ−メトキシフェニルまたはｐ−メトキシベンジル保護基または他の好適な酸化不安定性保護基；トリチル基から選択され；
ＲLが、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；−アミノブチリル、γ４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロヘキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基から選択される、
請求項５８に記載の二糖構成ブロック。
【請求項６０】
Ｘ1が、アルファもしくはベータのチオメチルまたはチオクレシルまたはトリクロロアセトイミドイルまたは（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）、アルファメトキシからなる群から選択され；
ＲH1が、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され；
ＲAが、アジド官能基、ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、ベンゾイル、４−クロロベンゾイルからなる群から選択され；
ＲHがベンジルからなる群から選択され；
ＲS2が、ベンゾイル、置換アリールアシル保護基からなる群から選択され；
ＲE2が、メチル、（他のもの、アリル  ベンジルをサーチする）であり；
ＲLが、Ｈ原子；レブリノイルから選択され；
ＲMが、ｐ−メトキシフェニルまたはｐ−メトキシベンジル保護基またはトリチル基から選択される、
請求項５８に記載の二糖構成ブロック。
【請求項６１】
一般式XIXの二糖構成ブロック：
【化１９】
2005505565.tif 000092
式中、
Ｘ2は、ヒドロキシ、アルケニルオキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、イミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲS3は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS4は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲE1は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲBは、アジド官能基、ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP1は、ヒドロキシ、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP2は、ヒドロキシ、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択され；
ＲLは、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；γ−アミノブチリル、４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロへキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基；アリルオキシカルボニル、アリルエーテル、カーボネート型保護基から選択される。
【請求項６２】
Ｘ2が、ヒドロキシ、アルケニルオキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオメチル、チオエチル、チオクレシル、チオフェニル、クロロ、ブロモ、フルオロ、トリクロルアセトイミドイル（trichloracetimidoyl）、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲS3が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、ベンゾイル、置換ベンジル基；置換アリールアシル保護基；アリルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS4が、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBが組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲE1が、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲBが、アジド官能基、ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP1が、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP2が、ヒドロキシ、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択され；
ＲLが、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；−アミノブチリル、γ４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロヘキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基から選択される、
請求項６１に記載の二糖構成ブロック。
【請求項６３】
ＲS3が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、ベンゾイル、４−クロロベンゾイル、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲS4が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、ベンゾイル、４−クロロベンゾイル、アリルからなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBが組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲBが、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
Ｘ3が、チオメチル、チオエチル、チオフェニル、チオクレシル、トリクロロアセトイミドイル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルオキシから選択され、そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲE1が、メチル、アリル、ベンジルからなる群から選択され；
ＲP1がベンジルであり；
ＲP2が、ベンジル；ベンゾエート；またはアリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲLが、Ｈ原子；レブリノイル、ピバロイル、ベンゾイル、アリルから選択される、
請求項６１に記載の二糖構成ブロック。
【請求項６４】
一般式XXの二糖構成ブロック：
【化２０】
2005505565.tif 000093
式中：
Ｘ2は、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲP1は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP2は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択され；
ＲE1は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲB1は、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲH2は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は独立して一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS5は、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基からなる群から選択され；４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
あるいはＲS5とＲHは組み合わさって環式アセタールまたはケタール部分を形成し得る。
【請求項６５】
Ｘ2が、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲP2が、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基（アリルオキシカルボニルを含む）からなる群から選択され；
ＲP1が、４−メトキシフェニル；ベンジル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基（アリルオキシカルボニルを含む）からなる群から選択され；
ＲE1が、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲB1が、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1が一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲH2が、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1が独立して一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲHが、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され；
ＲS5が、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルからなる群から選択される、
請求項６４に記載の二糖構成ブロック。
【請求項６６】
ｔｅｒｔブチルジフェニルシリルオキシ、トリクロロアセトイミドイルまたはフルオロから選択され、そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲE1が、メチル、アリル、ベンジルからなる群から選択され；
ＲP1がベンジルであり；
ＲP2が、ベンジル；ベンゾエート；またはアリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲHがベンジルであり；
ＲH2がベンジルであり；
ＲS5が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、ベンゾイル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルからなる群から選択され；
ＲB1が、アジド官能基、ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1が一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得る、
請求項６４に記載の二糖構成ブロック。
【請求項６７】
一般式XXIの二糖構成ブロック：
【化２１】
2005505565.tif 000094
式中：
Ｘ2は、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲP1は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP2は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択され；
ＲB1は、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲH2は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は独立して一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS5は、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基からなる群から選択され；４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
あるいはＲS5とＲHは組み合わさって環式アセタールまたはケタール部分を形成し得；
ＲＭは、ｐ−メトキシフェニル保護基または他の好適な酸化不安定性保護基；トリチル基からなる群から選択される。
【請求項６８】
Ｘ2が、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲP2が、４−メトキシフェニル；ベンジル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基（アリルオキシカルボニルを含む）からなる群から選択され；
ＲP1が、４−メトキシフェニル；ベンジル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基（アリルオキシカルボニルを含む）からなる群から選択され；
ＲB1が、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1が一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲH2が、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1が独立して一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲHが、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され；
ＲS5が、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルからなる群から選択され；
ＲMが、ｐ−メトキシフェニル保護基または他の好適な酸化不安定性保護基；トリチル基からなる群から選択される、
請求項６７に記載の二糖構成ブロック。
【請求項６９】
Ｘ2が、チオメチル、チオクレシル、トリクロロアセトイミドイルおよびｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルから選択され、そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲP1がベンジルであり；
ＲP2が、ベンジル；ベンゾエート；またはアリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲB1が、アジド官能基、ＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1が一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲH2がベンジルであり；
ＲHがベンジルであり；
ＲS5が、４−メトキシフェニル、４−メトキシベンジル、ベンゾイル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルからなる群から選択され；
ＲMが、ｐ−メトキシフェニル、４−メトキシベンジルおよびトリチル基からなる群から選択される、
請求項６７に記載の二糖構成ブロック。
【請求項７０】
一般式XXIIの二糖構成ブロック：
【化２２】
2005505565.tif 000095
式中：
Ｘ2は、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、イミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲBは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS3は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS4は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
あるいはＲS4とＲBは組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲP1は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP2は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択され；
Ａは、Ｈ、メトキシ、メチル；当業者に公知であろう他の好適な置換基を含むがこれらに限定されない。
【請求項７１】
Ｘ2が、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲBが、アジド官能基、ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS3が、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲS4が、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；あるいは、ＲS4とＲBは組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲP1が、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP2が、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択され；
Ａが、Ｈ、メトキシ、メチル；当業者に公知であろう他の好適な置換基を含むがこれらに限定されない、
請求項７０に記載の二糖構成ブロック。
【請求項７２】
Ｘ2が、ヒドロキシル基；チオメチル、チオクレシル、トリクロロアセトイミドイルまたはtブチルジフェニルシリルオキシから選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲBが、アジド官能基、ＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS3が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、ベンゾイル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲS4が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、ベンゾイル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；あるいはＲS4とＲBが組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲP1がベンジルであり；
ＲP2が、ベンジル；ベンゾエート；またはアリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＡがＨまたはメトキシである、
請求項７０に記載の二糖構成ブロック。
【請求項７３】
一般式XXIIIの三糖構成ブロック：
【化２３】
2005505565.tif 000096
式中：
Ｘ2は、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲP1は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP2は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択され；
ＲE1は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲB1は、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲH2は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は独立して一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS5は、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基からなる群から選択され；４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
あるいはＲS5とＲHは組み合わさって環式アセタールまたはケタール部分を形成し得；
ＲS3は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS4は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
あるいはＲS4とＲBは組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲBは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得る。
【請求項７４】
Ｘ2が、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲS3が、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルからなる群から選択され；
ＲS4が、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルからなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBが組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲBが、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP2が、４−メトキシフェニル；ベンジル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基（アリルオキシカルボニルを含む）からなる群から選択され；
ＲP1が、４−メトキシフェニル；ベンジル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基（アリルオキシカルボニルを含む）からなる群から選択され；
ＲE1が、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲB1が、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1が一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲH2が、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は独立して一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲHが、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され；
ＲS5が、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルからなる群から選択される、
請求項７３に記載の三糖構成ブロック。
【請求項７５】
Ｘ2が、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲS3が、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルからなる群から選択され；
ＲS4が、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルからなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBが組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲBが、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP2が、４−メトキシフェニル；ベンジル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基（アリルオキシカルボニルを含む）からなる群から選択され；
ＲP1が、４−メトキシフェニル；ベンジル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基（アリルオキシカルボニルを含む）からなる群から選択され；
ＲE1が、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲB1が、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1が一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲH2が、ベンジルまたは置換ベンジル保護基から選択され、あるいはＲH2とＲB1が独立して一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲHが、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され；
ＲS5が、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルからなる群から選択される、
請求項７３に記載の三糖構成ブロック。
【請求項７６】
ＲS3が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、ベンゾイル、４−クロロベンゾイル、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲS4が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、ベンゾイル、４−クロロベンゾイル、アリルからなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBが組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲBが、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
Ｘ2が、チオメチル、チオエチル、チオフェニル、チオクレシル、トリクロロアセトイミドイル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルオキシから選択され、そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲE1が、メチル、アリル、ベンジルからなる群から選択され；
ＲP1がベンジルであり；
ＲP2が、ベンジル；ベンゾエート；またはアリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲHがベンジルであり；
ＲH2がベンジルであり；
ＲS5が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、ベンゾイル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルからなる群から選択され；
ＲB1が、アジド官能基、ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1が一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得る、
請求項７３に記載の三糖構成ブロック。
【請求項７７】
一般式XXIVの三糖構成ブロック：
【化２４】
2005505565.tif 000097
式中：
Ｘ1は、ヒドロキシ、アルケニルオキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、イミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲH1は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲAは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｃｂｚ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド、ＮＨ−Ａｃ、ＮＨ−アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；あるいはＲHとＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS2は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS3は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS4は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、
あるいはＲS4とＲBは組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲE2は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲBは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲLは、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；γ−アミノブチリル、４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロへキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基；アリルオキシカルボニル、アリルエーテル、カーボネート型保護基から選択される。
【請求項７８】
Ｘ1が、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適なリポアミノ酸からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲHおよびＲH1が、独立して、ベンジルまたは置換ベンジル保護基から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAが、アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｃｂｚ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド；または他のこのような好適な保護されたアミノ官能基からなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得、
ＲS1、ＲS2、ＲS3、およびＲS4が、独立して、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基から選択され；あるいはＲS4とＲBが組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲE2が、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基から選択され；
ＲBが、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基から選択され；更に、ＲS4とＲBが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲLが、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；−アミノブチリル、γ４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロヘキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基から選択される、
請求項７７に記載の三糖構成ブロック。
【請求項７９】
Ｘ1が、ヒドロキシ、メトキシ、チオメチル、チオエチル、チオクレシル、トリクロロアセトイミドイル、tブチルジフェニルシリルオキシ  送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適なリポアミノ酸からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲHおよびＲH1が、独立して、ベンジルまたは置換ベンジル保護基から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAが、アジド官能基；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1、ＲS2、ＲS3およびＲS4が、独立して、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル；ベンゾイルから選択され、あるいはＲS4とＲBが組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲE2が、メチル、アリルまたは、ベンジルおよび置換ベンジル基から選択され；
ＲBが、アジド官能基；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基から選択され；更に、ＲS4とＲBが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲLが、Ｈ原子；レブリノイルから選択される、
請求項７７に記載の三糖構成ブロック。
【請求項８０】
一般式XXVの四糖構成ブロック：
【化２５】
2005505565.tif 000098
式中、
Ｘ1は、ヒドロキシ、アルケニルオキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、イミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく、
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲH1は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｃｂｚ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド、ＮＨ−Ａｃ、ＮＨ−アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得、
ＲS1は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、
ＲS2は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、
ＲS3は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、
ＲS4は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、
あるいはＲS4とＲBは組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく、
ＲE1は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲE2は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され、
ＲBは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得、
ＲP1は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；、カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP2は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；、カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択され；
ＲLは、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；γ−アミノブチリル、４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロへキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基；アリルオキシカルボニル、アリルエーテル、カーボネート型保護基から選択される。
【請求項８１】
Ｘ1が、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適なリポアミノ酸からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲHおよびＲH1が、独立して、ベンジルまたは置換ベンジル保護基から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAが、アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｃｂｚ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド；または他のこのような好適な保護されたアミノ官能基からなる群から選択され；あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1、ＲS2、ＲS3およびＲS4が、独立して、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基から選択され；あるいはＲS4とＲBが組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲE1およびＲE2が、独立して、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基から選択され；
ＲBが、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基から選択され；更に、ＲS4とＲBが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲLが、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；−アミノブチリル、γ４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロヘキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基から選択される、
請求項８０に記載の四糖構成ブロック。
【請求項８２】
Ｘ1が、ヒドロキシ、メトキシ、チオメチル、チオエチル、チオクレシル、トリクロロアセトイミドイル、tブチルジフェニルシリルオキシ  送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適なリポアミノ酸からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲHおよびＲH1が、独立して、ベンジルまたは置換ベンジル保護基から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAが、アジド官能基  ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1、ＲS2、ＲS3およびＲS4が、独立して、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル；ベンゾイルから選択され、あるいはＲS4とＲBが組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲE1およびＲE2が、独立して、メチル、アリルまたは、ベンジルおよび置換ベンジル基から選択され；
ＲBが、アジド官能基；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基から選択され；更に、ＲS4とＲBが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲLが、Ｈ原子；レブリノイルから選択される、
請求項８０に記載の四糖構成ブロック。
【請求項８３】
一般式XXVIの四糖構成ブロック：
【化２６】
2005505565.tif 000099
式中：
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲH2は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は独立して一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS2は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS3は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS4は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、
あるいはＲS4とＲBは組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく、
ＲS5は、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基からなる群から選択され；４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
あるいはＲS5とＲHは組み合わさって環式アセタールまたはケタール部分を形成し得；
ＲE1は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲE2は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲBは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲB1は、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP1は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP2は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択され；
Ｘ2は、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよい。
【請求項８４】
ＲHおよびＲH2が、独立して、ベンジルまたは置換ベンジル保護基から選択され、ＲH2とＲB1が一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS2、ＲS3、ＲS4およびＲS5が、独立して、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基から選択され；あるいはＲS4とＲBが組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲE1およびＲE2が、独立して、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基から選択され；
ＲBおよびＲB1が、独立して、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基から選択され；更に、ＲS4とＲBまたはＲH2とＲB1が、独立して、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP1およびＲP2が、独立して、ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシル、およびアルキルアリールアシル保護基；およびカーボネート保護基から選択され；
Ｘ2が、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよい、
請求項８３に記載の四糖構成ブロック。
【請求項８５】
ＲHおよびＲH2が、独立して、ベンジルまたは置換ベンジル保護基から選択され、あるいはＲH2とＲB1が一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS2、ＲS3、ＲS4およびＲS5が、独立して４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル；ベンゾイルから選択され、あるいはＲS4とＲBが、組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲE1およびＲE2が、独立して、メチル、アリルまたは、ベンジルおよび置換ベンジル基から選択され；
ＲBおよびＲB1が、独立して、アジド官能基；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基から選択され；更に、ＲS4とＲBまたはＲH2とＲB1が、独立して、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP1がベンジルであり；
ＲP2が、ベンジル；ベンゾイル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
Ｘ2が、ヒドロキシル基；チオメチル、チオクレシル  トリクロロアセトイミドイル、またはtブチルジフェニルシリルオキシから選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよい、
請求項８３に記載の四糖構成ブロック。
【請求項８６】
請求項の五糖の脱保護によって形成される、以下の式の五糖：
【化２７】
2005505565.tif 000100
【請求項８７】
ＲE1が、メチル、アリル、ベンジルからなる群から選択され；
ＲP1がベンジルであり；
ＲP2が、ベンジル；ベンゾエート；またはアリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
Ｘ4が、チオメチル、チオクレシルから選択され、そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲLが、Ｈ原子；レブリノイル、ピバロイル、ベンゾイル、アリルから選択される、
請求項４４に記載の単糖。
【請求項８８】
薬学的有効量の請求項８６に記載の五糖および薬学的担体を含む、薬学的調製物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
発明の分野
本発明は、ＡＴ−ＩＩＩ結合ヘパリンまたはヘパリノイド(heparinoid)、五糖の中間体、および化学合成のためのプロセスに関する。
【０００２】
背景技術
血管血栓症は、凝血塊含有血液細胞およびフィブリンによる血管の部分的または全体的な閉塞によって示される心血管疾患である。動脈において、これは、血小板活性化から主に生じ、そして心臓発作、アンギナまたは脳卒中を導くが、静脈血栓症は、炎症および肺動脈塞栓症を生じる。血液の凝固は、活性化された血液凝固因子として集合的に知られる種々の酵素を使用する事象(event)のカスケードの結果である。ヘパリン、強力な抗凝固薬は、血栓症の処置において、１９３０年代後半以来使用されている。その本来の実施において、耐性問題が注目され、それで減少した投薬量により出血を減少しそして効力を改善することが示唆された。１９７０年代初期において、臨床試験により、実際に、受容可能な耐性が獲得可能であるが、なお抗凝固活性を保持していることが示された。未分画ヘパリン(UFH)は、治療的および外科的適応の両方についての抗凝固薬として主に使用され、そして通常、ウシ肺またはブタ粘膜のいずれかに由来する。未分画ヘパリンの現代の用途には、不安定なアンギナの管理(management)、化学療法および抗炎症治療に対する補助(adjunct)、ならびに成長因子についての調節剤(modulation agent)としておよび循環障害の処置である。
【０００３】
１９８０年代後半において、低分子量ヘパリン(LMWH)の開発によって、抗血栓治療において改善を生じた。ＬＭＷＨは、以下のようなプロセスによってＵＦＨから誘導される：化学的分解、酵素解重合およびγ線照射切断。このクラスのヘパリンは、外傷関連の血栓症の処置のために近年使用されている。特に興味深いのは、血小板に対するこれらの相対的な効果は、ヘパリンと比較して最小であるという事実であり、血小板が損なわれた患者を処置する際に即座に利点を提供する。ＵＦＨの解重合の程度は、異なる長さのＬＭＷＨを得るために制御され得る。深部静脈血栓症(deep vein thrombosis)(DVT)の処置のために必要とされる投薬量は、ＵＦＨとは反対に、ＬＭＷＨを使用する際に有意に減少するが、一般に、両方の治療法の効力は、比較可能であるようである。さらに、ＬＭＷＨは、ＵＦＨに対する感受性を発生した患者のための代替的な治療薬として効果的であり得る。不運なことに、親ＵＦＨの動物供給源の結果として、種間ウイルス混入について認識された可能性に起因して、ＬＭＷＨの使用において非常に多くの懸念がある。
【０００４】
種間混入の可能性を避ける１つの方法は、化学合成によってヘパリンを調製する方法である。この方法はまた、第２世代のヘパリンまたはヘパリノイド（これらは、血液凝固カスケードにおける特定の生物学的事象を標的化するために調製され得る）を開発するための機会を提供する。
【０００５】
ヘパリンを含む凝固カスケードにおける重要な結合事象について必要とされる重要な構造モチーフを決定するための調査は、１９７０年代にさかのぼる。ヘパリンのいくつかの構造特徴が確定されているが、目的の結合ドメインは、本質的に未確定のままである。Ｌｉｎｄａｈｌおよび共同研究者1によって、そして別々にＣｈｏａｙおよび共同研究者2によって行われた研究により、最終的に、五糖配列がプロ抗凝固コファクター(pro-anticoagulant cofactor)、抗トロンビンＩＩＩ（ＡＴ−ＩＩＩ）についての重要な結合ドメインを構成するという決定を導いた。重要なヘパリン糖配列の決定後、完全な化学合成が、この理論をさらに証明するために着手された。五糖結合ドメインの完全な合成は、Ｓｉｎａｙおよび共同研究者3ならびにＶａｎ  Ｂｏｅｃｋｅｌおよび共同研究者4によって同様な時期に完成された。
【０００６】
これらの両方の報告された合成の間に、重大な困難に出くわした。Ｖａｎ  Ｂｏｅｃｋｅｌおよび共同研究者による合成は、合理的な規模で（１５６ｍｇの最終生成物）、Ｓｉｎａｙ合成と比較して改善された収率を有する方法を提供したが、（Ｓｉｎａｙ合成の０．０５３％と比較して）依然として、全体で０．２２％の収率を提供したのみであった。最終的な脱保護の間に出くわすある特定の問題は、ヘミアセタール（糖の還元末端官能基）の分子間反応であり、これは、二量体および三量体の形成を生じた。この発生の可能性を減少させるために、五糖のα−メチルグリコシドが合成された。目的の構造をFigure １に示し、ここで、Ｉはヘミアセタール形態を示し、そしてＩＩは、α−メチルグリコシド形態を示す。
【０００７】
【化１】
2005505565.tif 000002
述べられたように、研究によって、血栓を予防する際の重要な生物学的事象は、ヘパリンの五糖配列5のヘパリンコファクター抗トロンビンＩＩＩ(AT-III)への結合である。五糖Ｉと同様に、重要な誘導体ＩＩもまた全合成によって調製されている6。化合物ＩＩは、深部静脈血栓症の処置のためフェーズＩＩＩ臨床試験を最近完了した。以下の特許は、本発明に対するいくらかの関連性を示す。米国特許第４，４０１，６６２号は、ＵＳ４，４９６，５５０のように、ヘパリンの五糖ＡＴ−ＩＩＩ結合配列に関する物質の組成物をクレームする。特許ＥＰ０，０８４，９９９およびＵＳ４，８１８，８１６は、五糖Ｉおよび誘導体ＩＩに対する合成方法論を詳述する。
【０００８】
発明の目的
本発明の目的は、ヘパリン五糖およびその中間体についての合成調製物を提供すること、そしてヘパリン五糖についての新規中間体、および新規なヘパリン五糖を提供することである。
【０００９】
本発明は、ＡＴ−ＩＩＩ結合ヘパリンおよびヘパリノイドの中間体物質の組成物、合成のためのプロセスを提供する。これが伴うものは、単糖構成ブロック(monosaccharide building blocks)を使用する段階的な合成プロセスである。
【００１０】
ＡＴ−ＩＩＩ結合五糖の性質は、五糖を構成する個々のモノマー単位の大雑把な分析下で、本発明者らは、各々が他とは異なることに注目する。第２に、本発明者らは、グリコシド結合に関して、代替的な立体特異性が存在することを理解し得る（Fig.１）。
【００１１】
【化２】
2005505565.tif 000003
合成において、各構成ブロックにおいて明らかな差異は、合成において使用される個々のモノマーが異なる保護基パターンが必要であることを要求することである。この点を考慮して、上記五糖の合成において、保護基ストラテジーが注意深く考えられていることが必須である。観察され得るように、五糖は、Ｏ−硫酸化、Ｎ−硫酸化を示し、遊離ヒドロキシル基が存在し、そして立体特異的なグリコシド連結が存在する。従って、保護ストラテジーは、（１）硫酸化は要求される部位で実施され得るが、いくつかのヒドロキシル基は硫酸化されない（Ｎ−およびＯ−サルフェートの化学的不安定性に起因して、硫酸化は、合成の後期に行われる必要がある）ことが要求される、（２）適切なグリコシド結合を行う際に補助となる保護ストラテジーが要求される、そして（３）正確な（部位−および立体異性の点で）グリコシド結合が形成されるのを可能にする保護ストラテジーが要求される。α−グリコシド結合は、代表的に、非関与(non-participating)保護基として知られるものの使用によって生成されるが、β−結合は、関与保護基によって実施される。いくつかのＮ−およびＯ−関与および非関与保護基は、当該分野（炭水化物化学と考えられる分野）に公知である。これはまた、使用される保護基の種類が構成ブロックの反応性に影響し得ることがまた当該分野で周知である。これらの要求の成就は、以下のFig.２の例示的な構成ブロックにおいて示され、これは、ヘパリンオリゴサッカライドの合成を行うために要求される特徴の種類を示す。
【００１２】
【化３】
2005505565.tif 000004
例示的な構成ブロックＣにおいて、Ｘは、別のモノマーまたはアクセプターと反応するのに適した脱離基(leaving group)であり、グリコシド間結合を形成する；Ｒ1は、Ｘの活性化の際にα結合を行うために非関与アミノ保護基であり、その後、適切なアクセプターへのカップリングが起こる；Ｒ2およびＲ4は、最終的なＯ−硫酸化を可能にするために同様に保護され得るが、Ｒ3は、このブロックを鎖の次のものにカップリングするためのアクセプターヒドロキシル基の形成を可能にするように、区別的に保護されることが要求される。Fig. 3における構成ブロックは、ヘパリンＡＴ−ＩＩＩ結合五糖の合成を行うように必要とされる誘導体化単糖の種類を例示する。
【００１３】
【化４】
2005505565.tif 000005
Fig.3において‘ＲS’によって示される保護基は、Ｏ−硫酸化を最終的に必要とする部位であり、‘ＲH’によって示される保護基は、‘ＲS’に対して直交して(orthogonal)存在する必要があり、最終的にヒドロキシル基となる部位を示す。置換基‘Ｘ1’および‘Ｘ2’は、グリコシド結合を形成するために別の適切に保護された構成ブロックと反応するように活性化される脱離基を示し、そしてＸ1の場合には、アルキルグリコシドとして誘導されてもよいし、薬物送達のための支持体への複合体化を可能にするために適切な基で置換されてもよい。‘ＲL’基は、‘ＲS’および‘ＲH’の両方に対して直交する保護基であり、グリコシル化を介して鎖伸長が発生する部位を示す。‘Ｒ’は、保護されたかまたは潜在的のいずれかのカルボキシレート官能基を示す。‘ＲA’基は、α結合が形成されるのを可能にする非関与アミノ保護基であるが、‘ＲB’基は、関与または非関与アミノ保護基のいずれかであり得る。ボックスによって示されるブロックＤおよびＢにおける保護基ほどたくさん、合成に加えられるさらなるレベルの複雑性(complexity)があり、βグリコシド結合の形成を可能にするほどである必要がある。これは、示された部位での２段階保護（すなわち、保護とその後の脱保護および次の異なる保護基での再保護）を必要とし得る。最初の保護は、グリコシル化における正確な立体化学を行うために必要とされ、そして第２段階の保護は、正確な硫酸化パターンを可能にするために必要とされる。
【００１４】
明らかなように、五糖は、種々の異なる方法で構築され得る；構成ブロックＢおよびＡは結合され得、構成ブロックＥおよびＤは結合され得、構成ブロックＣはいずれかと結合され得、そして得られた二量体および三量体が最終的に結合して五糖を形成し得る。あるいは、各構成ブロックは、連続して添加され得るなどである。容易に想到され得る多数の代替的な結合配列およびこれに関して行われる選択は、それ自体で、最終的に使用される合成方法論に影響を与え、従って、全体的な合成の成功に対して影響を与える。
【００１５】
第１局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のためのＤ−グルコピラノコンフィギュレーションで単糖構成ブロックを提供し、一般式Ｉの前記構成ブロック：
【００１６】
【化５】
2005505565.tif 000006
一般式Ｉ（ブロックＡ）
ここで、Ｘ1は、以下を含むがこれらに限定されない：ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセチミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、または他の適切な脱離基；ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に適した他のこのような基；そして立体化学はαであってもβであってもよく；他の適切な基は、当業者に周知である、
ＲAは、以下を含むがこれらに限定されない：アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｃｂｚ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド；または当業者に公知の他のこのような適切な保護アミノ官能基、
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基であり、
ＲLは、以下を含むがこれらに限定されない：Ｈ原子、レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような適切な置換ベンジル型保護基；γ−アミノブチリル、４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロヘクス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基；または当業者に公知の他のこのような適切な保護基、
そしてＲSは、以下を含むがこれらに限定されない：４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基；または当業者に公知の他の適切な保護基。
あるいは、ＲLとＲSは組み合わせて、ベンジリデンまたは置換ベンジリデン環を形成し得る。
【００１７】
第２局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のためのＬ−イドピラノコンホメーションで単糖構成ブロックを提供し、一般式ＩＩの前記構成ブロックは、以下である：
【００１８】
【化６】
2005505565.tif 000007
一般式ＩＩ（ブロックＢ）
ここで、Ｘ2は、以下を含むがこれらに限定されない：ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、または他の適切な脱離基；ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；そして立体化学はαであってもβであってもよい；他の適切な基は、当業者に公知である、
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲHは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲLは、一般式Ｉで定義される通りであり、そして、
ＲEは、以下を含むがこれらに限定されない：メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル；またはベンジルおよび置換ベンジル基；他の適切な基は当業者に公知である。
【００１９】
第３局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のためのＬ−イドピラノコンフィギュレーションで単糖構成ブロックを提供し、一般式ＩＩＩの前記構成ブロックは、以下である：
【００２０】
【化７】
2005505565.tif 000008
一般式ＩＩＩ（代替ブロックＢ）
ここで、Ｘ2は、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲSは、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲHは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲLは、一般式Ｉで定義される通りであり、そして、
ＲMは、以下を含むがこれらに限定されない：ｐ−メトキシフェニル保護基または他の適切な酸化不安定な保護基；トリチル基；または当業者に公知の他のこのような適切な保護基。
【００２１】
第４局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のためのＤ−グルコピラノコンフィギュレーションで単糖構成ブロックを提供し、一般式ＩＶの前記構成ブロックは、以下である：
【００２２】
【化８】
2005505565.tif 000009
一般式ＩＶ（ブロックＣ）
ここで、Ｘ2は、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲBは、以下を含むがこれらに限定されない：アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基；または当業者に公知の他の適切に保護されたアミノ官能基、
ＲLは、一般式Ｉで定義される通りであり、そして、
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りである。
【００２３】
第５局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のためのＤ−グルクロネートコンフィギュレーションで単糖構成ブロックを提供し、一般式Ｖの前記構成ブロックは、以下である：
【００２４】
【化９】
2005505565.tif 000010
一般式Ｖ（ブロックＤ）
ここで、Ｘ2は、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲPは、以下を含むがこれらに限定されない：４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基；または当業者に公知の他の適切な保護基、
ＲLは、一般式Ｉで定義される通りであり、そして、
ＲEは、一般式ＩＩで定義される通りである。
【００２５】
第６局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のためのＤ−グルコピラノコンフィギュレーションで単糖構成ブロックを提供し、一般式ＶＩの前記構成ブロックは、以下である：
【００２６】
【化１０】
2005505565.tif 000011
一般式ＶＩ（構成ブロックＥ）
ここで、Ｘ2は、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲBは、一般式ＩＶで定義される通りであり、
ＲHは、独立して選択され得、そして一般式Ｉで定義される通りであり、そして、
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りである。
【００２７】
第７局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のためのＤ−グルコピラノコンフィギュレーションで単糖構成ブロックを提供し、一般式ＶＩＩの前記構成ブロックは、以下である：
【００２８】
【化１１】
2005505565.tif 000012
一般式ＶＩＩ（ブロックＡ、ＣおよびＥについての共通の中間体）
ここで、Ｘ1は、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲLは、一般式Ｉで定義される通りであり、そして、
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りである。
ＲLとＲSはまた、一緒になってベンジリデンまたは置換ベンジリデン環を形成し得る。
【００２９】
第８局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のための二糖構成ブロックを提供し、一般式ＶＩＩＩの前記構成ブロックは、以下である：
【００３０】
【化１２】
2005505565.tif 000013
一般式ＶＩＩＩ（ブロックＢ−Ａ）
ここで、Ｘ1は、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲH1は、一般式ＩのＲHから選択されるように定義され、加えて、ＲH1とＲAは一緒になって環式カルバメートを形成し得、
ＲAは、一般式Ｉで定義される通りであり、加えて、ＲH1とＲAは一緒になって環式カルバメートを形成し得、
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲHは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲLは、一般式Ｉで定義される通りであり、そして
ＲEは、一般式ＩＩで定義される通りである。
【００３１】
第９局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のための二糖構成ブロックを提供し、一般式ＩＸの前記構成ブロックは、以下である：
【００３２】
【化１３】
2005505565.tif 000014
一般式ＩＸ（代替ブロックＢ−Ａ）
ここで、Ｘ1は、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲAは、一般式ＸＩＩＩで定義される通りであり、
ＲH1は、一般式ＸＩＩＩで定義される通りであり、
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲLは、一般式Ｉで定義される通りであり、そして
ＲMは、一般式ＩＩＩで定義される通りである。
【００３３】
第１０局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のための二糖構成ブロックを提供し、一般式Ｘの前記構成ブロックは、以下である：
【００３４】
【化１４】
2005505565.tif 000015
一般式Ｘ（ブロックＤ−Ｃ）
ここで、Ｘ2は、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲS1は、一般式ＩのＲSから選択されるように定義され、加えて、ＲS1とＲBは一緒になって環式カルバメートを形成し得る。
ＲBは、一般式ＩＶで定義される通りであり、加えて、ＲS1とＲBは一緒になって環式カルバメートを形成し得る。
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲPは、一般式Ｖで定義される通りであり、
ＲLは、一般式Ｉで定義される通りであり、そして
ＲEは、一般式ＩＩで定義される通りである。
【００３５】
第１１局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のための二糖構成ブロックを提供し、一般式ＸＩの前記構成ブロックは、以下である：
【００３６】
【化１５】
2005505565.tif 000016
一般式ＸＩ（ブロックＥ−Ｄ）
ここで、Ｘ2は、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲPは、一般式Ｖで定義される通りであり、
ＲEは、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲBは、一般式ＩＶで定義される通りであり、加えて、ＲBとＲH2は一緒になって環式カルバメートを形成し得、
ＲH2は、一般式ＩのＲHから選択されるように定義され、加えて、ＲBとＲH2は一緒になって環式カルバメートを形成し得、
ＲHは、一般式Ｉで定義される通りであり、そして
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りである。
【００３７】
第１２局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のための二糖構成ブロックを提供し、一般式ＸＩＩの前記構成ブロックは、以下である：
【００３８】
【化１６】
2005505565.tif 000017
一般式ＸＩＩ（代替構成ブロックＥ−Ｄ）
ここで、Ｘ2は、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲPは、一般式Ｖで定義される通りであり、
ＲMは、一般式ＩＩＩで定義される通りであり、
ＲBおよびＲH2は、一般式ＸＩで定義される通りであり、
ＲHは、一般式Ｉで定義される通りであり、そして
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りである。
【００３９】
第１３局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のための二糖構成ブロックを提供し、一般式ＸＩＩＩの前記構成ブロックは、以下である：
【００４０】
【化１７】
2005505565.tif 000018
一般式ＸＩＩＩ（代替ブロックＤ−Ｃ）
ここで、Ｘ2は、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲBおよびＲS1は、一般式Ｘで定義される通りであり、
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲPは、一般式Ｖで定義される通りであり、そして
Ａは、以下を含むがこれらに限定されない；Ｈ、メトキシ、メチル；他の適切な置換基が、当業者に公知である。
【００４１】
第１４局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のための三糖構成ブロックを提供し、一般式ＸＩＶの前記構成ブロックは、以下である：
【００４２】
【化１８】
2005505565.tif 000019
一般式ＸＩＶ（ブロックＥ−Ｄ−Ｃ）
ここで、Ｘ2は、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲBおよびＲS1は、一般式Ｘで定義される通りであり、
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲPは、一般式Ｖで定義される通りであり、
ＲEは、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲB1は、一般式ＩＶのＲBから選択されるように定義され、加えて、ＲB1はＲH2と一緒になって環式カルバメートを形成し得、
ＲH2は、一般式ＩのＲHから選択されるように定義され、加えて、ＲH2はＲB1と一緒になって環式カルバメートを形成し得、そして
ＲHは、一般式Ｉで定義される通りである。
【００４３】
第１５局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のための三糖構成ブロックを提供し、一般式ＸＶの前記構成ブロックは、以下である：
【００４４】
【化１９】
2005505565.tif 000020
一般式ＸＶ（ブロックＣ−Ｂ−Ａ）
ここで、Ｘ1は、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲAおよびＲH1は、一般式ＶＩＩＩで定義される通りであり、
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲHは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲEは、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲBおよびＲS1は、一般式Ｘで定義される通りであり、そして
ＲLは、一般式Ｉで定義される通りである。
【００４５】
第１６局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のための四糖構成ブロックを提供し、一般式ＸＶＩの前記構成ブロックは、以下である：
【００４６】
【化２０】
2005505565.tif 000021
一般式ＸＶＩ（ブロックＤ−Ｃ−Ｂ−Ａ）
ここで、Ｘ1は、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲAおよびＲH1は、一般式ＶＩＩＩで定義される通りであり、
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲHは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲEは、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲBおよびＲS1は、一般式Ｘで定義される通りであり、
ＲPは、一般式Ｖで定義される通りであり、そして
ＲLは、一般式Ｉで定義される通りである。
【００４７】
第１７局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のための四糖構成ブロックを提供し、一般式ＸＶＩＩの前記構成ブロックは、以下である：
【００４８】
【化２１】
2005505565.tif 000022
一般式ＸＶＩＩ（ブロックＥ−Ｄ−Ｃ−Ｂ）
ここで、Ｘ2は、一般式ＩＶで定義される通りであり、
ＲHは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲEは、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲBおよびＲS1は、一般式Ｘで定義される通りであり、
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲPは、一般式Ｖで定義される通りであり、
ＲLは、一般式Ｉで定義される通りであり、そして
ＲB1およびＲH2は、一般式ＸＩＶで定義される通りである。
【００４９】
第１８局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のための五糖構成ブロックを提供し、一般式ＸＩＩＩの前記構成ブロックは、以下である：
【００５０】
【化２２】
2005505565.tif 000023
一般式ＸＶＩＩＩ（ブロックＥ−Ｄ−Ｃ−Ｂ−Ａ）
ここで、Ｘ1は、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲAおよびＲH1は、一般式ＶＩＩＩで定義される通りであり、
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲHは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲEは、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲBおよびＲS1は、一般式Ｘで定義される通りであり、
ＲPは、一般式Ｖで定義される通りであり、そして
ＲB1およびＲH2は、一般式ＸＩＶで定義される通りである。
【００５１】
第１９局面において、本発明は、第８局面の化合物の調製方法を提供し、この方法は、第２または第３局面の化合物を第１または第７局面の化合物と反応させて、新しいグリコシド結合を形成する工程を包含する。
【００５２】
第２０局面において、本発明は、第８局面の化合物の調製方法を提供し、この方法は、第９局面の化合物から保護基ＲMを選択的に除去しそして前記脱保護生成物を酸化する工程を包含する。
【００５３】
第２１局面において、本発明は、第１０局面の化合物の調製方法を提供し、この方法は、第５局面の化合物を第４または第７局面の化合物と反応させて、新しいグリコシド結合を形成する工程を包含する。
【００５４】
第２２局面において、本発明は、第１１局面の化合物の調製方法を提供し、この方法は、第５局面の化合物を第６または第７局面の化合物と反応させて、新しいグリコシド結合を形成する工程を包含する。
【００５５】
第２３局面において、本発明は、第１３局面の化合物の調製方法を提供し、この方法は、第４または第７局面の化合物を適切なドナー分子と反応させて、新しいグリコシド結合を形成する工程を包含する。
【００５６】
第２４局面において、本発明は、第１４局面の化合物の調製方法を提供し、この方法は、グリコシド結合形成反応において、第４、第５、第６、第７、第１０、第１１、第１２または第１３局面の化合物の１つ以上を使用する工程を包含する。
【００５７】
第２５局面において、本発明は、第１５局面の化合物の調製方法を提供し、この方法は、グリコシド結合形成反応において、第１、第２、第３、第４、第７、第８および第９局面の化合物の１つ以上を使用する工程を包含する。
【００５８】
第２６局面において、本発明は、第１６局面の化合物の調製方法を提供し、この方法は、グリコシド結合形成反応において、第１、第２、第３、第４、第５、第７、第８、第９、第１０、第１３または第１５局面の化合物の１つ以上を使用する工程を包含する。
【００５９】
第２７局面において、本発明は、第１７局面の化合物の調製方法を提供し、この方法は、グリコシド結合形成反応において、第２、第３、第４、第５、第７、第１０、第１１、第１２、第１３または第１４局面の化合物の１つ以上を使用する工程を包含する。
【００６０】
第２８局面において、本発明は、第１８局面の化合物の調製方法を提供し、この方法は、グリコシド結合形成反応において、第１、第２、第３、第４、第５、第７、第８、第９、第１０、第１１、第１２、第１３、第１４、第１５、第１６または第１７局面の化合物の１つ以上を使用する工程を包含する。
【００６１】
ベストモード
以下の実施例を参照して、本発明の実施形態を述べる：実施例の多くについて、標準操作プロトコールを提供する。
略語のリスト：
ＡｃＯ：アセチル、
Ａｌｌ：アリル、
Ａｌｌｏｃ：アリルオキシカルボニル、
Ｂｎ：ベンジル、
Ｂｚ：ベンゾイル、
ＣＡＮ：（ＮＨ4）2ＣｅIV（ＮＯ3）6、 セシウム硝酸アンモニウム（ＩＶ）、
ＣｌＡｃ：モノクロロアセチル、
Ｃｒｅｓ：ｐ−トリル、
ＤＣＣ：ジシクロヘキシルカルボジイミド、
Ｄｄｅ：１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロヘキシリデン）エチル（１−（４，４−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−２，６−ｄｉｏｘｏｃｙｃｌｏｈｅｘ−ｙｌｉｄｅｎｅ）ｅｔｈｙｌ）、
ＤＥＡＤ：ジエチルアゾジカルボキシレート、
ＤＩＰＥＡ：ジイソプロピルエチルアミン、
ＤＭＡＰ：４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、
ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
ＤＭＴＳＴ：ジメチル（メチルチオ）スルホニウムテトラフルオロメタンスルホネート、
ＤＴＰＭ：（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチル（１，３−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−２，４，６  （１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−ｔｒｉｏｘｏｐｙｒｉｍｉｄｉｎ−５−ｙｌｉｄｅｎｅ）ｍｅｔｈｙｌ）、
Ｌｅｖ：４−オキソペンタノイル、
ＭＣＰＢＡ：３−クロロ過安息香酸、
Ｍｅｓ：メタンスルホニル、
Ｍｐ：４−メトキシフェニル、
Ｍｐｍ：４−メトキシベンジル、
ＮＢＳ：Ｎ−ブロモスクシンイミド、
ＮＩＳ：Ｎ−ヨードスクシンイミド、
ＮＭＰ：Ｎ−メチルピロリドン（Ｎ−Ｍｅｔｈｙｌｐｙｒｏｌｌｉｄｏｎｅ）
ＮＰｈｔ：Ｎ−フタロイル
ＰＤＣ：ピリジニウムジクロメート、
Ｐｅｎｔ：ｎ−ペンテニル、
Ｐｈ3Ｐ：トリフェニルホスフィン、
Ｐｉｖ：ピバロイル、
ＴＢＡＦ：テトラブチルアンモニウムフルオライド、
ＴＢＤＭＳ：ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、
ＴＢＤＰＳ：ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、
ＴＣＡ：トリクロロアセトイミジル（Ｔｒｉｃｈｌｏｒｏａｃｅｔｉｍｉｄｙｌ）、
ＴＥＭＰＯ：２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシル（２，２，６，６−Ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ−１−ｐｉｐｅｒｉｄｉｎｙｌｏｘｙｌ）、
ＴＦＡ：トリフルオロ酢酸、
ＴＦＡＡ：無水トリフルオロ酢酸、
Ｔｆ：トリフルオロメタンスルホニル、
ＴｆＮ3：トリフルオロメタンスルホニルアジド（ＮａＮ3及びＴｆ2Ｏから調製される）、
ＴｆＯＨ：トリフルオロメタンスルホン酸、
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン（Ｔｅｒａｈｙｄｒｏｆｕｒａｎ）、
ＴＭＳ：トリメチルシリル、
Ｔｏｓ：ｐ−トルエンスルホニル、
ｐ−ＴｏｓＯＨ：ｐ−トルエンスルホン酸、
Ｔｒｉｔ：トリフェニルメチル。
標準操作手順
標準操作手順  １：ベンジリデンアセタールの形成
標準操作手順  ２：ｐ−メトキシベンジリデンアセタールの形成
標準操作手順  ３：イソプロピリデンアセタールの形成
標準操作手順  ４：脱アルキリデン化（Ｄｅａｌｋｙｌｉｄｅｎａｔｉｏｎ）  （イソプロピリデン、ベンジリデン及びｐ−メトキシベンジリデンの除去）
標準操作手順  ５：６−Ｏ−ｐメトキシベンジルエーテルへのｐ−メトキシ−ベンジリデンアセタールの部位選択的開裂（ｒｅｇｉｏｓｅｌｅｃｔｉｖｅ  ｏｐｅｎｉｎｇ）
標準操作手順  ６：４−Ｏ−ベンジルエーテルへのベンジリデン環の部位選択的開裂
標準操作手順  ７：ベンジル又はｐ−メトキシベンジルエーテルの導入
標準操作手順  ８：ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルエーテルの導入
標準操作手順  ９：ｔｅｒｔ−ブチル−ジフェニルシリルエーテルの開裂
標準操作手順  １０：Ｎ−ＤＴＰＭ−基の導入
標準操作手順  １１：Ｎ−ＤＴＰＭ−基の開裂
標準操作手順  １２：ジアゾ転移反応を介するアジド基の導入
標準操作手順  １３：チオグリコシドの加水分解（ＮＢＳ）
標準操作手順  １４：チオグリコシドの加水分解（ＮＩＳ）
標準操作手順  １５：ウロン酸への化学選択的酸化
標準操作手順  １６：ウロン酸上でのメチルエステル形成
標準操作手順  １７：部位選択的６−Ｏ−ベンゾイル化
標準操作手順  １８：Ｏ−ベンゾイル化のための慣用手順
標準操作手順  １９：Ｏ−アセチル化のための慣用手順
標準操作手順  ２０：カルボン酸へのアルコールのＰＤＣ−酸化
標準操作手順  ２１：化学選択的な１−Ｏ−ベンゾイル開裂
標準操作手順  ２２：Ｚｅｍｐｌｅｎ条件下における脱アシル化
標準操作手順  ２３：４−オキソペンタノイル（＝レブリノイル（Ｌｅｖｕｌｉｎｏｙｌ））基の導入
標準操作手順  ２４：４−オキソペンタノイル（＝レブリノイル）基の開裂
標準操作手順  ２５：トリクロロアセトイミデート（Ｔｒｉｃｈｌｏｒｏａｃｅｔｉｍｉｄａｔｅｓ）の形成
標準操作手順  ２６：Ｍｉｔｓｕｎｏｂｕ条件下における６−Ｏ−ｐメトキシフェニル基の部位選択的導入
標準操作手順  ２７：ｐ−メトキシフェニルエーテルの開裂
標準操作手順  ２８：ｐ−メトキシベンジルエーテルの開裂
標準操作手順  ２９：２，３−環式カルバメートの形成
標準操作手順  ３０：Ｎ−フタロイル基の開裂
標準操作手順  ３１：還元末端（ｒｅｄｕｃｉｎｇ  ｅｎｄ）でのチオクレシルエーテルの導入
標準操作手順  ３２：チオグリコシドを用いたグリコシル化
ａ）ＮＩＳで促進されるグリコシル化（ＮＩＳ−ｐｒｏｍｏｔｅｄ  ｇｌｙｃｏｓｙｌａｔｉｏｎ）
ｂ）ＤＭＴＳＴで促進されるグリコシル化（ＤＭＴＳＴ  ｐｒｏｍｏｔｅｄ  ｇｌｙｃｏｓｙｌａｔｉｏｎｓ）
標準操作手順  ３３：トリクロロアセトイミデート（ｔｒｉｃｈｌｏｒｏａｃｅｔｉｍｉｄａｔｅｓ）を用いるグリコシル化
標準操作手順  ３４：２，３−シクロカルバモイルで保護されたｐチオクレシルグリコシドをグリコシルドナーとして用いるグリコシル化
標準操作手順  ３５：Ａｌｌｏｃ−基の導入
標準操作手順  ３６：Ａｌｌｏｃ−基の開裂
標準操作手順  ３７：Ｌｅｗｉｓ酸で媒介されるベンジル化
標準操作手順  ３８：穏やかな塩基性条件下でのベンジル化
標準操作手順  ３９：非常に穏やかな条件下におけるエステル開裂。
標準操作手順  １：ベンジリデンアセタールの生成
出発原料（４７．５ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（１００−２００ｍｌ）中に溶解し、そしてベンズアルデヒドジメチルアセタール（１．２当量）及び触媒量のｐ−トルエンスルホン酸一水和物（０．０１−０．１当量）と反応させた。その反応物を、ＴＬＣが終わりを示すまで、減圧（３５０ｍｂａｒ）下において５０℃にて攪拌した。続いて、この反応物をトリエチルアミン（ｐＨ約９）で中和し、そして、真空中で（ｉｎ  ｖａｃｕｏ）濃縮した。残った残渣を有機溶媒（例えば、ジクロロメタン又はエチルアセテート）中に溶解し、そしてＨ2Ｏ、飽和ブライン溶液を用いて抽出し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥し、そして濃縮した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７０〜９５％の間で変化した。
【００６２】
標準操作手順  ２：ｐ−メトキシベンジリデンアセタールの形成
出発原料（４７．５ｍｍｏｌ）をＤＭＦ／アセトニトリル（１／１、１００−２００ｍｌ）中にて溶解し、ｐ−メトキシベンズアルデヒドジメチルアセタール（１．２当量）及び触媒量のｐ−トルエンスルホン酸一水和物（０．０１−０．１当量）と反応させた。この反応物を、ＴＬＣが終わりを示すまで、５０−６０℃にて、減圧下（３５０ｍｂａｒ）において攪拌した。続いて、この混合物をトリエチルアミン（ｐＨ約９）で中和し、次いで真空中で濃縮した。残った残渣を有機溶媒（例えば、ジクロロメタン又はエチルアセテート）中に溶解し、Ｈ2Ｏ、飽和ブライン溶液、を用いて抽出し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥し、そして濃縮した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７０〜８５％の間で変化した。
【００６３】
標準操作手順  ３：イソプロピリデンアセタールの形成
出発原料（１０ｍｍｏｌ）及び触媒量のショウノウスルホン酸（ｃａｍｐｈｏｒｓｕｌｆｏｎｉｃ  ａｃｉｄ）（０．０１−０．１当量）の２，２−ジメトキシプロパン（５０ｍｌ）溶液を２５℃にて、完結するまで攪拌し、トリエチルアミンで中和し、そして濃縮した。残った残渣を有機溶媒（例えば、ジクロロメタン又はエチルアセテート）中に溶解し、そしてＨ2Ｏ及び飽和ブライン溶液を用いて抽出した。有機層をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、次いで濃縮した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７５〜９３％の間で変化した。
【００６４】
標準操作手順  ４：脱アルキリデン化（Ｄｅａｌｋｙｌｉｄｅｎａｔｉｏｎ）  （イソプロピリデン、ベンジリデン及びｐ−メトキシベンジリデンの除去）
アセタール（３１ｍｍｏｌ）の１５０ｍｌジクロロメタン溶液を０℃まで冷却し、８０％水性ＴＦＡ（２０．０ｍｌ、０℃まで冷却）と反応させた。０℃にて、完結するまで攪拌した後、その反応混合物を３０％ＮａＯＨ溶液で中和し、そして水及び飽和ブライン溶液を用いて抽出した。有機層をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、そして濃縮した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７０〜９５％の間で変化した。
開裂のための、ＭｅＯＨ／ＣＨ3ＣＮ中のｐ−ＴｏｓＯＨｘＯＨ2を用いる修飾：
アセタール（１６．６ｍｍｏｌ）を１００ｍＬの乾燥アセトニトリル及び２５ｍＬ  ＭｅＯＨ中に溶解し、その溶液を触媒量のｐ−ＴｏｓＯＨｘＯＨ2と反応させた。この反応混合物を高温（４０〜６０℃）で完結するまで加熱し、次いで、Ｅｔ3Ｎを用いて中和し、真空中で濃縮し、結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、精製した。生成物形成についての代表的な収率は、７０〜９５％の間で変化した。
【００６５】
標準操作手順  ５：  ６−Ｏ−ｐメトキシベンジルエーテルへのｐ−メトキシ−ベンジリデンアセタールの部位選択的開裂（ｒｅｇｉｏｓｅｌｅｃｔｉｖｅ  ｏｐｅｎｉｎｇ）
出発糖（ｓｔａｒｔｉｎｇ  ｓｕｇａｒ）（１０．２ｍｍｏｌ）、モレキュラーシーブス３Å（６．５ｇ、新たに活性化した）及びＮａ（ＣＮ）ＢＨ3（３．８５ｇ、６１．２ｍｍｏｌ）の乾燥ＤＭＦ（９０ｍｌ）懸濁液を、１ｈｒ、室温にて攪拌し、０℃まで冷却した。続いて、ＴＦＡ（１１．２ｍＬ、５１ｍＬ  乾燥ＤＭＦ中１２２．４ｍｍｏｌ）の溶液を滴下し、そして５０〜６０℃にて、反応が終わるまで攪拌し続けた。この反応混合物を２０℃まで冷却し、エチルアセテートで希釈し、そして飽和水性ＮａＨＣＯ3溶液を用いて抽出し、次いで、セライト（登録商標）パッド（ｃｅｌｉｔｅ  ｐａｄ）を通して濾過した。混合有機層（ｃｏｍｂｉｎｅｄ  ｏｒｇａｎｉｃ  ｌａｙｅｒｓ）を飽和ブライン溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、そして濃縮した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７０〜９０％の間で変化した。
【００６６】
標準操作手順  ６：  ４−Ｏ−ベンジルエーテルへのベンジリデン環の部位選択的開裂
出発原料（３．４ｍｍｏｌ）の２５ｍＬジクロロメタン溶液を０℃まで冷却し、次いで、これに、ＢＨ3のＴＨＦ（１Ｍ、３４ｍｌ）溶液及びＢｕ2ＢＯＴｆのジクロロメタン（１Ｍ、３．７ｍｌ）溶液を添加した。この反応物を０℃にて、完結するまで攪拌し、そして次いで、１０ｍｌ  Ｅｔ3Ｎ及び１０ｍｌ  ＭｅＯＨを用いてクエンチし、濃縮し、次いでトルエンを用いて３回共蒸留した（ｃｏｅｖａｐｏｒａｔｅｄ）。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７５〜９０％の間で変化した。
【００６７】
標準操作手順  ７：ベンジル又はｐ−メトキシベンジルエーテルの導入
出発原料（４０．２ｍｍｏｌ）を乾燥Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（１００ｍＬ）中に０℃にて溶解し、そしてＮａＨ（４８．２４ｍｍｏｌ、ベンジル化されるべきＯＨ当たり１．２当量）と反応させた。次いで、臭化ベンジル（ベンジル化されるべきＯＨ当たり１．１当量）を滴下し、そして０℃にて完結するまで攪拌し続けた。アリルエーテル（アリル化試薬（ａｌｌｙｌａｔｉｎｇ  ｒｅａｇｅｎｔ）として働くアリルブロマイド）の導入についても、同様の条件が適用された。
【００６８】
酢酸を注意深く添加することによって、過剰のＮａＨを中和し、次いでこの反応混合物を真空中で濃縮した。この残渣をエチルアセテート中に溶解し、そして続いて水、１０％  水性ＨＣｌ溶液、飽和水性ＮａＨＣＯ3溶液、飽和ブライン溶液で洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥し、そして真空中で濃縮した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７０〜９２％の間で変化した。臭化ベンジルの代わりにｐ−メトキシベンジルクロライドを反応物へ添加したこと及び反応を５０〜６０℃にて行ったこと以外は、ｐ−メトキシベンジルエーテルの形成についても同様の手順を行った。
【００６９】
標準操作手順  ８：  ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルエーテルの導入
出発原料（２９．０ｍｍｏｌ）及びイミダゾール（７０．１ｍｍｏｌ）の混合物を８０ｍＬ無水ＤＭＦ中に溶解し、５５℃まで加熱した。この溶液にｔｅｒｔ−ブチルジフェニルクロロシラン（８．３０ｍＬ、３１．９ｍｍｏｌ）を添加し、そして５５℃にて完結するまで攪拌し続けた。次いで、この反応混合物を２０℃まで冷却し、そして水性ＮａＨＣＯ3溶液を用いてクエンチした。真空中で濃縮後、残渣をエチルアセテート中に溶解し（ｔａｋｅｎ  ｕｐ）、そして有機層を水、１０％  水性クエン酸、水、飽和ブライン溶液で連続的に洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥し、そして蒸留した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、８５〜９５％の間で変化した。
【００７０】
標準操作手順  ９：ｔｅｒｔ−ブチル−ジフェニルシリルエーテルの開裂
シリルエーテル（２．１５ｍｍｏｌ）の２．５ｍＬ乾燥ＴＨＦ及び酢酸（３．４４ｍｍｏｌ）溶液へ１Ｍ  ＴＢＡＦのＴＨＦ（３．２２ｍＬ）溶液を添加し、反応が終わるまで攪拌し続けた。続いて、この反応混合物を真空中で濃縮した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、８５〜９７％の間で変化した。
【００７１】
標準操作手順  １０：Ｎ−ＤＴＰＭ−基の導入
出発アミン（２４．５ｍｍｏｌ）のメタノール（６０ｍｌ）溶液へＤＴＰＭ  試薬（５．４３ｇ、２５．７ｍｍｏｌ）のメタノール（６０ｍｌ）溶液を６０℃にて添加した。反応の終了後、この反応混合物を真空中で濃縮し、ジクロロメタン中に溶解し（ｔａｋｅｎ  ｕｐ）、水及び飽和ブライン溶液を用いて抽出し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、そして蒸留した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、８５〜９７％の間で変化した。
【００７２】
標準操作手順  １１：Ｎ−ＤＴＰＭ−基の開裂
出発原料（４０．９４ｍｍｏｌ）を乾燥ＤＭＦ（５０ｍｌ）中に溶解し、室温においてエチレンジアミン（２０ｍｌ）と完結するまで反応させた。この反応混合物を真空中で濃縮し、トルエンを用いて共蒸留した。この残渣をＣＨＣｌ3中に懸濁し、そしてセライト（登録商標）パッドを通して濾過した。濾液を蒸留し、そして結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、その残渣の最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、８５〜９２％の間で変化した。
【００７３】
標準操作手順  １２：ジアゾ転移反応を介するアジド基の導入
ａ）トリフルオロメタンスルホニルアジド溶液の調製：
アジ化ナトリウム（４９２ｍｍｏｌ）の水（８０ｍＬ）溶液をＮ2雰囲気下において調製した。この攪拌溶液へジクロロメタン（１００ｍＬ）を０℃にて添加し、次いでトリフリックアンハイドライド（ｔｒｉｆｌｉｃ  ａｎｈｙｄｒｉｄｅ）（１６．５ｍｌ）を１０分間かけて添加した。この混合物をさらに０℃にて２時間攪拌し、有機層を分離し、そして水層をジクロロメタン（２×４０ｍＬ）で抽出した。混合有機層を飽和水性ＮａＨＣＯ3溶液（８０ｍＬ）、水（８０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥した。濾過後、この溶液を直接ジアゾ転移反応に用いた。
【００７４】
ｂ）ジアゾ転移反応：
出発原料（２６．０ｍｍｏｌ）及び４−Ｎ，Ｎ’−（ジメチルアミノ）ピリジン（１４．５ｇ）のアセトニトリル（１００ｍＬ）溶液へ、ＴｆＮ3−溶液（８５ｍｌ）を室温にて１０分間以内に滴下した。この反応液を、生成物への出発原料の変換が完了するまで、攪拌した。この反応混合物を真空中で３０ｍｌまで濃縮し、そしてクロロホルム中に懸濁した。セライト（登録商標）パッドを通す濾過の後、濾液を濃縮し、残渣を、ショートシリカゲルパッド（ｓｈｏｒｔ  ｓｉｌｉｃａ  ｇｅｌ  ｐａｄ）を通す濾過によって精製した。生成物形成についての代表的な収率は、８５〜９５％の間で変化した。
【００７５】
標準操作手順  １３：チオグリコシドの加水分解（ＮＢＳ）
出発チオグリコシド（３３．４ｍｍｏｌ）を２４０ｍｌアセトン及び１８ｍｌの蒸留水中に懸濁し、そして４５ｍｉｎ、−２０℃にて攪拌した。ＮＢＳ（１５５ｍｍｏｌ）の添加後、攪拌を−２０℃にて続けた。完了後、ＮａＳ2Ｏ3 ／ＮａＨＣＯ3（２０％水溶液、１／１）の添加によって、反応を停止し、次いで混合物をエチルアセテートで希釈し、続いて水及び飽和ブライン溶液で洗浄した。有機層をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、そして真空中で濃縮した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７５〜９０％の間で変化した。
【００７６】
標準操作手順  １４：チオグリコシドの加水分解（ＮＩＳ）
出発チオグリコシド（３３．４ｍｍｏｌ）を２４０ｍｌアセトン及び１８ｍｌの蒸留水中に懸濁し、４５ｍｉｎ、−２０℃にて攪拌した。ＮＩＳ（５６．８ｍｍｏｌ）及びＴＭＳＯＴｆ（２．８４ｍｍｏｌ）の添加後、完了するまで攪拌を続けた。ＮａＳ2Ｏ3／ＮａＨＣＯ3（２０％水溶液、１／１）の添加によって反応を停止し、エチルアセテートで希釈し、水及び飽和ブライン溶液を用いて洗浄した。有機層をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、真空中で濃縮した。結晶化（例えば、ペトロリウムスピリット／エチルアセテート）又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７９〜９２％の間で変化した。
【００７７】
標準操作手順  １５：ウロン酸への化学選択的酸化
出発原料（２０．０ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１４１ｍｌ）溶液を０℃まで冷却し、次いでＴＥＭＰＯ（１２．８ｍｌジクロロメタン中の０．２０５ｍｍｏｌ）、Ａｌｉｑｕａｔ ３３６（１２．８ｍｌの０．０８Ｍ  ジクロロメタン溶液）及びＫＢｒ（４．１７ｍｌ  Ｈ2Ｏ中の２．０８ｍｍｏｌ）と混合し、０℃にて攪拌し続けた。５分後、Ｃａ（ＯＣｌ）2（４３．６ｍｍｏｌ）及びＮａＨＣＯ3（４３．６ｍｍｏｌ）の１３５ｍｌ  Ｈ2Ｏ懸濁液を１５分以内に反応混合物へ添加し、０℃にて完結するまで攪拌し続けた。この反応物を真空中で濃縮し、そして凍結乾燥した。この粗製残渣（ｃｒｕｄｅ  ｒｅｓｉｄｕｅ）を次の反応のためのものとして使用した。
【００７８】
標準操作手順  １６：ウロン酸上でのメチルエステル生成
ウロン酸への酸化の粗製残渣を５０ｍｌトルエン及び５０ｍｌメタノール中に溶解し、ＴＭＳＣＨＮ2−溶液（ヘキサン中の２Ｍ）を用いて完結するまで処理した（ｔｉｔｕｒａｔｅｄ）。この反応混合物を酢酸でクエンチし、過剰のエステル化試薬を破壊し、真空中で蒸留した。シリカゲルクロマトグラフィーによって、最終精製を成し遂げた。酸化及びエステル化工程を終えて、生成物形成についての代表的な収率は、６５〜８０％の間で変化した。
【００７９】
標準操作手順  １７：部位選択的６−Ｏ−ベンゾイル化
出発原料（３２．０４ｍｍｏｌ）を乾燥ジクロロメタン（５０ｍＬ）及び乾燥ピリジン（１０ｍＬ）中に溶解し、−４５℃まで冷却した。ベンゾイルクロライド（３２．０４ｍｍｏｌ）を滴下し、そして−４５℃にて完結するまで攪拌し続けた。この反応物を真空中で濃縮し、そしてトルエンを用いて３回共蒸留した。残った残渣をジクロロメタン中に溶解し、そして１０％クエン酸水溶液、飽和ＮａＨＣＯ3水溶液及び飽和ブライン溶液を用いて洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥し、そして真空中で蒸留した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は７５〜９４％の間で変化した。
【００８０】
標準操作手順  １８：Ｏ−ベンゾイル化のための慣用手順
出発原料（１１．９ｍｍｏｌ）及びＤＭＡＰ（１３．６ｍｍｏｌ）の１，２−ジクロロエタン溶液へベンゾイルクロライド（１．７ｇ、１２．１ｍｍｏｌ）を０℃にて滴下した。次いで、混合物を完結するまで攪拌し続けた（基質に依存して、２０〜５５℃）。続いて、反応混合物をジクロロメタンで希釈し、そして水、５％ＮａＨＳＯ4溶液、飽和ＮａＨＣＯ3水溶液及び飽和ブライン溶液で洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、次いで真空中で溶媒の除去を行い、粗製残渣を得た。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、８０〜９６％の間で変化した。
【００８１】
標準操作手順  １９：Ｏ−アセチル化のための慣用手順
０℃において出発原料（２３５ｍｍｏｌ、３アセチル化部位）のピリジン（３５０ｍｌ）懸濁液へ、無水酢酸（１７５ｍｌ）を滴下した。添加終了後、この反応物を室温まで戻し、そして完結するまで攪拌した。この反応混合物を乾燥するまで蒸留し、そしてトルエンを用いて３×共蒸留した。残渣をジクロロメタン中に溶解し（ｔａｋｅｎ  ｕｐ）、５％ＮａＨＳＯ4−水溶液、飽和ＮａＨＣＯ3−水溶液、水及び飽和ブライン溶液で洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、そして蒸留した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、残渣の最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、８８〜９８％の間で変化した。
【００８２】
標準操作手順  ２０：カルボン酸へのアルコールのＰＤＣ−酸化
出発原料（１．１５ｍｏｌ）を無水ＤＭＦ（７．０ｍｌ）中に溶解し、ウロン酸への変換が完了するまで、室温にて攪拌しながら、ＰＤＣ（１１．５ｍｍｏｌ）と反応させた。続いて、反応混合物を５０ｍｌの水に注ぎ、そして全体をジエチルエーテルで抽出した。混合エーテル層を１０％  クエン酸水溶液で洗浄し、ショートシリカゲルパッドを通して濾過し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、蒸留し、そして高真空下において乾燥した。
【００８３】
標準操作手順  ２１：化学選択的な１−Ｏ−ベンゾイル開裂
出発原料（３６．８ｍｍｏｌ）を乾燥ＤＭＦ（８０ｍｌ）中に溶解し、そして０℃まで冷却した。続いて、ヒドラジンアセテート（４４．０６ｍｍｏｌ）を添加し、完結するまで攪拌し続けた。アセトン及び酢酸の添加後、反応混合物を真空中で濃縮した。残渣をジクロロメタン中に溶解し、そして１０％クエン酸水溶液、飽和ＮａＨＣＯ3溶液、水及び飽和ブライン溶液で抽出し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、蒸留し、そして高真空下において乾燥した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７２〜８８％の間で変化した。
【００８４】
標準操作手順  ２２：Ｚｅｍｐｌｅｎ条件下における脱アシル化
出発原料（２３．７ｍｍｏｌ）を乾燥ＭｅＯＨ（７０ｍｌ）中に懸濁し、３０分間、０℃にて攪拌した。続いて、ＮａＯＭｅ（０．１当量／Ｏ−アシル基）を添加し（Ｎ2の積極的な吹き付け（ｐｏｓｉｔｉｖｅ  ｆｌｕｓｈ  ｏｆ  Ｎ2））、０℃にて、完結するまで攪拌しつづけた。最後に、反応物を１０％  水性ＨＣｌで中和し、そして溶媒を蒸発させた。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、９０〜９８％の間で変化した。
【００８５】
標準操作手順  ２３：４−オキソペンタノイル（＝レブリノイル（Ｌｅｖｕｌｉｎｏｙｌ））基の導入
ａ）Ｌｅｖ2Ｏ溶液の調製：
ＤＣＣ（３１．２ｍｍｏｌ）の１００ｍＬジクロロメタン溶液へレブリン酸（ｌｅｖｕｌｉｎｉｃ  ａｃｉｄ）（６２．４ｍｍｏｌ）及びＤＩＰＥＡ（６２．４２ｍｍｏｌ）を添加した。上清をレブリン化反応（ｌｅｖｕｌｉｎａｔｉｏｎ  ｒｅａｃｔｉｏｎ）のためのものとして使用した。
【００８６】
反応
２５ｍＬの乾燥ジクロロメタンに溶解された出発糖（１５．６ｍｍｏｌ）の溶液へ上記Ｌｅｖ2Ｏ溶液を添加し、完結するまで攪拌し続けた。続いて、反応混合物をセライト（登録商標）パッドを通して濾過し、そして全ての混合有機層を１０％クエン酸水溶液、飽和水性ブライン溶液で抽出し、Ｎａ2ＳＯ4を用いて乾燥し、そして濃縮した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、８５〜９６％の間で変化した。
【００８７】
標準操作手順  ２４：４−オキソペンタノイル（＝レブリノイル）基の開裂
出発糖（１．２８ｍｍｏｌ）及び酢酸（１．３５ｍＬ）のピリジン（５．０ｍＬ）溶液を０℃まで冷却し、続いてヒドラジンハイドレート（２００μＬ）の添加を行った。完結するまで０℃にて攪拌し続け、反応混合物をジクロロメタンで希釈し、続いて１０％水性クエン酸、１０％水性ＮａＨＣＯ3溶液、飽和ブライン溶液で抽出し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥し、濾過し、そして濃縮した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、８０〜９５％の間で変化した。
【００８８】
標準操作手順  ２５：トリクロロアセトイミデート（Ｔｒｉｃｈｌｏｒｏａｃｅｔｉｍｉｄａｔｅｓ）の形成
ａ）ＤＢＵを用いる場合：
出発糖（１．９９ｍｍｏｌ）及びトリクロロアセトニトリル（６０１μＬ、５．９９ｍｍｏｌ）の５ｍＬ  乾燥ジクロロメタン溶液を室温にて３０分間攪拌した。次いで、反応混合物を０℃まで冷却し、そしてＤＢＵ（１００μｍｏｌ）を添加した。完結するまで攪拌し続けた（基質に依存して、０℃〜２０℃にて、攪拌を行った）。反応混合物を、その体積が２分の１になるまで濃縮し、シリカゲルのショートプラグ（ｓｈｏｒｔ  ｐｌｕｇ  ｏｆ  ｓｉｌｉｃａ  ｇｅｌ）上へ直接負荷し、シリカゲルクロマトグラフィーによって精製した。生成物形成についての代表的な収率は、７８〜９５％の間で変化した。
【００８９】
ｂ）Ｋ2ＣＯ3を用いる場合：
出発糖（１．９９ｍｍｏｌ）及びトリクロロアセトニトリル（６０１μＬ、５．９９ｍｍｏｌ）の５ｍＬ乾燥ジクロロメタン溶液を室温にて３０分間攪拌した。次いで、反応混合物を０℃まで冷却し、そして無水Ｋ2ＣＯ3（１９．９ｍｍｏｌ）を添加した。完結するまで反応物を０℃にて攪拌し、次いでセライト（登録商標）パッドを通して濾過した。濾液をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、そして蒸留した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７８〜９５％の間で変化した。
【００９０】
標準操作手順  ２６：Ｍｉｔｓｕｎｏｂｕ条件下における６−Ｏ−ｐメトキシフェニル基の部位選択的導入
出発糖（１３．５２ｍｍｏｌ）、４−メトキシフェノール（２０．３ｍｍｏｌ）及びトリフェニルホスフィン（２０．３ｍｍｏｌ）の８５ｍｌ  乾燥ジクロロメタン溶液を、０℃にて４５分間攪拌した。０℃にてＤＥＡＤ−試薬（２２．９ｍｍｏｌ）を添加した後、さらに、反応混合物を室温にて完結するまで攪拌し、セライト（登録商標）パッドを通して濾過し、ジクロロメタンで希釈し、そして１０％水性ＮａＨＣＯ3／ＮａＯＨ溶液（１／１）、１０％クエン酸水溶液及び水性飽和ブライン溶液で抽出した。有機層をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、そして濃縮した。シリカゲルクロマトグラフィーによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７０〜８９％の間で変化した。
【００９１】
標準操作手順  ２７：ｐ−メトキシフェニルエーテルの開裂
出発原料（１．１８ｍｍｏｌ）を３０ｍｌアセトニトリル及び７．５ｍｌ水に溶解し、０℃まで冷却した。続いて、ＣＡＮ（３．８３ｍｍｏｌ）を添加し、そして完結するまで０℃にて攪拌し続けた。反応混合物をエチルアセテートで希釈し、そして水で抽出した。固体ＮａＨＣＯ3の添加によって、水層をアルカリ性にし、そしてエチルアセテートで逆抽出した（ｂａｃｋ  ｅｘｔｒａｃｔｅｄ）。混合有機層を飽和水性ＮａＨＣＯ3 溶液及び飽和ブライン溶液で抽出し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、そして蒸留した。シリカゲルクロマトグラフィーによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７３〜８９％の間で変化した。
【００９２】
標準操作手順  ２８：ｐ−メトキシベンジルエーテルの開裂
出発原料（０．６０ｍｍｏｌ）を２７ｍｌアセトニトリル及び３．０ｍｌ水に溶解し、０℃まで冷却した。続いて、ＣＡＮ（４．５当量）を添加し、０℃〜室温にて完結するまで攪拌し続けた。反応混合物をエチルアセテートで希釈し、そして水で抽出した。固体ＮａＨＣＯ3の添加によって水層をアルカリ性にし、そしてエチルアセテートを用いて逆抽出した。混合有機層を飽和水性ＮａＨＣＯ3溶液及び飽和ブライン溶液で抽出し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、そして蒸留した。シリカゲルクロマトグラフィーによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７３〜８５％の間で変化した。
【００９３】
標準操作手順  ２９：２，３−環式カルバメートの生成
攪拌された出発原料（３．５６ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１００ｍｌ）溶液及び１０％ＮａＨＣＯ3水溶液（７５ｍｌ）へ、トリホスゲン（１．２５ｍｍｏｌ）の１０ｍｌ乾燥ジクロロメタン溶液を添加した。反応物を、室温にて、完結するまで攪拌した。有機層を水で洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥し、濾過し、そして濃縮した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７５〜９５％の間で変化した。
【００９４】
標準操作手順  ３０：Ｎ−フタロイル基の開裂
Ｎ−フタロイル化された出発原料（Ｎ−ｐｈｔｈａｌｏｙｌａｔｅｄ  ｓｔａｒｔｉｎｇ  ｍａｔｅｒｉａｌ）（４５．９ｍｍｏｌ）をｎ−ブタノール（２００ｍｌ）中に溶解し、そして１，２−ジアミノエタン（５０ｍｌ）を用いて１００℃にて処理した。１００℃にて完結するまで攪拌した後、反応混合物を真空中で濃縮し、トルエンで３回共蒸留し、そして高真空下において乾燥した。シリカゲルクロマトグラフィーによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７８〜９２％の間で変化した。
【００９５】
標準操作手順  ３１：還元末端（ｒｅｄｕｃｉｎｇ  ｅｎｄ）でのチオクレシルエーテルの導入
１−Ｏ−グリコシルアセテート（１０．４８ｍｍｏｌ）及びｐ−チオクレゾール（１２．５８ｍｍｏｌ）の乾燥ジクロロメタン（３０ｍｌ）溶液を、０℃にて攪拌し、続いて５分間かけて三フッ化ホウ素ジエチルエーテル複合体（１２．５８ｍｍｏｌ）を添加することによって、活性化させた。完了するまで攪拌し続け（０℃→２０℃）、そしてトリエチルアミン（１４．０ｍｍｏｌ）の添加によって反応を停止した。反応混合物をジクロロメタンで希釈し、そして飽和ＮａＨＣＯ3−溶液、水、及び飽和ブライン溶液で抽出し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、そして真空中で蒸留した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、８１〜９２％の間で変化した。
【００９６】
標準操作手順  ３２：チオグリコシドを用いたグリコシル化
ａ）ＮＩＳで促進されるグリコシル化（ＮＩＳ−ｐｒｏｍｏｔｅｄ  ｇｌｙｃｏｓｙｌａｔｉｏｎ）
２０ｍｌの乾燥溶媒（例えば、ＣＨ3ＣＮ、ＣＨ2Ｃｌ2、トルエン、エーテル）中のグリコシルアクセプター（１ｍｍｏｌ）、チオグリコシド（１ｍｍｏｌ）、及び１．０ｇの新たに活性化したモレキュラーシーブ（ｆｒｅｓｈｌｙ  ａｃｔｉｖａｔｅｄ  ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  ｓｉｅｖｅｓ）の混合物を、４５分間、室温にて攪拌し、そして反応温度まで冷却した。続いて、Ｎ−ヨードスクシンイミド（１．７ｍｍｏｌ）を添加し、そして２０分間、反応温度にて攪拌し続けた。促進剤（ｐｒｏｍｏｔｏｒ）としてＬｅｗｉｓ酸（例えば、ＴｆＯＨ、８５−１７０μｍｏｌ）を添加した後、反応温度にて、完結するまで攪拌し続けた。反応混合物をトリエチルアミンでクエンチし、セライト（登録商標）パッドを通して濾過し、そして１０％水性ＫＨＣＯ3／Ｎａ2Ｓ2Ｏ3溶液、水及び飽和ブライン溶液で抽出し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、そして蒸留した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、６５〜８５％の間で変化した。
【００９７】
ｂ）ＤＭＴＳＴで促進されるグリコシル化（ＤＭＴＳＴ  ｐｒｏｍｏｔｅｄ  ｇｌｙｃｏｓｙｌａｔｉｏｎｓ）
２０ｍｌの乾燥溶媒（例えば、ＣＨ3ＣＮ、ＣＨ2Ｃｌ２、トルエン、エーテル）中のグリコシルアクセプター（１ｍｍｏｌ）、チオグリコシド（１ｍｍｏｌ）、及び１．０ｇの新たに活性化したモレキュラーシーブの混合物を、４５分間、室温にて攪拌し、そして反応温度まで冷却した。続いて、ＤＭＴＳＴ（３−５当量）を添加し、そして反応温度にて、完結するまで攪拌し続けた。反応混合物をトリエチルアミンでクエンチし、セライト（登録商標）パッドを通して濾過し、そして水性ＮａＨＣＯ3−溶液、水及び飽和ブライン溶液で抽出し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥し、真空中で濃縮し、そしてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製した。生成物形成についての代表的な収率は、５０〜８５％の間で変化した。
【００９８】
標準操作手順  ３３：トリクロロアセトイミデート（ｔｒｉｃｈｌｏｒｏａｃｅｔｉｍｉｄａｔｅｓ）を用いるグリコシル化
トリクロロアセトイミデート（１．５４ｍｍｏｌ）、グリコシルアクセプター（１１．３ｍｍｏｌ）、及び新たに活性化したモレキュラーシーブ（１．０ｇ）の無水溶媒（例えば、ＣＨ3ＣＮ、ＣＨ2Ｃｌ２、トルエン、エーテル、２０ｍＬ）懸濁液を、１時間、室温にて攪拌し、そして反応温度まで冷却した。続いて、触媒量の促進剤（例えば、ＴＭＳＯＴｆ、０．０１−０．１当量）を添加し、そして反応温度にて完結するまで攪拌し続けた。反応をトリエチルアミンでクエンチし、そしてセライト（登録商標）パッドを通して濾過した。混合有機層を水性ＮａＨＣＯ3−溶液及び飽和ブライン溶液で洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥し、真空中で濃縮し、そしてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製した。生成物形成についての代表的な収率は、５０〜８５％の間で変化した。
【００９９】
標準操作手順  ３４：２，３−シクロカルバモイルで保護されたｐチオクレシルグリコシドをグリコシルドナーとして用いるグリコシル化
−７８℃にて、新たに活性化したモレキュラーシーブ３Åを含むＡｇＯＴｆ（０．２ｍｍｏｌ）の乾燥ジクロロメタン（２ｍｌ）混合物へ、乾燥ジクロロメタン（１ｍｌ）中のＰｈＳＣｌ（０．２ｍｍｏｌ、２当量）を滴下した。−７８℃にて１５分間攪拌した後、チオグリコシド（０．１ｍｍｏｌ、１当量）及びＤＴＢＭＰ（０．２ｍｍｏｌ、２当量）の乾燥ジクロロメタン（２ｍｌ）溶液をゆっくり添加した。−７８℃にて、さらに１５分間攪拌した後、乾燥ジクロロメタン（１ｍｌ）中のグリコシルアクセプター（０．２ｍｍｏｌ、２当量）をゆっくり添加し、完結するまで攪拌し続けた。反応を飽和水性ＮａＨＣＯ3溶液（１ｍｌ）でクエンチし、室温まで加温し、ジクロロメタンで希釈した。有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、濾過し、そして蒸留した。シリカゲルクロマトグラフィーによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、６０〜９０％の間で変化した。
【０１００】
標準操作手順  ３５：Ａｌｌｏｃ−基の導入
出発原料（２ｍｍｏｌ）、乾燥ピリジン（５ｍｍｏｌ）及び乾燥ＴＨＦ（５ｍｌ）の溶液を０℃まで冷却した。続いて、アリルクロロホルメート（２．２ｍｍｏｌ）を滴下し、完結するまで攪拌し続けた。反応混合物をジクロロメタンで希釈し、続いて、１０％クエン酸水溶液、飽和ＮａＨＣＯ3溶液、水及び飽和ブライン溶液で洗浄した。有機層をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、濾過し、そして蒸留した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、８０〜９５％の間で変化した。
【０１０１】
標準操作手順  ３６：Ａｌｌｏｃ−基の開裂
アリルオキシカルボネート（１．１７ｍｍｏｌ）、ジメドン（１．３３ｍｍｏｌ）及びＰｄ（Ｐｈ3Ｐ）4（０．３０ｍｍｏｌ）の混合物を乾燥ＴＨＦ（６０ｍｌ）中に溶解し、そしてＡｒ雰囲気下において反応が完了するまで攪拌した。反応混合物を真空中で濃縮し、そしてシリカゲルクロマトグラフィーによって精製した。生成物形成についての代表的な収率は、７８〜９７％の間で変化した。
【０１０２】
標準操作手順  ３７：Ｌｅｗｉｓ酸で媒介されるベンジル化
出発原料（１ｍｍｏｌ）及びベンジルトリクロロアセトイミデートの乾燥ヘキサン／ジクロロメタン（１０ｍｌ、２／１）攪拌混合物へ、Ｌｅｗｉｓ酸（０．０１−０．０５当量、例えば、ＴＭＳＯＴｆ、ＴｆＯＨ）を添加し、そして室温にて完結するまで攪拌し続けた。この反応物をトリエチルアミンでクエンチし、そして濃縮した。シリカゲルクロマトグラフィーによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、５０〜９２％の間で変化した。
【０１０３】
標準操作手順  ３８：穏やかな塩基性条件下でのベンジル化
出発原料（３．４９ｍｍｏｌ）を乾燥ＤＭＳＯ（２０ｍｌ）中に溶解し、０℃まで冷却した。攪拌溶液へ臭化ベンジル（３．５当量／ＯＨ−基）、酸化バリウム（１．５当量／ＯＨ−基）、触媒量のＴＢＡＩ（０．０５当量／ＯＨ−基）及び水酸化カリウム（３．５当量／ＯＨ−基）を連続的に添加した。０℃〜室温において、完結するまで攪拌し続けた。反応物をメタノールでクエンチし、さらに３０分間攪拌した。エーテルで希釈した後、有機層を水及びブライン溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、そして真空中で濃縮した。シリカゲルクロマトグラフィーによって、最終精製を成し遂げた。
【０１０４】
標準操作手順  ３９：水性条件下におけるエステル開裂
出発原料（０．３ｍｍｏｌ  エステル基）を１１．８ｍｌの水とＴＨＦとの混合物（３：７）に溶解し、０℃まで冷却し、そして１Ｍ水性ＮａＯＨ−溶液（５．０ｍｌ）と反応させた。完結するまで攪拌し続け、反応混合物を１０％  水性ＨＣｌ−溶液でｐＨ９．５まで処理した（ｔｉｔｕｒａｔｅｄ）。ＴＨＦの蒸発後、混合物を凍結乾燥し、そして残った残渣をシリカゲルクロマトグラフィーによって精製し、生成物を得た。生成物形成についての代表的な収率は、８５〜９５％の間で変化した。
【発明を実施するための最良の形態】
【０１０５】
実施例1：N-アセチルグルコサミンからの構成ブロック（building block）A-1及びA-2の合成
【０１０６】
【化２３】
2005505565.tif 000024
実施例１：N-アセチルグルコサミンからの構成ブロック（building block）A-1及びA-2の合成，収率（yields）はR=Hについて以下のように報告された、条件；a) Amberlyte IR 120 (H+)（登録商標）, MeOH, 60℃, (70 %); b) 1M NaOH, 120℃; c) 1. SOP 10; 2. Ac2O, ピリジン; 3. NaOMe, MeOH (70 %, 4 ステップ); d) SOP 1 (R=Hについて80 %) 又はR = OMeについてSOP 2; e) SOP 11; f) SOP 12, (85 %, 2 ステップ); g) SOP 7, (92 %); h) SOP 4, (91 %); i) SOP 17, (85 %); j) SOP 5.
A-1-iの調製：
N-アセチル-2-デオキシ-α/β-D-グルコピラノシド（8.5g，38.4mmol）を、100mlの乾燥メタノール（dry methanol）中に懸濁した。続いて、12.0gのAmberlite IR120（登録商標）イオン(iron)交換樹脂（H+−型）を加え、該反応混合物を65℃にて70時間、還流した。25℃にまで冷却した後、イオン(iron)交換樹脂を濾過によって除去し、メタノールで数回抽出した。この混合メタノール層をトリエチルアミンで中和し、in vacuoにて濃縮した。この粗製残渣を、結晶化によって精製し、70%収率（α/β−混合物）で標記化合物を提供した。
【０１０７】
A-1-iiiの調製：
メチルグルコシドA-1-i（20.6mmol）を100mlのNaOH水溶液（１M）に懸濁し、そして完了まで120℃で還流しながら攪拌した。冷却し、１０％HCl水溶液で中和した後、該混合物をin vacuoにて濃縮し、粗製A-1-iiを200mlメタノールに懸濁して、完了まで50℃（pH〜9.0）にてN-[(1,3-ジメチル-2,4,6 (1H,3H,5H)-トリオキソピリミジン-5-イリデン) メチル]-N',N''-ジメチルアミン（23.6 mmol）と反応させた。蒸発及び乾燥後、完了まで、粗製A-1-iiiを150mlのアセチル化混合物（ピリジン/Ac2O，2/1，v/v）と反応させ、in vacuoにて濃縮し、トルエンと共蒸発（coevaporation）させて乾燥した。この残渣を、酢酸エチルに懸濁し、水、10%水性HCl、飽和NaHCO3水溶液及びH2Oで抽出し、Na2SO4上で乾燥して濃縮した。この粗製残渣を、乾燥メタノールに溶解させ、触媒量のNaOMeと反応させた。完了後、該反応物をAmberlite IR120（登録商標）で中和し、濾過した。この有機層を蒸発及び乾燥させて、70%収率（４ステップ全体）で標記化合物A-1-iiiを提供した。
【０１０８】
A-1-ivaの調製：
アセトニトリル（200ml）中のメチル-2-デオキシ-2-N-[-1(1,3-ジメチル-2,4,6(1H,3H,5H)-トリオキソピリミジン5-イリデン)メチル]-α-D-グルコピラノシドA-1-iii（16.0g，44.5mmol）を、ベンズアルデヒドジメチルアセタール（14.0ml，89.0mmol）及び触媒量のp-トルエンスルホン酸1水和物と反応させた。55℃にて２時間後、該混合物を中和し、蒸発させた。残った残渣を抽出、洗浄及び蒸発させた。収率：18.3 g (92 %), Rf = 0.20 (1,2-ジクロロエタン/酢酸エチル = 7/3)。
【０１０９】
A-1-vaの調製：
DMF（50ml）中のメチル-4,6-O-ベンジリデン-2-デオキシ-2-N-(1-(1,3-ジメチル-2,4,6(1H,3H,5H)-トリオキソピリミジン5-イリデン)メチル(-α-D-グルコピラノシド A-1-iva (18.30 g, 40.94 mmol) を、エチレンジアミン（20ml）と室温にて反応させた。35分間攪拌した後、該混合物を濃縮した。収率：10.90 g (94.7 %)，Rf = 0.18 （クロロホルム/メタノール = 9/1）。
【０１１０】
A-1-viaの調製：
アセトニトリル（100mL）中のメチル-2-アミノ-4,6-O-ベンジリデン-2-デオキシ-α-D-グルコピラノシド(7.5 g, 26.0 mmol) 及び 4-N,N'-(ジメチルアミノ)ピリジン(14.5g)の溶液に、TfN3−溶液（85ml）を室温にて加えた。この反応混合物を濃縮し、残渣をショートシリカゲルパッド（short silica gel pad）を通す濾過によって精製した。収率：7.00g（85.3%），Rf＝0.18（クロロホルム/メタノール＝9/1）
A-1-viiaの調製：
N,N'-ジメチルホルムアミド (50mL)中のメチル2-アジド-2-デオキシ-4,6-ベンジリデン-(-D-グルコピラノシド A-1-via (10.87g, 35.41mmol) を NaH (95 %, 0.92g, 42.49mmol) 及び臭化ベンジル(5.47 ml, 45.9 mmol)と反応させた。 完了後、過剰のNaHをクエンチし、次いで濃縮した。残渣を抽出し、洗浄及び濃縮した。 収率：12.93 g (92.0 %), Rf = 0.37（ペトロリウムスピリット/酢酸エチル= 3/1）。
【０１１１】
A-1の調製
ジクロロメタン(50 mL) 及びピリジン(10 mL)中のメチル-2-アジド-3-O-ベンジル-2-デオキシ-α-D-グルコピラノシド(9.87g, 32.04mmol) を、塩化ベンゾイル(3.72mL, 32.04 mmol)で - 45℃ にて2時間処理した。 この反応物を濃縮し、残渣を抽出して、洗浄及び蒸発を行った。 収率：10.78 g (81.7 %), Rf = 0.31 (ペトロリウムスピリット/ 酢酸エチル= 1/1)。
【０１１２】
化合物A-1
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ=8.03 (d, 2 H, アリール), 7.57 (m, 1H, アリール), 7.45-7.29 (m, 7H, アリール), 4.93 (d, 1H, Jgem = 10.8 Hz, OCH2),  4.82 (d, 1H, Jgem = 10.8 Hz, OCH2),  4.81 ( d, 1H, J1,2 = 3.6 Hz, H-1α), 4.73 (dd, 1H, J5,6a = 4.4 Hz, Jgem = 12.0 Hz, H-6a), 4.47 (dd, 1H, J5,6b = 2.0 Hz, H-6b), 3.85 ( dd, 1H, J3,4 = 8.8 Hz, H-3), 3.57 ( ddd, 1H, J4,5 = 10.0 Hz, H-4), 3.45 (s, 3H, OMe), 3.37 ( dd, 1H, J2,3 = 10.0 Hz, H-2),  2.80 (bs, 1H, 4-OH)
実施例2：構成ブロックA-3及びA-4の合成
【０１１３】
【化２４】
2005505565.tif 000025
実施例２：構成ブロックA-3及びA-4の合成，条件：a) SOP 7, (R = Hについて72 %); b) SOP 4, (82 %);  c) SOP 17, (84 %); d) SOP 5.
化合物A-3：  
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 10.16 (dd, 1 H, JNH,2 = 9.4 Hz, J NH, =C-H = 14.0 Hz, NH), 8.11 (d, 1H, =C-H), 7.68-7.22 (3m, 8H, Aryl), 4.84 ( d, 1H, J1,2 = 3.5 Hz, H-1α), 4.83 (dd, 1H, J6a, 6b = 12.3 Hz, J5,6a = 3.5 Hz, H-6a), 4.73 (d, 1H,  Jgem = 11.7 Hz, OCH2), 4.46 (dd, 1H, J5,6b = 2.1 Hz, H-6b), 3.91 (m, 1H, H-5), 3.72 (dd, 1H, J3,4〜J2,3 = 8.8  Hz, H-3), 3.57 (ddd, 1H, J4,5 = 9.5 Hz, H-4), 3.48 (s, 3H, OMe), 3.38 (ddd, 1H, J2,3 = 10.5 Hz, H-2), 3.32 (s, 3H, NMe), 3.31 (s, 3H, NMe), 3.05 (bs, 1H, 4-OH).
実施例3：L-ido形態グリコシル供与体B-1の合成
【０１１４】
【化２５】
2005505565.tif 000026
実施例3：構成ブロックB-1の合成，条件：a) SOP 7, (95%); b) 60% 水性酢酸, 60oC (90%); c) 塩化メタンスルフォニル, ピリジン, 0oC-RT (87 %); d) 酢酸セシウム, Ac2O, 120oC (95%); e) SOP 22, (92%); f) 1. 90% TFA, 0oC; 2. Ac2O, ピリジン; 3. SOP 31, (73%, 3 ステップ); g) SOP 22, (98%); h) SOP 3, (92%); i) SOP 18, (98%); j) 80% 酢酸, 100oC (98%); k) SOP 26, (89%); l) SOP 23, (98%).
B-1-iiiの調製：
B-1-ii（15.60mmol）を60%水性酢酸（50ml）に溶解させ、完了まで60℃にて攪拌した。固体NaHCO3で中和した後、該混合物を蒸発させ、そしてトルエンと共蒸発させた。粗製B-1-iiiをCHCl3/H2Oに溶解し、有機層を分離して、Na2SO4上で乾燥させ、蒸発させた。残った残渣をショートシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、B-1-iiiを90%（4.43g）で得た。
【０１１５】
B-1-ivの調製：
17.72mmolのB-1-iiiを25mlの乾燥ピリジン中に溶解し、これに塩化メシル（mesyl）（塩化メチルスルフォニル，42.5mmol）を、０℃にて滴下した。該混合物を、完了まで4℃にて攪拌し、その後、温水（50℃，90ml）中に注ぎ入れ、そして濾過によって沈殿を分離した。乾燥した後、87%収率（7.23g）でB-1-ivを得た。
【０１１６】
B-1-vの調製：
B-1-iv（6.43mmol）及び酢酸セシウム（64.3mmol）を、25mlの無水酢酸に懸濁し、完了まで125℃にて還流した。該反応混合物をin vacuoにて濃縮し、トルエンと共蒸発し、残渣を酢酸エチル／H2O（1/1）から抽出させた。この有機層を回収し、飽和NaHCO3水溶液及び飽和食塩水で洗浄して、Na2SO4上で乾燥させ、蒸発させた。精製は、シリカゲルクロマトグラフィーによって行われた。収率：2.68g (95%)
B-1-viiの調製：
B-1-vi（5.61mmol）を、水性TFA（90%，15ml）中に溶解させ、完了まで0℃にてさらに攪拌した。該反応混合物を、NaOH水溶液で0℃にて中和し、in vacuoにて濃縮及び乾燥した。この残渣を90mlのアセチル化混合物（ピリジン/無水酢酸=2/1）及び50mlジクロロメタン中に0℃にて懸濁し、そして完了までさらに攪拌した。in vacuoでの濃縮及びトルエンとの共蒸発の後、該残渣を、酢酸エチル/H2O（1/1）中に溶解し、この有機層を回収し、そして10%クエン酸水溶液、飽和NaHCO3水溶液及び食塩水で洗浄して、Na2SO4上で乾燥させ、蒸発させた。この粗製残渣及びp-チオクレゾール（6.0mmol）を、40mlの無水ジクロロメタン中に溶解させ、そして0℃まで冷却し、BF3xOEt2（8.41mmol）と反応させ、そして室温（rt）にて完了までさらに攪拌した。この反応を、飽和NaHCO3溶液で停止し、この有機層を水で洗浄して、Na2SO4上で乾燥させ、そして蒸発させた。シリカゲルクロマトグラフィーによって最終精製を行い、３ステップ全体で73%でB-1-viiを生成した。
【０１１７】
B-1-xiの調製：
B-1-x（8.0mmol）を80%水性AcOHに溶解し、完了まで100℃にて加熱した。該混合物を、室温まで冷却し、固体NaHCO3で中和し、そして酢酸エチル/水（1/1）中に溶解させた。この水層の除去の後、有機層をMgSO4上で乾燥させ、そして蒸発乾固し、B-1-xiを98%収率で提供した。
【０１１８】
化合物Ｂ−１：
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 8.07 (d, 2H, アリール), 7.57-7.30 (m, 10H, アリール), 7.10 (d, 2 H, アリール), 6.88-6.81 (m, 4H, Mp), 5.55 (d, 1H, J1,2 < 1.5 Hz,H-1β), 5.45 (m, 1H, H-2), 5.26 (ddd, 1H, H-5), 5.13 (m, 1H, H-4), 4.91 (d, 1H, Jgem = 12.1 Hz, OCH2), 4.78 (d, 1H, Jgem = 12.1 Hz, OCH2), 4.16 (dd, 1H, Jgem = 9.6 Hz, J5,6a = 7.6 Hz, H-6a), 4.08 (dd, 1H, J5,6b = 5.2 Hz, H-6b), 3.93 (m, 1H, H-3), 3.77 (s, 3H, OCH3), 2.58-2.36 (m, 4H, (CH2)2 Lev), 2.32 (s, 3H, SCH3), 2.05 (s, 3H, CH3C=O).
実施例4：グリコシル供与体B-２の合成
【０１１９】
【化２６】
2005505565.tif 000027
実施例4：L-ido形態グリコシル供与体B-２の合成;a) SOP 2; b) SOP 18; c) SOP 5; d) SOP 23.
実施例5：構成ブロックC-1，C-1a及びC-1bの合成
【０１２０】
【化２７】
2005505565.tif 000028
実施例5：構成ブロックC-1，C-1a及びC-1bの合成，条件: a) SOP 19; b) SOP 13, (78 %, 2 ステップ); c) SOP 8, (91 %); d) SOP 22; e) SOP 2, (85%, C-1-viについて２ステップ ); f)  SOP 18; g) SOP 5, (75 %, C-1について２ステップ).
C-1-iiaの調製：
0℃にてピリジン (50ml)中のメチル2-アジド-2-デオキシ-1-チオ-β-D-グルコピラノシド (10g, 42.55 mmol) に無水酢酸(20g)を加え、そして該反応物を１時間攪拌した。 この反応混合物を、蒸発乾固させ、この残渣を抽出して標記のトリアセテート (15.23g, 定量的)，Rf=0.7 (CHCl3/石油エーテル，1:1)を与えた。
【０１２１】
C-1-iiiの調製：
湿アセトン（wet acetone）（200ml）中のメチル3,4,6-トリ-O-アセチル-2-アジド-2-デオキシ-1-チオ-β-D-グルコピラノシド溶液にNBS (3当量)を加えた。その結果生じた混合物を、２時間攪拌させた。その後、この混合物をクエンチし、濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーによって精製して標記のヘミアセタールをオイル（oil） (10.1g, 78%), Rf = 0.5 (EtOAc/石油エーテル，1:1)として与えた。
【０１２２】
C-1-viの調製：
アセトニトリル/DMF (200ml, 5:3) 中の2-アジド-2-デオキシ-β-D-グルコピラノシルtert-ブチルジフェニルシラン(5.5g,12.42 mmol)、4-メトキシベンズアルデヒドジメチルアセタール(4.4g, 24mmol)及び 4-トルエンスルフォン酸 (100mg,)の混合物を、60℃にて１時間加熱した。その後、この反応混合物を中和及び蒸発して、オイルとして粗製化合物を与えた。この残渣を、シリカゲルクロマトグラフィーによって精製して収率(6.7g, 96%, C-1-ivから85%); Rf = 0.8 (ジクロロメタン/石油エーテル; 10:2)を与えた。
【０１２３】
C-1-viiの調製：
DMAP (1.63, 13.6mmol)及び塩化ベンゾイル(1.7g, 12.1mmol) の混合物、ならびに1,2-ジクロロエタン(100ml)中の2-アジド-2-デオキシ-4,6-O-(4-メトキシベンジリデン)-β-D-グルコピラノシル tert-ブチルジフェニルシラン (6.7g, 11.9mmol)を、60℃にて１時間、攪拌した。この反応混合物をクエンチし、抽出し、洗浄及び濃縮して粗製残渣を与えた。該残渣を、シリカのプラグに通して、生成物(5.5g, 69%); Rf = 0.7 (ジクロロメタン／石油エーテル; 4:1)を与えた。
【０１２４】
C-1の調製:
0℃にて2-アジド-2-デオキシ-3-O-ベンゾイル-4,6-O-(4-メトキシベンジリデン)-β-D-グルコピラノシルtert-ブチルジフェニルシラン (10g, 15mmol)、ソディウムシアノボロハイドライド(5g, 80mmol) 及び DMF(200ml)中のモレキュラーシーブの混合物に、0℃でトリフルオロ酢酸(28g, 247mmol) を加え、そしてその後、室温にて終夜反応させた。。この反応混合物をクエンチし、濾過及び濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィーによって精製して、標記の化合物(7.0g, 70% ), Rf = 0.4 (酢酸エチル／石油エーテル, 3:7)を与えた。
【０１２５】
化合物 C-1：
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 8.08 (d, 2 H, アリール), 7.72 (m, 4 H, アリール), 7.59 (m, 1 H, アリール), 7.47 (m, 3 H, アリール), 7.42 (m, 2 H, アリール), 7.34 (m, 3 H, アリール), 7.13 (d, 2 H, Mpm) 6.83 (d, 2H, Mpm), 4.96 (dd, 1 H,  J2,3〜J3,4 = 9.7 Hz, H-3), 4.53 (d, 1 H, J1,2 = 7.6 Hz, H-1β), 4.37 (2d, 2 H, OCH2), 3.83 (ddd, 1 H, H-4), 3.79 (s, 3 H, OCH3), 3.65 (dd, 1 H, H-2), 3.53 (dd, 1 H, Jgem = 10.8 Hz, J5,6a = 4.1 Hz, H-6a), 3.46 (dd, 1 H, J5,6b = 4.1 Hz, H-6b), 3.12 (m, 1 H, H-5), 3.02 (d, 1 H, J4,OH = 3.5 Hz, 4-OH), 1.12 (s, 9 H, C(CH3)3).
実施例6：構成ブロックC-2の合成：
【０１２６】
【化２８】
2005505565.tif 000029
実施例６：構成ブロックC-2の合成，条件：a) SOP 1, (R=Smeについて90%); b) SOP 18, (R=Smeについて87%); c)  SOP 4, p-TosOH, MeOH, CH3CN (R=Smeについて86%); d)  SOP 17, (R=Smeについて92%); e) SOP 13, (94%); f)  SOP 8, (82%).
化合物C-２
1H-NMR (400 MHz, CDCl3): δ= 8.09 (d, 2 H, アリール), 7.97 (d, 2 H, アリール), 7.72 (m, 4 H, アリール), 7.60 (m, 1 H, アリール), 7.50-7.27 (m, 11 H, アリール), 4.98 (dd, 1 H, J2,3〜J3,4 = 9.7 Hz, H-3), 4.58 (d, 1 H, J1,2 = 7.8 Hz, H-1β), 4.51 (dd, 1 H, Jgem = 11.3 Hz, J5,6a = 4.7 Hz, H-6a), 4.36 (dd, 1 H, J5,6b = 2.2 Hz, H-6b), 3.72-3.68 (m, 2 H, H-2, H-4), 3.31 (m, 1 H, H-5), 3.23 (d, 1 H, J4,OH = 4.5 Hz, 4-OH), 1.13 (s, 9 H, C(CH3)3).
実施例7：6-Oベンゾイル又は6-O-p-メトキシベンジル保護を含む、数個のカルバモイル化構成ブロックC-3aからC-3ｄ及びC4aからC-4dの合成
【０１２７】
【化２９】
2005505565.tif 000030
実施例7：6-Oベンゾイル又は6-O-p-メトキシベンジル保護を含む、数個のカルバモイル化構成ブロックC-3aからC-3ｄ及びC4aからC-4dの合成，条件： a) R = MeO: SOP 2; R = H: SOP 1, (82 %, R1 = SCres, R = H); b) SOP 30, (87 %, R1 = SCres, R = H); c)  SOP 29, (95 %, R1 = Scres, R = H); d)  SOP 4, (72 %, R1 = SCres); e)  SOP 17, (85 %); f) SOP 5.
化合物C-3a：
1H-NMR (400 MHz, CDCl3): δ= 8.06 (d, 2 H, アリール),  7.62 (m, 1 H, アリール), 7.48 (t, 2 H, アリール), 7.38 (d, 2 H, アリール), 6.97 (d, 2 H, アリール), 5.06 (bs, 1H, NH), 4.79 (dd, 1H, Jgem = 12.0 Hz, J5,6a= 3.6 Hz, H-6a), 4.70 (d, 1H, J1,2 = 9.2 Hz, H-1β), 4.63 (dd, 1H,  J5,6b = 2.0 Hz, H-6b), 4.18 (dd, 1H, J2,3〜J3,4 = 10.4 Hz, H-3), 3.89 (dd, 1H, J4,5 = 9.2 Hz, H-4), 3.72 (m, 1H, H-5), 3.23 (ddd, 1H, H-2), 3.12 (bs, 1H, 4-OH), 2.29 (s, 3H, SCH3).
実施例8：数個の6-OMp及び環式2，3-カルバモイルで保護された構成ブロックC-5aからC-5cの合成
【０１２８】
【化３０】
2005505565.tif 000031
実施例8：数個の6-OMp及び環式2，3-カルバモイルで保護された構成ブロックC-5aからC-5cの合成，条件：a) SOP 18, (R1 = OTBDPSについて92 %); b) SOP 4, (82 %); c) SOP 26, (R1 = OTBDPSについて75 % ); d) SOP 30, (87 %); e)  SOP 29, (95 %).
化合物C-5c
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ = 7.69 (m, 2 H, アリール), 7.63 (m, 2H, アリール), 7.46-7.31 (m, 6H, アリール), 6.82 (bs, 4H, Mp), 5.04 ( bs, 1H, NH), 4.78 (d, 1H, J1,2 = 7.6 Hz, H-1β), 4.15-4.10 (m, 3H, Hは帰属されていない（not assigned）), 3.97 (dd, 1H, J =11.6 Hz, J = 9.6 Hz, H  帰属されていない), 3.78 (s, 3H, OMe),  3.56 (m, 1H, H  帰属されていない), 3.48 (m, 1H, H  帰属されていない), 2.80 (bs, 1H, 4-OH), 1.08 (s, 9H, C-(CH3)3).
実施例9：構成ブロックC-6-a及びC-6-bならびにC-7の合成
【０１２９】
【化３１】
2005505565.tif 000032
実施例9：構成ブロックC-6-a及びC-6-bならびにC-7の合成，条件；a) SOP 12, (83 %); b) SOP 7; c) SOP 5, (75 %, 2ステップ); d) SOP 14 ( 82 %); e) SOP 8 (91 %).
化合物C-6-a：
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 7.43 (d, 2 H,アリ−ル), 7.25 (m, 4 H, アリール), 7.08 (d, 2 H, アリ−ル), 6.88 (m, 4 H,アリ−ル), 4.81 (d, 1 H, Jgem = 10.8 Hz, OCH2), 4.74 (d, 1 H, Jgem = 10.8 Hz, OCH2), 4.53 (d, 1 H, Jgem = 11.1 Hz, OCH2), 4.48 (d, 1 H, Jgem = 10.8 Hz, OCH2), 4.35 (d, 1 H, J1,2 = 10.0 Hz, H-1β), 3.82 (s, 3 H, OCH3), 3.79 (s, 3 H, OCH3), 3.76 (dd, 1 H, Jgem = 10.5 Hz, J5,6a = 5.4 Hz, H-6a), 3.70 (dd, 1 H, J5,6b = 5.4 Hz, H-6b), 3.56 (ddd, 1 H, H-4), 3.42 (m, 1 H, H-5), 3.34 (dd, 1 H, J3,4 =  8.8 Hz, H-3), 3.24 (dd, 1 H,  J2,3 = 9.4 Hz, H-2), 2.72 (d, 1 H, J4,OH = 3.5 Hz, 4-OH), 2.38 (s, 3 H, SCH3).
化合物C-7：
1H-NMR (400 MHz, CDCl3): 7.63 (d, 4 H, アリ−ル), 7.35-7.21 (m, 8H, アリ−ル), 7.08 (m, 2 H, アリ−ル), 6.83-6.78 (m, 4 H, アリ−ル), 4.72 (d, 1H, Jgem = 11.0 Hz, OCH2), 4.59 (d, 1H, Jgem = 11.0 Hz, OCH2), 4.29 (d, 1 H, J1,2 = 7.8 Hz, H-1β), 4.27 (d, 1H, Jgem = 11.7 Hz, OCH2), 4.21 (d, 1H, Jgem = 11.7 Hz, OCH2), 3.72 (s, 3 H, OCH3), 3.71 (s, 3 H, OCH3), 3.51 (ddd, 1 H, J3,4〜J4,5 = 8.6 Hz, H-4), 3.40-3.32 (m, 3 H, H-6a, H-6b, H-2), 3.05 (dd, 1 H,  J2,3 = 9.8 Hz, H-3), 2.90 (m, 1 H, H-5), 2.51 (d, 1 H, J4,OH = 2.2 Hz, 4-OH), 1.12 (s, 9 H, C(CH3)3).
実施例10：構成ブロックC-8aからC-8cの合成
【０１３０】
【化３２】
2005505565.tif 000033
実施例10：構成ブロックC-8aからC-8cの合成，条件：a) SOP 7, AllBr, DMF (65 %, R=OTBDPS); b) SOP 4, (86 %, R=OTBDPS); c) SOP 26, (70 %, R=OTBDPS); d) SOP-30; e) SOP 12, (70 %, R=OTBDPSについて２ステップ).
化合物C-8c：
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 7.72 (m, 4 H, アリール), 7.43-7.16 (m, 6 H,アリール), 6.76 (m, 4H, Mp), 5.96 (m, 1 H, =CHアリル), 5.31 (m, 1 H, =CHアリル), 5.22 (m, 1 H, =CHアリル), 4.42 (d, 1 H, J1,2 = 7.6 Hz, H-1β), 4.39 (m, 1 H, OCH2 アリル), 4.23 (m, 1 H, OCH2アリル), 3.97 (dd, 1 H, Jgem = 10.0 Hz, J5,6a = 3.6 Hz, H-6a), 3.92 (dd, 1 H, J5,6b = 5.2 Hz, H-6b), 3.77 (s, 3 H, OCH3), 3.66 (ddd, 1 H, J4,5〜J3,4 = 9.4 Hz, H-4), 3.42 ( dd, 1 H, J = 9.8 Hz 及びJ = 7.8 Hz, H  帰属されていない), 3.22 (m, 1 H, H-5), 3.09 (dd, 1 H, J = 8.4 Hz及びJ = 9.6 Hz, H 帰属されていない), 2.48 (d, 1 H, J4,OH = 2.8 Hz, 4-OH), 1.12 (s, 9 H, C(CH3)3).
実施例11：構成ブロックD-1の合成：
【０１３１】
【化３３】
2005505565.tif 000034
実施例11：構成ブロックD-1の合成；a) SOP 1, (95 %); b)  SOP 7, (85 %); c) SOP 13, (92 %); d)  SOP 8; e)  SOP 4, (70 %, 2ステップ); f) 1. SOP 15; 2.  SOP 16, (75 %, 2 ステップ).
化合物D-1：
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 7.72 (m, 4 H,アリール), 7.41 (m, 2 H,アリール7.32−7.25 (m, 14 H,アリール), 5.04 (d, 1 H, Jgem = 11.0 Hz, OCH2), 4.81 (m, 3 H, OCH2), 4.63 (d, 1 H, J1,2 = 7.4 Hz, H-1β), 3.88 (ddd, 1 H, J3,4〜J4,5 = 9.2 Hz, H-4), 3.70 (s, 3 H, OCH3), 3.53 (dd, 1H, J = 7.5 Hz, J = 9.0 Hz, H 帰属されていない), 3.47 (d, 1 H, J4,5 = 9.8 Hz, H-5), 3.42 (dd, 1 H, J = 8.9 Hz and J = 8.9 Hz, H 帰属されていない), 2.87 (d, 1 H, J4,OH = 2.4 Hz, 4-OH), 1.11 (s, 9 H, C(CH3)3).
実施例12：構成ブロックD-2、2-O-アリルオキシカルボニルで保護されたチオエチルグリコシドの合成
【０１３２】
【化３４】
2005505565.tif 000035
実施例12：構成ブロックD-2の合成，条件：a) 1. SOP 22; 2. SOP 1; b)  SOP 7; c) 1. SOP 4; 2. TritCl, ピリジン, (ClCH2)2; 3.  SOP 23; d) 1. CrO3, H2SO4,アセトン, 0℃, 2. SOP 16; e) 1. ジメチルジオキシラン, アセトン; 2. EtSH, TFAA, CH2Cl2, 3. SOP 35.
実施例13：構成ブロックD-3の合成
【０１３３】
【化３５】
2005505565.tif 000036
実施例13：構成ブロックD-3の合成，条件：a)  1.  SOP 4, Amberlite IR 120（登録商標）, H2O, 80℃; 2. SOP 18, (85 %, 2 ステップ) b) 1. SOP 21; 2. SOP 8, ( 70 %, 2ステップ); c) SOP 22, (96 %); d) 1. SOP 15; 2. SOP 16, (80 %, 2 ステップ); e)  SOP 23, (92 %); f)  SOP 9, (95 %); g) SOP 25a, (91 %).
D-3-iの調製，ステップ１：
出発材料（57mmol）及びAmberlite IR120（登録商標）イオン(iron)交換樹脂（H+−型，20g）を水（180ml）に懸濁し、完了まで80℃にて攪拌した。このイオン(iron)交換樹脂を濾過によって除去し、そして水で抽出した。この混合された水層を、トリエチルアミンで中和し、そして凍結乾燥した。
【０１３４】
化合物D-3-v：
1H-NMR (400 MHz, CDCl3): δ= 7.95 (m, 2 H,アリール), 7.68 (m, 2 H,アリール), 7.58−7.12 (m, 16 H,アリール), 5.47 (dd, J1,2 = 7.6 Hz, J2,3 = 9.6 Hz, H-2), 5.31 (dd, J3,4 = 9.6 Hz, H-4), 4.64 (d, 1H, 7.6 Hz, H-1β), 4.60 (d, 1H, Jgem = 12.0 Hz, OCH2), 4.55 (d, 1H, Jgem = 12.0 Hz, OCH2), 3.74 (dd, 1H, H-3), 3.70 (s, 3H, OCH3), 3.63 (d, 1H, J4,5 = 9.6 Hz, H-5), 2.68−2.16 (m, 4H, (CH2)2-Lev), 2.15 (s, 3H, CH3), 0.96 (s, 9H, C(CH3)3).
実施例14：共通の中間産物、4-O-レブリノイルグルカールからのブロックD供与体糖D-4からD-7の範囲（range）の合成
【０１３５】
【化３６】
2005505565.tif 000037
実施例14：供与体糖としてのD-4からD-7の合成，条件：a) 1ジメチルジオキシラン, アセトン; 2. TBAF, THF; 3. SOP 35; b) 1. ジメチルジオキシラン, アセトン; 2. 4-ペンテン-1-オール, ZnCl2, CH2Cl2; 3. SOP 35; c) 1. ジメチルジオキシラン, アセトン; 2. ArSH, TFAA, CH2Cl2, (Ar = Ph, p-Tol); 3. SOP 35 又は(ClAc)2O, ピリジン, CH2Cl2 (D-6b用); d) MCPBA, CH2Cl2 ( 基質としてのD-6bについて).
実施例15：構成ブロックE-1からE-4の合成
【０１３６】
【化３７】
2005505565.tif 000038
実施例15：構成ブロックE-1からE-4の合成，条件：a) SOP 8; b) SOP 7; c) SOP 9, (84% 3ステップ全体, R=SMe); d) SOP 18, (86%, R=SMe); e) 1.  SOP 13, (75%, 出発材料としてのE-1-iv-aについて); 2.  SOP 25b, (88%); f) 1. TosCl,ピリジン; 2. p-MeO-C6H4-ONa, NMP, 60℃; g)  SOP 7, (78 %, R=SMe); h) 1. SOP 14; 2. SOP 25b, (79 %, 2 ステップ, R=SMe).
E-1-i-aの調製：
20 mL DMF中のメチル2-アジド-2-デオキシ-チオ-β-D-グルコピラノシド(10g, 42.5mmol) 及びイミダゾール(4.9g, 72.25 mmol)の混合物を、tert-ブチルジフェニルクロロシラン(11.6mL, 44.63mmol)で2時間処理した。該反応混合物を濃縮、抽出、洗浄及び乾燥した。収率：23g (粗製淡黄色シロップ), Rf = 0.74 (CHCl3/メタノール = 9/1).
E-1-ii-aの調製：
50 mL DMFにおける前のステップ（the previous step）からのシリルエーテルを、 2.68g の95% NaH (106.25 mmol) 及び12.64 mL (106.25 mmol) の臭化ベンジルで、0℃にて処理した。1時間後、過剰の NaH をクエンチし、そして該反応物を濃縮、抽出、洗浄及び濃縮して、収率：28.5g (粗製黄色シロップ), Rf = 0.80 (ヘキサン／酢酸エチル =7/3)の黄色シロップを与えた。
【０１３７】
E-1-iii-aの調製：
上記反応からの粗製黄色シロップを、36.5 mL のAcOH及び106.3 mL (106.25 mmol)のTHF中TBAFの1M溶液で、一晩処理した。この反応物を濃縮し、クロマトグラフィーで精製して標記化合物を与えた。14.9g (84%, 3ステップ)  Rf= 0.36 (ペトロリウムスピリット／酢酸エチル = 7/3)
E-1-iv-aの調製：
ジクロロメタン (200 ml) 及び無水ピリジン (8.6 ml, 106.2 mmol)中のメチル2-アジド-2,3 ジ-O-ベンジル-2-デオキシ-チオ-β-D-グルコピラノシド(14.5 g, 34.9 mmol) を、塩化ベンゾイル(4.93 ml, 42.5 mmol)で0℃にて1時間処理した。この反応混合物をクエンチ、抽出、洗浄及び蒸発させた。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製して、白色固体として標記化合物を与えた。収率: 14.9 g (86 %), Rf = 0.82 (ペトロリウムスピリット／酢酸エチル= 7/3).
E-1の調製：
アセトン(50 ml)中のメチル2-アジド-6-O-ベンゾイル-2,3ジ-O-ベンジル-2-デオキシ-チオ-□-D-グルコピラノシド (8.68 g, 16.7 mmol) を、Ｎ-ブロモスクシンイミド(8.92 g, 50.12 mmol) で0℃にて1時間処理した。その後、この反応混合物をクエンチし、抽出し、洗浄し、そして蒸発させて、クロマトグラフィーによって精製された黄色シロップを提供した。収率： 6.13 g (75%), Rf = 0.57 (ペトロリウムスピリット／酢酸エチル = 7/3)。30 mlのジクロロメタン中の2-アジド-6-O-ベンゾイル-2,3ジ-O-ベンジル- 2-デオキシ-α/β-D-グルコピラノース(5g, 10.2 mmol), K2CO3 (7.0 g, 51 mmol) 及びトリクロロアセトニトリル (5.1ml, 51 mmol)の冷却混合物を２時間攪拌した。その後、該混合物を、セライト（登録商標）に通して濾過し、そしてこの濾液を濃縮及びシリカゲルのショートカラム上で精製して、アモルファスの白色固体として標記化合物を得た。収率5.69 g (88%), Rf = 0.85 (ペトロリウムスピリット／酢酸エチル= 7/3)。
【０１３８】
化合物 E-1:
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 8.73 (s, 1 H, C=NH), 8.00 (m, 2 H, アリール), 7.56 (m, 1 Hアリール), 7.43-7.25 (m, 12 H, アリール), 5.66 (d, 1H, J = 8.4 Hz, H-1β), 4.95 (d, 1H, Jgem = 10.8 Hz, OCH2), 4.87 (d, 2H, J = 10.8 Hz , OCH2), 4.62 (d, 2H, Jgem = 10.8 Hz, OCH2), 4.58 (dd, 1H, Jgem= 12.4 Hz, J5,6a = 2.0 Hz, H-6a), 4.46 (dd, 1H, J5,6b = 3.6 Hz, H-6b), 3.77-3.72 (m, 3H, H-5, 2H 帰属されていない), 3.62 (dd, 1H, J = 8.3 Hz, J = 9.7 Hz, H 帰属されていない).
化合物 E-2：
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 8.70 (s, 1 H, C=NH), 7.38-7.22 (m, 10H, アリール), 7.13 (m, 2H, アリール), 6.83 (d, 2H, Mpm), 6.44 (d, 1H, J1,2 = 3.5 Hz, H-1α), 4.93 (d, 1H, Jgem = 10.5 Hz, OCH2), 4.89 (d, 1H, Jgem = 10.5 Hz, OCH2), 4.78 (d, 1H, Jgem = 10.5 Hz, OCH2), 4.57 (d, 1H, Jgem = 11.7 Hz, OCH2), 4.51 (d, 1H, Jgem = 11.7 Hz, OCH2), 4.39 (d, 1H, Jgem = 11.7 Hz, OCH2), 4.02 (dd, 1H, J3,4〜J2,3 = 9.5 Hz, H-3), 3.98 (m, 1H, H-5), 3.86 (dd, 1H, J4,5 = 9.6 Hz, H-4), 3.76 (dd, 1H, H-2), 3.75 (s, 3H, OCH3), 3.69 (dd, 1H, J5,6a = 3.5 Hz, Jgem = 10.5 Hz, H-6a), 3.63 (dd, 1H, J5,6b = 1.8 Hz, H-6b).
実施例16：構成ブロックE-5からE-8の合成
【０１３９】
【化３８】
2005505565.tif 000039
実施例16：構成ブロックE-5からE-8の合成，条件：a)  SOP 6, (85 %, R=SMe); b)  SOP 30, (86 %, R=SMe); c) SOP 10, (88 %, R=SMe); d)  SOP 18, (92 %, R=SMe); e) 1. SOP 13; 2. SOP 25b, (85 %, 2 ステップ, R=SMe); f)  SOP 7; g) 1. SOP 14; 2. SOP 25b; h) 1. TsCl, DMF; 2. p-MeO-C6H4-ONa, NMP, 60℃; i) SOP 8.
化合物E-5
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 10.20 (dd, 1 H, JNH,=C-H = 14.0 Hz, JNH,H-2 = 9.9 Hz, NH), 8.80 (s, 1 H, C=NH), 8.16 (d, 1H, =C-H), 7.99 (m, 2H, アリール) 7.58 (m, 1 H, アリール), 7.45 (m, 2 H, アリール), 7.30-7.17 (m, 10H, アリール), 6.42 (d, 1H, J1,2 = 3.6 Hz, H-1α), 4.89 (d, 1H, Jgem = 8.4 Hz, OCH2), 4.68-4.60 (m, 3H, OCH2), 4.58 (dd, 1H, J5,6a = 2.0 Hz, Jgem = 12.4 Hz, H-6a), 4.51 (dd, 1 H, J5,6b = 4.0 Hz, H-6b), 4.22 (m, 1 H, H-5), 4.03 (dd, 1 H, J3,4〜J2,3 = 9.6 Hz, H-3), 3.80 (dd, 1 H, J4,5 = 9.4 Hz, H-4),  3.70 (ddd, 1 H, H-2), 3.32 (s, 3 H, NCH3), 3.25 (s, 3 H, NCH3).
実施例17：二糖B-A-1からB-A-10を含むL-イズロン酸の調製
【０１４０】
【化３９】
2005505565.tif 000040
実施例17：二糖B-A-1からB-A-10を含むL-イズロン酸の調製；a) SOP 32a, (80 %, B-A-1について); b) SOP 27, (88 %, B-A-5について); c) 1.SOP 20; 2. SOP 16, (84% B-A-7について, 2ステップ); d) SOP 24, (94 %, B-A-9について).
二糖B-A-1の形成（ステップa）
A-1（410mg，990μmol）、B-1（680mg，990μmol）及び乾燥CH2Cl2（20nL）中の新たに活性化されたモレキュラーシーブ4Å（1.0g）を、0℃にて90分間攪拌した。N-ヨードスクシンイミド（405mg，1.8mmol）を加え、20分間攪拌し続けた。トリフルオロメタンスルホン酸（１０.6μl，119.7μmol）の添加の後、該反応混合物を、完了まで（0℃から25℃まで）さらに攪拌し、そして、NaHCO3−水溶液（10%）でクエンチした。この混合物をCH2Cl2で希釈し、そしてセライト（登録商標）パッドに通して濾過した。この濾液を10%KHCO3/Na2S2O3溶液、水及び飽和食塩水で洗浄し、MgSO4上で乾燥させ蒸発させた。最終精製は、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって行われた。収率：730mg (80%)
二糖B-A-7の形成（ステップc）
二糖B-A-5（1.00g，1.15mol）を、無水DMF（7.0ml）に溶解し、そして室温にて攪拌させながら、完全にウロン酸に転換されるまでピリジニウムジクロメート（4.33g，11.5mol）と反応させた。この反応混合物を、その後、50mlの水に注ぎ、ジエチルエーテルで全体（whole）を抽出した。この混合されたエーテル層を、10%クエン酸水溶液で洗浄し、ショートシリカゲルパッドを通して濾過し、MgSO4上で乾燥させ、蒸発させて、そして高真空下で乾燥させた。この粗製残渣を、トルエン（3ml）及びメタノール（3ml）中に溶解させ、そしてTMSCHN2溶液（ヘキサン中２M）で完了するまで処理した（titurate）。過剰のTMSCHN2を酢酸の添加によって破壊し、そして該混合物を、蒸発させた。最終精製は、シリカゲルクロマトグラフィーによって行われた。収率：871mg（84%）
化合物B-A-9：
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 8.03 (m, 2H, アリール), 7.91 (m, 2H, アリール),  7.53 (m, 2H, アリール), 7.42-7.23 (m, 14H, アリール), 5.37 (d, 1H, J1,2 < 1.5 Hz, H-1'α), 5.21 (m, 1H, H-2'), 4.97 (d, 1H, J4,5 = 2.3 Hz, H-5'), 4.84 (d, 2H, Jgem = 10.8 Hz, OCH2), 4.81 (d, 1H, Jgem = 10.8 Hz, OCH2), 4.80 (d, 1H, J1,2 = 3.6 Hz, H-1α), 4.77 (1H, J5,6a = 1.8 Hz, H-6a), 4.70 (m, 2H, OCH2), 4.47 (dd, 1H, J5,6b = 4.2 Hz, Jgem = 12.3 Hz, H-6b), 4.05-3.97 (m, 3H, H-4', H-4, H-5), 3.91-3.87 (m, 2H, H-3', H-3), 3.49 (s, 3H, OCH3), 3.44 (m, 1H, H-2), 3.43 (s, 3H, OCH3).
選ばれた13C-NMR (100 MHz, CDCl3):δ= 98.73 C-1 (JCH = 172.5 Hz), 98.35 C-1' (JCH = 171.8 Hz).
実施例18：構成ブロックE-D-1からE-D-12の合成
【０１４１】
【化４０】
2005505565.tif 000041
実施例18：二糖E-D-1からE-D-12の合成，条件：a) X =SMe/ ScresについてSOP 32 a/b又はX = OTCAについてSOP 33, (E-D-1 からE-1について86 %, E-D-4 からE-5について,α/β混合物として84%), b) 1. SOP 9; 2. SOP 25a, (E-D-7について２ステップ全体で90 %).
E-D-1の調製：メチル (2-アジド-6-O-ベンゾイル-3,4-ジ-O-ベンジル-2-デオキシ-α-D-グルコピラノシル)-(1→4)-tert-ブチルジフェニルシリル2,3-ジ-O-ベンジル-β-D-グルコピラノシド)ウロン酸
2-アジド-6-O-ベンゾイル-2,3ジ-O-ベンジル-2-デオキシ-α/β-D-グルコピラノシル トリクロロアセミデート（trichloroacemidate） (2.5 g, 3.94 mmol)及びメチル(tert-ブチルジフェニルシリル2,3-ジ-O-ベンジル-β-D-グルコピラノシド)ウロネート(1.6 g, 2.629 mmol)及び50 ml ジエチルエーテル中のモレキュラーシーブ4A (2.5 g) の混合物を、TBDMSOTf (180 (l, 788.76 (mol) で-20℃ にて１時間処理した。この反応物を、クエンチし、濾過し、濃縮して、そしてその残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、所望の二糖2.48g、86%を得た。Rf= 0.67 (トルエン／酢酸エチル 9/1)
化合物 E-D-1：
E-D-1 を、-30oCで溶媒としてのエーテルおよび促進剤としてのTBDMSOTfを用いてSOP 33に従い86 %収率(α/β−混合物)で形成した。
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 8.00 (m, 2H, アリール), 7.68 (m, 4H, アリール), 7.56 (m, 1H, アリール), 7.42 (m, 4H, アリール), 7.36-7.17 (m, 24H, アリール), 5.47 (d, 1H, J1,2 = 3.8 Hz, H-1'α), 5.02 (d, 1H, Jgem = 11.4 Hz, OCH2), 4.97 (d, 1H, Jgem = 11.0 Hz, OCH2), 4.84 (m, 4H, OCH2), 4.75  (d, 1H, Jgem = 11.4 Hz, OCH2), 4.66 (d, 1H, J1,2 = 7.5 Hz, H-1β),  4.57 (d, 1H, Jgem = 10.9 Hz, OCH2), 4.45 (m, 2H, H-6'a, H-6'b), 4.15 (dd, J = 8.8 Hz and J = 9.6 Hz), 3.86 (m, 1H), 3.65 (s, 3H, OCH3, 3.68-3.58 (m, 3H), 3.55 (d, 1H, J4,5 = 10.0 Hz, H-5), 3.31 (dd, 1H, J2,3 = 10.2 Hz, H-2'),  1.12 (s, 9H, C(CH3)3).
化合物E-D-4：
E-D-4を、-30oCで溶媒としてのエーテルおよび促進剤としてのTBDMSOTfを用いてSOP 33に従い84 %収率(α/β−混合物)で形成した。
選ばれた1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 10.02 (dd, 1 H, JNH,=C-H = 14.4 Hz, JNH,H-2 = 9.6 Hz, N-H), 8.02 (m, 2 H, アリール), 7.79 (d, 1H, =C-H), 7.72-6.93 (m, 33 H, アリール), 5.60 (d, 1H, J1,2 = 3.6 Hz, H-1'α), 4.49 (d, 1H, J1,2 = 7.8 Hz, H-1β), 3.66 (s, 3 H, OCH3), 3.29 (s, 3 H, NCH3), 3.28 (s, 3 H, NCH3), 1.14 (s, 9 H, C(CH3)3).
E-D-7の調製： メチル(2-アジド-6-O-ベンゾイル-3,4-ジ-O-ベンジル-2-デオキシ-α-D-グルコピラノシル)-(1→4)-2,3-ジ-O-ベンジル-β-D-グルコピラノシルトリクロロアセトイミジル)ウロネート
酢酸 (1.74 ml, 30.45 mmol) 中のメチル(2-アジド-6-O-ベンゾイル-3,4-ジ-O-ベンジル-2-デオキシ-α-D-グルコピラノシル)-(1→4)-tert-ブチルジフェニルシリル2,3-ジ-O-ベンジル-β-D-グルコピラノシド)ウロネート(2.09 g, 1.903 mmol)溶液及びテトラブチルアンモニウムフルオライドの1M溶液(7.6 ml, 7.61 mmol)を、室温にて一晩攪拌した。この反応混合物を、その後、濃縮し、そしてその残留シロップをシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、所望のヘミアセタールを得た。収率： 1.57 g (95.8%), Rf= 0.21 (トルエン/酢酸エチル 9/1).
メチル(2-アジド-6-O-ベンゾイル-3,4-ジ-O-ベンジル-2-デオキシ-α-D-グルコピラノシル)-(1→4)-2,3-ジ-O-ベンジル-β-D-グルコピラノシル)ウロネート(594 mg, 690.76 (mol)、トリクロロアセトニトリル(280 (l, 2.79 mmol) 及びDBU (31 (l, 209.3 (mol) の8.0 mlジクロロメタン中の混合物を、0℃にて1時間攪拌した。該混合物をその後濃縮し、ショートカラムシリカゲル上で精製して標記化合物をアモルファスの白色固体として得た。収率： 662 mg (95.3 %), Rf= 0.46 (トルエン/酢酸エチル 9/1).
化合物E-D-7：
選ばれた1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 8.68 (s, 1H, C=NH), 8.00 (m, 2H, アリール), 7.56 (m, 2H, アリール), 7.43-7.23 (m, 22H, アリール), 6.48 (d, 1H, J1,2 = 4.3 Hz, H-1α), 5.59 (d, 1H, J1,2 = 3.6 Hz, H-1'α), 5.03 (1H, Jgem = 10.8 Hz, OCH2), 4.93-4.83 (m, 4H, OCH2), 4.70 (d, 1H, Jgem= 12.0 Hz, OCH2), 4.64  (d, 1H, Jgem = 12.0 Hz, OCH2), 4.60 (d, 1H, Jgem= 11.2 Hz, OCH2),  4.47 (m, 2H, H-6'a, H-6'b), 4.42 (m, 1H, 帰属されていない), 4.15 (m, 2H, 帰属されていない), 3.97 (dd, 1H, J = 8.2 Hz and  J = 10.2 Hz, 帰属されていない), 3.80 (m, 1H, 帰属されていない), 3.76 (m, 3H, OCH3), 3.72-3.64 (m, 2H, 帰属されていない), 3.30 (dd, 1H, J2,3 = 10.4 Hz, H-2').
実施例19：二糖E-D-13からE-D-44の合成
【０１４２】
【化４１】
2005505565.tif 000042
実施例19：二糖E-D-13からE-D-44の合成，条件：a) a/bX = SMe/ ScresについてSOP 32 a/b又はX = OTCAについてSOP 33 (E-D-23について70 %, α/β混合物); b) 1. SOP 9; 2. SOP 25a.
化合物E-D-27:
E-D-27 を、-20oCで溶媒としてエーテル及び促進剤(promotor)としてTBDMSOTfを用いてSOP 33に従い70%収率（α/β−混合物）形成した。
選ばれた1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 7.58 (m, 2H, アリール), 7.54 (m, 2H, アリール), 7.36−7.00 (m, 23 H, アリール), 6.73 (m, 2H, アリール), 5.37 (d, 1H, J1,2 = 3.9 Hz, H-1'α),  5.12 (dd, 1H, J2,3 = 8.8 Hz, H-2), 4.63 (d, 1H, Jgem = 11.2 Hz, OCH2),  4.58 (d, 1H, Jgem = 11.2 Hz, OCH2), 4.48 (d, 1H, J1,2 = 7.3 Hz, H-1β), 3.66 (s, 3 H,  OCH3), 3.55 (s, 3 H, OCH3), 3.34 (m, 1H), 3.22 (dd, 1H, J = 3.4 Hz, J = 10.7 Hz), 1.81 (s, 3 H, OAc), 0.98 (s, 9H, C(CH3)3).ae
実施例20：代替E-D-二糖E-D-45からE-D-50の合成
【０１４３】
【化４２】
2005505565.tif 000043
実施例20：代替E-D-二糖E-D-45からE-D-50の合成，条件：a) X = SMe/ScresについてSOP 32a/b又はX = OTCAについて SOP 33, ジエチルエーテル, TBDMS-OTf, -20℃ (α/β−混合物としてのE-D-45について75 %).
実施例21：三糖E-D-C-1からE-D-C-16の合成
【０１４４】
【化４３】
2005505565.tif 000044
実施例21：三糖E-D-C-1からE-D-C-16の合成，条件：a) SOP 33, (α/β混合物としてE-D-C 15について70 %).
化合物E-D-C-15：
E-D-C-15を、0から20oCにおける溶媒としてのジクロロメタン及び促進剤としてのTBDMSOTfを用いてSOP 33に従い及び70 % 収率 (α/β−混合物)で形成した。
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 7.93 (m, 2H, アリール), 7.87 (m, 2H, アリール), 7.66 (m, 2H, アリール), 7.61 (m, 2H, アリール), 7.46 (m, 2H, アリール), 7.38-6.99 (m, 32 H, アリール), 6.79 (m, 2H, アリール), 5.27 (d, 1 H, J1,2 = 3.8 Hz, H-1''α), 4.99 (dd, 1 H, J3,4 ( J2,3 = 9.5 Hz, H-3), 4.80-4.69 (m, 6 H, OCH2), 4.52 (m, 3 H, OCH2), 4.40 (d, 1H, J1,2 = 8.0 Hz, H-1β), 4.38-4.32 (m, 2 H, 帰属されていない), 4.29 (d, 1 H, J1,2 = 7.5 Hz, H-1'β), 4.15 (m, 1 H, Jgem = 12.0 Hz, OCH2), 4.02 (dd, 1 H, J4,5  = 9.6 Hz, H-4), 3.80 (2 dd, 2 H, H-3'', H-4'), 3.71, (s, 3 H, OCH3), 3.67 (m, 1 H, 帰属されていない), 3.61-3.53 (m, 2 H, H-5', H-2'), 3.46 (dd, 1 H, Jgem = 11.2 Hz, J5,6a = 2.4 Hz, H-6a), 3.41 (dd, 1H, J2,3〜J3,4 = 9.0 Hz, H-3'), 3.27 (s, 3 H, OCH3), 3.21 (dd, 1 H, J2,3 = 10.0 Hz, H-2''), 3.14 (dd, 1 H, H-2'), 3.00 (dd, 1 H, J5,6b <2.0 Hz, H-6b), 2.75 (m, 1 H, H-5) 1.05 (s, 9H,C(CH3)3).
実施例22：三糖E-D-C-17からE-D-C-32の合成
【０１４５】
【化４４】
2005505565.tif 000045
実施例22：三糖E-D-C-17からE-D-C-32の合成，条件：a) SOP33
実施例23：三糖トリクロロアセトイミデートE-D-C-33からE-D-C-48の形成
【０１４６】
【化４５】
2005505565.tif 000046
実施例23：三糖トリクロロアセトイミデートE-D-C-33からE-D-C-48の形成，条件：a) 1. SOP 9; 2. SOP 25, (E-D-C-47について２ステップ全体で82%
実施例24：三糖E-D-C-9からE-D-C-12及びE−D-C-49からE-D-C-60の合成
【０１４７】
【化４６】
2005505565.tif 000047
実施例24：三糖E-D-C-9からE-D-C-12及びE−D-C-49からE-D-C-60の合成，条件：a) 1. SOP 33; 2. SOP 24; b) SOP 33. (D-C-5について：70 %, 2 ステップ); b) SOP 33, (α/β混合物としてE-D-C-9について78 %)
化合物D-C-5：
D-C-5 を、-20℃で溶媒としてエーテル及び促進剤としてTMSOTfを用いてSOP 33に従い、次いでSOP 24に従い70 %収率（α/β混合物として２ステップ全体）で形成した。
選ばれた1H-NMR (CDCl3中400 MHz): δ= 7.88 (m, 2H, Ar), 7.67- 7.58 (m,  5H, Ar), 7.42 (m,  2H, Ar), 7.37-7.12 (m, 16H, アリール), 6.84 (m, 3H, Ar), 5.14 (dd, 1H, J1,2 = 8.2 Hz, J2,3 = 9.5Hz,  H-2'), 4.90 (d, 1H, Jgem = 10.7 Hz, OCH2),  4.73 (d, 1H, Jgem = 11.5 Hz, OCH2),  4.65 (d, 1H, J1,2 = 8.2 Hz, H-1'β), 4.63−4.58 (m, 2H, OCH2), 4.51 (d, 1H, Jgem = 12.0 Hz, OCH2),  4.20 (d, 1H, J1,2 = 7.9 Hz, H-1β),  4.05 (d, 1H, Jgem = 11.9 Hz, OCH2), 4.02−3.95 (m, 2H, 帰属されていない),  3.81 (s, 3H, OCH3), 3.80 (s, 3H, OCH3), 3.71 (d, 1H, J4,5 = 9.9 Hz, H-5'), 3.67 (s, 3H, OCH3), 3.47 - 3.40 (m, 3H, 帰属されていない),  3.21 (dd, 1 H, J = 9.0 Hz, J = 9.8 Hz, 帰属されていない), 3.00 (dd, 1 H, J5,6b = 1.4 Hz, Jgem = 10.5 Hz, H-6b), 2.63 (m, 1 H, H-5), 2.35 (bs, 1 H, 4-OH), 1.07  (s, 9H, C(CH3)3).
化合物E-D-C-9：
E-D-C-9を、-20℃で溶媒としてエーテル及び促進剤としてTBDMSOTfを用いてSOP 33に従い、78 %収率(α/β−混合物)で形成した。
選ばれた1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 7.77 (m, 2H, アリール), 7.59, 7.54  (2m, 2 x 2H, アリール), 7.35−7.00 (m, 30 H, アリール), 6.88 (m, 2H, アリール), 6.82 (m, 2H, アリール), 6.73 (m, 2H, アリール), 5.41 (d, 1 H, J1,2 = 3.5 Hz, H-1''α), 5.19 (dd, 1 H, J2,3 ( J1,2 = 9.6 Hz, H-2'), 4.85 - 4.78 (m, 4 H, OCH2), 4.67 (m, 2H, OCH2), 4.65 (d, 1H, J1,2 = 8.5 Hz, H-1β, 帰属されていない), 4.38 (d, 1 H, Jgem = 11.1 Hz, OCH2), 4.29 (d, 1 H, Jgem = 11.7 Hz, OCH2), 4.17 (dd, 1H, 帰属されていない), 4.11 (d, 1H, J1,2 = 7.9 Hz, H-1β帰属されていない), 4.03 (d, 1 H, Jgem = 12.0 Hz, OCH2), 3.90 - 3.76 (m, 3H, 帰属されていない), 3.730, 3.727 (2s, 2 x 3H, OCH3), 3.65 (s, 3H, OCH3), 3.54 (s, 3H, OCH3), 2.89 (dd, 1 H, Jgem = 10.5 Hz, J5,6b < 2.0 Hz, H-6b), 2.52 (m, 1H, H-5), 1.02 (s, 9 H, C(CH3)3).
実施例25：三糖E-D-C-41、E-D-C-42及びE-D-C-61からE-D-C-66の合成
【０１４８】
【化４７】
2005505565.tif 000048
実施例25：三糖E-D-C-41、E-D-C-42及びE-D-C-61からE-D-C-66の合成，条件：a) 1. SOP 39;  2. SOP 38; 3. SOP 16; b) 1. SOP 14; 2. SOP 25a.
実施例26：三糖 E-D-C-61及びE-D-C-63の代替経路
【０１４９】
【化４８】
2005505565.tif 000049
実施例26：三糖 E-D-C-61及びE-D-C-63の代替経路，条件：a) 1. SOP 39; 2. SOP 38; 3. SOP 16; 4. Pd(Ph3P)4, p-TolSO2Na, THF, MeOH; b) SOP 33.
実施例27：ブロックE-D-C-67からE-D-C-70の合成
【０１５０】
【化４９】
2005505565.tif 000050
実施例27：ブロックE-D-C-67からE-D-C-70の合成，条件：a) SOP 33; b) SOP 24; c) SOP 33; d) 1. SOP 36; 2. SOP 37.
実施例28：三糖E-D-C-70及びE-D-C-71の合成
【０１５１】
【化５０】
2005505565.tif 000051
実施例28：三糖E-D-C-70及びE-D-C-71の合成，条件：a) SOP 33, (E-D-C-71について55%,α/β混合物).
化合物E-D-C-71
E-D-C-71 を、40℃で溶媒としてジクロロメタン及び促進剤としてTBDMSOTfを用いSOP 33に従い55 %収率(α/β−混合物として)で形成した。
選ばれた1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 7.91 (m, 2H, アリール), 7.61 (m, 2H, アリール), 7.55 (m, 2H, アリール), 7.50−7.02 (m, 29 H, アリール), 6.65 (m, 4H, Mp), 5.38 (d, 1 H, J1,2 = 3.9 Hz, H-1''α), 5.22 (bs, 1 H, NH), 4.67 (d, 1H, J1,2 = 7.4 Hz, H-1β, 帰属されていない), 4.50 (d, 1H, J1,2 = 7.8 Hz, H-1β, 帰属されていない), 3.92 (d, 1 H, J4,5 = 9.8 Hz, H-5'), 3.698 (s, 3 H, OCH3), 3.693 (s, 3 H, OCH3), 1.03 (s, 9 H, C(CH3)3).
Mfound = 1408.52 (M+H2O)+, Mcalc = 1390.54 (M+).
実施例29：三糖E-D-C-61、E-D-C-72及びE-D-C-73の合成  
【０１５２】
【化５１】
2005505565.tif 000052
実施例29：三糖E-D-C-72〜E-D-C-73及びE-D-C-61の合成，条件a) SOP 33; b) SOP 24; c) SOP 33.
実施例30:三糖C-B-A-1からC-B-A-4の合成
【０１５３】
【化５２】
2005505565.tif 000053
実施例30:三糖C-B-A-1からC-B-A-4の合成，条件：a) SOP 33; b) SOP 32a; c) 1. SOP 27; 2. SOP 20; 3. SOP 16; 4. SOP 24.
実施例31：三糖C-B-A-5からC-B-A-8の合成
【０１５４】
【化５３】
2005505565.tif 000054
実施例31：三糖C-B-A-5からC-B-A-8の合成，条件：a) SOP 33, (C-B-A-5について50%, α/β混合物).
化合物C-B-A-5：
C-B-A-5 を、- 20oCで溶媒としてエーテル及び促進剤としてTBDMSOTfを用いてSOP33に従い50%収率(α/β−混合物として)で形成した。
Mfound = 1269.65 (M+H+H2O)+, Mcalc = 1250.43 (M+).
実施例32：D-C-B三糖D-C-B-1からD-C-B-3の合成
【０１５５】
【化５４】
2005505565.tif 000055
実施例32：D-C-B-三糖D-C-B-1からD-C-B-3の合成，条件：a) 1. SOP 33; 2. SOP 36; 3. SOP 37.
実施例33：D-C-B三糖D-C-B-４からD-C-B-７の合成
【０１５６】
【化５５】
2005505565.tif 000056
実施例33：D-C-B三糖D-C-B-４からD-C-B-７の合成，条件：a) 1. SOP 33; 2. SOP 36; 3. SOP 37.
実施例34：四糖D-C-B-A-1からD-C-B-A-2の合成
【０１５７】
【化５６】
2005505565.tif 000057
実施例34：四糖D-C-B-A-1からD-C-B-A-2の合成，条件：a) SOP 32a; b)1. SOP 36; 2. SOP 37; 3. SOP 24.
実施例35：四糖D-C-B-A-2の代替合成
【０１５８】
【化５７】
2005505565.tif 000058
実施例35：四糖D-C-B-A-2の代替合成，条件：a) 1. SOP 34; 2. SOP 24.
実施例36：四糖D-C-B-A-3からD-C-B-A-8の合成
【０１５９】
【化５８】
2005505565.tif 000059
実施例36：四糖D-C-B-A-3からD-C-B-A-8の合成，条件：a) 1 SOP 32b; 2. SOP 24.
実施例37：四糖E-D-C-B-1からE-D-C-B-4の合成
【０１６０】
【化５９】
2005505565.tif 000060
実施例37：四糖E-D-C-B-1からE-D-C-B-4の合成，条件：a) SOP 33; b) 1. SOP 36; 2. SOP 37.
実施例38：ブロックE-D-C-B-5からE-D-C-B-8の合成
【０１６１】
【化６０】
2005505565.tif 000061
実施例38：ブロックE-D-C-B-5からE-D-C-B-8の合成，条件：a) SOP 33; b) 1. SOP 36; 2. SOP 37.
実施例39：E-D-C-B-A五糖P-1及びP-2の合成
【０１６２】
【化６１】
2005505565.tif 000062
実施例39：E-D-C-B-A五糖P-1及びP-2の合成，条件：a) SOP 34.
実施例40：E-D-C-B-A五糖P-3からP-26の合成
【０１６３】
【化６２】
2005505565.tif 000063
実施例40：E-D-C-B-A五糖P-3からP-26の合成，条件：a) SOP 33 (α/β混合物としてのP-19について75 %).
化合物P-19：
P-19を、-20℃で溶媒としてジクロロメタン及び促進剤としてTMSOTfを用いSOP 33に従い形成した；
Mfound = 2068.76 (M+H+H2O)+, Mcalc = 2049.74 (M+).
実施例41：E-D-C-B-A五糖P-11、P-12、P-19、P-20及びP-27の代替合成
【０１６４】
【化６３】
2005505565.tif 000064
実施例41：E-D-C-B-A五糖P-11、P-12、P-19、P-20及びP-27の代替合成，条件：a) SOP 32a.
実施例42：いくつかのE-D-C-B-A五糖の代替合成
【０１６５】
【化６４】
2005505565.tif 000065
実施例42：いくつかのE-D-C-B-A五糖の代替合成，条件：a) SOP 32a (R = Scresについて) 又はSOP 33 (R = OTCAについて).
実施例43：P-13及びP-30の合成
【０１６６】
【化６５】
2005505565.tif 000066
実施例43：P-13及びP-30の形成，条件：a) SOP 32a.
実施例44：五糖P-19及びP-31の形成
【０１６７】
【化６６】
2005505565.tif 000067
実施例45：五糖P-19の部分的脱保護，条件：a) SOP 28, 84%; b) SOP 39, 86%.
P19の調製の実施例：
O-(2-アジド-6-O-ベンゾイル-3,4-ジ-O-ベンジル-2-デオキシ-α-D-グルコピラノシル)-(1→4)-(メチル2,3-ジ-O-ベンジル-β-D-グルコピラノシルウロネート)-(1→4)-2-アジド-3-O-ベンゾイル-2-デオキシ-6-O-p-メトキシベンジル-α-D-グルコピラノシルトリクロロアセトイミデート(30.0 mg, 21.2 μmol)及びメチル(メチル 2-O-ベンゾイル-3-O-ベンジル-α-L-イズピラノシルウロネート)-(1→4)-2-アジド-3-O-ベンジル-6-O-ベンゾイル-2-デオキシ-α-D-グルコピラノシド(15.4 mg 19.3 μmol) の混合物、ならびに1.5 mlの乾燥ジクロロメタン中の100 mgのモレキュラーシーブ4Åを、TBDMSOTf (0.97 μl, 4.24 μmol)で -20℃にて20時間処理した。この反応物を、クエンチし、濾過し、そして濃縮した。標記化合物のさらなる精製は、シリカゲルクロマトグラフィーによって行われた。収率：15.83 mg (40%), Rf= 0.30 (トルエン/酢酸エチル = 9/1).
実施例45：五糖P-19の部分的脱保護（deprotection）
【０１６８】
【化６７】
2005505565.tif 000068
実施例45：五糖P-19の部分的脱保護（deprotection），条件：a) SOP 28, 84%; b) SOP 39, 86%.
化合物P-33：
Mfound = 1503.5 (M-N2+2H)+, Mcalc = 1529.51 (M+).
構造的な証明を容易にするため、P-33の小さい部分を、ビスメチルウロネート誘導体に変換し、NMR−分光法によって特徴づけた。1H-NMR−スペクトル領域の特徴を、figure 1に示す。
Mfound = 1514.62 (M+H)+, Mcalc = 1513.58 (M+).
実施例46：アミノ保護としてDTPM−基を含む、五糖P-30の部分的脱保護
【０１６９】
【化６８】
2005505565.tif 000069
実施例46：DTPM−基をアミノ保護として含む、五糖P-30の部分的脱保護，条件：a) 1. SOP 28; 2. SOP 39; b) 1.第一級アミンとしてMeNH2 及び溶媒としてMeOHを用いたSOP 11; 2. SOP 12.
実施例47：アミノ保護として環式カルバメートを含む、五糖P-1の部分的脱保護
【０１７０】
【化６９】
2005505565.tif 000070
実施例47：アミノ保護として環式カルバメートを含む、五糖P-1の部分的脱保護，条件：a) SOP 27; b) SOP 39; c) SOP 12.
実施例48：請求項４に記載の五糖P-37についての脱保護プロトコール
【０１７１】
【化７０】
2005505565.tif 000071
実施例48：請求項４に記載の五糖P-37についての脱保護プロトコール，条件：a) 1. SOP 27及び28; 2. SOP 39; 3. 第一級アミンとしてMeNH2 及び溶媒としてMeOHを用いたSOP 11; 4. SOP 12.
実施例49：五糖P-33のO-及びN-硫酸化五糖P-35への変換
【０１７２】
【化７１】
2005505565.tif 000072
実施例49：五糖P-33のO-及びN-硫酸化五糖P-40への変換，条件：a) SO3xNMe3, DMF, 50oC; b) H2 (70 psi), Pd/C, H2O; c) SO3xピリジン, H2O, pH = 9.5. P-33からP-40への変換は、文献Petitou et al., Carbohydr. Res. 1987, 167, 67-75.にしたがって行われた。
【０１７３】
P-40の1H-NMR (400 MHz, D2O) を、figure 2に示す。
【０１７４】
【表１】
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【国際公開パンフレット】
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2005505565.tif 000300
2005505565.tif 000301
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月24日(2003.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
発明の分野
本発明は、ＡＴ−ＩＩＩ結合ヘパリンまたはヘパリノイド(heparinoid)、五糖の中間体、および化学合成のためのプロセスに関する。
【０００２】
背景技術
血管血栓症は、凝血塊含有血液細胞およびフィブリンによる血管の部分的または全体的な閉塞によって示される心血管疾患である。動脈において、これは、血小板活性化から主に生じ、そして心臓発作、アンギナまたは脳卒中を導くが、静脈血栓症は、炎症および肺動脈塞栓症を生じる。血液の凝固は、活性化された血液凝固因子として集合的に知られる種々の酵素を使用する事象(event)のカスケードの結果である。ヘパリン、強力な抗凝固薬は、血栓症の処置において、１９３０年代後半以来使用されている。その本来の実施において、耐性問題が注目され、それで減少した投薬量により出血を減少しそして効力を改善することが示唆された。１９７０年代初期において、臨床試験により、実際に、受容可能な耐性が獲得可能であるが、なお抗凝固活性を保持していることが示された。未分画ヘパリン(UFH)は、治療的および外科的適応の両方についての抗凝固薬として主に使用され、そして通常、ウシ肺またはブタ粘膜のいずれかに由来する。未分画ヘパリンの現代の用途には、不安定なアンギナの管理(management)、化学療法および抗炎症治療に対する補助(adjunct)、ならびに成長因子についての調節剤(modulation agent)としておよび循環障害の処置である。
【０００３】
１９８０年代後半において、低分子量ヘパリン(LMWH)の開発によって、抗血栓治療において改善を生じた。ＬＭＷＨは、以下のようなプロセスによってＵＦＨから誘導される：化学的分解、酵素解重合およびγ線照射切断。このクラスのヘパリンは、外傷関連の血栓症の処置のために近年使用されている。特に興味深いのは、血小板に対するこれらの相対的な効果は、ヘパリンと比較して最小であるという事実であり、血小板が損なわれた患者を処置する際に即座に利点を提供する。ＵＦＨの解重合の程度は、異なる長さのＬＭＷＨを得るために制御され得る。深部静脈血栓症(deep vein thrombosis)(DVT)の処置のために必要とされる投薬量は、ＵＦＨとは反対に、ＬＭＷＨを使用する際に有意に減少するが、一般に、両方の治療法の効力は、比較可能であるようである。さらに、ＬＭＷＨは、ＵＦＨに対する感受性を発生した患者のための代替的な治療薬として効果的であり得る。不運なことに、親ＵＦＨの動物供給源の結果として、種間ウイルス混入について認識された可能性に起因して、ＬＭＷＨの使用において非常に多くの懸念がある。
【０００４】
種間混入の可能性を避ける１つの方法は、化学合成によってヘパリンを調製する方法である。この方法はまた、第２世代のヘパリンまたはヘパリノイド（これらは、血液凝固カスケードにおける特定の生物学的事象を標的化するために調製され得る）を開発するための機会を提供する。
【０００５】
ヘパリンを含む凝固カスケードにおける重要な結合事象について必要とされる重要な構造モチーフを決定するための調査は、１９７０年代にさかのぼる。ヘパリンのいくつかの構造特徴が確定されているが、目的の結合ドメインは、本質的に未確定のままである。Ｌｉｎｄａｈｌおよび共同研究者1によって、そして別々にＣｈｏａｙおよび共同研究者2によって行われた研究により、最終的に、五糖配列がプロ抗凝固コファクター(pro-anticoagulant cofactor)、抗トロンビンＩＩＩ（ＡＴ−ＩＩＩ）についての重要な結合ドメインを構成するという決定を導いた。重要なヘパリン糖配列の決定後、完全な化学合成が、この理論をさらに証明するために着手された。五糖結合ドメインの完全な合成は、Ｓｉｎａｙおよび共同研究者3ならびにＶａｎ  Ｂｏｅｃｋｅｌおよび共同研究者4によって同様な時期に完成された。
【０００６】
これらの両方の報告された合成の間に、重大な困難に出くわした。Ｖａｎ  Ｂｏｅｃｋｅｌおよび共同研究者による合成は、合理的な規模で（１５６ｍｇの最終生成物）、Ｓｉｎａｙ合成と比較して改善された収率を有する方法を提供したが、（Ｓｉｎａｙ合成の０．０５３％と比較して）依然として、全体で０．２２％の収率を提供したのみであった。最終的な脱保護の間に出くわすある特定の問題は、ヘミアセタール（糖の還元末端官能基）の分子間反応であり、これは、二量体および三量体の形成を生じた。この発生の可能性を減少させるために、五糖のα−メチルグリコシドが合成された。目的の構造をFigure １に示し、ここで、Ｉはヘミアセタール形態を示し、そしてＩＩは、α−メチルグリコシド形態を示す。
【０００７】
【化１】
2005505565.tif 000302
【０００８】
述べられたように、研究によって、血栓を予防する際の重要な生物学的事象は、ヘパリンの五糖配列5のヘパリンコファクター抗トロンビンＩＩＩ(AT-III)への結合である。五糖Ｉと同様に、重要な誘導体ＩＩもまた全合成によって調製されている6。化合物ＩＩは、深部静脈血栓症の処置のためフェーズＩＩＩ臨床試験を最近完了した。以下の特許は、本発明に対するいくらかの関連性を示す。米国特許第４，４０１，６６２号は、ＵＳ４，４９６，５５０のように、ヘパリンの五糖ＡＴ−ＩＩＩ結合配列に関する物質の組成物をクレームする。特許ＥＰ０，０８４，９９９およびＵＳ４，８１８，８１６は、五糖Ｉおよび誘導体ＩＩに対する合成方法論を詳述する。
【０００９】
発明の目的
本発明の目的は、ヘパリン五糖およびその中間体についての合成調製物を提供すること、そしてヘパリン五糖についての新規中間体、および新規なヘパリン五糖を提供することである。
【００１０】
本発明は、ＡＴ−ＩＩＩ結合ヘパリンおよびヘパリノイドの中間体物質の組成物、合成のためのプロセスを提供する。これが伴うものは、単糖構成ブロック(monosaccharide building blocks)を使用する段階的な合成プロセスである。
【００１１】
ＡＴ−ＩＩＩ結合五糖の性質は、五糖を構成する個々のモノマー単位の大雑把な分析下で、本発明者らは、各々が他とは異なることに注目する。第２に、本発明者らは、グリコシド結合に関して、代替的な立体特異性が存在することを理解し得る（Fig.２）。
【００１２】
【化２】
2005505565.tif 000303
【００１３】
合成において、各構成ブロックにおいて明らかな差異は、合成において使用される個々のモノマーが異なる保護基パターンが必要であることを要求することである。この点を考慮して、上記五糖の合成において、保護基ストラテジーが注意深く考えられていることが必須である。観察され得るように、五糖は、Ｏ−硫酸化、Ｎ−硫酸化を示し、遊離ヒドロキシル基が存在し、そして立体特異的なグリコシド連結が存在する。従って、保護ストラテジーは、（１）硫酸化は要求される部位で実施され得るが、いくつかのヒドロキシル基は硫酸化されない（Ｎ−およびＯ−サルフェートの化学的不安定性に起因して、硫酸化は、合成の後期に行われる必要がある）ことが要求される、（２）適切なグリコシド結合を行う際に補助となる保護ストラテジーが要求される、そして（３）正確な（部位−および立体異性の点で）グリコシド結合が形成されるのを可能にする保護ストラテジーが要求される。α−グリコシド結合は、代表的に、非関与(non-participating)保護基として知られるものの使用によって生成されるが、β−結合は、関与保護基によって実施される。いくつかのＮ−およびＯ−関与および非関与保護基は、当該分野（炭水化物化学と考えられる分野）に公知である。これはまた、使用される保護基の種類が構成ブロックの反応性に影響し得ることがまた当該分野で周知である。これらの要求の成就は、以下のFig.３の例示的な構成ブロックにおいて示され、これは、ヘパリンオリゴサッカライドの合成を行うために要求される特徴の種類を示す。
【００１４】
【化３】
2005505565.tif 000304
【００１５】
例示的な構成ブロックＣにおいて、Ｘは、別のモノマーまたはアクセプターと反応するのに適した脱離基(leaving group)であり、グリコシド間結合を形成する；Ｒ1は、Ｘの活性化の際にα結合を行うために非関与アミノ保護基であり、その後、適切なアクセプターへのカップリングが起こる；Ｒ2およびＲ4は、最終的なＯ−硫酸化を可能にするために同様に保護され得るが、Ｒ3は、このブロックを鎖の次のものにカップリングするためのアクセプターヒドロキシル基の形成を可能にするように、区別的に保護されることが要求される。Fig. ４における構成ブロックは、ヘパリンＡＴ−ＩＩＩ結合五糖の合成を行うように必要とされる誘導体化単糖の種類を例示する。
【００１６】
【化４】
2005505565.tif 000305
【００１７】
Fig.４において‘ＲS’によって示される保護基は、Ｏ−硫酸化を最終的に必要とする部位であり、‘ＲH’によって示される保護基は、‘ＲS’に対して直交して(orthogonal)存在する必要があり、最終的にヒドロキシル基となる部位を示す。置換基‘Ｘ1’および‘Ｘ2’は、グリコシド結合を形成するために別の適切に保護された構成ブロックと反応するように活性化される脱離基を示し、そしてＸ1の場合には、アルキルグリコシドとして誘導されてもよいし、薬物送達のための支持体への複合体化を可能にするために適切な基で置換されてもよい。‘ＲL’基は、‘ＲS’および‘ＲH’の両方に対して直交する保護基であり、グリコシル化を介して鎖伸長が発生する部位を示す。‘Ｒ’は、保護されたかまたは潜在的のいずれかのカルボキシレート官能基を示す。‘ＲA’基は、α結合が形成されるのを可能にする非関与アミノ保護基であるが、‘ＲB’基は、関与または非関与アミノ保護基のいずれかであり得る。ボックスによって示されるブロックＤおよびＢにおける保護基ほどたくさん、合成に加えられるさらなるレベルの複雑性(complexity)があり、βグリコシド結合の形成を可能にするほどである必要がある。これは、示された部位での２段階保護（すなわち、保護とその後の脱保護および次の異なる保護基での再保護）を必要とし得る。最初の保護は、グリコシル化における正確な立体化学を行うために必要とされ、そして第２段階の保護は、正確な硫酸化パターンを可能にするために必要とされる。
【００１８】
明らかなように、五糖は、種々の異なる方法で構築され得る；構成ブロックＢおよびＡは結合され得、構成ブロックＥおよびＤは結合され得、構成ブロックＣはいずれかと結合され得、そして得られた二量体および三量体が最終的に結合して五糖を形成し得る。あるいは、各構成ブロックは、連続して添加され得るなどである。容易に想到され得る多数の代替的な結合配列およびこれに関して行われる選択は、それ自体で、最終的に使用される合成方法論に影響を与え、従って、全体的な合成の成功に対して影響を与える。
【００１９】
第１局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のためのＤ−グルコピラノコンフィギュレーションで単糖構成ブロックを提供し、一般式Ｉの前記構成ブロック：
【００２０】
【化５】
2005505565.tif 000306
【００２１】
一般式Ｉ（ブロックＡ）
ここで、Ｘ1は、以下を含むがこれらに限定されない：ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセチミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、または他の適切な脱離基；ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に適した他のこのような基；そして立体化学はαであってもβであってもよく；他の適切な基は、当業者に周知である、
ＲAは、以下を含むがこれらに限定されない：アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｃｂｚ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド；または当業者に公知の他のこのような適切な保護アミノ官能基、
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルであり、またはＲH1およびＲAは組み合わせて、環式カルバメートを形成し得、
ＲLは、以下を含むがこれらに限定されない：Ｈ原子、レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような適切な置換ベンジル型保護基；γ−アミノブチリル、４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロヘクス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基、アリルオキシカルボニル、アリルエーテル、カーボネート型保護基；またはＲLおよびＲS1は組み合わせて、ベンジリデンまたは置換ベンジリデン環を形成し得；または当業者に公知の他のこのような適切な保護基、
そしてＲSは、以下を含むがこれらに限定されない：４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換されたシリルオキシ保護基、アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチル；または当業者に公知の他の適切な保護基。
あるいは、ＲLとＲSは組み合わせて、ベンジリデンまたは置換ベンジリデン環を形成し得る。
【００２２】
第２局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のためのＬ−イドピラノコンホメーションで単糖構成ブロックを提供し、一般式ＩＩの前記構成ブロックは、以下である：
【００２３】
【化６】
2005505565.tif 000307
【００２４】
一般式ＩＩ（ブロックＢ）
ここで、Ｘ2は、以下を含むがこれらに限定されない：ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、または他の適切な脱離基；ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；そして立体化学はαであってもβであってもよい；他の適切な基は、当業者に公知である、
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲHは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲLは、一般式Ｉで定義される通りであり、そして、
ＲEは、以下を含むがこれらに限定されない：メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル；またはベンジルおよび置換ベンジル基；他の適切な基は当業者に公知であり、または
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群より選択され；
ＲSは、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲEは、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲLは、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；γ−アミノブチリル、４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロへキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基；アリルオキシカルボニル、アリルエーテル、カーボネート型保護基から選択され；
Ｘ2は、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、イミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよい。
【００２５】
第３局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のためのＬ−イドピラノコンフィギュレーションで単糖構成ブロックを提供し、一般式ＩＩＩの前記構成ブロックは、以下である：
【００２６】
【化７】
2005505565.tif 000308
【００２７】
一般式ＩＩＩ（代替ブロックＢ）
ここで、Ｘ2は、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲSは、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲHは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲLは、一般式Ｉで定義される通りであり、そして、
ＲMは、以下を含むがこれらに限定されない：ｐ−メトキシフェニル保護基または他の適切な酸化不安定な保護基；トリチル基；または当業者に公知の他のこのような適切な保護基。
【００２８】
第４局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のためのＤ−グルコピラノコンフィギュレーションで単糖構成ブロックを提供し、一般式ＩＶの前記構成ブロックは、以下である：
【００２９】
【化８】
2005505565.tif 000309
【００３０】
一般式ＩＶ（ブロックＣ）
ここで、Ｘ2は、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲBは、以下を含むがこれらに限定されない：アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基；または当業者に公知の他の適切に保護されたアミノ官能基、またはＲS（ＲBに隣接する）およびＲBは、一緒になって、環式カルバメートを形成し得、
ＲLは、一般式Ｉで定義される通りであり、そして、
ＲS（ＲBに隣接する）は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、またはＲS4およびＲBは一緒になって、環式カルバメートを形成し得；
ＲS（酸素に隣接する）は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択される。
【００３１】
第５局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のためのＤ−グルクロネートコンフィギュレーションで単糖構成ブロックを提供し、一般式Ｖの前記構成ブロックは、以下である：
【００３２】
【化９】
2005505565.tif 000310
【００３３】
一般式Ｖ（ブロックＤ）
ここで、Ｘ2は、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲPは、以下を含むがこれらに限定されない：４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基；または当業者に公知の他の適切な保護基、
ＲLは、一般式Ｉで定義される通りであり、そして、
ＲEは、一般式ＩＩで定義される通りである。
【００３４】
第６局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のためのＤ−グルコピラノコンフィギュレーションで単糖構成ブロックを提供し、一般式ＶＩの前記構成ブロックは、以下である：
【００３５】
【化１０】
2005505565.tif 000311
【００３６】
一般式ＶＩ（構成ブロックＥ）
ここで、Ｘ2は、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲBは、一般式ＩＶで定義される通りであり、
ＲHは、独立して選択され得、そして一般式Ｉで定義される通りであり、そして、
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りであり、または、ここで、
ＲH（ＯＲS部分に隣接する）は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群より選択され；
ＲH（Ｒb部分に隣接する）は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群より選択され、あるいはこのＲHおよびＲBは独立して一緒になって、環式カルバメートを形成し得；
ＲSは、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル；および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、あるいはＲS5およびＲHは、組み合わせて環式アセタールまたはケタール部分を形成し得；
ＲBは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH（ＲBと隣接する）とＲBは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
Ｘ2は、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよい。
【００３７】
第７局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のためのＤ−グルコピラノコンフィギュレーションで単糖構成ブロックを提供し、一般式ＶＩＩの前記構成ブロックは、以下である：
【００３８】
【化１１】
2005505565.tif 000312
【００３９】
一般式ＶＩＩ（ブロックＡ、ＣおよびＥについての共通の中間体）
ここで、Ｘ1は、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲLは、一般式Ｉで定義される通りであり、そして、
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りである。
ＲLとＲSはまた、一緒になってベンジリデン又は置換ベンジリデン環を形成し得、あるいは、
Ｘ1は、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群より選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲLは、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；γ−アミノブチリル、４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロへキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基；アリルオキシカルボニル、アリルエーテル、カーボネート型保護基から選択され；
ＲSは、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルからなる群から選択され、
ＲLとＲSはまた、一緒になって、アルキリデン、イソプロピリデン、ベンジリデンまたは置換ベンジリデン環を形成し得る。
【００４０】
第８局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のための二糖構成ブロックを提供し、一般式ＶＩＩＩの前記構成ブロックは、以下である：
【００４１】
【化１２】
2005505565.tif 000313
【００４２】
一般式ＶＩＩＩ（ブロックＢ−Ａ）
ここで、Ｘ1は、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲH1は、一般式ＩのＲHから選択されるように定義され、加えて、ＲH1とＲAは一緒になって環式カルバメートを形成し得、
ＲAは、一般式Ｉで定義される通りであり、加えて、ＲH1とＲAは一緒になって環式カルバメートを形成し得、
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲHは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲLは、一般式Ｉで定義される通りであり、そして
ＲEは、一般式ＩＩで定義される通りであり、または
Ｘ1は、ヒドロキシ、アルケニルオキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、イミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群より選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群より選択され；
ＲH1は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群より選択され、あるいはこのＲH1およびＲAは一緒になって、環式カルバメートを形成し得；
ＲAは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド、ＮＨ−Ａｃ、ＮＨ−アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS（ブロックＡ上）は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルまたはベンゾイルからなる群から選択され；
ＲS（ブロックＢ上）は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲEは、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲLは、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；γ−アミノブチリル、４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロへキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基；アリルオキシカルボニル、アリルエーテル、カーボネート型保護基から選択される。
【００４３】
第９局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のための二糖構成ブロックを提供し、一般式ＩＸの前記構成ブロックは、以下である：
【００４４】
【化１３】
2005505565.tif 000314
【００４５】
一般式ＩＸ（代替ブロックＢ−Ａ）
ここで、Ｘ1は、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲAは、一般式ＸＩＩＩで定義される通りであり、
ＲH1は、一般式ＸＩＩＩで定義される通りであり、
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲLは、一般式Ｉで定義される通りであり、そして
ＲMは、一般式ＩＩＩで定義される通りであり、或いは
Ｘ1は、ヒドロキシ、アルケニルオキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、イミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群より選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲAは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド、ＮＨ−Ａｃ、ＮＨ−アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS（ブロックＡ上）は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS（ブロックＢ上）は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群より選択され；
ＲH1は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群より選択され、あるいはこのＲH1およびＲAは一緒になって、環式カルバメートを形成し得；
ＲMは、ｐ−メトキシフェニルまたはｐ−メトキシベンジル保護基または他の好適な酸化不安定性保護基；トリチル基から選択され；
あるいはＲMとＲLは一緒に組み合わさって、イソプロピリデン、ベンジリデン、置換ベンジリデン、シクロヘキシリデン、または他のアセタールもしくはケタール保護基を形成する；
ＲLは、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；γ−アミノブチリル、４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロへキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基；アリルオキシカルボニル、アリルエーテル、カーボネート型保護基から選択される。
【００４６】
第１０局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のための二糖構成ブロックを提供し、一般式Ｘの前記構成ブロックは、以下である：
【００４７】
【化１４】
2005505565.tif 000315
【００４８】
一般式Ｘ（ブロックＤ−Ｃ）
ここで、Ｘ2は、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲS1は、一般式ＩのＲSから選択されるように定義され、加えて、ＲS1とＲBは一緒になって環式カルバメートを形成し得る。
ＲBは、一般式ＩＶで定義される通りであり、加えて、ＲS1とＲBは一緒になって環式カルバメートを形成し得る。
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲPは、一般式Ｖで定義される通りであり、
ＲLは、一般式Ｉで定義される通りであり、そして
ＲEは、一般式ＩＩで定義される通りであり、または
Ｘ2は、ヒドロキシ、アルケニルオキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、イミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲSは、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS1は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、あるいはＲS1とＲBは組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲEは、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲBは、アジド官能基、ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP（Ｏ−ＲＬに隣接する）は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP（ブロックＣへの結合に隣接する）は、ヒドロキシ、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択され；
ＲLは、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；γ−アミノブチリル、４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロへキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基；アリルオキシカルボニル、アリルエーテル、カーボネート型保護基から選択される。
【００４９】
第１１局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のための二糖構成ブロックを提供し、一般式ＸＩの前記構成ブロックは、以下である：
【００５０】
【化１５】
2005505565.tif 000316
【００５１】
一般式ＸＩ（ブロックＥ−Ｄ）
ここで、Ｘ2は、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲPは、一般式Ｖで定義される通りであり、
ＲEは、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲBは、一般式ＩＶで定義される通りであり、加えて、ＲBとＲH2は一緒になって環式カルバメートを形成し得、
ＲH2は、一般式ＩのＲHから選択されるように定義され、加えて、ＲBとＲH2は一緒になって環式カルバメートを形成し得、
ＲHは、一般式Ｉで定義される通りであり、そして
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りであり、または
Ｘ2は、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲP（Ｏ結合に隣接する）は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシル及びアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP（Ｘ２に隣接する）は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択され；
ＲEは、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲBは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲH2は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は独立して一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲSは、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル  アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
あるいはＲSとＲHは組み合わさって環式アセタールまたはケタール部分を形成し得る。
【００５２】
第１２局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のための二糖構成ブロックを提供し、一般式ＸＩＩの前記構成ブロックは、以下である：
【００５３】
【化１６】
2005505565.tif 000317
【００５４】
一般式ＸＩＩ（代替構成ブロックＥ−Ｄ）
ここで、Ｘ2は、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲPは、一般式Ｖで定義される通りであり、
ＲMは、一般式ＩＩＩで定義される通りであり、
ＲBおよびＲH2は、一般式ＸＩで定義される通りであり、
ＲHは、一般式Ｉで定義される通りであり、そして
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りであり、あるいは
Ｘ2は、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲP（Ｏ結合基に隣接する）は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP（Ｘに隣接する）は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択され；
ＲBは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲH2は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は独立して一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲSは、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基からなる群から選択され；４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
あるいはＲSとＲHは組み合わさって環式アセタールまたはケタール部分を形成し得；
ＲＭは、ｐ−メトキシフェニル保護基または他の好適な酸化不安定性保護基；トリチル基からなる群から選択される。
【００５５】
第１３局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のための二糖構成ブロックを提供し、一般式ＸＩＩＩの前記構成ブロックは、以下である：
【００５６】
【化１７】
2005505565.tif 000318
【００５７】
一般式ＸＩＩＩ（代替ブロックＤ−Ｃ）
ここで、Ｘ2は、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲBおよびＲS1は、一般式Ｘで定義される通りであり、
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲPは、一般式Ｖで定義される通りであり、そして
Ａは、Ｈ、メトキシ、メチル；当業者に公知であろう他の好適な置換基を含むがこれらに限定されず、あるいは
Ｘ2は、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、イミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲBは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲSは、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS1は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
あるいはＲS4とＲBは組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲP（ベンジルへのＯ結合原子に隣接する）は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP（ＣへのＯ結合原子に隣接する）は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択され；
Ａは、以下を含むがこれらに限定されない；Ｈ、メトキシ、メチル；他の適切な置換基が、当業者に公知である。
【００５８】
第１４局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のための三糖構成ブロックを提供し、一般式ＸＩＶの前記構成ブロックは、以下である：
【００５９】
【化１８】
2005505565.tif 000319
【００６０】
一般式ＸＩＶ（ブロックＥ−Ｄ−Ｃ）
ここで、Ｘ2は、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲBおよびＲS1は、一般式Ｘで定義される通りであり、
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲPは、一般式Ｖで定義される通りであり、
ＲEは、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲB1は、一般式ＩＶのＲBから選択されるように定義され、加えて、ＲB1はＲH2と一緒になって環式カルバメートを形成し得、
ＲH2は、一般式ＩのＲHから選択されるように定義され、加えて、ＲH2はＲB1と一緒になって環式カルバメートを形成し得、そして
ＲHは、一般式Ｉで定義される通りであり、あるいは
Ｘ2は、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲP（ブロックＥに隣接する）は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP（ブロックＣに隣接する）は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択され；
ＲEは、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲB1は、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲH2は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は独立して一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS（ブロックＥ上）は、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基からなる群から選択され；４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
あるいはＲSとＲHは組み合わさって環式アセタールまたはケタール部分を形成し得；
ＲS（ブロックＣ上かつ環Ｏに隣接する）は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS（ブロックＣ上かつＯ結合原子に隣接する）は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
あるいはＲSとＲBは組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲBは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得る。
【００６１】
第１５局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のための三糖構成ブロックを提供し、一般式ＸＶの前記構成ブロックは、以下である：
【００６２】
【化１９】
2005505565.tif 000320
【００６３】
一般式ＸＶ（ブロックＣ−Ｂ−Ａ）
ここで、Ｘ1は、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲAおよびＲH1は、一般式ＶＩＩＩで定義される通りであり、
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲHは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲEは、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲBおよびＲS1は、一般式Ｘで定義される通りであり、そして
ＲLは、一般式Ｉで定義される通りであり、あるいは
Ｘ1は、ヒドロキシ、アルケニルオキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、イミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲH1は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲAは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｃｂｚ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド、ＮＨ−Ａｃ、ＮＨ−アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；あるいはＲHとＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS（ブロックＡ上）は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS（ブロックＢ上）は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS（ブロックＣ上）は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS4は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、
あるいはＲS4とＲBは組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲEは、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲBは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲLは、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；γ−アミノブチリル、４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロへキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基；アリルオキシカルボニル、アリルエーテル、カーボネート型保護基から選択される。
【００６４】
第１６局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のための四糖構成ブロックを提供し、一般式ＸＶＩの前記構成ブロックは、以下である：
【００６５】
【化２０】
2005505565.tif 000321
【００６６】
一般式ＸＶＩ（ブロックＤ−Ｃ−Ｂ−Ａ）
ここで、Ｘ1は、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲAおよびＲH1は、一般式ＶＩＩＩで定義される通りであり、
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲHは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲEは、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲBおよびＲS1は、一般式Ｘで定義される通りであり、
ＲPは、一般式Ｖで定義される通りであり、そして
ＲLは、一般式Ｉで定義される通りであり、あるいは
Ｘ1は、ヒドロキシ、アルケニルオキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、イミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく、
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲH1は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｃｂｚ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド、ＮＨ−Ａｃ、ＮＨ−アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得、
ＲS（ブロックＡ上）は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、
ＲS（ブロックＢ上）は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、
ＲS（ブロックＣ上かつ環酸素に隣接する）は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、
ＲS（ブロックＣ上かつ結合する(lnking)Ｏに隣接する）は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、
あるいはＲS4とＲBは組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく、
ＲE（ブロックＤ上）は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲE（ブロックＢ上）は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され、
ＲBは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得、
ＲP（ＲＬに隣接する）は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；、カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP（基Ｄ上かつ基Ｃに隣接する）は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；、カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択され；
ＲLは、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；γ−アミノブチリル、４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロへキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基；アリルオキシカルボニル、アリルエーテル、カーボネート型保護基から選択される。
【００６７】
第１７局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のための四糖構成ブロックを提供し、一般式ＸＶＩＩの前記構成ブロックは、以下である：
【００６８】
【化２１】
2005505565.tif 000322
【００６９】
一般式ＸＶＩＩ（ブロックＥ−Ｄ−Ｃ−Ｂ）
ここで、Ｘ2は、一般式ＩＶで定義される通りであり、
ＲHは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲEは、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲBおよびＲS1は、一般式Ｘで定義される通りであり、
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲPは、一般式Ｖで定義される通りであり、
ＲLは、一般式Ｉで定義される通りであり、そして
ＲB1およびＲH2は、一般式ＸＩＶで定義される通りであり、あるいは
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲH2は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は独立して一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS（ブロックＢ上）は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS（ブロックＣ上かつ環Ｏに隣接する）は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS（ブロックＣ上かつＯ結合原子に隣接する）は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、あるいはＲSとＲBは組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく、
ＲS（ブロックＥ上）は、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基からなる群から選択され；４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；あるいはこのＲSとＲHは組み合わさって環式アセタールまたはケタール部分を形成し得；
ＲE（ブロックＤ上）は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲE（ブロックＢ上）は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲBは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲB1は、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP（ブロックＤ上かつブロックＥに隣接する）は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP（ブロックＤ上かつブロックＣに隣接する）は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択され；
Ｘ2は、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよい。
【００７０】
第１８局面において、本発明は、合成ヘパリノイドの調製のための五糖構成ブロックを提供し、一般式ＸＶＩＩＩの前記構成ブロックは、以下である：
【００７１】
【化２２】
2005505565.tif 000323
【００７２】
一般式ＸＶＩＩＩ（ブロックＥ−Ｄ−Ｃ−Ｂ−Ａ）
ここで、Ｘ1は、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲAおよびＲH1は、一般式ＶＩＩＩで定義される通りであり、そしてＲH1はまた、アリルおよびアロキシカルボニルであり得、またはＲAおよびＲH1は一緒になって、環式カルバメートを形成し得、
ＲSは、一般式Ｉで定義される通りであり、
ＲHは、一般式Ｉで定義される通りであり、または、ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群より選択され、
ＲEは、一般式ＩＩで定義される通りであり、
ＲBおよびＲS1は、一般式Ｘで定義される通りであり、
ＲPは、一般式Ｖで定義される通りであり、そしてベンジルであり得、
ＲP（ＤからＣへの結合に隣接する）はまた、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルであり得、そして
ＲB1およびＲH2は、一般式ＸＩＶで定義される通りであり、あるいは、ＲH2は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群より選択され、或いはＲH2とＲB1が独立して一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得、
ブロックＣ上のＲS1（請求項中のＲS4）は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、またはＲS4およびＲBは一緒になって、環式カルバメートを形成し得；
ブロックＥＣＢＡ上のＲS（請求項中のＲS1,2,3,5）は、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルであり得る。
【００７３】
第１９局面において、本発明は、第８局面の化合物の調製方法を提供し、この方法は、第２または第３局面の化合物を第１または第７局面の化合物と反応させて、新しいグリコシド結合を形成する工程を包含する。
【００７４】
第２０局面において、本発明は、第８局面の化合物の調製方法を提供し、この方法は、第９局面の化合物から保護基ＲMを選択的に除去しそして前記脱保護生成物を酸化する工程を包含する。
【００７５】
第２１局面において、本発明は、第１０局面の化合物の調製方法を提供し、この方法は、第５局面の化合物を第４または第７局面の化合物と反応させて、新しいグリコシド結合を形成する工程を包含する。
【００７６】
第２２局面において、本発明は、第１１局面の化合物の調製方法を提供し、この方法は、第５局面の化合物を第６または第７局面の化合物と反応させて、新しいグリコシド結合を形成する工程を包含する。
【００７７】
第２３局面において、本発明は、第１３局面の化合物の調製方法を提供し、この方法は、第４または第７局面の化合物を適切なドナー分子と反応させて、新しいグリコシド結合を形成する工程を包含する。
【００７８】
第２４局面において、本発明は、第１４局面の化合物の調製方法を提供し、この方法は、グリコシド結合形成反応において、第４、第５、第６、第７、第１０、第１１、第１２または第１３局面の化合物の１つ以上を使用する工程を包含する。
【００７９】
第２５局面において、本発明は、第１５局面の化合物の調製方法を提供し、この方法は、グリコシド結合形成反応において、第１、第２、第３、第４、第７、第８および第９局面の化合物の１つ以上を使用する工程を包含する。
【００８０】
第２６局面において、本発明は、第１６局面の化合物の調製方法を提供し、この方法は、グリコシド結合形成反応において、第１、第２、第３、第４、第５、第７、第８、第９、第１０、第１３または第１５局面の化合物の１つ以上を使用する工程を包含する。
【００８１】
第２７局面において、本発明は、第１７局面の化合物の調製方法を提供し、この方法は、グリコシド結合形成反応において、第２、第３、第４、第５、第７、第１０、第１１、第１２、第１３または第１４局面の化合物の１つ以上を使用する工程を包含する。
【００８２】
第２８局面において、本発明は、第１８局面の化合物の調製方法を提供し、この方法は、グリコシド結合形成反応において、第１、第２、第３、第４、第５、第７、第８、第９、第１０、第１１、第１２、第１３、第１４、第１５、第１６または第１７局面の化合物の１つ以上を使用する工程を包含する。
【００８３】
ベストモード
以下の実施例を参照して、本発明の実施形態を述べる：実施例の多くについて、標準操作プロトコール（ＳＯＰ’ｓ）を提供する。
略語のリスト：
ＡｃＯ：アセチル、
Ａｌｌ：アリル、
Ａｌｌｏｃ：アリルオキシカルボニル、
Ｂｎ：ベンジル、
Ｂｚ：ベンゾイル、
ＣＡＮ：（ＮＨ4）2ＣｅIV（ＮＯ3）6、 セシウム硝酸アンモニウム（ＩＶ）、
ＣｌＡｃ：モノクロロアセチル、
Ｃｒｅｓ：ｐ−トリル、
ＤＣＣ：ジシクロヘキシルカルボジイミド、
Ｄｄｅ：１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロヘキシリデン）エチル（１−（４，４−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−２，６−ｄｉｏｘｏｃｙｃｌｏｈｅｘ−ｙｌｉｄｅｎｅ）ｅｔｈｙｌ）、
ＤＥＡＤ：ジエチルアゾジカルボキシレート、
ＤＩＰＥＡ：ジイソプロピルエチルアミン、
ＤＭＡＰ：４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、
ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
ＤＭＴＳＴ：ジメチル（メチルチオ）スルホニウムテトラフルオロメタンスルホネート、
ＤＴＰＭＢ：２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルピリジン
ＤＴＰＭ：（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチル（１，３−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−２，４，６  （１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−ｔｒｉｏｘｏｐｙｒｉｍｉｄｉｎ−５−ｙｌｉｄｅｎｅ）ｍｅｔｈｙｌ）、
Ｌｅｖ：４−オキソペンタノイル、
ＭＣＰＢＡ：３−クロロ過安息香酸、
Ｍｅｓ：メタンスルホニル、
Ｍｐ：４−メトキシフェニル、
Ｍｐｍ：４−メトキシベンジル、
ＮＢＳ：Ｎ−ブロモスクシンイミド、
ＮＩＳ：Ｎ−ヨードスクシンイミド、
ＮＭＰ：Ｎ−メチルピロリドン（Ｎ−Ｍｅｔｈｙｌｐｙｒｏｌｌｉｄｏｎｅ）
ＮＰｈｔ：Ｎ−フタロイル
ＰＤＣ：ピリジニウムジクロメート、
Ｐｅｎｔ：ｎ−ペンテニル、
Ｐｈ3Ｐ：トリフェニルホスフィン、
Ｐｉｖ：ピバロイル、
ＴＢＡＦ：テトラブチルアンモニウムフルオライド、
ＴＢＤＭＳ：ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、
ＴＢＤＰＳ：ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、
ＴＣＡ：トリクロロアセトイミジル（Ｔｒｉｃｈｌｏｒｏａｃｅｔｉｍｉｄｙｌ）、
ＴＥＭＰＯ：２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシル（２，２，６，６−Ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ−１−ｐｉｐｅｒｉｄｉｎｙｌｏｘｙｌ）、
ＴＦＡ：トリフルオロ酢酸、
ＴＦＡＡ：無水トリフルオロ酢酸、
Ｔｆ：トリフルオロメタンスルホニル、
ＴｆＮ3：トリフルオロメタンスルホニルアジド（ＮａＮ3及びＴｆ2Ｏから調製される）、
ＴｆＯＨ：トリフルオロメタンスルホン酸、
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン（Ｔｅｒａｈｙｄｒｏｆｕｒａｎ）、
ＴＭＳ：トリメチルシリル、
Ｔｏｓ：ｐ−トルエンスルホニル、
ｐ−ＴｏｓＯＨ：ｐ−トルエンスルホン酸、
Ｔｒｉｔ：トリフェニルメチル。
標準操作手順
標準操作手順  １：ベンジリデンアセタールの形成
標準操作手順  ２：ｐ−メトキシベンジリデンアセタールの形成
標準操作手順  ３：イソプロピリデンアセタールの形成
標準操作手順  ４：脱アルキリデン化（Ｄｅａｌｋｙｌｉｄｅｎａｔｉｏｎ）  （イソプロピリデン、ベンジリデン及びｐ−メトキシベンジリデンの除去）
標準操作手順  ５：６−Ｏ−ｐメトキシベンジルエーテルへのｐ−メトキシ−ベンジリデンアセタールの部位選択的開裂（ｒｅｇｉｏｓｅｌｅｃｔｉｖｅ  ｏｐｅｎｉｎｇ）
標準操作手順  ６：４−Ｏ−ベンジルエーテルへのベンジリデン環の部位選択的開裂
標準操作手順  ７：ベンジル又はｐ−メトキシベンジルエーテルの導入
標準操作手順  ８：ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルエーテルの導入
標準操作手順  ９：ｔｅｒｔ−ブチル−ジフェニルシリルエーテルの開裂
標準操作手順  １０：Ｎ−ＤＴＰＭ−基の導入
標準操作手順  １１：Ｎ−ＤＴＰＭ−基の開裂
標準操作手順  １２：ジアゾ転移反応を介するアジド基の導入
標準操作手順  １３：チオグリコシドの加水分解（ＮＢＳ）
標準操作手順  １４：チオグリコシドの加水分解（ＮＩＳ）
標準操作手順  １５：ウロン酸への化学選択的酸化
標準操作手順  １６：ウロン酸上でのメチルエステル形成
標準操作手順  １７：部位選択的６−Ｏ−ベンゾイル化
標準操作手順  １８：Ｏ−ベンゾイル化のための慣用手順
標準操作手順  １９：Ｏ−アセチル化のための慣用手順
標準操作手順  ２０：カルボン酸へのアルコールのＰＤＣ−酸化
標準操作手順  ２１：化学選択的な１−Ｏ−ベンゾイル開裂
標準操作手順  ２２：Ｚｅｍｐｌｅｎ条件下における脱アシル化
標準操作手順  ２３：４−オキソペンタノイル（＝レブリノイル（Ｌｅｖｕｌｉｎｏｙｌ））基の導入
標準操作手順  ２４：４−オキソペンタノイル（＝レブリノイル）基の開裂
標準操作手順  ２５：トリクロロアセトイミデート（Ｔｒｉｃｈｌｏｒｏａｃｅｔｉｍｉｄａｔｅｓ）の形成
標準操作手順  ２６：Ｍｉｔｓｕｎｏｂｕ条件下における６−Ｏ−ｐメトキシフェニル基の部位選択的導入
標準操作手順  ２７：ｐ−メトキシフェニルエーテルの開裂
標準操作手順  ２８：ｐ−メトキシベンジルエーテルの開裂
標準操作手順  ２９：２，３−環式カルバメートの形成
標準操作手順  ３０：Ｎ−フタロイル基の開裂
標準操作手順  ３１：還元末端（ｒｅｄｕｃｉｎｇ  ｅｎｄ）でのチオクレシルエーテルの導入
標準操作手順  ３２：チオグリコシドを用いたグリコシル化
ａ）ＮＩＳで促進されるグリコシル化（ＮＩＳ−ｐｒｏｍｏｔｅｄ  ｇｌｙｃｏｓｙｌａｔｉｏｎ）
ｂ）ＤＭＴＳＴで促進されるグリコシル化（ＤＭＴＳＴ  ｐｒｏｍｏｔｅｄ  ｇｌｙｃｏｓｙｌａｔｉｏｎｓ）
標準操作手順  ３３：トリクロロアセトイミデート（ｔｒｉｃｈｌｏｒｏａｃｅｔｉｍｉｄａｔｅｓ）を用いるグリコシル化
標準操作手順  ３４：２，３−シクロカルバモイルで保護されたｐチオクレシルグリコシドをグリコシルドナーとして用いるグリコシル化
標準操作手順  ３５：Ａｌｌｏｃ−基の導入
標準操作手順  ３６：Ａｌｌｏｃ−基の開裂
標準操作手順  ３７：Ｌｅｗｉｓ酸で媒介されるベンジル化
標準操作手順  ３８：穏やかな塩基性条件下でのベンジル化
標準操作手順  ３９：非常に穏やかな条件下におけるエステル開裂。
標準操作手順  １：ベンジリデンアセタールの生成
出発原料（４７．５ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（１００−２００ｍｌ）中に溶解し、そしてベンズアルデヒドジメチルアセタール（１．２当量）及び触媒量のｐ−トルエンスルホン酸一水和物（０．０１−０．１当量）と反応させた。その反応物を、ＴＬＣが終わりを示すまで、減圧（３５０ｍｂａｒ）下において５０℃にて攪拌した。続いて、この反応物をトリエチルアミン（ｐＨ約９）で中和し、そして、真空中で（ｉｎ  ｖａｃｕｏ）濃縮した。残った残渣を有機溶媒（例えば、ジクロロメタン又はエチルアセテート）中に溶解し、そしてＨ2Ｏ、飽和ブライン溶液を用いて抽出し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥し、そして濃縮した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７０〜９５％の間で変化した。
【００８４】
標準操作手順  ２：ｐ−メトキシベンジリデンアセタールの形成
出発原料（４７．５ｍｍｏｌ）をＤＭＦ／アセトニトリル（１／１、１００−２００ｍｌ）中にて溶解し、ｐ−メトキシベンズアルデヒドジメチルアセタール（１．２当量）及び触媒量のｐ−トルエンスルホン酸一水和物（０．０１−０．１当量）と反応させた。この反応物を、ＴＬＣが終わりを示すまで、５０−６０℃にて、減圧下（３５０ｍｂａｒ）において攪拌した。続いて、この混合物をトリエチルアミン（ｐＨ約９）で中和し、次いで真空中で濃縮した。残った残渣を有機溶媒（例えば、ジクロロメタン又はエチルアセテート）中に溶解し、Ｈ2Ｏ、飽和ブライン溶液、を用いて抽出し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥し、そして濃縮した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７０〜８５％の間で変化した。
【００８５】
標準操作手順  ３：イソプロピリデンアセタールの形成
出発原料（１０ｍｍｏｌ）及び触媒量のショウノウスルホン酸（ｃａｍｐｈｏｒｓｕｌｆｏｎｉｃ  ａｃｉｄ）（０．０１−０．１当量）の２，２−ジメトキシプロパン（５０ｍｌ）溶液を２５℃にて、完結するまで攪拌し、トリエチルアミンで中和し、そして濃縮した。残った残渣を有機溶媒（例えば、ジクロロメタン又はエチルアセテート）中に溶解し、そしてＨ2Ｏ及び飽和ブライン溶液を用いて抽出した。有機層をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、次いで濃縮した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７５〜９３％の間で変化した。
【００８６】
標準操作手順  ４：脱アルキリデン化（Ｄｅａｌｋｙｌｉｄｅｎａｔｉｏｎ）  （イソプロピリデン、ベンジリデン及びｐ−メトキシベンジリデンの除去）
アセタール（３１ｍｍｏｌ）の１５０ｍｌジクロロメタン溶液を０℃まで冷却し、８０％水性ＴＦＡ（２０．０ｍｌ、０℃まで冷却）と反応させた。０℃にて、完結するまで攪拌した後、その反応混合物を３０％ＮａＯＨ溶液で中和し、そして水及び飽和ブライン溶液を用いて抽出した。有機層をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、そして濃縮した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７０〜９５％の間で変化した。
開裂のための、ＭｅＯＨ／ＣＨ3ＣＮ中のｐ−ＴｏｓＯＨｘＯＨ2を用いる修飾：
アセタール（１６．６ｍｍｏｌ）を１００ｍＬの乾燥アセトニトリル及び２５ｍＬ  ＭｅＯＨ中に溶解し、その溶液を触媒量のｐ−ＴｏｓＯＨｘＯＨ2と反応させた。この反応混合物を高温（４０〜６０℃）で完結するまで加熱し、次いで、Ｅｔ3Ｎを用いて中和し、真空中で濃縮し、結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、精製した。生成物形成についての代表的な収率は、７０〜９５％の間で変化した。
【００８７】
標準操作手順  ５：  ６−Ｏ−ｐメトキシベンジルエーテルへのｐ−メトキシ−ベンジリデンアセタールの部位選択的開裂（ｒｅｇｉｏｓｅｌｅｃｔｉｖｅ  ｏｐｅｎｉｎｇ）
出発糖（ｓｔａｒｔｉｎｇ  ｓｕｇａｒ）（１０．２ｍｍｏｌ）、モレキュラーシーブス３Å（６．５ｇ、新たに活性化した）及びＮａ（ＣＮ）ＢＨ3（３．８５ｇ、５８．２ｍｍｏｌ）の乾燥ＤＭＦ（９０ｍｌ）懸濁液を、１ｈｒ、室温にて攪拌し、０℃まで冷却した。続いて、ＴＦＡ（１１．２ｍＬ、５１ｍＬ  乾燥ＤＭＦ中１４３．９ｍｍｏｌ）の溶液を滴下し、そして５０〜６０℃にて、反応が終わるまで攪拌し続けた。この反応混合物を２０℃まで冷却し、エチルアセテートで希釈し、そして飽和水性ＮａＨＣＯ3溶液を用いて抽出し、次いで、セライト（登録商標）パッド（ｃｅｌｉｔｅ  ｐａｄ）を通して濾過した。混合有機層（ｃｏｍｂｉｎｅｄ  ｏｒｇａｎｉｃ  ｌａｙｅｒｓ）を飽和ブライン溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、そして濃縮した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７０〜９０％の間で変化した。
【００８８】
標準操作手順  ６：  ４−Ｏ−ベンジルエーテルへのベンジリデン環の部位選択的開裂
出発原料（３．４ｍｍｏｌ）の２５ｍＬジクロロメタン溶液を０℃まで冷却し、次いで、これに、ＢＨ3のＴＨＦ（１Ｍ、３４ｍｌ）溶液及びＢｕ2ＢＯＴｆのジクロロメタン（１Ｍ、３．７ｍｌ）溶液を添加した。この反応物を０℃にて、完結するまで攪拌し、そして次いで、１０ｍｌ  Ｅｔ3Ｎ及び１０ｍｌ  ＭｅＯＨを用いてクエンチし、濃縮し、次いでトルエンを用いて３回共蒸留した（ｃｏｅｖａｐｏｒａｔｅｄ）。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７５〜９０％の間で変化した。
【００８９】
標準操作手順  ７：ベンジル又はｐ−メトキシベンジルエーテルの導入
出発原料（４０．２ｍｍｏｌ）を乾燥Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（１００ｍＬ）中に０℃にて溶解し、そしてＮａＨ（４８．２４ｍｍｏｌ、ベンジル化されるべきＯＨ当たり１．２当量）と反応させた。次いで、臭化ベンジル（ベンジル化されるべきＯＨ当たり１．１当量）を滴下し、そして０℃にて完結するまで攪拌し続けた。アリルエーテル（アリル化試薬（ａｌｌｙｌａｔｉｎｇ  ｒｅａｇｅｎｔ）として働くアリルブロマイド）の導入についても、同様の条件が適用された。
【００９０】
酢酸を注意深く添加することによって、過剰のＮａＨを中和し、次いでこの反応混合物を真空中で濃縮した。この残渣をエチルアセテート中に溶解し、そして続いて水、１０％  水性ＨＣｌ溶液、飽和水性ＮａＨＣＯ3溶液、飽和ブライン溶液で洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥し、そして真空中で濃縮した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７０〜９２％の間で変化した。臭化ベンジルの代わりにｐ−メトキシベンジルクロライドを反応物へ添加したこと及び反応を５０〜６０℃にて行ったこと以外は、ｐ−メトキシベンジルエーテルの形成についても同様の手順を行った。
【００９１】
標準操作手順  ８：  ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルエーテルの導入
出発原料（２９．０ｍｍｏｌ）及びイミダゾール（７０．１ｍｍｏｌ）の混合物を８０ｍＬ無水ＤＭＦ中に溶解し、５５℃まで加熱した。この溶液にｔｅｒｔ−ブチルジフェニルクロロシラン（８．３０ｍＬ、３１．９ｍｍｏｌ）を添加し、そして５５℃にて完結するまで攪拌し続けた。次いで、この反応混合物を２０℃まで冷却し、そして水性ＮａＨＣＯ3溶液を用いてクエンチした。真空中で濃縮後、残渣をエチルアセテート中に溶解し（ｔａｋｅｎ  ｕｐ）、そして有機層を水、１０％  水性クエン酸、水、飽和ブライン溶液で連続的に洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥し、そして蒸留した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、８５〜９５％の間で変化した。
【００９２】
標準操作手順  ９：ｔｅｒｔ−ブチル−ジフェニルシリルエーテルの開裂
シリルエーテル（２．１５ｍｍｏｌ）の２．５ｍＬ乾燥ＴＨＦ及び酢酸（３．４４ｍｍｏｌ）溶液へ１Ｍ  ＴＢＡＦのＴＨＦ（３．２２ｍＬ）溶液を添加し、反応が終わるまで攪拌し続けた。続いて、この反応混合物を真空中で濃縮した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、８５〜９７％の間で変化した。
【００９３】
標準操作手順  １０：Ｎ−ＤＴＰＭ−基の導入
出発アミン（２４．５ｍｍｏｌ）のメタノール（６０ｍｌ）溶液へＤＴＰＭ  試薬（５．４３ｇ、２５．７ｍｍｏｌ）のメタノール（６０ｍｌ）溶液を６０℃にて添加した。反応の終了後、この反応混合物を真空中で濃縮し、ジクロロメタン中に溶解し（ｔａｋｅｎ  ｕｐ）、水及び飽和ブライン溶液を用いて抽出し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、そして蒸留した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、８５〜９７％の間で変化した。
【００９４】
標準操作手順  １１：Ｎ−ＤＴＰＭ−基の開裂
出発原料（４０．９４ｍｍｏｌ）を乾燥ＤＭＦ（５０ｍｌ）中に溶解し、室温においてエチレンジアミン（２０ｍｌ）と完結するまで反応させた。この反応混合物を真空中で濃縮し、トルエンを用いて共蒸留した。この残渣をＣＨＣｌ3中に懸濁し、そしてセライト（登録商標）パッドを通して濾過した。濾液を蒸留し、そして結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、その残渣の最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、８５〜９２％の間で変化した。
【００９５】
標準操作手順  １２：ジアゾ転移反応を介するアジド基の導入
ａ）トリフルオロメタンスルホニルアジド溶液の調製：
アジ化ナトリウム（４９２ｍｍｏｌ）の水（８０ｍＬ）溶液をＮ2雰囲気下において調製した。この攪拌溶液へジクロロメタン（１００ｍＬ）を０℃にて添加し、次いでトリフリックアンハイドライド（ｔｒｉｆｌｉｃ  ａｎｈｙｄｒｉｄｅ）（１６．５ｍｌ）を１０分間かけて添加した。この混合物をさらに０℃にて２時間攪拌し、有機層を分離し、そして水層をジクロロメタン（２×４０ｍＬ）で抽出した。混合有機層を飽和水性ＮａＨＣＯ3溶液（８０ｍＬ）、水（８０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥した。濾過後、この溶液を直接ジアゾ転移反応に用いた。
【００９６】
ｂ）ジアゾ転移反応：
出発原料（２６．０ｍｍｏｌ）及び４−Ｎ，Ｎ’−（ジメチルアミノ）ピリジン（１４．５ｇ）のアセトニトリル（１００ｍＬ）溶液へ、ＴｆＮ3−溶液（８５ｍｌ）を室温にて１０分間以内に滴下した。この反応液を、生成物への出発原料の変換が完了するまで、攪拌した。この反応混合物を真空中で３０ｍｌまで濃縮し、そしてクロロホルム中に懸濁した。セライト（登録商標）パッドを通す濾過の後、濾液を濃縮し、残渣を、ショートシリカゲルパッド（ｓｈｏｒｔ  ｓｉｌｉｃａ  ｇｅｌ  ｐａｄ）を通す濾過によって精製した。生成物形成についての代表的な収率は、８５〜９５％の間で変化した。
【００９７】
標準操作手順  １３：チオグリコシドの加水分解（ＮＢＳ）
出発チオグリコシド（３３．４ｍｍｏｌ）を２４０ｍｌアセトン及び１８ｍｌの蒸留水中に懸濁し、そして４５ｍｉｎ、−２０℃にて攪拌した。ＮＢＳ（１５５ｍｍｏｌ）の添加後、攪拌を−２０℃にて続けた。完了後、ＮａＳ2Ｏ3 ／ＮａＨＣＯ3（２０％水溶液、１／１）の添加によって、反応を停止し、次いで混合物をエチルアセテートで希釈し、続いて水及び飽和ブライン溶液で洗浄した。有機層をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、そして真空中で濃縮した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７５〜９０％の間で変化した。
【００９８】
標準操作手順  １４：チオグリコシドの加水分解（ＮＩＳ）
出発チオグリコシド（３３．４ｍｍｏｌ）を２４０ｍｌアセトン及び１８ｍｌの蒸留水中に懸濁し、４５ｍｉｎ、−２０℃にて攪拌した。ＮＩＳ（５６．８ｍｍｏｌ）及びＴＭＳＯＴｆ（２．８４ｍｍｏｌ）の添加後、完了するまで攪拌を続けた。ＮａＳ2Ｏ3／ＮａＨＣＯ3（２０％水溶液、１／１）の添加によって反応を停止し、エチルアセテートで希釈し、水及び飽和ブライン溶液を用いて洗浄した。有機層をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、真空中で濃縮した。結晶化（例えば、ペトロリウムスピリット／エチルアセテート）又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７９〜９２％の間で変化した。
【００９９】
標準操作手順  １５：ウロン酸への化学選択的酸化
出発原料（２０．０ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１４１ｍｌ）溶液を０℃まで冷却し、次いでＴＥＭＰＯ（１２．８ｍｌジクロロメタン中の０．２０５ｍｍｏｌ）、Ａｌｉｑｕａｔ ３３６(Ｎ−メチル−Ｎ，Ｎ−ジオクチル−１−オクタンアミニウムクロライド)（１２．８ｍｌの０．０８Ｍ  ジクロロメタン溶液）及びＫＢｒ（４．１７ｍｌ  Ｈ2Ｏ中の２．０８ｍｍｏｌ）と混合し、０℃にて攪拌し続けた。５分後、Ｃａ（ＯＣｌ）2（４３．６ｍｍｏｌ）及びＮａＨＣＯ3（４３．６ｍｍｏｌ）の１３５ｍｌ  Ｈ2Ｏ懸濁液を１５分以内に反応混合物へ添加し、０℃にて完結するまで攪拌し続けた。この反応物を真空中で濃縮し、そして凍結乾燥した。この粗製残渣（ｃｒｕｄｅ  ｒｅｓｉｄｕｅ）を次の反応のためのものとして使用した。
【０１００】
標準操作手順  １６：ウロン酸上でのメチルエステル生成
ウロン酸への酸化の粗製残渣を５０ｍｌトルエン及び５０ｍｌメタノール中に溶解し、ＴＭＳＣＨＮ2−溶液（ヘキサン中の２Ｍ）を用いて完結するまで処理した（ｔｉｔｕｒａｔｅｄ）。この反応混合物を酢酸でクエンチし、過剰のエステル化試薬を破壊し、真空中で蒸留した。シリカゲルクロマトグラフィーによって、最終精製を成し遂げた。酸化及びエステル化工程を終えて、生成物形成についての代表的な収率は、６５〜８０％の間で変化した。
【０１０１】
標準操作手順  １７：部位選択的６−Ｏ−ベンゾイル化
出発原料（３２．０４ｍｍｏｌ）を乾燥ジクロロメタン（５０ｍＬ）及び乾燥ピリジン（１０ｍＬ）中に溶解し、−４５℃まで冷却した。ベンゾイルクロライド（３２．０４ｍｍｏｌ）を滴下し、そして−４５℃にて完結するまで攪拌し続けた。この反応物を真空中で濃縮し、そしてトルエンを用いて３回共蒸留した。残った残渣をジクロロメタン中に溶解し、そして１０％クエン酸水溶液、飽和ＮａＨＣＯ3水溶液及び飽和ブライン溶液を用いて洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥し、そして真空中で蒸留した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は７５〜９４％の間で変化した。
【０１０２】
標準操作手順  １８：Ｏ−ベンゾイル化のための慣用手順
出発原料（１１．９ｍｍｏｌ）及びＤＭＡＰ（１３．６ｍｍｏｌ）の１，２−ジクロロエタン溶液へベンゾイルクロライド（１．７ｇ、１２．１ｍｍｏｌ）を０℃にて滴下した。次いで、混合物を完結するまで攪拌し続けた（基質に依存して、２０〜５５℃）。続いて、反応混合物をジクロロメタンで希釈し、そして水、５％ＮａＨＳＯ4溶液、飽和ＮａＨＣＯ3水溶液及び飽和ブライン溶液で洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、次いで真空中で溶媒の除去を行い、粗製残渣を得た。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、８０〜９６％の間で変化した。
【０１０３】
標準操作手順  １９：Ｏ−アセチル化のための慣用手順
０℃において出発原料（２３５ｍｍｏｌ、３アセチル化部位）のピリジン（３５０ｍｌ）懸濁液へ、無水酢酸（１７５ｍｌ）を滴下した。添加終了後、この反応物を室温まで戻し、そして完結するまで攪拌した。この反応混合物を乾燥するまで蒸留し、そしてトルエンを用いて３×共蒸留した。残渣をジクロロメタン中に溶解し（ｔａｋｅｎ  ｕｐ）、５％ＮａＨＳＯ4−水溶液、飽和ＮａＨＣＯ3−水溶液、水及び飽和ブライン溶液で洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、そして蒸留した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、残渣の最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、８８〜９８％の間で変化した。
【０１０４】
標準操作手順  ２０：カルボン酸へのアルコールのＰＤＣ−酸化
出発原料（１．１５ｍｏｌ）を無水ＤＭＦ（７．０ｍｌ）中に溶解し、ウロン酸への変換が完了するまで、室温にて攪拌しながら、ＰＤＣ（１１．５ｍｍｏｌ）と反応させた。続いて、反応混合物を５０ｍｌの水に注ぎ、そして全体をジエチルエーテルで抽出した。混合エーテル層を１０％  クエン酸水溶液で洗浄し、ショートシリカゲルパッドを通して濾過し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、蒸留し、そして高真空下において乾燥した。
【０１０５】
標準操作手順  ２１：化学選択的な１−Ｏ−ベンゾイル開裂
出発原料（３６．８ｍｍｏｌ）を乾燥ＤＭＦ（８０ｍｌ）中に溶解し、そして０℃まで冷却した。続いて、ヒドラジンアセテート（４４．０６ｍｍｏｌ）を添加し、完結するまで攪拌し続けた。アセトン及び酢酸の添加後、反応混合物を真空中で濃縮した。残渣をジクロロメタン中に溶解し、そして１０％クエン酸水溶液、飽和ＮａＨＣＯ3溶液、水及び飽和ブライン溶液で抽出し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、蒸留し、そして高真空下において乾燥した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７２〜８８％の間で変化した。
【０１０６】
標準操作手順  ２２：Ｚｅｍｐｌｅｎ条件下における脱アシル化
出発原料（２３．７ｍｍｏｌ）を乾燥ＭｅＯＨ（７０ｍｌ）中に懸濁し、３０分間、０℃にて攪拌した。続いて、ＮａＯＭｅ（０．１当量／Ｏ−アシル基）を添加し（Ｎ2の積極的な吹き付け（ｐｏｓｉｔｉｖｅ  ｆｌｕｓｈ  ｏｆ  Ｎ2））、０℃にて、完結するまで攪拌しつづけた。最後に、反応物を１０％  水性ＨＣｌで中和し、そして溶媒を蒸発させた。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、９０〜９８％の間で変化した。
【０１０７】
標準操作手順  ２３：４−オキソペンタノイル（＝レブリノイル（Ｌｅｖｕｌｉｎｏｙｌ））基の導入
ａ）Ｌｅｖ2Ｏ溶液の調製：
ＤＣＣ（３１．２ｍｍｏｌ）の１００ｍＬジクロロメタン溶液へレブリン酸（ｌｅｖｕｌｉｎｉｃ  ａｃｉｄ）（６２．４ｍｍｏｌ）及びＤＩＰＥＡ（６２．４２ｍｍｏｌ）を添加した。上清をレブリン化反応（ｌｅｖｕｌｉｎａｔｉｏｎ  ｒｅａｃｔｉｏｎ）のためのものとして使用した。
【０１０８】
反応
２５ｍＬの乾燥ジクロロメタンに溶解された出発糖（１５．６ｍｍｏｌ）の溶液へ上記Ｌｅｖ2Ｏ溶液を添加し、完結するまで攪拌し続けた。続いて、反応混合物をセライト（登録商標）パッドを通して濾過し、そして全ての混合有機層を１０％クエン酸水溶液、飽和水性ブライン溶液で抽出し、Ｎａ2ＳＯ4を用いて乾燥し、そして濃縮した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、８５〜９６％の間で変化した。
【０１０９】
標準操作手順  ２４：４−オキソペンタノイル（＝レブリノイル）基の開裂
出発糖（１．２８ｍｍｏｌ）及び酢酸（１．３５ｍＬ）のピリジン（５．０ｍＬ）溶液を０℃まで冷却し、続いてヒドラジンハイドレート（２００μＬ）の添加を行った。完結するまで０℃にて攪拌し続け、反応混合物をジクロロメタンで希釈し、続いて１０％水性クエン酸、１０％水性ＮａＨＣＯ3溶液、飽和ブライン溶液で抽出し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥し、濾過し、そして濃縮した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、８０〜９５％の間で変化した。
【０１１０】
標準操作手順  ２５：トリクロロアセトイミデート（Ｔｒｉｃｈｌｏｒｏａｃｅｔｉｍｉｄａｔｅｓ）の形成
ａ）ＤＢＵを用いる場合：
出発糖（１．９９ｍｍｏｌ）及びトリクロロアセトニトリル（６０１μＬ、５．８７ｍｍｏｌ）の５ｍＬ  乾燥ジクロロメタン溶液を室温にて３０分間攪拌した。次いで、反応混合物を０℃まで冷却し、そしてＤＢＵ（１００μｍｏｌ）を添加した。完結するまで攪拌し続けた（基質に依存して、０℃〜２０℃にて、攪拌を行った）。反応混合物を、その体積が２分の１になるまで濃縮し、シリカゲルのショートプラグ（ｓｈｏｒｔ  ｐｌｕｇ  ｏｆ  ｓｉｌｉｃａ  ｇｅｌ）上へ直接負荷し、シリカゲルクロマトグラフィーによって精製した。生成物形成についての代表的な収率は、７８〜９５％の間で変化した。
【０１１１】
ｂ）Ｋ2ＣＯ3を用いる場合：
出発糖（１．９９ｍｍｏｌ）及びトリクロロアセトニトリル（６０１μＬ、５．８７ｍｍｏｌ）の５ｍＬ乾燥ジクロロメタン溶液を室温にて３０分間攪拌した。次いで、反応混合物を０℃まで冷却し、そして無水Ｋ2ＣＯ3（１９．９ｍｍｏｌ）を添加した。完結するまで反応物を０℃にて攪拌し、次いでセライト（登録商標）パッドを通して濾過した。濾液をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、そして蒸留した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７８〜９５％の間で変化した。
【０１１２】
標準操作手順  ２６：Ｍｉｔｓｕｎｏｂｕ条件下における６−Ｏ−ｐ−メトキシフェニル基の部位選択的導入
出発糖（１３．５２ｍｍｏｌ）、４−メトキシフェノール（２０．３ｍｍｏｌ）及びトリフェニルホスフィン（２０．３ｍｍｏｌ）の８５ｍｌ  乾燥ジクロロメタン溶液を、０℃にて４５分間攪拌した。０℃にてＤＥＡＤ−試薬（２２．９ｍｍｏｌ）を添加した後、さらに、反応混合物を室温にて完結するまで攪拌し、セライト（登録商標）パッドを通して濾過し、ジクロロメタンで希釈し、そして１０％水性ＮａＨＣＯ3／ＮａＯＨ溶液（１／１）、１０％クエン酸水溶液及び水性飽和ブライン溶液で抽出した。有機層をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、そして濃縮した。シリカゲルクロマトグラフィーによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７０〜８９％の間で変化した。
【０１１３】
標準操作手順  ２７：ｐ−メトキシフェニルエーテルの開裂
出発原料（１．１８ｍｍｏｌ）を３０ｍｌアセトニトリル及び７．５ｍｌ水に溶解し、０℃まで冷却した。続いて、ＣＡＮ（３．８３ｍｍｏｌ）を添加し、そして完結するまで０℃にて攪拌し続けた。反応混合物をエチルアセテートで希釈し、そして水で抽出した。固体ＮａＨＣＯ3の添加によって、水層をアルカリ性にし、そしてエチルアセテートで逆抽出した（ｂａｃｋ  ｅｘｔｒａｃｔｅｄ）。混合有機層を飽和水性ＮａＨＣＯ3 溶液及び飽和ブライン溶液で抽出し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、そして蒸留した。シリカゲルクロマトグラフィーによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７３〜８９％の間で変化した。
【０１１４】
標準操作手順  ２８：ｐ−メトキシベンジルエーテルの開裂
出発原料（０．６０ｍｍｏｌ）を２７ｍｌアセトニトリル及び３．０ｍｌ水に溶解し、０℃まで冷却した。続いて、ＣＡＮ（４．５当量）を添加し、０℃〜室温にて完結するまで攪拌し続けた。反応混合物をエチルアセテートで希釈し、そして水で抽出した。固体ＮａＨＣＯ3の添加によって水層をアルカリ性にし、そしてエチルアセテートを用いて逆抽出した。混合有機層を飽和水性ＮａＨＣＯ3溶液及び飽和ブライン溶液で抽出し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、そして蒸留した。シリカゲルクロマトグラフィーによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７３〜８５％の間で変化した。
【０１１５】
標準操作手順  ２９：２，３−環式カルバメートの生成
攪拌された出発原料（３．５６ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１００ｍｌ）溶液及び１０％ＮａＨＣＯ3水溶液（７５ｍｌ）へ、トリホスゲン（１．２５ｍｍｏｌ）の１０ｍｌ乾燥ジクロロメタン溶液を添加した。反応物を、室温にて、完結するまで攪拌した。有機層を水で洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥し、濾過し、そして濃縮した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーのいずれかによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７５〜９５％の間で変化した。
【０１１６】
標準操作手順  ３０：Ｎ−フタロイル基の開裂
Ｎ−フタロイル化された出発原料（Ｎ−ｐｈｔｈａｌｏｙｌａｔｅｄ  ｓｔａｒｔｉｎｇ  ｍａｔｅｒｉａｌ）（４５．９ｍｍｏｌ）をｎ−ブタノール（２００ｍｌ）中に溶解し、そして１，２−ジアミノエタン（５０ｍｌ）を用いて１００℃にて処理した。１００℃にて完結するまで攪拌した後、反応混合物を真空中で濃縮し、トルエンで３回共蒸留し、そして高真空下において乾燥した。シリカゲルクロマトグラフィーによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、７８〜９２％の間で変化した。
【０１１７】
標準操作手順  ３１：還元末端（ｒｅｄｕｃｉｎｇ  ｅｎｄ）でのチオクレシルエーテルの導入
１−Ｏ−グリコシルアセテート（１０．４８ｍｍｏｌ）及びｐ−チオクレゾール（１２．５８ｍｍｏｌ）の乾燥ジクロロメタン（３０ｍｌ）溶液を、０℃にて攪拌し、続いて５分間かけて三フッ化ホウ素ジエチルエーテル複合体（１２．５８ｍｍｏｌ）を添加することによって、活性化させた。完了するまで攪拌し続け（０℃→２０℃）、そしてトリエチルアミン（１４．０ｍｍｏｌ）の添加によって反応を停止した。反応混合物をジクロロメタンで希釈し、そして飽和ＮａＨＣＯ3−溶液、水、及び飽和ブライン溶液で抽出し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、そして真空中で蒸留した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、８１〜９２％の間で変化した。
【０１１８】
標準操作手順  ３２：チオグリコシドを用いたグリコシル化
ａ）ＮＩＳで促進されるグリコシル化（ＮＩＳ−ｐｒｏｍｏｔｅｄ  ｇｌｙｃｏｓｙｌａｔｉｏｎ）
２０ｍｌの乾燥溶媒（例えば、ＣＨ3ＣＮ、ＣＨ2Ｃｌ2、トルエン、エーテル）中のグリコシルアクセプター（１ｍｍｏｌ）、チオグリコシド（１ｍｍｏｌ）、及び１．０ｇの新たに活性化したモレキュラーシーブ（ｆｒｅｓｈｌｙ  ａｃｔｉｖａｔｅｄ  ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  ｓｉｅｖｅｓ）の混合物を、４５分間、室温にて攪拌し、そして反応温度まで冷却した。続いて、Ｎ−ヨードスクシンイミド（１．７ｍｍｏｌ）を添加し、そして２０分間、反応温度にて攪拌し続けた。促進剤（ｐｒｏｍｏｔｏｒ）としてＬｅｗｉｓ酸（例えば、ＴｆＯＨ、８５−１７０μｍｏｌ）を添加した後、反応温度にて、完結するまで攪拌し続けた。反応混合物をトリエチルアミンでクエンチし、セライト（登録商標）パッドを通して濾過し、そして１０％水性ＫＨＣＯ3／Ｎａ2Ｓ2Ｏ3溶液、水及び飽和ブライン溶液で抽出し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、そして蒸留した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、６５〜８５％の間で変化した。
【０１１９】
ｂ）ＤＭＴＳＴで促進されるグリコシル化（ＤＭＴＳＴ  ｐｒｏｍｏｔｅｄ  ｇｌｙｃｏｓｙｌａｔｉｏｎｓ）
２０ｍｌの乾燥溶媒（例えば、ＣＨ3ＣＮ、ＣＨ2Ｃｌ2、トルエン、エーテル）中のグリコシルアクセプター（１ｍｍｏｌ）、チオグリコシド（１ｍｍｏｌ）、及び１．０ｇの新たに活性化したモレキュラーシーブの混合物を、４５分間、室温にて攪拌し、そして反応温度まで冷却した。続いて、ＤＭＴＳＴ（３−５当量）を添加し、そして反応温度にて、完結するまで攪拌し続けた。反応混合物をトリエチルアミンでクエンチし、セライト（登録商標）パッドを通して濾過し、そして水性ＮａＨＣＯ3−溶液、水及び飽和ブライン溶液で抽出し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥し、真空中で濃縮し、そしてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製した。生成物形成についての代表的な収率は、５０〜８５％の間で変化した。
【０１２０】
標準操作手順  ３３：トリクロロアセトイミデート（ｔｒｉｃｈｌｏｒｏａｃｅｔｉｍｉｄａｔｅｓ）を用いるグリコシル化
トリクロロアセトイミデート（１．５４ｍｍｏｌ）、グリコシルアクセプター（１．１３ｍｍｏｌ）、及び新たに活性化したモレキュラーシーブ（１．０ｇ）の無水溶媒（例えば、ＣＨ3ＣＮ、ＣＨ2Ｃｌ2、トルエン、エーテル、２０ｍＬ）懸濁液を、１時間、室温にて攪拌し、そして反応温度まで冷却した。続いて、触媒量の促進剤（例えば、ＴＭＳＯＴｆ、０．０１−０．１当量）を添加し、そして反応温度にて完結するまで攪拌し続けた。反応をトリエチルアミンでクエンチし、そしてセライト（登録商標）パッドを通して濾過した。混合有機層を水性ＮａＨＣＯ3−溶液及び飽和ブライン溶液で洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥し、真空中で濃縮し、そしてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製した。生成物形成についての代表的な収率は、５０〜８５％の間で変化した。
【０１２１】
標準操作手順  ３４：２，３−シクロカルバモイルで保護されたｐチオクレシルグリコシドをグリコシルドナーとして用いるグリコシル化
−７８℃にて、新たに活性化したモレキュラーシーブ３Åを含むＡｇＯＴｆ（０．２ｍｍｏｌ）の乾燥ジクロロメタン（２ｍｌ）混合物へ、乾燥ジクロロメタン（１ｍｌ）中のＰｈＳＣｌ（０．２ｍｍｏｌ、２当量）を滴下した。−７８℃にて１５分間攪拌した後、チオグリコシド（０．１ｍｍｏｌ、１当量）及びＤＴＢＭＰ（０．２ｍｍｏｌ、２当量）の乾燥ジクロロメタン（２ｍｌ）溶液をゆっくり添加した。−７８℃にて、さらに１５分間攪拌した後、乾燥ジクロロメタン（１ｍｌ）中のグリコシルアクセプター（０．２ｍｍｏｌ、２当量）をゆっくり添加し、完結するまで攪拌し続けた。反応を飽和水性ＮａＨＣＯ3溶液（１ｍｌ）でクエンチし、室温まで加温し、ジクロロメタンで希釈した。有機層をＭｇＳＯ4上で乾燥し、濾過し、そして蒸留した。シリカゲルクロマトグラフィーによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、６０〜９０％の間で変化した。
【０１２２】
標準操作手順  ３５：Ａｌｌｏｃ−基の導入
出発原料（２ｍｍｏｌ）、乾燥ピリジン（５ｍｍｏｌ）及び乾燥ＴＨＦ（５ｍｌ）の溶液を０℃まで冷却した。続いて、アリルクロロホルメート（２．２ｍｍｏｌ）を滴下し、完結するまで攪拌し続けた。反応混合物をジクロロメタンで希釈し、続いて、１０％クエン酸水溶液、飽和ＮａＨＣＯ3溶液、水及び飽和ブライン溶液で洗浄した。有機層をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、濾過し、そして蒸留した。結晶化又はシリカゲルクロマトグラフィーによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、８０〜９５％の間で変化した。
【０１２３】
標準操作手順  ３６：Ａｌｌｏｃ−基の開裂
アリルオキシカルボネート（１．１７ｍｍｏｌ）、ジメドン（１．３３ｍｍｏｌ）及びＰｄ（Ｐｈ3Ｐ）4（０．３０ｍｍｏｌ）の混合物を乾燥ＴＨＦ（６０ｍｌ）中に溶解し、そしてＡｒ雰囲気下において反応が完了するまで攪拌した。反応混合物を真空中で濃縮し、そしてシリカゲルクロマトグラフィーによって精製した。生成物形成についての代表的な収率は、７８〜９７％の間で変化した。
【０１２４】
標準操作手順  ３７：Ｌｅｗｉｓ酸で媒介されるベンジル化
出発原料（１ｍｍｏｌ）及びベンジルトリクロロアセトイミデートの乾燥ヘキサン／ジクロロメタン（１０ｍｌ、２／１）攪拌混合物へ、Ｌｅｗｉｓ酸（０．０１−０．０５当量、例えば、ＴＭＳＯＴｆ、ＴｆＯＨ）を添加し、そして室温にて完結するまで攪拌し続けた。この反応物をトリエチルアミンでクエンチし、そして濃縮した。シリカゲルクロマトグラフィーによって、最終精製を成し遂げた。生成物形成についての代表的な収率は、５０〜９２％の間で変化した。
【０１２５】
標準操作手順  ３８：穏やかな塩基性条件下でのベンジル化
出発原料（３．４９ｍｍｏｌ）を乾燥ＤＭＳＯ（２０ｍｌ）中に溶解し、０℃まで冷却した。攪拌溶液へ臭化ベンジル（３．５当量／ＯＨ−基）、酸化バリウム（１．５当量／ＯＨ−基）、触媒量のＴＢＡＩ（０．０５当量／ＯＨ−基）及び水酸化カリウム（３．５当量／ＯＨ−基）を連続的に添加した。０℃〜室温において、完結するまで攪拌し続けた。反応物をメタノールでクエンチし、さらに３０分間攪拌した。エーテルで希釈した後、有機層を水及びブライン溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、そして真空中で濃縮した。シリカゲルクロマトグラフィーによって、最終精製を成し遂げた。
【０１２６】
標準操作手順  ３９：水性条件下におけるエステル開裂
出発原料（０．３ｍｍｏｌ  エステル基）を１１．８ｍｌの水とＴＨＦとの混合物（３：７）に溶解し、０℃まで冷却し、そして１Ｍ水性ＮａＯＨ−溶液（５．０ｍｌ）と反応させた。完結するまで攪拌し続け、反応混合物を１０％  水性ＨＣｌ−溶液でｐＨ９．５まで処理した（ｔｉｔｕｒａｔｅｄ）。ＴＨＦの蒸発後、混合物を凍結乾燥し、そして残った残渣をシリカゲルクロマトグラフィーによって精製し、生成物を得た。生成物形成についての代表的な収率は、８５〜９５％の間で変化した。
【発明を実施するための最良の形態】
【０１２７】
実施例1：N-アセチルグルコサミンからの構成ブロック（building block）A-1及びA-2の合成
【０１２８】
【化２３】
2005505565.tif 000324
【０１２９】
実施例１：N-アセチルグルコサミンからの構成ブロック（building block）A-1及びA-2の合成，収率（yields）はR=Hについて以下のように報告された、条件；a) Amberlite IR 120（イオン交換樹脂）(H+)（登録商標）, MeOH, 60℃, (70 %); b) 1M NaOH, 120℃; c) 1. SOP 10; 2. Ac2O, ピリジン; 3. NaOMe, MeOH (70 %, 4 ステップ); d) SOP 1 (R=Hについて91 %) 又はR = OMeについてSOP 2; e) SOP 11，（95%）; f) SOP 12, (85 %, 2 ステップ); g) SOP 7, (91 %); h) SOP 4, (91 %); i) SOP 17, (82 %); j) SOP 5.
A-1-iの調製：
N-アセチル-2-デオキシ-α/β-D-グルコピラノシド（8.5g，38.4mmol）を、100mlの乾燥メタノール（dry methanol）中に懸濁した。続いて、12.0gのAmberlite IR120（登録商標）イオン(iron)交換樹脂（H+−型）を加え、該反応混合物を65℃にて70時間、還流した。25℃にまで冷却した後、イオン(iron)交換樹脂を濾過によって除去し、メタノールで数回抽出した。この混合メタノール層をトリエチルアミンで中和し、in vacuoにて濃縮した。この粗製残渣を、結晶化によって精製し、70%収率（α/β−混合物）で標記化合物を提供した。
【０１３０】
A-1-iiiの調製：
メチルグルコシドA-1-i（20.6mmol）を100mlのNaOH水溶液（１M）に懸濁し、そして完了まで120℃で還流しながら攪拌した。冷却し、１０％HCl水溶液で中和した後、該混合物をin vacuoにて濃縮し、粗製A-1-iiを200mlメタノールに懸濁して、完了まで50℃（pH〜9.0）にてN-[(1,3-ジメチル-2,4,6 (1H,3H,5H)-トリオキソピリミジン-5-イリデン) メチル]-N',N''-ジメチルアミン（23.6 mmol）と反応させた。蒸発及び乾燥後、完了まで、粗製A-1-iiiを150mlのアセチル化混合物（ピリジン/Ac2O，2/1，v/v）と反応させ、in vacuoにて濃縮し、トルエンと共蒸発（coevaporation）させて乾燥した。この残渣を、酢酸エチルに懸濁し、水、10%水性HCl、飽和NaHCO3水溶液及びH2Oで抽出し、Na2SO4上で乾燥して濃縮した。この粗製残渣を、乾燥メタノールに溶解させ、触媒量のNaOMeと反応させた。完了後、該反応物をAmberlite IR120（登録商標）で中和し、濾過した。この有機層を蒸発及び乾燥させて、70%収率（４ステップ全体）で標記化合物A-1-iiiを提供した。
【０１３１】
A-1-iv-aの調製：
アセトニトリル（200ml）中のメチル-2-デオキシ-2-N-[-1(1,3-ジメチル-2,4,6(1H,3H,5H)-トリオキソピリミジン5-イリデン)メチル]-α-D-グルコピラノシドA-1-iii（16.0g，44.5mmol）を、ベンズアルデヒドジメチルアセタール（14.0ml，92.3mmol）及び触媒量のp-トルエンスルホン酸1水和物と反応させた。55℃にて２時間後、該混合物を中和し、蒸発させた。残った残渣を抽出、洗浄及び蒸発させた。収率：18.3 g (92 %), Rf = 0.20 (1,2-ジクロロエタン/酢酸エチル = 7/3)。
【０１３２】
A-1-v-aの調製：
DMF（50ml）中のメチル-4,6-O-ベンジリデン-2-デオキシ-2-N-(1-(1,3-ジメチル-2,4,6(1H,3H,5H)-トリオキソピリミジン5-イリデン)メチル(-α-D-グルコピラノシド A-1-iv-a (18.30 g, 40.90 mmol) を、エチレンジアミン（20ml）と室温にて反応させた。35分間攪拌した後、該混合物を濃縮した。収率：10.90 g (94.7 %)，Rf = 0.18 （クロロホルム/メタノール = 9/1）。
【０１３３】
A-1-vi-aの調製：
アセトニトリル（100mL）中のメチル-2-アミノ-4,6-O-ベンジリデン-2-デオキシ-α-D-グルコピラノシド(7.5 g, 26.7 mmol) 及び 4-N,N'-(ジメチルアミノ)ピリジン(14.5g)の溶液に、TfN3−溶液（85ml）を室温にて加えた。この反応混合物を濃縮し、残渣をショートシリカゲルパッド（short silica gel pad）を通す濾過によって精製した。収率：7.00g（85.3%），Rf＝0.18（クロロホルム/メタノール＝9/1）
A-1-vii-aの調製：
N,N'-ジメチルホルムアミド (50mL)中のメチル2-アジド-2-デオキシ-4,6-ベンジリデン-(-D-グルコピラノシド A-1-vi-a (10.87g, 35.40mmol) を NaH (95 %, 0.92g, 36.4mmol) 及び臭化ベンジル(5.47 ml, 45.9 mmol)と反応させた。 完了後、過剰のNaHをクエンチし、次いで濃縮した。残渣を抽出し、洗浄及び濃縮した。 収率：12.93 g (92.0 %), Rf = 0.37（ペトロリウムスピリット/酢酸エチル= 3/1）。
【０１３４】
A-1の調製
ジクロロメタン(50 mL) 及びピリジン(10 mL)中のメチル-2-アジド-3-O-ベンジル-2-デオキシ-α-D-グルコピラノシド(9.87g, 31.9mmol) を、塩化ベンゾイル(3.72mL, 32.04 mmol)で−45℃ にて2時間処理した。 この反応物を濃縮し、残渣を抽出して、洗浄及び蒸発を行った。 収率：10.78 g (81.7 %), Rf = 0.31 (ペトロリウムスピリット/ 酢酸エチル= 1/1)。
【０１３５】
化合物A-1
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ=8.03 (d, 2 H, アリール), 7.57 (m, 1H, アリール), 7.45-7.29 (m, 7H, アリール), 4.93 (d, 1H, Jgem = 10.8 Hz, OCH2),  4.82 (d, 1H, Jgem = 10.8 Hz, OCH2),  4.81 ( d, 1H, J1,2 = 3.6 Hz, H-1α), 4.73 (dd, 1H, J5,6a = 4.4 Hz, Jgem = 12.0 Hz, H-6a), 4.47 (dd, 1H, J5,6b = 2.0 Hz, H-6b), 3.85 ( dd, 1H, J3,4 = 8.8 Hz, H-3), 3.57 ( ddd, 1H, J4,5 = 10.0 Hz, H-4), 3.45 (s, 3H, OMe), 3.37 ( dd, 1H, J2,3 = 10.0 Hz, H-2),  2.80 (bs, 1H, 4-OH)
実施例2：構成ブロックA-3及びA-4の合成
【０１３６】
【化２４】
2005505565.tif 000325
【０１３７】
実施例２：構成ブロックA-3及びA-4の合成，条件：a) SOP 7, (R = Hについて72 %); b) SOP 4, (82 %);  c) SOP 17, (84 %); d) SOP 5.
化合物A-3：  
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 10.16 (dd, 1 H, JNH,2 = 9.4 Hz, J NH, =C-H = 14.0 Hz, NH), 8.11 (d, 1H, =C-H), 7.68-7.22 (3m, 8H, Aryl), 4.84 ( d, 1H, J1,2 = 3.5 Hz, H-1α), 4.83 (dd, 1H, J6a, 6b = 12.3 Hz, J5,6a = 3.5 Hz, H-6a), 4.73 (d, 1H,  Jgem = 11.7 Hz, OCH2), 4.46 (dd, 1H, J5,6b = 2.1 Hz, H-6b), 3.91 (m, 1H, H-5), 3.72 (dd, 1H, J3,4〜J2,3 = 8.8  Hz, H-3), 3.57 (ddd, 1H, J4,5 = 9.5 Hz, H-4), 3.48 (s, 3H, OMe), 3.38 (ddd, 1H, J2,3 = 10.5 Hz, H-2), 3.32 (s, 3H, NMe), 3.31 (s, 3H, NMe), 3.05 (bs, 1H, 4-OH).
実施例3：L-ido形態グリコシル供与体B-1の合成
【０１３８】
【化２５】
2005505565.tif 000326
【０１３９】
実施例3：構成ブロックB-1の合成，条件：a) SOP 7, (95%); b) 60% 水性酢酸, 60oC (90%); c) 塩化メタンスルフォニル, ピリジン, 0oC-RT (87 %); d) 酢酸セシウム, Ac2O, 120oC (95%); e) SOP 22, (92%); f) 1. 90% TFA, 0oC; 2. Ac2O, ピリジン; 3. SOP 31, (73%, 3 ステップ); g) SOP 22, (98%); h) SOP 3, (92%); i) SOP 18, (98%); j) 80% 酢酸, 100oC (98%); k) SOP 26, (89%); l) SOP 23, (98%).
B-1-iiiの調製：
B-1-ii（15.60mmol）を60%水性酢酸（50ml）に溶解させ、完了まで60℃にて攪拌した。固体NaHCO3で中和した後、該混合物を蒸発させ、そしてトルエンと共蒸発させた。粗製B-1-iiiをCHCl3/H2Oに溶解し、有機層を分離して、Na2SO4上で乾燥させ、蒸発させた。残った残渣をショートシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、B-1-iiiを90%（4.36g）で得た。
【０１４０】
B-1-ivの調製：
17.72mmolのB-1-iiiを25mlの乾燥ピリジン中に溶解し、これに塩化メシル（mesyl）（塩化メチルスルフォニル，42.5mmol）を、０℃にて滴下した。該混合物を、完了まで4℃にて攪拌し、その後、温水（50℃，90ml）中に注ぎ入れ、そして濾過によって沈殿を分離した。乾燥した後、87%収率（7.19g）でB-1-ivを得た。
【０１４１】
B-1-vの調製：
B-1-iv（6.43mmol）及び酢酸セシウム（64.3mmol）を、25mlの無水酢酸に懸濁し、完了まで125℃にて還流した。該反応混合物をin vacuoにて濃縮し、トルエンと共蒸発し、残渣を酢酸エチル／H2O（1/1）から抽出させた。この有機層を回収し、飽和NaHCO3水溶液及び飽和食塩水で洗浄して、Na2SO4上で乾燥させ、蒸発させた。精製は、シリカゲルクロマトグラフィーによって行われた。収率：2.68g (95%)
B-1-viiの調製：
B-1-vi（5.61mmol）を、水性TFA（90%，15ml）中に溶解させ、完了まで0℃にてさらに攪拌した。該反応混合物を、NaOH水溶液で0℃にて中和し、in vacuoにて濃縮及び乾燥した。この残渣を90mlのアセチル化混合物（ピリジン/無水酢酸=2/1）及び50mlジクロロメタン中に0℃にて懸濁し、そして完了までさらに攪拌した。in vacuoでの濃縮及びトルエンとの共蒸発の後、該残渣を、酢酸エチル/H2O（1/1）中に溶解し、この有機層を回収し、そして10%クエン酸水溶液、飽和NaHCO3水溶液及び食塩水で洗浄して、Na2SO4上で乾燥させ、蒸発させた。この粗製残渣及びp-チオクレゾール（6.0mmol）を、40mlの無水ジクロロメタン中に溶解させ、そして0℃まで冷却し、BF3xOEt2（8.41mmol）と反応させ、そして室温（rt）にて完了までさらに攪拌した。この反応を、飽和NaHCO3溶液で停止し、この有機層を水で洗浄して、Na2SO4上で乾燥させ、そして蒸発させた。シリカゲルクロマトグラフィーによって最終精製を行い、３ステップ全体で73%でB-1-viiを生成した。
【０１４２】
B-1-xiの調製：
B-1-x（8.0mmol）を80%水性AcOHに溶解し、完了まで100℃にて加熱した。該混合物を、室温まで冷却し、固体NaHCO3で中和し、そして酢酸エチル/水（1/1）中に溶解させた。この水層の除去の後、有機層をMgSO4上で乾燥させ、そして蒸発乾固し、B-1-xiを98%収率で提供した。
【０１４３】
化合物Ｂ−１：
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 8.07 (d, 2H, アリール), 7.57-7.30 (m, 10H, アリール), 7.10 (d, 2 H, アリール), 6.88-6.81 (m, 4H, Mp), 5.55 (d, 1H, J1,2 < 1.5 Hz,H-1β), 5.45 (m, 1H, H-2), 5.26 (ddd, 1H, H-5), 5.13 (m, 1H, H-4), 4.91 (d, 1H, Jgem = 12.1 Hz, OCH2), 4.78 (d, 1H, Jgem = 12.1 Hz, OCH2), 4.16 (dd, 1H, Jgem = 9.6 Hz, J5,6a = 7.6 Hz, H-6a), 4.08 (dd, 1H, J5,6b = 5.2 Hz, H-6b), 3.93 (m, 1H, H-3), 3.77 (s, 3H, OCH3), 2.58-2.36 (m, 4H, (CH2)2 Lev), 2.32 (s, 3H, SCH3), 2.05 (s, 3H, CH3C=O).
実施例4：グリコシル供与体B-２の合成
【０１４４】
【化２６】
2005505565.tif 000327
【０１４５】
実施例4：L-ido形態グリコシル供与体B-２の合成;a) SOP 2; b) SOP 18; c) SOP 5; d) SOP 23.
実施例5：構成ブロックC-1，C-1a及びC-1bの合成
【０１４６】
【化２７】
2005505565.tif 000328
【０１４７】
実施例5：構成ブロックC-1，C-1a及びC-1bの合成，条件: a) SOP 19; b) SOP 13, (78 %, 2 ステップ); c) SOP 8, (91 %); d) SOP 22; e) SOP 2, (85%, C-1-viについて２ステップ ); f)  SOP 18; g) SOP 5, (75 %, C-1について２ステップ).
C-1-iiaの調製：
0℃にてピリジン (50ml)中のメチル2-アジド-2-デオキシ-1-チオ-β-D-グルコピラノシド (10g, 42.50 mmol) に無水酢酸(20g)を加え、そして該反応物を１時間攪拌した。 この反応混合物を、蒸発乾固させ、この残渣を抽出して標記のトリアセテート (15.23g, 定量的)，Rf=0.7 (CHCl3/石油エーテル，1:1)を与えた。
【０１４８】
C-1-iiiの調製：
湿アセトン（wet acetone）（200ml）中のメチル3,4,6-トリ-O-アセチル-2-アジド-2-デオキシ-1-チオ-β-D-グルコピラノシド（14.1g，39 mmol）溶液にNBS (3当量)を加えた。その結果生じた混合物を、２時間攪拌させた。その後、この混合物をクエンチし、濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーによって精製して標記のヘミアセタールをオイル（oil） (10.1g, 78%), Rf = 0.5 (EtOAc/石油エーテル，1:1)として与えた。
【０１４９】
C-1-viの調製：
アセトニトリル/DMF (200ml, 5:3) 中の2-アジド-2-デオキシ-β-D-グルコピラノシルtert-ブチルジフェニルシラン(5.5g,12.42 mmol)、4-メトキシベンズアルデヒドジメチルアセタール(4.4g, 24mmol)及び 4-トルエンスルフォン酸 (100mg)の混合物を、60℃にて１時間加熱した。その後、この反応混合物を中和及び蒸発して、オイルとして粗製化合物を与えた。この残渣を、シリカゲルクロマトグラフィーによって精製して収率(6.7g, 96%, C-1-ivから85%); Rf = 0.8 (ジクロロメタン/石油エーテル; 10:2)を与えた。
【０１５０】
C-1-viiの調製：
DMAP (1.63g, 13.2mmol)及び塩化ベンゾイル(1.7g, 12.1mmol) の混合物、ならびに1,2-ジクロロエタン(100mL)中の2-アジド-2-デオキシ-4,6-O-(4-メトキシベンジリデン)-β-D-グルコピラノシル tert-ブチルジフェニルシラン (6.7g, 11.9mmol)を、60℃にて１時間、攪拌した。この反応混合物をクエンチし、抽出し、洗浄及び濃縮して粗製残渣を与えた。該残渣を、シリカのプラグに通して、生成物(5.5g, 69%); Rf = 0.7 (ジクロロメタン／石油エーテル; 4:1)を与えた。
【０１５１】
C-1の調製:
0℃にて2-アジド-2-デオキシ-3-O-ベンゾイル-4,6-O-(4-メトキシベンジリデン)-β-D-グルコピラノシルtert-ブチルジフェニルシラン (10g, 15mmol)、ソディウムシアノボロハイドライド(5g, 75.6mmol) 及び DMF(200mL)中のモレキュラーシーブの混合物に、0℃でトリフルオロ酢酸(28g, 247mmol) を加え、そしてその後、室温にて終夜反応させた。。この反応混合物をクエンチし、濾過及び濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィーによって精製して、標記の化合物(7.0g, 70% ), Rf = 0.4 (酢酸エチル／石油エーテル, 3:7)を与えた。
【０１５２】
化合物 C-1：
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 8.08 (d, 2 H, アリール), 7.72 (m, 4 H, アリール), 7.59 (m, 1 H, アリール), 7.47 (m, 3 H, アリール), 7.42 (m, 2 H, アリール), 7.34 (m, 3 H, アリール), 7.13 (d, 2 H, Mpm) 6.83 (d, 2H, Mpm), 4.96 (dd, 1 H,  J2,3〜J3,4 = 9.7 Hz, H-3), 4.53 (d, 1 H, J1,2 = 7.6 Hz, H-1β), 4.37 (2d, 2 H, OCH2), 3.83 (ddd, 1 H, H-4), 3.79 (s, 3 H, OCH3), 3.65 (dd, 1 H, H-2), 3.53 (dd, 1 H, Jgem = 10.8 Hz, J5,6a = 4.1 Hz, H-6a), 3.46 (dd, 1 H, J5,6b = 4.1 Hz, H-6b), 3.12 (m, 1 H, H-5), 3.02 (d, 1 H, J4,OH = 3.5 Hz, 4-OH), 1.12 (s, 9 H, C(CH3)3).
実施例6：構成ブロックC-2の合成：
【０１５３】
【化２８】
2005505565.tif 000329
【０１５４】
実施例６：構成ブロックC-2の合成，条件：a) SOP 1, (R=Smeについて90%); b) SOP 18, (R=Smeについて87%); c)  SOP 4, p-TosOH, MeOH, CH3CN (R=Smeについて86%); d)  SOP 17, (R=Smeについて92%); e) SOP 13, (94%); f)  SOP 8, (82%).
化合物C-２
1H-NMR (400 MHz, CDCl3): δ= 8.09 (d, 2 H, アリール), 7.97 (d, 2 H, アリール), 7.72 (m, 4 H, アリール), 7.60 (m, 1 H, アリール), 7.50-7.27 (m, 11 H, アリール), 4.98 (dd, 1 H, J2,3〜J3,4 = 9.7 Hz, H-3), 4.58 (d, 1 H, J1,2 = 7.8 Hz, H-1β), 4.51 (dd, 1 H, Jgem = 11.3 Hz, J5,6a = 4.7 Hz, H-6a), 4.36 (dd, 1 H, J5,6b = 2.2 Hz, H-6b), 3.72-3.68 (m, 2 H, H-2, H-4), 3.31 (m, 1 H, H-5), 3.23 (d, 1 H, J4,OH = 4.5 Hz, 4-OH), 1.13 (s, 9 H, C(CH3)3).
実施例7：6-Oベンゾイル又は6-O-p-メトキシベンジル保護を含む、数個のカルバモイル化構成ブロックC-3aからC-3ｄ及びC4aからC-4dの合成
【０１５５】
【化２９】
2005505565.tif 000330
【０１５６】
実施例7：6-Oベンゾイル又は6-O-p-メトキシベンジル保護を含む、数個のカルバモイル化構成ブロックC-3aからC-3ｄ及びC4aからC-4dの合成，条件： a) R = MeO: SOP 2; R = H: SOP 1, (82 %, R1 = SCres, R = H); b) SOP 30, (87 %, R1 = SCres, R = H); c)  SOP 29, (95 %, R1 = Scres, R = H); d)  SOP 4, (72 %, R1 = SCres); e)  SOP 17, (85 %); f) SOP 5.
化合物C-3a：
1H-NMR (400 MHz, CDCl3): δ= 8.06 (d, 2 H, アリール),  7.62 (m, 1 H, アリール), 7.48 (t, 2 H, アリール), 7.38 (d, 2 H, アリール), 6.97 (d, 2 H, アリール), 5.06 (bs, 1H, NH), 4.79 (dd, 1H, Jgem = 12.0 Hz, J5,6a= 3.6 Hz, H-6a), 4.70 (d, 1H, J1,2 = 9.2 Hz, H-1β), 4.63 (dd, 1H,  J5,6b = 2.0 Hz, H-6b), 4.18 (dd, 1H, J2,3〜J3,4 = 10.4 Hz, H-3), 3.89 (dd, 1H, J4,5 = 9.2 Hz, H-4), 3.72 (m, 1H, H-5), 3.23 (ddd, 1H, H-2), 3.12 (bs, 1H, 4-OH), 2.29 (s, 3H, SCH3).
実施例8：数個の6-OMp及び環式2，3-カルバモイルで保護された構成ブロックC-5aからC-5cの合成
【０１５７】
【化３０】
2005505565.tif 000331
【０１５８】
実施例8：数個の6-OMp及び環式2，3-カルバモイルで保護された構成ブロックC-5aからC-5cの合成，条件：a) SOP 18, (R1 = OTBDPSについて92 %); b) SOP 4, (82 %); c) SOP 26, (R1 = OTBDPSについて75 % ); d) SOP 30, (87 %); e)  SOP 29, (95 %).
化合物C-5c
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ = 7.69 (m, 2 H, アリール), 7.63 (m, 2H, アリール), 7.46-7.31 (m, 6H, アリール), 6.82 (bs, 4H, Mp), 5.04 ( bs, 1H, NH), 4.78 (d, 1H, J1,2 = 7.6 Hz, H-1β), 4.15-4.10 (m, 3H, Hは帰属されていない（not assigned）), 3.97 (dd, 1H, J =11.6 Hz, J = 9.6 Hz, H  帰属されていない), 3.78 (s, 3H, OMe),  3.56 (m, 1H, H  帰属されていない), 3.48 (m, 1H, H  帰属されていない), 2.80 (bs, 1H, 4-OH), 1.08 (s, 9H, C-(CH3)3).
実施例9：構成ブロックC-6-a及びC-6-bならびにC-7の合成
【０１５９】
【化３１】
2005505565.tif 000332
【０１６０】
実施例9：構成ブロックC-6-a及びC-6-bならびにC-7の合成，条件；a) SOP 12, (83 %); b) SOP 7; c) SOP 5, (75 %, 2ステップ); d) SOP 14 ( 82 %); e) SOP 8 (91 %).
化合物C-6-a：
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 7.43 (d, 2 H,アリ−ル), 7.25 (m, 4 H, アリール), 7.08 (d, 2 H, アリ−ル), 6.88 (m, 4 H,アリ−ル), 4.81 (d, 1 H, Jgem = 10.8 Hz, OCH2), 4.74 (d, 1 H, Jgem = 10.8 Hz, OCH2), 4.53 (d, 1 H, Jgem = 11.1 Hz, OCH2), 4.48 (d, 1 H, Jgem = 10.8 Hz, OCH2), 4.35 (d, 1 H, J1,2 = 10.0 Hz, H-1β), 3.82 (s, 3 H, OCH3), 3.79 (s, 3 H, OCH3), 3.76 (dd, 1 H, Jgem = 10.5 Hz, J5,6a = 5.4 Hz, H-6a), 3.70 (dd, 1 H, J5,6b = 5.4 Hz, H-6b), 3.56 (ddd, 1 H, H-4), 3.42 (m, 1 H, H-5), 3.34 (dd, 1 H, J3,4 =  8.8 Hz, H-3), 3.24 (dd, 1 H,  J2,3 = 9.4 Hz, H-2), 2.72 (d, 1 H, J4,OH = 3.5 Hz, 4-OH), 2.38 (s, 3 H, SCH3).
化合物C-7：
1H-NMR (400 MHz, CDCl3): 7.63 (d, 4 H, アリ−ル), 7.35-7.21 (m, 8H, アリ−ル), 7.08 (m, 2 H, アリ−ル), 6.83-6.78 (m, 4 H, アリ−ル), 4.72 (d, 1H, Jgem = 11.0 Hz, OCH2), 4.59 (d, 1H, Jgem = 11.0 Hz, OCH2), 4.29 (d, 1 H, J1,2 = 7.8 Hz, H-1β), 4.27 (d, 1H, Jgem = 11.7 Hz, OCH2), 4.21 (d, 1H, Jgem = 11.7 Hz, OCH2), 3.72 (s, 3 H, OCH3), 3.71 (s, 3 H, OCH3), 3.51 (ddd, 1 H, J3,4〜J4,5 = 8.6 Hz, H-4), 3.40-3.32 (m, 3 H, H-6a, H-6b, H-2), 3.05 (dd, 1 H,  J2,3 = 9.8 Hz, H-3), 2.90 (m, 1 H, H-5), 2.51 (d, 1 H, J4,OH = 2.2 Hz, 4-OH), 1.12 (s, 9 H, C(CH3)3).
実施例10：構成ブロックC-8aからC-8cの合成
【０１６１】
【化３２】
2005505565.tif 000333
【０１６２】
実施例10：構成ブロックC-8aからC-8cの合成，条件：a) SOP 7, AllBr, DMF (65 %, R=OTBDPS); b) SOP 4, (86 %, R=OTBDPS); c) SOP 26, (70 %, R=OTBDPS); d) SOP-30; e) SOP 12, (70 %, R=OTBDPSについて２ステップ).
化合物C-8c：
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 7.72 (m, 4 H, アリール), 7.43-7.16 (m, 6 H,アリール), 6.76 (m, 4H, Mp), 5.96 (m, 1 H, =CHアリル), 5.31 (m, 1 H, =CHアリル), 5.22 (m, 1 H, =CHアリル), 4.42 (d, 1 H, J1,2 = 7.6 Hz, H-1β), 4.39 (m, 1 H, OCH2 アリル), 4.23 (m, 1 H, OCH2アリル), 3.97 (dd, 1 H, Jgem = 10.0 Hz, J5,6a = 3.6 Hz, H-6a), 3.92 (dd, 1 H, J5,6b = 5.2 Hz, H-6b), 3.77 (s, 3 H, OCH3), 3.66 (ddd, 1 H, J4,5〜J3,4 = 9.4 Hz, H-4), 3.42 ( dd, 1 H, J = 9.8 Hz 及びJ = 7.8 Hz, H  帰属されていない), 3.22 (m, 1 H, H-5), 3.09 (dd, 1 H, J = 8.4 Hz及びJ = 9.6 Hz, H 帰属されていない), 2.48 (d, 1 H, J4,OH = 2.8 Hz, 4-OH), 1.12 (s, 9 H, C(CH3)3).
実施例11：構成ブロックD-1の合成：
【０１６３】
【化３３】
2005505565.tif 000334
【０１６４】
実施例11：構成ブロックD-1の合成；a) SOP 1, (95 %); b)  SOP 7, (85 %); c) SOP 13, (92 %); d)  SOP 8; e)  SOP 4, (70 %, 2ステップ); f) 1. SOP 15; 2.  SOP 16, (75 %, 2 ステップ).
化合物D-1：
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 7.72 (m, 4 H,アリール), 7.41 (m, 2 H,アリール7.32-7.25 (m, 14 H,アリール), 5.04 (d, 1 H, Jgem = 11.0 Hz, OCH2), 4.81 (m, 3 H, OCH2), 4.63 (d, 1 H, J1,2 = 7.4 Hz, H-1β), 3.88 (ddd, 1 H, J3,4〜J4,5 = 9.2 Hz, H-4), 3.70 (s, 3 H, OCH3), 3.53 (dd, 1H, J = 7.5 Hz, J = 9.0 Hz, H 帰属されていない), 3.47 (d, 1 H, J4,5 = 9.8 Hz, H-5), 3.42 (dd, 1 H, J = 8.9 Hz and J = 8.9 Hz, H 帰属されていない), 2.87 (d, 1 H, J4,OH = 2.4 Hz, 4-OH), 1.11 (s, 9 H, C(CH3)3).
実施例12：構成ブロックD-2、2-O-アリルオキシカルボニルで保護されたチオエチルグリコシドの合成
【０１６５】
【化３４】
2005505565.tif 000335
【０１６６】
実施例12：構成ブロックD-2の合成，条件：a) 1. SOP 22; 2. SOP 1; b)  SOP 7; c) 1. SOP 4; 2. TritCl, ピリジン, (ClCH2)2; 3.  SOP 23; d) 1. CrO3, H2SO4,アセトン, 0℃, 2. SOP 16; e) 1. ジメチルジオキシラン, アセトン; 2. EtSH, TFAA, CH2Cl2, 3. SOP 35.
実施例13：構成ブロックD-3の合成
【０１６７】
【化３５】
2005505565.tif 000336
【０１６８】
実施例13：構成ブロックD-3の合成，条件：a)  1.  SOP 4, Amberlite IR 120（登録商標）, H2O, 80℃; 2. SOP 18, (85 %, 2 ステップ) b) 1. SOP 21; 2. SOP 8, ( 70 %, 2ステップ); c) SOP 22, (96 %); d) 1. SOP 15; 2. SOP 16, (80 %, 2 ステップ); e)  SOP 23, (92 %); f)  SOP 9, (95 %); g) SOP 25a, (91 %).
D-3-iの調製，ステップ１：
出発材料（57mmol）及びAmberlite IR120（登録商標）イオン(iron)交換樹脂（H+−型，20g）を水（180ml）に懸濁し、完了まで80℃にて攪拌した。このイオン(iron)交換樹脂を濾過によって除去し、そして水で抽出した。この混合された水層を、トリエチルアミンで中和し、そして凍結乾燥した。
【０１６９】
化合物D-3-v：
1H-NMR (400 MHz, CDCl3): δ= 7.95 (m, 2 H,アリール), 7.68 (m, 2 H,アリール), 7.58-7.12 (m, 16 H,アリール), 5.47 (dd, J1,2 = 7.6 Hz, J2,3 = 9.6 Hz, H-2), 5.31 (dd, J3,4 = 9.6 Hz, H-4), 4.64 (d, 1H, 7.6 Hz, H-1β), 4.60 (d, 1H, Jgem = 12.0 Hz, OCH2), 4.55 (d, 1H, Jgem = 12.0 Hz, OCH2), 3.74 (dd, 1H, H-3), 3.70 (s, 3H, OCH3), 3.63 (d, 1H, J4,5 = 9.6 Hz, H-5), 2.68-2.16 (m, 4H, (CH2)2-Lev), 2.15 (s, 3H, CH3), 0.96 (s, 9H, C(CH3)3).
実施例14：共通の中間産物、4-O-レブリノイルグルカールからのブロックD供与体糖D-4からD-7の範囲（range）の合成
【０１７０】
【化３６】
2005505565.tif 000337
【０１７１】
実施例14：供与体糖としてのD-4からD-7の合成，条件：a) 1ジメチルジオキシラン, アセトン; 2. TBAF, THF; 3. SOP 35; b) 1. ジメチルジオキシラン, アセトン; 2. 4-ペンテン-1-オール, ZnCl2, CH2Cl2; 3. SOP 35; c) 1. ジメチルジオキシラン, アセトン; 2. ArSH, TFAA, CH2Cl2, (Ar = Ph, p-Tol); 3. SOP 35 又は(ClAc)2O, ピリジン, CH2Cl2 (D-6b用); d) MCPBA, CH2Cl2 ( 基質としてのD-6bについて).
実施例15：構成ブロックE-1からE-4の合成
【０１７２】
【化３７】
2005505565.tif 000338
【０１７３】
実施例15：構成ブロックE-1からE-4の合成，条件：a) SOP 8; b) SOP 7; c) SOP 9, (84% 3ステップ全体, R=SMe); d) SOP 18, (82%, R=SMe); e) 1.  SOP 13, (75%, 出発材料としてのE-1-iv-aについて); 2.  SOP 25b, (88%); f) 1. TosCl,ピリジン; 2. p-MeO-C6H4-ONa, NMP, 60℃; g)  SOP 7, (78 %, R=SMe); h) 1. SOP 14; 2. SOP 25b, (79 %, 2 ステップ, R=SMe).
E-1-i-aの調製：
20 mL DMF中のメチル2-アジド-2-デオキシ-チオ-β-D-グルコピラノシド(10g, 42.5mmol) 及びイミダゾール(4.9g, 71.25 mmol)の混合物を、tert-ブチルジフェニルクロロシラン(11.6mL, 44.63mmol)で2時間処理した。該反応混合物を濃縮、抽出、洗浄及び乾燥した。収率：23g (粗製淡黄色シロップ), Rf = 0.74 (CHCl3/メタノール = 9/1).
E-1-ii-aの調製：
50 mL DMFにおける前のステップ（the previous step）からのシリルエーテルを、 2.68g の95% NaH (106.25 mmol) 及び12.64 mL (106.25 mmol) の臭化ベンジルで、0℃にて処理した。1時間後、過剰の NaH をクエンチし、そして該反応物を濃縮、抽出、洗浄及び濃縮して、収率：28.5g (粗製黄色シロップ), Rf = 0.80 (ヘキサン／酢酸エチル =7/3)の黄色シロップを与えた。
【０１７４】
E-1-iii-aの調製：
上記反応からの粗製黄色シロップを、36.5 mL のAcOH及び106.3 mL (106.25 mmol)のTHF中TBAFの1M溶液で、一晩処理した。この反応物を濃縮し、クロマトグラフィーで精製して標記化合物を与えた。14.9g (84%, 3ステップ)  Rf= 0.36 (ペトロリウムスピリット／酢酸エチル = 7/3)
E-1-iv-aの調製：
ジクロロメタン (200 ml) 及び無水ピリジン (8.6 ml, 106.2 mmol)中のメチル2-アジド-2,3 ジ-O-ベンジル-2-デオキシ-チオ-β-D-グルコピラノシド(14.5 g, 34.9 mmol) を、塩化ベンゾイル(4.93 ml, 42.5 mmol)で0℃にて1時間処理した。この反応混合物をクエンチ、抽出、洗浄及び蒸発させた。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製して、白色固体として標記化合物を与えた。収率: 14.9 g (82 %), Rf = 0.82 (ペトロリウムスピリット／酢酸エチル= 7/3).
E-1の調製：
アセトン(50 ml)中のメチル2-アジド-6-O-ベンゾイル-2,3ジ-O-ベンジル-2-デオキシ-チオ-□-D-グルコピラノシド (8.68 g, 16.7 mmol) を、Ｎ-ブロモスクシンイミド(8.92 g, 50.12 mmol) で0℃にて1時間処理した。その後、この反応混合物をクエンチし、抽出し、洗浄し、そして蒸発させて、クロマトグラフィーによって精製された黄色シロップを提供した。収率： 6.13 g (75%), Rf = 0.57 (ペトロリウムスピリット／酢酸エチル = 7/3)。30 mlのジクロロメタン中の2-アジド-6-O-ベンゾイル-2,3ジ-O-ベンジル- 2-デオキシ-α/β-D-グルコピラノース(5g, 10.2 mmol), K2CO3 (7.0 g, 51 mmol) 及びトリクロロアセトニトリル (5.1ml, 51 mmol)の冷却混合物を２時間攪拌した。その後、該混合物を、セライト（登録商標）に通して濾過し、そしてこの濾液を濃縮及びシリカゲルのショートカラム上で精製して、アモルファスの白色固体として標記化合物を得た。収率5.69 g (88%), Rf = 0.85 (ペトロリウムスピリット／酢酸エチル= 7/3)。
【０１７５】
化合物 E-1:
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 8.73 (s, 1 H, C=NH), 8.00 (m, 2 H, アリール), 7.56 (m, 1 Hアリール), 7.43-7.25 (m, 12 H, アリール), 5.66 (d, 1H, J = 8.4 Hz, H-1β), 4.95 (d, 1H, Jgem = 10.8 Hz, OCH2), 4.87 (d, 2H, J = 10.8 Hz , OCH2), 4.62 (d, 2H, Jgem = 10.8 Hz, OCH2), 4.58 (dd, 1H, Jgem= 12.4 Hz, J5,6a = 2.0 Hz, H-6a), 4.46 (dd, 1H, J5,6b = 3.6 Hz, H-6b), 3.77-3.72 (m, 3H, H-5, 2H 帰属されていない), 3.62 (dd, 1H, J = 8.3 Hz, J = 9.7 Hz, H 帰属されていない).
化合物 E-2：
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 8.70 (s, 1 H, C=NH), 7.38-7.22 (m, 10H, アリール), 7.13 (m, 2H, アリール), 6.83 (d, 2H, Mpm), 6.44 (d, 1H, J1,2 = 3.5 Hz, H-1α), 4.93 (d, 1H, Jgem = 10.5 Hz, OCH2), 4.89 (d, 1H, Jgem = 10.5 Hz, OCH2), 4.78 (d, 1H, Jgem = 10.5 Hz, OCH2), 4.57 (d, 1H, Jgem = 11.7 Hz, OCH2), 4.51 (d, 1H, Jgem = 11.7 Hz, OCH2), 4.39 (d, 1H, Jgem = 11.7 Hz, OCH2), 4.02 (dd, 1H, J3,4〜J2,3 = 9.5 Hz, H-3), 3.98 (m, 1H, H-5), 3.86 (dd, 1H, J4,5 = 9.6 Hz, H-4), 3.76 (dd, 1H, H-2), 3.75 (s, 3H, OCH3), 3.69 (dd, 1H, J5,6a = 3.5 Hz, Jgem = 10.5 Hz, H-6a), 3.63 (dd, 1H, J5,6b = 1.8 Hz, H-6b).
実施例16：構成ブロックE-5からE-8の合成
【０１７６】
【化３８】
2005505565.tif 000339
【０１７７】
実施例16：構成ブロックE-5からE-8の合成，条件：a)  SOP 6, (85 %, R=SMe); b)  SOP 30, (86 %, R=SMe); c) SOP 10, (88 %, R=SMe); d)  SOP 18, (92 %, R=SMe); e) 1. SOP 13; 2. SOP 25b, (85 %, 2 ステップ, R=SMe); f)  SOP 7; g) 1. SOP 14; 2. SOP 25b; h) 1. TsCl, DMF; 2. p-MeO-C6H4-ONa, NMP, 60℃; i) SOP 8.
化合物E-5
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 10.20 (dd, 1 H, JNH,=C-H = 14.0 Hz, JNH,H-2 = 9.9 Hz, NH), 8.80 (s, 1 H, C=NH), 8.16 (d, 1H, =C-H), 7.99 (m, 2H, アリール) 7.58 (m, 1 H, アリール), 7.45 (m, 2 H, アリール), 7.30-7.17 (m, 10H, アリール), 6.42 (d, 1H, J1,2 = 3.6 Hz, H-1α), 4.89 (d, 1H, Jgem = 8.4 Hz, OCH2), 4.68-4.60 (m, 3H, OCH2), 4.58 (dd, 1H, J5,6a = 2.0 Hz, Jgem = 12.4 Hz, H-6a), 4.51 (dd, 1 H, J5,6b = 4.0 Hz, H-6b), 4.22 (m, 1 H, H-5), 4.03 (dd, 1 H, J3,4〜J2,3 = 9.6 Hz, H-3), 3.80 (dd, 1 H, J4,5 = 9.4 Hz, H-4),  3.70 (ddd, 1 H, H-2), 3.32 (s, 3 H, NCH3), 3.25 (s, 3 H, NCH3).
実施例17：二糖B-A-1からB-A-10を含むL-イズロン酸の調製
【０１７８】
【化３９】
2005505565.tif 000340
【０１７９】
実施例17：二糖B-A-1からB-A-10を含むL-イズロン酸の調製；a) SOP 32a, (76 %, B-A-1について); b) SOP 27, (88 %, B-A-5について); c) 1.SOP 20; 2. SOP 16, (84% B-A-7について, 2ステップ); d) SOP 24, (94 %, B-A-9について).
二糖B-A-1の形成（ステップa）
A-1（410mg，992μmol）、B-1（680mg，992μmol）及び乾燥CH2Cl2（20nL）中の新たに活性化されたモレキュラーシーブ4Å（1.0g）を、0℃にて90分間攪拌した。N-ヨードスクシンイミド（405mg，1.8mmol）を加え、20分間攪拌し続けた。トリフルオロメタンスルホン酸（１０.6μl，119.7μmol）の添加の後、該反応混合物を、完了まで（0℃から25℃まで）さらに攪拌し、そして、NaHCO3−水溶液（10%）でクエンチした。この混合物をCH2Cl2で希釈し、そしてセライト（登録商標）パッドに通して濾過した。この濾液を10%KHCO3/Na2S2O3溶液、水及び飽和食塩水で洗浄し、MgSO4上で乾燥させ蒸発させた。最終精製は、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって行われた。収率：730mg (76%)
二糖B-A-7の形成（ステップc）
二糖B-A-5（1.00g，1.15mol）を、無水DMF（7.0ml）に溶解し、そして室温にて攪拌させながら、完全にウロン酸に転換されるまでピリジニウムジクロメート（4.33g，11.5mol）と反応させた。この反応混合物を、その後、50mlの水に注ぎ、ジエチルエーテルで全体（whole）を抽出した。この混合されたエーテル層を、10%クエン酸水溶液で洗浄し、ショートシリカゲルパッドを通して濾過し、MgSO4上で乾燥させ、蒸発させて、そして高真空下で乾燥させた。この粗製残渣を、トルエン（3ml）及びメタノール（3ml）中に溶解させ、そしてTMSCHN2溶液（ヘキサン中２M）で完了するまで処理した（titurate）。過剰のTMSCHN2を酢酸の添加によって破壊し、そして該混合物を、蒸発させた。最終精製は、シリカゲルクロマトグラフィーによって行われた。収率：871mg（84%）
化合物B-A-9：
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 8.03 (m, 2H, アリール), 7.91 (m, 2H, アリール),  7.53 (m, 2H, アリール), 7.42-7.23 (m, 14H, アリール), 5.37 (d, 1H, J1,2 < 1.5 Hz, H-1'α), 5.21 (m, 1H, H-2'), 4.97 (d, 1H, J4,5 = 2.3 Hz, H-5'), 4.84 (d, 2H, Jgem = 10.8 Hz, OCH2), 4.81 (d, 1H, Jgem = 10.8 Hz, OCH2), 4.80 (d, 1H, J1,2 = 3.6 Hz, H-1α), 4.77 (1H, J5,6a = 1.8 Hz, H-6a), 4.70 (m, 2H, OCH2), 4.47 (dd, 1H, J5,6b = 4.2 Hz, Jgem = 12.3 Hz, H-6b), 4.05-3.97 (m, 3H, H-4', H-4, H-5), 3.91-3.87 (m, 2H, H-3', H-3), 3.49 (s, 3H, OCH3), 3.44 (m, 1H, H-2), 3.43 (s, 3H, OCH3).
選ばれた13C-NMR (100 MHz, CDCl3):δ= 98.73 C-1 (JCH = 172.5 Hz), 98.35 C-1' (JCH = 171.8 Hz).
実施例18：構成ブロックE-D-1からE-D-12の合成
【０１８０】
【化４０】
2005505565.tif 000341
【０１８１】
実施例18：二糖E-D-1からE-D-12の合成，条件：a) X =SMe/ ScresについてSOP 32 a/b又はX = OTCAについてSOP 33, (E-D-1 からE-1について88%, E-D-4 からE-5について,α/β混合物として84%), b) 1. SOP 9; 2. SOP 25a, (E-D-7について２ステップ全体で90 %).
E-D-1の調製：メチル (2-アジド-6-O-ベンゾイル-3,4-ジ-O-ベンジル-2-デオキシ-α-D-グルコピラノシル)-(1→4)-tert-ブチルジフェニルシリル2,3-ジ-O-ベンジル-β-D-グルコピラノシド)ウロン酸
2-アジド-6-O-ベンゾイル-2,3ジ-O-ベンジル-2-デオキシ-α/β-D-グルコピラノシル トリクロロアセトイミデート（trichloroacetimidate） (2.5 g, 3.94 mmol)及びメチル(tert-ブチルジフェニルシリル2,3-ジ-O-ベンジル-β-D-グルコピラノシド)ウロネート(1.6 g, 2.55mmol)及び50 ml ジエチルエーテル中のモレキュラーシーブ4A (2.5 g) の混合物を、TBDMSOTf (180 (l, 788.76 (mol) で-20℃ にて１時間処理した。この反応物を、クエンチし、濾過し、濃縮して、そしてその残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、所望の二糖2.48g、88%を得た。Rf= 0.67 (トルエン／酢酸エチル 9/1)
化合物 E-D-1：
E-D-1 を、-30oCで溶媒としてのエーテルおよび促進剤としてのTBDMSOTfを用いてSOP 33に従い86 %収率(α/β−混合物)で形成した。
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 8.00 (m, 2H, アリール), 7.68 (m, 4H, アリール), 7.56 (m, 1H, アリール), 7.42 (m, 4H, アリール), 7.36-7.17 (m, 24H, アリール), 5.47 (d, 1H, J1,2 = 3.8 Hz, H-1'α), 5.02 (d, 1H, Jgem = 11.4 Hz, OCH2), 4.97 (d, 1H, Jgem = 11.0 Hz, OCH2), 4.84 (m, 4H, OCH2), 4.75  (d, 1H, Jgem = 11.4 Hz, OCH2), 4.66 (d, 1H, J1,2 = 7.5 Hz, H-1β),  4.57 (d, 1H, Jgem = 10.9 Hz, OCH2), 4.45 (m, 2H, H-6'a, H-6'b), 4.15 (dd, J = 8.8 Hz and J = 9.6 Hz), 3.86 (m, 1H), 3.65 (s, 3H, OCH3, 3.68-3.58 (m, 3H), 3.55 (d, 1H, J4,5 = 10.0 Hz, H-5), 3.31 (dd, 1H, J2,3 = 10.2 Hz, H-2'),  1.12 (s, 9H, C(CH3)3).
化合物E-D-4：
E-D-4を、-30oCで溶媒としてのエーテルおよび促進剤としてのTBDMSOTfを用いてSOP 33に従い84 %収率(α/β−混合物)で形成した。
選ばれた1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 10.02 (dd, 1 H, JNH,=C-H = 14.4 Hz, JNH,H-2 = 9.6 Hz, N-H), 8.02 (m, 2 H, アリール), 7.79 (d, 1H, =C-H), 7.72-6.93 (m, 33 H, アリール), 5.60 (d, 1H, J1,2 = 3.6 Hz, H-1'α), 4.49 (d, 1H, J1,2 = 7.8 Hz, H-1β), 3.66 (s, 3 H, OCH3), 3.29 (s, 3 H, NCH3), 3.28 (s, 3 H, NCH3), 1.14 (s, 9 H, C(CH3)3).
E-D-7の調製： メチル(2-アジド-6-O-ベンゾイル-3,4-ジ-O-ベンジル-2-デオキシ-α-D-グルコピラノシル)-(1→4)-2,3-ジ-O-ベンジル-β-D-グルコピラノシルトリクロロアセトイミジル)ウロネート
酢酸 (1.74 ml, 30.45 mmol) 中のメチル(2-アジド-6-O-ベンゾイル-3,4-ジ-O-ベンジル-2-デオキシ-α-D-グルコピラノシル)-(1→4)-tert-ブチルジフェニルシリル2,3-ジ-O-ベンジル-β-D-グルコピラノシド)ウロネート(2.09 g, 1.90 mmol)溶液及びテトラブチルアンモニウムフルオライドの1M溶液(7.6 ml, 7.61 mmol)を、室温にて一晩攪拌した。この反応混合物を、その後、濃縮し、そしてその残留シロップをシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、所望のヘミアセタールを得た。収率： 1.57 g (95.8%), Rf= 0.21 (トルエン/酢酸エチル 9/1).
メチル(2-アジド-6-O-ベンゾイル-3,4-ジ-O-ベンジル-2-デオキシ-α-D-グルコピラノシル)-(1→4)-2,3-ジ-O-ベンジル-β-D-グルコピラノシル)ウロネート(594 mg, 690.70 (mol)、トリクロロアセトニトリル(280 (l, 2.74 mmol) 及びDBU (31 (l, 209.3 (mol) の8.0 mlジクロロメタン中の混合物を、0℃にて1時間攪拌した。該混合物をその後濃縮し、ショートカラムシリカゲル上で精製して標記化合物をアモルファスの白色固体として得た。収率： 662 mg (95.3 %), Rf= 0.46 (トルエン/酢酸エチル 9/1).
化合物E-D-7：
選ばれた1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 8.68 (s, 1H, C=NH), 8.00 (m, 2H, アリール), 7.56 (m, 2H, アリール), 7.43-7.23 (m, 22H, アリール), 6.48 (d, 1H, J1,2 = 4.3 Hz, H-1α), 5.59 (d, 1H, J1,2 = 3.6 Hz, H-1'α), 5.03 (1H, Jgem = 10.8 Hz, OCH2), 4.93-4.83 (m, 4H, OCH2), 4.70 (d, 1H, Jgem= 12.0 Hz, OCH2), 4.64  (d, 1H, Jgem = 12.0 Hz, OCH2), 4.60 (d, 1H, Jgem= 11.2 Hz, OCH2),  4.47 (m, 2H, H-6'a, H-6'b), 4.42 (m, 1H, 帰属されていない), 4.15 (m, 2H, 帰属されていない), 3.97 (dd, 1H, J = 8.2 Hz and  J = 10.2 Hz, 帰属されていない), 3.80 (m, 1H, 帰属されていない), 3.76 (m, 3H, OCH3), 3.72-3.64 (m, 2H, 帰属されていない), 3.30 (dd, 1H, J2,3 = 10.4 Hz, H-2').
実施例19：二糖E-D-13からE-D-44の合成
【０１８２】
【化４１】
2005505565.tif 000342
【０１８３】
実施例19：二糖E-D-13からE-D-44の合成，条件：a) a/bX = SMe/ ScresについてSOP 32 a/b又はX = OTCAについてSOP 33 (E-D-23について70 %, α/β混合物); b) 1. SOP 9; 2. SOP 25a.
化合物E-D-27:
E-D-27 を、-20oCで溶媒としてエーテル及び促進剤(promotor)としてTBDMSOTfを用いてSOP 33に従い70%収率（α/β−混合物）形成した。
選ばれた1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 7.58 (m, 2H, アリール), 7.54 (m, 2H, アリール), 7.36-7.00 (m, 23 H, アリール), 6.73 (m, 2H, アリール), 5.37 (d, 1H, J1,2 = 3.9 Hz, H-1'α),  5.12 (dd, 1H, J2,3 = 8.8 Hz, H-2), 4.63 (d, 1H, Jgem = 11.2 Hz, OCH2),  4.58 (d, 1H, Jgem = 11.2 Hz, OCH2), 4.48 (d, 1H, J1,2 = 7.3 Hz, H-1β), 3.66 (s, 3 H,  OCH3), 3.55 (s, 3 H, OCH3), 3.34 (m, 1H), 3.22 (dd, 1H, J = 3.4 Hz, J = 10.7 Hz), 1.81 (s, 3 H, OAc), 0.98 (s, 9H, C(CH3)3).ae
実施例20：代替E-D-二糖E-D-45からE-D-50の合成
【０１８４】
【化４２】
2005505565.tif 000343
【０１８５】
実施例20：代替E-D-二糖E-D-45からE-D-50の合成，条件：a) X = SMe/ScresについてSOP 32a/b又はX = OTCAについて SOP 33, ジエチルエーテル, TBDMS-OTf, -20℃ (α/β−混合物としてのE-D-45について75 %).
実施例21：三糖E-D-C-1からE-D-C-16の合成
【０１８６】
【化４３】
2005505565.tif 000344
【０１８７】
実施例21：三糖E-D-C-1からE-D-C-16の合成，条件：a) SOP 33, (α/β混合物としてE-D-C 15について70 %).
化合物E-D-C-15：
E-D-C-15を、0から20oCにおける溶媒としてのジクロロメタン及び促進剤としてのTBDMSOTfを用いてSOP 33に従い及び70 % 収率 (α/β−混合物)で形成した。
1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 7.93 (m, 2H, アリール), 7.87 (m, 2H, アリール), 7.66 (m, 2H, アリール), 7.61 (m, 2H, アリール), 7.46 (m, 2H, アリール), 7.38-6.99 (m, 32 H, アリール), 6.79 (m, 2H, アリール), 5.27 (d, 1 H, J1,2 = 3.8 Hz, H-1''α), 4.99 (dd, 1 H, J3,4 ( J2,3 = 9.5 Hz, H-3), 4.80-4.69 (m, 6 H, OCH2), 4.52 (m, 3 H, OCH2), 4.40 (d, 1H, J1,2 = 8.0 Hz, H-1β), 4.38-4.32 (m, 2 H, 帰属されていない), 4.29 (d, 1 H, J1,2 = 7.5 Hz, H-1'β), 4.15 (m, 1 H, Jgem = 12.0 Hz, OCH2), 4.02 (dd, 1 H, J4,5  = 9.6 Hz, H-4), 3.80 (2 dd, 2 H, H-3'', H-4'), 3.71, (s, 3 H, OCH3), 3.67 (m, 1 H, 帰属されていない), 3.61-3.53 (m, 2 H, H-5', H-2'), 3.46 (dd, 1 H, Jgem = 11.2 Hz, J5,6a = 2.4 Hz, H-6a), 3.41 (dd, 1H, J2,3〜J3,4 = 9.0 Hz, H-3'), 3.27 (s, 3 H, OCH3), 3.21 (dd, 1 H, J2,3 = 10.0 Hz, H-2''), 3.14 (dd, 1 H, H-2'), 3.00 (dd, 1 H, J5,6b <2.0 Hz, H-6b), 2.75 (m, 1 H, H-5) 1.05 (s, 9H,C(CH3)3).
実施例22：三糖E-D-C-17からE-D-C-32の合成
【０１８８】
【化４４】
2005505565.tif 000345
【０１８９】
実施例22：三糖E-D-C-17からE-D-C-32の合成，条件：a) SOP33
実施例23：三糖トリクロロアセトイミデートE-D-C-33からE-D-C-48の形成
【０１９０】
【化４５】
2005505565.tif 000346
【０１９１】
実施例23：三糖トリクロロアセトイミデートE-D-C-33からE-D-C-48の形成，条件：a) 1. SOP 9; 2. SOP 25, (E-D-C-47について２ステップ全体で82%
実施例24：三糖E-D-C-9からE-D-C-12及びE−D-C-49からE-D-C-60の合成
【０１９２】
【化４６】
2005505565.tif 000347
【０１９３】
実施例24：三糖E-D-C-9からE-D-C-12及びE−D-C-49からE-D-C-60の合成，条件：a) 1. SOP 33; 2. SOP 24; b) SOP 33. (D-C-5について：70 %, 2 ステップ); b) SOP 33, (α/β混合物としてE-D-C-9について78 %)
化合物D-C-5：
D-C-5 を、-20℃で溶媒としてエーテル及び促進剤としてTMSOTfを用いてSOP 33に従い、次いでSOP 24に従い70 %収率（α/β混合物として２ステップ全体）で形成した。
選ばれた1H-NMR (CDCl3中400 MHz): δ= 7.88 (m, 2H, Ar), 7.67- 7.58 (m,  5H, Ar), 7.42 (m,  2H, Ar), 7.37-7.12 (m, 16H, アリール), 6.84 (m, 3H, Ar), 5.14 (dd, 1H, J1,2 = 8.2 Hz, J2,3 = 9.5Hz,  H-2'), 4.90 (d, 1H, Jgem = 10.7 Hz, OCH2),  4.73 (d, 1H, Jgem = 11.5 Hz, OCH2),  4.65 (d, 1H, J1,2 = 8.2 Hz, H-1'β), 4.63-4.58 (m, 2H, OCH2), 4.51 (d, 1H, Jgem = 12.0 Hz, OCH2),  4.20 (d, 1H, J1,2 = 7.9 Hz, H-1β),  4.05 (d, 1H, Jgem = 11.9 Hz, OCH2), 4.02-3.95 (m, 2H, 帰属されていない),  3.81 (s, 3H, OCH3), 3.80 (s, 3H, OCH3), 3.71 (d, 1H, J4,5 = 9.9 Hz, H-5'), 3.67 (s, 3H, OCH3), 3.47 - 3.40 (m, 3H, 帰属されていない),  3.21 (dd, 1 H, J = 9.0 Hz, J = 9.8 Hz, 帰属されていない), 3.00 (dd, 1 H, J5,6b = 1.4 Hz, Jgem = 10.5 Hz, H-6b), 2.63 (m, 1 H, H-5), 2.35 (bs, 1 H, 4-OH), 1.07  (s, 9H, C(CH3)3).
化合物E-D-C-9：
E-D-C-9を、-20℃で溶媒としてエーテル及び促進剤としてTBDMSOTfを用いてSOP 33に従い、78 %収率(α/β−混合物)で形成した。
選ばれた1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 7.77 (m, 2H, アリール), 7.59, 7.54  (2m, 2 x 2H, アリール), 7.35-7.00 (m, 30 H, アリール), 6.88 (m, 2H, アリール), 6.82 (m, 2H, アリール), 6.73 (m, 2H, アリール), 5.41 (d, 1 H, J1,2 = 3.5 Hz, H-1''α), 5.19 (dd, 1 H, J2,3 ( J1,2 = 9.6 Hz, H-2'), 4.85 - 4.78 (m, 4 H, OCH2), 4.67 (m, 2H, OCH2), 4.65 (d, 1H, J1,2 = 8.5 Hz, H-1β, 帰属されていない), 4.38 (d, 1 H, Jgem = 11.1 Hz, OCH2), 4.29 (d, 1 H, Jgem = 11.7 Hz, OCH2), 4.17 (dd, 1H, 帰属されていない), 4.11 (d, 1H, J1,2 = 7.9 Hz, H-1β帰属されていない), 4.03 (d, 1 H, Jgem = 12.0 Hz, OCH2), 3.90 - 3.76 (m, 3H, 帰属されていない), 3.730, 3.727 (2s, 2 x 3H, OCH3), 3.65 (s, 3H, OCH3), 3.54 (s, 3H, OCH3), 2.89 (dd, 1 H, Jgem = 10.5 Hz, J5,6b < 2.0 Hz, H-6b), 2.52 (m, 1H, H-5), 1.02 (s, 9 H, C(CH3)3).
実施例25：三糖E-D-C-41、E-D-C-42及びE-D-C-61からE-D-C-66の合成
【０１９４】
【化４７】
2005505565.tif 000348
【０１９５】
実施例25：三糖E-D-C-41、E-D-C-42及びE-D-C-61からE-D-C-66の合成，条件：a) 1. SOP 39;  2. SOP 38; 3. SOP 16; b) 1. SOP 14; 2. SOP 25a.
実施例26：三糖 E-D-C-61及びE-D-C-63の代替経路
【０１９６】
【化４８】
2005505565.tif 000349
【０１９７】
実施例26：三糖 E-D-C-61及びE-D-C-63の代替経路，条件：a) 1. SOP 39; 2. SOP 38; 3. SOP 16; 4. Pd(Ph3P)4, p-TolSO2Na, THF, MeOH; b) SOP 33.
実施例27：ブロックE-D-C-67からE-D-C-70の合成
【０１９８】
【化４９】
2005505565.tif 000350
【０１９９】
実施例27：ブロックE-D-C-67からE-D-C-70の合成，条件：a) SOP 33; b) SOP 24; c) SOP 33; d) 1. SOP 36; 2. SOP 37.
実施例28：三糖E-D-C-70及びE-D-C-71の合成
【０２００】
【化５０】
2005505565.tif 000351
【０２０１】
実施例28：三糖E-D-C-70及びE-D-C-71の合成，条件：a) SOP 33, (E-D-C-71について55%,α/β混合物).
化合物E-D-C-71
E-D-C-71 を、40℃で溶媒としてジクロロメタン及び促進剤としてTBDMSOTfを用いSOP 33に従い55 %収率(α/β−混合物として)で形成した。
選ばれた1H-NMR (400 MHz, CDCl3):δ= 7.91 (m, 2H, アリール), 7.61 (m, 2H, アリール), 7.55 (m, 2H, アリール), 7.50-7.02 (m, 29 H, アリール), 6.65 (m, 4H, Mp), 5.38 (d, 1 H, J1,2 = 3.9 Hz, H-1''α), 5.22 (bs, 1 H, NH), 4.67 (d, 1H, J1,2 = 7.4 Hz, H-1β, 帰属されていない), 4.50 (d, 1H, J1,2 = 7.8 Hz, H-1β, 帰属されていない), 3.92 (d, 1 H, J4,5 = 9.8 Hz, H-5'), 3.698 (s, 3 H, OCH3), 3.693 (s, 3 H, OCH3), 1.03 (s, 9 H, C(CH3)3).
Mfound = 1408.52 (M+H2O)+, Mcalc = 1390.54 (M+).
実施例29：三糖E-D-C-61、E-D-C-72及びE-D-C-73の合成  
【０２０２】
【化５１】
2005505565.tif 000352
【０２０３】
実施例29：三糖E-D-C-72〜E-D-C-73及びE-D-C-61の合成，条件a) SOP 33; b) SOP 24; c) SOP 33.
実施例30:三糖C-B-A-1からC-B-A-4の合成
【０２０４】
【化５２】
2005505565.tif 000353
【０２０５】
実施例30:三糖C-B-A-1からC-B-A-4の合成，条件：a) SOP 33; b) SOP 32a; c) 1. SOP 27; 2. SOP 20; 3. SOP 16; 4. SOP 24.
実施例31：三糖C-B-A-5からC-B-A-8の合成
【０２０６】
【化５３】
2005505565.tif 000354
【０２０７】
実施例31：三糖C-B-A-5からC-B-A-8の合成，条件：a) SOP 33, (C-B-A-5について50%, α/β混合物).
化合物C-B-A-5：
C-B-A-5 を、- 20oCで溶媒としてエーテル及び促進剤としてTBDMSOTfを用いてSOP33に従い50%収率(α/β−混合物として)で形成した。
Mfound = 1269.65 (M+H+H2O)+, Mcalc = 1250.43 (M+).
実施例32：D-C-B三糖D-C-B-1からD-C-B-3の合成
【０２０８】
【化５４】
2005505565.tif 000355
【０２０９】
実施例32：D-C-B-三糖D-C-B-1からD-C-B-3の合成，条件：a) 1. SOP 33; 2. SOP 36; 3. SOP 37.
実施例33：D-C-B三糖D-C-B-４からD-C-B-７の合成
【０２１０】
【化５５】
2005505565.tif 000356
【０２１１】
実施例33：D-C-B三糖D-C-B-４からD-C-B-７の合成，条件：a) 1. SOP 33; 2. SOP 36; 3. SOP 37.
実施例34：四糖D-C-B-A-1からD-C-B-A-2の合成
【０２１２】
【化５６】
2005505565.tif 000357
【０２１３】
実施例34：四糖D-C-B-A-1からD-C-B-A-2の合成，条件：a) SOP 32a; b)1. SOP 36; 2. SOP 37; 3. SOP 24.
実施例35：四糖D-C-B-A-2の代替合成
【０２１４】
【化５７】
2005505565.tif 000358
【０２１５】
実施例35：四糖D-C-B-A-2の代替合成，条件：a) 1. SOP 34; 2. SOP 24.
実施例36：四糖D-C-B-A-3からD-C-B-A-8の合成
【０２１６】
【化５８】
2005505565.tif 000359
【０２１７】
実施例36：四糖D-C-B-A-3からD-C-B-A-8の合成，条件：a) 1 SOP 32b; 2. SOP 24.
実施例37：四糖E-D-C-B-1からE-D-C-B-4の合成
【０２１８】
【化５９】
2005505565.tif 000360
【０２１９】
実施例37：四糖E-D-C-B-1からE-D-C-B-4の合成，条件：a) SOP 33; b) 1. SOP 36; 2. SOP 37.
実施例38：ブロックE-D-C-B-5からE-D-C-B-8の合成
【０２２０】
【化６０】
2005505565.tif 000361
【０２２１】
実施例38：ブロックE-D-C-B-5からE-D-C-B-8の合成，条件：a) SOP 33; b) 1. SOP 36; 2. SOP 37.
実施例39：E-D-C-B-A五糖P-1及びP-2の合成
【０２２２】
【化６１】
2005505565.tif 000362
【０２２３】
実施例39：E-D-C-B-A五糖P-1及びP-2の合成，条件：a) SOP 34.
実施例40：E-D-C-B-A五糖P-3からP-26の合成
【０２２４】
【化６２】
2005505565.tif 000363
【０２２５】
実施例40：E-D-C-B-A五糖P-3からP-26の合成，条件：a) SOP 33 (α/β混合物としてのP-19について75 %).
化合物P-19：
P-19を、-20℃で溶媒としてジクロロメタン及び促進剤としてTMSOTfを用いSOP 33に従い形成した；
Mfound = 2068.76 (M+H+H2O)+, Mcalc = 2049.74 (M+).
実施例41：E-D-C-B-A五糖P-11、P-12、P-19、P-20及びP-27の代替合成
【０２２６】
【化６３】
2005505565.tif 000364
【０２２７】
実施例41：E-D-C-B-A五糖P-11、P-12、P-19、P-20及びP-27の代替合成，条件：a) SOP 32a.
実施例42：いくつかのE-D-C-B-A五糖の代替合成
【０２２８】
【化６４】
2005505565.tif 000365
【０２２９】
実施例42：いくつかのE-D-C-B-A五糖の代替合成，条件：a) SOP 32a (R = Scresについて) 又はSOP 33 (R = OTCAについて).
実施例43：P-13及びP-30の合成
【０２３０】
【化６５】
2005505565.tif 000366
【０２３１】
実施例43：P-13及びP-30の形成，条件：a) SOP 32a.
実施例44：五糖P-19及びP-31の形成
【０２３２】
【化６６】
2005505565.tif 000367
【０２３３】
実施例44：五糖P-19及びP-31の形成
条件：a) SOP 33
P19の調製の実施例：
O-(2-アジド-6-O-ベンゾイル-3,4-ジ-O-ベンジル-2-デオキシ-α-D-グルコピラノシル)-(1→4)-(メチル2,3-ジ-O-ベンジル-β-D-グルコピラノシルウロネート)-(1→4)-2-アジド-3-O-ベンゾイル-2-デオキシ-6-O-p-メトキシベンジル-α-D-グルコピラノシルトリクロロアセトイミデート(30.0 mg, 21.2 μmol)及びメチル(メチル 2-O-ベンゾイル-3-O-ベンジル-α-L-イズピラノシルウロネート)-(1→4)-2-アジド-3-O-ベンジル-6-O-ベンゾイル-2-デオキシ-α-D-グルコピラノシド(15.4 mg 19.3 μmol) の混合物、ならびに1.5 mlの乾燥ジクロロメタン中の100 mgのモレキュラーシーブ4Åを、TBDMSOTf (0.97 μl, 4.24 μmol)で -20℃にて20時間処理した。この反応物を、クエンチし、濾過し、そして濃縮した。標記化合物のさらなる精製は、シリカゲルクロマトグラフィーによって行われた。収率：15.83 mg (40%), Rf= 0.30 (トルエン/酢酸エチル = 9/1).
実施例45：五糖P-19の部分的脱保護（deprotection）
【０２３４】
【化６７】
2005505565.tif 000368
【０２３５】
実施例45：五糖P-19の部分的脱保護（deprotection），条件：a) SOP 28, 84%; b) SOP 39, 86%.
化合物P-33：
Mfound = 1503.5 (M-N2+2H)+, Mcalc = 1529.51 (M+).
構造的な証明を容易にするため、P-33の小さい部分を、ビスメチルウロネート誘導体に変換し、NMR−分光法によって特徴づけた。1H-NMR−スペクトル領域の特徴を、figure 1に示す。
Mfound = 1514.62 (M+H)+, Mcalc = 1513.58 (M+).
実施例46：アミノ保護としてDTPM−基を含む、五糖P-30の部分的脱保護
【０２３６】
【化６８】
2005505565.tif 000369
【０２３７】
実施例46：DTPM−基をアミノ保護として含む、五糖P-30の部分的脱保護，条件：a) 1. SOP 28; 2. SOP 39; b) 1.第一級アミンとしてMeNH2 及び溶媒としてMeOHを用いたSOP 11; 2. SOP 12.
実施例47：アミノ保護として環式カルバメートを含む、五糖P-1の部分的脱保護
【０２３８】
【化６９】
2005505565.tif 000370
【０２３９】
実施例47：アミノ保護として環式カルバメートを含む、五糖P-1の部分的脱保護，条件：a) SOP 27; b) SOP 39; c) SOP 12.
実施例48：請求項４に記載の五糖P-37についての脱保護プロトコール
【０２４０】
【化７０】
2005505565.tif 000371
【０２４１】
実施例48：請求項４に記載の五糖P-37についての脱保護プロトコール，条件：a) 1. SOP 27及び28; 2. SOP 39; 3. 第一級アミンとしてMeNH2 及び溶媒としてMeOHを用いたSOP 11; 4. SOP 12.
実施例49：五糖P-33のO-及びN-硫酸化五糖P-35への変換
【０２４２】
【化７１】
2005505565.tif 000372
【０２４３】
実施例49：五糖P-33のO-及びN-硫酸化五糖P-40への変換，条件：a) SO3xNMe3, DMF, 50oC; b) H2 (70 psi), Pd/C, H2O; c) SO3xピリジン, H2O, pH = 9.5. P-33からP-40への変換は、文献Petitou et al., Carbohydr. Res. 1987, 167, 67-75.にしたがって行われた。
【０２４４】
P-40の1H-NMR (400 MHz, D2O) を、figure ６に示す。
【０２４５】
【表１】
2005505565.tif 000373
【０２４６】
【表２】
2005505565.tif 000374
【０２４７】
【表３】
2005505565.tif 000375
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月8日(2003.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
合成ヘパリノイドを製造するための五糖構成ブロック(pentasaccharide building block)であって、該構成ブロック(building block)は一般式Ｉのものであり、
【化１】
2005505565.tif 000376
式中、単糖単位の立体配置および内部結合の立体化学は、Ｄ−グルコ−アルファ−１，４−Ｄ−グルクロノ−ベータ−１，４−Ｄ−グルコ−アルファ−１，４−Ｌ−イズロノ−ベータ−１，４−Ｄ−グルコのように定義され、そして置換基は以下のように定義される；
Ｘ1は、ヒドロキシ、アルケニルオキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、イミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲH1は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲH2は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は独立して一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド、ＮＨ−Ａｃ、ＮＨ−アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS2は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS3は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS4は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、
あるいはＲS4とＲBは組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲS5は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
あるいはＲS5とＲHは組み合わさって環式アセタールまたはケタール部分を形成し得；
ＲE1は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲE2は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲBは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲB1は、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP1は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP2は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択される。
【請求項２】
式中、単糖ユニットの立体配置および内部結合の立体化学が、Ｄ−グルコ−アルファ−１，４−Ｄ−グルクロノ−ベータ−１，４−Ｄ−グルコ−アルファ−１，４−Ｌ−イズロノ−ベータ−１，４−Ｄ−グルコのように定義され、
式中：
Ｘ1が、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適なリポアミノ酸からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲH、ＲH1、およびＲH2が独立してベンジルまたは置換ベンジル保護基から選択され、あるいはＲH1とＲAまたはＲH2とＲB1が、独立して、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAが、アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド；または他のこのような好適な保護されたアミノ官能基からなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1、ＲS2、ＲS3、ＲS4およびＲS5が、独立して、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基から選択され；あるいはＲS4とＲBが、組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲE1およびＲE2が、独立して、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基から選択され；
ＲBおよびＲB1が、独立して、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基から選択され；更に、ＲS4とＲBあるいはＲH2とＲB1が、独立して、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP1およびＲP2が、独立して、ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシル、およびアルキルアリールアシル保護基；およびカーボネート保護基から選択される、
請求項１に記載の五糖構成ブロック。
【請求項３】
Ｘ1が、ヒドロキシ、メトキシ、エトキシ、アリルオキシ、ｎ−ペンテニルオキシ、Ｃ１−５アルコキシ、Ｃ３−７アルケニルオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオメチル、チオエチル、チオクレシル、チオフェニル、クロロ、ブロモ、フルオロ、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシ、２−トリメチルシリルオキシエトキシ（ＳＥＭ）、または他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲHが、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され；
ＲH1が、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲH2が、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1が独立して一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAが、アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド、ＮＨ−Ａｃ、ＮＨ−Ａｌｌｏｃからなる群から選択され；あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基；ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、アリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、メトキシメチル、メトキシエチル、トリメチルシロキシエチル（ＳＥＭ）、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS2が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基；ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、アリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、メトキシメチル、メトキシエチル、トリメチルシロキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS3が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基；ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、アリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、メトキシメチル、メトキシエチル、トリメチルシロキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS4が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基；ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、アリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、メトキシメチル、メトキシエチル、トリメチルシロキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBが組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲS5が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基；ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、アリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、メトキシメチル、メトキシエチル、トリメチルシロキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲE1が、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲE2が、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲBが、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲB1が、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1が一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP1が、ベンジル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP2が、ベンジル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；ベンゾイル、４−クロロベンゾイル、クロロアセチル、アセチル、レブリノイル、ピバロイル、４−メトキシベンゾイル、４−アジドベンゾイル、アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基からなる群から選択される、
請求項１に記載の五糖構成ブロック。
【請求項４】
式中、単糖単位の立体配置および内部結合の立体化学が、Ｄ−グルコ−アルファ−１，４−Ｄ−グルクロノ−ベータ−１，４−Ｄ−グルコ−アルファ−１，４−Ｌ−イズロノ−ベータ−１，４−Ｄ−グルコのように定義され、そして
式中:
Ｘ1が、ヒドロキシ、メトキシ、チオメチル、チオエチル、チオクレシル、チオフェニル、トリクロロアセトイミドイル、tブチルジフェニルシリルオキシ  送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適なリポアミノ酸からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲH、ＲH1、およびＲH2が、独立して、ベンジルまたは置換ベンジル保護基から選択され、あるいはＲH1とＲAまたはＲH2とＲB1は、独立して、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAが、アジド官能基からなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得、
ＲS1、ＲS2、ＲS3、ＲS4およびＲS5が、独立して、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル；ベンゾイルから選択され、あるいはＲS4とＲBが組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲE1およびＲE2が、独立して、メチル、アリル、ベンジルまたは置換ベンジル基から選択され；
ＲBおよびＲB1が、独立して、アジド官能基から選択され；更に、ＲS4とＲBまたはＲH2とＲB1が、独立して、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP1がベンジルであり；
ＲP2が、ベンジル；ベンゾイル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択される、
請求項１に記載の五糖構成ブロック。
【請求項５】
Ｘ1がＣ１−Ｃ５アルコキシである、請求項１に記載の五糖構成ブロック。
【請求項６】
ＲAがアジドであり、あるいはＲH1およびＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得る、請求項１に記載の五糖構成ブロック。
【請求項７】
ＲP1、ＲHおよびＲH1がベンジルである、請求項４に記載の五糖構成ブロック。
【請求項８】
ＲS1、ＲS2、ＲS3、ＲS4およびＲS5が、独立して、ベンゾイル、４−メトキシベンジル、４−メトキシフェニル、４−クロロベンゾイル、またはｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、アリル、トリメチルシロキシエチルから選択される、請求項１に記載の五糖構成ブロック。
【請求項９】
ＲP1およびＲP2がベンジルまたは置換ベンジルである、請求項４に記載の五糖構成ブロック。
【請求項１０】
ＲE2がメチルである、請求項４に記載の五糖構成ブロック。
【請求項１１】
ＲBがアジドであり、あるいはＲBとＲS4が組み合わさって環式カルバメートを形成している、請求項１に記載の五糖構成ブロック。
【請求項１２】
ＲS1およびＲS2がベンゾイルであり、そしてＲAがアジドであり、あるいはＲAとＲH1が一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成している、請求項１に記載の五糖構成ブロック。
【請求項１３】
ＲP2がベンジル、クロロアセチル、アセチル、ベンゾイル、置換ベンゾイル、ピバロイル、レブリニル（levulinyl）またはアリルオキシカルボニルから選択される、請求項１に記載の五糖構成ブロック。
【請求項１４】
ＲB1がアジドであり、あるいはＲH2およびＲB1が一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得る、請求項４に記載の五糖構成ブロック。
【請求項１５】
Ｘ1がＣ１−Ｃ５アルコキシであり、ＲS1およびＲS2がベンゾイルであり、ＲS3、ＲS4およびＲS5が、独立して、ベンゾイル、４−メトキシベンジル、４−メトキシフェニル（4-methoxypheyl）、４−クロロベンゾイル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、アリルから選択され、ＲE2がメチルであり、ＲP1、ＲH、ＲH1およびＲH2がベンジルであり、そしてＲP2がベンジル、クロロアセチル、アセチル、ベンゾイル、置換ベンゾイル、ピバロイル、レブリニル（levulinyl）またはアリルオキシカルボニルから選択され、ＲA、ＲBおよびＲB1が、独立してアジドから選択され、あるいは（ＲAとＲH1）、または（ＲBとＲS4）、または（ＲB1とＲH2）のいずれかが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得る、請求項１に記載の五糖構成ブロック。
【請求項１６】
請求項１に記載の五糖を合成する方法であって、以下の工程を包含する：
式IIの三糖ＥＤＣ
【化２】
2005505565.tif 000377
［式中：
Ｘ2は、チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、ｎ−ペンテニルから選択され、そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲH2は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は独立して一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS3は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS4は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲS5は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基、アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチル、カルバメート保護基、トリチルからなる群から選択され；あるいは、ＲS5とＲHは組み合わさって環式アセタールまたはケタール部分を形成し得；
ＲE1は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲBは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲB1は、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP1は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；、カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP2は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択される。］
を形成する工程；
ならびに式IIIの二糖ＢＡ
【化３】
2005505565.tif 000378
［式中
Ｘ1は、アルコキシ、アルケニルオキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲH1は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｃｂｚ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド、ＮＨ−Ａｌｌｏｃ、ＮＨ−Ａｃからなる群から選択され；あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS2は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲQは、ａ）−（Ｃ＝Ｏ）−ＯＲE2（式中、ＲE2は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択される）；
あるいはｂ）−（ＣＨ2）−ＯＲM（式中、ＲMはｐ−メトキシフェニル、ｐ−メトキシベンジル、トリチル基、アリル、レブリノイルから選択される）のいずれかであり；
ＲLはＨである］
を形成する工程；
ならびに該三糖を該二糖へ結合させて該五糖を形成する工程。
【請求項１７】
請求項１６に記載の方法：
式中：
Ｘ1が、ヒドロキシ、メトキシ、チオメチル、チオエチル、チオクレシル、トリクロロアセトイミドイル、tブチルジフェニルシリルオキシ  送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適なリポアミノ酸からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲH、ＲH1、およびＲH2が、独立して、ベンジルまたは置換ベンジル保護基から選択され、あるいは、ＲH1とＲAまたはＲH2とＲB1が、独立して、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAが、アジド官能基、ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得、
ＲS1、ＲS2、ＲS3、ＲS4およびＲS5が、独立して、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル；ベンゾイルから選択され、あるいはＲS4とＲBが組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲE1およびＲE2が、独立して、メチル、アリルまたは、ベンジルおよび置換ベンジル基から選択され；
ＲBおよびＲB1が、独立して、アジド官能基；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基から選択され；更に、ＲS4とＲBまたはＲH2とＲB1が、独立して、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP1がベンジルであり；
ＲP2が、ベンジル；ベンゾイル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、
Ｘ2が、チオメチル、チオクレシル、またはトリクロロアセトイミドイルから選択され、そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく、
ＲQが、ａ）−（Ｃ＝Ｏ）−ＯＲE2（式中、ＲE2は、メチル、アリルまたはベンジルである）；
あるいはｂ）−（ＣＨ2）−ＯＲM（式中、ＲMはｐ−メトキシフェニル、ｐ−メトキシベンジル、トリチル基から選択される）のいずれかであり、
ＲLがＨであり、
ならびに該三糖を該二糖へ結合させて該五糖を形成すること。
【請求項１８】
請求項１に記載の五糖を合成する方法であって、以下の工程を包含する：
四糖ＥＤＣＢ（式IV）
【化４】
2005505565.tif 000379
［式中：
Ｘ2は、チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基から選択され、そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲH2は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は独立して一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS2は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS3は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS4は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲS5は、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基からなる群から選択され；４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；あるいはＲS5とＲHは組み合わさって環式アセタールまたはケタール部分を形成し得；
ＲE1は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲE2は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲBは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲB1は、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP1は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP2は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択される。］
を合成する工程；
ならびに該四糖を式Ｖの単糖
【化５】
2005505565.tif 000380
［式中：
Ｘ1は、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲH1は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｃｂｚ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド、ＮＨ−Ａｃ、ＮＨ−アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得、
ＲS1は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択される。］
へ結合させる工程。
【請求項１９】
Ｘ1が、ヒドロキシ、メトキシ、チオメチル、チオエチル、チオクレシル、トリクロロアセトイミドイル、tブチルジフェニルシリルオキシ  送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適なリポアミノ酸からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲH、ＲH1、およびＲH2が、独立して、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAまたはＲH2とＲB1が、独立して、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAが、アジド官能基  ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭからなる群から選択され；あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得、
ＲS1、ＲS2、ＲS3、ＲS4およびＲS5が、独立して、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル；ベンゾイルから選択され、あるいはＲS4とＲBが組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲE1およびＲE2が、独立して、メチル、アリル、ベンジルまたは置換ベンジル基から選択され；
ＲBおよびＲB1が、独立して、アジド官能基；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基から選択され；更に、ＲS4とＲBまたはＲH2とＲB1が、独立して、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP1がベンジルであり；
ＲP2がベンジル；ベンゾイル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、
Ｘ2が、チオメチル、チオクレシル、またはトリクロロアセトイミドイルから選択され、そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく、
ＲE2が、メチル、アリルまたはベンジルである、
請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
請求項１に記載の五糖を合成する方法であって、以下の工程を包含する：
式VIの四糖ＤＣＢＡ
【化６】
2005505565.tif 000381
［Ｘ1は、ヒドロキシ、アルケニルオキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、イミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲH1は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｃｂｚ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド、ＮＨ−Ａｃ、ＮＨ−アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得、
ＲS1は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、
ＲS2は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、
ＲS3は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、
ＲS4は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、
あるいはＲS4とＲBは組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく、
ＲE1は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲE2は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；ベンジルまたは置換ベンジル基からなる群から選択され、
ＲBは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得、
ＲP1は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP2は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択される。］
を合成する工程；
ならびに該四糖を式VIIの単糖
【化７】
2005505565.tif 000382
［式中
Ｘ2は、チオアルキル、チオアリール、トリクロロアセトイミドイルから選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲS5は、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基からなる群から選択され；４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；あるいはＲS5とＲHは組み合わさって環式アセタールまたはケタール部分を形成し得；
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲH2は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は独立して一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲB1は、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得る。］
へ結合させる工程。
【請求項２１】
Ｘ1が、ヒドロキシ、メトキシ、チオメチル、チオエチル、チオクレシル、トリクロロアセトイミドイル、tブチルジフェニルシリルオキシ  送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適なリポアミノ酸からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲH、ＲH1、およびＲH2が、独立して、ベンジルまたは置換ベンジル保護基から選択され、あるいはＲH1とＲAまたはＲH2とＲB1が、独立して、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAが、アジド官能基  ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得、
ＲS1、ＲS2、ＲS3、ＲS4およびＲS5が、独立して、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル；ベンゾイルから選択され、あるいはＲS4とＲBが、組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲE1およびＲE2が、独立して、メチル、アリルまたは、ベンジルおよび置換ベンジル基から選択され；
ＲBおよびＲB1が、独立して、アジド官能基；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基から選択され；更に、ＲS4とＲBまたはＲH2とＲB1が、独立して、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP1がベンジルであり；
ＲP2が、ベンジル；ベンゾイル、およびアリルオキシカルボニルからなる群から選択され、
Ｘ2が、チオメチル、チオクレシル、またはトリクロロアセトイミドイルから選択され、そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく、
ＲE2が、メチル、アリルまたはベンジルである、
請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
請求項に記載の五糖を合成する方法であって、以下の工程を包含する：
式VIIIの二糖ＥＤ
【化８】
2005505565.tif 000383
［式中：
Ｘ2は、チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基から選択され、そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲS5は、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基からなる群から選択され；４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；あるいはＲS5とＲHは組み合わさって環式アセタールまたはケタール部分を形成し得；
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲH2は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は独立して一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲB1は、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲE1は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され、
ＲP1は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲP2は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択される。］
を形成する工程；
ならびに式IXの三糖ＣＢＡ
【化９】
2005505565.tif 000384
［式中
Ｘ1は、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく、但し、Ｘ1がハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートまたは関連するホスフェートエステル型脱離基である場合、Ｘ2は同一ではあり得ず；
ＲBは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｃｂｚ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド、ＮＨ−Ａｃ、ＮＨ−アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS2は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS3は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲS4は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBは組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲH1は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲE2は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択される。］
を形成する工程；
ならびに該二糖を該三糖へ結合させる工程。
【請求項２３】
Ｘ1が、ヒドロキシ、メトキシ、チオメチル、チオエチル、チオクレシル、トリクロロアセトイミドイル、tブチルジフェニルシリルオキシ  送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適なリポアミノ酸からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲH、ＲH1、およびＲH2が、独立して、ベンジルまたは置換ベンジル保護基から選択され、あるいはＲH1とＲAまたはＲH2とＲB1が、独立して、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAが、アジド官能基、ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得、
ＲS1、ＲS2、ＲS3、ＲS4およびＲS5が、独立して、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル；ベンゾイルから選択され、あるいはＲS4とＲBが組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲE1およびＲE2が、独立して、メチル、アリルまたは、ベンジルおよび置換ベンジル基から選択され；
ＲBおよびＲB1が、独立して、アジド官能基；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基から選択され；更に、ＲS4とＲBまたはＲH2とＲB1が、独立して、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲP1がベンジルであり；
ＲP2が、ベンジル；ベンゾイル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
Ｘ2が、チオメチル、チオクレシル、またはトリクロロアセトイミドイルから選択され、そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく、
ＲE2が、メチル、アリルまたはベンジルである、
請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
Ｘ1が、アルファもしくはベータのチオメチルまたはチオクレシルまたはトリクロロアセトイミドイルまたはｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ、アルファメトキシからなる群から選択され；
ＲH1が、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され；
ＲAが、アジド官能基、ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが、一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、ベンゾイル、４−クロロベンゾイルからなる群から選択される、
請求項１に記載の五糖。
【請求項２５】
Ｘ1が、アルファもしくはベータのチオメチルまたはチオクレシルまたはトリクロロアセトイミドイルまたはｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ、アルファメトキシからなる群から選択され；
ＲH1が、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され；
ＲAが、アジド官能基、ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、ベンゾイル、４−クロロベンゾイルからなる群から選択され；
ＲHが、ベンジルからなる群から選択され；
ＲS2が、ベンゾイル、置換アリールアシル保護基からなる群から選択され；
ＲE2が、メチルまたはアリルまたはベンジルである、
請求項１に記載の五糖。
【請求項２６】
Ｘ1が、アルファもしくはベータのチオメチルまたはチオクレシルまたはトリクロロアセトイミドイルまたはｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ、アルファメトキシからなる群から選択され；
ＲS3が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、ベンゾイル、４−クロロベンゾイル、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲS4が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、ベンゾイル、４−クロロベンゾイル、アリルからなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBが組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲBが、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲS4とＲBが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得る、
請求項１に記載の五糖。
【請求項２７】
Ｘ1が、アルファもしくはベータのチオメチルまたはチオクレシルまたはトリクロロアセトイミドイルまたはｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ、アルファメトキシからなる群から選択され；
ＲE1が、メチル、アリル、ベンジルからなる群から選択され；
ＲP1がベンジルであり；
ＲP2が、ベンジル；ベンゾエート；またはアリルオキシカルボニルからなる群から選択される、
請求項１に記載の五糖。
【請求項２８】
Ｘ1が、アルファもしくはベータのチオメチルまたはチオクレシルまたはトリクロロアセトイミドイルまたはｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ、アルファメトキシからなる群から選択され；
ＲHがベンジルであり；
ＲH2がベンジルであり；
ＲS5が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、ベンゾイル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルからなる群から選択され；
ＲB1が、アジド官能基、ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲH2とＲB1は一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得る、
請求項１に記載の五糖。
【請求項２９】
一般式Ｘの単糖：
【化１０】
2005505565.tif 000385
ここで、該環はＤ−グルコ立体化学のものであり；
式中
Ｘ1は、ヒドロキシ、アルケニルオキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、クロロ、フルオロ、イミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲH1は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲAは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド、ＮＨ−アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；あるいはＲH1とＲAは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲLは、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；γ−アミノブチリル、４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロへキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基；アリルオキシカルボニル、アリルエーテル、カーボネート型保護基から選択され；あるいはＲLとＲS1は組み合わさってベンジリデンまたは置換ベンジリデン環を形成し得る。
【請求項３０】
Ｘ1が、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、クロロ、フルオロ、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲH1が、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され；
ＲAが、アジド官能基、ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、４−クロロベンゾイル、アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲLが、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；γ−アミノブチリル、４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロへキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基から選択され；あるいはＲLとＲS1が組み合わさってベンジリデンまたは置換ベンジリデン環を形成し得る、
請求項２９に記載の単糖。
【請求項３１】
Ｘ1が、アルファもしくはベータのチオメチルまたはチオクレシルまたはトリクロロアセトイミドイルまたはｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ、アルファメトキシからなる群から選択され；
ＲH1が、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され；
ＲAが、アジド官能基、ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭからなる群から選択され、あるいはＲH1とＲAが一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲS1が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、ベンゾイル、４−クロロベンゾイルからなる群から選択され；
ＲLが、Ｈ原子またはレブリノイルである、
請求項２９に記載の単糖。
【請求項３２】
ＲAがアジドであるか、あるいはＲAとＲH1が組み合わさって環式カルバメートを形成する、請求項３１に記載の単糖。
【請求項３３】
ＲH1がベンジルである、請求項３１に記載の単糖。
【請求項３４】
ＲS1がベンゾイル、４−メトキシベンジル、４−メトキシフェニル、４−クロロベンゾイルから選択される、請求項３１に記載の単糖。
【請求項３５】
一般式XIの単糖：
【化１１】
2005505565.tif 000386
ここで、該環はＬ−イド（L-Ido）立体化学のものであり；
式中、
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲS2は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲE2は、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲLは、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；γ−アミノブチリル、４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロへキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基；アリルオキシカルボニル、アリルエーテル、カーボネート型保護基から選択され；
Ｘ2は、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、イミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよい。
【請求項３６】
ＲHが、ベンジルまたは置換ベンジル保護基からなる群から選択され；
ＲS2が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲE2が、メチル、Ｃ2−Ｃ5アルキル；置換アルキル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲLが、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；−アミノブチリル、γ−４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロヘキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基から選択され；
Ｘ2が、Ｃ１〜Ｃ６チオアルキル、またはＣ７〜Ｃ１２チオアリールから選択され、そして立体化学はアルファであってもベータであってもよい、
請求項３５に記載の単糖。
【請求項３７】
ＲHがベンジルからなる群から選択され；
ＲS2がベンゾイル、置換アリールアシル保護基からなる群から選択され；
ＲE2が、メチル、アリルまたはベンジルであり；
ＲLがＨ原子；またはレブリノイルから選択され；
Ｘ2がｔ−ブチルジフェニルシロキシ、トリクロロアセトイミドイルから選択され、そして立体化学がアルファであってもベータであってもよい、
請求項３５に記載の単糖。
【請求項３８】
ＲHが、ベンジルからなる群から選択され；
ＲS2がベンゾイル、置換アリールアシル保護基からなる群から選択され；
ＲE2が、メチル、アリルまたはベンジルであり；
ＲLがＨ原子；レブリノイルから選択され；
Ｘ2がチオメチルまたはチオクレシルから選択され、そして立体化学がアルファであってもベータであってもよい、
請求項３５に記載の単糖。
【請求項３９】
一般式XIIの単糖：
【化１２】
2005505565.tif 000387
式中：
Ｘ2は、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、イミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲS2は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；tブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基  アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲHは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲLは、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；γ−アミノブチリル、４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロへキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基；アリルオキシカルボニル、アリルエーテル、カーボネート型保護基から選択され；
ＲMは、ｐ−メトキシフェニルまたはｐ−メトキシベンジル保護基または他の好適な酸化不安定性保護基；トリチル基から選択され；
あるいはＲMとＲLは一緒に組み合わさって環式アセタールまたはケタールを形成する。
【請求項４０】
Ｘ2が、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、トリクロロアセトイミドイルから選択され、そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲS2が、４−メトキシフェニル；４−メトキシベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、ベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、４−クロロベンゾイル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；アリルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔブトキシカルボニル、カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲHが、ベンジルまたは置換ベンジル保護基であり；
ＲLが、Ｈ原子；レブリノイル、クロロアセチル、４−アセトキシベンゾイル、４−アセトアミドベンゾイル、４−アジドベンゾイル、または他の置換ベンゾイル型保護基；ベンジル基、４−アセトキシベンジル、４−アセトアミドベンジルまたは他のこのような好適な置換ベンジル型保護基；−アミノブチリル、γ４−Ｎ−［１−（４，４−ジメチル−２，６−ジオキソシクロヘキス−１−イリデン）エチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−［１−（１，３−ジメチル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオキソピリミジン−５−イリデン）メチルアミノ］−ブチリル、４−Ｎ−Ａｌｌｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−ブチリル、４−Ｎ−Ｂｏｃ−ブチリル型保護基から選択され；
ＲMが、ｐ−メトキシフェニルまたはｐ−メトキシベンジル保護基または他の好適な酸化不安定性保護基；トリチル基から選択され；
あるいはＲMとＲLが一緒に組み合わさってイソプロピリデン、ベンジリデン、４−メトキシベンジリデン、置換ベンジリデン、シクロヘキシリデンまたは他のアルキリデン保護基を形成する（for）、
請求項３９に記載の単糖。
【請求項４１】
Ｘ2がチオメチルまたはチオクレシルから選択され、そして立体化学がアルファであってもベータであってもよく；
ＲS2がベンゾイルであり；
ＲHがベンジルであり；
ＲLがＨ原子またはレブリノイルから選択され；
ＲMが、ｐ−メトキシフェニルまたはｐ−メトキシベンジル保護基から選択され；あるいはＲMとＲLが一緒に組み合わさってイソプロピリデンを形成する（for）、
請求項３９に記載の単糖。
【請求項４２】
Ｘ2が、トリクロロアセトイミドイルまたはｔ−ブチルジフェニルシリルオキシから選択され、そして立体化学がアルファであってもベータであってもよく；
ＲS2がベンゾイルであり；
ＲHがベンジルであり；
ＲLがＨ原子またはレブリノイルから選択され；
ＲMが、ｐ−メトキシフェニルまたはｐ−メトキシベンジル保護基から選択され；あるいはＲMとＲLが一緒に組み合わさって苣붂菣궃菣ꪃ菣㲇⁵浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢菣銂⼼㹵뷥邈臣讂볯暈牯覼胣㲁牢ਾꯨ花ꃩ鎼볯ꮁ꣨覼臣颍돧芀⼼䥄㹖 †††††††††††††ਠ††††††††††††††䐼噉邀ꯨ花ꃩ钼볯醀⼼䥄㹖 †††††††††††††††㰠䥄㹖룤겈볥墏䥉꺁跥隳볯㲚牢ਾ䐼噉邀賥醼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰㔵㔰㘵⸵楴≦㈾〰㔵㔰㘵⸵楴쉦゠〰㠳㰸愯㰾䐯噉ਾ甼砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰鎁臣ꞁ胣늩鋧꾁볯銈苣ꮃ苣讫뷤隌귥꺁苣꺁臣芁苣鮼⼼㹵戼㹲込룤骼戼㹲늼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰匾㰳猯扵꾁胣钼裢ꆃ菣궂苣閃苣讃菣鮼뷧鮏菣뎃苣ꮃ鿥鮼苣ꮃ苣ꮃ苣랂菣膀苣ꪃ菣ꮃ苣랂菣뺁臣꾁苣ꮃ苣ꮃ苣ꪃ菣ꮃ苣랂菣膀臣袂臣꺽迦閁苣龁苣ꮃ苣ꮃ苣랂菣膀苣ꪃ菣ꮃ苣랂菣뺁臣꾁苣ꮃ苣ꮃ苣ꪃ菣ꮃ苣랂菣袼污祫慬祲慬祣볯鶿귨몟볯ꮂ菣鲃菣벃菣鶿귨몟볯㲛畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㱴猯灵隃菣ꮃ苣閃苣讃菣랂菣ꮃ苣궂苣뺁臣꾁믤꺁臣꺁苣蚁臣꺽迦랂菣ꮃ苣궂苣鶿귨몟†苣ꪃ菣膀菣袃苣랂菣膃菣膀菣袃苣랂苣膃菣膀菣뎃苣ꮃ苣궂苣ꆃ菣ꮃ臣覂臣讂뻧讁苣뢁諦閁苣鮼戼㹲늼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰匾㰴猯扵꾁胣钼裢ꆃ菣궂苣閃苣讃菣鮼뷧鮏菣뎃苣ꮃ鿥鮼苣ꮃ苣ꮃ苣랂菣膀苣ꪃ菣ꮃ苣랂菣뺁臣꾁苣ꮃ苣ꮃ苣ꪃ菣ꮃ苣랂菣膀臣袂臣꺽迦閁苣龁苣ꮃ苣ꮃ苣랂菣膀苣ꪃ菣ꮃ苣랂菣뺁臣꾁苣ꮃ苣ꮃ苣ꪃ菣ꮃ苣랂菣袼污祫慬祲慬祣볯鶿귨몟볯ꮂ菣鲃菣벃菣鶿귨몟볯㲛畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㱴猯灵隃菣ꮃ苣閃苣讃菣랂菣ꮃ苣궂苣뺁臣꾁믤꺁臣꺁苣蚁臣꺽迦랂菣ꮃ苣궂苣鶿귨몟†苣ꪃ菣膀菣袃苣랂菣膃菣膀菣袃苣랂苣膃菣膀菣뎃苣ꮃ苣궂苣ꆃ菣ꮃ臣覂臣讂뻧讁苣뢁諦閁苣膀臣讂臣꾁볯㲲畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㑓⼼畳㹢臣늼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰䈾⼼畳㹢臣蒵臣袐苣閁臣ꚁ鋧込苣ꮃ菣ꆃ菣袃苣ꊽ裦鞁臣节苣辁볯㲛牢ਾ볯㲲畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㱂猯扵꾁胣ꊂ苣覃껥붃鿥膀苣龃菣鮼볯ꢼ裢꒼뷯薽臣龁臣꺼볯銈볯뒼볯궼鿥讁苣ꪁ苣꒾臣覂臩麊臣貂胣芁苣蒁臣늼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰匾㰴猯扵ꢁ볯㲲畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㱂猯扵꾁룤銷臣蒵臣袐苣閁臣ꚁ鋧込苣ꮃ菣ꆃ菣袃苣ꊽ裦鞁뻥鮼戼㹲늼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰䰾⼼畳㹢臣膀볯龎귥鮼菣隃菣躃苣ꮃ胣꾂菣궃苣뮂菣ꮃ胣钼裢ꊂ苣袃苣랂菣뎃苣ꒂ菣膀볯銈苣뮂菣ꊂ菣覃菣뎃苣ꒂ菣膀볯銈苣뢂菣馃菣뺂苣ꮃ胣뺁臣꾁믤꺁뷧鮏菣뎃苣ꒂ菣讞뿤랭鿥㲺⁵浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯膀⼼㹵볯銈苣뮂菣궂苣馃菣뢂菣膀볯銈苣뮂菣ꊂ菣覃菣뎃苣ꮃ臣龁臣隻臣鎁臣袂臣ꪁꗥꦁ臣꺽迦馃菣뢂菣讞뿤랭鿥鮼돎裢ꊂ菣躃菣膃菣ꮃ胣钼裢꺼裢뮼볯銈볯钼볯钼裢뢂菣膃菣銈볯貼볯銈苣ꪂ苣붂苣꾂菣뢁苣릂裢醼裢ꒂ菣螃菣覼苣膃菣ꊂ菣躃볯銈菣膃菣ꮃ胣钼裢꺼裢뮼볯銈볯醼볯鎼裢뢂菣膃菣銈볯貼볯貼볯袼볯ꢼ볯鎼볯貼볯ꢼ볯銈菣ꪃ苣궂苣钃菣龃苣뎃裢閼裢ꒂ菣螃菣覼菣膃菣ꊂ菣躃볯銈菣膃菣ꮃ胣钼裢꺼裢ꆼ뷯貽뷯莽裢隃菣ꪃ菣膀볯銈볯銈볯趽뷯莽裢隃菣ꪃ菣膀볯銈볯銈볯辽뷯銈菣膃菣ꮃ黥鶿귨몟볯ꊂ菣ꮃ苣궂苣ꮂ菣鲃菣ꮃ胣ꊂ菣ꮃ苣벃菣ꮃ胣ꮂ菣鲃菣벃菣讞뿤랭鿥讁苣뢁諦閁苣鮼戼㹲뢼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰㌾⼼畳㹢臣膀菣覃菣궂苣ꮃ鿥鮼菣ꪂ苣ꮃ苣ꮃ胣膃苣ꊂ菣벃菣膀菣궃苣뎃胣ꒂ菣覃苣ꮃ胣鮃苣閃苣벃菣誁苣뎁雩ꎀ臣讂菣릂菣Ꞃ菣袃苣릂菣ꮃ黥놄鯩몟胣㲁畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㱴猯灵隃菣ꮃ苣閃苣讃菣랂菣ꮃ苣궂苣뺁臣꾁믤꺁臣꺁苣蚁臣꺽迦랂菣ꮃ苣궂苣鶿귨몟臣覂臩麊臣貂볯鶁臣ꚁꯧ鎽賥ꚭ臣ꊂ菣閃苣ꞁ臣ꎁ臣节菣벃苣ꞁ臣ꎁ臣节苣蒁胣㲂䐯噉ਾ†††††††††††††† †††††††††††††㰠䥄㹖胣讫뇦薠볯钼胣㲑䐯噉ਾ††††††††††††††††䐼噉늼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰匾㰳猯扵貁胣钼裢ꆃ菣궂苣閃苣讃菣鮼뷧鮏菣뎃苣ꮃ鿥鮼苣ꮃ苣ꮃ苣랂菣膀苣ꪃ菣ꮃ苣랂菣뺁臣꾁苣ꮃ苣ꮃ苣ꪃ菣ꮃ苣랂菣膀臣袂臣꺽迦閁苣龁苣ꮃ苣ꮃ苣랂菣膀苣ꪃ菣ꮃ苣랂菣뺁臣꾁苣ꮃ苣ꮃ苣ꪃ菣ꮃ苣랂菣袼污祫慬祲慬祣볯鶿귨몟볯ꮂ菣鲃菣벃菣鶿귨몟볯钽뷯銽뷯銈菣膃菣뢂菣Ꞃ菣ꮃ苣ꪃ菣讁苣ꪁ苣꒾臣覂臩麊臣貂볯㲛牢ਾ볯㲲畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㑓⼼畳㹢臣膀볯銈菣袃苣랂菣Ꞃ菣ꮃ볯꺽迦馃菣뢂菣몟볯ꊂ菣궂菣ꊂ苣ꮃ胣ꊂ菣벃菣ꊂ苣ꮃ臣龁臣ꊂ菣궂菣ꊂ菣벃菣ꊂ苣ꮃ胣誁苣뎁뷧鮏臣貂臣ꊂ菣궂菣ꊂ苣ꮃ胣ꊂ菣벃菣ꊂ苣ꮃ臣龁臣ꊂ菣궂菣ꊂ菣벃菣ꊂ苣ꮃ볯憈歬汹牡汹捡覼뿤랭鿥鮼苣벃菣趃菣袃뿤랭鿥鮼뷯薽뷯钽裢隃菣ꮃ苣閃苣讃菣랂菣ꮃ臣覂臣讂뻧讁苣뢁諦閁苣膀臣讂臣꾁볯㲲畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㑓⼼畳㹢臣늼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰䈾⼼畳㹢臣蒵臣袐苣閁臣ꚁ鋧込苣ꮃ菣ꆃ菣袃苣ꊽ裦鞁臣节苣辁볯㲛牢ਾ볯㲲畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㱂猯扵貁胣ꊂ苣覃껥붃鿥膀苣龃菣鮼볯ꢼ裢꒼뷯薽臣龁臣꺼볯銈볯뒼볯궼鿥讁苣ꪁ苣꒾臣覂臩麊臣貂胣芁苣蒁臣늼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰匾㰴猯扵ꢁ볯㲲畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㱂猯扵貁룤銷臣蒵臣袐苣閁臣ꚁ鋧込苣ꮃ菣ꆃ菣袃苣ꊽ裦鞁뻥鮼戼㹲늼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰䰾⼼畳㹢臣膀볯龎귥鮼菣隃菣躃苣ꮃ胣꾂菣궃苣뮂菣ꮃ胣钼裢ꊂ苣袃苣랂菣뎃苣ꒂ菣膀볯銈苣뮂菣ꊂ菣覃菣뎃苣ꒂ菣膀볯銈苣뢂菣馃菣뺂苣ꮃ胣뺁臣꾁믤꺁뷧鮏菣뎃苣ꒂ菣讞뿤랭鿥㲺⁵浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯膀⼼㹵볯銈苣뮂菣궂苣馃菣뢂菣膀볯銈苣뮂菣ꊂ菣覃菣뎃苣ꮃ臣龁臣隻臣鎁臣袂臣ꪁꗥꦁ臣꺽迦馃菣뢂菣讞뿤랭鿥鮼裢ꊂ菣躃菣膃菣ꮃ胣캁钼裢꺼裢뮼볯銈볯钼볯钼裢뢂菣膃菣銈볯貼볯銈苣ꪂ苣붂苣꾂菣颃苣릂裢醼裢ꒂ菣螃菣覼苣膃菣ꊂ菣躃볯銈菣膃菣ꮃ胣钼裢꺼裢뮼볯銈볯醼볯鎼裢뢂菣膃菣銈볯貼볯貼볯袼볯ꢼ볯鎼볯貼볯ꢼ볯銈菣ꪃ苣궂苣钃菣龃苣뎃裢閼裢ꒂ菣螃菣覼菣膃菣ꊂ菣躃볯銈菣膃菣ꮃ胣钼裢꺼裢ꆼ뷯貽뷯莽裢隃菣ꪃ菣膀볯銈볯銈볯趽뷯莽裢隃菣ꪃ菣膀볯銈볯銈볯辽뷯銈菣膃菣ꮃ黥鶿귨몟臣覂臩麊臣貂볯㲛牢ਾ볯㲸畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰳猯扵貁胣銃菣궃苣랂菣몟볯膃苣ꊂ菣궂菣膀菣ꪂ苣ꪃ菣ꮃ胣较菣늂菣膀菣ꪃ苣궃菣ꊂ苣袃苣龃菣ꒂ菣膀菣릂菣Ꞃ菣袃臣袂臣ꊖ胩馁苣鮃苣閃苣벃菣ꢂ苣蚃菣讞蓨ꊛ鿥膀猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰琾⼼畳㹰菣膃菣뢂菣Ꞃ菣ꮃ苣ꪃ菣ꪂ苣랂臣龁臣隻臣鎁臣袂臣ꪁ뷧鮏苣ꪃ菣ꪂ苣랂뿤랭鿥讁苣뢁諦閁苣鮼臣鞁臣讫뷤隌귥꾁苣ꮃ菣ꆂ臣芁臣ꚁ苣馃菣뾂臣芁臣ꚁ苣袂臣膀戼㹲讫뇦薠볯鎼臣風볨꺁跥隳胣㲂䐯噉ਾ†††††††††††††† †††††††††††††㰠䥄㹖胣讫뇦薠볯閼胣㲑䐯噉ਾ††††††††††††††††䐼噉늼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰匾㰳猯扵貁胣钼裢ꆃ菣궂苣閃苣讃菣鮼볯銈菣袃苣랂菣뎃苣ꮃ胣馃菣뺂苣ꮃ胣钼裢꾂菣궃菣뎃苣ꒂ菣膀苣ꪃ菣膀苣ꪃ菣ꪂ苣랂苣ꮃ菣讃菣讁苣ꪁ苣꒾臣覂臩麊臣貂볯㲛牢ਾ볯㲲畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㑓⼼畳㹢臣膀볯銈菣袃苣랂菣Ꞃ菣ꮃ볯钼裢ꆃ菣궂苣馃菣뢂菣膀菣뎃苣ꒂ菣膀볯銈苣궃菣馃菣뺂苣ꮃ胣ꊂ菣ꮃ臣覂臣讂뻧讁苣뢁諦閁苣膀臣讂臣꾁볯㲲畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㑓⼼畳㹢臣늼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰䈾⼼畳㹢臣蒵臣袐苣閁臣ꚁ鋧込苣ꮃ菣ꆃ菣袃苣ꊽ裦鞁臣节苣辁볯㲛牢ਾ볯㲲畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㱂猯扵貁胣ꊂ苣覃껥붃鿥膀苣龃甼砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰뎃臣㲋甯覂臣讂뻧讁苣뢁諦閁苣膀臣讂臣꾁볯㲲畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㑓⼼畳㹢臣늼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰䈾⼼畳㹢臣肸럧ꮁ뗧뾁郥辂臣ꎁ臣낒볥ꮂ菣邃菣벃菣銂뷥邈臣鞾볯㲛牢ਾ볯㲲畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㱌猯扵貁胣ꢼ軥邭臣龁臣것菣ꪃ菣ꒂ菣몟臣覂臩麊臣貂볯㲛牢ਾ볯㲸畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰳猯扵貁胣膃苣ꆃ菣ꮃ胣膃苣ꢂ菣ꮃ胣膃苣閃苣讃菣膀菣ꪂ苣것苣ꮃ胣袃菣꾂菣궃苣뮂菣ꒂ菣覃苣ꮃ胣钽뷯銽뷯銈菣膃菣뢂菣Ꞃ菣ꮃ苣ꪃ菣ꪂ苣랂臣覂臩麊臣貂胣鶁臣ꚁꯧ鎽賥ꚭ臣ꊂ菣閃苣ꞁ臣ꎁ臣节菣벃苣ꞁ臣ꎁ臣节苣蒁胣㲁牢ਾꯨ花ꃩ钼볯ꮁ꣨覼臣颍돧芀⼼䥄㹖 †††††††††††††ਠ††††††††††††††䐼噉邀ꯨ花ꃩ钼볯醀⼼䥄㹖 †††††††††††††††㰠䥄㹖룤겈볥墏噉臣颍돧骼戼㹲㰊䥄㹖胣隌볯钼胣㲑䐯噉ਾ䐼噉㰾⁡牨晥∽〲㔰〵㔵㔶琮晩㸢〲㔰〵㔵㔶琮晩ꃂ〰㌰㤸⼼㹡⼼䥄㹖㰊⁵浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢臣鎁臣膀ꧨ낒臣꒼裢낂菣뎂ꯧ鎽賥ꚭ臣节臣ꞁ臣誂볯㲛甯㰾牢ਾ볥궸甼砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰骼⼼㹵戼㹲늼猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰䔾㰱猯扵꾁胣ꆃ菣ꮃ胣ꎼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰㈾⼼畳㹢裢ꎼ猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰㔾⼼畳㹢苣ꮃ苣ꮃ볯꺽迦ꊂ菣궂菣膀볯㲣畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰳猯扵銈볯㲣畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢㰵猯扵ꊂ菣놂菣ꮃ볯뺁臣꾁胣馃菣뢂菣誁苣뎁뷧鮏菣뎃苣ꮃ鿥讁苣ꪁ苣꒾臣覂臩麊臣貂볯㲛牢ਾ볯㲲畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢ㅐ⼼畳㹢臣膀볯銈菣袃苣랂菣Ꞃ菣ꮃ볯馃菣뢂菣膀뷧鮏菣뎃苣ꮃ鿥鮼苣ꮃ苣ꮃ苣랂菣膀苣ꪃ菣ꮃ苣랂菣誁苣뎁苣ꮃ苣ꮃ苣ꪃ菣ꮃ苣랂菣膀臣龁臣꺽迦閁苣龁苣ꮃ苣ꮃ苣랂菣膀苣ꪃ菣ꮃ苣랂菣誁苣뎁苣ꮃ苣ꮃ苣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