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【手続補正書】
【提出日】令和2年5月22日(2020.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
工作物を研削する砥石車と、
前記砥石車により研削された前記工作物の表面粗さを検出するセンサと、
前記センサにより検出される表面粗さに基づいて検出後に行う研削の条件を決定し、その決定された条件で研削を行う制御装置と、
を備える研削盤システム。
【請求項２】
前記制御装置は、検出された前記表面粗さが所定閾値よりも大きい場合に、検出後に行う研削の条件として、前記表面粗さが前記閾値以下となる条件を決定し、その決定された条件で研削を行う、請求項１に記載の研削盤システム。
【請求項３】
前記制御装置は、
複数の研削工程を順次実行し、
前記センサにより検出される前記表面粗さに基づき、前記複数の研削工程の切替を行うタイミングを決定する、請求項２に記載の研削盤システム。
【請求項４】
前記研削盤システムは、プランジ研削により前記工作物を研削する、請求項１−３の何れか一項に記載の研削盤システム。
【請求項５】
前記研削盤システムは、トラバース研削により前記工作物を研削する、請求項１−３の何れか一項に記載の研削盤システム。
【請求項６】
前記制御装置は、前記センサにより検出される前記表面粗さに基づき、検出後のトラバース研削の条件として残りトラバース回数を決定し、その決定された前記残りトラバース回数のトラバース研削を行う、請求項５に記載の研削盤システム。
【請求項７】
前記センサは、前記砥石車による所定回数のトラバース研削が終了した後であって次回のトラバース研削を開始する前に、前記表面粗さを検出する、請求項５又は６に記載の研削盤システム。
【請求項８】
前記センサは、前記砥石車によるトラバース研削を行いながら、前記表面粗さを検出する請求項５又は６に記載の研削盤システム。
【請求項９】
前記センサは、前記工作物が回転している状態であって、前記センサに対して前記工作物が相対的にトラバース送りされる状態で、前記工作物の研削された部位を検出する、請求項５−８のいずれか一項に記載の研削盤システム。
【請求項１０】
前記センサは、前記工作物の研削された部位のうち、前記工作物の所定の軸方向位置の１周分の範囲の前記表面粗さを検出する、請求項１−８の何れか一項に記載の研削盤システム。
【請求項１１】
前記センサは、
基板と、
前記基板上に装着され、前記工作物に向けて発光する発光素子と、
前記基板上において前記発光素子の近傍に装着され、前記工作物からの反射光を受光可能な受光素子と
を備える、請求項１−１０の何れか一項に記載の研削盤システム。
【請求項１２】
前記研削盤システムは、
前記砥石車及び前記センサを備える複数の研削盤と、前記複数の研削盤が接続されるネットワーク上に設けられる解析装置と、を備え、
前記制御装置は、前記センサにより検出される前記表面粗さに基づいて前記研削の条件を決定する研削条件決定部を備え、
前記研削条件決定部は、前記解析装置に設けられ、前記複数の研削盤における前記センサにより検出された前記表面粗さの解析結果に基づいて研削条件を決定する、請求項１−１１の何れか一項に記載の研削盤システム。
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月22日(2020.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
研削後の工作物にラップ加工を行う工作機械システムであって、
前記工作物にラップ加工を行うラップ工具と、
前記工作物の表面粗さを検出するセンサと、
前記センサにより検出される表面粗さに基づいて前記ラップ工具によるラップ加工を行う制御装置と、
を備える工作機械システム。
【請求項２】
前記制御装置は、検出された前記表面粗さが所定閾値よりも小さくなった場合に、ラップ加工を終了する、請求項１に記載の工作機械システム。
【請求項３】
前記工作機械システムは、
前記工作物を回転可能に支持する工作物支持装置と、
前記工作物支持装置に支持された前記工作物を研削する研削工具と、
を備える、請求項１又は２に記載の工作機械システム。
【請求項４】
前記制御装置は、
前記工作物の前記研削工具により研削された部位の前記表面粗さの検出、及び、前記工作物の前記ラップ工具によりラップ加工された部位の前記表面粗さの検出が、一の前記センサを用いて行われる、請求項３に記載の工作機械システム。
【請求項５】
前記工作機械システムは、複数の前記センサを備え、
前記複数のセンサは、
前記工作物の前記研削工具により研削された部位の前記表面粗さを検出する研削加工時用センサと、
前記工作物の前記ラップ工具によりラップ加工された部位の前記表面粗さを検出するラップ加工時用センサと、
を備える、請求項３に記載の工作機械システム。
【請求項６】
前記センサは、
基板と、
前記基板上に装着され、前記工作物に向けて発光する発光素子と、
前記基板上において前記発光素子の近傍に装着され、前記工作物からの反射光を受光可能な受光素子と、
を備える、請求項１−５の何れか一項に記載の工作機械システム。
【請求項７】
前記工作機械システムは、
前記ラップ工具及び前記センサを備える複数の工作機械と、前記複数の工作機械が接続されるネットワーク上に設けられる解析装置と、を備え、
前記制御装置は、前記センサにより検出される前記表面粗さに基づいて加工条件を決定する加工条件決定部を備え、
前記加工条件決定部は、前記解析装置に設けられ、前記複数の工作機械における前記センサにより検出された前記表面粗さの解析結果に基づいて加工条件を決定する、請求項１−６の何れか一項に記載の工作機械システム。
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月22日(2020.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
工作機械システムに用いるクーラント液の汚濁評価装置であって、
前記クーラント液を貯留するタンク本体に設けられ、前記クーラント液の液中に浸漬され得る反射部材と、
前記タンク本体に設けられ、前記反射部材に向けて発光する発光素子、及び、前記反射部材からの反射光を受光する受光素子を有するセンサと、
前記受光素子の受光量に基づいて前記クーラント液の汚濁を判定する評価部と、
を備える、工作機械システムのクーラント液の汚濁評価装置。
【請求項２】
前記発光素子は、前記クーラント液の液中に存在する前記反射部材に向けて発光し、
前記受光素子は、前記反射部材からの反射光及び前記クーラント液からの反射光を受光する、請求項１に記載の工作機械システムのクーラント液の汚濁評価装置。
【請求項３】
前記タンク本体は、前記クーラント液の貯留領域を形成する透明窓を備え、
前記反射部材は、前記タンク本体の内部であって前記透明窓に対向する位置に設けられ、
前記センサは、前記タンク本体の前記透明窓の外側面に設けられ、
前記発光素子は、前記透明窓を介して前記反射部材に向けて発光し、
前記受光素子は、前記透明窓を介して前記反射光を受光する、請求項２に記載の工作機械システムのクーラント液の汚濁評価装置。
【請求項４】
前記反射部材は、前記クーラント液の液中と前記クーラント液の液外との間で移動可能に設けられ、且つ、前記クーラント液中の浮遊物を付着可能であり、
前記発光素子は、前記クーラント液の液外に移動された前記反射部材に向けて発光し、
前記受光素子は、前記クーラント液の液外に移動された前記反射部材からの反射光及び前記反射部材に付着した浮遊物からの反射光を受光する、請求項１に記載の工作機械システムのクーラント液の汚濁評価装置。
【請求項５】
前記工作機械システムは、
前記反射部材及び前記センサを備える複数の工作機械と、前記複数の工作機械が接続されるネットワーク上に設けられる解析装置と、を備え、
前記評価部は、前記解析装置に設けられ、
前記解析装置は、前記複数の工作機械における前記クーラント液の汚濁度に関するデータを蓄積し、蓄積された前記データを解析し、
前記評価部は、前記解析装置の解析結果に基づいて前記クーラント液の交換時期の予測又は加工条件の決定を行う、請求項１−４の何れか一項に記載の工作機械システムのクーラント液の汚濁評価装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係る工作機械システムのクーラント液の汚濁評価装置は、前記クーラント液を貯留するタンク本体に設けられ、前記クーラント液の液中に浸漬され得る反射部材と、前記タンク本体に設けられ、前記反射部材に向けて発光する発光素子、及び、前記反射部材からの反射光を受光する受光素子を備えるセンサと、前記受光素子の受光量に基づいて前記クーラント液の汚濁度を評価する評価部と、を備える。
【手続補正書】
【提出日】令和2年3月17日(2020.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロボットの可動部に設けられたエンドエフェクターによってネジを保持し、
ネジ穴の開口部に前記ネジを接触させ、前記可動部に設けられた力覚センサーの出力に基づいて、前記挿入方向と直交する方向における力が０になるように前記ネジを挿入させる、
ネジ締め制御方法。
【請求項２】
前記ネジが前記ネジ穴の前記開口部に接触した時、前記ネジの中心軸は前記ネジ穴の中心軸に対して傾斜している、
請求項１に記載のネジ締め制御方法。
【請求項３】
前記力覚センサーからの出力に基づいて、前記挿入方向への目標力が０よりも大きくなるように前記ネジを挿入させる、
請求項１または２に記載のネジ締め方法。
【請求項４】
前記エンドエフェクターは、ドライバーであり、
前記可動部は、前記ドライバーの単位時間あたりの回転数と前記ネジのリードとの積に基づいて設定された速度で前記ネジを挿入させる、請求項１〜３のいずれか１項に記載のネジ締め制御方法。
【請求項５】
可動部と、力覚センサーが備えられ、前記可動部に設けられたエンドエフェクターと、を備えるロボットと、
前記ロボットを制御する制御部を備える制御装置と、を備え、
前記制御部は、
前記エンドエフェクターによってネジを保持し、
ネジ穴の開口部に前記ネジを接触させ、前記力覚センサーの出力に基づいて、前記挿入方向と直交する方向における力が０になるように前記ネジを挿入させる、ように前記ロボットを制御する、
ロボットシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ネジ締め制御方法およびロボットシステム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、ネジ締め制御方法およびロボットシステムに関する。
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月22日(2020.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
工作物を回転可能に支持する工作物支持装置と、
前記工作物支持装置に支持された前記工作物を加工する工具と、
前記工作物支持装置に支持された前記工作物に向けて発光し、且つ、前記工作物の表面からの反射光を受光するセンサと、
前記工作物を回転させた状態における前記センサの受光量に基づいて前記工作物の形状情報を抽出する演算部と、
を備える、測定機能を有する工作機械システム。
【請求項２】
前記演算部は、前記センサの受光量に基づいて前記工作物との距離を抽出し、その抽出された距離に基づいて前記形状情報を抽出する、請求項１に記載の測定機能を有する工作機械システム。
【請求項３】
前記演算部は、前記工作物に生じ得る回転振れ成分を抽出する、請求項１又は２に記載の測定機能を有する工作機械システム。
【請求項４】
前記工作物は、円筒形状に形成され、
前記演算部は、前記工作物の回転位相に対する前記受光量の情報から前記工作物の回転振れ成分を除去し、前記形状情報として真円度成分を抽出する、請求項３に記載の測定機能を有する工作機械システム。
【請求項５】
前記演算部は、前記受光量の情報から、前記回転振れとして低周波成分を除去し、前記真円度成分として高周波成分を抽出する、請求項４に記載の測定機能を有する工作機械システム。
【請求項６】
前記演算部は、前記工作物に生じ得るびびり成分を抽出する、請求項１又は２に記載の測定機能を有する工作機械システム。
【請求項７】
前記工作物は、カムであり、
前記演算部は、前記工作物を回転させつつ、前記センサをカム面に沿って移動させている状態における前記センサの受光量に基づいて、カムプロフィールの成分を抽出する、請求項１又は２に記載の測定機能を有する工作機械システム。
【請求項８】
前記センサは、
基板と、
前記基板上に装着され、前記工作物に向けて発光する発光素子と、
前記基板上において前記発光素子の近傍に装着され、前記工作物からの反射光を受光可能な受光素子と、
を備える、請求項１−７の何れか一項に記載の測定機能を有する工作機械システム。
【請求項９】
前記工作機械システムは、
前記工作物を回転させた状態で前記センサによるセンシングを行うセンサ制御部を備え、
前記演算部は、
前記工作物を回転させた状態において前記センサが受光した受光量データから特定の周波数成分を除去又は抽出して得られる前記工作物の形状情報を、前記工作物の形状情報に関する基準閾値と比較し、前記工作物の形状に関する判定を行う判定部を備える、請求項１−８の何れか一項に記載の測定機能を有する工作機械システム。
【請求項１０】
前記工作機械システムは、
前記工作物支持装置、前記工具及び前記センサを備える複数の工作機械と、前記複数の工作機械が接続されるネットワーク上に設けられる解析部と、を備え、
前記演算部は、前記解析部に設けられ、前記複数の研削盤における前記センサから送信されたデータに基づいて前記工作物の形状情報を抽出する、請求項１−９の何れか一項に記載の測定機能を有する工作機械システム。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月8日(2020.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｖ）： 
【化１】
2018024682.tif 000001
で示される化合物またはその製薬上許容される塩の、結晶。
【請求項２】
粉末Ｘ線回折の２θの値が、９．６±０．２°、１０．９±０．２°、１７．８±０．２°、２１．５±０．２°、２２．１±０．２°、２３．５±０．２°および２４．８±０．２°から選択される２つ以上の２θを有する、請求項１記載の化合物の結晶。
【請求項３】
粉末Ｘ線回折の２θの値が、９．６±０．２°、１０．９±０．２°、１７．８±０．２°、２１．５±０．２°、２２．１±０．２°、２３．５±０．２°および２４．８±０．２°の２θを有する、請求項１記載の化合物の結晶。
【請求項４】
以下の図６に実質的に一致する粉末Ｘ線回折スペクトルにより特徴付けられる、請求項１記載の化合物の結晶。
[図６]
2018024682.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月14日(2020.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の孔がエッチングによって形成されることによって蒸着マスクの製造に用いられる、帯状を有した金属板である蒸着マスク用基材であって、
前記金属板を構成する材料は、ニッケルまたは鉄ニッケル合金であり、
前記金属板の厚みは、１０μｍ以上５０μｍ以下であり、
前記金属板の幅方向での各位置における前記金属板の長手方向に沿った形状は相互に異なっており、各形状は前記金属板の長手方向に繰り返す凹凸を有する波形状であり、
前記金属板の表面での長手方向の長さが表面距離であり、
前記金属板の幅方向の各位置での表面距離のなかの最小値が最小表面距離であり、
前記最小表面距離に対する前記金属板の幅方向の各位置での表面距離と前記最小表面距離との差分の比率が伸び差率であり、
前記金属板の幅方向において、中央部が２つの端部に挟まれ、
各端部が有する幅方向での長さは、前記金属板が有する幅方向での長さの３０％であり、
前記中央部が有する幅方向での長さは、前記金属板が有する幅方向での長さの４０％であり、
前記中央部の伸び差率が、３×１０−５以下であり、
両方の前記端部の伸び差率が、１５×１０−５以下であり、
両方の前記端部のなかの少なくとも一方での伸び差率は、前記中央部の伸び差率よりも小さい、
蒸着マスク用基材。
【請求項２】
両方の前記端部のなかの一方での伸び差率のみが、前記中央部の伸び差率よりも小さく、
両方の前記端部での伸び差率の最大値の差は、３×１０−５以上１１×１０−５以下である
請求項１に記載の蒸着マスク用基材。
【請求項３】
両方の前記端部での伸び差率が、前記中央部の伸び差率よりも小さく、
両方の前記端部での伸び差率、および、前記中央部での伸び差率が、１×１０−５以下である
請求項１に記載の蒸着マスク用基材。
【請求項４】
複数の孔がエッチングによって形成されることによって蒸着マスクの製造に用いられる、帯状を有した金属板である蒸着マスク用基材の製造方法であって、
母材を圧延して前記金属板を得ることを含み、
前記金属板を構成する材料は、ニッケルまたは鉄ニッケル合金であり、
前記金属板の厚みは、１０μｍ以上５０μｍ以下であり、
前記金属板の幅方向での各位置における前記金属板の長手方向に沿った形状は相互に異なっており、各形状は前記金属板の長手方向に繰り返す凹凸を有する波形状であり、
前記金属板の表面での長手方向の長さが表面距離であり、
前記金属板の幅方向の各位置での表面距離のなかの最小値が最小表面距離であり、
前記最小表面距離に対する前記金属板の幅方向の各位置での表面距離と前記最小表面距離との差分の比率が伸び差率であり、
前記金属板の幅方向において、中央部が２つの端部に挟まれ、
各端部が有する幅方向での長さは、前記金属板が有する幅方向での長さの３０％であり、
前記中央部が有する幅方向での長さは、前記金属板が有する幅方向での長さの４０％であり、
前記金属板を得ることでは、
前記中央部の伸び差率が３×１０−５以下であり、
両方の前記端部の伸び差率が１５×１０−５以下であり、
両方の前記端部のなかの少なくとも一方での伸び差率が、前記中央部の伸び差率よりも小さくなるように、前記母材を圧延する、
蒸着マスク用基材の製造方法。
【請求項５】
帯状を有した金属板にレジスト層を形成することと、
前記レジスト層をマスクとしたエッチングによって前記金属板に複数の孔を形成してマスク部を形成することと、を含む蒸着マスクの製造方法であって、
前記金属板を構成する材料は、ニッケルまたは鉄ニッケル合金であり、
前記金属板の厚みは、１０μｍ以上５０μｍ以下であり、
前記金属板の幅方向での各位置における前記金属板の長手方向に沿った形状は相互に異なっており、各形状は前記金属板の長手方向に繰り返す凹凸を有する波形状であり、
前記金属板の表面での長手方向の長さが表面距離であり、
前記金属板の幅方向の各位置での表面距離のなかの最小値が最小表面距離であり、
前記最小表面距離に対する前記金属板の幅方向の各位置での表面距離と前記最小表面距離との差分の比率が伸び差率であり、
前記金属板の幅方向において、中央部が２つの端部に挟まれ、
各端部が有する幅方向での長さは、前記金属板が有する幅方向での長さの３０％であり、
前記中央部が有する幅方向での長さは、前記金属板が有する幅方向での長さの４０％であり、
前記金属板を得ることでは、
前記中央部の伸び差率が３×１０−５以下であり、
両方の前記端部の伸び差率が１５×１０−５以下であり、
両方の前記端部のなかの少なくとも一方での伸び差率が、前記中央部の伸び差率よりも小さい、
蒸着マスクの製造方法。
【請求項６】
複数の前記マスク部に対して、前記各マスク部が別々に備える１つの側面であって前記孔の開口が形成された前記側面と、単一のフレーム部とを、前記各マスク部が有する前記
複数の孔を前記単一のフレーム部が囲うように、相互に接合することをさらに含む
請求項５に記載の蒸着マスクの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月11日(2020.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱溶融積層方式によって三次元物体とサポート材とを含む三次元物体前駆体を得る造形工程、及び当該三次元物体前駆体を三次元物体前駆体処理剤組成物に接触させ、前記サポート材を除去するサポート材除去工程を有する三次元物体の製造方法であって、
前記三次元物体前駆体処理剤組成物が、水と、Ｆｅｄｏｒｓ法による溶解度パラメータ（ＳＰ値）が８（ｃａｌ／ｃｍ３）１／２以上１３（ｃａｌ／ｃｍ３）１／２以下である水溶性化合物とを含有し、
前記サポート材の材料である三次元造形用可溶性材料が、親水性基を有するポリエステル樹脂及び／又は親水性基を有するポリアミド樹脂を含む、三次元物体の製造方法。
【請求項２】
前記水溶性化合物が、下記一般式（１）〜（４）からなる群より選ばれる少なくとも１種以上である、請求項１に記載の三次元物体の製造方法。
【化１】
2018024243.tif 000001
（ただし、一般式（１）中、Ｒ１は、炭素数２以上２２以下のアルキル基、ヒドロキシ基、ベンジル基、アセチル基、又はアセトキシ基であり、Ｘはヒドロキシ基を有しても良い炭素数１以上１２以下のアルキレン基、又は−（ＥＯ）ｍ１（ＰＯ）ｎ１−基であり、ｍ１はオキシエチレン基｛−ＥＯ−｝の平均付加モル数であり、１以上２００以下の数であり、ｎ１はオキシプロピレン基｛−ＰＯ−｝の平均付加モル数であり、０以上５０以下である。Ｒ２は、Ｒ１が炭素数２以上４以下のアルキル基の場合、炭素数２以上８以下のアルキル基であり、Ｒ１がヒドロキシ基でかつＸがヒドロキシ基を有さない炭素数２又は３のアルキレン基の場合、炭素数４以上８以下のアルキル基であり、Ｒ１がヒドロキシ基でかつＸがヒドロキシ基を有する炭素数３以上８以下のアルキレン基の場合、アリル基であり、Ｒ１がアセチル基でかつＸが−（ＥＯ）ｍ１（ＰＯ）ｎ１−基で、ｍ１が１以上４以下で、ｎ１が０である場合、炭素数２以上８以下のアルキル基であり、Ｒ１がベンジル基又は炭素数が４より大きく２２以下のアルキル基であって、Ｘが−（ＥＯ）ｍ１（ＰＯ）ｎ１−基で、ｍ１が１以上２００以下で、ｎ１が０以上５０以下である場合、水素原子である。）
【化２】
2018024243.tif 000002
（ただし、一般式（２）中、Ｒ３及びＲ４は、同一又は異なって、炭素数１以上４以下のアルキル基である。）
【化３】
2018024243.tif 000003
（ただし、一般式（３）中、Ｒ５は、炭素数１以上４以下の直鎖又は分岐のアルキル基である。）
【化４】
2018024243.tif 000004
（ただし、一般式（４）中、Ｒ６及びＲ７は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数１以上４以下のアルキル基である。）
【請求項３】
前記三次元物体前駆体処理剤組成物中の前記水溶性化合物の含有量が、１質量％以上８０質量％以下である、請求項１又は２に記載の三次元物体の製造方法。
【請求項４】
前記ポリエステル樹脂が、親水性基を有する親水性モノマーユニットＡ１、疎水性ジカルボン酸モノマーユニットＢ１、及びジオールモノマーユニットを有し、前記ポリエステル樹脂中の親水性基を有する親水性モノマーユニットＡ１及び疎水性ジカルボン酸モノマーユニットＢ１の合計に対する前記親水性モノマーユニットＡ１の割合が１０〜７０ｍｏｌ％である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の三次元物体の製造方法。
【請求項５】
前記ポリアミド樹脂が、親水性基を有する親水性モノマーユニットＡ２、疎水性ジカルボン酸モノマーユニットＢ２、及び疎水性ジアミンモノマーユニットを有し、前記ポリアミド樹脂中の全モノマーユニットの合計に対する前記親水性モノマーユニットＡ２の割合が２．５〜４０ｍｏｌ％である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の三次元物体の製造方法。
【請求項６】
前記親水性基を有するポリエステル樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）、及び前記親水性基を有するポリアミド樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）がそれぞれ５０℃以上２５０℃以下である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の三次元物体の製造方法。
【請求項７】
前記三次元造形用可溶性材料のガラス転移温度（Ｔｇ）が５０℃以上２５０℃以下である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の三次元物体の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月19日(2019.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
燃焼排ガス中の窒素酸化物を窒素に還元して除去する燃焼排ガス浄化方法に用いられ、該燃焼排ガスには、該窒素酸化物を還元するための還元剤としてアルコールが添加される、排ガス浄化触媒に用いられる担体を評価する方法であって、
担体となる一つのゼオライトについて、事前に該ゼオライトの表面に含まれる水分を焼成加熱により除去したうえ、フーリエ変換赤外分光装置により、当該ゼオライト骨格内のＡｌ−ＯＨのスペクトルのピークを積分することによりＡｌ−ＯＨスペクトルのピーク面積（Ａ）を測定し、
該ピーク面積（Ａ）を、上記フーリエ変換赤外分光装置による測定に用いられたゼオライトの測定担体重量（Ｗ）で除した値（Ｓ）を算出し、
該値（Ｓ）の測定を、複数種のゼオライトについて同一のフーリエ変換赤外分光装置を用いて同一の測定条件下に行い、
次に、各ゼオライトを担体とする排ガス浄化触媒を調製し、調製された各排ガス浄化触媒について、窒素酸化物を還元するための還元剤としてアルコールを添加した排ガスの浄化試験を行って、その脱硝率を測定し、
各ゼオライトが有する値（Ｓ）と脱硝率との相関関係を求め、望ましい脱硝率を得るための値（Ｓ）の範囲を指標として決定する
ことを特徴とする排ガス浄化触媒に用いられる担体を評価する方法。
【請求項２】
請求項１の方法により評価されたゼオライトである担体と、該担体に担持された脱硝触媒金属とからなる排ガス浄化触媒。
【請求項３】
前記ゼオライトは、ＦＥＲ型構造を有する、請求項２に記載の排ガス浄化触媒。
【請求項４】
前記脱硝触媒金属は、Ｂｉである、請求項２に記載の排ガス浄化触媒。
【請求項５】
前記値（Ｓ）が請求項１の方法により決定される望まれる脱硝率に相当する値（Ｓ）の範囲内になるまで、不活性ガス雰囲気下においてゼオライトを焼成する処理を行う、排ガス浄化触媒に用いられる担体の調製方法。
【請求項６】
請求項５により調製されたゼオライトである担体と、該担体に担持された脱硝触媒金属とからなる排ガス浄化触媒。
【請求項７】
前記ゼオライトは、ＦＥＲ型構造を有する、請求項６に記載の排ガス浄化触媒。
【請求項８】
前記脱硝触媒金属は、Ｂｉである、請求項６に記載の排ガス浄化触媒。
【手続補正書】
【提出日】令和2年8月26日(2020.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技が実行されることにより所定事象が発生した場合にそれに対応する遊技の履歴情報を履歴記憶手段に記憶させる履歴記憶実行手段と、
前記履歴記憶手段に記憶されている前記履歴情報を利用して遊技の結果に対応する態様情報を導出する情報導出手段と、
前記情報導出手段により導出された前記態様情報を記憶する態様情報記憶手段と、
前記態様情報記憶手段に記憶された前記態様情報に対応する表示が行われるように情報表示手段を表示制御する態様情報表示制御手段と、
所定の表示契機が発生したことに基づいて、前記態様情報に対応する表示が新たに開始される前に所定対応表示が前記情報表示手段にて行われるようにする所定対応表示制御手段と、
を備え、
前記態様情報記憶手段は、前記情報導出手段により異なるタイミングで導出された複数の前記態様情報のそれぞれを記憶することを可能とするように複数の特定記憶領域を備え、
前記態様情報表示制御手段は、所定表示順序に従って前記複数の特定記憶領域に記憶された複数の前記態様情報のそれぞれに対応する表示が順次実行されるように前記情報表示手段を制御するものであって、前記所定対応表示が前記情報表示手段にて行われた後において前記態様情報に対応する表示を前記情報表示手段に行わせる場合には前記所定表示順序における最初の順番に対応する前記態様情報に対応する表示から開始させるものであることを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
ここで、上記例示等のような遊技機においては、遊技機の管理が好適に行われる必要があり、この点について未だ改良の余地がある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、上記例示した事情等に鑑みてなされたものであり、遊技機の管理を好適に行うことが可能な遊技機を提供することを目的とするものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決すべく請求項１記載の発明は、遊技が実行されることにより所定事象が発生した場合にそれに対応する遊技の履歴情報を履歴記憶手段に記憶させる履歴記憶実行手段と、
前記履歴記憶手段に記憶されている前記履歴情報を利用して遊技の結果に対応する態様情報を導出する情報導出手段と、
前記情報導出手段により導出された前記態様情報を記憶する態様情報記憶手段と、
前記態様情報記憶手段に記憶された前記態様情報に対応する表示が行われるように情報表示手段を表示制御する態様情報表示制御手段と、
所定の表示契機が発生したことに基づいて、前記態様情報に対応する表示が新たに開始される前に所定対応表示が前記情報表示手段にて行われるようにする所定対応表示制御手段と、
を備え、
前記態様情報記憶手段は、前記情報導出手段により異なるタイミングで導出された複数の前記態様情報のそれぞれを記憶することを可能とするように複数の特定記憶領域を備え、
前記態様情報表示制御手段は、所定表示順序に従って前記複数の特定記憶領域に記憶された複数の前記態様情報のそれぞれに対応する表示が順次実行されるように前記情報表示手段を制御するものであって、前記所定対応表示が前記情報表示手段にて行われた後において前記態様情報に対応する表示を前記情報表示手段に行わせる場合には前記所定表示順序における最初の順番に対応する前記態様情報に対応する表示から開始させるものであることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明によれば、遊技機の管理を好適に行うことが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】令和2年8月28日(2020.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上階から下階に至るまで立設されたガイド支柱に沿って上階側床基部に開設した避難用開口内に保持される待機位置と下階床面との間で昇降台を昇降駆動する避難装置であって、
前記ガイド支柱は、昇降台への乗り込み口となる乗り込み辺縁に隣接する隣接縁の各々に対応し、かつ、昇降台の重心を通り乗り込み辺縁と平行な重心軸位置と奥側辺縁との中間位置に配置される避難装置。
【請求項２】
前記昇降台には、該昇降台の乗り込み辺縁に平行な軸周りの傾きを規制するピッチング防止ローラに加え、前記隣接縁に平行な軸周りの傾きを規制するローリング防止ローラが各ガイド支柱の側壁面に対応して配置される請求項１記載の避難装置。
【請求項３】
前記昇降台には、回転速度減速装置の出力軸にピニオンを連結した緩降装置が前記各ガイド支柱に対応して搭載されるとともに、
前記各ガイド支柱の側壁面には前記ピニオンが噛合するラック溝が形成される請求項１または２記載の避難装置。
【請求項４】
前記避難用開口には、自由端部が待機位置にある昇降台上に載置され、昇降台の降下に伴って垂下姿勢に移行するスロープ部材が設けられるとともに、
前記昇降台には、開始端から前記昇降台の乗り込み辺縁に行くに従って漸次低背となる傾斜面が形成される請求項１、２または３記載の避難装置。
【請求項５】
前記昇降台には、車椅子の車輪をガイドする車輪ガイド溝が形成されるとともに、
前記スロープ部材の自由端部は待機位置にある昇降台の前記車輪ガイド溝に嵌合し、
かつ、前記傾斜面は前記車輪ガイド溝に形成される請求項４記載の避難装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
さらに、上記目的を達成するための他の構成として、
前記昇降台５には、回転速度減速装置１１の出力軸１２にピニオン１３を連結した緩降装置１４が前記各ガイド支柱１に対応して搭載されるとともに、
前記各ガイド支柱１の側壁面には前記ピニオン１３が噛合するラック溝１５が形成される避難装置を構成することができる。
また、前記緩衝装置１４を前記出力軸１２が前記昇降台５の前記隣接縁７に沿う姿勢で配置した避難装置を構成することができる。
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月8日(2020.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液透過性シートと、液不透過性シートとを備える温感物品であって、
前記温感物品が、ＴＲＰチャネルを活性化する温感剤と、溶媒とを含む温感溶液を含む温感領域を備え、
前記液透過性シートが、発熱性素材、断熱性素材及び吸湿性素材、並びにそれらの任意の組み合わせからなる群から選択される素材を含む、
ことを特徴とする、前記温感物品。
【請求項２】
前記温感物品が、前記液透過性シート及び液不透過性シートの間の吸収体をさらに備え、厚さ方向、長手方向及び幅方向を有する吸収性物品であり、前記温感溶液が、前記吸収体と前記厚さ方向に重複しない位置に配置されている、請求項１に記載の温感物品。
【請求項３】
前記温感領域が、着用者の下腹部に相当する位置且つ前記吸収体よりも前記幅方向に広い領域に配置されている、請求項２に記載の温感物品。
【請求項４】
前記温感物品が、前記幅方向に延びる幅方向折軸にて前記長手方向に折畳まれており、前記幅方向折軸が、前記温感物品の展開状態において、前記温感領域と、前記厚さ方向において重複するように配置されている、請求項３に記載の温感物品。
【請求項５】
前記温感物品が、前記長手方向に延びる、一対の長手方向折軸にて前記幅方向に折畳まれており、前記一対の長手方向折軸が、前記温感物品の展開状態において、前記吸収体よりも前記幅方向の外側且つ前記温感領域と、前記厚さ方向において重複するように配置されている、請求項３又は４に記載の温感物品。
【請求項６】
前記溶媒が、親油性溶媒である、請求項２〜５のいずれか一項に記載の温感物品。
【請求項７】
前記温感物品が、前記温感領域と、前記厚さ方向に重複する位置に高分子吸収剤を含まない、請求項２〜６のいずれか一項に記載の温感物品。
【請求項８】
前記吸収性物品が、生理用ナプキン、ショーツ型生理用ナプキン及び使い捨ておむつ及からなる群から選択される、請求項２〜７のいずれか一項に記載の温感物品。
【請求項９】
前記液不透過性シートが、非透湿性フィルムから構成される、請求項１〜８のいずれか一項に記載の温感物品。
【請求項１０】
前記温感剤がＴＲＰＶ１レセプターに対するアゴニストである、請求項１〜９のいずれか一項に記載の温感物品。
【請求項１１】
前記温感物品が発熱剤を含まない、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の温感物品。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月29日(2020.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検眼を検査する眼科装置であって、
前記被検眼を検眼するための検眼手段と、
前記検眼手段を移動可能に支持する基台と、
前記基台に対して前記検眼手段を移動させるための駆動手段と、
傾倒可能に支持される第１操作部材と、
前記第１操作部材に対する傾倒操作を検出する第１検出手段と、
前記第１検出手段の出力に基づいて前記駆動手段を制御する制御手段と、
前記第１操作部材の上部に設けられた第２操作部材と、
前記第２操作部材に対する操作を検出する第２検出手段と、を備え、
前記制御手段は、前記第２検出手段の出力に基づいて前記駆動手段を制御することを特徴とする眼科装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記第２検出手段からの出力に基づいて、前記検眼手段を前後左右方向に移動させることを特徴とする請求項１の眼科装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記第１検出手段からの出力に基づいて前記検眼手段を前後左右方向に微動させ、前記第２検出手段からの出力に基づいて前記検眼手段を前後左右方向に粗動させることを特徴とする請求項１または２の眼科装置。
【請求項４】
前記第１操作部材は、前記検眼手段の測定を開始させるための測定ボタンを有し、
前記第２操作部材は、前記測定ボタンの周囲に設けられることを特徴とする請求項１〜３のいずれかの眼科装置。
【請求項５】
眼科装置を操作するためのジョイスティックであって、
傾倒可能に支持される第１操作部材と、
前記第１操作部材に対する傾倒操作を検出する第１検出手段と、
前記第１操作部材の上部に設けられた第２操作部材と、
前記第２操作部材に対する操作を検出する第２検出手段と、を備え、
前記第１検出手段または前記第２検出手段は、前記眼科装置の検眼手段を基台に対して移動させるための操作信号を出力することを特徴とするジョイスティック。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月29日(2020.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検眼の検査を行う眼科装置であって、
前記被検眼の水晶体を含む前眼部画像を撮影する撮影手段と、
前記前眼部画像に写る前記水晶体を複数の区画に分割して画像解析する解析手段と、
を備えることを特徴とする眼科装置。
【請求項２】
前記解析手段は、水晶体嚢、水晶体皮質、および水晶体核のいずれかの境界を検出し、検出された前記境界に基づいて前記水晶体を複数の区画に分割することを特徴とする請求項１の眼科装置。
【請求項３】
前記解析手段は、前記画像解析の結果に基づいて白内障の種類を分類することを特徴とする請求項１または２の眼科装置。
【請求項４】
前記解析手段は、前記画像解析の結果に基づいて白内障の進行度を判定することを特徴とする請求項１〜３のいずれかの眼科装置。
【請求項５】
前記解析手段は、前記区画ごとにEn face画像を作成することを特徴とする請求項１〜４のいずれかの眼科装置。
【請求項６】
被検眼の検査を行う眼科装置において実行される白内障評価プログラムであって、前記眼科装置のプロセッサによって実行されることで、
前記被検眼の水晶体を含む前眼部画像を撮影する撮影ステップと、
前記前眼部画像に写る前記水晶体を複数の区画に分割して画像解析する解析ステップと、
を前記眼科装置に実行させることを特徴とする白内障評価プログラム。
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月28日(2020.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技者の有利度に対応する設定値を設定する設定手段と、
当該設定手段による前記設定値の設定を行うことが可能な設定可能状況となるようにする状況発生手段と、
を備えていることを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
ここで、上記例示等のような遊技機においては、遊技機の有利度を決定付ける設定値に関する構成を好適なものとする必要があり、この点について未だ改良の余地がある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、上記例示した事情等に鑑みてなされたものであり、遊技機の有利度を決定付ける設定値に関する構成を好適なものとすることが可能な遊技機を提供することを目的とするものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決すべく請求項１記載の発明は、遊技者の有利度に対応する設定値を設定する設定手段と、
当該設定手段による前記設定値の設定を行うことが可能な設定可能状況となるようにする状況発生手段と、
を備えていることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明によれば、遊技機の有利度を決定付ける設定値に関する構成を好適なものとすることが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月8日(2020.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記の課題を解決するために、本発明は、規定数の遊技価値の投入下における遊技開始操作に基づいて、複数種類の役の当否を内部抽選で決定する内部抽選手段と、遊技に関する性質の異なる複数種類の特殊状態を含む複数の状態の間で前記状態の移行を制御する状態制御手段と、前記特殊状態で特典の付与に関する特典処理を実行する特典処理手段と、を備え、前記特典処理手段は、前記特殊状態の種別に応じて、異なる前記特典処理を実行することを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記構成において、本発明は、前記内部抽選で当否が決定される役は、前記規定数の遊技価値の投入によらず次回の遊技を可能とさせる再遊技役を含み、複数種類の前記特殊状態は、前記再遊技役の抽選態様が互いに異なることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
規定数の遊技価値の投入下における遊技開始操作に基づいて、複数種類の役の当否を内部抽選で決定する内部抽選手段と、遊技に関する性質の異なる複数種類の特殊状態を含む複数の状態の間で前記状態の移行を制御する状態制御手段と、前記特殊状態で特典の付与に関する特典処理を実行する特典処理手段と、を備え、
前記特典処理手段は、前記特殊状態の種別に応じて、異なる前記特典処理を実行することを特徴とする遊技機。
【請求項２】
請求項１に記載の遊技機において、
前記内部抽選で当否が決定される役は、前記規定数の遊技価値の投入によらず次回の遊技を可能とさせる再遊技役を含み、
複数種類の前記特殊状態は、前記再遊技役の抽選態様が互いに異なる
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月29日(2020.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＯＣＴ光源からの光を測定光路と参照光路に分割し、測定光路を介して被検眼の眼底又は前眼部の一方に導かれた測定光と参照光路からの参照光との干渉信号を検出器によって検出するＯＣＴ光学系を備え、被検眼の眼底又は前眼部のＯＣＴデータを得る眼科ＯＣＴ装置であって、
前記測定光路の内部に配置された光学部材によって前記測定光の集光位置を前眼部と眼底との間で切り換える内部切換手段と、
被検眼の眼底又は前眼部の一方のＯＣＴデータの取得完了をトリガとして前記内部切換手段を制御することによって前記測定光の集光位置を被検眼の眼底又は前眼部の他方に切り換える制御手段と、
を備えることを特徴とする眼科ＯＣＴ装置。
【請求項２】
測定光路と参照光路との間の光路長差を調整する光路長差調整手段を備え、
前記制御手段は、被検眼の眼底又は前眼部の一方のＯＣＴデータの取得完了をトリガとして前記光路長差調整手段を制御することによってＯＣＴデータの取得範囲を被検眼の眼底又は前眼部の他方に自動的に切り換えることを特徴とする請求項１の眼科ＯＣＴ装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記眼底と前眼部の両方のＯＣＴデータが取得された後、前記眼底と前眼部の両方のＯＣＴデータを含む確認画面を表示部に表示することを特徴とする請求項１〜２のいずれかの眼科ＯＣＴ装置。
【請求項４】
前記眼底と前眼部のＯＣＴデータのいずれかを選択的に再取得するための選択信号に基づいて前記内部切換手段を制御することによって前記測定光の集光位置を切り換え、選択されたＯＣＴデータの取得に移行することを特徴とする請求項１〜３のいずれかの眼科ＯＣＴ装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記眼底又は前眼部の一方のＯＣＴデータが取得された後、前記一方のＯＣＴデータを含む確認画面を表示部に表示すると共に、
前記確認画面の表示中において、前記内部切換手段と光路長差調整手段の少なくともいずれかを制御することによって被検眼の眼底及び前眼部の他方のＯＣＴデータの取得に移行することを特徴とする請求項１〜４のいずれかの眼科ＯＣＴ装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年8月4日(2020.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検体の略同一位置における断層の情報を示す複数の断層データを取得する取得部と、
前記複数の断層データにおける、モーションコントラストデータを算出すべき対象画素に対応する断層データから閾値を算出する閾値算出部と、
前記閾値及び前記対象画素に対応する断層データから算出される前記モーションコントラストデータに基づいて、モーションコントラスト画像の前記対象画素の画素値を算出する画素値算出部と、
を備える、画像処理装置。
【請求項２】
前記画素値算出部は、前記閾値と前記モーションコントラストデータとを比較する、請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記閾値算出部は、
前記複数の断層データにおける前記対象画素に対応する断層データの平均値Ｃａｖｅと、該平均値Ｃａｖｅの平方根と、係数αとを用いて、第１のデータＣＩ１＝Ｃａｖｅ＋α×√Ｃａｖｅ、及び第２のデータＣＩ２＝Ｃａｖｅ−α×√Ｃａｖｅを算出し、
前記第１のデータＣＩ１と前記第２のデータＣＩ２を用いて算出したモーションコントラストデータを前記閾値とする、請求項１又は２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記画素値算出部は、前記閾値と前記対象画素に対応する断層データとを比較する、請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記閾値算出部は、前記複数の断層データにおける同一の画素位置の２つの断層データの値をＩ１及びＩ２とし、Ｉ１及びＩ２をそれぞれ座標軸とした２次元座標において、原点を通り各座標軸と４５°の角度をなす直線に対して略線対称となる２つのＩ２に関するＩ１の一次関数を第１の閾値ｔｈｓｓ１及び第２の閾値ｔｈｓｓ２として算出し、ｔｈｓｓ２＜ｔｈｓｓ１であり、
前記画素値算出部は、前記モーションコントラストデータを算出するために用いられる前記対象画素に対応する２つの断層データの値をＩ１及びＩ２にそれぞれ代入したときに、ｔｈｓｓ２≦Ｉ２≦ｔｈｓｓ１が満たされる場合には前記対象画素の画素値を０とし、ｔｈｓｓ２≦Ｉ２≦ｔｈｓｓ１が満たされない場合には前記モーションコントラストデータを用いて前記対象画素の画素値を算出する、請求項１又は４に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記取得部は、前記被検体の前記断層データの取得に用いられる撮像光学系の複数の背景データをさらに取得し、
前記閾値算出部は、
前記複数の背景データの平均値Ｎａｖｅ及び標準偏差Ｎσと、係数β又は係数Ａとを用いて、背景閾値ｔｈｎ＝Ｎａｖｅ＋β×Ｎσ又は高値閾値ｔｈｈｉ＝Ｎａｖｅ＋Ａ×Ｎσをさらに算出し、
前記画素値算出部は、
さらに、前記背景閾値ｔｈｎに基づいて、
前記モーションコントラストデータを算出するために用いられる前記対象画素に対応する２つの断層データの値Ｉｃ１及びＩｃ２について、Ｉｃ１２＋Ｉｃ２２＜ｔｈｎ２が満たされる場合には前記対象画素の画素値を０とし、Ｉｃ１２＋Ｉｃ２２＜ｔｈｎ２が満たされない場合には前記モーションコントラストデータを用いて前記対象画素の画素値を算出し、若しくは
前記対象画素に対応する全ての断層データの値Ｉｃ１，Ｉｃ２，…，ＩｃＮについて、Ｉｃ１２＋Ｉｃ２２＋…＋ＩｃＮ２＜ｔｈｎ２が満たされる場合には前記対象画素の画素値を０とし、Ｉｃ１２＋Ｉｃ２２＋…＋ＩｃＮ２＜ｔｈｎ２が満たされない場合には前記モーションコントラストデータを用いて前記対象画素の画素値を算出し、又は、
さらに、前記高値閾値ｔｈｈｉに基づいて、前記対象画素に対応する断層データの値Ｉｃ１及びＩｃ２について、Ｉｃ１２＋Ｉｃ２２＞ｔｈｈｉ２が満たされる場合には前記画素値を０とし、Ｉｃ１２＋Ｉｃ２２＞ｔｈｈｉ２が満たされない場合には前記モーションコントラストデータを用いて前記画素値を算出する、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記モーションコントラストデータを算出するために用いられる前記対象画素に対応する２つの前記断層データについて、該断層データの値の大きさを補正するための補正部をさらに備え、
前記補正部は、前記２つの断層データの一方の断層データの値をＩｃ１とし、他方の断層データの値をＩｃ２とし、Ｉｃ１及びＩｃ２を用いて係数ηを算出したときに、以下の式
Ｉｃ２’＝η×Ｉｃ２
に従って前記断層データの値Ｉｃ２を補正し、
前記閾値算出部は、前記対象画素に対応する前記断層データの値Ｉｃ１及び補正された前記断層データの値Ｉｃ２’を用いて前記閾値を算出し、
前記画素値算出部は、前記閾値、並びに前記対象画素に対応する前記断層データの値Ｉｃ１及び前記補正された断層データの値Ｉｃ２’から算出される前記モーションコントラストデータに基づいて、前記モーションコントラスト画像の前記対象画素の画素値を算出する、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記閾値算出部は、算出した前記閾値に幅δを設け、
前記画素値算出部は、前記算出した閾値と比較される値が該閾値に対して±δの範囲に含まれる場合には、前記モーションコントラストデータに重みｗを掛けた値を前記画素値として算出する、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記閾値算出部は、算出した前記閾値と比較される値の比較結果に応じて、前記対象画素に対応する画素位置の画素値を０〜１としたマスクを生成し、
前記画素値算出部は、前記閾値に基づく前記マスク及び前記モーションコントラストデータを用いて前記モーションコントラスト画像の前記対象画素の画素値を算出する、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
前記画素値算出部は、前記対象画素の画素値が算出された複数の前記モーションコントラスト画像を平均化する際に、前記閾値に基づいて画素値が０にされた対象画素の画素値を前記複数のモーションコントラスト画像の平均化処理から除外する、請求項１乃至９のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項１１】
被検体の略同一位置を走査する測定光を用いて、前記被検体を複数回光干渉断層撮像することで、前記被検体の断層の情報を示す複数の断層データを取得する撮像光学系と、
前記撮像光学系から前記複数の断層データを取得する取得部と、
前記複数の断層データにおける、モーションコントラストデータを算出すべき対象画素に対応する断層データから閾値を算出する閾値算出部と、
前記閾値及び前記対象画素に対応する断層データから算出される前記モーションコントラストデータに基づいて、モーションコントラスト画像の前記対象画素の画素値を算出する画素値算出部と、
を備える、光干渉断層撮像装置。
【請求項１２】
被検体の略同一位置の断層の情報を示す複数の断層データを取得することと、
前記複数の断層データにおける、モーションコントラストデータを算出すべき対象画素に対応する断層データから閾値を算出することと、
前記閾値及び前記対象画素に対応する断層データから算出される前記モーションコントラストデータに基づいて、モーションコントラスト画像の前記対象画素の画素値を算出することと、
を含む、画像処理方法。
【請求項１３】
プロセッサーによって実行されると、該プロセッサーに請求項１２に記載の画像処理方法の各工程を実行させる、プログラム。