Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月5日(2020.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
左右一対のシェルと、これらシェルどうしを回転可能に連結する連結部とを有し、前記連結部を昇降させることにより、前記左右一対のシェルが左右に開閉し、前記シェルどうしが当接して閉じた際に前記左右一対のシェルの上部が塞がれた状態になる密閉型の浚渫用グラブバケットにおいて、
シリンダと、このシリンダの内部を移動するピストンと、前記シリンダの内部と前記シェルの内側とを連通させる連通管とを有する汚濁抑制機構を備えて、  前記シェルの開閉動作に連動して前記ピストンを前記シリンダに対して相対的に移動させて、前記シェルを開く動作の際には前記連通管を通じて前記シリンダの内部から前記シェルの内側への押圧力が発生し、前記シェルを閉じる動作の際には前記連通管を通じて前記シェルの内側から前記シリンダの内部への吸引力が発生する構成にしたことを特徴とする浚渫用グラブバケット。
【請求項２】
前記シリンダまたは前記ピストンの一方が前記シェルの１つに回転可能に連結され、前記シリンダまたは前記ピストンの他方が前記連結部に回転可能に連結されている請求項１に記載の浚渫用グラブバケット。
【請求項３】
前記連通管の一端部が前記シリンダに接続され、前記連通管の他端部が前記シェルのうち少なくとも一方のシェルの上部に接続されている請求項１または２に記載の浚渫用グラブバケット。
【請求項４】
左右一対のシェルに回転可能に連結された連結部を昇降させることにより、前記左右一対のシェルを左右に開閉させ、前記シェルどうしが当接して閉じた際に前記左右一対のシェルの上部が塞がれた状態になる密閉型の浚渫用グラブバケットを使用した浚渫方法において、
ピストンを内設したシリンダの内部と前記シェルの内側とを連通管により連通させて、前記シェルの開閉動作に連動して前記ピストンを前記シリンダに対して相対的に移動させる汚濁抑制機構を設けておき、
前記シェルを閉じて水底の土砂をすくう際には、前記シェルの内側の汚濁水を前記ピストンの相対的な移動により前記連通管を通じて前記シリンダの内部に吸引し、
閉じた前記シェルを開いて前記土砂を排出する際には、前記シリンダの内部に吸引した前記汚濁水を前記ピストンの相対的な移動により前記連通管を通じて前記シェルの内側へ排出することを特徴とする浚渫方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するため本発明の浚渫用グラブバケットは、左右一対のシェルと、これらシェルどうしを回転可能に連結する連結部とを有し、前記連結部を昇降させることにより、前記左右一対のシェルが左右に開閉し、前記シェルどうしが当接して閉じた際に前記左右一対のシェルの上部が塞がれた状態になる密閉型の浚渫用グラブバケットにおいて、シリンダと、このシリンダの内部を移動するピストンと、前記シリンダの内部と前記シェルの内側とを連通させる連通管とを有する汚濁抑制機構を備えて、前記シェルの開閉動作に連動して前記ピストンを前記シリンダに対して相対的に移動させて、前記シェルを開く動作の際には前記連通管を通じて前記シリンダの内部から前記シェルの内側への押圧力が発生し、前記シェルを閉じる動作の際には前記連通管を通じて前記シェルの内側から前記シリンダの内部への吸引力が発生する構成にしたことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和2年1月27日(2020.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
弁体と、前記弁体を付勢するスプリングと、前記弁体と協働して燃料の通路を開閉する可動子と、コイルに電流が供給されることで前記可動子を磁気吸引する磁気コアと、を備え、
前記弁体は、前記スプリングが当接する幅に外径が拡大する拡径部を有し、
前記磁気コアは、燃料が流れる貫通孔と、前記貫通孔の下流側端部に形成され内径が拡大する内径拡大部と、前記内径拡大部と前記弁体との間に設けられる燃料通路と、を有し、
前記可動子は、前記磁気コアに対向する上端面に形成され底面を有する溝を有し、
前記溝は、前記弁体と当接する当接面よりも下方に形成されるとともに、前記燃料通路の下流側端部に面することを特徴とする燃料噴射装置。
【請求項２】
請求項１に記載の燃料噴射装置であって、
前記内径拡大部よりも上流側に前記貫通孔の内径が拡大する大径部を設けることを特徴とする燃料噴射装置。
【請求項３】
請求項１に記載の燃料噴射装置であって、
前記溝は、段差面を少なくとも２つ以上有する階段状に形成されることを特徴とする燃料噴射装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の燃料噴射装置であって、
前記溝は、円環状に形成されることを特徴とする燃料噴射装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の燃料噴射装置であって、
前記溝の内面は、前記弁体の軸方向と平行に形成される内周面と、前記内周面と平行に形成される外周面と、前記内周面および前記外周面と垂直に交わる前記底面と、で構成されることを特徴とする燃料噴射装置。
【請求項６】
請求項２に記載の燃料噴射装置であって、
前記拡径部は、前記大径部よりも下流側に位置し、前記内径拡大部に挟まれる領域に配置されることを特徴とする燃料噴射装置。
【請求項７】
請求項３に記載の燃料噴射装置であって、
前記拡径部は、前記溝の二段目よりも下流側に位置することを特徴とする燃料噴射装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明では、弁体と、前記弁体を付勢するスプリングと、前記弁体と協働して燃料の通路を開閉する可動子と、コイルに電流が供給されることで前記可動子を磁気吸引する磁気コアと、を備える燃料噴射装置であって、前記弁体は、前記スプリングが当接する幅に外径が拡大する拡径部を有し、前記磁気コアは、燃料が流れる貫通孔と、前記貫通孔の下流側端部に形成され内径が拡大する内径拡大部と、前記内径拡大部と前記弁体との間に設けられる燃料通路と、を有し、前記可動子は、前記磁気コアに対向する上端面に形成され底面を有する溝を有し、前記溝は、前記弁体と当接する当接面よりも下方に形成されるとともに、前記燃料通路の下流側端部に面する。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月16日(2019.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シール部材を介して第１接続部と第２接続部を接続するものであって、
前記第１接続部の接続端面と前記第２接続部の接続端面の両方または一方が、
前記接続端面に開口する流路壁と、
前記流路壁の径方向外側に前記流路壁の軸線方向に沿って突設された環状突起と、
前記環状突起の径方向内側に設けられた内装着溝とを備え、
前記シール部材が、
環状に形成され、
両端面又は一方の端面に、前記環状突起が圧入される環状溝を備える
接続部シール構造において、
前記内装着溝は、
前記環状突起の基端部の径方向内側に前記環状突起に対して鋭角に設けられ、前記流路壁に接続する内テーパ部を有すること、
前記シール部材の内周面は、
前記環状溝が開口する端面側に位置する端部に沿って形成され、前記内テーパ部に圧接するように傾斜する内圧接テーパ部を有すること、
前記内装着溝を備える前記接続端面は、
前記環状突起の径方向外側に設けられた外装着溝を有すること、
前記シール部材は、
前記外装着溝の内壁に対して径方向外向きに圧接する外側圧接代を有すること、
前記外側圧接代は、前記内圧接テーパ部が前記内テーパ部に圧接する内側テーパ圧接代よりも小さいこと、
を特徴とする接続部シール構造。
【請求項２】
請求項１に記載する接続部シール構造において、
前記外装着溝は、
前記環状突起の基端部の径方向外側に前記環状突起に対して鋭角に設けられた外テーパ部を有すること、
を特徴とする接続部シール構造。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載する接続部シール構造において、
前記シール部材の外周面は、
前記環状溝が開口する端面側に位置する端部に沿って形成された外圧接テーパ部を有すること
を特徴とする接続部シール構造。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか１つに記載する接続部シール構造において、
前記シール部材は、前記環状突起が前記環状溝に圧入された場合に、前記環状突起の基
端部との間に環状のすき間を形成すること、
を特徴とする接続部シール構造。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか１つに記載する接続部シール構造において、
前記シール部材の内周面端部を支持する支持片が、前記内テーパ部により、前記流路壁に沿って環状に設けられ、前記環状突起の基端部側に位置する部分の径方向肉厚が、前記環状突起の先端部側に位置する部分の径方向肉厚より大きいこと、
を特徴とする接続部シール構造。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか１つに記載する接続部シール構造において、
前記外側圧接代の位置は、前記環状溝の内壁と前記環状突起とが圧接するシール圧接代よりも、前記環状突起の基端部側であること、
を特徴とする接続部シール構造。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一つに記載する接続部シール構造において、
前記シール部材は、径方向外側に位置する外周面が、前記外装着溝の前記軸線方向に沿った面に近接する面を含んでいること
を特徴とする接続部シール構造。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一つに記載する接続部シール構造で使用されることを特徴とするシール部材。
【手続補正書】
【提出日】令和2年3月10日(2020.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
弁室を備える弁本体と、
前記弁室内に配置される弁体と、
前記弁体を弁座に向けて付勢する付勢部材と、
前記弁体に接触し、前記付勢部材による付勢力に抗して前記弁体を開弁方向に押圧する作動棒と、
前記弁体の振動を抑制する防振ばねと
を具備し、
前記作動棒は、前記弁本体に設けられた作動棒挿通孔に挿通されており、
前記防振ばねは、基部と、前記基部から延在する複数の脚部とを有する脚付ばねを含み、
前記脚付ばねは、前記脚付ばねの中心軸が、前記作動棒挿通孔の中心軸と不一致となるように前記弁室内に配置されており、
前記複数の脚部は、少なくとも第１脚部および第２脚部を含み、
前記第１脚部の先端部には、前記弁本体に接触する第１接触部が設けられ、
前記第２脚部の先端部には、前記弁本体に接触する第２接触部が設けられ、
前記第１接触部と前記第２接触部とは、形状または大きさが互いに異なる
ことを特徴とする膨張弁。
【請求項２】
前記弁本体は、前記複数の脚部が接触する脚部案内壁面を備え、
前記脚部案内壁面の中心軸は、前記作動棒挿通孔の中心軸から偏心していることを特徴とする請求項１に記載の膨張弁。
【請求項３】
前記複数の脚部は、３個以上の脚部を含み、
前記３個以上の脚部は、前記脚付ばねの前記中心軸まわりに等間隔で配置されており、
前記複数の脚部の弾性部分の形状は、全て等しいことを特徴とする請求項１又は２に記載の膨張弁。
【請求項４】
前記複数の脚部は、前記脚付ばねの前記中心軸まわりに不等間隔で配置されていることを特徴とする請求項１に記載の膨張弁。
【請求項５】
前記第１脚部の弾性定数と前記第２脚部の弾性定数とは互いに異なることを特徴とする請求項４に記載の膨張弁。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明による膨張弁は、弁室を備える弁本体と、前記弁室内に配置される弁体と、前記弁体を弁座に向けて付勢する付勢部材と、前記弁体に接触し、前記付勢部材による付勢力に抗して前記弁体を開弁方向に押圧する作動棒と、前記弁体の振動を抑制する防振ばねとを具備する。前記作動棒は、前記弁本体に設けられた作動棒挿通孔に挿通されている。前記防振ばねは、基部と、前記基部から延在する複数の脚部とを有する脚付ばねを含む。前記脚付ばねは、前記脚付ばねの中心軸が、前記作動棒挿通孔の中心軸と不一致となるように前記弁室内に配置されており、前記複数の脚部は、少なくとも第１脚部および第２脚部を含み、前記第１脚部の先端部には、前記弁本体に接触する第１接触部が設けられ、前記第２脚部の先端部には、前記弁本体に接触する第２接触部が設けられ、前記第１接触部と前記第２接触部とは、形状または大きさが互いに異なる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月6日(2020.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内側に軸線を中心とした円柱状の収容空間を区画するケーシング本体、及び、該ケーシング本体の内側から径方向内側に突出して環状をなすとともに前記収容空間を軸線方向一方側に配置されたモータ収容空間と軸線方向他方側に配置された圧縮部収容空間とに分ける軸受保持部を有するケーシングと、
前記収容空間において軸線方向に延在して配置され、前記軸線の回りに回転可能な回転軸と、
前記モータ収容空間に配置されており、かつ前記軸線を中心とした環状をなして外周面が前記ケーシング本体の内周面に固定されたステータ、及び該ステータの内側に配置され、前記回転軸の外周面に設けられたロータを有するモータと、
前記圧縮部収容空間内に配置され、前記モータ収容空間から前記圧縮部収容空間に流入する流体を圧縮するスクロール圧縮部と、
前記軸受保持部の内周面に固定され、前記回転軸を回転可能に支持する第１のラジアル軸受と、
前記軸線を中心とした環状をなしており、前記軸線方向他方側を向く前記軸受保持部の面に固定され、前記スクロール圧縮部を前記軸線方向から支持するスラスト軸受と、
を備え、
前記ステータの外周面には、前記軸線方向における該ステータの一方の端から他方の端まで延在するステータ溝部が設けられており、
前記ステータ溝部は、前記ステータの周方向に間隔をあけて複数配置されており、
前記軸受保持部のうち、複数の前記ステータ溝部の形成位置に対応する部分には、該軸受保持部を前記軸線方向に貫通する流路がそれぞれ設けられており、
前記スラスト軸受のうち、前記流路と対向する部分には、前記軸線方向一方側から前記軸線方向他方側へと凹む第１の凹部が設けられており、
前記第１の凹部の外周部には、前記軸線方向において、該第１の凹部の底面から該第１の凹部が形成された面とは反対側に位置する面まで延在し、前記第１の凹部と連通する第１の溝部が設けられており、
前記軸線方向において、前記軸受保持部と前記スクロール圧縮部と間に設けられたスラストプレートを備え、
前記スラストプレートの外周部のうち、前記第１の溝部と対向する部分には、前記軸線方向に配置された一方の面から他方の面まで延在する第２の溝部が設けられているスクロール圧縮機。
【請求項２】
前記スラスト軸受のうち、前記第１の凹部の内側に設けられ、前記第１の凹部と連通するとともに、前記スラスト軸受の内周面まで延在する第２の凹部を有する請求項１記載のスクロール圧縮機。
【請求項３】
前記第２の凹部の周方向の幅は、前記第１の凹部の周方向の幅よりも狭い請求項２記載のスクロール圧縮機。
【請求項４】
前記ケーシングに設けられたオイルセパレータをさらに備え、
前記スラストプレートの下部には、前記オイルセパレータから供給された潤滑油を前記スラスト軸受へと導く潤滑油供給溝部が設けられており、
前記潤滑油供給溝部と対向する前記スラスト軸受の下部には、前記潤滑油を径方向内側へと導く傾斜溝部が設けられている請求項１項記載のスクロール圧縮機。
【請求項５】
前記回転軸は、前記圧縮部収容空間に延出する偏心軸部を有しており、
前記スクロール圧縮機は、前記ケーシングの内周面に固定された固定スクロールと、前記固定スクロールと前記偏心軸部との間に配置され、前記軸線方向に延出し、前記偏心軸部を囲むボス部を含む旋回スクロールと、を有しており、
前記偏心軸部の外周面に設けられ、前記ボス部内に一部が配置されたドライブブッシュと、
前記ドライブブッシュと前記ボス部との間に設けられた第２のラジアル軸受と、
をさらに備える請求項１から４のうち、いずれか一項記載のスクロール圧縮機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するため、本発明の一態様に係るスクロール圧縮機は、内側に軸線を中心とした円柱状の収容空間を区画するケーシング本体、及び、該ケーシング本体の内側から径方向内側に突出して環状をなすとともに前記収容空間を軸線方向一方側に配置されたモータ収容空間と軸線方向他方側に配置された圧縮部収容空間とに分ける軸受保持部を有するケーシングと、前記収容空間において軸線方向に延在して配置され、前記軸線の回りに回転可能な回転軸と、前記モータ収容空間に配置されており、かつ前記軸線を中心とした環状をなして外周面が前記ケーシング本体の内周面に固定されたステータ、及び該ステータの内側に配置され、前記回転軸の外周面に設けられたロータを有するモータと、前記圧縮部収容空間内に配置され、前記モータ収容空間から前記圧縮部収容空間に流入する流体を圧縮するスクロール圧縮部と、前記軸受保持部の内周面に固定され、前記回転軸を回転可能に支持する第１のラジアル軸受と、前記軸線を中心とした環状をなしており、前記軸線方向他方側を向く前記軸受保持部の面に固定され、前記スクロール圧縮部を前記軸線方向から支持するスラスト軸受と、を備え、前記ステータの外周面には、前記軸線方向における該ステータの一方の端から他方の端まで延在するステータ溝部が設けられており、前記ステータ溝部は、前記ステータの周方向に間隔をあけて複数配置されており、前記軸受保持部のうち、複数の前記ステータ溝部の形成位置に対応する部分には、該軸受保持部を前記軸線方向に貫通する流路がそれぞれ設けられており、前記スラスト軸受のうち、前記流路と対向する部分には、前記軸線方向一方側から前記軸線方向他方側へと凹む第１の凹部が設けられており、前記第１の凹部の外周部には、前記軸線方向において、該第１の凹部の底面から該第１の凹部が形成された面とは反対側に位置する面まで延在し、前記第１の凹部と連通する第１の溝部が設けられており、前記軸線方向において、前記軸受保持部と前記スクロール圧縮部と間に設けられたスラストプレートを備え、前記スラストプレートの外周部のうち、前記第１の溝部と対向する部分には、前記軸線方向に配置された一方の面から他方の面まで延在する第２の溝部が設けられている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、スラスト軸受のうち、流路と対向する部分に、軸線方向一方側から軸線方向他方側へと凹む第１の凹部を設けることで、流路を通過した流体及び潤滑油を第１の凹部内に導いて滞留させることが可能となる。
さらに、第１の凹部の外周部に設けられ、軸線方向において第１の凹部の底面から第１の凹部が形成された面とは反対側に位置する面まで延在し、第１の凹部と連通する第１の溝部を有することで、スラスト軸受を通過する際の流体の圧力損失を低減することができる。
また、スラスト軸受が第１の凹部を有することで、第１の溝部の流路断面積を大きくすることなく、スラスト軸受を通過する際の流体の圧力損失を低減することができる。
さらに、上記構成とされた第２の溝部を有することで、スラストプレートを通過する際の流体の圧力損失を低減することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月5日(2020.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリンダ内の燃料燃焼によるピストンの往復運動を、推進力を発生させる回転軸の回転運動に変換するエンジン本体と、
前記シリンダ内の燃焼室へ燃料および水を噴射する噴射部と、
前記エンジン本体から排出された排ガス中の窒素酸化物を低減するＮＯｘ低減装置と、
前記噴射部の動作期間、前記エンジン本体の負荷であるエンジン負荷に応じて、前記噴射部による水添加率を可変に制御し、前記ＮＯｘ低減装置の動作期間、前記エンジン負荷に応じて、前記ＮＯｘ低減装置による窒素酸化物の低減の程度を示す低減パラメータを可変に制御し、前記噴射部の動作期間と前記ＮＯｘ低減装置の動作期間とが重複する場合において、前記水添加率と前記低減パラメータとの組み合わせを、前記エンジン負荷毎に異なる組み合わせとなるように一義的に決定する制御部と、
を備えることを特徴とする舶用ディーゼルエンジン。
【請求項２】
前記ＮＯｘ低減装置は、前記エンジン本体から排出された排ガスの一部を前記エンジン本体に再循環するＥＧＲシステムであり、
前記ＮＯｘ低減装置による前記低減パラメータは、前記ＥＧＲシステムによるＥＧＲ率であることを特徴とする請求項１に記載の舶用ディーゼルエンジン。
【請求項３】
前記制御部は、前記エンジン負荷と前記水添加率との関係を示す水添加率制御マップと、前記エンジン負荷と前記ＥＧＲ率との関係を示すＥＧＲ率制御マップとを用い、前記エンジン負荷に応じて、前記水添加率と前記ＥＧＲ率とを可変に制御することを特徴とする請求項２に記載の舶用ディーゼルエンジン。
【請求項４】
前記ＮＯｘ低減装置は、前記エンジン本体から排出された排ガスに還元剤を噴射するＳＣＲシステムであり、
前記ＮＯｘ低減装置による前記低減パラメータは、前記ＳＣＲシステムによる還元剤噴射率であることを特徴とする請求項１に記載の舶用ディーゼルエンジン。
【請求項５】
前記制御部は、前記エンジン負荷と前記水添加率との関係を示す水添加率制御マップと、前記エンジン負荷と前記還元剤噴射率との関係を示す還元剤噴射率制御マップとを用い、前記エンジン負荷に応じて、前記水添加率と前記還元剤噴射率とを可変に制御することを特徴とする請求項４に記載の舶用ディーゼルエンジン。
【請求項６】
前記制御部は、前記エンジン負荷が所定値未満である場合、前記噴射部による前記水添加率を可変に制御し、前記エンジン負荷が前記所定値以上である場合、前記水添加率の制御に加えて更に、前記ＮＯｘ低減装置による前記低減パラメータを可変に制御することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一つに記載の舶用ディーゼルエンジン。
【請求項７】
前記噴射部は、前記シリンダ内の燃焼室へ燃料および水を層状に噴射することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一つに記載の舶用ディーゼルエンジン。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月27日(2019.12.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分散台帳をそれぞれ保持する複数の検証ノードと前記検証ノードへトランザクションを発行する複数のトランザクション発行ノードから構成されるシステムであって、
前記検証ノードそれぞれが、それぞれで管理するブロックチェーンにおいて、スマートコントラクトおよび前記スマートコントラクトの実行トランザクションと、前記スマートコントラクトに対する評価実行トランザクションとを管理し、
前記検証ノードそれぞれが、所定の前記トランザクション発行ノードが指定した評価用の所定値と、前記所定値を前記スマートコントラクトに入力した場合の出力値とを含む、前記スマートコントラクトの検証結果を、前記評価実行トランザクションに含めて管理する、または前記出力値をステート情報に含めて管理するものである、
ことを特徴とする信用度管理システム。
【請求項２】
前記複数の検証ノードのそれぞれは、
ブロックチェーンに含まれる所定の評価実行トランザクションを基準として、前記スマートコントラクトの実行トランザクションおよびその他の評価実行トランザクションの少なくともいずれかに関する信用度を所定アルゴリズムで算定する処理を更に実行するものである、
ことを特徴とする請求項１に記載の信用度管理システム。
【請求項３】
前記複数の検証ノードのそれぞれは、
前記算定した信用度の高さに応じて、前記スマートコントラクトの実行可否を制御する処理を更に実行するものである、
ことを特徴とする請求項２に記載の信用度管理システム。
【請求項４】
前記複数の検証ノードのそれぞれは、
前記スマートコントラクトの提供者および利用者の少なくともいずれかによる、ブロックチェーンへの前記評価実行トランザクションの登録有無に応じて、前記スマートコントラクトの実行可否を制御する処理を更に実行するものである、
ことを特徴とする請求項１に記載の信用度管理システム。
【請求項５】
前記複数の検証ノードのそれぞれは、
分散台帳において、実行トランザクションおよび評価実行トランザクションのそれぞれに関する所定情報を、異なるデータ領域で管理するものである、
ことを特徴とする請求項１に記載の信用度管理システム。
【請求項６】
前記複数の検証ノードのそれぞれは、
前記評価実行トランザクションを所定タイミングで自動発行して、前記スマートコントラクトの検証を実行するものである、
ことを特徴とする請求項１に記載の信用度管理システム。
【請求項７】
前記複数の検証ノードのそれぞれは、
所定期間内の前記実行トランザクションと前記評価実行トランザクションのうち、前記実行トランザクションを優先的に処理するものである、ことを特徴とする請求項１に記載の信用度管理システム。
【請求項８】
分散台帳をそれぞれ保持する複数の検証ノードと前記検証ノードへトランザクションを発行する複数のトランザクション発行ノードから構成される分散台帳システムの信用度管理方法であって、
前記分散台帳システムのうち前記複数の検証ノードのそれぞれが、
ブロックチェーンにおいて、スマートコントラクトおよび前記スマートコントラクトの実行トランザクションと、前記スマートコントラクトに対する評価実行トランザクションとを管理し、
所定の前記トランザクション発行ノードが指定した評価用の所定値と、前記所定値を前記スマートコントラクトに入力した場合の出力値とを含む、前記スマートコントラクトの検証結果を前記評価実行トランザクションに含めて管理する、または、前記出力値をステート情報に含めて管理する、
ことを特徴とする信用度管理方法。
【請求項９】
前記複数の検証ノードのそれぞれが、
ブロックチェーンに含まれる所定の評価実行トランザクションを基準として、前記スマートコントラクトの実行トランザクションおよびその他の評価実行トランザクションの少なくともいずれかに関する信用度を所定アルゴリズムで算定する処理を更に実行する、
ことを特徴とする請求項８に記載の信用度管理方法。
【請求項１０】
前記複数の検証ノードのそれぞれが、
前記算定した信用度の高さに応じて、前記スマートコントラクトの実行可否を制御する処理を更に実行する、
ことを特徴とする請求項９に記載の信用度管理方法。
【請求項１１】
前記複数の検証ノードのそれぞれが、
前記スマートコントラクトの提供者および利用者の少なくともいずれかによる、ブロックチェーンへの前記評価実行トランザクションの登録有無に応じて、前記スマートコントラクトの実行可否を制御する処理を更に実行する、
ことを特徴とする請求項８に記載の信用度管理方法。
【請求項１２】
前記複数の検証ノードのそれぞれが、
分散台帳において、実行トランザクションおよび評価実行トランザクションのそれぞれに関する所定情報を、異なるデータ領域で管理する、
ことを特徴とする請求項８に記載の信用度管理方法。
【請求項１３】
前記複数の検証ノードのそれぞれが、
前記評価実行トランザクションを所定タイミングで自動発行して、前記スマートコントラクトの検証を実行する、
ことを特徴とする請求項８に記載の信用度管理方法。
【請求項１４】
前記複数の検証ノードのそれぞれが、
所定期間内の前記実行トランザクションと前記評価実行トランザクションのうち、前記実行トランザクションを優先的に処理する、
ことを特徴とする請求項８に記載の信用度管理方法。
【請求項１５】
分散台帳をそれぞれ保持する複数のノードからなるシステムであって、
前記ノードそれぞれが、それぞれで管理するブロックチェーンにおいて、スマートコントラクトおよび前記スマートコントラクトの実行トランザクションと、前記スマートコントラクトに対する評価実行トランザクションとを管理するものであることを特徴とする信用度管理システム。
【手続補正書】
【提出日】令和2年1月16日(2020.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記構成によれば、継手本体とインサートと締付リングがパイプ接続前に予め組み込まれているので、継手とパイプの接続において、事前にパイプにインサートを装着したり、パイプを締付リングに通したり、締付リングをスリーブ部外周まで移動させたりする作業が不要であり、パイプをインサートとスリーブ部との間の収容空間に挿入し、工具を用いて締付リングとフランジ部を締め込むだけで良いので、接続作業を容易に行うことができる。また、継手とパイプの接続作業時に、インサートの付け忘れや締付リングの方向間違いという施工ミスを防止でき、接続不良の発生を無くすことができる。
また、インサートと締付リングは締りばめにより継手本体に組み付けるので、構成を簡略化することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
スリーブ部１５は全長にわたって内径が等しく、その内径は保持孔部１４の内径Ｄ１より大きい。
スリーブ部１５の外面は、中間部を除き、先端に向かって先細をなしている。スリーブ部１５の中間部には、径方向外方向に隆起した環状の被押圧部１５ａが形成されている。この被押圧部１５ａの外径はスリーブ部１５の先端に向かって緩やかに増大しており、その端１５ｂが最大径Ｄ２をなしている。
【手続補正書】
【提出日】令和2年1月17日(2020.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記特徴量から算出されたマハラノビス距離に基づいて前記監視対象物の異常の有無を判定する請求項１又は２に記載の異常監視方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
以上の特徴量計算処理を終えると、図２のステップ１０２で、既述のように特徴量モーメントから平均ベクトルμを算出するとともに、ＰＣＡ白色化行列ΛＵを算出する。平均ベクトルμは、特徴量ベクトルの各要素である１９個の特徴量モーメントの平均を要素とするベクトルである。またΛは、特徴量ベクトルと平均ベクトルμから算出される共分散行列Ｓの固有値の平方根の逆数の対角行列であり、Ｕは共分散行列Ｓの固有ベクトルを並べた行列である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
以上の準備の後、稼働時の監視対象物の異常判定を行う処理を図４に示す。最初にステップ３０１で、上述したのと同様の特徴量計算処理を行って特徴量ベクトルを得る。次に上記学習処理で得た平均ベクトルμとＰＣＡ白色化行列ΛＵを使用して下式（２）によって特徴量ベクトルを白色化する（ステップ３０２）。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
【数３】
2018128358.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月7日(2020.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
揺動可能に支持されたレバーを操作することにより所定の指示を入力するレバー入力装置であって、
前記レバーを当該レバー入力装置の中立位置もしくは該中立位置の中央、または所定の指示が入力される指示入力位置へ向けて付勢する磁石と、
操作されて所定の位置まで揺動した前記レバーを停止させるストッパーと、を備え、
前記ストッパーは、前記レバーの搖動可能な範囲を規制するガイド部と、
前記レバーが揺動する際に前記ガイド部に当接して衝撃を受ける手前で弾性変形することで衝撃を和らげる前記レバーの両側に位置するストッパー部と、
を有する遊戯装置におけるレバー入力装置。
【請求項２】
前記磁石が、前記レバーの中立位置と指示入力位置との間に配置されている。請求項１に記載のレバー入力装置。
【請求項３】
前記レバーの指示入力位置が前記中立位置を挟んで複数配置されており、前記磁石が、前記中立位置を挟んで複数配置されている、請求項２に記載のレバー入力装置。
【請求項４】
前記レバーが、一方向にのみ揺動可能である、請求項１から３のいずれか一項に記載のレバー入力装置。
【請求項５】
前記レバーが、互いに直交するＸ方向およびＹ方向に揺動可能である、請求項１から３のいずれか一項に記載のレバー入力装置。
【請求項６】
前記磁石として、前記レバーをＸ方向の中央または前記指示入力位置へ向け付勢するＸ方向付勢用の磁石と、前記レバーをＹ方向の中央へ向け付勢するＹ方向付勢用の磁石と、を備える、請求項５に記載のレバー入力装置。
【請求項７】
前記レバーの揺動可能な範囲を規制するガイド部を有するガイドプレートを備えており、前記ガイド部の端部を前記ストッパーとして機能させる、請求項１から６のいずれか一項に記載のレバー入力装置。
【請求項８】
前記ガイド部が、円形、十字形、Ｈ形、あるいはこれらを組み合わせた形である、請求項７に記載のレバー入力装置。
【請求項９】
前記磁石が、その反発力によってシフトレバー装置における前記レバーの操作感を実現ないし向上させる位置に配置されている、請求項８に記載のレバー入力装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月4日(2020.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数本のセンサで構成されたタッチセンサパネルと、
該タッチセンサパネルを保護する保護板と、
前記タッチセンサパネルと前記保護板とを貼り合せる透明粘着材と、
該透明粘着材より透湿度が低い防湿シール材と、を備え、
前記透明粘着材は、その周囲に前記保護板または前記タッチセンサパネルと接していない領域を有し、前記周囲の少なくとも一部において前記領域が前記防湿シール材で覆われていることを特徴とするタッチパネル装置。
【請求項２】
前記タッチセンサパネルは、指示体がタッチするセンサ領域と、複数本のセンサを外部回路に接続するための引き出し配線領域とを含み、
前記透明粘着材は前記センサ領域を覆い、
前記引き出し配線領域の少なくとも一部を覆わない事を特徴とする請求項１記載のタッチパネル装置。
【請求項３】
前記タッチセンサパネルのセンサ電極面と前記透明粘着材までの距離が２マイクロメートル以下であることを特徴とする請求項１または２に記載のタッチパネル装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか一項に記載のタッチパネル装置を、両面テープまたは透明粘着材を用いて、表示領域の表示面上に配置したことを特徴とする画像表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
この発明に係るタッチパネル装置は、複数本のセンサで構成されたタッチセンサパネルと、そのタッチセンサパネルを保護する保護板と、前記タッチセンサパネルと前記保護板とを貼り合せる透明粘着材と、その透明粘着材より透湿度が低い防湿シール材と、前記複数本のセンサを外部回路に接続するためのフレキシブル配線基板と、を備え、前記透明粘着材は、前記保護板または前記タッチセンサパネルと接していない領域を有し、その領域の少なくとも一部は前記防湿シール材で覆われていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
タッチセンサパネル１の各センサは、タッチセンサパネルのタッチ領域の外周部（引出し配線領域１４）に引き出し配線を持ち、その外周に沿って配線され、一点鎖線で示した端子部１０５に接続される。Ｙセンサ用引き出し配線１０３とＸセンサ配線用引き出し配線１０７の間には、Ｘセンサ−Ｙセンサ間の電極間に寄生する容量の影響をシールドするためのシールド配線１０６、Ｙセンサ配線用引き出し配線１０３からタッチセンサパネルの外周側には、Ｙセンサ−その他近傍の電極間に寄生する容量の影響をシールドするためのシールド配線１０４が設けられている。端子部１０５の各センサ配線は、破線で示したＦＰＣ５を介してタッチパネルコントローラ（非図示）に接続される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
タッチセンサパネル１のセンサ（１０１、１０２）はガラス基板やフィルム基板上に、透明導電膜（ＩＴＯ：Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）または銅やアルミなどの数マイクロメートル幅の金属極細配線を透過率８０％以上となるように配置した電極などを成膜したものが多く、Ｘセンサ１０１、Ｙセンサ１０２間の層間膜や保護絶縁膜を含んだ構造となっている。また、Ｘセンサ１０１およびＹセンサ１０２を保護するため、その上部が薄い保護膜で覆われている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
以上のタッチパネル装置１００は画像表示モジュール（非図示）の金属フレーム６に両面テープ９で貼り合わされている。（その他の事例として、外光反射を低減したり、画像表示モジュールの透過率を上げたりするために、タッチパネル装置―画像表示モジュール間も透明粘着材で貼り合せてもよい）
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
図３では、Ｘセンサ１０１とＹセンサ１０２間の相互容量を説明したが、タッチセンサパネル１の外周部に沿って配線されるＹセンサ用引き出し配線１０３とシールド配線１０４間も同様に配線直上の透明粘着材３の影響を受ける場合がある。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
本実施の形態では、タッチセンサパネル１のＸセンサ１０１、Ｙセンサ１０２間の層間膜や保護絶縁膜および、Ｘセンサ１０１およびＹセンサ１０２を保護するための保護絶縁膜として膜厚が１ｕｍの二酸化ケイ素膜（ＳｉＯ２）使用した。このように層間膜や保護絶縁膜が薄い構造の場合は、透明粘着材３の誘電率の変化の影響を大きく受ける。この場合の防湿シール材４塗布による透明粘着材３の比誘電率の変化抑制の効果は大きい。近年は、タッチセンサパネル１の静電気破壊の耐性を向上するために、保護絶縁膜を厚くする場合があるが、その膜厚として２ｕｍ以下であっても、透明粘着材３の影響によるタッチセンサパネル１の各センサ（１０１、１０２）の自己容量と、各センサ間の相互容量の変化を小さくし高温高湿環境下でのタッチパネルのタッチ座標検出動作を安定させることができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
その自己容量値を１００％として正規化して、保護板２の外周部に水８が付着した際（付着した面積は直径７ｍｍの円の２倍）の最外周Ｘセンサ１０１ｂと画像表示モジュールの金属フレーム６間の寄生容量値とを比較すると、図８中の符号１３ｂで示した実施の形態１における寄生容量値は５６％、符号１３ｃで示した本実施の形態２では４３％と金属フレーム６と重なるタッチパネルセンサ１の直上の透明粘着材３を無くすことにより、寄生容量が１３％と減少することを表している。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
さらに、上述の実施の形態１および実施の形態２において、タッチパネル装置―画像表示モジュール間を、両面テープに代えて透明粘着材で貼り合せてもよい。この場合、貼り合せに用いた透明粘着材の、画像表示モジュールまたはタッチセンサパネルに接していない４辺（図１上の上下左右）が外気に曝されることになる。この外気に曝された４辺からの透明粘着材への水分吸湿を防ぐためには、その４辺を透湿度が低い防湿シール材で覆えばよいことは無論である。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2018128833.tif 000001
【手続補正１１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2018128833.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月25日(2019.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
従来の遠方監視制御システムでは、子局から収集したデータをサーバにて一元管理するため、サーバの構築・運用コストがかかる問題点があった。また、遠方監視制御システム以外のシステムでのデータ管理方法として特許文献１のように分散ストレージシステムが適用されている。しかしながら、遠方監視制御システムにおけるデータ管理において、分散ストレージを適用するものはなく、データを経済的、効率的に管理できるものが切望されていた。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
実施の形態２．
次にこの発明の実施の形態２における遠方監視制御システムについて説明する。
実施の形態２における遠方監視制御システムは、図４に示すように、子局１Ａ〜１Ｃと通信網３でクラウドサーバ５に接続した構成になっている。その他の構成は、図１に示した実施の形態１と同様である。
図４に示す遠方監視制御システムは、図５に示す機能ブロック図のように、子局１Ａは、データ分散配置手段１０４により、指定されたデータを蓄積する機能を有したデータ蓄積手段１０７にてストレージ１０６へ蓄積するように構成されている。更に、予めまたは個別に与えられたデータ容量の閾値を超える蓄積データは、クラウド転送機能を有したクラウド転送手段１０８を用いて通信手段１０５により、通信網３を介してクラウドサーバ５へデータ転送するように構成されている。なお、子局１Ｂ、１Ｃも子局１Ａと同様に構成されている。
端末２Ａは、図６に示すように、表示手段２００、監視制御手段２０１、通信手段２０３等を有している。
クラウドサーバ５は、図７に示す機能ブロック図のように、クラウド転送機能を有するクラウド転送手段５００を用いて、通信機能を有する通信手段５０１にて子局１Ａ〜１Ｃと通信を行い、子局１Ａ〜１Ｃより転送される蓄積データをデータ蓄積機能を有するデータ蓄積手段５０２により、保存を行う機能を有するストレージ５０３へ蓄積するように構成されている。
蓄積データの閲覧を行うときは、端末２Ａの画面機能を有する表示手段２００から監視制御機能を有する監視制御手段２０１を用いて通信機能を有する通信手段２０３にて子局１Ａ〜１Ｃへ蓄積データの問い合わせを行い、子局１Ａ〜１Ｃはストレージ１０６に蓄積されているデータかクラウドサーバ５のストレージ５０３に蓄積されているデータかを判断し（後述する図８参照）、表示手段２００において子局１Ａの通信手段１０５により端末２Ａ、２Ｂに指定された蓄積データの表示を行う。なお、端末２Ｂも端末２Ａと同様に構成されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
実施の形態３．
次にこの発明の実施の形態３における遠方監視制御システムについて説明する。子局及び端末の構成は、実施の形態１における子局及び端末と同様に構成されている。
実施の形態３における遠方監視制御システムは、図９に示すように、子局１Ａ〜１Ｄと通信網３と端末２Ａ、２Ｂで構成するシステムにおいて、子局１Ｂ、１Ｃの異常子局検出手段１０２が隣接子局の状態を相互監視し、異常なパケット送信を行っている子局（以下、異常子局と称す）の検出を行う。異常子局検出手段１０２が異常子局として子局１Ｄを検出した場合は、子局１Ａ〜１Ｃと通信網３と端末２Ａ、２Ｂで構成するシステムから子局１Ｄの切り離しを行う。また、異常子局である子局１Ｄの切り離し後は、新たに隣接した子局のデータを相互に送受信することで隣接子局のデータを保有する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
以下、実施の形態３の遠方監視制御システムにおける処理手順を図１０に示すフローチャートに従って説明する。図１０のフローチャートは、子局１Ｂ及び子局１Ｃにおける処理手順を示している。
子局１Ｂの異常子局検出手段１０２が隣接子局の状態監視を行う（ステップＳ１１）。異常子局検出手段１０２が異常と判断した件数が１局以内の場合は、子局１Ｃに隣接子局の状態確認依頼を行う（ステップＳ１２）。子局１Ｃの異常子局検出手段１０２が隣接子局の状態監視を行い（ステップＳ１１）、異常と判断した子局が２局以上の場合は、子局１Ｃが異常子局を切り離す（ステップＳ１３）。異常子局の切り離し後は、子局１Ｃが自局の装置内部設定データを子局１Ｂに送信する（ステップＳ１４）。子局１Ｂが子局１Ｃの装置内部設定データを受信確認できれば（ステップＳ１５）、子局１Ｂが自局の装置内部設定データを子局１Ｃに送信する（ステップＳ１６）。このようにして子局同士で自局の装置内部設定データを送信することで相互にデータを保有する。
子局１Ｃも上記同様の動作を行う。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、ステップＳ１１〜Ｓ１４は同様の処理を行った後、子局１Ｂが子局１Ｃの装置内部設定データを受信確認出来なければ（ステップＳ１５）、子局１Ｂが自局の装置内部設定データを子局１Ｃに送信する（ステップＳ１４）。子局１Ｃが子局１Ｂの装置内部設定データを受信確認できれば（ステップＳ１５）、子局１Ｃが自局の装置内部設定データを子局１Ｂに送信する（ステップＳ１６）。このようにして子局同士で自局の装置内部設定データを送信することで相互にデータを保有する。
子局１Ｃも上記同様の動作を行う。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
実施の形態４．
次にこの発明の実施の形態４における遠方監視制御システムについて説明する。子局及び端末の構成は、実施の形態１における子局及び端末と同様に構成されている。
実施の形態４における遠方監視制御システムは、図１１に示すように、子局１Ａ〜１Ｃと図９で示した異常子局である子局１Ｄの代替の子局（以下、代替子局と称す）である子局１Ｅと通信網３で構成するシステムにおいて、データ分散配置手段１０４より、図９で示した異常子局である子局１Ｄの設定データを子局１Ｂにバックアップとして保存する。異常により図９で示した異常子局である子局１Ｄが切り離された後、代替子局である子局１Ｅと交換し、設定復元手段１０３により代替子局である子局１Ｅは子局１Ｂから異常子局である子局１Ｄの設定データをダウンロードする。異常子局である子局１Ｄの設定データのダウンロードにより代替子局である子局１Ｅは切り離された異常子局である子局１Ｄと同じ設定となり、子局の交換ができる。
【手続補正書】
【提出日】令和2年1月30日(2020.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
一般に、表示装置の一例である液晶表示装置（液晶ディスプレイ）に含まれる液晶パネルは、アレイ基板を含む。アレイ基板は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ（Thin Film Transistor））、ＴＦＴに接続された画素電極を有する。液晶パネルは、アレイ基板と対向する対向基板（ＣＦ基板）をさらに含む。対向基板には、対向電極、樹脂膜等が形成されている。アレイ基板および対向基板は、シール材により、互いに貼り合わせられる。シール材は、表示領域を囲むように、形成されている。シール材の形状は、閉ループ状（枠状）である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９１】
第２の透明導電膜（酸化物半導体膜）の厚みは、例えば、８０ｎｍである。酸化物半導体膜は、例えば、ＩｎＧａＺｎＯで構成される。当該酸化物半導体膜の比抵抗は、例えば、１×１０２から１×１０５（Ω・ｃｍ）程度である。以下においては、ＩｎＧａＺｎＯを、「ＩＧＺＯ」とも称する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９２】
状態が半導体である酸化物半導体膜は、当該酸化物半導体膜に、ＵＶ（UltraViolet）レーザーが照射されることにより、当該酸化物半導体膜の状態が、半導体から導体に変化する性質を有する。また、状態が導体である酸化物半導体膜は、Ｎ２Ｏガスを含むプラズマが照射されることにより、当該酸化物半導体膜の状態が、導体から絶縁体に変化する性質を有する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
また、状態が半導体である酸化物半導体膜は、当該酸化物半導体膜に、Ｎ２Ｏガスを含むプラズマが照射されることにより、当該酸化物半導体膜の状態が、半導体から絶縁体に変化する性質を有する。また、状態が絶縁体である酸化物半導体膜は、当該酸化物半導体膜に、ＵＶレーザーが照射されることにより、当該酸化物半導体膜の状態が、絶縁体から導体に変化する性質を有する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０１】
プラズマ処理では、図３（ｂ）および図１２（ｃ）のように、表示領域ＲｇｄがフォトマスクＭＫ１により覆われた状態で、プラズマ装置が、非表示領域Ｒｇｘに対し、Ｎ２Ｏガスを含むプラズマを照射する。これにより、状態が導体である酸化物半導体膜は、当該酸化物半導体膜の状態が、導体から絶縁体に変化する。すなわち、導体部ＣＥｅ（酸化物半導体膜）のうち、非表示領域Ｒｇｘに存在する部分が、絶縁体である絶縁部ＣＥｘに変化する（図１２（ｄ）、図５参照）。すなわち、プラズマ処理は、酸化物半導体膜（導体部ＣＥｅ）のうち、非表示領域Ｒｇｘに形成するための部分を絶縁体（絶縁部ＣＥｘ）に変化させるための処理である。なお、絶縁部ＣＥｘの比抵抗は、例えば、約１×１０７（Ω・ｃｍ）である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２６】
製造方法Ｂでは、図１１（ｃ）の構成に対し、絶縁体形成工程が行われる。構成Ｃｔ２の絶縁体形成工程では、プラズマ処理Ｂが行われる。プラズマ処理Ｂでは、図１３（ａ）のように、基板１１１の上方に存在する部材の最上面全体に、プラズマ装置が、Ｎ２Ｏガスを含むプラズマを照射する。これにより、状態が半導体である酸化物半導体膜は、当該酸化物半導体膜の状態が、半導体から絶縁体に変化する。すなわち、層間絶縁膜１２（ＳｉＯ膜）と接している透明導電膜ＣＥｎ（酸化物半導体膜）は、絶縁体である絶縁部ＣＥｘに変化する（図１３（ｂ）参照）。つまり、プラズマ処理Ｂは、酸化物半導体膜（透明導電膜ＣＥｎ）のうち、非表示領域Ｒｇｘに形成するための部分を絶縁体に変化させるための処理である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４０】
また、プラズマ処理またはプラズマ処理Ｂで使用されるプラズマは、少なくとも、Ｎ２Ｏガスを含むプラズマであればよい。