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【手続補正書】
【提出日】令和2年6月3日(2020.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光体と、前記感光体の帯電処理を行う第１、第２のコロナ帯電器と、前記第１、第２のコロナ帯電器のそれぞれのグリッド電極に、独立して制御可能な第１の電圧Ｖｇ（Ｕ）、第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）をそれぞれ印加する電圧印加手段と、を有し、前記第１のコロナ帯電器が前記感光体の表面に形成する第１の帯電電位Ｖｄ（Ｕ）に、前記第２のコロナ帯電器が前記感光体の表面に形成する第２の帯電電位Ｖｄ（Ｌ）を重畳させて合成表面電位Ｖｄ（Ｕ＋Ｌ）を形成することにより、前記帯電処理を行う画像形成装置において、
前記感光体の表面に前記第１の帯電電位Ｖｄ（Ｕ）が形成されている状態で前記第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）を変化させて、前記合成表面電位Ｖｄ（Ｕ＋Ｌ）の形成が開始される前記第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）である重畳開始電圧Ｖｇ（Ｌ）Ａを求め、該重畳開始電圧Ｖｇ（Ｌ）Ａに基づいて前記帯電処理時の前記第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）の設定を調整する調整動作、を実行させる制御手段を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記合成表面電位を検知できる位置で前記感光体の表面電位を検知する電位検知手段を有し、
前記制御手段は、前記調整動作において、前記第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）を変化させて取得した前記第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）と前記電位検知手段により検知された表面電位との関係に基づいて、前記重畳開始電圧Ｖｇ（Ｌ）Ａを求めることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記調整動作において、前記第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）を変化させた場合に前記電位検知手段により検知される表面電位が変化しない領域の前記第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）と前記電位検知手段により検知された表面電位との関係と、前記第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）を変化させた場合に前記電位検知手段により検知される表面電位が変化する領域の前記第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）と前記電位検知手段により検知された表面電位との関係と、の交点における前記第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）を前記重畳開始電圧Ｖｇ（Ｌ）Ａとして求めることを特徴とする請求項２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記第２のコロナ帯電器のグリッド電極に流れる電流を検知する電流検知手段を有し、前記制御手段は、前記調整動作において、前記第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）を変化させて取得した前記第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）と前記電流検知手段により検知された電流との関係に基づいて、前記重畳開始電圧Ｖｇ（Ｌ）Ａを求めることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記調整動作において、前記第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）を変化させた場合に前記電流検知手段により検知される電流が変化しない領域の前記第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）と前記電流検知手段により検知された電流との関係と、前記第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）を変化させた場合に前記電流検知手段により検知される電流が変化する領域の前記第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）と前記電流検知手段により検知された電流との関係と、の交点における前記第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）を前記重畳開始電圧Ｖｇ（Ｌ）Ａとして求めることを特徴とする請求項４に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記制御手段は、前記帯電処理時の前記第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）を、前記第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）を変化させた場合に前記合成表面電位Ｖｄ（Ｕ＋Ｌ）が変化する範囲に設定することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記制御手段は、前記帯電処理時の前記第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）を、次式、
｜Ｖｇ（Ｌ）Ａ｜＜｜Ｖｇ（Ｌ）｜
を満たすように設定することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記制御手段は、前記帯電処理時の前記第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）を、前記第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）と前記重畳開始電圧Ｖｇ（Ｌ）Ａとの間の電位差が所定の範囲内となるように設定することを特徴とする請求項６又は７に記載の画像形成装置。
【請求項９】
前記制御手段は、前記帯電処理時の前記第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）を、次式、
５０（Ｖ）≦｜Ｖｇ（Ｌ）｜−｜Ｖｇ（Ｌ）Ａ｜≦２５０（Ｖ）
を満たすように設定することを特徴とする請求項８に記載の画像形成装置。
【請求項１０】
感光体と、
前記感光体の帯電処理を行う第１及び第２のコロナ帯電器と、
前記第１のコロナ帯電器のグリッド電極に第１の電圧Ｖｇ（Ｕ）を印加する第１の電圧印加手段と、
前記第２のコロナ帯電器のグリッド電極に第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）を印加する第２の電圧印加手段と、
前記第１のコロナ帯電器が前記感光体の表面に形成する第１の帯電電位Ｖｄ（Ｕ）に、前記第２のコロナ帯電器が前記感光体の表面に形成する第２の帯電電位Ｖｄ（Ｌ）を重畳させて得られる合成表面電位Ｖｄ（Ｕ＋Ｌ）を検知する電位検知手段と、
画像形成期間以外の期間において、前記第１及び第２のコロナ帯電器で前記感光体を帯電しながら前記第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）を調整して合成表面電位Ｖｄ（Ｕ＋Ｌ）を目標の電位の範囲に制御する第１の調整動作と、前記第１及び第２のコロナ帯電器で前記感光体を帯電しながら前記第１の電圧Ｖｇ（Ｕ）を調整して合成表面電位Ｖｄ（Ｕ＋Ｌ）の前記感光体の周方向のムラを所定の範囲に制御する第２の調整動作と、を含む調整動作を実行する実行部と、
を有することを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記目的は本発明に係る画像形成装置にて達成される。要約すれば、本発明は、感光体と、前記感光体の帯電処理を行う第１、第２のコロナ帯電器と、前記第１、第２のコロナ帯電器のそれぞれのグリッド電極に、独立して制御可能な第１の電圧Ｖｇ（Ｕ）、第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）をそれぞれ印加する電圧印加手段と、を有し、前記第１のコロナ帯電器が前記感光体の表面に形成する第１の帯電電位Ｖｄ（Ｕ）に、前記第２のコロナ帯電器が前記感光体の表面に形成する第２の帯電電位Ｖｄ（Ｌ）を重畳させて合成表面電位Ｖｄ（Ｕ＋Ｌ）を形成することにより、前記帯電処理を行う画像形成装置において、前記感光体の表面に前記第１の帯電電位Ｖｄ（Ｕ）が形成されている状態で前記第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）を変化させて、前記合成表面電位Ｖｄ（Ｕ＋Ｌ）の形成が開始される前記第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）である重畳開始電圧Ｖｇ（Ｌ）Ａを求め、該重畳開始電圧Ｖｇ（Ｌ）Ａに基づいて前記帯電処理時の前記第２の電圧Ｖｇ（Ｌ）の設定を調整する調整動作、を実行させる制御手段を有することを特徴とする画像形成装置である。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月17日(2020.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多流路マイクロ分注機構(20)で断続的に放出された液滴又は液体ビーム(26)を光学チェックするための光学チェック装置(10)であって、
前記マイクロ分注機構(20)の各々の分注流路(22)に割り当てられており、それぞれ前記分注流路(22)の傍で共通の支持体(30)上に直接的に配置されており、それぞれ、
不均質なビームプロファイルを有する光源(42)と、
前記光源(42)の特色のある光ビーム(44)が投射されるセンサー面(48)を有する光センサー(46)と
から成る少なくとも一つのライトバリアユニット(40)を含んでいる装置において、
前記特色のある光ビーム(44)がそれぞれ、放出された前記液滴又は液体ビーム(26)の伝播方向を横切って延びており、チェックすべき前記液滴又は液体ビーム(26)より幅広く、
前記特色のある光ビーム(44)は、光束の中心である光軸において最も高い強度を有し、光束の周縁へとそれぞれに強度が低下する光円錐であり、
光センサー(46)が、入射される光ビーム(44)のビームプロファイル全体を検出し、かつ投影面における光ビーム全域の強度を積分し、該積分された強度に対応するセンサー電流を生成し、
光ビーム(44)の最大の暗化およびセンサー電流の最大減少を、光ビーム(44)がその光軸の中心をまっすぐに遮断されたときに発生させることができる、装置
【請求項２】
各々の分注流路(22)にそれぞれ正確に一つのライトバリアユニット(40)が割り当てられている、請求項1に記載の装置。
【請求項３】
各々の分注流路(22)にそれぞれ二つのライトバリアユニット(40)が割り当てられており、前記ライトバリアユニット(40)の光ビーム(44)が互いに対して30°〜150°の角度を有する、請求項1に記載の装置。
【請求項４】
少なくともそれぞれの前記光センサー(46)に接続され、前記センサー面(48)に当たっている前記特色のある光ビーム(44)の強度を決定するためのプログラムがされた評価ユニット(60)と、
時間的な強度推移を確定するための、又は前記液滴若しくは液体ビーム(26)が通過する時点と、前記出来事の直前若しくは直後の時点との強度差を確定するための、メモリーユニット(62)及び計算ユニット(64)とを、
さらに含んでいる請求項1から3のいずれか一項に記載の装置。
【請求項５】
予め決定可能な時間的な強度推移又は強度差の逸脱を信号で知らせるための、信号機構及び制御機構(66)を、
さらに含んでいる請求項4に記載の装置。
【請求項６】
前記マイクロ分注機構(20)のそれぞれの前記分注流路(22)からの液体の放出を制御又は調節するための、前記マイクロ分注機構(20)の調節要素(28)に接続された信号戻り線(68)をさらに含んでいる請求項4又は5に記載の装置。
【請求項７】
前記ライトバリアユニット(40)が、前記支持体(30)上に規則的に離隔しており、且つ格子(二次元アレイ)又は列(一次元アレイ)の形態で配置されており、且つ前記支持体(30)と一緒に統合センサープレートを形成している、請求項1から6のいずれか一項に記載の装置。
【請求項８】
請求項1から7のいずれか一項に記載の前記光学チェック装置(10)を含んでいる、液滴又は液体ビーム(26)の制御可能な断続的な放出のための多流路マイクロ分注機構(20)。
【請求項９】
多流路マイクロ分注機構の分注流路での液滴又は液体ビームの放出をチェックするための方法であって、
-  前記分注流路でのそれぞれ単一の液滴又は液体ビームの短期的な放出を誘発するステップと、
-  不均質なビームプロファイルをもつ光ビームであって、光束の中心である光軸において最も高い強度を有して光束の周縁へとそれぞれに強度が低下する光円錐である光ビームにより、それぞれ放出された前記液滴又は液体ビームを照明し、且つ前記液滴又は液体ビームにより前記光ビームが遮られたときに、前記光ビームの幅にわたって積分された強度の減衰を記録するステップと、
-  投影面における光ビーム全域に入射される光ビームの強度を積分し、その積分された強度に対応するセンサー電流を生成し、光ビームがその光軸の中心を真っ直ぐに遮られると、光ビームの最大の暗化およびセンサー電流の最大の減少を発生させることができる光センサー上でそれぞれの記録された、放出に相関する前記強度推移を自動的に評価するステップと、
-  それぞれの前記分注流路からの前記液体の放出を調節するため及び/又は誤った分注を信号で知らせるために、前記評価の結果として制御信号又は警戒信号を発信するステップとを含んでいる方法。
【請求項１０】
単一の液滴または液体ビームの放出の開始時に、該放出に相関する減衰強度の平均最大振幅が、理想的な分注量を示し、
- 放出に相関する減衰強度が所定の閾値以下に減少すること、
- 放出に相関する減衰強度がないこと、および/または
- 放出に相関する減衰強度の統計的な信号変動が所定の閾値を超えて上昇すること
のいずれの場合も、それぞれの分注流路での不正な分注を示す、請求項9に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年3月12日(2020.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ化ポリマー単位及び疎水性ポリマー単位を有する線状の相分離ポリマーであって、前記フッ化ポリマー単位及び前記疎水性ポリマー単位が前記ポリマーに沿ってランダムに順序付けられており、前記疎水性ポリマー単位が第１の疎水性ポリマー単位及び第２の疎水性ポリマー単位を含み、前記第１の疎水性ポリマー単位が一又は複数の直鎖アルキル基、直鎖アルケニル基又はこれらの組み合わせで各々が置換されるアクリレート単位又はメタクリレート単位から選択され、前記直鎖アルキル基又はアルケニル基のうちの少なくとも１つが１６から２０の炭素原子を有しており、前記第２の疎水性ポリマー単位が一又は複数の直鎖アルキル基、直鎖アルケニル基又はこれらの組み合わせで各々が置換されるアクリレート単位又はメタクリレート単位から選択され、前記第２の疎水性ポリマー単位の前記直鎖アルキル基又はアルケニル基のうちの少なくとも１つが５から１４の炭素原子を有している、線状の相分離ポリマー
を含み、
熱応答性接着剤のピークの接着強度が温度の変化に伴って変更可能かつ可逆的である、熱応答性接着剤。
【請求項２】
前記フッ化ポリマー単位が化学式１のモノマーから形成され：
2018028055.tif 000001
Ｒ１が水素又はメチルであり、Ｒ２が６から２０の炭素原子を有するフルオロアルキルである、請求項１に記載の熱応答性接着剤。
【請求項３】
前記フッ化ポリマー単位が化学式２のモノマーから形成され：
2018028055.tif 000002
Ｒ１が水素又はメチルであり、ｎが５から１７の範囲である、請求項２に記載の熱応答性接着剤。
【請求項４】
前記第１の疎水性ポリマー単位が化学式３のモノマーから形成され：
2018028055.tif 000003
Ｒ１が水素又はメチル基であり、Ｒ３が１７から１９の炭素原子を有するアルキル又はアルケニルである、請求項３に記載の熱応答性接着剤。
【請求項５】
Ｒ３が１８の炭素原子を有するアルキルである、請求項４に記載の熱応答性接着剤。
【請求項６】
前記第２の疎水性ポリマー単位が一般的な化学式４のモノマーから形成され：
2018028055.tif 000004
Ｒ１が水素又はメチルであり、Ｒ４が５から１４の炭素原子を有するアルキル又はアルケニルである、請求項３に記載の熱応答性接着剤。
【請求項７】
熱応答性接着剤を製作する方法であって、
少なくとも１つのフッ化モノマー、第１の疎水性モノマー、及び第２の疎水性モノマーを組み合わせること、並びにそれらのモノマーを加熱して線状の層分離ポリマーを形成することを含み、前記少なくとも１つのフッ化モノマーがフッ化アルキル基で各々が置換されるアクリレート又はメタクリレートから選択され、前記第１の疎水性モノマーが少なくとも１つの直鎖アルキル基、直鎖アルケニル基又はこれらの組み合わせで置換されるアクリレート又はメタクリレートから選択され、前記アルキル又はアルケニル基のうちの少なくとも１つが１６から２０の炭素原子を有し、前記第２の疎水性モノマーが少なくとも１つの直鎖アルキル基、直鎖アルケニル基又はこれらの組み合わせで置換されるアクリレート又はメタクリレートから選択され、前記第２の疎水性モノマーの前記アルキル又はアルケニル基のうちの少なくとも１つが５から１４の炭素原子を有し、
前記熱応答性接着剤のピークの接着強度が温度の変化に伴って変更可能かつ可逆的である、方法。
【請求項８】
前記少なくとも１つのフッ化モノマーが化学式１の化合物であり：
2018028055.tif 000005
Ｒ１が水素又はメチルであり、Ｒ２が６から２０の炭素原子を有するフルオロアルキルである、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記少なくとも１つのフッ化モノマーが化学式２の化合物であり：
2018028055.tif 000006
Ｒ１が水素又はメチルであり、ｎが５から１７の範囲である、請求項７又は８に記載の方法。
【請求項１０】
前記第１の疎水性モノマーが化学式３の化合物であり：
2018028055.tif 000007
Ｒ１が水素又はメチル基であり、Ｒ３が１７から１９の炭素原子を有するアルキル又はアルケニルである、請求項７から９の何れか一項に記載の方法。
【請求項１１】
Ｒ３が１８の炭素原子を有するアルキルである、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記第２の疎水性モノマーが化学式４の化合物であり：
2018028055.tif 000008
Ｒ１が水素又はメチルであり、Ｒ４が５から１４の炭素原子を有するアルキル又はアルケニルである、請求項７から１１の何れか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月4日(2020.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
当然ながら、当業者であれば、その時々の要件や偶発的な要件を満足するために、本発明にかかる自転車用のブレーキディスクに様々な変更や変形を施すことが可能であり、いずれにせよ、これら変更や変形の全ては添付の特許請求の範囲により定まる保護範囲に包含される。
以下、本発明に含まれる態様を記す。
〔態様１〕所定の回転軸心（Ｘ）を有する、自転車用のブレーキディスク（１０）であって、
−第１の材料からなり、ブレーキパッドと協働するように構成された制動トラック（３２）を有する第１の部品（３０）と、
−第２の材料からなり、（ｉ）前記自転車の車輪のハブ（１２）とカップリングする環状の径方向内側部位（４２）および（ｉｉ）前記第１の部品（３０）と当該第１の部品（３０）のうちのそれぞれの複数の連結部位（３４）で連結する複数の径方向外側部位（４４）を有する第２の部品（４０）と、
を備える、ブレーキディスク（１０）において、前記第１の部品（３０）が、前記制動トラック（３２）から前記所定の回転軸心（Ｘ）に向かって延びる、前記複数の連結部位（３４）とは異なる複数の接続アーム（３８）を有し、前記第１の部品（３０）の少なくとも１つの前記接続アーム（３８）と前記第２の部品（４０）の少なくとも１つの前記径方向外側連結部位（４４）とが、少なくとも１つの形状カップリング部（６０）を介して互いにカップリングされていることを特徴とする、ブレーキディスク（１０）。
〔態様２〕態様１に記載のブレーキディスク（１０）において、少なくとも１つの前記形状カップリング部（６０）が、少なくとも１つの前記接続アーム（３８）及び少なくとも１つの前記径方向外側連結部位（４４）のうちの一方に形成されて少なくとも１つの前記接続アーム（３８）及び少なくとも１つの前記径方向外側連結部位（４４）のうちの他方の一部を収容する、少なくとも１つの収容座部（６２）を含む、ブレーキディスク（１０）。
〔態様３〕態様２に記載のブレーキディスク（１０）において、少なくとも１つの前記接続アーム（３８）および少なくとも１つの前記径方向外側連結部位（４４）が、互いに実質的に交差する延在方向に沿って延在する、ブレーキディスク（１０）。
〔態様４〕態様２または３に記載のブレーキディスク（１０）において、少なくとも１つの前記収容座部（６２）が、前記第２の部品（４０）の少なくとも１つの前記径方向外側連結部位（４４）に形成されており、かつ、当該収容座部（６２）で測定される前記第１の部品（３０）の少なくとも１つの前記接続アーム（３８）の軸方向厚さの半分に等しいか、それより大きい軸方向深さを有する、ブレーキディスク（１０）。
〔態様５〕態様４に記載のブレーキディスク（１０）において、前記収容座部（６２）が、前記第２の部品（４０）の少なくとも１つの前記径方向外側連結部位（４４）に形成された、前記第１の部品（３０）の少なくとも１つの前記接続アーム（３８）の一部により当接される少なくとも１つのショルダー部（６２ａ）を有し、当該ショルダー部（６２ａ）は、前記第１の部品（３０）の少なくとも１つの前記接続アーム（３８）の延在方向と実質的に平行な延在方向を有する、ブレーキディスク（１０）。
〔態様６〕態様１から５のいずれか一態様に記載のブレーキディスク（１０）において、前記第１の部品（３０）が、前記制動トラック（３２）に前記複数の接続アーム（３８）を介して接続された環状の径方向内側部位（３６）を有する、ブレーキディスク（１０）。
〔態様７〕態様６に記載のブレーキディスク（１０）において、
前記第１の部品（３０）の及び前記第２の部品（４０）の前記環状の径方向内側部位（３６，４２）を相互圧力下に維持するように前記第１の部品（３０）及び前記第２の部品（４０）の当該環状の径方向内側部位（３６，４２）に対して作用する軸方向ロック部材（２２）、を備える、ブレーキディスク（１０）。
〔態様８〕態様７に記載のブレーキディスク（１０）において、前記軸方向ロック部材（２２）が、さらに、前記第２の部品（４０）の前記環状の径方向内側部位（４２）を前記ハブ（１２）に軸方向に拘束するように構成されている、ブレーキディスク（１０）。
〔態様９〕態様７または８に記載のブレーキディスク（１０）において、前記軸方向ロック部材（２２）が、前記第１の部品（３０）の前記環状の径方向内側部位（３６）に当接している、ブレーキディスク（１０）。
〔態様１０〕態様６から９のいずれか一態様に記載のブレーキディスク（１０）において、前記第１の部品（３０）の前記環状の径方向内側部位（３６）に、ローレット加工された軸方向外側面（３６ａ）が設けられている、ブレーキディスク（１０）。
〔態様１１〕態様６から１０のいずれか一態様に記載のブレーキディスク（１０）において、前記第１の部品（３０）の前記環状の径方向内側部位（３６）が、前記第２の部品（４０）の前記環状の径方向内側部位（４２）と軸方向に少なくとも部分的に並置されている、ブレーキディスク（１０）。
〔態様１２〕態様６から１１のいずれか一態様に記載のブレーキディスク（１０）において、前記軸方向ロック部材が、前記第１の部品（３０）の前記環状の径方向内側部位（３６）に軸方向に当接しているカラー、および前記カラーから遠ざかるように軸方向に延びて且つ前記ハブ（１２）とカップリングするように構成されたロックナット（２２）を含む、ブレーキディスク（１０）。
〔態様１３〕態様１２に記載のブレーキディスク（１０）において、前記カラーと前記ロックナット（２２）とが一体品として形成されている、ブレーキディスク（１０）。
〔態様１４〕態様６から１３のいずれか一態様に記載のブレーキディスク（１０）において、前記第１の部品（３０）のうちの前記制動トラック（３２）、前記複数の接続アーム（３８）、前記複数の連結部位（３４）および前記環状の径方向内側部位（３６）が、実質的に一様な軸方向厚さを有しており、かつ、実質的に同一平面上にある、ブレーキディスク（１０）。
〔態様１５〕態様１から１４のいずれか一態様に記載のブレーキディスク（１０）において、前記第１の部品（３０）が第１の中央平面に位置し、当該第１の中央平面が前記第２の部品（４０）の第２の中央平面よりも軸方向外側にあり、前記第１の平面および前記第２の平面が互いに平行である、ブレーキディスク（１０）。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月21日(2020.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メモリチャネル当たり１つのＥＣＣチップを含むことにより削減したＥＣＣチップオーバーヘッドを使用する間、又は削減した内部プリフェッチの大きさを使用する間、ＤＲＡＭ（ｄｙｎａｍｉｃ  ｒａｎｄｏｍ−ａｃｃｅｓｓ  ｍｅｍｏｒｙ  ｍｏｄｕｌｅ、ダイナミックＲＡＭモジュール）の支援によってメモリコントローラにチップ故障を識別するようにすることにより、ＤＤＲ（ｄｏｕｂｌｅ  ｄａｔａ  ｒａｔｅ）インタフェイスを利用した前記ＤＲＡＭのメモリエラーを訂正する方法において、
前記ＤＲＡＭのデータチップ（複数）から前記メモリコントローラへデータを送るために多重のバーストを含むメモリ処理（ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎ）を前記メモリコントローラと共に遂行する段階と、
前記ＤＲＡＭの前記ＥＣＣチップを利用して１つ以上のエラーを感知する段階と、
前記ＤＲＡＭの前記ＥＣＣチップを利用して前記エラーを有する前記バーストの数を決定する段階と、
前記エラーを有する前記バーストの数が所定の閾値（ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ  ｎｕｍｂｅｒ）より大きいか否かを決定する段階と、
前記エラーの種類を決定する段階と、
前記決定された前記エラーの種類に基づいて前記メモリコントローラを指示する段階と、
を含み、
前記ＤＲＡＭは、メモリチャネル当たり１つのＥＣＣチップを含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記ＤＲＡＭの前記ＥＣＣチップを利用して前記１つ以上のエラーを感知する段階は、
前記ＥＣＣチップを利用して前記バーストの各々についてパリティチェック（ｐａｒｉｔｙ  ｃｈｅｃｋ）を遂行する段階を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記エラーを有する前記バーストの数が前記閾値より大きくなければ、前記ＤＲＡＭからメモリ読出しを再トライするように前記メモリコントローラを指示する段階をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記メモリコントローラが前記メモリ読出しを再トライすれば、追加的なエラーを感知する段階と、
前記追加的なエラーが前記感知された１つ以上のエラーと同一のエラーパターンを有するか否かを決定する段階と、をさらに含むことを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記追加的なエラーが前記感知された１つ以上のエラーと異なるエラーパターンを有すると決定されれば、前記ＤＲＡＭからメモリ読出しを再び再トライするように前記メモリコントローラを指示する段階をさらに含むことを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記追加的なエラーが前記感知された１つ以上のエラーと同一のエラーパターンを有すると決定されれば、ハードエラー（ｈａｒｄ  ｅｒｒｏｒ）を識別する段階と、
エラー訂正において前記ＤＲＡＭを支援するように前記メモリコントローラを指示する段階と、
前記エラーのアドレス（ａｄｄｒｅｓｓ）を記録する段階をさらに含むことを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項７】
前記エラーを有する前記バーストの数が前記閾値より大きければ、前記１つ以上のエラーが同一のチップの同一のピンに対応するか否かを決定する段階をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記１つ以上のエラーが前記ＤＲＡＭの同一のチップの同一のピンに対応すると決定されれば、前記エラーは、ＤＱ故障（ＤＱ  ｆａｉｌｕｒｅ）に対応すると決定する段階と、前記１つ以上のエラーが前記同一のチップの前記同一のピンに対応しないと決定されれば、前記１つ以上のエラーは、チップ故障（ｃｈｉｐ  ｆａｉｌｕｒｅ）に対応すると決定する段階と、をさらに含むことを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記メモリコントローラを指示する段階は、
前記１つ以上のエラーが前記ＤＱ故障又は前記チップ故障に対応すれば、チップキル感知（ｃｈｉｐｋｉｌｌ  ｄｅｔｅｃｔｉｏｎ）を支援するようにメモリコントローラを指示する段階を含むことを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記エラーを有する前記バーストの数が前記閾値より大きければ、前記１つ以上のエラーが前記ＤＲＡＭの１つより多いチップに対応するか否かを決定する段階と、
前記１つ以上のエラーが前記ＤＲＡＭの同一のチップに対応すると決定されれば、前記ＤＲＡＭの該当チップは、消去されたことと表示する段階と、
前記１つ以上のエラーが前記ＤＲＡＭの１つより多いチップに対応すると決定されれば、致命的なエラー（ｆａｔａｌ  ｅｒｒｏｒ）を識別する段階と、をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記エラーを有する前記バーストの数が前記閾値より大きければ、前記ＤＲＡＭの他のチップが以前に消去されたか否かを決定する段階と、
前記ＤＲＡＭの前記他のチップが以前に消去されたら、致命的なエラーを識別する段階と、をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本開示の実施形態の様相は、エラーを訂正するためにＤＲＡＭ（ｄｙｎａｍｉｃ  ｒａｎｄｏｍ−ａｃｃｅｓｓ  ｍｅｍｏｒｙ  ｍｏｄｕｌｅ、ダイナミックＲＡＭモジュール）内ＥＣＣを利用する新しいＤＤＲインタフェイスに係る。
本発明の実施形態によれば、メモリチャネル当たり１つのＥＣＣチップを含むことにより削減したＥＣＣチップオーバーヘッドを使用する間、又は削減した内部プリフェッチの大きさを使用する間、ＤＲＡＭ（ｄｙｎａｍｉｃ  ｒａｎｄｏｍ−ａｃｃｅｓｓ  ｍｅｍｏｒｙ  ｍｏｄｕｌｅ、ダイナミックＲＡＭモジュール）の支援によってメモリコントローラにチップ故障を識別するようにすることにより、ＤＤＲ（ｄｏｕｂｌｅ  ｄａｔａ  ｒａｔｅ）インタフェイスを利用した前記ＤＲＡＭのメモリエラーを訂正する方法が提供される。該方法は前記ＤＲＡＭのデータチップ（複数）から前記メモリコントローラへデータを送るために多重バーストを含むメモリ処理（ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎ）を前記メモリコントローラと共に遂行する段階、前記ＤＲＡＭの前記ＥＣＣチップ（単数）を利用して１つ以上のエラーを感知する段階、前記ＤＲＡＭの前記ＥＣＣチップを利用して前記エラーを有する前記バーストの数を決定する段階、前記エラーを有する前記バーストの数が所定の閾値（ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ  ｎｕｍｂｅｒ）より大きいか否かを決定する段階、前記エラーの種類を決定する段階、及び前記決定された前記エラーの種類に基づいて前記メモリコントローラを指示する段階を含み、前記ＤＲＡＭはメモリチャネル当たり１つのＥＣＣチップを含む。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月15日(2020.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プリンタにより印刷された後の複数の用紙に対して実行される第１の後処理の情報に基づいて、成果物のデータと、後段の作業で使用される作業指示書のデータとをレイアウト処理して、印刷データを生成する処理手段と、
前記生成された印刷データを前記複数の用紙に印刷するように、前記プリンタに指示する指示手段と、
を備え、
前記処理手段は、前記プリンタにより印刷された後の複数の用紙に対して前記第１の後処理が実行された後に排出される順序に基づいて、前記第１の後処理により排出される成果物の上に前記第１の後処理により排出される作業指示書が重なるように、前記成果物のデータと前記作業指示書のデータとをレイアウト処理して前記印刷データを生成する、
ことを特徴とする印刷制御装置。
【請求項２】
前記第１の後処理は、中綴じ処理または断裁処理であることを特徴とする請求項１に記載の印刷制御装置。
【請求項３】
前記第１の後処理は中綴じ処理であり、
前記処理手段は、前記成果物のデータが印刷された複数の用紙に対して前記中綴じ処理として中折り処理とステイプル処理の両処理を実行することにより得られる中綴じ処理後の成果物の上に、前記作業指示書のデータが印刷された用紙に対して前記中綴じ処理として中折り処理を実行することにより得られる中折り処理後の作業指示書が、前記中綴じ処理の排出口において重なるように、前記成果物のデータと前記作業指示書のデータとをレイアウト処理して前記印刷データを生成する
ことを特徴とする請求項１に記載の印刷制御装置。
【請求項４】
前記作業指示書は、前記第１の後処理のさらに後段の作業に関する情報を含むことを特徴とする請求項３に記載の印刷制御装置。
【請求項５】
前記作業指示書は、前記中綴じ処理後の印刷物に対する断裁処理に関する情報および／または配送作業に関する情報を含むことを特徴とする請求項４に記載の印刷制御装置。
【請求項６】
前記レイアウト処理では、さらに、前記第１の後処理のさらに後段の作業で使用するための管理情報を前記印刷データに付与することを特徴とする請求項１に記載の印刷制御装置。
【請求項７】
前記第１の後処理は、断裁処理であり、
前記レイアウト処理では、断裁処理後の印刷物と断裁処理後の作業指示書とが重ねて出力されるように、前記印刷物に関する複数のイメージと前記作業指示書に関するイメージとが配置されたページの印刷データを作成する
ことを特徴とする請求項１に記載の印刷制御装置。
【請求項８】
前記成果物は名刺であり、
前記第１の後処理は、断裁処理であり、
前記処理手段は、前記断裁処理後に排出される所定数の名刺の上に前記断裁処理後に排出される１つの作業指示書が重なるように、前記名刺に関するイメージが配置され且つ前記作業指示書に関するイメージが配置されていない第１のページの印刷データと、前記名刺に関するイメージと前記作業指示書に関するイメージとが配置された第２のページの印刷データとを作成する、
ことを特徴とする請求項１に記載の印刷制御装置。
【請求項９】
プリンタにより印刷された後の複数の用紙に対して実行される第１の後処理の情報に基づいて、成果物のデータと、後段の作業で使用される作業指示書のデータとをレイアウト処理して、印刷データを生成する処理ステップと、
前記生成された印刷データを前記複数の用紙に印刷するように、前記プリンタに指示する指示ステップと、
を含み、
前記処理ステップでは、前記プリンタにより印刷された後の複数の用紙に対して前記第１の後処理が実行された後に排出される順序に基づいて、前記第１の後処理により排出される成果物の上に前記第１の後処理により排出される作業指示書が重なるように、前記成果物のデータと前記作業指示書のデータとをレイアウト処理して前記印刷データを生成する、
ことを特徴とする印刷制御方法。
【請求項１０】
コンピュータを、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の印刷制御装置として機能させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月22日(2020.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
使用者の両足が載置される載置部と、
円弧部を有し、前記載置部に載置された使用者の両足が交互に動作することで所定範囲に亘って回動する本体部と、
前記本体部の水平面内における移動を規制する規制手段と、を備え、
前記規制手段は、
前記本体部の前記円弧部の一部を除去することによって形成された凹部と、
前記凹部に嵌め合わされる凸部と、を有し、
前記凸部の長手方向における長さ寸法は前記凹部の長手方向における長さ寸法よりも小さく、
前記凸部は前記凹部によって覆われることを特徴とする運動器具。
【請求項２】
前記本体部の回動時においては、前記凹部のエッジ部に前記凸部が接触することで、前記本体部の移動が規制されることを特徴とする請求項１に記載の運動器具。
【請求項３】
床面に設置され前記凸部を上面に固定したベース部をさらに備えたことを特徴とする請求項１又は２に記載の運動器具。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の運動器具は、使用者の両足が載置される載置部と、円弧部を有し、前記載置部に載置された使用者の両足が交互に動作することで所定範囲に亘って回動する本体部と、前記本体部の水平面内における移動を規制する規制手段と、を備え、前記規制手段は、前記本体部の前記円弧部の一部を除去することによって形成された凹部と、前記凹部に嵌め合わされる凸部と、を有し、前記凸部の長手方向における長さ寸法は前記凹部の長手方向における長さ寸法よりも小さく、前記凸部は前記凹部によって覆われる。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月12日(2020.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
通水濾過性シートから形成された袋本体、袋本体の対向する２面の外表面に設けられた薄板状材料からなる掛止部材、及び袋本体に充填されている抽出材料を有するドリップバッグであって、
袋本体は上縁部に易開裂線を有し、
掛止部材は、袋本体の上辺に沿った、袋本体から引き起こし不能の上部帯状部、及び
上部帯状部の下方で袋本体から引き起こし可能に形成された掛止部を有し、
上部帯状部と掛止部は掛止部材の幅方向中央部で連続し、
上部帯状部は、掛止部材の幅方向中央部に上部帯状部の上部から下方に伸びた第１折れ線を有すると共に、該第１折れ線の両側に上部帯状部の上部から下方に伸びた第２折れ線を有するドリップバッグ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
即ち、本発明は、通水濾過性シートから形成された袋本体、袋本体の対向する２面の外表面に設けられた薄板状材料からなる掛止部材、及び袋本体に充填されている抽出材料を有するドリップバッグであって、
袋本体は、上縁部に易開裂線を有し、
掛止部材は、袋本体の上辺に沿った、袋本体から引き起こし不能の上部帯状部、及び
上部帯状部の下方でに袋本体から引き起こし可能に形成された掛止部を有し、
上部帯状部と掛止部は掛止部材の幅方向中央部で連続し、
上部帯状部は、掛止部材の幅方向中央部に上部帯状部の上部から下方に伸びた第１折れ線を有すると共に、該第１折れ線の両側に上部帯状部の上部から下方に伸びた第２折れ線を有するドリップバッグを提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
袋本体１０は、上辺１１ａが通水濾過性シートの折山で輪になっており、下辺１１ｂ及び左右の側辺１１ｃ、１１ｄがシールされた矩形の平袋であって、対向する２面を有している。袋本体１０の上辺１１ａには、その全幅にわたり易開裂線として開封用ミシン目１２が設けられている。開封用ミシン目１２としては、ミシン目の開封を容易にする点から、マイクロミシン目を形成することが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
なお、本発明においては、上辺１１ａを折山とせず、表裏の通水濾過性シートの縁辺を重ね合わせてシールした部分としてもよい。その場合、上辺１１ａのシールは、不用に剥離することはないが、袋本体１０の他の辺のシールに比して低い引っ張り強度で剥離する弱シールとすることが好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
次に、掛止部材２０と通水濾過性シート４１とを合わせ、図１Ａに斜線で塗りつぶした貼着域で掛止部材２０と通水濾過性シート４１とを貼着する。この貼着を通水濾過性シート４１側から加熱ヘッドをあてて通水濾過性シート４１と掛止部材２０とを熱溶着させることにより行う場合、本来の貼着域と共に、袋本体１０の開封開始部となる部分にも加熱ヘッドをあて、通水濾過性シート４１に脆弱化部分を形成することが好ましい。この脆弱化部分の形成により袋本体１０の開封に必要とされる力を特に低減させることができるので好ましい。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月12日(2020.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
袋本体１０は、上辺１１ａが通水濾過性シートの折山で輪になっており、下辺１１ｂ及び左右の側辺１１ｃ、１１ｄがシールされた矩形の平袋であって、対向する２面を有している。袋本体１０の上辺１１ａには、その全幅にわたり易開裂線として開封用ミシン目１２が設けられている。開封用ミシン目１２としては、ミシン目の開封を容易にする点から、マイクロミシン目を形成することが好ましい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
掛止部材２０と通水濾過性シート４１との貼着を、通水濾過性シート４１側から加熱ヘッドをあて、通水濾過性シート４１と掛止部材２０とを熱溶着させることにより行う場合、本来の貼着域と共に、袋本体１０の開封開始部となる部分にも加熱ヘッドをあて、通水濾過性シート４１に脆弱化部分を形成することが好ましい。この脆弱化部分の形成により袋本体１０の開封に必要とされる力を特に低減させることができるので好ましい。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月19日(2019.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対照造血幹細胞または造血前駆細胞の基本ＣＸＣＲ４遺伝子発現と比較して少なくとも３０倍高いＣＸＣＲ４遺伝子発現を有する、ヒト造血幹細胞または造血前駆細胞。
【請求項２】
前記造血幹細胞または造血前駆細胞が、基本ＣＸＣＲ４遺伝子発現と比較して少なくとも４０倍、５０倍、６０倍、７０倍、または８０倍高いＣＸＣＲ４遺伝子発現を有する、請求項１に記載のヒト造血幹細胞または造血前駆細胞。
【請求項３】
前記造血幹細胞および造血前駆細胞が、造血幹細胞および造血前駆細胞の集団である、請求項１に記載のヒト造血幹細胞または造血前駆細胞。
【請求項４】
前記集団が、
（ａ）（ｉ）０．１％、０．５％、１％、２％、５％、１０％、１５％、２０％、２５％、もしくは３０％の造血幹細胞または造血前駆細胞、または（ｉｉ）１％〜３％、７０％〜８０％、もしくは９５％〜１００％の造血幹細胞または造血前駆細胞；あるいは
（ｂ）（ｉ）０．１０％未満、０．５０％未満、１．０％未満、３％未満、５％未満、１０％未満、１５％未満、２０％未満、または３０％未満のＣＤ３４＋細胞、（ｉｉ）少なくとも０．０１％でかつ５０％以下のＣＤ３４＋細胞、あるいは（ｉｉｉ）少なくとも１％のＣＤ３４＋細胞、少なくとも３％のＣＤ３４＋細胞、少なくとも５％のＣＤ３４＋細胞、少なくとも９０％のＣＤ３４＋細胞または少なくとも９５％のＣＤ３４＋細胞
を含む、請求項３に記載のヒト造血幹細胞または造血前駆細胞。
【請求項５】
前記細胞が、投与を必要とするヒト被験体へ投与準備済みである、請求項３または４に記載のヒト造血幹細胞または造血前駆細胞。
【請求項６】
前記造血幹細胞または造血前駆細胞が、治療用組成物の構成成分である、請求項１〜５のいずれか一項に記載のヒト造血幹細胞または造血前駆細胞。
【請求項７】
骨髄、臍帯血、動員された末梢血、ホウォートンゼリー、胎盤、胎児血、または人工多能性幹細胞（ｉＰＳＣ）から得られたものである、請求項１〜６のいずれか一項に記載のヒト造血幹細胞または造血前駆細胞。
【請求項８】
ヒト被験体における細胞治療のための、請求項１〜７のいずれか一項に記載の細胞を含む組成物。
【請求項９】
免疫学的障害または疾患の処置のための、請求項１〜７のいずれか一項に記載の細胞を含む組成物。
【請求項１０】
前記被験体が、乳がん、卵巣がん、脳がん、前立腺がん、肺がん、結腸がん、皮膚がん、肝がん、膵がん、または肉腫を有する、請求項８に記載の組成物。
【請求項１１】
前記被験体が、骨髄破壊または骨髄非破壊化学療法または放射線療法を受けている、請求項８に記載の組成物。
【請求項１２】
前記被験体が骨髄ドナーである、請求項８に記載の組成物。
【請求項１３】
急性冠状動脈症候群、急性肺傷害（ＡＬＩ）、急性心筋梗塞（ＡＭＩ）、急性呼吸窮迫症候群（ＡＲＤＳ）、動脈閉塞性疾患、動脈硬化症、関節軟骨欠損、無菌性全身性炎症、アテローム硬化性心血管疾患、自己免疫疾患、骨折、脳浮腫、脳低灌流、バージャー病、熱傷、がん、心血管疾患、軟骨損傷、脳梗塞、脳虚血、脳卒中、脳血管疾患、化学療法誘発性ニューロパチー、慢性感染、慢性腸間膜虚血、跛行、うっ血性心不全、結合組織損傷、挫傷、冠動脈疾患（ＣＡＤ）、重症肢虚血（ＣＬＩ）、クローン病、深部静脈血栓症、深部創傷、潰瘍治癒の遅延、創傷治癒の遅延、Ｉ型糖尿病、ＩＩ型糖尿病、糖尿病性ニューロパチー、糖尿病誘発性虚血、播種性血管内凝固（ＤＩＣ）、塞栓性脳虚血、移植片対宿主病、凍傷、遺伝性出血性毛細血管拡張症、高酸素傷害、低酸素症、炎症、炎症性腸疾患、炎症性疾患、傷害を受けた腱、間欠性跛行、腸管虚血、虚血、虚血性脳疾患、虚血性心疾患、虚血性末梢血管疾患、虚血胎盤、虚血性腎疾患、虚血性血管疾患、虚血再灌流傷害、裂傷、左主冠状動脈疾患、肢虚血、下肢虚血、心筋梗塞、心筋虚血、臓器虚血、変形性関節症、骨粗鬆症、骨肉腫、パーキンソン病、末梢動脈性疾患（ＰＡＤ）、末梢動脈疾患、末梢性虚血、末梢性ニューロパチー、末梢血管疾患、前がん、肺水腫、肺塞栓症、リモデリング障害、腎臓虚血、網膜虚血、網膜症、敗血症、皮膚潰瘍、実質臓器移植、脊髄傷害、卒中、軟骨下骨嚢胞、血栓症、血栓性脳虚血、組織虚血、一過性脳虚血発作（ＴＩＡ）、外傷性脳傷害、潰瘍性大腸炎、腎臓の血管疾患、血管の炎症性の状態、フォンヒッペル・リンダウ症候群、または組織もしくは臓器の創傷の処置のための、請求項１〜７のいずれか一項に記載の細胞を含む組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月28日(2020.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配列番号２で表される親ポリメラーゼに由来する改変ＤＮＡポリメラーゼであって、
ＤＮＡポリメラーゼ活性を有し、
配列番号２のＨ２２３に対応する位置にアミノ酸置換を有し、
配列番号２にＳ３６６Ａ＋Ｎ５３５Ｌ＋Ａ５４７Ｍからなるアミノ酸置換を有し、
親ポリメラーゼと比較して変化した特性を有し、前記変化した特性が伸長速度である、
前記改変ＤＮＡポリメラーゼ。
【請求項２】
前記Ｈ２２３におけるアミノ酸置換が、Ｈ２２３Ａである、請求項１に記載の改変ＤＮ
Ａポリメラーゼ。
【請求項３】
前記ポリメラーゼが１０個未満の変異を含む、請求項１または２に記載の改変ＤＮＡポリメラーゼ。
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月14日(2020.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
立体的細胞組織を製造する方法であって、
細胞をカチオン性物質、および細胞外マトリックス成分を少なくとも含む溶液に懸濁されている混合物を得るＡ工程と、
得られた前記混合物から前記細胞を集め、基材上に細胞集合体を形成するＢ工程と、
前記細胞を培養し、立体的細胞組織を得るＣ工程と
を含み、
前記Ａ工程および前記Ｂ工程を少なくとも１回行った後、前記Ｃ工程を行い、
前記細胞外マトリックス成分はコラーゲン、ラミニン、フィブロネクチン、ビトロネクチン、エラスチン、テネイシン、エンタクチン、フィブリリン、プロテオグリカン、およびそれらの組み合わせからなる群から選択され、
前記混合物中の前記細胞外マトリックス成分の濃度が、０．０２５ｍｇ／ｍＬ以上１．０ｍｇ／ｍＬ未満である、立体的細胞組織を製造する方法。
【請求項２】
前記細胞外マトリックス成分がコラーゲンである、請求項１に記載の立体的細胞組織を製造する方法。
【請求項３】
前記混合物が高分子電解質を含み、
前記高分子電解質は、グリコサミノグリカン、デキストラン硫酸、ラムナン硫酸、フコイダン、カラギナン、ポリスチレンスルホン酸、ポリアクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、ポリアクリル酸、ならびにそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項２に記載の立体的細胞組織を製造する方法。
【請求項４】
前記混合物中の前記高分子電解質の濃度が、０．０２５ｍｇ／ｍＬ以上１．０ｍｇ／ｍＬ未満である、請求項３に記載の立体的細胞組織を製造する方法。
【請求項５】
前記Ａ工程の後に、得られた前記混合物から液体部分を除去し、細胞集合体を得るＡ’−１工程、および前記細胞集合体を溶液に懸濁して懸濁液を得るＡ’−２工程、をさらに含み、かつ
前記Ｂ工程に代えて、得られた前記懸濁液から前記細胞を沈殿させ、前記基材上に細胞集合体を形成するＢ’工程を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の立体的細胞組織を製造する方法。
【請求項６】
前記Ａ’−１工程における液体部分を除去する方法が、遠心分離またはろ過である、請求項５に記載の立体的細胞組織を製造する方法。
【請求項７】
前記Ｂ工程または前記Ｂ’工程における前記細胞を集める方法が、遠心分離、磁性分離、またはろ過である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の立体的細胞組織を製造する方法。
【請求項８】
前記カチオン性物質が、トリス−塩酸緩衝液、トリス−マレイン酸緩衝液、ビス−トリス−緩衝液、もしくはＨＥＰＥＳ緩衝液からなる群から選択されるカチオン性緩衝液、ならびにエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ポリビニルアミン、ポリアリルアミン、ポリリシン、ポリヒスチジン、およびポリアルギニンからなる群から選択される、請求項１〜７のいずれか一項に記載の立体的細胞組織を製造する方法。
【請求項９】
前記高分子電解質と前記細胞外マトリックス成分との配合比が１：２〜２：１である、請求項３〜８のいずれか一項に記載の立体的細胞組織を製造する方法。
【請求項１０】
前記Ａ工程における前記細胞が複数種類の細胞である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の立体的細胞組織を製造する方法。
【請求項１１】
前記複数種類の細胞が、神経細胞、樹状細胞、免疫細胞、血管内皮細胞、リンパ管内皮細胞、線維芽細胞、癌細胞、癌幹細胞、上皮細胞、心筋細胞、肝細胞、膵島細胞、組織幹細胞、ｉＰＳ細胞、ＥＳ細胞および平滑筋細胞からなる群から選択される、請求項１０に記載の立体的細胞組織を製造する方法。
【請求項１２】
得られた前記立体的細胞組織の厚さが５〜５００μｍである、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の立体的細胞組織を製造する方法。
【請求項１３】
得られた前記立体的細胞組織の前記厚さが最大となる位置を含む領域における前記厚さ方向１００μｍ幅方向５０μｍの面積あたりの細胞数が７０個以下である、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の立体的細胞組織を製造する方法。
【請求項１４】
前記カチオン性物質、および前記細胞外マトリックス成分を含み、
前記細胞外マトリックス成分は、コラーゲン、ラミニン、フィブロネクチン、ビトロネクチン、エラスチン、テネイシン、エンタクチン、フィブリリン、プロテオグリカン、およびそれらの組み合わせから選択される、
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法を実施するためのキット。
【請求項１５】
細胞と、細胞外マトリックス成分とを含有し、
厚さが１５０〜５００μｍであり、かつ前記厚さが最大となる位置を含む領域における前記厚さ方向１００μｍ幅方向５０μｍの面積あたりの最大径５０μｍ以上の空隙の数が０個であり、
前記細胞外マトリックス成分は、コラーゲン、ラミニン、フィブロネクチン、ビトロネクチン、エラスチン、テネイシン、エンタクチン、フィブリリン、プロテオグリカン、およびそれらの組み合わせから選択される、立体的細胞組織。
【請求項１６】
高分子電解質を含有し、前記高分子電解質は、グリコサミノグリカン、デキストラン硫酸、ラムナン硫酸、フコイダン、カラギナン、ポリスチレンスルホン酸、ポリアクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、ポリアクリル酸、ならびにそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１５に記載の立体的細胞組織。
【請求項１７】
前記厚さが最大となる位置を含む領域における前記厚さ方向１００μｍ幅方向５０μｍの面積あたりの細胞数が７０個以下である、請求項１５または１６に記載の立体的細胞組織。
【請求項１８】
前記細胞が癌細胞を含む、請求項１５〜１７のいずれか一項に記載の立体的細胞組織。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の第一態様に係る立体的細胞組織を製造する方法は、立体的細胞組織を製造する方法であって、細胞をカチオン性物質、および細胞外マトリックス成分を少なくとも含む溶液に懸濁されている混合物を得るＡ工程と、得られた前記混合物から前記細胞を集め、基材上に細胞集合体を形成するＢ工程と、前記細胞を培養し、立体的細胞組織を得るＣ工程とを含み、前記Ａ工程および前記Ｂ工程を少なくとも１回行った後、前記Ｃ工程を行い、前記細胞外マトリックス成分はコラーゲン、ラミニン、フィブロネクチン、ビトロネクチン、エラスチン、テネイシン、エンタクチン、フィブリリン、プロテオグリカン、およびそれらの組み合わせからなる群から選択され、前記混合物中の前記細胞外マトリックス成分の濃度が、０．０２５ｍｇ／ｍＬ以上１．０ｍｇ／ｍＬ未満である。
本発明の第二態様に係る立体的細胞組織は、細胞と、細胞外マトリックス成分とを含有し、厚さが１５０〜５００μｍであり、かつ前記厚さが最大となる位置を含む領域における前記厚さ方向１００μｍ幅方向５０μｍの面積あたりの最大径５０μｍ以上の空隙の数が０個であり、前記細胞外マトリックス成分は、コラーゲン、ラミニン、フィブロネクチン、ビトロネクチン、エラスチン、テネイシン、エンタクチン、フィブリリン、プロテオグリカン、およびそれらの組み合わせから選択される。