【手続補正書】
【提出日】令和2年2月12日(2020.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ源のチャンバ部材であって、
基板処理チャンバの上側領域を囲む円筒形の側壁と、
前記側壁に結合されている移行部材と、
前記移行部材に結合されている上壁と、
前記上壁に結合され、前記側壁よりも垂直方向に高く配置され、ガスインジェクタに接続するよう構成されているインジェクタ接続部材と、を備え、ガスが前記ガスインジェクタを介して前記インジェクタ接続部材を通って前記基板処理チャンバの前記上側領域内に入り、
前記側壁と前記上壁との間の角度は、１００〜１４５°であり、
前記側壁、前記移行部材、前記上壁、および前記インジェクタ接続部材のうちの少なくとも１つの厚さは、０．４〜０．６インチ（１．０１６〜１．５２４ｃｍ）であり、
前記チャンバ部材の中心高さ対下方内径の比が、０．２５〜０．５であるか、または、
前記チャンバ部材の外側高さ対中心高さの比が、０．４〜０．８５であるか、の少なくとも一方である、チャンバ部材。
【請求項２】
請求項１に記載のチャンバ部材であって、前記上壁は、半線形である、チャンバ部材。
【請求項３】
請求項１に記載のチャンバ部材であって、前記上壁は、線形である、チャンバ部材。
【請求項４】
請求項１に記載のチャンバ部材であって、前記チャンバ部材の前記中心高さ対下方内径の比は、０．３５〜０．４５である、チャンバ部材。
【請求項５】
請求項１に記載のチャンバ部材であって、前記チャンバ部材の前記外側高さ対中心高さの比は、０．５〜０．６である、チャンバ部材。
【請求項６】
プラズマ源であって、
請求項１に記載のチャンバ部材と、
前記チャンバ部材の中央部分の上方で前記インジェクタ接続部材の周りに配置されている第１コイルと、
前記側壁の周りに配置されている第２コイルと、
を備える、プラズマ源。
【請求項７】
請求項６に記載のプラズマ源であって、前記第１コイルおよび前記第２コイルは、直列に接続されている、プラズマ源。
【請求項８】
請求項６に記載のプラズマ源であって、前記第１コイルおよび前記第２コイルは、並列に接続されている、プラズマ源。
【請求項９】
請求項６に記載のプラズマ源であって、さらに
前記第１コイルおよび前記第２コイルに電流を供給する発電機と、
前記第１コイルおよび前記第２コイルへの電流の供給を制御するよう構成されているコントローラと、
を備え、
前記第１コイルに供給される電流は、前記第２コイルに供給される電流と独立して制御される、プラズマ源。
【請求項１０】
請求項６に記載のプラズマ源であって、さらに、前記基板処理チャンバの前記上側領域内にガスを拡散させるよう構成されている拡散器を備える、プラズマ源。
【請求項１１】
請求項１０に記載のプラズマ源であって、
前記拡散器は、複数の流路を備え、
前記複数の流路は、それぞれのガスを受け入れる、プラズマ源。
【請求項１２】
基板処理チャンバであって、
請求項１に記載のチャンバ部材と、
上方に向かって前記基板処理チャンバ内へガスを注入する第２インジェクタと、
を備える、基板処理チャンバ。
【請求項１３】
基板処理チャンバであって、
請求項１に記載のチャンバ部材と、
分配プレートまたはシャワーヘッドの下側であって、下方に向かって前記基板処理チャンバ内へガスを注入する第２インジェクタと、
を備える、基板処理チャンバ。
【請求項１４】
基板処理チャンバであって、
請求項１に記載のチャンバ部材と、
分配プレートと、
前記分配プレートを通して前記基板処理チャンバ内へガスを注入する第２インジェクタと、
を備える、基板処理チャンバ。
【請求項１５】
基板処理システムであって、
請求項１に記載のチャンバ部材と、
前記チャンバ部材を備えるプラズマ源と、
キャパシタンスを含む複数の高周波構成要素と、
接地シールドと、
保護筐体と、
を備え、
前記プラズマ源、前記複数の高周波構成要素、および、前記接地シールドは、前記保護筐体内に配置され、
前記接地シールドは、前記複数の高周波構成要素を前記プラズマ源から分離する、基板処理システム。
【請求項１６】
請求項１５に記載の基板処理システムであって、前記保護筐体は、
上壁と、
前記保護筐体の前記上壁に結合されている絶縁体と、
前記絶縁体を通過するピンと、
前記ピンに接続し、前記複数の高周波構成要素に電流を供給するコントローラと、
を備える、基板処理システム。
【請求項１７】
請求項１５に記載の基板処理システムであって、さらに、ペデスタルを備え、前記ペデスタルは、
高周波電極と、
前記高周波電極の半径方向外側に配置されている複数のリフトピンと、
基板を受けるｃ−リングと、を備え、前記複数のリフトピンは、前記ｃ−リングを前記ペデスタルに対して移動させる、基板処理システム。
【請求項１８】
ペデスタルであって、
高周波電極と、
前記高周波電極の半径方向外側に配置されている複数のリフトピンと、
基板を受けるｃ−リングと、前記複数のリフトピンは、前記ｃ−リングを前記ペデスタルに対して移動させ、
複数の絶縁体と、
接地シールドと、を備え、前記高周波電極、前記複数のリフトピン、および、前記複数の絶縁体は、前記接地シールド内に配置され
前記複数の絶縁体は、前記高周波電極を前記複数のリフトピンおよび前記接地シールドから絶縁する、ペデスタル。
【請求項１９】
請求項１８に記載のペデスタルであって、前記ｃ−リングは、前記基板が保持されるテーパ状または段状の内面を備える、ペデスタル。
【請求項２０】
基板処理システムであって、
請求項１８に記載のペデスタルと、
前記ペデスタルの上方に配置され、前記基板をエッチングするためにプラズマを生成するプラズマ源と、
を備える、基板処理システム。
【請求項２１】
請求項１に記載のチャンバ部材において、前記側壁、前記移行部材、前記上壁、および前記インジェクタ接続部材のうちの少なくとも１つの厚さは、０．５インチ（１．２７０ｃｍ）である、チャンバ部材。
【請求項２２】
請求項１に記載のチャンバ部材において、前記側壁、前記移行部材、前記上壁、および前記インジェクタ接続部材の厚さは、それぞれ、０．４〜０．６インチ（１．０１６〜１．５２４ｃｍ）である、チャンバ部材。
【請求項２３】
請求項８に記載のプラズマ源はさらに、前記第１コイルおよび前記第２コイルのいずれか一方と直列に接続されている第３コイルを備える、プラズマ源。
【請求項２４】
請求項８に記載のプラズマ源はさらに、
前記チャンバ部材の中央部分の上方で前記インジェクタ接続部材の周りに配置され、前記第１コイルと直列に接続されている第３コイルと、
前記側壁の周りに配置され、前記第２コイルと直列に接続されている第４コイル、とを備える、プラズマ源。
【請求項２５】
保護筐体であって、
請求項６に記載のプラズマ源と、
前記保護筐体の第１領域と前記保護筐体の第２領域とを分離する接地シールドと、
部分的に前記第１領域に配置され、前記第１領域に配置されているキャパシタおよび前記第１のコイルと接続されている接続ピンと、を備え、
前記プラズマ源は、前記第２領域に配置されている、保護筐体。
【請求項２６】
プラズマ源であって、
基板処理チャンバの上側領域を囲む円筒形の側壁と、
前記側壁に結合されている移行部材と、
前記移行部材に結合されている上壁と、
前記上壁に結合され、前記側壁よりも垂直方向に高く配置され、ガスインジェクタに接続するよう構成されているインジェクタ接続部材と、を備えるチャンバ部材であって、
ガスが前記ガスインジェクタを介して前記インジェクタ接続部材を通って前記基板処理チャンバの前記上側領域内に入り、
前記側壁と前記上壁との間の角度は、１００〜１４５°であり、
前記チャンバ部材の中心高さ対下方内径の比が、０．２５〜０．５であるか、または、
前記チャンバ部材の外側高さ対中心高さの比が、０．４〜０．８５であるか、の少なくともいずれか一方である、チャンバ部材と、
前記チャンバ部材の中央部分の上方で前記インジェクタ接続部材の周りに配置されている第１コイルと、
前記側壁の周りに配置されている第２コイルと、
前記チャンバ部材または前記側壁のいずれか一方の周りに配置され、前記第１コイルおよび第２コイルのいずれか一方と直列に接続されている第３コイルと、
を備えるプラズマ源。
【請求項２７】
請求項２６に記載のプラズマ源において、前記第３コイルは、前記チャンバ部材の中央部分の上方で前記インジェクタ接続部材の周りに配置され、前記第１コイルと直列に接続されている、プラズマ源。
【請求項２８】
請求項２６に記載のプラズマ源において、前記第３コイルは、前記側壁の周りに配置され、前記第２コイルと直列に接続されている、プラズマ源。
【請求項２９】
請求項２６に記載のプラズマ源はさらに、前記側壁の周りに配置され、前記第２コイルと直列に接続されている第４コイルを備え、
前記第３コイルは、前記チャンバ部材の中央部分の上方で前記インジェクタ接続部材の周りに配置され、前記第１コイルと直列に接続されている、プラズマ源。
【請求項３０】
保護筐体であって、
請求項２６に記載のプラズマ源と、
前記保護筐体の第１領域と前記保護筐体の第２領域とを分離する接地シールドと、
部分的に前記第１の筐体領域配置され、前記第１領域に配置されているキャパシタおよび前記第１のコイルと接続されている接続ピンと、を備え、
前記プラズマ源は、前記第２領域に配置されている、保護筐体。