Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月28日(2020.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被験者由来の生体関連物質又はその処理物に対する線虫の反応を指標として癌の有無を判定することを特徴とする方法であって、
被験者由来の生体関連物質又はその処理物に対して、線虫が負の応答を示したとき、当該応答結果は、被験者は癌に罹患していない、又は癌のリスクが低いと判定することの指標となり、
生体関連物質又はその処理物が、体液、細胞、組織、又は細胞若しくは組織の培養物若しくは保存液である、前記方法。
【請求項２】
前記反応が走性行動であり、前記負の応答が忌避行動である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
被験者由来の生体関連物質又はその処理物に対する線虫の神経応答を指標として癌の有無を判定することを特徴とする方法であって、
癌患者由来の生体関連物質又はその処理物に対して線虫が示す神経応答に比べて、被験者由来の生体関連物質又はその処理物に対して線虫が示す神経応答が小さいときは、当該比較結果は、被験者は癌に罹患していない、又は癌のリスクが低いと判定することの指標となり、
生体関連物質又はその処理物が、体液、細胞、組織、又は細胞若しくは組織の培養物若しくは保存液である、前記方法。
【請求項４】
前記神経が、嗅覚神経である、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記嗅覚神経が、AWA嗅覚神経またはAWC嗅覚神経である、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記線虫が、カルシウム結合タンパク質及び蛍光タンパク質をコードするインディケーター遺伝子を発現させたトランスジェニック線虫であり、
前記神経応答が、細胞内カルシウム濃度の変化を指標として検出されるものであり、
被検者由来の生体関連物質又はその処理物を前記トランスジェニック線虫に刺激として与えたときの、インディケーター遺伝子によりコードされるインディケータータンパク質から発する蛍光の蛍光強度比の変化又は蛍光強度変化が、癌患者由来の生体関連物質又はその処理物を使用したときの蛍光強度比の変化又は蛍光強度変化と比較して小さいときは、当該比較結果は、被検者は癌に罹患していない、又は癌のリスクが低いと判定することの指標となる、請求項3〜5のいずれか1項に記載の方法。
【請求項７】
被検者由来の生体関連物質又はその処理物に対する線虫の反応を指標として癌の有無を判別することを特徴とする方法であって、
被検者由来の生体関連物質又はその処理物に対して、線虫が正の応答を示したときは、当該応答結果は、被検者は癌である、又は癌のリスクがあると判定することの指標となり、
生体関連物質又はその処理物が、体液、細胞、組織、又は細胞若しくは組織の培養物若しくは保存液である、前記方法。
【請求項８】
被検者由来の生体関連物質又はその処理物に対するトランスジェニック線虫のカルシウム濃度の変化を指標として癌の有無を判別することを特徴とする方法であって、
前記トランスジェニック線虫は、カルシウム結合タンパク質及び蛍光タンパク質をコードするインディケーター遺伝子を発現させてあり、
被検者由来の生体関連物質又はその処理物を前記トランスジェニック線虫に刺激として与えたときの、インディケーター遺伝子によりコードされるインディケータータンパク質から発する蛍光の蛍光強度比の変化又は蛍光強度変化が、対照の生体関連物質又はその処理物を使用したときの蛍光強度比の変化又は蛍光強度変化と比較して大きいときは、当該比較結果は、被検者は癌である、又は癌のリスクがあると判定することの指標となり、
前記生体関連物質又はその処理物が、体液、細胞、組織、又は細胞若しくは組織の培養物若しくは保存液である、
前記方法。
【請求項９】
線虫及びシャーレ、又は線虫及び流路を有するチップを含む、請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法に使用するためのキット。
【手続補正書】
【提出日】令和2年1月31日(2020.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
冷凍菓子機械であって、
内部に氷を受け入れるように構成されたホッパ部を備えた筐体と、
前記冷凍菓子機械を支持するように構成されたベース部と、
前記筐体内に配置される駆動シャフトを備えるモータと、
前記氷を調整するように構成された刃と
調整された氷を分配するように構成された吐出口と
を備え、
前記刃は、前記筐体内で、前記ホッパ部と前記吐出口との間に配置され、
前記刃は、前記氷を調整する複数の歯を備え、
前記複数の歯の各々は、前記刃を通って形成されたスロットであり、
前記歯は、互いに対してオフセットされ、前記複数の歯の内の少なくとも１つの歯は、前記刃を半分に分ける前記刃の中央線の上方に主にある上位置に形成されており、前記複数の歯の内の少なくとも１つの歯は、前記中央線の下方に主にある下位置に形成されている、冷凍菓子機械。
【請求項２】
前記刃は、前記筐体に対して静止している、請求項１に記載の冷凍菓子機械。
【請求項３】
前記刃は、弓状である、請求項２に記載の冷凍菓子機械。
【請求項４】
前記複数の歯は、交互のパターンでオフセットされており、前記歯は、前記上位置および前記下位置間で形成されるように交互となっている、請求項１に記載の冷凍菓子機械。
【請求項５】
前記複数の歯は、交互のパターンでオフセットされており、連続した所定の数の歯が前記上位置に形成されており、続いて、前記所定の数と同じ数の歯が前記下位置に形成されている、請求項１に記載の冷凍菓子機械。
【請求項６】
前記複数の歯は、交互のパターンでオフセットされており、連続した所定の数の歯が前記上位置に形成されており、続いて、前記所定の数と異なる数の歯が前記下位置に形成されている、請求項１に記載の冷凍菓子機械。
【請求項７】
前記ホッパ部を覆うように構成された蓋を更に備える、請求項１に記載の冷凍菓子機械。
【請求項８】
前記蓋は、前記ホッパ部内の氷を監視するための透明部分を有する、請求項７に記載の冷凍菓子機械。
【請求項９】
前記吐出口の近くに取り付けられた可撓性の整形フラップを更に備える、請求項８に記載の冷凍菓子機械。
【請求項１０】
氷を前記刃に移動させるためのへら状ホイールを更に備える、請求項１に記載の冷凍菓子機械。
【請求項１１】
前記へら状ホイールは、前記モータの前記駆動シャフトに直接的に接続される、請求項１０に記載の冷凍菓子機械。
【請求項１２】
前記モータは、前記筐体内で、前記モータの前記駆動シャフトが前記ホッパ部と前記ベース部との間に接続されたハンドル部に対して角度を有して固定された軸の周りを回転するように、配置され、
前記角度は、約３０度から約６０度の範囲から選択される、請求項１に記載の冷凍菓子機械。
【請求項１３】
前記角度は、約４０度から約５０度の範囲から選択される、請求項１２に記載の冷凍菓子機械。
【請求項１４】
電気コードを更に備える、請求項１に記載の冷凍菓子機械。
【請求項１５】
バッテリを更に備える、請求項１に記載の冷凍菓子機械。
【請求項１６】
足操作式スイッチを更に備える、請求項１に記載の冷凍菓子機械。
【請求項１７】
制振パッドを更に備える、請求項１に記載の冷凍菓子機械。
【請求項１８】
前記蓋は、前記蓋を閉位置に保持するためのラッチ機構を備える、請求項７に記載の冷凍菓子機械。
【請求項１９】
安全スイッチを更に備える、請求項７に記載の冷凍菓子機械。
【請求項２０】
前記筐体は、更に、前記ホッパ部と前記ベース部との間に接続されたハンドル部を備える、請求項１に記載の冷凍菓子機械。
【請求項２１】
前記モータは、前記筐体内に配置され、前記モータの前記駆動シャフトが前記ハンドル部に対して角度を有して固定された軸の周りを回転する、請求項２０に記載の冷凍菓子機械。
【請求項２２】
前記ハンドル部に対する前記軸の前記角度は、前記ハンドル部に対して実質的に垂直である方向および前記ハンドル部に対して実質的に平行である方向からオフセットしている、請求項２１に記載の冷凍菓子機械。
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月10日(2020.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技を行うことが可能であり、遊技者にとって有利な有利状態に制御可能な遊技機であって、
第１識別情報の可変表示と第２識別情報の可変表示とを並行して実行可能な可変表示実行手段と、
前記有利状態を含む複数種類の遊技状態に制御可能な状態制御手段と、
第１識別情報および第２識別情報のいずれか一方の識別情報の可変表示に対応して演出識別情報の可変表示を実行可能な演出実行手段と、
を備え、
前記遊技状態として、前記有利状態とは異なる特殊状態と前記特殊状態により遊技価値が付与されやすい特別状態とを含み、
前記状態制御手段により、遊技状態を一の種類の遊技状態から他の種類の遊技状態に移行可能であり、
前記演出実行手段は、遊技状態の移行に対応して、演出識別情報の可変表示領域に特別画像を表示し、演出識別情報の視認性を低下させる
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
（手段Ａ）本発明による遊技機は、遊技を行うことが可能であり、遊技者にとって有利な有利状態に制御可能な遊技機であって、第１識別情報の可変表示と第２識別情報の可変表示とを並行して実行可能な可変表示実行手段と、有利状態を含む複数種類の遊技状態に制御可能な状態制御手段と、第１識別情報および第２識別情報のいずれか一方の識別情報の可変表示に対応して演出識別情報の可変表示を実行可能な演出実行手段と、を備え、遊技状態として、有利状態とは異なる特殊状態と特殊状態により遊技価値が付与されやすい特別状態とを含み、状態制御手段により、遊技状態を一の種類の遊技状態から他の種類の遊技状態に移行可能であり、演出実行手段は、遊技状態の移行に対応して、演出識別情報の可変表示領域に特別画像を表示し、演出識別情報の視認性を低下させることを特徴とする。
（手段１）他の態様に係る遊技機は、遊技を行うことが可能であり、遊技者にとって有利な有利状態（例えば、大当り遊技状態）に制御可能な遊技機であって、第１識別情報（例えば、第１特別図柄）の可変表示と第２識別情報（例えば、第２特別図柄）の可変表示とを並行して実行可能な可変表示実行手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ１００におけるステップＳ２５Ａ，Ｓ２５Ｂを実行する部分）と、有利状態を含む複数種類の遊技状態（例えば、確変状態、高ベース状態、ＫＴ状態）に制御可能な状態制御手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ１００におけるステップＳ２５Ａ，Ｓ２５Ｂ，Ｓ２５Ｃを実行する部分）と、第１識別情報および第２識別情報のいずれか一方の識別情報の可変表示に対応して演出識別情報の可変表示を実行可能な演出実行手段（例えば、演出制御用ＣＰＵ１２０におけるステップＳ１７１〜Ｓ１７３を実行する部分）と、を備え、状態制御手段により、遊技状態を一の種類の遊技状態から他の種類の遊技状態に移行可能であり（例えば、ＫＴ状態から非ＫＴ状態へ移行可能）、演出実行手段は、遊技状態の移行に対応して、演出識別情報の可変表示を実行する表示領域（例えば、飾り図柄表示領域０６４ＩＷ０１０）に特別画像（例えば、図９−４６に示すシャッター演出画像０６４ＩＷ０１７）を表示し、演出識別情報の視認性を低下させることを特徴とする。そのような構成によれば、遊技状態の移行に対応して演出識別情報の視認性が低下することにより、遊技状態の変化を考慮した適切な制御を実現することができる。
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月10日(2020.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技を行うことが可能であり、遊技者にとって有利な有利状態に制御可能な遊技機であって、
第１識別情報の可変表示と第２識別情報の可変表示とを並行して実行可能な可変表示実行手段と、
前記有利状態を含む複数種類の遊技状態に制御可能な状態制御手段と、
第１識別情報および第２識別情報のいずれか一方の識別情報の可変表示に対応して演出識別情報の可変表示を実行可能な演出実行手段と、
を備え、
前記遊技状態として、前記有利状態とは異なる特殊状態と、前記特殊状態により遊技価値が付与されやすい特別状態と、を含み、
前記演出実行手段は、
第１識別情報の可変表示に対応して演出識別情報の可変表示を実行した後、特定条件が成立したことにもとづいて第２識別情報の可変表示に対応して演出識別情報の可変表示を実行し、前記特定条件の成立後に該特定条件とは異なる特別条件が成立したことにもとづいて第１識別情報の可変表示に対応して演出識別情報の可変表示を実行し、
前記特別条件が成立したことにもとづいて第１識別情報の可変表示を行うときは、前記特定条件が成立したときの演出識別情報の可変表示の表示結果とは異なる表示結果を示すように演出識別情報を表示する
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
（手段Ａ）本発明による遊技機は、遊技を行うことが可能であり、遊技者にとって有利な有利状態に制御可能な遊技機であって、第１識別情報の可変表示と第２識別情報の可変表示とを並行して実行可能な可変表示実行手段と、有利状態を含む複数種類の遊技状態に制御可能な状態制御手段と、第１識別情報および第２識別情報のいずれか一方の識別情報の可変表示に対応して演出識別情報の可変表示を実行可能な演出実行手段と、を備え、遊技状態として、有利状態とは異なる特殊状態と、特殊状態により遊技価値が付与されやすい特別状態と、を含み、演出実行手段は、第１識別情報の可変表示に対応して演出識別情報の可変表示を実行した後、特定条件が成立したことにもとづいて第２識別情報の可変表示に対応して演出識別情報の可変表示を実行し、特定条件の成立後に該特定条件とは異なる特別条件が成立したことにもとづいて第１識別情報の可変表示に対応して演出識別情報の可変表示を実行し、特別条件が成立したことにもとづいて第１識別情報の可変表示を行うときは、特定条件が成立したときの演出識別情報の可変表示の表示結果とは異なる表示結果を示すように演出識別情報を表示することを特徴とする。
（手段１）他の態様に係る遊技機は、遊技を行うことが可能であり、遊技者にとって有利な有利状態（例えば、大当り遊技状態）に制御可能な遊技機であって、第１識別情報（例えば、第１特別図柄）の可変表示と第２識別情報（例えば、第２特別図柄）の可変表示とを並行して実行可能な可変表示実行手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ１００におけるステップＳ２５Ａ，Ｓ２５Ｂを実行する部分）と、有利状態を含む複数種類の遊技状態（例えば、確変状態、高ベース状態、ＫＴ状態）に制御可能な状態制御手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ１００におけるステップＳ２５Ａ，Ｓ２５Ｂ，Ｓ２５Ｃを実行する部分）と、第１識別情報および第２識別情報のいずれか一方の識別情報の可変表示に対応して演出識別情報の可変表示を実行可能な演出実行手段（例えば、演出制御用ＣＰＵ１２０におけるステップＳ１７１〜Ｓ１７３を実行する部分）と、を備え、演出実行手段は、第１識別情報の可変表示に対応して演出識別情報の可変表示を実行した後、特定条件（例えば、確変状態や高ベース状態への移行）が成立したことにもとづいて第２識別情報の可変表示に対応して演出識別情報の可変表示を実行し（例えば、演出制御用ＣＰＵ１２０におけるステップ０６４ＩＷＳ６３６，Ｓ８１２，Ｓ８１４を実行する部分）、特定条件の成立後に該特定条件とは異なる特別条件（例えば、低確率／高ベース状態での最終変動（例えば、５０変動目）を実行）が成立したことにもとづいて第１識別情報の可変表示に対応して演出識別情報の可変表示を実行し（例えば、演出制御用ＣＰＵ１２０におけるステップ０６４ＩＷＳ６４１，Ｓ８１２，Ｓ８１３を実行する部分）、特別条件が成立したことにもとづいて第１識別情報の可変表示を行うときには、特定条件が成立したときの演出識別情報の可変表示の表示結果とは異なる表示結果を示すように演出識別情報を表示する（例えば、演出制御用ＣＰＵ１２０は、ステップ０６４ＩＷＳ６４２を実行することにより、図９−４７（２）の右欄に示すように、飾り図柄を初期出目に切り替えて表示する）。そのような構成によれば、遊技状態の変化を考慮した適切な制御を実現することができる。
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月10日(2020.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技を行うことが可能な遊技機であって、
複数種類の遊技状態に制御可能な状態制御手段と、
第１特別識別情報の可変表示および第２特別識別情報の可変表示を実行可能な可変表示実行手段と、
第１特別識別情報の可変表示に対応して演出識別情報の可変表示を実行する第１演出可変表示と、第２特別識別情報の可変表示に対応して演出識別情報の可変表示を実行する第２演出可変表示とのいずれか一方を可変表示として実行可能な演出可変表示実行手段と、を備え、
前記可変表示実行手段は、第１特別識別情報の可変表示と第２特別識別情報の可変表示とを並行して実行可能であり、
前記演出可変表示実行手段は、遊技状態の移行に対応する状態移行情報を受信したことにもとづいて、前記第１演出可変表示と前記第２演出可変表示とのうちの一方から他方に可変表示を切り替える
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
（手段Ａ）本発明による遊技機は、遊技を行うことが可能な遊技機であって、複数種類の遊技状態に制御可能な状態制御手段と、第１特別識別情報の可変表示および第２特別識別情報の可変表示を実行可能な可変表示実行手段と、第１特別識別情報の可変表示に対応して演出識別情報の可変表示を実行する第１演出可変表示と、第２特別識別情報の可変表示に対応して演出識別情報の可変表示を実行する第２演出可変表示とのいずれか一方を可変表示として実行可能な演出可変表示実行手段と、を備え、前記可変表示実行手段は、第１特別識別情報の可変表示と第２特別識別情報の可変表示とを並行して実行可能であり、前記演出可変表示実行手段は、遊技状態の移行に対応する状態移行情報を受信したことにもとづいて、前記第１演出可変表示と前記第２演出可変表示とのうちの一方から他方に可変表示を切り替えることを特徴とする。
（手段１）他の態様に係る遊技機は、遊技を行うことが可能な遊技機であって、複数種類の遊技状態（例えば、大当り遊技状態、確変状態、高ベース状態）に制御可能な状態制御手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ１００におけるステップＳ１２２〜Ｓ１２５を実行する部分）と、第１特別識別情報（例えば、第１特別図柄）の可変表示および第２特別識別情報（例えば、第２特別図柄）の可変表示を実行可能な可変表示実行手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ１００におけるステップＳ２５Ａ，Ｓ２５Ｂを実行する部分）と、第１特別識別情報の可変表示に対応して演出識別情報（例えば、飾り図柄）の可変表示を実行する第１演出可変表示と、第２特別識別情報の可変表示に対応して演出識別情報の可変表示を実行する第２演出可変表示とのいずれか一方を可変表示として実行可能な演出可変表示実行手段（例えば、演出制御用ＣＰＵ１２０におけるステップＳ１７１〜Ｓ１７３を実行する部分）とを備え、演出可変表示実行手段は、遊技状態の移行に対応する状態移行情報（例えば、右打ち点灯開始指定コマンド、右打ち点灯終了指定コマンド）を受信したことにもとづいて、第１演出可変表示と第２演出可変表示とのうちの一方から他方に可変表示を切り替える（例えば、演出制御用ＣＰＵ１２０は、ステップ０６４ＩＷＳ６３３，Ｓ６３６，Ｓ６３７，Ｓ６４１，Ｓ８１２〜Ｓ８１４を実行することにより、右打ち点灯開始指定コマンドを受信したことにもとづいて第２特別図柄に対応した飾り図柄の表示に切り替え、右打ち点灯終了指定コマンドを受信したことにもとづいて第１特別図柄に対応した飾り図柄の表示に切り替える）ことを特徴とする。そのような構成によれば、状態移行情報を受信したこともとづいて、第１演出可変表示と第２演出可変表示とのうちの一方から他方に可変表示を切り替え可能となるので、演出制御の処理負担を軽減することができる。
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月10日(2020.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技を行うことが可能であり、遊技者にとって有利な有利状態に制御可能な遊技機であって、
第１識別情報の可変表示と第２識別情報の可変表示とを並行して実行可能な可変表示実行手段と、
前記有利状態に制御されるか否かを報知する所定演出の実行に対応した特定可変表示パターンを含む複数種類の可変表示パターンを決定可能な可変表示パターン決定手段と、
有利度が異なる複数種類の前記有利状態を含む複数種類の遊技状態に制御可能な状態制御手段と、を備え、
前記状態制御手段は、
前記有利状態とは異なる特殊状態に制御可能であり、
前記特殊状態により遊技価値が付与されやすい特別状態に制御可能であり、
前記有利状態への制御に対応する可変表示が終了するときの遊技状態が所定状態であるか否かに応じて、該有利状態の終了後に異なる遊技状態に制御可能であり、
前記可変表示パターン決定手段は、前記所定状態に制御されている期間のうち特定期間の後に実行される前記有利状態への制御に対応する可変表示では、前記特定期間内に実行される可変表示に比べて、前記特定可変表示パターンよりも可変表示期間が短い特別可変表示パターンを高い割合で決定する
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
（手段Ａ）本発明による遊技機は、遊技を行うことが可能であり、遊技者にとって有利な有利状態に制御可能な遊技機であって、第１識別情報の可変表示と第２識別情報の可変表示とを並行して実行可能な可変表示実行手段と、有利状態に制御されるか否かを報知する所定演出の実行に対応した特定可変表示パターンを含む複数種類の可変表示パターンを決定可能な可変表示パターン決定手段と、有利度が異なる複数種類の有利状態を含む複数種類の遊技状態に制御可能な状態制御手段と、を備え、状態制御手段は、有利状態とは異なる特殊状態に制御可能であり、特殊状態により遊技価値が付与されやすい特別状態に制御可能であり、有利状態への制御に対応する可変表示が終了するときの遊技状態が所定状態であるか否かに応じて、該有利状態の終了後に異なる遊技状態に制御可能であり、可変表示パターン決定手段は、所定状態に制御されている期間のうち特定期間の後に実行される有利状態への制御に対応する可変表示では、特定期間内に実行される可変表示に比べて、特定可変表示パターンよりも可変表示期間が短い特別可変表示パターンを高い割合で決定することを特徴とする。
（手段１）他の態様に係る遊技機は、遊技を行うことが可能であり、遊技者にとって有利な有利状態（例えば、大当り遊技状態）に制御可能な遊技機であって、第１識別情報（例えば、第１特別図柄）の可変表示と第２識別情報（例えば、第２特別図柄）の可変表示とを並行して実行可能な可変表示実行手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ１００におけるステップＳ２５Ａ，Ｓ２５Ｂを実行する部分）と、有利状態に制御されるか否かを報知する所定演出（例えば、スーパーリーチ演出）の実行に対応した特定可変表示パターン（例えば、第２変動パターン＃０９，＃１２，＃１３）を含む複数種類の可変表示パターンを決定可能な可変表示パターン決定手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ１００における第１特別図柄プロセス処理（ステップＳ２５Ａ）のステップＳ１１１Ａおよび第２特別図柄プロセス処理（ステップＳ２５Ｂ）のステップＳ１１１Ａと同様の処理を実行する部分）と、有利度が異なる複数種類の有利状態（例えば、１０Ｒ確変大当り、６Ｒ確変大当り、２Ｒ確変大当り、６Ｒ通常大当り、２Ｒ通常大当り）を含む複数種類の遊技状態（例えば、確変状態、高ベース状態）に制御可能な状態制御手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ１００におけるステップＳ１２２〜Ｓ１２５を実行する部分）とを備え、状態制御手段は、有利状態への制御に対応する可変表示が終了するときの遊技状態が所定状態（例えば、高ベース状態）であるか否かに応じて、該有利状態の終了後に異なる遊技状態に制御可能であり（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ１００は、ステップ０６４ＩＷＳ２２０９〜Ｓ２２１２を実行することにより、２Ｒ確変大当りにもとづく大当り遊技の終了後に、大当り遊技開始前が確変状態や高ベース状態であった場合には高確率／低ベース状態（第２ＫＴ状態）に制御し、大当り遊技開始前が低確率／低ベース状態であった場合には高確率／高ベース状態（第１ＫＴ状態）に制御する）、可変表示パターン決定手段は、所定状態に制御されている期間のうち特定期間の後（例えば、低確率／高ベース状態における最終変動（５０変動目））に実行される有利状態への制御に対応する可変表示では、特定期間内（例えば、低確率／高ベース状態における１〜４９変動目）に実行される可変表示に比べて、特定可変表示パターンよりも可変表示期間が短い特別可変表示パターン（例えば、第１変動パターン＃０７〜＃０９、第２変動パターン＃１４〜＃１６）を高い割合で決定する（例えば、図９−７（Ｂ）、図９−８（Ｇ）参照）ことを特徴とする。そのような構成によれば、可変表示期間が短い特別可変表示パターンを用いることによって、特別可変表示パターンによる可変表示が終了するまでの間に他方の識別情報の可変表示が開始されにくくなり、遊技状態に変化を考慮した適切な制御を実現することができる。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月29日(2020.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ処理装置の状態を予測する状態予測装置において、
正常な状態の前記プラズマ処理装置のモニタされたデータから前記プラズマ処理装置の状態を示す第一の特徴量が求められ、
前記プラズマ処理装置のモニタされたデータから前記プラズマ処理装置の状態を示す第二の特徴量が求められ、
前記求められた第二の特徴量が前記第一の特徴量を用いて演算され、
前記演算された第二の特徴量の大きいものから順番に選択された特徴量と同一の種類の前記第一の特徴量を用いて前記プラズマ処理装置の状態を予測するモデルが生成され、
前記生成されたモデルを用いて前記プラズマ処理装置の状態が予測されることを特徴とする状態予測装置。
【請求項２】
請求項１に記載の状態予測装置において、
前記生成されたモデルは、前記プラズマ処理装置の状態を予測する毎に更新されることを特徴とする状態予測装置。
【請求項３】
請求項１に記載の状態予測装置において、
前記演算された第二の特徴量の各々は、複数のプラズマ処理における前記第一の特徴量の各々の平均値を前記第二の特徴量の各々から減じた値の各々を前記複数のプラズマ処理における前記第一の特徴量の各々の標準偏差により除した値の各々であることを特徴とする状態予測装置。
【請求項４】
試料が処理される処理室と、前記試料を前記処理室に搬送し前記処理室に接続された搬送室とを備える半導体製造装置において、
備える各構成のいずれかにおける正常な状態時にモニタされたデータから前記備える各構成のいずれかの状態を示す第一の特徴量が求められ、
前記備える各構成のいずれかにおけるモニタされたデータから前記いずれかの状態を示す第二の特徴量が求められ、
前記求められた第二の特徴量が前記第一の特徴量を用いて演算され、
前記演算された第二の特徴量の大きいものから順番に選択された特徴量と同一の種類の前記第一の特徴量を用いて前記備える各構成のいずれかの状態を予測するモデルが生成され、
前記生成されたモデルを用いて前記備える各構成のいずれかの状態が予測される制御装置をさらに備えることを特徴とする半導体製造装置。
【請求項５】
試料が処理される処理室と、前記試料を前記処理室に搬送し前記処理室に接続された搬送室とを備える半導体製造装置において、
備える各構成のいずれかにおける正常な状態時にモニタされたデータから前記備える各構成のいずれかの状態を示す第一の特徴量が求められ、
前記備える各構成のいずれかにおけるモニタされたデータから前記いずれかの状態を示す第二の特徴量が求められ、
前記求められた第二の特徴量が前記第一の特徴量を用いて演算され、
前記演算された第二の特徴量の大きいものから順番に選択された特徴量と同一の種類の前記第一の特徴量を用いて前記備える各構成のいずれかの状態を予測するモデルが生成され、
前記生成されたモデルを用いて前記備える各構成のいずれかの状態が予測される状態予測装置をさらに備えることを特徴とする半導体製造装置。
【請求項６】
請求項４または請求項５に記載の半導体製造装置において、
前記備える各構成のいずれかは、前記処理室または前記搬送室であることを特徴とする半導体製造装置。
【請求項７】
請求項６に記載の半導体製造装置において、
前記演算された第二の特徴量の各々は、複数の処理における前記第一の特徴量の各々の平均値を前記第二の特徴量の各々から減じた値の各々を前記複数の処理における前記第一の特徴量の各々の標準偏差により除した値の各々であることを特徴とする半導体製造装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月27日(2020.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マグネシウムアノードを保護するための方法であって、
前記マグネシウムアノードのすべての露出表面を、
メタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）と
メタクリル酸３−スルホプロピル（ＳＰＡ）の塩とからなる群より選択される少なくとも１種のモノマーを含有するモノマー溶液と接触させる工程と、
前記モノマー溶液中の前記少なくとも１種のモノマーを電解重合させることによって、前記マグネシウムアノードのすべての露出表面上にポリマー保護層を形成する工程とを含む、方法。
【請求項２】
前記マグネシウムアノードを電気化学セル中に組み込み、前記マグネシウムアノードを１つ以上の電位窓内において電位サイクリングに露出させることによって、前記電解重合工程を行なう、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記１つ以上の電位窓は、Ａｇ／Ａｇ＋基準で−２Ｖ〜−４Ｖまたはそれより狭い電位窓を含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記１つ以上の電位窓は、Ａｇ／Ａｇ＋基準で約−２．０Ｖ〜−２．５Ｖまたはそれより狭い電位窓を含む、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記マグネシウムアノードは３Ｄマグネシウムアノードを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記マグネシウムアノードはマグネシウムフォームアノードを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記マグネシウムフォームアノードは、マグネシウム元素のみで形成されるアノードを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記マグネシウムフォームアノードは、金属フォーム基材上にめっきされたマグネシウムで形成されるアノードを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記金属フォーム基材は銅フォームを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記少なくとも１種のモノマーはＧＭＡを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記少なくとも１種のモノマーはメタクリル酸３−スルホプロピルの塩を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記メタクリル酸３−スルホプロピルの塩は（メタクリル酸３ースルホプロピル）カリウムである、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記少なくとも１種のモノマーは、ＧＭＡとメタクリル酸３−スルホプロピルの塩との混合物を含む、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月16日(2020.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１導電形の第１半導体層と、第２導電形の第２半導体層と、を含む半導体部と、
前記半導体部の表面上に設けられた第１電極と、
前記半導体部の裏面上に設けられた第２電極と、
前記半導体部と前記第１電極との間に設けられ、前記半導体部の表面に第１絶縁膜を介して向き合い、前記第１電極から第２絶縁膜により電気的に絶縁された制御電極と、
を備え、
前記第２半導体層は、前記半導体部の表面に沿った第１方向おいて前記第１半導体層の一部と前記第１半導体層の別の一部との間に位置し、
前記半導体部は、前記第１半導体層および前記第２半導体層に接する第２導電形の第３半導体層と、前記第３半導体層中に選択的に設けられた第１導電形の第４半導体層と、をさらに含み、前記半導体部の表面は、前記第３半導体層の表面および前記第４半導体層の表面を含み、
前記第３半導体層は、前記第１半導体層の前記一部中に位置する第１端部と、前記第２半導体層中に位置する第２端部と、を有し、
前記第４半導体層は、前記第３半導体層の前記第２端部に設けられ、
前記第１電極は、前記第３半導体層および前記第４半導体層に電気的に接続され、
前記制御電極は、前記第４半導体層と第１半導体層の前記別の一部との間に位置する前記第３半導体層の一部および前記第２半導体層の一部、および、前記第１半導体層の前記別の一部に向き合う半導体装置。
【請求項２】
前記第１電極と前記第３半導体層の前記第１端部との間には、前記第４半導体層は設けられない請求項１記載の半導体装置。
【請求項３】
前記第１半導体層および前記第２半導体層は、前記第１方向と交差し、前記半導体部の前記表面に沿った第２方向、および、前記半導体部の前記表面と交差する第３方向に延びる請求項１または２に記載の半導体装置。
【請求項４】
前記第３半導体層、前記第４半導体層および前記制御電極は、前記第２方向に延びる請求項３記載の半導体装置。
【請求項５】
前記半導体部は、第２導電形の第５半導体層と、第１導電形の第６半導体層と、をさらに含み、前記第５半導体層は、前記第１半導体層の前記別の一部および前記第２半導体層に接し、前記第６半導体層は、前記第５半導体層中に選択的に設けられ、
前記第１電極は、前記第５半導体層および前記第６半導体層に電気的に接続され、
前記半導体部は、前記第２方向に交互に配置された第１領域と第２領域とを含み、
前記第１領域は、前記第３半導体層と前記第４半導体層とを含み、
前記第２領域は、前記第５半導体層と、前記第６半導体層と、を含み、
前記半導体部の前記表面は、前記第５半導体層の表面および前記第６半導体層の表面を含み、
前記第５半導体層は、前記第１半導体層の前記別の一部中に位置する第３端部と、前記第２半導体層中に位置する第４端部と、を有し、
前記第６半導体層は、前記第５半導体層の第４端部に設けられた請求項３記載の半導体装置。
【請求項６】
第１導電形の第１半導体層を含む半導体部と、
前記半導体部の表面上に設けられた第１電極と、
前記半導体部の裏面上に設けられた第２電極と、
前記半導体部と前記第１電極との間に位置し、前記半導体部中に絶縁膜を介して設けられた制御電極と、
を備え、
前記半導体部は、前記第１半導体層と前記第１電極との間に設けられた第２導電形の第２半導体層と、前記第２半導体層と前記第１電極との間に選択的に設けられた第１導電形の第３半導体層と、前記第１半導体層と前記制御電極との間に選択的に設けられ、前記第２半導体層につながった第２導電形の第４半導体層と、をさらに含み、
前記制御電極は、前記半導体層の表面に沿った第１方向と交差する第１面と、前記第１方向において前記第１面と対向する第２面と、を有し、
前記第４半導体層は、前記第２面側において前記絶縁膜に沿って延在し、前記第２面側において前記絶縁膜に接し、前記絶縁膜上において前記第２半導体層に接続され、
前記制御電極の前記第１面は、前記絶縁膜を介して前記第１半導体層、前記第２半導体層および前記第３半導体層に向き合い、
前記制御電極の前記第２面は、前記絶縁膜を介して前記第２半導体層および前記第４半導体層に向き合う半導体装置。
【請求項７】
前記半導体部は、複数の前記第１半導体層と、前記第１方向において前記複数の第１半導体層と交互に配置された第２導電形の複数の第５半導体層と、をさらに含み、
前記第２半導体層は、前記第５半導体層と前記第１電極との間に位置する請求項６記載の半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
実施形態に係る半導体装置は、第１導電形の第１半導体層と、第２導電形の第２半導体層と、を含む半導体部と、前記半導体部の表面上に設けられた第１電極と、前記半導体部の裏面上に設けられた第２電極と、前記半導体部と前記第１電極との間に設けられ、前記半導体部の表面に第１絶縁膜を介して向き合い、前記第１電極から第２絶縁膜により電気的に絶縁された制御電極と、を備える。前記第２半導体層は、前記半導体部の表面に沿った第１方向おいて前記第１半導体層の一部と前記第１半導体層の別の一部との間に位置する。前記半導体部は、前記第１半導体層および前記第２半導体層に接する第２導電形の第３半導体層と、前記第３半導体層中に選択的に設けられた第１導電形の第４半導体層と、をさらに含む。前記半導体部の表面は、前記第３半導体層の表面および前記第４半導体層の表面を含む。前記第３半導体層は、前記第１半導体層の前記一部中に位置する第１端部と、前記第２半導体層中に位置する第２端部と、を有する。前記第４半導体層は、前記第３半導体層の前記第２端部に設けられ、前記第１電極は、前記第３半導体層および前記第４半導体層に電気的に接続され、前記制御電極は、前記第４半導体層と第１半導体層の前記別の一部との間に位置する前記第３半導体層の一部および前記第２半導体層の一部、および、前記第１半導体層の前記別の一部に向き合う。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2020031088.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月19日(2020.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスター／スレーブ方式の無線接続手段を含む通信プロトコルの無線通信を行う１つの製品からなる無線製品と、
前記通信プロトコル以外のプロトコルからなる拠点内ネットワークと、
前記無線製品および前記拠点内ネットワークを有する１つの拠点の商用電源コンセントへの差込手段により、前記商用電源コンセントが設置された任意の場所への搬入性を有し、前記場所において前記無線製品を前記拠点内ネットワークに接続させるプロトコル変換装置と、
を備えるシステムに用いることを特徴とするプロトコル変換装置。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムまたはプロトコル変換装置を実施させることを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記従来の問題点を解決するために本発明のシステムは、マスター／スレーブ方式の無線接続手段を含む通信プロトコルの無線通信を行う１つの製品からなる無線製品と、前記通信プロトコル以外のプロトコルからなる拠点内ネットワークと、前記無線製品および前記拠点内ネットワークを有する１つの拠点の商用電源コンセントへの差込手段により、前記商用電源コンセントが設置された任意の場所への搬入性を有し、前記場所において前記無線製品を前記拠点内ネットワークに接続させるプロトコル変換装置と、を備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
従来の技術は、プロトコル変換装置が、商用電源コンセントが設置された任意の場所への搬入性を有し、場所において無線製品を拠点内ネットワークに接続させることができないと言った問題があった。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
そこで、本発明の目的は、プロトコル変換装置が、商用電源コンセントが設置された任意の場所への搬入性を有し、場所において無線製品を拠点内ネットワークに接続させることができるシステムを提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明によれば、システムは、プロトコル変換装置が、商用電源コンセントが設置された任意の場所への搬入性を有し、場所において無線製品を拠点内ネットワークに接続させることができる。
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月13日(2020.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体層上方の、Ｔｉ又はＭｏを有し、膜厚が２０ｎｍ〜２００ｎｍである第１の導電層と、
前記第１の導電層上方の、Ａｌを有し、膜厚が０．１μｍ〜２μｍである第２の導電層と、
前記第２の導電層上方の平坦化絶縁膜と、
前記平坦化絶縁膜上方の第３の導電層と、を有し、
前記第１の導電層は、前記半導体層と電気的に接続され、
前記第２の導電層は、前記第１の導電層と接する領域を有し、
前記第２の導電層の膜厚は、前記第１の導電層の膜厚より大きく、
前記平坦化絶縁膜は、コンタクトホールを有し、
前記コンタクトホールと重なる前記第１の導電層の端は、前記平坦化絶縁膜と重ならない第１の領域を有し、
前記コンタクトホールと重なる前記第２の導電層の端は、前記平坦化絶縁膜と重ならない第２の領域を有し、
前記第３の導電層は、前記コンタクトホールにおいて前記第１の領域及び前記第２の領域と接する領域を有する、半導体装置。
【請求項２】
半導体層上方の、Ｔｉ又はＭｏを有し、膜厚が２０ｎｍ〜２００ｎｍである第１の導電層と、
前記第１の導電層上方の、Ａｌを有し、膜厚が０．１μｍ〜２μｍである第２の導電層と、
前記第２の導電層上方の平坦化絶縁膜と、
前記平坦化絶縁膜上方の第３の導電層と、を有し、
前記第１の導電層は、前記半導体層と電気的に接続され、
前記第２の導電層は、前記第１の導電層と接する領域を有し、
前記第２の導電層の膜厚は、前記第１の導電層の膜厚より大きく、
前記平坦化絶縁膜は、コンタクトホールを有し、
上面視において、前記コンタクトホールより露出した前記第１の導電層の端は、前記平坦化絶縁膜と重ならない第１の領域を有し、
前記上面視において、前記コンタクトホールより露出した前記第２の導電層の端は、前記平坦化絶縁膜と重ならない第２の領域を有し、
前記第３の導電層は、前記コンタクトホールにおいて前記第１の領域及び前記第２の領域と接する領域を有する、半導体装置。
【請求項３】
半導体層上方の、Ｔｉ又はＭｏを有し、膜厚が２０ｎｍ〜２００ｎｍである第１の導電層と、
前記第１の導電層上方の、Ａｌを有し、膜厚が０．１μｍ〜２μｍである第２の導電層と、
前記第２の導電層上方の平坦化絶縁膜と、
前記平坦化絶縁膜上方の第３の導電層と、を有し、
前記第１の導電層は、前記半導体層と電気的に接続され、
前記第２の導電層は、前記第１の導電層と接する領域を有し、
前記第２の導電層の膜厚は、前記第１の導電層の膜厚より大きく、
前記平坦化絶縁膜は、コンタクトホールを有し、
前記コンタクトホールと重なる前記第１の導電層の端は、前記平坦化絶縁膜と重ならない第１の領域を有し、
前記コンタクトホールと重なる前記第２の導電層の端は、前記平坦化絶縁膜と重ならない第２の領域を有し、
前記第３の導電層は、前記コンタクトホールにおいて前記第１の領域及び前記第２の領域と接する領域を有し、
断面視において、前記第１の領域のテーパ角は、前記第２の領域のテーパ角と異なる、半導体装置。
【請求項４】
半導体層上方の、Ｔｉ又はＭｏを有し、膜厚が２０ｎｍ〜２００ｎｍである第１の導電層と、
前記第１の導電層上方の、Ａｌを有し、膜厚が０．１μｍ〜２μｍである第２の導電層と、
前記第２の導電層上方の平坦化絶縁膜と、
前記平坦化絶縁膜上方の第３の導電層と、を有し、
前記第１の導電層は、前記半導体層と電気的に接続され、
前記第２の導電層は、前記第１の導電層と接する領域を有し、
前記第２の導電層の膜厚は、前記第１の導電層の膜厚より大きく、
前記平坦化絶縁膜は、コンタクトホールを有し、
上面視において、前記コンタクトホールより露出した前記第１の導電層の端は、前記平坦化絶縁膜と重ならない第１の領域を有し、
前記上面視において、前記コンタクトホールより露出した前記第２の導電層の端は、前記平坦化絶縁膜と重ならない第２の領域を有し、
前記第３の導電層は、前記コンタクトホールにおいて前記第１の領域及び前記第２の領域と接する領域を有し、
断面視において、前記第１の領域のテーパ角は、前記第２の領域のテーパ角と異なる、半導体装置。
【請求項５】
半導体層上方の、Ｔｉ又はＭｏを有し、膜厚が２０ｎｍ〜２００ｎｍである第１の導電層と、
前記第１の導電層上方の、Ａｌを有し、膜厚が０．１μｍ〜２μｍである第２の導電層と、
前記第２の導電層上方の平坦化絶縁膜と、
前記平坦化絶縁膜上方の第３の導電層と、を有し、
前記第１の導電層は、前記半導体層と電気的に接続され、
前記第２の導電層は、前記第１の導電層と接する領域を有し、
前記第２の導電層の膜厚は、前記第１の導電層の膜厚より大きく、
前記平坦化絶縁膜は、コンタクトホールを有し、
前記コンタクトホールと重なる前記第１の導電層の端は、前記平坦化絶縁膜と重ならない第１の領域を有し、
前記コンタクトホールと重なる前記第２の導電層の端は、前記平坦化絶縁膜と重ならない第２の領域を有し、
前記第３の導電層は、前記コンタクトホールにおいて前記第１の領域及び前記第２の領域と接する領域を有し、
前記第１の導電層の端のテーパ角は、前記第２の導電層の端のテーパ角と異なる、半導体装置。
【請求項６】
半導体層上方の、Ｔｉ又はＭｏを有し、膜厚が２０ｎｍ〜２００ｎｍである第１の導電層と、
前記第１の導電層上方の、Ａｌを有し、膜厚が０．１μｍ〜２μｍである第２の導電層と、
前記第２の導電層上方の平坦化絶縁膜と、
前記平坦化絶縁膜上方の第３の導電層と、を有し、
前記第１の導電層は、前記半導体層と電気的に接続され、
前記第２の導電層は、前記第１の導電層と接する領域を有し、
前記第２の導電層の膜厚は、前記第１の導電層の膜厚より大きく、
前記平坦化絶縁膜は、コンタクトホールを有し、
上面視において、前記コンタクトホールより露出した前記第１の導電層の端は、前記平坦化絶縁膜と重ならない第１の領域を有し、
前記上面視において、前記コンタクトホールより露出した前記第２の導電層の端は、前記平坦化絶縁膜と重ならない第２の領域を有し、
前記第３の導電層は、前記コンタクトホールにおいて前記第１の領域及び前記第２の領域と接する領域を有し、
前記第１の導電層の端のテーパ角は、前記第２の導電層の端のテーパ角と異なる、半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月24日(2020.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技者に対して特典を付与するか否かを抽選可能な抽選手段と、複数の演出を実行可能な演出手段と、前記抽選手段の抽選結果に基づき前記演出手段に特定演出を実行させる制御を実行可能な演出制御手段と、を備えた遊技機において、
前記演出手段を第１の位置から前記第１の位置とは異なる第２の位置に移動可能な移動手段を備え、
前記移動手段は、前記演出手段の前記第２の位置から前記第１の位置への移動を、前記ゲームの開始に基づき実行可能とするとともに、前記演出手段を前記第２の位置から前記第１の位置まで移動させるまでの期間を、前記ゲームの実行に要する最短期間よりも長くなるように設定可能とする
ことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記演出制御手段は、前記特定演出を複数ゲームに跨り実行可能とするとともに、前記移動手段が前記演出手段を前記第２の位置から前記第１の位置への移動を開始する前記ゲームにおいて前記特定演出を開始可能とした
ことを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記課題を解決するために、本発明の遊技機は、遊技者に対して特典を付与するか否かを抽選可能な抽選手段と、複数の演出を実行可能な演出手段と、前記抽選手段の抽選結果に基づき前記演出手段に所定の演出を実行させる制御を実行可能な演出制御手段と、を備えた遊技機において、前記演出手段を第１の位置から前記第１の位置とは異なる第２の位置に移動可能な移動手段を備え、前記移動手段は、前記演出手段の前記第２の位置から前記第１の位置への移動を、前記ゲームの開始に基づき実行可能とするとともに、前記演出手段を前記第２の位置から前記第１の位置まで移動させるまでの期間を、前記ゲームの実行に要する最短期間よりも長くなるように設定可能な構成にした。
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月18日(2020.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技媒体を用いて遊技を行う遊技機であって、
第１位置と該第１位置とは異なる第２位置との間で移動可能な可動体と、
前記可動体の移動を案内する案内部材を含む案内ユニットと、を備え、
前記案内ユニットは、該案内ユニットに進入した遊技媒体を排出可能な複数の排出部と、該案内ユニットに進入した遊技媒体を排出部に向けて誘導可能な傾斜誘導部と、を有し、
前記可動体は、前記案内ユニットに進入した遊技媒体に接触可能に設けられ、移動するときに遊技媒体に接触することで該遊技媒体を前記複数の排出部のうちいずれかに誘導可能であり、
前記可動体が前記第１位置から前記第２位置へ移動するときと前記第２位置から前記第１位置へ移動するときとで、前記案内ユニットに進入した遊技媒体を異なる排出部から排出可能である
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
手段Ａの遊技機は、
遊技媒体を用いて遊技を行う遊技機であって、
第１位置と該第１位置とは異なる第２位置との間で移動可能な可動体と、
前記可動体の移動を案内する案内部材を含む案内ユニットと、を備え、
前記案内ユニットは、該案内ユニットに進入した遊技媒体を排出可能な複数の排出部と、該案内ユニットに進入した遊技媒体を排出部に向けて誘導可能な傾斜誘導部と、を有し、
前記可動体は、前記案内ユニットに進入した遊技媒体に接触可能に設けられ、移動するときに遊技媒体に接触することで該遊技媒体を前記複数の排出部のうちいずれかに誘導可能であり、
前記可動体が前記第１位置から前記第２位置へ移動するときと前記第２位置から前記第１位置へ移動するときとで、前記案内ユニットに進入した遊技媒体を異なる排出部から排出可能である
ことを特徴としている。
手段１の遊技機は、
遊技媒体（例えば、遊技球Ｐ）を用いて遊技を行う遊技機（例えば、パチンコ遊技機１）であって、
第１位置と該第１位置とは異なる第２位置との間で移動可能な可動体（例えば、可動体３０２Ｌ，３０２Ｒ）と、
前記可動体の移動を案内する案内部材（例えば、駆動軸３９０Ｌ，３９０Ｒなど）を含む案内ユニット（例えば、案内ユニット３８８）と、
を備え、
前記案内ユニットは、該案内ユニットに進入した遊技媒体を排出可能な複数の排出部（例えば、排出部４００Ａ，４００Ｂ，４０１Ａ，４０１Ｂ）を有し、
前記可動体は、
前記案内ユニットに進入した遊技媒体に接触可能に設けられ、移動するときに遊技媒体に接触することで該遊技媒体を前記複数の排出部のうちいずれかに誘導可能であり、
前記可動体が前記第１位置から前記第２位置へ移動するときと前記第２位置から前記第１位置へ移動するときとで、前記案内ユニットに進入した遊技媒体を異なる排出部から排出可能である（例えば、可動体３０２Ｌが第１位置に位置しているとき、または、第１位置と第２位置との間に位置（移動）しているときに、案内溝３８０Ｌにおける可動体３０２Ｌよりも第２位置側に遊技球Ｐが進入した場合にあっては、可動体３０２Ｌが第１位置から第２位置へ移動するときに該遊技球Ｐに接触して第２位置側に誘導することにより排出部４００Ｂから排出可能である。一方、可動体３０２Ｌが第２位置に位置しているとき、または、第１位置と第２位置との間に位置（移動）しているときに、案内溝３８０Ｌにおける可動体３０２Ｌよりも第１位置側に遊技球Ｐが進入している場合には、可動体３０２Ｌが第２位置から第１位置へ移動するときに該遊技球Ｐに接触して第１位置側に誘導することにより排出部４００Ａから排出可能である。図１８、図１９参照）
ことを特徴としている。
この特徴によれば、可動体が第１位置側または第２位置側のいずれに移動するときでも遊技媒体を排出することができるため、案内ユニットに進入した遊技媒体によって可動体の移動が阻害されることを抑制できる。