Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月30日(2020.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヘッドマウントデバイスに仮想空間を提供するためにコンピュータによって実行される方法であって、
仮想空間を定義するステップと、
前記ヘッドマウントデバイスのディスプレイに視界画像を表示して前記ヘッドマウントデバイスのユーザに仮想空間を提供するステップと、
前記仮想空間におけるユーザの視座に前記ユーザに対応するアバターオブジェクトを配置するステップと、
前記アバターオブジェクトに前記ユーザからの操作を受け付けるためのユーザインターフェイスを表示するステップと、
前記ユーザの第１部分の動作を検出するステップと、
前記検出された第１部分の動作に連動するように前記アバターオブジェクトの前記第１部分に対応する箇所を動かすステップと、
前記ユーザの第２部分の動作を検出するステップと、
前記検出された第２部分の動作に連動するように前記アバターオブジェクトの前記第２部分に対応する箇所を動かすステップと、
を備え、
前記ユーザインターフェイスを表示するステップは、前記アバターオブジェクトの前記第２部分に対応する箇所に前記第１部分に対応する箇所による操作を受付可能な前記ユーザインターフェイスを表示することを含む、方法。
【請求項２】
前記ユーザインターフェイスは、前記視界画像に制御対象オブジェクトが含まれない場合、前記アバターオブジェクトに表示されず、前記視界画像に前記制御対象オブジェクトが含まれる場合、前記アバターオブジェクトに表示しうる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１部分は、右手および左手のうち一方を含み、
前記第２部分は、右手および左手のうち前記一方とは異なる他方と、前記他方側の腕と
のうち少なくとも一方を含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
撮影機能を有し、プレビュー画像を表示可能なスクリーンオブジェクトを前記仮想空間に配置するステップと、
前記スクリーンオブジェクトにより撮影された画像をメモリに保存するステップとをさらに備え、
前記ユーザインターフェイスは、前記スクリーンオブジェクトによる撮影に関する、請求項１から３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記ユーザの第１部分の動作を検出するステップと、
前記検出された第１部分の動作に連動するように操作オブジェクトを動かすステップとをさらに備え、
前記ユーザインターフェイスを表示するステップは、前記操作オブジェクトが前記スクリーンオブジェクトを保持したことに応じて、前記アバターオブジェクトに前記ユーザインターフェイスを表示することを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記仮想空間にスクリーンオブジェクトを配置するステップは、前記ユーザの指定する位置に前記スクリーンオブジェクトを配置することを含む、請求項４または５に記載の方法。
【請求項７】
前記ユーザインターフェイスは、撮影ボタンを含み、
前記スクリーンオブジェクトによる撮影を実行するステップは、前記撮影ボタンが選択されてから所定時間経過後に撮影を実行することを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記スクリーンオブジェクトを支持し、前記アバターオブジェクトによって保持可能な支持部材を前記仮想空間に配置するステップをさらに備え、
前記ユーザインターフェイスは、前記支持部材の長さを調整可能に構成される、請求項４または５に記載の方法。
【請求項９】
前記スクリーンオブジェクトによる撮影を実行するステップは、前記ヘッドマウントデバイスの動きが所定時間にわたり停止していることを検知した場合に前記撮影を実行することを含む、請求項４から８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記ユーザが目を閉じているか否かを検出するステップと、
前記ユーザが目を閉じている時間が予め定められた時間を超えたことに応じて、前記ユーザによる否定的な操作の入力を受け付けるステップとをさらに備える、請求項１から９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
撮影機能を有し、プレビュー画像を表示可能なスクリーンオブジェクトを前記仮想空間に配置するステップと、
前記コンピュータと通信可能な他のコンピュータのユーザにより操作される、前記スクリーンオブジェクトとは異なる他のスクリーンオブジェクトを前記仮想空間に表示するステップと、
前記他のコンピュータから前記他のスクリーンオブジェクトがインカメラモードであるかアウトカメラモードであるかを表すモード信号を受信するステップとをさらに備え、
前記他のスクリーンオブジェクトを前記仮想空間に表示するステップは、
前記モード信号がインカメラモードを表す場合に、前記他のスクリーンオブジェクトを第１態様で表示することと、
前記モード信号がアウトカメラモードを表す場合に、前記他のスクリーンオブジェクトを前記第１態様とは異なる第２態様で表示することとを含む、請求項４から１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
前記第１態様は、前記他のスクリーンオブジェクトが支持部材によって支持された態様を含み、
前記第２態様は、前記他のスクリーンオブジェクトが前記支持部材によって支持されていない態様を含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記コンピュータと通信可能な他のコンピュータのユーザにより操作され、プレビュー画像を表示可能な他のスクリーンオブジェクトを前記仮想空間に表示するステップをさらに備え、
前記他のスクリーンオブジェクトを前記仮想空間に表示するステップは、前記他のスクリーンオブジェクトの位置と、前記アバターオブジェクトの位置との相対関係に基づいて前記スクリーンオブジェクトの表示態様を制御することを含む、請求項４から１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
前記他のスクリーンオブジェクトを前記仮想空間に表示するステップは、前記アバターオブジェクトが前記他のスクリーンオブジェクトの後方に位置する場合に、前記スクリーンオブジェクトの枠のみを表示することを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
請求項１から１４のいずれか１項に記載の方法をコンピュータに実現させるためのプログラム。
【請求項１６】
請求項１５に記載のプログラムを格納したメモリと、
前記プログラムを実行するためのプロセッサとを備える、情報処理装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月16日(2020.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示部を備えるユーザ端末を介してユーザに仮想空間を提示するためにコンピュータによって実行される情報処理方法であって、
前記ユーザの視点を含む、前記仮想空間を定義する仮想空間データを生成することによって、仮想空間を規定するステップと、
前記視点に基づく前記仮想空間に相当する視界画像を生成し、前記表示部に前記視界画像を表示させるステップと、
前記仮想空間における前記視点に基づく前記仮想空間の一部に相当する２次元画像データを生成するステップと、
前記２次元画像データと前記仮想空間データとを関連付けるステップと、
前記２次元画像データに関連付けられた前記仮想空間データを変更するステップと、
変更された前記仮想空間データに基づいて、前記２次元画像データを更新するステップと、
前記更新された２次元画像を含む視界画像を表示させるステップと、
を含む、情報処理方法。
【請求項２】
前記２次元画像データに基づいて、前記視点に基づく前記仮想空間の前記一部が表示された表示オブジェクトを生成し、前記表示オブジェクトを前記仮想空間に配置するステップと、
前記表示オブジェクトに対する入力を受け付けるステップと、をさらに含み、
前記入力に基づいて前記仮想空間データを変更する、
請求項１に記載の情報処理方法。
【請求項３】
前記ユーザの身体の一部の動きに応じて操作オブジェクトを動かすステップと、
前記操作オブジェクトを介した前記表示オブジェクトに対する入力を受け付けるステップと、をさらに含み、
前記入力に基づいて前記仮想空間データを再定義する、
請求項２に記載の情報処理方法。
【請求項４】
前記仮想空間データは、前記仮想空間を定義するための第１コンテンツ情報と、前記第１コンテンツ情報の少なくとも一部に対応する第２コンテンツ情報と、を含み、
前記表示オブジェクトに表示される前記視点に基づく前記仮想空間のうち前記第１コンテンツ情報の少なくとも一部に対応する部分は、前記第２コンテンツ情報に基づいて生成される、
請求項２または３に記載の情報処理方法。
【請求項５】
前記２次元画像データには、前記仮想空間データのうち前記視点に基づく前記仮想空間を定義する情報が関連付けられる、
請求項１〜４のいずれか一項に記載の情報処理方法。
【請求項６】
前記仮想空間データは、前記仮想空間に配置されるオブジェクトの状態を示すオブジェクト情報を含み、
前記オブジェクト情報は、各オブジェクトの位置を示す位置情報と、前記ユーザによる作用に応じて変形可能な変形オブジェクトの動作を示す動き情報と、を含む、
請求項１〜５のいずれか一項に記載の情報処理方法。
【請求項７】
前記動き情報は、前記変形オブジェクトの予め定められた複数の部分の位置を示す情報である、
請求項６に記載の情報処理方法。
【請求項８】
前記変形オブジェクトは、前記ユーザに関連付けられたキャラクタオブジェクトであり、
前記複数の部分は、前記キャラクタオブジェクトの関節に相当する部分を含む、
請求項７に記載の情報処理方法。
【請求項９】
前記２次元画像データに含まれる前記オブジェクトの前記位置情報が変更された場合、前記オブジェクトが再定義された後の位置情報に示される位置に配置されるように、前記２次元画像データを更新する、
請求項６〜８のいずれか一項に記載の情報処理方法。
【請求項１０】
前記２次元画像データに含まれる前記変形オブジェクトの前記動き情報が変更された場合、前記変形オブジェクトが再定義された後の形状となるように、前記２次元画像データを更新する、
請求項６〜９のいずれか一項に記載の情報処理方法。
【請求項１１】
前記２次元画像データには、前記２次元画像データの生成時点を含む所定期間分の前記オブジェクト情報が関連付けられる、
請求項６〜１０のいずれか一項に記載の情報処理方法。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の情報処理方法をコンピュータに実行させる、プログラム。
【請求項１３】
少なくともメモリと、前記メモリに結合されたプロセッサとを備え、前記プロセッサの制御により請求項１〜１１のいずれか一項に記載の情報処理方法を実行する、装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月8日(2020.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヘッドマウントデバイスによって仮想空間を提供するためにコンピュータで実行される方法であって、
仮想空間を定義するステップと、
ユーザに対応する第１アバターオブジェクトを前記仮想空間に配置するステップと、
前記ヘッドマウントデバイスの前記ユーザの発話に対応する第１音声信号を受け付けるステップと、
前記第１アバターオブジェクトの位置を基準に予め定められたパターンで移動するカメラオブジェクトを前記仮想空間に配置し、前記第１音声信号をトリガとして前記仮想空間において前記カメラオブジェクトを用いて撮影を実行するステップとを備え、
前記撮影を実行するステップにおいて、前記第１アバターオブジェクトの位置情報に基づいて、前記第１アバターオブジェクトの少なくとも一部を撮影する、方法。
【請求項２】
前記撮影を実行することは、前記第１アバターオブジェクトの視線方向と前記第１アバターオブジェクトの位置情報とに基づいて、前記第１アバターオブジェクトの少なくとも一部を撮影することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
記撮影を実行するステップは、前記第１音声信号が予め定められた第１レベル以上である場合に撮影を実行することを含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記撮影を実行するステップは、
前記第１音声信号から文字列を抽出することと、
前記抽出された文字列が予め定められた文字列を含む場合に撮影を実行することとを含む、請求項１から３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記ユーザに対応する第１アバターオブジェクトを前記仮想空間に配置するステップと、
前記コンピュータと通信可能な他のコンピュータのユーザに対応する第２アバターオブジェクトを前記仮想空間に配置するステップとをさらに備え、
前記撮影を実行することは、前記第１および第２アバターオブジェクトの位置情報に基づいて、前記第１および第２アバターオブジェクトの各々の少なくとも一部を撮影することを含む、請求項１から４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記第１アバターオブジェクトと前記第２アバターオブジェクトとの間隔を算出するステップをさらに備え、
前記撮影を実行することは、前記算出された間隔が予め定められた間隔未満である場合に撮影を実行することを含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記撮影を実行することは、前記第１および第２アバターオブジェクトが互いに向かい合う場合に、当該向かい合う方向に直交する方向から撮影を実行することを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記コンピュータと通信可能な他のコンピュータのユーザの発話に対応する第２音声信号を受け付けるステップをさらに備え、
前記撮影を実行することは、前記第１および第２音声信号をトリガとして撮影することを含む、請求項１から７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記撮影を実行することは、第２レベル以上の前記第１および第２音声信号のうち一方の音声信号を受け付けてから、第２レベル以上の他方の音声信号を受け付けるまでの時間が予め定められた時間未満である場合に撮影を実行することを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれか１項に記載の方法をコンピュータに実現させるためのプログラム。
【請求項１１】
請求項１０に記載のプログラムを格納したメモリと、
前記プログラムを実行するためのプロセッサとを備える、情報処理装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月1日(2020.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
案内面に沿って移動可能な可動体と、
前記案内面と対向する開口部から前記案内面に向けて気体を流出させることにより前記可動体を前記案内面に対して非接触で支持する静圧軸受と、
前記可動体の速度を含む移動状態に応じて前記開口部の開口面積を変える変更手段と、を有し、
前記変更手段は、前記可動体の速度が第１速度のときにおける前記開口面積が第１面積となり、前記可動体の速度が前記第１速度よりも遅い第２速度のときにおける前記開口面積が前記第１面積よりも大きな第２面積となるように、前記開口面積を変えることを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
前記開口部は複数の開口を有し、
前記変更手段は、前記気体の流出に用いる前記開口の数を変えることで前記開口面積を変えることを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項３】
前記開口部は１又は複数の開口を有し、
前記変更手段は、前記１つの開口の開口面積または前記複数の開口それぞれの面積を変えるための駆動機構を含み、当該駆動機構の駆動により前記開口面積を変えることを特徴とする請求項１又は２に記載のステージ装置。
【請求項４】
前記案内面を備えた部材と前記静圧軸受とのうち、一方が他方を吸引する吸引力を生じさせる発生手段を有し、
前記発生手段は、前記開口面積の変更とともに生じる前記静圧軸受の浮上量の変化を、前記吸引力を変えることで低減させることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項５】
前記気体を前記静圧軸受に供給する気体供給部を有し、
前記可動体の移動状態に応じて前記気体供給部から前記静圧軸受に供給される気体の圧力を変える圧力変更手段を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項６】
前記複数の開口は、前記静圧軸受の前記案内面との対向面において、前記可動体の移動方向に関して線対称で配置されていることを特徴とする請求項２に記載のステージ装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか１項に記載のステージ装置を有し、
前記可動体に載置された基板上に原版を用いてパターンを形成することを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記基板に設けられたマークからの光を検出する検出系を有し、
前記可動体が前記検出系の検出範囲に前記マークが入る所定位置に移動したあと、前記検出系による前記マークからの光の検出が完了するまでの間に、前記変更手段は前記開口面積を前記第１面積から前記第２面積に変えることを特徴とする請求項７に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
前記静圧軸受は前記可動体を水平方向に非接触で支持する手段であり、
前記検出系の検出結果に基づいて前記基板の前記水平方向の位置情報を求めることを特徴とする請求項８に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
前記リソグラフィ装置は、型を用いて前記基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、
前記所定位置は前記可動体が前記型と対向する位置であることを特徴とする請求項８に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１１】
前記変更手段は、前記基板上の第１領域に前記インプリント材のパターンを形成した後、かつ前記第１領域とは異なる第２領域へのインプリント処理のために再び前記可動体が移動し始める前までに、前記開口面積を前記第２面積から前記第２面積よりも小さな面積に変えることを特徴とする請求項１０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１２】
原版を用いて基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板を保持して、案内面に沿って移動可能な可動体と、
前記案内面と対向する開口部から前記案内面に向けて気体を流出させることにより前記可動体を前記案内面に対して非接触で支持する静圧軸受と、
前記可動体の移動状態に応じて前記開口部の開口面積を変える変更手段と、
前記基板に設けられたマークからの光を検出する検出系と、を有し、
前記可動体が前記検出系の検出範囲に前記マークが入る所定位置に移動したあと、前記検出系による前記マークからの光の検出が完了するまでの間に、前記変更手段は前記開口面積を第１面積から該第１面積よりも大きな第２面積に変え、
前記基板上の第１領域に前記パターンを形成した後、かつ前記第１領域とは異なる第２領域へのパターン形成のために前記可動体が再び移動し始める前までに、前記開口面積を前記第２面積から前記第２面積よりも小さな面積に変えることを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項１３】
型を用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、
前記基板を保持して、案内面に沿って移動可能な可動体と、
前記案内面と対向する開口部から前記案内面に向けて気体を流出させることにより前記可動体を前記案内面に対して非接触で支持する静圧軸受と、
前記可動体の移動状態に応じて前記開口部の開口面積を変える変更手段と、
前記基板に設けられたマークからの光を検出する検出系と、を有し、
前記可動体が前記検出系の検出範囲に前記マークが入る所定位置に移動したあと、前記基板の面内方向における前記型と前記基板との位置合わせが完了するまでの間に、前記変更手段は前記開口面積を第１面積から該第１面積よりも大きな第２面積に変え、
前記基板上の第１領域に前記パターンを形成した後、かつ前記第１領域とは異なる第２領域へのパターン形成のために前記可動体が再び移動し始める前までに、前記開口面積を前記第２面積から前記第２面積よりも小さな面積に変えることを特徴とするインプリント装置。
【請求項１４】
請求項７乃至１２のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置を用いて前記基板上にパターンを形成する工程と、
前記工程でパターンの形成された前記基板を処理する処理工程と、を有し、
前記処理した基板の少なくとも一部を含む物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
【請求項１５】
請求項１３に記載のインプリント装置を用いて前記基板上にパターンを形成する工程と、
前記工程でパターンの形成された前記基板を処理する処理工程と、を有し、
前記処理した基板の少なくとも一部を含む物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明に係るステージ装置は、案内面に沿って移動可能な可動体と、前記案内面と対向する開口部から前記案内面に向けて気体を流出させることにより前記可動体を前記案内面に対して非接触で支持する静圧軸受と、前記可動体の速度を含む移動状態に応じて前記開口部の開口面積を変える変更手段と、を有し、前記変更手段は、前記可動体の速度が第１速度のときにおける前記開口面積が第１面積となり、前記可動体の速度が前記第１速度よりも遅い第２速度のときにおける前記開口面積が前記第１面積よりも大きな第２面積となるように、前記開口面積を変えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月27日(2020.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体層と、第１の絶縁層と、第２の絶縁層と、第１の導電層と、を有する半導体装置であって、
前記第１の導電層は、前記半導体層上に位置し、
前記第１の絶縁層は、前記第１の導電層と前記半導体層との間に位置し、
前記第１の絶縁層と前記第１の導電層とは、上面形状が概略一致し、
前記第２の絶縁層は、前記第１の絶縁層の側面、前記第１の導電層の側面の一部、及び前記半導体層の上面の一部に接して設けられ、
前記半導体層は、前記第１の導電層と重なる第１の部分と、前記第１の部分を挟み、且つ前記第２の絶縁層と重なる一対の第２の部分と、前記第１の部分及び一対の前記第２の部分を挟み、且つ前記第１の絶縁層及び前記第２の絶縁層のいずれにも重ならない一対の第３の部分と、を有し、
前記半導体層は、金属酸化物を含み、
前記第１の絶縁層は、酸素を含み、
前記第２の絶縁層は、アルミニウムまたはハフニウムと、酸素と、を含む、
半導体装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記半導体層の前記第２の部分は、前記第１の部分よりもキャリア密度が高く、且つ前記第３の部分よりもキャリア密度が低い領域を有する、
半導体装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記半導体層の前記第２の部分は、前記第１の部分よりも水素濃度が高く、且つ前記第３の部分よりも水素濃度が低い領域を有する、
半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記第１の絶縁層と、前記第１の導電層との間に、酸化物層を有し、
前記酸化物層は、前記第１の絶縁層よりも薄く、
前記酸化物層は、アルミニウム、ハフニウム、インジウム及びスズから選ばれる少なくとも一と、酸素と、を含む、
半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月15日(2020.4.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
かかる構成によれば、半導体基板１１と半導体層１３とのＰＮ接合部に生じた空乏層は、半導体基板１１側と半導体層１３側の両方に広がり、半導体層１３側に広がる空乏層は、磁気感受部１２の方へ向かって広がる。しかし、半導体基板１１と磁気感受部１２とは直接接しておらず、半導体基板１１と磁気感受部１２の間には、半導体層１３が介在しており、かつ、磁気感受部１２が半導体層１３よりも高濃度であることから、空乏層が磁気感受部１２まで到達することを防止することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
図２〜４は、本発明の第二〜第四の実施形態による半導体装置２００〜４００をそれぞれ説明するための断面図である。各平面図については、図１（ａ）の平面図に対応しているため、図示を省略する。
なお、図１に示す半導体装置１００と同一の構成要素には同一の符号を付し、重複する説明は適宜省略する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
第二の実施形態による半導体装置２００は、図２に示すように、第一の実施形態による半導体装置１００に対し、ホール素子１０の下部において、Ｐ型の半導体基板１１とＮ型の半導体層１３との間にＰ型の埋込層２０１をさらに備えている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
次に、第三の実施形態による半導体装置３００は、図３に示すように、第一の実施形態による半導体装置１００に対し、ホール素子１０の下部において、Ｐ型の半導体基板１１とＮ型の半導体層１３との間にＮ型の埋込層３０１を備えている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
このＮ型の埋込層３０１の濃度は、Ｎ型の半導体層１３よりも高くなっている。
このように、半導体層１３よりも高濃度のＮ型の埋込層３０１を設けることにより、ホール素子１０の下部に形成されるＰＮ接合は、半導体基板１１と半導体層１３との間ではなく、Ｐ型の半導体基板１１とＮ型の埋込層３０１との間に形成される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
次に、第四の実施形態による半導体装置４００は、図４に示すように、第一の実施形態による半導体装置１００に対し、ホール素子１０の下部において、Ｐ型の半導体基板１１とＮ型の半導体層１３との間に埋込層４０１を備えている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
さらに、本実施形態によれば、Ｐ型の埋込層４０２とＮ型の埋込層４０３とのＰＮ接合部に形成される空乏層は、埋込層４０２および埋込層４０３がいずれも高濃度であることから、半導体基板１１側に広がる空乏層も、半導体層１３側に広がる空乏層も狭くなる。したがって、半導体層１３側に広がる空乏層は、第三の実施形態による半導体装置３００と同様、埋込層４０３内に収まるか、埋込層４０３よりも広がった場合でも半導体層１３内に少しかかる程度となる。したがって、半導体層１３の厚さを薄くしても、空乏層が磁気感受部１２に達することを防止することができる。よって、半導体層１３をエピタキシャル成長により形成する場合には、その厚さを薄くできることから、本実施形態においても、製造コストを低減することも可能となる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
なお、埋込層４０１は、Ｐ型の埋込層４０２を半導体基板１１側、Ｎ型の埋込層４０３を半導体層１３側に形成する、すなわち、半導体基板１１と同一導電型の埋込層を半導体基板１１側に、半導体層１３と同一導電型の埋込層を半導体層１３側に形成することが望ましい。Ｎ型の埋込層４０３をＰ型の半導体基板１１側、Ｐ型の埋込層４０２をＮ型の半導体層１３側に配置した場合でも、接合リークの低減にはつながる。しかし、このように配置してしまうと、埋込層４０３と半導体基板１１とのＰＮ接合部、および埋込層４０２と半導体層１３とのＰＮ接合部のそれぞれに空乏層が形成され、特に、Ｐ型の埋込層４０２とＮ型の半導体層１３との間に形成される空乏層は、濃度の薄い半導体層１３側へ大きく広がり、磁気感受部１２へ影響を与え易くなってしまう。
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月1日(2020.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
酸化第一銅の含有量は、例えば、銅粉末１００質量部に対し、好ましくは５．５質量部以上２５質量部以下とすることができ、より好ましくは７質量部以上２５質量部以下、より好ましくは１０質量部以上１５質量部以下である。酸化第一銅の含有量が上記範囲である場合、銅粉末同士の焼結を促進させ、より優れた導電性及び密着性を有する。なお、酸化第一銅の含有量が銅粉末１００質量部に対し２５質量部を越えた場合、後述のカルボン酸系添加物を含有させても、銅の焼結に寄与しない余分な酸化銅が抵抗となり、導電性が不十分となることがある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
カルボン酸系添加剤のオレイン酸を過剰に含有させた比較例５では、導電性や密着性に劣ることが確認された。これは、過剰に存在するオレイン酸が酸化第一銅の焼結性向上だけでなく、銅粉末の溶解などを引き起こしてしまい、逆に導電性等を低下させたためと考えられる。また、比較例５の試料は、過剰なオレイン酸が銅粉末を溶解させるため、経時変化により作製した導電性ペーストが変色するのが確認された。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月14日(2020.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンピュータを、
接種を希望する予防接種の情報を含む予約の要求に基づいて、医療機関における該予防接種に対応するワクチンの在庫の有無を判定する判定部と、
前記判定部において前記ワクチンの在庫があると判定された場合に、受信した前記要求に基づいて接種の予約を受け付け、前記判定部において該ワクチンの在庫がないと判定された場合、該ワクチンを発注する発注先が提示した納品予定日に基づいて接種の予約を行う予約部と、
して機能させる接種管理プログラム。
【請求項２】
前記判定部は、接種可能なワクチンが複数種類あり、かつ2回目以降も初回と同じワクチンを接種する必要がある予防接種の2回目以降の接種について前記要求があった場合に、前回接種したワクチンと同じ種類のワクチンの在庫があったときに少なくとも在庫ありと判定する、
請求項１記載の接種管理プログラム。
【請求項３】
前記判定部は、接種可能なワクチンが複数種類あり、かつ2回目以降も初回と同じワクチンを接種する必要がある予防接種の初回の接種について前記要求があった場合に、該予防接種に対応するいずれかの種類のワクチンの在庫があったときに在庫ありと判定する、請求項２に記載の接種管理プログラム。
【請求項４】
前記予約部は、前記医療機関にて前記予防接種を実施していない場合に、別の医療機関の候補を提示可能である、
請求項１乃至３のいずれか１項に記載の接種管理プログラム。
【請求項５】
前記要求は、予防接種を希望する接種希望日に関する情報を含み、
前記判定部は、前記接種希望日において、前記医療機関における前記予防接種に対応するワクチンの在庫の有無を判定し、
前記予約部は、前記判定部において、前記接種希望日に前記ワクチンの在庫があると判定された場合、受信した前記要求に基づいて該接種希望日に接種の予約を受け付け、該判定部において該接種希望日に該ワクチンの在庫がないと判定された場合、該ワクチンの発注先から取得した納品予定日に基づいて接種の予約を行う、
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の接種管理プログラム。
【請求項６】
さらに、コンピュータを、前記予約部において前記ワクチンの納品予定日に基づいて接種の予約を行う場合、該ワクチンと該ワクチンの納品日程とを指定した発注処理を実行する発注処理部として機能させる、
請求項１乃至５のいずれか１項に記載の接種管理プログラム。
【請求項７】
前記要求は、同時接種を希望する複数の予防接種の情報を含み、
前記判定部は、医療機関における前記複数の予防接種にそれぞれ対応するワクチンの在庫の有無を判定し、
前記予約部は、前記判定部において、指定された全てのワクチンの在庫があると判定された場合、受信した前記要求に基づいて前記接種希望日に接種の予約を受け付け、該判定部において指定されたワクチンのうち１つ以上のワクチンの在庫がないと判定された場合、在庫が無いワクチンの発注先から取得した納品予定日に基づいて接種の予約を行う、請求項５または６に記載の接種管理プログラム。
【請求項８】
コンピュータを用いて、
接種を希望する予防接種の情報を含む予約の要求に基づいて、医療機関における該予防接種に対応するワクチンの在庫の有無を判定する工程と、
前記ワクチンの在庫があると判定された場合に、受信した前記要求に基づいて接種の予約を受け付け、該ワクチンの在庫がないと判定された場合、該ワクチンの発注先から取得した納品予定日に基づいて接種の予約を行う工程と、
を含む接種管理方法。
【請求項９】
接種を希望する予防接種の情報を含む予約の要求に基づいて、医療機関における該予防接種に対応するワクチンの在庫の有無を判定する判定部と、
前記判定部において前記ワクチンの在庫があると判定された場合に、受信した前記要求に基づいて接種の予約を受け付け、前記判定部において該ワクチンの在庫がないと判定された場合、該ワクチンの発注先から取得した納品予定日に基づいて接種の予約を行う予約部と、
を備える、接種管理サーバ。
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月1日(2020.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の第２の態様では、上記導電性組成物を７５０℃以下の熱処理により焼成する工程を備える端子電極の製造方法が提供される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
なお、バナジウム亜鉛系ガラスフリットの組成は、上記以外の任意成分を含有させたものでもよく、例えば、ＣａＯ等のアルカリ金属の酸化物や、Ｂ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３等を含んでもよい。これらの任意成分の添加量は、例えば、それぞれ０．５質量％以上１０質量％以下とするのが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
また、導電性組成物中、ＺｎＯは、銅粉末１００質量に対し、例えば１質量部以上１５質量部以下含まれ、好ましくは３質量部以上１２質量部以下含まれる。また、ＳｉＯ２は、銅粉末１００質量に対し、例えば１質量部以上１５質量部以下含まれ、好ましくは４質量部以上１２質量部以下含まれる。また、Ｂ２Ｏ３は、銅粉末１００質量に対し、例えば１質量部以上１０質量部以下含まれ、好ましくは２質量部以上６質量部以下含まれる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
また、導電性組成物中、Ｖ２Ｏ５は、銅粉末１００質量に対し、例えば１質量部以上１０質量部以下含まれ、好ましくは２質量部以上７質量部以下含まれる。Ｖ２Ｏ５の含有量が上記範囲である場合、流動性及び密着性により優れる。また、導電性組成物中、ＣｕＯは、銅粉末１００質量に対し、例えば、１質量部以上３質量部以下含まれてもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
酸化第一銅の含有量は、例えば、銅粉末１００質量部に対し、好ましくは５．５質量部以上５０質量部以下とすることができ、より好ましくは７質量部以上４０質量部以下、より好ましくは７質量部以上１５質量部以下である。酸化第一銅の含有量が上記範囲である場合、銅粉末同士の焼結を促進させ、より優れた導電性及び密着性を有する。なお、酸化第一銅の含有量が銅粉末１００質量部に対し５０質量部を越えた場合、後述のカルボン酸系添加物を含有させても、銅の焼結に寄与しない余分な酸化銅が抵抗となり、導電性が不十分となることがある。
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月7日(2020.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加工機から生産情報収集用コンピュータシステムにオン／オフデータ及びログデータを送信するインターフェース装置であって、
前記オン／オフデータとしてのＡＣ信号又はＤＣ信号が入力される第１の入力端子と、前記第１の入力端子に直列に接続され、前記第１の入力端子に入力された信号がＡＣ信号であるときには平滑化する平滑化回路と、前記平滑化回路から出力される信号電圧が一定となるように前記第１の入力端子に入力された信号電圧に応じて前記平滑化回路から出力される信号電圧を調整する電圧調整回路と、前記電圧調整回路により電圧が調整された信号に応じてスイッチングするスイッチング素子とを有する第１のインターフェースユニットと、
前記ログデータとしての電流信号又は電圧信号が入力される第２の入力端子と、前記第２の入力端子に直列に接続され、前記第２の入力端子に入力された信号が電流信号であるときには前記電流信号に応じた電圧信号に変換する電流／電圧変換回路と、前記電流／電圧変換回路から出力される信号をその信号に応じたディジタルデータに変換するアナログ／ディジタル変換部とを有する第２のインターフェースユニットと
を具備するインターフェース装置。
【請求項２】
請求項１に記載のインターフェース装置であって、
前記第１のインターフェースユニットは、前記生産情報収集用コンピュータシステムから要求された期間、前記スイッチング素子によりスイッチングされた信号を前記生産情報収集用コンピュータシステムに送信するよう制御する送信制御回路を更に有する
インターフェース装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載のインターフェース装置であって、
前記第２のインターフェースユニットは、前記電圧／テキストデータ変換部に印加される信号電圧を調整する電圧調整用ポテンションメータを更に有する
インターフェース装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】インターフェース装置
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月12日(2020.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】正極活物質の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リチウム源、コバルト源、マグネシウム源およびフッ素源を混合する工程と、
前記リチウム源、前記コバルト源、前記マグネシウム源および前記フッ素源の混合物を、８００℃以上１０５０℃以下で２時間以上２０時間以下加熱し、リチウムと、コバルトと、マグネシウムと、酸素と、フッ素と、を有する粒子を作製する工程と、
前記粒子を、酸素を有する雰囲気において、５００℃以上１２００℃以下で５０時間以下加熱する工程と、を有する正極活物質の作製方法において、
前記フッ素源に含まれるフッ素と、前記マグネシウム源に含まれるマグネシウムの原子数比は、Ｍｇ：Ｆ＝１：ｘ（１．５≦ｘ≦４）である、正極活物質の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月15日(2020.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１絶縁層の上に配された第１電極と、
前記第１電極の端部を覆う第２絶縁層と、
前記第１電極及び前記第２絶縁層の上に配され、発光層を有する有機層と、
前記有機層の上に配される第２電極と、を有し、
前記第１絶縁層、前記第１電極、及び前記第２絶縁層を含む断面において、前記第２絶縁層は、前記第１電極の端部を覆う第１部分と、前記第１絶縁層と接する第２部分と、前記第１部分と前記第２部分の間かつ前記第１部分と前記第１絶縁層との間に配されている第３部分と、を有し、前記第３部分は、前記前記第１電極に向かう凹部をなす第３部分と、を有する有機発光装置。
【請求項２】
第１絶縁層の面の上に配された第１電極と、
前記第１電極の端部を覆う第２絶縁層と、
前記第１電極及び前記第２絶縁層の上に配され、発光層を有する有機層と、
前記有機層の上に配される第２電極と、を有し、
前記第１絶縁層、前記第１電極、及び前記第２絶縁層を含む断面において、前記第２絶縁層は、前記第１電極の端部を覆う第１部分と、前記第１絶縁層と接する第２部分と、前記第１部分と前記第２部分の間かつ前記第１部分と前記第１絶縁層との間に配されている第３部分と、を有し、
前記断面において、前記第１部分は、前記第３部分に対して、前記第１絶縁層の前記面に平行な方向に突出している有機発光装置。
【請求項３】
前記第１絶縁層の第１電極が配される面に平行な面に対する平面視において、前記第２絶縁層の前記第３部分の外縁は、前記第１部分の外縁の内側にある請求項１または２に記載の有機発光装置。
【請求項４】
前記第１電極は、第１金属層と、前記第１金属層の上に配された第２金属層と、を有し、
前記断面において、前記第２金属層は、前記第１金属層に対して、前記第１絶縁層の前記第１電極が配される面と平行な方向に突出している請求項１乃至３のいずれか１項に記載の有機発光装置。
【請求項５】
前記第１電極の上における、前記第２絶縁層の前記面に垂直な方向の膜厚は、前記第１方向における前記第２金属層が前記第１金属層に対して突出している長さより大きい請求項４に記載の有機発光装置。
【請求項６】
前記第１電極の上における、前記面に垂直な第２方向での前記第２絶縁層の膜厚は、前記第１電極の前記有機層と接する部分における、前記第２方向での前記第１電極の膜厚より大きい請求項４または５に記載の有機発光装置。
【請求項７】
前記第２絶縁層の第３部分は、前記第１電極の前記第１金属層と接する請求項４乃至６のいずれか１項に記載の有機発光装置。
【請求項８】
前記断面において、前記第１金属層は、前記第２金属層から前記第１絶縁層に向かって前記第１方向における長さが長くなる請求項４乃至７のいずれか１項に記載の有機発光装置。
【請求項９】
前記第１金属層の前記第１絶縁層と接する部分の側面と、前記第１電極の底面との成す角が８０度以下である請求項４乃至８のいずれか一項に記載の有機発光装置。
【請求項１０】
前記第１電極の上における前記有機層の膜厚は、前記第１電極の上における前記第２絶縁層の膜厚より大きい請求項１乃至９のいずれか１項に記載の有機発光装置。
【請求項１１】
前記有機層は、前記第１電極と前記発光層の間に正孔注入層を有する請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の有機発光装置。
【請求項１２】
前記第１電極は、第１金属層と、前記第１金属層の上に配される第２金属層を有する請求項１乃至３のいずれか１項に記載の有機発光装置。
【請求項１３】
前記第１金属層はアルミニウムを含み、
前記第２金属層は、チタン、モリブデン、またはタングステンのいずれか１つを含む請求項１２に記載の有機発光装置。
【請求項１４】
光が入射する撮像素子と、
前記撮像素子からの出力が入力される制御部と、
前記制御部から信号が入力される、請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の有機発光装置と、
を有する撮像装置。
【請求項１５】
第１絶縁層の上に、第１金属層と、前記第１金属層の上に配される第２金属層と、を形成し、
前記第１金属層及び第２金属層をエッチングして、前記第２金属層が、前記第１絶縁層の前記第１金属層が配される面に平行な方向に、前記第１金属層より突出した構成を有する第１電極を形成し、
前記第１電極の端部を覆う第２絶縁層を形成し、
前記第１電極及び前記第１絶縁層の上に、発光層を含む有機層を形成し、
前記有機層の上に第２電極を形成し、
前記第２絶縁層は、前記面に垂直な方向における前記第１電極の上での前記第２絶縁層の膜厚が、前記第２金属層の前記第１金属層に対して突出する長さより大きくなるように形成される
有機発光装置の製造方法。
【請求項１６】
前記垂直方向において、前記第２絶縁層の前記第１電極の上での膜厚は、前記第１電極の前記第２絶縁層に覆われる端部の膜厚より大きい請求項１５に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項１７】
前記第２金属層の突出部は、前記第１金属層と前記第２金属層のエッチングレートの違いを用いて形成される請求項１５または１６に記載の有機発光装置。
【請求項１８】
オルト珪酸テトラエチルを含むガスを用いたＣＶＤにより前記第２絶縁層を形成する請求項１５乃至１７のいずれか１項に記載の有機発光装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の一様態は、第１絶縁層の上に配された第１電極と、前記第１電極の端部を覆う第２絶縁層と、前記第１電極及び前記第２絶縁層の上に配され、発光層を有する有機層と、前記有機層の上に配される第２電極と、を有し、前記第１絶縁層、前記第１電極、及び前記第２絶縁層を含む断面において、前記第２絶縁層は、前記第１電極の端部を覆う第１部分と、前記第１絶縁層と接する第２部分と、前記第１部分と前記第２部分の間かつ前記第１部分と前記第１絶縁層との間に配されている第３部分と、を有し、前記第３部分は、前記前記第１電極に向かう凹部をなす第３部分と、を有する有機発光装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また、本発明の一様態は、第１絶縁層の面の上に配された第１電極と、前記第１電極の端部を覆う第２絶縁層と、前記第１電極及び前記第２絶縁層の上に配され、発光層を有する有機層と、前記有機層の上に配される第２電極と、を有し、前記第１絶縁層、前記第１電極、及び前記第２絶縁層を含む断面において、前記第２絶縁層は、前記第１電極の端部を覆う第１部分と、前記第１絶縁層と接する第２部分と、前記第１部分と前記第２部分の間かつ前記第１部分と前記第１絶縁層との間に配されている第３部分と、を有し、前記断面において、前記第１部分は、前記第３部分に対して、前記第１絶縁層の前記面に平行な方向に突出している有機発光装置に関する。
【手続補正書】
【提出日】令和2年3月11日(2020.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電粒子線装置よるホログラフィーの再生方法であって、
前記荷電粒子線装置は、荷電粒子線を照射する照射光学系と、照射される前記荷電粒子線の進行方向下流側に備えられ、前記荷電粒子線に対して透過性を有する材料からなる回折格子と、前記回折格子の回折面に試料を保持可能な試料保持部と、前記回折面を通過した前記荷電粒子線を結像する結像光学系と、前記結像光学系による結像を検出する画像検出部と、前記画像検出部が検出した画像データを処理する制御部と、を備え、
前記制御部は、
前記回折格子の開口領域を、前記荷電粒子線の前記回折格子への照射領域よりも小さくして、前記回折格子により回折された前記荷電粒子線の照射領域が、前記回折格子を透過した前記荷電粒子線の照射領域内にある状態とし、
前記画像データに基づき得られる複数のホログラムの少なくも一つを選択し、選択した前記ホログラムをフーリエ変換する、よう制御する、
ことを特徴とするホログラフィーの再生方法。
【請求項２】
請求項１に記載のホログラフィーの再生方法であって、
前記回折格子により回折された前記荷電粒子線がらせん波である、
ことを特徴とするホログラフィーの再生方法。
【請求項３】
請求項２に記載のホログラフィーの再生方法であって、
前記制御部は、
複数の前記ホログラムの一部を選択してフーリエ変換し、得られた強度分布像中の複数のサイドバンドの一つを選択し、
選択したサイドバンドをフーリエ逆変換し、得られる振幅分布像と位相分布像を表示する、よう制御する、
ことを特徴とするホログラフィーの再生方法。
【請求項４】
請求項１に記載のホログラフィーの再生方法であって、
前記制御部は、
複数の前記ホログラムをフーリエ変換し、得られた強度分布像のサイドバンドの一つを選択し、
選択した前記サイドバンドをフーリエ逆変換し、
得られた振幅分布像と位相分布像を表示する、よう制御する、
ことを特徴とするホログラフィーの再生方法。
【請求項５】
請求項４に記載のホログラフィーの再生方法であって、
前記回折格子により回折された前記荷電粒子線がらせん波である、
ことを特徴とするホログラフィーの再生方法。
【請求項６】
請求項５に記載のホログラフィーの再生方法であって、
前記制御部は、
選択した前記サイドバンドの中央を決定し、
当該サイドバンドの中央点を演算原点に移動した後、前記フーリエ逆変換を行う、
ことを特徴とするホログラフィーの再生方法。
【請求項７】
請求項６に記載のホログラフィーの再生方法であって、
前記制御部は、
演算原点に移動した前記サイドバンドに対し、フォーカス補正演算を行った後、前記フーリエ逆変換を行う、
ことを特徴とするホログラフィーの再生方法。
【請求項８】
請求項６に記載のホログラフィーの再生方法であって、
前記制御部は、
前記らせん波である、回折された前記荷電粒子線の回折スポットの正負いずれか一方が、前記回折格子の回折面に設置される前記試料に照射されたスポットを処理する、
ことを特徴とするホログラフィーの再生方法。
【請求項９】
請求項８に記載のホログラフィーの再生方法であって、
前記制御部は、
他方の前記回折スポットによる前記ホログラムをフーリエ変換して、前記サイドバンドの中央を決定する、
ことを特徴とするホログラフィーの再生方法。
【請求項１０】
請求項５に記載のホログラフィーの再生方法であって、
らせん波である、回折された前記荷電粒子線の回折スポットの複数の次数に対応する複数の再生像を合算して表示する
ことを特徴とするホログラフィーの再生方法。
【請求項１１】
荷電粒子線を照射する照射光学系と、照射される前記荷電粒子線の進行方向下流側に備えられ、前記荷電粒子線に対して透過性を有する材料からなる回折格子と、前記回折格子の回折面に試料を保持可能な試料保持部と、前記回折面を通過した前記荷電粒子線を結像する結像光学系と、前記結像光学系による結像を検出する画像検出部とを備える荷電粒子線装置で得られる画像データを処理する制御部で実行されるホログラフィーの再生プログラムであって、
前記制御部を、
前記回折格子の開口領域を、前記荷電粒子線の前記回折格子への照射領域よりも小さくして、前記回折格子により回折された前記荷電粒子線の照射領域が、前記回折格子を透過した前記荷電粒子線の照射領域内にある状態とし、
前記画像データに基づき得られる複数のホログラムの少なくも一つを選択し、選択した前記ホログラムをフーリエ変換する、よう制御する、
ホログラフィーの再生プログラム。
【請求項１２】
請求項１１に記載のホログラフィーの再生プログラムであって、
前記回折格子により回折された前記荷電粒子線がらせん波であり、
前記制御部を、
複数の前記ホログラムをフーリエ変換し、得られた強度分布像のサイドバンドの一つを選択し、
選択した前記サイドバンドの中央を決定し、当該サイドバンドの中央点を演算原点に移動した後、フーリエ逆変換し、得られた振幅分布像と位相分布像を表示する、よう制御する
ことを特徴とするホログラフィーの再生プログラム。
【請求項１３】
請求項１２に記載のホログラフィーの再生プログラムであって、
前記制御部を、
演算原点に移動した前記サイドバンドに対し、フォーカス補正演算を行った後、前記フーリエ逆変換を行う、よう制御する
ことを特徴とするホログラフィーの再生プログラム。
【請求項１４】
請求項１３に記載のホログラフィーの再生プログラムであって、
前記制御部を、
前記らせん波である、回折された前記荷電粒子線の回折スポットの正負いずれか一方を、前記回折格子の回折面に設置された前記試料に照射する、よう制御する、
ことを特徴とするホログラフィーの再生プログラム。
【請求項１５】
請求項１４に記載のホログラフィーの再生プログラムであって、
前記制御部を、
他方の回折スポットによる前記ホログラムをフーリエ変換して、前記サイドバンドの中央を決定する、よう制御する、
ことを特徴とするホログラフィーの再生プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１３Ｂ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１３Ｂ】
2018190550.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】令和2年1月31日(2020.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部の空間が収納空間として形成された収納ケースを有し前記収納空間に少なくとも電池モジュールと高電圧機器が収納された車載用バッテリーであって、
前記収納ケースの外部の空気を冷却空気として取り込んで前記電池モジュールへ向けて送る第１の冷却用ダクトと、
少なくとも前記収納ケースの内部の空気を冷却空気として取り込んで前記高電圧機器へ向けて送る第２の冷却用ダクトとを備えた
車載用バッテリー。
【請求項２】
前記第２の冷却用ダクトによって前記収納ケースの内部の空気と前記収納ケースの外部の空気とが冷却空気として取り込まれる
請求項１に記載の車載用バッテリー。
【請求項３】
前記収納ケースの内部に配置孔を有し前記収納空間を上下に仕切る仕切板が配置され、
前記高電圧機器は一部が前記配置孔から下方に突出された状態で前記仕切板の上面に取り付けられ、
前記電池モジュールが前記仕切板の下方に配置され、
前記第２の冷却用ダクトが前記仕切板の下面に前記配置孔を下方から覆う状態で取り付けられた
請求項１又は請求項２に記載の車載用バッテリー。
【請求項４】
前記第２の冷却用ダクトが少なくとも上方に開口された形状に形成され、
前記第２の冷却用ダクトが前記仕切板の下面に取り付けられた
請求項３に記載の車載用バッテリー。
【請求項５】
前記仕切板の下方に前記第１の冷却用ダクトに連結され前記第１の冷却用ダクトから取り込まれた冷却空気を前記電池モジュールへ向けて流動させる電池用吸気ダクトが配置され、
前記電池用吸気ダクトが少なくとも上方に開口された形状に形成され、
前記電池用吸気ダクトが前記仕切板の下面に取り付けられた
請求項３又は請求項４に記載の車載用バッテリー。
【請求項６】
前記電池モジュールが複数設けられ、
前記電池用吸気ダクトに前記複数の電池モジュールの内部の空間にそれぞれ連通される複数の吸気孔が形成された
請求項５に記載の車載用バッテリー。
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月21日(2020.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
飛行体と、
前記飛行体の姿勢角度を制御する制御装置と
を備え、
前記飛行体は、
第１方向の推力を発生する３つ以上の第１ロータと、
前記飛行体に作用するトルクのトルクアームが、前記第１ロータの推力によって前記飛行体に作用するトルクのトルクアームの長さ以上となるように前記第１方向と交差する方向の推力を発生する２つ以上の第２ロータと
を有する、飛行体制御システム。
【請求項２】
前記制御装置は、前記第２ロータの推力によって前記飛行体のヨー角を制御すると共に、前記第１ロータの推力によって前記飛行体のロール角、及びピッチ角を制御する、請求項１に記載の飛行体制御システム。
【請求項３】
前記制御装置は、前記飛行体に作用する外力に基づいて、前記飛行体の姿勢角度を制御する、請求項１又は請求項２に記載の飛行体制御システム。
【請求項４】
前記第２ロータは、前記第１方向に直交する方向の推力を発生する、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の飛行体制御システム。