Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月27日(2019.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非リアルタイムＯＳ及びリアルタイムＯＳがインストールされ、制御対象装置をモーション制御するためのコンピュータで実行されるモーション制御プログラムであって、
前記コンピュータを、
前記非リアルタイムＯＳ上で動作する受付部と、
前記リアルタイムＯＳ上で動作するチャネル管理部と、
前記リアルタイムＯＳ上で動作する定周期処理部と、
して機能させ、
前記受付部は、前記制御対象装置が複数のモーション制御サイクルに渡って行うべき動作を示す制御指令を受け付け、受け付けた制御指令の内容を示す制御指令情報を、前記非リアルタイムＯＳ及び前記リアルタイムＯＳから参照可能な共有メモリのうち所定のアドレス範囲に確保される制御指令用チャネルに格納し、
前記チャネル管理部は、前記制御指令用チャネルから制御指令情報を取得して前記定周期処理部に渡し、
前記定周期処理部は、前記チャネル管理部から渡された制御指令情報に基づいて、前記制御対象装置に対して前記モーション制御サイクルごとに実行させるべき動作を示す補間指令を前記モーション制御サイクルごとに送信することで、前記制御対象装置をモーション制御し、
前記チャネル管理部は、更に、前記チャネル管理部が再起動した場合、前記制御指令用チャネルが確保される前記所定のアドレス範囲を示す情報を取得することで、前記所定のアドレス範囲を認識する、
モーション制御プログラム。
【請求項２】
前記共有メモリの所定領域には、前記制御指令用チャネルが確保される前記所定のアドレス範囲を示す情報が格納され、
前記チャネル管理部は、前記共有メモリの前記所定領域から、前記所定のアドレス範囲を示す情報を取得する、
請求項１に記載のモーション制御プログラム。
【請求項３】
非リアルタイムＯＳ及びリアルタイムＯＳがインストールされ、制御対象装置をモーション制御するためのモーション制御装置が行うモーション制御プログラムであって、
前記モーション制御装置は、
前記非リアルタイムＯＳ上で動作する受付部と、
前記リアルタイムＯＳ上で動作するチャネル管理部と、
前記リアルタイムＯＳ上で動作する定周期処理部と、
を有し、
前記受付部が、前記制御対象装置が複数のモーション制御サイクルに渡って行うべき動作を示す制御指令を受け付け、受け付けた制御指令の内容を示す制御指令情報を、前記非リアルタイムＯＳ及び前記リアルタイムＯＳから参照可能な共有メモリのうち所定のアドレス範囲に確保される制御指令用チャネルに格納するステップと、
前記チャネル管理部が、前記制御指令用チャネルから制御指令情報を取得して前記定周期処理部に渡すステップと、
前記定周期処理部が、前記チャネル管理部から渡された制御指令情報に基づいて、前記制御対象装置に対して前記モーション制御サイクルごとに実行させるべき動作を示す補間指令を前記モーション制御サイクルごとに送信することで、前記制御対象装置をモーション制御するステップと、
前記チャネル管理部が、更に、前記チャネル管理部が再起動した場合、前記制御指令用チャネルが確保される前記所定のアドレス範囲を示す情報を取得することで、前記所定のアドレス範囲を認識するステップと、
を含む、モーション制御方法。
【請求項４】
非リアルタイムＯＳ及びリアルタイムＯＳがインストールされ、制御対象装置をモーション制御するためのモーション制御装置であって、
前記非リアルタイムＯＳ上で動作する受付部と、
前記リアルタイムＯＳ上で動作するチャネル管理部と、
前記リアルタイムＯＳ上で動作する定周期処理部と、
を有し、
前記受付部は、前記制御対象装置が複数のモーション制御サイクルに渡って行うべき動作を示す制御指令を受け付け、受け付けた制御指令の内容を示す制御指令情報を、前記非リアルタイムＯＳ及び前記リアルタイムＯＳから参照可能な共有メモリのうち所定のアドレス範囲に確保される制御指令用チャネルに格納し、
前記チャネル管理部は、前記制御指令用チャネルから制御指令情報を取得して前記定周期処理部に渡し、
前記定周期処理部は、前記チャネル管理部から渡された制御指令情報に基づいて、前記制御対象装置に対して前記モーション制御サイクルごとに実行させるべき動作を示す補間指令を前記モーション制御サイクルごとに送信することで、前記制御対象装置をモーション制御し、
前記チャネル管理部は、更に、前記チャネル管理部が再起動した場合、前記制御指令用チャネルが確保される前記所定のアドレス範囲を示す情報を取得することで、前記所定のアドレス範囲を認識する、
モーション制御装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年8月31日(2020.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの画像センサを介してもたらされる歪み画像フレームを備えるビデオシーケンスにおいて動きを検出するための方法であって、
前記歪み画像フレームに関して空間分解能分布を決定すること（１０１）と、
前記歪み画像フレームに関して動き検出感度マップを決定すること（１０２）であって、前記動き検出感度マップが、異なる動き検出感度レベルを有する領域を備え、前記動き検出感度マップが前記空間分解能分布に基づいて決定される、動き検出感度マップを決定すること（１０２）と、
前記動き検出感度マップに基づき前記ビデオシーケンスにおいて動きを検出すること（１０３）と、
を含む方法。
【請求項２】
前記歪み画像フレームは、広角レンズを通じて１つの画像センサにより捕捉することによってもたらされ、前記空間分解能分布が、前記広角レンズのレンズ多項式に基づいて決定される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記広角レンズが魚眼レンズである、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記歪み画像フレームは、オプティカルドームを通じて１つの画像センサにより捕捉することによってもたらされ、前記空間分解能分布が、前記オプティカルドームのレンズ多項式に基づいて決定される、請求項２又は３に記載の方法。
【請求項５】
前記動き検出感度マップの前記領域は、前記動き検出感度マップの基準位置から径方向に延びる楕円パターンを形成し、
各領域の前記動き検出感度レベルは、前記領域から前記基準位置までの径方向距離に伴って増大する、
請求項２から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記各歪み画像フレームは、射影アルゴリズムに基づき、１つ以上の画像センサにより捕捉される複数の一次画像のスティッチングによってもたらされる、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記空間分解能分布が、前記射影アルゴリズムに基づいて決定される、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
検出された前記動きに基づいて、物体検出を行う、物体追跡を行う、グランドプレーン検出を行う、又は、警報事象を決定することを更に含む、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
処理能力を有する装置により実行されるときに請求項１から８のいずれか一項に記載の方法を行うようになっているコンピュータコード命令が記憶されたコンピュータ可読媒体を備えるコンピュータプログラム製品。
【請求項１０】
少なくとも１つの画像センサを介してもたらされる歪み画像フレームを備えるビデオシーケンスにおいて動きを検出するための動き検出コンポーネントであって、
前記歪み画像フレームに関して空間分解能分布を決定するようになっている空間分解能分布コンポーネントと、
前記歪み画像フレームに関して動き検出感度マップを決定するようになっている動き検出感度マップコンポーネントあって、前記動き検出感度マップが、異なる動き検出感度レベルを有する領域を備え、前記動き検出感度マップが前記空間分解能分布に基づいて決定される、動き検出感度マップコンポーネントと、
を備え、
前記動き検出コンポーネントは、前記動き検出感度マップに基づき前記ビデオシーケンスにおいて動きを検出するようになっている、動き検出コンポーネント。
【請求項１１】
請求項１０に記載の動き検出コンポーネントを備えるカメラ。
【請求項１２】
広角レンズを更に備え、前記広角レンズを通じて前記カメラの１つの画像センサにより画像が捕捉される、請求項１１に記載のカメラ。
【請求項１３】
複数の画像センサを更に備えるとともに、前記複数の画像センサにより捕捉される複数の一次画像から画像フレームをスティッチするようになっているスティッチングコンポーネントを更に備える、請求項１２に記載のカメラ。
【手続補正書】
【提出日】令和2年1月28日(2020.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
吸収性物品に関する情報及び前記吸収性物品の着用者に関する情報の少なくとも一方の入力を受け付ける受付部と、
前記受付部が入力を受け付けた情報に基づいて、推奨吸収性物品の候補の中から選択された１以上の吸収性物品を表す情報を提示する提示部と、を備え、
前記推奨吸収性物品の候補は、前記受付部が入力を受け付けた情報に基づいてカスタマイズされたカスタマイズ製品と、前記受付部が入力を受け付けた情報に基づいて選択された既製品と、を含む、吸収性物品提示システム。
【請求項２】
前記受付部は、前記着用者の体型に関する体型情報の入力を受け付ける、
請求項１に記載の吸収性物品提示システム。
【請求項３】
前記提示部は、前記着用者の体型に適合する前記既製品が存在することに応じて、当該既製品を表す情報を提示する、
請求項２に記載の吸収性物品提示システム。
【請求項４】
前記提示部は、前記着用者の体型に適合する前記既製品が存在しないことに応じて、前記着用者の体型に適合する前記カスタマイズ製品を表す情報を提示する、
請求項２又は３に記載の吸収性物品提示システム。
【請求項５】
前記受付部は、前記吸収性物品を前記着用者が着用することにより生じたトラブルに関するトラブル情報の入力を受け付ける、
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の吸収性物品提示システム。
【請求項６】
前記提示部は、前記トラブルの発生を抑制可能な前記既製品が存在することに応じて、当該既製品を表す情報を提示する、
請求項５に記載の吸収性物品提示システム。
【請求項７】
前記提示部は、前記トラブルの発生を抑制可能な前記既製品が存在しないことに応じて、前記トラブルの発生を抑制可能な前記カスタマイズ製品を表す情報を提示する、
請求項５又は６に記載の吸収性物品提示システム。
【請求項８】
前記受付部は、前記吸収性物品が使用される際の状況を表す使用状況情報の入力を受け付ける、
請求項１乃至７のいずれか１項に記載の吸収性物品提示システム。
【請求項９】
前記提示部は、前記吸収性物品が使用される際の状況に適合した前記既製品が存在することに応じて、当該既製品を表す情報を提示する、
請求項８に記載の吸収性物品提示システム。
【請求項１０】
前記提示部は、前記吸収性物品が使用される際の状況に適合した前記既製品が存在しないことに応じて、前記吸収性物品が使用される際の状況に適合した前記カスタマイズ製品を表す情報を提示する、
請求項８又は９に記載の吸収性物品提示システム。
【請求項１１】
吸収性物品に関する情報及び前記吸収性物品の着用者に関する情報の少なくとも一方の入力を受け付ける受付部と、
前記受付部が入力を受け付けた情報に基づいて、推奨吸収性物品の候補の中から選択された１以上の吸収性物品を表す情報を提示する提示部と、を備え、
前記推奨吸収性物品の候補は、前記受付部が入力を受け付けた情報に基づいてカスタマイズされたカスタマイズ製品と、前記受付部が入力を受け付けた情報に基づいて選択された既製品と、を含む、情報処理装置。
【請求項１２】
吸収性物品に関する情報及び前記吸収性物品の着用者に関する情報の少なくとも一方の入力を受け付ける受付ステップと、
前記受付ステップで入力を受け付けた情報に基づいて、推奨吸収性物品の候補の中から選択された１以上の吸収性物品を表す情報を提示する提示ステップと、を備え、
前記推奨吸収性物品の候補は、前記受付ステップで入力を受け付けた情報に基づいてカスタマイズされたカスタマイズ製品と、前記受付ステップで入力を受け付けた情報に基づいて選択された既製品と、を含む、吸収性物品提示方法。
【請求項１３】
情報処理装置に、
吸収性物品に関する情報及び前記吸収性物品の着用者に関する情報の少なくとも一方の入力を受け付ける受付ステップと、
前記受付ステップで入力を受け付けた情報に基づいて、推奨吸収性物品の候補の中から選択された１以上の吸収性物品を表す情報を提示する提示ステップと、を実行させ、
前記推奨吸収性物品の候補は、前記受付ステップで入力を受け付けた情報に基づいてカスタマイズされたカスタマイズ製品と、前記受付ステップで入力を受け付けた情報に基づいて選択された既製品と、を含む、吸収性物品提示プログラム。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月27日(2020.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
冊子の生成に使用されるデータに含まれる複数のページデータと印刷設定情報に基づいて当該冊子を構成するシートの印刷結果を示すシートプレビュー画像と当該シートの選択を受け付けるためのインタフェースとが含まれる１つの設定画面を表示手段に表示させる表示制御手段と、
前記１つの設定画面において前記インタフェースを介したシートの選択がユーザから受け付けられた場合、前記選択されたシートに配置されるページデータを使った印刷を指示する指示手段と、
を有することを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記表示制御手段は、
前記冊子のとじ方が第１のとじ方である場合に、第１のレイアウトを用いて前記ページデータが割り付けられた前記シートプレビュー画像を含む前記１つの設定画面を前記表示手段に表示させ、
前記冊子のとじ方が前記第１のとじ方と異なる第２のとじ方である場合に、前記第１のレイアウトと異なる第２のレイアウトを用いて前記ページデータが割り付けられた前記シートプレビュー画像を含む前記１つの設定画面を前記表示手段に表示させる、
ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記第２のとじ方は、印刷された複数のシートを重ねた後に２つに折ることにより冊子を生成する中とじである、
ことを特徴とする請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記表示制御手段は、前記冊子のページをめくることで現れるページの順序に従って並べられたページデータに基づくページプレビュー画像を含む編集画面を表示し、
前記中とじが設定された場合、前記表示制御手段は、前記冊子のページをめくることで現れるページの順序とは異なる順序で複数のページデータが配置された前記シートプレビュー画像を含む前記１つの設定画面を表示する、
ことを特徴とする請求項３に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記表示制御手段は、
前記冊子のとじ方向が第１の方向である場合に第１の順序で前記シートプレビュー画像が並べられた前記１つの設定画面を前記表示手段に表示させ、
前記冊子のとじ方向が前記第１の方向と異なる第２の方向である場合に、前記第１の順序と異なる第２の順序で前記シートプレビュー画像が並べられた前記１つの設定画面を前記表示手段に表示させる、
ことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記表示制御手段は、ユーザによって選択されたシートの表面と裏面とのいずれか一方を印刷するか両面を印刷するかの選択を受け付けるための第２のインタフェースをさらに含んだ前記１つの設定画面を前記表示手段に表示させる、
ことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記表示制御手段は、複数のシートが選択されている場合には、前記第２のインタフェースを前記表示手段に表示させない、
ことを特徴とする請求項６に記載の情報処理装置。
【請求項８】
コンピュータに、
冊子の生成に使用されるデータに含まれる複数のページデータと印刷設定情報に基づいて当該冊子を構成するシートの印刷結果を示すシートプレビュー画像と当該シートの選択を受け付けるためのインタフェースとが含まれる１つの設定画面を表示手段に表示させる表示制御を行わせ、
前記１つの設定画面において前記インタフェースを介したシートの選択がユーザから受け付けられた場合、前記選択されたシートに配置されるページデータを使った印刷を指示させる、
ためのプログラム。
【請求項９】
前記表示制御において、
前記冊子のとじ方が第１のとじ方である場合に、第１のレイアウトを用いて前記ページデータが割り付けられた前記シートプレビュー画像を含む前記１つの設定画面を前記表示手段に表示させ、
前記冊子のとじ方が前記第１のとじ方と異なる第２のとじ方である場合に、前記第１のレイアウトと異なる第２のレイアウトを用いて前記ページデータが割り付けられた前記シートプレビュー画像を含む前記１つの設定画面を前記表示手段に表示させる、
ことを特徴とする請求項８に記載のプログラム。
【請求項１０】
前記第２のとじ方は、印刷された複数のシートを重ねた後に２つに折ることにより冊子を生成する中とじである、
ことを特徴とする請求項９に記載のプログラム。
【請求項１１】
前記表示制御において、前記冊子のページをめくることで現れるページの順序に従って並べられたページデータに基づくページプレビュー画像を含む編集画面を表示させ、
前記中とじが設定された場合、前記表示制御において、前記冊子のページをめくることで現れるページの順序とは異なる順序で複数のページデータが配置された前記シートプレビュー画像を含む前記１つの設定画面を表示させる、
ことを特徴とする請求項１０に記載のプログラム。
【請求項１２】
前記表示制御において、
前記冊子のとじ方向が第１の方向である場合に第１の順序で前記シートプレビュー画像が並べられた前記１つの設定画面を前記表示手段に表示させ、
前記冊子のとじ方向が前記第１の方向と異なる第２の方向である場合に、前記第１の順序と異なる第２の順序で前記シートプレビュー画像が並べられた前記１つの設定画面を前記表示手段に表示させる、
ことを特徴とする請求項８から１１のいずれか１項に記載のプログラム。
【請求項１３】
前記表示制御において、ユーザによって選択されたシートの表面と裏面とのいずれか一方を印刷するか両面を印刷するかの選択を受け付けるための第２のインタフェースをさらに含んだ前記１つの設定画面を前記表示手段に表示させる、
ことを特徴とする請求項８から１２のいずれか１項に記載のプログラム。
【請求項１４】
前記表示制御において、複数のシートが選択されている場合には、前記第２のインタフェースを前記表示手段に表示させない、
ことを特徴とする請求項１３に記載のプログラム。
【請求項１５】
情報処理装置によって実行される制御方法であって、
冊子の生成に使用されるデータに含まれる複数のページデータと印刷設定情報に基づいて当該冊子を構成するシートの印刷結果を示すシートプレビュー画像と当該シートの選択を受け付けるためのインタフェースとが含まれる１つの設定画面を表示手段に表示させる表示制御工程と、
前記１つの設定画面において前記インタフェースを介したシートの選択がユーザから受け付けられた場合、前記選択されたシートに配置されるページデータを使った印刷を指示する指示工程と、
を有することを特徴とする制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の一態様による情報処理装置は、冊子の生成に使用されるデータに含まれる複数のページデータと印刷設定情報に基づいて当該冊子を構成するシートの印刷結果を示すシートプレビュー画像と当該シートの選択を受け付けるためのインタフェースとが含まれる１つの設定画面を表示手段に表示させる表示制御手段と、前記１つの設定画面において前記インタフェースを介したシートの選択がユーザから受け付けられた場合、前記選択されたシートに配置されるページデータを使った印刷を指示する指示手段と、を有する。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月15日(2020.7.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体素子と、
半導体素子を搭載する基板と、
複数の配線の配列で構成される結線部と、
前記基板を底面側に配置し、前記半導体素子および前記結線部を収容するケースと、
前記ケース内に充填された絶縁封止材と、を備え、
前記結線部を構成する前記複数の配線は、同一方向にルーピングされ、それぞれの配線高さが、少なくとも配列の一方向に向けて徐々に高くなるように配設される、パワーモジュール。
【請求項２】
前記結線部の前記複数の配線は、
配列の中央部で配線高さが最も低く、前記中央部から配列の第１の方向に向けて徐々に高くなるように配設されると共に、前記第１の方向とは反対の第２の方向に向けて徐々に高くなるように配設される、請求項１記載のパワーモジュール。
【請求項３】
前記結線部の前記複数の配線は、
配列の中央部で配線間隔が他の部分よりも広くかつ配線高さが最も高く、前記中央部から配列の第１の方向に向けて徐々に低くなるように配設されると共に、前記第１の方向とは反対の第２の方向に向けて徐々に低くなるように配設される、請求項１記載のパワーモジュール。
【請求項４】
前記結線部の前記複数の配線は、
配列の中央部で配線間隔が他の部分よりも広くかつ配線高さが最も低く、前記中央部から配列の第１の方向に向けて徐々に高くなるように配設されると共に、前記第１の方向とは反対の第２の方向に向けて徐々に高くなるように配設される、請求項１記載のパワーモジュール。
【請求項５】
前記結線部の前記複数の配線は、
配列の中央部で配線間隔が他の部分よりも広くかつ配線高さが最も高く、前記中央部から配列の第１の方向に向けて徐々に低くなるように配設されると共に、前記第１の方向とは反対の第２の方向に向けて徐々に低くなるように配設され、平面視で前記中央部を境にして前記第１の方向および前記第２の方向にそれぞれ斜めに傾くように配設される、請求項１記載のパワーモジュール。
【請求項６】
前記結線部の前記複数の配線は、
配線がルーピングの方向に上下で重なって配設される２重配線を含む、請求項１から請求項５の何れか１項に記載のパワーモジュール。
【請求項７】
前記結線部の前記複数の配線は、
配線高さが最も高い配線の平面視での配線長さを最も短くし、配線高さが最も低い配線の平面視での配線長さを最も長くして、配線の全長を同じにすることで、インダクタンスを統一する、請求項１から請求項５の何れか１項に記載のパワーモジュール。
【請求項８】
前記結線部は、
少なくとも、前記半導体素子と、前記半導体素子の主電流が流れる主電極端子とを電気的に接続する部分、前記半導体素子どうしの間、および、前記基板上の導体パターンどうしの間に設けられる、請求項１から請求項５の何れか１項に記載のパワーモジュール。
【請求項９】
請求項１記載のパワーモジュールを有し、入力される電力を変換して出力する主変換回路と、
前記主変換回路を制御する制御信号を前記主変換回路に出力する制御回路と、を備えた電力変換装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
駆動回路は、主変換回路６０１のスイッチング素子を駆動する駆動信号を生成し、主変換回路６０１のスイッチング素子の制御電極に供給する。具体的には、後述する制御回路６０２からの制御信号に従い、スイッチング素子をオン状態にする駆動信号とスイッチング素子をオフ状態にする駆動信号とを各スイッチング素子の制御電極に出力する。スイッチング素子をオン状態に維持する場合、駆動信号はスイッチング素子の閾値電圧以上の電圧信号（オン信号）であり、スイッチング素子をオフ状態に維持する場合、駆動信号はスイッチング素子の閾値電圧より低い電圧信号（オフ信号）となる。
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月10日(2020.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
積層誘電性複合体構造を形成する方法であって、
１又は複数のリーク遮蔽誘電体層を、１又は複数のドーピングされた高誘電率誘電体層と交互に基板上に堆積することを含み、
前記１又は複数のリーク遮蔽誘電体層を堆積することが、ドーピングされていないＳｉＯ２及びドーピングされていないＡｌ２Ｏ３のうち１つ又は双方を堆積することを含み、
前記１又は複数のドーピングされた高誘電率誘電体層を堆積することが、前記基板をベース金属プリカーサと、オキシダントと、ドーパントプリカーサとに交互に曝すことを含む、方法。
【請求項２】
前記ドーパントプリカーサが、ランタナイド、III(B)族元素、IV(B)族元素及びV(B)族元素からなる群から選択されたドーパントを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記１又は複数のドーピングされた高誘電率誘電体層がベース誘電体層を有し、前記ベース誘電体層は、ドーパントをドーピングされないベース誘電体層に比べてより高い誘電率を有するようにドーパントをドーピングされる、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記１又は複数のドーピングされた高誘電率誘電体層が、ドーピングされたＨｆＯ２及びドーピングされたＺｒＯ２のうち１つ又は双方を含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記１又は複数のドーピングされた高誘電率誘電体層を堆積することが、ベース誘電体層を堆積することと、ドーピングされた誘電体層を堆積することとを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記ベース誘電体層を堆積することが、前記基板を前記ベース金属プリカーサに曝した後に前記基板を前記オキシダントに曝すことを含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記ドーピングされた誘電体層を堆積することが、前記基板を前記オキシダントに曝した後に前記基板を前記ドーパントプリカーサに曝し、その後、前記基板を第２のオキシダントに曝すことを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記１又は複数のドーピングされた高誘電率誘電体層を堆積することが、金属アロイ層を堆積し、そして続いて前記金属アロイ層を酸化することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記金属アロイ層を堆積することが、前記基板を前記ベース金属プリカーサと前記ドーパントプリカーサとに順次曝すことを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記１又は複数のドーピングされた高誘電率誘電体層を堆積することが、前記基板を前記ベース金属プリカーサと前記ドーパントプリカーサとに順次曝した後に、前記基板を前記オキシダントに曝すことを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記金属アロイ層を堆積することが、前記基板を前記ベース金属プリカーサと前記ドーパントプリカーサとに同時に曝すことを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
前記１又は複数のドーピングされた高誘電率誘電体層を堆積することが、前記基板を前記ベース金属プリカーサと前記ドーパントプリカーサとに同時に曝した後に、前記オキシダントに曝すことを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記１又は複数のドーピングされた高誘電率誘電体層の各々が、ドーパントをドーピングされたベース誘電体層を有し、前記積層誘電性複合体構造が、ドーパントを含まずかつ前記１又は複数のリーク遮蔽誘電体層を有しない前記ベース誘電体層に比べて、より高い誘電率と、より低いリーケージ電流とを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記方法がさらに、アニーリングすることにより前記積層誘電性複合体構造の誘電率を高めることを含む、請求項１の方法。
【請求項１５】
前記方法がさらに、アニーリングすることにより前記積層誘電性複合体構造を立方体相又は正四面体相へと結晶学的に安定とすることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
半導体構造において、
半導体基板と、
前記半導体基板上に形成された積層誘電性複合体構造とを有し、前記積層誘電性複合体構造は、交互になっている１又は複数のリーク遮蔽誘電体層と１又は複数のドーピングされた高誘電率誘電体層とを具備し、
前記１又は複数のリーク遮蔽誘電体層が、ドーピングされていないＳｉＯ２及びドーピングされていないＡｌ２Ｏ３のうち１つ又は双方を含み、かつ、
前記１又は複数のドーピングされた高誘電率誘電体がベース誘電体層を有し、前記ベース誘電体層は、ドーパントをドーピングされていないベース誘電体層に比べてより高い誘電率を有するようにドーパントをドーピングされている、半導体構造。
【請求項１７】
前記積層誘電性複合体構造が、前記ドーパントを含まずかつ前記リーク遮蔽誘電体層を有しない前記ベース誘電体層に比べてより高い誘電率と、より低いリーケージ電流とを有する、請求項１６に記載の半導体構造。
【請求項１８】
前記ベース誘電体層が、ＨｆＯ２及びＺｒＯ２のうち１つ又は双方を含む、請求項１６に記載の半導体構造。
【請求項１９】
前記ドーパントが、ランタナイド、III(B)族元素、IV(B)族元素及びV(B)族元素からなる群から選択された１又は複数の金属元素を含む、請求項１６に記載の半導体構造。
【請求項２０】
前記ドーピングされた高誘電率誘電体層の１つが、前記積層誘電性複合体構造の中央層である、請求項１６に記載の半導体構造。
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月1日(2020.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
コンタクト電極（８１、８１ａ、８１ｂ）を有する半導体装置であって、
支持基板（１１）、埋込絶縁膜（１２）、活性層（１３）が順に積層された半導体基板（１０）と、
前記活性層に形成され、当該活性層を引抜領域（３２、３２ａ、３２ｂ）を含む複数の領域に区画するトレンチ分離部（２０）と、
前記引抜領域に前記半導体基板の主面（１０ａ）から前記支持基板に達するように貫通孔（８２）が形成されており、前記貫通孔に配置されて前記支持基板と電気的に接続される前記コンタクト電極と、を備え、
前記コンタクト電極は、前記半導体基板の面方向に沿った幅において、前記支持基板と接触する部分の最小幅（Ｌ１）が前記活性層内に位置する部分の最小幅（Ｌ２）よりも広くされており、さらに、前記半導体基板の主面に位置する部分の幅が前記最小幅よりも広くされている半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
支持基板（１１）、埋込絶縁膜（１２）、活性層（１３）が順に積層された半導体基板（１０）と、
前記活性層に形成され、当該活性層を引抜領域（３２、３２ａ、３２ｂ）を含む複数の領域に区画するトレンチ分離部（２０）と、
前記引抜領域に前記半導体基板の主面（１０ａ）から前記支持基板に達するように貫通孔（８２）が形成されており、前記貫通孔に配置されて前記支持基板と電気的に接続されるコンタクト電極（８１、８１ａ、８１ｂ）と、を備える半導体装置の製造方法であって、
前記半導体基板を用意することと、
前記活性層に、前記トレンチ分離部を構成する溝部（２１）を形成すると共に、前記埋込絶縁膜に達する前記貫通孔を形成することと、
前記溝部および前記貫通孔に絶縁膜（２２）を配置することにより、前記溝部に前記絶縁膜が配置された前記トレンチ分離部を構成することと、
前記貫通孔に配置された前記絶縁膜を除去すると共に、前記貫通孔から露出する前記埋込絶縁膜を除去し、前記貫通孔を掘り下げることで前記貫通孔から前記支持基板を露出させることと、
前記貫通孔に前記支持基板と電気的に接続される前記コンタクト電極を形成することと、を行い、
前記支持基板を露出させることでは、ウェットエッチングを行って前記埋込絶縁膜を等方的に除去することにより、対向する側面の間隔において、前記支持基板を露出させる部分の最小間隔（Ｌ１）が前記活性層内に位置する部分の最小間隔（Ｌ２）より広くなるようにし、
前記コンタクト電極を形成することでは、前記支持基板と接触する部分の最小幅（Ｌ１）が前記活性層内に位置する部分の最小幅（Ｌ２）よりも広くなり、さらに、前記前記半導体基板の主面に位置する部分の幅が前記最小幅よりも広くなるようにする半導体装置の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するための請求項１では、コンタクト電極（８１、８１ａ、８１ｂ）を有する半導体装置であって、支持基板（１１）、埋込絶縁膜（１２）、活性層（１３）が順に積層された半導体基板（１０）と、活性層に形成され、当該活性層を引抜領域（３２、３２ａ、３２ｂ）を含む複数の領域に区画するトレンチ分離部（２０）と、引抜領域に半導体基板の主面（１０ａ）から支持基板に達するように貫通孔（８２）が形成されており、貫通孔に配置されて支持基板と電気的に接続されるコンタクト電極と、を備え、コンタクト電極は、半導体基板の面方向に沿った幅において、支持基板と接触する部分の最小幅（Ｌ１）が活性層内に位置する部分の最小幅（Ｌ２）よりも広くされており、さらに、半導体基板の主面に位置する部分の幅が最小幅よりも広くされている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、請求項７は、請求項１に関する製造方法であり、半導体基板を用意することと、活性層に、トレンチ分離部を構成する溝部（２１）を形成すると共に、埋込絶縁膜に達する貫通孔を形成することと、溝部および貫通孔に絶縁膜（２２）を配置することにより、溝部に絶縁膜が配置されたトレンチ分離部を構成することと、貫通孔に配置された絶縁膜を除去すると共に、貫通孔から露出する埋込絶縁膜を除去し、貫通孔を掘り下げることで貫通孔から支持基板を露出させることと、貫通孔に支持基板と電気的に接続されるコンタクト電極を形成することと、を行い、支持基板を露出させることでは、ウェットエッチングを行って埋込絶縁膜を等方的に除去することにより、対向する側面の間隔において、支持基板を露出させる部分の最小間隔（Ｌ１）が活性層内に位置する部分の最小間隔（Ｌ２）より広くなるようにし、コンタクト電極を形成することでは、支持基板と接触する部分の最小幅（Ｌ１）が活性層内に位置する部分の最小幅（Ｌ２）よりも広くなり、さらに、半導体基板の主面に位置する部分の幅が最小幅よりも広くなるようにしている。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月14日(2020.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
＜実施例３＞
次に、本発明を具体化した実施例３を図７〜図８を参照して説明する。本実施例３の防水コネクタ２９は、突起３０を上記実施例１とは異なる構成としたものである。その他の構成については上記実施例１と同じであるため、同じ構成については、同一符号を付し、構造、作用及び効果の説明は省略する。本実施例３の突起３０は、実施例１の突起２２のうち前端側領域の一部を除去した形状をなしている。実施例３の突起３０のうち基端部３１（後端部）は、実施例１の突起２２と同一の断面形状と断面積を有している。つまり、実施例３の突起３０の基端部３１には、左右対称な一対の凹部３２が形成されている。実施例３の突起３０のうち基端部３１より前方の部位は、実施例１の突起２２において凹部２３より上方の領域のみを残した形状である。実施例３の突起３０のうち基端部３１より前方の部位には、水抜孔１２の孔縁部における下端側領域に対して大きく間隔を空けた排水用の切欠部３３が形成されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
＜実施例４＞
次に、本発明を具体化した実施例４を図９を参照して説明する。本実施例４の防水コネクタ３４は、突起３５を上記実施例１とは異なる構成としたものである。その他の構成については上記実施例１と同じであるため、同じ構成については、同一符号を付し、構造、作用及び効果の説明は省略する。本実施例４の突起３５は、全体として軸線を前後方向に向けた円柱形をなしている。実施例４の突起３５の外周には、実施例１の突起２２に形成されているような凹部２３は形成されていない。突起３５の外径は水抜孔１２の内径よりも少し小さい寸法に設定されている。この寸法設定により、突起３５の外周と水抜孔１２の孔縁部との間には排水用のクリアランス２４が確保されている
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月11日(2020.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
芯線３１，７１，８１と芯線４１との接合方法としては、例えば、超音波溶接を用いることができる。本実施形態では、芯線３１，７１，８１の短辺面３１Ｃ，７１Ｃ，８１Ｃが接合される長辺面４１Ａとは反対側の長辺面４１Ｂに共振体が接触され、その長辺面４１Ｂに超音波振動が加えられる。このため、芯線４１の中間部４９における長辺面４１Ｂには、共振体が接触されて超音波振動が加えられた跡Ｍ１（図中のハッチング領域参照）が形成されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
・上記各実施形態及び上記各変更例では、芯線４１の長辺面４１Ａに対して、芯線３１，７１，８１，９１の短辺面３１Ｃ，７１Ｃ，８１Ｃ，９１Ｃを接合するようにしたが、これに限定されない。例えば、芯線３１，４１，７１，８１，９１が有する全ての平面部を接合面として利用することができる。
【手続補正書】
【提出日】令和2年3月25日(2020.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
容器殺菌用のキセノンフラッシュランプにおいて、
相対的に外管径の大きい円筒状のガラス管から成る発光管両端部と、該発光管両端部より外管径が小さい発光管とを備え、
前記発光管は、Ｔ字形状に屈曲されて前記容器の開口部に挿入可能にしている、キセノンフラッシュランプ。
【請求項２】
容器殺菌用のキセノンフラッシュランプにおいて、
相対的に外管径の大きい円筒状のガラス管から成る発光管両端部と、該発光管両端部より外管径が小さい発光管とを備え、
前記発光管は、Ｙ字形状又はカタカナの「ト」字形状に屈曲されて前記容器の開口部に挿入可能にしている、キセノンフラッシュランプ。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の容器殺菌用のキセノンフラッシュランプにおいて、
前記発光管の前記容器に挿入した屈曲部の肉厚は、前記発光管両端部の肉厚より厚い、キセノンフラッシュランプ。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の容器殺菌用のキセノンフラッシュランプにおいて、
前記発光管の前記容器に挿入した屈曲部の外管径は、5.0〜6.0ｍｍである、キセノンフラッシュランプ。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の容器殺菌用のキセノンフラッシュランプにおいて、
前記容器開口部から前記容器内部へ挿入した屈曲部の長さは、前記容器の深さに応じて決定されている、キセノンフラッシュランプ。
【手続補正書】
【提出日】令和2年3月30日(2020.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円筒状のガラス管から成る発光管を備え、食品や飲料水等の容器を殺菌処理するために使用されるキセノンフラッシュランプであって、
前記発光管の一方の端部には陽極電極が配置され、他方の端部には陰極電極が配置され、該発光管の中央部は、容器開口部に挿入可能なＵ字形状に屈曲されており、
Ｕ字形状の屈曲部の内側肉厚t1[mm]が、0.8≦t1≦2.5の範囲内であり、
Ｕ字形状のストレート部Ｕｓの肉厚t2[mm]が、0.4≦t2≦2.0の範囲内である、キセノンフラッシュランプ。
【請求項２】
請求項１に記載のキセノンフラッシュランプにおいて、
Ｕ字形状の屈曲部の内側肉厚t1[mm]及びストレート部Ｕｓの肉厚t2[mm]が、0.8≦t1,t2≦2.0の範囲内である、キセノンフラッシュランプ。
【請求項３】
請求項１に記載のキセノンフラッシュランプにおいて、
前記発光管は、Ｔ字形状に屈曲されている、キセノンフラッシュランプ。
【請求項４】
請求項１に記載のキセノンフラッシュランプにおいて、
前記発光管は、Ｙ字形状又はカタカナの「ト」字形状に屈曲されている、キセノンフラッシュランプ。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の容器殺菌用のキセノンフラッシュランプにおいて、
前記容器開口部から前記容器内部へ挿入した屈曲部の長さは、前記容器の深さに応じて決定されている、キセノンフラッシュランプ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
そこで、ガラス強度を確保するため、Ｕ字形状部２ｂ−１のガラス肉厚を管理することとした。幾つかのガラス肉厚の異なる試作品を作成し、屈曲部Ｕｂの内側肉厚ｔ１及びストレート部Ｕｓの肉厚ｔ２の最適範囲及びの最適範囲を求めた。表１にその実験結果を示す。実験に使用した発光管の外径は、Ｄ＝10.0ｍｍである。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月20日(2019.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の工程を有する生産プロセスによって、原料から製品を連続生産する生産システムであって、
前記工程を担う複数の生産設備と、
前記複数の生産設備に各々設定される制御目標値を決定する制御装置と、を備え、
前記制御装置は、前記複数の工程のうち少なくとも何れかの工程の状態を示す現在の製造条件の情報を取得すると、各工程において製造条件毎に区分された複数のグループの工程間における組み合わせ毎に区分された各ロットの品質項目に基づいて優劣が判定された製造条件のルートであり、前記各ロットが前記生産プロセスを経る際に辿った製造条件のルートの優劣に応じて特定された、最終製品の品質が良好となるグループの組み合わせの情報を参照し、取得した前記現在の製造条件が、前記最終製品の品質が良好となるグループの組み合わせのルートから逸脱しているか否かを判定し、
前記製造条件の情報とは、前記複数の生産設備の稼働状態に関する情報である、
生産システム。
【請求項２】
前記制御装置は、取得した前記現在の製造条件が、前記最終製品の品質が良好となるグループの組み合わせのルートから逸脱していると判定した場合、オペレータへの通知を行う、
請求項１に記載の生産システム。
【請求項３】
前記制御装置は、前記最終製品の品質が良好となるグループの組み合わせの情報を参照し、前記製造条件の情報を基に選択したルートに沿った製造条件となるように、原料が連続して順に流れる前記複数の生産設備のうち少なくとも何れかに設定される制御目標値を決定する、
請求項１または２に記載の生産システム。
【請求項４】
前記制御装置は、前記グループの組み合わせのうち少なくとも製品の品質の条件が満たされる何れかの組み合わせの情報を参照し、前記複数の生産設備のうち少なくとも何れかに設定される制御目標値を決定する、
請求項１から３の何れか一項に記載の生産システム。
【請求項５】
複数の工程を有する生産プロセスによって、原料から製品を連続生産する生産方法であ
って、
前記工程を担う複数の生産設備を作動させる工程と、
前記複数の生産設備に各々設定される制御目標値を制御装置に決定させる工程と、
前記複数の工程のうち少なくとも何れかの工程の状態を示す現在の製造条件の情報を取得すると、各工程において製造条件毎に区分された複数のグループの工程間における組み合わせ毎に区分された各ロットの品質項目に基づいて優劣が判定された製造条件のルートであり、前記各ロットが前記生産プロセスを経る際に辿った製造条件のルートの優劣に応じて特定された、最終製品の品質が良好となるグループの組み合わせの情報を参照し、取得した前記現在の製造条件が、前記最終製品の品質が良好となるグループの組み合わせのルートから逸脱しているか否かを判定する工程と、を有し、
前記製造条件の情報とは、前記複数の生産設備の稼働状態に関する情報である、
生産方法。
【請求項６】
複数の工程を有する生産プロセスによって、原料から製品を連続生産する生産システムの制御装置であって、
前記工程を担う複数の生産設備に各々設定される制御目標値を決定する処理を実行する処理部と、
前記処理部が決定した制御目標値を出力する出力部と、を備え、
前記処理部は、前記複数の工程のうち少なくとも何れかの工程の状態を示す現在の製造条件の情報を取得すると、各工程において製造条件毎に区分された複数のグループの工程間における組み合わせ毎に区分された各ロットの品質項目に基づいて優劣が判定された製造条件のルートであり、前記各ロットが前記生産プロセスを経る際に辿った製造条件のルートの優劣に応じて特定された、最終製品の品質が良好となるグループの組み合わせの情報を参照し、取得した前記現在の製造条件が、前記最終製品の品質が良好となるグループの組み合わせのルートから逸脱しているか否かを判定し、
前記製造条件の情報とは、前記複数の生産設備の稼働状態に関する情報である、
制御装置。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月18日(2019.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターン光を投射する光投射部と、
前記パターン光が投射された対象物を撮像する撮像部と、を備え、
前記光投射部は、基板および前記基板上に設けられる位相変調可能な複数の導波路を有する光回路部を含み、前記光回路部は、前記複数の導波路の出射口が設けられる側面を有し、前記側面に前記撮像部が固定されることを特徴とする光計測装置。
【請求項２】
前記光投射部および前記撮像部を内部に収容する筐体をさらに備え、
前記光投射部は、前記筐体に固定されており、前記撮像部は、前記光投射部を介して前記筐体に固定されることを特徴とする請求項１に記載の光計測装置。
【請求項３】
前記光投射部は、前記複数の導波路から出射される複数の光束を干渉させて前記パターン光を前記対象物に投射する投射レンズと、前記投射レンズを保持するレンズ保持部と、をさらに含み、前記光回路部に前記レンズ保持部が固定されることを特徴とする請求項１または２に記載の光計測装置。
【請求項４】
前記光回路部の前記側面に前記レンズ保持部が固定されることを特徴とする請求項３に記載の光計測装置。
【請求項５】
パターン光を投射する光投射部と、
前記パターン光が投射された対象物を撮像する撮像部と、
前記光投射部と前記撮像部の双方が取り付けられる取付面を有し、光透過性を有する固定部材と、を備え、
前記光投射部は、前記固定部材ごしに前記パターン光を前記対象物に投射し、
前記撮像部は、前記固定部材ごしに前記対象物を撮像することを特徴とする光計測装置。
【請求項６】
前記光投射部および前記撮像部を内部に収容する筐体をさらに備え、
前記固定部材は、前記筐体に固定され、前記光投射部および前記撮像部は、前記固定部材を介して前記筐体に固定されることを特徴とする請求項５に記載の光計測装置。
【請求項７】
前記光投射部は、基板および前記基板上に設けられる位相変調可能な複数の導波路を有する光回路部を含み、前記光回路部が前記固定部材の前記取付面に固定されることを特徴とする請求項５または６に記載の光計測装置。
【請求項８】
前記光投射部は、基板および前記基板上に設けられる位相変調可能な複数の導波路を有する光回路部と、前記複数の導波路から出射される複数の光束を干渉させて前記パターン光を前記対象物に投射する投射レンズと、前記投射レンズを保持するレンズ保持部と、を含み、
前記光回路部は、前記レンズ保持部を介して前記固定部材の前記取付面に固定されることを特徴とする請求項５または６に記載の光計測装置。
【請求項９】
前記光回路部は、前記光投射部の投射軸方向と交差する側面を有し、前記側面に前記レンズ保持部が固定されることを特徴とする請求項８に記載の光計測装置。
【請求項１０】
前記光回路部の前記側面に前記複数の導波路の出射口が設けられることを特徴とする請求項９に記載の光計測装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年1月6日(2020.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
（３）  残留応力分布測定
上記焼入処理後焼戻処理前と、焼戻処理後とにおいて、残留応力分布を測定した。測定では、株式会社リガク製のＸ線応力測定装置を用いてフェライト相（α相）あるいはマルテンサイト相（α’相）について測定を行った。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
ここで、焼戻処理後の圧縮残留応力の値の低下は、焼戻温度が高いほど著しいと考えられる。そこで、試験片３において焼戻処理前の圧縮残留応力の値を焼戻温度が０℃のデータとして図１０にプロットした。また、試験片３の焼戻処理後の圧縮残留応力の値を、焼戻温度が１８０℃の場合のデータとして図１０にプロットした。上記２つのデータに基づき、焼戻温度が１８０℃以上の領域については外挿によって残留応力の値を求めた。図１０からわかるように、ＪＩＳ規格ＳＵＪ２からなる試験片３では、焼戻温度が約２２０℃のときに表面から５００μｍの深さでの残留応力がほぼ０になることが予想される。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月27日(2019.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
浴室内の空気を屋外に排気する排気手段と、居室内の空気を吸気し、吸気した前記居室内の空気を再び居室内に循環送風する循環送風手段と、を備えた換気装置において、
前記排気手段によって排気される前記浴室内の空気と前記循環送風手段によって送風される前記居室内の空気との間で熱交換素子を介して熱交換が行われる熱交換手段を備えたことを特徴とする換気装置。
【請求項２】
前記浴室内に温風を吹出して浴室内を乾燥させる浴室乾燥手段と、前記循環送風手段によって送風される前記居室内の空気を加湿する加湿手段と、をさらに備え、
前記浴室乾燥手段および前記排気手段を動作させて、前記浴室を乾燥させる浴室乾燥運転モードと、前記浴室乾燥運転モードを実行した後に前記浴室乾燥手段、前記排気手段、前記循環送風手段を動作させる予備加湿運転モードと、を備えたことを特徴とする請求項１に記載の換気装置。
【請求項３】
前記循環送風手段に用いられるファンは、前記循環送風手段によって送風される風の流れ方向に対して前記熱交換素子の下流側かつ前記加湿手段の上流側に設けたことを特徴とする請求項２に記載の換気装置。
【請求項４】
前記熱交換素子は、前記循環送風手段によって送風される空気が通過する第１風路の通風断面積が、前記排気手段によって排気される空気が通過する第２風路の通風断面積よりも大きいことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の換気装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
そして、本発明の換気装置は、浴室内の空気を屋外に排気する排気手段と、居室内の空気を吸気し、吸気した居室内の空気を再び居室内に循環送風する循環送風手段と、を備えた換気装置において、排気手段によって排気される空気と循環送風手段によって送風される空気との間で熱交換素子を介して熱交換が行われる熱交換手段を備えたものであり、こ
れにより所期の目的を達成するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明に係る換気装置は、浴室内の空気を屋外に排気する排気手段と、居室内の空気を吸気し、吸気した居室内の空気を再び居室内に循環送風する循環送風手段と、を備えた換気装置において、排気手段によって排気される空気と循環送風手段によって送風される空気との間で熱交換素子を介して熱交換が行われる熱交換手段を備えたものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、熱交換素子は、循環送風手段によって送風される空気が通過する第１風路の通風断面積が、排気手段によって排気される空気が通過する第２風路の通風断面積よりも大きくしてもよい。