(57)【要約】【課題】【解決手段】基板を乾燥させる装置及び方法である。本発明の装置は、毛管材料を備える１つ以上の支持部分を有して、処理タンク内にて少なくとも１つの基板を支持する物品の支持部材を備えている。本発明の方法は、基板を毛管材料に接触させるステップを備える、処理タンク内にて液体を湿った基板から除去する方法である。別の特徴において、本発明は、基板を液体の液位を有する液体に浸漬するステップと、浸漬した基板を処理タンク内にて支持するステップと、乾燥蒸気を液体の液位の上方に供給するステップと、液体の液位が基板の下方となるように液体の液位を低下させるか又は基板を上昇させ、これにより液体の大部分を基板の表面から除去するステップと、残る液体を毛管材料にて基板の表面から除去するステップとを備える、ある１つの面を有する少なくとも１つの基板を処理タンク内にて乾燥させる方法である。【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの基板を乾燥させるときに使用される装置において、
毛管材料を備える１つ以上の支持部分を有して、処理タンク内にて少なくとも１つの基板を支持する物品の支持部材を備える、装置。
【請求項２】
請求項１の装置において、１つ以上の支持部分の全てが毛管材料を備える、装置。
【請求項３】
請求項１の装置において、物品の支持部材の全体が毛管材料で製造される、装置。
【請求項４】
請求項１の装置において、物品の支持部材が、毛管材料で出来たコアと、非毛管材料で出来た殻体とを備える、装置。
【請求項５】
請求項４の装置において、支持部分が、殻体を貫通して伸び且つコアを露出させる溝を備える、装置。
【請求項６】
請求項５の装置において、溝が角度付き壁を有する、装置。
【請求項７】
請求項４の装置において、非毛管材料が非多孔質フルオロポリマーである、装置。
【請求項８】
請求項７の装置において、非多孔質フルオロポリマーが、ＰＰ、ＰＴＦＥ、及びＰＶＤＦから成る群から選ばれる、装置。
【請求項９】
請求項１の装置において、支持部分が、毛管材料とのみ接触することにより基板を支持し得るようにされた、装置。
【請求項１０】
請求項１の装置において、毛管材料に流体的に接続された排出部を更に備える、装置。
【請求項１１】
請求項１の装置において、毛管材料が多孔質フルオロポリマーである、装置。
【請求項１２】
請求項１１の装置において、多孔質フルオロポリマーが、ＰＰ、ＰＴＦＥ、及びＰＶＤＦから成る群から選ばれる、装置。
【請求項１３】
請求項１の装置において、物品の支持部材が、２つの外側リフターと、中央リフターと、基部板とを備え、外側リフター及び中央リフターが、基部板から上方に伸び、中央リフターの長さが２つの外側リフターよりも短く、外側リフター及び中央リフターが少なくとも１つの基板に係合し且つ該少なくとも１つの基板を支持するように外側リフター及び中央リフターが基部板上に配置された、装置。
【請求項１４】
請求項１の装置において、物品の支持部材が、複数の基板に接触し且つ該複数の基板を支持し得るようにされた、装置。
【請求項１５】
請求項１の装置において、物品の支持部材が、処理タンクの底部又はその付近の不動の位置にある、装置。
【請求項１６】
湿った基板を毛管材料に接触させるステップを備える、処理タンク内で湿った基板から液体を除去する方法。
【請求項１７】
１つの面を有する少なくとも１つの基板を処理タンク内にて乾燥させる方法において、
基板をある液体の液位を有する液体に浸漬するステップと、
浸漬した基板を処理タンク内にて支持するステップと、
乾燥蒸気を液体の液位の上方に供給するステップと、
液体の液位が基板よりも下方となるように液体の液位を低下させるか又は基板を上昇させ、これにより液体の大部分を基板の表面から除去するステップと、
残る液体を毛管材料にて基板の表面から除去するステップとを備える、方法。
【請求項１８】
請求項１７の方法において、液体を毛管材料にて除去するステップが、前記低下させ又は上昇させるステップの後に、基板の表面を毛管材料に接触させるステップを備える、方法。
【請求項１９】
請求項１７の方法において、毛管材料が、基板を支持する物品の支持部材の一部である、方法。
【請求項２０】
請求項１７の方法において、処理タンクを封止するステップを更に備える、方法。
【請求項２１】
請求項１７の方法において、乾燥蒸気が、イソプロピルアルコールを備える、方法。
【請求項２２】
請求項１７の方法において、毛管材料中に吸引された液体を大気圧にて排出するステップを更に備える、方法。
【請求項２３】
請求項１７の方法において、液体が脱イオン化した水である、方法。
【請求項２４】
請求項１７の方法において、毛管材料が多孔質フルオロポリマーである、方法。
【請求項２５】
請求項２４の方法において、多孔質フルオロポリマーが、ＰＰ、ＰＴＦＥ及びＰＶＤＦから成る群から選ばれる、方法。
【請求項２６】
湿った基板が処理タンク内にあるとき、液体を湿った基板から除去し得るようにされた毛管材料を有する部材を備える、湿った基板から液体を除去する装置。
【発明の詳細な説明】
【関連出願の相互参照】
【０００１】
２００２年２月６日付けで出願された仮特許出願第６０／３５４，８１２号の利益を主張する。
【技術分野】
【０００２】
本発明は、物品、特に、シリコンウェハ基板、フラットパネルディスプレイ基板や、デバイスを製造する間、清浄化し、リンスし且つ乾燥させなければならないその他の型式の基板を乾燥させる装置及び方法に関する。本発明は、集積回路の製造中、シリコンウェハ基板から残る量の液体を除去することに特に関する。
【背景技術】
【０００３】
半導体を製造するとき、半導体デバイスは、薄い円板状の基板上に製造される。全体として、基板の各々は、複数の半導体デバイスを保持している。任意の単一の基板上に製造することのできる半導体デバイスの正確な数は、基板のサイズ及び該基板上で製造される半導体デバイスのサイズの双方に依存する。しかし、半導体デバイスは、益々、極小化しつつある。この極小化の結果として、任意の所定の面積当たり製造可能な半導体デバイスの数が増大しており、このため、基板の各々の表面積は益々、価値あるものとなっている。
【０００４】
半導体デバイスを製造するとき、価値ある最終製品が製造される前に、基板に対し、多数の処理ステップが行われる。これらの処理ステップは、化学的エッチング、ウェハの研磨、フォトレジストの剥離、及びマスキングを含む。これらのステップは、典型的に、処理タンク内にて行われ、基板の各々に対し処理中、清浄化、リンシング、及び乾燥の多くのサイクルが行われ、デバイスを汚染し且つ作動不能にする可能性のあるパーティクルが基板から除去されるようにすることをしばしば必要とする。しかし、これらのリンシング及び乾燥ステップは、それ自体、追加的な問題点を招来する可能性がある。
【０００５】
１つの大きな問題点は、リンシング（又は、基板が液体に露呈される任意のその他の処理ステップ）の後、乾燥ステップにより液体を基板から完全に除去できないことである。当該技術分野では、液滴が残る基板の１つの面積から製造される半導体デバイスは、作動不能になる可能性がより大きいことは周知である。このため、適正に作動するデバイスの基板当たりの歩留り率を増大させるためには、全ての液体を基板の表面から可能な限り完全に除去することが必須である。
【０００６】
基板を可能な限り迅速に且つ完全に乾燥させるため、極めて巧妙なシステム及び方法が開発されている。しかし、従来技術の乾燥システム及び方法の不完全さのため、全ての微量の液体を基板の表面から効率的で且つ経済的な仕方にて完全に除去することは不可能である。基板が処理タンク内に配置されたとき、基板は、典型的に、処理タンク自体に組み込まれたキャリアすなわち物品の支持部材とすることのできる支持装置によって直立の位置に支持されている。支持装置と接触した、これら基板の領域から微量の水を迅速に且つ効果的に除去することは、当該技術分野にて十分に認識された課題である。このため、完全に乾燥させることができず、従って廃棄しなければならないエッジ付近の基板の部分を意味する語である、「エッジ排除（ｅｄｇｅ  ｅｘｃｌｕｓｉｏｎ）」として当該技術分野にて知られた状況のため、基板の特定の極めて価値ある部分が無駄になる。半導体デバイスは、益々、極小化しつつあるため、残る液体量に起因する水−スポッティングが無いならば、これらの領域から製造できる、作動可能な半導体デバイスの数が増大する点にて「エッジ排除」領域も、また、益々、価値あるものとなっている。
【０００７】
ウェハ基板を完全に乾燥させることにより、エッジ排除の必要性を解消し得るように乾燥機システム及び乾燥方法を改良する多くの試みが為されている。しかし、問題点を効果的に且つ効率的な仕方にて完全に解決するものは皆無である。
【０００８】
例えば、モヒンドラ（Ｍｏｈｉｎｄｒａ）らの米国特許第５，５７１，３３７号は、液体をエッジから除去するため半完成の半導体のエッジにて窒素気体のような乾燥流体を搏動させることを教示している。モヒンドラの方法を適用する結果、接触点にて液体が蒸発する。その双方が歩留り率を低下させる水中に存在するパーティクル及び不純物が残るため、蒸発は望ましくない。更に、モヒンドラ法を実施するのに必要な装置は高価で且つ大型となる。
【０００９】
マックコネル（ＭｃＣｏｎｎｅｌｌ）らの米国特許第４，９８４，５９７号は、水を排出し且つ乾燥を向上させるため多量のＩＰＡを使用することを教示している。しかし、かかる方法は、特殊なタンク、及びＩＰＡを安全に取り扱い且つ処理するための複雑な支持装置を必要とする。更に、マックコネルの方法は、多量のＩＰＡが使用されるため、コスト高である。
【００１０】
第三の乾燥システムがムナカタ（Ｍｕｎａｋａｔａ）の米国特許第６，１２５，５５４号により教示されている。ムナカタは、基板を垂直位置に支持する溝を有するラックを備える、基板を乾燥させるシステムを教示している。基板は、ラックの溝内にて接触し且つ支持される。溝の各々は、溝の接触点付近にて基板に粘着する水を開口内に吸引することのできる開口を溝の付近に有している。このシステムは、溝の各々に真空力を発生させる追加的な装置を必要とし、開放した開口及びラック内のキャビティは、気泡及びトラップされたパーティクルのため、液体で充填された処理タンク内に問題を生じさせる可能性がある。更に、ムナカタにて使用されたラックは、高価で且つ、製造困難である。
【００１１】
基板のエッジと、乾燥機の支持装置との間の接触点から水を効率的に除去し得ないことに起因するエッジ排除の問題点を清浄で、低コスト且つ、時宜的な方法にて解決するため多くのその他のシステム及び方法が提案されているが、この問題点を完全に解決するものは皆無である。
【００１２】
従って、本発明の１つの目的は、基板のような、高価値の物品をより迅速に乾燥させる方法を提供することである。
本発明の更なる目的は、高価値の物品をより経済的に乾燥させる方法を提供することである。
【００１３】
本発明の更に別の目的は、乾燥装置と乾燥される物品との間の接触点に存在するエッジ排除の問題点を軽減し又は解消することである。
更に別の目的は、シリコンウェハからの高価値の集積回路の歩留り率を向上させることである。
【００１４】
本発明の更に別の目的は、多量の高価な乾燥化学剤の必要量を減少させることである。
本発明の更なる目的及び有利な効果は、以下の説明に記載されており且つ、以下の説明を検討することにより当該技術分野の当業者に明らかになり、又は、本発明を実施することにより理解できる。本発明の目的及び有利な効果は、請求項に特に指摘された手段及び結合によって実現し且つ得ることができる。
【００１５】
１つの特徴において、本発明は、毛管材料を備える１つ以上の支持部分を有して、処理タンク内にて少なくとも１つの基板を支持する物品の支持部材を備える、少なくとも１つの基板を乾燥させるときに使用される装置である。１つ以上の支持部分の全てが毛管材料を備えることが好ましい。
【００１６】
１つの実施の形態において、物品の支持部材は、その全体が毛管材料で出来ている。しかし、物品の支持部材は、毛管材料で出来たコアと、非毛管材料で出来た殻体とを備えることが好ましい。この実施の形態において、支持部分は、殻体を貫通して伸び且つ、コアを露出させる溝を備えている。基板は、溝内でほぼ直立の位置に支持されよう。１つ以上の溝は下方に角度を付けた壁を備えることが更に好ましい。この実施の形態は、基板が物品の支持部材により支持されるとき、基板と物品の支持部材との間の接触面積を最小にし、液体が流れるためのより妨害されない経路を提供することになろう。殻体の非毛管材料は、ＰＰ又はＰＴＦＥのような、非多孔質フルオロポリマーであることが好ましい。
【００１７】
物品の支持部材の支持部分は、物品の支持部材により基板が支持されるとき、基板が毛管材料にのみ接触するように適応させることが好ましい。
装置は、毛管材料に流体的に接続された排出部を更に備えることができる。液体が毛管材料中に吸引されるとき、液体は、毛管材料の別の部分から且つ排出部内に排出され、追加的な液体を毛管材料中に吸引するためのスペースを形成する。排出部は、真空又はその他の高価な装置を必要としないように、大気圧に維持することができる。別の実施の形態において、排出部は、液体を毛管材料中に吸引し、又は、液体を毛管材料を通じて処理チャンバ内に付勢し得るようにされた真空源に流体的に接続することができる。好ましくは、真空源は、処理タンクが基板が浸漬する脱イオン水にて充填される前又は充填される間、脱イオン化したリンス水を毛管材料を通じ且つ、処理タンク内に付勢し得るようにされるようにする。このことは、毛管材料を再度湿らせ且つ、毛管材料中の全ての空気ポケットを解消することになろう。
【００１８】
リンシング及び乾燥に加えて基板を化学的に処理し得るようにされた処理タンク内で装置が使用されるならば、処理タンクが化学剤にて充填され、清浄な脱イオン化したリンス水が処理タンク内に導入され始めるとき、真空源は、液体を処理タンクから毛管材料内に吸引し得るように更に適応させることができる。このとき、液体を毛管材料中に吸引することにより、毛管材料中にトラップされるであろう化学剤は毛管材料中に更に引込まれ且つ、流入する脱イオン化したリンス水にて置換されよう。このことは、トラップされた化学剤が処理タンク内に拡散されて戻るのを阻止し且つ、毛管材料と接触する基板の部分が過度にエッチングされるのを阻止することになろう。
【００１９】
毛管材料は、毛管力を使用することを通じて液体を吸引することのできる任意の材料とすることができるが、毛管材料は、多孔質ポリプロピレン（「ＰＰ」）又は多孔質ポリテトラフルオロエチレン（「ＰＴＦＥ」）のような多孔質フルオロポリマーであることが好ましい。
【００２０】
１つの実施の形態において、物品の支持部材は、２つの外側リフター、中央リフター、基部板を備えている。この実施の形態において、外側リフター及び中央リフターは基部板から上方に伸び、中央リフターの長さは２つの外側リフターよりも短い。基板が処理タンク内に下降するとき、外側リフター及び短い中央リフターが基板に係合し且つ該基板を支持することができるように外側リフター及び中央リフターを基部板上に配置する必要がある。
【００２１】
物品の支持部材は、乾燥過程の間、複数の物品と接触し且つ該複数の物品を支持し得るようにすることができる。また、物品の支持部材が処理タンクの底部又は底部付近の不動の位置にあることも好ましい。
【００２２】
別の特徴において、本発明は、湿った基板を毛管材料に接触させるステップを備える、液体を処理タンク内の湿った基板から除去する方法である。
本発明の更に別の特徴において、本発明は、基板をある液体液位を有する液体中に浸漬するステップと、浸漬した基板を処理タンク内で支持するステップと、乾燥蒸気を液体液位の上方に供給するステップと、液体液位が基板の下方となるように液体液位を低下させるか又は基板を上昇させ、これにより液体の大部分を基板の表面から除去するステップと、残る液体を毛管材料にて基板の表面から除去するステップとを備える、１つの面を有する少なくとも１つの基板を処理タンク内で乾燥させる方法である。
【００２３】
本発明の方法の１つの実施の形態において、液体を毛管作用により除去するステップは、下降し又は上昇するステップの後、基板を毛管材料に接触させるステップを備えている。しかし、毛管材料は、基板を支持する物品の支持部材の一部であることが好ましい。
【００２４】
この方法は、毛管材料に流体的に接続された排出部を通じて毛管材料中に吸引される液体を排出するステップを更に備えることができる。この排出ステップは、大気圧にて行われることが好ましい。
【００２５】
処理タンクを封止すること及び上記のステップは、閉じられた雰囲気中で行うことが好ましい。閉じられた雰囲気は不活性な雰囲気であることが好ましい。処理タンクを封止したとき、少なくとも１つの基板が液体中に浸漬している間、乾燥蒸気が液体液位の上方にて処理タンクに供給される。液体は脱イオン水とし、乾燥蒸気はイソプロピルアルコールを備えることができる。イソプロピルアルコールは脱イオン水の液体表面内に拡散されよう。液体が処理タンクから排出され、液体液位が基板よりも低下したとき、マランゴニ乾燥効果は液体の大部分を基板の表面から除去する。しかし、このマランゴニ型式の乾燥は、基板を完全に乾燥させることはできない。基板に残る液体は、通常、基板を毛管材料と接触する（又は接触される）ことによって除去し、残る液体は基板から毛管力を通じて毛管材料中に吸引しなければならない。
【００２６】
本発明の乾燥方法が基板にて行われる前に、毛管材料中にトラップされるであろう全ての空気ポケットが解消されることが好ましい。これらの空気ポケットの解消は、液体、好ましくは、脱イオン水を毛管材料を通じて処理タンク内に付勢することによって行われることが好ましい。この再湿潤化手順は、基板が処理タンク内に導入される前に行われる。
【００２７】
本出願の発明による方法は、エッチング、リンシング及び剥離を含む、多数の半導体処理ステップと組み合わせて使用することができる。多くの場合、これらステップの全ては、基板が全体の時間に亙って現場にある状態で単一の処理タンク内で行うことができる。
【実施例】
【００２８】
図面及び以下の説明は、単に説明の目的のため、本発明の実施の形態を説明するものである。当該技術分野の当業者は、本発明の原理から逸脱せずに本明細書に示した構造体及び方法の代替的な実施の形態を採用することができることが以下の説明から容易に認識されよう。
【００２９】
図１を参照すると、ウェハバスケットとしても知られた、基板のキャリア１の１つの実施の形態が図示されている。基板キャリアは、典型的に、製造過程を通じて基板を１つの機械から別の機械に搬送するため半導体工業にて使用されている。基板キャリアを使用することは、基板を直接的にすなわち機械のオペレータによって取り扱う必要性を軽減し又は解消し、これにより、物理的損傷又は汚染の可能性を減少させる。基板キャリア１は、前側パネル２、後側パネル３、２つの側部パネル４、２つの底部支持パネル５、側部パネル４及び底部支持パネル５の双方から突き出す複数の基板の分離案内部６を有している。基板の分離案内部６は、整合されており、このため、平坦な基板７を該基板の分離案内部６の間に摺動可能に配置し且つ、該案内部６により支持することができる。
【００３０】
次に、図２を参照すると、基板キャリア１は、２つの側部開口部穴８と、底部開口部穴９とを有している。基板キャリア１は、上記の設計上の特徴を有するウェハバスケットとして示されているが、当該技術分野の当業者は、本発明は、この実施の形態にのみ制限されないことが理解されよう。基板キャリアは、少なくとも１つの基板を維持することができ且つ、請求項に記載された機能を果たすことができる限り、任意の形態をとることができる。代替的な実施の形態は、基板に係合し且つ基板を搬送し得るようにされたロボットアームと、ワイヤーフレーム基板キャリアと、吸引棒とを有することができる。
【００３１】
図３には、本発明による物品の支持部材１０の１つの実施の形態が図示されている。物品の支持部材１０は、２つの外側リフター１１と、長さがより短い中央リフター１２と、基部板１４とを備えている。基部板１４は、物品の支持部材１０からの液体の排出を容易にし得るように基部板１４の全体に亙って配置された複数の穴１５を有している。流入する流体の源が基部板１４の下方に配置されるとき、穴１５は、流入する液体を処理タンク２０（図４）内に均一に分配することを容易にする。外側リフター１１及び中央リフター１２の双方は、外側リフター１１及び中央リフター１２の各々の頂部分に沿って鋸歯状の複数の基板保持櫛１３を有する構造とされている。基板保持櫛１３は、物品の支持部材１０の支持部分として機能する上下逆さの連続的な三角形の形状の溝１６（図４）を形成する。物品の支持部材１０の支持部分は、溝１６として図示されているが、物品の支持部材の支持部分は、このように制限されず、これら支持部分が１つの基板を支持することができる限り、任意の実施の形態をとることができる。
【００３２】
図３及び図４を参照すると、溝１６は、基板７を受け入れ且つ支持し、物品の支持部材１０の支持部分として機能するように形成される。溝１６は、外側リフター１１及び中央リフター１２にて整合されており、このため、平坦な基板７を外側リフター１１及び中央リフター１２の相応する溝１６内に挿入することができる。基板７は、物品の支持部材１０と基板７との間の接触が最小の状態にて実質的に垂直の位置に支持されよう。物品の支持部材１０は、複数の基板を支持する設計とされているが、本発明は、このように制限されず、請求項に記載された制限に適合する限り、単一の基板を支持し得る設計とされた物品の支持部材を包含することができる。
【００３３】
図４を参照すると、物品の支持部材１０は、処理タンク２０の底部に又は底部付近に配置されることが好ましい。図示するように、物品の支持部材１０は、コア１８及び殻体１９を備えている。コア１８は、毛管材料（斜線）にて製造されている一方、殻体１９は、非毛管材料にて製造されている。具体的には、コア１８は、多孔質ポリプロピレン（「ＰＰ」）にて製造される一方、殻体１９は、非多孔質ポリふっ化ビニリデン（「ＰＶＤＦ」）にて製造される。本明細書にて使用するように、「毛管材料」は、毛管力の結果として液体を吸引することができ、また、孔／キャビティを有する独立気泡構造の材料及びその集合体の間に空所／空隙を有する開放気泡構造材料の双方を含む任意の材料である。材料は、本来的に毛管材料とするか、又は、例えば、材料を多孔質にすることにより毛管能力を呈し得るように変更することができる。本明細書にて使用するように、「非毛管材料」という語は、液体を毛管力を通じて吸引するための顕著な能力を示すことがない任意の材料を意味する。
【００３４】
本発明を実施するときに使用することのできる毛管材料の好ましい例は、ＰＰ、ポリテトラフルオロエチレン（「ＰＴＦＥ」）及びＰＶＤＦのような多孔質フルオロポリマーである。使用される多孔質ＰＰに対し受容可能な孔サイズは、１２５から１７０μｍの範囲にある。多孔質ＰＰの受容可能な孔容積は３５から５０％の範囲である。このことは、多孔質ＰＰの容積の３５から５０％が開放した空気であることを意味する。多孔質ＰＰ及び多孔質ＰＴＦＥは本発明にて使用するのに好ましい毛管材料であるが、当該技術分野の当業者は、毛管材料という語は、これらの材料が液体を毛管力現象を通じて吸引する能力を有する限り、未だ知られず又は発見されていない材料を含む、遥かに広範囲の材料を包含するものであることが理解されよう。物品の支持部材を形成するときに使用されるとき、毛管材料は、また、基板を支持するのに十分に剛性でなければならない。
【００３５】
適宜な非毛管材料の例は、ＰＰ、ＰＴＦＥ及びＰＶＤＦのような非多孔質フルオロポリマーを含む。
外側リフター１１の断面が図４に図示されているが、中央リフター１２及びその他の外側リフター１１（図３）は、コア１８及び殻体１９に関して同様の仕方にて製造されることを理解すべきである。溝１６は殻体１９を貫通してコア１８内に伸びており、コア１８である毛管材料を露出させる。基板７が物品の支持部材１０内で支持されるとき、基板７が殻体１９の非毛管材料に接触せずに、コア１８の毛管材料と係合する迄、基板７は溝１６内に下方に摺動可能に挿入される。このように、基板７が物品の支持部材１０によって支持され、このため、基板７は、物品の支持部材１０の毛管材料にのみ接触する。
【００３６】
コア１８の毛管材料は排出管２４に流体的に接続されている。このことは、コア１８の毛管材料中に吸引された液体を基板７から且つ処理タンク２０の外に排出することを許容する。排出管２４は、真空源／エダクタ４５を介して流体管４０に流体的に接続されている。流体管４０は、また、一端にて脱イオン水の供給源４１に及び他端にて排出リザーバ４２に流体的に接続されている。流体管４０は、脱イオン水の供給源４１と真空源／エダクタ４５との間に配置された第一の弁４３を有している。排出管４０は、また、真空源／エダクタ４５と排出リザーバ４２との間に配置された第二の弁４４も有している。
【００３７】
液体を毛管作用によって除去する間、毛管材料の排出が大気圧にて行われよう。真空源／エダクタ４５を使用する必要はない。本発明を実施するために必要ではないが、真空源／エダクタ４５を図示するようにシステム内に組み込むことが望ましいことが判明している。真空源／エダクタ４５を適正に適応させることにより、処理する間、毛管材料は液体にて完全に飽和され、また、トラップされた化学剤が望ましくないときに基板７に接触しないようにすることを保証することができる。トラップされた空気は、気泡が毛管材料から出て且つ、処理タンク２０内にあるウェハと接触する可能性があるため、かかる取り込んだ空気があることは望ましくない。これらの気泡は、気泡がウェハに接触するとき、ウェハに堆積される可能性のある、パーティクルのような汚染物質を運ぶ可能性がある。毛管材料を十分に飽和させれば、毛管材料中にトラップされた全ての空気は除去されることになろう。
【００３８】
処理タンク２０は、蓋３０と、溢れ堰３１と、液体供給管３２と、チャンバ排出部３３と、乾燥蒸気源３４とを備えている。蓋３０は従来の仕方にて処理タンク２０に接触し且つ、蓋３０が処理タンク２０の頂部に接触する位置に配置されたＯリング３５により処理タンク内にて封止された雰囲気を形成することができる。液体供給管３２は、脱イオン水、化学剤、混合体及び溶液を含む任意のプロセス液体を処理タンク２０に供給し得るように適応させることができる。処理タンクの構成要素の全ては、手操作で制御するか又は適正にプログラム化したプロセッサを使用することを通じて自動化することができる。
【００３９】
図５を参照すると、本発明の１つの実施の形態に従って基板７と外側リフター１１の溝１６との間の接触面積の接写図が図示されている。基板７が溝１６内に挿入されたとき、基板７は、溝１６の側壁２０、２１に接触し且つこれらの側壁と係合して接触点２２、２３を形成する。
【００４０】
接触点２２、２３は、非多孔質ＰＰ又はＰＴＦＥのような非毛管材料で出来た殻体１９の下方で側壁２０、２１に配置されている。接触点２２、２３は、コア１８である毛管材料で製造された側壁２０、２１の部分に配置されている。基板７が毛管材料で製造された物品の支持部材１０の点／領域にのみ接触することを保証することにより、接触点２２、２３又はその付近で基板７にトラップされた液体は毛管力によって毛管材料内に引込まれる。溝１６は上下逆さの三角形の形状のキャビティとして図示されているが、溝１６は、矩形又は半円形のような、基板７を内部に支持する任意の形状となるように設計することができる。しかし、溝１６を三角形の形状とすることにより、物品の支持部材１０と基板７との間に存在する接触面積は最小限となる。
【００４１】
図５には、基板７が物品の支持部材１０内に支持されたときの基板７と外側リフター１１との接触状態が具体的に図示されているが、基板７は、また、同様の仕方にて、中央リフター１０及びその他の外側リフター１１にも接触する（図３）。このように、基板７が物品の支持部材１０によって支持されるとき、２つの外側リフター１１及び中央リフター１２の各々は、図５に示すように、基板７に係合し且つ該基板７を支持する。図示した実施の形態は、多孔質ＰＰ又はＰＴＦＥのような毛管材料で出来たコア１８と、非毛管材料で出来た殻体１９を備える物品の支持部材１０を示すが、物品の支持部材の全体を毛管材料で製造し、又は支持部分のみが毛管材料で製造されるように物品の支持部材を設計することが可能である。
【００４２】
更に、基板７は、矩形の輪郭外形を有し、基板７が外側リフト１１に対する２つの接触点２２、２３のみを形成するものとして図示されているが、基板７は特に基板のエッジ付近にて多岐に亙る輪郭外形をとることが可能である。基板のエッジの輪郭外形を変更すれば、基板７と物品の支持部材１０との間に形成される接触面積を形成する接触点の数を変化させることができる。
【００４３】
図６には、請求の範囲に記載された乾燥方法の１つの実施の形態を実施するときに行われるステップの概要が示してある。図６のステップについては、図１から図５に示した装置に関して説明する。
【００４４】
乾燥過程の開始時、処理タンク２０は空であり、蓋３０は開放している。第二の弁４４は閉じて流体が該弁を貫通して流れるのを阻止する。第一の弁４３は開放し、ＤＩ給水源４１からの脱イオン（「ＤＩ」）水が流体管４０を通って真空源／エダクタ４５内に流れるのを許容する。真空源／エダクタ４５は充填されて、ＤＩ水は、排水管２４内に付勢され、コア１８の毛管材料を通じて処理タンク２０内に付勢され、これによりステップ６１０を完了する。毛管材料を再度湿潤化すると、基板７が処理タンク２０内に導入される前に、毛管材料中にトラップされる全ての空気ポケットを解消することになる。
【００４５】
ＤＩ水をコア１８の毛管材料を通じて付勢すると同時に、ＤＩ水は、ＤＩ給水源４１から液体供給管３２を通じて処理タンク２０にも供給される。ＤＩ水の液体の液位が露出した毛管材料の上方になったならば、ＤＩ水をコア１８の毛管材料を通じて付勢することは、真空源／エダクタ４５を不作動にすることにより停止させることができる。第二の弁４４を開き且つ第一の弁４３を閉じることができる。ＤＩ水が処理タンク２０を充填し且つ溢れ堰３１内に滝状に流れる迄、ＤＩ水は、液体供給管３２を通じて処理タンク２０への供給されるのを続けてステップ６２０を完了する。
【００４６】
ＤＩ水は処理タンク２０に続けて供給されて、ＤＩ水は、所定の時間溢れ出て、処理タンク２０内に存在するであろう全てのパーティクル又は汚染物を十分に除去することを保証する。処理タンク２０が十分に清浄になったと考えられたならば、その内部に少なくとも１つの基板７を有する基板キャリア１を充填された処理タンク２０内に下降させ、ステップ６３０を完了する。ＤＩ水はこの時点にて処理タンク２０の壁を越えて溢れ堰３１内に滝状に流れるようにすることができるが、流れないようにしてもよい。
【００４７】
物品の支持部材１０の外側リフター１１及び中央リフター１２がそれぞれ基板キャリア１の２つの側部開口部穴８及び底部開口部穴９を貫通して伸びる迄、処理タンク２０内へウェハバスケット１を下降させることを続ける。外側リフター１１及び中央リフター１２は、２つの側部開口部穴８及び底部開口部穴９を貫通して伸びるため、外側リフター１１及び中央リフター１２は基板キャリア１内にある全ての基板７に係合し且つ該基板を支持する。基板キャリア１が下降し続けると、基板７は、基板キャリア１のあらゆる部分から除去され且つ最早、該部分と接触しない。基板７は、外側リフター１１及び中央リフター１２の相応する溝１６内に捕捉される（図５に図示するように）。この時点にて、基板７は物品の支持部材１０によってのみ支持され且つ、コア１８の毛管材料とのみ接触し、これによりステップ６４０を完了する。
【００４８】
次に、タンク蓋３０を閉じて、処理タンク２０を封止し、ステップ６５０を完了する。
ステップ６６０の間、ＤＩ水は、プロセス液体供給管３２を介して処理タンク２０への供給が続けられる。続けて供給されたＤＩ水は、支持された基板７の表面を通って流れる。基板７が十分にリンスされたならば、ＤＩ水の供給を停止する。この時点にて、基板７は、ＤＩ水の液体の液位の下方に十分に漬かって且つ完全に湿っており、従って、更なる処理を行う前に乾燥させる必要がある。
【００４９】
封止した処理タンク２０の残りの容積は、イソプロピルアルコール（「ＩＰＡ」）と窒素気体とから成ることが好ましい、乾燥蒸気にて充填されて、ステップ６６０を完了する。乾燥蒸気はＤＩ水の液体の液位の上方に配置された乾燥蒸気源３４を介して処理タンク２０に導入される。乾燥蒸気源３４は、噴霧ノズル、泡発生器、蒸発器等のような、乾燥蒸気を発生させる当該技術分野にて既知の任意の型式の装置又はシステムとすることができる。乾燥蒸気が処理タンク２０に供給されるとき、ＩＰＡはＤＩ水の液位の最上部内に拡散する。
【００５０】
次に、チャンバ排出部３３を開放し、ＩＰＡがその内部に拡散するＤＩ水が処理タンク２０から排出されることを許容する。ＤＩ水が処理タンク２０から排出されると、ＤＩ水の液体の液位は基板７の下方となり、ＤＩ水の大部分をマランゴニ乾燥効果を介して基板の表面から除去し、これによりステップ６７０を完了する。チャンバ排出部３３は、適宜なリザーバに流体的に接続され、多分流体管４０を介して接続されよう。拡散したＩＰＡを含むＤＩ水が排出される速度は、処理される基板及び使用される処理タンクの特定の設計上の条件に依存するであろう。しかし、毎秒当たり０．５ｍｍから５．０ｍｍの範囲の減少率が適宜であることが判明している。マランゴニ乾燥を的確に促進するため、液体の液位の減少率を制御することは、当該技術分野にて周知であり且つ、当該技術分野の当業者により容易に決定することができる。ＤＩ水及び拡散するＩＰＡの液体の液位が支持された基板７よりも下方になったならば、ＤＩ水の大部分が基板の表面から除去される。しかし、この型式のマランゴニ乾燥はそれ自体が基板を十分に乾燥させることができず、物品の支持部材１０と接触した基板７の点／領域又はその付近にて基板の表面にＤＩ水が残る可能性がある。これと代替的に、ＤＩ水の液体の液位を維持し且つ基板をＤＩ水の液体の液位よりも上方に上昇させることができる。
【００５１】
物品の支持部材１０の支持部分（すなわち溝１６）が毛管材料で出来ているため、接触点２２、２３にて又はその付近にて基板７の表面に残るＤＩ水は、毛管力によって基板７から毛管材料内に吸引されて、ステップ６８０を完了する。
【００５２】
これと代替的に、基板７は、支持部分にて非毛管材料にて製造された支持装置により処理タンク２０内で支持してもよい。この実施の形態において、基板の表面に残るＤＩ水は、灯芯型構造体のような毛管材料要素が残る液体に接触することにより、基板７から吸引される。このことは、毛管力によって残るＤＩ水を毛管材料内に吸引することになろう。本発明の方法は、基板に残る液体が毛管作用により除去される限り、任意の特定の構造に限定されるものではない。
【００５３】
コア１８の毛管材料がＤＩ水を毛管力によってその内部に吸引するため、既に毛管材料内にトラップされたＤＩ水は、排出管２４内に排出されて、追加的なＤＩ水を吸引するためのスペースを形成する。この時点にて、排出管２４は大気圧に保たれて、吸収されたＤＩ水が負圧を使用せずに毛管材料外に排出されることを許容する。
【００５４】
上述したようにＤＩ水が基板７から乾燥したならば、ＩＰＡの供給を停止し、処理タンク２０は加熱した窒素気体にて完全に充填し、封止した処理タンク２０内に不活性な雰囲気を形成し、ステップ６９０を完了する。この加熱した窒素気体は、基板キャリア１及び処理タンク２０のその他の部分の乾燥を容易にする。しかし、液体の全て又は実質的に全てがこの時点にて基板から除去されているから、この熱した窒素は基板を乾燥させることはない。次に、基板を処理タンク２０から除去する。
【００５５】
現場の過程にて基板７をリンスし、エッチング又は剥離するため、液体供給管３２を通じて化学剤及びその他の化学物質を供給し得るように処理タンク２０を更に適応させることが可能である。処理タンク２０がこのように適応されたとき、毛管材料がこれら化学剤の一部を吸収する可能性がある。これらの化学剤が毛管材料から拡散し且つ後の時点にて基板７と接触するのを回避するため、ＤＩリンス水が化学剤に置換し始める時間の間、液体を毛管材料内に吸引し得るように、真空源／エダクタ４５を適応させることができる。これと代替的に、この真空力は、第一の弁４３及び第二の弁４４を開放することで形成されるようにしてもよい。
【００５６】
本発明を詳細に説明し且つ図示したが、本発明の精神及び範囲から逸脱せずに、各種の代替例及び改変例が当該技術分野の当業者に容易に明らかになるであろう。特に、本発明の装置及び方法は、リンスステップの後にＤＩ水を除去することに制限されず、任意の液体を基板から除去するために使用することができる。更に、本発明は、バッチ処理システム及び装置である場合、単一の水処理システム及び装置に等しく適用応可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】その内部で基板を下降させた、基板キャリアの１つの実施の形態を示す斜視図である。
【図２】図１の基板キャリアの頂面図である。
【図３】本発明による物品支持部材の１つの実施の形態を示す斜視図である。
【図４】処理タンク内に配置され且つ基板を支持する図３の物品支持部材を示す側断面概略図である。
【図５】図４の領域ＩＶ−ＩＶの拡大図である。
【図６】本発明による基板を乾燥させる方法の１つの実施の形態を示すフローチャートである。
【図１】
2005522020.tif 000002
【図２】
2005522020.tif 000003
【図３】
2005522020.tif 000004
【図４】
2005522020.tif 000005
【図５】
2005522020.tif 000006
【図６】
2005522020.tif 000007
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月25日(2003.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの基板を乾燥させるときに使用される装置において、
細胞状（ｃｅｌｌｕｌａｒ）毛管材料を備える１つ以上の支持部分を有して、処理タンク内にて少なくとも１つの基板を支持する物品の支持部材を備える、装置。
【請求項２】
請求項１の装置において、１つ以上の支持部分の全てが細胞状毛管材料を備える、装置。
【請求項３】
請求項１の装置において、物品の支持部材の全体が細胞状毛管材料で製造される、装置。
【請求項４】
請求項１の装置において、物品の支持部材が、細胞状毛管材料で出来たコアと、非毛管材料で出来た殻体とを備え、
支持部材が、殻体を貫通して伸び且つ、細胞状コアを露出させる溝を備える、装置。
【請求項５】
請求項４の装置において、支持部分が殻体を貫通して伸び且つ細胞状コアを露出させる溝を備える、装置。
【請求項６】
請求項５の装置において、溝が角度付き壁を有する、装置。
【請求項７】
請求項４の装置において、非毛管材料が非多孔質フルオロポリマーである、装置。
【請求項８】
請求項７の装置において、非多孔質フルオロポリマーが、ＰＰ、ＰＴＦＥ及びＰＶＤＦから成る群から選ばれる、装置。
【請求項９】
請求項１の装置において、支持部分が、細胞状毛管材料とのみ接触することにより基板を支持し得るようにされた、装置。
【請求項１０】
請求項１の装置において、細胞状毛管材料に流体的に接続された排出部を更に備える、装置。
【請求項１１】
請求項１の装置において、細胞状毛管材料が多孔質フルオロポリマーである、装置。
【請求項１２】
請求項１１の装置において、多孔質フルオロポリマーが、ＰＰ、ＰＴＦＥ及びＰＶＤＦから成る群から選ばれる、装置。
【請求項１３】
請求項１の装置において、物品の支持部材が、２つの外側リフターと、中央リフターと、基部板とを備え、外側リフター及び中央リフターが、基部板から上方に伸び、中央リフターの長さが２つの外側リフターよりも短く、外側リフター及び中央リフターが少なくとも１つの基板に係合し且つ該少なくとも１つの基板を支持するように外側リフター及び中央リフターが基部板上に配置される、装置。
【請求項１４】
請求項１の装置において、物品の支持部材が、複数の基板に接触し且つ該複数の基板を支持し得るようにされた、装置。
【請求項１５】
請求項１の装置において、物品の支持部材が、処理タンクの底部又はその付近の不動の位置にある、装置。
【請求項１６】
湿った基板を細胞状毛管材料に接触させるステップを備える、処理タンク内の湿った基板から液体を除去する方法。
【請求項１７】
１つの面を有する少なくとも１つの基板を処理タンク内にて乾燥させる方法において、
基板をある液体の液位を有する液体に浸漬するステップと、
浸漬した基板を処理タンク内にて支持するステップと、
乾燥蒸気を液体の液位の上方に供給するステップと、
液体の液位が基板よりも下方となるように液体の液位を低下させるか又は基板を上昇させ、これにより液体の大部分を基板の表面から除去するステップと、
残る液体を細胞状毛管材料にて基板の表面から除去するステップとを備える、方法。
【請求項１８】
請求項１７の方法において、液体を細胞状毛管材料にて除去するステップが、前記低下させ又は上昇させるステップの後に基板の表面を細胞状毛管材料に接触させるステップを備える、方法。
【請求項１９】
請求項１７の方法において、毛管材料が、基板を支持する物品の支持部材の一部である、方法。
【請求項２０】
請求項１７の方法において、処理タンクを封止するステップを更に備える、方法。
【請求項２１】
請求項１７の方法において、乾燥蒸気が、イソプロピルアルコールを備える、方法。
【請求項２２】
請求項１７の方法において、細胞状毛管材料中に吸引された液体を大気圧にて排出するステップを更に備える、方法。
【請求項２３】
請求項１７の方法において、液体が脱イオン化した水である、方法。
【請求項２４】
請求項１７の方法において、細胞状毛管材料が多孔質フルオロポリマーである、方法。
【請求項２５】
請求項２４の方法において、多孔質フルオロポリマーが、ＰＰ、ＰＴＦＥ及びＰＶＤＦから成る群から選ばれる、方法。
【請求項２６】
湿った基板が処理タンク内にあるとき、液体を湿った基板から除去し得るようにされた細胞状毛管材料を有する部材を備える、湿った基板から液体を除去する装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年5月7日(2004.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの基板を乾燥させるときに使用される装置において、
細胞状（ｃｅｌｌｕｌａｒ）毛管材料を備える１つ以上の支持部分を有して、処理タンク内にて少なくとも１つの基板を支持する物品の支持部材を備え、
物品の支持部材が、細胞状毛管材料で出来たコアと、非毛管材料で出来た殻体とを備え、該支持部材が、殻体を貫通して伸び且つ、細胞状コアを露出させる溝を備える、装置。
【請求項２】
請求項１の装置において、１つ以上の支持部分の全てが細胞状毛管材料を備える、装置。
【請求項３】
請求項１の装置において、物品の支持部材の全体が細胞状毛管材料で製造される、装置。
【請求項６】
請求項１の装置において、溝が角度付き壁を有する、装置。
【請求項７】
請求項１の装置において、非毛管材料が非多孔質フルオロポリマーである、装置。
【請求項８】
請求項７の装置において、非多孔質フルオロポリマーが、ＰＰ、ＰＴＦＥ及びＰＶＤＦから成る群から選ばれる、装置。
【請求項９】
請求項１の装置において、支持部分が、細胞状毛管材料とのみ接触することにより基板を支持し得るようにされた、装置。
【請求項１０】
請求項１の装置において、細胞状毛管材料と流体的に接続された排出部を更に備える、装置。
【請求項１１】
少なくとも１つの基板を乾燥させるときに使用される装置において、
細胞状毛管材料を備える１つ以上の支持部分を有して、処理タンク内にて少なくとも１つの基板を支持する物品の支持部材を備え、
細胞状毛管材料が多孔質フルオロポリマーである、装置。
【請求項１２】
請求項１１の装置において、多孔質フルオロポリマーが、ＰＰ、ＰＴＦＥ及びＰＶＤＦから成る群から選ばれる、装置。
【請求項１３】
請求項１の装置において、物品の支持部材が、２つの外側リフターと、中央リフターと、基部板とを備え、外側リフター及び中央リフターが、基部板から上方に伸び、中央リフターの長さが２つの外側リフターよりも短く、外側リフター及び中央リフターが少なくとも１つの基板に係合し且つ該少なくとも１つの基板を支持するように外側リフター及び中央リフターが基部板上に配置される、装置。
【請求項１４】
請求項１の装置において、物品の支持部材が、複数の基板に接触し且つ該複数の基板を支持し得るようにされた、装置。
【請求項１５】
請求項１の装置において、物品の支持部材が、処理タンクの底部又はその付近の不動の位置にある、装置。
【請求項１７】
１つの面を有する少なくとも１つの基板を処理タンク内にて乾燥させる方法において、
基板をある液体の液位を有する液体に浸漬するステップと、
浸漬した基板を細胞状毛管材料を備える１つ以上の支持部分を有する物品の支持部材により処理タンク内にて支持するステップと、
イソプロピルアルコールを備える乾燥蒸気を液体の液位の上方に供給するステップと、
液体の液位が基板よりも下方となるように液体の液位を低下させるか又は基板を上昇させ、これにより液体の大部分を基板の表面から除去するステップと、
残る液体を細胞状毛管材料にて基板の表面から除去するステップとを備える、方法。
【請求項１８】
請求項１７の方法において、液体を細胞状毛管材料にて除去するステップが、前記低下させ又は上昇させるステップの後に基板の表面を細胞状毛管材料に接触させるステップを備える、方法。
【請求項１９】
請求項１７の方法において、毛管材料が、基板を支持する物品の支持部材の一部である、方法。
【請求項２０】
請求項１７の方法において、処理タンクを封止するステップを更に備える、方法。
【請求項２２】
請求項１７の方法において、細胞状毛管材料中に吸引された液体を大気圧にて排出するステップを更に備える、方法。
【請求項２３】
請求項１７の方法において、液体が脱イオン化した水である、方法。
【請求項２４】
請求項１７の方法において、細胞状毛管材料が多孔質フルオロポリマーである、方法。
【請求項２５】
請求項２４の方法において、多孔質フルオロポリマーが、ＰＰ、ＰＴＦＥ及びＰＶＤＦから成る群から選ばれる、方法。
【請求項２７】
請求項１７の方法において、
物品の支持部材が、細胞状毛管材料で出来たコアと、非毛管材料で出来た殻体とを備え、該支持部材が、殻体を貫通して伸び且つ、細胞状コアを露出させる溝を備える、装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月7日(2004.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの基板を乾燥させるときに使用される装置において、
細胞状（ｃｅｌｌｕｌａｒ）毛管材料を備える１つ以上の支持部分を有して、処理タンク内にて少なくとも１つの基板を支持する物品の支持部材を備え、
物品の支持部材が、細胞状毛管材料で出来たコアと、非毛管材料で出来た殻体とを備え、該支持部材が、殻体を貫通して伸び且つ、細胞状コアを露出させる溝を備える、装置。
【請求項２】
請求項１の装置において、１つ以上の支持部分の全てが細胞状毛管材料を備える、装置。
【請求項３】
請求項１の装置において、溝が角度付き壁を有する、装置。
【請求項４】
請求項１の装置において、非毛管材料が非多孔質フルオロポリマー又は非多孔質ＰＰである、装置。
【請求項５】
請求項４の装置において、非多孔質フルオロポリマーが、ＰＴＦＥ及びＰＶＤＦから成る群から選ばれる、装置。
【請求項６】
請求項１の装置において、支持部分が、細胞状毛管材料とのみ接触することにより基板を支持し得るようにされた、装置。
【請求項７】
少なくとも１つの基板を乾燥させるときに使用される装置において、
細胞状毛管材料を備える１つ以上の支持部分を有して、処理タンク内にて少なくとも１つの基板を支持する物品の支持部材を備え、
細胞状毛管材料が多孔質フルオロポリマー又は多孔質ＰＰである、装置。
【請求項８】
請求項７の装置において、多孔質フルオロポリマーが、ＰＴＦＥ及びＰＶＤＦから成る群から選ばれる、装置。
【請求項９】
請求項１の装置において、物品の支持部材が、２つの外側リフターと、中央リフターと、基部板とを備え、外側リフター及び中央リフターが、基部板から上方に伸び、中央リフターの長さが２つの外側リフターよりも短く、外側リフター及び中央リフターが少なくとも１つの基板に係合し且つ該少なくとも１つの基板を支持するように外側リフター及び中央リフターが基部板上に配置される、装置。
【請求項１０】
１つの面を有する少なくとも１つの基板を処理タンク内にて乾燥させる方法において、
基板をある液体の液位を有する液体に浸漬するステップと、
浸漬した基板を細胞状毛管材料を備える１つ以上の支持部分を有する物品の支持部材により処理タンク内にて支持するステップと、
イソプロピルアルコールを備える乾燥蒸気を液体の液位の上方に供給するステップと、
液体の液位が基板よりも下方となるように液体の液位を低下させるか又は基板を上昇させ、これにより液体の大部分を基板の表面から除去するステップと、
残る液体を細胞状毛管材料にて基板の表面から除去するステップとを備える、方法。
【請求項１１】
請求項１０の方法において、液体を細胞状毛管材料にて除去するステップが、前記低下させ又は上昇させるステップの後に基板の表面を細胞状毛管材料に接触させるステップを備える、方法。
【請求項１２】
請求項１０の方法において、細胞状毛管材料中に吸引された液体を大気圧にて排出するステップを更に備える、方法。
【請求項１３】
請求項１０の方法において、細胞状毛管材料が多孔質フルオロポリマー又は多孔質ＰＰである、方法。
【請求項１４】
請求項１３の方法において、多孔質フルオロポリマーが、ＰＴＦＥ及びＰＶＤＦから成る群から選ばれる、方法。
【請求項１５】
請求項１０の方法において、
物品の支持部材が、細胞状毛管材料で出来たコアと、非毛管材料で出来た殻体とを備え、該支持部材が、殻体を貫通して伸び且つ、細胞状コアを露出させる溝を備える、装置。
【請求項１６】
少なくとも１つの基板を乾燥させるときに使用される装置において、
処理タンク内にて少なくとも１つの基板を支持する物品の支持部材を備え、
該物品の支持部材は少なくとも１つ以上の基板に接触し且つ、該基板に対する支持体を提供する１つ以上の支持部分を備え、
少なくとも１つの支持部分が細胞状毛管材料を備える、装置。
【請求項１７】
請求項１６の装置において、１つ以上の支持部分の全てが細胞状毛管材料を備える、装置。
【請求項１８】
請求項１の装置において、１つ以上の支持部分の全てが、全て細胞状毛管材料で製造される、装置。
【請求項１９】
請求項１８の装置において、支持部分が、細胞状毛管材料とのみ接触することにより基板を支持し得るようにされた、装置。
装置。
【請求項２０】
請求項１６の装置において、細胞状毛管材料が多孔質フルオロポリマー又は多孔質ＰＰである、装置。
【請求項２１】
請求項１６の装置において、多孔質フルオロポリマーが、ＰＴＦＥ及びＰＶＤＦから成る群から選ばれる、装置。
【国際調査報告】
2005522020.tif 000008