【手続補正書】
【提出日】令和2年7月29日(2020.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水素を用いた発電システムであって、
前記発電システムは、
発電装置と、
前記発電装置に供給する前記水素を発生させる水素発生装置と、を備え、
前記水素発生装置は、
水溶液を貯蔵する水溶液貯蔵部と、
前記水溶液との反応で前記水素の発生が可能な状態のマグネシウムを含む原料を貯蔵する原料貯蔵部と、
前記原料貯蔵部から前記水溶液貯蔵部に向けて前記原料を供給する原料供給機構と、を備え、
前記水溶液貯蔵部は、
前記水溶液より上側となる前記水溶液の存在しない上部空間と、
前記上部空間の下側となる前記水溶液の存在する下部空間と、
前記下部空間内を上下に仕切る仕切部と、を備え、
前記仕切部は、前記原料と前記水溶液との反応で生成した副生成物が前記仕切部より下側に沈殿可能に設けられた複数の貫通孔を備えることを特徴とする発電システム。
【請求項２】
前記水溶液貯蔵部は、
前記仕切部より下側に設けられ、前記水溶液を排水する排水口と、
前記仕切部より上側に設けられ、前記水溶液を供給する給水口と、を備え、
前記水素発生装置は、
前記排水口からの前記水溶液の排水を制御する排水制御弁と、
前記給水口からの前記水溶液の給水を制御する給水制御弁と、
前記水溶液に向けて供給する前記原料の供給量に基づいて、前記排水制御弁、及び、前記給水制御弁を制御する制御部と、を備えることを特徴とする請求項１に記載の発電システム。
【請求項３】
前記原料供給機構は、前記上部空間側から前記水溶液に向けて前記原料を供給するように設けられており、
前記水素発生装置は、
前記上部空間の圧力を測定する圧力測定装置と、
前記圧力測定装置の圧力の測定結果に基づいて、前記原料供給機構を駆動させ、前記水溶液に向けて供給する前記原料の供給量を制御する制御部と、を備えることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の発電システム。
【請求項４】
水素を用いた発電システムであって、
前記発電システムは、
発電装置と、
前記発電装置に供給する前記水素を発生させる水素発生装置と、を備え、
前記水素発生装置は、
水溶液を貯蔵する水溶液貯蔵部と、
前記水溶液との反応で前記水素の発生が可能な状態のマグネシウムを含む原料を貯蔵する原料貯蔵部と、
前記原料貯蔵部から前記水溶液貯蔵部に向けて前記原料を供給する原料供給機構と、を備え、
さらに、前記発電システムは、
前記水素が前記水溶液貯蔵部から前記発電装置に至るまでの間に設けられ、前記水溶液貯蔵部で発生した前記水素を貯蔵できるバッファ機構と、
前記水素が前記水溶液貯蔵部から前記発電装置及び前記バッファ機構に至るまでの間に設けられた純化機構と、を備え、
前記純化機構は、
第１脱水部及び第１不純物気体除去部を有する第１純化部と、
第２脱水部及び第２不純物気体除去部を有する第２純化部と、を備え、
前記第１純化部を通過させて前記水素を前記発電装置又は前記バッファ機構に供給するときに前記第２純化部の前記第２脱水部を乾燥処理可能とされ、前記第２純化部を通過させて前記水素を前記発電装置又は前記バッファ機構に供給するときに前記第１純化部の前記第１脱水部を乾燥処理可能とされていることを特徴とする発電システム。
【請求項５】
水素を用いた発電システムであって、
前記発電システムは、
発電装置と、
前記発電装置に供給する前記水素を発生させる水素発生装置と、を備え、
前記水素発生装置は、
水溶液を貯蔵する水溶液貯蔵部と、
前記水溶液との反応で前記水素の発生が可能な状態のマグネシウムを含む原料を貯蔵する原料貯蔵部と、
前記原料貯蔵部から前記水溶液貯蔵部に向けて前記原料を供給する原料供給機構と、を備え、
さらに、前記発電システムは、前記水素が前記水溶液貯蔵部から前記発電装置に至るまでの間に設けられた純化機構を備え、
前記純化機構は、
第１脱水部及び第１不純物気体除去部を有する第１純化部と、
第２脱水部及び第２不純物気体除去部を有する第２純化部と、を備え、
前記第１純化部を通過させて前記水素を前記発電装置に供給するときに前記第２純化部の前記第２脱水部が乾燥処理可能とされ、前記第２純化部を通過させて前記水素を前記発電装置に供給するときに前記第１純化部の前記第１脱水部が乾燥処理可能とされていることを特徴とする発電システム。
【請求項６】
前記水溶液貯蔵部は、前記水溶液より上側となる前記水溶液の存在しない上部空間を備え、
前記原料供給機構は、前記上部空間側から前記水溶液に向けて前記原料を供給するように設けられており、
前記水素発生装置は、
前記上部空間の圧力を測定する圧力測定装置と、
前記圧力測定装置の圧力の測定結果に基づいて、前記原料供給機構を駆動させ、前記水溶液に向けて供給する前記原料の供給量を制御する制御部と、を備えることを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の発電システム。
【請求項７】
水素発生装置であって、
前記水素発生装置は、
水溶液を貯蔵する水溶液貯蔵部と、
前記水溶液との反応で水素の発生が可能な状態のマグネシウムを含む原料を貯蔵する原料貯蔵部と、
前記原料貯蔵部から前記水溶液貯蔵部に向けて前記原料を供給する原料供給機構と、を備え、
前記水溶液貯蔵部は、
前記水溶液より上側となる前記水溶液の存在しない上部空間と、
前記上部空間の下側となる前記水溶液の存在する下部空間と、
前記下部空間内を上下に仕切る仕切部と、を備え、
前記仕切部は、前記原料と前記水溶液との反応で生成した副生成物が前記仕切部より下側に沈殿可能に設けられた複数の貫通孔を備えることを特徴とする水素発生装置。
【請求項８】
前記原料供給機構は、前記上部空間側から前記水溶液に向けて前記原料を供給するように設けられており、
前記水素発生装置は、
前記上部空間の圧力を測定する圧力測定装置と、
前記圧力測定装置の圧力の測定結果に基づいて、前記原料供給機構を駆動させ、前記水溶液に向けて供給する前記原料の供給量を制御する制御部と、を備えることを特徴とする請求項７に記載の水素発生装置。
【請求項９】
前記水溶液貯蔵部は、
前記仕切部より下側に設けられ、前記水溶液を排水する排水口と、
前記仕切部より上側に設けられ、前記水溶液を供給する給水口と、を備え、
前記水素発生装置は、
前記排水口から排水される前記水溶液の排水量を制御する排水制御弁と、
前記給水口から給水される前記水溶液の給水量を制御する給水制御弁と、
前記水溶液に向けて供給する前記原料の供給量に基づいて、前記排水制御弁、及び、前記給水制御弁を制御する制御部と、を備えることを特徴とする請求項７に記載の水素発生装置。
【請求項１０】
水素を用いた発電システムであって、
前記発電システムは、
発電装置と、
前記発電装置に供給する前記水素を発生させる水素発生装置と、を備え、
前記水素発生装置は、
水溶液を排水する排水口、及び、前記水溶液を供給する給水口を有し、前記水溶液を貯蔵する水溶液貯蔵部と、
前記排水口からの前記水溶液の排水を制御する排水制御弁と、
前記給水口からの前記水溶液の給水を制御する給水制御弁と、
前記水溶液との反応で前記水素の発生が可能な状態のマグネシウムを含む原料を貯蔵する原料貯蔵部と、
前記原料貯蔵部から前記水溶液貯蔵部に向けて前記原料を供給する原料供給機構と、を備え、
前記水溶液貯蔵部は、前記水溶液の水面の下限位置を決めるために設けられ、前記水面を検知する下側レベルセンサを備え
さらに、前記水素発生装置は、排水するタイミング以外の時に、下側レベルセンサが前記水溶液の前記水面を検知すると、前記給水制御弁を開にする制御部を備えることを特徴とする発電システム。
【請求項１１】
水素発生装置であって、
前記水素発生装置は、
水溶液を排水する排水口、及び、前記水溶液を供給する給水口を有し、前記水溶液を貯蔵する水溶液貯蔵部と、
前記排水口から排水される前記水溶液の排水量を制御する排水制御弁と、
前記給水口から給水される前記水溶液の給水量を制御する給水制御弁と、
前記水溶液との反応で水素の発生が可能な状態のマグネシウムを含む原料を貯蔵する原料貯蔵部と、
前記原料貯蔵部から前記水溶液貯蔵部に向けて前記原料を供給する原料供給機構と、を備え、
前記水溶液貯蔵部は、前記水溶液の水面の下限位置を決めるために設けられ、前記水面を検知する下側レベルセンサと、を備え
前記水素発生装置は、さらに、排水するタイミング以外の時に、下側レベルセンサが前記水溶液の前記水面を検知すると、前記給水制御弁を開にする制御部を備えることを特徴とする水素発生装置。