(57)【要約】  本発明は、実質的に均一な厚さを有する押出物を形成する方法である。約０．５ミル（１３ミクロン）以下の総指示振れの厚さばらつきを有するシム（３３Ａ、３３Ｂ、３３Ｃ）を形成する。このシム（３３Ａ、３３Ｂ、３３Ｃ）を、第１の表面（４２Ａ）を有する第１のダイ部分（２８Ａ）と第２の表面（４４Ａ）を有する第２のダイ部分（２８Ｂ）との間に配置する。第１の表面（４２Ａ）と第２の表面（４４Ａ）との間にスロット（３２）を形成する。スロット（３２）は、シム厚さと実質的に同じ高さ寸法（Ｈ）を有する。流動性材料をスロット（３２）を通して押出す。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
平均厚さが約３０ミル（７６２ミクロン）以下のシムの厚さばらつきが約５パーセント未満のシムを形成する工程と、
第１の表面を有する第１のダイ部分と第２の表面を有する第２のダイ部分との間に前記シムを配置して、前記第１の表面と前記第２の表面との間に、前記シム厚さと実質的に同じ高さ寸法を有するスロットを形成する工程と、
流動性材料を前記スロットを通して押出す工程とを含む、実質的に均一な厚さを有する押出物を形成する方法。
【請求項２】
前記スロットの高さが、前記スロットの幅に沿って約１パーセント以下の高さのばらつきを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１のダイ表面および前記第２のダイ表面が、前記スロットの高さの公差を向上させるように機械加工されている、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記シムを形成する工程が、
真空ボックスアセンブリをグラインダチャックに固定する工程と、
前記真空ボックスアセンブリの頂面を研削する工程と、
真空ボックスアセンブリ上に前記シムを配置する工程と、
前記シムと前記真空ボックスアセンブリの頂面との間を真空にし、前記シムのストックを前記頂面上に固定する工程と、
前記シムの第１の表面をグラインダで研削する工程とを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記シムの第２の表面を研削する工程をさらに含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記グラインダが、８０インチの長さにわたって８０マイクロインチ未満の振れが可能である、請求項４に記載の方法。
【請求項７】
接着材料を前記頂面の溝に配置して、前記頂面および前記シムを係合させる工程をさらに含む、請求項４に記載の方法。
【請求項８】
前記シムを切断する工程をさらに含み、前記シムを切断する方法が、レーザ切断、ウォータジェット切断、およびＥＤＭワイヤカットからなる群から選択される、請求項４に記載の方法。
【請求項９】
前記シムを切断する工程が、前記シムを研削する工程の後に行われる、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記シム材料が、ニッケルめっきシート材料、真鍮、ステンレス鋼、磁性ステンレス鋼からなる群から選択される、請求項４に記載の方法。
【請求項１１】
前記シム材料が、機械加工可能な金属から構成される、請求項４に記載の方法。
【請求項１２】
前記第１のダイ部分と前記第２のダイ部分との間にスタンドオフを配置して、前記第１のダイ部分と前記第２のダイ部分との間に凹部を形成する工程と、
ファスナを前記凹部を通して延在させる工程と、
前記ファスナを使用して、前記第１のダイ部分と前記第２のダイ部分との間に締付け力を与える工程と、
前記ファスナを、第１のブラケットを支持するように前記第１のブラケットに係合させる工程と、
前記ファスナの締付け力の少なくとも一部を、前記第１のブラケットを通して分配する工程と、
前記第１のダイ部分の曲がりを最小にする工程とをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記ファスナを、前記第２のダイ部分に対して配置された第２のブラケットを支持するように前記第２のブラケットに係合させる工程をさらに含み、
前記第１のブラケットが、前記第１のダイ部分に対して配置され、
前記ファスナの締付け力の実質的すべてを、前記締付け力が前記凹部以外の領域を通して前記第１のダイ部分および前記第２のダイ部分を通して作用するように、分配する工程をさらに含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記第１のダイ部分と前記第２のダイ部分との間にスタンドオフを配置して、前記第１のダイ部分と前記第２のダイ部分との間に凹部を形成する工程と、
ファスナを、前記凹部を通って延在しないように、前記第１のダイ部分と前記第２のダイ部分との間に延在させる工程と、
前記ファスナを使用して、ダイ頂部とダイ底部との間に締付け力を与える工程とをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記真空ボックスアセンブリの頂面上に磁性プラスチック材料の層を配置する工程をさらに含む、請求項４に記載の方法。
【請求項１６】
さまざまな厚さプロファイルを備えたシムを形成する工程と、
ダイ内に、第１の表面を有する第１のダイ部分と第２の表面を有する第２のダイ部分との間に、前記シムを配置して、前記第１の表面と前記第２の表面との間に、前記シムプロファイルに実質的に対応するさまざまな高さ寸法を有するスロットを形成する工程と、
流動性材料を前記スロットを通して押出す工程とを含み、
前記シムプロファイルを変えることにより、前記材料流体レオロジー、前記ダイを通る材料の流量、前記ダイのマニホルドの形状、および前記ダイのスロット設計の少なくとも１つのばらつきが補償され、実質的に均一な厚さを有する押出物が得られる、押出方法。
【請求項１７】
前記シムプロファイルが、前記厚さが、前記シムの幅寸法の中間に近づくと段階的により厚い、前記シムの幅寸法の中間に近づくと段階的により薄い、および前記シムの幅寸法に沿って厚さが段階的に増すからなる群から選択される態様で変わるようなものである、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
ダイの第１のダイ部分と第２のダイ部分との間にスタンドオフを配置して、前記第１のダイ部分と前記第２のダイ部分との間に凹部を形成する工程と、
ファスナを前記凹部を通して延ばす工程と、
前記ファスナを使用して、前記第１のダイ部分と前記第２のダイ部分との間に締付け力を与える工程と、
前記ファスナを、第１のブラケットを支持するように前記第１のブラケットに係合させる工程と、
前記ファスナの締付け力の少なくとも一部を、前記第１のブラケットを通して分配する工程と、
前記第１のダイ部分の曲がりを最小にする工程とを含む、均一な押出物を押出す方法。
【請求項１９】
前記ファスナを、前記第２のダイ部分に対して配置された第２のブラケットを支持するように前記第２のブラケットに係合させる工程をさらに含み、
前記第１のブラケットが、前記第１のダイ部分に対して配置され、
前記ファスナの締付け力の実質的すべてを、前記締付け力が前記凹部以外の領域を通して前記第１のダイ部分および前記第２のダイ部分を通して作用するように、分配する工程をさらに含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
ダイの第１のダイ部分と第２のダイ部分との間にスタンドオフを配置して、前記第１のダイ部分と前記第２のダイ部分との間に凹部を形成する工程と、
ファスナを、前記凹部を通って延在しないように、前記第１のダイ部分と前記第２のダイ部分との間に延ばす工程と、
前記ファスナを使用して、ダイ頂部とダイ底部との間に締付け力を与える工程とを含む、均一な押出物を押出す方法。
【請求項２１】
平均厚さが約３０ミル（７６２ミクロン）以下のシムの厚さばらつきが約５パーセント以下のシムを形成する工程と、
第１の表面を有する第１のダイ部分と第２の表面を有する第２のダイ部分との間に前記シムを配置して、前記第１の表面と前記第２の表面との間に、前記シム厚さと実質的に同じ高さ寸法を有するスロットを形成する工程と、
前記第１のダイ部分と前記第２のダイ部分との間にスタンドオフを配置して、前記第１のダイ部分と前記第２のダイ部分との間に凹部を形成する工程と、
２つのファスナを前記凹部を通して延在させる工程と、
前記ファスナを使用して、前記第１のダイ部分と前記第２のダイ部分との間に締付け力を与える工程と、
前記ファスナを、第１のブラケットを支持するように前記第１のブラケットに係合させる工程と、
前記ファスナの締付け力の少なくとも一部を、前記第１のブラケットを通して分配して、前記第１のダイ部分の曲がりを最小にする工程とを含み、
前記スロットの高さが、前記スロットの幅に沿って約４ミクロン以下の総指示振れを有し、
流動性材料を前記スロットを通して押出す工程を含む、実質的に均一な厚さを有する押出物を形成する方法。
【請求項２２】
前記シムを形成する工程が、
真空ボックスアセンブリをグラインダチャックに固定する工程と、
前記真空ボックスアセンブリの頂面を研削する工程と、
前記真空ボックスアセンブリ上に前記シムを配置する工程と、
前記シムと前記真空ボックスアセンブリの頂面との間を真空にし、前記シムを前記頂面上に固定する工程と、
前記シムの第１の表面をグラインダで研削する工程と、
前記シムと前記頂面との間から前記真空を除去する工程と、
前記第１の表面を前記真空ボックスアセンブリの頂面に対して配置する工程と、
前記第１の表面と前記頂面との間に真空を与え、前記シムを前記頂面上に固定する工程と、
前記シムをグラインダで研削する工程とを含む、請求項２１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、コーティングを基材上に付与することなどによって、押出物を形成する方法に関する。特に、本発明は、押出物の均一性を向上させるダイを準備する方法に適用される。
【背景技術】
【０００２】
高品質物品、特に、電子物品、テープ物品、光学物品、写真物品、フォトサーモグラフィ物品、サーモグラフィ物品、研磨物品、接着物品、ディスプレイ物品、および製薬物品の製造は、コーティング溶液の薄膜を、連続的に移動する基材またはウェブ上に付与することからなる。薄膜は、ディップコーティング、フォワードおよびリバースロールコーティング、巻線ロッドコーティング、ならびにダイタイプコーティングを含むさまざまな技術を用いて付与することができる。ダイコータとしては、ナイフコータ、スロットコータ、スライドコータ、スライドカーテンコータ、ドロップダイカーテンコータ、および、とりわけ、押出コータが挙げられる。多くのタイプのダイコータが、エドワード・コーヘン（Ｅｄｗａｒｄ  Ｃｏｈｅｎ）およびエドガー・グトフ（Ｅｄｇａｒ  Ｇｕｔｏｆｆ）、現代のコーティング技術および乾燥技術（Ｍｏｄｅｒｎ  Ｃｏａｔｉｎｇ  ａｎｄ  Ｄｒｙｉｎｇ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ）、ＶＣＨパブリッシャーズ（Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ）、ニューヨーク州（ＮＹ）、１９９２年、ＩＳＢＮ  ３−５２７−２８２４６−７、ならびにグトフ（Ｇｕｔｏｆｆ）およびコーヘン（Ｃｏｈｅｎ）、コーティング欠陥および乾燥欠陥：トラブルシューティング動作問題（Ｃｏａｔｉｎｇ  ａｎｄ  Ｄｒｙｉｎｇ  Ｄｅｆｅｃｔｓ：Ｔｒｏｕｂｌｅｓｈｏｏｔｉｎｇ  Ｏｐｅｒａｔｉｎｇ  Ｐｒｏｂｌｅｍｓ）、ワイリー・インターサイエンス（Ｗｉｌｅｙ  Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ）、ニューヨーク州（ＮＹ）、ＩＳＢＮ  ０−４７１−５９８１０−０などの文献に記載されている。
【０００３】
ダイコーティングは、コーティング材料の加圧流が、ダイコータの内部マニホルドを通って移動し、出口スロットから排出されて、コーティング材料のリボンを形成するプロセスである。コーティング層の均一性は、コーティング層（または押出物）が通過するコーティングダイのコーティングスロットの精度に依存する。コーティングは、単層または２つ以上の積層として付与することができる。基材が連続ウェブの形態であることが通常最も好都合であるが、また、連続した別個のシートに形成してもよい。コーティング製品の製造において、コーティング厚さのばらつきが可能な限り小さい、均一なコーティング厚さを得ることが一般に望ましい。これは、重大な光学用途または電子用途の製品に特にあてはまる。
【０００４】
ダイコータはすべて、少なくとも１つのスロットを有する。各スロットは、コーティング幅に相当するスロット幅と、マニホルドキャビティからスロットの出口までの距離に相当するスロット長さと、スロット自体を定める２つの平行な表面間のスロットの狭い寸法であるスロット高さとを有する。ダイタイプコータと関連する基本的な問題の１つは、ダイのスロットの幅全体にわたる単位幅あたりの均一な流れを達成することができることである。この流れの均一性、およびしたがってコーティング製品の重大な均一性を得ることの基本的な問題は、ダイスロット「高さ」の可能な限り最良の精度（たとえば、スロットの幅全体にわたる均一なダイスロット「高さ」）を有するダイを構成することができることである。
【０００５】
コーティング均一性を向上させようとする試みにおいて、ダイスロットを制御するために、さまざまな手動アクチュエータ、機械アクチュエータ、熱機械アクチュエータ、ピエゾ機械（ｐｉｅｚｏｍｅｃｈａｎｉｃａｌ）アクチュエータ、磁歪アクチュエータ、およびモータ駆動アクチュエータが、コーティングダイ上に設置されている。アクチュエータは、スロット出口の幅に局所的にわたって個別の排出力（ｄｉｓｐｌａｃｅｍｅｎｔ  ｆｏｒｃｅ）を発生させるように配置することができる。ダイ幅にわたるいかなるポイントにおいても、スロット出口からの局所的排出量が、局所的間隙に依存するので、ダイからの流量の均一性を、幅にわたって制御することができる。特許文献１は、スロット出口から離れて配置されたスロット厚さ制御機構を備えたコーティングダイを開示している。
【０００６】
ダイスロットの制御は、典型的には、幅にわたるさまざまなポイントにおけるフィルムまたはコーティングの厚さを、ベータ線ゲージ、Ｘ線ゲージ、または光吸収ゲージなどの厚さゲージで測定することによって行われる。そのような測定からの情報があれば、操作者が、コーティングダイに支持されているボルトタイプアクチュエータを手動で調整することができる。代わりに、制御システムが、コーティングダイに支持されるか、コーティングに支持されたボルトを回転させるアクチュエータの活性化を知らせることができる。操作者によるコーティングダイ曲げボルトの手動調整には、熟練および経験が必要である。操作者の手動調整に取って代わる閉ループ制御システムによって、押出されるかコーティングされる製品の質を向上させることができることが示されている。
【０００７】
【特許文献１】米国特許第５，５８７，１８４号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ダイスロットは、典型的には、最初に組立てられたとき、最適な均一性のためにセットされていない。調整サイクルは、時間がかかり、典型的には、コーティング材料および基材の著しい無駄をもたらす。さらに、アクチュエータは、実際に独立していないが、相互に作用する。すなわち、１つのアクチュエータの調整には、隣接したアクチュエータの調整が必要なことがある。したがって、機械横断方向（クロスウェブ）機械的分解能は、上で説明された制限と合わせて、ダイスロットの不十分な正確さをもたらす。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、実質的に均一な厚さを有する押出物を形成する方法である。約０．５ミル（１３ミクロン）以下の総指示振れの厚さばらつきを有するシムが形成される。このシムは、第１の表面を有する第１のダイ部分と第２の表面を有する第２のダイ部分との間に配置される。第１の表面と第２の表面との間にスロットが形成される。スロットは、シム厚さと実質的に同じ高さ寸法を有する。流動性材料はスロットを通して押出される。
【００１０】
本開示において、本発明の代替実施形態を示す。図面全体を通して、同じ参照番号が、それらの装置の共通の特徴または構成要素を示すように用いられる。
【００１１】
図面は、本発明に使用される装置の代替実施形態を記載するが、説明で示されるように他の実施形態も企図される。すべての場合において、本開示は、代表によって本発明を提示し、限定によってではない。本発明の原理の範囲および精神の範囲内である多数の他の修正および実施形態が、当業者によって考案され得ることが理解されるべきである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
図１および図２は、本発明の方法によって製造された、１つのタイプのコーティング装置、本実施形態ではスライドコータ２０を示す。図１は、スライドコータ２０の斜視図であり、図２は、図１の線２−２に沿ったスライドコータ２０の断面図である。スライドコータ２０は、バックアップロール２６によって支持された前進するウェブ２４に対向して配置されたダイアセンブリ２２を含む。ダイアセンブリ２２は、ベースプレート４０によって支持され、一連のダイブロック２８Ａ、２８Ｂ、２８Ｃを含み、各ダイブロックは、一連のダイスロット３２Ａ、３２Ｂ、３２Ｃと、それぞれ連通するマニホルドキャビティ３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃを備えて構成されている。一連のシム３３Ａ、３３Ｂ、および３３Ｃが、個別のダイブロック２８Ａ、２８Ｂ、および２８Ｃ間に配置されている。マニホルドキャビティ３０Ａ、３０Ｂ、および３０Ｃに供給されたコーティング材料は、スロット３２Ａ、３２Ｂ、３２Ｃから押出され、スライド表面３４Ａ、３４Ｂ、３４Ｃに沿って滑り、前進するウェブ２４上にコーティングされる。
【００１３】
各々述べられるように、ダイスロット３２は、シム３３によって形成される。個別のシム３３をダイアセンブリ２２の部分（本実施形態では、ダイブロック２８Ａ、２８Ｂ、および２８Ｃ）間に配置することによって、これらの部分間に空間が維持され、ダイスロット３２Ａ、３２Ｂ、および３２Ｃをもたらす。スロット高さ「Ｈ」（図１を参照のこと）は、各スロット３２の狭い寸法である。シム３３は、ダイアセンブリ２２に柔軟性を与える。というのは、スロットの高さを増加または減少させることは、個別のシム３３を、それぞれ、より厚いものまたはより薄いものと取替えることによって、行うことができるからである。本出願全体を通して、エレメントを、参照番号（たとえば、シム３３）を用いて一般に言及してもよく、文字が付加された参照番号（たとえば、シム３３Ａ、３３Ｂ、および３３Ｃ）を用いて特定的に言及してもよいことに留意されたい。
【００１４】
ダイブロック２８Ａ上の表面４２Ａおよびダイブロック２８Ｂ上の表面４４Ａは、シム３３Ａ上の第１の表面４５Ａおよび第２の表面４５Ｂと係合する。スロット３２Ａは、２つの平行な表面５０Ａおよび５２Ａ間に見出される。この寸法は（いかなる距離であることも可能であるが）、典型的には、例示のために示されているより、スライドコータ２０のサイズに関してはるかに小さい。スロット長さ「Ｌ」（図２を参照のこと）は、各マニホルド（たとえば、マニホルドキャビティ３０Ａ）から各スライド表面（たとえば、スライド表面３４Ａ）までの距離に相当する。スロット幅「Ｗ」（図１を参照のこと）は、コーティング層（または押出物）幅に相当する。本実施形態において、コーティング幅は、エッジガイド３８によって定められる。ダイブロック２８Ａ上の整列表面４２Ａは、シム３３Ａの対応する第１の表面４５Ａと係合するように構成されている。表面４４Ａは、シム３３Ａの対応する第２の表面４５Ｂと係合するように構成されている。表面４２Ａ、４５Ａ、４５Ｂ、および４４Ａは、スロット３２Ａが表面５０Ａおよび５２Ａに関して均一な高さ「Ｈ」を有するように、好ましくは平行である。
【００１５】
ダイスロット３２Ｂおよび３２Ｃは、同様に形成される。ダイスロット３２Ｂは、ダイブロック２８Ｂ上の表面４２Ｂおよびダイブロック２８Ｃ上の表面４４Ｂを、シム３３Ｂ上の第１の表面４６Ａおよび第２の表面４６Ｂと係合させることによって形成される。スロット高さ「Ｈ」は、２つの平行な表面５０Ｂおよび５２Ｂ間の間隙によって定められる。スロット長さ「Ｌ」は、マニホルドキャビティ３０Ｂからスライド表面３４Ｂまでの距離に相当する。スロット幅「Ｗ」は、エッジガイド３８によって定められる。ダイブロック２８Ｂ上の整列表面４２Ｂは、シム３３Ｂ上の対応する第１の表面４６Ａと係合するように構成されている。ダイブロック２８Ｃ上の整列表面４４Ｂは、シム３３Ｂ上の対応する第２の表面４６Ｂと係合するように構成されている。表面４２Ｂ、４６Ａ、４６Ｂ、および４４Ｂは、スロット３２Ｂが表面５０Ｂおよび５２Ｂに関して均一な高さ「Ｈ」を有するように、好ましくは平行である。
【００１６】
ダイスロット３２Ｃは、ダイブロック２８Ｃ上の表面４２Ｃおよび上流ブロック３６上の表面４４Ｃを、シム３３Ｃ上の第１の表面４７Ａおよび第２の表面４７Ｂと係合させることによって形成される。スロット高さ「Ｈ」は、２つの平行な表面５０Ｃおよび５２Ｃ間の間隙によって定められる。スロット長さ「Ｌ」は、マニホルドキャビティ３０Ｃからスライド表面３４Ｃまでの距離に相当する。スロット幅「Ｗ」は、エッジガイド３８によって定められる。ダイブロック２８Ｃ上の整列表面４２Ｃは、シム３３Ｃ上の対応する第１の表面４７Ａと係合するように構成されている。上流ブロック３６上の整列表面４４Ｃは、シム３３Ｃ上の対応する第２の表面４７Ｂと係合するように構成されている。表面４２Ｃ、４７Ａ、４７Ｂ、および４４Ｃは、スロット３２Ｃが表面５０Ｃおよび５２Ｃに関して均一な高さ「Ｈ」を有するように、好ましくは平行である。
【００１７】
３つのスロットが示されているが、これは、例示のためにすぎないことに留意されたい。いかなる数のダイスロットも（対応するシムとともに）、本発明の範囲から逸脱することなく、使用することができる。
【００１８】
説明されたように、ダイアセンブリ２２などの全ダイアセンブリの基本的な問題は、ダイアセンブリ２２の幅「Ｗ」にわたる単位面積あたりの、各スロット３２を通る材料の均一な流れを達成することができることである。流れの均一性、およびしたがってコーティングの重大な均一性を得るための重要な基準は、スロット３２Ａ、３２Ｂ、および３２Ｃを、正確に均一なダイスロット高さ「Ｈ」を有するように構成することができることである。国際公開第００／０６３６４号パンフレットに説明されているように、ダイブロック２８Ａ、２８Ｂ、および２８Ｃ上の整列表面４２Ａ、４２Ｂ、４２Ｃ、４４Ａ、４４Ｂ、および４４Ｃ、ならびにスロット表面５０Ａ、５２Ａ、５０Ｂ、５２Ｂ、５０Ｃ、および５２Ｃを、小さい総指示振れ（ｔｏｔａｌ  ｉｎｄｉｃａｔｅｄ  ｒｕｎｏｕｔ）に形成すると（研削などによって）、スロット高さの精度を高めることができる。
【００１９】
シムを使用するダイの代替スタイルが、図３の押出コーティングダイ７０によって示されている。このタイプのダイは、国際公開第９５／２９７６４号パンフレットにさらに説明されている。コーティング液体７１が、ポンプ７２によってダイ７０に供給され、バックアップロール２６によって支持された、移動するウェブ２４に付与される。コーティング液体は、チャネル７４を通ってマニホルドキャビティ７６に供給され、スロット７８を通って分配され、移動するウェブ２４上にコーティングされる（または押出物として押出される）。コーティング液体７１は、多数の液体または他の流体の１つであってもよい。ダイ７０は、頂部８０と底部８２とに分けられる。スロット７８の高さ「Ｈ」は、ダイ７０の頂部８０と底部８２との間にＣ字形シム８４を挿入することによって、制御することができる。シム８４（および図１に関して説明されたシム３３）は、プラスチック、ニッケルめっきシート材料、真鍮、ステンレス鋼、または磁性ステンレス鋼から製造することができる。典型的には、いかなる機械加工可能な金属も、本発明の方法におけるシムに使用してもよい。シム８４の頂面８６は、ダイ７０の頂部８０の整列表面８０Ａと係合する。シム８４の底面８８は、シム８４の底部８２の整列表面８２Ｂと係合する。押出ダイ７０のさまざまな部分（図７〜９に関して説明され、示される）をともに固定するために、ファスナ（ボルトなど）が、典型的には使用される。
【００２０】
押出ダイ７０に使用される１つの典型的なシムが、図４に８４で示されている。シム８４の端部部分５４Ａおよび５４Ｂは、後方中間部分５６とともに、シム８４を「Ｃ」字形に形成するように配置されている。シム８４上の頂面８６および底面８８は、押出ダイ７０の頂部８０および底部８２の整列表面８０Ａおよび８２Ｂと係合するように使用される（図１および図２のシム３３の表面４５Ａおよび４５Ｂに関する説明と同様）。端部部分５４Ａと端部部分５４Ｂとの間に配置された間隙６０が、押出スロット７８の幅を形成する。ファスナ穴６２が、シム８４を通り、押出ダイ７０をともに保持するファスナの例示的な位置（図７〜９に関して説明される）を示す。第１のスロット穴６２Ａおよび第２のスロット穴６２Ｂがそれぞれ、これらの穴を通って配置されたファスナに対するトルクを変えると、押出スロット７８（間隙６０によって定められた）のいずれの端部の高さも微細に変えることができるように、配置されている。
【００２１】
上記２つの装置実施形態は、コーティングダイであるが、本発明を他のタイプの押出ダイとともに使用することも、企図されることが理解されるべきである。たとえば、押出プロセスにおいて基材（またはウェブ）を使用しない熱可塑性フィルム押出ダイを使用することも、本発明によって企図される。
【００２２】
図１〜４に関して示され、説明されたように、シムを、スロットタイプコータ用の２つのダイハーフ間に挟まれると、ダイのスロットを形成するように使用することが知られている。シムは、１つの厚さのシムを第２の厚さのシムと取替えることによってスロット高さを変える柔軟性を与える。この変更は、流量、粘度、コーティング性能、および流れ均一性分布などの、特定の用途のコーティング要件によって、必要なことが多い。また、シムは、所与のダイマニホルドセットアップでコーティング幅を変えることを可能にする。したがって、完全に異なったダイの使用を必要とする代わりに、異なったシムを使用してダイを修正することができる。
【００２３】
ダイを構成する際に、ダイ部分自体を、高レベルの精度に研削する（国際公開第００／０６３６４号パンフレットに説明されているように）。本発明の方法において、シムも精密に研削する。以前は、図１〜４に示されたコーティングダイとともに使用するように説明されたシムなどのシムを、市販の精密シムストックから切断した。シムは、通常、プラスチック、真鍮、またはステンレス鋼などの材料から製造される。市販のステンレス鋼シムストックの最良の公差仕様は、典型的には、厚さ０．０１０インチ（２５４ミクロン）のシムストックについて約０．００１インチ（２５．４ミクロン）（または１０％可変性）である。これは、シムを使用すると、一般に、各スロットのより大きい総指示振れ（ＴＩＲ）をもたらしたことを意味する。これは、スロット均一性のより大きいばらつきをもたらし、これは、コーティング厚さのより大きいクロスウェブばらつきにつながる。スロットおよびシムの厚さの可変性を説明する別の方法は、可変性によるものである。可変性は、測定された物品（たとえば、スロットまたはシム）のＴＩＲを、物品の平均厚さで割り、１００倍したものである。本発明は、シム厚さの可変性を、約５パーセント以下、好ましくは約２パーセント以下、最も好ましくは約１パーセント以下に低減する。したがって、スロット高さの可変性を、約５パーセント以下、好ましくは約２パーセント以下、最も好ましくは約１パーセント以下に低減することができる。高さまたは厚さの可変性は特に、約３０ミル（７６０ミクロン）未満のシムへのこの可変性の低減は、結果として生じる押出物の流れの均一性に著しく影響を及ぼす。
【００２４】
ベキ乗則流体についてのスロット（最初の２つのダイ実施形態の３２Ａ、３２Ｂ、３２Ｃ、および７８など）内の流れとスロットジオメトリとの関係は、下記式で示され、
【数１】
2005512853.tif 000003
ここで、Ｑ／Ｗは、単位幅あたりの流れであり、Ｈは、スロット高さであり、ΔＰは、スロットの入口と出口との圧力差であり、Ｌは、スロット長さであり、Ｋは、コンシステンシー指数であり、ｎは、ベキ乗則指数である。ニュートン流体の場合、ｎ＝１およびＫ＝μ、ニュートン粘度。この関係は、バード（Ｂｉｒｄ）、アームストロング（Ａｒｍｓｔｒｏｎｇ）、およびハッサガー（Ｈａｓｓａｇｅｒ）、ポリマー液体の動力学（Ｄｙｎａｍｉｃｓ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｍｅｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄｓ）、Ｖｏｌ．１、ワイリー＆サンズ（Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ）、ニューヨーク州（ＮＹ）、１９８７年  ＩＳＢＮ  ０−４７１−８０２４５−Ｘ（ｖｏｌ．１）に説明されている。
【００２５】
図１〜４に示されたダイ実施形態において、各ダイスロットのダイスロット高さ「Ｈ」の均一性は、整列表面４２Ａ、４４Ａ、４２Ｂ、４４Ｂ、４２Ｃ、４４Ｃ、８０Ａ、８２Ｂの各々の総指示振れ（または「ＴＩＲ」）、すなわち平坦度に依存する。さらに、ダイスロット高さの均一性は、シム３３および８４の厚さのＴＩＲに依存する。これは、シム表面４５Ａ、４５Ｂ、４６Ａ、４６Ｂ、４７Ａ、４７Ｂ、８６、および８８のＴＩＲに関連する。
【００２６】
「ＴＩＲ」の測定値は、表面の公差、精密度、および平坦度の表示である。ＴＩＲは、測定されている物品の最大値から測定されている物品の最小値を引いたものに等しい。ＴＩＲは、機械工によって典型的に用いられる測定値であるが、これは、精密な公差を得る唯一の方法が機械加工によることを示唆しない。それと反対に、他の技術を用いることができる。研削（後で説明される）、化学エッチング、またはスパッタリング（とりわけ）などの方法によって表面を形成して、できるだけ小さい公差（または大きい精密度）に表面を形成することができる。
【００２７】
本発明において、シム表面の精密度を高めると（研削などによって）、各スロット３２からの流れの均一性（または換言すれば、押出物の厚さの断面均一性）が高まる。例示のために、各スロットが指示振れｔを有する場合、スロット３２Ａ、３２Ｂ、３２Ｃからの流れの均一性パーセントは、下記に等しく、
【数２】
2005512853.tif 000004
ここで、Ｈおよびｎは、上記の通りである。均一性パーセント値は、（最大流れ−最小流れ）／平均流れ×１００％として計算される。０％は、完全に均一なクロスウェブプロファイルに相当する。
【００２８】
図５は、スロット高さばらつきおよび大きさの、上記式を用いるニュートン液体の流れの均一性への影響を示す。このグラフは、下記のＴＩＲを有するスロットを通って流れる材料のクロスウェブプロファイル（すなわち、厚さばらつき）を示す。
１）約４０マイクロインチ（１．０ミクロン）（参照番号５３Ａ）
２）約８０マイクロインチ（２．０ミクロン）（参照番号５３Ｂ）
３）約１２０マイクロインチ（３．０ミクロン）（参照番号５３Ｃ）
４）約１６０マイクロインチ（４．１ミクロン）（参照番号５３Ｄ）
５）約２００マイクロインチ（５．１ミクロン）（参照番号５３Ｅ）
６）約３００マイクロインチ（７．６ミクロン）（参照番号５３Ｆ）
７）約４００マイクロインチ（１０．２ミクロン）（参照番号５３Ｇ）
８）約５００マイクロインチ（１２．７ミクロン）（参照番号５３Ｈ）
９）約６００マイクロインチ（１５．２ミクロン）（参照番号５３Ｉ）
１０）約７００マイクロインチ（１７．８ミクロン）（参照番号５３Ｊ）
１１）約８００マイクロインチ（２０．３ミクロン）（参照番号５３Ｋ）
１２）約９００マイクロインチ（２２．９ミクロン）（参照番号５３Ｌ）
１３）約１０００マイクロインチ（２５．４ミクロン）（参照番号５３Ｍ）
【００２９】
示されているように、スロット高さが減少するにつれて、流ればらつきが大幅に増加する。スロットを形成する表面のＴＩＲを減少させると、スロットを通る材料の流れのばらつきパーセントを著しく低減する効果がある。したがって、スロット高さの均一性が、コーティングクロスウェブ均一性に対して大きい影響があることが明らかである。
【００３０】
シム厚さ（たとえば、表面４５Ａ、４５Ｂ、４６Ａ、４６Ｂ、４７Ａ、４７Ｂ、８６、および８８）のＴＩＲが、スロットのＴＩＲに直接影響を及ぼすので、市販のシムストックより小さい公差にシムを改良すると、依然としてダイ設計の柔軟性をもたらしながら、スロットを有するダイを通る流れの均一性のばらつきが低減する。したがって、コータダイに従来のシムを使用する際に発生する均一性の制限が克服される。
【００３１】
この改良公差シムを作るために、従来の金属シムストック、典型的にはステンレス鋼が選択される（先に挙げられた材料のいずれかを使用してもよいが）。この材料は、最終的な所望の厚さより大きい厚さゲージである。図５Ａに示されているように、シム材料９２の第１の面（または第１の表面）９０は、グラインダ９４を使用して研削される。グラインダ９４は、好ましくは、シム材料９２を５％可変性の精密度に研削することができる精密グラインダである。最も好ましくは、グラインダは、８０インチ（２メートル）部分長さにわたって約８０マイクロインチ（２ミクロン）未満の振れが可能である。本発明の方法に利用してもよいグラインダ製造業者の例としては、英国クランフィールドのユノーバＵＫの１事業部、クランフィールド・プレシジョン（Ｃｒａｎｆｉｅｌｄ  Ｐｒｅｃｉｓｉｏｎ，ａ  ｄｉｖｉｓｉｏｎ  ｏｆ  Ｕｎｏｖａ  ＵＫ，Ｃｒａｎｆｉｅｌｄ，Ｅｎｇｌａｎｄ）、ドイツ、バーベンハウゼンのエルブ−シュリフＧｍｂＨ（Ｅｌｂ−Ｓｃｈｌｉｆｆ，ＧｍｂＨ，Ｂａｂｅｎｈａｕｓｅｎ，Ｇｅｒｍａｎｙ）、日本、アツギの株式会社岡本工作機械製作所（Ｏｋａｍｏｔｏ  Ｍａｃｈｉｎｅ  Ｔｏｏｌ  Ｗｏｒｋｓ，Ｌｔｄ．，Ａｔｓｕｇｉ，Ｊａｐａｎ）、およびドイツ、コバーグのバルドリッヒコベルグＧｍｂＨ（Ｗａｌｄｒｉｃｈ−Ｃｏｂｅｒｇ  ＧｍｂＨ，Ｃｏｂｅｒｇ，Ｇｅｒｍａｎｙ）が挙げられる。具体的に特定されていない他の精密グラインダ製造業者も、利用してもよい。グラインダ９４の平坦度および平行能力が良好なほど、結果として生じるシムのばらつき（またはＴＩＲ）が小さい。いったん、第１の面９０を処理すると、シム材料９２をひっくり返し、第２の面（または第２の表面）９６を同じ精密グラインダ９４で研削する。シム材料９２の研削およびひっくり返しは、シム材料９２が所望の厚さに達するまで繰返すことができる。次に、最終シム（図４に示されたシム８４など）を、研削されたシム材料９２からレーザ切断する。代わりに、シムを、研削前にシム材料から切断してもよい。
【００３２】
結果は、１０ミル（２５０ミクロン）のシムについて約０．５ミル（１３ミクロン）以下のＴＩＲまたは約５％以下の可変性のシム厚さばらつきである。ダイ頂部８０およびダイ底部８２の整列表面８０Ａおよび８２Ｂを、国際公開第００／０６３６４号パンフレットに説明されているように精密グラインダを使用して研削すると、最終結果は、スロット７８について４ミクロン以下のＴＩＲである。
【００３３】
一実施形態は、精密タイプグラインダを使用して、シム材料９２を最小公差範囲内で実質的に同じ厚さにするが、本発明の方法の代替実施形態は、精密クラウングラインダ（ｃｒｏｗｎ  ｇｒｉｎｄｅｒ）９４Ａ（バルドリッヒコベルグ（Ｗａｌｄｒｉｃｈ−Ｃｏｂｅｒｇ）モデル０−１５  ＳＮＣ−Ｑ  ２０２０×２５００ｍｍグラインダなど）を使用して、図５Ｂに示されているように、プロファイルド断面（すなわち、厚さが変わる）を有するようにシム９２Ａを形成することができる。プロファイルドシム９２Ａは、マニホルドスロット７８の高さの操作によって、特定のマニホルド設計の柔軟性を拡大する。
【００３４】
最終プロセス用途は、ダイのスロットの公差が精密であるが（先に説明されたように）、スロットの高さが変わる必要があり得ることを決めてもよい。したがって、シムの断面は、変わる必要があり得る。たとえば、図３に示された押出ダイは、２つの主要タイプの設計、すなわち、Ｔ−マニホルド（「無限キャビティ」マニホルドとも呼ばれる）およびコートハンガーマニホルドに分類することができる。両方のタイプが、ロバート・セコー（Ｒｏｂｅｒｔ  Ｓｅｃｏｒ）、「内部コーティングダイキャビティの分析および設計」（Ａｎａｌｙｓｉｓ  ａｎｄ  Ｄｅｓｉｇｎ  ｏｆ  Ｉｎｔｅｒｎａｌ  Ｃｏａｔｉｎｇ  Ｄｉｅ  Ｃａｖｉｔｉｅｓ）、ステファン・キスラー（Ｓｔｅｐｈａｎ  Ｋｉｓｔｌｅｒ）およびピーター・シュバイツァー（Ｐｅｔｅｒ  Ｓｃｈｗｅｉｚｅｒ）、液体フィルムコーティング（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｆｉｌｍ  Ｃｏａｔｉｎｇ）、チャップマン＆ホール（Ｃｈａｐｍａｎ＆Ｈａｌｌ）、英国（ＵＫ）、１９９７年、ＩＳＢＮ  ０−４１２−０６４８１−２などの文献に記載されている。Ｔ−マニホルド設計において、マニホルドキャビティ７６は、一定の断面を有し、スロット７８は、マニホルドキャビティ７６の幅にわたって一定の長さを有する。
【００３５】
中央供給Ｔ−マニホルド設計（既知であり、セコーの引例に記載されている）において、マニホルドキャビティ７６の横方向のコーティング液体の圧力降下は、マニホルドキャビティ７６からダイスロット７８の出口までのスロット７８の長さにわたるコーティング液体の圧力降下と比較して、非常に小さいように設計されている。マニホルド圧力降下が大きすぎる場合（大きすぎる流量、小さいすぎるキャビティ、または溶液レオロジーによって）、コーティング層の幅に沿ったコーティング厚さのクロスウェブ「渋面」（ｆｒｏｗｎ）プロファイル（中間の厚さが端縁より大きい）が、典型的には発生する。マニホルドキャビティ７６が、端部供給Ｔ−マニホルド設計（既知であり、セコーの引例に記載されている）であり、かつ、マニホルドキャビティ７６の横方向の圧力降下が、スロット圧力降下に対して大きすぎる場合、ダイの供給側に対応する厚さがより大きいコーティングプロファイルが発生する。プロファイルドシム９２Ａを使用して、ダイスロット７８の形状を、このプロファイルに対抗し、クロスウェブ方向に均一な押出物を製造するように変えることができる。図５Ｂは、１つの特定のプロファイル（シム９２Ａの幅寸法に沿って厚さが増す）を有するプロファイルドシム９２Ａを示すが、最終用途に従って、いかなるプロファイルを用いてもよいことが理解されるべきである。たとえば、厚さプロファイルは、プロファイルドシム９２Ａが、シム９２Ａの幅寸法の中間に近づくと段階的により厚いか、シム９２Ａの幅寸法の中間に近づくと段階的により薄いか、または、とりわけ、シム９２Ａの幅寸法に沿って厚さが段階的に増すように、変わってもよい。
【００３６】
同様に、コートハンガーマニホルド設計において、マニホルドキャビティ７６の断面のサイズおよびスロット７８の長さは、マニホルドキャビティ７６の供給位置からの距離が増加するとともに、減少する。流れの均一性（およびしたがってコーティング製品の重大な均一性）を得ることの基本的な問題は、マニホルドキャビティ７６およびスロット７８のジオメトリを、コーティング液体特性およびコーティング処理条件に合わせて調整することができること、ならびに、マニホルドキャビティ７６のジオメトリを、意図された設計にできるだけ近く維持するダイを構成することができることを含む。
【００３７】
押出ダイのコートハンガーマニホルドの設計において、特定のマニホルド設計は、一般に、同様の材料特性を有するコーティング液体を、小さい範囲の処理量にわたって均一に分配するだけである。これは、マニホルドが、典型的には、特定の流量および１つの特定の液体または小数の液体の材料特性を考慮に入れて、最良のクロスウェブ均一性を得るように設計されるからである。マニホルドが設計されたものと材料特性が異なった液体を使用すると、一般に、より均一でないクロスウェブ分布をもたらす。同様に、ダイマニホルドを通るコーティング液体の流量を変えると、一般に、流れの均一性が劣化する（均一性は、一般に、材料特性ばらつきより流量変化に影響されにくいが）。その結果、マニホルド設計プロセスは、必要な均一性が設計窓全体にわたって得られるように、適切な妥協を選択するものである。
【００３８】
コートハンガーマニホルドが広範囲の条件のために設計されている場合、図５Ｂに示されたシム９２Ａなどの、所定の不均一な厚さを有するシムを製造することが有利であり得る。一例が、マニホルドキャビティ内の比較的短い液体滞留時間を維持しながら、２つの異なった材料の押出の両方に適度の均一性を得る必要がある用途におけるコートハンガーマニホルド設計である。
【００３９】
２つの例示的な液体（または押出物）の予測されるクロスウェブ均一性が、表１および表２に記載されている。これらのクロスウェブプロファイル予測は、ロバート・セコー、「内部コーティングダイキャビティの分析および設計」、ステファン・キスラーおよびピーター・シュバイツァー、液体フィルムコーティング、チャップマン＆ホール、英国、１９９７年、ＩＳＢＮ  ０−４１２−０６４８１−２などの文献に記載されているような質量および運動量保存原理に基いた計算の結果である。流れの計算は、幅が８．５インチ（２２０ｍｍ）の曲線テーパ状端部供給コートハンガーマニホルドについてである（上記引例の図１０．１（ｄ）を参照のこと）。
【００４０】
スロットの長さ（単位インチ）は、下記に従って変わり、
【数３】
2005512853.tif 000005
ここで、Ｘは、マニホルドの供給端部からのクロスウェブ方向の距離である。マニホルドキャビティ７６は、図３に示された断面形状を有するが、下記に従って、押出ダイ７０の幅とともに変わる高さ寸法（単位インチ）を有する。
【数４】
2005512853.tif 000006
【００４１】
キャビティ断面は、ダイ底部における０．１２５インチ（３．１２ｍｍ）の半径と、スロット入口に隣接したダイ頂部およびダイ底部との１５度の角度とを有する。２つの液体の粘度挙動は、ビンガム−カロー−ヤスダ（Ｂｉｎｇｈａｍ−Ｃａｒｒｅａｕ−Ｙａｓｕｄａ）モデル（上記引例の式１０．１０）によって、次のパラメータ値で表される。
【００４２】
【表１】
2005512853.tif 000007
【００４３】
両方の液体の密度は、１．０ｇ／ｃｃであるとみなした。流れの計算は、マニホルドが上記説明に従って厳密に対応するように、ダイが製造されていることを想定する。
【００４４】
【表２】
2005512853.tif 000008
【００４５】
【表３】
2005512853.tif 000009
【００４６】
したがって、同じダイの同じシムは、２つの異なった材料について異なったプロファイルをもたらす。
【００４７】
２つの材料について異なったシム厚さ（依然として均一な厚さであるが）を使用する場合、このマニホルドで、より良好な均一性を得ることができる。下記表３および表４に示されているように、第１の材料のためのより厚いシムが、プロファイルの供給側を高め、第２の材料のためのより薄いシムが、その材料のための供給側を低下させる。
【００４８】
【表４】
2005512853.tif 000010
【００４９】
【表５】
2005512853.tif 000011
【００５０】
しかし、シムの厚さを変えるだけで、クロスウェブプロファイルを変えることができる程度に制限がある。さらに、シム厚さを変えると、押出タイプスロットダイ用途におけるコーティングビーズの安定性などの、コーティング性能の他の態様に悪影響を及ぼすことがある。その結果、異なった材料または異なったプロセス条件についてクロスウェブ均一性を向上させるためのより良好な手段は、シム厚さを所定の不均一な態様でプロファイルすることである。表５および表６は、シム厚さを、約１０ミル（２５４ミクロン）の元の厚さにより近く維持しながら、押出された材料「Ａ」および「Ｂ」の均一性を向上させる例を示す。
【００５１】
【表６】
2005512853.tif 000012
【００５２】
【表７】
2005512853.tif 000013
【００５３】
本発明の研削プロセスを用いて、プロファイルドシム（図５Ｂのシム９２Ａによって示されているような）を作ることもできる。上記研削プロセスを用いて、クラウン研削能力を備えたグラインダ（すなわち、「クラウングラインダ」）を使用して、プロファイルドシム９２Ａを作ることができる。「プロファイル」は、シムの厚さを変えることによって作られる。シムは、マニホルドの流れの計算または他の技術に基いて定められたシム厚さプロファイルに研削される。好ましくは、精密グラインダは、約０．０ミル（０．０ミクロン）から約６ミル（１５２ミクロン）の範囲内の厚さばらつきで、クラウンまたは逆クラウンプロファイルを研削することができる。
【００５４】
したがって、コーティングダイマニホルドの有用な動作範囲は、プロファイルドシム９２Ａを使用することによって効率的に拡大することができる。シムの精密公差を維持すると、クロスウェブ厚さ均一性がさらに向上する。１つの用途において、マニホルドスロットの遠位端（すなわち、マニホルドへの入力から最も遠いスロットの端部）におけるコーティング材料の凝集を防止するために、比較的小さいコートハンガースタイルマニホルドが必要である。しかし、このタイプのマニホルド設計は、小さい１組の材料特性またはプロセス条件に幾分特有である傾向がある。すなわち、マニホルドは、１つの押出物を十分に押出すことができるが、異なった液体をより小さい程度に分配する。または、マニホルドは、押出物を１つの特定の処理量で十分に押出し、同じ押出物を異なった処理量で不十分に分配することがある。その結果、本発明の前は、良好な程度の均一性で、さまざまなコーティング液体を分配するために、多数のダイを製造する必要があった。ここで説明されるプロファイルドシムの能力により、１つのダイマニホルドが、各特定のコーティング液体もしくはプロセス条件またはコーティング液体およびプロセス条件の組に合わせて調整されたプロファイルドシムを使用することによって、さまざまなコーティング液体をさまざまなプロセス条件で分配することができる。シムプロファイルを変えると、流体レオロジー、ダイを通る材料の流量、ダイのマニホルドキャビティの形状、ならびにダイのスロット設計および動作条件による押出物材料（すなわち、コーティング液体）のばらつきを補償することができる。
【００５５】
シムをこのように精密に研削するには（図５Ａおよび図５Ｂに関して説明されたように、シムが平らであろうとプロファイルされていようと）、特殊な工具および技術が必要であろう。ほとんどの表面グラインダは、ワークピースを電磁チャックで所定位置に保持し、時には、ボルト締めまたは締付けによって一部を所定位置に保持する。これらのいずれも、本発明に使用されるようなシム材料にとって実行可能な方法ではなく、これは、シムの厚さが約２０ミル（５００ミクロン）未満であることが多いことによる。この厚さでは、電磁石は、十分な押え付け力をもたらすことができず、ボルト締めまたは締付けは、シム材料を座屈させることがある。
【００５６】
したがって、図６、図６Ａ、および図６Ｂに示されているような、特殊なカスタマイズされた真空取付具アセンブリ（または真空取付具）１００が、研削プロセスに使用される。典型的には、真空取付具アセンブリ１００は、長さが約３０インチ（７６２ｍｍ）までの押出ダイ用シムを製造するのに十分に大きい。一実施形態において、真空取付具１００は、長さが約８４インチ（２．１ｍ）であり、幅が１８インチ（４６ｃｍ）であるが、他のサイズを、本発明の範囲から逸脱することなく、用いることができる。真空取付具アセンブリ１００の頂面１０２が、シム材料９２用取付表面である。真空チャネル１０４が、頂面１０２を通って配置されている。真空が、真空取付具アセンブリ１００上に導入され、真空チャネル１０４の周囲より低い圧力（ｓｕｂ−ａｍｂｉｅｎｔ  ｐｒｅｓｓｕｒｅ）をもたらす。真空取付具１００は、好ましくは、鋼などの磁性材料であり、そのため、典型的な磁気表面グラインダチャックに押え付けることができる。典型的には、図６および図６Ａに示されているより、真空取付具アセンブリ１００の頂面１０２に多くの真空チャネル１０４があることに留意されたい。明瞭にするため、示された真空チャネル１０４の数は、制限されている。
【００５７】
真空取付具１００は、非常に高レベルの剛性に製造され、そのため、研削の力または与えられた真空によって撓まない。真空取付具１００の撓みは、シム厚さのばらつきをもたらすことがある。真空取付具１００は、シム材料を所定位置に保持するのに十分な真空を与えるように設計されている。シムが緩むと、それ（またはグラインダ装置）が損傷を受けることがあり、さらに、グラインダ操作者に対して安全上の危険となることがある。
【００５８】
真空取付具１００を表面グラインダチャック１０１上に取付け、磁界を印加し、真空取付具アセンブリ１００を磁気チャック１０１に固定する。真空アセンブリ取付具の頂面１０２を、平らに、好ましくは精密グラインダの達成可能な公差に研削する。真空取付具アセンブリ１００に真空を与えることによって、シム材料９２（図６Ｂに点線で示された）を、真空取付具アセンブリ１００の頂面１０２上に取付ける。真空は、真空チャネル１０４内の周囲より低い圧力をもたらし、また、シム材料９２に対する下方の力をもたらし、シム材料９２を所定位置に保持する。シム材料９２の第１の表面９０を、精密グラインダを使用して研削する。次に、シム材料９２をひっくり返すことができるように、真空取付具アセンブリ１００から真空を除去する。新しく研削された第１の表面９０を、真空取付具アセンブリ１００の頂面１０２に対して配置する。次に、シム材料９２の第２の表面９６が、精密グラインダにアクセス可能である。真空取付具アセンブリ１００に真空を再び与え、第２の表面９６を研削する。研削およびひっくり返しを、シム材料１０６が所望の厚さになるまで続ける。真空取付具アセンブリ１００の頂面１０２を、好ましくは、取付具を使用するごとに再研削して、取付具表面の最小ＴＩＲを確実にし、これは、シム材料９２の最終的な均一性に直接つながること留意されたい。さらに、真空取付具１００の頂面１０２の形状を変えることによって、精密グラインダがプロファイルされたシム９２Ａの厚さを変えることができる範囲に影響を及ぼすことが可能である（図５Ｂに関して先に説明された）。
【００５９】
対応してグラインダ能力を高めると、シム材料９２の最終的な最終ＴＩＲを低下させることができる。次に、最終シム（図４に示されたシム８４など）を、シムに対するいかなる付加的な歪みも最小にするように、現在特別に研削されたシム材料９２から切断する。シム材料９２をレーザ切断することが好ましい。さらに、シム８４の平坦度を低減することがあるばり取り作業は使用されない。ウォータジェット切断、ＥＤＭ（放電加工）ワイヤカット技術、ミリング作業、または剪断作業も、代わりに用いてもよい。ウォータジェット切断に利用可能な装置は、ワシントン州ケントのフロー・インターナショナル・コーポレーション（Ｆｌｏｗ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，Ｋｅｎｔ，ＷＡ）から入手可能である。述べられたように、最終形状のフィルムを保持するための適切な取付具を使用する場合、シム８４の最終形状を、精密グラインダによってシム材料を研削する前または後に切断してもよい。一実施形態において、ばり形成を最小にするために、シム材料は、ウォータジェットで切断する間、鋼などの犠牲的支持材料の層間に挟まれている。
【００６０】
時には厚いシム材料９２（約２０ミル（５０８ミクロン）以上）の場合、またはさらに、より大きい量（１〜２ミル（２５〜５１ミクロン））の材料をグラインダによって除去している場合、シム材料９２は、取付具から離れ、シム材料９２の損傷をもたらすことがある。この離れは、シム材料９２と真空取付具アセンブリ１００との間の真空シールを壊す、シム材料９２上に蓄積された内部応力および／またはシム材料９２の内部剛性と組合された、シム材料９２に行われる加工によって、引起されることがある。
【００６１】
一実施形態において、真空アセンブリ１００にシム材料９２をシールするために、付加的な予防策をとることができる。接着材料を、図６Ｂに示されているように、シム材料周辺に配置する。たとえば、真空取付具１００を、高性能両面粘着テープ１１２で「額縁化する」（ｐｉｃｔｕｒｅ  ｆｒａｍｅｄ）ことができる。テープ１１２は、シム材料９２の端縁で付加的な接着をもたらすだけでなく、シム材料９２の端縁で真空シールとして作用する。テープ１１２は、有限厚さを有し、そのため、真空取付具アセンブリ１００上に凹部１１４が設けられる。必要であれば、テープ１１２と接触するシム材料９２の領域を、レーザ切断プロセスで最終的にスクラップすることができる。
【００６２】
テープ１１２を、真空取付具アセンブリ１００の凹部１１４に付与する。好ましくは、接着を促進するために、真空取付具アセンブリ１００をきれいにする。テープ１１２を、かみそりの刃（図示せず）で、凹部１１４の幅にトリミングする。テープ１１２上に存在するいかなるライナも、テープ１１２の露出面から除去する。シム材料９２を真空取付具アセンブリ１００上に置く。真空を与え、シム材料９２をテープ１１２上にプレスして、良好な接着を確実にする。シム材料９２を、先に説明されたように研削する。真空を除去し、シム材料９２を真空取付具アセンブリ１００から分離する。熱を用いて、シム材料９２を離すのを助けてもよい（たとえば、ヒートガンを使用することによって）。次に、シム材料９２をひっくり返し、シム材料１０６の他方の面に、このプロセスを繰返すことができる（先に説明されたように）。次に、先に説明されたように（レーザ、ウォータジェットなどによって）、シム材料１０６をその最終形状に切断する。
【００６３】
真空取付具アセンブリ１００用の１つの好ましいテープ１１２は、ミネソタ州セント・ポール（Ｓｔ．Ｐａｕｌ，ＭＮ）の３Ｍによって製造された３Ｍフレキソマウント（Ｆｌｅｘｏｍｏｕｎｔ）（商標）プレート・マウンティング・テープ、＃４１１（グレイテープ）である。テープ１１２は、フォトポリマーおよびゴム印刷プレートをフレキソ印刷シリンダに取付けるように設計されている。それは、１／２インチ（１２．７ｍｍ）、３／４インチ（１９ｍｍ）、１インチ（２５．４ｍｍ）、２インチ（５１ｍｍ）、および約１８インチ（４５．７ｍｍ）までの標準幅で利用可能である。テープは、厚さ０．０１５インチ（０．３８１ｍｍ）であり、非常に圧縮可能ではない。他の結合材料を、本発明の精神および範囲から逸脱することなく、フレキソマウントテープの代わりに使用することができる（たとえば、パテ）。
【００６４】
研削のためにシム材料９２を押え付ける際の別の改良は、上述された真空力に加えて、磁気押え付け力を用いることである。これは、ネブラスカ州ノーフォークのグループ・アーノルド（Ｇｒｏｕｐ  Ａｒｎｏｌｄ，Ｎｏｒｆｏｌｋ，ＮＢ）からシートで入手可能なプラスティフォーム（Ｐｌａｓｔｉｆｏｒｍ）（商標）またはプラスティマグ（Ｐｌａｓｔｉｍａｇ）（商標）材料などの磁性プラスチック材料の層を、真空取付具１００の表面上に接着することによって、行うことができる。真空力および磁気力の両方が、シム材料を押え付けるのを助けることができるように、真空取付具１００の真空チャネル（または穴）１０４に対応する穴を、プラスティフォーム材料を通ってカットする。本実施形態において、磁性ステンレス鋼（たとえば、４００シリーズ、１５−５または１７−４）シートまたはニッケルめっきシートなどの磁性シム材料が使用される。
【００６５】
真空取付具アセンブリ１００の真空チャネル１０４のサイズおよび形状は、慎重に選択しなければならない。小さすぎるチャネル１０４（または少なすぎるチャネル）は、真空押え付け力を制限する。大きすぎるチャネル１０４は、真空力および機械加工作業自体の力によって、真空チャネル１０４の上の支持されていない領域のシム材料９２の撓みをもたらす。大きい真空チャネル１０４は、より厚いシム材料９２とともに使用することができる。というのは、より厚いシートの強度が撓みに抵抗するからである。撓みの数値分析に基いて、直径１／１６インチ（１．５ｍｍ）の穴の場合、厚さ０．００５インチ（０．１２７ｍｍ）のステンレス鋼シートは、真空力下で、１から５マイクロインチ（０．０３−０．１ミクロン）撓むことが予想され、厚さ０．０１０インチのステンレス鋼シートは、わずか約０．２から０．７マイクロインチ（５０〜２００オングストローム）撓むことが予想される。図６Ａに示された例示的な真空取付具アセンブリ１００は、０．２５インチ（６．４ｍｍ）の矩形格子に隔置された１／１６インチ（１．６ｍｍ）の穴を用いる。より良好な真空押え付け性能のために空気流を改良するために、真空取付具アセンブリ１００の頂面１０２を形成するプレートの裏面から、穴をより大きい直径（１／８インチ（３．２ｍｍ）など）に広げる（ｃｏｕｎｔｅｒｂｏｒｅｄ）ことができる。この例において、真空取付具の厚さ１．０インチ（２５ｍｍ）の頂部プレートを使用し、プレートの裏面から０．７５（１９．７ｍｍ）インチの、１／８インチ（３．２ｍｍ）の広げられた穴（ｃｏｕｎｔｅｒ  ｂｏｒｅ）が、プレート表面の近くの、１／１６インチ（１．６ｍｍ）の穴のわずか０．２５インチ（６．４ｍｍ）の深さを残す。
【００６６】
多くの押出タイプダイ（図３に示された押出コーティングダイ７０など）は、ダイ頂部８０とダイ底部８２との物理的連結の結果であるスロットばらつきを有することができる。図７に示されているように、組立て力によるダイコータ７０の曲がりを克服するために、本発明の方法は、さらに、組立て力下でダイ部分の撓みを最小にするために、スロットコータダイパーツを設計することを含むことができる。組立て力は、通常、ボルト（またはファスナ）１３０のパターンによって与えられる。例示的なパターンが、図４に、シム８４の穴６２、６２Ａ、および６２Ｂによって示されている。凹部（またはリリーフ）１３２が、ダイ７０の底部８２に配置され、製造タイプコータダイの典型的な特徴である。この凹部１３２は、典型的には、ダイ７０の頂部８０と係合する狭いランド（またはスタンドオフ）１３４を形成するように設けられる。少なくとも１つのボルト１３０が、典型的には、ダイ頂部８０を通り、凹部１３２を通って、ダイ底部８２内に延在する（２つのボルト１３０が図７に示されている）。ボルト１３０は、典型的には、ダイ底部８２にねじ込まれるが、ボルト１３０をダイ底部８２を完全に通って延ばすなどの（図８に関してさらに説明される）、他の固定手段が知られている。次に、ボルト１３０に、ダイマニホルドキャビティおよびスロット７８を通って流れる液体の流体力学的圧力に耐えるように適切なレベルにトルクを与える。以前は、ファスナにトルクを与えると、矢印１３６で示されたように、ダイ頂部８０の「湾曲」（ｂｏｗｉｎｇ）をもたらした。ダイ底部８２も、矢印１３８で示されたように「湾曲した」。締付け力ベクトル１３９が、ファスナ１３０に沿って延び、したがって、凹部１３２を通って延び、それにより、「湾曲」が発生した。頂部８０および底部８２のこの曲がりまたは湾曲は、スロット空間７８の高さ「Ｈ」のばらつきをもたらすという影響があり、これは、スロット７８を通って流れる材料の所望の一定の断面厚さに影響を及ぼした。２つのファスナ１３０が示され、かつ、凹部１３２がダイ７０の底部８２に配置されているが、いかなる数のファスナを含む、いかなる数のダイ構成、または凹部の代替配置が、企図されることに留意されたい。
【００６７】
一実施形態において、ボルトトルク下におけるダイコータ７０の撓み（矢印１３６および１３８で示されているような）の影響は、凹部１３２の上方でボルトに対して少なくとも１つのブレース１４０を加えることによって、実質的に改良される。これらのブレース１４０は、ボルト１３０からの締付け力１３９Ａを、ランド領域１３４にわたって直接分配する。このように、ブレース１４０は、ダイ７０の頂部８０の代わりに、いかなる曲げ歪み（矢印１４２で示されているような）も受ける。本発明の代替実施形態は、凹部１３２からファスナ１３０を除去し、代わりに、ファスナ１３０Ａ（点線で示された）を、ランド領域１３４を通って延在するように配置し、ブレース１４０を不要とする。
【００６８】
本発明のさらなる実施形態が、図８に示されている。ここで、ファスナ１３０は、ダイ７０の頂部８０および底部８２を完全に通って延在する。ブレース１４０は、ファスナ１３０によって与えられた締付け力１３９を、ランド領域１３４を通してダイ頂部８０およびダイ底部８２の両方に伝達するように使用される。したがって、ブレース１４０は、ダイ頂部８０およびダイ底部８２の両方の撓みを最小にするように作用する。
【００６９】
本発明のさらなる実施形態は、図９に示されているように、頂部８０または底部８２のいずれにも従来の凹部がないダイ部分８０および８２を製造することである。したがって、頂部８０および底部８２を、凹部を伴わずに平らに研削した場合、撓みが発生しない。いかなる残りの最小撓みも、ファスナ間の距離およびファスナのサイズを減少させることによって、さらに低減して、ダイ１３０を組立てることができる。
【００７０】
締付け力１３９を、図７〜９に関して説明された実施形態のいずれかのダイ７０の凹部１３２から離れて分配することは、設計、スロットタイプコーティングダイの締付け製造および使用の標準方法に対する著しい改良である。それは、クロスウェブ均一性の著しい改良を可能にする。本発明の設計に使用してもよい例示的なブレース１４０が、図１０および図１１に示されている。例示的なブレース１４０は、上面図が図１０に示され、側面図が図１１に示されている。ファスナ穴１４４は、ブレース１４０を通って延在し、ファスナ１３０が、ダイ７０を通って、ダイ７０内に延在するのを可能にする。脚１４６がダイ７０と係合する。空間１４８が脚１４６間に配置されるので、脚１４６が締付け力をダイコータ７０に伝達する間、ブラケット１４０が曲がる。
【実施例】
【００７１】
実施例１
ブレースおよび改良シムを加えることによる、スロットの均一性およびコーティングクロスウェブ均一性の、結果として生じる改良は、ダイ改良を行う前および後に、押出ダイコータのダイスロットを測定することによって示された。ダイスロットは、マサチューセッツ州エアのキャパシテック・インコーポレイテッド（Ｃａｐａｃｉｔｅｃ，Ｉｎｃ．，Ａｙｅｒ，ＭＡ）の特殊なキャパシタンスプローブシステムを使用して測定した。このシステムは、電源を備え、４チャネル（Ｃｈａｎｎｅｌ）可能な４００４−Ｐ１１５−ＯＢＮＣイクイップメント・ラック（Ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ  Ｒａｃｋ）、４１００−ＣＭ３−４．５ＬＥＤクロック／ディスプレイモジュール（Ｃｌｏｃｋ／Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｍｏｄｕｌｅ）、ＧＰＤ−２Ｇ−Ａ−１５０−ＦＸ９０−５５０９−５９６１カスタム・ワンド（Ｃｕｓｔｏｍ  Ｗａｎｄ）（０．００９呼び厚さ）、カスタム（Ｃｕｓｔｏｍ）ＧＰＤワンドホルダ、カスタム・バーグラフックス・ソフトウェア（Ｃｕｓｔｏｍ  Ｂａｒｇｒａｆｘ  Ｓｏｆｔｗａｒｅ）、モデル（Ｍｏｄｅｌ）７００ＰＣ１６／１２データ・アクイジション・カード（Ｄａｔａ  Ａｃｑｕｉｓｉｔｉｏｎ  Ｃａｒｄ）、およびウィンドウズ（Ｗｉｎｄｏｗｓ）９５または９８を備えたノートブック（Ｎｏｔｅｂｏｏｋ）ＰＣコンピュータ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ）を含んだ。
【００７２】
キャパシテックのプローブによるスロット測定の繰返し性は、プローブを特定のポイントでダイスロットに挿入し、測定し、プローブを除去することによって定めた。これを、１５測定繰返した。測定値の統計的分析により、プローブ測定の繰返し性が、約±０．００２５ミル（０．０６４ミクロン）以内であることが定められた。
【００７３】
図７に関して説明されたような押出ダイ７０を使用した。ダイ７０の頂部８０および底部８２の整列表面８０Ａおよび８２Ｂを、バルドリッヒコベルグのグラインダ（上述された）で、約２５〜３０マイクロインチ（０．６４〜０．７６ミクロン）の自由状態平坦度に、平らに研削した。ダイ７０のスロット均一性は、ダイ撓みを最小にするために、ボルト１３０すべてに対してブレース１４０を使用することによって改良された。シム８４を取付け、トルクレンチを使用してダイを組立てた。スロット７８の幅は、２７インチ（６８４ｍｍ）であった。
【００７４】
測定結果により、最適化されたブレーシングセットアップおよび標準的な既製のシムでは、可能な最も均一なスロットが、スロット７８について１２８マイクロインチ（３．２５ミクロン）のＴＩＲを有することが示された。ニュートン流体の場合、これは、図５に関して先に説明された式を用いる、予想される最小の３．８％のコーティング厚さのクロスウェブばらつきにつながる。比較により、本発明の改良シムを取付けた。シムは、厚さが１０ミル（２５４ミクロン）であり、エルブ−シュリフのグラインダ（上述された）を使用して、５０マイクロインチ（１．２ミクロン）未満のＴＩＲに研削した。本発明の改良シムを、改良ブレーシングと組合せて使用すると、スロットばらつきが約５１マイクロインチ（１．３ミクロン）に低減し、これは、１．５％の予想されるクロスウェブコーティング重量ばらつきに相当する。図４の第１のスロット穴６２Ａおよび第２のスロット穴６２Ｂによって示された位置でダイを通って配置されたボルトに対するトルクを調整することによって、ＴＩＲを約２４マイクロインチ（０．６１ミクロン）にさらに低減し、予想されるクロスウェブコーティングばらつきは、０．７％であった。第１のスロット穴６２Ａおよび第２のスロット穴６２Ｂを通って配置された端部ボルト１３０を調整すると、ダイ底部８２の湾曲、すなわち、図７の線１３８を補償した。
【００７５】
これらの結果は、図１２に示されている。測定試験１（参照番号１６０）の場合、改良シム８４を使用し、ブレース１４０をダイ７０に取付け、ダイファスナ１３０に約２０フィート−ポンド（２７Ｎｍ）のトルクを与えた。スロット幅の一端からスロット幅の他端までのスロット高さの測定値によって示されるように、スロット高さのばらつきは最小であった。測定試験２（参照番号１６２）は、改良シム８４を使用し、ブレース１４０をダイ７０に取付け、ダイファスナ１３０に約２０フィート−ポンド（２７Ｎｍ）のトルクを与えた。第１のスロット穴６２Ａおよび第２のスロット穴６２Ｂを通って延在するボルトを使用して、スロットを最適化し、スロット高さのさらに小さいばらつきをもたらした。測定試験３（参照番号１６４）は、標準シム（精密に研削されていない）を使用し、ブレース１４０をダイ７０に取付け、ダイファスナに約２０フィート−ポンド（２７Ｎｍ）のトルクを与えた。図１２からわかるように、結果は、スロットの幅にわたるスロット高さの広い範囲であった。
【００７６】
実施例２
第２の組の試験は、本発明のダイ組立て方法によるダイ性能の向上を確かめるために行った。また、ダイセットアップは、図７に示された押出ダイと同様である。ダイ整列表面８０Ａおよび８２Ｂを、バルドリッヒコベルグのグラインダで、約２５〜３０マイクロインチの自由状態平坦度に、平らに研削した。特殊な研削されたシム８４（すなわち、シムは、厚さが１０ミル（２５４ミクロン）であり、５０マイクロインチ（１．２ミクロン）未満のＴＩＲに研削された）を使用して、シム自体からのスロットばらつきを最小にした。
【００７７】
図１３上の曲線１７０は、ブレース１４０がなく、ボルトファスナ１３０に４０フィート−ポンド（２７Ｎｍ）のトルクを与えた場合のスロット高さ測定値を示す。第２の曲線１７２は、ブレース１４０がなく、ファスナ１３０に２０フィート−ポンド（２７Ｎｍ）のトルクを与えた場合のスロット高さ測定値を示す。頂部８０および底部８２の撓みの激しさは、明らかにトルクレベルとともに増加する。スロット７８のＴＩＲは、２０フィート−ポンド（２７Ｎｍ）における１０３マイクロインチ（２．６２ミクロン）から、４０フィート−ポンド（５４Ｎｍ）のトルクにおける約１５０マイクロインチ（３．８１ミクロン）に増加した。曲線１７４は、ファスナ１３０すべてに対して２０フィート−ポンド（２７Ｎｍ）を与えたが、ブレース１４０を使用して、締付け力１３９をダイ７０の底部８０のランド領域１３４上に分配した場合のスロット測定値を表す。スロット高さの渋面プロファイルは、ここで、約３９マイクロインチ（０．９９ミクロン）に低減する。渋面の残りは、ダイ底部８２の残りの撓みと一致し、これは、ダイ頂部８０上のブレースによって低減されないようである。曲線１６２（図１２に関して説明されたような）は、図１３で繰返され、十分に最適化されたスロット７８を、曲線１７０、１７２、および１７４と比較する。均一なダイスロットと押出物の均一な流れ断面との関係を確かめるために、粘度が約１０ｃｐｓのニュートンポリマー溶液を、最適化されたダイ７０（曲線１６２を参照のこと）を使用して、次のパラメータで、ウェブ上にコーティングした。
７５ｆｐｍのウェブ速度（０．３８ｍ／ｓ）
２５０ｇ／分の押出物の流量
０．００７インチのコーティング間隙（０．１７８ｍｍ）
厚さ０．００４インチ（０．１０２ｍｍ）×幅２８インチ（０．７１ｍｍ）のポリエステルフィルム
コーティング材料中の１８重量％の固形分
【００７８】
参照番号１７８で示された、スロット高さの測定されたばらつきと、参照番号１７６で示された、押出物断面の、ニューヨーク州ニューウィンザーのグレタグ−マクベス（Ｇｒｅｔａｇ−ＭａｃＢｅｔｈ，Ｎｅｗ  Ｗｉｎｄｓｏｒ，ＮＹ）によって製造されるような光学濃度計を使用する光学濃度測定（ＯＤＵ）との比較が、図１４に示されている。光学濃度測定は、ウェブの端縁の３インチ（７６．２ｍｍ）以内で幅０．５インチ（１２．７ｍｍ）ごとに行った。次に、これらの測定ポイントを正規化し、曲線１７６をもたらした。次に、曲線１７６を曲線１７８と比較した。曲線１７８は、曲線１６２（図１２および図１３に説明されたような）の３乗（ｃｕｂｅ）を正規化することによって得られた。このデータの正規化により、曲線１７６のばらつきを曲線１７８と容易に比較することができる。理想的状況（ニュートン液体、温度ばらつきなし、流体乱れなしなど）下で、このサンプルの最良の達成可能な均一性が、０．７％であるはずであることに留意されたい。曲線１７８上の測定された最初および最後のポイント以外は、コーティングサンプルのクロスウェブ均一性は、０．９％である。この均一性が、プラスまたはマイナス０．０１ミクロン（平均厚さは２．４８ミクロンであった）に相当し、データの範囲に基いて計算され、標準偏差ではないことに留意されたい。これらの実施例の液体については、本発明の押出方法より前の最良のクロスウェブ均一性は、＞７％であり、「スマイル」（ｓｍｉｌｅ）コーティングプロファイル（すなわち、コーティングが、端縁でより厚く、中間でより薄い場合）であった。したがって、本発明の方法は、スロット均一性を、約２００マイクロインチ（５．１ミクロン）を越えるものから約２５マイクロインチ（０．６４ミクロン）未満に向上させた。
【００７９】
実施例の結果
結果は、押出ダイ本体に機械加工された凹部が、シムのばらつきとともに、ダイスロット高さの不均一性の大きい否定的な誘因であることを証明する。ファスナ１３０上のブレース１４０は、凹部１１４をブリッジし、締付け力をダイ本体のランド１３４にわたって向け直し、したがって、ダイ頂部の固有の歪みをなくす。改良シム８４は、シム厚さのばらつきによるスロット振れを低減する。これらのダイ組立て方法を用いることによって、押出物のクロスウェブばらつきを大きく低減することができる。
【００８０】
本発明を好ましい実施形態に関して説明したが、当業者は、本発明の精神および範囲から逸脱することなく、形態および詳細に変更がなされてもよいことを認識するであろう。本出願に引用された刊行物および特許はすべて、それらの全体を引用によりここに援用する。材料のパーセンテージはすべて、特に明記しない限り、重量による。
【図面の簡単な説明】
【００８１】
【図１】例示的なコーティングダイの斜視図である。
【図２】図１の線２−２に沿った断面図である。
【図３】代替の例示的なコーティングダイの断面図である。
【図４】コーティング装置に使用される例示的なシムの斜視図である。
【図５】スロットの総指示振れの、スロットを出る押出物の流れの均一性への影響を示すグラフである。
【図５Ａ】平らなシムを使用する本発明の研削プロセスの概略図である。
【図５Ｂ】プロファイルドシムを使用する本発明の研削プロセスの概略図である。
【図６】真空取付具の斜視図である。
【図６Ａ】真空取付具の上面図である。
【図６Ｂ】真空取付具の部分断面図である。
【図７】ブレースが取付けられた図３のコーティングダイの断面図である。
【図８】ブレースが取付けられた図３のコーティングダイの代替断面図である。
【図９】図３のコーティングダイの代替断面図である。
【図１０】例示的なブレースの上面図である。
【図１１】例示的なブレースの側面図である。
【図１２】本発明の方法の、スロット均一性への影響を示すグラフである。
【図１３】本発明の方法の、スロット均一性への影響を示すグラフである。
【図１４】本発明の方法の、流れの均一性への影響を示すグラフである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６】
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【図６Ｂ】
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【図６Ａ】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【国際調査報告】
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