【手続補正書】
【提出日】令和2年11月5日(2020.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
構造体に水素を吸蔵させ熱を発生させる熱発生方法であって、
前記構造体は、各々が水素吸蔵金属元素を含む複数の粒子が相互に離隔されるように固定部材の中に配置されて構成され、前記複数の粒子の各々の表面の全体が前記固定部材によって取り囲まれ、前記固定部材が酸化物および窒化物の少なくとも１つを含む、
ことを特徴とする熱発生方法。
【請求項２】
構造体に水素を吸蔵させ熱を発生させる熱発生方法であって、
前記構造体は、各々が水素吸蔵金属元素を含む複数の粒子が相互に離隔されるように固定部材の中に配置されて構成され、前記複数の粒子の各々の表面の全体が前記固定部材によって取り囲まれ、前記固定部材が複数の微結晶を含み、前記複数の微結晶の粒界に不活性ガスが存在する、
ことを特徴とする熱発生方法。
【請求項３】
前記固定部材における前記不活性ガスの含有率は、０．５原子％以上である、
ことを特徴とする請求項２に記載の熱発生方法。
【請求項４】
構造体に水素を吸蔵させ熱を発生させる熱発生方法であって、
前記構造体は、各々が水素吸蔵金属元素を含む複数の粒子が相互に離隔されるように固定部材の中に配置されて構成され、前記複数の粒子の各々の表面の全体が前記固定部材によって取り囲まれ、前記固定部材は、下地と、前記下地の上に配置された膜とを含み、前記複数の粒子は、前記下地の表面に接触するように前記表面に沿って２次元状に配置された粒子を含み、前記２次元状に配置された粒子は、前記膜を介して相互に離隔して配置され、かつ、前記膜によって覆われている、
ことを特徴とする熱発生方法。
【請求項５】
前記膜は、複数の微結晶を含み、前記複数の粒子の各々は、前記膜の前記複数の微結晶の少なくとも１つに接している、
ことを特徴とする請求項４に記載の熱発生方法。
【請求項６】
構造体に水素を吸蔵させ熱を発生させる熱発生方法であって、
前記構造体は、各々が水素吸蔵金属元素を含む複数の粒子が相互に離隔されるように固定部材の中に配置されて構成され、前記固定部材を覆うように配置された被覆膜を有し、前記複数の粒子の各々の表面の全体が前記固定部材によって取り囲まれている、
ことを特徴とする熱発生方法。
【請求項７】
前記被覆膜の不活性ガスの含有率は、前記固定部材における不活性ガスの含有率よりも高い、
ことを特徴とする請求項６に記載の熱発生方法。
【請求項８】
前記被覆膜の原子量または分子量は、前記固定部材の原子量または分子量よりも大きい
ことを特徴とする請求項６または７に記載の熱発生方法。
【請求項９】
前記被覆膜は、複数の微結晶を含み、前記被覆膜の前記複数の微結晶の粒界に不活性ガスが存在する、
ことを特徴とする請求項６乃至８のいずれか１項に記載の熱発生方法。
【請求項１０】
前記被覆膜における前記不活性ガスの含有率は、０．５原子％以上である、
ことを特徴とする請求項９に記載の熱発生方法。
【請求項１１】
前記複数の粒子の各々が１０００ｎｍ以下の寸法を有する、
ことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の熱発生方法。
【請求項１２】
前記複数の粒子の各々が１００ｎｍ以下の寸法を有する、
ことを特徴とする請求項１１に記載の熱発生方法。
【請求項１３】
前記固定部材は、融点が１４００℃以上の材料で構成されている、
ことを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の熱発生方法。
【請求項１４】
前記複数の粒子において、隣接する粒子の間の距離が、１ｎｍ以上かつ１０ｎｍ以下である、
ことを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の熱発生方法。
【請求項１５】
各々が水素吸蔵金属元素を含む複数の粒子を互いに離隔するように形成する第１工程と、
前記複数の粒子を覆うように膜を形成する第２工程と、
前記複数の粒子の前記水素吸蔵金属元素に水素を吸蔵させ熱を発生させる第３工程と、
を含むことを特徴とする熱発生方法。
【請求項１６】
前記第１工程では、スパッタリング法によって前記複数の粒子を形成し、前記第２工程では、スパッタリング法によって前記膜を形成する、
ことを特徴とする請求項１５に記載の熱発生方法。
【請求項１７】
前記第１工程および前記第２工程を含む処理を繰り返す、
ことを特徴とする請求項１６に記載の熱発生方法。
【請求項１８】
前記第１工程では、スパッタリング法によって前記複数の粒子を形成し、前記第２工程では、スパッタリング法によって前記膜を形成し、
下地をスパッタリング装置に搬入した後、前記下地を前記スパッタリング装置から搬出することなく、前記下地に対して前記処理を繰り返す、
ことを特徴とする請求項１７に記載の熱発生方法。
【請求項１９】
構造体に水素を吸蔵させ熱を発生させる熱発生装置であって、
前記構造体は、各々が水素吸蔵金属元素を含む複数の粒子が相互に離隔されるように固定部材の中に配置されて構成され、前記複数の粒子の各々の表面の全体が前記固定部材によって取り囲まれ、前記固定部材が酸化物および窒化物の少なくとも１つを含む、
ことを特徴とする熱発生装置。
【請求項２０】
各々が水素吸蔵金属元素を含む複数の粒子が相互に離隔されるように固定部材の中に配置された構造体であって、
前記複数の粒子の各々の表面の全体が前記固定部材によって取り囲まれ、
前記固定部材が酸化物および窒化物の少なくとも１つを含み、
前記固定部材は、下地と、前記下地の表面の上に配置された膜とを含み、
前記複数の粒子は、前記下地の前記表面の上に配置され前記下地の前記表面からの距離が互いに異なる２以上の粒子を含み、
前記膜は前記複数の粒子の各々の表面の全体と接している、
ことを特徴とする構造体。
【請求項２１】
各々が水素吸蔵金属元素を含む複数の粒子が相互に離隔されるように固定部材の中に配置された構造体であって、
前記複数の粒子の各々の表面の全体が前記固定部材によって取り囲まれ、
前記固定部材が酸化物および窒化物の少なくとも１つを含み、
前記固定部材は、下地と、前記下地の表面の上に配置された膜とを含み、
前記複数の粒子は、前記下地の前記表面の上に配置され前記下地の前記表面からの距離が互いに異なる２以上の粒子を含み、
前記複数の粒子の各々における前記下地の表面からの距離が１ｎｍ以上かつ１０ｎｍ以下の範囲である、
ことを特徴とする構造体。
【請求項２２】
各々が水素吸蔵金属元素を含む複数の粒子が相互に離隔されるように固定部材の中に配置された構造体であって、
前記複数の粒子の各々の表面の全体が前記固定部材によって取り囲まれ、
前記固定部材が酸化物および窒化物の少なくとも１つを含み、
前記固定部材は、下地と、前記下地の表面の上に配置された膜とを含み、
前記複数の粒子は、前記下地の前記表面の上に配置され前記下地の前記表面からの距離が互いに異なる２以上の粒子を含み、
前記複数の粒子が、４００℃、１０時間の熱処理後も相互に離隔されている、
ことを特徴とする構造体。
【請求項２３】
各々が水素吸蔵金属元素を含む複数の粒子が相互に離隔されるように固定部材の中に配置された構造体であって、
前記複数の粒子の各々の表面の全体が前記固定部材によって取り囲まれ、
前記固定部材がＭｇＯ、ＺｒＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＣａＯ、Ａｌ２Ｏ３、Ｓｉ３Ｎ４およびＡｌＮの少なくとも１つを含み、
前記固定部材は、下地と、前記下地の表面の上に配置された膜とを含み、
前記複数の粒子は、前記下地の前記表面の上に配置され前記下地の前記表面からの距離が互いに異なる２以上の粒子を含む、
ことを特徴とする構造体。
【請求項２４】
各々が水素吸蔵金属元素を含む複数の粒子が相互に離隔されるように固定部材の中に配置された水素吸蔵構造体であって、
前記複数の粒子の各々の表面の全体が前記固定部材によって取り囲まれ、
前記固定部材が酸化物および窒化物の少なくとも１つを含み、
前記固定部材は、下地と、前記下地の表面の上に配置された膜とを含む、
ことを特徴とする水素吸蔵構造体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】構造体、水素吸蔵構造体、熱発生方法および熱発生装置