Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月3日(2020.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可変表示を行い、遊技者にとって有利な有利状態に制御可能な遊技機であって、
遊技媒体が通過可能な通過有利状態と遊技媒体が通過不能または困難な通過不利状態とに変化可能な可変手段と、
前記可変手段の下流側に設けられ、通過有利状態と通過不利状態とに変化可能な所定可変手段と、
複数の開放パターンのうちのいずれかの開放パターンにより前記可変手段を制御可能な可変手段制御手段と、
前記可変手段を遊技媒体が通過したことにもとづいて可変表示を実行可能な可変表示実行手段と、
可変表示の表示結果として所定表示結果が表示されたときに、前記所定可変手段を通過有利状態に変化させる所定状態に制御可能な所定状態制御手段と、
前記有利状態および前記所定状態とは異なる状態であって遊技者にとって有利な特別状態に制御可能な特別状態制御手段と、
第１有利状態と第２有利状態とを含む複数種類の前記有利状態に制御可能な有利状態制御手段と、
前記有利状態に制御されることを特定可能な有利状態信号を外部出力可能な有利状態信号出力手段と、
を備え、
前記特別状態制御手段は、
前記特別状態として、第１特別状態と、該第１特別状態と比較して前記所定状態の制御によって遊技価値を付与しやすい第２特別状態とに制御可能であり、
前記第１有利状態の終了後に前記第１特別状態に制御可能であるとともに、前記第２有利状態の終了後に前記第２特別状態に制御可能であり、
前記可変始動制御手段は、
前記複数の開放パターンのうち非特定開放パターンよりも前記所定可変手段に遊技媒体が流下しやすい特定開放パターンにより前記可変始動手段を制御可能であり、
前記第１特別状態に制御されている場合と前記第２特別状態に制御されている場合とで、異なる割合で前記特定開放パターンにより前記可変手段を制御可能である、
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
（Ａ）可変表示を行い、遊技者にとって有利な有利状態に制御可能な遊技機であって、遊技媒体が通過可能な通過有利状態と遊技媒体が通過不能または困難な通過不利状態とに変化可能な可変手段と、前記可変手段の下流側に設けられ、通過有利状態と通過不利状態とに変化可能な所定可変手段と、複数の開放パターンのうちのいずれかの開放パターンにより前記可変手段を制御可能な可変手段制御手段と、前記可変手段を遊技媒体が通過したことにもとづいて可変表示を実行可能な可変表示実行手段と、可変表示の表示結果として所定表示結果が表示されたときに、前記所定可変手段を通過有利状態に変化させる所定状態に制御可能な所定状態制御手段と、前記有利状態および前記所定状態とは異なる状態であって遊技者にとって有利な特別状態に制御可能な特別状態制御手段と、第１有利状態と第２有利状態とを含む複数種類の前記有利状態に制御可能な有利状態制御手段と、前記有利状態に制御されることを特定可能な有利状態信号を外部出力可能な有利状態信号出力手段と、を備え、前記特別状態制御手段は、前記特別状態として、第１特別状態と、該第１特別状態と比較して前記所定状態の制御によって遊技価値を付与しやすい第２特別状態とに制御可能であり、前記第１有利状態の終了後に前記第１特別状態に制御可能であるとともに、前記第２有利状態の終了後に前記第２特別状態に制御可能であり、前記可変始動制御手段は、前記複数の開放パターンのうち非特定開放パターンよりも前記所定可変手段に遊技媒体が流下しやすい特定開放パターンにより前記可変始動手段を制御可能であり、前記第１特別状態に制御されている場合と前記第２特別状態に制御されている場合とで、異なる割合で前記特定開放パターンにより前記可変手段を制御可能である、ことを特徴とする。
（手段１）本発明による遊技機は、可変表示を行い、遊技者にとって有利な有利状態（例えば、大当り遊技状態）に制御可能な遊技機であって、遊技媒体（例えば、遊技球）が進入可能な進入有利状態（例えば、開状態）と遊技媒体が進入不能または困難な進入不利状態（例えば、閉状態）とに変化可能な可変始動装置（例えば、可変入賞球装置１５）と、可変始動装置の下流側に設けられ、進入有利状態と進入不利状態とに変化可能な所定可変装置（例えば、特殊可変入賞球装置２２）と、複数の開放パターンのうちのいずれかの開放パターンにより可変始動装置を制御可能な可変始動装置制御手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０におけるステップＳ２６Ｃを実行することにより、図１５（１），（２）に示すように、可変入賞球装置１５を５．５秒または０．５秒開放状態に制御する部分）と、可変始動装置に遊技媒体が進入したことにもとづいて可変表示を実行可能な可変表示実行手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０におけるステップＳ３００〜Ｓ３０４，Ｓ３５０〜Ｓ３５４を実行する部分）と、可変表示の表示結果が所定表示結果（例えば、小当り図柄）となったことにもとづいて、所定可変装置を進入有利状態に変化させる所定状態（例えば、小当り遊技状態）に制御可能な所定状態制御手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０におけるステップＳ３５８〜Ｓ３６０を実行する部分）と、所定状態に制御される頻度を高めた特別状態（例えば、ＫＴ状態）に制御可能な特別状態制御手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０におけるステップＳ２２０８Ａ，Ｓ２２１１Ａ，Ｓ２２１２Ａ，Ｓ２２０９Ｂ，Ｓ２２１０Ｂ，Ｓ２２１３Ｂ，Ｓ２２１４Ｂを実行する部分）とを備え、特別状態制御手段は、特別状態として、第１特別状態（例えば、高確率／第１ＫＴ状態）と、該第１特別状態とは有利度合いが異なる第２特別状態（例えば、高確率／第２ＫＴ状態）とに制御可能であり、可変始動装置制御手段は、複数の開放パターンのうち非特定開放パターンよりも所定可変装置に遊技媒体が流下しやすい特定開放パターンにより可変始動装置を制御可能であり（例えば、図１５（２）に示すように、可変入賞球装置１５を０．５秒間だけ開放する）、第１特別状態に制御されている場合と第２特別状態に制御されている場合とで、異なる割合で特定開放パターンにより可変始動装置を制御可能である（例えば、第１ＫＴ状態では、図１５（１）に示すように、可変入賞球装置１５を５．５秒間開放し、第２ＫＴ状態では、図１５（２）に示すように、可変入賞球装置１５を０．５秒間だけ開放する）ことを特徴とする。そのような構成によれば、特別状態における遊技性の単調さを解消することができ、特別状態に制御する場合の遊技の興趣を向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月10日(2020.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技盤の前側に形成された遊技領域に向けて遊技球を発射することによって遊技を行う遊技機において、
前記遊技領域に設けられて、上方に向けて開口した開口部を有する入球口と、
前記遊技領域を前後方向に移動することにより、前記入球口に前記遊技球が入球不能に前記開口部を覆った閉鎖状態と、前記入球口に前記遊技球が入球可能に前記開口部を開放した開放状態とを切り換える開閉板と、
前記入球口に向かって下る傾斜によって前記遊技球を該入球口へと誘導するガイド通路と、
前記入球口に対して前記ガイド通路とは反対側に設けられて、該ガイド通路上を転動しながらも前記入球口に入球しなかった遊技球を受ける受け通路と
を備え、
前記受け通路は、前記ガイド通路における前記入球口側の端部から該ガイド通路と同じ傾斜で延ばした延長線よりも下げて配置されている
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上述した課題の少なくとも一部を解決するために、本発明の遊技機は次の構成を採用した。すなわち、
遊技盤の前側に形成された遊技領域に向けて遊技球を発射することによって遊技を行う遊技機において、
前記遊技領域に設けられて、上方に向けて開口した開口部を有する入球口と、
前記遊技領域を前後方向に移動することにより、前記入球口に前記遊技球が入球不能に前記開口部を覆った閉鎖状態と、前記入球口に前記遊技球が入球可能に前記開口部を開放した開放状態とを切り換える開閉板と、
前記入球口に向かって下る傾斜によって前記遊技球を該入球口へと誘導するガイド通路と、
前記入球口に対して前記ガイド通路とは反対側に設けられて、該ガイド通路上を転動しながらも前記入球口に入球しなかった遊技球を受ける受け通路と
を備え、
前記受け通路は、前記ガイド通路における前記入球口側の端部から該ガイド通路と同じ傾斜で延ばした延長線よりも下げて配置されている
ことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月30日(2020.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
コート層(3)は、アルミニウム箔層(2)の両面のうちミニカップの外面となる面に形成される場合と、同内面となる面に形成される場合とがある。ミニカップの外面となる面に形成されたコート層(3)は、アルミニウム箔層(2)の傷などからの表面保護や、例えばアルミニウム以外の金属製（例えばステンレス製）容器などと接触した際に起きる腐食を防止する役割を果たしている。また、ミニカップの内面となる面に形成されたコート層(3)は、例えば内容物から発生する汁などからのアルミニウム箔層(2)の腐食防止の役割を果たしている。また、コート層(3)には、内容物調理時の加熱によって溶融しない程度の耐熱性が要求されるとともに、溶剤によって容易に剥がれない耐溶剤性が要求される。コート層(3)の厚さは、０．５〜３μｍ、好ましくは１〜２.５μｍとなされる。コート層(3)の厚さが０．５μｍ未満であると、同層を形成する膜の強度不足や腐食が発生しやすくなり、一方、同厚さが３μｍを超えると、容器の成形不良や成形後の割れが起きやすくなり、コストも高くなる。なお、アルミニウム箔層(2)の他面にも、同様のコート層を形成してよい。
コート層(3)を形成するために用いられるコート剤は、樹脂成分としてメラミン樹脂およびエポキシ樹脂を含んでいるとともに、ブロックイソシアネートを含んでいる。コート剤の溶剤以外の成分（固形分成分）の配合比（重量比）は、好適には、メラミン樹脂１０〜２０、エポキシ樹脂４０〜７０、ブロックイソシアネート１０〜５０となされる。また、コート剤は、上記の固形分成分、すなわちコート層(3)（塗膜）形成成分に加えて、耐熱性顔料を含んでいてもよい。その場合、意匠性の効果も発生する。耐熱性顔料としては、例えば、カーボンブラック（黒色）、フロシアニンブルー（青色）、二酸化チタン（白色）等が用いられる。
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月14日(2020.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技者の有利度に対応する設定値を設定する設定手段と、
動作電力の供給が開始される場合に第１設定関連操作が行われたことに基づいて、前記設定手段による前記設定値の設定を行うことが可能な設定可能状況となるようにする状況発生手段と、
動作電力の供給が開始される場合に第２設定関連操作が行われたことに基づいて、前記設定手段により設定されている前記設定値が報知されるようにする報知発生手段と、
を備え、
前記設定可能状況の途中で動作電力の供給が停止された場合、その後に動作電力の供給が開始される場合に前記第２設定関連操作が行われたとしても前記報知発生手段による前記設定値の報知が行われることはなく、前記設定手段による前記設定値の設定を行うことが可能な設定可能状況を終了させないと遊技を進行させるための所定進行処理が開始されない構成であることを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決すべく請求項１記載の発明は、遊技者の有利度に対応する設定値を設定する設定手段と、
動作電力の供給が開始される場合に第１設定関連操作が行われたことに基づいて、前記設定手段による前記設定値の設定を行うことが可能な設定可能状況となるようにする状況発生手段と、
動作電力の供給が開始される場合に第２設定関連操作が行われたことに基づいて、前記設定手段により設定されている前記設定値が報知されるようにする報知発生手段と、
を備え、
前記設定可能状況の途中で動作電力の供給が停止された場合、その後に動作電力の供給が開始される場合に前記第２設定関連操作が行われたとしても前記報知発生手段による前記設定値の報知が行われることはなく、前記設定手段による前記設定値の設定を行うことが可能な設定可能状況を終了させないと遊技を進行させるための所定進行処理が開始されない構成であることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月14日(2020.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技者の有利度に対応する設定値を設定する設定手段と、
動作電力の供給が開始される場合に第１設定関連操作が行われたことに基づいて、前記設定手段による前記設定値の設定を行うことが可能な設定可能状況となるようにする状況発生手段と、
動作電力の供給が開始される場合に第２設定関連操作が行われたことに基づいて、前記設定手段により設定されている前記設定値が報知されるようにする報知発生手段と、
を備え、
前記設定可能状況の途中で動作電力の供給が停止された場合、その後に動作電力の供給が開始される場合に前記第２設定関連操作が行われたとしても前記報知発生手段による前記設定値の報知が行われることはなく、前記設定手段による前記設定値の設定を行うことが可能な設定可能状況を終了させないと遊技を進行させるための所定進行処理が開始されない構成であることを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
ここで、上記例示等のような遊技機においては、遊技機の有利度を決定付ける設定値に関する構成を好適なものとする必要があり、この点について未だ改良の余地がある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、上記例示した事情等に鑑みてなされたものであり、遊技機の有利度を決定付ける設定値に関する構成を好適なものとすることが可能な遊技機を提供することを目的とするものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決すべく請求項１記載の発明は、遊技者の有利度に対応する設定値を設定する設定手段と、
動作電力の供給が開始される場合に第１設定関連操作が行われたことに基づいて、前記設定手段による前記設定値の設定を行うことが可能な設定可能状況となるようにする状況発生手段と、
動作電力の供給が開始される場合に第２設定関連操作が行われたことに基づいて、前記設定手段により設定されている前記設定値が報知されるようにする報知発生手段と、
を備え、
前記設定可能状況の途中で動作電力の供給が停止された場合、その後に動作電力の供給が開始される場合に前記第２設定関連操作が行われたとしても前記報知発生手段による前記設定値の報知が行われることはなく、前記設定手段による前記設定値の設定を行うことが可能な設定可能状況を終了させないと遊技を進行させるための所定進行処理が開始されない構成であることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明によれば、遊技機の有利度を決定付ける設定値に関する構成を好適なものとすることが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月14日(2020.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ボトムと操作受付部とを備え、  
前記ボトムが水平状態で高さが第１値以下のときに前記操作受付部が第１操作を受け付けたら、前記ボトム全体の床面に対する第１角度が変化している第２動作を行う間の少なくとも一部において、前記ボトムが高くなりつつ前記第１角度が大きくなる第１動作を行う、電動ベッド。
【請求項２】
前記第１動作において、前記ボトムが高くなりつつ、前記ボトムの背ボトムの床面に対する第２角度が変化する、請求項１に記載の電動ベッド。
【請求項３】
前記第１動作において、前記ボトムが高くなりつつ、前記ボトムの膝ボトムの床面に対する第３角度が変化する、請求項１または２に記載の電動ベッド。
【請求項４】
前記第２動作において、前記第１角度及び前記第２角度の少なくともいずれかが変化し始めると同時に、前記高さが高くなり始める、請求項３に記載の電動ベッド。
【請求項５】
前記第１動作において、前記第１角度が変化し始めると同時に、前記高さが高くなり始める、請求項１〜４のいずれか１つに記載の電動ベッド。
【請求項６】
前記第２動作において、前記第２角度が変化し始めると同時に、前記高さが高くなり始める、請求項５に記載の電動ベッド。
【請求項７】
前記第２動作において、前記第３角度が変化し始めると同時に、前記高さが高くなり始める、請求項５に記載の電動ベッド。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月26日(2019.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のゲーム装置と通信可能な第２のゲーム装置とを含むゲームシステムであって、
前記第１のゲーム装置は、
前記第１のゲーム装置を操作するユーザの操作に応じた仮想空間内の指示方向に基づいて、
前記仮想空間内のゲーム要素、または、前記仮想空間内のゲーム要素の位置、を特定する特定部と、
前記特定部による特定結果に応じた前記仮想空間内の位置を表す位置指定画像の、
前記第１のゲーム装置の第１の表示部への表示を可能とするための第１情報を生成する生成部と、
を備え、
前記第１情報は、
前記第２のゲーム装置が、
前記仮想空間を表す前記第１の表示部の表示画像内の前記ゲーム要素の位置に対応する、
前記第２のゲーム装置に備えられた第２の表示部の表示画像内の位置に、
前記位置指定画像を表示させるための情報であり、
前記第２のゲーム装置は、
前記第１のゲーム装置との通信により得られた前記第１情報に基づく前記位置指定画像により表される前記仮想空間内の位置と、前記第２のゲーム装置を操作するユーザの操作対象であるゲーム要素が前記仮想空間内において存在する位置との距離を表示させるための情報を、
前記位置指定画像とともに前記第２の表示部に表示させる、
ことを特徴とする、ゲームシステム。
【請求項２】
第１のゲーム装置と通信可能な第２のゲーム装置とを含むゲームシステムであって、
前記第１のゲーム装置は、
前記第１のゲーム装置を操作するユーザの操作に応じた仮想空間内の指示方向に基づいて、
前記仮想空間内のゲーム要素、または、前記仮想空間内のゲーム要素の位置、を特定する特定部と、
前記特定部による特定結果に応じた前記仮想空間内の位置を表す位置指定画像の、
前記第１のゲーム装置の第１の表示部への表示を可能とするための第１情報を生成する生成部と、
前記仮想空間において生じたイベントに係る履歴の、
前記ゲーム装置の前記表示部への表示を可能とするための第４情報を生成する履歴管理部と、
を備え、
前記第１情報は、
前記第２のゲーム装置が、
前記仮想空間を表す前記第１の表示部の表示画像内の前記ゲーム要素の位置に対応する、
前記第２のゲーム装置に備えられた第２の表示部の表示画像内の位置に、
前記位置指定画像を表示させるための情報であり、
前記第４情報は、
前記第２のゲーム装置の前記第２の表示部に前記仮想空間において生じた前記イベントに係る履歴を表示させるための情報であり、
前記イベントには、
前記特定部による、前記仮想空間内のゲーム要素、または、前記仮想空間内のゲーム要素の位置、の特定が含まれる、
ことを特徴とする、ゲームシステム。
【請求項３】
第１のゲーム装置と通信可能な第２のゲーム装置とを含むゲームシステムであって、
前記第１のゲーム装置は、
前記第１のゲーム装置を操作するユーザの操作に応じた仮想空間内の指示方向に基づいて、
前記仮想空間内のゲーム要素、または、前記仮想空間内のゲーム要素の位置、を特定する特定部と、
前記特定部による特定結果に応じた前記仮想空間内の位置を表す位置指定画像の、
前記第１のゲーム装置の第１の表示部への表示を可能とするための第１情報を生成する生成部と、
を備え、
前記第１情報は、
前記第２のゲーム装置が、
前記仮想空間を表す前記第１の表示部の表示画像内の前記ゲーム要素の位置に対応する、
前記第２のゲーム装置に備えられた第２の表示部の、仮想空間を表す画像とは別の、前記仮想空間を表す地図を表示させる画像内の位置に、
前記位置指定画像を表示させるための情報である、
ことを特徴とする、ゲームシステム。
【請求項４】
前記特定部は、
前記仮想空間において、
前記指示方向に延在する直線と交差するゲーム要素、または、前記直線と交差するゲーム要素の位置、を特定する、
ことを特徴とする、請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載のゲームシステム。
【請求項５】
前記第２の表示部に前記仮想空間を表す画像を表示させ、
前記直線の一部または全部を表す直線画像を、前記第２の表示部に表示させた前記仮想空間を表す画像内に表示させる表示制御部と、
を更に備え、
前記表示制御部は、
仮想カメラから見た前記仮想空間を表す画像を、前記第２の表示部に表示させ、
前記直線は、
前記仮想カメラと交差する、
ことを特徴とする、請求項４に記載のゲームシステム。
【請求項６】
前記第１のゲーム装置を操作するユーザの操作に基づいて、
前記ゲーム要素と関連付けられた指定メッセージの入力を受け付ける入力受付部、
を更に備え、
前記生成部は、
前記第２の表示部への前記指定メッセージに応じた表示を可能とするための第２情報を生成する、
ことを特徴とする、請求項１乃至５のうち何れか１項に記載のゲームシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ゲームシステム
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月27日(2020.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像装置で撮像された複数の画像間の動き情報を検出することで、複数の画像領域の動き情報を検出する検出手段と、
前記複数の画像領域の距離情報に基づいて、前記複数の画像領域から対象領域を選択する選択手段と、
前記撮像装置の動き情報と前記選択手段により選択された対象領域の動き情報とに基づいて、前記対象領域に存在する被写体の像ブレを補正する制御手段と、を備える
ことを特徴とする像ブレ補正装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記撮像装置の動き情報と前記選択手段により選択された対象領域の動き情報とに基づいて、前記撮像装置に対する前記対象領域に存在する被写体の角速度データを算出し、算出された角速度データに基づいて前記対象領域に存在する被写体の像ブレを補正する
ことを特徴とする請求項１に記載の像ブレ補正装置。
【請求項３】
前記選択手段は、前記複数の画像領域の距離情報に基づいて、前記複数の画像領域か至近方向となる領域を前記対象領域として選択する
ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の像ブレ補正装置。
【請求項４】
前記複数の画像領域の距離情報を取得する取得手段をさらに備え、
前記取得手段は、オートフォーカス用の位相差検出手段による検出信号、または、撮像手段による画像信号のコントラストの評価値、または、像面位相差式の撮像素子による画像信号を用いて前記距離情報を取得する
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の像ブレ補正装置。
【請求項５】
前記検出手段によって前記複数の画像領域の動き情報を検出する範囲は、前記取得手段によって前記距離情報を取得する範囲よりも大きくない
ことを特徴とする請求項４に記載の像ブレ補正装置。
【請求項６】
前記距離情報をユーザの操作に応じて設定する設定手段をさらに備える
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の像ブレ補正装置。
【請求項７】
前記制御手段は、撮像光学系の焦点距離、フレームレート、および撮像素子の画素ピッチを用いて、前記被写体の角速度データを算出する
ことを特徴とする請求項２に記載の像ブレ補正装置。
【請求項８】
前記制御手段は、前記フレームレートが閾値より小さく、かつ、至近方向における前記動き量が取得できる場合、画面内の焦点検出枠に最も近い位置を起点として、周囲の至近方向に位置する領域の動き量を積算することで前記被写体の動き量を算出する
ことを特徴とする請求項７に記載の像ブレ補正装置。
【請求項９】
流し撮りを支援するモードを設定するモード設定手段をさらに備え、
前記制御手段は、前記モードが設定された場合、前記撮像装置の動き情報と前記選択手段により選択された前記対象領域の動き情報とに基づいて、前記対象領域に存在する被写体の像ブレを補正する
ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の像ブレ補正装置。
【請求項１０】
前記制御手段は、補正レンズの位置を制御することで前記被写体の像ブレを補正する
ことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の像ブレ補正装置。
【請求項１１】
撮像手段と、
像ブレ補正装置と、を備える撮像装置であって、
前記像ブレ補正装置は、
前記撮像装置で撮像された複数の画像間の動き情報を検出することで、複数の画像領域の動き情報を検出する検出手段と、
前記複数の画像領域の距離情報に基づいて、前記複数の画像領域から対象領域を選択する選択手段と、
前記撮像装置の動き情報と前記選択手段により選択された対象領域の動き情報とに基づいて、前記対象領域に存在する被写体の像ブレを補正する制御手段と、を有する
ことを特徴とする撮像装置。
【請求項１２】
前記撮像装置の振れを検出する振れ検出手段と、
流し撮りを支援するモードを設定するモード設定手段と、
前記モードが設定された場合、前記振れ検出手段による検出信号および被写体の角速度から流し撮り用のシャッタ速度を算出してシャッタ制御を行うシャッタ制御手段と、を備える
ことを特徴とする請求項１１に記載の撮像装置。
【請求項１３】
請求項１１または請求項１２に記載の撮像装置の本体部に装着可能なレンズ装置であって、
像ブレ補正手段と、
レンズ装置の振れを検出する検出手段と、
前記検出手段による検出信号と、前記撮像装置の本体部から取得した撮像装置に対する被写体の角速度データとの差分から制御量を算出して前記像ブレ補正手段を制御する制御手段と、を備える
ことを特徴とするレンズ装置。
【請求項１４】
像ブレ補正装置で実行される制御方法であって、
撮像装置で撮像された複数の画像間の動き情報を検出することで、複数の画像領域の動き情報を検出する検出工程と、
前記複数の画像領域の距離情報に基づいて、前記複数の画像領域から対象領域を選択する選択工程と、
前記撮像装置の動き情報と前記選択工程により選択された対象領域の動き情報とに基づいて、前記対象領域に存在する被写体の像ブレを補正する制御工程と、を有する
ことを特徴とする制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の一実施形態の像ブレ補正装置は、撮像装置で撮像された複数の画像間の動き情報を検出することで、複数の画像領域の動き情報を検出する検出手段と、前記複数の画像領域の距離情報に基づいて、前記複数の画像領域から対象領域を選択する選択手段と、前記撮像装置の動き情報と前記選択手段により選択された対象領域の動き情報とに基づいて、前記対象領域に存在する被写体の像ブレを補正する制御手段と、を備える。
【手続補正書】
【提出日】令和2年3月13日(2020.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８０】
塗布装置２４０は、基板Ｗの被処理面にＤＳＡ液を供給することにより、膜の塗布処理を行う。本実施の形態では、ＤＳＡ液として、２種類の重合体から構成されるブロック共重合体が用いられる。２種類の重合体の組み合わせとして、例えば、ポリスチレン−ポリメチルメタクリレート（ＰＳ−ＰＭＭＡ）、ポリスチレン−ポリジメチルシロキサン（ＰＳ−ＰＤＭＳ）、ポリスチレン−ポリフェロセニルジメチルシラン（ＰＳ−ＰＦＳ）、ポリスチレン−ポリエチレンオキシド（ＰＳ−ＰＥＯ）、ポリスチレン−ポリビニルピリジン（ＰＳ−ＰＶＰ）、ポリスチレン−ポリヒドロキシスチレン（ＰＳ−ＰＨＯＳＴ）、およびポリメチルメタクリレート−ポリメタクリレートポリヘドラルオリゴメリックシルセスキオキサン（ＰＭＭＡ−ＰＭＡＰＯＳＳ）等が挙げられる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を露光する露光装置であって、
前記露光装置の動作モードを露光モードと保守モードとで切り替える切替部と、
透光性の窓部材が取り付けられ、前記露光モードにおいて処理対象の基板を収容する処理室と、
前記窓部材を通して前記処理室内に真空紫外線を出射可能に設けられた光源部と、
前記処理室内の雰囲気を排気するための排気部と、
前記露光モードにおいて、前記処理室内の酸素濃度が大気中の酸素濃度よりも低い第１の濃度になるように前記排気部を制御する第１の排気制御部と、
前記露光モードにおいて、前記処理室内の酸素濃度が前記第１の濃度である状態で、前記処理室内の基板に真空紫外線を照射することにより基板を露光するように前記光源部を制御する第１の投光制御部と、
前記保守モードにおいて、前記処理室内の酸素濃度が前記第１の濃度よりも高い第２の濃度である状態で、前記処理室内の雰囲気に真空紫外線を照射することによりオゾンを発生させるように前記光源部を制御する第２の投光制御部とを備える、露光装置。
【請求項２】
前記保守モードにおいて、発生された前記処理室内のオゾンを排気するように前記排気部を制御する第２の排気制御部をさらに備える、請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記第２の濃度は、大気中の酸素濃度である、請求項１または２記載の露光装置。
【請求項４】
前記第１の濃度は、前記光源部により出射される真空紫外線によってはオゾンが発生しない酸素濃度である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記露光モードにおいて、前記処理室内に不活性ガスを供給する給気部をさらに備える、請求項１〜４のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記光源部は、面状の断面を有する真空紫外線を出射するように構成される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記光源部による真空紫外線の出射面積は、基板の面積よりも大きい、請求項６記載の露光装置。
【請求項８】
基板に処理液を塗布することにより基板に膜を形成する塗布処理部と、
前記塗布処理部により膜が形成された基板を熱処理する熱処理部と、
前記熱処理部により熱処理された基板を前記露光モードにおいて露光する請求項１〜７のいずれか一項に記載の露光装置と、
前記露光装置により露光された基板に溶剤を供給することにより基板の膜を現像する現像処理部とを備える、基板処理装置。
【請求項９】
処理液は、誘導自己組織化材料を含む、請求項８記載の基板処理装置。
【請求項１０】
露光装置を用いた基板の露光方法であって、
前記露光装置の動作モードを露光モードと保守モードとで切り替えるステップと、
前記露光モードにおいて、透光性の窓部材が取り付けられた処理室内に処理対象の基板を収容するステップと、
前記露光モードにおいて、処理室内の酸素濃度が大気中の酸素濃度よりも低い第１の濃度になるように排気部により前記処理室内の雰囲気を排気するステップと、
前記露光モードにおいて、前記処理室内の酸素濃度が前記第１の濃度である状態で、光源部から前記窓部材を通して前記処理室内の基板に真空紫外線を照射することにより基板を露光するステップと、
前記保守モードにおいて、前記処理室内の酸素濃度が前記第１の濃度よりも高い第２の濃度である状態で、前記光源部から前記窓部材を通して前記処理室内の雰囲気に真空紫外線を照射することによりオゾンを発生させるステップとを含む、露光方法。
【請求項１１】
塗布処理部により基板に処理液を塗布することにより基板に膜を形成するステップと、
前記塗布処理部により膜が形成された基板を熱処理部により熱処理するステップと、
前記熱処理部により熱処理された基板を前記露光装置により前記露光モードにおいて露光する請求項１０記載の露光方法と、
前記露光装置により露光された基板に現像処理部により溶剤を供給することにより基板の膜を現像するステップとを含む、基板処理方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月18日(2020.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トナー像を担持する像担持体と、
前記像担持体に接触し前記像担持体を帯電させる帯電部材と、
前記像担持体から被転写体にトナー像を転写させる転写手段と、
前記像担持体から前記被転写体にトナー像を転写するための転写バイアスを前記転写手段に印加する印加手段と、
前記像担持体に接触し前記像担持体上のトナーを前記像担持体から除去するクリーニング部材と、
一の転写材に転写されて出力されるトナー像ごとに該トナー像のトナー量と相関する指標値を検知する検知手段と、
前記検知手段の検知結果に基づいて前記印加手段を制御することでトナー像を転写するための転写バイアスを設定する制御を実行することが可能な制御手段と、を備え、
前記制御手段は、前記制御において、
前記指標値が第１の閾値以上のトナー像が１個又は複数連続して形成された場合に、次に形成されるトナー像のための転写バイアスを、それまでに印加していた転写バイアスの絶対値よりも絶対値が大きい第１の電圧とし、
前記第１の電圧を印加した後であって、前記指標値が前記第１の閾値以下の第２の閾値より小さいトナー像が所定の個数以上連続して形成された場合に、次に形成されるトナー像のための転写バイアスを前記第１の電圧の絶対値よりも絶対値が小さい第２の電圧とし、
前記第１の電圧を印加した後であって、前記指標値が前記第２の閾値より小さいトナー像が前記所定の個数以上連続して形成されていない場合には、次に形成されるトナー像のための転写バイアスを前記第１の電圧から変更しないことを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記指標値が前記第１の閾値以上のトナー像が１個又は複数連続して形成された場合に、それまでに印加していた転写バイアスの絶対値から転写バイアスの絶対値を所定量ずつ大きくすることで、次に形成されるトナー像のための転写バイアスを前記第１の電圧とし、前記第１の電圧を印加した後であって、前記指標値が前記第２の閾値より小さいトナー像が前記所定の個数以上連続して形成された場合に、前記第１の電圧の絶対値から転写バイアスの絶対値を所定量ずつ小さくすることで、次に形成されるトナー像のための転写バイアスを前記第２の電圧とすることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記制御手段は、予め設定された上限値よりも前記第１の電圧の絶対値が大きくならないように制御し、予め設定された下限値よりも前記第２の電圧の絶対値が小さくならないように制御することを特徴とする請求項１又は２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記制御手段は、前記第１の電圧の絶対値が前記上限値を超える場合は、次に形成されるトナー像のための転写バイアスの絶対値を前記上限値とし、前記第２の電圧の絶対値が前記下限値より小さくなる場合は、次に形成されるトナー像のための転写バイアスの絶対値を前記下限値とすることを特徴とする請求項３に記載の画像形成装置。
【請求項５】
環境を検知する環境検知手段を有し、前記制御手段は、前記環境検知手段の検知結果に応じて前記制御を行うか否かを決定することを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記制御手段は、前記環境検知手段の検知結果が示す温度が所定の温度以下であるか、又は前記環境検知手段の検知結果が示す湿度が所定の湿度以下であることの少なくとも一方を満たす場合に前記制御を行うことを特徴とする請求項５に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記検知手段は、前記像担持体の表面の移動方向と略直交する方向における複数の領域ごとに前記指標値の検知を行い、前記制御手段は、前記複数の領域ごとに前記制御を行って求めた転写バイアスのうち最も絶対値が小さい転写バイアスを次のトナー像のための転写バイアスとして決定することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記第１の閾値と前記第２の閾値とは同じ値であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項９】
前記指標値は、印字率であることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的は本発明に係る画像形成装置にて達成される。要約すれば、本発明は、トナー像を担持する像担持体と、前記像担持体に接触し前記像担持体を帯電させる帯電部材と、前記像担持体から被転写体にトナー像を転写させる転写手段と、前記像担持体から前記被転写体にトナー像を転写するための転写バイアスを前記転写手段に印加する印加手段と、前記像担持体に接触し前記像担持体上のトナーを前記像担持体から除去するクリーニング部材と、一の転写材に転写されて出力されるトナー像ごとに該トナー像のトナー量と相関する指標値を検知する検知手段と、前記検知手段の検知結果に基づいて前記印加手段を制御することでトナー像を転写するための転写バイアスを設定する制御を実行することが可能な制御手段と、を備え、前記制御手段は、前記制御において、前記指標値が第１の閾値以上のトナー像が１個又は複数連続して形成された場合に、次に形成されるトナー像のための転写バイアスを、それまでに印加していた転写バイアスの絶対値よりも絶対値が大きい第１の電圧とし、前記第１の電圧を印加した後であって、前記指標値が前記第１の閾値以下の第２の閾値より小さいトナー像が所定の個数以上連続して形成された場合に、次に形成されるトナー像のための転写バイアスを前記第１の電圧の絶対値よりも絶対値が小さい第２の電圧とし、前記第１の電圧を印加した後であって、前記指標値が前記第２の閾値より小さいトナー像が前記所定の個数以上連続して形成されていない場合には、次に形成されるトナー像のための転写バイアスを前記第１の電圧から変更しないことを特徴とする画像形成装置である。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月24日(2019.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸線方向に一対で配設された保持部によって両端部が周回可能に摺接保持された定着スリーブと、
前記定着スリーブを加熱する加熱源と、
前記一対の保持部の間において前記定着スリーブの内周面に当接したベース部材と、
前記定着スリーブと対向して配置され、前記定着スリーブと当接した状態で前記ベース部材との間でニップ部を形成すると共に、当該当接状態で回転駆動することで前記定着スリーブを従動回転する加圧部材と、
前記定着スリーブの両端部に配設されたラビリンス構造を有するシール部と、
を有することを特徴とする定着装置。
【請求項２】
前記シール部が、前記保持部と前記定着スリーブの両端部との間に配設されていることを特徴とする請求項１の定着装置。
【請求項３】
前記シール部が、前記定着スリーブの内部に軸線方向で配設された前記加熱源としてのヒータの両端部に配設されていることを特徴とする請求項１の定着装置。
【請求項４】
前記ベース部材の前記定着スリーブの内周面に接触した押圧面に、低摩擦材が配設されていることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項の定着装置。
【請求項５】
前記低摩擦材がフッ素系樹脂繊維であることを特徴とする請求項４の定着装置。
【請求項６】
前記低摩擦材が、セラミック系又はフッ素系のコーティング材であることを特徴とする請求項４の定着装置。
【請求項７】
前記ベース部材に潤滑剤が塗布されていることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項の定着装置。
【請求項８】
前記潤滑剤が、シリコーンオイル又はフッ素グリスであることを特徴とする請求項７の定着装置。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか１項の定着装置を搭載した画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
前記課題を解決するため、本発明の定着装置は、軸線方向に一対で配設された保持部によって両端部が周回可能に摺接保持された定着スリーブと、前記定着スリーブを加熱する加熱源と、前記一対の保持部の間において前記定着スリーブの内周面に当接したベース部材と、前記定着スリーブと対向して配置され、前記定着スリーブと当接した状態で前記ベース部材との間でニップ部を形成すると共に、当該当接状態で回転駆動することで前記定着スリーブを従動回転する加圧部材と、前記定着スリーブの両端部に配設されたラビリンス構造を有するシール部と、を有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
定着スリーブ２１の温度は、温度検知手段としてのサーモパイル２７によって、また加圧ローラ２２の温度は、温度検知手段としてのサーミスタ２９によって、それぞれ検知されるようになっている。その他、定着スリーブ２１から用紙を分離する分離部材２８と、加圧ローラ２２を定着スリーブ２１へ加圧する加圧手段等が設けられている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
このため、定着スリーブ２１とニップ形成部材８０の摺動部分におけるスティック・スリップ現象で異音が発生すると、当該異音が前記隙間６５から外部に漏れて騒音になっていた。また定着スリーブ２１の内部の高温が前記隙間６５から外部に逃げることでハロゲンヒータ７０の消費電力に無駄が発生していた。
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月26日(2020.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の撮像部よりも広い画角を有し、互いに視差を有する複数の視差画像を生成可能な第２の撮像部を介して得られた複数の視差画像信号に基づいて焦点検出を行う焦点検出部と、
前記焦点検出部からの出力信号に基づいて前記第１の撮像部のフォーカス制御を行う制御部と、を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記焦点検出部の焦点検出領域が前記第１の撮像部の撮影視野の範囲外である場合、前記第２の撮像部を介して得られた前記複数の視差画像信号に基づいて、前記第１の撮像部の前記フォーカス制御を行うことを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記焦点検出領域を選択する領域選択部を更に有し、
前記制御部は、前記領域選択部により、前記焦点検出領域が前記第１の撮像部の前記撮影視野の範囲外であってかつ前記第２の撮像部の撮影視野の範囲内に設定された場合、前記第２の撮像部を介して得られた前記複数の視差画像信号に基づいて、前記第１の撮像部の前記フォーカス制御を行うことを特徴とする請求項２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記第２の撮像部を介して得られた画像を表示する表示部を更に有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記表示部は、前記第２の撮像部を介して得られた前記画像に、前記第１の撮像部の撮影視野に関する情報を重ねて表示することを特徴とする請求項４に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記表示部は、前記第２の撮像部を介して得られた前記画像に、前記第１の撮像部を介して得られた画像を合成して表示することを特徴とする請求項４または５に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記表示部は、前記第２の撮像部を介して得られた前記画像に、前記焦点検出部の焦点検出領域に関する情報を重ねて表示することを特徴とする請求項４乃至６のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記制御部は、前記焦点検出部からの前記出力信号に基づいて、前記第１の撮像部とともに前記第２の撮像部のフォーカス制御を行うことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項９】
前記焦点検出部および前記制御部は、前記第１の撮像部による撮像が完了するまで、前記焦点検出および前記フォーカス制御をそれぞれ繰り返すことを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１０】
前記焦点検出部は、前記第２の撮像部を介して得られた前記複数の視差画像信号に基づいて被写体距離またはデフォーカス量を算出し、
前記制御部は、前記被写体距離または前記デフォーカス量に関する前記出力信号に基づいて、前記第１の撮像部のフォーカス制御を行うことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１１】
第１の撮像部と、
前記第１の撮像部よりも広い画角を有し、互いに視差を有する複数の視差画像を生成可能な第２の撮像部と、
前記第２の撮像部を介して得られた複数の視差画像信号に基づいて焦点検出を行う焦点検出部と、
前記焦点検出部からの出力信号に基づいて前記第１の撮像部のフォーカス制御を行う制御部と、を有することを特徴とする撮像システム。
【請求項１２】
前記第１の撮像部は、
第１のフォーカスレンズを含む第１の撮像光学系と、
前記第１の撮像光学系を介して形成された光学像を光電変換して前記複数の視差画像信号を出力する撮像素子と、を有することを特徴とする請求項１１に記載の撮像システム。
【請求項１３】
前記第１の撮像光学系は、変倍光学系であり、
前記第２の撮像部は、前記第１の撮像部の望遠端における画角よりも広い画角を有することを特徴とする請求項１２に記載の撮像システム。
【請求項１４】
前記第２の撮像部は、前記第１の撮像部の前記望遠端における前記画角と比較して、２倍以上広い画角を有することを特徴とする請求項１３に記載の撮像システム。
【請求項１５】
前記第２の撮像部は、第２のフォーカスレンズを含む第２の撮像光学系を有することを特徴とする請求項１１乃至１４のいずれか１項に記載の撮像システム。
【請求項１６】
前記第２の撮像部は、前記第２の撮像光学系のうち互いに異なる瞳領域を通過する光を受光する撮像素子を有することを特徴とする請求項１５に記載の撮像システム。
【請求項１７】
前記第２の撮像部は、第３のフォーカスレンズを含む第３の撮像光学系を有することを特徴とする請求項１５に記載の撮像システム。
【請求項１８】
前記第２の撮像光学系および前記第３の撮像光学系のそれぞれの開口部よりも被写体側において、該第２の撮像光学系と該第３の撮像光学系の光軸は互いに平行であることを特徴とする請求項１７に記載の撮像システム。
【請求項１９】
前記第２の撮像光学系および前記第３の撮像光学系はそれぞれ、単焦点撮像光学系であることを特徴とする請求項１７または１８に記載の撮像システム。
【請求項２０】
第１の撮像部よりも広い画角を有し、互いに視差を有する複数の視差画像を生成可能な第２の撮像部を介して得られた複数の視差画像信号に基づいて焦点検出を行うステップと、
前記焦点検出の結果に基づいて前記第１の撮像部のフォーカス制御を行うステップと、を有することを特徴とする撮像装置の制御方法。
【請求項２１】
第１の撮像部よりも広い画角を有し、互いに視差を有する複数の視差画像を生成可能な第２の撮像部を介して得られた複数の視差画像信号に基づいて焦点検出を行うステップと、
前記焦点検出の結果に基づいて前記第１の撮像部のフォーカス制御を行うステップと、をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の一側面としての撮像装置は、第１の撮像部よりも広い画角を有し、互いに視差を有する複数の視差画像を生成可能な第２の撮像部を介して得られた複数の視差画像信号に基づいて焦点検出を行う焦点検出部と、前記焦点検出部からの出力信号に基づいて前記第１の撮像部のフォーカス制御を行う制御部とを有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の他の側面としての撮像システムは、第１の撮像部と、前記第１の撮像部よりも広い画角を有し、互いに視差を有する複数の視差画像を生成可能な第２の撮像部と、前記第２の撮像部を介して得られた複数の視差画像信号に基づいて焦点検出を行う焦点検出部と、前記焦点検出部からの出力信号に基づいて前記第１の撮像部のフォーカス制御を行う制御部とを有する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の他の側面としての撮像装置の制御方法は、第１の撮像部よりも広い画角を有し、互いに視差を有する複数の視差画像を生成可能な第２の撮像部を介して得られた複数の視差画像信号に基づいて焦点検出を行うステップと、前記焦点検出の結果に基づいて前記第１の撮像部のフォーカス制御を行うステップとを有する。
【手続補正書】
【提出日】令和2年1月27日(2020.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の主表面上に薄膜を有するマスクブランクを用いた転写用マスクの製造方法であって、
前記薄膜上に電子線露光用のレジスト膜が設けられたマスクブランクを準備する工程と、
前記レジスト膜に対して露光処理および現像処理を行い、前記薄膜に形成すべき転写パターンを前記レジスト膜に形成する工程と、
前記転写パターンが形成されたレジスト膜を埋め込む状態で、前記レジスト膜上および前記薄膜上に第１材料膜を成膜する工程と、
前記転写パターンが形成されたレジスト膜の間に前記第１材料膜を残した状態で前記レジスト膜の上面が露出するまで前記第１材料膜を除去することにより、前記転写パターンに対して反転した反転パターンを前記第１材料膜に形成し、その後前記第１材料膜に対して選択的に前記レジスト膜を除去する工程と、
前記反転パターンが形成された前記第１材料膜を埋め込む状態で、前記第１材料膜上および前記薄膜上に前記第１材料膜とは異なる材料からなる第２材料膜を成膜する工程と、
前記反転パターンが形成された前記第１材料膜の間に前記第２材料膜を残した状態で前記第１材料膜の上面が露出するまで前記第２材料膜を除去することにより、前記第２材料膜に前記転写パターンを形成し、その後ドライエッチングによって前記第２材料膜に対して選択的に前記第１材料膜を除去する工程と、
前記転写パターンが形成された第２材料膜をマスクとし、前記薄膜に対してドライエッチングを行い、前記薄膜に転写パターンを形成する工程とを備える
ことを特徴とする転写用マスクの製造方法。
【請求項２】
前記第１材料膜および前記第２材料膜は、ともに前記薄膜に対してエッチング選択性を有する材料によって構成されている
ことを特徴とする請求項１に記載の転写用マスクの製造方法。
【請求項３】
前記ドライエッチングによって前記第２材料膜に対して選択的に前記第１材料膜を除去する際の前記第２材料膜のエッチングレートと第１材料膜のエッチングレートの比は、１：２以上である
ことを特徴とする請求項１または２に記載の転写用マスクの製造方法。
【請求項４】
前記薄膜は、スパッタリング法によって成膜されたものである
ことを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の転写用マスクの製造方法。
【請求項５】
前記薄膜は、クロムを含有する材料からなる
ことを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の転写用マスクの製造方法。
【請求項６】
前記第１材料膜と前記第２材料膜とは、ともにケイ素を含有する材料からなる
ことを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の転写用マスクの製造方法。
【請求項７】
前記マスクブランクは、前記基板と前記薄膜の間に遮光膜が設けられており、
前記転写パターンが形成された前記薄膜をマスクとし、前記遮光膜に対してドライエッチングを行い、前記遮光膜に転写パターンを形成する工程と、
前記遮光膜に転写パターンを形成した後に前記薄膜を除去する工程とを備える
ことを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の転写用マスクの製造方法。
【請求項８】
前記マスクブランクは、前記基板と前記薄膜の間に光半透過膜が設けられており、
前記転写パターンが形成された前記薄膜をマスクとし、前記光半透過膜に対してドライ
エッチングを行い、前記光半透過膜に転写パターンを形成するとともに前記第２材料膜を除去する工程と、
前記第２材料膜を除去した後、前記薄膜上に遮光帯パターンを含むレジストパターンを形成し、前記レジストパターンをマスクとして前記薄膜に対してドライエッチングを行い、前記薄膜に遮光帯を含むパターンを形成する工程とを備える
ことを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の転写用マスクの製造方法。
【請求項９】
前記マスクブランクは、前記基板と前記薄膜の間に、前記基板側から光反射膜と吸収体膜とがこの順に積層した構造を備えており、
前記転写パターンが形成された前記薄膜をマスクとし、前記吸収体膜に対してドライエッチングを行い、前記吸収体膜に転写パターンを形成する工程と、
前記吸収体膜に転写パターンを形成した後に前記薄膜を除去する工程とを備える
ことを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の転写用マスクの製造方法。
【請求項１０】
請求項７から９のいずれかに記載の転写用マスクの製造方法により製造された転写用マスクを用い、半導体基板上のレジスト膜に転写パターンを露光転写する工程を備える
ことを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
［遮光膜（吸収体膜）１３］
遮光膜（吸収体膜）１３は、次に説明する薄膜をマスクにしたエッチングによって微細パターンが形成される膜である。この遮光膜（吸収体膜）１３は、マスクブランクの種類に応じた材料を用いて構成された単層または多層構造の膜である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
なお、反射型マスク用の吸収体膜１３の下層であって、反射型マスク用の吸収体膜１３と基板１１との間に設けられる多層反射膜は、ＥＵＶ光を反射する機能を有する膜である。このような光反射膜は、例えば多層反射膜である。多層反射膜は、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層して形成される。多層反射膜としては、Ｍｏ膜とＳｉ膜を交互に４０周期程度積層したＭｏ／Ｓｉ周期積層膜、Ｒｕ／Ｓｉ周期多層膜、Ｍｏ／Ｂｅ周期多層膜、Ｍｏ化合物／Ｓｉ化合物周期多層膜、Ｓｉ／Ｎｂ周期多層膜、Ｓｉ／Ｍｏ／Ｒｕ周期多層膜、Ｓｉ／Ｍｏ／Ｒｕ／Ｍｏ周期多層膜、Ｓｉ／Ｒｕ／Ｍｏ／Ｒｕ周期多層膜等が例示され、露光光の波長により、材質を適宜選択することができる。以上のような反射型マスク用の吸収体膜１３および光反射膜は、例えばスパッタ法によって形成することができる。