(57)【要約】本発明は、圧力によってガスで液体を飽和させる装置に関し、この装置は、加圧ガスで満たされている飽和容器（１）、当該飽和容器（１）の頂部において飽和容器（１）の中に液体を注入する１個またはそれより多くのノズル（８）、飽和容器（１）において１個またはそれより多くのノズル（８）の下に配置される管（溶解管）（４）（頂部で開き底部で閉じている）、１個またはそれより多くのノズル（８）に付随するすべての溶解管（４）、および、飽和容器（１）の底部にあり溶解管（４）の下流の液体排出口（１６）を含む。本発明は、加圧下でガスを注入することにより当該ガスで液体を飽和させる装置であって、浮上槽の中に（圧力）緩和の後の当該液体を導入するために、当該ガスの（圧力）緩和装置と組み合わせた装置にも関する。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスを用いた液体の圧力飽和装置であって、
−  ガスで満たされる圧力飽和容器（１）、
−  圧力飽和容器（１）の頂部において圧力飽和容器（１）に液体を注入するための１個またはそれより多くのノズル（８）、
−  圧力飽和容器（１）において１個または複数のノズル（８）の下に配置され、頂部で開き、底部で閉じている管（溶解管）（４）（各溶解管（４）には１個またはそれより多くのノズル（８）が割り当てられている）、
−  圧力飽和容器（１）の底部で溶解管（４）の下方にある液体出口（１６）
を含んで成る装置。
【請求項２】
液体が水であることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
ガスが空気であることを特徴とする請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】
ノズル（８）が、スムーズ・ジェットノズルであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の装置。
【請求項５】
稼働状態下のノズル（８）における圧力降下が１バール未満、好ましくは０．５バール未満であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の装置。
【請求項６】
ノズル（８）を圧力飽和容器（１）の蓋（２）にねじ留めすることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の装置。
【請求項７】
ノズル（８）が、その最も狭いフロー断面において４ｍｍよりも広いギャップ幅を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の装置。
【請求項８】
個々のノズル（８）を通る液体の流量を、上流または下流の遮断要素（１３）を用いて別々にその都度コントロールし得ることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の装置。
【請求項９】
３ｍ／ｓｅｃを上回る、好ましくは６ｍ／ｓｅｃを上回る速度で液体を注入することを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の装置。
【請求項１０】
８ｍ／ｓｅｃを上回る、好ましくは１０ｍ／ｓｅｃを上回る速度で水を注入し、結果として、９０％より高い、好ましくは９５％より高い水の飽和度を達成することを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の装置。
【請求項１１】
各溶解管（４）に１個のノズル（８）を割り当てることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の装置。
【請求項１２】
割り当てられたノズル（８）の直径に対する溶解管（４）の直径の比が、３〜８の範囲、好ましくは３〜５の範囲、特に好ましくは４であることを特徴とする請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
各溶解管（４）に４個のノズル（８）を割り当てることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の装置。
【請求項１４】
割り当てられたノズル（８）が４個の場合において、割り当てられたノズル（８）の直径に対する溶解管（４）の直径の比が６〜１６の範囲、好ましくは３〜１０の範囲、特に好ましくは８であることを特徴とする請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
各溶解管（４）と割り当てられたノズル（８）との間の距離が１００−４００ｍｍの範囲、好ましくは１５０−２５０ｍｍの範囲であることを特徴とする請求項１〜１４のいずれかに記載の装置。
【請求項１６】
溶解管（４）内の液体の滞留時間が１０秒未満、好ましくは５秒未満、特に好ましくは２．５秒未満であることを特徴とする請求項１〜１５のいずれかに記載の装置。
【請求項１７】
ガス飽和容器（１）の底部にある液体出口（１６）を、ガス飽和容器（１）からの液体の流出速度が５０〜１５０ｍ／ｈの範囲、好ましくは７０〜９０ｍ／ｈの範囲となるような寸法にすることを特徴とする請求項１〜１６のいずれかに記載の装置。
【請求項１８】
ガスの供給をバルブ（２５）でコントロールすることによってガス飽和容器（１）内の液面の高さ（１７）をコントロールすることを特徴とする請求項１〜１７のいずれかに記載の装置。
【請求項１９】
さらにまた、装置が液面計を有することを特徴とする請求項１〜１８のいずれかに記載の装置。
【請求項２０】
液面計が立て管（６）であって、容器の内部と連通してガス飽和容器（１）の外側とつながっていて中にフロート（１８）が配置される立て管（６）であることを特徴とする請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】
フロート（１８）が磁気的に検出されることを特徴とする請求項２０に記載の装置。
【請求項２２】
フロート（１８）が、圧力飽和容器（１）へのガスの供給をコントロールする最大値・最小値回路（１９）を作動させることを特徴とする請求項２０または２１に記載の装置。
【請求項２３】
容器（１）におけるガスの最大圧力を、ガス供給ライン（２０）にあるガバナバルブ（２１）で設定できることを特徴とする請求項１〜２２のいずれかに記載の装置。
【請求項２４】
浮上槽に導入する液体の圧力飽和装置および圧力解放装置であって、
−  浮上槽（１０）
−  液体ライン（１５、２３）を経由する液体供給が浮上槽（１０）の液体出口（１６）につながれた圧力飽和容器（１）、
−  圧力飽和容器（１）の液体出口（１６）と浮上槽（１０）への液体供給ライン（２３）との間の液体ライン（２３）に配置された１個またはそれより多くの圧力解放バルブ（７）
を含んで成る装置。
【請求項２５】
圧力飽和容器（１）が、請求項１〜２０のいずれかに記載の圧力飽和容器であることを特徴とする請求項２４に記載の装置。
【請求項２６】
圧力飽和容器（１）の液体出口（１６）と圧力解放バルブ（７）との間の液体ライン（１５）に中間の遮断要素（２２）を配置することを特徴とする請求項２４または２５に記載の装置。
【請求項２７】
各圧力解放バルブ（７）からの液体流量を上流または下流の遮断要素（２４）によってコントロールできることを特徴とする請求項２４〜２６のいずれかに記載の装置。
【請求項２８】
圧力解放バルブ（７、２４０）が、１個またはそれより多くのノズル（２６０）をねじ留めした穴のあいたプレート（２５０）から成ることを特徴とする請求項２４〜２７のいずれかに記載の装置。
【請求項２９】
圧力解放バルブ（７、２００）が、穴タイプノズルまたはスリットノズル（２２０）がミリングされたプレート（２１０）から成ることを特徴とする請求項２４〜２７のいずれかに記載の装置。
【請求項３０】
１０〜１００ｃｍ、好ましくは１０〜３０ｃｍの範囲の長さの液体ライン部分（２９）を、圧力解放バルブ（７）と浮上槽への供給管（２３）の中央との間に配置することを特徴とする請求項２４〜２９のいずれかに記載の装置。
【請求項３１】
圧力解放バルブ（７）が、その最も狭いフロー断面において４ｍｍより広いギャップ幅を有することを特徴とする請求項２４〜３０のいずれかに記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、ガスによる液体の圧力飽和装置および浮上槽（フローテーションセル）に減圧液体を導入するための圧力解放装置と組み合わせたそのような装置に関する。
【０００２】
浮上装置は水性懸濁液から固体を取り除くのに有用である。この場合、気泡が懸濁液に導入され、この泡が固体に付着して液体表面に浮かぶ。次いで、これらの粒子をスキマーによって表面から取り除くことができる。微細な気泡を発生させるための既知の方法は、３−１０バールの圧力の下、水のストリームを空気で飽和させることである。次いで、この圧力飽和水を精製すべき水にバルブを経由して添加する。この過程の間に、浮上装置において飽和圧力から周囲圧と加えられた静水圧とを加えた圧力までの自発的な圧力降下がバルブをわたって起こり、その結果として、ガスの溶解度が急に減少する。次いで、微細な気泡の生成により過剰のガスを分離する。
【０００３】
現在利用可能な圧力飽和および圧力解放のシステムは以下の不利点を示す。
−  発泡が影響されやすいこと
−  飽和の空時収率が低いこと
−  高度な設備が要求されること、従って構成費用が高いこと
【０００４】
本発明の課題は、従来技術のシステムの不利点を有さない圧力飽和装置および圧力解放装置を提供することである。
【０００５】
本発明の課題は、
−  圧力飽和容器
−  圧力飽和容器の頂部において圧力飽和容器に液体を注入する１個またはそれより多くのノズル
−  圧力飽和容器において１個または複数のノズルの下に配置され、頂部で開き、底部で閉じている管（溶解管）（各溶解管には１個またはそれより多くのノズルが割り当てられている）
−  圧力飽和容器の底部で溶解管の下方にある液体出口
を含む圧力飽和装置によって達成される。
【０００６】
１個またはそれより多くのノズル、好ましくは常套のスムーズ・ジェットノズルを経由して、ガス、好ましくは空気で飽和すべき液体を圧力飽和容器の頂部に導入する。これらのノズルは、圧力飽和容器の蓋にねじ留めされていてよい。ノズルにおける圧力低下は、稼働状態下で１バール未満、好ましくは０．５バール未満である必要がある。
【０００７】
ノズルの直径は最も狭いフロー断面において４ｍｍよりも広いギャップ幅を有し、微細粒子に起因する閉塞を排除できる。加えて、上流の逆流洗浄可能スクリーンフィルターによってノズルを保護することができる。
【０００８】
供給される液体、好ましくは水のストリームを、あらかじめ個々の供給管に細分することができる。個々のノズルを通る液体流を、上流または下流の遮断要素によって、例えば一連の遮断バルブによって、各ノズルについて別々にその都度コントロールすることができる。このようにして、圧力飽和容器に供給される液体の流量を要求に従って設定することができる。
【０００９】
３ｍ／ｓｅｃよりも大きい、好ましくは６ｍ／ｓｅｃよりも大きい速度で液体を注入する。飽和すべき液体が達成すべき圧力飽和度に応じて注入速度を選択する。水の場合、９０％より高い飽和度を得るためには注入速度が８ｍ／ｓｅｃよりも大きく、９５％より高い飽和度については１０ｍ／ｓｅｃよりも大きい必要がある。
【００１０】
圧力飽和容器において、各ノズルの液体は、初めにノズルと溶解管との間の中間領域にあるガスクッションを自由噴流（フリー・ジェット）の形で通過し、次いで溶解管に入る。各溶解管とそれに割り当てられるノズルとの間の距離は１００−４００ｍｍの範囲、好ましくは１５０−２５０ｍｍの範囲である。溶解管の中で液体は渦巻き、短時間の後に再び頂部において溶解管から出て行く。各ノズルから連続して液体が流入する結果、それぞれ割り当てられた溶解管は常に液体で満たされる。液体の自由噴流がガスクッションを通った結果、ガスの分子は同伴され気泡の形で溶解管の内部に導入される。溶解管における乱れおよび高い剪断力の結果、ガスと液体との間で激しい接触が起こり、その結果として液体がガスで飽和される。上昇する気泡は頂部から溶解管に流れ込む液体により繰り返し再分割され、溶解管の下部領域に運ばれる。
【００１１】
好ましくは各溶解管に１個のノズルを割り当てるが、複数のノズル、例えば４個のノズルを１個の溶解管に割り当てることもできる。
【００１２】
液体の溶解管における滞留時間は、第一に注入速度に依存し、そして第二に、割り当てられるノズルの液体出口における直径に対する溶解管の直径の比に依存する。
【００１３】
ここで、以下のことが当て嵌まる：割り当てられるノズルの直径に対する溶解管の直径の比が大きいほど、滞留時間が長くなる。割り当てられるノズルの直径に対する溶解管の直径の比を一定にして注入速度を上げると滞留時間が短くなる。好ましくは、割り当てられるノズルが１個の場合、そのノズルの直径に対する溶解管の直径の比は３〜８の範囲、好ましくは３〜５の範囲で、特に好ましくは４である。それゆえ、液体出口における直径が１０ｍｍのノズルを用いるとき、直径４０ｍｍの溶解管を用いるのが有利である。
【００１４】
１本の溶解管に４個のノズルを割り当てる場合、割り当てられたノズルのうちの１個の直径に対する溶解管の直径の比は６〜１６の範囲、好ましくは３〜１０の範囲、特に好ましくは８である。なぜなら、溶解管の直径が２倍であることはノズルを通る処理量が４倍であることを意味するからである。溶解管に割り当てられるノズルの数が他の数である場合には比を正しく適応させなければならない。
【００１５】
これらの条件下では、溶解管における液体の滞留時間は１０秒未満、好ましくは５秒未満、特に好ましくは２．５秒未満である。
【００１６】
液体は溶解管からオーバーフローして容器の下方の領域に集まるか又は溜まり、そこでは、液体は容器底部にあって溶解管の下方にある液体出口を通って出て行くことができる。ガス飽和容器底部にある液体出口は、特に、ガス飽和容器からの液体の流出速度が５０〜１５０ｍ／ｈの範囲、好ましくは７０〜９０ｍ／ｈの範囲となるような寸法にする。
【００１７】
容器に溜まった液体は泡フィルターの機能を有する。比較的大きな泡（ｄ＞１００μｍ）は液体出口に一緒に入ることができない。それは、液体が下方へ動くよりも速く上昇するからである。ガスの供給をコントロールすることによりガス飽和容器内の液面の高さをコントロールする。
【００１８】
容器内の液面の高さ（レベル）を液面計によってコントロールすることができる。好ましくは、この目的のために、ガス飽和容器の外側に容器内部と連通している立て管（または鉛直管）をつなぐ。管内のフロートは高さを示す。好ましくは、フロートは磁気的に検出され得、最大値・最小値回路（オン・オフ回路）を作動させる。最小の場合にはガスの供給を自動的に停止する。最大の場合にはガスの供給を始める。容器内の最大圧力をガス供給ラインにあるガバナバルブ（またはレギュレータ）によって設定することができる。
【００１９】
最大値・最小値回路と組み合わせた液面計を用いて、圧力飽和容器における液面高さをコントロールするだけでなく、圧力飽和容器にガスを適切に供給することも確実にする。このように、溶解プロセスによって消費される量に等しい量のガスを液体に自動的に供給する。
【００２０】
発明課題の解法は、さらに、浮上槽に導入する液体の圧力飽和装置および圧力解放装置を含み、
−  浮上槽、
−  液体ラインを経由する液体供給が浮上槽の液体出口につながれた圧力飽和容器、
−  圧力飽和容器の液体出口と浮上槽への液体供給ラインとの間の液体ラインに配置された１個またはそれより多くの圧力解放バルブ、
を含んで成る。
【００２１】
浮上槽それ自体は既知であり、バッフルプレート、内部のポットおよび液体表面の外側部分での吸引により循環的にスキミングする装置を含む。液体の流入（例えば、汚水の流入）および精製された液体の流出（例えば清浄水の流出）をコントロールすることにより、浮上槽における浮遊物の除去率をコントロールする。
【００２２】
圧力飽和容器は圧力飽和に関する上述の本発明の装置のうちの１つであってよい。
【００２３】
各圧力解放バルブからの液体の流量を、上流または下流の遮断要素、例えばボールバルブによってコントロールすることができる。このようにして、異なるガス導入速度で浮上槽を操作することができる。
【００２４】
中間の遮断バルブを圧力飽和容器の液体出口と圧力解放バルブとの間に配置することができる。
【００２５】
圧力解放バルブは、１個またはそれより多くのノズルをねじ留めした穴のあいたプレートから成り得る。穴のあいたプレートをオリフィスプレートと同様の方法でフランジに取り付ける。圧力解放バルブに用いられるノズルは、市販の常套の簡単なラバール（Ｌａｖａｌ）ノズルのフロー輪郭を有してよい。
【００２６】
別法として、圧力解放バルブは、適当なフロー輪郭を有するスロットノズルまたは穴タイプノズルがミリング（ミルで削って加工）されたプレートから成り得る。
【００２７】
圧力解放バルブにおけるノズル径は、径の最も狭いフロー断面において４ｍｍよりも広いギャップ幅を好ましくは有し、その結果として、微細粒子に起因する閉塞を排除できる。加えて、上流の逆流洗浄可能スクリーンフィルターによってノズルを保護することができる。
【００２８】
圧力解放バルブと浮上槽への供給ラインとの間に液体ライン部分が位置するのが好ましく、浮上槽のフィードに添加される前に、減圧された液体が１０〜１００ｃｍの範囲、好ましくは１０〜３０ｃｍの範囲のパス長を流れる。このことは、余分なガスを液体から完全に排除するため、および、３０〜７０μｍの気泡径を有する細かく泡立った泡スペクトルを得るために有利である。
【００２９】
本発明の圧力飽和装置においては発泡をできる限り防ぐことが有利である。浮遊している泡は、ガス空間を横切る、ノズルからの液体ジェットにより破壊される。
【００３０】
溶解管における短い滞留時間（１０秒未満）で、９０％よりも高い圧力飽和状態に達することができるので、本発明の圧力飽和装置においては特に高い空時収率で飽和状態を成し遂げる。
【００３１】
圧力飽和および圧力解放に用いる本発明の装置は、非常に簡単な構成要素から作られ、従って発明装置を非常に安価で組み立てることができる。
【００３２】
圧力飽和および圧力解放に用いる本発明の装置について、個々のノズル要素の開閉により、液体処理量、従ってガスの導入を融通性のある方法でコントロールできることもまた有利である。
【００３３】
図１は、浮上槽１０を有する圧力飽和／圧力解放を組み合わせたシステムの構成を示す。飽和に関して、浮上槽１０のアウトフロー１１からの清浄水を圧力飽和容器１に通す。容器の蓋２にねじ留めされている１個またはそれより多くの常套のスムーズ・ジェットノズル８を経由して、圧力飽和容器１の頂部において流量をコントロールする方法で導入を実施する。供給された水のストリームを、一連の遮断バルブ１３によって個々に開閉することができる個々の供給管１２の間であらかじめ細分する。
【００３４】
圧力飽和容器１において、液体は最初に自由噴流１４の形でガスクッション３を通り抜け、次いで溶解管４の中に入る。液体はそこで渦巻き、少し後で頂部において再び出て行く。水は溶解管４からオーバーフローして容器１の下の領域５に集まるか、または溜まる。液体は容器１の底部の液体出口１６を通って出て行く。
【００３５】
容器１における水位１７を液面計によってコントロールする。好ましくは、この目的のために、容器の内部と連通する立て管６を容器１の外側につなぐ。管内の磁気による検知が可能なフロート１８は液面１７の位置を示し、ガスバルブ２０とつながっている最大値・最小値回路１９を作動させる。最小の場合にはガスの供給を自動的に止める。最大の場合にはガスの供給が開かれる。容器における最大圧力をガス供給ライン内のガバナバルブ２１によって設定してよい。
【００３６】
水は、中間の遮断バルブ２２を経由して、１個またはそれより多くの圧力解放バルブ７を通り、その後の液体ライン部分２９を経由して、浮上槽１０の供給ライン２３に流れ込む。個々の圧力解放バルブ７を、下流のボールバルブ２４により開閉することができる。
【００３７】
図２ａは、対応するフロー輪郭を有する穴タイプノズルまたはスロットノズル２２０がミリングされたプレート２１０からなる圧力解放バルブ２００を示す。穴のあいたプレート２１０をオリフィスプレートと同様にフランジ２３０に取り付ける。
【００３８】
図２ｂは、１個またはそれより多くの常套のノズル２６０をねじ留めした穴のあいたプレート２５０から成る圧力解放バルブ２４０を示す。
【実施例１】
【００３９】
実験で用いた圧力飽和槽３０は透明プラスチックから作製した、図３に対応する容器３１であった。この容器は１０００ｍｍの長さで直立し、内径が１９０ｍｍの管状反応器であった。反応器内では、長さが５００ｍｍで底が閉じている溶解管３２が４個の鋼棒に固定されて同心状に吊されており、溶解管の上端と圧力飽和槽の蓋との間の距離は１５０ｍｍであった。従って、溶解管３２の内側に入るまで１５０ｍｍの距離は、容器３１の中に入る液体の自由噴流でなければならない。この場合、自由噴流は、図４に示す輪郭を有するスムーズ・ジェットノズル３３を経由して発生した。ノズル３３の出口におけるフロー断面は円形であり、直径が８ｍｍであった。容器３１内の（液面）高さ３４を溶解管３２の上端より下方１５０ｍｍにコントロールした。
【００４０】
圧力飽和槽３０の頂部において圧縮空気の供給を行った。このとき、供給ラインからの圧力を常套のガバナバルブによって３バールまで下げた。また、ガバナバルブと反応器との間にさらにつながれた電磁弁が存在し、この電磁弁は（液面）高さが最高に達した場合には開き、最低の場合には閉じた。結果として、容器内の圧力は３バールで実質的に一定であった。
【００４１】
水は図５で示す膨張ノズル５０を経由して容器３１から脱ガス容器に流れ込んだ。脱ガス容器から流れるガスの流量をガスメーターにより測定した。
【００４２】
膨張ノズル５０は、最も狭い点において、直径４．７ｍｍの円形のフロー断面を有した。最も広い点においては直径が２８ｍｍであった。
【００４３】
実験装置を１．５ｍ３／ｈの液体処理量で操作した。この場合に達成される水の飽和度は９５％であった。スムーズ・ジェットノズルによる圧力降下は０．４〜０．５バールであった。
【００４４】
この場合において、圧力解放容器に導入されたガスが液体に溶解することなく膨張ノズル５０を通過した気泡であるということを排除できた。
【００４５】
容器３１の透明な外管により、容器内で下向きに流れている液体が底部領域で澄んでいる、従って気泡がない状態であることをはっきりと見ることができた。従って、圧力解放容器に導入されたガスは、あらかじめ溶解状態でのみ存在し、次いで膨張により再び解放されたガスのみであった。
【００４６】
飽和度を計算するために、所定の温度および圧力において熱力学的平衡にある水での空気の達成し得る最大溶解度を基準に用いた。飽和度は実験において達成された溶解度（パーセント）である。
【００４７】
このとき、飽和槽の中に入る水は大気圧において空気であらかじめ飽和されていることに留意しなければならない。
【実施例２】
【００４８】
フローが閉じた脱ガス容器に入らずに、約１ｍ３の液体を保持する丸い透明な浮上槽１０に入ることを除いては、実施例１と同様の方法で実験を行った。この場合において、図１に示すのと同様に、膨張ノズル７を経て減圧された水を、直立している供給管２３の中へ水平の液体ライン部分２９を経由して加えた。
【００４９】
得られた気泡のスペクトルを評価するために、浮上槽において液体の表面の下に形成されているバブル・カーペットの空間構造、カーペットの白色度および比較的大きな気泡の急上昇に起因する表面乱れを用いた。
【００５０】
上述の実験条件のもと全ての態様において、外観は、良好な浮上結果に不可欠であると経験的に示されている基準に相当した。明示された典型的な気泡パターンは直径３０μｍ〜８０μｍの気泡寸法分布であることを示した。
【００５１】
尚、良好な気泡スペクトルを得るために、膨張ノズル７の終端と供給管２３の中央との間に有利には２００ｍｍの距離が存在しなければならなかった。
【実施例３】
【００５２】
圧力飽和槽において、異なる出口穴（またはオリフィス）および異なる供給速度を有するノズルを取り付けたことを除いては、実施例１と同様の装置を用いた。
【００５３】
結果として、ノズルヘッドにおいて自由噴流の種々の出口速度が生じた。ノズルヘッドにおける出口速度は、反応器内で達成される飽和度に影響を及ぼすということを見出した（図６）。
【００５４】
出口速度は１秒につき６〜１１ｍの範囲で変更した。このとき、得られる飽和度は０．８〜０．９５に増加した（図６）。実施例１に記載のように、脱ガスの間に測定されたガス流量により飽和度を決定した。
【実施例４】
【００５５】
実施例３に相当する実験を繰り返した。実験に用いる用水に１００ｐｐｍのエタノールを添加した。エタノールの添加は水中の気泡の合体を抑制する。結果として生じる非常に微細な気泡は、合体状態下に比べて全体として大きな表面積を有する。
【００５６】
ノズルヘッドでの流速が９〜１０ｍ／ｓのとき、０．９７〜０．９８の飽和度が得られることを見出した。
【実施例５】
【００５７】
実施例４と同様の方法で、実験に用いる用水に１００ｐｐｍのメルソラート（Ｍｅｒｓｏｌａｔ）を発泡剤として添加した。ガス飽和容器における気泡層の成長が大幅に抑制された。インジェクター（または注入器）の原理により操作する圧力飽和槽においては、これらの条件下では過度に泡立つことが当業者には知られている。
【実施例６】
【００５８】
実施例２と同様の方法で、透明な浮上槽１０で減圧実験を行った。このとき、膨張バルブ７と浮上槽の供給管２３との間の液体配管部分２９の管長を変更した。最適な気泡パターンは、膨張バルブ７の出口と供給管２３の中央との間が２００ｍｍの距離のときに初めて得られた。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】図１は、浮上槽を有する圧力飽和／圧力解放組み合わせシステムの構成を示す。
【図２ａ】図２ａは、常套のノズルを有する穴のあいたプレートから成る圧力解放バルブを示す。
【図２ｂ】図２ｂは、穴のあいたプレートにミリングされたフロー輪郭および付属の常套のノズルを有する圧力解放バルブを示す。
【図３】図３は、圧力飽和装置を示す。
【図４】図４は、スムーズ・ジェットノズルを示す。
【図５】図５は、圧力解放バルブに用いる膨張ノズルを示す。
【図６】図６は、様々な出口穴を有する圧力飽和容器における飽和度をノズルの出口速度の関数として示す。
【図１】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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2005530604.tif 000010
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