Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月5日(2020.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
三次元的な物体を付加的に製造するための装置用の露光装置であって、
エネルギービームを発生させるように構成された、エネルギービーム発生装置と、
前記エネルギービーム発生装置によって発生される前記エネルギービームを、所定の入射箇所へ偏向させるように構成された、ビーム偏向装置と、
ビーム経路において構成且つ配置された、少なくとも１つの導光要素と、
前記ビーム偏向装置の位置を光学的に検出するための光学的な測定ビームを発生させるように構成された、測定ビーム発生装置と、
前記光学的な測定ビームに少なくとも部分的に基づいて、基準位置に対する前記ビーム偏向装置の位置を光学的に検出するように構成された、位置検出装置と、
を備える露光装置であって、
前記測定ビーム発生装置によって発生される前記光学的な測定ビームが、前記ビーム経路に直接位置決めされることを特徴とする、露光装置。
【請求項２】
前記エネルギービーム発生装置及び前記ビーム偏向装置が、前記ビーム経路において互いに光学的に整向されていることを特徴とする、請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記位置検出装置及び前記測定ビーム発生装置が、絶対干渉計を形成していることを特徴とする、請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記位置検出装置が、基準位置に対する前記ビーム偏向装置の検出された位置を示す位置検出情報を生成するように構成されていることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記ビーム偏向装置が、前記光学的な測定ビームの少なくとも一部を反射させるように構成された少なくとも１つの光学的な測定点へ、前記光学的な測定ビームを方向付けるように構成されており、
前記位置検出装置が、前記少なくとも１つの光学的な測定点によって反射された前記光学的な測定ビームの前記少なくとも一部に少なくとも部分的に基づいて、前記ビーム偏向装置の位置を検出するように構成されていることを特徴とする、
請求項１〜４のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記少なくとも１つの光学的な測定点が、凹面鏡から成ることを特徴とする、請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
複数の光学的な測定点を含む光学的な測定点配列を備えており、前記複数の光学的な測定点が、互いに対して所定の空間的な配置において構成且つ配置されていることを特徴とする、
請求項５に記載の露光装置。
【請求項８】
前記複数の光学的な測定点が、共通の平面内に構成且つ配置されているか、又は、
前記複数の光学的な測定点が、互いに異なる平面内に構成且つ配置された少なくとも２つの光学的な測定点を含むことを特徴とする、
請求項７に記載の露光装置。
【請求項９】
前記共通の平面が、三次元的な物体を付加的に製造するための装置の構造平面に対応することを特徴とする、請求項８に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記エネルギービーム発生装置から前記エネルギービームの少なくとも一部によって照射された構造材料層の溶融範囲から反射される、前記エネルギービームの反射部分を検出するように構成された検出装置を備えることを特徴とする、
請求項１〜９のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記エネルギービームの前記反射部分が、少なくとも部分的に前記ビーム経路によって前記検出装置へ進み、前記検出装置が、前記エネルギービームの前記反射部分に少なくとも部分的に基づいて、三次元的な物体を付加的に製造するための装置によって付加的に製造される三次元的な物体の部材品質を示す部材品質情報を生成するように構成されていることを特徴とする、請求項１０に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記測定ビーム発生装置が、前記光学的な測定ビームを、前記エネルギービーム発生装置と前記検出装置の間の箇所における前記ビーム経路内へ方向付けるように構成されているか、又は、前記測定ビーム発生装置が、前記光学的な測定ビームを、前記検出装置よりも上流の箇所における前記ビーム経路内へ方向付けるように構成されていることを特徴とする、請求項１０に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記位置検出装置が、干渉式に前記ビーム偏向装置の位置を検出するように構成されていることを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１４】
前記エネルギービーム発生装置が、前記測定ビーム発生装置として構成されており、前記エネルギービームが、前記光学的な測定ビームから成ることを特徴とする、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１５】
露光装置を備える、三次元的な物体を付加的に製造するための装置であって、
前記露光装置が、
エネルギービームを発生させるように構成された、エネルギービーム発生装置と、
前記エネルギービーム発生装置によって発生される前記エネルギービームを、所定の入射箇所へ偏向させるように構成された、ビーム偏向装置と、
ビーム経路において構成且つ配置された、少なくとも１つの導光要素と、
前記ビーム偏向装置の位置を光学的に検出するための光学的な測定ビームを発生させるように構成された、測定ビーム発生装置と、
前記光学的な測定ビームに少なくとも部分的に基づいて、基準位置に対する前記ビーム偏向装置の位置を光学的に検出するように構成された、位置検出装置と、
を備えており、
前記測定ビーム発生装置によって発生される前記光学的な測定ビームが、前記ビーム経路に直接位置決めされることを特徴とする装置。
【請求項１６】
複数の構造材料層のうちの少なくとも１つの露光を示す露光情報に少なくとも部分的に基づいて、前記露光装置を制御するように構成された制御装置であって、前記位置検出装置によって生成される位置検出情報に少なくとも部分的に基づいて、前記露光情報に変更を加えるように構成された制御装置を備えることを特徴とする、
請求項１５に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】露光装置及び三次元的な物体を付加的に製造するための装置
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月7日(2020.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
前記課題を解決するため、本願の請求項１にかかる発明は、エンジンと、該エンジンにより駆動されるコンプレッサ本体とを金属製の筐体の内部に収納し、該筐体をベースの上に設置したエンジンコンプレッサの機内に、前記コンプレッサ本体で圧縮された空気を溜めるレシーバタンクと、該レシーバタンクの下流側に設けられ、前記レシーバタンクから排出される圧縮空気のオイル分を分離するオイルセパレータと、該オイルセパレータからの圧縮空気を冷却するアフタクーラと、該アフタクーラにより冷却凝縮された水分と、残ったオイル分をドレンとして排除するドレンセパレータとを備えた前記エンジンコンプレッサのドレン処理装置であって、前記ドレンセパレータで排除された前記ドレンを前記エンジンのマフラ内に流入させ、前記ドレンを前記エンジンの排熱により処理することを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
なお、ドレン処理用配管１１内を通るドレンは、圧縮空気により出口側に向かって圧力を受ける上、エンジン排気ガスよりも圧力が大きいため出口側に向かうので、出口側の位置が多少高くてもドレンセパレータ６からマフラ入口管１０に向かって流れて行く。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エンジンと、該エンジンにより駆動されるコンプレッサ本体とを金属製の筐体の内部に収納し、該筐体をベースの上に設置したエンジンコンプレッサの機内に、前記コンプレッサ本体で圧縮された空気を溜めるレシーバタンクと、該レシーバタンクの下流側に設けられ、前記レシーバタンクから排出される圧縮空気のオイル分を分離するオイルセパレータと、該オイルセパレータからの圧縮空気を冷却するアフタクーラと、該アフタクーラにより冷却凝縮された水分と、残ったオイル分をドレンとして排除するドレンセパレータとを
備えた前記エンジンコンプレッサのドレン処理装置であって、
前記ドレンセパレータで排除された前記ドレンを前記エンジンのマフラ内に流入させ、前記ドレンを前記エンジンの排熱により処理することを特徴とするエンジンコンプレッサのドレン処理装置。
【請求項２】
前記ドレンセパレータから前記マフラまでのドレン排出経路中に三方弁を配設し、該三方弁の一つのポートを入口ポートとし、該入口ポートを前記ドレンセパレータのドレン排出口と連結し、前記三方弁の残りのポートの内の一方を第１の出口ポートとし、該第１の出口ポートを前記マフラと連結し、前記三方弁の残りの一つのポートを第２の出口ポートとし、該第２の出口ポートを外部排出口へ連結したことを特徴とする請求項１に記載のエンジンコンプレッサのドレン処理装置。
【請求項３】
前記三方弁の第２の出口ポートを、前記ベースの壁に設けたボスに直接接続したことを特徴とする請求項２に記載のエンジンコンプレッサのドレン処理装置。
【請求項４】
前記三方弁の入口ポートを、前記ドレンセパレータの前記ドレン排出口に直接接続したことを特徴とする請求項２に記載のエンジンコンプレッサのドレン処理装置。
【請求項５】
前記ドレンセパレータから前記マフラまでのドレン排出経路中にＴ字管を配設し、該Ｔ字管の一つのポートを入口ポートとし、該入口ポートを前記ドレンセパレータの前記ドレン排出口と連結し、前記Ｔ字管の残りのポートの内の一方を第１の出口ポートとし、該第１の出口ポートを前記マフラと連結し、前記Ｔ字管の残りの一つのポートを第２の出口ポートとし、該第２の出口ポートと前記外部排出口との間に開閉バルブを設けたことを特徴とする請求項１に記載のエンジンコンプレッサのドレン処理装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月21日(2020.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
第１部材（１２）は、シール部（１８）よりも重力方向とは逆側に、第１面（１２Ａ）と第２面（１４Ａ）との間に供給された圧縮液体が流入する排出口（ＶＴ）を有してもよい。これにより、シール部（１８）の隙間（ＣＬ）に保持される液体（ＬＱ）に圧縮液体の圧縮圧力が加わることを抑制することができる。したがって、シール部（１８）の隙間（ＣＬ）に液体（ＬＱ）をより長く保持させることができ、シール性を高めることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
請求項１または２に記載のシール構造であって、
前記第１部材は、前記シール部よりも前記重力方向とは逆側に、前記第１面と前記第２面との間に供給された前記圧縮液体が流入する排出口を有する、シール構造。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月6日(2020.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
腫瘍形成性の低下をもたらすＰＫＭ２活性の増加を必要とする被験体において、腫瘍形成性の低下をもたらすＰＫＭ２活性を増加させるための医薬組成物であって、該医薬組成物が、ＰＫＭ２活性化化合物を遊離塩基またはその薬学的に許容され得る塩、互変異性体もしくはプロドラッグの形態で含み、前記化合物が
【化１】
2020097631.tif 000001
である、医薬組成物。
【請求項２】
前記化合物が、
【化２】
2020097631.tif 000002
またはその薬学的に許容され得る塩、互変異性体もしくはプロドラッグである、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】
前記化合物が、
【化３】
2020097631.tif 000003
またはその薬学的に許容され得る塩、互変異性体もしくはプロドラッグである、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項４】
前記化合物が、
【化４】
2020097631.tif 000004
である、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項５】
前記化合物が、
【化５】
2020097631.tif 000005
またはその薬学的に許容され得る塩、互変異性体もしくはプロドラッグである、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項６】
前記化合物が、
【化６】
2020097631.tif 000006
またはその薬学的に許容され得る塩、互変異性体もしくはプロドラッグである、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項７】
前記腫瘍形成性が、肺がん、膵臓がん、皮膚がん、結腸がん、乳がん、腎臓がん、卵巣がん、または血液悪性腫瘍に起因する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項８】
前記医薬組成物が、１種または複数種の化学療法剤と組み合わせて投与されることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月25日(2020.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
微生物集団から可溶性タンパク質を抽出する方法であって、
−微生物集団をホモジナイズすること；および
−可溶性タンパク質を発現する微生物集団と、微生物集団から可溶性タンパク質を抽出するのに有効な量の、25％（v/v）〜40％（v/v）のカルボン酸を含む溶液とを接触させることを含み；
−ここで可溶性タンパク質がトロポエラスチンまたはそのフラグメントであり；
−ここで接触が4℃〜30℃の間の温度で実施され；
−ここで接触が微生物からの可溶性タンパク質の抽出をもたらし、該可溶性タンパク質が溶液中で可溶である、方法。
【請求項２】
溶液が25％（v/v）〜37.5％（v/v）のカルボン酸を含む、請求項1に記載の方法。
【請求項３】
カルボン酸を1：1（カルボン酸（ml）：微生物（湿重量，g））〜20：1（カルボン酸（ml）：微生物（湿重量，g)）の溶解率で添加する、請求項1に記載の方法。
【請求項４】
溶解率が5：1〜10：1である、請求項3に記載の方法。
【請求項５】
カルボン酸が少なくとも3のpKaを示す、請求項1に記載の方法。
【請求項６】
カルボン酸が酢酸またはギ酸である、請求項1に記載の方法。
【請求項７】
カルボン酸が酢酸である、請求項6に記載の方法。
【請求項８】
微生物集団と溶液とを5時間以下接触させることを含む、請求項1に記載の方法。
【請求項９】
さらに微生物集団と界面活性剤とを接触させることを含む、請求項1に記載の方法。
【請求項１０】
微生物集団が細菌、酵母または糸状菌の集団である、請求項1に記載の方法。
【請求項１１】
組成物を製造する方法であって、トロポエラスチンを請求項1に記載の方法によって製造することにより取得し、そして該トロポエラスチンを組成物に配合することを含む方法。
【請求項１２】
固体または半固体支持体を製造する方法であって、トロポエラスチンを請求項1に記載の方法によって製造することにより取得し、そして該トロポエラスチンを固体支持体または半固体支持体の上部または内部に固定化することを含む方法。
【請求項１３】
抽出したタンパク質が83.8%の純度を有する、請求項4に記載の方法。
【請求項１４】
抽出したタンパク質が87.3%の純度を有する、請求項1に記載の方法。
【請求項１５】
接触工程が約5時間以下の間実施される、請求項1に記載の方法。
【請求項１６】
接触工程が約12時間以下の間実施される、請求項1に記載の方法。
【請求項１７】
接触工程が約20時間以下の間実施される、請求項1に記載の方法。
【請求項１８】
接触工程が約20〜28時間の間実施される、請求項1に記載の方法。
【請求項１９】
微生物集団からトロポエラスチンまたはそのフラグメントを抽出する方法であって、
−トロポエラスチンまたはそのフラグメントを発現する微生物集団と、微生物集団からトロポエラスチンまたはそのフラグメントを抽出するのに有効な量の、25％（v/v）〜40％（v/v）の酢酸を含む溶液とを接触させることを含み；
−ここで接触が4℃〜30℃の間の温度で実施され；
−ここで接触が20〜28時間の間実施され；
−ここで接触が微生物からのトロポエラスチンまたはそのフラグメントの抽出をもたらし、該トロポエラスチンまたはそのフラグメントが溶液中で可溶である、方法。
【請求項２０】
微生物集団からトロポエラスチンまたはそのフラグメントを抽出する方法であって、
−可溶性タンパク質を発現する微生物集団と、微生物集団から可溶性タンパク質を抽出するのに有効な量の、25％（v/v）〜40％（v/v）の酢酸を含む溶液とを接触させることを含み；
−微生物集団をホモジナイズすること；および
−トロポエラスチンまたはそのフラグメントを発現する微生物集団と、微生物集団からトロポエラスチンまたはそのフラグメントを抽出するのに有効な量の、25％（v/v）〜40％（v/v）の酢酸を含む溶液とを接触させることを含み；
−ここで接触が4℃〜30℃の間の温度で実施され；
−ここで接触が20〜28時間の間実施され；
−ここで接触が微生物からのトロポエラスチンまたはそのフラグメントの抽出をもたらし、該トロポエラスチンまたはそのフラグメントが溶液中で可溶である、方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年3月31日(2020.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ：
【化１】
2020037585.tif 000001
の化合物
（式中、
Ｒ１は、水素およびＣ１〜Ｃ４アルキルから選択され；
Ｒ２は、ＯおよびＳから選択され；
Ｒ３は、−Ｎ（Ｒ４）−（Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル）、−Ｃ３〜Ｃ６アルキル、−（Ｃ０〜Ｃ１アルキレン）−ヘテロシクリル、および−（Ｃ０〜Ｃ４アルキレン）−ヘテロアリールから選択され、Ｒ３のあらゆるアルキルまたはアルキレン部分は、−Ｎ（Ｒ５）２（式中、各Ｒ５は水素およびＣ１〜Ｃ４アルキルから独立して選択される）で任意に置換され；
Ｒ３のあらゆるヘテロシクリルおよびヘテロアリール部分が、環内に少なくとも１つの窒素原子を含んでなり；
Ｒ３のあらゆるヘテロシクリルおよびヘテロアリール部分が、Ｃ１〜Ｃ４アルキルで任意に置換され；
Ｒ４は、水素である）
またはその薬学的に許容可能な塩、溶媒和物もしくは水和物、ならびに
薬学的に許容可能な担体
を含んでなる、経口的に許容可能な剤形の製剤。
【請求項２】
Ｒ１が、水素およびメチルから選択される、請求項１に記載の経口的に許容可能な剤形の製剤。
【請求項３】
Ｒ１が、水素である、請求項２に記載の経口的に許容可能な剤形の製剤。
【請求項４】
Ｒ２がＯである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の経口的に許容可能な剤形の製剤。
【請求項５】
Ｒ３が、−（Ｃ０〜Ｃ１アルキレン）−ヘテロシクリルである、請求項１に記載の経口的に許容可能な剤形の製剤。
【請求項６】
Ｒ３が、−（Ｃ１アルキレン）−ヘテロシクリルである、請求項５に記載の経口的に許容可能な剤形の製剤。
【請求項７】
前記ヘテロシクリルが、ピラジニル、ピペリジニル、モルホリニル、およびピラゾリルから選択される、請求項５または請求項６に記載の経口的に許容可能な剤形の製剤。
【請求項８】
前記ヘテロシクリルが、モルホリニルである、請求項７に記載の経口的に許容可能な剤形の製剤。
【請求項９】
Ｒ３が、−Ｃ（ＣＨ３）３、−ＣＨ（ＮＨ２）−ＣＨ（ＣＨ３）２、−ＮＨ−シクロプロピル、−（ＣＨ２）０〜１−ピラジニル、ピペリジニル、ヒドロキシピペリジニル、Ｎ−メチルピペリジニル、−ＣＨ２−モルホリン−４−イル、およびメチルピラゾリルから選択される、請求項１に記載の経口的に許容可能な剤形の製剤。
【請求項１０】
Ｒ３が、−Ｃ（ＣＨ３）３、−ＣＨ（ＮＨ２）−ＣＨ（ＣＨ３）２、−ＮＨ−シクロプロピル、−（ＣＨ２）０〜１−ピラジン−２−イル、ピペリジン−３−イル、−ＣＨ２−モルホリン−４−イル、および５−メチル−１−Ｈ−ピラゾール−４−イルから選択される、請求項９に記載の経口的に許容可能な剤形の製剤。
【請求項１１】
Ｒ３が、−Ｃ（ＣＨ３）３、−ＮＨ−シクロプロピル、−ＣＨ２−ピラジン−２−イル、−ピラジン−２−イル、−ＣＨ２−モルホリン−４−イル、および５−メチル−１−Ｈ−ピラゾール−４−イルから選択される、請求項１０に記載の経口的に許容可能な剤形の製剤。
【請求項１２】
以下に示す構造式：
【表１】
2020037585.tif 000002
のいずれか１つによって表される化合物またはその薬学的に許容可能な塩を含む経口的に許容可能な剤形の製剤。
【請求項１３】
前記化合物が、化合物１、２、３、４、８、１１、１２、および１３のいずれか１つから選択される、請求項１２に記載の経口的に許容可能な剤形の製剤。
【請求項１４】
増殖性疾患、血管新生疾患、炎症性疾患、自己免疫障害、ウイルス感染症、創傷、眼科疾患、神経変性疾患、異常な組織成長障害、食物摂取量関連障害、アレルギー、脳卒中、外傷性脳損傷および呼吸器疾患から選択される疾患の治療のための、請求項１に記載の経口的に許容可能な剤形の製剤。
【請求項１５】
神経変性疾患の治療のための、請求項１に記載の経口的に許容可能な剤形の製剤。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月12日(2020.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコン微細粒子及び／又は該シリコン微細粒子の凝集体と過酸化水素水とを接触させる過酸化水素水処理工程、を含み、
前記シリコン微細粒子及び／又は前記凝集体を、フッ化水素酸に接触させる工程を含まない、
水素供給能を有するシリコン微細粒子及び／又は該シリコン微細粒子の凝集体の製造方法。
【請求項２】
シリコン微細粒子及び／又は該シリコン微細粒子の凝集体と過酸化水素水とを接触させる過酸化水素水処理工程、と、
前記過酸化水素水処理工程の後、水素の発生能を有する前記シリコン微細粒子又は前記凝集体を、生理学的に許容可能な媒体に接触させる接触工程を含み、
前記シリコン微細粒子及び／又は前記凝集体を、フッ化水素酸に接触させる工程を含まない、
水素供給方法。
【請求項３】
前記接触工程において、前記シリコン微細粒子又は前記凝集体の固形剤又は前記シリコン微細粒子又は前記凝集体を含む層を覆う不透水性の膜の少なくとも一部を除去したとき又は該膜の少なくとも一部が溶解したときに、該シリコン微細粒子又は前記凝集体を前記媒体に接触させる、
請求項２に記載の水素供給方法。
【請求項４】
前記媒体のｐＨが６以上である、
請求項２又は請求項３に記載の水素供給方法。
【請求項５】
前記媒体は、液状、ゲル状、クリーム状、ペースト状、乳液状、及びムース状の群から選択される少なくとも１種である、
請求項２乃至請求項４のいずれか１項に記載の水素供給方法。
【請求項６】
シリコン微細粒子及び／又は該シリコン微細粒子の凝集体と過酸化水素水とを接触させる過酸化水素水処理工程、と、
前記過酸化水素水処理工程の後、水素の発生能を有する前記シリコン微細粒子又は前記凝集体を、生理学的に許容可能な媒体に接触させる接触工程を含み、
前記シリコン微細粒子及び／又は前記凝集体を、フッ化水素酸に接触させる工程を含まない、
水素供給材の製造方法。
【請求項７】
前記接触工程において、前記シリコン微細粒子又は前記凝集体の固形剤又は前記シリコン微細粒子又は前記凝集体を含む層を覆う不透水性の膜の少なくとも一部を除去したとき又は該膜の少なくとも一部が溶解したときに、該シリコン微細粒子又は前記凝集体を前記媒体に接触させる、
請求項６に記載の水素供給材の製造方法。
【請求項８】
前記媒体の温度が、０℃超５０℃以下である、
請求項６又は請求項７に記載の水素供給材の製造方法。
【請求項９】
前記媒体のｐＨが６以上である、
請求項６乃至請求項８のいずれか１項に記載の水素供給材の製造方法。
【請求項１０】
前記媒体は、液状、ゲル状、クリーム状、ペースト状、乳液状、及びムース状の群から選択される少なくとも１種である、
請求項６乃至請求項９のいずれか１項に記載の水素供給材の製造方法。
【請求項１１】
前記水素供給材が、洗浄剤、化粧用材料、治療用材料、又は衛生材料に含まれる、
請求項６乃至請求項１０のいずれか１項に記載の水素供給材の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】水素供給能を有するシリコン微細粒子及び／又はその凝集体の製造方法、水素供給方法、及び水素供給材の製造方法
【手続補正書】
【提出日】令和2年3月9日(2020.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
炎症性関節疾患を治療するための治療用抗炎症組成物であって、
前記組成物が、アジュバントとともに投与される２５〜７５０μｇのＤＮＡ  ＩＬ−１０Ｆ１２９Ｓ発現構築物を含み、前記アジュバントは糖を含み、
前記ＩＬ−１０Ｆ１２９Ｓ発現構築物が、プラスミド骨格と、インターロイキン−１０Ｆ１２９Ｓをコードする核酸配列と、インターロイキン−１０Ｆ１２９Ｓをコードする前記核酸配列をフランキングするアデノ随伴ウイルス（ＡＡＶ）逆方向末端反復（ＩＴＲ）配列と、インターロイキン−１０Ｆ１２９Ｓをコードする前記核酸配列に作動可能に連結した１以上のプロモータ配列及びポリアデニル化シグナルと、マーカ遺伝子と、を含み、
前記組成物が、炎症を起こした関節に、６０日毎を超えない頻度で注射により投与される、治療用抗炎症組成物。
【請求項２】
前記アジュバントが、Ｄ−マンノース、スクロース、及びグルコースから選択される、請求項１に記載の治療用抗炎症組成物。
【請求項３】
炎症性関節疾患を治療するための治療用抗炎症組成物であって、
前記組成物が、微小粒子中に製剤化された２５〜７５０μｇのＤＮＡ  ＩＬ−１０Ｆ１２９Ｓ発現構築物を含み、
前記ＩＬ−１０Ｆ１２９Ｓ発現構築物が、プラスミド骨格と、インターロイキン−１０Ｆ１２９Ｓをコードする核酸配列と、インターロイキン−１０Ｆ１２９Ｓをコードする前記核酸配列をフランキングするアデノ随伴ウイルス（ＡＡＶ）逆方向末端反復（ＩＴＲ）配列と、インターロイキン−１０Ｆ１２９Ｓをコードする前記核酸配列に作動可能に連結した１以上のプロモータ配列及びポリアデニル化シグナルと、マーカ遺伝子とを含み、
前記組成物が、炎症を起こした関節に、６０日毎を超えない頻度で注射により投与される、治療用抗炎症組成物。
【請求項４】
前記微小粒子が、乳酸−グリコール酸共重合体の微小粒子を含む、請求項３に記載の治療用抗炎症組成物。
【請求項５】
乳酸−グリコール酸共重合体が、５０：５０乳酸−グリコール酸共重合体を含む、請求項４に記載の治療用抗炎症組成物。
【請求項６】
前記治療用抗炎症組成物が、アジュバントとともに投与される、請求項３〜５のいずれか一項に記載の治療用抗炎症組成物。
【請求項７】
前記アジュバントが、Ｄ−マンノース、スクロース、グルコース、リン酸カルシウム、デンドリマー、オリゴヌクレオチド、高分子量ヒアルロン酸、及び脂質から選択される、請求項６に記載の治療用抗炎症組成物。
【請求項８】
前記プラスミド骨格が、ウイルスまたは細菌の骨格である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の治療用抗炎症組成物。
【請求項９】
前記組成物が、希釈剤をさらに含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の治療用抗炎症組成物。
【請求項１０】
前記関節が、膝、肘、手首、足首、腰、肩、又は脊椎である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の治療用抗炎症組成物。
【請求項１１】
前記炎症性関節疾患が、関節炎、腱炎、滑液包炎、靭帯の炎症、滑膜炎、痛風、または全身性エリテマトーデスである、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の治療用抗炎症組成物。
【請求項１２】
前記関節炎が、関節リウマチまたは骨関節炎である、請求項１１に記載の治療用抗炎症組成物。
【請求項１３】
前記ＩＬ−１０発現構築物が、インターロイキン−１０Ｆ１２９Ｓをコードする前記核酸配列に作動可能に連結した、転写終結配列、上流調節ドメイン、及び配列内リボソーム進入部位からなる群から独立して選択される１以上の制御配列をさらに含む、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の治療用抗炎症組成物。
【請求項１４】
前記１以上のプロモータ配列が、ニワトリ若しくはヒトβアクチンプロモータ、サイトメガロウイルス最初期プロモータ、グリセルアルデヒド３−リン酸デヒドロゲナーゼ（ＧＡＤＰＨ）プロモータ、伸長因子１α（ｅＦ１α）プロモータ、ＧＦＡＰプロモータ、マウス白血病ウイルス（ＭＬＶ）プロモータ、単純ヘルペスウイルスチミジンキナーゼ（ＴＫ）プロモータ、及びウッドチャック肝炎ウイルス転写後調節エレメント（ＷＰＲＥ）プロモータからなる群から独立して選択される、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の治療用抗炎症組成物。
【請求項１５】
前記ポリアデニル化シグナルが、ＳＶ４０ポリアデニル化シグナル、ウシ成長ホルモンポリアデニル化シグナル、及び合成ポリアデニル化シグナルからなる群から独立して選択される、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の治療用抗炎症組成物。
【請求項１６】
前記構築物が、
２つのＡＡＶ  ＩＴＲ、ニワトリβアクチンプロモータ、単純ヘルペスウイルスチミジンキナーゼ（ＴＫ）プロモータ、ＳＶ４０ポリアデニル化シグナル、サイトメガロウイルス最初期プロモータエンハンサー、及びネオマイシン耐性マーカ；または、
２つのＡＡＶ  ＩＴＲ、サイトメガロウイルス最初期プロモータ、ＳＶ４０ポリアデニル化シグナル、サイトメガロウイルス最初期プロモータエンハンサー、及びアンピシリン耐性マーカ；または、
２つのＡＡＶ  ＩＴＲ、サイトメガロウイルス最初期プロモータ、ＳＶ４０ポリアデニル化シグナル、サイトメガロウイルス最初期プロモータエンハンサー、及びカナマイシン耐性マーカ；を含む、
請求項１または３に記載の治療用抗炎症組成物。
【請求項１７】
非ヒト対象における炎症性関節疾患を治療するための方法であって、
請求項１〜１６のいずれか一項に記載の治療用抗炎症組成物を、炎症を起こした関節に注射することを含む、方法。
【請求項１８】
炎症を起こした関節に６０日毎を超えない頻度で注射することを含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記関節が、膝、肘、手首、足首、腰、肩、又は脊椎である、請求項１７または１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記炎症性関節疾患が、関節炎、腱炎、滑液包炎、靭帯の炎症、滑膜炎、痛風、または全身性エリテマトーデスである、請求項１７〜１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
前記関節炎が、関節リウマチまたは骨関節炎である、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記非ヒト対象が、イヌである、請求項１７〜２１のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年3月23日(2020.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
３次元の物体を付加製造する装置であって、
プロセスガスの流れを生じさせるように構成された流れ生成ユニットと、
前記流れ生成ユニットから前記プロセスガスの流れを受け取るように構成された案内構造であって、第１の位置と第２の位置との間で可動モジュールを移動させるように構成された移動経路に沿って分散された複数のガス出口若しくはノズルを備える案内構造と、
前記プロセスガスの流れの流動特性を制御するように構成された制御ユニットと、
を備える装置であって、
前記可動モジュールが、供給された造形材料及び当該造形材料上のプロセスガス層を保持するように構成されたチャンバを備え、前記プロセスガス層が、前記造形材料を周囲空気から分離し、前記プロセスガスの流れが、前記造形材料上の前記プロセスガス層を回復又は維持するように提供され、
前記制御ユニットが、前記プロセスガスの流れの前記流動特性を制御して、少なくとも部分的に前記造形材料上の前記プロセスガス層を回復又は維持するように構成されることを特徴とする、
装置。
【請求項２】
プロセスチャンバを備え、
前記可動モジュールが、前記第１の位置に位置する場合、少なくとも部分的に前記プロセスチャンバ内に位置すると共に、前記第２の位置に位置する場合、前記プロセスチャンバの外側に位置することを特徴とする、
請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記案内構造が、少なくとも部分的に前記第１の位置と前記第２の位置との間で延びると共に、前記移動経路の上に位置することを特徴とする、請求項１又は２に記載の装置。
【請求項４】
前記制御ユニットが、前記複数のガス出口若しくはノズルのうちの少なくとも１つの開放状態を制御するように構成されることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記可動モジュールの近傍及び／又は前記可動モジュールの前記チャンバ内のプロセスガスの量に関するセンサ情報を判定するように構成された、少なくとも１つのセンサを備え、
前記制御ユニットが、前記センサ情報を受け取り、少なくとも部分的に前記センサ情報に基づいて前記プロセスガスの流れの前記流動特性を制御するように、構成されることを特徴とする、
請求項１〜４のいずれか一つに記載の装置。
【請求項６】
前記可動モジュールが、カバーを備え、前記カバーが、前記可動モジュールが前記第１の位置及び／又は前記第２の位置に位置する場合、取り外されて前記可動モジュールの前記チャンバを露出するように構成されると共に、前記流れ生成ユニットが、前記プロセスガスの流れを少なくとも部分的に前記チャンバ内へ供給するように構成されることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一つに記載の装置。
【請求項７】
前記第１の位置が、投与チャンバ及び／又は造形チャンバ及び／又は溢流チャンバ内に位置すると共に、前記第２の位置が、取扱いステーション及び／又は補充ステーション及び／又は濾過ステーション内に位置することを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一つに記載の装置。
【請求項８】
前記可動モジュールが投与モジュールから成ると共に、前記チャンバが粉末チャンバから成ることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一つに記載の装置。
【請求項９】
前記可動モジュールが造形モジュールから成ると共に、前記チャンバが造形チャンバから成ることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一つに記載の装置。
【請求項１０】
前記可動モジュールが溢流モジュールから成ると共に、前記チャンバが溢流チャンバから成ることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一つに記載の装置。
【請求項１１】
前記移動経路が、少なくとも部分的にトンネル構造内を通ることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一つに記載の装置。
【請求項１２】
前記流動特性が、圧力、流量、及び／又は温度を含むことを特徴とする、請求項１〜１１のいずれか一つに記載の装置。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか一つに従って構成された装置を少なくとも２つ備える工場。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月2日(2020.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
三次元的な物体を付加的に製造する装置のための、付加的に製造された三次元的な物体を取り出すために設置された、操作装置（１）であって、
操作チャンバ（２）を備える、操作装置（１）であって、
前記操作チャンバ（２）が、
操作チャンバ内室（４）と、
前記操作チャンバ内室（４）を画成する、少なくとも１つの操作チャンバ壁部（３）と、
前記操作チャンバ内室（４）へのアクセスを可能とする、アクセス開口部（５）と、
前記アクセス開口部に割り当てられた、閉鎖要素（６）と、
前記閉鎖要素（６）に配置された、少なくとも１つの操作要素（１０）と、
を備え、
少なくとも１つの前記アクセス開口部（５）が、前記閉鎖要素（６）をスライドすることによって開放可能及び閉鎖可能であり、
前記閉鎖要素（６）が、
前記閉鎖要素（６）が少なくとも１つの前記アクセス開口部（５）を開放する開放位置と、
前記閉鎖要素（６）が前記アクセス開口部（５）を閉鎖する閉鎖位置と、
の間で垂直方向にスライド移動可能に支持されることを特徴とする、
操作装置。
【請求項２】
前記少なくとも１つの操作要素（１０）が、ロボットによって作動可能な操作要素（１０）から成ることを特徴とする、請求項１に記載の操作装置。
【請求項３】
前記少なくとも１つの操作要素（１０）が、前記操作チャンバ内室（４）への隔離された介入を可能とする複数の手袋から成ることを特徴とする、請求項１又は２に記載の操作装置。
【請求項４】
前記閉鎖要素（６）が視認窓（９）を備え、前記少なくとも１つの操作要素（１０）が前記視認窓（９）に配置されることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の操作装置。
【請求項５】
前記少なくとも１つの操作チャンバ壁部（３）が、前記アクセス開口部（５）を備えると共に、垂直な空間軸線に関して１〜４５°の角度範囲で傾斜して延びるように配置又は形成されることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の操作装置。
【請求項６】
前記アクセス開口部（５）を備える前記少なくとも１つの操作チャンバ壁部（３）が、前記操作チャンバ（２）の下側を形成する操作チャンバ壁部（３）が前記操作チャンバ（２）の上側を形成する操作チャンバ壁部（３）よりも面積が大きいように、前記垂直な空間軸線に関して傾斜して延びるように配置又は形成され、前記操作チャンバ（２）の前記下側を形成する前記操作チャンバ壁部（３）が、少なくとも、前記操作チャンバ（２）の前記上側を形成する前記操作チャンバ壁部（３）を越えて突出する範囲で、前記閉鎖要素（６）の前記開放位置において、構造材料のための収集範囲（１１）を形成することを特徴とする、請求項５に記載の操作装置。
【請求項７】
前記閉鎖要素（６）が本体部（８）を備え、前記操作チャンバ（２）の上側の第１の部分を形成する取付要素（１２）が前記本体部（８）に配置又は形成されることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の操作装置。
【請求項８】
前記操作チャンバ（２）の前記上側の第２の部分を形成する前記操作チャンバ壁部（３）が、前記取付要素（１２）の幾何学的構造形状に適合した凹部（１３）を備えることを特徴とする、請求項７に記載の操作装置。
【請求項９】
前記取付要素（１２）と、前記凹部（１３）を備える前記操作チャンバ壁部（３）とが、前記閉鎖要素（６）の前記閉鎖位置において、共に前記操作チャンバ（２）の閉鎖された前記上側を形成することを特徴とする、請求項８に記載の操作装置。
【請求項１０】
前記閉鎖要素（６）と前記アクセス開口部（５）を備える前記操作チャンバ壁部（３）との間に配置又は形成されたシール要素（１４）を更に備えることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか１項に記載の操作装置。
【請求項１１】
前記シール要素（１４）が、充填媒体で充填可能なシール要素内室を有し、前記シール要素（１４）が、前記充填媒体で前記シール要素内室を充填することによって、第１の空間体積を占める充填されていない状態から、比較においてより大きな第２の空間体積を占める充填された状態へ移行可能であることを特徴とする、請求項１０に記載の操作装置。
【請求項１２】
前記閉鎖要素（６）の前記閉鎖位置において、前記アクセス開口部（５）を備える前記操作チャンバ壁部（３）における前記アクセス開口部（５）を画成する部分の範囲に又はこの範囲内に配置されている、前記閉鎖要素（６）の各部分に、前記シール要素（１４）が配置又は形成されることを特徴とする、請求項１０又は１１に記載の操作装置。
【請求項１３】
前記閉鎖位置へ移動された前記閉鎖要素（６）を検出するために設置された検出装置と、
前記検出装置に割り当て可能であるか又は割り当てられた充填装置であって、前記検出装置によって供給されると共に、前記閉鎖位置へ移動された前記閉鎖要素（６）を示す、閉鎖位置検出情報に基づいて、充填媒体でシール要素内室を充填するために設置された充填装置と、
を更に備えることを特徴とする、請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の操作装置。
【請求項１４】
前記閉鎖要素（６）に割り当てられた実装装置（７）であって、前記開放位置と前記閉鎖位置との間において前記閉鎖要素（６）をスライド移動可能に実装するために設置された実装装置（７）を、更に備えることを特徴とする、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の操作装置。
【請求項１５】
連続的で層ごとの選択的な照射と、これに伴う、エネルギービームによって凝固化可能な構造材料から成る構造材料層の連続的で層ごとの選択的な凝固化とによって、三次元的な物体を付加的に製造するための装置であって、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の少なくとも１つの操作装置（１）を備えることを特徴とする装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月18日(2020.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ケイ素原子とアルミニウム原子のゼオライト骨格材料を含むＳＣＲ触媒であって、ここで、前記ケイ素原子の一部分が４価の金属で同形置換されており、かつ前記触媒が、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｍｎ、Ｖ、Ａｇ及びそれらの組合せから選択される金属で促進され、
前記ゼオライト骨格材料が、ＡＥＩ、ＡＦＴ、ＡＦＸ、ＣＨＡ、ＥＡＢ、ＥＭＴ、ＥＲＩ、ＦＡＵ、ＧＭＥ、ＪＳＲ、ＫＦＩ、ＬＥＶ、ＬＴＬ、ＬＴＮ、ＭＯＺ、ＭＳＯ、ＭＷＷ、ＯＦＦ、ＳＡＳ、ＳＡＴ、ＳＡＶ、ＳＢＳ、ＳＢＴ、ＳＦＷ、ＳＳＦ、ＳＺＲ、ＴＳＣ、ＷＥＮ及びそれらの組合せから選択され、
前記ゼオライト骨格材料が、１〜３００の範囲のシリカ／アルミナのモル比を有し、
前記シリカ／４価の金属比が、Ｓｉの原子数／４価の金属の原子数として測定されて、５〜２０の範囲にあり、
前記４価の遷移金属がＴｉを含み、前記ゼオライト骨格材料はリン原子を含まない、前記ＳＣＲ触媒。
【請求項２】
前記シリカ／アルミナ比が、１〜５０の範囲にある、請求項１に記載の触媒。
【請求項３】
０．０００１〜１０００の範囲の４価の金属／アルミナ比を有する、請求項１に記載の触媒。
【請求項４】
前記４価の金属／アルミナ比が、０．０１〜１０の範囲にある、請求項３に記載の触媒。
【請求項５】
前記４価の金属／アルミナ比が、０．０１〜２の範囲にある、請求項４に記載の触媒。
【請求項６】
前記ゼオライト骨格材料が、１２以下の環サイズを有する、請求項１に記載の触媒。
【請求項７】
前記ゼオライト骨格材料がｄ６ｒユニットを含む、請求項６に記載の触媒。
【請求項８】
前記触媒が、Ｃｕ、Ｆｅ及びそれらの組合せで促進されている、請求項１に記載の触媒。
【請求項９】
前記触媒が、ＮＯ＋の形成を促進するのに有効である、請求項１に記載の触媒。
【請求項１０】
窒素酸化物（ＮＯｘ）を選択的に還元する方法であって、ＮＯｘを含有する排気ガス流を、請求項１〜９のいずれかに記載の触媒に接触させることを含む、前記方法。
【請求項１１】
アンモニアを含有する排気ガス流と、前記排気ガス流中のアンモニアの少なくとも一部を分解するのに有効である請求項１〜９のいずれかに記載の触媒とを含む排気ガス処理システム。
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月14日(2020.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
円板状のウェハを吸引保持する円板状のチャックと、該チャックと一体に回転するチャックベースを有する回転チャックテーブルと、該回転チャックテーブル上のウェハを研削する回転加工ホイールと、前記回転チャックテーブル上に研削水を供給するノズルと、を備えるウェハの高精度加工装置であって、
前記回転チャックテーブルは、加工前及び加工後の前記回転チャックテーブルの温度を加工時の前記回転チャックテーブルの温度と略等しく保持するための恒温チラー水を流す水路を設けた恒温制御部を有する、ことを特徴とするウェハの高精度加工装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明は上記目的を達成するために提案されたものであり、請求項１記載の発明は、円板状のウェハを吸引保持する円板状のチャックと、該チャックと一体に回転するチャックベースを有する回転チャックテーブルと、該回転チャックテーブル上のウェハを研削する回転加工ホイールと、前記回転チャックテーブル上に研削水を供給するノズルと、を備えるウェハの高精度加工装置であって、前記回転チャックテーブルは、加工前及び加工後の前記回転チャックテーブルの温度を加工時の前記回転チャックテーブルの温度と略等しく保持するための恒温チラー水を流す水路を設けた恒温制御部を有する、ウェハの高精度加工装置を提供する。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月24日(2020.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークテーブルにダイシングテープを介してワークを保持した状態で、スピンドルにより回転するブレードと前記ワークテーブルとを相対移動させてダイシング加工を行うダイシング方法であって、
前記ワークが貼り付けられていない前記ダイシングテープの表面領域において切削痕を形成するステップであって、前記ブレードと前記ワークテーブルとの相対移動に伴って前記ブレードを前記ダイシングテープから離れる方向に移動させて切削痕消失点を１つ形成する形成ステップと、
前記形成ステップにおいて形成した１つの前記切削痕消失点の位置に関する情報を含む切削痕情報を検出する検出ステップと、
前記切削痕情報から前記ブレードの径を算出し、前記ブレードの径に基づき、前記ダイシングテープへの切り込み深さが一定となるように前記ブレードの高さを制御する制御ステップと、
を備えるダイシング方法。
【請求項２】
前記切削痕を形成する際の各時点におけるブレードの位置に関するログデータを記憶するステップを更に備え、
前記検出ステップにおいて、前記切削痕消失点の位置に関する情報を前記ログデータから取得する、
請求項１記載のダイシング方法。
【請求項３】
前記形成ステップにおいて、前記ワークの切り抜け側のダイシングテープ領域に前記切削痕を形成する、
請求項１又は２記載のダイシング方法。
【請求項４】
前記形成ステップ及び前記検出ステップは、少なくとも１の加工ラインおきに行われる、
請求項１から３のいずれか１項記載のダイシング方法。
【請求項５】
ワークテーブルにダイシングテープを介してワークを保持した状態で、スピンドルにより回転するブレードと前記ワークテーブルとを相対移動させてダイシング加工を行うダイシング装置であって、
前記ワークが貼り付けられていない前記ダイシングテープの表面領域において切削痕を形成する切削痕形成制御部であって、前記ブレードと前記ワークテーブルとの相対移動に伴って前記ブレードを前記ダイシングテープから離れる方向に移動させて切削痕消失点を１つ形成する切削痕形成制御部と、
前記切削痕形成制御部によって形成した１つの前記切削痕消失点の位置に関する情報を含む切削痕情報を検出する切削痕検出部と、
前記切削痕検出部が検出した前記切削痕情報に基づき、前記ダイシングテープへの切り込み深さが一定となるように前記ブレードの高さを制御する制御部と、
を備えるダイシング装置。
【請求項６】
前記ワークテーブルの対向位置に配置された撮像装置を備え、
前記切削痕検出部は、前記撮像装置で撮像された前記ダイシングテープの表面領域の画像データに基づいて前記切削痕情報を検出する、
請求項５に記載のダイシング装置。
【請求項７】
前記撮像装置はアライメント用カメラで構成される、
請求項６に記載のダイシング装置。
【請求項８】
前記ワークテーブルの対向位置に配置された距離測定装置を備え、
前記切削痕検出部は、前記距離測定装置で測定された前記ダイシングテープの表面領域までの距離を示す距離データに基づいて前記切削痕情報を検出する、
請求項５に記載のダイシング装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月24日(2020.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークテーブルにダイシングテープを介してワークを保持した状態で、スピンドルにより回転するブレードと前記ワークテーブルとを相対移動させてダイシング加工を行うダイシング装置であって、
前記ワークが貼り付けられていない前記ダイシングテープの表面領域に形成された切削痕情報を検出する切削痕検出部と、
前記切削痕検出部が検出した前記切削痕情報に基づき、前記ダイシングテープへの切り込み深さが一定となるように前記ブレードの高さを制御する制御部とを備え、
前記切削痕情報は、前記ブレードと前記ワークテーブルとを前記ワークの分割予定ラインに沿う切削送り方向に相対移動させた場合に前記ダイシングテープの表面領域に形成される、切削痕の前記切削送り方向の長さに関する情報を含み、
前記切削痕検出部は、前記切削痕情報に基づいて前記ダイシングテープの表面領域における切削痕形成率を算出し、
前記制御部は、前記切削痕検出部が算出した前記切削痕形成率に基づいて、前記切削痕形成率が一定の範囲内となるように前記ブレードの高さを制御する、ダイシング装置。
【請求項２】
前記ワークテーブルの対向位置に配置された撮像装置を備え、
前記切削痕検出部は、前記撮像装置で撮像された前記ダイシングテープの表面領域の画像データに基づいて前記切削痕情報を検出する、
請求項１に記載のダイシング装置。
【請求項３】
前記撮像装置はアライメント用カメラで構成される、
請求項２に記載のダイシング装置。
【請求項４】
前記ワークテーブルの対向位置に配置された距離測定装置を備え、
前記切削痕検出部は、前記距離測定装置で測定された前記ダイシングテープの表面領域までの距離を示す距離データに基づいて前記切削痕情報を検出する、
請求項１に記載のダイシング装置。
【請求項５】
ワークテーブルにダイシングテープを介してワークを保持した状態で、スピンドルにより回転するブレードと前記ワークテーブルとを相対移動させてダイシング加工を行うダイシング方法であって、
前記ワークが貼り付けられていない前記ダイシングテープの表面領域に形成された切削痕情報を検出する検出ステップと、
前記検出ステップで検出した前記切削痕情報に基づき、前記ダイシングテープへの切り込み深さが一定となるように前記ブレードの高さを制御する制御ステップとを備え、
前記切削痕情報は、前記ブレードと前記ワークテーブルとを前記ワークの分割予定ラインに沿う切削送り方向に相対移動させた場合に前記ダイシングテープの表面領域に形成される、切削痕の前記切削送り方向の長さに関する情報を含み、
前記検出ステップでは、前記切削痕情報に基づいて前記ダイシングテープの表面領域における切削痕形成率を算出し、
前記制御ステップでは、前記切削痕形成率に基づいて、前記切削痕形成率が一定の範囲内となるように前記ブレードの高さを制御する、ダイシング方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月17日(2020.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リーディングエッジ及びトレーリングエッジが形成されたエアフォイルと、
前記エアフォイルの両端に配置されてエアフォイルを支持する内側及び外側シュラウドと
を含み、
前記内側又は外側シュラウドは、
前記リーディングエッジとトレーリングエッジを連結する第１方向の少なくともいずれか一方の端部の内部に冷却空気が流動するように冷却チャンバが形成され、
前記内側又は外側シュラウドは、
板面が前記エアフォイルに向かうように配置される板状のプラットフォーム部と、
前記プラットフォーム部において前記エアフォイルと接する板面の反対面上に配置され、前記プラットフォーム部から外側に延びて形成されるルート部とを含み、
前記冷却チャンバは、
前記プラットフォーム部において前記第１方向の端部に配置され、複数個の区域で形成され、
前記複数個の区域を連結する連結孔を備える、タービンベーン。
【請求項２】
前記プラットフォーム部は、前記プラットフォーム部の表面と内部を連通させる複数個の冷却孔を含み、
前記冷却チャンバは、前記冷却孔のうちの一部と連通し、
前記冷却空気は、前記冷却チャンバ及び前記冷却孔に沿って移動する、請求項１に記載のタービンベーン。
【請求項３】
前記エアフォイルは、内部に冷却空気が流動する冷却チャネルを含み、
前記冷却チャンバは、前記エアフォイルの冷却チャネルと連通し、
前記冷却空気は、前記冷却チャンバ及び前記冷却チャネルに沿って移動する、請求項１または２に記載のタービンベーン。
【請求項４】
前記外側シュラウドの冷却チャンバは、前記エアフォイルの冷却チャネルを介して前記内側シュラウドの冷却チャンバと連通し、
前記冷却空気は、前記エアフォイルの冷却チャネルを介して前記内側及び外側シュラウドの冷却チャンバを通過する、請求項３に記載のタービンベーン。
【請求項５】
前記冷却チャンバは、
前記第１方向と前記プラットフォーム部の平面上で交差する第２方向に延びる空間を備える、請求項１から４の何れか一項に記載のタービンベーン。
【請求項６】
前記冷却チャンバの底面又は天井面には複数個の突起が配列される、請求項５に記載のタービンベーン。
【請求項７】
前記冷却チャンバの底面又は天井面には、山と谷が繰り返されて形成される、請求項５に記載のタービンベーン。
【請求項８】
前記冷却チャンバは、
前記複数個の区域が、前記第１方向と交差する第２方向に並んで配列される、請求項１から７の何れか一項に記載のタービンベーン。
【請求項９】
前記冷却チャンバは、
前記第２方向を基準として、前記連結孔が前記複数個の区域をジグザグ状に連結する、請求項８に記載のタービンベーン。
【請求項１０】
前記冷却チャンバは、
前記複数個の区域が、前記第１方向と交差する第２方向にジグザグ状に配列される、請求項１から７の何れか一項に記載のタービンベーン。
【請求項１１】
前記冷却チャンバは、
前記複数個の区域が、前記第１方向と交差する第２方向に延びて形成され、第１方向に並んで配列される、請求項１から７の何れか一項に記載のタービンベーン。
【請求項１２】
流入する空気を圧縮する圧縮機と、
前記圧縮機からの圧縮された空気と燃料を混合して燃焼させる燃焼器と、
前記燃焼器からの燃焼したガスで動力を発生させ、タービンベーンを備えるタービンとを含み、
前記タービンベーンは、
リーディングエッジ及びトレーリングエッジが形成されたエアフォイルと、
前記エアフォイルの両端に配置されてエアフォイルを支持する内側及び外側シュラウドと
を含み、
前記内側又は外側シュラウドは、
前記リーディングエッジとトレーリングエッジを連結する第１方向の少なくともいずれか一方の端部の内部に冷却空気が流動するように冷却チャンバが形成され、
前記内側又は外側シュラウドは、
板面が前記エアフォイルに向かうように配置される板状のプラットフォーム部と、
前記プラットフォーム部において前記エアフォイルと接する板面の反対面上に配置され、前記プラットフォーム部から外側に延びて形成されるルート部とを含み、
前記冷却チャンバは、
前記プラットフォーム部において前記第１方向の端部に配置され、複数個の区域で形成され、
前記複数個の区域を連結する連結孔を備える、ガスタービン。
【請求項１３】
前記冷却チャンバは、
前記複数個の区域が、前記第１方向と交差する第２方向に並んで配列され、  前記第２方向を基準として、前記連結孔が前記複数個の区域をジグザグ状に連結する、請求項１２に記載のガスタービン。
【請求項１４】
前記冷却チャンバの底面又は天井面には複数個の突起が配列される、請求項１２または１３に記載のガスタービン。
【請求項１５】
前記冷却チャンバの底面又は天井面には、山と谷が繰り返されて形成される、請求項１２または１３に記載のガスタービン。