Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月30日(2020.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光層を有する発光素子であって、
前記発光層は、第１の有機化合物と、第２の有機化合物と、第３の有機化合物と、を有し、
前記第１の有機化合物および前記第２の有機化合物の一方のＬＵＭＯ準位は、前記第１の有機化合物および前記第２の有機化合物の他方のＬＵＭＯ準位以上であり、
前記第１の有機化合物および前記第２の有機化合物の一方のＨＯＭＯ準位は、前記第１の有機化合物および前記第２の有機化合物の他方のＨＯＭＯ準位以上であり、
前記第１の有機化合物と、前記第２の有機化合物と、が励起錯体を形成する組み合わせであり、
前記第１の有機化合物は、三重項励起エネルギーを発光に変換することができる機能を有し、
前記第３の有機化合物は、一重項励起エネルギーを発光に変換することができる機能を有し、
前記発光層が呈する発光は、前記第３の有機化合物が呈する発光を有する、発光素子。
【請求項２】
発光層を有する発光素子であって、
前記発光層は、第１の有機化合物と、第２の有機化合物と、第３の有機化合物と、を有し、
前記第１の有機化合物および前記第２の有機化合物の一方のＬＵＭＯ準位は、前記第１の有機化合物および前記第２の有機化合物の他方のＬＵＭＯ準位以上であり、
前記第１の有機化合物および前記第２の有機化合物の一方のＨＯＭＯ準位は、前記第１の有機化合物および前記第２の有機化合物の他方のＨＯＭＯ準位以上であり、
前記第１の有機化合物と、前記第２の有機化合物と、が励起錯体を形成する組み合わせであり、
前記第１の有機化合物は、蛍光を呈さず、且つ、燐光を呈することができる機能を有し、
前記第３の有機化合物は、蛍光を呈することができる機能を有し、
前記発光層が呈する発光は、前記第３の有機化合物が呈する発光を有する、発光素子。
【請求項３】
発光層を有する発光素子であって、
前記発光層は、第１の有機化合物と、第２の有機化合物と、第３の有機化合物と、を有し、
前記第１の有機化合物のＬＵＭＯ準位は、前記第２の有機化合物のＬＵＭＯ準位以上であり、
前記第１の有機化合物のＨＯＭＯ準位は、前記第２の有機化合物のＨＯＭＯ準位以上であり、
前記第１の有機化合物と、前記第２の有機化合物と、が励起錯体を形成する組み合わせであり、
前記第１の有機化合物は、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、またはＰｔを有し、
前記発光層が呈する発光は、前記第３の有機化合物が呈する発光を有する、発光素子。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、
前記第１の有機化合物の最低励起三重項エネルギー準位は、前記第２の有機化合物の最低励起三重項エネルギー準位以上である、発光素子。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記励起錯体は、前記第３の有機化合物へ励起エネルギーを供与する機能を有する、発光素子。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
前記励起錯体が呈する発光スペクトルは、前記第３の有機化合物の吸収スペクトルの最も長波長側の吸収帯と重なる領域を有する、発光素子。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項において、
前記第１の有機化合物は、イリジウムを有する、発光素子。
【請求項８】
請求項７において、
前記第１の有機化合物は、前記イリジウムに配位する配位子を有し、
前記配位子は、含窒素五員複素環骨格を有する、発光素子。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一項において、
前記第２の有機化合物は、電子を輸送することができる機能を有する、発光素子。
【請求項１０】
請求項９において、
前記第２の有機化合物は、π電子不足型複素芳香族骨格を有する、発光素子。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項１０のいずれか一項において、
前記第１の有機化合物は、室温で０％以上４０％以下の発光量子収率を有する、発光素子。
【請求項１２】
請求項１乃至請求項１１のいずれか一項において、
前記励起錯体は、前記第１の有機化合物が呈する発光の発光効率より高い発光効率を有する発光を呈する機能を有する、発光素子。
【請求項１３】
請求項１乃至請求項１２のいずれか一項に記載の発光素子と、
カラーフィルタまたはトランジスタの少なくとも一方と、を有する表示装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の表示装置と、
筐体またはタッチセンサの少なくとも一方と、を有する電子機器。
【請求項１５】
請求項１乃至請求項１２のいずれか一項に記載の発光素子と、
筐体またはタッチセンサの少なくとも一方と、を有する照明装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月14日(2020.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線自動識別（ＲＦＩＤ）デバイスを形成する方法であって、
感光性化合物を含む層を基板上へコーティングすることであって、前記感光性化合物を含む層は１平方メートル当たり５．０ミリグラム（ｍｇ／ｍ２）から１５０ｍｇ／ｍ２の銀濃度を有する、コーティングすることと、
前記感光性化合物を含む層の第１の部分を光パターンへ光源から暴露して、前記感光性化合物を含む層の前記第１の部分を金属層へ変換し、一方で前記感光性化合物を含む層の第２の部分は前記光パターンへ暴露されないままであることと、
前記感光性化合物を含む層の前記第２の部分を除去して、前記金属層を前記基板上に残すことと、および、
ＲＦＩＤ回路を前記金属層から形成することであって、前記ＲＦＩＤ回路を前記金属層から形成することは、少なくとも１つのアンテナを形成することと、
完成したＲＦＩＤトランスポンダを形成すること、を備え、
完成したＲＦＩＤトランスポンダを形成した後、少なくとも１つのアンテナは、アンテナの電気伝導性を増大または強化する追加の導電性構造を含まない、方法。
【請求項２】
前記光源からパターン化されたマスクまたはレチクルを介して光を伝送することにより前記光パターンを形成することを、さらに備える、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記光パターンを、前記感光性化合物を含む層上へ、レーザからのレーザビームを使用して直接的に書き込むことにより、前記光パターンを形成することを、さらに備える、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記金属層から前記少なくとも１つのアンテナを形成することは、送信アンテナおよび受信アンテナのうちの少なくとも１つを形成する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記ＲＦＩＤ回路を前記金属層から前記形成することは、マルチ共振器を前記金属層から形成する、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記感光性化合物はハロゲン化銀である、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記金属層は１００ナノメートル〜８００ナノメートルの厚さを有する銀層である、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記感光性化合物を含む層は、５０ｍｇ／ｍ２から１５０ｍｇ／ｍ２の銀濃度を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記感光性化合物を含む層は、１００ｍｇ／ｍ２から１５０ｍｇ／ｍ２の銀濃度を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
無線自動識別（ＲＦＩＤ）デバイスを形成する方法であって、
ハロゲン化銀を含む層を基板上へコーティングすることであって、前記ハロゲン化銀を含む層は１平方メートル当たり５．０ミリグラム（ｍｇ／ｍ２）から１５０ｍｇ／ｍ２の銀濃度を有する、コーティングすることと、
前記ハロゲン化銀を含む層の第１の部分を光パターンへ光源から暴露して、前記ハロゲン化銀を含む層の前記第１の部分を金属層へ変換し、一方で前記ハロゲン化銀を含む層の第２の部分は前記光パターンへ暴露されないままであることと、
前記ハロゲン化銀を含む層の前記第２の部分を除去して、前記金属層を前記基板上に残すことと、および、
ＲＦＩＤ回路を形成することであって、前記ＲＦＩＤ回路はアンテナおよび前記金属層から形成されるマルチ共振器のうちの少なくとも１つを備える、形成することと、
完成したＲＦＩＤトランスポンダを形成すること、を備え、
完成したＲＦＩＤトランスポンダを形成した後、少なくとも１つのアンテナは、アンテナの電気伝導性を増大または強化する追加の導電性構造を含まない、方法。
【請求項１１】
前記光源からパターン化されたマスクまたはレチクルを介して光を伝送することにより前記光パターンを形成することを、さらに備える、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記光パターンを前記ハロゲン化銀上へレーザからのレーザビームを使用して直接的に書き込むことにより、前記光パターンを形成することを、さらに備える、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記金属層は、１００ナノメートルから８００ナノメートルの厚さを有する銀層である、請求項６に記載の方法。
【請求項１４】
前記ハロゲン化銀を含む層は、５０ｍｇ／ｍ２から１５０ｍｇ／ｍ２の銀濃度を有する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
前記ハロゲン化銀を含む層は、１００ｍｇ／ｍ２から１５０ｍｇ／ｍ２の銀濃度を有する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１６】
前記金属層から前記ＲＦＩＤ回路を形成することは、さらに、マルチ共振器を形成する、請求項１０に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月19日(2019.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の搬送波周波数を有する変調された搬送波信号の形式である無線周波数（ＲＦ）信号を受信するように適合された受信機（１００）であって、
前記受信機（１００）は、
差動位相領域復調器（１０２，１０３）の入力で受信されたＲＦ信号を復調し、復調信号を出力するように適合された前記差動位相領域復調器（１０２，１０３）であって、前記ＲＦ信号に存在する搬送波周波数オフセット（ＣＦＯ）をＤＣオフセットに復調するように適合された前記差動位相領域復調器（１０２，１０３）と、
前記差動位相領域復調器の出力に接続され、前記復調信号を受信してハイパスフィルタリングする複数のハイパスフィルタ（４０４ａ−ｃ）と、
前記複数のハイパスフィルタ（４０４ａ−ｃ）の出力をモニタし、前記ＣＦＯに基づいて前記複数のハイパスフィルタ（４０４ａ−ｃ）の１つを選択するように適合されたフィルタ選択ユニット（４０４ｄ）とを備え、
前記複数のハイパスフィルタ（４０４ａ−ｃ）は、前記復調信号の第１の時間期間中に第１の組のフィルタ応答で動作し、前記復調信号の第２の時間期間中に第２の組のフィルタ応答で動作するように適合される受信機（１００）。
【請求項２】
前記第１の組のフィルタ応答における各フィルタ応答は、前記第２の組のフィルタ応答における対応するフィルタ応答を有し、
前記第２の組のフィルタ応答における前記対応するフィルタ応答の各々が、対応する第１のフィルタ応答よりも遅い請求項１に記載の受信機。
【請求項３】
前記復調信号はデータパケットの形式である請求項１又は２に記載の受信機。
【請求項４】
前記ハイパスフィルタは、データパケットの第１の部分上の第１の組のフィルタ応答で動作し、前記データパケットの第２の部分上の前記第２の部分上の第２の組のフィルタ応答で動作する請求項３に記載の受信機。
【請求項５】
前記復調信号の少なくとも一部を緩衝処理するために復調器の出力に接続されたバッファを備える請求項１〜４のうちのいずれか１つに記載の受信機。
【請求項６】
前記復調器の出力と前記ハイパスフィルタの出力に接続され、前記復調信号とフィルタリングされた復調信号との間の差に基づいて、前記バッファの入力に訂正信号を提供するように適合された比較器を備える請求項５に記載の受信機。
【請求項７】
所定の搬送波周波数を有する変調された搬送波信号を含む受信された無線周波数（ＲＦ）信号を処理する方法であって、
前記搬送波信号は搬送波周波数オフセットを含み、
前記方法は、
前記ＲＦ信号に存在する搬送波周波数オフセット（ＣＦＯ）がＤＣオフセットに復調されるように、差動位相領域復調器（１０２，１０３）を使用して受信された搬送波信号を復調するステップと、
複数のハイパスフィルタ（４０４ａ−ｃ）で復調信号を受信するステップと、
前記複数のハイパスフィルタ（４０４ａ−ｃ）の出力をモニタし、前記ＣＦＯに基づいて前記複数のハイパスフィルタ（４０４ａ−ｃ）の１つを選択するステップと、
前記復調信号の第１の時間期間中に前記複数のハイパスフィルタ（４０４ａ−ｃ）の第１の組のフィルタ応答を使用して、前記復調信号をハイパスフィルタリングし、前記復調信号の第２の時間期間中に前記複数のハイパスフィルタ（４０４ａ−ｃ）の第２の組のフィルタ応答を使用して前記復調信号をハイパスフィルタリングするステップとを含む方法。
【請求項８】
前記第１の組のフィルタ応答における各フィルタ応答は、第２の組のフィルタ応答において対応するフィルタ応答を有し、
前記第２の組のフィルタ応答における前記対応するフィルタ応答の各々が、対応する第１の組のフィルタ応答よりも遅い請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記復調信号の少なくとも一部を緩衝処理し、前記復調信号と前記ハイパスフィルタリングされた復調信号との差に基づいて前記緩衝処理された少なくとも一部を訂正するステップを含む請求項８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月12日(2020.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＦＰＧＡネットリストを作成する方法であって、
前記ＦＰＧＡネットリストは、ＦＰＧＡソースコード（２０）と少なくとも１つのシャドーレジスタ（１０）とから形成され、
前記ＦＰＧＡソースコード（２０）は、少なくとも１つの機能と少なくとも１つの信号（３０）とを規定し、前記シャドーレジスタ（１０）は、前記ＦＰＧＡネットリスト内で規定されており、
前記シャドーレジスタ（１０）は、前記少なくとも１つの信号（３０）に割り当てられ、かつ、当該割り当てられた信号（３０）の信号値を実行時間中に記憶するように調整および設定され、
記憶された前記信号値を実行時間中に読み出す手段が設定および調整され、
前記ネットリストは、ＦＰＧＡ上にロードされ、当該ＦＰＧＡによって実行されるように設定され、
前記ＦＰＧＡソースコード（２０）によって記述された前記機能は、前記ＦＰＧＡによって実行される方法において、
前記シャドーレジスタ（１０）の機能的な分離によって、前記シャドーレジスタ（１０）を前記ＦＰＧＡソースコード（２０）において記述された前記機能から分離し、当該分離の時点で前記シャドーレジスタ（１０）内に記憶された前記信号値は、前記ＦＰＧＡソースコード（２０）において記述された前記機能が実行される間、変更されず、
分離時から変更されない、前記シャドーレジスタ（１０）内に記憶された前記信号値を出力する、
ことを特徴とする、ＦＰＧＡネットリストを作成する方法。
【請求項２】
前記ＦＰＧＡソースコード（２０）は、複数の信号（３０）を規定し、
複数のシャドーレジスタ（１０）がそれぞれ１つの信号（３０）に割り当てられ、
前記機能的な分離は、前記複数のシャドーレジスタ（１０）を同期して分離するように設定されている、
請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記分離のために、前記シャドーレジスタ（１０）のイネーブル信号（６０）または前記シャドーレジスタ（１０）のクロック信号（７００）が中断される、
請求項１または２記載の方法。
【請求項４】
前記ＦＰＧＡソースコード（２０）は、グラフィックモデルまたはテキスト形式のコードとして存在する、
請求項１から３までのいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
前記シャドーレジスタ（１０）は前記ＦＰＧＡソースコード（２０）または前記ＦＰＧＡソースコード（２０）のコピー内に挿入される、
請求項１から４までのいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
前記ソースコード（２０）からネットリストが作成され、前記シャドーレジスタ（１０）が当該ネットリスト内に挿入される、
請求項１から５までのいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
前記シャドーレジスタ（１０）は自動的に挿入され、前記信号（３０）に割り当てられる、
請求項１から６までのいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
前記信号（３０）が既に前記ソースコード（２０）の別の箇所でシャドーレジスタ（１０）に割り当てられているか否かが自動的に検査され、前記信号（３０）が既に前記ソースコード（２０）の別の箇所でシャドーレジスタ（１０）に割り当てられている場合には、当該信号（３０）にさらなるシャドーレジスタ（１０）は割り当てられない、
請求項１から７までのいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
少なくとも２つのシャドーレジスタ（１０，１００）が挿入され、前記信号（３０）に割り当てられ、
前記第１のシャドーレジスタ（１００）は、実行時間中に、最新の信号値を記憶するように設定および調整され、また、前記第２のシャドーレジスタ（１０）は分離されている、
請求項１から８までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
前記ネットリストの作成時に、前記ＦＰＧＡの外部リードバックインタフェースおよび／または内部リードバックインタフェースを介した前記シャドーレジスタ（１０）の読み出しが設定および調整される、請求項１から９までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１１】
複数のシャドーレジスタ（１０）が挿入され、
当該複数のシャドーレジスタ（１０）が結合されて、１つのシフトレジスタチェーンになり、前記ＦＰＧＡの外部インタフェースを介して読み出されるように設定および調整される、
請求項１から１０までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１２】
複数のシャドーレジスタ（１０）が挿入され、前記ＦＰＧＡの外部インタフェースを介した当該複数のシャドーレジスタ（１０）の読み出しのために、アドレスコードが設定および調整される、請求項１から１１までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１３】
前記シャドーレジスタに対して付加的にロジック（１１０，１４０）が挿入され、
当該ロジック（１１０，１４０）は、実行時間中に、前記信号値が変化すると、トリガ信号（１３０）を出力するように設定および調整され、
当該トリガ信号（１３０）は、前記シャドーレジスタの分離を引き起こす、
請求項１から１２までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１４】
前記シャドーレジスタ（１０）の挿入前に、
・最初の前記信号値（３０）が依存する、前記ＦＰＧＡソースコード（２０）における全ての定数を求めるステップと、
・前記定数の見出された値に対して最小の必要ビット幅を求めるステップと、
・前記定数を、各求められた前記最小の必要ビット幅で、再構成する、または、前記定数を、各求められた前記最小の必要ビット幅で、後からキャスティングするステップと、
・前記ＦＰＧＡソースコードを通して、前記ビット幅を伝えるステップと、
が実行される、
請求項１から１３までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１５】
前記シャドーレジスタ（１０）は、前記ネットリストの作成および／またはさらなる処理の際、ルート最適化から保護される、
請求項１から１４までのいずれか１項記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年1月16日(2020.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光子と、偏光子の両面に積層された機能層とを含む偏光板であって、
偏光子の偏光子透過軸方向の弾性率から、機能層の偏光子透過軸方向の弾性率を差し引いた値が、−１１００ＭＰａ以上３０００ＭＰａ以下であり、
偏光子の偏光子透過軸方向の弾性率から、偏光子の片面に積層された機能層の偏光子透過軸方向の弾性率を差し引いた値と、
偏光子の偏光子透過軸方向の弾性率から、偏光子のもう一方の面に積層された機能層の偏光子透過軸方向の弾性率を差し引いた値とが異なる、偏光板。
【請求項２】
機能層が保護フィルムを含む、請求項１に記載の偏光板。
【請求項３】
機能層が位相差フィルムを含む、請求項１または２に記載の偏光板。
【請求項４】
偏光板の片面側の表面に粘着剤層または剥離層付き粘着剤層が積層されている、請求項１〜３のいずれかに記載の偏光板。
【請求項５】
粘着剤層の偏光子透過軸方向の弾性率が、１０００ｋＰａ以下である、請求項４に記載の偏光板。
【請求項６】
液晶セルまたは有機エレクトロルミネッセンス素子と、請求項１〜５のいずれかに記載の偏光板とを含む、画像表示装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月21日(2020.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｉ）還元剤を、ＲＡＦＴ剤および少なくとも第一のフリーラジカル重合可能な化合物を含むＲＡＦＴ重合混合物に添加することにより、ＲＡＦＴ重合を開始する工程と、
ｉｉ）制御された添加速度にて更なる上記還元剤を添加して、活性のＲＡＦＴ剤を生成または再生することにより、ＲＡＦＴ重合プロセスの間、制御されていない重合反応を抑制する工程と、
を包含する、ＲＡＦＴ重合プロセス。
【請求項２】
上記還元剤が３０秒〜３０分の活性化に依存したｔ１／２の値を有する重合条件にて、上記還元剤が添加される、請求項１に記載のＲＡＦＴ重合プロセス。
【請求項３】
上記制御された添加速度を調整することで、上記還元剤が３０秒〜３０分の活性化に依存したｔ１／２の値を有する重合条件を維持する、請求項２に記載のＲＡＦＴ重合プロセス。
【請求項４】
上記制御された添加速度が更に、
ｉ）上記ＲＡＦＴ重合プロセスの重合速度、または
ｉｉ）上記ＲＡＦＴ重合プロセスの温度、
を制御する、請求項１に記載のＲＡＦＴ重合プロセス。
【請求項５】
上記制御された添加速度が、
ａ）上記ＲＡＦＴ重合混合物において形成されたポリマー鎖の伸長を制御するか、
ｂ）上記ＲＡＦＴ重合混合物を標的重合速度に維持するか、
ｃ）上記ＲＡＦＴ重合混合物を標的重合温度に維持するか；
ｄ）上記少なくとも第一のフリーラジカル重合可能な化合物の転化率が８０％を超える転化率となるようにするか；
ｅ）上記ＲＡＦＴ重合の停止を少なくするか、または、
ｆ）これらの組み合わせを行う、請求項１に記載のＲＡＦＴ重合プロセス。
【請求項６】
上記制御された添加速度を継続的または断続的に調整することで、一つ以上の上記標的重合速度および上記標的重合温度を維持する、請求項５に記載のＲＡＦＴ重合プロセス。
【請求項７】
上記還元剤が、上記標的重合温度において３０秒から３０分の間の活性化に依存したｔ１／２の値を有する、請求項６に記載のＲＡＦＴ重合プロセス。
【請求項８】
上記制御された添加速度が、一つ以上の継続的な添加、断続的な添加、または可変的な添加を含む、請求項１に記載のＲＡＦＴ重合プロセス。
【請求項９】
上記還元剤は、活性の還元剤、非活性の還元剤、またはこれらの組み合わせである、請求項１に記載のＲＡＦＴ重合プロセス。
【請求項１０】
上記活性の還元剤は、アゾ含有化合物、過酸化物、ペルオキシ酸、またはこれらの組み合わせの分解により発生するラジカル種を含む、請求項９に記載のＲＡＦＴ重合プロセス。
【請求項１１】
上記非活性の還元剤は、一つ以上のアゾ含有化合物、過酸化物、およびぺルオキシ酸を含む、請求項９に記載のＲＡＦＴ重合プロセス。
【請求項１２】
上記還元剤が、一つ以上の２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）（ＡＩＢＮ）、過酸化物、ペルオキシ酸、ｔｅｒｔ−ブチル過酢酸塩、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−３，３，５−（ジブチルフタル酸塩）トリメチルシクロヘキサン、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）（Ｖ−７０）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）（Ｖ−６５）、ジメチル  ２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオン酸塩）（Ｖ−６０１）、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）（Ｖ−５９）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）（Ｖ−４０）、または２，２’−アゾビス［Ｎ−（２−プロパニル）−２−メチルプロピオンアミド］（ＶＦ−０９６）である、請求項１に記載のＲＡＦＴ重合プロセス。
【請求項１３】
上記少なくとも第一のフリーラジカル重合可能な化合物が不飽和モノマーを含む、請求項１に記載のＲＡＦＴ重合プロセス。
【請求項１４】
上記不飽和モノマーが親水性不飽和モノマーである、請求項１３に記載のＲＡＦＴ重合プロセス。
【請求項１５】
上記不飽和モノマーが疎水性不飽和モノマーである、請求項１３に記載のＲＡＦＴ重合プロセス。
【請求項１６】
上記ＲＡＦＴ剤が、ジチオエステルを含む、請求項１に記載のＲＡＦＴ重合プロセス。
【請求項１７】
上記ＲＡＦＴ重合プロセスが、
ａ）バルクの重合プロセスにおいて行われるか、
ｂ）溶媒の存在下で行われるか、
ｃ）固体表面から行なわれるか、または、
ｄ）これらの組み合わせである、請求項１に記載のＲＡＦＴ重合プロセス。
【請求項１８】
上記ＲＡＦＴ重合プロセスが、二相の重合プロセス、乳化重合プロセス、小規模の乳化重合プロセス、マイクロエマルションシステム、可逆的乳化重合システム、および懸濁重合プロセスのうちの一つ以上において行われる、請求項１に記載のＲＡＦＴ重合プロセス。
【請求項１９】
制御されていない発熱反応が、上記ＲＡＦＴ重合プロセスの間、強度、持続時間、または頻度において抑制される、請求項１に記載のＲＡＦＴ重合プロセス。
【請求項２０】
少なくとも第一のフリーラジカル重合化合物の転化率は、約９０％以上の転化率を超える、請求項１に記載のＲＡＦＴ重合プロセス。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月16日(2020.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明において、前記圧力作動室の圧力と前記冷媒流入室の圧力とが等しいとき、前記ダイアフラムと前記ストッパ部材との間に隙間が生じるように構成されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ダイアフラムと、
前記ダイアフラムの一方の面に重ねられ、前記ダイアフラムとの間に圧力作動室を形成する上蓋部材と、
前記ダイアフラムの他方の面に重ねられ、前記ダイアフラムとの間に冷媒流入室を形成する受け部材と、
前記冷媒流入室に収容された樹脂製のストッパ部材と、を有し、
前記受け部材の中央部に貫通孔が設けられ、
前記ストッパ部材は、前記受け部材の前記貫通孔の周縁部に接するフランジ部を有し、
前記上蓋部材、前記受け部材および前記ダイアフラムは、一体となるように外周部が溶接されており、
前記フランジ部における前記受け部材と接する部分と前記外周部の外周端との径方向の距離が６ｍｍ以上であり、
前記圧力作動室の圧力と前記冷媒流入室の圧力とが等しいとき、前記ダイアフラムと前記ストッパ部材との間に隙間が生じるように構成されていることを特徴とするパワーエレメント。
【請求項２】
弁室および弁孔を有する冷媒流路が設けられた弁本体と、
前記弁室に配置された弁部材と、
前記弁部材を前記弁孔の弁室側開口部に向けて押圧するコイルばねと、
前記弁孔に挿通され、前記弁部材を介して前記コイルばねと対向するように配置された弁棒と、
前記弁棒を介して前記弁部材を駆動するパワーエレメントと、を有し、
前記パワーエレメントが、請求項１に記載のパワーエレメントで構成されていることを特徴とする膨張弁。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月26日(2019.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
含有する１または複数の細長い一次元（１Ｄ）粒子によって調整または強化された少なくとも１つの機能的特徴を有する材料構造を備え、
１または複数の前記細長い１Ｄ粒子のそれぞれが、少なくとも１つの金属を含有し、約２ｎｍから約１０ミクロンの範囲内の直径、約５０ｎｍから約５０ｍｍの範囲内の長さ、および約１：４〜約１：１０，０００，０００の範囲内の対応する幅対長さのアスペクト比を呈し、
１または複数の前記細長い１Ｄ粒子のそれぞれが、１または複数の細孔を有しているデバイス。
【請求項２】
１または複数の前記細長い１Ｄ粒子における１または複数の前記細孔のうちの少なくとも１つが、充填材料で充填されている請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
１または複数の前記細長い１Ｄ粒子の微細構造が、非晶質、ナノ結晶、またはこれらの組み合わせである請求項１に記載のデバイス。
【請求項４】
１または複数の前記細長い１Ｄ粒子の平均直径が、約１ミクロン未満である請求項１に記載のデバイス。
【請求項５】
少なくとも１つの前記機能的特徴が、電気的分離である請求項１に記載のデバイス。
【請求項６】
電気化学的エネルギー貯蔵デバイスであって、前記材料構造が、前記電気化学的エネルギー貯蔵デバイスのアノードとカソードとの間に設けられたセパレータである、請求項５に記載のデバイス。
【請求項７】
少なくとも１つの前記機能的特徴が、発電である請求項１に記載のデバイス。
【請求項８】
太陽電池である、請求項７に記載のデバイス。
【請求項９】
少なくとも１つの前記機能的特徴が、発光である請求項１に記載のデバイス。
【請求項１０】
発光ダイオード（ＬＥＤ）である、請求項９に記載のデバイス。
【請求項１１】
少なくとも１つの前記機能的特徴が、前記材料構造の機械的強化または引っかき抵抗性である請求項１に記載のデバイス。
【請求項１２】
前記材料構造が、透明な無機ガラス、透明なポリマー、生体適合性材料、金属、膜、またはこれらの組み合わせである、請求項１１に記載のデバイス。
【請求項１３】
少なくとも１つの前記機能的特徴が、光が前記材料構造から影響される形式である、請求項１に記載のデバイス。
【請求項１４】
透明アーマー、レンズ、窓、ガラス球、宝飾品、時計、眼鏡、鏡、光ファイバケーブル、スクリーン、風防ガラス、ディスプレイ、またはこれらの組み合わせであり、
前記材料構造が、さらに透明な無機ガラスまたは透明なポリマーまたは金属を含有する請求項１３に記載のデバイス。
【請求項１５】
少なくとも１つの前記機能的特徴が、色素添加剤と組み合わされた１または複数の前記細長い１Ｄ粒子との組み合わせを通して調整される、請求項１３に記載のデバイス。
【請求項１６】
少なくとも１つの前記金属が、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｐ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｓｒ、およびＢｅを含む群から選択される、請求項１に記載のデバイス。
【請求項１７】
１または複数の前記細長い１Ｄ粒子が、金属酸化物、フッ化物、オキシフッ化物、窒化物、オキシ窒化物、またはこれらの組み合わせである、請求項１に記載のデバイス。
【請求項１８】
前記金属酸化物が、コーティング層が堆積された表面を有するか、または、
前記金属酸化物が、コーティング層の前駆体が堆積された表面を有する、請求項１７に記載のデバイス。
【請求項１９】
前記コーティング層が、金属、ポリマー、またはセラミック材料である、請求項１８に記載のデバイス。
【請求項２０】
１または複数の前記細長い１Ｄ粒子が、多孔質酸化物膜または多孔質酸化物体の一部である、請求項１７に記載のデバイス。
【請求項２１】
前記多孔質酸化物膜または多孔質酸化物体に、充填材料が浸透されている、請求項２０に記載のデバイス。
【請求項２２】
前記充填材料が金属である、請求項２１に記載のデバイス。
【請求項２３】
前記充填材料がガラスである、請求項２１に記載のデバイス。
【請求項２４】
前記充填材料がポリマーである、請求項２１に記載のデバイス。
【請求項２５】
前記多孔質酸化物膜または多孔質酸化物体が、ポリマー層が堆積された表面を有する、請求項２０に記載のデバイス。
【請求項２６】
約７０℃から約１３０℃の範囲内の閾値温度を超える温度でイオン輸送を防止するために、前記ポリマー層が、前記多孔質酸化物膜または多孔質酸化物体の少なくとも１つの細孔を閉鎖する、請求項２５に記載のデバイス。
【請求項２７】
１または複数の細長い前記１Ｄ粒子が、少なくとも部分的に互いに結合された、２以上の細長い粒子を含む、請求項１に記載のデバイス。
【請求項２８】
１または複数の前記細長い１Ｄ粒子が、膜または物体を含む、請求項１に記載のデバイス。
【手続補正書】
【提出日】令和2年1月9日(2020.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＣＯＸ７Ａ１を阻害する１つまたは複数の薬剤を含む、対象において創傷治癒を増強するための医薬組成物であって、前記ＣＯＸ７Ａ１を阻害する１つまたは複数の薬剤が、ＣＯＸ７Ａ１を標的とする、ｓｉＲＮＡ、二本鎖ＲＮＡ、ｓｈＲＮＡ、ｍｉＲＮＡ前駆体、他のＲＮＡｉ剤、アンチセンスオリゴヌクレオチド、阻害抗体、若しくはＣＯＸ７Ａ１遺伝子の発現を阻害するリボザイムまたは三本鎖核酸のいずれかである、医薬組成物。
【請求項２】
対象が哺乳動物である、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】
哺乳動物がヒトである、請求項２に記載の医薬組成物。
【請求項４】
創傷の部位に投与される、請求項１から３のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項５】
対象に投与することにより、投与部位でＡＣＴＡ２およびＣＯＬ１Ａ１遺伝子の発現が阻害される、請求項１から４のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項６】
ＣＯＭＴ、ＴＲＩＭ４、ＣＡＴ、ＰＳＭＤ、ＳＨＭＴ、ＬＯＣ２０５２５１、ＺＮＦ２８０Ｄ、Ｓ１００Ａ６、ＭＧＭＴ、ＤＹＮＬＴ３、ＮＡＡＬＡＤＬｌ、ＴＳＰＹＬ５、ＩＡＨ１、Ｃ１８ｏｒｆ５６、ＲＰＳ７、ＦＤＰＳ、ＥＬＯＶＬ６、ＩＮＳＩＧ１、ＡＣＡＴ２、およびＭＡＯＡから選択される１つまたは複数の遺伝子または遺伝子産物を阻害する１つまたは複数の薬剤をさらに含む、請求項１から５のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項７】
ＣＯＭＴ、ＴＲＩＭ４、ＣＡＴ、ＰＳＭＤ、ＳＨＭＴ、ＬＯＣ２０５２５１、ＺＮＦ２８０Ｄ、Ｓ１００Ａ６、ＭＧＭＴ、ＤＹＮＬＴ３、ＮＡＡＬＡＤＬｌ、ＴＳＰＹＬ５、ＩＡＨ１、Ｃ１８ｏｒｆ５６、ＲＰＳ７、ＦＤＰＳ、ＥＬＯＶＬ６、ＩＮＳＩＧ１、ＡＣＡＴ２、およびＭＡＯＡから選択される１つまたは複数の遺伝子または遺伝子産物を阻害する１つまたは複数の薬剤が核酸またはタンパク質である、請求項６に記載の医薬組成物。
【請求項８】
（ａ）核酸がＲＮＡ；（ｂ）核酸が二本鎖ＲＮＡ、ｓｉＲＮＡ、ｓｈＲＮＡ、またはｍｉＲＮＡ前駆体；もしくは（ｃ）タンパク質が抗体である、請求項７に記載の医薬組成物。
【請求項９】
溶液である、請求項１から８のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
ｉｎ  ｓｉｔｕでヒドロゲルを形成する１つまたは複数の化合物をさらに含む、請求項１から９のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
ヒドロゲルがヒアルロン酸含有ヒドロゲルまたはヒアルロン酸及びコラーゲンＩ含有ヒドロゲルである、請求項１０に記載の医薬組成物。
【請求項１２】
１つまたは複数の細胞、テロメラーゼの触媒成分を発現するベクター、または１つまたは複数の細胞とテロメラーゼの触媒成分を発現するベクターの両方をさらに含む、請求項１から１１のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１３】
１つまたは複数の細胞が、前駆細胞または分化した細胞である、請求項１２に記載の医薬組成物。
【請求項１４】
前駆細胞または分化した細胞が、間葉前駆細胞、神経前駆細胞、内皮前駆細胞、毛包前駆細胞、神経堤前駆細胞、乳腺幹細胞、肺前駆細胞、筋肉前駆細胞、脂肪由来前駆細胞、上皮前駆細胞、造血前駆細胞、軟骨細胞、骨芽細胞、ケラチノサイト、肝細胞、筋芽細胞、またはそれらのいずれかの組合せである、請求項１３に記載の医薬組成物。
【請求項１５】
ＣＯＸ７Ａ１を阻害する１つまたは複数の薬剤を含む、対象において創傷治癒を増強するためのキットであって、前記ＣＯＸ７Ａ１を阻害する１つまたは複数の薬剤が、ＣＯＸ７Ａ１を標的とする、ｓｉＲＮＡ、二本鎖ＲＮＡ、ｓｈＲＮＡ、ｍｉＲＮＡ前駆体、他のＲＮＡｉ剤、アンチセンスオリゴヌクレオチド、阻害抗体、若しくはＣＯＸ７Ａ１遺伝子の発現を阻害するリボザイムまたは三本鎖核酸のいずれかである、キット。
【請求項１６】
ＣＯＭＴ、ＴＲＩＭ４、ＣＡＴ、ＰＳＭＤ、ＳＨＭＴ、ＬＯＣ２０５２５１、ＺＮＦ２８０Ｄ、Ｓ１００Ａ６、ＭＧＭＴ、ＤＹＮＬＴ３、ＮＡＡＬＡＤＬｌ、ＴＳＰＹＬ５、ＩＡＨ１、Ｃ１８ｏｒｆ５６、ＲＰＳ７、ＦＤＰＳ、ＥＬＯＶＬ６、ＩＮＳＩＧ１、ＡＣＡＴ２、およびＭＡＯＡから選択される１つまたは複数の遺伝子または遺伝子産物を阻害する１つまたは複数の薬剤をさらに含む、請求項１５に記載のキット。
【請求項１７】
ＣＯＭＴ、ＴＲＩＭ４、ＣＡＴ、ＰＳＭＤ、ＳＨＭＴ、ＬＯＣ２０５２５１、ＺＮＦ２８０Ｄ、Ｓ１００Ａ６、ＭＧＭＴ、ＤＹＮＬＴ３、ＮＡＡＬＡＤＬｌ、ＴＳＰＹＬ５、ＩＡＨ１、Ｃ１８ｏｒｆ５６、ＲＰＳ７、ＦＤＰＳ、ＥＬＯＶＬ６、ＩＮＳＩＧ１、ＡＣＡＴ２、およびＭＡＯＡから選択される１つまたは複数の遺伝子または遺伝子産物を阻害する１つまたは複数の薬剤が核酸またはタンパク質である、請求項１６に記載のキット。
【請求項１８】
（ａ）核酸がＲＮＡ；（ｂ）核酸が二本鎖ＲＮＡ、ｓｉＲＮＡ、ｓｈＲＮＡ、またはｍｉＲＮＡ前駆体；もしくは（ｃ）タンパク質が抗体である、請求項１７に記載のキット。
【請求項１９】
ｉｎ  ｓｉｔｕにおいてヒドロゲルを形成する１つまたは複数の化合物をさらに含む、請求項１５から１８のいずれか一項に記載のキット。
【請求項２０】
ヒドロゲルが、ヒアルロン酸含有ヒドロゲルまたはヒアルロン酸及びコラーゲンＩ含有ヒドロゲルである、請求項１９に記載のキット。
【請求項２１】
１つまたは複数の細胞、テロメラーゼの触媒成分を発現しているベクター、または１つまたは複数の細胞とテロメラーゼの触媒成分を発現しているベクターとの両方をさらに含む、請求項１５から２０のいずれか一項に記載のキット。
【請求項２２】
１つまたは複数の細胞が、前駆細胞または分化した細胞である、請求項２１に記載のキット。
【請求項２３】
前駆細胞または分化した細胞が、間葉前駆細胞、神経前駆細胞、内皮前駆細胞、毛包前駆細胞、神経堤前駆細胞、乳腺幹細胞、肺前駆細胞、筋肉前駆細胞、脂肪由来前駆細胞、上皮前駆細胞、造血前駆細胞、軟骨細胞、骨芽細胞、ケラチノサイト、肝細胞、筋芽細胞、またはそれらのいずれかの組合せである、請求項２２に記載のキット。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月13日(2020.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下痢及び／もしくは便秘を治療または予防する方法における使用のための、配列番号５と少なくとも９５％同一の１６ｓ  ｒＲＮＡ配列を有する細菌株を含む組成物。
【請求項２】
下痢及び／もしくは便秘を治療または予防する方法における使用のための、Ｂｌａｕｔｉａ属由来の細菌株を含む組成物。
【請求項３】
下痢及び／もしくは便秘を治療または予防する方法における使用のための、配列番号５と少なくとも９５％同一の１６Ｓ  配列を有するＢｌａｕｔｉａ属由来の細菌株を含む組成物。
【請求項４】
下痢及び／または便秘が、ＩＢＳ、クローン病または潰瘍性結腸炎及び／または腸の炎症性疾患に関連する、請求項１〜３のいずれかに記載の組成物。
【請求項５】
炎症性疾患が、小腸、結腸または直腸のものである、請求項４に記載の組成物。
【請求項６】
ＩＢＳ、クローン病または潰瘍性結腸炎と診断された対象において下痢及び／もしくは便秘を治療または予防する際の使用のための、請求項１〜５のいずれかに記載の組成物。
【請求項７】
下痢を治療する方法における使用のための、請求項１〜６のいずれかに記載の組成物であって、
（ａ）対象が、便秘を伴わない下痢を有する;または
（ｂ）対象が、下痢を伴わない便秘を有する；前記組成物。
【請求項８】
（ａ）対象が、腹痛及び／または膨満をさらに有する；及び／または
（ｂ）対象が、健常な対象と比較して呼気における水素レベルが増加している；及び／または
（ｃ）使用が、対象の呼気における水素レベルを低減することをさらに含む；及び／または
（ｄ）使用が、治療もしくは予防の間及び／または後に対象の呼気における水素レベルをモニタリングすること、ならびにこれにより治療または予防の推定有効性を評価することをさらに含む；
請求項１〜７のいずれかに記載の組成物。
【請求項９】
下痢の治療または予防において胃腸管においてＥｎｔｅｒｏｂａｃｔｅｒｉａｃｅａｅのレベルを低減する方法における使用のための、配列番号５と少なくとも９５％同一の１６ｓ  ｒＲＮＡ配列を有する細菌株を含む組成物。
【請求項１０】
下痢の治療または予防において胃腸管においてＥｎｔｅｒｏｂａｃｔｅｒｉａｃｅａｅのレベルを低減する方法における使用のための、Ｂｌａｕｔｉａ属の細菌株を含む組成物。
【請求項１１】
下痢の治療または予防において胃腸管においてＥｎｔｅｒｏｂａｃｔｅｒｉａｃｅａｅのレベルを低減する方法における使用のための、配列番号５と少なくとも９５％同一の１６Ｓ  配列を有するＢｌａｕｔｉａ属の細菌株を含む組成物。
【請求項１２】
Ｅｎｔｅｒｏｂａｃｔｅｒｉａｃｅａｅ感染症に関連する下痢を治療または予防する方法における使用のための、配列番号５と少なくとも９５％同一の１６ｓ  ｒＲＮＡ配列を有する細菌株を含む組成物。
【請求項１３】
Ｅｎｔｅｒｏｂａｃｔｅｒｉａｃｅａｅ感染症に関連する下痢を治療または予防する方法における使用のための、Ｂｌａｕｔｉａ属の細菌株を含む組成物。
【請求項１４】
Ｅｎｔｅｒｏｂａｃｔｅｒｉａｃｅａｅ感染症に関連する下痢を治療または予防する方法における使用のための、配列番号５と少なくとも９５％同一の１６Ｓ  配列を有するＢｌａｕｔｉａ属の細菌株を含む組成物。
【請求項１５】
ＥｎｔｅｒｏｂａｃｔｅｒｉａｃｅａｅがＥ．ｃｏｌｉである、請求項９〜１４のいずれかに記載の組成物。
【請求項１６】
細菌株が、Ｂｌａｕｔｉａ  ｈｙｄｒｏｇｅｎｏｔｒｏｐｈｉｃａ、Ｂｌａｕｔｉａ  ｓｔｅｒｃｏｒｉｓ、またはＢｌａｕｔｉａ  ｗｅｘｌｅｒａｅのものである、請求項１〜１５のいずれかに記載の組成物。
【請求項１７】
細菌株が、Ｂｌａｕｔｉａ  ｈｙｄｒｏｇｅｎｏｔｒｏｐｈｉｃａの細菌株の１６ｓ  ｒＲＮＡ配列と少なくとも９５％、９６％、９７％、９８％、９９％、９９．５％又は９９．９％同一の１６ｓ  ｒＲＮＡ配列を有し、任意で
（ａ）前記細菌株が、配列番号５と少なくとも９７％、９８％、９９％、９９．５％もしくは９９．９％同一の１６ｓ  ｒＲＮＡ配列を有する、または配列番号５の１６ｓ  ｒＲＮＡ配列を有する;または
（ｂ）前記細菌株が、Ｂｌａｕｔｉａ  ｓｔｅｒｃｏｒｉｓの細菌株の１６ｓ  ｒＲＮＡ配列と少なくとも９５％、９６％、９７％、９８％、９９％、９９．５％もしくは９９．９％同一の１６ｓ  ｒＲＮＡ配列を有する；または
（ｃ）前記細菌株が、Ｂｌａｕｔｉａ  ｗｅｘｌｅｒａｅの細菌株の１６ｓ  ｒＲＮＡと少なくとも９５％、９６％、９７％、９８％、９９％、９９．５％または９９．９％同一の１６ｓ  ｒＲＮＡ配列を有する；
請求項１〜１５のいずれかに記載の組成物。
【請求項１８】
ＩＢＳと診断された対象において下痢及び／もしくは便秘を治療または予防する方法における使用のための、Ｂｌａｕｔｉａ  ｈｙｄｒｏｇｅｎｏｔｒｏｐｈｉｃａ種、Ｂｌａｕｔｉａ  ｓｔｅｒｃｏｒｉｓ種、またはＢｌａｕｔｉａ  ｗｅｘｌｅｒａｅ種の細菌株を含む、請求項１〜３のいずれかに記載の組成物。
【請求項１９】
（ａ）経口投与用である;及び／または
（ｂ）１又は２以上の薬学的に許容可能な賦形剤または担体を含む；及び／または
（ｃ）細菌株が、凍結乾燥されている；及び／または
（ｄ）細菌株が、生存可能である；
請求項１〜１８のいずれかに記載の組成物。
【請求項２０】
Ｂｌａｕｔｉａ属の単一株を含む、または
Ｂｌａｕｔｉａ細菌株を微生物共同体の一部として含む、請求項１〜１９のいずれかに記載の組成物。
【請求項２１】
請求項１〜２０のいずれかに記載の使用のための、請求項１〜２０のいずれかに記載の組成物を含む食品。
【請求項２２】
請求項１〜２０のいずれかに記載の使用のための、請求項１〜２０のいずれかに記載の組成物を含むワクチン組成物。
【請求項２３】
配列番号５と少なくとも９５％同一の１６ｓ  ｒＲＮＡ配列を有する細菌株を含む、下痢及び／もしくは便秘の治療剤または予防剤。
【請求項２４】
Ｂｌａｕｔｉａ属由来の細菌を含む、下痢及び／もしくは便秘の治療剤または予防剤。
【請求項２５】
配列番号５と少なくとも９５％同一の１６ｓ  ｒＲＮＡ配列を有するＢｌａｕｔｉａ属由来の細菌株を含む、下痢及び／もしくは便秘の治療剤または予防剤。
【請求項２６】
細菌株が、Ｂｌａｕｔｉａ  ｈｙｄｒｏｇｅｎｏｔｒｏｐｈｉｃａである、請求項２３〜２５のいずれかに記載の治療剤または予防剤。
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月23日(2020.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）エステル基を含有し、炭素数９以上２３以下の炭化水素基を分子内に１つ以上有する、第３級アミン又はその中和物もしくは４級化物〔以下、（Ａ）成分という〕を３質量％以上２０質量％以下、
（Ｂ）炭素数１２以上２２以下の脂肪酸と炭素数３以上２２以下の脂肪族アルコールとのエステル〔以下、（Ｂ）成分という〕、
（Ｃ）下記一般式（ｃ１）で示される第４級アンモニウム化合物を０．１質量％以上８質量％以下、及び
水
を含有し、
（Ａ）成分／（Ｂ）成分の質量比が２以上２００以下である、
液体柔軟剤組成物。
【化１】
2019163579.tif 000001
（式中、Ｒ１ｃは、炭素数８以上１６以下の炭化水素基であり、Ｒ２ｃ、Ｒ３ｃは、それぞれ、炭素数１以上３以下のアルキル基又はヒドロキシアルキル基であり、Ｒ４ｃは、炭素数１以上３以下のアルキレン基又はヒドロキシアルキレン基である。）
【請求項２】
（Ａ）成分が、（Ａ１）下記一般式（ａ１）で表される第３級アミン化合物及びその酸塩、並びに（Ａ２）下記一般式（ａ１）で表される第３級アミン化合物の４級化物から選ばれる１種以上の化合物である、請求項１記載の液体柔軟剤組成物。
〔Ｒ１ａ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣｐＨ２ｐＯ）ｒ−ＣｑＨ２ｑ〕ｍＮ（Ｒ２ａ）３−ｍ  （ａ１）
〔式中、Ｒ１ａは炭素数１１以上２３以下の炭化水素基であり、Ｒ２ａは炭素数１以上３以下の炭化水素基及びＨＯ−（ＣｐＨ２ｐＯ）ｒ−ＣｑＨ２ｑ基から選ばれる基であり、ｍは１以上３以下の数であり、ｐ及びｑは２又は３の数であり、ｒは０以上５以下の数である。同一分子内にＲ１ａ、Ｒ２ａ、ＨＯ−（ＣｐＨ２ｐＯ）ｒ−ＣｑＨ２ｑ基、ｐ、ｑ、ｒが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていても良い。〕
【請求項３】
更にキレート剤を含有する、請求項１又は２に記載の液体柔軟剤組成物。
【請求項４】
更に香料組成物を含有し、香料組成物中のエステル化合物系香料成分の含有量が３０質量％以上である、請求項１〜３の何れかに記載の液体柔軟剤組成物。
【請求項５】
３０℃での粘度が２５０ｍＰａ・ｓ以下である、請求項１〜４の何れかに記載の液体柔軟剤組成物。
【請求項６】
下記の方法による保存後の粘度が５００ｍＰａ・ｓ以下である、請求項１〜５の何れかに記載の液体柔軟剤組成物。
＜保存後の粘度＞
液体柔軟剤組成物３０ｇを充填した容器（ガラス製広口規格ビンＮｏ．６）を５０±２℃で１０週間静置保存し、次いで、前記容器を２５±２℃で２４時間静置する。前記容器に入ったままの状態で、液体柔軟剤組成物の粘度を、Ｂ型粘度計（型番；ＴＶＢ−１０東機産業株式会社製、Ｎｏ．２のローターを使用、６０ｒ／ｍｉｎ）を用いて測定する。粘度は、液体柔軟剤組成物の撹拌開始から１分後の値を採用する。
【請求項７】
（Ａ）エステル基を含有し、炭素数９以上２３以下の炭化水素基を分子内に１つ以上有する、第３級アミン又はその中和物もしくは４級化物〔以下、（Ａ）成分という〕と、
（Ｂ）炭素数１２以上２２以下の脂肪酸と炭素数３以上２２以下の脂肪族アルコールとのエステル〔以下、（Ｂ）成分という〕と、
（Ｃ）下記一般式（ｃ１）で示される第４級アンモニウム化合物と、
水と、
を混合して液体柔軟剤組成物を製造する、液体柔軟剤組成物の製造方法であって、
混合する成分中、（Ａ）成分を３質量％以上２０質量％以下の割合で混合し、
混合する成分中、（Ｃ）成分を０．１質量％以上８質量％以下の割合で混合し、
（Ａ）成分と（Ｂ）成分とを、（Ａ）成分／（Ｂ）成分の質量比が２以上２００以下で混合し、
３０℃での粘度が、２５０ｍＰａ・ｓ以下の組成物を製造する、
液体柔軟剤組成物の製造方法。
【化２】
2019163579.tif 000002
（式中、Ｒ１ｃは、炭素数８以上１６以下の炭化水素基であり、Ｒ２ｃ、Ｒ３ｃは、それぞれ、炭素数１以上３以下のアルキル基又はヒドロキシアルキル基であり、Ｒ４ｃは、炭素数１以上３以下のアルキレン基又はヒドロキシアルキレン基である。）
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月29日(2019.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
屋根の構造体から該構造体の上に葺かれている屋根表面材の上面までの高さよりも長い筒状の支柱部材の一方の端部に、第一防水材を取付ける防水処理工程と、
前記支柱部材の一方の端部を下方へ向けて前記構造体に載置した時に、前記屋根表面材の上面と一致するように、弾性を有した補助部材を前記支柱部材の外周面に貼り付ける補助部材貼付工程と、
前記屋根表面材に、前記支柱部材の外周よりも大きく、該支柱部材の外周に貼り付けられている前記補助部材の外周より小さい貫通孔を形成する貫通孔形成工程と、
前記支柱部材における前記第一防水材が取付けられている一方の端部を下方へ向けた状態で、前記支柱部材を上方から前記貫通孔に挿通して前記構造体に載置すると共に、前記補助部材を前記貫通孔の内面に当接させる挿入工程と、
前記補助部材の上方で前記支柱部材と前記屋根表面材とに跨るように前記支柱部材の全外周に亘ってコーキング材を施すコーキング工程と、
前記支柱部材の上端に、第二防水材を間にして屋根上設置物が取付けられる取付部材を載置し、該取付部材の上方から前記支柱部材を貫通させて前記構造体に固定ビスをねじ込んで固定する固定工程と
を具備していることを特徴とする屋根上設置物を取付けるための取付部材の施工方法。
【請求項２】
屋根の構造体の上に葺かれ、上下に貫通している貫通孔を有する屋根表面材と、
下端が第一防水材を間にして屋根の構造体の上面に当接しており、上端が前記貫通孔を通して前記屋根表面材の上面よりも上方へ突出している筒状の支柱部材と、
該支柱部材の外周面と前記貫通孔の内周面との間に、圧縮されている状態で介装されている弾性を有した補助部材と、
該補助部材の上方で前記支柱部材と前記屋根表面材とに跨るように前記支柱部材の全外周に亘って施されているコーキング材と、
第二防水材を間にして前記支柱部材の上端に当接している状態で、上方から前記支柱部材を貫通して屋根の構造体にねじ込まれている固定ビスにより固定されており、屋根上設置物が取付けられる取付部材と
を具備していることを特徴とする屋根上設置物を取付けるための取付部材の固定構造。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記の課題を解決するために、本発明に係る屋根上設置物を取付けるための取付部材の施工方法は、「屋根の構造体から該構造体の上に葺かれている屋根表面材の上面までの高さよりも長い筒状の支柱部材の一方の端部に、第一防水材を取付ける防水処理工程と、前記支柱部材の一方の端部を下方へ向けて前記構造体に載置した時に、前記屋根表面材の上面と一致するように、弾性を有した補助部材を前記支柱部材の外周面に貼り付ける補助部材貼付工程と、前記屋根表面材に、前記支柱部材の外周よりも大きく、該支柱部材の外周に貼り付けられている前記補助部材の外周より小さい貫通孔を形成する貫通孔形成工程と、前記支柱部材における前記第一防水材が取付けられている一方の端部を下方へ向けた状態で、前記支柱部材を上方から前記貫通孔に挿通して前記構造体に載置すると共に、前記補助部材を前記貫通孔の内面に当接させる挿入工程と、前記補助部材の上方で前記支柱部材と前記屋根表面材とに跨るように前記支柱部材の全外周に亘ってコーキング材を施すコーキング工程と、前記支柱部材の上端に、第二防水材を間にして屋根上設置物が取付けられる取付部材を載置し、該取付部材の上方から前記支柱部材を貫通させて前記構造体に固定ビスをねじ込んで固定する固定工程とを具備している」ものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
【図１】本発明の一実施形態である屋根上設置物を取付けるための取付部材の固定構造を示す断面図である。
【図２】（ａ）は図１の固定構造に用いている支柱部材の平面図であり、（ｂ）は（ａ）の支柱部材の斜視図である。
【図３】（ａ）は図１の固定構造に用いている取付部材の斜視図であり、（ｂ）は（ａ）とは異なる形態の取付部材の斜視図である。
【図４】（ａ）及び（ｂ）はシート状の第一防水材を支柱部材の一方の端部に取付ける防水処理工程の説明図である。
【図５】（ａ）は補助部材貼付工程により補助部材が貼り付けられた支柱部材を、貫通孔形成工程により貫通孔が形成された屋根表面材の上方に位置させた状態を示す説明図であり、（ｂ）は挿入工程により貫通孔に挿入された支柱部材に対してコーキング材を施しているコーキング工程の説明図である。
【図６】（ａ）コーキング材を施した支柱部材を介して屋根の構造体に取付部材を固定する固定工程の説明図であり、（ｂ）は屋根の構造体に固定された取付部材に屋根上設置物を取付けるための根角ボルトの挿入の説明図である。
【図７】（ａ）〜（ｃ）は図１とは異なる形態の支柱部材に対する防水処理工程と補助部材貼付工程の説明図である。
【図８】図７の支柱部材を用いた挿入工程、コーキング工程、及び固定工程の説明図である。
【図９】図８から続き、屋根の構造体に固定された取付部材に屋根上設置物を取付けるための根角ボルトの挿入の説明図である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
貫通孔形成工程は、屋根表面材２に、支柱部材１１の外周よりも大きく、支柱部材１１の外周に貼り付けられている補助部材１２の外周より小さい貫通孔２ａを形成する工程である。つまり、貫通孔形成工程では、屋根表面材２に、支柱部材１１の直径よりも大きく、支柱部材１１に貼り付けられている補助部材１２の直径よりも小さい大きさの貫通孔２ａを、ドリル（コアドリル）を用いて形成する。貫通孔２ａは、屋根表面材２の上面に対して垂直に形成することが望ましい。本実施形態では、内径が１００ｍｍの貫通孔２ａを形成している。