(57)【要約】本発明は、式（ＩＩ）のＳｆｃ，Ｓ−エナンチオマー又はＲｆｃ，Ｒ−エナンチオマーが濃縮されている一般式（ＩＩ）のフェロセニル配位子並びに前記配位子の製造方法に関する。
2005523939.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（ＩＩ）
【化１】
2005523939.tif 000025
のフェロセニル配位子において、立体異性体混合物（ＩＩａ）中ではＳｆｃ，Ｓ−エナンチオマー（ＩＩＩａ）、又は立体異性体混合物（ＩＩｂ）中ではＲｆｃ，Ｒ−エナンチオマー（ＩＩＩｂ）
【化２】
2005523939.tif 000026
が濃縮されており、かつ
Ｒ′及びＲ″は、相互に無関係に、Ｈ又はＣＨ３のグループから選択することができる基か、又はこの配位子とポリマー担体とを結合するリンカーを表すことができ、かつ基
Ｒ″′は、相互に無関係に、Ｈ又はＣ１〜Ｃ４−アルキルのグループから選択することができる基を表し、かつその際、基
Ｒ５は、相互に無関係に、Ｃ６−アリール基、Ｃ５〜Ｃ６−シクロアルキル基、アダマンチル基又はＣ１〜Ｃ４−アルキル基を表すことができる基を表し、その際、基Ｒ５は１つ又は複数のＣ１〜Ｃ４−アルキル置換基を有することができ、かつ
Ｒ２は水素又はＣ１〜Ｃ４−アルキル基を表し、かつ
Ｒ１１はＣ１〜Ｃ４−アルキル基を表すことを特徴とするフェロセニル配位子。
【請求項２】
Ｒ１１はメチル基である及び／又は
Ｒ２はＨ又はメチル基である及び／又は
Ｒ′、Ｒ″、Ｒ″′は水素である及び／又は基
Ｒ５は相互に無関係にフェニル基、トルイル基又はキシリル基を表すことを特徴とする、請求項１記載のフェロセニル配位子。
【請求項３】
Ｓｆｃ，Ｓ−エナンチオマー又はＲｆｃ，Ｒ−エナンチオマーが立体異性体混合物中で６０％を上回る割合であることを特徴とする、請求項１又は２記載のフェロセニル配位子。
【請求項４】
配位子が、９９％を上回る純度を有するＳｆｃ，Ｓ−エナンチオマー又はＲｆｃ，Ｒ−エナンチオマーとして存在することを特徴とする、請求項１から３までのいずれか１項記載のフェロセニル配位子。
【請求項５】
錯化合物の製造のための、請求項１から４までのいずれか１項記載のフェロセニル配位子の使用。
【請求項６】
第７又は第８副族の金属、金属塩又は金属前駆錯体との錯化合物を製造するための、請求項５記載のフェロセニル配位子の使用。
【請求項７】
不飽和有機化合物の不斉水素化又はヒドロホルミル化の際の、請求項１から４までのいずれか１項記載のフェロセニル配位子の使用。
【請求項８】
Ｃ＝Ｃ−結合、Ｃ＝Ｏ−結合又はＣ＝Ｎ−結合の不斉水素化の際の、請求項７記載のフェロセニル配位子の使用。
【請求項９】
一般式（ＩＩ）
【化３】
2005523939.tif 000027
のフェロセニル配位子の製造方法において、その際、立体異性体混合物（ＩＩａ）中ではＳｆｃ，Ｓ−エナンチオマー（ＩＩＩａ）、又は立体異性体混合物（ＩＩｂ）中ではＲｆｃ，Ｒ−エナンチオマー（ＩＩＩｂ）
【化４】
2005523939.tif 000028
が濃縮されており、かつその際、
Ｒ′及びＲ″は、相互に無関係に、Ｈ又はＣ１〜Ｃ４−アルキルのグループから選択される置換基を表すか、又はこの配位子をポリマーと結合させるリンカーを表し、及び基
Ｒ″′は、相互に無関係に、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル、Ｃ１〜Ｃ１８−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ１８−アシルオキシ、Ｃ６〜Ｃ１４−アリール、Ｃ３〜Ｃ１８−ヘテロアリール、Ｃ２〜Ｃ１７−ヘテロアルキル、Ｃ３〜Ｃ８−シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ１０−アルケニルのグループから選択され、その際、一つの環系に対して２つの隣接する基は相互に結合されていてもよく、及び基
Ｒ５は、相互に無関係に、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル、Ｃ６〜Ｃ１８−アリール、Ｃ６〜Ｃ１８−アリール−Ｃ１〜Ｃ８−アルキル、Ｃ３〜Ｃ１８−ヘテロアリール、Ｃ３〜Ｃ１８−ヘテロアリール−Ｃ１〜Ｃ８−アルキル、Ｃ２〜Ｃ１７−ヘテロアルキル、Ｃ３〜Ｃ８−シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ８−シクロアルキル−Ｃ１〜Ｃ８−アルキル、Ｃ２〜Ｃ１０−アルケニルであることができ、これらは１つ又は複数のＣ１〜Ｃ４−アルキル置換基を有していてもよく、及び基
Ｒ２は、Ｈ又はＣ１〜Ｃ８−アルキル基、Ｃ６〜Ｃ１８−アリール、Ｃ６〜Ｃ１８−アリール−Ｃ１〜Ｃ８−アルキル基であることができ、及びその際、基
Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル、Ｃ６〜Ｃ１８−アリール、Ｃ６〜Ｃ１８−アリール−Ｃ１〜Ｃ８−アルキル基であることができ、
次の方法工程：
ａ）  キラルのフェロセニル−スルホキシドを、次の式（ＩＶ）の芳香族アルデヒドとカップリングさせる工程、
【化５】
2005523939.tif 000029
この場合、このキラルのフェロセニル−スルホキシドはリチウム塩基の存在でリチオ化され、引き続き第８副族の金属触媒の存在で金属交換されることにより芳香族アルデヒドのカップリングが実施される、
ｂ）  工程ａ）からの反応生成物のキラル中心にある遊離ＯＨ基を、アルカリ金属水素化物の存在で、相応するハロゲン化物Ｒ１１Ｈａｌの添加により、有機基Ｒ１１とカップリングする工程、
ｃ）  工程ｂ）からの反応生成物のスルホキシド基を、強いリチウム塩基の存在で、式ＨａｌＰＲ５２のホスホハロゲン化物により置換する工程
を有するフェロセニル配位子の製造方法。
【請求項１０】
更に反応させる前に、工程ａ）から得られたジアステレオマー及び／又は工程ｂ）からのジアステレオマーを分離することを特徴とする、請求項９記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エナンチオ選択的水素化のために特に適している、エナンチオマー濃縮された二座の有機リン−フェロセニル配位子、並びに前記配位子の製造方法に関する。
【０００２】
三置換の二座の有機リン化合物は、均一触媒中の配位子として特に重要である。特に、不斉水素化におけるビスホスフィン触媒の使用は以前から公知であり（Burk et al.,著 Tetrahedron 1994, 4399）、その際、例えばWO 96/32400及びWO 95/21151はＣ２非対称フェロセニル配位子の使用を記載している。
【０００３】
今までに公知の非対称フェロセニル配位子を含有する触媒は、もちろん適切なエナンチオ選択的合成のために条件付きで使用可能であるだけである。DE 199 52 348では、それに対して、次の一般式の新規の種類のエナンチオマー濃縮フェロセニル配位子
【０００４】
【化１】
2005523939.tif 000003
が提供され、この配位子は、特に均一系接触的不斉水素化において、良好なエナンチオ選択的に機能する触媒配位子であることが判明している。大規模工業的使用に関しては、もちろん不斉水素化のために特に適している触媒配位子の捜索が引き続き重要な関心事である。同様に、このような配位子のための良好な収率での他のエナンチオ選択的製造方法の開発も、大規模工業的プロセス実施のための触媒の提供を保証するために重要である。
【０００５】
本発明の課題は、不飽和結合の均一系接触的不斉水素化において極めて高いエナンチオ選択性を有し、かつ十分な量でかつ良好なエナンチオ選択性で製造可能であるフェロセニル配位子を提供することであった。
【０００６】
前記の課題は、次の、Ｓｆｃ−ジアステレオマー（ＩＩａ）又はＲｆｃ−ジアステレオマー（ＩＩｂ）として存在することができる式（ＩＩ）のフェロセニル配位子
【０００７】
【化２】
2005523939.tif 000004
において、前記の配位子はDE 199 52 348に記載された種類の化合物から選択され、その際、混合物（ＩＩａ）中ではＳｆｃ，Ｓ−エナンチオマー（式ＩＩＩａ）、又は混合物（ＩＩｂ）中ではＲｆｃ，Ｒ−エナンチオマー(ＩＩＩｂ）
【０００８】
【化３】
2005523939.tif 000005
が濃縮されており、かつ
Ｒ′及びＲ″は、相互に無関係に、Ｈ又はＣＨ３のグループから選択することができるか、又はこの配位子とポリマー担体とを結合するリンカーを表すことができる基を表し、かつ基
Ｒ″′は、相互に無関係に、Ｈ又はＣ１〜Ｃ４−アルキルのグループから選択することができる基を表し、かつその際、基
Ｒ５は、相互に無関係に、Ｃ６−アリール基、Ｃ５〜Ｃ６−シクロアルキル基、アダマンチル基又はＣ１〜Ｃ４−アルキル基を表すことができ、これらの基は１つ又は複数のＣ１〜Ｃ４−アルキル置換基を有することができ、かつ
Ｒ２は水素又はＣ１〜Ｃ４−アルキル基を表し、かつ
Ｒ１１はＣ１〜Ｃ４−アルキル基を表すフェロセニル配位子により解決される。
【０００９】
有利なアルキル基Ｒ２及びＲ１１はメチル基である。Ｒ′、Ｒ″、Ｒ″′及びＲ２が水素基を表し、かつ基Ｒ１１がメチル基を表す式（ＩＩ）のフェロセニル配位子が特に有利である。この基Ｒ５は、有利にシクロヘキシル基、シクロペンチル基、アダマンチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基を表し、及び特に有利にフェニル基、トルイル基又はキシリル基を表す。
【００１０】
この請求の範囲に記載された配位子は、更に適当なリンカーＲ′又はＲ″を介してポリマーに固定されていてもよい。典型的なリンカーは、例えば式Ｂ−Ｘ−Ｚの基であり、その際、Ｘはスペーサー、例えば１，４′−ビフェニル、１−，２−エチレン又は１−，３−プロピレンであり、ＢはＣＲ９、ＮＲ９、Ｏ、Ｓ、ＳｉＲ９２基を表し、その際、Ｒ９はＨ又はＣ１〜Ｃ１８−アルキルであり、かつＺは官能基、例えばＯ−、ＮＨ−、ＣＯＯ−、ＣＯＮＨ−；ＣＨ２＝ＣＨ−、ＮＨＣＯＮＨ−、ＯＣＯＮＨ−又はＮＨＣＯＯ−を表す。
【００１１】
更に、濃縮されたＳｆｃ，Ｓ−エナンチオマー又はＲｆｃ，Ｒ−エナンチオマーが６０％の割合、有利に７５％の割合、特に有利に９０％の割合を上回る式（ＩＩ）のフェロセニル配位子が有利である。９９％を上回る純度を有する立体異性体の使用が理想的である。
【００１２】
意外にも、式（ＩＩＩ）のフェロセニル配位子−立体異性体を過剰量で含有する触媒錯体は、Ｓｆｃ，Ｒ−エナンチオマーが濃縮された形で存在するDE 199 52 348に詳細に記載された錯体よりも、不飽和結合の不斉水素化の際に高いエナンチオ選択性を有することが示された。前記明細書に記載された製造方法を用いた場合に、Ｓｆｃ，Ｒ−エナンチオマーもしくはＲｆｃ，Ｓ−エナンチオマーが過剰量で存在するフェロセニル配位子が得られる。
【００１３】
Ｓｆｃ，Ｓ−エナンチオマーもしくはＲｆｃ，Ｒ−エナンチオマーが濃縮されている請求の範囲に記載されたフェロセニル配位子は、次に示す一般的合成の記載により製造することができる。この場合に、他の濃縮工程なしで既にＳｆｃ，Ｓ−エナンチオマー又はＲｆｃ，Ｒ−エナンチオマーが過剰量で形成されることが特に有利である。
【００１４】
このような方法は、次に例示的に、Ｓｆｃ，Ｓ−エナンチオマーの合成の例について記載する。第１の製造工程において、フェロセンをKagan et al.著 (J. Org. Chem. 1995, 60, 2502)の方法により、キラルのフェロセニル−スルホキシド１に反応させる。芳香族基及び第１のリン含有基の導入のために、リチウム塩基の存在でフェロセニル環がリチオ化され、かつ金属交換される。第８副族の金属触媒、特にロジウム触媒の存在で、相応する化合物２へのカップリングが行われ、その際、立体異性体２ａが過剰量で生じる。
【００１５】
【化４】
2005523939.tif 000006
【００１６】
この得られたエナンチオマー混合物を、直接処理するか又は他の実施態様の場合にまず分離し、引き続き、更に処理することができる。次に、この反応式をエナンチオマー２ａの反応を用いて説明する。この化合物２ａを引き続きアルカリ金属水素化物、例えばＫＨの添加により、相応するヨージドと反応させて化合物３ａにする。
【００１７】
【化５】
2005523939.tif 000007
【００１８】
このスルホキシド基は、強いリチウム塩基の存在で第２のリン含有基により置換される。こうして本発明による配位子が得られ、この場合に、Ｓｆｃ，Ｓ−エナンチオマー４ａが過剰量で存在する。
【００１９】
【化６】
2005523939.tif 000008
【００２０】
この化合物２ｂは相応する化合物３ｂ及び４ｂに変換される。ジアステレオマー２ａ及び２ｂ及び／又はジアステレオマー３ａ及び３ｂの分離により、この合成のエナンチオマー純度を更に向上させることができる。
【００２１】
【化７】
2005523939.tif 000009
【００２２】
前記の方法を用いて、高い割合のＳｆｃ，Ｓ−エナンチオマーを特徴とするジアステレオマー混合物が直接得られ、その際に、この得られた混合物は触媒用の配位子として直接使用することができる。クロマトグラフィー法を用いて更に精製することにより、Ｓｆｃ，Ｓ−エナンチオマーのより高い過剰量を達成することもできる。
【００２３】
同様にして、Ｒ−エナンチオマー原料の使用により、エナンチオマーのＲｆｃ，Ｒ−生成物が過剰量で生じる。
【００２４】
この記載された方法は、特に不斉水素化に適した配位子のエナンチオ選択的合成のためだけに利用されるのではなく、式（ＩＩＩ）のＳｆｃ，Ｓ−エナンチオマーもしくはＲｆｃ，Ｒ−エナンチオマーが過剰量で存在する一般式（ＩＩ）のフェロセニル配位子の合成のためにも適している。
【００２５】
従って、本発明は、更に次の式（ＩＩ）のＳｆｃ−又はＲｆｃ−フェロセニル配位子、
【００２６】
【化８】
2005523939.tif 000010
［その際、混合物（ＩＩａ）中ではＳｆｃ，Ｓ−エナンチオマー（ＩＩＩａ）、又は混合物（ＩＩｂ）中ではＲｆｃ，Ｒ−エナンチオマー（ＩＩＩｂ）
【００２７】
【化９】
2005523939.tif 000011
が濃縮されており、かつその際、
Ｒ′及びＲ″は、相互に無関係に、Ｈ又はＣ１〜Ｃ４−アルキルのグループから選択される置換基を表すか、又はこの配位子をポリマーと結合させるリンカーを表し、及び基
Ｒ″′は、相互に無関係に、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル、Ｃ１〜Ｃ１８−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ１８−アシルオキシ、Ｃ６〜Ｃ１４−アリール、Ｃ３〜Ｃ１８−ヘテロアリール、Ｃ２〜Ｃ１７−ヘテロアルキル、Ｃ３〜Ｃ８−シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ１０−アルケニルのグループから選択され、その際、一つの環系に対して２つの隣接する基は相互に結合されていてもよく、及び基
Ｒ５は、相互に無関係に、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル、Ｃ６〜Ｃ１８−アリール、Ｃ６〜Ｃ１８−アリール−Ｃ１〜Ｃ８−アルキル、Ｃ３〜Ｃ１８−ヘテロアリール、Ｃ３〜Ｃ１８−ヘテロアリール−Ｃ１〜Ｃ８−アルキル、Ｃ２〜Ｃ１７−ヘテロアルキル、Ｃ３〜Ｃ８−シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ８−シクロアルキル−Ｃ１〜Ｃ８−アルキル、Ｃ２〜Ｃ１０−アルケニルであることができ、これらは１つ又は複数のＣ１〜Ｃ４−アルキル置換基を有していてもよく、及び基
Ｒ２は、Ｈ又はＣ１〜Ｃ８−アルキル基、Ｃ６〜Ｃ１８−アリール、Ｃ６〜Ｃ１８−アリール−Ｃ１〜Ｃ８−アルキル基であることができ、及びその際、基
Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル、Ｃ６〜Ｃ１８−アリール、Ｃ６〜Ｃ１８−アリール−Ｃ１〜Ｃ８−アルキル基であることができる］の製造方法において、
次の方法工程：
ａ）  キラルのフェロセニル−スルホキシドを、次の式（ＩＶ）の芳香族アルデヒドとカップリングさせる工程、
【００２８】
【化１０】
2005523939.tif 000012
この場合、このキラルのフェロセニル−スルホキシドはリチウム塩基の存在でリチオ化され、引き続き第８副族の金属触媒の存在で金属交換されることにより芳香族アルデヒドのカップリングが実施される、
ｂ）  工程ａ）からの反応生成物のキラル中心にある遊離ＯＨ基を、アルカリ金属水素化物の存在で、Ｒ１１Ｈａｌ、有利にヨージドＲ１１Ｉの添加により、有機基Ｒ１１とカップリングする工程、
ｃ）  工程ｂ）からの反応生成物のスルホキシド基を、強いリチウム塩基の存在で、式ＨａｌＰＲ５２のホスホハロゲン化物、有利にホスホクロリドＣｌＰＲ５２により置換する工程
を有する、フェロセニル配位子の製造方法に関する。
【００２９】
基Ｒ′、Ｒ″、Ｒ″′として、相互に無関係に、Ｈ及び／又はＣＨ３を有する配位子の上記の製造方法が特に適している。この基Ｒ５は、有利に、相互に無関係にＣ６−アリール基、Ｃ５〜Ｃ６−シクロアルキル基、アダマンチル基又はＣ１〜Ｃ４−アルキル基を表す。Ｒ２は、有利にＨ又はＣ１〜Ｃ４−アルキル基を表し、Ｒ１１はＣ１〜Ｃ４−アルキル基を表す。
【００３０】
請求の範囲に記載された配位子は金属と簡単に反応し、相応する錯体になることができる。一般に、請求の範囲に記載された配位子は錯体の形で、不飽和化合物の不斉水素化において使用され、その際、この配位子は金属と共に、触媒として使用することができる錯化合物を形成する。この触媒は、ワンポット反応で本発明による配位子と金属とを簡単に一緒に添加することで、金属塩又は金属前駆錯体を中間的に形成させるか、又は予め製造しかつ単離しかつ最終的な錯化合物として反応バッチに添加することができる。配位中心として、特に第７及び第８副族の金属、有利にＣｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、特に有利にＲｈが挙げられ、その際に、少なくとも１つの本発明による配位子を含む錯化合物が形成される。その他に、例えば前駆錯体、溶剤又はその他の反応物質から由来する他の配位子が錯体中に存在していてもよい。
【００３１】
錯化合物の製造のために適当な金属塩の例は、塩化金属、臭化金属、ヨウ化金属、シアン化金属、硝酸金属、酢酸金属、金属アセチルアセトナート、金属ヘキサフルオロアセチルアセトナート、金属テトラフルオロボラート、金属ペルフルオロアセタート又は金属トリフレートであり、特にパラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム、イリジウム、コバルト又は／及びニッケルの塩である。
【００３２】
適当な前駆錯体の例は次のものである：
シクロオクタジエンパラジウムクロリド、シクロオクタジエンパラジウムヨージド、１，５−ヘキサジエンパラジウムクロリド、１，５−ヘキサジエンパラジウムヨージド、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム、ビス（アセトニトリル）パラジウム（ＩＩ）クロリド、ビス（アセトニトリル）パラジウム（ＩＩ）ブロミド、ビス（ベンゾニトリル）パラジウム（ＩＩ）クロリド、ビス（ベンゾニトリル）パラジウム（ＩＩ）ブロミド、ビス（ベンゾニトリル）パラジウム（ＩＩ）ヨージド、ビス（アリル）パラジウム、ビス（メタリル）パラジウム、アリルパラジウムクロリド−ダイマー、メタリルパラジウムクロリド−ダイマー、テトラメチルエチレンジアミンパラジウムジクロリド、テトラメチルエチレンジアミンパラジウムジブロミド、テトラメチルエチレンジアミンパラジウムジヨージド、テトラメチルエチレンジアミンパラジウムジメチル、シクロオクタジエン白金クロリド、シクロオクタジエン白金ヨージド、１，５−ヘキサジエン白金クロリド、１，５−ヘキサジエン白金ヨージド、ビス（シクロオクタジエン）白金、カリウム（エチレントリクロロ白金酸塩）、シクロオクタジエンロジウム（Ｉ）クロリド−ダイマー、ノルボルナジエンロジウム（Ｉ）クロリド−ダイマー、１，５−ヘキサジエンロジウム（Ｉ）クロリド−ダイマー、トリス（トリフェニルホスファン）ロジウム（Ｉ）クロリド、ヒドリドカルボニルトリス（トリフェニルホスファン）ロジウム（Ｉ）クロリド、ビス（シクロオクタジエン）ロジウム（Ｉ）ペルクロラート、ビス（シクロオクタジエン）ロジウム（Ｉ）テトラフルオロボラート、ビス（シクロオクタジエン）ロジウム（Ｉ）トリフラート、ビス（アセトニトリルシクロオクタジエン）ロジウム（Ｉ）ペルクロラート、ビス（アセトニトリルシクロオクタジエン）ロジウム（Ｉ）テトラフルオロボラート、ビス（アセトニトリルシクロオクタジエン）ロジウム（Ｉ）トリフラート、シクロペンタジエンロジウム（ＩＩＩ）クロリド−ダイマー、ペンタメチルシクロペンタジエンロジウム（ＩＩＩ）クロリド−ダイマー、（シクロオクタジエン）Ｒｕ（μ３−アリル）２、（（シクロオクタジエン）Ｒｕ）２（アセタート）４、（（シクロオクタジエン）Ｒｕ）２（トリフルオロアセタート）４、ＲｕＣｌ２（アレーン）−ダイマー、トリス（トリフェニルホスファン）ルテニウム（ＩＩ）クロリド、シクロオクタジエンルテニウム（ＩＩ）クロリド、シクロオクタジエンイリジウム（Ｉ）クロリド−ダイマー、ビス（シクロオクテン）イリジウム（Ｉ）クロリド−ダイマー、ビス（シクロオクタジエン）ニッケル、（シクロドデカトリエン）ニッケル、トリス（ノルボルネン）ニッケル、ニッケルテトラカルボニル、ニッケル（ＩＩ）アセチルアセトナート。
【００３３】
本発明の他の対象は、請求の範囲に記載されたフェロセニル配位子及びこのような配位子を含有する触媒の、不飽和有機化合物の不斉水素化のための使用である。この場合に、このような触媒は高いエナンチオ選択性を有する。Ｃ＝Ｃ−、Ｃ＝Ｏ−又はＣ＝Ｎ−結合の不斉水素化（その際この触媒は高い活性及び高い選択性を有する）の場合に並びに不斉ヒドロホルミル化において、本発明による触媒が特に適している。
【００３４】
実施例
実施例１：式（２ａ）及び（２ｂ）の個々の化合物の製造
【００３５】
【化１１】
2005523939.tif 000013
【００３６】
アルゴン取り入れ口を備えた１００ｍｌの丸底フラスコ中に、（Ｓ）−フェロセニル−ｐ−トリルスルホキシド（１）（１．７８ｇ、５．４９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（４０ｍｌ）中に溶かし、この溶液を−７８℃に冷却した。引き続き、ゆっくりとリチウムジイソプロピルアミン溶液（３．３０ｍｌ、６．５９ｍｍｏｌ；ＴＨＦ中で２．０Ｍ）を添加した。−７８℃で６０分間撹拌した後に、ＴＨＦ（５ｍｌ）中に溶かした２−（ジフェニルホスフィノ）ベンズアルデヒド（２．０８ｇ、７．１４ｍｍｏｌ）を滴加し、この反応溶液を−７８℃で１時間撹拌した。室温で一晩中撹拌した後に、飽和ＮＨ４Ｃｌ溶液（２０ｍｌ）でクエンチし、有機相を分離し、水相をＣＨ２Ｃｌ２（２回、５０ｍｌ）で抽出した。この合わせた有機相を、ＮａＣｌ溶液（２０ｍｌ）で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、濾別し、溶剤を回転蒸発器で留去した。この粗製生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製した（ｎ−ペンタン／ジエチルエーテル  ２：１）。アルコール２ａ（１．３２ｇ、２．１４ｍｍｏｌ、３９％）（融点：１５９℃）及びアルコール２ｂ（０．９９ｇ、１．６１ｍｍｏｌ、２９％）が黄色固体として得られた。更に、使用したスルホキシド１の一部（４２９ｍｇ、１．３２ｍｍｏｌ、２４％）を回収することができた。
【００３７】
２ａ：
［α］Ｄ２０＝＋４６５．２０（ｃ＝０．８７、ＣＨＣｌ３）。
【００３８】
IR (KBr): 3436 (br, vs), 3053 (m), 2922 (m), 1634 (m), 1435 (m), 1045 (m), 1011 (m), 810 (m),745(m), 696 (m), 505 (m)。
【００３９】
１H-NMR (CDCl３, 300 MHz): 7.92-7.88 (m, 1 H), 7.41-7.37 (m, 3 H), 7.19-6.75 (m, 14 H), 6.20 (d, J= 0.6 Hz, 1 H), 5.91 (d, J= 7.8 Hz, 1 H), 4.49 (s, br, 6 H), 3.82-3.80 (m, 1 H), 3.12-3.11 (m, 1 H), 2.27 (s, 3 H)。
【００４０】
１３C-NMR (CDCl３, 75 MHz): 146.57 (d, J= 23.3 Hz), 140.54 (d, J= 11.7 Hz), 137.10 (d, J= 11.7 Hz), 136.11 (d, J= 11.6 Hz), 134.91-132.84 (m), 129.79, 128.93-126.80 (m), 124.08, 94.37, 88.75, 74.75 (d, J= 2.9 Hz), 70.40, 70.16, 66.76, 65.16 (d, J 30.4 Hz), 21.35。
【００４１】
３１P-NMR (CDCl３, 81 MHz): -17.26。
【００４２】
MS (EI): 614 (M＋, 9), 598 (46), 597 (42), 533 (33), 475 (11), 459 (19), 398 (19), 353 (43), 337 (100), 308 (33), 290 (29), 261 (51), 183 (53), 124 (51), 91 (56), 77 (14)。
【００４３】
C３６H３１FeO２PS (614.53): HR-MS: 計算値.: 614.1132.実測値：614.1137。
【００４４】
２ｂ：
IR (KBr): 3436 (br, vs), 3053 (m), 2923 (m), 1636 (m), 1435 (s), 1026 (s), 1011 (s), 810 (m), 745 (s), 697 (s), 503 (s)。
【００４５】
３１P-NMR (CDCl３, 81 MHz): -14.77。
【００４６】
MS (EI): 614 (M＋, 11), 598 (75), 597 (46), 533 (70), 475 (15), 459 (53), 398 (33), 353 (46), 337 (100), 306 (19), 259 (23), 183 (32), 124 (56), 91 (64), 77 (19)。
【００４７】
C３６H３１FeO２PS (614.53): HR-MS: 計算値.: 614.1132.実測値：614。
【００４８】
実施例２：式（３ａ）の化合物の製造
【００４９】
【化１２】
2005523939.tif 000014
【００５０】
アルゴン取り入れ口を備えた５０ｍｌの丸底フラスコ中でＫＨ（４１ｍｇ、１．０２ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１ｍｌ）中に懸濁させ、０℃に冷却した。引き続き、実施例１からのアルコール２ａ（４８２ｍｇ、０．７８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（９ｍｌ）中に溶かして０℃で滴加し、この反応混合物を室温で１時間撹拌した。新たに０℃に冷却し、ＭｅＩ（１２２ｍｇ、０．８６ｍｍｏｌ）を滴加した。０℃で１０分間撹拌し、かつ室温で３０分間撹拌した後に、飽和ＮＨ４Ｃｌ溶液（２０ｍｌ）でクエンチし、この有機相を分離し、水相をＣＨ２Ｃｌ２（２回５０ｍｌ）で抽出した。この合わせた有機相を、ＮａＣｌ溶液（２０ｍｌ）で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、濾別し、溶剤を回転蒸発器で留去した。この粗製生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製した（ｎ−ペンタン／Ｅｔ２Ｏ  1：１、次いでＥｔ２Ｏ）。メチルエーテル３ａ（３５５ｍｇ、０．５６ｍｍｏｌ、７２％）が黄色固体（融点：９８〜１００℃）として得られた。
【００５１】
［α］Ｄ２０＝−２８．２０（ｃ＝０．６１、ＣＨＣｌ３）。
【００５２】
IR (KBr): 3053 (m), 2925 (m), 1631 (m), 1435 (m), 1087 (s), 1042 (s), 817 (m), 746 (s), 697 (s), 545 (m), 500 (s)。
【００５３】
１H-NMR (CDCl３, 300 MHz): 7.53-7.50 (m, 2 H), 7.46-7.42 (m, 1 H), 7.27-7.09 (m, 14 H), 7.00-6.95 (m, 1 H), 6.17 (d, J = 7.2 Hz, 1 H), 4.14 (s, 5 H), 3.99-3.97 (m, 1 H), 3.85-3.84 (m, 2 H), 3.17 (s, 3 H), 2.30 (s, 3 H)。
【００５４】
３１P-NMR (CDCl３, 81 MHz): -17.45。
【００５５】
MS (EI): 628 (M＋, 16), 612 (11), 563 (31), 531 (22), 489 (8), 459 (11), 353 (45), 337 (100), 261 (4), 183 (24), 121 (11), 91 (13)。
【００５６】
C３７H３３FeO２PS (628.55): HR-MS: 計算値.: 628.1288.実測値：628.1306。
【００５７】
実施例３：式（３ｂ）の化合物の製造
【００５８】
【化１３】
2005523939.tif 000015
【００５９】
アルゴン取り入れ口を備えた５０ｍｌの丸底フラスコ中でＫＨ（３７ｍｇ、０．９２ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１ｍｌ）中に懸濁させ、０℃に冷却した。引き続き、実施例１からのアルコール２ｂ（４３３ｍｇ、０．７０ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（９ｍｌ）中に溶かして０℃で滴加し、この反応混合物を室温で１時間撹拌した。新たに０℃に冷却し、ＭｅＩ（１１１ｍｇ、０．７８ｍｍｏｌ）を滴加した。０℃で１０分間撹拌し、かつ室温で１０分間撹拌した後に、飽和ＮＨ４Ｃｌ溶液（２０ｍｌ）でクエンチし、この有機相を分離し、水相をＣＨ２Ｃｌ２（２回５０ｍｌ）で抽出した。この合わせた有機相を、ＮａＣｌ溶液（２０ｍｌ）で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、濾別し、溶剤を回転蒸発器で留去した。この粗製生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製した（ｎ−ペンタン／Ｅｔ２Ｏ  １：３）。メチルエーテル３ｂ（３８５ｍｇ、０．６１ｍｍｏｌ、８８％）が黄色固体（融点：１１０〜１１２℃）として得られた。
【００６０】
IR (KBr): 3053 (m), 2925 (m), 1636 (m), 1434 (m), 1084 (s), 1044 (s), 813 (m), 746 (s), 697 (s), 498 (s)。
【００６１】
３１P-NMR (CDCl３, 81 MHz): -14.67。
【００６２】
C３７H３３FeO２PS (628.55): HR-MS: 計算値.: 628.1288.実測値：628。
【００６３】
実施例４：式（４ａ）の化合物の製造
【００６４】
【化１４】
2005523939.tif 000016
【００６５】
アルゴン取り入れ口を備えた５０ｍｌの丸底フラスコ中で、実施例２からの化合物３ａ（１５５ｍｇ、０．２５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（３ｍｌ）中に溶かし、この溶液を−７８℃に冷却した。引き続き、ゆっくりとｔ−ＢｕＬｉ（０．３１ｍｌ、０．４９ｍｍｏｌ、ヘキサン中で１．６Ｍ）を滴加し、−７８℃で１０分間撹拌した。クロロジフェニルホスファン（０．１５ｍｌ、０．８６ｍｍｏｌ）を滴加し、冷却浴を取り除き、この反応混合物を室温で３０分間撹拌した。飽和ＮＨ４Ｃｌ溶液（２０ｍｌ）でクエンチした後で有機相を分離し、水相をジエチルエーテル（２回、５０ｍｌ）で抽出した。この合わせた有機相を、ＮａＣｌ溶液（２０ｍｌ）で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、濾別し、溶剤を回転蒸発器で留去した。この粗製生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製した（ｎ−ペンタン／Ｅｔ２Ｏ  ３０：１）。ジホスファン４ａ（１２７ｍｇ、０．１９ｍｍｏｌ、７６％）が黄色固体（融点：２０１℃（分解））として得られた。
【００６６】
IR (KBr): 3068 (m), 3054 (m), 2924 (w), 1628 (w), 1478 (m), 1434 (s), 1087 (s), 818 (w), 742 (vs), 698 (vs), 498 (s), 488 (s)。
【００６７】
３１P-NMR (CDCl３, 81 MHz): -17.27 (d,.J= 17.2 Hz), -18.39 (d, J= 17.2 Hz)。
【００６８】
C４２H３６FeOP２ (674.54): HR-MS: 計算値: 674.1591.実測値：674。
【００６９】
実施例５：化合物（５ａ）の製造
【００７０】
【化１５】
2005523939.tif 000017
【００７１】
アルゴン取り入れ口を備えた５０ｍｌの丸底フラスコ中で、実施例２からの化合物３ａ（１８０ｍｇ、０．２９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（３ｍｌ）中に溶かし、この溶液を−７８℃に冷却した。引き続き、ゆっくりとｔ−ＢｕＬｉ（０．３６ｍｌ、０．５７ｍｍｏｌ、ヘキサン中で１．６Ｍ）を滴加し、−７８℃で１０分間撹拌した。クロロビス（３，５−ジメチルフェニル）ホスファン（２２７ｍｇ、１．００ｍｍｏｌ）を滴加し、冷却浴を取り除き、この反応混合物を室温で３０分間撹拌した。飽和ＮＨ４Ｃｌ溶液（２０ｍｌ）でクエンチした後で有機相を分離し、水相をジエチルエーテル（２回、５０ｍｌ）で抽出した。この合わせた有機相を、ＮａＣｌ溶液（２０ｍｌ）で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、濾別し、溶剤を回転蒸発器で留去した。この粗製生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製した（ｎ−ペンタン／Ｅｔ２Ｏ  ２０：１）。ジホスファン５ａ（１４２ｍｇ、０．１９ｍｍｏｌ、６８％）が黄色固体（融点：１８２℃（分解））として得られた。
【００７２】
IR (KBr): 3052 (m), 2922 (m), 2818 (w), 1629 (w), 1434 (m), 1092 (m), 847 (w), 816 (w), 745 (m), 695 (s), 507 (m)。
【００７３】
３１P-NMR (CDCl３, 81 MHz): -18.49 (d, J= 23.7 Hz), -19.05 (d, J= 23.7 Hz)。
【００７４】
C４６H４４FeOP２ (730.65): HR-MS: 計算値: 730.2217.実測値：730。
【００７５】
実施例６：化合物（４ｂ）の製造
【００７６】
【化１６】
2005523939.tif 000018
【００７７】
アルゴン取り入れ口を備えた５０ｍｌの丸底フラスコ中で、実施例３からの化合物３ｂ（２９８ｍｇ、０．４７ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（６ｍｌ）中に溶かし、この溶液を−７８℃に冷却した。引き続き、ゆっくりとｔ−ＢｕＬｉ（０．５９ｍｌ、０．９５ｍｍｏｌ、ヘキサン中で１．６Ｍ）を滴加し、−７８℃で１０分間撹拌した。クロロジフェニルホスファン（０．３０ｍｌ、１．６６ｍｍｏｌ）を滴加し、冷却浴を取り除き、この反応混合物を室温で３０分間撹拌した。飽和ＮＨ４Ｃｌ溶液（２０ｍｌ）でクエンチした後で有機相を分離し、水相をジエチルエーテル（２回、５０ｍｌ）で抽出した。この合わせた有機相を、ＮａＣｌ溶液（２０ｍｌ）で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、濾別し、溶剤を回転蒸発器で留去した。この粗製生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製した（ｎ−ペンタン／Ｅｔ２Ｏ  ２０：１）。このジホスファン４ｂ（２１６ｍｇ、０．３２ｍｍｏｌ、６８％）が黄色固体として得られた。
【００７８】
IR (KBr): 3068 (m), 3052 (m), 2925 (w), 2816 (w), 1630 (w), 1479 (m), 1434 (s), 1082 (s), 820 (m), 743 (vs), 696 (vs), 501 (s), 486 (s), 456 (m)。
【００７９】
３１P-NMR (CDCl３, 81 MHz): -14.69 (d, J= 16.8 Hz), -20.26 (d, J= 16.8 Hz)。
【００８０】
C４２H３６FeOP２ (674.54): HR-MS: 計算値: 674.1591.実測値：674。
【００８１】
次に、不飽和有機化合物の不斉水素化についての個々の実施例を記載し、その際、実施例１〜６により製造した配位子を使用した。
【００８２】
実施例７：メチル（Ｚ）−３−フェニル−２−メチルカルボキサミド−２−プロペノエートのエナンチオ選択的水素化のための作業手順
（Ｓ）−メチル−２−メチルカルボキサミド−３−フェニルプロパノアート（６）の製造
【００８３】
【化１７】
2005523939.tif 000019
【００８４】
５０ｍｌのシュレンク容器中で、アルゴン下にＲｈ（ｎｂｄ）２ＢＦ４（３．４ｍｇ、１ｍｏｌ％）及びジホスファン配位子（１ｍｏｌ％）をトルエン／ＭｅＯＨ（６ｍｌ、５：１）中に溶かした。ロジウム錯体が完全に溶解した後、ＭｅＯＨ（４ｍｌ）中に溶かしたメチル−（Ｚ）−３−フェニル−２−メチルカルボキサミド−２−プロペノアート（２００ｍｇ、０．９１ｍｍｏｌ）を添加した。引き続き、このシュレンク容器を三方コックを介して水素バルーン及び油ポンプと接続し、不活性ガス雰囲気を水素と置き換えた。この反応混合物を室温で記載の時間撹拌し、その後で溶剤を油ポンプ真空中で凝縮除去した。この残留物を、短いシリカゲルカラムで濾過し（溶離剤：ジエチルエーテル）及び溶剤を回転蒸発器で留去した。化合物（Ｓ）−６が定量的収率で白色固体として得られた。
【００８５】
使用した配位子を用いて達成されたエナンチオ過剰量を、表１にまとめた。
【００８６】
【表１】
2005523939.tif 000020
ａ）  括弧内に絶対配置
このエナンチオマー過剰量はガスクロマトグラフィー（ＧＣ）により測定した［カラム：Chrompack社のChirasil-L-Val (0.12 μｍ, 25 m x 0.22 mm fused silica WCOT)、カラム圧：８３．５ｋＰａ、キャリアガス：水素］：
ＧＣ（１４０℃）：ｔｒ／ｍｉｎ＝１１．６１（Ｒ）、１２．５０（Ｓ）。
【００８７】
１H-NMR (CDCl３, 300 MHz): 7.25-7.18 (m, 3 H), 7.04.7.00 (m, 2 H), 5.96 (d, J= 7.1 Hz, 1 H), 4.85-4.78 (m, 1 H), 3.65 (s, 3 H), 3.11-2.97 (m, 2 H), 1.90 (s, 3 H)。
【００８８】
１３C-NMR (CDCl３, 75 MHz): 172.07, 169.52, 135.85, 129.18, 128.51, 127.06, 53.10, 52.21,37.83, 23.02。
【００８９】
実施例８：ジメチルイタコナートのエナンチオ選択的水素化のための作業手順
２−メチル−コハク酸ジメチルエステル（７）の製造
【００９０】
【化１８】
2005523939.tif 000021
【００９１】
５０ｍｌのシュレンク容器中で、アルゴン下にＲｈ（ｎｂｄ）２ＢＦ４（４．７ｍｇ、１ｍｏｌ％）及びジホスファン配位子（１ｍｏｌ％）をトルエン／ＭｅＯＨ（６ｍｌ、５：１）中に溶かした。このロジウム錯体が完全に溶解した後に、ＭｅＯＨ（４ｍｌ）中に溶かしたジメチルイタコナート（２００ｍｇ、１．２６ｍｍｏｌ）を添加した。引き続き、このシュレンク容器を三方コックを介して水素バルーン及び油ポンプと接続し、不活性ガス雰囲気を水素と置き換えた。この反応混合物を室温で記載の時間撹拌し、その後に溶剤を回転蒸発器で留去した。この残留物を短いシリカゲルカラムで濾過した（溶離剤：ジエチルエーテル）。化合物（Ｒ）−７が定量的収率で無色油状物として得られた。
【００９２】
使用した配位子を用いて達成されたエナンチオ過剰量を、表２にまとめた。
【００９３】
【表２】
2005523939.tif 000022
ａ）  括弧内に絶対配置
このエナンチオマー過剰量を高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）により測定した（自動試料添加装置及びＵＶ−ＶＩＳ−ダイオードアレイ検出器を備えたDionex社のＨＰＬＣ装置、カラム：Daicel Chemical Industries社のＯＤ、溶離剤：ｎ−ヘプタン／ｉ−ＰｒＯＨ  ９５：５、フロー：０．６ｍｌ／ｍｉｎ、検出波長：２１５ｎｍ）：
ＨＰＬＣ（ＯＤ、５％  ｉ−ＰｒＯＨ、０．６ｍｌ／ｍｉｎ、２１５ｎｍ）：ｔｒ／ｍｉｎ＝１０．３７（Ｒ）、１７．９３（Ｓ）。
【００９４】
実施例９：２−アセトキシ−アクリル酸メチルエステルのエナンチオ選択的水素化のための作業手順
（Ｓ）−メチル−２−メチルカルボニルオキシプロパノアート（８）の製造
【００９５】
【化１９】
2005523939.tif 000023
【００９６】
５０ｍｌのシュレンク容器中で、アルゴン下にＲｈ（ｎｂｄ）２ＢＦ４（５．２ｍｇ、１ｍｏｌ％）及びジホスファン配位子（１ｍｏｌ％）をＭｅＯＨ（１０ｍｌ）中に溶かした。このロジウム錯体が完全に溶解した後に、２−アセトキシ−アクリル酸メチルエステル（２００ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）を添加した。引き続き、このシュレンク容器を三方コックを介して水素バルーン及び油ポンプと接続し、不活性ガス雰囲気を水素と置き換えた。この反応混合物を室温で２０時間撹拌し、その後で溶剤を油ポンプ真空中で凝縮除去した。この残留物を球管蒸留により精製した。このエステル（Ｓ）−８が定量的収率で無色油状物として得られた。
【００９７】
使用した配位子を用いて達成されたエナンチオ過剰量は、表３にまとめた。
【００９８】
【表３】
2005523939.tif 000024
ａ）  括弧内に絶対配置
このエナンチオマー過剰量を高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）により測定した（自動試料添加装置及びＵＶ−ＶＩＳ−ダイオードアレイ検出器を備えたDionex社のＨＰＬＣ装置、カラム：Daicel Chemical Industries社のＯＤ−Ｈ、溶離剤：ｎ−ヘプタン／ｉ−ＰｒＯＨ  ９９：１、フロー：０．６ｍｌ／ｍｉｎ、検出波長：２１５ｎｍ）：
ＨＰＬＣ（ＯＤ−Ｈ、１％  ｉ−ＰｒＯＨ、０．６ｍｌ／ｍｉｎ、２１５ｎｍ）：ｔｒ／ｍｉｎ＝１３．８６（Ｓ）、１６．１４（Ｒ）。
【００９９】
１H-NMR (CDCl３, 300 MHz): 4.99 (q, J = 7.1 Hz, 1 H), 3.65 (s, 3 H), 2.03 (s, 3 H), 1.39(d,J=7.1 Hz, 3 H)。
【０１００】
１３C-NMR (CDCl３, 75 MHz): 171.26, 170.33, 68.46, 52.25, 20.58, 16.84。
【０１０１】
表１〜３から明らかなように、配位子４ａ及び５ａ（両方ともＳｆｃ，Ｓ−エナンチオマーである）を用いた不斉水素化は、相応するＳｆｃ，Ｒ−エナンチオマー４ｂを用いた場合よりもより立体選択的である。
【国際調査報告】
2005523939.tif 000030
2005523939.tif 000031
2005523939.tif 000032
2005523939.tif 000033