【手続補正書】
【提出日】令和2年8月4日(2020.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電粒子ビームを第１の偏向部、集束レンズ、第２の偏向部および対物アパーチャ板を通して対象面に照射する荷電粒子ビーム照射装置における荷電粒子ビームの軸を調整する荷電粒子ビーム軸合わせ装置であって、
前記集束レンズの磁場強度を第１の強度と第２の強度との間で交互に繰り返し変化させる強度変化部と、
磁場強度が前記第１の強度であるときの前記対物アパーチャ板の開口を示す第１のアパーチャ像の位置に対応する第１の情報を生成し、磁場強度が前記第２の強度であるときの前記対物アパーチャ板の前記開口を示す第２のアパーチャ像の位置に対応する第２の情報を生成する生成部と、
磁場強度の繰り返し変化の間に、前記第１および第２の情報に基づいて、前記第１および第２のアパーチャ像の第１の移動指令を行う第１の移動指令部と、
前記第１の移動指令に基づいて、前記第１および第２のアパーチャ像を移動させるように前記第１の偏向部を制御する第１の偏向制御部と、
磁場強度の繰り返し変化の間に、前記第１および第２の情報に基づいて、前記第１および第２のアパーチャ像の第２の移動指令を行う第２の移動指令部と、
前記第２の移動指令に基づいて、前記第１および第２のアパーチャ像を移動させるように前記第２の偏向部を制御する第２の偏向制御部とを備える、荷電粒子ビーム軸合わせ装置。
【請求項２】
前記第１の情報に基づいて前記第１のアパーチャ像を画像として表示部に表示させるとともに、前記第２の情報に基づいて前記第２のアパーチャ像を画像として前記表示部に表示させる表示制御部をさらに備え、
前記第１の移動指令部は、前記第１の偏向部による荷電粒子ビームの偏向方向および偏向量を調整するための操作を第１の操作子から受け付け、受け付けられた操作に基づいて前記第１の移動指令を行い、
前記第２の移動指令部は、前記第２の偏向部による荷電粒子ビームの偏向方向および偏向量を調整するための操作を第２の操作子から受け付け、受け付けられた操作に基づいて前記第２の移動指令を行い、
前記生成部は、前記第１および第２のアパーチャ像の移動に伴って前記第１および第２の情報を更新し、
前記表示制御部は、更新された前記第１および第２の情報に基づいて前記表示部に表示される前記第１および第２のアパーチャ像の画像を更新する、請求項１記載の荷電粒子ビーム軸合わせ装置。
【請求項３】
前記第１および第２の操作子の一方は、ポインティングデバイスの第１の押下部であり、前記第１および第２の操作子の他方は、前記ポインティングデバイスの第２の押下部である、請求項２記載の荷電粒子ビーム軸合わせ装置。
【請求項４】
前記強度変化部は、残像効果により前記表示部に前記第１および第２のアパーチャ像が同時に視認される周期で前記第１および第２の強度の繰り返し変化を行う、請求項２または３記載の荷電粒子ビーム軸合わせ装置。
【請求項５】
前記第１の移動指令部は、前記第１および第２の情報に基づいて前記第１のアパーチャ像と前記第２のアパーチャ像とを重ねるための前記第１および第２のアパーチャ像の移動方向および移動距離を特定し、特定された移動方向および移動距離に基づいて前記第１の移動指令を行い、
前記第２の移動指令部は、前記第１および第２の情報に基づいて前記第１および第２のアパーチャ像を予め定められた位置に移動させるための前記第１および第２のアパーチャ像の移動方向および移動距離を特定し、特定された移動方向および移動距離に基づいて前記第２の移動指令を行う、請求項１記載の荷電粒子ビーム軸合わせ装置。
【請求項６】
前記第１の移動指令部は、前記第１のアパーチャ像の重心と前記第２のアパーチャ像の重心とを重ねるための前記第１および第２のアパーチャ像の移動方向および移動距離を特定し、
前記第２の移動指令部は、前記第１および第２のアパーチャ像の重心を前記予め定められた位置に移動させるための前記第１および第２のアパーチャ像の移動方向および移動距離を特定する、請求項５記載の荷電粒子ビーム軸合わせ装置。
【請求項７】
前記予め定められた位置は、対物レンズの光軸に重なる位置である、請求項５または６記載の荷電粒子ビーム軸合わせ装置。
【請求項８】
前記集束レンズは、第１および第２のコンデンサレンズを含み、
前記第１の強度は、前記第１のコンデンサレンズの所定の磁場強度と前記第２のコンデンサレンズの所定の磁場強度との組み合わせとして決定され、
前記第２の強度は、前記第１のコンデンサレンズの他の所定の磁場強度と前記第２のコンデンサレンズの他の所定の磁場強度との組み合わせとして決定される、請求項１〜７のいずれか一項に記載の荷電粒子ビーム軸合わせ装置。
【請求項９】
前記対象面は、荷電粒子ビームの電流を測定可能なファラデーカップに設けられ、
前記生成部は、前記ファラデーカップにより測定された電流に基づいて前記第１および第２の情報を生成する、請求項１〜８のいずれか一項に記載の荷電粒子ビーム軸合わせ装置。
【請求項１０】
前記第１および第２の強度の一方は、前記ファラデーカップにより測定される荷電粒子ビームの電流が最大となるように決定される、請求項９記載の荷電粒子ビーム軸合わせ装置。
【請求項１１】
前記ファラデーカップは、電流に対する複数の測定レンジにおいて荷電粒子ビームの電流を測定可能に構成され、
前記第１および第２の強度は、前記ファラデーカップにより測定される電流が同一の測定レンジに含まれるように決定される、請求項９または１０記載の荷電粒子ビーム軸合わせ装置。
【請求項１２】
荷電粒子ビームを生成する荷電粒子源と、
前記荷電粒子源により生成された荷電粒子ビームを磁場により集束する集束レンズと、
前記荷電粒子源により生成された荷電粒子ビームを偏向することにより荷電粒子ビームの軸と前記集束レンズの光軸との位置関係を調整する第１の偏向部と、
前記集束レンズにより集束された荷電粒子ビームの電流を制限する対物アパーチャ板と、
前記集束レンズにより集束された荷電粒子ビームを偏向することにより対象面上における荷電粒子ビームの位置関係を調整する第２の偏向部と、
荷電粒子ビームの軸を調整する荷電粒子ビーム軸合わせ装置とを備え、
荷電粒子ビーム軸合わせ装置は、
前記集束レンズの磁場強度を第１の強度と第２の強度との間で交互に繰り返し変化させる強度変化部と、
磁場強度が前記第１の強度であるときの前記対物アパーチャ板の開口を示す第１のアパーチャ像の位置に対応する第１の情報を生成し、磁場強度が前記第２の強度であるときの前記対物アパーチャ板の前記開口を示す第２のアパーチャ像の位置に対応する第２の情報を生成する生成部と、
前記強度変化部による前記第１および第２の強度の繰り返し変化の間に、前記第１および第２の情報に基づいて、前記第１および第２のアパーチャ像の第１の移動指令を行う第１の移動指令部と、
前記第１の移動指令に基づいて、前記第１および第２のアパーチャ像を移動させるように前記第１の偏向部を制御する第１の偏向制御部と、
前記強度変化部による前記第１および第２の強度の繰り返し変化の間に、前記第１および第２の情報に基づいて、前記第１および第２のアパーチャ像の第２の移動指令を行う第２の移動指令部と、
前記第２の移動指令に基づいて、前記第１および第２のアパーチャ像を移動させるように前記第２の偏向部を制御する第２の偏向制御部とを備える、荷電粒子ビーム照射装置。
【請求項１３】
荷電粒子ビームを第１の偏向部、集束レンズ、第２の偏向部および対物アパーチャ板を通して対象面に照射する荷電粒子ビーム照射装置における荷電粒子ビームの軸を調整する荷電粒子ビーム軸合わせ方法であって、
前記集束レンズの磁場強度を第１の強度と第２の強度との間で交互に繰り返し変化させるステップと、
磁場強度が前記第１の強度であるときの前記対物アパーチャ板の開口を示す第１のアパーチャ像の位置に対応する第１の情報を生成し、磁場強度が前記第２の強度であるときの前記対物アパーチャ板の前記開口を示す第２のアパーチャ像の位置に対応する第２の情報を生成するステップと、
磁場強度の繰り返し変化の間に、前記第１および第２の情報に基づいて、前記第１および第２のアパーチャ像の第１の移動指令を行うステップと、
前記第１の移動指令に基づいて、前記第１および第２のアパーチャ像を移動させるように前記第１の偏向部を制御するステップと、
磁場の強度の繰り返し変化の間に、前記第１および第２の情報に基づいて、前記第１および第２のアパーチャ像の第２の移動指令を行うステップと、
前記第２の移動指令に基づいて、前記第１および第２のアパーチャ像を移動させるように前記第２の偏向部を制御するステップとを含む、荷電粒子ビーム軸合わせ方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
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