【手続補正書】
【提出日】令和2年9月17日(2020.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸着作製するパターンに対応する開口部が形成された樹脂マスクを含み、
前記樹脂マスクが、樹脂成分、及び色材成分を含有しており、
可視光で、前記樹脂マスクの前記開口部のエッジ部を検出できる、蒸着マスク。
【請求項２】
前記色材成分が、カーボンブラック、黒色酸化鉄、酸化チタン、及び二酸化チタンの何れかである、請求項１に記載の蒸着マスク。
【請求項３】
前記樹脂成分の総質量に対する前記色材成分の含有量が、２０質量％以下である、請求項１又は２に記載の蒸着マスク。
【請求項４】
前記樹脂成分の総質量に対する前記色材成分の含有量が、１質量％以上である、請求項１乃至３の何れか１項に記載の蒸着マスク。
【請求項５】
前記樹脂マスクの厚みが、３μｍ以上１０μｍ未満である、請求項１乃至４の何れか１項に記載の蒸着マスク。
【請求項６】
前記樹脂マスクを平面視したときの前記開口部の形状が、矩形状、又は多角形状である、請求項１乃至５の何れか１項に記載の蒸着マスク。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れか１項に記載の蒸着マスクがフレームに固定された、フレーム付き蒸着マスク。
【請求項８】
蒸着マスクの製造方法であって、
開口部が形成される前の樹脂板に、蒸着作成するパターンに対応する開口部を形成する開口部形成工程を含み、
前記開口部が形成される前の樹脂板が、樹脂成分、及び色材成分を含有しており、
可視光で、前記樹脂板に形成された前記開口部のエッジ部を検出できる、蒸着マスクの製造方法。
【請求項９】
前記色材成分が、カーボンブラック、黒色酸化鉄、酸化チタン、及び二酸化チタンの何れかである、請求項８に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項１０】
前記樹脂成分の総質量に対する前記色材成分の含有量が、２０質量％以下である、請求項８又は９に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項１１】
前記樹脂成分の総質量に対する前記色材成分の含有量が、１質量％以上である、請求項８乃至１０の何れか１項に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項１２】
前記開口部が形成される前の樹脂板の厚みが、３μｍ以上１０μｍ未満である、請求項８乃至１１の何れか１項に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項１３】
前記樹脂板に形成された前記開口部を平面視したときの形状が、矩形状、又は多角形状である、請求項８乃至１２の何れか１項に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項１４】
レーザー光を照射して、前記開口部が形成される前の樹脂板に前記開口部を形成する、請求項８乃至１３の何れか１項に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項１５】
有機半導体素子の製造方法であって、
請求項１乃至６の何れか１項に記載の蒸着マスク、請求項７に記載のフレーム付き蒸着マスク、及び請求項８乃至１４の何れか１項に記載の蒸着マスクの製造方法で製造された蒸着マスクの何れか１つを使用する、有機半導体素子の製造方法。
【請求項１６】
パターンの形成方法であって、
請求項１乃至６の何れか１項に記載の蒸着マスク、請求項７に記載のフレーム付き蒸着マスク、及び請求項８乃至１４の何れか１項に記載の蒸着マスクの製造方法で製造された蒸着マスクの何れか１つを使用する、パターンの形成方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、有機半導体素子の製造方法、及びパターンの形成方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、有機半導体素子の製造方法、及びパターンの形成方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するための本発明の蒸着マスクは、蒸着作製するパターンに対応する開口部が形成された樹脂マスクを含み、前記樹脂マスクが、樹脂成分、及び色材成分を含有しており、可視光で、前記樹脂マスクの前記開口部のエッジ部を検出できる。
前記色材成分が、カーボンブラック、黒色酸化鉄、酸化チタン、及び二酸化チタンの何れかであってもよい。
前記樹脂成分の総質量に対する前記色材成分の含有量が、２０質量％以下であってもよい。
前記樹脂成分の総質量に対する前記色材成分の含有量が、１質量％以上であってもよい。
前記樹脂マスクの厚みが、３μｍ以上１０μｍ未満であってもよい。
前記樹脂マスクを平面視したときの前記開口部の形状が、矩形状、又は多角形状であってもよい。
上記課題を解決するための本発明の蒸着マスクは、蒸着作製するパターンに対応する開口部が形成された樹脂マスクを含み、前記樹脂マスクの樹脂部分の波長５５０ｎｍの光線透過率が４０％以下である。
また、上記課題を解決するための本発明の蒸着マスクは、蒸着作製するパターンに対応する開口部が形成された樹脂マスクを含み、前記樹脂マスクの樹脂部分の波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの光線透過率の最大値が４０％以下である。
また一実施形態の蒸着マスクは、スリットが形成された金属マスクと当該スリットと重なる位置に蒸着作製するパターンに対応する開口部が形成された樹脂マスクとが積層されてなる蒸着マスクであって、前記樹脂マスクは、波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの光線透過率の最大値が４０％以下であることを特徴とする。
また、一実施形態の発明は、スリットが形成された金属マスクと当該スリットと重なる位置に蒸着作製するパターンに対応する開口部が形成された樹脂マスクとが積層されてなる蒸着マスクにおいて、前記樹脂マスクは、波長５５０ｎｍの光線透過率が４０％以下であることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記課題を解決するための本発明の蒸着マスクの製造方法は、開口部が形成される前の樹脂板に、蒸着作成するパターンに対応する開口部を形成する開口部形成工程を含み、前記開口部が形成される前の樹脂板が、樹脂成分、色材成分を含有しており、可視光で、前記樹脂板に形成された前記開口部のエッジ部を検出できる。
前記色材成分が、カーボンブラック、黒色酸化鉄、酸化チタン、及び二酸化チタンの何れかであってもよい。
前記樹脂成分の総質量に対する前記色材成分の含有量が、２０質量％以下であってもよい。
前記樹脂成分の総質量に対する前記色材成分の含有量が、１質量％以上であってもよい。
前記開口部が形成される前の樹脂板の厚みが、３μｍ以上１０μｍ未満であってもよい。
前記樹脂板に形成された前記開口部を平面視したときの前記開口部の形状が、矩形状、又は多角形状であってもよい。
レーザー光を照射して、前記開口部が形成される前の樹脂板に前記開口部を形成してもよい。
また、上記課題を解決するための本発明は、有機半導体素子の製造方法であって、上記のフレーム付き蒸着マスクを用いて蒸着対象物に蒸着パターンを形成する工程を含む。
また、一実施形態の有機半導体素子の製造方法は、フレームに蒸着マスクが固定されたフレーム付き蒸着マスクを用いて蒸着対象物に蒸着パターンを形成する工程を含み、前記蒸着パターンを形成する工程で、前記フレームに固定される前記蒸着マスクは、スリットが形成された金属マスクと当該スリットと重なる位置に蒸着作製するパターンに対応する開口部が形成された樹脂マスクとが積層され、さらに、当該樹脂マスクは、波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの光線透過率の最大値が４０％以下であることを特徴とする。また、一実施形態の発明は、有機半導体素子の製造方法であって、フレームに蒸着マスクが固定されたフレーム付き蒸着マスクを用いて蒸着対象物に蒸着パターンを形成する工程を含み、前記蒸着パターンを形成する工程で、前記フレームに固定される前記蒸着マスクは、スリットが形成された金属マスクと当該スリットと重なる位置に蒸着作製するパターンに対応する開口部が形成された樹脂マスクとが積層され、さらに、当該樹脂マスクは、波長５５０ｎｍの光線透過率が４０％以下であることを特徴とする。