【手続補正書】
【提出日】令和2年6月12日(2020.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集積回路用の自己ルーチングキャパシタであって、前記自己ルーチングキャパシタは、
第１の構造であって、
第１のベース領域および２つ以上のフィンガの第１の組を有する第１の電極と、
第２のベース領域および２つ以上のフィンガの第２の組を有する第２の電極であって、前記２つ以上のフィンガの第２の組が、前記２つ以上のフィンガの第１の組と相互嵌合する、第２の電極と、
第３のベース領域および２つ以上のフィンガの第３の組を有し、２つ以上のフィンガの第１の組のフィンガが、２つ以上のフィンガの第３の組のフィンガに連結される、第３の電極と、
前記第２のベース領域の第１の壁部に連結され、前記２つ以上のフィンガの第３の組と相互嵌合する、２つ以上のフィンガの第４の組と、を含む、第１の構造を含む、自己ルーチングキャパシタ。
【請求項２】
前記２つ以上のフィンガの第１の組は第１の金属層に形成され、前記２つ以上のフィンガの前記第１の組のフィンガが、第２の金属層、ならびに前記第１および第３のベース領域を介して、前記２つ以上のフィンガの第３の組の前記フィンガに連結される、請求項１に記載の自己ルーチングキャパシタ。
【請求項３】
前記自己ルーチングキャパシタが、前記第１のベース領域、前記第２のベース領域、または前記第３のベース領域のうちの１つ以上を介して、前記集積回路の他の層に連結される、請求項１に記載の自己ルーチングキャパシタ。
【請求項４】
前記２つ以上のフィンガの第１の組が、第１の金属層において形成され、２つ以上のフィンガの前記第１の組における少なくとも１つのフィンガが、前記第１の金属層においてビアを有しないフィンガに対する最小サイズと実質的に等しい寸法を有する、請求項１に記載の自己ルーチングキャパシタ。
【請求項５】
前記自己ルーチングキャパシタが、
前記第１の構造の実体を含む第２の構造をさらに含み、前記第１の構造の前記第２の電極は、前記第２の構造の電極に連結される、請求項１に記載の自己ルーチングキャパシタ。
【請求項６】
前記第１の構造の前記第２の電極が、第１の金属層において形成され、前記第１の構造の前記第２の電極が、前記第１の金属層において前記第２の構造の前記電極に連結される、請求項５に記載の自己ルーチングキャパシタ。
【請求項７】
集積回路の金属層に自己ルーチングキャパシタを形成するための方法であって、
ボトムプレートおよびトッププレートを有するベースキャパシタ構造を形成することであって、
前記ボトムプレートが、第１のベース領域および２つ以上のフィンガの第１の組を有し、
前記トッププレートが、第２のベース領域および２つ以上のフィンガの第２の組を有し、前記２つ以上のフィンガの第２の組は、前記２つ以上のフィンガの第１の組と相互嵌合する、形成することと、
前記ベースキャパシタ構造および鏡像ベースキャパシタ構造を含む、第１のユニットキャパシタ構造を形成することであって、
鏡像キャパシタ構造が、前記ベースキャパシタ構造の鏡像実体であり、
前記第２のベース領域が、前記ベースキャパシタ構造の前記トッププレートのベース領域に対応する前記鏡像キャパシタ構造のトッププレートの対応するベース領域に連結され、かつ
前記２つ以上のフィンガの第１の組のフィンガが、前記鏡像キャパシタ構造のボトムプレートの対応するフィンガに連結される、形成することと、を含む、方法。
【請求項８】
前記ベースキャパシタ構造を形成することが、前記金属層において、接触していないフィンガに許容される最小幅を有するように、前記２つ以上のフィンガの第１の組のフィンガまたは前記２つ以上のフィンガの第２の組のフィンガを形成することを含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記ベースキャパシタ構造を形成することが、前記金属層において、接触していない電極に許容される最小ピッチを有するように、前記ベースキャパシタ構造の前記ボトムプレートおよび前記ベースキャパシタ構造の前記トッププレートの両方の相互嵌合するフィンガを形成することを含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記第１のベース領域および前記鏡像キャパシタ構造のボトムプレートの対応するベース領域を介して、前記２つ以上のフィンガの第１の組のフィンガを、前記鏡像キャパシタ構造の前記ボトムプレートの対応するフィンガに連結することをさらに含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
前記第２のベース領域を前記鏡像キャパシタ構造の前記トッププレートの対応するベース領域に連結することが、前記第２のベース領域および前記鏡像キャパシタ構造の前記トッププレートの対応するベース領域を少なくとも部分的に重複させることを含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１２】
前記第２のベース領域を前記鏡像キャパシタ構造の前記トッププレートの対応するベース領域に連結することが、
前記第２のベース領域を前記鏡像キャパシタ構造のトッププレートの対応するベース領域と当接させるように、前記鏡像キャパシタ構造を前記ベースキャパシタ構造に隣接して配置することを含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１３】
前記第１のベース領域を第２のユニットキャパシタ構造のボトムプレートの対応するベース領域と重複させることにより、前記第２のユニットキャパシタ構造を、前記第１のユニットキャパシタ構造に連結することによって、前記自己ルーチングキャパシタのサイズを拡張することをさらに含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１４】
前記第１のベース領域を第２のユニットキャパシタ構造のボトムプレートの対応するベース領域と当接させるように、前記第２のユニットキャパシタ構造を前記第１のユニットキャパシタ構造に隣接して配置することにより、前記第２のユニットキャパシタ構造を、前記第１のユニットキャパシタ構造に連結することによって、前記自己ルーチングキャパシタのサイズを拡張することをさらに含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１５】
集積回路の金属層内に形成されたキャパシタであって、
第１のベース領域から第１の方向に延在する、第１のベース領域および第１のフィンガを含む、第１の電極と、
第２のベース領域および第２のフィンガを含む第２の電極であって、前記第２のフィンガが、前記第２のベース領域の壁部から第２の方向に延在し、前記第２のフィンガが、前記第１のフィンガに連結されている、第２の電極と、
第３のベース領域および第３のフィンガを含む第３の電極であって、前記第３のフィンガが、前記第３のベース領域の第１の壁部から前記第２の方向に延在する、第３の電極と、
第４のベース領域および第４のフィンガを含む第４の電極であって、
前記第４のフィンガが、前記第４のベース領域の第２の壁部から前記第１の方向に延在する、第４の電極と、を含み、
前記第１の電極が、第１の方向に実質的に平行である軸に沿って、前記第３の電極と少なくとも部分的に重複しており、前記第２の電極が、前記軸に沿って前記第４の電極と重複しており、
前記キャパシタが、前記キャパシタの電極のベース領域を介して、他の金属層に連結されるだけである、キャパシタ。
【請求項１６】
前記第１の電極および前記第２の電極が、第１の金属層に形成され、前記第１のフィンガが、前記第１のベース領域および前記第２のベース領域を使用して、第２の金属層において、前記第２のフィンガに連結される、請求項１５に記載のキャパシタ。
【請求項１７】
前記キャパシタのフィンガが、ビアを含まない、請求項１５に記載のキャパシタ。
【請求項１８】
第３のベース領域が、前記第１の方向に実質的に平行である軸に沿って、前記第４のベース領域と重複する、請求項１６に記載のキャパシタ。
【請求項１９】
第３のベース領域が、前記第１の方向に実質的に垂直である軸に沿って、前記第４のベース領域と重複する、請求項１６に記載のキャパシタ。
【請求項２０】
前記第１の電極、前記第２の電極、前記第３の電極、および前記２つ以上のフィンガの第４の組は、前記集積回路の第１の金属層に形成された、請求項１に記載の自己ルーチングキャパシタ。
【請求項２１】
前記２つ以上のフィンガの第２の組は、第２のベース領域の第２の壁部上に形成され、
前記第２のベース領域の前記第２の壁部が、前記第２のベース領域の前記第１の壁部と対向する、請求項１に記載の自己ルーチングキャパシタ。
【請求項２２】
前記ベースキャパシタ構造の前記鏡像実体は、前記第１のベース領域の長さに対して実質的に平行である軸にわたって鏡像にした、請求項７に記載の方法。
【請求項２３】
前記第２の方向は、前記第１の方向と実質的に平行であり、対向する、請求項１５に記載のキャパシタ。
【請求項２４】
２つ以上のフィンガの前記第２の組における各フィンガは、前記第２のベース領域の前記第１の壁部の実質的に対抗する終端に形成される、請求項２１に記載の自己ルーチングキャパシタ。