【手続補正書】
【提出日】令和2年10月19日(2020.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インプリントリソグラフィに用いられる第１のテンプレートと第２のテンプレートとの相対位置を調整する方法であって、
前記方法は、前記第１のテンプレートの活性領域に隣接する隣接領域の表面の第１の複数の位置ポイントを特定することを備え、前記隣接領域の前記表面と前記活性領域の表面とは、前記第１のテンプレートの連続面を形成し、前記第１のテンプレートの前記活性領域には、１つ以上のパターニングフィーチャが設けられ、
前記方法は、前記第１のテンプレートの前記隣接領域の前記第１の複数の位置ポイントに基づいて、前記第１のテンプレートの前記隣接領域の前記表面の状態を識別することを備え、
前記方法は、第２のテンプレートの活性領域の表面の第２の複数の位置ポイントを特定することを備え、前記第２のテンプレートの前記活性領域は、パターニングフィーチャは設けておらず、前記第２のテンプレートの表面から突出して構成されており、さらに、前記第２のテンプレートの前記活性領域は、前記第１のテンプレートの前記活性領域に設けられたパターニングフィーチャが複製される領域であり、
前記方法は、
前記第２のテンプレートの前記活性領域の前記第２の複数の位置ポイントに基づいて、前記第２のテンプレートの前記活性領域の前記表面の状態を識別することと、
前記第１のテンプレートの前記隣接領域の前記表面の状態と、前記第２のテンプレートの前記活性領域の前記表面の状態とに基づいて、前記第１のテンプレートと前記第２のテンプレートとの相対位置を調整することと、
を備えることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記第１のテンプレートの前記隣接領域の前記表面の状態と前記第２のテンプレートの前記活性領域の前記表面の状態とを比較することと、
前記比較に基づいて、前記第１のテンプレートの前記隣接領域の前記表面と前記第２のテンプレートの前記活性領域の前記表面との間のレベリングエラーを評価することと、
を更に備え、
前記第１のテンプレートと前記第２のテンプレートとの前記相対位置を調整することは、前記レベリングエラーに基づいていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１のテンプレートと前記第２のテンプレートとの前記相対位置は、前記レベリングエラーを補償するように調整されることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記第１のテンプレートの前記隣接領域の前記表面の状態を識別するとは、前記第１のテンプレートの前記隣接領域の前記表面の傾きを識別することを含み、
前記第２のテンプレートの前記活性領域の前記表面の状態を識別するとは、前記第２のテンプレートの前記活性領域の前記表面の傾きを識別することを含み、
前記第１のテンプレートと前記第２のテンプレートとの前記相対位置を調整することは、前記第１のテンプレートの前記隣接領域の前記表面と前記第２のテンプレートの前記活性領域の前記表面との間の相対角度を調整することを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記第１のテンプレートの前記隣接領域は、前記第１のテンプレートの前記活性領域を取り囲むように設けられていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記第２のテンプレートの前記活性領域は、実質的に、平面であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記第１の複数の位置ポイント及び前記第２の複数の位置ポイントは、時間的に同時に特定されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
インプリントリソグラフィに用いられる第１のテンプレートと第２のテンプレートとの相対位置を調整するシステムであって、
前記システムは、前記第１のテンプレートを保持する第１のホルダを備え、前記第１のテンプレートは、活性領域と、前記活性領域に隣接する隣接領域とを含み、前記隣接領域の表面と前記活性領域の表面とは、前記第１のテンプレートの連続面を形成し、前記第１のテンプレートの前記活性領域には、１つ以上のパターニングフィーチャが設けられ、
前記システムは、前記第２のテンプレートを保持する第２のホルダを備え、前記第２のテンプレートは、活性領域を含み、前記第２のテンプレートの前記活性領域は、パターニングフィーチャは設けておらず、前記第２のテンプレートの表面から突出して構成されており、さらに、前記第２のテンプレートの前記活性領域は、前記第１のテンプレートの前記活性領域に設けられたパターニングフィーチャが複製される領域であり、
前記システムは、
前記第１のテンプレートの前記隣接領域の前記表面の第１の複数の位置ポイントを特定する第１の検出装置と、
前記第２のテンプレートの前記活性領域の表面の第２の複数の位置ポイントを特定する第２の検出装置と、
前記第１のテンプレートと前記第２のテンプレートとの相対位置を調整するアクチュエータシステムと、
ｉ）前記第１のテンプレートの前記隣接領域の前記第１の複数の位置ポイントに基づいて、前記第１のテンプレートの前記隣接領域の前記表面の状態を識別し、ｉｉ）前記第２のテンプレートの前記活性領域の前記第２の複数の位置ポイントに基づいて、前記第２のテンプレートの前記活性領域の前記表面の状態を識別し、ｉｉｉ）前記第１のテンプレートの前記隣接領域の前記表面の状態と、前記第２のテンプレートの前記活性領域の前記表面の状態とに基づいて、前記アクチュエータシステムが前記第１のテンプレートと前記第２のテンプレートとの前記相対位置を調整するように、前記アクチュエータシステムに信号を提供する処理装置と、
を備えることを特徴とするシステム。
【請求項９】
前記処理装置は、更に、
前記第１のテンプレートの前記隣接領域の前記表面の状態と前記第２のテンプレートの前記活性領域の前記表面の状態とを比較し、
前記比較に基づいて、前記第１のテンプレートの前記隣接領域の前記表面と前記第２のテンプレートの前記活性領域の前記表面との間のレベリングエラーを評価し、
前記アクチュエータシステムは、更に、前記レベリングエラーの少なくとも一部に基づいて、前記第１のテンプレートと前記第２のテンプレートとの前記相対位置を調整することを特徴とする請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記アクチュエータシステムは、前記レベリングエラーを補償するために、前記第１のテンプレートと前記第２のテンプレートとの前記相対位置を調整することを特徴とする請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
前記第１のテンプレートの前記隣接領域の前記表面の状態を識別するとは、前記第１のテンプレートの前記隣接領域の前記表面の傾きを識別することを含み、
前記第２のテンプレートの前記活性領域の前記表面の状態を識別するとは、前記第２のテンプレートの前記活性領域の前記表面の傾きを識別することを含み、
前記アクチュエータシステムは、更に、前記第１のテンプレートの前記隣接領域の前記表面と前記第２のテンプレートの前記活性領域の前記表面との間の相対角度を調整することを特徴とする請求項９に記載のシステム。
【請求項１２】
前記第１のテンプレートの前記隣接領域は、前記第１のテンプレートの前記活性領域を取り囲むように設けられていることを特徴とする請求項８に記載のシステム。
【請求項１３】
前記第２のテンプレートの前記活性領域は、実質的に、平面であることを特徴とする請求項８に記載のシステム。
【請求項１４】
前記第１の検出装置は、前記第１の複数の位置ポイントを特定し、同時に、前記第２の検出装置は、前記第２の複数の位置ポイントを特定することを特徴とする請求項８に記載のシステム。
【請求項１５】
物品を製造するインプリントリソグラフィ方法であって、
前記インプリントリソグラフィ方法は、第１のテンプレートの活性領域に隣接する隣接領域の表面の第１の複数の位置ポイントを特定することを備え、前記隣接領域の前記表面と前記活性領域の表面とは、前記第１のテンプレートの連続面を形成し、前記第１のテンプレートの前記活性領域には、１つ以上のパターニングフィーチャが設けられ、
前記インプリントリソグラフィ方法は、前記第１のテンプレートの前記隣接領域の前記第１の複数の位置ポイントに基づいて、前記第１のテンプレートの前記隣接領域の前記表面の状態を識別することを備え、
前記インプリントリソグラフィ方法は、第２のテンプレートの活性領域の表面の第２の複数の位置ポイントを特定することを備え、前記第２のテンプレートの前記活性領域は、パターニングフィーチャは設けておらず、前記第２のテンプレートの表面から突出して構成されており、さらに、前記第２のテンプレートの前記活性領域は、前記第１のテンプレートの前記活性領域に設けられたパターニングフィーチャが複製される領域であり、
前記インプリントリソグラフィ方法は、
前記第２のテンプレートの前記活性領域の前記第２の複数の位置ポイントに基づいて、前記第２のテンプレートの前記活性領域の前記表面の状態を識別することと、
前記第１のテンプレートの前記隣接領域の前記表面の状態と、前記第２のテンプレートの前記活性領域の前記表面の状態とに基づいて、前記第１のテンプレートと前記第２のテンプレートとの相対位置を調整することと、
前記第２のテンプレートの上にインプリントレジストを配置することと、
前記インプリントレジストに前記第１のテンプレートを接触させることと、
前記第１のテンプレートと接触する高分子層を生産するために、前記インプリントレジストを重合させることと、
前記高分子層から前記第１のテンプレートを引き離すことと、
前記物品を生産するために、前記高分子層のパターンを前記第２のテンプレートに転写することと、
を備えることを特徴とするインプリントリソグラフィ方法。
【請求項１６】
前記物品は、レプリカテンプレートであることを特徴とする請求項１５に記載のインプリントリソグラフィ方法。
【請求項１７】
インプリントリソグラフィに用いられる第１のテンプレートと第２のテンプレートとの相対位置を調整する方法であって、
前記方法は、前記第１のテンプレートの活性領域に隣接する隣接領域の表面の第１の複数の位置ポイントを特定することを備え、前記隣接領域の前記表面と前記活性領域の表面とは、前記第１のテンプレートの連続面を形成し、前記第１のテンプレートの前記活性領域は、１つ以上のパターニングフィーチャが設けられ、
前記方法は、第２のテンプレートの活性領域の表面の第２の複数の位置ポイントを特定することを備え、前記第２のテンプレートの前記活性領域は、パターニングフィーチャは設けられておらず、前記第２のテンプレートの表面から突出して構成されており、さらに、前記第２のテンプレートの前記活性領域は、前記第１のテンプレートの前記活性領域に設けられたパターニングフィーチャが複製される領域であり、
前記方法は、前記第１のテンプレートの前記隣接領域の前記第１の複数の位置ポイントと、前記第２のテンプレートの前記活性領域の前記第２の複数の位置ポイントとに基づいて、前記第１のテンプレートと前記第２のテンプレートとの相対位置を調整することを備えることを特徴とする方法。