Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月6日(2020.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
ドライエッチング処理のそれぞれにハロゲン系エッチングガスが用いられてもよい。また、第１〜第ｎのドライエッチング処理のそれぞれにハロゲン系エッチングガスが用いられてもよい。ハロゲン系エッチングガスは、それぞれ三フッ化塩素（ＣｌＦ３）、三フッ化窒素（ＮＦ３）、六フッ化硫黄（ＳＦ６）、フッ素（Ｆ２）、塩素（Ｃｌ２）、臭化水素（ＨＢｒ）、四フッ化炭素（ＣＦ４）、八フッ化シクロブタン（Ｃ４Ｆ８）、三フッ化メタン（ＣＨＦ３）、三塩化ホウ素（ＢＣｌ３）の少なくともいずれかを含んでいてもよい。つまり、ハロゲン系エッチングガスは、これらの材料を用いた単独ガスおよび混合ガスのいずれでもよい。ハロゲン系エッチングガスは、例えば、八フッ化シクロブタン（Ｃ４Ｆ８）、酸素（Ｏ２）の混合ガスであってもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
圧力が１０Ｐａ未満の場合にはエッチングの反応速度が遅くなることによりエッチング速度が遅くなるため、圧力は１０Ｐａ以上とされる。また、真空ポンプ２０６を用いて圧力を１０Ｐａ未満にするには時間がかかるため、圧力は１０Ｐａ以上とされる。また、圧力が１０Ｐａ未満とされても溝９から排出される反応済み滞在反応副生成物の量は圧力が１０Ｐａとされた場合と略変化しないため、圧力は１０Ｐａ以上とされる。また、ターボ分子ポンプではなくメカニカルブースターポンプを用いて圧力を１０Ｐａにすることができるため、圧力は１０Ｐａ以上とされる。また、真空装置では圧力を９０ｋＰａよりも上げることは困難であるため、圧力は９０ｋＰａ以下とされる。プラズマレスの三フッ化塩素（ＣｌＦ３）ガスでは、１０Ｐａ以上９０ｋＰａ（ａｂｓ）以下の圧力の範囲にわたってエッチングすることができる。このため、圧力の範囲は１０Ｐａ以上９０ｋＰａ（ａｂｓ）以下とされる。三フッ化塩素（ＣｌＦ３）ガスは、珪素（Ｓｉ）、タングステン（Ｗ）、チタン（Ｔｉ）、窒化チタン（ＴｉＮ）およびモリブデン（Ｍｏ）をエッチングすることができる。このため、加工対象物の材料として珪素（Ｓｉ）、タングステン（Ｗ）、チタン（Ｔｉ）、窒化チタン（ＴｉＮ）およびモリブデン（Ｍｏ）が用いられる。加工対象物１の材料の各フッ化物の沸点以上にすることで、各材料におけるエッチング速度が確保することができるため、温度が材料の各フッ化物の沸点以上とされる。加工対象物１に形成されたデバイスをダイシングする際の最高温度は２００℃であるため、温度は２００℃未満とされる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
したがって、加工対象物の材料は、二酸化珪素（ＳｉＯ２）、窒酸化珪素（ＳｉＯＮ）および窒化珪素（ＳｉＮｘ）の少なくともいずれかを含んでいる場合がある。この場合、加工対象物を切断する工程では、ハロゲン系エッチングガスに無水フッ化水素（ＨＦ）が添加された状態でドライエッチング処理が施されてもよい。ハロゲン系エッチングガスに無水フッ化水素（ＨＦ）が添加されたエッチングガスは、二酸化珪素（ＳｉＯ２）、窒酸化珪素（ＳｉＯＮ）および窒化珪素（ＳｉＮｘ）をエッチングすることができる。このため、エッチングガスはハロゲン系エッチングガスに無水フッ化水素（ＨＦ）が添加された状態とされる。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月20日(2020.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】集積回路
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の演算回路と、第２の演算回路と、を有し、
前記第１の演算回路は、第１の積和演算回路と、第１の活性化関数回路と、を有し、
前記第２の演算回路は、第２の積和演算回路と、第２の活性化関数回路と、を有し、
前記第１の積和演算回路及び前記第２の積和演算回路は、第１のデータと第２のデータの積和演算の結果に対応する、第３のデータを出力する機能を有し、
前記第１の活性化関数回路及び前記第２の活性化関数回路は、前記第３のデータを活性化関数に基づいて変換し、アナログデータを出力する機能を有し、
前記第２の積和演算回路には、前記第１の活性化関数回路から出力されたアナログデータが入力される集積回路。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月15日(2020.7.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
操作面に対する接触位置を検出する位置検出部と、
前記操作面に対する接触操作を検出する操作検出部と、
少なくとも一つの振動素子を制御して、前記操作面を振動させる振動制御部と、
前記操作面を保持する保持部と前記接触位置との距離に応じて、前記操作検出部による前記接触操作の検出および前記振動制御部による前記操作面の振動の少なくとも一方を補正する補正部と、
を備える制御装置。
【請求項２】
前記補正部は、
前記操作面を含む操作パネルの構造に応じた前記接触位置に基づき、前記操作検出部による前記接触操作の検出および前記振動制御部による前記操作面の振動の少なくとも一方を補正する請求項１に記載の制御装置。
【請求項３】
前記補正部は、
前記接触位置が前記保持部に近いほど前記操作面の前記振動が大きくなるようにする請求項１又は２に記載の制御装置。
【請求項４】
前記操作検出部は、
前記操作面に対して閾値以上の押し込み量で押下された場合に、前記操作面に対する押下操作を検出し、
前記補正部は、
前記接触位置が前記保持部に近いほど前記閾値が小さくなるように、前記閾値を補正する請求項１〜３のいずれか一項に記載の制御装置。
【請求項５】
前記補正部は、
前記操作面の温度に応じて前記操作検出部による前記接触操作の検出および前記振動制御部による前記操作面の振動の少なくとも一方を補正する請求項１〜４のいずれか一項に記載の制御装置。
【請求項６】
前記補正部は、
時間経過に応じて前記操作検出部による前記接触操作の検出および前記振動制御部による前記操作面の振動の少なくとも一方を補正する請求項１〜５のいずれか一項に記載の制御装置。
【請求項７】
前記補正部は、
前記保持部と、前記接触位置との前記距離に応じた振動の変化が小さくなるように、前記振動制御部による前記操作面の振動を補正する請求項１〜６のいずれか一項に記載の制御装置。
【請求項８】
操作面に対する接触位置を検出し、
前記操作面に対する接触操作を検出し、
少なくとも一つの振動素子を制御して、前記操作面を振動させ、
前記操作面を保持する保持部と前記接触位置との距離に応じて、前記接触操作の検出および前記操作面の振動の少なくとも一方を補正する、制御方法。
【請求項９】
操作面を振動させる少なくとも一つの振動素子と、
前記操作面に対する接触位置を検出する位置検出部と、
前記操作面に対する接触操作を検出する操作検出部と、
前記少なくとも一つの振動素子を制御して、前記操作面を振動させる振動制御部と、
前記操作面を保持する保持部と前記接触位置との距離に応じて、前記操作検出部による前記接触操作の検出および前記振動制御部による前記操作面の振動の少なくとも一方を補正する補正部と、
を備える入力装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月22日(2020.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
提供者によって提供された生体情報に関連する情報を取得するデータ取得部と、
前記生体情報に関連する情報に基づいて、前記生体情報の提供に対するフィードバックとして前記提供者に提供される報酬値を決定する決定部と、
前記報酬値に応じた所定の処理を実行する処理部と、を備え、
前記処理部は、基準となる保険料から前記報酬値を減じることによって前記提供者が支払うべき保険料を算出する、
情報処理装置。
【請求項２】
前記生体情報に関連する情報は、前記生体情報に基づいて算出された算出結果を含む、
請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記算出結果は、前記生体情報の評価値、前記生体情報が所定の範囲に維持された期間、前記生体情報の変化の傾向、前記生体情報が検出されたときの前記提供者の活動量、および、前記生体情報の信頼度のうち少なくともいずれか一つに基づいて算出される、
請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記信頼度は、前記生体情報のサンプル数、前記生体情報のサンプル期間、前記生体情報の平均サンプル間隔の少なくともいずれか一つに基づいて算出される、
請求項３に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記生体情報に関連する情報は、前記生体情報を構成する項目が複数である場合、項目ごとの算出結果と重みとに基づいて算出された算出結果を含む、
請求項１〜４のいずれか一項に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記重みは、前記提供者の活動量および前記生体情報の信頼度の少なくともいずれか一方に基づいて算出される、
請求項５に記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記生体情報に関連する情報は、前記提供者によって提供された生体情報のデータサイズ、前記生体情報を構成する項目数、および、前記生体情報が提供された期間の少なくともいずれか一つを含む、
請求項１〜６のいずれか一項に記載の情報処理装置。
【請求項８】
前記決定部は、前記生体情報の一部または全部の利用者が存在する場合、前記利用者によって利用された生体情報に関する情報に基づいて、前記利用者によって支払われるべきデータ利用料を決定する、
請求項１〜７のいずれか一項に記載の情報処理装置。
【請求項９】
前記利用者によって利用された生体情報に関する情報は、前記生体情報のデータサイズ、前記生体情報を構成する項目数、および、前記生体情報が利用された期間の少なくともいずれか一つを含む、
請求項８に記載の情報処理装置。
【請求項１０】
前記決定部は、前記利用者によって行われる研究に対して前記提供者が協力することが検出された場合、前記利用者によって支払われるべき成功報酬料を決定する、
請求項８または９に記載の情報処理装置。
【請求項１１】
前記利用者によって販売される製品またはサービスに関する広告の中から、前記提供者に提示される広告が、前記生体情報に関連する情報に基づいて決定される、
請求項８〜１０のいずれか一項に記載の情報処理装置。
【請求項１２】
前記決定部は、前記提供者によって前記製品またはサービスが購入されたことが検出された場合、前記利用者によって支払われるべき成功報酬料を決定する、
請求項１１に記載の情報処理装置。
【請求項１３】
前記決定部は、前記広告の受け取りを許容している場合には、前記広告の受け取りを拒否している場合よりも、前記提供者に提供される報酬値を高く決定する、
請求項１１または１２に記載の情報処理装置。
【請求項１４】
前記利用者によって前記提供者に提示されるアドバイスが、前記生体情報に関連する情報に基づいて決定される、
請求項８〜１３のいずれか一項に記載の情報処理装置。
【請求項１５】
前記生体情報は、前記提供者の心拍、血圧、血糖値、呼吸数、体温、脳波、心電、血流、心音、血中酸素濃度、コレステロール、血中アルコール濃度、発汗、筋電、および、消費カロリーの少なくともいずれか一つを含む、
請求項１〜１４のいずれか一項に記載の情報処理装置。
【請求項１６】
前記報酬値は、金額および前記金額と同等の価値を有するポイントの少なくともいずれか一つを含む、
請求項１〜１５のいずれか一項に記載の情報処理装置。
【請求項１７】
提供者によって提供された生体情報に関連する情報を取得することと、
前記生体情報に関連する情報に基づいて、前記生体情報の提供に対するフィードバックとして前記提供者に提供される報酬値を決定することと、
前記報酬値に応じた所定の処理を実行することと、を含み、
前記所定の処理を実行することでは、基準となる保険料から前記報酬値を減じることによって前記提供者が支払うべき保険料を算出する、
を含む、情報処理方法。
【請求項１８】
コンピュータを、
提供者によって提供された生体情報に関連する情報を取得するデータ取得部と、
前記生体情報に関連する情報に基づいて、前記生体情報の提供に対するフィードバックとして前記提供者に提供される報酬値を決定する決定部と、
前記報酬値に応じた所定の処理を実行する処理部と、を備える情報処理装置として機能させ、
前記処理部は、基準となる保険料から前記報酬値を減じることによって前記提供者が支払うべき保険料を算出する、
プログラム。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月2日(2019.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
雌端子金具２１（雌端子本体２２）の前端側領域には角筒部２３が形成され、雌端子金具２１の後端側領域には、電線（図示省略）の前端部に圧着されるオープンバレル状の圧着部２４が形成されている。角筒部２３は、前後方向に細長い底壁部２５と、底壁部２５の左右両側縁から上方へ略直角に立ち上がった左右一対の側壁部２６と、左右いずれか一方の側壁部２６の上端縁から延出して底壁部２５と略平行に対向する上壁部２７とを備えて構成されている。上壁部２７の内面（下面）のうち前後方向における略中央部は、受圧部２８となっている。受圧部２８は、角筒部２３に対するタブ１３の挿抜方向と平行な平面状をなす。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
雌端子金具３７（雌端子本体３８）の前端側領域には角筒部３９が形成され、雌端子金具３７の後端側領域には、電線（図示省略）の前端部に圧着されるオープンバレル状の圧着部４８が形成されている。角筒部３９は、前後方向に細長い底壁部４０と、底壁部４０の左右両側縁から上方へ略直角に立ち上がった左右一対の側壁部４１と、左右いずれか一方の側壁部４１の上端縁から延出して底壁部４０と略平行に対向する上壁部４２とを備えて構成されている。上壁部４２の内面（下面）のうち前後方向における略中央部は、受圧部４３となっている。受圧部４３は、角筒部３９に対するタブ１３の挿抜方向と平行な平面状をなす。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
１０…雄端子金具
１３…タブ
１５…基板部
１６…上板部
１９…雄側保持孔（保持孔）
２０…雄側導電部材（導電部材）
２１，３７…雌端子金具
２３，３９…角筒部
２８，４３…受圧部
２９…保持部
３３…雌側保持孔（保持孔）
３４，４６…弾性押圧片
３６，４９…雌側導電部材（導電部材）
【手続補正書】
【提出日】令和2年3月24日(2020.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１半導体レーザ素子と、
第２半導体レーザ素子と、
第１面と前記第１面に対向する第２面とを有し、前記第１半導体レーザ素子及び前記第２半導体レーザ素子のレーザ光が前記第１面に入射し、前記第１面に入射したレーザ光の少なくとも一部を波長変換して前記第１面から取り出す波長変換部材と、を備え、
前記第１半導体レーザ素子は、前記波長変換部材の第１面に対してレーザ光が主にＰ偏光で入射するように配置され、
前記第２半導体レーザ素子は、前記波長変換部材の第１面に対してレーザ光が主にＳ偏光で入射するように配置され、
前記第１半導体レーザ素子と前記第２半導体レーザ素子は、いずれも、前記波長変換部材の第１面に対してレーザ光が斜めから入射するように配置され、
前記第１半導体レーザ素子からのレーザ光の前記波長変換部材の第１面に対する入射角と前記第２半導体レーザ素子からのレーザ光の前記波長変換部材の第１面に対する入射角との少なくとも一方を調整可能である照明装置。
【請求項２】
前記第１半導体レーザ素子と前記第２半導体レーザ素子は、同じ色の光を出射する請求項１に記載の照明装置。
【請求項３】
前記第１半導体レーザ素子と前記第２半導体レーザ素子は、いずれも、前記波長変換部材の第１面に対するレーザ光の入射角が２０度以上８０度以下となるように配置される請求項１又は２に記載の照明装置。
【請求項４】
前記第１半導体レーザ素子と前記第２半導体レーザ素子は、前記波長変換部材の第１面に対してレーザ光が同一方向から入射するよう配置される請求項１から３のいずれか１項に記載の照明装置。
【請求項５】
前記第１半導体レーザ素子からのレーザ光、または、前記第２半導体レーザ素子からのレーザ光が入射する光反射部材をさらに備え、
前記光反射部材は、反射したレーザ光が前記波長変換部材の第１面に対する入射角の調整が可能な可動式の光反射部材である請求項１から４のいずれか１項に記載の照明装置。
【請求項６】
前記第１半導体レーザ素子からのレーザ光の前記波長変換部材の第１面に対する入射角と前記第２半導体レーザ素子からのレーザ光の前記波長変換部材の第１面に対する入射角との一方は調整可能であり、他方は固定されている請求項１から５のいずれか１項に記載の照明装置。
【請求項７】
第１面と前記第１面に対向する第２面とを有し、前記第１面に入射するレーザ光の少なくとも一部を波長変換して前記第１面から取り出す波長変換部材と、前記波長変換部材の第１面に対してレーザ光が主にＰ偏光で入射するように配置された第１半導体レーザ素子と、前記波長変換部材の第１面に対してレーザ光が主にＳ偏光で入射するように配置された第２半導体レーザ素子と、を備える照明装置の駆動方法であって、
前記第１半導体レーザ素子からのレーザ光の前記波長変換部材の第１面に対する入射角と前記第２半導体レーザ素子からのレーザ光の前記波長変換部材の第１面に対する入射角との少なくとも一方を調整し、前記波長変換部材から取り出される光の色度を調整する工程を有する照明装置の駆動方法。
【請求項８】
前記照明装置は、前記第１半導体レーザ素子及び前記第２半導体レーザ素子として、同じ色の光を出射する半導体レーザ素子を用いる請求項７に記載の照明装置の駆動方法。
【請求項９】
前記色度を調整する工程において、前記波長変換部材の第１面に対するレーザ光の入射角が、いずれも、２０度以上８０度以下となるように前記第１半導体レーザ素子からのレーザ光と前記第２半導体レーザ素子からのレーザ光を調整する請求項７又は８に記載の照明装置の駆動方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月16日(2020.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、
ウェハ支持構造体の表面から突出しない所定の位置に配置された先端を有し、前記光源に接続された投光ファイバーと、
ウェハからの反射光を波長に従って分解して各波長での反射光の強度を測定する分光器と、
前記所定の位置に配置された先端を有し、前記分光器に接続された第１受光ファイバーと、
前記所定の位置に配置され、かつ前記第１受光ファイバーの前記先端に隣接した先端を有する第２受光ファイバーと、
前記反射光の強度と波長との関係を示す分光波形に基づいてウェハの膜厚を決定する処理部と、
前記第２受光ファイバーと前記分光器とを光学的に接続および切り離す光路選択機構を備えたことを特徴とする膜厚測定装置。
【請求項２】
前記第２受光ファイバーの前記先端は、複数の先端から構成され、
前記第２受光ファイバーの前記複数の先端は、前記第１受光ファイバーの前記先端の周りに配列されていることを特徴とする請求項１に記載の膜厚測定装置。
【請求項３】
前記第１受光ファイバーの前記先端は、複数の先端から構成され、
前記第１受光ファイバーの前記複数の先端は、前記第２受光ファイバーの前記先端の周りに配列されていることを特徴とする請求項１に記載の膜厚測定装置。
【請求項４】
前記光路選択機構は、前記第２受光ファイバーを前記分光器または前記光源のいずれか一方に選択的に接続する光路切り替え装置であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の膜厚測定装置。
【請求項５】
前記光路切り替え装置は、
前記光源に接続された第１接続ファイバーと、
前記分光器に接続された第２接続ファイバーと、
前記第２受光ファイバーを前記第１接続ファイバーまたは前記第２接続ファイバーに接続する光スイッチを備えることを特徴とする請求項４に記載の膜厚測定装置。
【請求項６】
前記光路選択機構は、前記第２受光ファイバーと前記分光器との間に配置されたシャッター機構であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の膜厚測定装置。
【請求項７】
ウェハ支持構造体と、
前記ウェハ支持構造体上の研磨パッドにウェハを押し付けるための研磨ヘッドと、
請求項１乃至６のいずれか一項に記載の膜厚測定装置を備えたことを特徴とする研磨装置。
【請求項８】
請求項１乃至６のいずれか一項に記載の膜厚測定装置でウェハの膜厚を測定しながら、前記ウェハを研磨ヘッドで研磨パッドに押し付けて前記ウェハを研磨し、
前記ウェハの研磨中に、前記処理部は前記光路選択機構を操作して、前記第２受光ファイバーと前記分光器とを光学的に接続または切り離すことを特徴とする研磨方法。
【請求項９】
光源と、
ウェハ支持構造体の表面から突出しない所定の位置に配置された先端を有し、前記光源に接続された投光ファイバーと、
ウェハからの反射光を波長に従って分解して各波長での反射光の強度を測定する分光器と、
前記所定の位置に配置された先端を有する受光ファイバーと、
前記反射光の強度と波長との関係を示す分光波形に基づいてウェハの膜厚を決定する処理部と、
前記受光ファイバーと前記分光器との間に配置された光学系を備え、
前記光学系は、開度が可変な視野絞りを有することを特徴とする膜厚測定装置。
【請求項１０】
ウェハの表面に形成された構造物の種類に基づいて、光学系の視野絞りの開度を調整し、
前記ウェハを研磨し、
前記ウェハの研磨中に、光源から発せられた光をウェハの表面に導きながら、前記ウェハからの反射光を前記光学系を通じて分光器に伝達し、
前記反射光の強度と波長との関係を示す分光波形を生成し、
前記分光波形に基づいてウェハの膜厚を決定することを特徴とする研磨方法。
【請求項１１】
前記ウェハの研磨中に前記視野絞りの開度を変更することを特徴とする請求項１０に記載の研磨方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
ウェハの表面に形成されているデバイスのタイプによっては、ウェハ面内の広い領域で膜厚を測定することが望ましい場合もあり、ウェハ面内の狭い領域で膜厚を測定することが望ましい場合もある。例えば、メモリセルなどのある特定の領域の膜厚を監視する場合には、膜厚測定領域を狭くして不要な膜厚情報を排除することが望ましい。一方、ウェハ面の全体の膜厚を監視する場合には、領域ごとの膜厚のばらつきを減らすために膜厚測定領域を広くすることが望ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の一態様は、ウェハの表面に形成された構造物の種類に基づいて、光学系の視野絞りの開度を調整し、前記ウェハを研磨し、前記ウェハの研磨中に、光源から発せられた光をウェハの表面に導きながら、前記ウェハからの反射光を前記光学系を通じて分光器に伝達し、前記反射光の強度と波長との関係を示す分光波形を生成し、前記分光波形に基づいてウェハの膜厚を決定することを特徴とする研磨方法である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の好ましい態様は、前記ウェハの研磨中に前記視野絞りの開度を変更することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
投光ファイバー３４の先端３４ａと、第１受光ファイバー５０Ａの先端５０ａと、第２受光ファイバー５０Ｂの先端５０ｂは、互いに隣接しており、これらの先端３４ａ，５０ａ，５０ｂは光センサ６１を構成する。研磨パッド１は、光センサ６１の上方に位置する通孔１ｂを有しており、光センサ６１は通孔１ｂを通じて研磨パッド１上のウェハＷに光を導き、ウェハＷからの反射光を受けることができるようになっている。研磨パッド１の通孔１ｂは、光を透過させる透明な材料で塞がれてもよい。
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月25日(2020.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０１】
１…シリコンウエハ、２…銅膜、３…容器、４…溶液、５…塗膜、６…重合膜、２０…基材、２０ａ…貫通孔、２１…シード層、２２…レジスト層、２２ａ、２５ａ、２６ａ…開口、２３…配線、２３ａ…表面、２３ｘ…上面、２３ｙ…側面、２５…第１のソルダレジスト層、２６…第２のソルダレジスト層、３０…配線基板、３１…半導体素子、３２…電極、３３…はんだバンプ、３４…アンダーフィル樹脂、３６…外部接続端子、４０…半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2019021771.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月26日(2020.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧電材料と、電極を備えた圧電素子において、
前記圧電材料はチタン酸バリウム系材料を含み、
前記圧電素子の二つの抗電界Ｅｃ１およびＥｃ２が同じ符号であり、
（｜Ｅｃ２｜−｜Ｅｃ１｜）≧８ｋＶ／ｃｍ
であることを特徴とする圧電素子。
【請求項２】
前記｜Ｅｃ２｜が１０ｋＶ／ｃｍ以上である請求項１に記載の圧電素子。
【請求項３】
前記圧電素子のヒステリシスループにおける、前記Ｅｃ１および前記Ｅｃ２とは異なる電界極性のヒステリシスループと電界がゼロの軸とで囲まれる面積ＳがＳ≦５ｍＶ・Ｃ／ｍ３である請求項１または２に記載の圧電素子。
【請求項４】
前記圧電素子のヒステリシスループにおける、前記Ｅｃ１および前記Ｅｃ２と同じ電界極性における分極量の最大値Ｐｍａｘと分極量の最小値Ｐｍｉｎとしたとき、
（｜Ｐｍａｘ−Ｐｍｉｎ｜）≧１５μＣ／ｃｍ２である請求項１から３のいずれか１項に記載の圧電素子。
【請求項５】
前記圧電素子のヒステリシスループにおける、前記Ｅｃ１および前記Ｅｃ２が位置する電界極性における分極量の最大値Ｐｍａｘと分極量の最小値Ｐｍｉｎとしたとき、
（｜Ｅｃ２｜−｜Ｅｃ１｜）と（｜Ｐｍａｘ−Ｐｍｉｎ｜）の積が１２０ｋＶ・Ｃ／ｍ３以上である請求項１から４のいずれか１項に記載の圧電素子。
【請求項６】
前記チタン酸バリウム系材料が、Ｂａ、Ｃａ、Ｔｉ、およびＺｒを含む酸化物と、Ｍｎを含む請求項１から５のいずれか１項に記載の圧電素子。
【請求項７】
前記Ｂａおよび前記Ｃａの和に対する前記Ｃａのモル比であるｘが０．０２≦ｘ≦０．３０であり、前記Ｔｉおよび前記Ｚｒの和に対するＺｒのモル比であるｙが０．０１≦ｙ≦０．１０であり、前記酸化物１００重量部に対する前記Ｍｎの含有量は、金属換算で０．０２重量部以上０．４０重量部以下である請求項６に記載の圧電素子。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項に記載された圧電素子と、前記圧電素子を挟持する第一の弾性体と第二の弾性体と、前記圧電素子と第一の弾性体と第二の弾性体を貫通するシャフトを有する振動子。
【請求項９】
請求項８に記載の振動子と、前記振動子と接する移動体を有する振動波モータ。
【請求項１０】
請求項９の振動波モータと、光学部材を有することを特徴とする光学機器。
【請求項１１】
請求項１乃至７のいずれか１項に記載された圧電素子あるいは請求項８に記載の振動子を備えた電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するために、圧電材料と、電極を備えた圧電素子において、
前記圧電材料はチタン酸バリウム系材料を含み、
前記圧電素子の二つの抗電界Ｅｃ１およびＥｃ２が同じ符号であり、
（｜Ｅｃ２｜−｜Ｅｃ１｜）≧８ｋＶ／ｃｍ
であることを特徴とする圧電素子を提供する。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月16日(2020.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１部材および第２部材を含む筐体と、
前記第１部材および前記第２部材のうちの少なくとも一方と結合された導電性の結合部材と、
前記筐体に収容され、前記結合部材と導通する導体を含む回路を有する基板と
を備えた電子機器。
【請求項２】
前記導体は、前記結合部材が挿通される座金を介して前記結合部材と導通している
請求項１記載の電子機器。
【請求項３】
前記座金は、弾性部分を有している
請求項２記載の電子機器。
【請求項４】
前記結合部材は、前記第１部材と前記第２部材とを結合し、
前記第１部材は、前記結合部材が取り付けられる取付穴と、前記座金と対向すると共に前記取付穴を取り囲む対向面とを含む台座を有し、
前記結合部材の締め付け方向における前記対向面と前記第２部材との間隔は、前記結合部材の締め付け方向と直交する方向において前記台座の外側から前記取付穴へ近づくほど広がっている
請求項２記載の電子機器。
【請求項５】
前記座金は、弾性部分を有しており、
前記対向面は、前記結合部材の締め付け方向において前記弾性部分と重なり合うように配置されている
請求項４記載の電子機器。
【請求項６】
前記結合部材は、前記筐体の外側に露出した露出部を有する
請求項１記載の電子機器。
【請求項７】
前記結合部材は、前記第１部材と前記基板とを結合し、
前記第１部材は、前記結合部材が取り付けられる取付穴と、前記座金と対向すると共に前記取付穴を取り囲む対向面とを含む台座を有し、
前記結合部材の締め付け方向における前記対向面と前記基板との間隔は、前記結合部材の締め付け方向と直交する方向において前記台座の外側から前記取付穴へ近づくほど広がっている
請求項２記載の電子機器。
【請求項８】
前記座金は、弾性部分を有しており、
前記対向面は、前記結合部材の締め付け方向において前記弾性部分と重なり合う位置に設けられている
請求項７記載の電子機器。
【請求項９】
前記基板は、前記結合部材が挿通される孔を有する
請求項１記載の電子機器。
【請求項１０】
前記導体は、前記結合部材が挿通される開口を、前記基板の前記孔と対応する位置に有する
請求項９記載の電子機器。
【請求項１１】
前記結合部材は、前記筐体の内部に収容され、
前記第１部材および前記第２部材のうちの少なくとも一方は、前記結合部材と対応する位置に貫通孔を有している
請求項１記載の電子機器。
【請求項１２】
前記回路は、半導体集積回路を含む
請求項１記載の電子機器。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月6日(2020.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
それぞれが、光電変換部および前記光電変換部で生成された電荷を蓄積する電荷蓄積領域を有する複数の画素を含む画素領域と、
前記画素領域の外側に位置する周辺回路領域と、
前記画素領域と前記周辺回路領域との間に位置する第１導電型の第１不純物領域と、前記第１不純物領域に接続された複数の第１コンタクトプラグと、前記周辺回路領域と前記第１不純物領域との間に位置する第２導電型の第２不純物領域と、前記第２不純物領域に接続された複数の第２コンタクトプラグと、を有する周辺領域と、
を備える撮像装置。
【請求項２】
前記第１不純物領域は、平面視において前記画素領域を取り囲んでいる、
請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記第２不純物領域は、平面視において前記画素領域を取り囲んでいる、
請求項１に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記周辺領域は、
前記周辺回路領域と前記第２不純物領域との間に位置する第１導電型の第３不純物領域と、
前記第３不純物領域に接続された複数の第３コンタクトプラグと、を含む、
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記第３不純物領域は、平面視において前記画素領域を取り囲んでいる、
請求項４に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記第１不純物領域よりも深い位置にあり、前記画素領域と前記周辺領域とにまたがる第２導電型の第４不純物領域をさらに有し、
前記第２不純物領域は、前記第４不純物領域に電気的に接続されている、
請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記第４不純物領域よりも深い位置にあり、前記画素領域と前記周辺領域とにまたがる第１導電型の第５不純物領域をさらに有し、
前記第３不純物領域は、前記第５不純物領域に電気的に接続されている、
請求項４または請求項５を引用する請求項６に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記第４不純物領域を貫通し、前記第５不純物領域と前記画素領域を電気的に接続する第１導電型の複数の第６不純物領域をさらに有する、
請求項７に記載の撮像装置。
【請求項９】
前記周辺領域は、平面視において前記画素領域と前記複数の第１コンタクトプラグとの間に位置する素子分離を含む、
請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の撮像装置。
【請求項１０】
前記第１導電型は、Ｐ型である、
請求項１から請求項９のいずれか一項に記載の撮像装置。
【請求項１１】
前記周辺領域に電圧を供給する金属配線をさらに備え、
前記金属配線は前記周辺回路領域の上部の配線層内に位置する、
請求項１から請求項１０のいずれか一項に記載の撮像装置。
【請求項１２】
前記金属配線は前記配線層内のもっとも上の層に位置する、
請求項１１に記載の撮像装置。
【請求項１３】
前記第３不純物領域は周囲よりも不純物濃度の高い第７不純物領域を内部に含む、
請求項４に記載の撮像装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月22日(2020.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像処理装置であって、
ユーザから受け付けた１回の読取指示に基づいて少なくとも第１の原稿と第２の原稿を読み取ることによって画像データを生成する読取手段と、
テキスト情報を得るために前記画像データに文字認識処理を実行する文字認識手段と、
前記テキスト情報から、前記第１の原稿に対応する第１の宛先情報と前記第２の原稿に対応する第２の宛先情報を抽出する抽出手段と、
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記抽出手段によって抽出された前記第１の宛先情報と前記第２の宛先情報を外部装置に送信する送信手段をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記送信手段は、前記抽出手段によって抽出された前記第１の宛先情報と前記第２の宛先情報を外部装置にネットワークを介して送信することを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記送信手段によって送信された前記第１の宛先情報と前記第２の宛先情報は前記外部装置で修正可能であることを特徴とする請求項２または３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記外部装置の宛先はユーザによって設定可能であることを特徴とする請求項２乃至４の何れか１項に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記第１の原稿に対応する前記第１の宛先情報と、前記第２の原稿に対応する前記第２の宛先情報は互いに異なる原稿に対応する宛先情報として抽出可能であることを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記抽出手段によって抽出された前記第１の宛先情報も前記第２の宛先情報もＥ−ｍａｉｌアドレスであることを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記抽出手段によって抽出された前記第１の宛先情報も前記第２の宛先情報もファクス番号であることを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記抽出手段によって抽出された前記第１の宛先情報はＥ−ｍａｉｌアドレスであり、前記抽出手段によって抽出された前記第２の宛先情報はファクス番号であることを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
自動原稿搬送部をさらに有することを特徴とする請求項１乃至９の何れか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１１】
画像処理装置の制御方法であって、
読取手段が、ユーザから受け付けた１回の読取指示に基づいて少なくとも第１の原稿と第２の原稿を読み取ることによって画像データを生成する読取工程と、
文字認識手段が、テキスト情報を得るために前記画像データに文字認識処理を実行する文字認識工程と、
抽出手段が、前記テキスト情報から、前記第１の原稿に対応する第１の宛先情報と前記第２の原稿に対応する第２の宛先情報を抽出する抽出工程と、
を含むことを特徴とする画像処理装置の制御方法。
【請求項１２】
前記抽出工程で抽出された前記第１の宛先情報と前記第２の宛先情報を外部装置に送信する送信工程をさらに含むことを特徴とする請求項１１に記載の画像処理装置の制御方法。
【請求項１３】
前記送信工程では、前記抽出工程で抽出された前記第１の宛先情報と前記第２の宛先情報を外部装置にネットワークを介して送信することを特徴とする請求項１２に記載の画像処理装置の制御方法。
【請求項１４】
前記送信工程で送信された前記第１の宛先情報と前記第２の宛先情報は前記外部装置で修正可能であることを特徴とする請求項１２または１３に記載の画像処理装置の制御方法。
【請求項１５】
前記外部装置の宛先はユーザによって設定可能であることを特徴とする請求項１２乃至１４の何れか１項に記載の画像処理装置の制御方法。
【請求項１６】
前記第１の原稿に対応する前記第１の宛先情報と、前記第２の原稿に対応する前記第２の宛先情報は互いに異なる原稿に対応する宛先情報として抽出可能であることを特徴とする請求項１１乃至１５の何れか１項に記載の画像処理装置の制御方法。
【請求項１７】
前記抽出工程で抽出された前記第１の宛先情報も前記第２の宛先情報もＥ−ｍａｉｌアドレスであることを特徴とする請求項１１乃至１６の何れか１項に記載の画像処理装置の制御方法。
【請求項１８】
前記抽出工程で抽出された前記第１の宛先情報も前記第２の宛先情報もファクス番号であることを特徴とする請求項１１乃至１６の何れか１項に記載の画像処理装置の制御方法。
【請求項１９】
前記抽出工程で抽出された前記第１の宛先情報はＥ−ｍａｉｌアドレスであり、前記抽出工程で抽出された前記第２の宛先情報はファクス番号であることを特徴とする請求項１１乃至１６の何れか１項に記載の画像処理装置の制御方法。
【請求項２０】
請求項１１乃至１９の何れか１項に記載の画像処理装置の制御方法の各工程を、コンピュータに実行させるプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像処理装置、その制御方法、及びプログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、上述の問題に鑑みて成されたものであり、１回の読取指示で第１の原稿と第２の原稿を読み取ることによって画像データを生成し、画像データに文字認識処理を実行し、得られたテキスト情報から、第１の原稿に対応する第１の宛先情報と第２の原稿に対応する第２の宛先情報を抽出する仕組みを提供することを目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、画像処理装置であって、ユーザから受け付けた１回の読取指示に基づいて少なくとも第１の原稿と第２の原稿を読み取ることによって画像データを生成する読取手段と、テキスト情報を得るために前記画像データに文字認識処理を実行する文字認識手段と、前記テキスト情報から、前記第１の原稿に対応する第１の宛先情報と前記第２の原稿に対応する第２の宛先情報を抽出する抽出手段と、を備えることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明によれば、１回の読取指示で第１の原稿と第２の原稿を読み取ることによって画像データを生成し、画像データに文字認識処理を実行し、得られたテキスト情報から、第１の原稿に対応する第１の宛先情報と第２の原稿に対応する第２の宛先情報を抽出することができる。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月22日(2020.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報処理装置であって、
前記情報処理装置の周囲における移動体、及び前記移動体までの距離を検出する検出手段と、
第１の撮像範囲を有する第１の撮像部と、
前記第１の撮像範囲よりも狭い第２の撮像範囲を有する第２の撮像部と、
前記第１の撮像部により撮像された画像データに基づいて顔認証を行う認証手段と、
前記第１の撮像部により撮像された画像データに基づく顔認証が完了せず、且つ、前記検出手段により検出された前記距離が所定の距離より短い場合、前記認証手段が前記第２の撮像部により撮像された画像データに基づく顔認証を行うように制御する制御手段と、
を有することを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記第２の撮像部は、前記情報処理装置の前側の上部に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記検出手段は、赤外線アレイセンサを含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記検出手段は、前記赤外線アレイセンサの受光素子の内、最も高い温度を検出した素子の位置に基づいて、前記移動体までの距離を検出することを特徴とする請求項３に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記認証手段は、Ｈａａｒ−ｌｉｋｅ特徴量を用いた顔検出アルゴリズムを使用することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記第１の撮像部により撮像された画像データと、前記第２の撮像部により撮像された画像データとに対して、それぞれ異なる画像補正処理を実行する画像補正手段を、更に有し、
前記認証手段は、前記画像補正手段により補正された画像データに基づいて顔認証を行うことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記第１の撮像部により撮像された画像データに含まれる認証対象者のつま先の画像データに基づいて、前記認証対象者が前記情報処理装置に向かってきているか否かを判定する判定手段を、更に有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項８】
省電力状態で前記検出手段が前記移動体を検出すると、少なくとも前記第１の撮像部への電源供給を開始させる電源制御手段を、更に有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項９】
前記電源制御手段は更に、前記検出手段により検出された前記距離が、前記所定の距離よりも長い第１の距離になる前に前記第１の撮像部への電源供給を開始させることを特徴とする請求項８に記載の情報処理装置。
【請求項１０】
前記所定の距離は、前記認証手段が、前記第１の撮像部により撮像された画像データに基づく認証を行うことができない距離であることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項１１】
前記制御手段は、前記検出手段が検出した前記距離が、前記所定の距離よりも長い第２の距離の場合に、前記認証手段が前記第１の撮像部により撮像された画像データに基づく認証を行うように制御することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項１２】
前記第２の距離は、前記情報処理装置を操作する意図がある人物が侵入してくる可能性が高い距離であることを特徴とする請求項１１に記載の情報処理装置。
【請求項１３】
情報処理装置の周囲における移動体、及び前記移動体までの距離を検出する検出手段と、第１の撮像範囲を有する第１の撮像部と、第２の撮像範囲を有する第２の撮像部とを有する前記情報処理装置を制御する制御方法であって、
前記第２の撮像範囲は、前記第１の撮像範囲よりも狭く、
前記制御方法は、
前記第１の撮像部により撮像された画像データに基づいて顔認証を行う認証工程と、
前記第１の撮像部により撮像された画像データに基づく顔認証が完了せず、且つ、前記検出手段により検出された前記距離が所定の距離より短い場合、前記認証工程において前記第２の撮像部により撮像された画像データに基づく顔認証を行うように制御する制御工程と、
を有することを特徴とする制御方法。
【請求項１４】
コンピュータを、請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の情報処理装置の各手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するために本発明の一態様に係る情報処理装置は以下のような構成を備える。即ち、
情報処理装置であって、
前記情報処理装置の周囲における移動体、及び前記移動体までの距離を検出する検出手段と、
第１の撮像範囲を有する第１の撮像部と、
前記第１の撮像範囲よりも狭い第２の撮像範囲を有する第２の撮像部と、
前記第１の撮像部により撮像された画像データに基づいて顔認証を行う認証手段と、
前記第１の撮像部により撮像された画像データに基づく顔認証が完了せず、且つ、前記検出手段により検出された前記距離が所定の距離より短い場合、前記認証手段が前記第２の撮像部により撮像された画像データに基づく顔認証を行うように制御する制御手段と、
を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月31日(2020.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像素子および撮像光学系を用いて映像を撮像する撮像手段と、
前記撮像された映像を表示するための画像処理を行う画像処理手段と、
前記画像処理がなされた映像をディスプレイに表示する表示手段と、
前記ディスプレイにおける使用者の注視点を検出する検出手段と、
前記注視点に基づいて、前記撮像映像の解像度を、現像処理を行う前に変換する変換手段と、を有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記変換手段は、注視点近傍の解像度を高く、注視点から遠い領域の解像度を低く変換することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記変換手段は、現像処理が行われる前のＲＡＷデータに対して変換を行うことを特徴とする請求項１または２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記画像処理手段は、前記解像度が変換された画像に対して画像処理を行うことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記変換手段は、前記撮像手段の内部に構成され、前記注視点に基づいて解像度が変換された映像を出力することを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記変換手段は前記撮像素子の内部に構成されることを特徴とする請求項５に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記画像処理装置は、ヘッドマウントディスプレイであることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項８】
撮像素子および撮像光学系を用いて映像を撮像する撮像ステップと、
前記撮像された映像を表示するための画像処理を行う画像処理ステップと、
前記画像処理がなされた映像をディスプレイに表示する表示ステップと、
前記ディスプレイにおける使用者の注視点を検出する検出ステップと、
前記注視点に基づいて、前記撮像映像の解像度を、現像処理を行う前に変換する変換ステップと、を有することを特徴とする画像処理方法。
【請求項９】
コンピュータを請求項１から７のいずれか１項に記載の画像処理装置として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明によれば、画像処理装置に、撮像素子および撮像光学系を用いて映像を撮像する撮像手段と、前記撮像された映像を表示するための画像処理を行う画像処理手段と、前記画像処理がなされた映像をディスプレイに表示する表示手段と、前記ディスプレイにおける使用者の注視点を検出する検出手段と、前記注視点に基づいて、前記撮像映像の解像度を、現像処理を行う前に変換する変換手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月10日(2020.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の第１レーザービームを出力する複数のレーザー装置と、
各々が、入力端と出力端を有し、前記入力端に受信される前記複数の第１レーザービームのうちの対応するものを、ビーム径が広がるように前記出力端から出力する複数の光ファイバーと、
入射面と出射面とを有し、前記複数の光ファイバーから出力される前記複数の第１レーザービームを複数の入力レーザービームとして前記入射面に受け、光学的操作を行って、前記複数の入力レーザービームにそれぞれに対応する複数の第２レーザービームを前記出射面から出力する光学系と
を具備し、
前記複数の入力レーザービームのそれぞれは、前記光学系の前記入射面において、前記複数の入力レーザービームのうちの他の少なくとも一のレーザービームに重なり合っており、
前記光学系は、前記光学系の光軸に垂直であるように設定された目標面における前記第２レーザービームの中心から前記光軸までの距離が、前記第２レーザービームの前記目標面におけるビーム径の２分の１であるビーム半径よりも小さくなるように構成されている
レーザービーム照射装置。
【請求項２】
請求項１に記載のレーザービーム照射装置であって、
前記複数の入力レーザービームのそれぞれは、前記光学系の前記入射面において、前記複数の入力レーザービームの他のレーザービームの全てに重なり合っている
レーザービーム照射装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のレーザービーム照射装置であって、
前記複数のレーザー装置と前記複数の光ファイバーとの間に設けられ、前記光学系の前記出射面における前記複数の第２レーザービームの位相が同一であるように、前記複数の第１レーザービームの位相を制御する複数の位相制御装置を更に備えている
レーザービーム照射装置。
【請求項４】
請求項１に記載のレーザービーム照射装置であって、
前記光学系は、集光光学系であり、
前記集光光学系は、前記目標面において前記複数の第２レーザービームの各々のビーム径が最小になるように構成されている
レーザービーム照射装置。
【請求項５】
請求項１、２、４のいずれか一項に記載のレーザービーム照射装置であって、
更に、前記複数の第１レーザービームの波面の形状を整形するように前記複数の光ファイバーの前記出力端と前記光学系の間に設けられた複数のビーム整形光学系を具備する
レーザービーム照射装置。
【請求項６】
請求項１、２、４のいずれか一項に記載のレーザービーム照射装置であって、
前記複数の光ファイバーの前記出力端に接合され、前記複数の光ファイバーから出射された前記複数の第１レーザービームを前記光学系の前記入射面に導くように構成された結合光学素子を更に備える
レーザービーム照射装置。
【請求項７】
請求項１に記載のレーザービーム照射装置であって、
前記光学系は、前記複数の入力レーザービームにそれぞれに対応し、平行光である前記複数の第２レーザービームを出力するコリメート光学系である
レーザービーム照射装置。
【請求項８】
請求項７に記載のレーザービーム照射装置であって、
更に、
前記コリメート光学系から出射される前記複数の第２レーザービームが入射され、前記複数の第２レーザービームに対してレーザー増幅を行って増幅後レーザービームを生成する固体レーザー増幅器を具備する
レーザービーム照射装置。
【請求項９】
請求項８に記載のレーザービーム照射装置であって、
前記複数のレーザー装置のそれぞれは、ファイバーレーザーを含む
レーザービーム照射装置。
【請求項１０】
請求項７に記載の複数のレーザービーム照射装置と、
集光光学系と
を具備し、
前記複数のレーザービーム照射装置のそれぞれから出射される前記複数の第２レーザービームで構成される合成ビームが、前記集光光学系の入射面に入射され、
前記集光光学系は、前記合成ビームに対して光学的操作を行って前記合成ビームにそれぞれに対応する第３レーザービームを出射するように構成され、
前記集光光学系は、前記集光光学系から出射された前記第３レーザービームの全てについて、前記集光光学系の光軸に垂直であるように設定された平面である目標面において前記第３レーザービームのビーム径が最小になり、且つ、前記目標面における前記第３レーザービームの中心から前記光軸までの距離が、前記第３レーザービームのそれぞれの前記目標面におけるビーム径の２分の１であるビーム半径よりも小さくなるように構成されている
レーザービーム照射システム。
【請求項１１】
請求項７に記載の複数のレーザービーム照射装置と、
第１コリメート光学系と
を具備し、
前記複数のレーザービーム照射装置のそれぞれから出射される前記複数の第２レーザービームで構成される合成ビームが、前記第１コリメート光学系の入射面に入射され、
前記第１コリメート光学系は、前記合成ビームに対して光学的操作を行って、前記合成ビームにそれぞれに対応し、且つ、平行光である第３レーザービームを出射するように構成されている
レーザービーム照射システム。