【手続補正書】
【提出日】令和2年11月4日(2020.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
構成材料の個々の構成材料層の暫時的、選択的な露光と、これに伴って現れる硬化による、三次元の対象の積層造形的な製造のために構成される、プロセスチャンバ及びエネルギービーム生成装置と、
少なくとも一つの第１の分離装置と、
少なくとも一つの第２の分離装置と、
を含む、積層造形的な製造装置であって、
前記少なくとも一つの第１の分離装置の各々が、
ガス流が貫流され、又は少なくとも部分的に貫流可能な第１のハウジング内部空間を定義する第１のハウジング構造と、
前記第１のハウジング内部空間に配置され又は形成された少なくとも一つの第１のフィルター装置であって、粒子状の構成材料構成要素を前記ガス流から分離するために構成される少なくとも一つの第１のフィルター要素を有する、少なくとも一つの第１のフィルター装置と、
前記ガス流を乾燥させるために構成される少なくとも一つの第１の乾燥要素を有する少なくとも一つの第１の乾燥装置と、を有し、
前記少なくとも一つの第２の分離装置が、前記少なくとも一つの第１の分離装置の下流に接続され、前記ガス流を乾燥させるために構成される少なくとも一つの第２の乾燥要素を有する、
積層造形的な製造装置。
【請求項２】
前記少なくとも一つの第１の分離装置が直列に接続される複数の第１の分離装置を有する、請求項１に記載の積層造形的な製造装置。
【請求項３】
前記少なくとも一つの第１の乾燥装置が前記第１のハウジング構造によって定義される前記第１のハウジング内部空間に配置され又は形成され、前記少なくとも一つの第１の乾燥装置が前記第１のハウジング構造に解除可能に接続される第１のインサート部材に配置され又は形成され、前記第１のインサート部材が、前記ガス流が貫流され、又は少なくとも部分的に貫流可能な少なくとも一つの第１の流れ開口部を有する、請求項１に記載の積層造形的な製造装置。
【請求項４】
前記少なくとも一つの第１の乾燥装置又は別の少なくとも一つの第１の乾燥装置が、前記第１のハウジング構造によって定義される前記第１のハウジング内部空間の外に配置され又は形成され、前記少なくとも一つの第１の乾燥装置又は別の少なくとも一つの第１の乾燥装置が、前記ガス流の上流又は下流に前記第１のハウジング構造と連結され又は連結可能な配管要素に配置され又は形成され、前記第１の乾燥要素又は別の第１の乾燥要素がガス流が貫流され又は少なくとも部分的に貫流可能な配管要素部分に配置され又は形成される、請求項１に記載の積層造形的な製造装置。
【請求項５】
前記少なくとも一つの第２の分離装置が、
前記ガス流が貫流され、又は少なくとも部分的に貫流可能な第２のハウジング内部空間を定義する第２のハウジング構造と、
前記第２のハウジング内部空間に配置され又は形成されるとともに、粒子状の構成材料構成要素を前記ガス流から分離するように構成される少なくとも一つの第２のフィルター要素を有する、
請求項１に記載の積層造形的な製造装置。
【請求項６】
前記少なくとも一つの第２の乾燥装置が第２のハウジング構造によって定義される第２のハウジング内部空間の外に配置され又は形成され、前記少なくとも一つの第２の乾燥装置が、前記第２のハウジング構造に解除可能に接続される第２のインサート部材に配置され又は形成され、前記第２のインサート部材が、前記ガス流が貫流され又は少なくとも部分的に貫流可能な少なくとも一つの第２の流れ開口部を有する、請求項１に記載の積層造形的な製造装置。
【請求項７】
前記少なくとも一つの第２の乾燥装置又は別の少なくとも一つの第２の乾燥装置が、前記第２のハウジング構造によって定義される第２のハウジング内部空間の外に配置され又は形成され、前記少なくとも一つの第２の乾燥装置又は別の少なくとも一つの第２の乾燥装置が、前記ガス流の上流又は下流に前記第２のハウジング構造と連結され又は連結可能な配管要素に配置され又は形成され、前記第２の乾燥要素又は別の第２の乾燥要素が、前記ガス流が貫流され又は少なくとも部分的に貫流可能な配管要素部分に配置され又は形成される、請求項６に記載の積層造形的な製造装置。
【請求項８】
前記少なくとも一つの第２の乾燥装置が前記少なくとも一つの第２のフィルター装置の下流に配置され又は形成される、請求項６に記載の積層造形的な製造装置。
【請求項９】
前記少なくとも一つの第１の乾燥要素及び／又は前記少なくとも一つの第２の乾燥要素が、湿度の吸収のために構成される吸収性の乾燥要素として形成され、又は少なくともそのようなものを有する、請求項１に記載の積層造形的な製造装置。
【請求項１０】
前記少なくとも一つの第２の乾燥要素が分子篩を有する、請求項９に記載の積層造形的な製造装置。
【請求項１１】
前記少なくとも一つの第２の分離装置が、前記ガス流が貫流され又は少なくとも部分的に貫流可能な配管構造によって少なくとも一つの前記第１の分離装置の少なくとも上流側の一つに接続される、請求項１に記載の積層造形的な製造装置。
【請求項１２】
前記少なくとも一つの第２の分離装置の下流部分を前記少なくとも一つ第１の分離装置の上流部分と結合する配管構造を有する、請求項１に記載の積層造形的な製造装置。
【請求項１３】
前記ガス流の湿度の程度を表す情報を検出するために構成される湿度検出装置、及び／又は、
前記ガス流の不活性化程度を表す情報を検出するように構成される不活性化検出装置、
を有する、請求項１に記載の積層造形的な製造装置。
【請求項１４】
不活性ガスをガス流内に供給するために構成される不活性ガス供給装置と、
少なくとも部分的にガス流の不活性化程度を表す情報に基づいてガス流中の不活性ガスの一部を制御するために構成される制御装置と、
を有する、請求項１に記載の積層造形的な製造装置。
【請求項１５】
三次元の対象の積層造形的な製造に起因して生じる粒子状の構成材料を含むガス流から粒子状の構成材料構成要素を分離するために構成される少なくとも一つの分離装置内のガス流の少なくとも部分的な不活性化方法であって、
少なくとも一つの第１の分離装置内にガス流を貫流することを有することを含み、前記少なくとも一つの第１の分離装置の各々が、前記ガス流が貫流され又は少なくとも部分的に貫流可能な第１のハウジング内部空間を定義する第１のハウジング構造と、
前記第１のハウジング内部空間に配置され又は形成されるとともに、粒子状の構成材料構成要素を前記ガス流から分離するために構成される少なくとも一つの第１のフィルター要素を有する少なくとも一つの第１のフィルター装置と、
前記ガス流を乾燥させるために構成される少なくとも一つの第１の乾燥要素を有する少なくとも一つの第１の乾燥装置と、を有し、
前記少なくとも一つの第１の分離装置の下流に接続される少なくとも一つの第２の分離装置内に前記ガス流を貫流することを有することを含み、
前記少なくとも一つの第２の分離装置が、前記ガス流を乾燥させるために構成される少なくとも一つの第２の乾燥要素を有する少なくとも一つの第２の乾燥装置を有する、
部分的な不活性化方法。
【請求項１６】
前記少なくとも一つの第１の分離装置が直列に接続される複数の第１の分離装置を有する、請求項１５に記載の部分的な不活性化方法。
【請求項１７】
不活性ガス供給装置によって不活性ガスをガス流内に供給し、
少なくとも部分的にガス流の不活性化程度を表す情報に基づいてガス流内の不活性ガスの一部を制御装置によって制御することを有する、
請求項１５に記載の部分的な不活性化方法。
【請求項１８】
開口バルブ装置を介して反応性のガス構成要素を有するガス流の一部を排出することを有する、請求項１５に記載の部分的な不活性化方法。
【請求項１９】
ガス流の不活性程度を表す情報を不活性化検出装置によって検出し、
ガス流の湿度の程度を表す情報を湿度検出装置によって検出することを有する、
請求項１５に記載の部分的な不活性化方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】積層造形的な製造装置及び部分的な不活性化方法