(57)【要約】基板に流動媒体を塗布する装置（５）であって、端部を備えた毛管（１１）またはニードルが設けられており、第１の手段（４０）が設けられており、第１の手段（４０）によって、特に滴（１２）の形状で、毛管（１１）の端部から流動媒体が流出するか、またはニードル端部に流動媒体が付着するようになっており、別の手段が設けられており、別の手段によって、基板（１０）に対する毛管（１１）またはニードルの端部の間隔が可変になっている形式のものが提案される。画像記録装置（１４，１６，１８，２６，２９）と、画像記録装置に割り当てられた少なくとも１つの画像処理装置とが設けられており、これらの画像記録装置および画像処理装置によって、基板（１０）に対する毛管（１１）またはニードルの端部の間隔が小さくなる際に、毛管（１１）またはニードルから基板（１０）への、毛管（１１）またはニードルの端部に存在する滴の移行時点が検出できるようになっている。また特にこのような装置（５）を用いて実施できる、基板（１０）に流動媒体を塗布する方法が提案されており、ここでは毛管（１１）の端部から流出するか、またはニードルの端部に付着する流動媒体が毛管（１１）から基板に移行する時点を、画像処理によって非接触式に検出する。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に流動媒体を塗布する装置であって、
端部を備えた毛管（１１）またはニードルが設けられており、
第１の手段（４０）が設けられており、該第１の手段（４０）によって、特に滴（１２）の形状で、毛管（１１）の端部から流動媒体が流出するか、またはニードル端部に流動媒体が付着するようになっており、
別の手段が設けられており、別の手段によって、基板（１０）に対する毛管（１１）またはニードルの端部の間隔が可変になっている形式のものにおいて、
少なくとも１つの画像記録装置（１４，１６，１８，２６，２９）と、該画像記録装置（１４，１６，１８，２６，２９）に割り当てられた少なくとも１つの画像処理装置とが設けられており、これらの画像記録装置および画像処理装置によって、基板（１０）に対する毛管（１１）またはニードルの端部の間隔が小さくなる際に、毛管（１１）またはニードルから基板（１０）への、毛管（１１）またはニードルの端部に存在する滴の移行時点が検出できるようになっていることを特徴とする、基板に流動媒体を塗布する装置。
【請求項２】
とりわけ滴（１２）が移行する直前に、メニスカス高さ（ｈ）または滴（１２）の形状の特定を行うことができるように、画像記録装置（１４，１６，１８，２６，２９）および画像処理装置が形成されている、請求項１記載の装置。
【請求項３】
滴（１２）の移行の非接触式の検出、および／またはとりわけ移行の直前における、メニスカス高さ（ｈ）または滴（１２）の形状の非接触式の特定を行うことができるように、画像記録装置（１４，１６，１８，２６，２９）および画像処理装置が形成されている、請求項１または２記載の装置。
【請求項４】
画像記録装置（１４，１６，１８，２６，２９）が、少なくとも１つのカメラ（１４，１８）、光バリヤ、光ファイバセンサ、または音場を検出するためもしくは音場を形成して検出するための手段を備えている、請求項１から３までのいずれか１項記載の装置。
【請求項５】
基板（１０）に対する毛管（１１）またはニードルの端部の間隔、または基板（１０）に対する滴（１２）の間隔が検出できるように、画像記録装置（１４，１６，１８，２６，２９）および画像処理装置が形成されている、請求項１から４までのいずれか１項記載の装置。
【請求項６】
滴（１２）の移行時点が、差分画像法によって、または移行時の滴（１２）の形状変化の監視によって得られるように、画像記録装置（１４，１６，１８，２６，２９）および画像処理装置が形成されている、請求項１から５までのいずれか１項記載の装置。
【請求項７】
反射性の基板（１０）を使用する際に、滴（１２）の移行時点が、移行に際して変化する、検出された固有の面積の特定によって得られるように、画像記録装置（１４，１６，１８，２６，２９）および画像処理装置が形成されている、請求項１から６までのいずれか１項記載の装置。
【請求項８】
移行前に、滴（１２）の少なくとも一部と、場合によっては毛管（１１）またはニードルの一部とによって規定された第１の面（２３）が検出でき、移行後または移行時に、滴（１２）の少なくとも一部と、滴の鏡像と、場合によっては毛管またはニードルの一部と、毛管またはニードルの鏡像とによって規定された第２の面（２４）が検出できるように、画像記録装置（１４，１６，１８，２６，２９）および画像処理装置が形成されている、請求項７記載の装置。
【請求項９】
移行時に滴（１２）またはメニスカスの幅（ｘ）の変化を、特に閾値に関して、検出できるように、画像記録装置（１４，１６，１８，２６，２９）および画像処理装置が形成されている、請求項１から８までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１０】
移行時に作業窓（３０）の面積の変化を、特に閾値に関して、検出できるように、画像記録装置（１４，１６，１８，２６，２９）および画像処理装置が形成されている、請求項１から９までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１１】
画像記録装置が、カメラ（１４，１８）と、カメラに割り当てられた回動可能な鏡（１６）とを備えており、鏡（１６）によって、滴（１２）が、基板に関してそれぞれ異なる角度で検出できるようになっている、請求項１から１０までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１２】
毛管（１１）またはニードルと結合された基準マーク（１５）が設けられている、請求項１から１１までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１３】
画像記録装置（１４，１６，１８，２６，２９）が、少なくとも１つの光ガイド（２６）を備えている、請求項１から１２までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１４】
画像記録装置（１４，１６，１８，２６，２９）が、２つのカメラ（１８）を備えており、これらのカメラ（１８）が、基板（１０）に関してそれぞれ異なる角度で、一方では滴（１２）を特に移行の直前に検出し、また他方では滴（１２）を移行時に検出するようになっている、請求項１から１３までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１５】
毛管（１１）が、配量装置（４０）、特にピストン型プランジャの一部である、請求項１から１４までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１６】
画像記録装置（１４，１６，１８，２６，２９）が、テレセントリック系のレンズ（２９）を有するカメラ（１４，１８）を備えている、請求項１から１５までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１７】
特に請求項１から１６までのいずれか１項記載の装置を用いて、基板に流動媒体を塗布する方法であって、
毛管（１１）またはニードルからから基板に、毛管（１１）の端部で流出するか、またはニードルの端部に付着している流動媒体、特に端部で垂下するかまたは流出する滴（１２）が移行する時点を、基板（１０）に対する毛管（１１）またはニードルの端部の間隔が変化する際に、画像処理によって非接触式に検出することを特徴とする、基板に流動媒体を塗布する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、独立請求項に記載の形式の、基板に流動媒体を塗布する装置および方法に関する。
【０００２】
背景技術
液体、たとえば接着剤、スラッジまたはペーストを毛管もしくはニードルを用いてマイクロ配量（定量供給）する際に、分配される基板に起伏が存在すると、塗布が極めて困難になる。したがって基板に一定の大きさの液滴を再現可能に生産するのに、毛管から流出するか、もしくは端部に垂下する液滴が基板に移行する際に、毛管と基板との間の間隔が常に一定であるよう要求される。毛管の間隔が大きすぎると、基板に液体が全く移行せず、これに対して基板に対する毛管の間隔が小さすぎると、基板表面に再現可能な液量が伝達されない。さらにこの場合、特に外側の側壁の領域で毛管の汚染するリスクが生じる。
【０００３】
これまで正確かつ確実なプロセスで配量するために、基板に対する毛管の間隔を測定するよう試みられており、これによって常に一定の間隔を保証することができ、ひいては毛管から基板への、液滴の常に一定の移行を保証することができる。この場合原則として毛管の距離測定法は、プロセス位置で測定する「オンライン」か、またはプロセス位置とは離れて測定する「オフライン」かに識別される。
【０００４】
「オフライン」測定法の一例は、白色光干渉法である。しかしながらこの測定法は大きな測定構造を有しているので、使用される配量ニードルもしくは毛管の傍にしか配置できない。したがって単に基板に対するマークまたはセンサの間隔を測定するのに適しているだけで、直接的に毛管と基板との間の間隔、または基板に液滴が移行する時点を測定するのには適していない。したがって毛管の傍の位置における測定値を使用し、かつまた後で配量過程を実施しようとする配量位置に向かってセンサを移動する必要がある。これらの方法では誤差が生じる。
【０００５】
プロセス位置における「オンライン」測定の一例は、間隔脚片（Abstandfuesschen）を用いた測定であり、間隔脚片は、基板に接触して、したがって基板に対する毛管の規定の距離を確保する。しかしながらこのような脚片は、敏感でない基板にしか用いることができない。さらにこの測定法は、ある程度の摩耗にさらされる接触式の測定法である。
【０００６】
プロセス位置における「オンライン」測定の別の方法は、レーザ三角測量法（Lasertriangulationsverfahren）である。この場合正確に配量位置で測定が行われるが、基板と毛管との間の間隔でなく、基板とレーザ三角測量センサとの間の間隔が測定される。したがってこの方法も、説明した測定誤差の誘因を含む間接法である。
【０００７】
欧州特許公開第２１４１００号明細書から、ニードル距離測定法が公知であり、ここではエアジェットが一定の圧力で対象物に向けられていて、軸方向可動のノズル体から流出し、かつノズル体に向かう空気流の反発力、ひいては対象物とノズル体との間の間隔が一定になるように、対象物の表面に後案内される。移動距離の測定によって、間隔の測定が実現される。ドイツ連邦共和国特許出願公開第１９８３９８３０号明細書には、光学的な三角測量の原理に基づく、高精度の光学的な距離測定を行う方法が記載されている。ドイツ連邦共和国特許第１９７３２３７６号明細書から、レーザ三角測量原理に基づく、距離測定を行う装置および方法が公知である。米国特許第５５０７８７２号明細書では、触覚装置が用いられており、ここでは滴移行の測定は、ディスペンサにおけるコンタクトセンサの変位によって行われる。さらにドイツ連邦共和国特許第１９７４８３１７号明細書には、超音波を用いて、表面に対する流動媒体の接触状況を検出する方法および装置が記載されている。ここでは超音波フィールドは、配量しようとする媒体に導入され、基板に流動媒体が接触する際に生じる変化は反射特性で検出される。
【０００８】
発明の利点
従来技術に対して、本発明による、基板に流動媒体を塗布する方法および装置は、敏感な基板に対しても良好な適性を有しているという利点を有している。さらにプロセス時間に関する測定、つまり配量時の測定、および配量位置における測定によって、つまり移行位置で基板に滴が移行する時点を直接的に検出することによって、従来技術に対して著しく改善された精度が得られる。
【０００９】
さらに有利には、毛管またはニードルから基板への滴の移行の検出は極めて迅速に行うことができるので、本発明による方法もしくは装置は、特に大量生産におけるオンラインプロセス管理に適している。
【００１０】
本発明の有利な改良形は、従属請求項に記載の構成から明らかである。
【００１１】
有利には画像記録装置および画像処理装置を実現するために、大きな手間をかけずに個々のケースの要求に適合することのできる、安定した個々の構成要素もしくは画像処理システムを用いることができる。さらに画像処理装置および画像処理装置に設けられたコンピュータに組み込まれた既存の画像処理ソフトウェアを用いることができる。
【００１２】
さらに有利には、基板に関してそれぞれ異なる角度で、一方では滴を移行直前に、また他方では滴を移行時に検出する２つのカメラを用いて、滴が基板に移行する位置の周辺に別の構成部材が存在するような比較的大きな基板でも、基板に対する滴の移行の確実な検出が実現される。
【００１３】
さらに有利には、画像記録装置を実現するために、個々のケースの要求に適合することのできる多くの実施形態が提供される。単数または複数のカメラ、または割り当てられた回動可能な鏡を備えたカメラを用いて画像記録を行うことができ、鏡を備えたカメラでは、回動可能な鏡は、とりわけ滴を、それぞれ異なる時間もしくは方法段階で、基板に関してそれぞれ異なる角度で検出するのに役立つ。さらにまた画像記録装置は光ガイドを備えており、光ガイドはたとえばカメラまたはＣＣＤチップと結合されているので、カメラもしくはチップは、基板に滴が移行する位置の近くに配置しなくてもよい。
【００１４】
さらに有利には、本発明の装置によって、多数の流動媒体、たとえば接着剤、スラッジ、ペースト、溶液または懸濁液を基板に取り付けることができる。
【００１５】
また特に有利には、特にプランジャ型ディスペンサの構成をしたマイクロ配量装置が使用され、これによって点状の５０ｎｌ〜１μｌの液滴を基板に塗布することができる。
【００１６】
実施例の説明
次に図面につき本発明の実施例を詳しく説明する。
【００１７】
図１のａには、管状の毛管１１の端部に存在するメニスカスまたは滴１２が面状の基板１０に伝達する際の様々な方法段階を示した。ここでは滴１２の下位端部は基板１０に対して最初の段階では間隔ｄを有しており、間隔ｄは次第に減少され、それも基板１０に滴１２が接触して、滴１２が基板１０に移行するまで減少される。その後で毛管１１と基板１０との間の間隔は再び増加され、これに続いて毛管１１の端部から新たに滴１２が流出するよう誘発され、これによって別の位置における基板１０に対する滴１２の滴下が繰り返される。
【００１８】
図１のａに示したような、基板１０に対する滴１２の移行では、毛管１１と基板１０との間の最小間隔ｄは小さすぎるので、滴１２の形状は、移行に際して、空間的にみてほぼ球形の層に近似することができる。
【００１９】
図１のｂは、図１のａと同様の方法を示しており、ここでは毛管１１は基板１０に十分に接近していないので、基板１０に滴１２が全く移行しない。ここでは滴１２の下端部と基板１０との間の最小間隔ｄは大きすぎる。
【００２０】
図１のｃは、基板１０に滴１２が移行する際の別の実施例を示しており、ここでは毛管１１と基板１０との間の最小間隔ｄが小さすぎることによって、毛管１１の外壁１３が汚染されるので、一方では基板１０に規定の滴量が伝達されず、また他方では別の滴１２を滴下する際に毛管１１の汚れによってプロセス精度が許容できないものとなる。
【００２１】
図１のａ〜図１のｃに示した全ての実施例では、毛管１１と基板１０との間の最小間隔ｄの誤った調節によって、滴１２の形状および大きさを鑑みると、再現可能な容量の、滴１２を形成する流動媒体が、基板１０に引き渡されない。均等な移行は、一般的に毛管１１が、端部に滴１２の付着するニードルによって代用される場合にも当てはまる。
【００２２】
基板１０に一定の大きさの液滴を再現可能に生産するのに、基板１０に対する毛管１１または適当なニードルの端部の間隔が次第に減少する際に、毛管１１または適当なニードルの端部に存在する滴１２の、毛管１１から基板１０への移行を検出する必要がある。
【００２３】
これに対して図２には理想的な実施例を示した。ここでは基板１０に毛管１１が接近する際に、基板１０に滴１２が移行する。このような移行では、滴１２は空間的にみてカテノイド形状を有していて、つまり毛管１１と基板１０との間の柱状の結合部が形成される。このような段階状態が得られると、直ちに基板１０に対する毛管１１の間隔が再び増加され、その結果最終的に基板１０に規定量の滴１２が残留し、これに対して後続の段階で毛管１１を用いて、同様に規定量の別の滴１２を基板１０の別の位置に塗布することができる。
【００２４】
とりわけ図１のｂに示したような、基板１０に滴１２が全く移行しないこと、または毛管１１が基板１０に接近しすぎて、流動媒体が毛管１１の外側領域１３に達してそこで毛管１１を汚染することが回避される。
【００２５】
図３のａおよび図３のｂには、配量（定量供給）装置５の構成を示した。ここでは先ず毛管１１の端部に、高さｈを有する半球状の構成をした滴１２が垂下している。さらに第１の画像記録装置１４（たとえばコンピュータおよび適当な評価ソフトを備えた図示していない画像処理装置の割り当てられたＣＣＤチップまたはカメラ）を用いて、基板１０に滴１２が移行する前に、つまりたとえば接近中に、滴１２の高さｈが特定される。ここでは高さおよび形状に関する、記録された滴１２の評価は、画像処理装置によって行われる。
【００２６】
さらに基板１０に毛管１１が接近すると、図３のｂに示したような状態が得られ、つまり基板１０に流動媒体が移行する際にカテノイドが形成される。この状態は、第１の画像記録装置１４によって検出されて、基板１０に滴１２が移行する時点として考慮される。さらに第１の画像記録装置１４および後置の画像形成装置によって、図３のｂに示した方法段階の達成直後に、基板１０と毛管１１との間の間隔が増加されるので、全体として図２に示した方法経過が得られる。
【００２７】
図３のａもしくは図３のｂに示した主要な方法は、プロセス時間に関する調量位置での非接触式の毛管距離測定法（Kapillarenabstandsmessverfahren）であり、ここでは毛管１１から基板１０に滴１２が移行する時点は、画像処理によって検出される。さらに画像処理によって、毛管１１に垂下している滴メニスカスの高さｈの検出を、滴移行時点の測定に先行して行うこともできる。基板１０に滴１２が移行する時点は、有利には図３のｂに示したように、カメラによって検出されるが、選択的に光バリヤ、光ファイバセンサを用いて、またはメニスカスもしくは滴１２に向けられた音場によって確認することができる。
【００２８】
図４のａには、カメラ１４に後置された画像処理装置によって記録された、移行前もしくは移行時の、基板１０に対する滴１２の移行の２つの画像を示した。ここではいわゆる「テンプレートマッチング」が行われ、つまり移行時における滴１２の形状変化の監視が行われる。このために図４のａには、先ず端部で垂下する滴１２を有する毛管１１のオリジナル画像２０と、オリジナル画像２０の、反射性の基板１０に描かれる鏡像２１とを示した。画像処理装置は、第１のカメラ１４を用いて、オリジナル画像２０も鏡像２１も検出する。図４のｂには、どのようにして滴１２が断面図でみて円区分（図４のａ参照）からカテノイドに移行するのかを示した。垂下している半球から、基板１０および毛管１１に接触するカテノイドに滴１２が形状変化する時点が得られ、画像処理装置によって検出されると、直ちに画像処理装置によって、毛管１１と基板１０との間の間隔が再び増加されるので、図２に示した方法経過が得られる。図４のａもしくは図４のｂに示した「テンプレートマッチング」は極めて正確である。画像処理装置に極めて大きな計算能力を提供する必要がある、という欠点が存在する。
【００２９】
基板１０に滴１２が移行する時点を検出するための、迅速かつ原則として精度の十分な方法は、一般的な差分画像法（Differenzbildverfahren）を介して実現することができ、ここでは画像処理装置を用いて、たとえば図４のａおよび図４のｂに示したような相前後して記録された２つの画像が互いに差し引かれ、これによって生じる差分画像が、たとえば積分の強さに関して閾値を超える場合、図４のｂに示した状態を表現する信号が画像処理装置から発信される。閾値に到達すると、画像記録装置１４および後置の画像処理装置が作用して、毛管１１はもはや基板１０に接近されず、もしくはその後で毛管１１と基板１０との間の距離が増加される。
【００３０】
図８のａおよび図８のｂには、基板１０に滴１２が移行する時点を検出する第３の方法を示した。ここでは図８のａに示したように、先ず図４のａに示したものと同じ画像から出発してオリジナル面２３が求められ、オリジナル面２３は毛管１１と、毛管１１に垂下している滴１２とから形成される。さらに図８のａに示したように、オリジナル面２３の鏡像２１を認識することができ、鏡像２１は、基板１０に描かれて、画像記録装置および画像処理装置によって同様に検出される。さらに基板１０に毛管１１が接近すると、図８のｂに示した状態が生じ、つまりオリジナル面２３と鏡面２１とが結合して、連続する面２４が形成される。これの意味するところによれば、基板１０に滴１２が移行する際に、オリジナル面２３は、連続する面２４に急激に拡大する。この時点が画像処理装置によって検出されると、画像処理装置が作用して、毛管１１はもはや基板１０に接近されず、その後で毛管１１と基板１０との間の間隔は増加される。
【００３１】
図８のａもしくは図８のｂに示した方法の利点によれば、滴１２を有する毛管１１は、移行する前に、同じ強さの個々のピクセルの面として表すことができる。同じ強さのこの面は、たとえば暗いピクセルを有する完全な面として形成されており、この面は、図８のｂに示した状態が得られると急激に増加する。また欠点によれば、急激に増加する連続する面２４の計算は、反射性の基板１０でしか用いることができない。
【００３２】
図９のａには、基板１０に滴１２が移行する時点を特定する選択的な第４の方法を示した。この場合でも反射性の基板１０から出発しており、ここではオリジナル画像２０および鏡像２１が検出される。図９のａに示した方法（ここでは基板１０に毛管１１が次第に接近する）では、メニスカス幅ｘが検出され、メニスカス幅ｘは始めの段階では毛管１１が降下されると増加する。メニスカス幅ｘが予め設定された閾値を超えると、直ちに基板１０に対する毛管１１の後続の接近が中断され、毛管１１は再び持ち上げられるので、全体として図２と同じ方法が得られる。
【００３３】
図９のｂには、図９のａに示した方法に対して選択的な方法を示した。ここでは画像記録装置１４と、これに割り当てられた画像処理装置とを用いて、常時一定のメニスカス幅ｘを保証するために、画像処理装置の作業窓３０で、または基準面３０の内側で面積が検出される。作業窓は、毛管１１と滴１２との結合面の領域、もしくは移行時のメニスカスに存在する。画像処理装置によって作業窓３０で検出された、滴１２によって占められる面積が特定の閾値を超えると、図９のａに示したメニスカスの幅から求められた閾値と同様に、画像処理装置によって、毛管１１が基板１０に十分に近くに接近していて、毛管１の上昇を行う必要があると推測される。図９のｂに示した実施例は、図９のａに示した実施例とは異なって、幅ｘの代わりに、作業窓３０の内側で面積が検出されて、閾値と比較される。
【００３４】
図５のａ〜図５のｃは、配量装置５の、図３のａおよび図３のｂに対して選択的な実施例を示した。ここでは毛管１１は基準マーク１５を有している。さらにカメラの構成をした第１の画像記録装置１４に回動可能な鏡配置構造１６が対応配置されており、鏡１６によって、基板に関してそれぞれ異なる角度下で、毛管１１に垂下している滴１２を検出できる。したがって図５のａに示した、回動可能な鏡１６の位置では、画像記録装置１４は、先ず基板１０に移行する前の滴１２を検出し、これに対して図５のｂに示した、回動可能な鏡１６の位置では、基板１０に移行する際の滴１２が検出される。したがってここでは定置に配置された画像記録装置１４しか必要としない。特に有利には、記載の実施例の範囲内で、毛管１１の端面が、追加的に少なくとも部分的に接着剤に対して非付着性の層を備えている。
【００３５】
図５のａに示した基準マーク１５の機能について、図６で詳しく説明する。基準マーク１５は、先ず第１に毛管に垂下している滴１２の高さｈを特定するのに役立つ。さらにこれに関して図５のｃに示したように、回動可能な鏡１６によって、滴１２が基板に形成された後で、たとえば滴１２の幾何学形状を平面図で測定することによる最終的な品質管理を行うこともできる。
【００３６】
図５のａ〜図５のｃに示した調量装置５によって、基板１０に滴１２が移行する時点が検出できるだけでなく、移行前の滴１２の光学的な測定も、移行後の塗布された滴１２の品質管理も行うことができる。
【００３７】
図６には、先ずどのようにして毛管１１の下位端部に対する基準マーク１５の間隔、つまり長さｌが、第１の画像記録装置１４および後置の画像処理装置によって特定されるのかを示した。その後で毛管１１の端部から、滴１２の構成をした流動媒体が流出され、第１の画像形成装置および後置の画像処理装置によって、基準マーク１５と滴１２の下位端部との間の間隔が特定される。この測定値と予め特定された長さｌとの差から、滴１２の高さｈが生じる。
【００３８】
図３のａおよび図３のｂに示した実施例は、とりわけ小さくてフラットな基板１０に適しており、ここでは画像記録装置１４の視界は、基板１０に滴１２を塗布しようとする位置の周辺に存在していて、たとえばカメラ１４のレンズを遮蔽する恐れのある別の構成部材１９によって妨げられていない。
【００３９】
図７のａおよび図７のｂには、別の構成部材１９を備えた面積の大きな基板１０にも適した配量装置５を示した。これに関して図７のａでは、第１のカメラの構成をした第１の画像記録装置１４を用いて、先ず図３のａに応じて、滴１２の形状もしくは高さが測定される。基板１０に毛管１１が引き続き接近して、基板１０に滴１２が移行する際に、第２の画像記録装置１８、たとえば第２のカメラを用いて、移行時点が特定される。この場合第２の画像記録装置１８は、基板１２を斜め上方から照射するので、所属の光線１７は、基板１０に斜めに当射して、構成部材１９はビーム路上に位置しない。
【００４０】
図１１のａおよび図１１のｂは、多くの観点で図７のａおよび図７のｂに示した実施例に相当する、配量装置の別の実施例を示した。詳しく述べると、ここでは配量装置５はプランジャ型ディスペンサの構成をしたマイクロ調量装置４０であって、下位端部に毛管１１が設けられており、毛管１１から滴１２が流出する。さらにまた先ず基板１０に移行する前の滴１２の形状および／または高さが、レンズ、たとえばテレセントリック系のレンズ２９を備えた第２の画像記録装置１８によって検出される。これに関して図１１のａには、第２の画像記録装置１８によって検出された、滴１２を照射する第１の照射領域２５を示した。図１のａに示した第２の画像記録装置１８に、図示していない新たな画像処理装置が後置されている。さらに図１１のａに示したように、この方法段階ではまだアクティブ化されていない、第１のカメラの構成をした第１の画像記録装置１４が設けられている。
【００４１】
図１１のａに示した調量装置４０に基板１０が接近すると（これについては既に図３のａおよび図７のａに示した矢印で示した）、図１１のｂに示した状態、つまり滴１２が基板１０に移行する時点が生じる。このような移行は、既に説明したように、第１の画像記録装置１４におよび画像記録装置に割り当てられた画像処理装置によって検出され、第１の画像記録装置１４は、移行時に滴１２の侵入する第２の照射領域２７を形成する。
【００４２】
図１１のａおよび図１１のｂに示した実施例は、特に大きな基板に適しており、ここでは第２のカメラ１８は基板１０に対して斜めに設置されている。滴１２が基板１０に移行する時点は、有利には、図４のａ、図４のｂ、図８のａ、図８のｂ、または図９のａ、図９のｂに示した画像処理法によって得られる。
【００４３】
図１０のａもしくは図１０のｂは、図１１のａおよび図１１のｂに対して選択的な別の実施例を示しており、第１の画像記録装置１４が光ガイド２６を備えている点で異なっているので、第１の画像記録装置１４のフレキシブルな配置が実現されるが、光ガイド２６もしくは画像ガイドの伝達特性は不良である。また他方では、図１１のｂもしくは図１１のｃに示した実施例では、既に記載したように、単に滴１２が基板１０に移行する時点を検出すればよい。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】ａは、滴を備えた毛管が基板に接近する際に、基板に対する毛管の間隔が小さすぎる方法段階を概略的に示す原理図であり、ｂは、基板に対する毛管の間隔が大きすぎる、ａに相当する方法段階を概略的に示す原理図であり、ｃは、基板に対する毛管の間隔が小さすぎ、毛管の外壁に液体が伝達される、図１のａに相当する方法段階を概略的に示す原理図である。
【図２】基板に滴が最適な形式で移行する方法段階を概略的に示す原理図である。
【図３】ａは、移行前の滴のメニスカス高さを検出する方法を示す図であり、ｂは、滴の移行時の、基板に対する毛管の間隔を検出する方法を示す図である。
【図４】ａは、画像処理による、移行直前の状態で、毛管から基板への滴の移行を検出方法を示す図であり、ｂは、画像処理による、移行時の滴を検出する方法を示す図である。
【図５】ａは、カメラおよび回動可能な鏡による、移行前の滴を検出する方法を示す図であり、ｂは、ａの後続段階で、移行時の滴を検出する方法を示す図であり、ｃは、基板に塗布したあと滴を検出する方法を示す図である。
【図６】基準マークを用いてメニスカス高さを検出する方法を示す原理図である。
【図７】ａは、基板への滴の移行を一方向で検出する方法を示す図であり、ｂは、基板への滴の移行を別の一方向で検出する方法を示す図である。
【図８】ａおよびｂは、基板への滴の移行を検出する方法を示す図である。
【図９】ａは、移行する際にメニスカス幅もしくは滴幅の増加する、基板に滴が移行する際の方法段階を示す図であり、ｂは、滴が移行する際の作業窓の面積を検出する方法を示す図である。
【図１０】ａは、基板に移行する前の、プランジャ型ディスペンサの毛管の滴を検出する方法であり、ｂは、基板に移行する際の、プランジャ型ディスペンサの毛管の滴を検出する方法である。
【図１１】プランジャ型ディスペンサを備えた配量装置の、図１０のａおよび図１０のｂに対して選択的な実施例を示す図である。
【符号の説明】
【００４５】
５  配量装置、  １０  基板、  １１  毛管、  １２  滴、  １３  外壁、  １４  画像記録装置、  １５  基準マーク、  １６  鏡、  １７  光線、  １８  画像記録装置、  １９  構成部材、  ２０  オリジナル画像、  ２１  鏡像、  ２３  オリジナル面、  ２４  面、  ２５  照射領域、  ２６  光ガイド、  ２７  照射領域、  ２９  レンズ、  ３０  作業窓、  ４０  マイクロ配量装置
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【図２】
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【図６】
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【国際調査報告】
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