(57)【要約】  本発明には標的対象物についての屈折性レーザー外科手術にふさわしい装置及び工程が含まれる。レーザー・ビーム源（３）を利用して、ｆｓ−インパルス・レーザー・ビームを発生させる。第二レーザー・ビーム源（４）からＵＶレーザー・ビームを発生させる。共通走査装置（１３）では該標的対象物を走査するために該ｆｓ−インパルス・レーザー・ビーム及びＵＶレーザー・ビームを利用する。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｆｓ−インパルス・レーザー・ビーム用第一光学出力（７）を備えた第一レーザー・ビーム源（３）と、ＵＶレーザー・ビーム用第二光学出力（９）を備えた第二レーザー・ビーム源（４）と及び、該光学出力（７）から放出されるｆｓ−インパルス・レーザー・ビームと該光学出力（９）から放出されるＵＶレーザー・ビームとを用いて、標的対象物（１４）を走査するための共通走査装置（１３）とを有し、且つ、該標的対象物（１４）上に位置することを特徴とする屈折性レーザー外科手術用装置。
【請求項２】
該光学出力（７）から該共通走査装置（１３）に至る該ｆｓ−インパルス・レーザー・ビームが辿る第一光学径路と、該光学出力（９）から該共通走査装置（１３）に至る該ＵＶレーザー・ビームが辿る第二光学径路とが、少なくとも部分的に重なり、その結果として該光学径路の共通部分が形成されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
光学部品（１０）が、該光学径路（７）から出る該ｆｓ−インパルス・レーザー・ビーム及び／又は該光学径路（９）から出る該ＵＶレーザー・ビームを、該光学径路の共通部分（１１）に閉じ込めることを特徴とする請求項２に記載の装置。
【請求項４】
該光学径路（１１）の共通領域における安全機構（２２）の配置に特徴があり、その結果として、該安全機構（２２）を利用して、該ｆｓ−インパルス・レーザー・ビーム及びＵＶレーザー・ビームを扱うことを特徴とする請求項２又は３に記載の装置。
【請求項５】
該ｆｓ−インパルス・レーザー・ビーム及びＵＶレーザー・ビームの双方を誘導する光学誘導機構が該走査装置（１３）に含まれることを特徴とする、先行する請求項のいずれか１項に記載の装置。
【請求項６】
該第一レーザー・ビーム源（３）及び第二レーザー・ビーム源（４）が光学出力（３０）を備えたレーザー・ビーム装置（１）に組み入れられ、その結果として、該ｆｓ−インパルス｀レーザー・ビーム及びＵＶレーザー・ビームが該レーザー・ビーム装置（１）の該光学出力（３０）を通じて放出されることを特徴とする、先行する請求項のいずれか１項に記載の装置。
【請求項７】
該第一レーザー・ビーム源（３）及び第二レーザー・ビーム源（４）の光学ポンピング用ダイオード・ポンプを用いるという、共通ポンピング源を特徴とする、先行する請求項のいずれか１項に記載の装置。
【請求項８】
ＵＶレーザー・ビームを発生するためのカスケード式和周波数ミキサー（６）を特徴とする、先行する請求項のいずれか１項に記載の装置。
【請求項９】
該カスケード式和周波数ミキサー（６）が、（ω＋ω→２ω；  ２ω＋２ω→４ω）又は（ω＋ω→２ω；  ２ω＋ω→３ω；  ３ω＋ω→４ω）のタイプの周波数クワドループラであることを特徴とする請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
該第二レーザー・ビーム源（４）がエキシマ・レーザーであることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１１】
該装置が該標的対象物（１４）の運動を追跡するための追跡装置（１６）からなり、且つ、該追跡装置（１６）が該走査装置（１３）に結合されていることを特徴とする、先行する請求項のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１２】
該第一レーザー・ビーム源（３）が、繊維レーザー増幅システムであって、約数μＪの範囲内のインパルス・エネルギーと１ＭＨｚまでの範囲内の後発インパルス周波数を備えていることを特徴とする、先行する請求項のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１３】
眼についてＬＡＳＩＫ−治療（”ＬＡＳＫ”；レーザー・イン・シチュー・角膜曲率形成術）を行うための、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の装置の適用。
【請求項１４】
標的対象物（１４）に対する屈折性レーザー外科手術の工程であって、第一レーザー・ビーム源（３）を用いてｆｓ−インパルス・レーザー・ビームが作られ、又、第二ＵＶレーザー・ビーム源（４）を用いてＵＶレーザー・ビームが作られ、該ｆｓ−インパルス・レーザー・ビーム及びＵＶレーザー・ビームが、走査用共通走査装置（１３）を横断して該標的対象物（１４）上に向かうことを特徴とする前記工程。
【請求項１５】
該ｆｓ−インパルス・レーザー・ビームが第一光学出力（７）から該共通走査装置（１３）までの第一光学径路に沿って伝播し、該ＵＶレーザー・ビームが第二光学出力（９）から該共通走査装置（１３）までの第二光学径路に沿って伝播し、又、そのような状況の下で、該第一光学径路と第二光学径路とが重なっているために、該ｆｓ−インパルス・レーザー・ビームとＵＶレーザー・ビームとが少なくとも部分的に共通光学径路に沿って伝播することを特徴とする請求項１４に記載の工程。
【請求項１６】
該光学部品（１０）を利用して、該第一光学出力（７）から放出された該ｆｓ−インパルス・レーザー・ビーム及び／又は該第二光学出力（９）から放出された該ＵＶレーザー・ビームを該共通光学径路（４）の内部に閉じ込めることを特徴とする請求項１４又は１５に記載の工程。
【請求項１７】
該走査装置（１３）の光学誘導機構を利用して、該ｆｓ−インパルス・レーザー・ビームとＵＶレーザー・ビームとを誘導することを特徴とする請求項１４又は１６に記載の工程。
【請求項１８】
該ｆｓ−インパルス・レーザー・ビーム（３）とＵＶレーザー・ビーム（４）とが、一つの光学出力を備えたレーザー・ビーム装置の内部に取り込まれており、その結果として、該ｆｓ−インパルス・レーザー・ビームとＵＶレーザー・ビームとが、該レーザー・ビーム装置（１）の光学出力（１）から放出されることを特徴とする請求項１４又は１７に記載の工程。
【請求項１９】
共通ポンピング光源（１８）を用いて、該レーザー・ビーム源（３）及び第二レーザー・ビーム源（４）とを光学的にポンプでくみ上げることを特徴とする請求項１４又は１８に記載の工程。
【請求項２０】
眼の角膜の薄切りは該ｆｓ−インパルス・レーザー・ビームを用いて切り取られ、又、視野矯正手術は該ＵＶレーザー・ビームを用いて行われることを特徴とする請求項１４又は１９に記載の工程。
【請求項２１】
該標的対象物（１４）の運動を追跡するという目的の下で、該走査装置（１３）に結合された該追跡装置（１６）を利用して、該標的対象物（１４）の走査を行うことを特徴とする請求項１４又は２０に記載の工程。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、標的対象物を目がけた屈折性レーザー外科手術用装置及び工程に関する。
【背景技術】
【０００２】
屈折性レーザー外科手術を利用してヒトの眼の視野欠陥を矯正する。欠陥のある視野は人間の主たる病気の一つである。発達した工業国において、眼科学のおかげで欠陥視野は医療の主要分野にまで成長した。眼鏡、コンタクト・レンズ又は眼の中に新しいレンズを埋め込むなどのような視野矯正の古典的な形態と並んで、近年、レーザーを用いて角膜の表面から制御条件下に組織を除去（剥離）して視野を矯正することが盛んになった。最も普通に使用されるレーザーはエキシマ・レーザーである。関連技術にはＰＲＫ（”光屈折性角膜切除術”）、ＬＡＳＩＫ（レーザー・イン・シチュー・角膜曲率形成術）及びＬＡＳＥＫ（レーザー上皮角膜曲率形成術）が含まれる。これらの技術には表面形状を変えること及びその結果として角膜の焦点距離を変えることが含まれる。利用される工程にはいわゆる”広幅ビーム組織除去”工程および”走査組織除去”工程が含まれる。走査工程には、治療に利用されるレーザー・ビームを動かして、治療すべき眼の領域を横断させる走査装置の利用が含まれる。
【０００３】
ＬＡＳＩＫ工程は現在では視野矯正手術において最も普通に適用されるレーザー工程である。ＬＡＳＩＫは”切除技術”（角膜曲率形成術）とＰＲＫとの組合せである。ＬＡＳＩＫ工程では、第一段階には、角膜の薄切り（”フラップ”）を切り取ることが含まれる。その薄切りは次いで書物の表紙のように傾いたまま開放される。続いて紫外線レーザー・ビーム（ＵＶレーザー・ビーム）を用いて角膜からその組織を除去し、視野欠陥を矯正することができる。手術の最後に、その角膜の薄切りは再び閉ざされる。その切除技術のおかげで、レーザーの精度とあいまって、広範囲の矯正が含まれる場合であっても、迅速な回復と同様に、治療の結果を予見するに際して、高精度の正確さが実現する。
【０００４】
フェムト秒（ｆｓ）の範囲内の極めて短いインパルス時間のインパルス（衝撃）を伴うレーザー・ビームの適用は特許文献１において角膜の切開用に提案された。超短波インパルスを利用した、いわゆる礎質内屈折性外科手術用工程も開発された（非特許文献１）。
【０００５】
一方では角膜を切除するためにｆｓ−インパルスを利用し、他方では角膜から組織を切除するためにＵＶレーザー・ビームを利用することにより、この治療法は患者に合わせて複雑になる。なぜならば二つの極めて異なるレーザー・システムは治療工程の間ずっと調和して動かなければならないからである。この二つのレーザー・システムは配置され、その結果として、眼を走査するレーザー・ビームは眼に対するいかなる好ましくない損傷ももたらさない。このことはその技術装置に関わる多大な労力を伴う。
【特許文献１】米国公開特許公報第５，９８４，９１６号明細書
【非特許文献１】眼科医：９８、２００１  ６２３
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、屈折性レーザー外科手術用の改良された装置及び改良された工程を創造することにある。これらは、視野欠陥を矯正するための治療法を適用するに際し患者にとっていっそう受け入れやすいものであり、又、手術中に安全基準を引き上げるものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本目的は請求項１の装置の形態をとる発明、又、請求項１４の工程の形態をとる発明により達成できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
現在の技術を超える本発明の重要な利点は、ｆｓ−インパルス・レーザー・ビーム及びＵＶレーザー・ビームを適用するための走査装置を分離することはもはや不要になったということである。これにより材料と費用が削減できるようになる。
【０００９】
更に言えば、新しい屈折性レーザー外科手術装置はコンパクトに組み立てられており、その結果として、治療室において収納するに際し少ない空間でよい。角膜を切断し、引き続いて角膜から組織を切除する間に、矯正すべき眼を、単一の走査装置に対して、位置決めするだけでよい。ｆｓ−インパルス・レーザー・ビーム及びＵＶレーザー・ビームを適用することを内容とする治療におけるステップにおいて走査装置を変更することは不要である。その結果として、走査装置に対して、治療すべき眼の位置は維持したままである。
【００１０】
視野欠陥矯正手術の最中にｆｓ−インパルス・レーザー・ビーム及びＵＶレーザー・ビーム用にまさしく一つの走査装置を用いる別の利点は、単一走査装置に関する安全基準をモニターするだけでよいからである。これにより安全要件を維持するのに含まれる費用と労力は削減される。
【００１１】
本発明の光学的な、更なる発展には、第一光学出力から共通走査装置までのｆｓ−インパルス・レーザー・ビームの第一光学径路と、第二光学出力から共通走査装置までのＵＶレーザー・ビームの第二光学径路との間の、少なくとも部分的な重なりが含まれ、その結果として、部分的な共通光学径路が形成される。これにより、レーザー・ビーム遮断スイッチなどのばらばらな安全方策の適用は不要になる。そのスイッチとはｆｓ−インパルス・レーザー・ビーム用のものであり、又、ＵＶレーザー・ビーム用のものである。安全方策が共通光学径路の領域に適用されるだけで十分である。
【００１２】
共通部分的光学径路を形成するために、本発明の最適な具体化は、第一光学出力から出るｆｓ−インパルス・レーザー・ビーム及び／又は第二光学出力から出るＵＶレーザー・ビームを閉じ込めることを目的として光学部品を該径路の共通部分に組み入れることにあると予想される。この光学部品は、例えば、分割鏡、ダイクロイック・ミラー(dichroic mirror)、プリズム又は回折光学要素の形態をとるだろう。
【００１３】
安全要件、特に視野欠陥矯正手術の最中に危険な場合はレーザー・ビームを遮断する必要性に関しての安全要件に合致しこれを維持する方法がある。その方法は本発明の更に好ましい発展では容易に実行できる。この方法には共有光学径路の領域に安全機構を配置することが含まれよう。その結果として、これらの安全手段を利用してｆｓ−インパルス・レーザー・ビーム及びＵＶレーザー・ビームの双方を扱うことができる。
【００１４】
本発明の最適な発展において、ｆｓ−インパルス・レーザー・ビーム及びＵＶレーザー・ビームの光学誘導機構を走査装置に組み込むことにより、屈折性レーザー外科手術装置を組み立てる際に生じる技術的な困難な状況は打開できる。この光学誘導機構は、例えば、鏡の形態をとり、その鏡により該ｆｓ−インパルス・レーザー・ビーム及びＵＶレーザー・ビームが反射されるように、その表面が処置される。
【００１５】
本発明の最適な発展により、共通光学部品の助けを借りて、該ｆｓ−インパルス・レーザー・ビーム及びＵＶレーザー・ビームを放射する共通手段が提供される。それは、例えば、安全基準の維持の確保を目的とするものであり、該第一レーザー・ビーム源及び第二レーザー・ビーム源を、一つの光学出力を備えた一つのレーザー・ビーム装置に組み入れることによってなされるものである。そのことを通じて、該ｆｓ−インパルス・レーザー・ビーム及びＵＶレーザー・ビームはレーザー・ビーム装置の光学出力から放出される。
【００１６】
本発明の最適な発展において、屈折性レーザー外科手術向けのコンパクトで費用効果のある装置は二つのレーザー・ビーム源を光学的にポンプでくみ上げるための共通ポンプ源を持つことにより得られる。
【００１７】
本発明を具体化するための好ましい方法には、ＵＶレーザー・ビームを発生するためのカスケード式和周波数ミキサー(sum frequency mixer)が含まれる。このミキサーにより赤外区域の近傍から出るレーザー・ビームをＵＶレーザー・ビームにまで変換することができる。これにより、エキシマ・レーザーに関連する、品質の劣るビーム・プロフィール及び有毒材料などの欠点を回避できる。
【００１８】
本発明の別の発展の利点は、該カスケード式和周波数ミキサーが周波数クワドループラ(frequency quadrupler)であり、例えば、（ω＋ω→２ω；  ２ω＋２ω→４ω）又は（ω＋ω→２ω；  ２ω＋ω→３ω；  ３ω＋ω→４ω）のタイプのものである。これにより、臨床的に許可される１９３ｎｍという波長限界を上回るものでありながら、２０５ｎｍ以上の波長周波数が発生する。３−ステップの周波数増幅により２００ｎｍよりずっと短いＵＶ波長が発生する。
【００１９】
他のレーザー・ビーム源はエキシマ・レーザーであると想定される。
【００２０】
標的対象物−眼−が動くとき、最適なレーザー治療を保証するために、本発明の最適な具体化には、標的対象物の運動を追跡する追跡装置が含まれる。そこでは、追跡装置は走査装置に含まれ、その結果として、レーザー・ビームによる標的対象物の走査は追跡装置の大きさに依存して行われる。
【００２１】
本発明の好ましい具体化において、第一レーザー・ビーム源は繊維レーザー増幅システムであり、約数μＪの範囲内のインパルス・エネルギーと１ＭＨｚまでの範囲の後発（subsequent）インパルス・エネルギーとを備えている。高い後発インパルス・エネルギーにより、レーザー・ビームを適用した場合に、利点として、処理時間が短縮される。
【００２２】
該装置及び上記した新しい発展により、特にその装置を利用して眼に対してＬＡＳＩＫ工程（”ＬＡＳＫ”；レーザー・イン・シチュー・角膜曲率形成術）を適用した場合に、効果がある。角膜の切開及び角膜組織の除去が該装置を利用して行われるからである。
【００２３】
該工程に関わり、且つ、該装置に関連する関連請求項に従属した請求項は、該装置に関する個々の請求項と結びつけて言及される利点を示す。
【００２４】
以下において、具体例を利用し、又、図１を参照しつつ本発明を説明する。
【００２５】
図１において、屈折性レーザー外科手術用装置は、レーザー装置１、ｆｓ−レーザー・ビームを作り出すために、レーザー・ビーム源３を光学的にポンピングするポンプ・レーザー２、及びＵＶレーザー・ビーム用レーザー・ビーム源４から構成される。ポンプ・レーザー２に利用される好ましいレーザーは、ダイオード−ポンプト・ハード・ボディド・レーザー(diode-pumped hard-bodied lasers)である。このレーザーは、例えば、赤外線領域の近傍の波長、例えば、１０６４ｎｍ又は１０５４ｎｍの波長を有する光を発生する。それに続く周波数倍増によりグリーンのスペクトル領域においてポンプ・ビームが生じる。
【００２６】
ポンプ・レーザー２を利用して第一レーザー・ビーム源３及び第二レーザー・ビーム源４を励起する。二つの源は、例えば、Ｔｉ：Ｓａ−レーザーとして形成される。変換されたＴｉ：Ｓａ−レーザーを８４０ｎｍで倍増し、又は、７９５ｎｍ（増幅最大）という、後発和周波数を２００ｎｍより短いビームに混ぜることにより、Ｔｉ：Ｓａ−レーザーの周波数変換は２１０ｎｍ未満の領域の利用を可能にする。同時に広い周波数範囲を考慮して、活性なレーザー材料Ｔｉ：サフィール(Saphir)は極めて短いインパルス、例えば、ｆｓ−インパルスを発生させたり又増幅させたりすることができる。
【００２７】
第二光源４では、オリジナル・ビーム源５の光出力は、ＵＶレーザー・ビームを発生させることを目的として、カスケード式和周波数ミキサー６を利用して周波数が４倍化する。カスケード式和周波数ミキサー６を利用して周波数の４倍化を行うことができる：（１）（ω＋ω→２ω；  ２ω＋２ω→４ω）又は（２）（ω＋ω→２ω；  ２ω＋ω→３ω；  ３ω＋ω→４ω）。オリジナル・ビーム源５から始まって、２００ｎｍの上下領域における波長を有するＵＶレーザー・ビームの発生が許容される。そのビーム源５は赤外線領域において光を発生する。
【００２８】
別法として、エキシマ・レーザーを、ＵＶレーザー・ビーム用放射源として利用することができる。周到な有用性から、このタイプのレーザー、例えば、ＡｒＦ：エキシマ・レーザーは、現在、眼科学において、事実上唯一の視野欠陥矯正に適したタイプである。しかしながら、Ｔｉ：Ｓａ−レーザーと比べて、エキシマ・レーザーのビームは比較的質が悪く、そのレーザーの操作上有毒な／腐食性のガス（弗素）の利用が求められている。このことはガスを生産し且つ治療室に貯蔵する場合に、リスクの要因を構成する。
【００２９】
ｆｓ−インパルス・レーザー・ビームはレーザー源３を去り光学出力７を経由し、更に、例えば、鏡又はプリズムのような、光学誘導部品８で誘導される。ＵＶレーザー・ビームは第二レーザー源４を去り光学出力９を経由する。光学部品１０を利用して、該ｆｓ−インパルス・レーザー・ビーム及びＵＶレーザー・ビームは共通光学径路１１に閉じ込められる。該光学部品１０は、例えば、分割鏡、ダイクロイック・ミラー(dichroic mirror)、プリズム又は適当な回折光学要素の形態をとることができる。該ｆｓ−インパルス・レーザー・ビーム及びＵＶレーザー・ビームはレーザー装置１を去り、レーザー装置出力３０を経由する。光学伝送装置１２を利用して、該ｆｓ−インパルス・レーザー・ビーム及びＵＶレーザー・ビームがスキャナー１３に伝送される。そのスキャナーを利用して標的対象物の上にレーザー・ビームを向ける。該ｆｓ−インパルス・レーザー・ビーム及びＵＶレーザー・ビームという二つのレーザー・ビームを該標的対象物上に誘導することを目的として、スキャナー１３の誘導機構４０は適正な方法で、例えば、表面被覆を利用して、計画される。その結果として、波長の異なるレーザー・ビームが誘導される。ビームの誘導に続いて、そのビームは焦点装置１５を通過する。その焦点装置の働きにより標的対象物１４上にレーザー・ビームが集中する。
【００３０】
追跡装置１６は、レーザー・ビームで標的対象物１４を走査するに際して、該標的対象物１４の運動を許容するように、想定されている。これにより、走査中に、標的対象物１４の運動に即座に反応することができる。このようにして標的対象物１４の表面に高精度でレーザー・ビームを位置決めすることができる。
【００３１】
監視システム１７を利用して、屈折性レーザー外科手術の個々の治療ステップは標的対象物１４上で観察できる。
【００３２】
図１において、レーザー装置１の操作のために想定される項目は、特にポンプ・レーザー２を冷却するための冷却装置１８、動力供給源１９、及び制御装置２０である。該制御装置２０は操作ユニット２１に連結されており、その結果として、ユーザーは操作ユニット２１を利用してレーザー装置１を制御できる。更に制御装置２０はケーブル２３により走査装置１３に連結されている。
【００３３】
共通光学径路１１において、安全部品２２が設けられ、該ｆｓ−インパルス・レーザー・ビーム及びＵＶレーザー・ビームの通過を制御したり又遮断したりしている。該光学部品２２を開放したり又閉じたりして、標的対象物１４の治療に適した、該ｆｓ−インパルス・レーザー・ビーム及びＵＶレーザー・ビームは、走査装置１３を通過したり又は遮断されたりする。かくして、危険な場合には、標的対象物上に落ちる、治療用レーザー・ビームを遮断するために、安全部品２２だけを監視することが必要である。上記の課題を達成するために、安全部品２２は、例えば、レーザー装置出力３０上に直に、又は走査装置１３の前に、共通光学径路１１に沿った何れかの地点に配置することができる。
【００３４】
上記の装置を利用すれば、ｆｓ−インパルス・レーザー・ビームを利用して角膜の薄切り（”フラップ”）を切り取るといった方法で、屈折性レーザー外科手術を行うことができる。このフラップは一方の側に傾いた状態で開く。その結果として、視野欠陥の矯正はＵＶレーザー・ビームを利用して実施することができる。Ｔｉ：Ｓａ−レーザーを利用する利点は、活性レーザー材料Ｔｉ：サフィールが増幅レーザー・ビームに適した、極めて高い後発周波数（≧１  ｋＨｚ）を可能にすることにある。これにより、今度は、高い後発周波数のおかげで、ＵＶレーザー・ビームを利用すれば、角膜の切断及び角膜の屈折性矯正にふさわしい角膜の後発切除に必要とされる時間が削減される。Ｔｉ：Ｓａ−レーザーにより数百ｋＨｚの範囲に至るまでのインパルス周波数が実現する。しかしながら、レーザー媒体に関わりなく、高い後発周波数を有するレーザー・ビーム源のおかげで、時間を削減するという利点が生まれる。
【００３５】
上記の本発明の特徴は図面に示され又請求項に記述されており、単独適用又は組合せによる適用の如何を問わず、各種の態様例における発明の具体化に向けて重要である。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明の屈折性レーザー外科手術用装置である。
【符号の説明】
【００３７】
１      レーザー装置
２      ポンプ・レーザー
３      レーザー・ビーム源
４      レーザー・ビーム源
５      オリジナル・ビーム源
６      カスケード式和周波数ミキサー
７      光学出力
８      光学誘導部品
９      光学出力
１０      光学部品
１１      共通光学径路
１２      光学伝送装置
１３      走査装置
１４      標的対象物
１５      焦点装置
１６      追跡装置
１７      監視システム
１８      共通ポンピング光源
２０      制御装置
２１      操作ユニット
２２      安全機構
２３      ケーブル
３０      光学出力
４０      誘導機構
【図１】
2005512759.tif 000003
【国際調査報告】
2005512759.tif 000004
2005512759.tif 000005
2005512759.tif 000006