【手続補正書】
【提出日】令和2年7月8日(2020.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材に第１材料と感光剤を配置した基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板に位置合せ用マークを形成する形成部と、
前記感光剤に露光光を照明して前記基板にパターンを転写する転写部と、を有し、
前記形成部は、前記感光剤を介して前記露光光とは異なる波長の照射光を前記第１材料に照射し、前記照射光のエネルギーにより発生した前記第１材料の熱により前記感光剤を変質させて前記感光剤に位置合せ用マークを形成する、ことを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項２】
基材に第１材料と感光剤を配置した基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板に位置合せ用マークを形成する形成部と、
前記感光剤に露光光を照明して前記基板にパターンを転写する転写部と、を有し、
前記形成部は、前記感光剤を介して前記露光光とは異なる波長の照射光を前記第１材料に照射し、前記照射光のエネルギーで前記第１材料を加工して前記第１材料に位置合せ用マークを形成する、ことを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記位置合せ用マークは、前記リソグラフィ装置で露光される第一の露光領域と、前記リソグラフィ装置とは別のリソグラフィ装置で露光される第二の露光領域の相対位置関係を決定するためのマークであることを特徴とする請求項１又は２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記形成部を制御する制御部を更に有し、
前記制御部は、前記第１材料と前記感光剤に関する情報に基づいて、前記照射光の強度及び照射時間の少なくとも一方を制御することを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記形成部は、前記照射光の強度及び照射時間の少なくとも一方を変えながら複数の位置合わせ用マークを形成し、
前記制御部は形成された前記複数の位置合わせ用マークを測定した結果に基づいて、前記照射光の強度及び照射時間の少なくとも一方を設定することを特徴とする請求項４に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記照射光は、前記感光剤を透過する波長の光であることを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記第１材料は金属膜であることを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記基材はガラスであることを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
第１材料と前記第１材料上に塗布された感光剤を含む基板に光を照射して前記基板に位置合せ用マークを形成する形成部と、
前記形成部によって形成された位置合せ用マークの位置に基づいて前記基板の位置合せを行い、前記感光剤に露光光を照明して前記基板にパターンを転写する転写部と、
前記感光剤の情報及び前記第１材料の情報の少なくとも一方の情報を取得し、取得した情報に基づいて、前記形成部が照射する光の強度及び照射時間の少なくとも一方を設定する制御部と、を有し、
前記形成部は、前記露光光とは異なる波長の照射光を前記第１材料に照射し、前記照射光のエネルギーにより発生した前記第１材料の熱により前記感光剤を変質させて前記感光剤に位置合せ用マークを形成する、ことを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項１０】
基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
第１材料と前記第１材料上に塗布された感光剤を含む基板に光を照射して前記基板に位置合せ用マークを形成する形成部と、
前記形成部によって形成された位置合せ用マークの位置に基づいて前記基板の位置合せを行い、前記感光剤に露光光を照明して前記基板にパターンを転写する転写部と、
前記感光剤の情報及び前記第１材料の情報の少なくとも一方の情報を取得し、取得した情報に基づいて、前記形成部が照射する光の強度及び照射時間の少なくとも一方を設定する制御部と、を有し、
前記形成部は、前記露光光とは異なる波長の照射光を前記第１材料に照射し、前記照射光のエネルギーで前記第１材料を加工して前記第１材料に位置合せ用マークを形成する、ことを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項１１】
基材に第１材料と感光剤を配置した基板に位置合わせ用マークを形成するマーク形成方法であって、
前記基板に位置合せ用マークを形成する形成工程を有し、
前記形成工程において、前記感光剤を介して前記露光光とは異なる波長の照射光を前記第１材料に照射し、前記照射光のエネルギーにより発生した前記第１材料の熱により前記感光剤を変質させて前記感光剤に位置合せ用マークを形成する、ことを特徴とするマーク形成方法。
【請求項１２】
基材に第１材料と感光剤を配置した基板に位置合わせ用マークを形成するマーク形成方法であって、
前記基板に位置合せ用マークを形成する形成工程を有し、
前記形成工程において、前記感光剤を介して前記露光光とは異なる波長の照射光を前記第１材料に照射し、前記照射光のエネルギーで前記第１材料を加工して前記第１材料に位置合せ用マークを形成する、ことを特徴とするマーク形成方法。
【請求項１３】
前記位置合せ用マークは、前記マーク形成方法で用いられるリソグラフィ装置で露光される第一の露光領域と、前記リソグラフィ装置とは別のリソグラフィ装置で露光される第二の露光領域の相対位置関係を決定するためのマークであることを特徴とする請求項１１又は１２に記載のマーク形成方法。
【請求項１４】
前記形成工程は、前記第１材料と前記感光剤に関する情報に基づいて、前記照射光の強度及び照射時間の少なくとも一方を設定することを特徴とする請求項１１乃至１３の何れか１項に記載のマーク形成方法。
【請求項１５】
前記形成工程は、前記照射光の強度及び照射時間の少なくとも一方を変えながら複数の位置合わせ用マークを形成し、
形成された前記複数の位置合わせ用マークを測定した結果に基づいて、前記照射光の強度及び照射時間の少なくとも一方を設定することを特徴とする請求項１４に記載のマーク形成方法。
【請求項１６】
前記照射光は、前記感光剤を透過する波長の光であることを特徴とする請求項１１乃至１５の何れか１項に記載のマーク形成方法。
【請求項１７】
前記第１材料は金属膜であることを特徴とする請求項１１乃至１６の何れか１項に記載のマーク形成方法。
【請求項１８】
前記基材はガラスであることを特徴とする請求項１１乃至１７の何れか１項に記載のマーク形成方法。
【請求項１９】
基材に第１材料と感光剤を配置した基板にパターンを形成するパターン形成方法であって、
前記基板に位置合せ用マークを形成する形成工程と、
前記感光剤に露光光を照明して前記基板にパターンを転写する工程と、を有し、
前記形成工程において、前記感光剤を介して前記露光光とは異なる波長の照射光を前記第１材料に照射し、前記照射光のエネルギーにより発生した前記第１材料の熱により前記感光剤を変質させて前記感光剤に位置合せ用マークを形成する、ことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項２０】
基材に第１材料と感光剤を配置した基板にパターンを形成するパターン形成方法であって、
前記基板に位置合せ用マークを形成する形成工程と、
前記感光剤に露光光を照明して前記基板にパターンを転写する工程と、を有し、
前記形成工程において、前記感光剤を介して前記露光光とは異なる波長の照射光を前記第１材料に照射し、前記照射光のエネルギーで前記第１材料を加工して前記第１材料に位置合せ用マークを形成する、ことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項２１】
請求項１乃至１０の何れか１項に記載のリソグラフィ装置を用いて前記基板にパターンを形成する工程と、パターンが形成された基板を加工することによって物品を製造する工程と、を有することを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決する本発明の一側面としてのリソグラフィ装置は、基材に第１材料と感光剤を配置した基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、前記基板に位置合せ用マークを形成する形成部と、前記感光剤に露光光を照明して前記基板にパターンを転写する転写部と、を有し、前記形成部は、前記感光剤を介して前記露光光とは異なる波長の照射光を前記第１材料に照射し、前記照射光のエネルギーにより発生した前記第１材料の熱により前記感光剤を変質させて前記感光剤に位置合せ用マークを形成する、ことを特徴とする。