(57)【要約】  本発明は、異なるガラス転移温度(Ｔｇ)を有する少なくとも二のブロックを含有し；該ブロックの少なくとも一が２０℃以上のガラス転移温度(Ｔｇ)を有する直鎖状のエチレン性ブロックコポリマーで、該ポリマーが次の３つの条件：５００ＭＰａ≦Ｅ≦２０００ＭＰａ等のヤング率Ｅ；５％≦εｒ≦５０％等の極限歪みεｒ；０．１ｘ１０５Ｊ／ｍ３＜Ｗｒ＜１５０ｘ１０５Ｊ／ｍ３等の極限歪みエネルギーＷｒの少なくとも一つを満たす機械的パラメータをさらに有しているものに関する。また本発明は、前記ポリマーを含有する化粧品用組成物に関する。コポリマーは、毛髪のスタイリング力及び毛髪用ラッカーの維持性を高め、ネイルラッカーの付着性及び耐水性を増加させ、粘着質になることなくメークアップ用組成物の維持性を改善することができる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
−  異なるガラス転移温度(Ｔｇ)を有する少なくとも二のブロックであって；
−  これらのブロックの少なくとも一が２０℃以上のガラス転移温度を有するもの、
を含んでなる直鎖状のエチレン性ブロックコポリマーであって、次の３つの条件：
−  ヤング率Ｅが：
５００ＭＰａ≦Ｅ≦２０００ＭＰａ
であり；
−  極限歪みεｒが：
５％≦εｒ≦５０％
であり；
−  極限歪みエネルギーＷｒが：
０．１ｘ１０５Ｊ／ｍ３＜Ｗｒ＜１５０ｘ１０５Ｊ／ｍ３
である；
の少なくとも一つを満たす機械的パラメータを有しているコポリマー。
【請求項２】
機械的パラメータが前記条件の少なくとも二つを満たす、請求項１に記載のコポリマー。
【請求項３】
−  ヤング率Ｅが：
５００ＭＰａ≦Ｅ≦２０００ＭＰａ
であり；
−  極限歪みεｒが：
５％≦εｒ≦５０％
である；
請求項２に記載のコポリマー。
【請求項４】
−  ヤング率Ｅが：
５００ＭＰａ≦Ｅ≦２０００ＭＰａ
であり；
−  極限歪みエネルギーＷｒが：
０．１ｘ１０５Ｊ／ｍ３＜Ｗｒ＜１５０ｘ１０５Ｊ／ｍ３
である；
請求項２に記載のコポリマー。
【請求項５】
−  極限歪みεｒが：
５％≦εｒ≦５０％
であり；
−  極限歪みエネルギーＷｒが：
０．１ｘ１０５Ｊ／ｍ３＜Ｗｒ＜１５０ｘ１０５Ｊ／ｍ３
である；
請求項２に記載のコポリマー。
【請求項６】
機械的パラメータが前記条件の全てを満たす、請求項１に記載のコポリマー。
【請求項７】
皮膜形成コポリマーである、請求項１ないし６のいずれか１項に記載のコポリマー。
【請求項８】
ヤング率が６００ＭＰａ≦Ｅ≦２０００ＭＰａ、好ましくは８００ＭＰａ≦Ｅ≦２０００ＭＰａの関係を満たす、請求項１ないし４及び６のいずれか１項に記載のコポリマー。
【請求項９】
εｒが８％≦εｒ≦５０％、好ましくは１０％≦εｒ≦５０％の関係を満たす、請求項１ないし３、５及び６のいずれか１項に記載のコポリマー。
【請求項１０】
Ｗｒが０．５ｘ１０５Ｊ／ｍ３＜Ｗｒ＜１５０ｘ１０５Ｊ／ｍ３、より好ましくは１ｘ１０５Ｊ／ｍ３＜Ｗｒ＜１５０ｘ１０５Ｊ／ｍ３の関係を満たす、請求項１、２及び４ないし６のいずれか１項に記載のコポリマー。
【請求項１１】
異なるガラス転移温度を有する２つのブロックのガラス転移温度(Ｔｇ)の差が４０〜１２０℃である、請求項１ないし１０のいずれか１項に記載のコポリマー。
【請求項１２】
異なるガラス転移温度を有する２つのブロックのガラス転移温度(Ｔｇ)の差が４０〜１１０℃である、請求項１１に記載のコポリマー。
【請求項１３】
異なるガラス転移温度を有する２つのブロックのガラス転移温度(Ｔｇ)の差が４０〜１００℃である、請求項１２に記載のコポリマー。
【請求項１４】
数平均分子量が１００００〜５００００、好ましくは５００００〜２０００００である、請求項１ないし１３のいずれか１項に記載のコポリマー。
【請求項１５】
２０℃以上のガラス転移温度を有するブロックの割合が、コポリマーの質量の９９％〜４０％である、請求項１ないし１４のいずれか１項に記載のコポリマー。
【請求項１６】
２０℃以上のガラス転移温度を有するブロックの割合が、コポリマーの質量の９５％〜５５％、好ましくは９０％〜５０％である、請求項１５に記載のコポリマー。
【請求項１７】
２０℃以上のＴｇを有するブロックが２０℃〜２００℃のＴｇを有している、請求項１ないし１６のいずれか１項に記載のコポリマー。
【請求項１８】
２０℃以上のＴｇを有するブロックが２０℃〜１７０℃、好ましくは２０〜１５００℃のＴｇを有している、請求項１７に記載のコポリマー。
【請求項１９】
２０℃以上のＴｇを有し、ホモポリマー又はコポリマーであるブロックが、そのモノマーから調製されたホモポリマーが２０℃以上のガラス転移温度を有する一又は複数のモノマーから全体的又は部分的に誘導されたものである、請求項１ないし１８のいずれか１項に記載のコポリマー。
【請求項２０】
そのガラス転移温度が２０℃以上のブロックが、Ｔｇ≧２０℃の一種類のモノマーからなるホモポリマーである、請求項１９のコポリマー。
【請求項２１】
そのホモポリマーが２０℃以上のガラス転移温度を有するモノマーが、次のモノマー：
−  次の式：
ＣＨ２=ＣＨ-Ｒ１
［Ｒ１はヒドロキシル基；次の基：
【化１】
2005510598.tif 000006
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基；Ｃ６〜Ｃ２０アリール基；Ｃ７〜Ｃ３０アラルキル基(Ｃ１〜Ｃ４アルキル基)；Ｏ、Ｎ及びＳから選択される一又は複数のヘテロ原子を有する４〜１２員の複素環基；フルフリル基等の複素環式アルキル基(Ｃ１〜Ｃ４アルキル)であり；該シクロアルキル、アリール、アラルキル、複素環又は複素環式アルキル基が、ヒドロキシル基、ハロゲン原子及び直鎖状又は分枝状で１〜４の炭素原子を有するアルキル基であって、Ｏ、Ｎ、Ｓ及びＰから選択される一又は複数のヘテロ原子が挿入されていてもよいものから選択される一又は複数の置換基で置換されていてもよく、また該アルキル基がヒドロキシル基及びハロゲン原子(Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ及びＦ)から選択される一又は複数の置換基で置換されていてもよい］
のビニル化合物；
−  式：
ＣＨ２=ＣＨ-ＣＯＯＲ２
［上式中、Ｒ２はtert-ブチル基；Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基；Ｃ６〜Ｃ２０アリール基；Ｃ７〜Ｃ３０アラルキル基(Ｃ１〜Ｃ４アルキル基)；Ｏ、Ｎ及びＳから選択される一又は複数のヘテロ原子を有する４〜１２員の複素環基；フルフリル基等の複素環式アルキル基(Ｃ１〜Ｃ４アルキル)であり；該シクロアルキル、アリール、アラルキル、複素環又は複素環式アルキル基が、ヒドロキシル基、ハロゲン原子及び直鎖状又は分枝状で１〜４の炭素原子を有するアルキル基であって、Ｏ、Ｎ、Ｓ及びＰから選択される一又は複数のヘテロ原子が挿入されていてもよいものから選択される一又は複数の置換基で置換されていてもよく、また該アルキル基がヒドロキシル基及びハロゲン原子(Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ及びＦ)から選択される一又は複数の置換基で置換されていてもよい］
のアクリラート類；
−  次の式：
ＣＨ２=Ｃ(ＣＨ３)-ＣＯＯＲ３
［上式中、Ｒ３は、アルキル基がヒドロキシル基及びハロゲン原子(Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ及びＦ)から選択される一又は複数の置換基で置換されていてもよい、直鎖状又は分枝状で１〜４の炭素原子を有する、メチル、エチル、プロピル又はイソブチル基等のアルキル基；Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基；Ｃ６〜Ｃ２０アリール基；Ｃ７〜Ｃ３０アラルキル基(Ｃ１〜Ｃ４アルキル基)；Ｏ、Ｎ及びＳから選択される一又は複数のヘテロ原子を有する４〜１２員の複素環基；フルフリル基等の複素環式アルキル基(Ｃ１〜Ｃ４アルキル)であり；該シクロアルキル、アリール、アラルキル、又は複素環又は複素環式アルキル基が、ヒドロキシル基、ハロゲン原子及び直鎖状又は分枝状で１〜４の炭素原子を有するアルキル基であって、Ｏ、Ｎ、Ｓ及びＰから選択される一又は複数のヘテロ原子が挿入されていてもよいものから選択される一又は複数の置換基で置換されていてもよく、また該アルキル基がヒドロキシル基及びハロゲン原子(Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ及びＦ)から選択される一又は複数の置換基で置換されていてもよい］
のメタクリラート類；
−  次の式：
【化２】
2005510598.tif 000007
［上式中、Ｒ'はＨ又はＣＨ３を示し、Ｒ４及びＲ５は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、又は直鎖状又は分枝状で１〜１２の炭素原子を有する、ｎ-ブチル、ｔ-ブチル、イソプロピル、イソヘキシル、イソオクチル又はイソノニル基等のアルキル基を表す］
の(メタ)アクリルアミド類；
から選択される、請求項１９又は２０に記載のコポリマー。
【請求項２２】
そのホモポリマーが２０℃以上のガラス転移温度を有するモノマーが、フルフリル、イソボルニル、tert-ブチル、tert-ブチルシクロヘキシル、及びｔ-ブチルベンジルのアクリラート、メチル、ｎ-ブチル、エチル及びイソブチルのメタクリラート、スチレン、酢酸ビニル及びビニルシクロヘキサンから選択される、請求項２１に記載のコポリマー。
【請求項２３】
２０℃以上のガラス転移温度を有するブロックが、そこから調製されるホモポリマーのガラス転移温度が２０℃以上になるモノマーの他に、その対応するホモポリマーのＴｇ値を２０℃未満にする一又は複数の他の異なるモノマー又は付加的なモノマーを含有している、請求項１９、２１及び２２のいずれか１項に記載のコポリマー。
【請求項２４】
前記付加的なモノマーが：
−  エチレン、イソプレン及びブタジエン等の２〜１０の炭素原子を有するエチレン性炭化水素；
−  式ＣＨ２=ＣＨＣＯＯＲ６のアクリラート類で、Ｒ６が、tert-ブチル基を除く、直鎖状又は分枝状で１〜１２の炭素原子を有するアルキル基を表し、Ｏ、Ｎ及びＳから選択される一又は複数のヘテロ原子が挿入されていてもよく、該アルキル基が、ヒドロキシル基及びハロゲン原子(Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ及びＦ)から選択される一又は複数の置換基で置換されていてもよいもの；又はＲ６が、メトキシ-ＰＯＥ等のＣ１-Ｃ１２アルキル-ＰＯＥ(ポリオキシエチレン)で、オキシエチレン単位を５〜３０回繰り返しているものであり、又はＲ６が５〜３０のエチレンオキシド単位を有するポリオキシエチレン基を示すもの；
−  次の式：
【化３】
2005510598.tif 000008
［上式中、Ｒ７は、Ｏ、Ｎ及びＳから選択される一又は複数のヘテロ原子が挿入されていてもよい、直鎖状又は分枝状で３〜１２の炭素原子を有するアルキル基を表し、該アルキル基がヒドロキシル基及びハロゲン原子(Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ及びＦ)から選択される一又は複数の置換基で置換されていてもよい］
のメタクリラート類；
−  次の式：
Ｒ８-ＣＯ-Ｏ-ＣＨ=ＣＨ２
［上式中、Ｒ８は直鎖状又は分枝状で２〜１２の炭素原子を有するアルキル基を表す］
のビニルエステル；
−  メチルビニルエーテル及びエチルビニルエーテル等の１〜１２の炭素原子を有するアルキルのビニルエーテル；
−  Ｎ-オクチルアクリルアミド等のＮ-(１〜１２Ｃ)アルキルアクリルアミド類；
から選択される、請求項２３に記載のコポリマー。
【請求項２５】
前記付加的なモノマーが、２０℃以上のＴｇを有するブロックの重量に対して、５０重量％以下の量で存在する、請求項２３又は２４に記載のコポリマー。
【請求項２６】
前記付加的モノマーが、２０℃以上のＴｇを有するブロックの重量に対して、４５重量％以下、好ましくは４０重量％以下の量で存在する、請求項２５に記載のコポリマー。
【請求項２７】
２０℃以上のＴｇを有するブロックが、対応するホモポリマーのＴｇが２０℃〜２００℃の範囲にあるような第１のモノマー、及び対応するホモポリマーのＴｇが２０℃〜−１００℃の範囲にあるような第２のモノマー又は付加的なモノマーからなるコポリマーから形成される、請求項２３ないし２６のいずれか１項に記載のコポリマー。
【請求項２８】
親水性モノマーを有する少なくとも一の親水性ブロックを含有する、請求項１ないし２７のいずれか１項に記載のコポリマー。
【請求項２９】
前記親水性ブロックが２０℃以上のガラス転移温度を有するブロックである、請求項２８に記載のコポリマー。
【請求項３０】
前記親水性ブロックが２０℃未満のガラス転移温度を有するブロックである、請求項２８に記載のコポリマー。
【請求項３１】
親水性ブロックが、対応するホモポリマーが２０℃以上のガラス転移温度を有する一又は複数の親水性モノマー、及びそのホモポリマーが２０℃未満のガラス転移温度を有するものから選択される一又は複数の他の非親水性モノマーを含有する、請求項２８に記載のコポリマー。
【請求項３２】
親水性ブロックが、対応するホモポリマーのＴｇが２０℃以上になるように、７０％〜１００％、好ましくは８０％〜１００％の親水性モノマーを含有している、請求項２９及び３１に記載のコポリマー。
【請求項３３】
親水性ブロックが、対応するホモポリマーのＴｇが２０℃以上になるように、１０％〜７０％、好ましくは２０％〜６５％の親水性モノマーを含有している、請求項３０及び３１に記載のコポリマー。
【請求項３４】
親水性モノマーが、カチオン性モノマー、アニオン性モノマー及び非イオン性モノマーから選択される、請求項２８ないし３３のいずれか１項に記載のコポリマー。
【請求項３５】
カチオン性モノマーが、２-ビニルピリジン；４-ビニルピリジン；ジメチルアミノエチルメタクリラート(ＤＭＡＥＭＡ)；ジエチルアミノエチルメタクリラート(ＤＥＡＥＭＡ)；ジメチルアミノプロピルアクリルアミド；及びその塩から選択される、請求項３４に記載のコポリマー。
【請求項３６】
アニオン性モノマーが、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸、スチレンスルホン酸、アクリルアミドプロパンスルホン酸、ビニル安息香酸、及びビニルホスホン酸、及びそれらの塩から選択される、請求項３４に記載のコポリマー。
【請求項３７】
非イオン性モノマーが：
−  (メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルでアルキル基が２〜４の炭素原子を有するもの、特に(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、
−  ビニルラクタム類；
−  イソブチルアクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド、及びＮ-(Ｃ１-Ｃ４)アルキル(メタ)アクリルアミド類；
−  スクロースアクリラート等の多糖類(メタ)アクリラート類；
から選択される、請求項３４に記載のコポリマー。
【請求項３８】
ジブロックコポリマー、トリブロックコポリマー、及び３つ以上のブロックを含有する多ブロックコポリマーから選択される、請求項１ないし３７のいずれか１項に記載のコポリマー。
【請求項３９】
２つのブロックが２０℃以上のＴｇを有し、他のブロックが２０℃未満で−１００℃以上のＴｇを有する多ブロックコポリマーである、請求項３８に記載のコポリマー。
【請求項４０】
請求項１ないし３９のいずれか１項に記載のコポリマーを含有する化粧品用組成物。
【請求項４１】
０．１重量％〜６０重量％、好ましくは０．５重量％〜５０重量％、より好ましくは１重量％〜４０重量％のコポリマーを含有する、請求項４０に記載の化粧品用組成物。
【請求項４２】
前記ポリマーの他に、コポリマーが溶解又は分散した形態で存在する、生理学的に許容可能な媒体を含有している、請求項４０又は４１に記載の組成物。
【請求項４３】
生理学的に許容可能な媒体が、水、又は水と、アルコール類、特に２〜５の炭素原子を有する直鎖状又は分枝状の低級モノアルコール類、中でもエタノール、イソプロパノール又はｎ-プロパノール、及びポリオール類、特にグリセロール、ジグリセロール、プロピレングリコール、ソルビトール、ペンチレングリコール及びポリエチレングリコール類等の親水性有機溶媒との混合物から選択される親水性相を形成する一又は複数の適切な溶媒を含有する、請求項４０ないし４２のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項４４】
親水性相が親水性Ｃ２エーテル及びＣ２-Ｃ４アルデヒド類をさらに含有している、請求項４３に記載の組成物。
【請求項４５】
前記生理学的に許容可能な媒体が、室温で液状又は固体状であり、動物、植物、鉱物又は合成由来の脂肪物質からなる脂肪相をさらに含有している、請求項４０ないし４４のいずれか１項に記載の化粧品用組成物。
【請求項４６】
一又は複数の化粧品的に許容可能な有機溶媒をさらに含有している、請求項４０ないし４５のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項４７】
前記生理学的に許容可能な媒体が、可塑剤及び合体剤から選択される一又は複数の補助的な皮膜形成剤をさらに含有している、請求項４０ないし４６のいずれか１項に記載の化粧品用組成物。
【請求項４８】
水溶性染料、及び顔料、真珠母及びフレーク類等の微粉状染料から選択される一又は複数の染料をさらに含有している、請求項４０ないし４７のいずれか１項に記載の化粧品用組成物。
【請求項４９】
フィラーをさらに含有している、請求項４０ないし４８のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項５０】
ビタミン類、増粘剤、微量元素、柔軟剤、金属イオン封鎖剤、香料、酸性化又は塩基性化剤、防腐剤、サンスクリーン剤、界面活性剤、酸化防止剤、抜毛を防止するための薬剤、抗フケ剤及び噴霧剤、又はそれらの混合物等の、化粧品に一般的に使用されている一又は複数の成分をさらに含有している、請求項４０ないし４９のいずれか１項に記載の化粧品用組成物。
【請求項５１】
懸濁液、分散液、溶液、ゲル、エマルション、特に水中油型(Ｏ／Ｗ)又は油中水型(Ｗ／Ｏ)エマルション、又は多相エマルション(Ｗ／Ｏ／Ｗ又はポリオール／Ｏ／Ｗ又はＯ／Ｗ／Ｏエマルション)の形態、クリーム、ペースト、フォーム、小胞体、特にイオン性又は非イオン性脂質の分散液、２相又は多相ローション、スプレー、パウダー又はペースト、特に柔軟なペースト又は無水ペーストの形態であることを特徴とする、請求項４０ないし５０のいずれか１項に記載の化粧品用組成物。
【請求項５２】
ラッカー又はシャンプー等の毛髪用製品であることを特徴とする、請求項４０ないし５１のいずれか１項に記載の化粧品用組成物。
【請求項５３】
ネイルラッカー等のメークアップ用組成物であることを特徴とする、請求項４０ないし５２のいずれか１項に記載の化粧品用組成物。
【請求項５４】
請求項４０ないし５３のいずれか１項に記載の組成物をケラチン物質に適用することを含む、ケラチン物質のメークアップ又は手入れのための美容方法。
【請求項５５】
スタイリング力及び毛髪用ラッカーの保持力の改善のための、請求項１ないし３９のいずれか１項に記載のコポリマーの使用。
【請求項５６】
ネイルラッカーの付着性及び耐水性を増大させるための、請求項１ないし３９のいずれか１項に記載のコポリマーの使用。
【請求項５７】
メークアップ用組成物の保持力を改善するための、請求項１ないし３９のいずれか１項に記載のコポリマーの使用。
【発明の詳細な説明】
【発明の開示】
【０００１】
本発明は、エチレン性ブロックコポリマー型の特定の構造を有する新規のポリマーに関する。
また本発明は、特定の構造を有する前記ポリマーを含有する化粧品用又は製薬用組成物、特に毛髪用組成物に関する。
さらに本発明は、皮膚、爪又は毛髪をトリートメントするための化粧品における、これらのポリマーの使用に関する。
【０００２】
多くの組成物、特にヘアスタイリング用組成物として公知の毛髪用組成物で、スプレー、ゲル又はムースの形態をしているものは、樹脂又はポリマーを含有している。
それらは特に、仏国特許出願公開第２４３９７９８号公報に記載されているもののような、高いガラス転移温度(Ｔｇ)を有するアクリルポリマーである。
このようなポリマーは、特にヘアスタイリング、ヘアスタイルの保持を可能にするが、経時的にヘアスタイルを良好に保持することはできなくなり、過度に脆弱であるといった欠点を有する。
ラッカーのケースにおいては、ポリマーは衝撃に対する耐性がない。
【０００３】
これらのポリマーが有する問題を解決するために、可塑剤を化粧品用組成物に使用し、ガラス転移温度を低くすることがなされている。しかしながら、ポリマーは「粘着性」効果を有し、ヘアスタイリングのケースにおいては「スタイリング」性を低減させる傾向にあった。
よって、組成物、特に化粧品用組成物に含まれる場合、従来技術の組成物の欠点、欠陥、制限及び不具合を有さない組成物にするポリマーが必要とされている。
特に、最適な剛性及び「粘着」性を組合せて有するポリマー、及び該ポリマーを含有する組成物が必要とされている。
よって、ポリマーを含有する毛髪用組成物は、自然な効果を維持しつつ、より良好な保持性を付与するものでなければならない。
【０００４】
光沢のある保護フィルムの適用を含む、爪をトリートメントするためのケースにおいては、機械的攻撃に抵抗する目的のため、ポリマーを含有するこのような保護フィルムは機械的摩耗耐性に抵抗可能でなければならない。
全てのケースにおいて、また使用されるポリマーが存在する組成物に関係なく、このポリマーが粘着質な感触を製品に付与することがないようにすることが必要とされている。
【０００５】
本発明の目的は、とりわけ上述した必要性、基準及び要求を満足させ、従来技術のポリマーの問題を解決するポリマーを提供することにある。
この目的及びその他は、本発明において：
−  異なるガラス転移温度(Ｔｇ)を有する少なくとも二のブロックを含有し；
−  これらのブロックの少なくとも一が２０℃以上のガラス転移温度(Ｔｇ)を有するものである、
直鎖状のエチレン性ブロックコポリマーで、
−  該コポリマーが次の３つの条件：
−  ヤング率Ｅが：
５００ＭＰａ≦Ｅ≦２０００ＭＰａ
であり；
−  極限歪みεｒが：
５％≦εｒ≦５０％
であり；
−  極限歪みエネルギーＷｒが：
０．１ｘ１０５Ｊ／ｍ３＜Ｗｒ＜１５０ｘ１０５Ｊ／ｍ３
である；
の少なくとも一つを満たす機械的パラメータを有しているものにより達成される。
【０００６】
有利には、本発明のコポリマーは、上述した条件の少なくとも二を満たす、機械的パラメータを有する。よって本発明のコポリマーは、例えば：
−  ヤング率Ｅが：
５００ＭＰａ≦Ｅ≦２０００ＭＰａ
であり；
−  極限歪みεｒが：
５％≦εｒ≦５０％
である；
ものである。
また本発明のコポリマーは：
−  ヤング率Ｅが：
５００ＭＰａ≦Ｅ≦２０００ＭＰａ
であり；
−  極限歪みエネルギーＷｒが：
０．１ｘ１０５Ｊ／ｍ３＜Ｗｒ＜１５０ｘ１０５Ｊ／ｍ３
である；
ものである。
さらに、本発明のコポリマーは：
−  極限歪みεｒが：
５％≦εｒ≦５０％
であり；
−  極限歪みエネルギーＷｒが：
０．１ｘ１０５Ｊ／ｍ３＜Ｗｒ＜１５０ｘ１０５Ｊ／ｍ３
である；
ものである。
好ましくは、本発明のコポリマーは、上述した機械的パラメータに関して挙げられた条件を全て満たす。
【０００７】
また本発明の主題は、前記直鎖状のエチレン性ブロックコポリマーを含有する化粧品用組成物にある。
特定の構造を有する本発明のコポリマーがこのような組成物に導入される場合、該コポリマーにより従来技術のポリマーで得ることのできなかった、極めて有利な特性、むしろ極めて有利な特性を組み合わされて得ることができる。
一般的にこれらのポリマーは、剛性及び非粘着性の最適な組合せを有しており、よって粘着質でないと同時に、改善された機械的強度、耐水性、及び経時的保持力を有し、脆弱性が低減された組成物又は系に至らしめる。
しかして、本発明のコポリマーが毛髪をトリートメントするための組成物、例えばラッカーに使用される場合、経時的により良好な保持力が付与される。それらは、従来のラッカーよりも脆弱ではなく、同時に粘着質でもない。
ネイルラッカーにおいて、本発明のコポリマーを含有するラッカーは、より良好な耐水性を有し、粘着質でもない。
メークアップ用製品、例えば口紅又はファンデーションにおいて、メークアップには、唇又は皮膚に対して良好な保持力があり、粘着質な感触を付与することもない。
【０００８】
また本発明は、本発明の化粧品用組成物をケラチン物質に適用することを含む、ケラチン物質をメークアップ又は手入れするための美容方法に関する。
さらに本発明は、毛髪用ラッカーの保持力及びスタイリング力を改善するための本発明のコポリマーの使用、ネイルラッカーの付着性及び耐水性を改善するためのコポリマーの使用、最後にメークアップ用組成物の付着性を増大するためのコポリマーの使用に関する。
しかして、本発明のコポリマーは、従来技術のポリマーが有する問題を解決する。
【０００９】
基本的に直鎖状コポリマーである本発明の特定のコポリマーの予期しない有利な利点は、特定のガラス転移温度により定められ、形成されるブロックの特定の性質により生じる。
特定の直鎖状コポリマーを使用することにより、またコポリマーを構成するブロックの定められたＴｇ条件を設定することにより、またこのコポリマーにより定められる少なくとも一つの機械的パラメータを特定の範囲に設定することにより、コポリマーの優れた特性を組合せることができることについては、従来技術では何の示唆もされていない。
【００１０】
何らかの理論に縛られることを望むものではないが、本発明のコポリマーの有利な特性は、第１に直鎖状であることにより、第２にブロックの性質が特異的に選択されることにより、ブロック間の相分離が選択され、とりわけコポリマーの剛性及び粘着性の快適な制御が提供されるという事実から生じると考えられている。
特に本発明のコポリマーはブロックコポリマーである。これは、このコポリマーが、互いに共有結合している配列又はブロックからなることを一般的に意味している。
加えて、２つの連続するブロックは異なる性質のものである。しかしながら、２つの非連続ブロックは同じ性質のものであってもよい。各ブロックはホモポリマー又はコポリマーからなり、このホモポリマー又はコポリマーは、順番に、ランダム又は交互とすることができる。
【００１１】
本発明のコポリマーは、エチレン性コポリマーであると定義される。これは、コポリマーを構成する配列又はブロックのモノマーが、エチレン型の炭素-炭素不飽和二重結合を有するモノマーであることを意味している。
特に本発明のコポリマーは直鎖状コポリマーである。これは、本発明が、非直鎖状の構造、例えば分枝状、星爆発型、グラフト等の構造を有するコポリマーをカバーすることを意図していないことを意味する。本発明のコポリマーの直鎖状の性質は、該コポリマーを含有する組成物に、上述した有利な特性を付与するのに重要である。
【００１２】
有利には、コポリマーは皮膜形成ポリマーであり、すなわち２０℃〜３０℃の範囲の温度で、補助的な皮膜形成剤の存在下又はそれ自体で、ケラチン支持体に付着する(裸眼で)連続した皮膜を形成可能である。
本発明において、コポリマーは異なるガラス転移温度(Ｔｇ)を有する少なくとも二の配列又はブロックを含有しており、コポリマーのこれらの配列又はブロックの少なくとも一は２０℃以上のガラス転移温度を有する。
ガラス転移温度Ｔｇは、本発明のコポリマーのブロック、ひいては本発明のコポリマーを定義する必須のパラメータであるため、本発明で使用されるコポリマーのブロックのガラス転移温度を示すことは非常に重要であり、該ガラス転移温度は、乾燥ポリマーを、１０℃／分の加熱速度で示差熱分析(ＤＳＣ、「示差走査熱量測定」)を用いることで測定される。
【００１３】
本発明のポリマーは、機械的パラメータ：ヤング率、すなわち剛性Ｅ、極限歪みεｒ、極限歪みエネルギーＷｒにより定められ、その少なくとも一つは特定の範囲内にある。  よって、これら３つの機械的パラメータを決定する方法を定めることが基本となる。
第１に、これらのパラメータは、コポリマーに適した溶媒、例えばエタノールに溶解しているコポリマーを、室温、相対湿度５０％で乾燥することにより得られる皮膜に関連している。
本発明の目的において、「室温、相対湿度５０％で乾燥することにより得られる皮膜」なる表現は、２日間の乾燥時間の後、２２±２℃で乾燥させることにより得られる皮膜を意味し、ここで溶液の量はテフロンマトリックスにて、２５０±５０μｍ厚の皮膜が得られるように、適宜変更される。
【００１４】
本発明の目的において、ヤング率Ｅ、極限歪み(εｒ）、極限歪みエネルギー(Ｗｒ)は、以下に記載される試験により定められる。引張試験を行うため、皮膜を、実用長さ３３±１ｍｍ、実用幅６ｍｍのダンベル型標本に切断する。つぎに、標本の横断面(Ｓ)を：Ｓ＝幅ｘ厚み(ｍｍ２)として定め；この横断面(Ｓ)を応力を算出するために使用する。
Lloyd(登録商標)LR5Kの名称で販売されている、又はZwick(登録商標)Z010の名称で販売されている、引張を測定する光学伸び計を具備する引張試験機にて試験を実施する。測定は、乾燥の場合と同様の温度及び湿度条件、すなわち２２±２℃、相対湿度５０±５℃で実施される。
【００１５】
標本を、２ｍｍ／分の引張速度で引く。
このような引張速度を適用し、標本の長さ(Ｌ)及びこの長さに負荷するのに必要な力Ｆを同時に測定する。これらのデータＬ及びＦから、応力σ及び歪みεのパラメーターが決定される。
距離(Ｌ)は、ダンベル型標本に配された付着性ペレットを使用し、光学伸び計を用いて測定される。これら２つのペレット間の最初の距離は、歪みεを算出するのに使用される実用長さＬｏを定めるものである。
このようにして、歪みε(＝(Ｌ／Ｌｏ)★１００)の関数としての応力σ(＝Ｆ／Ｓ)の曲線が得られ、標本が破損するまで試験を行う。
【００１６】
極限歪みεｒは、破損点前のサンプルの最大歪み(％)である。
極限歪みエネルギーＷｒ、Ｊ／ｍ３は、この応力／歪み曲線の領域において：
【化１】
2005510598.tif 000002
［上式中、Ｌｏはメートルであり、Ｓはｍ２である］
のように定められる。
最後に、Ｅは、曲線の直線状部分において、曲線σ＝ｆ(ε)の傾斜に相当する。
これらのブロックのＴｇに関する条件の他に、本発明のコポリマーは、この曲線の直線状部分において考慮される、曲線σ＝ｆ(ε)の傾斜に相当し、ＭＰａで付与されるヤング率、すなわち剛性Ｅによっても定められる。
本発明において、Ｅは５００ＭＰａ≦Ｅ≦２００ＭＰａ、好ましくは６００ＭＰａ≦Ｅ≦２０００ＭＰａ、より好ましくは８００ＭＰａ≦Ｅ≦２０００ＭＰａの関係を満たす。
【００１７】
また、本発明のコポリマーは、破損点前のコポリマーサンプルの最大歪み(％)に相当し、％で付与される極限歪みεｒによって定められる。
本発明において、 εｒは、５％≦εｒ≦５０％、好ましくは８％≦εｒ≦５０％、より好ましくは１０％≦εｒ≦５０％の関係を満たす。
【００１８】
さらに本発明のコポリマーは、破損点までのサンプルの単位容量当たりに吸収される全エネルギーに相当し、Ｊ／ｍ３で付与される極限歪みエネルギーＷｒによって定められる。
本発明において、Ｗｒは、０．１ｘ１０５Ｊ／ｍ３＜Ｗｒ＜１５０ｘ１０５Ｊ／ｍ３、好ましくは０．５ｘ１０５Ｊ／ｍ３＜Ｗｒ＜１５０ｘ１０５Ｊ／ｍ３、より好ましくは１ｘ１０５Ｊ／ｍ３＜Ｗｒ＜１５０ｘ１０５Ｊ／ｍ３の関係を満たす。
【００１９】
本発明のコポリマーは、上述した機械的パラメータの少なくとも二が、上述した範囲内にあるコポリマーとして定められている。
最後に、本発明のコポリマーは上述した３つの機械的パラメータが、上述した関係の全てを満たすポリマーであってよい。
【００２０】
本発明のコポリマーの各ブロックは、一種類のモノマー又はいくつかの異なる種類のモノマーから誘導される。
このことは、各ブロックがホモポリマー又はコポリマーからなることを意味し；このコポリマーのブロックは順番に、ランダム又は交互であってよい。
【００２１】
本発明のコポリマーは、異なるガラス転移温度(Ｔｇ)を有する少なくとも二のブロックを含有する。有利には、異なるガラス転移温度を有するこれら２つのブロックのガラス転移温度の差異は、一般的に４０〜１２０℃、好ましくは４０〜１１０℃、さらに好ましくは４０℃〜１００℃である。
コポリマーの数平均分子量は、一般的に１００００〜５００００、好ましくは５００００〜２０００００である。
有利には、２０℃以上のＴｇを有するブロックの割合は、ポリマーの９９％〜４０％、好ましくは９５％〜５５％、さらに好ましくは９０％〜５０％である。
有利には、２０℃を以上のＴｇを有するブロックは、２０〜２００℃、好ましくは２０℃〜１７０℃、さらに好ましくは２０〜１５０℃のＴｇを有する。
【００２２】
ガラス転移温度が２０℃以上であり、ホモポリマー又はコポリマーであるブロックは、好ましくは、一又は複数のモノマーから全体的又は部分的に誘導されたものであり、これらのモノマーから調製されるホモポリマーは、２０℃以上のガラス転移温度を有する。
より好ましくは、そのガラス転移温度が２０℃以上のブロックは、一種類のモノマーからなるホモポリマー(相当するホモポリマーのＴｇが２０℃以上である)である。
【００２３】
より好ましくは、そのガラス転移温度が２０℃以上であり、ホモポリマーであるブロックは、一種類のみのモノマー(対応するホモポリマーのＴｇが２０℃を超える)からなる。
そのホモポリマーが２０℃以上のＴｇを有し、本発明のコポリマーのＴｇ≧２０℃を有するブロックを好ましくは誘導するモノマーは、次のモノマーから選択される：
−  次の式：
ＣＨ２=ＣＨ-Ｒ１
［Ｒ１はヒドロキシル基；次の式の基：
【化２】
2005510598.tif 000003
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基；Ｃ６〜Ｃ２０アリール基；Ｃ７〜Ｃ３０アラルキル基(Ｃ１〜Ｃ４アルキル基)；Ｏ、Ｎ及びＳから選択される一又は複数のヘテロ原子を有する４〜１２員の複素環基；複素環式アルキル基(Ｃ１〜Ｃ４アルキル)、例えばフルフリル基であり；該シクロアルキル、アリール、アラルキル、複素環又は複素環式アルキル基は、ヒドロキシル基、ハロゲン原子及び直鎖状又は分枝状で１〜４の炭素原子を有するアルキル基であって、Ｏ、Ｎ、Ｓ及びＰから選択される一又は複数のヘテロ原子が挿入されていてもよいものから選択される一又は複数の置換基で置換されていてもよく、また該アルキル基はヒドロキシル基及びハロゲン原子(Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ及びＦ)から選択される一又は複数の置換基で置換されていてもよい］
のビニル化合物。
【００２４】
ビニルモノマーの例には、ビニルシクロヘキサン、スチレン及び酢酸ビニルが含まれる。
【００２５】
−  式：
ＣＨ２=ＣＨ-ＣＯＯＲ２
［上式中、Ｒ２はtert-ブチル基；Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基；Ｃ６〜Ｃ２０アリール基；Ｃ７〜Ｃ３０アラルキル基(Ｃ１〜Ｃ４アルキル基)；Ｏ、Ｎ及びＳから選択される一又は複数のヘテロ原子を有する４〜１２員の複素環基；複素環式アルキル基(Ｃ１〜Ｃ４アルキル)、例えばフルフリル基であり；該シクロアルキル、アリール、アラルキル、複素環又は複素環式アルキル基は、ヒドロキシル基、ハロゲン原子及び直鎖状又は分枝状で１〜４の炭素原子を有するアルキル基であって、Ｏ、Ｎ、Ｓ及びＰから選択される一又は複数のヘテロ原子が挿入されていてもよいものから選択される一又は複数の置換基で置換されていてもよく、また該アルキル基はヒドロキシル基及びハロゲン原子(Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ及びＦ)から選択される一又は複数の置換基で置換されていてもよい］
のアクリラート類。
アクリラートモノマーの例には、ｔ-ブチルシクロヘキシル、tert-ブチル、ｔ-ブチルベンジル、フルフリル及びイソボルニルのアクリラートが含まれる；
【００２６】
−  次の式：
ＣＨ２=Ｃ(ＣＨ３)-ＣＯＯＲ３
［上式中、Ｒ３は、アルキル基がヒドロキシル基及びハロゲン原子(Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ及びＦ)から選択される一又は複数の置換基で置換されていてもよい、直鎖状又は分枝状で１〜４の炭素原子を有するアルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル又はイソブチル基；Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基；Ｃ６〜Ｃ２０アリール基；Ｃ７〜Ｃ３０アラルキル基(Ｃ１〜Ｃ４アルキル)；Ｏ、Ｎ及びＳから選択される一又は複数のヘテロ原子を有する４〜１２員の複素環基；複素環式アルキル基(Ｃ１〜Ｃ４アルキル)、例えばフルフリル基であり；該シクロアルキル、アリール、アラルキル、複素環又は複素環式アルキル基は、ヒドロキシル基、ハロゲン原子及び直鎖状又は分枝状で１〜４の炭素原子を有するアルキル基であって、Ｏ、Ｎ、Ｓ及びＰから選択される一又は複数のヘテロ原子が挿入されていてもよいものから選択される一又は複数の置換基で置換されていてもよく、また該アルキル基はヒドロキシル基及びハロゲン原子(Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ及びＦ)から選択される一又は複数の置換基で置換されていてもよい］
のメタクリラート類。
メタクリラートモノマーの例には、メチル、エチル、ｎ-ブチル、イソブチル、ｔ-ブチルシクロヘキシル、ｔ-ブチルベンジル及びイソボルニルのメタクリラートが含まれる。
【００２７】
−  次の式：
【化３】
2005510598.tif 000004
［上式中、Ｒ'はＨ又は-ＣＨ３を示し、Ｒ４及びＲ５は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、又は直鎖状又は分枝状で１〜１２の炭素原子を有するアルキル基、例えばｎ-ブチル、ｔ-ブチル、イソプロピル、イソヘキシル、イソオクチル又はイソノニル基を表す］
の(メタ)アクリルアミド類。
(メタ)アクリルアミドモノマーの例には、Ｎ-ブチルアクリルアミド、Ｎ-ｔ-ブチルアクリルアミド、Ｎ-イソプロピルアクリルアミド、Ｎ,Ｎ-ジメチルアクリルアミド及びＮ,Ｎ-ジブチルアクリルアミドが含まれる。
上述した全ての中で好ましくいモノマーは、フルフリル、イソボルニル、tert-ブチル、tert-ブチルシクロヘキシル、及びｔ-ブチルベンジルのアクリラート、メチル、ｎ-ブチル、エチル及びイソブチルのメタクリラート、スチレン、酢酸ビニル及びビニルシクロヘキサンから選択される。
【００２８】
「主モノマー」と称される２０℃以上のガラス転移温度を有するブロックで、その対応するホモポリマーのガラス転移温度を２０℃以上にするブロックは、上述したポリマーの他に、付加的なモノマーとして知られている一又は複数の他の異なるモノマーを含有してよく、それは、対応するホモポリマーが２０℃以下のＴｇを有するために、「主モノマー」とは区別される。
もちろん、これ又はこれらの付加的なモノマー(類)は、ブロックのＴｇが２０℃以上になるように選択される。
【００２９】
よって、２０℃以上の適切なＴｇを有するブロックはコポリマーから形成され、このポリマーは、対応するホモポリマーのＴｇが２０℃〜２００℃の範囲にあるような第１のモノマー又は主モノマー、及び対応するホモポリマーのＴｇが２０℃〜−１００℃の範囲にあるような第２のモノマー又は付加的なモノマーからなる。
例えば、１００℃に等しいＴｇを有する「主」モノマー(対応するホモポリマー)は、ブロックを形成するコポリマーにおいて８０重量％の割合で、−７０℃に等しいＴｇを有するモノマーを２０重量％の割合で組合せてもよく、結果として得られるブロックは５０℃のＴｇを有するであろう。
【００３０】
しかして、その等価なホモポリマーが、正確に２０℃より低いＴｇを有しているこれらの付加的なモノマーは、特にアクリラート類、メタクリラート類、メタ(アクリルアミド)、ビニル及びアリル化合物から選択される。よって、付加的なモノマーは、次のモノマーから選択される：
−  ２〜１０の炭素原子を有するエチレン性炭化水素、例えばエチレン、イソプレン及びブタジエン；
−  式ＣＨ２=ＣＨＣＯＯＲ６のアクリラート類で、ここでＲ６は、tert-ブチル基を除く、直鎖状又は分枝状で１〜１２の炭素原子を有するアルキル基を表し、Ｏ、Ｎ及びＳから選択される一又は複数のヘテロ原子が挿入されていてもよく、該アルキル基は、ヒドロキシル基及びハロゲン原子(Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ及びＦ)から選択される一又は複数の置換基で置換されていてもよいもので；
・Ｒ６基の例が、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソブチル、ヘキシル、エチルヘキシル、オクチル、ラウリル、イソオクチル、イソデシル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、メトキシエチル、エトキシエチル及びメトキシプロピル基であり、
・Ｒ６が、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル-ＰＯＥ(ポリオキシエチレン)で、オキシエチレン単位を５〜３０回繰り返しているもの、例えばメトキシ-ＰＯＥであってよく、
・Ｒ６が５〜３０のエチレンオキシド単位を有するポリオキシエチレン基も示してもよいもの；
【００３１】
−  次の式：
【化４】
2005510598.tif 000005
［上式中、Ｒ７は、Ｏ、Ｎ及びＳから選択される一又は複数のヘテロ原子が挿入されていてもよい、直鎖状又は分枝状で３〜１２の炭素原子を有するアルキル基を表し、該アルキル基はヒドロキシル基及びハロゲン原子(Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ及びＦ)から選択される一又は複数の置換基で置換されていてもよく、Ｒ２基の例は、ヘキシル、エチルヘキシル、オクチル、ラウリル、イソオクチル、イソデシル、ドデシル、メトキシエチル、メトキシプロピル、エトキシエチル、ＰＯＥ(５〜３０回繰り返してオキシエチレン単位を有するポリオキシエチレン)、及び(Ｃ１〜Ｃ３０)アルキル-ＰＯＥ(５〜３０回のオキシエチレン単位の繰り返しを有する)である］
のメタクリラート類；
【００３２】
−  次の式：
Ｒ８-ＣＯ-Ｏ-ＣＨ=ＣＨ２
［上式中、Ｒ８は直鎖状又は分枝状で２〜１２の炭素原子を有するアルキル基を表す］
のビニルエステル；
−  このようなビニルエステルの例は：プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、エチルヘキサン酸ビニル、ネオノナン酸ビニル及びネオドデカン酸ビニルである；
−  １〜１２の炭素原子を有するアルキルのビニルエーテル、例えばメチルビニルエーテル及びエチルビニルエーテル；
−  Ｎ-(１〜１２Ｃ)アルキルアクリルアミド類、例えばＮ-オクチルアクリルアミド。
特に好ましいモノマーは：ｎ-ブチルアクリラート、エチルヘキシルアクリラート、イソブチルアクリラート、メトキシエチルアクリラート、及びエトキシエチル(メタ)アクリラートである。
【００３３】
これ又はこれらの付加的なモノマーは、２０℃以上のＴｇを有するブロックの全重量に対して、５０重量％以下、好ましくは４５重量％以下、さらに好ましくは４０重量％以下の量で一般的に存在する。
【００３４】
有利には、本発明のコポリマーは、親水性モノマーを有する少なくとも一の親水性ブロックを含有する。
親水性ブロックは水溶性又は水分散性のブロックとして定義されてもよい。
ブロックを形成するポリマーが２５℃で少なくとも５重量％の割合で水に溶解するならば、それは水溶性であるとされる。
ブロックを形成するポリマーが、５％〜２５％の濃度において、微細で一般的には球形粒子の安定した懸濁液を形成するならば、それは水分散性であるとされる。前記分散液を構成する粒子の平均径は１μｍ未満、一般的には５〜４００ｎｍ、好ましくは１０〜２５０ｎｍの範囲である。これらの粒子径は光散乱により測定される。
【００３５】
親水性ブロックは、好ましくはそのガラス転移温度が２０℃を以上であるが、そのガラス転移温度が２０℃未満のものであってもよい。
そのホモポリマーが２０℃未満のガラス転移温度を含有する親水性モノマーは一般的でないことが知られている。
有利には、親水性ブロックが２０℃以下のガラス転移温度を有するブロックである場合、それは有利にはコポリマーである。
この親水性ブロックは、対応するホモポリマーが２０℃以上のガラス転移温度を有する一又は複数の親水性モノマー(類)、及びそのホモポリマーが２０℃未満のガラス転移温度を有するものから選択される一又は複数の他の非親水性モノマー(類)を含有する。
【００３６】
種々の親水性及び非親水性モノマーの割合は、好ましくは、コポリマーを構成する全ブロックが２０℃未満のＴｇを有するように選択される。親水性ブロックが２０℃以上のガラス転移温度を有する場合、一般的に７０％〜１００％、好ましくは８０％〜１００％の親水性モノマーを、対応するホモポリマーのＴｇが２０℃以上になるように含有する。
親水性ブロックが２０℃以下のガラス転移温度を有する場合、一般的に１０％〜７０％未満、好ましくは２０％〜６５％の親水性モノマーを、対応するホモポリマーのＴｇが２０℃以上になるように含有する。
【００３７】
親水性ブロックが２０℃以上のＴｇを有するブロックである好ましいケースにおいて、このブロックは、対応するホモポリマーが２０℃以上のＴｇ値を有する、多くの割合の親水性モノマーと、対応するホモポリマーが２０℃未満のＴｇを有する、少ない割合のモノマーからなる。
より好ましくは、２０℃以上のＴｇを有する親水性ブロックは、２０℃以上のＴｇを有する親水性モノマー単独でなるホモポリマーである。
【００３８】
対応するホモポリマーのＴｇが２０℃を超える親水性モノマーの例には、カチオン性モノマー、アニオン性モノマー及び非イオン性モノマーが含まれる。
カチオン性モノマーの例は：
−  ２-ビニルピリジン；
−  ４-ビニルピリジン；
−  ジメチルアミノエチルメタクリラート(ＤＭＡＥＭＡ)；
−  ジエチルアミノエチルメタクリラート(ＤＥＡＥＭＡ)；
−  ジメチルアミノプロピルアクリルアミド；及び
無機酸、例えば硫酸又は塩酸、もしくは有機酸の塩のいずれであってもよいそれらの塩である。
これらの有機酸は、一又は複数のカルボキシル、スルホン又はホスホン基を有していてもよい。それらは直鎖状、分枝状又は環状の脂肪族酸又は芳香族酸であってよい。これらの酸はＯ及びＮから選択される一又は複数のヘテロ原子を、例えばヒドロキシル基の形態で有していてもよい。
【００３９】
アルキル基を有する酸の例は、酢酸、ＣＨ３ＣＯＯＨである。
多酸の例はテレフタル酸である。
ヒドロキシ酸の例は、クエン酸及び酒石酸である。
【００４０】
アニオン性モノマーの例は：
−  アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、フマル酸、及びマレイン酸；
−  スチレンスルホン酸、アクリルアミドプロパンスルホン酸、ビニル安息香酸、又はビニルホスホン酸、及びそれらの塩；
である。
【００４１】
中和剤は無機塩基、例えばＬｉＯＨ、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｃａ(ＯＨ)２又はＮＨ４ＯＨ、又は有機塩基、例えば第１級、第２級又は第３級アミン、例えば第１級アルキルアミン、例えばアミノ-２-メチル-２-プロパノール、又は第２級又は第３級アルキルアミンであってよい。
【００４２】
非イオン性モノマーの例は：
−  (メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルでアルキル基が２〜４の炭素原子を有するもの、特に(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、
−  ビニルラクタム類；(メタ)アクリルアミド類、Ｎ-(Ｃ１-Ｃ４)アルキル(メタ)アクリルアミド類、例えばイソブチルアクリルアミド；及び多糖類(メタ)アクリラート類、例えばスクロースアクリラート；
である。
【００４３】
コポリマーが親水性ブロックを含有していても、コポリマー全体が親水性ある必要はないことを記すべきである。
【００４４】
コポリマーは、Ｔｇ≧２０℃を有する２つのブロック、及びＴｇ＜２０℃を有する一又は二のブロックを含有してよい。
本発明の直鎖状のエチレン性ブロックコポリマーは：
−  ジブロックコポリマー；
−  トリブロックコポリマー；
−  ３つのブロック以上を含有する多ブロックコポリマー；
から選択される。
多ブロックコポリマーの場合、少なくとも一つのブロックはＴｇが２０℃以上であるという基準を満たしており、他のブロック又は配列は２０℃未満、−１００℃以上のＴｇを有する。
【００４５】
本発明のコポリマーはアニオン重合により調製されてもよい。
しかしながら好ましくは、本発明のコポリマーは制御されたフリーラジカル重合による第１方式で得られるが、従来からのフリーラジカル重合による第２方式で得られてもよい。
【００４６】
第１方式：
本発明のブロックコポリマーは、特に「New Method of Polymer Synthesis」Blackie Academic & Professional, London,1995, Volume 2, １頁に記載されたような、制御されたフリーラジカル重合により好ましく得られる。
制御されたフリーラジカル重合により、特に終了工程における成長フリーラジカル種の非活性化反応を減じることができ、これらは、標準的なフリーラジカル重合において、ポリマー鎖の成長を不可逆的及び非制御的に停止させる反応である。
終了反応の可能性を低減させるために、低解離エネルギーを有する結合の形成において、「休止」活性種を形成させることにより、成長フリーラジカル種を一時的及び可逆的にブロックことを提案している。
【００４７】
例えば、重合は、原子転移技術に従い、又はニトロキシドとの反応により、又は「可逆的付加-フラグメンテーション鎖転移」技術に従い実施され得る。
略語ＡＴＲＰとしても知られている原子転移フリーラジカル技術は、Ｃ-ハロゲン化物型の結合の形成(金属／リガンド錯体の存在下)において、成長フリーラジカル種をブロックすることからなる。この種の重合は、形成されたポリマーの質量の制御性、及び低多分散性指標により表される。
【００４８】
一般的に、原子転移フリーラジカル重合は：
−  少なくとも一つの転移可能なハロゲン原子を含有する開始剤；
−  還元工程において、開始剤及び「休止」ポリマー鎖と共に沈殿可能な遷移金属を含有する化合物；及び、
−  窒素(Ｎ)、酸素(Ｏ)、リン(Ｐ)又は硫黄(Ｓ)原子を有する化合物から選択され、遷移金属を含有する該化合物にσ結合を介して、配位可能な配位子；
の存在下、一又は複数のフリーラジカル重合性モノマーが重合することにより実施され、遷移金属を含有する化合物とポリマーとの間の直接結合の形成が回避される。
ハロゲン原子は好ましくは塩素又は臭素原子である。
この方法は、特に、国際公開第９７／１８２４７号、及びJACS, 117, 5614頁(1995)に公開されているMatyjasezwskiらによる文献に記載されている。
【００４９】
ニトロキシドとの反応によるフリーラジカル重合技術は、Ｃ-ＯＮＲ１Ｒ２型結合の形成において、成長フリーラジカル種をブロックすることからなり、ここでＲ１及びＲ２は互いに独立して、２〜３０の炭素原子を有するアルキル基であるか、又は窒素原子と共同して、４〜２０の炭素原子を有する環、例えば２,２,６,６-テトラメチルピペリジル環を形成する。この重合技術は、特に国際公開第９９／０３８９４号、又はMacromol. Chem. Phys. 1998, Vol.199, 923-935頁に公開されている「Macromolecular engineering via living free radical polymerizations」、及びMacromolecules 1997, 30巻, 4238-4242頁に公開されている「Systhesis of nitroxy-functionalized polybutadiene by anionic polymerization using a nitroxy-functionalized terminator」の論文に記載されている。
【００５０】
ＲＡＦＴ(可逆的付加-フラグメンテーション鎖転移)重合技術は、Ｃ-Ｓ型結合の形成において、成長フリーラジカル種をブロックすることからなる。ジチオ化合物、例えばチオベンゾアート類、ジチオカルバマート類又はキサンタンジスルフィド類がこのために使用される。この技術は、Macromolecules 1999, 32巻, 2071-2074頁に公開されている「A more versatile route to block copolymers and other polymers of complex architecture by living radical polymerization：the RAFT process」の論文、及び国際公開第９８／５８９７４号に特に記載されている。
【００５１】
第２方式：
また本発明のブロックポリマーは、連続してモノマーを成型する(cast)ことによる標準的なフリーラジカル重合技術を使用することにより得られ得る。このケースにおいては、ブロックの性質を制御することのみ可能である(質量の制御はされない)。
このことは、第１段階において、重合反応器においてモノマーＭ１を重合させ、動力学により、経時的なその消費度合いをモニターし、ついでＭ１が約９５％消費された時に、重合反応器に新たなモノマー２を導入する。
このようにしてＭ１-Ｍ２型のブロック構造のポリマーが容易に得られる。
【００５２】
また本発明は、上述した特定の構造のコポリマーを含有する化粧品用又製薬用組成物に関する。
一般的に、これらの組成物は、本発明のコポリマーを、０．１重量％〜６０重量％、好ましくは０．５重量％〜５０重量％、より好ましくは１重量％〜４０重量％含有する。
【００５３】
本発明のこれらの化粧品用組成物は、前記ポリマーの他に、生理学的に許容可能な媒体、すなわちケラチン物質、例えば皮膚、毛髪、まつげ、眉毛及び爪と融和性のある媒体を含有する。
一般的に、全組成物は生理学的に許容可能であるとみなされるべきである。
前記生理学的に許容可能な媒体は、一般的に、本発明のコポリマーが溶解又は分散した形態で存在する、生理学的に許容可能な適切な溶媒を含む。
【００５４】
よって、組成物は、親水性相を形成する溶媒として、水、又は水と親水性有機溶媒(類)、例えばアルコール類、特に２〜５の炭素原子を有する直鎖状又は分枝状の低級モノアルコール類、例えばエタノール、イソプロパノール又はｎ-プロパノール、及びポリオール類、例えばグリセロール、ジグリセロール、プロピレングリコール、ソルビトール、ペンチレングリコール及びポリエチレングリコール類との混合物を含有していてもよい。また親水性相は親水性Ｃ２エーテル及びＣ２-Ｃ４アルデヒド類を含有していてもよい。水、又は水と親水性有機溶媒との混合物は、組成物の全重量に対して０〜９０重量％(特に０．１〜９９重量％)、好ましくは０重量％〜６０重量％(特に０．１重量％〜６０重量％)の範囲の量で、本発明の組成物に存在し得る。
【００５５】
また組成物は、特に室温(一般的に２５℃)で液状の脂肪物質、及び／又は室温で固体状の脂肪物質、例えばロウ、ペースト状の脂肪物質、及びガム類、及びそれらの混合物からなる脂肪相をさらに含有してよい。これらの脂肪物質は動物、植物、鉱物又は合成由来のものであってよい。この脂肪相は、親油性有機溶媒をさらに含有し得る。
【００５６】
多くの場合油として知られており、本発明で使用されてもよい室温で液状の脂肪物質としては、動物由来の炭化水素ベース油、例えばペルヒドロスクワレン；炭化水素ベースの植物性油、例えば４〜１０の炭素原子を有する脂肪酸の液状トリグリセリド、例えばヘプタン酸又はオクタン酸のトリグリセリド、又はヒマワリ油、コーン油、大豆油、グレープシード油、ゴマ種油、アプリコット油、マカダミア油、ヒマシ油、アボカド油、カプリル／カプリン酸トリグリセリド類、ホホバ油及びシェアバター；鉱物又は合成由来で直鎖状又は分枝状の炭化水素、例えば流動パラフィン及びそれらの誘導体、ワセリン、ポリデセン、及び水素化ポリイソブテン、例えばパーリーム(parleam)；合成エステル及び合成エーテル、特に脂肪酸とのもの、例えばプルセリン油、ミリスチン酸イソプロピル、２-エチルヘキシルパルミタート、２-オクチルドデシルステアラート、２-オクチルドデシルエルカート及びイソステアリン酸イソステアリル；ヒドロキシル化エステル、例えば乳酸イソステアリル、ヒドロキシステアリン酸オクチル、ヒドロキシステアリン酸オクチルドデシル、リンゴ酸ジイソステアリル、クエン酸トリイソセチル、及び脂肪アルキルのヘプタノアート、オクタノアート及びデカノアート；ポリオールエステル、例えばプロピレングリコールジオクタノアート、ネオペンチルグリコールジヘプタノアート、又はジエチレングリコールジイソノナノアート；及びペンタエリトリトールのエステル；１２〜２６の炭素原子を有する脂肪アルコール、例えばオクチルドデカノール、２-ブチルオクタノール、２-ヘキシルデカノール、２-ウンデシルペンタデカノール及びオレイルアルコール；部分的に炭化水素ベース又はシリコーンベースのフルオロ油；シリコーン油、例えば、室温で液状又はペースト状であり、揮発性又は非揮発性で直鎖状又は環状のポリジメチルシロキサン類(ＰＤＭＳ)、例えばシクロメチコーン類、ジメチコーン類で、場合によってはフェニル基を有しているもの、例えばフェニルトリメチコーン類、フェニルトリメチルシロキシジフェニルシロキサン類、ジフェニルメチルジメチルトリシロキサン類、ジフェニルジメチコーン類、フェニルジメチコーン類及びポリメチルフェニルシロキサン類；それらの混合物を挙げることができる。
これらの油は、組成物の全重量に対して０．０１重量％〜９０重量％、好ましくは０．１重量％〜８５重量％の範囲の含有量で存在し得る。
【００５７】
本発明の組成物は、化粧品的に許容可能な(許容可能な忍容性、毒性及び感触の)一又は複数の有機溶媒をさらに含有してよい。これらの溶媒は、組成物の全重量に対して、一般的に０重量％〜９０重量％、好ましくは０．１重量％〜９０重量％、より好ましくは１０重量％〜９０重量％、さらに好ましくは３０重量％〜９０重量％の範囲の含有量で存在し得る。
【００５８】
本発明の組成物に使用され得る溶媒としては、酢酸エステル、例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、２-メトキシエチルアセタート又は酢酸イソプロピル；ケトン類、例えばメチルエチルケトン、又はメチルイソブチルケトン；炭化水素、例えばトルエン、キシレン、ヘキサン又はヘプタン；５〜１０の炭素原子を有するアルデヒド類；少なくとも３つの炭素原子を有するエーテル；及びそれらの混合物を挙げることができる。
ロウは、炭化水素ベースロウ、フルオロロウ及び／又はシリコーンロウであってよく、また植物、鉱物及び／又は合成由来のものであってよい。特に、ロウは２５℃を超える、好ましくは４５℃を超える融点を有する。
本発明の組成物に使用され得るロウとしては、ミツロウ、カルナウバロウ又はキャンデリラロウ、パラフィン、マイクロクリスタリンワックス、セレシン又はオゾケライト；合成ロウ、例えばポリエチレンロウ又はフィッシャー-トロプシュロウ、又はシリコーンロウ、例えばアルキルジメチコーン類、又はアルコキシジメチコーン類で、１６〜４５の炭素原子を有するものを挙げることができる。
【００５９】
ガム類は、一般的に、高分子量のポリジメチルシロキサン類(ＰＤＭＳｓ)又はセルロースガム又は多糖類であり、ペースト状物質は、一般的に炭化水素ベース化合物、例えばラノリン類とその誘導体、又はＰＤＭＳである。
固体状物質の種類及び量は、所望する機械的特性及びテクスチャーに依存する。指針として、組成物は、組成物の全重量に対して０〜５０重量％、好ましくは１重量％〜３０重量％のロウを含有し得る。
ポリマーは、一又は複数の補助的な皮膜形成剤と組合せられてもよい。このような皮膜形成剤は、所望の機能を実行可能なように、当業者に公知の任意の化合物から選択され、特に可塑剤及び合体剤から選択され得る。
【００６０】
本発明の組成物は、水溶性染料及び微粉状染料、例えば顔料、真珠母及びフレーク類で、当業者によく知られているものから選択される一又は複数の染料をさらに含有してよい。染料は、組成物の全重量に対して０．０１重量％〜５０重量％、好ましくは０．０１重量％〜３０重量％の範囲の含有量で、組成物に存在し得る。
【００６１】
「顔料」なる用語は、組成物を着色させることを意図しており、生理学的な媒体に不溶な、白色又は有色の任意の形態の無機又は有機粒子を意味すると理解すべきである。
「真珠母」なる用語は、特にある種の軟体動物により貝殻の内部に生成されたか合成等された、任意の形状をした真珠光沢のある粒子を意味するものと理解されるべきである。
顔料は、白色又は有色、無機物及び／又は有機物であってよい。無機顔料としては、表面処理されていてもよい二酸化チタン、酸化ジルコニウム又は酸化セリウム、酸化亜鉛、酸化鉄(黒、黄又は赤)又は酸化クロム、マンガンバイオレット、ウルトラマリンブルー、クロム水和物、及びフェリックブルー、及び金属パウダー、例えばアルミニウムパウダー又は銅パウダーを挙げることができる。
有機顔料としては、カーボンブラック、Ｄ＆Ｃ型の顔料、アルミニウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、コチニールカルミンをベースとしたレーキ類を挙げることができる。
【００６２】
真珠光沢顔料は、白色の真珠光沢顔料、例えば、チタン被覆マイカ又はオキシ塩化ビスマス被覆マイカ、有色の真珠光沢顔料、例えば、酸化鉄で被覆されたチタンマイカ、特にフェリックブルー又は酸化クロムで被覆されたチタンマイカ、上述したタイプの有機顔料で被覆されたチタンマイカ、及びオキシ塩化ビスマスをベースとした真珠光沢顔料から選択され得る。
水溶性染料は、例えばビート根汁又はメチレンブルーである。
【００６３】
本発明の組成物は、特に組成物の全重量に対して０．０１重量％〜５０重量％の範囲、好ましくは０．０１重量％〜３０重量％の範囲の量で、一又は複数のフィラーをさらに含有してよい。「フィラー」なる用語は、組成物が製造される温度に関係なく、組成物の媒体に不溶である、任意の形態をした無色又は白色の無機又は合成粒子を意味すると理解すべきである。これらのフィラーにより、特に組成物のレオロジー又はテクスチャーが変化する。
フィラーは、結晶形態(例えばラメラ状、立方体状、六角形状、斜方晶状等)に関係なく、血漿板形、球形又は長方形等の任意の形態の鉱物性又は有機物であってよい。タルク、マイカ、シリカ、カオリン、ポリアミドパウダー(ナイロン(登録商標))（アトケム社(Atochem)のオルガソール(Orgasol(登録商標))）、ポリ-β-アラニンパウダー、及びポリエチレンパウダー、テトラフルオロエチレンポリマー(テフロン(登録商標)）パウダー、ラウロイルリジン、スターチ、窒化ホウ素、 中空ポリマーミクロスフィア、例えば塩化ポリビニリデン／アクリロニトリルのもの、例えばエクスパンセル(Expancel(登録商標))(ノーベルインダストリー社(Nobel Industrie))、アクリル酸コポリマーのもの(ダウ・コーニング社(Dow Corning)のポリトラップ(登録商標))、シリコーン樹脂のマイクロビーズ（例えば、東芝(Toshiba)のトスパール(Tospearl(登録商標))、ポリオルガノシロキサンエラストマー粒子、沈降性炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム及び炭酸水素マグネシウム、ヒドロキシアパタイト、中空シリカミクロスフィア(マプレコス社(Maprecos)のシリカビーズ(登録商標))、ガラス又はセラミックマイクロカプセル、８〜２２の炭素原子、好ましくは１２〜１８の炭素原子を含有する有機カルボン酸から誘導される金属石鹸、例えばステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸リチウム、ラウリン酸亜鉛及びミリスチン酸マグネシウムを挙げることができる。
【００６４】
本発明の組成物は、化粧品に一般的に使用されている成分、例えばビタミン類、増粘剤、微量元素、柔軟剤、金属イオン封鎖剤、香料、酸性化又は塩基性化剤、防腐剤、サンスクリーン剤、界面活性剤、酸化防止剤、抜毛を防止するための薬剤、抗フケ剤及び噴霧剤、又はそれらの混合物をさらに含有してよい。
言うまでもなく、当業者であれば、考えられる添加により本発明の組成物の有利な特性が悪影響を受けないか又は実質的に受けないように留意して、これ又はこれらの任意の付加的な化合物(類)及び／又はそれらの量を選択するであろう。
【００６５】
本発明の組成物は、懸濁液、分散液、溶液、ゲル、エマルション、特に水中油型(Ｏ／Ｗ)又は油中水型(Ｗ／Ｏ)エマルション、又は多相エマルション(Ｗ／Ｏ／Ｗ又はポリオール／Ｏ／Ｗ又はＯ／Ｗ／Ｏエマルション)の形態、クリーム、ペースト、ムース、小胞体、特にイオン性又は非イオン性脂質の分散液、２相又は多相ローション、スプレー、パウダー、ペースト、特に柔軟なペースト(特に円錐／平板幾何において１０分間測定した後、２００ｓ−１の剪断速度、２５℃で、約０．１〜４０Ｐａ.ｓの動粘性係数を有するペースト)の形態であってよい。組成物は無水であってよく、例えば無水ペーストであってよい。
当業者であれば、自身の一般的な知識に基づき、第１に使用される成分の性質、特に支持体におけるそれらの溶解度、第２に組成物の意図する使用を配慮し、適切な提供形態、及びその調製方法を選択し得る。
【００６６】
本発明の組成物は、メークアップ用組成物、例えば顔色用製品(ファンデーション)、口紅、アイシャドウ、唇用製品、コンシーラ製品、ほほ紅、マスカラ、アイライナー、眉毛のメークアップ用製品、リップペンシル、アイペンシル、爪用製品、例えばネイルラッカー、体のメークアップ用製品、又は毛髪のメークアップ用製品(毛髪用のラッカー又はマスカラ)であってよい。
本発明の組成物は、毛髪用製品、特にヘアスタイルを保持したり、あるいは髪型を整えるためのものであってよい。毛髪用組成物は、好ましくはシャンプー、ヘアスタイリング用のゲル又はローション、ブロー乾燥用ローション、又は固定用及びスタイリング用組成物、例えばラッカー又はスプレーである。
また、ローションは、噴霧される形態又はフォームの形態で組成物を適用するために、種々の形態、特に噴霧器、ポンプ式ディスペンサーボトル又はエアゾール容器に包装されてもよい。このような包装形態は、例えば、毛髪の固定用又はトリートメント用のフォーム又はスプレーを得ることが望まれている場合に示される。
【実施例】
【００６７】
以下の実施例１において、アニオン性重合を介してポリスチレン-ｂ-ポリブチルメタクリラートコポリマーを調製する。
実施例２及び３は、実施例１で調製されたコポリマーを含有する化粧品用組成物の具体例である。
実施例１
使用した試薬
モノマーをＣａＨ２上にて蒸留することにより精製し、窒素下で保管する。
モノマーＭ１はスチレン(Ｍ＝１０４)であり、その鎖に、１鎖当たり１,１-ジフェニルエチレン単位(Ｍ＝１８０)が結合されて、リビングアニオンが得られる。
モノマーＭ２はメタクリル酸ブチル(Ｍ＝１４２)である。
使用される溶媒はテトラヒドロフラン(ＴＨＦ)である。
開始剤はsec-ブチルリチウム(Ｍ＝６４)である。
【００６８】
手順
窒素下、攪拌機及び温度計を具備する火炎乾燥機を使用する。
シリンジを使用し、隔壁を通して溶媒を移動させる。
ＴＨＦに溶解した開始剤を、赤色が持続するまで−３０℃で滴下する。
蒸留したモノマーＭ１を、滴下漏斗を使用して添加する。
−７８℃で１５分以上、重合を起こさせる。
ついで、鎖当たりに一つのジフェニルエチレン単位を結合させるため、リビングポリスチレンアニオンを、−７８℃で１５分間、１,１-ジフェニルエチレンと反応させる。
次に、第２モノマーＭ２を添加する。リビングＰＳの終わりに、−７８℃で１時間、重合させる。
メタノールを添加することで、反応物を急冷する。
−３０℃で、７０／３０メタノール／水の混合物から、ポリマーを沈殿させる。
ついで、ポリマーを２日間乾燥させる。
次の量の試薬を使用する：
−  開始剤(sec-ブチルリチウム)：１ｘ１０−２ｍｏｌ＝０．６４g；
−  モノマー１(スチレン)：７０ｘ１０−２ｍｏｌ＝７０．８０g；
−  １,１-ジフェニルエチレン：１ｘ１０−２ｍｏｌ＝１．８g；
−  モノマー２(メタクリル酸ブチル)：３０ｘ１０−２ｍｏｌ＝４２．６g。
本発明で得られたコポリマーは、１００℃に等しいＴｇを有するポリスチレンブロック、及び２４℃に等しいＴｇを有するポリ(メタクリル酸ブチル)ブロックを含有する。
【００６９】
ブロックの質量及び比率の測定
−  分子量を、屈折検出器及び標準的なカラム、ポリスチレンスタンダードを用い、ＴＨＦにおけるガスクロマトグラフィー(ＧＣ)により測定。
−  ２つのブロックのパーセンテージを１Ｈ ＮＭＲにより測定。
−  上述にて調製されたコポリマーの数平均分子量Ｍｎは１０７３００であり；比率ＤＰｎ＝Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０５であり、全重量に対するポリスチレンの重量パーセンテージは７０％である。
【００７０】
得られたコポリマーの機械的特性の特徴付け
上述にて調製されたコポリマーをメチルエチルケトンに溶解し、先に詳述した方法を介して、その機械的特性：ヤング率(Ｅ)、極限歪み(εｒ)及び極限歪みエネルギー(Ｗｒ)を測定する。
次の結果が得られた：
−  Ｅ＝１３００ＭＰａ；
−  εｒ＝２％；
−  Ｗｒ＝４ｘ１０５Ｊ／ｍ３。
【００７１】
実施例２
この実施例において、「スプレー」は、実施例１で調製されたポリマーを６重量％の割合でエタノールに溶解させることによって調製される。
ついで、組成物を毛髪に適用する。
このようにして、経時的に良好な保持力を有する非粘着質なスタイリングが得られた。適用された組成物は、本発明のものではないポリマーを含有する標準的なラッカーよりも脆弱でない。
【００７２】
実施例３
実施例１のポリマーを、２５重量％の割合で、酢酸エチルに溶解させる。
このようにしてラッカーが得られ、本発明のものではないポリマーを含有する標準的な溶媒ベースのラッカーと比較した場合、摩耗性が低減している。
【国際調査報告】
2005510598.tif 000009
2005510598.tif 000010
2005510598.tif 000011
2005510598.tif 000012
2005510598.tif 000013
2005510598.tif 000014
2005510598.tif 000015
2005510598.tif 000016