Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月30日(2020.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の情報処理装置は、複数の通信インタフェースからデータを送信可能な情報処理装置であって、インターネット上の外部装置と通信を行う際に用いられるプロキシサーバを設定する設定手段と、前記複数の通信インタフェースの中から通信に用いる通信インタフェースを決定する決定手段と、前記通信に用いると決定した通信インタフェースが第１の通信インタフェースである場合、前記設定されたプロキシサーバ経由で外部にデータを送信するよう制御し、前記通信に用いると決定した通信インタフェースが第２の通信インタフェースである場合、前記設定されたプロキシサーバを経由することなく、外部にデータを送信するよう制御する通信制御手段と、を有し、前記情報処理装置は、前記第１の通信インタフェースを介して第１の外部装置と通信しながら、前記第２の通信インタフェースを介して前記第１の外部装置とは異なる第２の通信装置と通信を行うことが可能に構成されていることを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の通信インタフェースからデータを送信可能な情報処理装置であって、
インターネット上の外部装置と通信を行う際に用いられるプロキシサーバを設定する設定手段と、
前記複数の通信インタフェースの中から通信に用いる通信インタフェースを決定する決定手段と、
前記通信に用いると決定した通信インタフェースが第１の通信インタフェースである場合、前記設定されたプロキシサーバ経由で外部にデータを送信するよう制御し、前記通信に用いると決定した通信インタフェースが第２の通信インタフェースである場合、前記設定されたプロキシサーバを経由することなく、外部にデータを送信するよう制御する通信制御手段と、を有し、
前記情報処理装置は、前記第１の通信インタフェースを介して第１の外部装置と通信しながら、前記第２の通信インタフェースを介して前記第１の外部装置とは異なる第２の通信装置と通信を行うことが可能に構成されていることを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記第２の通信インタフェースが接続されているネットワークのネットワークアドレスと通信先となる外部装置が接続されているネットワークのネットワークアドレスとが一致する場合に、前記決定手段は、前記第２の通信インタフェースを通信に用いると決定することを特徴とする請求項１記載の情報処理装置。
【請求項３】
プロキシサーバ経由の通信を有効にするか無効にするかを設定する第２の設定手段を更に備え、
前記第２の設定手段によってプロキシサーバ経由の通信を無効にする設定がなされている場合、前記通信制御手段は、前記決定手段で前記第１の通信インタフェースを用いると決定された場合であっても、前記設定手段で設定されたプロキシサーバを経由することなく外部にデータを送信するよう制御することを特徴とする請求項１又は２記載の情報処理装置。
【請求項４】
ユーザ操作に基づいて通信宛先の指定を受け付ける受付手段と、
原稿を読み取る読取手段と、を更に有し、
前記受付手段で受け付けた通信宛先がＷｅｂＤＡＶサーバであり、且つ、前記決定手段で前記通信に用いると決定した通信インタフェースが前記第１の通信インタフェースである場合、前記通信制御手段は、前記設定されたプロキシサーバ経由で前記ＷｅｂＤＡＶサーバに対して、前記読取手段で原稿を読み取って得られた画像データを送信することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記第１の通信インタフェースを利用しない設定が前記情報処理装置の動作設定として設定されており、且つ、前記第２の通信インタフェースを利用する設定が前記情報処理装置の動作設定として設定されている場合、前記通信制御手段は、前記決定手段で前記通信に用いると決定した通信インタフェースが前記第２の通信インタフェースの場合であっても、前記設定されたプロキシサーバを経由して、外部にデータを送信するよう制御することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記第１の通信インタフェースは、メインネットワーク上の第１の外部装置と通信する通信インタフェースであり、前記第２の通信インタフェースは、サブネットワーク上の第２の外部装置と通信する通信インタフェースであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記情報処理装置は、前記第１の通信インタフェース及び前記第２の通信インタフェースを備えていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項８】
前記第１の通信インタフェースは有線通信インタフェースであり、前記第２の通信インタフェースは無線通信インタフェースであることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項９】
複数の通信インタフェースからデータを送信可能な情報処理装置の制御方法であって、
インターネット上の外部装置と通信を行う際に用いられるプロキシサーバを設定する設定ステップと、
前記複数の通信インタフェースの中から通信に用いる通信インタフェースを決定する決定ステップと、
前記通信に用いると決定した通信インタフェースが第１の通信インタフェースである場合、前記設定されたプロキシサーバ経由で外部にデータを送信するよう制御し、前記通信に用いると決定した通信インタフェースが第２の通信インタフェースである場合、前記設定されたプロキシサーバを経由することなく、外部にデータを送信するよう制御する通信制御ステップと、を有し、
前記情報処理装置は、前記第１の通信インタフェースを介して第１の外部装置と通信しながら、前記第２の通信インタフェースを介して前記第１の外部装置とは異なる第２の通信装置と通信を行うことが可能に構成されていることを特徴とする情報処理装置の制御方法。
【請求項１０】
複数の通信インタフェースからデータを送信可能な情報処理装置の制御方法をコンピュータに実行させるプログラムであって、
前記情報処理装置の制御方法は、
インターネット上の外部装置と通信を行う際に用いられるプロキシサーバを設定する設定ステップと、
前記複数の通信インタフェースの中から通信に用いる通信インタフェースを決定する決定ステップと、
前記通信に用いると決定した通信インタフェースが第１の通信インタフェースである場合、前記設定されたプロキシサーバ経由で外部にデータを送信するよう制御し、前記通信に用いると決定した通信インタフェースが第２の通信インタフェースである場合、前記設定されたプロキシサーバを経由することなく、外部にデータを送信するよう制御する通信制御ステップと、を有し、
前記情報処理装置は、前記第１の通信インタフェースを介して第１の外部装置と通信しながら、前記第２の通信インタフェースを介して前記第１の外部装置とは異なる第２の通信装置と通信を行うことが可能に構成されていることを特徴とするプログラム。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月23日(2020.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アドレス帳を記憶する画像送信装置であって、
名刺を読み取って画像データを生成する読取手段と、
前記読取手段によって前記名刺を読み取ることによって生成された前記画像データから宛先情報を取得する取得手段と、
宛先情報が設定される設定画面と、前記アドレス帳に宛先情報を登録するための登録画面を表示する表示手段とを有し、
少なくとも前記設定画面に含まれる第１の名刺読取指示オブジェクトの選択に基づいて、前記画像送信装置は、前記読取手段によってさらに読み取られた原稿の画像データの送信先として、前記取得手段によって取得された宛先情報を設定し、
少なくとも前記登録画面に含まれる第２の名刺読取指示オブジェクトの選択に基づいて、前記画像送信装置は、前記取得手段によって取得された宛先情報を前記アドレス帳に登録することを特徴とする画像送信装置。
【請求項２】
前記宛先情報は、電子メールアドレスを含むことを特徴とする請求項１に記載の画像送信装置。
【請求項３】
少なくとも前記登録画面に含まれる前記第２の名刺読取指示オブジェクトの選択に基づいて、前記画像送信装置は、前記取得手段によって取得された宛先情報を電子メールのアドレスとして前記アドレス帳に登録することを特徴とする請求項２に記載の画像送信装置。
【請求項４】
前記宛先情報はファクシミリ番号を含むことを特徴とする請求項１に記載の画像送信装置。
【請求項５】
前記表示手段は、さらに、前記取得手段によって取得された宛先情報の編集画面を表示することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の画像送信装置。
【請求項６】
前記読取手段によって前記名刺を読み取ることによって生成された前記画像データに対して文字認識処理を実行することによって前記宛先情報を取得することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像送信装置。
【請求項７】
アドレス帳を記憶する画像送信装置の制御方法であって、
名刺を読み取って画像データを生成する読取工程と、
前記読取工程で前記名刺を読み取ることによって生成された前記画像データから宛先情報を取得する取得工程と、
宛先情報が設定される設定画面と、前記アドレス帳に宛先情報を登録するための登録画面を表示する表示工程と、
少なくとも前記設定画面に含まれる第１の名刺読取指示オブジェクトの選択に基づいて、さらに読み取られた原稿の画像データの送信先として、前記取得工程で取得された宛先情報を設定する設定工程と、
少なくとも前記登録画面に含まれる第２の名刺読取指示オブジェクトの選択に基づいて、前記取得工程で取得された宛先情報を前記アドレス帳に登録する登録工程とを有することを特徴とする画像送信装置の制御方法。
【請求項８】
請求項７に記載された画像送信装置の制御方法を、コンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像送信装置、画像送信装置の制御方法、及びプログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、画像送信装置、画像送信装置の制御方法、及びプログラムに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の情報処理装置は、このような課題に鑑み、名刺を読み取らせることで生成された画像データから取得された宛先情報を、容易に原稿の画像データの送信先として設定したり、アドレス帳に登録したりする仕組みを提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の画像送信装置は、アドレス帳を記憶する画像送信装置であって、名刺を読み取って画像データを生成する読取手段と、前記読取手段によって前記名刺を読み取ることによって生成された前記画像データから宛先情報を取得する取得手段と、宛先情報が設定される設定画面と、前記アドレス帳に宛先情報を登録するための登録画面を表示する表示手段とを有し、
少なくとも前記設定画面に含まれる第１の名刺読取指示オブジェクトの選択に基づいて、前記画像送信装置は、前記読取手段によってさらに読み取られた原稿の画像データの送信先として、前記取得手段によって取得された宛先情報を設定し、少なくとも前記登録画面に含まれる第２の名刺読取指示オブジェクトの選択に基づいて、前記画像送信装置は、前記取得手段によって取得された宛先情報を前記アドレス帳に登録することを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の情報処理装置によれば、名刺を読み取らせることで生成された画像データから取得された宛先情報を、容易に原稿の画像データの送信先として設定したり、アドレス帳に登録したりすることが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】令和2年1月24日(2020.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
超音波センサ（１）であって、
中心軸線（ＣＬ）と平行な軸方向を有する柱状に形成された、超音波送受波器（２）と、
前記超音波送受波器を弾性支持する合成樹脂系弾性部材であって、前記軸方向における前記超音波送受波器の基端側の被支持部（２５）を収容するように、筒状に形成された、弾性保持部材（３）と、
前記弾性保持部材における前記軸方向に沿った外周面（３０）と密着する内周面（６４）を有する筒状に形成されたケース筒部（６３）を備え、前記弾性保持部材を収容しつつ保持するように構成された、センサケース（６）と、
を備え、
前記ケース筒部は、前記軸方向における先端側にて開口する先端開口部（６５）よりも前記軸方向における基端側にて、前記軸方向と直交する径方向における内側に突設された、係合凸部（６６）を有し、
前記弾性保持部材は、
前記超音波送受波器の前記軸方向に沿った外周面である送受波器側面（２１）と当接するように、前記軸方向における先端側が開口する筒状に形成された、支持筒部（３１）と、
前記軸方向における前記超音波送受波器の基端側の端面である送受波器底面（２３）と当接するように、前記軸方向における前記支持筒部の基端部にて前記径方向における内側に突設された、支持底部（３２）と、
前記支持筒部よりも前記軸方向における基端側にて、前記係合凸部を収容するように前記径方向における内側に凹設された、係合凹部（３６）と、
前記中心軸線を囲む周方向について前記係合凹部に対応する位置にて、前記支持底部から前記軸方向における基端側に突設された、先導突起部（３３）と、
を有し、
前記支持底部は、前記径方向における厚さが前記支持筒部および前記先導突起部よりも大きい厚肉部として形成され、
前記係合凹部は、前記支持底部に設けられた、
超音波センサ。
【請求項２】
前記先導突起部は、前記中心軸線と直交する仮想平面と前記外周面との交線である円の接線方向と略平行な幅方向を有する舌片状に形成された、
請求項１に記載の超音波センサ。
【請求項３】
前記弾性保持部材は、当該弾性保持部材を前記ケース筒部に挿入する際に前記係合凸部と当接することで、前記先導突起部が前記中心軸線側に倒れる態様で前記先導突起部を弾性変形させるように、前記先導突起部の前記軸方向における末端部にて当該弾性保持部材の前記外周面と連続して設けられた、テーパ面（３８）をさらに有する、
請求項１または２に記載の超音波センサ。
【請求項４】
前記テーパ面は、前記弾性保持部材を前記ケース筒部に挿入する際に前記係合凸部と当接することで前記先導突起部の弾性変形を誘発するように設けられた、
請求項３に記載の超音波センサ。
【請求項５】
前記支持底部は、前記軸方向における基端側に開口することで、前記弾性保持部材を前記ケース筒部に挿入する際の、前記先導突起部と前記係合凸部との当接による前記先導突起部の弾性変形を促進するように設けられた、補助凹部（３７）を有する、
請求項１〜４のいずれか１つに記載の超音波センサ。
【請求項６】
前記補助凹部には、充填材（７）が充填された、
請求項５に記載の超音波センサ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項１に記載の超音波センサ（１）は、下記の構成を備える。
すなわち、この超音波センサは、
中心軸線（ＣＬ）と平行な軸方向を有する柱状に形成された、超音波送受波器（２）と、
前記超音波送受波器を弾性支持する合成樹脂系弾性部材であって、前記軸方向における前記超音波送受波器の基端側の被支持部（２５）を収容するように、筒状に形成された、弾性保持部材（３）と、
前記弾性保持部材における前記軸方向に沿った外周面（３０）と密着する内周面（６４）を有する筒状に形成されたケース筒部（６３）を備え、前記弾性保持部材を収容しつつ保持するように構成された、センサケース（６）と、
を備える。
前記ケース筒部は、前記軸方向における先端側にて開口する先端開口部（６５）よりも前記軸方向における基端側にて、前記軸方向と直交する径方向における内側に突設された、係合凸部（６６）を有する。
前記弾性保持部材は、
前記超音波送受波器の前記軸方向に沿った外周面である送受波器側面（２１）と当接するように、前記軸方向における先端側が開口する筒状に形成された、支持筒部（３１）と、
前記軸方向における前記超音波送受波器の基端側の端面である送受波器底面（２３）と当接するように、前記軸方向における前記支持筒部の基端部にて前記径方向における内側に突設された、支持底部（３２）と、
前記支持筒部よりも前記軸方向における基端側にて、前記係合凸部を収容するように前記径方向における内側に凹設された、係合凹部（３６）と、
前記中心軸線を囲む周方向について前記係合凹部に対応する位置にて、前記支持底部から前記軸方向における基端側に突設された、先導突起部（３３）と、
を有する。
前記支持底部は、前記径方向における厚さが前記支持筒部および前記先導突起部よりも大きい厚肉部として形成されている。
前記係合凹部は、前記支持底部に設けられている。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月6日(2020.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１９】
光学系からの光束を受光し、視点の異なる複数のアナログ画像信号を出力する複数の光電変換部を有する撮像素子と、
前記撮像素子から出力される前記複数のアナログ画像信号に基づく複数の第１の差分画像と第２の差分画像とを符号化する請求項１から請求項１３のいずれか１項に記載の画像処理装置と、
前記画像処理装置で符号化された符号化データをメモリに記録する記録手段と、
を有することを特徴とする撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２０】
前記符号化手段で符号化され、前記メモリに記録された符号化データを復号し、前記複数のアナログ画像信号の視差を利用した画像処理を施す画像処理回路をさらに有することを特徴とする請求項１９に記載の撮像装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２１】
光学系からの光束を受光し、視点の異なる複数のアナログ画像信号を出力する複数の光電変換部を有する第１半導体基板と、
前記複数のアナログ画像信号に基づく複数の第１の差分画像と第２の差分画像とを符号化する請求項１から請求項１８のいずれか１項に記載の画像処理装置を有する第２半導体基板と、
が積層状に重ねて配置されて構成されることを特徴とする撮像素子。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２４】
コンピュータを、請求項１から請求項１８のいずれか１項に記載の画像処理装置が有する各手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
加算画像に対応するエンコード部５０３はスケーリング係数（１ＬＬ）およびウェーブレット展開係数（１ＬＨ、１ＨＬ、１ＨＨ）の符号化データを出力する。また、３つの差分画像に対応するエンコード部５２３、５３３、５４３は、ウェーブレット展開係数（１ＬＨ、１ＨＬ、１ＨＨ）の符号化データのみを出力する。これは、ウェーブレット変換部から対応するエンコード部へ、符号化すべき係数のみを出力することによっても、エンコード部が符号化すべき係数以外を無視することによっても実現できる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
Ｓ１００３で制御部１０１は、変数ｎを１増やすとともに、現在の加算画像ＡＤＤ（ｎ−１）を新たな予測画像ＰＲＥＶ（ｎ）とし、処理をＳ１００２に戻す。なお、ここでは予測画像の更新よりも前に変数ｎを１増やしているため、現在の加算画像のフレーム番号が（ｎ−１）となっている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
なお、図８（ｂ）に示した被写体移動量ＭＯＶと量子化ステップＱＳＴＥＰとの関係では、被写体移動量ＭＯＶが許容錯乱円径δを超え、２δ未満の範囲では線形に量子化ステップを増加させ、２δを超えた後は一定値としている。しかし、これは単なる一例である。
・画像において被写体ブレが視認できない範囲（被写体ブレが閾値以下の場合）の被写体移動量であれば画質を優先した量子化ステップとし、画像において被写体ブレが視認できる範囲の被写体移動量であれば符号量の削減を優先した量子化ステップとする
・画像において被写体ブレが視認できる範囲（被写体ブレが閾値を超える場合）では、差分画像の符号化（あるいは高域成分の符号化）に用いる量子化ステップを、加算画像の符号化に用いる量子化ステップ以上とする
・画像において被写体ブレが視認できる範囲では、第１の被写体移動量ＭＯＶ１に対する量子化ステップよりも、第２の被写体移動量ＭＯＶ２（ＭＯＶ２＞ＭＯＶ１）に対する量子化ステップを大きくする
の３つの１つ以上を満たすように、量子化ステップを決定すればよい。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月6日(2020.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】
前記複数の第２の画像が前記複数の第１の画像と等しく、
前記生成手段は、前記複数の第２の視差画像の符号化データをシフト加算してから前記サブバンドを復元することにより、前記リフォーカス画像を生成することを特徴とする請求項１１または請求項１２に記載の画像処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
図６（ａ）は、画像処理部１０７が符号化データを復号する際の動作を機能ブロックとして記載した図である。ここで説明する復号およびリフォーカス処理は画像処理部１０７が実行可能な多様な画像処理の一部に過ぎない。また、データファイルから符号化データを抽出し、各デコード部に符号化データを分配する処理も画像処理部１０７の内部で実行される。デコード部８０１、８１１、８２１、８３１、８４１は、分解レベル１のスケーリング係数（１ＬＬ）およびウェーブレット展開係数（１ＬＨ、１ＨＬ、１ＨＨ）を復号する。なお、デコード部は、全ての係数を復号し、特定の係数だけをウェーブレット逆変換部に供給してもよいし、ウェーブレット逆変換部に供給する係数だけを復号してもよい。デコード部８０１は基本画像の１ＬＬ、デコード部８１１、８２１、８３１、８４１はそれぞれＡ像〜Ｄ像の１ＬＨ、１ＨＬ、１ＨＨを復号する。デコード部８ｎ４（ｎ＝０〜４）は符号化方式に対応した復号を行う。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
図８は、４つの視差画像として、（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ）像とＢ像〜Ｄ像を用いる場合の画像圧縮部２０３’の構成例を示すブロック図である。図３と同じ構成要素には同じ参照数字を付してある。
この場合、基本画像かつ視差画像の一つとして用いられる（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ）像に対応するエンコード部５０３’は、ウェーブレット変換部５０２からのスケーリング係数（１ＬＬ）およびウェーブレット展開係数（１ＬＨ、１ＨＬ、１ＨＨ）を符号化する。一方、Ｂ像〜Ｄ像を符号化するエンコード部５２３、５３３、５４３のそれぞれは、ウェーブレット展開係数（１ＬＨ、１ＨＬ、１ＨＨ）のみを符号化する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
図１５（ｂ）は、リフォーカス処理時の制御部１０１の動作に関するフローチャートである。制御部１０１は、視差画像を用いた処理の一例であるリフォーカス処理の開始が操作部１０９を通じて指示された際にこの処理を実行することができる。Ｓ１８０１で制御部１０１は読み出したデータファイルのヘッダ情報から、符号化データがデータレート優先モードで記録されているか否かを判定する。制御部１０１は、データレート優先モードで記録されていると判定されればＳ１８０３に、判定されなければＳ１８０２に処理を進める。Ｓ１８０２で制御部１０１は画像伸長部１５０１を選択し、画像処理部１０７−４に通知する。Ｓ１８０３で制御部１０１は画像伸長部１５０２を選択し、画像処理部１０７−４に通知する。その後、制御部１０１はリフォーカス処理を開始する。画像処理部１０７−４は、通知された画像伸長部が出力する画像を出力する。なお、画像処理部１０７ー４は、選択されなかった画像伸長部の動作を停止させてもよい。また、制御部１０１は、図１５（ｂ）の処理を、符号化データをＲＡＭ１０３に読み込んだ際に実行するなど、他のタイミングで実行してもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８１】
図１７（ａ）は、図１０に示した画像圧縮部２０３”が有するウェーブレット変換・エンコード部１９０１〜１９０５のそれぞれを、分解レベル３のウェーブレット変換および符号化を選択的に実行可能に構成した場合の機能構成例を示すブロック図である。
ウェーブレット変換・エンコード部１９０ｎ（ｎ＝０〜５）のそれぞれは、直接に接続された３つのウェーブレット変換部５０２、５０２１、５０２２と、それぞれの出力を符号化するエンコード部５０３’、５０３１、５０３２とを有する。エンコード部５０３’、５０３１、５０３２はそれぞれ分解レベル１〜３のウェーブレット係数の符号化データを出力する。エンコード部、ウェーブレット変換部はいずれも同一構成である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０３】
以降のリフォーカス処理において制御部１０１は、例えば、設定されたリフォーカスモードに応じた範囲でユーザからのリフォーカス指示を受け付けることができる。例えば表示部１１０に表示した基本画像に対して位置が指定された際、制御部１０１は現在のリフォーカスモードに対応したシフト量の範囲内で、指定された位置に合焦したリフォーカス画像を生成可能か否かを判定することができる。もし、リフォーカスモードに対応したシフト量の範囲では指定された位置にリフォーカスできないと判定された場合、制御部１０１は、表示部１１０にメッセージを表示するなどしてユーザに警告することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１０】
図２１（ａ）は、本実施形態における撮像部１０５”の機能構成例を示すブロック図である。第１実施形態と同様の構成については図２（ａ）と同じ参照数字を付してある。本実施形態の撮像部１０５”は、直前に撮影された画像（動画フレームまたは静止画）を記憶するＲＡＭ３４０１を有する。以下ではＲＡＭ３４０１に記憶された画像を直前フレーム（ｎ−１）の画像、今回撮影された画像を現フレームｎの画像と呼ぶ。直前フレーム（ｎ−１）の画像は、現フレームｎの画像に対して過去の画像に相当する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１６】
2019087859.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月22日(2020.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【特許文献１】特開2012-108785号公報［G06T 1/00, 7/00, G06M 11/00］
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月22日(2020.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加工物をエッチングするエッチング方法であって、
前記被加工物は、下地領域、第１の領域、及び第２の領域を有しており、
前記第２の領域は、窒化シリコンから形成されており、前記下地領域上でそれらの間に凹部を提供するように延在する第１の隆起領域及び第２の隆起領域、並びに、該凹部の下側で延在する底部領域を含み、
前記第１の領域は、酸化シリコンから形成されており、前記第２の領域を覆うように設けられており、
該エッチング方法は、
前記第１の領域をエッチングする工程と、
前記第１の領域がエッチングされた後に、前記底部領域を選択的に改質することにより、改質領域を形成する工程と、
前記改質領域をエッチングする工程と、
を含み、
前記第１の領域をエッチングする前記工程は、
前記第１の領域上にフルオロカーボンの堆積物を形成するために、フルオロカーボンガスを含む第１の処理ガスのプラズマを生成する工程と、
その上に前記堆積物が形成された前記被加工物に向けて希ガス原子のイオンを供給して前記第１の領域をエッチングするために、希ガスの第１のプラズマを生成する工程と、
を含み、
前記第１の領域をエッチングする前記工程では、露出された前記第２の領域上に前記堆積物が形成され、該第２の領域が前記堆積物によって保護され、
前記第１の隆起領域の上面及び前記第２の隆起領域の上面の上に形成された前記堆積物の厚みは、前記底部領域上に形成された前記堆積物の厚みよりも大きく、
前記改質領域を形成する前記工程では、水素を含む第２の処理ガスのプラズマが生成され、前記第１の領域がエッチングされた前記被加工物に、該第２の処理ガスの該プラズマから水素のイオンが供給され、
前記改質領域をエッチングする前記工程は、
前記改質領域を有する前記被加工物上にフルオロカーボンの堆積物を形成するために、フルオロカーボンガスを含む第３の処理ガスのプラズマを生成する工程と、
前記改質領域を有しその上に前記堆積物が形成された前記被加工物に向けて希ガス原子のイオンを供給して前記改質領域をエッチングするために、希ガスの第２のプラズマを生成する工程と、
を含む、
エッチング方法。
【請求項２】
前記第２の処理ガスは、窒素ガスを更に含む、請求項１に記載のエッチング方法。
【請求項３】
改質領域を形成する前記工程と前記改質領域をエッチングする前記工程とが交互に繰り返される、請求項１又は２に記載のエッチング方法。
【請求項４】
第１の処理ガスのプラズマを生成する前記工程において、前記被加工物の温度が、２０℃以上、２５０℃以下の範囲内にあるように設定される、請求項１〜３の何れか一項に記載のエッチング方法。
【請求項５】
前記第２の処理ガスは希ガスを更に含む、請求項１〜４の何れか一項に記載のエッチング方法。
【請求項６】
第３の処理ガスのプラズマを生成する前記工程において、前記被加工物の温度が、２０℃以上、２５０℃以下の範囲内にあるように設定される、請求項１〜５の何れか一項に記載のエッチング方法。
【請求項７】
前記第１の領域をエッチングする前記工程、改質領域を形成する前記工程、及び前記改質領域をエッチングする前記工程はプラズマ処理装置において実行され、
該プラズマ処理装置は、
内部空間を提供するチャンバ本体と、
下部電極を含み、前記内部空間の中に設けられており、その上に前記被加工物が載置される載置領域を提供する支持台であり、前記載置領域の中心は前記チャンバ本体の中心軸線上に位置する、該支持台と、
プラズマ生成用の高周波を発生するように構成された第１の高周波電源と、
前記下部電極に電気的に接続されており、前記第１の高周波の周波数よりも低い周波数を有する第２の高周波を発生するように構成された第２の高周波電源と、
前記内部空間の中に磁場を形成するように構成された電磁石と、
を備え、
少なくとも前記第２の処理ガスの前記プラズマが生成されているときに、前記電磁石により、前記内部空間の中で、前記第１の領域がエッチングされた前記被加工物の中心上での水平成分よりも大きい水平成分を該被加工物のエッジ側の上で有する磁場の分布が形成される、
請求項１〜６の何れか一項に記載のエッチング方法。
【請求項８】
第３の処理ガスのプラズマを生成する前記工程において供給される前記第２の高周波の電力は、前記第２の処理ガスの前記プラズマの生成において供給される前記第２の高周波の電力よりも小さい、請求項７に記載のエッチング方法。
【請求項９】
第３の処理ガスのプラズマを生成する前記工程において、前記第２の高周波が供給されない、請求項７に記載のエッチング方法。
【請求項１０】
前記電磁石はヨーク及びコイルを含む、請求項７に記載のエッチング方法。
【請求項１１】
前記ヨークは磁性材料から形成されており、ベース部及び複数の筒状部を有する、請求項１０に記載のエッチング方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年8月26日(2020.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１８９】
また、この磁性材料粉体を磁性材料の局所的なＴｉ含有量及び不均化の存在や度合を知るのに適しているＦＥ−ＳＥＭ／ＥＤＸ法によって、ある粉末粒子（粉末粒子１）を観察した（倍率は１万倍とした。）。その結果、図２に示したように、本磁性材料の各相におけるＴｉの含有量（図の数値は、各相におけるＴｉ含有量で、各相のＴｉ、ＣｏとＦｅの総和に対するＴｉの原子比の値を百分率で表したものである）は、０．１５原子％以上０．４５原子％以下と大きく不均化して分布していることがわかった。なお、図１（Ｂ）には、一つのｂｃｃ−（ＦＭ，Ｔｉ）相と見られる領域の中にも１０ｎｍオーダーの間隔で湾曲した曲線状の無数の結晶境界が観察された。よって、ｂｃｃ−（ＦＭ，Ｔｉ）相の領域の中にも、Ｔｉ含有量で区別できる相、例えば、Ｔｉ含有量が０．１５原子％のｂｃｃ−（ＦＭ，Ｔｉ）相に対してＴｉ含有量が、その相よりも１．５倍以上１０５倍以下の範囲内の３．２倍である０．４５原子％のｂｃｃ−（ＦＭ，Ｔｉ）相が存在していること、即ち、ｂｃｃ−（ＦＭ，Ｔｉ）相に関して、第１相以外に第２相に相当する相も存在していることが、この結果からも明らかになった。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月25日(2020.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＳｉＯ２を含むエッチング対象膜上に形成された所定の開口パターンを有する金属含有マスクを介して、フルオロカーボンガス及び酸素含有ガスを含む処理ガスから生成されるプラズマにより前記エッチング対象膜をエッチングするエッチング工程と、
前記処理ガスのプラズマが生成されている期間に、前記プラズマ中のイオンを引き込むための高周波電力を間欠的に印加する高周波電力印加工程と
を含み、
前記高周波電力が印加されていない場合に、フロオロカーボン含有保護膜が前記金属含有マスク上に形成される、プラズマエッチング方法。
【請求項２】
前記金属含有マスクの上にはマスク膜が形成されており、
前記エッチング工程の前に、前記マスク膜をマスクとして、前記金属含有マスクの上面の少なくとも一部が露出するまで、前記エッチング対象膜をエッチングするプレエッチング工程をさらに含む、請求項１に記載のプラズマエッチング方法。
【請求項３】
前記エッチング工程の前に、所定の開口パターンを有するマスク膜をマスクとして、前記金属含有マスクに前記所定の開口パターンをパターニングするパターニング工程をさらに含む、請求項１に記載のプラズマエッチング方法。
【請求項４】
前記高周波電力印加工程において、前記高周波電力の周波数を変化させる、請求項１〜３のいずれか一つに記載のプラズマエッチング方法。
【請求項５】
前記高周波電力印加工程において、前記高周波電力のパルス周期を変化させる、請求項１〜３のいずれか一つに記載のプラズマエッチング方法。
【請求項６】
前記プラズマエッチング方法は、前記エッチング対象膜及び前記金属含有マスクを有する被処理体が載置される載置台と、前記載置台と対向する上部電極とを有する装置を用いて実行され、
前記高周波電力印加工程において、前記上部電極に直流電圧を印加する、請求項１〜５のいずれか一つに記載のプラズマエッチング方法。
【請求項７】
前記高周波電力印加工程において、前記高周波電力が印加されていないときに、前記上部電極に負の直流電圧を間欠的に印加する、請求項６に記載のプラズマエッチング方法。
【請求項８】
前記高周波電力印加工程において、前記エッチング対象膜のアスペクト比が高くなるにつれて、前記高周波電力の周波数を下げる、又は前記高周波電力の大きさを増加させる、請求項１〜７のいずれか一つに記載のプラズマエッチング方法。
【請求項９】
前記高周波電力印加工程において、前記高周波電力のデューティ及び／又は前記高周波電力の周波数を変更する、請求項１〜８のいずれか一つに記載のプラズマエッチング方法。
【請求項１０】
ＳｉＯ２を含むエッチング対象膜上に形成された所定の開口パターンを有する金属含有マスクに対して、フルオロカーボンガス及び酸素含有ガスを含む第１の処理ガスによりフルオロカーボン保護膜を形成する保護膜形成工程と、
前記フルオロカーボン保護膜が形成された前記金属含有マスクを介して、第２の処理ガスのプラズマにより前記エッチング対象膜をエッチングするエッチング工程と
を含む、プラズマエッチング方法。
【請求項１１】
前記保護膜形成工程と前記エッチング工程とは、少なくとも２回以上交互に繰り返される、請求項１０に記載のプラズマエッチング方法。
【請求項１２】
前記金属含有マスクの上にはマスク膜が形成されており、
前記保護膜形成工程の前に、前記マスク膜をマスクとして、前記金属含有マスクの上面の少なくとも一部が露出するまで、前記エッチング対象膜をエッチングするプレエッチング工程をさらに含む請求項１０又は１１に記載のプラズマエッチング方法。
【請求項１３】
前記保護膜形成工程の前に、所定の開口パターンを有するマスク膜をマスクとして、前記金属含有マスクに前記所定の開口パターンをパターニングするパターニング工程をさらに含む請求項１０又は１１に記載のプラズマエッチング方法。
【請求項１４】
前記マスク膜のエッチングレートは、前記エッチング対象膜のエッチングレートよりも低い請求項１２に記載のプラズマエッチング方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月14日(2020.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デバイスが形成された基板を個々のチップに分割する方法であって、
前記基板のデバイスが形成されていない裏面に酸化剤およびアルカリ剤を含む加工液を供給するステップと、
前記加工液を供給しながら、前記基板の裏面から前記基板を分割予定ラインに沿って加工するステップと、
前記基板のデバイスが形成されている表面から、前記基板を分割予定ラインに沿って加工するステップと、を有し、
前記加工液のアルカリ剤は水酸化カリウムを含む、
方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、
前記加工液の前記水酸化カリウムの濃度は１０質量％〜４０質量％の範囲内である、
方法。
【請求項３】
デバイスが形成された基板を個々のチップに分割する方法であって、
前記基板のデバイスが形成されていない裏面に酸化剤およびアルカリ剤を含む加工液を供給するステップと、
前記加工液を供給しながら、前記基板の裏面から前記基板を分割予定ラインに沿って加工するステップと、
前記基板のデバイスが形成されている表面から、前記基板を分割予定ラインに沿って加工するステップと、を有し、
前記加工液のアルカリ剤は水酸化テトラメチルアンモニウムを含む、
方法。
【請求項４】
請求項３に記載の方法であって、
前記加工液の水酸化テトラメチルアンモニウムの濃度は１０質量％〜２５質量％の範囲内である、
方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の方法であって、
前記加工液の酸化剤は過酸化水素を含む、
方法。
【請求項６】
請求項５に記載の方法であって、前記加工液の過酸化水素の濃度は０．５質量％以上である、
方法。
【請求項７】
請求項６に記載の方法であって、前記加工液の過酸化水素の濃度は１．０質量％以上である、
方法。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一項に記載の方法であって、
前記基板の裏面からの加工は、ダイシングブレードによる切削である、
方法。
【請求項９】
請求項１乃至７のいずれか一項に記載の方法であって、
前記基板の裏面からの加工は、レーザーを使用する、
方法。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一項に記載の方法であって、さらに、
前記基板の裏面を加工する前に、前記基板の裏面の全体を研削するステップを有する、
方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の方法であって、さらに、
前記基板の裏面の全体を研削した後に、前記基板の裏面の全体を研磨するステップを有する、
方法。
【請求項１２】
請求項１０または１１に記載の方法であって、
前記基板の裏面の全体を研削する前に、前記基板のデバイスが形成されていない周縁部に対してナイフエッジ防止加工を施すステップを有する、
方法。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の方法であって、
裏面の加工後の前記基板の裏面に粘着テープを張り付けるステップを有し、
前記基板の表面から加工するステップは、分割予定ラインに沿って、デバイス形成層の厚みだけを切削し、
前記方法はさらに、前記基板の表面を加工した後に、前記粘着テープを引っ張ることで、前記基板を分割予定ラインに沿って分割するステップを有する、
方法。
【請求項１４】
デバイスが形成された基板を個々のチップに分割するための切削装置であって、
基板の裏面を上向きに保持するための第１テーブルと、
前記第１テーブルに保持された基板の裏面に分割予定ラインに沿って切削溝を形成するための第１切削機構と、
前記第１テーブルに保持された基板の裏面に酸化剤およびアルカリ剤を供給するための供給機構と、
基板の表面を上向きに保持するための第２テーブルと、
前記第２テーブルに保持された基板の表面に分割予定ラインに沿って加工するための第２切削機構と、を有し、
前記アルカリ剤は水酸化カリウムを含む、
切削装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の切削装置であって、
前記水酸化カリウムの濃度は１０質量％〜４０質量％の範囲内である、
切削装置。
【請求項１６】
デバイスが形成された基板を個々のチップに分割するための切削装置であって、
基板の裏面を上向きに保持するための第１テーブルと、
前記第１テーブルに保持された基板の裏面に分割予定ラインに沿って切削溝を形成するための第１切削機構と、
前記第１テーブルに保持された基板の裏面に酸化剤およびアルカリ剤を供給するための供給機構と、
基板の表面を上向きに保持するための第２テーブルと、
前記第２テーブルに保持された基板の表面に分割予定ラインに沿って加工するための第２切削機構と、を有し、
前記アルカリ剤は水酸化テトラメチルアンモニウムを含む、
切削装置。
【請求項１７】
請求項１６に記載の切削装置であって、
前記水酸化テトラメチルアンモニウムの濃度は１０質量％〜２５質量％の範囲内である、
切削装置。
【請求項１８】
請求項１４乃至１７のいずれか一項に記載の切削装置であって、
前記第１切削機構は、切削ブレードを備える、
切削装置。
【請求項１９】
請求項１４乃至１８のいずれか一項に記載の切削装置であって、
前記第２切削機構は、切削ブレードを備える、
切削装置。
【請求項２０】
請求項１４乃至１７のいずれか一項に記載の切削装置であって、
前記第１切削機構は、レーザー加工装置を備える、
切削装置。
【請求項２１】
請求項１４乃至１８のいずれか一項に記載の切削装置であって、
前記第２切削機構は、レーザー加工装置を備える、
切削装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月9日(2020.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体チップと、
第１部分及び第２部分を含む第１導電部材であって、前記第２部分は前記半導体チップと電気的に接続され、前記半導体チップから前記第２部分に向かう方向は第１方向に沿い、前記第２部分から前記第１部分に向かう方向は、前記第１方向と交差する第２方向に沿う、前記第１導電部材と、
第３部分を含む第２導電部材と、
前記第１部分と前記第３部分との間に設けられた導電性の第１接続部材と、
前記第１部分、前記第３部分及び前記第１接続部材の周りに設けられた第１部分領域を含む樹脂部と、
を備え、
前記第１部分は、前記第１接続部材に対向する第１面を有し、
前記第１面は、凹部及び凸部を含み、
前記凹部は、第１底部、第１距離、及び、第２距離の少なくともいずれかを有し、
前記第１底部の少なくとも一部は前記第１方向に対して垂直であり、
前記第１距離は、前記凹部と前記第２部分との間の距離であり、前記第１距離は、前記凸部と前記第２部分との間の距離よりも長く、
前記第２距離は、前記凹部と前記第３部分との間の前記第１方向に沿った距離であり、前記第２距離は、前記第２部分から前記第１部分への向きにおいて増大する、半導体装置。
【請求項２】
前記凹部は、前記第１部分の両端部から内側に離れて設けられている、請求項１記載の半導体装置。
【請求項３】
半導体チップと、
第１部分及び第２部分を含む第１導電部材であって、前記第２部分は前記半導体チップと電気的に接続され、前記半導体チップから前記第２部分に向かう方向は第１方向に沿い、前記第２部分から前記第１部分に向かう方向は、前記第１方向と交差する第２方向に沿う、前記第１導電部材と、
第３部分及び第４部分を含む第２導電部材と、
前記第１部分と前記第３部分との間に設けられた導電性の第１接続部材と、
前記第１部分、前記第３部分及び前記第１接続部材の周りに設けられた第１部分領域を含む樹脂部と、
を備え、
前記第４部分の少なくとも一部は、前記樹脂部に覆われず、
前記第３部分から前記第４部分に向かう方向は、前記第１方向と交差する第３方向に沿い、
前記第３部分は、前記第１接続部材に対向する第２面を有し、
前記第２面は、凹部及び凸部を含み、
前記凹部は、第２底部、第３距離、及び、第４距離の少なくともいずれかを有し、
前記第２底部の少なくとも一部は前記第１方向に対して垂直であり、
前記第３距離は、前記凹部と前記第４部分との間の距離であり、前記第３距離は、前記凸部と前記第４部分との間の距離よりも長く、
前記第４距離は、前記凹部と前記第１部分との間の前記第１方向に沿った距離であり、前記第４距離は、前記第４部分から前記第３部分への向きにおいて増大する、半導体装置。
【請求項４】
前記凹部は、前記第３部分の両端部から内側に離れて設けられている、請求項３記載の半導体装置。
【請求項５】
前記凸部は、複数設けられ、前記凹部は、前記複数の凸部の間に位置した、請求項１〜４のいずれか１つに記載の半導体装置。
【請求項６】
導電性の第２接続部材をさらに備え、
前記第２接続部材は、前記半導体チップと前記第２部分との間に位置し、前記半導体チップと前記第２部分とを電気的に接続し、
前記樹脂部は、前記第２部分及び前記第２接続部材の周りに設けられた第２部分領域をさらに含む、請求項１〜５のいずれか１つに記載の半導体装置。
【請求項７】
第５部分を含む第３導電部材と、
前記第５部分と前記半導体チップとの間に設けられた導電性の第３接続部材と、
をさらに備え、
前記樹脂部は、前記第５部分及び前記第３接続部材の周りに設けられた第３部分領域をさらに含む、請求項１〜６のいずれか１つに記載の半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
半導体装置１１４において、凹部（第１凹部２１ｄ）は、第１部分ｐ１の両端部から内側に離れて設けられている。両端部は、第１端部ｐａ１及び第２端部ｐｂ１である。第２端部ｐｂ１から第１端部ｐａ１に向かう方向は、第２方向（例えば、Ｘ軸方向）に沿う。第２端部ｐｂ１は、第１部分ｐ１と第１中間部分ｍｐ１との境界部分（遷移部分）である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８６】
このように、実施形態において、凹部（第１凹部２１ｄ）は、以下のような第１底部２１ｄｆ、以下のような第１距離Ｌｘ１、及び、以下のような第２距離Ｌｚ２の少なくともいずれかを有しても良い。第１底部２１ｄｆの少なくとも一部は、第１方向（Ｚ軸方向）に対して垂直である。第１距離Ｌｘ１は、第１凹部２１ｄと第２部分ｐ２との間の距離である。第１距離Ｌｘ１は、第１凸部２１ｐと第２部分ｐ２との間の距離Ｌｘｐ１よりも長い。第２距離Ｌｚ２は、第１凹部２１ｄと第３部分ｐ３との間の第１方向（Ｚ軸方向）に沿った距離である。第２距離Ｌｚ２は、第２部分ｐ２から第１部分ｐ１への向きにおいて増大する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０６】
半導体装置１２４において、凹部（第２凹部２２ｄ）は、第３部分ｐ３の両端部から内側に離れて設けられている。両端部は、第３端部ｐａ３及び第４端部ｐｂ３である。第４端部ｐｂ３から第３端部ｐａ３に向かう方向は、第３方向（例えば、Ｘ軸方向）に沿う。第４端部ｐｂ３は、第３部分ｐ３と第２中間部分ｍｐ２との境界部分（遷移部分）である。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月9日(2020.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のユーザのそれぞれの発言内容の入力を受け付ける入力部と、
受け付けた前記発言内容に基づいて、各ユーザ間のコミュニケーションの強さを算出する算出部と、
算出された前記コミュニケーションの強さに基づいて、前記各ユーザ間のコミュニケーションの強度を示す画面を表示部に表示させる表示制御部と、
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記画面は、複数のユーザを示す画像のそれぞれが、線で結ばれている画面である、
ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記線の太さは、前記コミュニケーションの強さが強いほど太くなる、
ことを特徴とする請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記発言内容は、音声データ、テキストデータ、電子黒板又はタブレット端末で手書き入力されたデータ、電子メールに記載されたテキストデータの少なくとも１つである、
ことを特徴とする請求項２又は３に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記表示制御部は、前記発言内容を時系列にリスト化して出力する請求項２乃至４の何れか一項に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記表示制御部は、前記線が選択された場合、該線に対応するユーザ間のコミュニケーションのログを表示部に表示させる、
ことを特徴とする請求項２乃至５の何れか一項に記載の情報処理装置。
【請求項７】
複数のユーザがそれぞれ持つ複数の端末と、情報処理装置を有するシステムであって、
前記端末は、
ユーザの発言内容を前記情報処理装置へ入力する第１の入力部と、
各ユーザ間のコミュニケーションの強度を示す画面に関する情報を受信する受信部と、
前記情報に基づいて、表示部に前記画面を表示させる表示制御部と、
を有し、
前記情報処理装置は、
前記発言内容に基づいて、前記各ユーザ間のコミュニケーションの強度を算出する算出部と、
算出された前記コミュニケーションの強さに基づいて、前記画面に関する情報を前記端末へ送信する送信部と、
を有することを特徴とする情報処理システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】情報処理装置、情報処理システム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、情報処理装置、情報処理システムに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
本発明の１つの側面は、会議等の情報共有を効率化することができる情報処理システムを提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
一態様における、複数のユーザのそれぞれの発言内容の入力を受け付ける入力部と、受け付けた前記発言内容に基づいて、各ユーザ間のコミュニケーションの強さを算出する算出部と、算出された前記コミュニケーションの強さに基づいて、前記各ユーザ間のコミュニケーションの強度を示す画面を表示部に表示させる表示制御部と、を備えることを特徴とする情報処理装置である。