【手続補正書】
【提出日】令和1年11月19日(2019.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
型を用いて基板のショット領域にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、
前記基板のショット領域に光を照射することによって、前記基板の形状を変える加熱機構を備え、
前記加熱機構は、それぞれに前記光を反射するミラーが複数配列された光変調器を複数有し、間隔を有するように配置された前記複数の光変調器からの光によって、前記ショット領域の互いに異なる領域を照明することを特徴とするインプリント装置。
【請求項２】
前記加熱機構からの光を前記基板に導く投影光学系を備え、
前記複数の光変調器からの光のそれぞれは、前記投影光学系を介して前記基板のショット領域を照射することを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項３】
前記加熱機構は、前記投影光学系の光軸に対して、前記光変調器からの光が前記投影光学系に入射する光軸を偏心させて入射させることを特徴とする請求項２に記載のインプリント装置。
【請求項４】
前記加熱機構は、前記投影光学系の光軸に対して、前記光変調器からの光が前記投影光学系に入射する光軸を、傾けることを特徴とする請求項２または３に記載のインプリント装置。
【請求項５】
前記加熱機構は前記基板のショット領域を複数の領域に分割して光を照射することを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載のインプリント装置。
【請求項６】
前記光変調器に配列された複数のミラーはそれぞれが稼働し、
前記光変調器からの光が前記投影光学系に入射する光軸は、前記光変調器に含まれる複数のミラーの稼働領域を変えることにより、前記投影光学系の光軸から偏心させることを特徴とする請求項４記載のインプリント装置。
【請求項７】
前記複数の光変調器からの光を合成する合成手段を備え、
該合成手段によって合成された前記複数の光変調器からの光が前記基板のショット領域を照明すること特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載のインプリント装置。
【請求項８】
前記加熱機構は、前記複数の光変調器に異なる波長の光を照射する光源を含み、
前記合成手段は、前記複数の光変調器からの波長が異なる光を合成するビームスプリッタであることを特徴とする請求項７に記載のインプリント装置。
【請求項９】
前記加熱機構は、前記複数の光変調器に異なる偏光方向の光を照射する光源を含み、
前記合成手段は、前記複数の光変調器からの偏光方向が異なる光を合成するビームスプリッタであることを特徴とする請求項７に記載のインプリント装置。
【請求項１０】
前記投影光学系は、前記複数の光変調器のそれぞれと前記基板とは光学的に共役関係であることを特徴とする請求項１乃至９の何れか一項に記載のインプリント装置。
【請求項１１】
前記加熱機構は、
前記複数の光変調器を照射する加熱用光源と、
前記加熱用光源からの光を、前記複数の光変調器に照射されるように分岐させる光学素子と、
前記分岐された光を前記複数の光変調器に照射する照射光学系と、を備えることを特徴とする請求項１乃至１０の何れか一項に記載のインプリント装置。
【請求項１２】
前記加熱機構は、前記基板のショット領域を照射する複数の加熱用光源と、
該複数の加熱用光源からの光のそれぞれを前記複数の光変調器に照射する複数の照射光学系と、を備えることを特徴とする請求項１乃至１０の何れか一項に記載のインプリント装置。
【請求項１３】
型を用いて基板のショット領域にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、
前記基板のショット領域に光を照射することによって、前記基板の形状を変える加熱機構を備え、
前記加熱機構は、それぞれに前記光を反射するミラーが複数配列された光変調器を複数有し、間隔を有するように配置された前記複数の光変調器からの光によって、前記ショット領域を照明することを特徴とするインプリント装置。
【請求項１４】
前記加熱機構は、前記ショット領域を前記複数の光変調器からの光を重ね合わせて照明することを特徴とする請求項１３に記載のインプリント装置。
【請求項１５】
型を用いて基板のショット領域にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、
前記基板のショット領域に光を照射することによって、前記基板の形状を変える加熱機構を備え、
前記加熱機構は、それぞれに前記光を反射するミラーが複数配列された光変調器を複数有し、互いに異なる照射光学系によって光が照射される複数の光変調器からの光によって、前記ショット領域を照明することを特徴とするインプリント装置。
【請求項１６】
型を用いて基板のショット領域にインプリント材のパターンを形成するインプリント方法であって、
前記基板のショット領域を複数の領域に分割して光を照射することによって、前記基板の形状を変える加熱工程を有し、
前記加熱工程は、それぞれに前記光を反射するミラーが複数配列された光変調器を複数有し、間隔を有するように配置された前記複数の光変調器からの光によって、前記複数の基板のショット領域を分割して照射することを特徴とするインプリント方法。
【請求項１７】
型を用いて基板のショット領域にインプリント材のパターンを形成するインプリント方法であって、
前記基板のショット領域に光を照射することによって、前記基板の形状を変える加熱工程を有し、
前記加熱工程は、それぞれに前記光を反射するミラーが複数配列された光変調器を複数有し、間隔を有するように配置された前記複数の光変調器からの光によって、前記ショット領域を照射することを特徴とするインプリント方法。
【請求項１８】
型を用いて基板のショット領域にインプリント材のパターンを形成するインプリント方法であって、
前記基板のショット領域に光を照射することによって、前記基板の形状を変える加熱工程を有し、
前記加熱工程は、それぞれに前記光を反射するミラーが複数配列された光変調器を複数有し、互いに異なる照射光学系によって光が照射される深利変調器からの光によって、前記ショット領域を照明することを特徴とするインプリント方法。
【請求項１９】
請求項１乃至１５の何れか一項に記載のインプリント装置を用いて、前記基板にインプリント材のパターンを形成する工程と、
前記パターンを形成する工程で前記パターンが形成された基板を加工する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
【請求項２０】
原版に形成されたパターンを照明し、原版からの光で基板を露光する露光装置で用いられる光パターン形成装置であって、
前記原版に形成されたパターンを、複数配列された前記光を反射するミラーによって光源からの光に分布を持たせて照明する光変調器を複数備え、
該複数の光変調器からの光は、前記原版に形成されたパターンにおいて互いに異なる領域を照明することを特徴とする光パターン形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明のインプリント装置は、型を用いて基板のショット領域にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、前記基板のショット領域に光を照射することによって、前記基板の形状を変える加熱機構を備え、前記加熱機構は、それぞれに前記光を反射するミラーが複数配列された光変調器を複数有し、間隔を有するように配置された前記複数の光変調器からの光によって、前記ショット領域の互いに異なる領域を照明することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
インプリント装置１は、充填モニタ２７を備えていてもよい。充填モニタ２７は、不図示ではあるが、光源、撮像素子および光学系を備え、型８と基板１１上のインプリント材１４とが接触する際に、パターン部８ａにインプリント材１４が接触する様子を撮像する。充填モニタ２７で型８と基板１１上のインプリント材１４の接触状態を撮像素子により撮像することで、型８と基板１１の間に挟まれた異物を検出することができる。さらに、充填モニタ２７によって接触状態を撮像することで、インプリント装置１は、インプリント材１４の未充填箇所を特定したり、型８と基板１１の相対的な傾きを検出したりすることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
照射光学系６５によって強度が均一化された光は、ＤＭＤ６３を照明する。光変調器としてのＤＭＤ６３に含まれる各マイクロミラーは、図６（Ａ）に示すようにミラー配列面６６に対して＋１２度（ＯＮ状態）、あるいは−１２度（ＯＦＦ状態）の角度で傾く。ここで、ミラー配列面６６を基準として、ＤＭＤ６３への入射角をα、ＤＭＤ６３からの射出角をβ、マイクロミラーの傾きをγとすると、射出角βはβ＝２γ−αで表される。ここでは、配列面に対して時計回りを負、反時計回りを正とする。通常、ＯＮ状態のマイクロミラーで反射された光は、ミラー配列面６６に対して垂直な方向（β＝０度）に射出されるため、ＤＭＤ６３を照明する光の入射角αは、２４度に設定される。ＤＭＤ６３に光が照射されると、反射光は、ＯＮ状態かＯＦＦ状態かによって反射する方向が異なり、ＤＭＤ６３より下流に配置した投影光学系６４のＮＡ内に入射するか否かで、照度分布を形成することができる。ＤＭＤ６３のＯＮ状態のマイクロミラーで反射された光は、投影光学系６４により基板１１に結像される。ここでは、ＤＭＤ６３と基板１１は光学的に共役関係である。照射量制御装置６１は、所望の照度分布が基板側パターン領域に形成されるようにＤＭＤ６３を制御する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７９】
また、上記何れの実施形態の加熱機構６における複数の光変調器（ＤＭＤ６３Ａ、６３Ｂ）は、基板１１上のパターン領域を隣接して分割照明している。しかし、複数の光変調器のそれぞれが、基板１１上のパターン領域を分割せずに照明し、複数の光変調器からの光を重ね合わせて照明してもよい。一つの光変調器のみを用いて照明する場合と比較して、複数の光変調器を用いる場合は、一つの光変調器に照射される光の照射量が減るので、光変調器の劣化を低減することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８６】
図１０（ｄ）に示すように、インプリント材３ｚを硬化させた後、型４ｚと基板１ｚを引き離すと、基板１ｚ上にインプリント材３ｚの硬化物のパターンが形成される。この硬化物のパターンは、型の凹部が硬化物の凸部に、型の凸部が硬化物の凹部に対応した形状になっており、即ち、インプリント材３ｚに型４ｚの凹凸パターンが転写されたことになる。