(57)【要約】対物レンズ、とりわけ半導体の製造におけるミクロリソグラフィに用いる投影対物レンズにおいて、振動によって誘発される結像誤差を補正するための方法であり、上記対物レンズには少なくとも１つの第１対物レンズ部品（３ａ）及び少なくとも１つの第２対物レンズ部品（３ｂ）が備わってなる。この場合、上記第１対物レンズ部品（３ａ）は第１光軸（２２）を有し、少なくとも第２対物レンズ部品（３ｂ）は上記第１光軸（２２）から外れた方向を通る光軸（２３）を有する。ビーム偏向は、少なくとも１つの光学ビーム偏向部品（８，２４）を介して上記第１対物レンズ部品（３ａ）及び第２対物レンズ部品（３ｂ）間にて行われる。少なくとも１つの対物レンズ部品（３ｂ）において生じる振動は、検出システム（１５）によって測定及び判断される。そこで得られたデータは、振動する対物レンズ部品（３ｂ）の振動によって生じる結像誤差が補正されるように対物レンズにおけるビームの方向の調整を行なう装置（１９）のためのインプットデータとして用いられる。
2005517292.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対物レンズ、とりわけ半導体部品の製造におけるミクロリソグラフィに用いられる投影対物レンズにおいて振動によって誘発される結像誤差を補正するための方法であり、
上記対物レンズは第１光軸を有する少なくとも１つの第１対物レンズ部品（３ａ）と、上記第１光軸から外れた方向を通る光軸を有する少なくとも１つの第２対物レンズ部品（３ｂ）とを備え、
上記第１、第２対物レンズ部品間におけるビーム偏向は少なくとも１つの光学ビーム偏向部品を介して行なわれ、対物レンズ（３ａ、３ｂ）の少なくとも１つにおいて発生する振動が検出システム（１５）によって測定及び判断され、振動する対物レンズ部品（３ｂ）の振動に起因して生じる結像誤差が補正されるように、そこで得られた結果が対物レンズにおけるビームの方向を調整する装置（１９）のインプットデータとして用いられることを特徴とする振動によって誘発される結像誤差を補正するための方法。
【請求項２】
上記で用いられる対物レンズは反射屈折対物レンズとして形成され、第２対物レンズ部品（３ｂ）における光軸（２３）は少なくとも略水平に、または水平方向に対して若干傾斜して通ることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ビーム偏向を行なう上記の光学ビーム偏向部品はプリズム（８）として形成され、２つの対物レンズ部品（３ａ、３ｂ）の間に配置され、ビームの方向を調整する装置（１９）によって調整操作されることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
上記の垂直光軸（２２）を有する少なくとも１つの第１対物レンズ部品（３ａ）に加えて、垂直な光軸（２６）を有する第３対物レンズ部品（２７）が用いられ、上記第１対物レンズ部品（３ａ）と第３対物レンズ部品（２７）の間に配置された第２対物レンズ部品（３ｂ）は少なくとも略水平方向に通る光軸を有してなることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
上記第１対物レンズ部品（３ａ）と第２対物レンズ部品（３ｂ）との間でビーム偏向を行なうために、ビーム分割部品（２４）が用いられることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
上記ビーム分割部品（２４）は、ビーム偏向を調整する装置（１９）によって調整操作されることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
ビーム偏向を行なう上記の光学ビーム偏向部品として偏光鏡（２５）が用いられ、該偏光鏡（２５）は上記第２対物レンズ部品（３ａ）と第３対物レンズ部品（２７）との間に配置され、ビームの方向を調整する装置（１９）によって調整操作されることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項８】
上記対物レンズにおいてビーム方向を調整する装置（１９）は長期的影響に基づく結像誤差を補正するために用いられ、このために零位値（基本となる位置）が長期的影響に基づいた方法で調節されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】
上記対物レンズにおいてビーム方向を調整する装置（１９）は対物レンズ構造における不均一な温度分布を補整するために用いられ、このために零位置（基本となる位置）は不均一温度分布に依存する方法で調節されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
上記の振動する対物レンズ部品（３ｂ）には測定及び制御を行なう電子回路（１８）に接続された１つまたは複数の検出器（１５）が備わってなり、上記電子回路は受信したインプットデータに応じてビーム偏向部品（８、２４、２５）の位置を調整移動させる調整部品（１９）に接続されてなることを特徴とする請求項１に記載の方法を実行するための装置。
【請求項１１】
上記調整部品（１９）はビーム偏向部品（８、２５）を調整操作することを特徴とする請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
上記対物レンズは、垂直方向に通る光軸（２２）を有する第１対物レンズ部品（３ａ）と略水平方向に通る光軸（２３）を有する第２対物レンズ部品とを備えた反射屈折対物レンズとして形成され、上記ビーム偏向部品は上記調整部品（１９）によって調整操作される偏光鏡（２５）、ビーム分割部品（２４）またはプリズム（８）として形成されることを特徴とする請求項１０に記載の装置。
【請求項１３】
上記装置において、上記第１垂直光軸（２２）を有する第１対物レンズ部品（３ａ）に加えて、第２垂直光軸（２６）を有する第３対物レンズ部品（２７）が備わってなり、第１対物レンズ部品（３ａ）と第２対物レンズ部品（３ｂ）の間でビーム偏向を行なうためにビーム分割部品（２４）が備わってなり、ビーム偏向を行なう光学部品は、第２対物レンズ部品（３ｂ）と第３対物レンズ部品（２７）の間に配置される偏光鏡（２５）として形成されることを特徴とする請求項１０に記載の装置。
【請求項１４】
上記装置において、１つまたは複数の検出器（１５）が検出システムとして備わってなり、上記検出器（１５）は振動する対物レンズ部品（３ｂ）における対物レンズハウジング（７）の基台（１２）に対する振動を測定し、光学ビーム偏向部品（８、２４、２５）には少なくとも１つの検出器（１６）がそれぞれの位置を測定するために備わってなることを特徴とする請求項１０に記載の装置。
【請求項１５】
上記の振動する対物レンズ部品（３ｂ）の対物レンズハウジング（７）には１つまたは複数の検出器（１５）が備わってなり、該検出器（１５）は開始零位置に対応して振動する対物レンズ部品（３ｂ）または光学部品（６）の光軸（２３）の位置偏差を記録し、そこで確認された数値は零位置の補正を行なうために、測定及び制御を行なう電子回路（１８）にインプットされることが可能であることを特徴とする請求項１０に記載の装置。
【請求項１６】
上記ビーム偏向部品（８、２４、２５）には、少なくとも上記部品の重量を大体において補うための補正部品（２０）が備わってなることを特徴とする請求項１０に記載の装置。
【請求項１７】
上記ビーム偏向部品としてプリズム（８）が用いられ、回転軸（１４）をプリズム（８）の前方先端部に設定した場合、補正部品（２０）は回転軸（１４）において調整部品（１９）から遠隔にある方の側面に配置されることを特徴とする請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
上記第１垂直光軸（２２）を有する少なくとも１つの第１対物レンズ部品（３ａ）と、上記第１垂直光軸（２２）から外れた方向を通る光軸（２３）を有する第２対物レンズ部品（３ｂ）とを備えた半導体部品の製造におけるミクロリソグラフィに用いられる投影対物レンズ（３）であり、
上記の少なくとも１つの第１対物レンズ部品（３ａ）と第２対物レンズ部品（３ｂ）の間には光学ビーム偏向部品が配置され、上記第２対物レンズ部品（３ｂ）には測定及び制御を行なう電子回路（１８）に接続された１つまたは複数の検出器（１５）が備わってなり、上記電子回路（１８）は受信したインプットデータに応じてビーム偏向部品（８，２４，２５）の位置を調整移動させる調整部品（１９）に接続されることを特徴とする投影対物レンズ。
【請求項１９】
上記対物レンズは反射屈折対物レンズとして形成され、上記第２対物レンズ部品（３ｂ）は少なくとも略水平方向に、または水平方向に対して若干傾斜して通る光軸を有し、調整部品（１９）によって調整操作される偏光鏡（２５）、ビーム分割部品（２４）またはプリズム（８）が、第１対物レンズ部品（３ａ）と第２対物レンズ部品（３ｂ）との間でビーム偏向を行なうために備わってなることを特徴とする請求項１８に記載の投影対物レンズ。
【請求項２０】
上記対物レンズにおいて、上記第１垂直光軸（２２）を有する第１対物レンズ部品（３ａ）に加えて、第２垂直光軸（２６）を有する第３対物レンズ部品（２７）が備わってなり、第１対物レンズ部品（３ａ）と少なくとも略水平方向に、または水平方向に若干傾斜して通る光軸を有する第２対物レンズ部品（３ｂ）との間にビーム分割部品（２４）が配置され、上記調整部品（１９）によって調整操作される偏光鏡（２５）がビーム偏向部品として第２対物レンズ部品（３ｂ）と第３対物レンズ部品（２７）との間に配置されることを特徴とする請求項１８に記載の投影対物レンズ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、対物レンズ、特に半導体部品の製造におけるミクロリソグラフィに用いられる投影対物レンズにおいて、振動によって誘発される結像誤差を補正するための方法に関し、上記対物レンズは第１光軸を有する少なくとも１つの対物レンズ部品と、上記第１光軸から外れた方向を通る第２光軸を有する少なくとも１つの第２対物レンズ部品とを備え、少なくとも１つの光学ビーム偏向部品を介して上記第１及び第２対物レンズ部品間におけるビーム偏向が行われる。
【０００２】
また本発明は、振動によって誘発される対物レンズにおける結像誤差を補正するための装置にも関連する。
【０００３】
さらに本発明は、第１光軸を有する少なくとも１つの対物レンズ部品と上記第１光軸から外れた方向を通る第２光軸を有する少なくとも１つの第２対物レンズ部品とを備え、上記第１及び第２対物レンズ部品の間に光学ビーム偏向部品が配置されることを特徴とする半導体部品を製造する際のミクロリソグラフィにおいて用いられる投影対物レンズにも関連する。
【背景技術】
【０００４】
空間的な理由により、例えば半導体部品を製造するためのミクロリソグラフィに用いる投影対物レンズなどの対物レンズは、多くの場合物平面と像平面の間に複数の光軸が存在するように設計される。この一例としていわゆる反射屈折対物レンズとして知られている対物レンズがあり、この対物レンズは水平の光軸または水平方向に対して若干下方に傾斜した光軸を有する。この場合、ビーム偏向は垂直な光軸を有する第１対物レンズ部品から水平な対物レンズハウジングまでプリズムを介してインプット側において行なわれる。水平な対物レンズ部品において、ビーム反射はビームが再び垂直光軸と共に像平面まで通過する位置から凹面鏡を介してレンズ群を通過しプリズムに戻るまでの経路の後に行なわれる。
【０００５】
これに類似した類の対物レンズの場合、第１光軸の後には同様に水平な対物レンズにおいて水平方向に通る光軸が続く。これにおいても、ビームは凹面鏡において反射される。この場合、例えばビーム分割キューブなどのビーム分割部品が垂直光軸及び水平光軸の間のビーム偏向装置として設けられ、ビーム分割部品を通過した後、凹面鏡において反射されたビームは偏光鏡によって第２垂直光軸を有する第３対物レンズ部品へ偏向される。この場合、像平面は第３対物レンズ部品の下に位置され、ミクロリソグラフィのための投影対物レンズの場合には基板はこの像平面に配置される。上記で説明した両方の種類の対物レンズにおいて第１対物レンズ部品の上に位置される物平面には焦点板が配置され、その構造は対応して縮尺されて基板に映しだされる。
【０００６】
上記の両方の種類の対物レンズにおいて、対物レンズハウジングの水平な部分に設けられた凹面鏡の動的変位及び傾斜は対物レンズにおける結像誤差に大きく影響するため、対物レンズハウジングを有する第２対物レンズ部品は非常に堅固に形成されなくてはならない。この場合、とりわけミクロリソグラフィに用いられる対物レンズにおいて求められる高い画像の精度に関して不利となるのは、その堅固な機械的構造にもかかわらず、必要とされる画質が達成できないか、あるいは非常に高い費用をかけなければ達成できない場合があることである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
このため、本発明は対物レンズ部品、とりわけ像平面のために備えられた垂直な光軸から水平な方向にビーム偏向する対物レンズ部品において、振動によって誘発される結像誤差を回避するか、または少なくともかなりの程度まで削減することが可能な方法及び装置を提供する目的を基に創作された。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明によると、方法に関して言えば、この目的は少なくとも１つの対物レンズ部品において生じる振動が検出システムによって測定及び判断され、そこで得られた結果を振動する対物レンズの振動によって生じる結像誤差が補正されるように、対物レンズのビーム方向を調整する装置のためのインプットデータとして使用することで達成することができる。
【０００９】
装置に関して言えば、この目的は第２対物レンズ部品に測定及び制御を行なう電子回路に接続された１つまたは複数の検出器を備え、上記電子回路には受信したインプットデータに応じてビーム偏向部品の位置を調整移動する調整装置を接続することで、請求項９に基づいて達成することができる。
【００１０】
本発明による、半導体部品を製造するためのミクロリソグラフィに用いられる投影対物レンズのための解決法は請求項１７において説明されている。
【発明の効果】
【００１１】
本発明による方法及びこの方法に使用する装置によって、対物レンズ部品、特に水平の対物レンズ部品の回避できない振動による影響が、振動の結果として生じる結像誤差が対応する装置によって補正されるように規制または操作されることを可能にする。これは、例えば測定及び制御を行なう電子回路によって対応して制御され、対応する対振動が誘発されるように作動する調整部品がビーム偏向部品に備わってなるか、あるいは像平面にビーム偏差が生じることがなく、結果として画質が落ちることのないように、振動によって誘発されるビーム方向の変位が補正されるよう調整部品がビーム偏向部品を調整することによって可能となる。
【００１２】
実際としては、これは例えばビーム偏向部品には、画質を損なう対物レンズ部品の振動に対して対応して適応された振幅を有する逆の振動数を持つ振動が課されているという意味である。こうすることで、例えば水平な対物レンズ部品などにおいてビーム偏向を行なうときでも、後者において反射されたビームはビーム偏向部品においていつも同様の定められた位置に影響を及ぼし、これによってビームを像平面に正確に伝導することが確実に可能となる。実際には、ビーム偏向部品は振動に同調して常時調節される。
【００１３】
本発明の発展案として、振動によって誘発される結像誤差の積極的な補正の他にも、本発明による方法及びそのための装置は、例えば発生する振動による対物レンズハウジングにおける光学部品（例えば鏡、レンズ及びビーム偏向部品など）の配置の失敗や変位などにつながる長期的影響を補正するために使用することも可能である。この一例としては、接着ボンドの漏れや取付部や対物レンズ構造の老朽化などが含まれる。
【００１４】
これと同様に、本発明による方法は対物レンズ構造における不均一な温度の分布を補正するために用いることも可能である。
【００１５】
上記の両方の場合において必要とされるのは、ビーム偏向部品の定められた零位置（基本となる位置）からの偏差を確認し、それらを順次補正するための対応する検出器を使用することだけである。
【００１６】
本発明の有利な改良案や発展案は、残りの従属請求項及び図面を参照として以下に原則的に説明が付された模範的な具体案から表される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
半導体部品を製造するためのミクロリソグラフィに用いられる投影露光装置は図１にて原則的に開示されている。この装置には、レーザー（図示なし）を光源として具備する照射システム１が備わってなる。この投影露光装置の物平面に配置されるのは、投影対物レンズ３の下に配置され像平面に置かれる基板４に、その構造が対応した縮尺で映されることが意図された焦点板２である。
【００１８】
図１において描かれる投影対物レンズは、第１垂直対物レンズ部品３ａと水平であるか、または水平方向に対して若干斜めに傾斜した第２対物レンズ部品３ｂとを有する反射屈折対物レンズである。対物レンズ部品３ｂには複数のレンズ５と凹面鏡６が備わり、各部品は対物レンズ部品３ｂにおける対物レンズハウジング７内に配置される。投影ビーム（矢印を参照）を垂直対物レンズ部品３ａから水平な対物レンズ部品３ｂへ偏向するために、ビーム偏向部品としてプリズムが備わってなる。プリズムの上面９に影響を及ぼす投影ビームは凹面鏡６によって反射され、次いでプリズムの下面１０に影響し、そこからさらなるレンズ群１１を通過した後に投影露光装置１における基台１２上に移動可能に配置された基板４へ影響を及ぼす。
【００１９】
外的影響によって引き起こされる振動は、主として対物レンズハウジング７または水平な対物レンズ部品３ｂを矢印１３の方向に対応して上下に振動させる。その結果、基板４が配置される像平面がずれてしまう。このようなずれは、画像における精度の欠乏につながる。またプリズムの前方先端部１４に対するプリズム８の回転も、同様の結果につながる。
【００２０】
水平な対物レンズ部品３ｂまたは対物レンズハウジング７、及びプリズム８の瞬間的な位置は、位置検出器１５及び１６によって特定される。本具体案の場合、位置検出器１５は水平な対物レンズハウジング７と基台１２の間の距離を測定し、位置検出器１６はプリズム８と垂直な対物レンズハウジング１７の間の距離を測定する。
【００２１】
水平な対物レンズハウジング７の振動が位置検出器１５によって確認されると、望ましい実際の位置が位置検出器１６によって検出された数値の使用による影響下を受けた望ましい実際の位置と比較される、測定及び制御を行なう電子回路１８に制御線を介してインプットされ、図１では明確に描かれていないが、対物レンズにおいてビームの方向を調節する装置である作動装置１９が対応して作動される。この作動装置１９は任意に設計されてもよい。このように、上記の装置は電子式、機械式または圧電式の作動部品として設計されることも可能である。この作動装置１９は、測定及び制御を行なう電子回路１８で得られた数値に応じて、プリズムの前方先端部１４を軸にプリズム８を旋回する。このために、プリズム８は対物レンズハウジング１７において対応した旋回が可能なように配置されなければならない。ほんの僅かな調整力しか必要とせず、また調整を非常に迅速に行なうために、プリズム８において露光に要する領域の外側に配置される補正部品２０がプリズム８に備えられてもよい。図３の拡大図を参照として、これは以下のように行なうことができる。プリズム８の両端部において、ロッド組立体２１は作動装置１９と離れた位置にありプリズム８が旋回する軸点となるプリズムの前方先端部の側から突出し、補正部品２０は上記ロッド組立体２１の前方端部に配置される。
【００２２】
水平な対物レンズハウジング７において発生する振動に応じて、上記振動と同時的に測定及び制御を行なう電子回路１８が駆動することによってプリズム８において対振動が発生する。本具体案の場合、同時的に作動する「対振動」は、水平な対物レンズハウジング７の矢印１３の方向への振動や、その結果として投影ビームのずれが生じるにもかかわらず、投影ビームは必ずプリズムの下面１０の定められた同様の位置に影響を及ぼすように選択される。
【００２３】
水平な対物レンズハウジング７における振動の探知とそれに伴う補正に加えて、凹面鏡６は異なる方法で発生する結像誤差をなくすために用いることも可能である。このために、１つまたは複数の参照ビームが投影対物レンズ３において通常の露光領域の外側に導入され、プリズムの下面１０の下に位置する中間像平面に映されてもよい。上記の参照ビームは、結合鏡（カップリングアウト・ミラー）（図示なし）を介して波面が測定される探知機（同様に図示なし）へ伝導されてもよい。ソフトウェアが探知機において、凹面鏡６の表面の望ましい表面と実際の表面との差異をこれらのデータから求めるのに用いられてもよい。後に、これらのデータは、プリズム８の配置とそれに付随する可能な調整のための新規の設定値として用いることも可能となる。この方法だと、プリズム８の補正された零位置は結像誤差に応じて設定される。またこの零位置は、水平な対物レンズハウジング７における振動の補正を行なううえでも役立つ。
【００２４】
図２では投影対物レンズ３の類似した構成が開示されており、同様の部品に関しては同様の符号が参照として付されている。これにおいても、垂直光軸２２を有する第１垂直対物レンズ部品３ａと、少なくとも略水平方向を通る光軸２３を有する第２水平対物レンズ部品３ｂとが備わってなる。プリズム８の代わりにビーム偏向部品として設けられるのは、垂直光軸２２から水平光軸２３へ偏向を行なうビーム分割キューブの形態をしたビーム分割部品２４である。ビームが凹面鏡６にて反射され、次いでビーム分割部品２４を通過した後、上記ビームは偏光鏡２５に影響を及ぼす。偏光鏡２５において、水平なビーム経路２３は再び垂直光軸２６に偏向される。上記偏光鏡２５の下に配置されるのは、さらなるレンズ群２８を有する第３垂直対物レンズ部品２７である。これに加えて、３つのλ／４板２９、３０及び３１もまたビーム経路に配置される。λ／４板２９は、焦点板２とビーム分割部品２４との間のレンズまたはレンズ群３２の後方に配置される。λ／４板３０は水平対物レンズ部品３ｂのビーム経路に配置され、λ／４板３１は第３対物レンズ部品２７に配置される。３つのλ／４板は偏光を一度完全に回転させ、この結果としてとりわけビーム損失を減少させる働きをする。
【００２５】
図２による投影対物レンズにおけるそれぞれの光軸は、対物レンズの構成上、十分な正確性をもってそれぞれに対して平行または直角に通るように相互に対して非常に正確に調整されるにもかかわらず、それぞれの対物レンズ部品は機械的な振動によって移動し、ひいてはこれに対応した画質の劣化につながる。図１による模範的具体案と同様に、水平な対物レンズ部品３ｂにおいて生じる振動は、偏光鏡２５に接続された作動装置１９によって補正される。本具体案においても、検出器１５及び１６は凹面鏡６及び偏光鏡２５の位置をそれぞれ特定し、本具体案ではもはや描かれていないが測定及び制御を行なう電子回路１８へ制御線を介して数値を伝送する。
【００２６】
必要とされれば、検出器１５または対物レンズ部品３ｂにおける対物レンズハウジング７に設けられる別個の検出器を、例えば凹面鏡６などの破損につながり、ひいては同様に結像誤差につながる例えば長期的影響などによる影響を補正するのに用いることもできる。
【００２７】
これと同様の方法で、全体的な対物レンズの構造において異なる温度分布による位置変位を特定することもまた可能である。
【００２８】
両方の場合において、プリズム８または偏光鏡２５において零位置の対応する補正が行われる。
【００２９】
例えば容量性、誘導性またはその他の移動測定検出器など、広い範囲での様々な種類の検出器を検出器１５及び１６として用いることも可能である。
【００３０】
対物レンズ３においてビームの方向を調整する装置１９によって操作される偏光鏡２５の代わりに、同じ用途のためにビーム分割部品２４が使用されてもよい。この場合、ビーム分割部品２４には位置検出器１６'及び作動装置１９'（図２の点線で描かれた箇所を参照）が同様に設けられることとする。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】反射屈折投影対物レンズが備わった投影露光装置を示した図である。
【図２】２つの垂直な光軸とその間に１つの水平な光軸が備わった構造で形成された対物レンズを有する投影露光装置を示した図である。
【図３】補正部品が備わったビーム偏向部品として形成されたプリズムの基本的な形態を平面図で示した図である。
【符号の説明】
【００３２】
１      照射システム
２      焦点板
３      投影対物レンズ
３ａ    第１垂直対物レンズ部品
３ｂ    第２対物レンズ部品
４      基板
５      レンズ群
６      凹面鏡
７      対物レンズハウジング
８      プリズム
９      プリズム上面
１０    プリズム下面
１１    レンズ群
１２    基台
１３    矢印
１４    プリズム前方先端部／回転軸
１５    位置検出器
１６    位置検出器
１６'  位置検出器
１７    垂直対物レンズハウジング
１８    電子回路
１９    作動装置
１９'  作動装置
２０    補正部品
２１    ロッド組立体
２２    垂直光軸
２３    光軸／垂直ビーム経路
２４    ビーム分割部品
２５    偏光鏡
２６    垂直光軸
２７    垂直対物レンズ部品
２８    レンズ群
２９    λ／４板
３０    λ／４板
３１    λ／４板
３２    レンズ群
【図１】
2005517292.tif 000003
【図２】
2005517292.tif 000004
【図３】
2005517292.tif 000005
【国際調査報告】
2005517292.tif 000006
2005517292.tif 000007
2005517292.tif 000008
2005517292.tif 000009
2005517292.tif 000010
2005517292.tif 000011