Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和2年3月13日(2020.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の作動流体を気化させる第１の蒸発器、前記第１の作動流体を液化する第１の凝縮器、前記第１の蒸発器と前記第１の凝縮器とを接続する第１の液管、及び前記第１の蒸発器と前記第１の凝縮器とを接続し、前記第１の液管と共に第１のループを形成する第１の蒸気管、を有する第１のループ型ヒートパイプと、
第２の作動流体を気化させる第２の蒸発器、前記第２の作動流体を液化する第２の凝縮器、前記第２の蒸発器と前記第２の凝縮器とを接続する第２の液管、及び前記第２の蒸発器と前記第２の凝縮器とを接続し、前記第２の液管と共に第２のループを形成する第２の蒸気管、を有する第２のループ型ヒートパイプと、
前記第１の凝縮器と前記第２の蒸発器とを連結する連結部と、を有し、
前記第１のループと前記第２のループとは互いに独立しており、
前記第１の凝縮器と前記第２の蒸発器と前記連結部とは、金属により一体に形成されているループ型ヒートパイプ。
【請求項２】
前記第１のループ型ヒートパイプと前記第２のループ型ヒートパイプと前記連結部は、複数の金属層を積層してなる請求項１に記載のループ型ヒートパイプ。
【請求項３】
前記第２の作動流体は、前記第１の作動流体よりも飽和蒸気圧の低い液体である請求項１又は２に記載のループ型ヒートパイプ。
【請求項４】
前記第１の作動流体と前記第２の作動流体は同一種類の液体であり、
前記第２のループ内の減圧値は、前記第１のループ内の減圧値よりも小さい請求項１又は２に記載のループ型ヒートパイプ。
【請求項５】
前記第１の蒸発器と前記第２の凝縮器とが同一平面上に位置しないように、前記第１のループ型ヒートパイプと前記第２のループ型ヒートパイプとが前記連結部の部分で折り曲げられている請求項１乃至４の何れか一項に記載のループ型ヒートパイプ。
【請求項６】
前記連結部の表面を被覆する断熱部材を有する請求項１乃至５の何れか一項に記載のループ型ヒートパイプ。
【請求項７】
前記連結部にスリットが形成されている請求項１乃至６の何れか一項に記載のループ型ヒートパイプ。
【請求項８】
第１の作動流体を気化させる第１の蒸発器、前記第１の作動流体を液化する第１の凝縮器、前記第１の蒸発器と前記第１の凝縮器とを接続する第１の液管、及び前記第１の蒸発器と前記第１の凝縮器とを接続し、前記第１の液管と共に第１のループを形成する第１の蒸気管、を有する第１のループ型ヒートパイプと、
第２の作動流体を気化させる第２の蒸発器、前記第２の作動流体を液化する第２の凝縮器、前記第２の蒸発器と前記第２の凝縮器とを接続する第２の液管、及び前記第２の蒸発器と前記第２の凝縮器とを接続し、前記第２の液管と共に第２のループを形成する第２の蒸気管、を有する第２のループ型ヒートパイプと、
前記第１の凝縮器と前記第２の蒸発器とを連結する連結部と、を有し、
前記第１のループと前記第２のループとは互いに独立しており、
前記第１の凝縮器と前記第２の蒸発器と前記連結部とは、金属により一体に形成されているループ型ヒートパイプの製造方法であって、
前記第１のループ型ヒートパイプと前記第２のループ型ヒートパイプと前記連結部は、複数の金属層を積層してなり、
前記金属層を積層する工程は、
複数の金属シートを各々所定形状に加工して金属層を形成する工程と、
所定形状に加工された各々の前記金属層を固相接合により互いに直接接合する工程と、を含むループ型ヒートパイプの製造方法。
【請求項９】
前記第１の蒸発器と前記第２の凝縮器とが同一平面上に位置しないように、前記第１のループ型ヒートパイプと前記第２のループ型ヒートパイプとを前記連結部の部分で折り曲げる工程を有する請求項８に記載のループ型ヒートパイプの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本ループ型ヒートパイプは、第１の作動流体を気化させる第１の蒸発器、前記第１の作動流体を液化する第１の凝縮器、前記第１の蒸発器と前記第１の凝縮器とを接続する第１の液管、及び前記第１の蒸発器と前記第１の凝縮器とを接続し、前記第１の液管と共に第１のループを形成する第１の蒸気管、を有する第１のループ型ヒートパイプと、第２の作動流体を気化させる第２の蒸発器、前記第２の作動流体を液化する第２の凝縮器、前記第２の蒸発器と前記第２の凝縮器とを接続する第２の液管、及び前記第２の蒸発器と前記第２の凝縮器とを接続し、前記第２の液管と共に第２のループを形成する第２の蒸気管、を有する第２のループ型ヒートパイプと、前記第１の凝縮器と前記第２の蒸発器とを連結する連結部と、を有し、前記第１のループと前記第２のループとは互いに独立しており、前記第１の凝縮器と前記第２の蒸発器と前記連結部とは、金属により一体に形成されていることを要件とする。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月14日(2020.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
図２および図３に示すように、アジャストレバー５４と第２ストラット部材５８との間には、突出軸５４ｂの軸心(基端部５４ａの回動中心)Ｃ３回りであってアジャストレバー５４を図２に示す矢印Ｆ方向に回動するように常時付勢するばね部材６４が装着されている。すなわち、ばね部材６４は、アジャストレバー５４を付勢することによって、アジャストレバー５４を突出軸５４ｂの軸心Ｃ３回りの一回転方向に回動させるトルクを付与している。アジャストレバー５４の当接部５４ｈは、ばね部材６４の付勢力によって、第２ストラット部材５８すなわちストラット５２をブレーキシュー２０側へ常時付勢している。なお、ばね部材６４の付勢力は、リターンスプリング２６の付勢力より小さいものである。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月20日(2019.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）５−（４−シアノフェノキシ）−１，３−ジヒドロ−１−ヒドロキシ−２，１−ベンゾオキサボロール、薬学的に許容できるその塩もしくは水和物もしくは溶媒和物；
ｂ）プロピレングリコール約５％（ｗ／ｗ）〜約１５％（ｗ／ｗ）；
ｃ）ブチル化ヒドロキシトルエン；
ｄ）エデト酸カルシウム二ナトリウム；
ｅ）モノおよびジグリセリド；
ｆ）パラフィンろう；ならびに
ｇ）白色ワセリン
を含む局所医薬製剤。
【請求項２】
ａ）５−（４−シアノフェノキシ）−１，３−ジヒドロ−１−ヒドロキシ−２，１−ベンゾオキサボロール約０．１％（ｗ／ｗ）〜約２％（ｗ／ｗ）；
ｂ）プロピレングリコールＵＳＰ約５％（ｗ／ｗ）〜約１５％（ｗ／ｗ）ＵＳＰ；
ｃ）ブチル化ヒドロキシトルエン０．１％（ｗ／ｗ）；
ｄ）エデト酸カルシウム二ナトリウム０．００３５％（ｗ／ｗ）；
ｅ）モノおよびジグリセリドＮＦ７％（ｗ／ｗ）；
ｆ）パラフィンろう５％（ｗ／ｗ）；および
ｇ）白色ワセリン７６．８９６５％（ｗ／ｗ）
を含む、請求項１に記載の局所医薬製剤。
【請求項３】
ａ）５−（４−シアノフェノキシ）−１，３−ジヒドロ−１−ヒドロキシ−２，１−ベンゾオキサボロールまたは薬学的に許容できるその塩約２％（ｗ／ｗ）；
ｂ）プロピレングリコールＵＳＰ約９％（ｗ／ｗ）；
ｃ）ブチル化ヒドロキシトルエン約０．１％（ｗ／ｗ）；
ｄ）エデト酸カルシウム二ナトリウム約０．００３５％（ｗ／ｗ）；
ｅ）モノおよびジグリセリドＮＦ約７％（ｗ／ｗ）であり、４０％〜５５％が前記モノグリセリドである、モノおよびジグリセリドＮＦ；
ｆ）パラフィンろう約５％（ｗ／ｗ）；および
ｇ）白色ワセリン約７６．８９６５％（ｗ／ｗ）
からなる、請求項２に記載の局所医薬製剤。
【請求項４】
サイトカインおよび／またはケモカインの放出を減少させるための、請求項１〜３のいずれか１項に記載の局所医薬製剤。
【請求項５】
炎症関連状態を処置するための、請求項１〜３のいずれか１項に記載の局所医薬製剤。
【請求項６】
炎症関連状態が乾癬である、請求項５に記載の局所医薬製剤。
【請求項７】
炎症関連状態がアトピー性皮膚炎である、請求項５に記載の局所医薬製剤。
【請求項８】
ヒトにおいてアトピー性皮膚炎を処置するための、請求項１〜３のいずれか１項に記載の局所医薬製剤。
【請求項９】
１日２回投与される、請求項８に記載の局所医薬製剤。
【請求項１０】
約２８日間にわたって投与される、請求項９に記載の局所医薬製剤。
【請求項１１】
医薬製剤と組み合わせて投与される第２の活性薬剤をさらに含む、請求項８に記載の局所医薬製剤。
【請求項１２】
第２の活性薬剤が、トファシチニブ、ＪＴＥ−０５２、バリシチニブ、またはウパダシチニブである、請求項１１に記載の局所医薬製剤。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月28日(2019.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エチレンの１−ブテンへのオリゴマー化のための装置に適用され得る、液相中かつ泡立ち点で均一系触媒の存在下に操作される、高度プロセス制御（ＡＰＣ）であって、目標パラメータと称される、同時的かつ連続的に制御されるパラメータが、１−ブテンの生成（Ｄｐｒｏｄ）、反応器の圧力（Ｐｒｅａｃ）および反応器の温度（Ｔｒｅａｃ）であり、作用変数が、供給原料流量（Ｄｃｈ）、注入される触媒の構成要素のそれぞれの流量（Ｔ２およびＬＣ）および触媒再循環ループ（単数または複数）の交換器（単数または複数）に供給される冷却液の流量であることを特徴とする高度プロセス制御。
【請求項２】
請求項１に記載の高度プロセス制御（ＡＰＣ）であって、該高度プロセス制御の多変数コントローラ（ＡＰＣコントローラと称される）は、３つの原則：
−  注入される触媒の量を変動させることによって、供給原料流量を作用させて生成に影響を及ぼす転化についての圧力の効果を補填することによって反応器の圧力（Ｐｒｅａｃ）を制御すること、
−  供給原料流量によって、触媒の量を作用させて圧力の効果を補填することによって、生成（Ｄｒｏｄ）を制御すること、
−  触媒再循環ループ（単数または複数）の交換器（単数または複数）に供給される冷却液の流量を作用させることによって反応器の温度（Ｔｒｅａｃ）を制御すること
に基づき、
ＡＰＣコントローラは、コンピュータにインストールされ、このコンピュータは、工業装置においてプロセスを制御するシステムに接続され、前記コンピュータは、以下のオペレーション：
・  作用変数および目標変数についてのシグナルを回収すること
・  作用変数についての新しい設定ポイントを生じさせること、および
・  ＡＰＣコントローラに新しい設定ポイントを送信すること
を行う、高度プロセス制御（ＡＰＣ）。
【請求項３】
触媒の流量Ｔ２およびＬＣは、比（Ｔ２／ＬＣ）が１．５〜３モル／モルの間、より特定的には１．９〜２．５モル／モルの間、大いに好ましくは２〜２．２モル／モルの間で維持されるような範囲内で自由に変動し、これにより、ポリマーの形成が制限される、請求項２に記載の高度プロセス制御。
【請求項４】
請求項１に記載の高度プロセス制御であって、
−  圧力設定ポイントの変更の際に、一定の生成で、触媒の構成要素の流量が改変され、これにより、圧力変動が制御され、供給原料流量の改変は、新しい圧力設定ポイントによって生じた、転化の変化、それ故に、１−ブテンの生成の変化を補填する、
−  生成設定ポイントの変更の際に、一定の圧力で、供給原料流量は改変され、これにより、生成の変動、すなわち、１−ブテンの流量が制御され、触媒の２つの構成要素の流量の改変が、新しい生成設定ポイントによって生じた圧力の変化の効果を補填する
高度プロセス制御。
【請求項５】
高度プロセス制御のパラメータ化は、実験データを得ることによって前もって行われ、これらの実験データは、作用変数において変動を生じさせることからなる試験のキャンペーンに由来し、目標変数についての装置の応答は、多変数識別ソフトウェアにおいて処理される、請求項１に記載の高度プロセス制御。
【請求項６】
エチレンをオリゴマー化させて１−ブテンを製造するための方法への請求項１〜５のいずれか１つに記載の高度プロセス制御の適用であって、以下の条件：
−  圧力：０．５〜８ＭＰａの範囲内、好ましくは１〜４ＭＰａの範囲内
−  温度：２０〜１５０℃の範囲内、好ましくは３０〜１００℃の範囲内
の下に操作される、適用。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月21日(2019.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
３Ｄプリンタであって、ピン作動プリントヘッドを備え、
前記ピン作動プリントヘッドは、
吐出されるべき複数の異なるタイプの材料を保持するための複数の材料チャンバと、
前記材料チャンバと流体連通する複数のプリントヘッド入口と、
複数のオリフィスであって、それぞれから前記材料が吐出される複数のオリフィスと、
前記材料チャンバを前記オリフィスに接続する複数のチャンネルと、
前記オリフィスに入り、前記オリフィスから前記材料の吐出を制御するように構成された複数の作動ピンと、を含み、
前記プリントヘッドは、高温にて１０，０００センチポイズ（ｃＰ）以上の粘度を有する材料を吐出し、前記オリフィスを通じて前記材料を吐出した後に、前記複数の異なるタイプの前記材料を混合するように構成され、
前記３Ｄプリンタがさらに、材料送達システムを備え、
前記材料送達システムは、
前記プリントヘッド入口と流体連通する複数の材料送達システム出口と、
複数のフィラメントドライバと、
複数のフィラメントヒータと、を含むことを特徴とする３Ｄプリンタ。
【請求項２】
前記フィラメントドライバ内に位置付けられた複数の固体フィラメントと、
前記材料チャンバ内の材料と
をさらに含み、前記材料が液化フィラメントを含む、請求項１に記載の３Ｄプリンタ。
【請求項３】
前記フィラメントドライバの各々が、第１のフィードホイールと、第２のフィードホイールと、前記第１のフィードホイールと前記第２のフィードホイールとの間のニップとを備え、
前記固体フィラメントの少なくとも１つが前記ニップ内に配置される、請求項２に記載の３Ｄプリンタ。
【請求項４】
前記材料送達システムがさらに、前記第１のフィードホイールおよび前記第２のフィードホイールのうちの少なくとも一方の回転速度および回転トルクのうちの少なくとも一方を制御するように構成されたコントローラを備える、請求項３に記載の３Ｄプリンタ。
【請求項５】
前記材料送達システムが、ある特定の前記材料チャンバ内の圧力を、前記第１のフィードホイールおよび前記第２のフィードホイールのうちの少なくとも一方の回転トルクを通じて維持するように構成されている、請求項４に記載の３Ｄプリンタ。
【請求項６】
各作動ピンが、第１の開放位置および第２の閉鎖位置を含み、
前記第１の開放位置にある場合に各作動ピンが、前記材料が前記オリフィスに入ることを可能にするように構成され、
前記第２の閉鎖位置にある場合に各作動ピンが、材料が前記オリフィスに入るのをブロックするように構成される、請求項１に記載の３Ｄプリンタ。
【請求項７】
前記作動ピンのそれぞれが前記第１の開放位置にある期間が、吐出される前記材料の体積を決定するように、前記作動ピンのそれぞれが構成されている、請求項６に記載の３Ｄプリンタ。
【請求項８】
前記閉鎖位置では、前記作動ピンの各々が、前記オリフィスの外側表面を規定する平面を超えて突出する、請求項６に記載の３Ｄプリンタ。
【請求項９】
前記複数のピンが金属製のワイヤから成る、請求項１に記載の３Ｄプリンタ。
【請求項１０】
吐出される前記材料が前記ピンから容易に分離できるように、前記複数のピンに低接着コーティングが塗布されている、請求項１に記載の３Ｄプリンタ。
【請求項１１】
前記プリントヘッドが、吐出された前記材料を受容する表面から間隔をあけて配置されていることで、吐出された前記材料が前記オリフィスから前記受容する表面へ移動する際に浮遊するようになっている、請求項１に記載の３Ｄプリンタ。
【請求項１２】
前記プリントヘッドが、吐出された前記材料を受容する表面に近接して配置されていることで、吐出された前記材料を前記ピンが前記受容する表面に運ぶようになっている、請求項１に記載の３Ｄプリンタ。
【請求項１３】
３Ｄプリンタであって、ピン作動プリントヘッドを備え、
前記ピン作動プリントヘッドは、
吐出されるべき材料を保持するための複数の材料チャンバと、
前記材料チャンバと流体連通する複数のプリントヘッド入口と、
複数のオリフィスであって、それぞれから前記材料が吐出される複数のオリフィスと、
前記材料チャンバを前記オリフィスに接続する複数のチャンネルと、を含み、
異なる前記材料チャンバは、異なる前記チャンネルを通じて、異なる前記オリフィスに接続されており、
前記ピン作動プリントヘッドはさらに、
前記オリフィスに入り、前記オリフィスから前記材料の吐出を制御するように構成された複数の作動ピンを含み、
前記プリントヘッドは、高温にて１０，０００センチポイズ（ｃＰ）以上の粘度を有する材料を吐出するように構成され、
前記３Ｄプリンタがさらに、材料送達システムを備え、
前記材料送達システムは、
前記プリントヘッド入口と流体連通する複数の材料送達システム出口と、
複数のフィラメントドライバと、
複数のフィラメントヒータと、を含む
ことを特徴とする３Ｄプリンタ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】３Ｄプリンタ
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月22日(2019.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷するための装置であって、
印刷基板と、
空中浮遊状態において、または、前記印刷基板への直接的な接触を介して、湿潤液を提供するよう構成される湿潤液容器を有する、湿潤液システムと、
を備え、
前記湿潤液システムは、湿潤溶液の層を伝え再画像化可能な表面を前記印刷基板上に形成し、
さらに装置は、
赤外（ＩＲ）電磁放射線を前記印刷基板へ向かう方向に発する光パターニングサブシステムと、
入射した電磁放射線を受ける第１の表面を有する光受容体であって、前記光受容体は入射した電磁放射線の地点において熱を生成する、光受容体と、
を備え、
前記光受容体において入射した電磁放射線の位置において生成される熱は、前記印刷基板に印加され、
前記光受容体により生成される前記熱は、前記印刷基板上に湿潤液パターニングを生じさせ、
前記湿潤液パターニングは、前記印刷基板上に潜像を形成する、装置。
【請求項２】
上部に配置されるパターニングされた湿潤液を有する前記印刷基板へインクを塗布するためのインキングシステム、
をさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記光受容体はドラムまたはプレートである、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記印刷基板は、前記入射した電磁放射線に対して透過性である、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
湿潤液パターニングは、前記印刷基板において、前記湿潤溶液の一部分を蒸発により除去している、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記印刷基板上の蒸着エリアにのみ付着するインクまたは他の材料を塗布することにより、前記潜像を発現させることをさらに含む、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記光受容体と前記印刷基板とを組み合わせて、前記印刷基板上に湿潤液パターニングのために前記入射した電磁放射線から熱を生成する印刷基板を作る、請求項２に記載の装置。
【請求項８】
前記印刷基板は、２つの層を備え、１つの層が前記入射した電磁放射線に対して透過性であり、第２の層が前記入射した電磁放射線の吸収剤である、請求項２に記載の装置。
【請求項９】
前記印刷基板は３つの層を備え、前記入射した電磁放射線の吸収剤である層は、非導電の透過性フィルムで密封される、請求項２に記載の装置。
【請求項１０】
可変データリソグラフィシステムにおいて印刷基板上へ直接的に印刷するための方法であって、
空中浮遊状態において、または、前記印刷基板への直接的な接触により、湿潤液容器から湿潤液を提供することと、
入射した電磁放射線の位置において熱を生成する第１の表面を有する光受容体を使用することと、
電磁放射線を、前記湿潤液、前記印刷基板、および前記光受容体に照射することと、
前記光受容体において、前記入射した電磁放射線の位置において生成される前記熱を前記印刷基板に印加することと、
を含み、
前記光受容体により生成される前記熱は、前記印刷基板上に湿潤液パターニングを生じさせる、方法。
【請求項１１】
上部に配置されるパターニングされた湿潤液を有する前記印刷基板へインクを塗布すること、
をさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記光受容体はドラムまたはプレートである、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記印刷基板は、前記入射した電磁放射線に対して透過性である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
湿潤液パターニングは、前記印刷基板において、前記湿潤溶液の一部分を蒸発により除去している、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記湿潤液パターニングは前記印刷基板上に潜像を形成し、その後、前記印刷基板上の蒸着エリアにのみ付着するインクまたは他の材料を塗布することにより、前記潜像が発現する、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記光受容体と前記印刷基板とを組み合わせて、前記印刷基板上に湿潤液パターニングのために前記入射した電磁放射線から熱を生成する印刷基板を作る、請求項１１に記載の方法。
【請求項１７】
前記印刷基板は、２つの層を備え、１つの層が前記入射した電磁放射線に対して透過性であり、第２の層が前記入射した電磁放射線の吸収剤である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１８】
前記印刷基板は３つの層を備え、前記入射した電磁放射線の吸収剤である層は、非導電の透過性フィルムで密封される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１９】
印刷に有用なシステムであって、
高粘着性インクおよび／または湿潤液を保持するための赤外線（ＩＲ）透過性材料を備える印刷基板と、
前記湿潤液を前記印刷基板へ提供するよう構成される湿潤液容器と、
ＩＲエネルギーを受ける第１の表面を有する光受容体であって、前記光受容体は前記ＩＲエネルギーの入射の前記地点において熱を生成し、前記光受容体により生成される前記熱は前記印刷基板上に湿潤液パターニングを生じさせる、光受容体と、
上部に配置されるパターニングされた湿潤液を有する前記印刷基板へ高粘着性インクを塗布するためのインキングユニットと、
プロセッサと、
前記プロセッサと結合される保存デバイスであって、前記保存デバイスは、
ＩＲソースに、前記ＩＲエネルギーを前記印刷基板および前記光受容体へ印加させて、前記印刷基板上に第１のプロセス方向画像を形成すること、
前記光受容体において前記入射した電磁放射線の位置において生成する熱を、前記印刷基板に印加することと、
前記印刷基板上に前記高粘着性インクを塗布すること、
前記ＩＲエネルギーおよび高粘着性インクを、残留している湿潤液を有する前記印刷基板のエリア上に塗布することを繰り返して、追加的な画像が前記印刷基板上にパターニングされ得ると判定された際、１つ以上の追加的な画像を形成すること、
を行うための、前記プロセッサ上で動作する命令を包含する、保存デバイスと、
を備える、システム。
【請求項２０】
前記光受容体はドラムまたはプレートである、請求項１９に記載のシステム。
【請求項２１】
前記印刷基板は、前記ＩＲエネルギーに対して透過性である、請求項２０に記載のシステム。
【請求項２２】
湿潤液パターニングは、前記印刷基板において、前記湿潤溶液の一部分を蒸発により除去している、請求項２１に記載のシステム。
【請求項２３】
前記湿潤液パターニングは前記印刷基板上に潜像を形成し、その後、前記印刷基板上の蒸着エリアにのみ付着するインクまたは他の材料を塗布することにより、前記潜像が発現する、請求項２２に記載のシステム。
【請求項２４】
前記光受容体は前記印刷基板自体である、請求項２０に記載のシステム。
【請求項２５】
前記印刷基板は、２つの層を備え、１つの層が前記ＩＲエネルギーに対して透過性であり、第２の層が前記ＩＲエネルギーの吸収剤である、請求項２０に記載のシステム。
【請求項２６】
前記印刷基板は３つの層を備え、前記ＩＲエネルギーの吸収剤である層は、非導電の透過性フィルムで密封される、請求項２０に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月21日(2020.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
それを必要とする患者における脳癌を治療するための、IL-13Rα2ペプチドを含む医薬組成物であって、該医薬組成物が、該IL-13Rα2ペプチドに基づく癌療法に使用され、該医薬組成物の投与の前後の該患者における又は該患者由来のIL-13Rα2発現癌幹細胞の量を測定すること、及び該医薬組成物の投与前の該患者における又は該患者由来のIL-13Rα2発現癌幹細胞の量を該医薬組成物の投与後の該患者における又は該患者由来のIL-13Rα2発現癌幹細胞の量と比較することによって、該医薬組成物の効力がモニタリングされ、該医薬組成物の投与後の該患者における又は該患者由来のIL-13Rα2発現癌幹細胞の量が、該医薬組成物の投与前の該患者における又は該患者由来のIL-13Rα2発現癌幹細胞の量と同等又はそれ未満である場合に、該医薬組成物が有効であると決定され、該IL-13Rα2ペプチドが、IL-13Rα2のT細胞エピトープを含み、かつ該医薬組成物が、ベバシズマブと共投与される、前記医薬組成物。
【請求項２】
前記IL-13Rα2発現癌幹細胞の量が、免疫アッセイ、フローサイトメーター、免疫組織化学、スフェア形成アッセイ、免疫不全マウスによるインビボ生着アッセイ若しくはイメージングを使用することにより、又は前記患者から得られた試料を培養すること、及び該細胞をインビトロアッセイで定量することによって決定される、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項３】
前記イメージングが、MRI、PET、FDG-PET、CTスキャン、又はX線である、請求項２記載の医薬組成物。
【請求項４】
前記IL-13Rα2のT細胞エピトープが、対象における免疫応答を誘導する、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項５】
前記IL-13Rα2ペプチドが、配列番号：2〜5のいずれか1つとの少なくとも50％、60％、70％、80％、又は90％の同一性を有するアミノ酸配列を含む、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項６】
前記IL-13Rα2ペプチドが、配列番号：2〜5のいずれか1つのアミノ酸配列を含む、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項７】
前記IL-13Rα2ペプチドが、配列番号：2〜5のいずれか1つのアミノ酸配列からなる、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項８】
前記組成物が細胞を含まない、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項９】
前記組成物中の前記IL-13Rα2ペプチドが、樹状細胞に負荷される、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項１０】
前記組成物が、前記患者に皮下又は節内投与される、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項１１】
前記脳癌が、神経膠腫、膠芽腫、希突起膠腫、脳幹神経膠腫、非脳幹神経膠腫、上衣種、聴神経鞘腫、頭蓋咽頭腫、髄膜腫、髄芽腫、原発性中枢神経系リンパ腫、松果体の腫瘍及び下垂体の腫瘍、成人低悪性度浸潤性テント上星細胞腫/希突起膠腫、成人低悪性度浸潤性テント上星細胞腫、成人低悪性度浸潤性テント上希突起膠腫、成人低悪性度浸潤性テント上星細胞腫/希突起膠腫(毛様細胞性星細胞腫を除く)、成人低悪性度浸潤性テント上星細胞腫(毛様細胞性星細胞腫を除く)、成人低悪性度浸潤性テント上希突起膠腫(毛様細胞性星細胞腫を除く)、成人頭蓋内上衣腫、成人頭蓋内上衣腫(上衣下腫及び粘液乳頭状を除く)、成人頭蓋内未分化上衣腫、未分化神経膠腫、未分化膠芽腫、毛様細胞性星細胞腫、上衣下腫、粘液乳頭状、軟膜転移、原発性CNSリンパ腫、転移性脊椎腫瘍、又は髄膜腫である、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項１２】
前記神経膠腫が、星細胞腫、毛様細胞性星細胞腫、びまん性星細胞腫、未分化星細胞腫、高リスクWHOグレードII星細胞腫、乏突起星細胞腫、再発性悪性神経膠腫、再発性WHOグレードII神経膠腫、新たに診断された悪性又は内因性脳幹神経膠腫、不完全に切除された非脳幹神経膠腫、又は再発性の切除不能な低悪性度神経膠腫である、請求項１１記載の医薬組成物。
【請求項１３】
前記医薬組成物とベバシズマブが、別々に、並行して、又は順次に共投与される、請求項１記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月19日(2020.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オリゴマー、化学的に安定化されたオリゴマー、オリゴマーをコードする核酸、オリゴマーをコードするウイルスベクターからなる群から選択される薬剤の治療上有効量を含む、てんかんを有する危険があるまたは有する疑いがある個体のてんかんまたはてんかん重積状態の発症の治療またはその可能性の減少に使用するための医薬組成物であって、前記オリゴマーは、６〜３０ヌクレオチドの間のヌクレオチド配列を含み、そしてシード領域であるヌクレオチド配列：ＣＡＣＡＧＵを含む、医薬組成物。
【請求項２】
オリゴマー、化学的に安定化されたオリゴマー、オリゴマーをコードする核酸、オリゴマーをコードするウイルスベクターからなる群から選択される薬剤の治療上有効量を含む、発作の危険があるまたは発作を有する個体の発作の発症もしくは発生の治療またはその可能性の減少に使用するための医薬組成物であって、ここで、前記個体が、発作の発症を特徴とする脳関連障害を有し、そして前記オリゴマーは、６〜３０ヌクレオチドの間のヌクレオチド配列を含み、そしてシード領域であるヌクレオチド配列：ＣＡＣＡＧＵを含む、医薬組成物。
【請求項３】
オリゴマー、化学的に安定化されたオリゴマー、オリゴマーをコードする核酸、オリゴマーをコードするウイルスベクターからなる群から選択される薬剤の治療上有効量を含む、てんかんを発症する危険がある個体のてんかんの発症の治療またはその可能性の減少に使用するための医薬組成物であって、ここで、前記個体が、前記個体のてんかんのリスクを増加させる脳損傷を以前に患っており、そして前記オリゴマーは、６〜３０ヌクレオチドの間のヌクレオチド配列を含み、そしてシード領域であるヌクレオチド配列：ＣＡＣＡＧＵを含む、医薬組成物。
【請求項４】
前記個体が、Ｄｒａｖｅｔ症候群を有する疑いがあるまたはＤｒａｖｅｔ症候群と診断されている、請求項１、２または３に記載の医薬組成物。
【請求項５】
前記医薬組成物が、くも膜下腔内または鼻腔内投与される、請求項１、２または３に記載の医薬組成物。
【請求項６】
前記個体の中枢神経系への投与用である、請求項１、２または３に記載の医薬組成物。
【請求項７】
海馬または皮質への投与用である、請求項１、２または３に記載の医薬組成物。
【請求項８】
前記薬剤が、化学的に安定化されたオリゴマーを含む、請求項１、２または３に記載の医薬組成物。
【請求項９】
発作の発症を特徴とする前記脳関連障害が、脳卒中、低酸素症、外傷性脳損傷、感染症、腫瘍、神経変性障害、発作を引き起こす代謝および自己免疫障害からなる群から選択される、請求項２に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
前記脳損傷が脳卒中によって引き起こされる、請求項３に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
薬学的に許容される賦形剤と組み合わせて、薬剤を含む、発作を特徴とする神経病態の発症の治療またはその可能性の減少に使用するための医薬組成物であって、前記薬剤がオリゴマー、化学的に安定化されたオリゴマー、オリゴマーをコードする核酸、オリゴマーをコードするウイルスベクターからなる群から選択され、前記オリゴマーは、６〜３０ヌクレオチドの間のヌクレオチド配列を含み、そしてシード領域であるヌクレオチド配列：ＣＡＣＡＧＵを含む、医薬組成物。
【請求項１２】
前記薬剤が、化学的に安定化されたオリゴマー、オリゴマーをコードする核酸、およびオリゴマーをコードするウイルスベクターからなる群から選択される、請求項１１に記載の医薬組成物。
【請求項１３】
ｍｉＲ−１２８発現細胞を候補化合物と接触させることと、前記細胞によって発現されている前記ｍｉＲ−１２８の発現および／または活性のレベルを測定することとを含む、発作を特徴とする病態の治療またはその可能性の減少に有用な化合物を同定する方法であって、ここで、前記候補化合物と接触していない細胞中のｍｉＲ−１２８の発現および／または活性の基準レベルに対する前記ｍｉＲ−１２８の発現および／または活性のレベルの増加が、前記候補化合物が発作を特徴とする病態の治療または予防に有用であることを示すものとする、前記方法。
【請求項１４】
発作を特徴とする前記病態が、てんかん、てんかん重積状態、脳卒中、低酸素症、外傷性脳損傷、感染症、腫瘍、神経変性障害、発作を引き起こす代謝および自己免疫障害を含む群から選択される、請求項１３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月19日(2020.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者の結合組織の線維症（ＥＦＰ）を治療または低減する方法に用いられる医薬組成物であって、前記医薬組成物は、唯一の活性成分として、逆相高速液体クロマトグラフィーで測定した面積で少なくとも約９５％の純度を有する、約１：１の質量比であるコラゲナーゼＩおよびコラゲナーゼＩＩを含み、前記コラゲナーゼＩおよびコラゲナーゼＩＩが０．５８ミリグラム当たり１０，０００ＡＢＣ単位の特異的活性を有し、前記方法は、前記医薬組成物を準備し、線維症（ＥＦＰ）罹患領域に前記医薬組成物を複数回の同時皮下注射により投与することを含み、１回の注射当たりのコラゲナーゼＩおよびコラゲナーゼＩＩの用量が０．０００２９〜０．０１１６ミリグラムであり、複数回の皮下注射により投与されるコラゲナーゼＩおよびコラゲナーゼＩＩの合計用量が、約０．０００２９〜約０．１１６ミリグラムであり、注射部位間の距離が少なくとも約１〜約４ｃｍである、
医薬組成物。
【請求項２】
複数回の同時皮下注射が、複数箇所の注射部位に投与される、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】
前記投与されるコラゲナーゼＩおよびコラゲナーゼＩＩの濃度が、約０．００２９〜約０．１１６ミリグラム／ミリリットルである、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
各皮下注射が、約０．５ｍｌ以下の容量で投与される、請求項１〜３のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項５】
１回の皮下注射当たりのコラゲナーゼＩおよびコラゲナーゼＩＩの用量が、約０．０００２９〜約０．００５８ミリグラムである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項６】
１回の皮下注射当たりのコラゲナーゼＩおよびコラゲナーゼＩＩの用量が、約０．０００２９〜約０．００２９ミリグラムである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項７】
コラゲナーゼＩまたはコラゲナーゼＩＩがクロストリジウム・ヒストリチクムから精製される、請求項１〜６のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項８】
コラゲナーゼＩ、コラゲナーゼＩＩ、またはコラゲナーゼＩおよびコラゲナーゼＩＩの両方が、組換え型である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項９】
少なくとも２回の前記医薬組成物の皮下注射が、前記ＥＦＰ罹患領域内の２箇所の注射部位に投与される、請求項１〜８のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
少なくとも５回の前記医薬組成物の皮下注射が、前記ＥＦＰ罹患領域内の５箇所の注射部位に投与される、請求項９に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
少なくとも１０回の前記医薬組成物の皮下注射が、前記ＥＦＰ罹患領域の１０箇所の注射部位に投与される、請求項９に記載の医薬組成物。
【請求項１２】
前記ＥＦＰ罹患領域が、約１ｃｍ２〜約２００ｃｍ２の面積を有する、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１３】
注射部位間の距離が少なくとも約２〜約３ｃｍである、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１４】
前記ＥＦＰ罹患領域が約１０ｃｍの長さと約８ｃｍの幅を有する、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１５】
前記注射部位間の距離が約２．５ｃｍである、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１６】
各皮下注射が、約０．１ｍｌの容量を有する、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１７】
１または複数回の同時皮下注射により投与されるコラゲナーゼＩおよびコラゲナーゼＩＩの合計用量が、約０．０００２９〜約０．０５８ミリグラムである、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１８】
各皮下注射が、約０．２ｍｌ以下の容量を有する、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１９】
前記医薬組成物が、コラゲナーゼＩおよびコラゲナーゼＩＩ以外のプロテアーゼ酵素を含まず、前記コラゲナーゼＩおよびコラゲナーゼＩＩ以外のプロテアーゼ酵素は細菌発酵から精製されたコラゲナーゼＩおよびコラゲナーゼＩＩに存在する可能性のある少量または痕跡量のタンパク質分解性酵素以外のものである、請求項１〜１８のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項２０】
前記医薬組成物が他の酵素を実質的に含まない、請求項１〜１９のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月28日(2020.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平均粒径が０.１μｍ以上、１０μｍ以下、粒子の長径Ｄ1と短径Ｄ2の比Ｄ1／Ｄ2が５以下であって、１７０℃未満の線熱膨張係数が−２０ｐｐｍ／Ｋ以上−６ｐｐｍ／Ｋ以下、１７０℃以上の線熱膨張係数が−１５ｐｐｍ／Ｋ以上−３ｐｐｍ／Ｋ以下であることを特徴とするタングステン酸ジルコニウム粉末。
【請求項２】
結晶化度が５０％以上であることを特徴とする請求項１記載のタングステン酸ジルコニウム粉末。
【請求項３】
粉体強度が１００ＭＰａ以上であることを特徴とする請求項１乃至２に記載のタングステン酸ジルコニウム粉末。
【請求項４】
平均粒径が０．５μｍ以上、２μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のタングステン酸ジルコニウム粉末。
【請求項５】
粒子の長径Ｄ1と短径Ｄ2の比Ｄ1／Ｄ2が３以下であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のタングステン酸ジルコニウム粉末。
【請求項６】
粒子の結晶化度が７５％以上であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載のタングステン酸ジルコニウム粉末。
【請求項７】
粉体強度が２００ＭＰａ以上であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載のタングステン酸ジルコニウム粉末。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載のタングステン酸ジルコニウム粉末を含む樹脂からなる負熱膨張材料。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載のタングステン酸ジルコニウム粉末の製造方法であって、噴霧熱分解法によって作製することを特徴とするタングステン酸ジルコニウム粉末の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決することができる本発明の実施形態は、平均粒径が０．１μｍ以上１０μｍ以下、粒子の長径Ｄ1と短径Ｄ2の比Ｄ1／Ｄ2が５以下であって、１７０℃未満の線熱膨張係数が−２０ｐｐｍ／Ｋ以上−６ｐｐｍ／Ｋ以下、１７０℃以上の線熱膨張係数が−１５ｐｐｍ／Ｋ以上−３ｐｐｍ／Ｋ以下であることを特徴とするタングステン酸ジルコニウム粉末であることを要旨とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
このような事情に鑑み、本発明者らは、添加するのに有効な微小のＺｒＷ2Ｏ8粉末を得るべく鋭意研究した結果、噴霧熱分解法における諸条件を適切に制御することで、粒径０．１μｍ以上、１０μｍ以下、粒子の長径Ｄ1と短径Ｄ2の比Ｄ1／Ｄ2が５以下であり、１７０℃未満での線熱膨張係数が−２０ｐｐｍ／Ｋ以上−６ｐｐｍ／Ｋ以下、１７０℃以上での線熱膨張係数が−１５ｐｐｍ／Ｋ以上−３ｐｐｍ／Ｋ以下である、タングステン酸ジルコニウム粉末を得ることに成功した。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本実施形態に係るタングステン酸ジルコニウム（ＺｒＷ2Ｏ8）粉末の線熱膨張係数をＴＭＡ（熱機械分析）で計測すると、１７０℃未満で−２０ｐｐｍ／Ｋ以上−６ｐｐｍ／Ｋ以下となり、また、１７０℃以上で−１５ｐｐｍ／Ｋ以上−３ｐｐｍ／Ｋ以下となり、従来と同等もしくはそれ以上の大きな負の熱膨張特性を示す。なお、線熱膨張係数とは、１ｍの長さの物質が１℃温度上昇した時、膨張した長さのことである。また、１７０℃未満と１７０℃以下とで線熱膨張係数が異なる範囲となるのは、ＺｒＷ2Ｏ8の相転移により、結晶構造に変化が起こり膨張・収縮に影響するためによる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
上記方法により、平均粒径０．１μｍ以上１０μｍ以下、粒子の長径Ｄ1と短径Ｄ2の比Ｄ1／Ｄ2が５以下であって、１７０℃未満での線熱膨張係数が−２０ｐｐｍ／Ｋ以上−６ｐｐｍ／Ｋ以下、１７０℃以上での線熱膨張係数が−１５ｐｐｍ／Ｋ以上−３ｐｐｍ／Ｋ以下のタングステン酸ジルコニウム（ＺｒＷ2Ｏ8）粉末を得ることができる。
負熱膨張材料として利用する場合には、上記によって得られたＺｒＷ2Ｏ8粉末を母材である樹脂に添加、混合する。樹脂にはポリイミド、エポキシ等を用いることができる。粉末の性状が上記数値範囲にあると、粉末を樹脂内に均一に分散させることができる。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月30日(2020.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２５６】
【表４】
2020158777.tif 000001
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）少なくとも１つの洗濯ケア成分と、（ｂ）ロイコ組成物と、を含む単位用量形態の洗濯ケア組成物であって、
前記洗濯ケア組成物は、少なくとも１０のΔＨＡを有し、
前記ロイコ組成物は、以下の式（Ａ）〜（Ｆ）で表される化合物：
【化１】
2020158777.tif 000002
、及びこれらの混合物からなる群から選択される１つ以上の化合物を含む、洗濯ケア組成物。
【請求項２】
前記洗濯ケア組成物が少なくとも２５のΔＨＡを有する、請求項１に記載の洗濯ケア組成物。
【請求項３】
前記洗濯ケア組成物が少なくとも９０のΔＨＡを有する、請求項１又は２に記載の洗濯ケア組成物。
【請求項４】
前記洗濯ケア組成物が、洗濯ケア成分として抗酸化剤を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の洗濯ケア組成物。
【請求項５】
前記単位用量は単区画を含むパウチである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の洗濯ケア組成物。
【請求項６】
前記単位用量は多区画を含むパウチである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の洗濯ケア組成物。
【請求項７】
前記ロイコ組成物が、前記多区画のうち、より大きな区画に添加される、請求項６に記載の洗濯ケア組成物。
【請求項８】
前記洗濯ケア組成物が抗酸化剤を含む場合、前記ロイコ組成物と前記抗酸化剤は同じ区画に添加される、請求項６に記載の洗濯ケア組成物。
【請求項９】
前記洗濯ケア組成物が、界面活性剤、ビルダー、キレート剤、移染防止剤、分散剤、酵素、酵素安定剤、触媒材料、漂白活性化剤、ポリマー分散剤、泥汚れ除去剤、再付着防止剤、増白剤、抑泡剤、染料、香料、香料送達系、構造化剤、布地柔軟剤、担体、ヒドロトロープ、加工助剤、顔料、及びこれらの混合物からなる群から選択される洗濯ケア成分を含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の洗濯ケア組成物。
【請求項１０】
少なくとも１の透明性評点を有する、請求項１〜９のいずれか一項に記載の洗濯ケア組成物。
【請求項１１】
前記ロイコ組成物が、２１０〜３４５の相対色相角を有する色相を布地に与える、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の洗濯ケア組成物。
【請求項１２】
織物物品を処理する方法であって、（ａ）請求項１〜１１のいずれか一項に記載の洗濯ケア組成物を提供する工程と、（ｂ）前記洗濯ケア組成物を液体媒体に添加する工程と、（ｃ）前記織物物品を前記液体媒体中に置く工程と、（ｄ）任意に、前記織物物品をすすぐ工程と、（ｅ）前記織物物品を乾燥させる工程と、を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月19日(2020.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モールドを用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、
前記基板に向かって突出した凸形状に前記モールドを変形させる変形部と、
前記モールドを介して前記基板に光を照射し、前記モールドからの反射光と前記基板からの反射光との干渉縞を検出する検出部と、
前記変形部による前記モールドの変形を制御しながら、前記モールドと前記基板上のインプリント材との接触領域が徐々に拡がるように、前記モールドと前記インプリント材とを互いに対して押圧する押圧処理を制御する制御部と、
を含み、
前記制御部は、前記押圧処理において、前記検出部で検出された前記干渉縞に基づいて、前記モールドと前記インプリント材とを互いに対して押圧する押圧方向を目標押圧方向になるように制御する、ことを特徴とするインプリント装置。
【請求項２】
前記モールドと前記基板とを相対的に駆動する駆動部を更に含み、
前記制御部は、前記駆動部による前記モールドと前記基板との相対的な駆動方向を変更することにより前記押圧方向を制御する、ことを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項３】
前記駆動部による前記モールドと前記基板との相対的な駆動方向を変更する変更部を更に含む、ことを特徴とする請求項２に記載のインプリント装置。
【請求項４】
前記モールドの側面に力を加える加圧部を更に含み、
前記制御部は、前記加圧部によって前記モールドの側面に加えられる力を調整することにより前記押圧方向を制御する、ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記検出部で検出された前記干渉縞から得られた、前記接触領域の外側における前記モールドと前記基板とのなす角度に基づいて、前記押圧方向を制御する、ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記接触領域を通る線上の２つの境界について前記角度をそれぞれ求め、前記２つの境界についての前記角度の差に基づいて前記押圧方向を制御する、ことを特徴とする請求項５に記載のインプリント装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記押圧処理において、前記検出部で検出された前記干渉縞に基づいて、前記モールドと前記基板との相対傾きを目標相対傾きになるように制御する、ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項８】
前記モールドと前記基板との相対傾きを変更する第２変更部を更に含み、
前記制御部は、前記第２変更部を制御することにより前記相対傾きを制御する、ことを特徴とする請求項７に記載のインプリント装置。
【請求項９】
前記制御部は、前記検出部で検出された前記干渉縞から得られた前記接触領域の中心位置に基づいて、前記相対傾きを制御する、ことを特徴とする請求項７又は８に記載のインプリント装置。
【請求項１０】
前記目標押圧方向は、前記基板の面に垂直な方向である、ことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１１】
モールドを用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、
前記基板に向かって突出した凸形状に前記モールドを変形させる変形部と、
前記モールドを介して前記基板に光を照射し、前記モールドからの反射光と前記基板からの反射光との干渉縞を検出する検出部と、
前記変形部による前記モールドの変形を制御しながら、前記モールドと前記基板上のインプリント材との接触領域が徐々に拡がるように、前記モールドと前記インプリント材とを互いに対して押圧する押圧処理を制御する制御部と、
を含み、
前記制御部は、前記押圧処理において、
前記検出部で検出された前記干渉縞に基づいて、前記接触領域の外側における前記モールドと前記基板とのなす角度を、前記接触領域を通る線上の２つの境界についてそれぞれ求め、
前記２つの境界についての前記角度に基づいて、前記モールドと前記インプリント材とを互いに対して押圧する押圧方向を目標押圧方向になるように制御する、
ことを特徴とするインプリント装置。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のうちいずれか１項に記載のインプリント装置を用いて基板上にパターンを形成する形成工程と、
前記形成工程でパターンが形成された前記基板を加工する加工工程と、を含み、
前記加工工程で加工された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としてのインプリント装置は、モールドを用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、前記基板に向かって突出した凸形状に前記モールドを変形させる変形部と、前記モールドを介して前記基板に光を照射し、前記モールドからの反射光と前記基板からの反射光との干渉縞を検出する検出部と、前記変形部による前記モールドの変形を制御しながら、前記モールドと前記基板上のインプリント材との接触領域が徐々に拡がるように、前記モールドと前記インプリント材とを互いに対して押圧する押圧処理を制御する制御部と、を含み、前記制御部は、前記押圧処理において、前記検出部で検出された前記干渉縞に基づいて、前記モールドと前記インプリント材とを互いに対して押圧する押圧方向を目標押圧方向になるように制御する、ことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和2年3月31日(2020.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＵＥ（User Equipment）であって、
受信したバックオフタイマー値でタイマーを開始する制御部と、
前記タイマーが満了するまでの間、Ｓ−ＮＳＳＡＩ（Single Network Slice Selection Assistance Information）を用いない、別のＰＤＵ（Protocol Data Unit）セッション確立要求メッセージを送信しない送受信部とを備える、
ことを特徴とするＵＥ。
【請求項２】
ＵＥ（User Equipment）の通信制御方法であって、
受信したバックオフタイマー値でタイマーを開始し、
前記タイマーが満了するまでの間、Ｓ−ＮＳＳＡＩ（Single Network Slice Selection Assistance Information）を用いない、別のＰＤＵ（Protocol Data Unit）セッション確立要求メッセージを送信しない、
ことを特徴とするＵＥの通信制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ＵＥ及びＵＥの通信制御方法
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月28日(2020.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＵＥ（User Equipment）であって、
制御部と、
送受信部と、を備え、
前記制御部は、受信したバックオフタイマー値を用いてタイマーを開始し、
前記送受信部は、前記タイマーが満了するまで、Ｓ−ＮＳＳＡＩ(Single Network Slice Selection Assistance information)を載せず、且つ、ＤＮＮ（Data Network Name）を載せない、他のＰＤＵ（Protocol Data Unit）セッション確立要求メッセージを送信しない、
ことを特徴とするＵＥ。
【請求項２】
前記バックオフタイマー値は、ＰＤＵセッション確立拒絶メッセージに含まれ、
前記送受信部は、前記ＰＤＵセッション確立拒絶メッセージをコアネットワーク装置から受信する、
ことを特徴とする、請求項１に記載のＵＥ。
【請求項３】
ＵＥ（User Equipment）の通信制御方法であって、
前記通信制御方法は、
受信したバックオフタイマー値を用いてタイマーを開始し、
前記タイマーが満了するまで、Ｓ−ＮＳＳＡＩ(Single Network Slice Selection Assistance information)を載せず、且つ、ＤＮＮ（Data Network Name）を載せない、他のＰＤＵ（Protocol Data Unit）セッション確立要求メッセージを送信しない、ことを含む
ことを特徴とするＵＥの通信制御方法。
【請求項４】
前記バックオフタイマー値は、ＰＤＵセッション確立拒絶メッセージに含まれ、
前記通信制御方法は、さらに、前記ＰＤＵセッション確立拒絶メッセージをコアネットワーク装置から受信する、ことを含む
ことを特徴とする、請求項３に記載のＵＥの通信制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ＵＥ及びＵＥの通信制御方法