【手続補正書】
【提出日】令和2年2月14日(2020.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
光源部１６３により基板Ｗに照射される真空紫外線の露光量が予め定められた設定露光量に到達した場合、真空紫外線の照射が停止され、露光処理が終了する。ここで、露光量とは、露光処理時に基板Ｗの被処理面の単位面積当たりに照射される真空紫外線のエネルギーである。露光量の単位は、例えば「Ｊ／ｍ２」で表される。したがって、真空紫外線の露光量は、照度計１８３により計測される真空紫外線の照度の積算により取得される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
しかしながら、光源部１６３の点灯直後には、図６に示すように、基板Ｗに照射される真空紫外線の照度が時間とともに低下し、所定時間後に一定値ＬＶに収束する。そのため、露光処理前に一定値ＬＶを有する照度を計測することは困難である。本実施の形態においては、露光処理中に、真空紫外線が基板Ｗおよび照度計１８３に同時に照射される。したがって、基板Ｗに照射される真空紫外線の照度が変化した場合に、照度計１８３により計測される真空紫外線の照度も同様に変化する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
次に、濃度比較部６は、筐体１２１内の酸素濃度が露光開始濃度まで低下したか否かを判定する（ステップＳ７）。酸素濃度が露光開始濃度まで低下していない場合、濃度比較部６は、酸素濃度が露光開始濃度まで低下するまで待機する。酸素濃度が露光開始濃度まで低下した場合、投光制御部１２は、光源部１６３により真空紫外線を出射させる（ステップＳ８）。これにより、光源部１６３から透光板１６２を通して真空紫外線が基板Ｗに照射され、被処理面に形成されたＤＳＡ膜Ｌ３の露光が開始される。また、昇降制御部２は、載置板１５１の上昇を開始させる（ステップＳ９）。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９０】
塗布装置２４０は、基板Ｗの被処理面にＤＳＡ液を供給することにより、膜の塗布処理を行う。本実施の形態では、ＤＳＡ液として、２種類の重合体から構成されるブロック共重合体が用いられる。２種類の重合体の組み合わせとして、例えば、ポリスチレン−ポリメチルメタクリレート（ＰＳ−ＰＭＭＡ）、ポリスチレン−ポリジメチルシロキサン（ＰＳ−ＰＤＭＳ）、ポリスチレン−ポリフェロセニルジメチルシラン（ＰＳ−ＰＦＳ）、ポリスチレン−ポリエチレンオキシド（ＰＳ−ＰＥＯ）、ポリスチレン−ポリビニルピリジン（ＰＳ−ＰＶＰ）、ポリスチレン−ポリヒドロキシスチレン（ＰＳ−ＰＨＯＳＴ）、およびポリメチルメタクリレート−ポリメタクリレートポリヘドラルオリゴメリックシルセスキオキサン（ＰＭＭＡ−ＰＭＡＰＯＳＳ）等が挙げられる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
搬送装置２２０は、処理対象の基板Ｗを、熱処理装置２３０および塗布装置２４０に順に搬送する。この場合、熱処理装置２３０において、基板Ｗの温度がＤＳＡ膜Ｌ３の形成に適した温度に調整される。また、塗布装置２４０において、基板Ｗの被処理面にＤＳＡ液が供給され、塗布処理が行われる。それにより、図１６（ｂ）に示すように、ガイドパターンＬ２が形成されていない下地層Ｌ１上の領域に、２種類の重合体から構成されるＤＳＡ膜Ｌ３が形成される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０６】
すなわち、本実施の形態においては、露光処理中に、遮光部材１９１ではなく照度計１８３が非遮光位置と遮光位置との間で移動する。したがって、本実施の形態の露光処理においては、図１３のステップＳ１１で、遮光部材１９１ではなく照度計１８３が非遮光位置と遮光位置との間で移動される。また、図１３のステップＳ１９で、遮光部材１９１ではなく照度計１８３の移動が停止される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２２】
処理室１２０が処理室の例であり、載置板１５１が載置部の例であり、昇降制御部２が載置制御部の例であり、円形部１５１ｂが第１の部分の例であり、角部１５１ｃが第２の部分の例である。塗布装置２４０が塗布処理部の例であり、熱処理装置２３０が熱処理部の例であり、現像装置２５０が現像処理部の例であり、基板処理装置２００が基板処理装置の例である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の被処理面に真空紫外線を照射可能に設けられた投光部と、
前記投光部から基板への真空紫外線の照射期間に、真空紫外線の一部を受光する受光面を有し、受光した真空紫外線の照度を計測する照度計と、
前記照射期間において前記照度計の前記受光面への真空紫外線の入射を断続的に遮る遮光部と、
真空紫外線を基板に照射するように前記投光部を制御するとともに、前記照度計により計測された照度に基づいて基板への真空紫外線の照射を停止するように前記投光部を制御する投光制御部とを備える、露光装置。
【請求項２】
前記照度計は、前記照射期間において前記投光部からの真空紫外線の一部を受光可能な位置に設けられ、
前記遮光部は、
前記照射期間において前記照度計の前記受光面への真空紫外線の入射を断続的に遮るように移動可能な遮光部材と、
前記遮光部材を移動させる第１の駆動部とを含む、請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記遮光部は、前記照度計を前記照射期間において前記投光部からの真空紫外線の一部を受光可能な第１の位置と前記投光部からの真空紫外線を受光不能な第２の位置とに交互に移動させる第２の駆動部を含む、請求項１記載の露光装置。
【請求項４】
前記投光部は、基板の一面の全体領域および基板外の領域に真空紫外線を照射するように構成され、
前記照度計は、前記照射期間において前記受光面への真空紫外線の少なくとも入射時に前記基板外の領域に位置する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項５】
基板は円形状を有し、
前記投光部における真空紫外線の出射部は、基板の前記全体領域に相当する円形領域を内包する矩形状を有し、
前記照度計の前記受光面は、前記照射期間において前記投光部の前記出射部における前記円形領域を除く角部領域から出射される真空紫外線が入射可能な位置に移動可能にまたは固定的に配置される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記照度計は、前記受光面が前記照射期間における基板の被処理面を基準とする一定の高さに位置するように配置される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記照度計は、前記受光面が前記照射期間における基板の被処理面と同一の高さに位置するように配置される、請求項６記載の露光装置。
【請求項８】
処理対象の基板を収容する処理室と、
前記処理室内において、前記投光部の下方に設けられ、基板が載置される載置部と、
前記処理室内と外部との間での基板の受け渡しの際に前記載置部が第３の位置に移動し、前記投光部の真空紫外線の出射の際に前記載置部が前記第３の位置の上方の第４の位置に移動するように前記載置部を制御する載置制御部とをさらに備える、請求項１〜７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項９】
前記照度計は、前記載置部の移動に追従して上下方向に移動する、請求項８記載の露光装置。
【請求項１０】
前記載置部は、
基板が載置される第１の部分と、
真空紫外線の受光時に前記照度計が配置される第２の部分とを含む、請求項９記載の露光装置。
【請求項１１】
基板に処理液を塗布することにより基板に膜を形成する塗布処理部と、
前記塗布処理部により膜が形成された基板を熱処理する熱処理部と、
前記熱処理部により熱処理された基板を露光する請求項１〜１０のいずれか一項に記載の露光装置と、
前記露光装置により露光された基板に溶剤を供給することにより基板の膜を現像する現像処理部とを備える、基板処理装置。
【請求項１２】
処理液は、誘導自己組織化材料を含む、請求項１１記載の基板処理装置。
【請求項１３】
投光部により基板の被処理面に真空紫外線を照射するステップと、
前記投光部から基板への真空紫外線の照射期間に、照度計により真空紫外線の一部を受光し、受光した真空紫外線の照度を計測するステップと、
前記照射期間において前記照度計の受光面への真空紫外線の入射を遮光部により断続的に遮るステップと、
前記照度計により計測された照度に基づいて前記投光部による基板への真空紫外線の照射を停止するステップとを含む、露光方法。
【請求項１４】
塗布処理部により基板の被処理面に処理液を塗布することにより基板に膜を形成するステップと、
前記塗布処理部により膜が形成された基板を熱処理部により熱処理するステップと、
前記熱処理部により熱処理された基板を露光装置により露光する請求項１３記載の露光方法と、
前記露光装置により露光された基板の被処理面に現像処理部により溶剤を供給することにより基板の膜を現像するステップとを含む、基板処理方法。
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
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