【手続補正書】
【提出日】令和2年7月17日(2020.7.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブロックイソシアネートと、鎖延長剤と、光ラジカル発生剤と、を含有する光硬化性組成物であって、
前記ブロックイソシアネートが、下記一般式（１）
Ａ−Ｂ−Ｃ・・・（１）
（式（１）中、ＡおよびＣは各々独立して、下記式（２）で表される基を表し、Ｂは下記式（３）で表される基を表す。
【化１】
2018145389.tif 000001
【化２】
2018145389.tif 000002
ここで、式（２）中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ２は置換基を有していてもよい炭素原子数１から１０の炭化水素基を表し、Ｌ１は置換基を有していてもよい炭素原子数１から１０の２価の炭化水素基を表す。また、式（３）中、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５は各々独立に、置換基を有していてもよい炭素原子数１から２０の２価の炭化水素基を表し、ａおよびｂはいずれか一方は０でもよい、１≦ａ＋ｂ≦５０を満たす整数である。）
で表されることを特徴とする光硬化性組成物。
【請求項２】
式（２）中、Ｒ２がｔｅｒ‐ブチル基、ｔｅｒ‐ペンチル基、および、ｔｅｒ‐ヘキシル基から選択される基であることを特徴とする請求項１に記載の光硬化性組成物。
【請求項３】
式（２）中、Ｌ１がエチレン基またはプロピレン基であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光硬化性組成物。
【請求項４】
式（３）中、Ｒ３およびＲ４は各々独立に、下記式（Ａ−１）〜（Ａ−９）のいずれかであることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の光硬化性組成物。
【化３】
2018145389.tif 000003
（式（Ａ−１）中、ｅは１から１０の整数であり、式（Ａ−２）中、ｆおよびｇはいずれか一方は０でもよい、１≦ｆ＋ｇ≦１０を満たす整数であり、式（Ａ−３）中、ｈおよびｉはいずれか一方は０でもよい、１≦ｈ＋ｉ≦１０を満たす整数である。）
【請求項５】
前記ブロックイソシアネートが、下記一般式（４）
Ａ−Ｂ−Ａ・・・（４）
で表されることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の光硬化性組成物。
【請求項６】
前記鎖延長剤が、ヒドロキシル基、アミノ基、およびチオール基からなる群から選択される官能基を１分子中に少なくとも２つ有する化合物を含有することを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の光硬化性組成物。
【請求項７】
反応性希釈剤をさらに含有することを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の光硬化性組成物。
【請求項８】
前記反応性希釈剤が、アクリロイル基またはメタクリロイル基を有する化合物を含有することを特徴とする請求項７に記載の光硬化性組成物。
【請求項９】
立体造形用の光硬化性組成物であることを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載の光硬化性組成物。
【請求項１０】
下記一般式（５）
【化４】
2018145389.tif 000004
（式（５）中、Ｒ１１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ１２は置換基を有していてもよい炭素原子数１から１０の炭化水素基を表し、Ｌ１は置換基を有していてもよい炭素原子数１から１０の２価の炭化水素基を表す。Ｒ１３、Ｒ１４、およびＲ１５は各々独立に、置換基を有していてもよい炭素原子数１から２０の２価の炭化水素基を表し、ａおよびｂはいずれか一方は０でもよい、１≦ａ＋ｂ≦５０を満たす整数である。）
で表される繰り返し構造単位を含むことを特徴とする樹脂。
【請求項１１】
下記一般式（６）
【化５】
2018145389.tif 000005
（式（６）中、Ｒ２１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ２２は置換基を有していてもよい炭素原子数１から１０の炭化水素基を表し、Ｌ１は置換基を有していてもよい炭素原子数１から１０の２価の炭化水素基を表す。）
で表される繰り返し構造単位と、下記一般式（７）
【化６】
2018145389.tif 000006
（式（７）中、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、およびＲ２６は各々独立に、置換基を有していてもよい炭素原子数１から２０の２価の炭化水素基を表し、ａおよびｂはいずれか一方は０でもよい、１≦ａ＋ｂ≦５０を満たす整数である。Ｘ１およびＸ２は各々独立に、О（酸素原子）、Ｓ（硫黄原子）、およびＮＨ（イミノ基）のいずれかを表す。）
で表される繰り返し構造単位と、を含有する樹脂。
【請求項１２】
下記式（１）
Ａ−Ｂ−Ｃ・・・（１）
（式（１）中、ＡおよびＣは各々独立して、下記式（２）で表される基を表し、Ｂは下記式（３）で表される基を表す。
【化７】
2018145389.tif 000007
【化８】
2018145389.tif 000008
ここで、式（２）中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ２は置換基を有していてもよい炭素原子数１から１０の炭化水素基を表し、Ｌ１は置換基を有していてもよい炭素原子数１から１０の２価の炭化水素基を表す。また、式（３）中、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５は各々独立に、置換基を有していてもよい炭素原子数１から２０の２価の炭化水素基を表し、ａおよびｂは、いずれか一方は０でもよい、１≦ａ＋ｂ≦５０を満たす整数である。）
で表されることを特徴とするブロックイソシアネート。
【請求項１３】
立体物の製造方法であって、
前記立体物の断面データに基づいて光硬化性組成物に活性エネルギー線を照射し、前記光硬化性組成物を硬化させて樹脂とする工程を含んでおり、
前記光硬化性組成物が、請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載の光硬化性組成物であることを特徴とする立体物の製造方法。
【請求項１４】
前記樹脂が、下記一般式（５）
【化９】
2018145389.tif 000009
（式（５）中、Ｒ１１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ１２は置換基を有していてもよい炭素原子数１から１０の炭化水素基を表し、Ｌ１は置換基を有していてもよい炭素原子数１から１０の２価の炭化水素基を表す。Ｒ１３、Ｒ１４、およびＲ１５は各々独立に、置換基を有していてもよい炭素原子数１から２０の２価の炭化水素基を表し、ａおよびｂはいずれか一方は０でもよい、１≦ａ＋ｂ≦５０を満たす整数である。）
で表される繰り返し構造単位を含むことを特徴とする請求項１３に記載の立体物の製造方法。
【請求項１５】
前記樹脂に熱処理を施す工程をさらに含むことを特徴とする請求項１３または請求項１４に記載の立体物の製造方法。
【請求項１６】
熱処理が施された前記樹脂が、下記一般式（６）
【化１０】
2018145389.tif 000010
（式（６）中、Ｒ２１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ２２は置換基を有していてもよい炭素原子数１から１０の炭化水素基を表し、Ｌ１は置換基を有していてもよい炭素原子数１から１０の２価の炭化水素基を表す。）
で表される繰り返し構造単位と、下記一般式（７）
【化１１】
2018145389.tif 000011
（式（７）中、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、およびＲ２６は各々独立に、置換基を有していてもよい炭素原子数１から２０の２価の炭化水素基を表し、ａおよびｂはいずれか一方は０でもよい、１≦ａ＋ｂ≦５０を満たす整数である。Ｘ１およびＸ２は各々独立に、О（酸素原子）、Ｓ（硫黄原子）、およびＮＨ（イミノ基）のいずれかを表す。）
で表される繰り返し構造単位と、を含有することを特徴とする請求項１５に記載の立体物の製造方法。