Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月26日(2020.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
乗物(vehicle)（１０１、２０１、２３１、２６１、３０１、３３１、３６１）のフォイル(foil)の失速状態(stall condition)の予兆(onset)を判定する方法であって、
少なくとも１つの光線を送出するステップと、
少なくとも１つの測定領域からの後方散乱光、であって、前記少なくとも１つの光線の後方散乱光、を特徴付けることによって、前記乗物の前記フォイル(foil)（２０３、２３３、２６３、３０３、３３３、３６３）の上の前記少なくとも1つの測定領域の中を流れる乱流体(turbulent fluid)の存在を示す可能性のあるデータを測定するステップと、
前記フォイルの上の前記少なくとも１つの測定領域内の前記フォイルの前記失速状態の前記予兆が生じたか否かを、前記データから判定するステップであって、前記少なくとも１つの測定領域における前記失速状態の前記予兆が、（ｉ）前記光線の前記後方散乱光の周波数におけるドップラーシフトと、（ii）信号変動における増加、のうちの少なくとも１つに基づいて判定されるステップと、
前記失速状態の前記予兆を判定したとき、警報を発すること、および前記乗物（１０１、２０１、２３１、２６１、３０１、３３１、３６１）に、前記失速状態を回避(avoid)
させるかまたはそれから抜け出させ(exit)、前記失速状態の前記予兆がもはやなくなったときに、このような活動を止めさせること、のうちの少なくとも１つを行うステップと、を含む方法。
【請求項２】
前記フォイル（２０３、２３３、２６３、３０３、３３３、３６３）の上の少なくとも1つの測定領域内に流れる乱流体の存在を示す可能性のあるデータを測定する前記ステップが、前記フォイル（３０３、３３３、３６３）の上を流れる流体（２０８、２３８ａ、２３８ｂ、２６８ａ、２６８ｂ、３０８、３３８ａ、３３８ｂ、３６８ａ、３６８ｂ）のベクトル速度、前記フォイル（２６３、３６３）の上方および下方を流れる流体（２６８ａ、２６８ｂ、３６８ａ、３６８ｂ）の圧力に関するパラメータ、前記フォイル（２０３、２３３、２６３、３０３、３３３、３６３）の上を流れる流体（２０８、２３８ａ、２３８ｂ、２６８ａ、２６８ｂ、３０８、３３８ａ、３３８ｂ、３６８ａ、３６８ｂ）から後方散乱(backscattered)された光のドップラーシフトにおける変化、および信号変動の増加、のうちの少なくとも１つを測定することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
少なくとも１つの他の測定値を用いて、失速の前記予兆が生じたか否かを検証するステップをさらに含み、
失速状態の前記予兆を判定したとき、前記警報を発すること、および前記乗物（１０１、２０１、２３１、２６１、３０１、３３１、３６１）に、前記失速状態を回避させるかまたはそれから抜け出させ、前記失速状態の前記予兆がもはやなくなったときに、このような活動を止めさせること、のうちの少なくとも１つを行うことが、失速の前記予兆が生じたことを、前記１つまたは複数の他の測定値によって検証したときだけ、警報を発すること、および前記乗物（１０１、２０１、２３１、２６１、３０１、３３１、３６１）に、前記失速状態を回避させるかまたはそれから抜け出させ、前記失速状態の前記予兆がもはやなくなったときに、このような活動を止めさせること、のうちの少なくとも１つを行うことを含む、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月28日(2020.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
プロセッサ１１０は、メモリ内にロードされ得る命令を実行する。プロセッサ１１０は、任意の適切な数および種類のプロセッサまたは他のデバイスを、任意の適切な構成で有していてもよい。プロセッサ１１０の種類の例としては、マイクロプロセッサ、マイクロコントローラ、デジタル信号処理プロセッサ、フィールドプログラマブルゲートアレイ、特定用途向け集積回路、及びディスクリート回路が挙げられる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
パラメータΔｔは、未加工測定データ内のピークの持続時間に対する本方法の検出感度を定義しており、分散剤の粘度及び粒子１０５と分散剤１０４との間の流体力学的結合に依存していてもよい。ピークがΔｔよりも長い持続時間を有する場合には、ピークを検出することはない。動く速度が遅い粒子から生じるピークの検出に失敗するのを防ぐために、時間窓の長さが異なる数個の移動平均を用いてもよい。ピーク識別速度を上げるために、各移動平均を並行して計算してもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光回折によって流体分散剤内に懸濁している粒子の特性を評価する方法であって、
散乱光の輝度を測定するように配置されている検出素子から測定データを取得すること、
前記分散剤内の不均質な部分により散乱された光に起因する測定寄与を識別すること、
前記測定データを処理して、前記分散剤の不均質な部分により散乱された光に起因する前記測定寄与を除去または分離すること、
処理済の測定値から粒径分布を計算すること、を含み、
前記検出素子は前記測定データを取得する複数の検出素子のうちの１つであり、
前記検出素子は複数の散乱角において散乱光の輝度を測定するように配置されており、前記複数の散乱角は照射軸を中心とした複数の角度にわたって分布していて、
前記分散剤内の不均質な部分により散乱された光に起因する測定寄与の識別は、前記照射軸を中心として非対称である測定散乱光を識別する、方法。
【請求項２】
前記複数の散乱角のうちの少なくともいくつかは、散乱角が大きくなるに伴って、前記照射軸を中心とした第１及び第２半径方向位置の間に交互に配置されている、請求項１記載の方法。
【請求項３】
散乱軸を中心とした前記第１及び第２半径方向位置は、前記照射軸を中心として少なくとも９０度離間している、請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記検出素子のうちの少なくともいくつかは、それぞれの質量中心が散乱角の対数配列になっている状態で配置されている、請求項１記載の方法。
【請求項５】
測定値の取得は、前記検出素子または複数の前記検出素子から散乱光の輝度の時間履歴を取得する、請求項１から４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記分散剤内の不均質な部分により散乱された光に起因する測定寄与の識別は、前記複数の散乱角の各々に対する前記測定値内のピークを識別する、請求項５記載の方法。
【請求項７】
ピークの識別は、測定データを同じ測定データから取得した平滑化されたデータと比較する、請求項６記載の方法。
【請求項８】
前記平滑化されたデータは、異なる時間幅を有する複数の移動平均から取得した移動平均を備えている、請求項７記載の方法。
【請求項９】
前記ピークを、粒子から散乱している光から生じた粒子ピークとして、または分散剤の不均質な部分からの散乱から生じた擬似ピークとして分類する、請求項６から８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
隣接する散乱角を有するｎ個の検出器の連続する範囲にわたって時間ｔｗの範囲内に対応するピークが存在している場合にピークを粒子ピークとして分類する方法であって、前記ｎ個の検出器のうちの少なくともいくつかは前記照射軸を中心とした角距離を有している、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
さらに、回折実験を行って前記測定データを取得する、請求項１から１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれか１項に記載の方法を行うように構成されているプロセッサ。
【請求項１３】
請求項１から１１のいずれか１項に記載の方法を行うように構成されている機器。
【請求項１４】
請求項１から１１のいずれか１項に記載の方法を行うようにプロセッサまたは機器を構成する命令を備えている、機械にて読み取り可能な非一時的記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】令和2年3月31日(2020.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
生物学的検定又は化学的検定を行うための分析システムであって、次の構成要素、即ち、
・複数のウェル（１１）を光学的に透明な区域（１２）に備えるマルチウェルプレート（１０）であって、前記マルチウェルプレート（１０）は前記光学的に透明な区域（１２）から離間された第１のドッキング構造（１３）を有する、マルチウェルプレート（１０）と、
・フレーム（２０）とマルチウェルプレート（１０）の差分膨張を空間的に補償するための十分な横方向クリアランスを持たせて、前記マルチウェルプレート（１０）をそのリム（１４）のところで可撓懸架として保持するフレーム（２０）と、
・前記マルチウェルプレート（１０）を、前記光学的に透明な区域にあるその複数のウェル（１１）とともに前記ベースプレート（３０）に対して堅く横方向に位置決めするための、前記第１のドッキング構造（１３）に対応する第２のドッキング構造（３１）を有するベースプレート（３０）と、
を備えている分析システムであって、
前記フレーム（２０）が前記ベースプレート（３０）へドッキングされたときにも前記フレーム（２０）とマルチウェルプレート（１０）の間の前記横方向クリアランスが維持されるよう、前記フレーム（２０）と前記ベースプレート（３０）の間には直接的な固定がない、
分析システム。
【請求項２】
前記ベースプレート（３０）は、光源（４１）及び検出器（４２）を備える光学的検出システム（４０）へ機能的に結合されている、請求項１に記載の分析システム。
【請求項３】
前記マルチウェルプレート（１０）は、流通チャネル（１７）によって接続されている入口ポート（１５）及び／又は出口ポート（１６）を備えている、上記請求項の何れか一項に記載の分析システム。
【請求項４】
各ウェル（１１）のレンチサイズは１μｍと１ｍｍの間である、上記請求項の何れか一項に記載の分析システム。
【請求項５】
前記光学的に透明な区域（１２）は少なくとも１０００、５０００、又は１００００のウェルを備えている、上記請求項の何れか一項に記載の分析システム。
【請求項６】
前記フレーム（２０）は、２枚以上のマルチウェルプレート（１０）を保持している、上記請求項の何れか一項に記載の分析システム。
【請求項７】
前記フレーム（２０）の寸法はＡＮＳＩ／ＳＬＡＳ標準に従っている、上記請求項の何れか一項に記載の分析システム。
【請求項８】
前記第１のドッキング構造（１３）は、実質的に前記マルチウェルプレート（１０）の縁の長さ及び／又は幅の中央に配置されている、上記請求項の何れか一項に記載の分析システム。
【請求項９】
前記フレーム（２０）は、ハンドル、積み重ね機構、ハードウェアコーディング要素、及び識別タグの群から選択された要素のうちの１つ又はそれ以上を備えている、上記請求項の何れか一項に記載の分析システム。
【請求項１０】
フレーム（２０）とマルチウェルプレート（１０）は異なる材料で作られている、上記請求項の何れか一項に記載の分析システム。
【請求項１１】
生物学的検定又は化学的検定を行うための方法であって、次の工程、即ち、
ａ．複数のウェル（１１）を光学的に透明な区域（１２）に備えるマルチウェルプレート（１０）を提供する工程であって、前記マルチウェルプレート（１０）は前記光学的に透明な区域（１２）から離間された第１のドッキング構造（１３）を有しており、前記マルチウェルプレート（１０）はそのリム（１４）のところをフレーム（２０）によって、フレーム（２０）とマルチウェルプレート（１０）の差分膨張を空間的に補償するための十分な横方向クリアランスを持たせて可撓懸架として保持されている、マルチウェルプレート（１０）を提供する工程と、
ｂ．前記マルチウェルプレート（１０）を、前記第１のドッキング構造（１３）に対応する第２のドッキング構造（３１）を有するベースプレート（３０）にドッキングさせ、それにより、前記マルチウェルプレート（１０）を、前記光学的に透明な区域（１２）にあるその複数のウェル（１１）とともに前記ベースプレート（３０）に対して堅く横方向に位置決めする一方で、前記フレーム（２０）と前記ベースプレート（３０）を直接に互いへ固定せずに、フレーム（２０）とマルチウェルプレート（１０）の間の前記横方向クリアランスが維持されるようにする工程と、
ｃ．前記堅く位置決めされたマルチウェルプレート（１０）に生物学的検定又は化学的検定の１つ又はそれ以上の工程を受けさせる工程と、
を備えている方法。
【請求項１２】
前記工程ｂでの実際のドッキングは、前記マルチウェルプレート（１０）を前記フレーム（２０）を介して粗く位置決めする工程に先行される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記工程ｃでの生物学的検定又は化学的検定の１つ又はそれ以上の工程は、光学的検出、１つ又はそれ以上の異なる温度での培養、ピペッティング、及び混合から成る群より選択された１つ又はそれ以上の要素を備えている、請求項１１又は請求項１２の何れか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記工程ｃは、温熱培養システム（５０）での熱サイクリングとそれに続く光学的検出システム（４０）での光学的検出を備えている、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記ベースプレート（３０）は前記温熱培養システム（５０）の一部であり、更に第２のベースプレートが前記光学的検出システム（４０）の一部であり、温熱培養と光学的検出のそれぞれが、順次的に実施される工程ａ、工程ｂ、及び工程ｃを備えている、請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月20日(2019.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一色素で印刷された第一部分と、前記第一色素より変色しやすい第二色素で印刷された第二部分と、を含むコードを読み取る読取装置において、
前記コードを読み取るスキャナと、
前記スキャナによって読み取られた前記コードをデコードするデコーダと、を備え、
前記デコーダは、前記第一部分をデコードすることにより前記コードを識別するための識別情報を取得し、取得した前記識別情報に基づいて前記第一色素及び前記第二色素の配列順序を示す配列情報と変色に関連する情報とをデータベースから特定し、特定した前記配列情報および前記変色に関連する情報に基づいて前記コードが付与された対象物の置かれた環境に関する情報を取得する、読取装置。
【請求項２】
前記デコーダは、時間に関する情報と色に関する情報の関係が保存されたデータベースのデータを用いて、前記コードをデコードする請求項１に記載の読取装置。
【請求項３】
前記第一色素と前記第二色素は所定温度における退色速度が異なる請求項１又は２に記載の読取装置。
【請求項４】
前記第一色素と前記第二色素は耐擦過性が異なる請求項１乃至３の何れか一項に記載の読取装置。
【請求項５】
前記第一色素と前記第二色素は耐オゾン特性が異なる請求項１乃至４の何れか一項に記載の読取装置。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れか一項に記載の前記コードをデコードする情報処理方法。
【請求項７】
請求項１乃至５の何れか一項に記載の前記コードをエンコードする情報処理方法。
【請求項８】
請求項６又は７に記載の情報処理方法を実行する情報処理装置。
【請求項９】
情報処理装置を請求項６又は７に記載の情報処理方法をコンピュータに実行させるプログラム。
【請求項１０】
請求項９に記載のプログラムが記録された記録媒体。
【請求項１１】
請求項１乃至５の何れか一項に記載の前記コードを印刷するために用いるインク。
【請求項１２】
請求項１１に記載のインクに含有される色素。
【請求項１３】
請求項１に記載の前記コードをデコードするための前記第二色素の変色に関連する情報を記憶する記憶装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の記憶装置に接続され、前記第二色素の変色に関する情報を前記記憶装置に格納する情報処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】読取装置、情報処理方法、情報処理装置、プログラム、記録媒体、インク、色素、及び記憶装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、符号化されたコードを読み取る読取装置、読み取ったコードを処理するための情報処理方法、情報処理装置、プログラム、記憶媒体、インク、色素、及び記憶装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の読取装置は、第一色素で印刷された第一部分と、前記第一色素より変色しやすい第二色素で印刷された第二部分と、を含むコードを読み取る読取装置において、前記コードを読み取るスキャナと、前記スキャナによって読み取られた前記コードをデコードするデコーダと、を備え、前記デコーダは、前記第一部分をデコードすることにより前記コードを識別するための識別情報を取得し、取得した前記識別情報に基づいて前記第一色素及び前記第二色素の配列順序を示す配列情報と変色に関連する情報とをデータベースから特定し、特定した前記配列情報および前記変色に関連する情報に基づいて前記コードが付与された対象物の置かれた環境に関する情報を取得する。
【手続補正書】
【提出日】令和2年8月26日(2020.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハイパースペクトルイメージングシステムにおいて、
像担持面を照明するように構成された、第１の光を出射する第１の光源と、
アパーチャを含む装置ハウジング内に配設され、前記像担持面を照明して前記アパーチャを介して受光した前記第１の光を受光して偏光するように構成された入射偏光子と、
前記装置ハウジング内に配設され、前記第１の光の経路に沿って前記入射偏光子の後に配置されて波長依存の方法で前記第１の光の偏光を変化させる液晶可変リターダと、
前記装置ハウジング内に配設され、前記波長依存偏光された第１の光を受光して前記第１の光の偏光状態情報を光強度として検出可能な形態に変換するように構成された出射偏光子と、
前記液晶可変リターダに電気的に接続された電圧源と、
前記電圧源に接続されたコントローラであって、前記液晶可変リターダに印加される電圧を制御して前記第１の光の遅延特性を制御するように構成されたコントローラと、
前記装置ハウジング内に配設され、前記第１の光の像を取得するような方向に延在する長さを有するリニアイメージセンサであって、前記コントローラと同期して、前記第１の光が前記出射偏光子を通過した後に前記液晶可変リターダの遅延特性の関数として前記像を収集し、前記リニアイメージセンサの一部に対応する出力信号を生成する、リニアイメージセンサと、
前記装置ハウジング内に配設され、前記第１の光源から分離して区別される内部光源であって、前記装置ハウジング内部から発光した第２の光を前記入射偏光子および前記リニアイメージセンサに向けて直接出射し、前記装置ハウジングの内部から内部光源によって発光された第２の光が前記リニアイメージセンサによって受光されるように構成された内部光源と、
を備える、システム。
【請求項２】
前記リニアイメージセンサが１次元センサアレイである、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記リニアイメージセンサが、前記リニアイメージセンサを形成するようにともにビニングされる画素を有する２次元センサアレイである、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記リニアイメージセンサが全幅アレイセンサである、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記リニアイメージセンサの前記一部が単一の画素に対応する、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記リニアイメージセンサの前記一部がともにビニングされる複数の画素に対応する、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
スペクトル情報を生成するように前記出力信号の変換を実行するようにプログラミングされたプロセッサをさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記変換がフーリエ変換である、請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
プリンタにおいて、
Ｉ）光源と、
ＩＩ）前記光源からの光を受光して入射光から出射光を形成するように位置決めされた像担持面であって、ドラム又はベルト上に配設されて前記像担持面をプロセス方向に移動する、像担持面と、
ＩＩＩ）ハイパースペクトルイメージングシステムであって、
アパーチャを含む装置ハウジング内に配設され、前記アパーチャを介して受光した前記出射光を受光して偏光するように構成された入射偏光子と、
前記装置ハウジング内に配設され、前記出射光の経路に沿って前記入射偏光子の後に配置されて波長依存の方法で前記出射光の偏光を変化させる液晶可変リターダと、
前記装置ハウジング内に配設され、前記波長依存偏光された出射光を受光して前記出射光の偏光状態情報を光強度として検出可能な形態に変換するように構成された出射偏光子と、
前記液晶可変リターダに電気的に接続された電圧源と、
前記電圧源に接続されたコントローラであって、前記液晶可変リターダに印加される電圧を制御して前記出射光の遅延特性を制御するように構成されたコントローラと、
前記装置ハウジング内に配設され、前記出射光の像をクロスプロセス方向に取得するような方向に延在する長さを有するリニアイメージセンサであって、前記コントローラと同期して、前記出射光が前記出射偏光子を通過した後に前記液晶可変リターダの遅延特性の関数として前記像を収集し、前記リニアイメージセンサの一部に対応する出力信号を生成する、リニアイメージセンサと、
前記装置ハウジング内に配設され、前記光源から分離して区別される内部光源であって、前記装置ハウジング内部から発光した内部光を出射して前記入射偏光子および前記リニアイメージセンサを直接照明し、前記装置ハウジングの内部から前記内部光源によって発光された内部光が前記リニアイメージセンサによって受光されるように構成された内部光源と、
を備えるハイパースペクトルイメージングシステムと、
ＩＶ）前記出力信号のスペクトル情報への変換を実行するプロセッサと、
を備える、プリンタ。
【請求項１０】
前記リニアイメージセンサが１次元センサアレイである、請求項９に記載のプリンタ。
【請求項１１】
前記リニアイメージセンサが、前記リニアイメージセンサを形成するようにともにビニングされる画素を有する２次元センサアレイである、請求項９に記載のプリンタ。
【請求項１２】
前記リニアイメージセンサが全幅アレイセンサである、請求項９に記載のプリンタ。
【請求項１３】
前記像担持面が感光体である、請求項９に記載のプリンタ。
【請求項１４】
前記リニアイメージセンサの前記一部が単一の画素に対応する、請求項９に記載のプリンタ。
【請求項１５】
前記リニアイメージセンサの前記一部が前記クロスプロセス方向に沿って延在する、ビニングされた複数の画素に対応する、請求項９に記載のプリンタ。
【請求項１６】
前記変換がフーリエ変換である、請求項９に記載のプリンタ。
【請求項１７】
前記像担持面が排出用紙である、請求項９に記載のプリンタ。
【請求項１８】
前記像担持面が感光体ベルトである、請求項９に記載のプリンタ。
【請求項１９】
前記リニアイメージセンサから分離して区別される光検出器であって、前記像担持面を照明して前記アパーチャを介して受光される第１の光を取得するように構成された光検出器をさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項２０】
前記リニアイメージセンサから分離して区別される光検出器であって、前記アパーチャを介して受光される出射光を取得するように構成された光検出器をさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項２１】
前記光検出器が前記内部光源によって発光された第２の光を取得するように配置される、請求項１９に記載のシステム。
【請求項２２】
前記光検出器が前記内部光源によって発光された内部光を取得するように配置される、請求項２０に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月6日(2020.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属を含む薄膜を選択的に形成する方法であって、この方法は以下の工程：
反応チャンバの中で加工処理するための基材および少なくともガスを接触させるためのホットワイヤを用意すること；
基材を金属の先駆物質に曝すこと；および
ホットワイヤの近傍に曝されたガスに基材を曝すこと；
を含み、
基材は少なくとも２種の異なる材料を含み、そして前記少なくとも２種の異なる材料のうちの一つにおいて金属の薄膜が選択的に形成される、前記方法。
【請求項２】
金属の先駆物質は遷移金属の元素を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
金属の先駆物質はタングステン含有先駆物質またはモリブデン含有先駆物質を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
ガスは水素を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
選択的に形成される薄膜は金属質材料を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
ガスがホットワイヤの近くに曝されたとき、励起したラジカル種または原子の種がガスから形成される、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
基材は第１の表面と第２の表面を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
第１の表面は遷移金属を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
第１の表面は酸化した金属を含み、そして酸化した金属の下に元素状金属または金属質の導電性薄膜がある、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
第２の表面はＳｉ-Ｏ結合を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
第２の表面は酸化ケイ素、窒化ケイ素、炭化ケイ素、酸窒化ケイ素、二酸化ケイ素、またはこれらの混合物を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１２】
薄膜は第１の表面上に選択的に形成される、請求項７に記載の方法。
【請求項１３】
基材を金属の先駆物質に曝す工程の後に基材をパージガスに曝す工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
選択度が５０％を超える、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
薄膜の厚さは１ｎｍを超える、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
反応チャンバにおける壁はホットウォールである、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
薄膜を選択的に形成することはＡＬＤプロセスを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
薄膜を選択的に形成することは繰返しのプロセスを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
薄膜を選択的に形成することは繰返しまたは連続のＣＶＤプロセスを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
請求項１に記載の方法を実施するために構成された反応チャンバ。
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月11日(2020.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
24.5〜34.5質量％のR（RはYを含む希土類元素から選ばれる少なくとも１種）と、0.89〜1.15質量％のBと、0.1質量％未満のNiと、0.3〜0.5質量％のGaと、0.15〜0.4質量％のCuと、不可避不純物と、残部Feとを含有するR-TM-B系焼結磁石。
【請求項２】
請求項1に記載のR-TM-B系焼結磁石において、
3質量％以下のM（MはZr、Nb、Hf、Ta、W、Mo、Al、Si、V、Cr、Ti、Ag、Mn、Ge、Sn、Bi、Pb及びZnから選ばれる少なくとも1種）をさらに含有することを特徴とするR-TM-B系焼結磁石。
【請求項３】
請求項1又は2に記載のR-TM-B系焼結磁石において、
前記Bの含有量が、0.96〜1.10質量％であることを特徴とするR-TM-B系焼結磁石。
【請求項４】
請求項1〜3のいずれかに記載のR-TM-B系焼結磁石において、
プレッシャークッカーテスト（120℃100％RH、2気圧、96時間）前後での質量差（腐食減量）が2mg/cm2未満であることを特徴とするR-TM-B系焼結磁石。
【請求項５】
請求項1〜3のいずれかに記載のR-TM-B系焼結磁石において、
プレッシャークッカーテスト（120℃100％RH、2気圧、96時間）前後での質量差（腐食減量）が0.80mg/cm2以下であることを特徴とするR-TM-B系焼結磁石。
【請求項６】
請求項1〜3のいずれかに記載のR-TM-B系焼結磁石において、
プレッシャークッカーテスト（120℃100％RH、2気圧、96時間）前後での質量差（腐食減量）が0.75mg/cm2以下であることを特徴とするR-TM-B系焼結磁石。
【請求項７】
請求項1〜6のいずれかに記載のR-TM-B系焼結磁石において、前記R-TM-B系焼結磁石が、円筒状ラジアル異方性磁石又は円筒状極異方性磁石であることを特徴とするR-TM-B系焼結磁石。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
すなわち、本発明のR-TM-B系焼結磁石は、24.5〜34.5質量％のR（RはYを含む希土類元素から選ばれる少なくとも１種）と、0.89〜1.15質量％のBと、0.1質量％未満のNiと、0.3〜0.5質量％のGaと、0.15〜0.4質量％のCuと、不可避不純物と、残部Feとを含有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
前記Bの含有量は、0.96〜1.10質量％であることが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
前記R-TM-B系焼結磁石において、
プレッシャークッカーテスト（120℃100％RH、2気圧、96時間）前後での質量差（腐食減量）が2mg/cm2未満であるのが好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
前記R-TM-B系焼結磁石において、
プレッシャークッカーテスト（120℃100％RH、2気圧、96時間）前後での質量差が0.80mg/cm2以下であるのがより好ましく、0.75mg/cm2以下であるのがさらに好ましい。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月2日(2020.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
＜ガイドロール取られ＞
下記の方法から、印刷後、ガイドロールにインキが付着するかどうか（ガイドロール取
られ）試験を行い、印刷適性を評価した。なお、一旦、ガイドロールに付着したインキが
、印刷面に再転移して汚れが発生するため、「ガイドロール取られ」が発生する場合は、
美粧印刷物を得るのに対して悪影響を及ぼす。
グラビア印刷機のガイドロールによる印刷物インキ塗膜の脱落の有無を目視により評価
した。
Ａ：無いもの
Ｃ：有るもの
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月24日(2020.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対のセンサユニットと、前記一対のセンサユニットに対して相対的に回転可能なスケールとを有し、前記一対のセンサユニットが回転軸線を挟むように配置されているロータリエンコーダにおける、前記スケールの偏芯情報を求める偏芯算出方法であって、
前記スケールを前記一対のセンサユニットに対して相対的に回転させた複数の回転角度で、前記一対のセンサユニットの各々から回転角度に応じた読取信号を取得し、
前記一対のセンサユニットのうち一方から得られた読取信号に基づく第１情報と、前記一対のセンサユニットのうち他方から得られた読取信号に基づく第２情報とを求め、
前記第１情報及び前記第２情報の平均値を求め、
前記第１情報及び前記第２情報のうちいずれか一方と、前記平均値との差分値を求め、
前記差分値に基づいて、前記スケールの偏芯情報を求めることを特徴とする偏芯算出方法。
【請求項２】
前記スケールの偏芯量を前記差分値に含まれる周期的な変動成分の振幅から求めることを特徴とする請求項１に記載の偏芯算出方法。
【請求項３】
前記周期的な変動成分を、フーリエ解析又は最小二乗法により抽出することを特徴とする請求項２に記載の偏芯算出方法。
【請求項４】
前記スケールが回転する角度範囲が３６０度以上であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の偏芯算出方法。
【請求項５】
前記スケールが回転する角度範囲が３６０度未満であり、前記周期的な変動成分において前記角度範囲以外の成分を外挿処理により求めることを特徴とする請求項２又は３に記載の偏芯算出方法。
【請求項６】
前記スケールは、パターンを有し、
前記パターンは、前記スケールの中心線を中心とする円周方向に配置された複数の第１マークを有する第１トラックと、前記第１トラックの外側に配置され、前記円周方向に配置された、前記第１トラックと異なる数の第２マークを有する第２トラックとを有しており、
前記一対のセンサユニットの各々は、前記第１トラック及び前記第２トラックを読み取ることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の偏芯算出方法。
【請求項７】
前記ロータリエンコーダがアブソリュート型であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の偏芯算出方法。
【請求項８】
一対のセンサユニットと、
前記一対のセンサユニットに対して相対的に回転可能なスケールと、を備え、
前記一対のセンサユニットが回転軸線を挟むように配置されているロータリエンコーダであって、
前記一対のセンサユニットから得られた読取信号に基づき、前記一対のセンサユニットに対する前記スケールの相対的な回転角度に対応した信号を出力する処理部を備え、
前記処理部は、
前記スケールを前記一対のセンサユニットに対して相対的に回転させた複数の回転角度で、前記一対のセンサユニットの各々から回転角度に応じた読取信号を取得し、
前記一対のセンサユニットのうち一方から得られた読取信号に基づく第１情報と、前記一対のセンサユニットのうち他方から得られた読取信号に基づく第２情報とを求め、
前記第１情報及び前記第２情報の平均値を求め、
前記第１情報及び前記第２情報のうちいずれか一方と、前記平均値との差分値を求め、
前記差分値に基づいて、前記スケールの偏芯情報を求めることを特徴とするロータリエンコーダ。
【請求項９】
アブソリュート型であることを特徴とする請求項８に記載のロータリエンコーダ。
【請求項１０】
前記処理部が、前記スケールの偏芯情報を出力することを特徴とする請求項８又は９に記載のロータリエンコーダ。
【請求項１１】
関節で連結された一対のリンクと、
請求項８乃至１０のいずれか１項に記載のロータリエンコーダと、を備え、
前記スケールが前記一対のリンクのうち一方に配置され、前記一対のセンサユニットが前記一対のリンクのうち他方に配置されていることを特徴とするロボットアーム。
【請求項１２】
請求項１１に記載のロボットアームと、
前記偏芯情報に応じて警告を発する警告部と、を備えたことを特徴とするロボット装置。
【請求項１３】
前記警告部は、前記警告として、前記偏芯情報に応じて異なる色を発することを特徴とする請求項１２に記載のロボット装置。
【請求項１４】
前記警告部は、それぞれ異なる色で発光する複数のランプを有することを特徴とする請求項１３に記載のロボット装置。
【請求項１５】
前記偏芯情報を表示する表示部を更に備えたことを特徴とする請求項１１乃至１４のいずれか１項に記載のロボット装置。
【請求項１６】
駆動機構と、請求項８乃至１０のいずれか１項に記載のロータリエンコーダと、を有するレンズ鏡筒。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の偏芯算出方法は、一対のセンサユニットと、前記一対のセンサユニットに対して相対的に回転可能なスケールとを有し、前記一対のセンサユニットが回転軸線を挟むように配置されているロータリエンコーダにおける、前記スケールの偏芯情報を求める偏芯算出方法であって、前記スケールを前記一対のセンサユニットに対して相対的に回転させた複数の回転角度で、前記一対のセンサユニットの各々から回転角度に応じた読取信号を取得し、前記一対のセンサユニットのうち一方から得られた読取信号に基づく第１情報と、前記一対のセンサユニットのうち他方から得られた読取信号に基づく第２情報とを求め、前記第１情報及び前記第２情報の平均値を求め、前記第１情報及び前記第２情報のうちいずれか一方と、前記平均値との差分値を求め、前記差分値に基づいて、前記スケールの偏芯情報を求めることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月10日(2020.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の設置空間（５）に設置された空調機（１０）に取り付けられた計測装置（１５）から前記空調機の計測データ、または外部メーターから空調機の計測データを所定の計測期間に亘り収集する計測データ収集部（２２，２２Ｓ）と、
前記空調機の容量の過不足を判定するために除外する必要のある除外運転を判定する除外運転判定部（２５，２５Ｓ）と、
前記計測期間の計測データと、前記除外運転の運転期間の計測データとに基づいて、前記空調機の容量の過不足を判定するための判定用情報を生成する判定用情報生成部（２６，２６Ｓ）と、
を備えた判定用情報生成装置（２００）。
【請求項２】
前記空調機は、所定の運転状態又は外部メーターに応じた運転フラグを生じさせるものであり、
前記計測データ収集部は、前記運転フラグに関連付けて前記計測データを収集し、
前記除外運転判定部は、前記運転フラグに基づいて前記除外運転を判定する、
請求項１に記載の判定用情報生成装置。
【請求項３】
前記計測データを基準データと比較して、前記空調機に関する所定時間毎の負荷率を算出する負荷率算出部（２３，２３Ｓ）と、
前記計測期間における前記所定時間毎の負荷率の発生頻度を算出する発生頻度算出部（２４，２４Ｓ）と、
をさらに備え、
前記判定用情報生成部は、前記判定用情報として、前記負荷率及び前記負荷率の発生頻度が示された情報を生成する、
請求項１または２に記載の判定用情報生成装置。
【請求項４】
前記判定用情報生成部は、前記負荷率に応じて設定される複数の容量判定レベルを生成する、
請求項３に記載の判定用情報生成装置。
【請求項５】
前記容量判定レベルは、前記負荷率に対する前記空調機の成績係数に基づいて設定される、
請求項４に記載の判定用情報生成装置。
【請求項６】
前記判定用情報生成部は、前記判定用情報として、前記計測期間から前記除外運転の運転期間を除いた期間における、前記所定時間毎の負荷率及び負荷率の発生頻度を示す第１情報、または前記第１情報に、前記除外運転の運転期間における、前記所定時間毎の負荷率及び負荷率の発生頻度を示す第２情報を合成した情報を生成する、
請求項３から５のいずれか１項に記載の判定用情報生成装置。
【請求項７】
前記判定用情報生成部は、前記判定用情報として、前記第１情報と前記第２情報とを異なる表示形式で出力する情報を生成する、
請求項６に記載の判定用情報生成装置。
【請求項８】
前記判定用情報生成部は、前記判定用情報として、前記第１情報及び／又は前記第２情報と、前記負荷率に応じて設定される複数の容量判定レベルを示す第３情報とを合成した情報を生成する、
請求項６または７に記載の判定用情報生成装置。
【請求項９】
前記計測データ収集部は、前記計測データをネットワークを介して収集する、
請求項１から８のいずれか１項に記載の判定用情報生成装置。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれか１項に記載の判定用情報生成装置と、
前記判定用情報生成装置により生成される判定用情報に基づいて、前記空調機の容量の過不足を判定する容量判定部（２７，２７Ｓ）と、
を備える容量判定装置（２０，２０Ｓ）。
【請求項１１】
前記容量判定部は、前記計測期間の計測データから前記除外運転の運転期間を除外した期間における前記計測データに基づいて、前記空調機の容量の過不足を判定する、
請求項１０に記載の容量判定装置。
【請求項１２】
所定の設置空間（５）に設置された空調機（１０）に取り付けられた計測装置（１５）から前記空調機の計測データ、または外部メーターから空調機の計測データを所定の計測期間に亘り収集し、
前記空調機の容量の過不足を判定するために除外する必要のある除外運転を判定し、
前記計測期間の計測データと、前記除外運転の運転期間の計測データとに基づいて、前記空調機の容量の過不足を判定するための判定用情報を生成する、
判定用情報生成方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月20日(2019.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
ベースプレートに排水穴を形成したことを特徴とする請求項２に記載の凍結防止及び保温マット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
前記ベースプレートに複数本の排水溝を形成し、各排水溝に帯状発熱体を埋設したことを特徴とする請求項２に記載の凍結防止及び保温マット。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項６に記載の発明は、請求項２に記載の凍結防止及び保温マットにおいて、ベースプレートに排水穴を形成したことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
請求項７に記載の発明は、請求項２に記載の凍結防止及び保温マットにおいて、前記ベースプレートに複数本の排水溝を形成し、各排水溝に帯状発熱体を埋設したことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月17日(2019.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
誘電エラストマー材料からなる誘電層と、該誘電層を介して配置される複数の電極と、を備えるトランスデューサであって、
該誘電エラストマー材料は、モノマーＡと、架橋可能な官能基を有するモノマーＣと、の少なくとも一方と、極性基を有するモノマーＢと、がランダムまたは交互に共重合された構造を有する共重合体を含み、
該共重合体のガラス転移点は５℃以下であり、
該共重合体中、該モノマーＢからなる構成単位において、該極性基は直鎖状に繋がる４つ以上の原子を介してポリマー主鎖に結合されていることを特徴とするトランスデューサ。
【請求項２】
前記極性基の含有量は、前記共重合体の全体を１００質量％とした場合の１０質量％以上２５質量％以下である請求項１に記載のトランスデューサ。
【請求項３】
前記モノマーＢの含有量は、前記共重合体の全体を１００ｍｏｌ％とした場合の６０ｍｏｌ％以上９８ｍｏｌ％以下である請求項１または請求項２に記載のトランスデューサ。
【請求項４】
前記極性基と前記ポリマー主鎖との間に介在する前記原子は、炭素、酸素、窒素、硫黄から選ばれる一種以上である請求項１ないし請求項３のいずれかに記載のトランスデューサ。
【請求項５】
前記極性基は、シアノ基、エーテル基、エステル基、フッ素基、トリフルオロメチル基、カーボネート基から選ばれる一種以上である請求項１ないし請求項４のいずれかに記載のトランスデューサ。
【請求項６】
前記共重合体の重量平均分子量は、１万以上５００万以下である請求項１ないし請求項５のいずれかに記載のトランスデューサ。
【請求項７】
前記共重合体のガラス転移点は、０℃以下である請求項１ないし請求項６のいずれかに記載のトランスデューサ。
【請求項８】
前記モノマーＣの前記官能基は、ヒドロキシ基、アミノ基、チオール基、カルボキシル基、シラノール基、エポキシ基、ビニル基から選ばれる一種以上である請求項１ないし請求項７のいずれかに記載のトランスデューサ。
【請求項９】
前記モノマーＡは、（メタ）アクリレートモノマー、シリコーンモノマー、ウレタンモノマーから選ばれる一種以上である請求項１ないし請求項８のいずれかに記載のトランスデューサ。
【請求項１０】
前記誘電エラストマー材料は、さらに、絶縁フィラーを含む請求項１ないし請求項９のいずれかに記載のトランスデューサ。
【請求項１１】
前記共重合体は、架橋構造を有する請求項１ないし請求項１０のいずれかに記載のトランスデューサ。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月5日(2020.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
消灯状態または点灯状態への変化の過程で照度を徐々に変化させる制御部が備えられた、
ことを特徴とする診療用ＬＥＤ照明装置。
【請求項２】
消灯状態から点灯状態までの点灯時間が、０．３秒以上である、
ことを特徴とする請求項１に記載された診療用ＬＥＤ照明装置。
【請求項３】
前記点灯時間が、１．５秒以下である、
ことを特徴とする請求項２に記載された診療用ＬＥＤ照明装置。
【請求項４】
前記点灯時間における照度が、線形で上昇した後に非線形で上昇する、
ことを特徴とする請求項３に記載された診療用ＬＥＤ照明装置。
【請求項５】
点灯状態から消灯状態までの消灯時間が、０．２秒以上であり、かつ、０．３秒以下である、
ことを特徴とする請求項３または請求項４に記載された診療用ＬＥＤ照明装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月16日(2020.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の電極がセパレータを介して積層された積層体を備える蓄電モジュールであって、
前記複数の電極は、
前記積層体の積層方向の一端に配置され、前記積層方向の上側を向く面である一方面と前記積層方向の下側を向く面である他方面とを含む電極板の前記一方面に正極を設けることにより構成された正極側終端電極と、
前記積層体の前記積層方向の他端に配置され、前記電極板の前記他方面に負極を設けることにより形成された負極側終端電極と、
前記正極側終端電極と前記負極側終端電極との間に配置され、前記電極板の前記一方面に正極を設けると共に前記他方面に負極を設けることにより構成されたバイポーラ電極と、
を含み、
当該蓄電モジュールは、
前記積層体の前記積層方向の両端に配置された一対の枠状の第１樹脂部と、
各前記バイポーラ電極の前記電極板の前記一方面の縁部に形成された枠状の複数の第２樹脂部と、
を有し、
前記一対の第１樹脂部の一方は、前記積層体の前記積層方向の前記一端に配置されており、前記正極側終端電極の前記電極板における前記積層体の外側に臨む前記他方面に設けられた部分を含み、
前記一対の第１樹脂部の他方は、前記積層体の前記積層方向の前記他端に配置されており、前記負極側終端電極の前記電極板における前記積層体の外側に臨む前記一方面に設けられた部分を含み、
前記積層方向において、前記第１樹脂部は前記第２樹脂部よりも薄い、
ことを特徴とした蓄電モジュール。
【請求項２】
隣り合う前記第２樹脂部同士は、前記積層方向からみて各前記バイポーラ電極の前記電極板の外側に延在する部分において当接している、
ことを特徴とする請求項１に記載の蓄電モジュール。
【請求項３】
前記負極側終端電極の縁部は、前記負極側終端電極の外側面に設けられた前記第１樹脂部と、前記負極側終端電極と隣り合う前記バイポーラ電極の一方面に設けられた前記第２樹脂部とに接合した状態で保持されている、
ことを特徴とした請求項１または２に記載の蓄電モジュール。
【請求項４】
前記正極側終端電極の縁部は、前記正極側終端電極の外側面に設けられた前記第１樹脂部と、前記正極側終端電極の他方面に設けられた前記第２樹脂部とに接合した状態で保持されている、
ことを特徴とした請求項１〜３のいずれか一項に記載の蓄電モジュール。
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月28日(2020.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
＜第１溶接部２４及び第２溶接部３１＞
合体状態の両半円筒形部材１６Ａ，１６Ｂ（パイプ本体１５）は、その合せ面２０においてレーザー溶接により合体状態に且つ液密状に接合（固着）される。パイプ本体１５のうちレーザー溶接された部分は、第１溶接部２４又は第２溶接部３１となっている。曲げ加工の工程では、曲げ加工部２１，２１Ａ，２１Ｂに生じる応力のために、両半円筒形部材１６Ａ，１６Ｂに不正な変形や破断が生じることが懸念される。そのため、曲げ加工部２１，２１Ａ，２１Ｂには高い接合強度が求められる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
１０…シールド導電路
１１…電線
１４…シールドパイプ
１５…パイプ本体
１６Ａ…第１半円筒形部材（半円筒形部材）
１６Ｂ…第２半円筒形部材（半円筒形部材）
２１，２１Ａ，２１Ｂ…曲げ加工部
２２…基端側直線部
２３…先端側直線部
２４…第１溶接部
２５…曲げ部溶接領域
２６…基端側溶接領域
２７…先端側溶接領域
３１…第２溶接部
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月7日(2020.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、該基材の上に設けられた第１の層と、該第１の層の上に密着して設けられた第２の層とを含み、該第１の層と該第２の層の界面に回折格子を形成した回折光学素子であって、前記回折格子の格子部の高さをｄ、前記第１の層の前記格子部の高さを除いた平均膜厚をｔ１、前記第２の層の前記格子部の高さを除いた平均膜厚をｔ２としたときに、
前記ｔ１は前記ｄの１．１倍以上で５０μｍ以下であり、
前記ｔ２は３０μｍ以上であり、
前記ｄ、前記ｔ１および前記ｔ２の和が４００μｍ以下
であることを特徴とする回折光学素子。
【請求項２】
前記ｔ１と前記ｄの和が５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の回折光学素子。
【請求項３】
前記ｄ、前記ｔ１および前記ｔ２の和が３００μｍ以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の回折光学素子。
【請求項４】
前記ｄ、前記ｔ１および前記ｔ２の和が２００μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の回折光学素子。
【請求項５】
前記ｄが８μｍ以上２５μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の回折光学素子。
【請求項６】
前記基材はガラスであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の回折光学素子。
【請求項７】
前記第１の層と前記第２の層は異なる樹脂で構成されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の回折光学素子。
【請求項８】
少なくとも１つの光学素子を有する光学機器であって、
前記光学素子は、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の回折光学素子であることを特徴とする光学機器。
【請求項９】
前記回折光学素子がレンズであり、前記光学機器がカメラであることを特徴とする請求項８に記載の光学機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】回折光学素子
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、回折光学素子に関し、特にカメラやビデオ等の光学機器に使用される回折光学素子であって、光硬化性樹脂または熱硬化性樹脂を用いたレプリカ成形により製造した素子に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、樹脂層の吸水による性能の劣化および高温下や低温下におかれた樹脂層の亀裂や界面での剥離の発生を防止した密着型の回折光学素子を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記の課題を解決する本発明の密着型の回折光学素子は、基材と、該基材の上に設けられた第１の層と、該第１の層の上に密着して設けられた第２の層とを含み、該第１の層と該第２の層との界面に回折格子を形成した回折光学素子であって、前記回折格子の格子部の高さをｄ、前記第１の層の前記格子部の高さを除いた平均膜厚をｔ１、前記第２の層の前記格子部の高さを除いた平均膜厚をｔ２としたときに、
前記ｔ１は前記ｄの１．１倍以上で５０μｍ以下であり、
前記ｔ２は３０μｍ以上であり、
前記ｄ、前記ｔ１および前記ｔ２の和が４００μｍ以下
であることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明によれば、樹脂層の吸水による性能の劣化、および高温下や低温下における樹脂層の亀裂や界面での剥離の発生が十分に抑制された回折光学素子を提供することができる。