(57)【要約】本願は、反応器（２０２、２０４）に加えて、少なくとも１点のプロセス制限機器（２１２）を有する化学製造プロセスを制御するシステムを開示する。このシステムは、化学反応器（２０２、２０４）及び反応器（２０２、２０４）の上流又は下流に位置付けられている工程制限機器（２１２）の制御を最適化して、反応器（２０２、２０４）及び工程制限機器（２１２）の一体化プロセス制御を提供する１以上の多変数予測オプティマイザーコントローラ（２１６、２２４、２１４、２２０、２１８、２２０）を用いる。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１の化学反応器と、該化学反応器の上流又は下流に位置づけられた少なくとも１点の工程制限機器とを含み、さらに、該化学反応器及び該工程制限機器を同時に最適化制御して、反応器及び工程制限機器の一体化プロセス制御を提供する少なくとも１の多変数予測オプティマイザーコントローラを含む化学製造プロセス。
【請求項２】
前記システムは、単一の多変数予測オプティマイザーコントローラを用いることで実行される、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
前記コントローラは、非線形コントローラである、請求項１に記載のプロセス。
【請求項４】
前記反応器及び前記工程制限機器は密結合されている、請求項１に記載のプロセス。
【請求項５】
前記反応器は、ポリオレフィン反応器である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項６】
前記反応器は、ポリオレフィン反応器である、請求項２に記載のプロセス。
【請求項７】
前記反応器は、ポリオレフィン反応器である、請求項３に記載のプロセス。
【請求項８】
前記反応器は、ポリオレフィン反応器である、請求項４に記載のプロセス。
【請求項９】
２個以上の反応器が前記コントローラにより制御される、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１０】
前記コントローラは、非線形である、請求項９に記載のプロセス。
【請求項１１】
第１反応器及び第２反応器は直列に運転され、第２反応器は第１反応器の下流に位置付けられており、前記工程制限機器は第２反応器の下流に位置付けられている押出器である、請求項９に記載のプロセス。
【請求項１２】
前記第２反応器及び前記押出器は、密結合されている、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１３】
前記反応器の少なくとも１は、ポリオレフィン反応器である、請求項１０に記載のプロセス。
【請求項１４】
前記ポリオレフィン反応器は、少なくとも５０wt％のポリプロピレンを含むポリマー及び少なくとも５０wt％のポリエチレンを含むポリマーからなる群より選択されるポリオレフィンを製造するために用いられる、請求項１３に記載のプロセス。
【請求項１５】
前記ポリマーは、４個以上の炭素原子を有する少なくとも１種のα−オレフィンを含む、請求項１４に記載のプロセス。
【請求項１６】
前記システムは、少なくとも２個の多変数予測オプティマイザーコントローラを含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１７】
前記少なくとも２個のコントローラの第１コントローラは、前記少なくとも２個のコントローラの第２コントローラよりも階層的に上層で作用する、請求項１６に記載のプロセス。
【請求項１８】
前記工程制限機器は、化学反応器の下流に位置付けられている、請求項１７に記載のプロセス。
【請求項１９】
前記工程制限機器は、押出器である、請求項１８に記載のプロセス。
【請求項２０】
前記反応器及び前記工程制限機器は、密結合されている、請求項１８に記載のプロセス。
【請求項２１】
前記反応器の少なくとも１個は、ポリオレフィン反応器である、請求項１９に記載のプロセス。
【請求項２２】
前記ポリオレフィン反応器は、少なくとも５０wt％のポリプロピレンを含むポリマー及び少なくとも５０wt％のポリエチレンを含むポリマーからなる群より選択されるポリオレフィンを製造するために用いられる、請求項２１に記載のプロセス。
【請求項２３】
少なくとも１個の化学反応器及び該化学反応器の上流又は下流に位置付けられている工程制限因子を有する化学製造プロセスを制御するシステムであって、
該化学反応器の最適化制御用の第１多変数予測オプティマイザーコントローラと、
該第１多変数予測オプティマイザーコントローラ及び工程制限因子よりも階層的に上層で作用して、該反応器及び工程制限因子の一体化プロセス制御を提供する第２多変数予測オプティマイザーコントローラと、
を含むシステム。
【請求項２４】
さらに、前記工程制限因子を制御するために前記第２多変数予測オプティマイザーコントローラよりも階層的に下層で作用する第３多変数予測オプティマイザーコントローラを含む、請求項２３に記載のシステム。
【請求項２５】
前記工程制限因子は、前記反応器の下流に位置付けられている工程制限機器である、請求項２３に記載のシステム。
【請求項２６】
前記工程制限機器及び前記反応器は、密結合されている、請求項２５に記載のシステム。
【請求項２７】
前記多変数予測オプティマイザーコントローラは、ニューラルネットワーク、部分最小二乗法、主成分回帰、及び反応器状態変数の切迫変化を推測するための第１主モデルからなる群より選択される数学的技術を用いる、請求項２３に記載のシステム。
【請求項２８】
少なくとも１の多変数予測オプティマイザーコントローラは、非線形である、請求項２３に記載のシステム。
【請求項２９】
前記システムは、ポリオレフィン反応器及び押出器を含む化学製造プロセスを制御するために用いられ、該押出器は該ポリオレフィン反応器の下流に位置付けられており、該押出器は工程制限機器である、請求項２３に記載のシステム。
【請求項３０】
前記反応器及び前記押出器は、密結合されている、請求項２９に記載のシステム。
【請求項３１】
前記ポリオレフィン反応器は、少なくとも５０wt％のポリプロピレンを含むポリマー及び少なくとも５０wt％のポリエチレンを含むポリマーからなる群より選択されるポリオレフィンを製造するために用いられる、請求項２９に記載のプロセス。
【請求項３２】
前記反応器は、スラリー反応器、バルク反応器、及び流動床反応器からなる群より選択される、請求項２９に記載のプロセス。
【請求項３３】
前記プロセスは、チーグラーナッタ触媒、メタロセン触媒及び遅延遷移金属触媒からなる群より選択される触媒を用いる、請求項２９に記載のプロセス。
【請求項３４】
前記反応器は、少なくとも５０wt％のポリプロピレンを含むポリマーを製造するために用いられる水平撹拌型サブ流動床（subfluidized）気相反応器である、請求項２９に記載のプロセス。
【請求項３５】
前記反応器は、スラリー反応器、バルク反応器、及び流動床反応器からなる群より選択される、請求項２に記載のプロセス。
【請求項３６】
前記プロセスは、チーグラーナッタ触媒、メタロセン触媒及び遅延遷移金属触媒からなる群より選択される触媒を用いる、請求項２に記載のプロセス。
【請求項３７】
前記反応器は、少なくとも５０wt％のポリプロピレンを含むポリマーを製造するために用いられる水平撹拌型サブ流動床（subfluidized）気相反応器である、請求項２に記載のプロセス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、化学製造プロセス制御に関する。特に、本発明は、製造プロセスの化学反応器システムの内部及び外部の両者に位置付けられた速度制限工程を同時に管理する化学反応器及び関連するシステムの一体化された制御に関する。
【背景技術】
【０００２】
化学反応器は、典型的に、触媒系の存在下で、１種以上の供給原料と他の物質とを反応させて、広範囲の化学製品を製造する。反応器は、典型的には、温度、圧力及び触媒濃度など反応器生成物の量又は特性を最適化する運転条件の設定範囲内で、液相又は気相にて運転される。
【０００３】
いくつかの反応器システムは、重要な運転条件のインジケータを監視することにより制御され得る。望ましくない傾向又は偏差が認められると、オペレータの介入により、１種以上の制御可能なパラメータを変更して、反応器システムを望ましい運転条件に戻すように試みる。残念ながら、このような基本的な制御システムは、ほとんどの近代の化学プラントで用いられているタイプの複雑で連続的なプロセス反応器と共に使用することに対して、典型的には実用的でない。このような基本的な制御プロセスを用いることができる場合であっても、反応器のオペレータの応答は、主観的であり、多すぎるか少なすぎるか、最も悪い場合には間違っていることがある。
【０００４】
このため、近代の化学反応器は、典型的には、優れた速度及び正確さで反応器パラメータの監視及び調節を連続的に行うコンピュータベースの制御システムを用いる。これらの近代の制御システムは、自動車の走行制御システムに類似する態様で運転することもでき、制御システムがオペレータの介在なしに最適な反応器運転状態を維持でき、オペレータが所望の最終状態に到達するために必要なシステム変化を追いかける必要なしに、制御システムに運転状態における所望の変化を示すことができる。
【０００５】
近代の化学反応器制御システムの一例は、ポリプロピレンなどのポリオレフィンの気相製造に用いられるような化学反応器を制御するために用いられる分布制御システム「DCS」である。DCSは、重要な反応器パラメータを連続的に監視して、触媒フロー、プロピレンモノマーフロー、及び水素フローなどの運転条件を変更する多数のローカル調整制御ループを用いる。ポリプロピレン製造でのDCSの使用は、結果的に、多量の高品質ポリプロピレンを確実に製造する能力をもたらす。それにもかかわらず、ローカル調整制御ループ及びこれに関連する制御ロジックの固有の制限は、反応器制御の改良の余地を残す。
【０００６】
近代のポリオレフィン反応器の性能をさらに改良するために、プラントエンジニアは、反応器システムの制御を最適化する先進的プロセス制御システム「APC’s」に目を向けている。これらのAPC’ｓは、ニューラルネットワーク、部分最小二乗法、主成分回帰又は反応器状態変数の切迫変化を推測する第１原理モデルなどの従来技術のモデリング技術を用い、DCSローカル制御ループに予測制御信号を提供して反応器を最適な状態に維持することができる。APC’ｓは、反応器状態変数における変化を予測することができるから、反応器は、制御がDCSにみられる偏差傾向及び結果として得られるローカルループ制御変化にのみ基づく場合よりも最適な運転条件に近い状態に維持され得る。
【０００７】
このような従来の先進的制御技術の有用性にもかかわらず、近代の化学プラントは理論的に最大の品質及び量で製造物を提供することができない。必要とされているのは、先進的反応器プロセス制御システムにより可能となる以上に化学プラントの性能を改良する手段である。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００８】
驚くべきことに、本発明者らは、従来の反応器制御プロセスを用いる場合であっても、プラントの先進的プロセス制御システムに対して、上流又は下流のある種の速度制限機器の制御を一体化することにより、化学プラント性能における実質的な改良が提供され得ることを知見した。
【０００９】
特に、本発明の一実施形態において、本発明者らは、少なくとも１個の化学反応器及び反応器から上流側又は下流側に位置付けられている工程制限機器を有する化学製造プロセスを制御するシステムを開示する。第１多変数予測オプティマイザーコントローラは、化学反応器の制御を最適化し、第２多変数予測オプティマイザーコントローラは、第１コントローラ及び工程制限機器の階層的に上層で作用して、反応器及び工程制限機器の一体化されたプロセス制御を提供する。この実施形態の例は、第２コントローラが、ポリオレフィン製造反応器の下流側に位置付けられている押出機の運転を同時に最適化するものである。好ましくは、第３多変数予測オプティマイザーコントローラが、第２コントローラの階層的に下層で作用して、押出機などの工程制限機器の制御を改良する。
【００１０】
本明細書で用いる用語「化学反応器」とは、触媒又は他の物質の存在の有無にかかわらず、反応が液相、固相もしくは気相又はこれらの組み合わせで生じるか否かにかかわらず、化学供給原料を異なる化学流出物に変換する任意の容器を意味する。
【００１１】
本明細書で用いる用語「多変数予測オプティマイザーコントローラ」とは、時間軸上の将来のポイントにて状態変数の予測を促進し及びこのような予測に全体としてもしくは部分的に基づいてシステムの制御を可能とする態様にて、複数の操作変数及び場合によっては外乱変数に関する値もしくは関数の行列を複数の制御変数に及び場合によっては制限変数に補償又は較正する線形又は非線形、多変数ダイナミック（すなわち、時間変数）式に基づくコントローラを意味する。
【００１２】
本明細書で用いる用語「工程制限因子」とは、製造された製品の量又は品質を実現する化学製造プロセスの能力を制限する、反応器の１又は複数の多変数予測オプティマイザーコントローラにより制御される反応器システムの上流又は下流に位置づけられている任意の機器又は状態を意味する。「工程制限器機」とは、製造された製品の量又は品質を実現する化学製造プロセスの能力を制限する、反応器の１又は複数の多変数予測オプティマイザーコントローラにより制御される反応器システムの上流又は下流に位置づけられている押出機又は熱交換機などの任意の物理的プラント機器を意味する。
【００１３】
本発明の別の実施形態において、化学製造プロセスは、少なくとも１の化学反応器と、この反応器から上流又は下流に位置づけられている工程制限器機と、化学反応器の制御を最適化する第１非線形多変数予測オプティマイザーコントローラと、この第１コントローラ及び工程制限機器よりも階層的に上層で作用する第２非線形多変数予測最適コントローラと、を含み、反応器及び工程制限器機の一体化されたプロセス制御を提供する。
【００１４】
好ましくは、本プロセスは、第２コントローラよりも階層的に下層で作用して工程制限器機の制御を最適化する第３多変数予測オプティマイザーコントローラをも含む。
これらの発明の好ましい実施形態において、化学反応器はポリオレフィン反応器である。本明細書で用いる用語「ポリオレフィン反応器」とは、その中で、反応器供給原料の少なくとも５０wt%がプロピレン、エチレン又はこれらの混合物であり、プロピレン及び／又はエチレンが触媒の存在下で反応して、ポリプロピレン、ポリエチレン又はポリプロピレン／ポリエチレンコポリマーを製造する化学反応器である。このタイプのポリオレフィン類は、さらに、４個以上の炭素原子を有する１種以上のα−オレフィンを含むものでもよい。好ましくは、ポリオレフィン反応器は、チーグラナッタ触媒、遅延遷移金属触媒及びメタロセン触媒からなる群より選択される触媒を用いる。
【００１５】
本発明のさらに別の実施形態は、少なくとも部分的に気相で生じる化学製造プロセスを制御するシステムである。このシステムは、少なくとも１個の化学反応器と、この反応器の下流に位置づけられた工程制限器機とを有し、化学反応器の制御を最適化する第１多変数予測オプティマイザーコントローラと、反応器の運転に関連する気体組成を制御する第２多変数予測オプティマイザーコントローラと、を含む。本システムは、さらに、反応器及び工程制限器機の一体化されたプロセス制御を提供するため、第１コントローラ、第２コントローラ及び工程制限器機よりも階層的に上層で作用する第３多変数予測最適化コントローラを含む。本実施形態は、ポリオレフィン類、特にプロピレン含有ポリマーの製造に特に有用であり、１個以上の水平方向撹拌型サブ流動床気相反応器に関して効果的に使用することができる。
【００１６】
幾つかの実施形態において、非線形多変数予測最適化コントローラの使用が好ましい。
本明細書で用いるように、用語「非線形」とは、コントローラを記述する際に用いられる場合には、種々の値の不連続範囲にわたる非線形関係をモデル化するために多重方程式を用いるなどにより、解を非線形関係に近似することにより、直接的に又はより典型的には間接的に、非線形関係を最適化することができるコントローラを意味する。
【００１７】
本発明のシステム及び方法は、反応器と工程制限機器との間の密結合が、反応器又は工程制限機器の制御を、他の密結合された構成要素（すなわち、工程制限機器又は反応器）の運転に対して、より直接的に作用させるので、反応器及び工程制限機器が「密結合」されている場合に、特に有用である。本明細書で用いるように、反応器及び工程制限機器の間のサージ容量が通常のシステムの製造速度の３倍未満である場合には、システムは「密結合」される。例えば、工程制限機器が反応器の下流に位置付けられていて、システムが１時間あたり１００単位の通常の定常状態製造速度で運転される場合、密結合されたシステムは、３００単位未満の反応器吐出と工程制限機器への投入との間のサージ容量を有するであろう。ここで、「サージ容量（surge capacity）」とは、化学物質製造システムの定常状態運転中の反応器吐出と工程制限機器投入との間の下限許容物質在庫量と上限許容物質在庫量との間の差を意味する。同様に、工程制限機器が化学反応器の上流に位置付けられていて、システムが１時間あたり１００単位の通常の定常状態製造速度で運転される場合には、密結合されたシステムは、３００単位未満の工程制限機器吐出と反応器への投入との間のサージ容量を有するであろう。
【００１８】
本発明のまたさらに別の実施形態において、本発明は、化学反応器及び工程制限機器の制御を最適化する単一の多変数予測最適化コントローラにより実行される。コントローラは、単一のＭ／Ｎ行列内の全変数の間の関係を同時に考慮する。ここで、行列のM行は操作変数及び外乱変数により定義され、行列のＮ列は制御変数及び制限変数により定義される。この実施形態は、計算的にはより複雑であるが、より複雑なシステムを解決するための十分な計算力が得られる場合には、この態様においても本発明を実行することができる。この実施形態は、全制御変数及び全制限変数の間の関係及び全操作変数及び全外乱変数の間の関係を見るためにモデルを構築することができ、操作システムの特定の側面に焦点を合わせたより小型で個別のコントローラを複数用いて初期モデルが構築される場合には考慮されない関係を露呈する可能性があるので、いくつかの用途における有利性を証明し得る。他の実施形態におけるように、この実施形態は、非線形コントローラを好ましく用い、押出器が下流の工程制限機器であるポリオレフィン反応器と一緒に有利に用いることができる。
【００１９】
［発明の詳細な記載］
以下、本出願人の発明をポリプロピレン及びポリエチレンの押出しインパクトコポリマーの製造に関して説明する。本出願人の発明は、ほとんどの化学製造環境において有用であり、本出願に含まれている技術の適用により他の用途に容易に適合させることができる。
【００２０】
図１は、ポリプロピレンの製造に用いる重要な機器を含む水平方向機械的撹拌型サブ流動床（subfluidized）反応器システム１０を示す。
モノマー原料の重合は、水平方向筒状反応容器１２内で生じる。触媒、助触媒及び改質剤は、供給ライン１６及び１８を通して、容器１２の入口端部１４に別々に、連続可変速度にて、供給され得る。
【００２１】
定常状態運転中、重合は、容器１２の上部に位置付けられた蒸気スペース２０にて始まり、粒径が増加し粒子が積もるにつれて、容器１２の下部を占める粒子床２２内で連続する。撹拌機２４は、容器１２の長手方向軸Ａに沿って位置付けられている。撹拌機２４のパドル２６は、撹拌機２４が回転するにつれて、粒子床２２を撹拌して混合を促進し、容器１２の排出端部２８に向かう粒子床２２内の物質のピストン流れ移動を促進する。
【００２２】
モノマー及び気／液分離機４２からの凝縮液体（集合的に「クエンチ液体」という）は、容器１２の頂部近くの蒸気スペース２０内に長手方向に位置付けられたクエンチノズル３０を通して、容器１２の蒸気スペース２０に添加される。ノズル３０を通して添加された液体は、粒子床２２の上表面に位置付けられている熱い粒子を冷却し、続いて、パドル２６が、これらの冷却された粒子及び任意の残留液体モノマーを粒子床２２に追いやり、発熱重合反応を続けさせて、さらに床２２を冷却する。液体の容器１２へのフローは、クエンチ制御バルブ３１により、容器１２内で局部的に制御され得る。
【００２３】
再循環される反応器蒸気は、コンプレッサ３２を通過して、気体入口３４を通して床２２の下部に導入される。水素もまた、コンプレッサ３２の入口又は出口にてもしくは入口又は出口の近くにて、水素を添加することにより、気体入口３４を通して床２２の下部に導入されてもよい。
【００２４】
ポリマー生成物は、1個以上の排出バルブ３５を通して、容器１２の排出端部２８から取り出される。排出された生成物は、固／気分離機３６（「バグハウス」とも呼ばれる）を通過し、その後、排出された固体生成物はパージカラム（図２参照）に搬送され、一方、分離された気体は、オフガスコンプレッサ４６へ送られ、容器１２へのメイクアップのために凝縮される前に圧縮される。
【００２５】
反応器オフガスクーラーコンデンサ４４は、固／気分離機３６から取り出されオフガスコンプレッサ４６で圧縮された凝縮オフガスばかりでなく、反応器蒸気スペース２０から直接抜かれた蒸気をも凝縮する。容器１２への蒸気及び液体の供給は、液／気分離機４２を用いてなされる。ポンプ３８を通して容器１２へ送られる液体は、凝縮物及びモノマーメイクアップライン４０を通しての新しいモノマーメイクアップの組み合わせである。
【００２６】
通常の運転条件下で、上述の反応器システムは、約１４００〜２８００kPa（２００〜４００psig）の圧力及び約５０〜９０℃（１２２〜１９４華氏）の温度にて運転する。粒子状ポリマー床の容積は、典型的には、容器１２の容積の約４０〜８０％を占める。
【００２７】
反応器システム１０は、典型的には、ホモポリプロピレン又はプロピレンとエチレンなどの他のα−オレフィン類とのランダムコポリマーを製造するために用いることができる。このような反応器システムの制御は、生産量を最大化して且つ製品品質を最適化するために反応器条件を変えるために上述の機器を操作することを含む。
【００２８】
上述のような反応器システムの制御は、典型的には、
（ａ）製造速度を制御するための触媒フロー；
（ｂ）分子量又はメルトフローレートを制御するための水素濃度；
（ｃ）製品特性を制御するためのモノマー供給及び濃度（ランダムコポリマーを作る場合）；
（ｄ）助触媒と触媒との比率；
（ｅ）トリアルミニウムアルキルなどの助触媒を有する触媒系及び外部電子供与体を用いる場合には、触媒と電子供与体との比率；
（ｆ）所望の反応器内濃度を維持するために、原料及び再循環物質の正確なメイクアップを決定するため、再循環ループ内での種々の気体濃度及び速度
の操作を必要とする。
【００２９】
図２は、ポリプロピレンのホモポリマー、ランダムコポリマー及びインパクトコポリマーを作ることができる多重反応器システム１００の簡略化された概略図である。この図は、主プロセス構成要素を含み、システム内で用いられる先進的プロセスコントローラのアーキテクチャを示す。特に、このシステムは、図1に関して記載したタイプの反応器を２個用いて、コポリマー製造を最適化するために、先進的プロセス制御技術を用いる。システム１００は、所望の製品の生産量及び品質を最大化して、工程間の遷移時間を最小化するために、4個の非線形多変数予測オプティマイザーコントローラを用いる。
【００３０】
システム１００物理的プラント設備は、第１反応器１０２と、第２反応器１０４と、第１反応器１０２から第２反応器１０４へポリプロピレン粉末を搬送するための粉末搬送システム１０５又は「ブローケース」と、第１反応器の気／液分離機１０６と、第２反応器の気／液分離機１０８と、反応器１０４内で製造されたインパクトコポリマー粉末から残留炭化水素を脱気するためのパージカラム１１０と、変換産業において典型的に用いられているような脱気された粉末をペレットに変換する押出機１１２と、を含む。
【００３１】
反応器１０２及び１０４は、それぞれ、図１のシステム１０に関して詳細に説明した態様で運転する。システム１０とシステム１００との間の基本的な物理的プラントの相違は、システム１００の反応器１０２及び１０４がホモポリマー、ランダムコポリマー及びインパクトコポリマー生成物を製造するために、連続的に運転することである。このタイプの水平気相反応器の連続運転は、当業者には周知であり、本願明細書に参照として組み込まれている本出願人の米国特許U. S. Patent No. 4,888,704及び5,504,166明細書に記載されている。
【００３２】
上述のように、システム１００は、さらに、４個の非線形多変数予測オプティマイザーコントローラを用いる。
コントローラ１１４は、反応器１０２用の第１気体組成コントローラであり、反応器１０２に添加される気体及び反応器１０２を通して再循環される気体の制御に主として関連する。
コントローラ１１６は、第１反応器のコントローラであり、第１反応器１０２におけるポリマーの製造に主として関連する。
コントローラ１１８は、第２気体組成コントローラであり、反応器１０４に添加される気体及び反応器１０４を通して再循環される気体に主として関連する。
コントローラ１２０は、第２反応器コントローラであり、第２反応器１０４におけるポリマーの製造に主として関連する。
【００３３】
図２において、物理的プラントハードウェア要素１０２、１０４、１０６、１０８、１１０及び１１２の間の実線矢印は、概して、システムを通しての物質のフローを示し、一方、コントローラ１１４、１１６、１１８及び１２０への点線及びこれらからの点線矢印は、概して、これらのコントローラへの情報及び制御情報のフロー及びこれらのコントローラからの情報及び制御情報のフローを示す。
【００３４】
コントローラ１１４、１１６、１１８及び１２０の作用は、それぞれ下記Table 1、Table 2、Table3及びTable4に、ほとんど簡単に記載されている。Table 1〜4は、各オプティマイザーにより操作される一次システム変数、並びに対応するシステム変数の操作によりほとんど直接的に影響する運転パラメータを掲載する。ここで特定された変数及び以下の実施例は、インパクトコポリマー製造のものであることに留意されたい。ホモポリマーを作るために２個の反応器システムを用いる場合、エチレンに関連する変数が不要となるわけではない。
【００３５】
【表１】
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【００３６】
第１気体組成コントローラ１１４は、代表的な運転時間に対するデータを累算することにより展開された時間依存性非線形モデルに基づく。このモデルは、後述するように、制御されるべき化学プロセスに慣れているプロセス制御エンジニアにより連続的に調整される。
【００３７】
最初に、従属プロセス変数及び独立プロセス変数の間の関係が、モデリングソフトウェアにより展開される。ロバストプロセス（robust process）を展開するために十分なデータを集めるために要求される時間は変動するが、システム１００などのインパクトコポリマープラントについては、６ヶ月程度の運転時間が運転条件及び製造履歴（slates）の広範囲にわたる変数の間の優れた相関を提供する。
【００３８】
第１気体組成コントローラ１１４について展開されたモデル、及びその後のプロセスエンジニアによる使用にあわせた変形は、図3に概略的に示されている。
図３ａは、Ｒ１〜Ｒ９の関係を記載する３×３行列である。ここで、第１気体組成コントローラ１１４用にモデル化されたものとして、水素フロー、、エチレンフロー、排気フロー、オフガス水素対プロピレンの比率、オフガスエチレン対プロピレンの比率及びオフガス排気中のプロパン濃度の間の相関がある。これらの関係は、非定常的で、しばしば非線形関係であり、反応器制御に適切であるかもしれないし適切でないかもしれないが、第１反応器オフガスシステムのモデル化した性能を正確に記載する。
【００３９】
これらの関係が展開されると、プロセス制御エンジニアは、各関係を慎重に考査して、プロセス制御モデルにおける効果を調べる。プロセスエンジニアが、モデルの応答が不安定で、極度に非線形であり、あるいは安定なプロセス制御にはあまり適切でないとみなした場合、エンジニアは、モデルからモデル化された関係を除外して、プロセス制御用のモデルにルーチン的に用いられるより少数の関係を有する行列を残す。
【００４０】
図３ｂは、第１オフガスコントローラ１１４に用いるモデルの最終的形状を表す。図３ｂからわかるように、Ｒ２（水素フローとエチレン及びプロピレンの比率との関係）、Ｒ３（水素フローとオフガス排気中のプロパンとの関係）、Ｒ４（エチレンフローと水素及びプロピレンの比率との関係）及びＲ６（エチレンフローとオフガス排気中のプロパンとの関係）の関係は、モデルから除外されている。これは、制御応答において生じると予測される望ましくない作用又はプロセス制御エンジニアにより不適切であると見なされる望ましくない作用のいずれかによるものである。
【００４１】
プロセスエンジニアがモデルを検討する間、任意の特定の変数に対するモデル内で、ある種の制限、又は外乱変数としての１の変数（制御変数に影響を与えることがわかっている変数であるが、モデル内でのその変数の操作が制限又は防止される）を特定することもできる。ある種のプロセス関係の除外及びプロセス制限の特定のための技術は、プロセス制御分野の当業者には周知であり、例えば、本明細書に参照として組み込まれる”Process Control: Structures and Applications”, Balchen, J. G. and Mumme, K. I. , 1988及び”Application of Neural Networks to Modeling and Control”, Gomm, J. B., Page, G. F. and Williams, D., 1993に見出すことができる。このタイプのモデルを展開するためのプログラムは、Pavilion Technologies, Inc（Austin, Texas）からのPROCESS INSIGHTS及びPROCESS PERFECTERプログラム又はAspen Technologies, Inc（Cambridge, Massachusetts）からのASPEN IQ及びDMC PLUSプログラムなど、多数の提供元から商業的に入手可能である。上述の第１気体コントローラなどの所与のコントローラにおける関係のエンジニアによる分析において、外乱変数はリストアップされ、操作変数と一緒に概念的に考慮され、一方、制限変数は制御変数と一緒に概念的に考慮される（すなわち、外乱変数は図３ａの左欄にリストアップされ、制限変数は図３ａの一行目にリストアップされる）。これらの制限変数及び外乱変数は、以後の説明では簡略化のために省略する。
【００４２】
Table ２、３及び４は、第１反応器コントローラ１１６、第２オフガスコントローラ１１８及び第２反応器コントローラ１２０に用いられる関係を特定する。これらのコントローラの初期モデルは、オフガスコントローラ１１４と同じ態様で展開され、その後、上述のようにプロセス制御エンジニアによって変形される。
【００４３】
【表２】
2005504139.tif 000004
【００４４】
第１反応器コントローラの主目的は、製造速度を最大化して、品質を安定化させて、遷移時間を最小化することにある。コントローラが考慮すべき主要なコントローラ制限変数は、反応器冷却システム及び反応器クエンチシステムの能力である。
【００４５】
第１反応器コントローラ及び第２反応器コントローラに関して、多くのパラメータに対するデータは直接得られないこと、又はモデル内で用いるために他の測定可能なパラメータに基づいてモデル化される必要があること、に留意すべきである。メルトフローレート値、エチレン％値、ヘキサン抽出性及びデカリン可溶性の値は、このタイプの変数である。これらのパラメータは、化学分野及び制御分野の当業者により必要に応じて、モデル化され得る。このタイプのパラメータをモデル化するガイダンスは、上述の参照文献並びに本願明細書に参照として組み込まれる米国特許U. S. Patent No. 5,933,345及び5,877,954明細書に見出すことができる。これらのパラメータをモデル化するに適する商業的に入手可能なソフトウェアとしては、Aspen Technologies, Incから入手可能なASPEN IQ及びDMC PLUSソフトウェア、Pavilion Technologies, Incから入手可能なPROCESS INSIGHTS及びPROCESS PERFECTERソフトウェアを挙げることができる。上述のタイプのコントローラの用途に関する追加の情報は、本願明細書に参照として組み込まれるMorshediの米国特許U. S. Patent No. 4,616,308明細書やPrettの米国特許U. S. Patent No. 4,349,869明細書に見出すことができる。
【００４６】
【表３】
2005504139.tif 000005
【００４７】
第２反応器気体組成コントローラは、第１反応器気体組成コントローラと本質的に同一であることに留意されるべきである。
【００４８】
【表４】
2005504139.tif 000006
【００４９】
残念ながら、我々は、上述のような従来の制御スキームと同じ状態では、ポリプロピレンプラントの性能を最適化できないと考える。この理由は、これらの高性能反応器制御システムは、プロセス機器の上流又は下流からの関連するデータを組み込めず、仮に組み込めるとしても先進的プロセスコントローラに異なる結果を導かせることになるからである。
【００５０】
上述の実施例において、我々は、押出器を制御するために追加の非線形多変数予測オプティマイザーコントローラを加えることにより、及びシステム全体の製造速度を最大化するために反応器及び気体組成コントローラと押出器コントローラの階層的に「上層」で操作する追加の非線形多変数予測最適化制御によって、ポリプロピレンプラント生産力が実質的に増強され得ると考える。いかなる特定の理論にも拘泥されることを望まないが、我々は、押出器１１２の局部的制御は不必要な保守的な押出器操作を導くかもしれないと考える。これは、例えば、積極的な無人押出器運転が押出器の遮断又は上流での異常を引き起こし、ひいては反応器１０２及び１０４の遮断又は異常運転を引き起こすかもしれない機会を避けるために、押出器オペレータの重作業負荷がオペレータに保守的な決定をさせるかもしれないような場合に、特に妥当すると考える。
【００５１】
図４は、システム２００を示す。システム２００において、押出器コントローラ及びオーバーライディング工程コントローラが追加されていて、物理的なプラント生産力を増強させている。設備は、第１反応器２０２と、第２反応器２０４と、第１反応器２０２から第２反応器２０４へポリプロピレン粉末を搬送するための粉末搬送システム２０５又は「ブローケース」と、第１反応器固／液分離器２０６と、第２反応器固／液分離器２０８と、反応器２０４にて製造されたインパクトコポリマー粉末から残留炭化水素類を脱気するためのパージカラム２１０であって、任意の所与時間にてプレセット上限と下限との間の通常の粉末在庫量を含むパージカラム２１０と、脱気された粉末を、ペレットにカットされる固体ポリマーストランドに変換するための典型的に変換産業にて用いられているような押出器２１２と、を含む。
【００５２】
システム１００と同じように、反応器２０２及び２０４は、それぞれ図１及び２の記載に関して詳細に説明したような態様で運転する。更に、図２に示すように、物理的プラントハードウェア構成要素間の実線矢印は、一般に、システムを通る物質のフローを示し、コントローラに入るか又はコントローラから出る点線矢印は、一般に、これらのコントローラへの情報及び制御情報又はこれらのコントローラからの情報及び制御情報のフローを示す。
【００５３】
システム２００は、６個の非線形多変数予測オプティマイザーコントローラを用いる。
システム１００と同じように、コントローラ２１４は、反応器２０２用の第１気体組成コントローラであり、第１反応器２０２に添加され及び再循環される気体の制御に主として関連する。コントローラ２１６は、第１反応器コントローラであり、第１反応器２０２におけるポリマーの製造に主として関連する。コントローラ２１８は、第２気体組成コントローラであり、第２反応器２０４に添加され及び再循環する気体の制御に主として関連する。コントローラ２２０は、第２反応器コントローラであり、第２反応器２０４内でのポリマーの製造に主として関連する。
【００５４】
システム１００とは異なり、システム２００は、第５コントローラと、押出機２１２の運転に直接関連する押出機コントローラ２２２と、第６コントローラと、高レベル製造最適化に関連する製造速度コントローラ２２４と、を含む。
コントローラ２１４、２１６、２１８及び２２０は、システム１００におけるコントローラ１１４、１１６，１１８及び１２０の作用に類似する。
Table 5に、押出機コントローラ２２２に関連するパラメータを識別して示す。
【００５５】
【表５】
2005504139.tif 000007
【００５６】
他のコントローラと同じように、関連する制限変数は識別されるべきであり、この場合には上記に挙げた。当業者には周知であり且つ本願明細書に参照として組み込まれる米国特許U. S. Patent No. 4,448,736号明細書に詳細に記載されているように、押出機へ供給された過酸化物は、押し出された物質のレオロジーを制御するために用いられることに留意されたい。さらに、上記に挙げた押出機変数は、多くのタイプの押出機構成の代表であり、これらの変数の幾つかは特定の押出機構成には関連しないことにも留意されたい。
Table 6に、製造速度コントローラ２２４に関連するパラメータを識別して示す。
【００５７】
【表６】
2005504139.tif 000008
【００５８】
再度、関連する制限変数は識別されるべきであり、この場合には上記に挙げた。
本発明の別の実施形態において、すべての操作変数、制御変数、外乱変数及び制限変数の間の関係は、単一のＭ×Ｎ行列内で特定される。ここでＭは、操作変数及び外乱変数の総数であり、Ｎは制御変数及び制限変数の総数である。単一のＭ×Ｎ行列内のすべての変数の間の関係を同時に考慮することは計算的にはより複雑であるが、より複雑なシステムを解決するために十分な計算力が得られる場合には、この態様においても本発明を実施することができる。
【００５９】
記載されただけの関係の行列は、Table 1〜6の助けを借りて可視化することができる。これらのtableにおける変数を一緒に考慮すると、操作変数及び外乱変数により規定される行列のＭ行、及び制御変数及び制限変数により規定される行列のＮ列があることが見いだせる。オプティマイザーが、図３ａに関するように、Ｍ行とＮ列との間の必須関係を展開すると、制御エンジニアは、図３ａ及び図３ｂの議論に関すると同じ態様で、望ましくないそれらの関係を除外して、明らかにより壮大な規模である点を除いて図３ｂにあるような関係の減少したセットを作り出す。
【００６０】
本発明のこの実施形態の潜在的な利点は、前記実施例に関連しない変数間の関係がモデル構築中に識別されることである。プロセス制御エンジニアは、これらの追加の関係の任意のものがモデルを改良するか否かを判断することができ、所望であればそれらを選択することができる。多くの場合、上述のより簡略な実施形態が、本発明の利点を提供するに充分であろうが、すべての変数間の関係を含むモデルを構築するための計算処理リソースが存在する場合には、より複雑なモデルが、ある種の場合により良好な制御結果を与えることも可能である。
【００６１】
押出機１１２などの下流工程制限機器の一体化制御を含むシステム２００は、反応器及び押出機が「密結合」している場合に、特に有利である。
制御分野の当業者には明らかなように、密結合システムは、下流摂動に対してより感受的であり、及び本明細書に記載されているような一体化先進的プロセス制御システムの適用からの利益を受けやすい。
【００６２】
我々は、システム２００と類似の構成における押出機コントローラ２２２及び製造速度コントローラ２２４の適用は、結果的に、押出機１１２などの下流工程制限機器１点に一体化先進的プロセス制御を適用しないシステム１００などの最近の設計の同様のシステムと比較して、約１％〜少なくとも約５％の製造速度の平均増分をもたらすと考える。加えて、我々は、プロピレンポリマーのあるグレードから別のグレードへの遷移時間は、反応器システム及び反応器システム外部の速度制限機器の一体化先進的プロセス制御を使用しない操作システムに関連する遷移時間の約１０％〜約６０％へと実質的に減少し得ると考える。
【００６３】
上述のような先進的プロセス制御技術の実行は、特にシステムの１又は複数の反応器に先進的制御が適用される場合、及び上流又は下流の工程制限機器の少なくとも１点が存在する場合、実際上すべての任意の化学製造プロセスに適用することができる。工程制限機器は、少なくとも１の、好ましくはプロセスの反応器及び速度制限機器を一体制御可能な非線形多変数予測オプティマイザーコントローラを用いることによって、化学製造プロセスの全体の生産量及び／又は製品の品質が改良されるように、反応器システムに呼応して制御可能であるべきである。
【００６４】
本発明により有利に制御される速度制限機器の他のタイプとしては、大型ロータリー撹拌ドライヤー、連続遠心分離機及び包装ラインなどのユニットなどの化学反応器システムの上流又は下流に位置付けられている高資本投資品目を挙げることができる。
【００６５】
好ましくは、構成の工程制限機器自体は、工程コントローラよりも階層的に下層で作用する自身の非線形多変数予測オプティマイザーコントローラの実行に左右されやすく、あるいは上述の単一行列が用いられる場合には非線形多変数予測制御に左右されやすい。反応器システムの多変数予測最適化が好ましいが、本発明に必須のものではないことに留意されたい。むしろ、本発明者は、反応器システム及び工程制限機器の両者の協働による性能を最大化するために、これらの両者からの入力を多変数予測オプティマイザーが要することだけを必要とする。
【００６６】
化学反応器の最適化された非線形多変数予測制御を用いることができ、上述のタイプの非線形多変数予測オプティマイザーコントローラの適用により利益を受けることができる多くの他のポリマー製造プロセスが存在するが、他の潜在的な用途は多い。
【００６７】
たとえば、反応器システムの上流又は下流の押出器又は他の速度制限機器に関連して、本発明を用いることができるであろう他のポリオレフィン製造プロセスとしては、チーグラーナッタ触媒、メタロセン触媒もしくは遅延遷移金属触媒などの任意の数の異なる触媒を用いる「スラリー」、「バルク」、及び流動床重合プロセスを挙げることができる。
【００６８】
スラリープロセスにおいて、重合されたモノマーとは異なる化学組成を有する炭化水素液体中で重合は生じる。溶媒の選択は、ヘキサン及びポリプロピレン重合に有用であるISOPARなどの溶媒と一緒に、及びフラッシュ蒸留ユニットなどの設備を用いる１以上の「乾燥」工程、及び固体、液体及び未反応モノマー分離用の遠心分離機と一緒に、変えることができる。このようなシステムにおける操作変数、外乱変数、制御変数及び制限変数の選択は、プロセス制御分野の当業者である化学エンジニアには自明であるように、一般に、プロセスの本質により指示されるある種の変更を伴い、前述の実施例において識別された手順に従うであろう。たとえば、複数の平行反応器からなるシステムでは、液相中に存在する組成物を予測するために気／液平衡を用いることができ、これらの計算は気体コントローラにおける制御変数として用いることができる（たとえば、Toplissの米国特許U. S. Patent No. 4,888,704明細書参照）。反応器コントローラにおいて、制限変数及び制御変数は、実質的に同じであるが、プロピレンクエンチは冷却のために用いられないので、この操作変数は熱交換器の種々の部分に対する冷却水フロー分割で置換される。反応器内の固体濃度は、上述の乾燥設備の容量から派生する追加された追加の制限変数及び制御変数と一緒に、制御変数として追加されるであろう。この設備に特に有用な制限変数及び制御変数は、フラッシュ分離機に対するフラッシャー圧力、及び遠心分離機に対するモーター電流であると考えられる。押出機コントローラ及び工程コントローラは、２個の反応器プロピレン反応器操作システムに関して詳細に上述したように、実質的に同じ変数で作用することができる。
【００６９】
スラリーシステムが複数の直列に接続された反応器を用いるものである場合、気体コントローラは、局部的な炭化水素濃度に関連する制御変数及び操作変数として用いることができ、あるいは多数の気体コントローラは反応器システムの上流部分及び下流部分をモデル化するために用いることができる。
モノマー溶液からポリマーが形成される「バルク」重合プロセスは、上述の変数の同じタイプを用いることができる。
【００７０】
最後に、流動床オレフィン重合システムは、流動気体フロー、床高さなどの運転に関連する追加の制御変数、操作変数及び制限制御変数を確立することが必要である点を除いて、２の反応器ポリプロピレンシステムに関して詳細に上述したと同じ態様で多くの仕事をする。
いくつかの場合において、任意の前述のシステムにおける温度制御変数及び圧力制御変数を実行することが望ましいかもしれない。
【００７１】
よって、化学製造分野の当業者は、従来の非線形多変数予測オプティマイザー制御が化学反応器システムに適用されている場合でも、反応器システム及び他の工程制限機器よりも階層的に上層で作用する追加の非線形多変数予測オプティマイザー制御が、製造プロセスの運転を増強し得ることを見出すことができる。したがって、本発明は、特許請求の範囲によってのみ限定されると解されるべきである。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】図１は、ポリプロピレン製造用の水平方向撹拌型サブ流動床反応器及び関連する機器を示す図である。
【図２】図２は、ポリプロピレンのインパクトコポリマーを作るためのシステムの概略図である。システムは、図１に示したタイプの反応器２個を用い、コポリマー製造を最適化するために先進的プロセス制御技術を用いる。
【図３】図３ａ及び３ｂは、図２のシステムの第１気体組成コントローラに関して用いられる非線形多変数予測オプティマイザーコントローラによりモデル化され且つこれに用いるように選択された関係を示す。
【図４】図４は、コポリマー製造を改良するために、本発明にしたがって変形した図２のシステムの概略図である。
【図１】
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【図３】
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【国際公開パンフレット】
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【国際調査報告】
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