(57)【要約】【課題】  限定再生型光情報記憶媒体をが提供する。【解決手段】  限定再生型光データ記憶媒体は、第１透光性基板、反射層、前記第１基板と反射層の間に配置されたデータ層、第２基板、及びキャリヤ及び反応性材料を含有する反応層を備え、前記反応層及び反射層が前記第１基板と前記第２基板との間に配置されている。
2005523553.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）第１透光性基板、
ｂ）反射層、
ｃ）前記第１基板と反射層の間に配置されたデータ層、
ｄ）第２基板、及び
ｅ）キャリヤ及び反応性材料を含有する反応層を備え、
前記反応層及び反射層が前記第１基板と前記第２基板との間に配置された、
限定再生型光データ記憶媒体。
【請求項２】
前記反応層がサンドイッチ配置にないとした場合の反射率を第２反射率とした場合に、前記反応層が第２反射率より高い第１反射率を有する、請求項１記載の限定再生型光記憶媒体。
【請求項３】
前記第１基板がプラスチックである、請求項１記載の限定再生型光記憶媒体。
【請求項４】
前記プラスチックがガラス転移温度約１００℃以上である熱可塑性樹脂１種以上を含有する、請求項３記載の限定再生型光記憶媒体。
【請求項５】
前記熱可塑性樹脂が、ポリ塩化ビニル、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリアミド、ポリスルホン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ＡＢＳ樹脂、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリアクリレート、ポリアクリロニトリル、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリフェニレンエーテル、エチレン−酢酸ビニルコポリマー、ポリ酢酸ビニル、液晶ポリマー、エチレン−テトラフルオロエチレンコポリマー、芳香族ポリエステル、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ塩化ビニリデン、テトラフルオロエチレン、並びにこれら熱可塑性樹脂の１種以上を含む混合物、コポリマー、反応生成物及び複合材料からなる群から選択される、請求項４記載の限定再生型光記憶媒体。
【請求項６】
前記熱可塑性樹脂がポリカーボネートを含有する、請求項５記載の限定再生型光記憶媒体。
【請求項７】
前記第２基板がプラスチックである、請求項１記載の限定再生型光記憶媒体。
【請求項８】
前記プラスチックがガラス転移温度約１００℃以上である熱可塑性樹脂１種以上を含有する、請求項７記載の限定再生型光記憶媒体。
【請求項９】
前記熱可塑性樹脂が、ポリ塩化ビニル、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリアミド、ポリスルホン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ＡＢＳ樹脂、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリアクリレート、ポリアクリロニトリル、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリフェニレンエーテル、エチレン−酢酸ビニルコポリマー、ポリ酢酸ビニル、液晶ポリマー、エチレン−テトラフルオロエチレンコポリマー、芳香族ポリエステル、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ塩化ビニリデン、テトラフルオロエチレン、並びにこれら熱可塑性樹脂の１種以上を含む混合物、コポリマー、反応生成物及び複合材料からなる群から選択される、請求項８記載の限定再生型光記憶媒体。
【請求項１０】
前記熱可塑性樹脂がポリカーボネートを含有する、請求項９記載の限定再生型光記憶媒体。
【請求項１１】
前記反応性材料が、酸素感応性ロイコメチレンブルー、還元形態のメチレンブルー、ブリリアントクレジルブルー、ベーシックブルー３、トルイジン０、及びこれら反応性材料の１種以上を含む組合せからなる群から選択される、請求項１記載の限定再生型光記憶媒体。
【請求項１２】
前記反応層がさらにポリメチルメタクリレート／ロイコメチレンブルーを含有する、請求項１１記載の限定再生型光記憶媒体。
【請求項１３】
前記反応性材料が前記反応層の全重量に基づいて約３〜１０重量％の範囲で存在する、請求項１２記載の限定再生型光記憶媒体。
【請求項１４】
前記反応性材料が前記反応層の全重量に基づいて約４〜７重量％の範囲で存在する、請求項１３記載の限定再生型光記憶媒体。
【請求項１５】
前記反応性材料が前記反応層の全重量に基づいて約４〜６重量％の範囲で存在する、請求項１４記載の限定再生型光記憶媒体。
【請求項１６】
前記キャリヤが、熱可塑性アクリルポリマー、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリチオレン、ＵＶ硬化性有機樹脂、ポリウレタン、熱硬化性アクリルポリマー、アルキド樹脂、ビニル樹脂、並びにこれらのキャリヤの１種以上を含む反応生成物及び組合せからなる群から選択される、請求項１記載の限定再生型光記憶媒体。
【請求項１７】
前記キャリヤが熱可塑性アクリルポリマーを含有する、請求項１６記載の限定再生型光記憶媒体。
【請求項１８】
前記熱可塑性アクリルポリマーがポリ（メタクリル酸メチル／メタクリル酸）を含有する、請求項１７記載の限定再生型光記憶媒体。
【請求項１９】
前記反射層、データ層及び反応層が前記第１基板と第２基板との間に配置されるように、前記第２基板が接着剤層を介して接着された、請求項１記載の限定再生型光記憶媒体。
【請求項２０】
前記接着剤層がアクリル層である、請求項１９記載の限定再生型光記憶媒体。
【請求項２１】
前記反射層が金属を含有する、請求項１記載の限定再生型光記憶媒体。
【請求項２２】
前記金属がアルミニウム、銀、金、チタン又はこれらの合金又は組合せを含有する、請求項２２記載の限定再生型光記憶媒体。
【請求項２３】
前記金属がアルミニウムを含有する、請求項２２記載の限定再生型光記憶媒体。
【請求項２４】
ａ）第１透光性ポリカーボネート、
ｂ）反射層、
ｃ）前記第１ポリカーボネートと反射層の間に配置されたデータ層、
ｄ）ポリ（メタクリル酸メチル／メタクリル酸）及びポリメチルメタクリレート／ロイコメチレンブルーを含有する反応層、及び
ｅ）第２透光性ポリカーボネートを備え、
前記反応層は前記第１ポリカーボネートと第２透光性ポリカーボネートの間に配置され、
前記第２ポリカーボネートは、前記反射層、データ層及び反応層が前記第１透光性ポリカーボネートと第２透光性ポリカーボネートの間に配置されるように、アクリル層を介して接着された、
限定再生型光データ記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、記憶媒体、特に限定再生型記憶媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
光、磁気及び光磁気媒体は、大きな記憶容量を記憶のメガバイト当たりの妥当な価格で可能にする高性能記憶技術の主要なソースである。光媒体の使用は、オーディオ、ビデオ、及びコンピュータデータ用途において、コンパクトディスク（ＣＤ）、ＤＶＤ−５、ＤＶＤ−９などの多層構造及びＤＶＤ−１０及びＤＶＤ−１８などの多面フォーマットを含むデジタル汎用ディスク（ＤＶＤ）、光磁気ディスク（ＭＯ）及びＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷ、ＤＶＤ＋ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＡＷなどの追記型及び書換型フォーマットなどのフォーマットにて普及している（これらを以下一括して「データ記憶媒体」と言う）。これらのフォーマットでは、データを基板上にデジタルデータ列としてエンコードする。記録済み形態の光媒体、例えばＣＤでは、データは通常、射出成形、スタンピングなどの方法でプラスチック基板の表面に形成したピット及びグルーブである。
【０００３】
用途によっては、光ディスクの寿命を制限するのが望ましい。例えば、消費者に魅力を示してソフトウェアを購入させるために、試用コンピュータプログラムを未来の消費者に提供する。そのプログラムは限られた期間だけ使用できるようになっている。また、現在、音楽や映画の限られた期間だけのレンタルが行われている。このような用途それぞれで、期限が過ぎると、ディスクを返却しなければならない。レンタル期間の終了後に返却する必要のない機械再生可能な光ディスクが必要とされている。限定再生型ディスクがこの問題を解決する。
【０００４】
限定再生型ディスクは様々な形態のものが製造されている。一つの方法では、反射層を多孔性層で保護し、所定の時間が過ぎると反射層が酸化されるようにした、ディスクを形成している。反射層がある酸化レベルに達すると、そのディスクはもはや読み取り不能である。このような使用制限技術に伴う問題として、これらの技術をうち破ることが可能性である。消費者や零細企業が光ディスクに使用制限を付与する方法を簡単にうち破ることができたら、そのディスクはもはや「限定再生型」ではない。例えば、光ディスクを再生不能にするコーティング又は材料の場合、そのコーティング及び／又は材料をたやすく除去又は変性できたら、ディスクは使用無制限になってしまう。
【０００５】
映画スタジオの側には自社の知的財産を保護したいという強い願望がある。簡単にうち破ることができ使用無制限のデータ記憶媒体となってしまう限定再生型データ記憶媒体を商業化したら、知的財産を失うという受け入れがたいリスクを負うことになる。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の限定再生型光データ記憶媒体は、
ａ）第１透光性基板、
ｂ）反射層、
ｃ）前記第１基板と反射層の間に配置されたデータ層、
ｄ）第２基板、及び
ｅ）キャリヤ及び反応性材料を含有する反応層を備え、
前記反応層及び反射層が前記第１基板と前記第２基板との間に配置されている。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本明細書及び特許請求の範囲において、多数の用語に言及するが、これらの用語は以下の意味をもつと定義される。
【０００８】
単数表現は、文脈上明らかにそうでない場合以外は、複数も含む。
【０００９】
「所望に応じて」は、後述する事象や状況が起こっても起こらなくてもよいことを意味し、関連する説明は事象が起こった場合と事象が起こらなかった場合両方を包含する。
【００１０】
データ記憶媒体の光消色は、反応層にポリヒドロキシ化合物を用いるか、吸光層を用いるか、それらを組み合わせることにより、効果的に実施できることを見いだした。本質的に無色である反応性材料、例えばロイコメチレンブルーは、酸素にさらされると、酸化されて不透明又は半透明な層（例えば深青色素、メチレンブルー）を形成する。不透明／半透明層を有するデータ記憶媒体はもはや媒体プレーヤでは再生することができない。色素層が不透明に変化する時間を調節することにより、色素層を用いて、所定の用途に望ましい寿命を有する限定再生型データ記憶媒体を得ることができる。このような方法で反応性物質層のみで作製した限定再生型データ記憶媒体は、例えば光消色テストにより、簡単に「うち破る」ことができるので、これらの媒体はもはや「限定再生型」ではない。反応層にポリヒドロキシ化合物を用いるか、吸光層を用いるか、それらを組み合わせることにより、光消色テストでうち破ることのできない限定再生型データ記憶媒体が得られる。
【００１１】
データ記憶媒体は、読み取りレーザー波長での複屈折が低く、光透過率が高い、即ち光媒体装置で読み取り可能である基板、反応性物質反応層、データ層及び反射層を備える。代表的には、読み取りレーザー波長は約３９０ｎｍ〜約４３０ｎｍの範囲（青及び青紫色レーザー）にあるか、約６３０ｎｍ〜約６５０ｎｍの範囲（赤色レーザー）にある。データ記憶媒体はさらに、吸光層及び接着剤層を含んでもよい。基板は、データ記憶媒体を媒体装置で読み取り可能にするために、十分な光学的明澄度、例えば約±１００ｎｍ以内の複屈折を有する材料から構成する。理論的には、このような特性を示すならばどのようなプラスチック材料でも基板として使用できる。しかし、プラスチック材料は、その後の加工パラメータ（例えば後続層の設層）、例えばほぼ室温（約２５℃）から約１５０℃までのスパッタ温度や、その後の貯蔵条件（例えば温度が約７０℃にも達する高熱の自動車）に耐えることができなければならない。即ち、プラスチック材料が、種々の設層工程中並びに最終ユーザによる保管中の変形を防止するのに十分な熱安定性をもつのが望ましい。使用可能なプラスチック材料には、ガラス転移温度が約１００℃以上、好ましくは約１２５℃以上、より好ましくは約１５０℃以上、さらに好ましくは約２００℃以上である熱可塑性樹脂、例えばポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルスルホン、ポリフェニレンエーテル、ポリイミド、ポリカーボネートなどがある。ガラス転移温度が約２５０℃を超える材料が一層好ましく、例えばポリイミド、上述したプラスチック材料の１種以上を含む組合せなど、そして特にｍ−フェニレンジアミンがスルホンジアニリン又はオキシジアニリンで置換されたポリエーテルイミドがある。一般にポリカーボネートを使用する。
【００１２】
基板材料の使用可能な例としては、アモルファス、結晶性及び半結晶性熱可塑性材料、例えばポリ塩化ビニル、ポリオレフィン（直鎖状及び環状ポリオレフィンを含み、具体的にはポリエチレン、塩素化ポリエチレン、ポリプロピレンなどを含むが、これらに限定されない）、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシルメチレンテレフタレートなどを含むが、これらに限定されない）、ポリアミド、ポリスルホン（水素化ポリスルホンなどを含むが、これらに限定されない）、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ＡＢＳ樹脂、ポリスチレン（水素化ポリスチレン、シンジオタクチック及びアタクチックポリスチレン、ポリシクロヘキシルエチレン、スチレン−コ−アクリロニトリル、スチレン−コ−無水マレイン酸などを含むが、これらに限定されない）、ポリブタジエン、ポリアクリレート（ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、メチルメタクリレート−ポリイミド共重合体などを含むが、これらに限定されない）、ポリアクリロニトリル、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリフェニレンエーテル（２，６−ジメチルフェノール由来のもの及び２，３，６−トリメチルフェノールとの共重合体などを含むが、これらに限定されない）、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、液晶重合体、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体、芳香族ポリエステル、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ塩化ビニリデン、及びテトラフルオロエチレン（例えばテフロン（登録商標））が挙げられるが、これらに限定されない。
【００１３】
ここで用語「ポリカーボネート」及び「ポリカーボネート組成物」は、次式Ｉの構造単位を有する組成物を包含する。
【００１４】
【化１】
2005523553.tif 000003
【００１５】
式中のＲ1基の総数の約６０％以上が芳香族有機基であり、残りが脂肪族、脂環式又は芳香族基である。好ましくは、Ｒ1は芳香族有機基であり、より好ましくは次式ＩＩの基である。
【００１６】
【化２】
2005523553.tif 000004
【００１７】
式中のＡ1及びＡ2はそれぞれ二価の単環アリール基であり、Ｙ1はＡ1とＡ2との間に介在する原子を０個、１個又は２個有する橋かけ基である。例えば１個の原子がＡ1とＡ2との間に介在する。この種の基の具体例には、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ2）−、−Ｃ（Ｏ）−、メチレン、シクロヘキシル−メチレン、２−［２，２，１］−ビシクロへプチリデン、エチリデン、イソプロピリデン、ネオペンチリデン、シクロヘキシリデン、シクロペンタデシリデン、シクロドデシリデン及びアダマンチリデンがあるが、これらに限定されない。別の例ではＡ1とＡ2との間に原子が介在せず、その具体例はビフェノールである。橋かけ基Ｙ1は、炭化水素基又は飽和炭化水素基、例えばメチレン、シクロヘキシリデンもしくはイソプロピリデン又はヘテロ原子、例えば−Ｏ−もしくは−Ｓ−とすることができる。
【００１８】
ポリカーボネートは、Ａ1とＡ2との間に介在する原子が１個だけのジヒドロキシ化合物の反応により製造することができる。ここで用いる用語「ジヒドロキシ化合物」は、例えば以下の一般式ＩＩＩのビスフェノール化合物を包含する。
【００１９】
【化３】
2005523553.tif 000005
【００２０】
式中のＲa及びＲbはそれぞれ独立に水素、ハロゲン原子又は一価の炭化水素基を示し、ｐ及びｑはそれぞれ独立に０〜４の整数であり、Ｘaは次式ＩＶの基を示す。
【００２１】
【化４】
2005523553.tif 000006
【００２２】
式中のＲc及びＲdはそれぞれ独立に水素原子又は一価の直鎖状又は環状炭化水素基を示し、Ｒeは二価の炭化水素基を示す。
【００２３】
適当なジヒドロキシ化合物の具体例としては、二価フェノール類及び米国特許第４２１７４３８号に化合物名又は一般式又は特定式で記載されているようなジヒドロキシ置換芳香族炭化水素があるが、これらに限定されない。式ＩＩＩで表される種類のビスフェノール化合物の具体例を列記すると、以下のものがあるが、これらに限定されない。１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（以下「ビスフェノールＡ」又は「ＢＰＡ」）、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ｎ−ブタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−１−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）プロパン、ビス（ヒドロキシアリール）アルカン類、例えば２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、４，４’−ビフェノール、並びにビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類、例えば１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンなど、並びにこれらのビスフェノール化合物の１種以上を含む組み合わせ。
【００２４】
ホモポリマーよりもカーボネート共重合体を用いるのが望ましい場合には、２種以上の異なる二価フェノールの重合から得られるポリカーボネート、又は二価フェノールとグリコールとのあるいはヒドロキシもしくは酸終端ポリエステルとのあるいは二塩基酸とのあるいはヒドロキシ酸とのあるいは脂肪族二酸との共重合体を使用することもできる。一般に、脂肪族二酸は炭素原子数２〜約４０のものが有用である。脂肪族二酸としてドデカン二酸が好ましい。
【００２５】
ポリアリーレート及びポリエステル−カーボネート樹脂又はそのブレンドも使用できる。分岐状ポリカーボネートも有用であり、直鎖状ポリカーボネートと分岐状ポリカーボネートのブレンドも有用である。分岐状ポリカーボネートは重合中に枝分かれ剤を添加することにより製造できる。
【００２６】
枝分かれ剤は周知であり、ヒドロキシル、カルボキシル、無水カルボン酸、ハロホルミル及びこれらの枝分かれ剤の１つ以上を含む混合物から選択される官能基を３個以上有する多官能性有機化合物を包含する。具体例としては、トリメリット酸、無水トリメリット酸、トリメリット酸トリクロライド、トリス−ｐ−ヒドロキシフェニルエタン、イサチン−ビスフェノール、トリスフェノールＴＣ（１，３，５−トリス（（ｐ−ヒドロキシフェニル）イソプロピル）ベンゼン）、トリス−フェノールＰＡ（４（４（１，１−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）−エチル）α，α−ジメチルベンジル）フェノール）、４−クロロホルミル無水フタル酸、トリメシン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸など、並びにこれらの枝分かれ剤の１種以上を含む組合せがある。枝分かれ剤は、基板の全重量に基づいて約０．０５〜２．０重量％のレベルで添加すればよい。枝分かれ剤及び分岐状ポリカーボネートの製造方法の例が、米国特許第３６３５８９５号及び同第４００１１８４号に記載されている。ポリカーボネート末端基はどのようなタイプでもよい。
【００２７】
ポリカーボネートとしては、Ａ1及びＡ2それぞれがｐ−フェニレンで、Ｙ1がイソプロピリデンであるビスフェノールＡに基づくものが好ましい。ポリカーボネートの重量平均分子量が約５０００〜約１０００００原子質量単位の範囲であるのが好ましく、約１００００〜約６５０００原子質量単位の範囲がより好ましく、約１５０００〜約３５０００原子質量単位の範囲がもっとも好ましい。
【００２８】
ポリカーボネート合成をモニタし、評価する場合、ポリカーボネート中に存在するフリース生成物の濃度を測定するのが特に重要である。有意なフリース生成物の発生はポリマーの枝分かれにつながり、その結果溶融挙動の制御ができなくなる。ここで用語「フリース」（Ｆｒｉｅｓ）及び「フリース生成物」はポリカーボネート中の次式Ｖの繰り返し単位を意味する。
【００２９】
【化５】
2005523553.tif 000007
【００３０】
式中のＸaは上記式ＩＩＩに関連して説明した通りの二価の基である。
【００３１】
ポリカーボネート組成物は、この種の樹脂組成物に通常用いられる種々の添加剤を含有してもよい。このような添加剤としては、例えば充填剤又は補強材、熱安定剤、酸化防止剤、光安定剤、可塑剤、帯電防止剤、離型剤、追加の樹脂、発泡剤など、ならびにこれらの添加剤の１種以上を含む組み合わせがある。
【００３２】
基板材料の加工（例えば溶融プロセスによるポリカーボネートの製造）を容易にするために、又は基板材料の特性（例えば粘度）を制御するために、触媒を使用してもよい。使用できる触媒には、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド、テトラアルキルホスホニウムヒドロキシドなどがあり、ジエチルジメチルアンモニウムヒドロキシド及びテトラブチルホスホニウムヒドロキシドが好ましい。触媒は単独で使用しても、リン酸のような酸等のクエンチャと組み合わせて使用してもよい。さらに、水を配合時にポリマー溶融物中に注入し、ベントを通して水蒸気として抜き出して残留揮発性化合物を除去してもよい。
【００３３】
データ記憶媒体を製造するには、まず、種々の前駆物質を適切に混合できる通常の反応器、例えば一軸又は二軸スクリュウ押出機、ニーダー、ブレンダーなどを用いて、基板材料を形成する。押出機は、基板材料前駆物質を、分解させることなく、溶融するのに十分な高温に維持する必要がある。例えばポリカーボネートの場合、約２２０〜３６０℃の範囲の温度、好ましくは約２６０〜３２０℃の範囲の温度を使用できる。同様に、押出機中での滞留時間は、分解を最小限に抑えるように制御する必要がある。約２分以下の滞留時間を採用でき、約１．５分以下が好ましく、約１分以下が特に好ましい。所望の形状（代表的にはペレット、シート、ウェブなど）に押し出す前に、混合物を所望に応じて、溶融濾過、スクリーンパックの使用又はこれらの組合せなどにより、濾過して、望ましくない汚染物や分解生成物を除去することができる。
【００３４】
プラスチック樹脂組成物を製造し終わったら、これを種々の成形技術、加工技術又はそれらの組合せにより、基板に形成することができる。使用可能な技術としては、射出成形、フィルム流延、押出、プレス成形、吹込成形、スタンピングなどがある。基板を製造し終わったら、追加の加工、例えば電気メッキ、コーティング技術（スピンコーティング、スプレーコーティング、蒸着、スクリーンプリンティング、塗装、浸漬など）、積層、スパッタリングなど、並びにこれらの加工技術の１つ以上を含む組合せを用いて、所望の層を基板上に配置することができる。代表的には、基板の厚さは約６００μｍ以下である。
【００３５】
限定再生型ポリカーボネートデータ記憶媒体の１例は、射出成形ポリカーボネート基板を備える。基板上に配置できる他の種々の層としては、データ層、誘電体層、反応層、接着剤層、反射層、保護層、第２基板、吸光層並びにこれらの層の１つ以上を含む組合せがある。例えば光媒体は、保護層、反射層、誘電体層及びデータ層を含むことができ、後続の誘電体層が基体と接触しており、また吸光層が接着剤層を介して基体の反対側に配置され、反応層が基板と吸光層との間に配置される。なお、データ記憶媒体の形態はディスク形状に限定されず、読取装置に収容できればどのような寸法と形状であってもよい。
【００３６】
記録可能な媒体では、データをレーザーによりエンコードし、レーザー光を有効データ層に照射すると、データ層は相変化を生じ、こうして一連の高反射又は無反射領域を生成し、データの流れを作り上げる。これらのフォーマットでは、レーザービームがまず基板を通過し、データ層に到達する。データ層では、エンコードされたデータに従って、ビームが反射されるか反射されない。つぎにレーザー光は基板内を逆向きに進み、光検出器に入り、そこでデータを解釈する。従って、データ層は基板と反射層の間に配置されている。光用途向けのデータ層は代表的には基板層上のピット、グルーブ又はその組合せである。データ層を基板表面に埋設するのが好ましい。代表的には、射出成形−圧縮技術により基板を製造し、この場合金型に上述したとおりの溶融ポリマーを充填する。金型にはプレホーム、インサートなどを入れてもよい。ポリマー系を冷却し、そしてまだ少なくとも部分的に溶融状態にある間に、圧縮して、基板の所望部分に、即ち所望区域の片側又は両側に螺旋、同心その他の配向で配列されたピット及びグルーブのような所望の表面形状を刻印（インプリント）する。
【００３７】
磁気又は光磁気用途用に使用できるデータ層は、読み出し可能なデータを保存することができればどのような材料を含有してもよく、その例には、酸化物（例えば酸化ケイ素）、希土類元素−遷移金属合金、ニッケル、コバルト、クロム、タンタル、白金、テルビウム、ガドリニウム、鉄、ホウ素など、及びこれらの１種以上を含む合金及び組合せ、有機色素（例えばシアニン又はフタロシアニン系色素）、並びに無機相変化化合物（例えばＴｅＳｅＳｎ、ＩｎＡｇＳｂなど）があるが、これらに限定されない。
【００３８】
保護層は、ほこり、油その他の汚染物から媒体を保護し、その厚さは約１００μｍ超えから約１０Å未満までとすることができ、実施態様によっては約３００Å以下の厚さが好ましく、約１００Å以下の厚さが特に好ましい。保護層の厚さは通常、少なくとも部分的に、使用する読み取り／書き込み機構の種類、例えば磁気、光又は光磁気によって決められる。使用可能な保護層には、種々の材料の中でも、耐食性材料、例えば金、銀、窒化物（例えば窒化ケイ素、窒化アルミニウムなど）、炭化物（例えば炭化ケイ素など）、酸化物（例えば二酸化ケイ素など）、ポリマー材料（例えばポリアクリレートやポリカーボネート）、炭素フィルム（ダイヤモンド、ダイヤモンドライクカーボンなど）、並びにこれらの材料の１種以上を含む組合せがある。
【００３９】
誘電体層は、代表的にはデータ層の片側又は両側に配置され、多くの場合熱制御層として用いられ、その厚さは通常約１０００Åより大きくも小さくもすることができ、そして約２００Å以下のように小さくすることもできる。使用可能な誘電体層には、環境内で適合しうる材料、好ましくは上下の層と反応性でない材料の中でも、窒化物（例えば窒化ケイ素、窒化アルミニウムなど）、酸化物（例えば酸化アルミニウムなど）、硫化物（例えば硫化亜鉛）、炭化物（例えば炭化ケイ素など）、並びにこれらの材料の１種以上を含む組合せがある。
【００４０】
反射層は、データ読み出しを可能にするのに十分な量のエネルギー（例えば光）を反射するのに十分な厚さである必要がある。代表的には、反射層の厚さは約７００Å以下もしくはその程度とすることができ、通常約３００Å〜約６００Åの範囲の厚さが好ましい。使用可能な反射層には、特定のエネルギー場を反射することのできる材料すべてが含まれ、例えば金属（具体的にはアルミニウム、銀、金、ケイ素、チタン、並びにこれらの金属の１種以上を含む合金及び混合物など）がある。
【００４１】
反応層は、キャリヤ及び反応性材料両方を含有する被覆組成物であり、初期にはデータ記憶媒体装置によるデータ読み出しを可能にするのに十分な透過性を有し、その後同装置によるデータ読み出しを阻止する（例えば、所定装置のレーザー波長で十分な量の入射光、反射光又はそれらの組合せを吸収する）層を形成する必要がある。代表的には、反射層からの約５０％以上の初期反射率を可能にする層を使用でき、約６５％以上の初期反射率が好ましく、約７５％以上の初期反射率が特に好ましい。媒体が酸素、例えば空気に所望の期間（例えば媒体の許容再生時間）露出されると、層の反射率が約４５％以下、好ましくは約３０％以下、より好ましくは約２０％以下、特に好ましくは約１０％未満となるのが望ましい。
【００４２】
使用可能な反応性材料には、酸素感応性ロイコメチレンブルーもしくは還元形態のメチレンブルー、ブリリアントクレジルブルー、ベーシックブルー３、トルイジン０、及びこれら反応性材料の１種以上を含む反応生成物及び組合せがある。これらの材料の構造を以下に示す。
【００４３】
【化６】
2005523553.tif 000008
【００４４】
使用可能な反応性材料の他の例には、ＵＶ被膜なしで約４８時間で再酸化する色素がある。
【００４５】
合成方法と着色形態のメチレンブルー色素を形成する酸素依存再酸化を以下に示す。
【００４６】
【化７】
2005523553.tif 000009
【００４７】
ほかに、反応層は少なくとも１種の光消色遅延剤、例えばポリヒドロキシ化合物を含有してもよい。適当なポリヒドロキシ化合物には、ビフェノール類、ビフェノール誘導体、トリヒドロキシベンゼン誘導体又はこれらの組合せがある。ポリヒドロキシ化合物は光消色を効果的に抑制する。ここで「光消色を効果的に抑制する」とは、ポリヒドロキシ化合物を含有する限定再生型データ記憶媒体がメディアプレーヤでの再生を停止する臨界的反射率に到達するのにかかる時間が、反応層にポリヒドロキシ化合物を含有しない限定再生型データ記憶媒体がメディアプレーヤでの再生を停止する臨界的反射率に到達するのにかかる時間より長いことを意味する。代表的には、臨界反射率は約２０％未満であり、臨界反射率が約１０％未満であるのが好ましい。
【００４８】
適当なポリジヒドロキシ化合物には次式ＶＩで表されるものがある。
【００４９】
【化８】
2005523553.tif 000010
【００５０】
式中のＥ1は芳香族基、例えばフェニレン、ビフェニレン、ナフチレンなどを示す。Ｚ1は、無機原子、例えばハロゲン（フッ素、臭素、塩素、ヨウ素）など、無機基、例えばニトロなど、有機基、例えば一価炭化水素基、具体的にはアルキル、アリール、アラルキル、アルカリールもしくはシクロアルキル、又はオキシ基、例えばＯＲ2（式中のＲ2は水素又は一価炭化水素基、例えばアルキル、アリール、アラルキル、アルカリール又はシクロアルキルを示す）などでよい（例示はこれらに限定されない）。特定の実施態様では、Ｚ1はハロ基又はＣ1−Ｃ6アルキル基を含む。添字ｍは０からＥ1上の置換可能な位置の数までの整数を示し、ｔは１以上の整数を示し、ｕは０又は１以上の整数である。但し、ｕが０の場合、ｍは２からＥ1上の置換可能な位置の数までの整数を示す。
【００５１】
上記式ＶＩで示すようにＺ1置換基が２つ以上存在する場合、それらは同じでも異なってもよい。芳香族残基Ｅ1の２つ以上の環炭素原子がＺ1及びヒドロキシル基で置換されている場合、芳香族残基Ｅ1上のヒドロキシル基とＺ1の位置は、オルト、メタ又はパラ位で変えることができ、またこれらの原子団はビシナル、非対称又は対称関係とすることができる。
【００５２】
ポリヒドロキシ化合物の例には、４，４’−ビフェノール、３，３’−ビフェノール、２，２’−ビフェノール、２，２’，６，６’−テトラメチル−３，３’，５，５’−テトラブロモ−４，４’−ビフェノール、２，２’，６，６’−テトラメチル−３，３’，５−トリブロモ−４，４’−ビフェノール、３，３’−ジメチルビフェニル−４，４’−ジオール、３，３’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルビフェニル−４，４’−ジオール、３，３’，５，５’−テトラメチルビフェニル−４，４’−ジオール、２，２’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−５，５’−ジメチルビフェニル−４，４’−ジオール、３，３’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−５，５’−ジメチルビフェニル−４，４’−ジオール、３，３’，５，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルビフェニル−４，４’−ジオール、２，２’，３，３’，５，５’−ヘキサメチルビフェニル−４，４’−ジオール、２，２’，３，３’，５，５’，６，６’−オクタメチルビフェニル−４，４’−ジオール、３，３’−ジ−ｎ−ヘキシルビフェニル−４，４’−ジオール、３，３’−ジ−ｎ−ヘキシル−５，５’−ジメチルビフェニル−４，４’−ジオール、１，２，４−トリヒドロキシベンゼンなどがあるが、これらに限定されない。代表的には、ポリヒドロキシ化合物は、反応層の全重量に基づいて、約１〜２０重量％の範囲、より好ましくは約３〜１５重量％の範囲、もっとも好ましくは約５〜１０重量％の範囲で存在する。
【００５３】
上記反応性材料のほかに、データ記憶媒体を限定再生型とするように機能する多数の他の色素及び光阻止材料を合成することができる。例えば、使用可能な他の反応性材料が米国特許第４４０４２５７号及び同第５８１５４８４号に見いだされる。さらに反応性材料は、上述した反応性材料の任意の１種以上を含有する混合物を含むことができる。
【００５４】
反応層中の反応性材料の量は、データ記憶媒体の所望の寿命に依存する。反応層中の反応性材料の量は、反応層の全重量に基づいて、約３重量％、好ましくは約４重量％のように少なくすることができ、一方反応性材料の上限量は約１０重量％であり、約７重量％が好ましく、約６重量％がより好ましく、約５重量％がさらに好ましい。
【００５５】
反応性材料は、基板表面上に堆積するか、基板表面の少なくとも一部分中に含浸するか、堆積と含浸の組合せを行って反応層を形成するために、キャリヤと混合するのが好ましい。キャリヤは、反応層の全重量に基づいて、代表的には約６５〜８５％の範囲、好ましくは約７０〜８０％の範囲で存在する。使用可能なキャリヤには、熱可塑性アクリルポリマー、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリチオレン、ＵＶ硬化性有機樹脂、ポリウレタン、熱硬化性アクリルポリマー、アルキド樹脂、ビニル樹脂など、並びにこれらのキャリヤの１種以上を含む組合せがある。ポリエステルには、脂肪族ジカルボン酸、例えばフマル酸又はマレイン酸と、グリコール、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコールなどとの反応生成物、並びにこれらの１種以上を含む反応生成物及び混合物がある。
【００５６】
キャリヤとして使用できるエポキシ樹脂には、１個又は複数個のエポキシ官能基を有する単量体、二量体、オリゴマー又はポリマー形態のエポキシ材料が含まれる。例えば、ビスフェノールＡとエピクロロヒドリンの反応生成物、エピクロロヒドリンとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂の反応生成物などがある。他の有機樹脂は、Ｋｅｈｒらの米国特許第３６９７３９５号及び同第３６９７４０２号に示されているような、ポリオレフィンとポリチオールの混合物の形態とすることができる。
【００５７】
ここで用いる用語「熱可塑性アクリルポリマー」は、１種以上のアクリル酸エステル単量体もしくはメタクリル酸エステル単量体の重合から得られる熱可塑性重合体を包含する。これらの単量体は次の一般式ＶＩＩで表される。
【００５８】
【化９】
2005523553.tif 000011
【００５９】
式中のＷは水素又はメチル基であり、Ｒfはアルキル基、好ましくは炭素原子数約１〜２０のアルキル基である。Ｒfで表されるアルキル基の具体例には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシルなどがあるが、これらに限定されない。
【００６０】
式ＶＩＩで表されるアクリル酸エステル単量体の具体例には、アクリル酸メチル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸２−エチルヘキシルなどがあるが、これらに限定されない。式ＶＩＩで表されるメタクリル酸エステル単量体の具体例には、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸プロピルなど、並びにこれらの１種以上を含む反応生成物及び組合せがあるが、これらに限定されない。
【００６１】
上記アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステル単量体の共重合体も、本明細書で用いる用語「熱可塑性アクリルポリマー」に含まれる。熱可塑性アクリルポリマーがポリ（メチルメタクリレート／メタクリル酸）の共重合体であるのが好ましい。熱可塑性アクリルポリマーを生成するアクリル酸エステル及びメタクリル酸エステル単量体の重合は、既知の重合法のいずれで行ってもよい。熱可塑性アクリルポリマーは、インヘレント粘度が代表的には約０．３００ｃｍ3ｇ-1未満、好ましくは約０．２５０ｃｍ3ｇ-1未満、より好ましくは約０．２００ｃｍ3ｇ-1未満である。
【００６２】
反応層の基板への密着性を高めるために、両者間にプライマーを使用してもよい。プライマーとして有用な熱可塑性アクリルポリマーには、単一種のアクリル酸エステル単量体から誘導されたアクリルホモポリマー、単一種のメタクリル酸エステル単量体から誘導されたメタクリルホモポリマー、２種以上の異なるアクリル酸エステル単量体、２種以上の異なるメタクリル酸エステル単量体、又はアクリル酸エステル単量体とメタクリル酸エステル単量体から誘導された共重合体など、並びにこれらのプライマーの１種以上を含む組合せがある。
【００６３】
上述した熱可塑性アクリルポリマーの２種以上の混合物、例えば２種以上の異なるアクリルホモポリマー、２種以上の異なるアクリル共重合体、２種以上の異なるメタクリルホモポリマー、２種以上の異なるメタクリル共重合体、アクリルホモポリマーとメタクリルホモポリマー、アクリル共重合体とメタクリル共重合体、アクリルホモポリマーとメタクリル共重合体、アクリル共重合体とメタクリルホモポリマーの混合物、並びにこれらの反応生成物の混合物も使用できる。
【００６４】
所望に応じて、種々のコーティング技術、例えば塗装、浸漬、スプレー、スピンコート、スクリーンプリンティングなどを用いて、反応層を基板に設層することができる。例えば、反応層を、ポリカーボネートに対して実質的に不活性である、即ちポリカーボネートを攻撃しないか、悪影響しないが、キャリヤを溶解することができる、比較的揮発性の溶剤、好ましくは有機溶剤と混合することができる。一般に、溶剤中のキャリヤの濃度は、約５重量％以上であり、約１０重量％以上が好ましく、ポリマーの上限範囲は約２５重量％であり、約２０重量％以下が好ましい。適当な有機溶剤の例には、エチレングリコールジアセテート、ブトキシエタノール、メトキシプロパノール、低級アルカノールなどがある。一般に、被覆溶液における溶剤の濃度は約７０重量％以上であり、約７５重量％以上が好ましく、ポリマーの上限範囲は約９０重量％であり、約８５重量％以下が好ましい。
【００６５】
反応層は所望に応じて種々の添加剤、例えば艶消剤、界面活性剤、チキソトロープ剤など、並びにこれら添加剤の１種以上を含む反応生成物及び組合せを含有してもよい。
【００６６】
反応層の厚さは、使用する特定の反応性材料、その反応層中の濃度、及び初期及び所望期間後の層の望ましい吸収特性に依存する。反応層の厚さは１μｍのように小さくでき、約２μｍが好ましく、約３μｍがより好ましい。上限として厚さは約１５μｍ以上までとすることができ、約１０μｍ以下が好ましく、約６μｍ以下がより好ましい。例えば、反応層を通しての初期反射率を約５０％以上とし、２４時間後の反射率を約３０％以下とするために、層の厚さが約１〜２５μｍの範囲にあるのが好ましく、約２〜５μｍの範囲がより好ましい。
【００６７】
代表的には、反応層は反射層と第２基板との間に配置される。反応層及び反射層は第１基板と第２基板との間のサンドイッチ配置とすることができる。サンドイッチ配置にある反応層は第２反射率より高い第１反射率を有する。ここで、第２反射率とは反応層がサンドイッチ配置にないとした場合の反射率である。
【００６８】
本発明の１実施態様において、記憶媒体は数工程で製造される。製造工程には、第１基板及び第２基板を用意する工程、所望に応じて反応層を第１基板上に配置する工程、反射層を第２基板上に配置する工程、所望に応じて反応層を反射層上に配置する工程、但しデータ記憶媒体には少なくとも１つの反応層が存在し、そして第１基板と第２基板とを、前記層が第１基板と第２基板との間に配置されるように接着する工程がある。
【００６９】
本発明の別の実施態様では、記憶媒体を製造するのに、第１基板及び第２基板を用意し、反応層を第１基板上に配置し、反射層を前記反応層上に配置し、そして第１基板と第２基板とを、前記層が第１基板と第２基板との間に配置されるように接着する。
【００７０】
本発明の他の実施態様では、記憶媒体を製造するのに、第１基板及び第２基板を用意し、所望に応じて反応層を第１基板上に配置し、半反射層（例えば金層、銀、銀合金及びケイ素）を第１基板上に配置し、但し反応層を第１基板上に配置する場合には、金層を反応層上に配置し、所望に応じて反応層を金層上に配置し、反射層を第２基板上に配置し、所望に応じて反応層を反射層上に配置し、但しデータ記憶媒体には少なくとも１つの反応層が存在し、そして第１基板と第２基板とを、前記層が第１基板と第２基板との間に配置されるように接着する。
【００７１】
代表的には、成形基板を脱気してから、反応層を基板上に配置する。さらに、反応層を形成するのに用いる反応物質は代表的には不活性環境内に保持する。記憶媒体を製造し終わった後、通常ディスクを使用準備が整うまで不活性環境に保持する。代表的には、脱気は不活性ガス、例えば窒素、アルゴン又はヘリウムで行うことができる。
【００７２】
存在するもう一つの層は第２基板である。第２基板は、代表的には、上述した第１基板がもつ物性を満足する材料である。第２基板は、第２基板が吸光層となるように、着色添加剤を含有してもよい。吸光層は代表的には、約３９０〜６３０ｎｍの範囲の少なくとも１つの波長の光の透過率が約９０％未満である。本発明のさらに他の実施態様では、吸光層は代表的には、約４５５〜６２０ｎｍの範囲の少なくとも１つの波長の光の透過率が約１０％未満であり、好ましくは約４７５〜６２０ｎｍの範囲の光の透過率が約１０％未満である。特に好ましくは、吸光層は、約５５０〜６２０ｎｍの範囲の少なくとも１つの波長の光の透過率が約１％未満である。本発明のさらに他の実施態様では、吸光層は代表的には、約３９０〜４３５ｎｍの範囲の少なくとも１つの波長の光の透過率が約６０％未満であり、好ましくは約３９０〜４３５ｎｍの範囲の少なくとも１つの波長の光の透過率が約４０％未満であり、特に好ましくは約３９０〜４３５ｎｍの範囲の少なくとも１つの波長の光の透過率が約１０％未満である。吸光層は反応層とレーザービームとの間に配置される。代表的には吸光層の厚さは約６００μｍ以下である。
【００７３】
代表的には、着色剤又は着色剤の組合せが吸光層内に存在する。着色剤は代表的には、吸光層の全重量に基づいて、約０．００００１〜２重量％の範囲、好ましくは約０．００１〜１重量％の範囲、より好ましくは約０．０１〜０．５重量％の範囲で存在する。また、着色剤は、着色剤を導入する層を形成するのに用いる材料に溶解するものを選択するのが好ましい。ＤＶＤ層に用いる材料に可溶な着色剤には、染料（例えば「ソルベント染料」）、有機着色剤、顔料、その他染料と同様に作用するもの、即ちプラスチック材料に分散し、約２００ｎｍ以上の寸法の凝集体を形成しない着色剤（凝集体寸法約５０ｎｍ以下が好ましい）がある。適当な着色剤には、化学物質群としてのアントラキノン、ペリレン、ペリノン、インダントロン、キナクリドン、キサンテン、オキサジン、オキサゾリン、チオキサンテン、インジゴイド、チオインジゴイド、ナフタルイミド、シアニン、キサンテン、メチン、ラクトン、クマリン、ビス−ベンズオキサゾリルティオフェン（ＢＢＯＴ）、ナフタレンテトラカルボン酸誘導体、モノアゾ及びジスアゾ顔料、トリアリールメタン、アミノケトン、ビス（スチリル）ビフェニル誘導体など、並びにこれらの着色剤の１種以上を含む組合せがあるが、これらに限定されない。
【００７４】
市販されている適当な染料（色素）の一部のリストを以下に示す。
Ｃｏｌｏｒ  Ｉｎｄｅｘ  Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｒｅｄ  ５２
Ｃｏｌｏｒ  Ｉｎｄｅｘ  Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｒｅｄ  ２０７
Ｃｏｌｏｒ  Ｉｎｄｅｘ  Ｄｉｓｐｅｒｓｅ  Ｏｒａｎｇｅ  ４７
Ｃｏｌｏｒ  Ｉｎｄｅｘ  Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｏｒａｎｇｅ  ６０
Ｃｏｌｏｒ  Ｉｎｄｅｘ  Ｄｉｓｐｅｒｓｅ  Ｙｅｌｌｏｗ  ５４
Ｃｏｌｏｒ  Ｉｎｄｅｘ  Ｄｉｓｐｅｒｓｅ  Ｙｅｌｌｏｗ  ２０１
Ｃｏｌｏｒ  Ｉｎｄｅｘ  Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １３８
Ｃｏｌｏｒ  Ｉｎｄｅｘ  Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ３６
Ｃｏｌｏｒ  Ｉｎｄｅｘ  Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  １３
Ｃｏｌｏｒ  Ｉｎｄｅｘ  Ｄｉｓｐｅｒｓｅ  Ｖｉｏｌｅｔ  ２６
Ｃｏｌｏｒ  Ｉｎｄｅｘ  Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  ９７
Ｃｏｌｏｒ  Ｉｎｄｅｘ  Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  ５９
Ｃｏｌｏｒ  Ｉｎｄｅｘ  Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ  ３
Ｃｏｌｏｒ  Ｉｎｄｅｘ  Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ  ２８
Ｃｏｌｏｒ  Ｉｎｄｅｘ  Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｒｅｄ  １３５
Ｃｏｌｏｒ  Ｉｎｄｅｘ  Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｒｅｄ  １７９
１，５−ジヒドロキシ−４，８−ビス（フェニルアミノ）−９，１０−アントラセンジオン
【００７５】
上記層の任意の組合せを接着することのできる接着剤層が存在してもよい。接着剤層は、酸素透過性層を形成することができ、データ読み出し装置からまたデータ読み出し装置への媒体を通しての光の伝達を実質的に妨害しない（例えば、データ読み出し装置が用いる光の波長で実質的に透明であるか、媒体からの反射率約５０％以上、好ましくは反射率約６５％以上、より好ましくは反射率約７５％以上を可能にするか、その両方である）材料であれば、どのような材料から構成してもよい。使用可能な接着剤材料には、ＵＶ材料、例えばアクリレート（例えば架橋アクリレートなど）、シリコンハードコートなど、並びにこれらの材料の１種以上を含む反応生成物及び組合せがある。ＵＶ材料の他の例が米国特許第４１７９５４８号及び同第４４９１５０８号に記載されている。有用な多官能価アクリレート単量体には、例えば、以下の式のジアクリレート：
【００７６】
【化１０】
2005523553.tif 000012
【００７７】
以下の式のトリジアクリレート：
【００７８】
【化１１】
2005523553.tif 000013
【００７９】
及び以下の式のテトラアクリレートがある。
【００８０】
【化１２】
2005523553.tif 000014
【００８１】
接着剤層は上記多官能価アクリレート単量体の１種だけを含有しても、多官能価アクリレート単量体の１種以上（及びその紫外線反応生成物）を含む混合物を含有してもよいが、好ましい被覆組成物は２種の多官能価単量体（及びその紫外線反応生成物）の混合物、特にジアクリレート及びトリアクリレート（及びその紫外線反応生成物）の混合物を含有し、場合によっては少量のモノアクリレートを含有する。所望に応じて、接着剤被膜は、非アクリル系ＵＶ硬化性脂肪族不飽和有機単量体を未硬化接着剤被膜の約５０重量％以下の量含有でき、かかる単量体には、例えばＮ−ビニルピロリドン、スチレンなどの材料並びにこれらの材料の１種以上を含む反応生成物及び組合せがある。
【００８２】
接着剤層がアクリレート単量体の混合物を含有する場合、ジアクリレート対トリアクリレートの重量比が約１０／９０〜約９０／１０の範囲にあるのが好ましい。ジアクリレートとトリアクリレートの混合物の例には、ヘキサンジオールジアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物、ヘキサンジオールジアクリレートとトリメチロールプロパントリアクリレートの混合物、ジエチレングリコールジアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物、ジエチレングリコールジアクリレートとトリメチロールプロパントリアクリレートの混合物などがある。
【００８３】
接着剤層は、増感量、即ち接着剤被膜を光硬化させるのに有効な量の光開始剤を含有することもできる。一般にこの量は、接着剤被膜の全重量に基づいて、約０．０１重量％、好ましくは約０．１重量％から約１０重量％、好ましくは約５重量％までである。使用可能な光開始剤には、紫外線に照射されると適当なハードコートを形成するケトン型及びヒンダードアミン型材料のブレンドがある。ケトン化合物対ヒンダードアミン化合物の重量比が約８０／２０〜約２０／８０の範囲にあるのが好ましい。通常、約５０／５０もしくは約６０／４０混合物が十分満足である。
【００８４】
窒素などの非酸化性雰囲気で用いるのが好ましい、使用可能な他のケトン型光開始剤には、ベンゾフェノン及び他のアセトフェノン類、ベンジル、ベンズアルデヒド、及び０−クロロベンズアルデヒド、キサントン、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、９，１０−フェナントレンキノン、９，１０−アントラキノン、メチルベンゾインエーテル、エチルベンゾインエーテル、イソプロピルベンゾインエーテル、α，α−ジエトキシアセトフェノン、α，α−ジメトキシアセトフェノン、１−フェニル−１，２−プロパンジオール−２−ｏ−ベンゾイルオキシム、α，α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、ホスフィンオキシドなどがある。これらの光開始剤の１種以上を含む反応生成物及び組合せも含まれる。
【００８５】
接着剤層の光硬化は、吸光層によっても影響される。約３３０〜３９０ｎｍの範囲の少なくとも１つの波長の光の約５％超えを透過する、又は好ましくは約３６０〜３７０ｎｍの範囲の少なくとも１つの波長の光の約１０％超えを透過する吸光層を使用する場合、接着剤層は優れた結合能を有する。接着剤層が「優れた結合能」を有する場合、データ記憶媒体が反射率４５％に達するのに要する時間が、上述した範囲外の光を吸収する吸光層を有するデータ記憶媒体が反射率４５％に達するのに要する時間より長い。
【００８６】
接着剤層は、所望に応じて、艶消剤、界面活性剤、チキソトロープ剤、紫外線安定剤、ＵＶ吸収剤及び／又は安定剤、例えばレゾルシノールモノベンゾエート、２−メチルレゾルシノールジベンゾエートなど、並びにこれら化合物の１種以上を含む反応生成物及び組合せを含有してもよい。安定剤は、未硬化ＵＶ層の重量に基づいて、約０．１重量％、好ましくは約３重量％から約１５重量％までの量存在することができる。
【実施例】
【００８７】
当業者が本発明を適切に実施できるように、以下に実施例を示して本発明を具体的に説明するが、実施例は本発明を限定するものではない。
【００８８】
実施例１
この実施例は、ＰＭＭＡ／酸化ロイコメチレンブルー被覆溶液の調製を説明する。
【００８９】
ボトル内で１１１ｇのＥｌｖａｃｉｔｅ２００８ポリ（メチルメタクリレート）（Ｉｎｅｏｓ  Ａｃｒｙｌｉｃｓ社製、インヘレント粘度０．１８３ｃｍ3ｇ-1）を４５０ｇの１−メトキシ−２−プロパノールに添加し、ローラミルで転動して溶解させることにより、ＰＭＭＡの１−メトキシ−２−プロパノール溶液を調製した。この溶液をフラスコに移し、窒素の流れを約１００ｃｃ／ｍｉｎでゆっくり溶液表面に流しながら、約８０℃に加熱した。カニューレチューブを用いて、脱気した溶液を窒素圧力下でゴム隔膜で閉じた脱気ボトルに移した。
【００９０】
ゴム隔膜を取り付けた２５０ｍＬフラスコ内で４．８５ｇのメチレンブルー三水和物と２．０５ｇのカンファースルホン酸を１４８．３ｇの１−メトキシ−２−プロパノールと合わせることにより、ロイコメチレンブルー溶液を調製した。窒素入口及び出口両方にシリンジ針を用いて、窒素の流れをフラスコに約１００ｃｃ／ｍｉｎの速度で通しながら、撹拌した混合物を９０℃の水浴で加熱した。熱い（８０℃）内に、シリンジにより２０．９ｇの２−エチルヘキサン酸錫（ＩＩ）を添加してメチレンブルーを暗い琥珀色のロイコメチレンブルーに還元した。この溶液に１．１ｍＬの流れ調整剤ＢＹＫ−３０１（ＢＹＫ  Ｃｈｅｍｉｅ製）を添加した。カニューレチューブを用いて、上記溶液を上記脱気ＰＭＭＡ溶液に移した。
【００９１】
ＰＭＭＡ／ロイコメチレンブルー被覆溶液を空気中で１週間以上放置したところ、この間にロイコメチレンブルーが酸化してメチレンブルーを形成した、即ちポリ（メチルメタクリレート）／酸化ロイコメチレンブルー。
【００９２】
実施例２
この実施例は、ポリ（メチルメタクリレート）／酸化ロイコメチレンブルーで被覆されたディスクの製造を具体的に示す。実施例１のＰＭＭＡ／酸化ロイコメチレンブルー被覆溶液約３ｍＬを、スピンコーターに保持したＤＶＤの内径のまわりにリング状に塗工した。６００ｒｐｍで６０秒間スピンコートした後、被膜は指触乾燥で、真に青色であった。
【００９３】
実施例３
ＰＲＯｍｅｔｅｕｓ計器ＭＴ−１３６Ｅ型（Ｄｒ．Ｓｈｅｎｋ社製）を用いて実施例２のディスクの反射率を測定した。実施例２の手順で多数のディスクを製造し、ＰＲＯｍｅｔｅｕｓ計器（Ｄｒ．Ｓｈｅｎｋ社製）を用いてその反射率を測定した。初期平均反射率は４．９〜８．３％の範囲にあった。
【００９４】
実施例４
試料が地面に対して角度４５°で南向きになるように、耐候試験ラックを地面に置いた。試料を、地面から３〜８フィートの間で木材又はポリスチレン上に装着した。試料を米国ニューヨーク州スケネクタデイで、８月、９月又は１０月に曝露した。
【００９５】
実施例５
Ｕｎｉｃａｍ  ＵＶ３ＵＶ／Ｖｉｓ分光計を用いて、試料ビームに光フィルタを入れ、標準ビームには何も入れないで、吸収スペクトルを測定した。
【００９６】
実施例６
この実施例では、以下の添加剤：４，４’−ビフェノール、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール（ＢＨＴ）及び３，５，３’，５’−テトラメチル−４，４’−ビフェノールを含有する、ＰＭＭＡ／メチレンブルーの１−メトキシ−２−プロパノール溶液（実施例１）についての結果を求める実験手順を説明する。
【００９７】
実施例１に記載したようなメチレンブルー／ＰＭＭＡ混合物２０．０ｇ及び４，４’−ビフェノール０．３ｇを含有する溶液を調製した。同様に、但し０．３ｇのＢＨＴ及び０．３ｇの３，５，３’，５’−テトラメチル−４，４’−ビフェノールをそれぞれ添加して、２つの追加の溶液を調製した。各容器に撹拌棒を入れ、溶液を２４時間撹拌した。
【００９８】
各溶液から３枚のフィルムをアルミナイド化ポリカーボネートＤＶＤディスク半部上にスピンコートした（３ｍＬアリコート、６００ｒｐｍ、６０秒）。追加の添加剤を含有しない溶液からも３枚の追加のフィルムをスピンコートした。これらの３枚の試料は対照品となった。次に、５ｍＬのダイキュアＳＤ６９８接着剤（大日本インキ化学工業）をディスク半部の内径に供給した。無色透明なポリカーボネートディスク半部をその上に重ね、この「サンドイッチ」体をスピンした（１５００ｒｐｍ、２０秒）。スピン完了直後に、Ｆｕｓｉｏｎ  ＵＶ  Ｓｙｓｔｅｍｓ社製のＵＶ光システムを用いて、ディスクを硬化した（１．１Ｊ／ｃｍ2、１．６Ｗ／ｃｍ2）。このプロセスを各試料について繰り返した。
【００９９】
初期反射率を実施例３に記載した通りに測定した。試料を実施例４に記載したのと同様の耐候試験ラックに並べた。実施例３に記載した通りに最終反射率を測定した。結果を対照試料の結果と比較し、表１に示す。
【０１００】
【表１】
2005523553.tif 000015
【０１０１】
反応層にビフェノールを用いて作製したＤＶＤは、ビフェノール誘導体なしのＤＶＤや反応層に酸化防止剤（ＢＨＴ）を含有するＤＶＤと比較して、耐光消色性が著しく向上している。ビフェノール又はその誘導体を用いることで、耐光消色性の特異な格別の向上があった。
【０１０２】
実施例７
実施例１の溶液１５重量部を１，２，４−トリヒドロキシベンゼン０．０５重量部と合わせて調製した溶液を用いて、実施例６の方法でサンドイッチ型ディスクを作製した。ダイキュアＳＤ６９８を１２６０ｒｐｍで２０秒間スピンし、ついでＤバルブを取り付けたＵＶプロセッサーで２１秒間硬化させることにより、ボンドを完了した。試料の反射率は、初期に４．３３％で、キセノンアークウエザロメータで２０時間曝露後に７．６１％であった。これに対して、トリヒドロキシベンゼンを用いずに同じ方法で作成した対照試料は同じ曝露後に反射率２７．８％であった。トリヒドロキシベンゼンなしの試料の初期反射率は４．３９％であった。
【０１０３】
実施例８
この実施例では、混成染料を含有する３つのポリカーボネート組成物から成形した吸光層を用いて、耐光消色性の優れたディスクを製造する例を説明する。図１に示す染料含有吸光層の吸収スペクトルは、実施例５の手順で測定した。実施例１の溶液と実施例２の手順を用いて、４つのアルミナイド化ポリカーボネート基板を被覆した。「対照」試料を作製するために、これら基板の１つにその内径に５ｍＬのダイキュアＳＤ６９８接着剤（大日本インキ化学工業）を供給し、無色のポリカーボネート層をその上に重ね、１５００ｒｐｍで２０秒間スピンした。スピン完了直後に、Ｆｕｓｉｏｎ  ＵＶ  Ｓｙｓｔｅｍｓ社製のＵＶ光システムを用いて、ディスクを硬化した（１．１Ｊ／ｃｍ2、１．６Ｗ／ｃｍ2）。無色のポリカーボネート層の代わりに染料含有吸光ポリカーボネート層を用いて、このプロセスを繰り返した。染料含有ポリカーボネート組成物を用いて作製したＤＶＤからの、３日間の屋外日光曝露前後の反射率の測定結果を表２に示す。
【０１０４】
【表２】
2005523553.tif 000016
【０１０５】
染料含有吸光層を用いて作製したＤＶＤは、吸光層なしのＤＶＤと比較して、耐光消色性が著しく向上している。吸光層を用いることで、耐光消色性の特異な格別の向上がある。
【０１０６】
実施例９
実施例６及び８の手順を用いて、ＰＭＭＡ／酸化ロイコメチレンブルー被膜中に添加剤を添加せず、無色ポリカーボネート層を用いて、対照ディスクを作製した。同時に、実施例６と同様にＰＭＭＡ／酸化ロイコメチレンブルー被膜中に４，４’−ビフェノールを含有させ、染料組成物３の吸光ポリカーボネート層を用いて、ディスクを作製した。これらの試料を実施例４の手順で耐候試験した。ディスクの反射率は初期に４．４％で、９日間の屋外曝露後に５．０％であった。これに対して、無色のポリカーボネート層を用い、４，４’−ビフェノールなしで作製した対照ディスクは、初期反射率が同じく４．４％で、同じ曝露後の反射率が４３．７％であった。
【０１０７】
実施例１０
ボトル内で６０ｇのＥｌｖａｃｉｔｅ２０１０ポリ（メチルメタクリレート）（Ｉｎｅｏｓ  Ａｃｒｙｌｉｃｓ社製）を３００ｇの１−メトキシ−２−プロパノールに添加し、ローラミルで転動して溶解させることにより、ＰＭＭＡの１−メトキシ−２−プロパノール溶液を調製した。この溶液をフラスコに移し、窒素の流れを１００ｃｃ／ｍｉｎでゆっくり溶液表面に流しながら、約８０℃に加熱した。カニューレチューブを用いて、脱気した溶液を窒素圧力下でゴム隔膜で閉じた脱気ボトルに移した。
【０１０８】
ゴム隔膜を取り付けた１００ｍＬフラスコ内で１．２ｇのメチレンブルー三水和物と０．８０ｇのカンファースルホン酸を４０ｇの１−メトキシ−２−プロパノールと合わせることにより、ロイコメチレンブルー溶液を調製した。窒素入口及び出口両方にシリンジ針を用いて、窒素の流れをフラスコに１００ｃｃ／ｍｉｎの速度で通しながら、撹拌した混合物を９０℃の水浴で加熱した。熱い（８０℃）内に、シリンジにより４．２ｍＬの２−エチルヘキサン酸錫（ＩＩ）を添加してメチレンブルーを暗い琥珀色のロイコメチレンブルーに還元した。この溶液に０．６ｍＬの流れ調整剤ＢＹＫ−３０１（ＢＹＫ  Ｃｈｅｍｉｅ製）を添加した。上記ロイコメチレンブルー溶液をシリンジに吸入し、ついで０．２μｍシリンジフィルタを通してから、ＰＭＭＡ溶液に注入して、ＰＭＭＡ／ロイコメチレンブルー被覆溶液を調製した。
【０１０９】
実施例１１
実施例１０のＰＭＭＡ／ロイコメチレンブルー被覆溶液約３．５ｍＬを、スピンコーターに保持したＤＶＤの内径のまわりにリング状に供給し、５００ｒｐｍで６０秒間スピンした。被膜は指触乾燥で、本質的に無色であった。皮膜の厚さは、ディスクの内径から外径まで約４μｍから約５μｍの範囲にあった。しかし、スピン中、「クモの網」と呼ばれる極めて細いポリマーストランドの集まりがスピンボウルに溜まった。その上、長さ約１２ｍｍまでの寸法範囲のポリマーストランド約５０本がディスクの縁に付着した。（ＲＤ２９７８９から）
本発明は理論に依存するものではないが、熱可塑性アクリルポリマーの粘度が反応性被膜の加工性を促進し左右するようである。従って、粘度約０．３００ｃｍ3ｇ-1未満の熱可塑性アクリルポリマーは、ディスクを被覆するのに用いたスピン工程中にポリマーストランドを形成しなかった。
【０１１０】
実施例１２
実施例１０のＰＭＭＡ／ロイコメチレンブルー被覆溶液約３ｍＬを、スピンコーターに保持したＤＶＤの内径のまわりにリング状に供給した。５００ｒｐｍで６０秒間スピンコートした後、被膜は指触乾燥で、本質的に無色であった。このディスクをＤＶＤプレーヤに載せ、完全に再生可能であった。
【０１１１】
実施例１３
実施例１２からの被覆ディスクを周囲室内条件で放置し、この間ＰＲＯｍｅｔｅｕｓ計器ＭＴ−１３６Ｅ型（Ｄｒ．Ｓｈｅｎｋ社製）を用いて平均反射率を時々測定した。反射率が下がるにつれて、ディスクの色が本質的に無色から青に変わった。結果を図２に示す。
【０１１２】
空気中で約１週間経過すると、ディスクは強い青色になり、ＤＶＤプレーヤで再生できなかった。
【０１１３】
実施例１４
実施例１の溶液を用い、スピンコーターを８００ｒｐｍで６０秒間作動させて、ＰＭＭＡ／ロイコメチレンブルーのベースコートを０．６ｍｍ非金属化ポリカーボネート第１基板に設けた。被膜の平均厚さが約３μｍであることを確かめた。ＰＭＭＡ／ロイコメチレンブルーのベースコートを有するディスクの１つを窒素室内で一夜保存した後、ＵＶ硬化性樹脂ダイキュアＳＤ−６４０をアルミニウムで金属化した第２基板の中程に細いリング状に供給した。次に、ＰＭＭＡ／ロイコメチレンブルーのベースコートを有する第１基板を、リング状のＵＶ硬化性樹脂を有する第２基板ディスクの上に張り合わせた。サンドイッチ体を１０００ｒｐｍで１０秒間スピンして、ＵＶ接着剤を均一に分散させた。次にサンドイッチ体をキセノンＵＶフラッシュランプ下に２５秒間通過させた。次にサンドイッチ体を窒素室内で４８時間以上保存した。
【０１１４】
実施例１５
溶液を実施例１４と同様に調製した。この溶液を用い、スピンコーターを８００ｒｐｍで６０秒間作動させて、ＰＭＭＡ／ロイコメチレンブルーのベースコートを０．６ｍｍアルミニウム金属化ポリカーボネート第１基板に設けた。被膜の平均厚さが約３μｍであることを確かめた。ＰＭＭＡ／ロイコメチレンブルーのベースコートを有する第１基板を窒素室内で一夜保存した後、ＵＶ硬化性樹脂ダイキュアＳＤ−６４０をこの既に被覆された金属化第１基板の中程に細いリング状に供給した。次に、非金属化ポリカーボネート第２基板を、リング状のＵＶ硬化性樹脂を有する第１基板の上に重ねた。サンドイッチ体を１０００ｒｐｍで１０秒間スピンして、ＵＶ接着剤を均一に分散させた。次にサンドイッチ体をキセノンＵＶフラッシュランプ下に２５秒間通過させた。次にサンドイッチ体を窒素室内で４８時間以上保存した。
【０１１５】
ベースコートだけを有するディスクの酸化速度、ベースコート上にＵＶトップコートを有する別のディスクの酸化速度、及びサンドイッチ配置（図３及び図４で実施例１４をオプションＥと、実施例１５をオプションと表示）の酸化速度を実施例１３の方法で測定した。結果を図３に示す。
【０１１６】
図３は室温で空気に曝露した後のサンドイッチ型ディスクについての反射率挙動を示す。サンドイッチ構造内の染料被膜の位置は、速度論的「遅れ時間」（即ち、反射率が初期の定常値から急速に減衰し始める時間）に大きく作用する。金属化ポリカーボネートを被覆したもの（オプションＦ）は、Ｏ2がポリカーボネート及び結合用接着剤内を拡散しなければ染料を酸化することができないので、遅れ時間がもっとも長かった。これは、反射率４５％に達する時間が３８時間となった。非金属化ポリカーボネートを被覆したもの（オプションＥ）は、Ｏ2がポリカーボネート内を拡散しなければならないだけなので、遅れ時間がもっとも短かった。これは、反射率４５％に達する時間が２７時間となった。ポリカーボネート基板及び結合用接着剤両方がＯ2拡散に対する障壁（バリヤ）となることを見いだしたのは、驚くべきことである。また、比較として示した、局所的被膜についての挙動曲線がオプションＥよりはるかに速いことを見いだしたのも、驚くべきことであった。最後に、初期反射率はオプションＦの方がオプションＥより高いことも驚くべきことであった。オプションＥ配置における染料は、接着層によりさらに保護されているオプションＦにおける染料より、被覆及び結合プロセスにおける取扱中に早期酸化を受けやすいと推定される。
【０１１７】
図４は、実施例１５のオプションＦ及び実施例１４のオプションＥ、即ち被覆前にＮ2で脱気されるか入手したまま（Ｏ2溶存状態）被覆された半部基板を用いた染料被覆オプション両方についての反射率の挙動曲線を示す。残念ながら、溶存Ｏ2がロイコメチレンブルー染料と反応して初期反射率を低くするのに十分な曝露時間があるようである。２コート局所被膜に対するサンドイッチ配置の利点は、０．６ｍｍポリカーボネート基板を十分に脱気するのに必要な時間が厚さ１．２ｍｍの接合ＤＶＤに必要な時間より最大４倍速いことである。
【０１１８】
実施例１６
組成物Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤをブレンドし、単軸スクリュウ押出機を用いて溶融温度２９０℃で押出し、ペレット化した。ペレット状材料から、１２０℃のオーブンで４時間乾燥した後、基板（０．６ｍｍディスク半部）を成形した。成形作業には、セイコーゲイキンＤＶＤ金型をセットしたＳＤ３０成形機（住友重機械）を使用した。
【０１１９】
これらの基板の光透過特性を表３にまとめると共に、図５に示す。
【０１２０】
【表３】
2005523553.tif 000017
【０１２１】
組成物Ａ、Ｃ及びＤは、おそらくは５００〜６５０ｎｍ範囲の光透過特性が極めて類似しているせいで、同様な光消色遅延性能を示した。組成物Ｂの光保護は非常に弱かった。      
【０１２２】
青色レーザーに対する保護が最良であることは、３９０〜４５０ｎｍ範囲での透過量が最小であることに相当した。表３を見ると、組成物Ｂは青色レーザー光で完全にうち破ることができた。逆に、組成物Ａ、Ｃ及びＤでは青色レーザーに対するある程度の保護が得られた。３９０〜４５０ｎｍ範囲（青色及び青紫色レーザー範囲）の光の９％未満しか透過しない組成物Ｃで、もっとも良好な保護が達成される。
【０１２３】
すべての組成物で結合プロセスを実現できたが、結合能に関しては、光硬化用ランプの出力が最高になる３６０〜３７０ｎｍでの透過性が高いので、組成物Ｂ、Ｃ及びＤが好ましい。
【０１２４】
以上好適な実施態様を説明し具体的に示したが、本発明の要旨から逸脱することなく種々の変更や置き換えが可能である。したがって、本発明は具体的な例示として説明したもので、そのような具体的説明や実施態様は本発明を限定するものと解釈すべきではない。
【図面の簡単な説明】
【０１２５】
【図１】無色のポリカーボネートディスク、ポリ（メチルメタクリレート）中の酸化ロイコメチレンブルーのフィルム、及び混成染料を含有する３つのポリカーボネート組成物から成形した基板ディスクの吸収スペクトル図である。
【図２】周囲室内条件下にあるロイコメチレンブルー溶液で被覆したディスクの平均反射率を時間に対して示すグラフである。
【図３】サンドイッチフォーマットのディスクの反射率挙動を局所的被膜及び局所的２層コート被膜と比較して示すグラフである。
【図４】サンドイッチフォーマットのディスクの反射率挙動に対するディスク脱気の影響を示すグラフである。
【図５】ＤＶＤ基板用のポリカーボネート系樹脂組成物の、厚さ０．６ｍｍで透過モードで測定した、光透過特性のグラフである。
【図１】
2005523553.tif 000018
【図２】
2005523553.tif 000019
【図３】
2005523553.tif 000020
【図４】
2005523553.tif 000021
【図５】
2005523553.tif 000022
【国際調査報告】
2005523553.tif 000023
2005523553.tif 000024
2005523553.tif 000025