Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月21日(2020.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式：Ａｂ−（Ｌ−Ｄ）
[式中：
（ａ）Ａｂは、ＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ：３、７、および１１として示されている３個のＣＤＲを含む重鎖可変領域、ならびにＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ：１７、１９、および２１として示されている３個のＣＤＲを含む軽鎖可変領域含む、タンパク質チロシンキナーゼ７（ＰＴＫ７）に結合する抗体またはその抗原結合断片であり；そして
（ｂ）Ｌ−Ｄは、リンカー−薬物部分であり、ここでＬはリンカーであり、Ｄはオーリスタチンである]
の抗体−薬物コンジュゲート。
【請求項２】
抗体が、ＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ：１として示されている重鎖可変領域およびＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ：１５として示されている軽鎖可変領域を含む、請求項１に記載の抗体−薬物コンジュゲート。
【請求項３】
抗体が、ＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ：１３として示されている重鎖およびＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ：２３として示されている軽鎖を含む、請求項１に記載の抗体−薬物コンジュゲート。
【請求項４】
リンカーが、マレイミドカプロイル−バリン−シトルリン−ｐ−アミノベンジルオキシカルボニル（ｖｃ）およびマレイミドカプロイル（ｍｃ）からなる群から選択される、請求項１〜３のいずれか１項に記載の抗体−薬物コンジュゲート。
【請求項５】
リンカーが、マレイミドカプロイル−バリン−シトルリン−ｐ−アミノベンジルオキシカルボニル（ｖｃ）である、請求項４に記載の抗体−薬物コンジュゲート。
【請求項６】
リンカーが、マレイミドカプロイル（ｍｃ）である、請求項４に記載の抗体−薬物コンジュゲート。
【請求項７】
オーリスタチンが、式：
【化１】
2020055846.tif 000001
を有する０１０１である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の抗体−薬物コンジュゲート。
【請求項８】
リンカーおよびオーリスタチンが、式：
【化２】
2020055846.tif 000002
を有するｖｃ０１０１である、請求項７に記載の抗体−薬物コンジュゲート。
【請求項９】
オーリスタチンが、式：
【化３】
2020055846.tif 000003
を有する８２６１である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の抗体−薬物コンジュゲート。
【請求項１０】
リンカーおよびオーリスタチンが、式：
【化４】
2020055846.tif 000004
を有するｍｃ８２６１である、請求項９に記載の抗体−薬物コンジュゲート。
【請求項１１】
抗体−薬物コンジュゲートが、１〜８のＤＡＲを有する、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の抗体−薬物コンジュゲート。
【請求項１２】
式：Ａｂ−（Ｌ−Ｄ）
[式中：
（ａ）Ａｂは、ＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ：１３として示されている重鎖およびＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ：２３として示されている軽鎖を含む、タンパク質チロシンキナーゼ７（ＰＴＫ７）に結合する抗体であり；そして
（ｂ）Ｌ−Ｄは、リンカー−薬物部分であり、ここで、Ｌはリンカーであり、Ｄはオーリスタチンであり、ここで、該リンカーは、マレイミドカプロイル−バリン−シトルリン−ｐ−アミノベンジルオキシカルボニル（ｖｃ）であり、該オーリスタチンは、式：
【化５】
2020055846.tif 000005
を有する０１０１である]
の抗体−薬物コンジュゲートであって、
該抗体−薬物コンジュゲートが、１〜８のＤＡＲを有する、上記抗体−薬物コンジュゲート。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の抗体−薬物コンジュゲートおよび薬学的に許容可能なキャリヤーを含む、医薬組成物。
【請求項１４】
癌の処置のための請求項１３に記載の医薬組成物。
【請求項１５】
癌が、トリプルネガティブ乳癌（ＴＮＢＣ）、プロゲステロン受容体陽性乳癌（ＰＲ＋）、エストロゲン受容体陽性乳癌（ＥＲ＋）及びダブルポジティブ乳癌のような乳癌；卵巣癌；結腸直腸癌；食道癌；胃癌；黒色腫；肉腫；腎臓癌；膵臓癌；前立腺癌；肝細胞癌（ＨＣＣ）のような肝臓癌；非小細胞肺癌（ＮＳＣＬＣ）のような肺癌；又は成人骨髄性白血病（ＡＭＬ）若しくは急性リンパ芽球性白血病（ＡＬＬ）のような白血病である、請求項１４に記載の医薬組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３０３】
併用療法に有用な代表的な薬剤は、本明細書において上記で副見出し“薬物”の下でＰＴＫ７抗体−薬物コンジュゲートの調製に有用であるものとして記載された薬物の全てを含む。本発明のＰＴＫ７抗体−薬物コンジュゲートは、開示された抗ＰＴＫ７抗体以外の抗ＰＴＫ７抗体ならびに異なる抗原を標的とする抗体およびコンジュゲートを含め、他の療法用抗体および抗体−薬物コンジュゲートとの組み合わせで用いられることもできる。単独でまたは抗体−薬物コンジュゲートとして用いられることができる代表的な抗体は、抗５Ｔ４抗体（例えばＡ１、Ａ２、およびＡ３）、抗ＣＤ１９抗体、抗ＣＤ２０抗体（例えばＲＩＴＵＸＡＮ（登録商標）、ＺＥＶＡＬＩＮ（登録商標）、ＢＥＸＸＡＲ（登録商標））、抗ＣＤ２２抗体、抗ＣＤ３３抗体、抗ＣＤ３３抗体−薬物コンジュゲート（例えばＭＹＬＯＴＡＲＧ（登録商標））、抗ルイスＹ抗体（例えばＨｕ３Ｓ１９３、Ｍｔｈｕ３Ｓ１９３、ＡＧｍｔｈｕ３Ｓ１９３）、抗ＨＥＲ−２抗体（例えばＨＥＲＣＥＰＴＩＮ（登録商標）（トラスツズマブ）、ＭＤＸ−２１０、ＯＭＮＩＴＡＲＧ（登録商標）（ペルツズマブ、ｒｈｕＭＡｂ  ２Ｃ４））、抗ＣＤ５２抗体（例えばＣＡＭＰＡＴＨ（登録商標））、抗ＥＧＦＲ抗体（例えばＥＲＢＩＴＵＸ（登録商標）（セツキシマブ）、ＡＢＸ−ＥＧＦ（パニツムマブ））、抗ＶＥＧＦ抗体（例えばＡＶＡＳＴＩＮ（登録商標）（ベバシズマブ））、抗ＤＮＡ／ヒストン複合体抗体（例えばｃｈ−ＴＮＴ−１／ｂ）、抗ＣＥＡ抗体（例えばＣＥＡ−Ｃｉｄｅ、ＹＭＢ−１００３）ｈＬＭ６０９、抗ＣＤ４７抗体（例えば６Ｈ９）、抗ＶＥＧＦＲ２（またはキナーゼ挿入ドメイン含有受容体、ＫＤＲ）抗体（例えばＩＭＣ−１Ｃ１１）、抗Ｅｐ−ＣＡＭ抗体（例えばＩＮＧ−１）、抗ＦＡＰ抗体（例えばシブロツヅマブ）、抗ＤＲ４抗体（例えばＴＲＡＩＬ−Ｒ）、抗プロゲステロン受容体抗体（例えば２Ｃ５）、抗ＣＡ１９．９抗体（例えばＧＩＶＡＲＥＸ（登録商標））および抗フィブリン抗体（例えばＭＨ−１）を含む。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３９９】
方法Ｄ：カラム：Ｐｈｅｎｏｍｅｎｅｘ  Ｓｙｎｅｒｇｉ  Ｍａｘ−ＲＰ、１５０×２１．２ｍｍ、４ｐｍ；移動相Ａ：水中０．１％ギ酸；移動相Ｂ：アセトニトリル中０．１％ギ酸；勾配：１．５分間３０％Ｂ、８．５分間かけて３０％〜６０％Ｂ、０．５分間かけて６０〜１００％Ｂ、次いで２分間かけて１００％Ｂ；流速：２７ｍＬ／分；検出：ＤＡＤ  ２１０〜３６０ｎｍ；ＭＳ（＋）範囲１５０〜２０００ダルトン；機器：Ｗａｔｅｒｓ  ＦｒａｃｔｉｏｎＬｙｎｘ。
【手続補正書】
【提出日】令和2年3月25日(2020.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アセクリジン並びに、
アニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤及びその組合せからなる群から選択される界面活性剤を含む、
老視を治療するための眼科用組成物。
【請求項２】
アセクリジン、
粘度強化剤並びに、
アニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤及びその組合せからなる群から選択される界面活性剤を含む、
請求項１に記載の老視を治療するための眼科用組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月29日(2020.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方を他方の後に、別々に連続して投与することによる癌の処置において使用するための、
ヒトＣＥＡＣＡＭ１へのモノクローナル抗体を含む医薬組成物；および 
ヒトＰＤ−１へのモノクローナル抗体を含む医薬組成物であって、
前記モノクローナル抗体は、ヒトＰＤ−１とそのリガンドとの相互作用を阻害または遮断することが可能であり、
前記ヒトＣＥＡＣＡＭ１へのモノクローナル抗体は、
ＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ：１に示される配列を含む重鎖ＣＤＲ１、
ＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ：２に示される配列を含む重鎖ＣＤＲ２、
ＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ：３に示される配列を含む重鎖ＣＤＲ３、
ＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ：４に示される配列を含む軽鎖ＣＤＲ１、
ＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ：５に示される配列を含む軽鎖ＣＤＲ２、および
ＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ：６に示される配列を含む軽鎖ＣＤＲ３を有する、
医薬組成物。
【請求項２】
前記ヒトＣＥＡＣＡＭ１へのモノクローナル抗体は、ヒトＣＥＡＣＡＭ１に対して少なくとも約１０−８Ｍの親和性で結合する、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】
前記ヒトＣＥＡＣＡＭ１へのモノクローナル抗体は、ヒトＣＥＡＣＡＭ３およびヒトＣＥＡＣＡＭ５のうちの少なくとも一方に対して少なくとも約５×１０−７Ｍの親和性で結合する、請求項２に記載の医薬組成物。
【請求項４】
前記ヒトＣＥＡＣＡＭ１へのモノクローナル抗体は、ＣＭ−２４である、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項５】
前記ヒトＰＤ−１へのモノクローナル抗体が、ＭＫ−３４７５、ＡＭＰ５１４、ＢＭＳ−９３６５５８、ＣＴ−０１１、それらの抗原結合断片、およびそれらの任意の組合わせからなる群から選択される、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項６】
前記モノクローナル抗体が、ヒトまたはヒト化モノクローナル抗体である、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項７】
ヒトリンパ球細胞をさらに含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項８】
前記癌が、黒色腫、リンパ腫、肺癌、甲状腺癌、乳癌、結腸癌、前立腺癌、肝臓癌、膀胱癌、腎臓癌、子宮頸癌、膵臓癌、白血病、骨髄腫、卵巣癌、子宮癌、肉腫、胆道癌、および子宮内膜細胞癌からなる群から選択される、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項９】
前記ヒトＰＤ−Ｌ１へのモノクローナル抗体が、前記ヒトＣＥＡＣＡＭ１へのモノクローナル抗体の前に前記患者に投与される、請求項１〜８のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
前記ヒトＰＤ−Ｌ１へのモノクローナル抗体が、前記ヒトＣＥＡＣＡＭ１へのモノクローナル抗体の後に前記患者に投与される、請求項１１に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月12日(2020.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光増感剤（A）と、二重結合を有する化合物（B）と、酸化還元触媒（C）と、有機還元剤（D）とを含んでなる重合性組成物。
【請求項２】
光増感剤（A）が、２００〜９００ｎｍ領域の光吸収性を有することを特徴とする、請求項１記載の重合性組成物。
【請求項３】
二重結合を有する化合物（B）が、アクリロイル基および／またはメタアクリロイル基を有する化合物を含むことを特徴とする請求項１または２記載の重合性組成物。
【請求項４】
光増感剤（A）が、キサンテン誘導体を含む、請求項１〜３いずれか記載の重合性組成物。
【請求項５】
光増感剤（A）が、下記一般式（１）および／または下記一般式（２）で表される化合物を含む、請求項１〜４いずれか記載の重合性組成物。
【化１】
2020055960.tif 000001
（一般式（１）中、Ｒ1〜Ｒ10は、それぞれ独立に、水素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ニトロ基またはアミノ基を表す。）
【化２】
2020055960.tif 000002
（一般式（２）中、Ｒ11〜Ｒ20は、それぞれ独立に、水素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ニトロ基またはアミノ基を表し、Ｌ+は、任意のカチオンを表す。）
【請求項６】
請求項１〜５いずれか記載の重合性組成物の重合物。
【手続補正書】
【提出日】令和2年3月25日(2020.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
射出用シリンダ内に挿入され、軸方向に沿って移動が可能なスクリュと、
前記スクリュを移動させるモータと、
前記モータのトルクを検出するトルク検出部と、
前記スクリュの位置を検出する位置検出部と、
制限トルクを超えないようにトルク制限を行って前記モータを駆動して、前記スクリュを射出方向の最前位置まで前進させるモータ駆動制御部と、
前記スクリュが前記最前位置まで前進している最中に、前記スクリュの移動速度が所定速度以下となった場合には、前記射出用シリンダ内に未溶融樹脂が残存していると判定する判定部と、
を備える、射出成形機。
【請求項２】
請求項１に記載の射出成形機であって、
前記判定部は、前記スクリュが前記最前位置まで前進している最中に、前記モータのトルクが前記制限トルクとなり、且つ、前記スクリュの移動速度が前記所定速度以下となった場合には、前記射出用シリンダ内に前記未溶融樹脂が残存していると判定する、射出成形機。
【請求項３】
射出用シリンダ内に挿入され、軸方向に沿って移動が可能なスクリュと、
前記スクリュを移動させるモータと、
前記モータのトルクを検出するトルク検出部と、
前記スクリュの位置を検出する位置検出部と、
前記モータを駆動して、前記スクリュを射出方向の最前位置まで前進させるモータ駆動制御部と、
前記スクリュが前記最前位置まで前進する最中に、前記モータのトルクが制限トルク以上になった場合には、前記射出用シリンダ内に未溶融樹脂が残存していると判定する判定部と、
を備える、射出成形機。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の射出成形機であって、
前記モータ駆動制御部は、前記未溶融樹脂が残存していると判定されると前記モータの駆動を停止させる、射出成形機。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の射出成形機であって、
前記未溶融樹脂が残存していると判定されると、前記未溶融樹脂が残存している旨を報知する報知部をさらに備える、射出成形機。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の射出成形機であって、
前記射出用シリンダ内の樹脂を加熱するヒータを備え、
前記モータ駆動制御部は、前記ヒータによる加熱の停止後であって、前記ヒータによる加熱の再開が行われた場合において、前記モータを駆動して前記スクリュを前記最前位置まで前進させる、
射出成形機。
【請求項７】
射出用シリンダ内に挿入され、軸方向に沿って移動が可能なスクリュと、
前記スクリュを移動させるモータと、
前記モータのトルクを検出するトルク検出部と、
前記スクリュの位置を検出する位置検出部と、
を備える、射出成形機の前記スクリュの移動を制御するスクリュ制御方法であって、
制限トルクを超えないようにトルク制限を行って前記モータを駆動して、前記スクリュを射出方向の最前位置まで前進させるモータ駆動制御ステップと、
前記スクリュが前記最前位置まで前進している最中に、前記スクリュの移動速度が所定速度以下となった場合には、前記射出用シリンダ内に未溶融樹脂が残存していると判定する判定ステップと、
を含む、射出成形機のスクリュ制御方法。
【請求項８】
請求項７に記載の射出成形機のスクリュ制御方法であって、
前記判定ステップは、前記スクリュが前記最前位置まで前進している最中に、前記モータのトルクが前記制限トルクとなり、且つ、前記スクリュの移動速度が前記所定速度以下となった場合には、前記射出用シリンダ内に前記未溶融樹脂が残存していると判定する、射出成形機のスクリュ制御方法。
【請求項９】
射出用シリンダ内に挿入され、軸方向に沿って移動が可能なスクリュと、
前記スクリュを移動させるモータと、
前記モータのトルクを検出するトルク検出部と、
前記スクリュの位置を検出する位置検出部と、
を備える、射出成形機の前記スクリュの移動を制御するスクリュ制御方法であって、
前記モータを駆動して、前記スクリュを射出方向の最前位置まで前進させるモータ駆動制御ステップと、
前記スクリュが前記最前位置まで前進する最中に、前記モータのトルクが制限トルク以上になった場合には、前記射出用シリンダ内に未溶融樹脂が残存していると判定する判定ステップと、
を含む、射出成形機のスクリュ制御方法。
【請求項１０】
請求項７〜９のいずれか１項に記載の射出成形機のスクリュ制御方法であって、
前記モータ駆動制御ステップは、前記未溶融樹脂が残存していると判定されると前記モータの駆動を停止させる、射出成形機のスクリュ制御方法。
【請求項１１】
請求項７〜１０のいずれか１項に記載の射出成形機のスクリュ制御方法であって、
前記未溶融樹脂が残存していると判定されると、前記未溶融樹脂が残存している旨を報知する報知ステップをさらに含む、射出成形機のスクリュ制御方法。
【請求項１２】
請求項７〜１１のいずれか１項に記載の射出成形機のスクリュ制御方法であって、
前記射出成形機は、前記射出用シリンダ内の樹脂を加熱するヒータを備え、
前記モータ駆動制御ステップは、前記ヒータによる加熱の停止後であって、前記ヒータによる加熱の再開が行われた場合において、前記モータを駆動して前記スクリュを前記最前位置まで前進させる、射出成形機のスクリュ制御方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月21日(2020.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円柱状の光学的な対象物の半径方向の屈折率プロファイルを求める方法であって、前記光学的な対象物は、円柱−長手方向軸線を有しており、前記円柱−長手方向軸線を中心に、半径方向に対称に、層半径ｒｋと層屈折率ｎｋとを有する少なくとも１つの層ｋが延在し、偏向角度分布Ψ(y)が測定され、前記偏向角度分布から、モデルに基づいて前記屈折率プロファイルが再構築され、偏向角度Ψは、前記長手方向軸線に垂直な面における、前記光学的な対象物からの出射ビームと前記光学的な対象物への入射ビームとの間の角度として規定されており、前記面は、前記出射ビームおよび前記入射ビームを備え、、前記出射ビームおよび前記入射ビームを備える前記面におけるｙは、前記光学的な対象物への前記入射ビームの入射点と前記長手方向軸線を通り前記入射ビームに平行な線との間の間隔として規定されている方法において、
前記モデルは、以下の措置、すなわち、
（ａ）前記偏向角度分布の極値特定を含んでいる、測定された前記偏向角度分布Ψ(y)の処理であって、ここで、処理された偏向角度分布Ψ’(y)が得られ、
（ｂ）前記処理された偏向角度分布Ψ’(y)の、処理された屈折率プロファイルｎ’(r)への変換
（ｃ）前記層半径に対するオリエンテーション値ｒ＊ｋと、仮説の屈折率プロファイルｎ＊(r)の前記層屈折率に対するオリエンテーション値ｎ＊ｋと、を含む、オリエンテーション値を定めるための、前記処理された屈折率プロファイルｎ’(r)の評価
（ｄ）前記オリエンテーション値ｒ＊ｋおよびｎ＊ｋを有する前記仮説の屈折率プロファイルｎ＊(r)をベースにした、シミュレートされた偏向角度分布Ψ’’(y)の作成およびシミュレートされた屈折率プロファイルｎ’’(r)への前記偏向角度分布の変換
（ｅ）措置（ｄ）での前記パラメータｒ＊ｋとｎ＊ｋとの繰り返しの整合による、前記シミュレートされた屈折率プロファイルｎ’’(r)の、前記処理された屈折率プロファイルｎ’(r)へのフィットであって、ここで、フィットされた、シミュレートされた屈折率プロファイルｎ＊(r)ｆｉｔが得られ、前記屈折率プロファイルは、整合されたパラメータｒ＊ｋ，ｆｉｔおよびｎ＊ｋ,ｆｉｔによって規定されており、
（ｆ）前記整合されたパラメータｒ＊ｋ，ｆｉｔおよびｎ＊ｋ，ｆｉｔを有する前記仮説の屈折率プロファイルとしての、前記屈折率プロファイルの取得
を含んでいる、
方法。
【請求項２】
措置（ａ）の前記極値特定は、複数の種々の平滑化パラメータを用いたスプライン関数を用いた、前記測定された偏向角度の平滑化である、
請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記極値特定では、最も内側の右側の極値ｙｋ，ｒｅｃｈｔｓと、最も内側の左側の極値ｙｋ，ｌｉｎｋｓと、が求められる、
請求項２記載の方法。
【請求項４】
措置（ｃ）に従った前記処理された屈折率プロファイルｎ’(r)の前記評価時に、前記求められた極値ｙｋ，ｒｅｃｈｔｓとｙｋ，ｌｉｎｋｓとが、前記オリエンテーション値ｒ＊ｋを定めるために使用される、
請求項３記載の方法。
【請求項５】
前記求められた極値ｙｋ，ｒｅｃｈｔｓとｙｋ，ｌｉｎｋｓとが、層半径ｒｋ，ｒｅｃｈｔｓまたはｒｋ，ｌｉｎｋｓに再計算され、前記層半径が、前記オリエンテーション値ｒ＊ｋを定めるために使用される、
請求項２記載の方法。
【請求項６】
前記測定された偏向角度分布の前記処理は、修正を含んでおり、前記修正では、前記偏向角度分布の原点が調整される、
請求項１から５までのいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
前記偏向角度分布の前記原点の調整は、座標系のｙ軸方向における、前記屈折率プロファイルの最も内側の右側の極値ｙｋ，ｒｅｃｈｔｓと、最も内側の左側の極値ｙｋ，ｌｉｎｋｓと、の間の中心へのシフトを含んでいる、
請求項５と請求項３または４のいずれか１項とに記載の方法。
【請求項８】
前記偏向角度分布の前記原点の調整は、座標系のｚ軸方向におけるオフセット分のシフトを含んでおり、前記オフセットは、最小二乗和法によって最も内側の右側の極値ｙｋ，ｒｅｃｈｔｓと、最も内側の左側の極値ｙｋ，ｌｉｎｋｓと、の間の中心にフィットされた直線と前記座標系のゼロ線との間の位置の差として計算される、
請求項５または６記載の方法。
【請求項９】
措置（ｂ）での前記処理された屈折率プロファイルｎ’(r)の前記変換を、アーベル変換を用いて行う、
請求項１から８までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
「最小絶対残差」または「最小二乗法」に基づいて計算された、前記シミュレートされた屈折率プロファイルｎ’’(r)と、前記処理された屈折率プロファイルｎ’(r)と、の間の偏差が、所定の閾値を下回っている場合、フィットされた、シミュレートされた屈折率プロファイルｎ＊（ｒ）ｆｉｔが存在する、
請求項１から９までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１１】
ステップ（ｅ）による、前記シミュレートされた屈折率プロファイルｎ’’(r)の、前記処理された屈折率プロファイルｎ’(r)へのフィットに加えて、付加的に、措置（ｄ）の際に、前記パラメータｒ＊ｋおよびｎ＊ｋの繰り返しの整合によって、前記シミュレートされた偏向角度分布Ψ＊(y)が、前記処理された偏向角度分布Ψ’(y)へフィットされ、ここで、フィットされた、シミュレートされた偏向角度分布Ψ’＊(y)ｆｉｔが得られ、前記偏向角度分布は、整合されたパラメータｒ’＊ｋ，ｆｉｔおよびｎ’＊ｋ，ｆｉｔによって規定されており、ここで、重み付け係数Ｇを有する、前記フィットされた、シミュレートされた屈折率プロファイルｎ＊(r)ｆｉｔが、重み付け係数（１−Ｇ）を有する、前記フィットされた、シミュレートされた偏向角度分布Ψ’＊(y)ｆｉｔと組み合わされることによって前記屈折率プロファイルがステップ（ｆ）に従って得られ、ここで０≦Ｇ≦１が有効である、
請求項１から１０までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１２】
前記実際の屈折率プロファイルｎ(r)の再構築時に求められたパラメータ、特に前記整合されたパラメータｒ＊ｋ，ｆｉｔおよびｎ＊ｋ,ｆｉｔが、プリフォーム製造プロセスの整合のために使用される、
請求項１から１１までのいずれか１項記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月25日(2020.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メモリモジュール内のデータチップであって、
データアレイと、
前記データアレイから未加工データを読み出す読出し回路と、
前記読出し回路によって前記データアレイからの前記未加工データを格納するバッファと、
複数の「０」及び複数の「１」の両方を含む汚染パターンを格納するマスクレジスターと、
前記マスクレジスターに格納された前記汚染パターンを利用して前記バッファに格納された前記未加工データを修正して汚染されたデータを生成するデータ汚染エンジンと、
前記バッファから前記汚染されたデータを伝送する伝送回路と、を備えることを特徴とするデータチップ。
【請求項２】
前記データチップは、ＤＲＡＭモジュール（ｄｙｎａｍｉｃ  ｒａｎｄｏｍ  ａｃｃｅｓｓ  ｍｅｍｏｒｙ  ｍｏｄｕｌｅ）に含まれることを特徴とする請求項１に記載のデータチップ。
【請求項３】
前記バッファに格納された前記未加工データに対してエラー訂正を遂行するＥＣＣ回路を更に含み、
前記データ汚染エンジンは、前記ＥＣＣ回路が前記バッファに格納された前記未加工データ内のエラーを検出するが訂正できない場合、前記マスクレジスターに格納された前記汚染パターンを利用して前記バッファに格納された前記未加工データを修正することを特徴とする請求項１に記載のデータチップ。
【請求項４】
前記データ汚染エンジンは、前記データ汚染エンジンがメモリコントローラからメモリコントローラ非活性化信号を受信しない限り、前記マスクレジスターに格納された前記汚染パターンを利用して前記バッファに格納された前記未加工データを修正することを特徴とする請求項１に記載のデータチップ。
【請求項５】
前記汚染パターンは、ブートアップ（ｂｏｏｔ  ｕｐ）の時に、メモリコントローラによって前記マスクレジスター内にプログラムされることを特徴とする請求項１に記載のデータチップ。
【請求項６】
前記汚染されたデータは、メモリコントローラによる前記未加工データのエラーの検出及び訂正をサポートすることを特徴とする請求項１に記載のデータチップ。
【請求項７】
前記データチップは、ダイナミックランダムアクセスメモリ（ＤＲＡＭ）モジュールに含まれ、
前記ＤＲＡＭモジュールには、他の複数のデータチップを含み、
前記データチップの前記マスクレジスターに格納されている前記汚染パターンは、前記ＤＲＡＭモジュール内の他の複数のデータチップに格納されている汚染パターンとは異なることを特徴とする請求項１に記載のデータチップ。
【請求項８】
前記伝送回路は、前記汚染されたデータをメモリコントローラに送信するように動作することを特徴とする請求項１に記載のデータチップ。
【請求項９】
前記データ汚染エンジンは、前記バッファに格納された前記未加工データ及び前記マスクレジスターに格納された前記汚染パターンに対してＸＯＲ演算を実行するためのＸＯＲ回路を含むことを特徴とする請求項１に記載のデータチップ。
【請求項１０】
前記汚染パターンは、前記マスクレジスターに格納されている複数の事前プログラムされた汚染パターンの内の１つであり、
前記データチップは、メモリコントローラから、使用する前記汚染パターンの識別子を前記マスクレジスターから受け取ることを特徴とする請求項１に記載のデータチップ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ＤＤＲバスを通じてＤＲＡＭ内のＥＣＣ情報を伝達するデータチップ
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、メモリモジュールに関し、より詳細には、メモリモジュール内のデータチップの数の増加無しにエラー訂正能力を提供するデータチップに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
本発明は上記従来の問題点に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、ＤＤＲバスを通じてＤＲＡＭ内のＥＣＣ情報を伝達するデータチップを提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記目的を達成するためになされた本発明の一態様によるメモリモジュール内のデータチップは、データアレイ（ｄａｔａ  ａｒｒａｙ）と、前記データアレイから未加工データ（ｒａｗ  ｄａｔａ）を読み出す読出し回路と、前記読出し回路によって前記データアレイからの前記未加工データを格納するバッファ（ｂｕｆｆｅｒ）と、複数の「０」及び複数の「１」の両方を含む汚染パターンを格納するマスクレジスター（ｍａｓｋ  ｒｅｇｉｓｔｅｒ）と、前記マスクレジスターに格納された前記汚染パターンを利用して前記バッファに格納された前記未加工データを修正して汚染されたデータを生成するデータ汚染エンジン（ｄａｔａ  ｐｏｌｌｕｔｉｏｎ  ｅｎｇｉｎｅ）と、前記バッファから前記汚染されたデータを伝送する伝送回路と、を備える。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】令和2年1月14日(2020.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロセッサ及びメモリを備え、複数の工程を実施することにより生産される製品の生産を支援する生産支援システムであって、
前記製品と各前記工程との実施時期との間の関係である工程知識情報と所定の指標とに基づき前記各工程の実施時期に関する情報である理想計画を第一の工程順で作成する理想計画作成部と、
前記各工程に課される制約又は条件である制約条件に基づき、前記各工程の実施時期に関する情報である複数の計画候補を前記第一の工程順とは逆方向の工程の順序で生成する計画候補立案部と、
前記理想計画と前記複数の計画候補のそれぞれとの類似度を比較し、当該理想計画との類似度が最も高い前記計画候補を実行計画として選定する計画候補選択部と、
それぞれが各々の機械学習技術を用いる２種類の異なるタイプの学習器を備える学習部と、
前記各工程に応じて前記２種類の異なるタイプの学習器のうちの一つを選択する学習方式選択部とを備え、
前記学習部は、選択されたタイプの学習器の各々の機械学習技術に基づき、選定された実行計画に応じて、前記工程知識情報を更新する、
生産支援システム。
【請求項２】
前記理想計画作成部は、前工程の前記理想計画に基づき後工程の前記理想計画を作成する前記第一の工程順で前記各工程の理想計画を作成し、
前記計画候補立案部は、後工程の前記計画候補に基づき前工程の前記計画候補を作成する前記第一の工程順とは逆方向の順序で前記各工程の複数の計画候補を作成する、
ことを特徴とする請求項１に記載の生産支援システム。
【請求項３】
前記理想計画作成部は、前工程の前記理想計画に基づき後工程の前記理想計画を作成する前記第一の工程順で前記各工程の理想計画を作成し、
前記計画候補立案部は、前工程の前記計画候補に基づき後工程の前記計画候補を作成する前記第一の工程順とは逆方向の順序で前記各工程の複数の計画候補を作成する、
ことを特徴とする請求項１に記載の生産支援システム。
【請求項４】
前記計画候補選択部は、外部からの入力情報に基づき、前記理想計画との類似度が最も高い計画候補を前記実行計画として選定することを特徴とする請求項１に記載の生産支援システム。
【請求項５】
前記理想計画作成部は、さらに、生産される前記製品の情報である注文情報に基づき、前記理想計画を作成することを特徴とする請求項１に記載の生産支援システム。
【請求項６】
前記理想計画を前記工程ごとに記憶する理想計画ＤＢと、前記計画候補を前記工程ごとに記憶する計画候補ＤＢとを有することを特徴とする請求項１に記載の生産支援システム。
【請求項７】
前記所定の指標は、前記製品の生産量又は前記製品の生産完了時期に関する情報であることを特徴とする請求項１に記載の生産支援システム。
【請求項８】
複数の工程を実施することにより生産される製品の生産を支援する生産支援方法であって、
プロセッサ及びメモリを備える情報処理装置が、
前記製品と各前記工程との実施時期との間の関係である工程知識情報と所定の指標とに基づき前記各工程の実施時期に関する情報である理想計画を第一の工程順で作成する理想計画作成処理と、
前記各工程に課される制約又は条件である制約条件に基づき、前記各工程の実施時期に関する情報である複数の計画候補を前記第一の工程順とは逆方向の工程の順序で生成する計画候補立案処理と、
前記理想計画と前記複数の計画候補のそれぞれとの類似度を比較し、当該理想計画との類似度が最も高い前記計画候補を実行計画として選定する計画候補選択処理と、
前記各工程に応じて、それぞれが各々の機械学習技術を用いる２種類の異なるタイプの学習器のうちの一つを選択する処理と、
選択されたタイプの学習器の各々の機械学習技術に基づき、選定された実行計画に応じて前記工程知識情報を更新する学習処理と、
を実行することを特徴とする生産支援方法。
【請求項９】
前記理想計画作成処理は、前工程の前記理想計画に基づき後工程の前記理想計画を作成する前記第一の工程順で前記各工程の理想計画を作成し、
前記計画候補立案処理は、後工程の前記計画候補に基づき前工程の前記計画候補を作成する前記第一の工程順とは逆方向の順序で前記各工程の複数の計画候補を作成する、
ことを特徴とする請求項８に記載の生産支援方法。
【請求項１０】
前記理想計画作成処理は、後工程の前記理想計画に基づき前工程の前記理想計画を作成する前記第一の工程順で前記各工程の理想計画を作成し、
前記計画候補立案処理は、後工程の前記計画候補に基づき前工程の前記計画候補を作成する前記第一の工程順とは逆方向の順序で前記各工程の複数の計画候補を作成する、
ことを特徴とする請求項８に記載の生産支援方法。
【請求項１１】
前記計画候補選択処理は、外部からの入力情報に基づき、前記理想計画との類似度が最も高い計画候補を前記実行計画として選定することを特徴とする請求項８に記載の生産支援方法。
【請求項１２】
前記情報処理装置は、生産される前記製品の情報である注文情報に基づき、前記理想計画を作成する最終／最初工程理想計画作成処理を実行することを特徴とする請求項８に記載の生産支援方法。
【請求項１３】
前記情報処理装置は、前記理想計画を前記工程ごとに記憶する理想計画ＤＢと、前記計画候補を前記工程ごとに記憶する計画候補ＤＢとを備えることを特徴とする請求項８に記載の生産支援方法。
【請求項１４】
前記所定の指標は、前記製品の生産量又は前記製品の生産完了時期に関する情報であることを特徴とする請求項８に記載の生産支援方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月3日(2019.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像から所定の被写体を検出する検出手段と、
ユーザにより指定された所定の期間において撮像された第１画像から前記検出手段により検出された所定の被写体の位置に基づき、当該所定の期間と異なる期間において撮像された第２画像から前記検出手段により検出された所定の被写体に対する所定の処理の実行を制御する制御手段と、を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記所定の期間において撮像された前記第１画像から前記検出手段により検出された所定の被写体の位置と該所定の被写体のサイズとに基づき、当該所定の期間と異なる期間において撮像された第２画像から前記検出手段により検出された所定の被写体に対する前記所定の処理の実行を制御することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記第１画像から検出された所定の被写体の位置と、前記第２画像から検出された所定の被写体の位置との間の距離が所定値以上の場合、該第２画像から検出された所定の被写体に対して前記所定の処理を実行するよう制御することを特徴とする請求項１又は２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記第１画像から前記検出手段により検出された所定の被写体の位置を記憶する記憶手段を更に有し、
前記制御手段は、前記記憶手段により記憶された所定の被写体の位置に基づき、前記第２画像から検出された所定の被写体に対する前記所定の処理の実行を制御することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記所定の処理を実行する処理手段を更に有し、
前記処理手段は、前記第２画像から検出された所定の被写体に対し前記所定の処理を実行するよう前記制御手段により制御された場合、該所定の被写体に対し該所定の処理を実行することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記第２画像から検出された所定の被写体に対する前記所定の処理は、該所定の被写体の年齢又は性別を推定する処理、該被写体が予め登録された被写体かを推定する処理、または、該所定の被写体をカウント対象に含める処理であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記検出手段は所定の被写体として人物を検出することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項８】
画像から所定の被写体を検出する検出工程と、
ユーザにより指定された所定の期間において撮像された第１画像から前記検出工程において検出された所定の被写体の位置に基づき、当該所定の期間と異なる期間において撮像された第２画像から前記検出工程において検出された所定の被写体に対する所定の処理の実行を制御する制御工程と、を有することを特徴とする画像処理装置の制御方法。
【請求項９】
前記制御工程において、前記所定の期間において撮像された前記第１画像から前記検出工程において検出された所定の被写体の位置と該所定の被写体のサイズとに基づき、当該所定の期間と異なる期間において撮像された第２画像から前記検出工程において検出された所定の被写体に対する前記所定の処理の実行を制御することを特徴とする請求項８に記載の制御方法。
【請求項１０】
前記制御工程において、前記第１画像から検出された所定の被写体の位置と、前記第２画像から検出された所定の被写体の位置との間の距離が所定値以上の場合、該第２画像から検出された所定の被写体に対して前記所定の処理を実行するよう制御することを特徴とする請求項８又は９に記載の制御方法。
【請求項１１】
前記第１画像から前記検出工程において検出された所定の被写体の位置を記憶する記憶工程を更に有し、
前記制御工程において、前記記憶工程において記憶された所定の被写体の位置に基づき、前記第２画像から検出された所定の被写体に対する前記所定の処理の実行を制御することを特徴とする請求項８乃至１０のいずれか１項に記載の制御方法。
【請求項１２】
前記所定の処理を実行する処理工程を更に有し、
前記処理工程において、前記第２画像から検出された所定の被写体に対し前記所定の処理を実行するよう前記制御工程において制御された場合、該所定の被写体に対し該所定の処理を実行することを特徴とする請求項８乃至１１のいずれか１項に記載の制御方法。
【請求項１３】
前記第２画像から検出された所定の被写体に対する前記所定の処理は、該所定の被写体の年齢又は性別を推定する処理、該被写体が予め登録された被写体かを推定する処理、または、該所定の被写体をカウント対象に含める処理であることを特徴とする請求項８乃至１２のいずれか１項に記載の制御方法。
【請求項１４】
前記検出工程において、所定の被写体として人物を検出することを特徴とする請求項８乃至１３のいずれか１項に記載の制御方法。
【請求項１５】
コンピュータを請求項１乃至７のいずれか１項に記載の画像処理装置の各手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記の課題を解決するための本発明の一態様による画像処理装置は以下の構成を備える。すなわち、
画像から所定の被写体を検出する検出手段と、
ユーザにより指定された所定の期間において撮像された第１画像から前記検出手段により検出された所定の被写体の位置に基づき、当該所定の期間と異なる期間において撮像された第２画像から前記検出手段により検出された所定の被写体に対する所定の処理の実行を制御する制御手段と、を備える。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月9日(2019.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】情報端末
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のタッチセンサと、表示部と、第２のタッチセンサと、を有し、
前記表示部は、複数の画素を有し、
前記複数の画素は、それぞれ第１の表示素子および第２の表示素子を有し、
前記第１の表示素子において、第１の周期で画像データの更新を行い、前記第２の表示素子において、第２の周期で画像データの更新を行うとき、
前記第１のタッチセンサにてタッチ信号が検出されると、
前記第１の表示素子において、前記第１の周期より短い第３の周期で画像データを更新し、
前記第２の表示素子において、前記第２の周期で画像データを更新し、
前記第２のタッチセンサにてタッチ信号が検出されると、
前記第１の表示素子において、前記第３の周期で画像データを更新し、
前記第２の表示素子において、前記第２の周期より短い第４の周期で画像データを更新する、情報端末。
【請求項２】
請求項１において、
前記第１の表示素子はＥＬ素子であり、
前記第２の表示素子は液晶素子である、情報端末。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記第１のタッチセンサは、電磁誘導式タッチセンサであり、
前記第２のタッチセンサは、光学式タッチセンサおよび静電容量式タッチセンサの一方である、情報端末。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記表示部は、前記第１のタッチセンサ上に重なるように設けられ、
前記第２のタッチセンサは、前記表示部上に重なるように設けられる、情報端末。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記第２のタッチセンサのタッチ検出の有無は、前記第１のタッチセンサにおいてタッチ検出が無いときに判定される、情報端末。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月3日(2019.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに焦点距離が異なる複数の撮像光学系により形成された被写体像を光電変換する撮像部を有し、
前記複数の撮像光学系のそれぞれの像面のうち最も被写体側から遠い像面を基準像面とし、該基準像面から前記複数の撮像光学系のそれぞれの入射瞳面までの距離のうち最も長い距離をＥＰｍａｘとし、最も短い距離をＥＰｍｉｎとし、前記複数の撮像光学系のうち最も長い焦点距離を有する撮像光学系の３５ｍｍ判換算焦点距離をｆtele35とするとき、
【数１】
2018097306.tif 000001
なる条件を満足することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
【数２】
2018097306.tif 000002
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
【数３】
2018097306.tif 000003
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項４】
互いに焦点距離が異なる複数の撮像光学系により形成された被写体像を光電変換する撮像部を有し、
前記複数の撮像光学系のそれぞれの像面のうち最も被写体側から遠い像面を基準像面とし、該基準像面から前記複数の撮像光学系のそれぞれの入射瞳面までの距離のうち最も長い距離をＥＰｍａｘとし、最も短い距離をＥＰｍｉｎとし、前記複数の撮像光学系のうち最も長い焦点距離を有する撮像光学系の焦点距離をｆteleとするとき、
【数４】
2018097306.tif 000004
なる条件を満足することを特徴とする撮像装置。
【請求項５】
【数５】
2018097306.tif 000005
なる条件式を満足することを特徴とする請求項４に記載の撮像装置。
【請求項６】
【数６】
2018097306.tif 000006
なる条件式を満足することを特徴とする請求項４に記載の撮像装置。
【請求項７】
【数７】
2018097306.tif 000007
なる条件を満足することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記撮像部が生成する互いに異なる画角を有する複数の第１の画像を用いて、前記複数の第１の画像の画角とは異なる画角を有する第２の画像を生成する画像処理部を有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の撮像装置。
【請求項９】
前記画像処理部は、前記第２の画像を、前記複数の第１の画像のうち前記第２の画像の画角より広い画角を有する第１の画像の一部をトリミングした画像と前記第２の画像の画角よりも狭い画角を有する第１の画像を拡大した画像とを合成することで生成することを特徴とする請求項８に記載の撮像装置。
【請求項１０】
前記撮像部が生成する互いに異なる画角を有する少なくとも２つの画像を用いて、被写体の奥行きに関する情報を生成する画像処理部を有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の撮像装置。
【請求項１１】
前記撮像部は、前記複数の撮像光学系のそれぞれに対応する複数の撮像領域を有する撮像素子または前記複数の撮像光学系のそれぞれに対応する複数の撮像素子を有することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の撮像装置。
【請求項１２】
前記複数の撮像光学系の光軸が互いに平行であることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の撮像装置。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月13日(2019.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するために本発明は、撮像装置の振れを検出する検出手段と、前記撮像装置に装着されたアクセサリに関する駆動周波数情報を取得する取得手段と、前記検出手段の検出結果を用いた機能を制御する制御手段と、を有し、前記制御手段は、前記取得手段により取得された駆動周波数情報に基づいて、前記機能を制御することを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像装置の振れを検出する検出手段と、
前記撮像装置に装着されたアクセサリに関する駆動周波数情報を取得する取得手段と、
前記検出手段の検出結果を用いた機能を制御する制御手段と、を有し、
前記制御手段は、前記取得手段により取得された駆動周波数情報に基づいて、前記機能を制御することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記取得された駆動周波数情報と前記検出手段の駆動周波数との干渉の有無を判別し、両者の干渉が有る場合は、前記機能を禁止または制限することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記取得された駆動周波数情報と前記検出手段の駆動周波数との干渉が無い場合は、前記機能を禁止または制限することなく許可することを特徴とする請求項２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記制御手段は、前記取得手段が前記駆動周波数情報を取得できなかった場合は、前記機能を禁止または制限することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記機能を制限する場合は、前記取得された駆動周波数情報と前記検出手段の駆動周波数との干渉が無い場合の制御に比べて、前記検出手段の検出結果に応じた補正の度合いを小さくすることを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記制御手段は、前記機能を制限する場合は、前記取得された駆動周波数情報と前記検出手段の駆動周波数との干渉が無い場合の制御に比べて、適用するモード数を少なくすることを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記制御手段は、前記撮像装置での前記機能を禁止または制限する場合であっても、前記アクセサリが有する前記アクセサリの振れを検出する検出手段の検出結果を用いて前記機能が前記アクセサリにより制御されることを許可することを特徴とする請求項２乃至６のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記取得手段は、装着された前記アクセサリから通信によって前記駆動周波数情報を取得することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項９】
少なくとも１つの駆動周波数情報を記憶する記憶部を有し、
前記取得手段は、装着された前記アクセサリから前記アクセサリを特定する識別情報を取得し、前記記憶部に記憶された駆動周波数情報のうち前記取得した識別情報に対応するものを前記アクセサリに関する駆動周波数情報として取得することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１０】
前記アクセサリに関する駆動周波数情報は、前記アクセサリが有する駆動部の駆動周波数を示すことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１１】
前記機能には、像振れ補正が含まれることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１２】
前記機能には、移動する被写体の動きに追従しながら撮影する流し撮影が含まれることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１３】
前記アクセサリは交換レンズであることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１４】
撮像装置の振れを検出する検出ステップと、
前記撮像装置に装着されたアクセサリに関する駆動周波数情報を取得する取得ステップと、
前記検出ステップでの検出結果を用いた機能を制御する制御ステップと、を有し、
前記制御ステップは、前記取得ステップにより取得された駆動周波数情報に基づいて、前記機能を制御することを特徴とする撮像装置の制御方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の撮像装置の制御方法をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月6日(2019.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の二次粒子と、前記二次粒子間の間隙に配置されている粒子と、を含み、
前記複数の二次粒子のそれぞれは、複数の一次粒子が集積しており、且つ、単分散であることを特徴とする構造体。
【請求項２】
前記二次粒子は、平均直径の変動係数が１０％以下の球状粒子である前記一次粒子を集積した球状粒子であることを特徴とする請求項１に記載の構造体。
【請求項３】
前記一次粒子の直径及び屈折率と、前記間隙に配置されている粒子の直径及び屈折率とは、同じであることを特徴とする請求項１又は２に記載の構造体。
【請求項４】
前記間隙に配置されている粒子は、前記一次粒子と同じ粒子であることを特徴とする請求項１から３の何れか一項に記載の構造体。
【請求項５】
前記二次粒子の平均直径を、前記間隙に配置されている粒子の平均直径で割った比率が、８以上であることを特徴とする請求項１から４の何れか一項に記載の構造体。
【請求項６】
前記二次粒子の平均直径を、前記間隙に配置されている粒子の平均直径で割った比率が、８以上５０以下であることを特徴とする請求項５に記載の構造体。
【請求項７】
前記二次粒子の平均直径は、１．４μｍ以上３９μｍ以下であることを特徴とする請求項１から６の何れか一項に記載の構造体。
【請求項８】
前記間隙は、前記間隙に配置されている粒子、及び前記間隙に配置されている粒子の屈折率と異なる屈折率を有する媒体を含むことを特徴とする請求項１から７の何れか一項に記載の構造体。
【請求項９】
前記媒体は多孔体であることを特徴とする請求項８に記載の構造体。
【請求項１０】
前記媒体の屈折率が、１.１以上２.０以下であることを特徴とする請求項８または９に記載の構造体。
【請求項１１】
前記間隙は、空気を含むことを特徴とする請求項１から７の何れか一項に記載の構造体。
【請求項１２】
前記間隙に配置されている粒子に対する前記二次粒子の重量比率が、０.５以上１以下であることを特徴とする請求項１から１１の何れか一項に記載の構造体。
【請求項１３】
前記一次粒子及び前記間隙に配置されている粒子の屈折率が、１.４以上２.０以下であることを特徴とする請求項１から１２の何れか一項に記載の構造体。
【請求項１４】
前記一次粒子及び前記間隙に配置されている粒子の直径が、５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１から１３の何れか一項に記載の構造体。
【請求項１５】
前記一次粒子及び前記間隙に配置されている粒子の直径が、１５０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１４に記載の構造体。
【請求項１６】
前記一次粒子及び前記間隙に配置されている粒子は、有機高分子、又は無機高分子、又は無機材料の粒子であることを特徴とする請求項１から１５の何れか一項に記載の構造体。
【請求項１７】
前記一次粒子及び前記間隙に配置されている粒子は、ポリスチレン粒子、又は酸化ケイ素粒子であることを特徴とする請求項１６に記載の構造体。
【請求項１８】
隣接する前記二次粒子間及び前記間隙に配置されている粒子間は、ポリマーで固化されていることを特徴とする請求項１から１７の何れか一項に記載の構造体。
【請求項１９】
隣接する前記二次粒子間及び前記間隙に配置されている粒子間は、結着して固化されていることを特徴とする請求項１から１７の何れか一項に記載の構造体。
【請求項２０】
請求項１８または１９に記載の構造体を含むことを特徴とする紛体。
【請求項２１】
請求項２０に記載の紛体が溶媒に分散していることを特徴とする塗料。