(57)【要約】本発明は少なくとも１つの露光ヘッド１２および少なくとも２つの光変調構成２０を備えた光照射装置に関し、前記２つの光変調構成２０のそれぞれは、空間光変調器３１、３２および前記空間光変調器３１、３２を介して照射面１５を照射するために配置された関連する発光体を含み、前記２つの光変調構成２０のそれぞれはデジタル制御され、前記装置は前記少なくとも１つの露光ヘッドと前記照射面１５との間で少なくとも一方向（ｘ；ｙ）に相対移動を実行する手段を備える。
2005522733.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの露光ヘッド（１２）と少なくとも２つの光変調構成（２０）とを備えた光照射装置であって、
前記２つの光変調構成（２０）の各々は空間光変調器（３１、３２）および前記空間光変調器（３１、３２）を介して照射面（１５）を照射するように配置された関連する発光体を含み、
前記２つの光変調構成（２０）の各々はデジタル制御され、
前記装置は、前記少なくとも１つの露光ヘッドと前記照射面（１５）との間で少なくとも一方向（ｘ；ｙ）に相対移動を実行する手段を含む光照射装置。
【請求項２】
前記少なくとも２つの光変調構成が同じ露光ヘッド（１２）上に配置された請求項１に記載の光照射装置。
【請求項３】
前記相対移動が、走査移動である請求項１または２に記載の光照射装置。
【請求項４】
前記相対移動が、前記照射面（１５）に対して前記少なくとも１つの露光ヘッド（１２）を移動させることによって確立される請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項５】
前記相対移動が、前記少なくとも１つの露光ヘッド（１２）に対して前記照射面（１５）を移動させることによって確立される請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項６】
少なくとも１つの露光ヘッド（１２）が、２つの光変調構成を備えた請求項１乃至５のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項７】
前記光変調構成が少なくとも２つの異なる露光ヘッド（６０、６１）上に配置され、前記露光ヘッド（６０、６１）が前記照射面上で走査移動を実行する請求項１乃至６のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項８】
前記空間光変調器が、前記照射面（１５）の少なくとも２つの実質的に離れたサブ領域（ＳＵＢ１、ＳＵＢ２）を照射するように配置された請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項９】
前記空間光変調構成（３１、３２）が両方の光変調器の列が平行に向くように整列されている請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項１０】
前記空間光変調構成（２０）は、前記少なくとも２つの空間光変調器の前記少なくとも２つの隣接する列の間の距離（ＤＮ）が前記各光変調器の列の間の距離（ＤＲ）と実質的に同じであるよう、前記少なくとも２つの空間光変調器の隣接する列が実質的に位置決めされるように整列されている請求項１乃至９のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項１１】
前記少なくとも２つの空間光変調器の中心間の距離の「ｘ軸投影」（Ｄ１）が２００ｍｍより小さい、好適には１５０ｍｍより小さい、好適には実質的に１２０ｍｍである請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項１２】
ＳＸＧＡおよびＸＧＡをそれぞれ用いたときに、前記２つの空間光変調器の中心間の距離の「ｙ軸投影」（Ｄ２）が、５０ｍｍより小さい、好適には３５ｍｍより小さい、好適には実質的に２５．６ｍｍまたは２０．５ｍｍである請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項１３】
ＳＸＧＡおよびＸＧＡをそれぞれ用いたときに、前記２つの空間光変調器の中心間の距離が好適には実質的に１２２．７ｍｍまたは１２１．７３ｍｍである請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項１４】
前記露光ヘッドが冷却手段（２１６、２１７）を備えた請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項１５】
空間光変調構成のそれぞれが個々に冷却手段（２１６、２１７）を備えた請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項１６】
前記実質的に離れたサブ領域（ＳＵＢ１、ＳＵＢ２）が前記照射面（１５）の隣接する面を含む請求項１乃至１５のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項１７】
前記少なくとも一方向が前記照射面（１５）の相対移動を実質的に横断する請求項１乃至１６のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項１８】
前記少なくとも一方向が、前記照射面上の照射される画素が前記空間光変調器の少なくとも２つの光変調器を用いて照射されることを確立する請求項１乃至１７のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項１９】
前記少なくとも一方向が、前記照射面上の照射される画素が前記空間光変調器の少なくとも１つの変調器列を用いて照射されることを確立する請求項１乃至１８のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項２０】
前記露光ヘッドが前記照射面に対して少なくとも２つの方向に可動である請求項１乃至１９のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項２１】
前記発光体が光源（２１０）を備えている請求項１乃至２０のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項２２】
前記発光体が光源に結合された光導波路の少なくとも１つの発光端を含んでいる請求項１乃至２１のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項２３】
前記発光体がランプを備えている請求項１乃至２２のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項２４】
前記発光体がＬＥＤマトリクスを備えている請求項１乃至２３のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項２５】
前記空間光変調器がＤＭＤチップを備えている請求項１乃至２４のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項２６】
前記空間光変調器がマイクロメカニカル透過型光変調器を備えている請求項１乃至２５のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項２７】
前記照射面が印刷版を含んでいる請求項１乃至２６のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項２８】
前記照射面が感光材料を含んでいる請求項１乃至２７のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項２９】
前記露光ヘッドが横断する２つの反対方向に走査するように構成された請求項１乃至２８のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項３０】
前記空間光変調構成の中心間のｘ軸方向が１５０ｍｍより小さく、好適には１２１ｍｍより小さい請求項１乃至２９のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項３１】
前記空間光変調構成の中心間のｘ軸方向が実質的に０（ゼロ）である請求項１乃至３０のいずれか１項に記載の光照射装置。
【請求項３２】
照射面（１５）を照射する方法であって、少なくとも２つの光変調構成（２０）が少なくとも１つの露光ヘッド上に配置され、各光変調構成は走査移動によって照射面（１５）を照射する空間光変調器（３１、３２）を備えた照射面を照射する方法。
【請求項３３】
前記少なくとも２つの光変調構成（３１、３２）が同じ露光ヘッド（３０ａ）上に配置された請求項３２に記載の照射面を照射する方法。
【請求項３４】
前記少なくとも２つの光変調構成（６２、６３）が異なるフリーランニング露光ヘッド（６０、６１）上に配置された請求項３２に記載の照射面を照射する方法。
【請求項３５】
照射面を照射する方法であって、前記照射が請求項１乃至３１のいずれか１項に記載の光照射装置を用いて実行される照射面を照射する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は請求項１に記載の光照射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
典型的な光照射装置は、感光材料を照射するように構成された配置構成を含んでいる。そのような材料は、例えば、印刷版、高速プロトタイピングするように構成された材料、フィルム等を含み得る。この照射は照射される材料の特性のある変化を得るために実行される。したがって、例えば、そのような照射は結果的に照射された材料またはある構造体上に画像を確立し得る。
【０００３】
所望の照射を得るためには、光は変調されなければならない。照射面に送られる光を変調する従来技術による方法の１つは、１つまたは複数のビームレーザを使用するものであり、これは照射面上で走査移動を実行する際に変調され得る。
【０００４】
照射面を照射する別のおよびより最新の方法は、いわゆる空間光変調器を使用することである。このような変調器の例として、デジタルミラーデバイス（ＤＭＤ）、液晶表示装置（ＬＣＤ）等が考えられる。この空間光変調器は、入射光ビームをいくつかの個々に変調された光ビームに変調するように構成されている。
【特許文献１】ＷＯ９８  ４７０４８号
【特許文献２】ＷＯ９８  ４７０４２号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記従来技術の問題点は、いくつかの用途に対して所要のエネルギーおよび照射速度と組み合わされて使用される光変調器の性質に起因して、達成可能な変調速度が多少制限されるということである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は少なくとも１つの露光ヘッドおよび少なくとも２つの光変調構成を備えた光照射装置に関し、前記２つの光変調構成のそれぞれは、空間光変調器および前記空間光変調器を介して照射面を照射するために配置された関連する発光体を含み、前記２つの光変調構成のそれぞれはデジタル制御され、前記装置は前記少なくとも１つの露光ヘッドと前記照射面との間で少なくとも一方向に相対移動を実行する手段を備える。
【０００７】
本発明によれば、可動露光ヘッドが有利には２つの空間光変調器を含み、これにより２つの変調器を同時に用いて走査を促進し得ることが認められた。
【０００８】
本発明の一実施形態では、光照射装置は、少なくとも１つの露光ヘッドおよび少なくとも２つの光変調構成を備え、前記２つの光変調構成のそれぞれは、空間光変調器および前記空間光変調器を介して照射面を照射するために配置された関連する発光体を含み、前記２つの光変調構成のそれぞれはデジタル制御され、前記装置は前記少なくとも１つの露光ヘッドと前記照射面との間で少なくとも１つの方向に相対移動を実行する手段を備える。
【０００９】
本発明の一実施形態では、前記少なくとも２つの光変調構成は同じ露光ヘッド上に配置されている。
本発明の一実施形態では、前記相対移動は走査移動である。
本発明の一実施形態では、前記相対移動は前記少なくとも１つの露光ヘッドを前記照射面に対して移動させることによって確立される。
本発明の一実施形態では、前記相対移動は前記照射面を前記少なくとも１つの露光ヘッドに対して移動させることによって確立される。
【００１０】
本発明の一実施形態では、少なくとも１つの露光ヘッドは２つの光変調構成を含む。照射面を照射する費用効率が高い方法は２つの空間光変調構成を１つの露光ヘッドに使用し、これにより比較的高速の走査移動において照射面を照射し得る照射構成を達成することが確立されている。このコンテクストでは、その動作構成の重量が増大すると露光ヘッド取扱いが多少困難になる可能性があることに留意されたい。
【００１１】
本発明の一実施形態では、前記相対移動は少なくとも１つの露光ヘッドに対して前記照射面を移動させることによって確立される。
本発明の一実施形態では、少なくとも１つの露光ヘッドは２つの光変調構成を備える。
【００１２】
本発明の一実施形態では、前記光変調構成は少なくとも２つの異なる露光ヘッド上に配置され、露光ヘッドが照射面上で走査移動を実行する。２つ以上のフリーランニング走査型露光ヘッドを使用する場合、照射は照射面に対して慎重に最適化され、これによりいわゆる「過走査」を回避することができる。原理上、露光ヘッドによって実行される走査は、使用される露光ヘッド間の相反する動作を回避するように構成され得るという事実により、どんな余分な走査を回避する、または少なくとも最小化することが可能である。したがって、走査することにより照射面を照射するいくつかのフリーランニング露光ヘッドは、そのような走査移動が高速照射を保証すると同時にフリーランニングヘッドが照射領域の照射が上記のように最適化され得ることを保証するという事実に起因する効率に関して、非常に有利である。
【００１３】
上記のフリーランニング露光ヘッドのさらなる実施形態によれば、露光ヘッドの数は２個を超えてよく、例えば、合計で３個以上である。さらには、各ヘッドは、例えば、図２に記載したタイプの、例えば、２つ以上の照射構成を備えてよい。
【００１４】
空間光変調器が実質的に離れている照射面の２つのサブ領域を照射するように配置されている場合、本発明の有利な一実施形態が得られた。
空間光変調構成が両方の光変調器の列が平行に向くように整列されている場合、本発明の有利な一実施形態が得られた。
【００１５】
空間光変調構成が、２つの空間光変調器の隣接する列が２つの空間光変調器の２つの隣接する列の間の距離（ＤＮ）が各光変調器の列の間の距離（ＤＲ）と実質的に同じであるように実質的に位置決めされるように整列されている場合、本発明の有利な一実施形態が得られた。
【００１６】
２つの空間光変調器の中心間の距離の「ｘ軸投影」（Ｄ１）が２００ｍｍより小さい、好適には１５０ｍｍより小さい、好適には実質的に１２０ｍｍである場合、本発明の有利な一実施形態が得られた。
【００１７】
ＳＸＧＡおよびＸＧＡをそれぞれ用いたときに、２つの空間光変調器の中心間の距離の「ｙ軸投影」（Ｄ２）が、５０ｍｍより小さい、好適には３５ｍｍより小さい、好適には実質的に２５．６ｍｍまたは２０．５ｍｍである場合、本発明の有利な一実施形態が得られた。
２つの空間光変調器の中心間の距離が１２１．７３ｍｍ（ＸＧＡ）または１２２．７０ｍｍ（ＳＸＧＡ）である場合、本発明の有利な一実施形態が得られた。
【００１８】
本発明によれば、効果的な走査領域が最適化されるという意味では、光変調構成を非常に近接させて位置決めすれば、全体的な走査速度の改善が促進されることが認められた。したがって、距離を最小化すれば、結果として、露光ヘッドの両方の空間光変調器は走査線の端部においてできるだけ長くアクティブになる。
【００１９】
露光ヘッドが冷却手段を備えている場合、本発明の有利な一実施形態が得られた。
冷却手段は、例えば、電気的に駆動されるファンであり得る。
空間光変調構成のそれぞれが個々に冷却手段を備えている場合、本発明の有利な一実施形態が得られた。
実質的に離れているサブ領域が照射面の隣接する面を含んでいる場合、本発明の有利な一実施形態が得られた。
【００２０】
少なくとも一方向が照射面の相対移動を実質的に横断する場合、本発明の有利な一実施形態が得られた。
少なくとも１つの方向が、照射面上の照射される画素が空間光変調器の少なくとも２つの光変調器を用いて照射されることを確立する場合、本発明の有利な一実施形態が得られた。
少なくとも１つの方向が、照射面上の照射される画素が空間光変調器の少なくとも１つの変調器列を用いて照射されることを確立する場合、本発明の有利な一実施形態が得られた。
【００２１】
露光ヘッドが照射面に対して少なくとも２つの方向に可動である場合、本発明の有利な一実施形態が得られた。
発光体が光源を備えている場合、本発明の有利な一実施形態が得られた。
発光体が光源に結合された光導波路の少なくとも１つの発光端を含んでいる場合、本発明の有利な一実施形態が得られた。
発光体がランプを備えている場合、本発明の有利な一実施形態が得られた。
発光体がＬＥＤマトリクスを備えている場合、本発明の有利な一実施形態が得られた。
空間光変調器がＤＭＤチップを備えている場合、本発明の有利な一実施形態が得られた。
【００２２】
参照によって本願明細書に組み入れたＷＯ９８  ４７０４８号およびＷＯ９８  ４７０４２号に開示されているように、照射構成の空間光変調アレイは透過型のマイクロメカニカルシャッタアレイであり得る。
【００２３】
別のタイプの空間変調器はＤＭＤ変調器または、例えば、ＬＣＤ光変調器であり得る。
空間光変調器がマイクロメカニカル透過光変調器を備えている場合、本発明の有利な一実施形態が得られた。
照射面が印刷版を含んでいる場合、本発明の有利な一実施形態が得られた。
【００２４】
照射面がエポキシ樹脂などの感光材料を含んでいる場合、本発明の有利な一実施形態が得られた。シルクスクリーン印刷用の感光乳剤、プリント回路基板用感光乳剤等の他の感光材料が本発明の範囲内で同様に使用されてよい。
【００２５】
本発明によれば、照射構成がいわゆる高速プロトタイピングに用いられ得る。
さらに、本発明は照射面を照射する方法に関し、少なくとも２つの光変調構成が少なくとも１つの露光ヘッド上に配置され、該光変調構成は走査移動によって照射面を照射する空間光変調器をそれぞれ備えている。
【００２６】
本発明の一実施形態では、少なくとも２つの光変調構成が同じ露光ヘッド上に配置される。
本発明の一実施形態では、少なくとも２つの光変調構成は異なるフリーランニング露光ヘッド上に配置される。
本発明の一実施形態では、照射は請求項１乃至３１のいずれか１項に記載の光照射装置を用いて実行される。
本発明を図面に関して以下に記載する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
図１は本発明の有利な一実施形態による露光システムのいくつかの主要構成要素の図を示している。
【００２８】
図示したシステムは照射面１５を照射するために配置された２つの照射構成２０を有する露光ヘッド１２を備えている。露光ヘッド１２はサスペンション（図示せず）内に懸架されている。このサスペンションは適切な電子回路（図示せず）の制御下において矢印の方向の移動を促進する。
【００２９】
例示のために、照射構成２０内に配置された、空間光変調器（例えば、ＤＭＤチップ）によって照射される２つの照射領域Ｉ１、Ｉ２が照射面上に示されている。例えば、ＴＩＤＭＤチップを使用する場合、照射領域Ｉ１およびＩ２は、例えば、１０２４×７６８画素（ＸＧＡ）または１２８０×１０２４画素（ＳＸＧＡ）を含んでよい。走査移動を行う場合、変調される画素が行から行（または列から列）へ動的に切り換えられ、これにより、照射面上の単一の画素を照射するためにいくつかの画素（例えば、空間光変調器の完全な列）が使用される。これによって、単一の画素に送達される光エネルギーが増大される。
【００３０】
図示した実施形態によれば、露光ヘッドはＸ方向に移動され、照射面１５はＹ方向に段階的に移動される。
【００３１】
他の相対移動が本発明の範囲内で使用されてよいことは明白である。本発明のさらなる有利な一実施形態は、例えば、照射面を静止させたまま露光ヘッド１２がＸおよびＹの両方向へ相対移動することを暗示し得る。
【００３２】
参照によって本願明細書に組み入れたＷＯ９８  ４７０４８号およびＷＯ９８  ４７０４２号に開示されているように、照射構成の空間光変調アレイは透過型のマイクロメカニカルシャッタアレイであり得る。
【００３３】
別のタイプの空間変調器はＤＭＤ変調器であってよい。
図２は図１の光変調構成２０の１つの好適な実施形態である。構成２０の第１の部分２１は集束されかつ均一な光ビームを生成する。第１の部分２１は、ランプ２１０、ランプドライバ２１１、送風機２１６およびファン２１７、保護ガラス２１２、シャッタ２１３、光統合ロッド２１４およびビーム整形オプティックス２１５を備えている。
【００３４】
ランプ２１０のタイプは露出される版のタイプに依存する。考えられるタイプには従来のショートアーク電球、レーザ源、ダイオードアレイ等がある。好適な従来のランプは２７０ワットの消費電力を有するかもしれないが、本発明はその値にも言及したタイプのランプにも一切限定されるものではない。２５０ワット、３５０ワットなどの代替的な値が考慮されてよい。
【００３５】
ランプ２１０からの光は、干渉フィルタとして機能するフィルタ（例えば、用途に応じて赤外線フィルタまたは紫外線フィルタ）２１２を介して、かつランプをオフにすることなく光ビームを遮断することのできるシャッタ機構２１３を介して送られる。ほとんどのタイプのランプが光の強度および周波数を不変にする前に時間を必要とするので、このことは重要である。送風機２１６およびファン２１７はランプ２１０の冷却を確実にする。
【００３６】
次に、光ビームは光結合ロッド２１４を介して送られる。これによって光が混合され、光を強度に関して均一なビーム全体にわたらせる。これにより、ビーム周縁の光がビーム中心部の光と同じ強度を有することが保証される。光が光結合ロッド２１４を出ていくとき、ビーム整形オプティックス２１５がその光を集束させる。
【００３７】
構成２０の次の部分が、電子的に格納された画像データを反映するために、光ビームを変調する。この部分は、光変調手段２２および変調された光ビーム出力を乱すことなく変調されていない光ビームを該光変調手段２２に向けて誘導する手段２２４を備えている。
【００３８】
適した光変調手段２２は、ＤＭＤ変調器、ＬＣＤを含んだ透過型シャッタ、およびマイクロメカニカルシャッタ等を備える。図２の好適な実施形態に関しては、冷却板２２２および温度センサ２２３を有するＰＣＢ２２１上に設置された、ＤＭＤ光変調チップ２２０が用いられる。
【００３９】
光誘導手段２２４は使用される光変調手段２２のタイプに依存する。透過型光変調手段に関しては、変調されていない光ビームは光変調手段の一方の側に導かれ、変調された光ビームが他方の側から放出される。このような構成では、光誘導手段２２４は除外されるかもしれない。
【００４０】
ＤＭＤ変調器に関しては、変調されていない光ビームは、変調された光ビームが放出されるのと同じ地点に向かって導かれる。これには光誘導手段２２４の使用が必要となる。図２の好適な実施形態では、ＴＩＲプリズムが光誘導手段として用いられている。ＴＩＲとは「全反射（Ｔｏｔａｌ  Ｉｎｔｅｒｎａｌ  Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）」を意味する略語である。ＴＩＲプリズムは、ある方向から（この特定の実施形態では左から）入射する光のミラーとして働き、かつ別の方向から（この特定の実施形態では上から）入射する光を真っ直ぐに導く表面２２５を備えている。
【００４１】
構成２０の最後の部分は、光変調手段２２０から放出された複数の変調された光ビームを照射面２４（印刷版）上に集束させる。この部分はハウジング２３内に設けられた一組のレンズ／マクロレンズ２３０を備えている。
【００４２】
図３ａは照射に関する露光ヘッドの走査パターンを示している。
本発明の光照射装置、例えば、図２に示した照射構成によって得られる図示した走査パターンは、照射面に対して相対移動を行う露光ヘッド３０ａの２つの照射構成３１、３２を含む。照射構成３１、３２の両方は同じ露光ヘッド３０ａ上に配置されている。
【００４３】
図示した一方の照射構成３１は、サブ領域ＳＵＢ１を照射し、他方の照射構成３２はサブ領域ＳＵＢ２を照射する。
【００４４】
露光ヘッド３０ａは、垂直方向の矢印で示したような段階３０１の各走査移動間で移動しながら、水平方向の矢印によって示したような走査移動の両方向に照射面を変調された光によって照射することに留意されたい。
【００４５】
ここでは、ｙ軸の移動は組み合わされた光照射構成の両方によって得られる横断走査の全幅に対応する段階として実行される。
【００４６】
図３ｂは照射面に対する露光ヘッド３０ｂのさらなる走査パターンを示している。
本発明の図示した実施形態によれば、露光ヘッド３０ｂは２つの空間光変調器３１、３２を備えている（空間変調器を搭載した照射構成は図示していない）。使用される照射構成３１、３２はともに、例えば、図２の図示した照射構成であってよい。図示した実施形態によれば、２つの空間光変調器３１、３２（または、図１のＩ１およびＩ２に対応する結果的に照射される表面）が配置され、かつＹ軸方向にのみずらされている。
【００４７】
露光ヘッド３０ｂはＸ軸方向に前後に走査移動を実行する。さらに、照射面または露光ヘッドは基本的には２つの異なる段階であるマイクロ段階３０２およびマクロ段階３０３を含む相対移動をＹ軸方向に行う。
【００４８】
図示した実施形態によれば、８つのサブ領域ＳＵＢ１および８つのサブ領域ＳＵＢ２は、マイクロ段階３０２を実行することによって照射される。次いで、マクロ段階３０３が実行され、サブ領域ＳＵＢ１およびＳＵＢ２の新しい組がマイクロ段階３０２をさらに実行することによって照射される。
【００４９】
他のいくつかの走査方法（パターン）が本発明の範囲内で適用されてよいことが強調されるべきである。
【００５０】
図４ａは、例えば、図３ａの露光ヘッド上の照射構成（ここでは、光学エンジン）の有利な位置決めを示している。例えば、図２に示した照射構成であってよい照射構成２０が点線で示されている。
【００５１】
光学エンジンの寸法はその機械の生産性およびコストにとっては非常に重要である。露光ヘッドの２つの照射構成２０は、達成可能な照射領域がｙ軸方向において近接しているように（走査および変調器の軸と混同されないように）配置される。このことは、図４ａから分かるように、ｘ軸方向の光学エンジン間に中心間距離が存在することを暗示している。
【００５２】
ｘ軸方向のエンジンの相互の距離は、両ヘッドが版（照射面）全体を通過するように実際の版長よりもより長く露光することが必要であることを暗示している。この余分な「過走査」は中心間距離Ｄ１の２倍である。この過走査は生産性を低減し、ｘ方向の移動の幅を、故に機械幅を増大させる。このため、中心間距離はできるだけ短くなければならない。このような最短距離の一例は、例えば、次のようであってよい：
中心間距離、ｘ軸：Ｄ１＝１２０ｍｍ
中心間距離、ｙ軸：Ｄ２＝（ＸＧＡ）２０．４８±０．００２ｍｍおよびＤ２（ＳＸＧＡ）＝２５．６±０．００２ｍｍ
【００５３】
下限はそのオプティックスおよびさらなる照射構成コンポーネント、例えば、図２のマクロレンズ２３０によって定められる。ジグ（図示せず）によって照射平面の調整、すなわち、光学エンジンの、ｘ軸およびｙ軸の調整ならびにｚ軸周囲の回転が個々に可能となろう。このことは、両画像が同一平面になるように、画像はマクロレンズハウジングのフランジと正確に平行でなければならないことを意味する。ハウジングをｚ軸方向に設置するために、ハウジング上のフランジが用いられる。光学エンジンを平坦な表面に対して設置することができるように、したがって同一平面に焦点を持つように、フランジの底側が焦点を定めるであろう。
【００５４】
図４ｂは本発明のさらなる実施形態を示しており、装置は、例えば、露光ヘッド５０上に配置された図２に示したタイプの４つの光変調構成５３、５４、５５、５６を備えている。
【００５５】
４つの光変調構成５３、５４、５５、および５６は、同一の露光ヘッドに固定されているためにすべて一緒に移動する。有利には、走査は、例えば、図３ａに示した原理に従っていくつかの異なる方法で実行されてよい。
【００５６】
図４ｃは本発明のさらなる実施形態を示しており、装置は、例えば、図２に示したタイプの２つの光変調構成６２、６３を備えている。
【００５７】
図示した実施形態は、それぞれ変調構成６２、６３を搭載した２つの離れた露光ヘッド６０、６１を備えている。
【００５８】
本発明の図示した実施形態は、例えば、図示した矢印方向に走査を行う場合、照射が照射面に対して慎重に最適化され得るので、上記の「過走査」が回避されるという利点を有している。原理上、露光ヘッド６０，６１によって実行される走査は、使用される露光ヘッド６０、６１間の相反する動作を回避するように構成され得るという事実により、余分な走査は回避され得る。
【００５９】
図示した実施形態は、走査することにより照射面を照射するいくつかのフリーランニング露光ヘッドを特徴としており、そのような走査移動が高速照射を保証すると同時に、フリーランニングするヘッドが照射領域の照射が上記のように最適化され得ることを保証するという事実に起因する効率に関して非常に有利である。
例えば、合計で３個以上のさらなる照射ヘッドを組み込むために、図４ｃの実施形態は変更されてよいことは明らかである。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明の有利な一実施形態による露光システムの見取図である。
【図２】本発明の一実施形態の照射構成の断面図である。
【図３ａ】照射面に対して露光ヘッドの走査パターンを示す図である。
【図３ｂ】照射面に対して露光ヘッドのさらなる走査パターンを示す図である。
【図４ａ】露光ヘッド上の照射構成の有利な位置決めを示す略図である。
【図４ｂ】本発明のさらなる実施形態を示す略図である。
【図４ｃ】本発明のさらなる実施形態を示す略図である。
【図１】
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【図２】
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【図３ａ】
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【図３ｂ】
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【図４ａ】
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【図４ｂ】
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【図４ｃ】
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【国際調査報告】
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