【手続補正書】
【提出日】令和2年7月10日(2020.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
システムであって、
第１周波数を有する第１ＲＦ信号を生成するよう構成された第１高周波（ＲＦ）発生器と、
第２周波数を有する第２ＲＦ信号を生成するよう構成された第２ＲＦ発生器と、
前記第１ＲＦ信号を受信するために前記第１ＲＦ発生器に接続された第１整合回路網であって、前記第１ＲＦ信号を受信して第１変調ＲＦ信号を出力するよう構成されている、第１整合回路網と、
前記第２ＲＦ信号を受信するために前記第２ＲＦ発生器に接続された第２整合回路網であって、前記第２ＲＦ信号を受信して第２変調ＲＦ信号を出力するよう構成されている、第２整合回路網と、
前記第１整合回路網の出力および前記第２整合回路網の出力に接続された結合器／分配器であって、前記第１変調ＲＦ信号および前記第２変調ＲＦ信号を結合して、結合ＲＦ信号を複数のプラズマ処理ステーションに供給するよう構成され、前記複数のプラズマ処理ステーションに接続された複数の出力を備え、前記結合器／分配器の前記複数の出力で測定されたパラメータに基づいて、前記複数のプラズマ処理ステーションに関連する複数のインピーダンスを調整するための前記第１および第２周波数用の複数の同調回路を備える、結合器／分配器と、
を備える、システム。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムであって、さらに、前記パラメータに基づいて、前記同調回路のうちの１または複数の変数を調節するよう構成されたシステムコントローラを備える、システム。
【請求項３】
請求項１に記載のシステムであって、さらに、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの１つに関連する前記複数のインピーダンスのうちの１つが、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの別の１つに関連する前記複数のインピーダンスのうちの別の１つからあらかじめ定められた範囲内になるように、前記複数の同調回路のうちの１または複数の同調回路の、一つの変数を調節するよう構成されたシステムコントローラを備える、システム。
【請求項４】
請求項１に記載のシステムであって、
前記複数の同調回路のうちの１つが、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの１つに供給される前記第１周波数の電力のレベルを変更するために調整されるコンデンサを備え、前記同調回路のうちの別の１つが、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの前記１つに供給される前記第２周波数の電力のレベルを変更するために調整されるコンデンサであり、
前記第１周波数の電力の前記レベルおよび前記第２周波数の電力の前記レベルは、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの別の１つに関連する前記複数のインピーダンスのうちの１つに基づいて変更される、システム。
【請求項５】
請求項１に記載のシステムであって、前記結合器／分配器は、前記第２周波数が前記第１ＲＦ発生器に影響を与えないように、前記第２周波数をフィルタリングするよう構成された遮断回路を備える、システム。
【請求項６】
請求項１に記載のシステムであって、前記結合器／分配器は、
前記複数のプラズマ処理ステーションに対応する複数の擬似負荷と、
複数のスイッチであって、前記複数のスイッチの各々は、前記複数の擬似負荷の対応する１つまたは前記結合器／分配器の前記出力の対応する１つに接続されるよう構成され、複数のスイッチの１つが前記擬似負荷の１つに接続されているときに、前記複数の出力の１つに接続された前記複数のプラズマ処理ステーションの１つの中で、プラズマが使用不能になり、複数のスイッチの１つが前記結合器／分配器の前記複数の出力の前記１つに接続されているときに、前記複数の出力の前記１つに接続された前記複数のプラズマ処理ステーションの１つの中で、プラズマが使用可能になる、複数のスイッチと、
前記結合器／分配器の前記複数の出力への接続と前記複数の擬似負荷への接続との間で前記複数のスイッチの位置を変更するために、前記複数のスイッチに接続されたシステムコントローラと、
複数の直流（ＤＣ）遮断コンデンサであって、前記複数のＤＣ遮断コンデンサの各々は、ＤＣ電力が前記複数の擬似負荷の対応する１つに印加されることを妨げるために、前記複数の擬似負荷の前記対応する１つに接続されている、複数のＤＣ遮断コンデンサと、
を備える、システム。
【請求項７】
請求項１に記載のシステムであって、さらに、
前記結合器／分配器の前記複数の出力で前記パラメータの複数の値を測定するために、前記結合器／分配器の前記複数の出力に接続された複数のパラメータプローブと、
前記パラメータの前記複数の値を前記複数のパラメータプローブから受信するために、前記複数のパラメータプローブに接続されたシステムコントローラと、
を備え、
前記システムコントローラは、前記複数のパラメータプローブから受信した前記パラメータの前記複数の値に基づいて前記同調回路を調整するために、前記複数の同調回路に接続されている、システム。
【請求項８】
請求項１に記載のシステムであって、前記結合器／分配器は、複数のインダクタを備え、前記複数のインダクタの各々は、前記結合器／分配器の前記複数の出力のうちの対応する１つに接続され、前記複数のインダクタの各々は、動作周波数の達成を容易にするように前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの対応する１つの共振周波数を制御するために用いられる、システム。
【請求項９】
請求項１に記載のシステムであって、前記結合器／分配器、前記第１整合回路網、および、第２整合回路網は、前記複数のプラズマ処理ステーションの動作を円滑にするために、前記複数のプラズマ処理ステーションから離して配置される、システム。
【請求項１０】
請求項１に記載のシステムであって、前記結合器／分配器は、複数の同軸ケーブルを介して前記複数のプラズマ処理ステーションに接続され、前記複数の同軸ケーブルの各々は、前記結合器／分配器の一部である、システム。
【請求項１１】
請求項１に記載のシステムであって、前記第１および第２周波数用の前記複数の同調回路は、ＲＦ電力が前記複数のプラズマ処理ステーションに供給されていて、前記パラメータが変化しているときに、前記複数のプラズマ処理ステーションに関連する前記インピーダンスを調整し、前記ＲＦ電力は、前記結合ＲＦ信号が前記複数のプラズマ処理ステーションに供給されるときに、前記複数のプラズマ処理ステーションに供給される、システム。
【請求項１２】
請求項１に記載のシステムであって、前記第１および第２周波数用の前記複数の同調回路は、前記複数のプラズマ処理ステーションに関連するさらなるパラメータに基づいて、前記複数のプラズマ処理ステーションにわたる前記パラメータの変動を最小化するように調整される、システム。
【請求項１３】
請求項１に記載のシステムであって、前記複数の出力は、前記複数のプラズマ処理ステーションの複数のペデスタル、または前記複数のプラズマ処理ステーションの複数のシャワーヘッドに、接続される、システム。
【請求項１４】
請求項１に記載のシステムであって、前記複数の同調回路は、複数の位置にあるように構成され、前記複数の位置は、前記複数のインピーダンスを調整するために監視および制御される、システム。
【請求項１５】
請求項１に記載のシステムであって、前記結合器／分配器は複数のスイッチを備え、前記複数のスイッチの各々は、前記複数の擬似負荷の対応する１つまたは前記結合器／分配器の前記複数の出力の対応する１つに接続されるよう構成され、前記スイッチの各々は複数の位置を有し、前記複数の位置は、前記複数のインピーダンスを調整するために監視および制御される、システム。
【請求項１６】
結合器／分配器であって、
第１周波数の第１変調ＲＦ信号を第１整合回路網から受信するために、前記第１整合回路網を介して第１高周波（ＲＦ）発生器に接続された第１周波数回路であって、前記第１変調ＲＦ信号を受信して複数のＲＦ信号を出力するよう構成されている、第１周波数回路と、
第２周波数の第２変調ＲＦ信号を第２整合回路網から受信するために、前記第２整合回路網を介して第２ＲＦ発生器に接続された第２周波数回路であって、前記第２変調ＲＦ信号を受信して複数のＲＦ信号を出力するよう構成され、前記第１周波数回路に接続されている、第２周波数回路と、
前記第２周波数回路に接続された出力回路であって、前記第１周波数回路から出力された前記複数のＲＦ信号の各々を、前記第２周波数回路から出力された前記複数のＲＦ信号の対応する１つと結合して、複数の結合ＲＦ信号を複数のプラズマ処理ステーションに供給するよう構成されている、出力回路と、
を備え、
前記出力回路は、前記複数のプラズマ処理ステーションに接続された複数の出力を有し、
前記第１周波数回路は、前記出力回路の前記複数の出力において測定されたパラメータに基づいて前記複数のプラズマ処理ステーションに関連する複数のインピーダンスを調整するために、前記第１周波数用の複数の第１周波数同調回路を備え、
前記第２周波数回路は、前記出力回路の前記複数の出力において測定された前記パラメータに基づいて前記複数のプラズマ処理ステーションに関連する前記複数のインピーダンスを調整するために、前記第２周波数用の複数の第２周波数同調回路を備える、結合器／分配器。
【請求項１７】
請求項１６に記載の結合器／分配器であって、前記複数の第１周波数同調回路は、前記パラメータに基づいて調節される変数を有し、前記複数の第２周波数同調回路は、前記パラメータに基づいて調節される前記変数を有する、結合器／分配器。
【請求項１８】
請求項１６に記載の結合器／分配器であって、前記複数の第１周波数同調回路は、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの１つに関連する前記複数のインピーダンスのうちの１つが、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの別の１つに関連する前記複数のインピーダンスのうちの別の１つからあらかじめ定められた範囲内になるように調節される変数を有し、前記複数の第２周波数同調回路は、前記複数のインピーダンスのうちの前記１つが、前記複数のインピーダンスのうちの前記別の１つから前記あらかじめ定められた範囲内になるように調節される変数を有する、結合器／分配器。
【請求項１９】
請求項１６に記載の結合器／分配器であって、
前記複数の第１周波数同調回路のうちの１つが、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの１つに供給される前記第１周波数の電力のレベルを変更するために調整されるコンデンサを備え、前記複数の第２周波数同調回路のうちの１つが、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの前記１つに供給される前記第２周波数の電力のレベルを変更するために調整されるコンデンサであり、
前記第１周波数の電力の前記レベルおよび前記第２周波数の電力の前記レベルは、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの別の１つに関連する前記複数のインピーダンスのうちの１つに基づいて変更される、結合器／分配器。
【請求項２０】
請求項１６に記載の結合器／分配器であって、前記第１周波数回路は、前記第２周波数が前記第１ＲＦ発生器に影響を与えないように、前記第２周波数をフィルタリングするよう構成された遮断回路を備える、結合器／分配器。
【請求項２１】
請求項１６に記載の結合器／分配器であって、前記出力回路は、
前記複数のプラズマ処理ステーションに対応する複数の擬似負荷と、
複数のスイッチであって、前記複数のスイッチの各々は、前記複数の擬似負荷の対応する１つまたは前記出力回路の前記複数の出力の対応する１つに接続されるよう構成されている、複数のスイッチと、
を備える、結合器／分配器。
【請求項２２】
請求項１６に記載の結合器／分配器であって、さらに、
前記出力回路の前記複数の出力で前記パラメータの複数の値を測定するために、前記出力回路の前記複数の出力に接続された複数のパラメータプローブを備え、
前記複数の第１周波数同調回路は、前記パラメータの前記複数の値に基づいて調整されるよう構成され、
前記複数の第２周波数同調回路は、前記パラメータの前記複数の値に基づいて調整されるよう構成されている、結合器／分配器。
【請求項２３】
請求項１６に記載の結合器／分配器であって、前記出力回路は、複数のインダクタを備え、前記複数のインダクタの各々は、前記出力回路の前記複数の出力のうちの対応する１つに接続され、前記複数のインダクタの各々は、動作周波数の達成を容易にするように前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの対応する１つの周波数を制御するために用いられる、結合器／分配器。
【請求項２４】
システムであって、
結合器／分配器であって、
第１周波数の第１変調ＲＦ信号を第１整合回路網から受信するために、前記第１整合回路網を介して第１高周波（ＲＦ）発生器に接続された第１周波数回路であって、前記第１変調ＲＦ信号を受信して複数のＲＦ信号を出力するよう構成されている、第１周波数回路と、
第２周波数の第２変調ＲＦ信号を第２整合回路網から受信するために、前記第２整合回路網を介して第２ＲＦ発生器に接続された第２周波数回路であって、前記第２変調ＲＦ信号を受信して複数のＲＦ信号を出力するよう構成され、前記第１周波数回路に接続されている、第２周波数回路と、
前記第２周波数回路に接続された出力回路であって、前記第１周波数回路から出力された前記複数のＲＦ信号の各々を、前記第２周波数回路から出力された前記複数のＲＦ信号の対応する１つと結合して、複数の結合ＲＦ信号を複数のプラズマ処理ステーションに供給するよう構成されている、出力回路と、を備え、
前記出力回路は、前記複数のプラズマ処理ステーションに接続された複数の出力を有し、
前記第１周波数回路は、前記第１周波数用の複数の第１周波数同調回路を備え、
前記第２周波数回路は、前記第２周波数用の複数の第２周波数同調回路を備える、結合器／分配器と、
前記結合器／分配器に接続されたシステムコントローラであって、
前記システムコントローラは、前記出力回路の前記複数の出力で測定されたパラメータに基づいて、前記複数の第１周波数同調回路を調整するよう構成され、
前記システムコントローラは、前記出力回路の前記複数の出力で測定された前記パラメータに基づいて、前記複数の第２周波数同調回路を調整するよう構成されている、システムコントローラと、
を備える、システム。
【請求項２５】
請求項２４に記載のシステムであって、前記複数の第１周波数同調回路は、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの１つに関連する第１インピーダンスが、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの別の１つに関連する第２インピーダンスからあらかじめ定められた範囲内になるように、調節される変数を有し、前記複数の第２周波数同調回路は、前記第１インピーダンスが、前記第２インピーダンスから前記あらかじめ定められた範囲内になるように調節される前記変数を有する、システム。
【請求項２６】
請求項２４に記載のシステムであって、
前記複数の第１周波数同調回路のうちの１つが、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの１つに供給される前記第１周波数の電力のレベルを変更するために調整されるコンデンサを備え、前記複数の第２周波数同調回路のうちの１つが、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの前記１つに供給される前記第２周波数の電力のレベルを変更するために調整されるコンデンサであり、
前記第１周波数の電力の前記レベルおよび前記第２周波数の電力の前記レベルは、前記複数のプラズマ処理ステーションのうちの別の１つに関連するインピーダンスに基づいて変更される、システム。
【請求項２７】
請求項２４に記載のシステムであって、さらに、
前記出力回路の前記複数の出力で前記パラメータの複数の値を測定するために、前記出力回路の前記複数の出力に接続された複数のパラメータプローブを備え、
前記複数の第１周波数同調回路は、前記パラメータの前記複数の値に基づいて調整されるよう構成され、
前記複数の第２周波数同調回路は、前記パラメータの前記複数の値に基づいて調整されるよう構成されている、システム。
【請求項２８】
電力伝送システムであって、
第１周波数の第１変調高周波（ＲＦ）信号を第１整合回路網から受信するよう構成された第１周波数回路であって、前記第１周波数回路は、前記第１変調ＲＦ信号に基づいて複数のＲＦ信号を出力するよう構成されている、第１周波数回路と、
前記第１周波数回路に接続された第２周波数回路であって、前記第２周波数回路は、第２周波数の第２変調ＲＦ信号を第２整合回路網から受信するよう構成され、前記第２周波数回路は、前記第２変調ＲＦ信号に基づいて複数のＲＦ信号を出力するよう構成されている、第２周波数回路と、
前記第１周波数回路および前記第２周波数回路に接続された出力回路であって、前記出力回路は、複数の疑似負荷および複数のスイッチを備え、前記複数のスイッチは、第１スイッチおよび第２スイッチを含み、前記複数の疑似負荷は、第１疑似負荷および第２疑似負荷を含み、前記出力回路は、前記第１周波数回路から出力された前記複数のＲＦ信号の各々を前記第２周波数回路から出力された前記複数のＲＦ信号の対応する１つと結合して、複数の結合ＲＦ信号の対応する１つを出力するよう構成され、前記複数の結合ＲＦ信号は、第１結合ＲＦ信号および第２結合ＲＦ信号を含む、出力回路と、を備え、
前記出力回路は、複数のプラズマ処理ステーションに接続されるよう構成された複数の出力を有し、前記複数の出力は、第１出力および第２出力を含み、前記複数のプラズマ処理ステーションは、第１プラズマ処理ステーションおよび第２プラズマ処理ステーションを含み、
前記第１スイッチは、前記第１プラズマ処理ステーション内でプラズマを使用不能にするために、前記第１疑似負荷に接続されて前記第１結合ＲＦ信号を前記第１疑似負荷に供給し、
前記第２スイッチは、前記第２スイッチの第１位置を介して前記第２疑似負荷に、または、前記第２スイッチの第２位置を介して前記出力回路の前記第２出力に、接続されて、前記第２プラズマ処理ステーションでのプラズマ処理を制御するよう構成されている、電力伝送システム。
【請求項２９】
請求項２８に記載の電力伝送システムであって、
前記第１疑似負荷は、前記第２プラズマ処理ステーションが前記第２プラズマ処理ステーションの入力でインピーダンスの変化をおこさないように、前記第１プラズマ処理ステーションのインピーダンスからあらかじめ定められた限度内にあるインピーダンスを有する、電力伝送システム。
【請求項３０】
請求項２８に記載の電力伝送システムであって、さらに、第１入力を備え、
前記第１周波数回路は、複数の直流（ＤＣ）遮断コンデンサの第１回路網を備え、前記複数のＤＣ遮断コンデンサは、前記第１入力を介して前記第１変調ＲＦ信号を受信するために、前記電力伝送システムの前記第１入力に接続され、前記複数のＤＣ遮断コンデンサは、前記複数のプラズマ処理ステーション内で生成されたプラズマから受信されたＤＣ電力が前記第１整合回路網に到達するのを妨げるよう構成されている、電力伝送システム。
【請求項３１】
請求項３０に記載の電力伝送システムであって、さらに、第２入力を備え、
前記第２周波数回路は、前記第２入力を介して前記第２整合回路網に接続されている複数のコンデンサの第２回路網を備え、前記第２回路網の前記複数のコンデンサは、前記複数のプラズマ処理ステーションにわたってプロセス変動をさらに達成するために、前記第２変調ＲＦ信号を処理するように調整されるよう構成されている、電力伝送システム。
【請求項３２】
請求項２８に記載の電力伝送システムであって、
前記第１周波数は、前記第２周波数より低い、電力伝送システム。
【請求項３３】
請求項２８に記載の電力伝送システムであって、
前記複数の第１疑似負荷の各々は、
第１コンデンサと、
前記第１疑似負荷の前記第１コンデンサに並列に接続されたインダクタと、
前記第１疑似負荷の前記第１コンデンサ、前記第１疑似負荷の前記インダクタ、および、前記第１疑似負荷のノーマルオープン端子に接続された第２コンデンサであって、前記第１疑似負荷の前記第２コンデンサは、前記第１プラズマ処理ステーション内で生成されたプラズマから受信された直流（ＤＣ）電力が、前記第１疑似負荷の前記第１コンデンサおよび前記第１疑似負荷の前記インダクタに印加されることを妨げるよう構成されている、第２コンデンサと、備え、
前記第２疑似負荷は、
第１コンデンサと、
前記第２疑似負荷の前記第１コンデンサに並列に接続されたインダクタと、
前記第２疑似負荷の前記第１コンデンサ、前記第２疑似負荷の前記インダクタ、および、前記第２疑似負荷のノーマルオープン端子に接続された第２コンデンサであって、前記第２疑似負荷の前記第２コンデンサは、前記第２プラズマ処理ステーション内で生成されたプラズマから受信されたＤＣ電力が、前記第２疑似負荷の前記第１コンデンサおよび前記第２疑似負荷の前記インダクタに印加されることを妨げるよう構成されている、第２コンデンサと、を備える、電力伝送システム。
【請求項３４】
請求項３３に記載の電力伝送システムであって、
前記第１スイッチは、前記第１疑似負荷の前記ノーマルオープン端子を介して前記第１疑似負荷に接続され、前記第２スイッチは、前記第２疑似負荷の前記ノーマルオープン端子を介して前記第２疑似負荷に接続されるよう構成されている、電力伝送システム。
【請求項３５】
請求項２８に記載の電力伝送システムであって、
前記出力回路は、複数のインダクタを備え、前記複数のインダクタは、第１インダクタおよび第２インダクタを含み、前記第１スイッチは、ノーマルクローズ端子および前記第１インダクタを介して前記出力回路の前記第１出力に接続され、前記第２スイッチは、ノーマルクローズ端子および前記第２インダクタを介して前記出力回路の前記第２出力に接続されるよう構成されている、電力伝送システム。
【請求項３６】
請求項２８に記載の電力伝送システムであって、
前記出力回路は、複数の平衡インダクタを備え、前記複数の平衡インダクタは、第１平衡インダクタおよび第２平衡インダクタを含み、前記第１平衡インダクタは、前記出力回路の前記第１出力を介して前記第１プラズマ処理ステーションの回路の共振周波数を変更するよう構成され、前記第２平衡インダクタは、前記出力回路の前記第２出力を介して前記第２プラズマ処理ステーションの回路の共振周波数を変更するよう構成されている、電力伝送システム。
【請求項３７】
請求項２８に記載の電力伝送システムであって、
前記第１スイッチは、前記第１プラズマ処理ステーション内でプラズマを生成するために、前記出力回路の前記第１出力を介して前記第１プラズマ処理ステーションに選択的に接続されて、前記第１結合ＲＦ信号を前記第１プラズマ処理ステーションに供給するよう構成されている、電力伝送システム。
【請求項３８】
方法であって、
第１周波数の第１変調高周波（ＲＦ）信号を第１整合回路網から受信して複数の第１ＲＦ信号を出力する工程と、
第２周波数の第２変調ＲＦ信号を第２整合回路網から受信して複数の第２ＲＦ信号を出力する工程と、
前記複数の第２ＲＦ信号の各々を前記複数の第１ＲＦ信号の対応する１つと結合して、複数の結合ＲＦ信号の対応する１つを出力する工程と、
前記複数の結合ＲＦ信号の１つを、複数のプラズマ処理ステーションの対応する１つではなく複数の疑似負荷の１つに供給する工程と、
前記複数の結合ＲＦ信号の残りの結合ＲＦ信号を前記複数のプラズマ処理ステーションの残りのプラズマ処理ステーションに供給する工程と、
を含む、方法。
【請求項３９】
請求項３８に記載の方法であって、さらに、
前記複数のプラズマ処理ステーション内で生成されたプラズマから受信された直流（ＤＣ）電力が前記第１整合回路網に到達するのを妨げる工程を含む、方法。
【請求項４０】
請求項３８に記載の方法であって、さらに、
前記複数のプラズマ処理ステーションにわたってプロセス変動をさらに達成するために、前記第２変調ＲＦ信号を処理するように複数のコンデンサを調整する工程を含む、方法。
【請求項４１】
システムであって、
電力伝送回路であって、
複数の高周波（ＲＦ）信号を出力するよう構成された第１周波数回路と、
前記第１周波数回路に接続された第２周波数回路であって、複数のＲＦ信号を出力するよう構成されている、第２周波数回路と、
前記第１周波数回路および前記第２周波数回路に接続された出力回路であって、前記出力回路は、複数の疑似負荷および複数のスイッチを備え、前記複数のスイッチは、第１スイッチおよび第２スイッチを含み、前記複数の疑似負荷は、第１疑似負荷および第２疑似負荷を含み、前記出力回路は、前記第１周波数回路から出力された前記複数のＲＦ信号の各々を前記第２周波数回路から出力された前記複数のＲＦ信号の対応する１つと結合して、複数の結合ＲＦ信号の対応する１つを出力するよう構成され、前記複数の結合ＲＦ信号は、第１結合ＲＦ信号および第２結合ＲＦ信号を含み、前記出力回路は、複数のプラズマ処理ステーションに接続されるよう構成された複数の出力を有し、前記複数の出力は、第１出力および第２出力を含み、前記複数のプラズマ処理ステーションは、第１プラズマ処理ステーションおよび第２プラズマ処理ステーションを含む、出力回路と、
前記第１プラズマ処理ステーション内でプラズマを使用不能にするために、前記第１スイッチを前記第１疑似負荷に接続して前記第１結合ＲＦ信号を前記第１疑似負荷に供給するように前記第１スイッチを制御するよう構成されたコントローラであって、前記コントローラは、前記第２スイッチを、前記第２スイッチの第１位置を介して前記第２疑似負荷に、または、前記第２スイッチの第２位置を介して前記出力回路の前記第２出力に、接続して、前記第２プラズマ処理ステーションでのプラズマ処理を制御するように前記第２スイッチを制御するよう構成されている、コントローラと、
を備える、電力伝送回路を備える、システム。
【請求項４２】
請求項４１に記載のシステムであって、
前記第１スイッチは、前記第１疑似負荷のノーマルオープン端子を介して前記第１疑似負荷に接続され、前記第２スイッチは、前記第２疑似負荷のノーマルオープン端子を介して前記第２疑似負荷に接続されるよう構成されている、システム。
【請求項４３】
請求項４１に記載のシステムであって、
前記出力回路は、複数のインダクタを備え、前記複数のインダクタは、第１インダクタおよび第２インダクタを含み、前記第１スイッチは、ノーマルクローズ端子および前記第１インダクタを介して前記出力回路の前記第１出力に選択的に接続されるよう構成され、前記第２スイッチは、ノーマルクローズ端子および前記第２インダクタを介して前記出力回路の前記第２出力に接続されるよう構成されている、システム。
【請求項４４】
請求項４１に記載のシステムであって、
前記コントローラは、プロセッサおよびメモリデバイスを含む、システム。
【請求項４５】
請求項４１に記載のシステムであって、
前記第１疑似負荷は、
第１コンデンサと、
前記第１疑似負荷の前記第１コンデンサに並列に接続されたインダクタと、
前記第１疑似負荷の前記第１コンデンサ、前記第１疑似負荷の前記インダクタ、および、前記第１疑似負荷のノーマルオープン端子に接続された第２コンデンサと、を備え、
前記第２疑似負荷は、
第１コンデンサと、
前記第２疑似負荷の前記第１コンデンサに並列に接続されたインダクタと、
前記第２疑似負荷の前記第１コンデンサ、前記第２疑似負荷の前記インダクタ、および、前記第２疑似負荷のノーマルオープン端子に接続された第２コンデンサと、を備える、システム。
【請求項４６】
結合器および分配器であって、
第１周波数の変調高周波（ＲＦ）信号を受信するよう構成された複数の第１分岐回路であって、前記複数の第１分岐回路の各々は、前記第１周波数の前記変調ＲＦ信号の対応する一部を調整して、前記第１周波数の複数のＲＦ信号を出力するよう構成された同調要素を備える、複数の第１分岐回路と、
第２周波数の変調ＲＦ信号を受信するよう構成された複数の第２分岐回路であって、前記複数の第２分岐回路の各々は、前記第２周波数の前記変調ＲＦ信号の対応する一部を調整して、前記第２周波数の複数のＲＦ信号を出力するよう構成された同調要素を備える、複数の第２分岐回路と、
前記第１周波数の前記複数のＲＦ信号の各々を前記第２周波数の前記複数のＲＦ信号の対応する１つと結合して、複数の出力信号を複数のプラズマ処理ステーションに分配するよう構成された複数の出力分岐回路と、
を備える、結合器および分配器。
【請求項４７】
請求項４６に記載の結合器および分配器であって、
前記複数の第１分岐回路の対応する１つの前記同調要素は、前記第１周波数の前記変調ＲＦ信号の前記対応する一部を調整して、前記複数のプラズマ処理ステーションの対応する１つに関連するプラズマインピーダンスを、前記複数のプラズマ処理ステーションの別の１つに関連する別のプラズマインピーダンスと、平衡化するよう構成されている、結合器および分配器。
【請求項４８】
請求項４７に記載の結合器および分配器であって、
前記複数の第２分岐回路の対応する１つの前記同調要素は、前記第２周波数の前記変調ＲＦ信号の前記対応する一部を処理して、前記複数のプラズマ処理ステーションの前記対応する１つに関連する前記プラズマインピーダンスを、前記複数のプラズマ処理ステーションの前記別の１つに関連する前記別のプラズマインピーダンスと、平衡化するよう構成されている、結合器および分配器。
【請求項４９】
請求項４８に記載の結合器および分配器であって、
前記複数のプラズマ処理ステーションの前記対応する１つに関連する前記プラズマインピーダンスが、前記複数のプラズマ処理ステーションの前記別の１つに関連する前記別のプラズマインピーダンスからあらかじめ定められた範囲内にあるときに、前記複数のプラズマ処理ステーションの前記対応する１つに関連する前記プラズマインピーダンスは、前記複数のプラズマ処理ステーションの前記別の１つに関連する前記別のプラズマインピーダンスと平衡化される、結合器および分配器。
【請求項５０】
請求項４６に記載の結合器および分配器であって、
前記複数の第１分岐回路の対応する１つの前記同調要素は、可変コンデンサであり、前記複数の第２分岐回路の対応する１つの前記同調要素は、可変コンデンサである、結合器および分配器。
【請求項５１】
請求項４６に記載の結合器および分配器であって、
前記第１周波数は、前記第２周波数よりも低い、結合器および分配器。
【請求項５２】
請求項４６に記載の結合器および分配器であって、
前記複数の第１分岐回路は、第１インピーダンス整合回路網に接続されて、前記第１周波数の前記変調ＲＦ信号を受信するよう構成され、前記複数の第２分岐回路は、第２インピーダンス整合回路網に接続されて、前記第２周波数の前記変調ＲＦ信号を前記第２インピーダンス整合回路網から受信するよう構成されている、結合器および分配器。
【請求項５３】
請求項４６に記載の結合器および分配器であって、
前記複数の第１分岐回路は、複数のインダクタおよび複数の遮断回路を備え、前記複数の遮断回路は、前記第２周波数のＲＦ信号を妨げるよう構成されている、結合器および分配器。
【請求項５４】
請求項５３に記載の結合器および分配器であって、
前記複数の遮断回路の各々は、並列に配置したインダクタおよびコンデンサを備える、結合器および分配器。
【請求項５５】
請求項４６に記載の結合器および分配器であって、
前記複数の第１分岐回路の対応する１つの前記同調要素は、複数のインダクタの対応する１つに並列に接続されている、結合器および分配器。
【請求項５６】
請求項４６に記載の結合器および分配器であって、
前記複数の第２分岐回路の対応する１つの前記同調要素は、複数のコンデンサの対応する１つに接続されている、結合器および分配器。
【請求項５７】
請求項４６に記載の結合器および分配器であって、
前記第１周波数の前記変調ＲＦ信号の前記対応する一部を調整するために、前記複数の第１分岐回路の対応する１つの前記同調要素は、前記複数の第１分岐回路の前記対応する１つの前記同調要素によって出力されたＲＦ信号の振幅または位相またはその組み合わせを変更するよう構成されている、結合器および分配器。
【請求項５８】
請求項４６に記載の結合器および分配器であって、
前記第２周波数の前記変調ＲＦ信号の前記対応する一部を調整するために、前記複数の第２分岐回路の対応する１つの前記同調要素は、前記複数の第２分岐回路の前記対応する１つの前記同調要素によって出力されたＲＦ信号の振幅または位相またはその組み合わせを変更するよう構成されている、結合器および分配器。
【請求項５９】
プラズマシステムであって、
第１周波数の第１高周波（ＲＦ）信号を生成するよう構成された第１ＲＦ発生器と、
第２周波数の第２ＲＦ信号を生成するよう構成された第２ＲＦ発生器と、
前記第１ＲＦ信号を受信するために前記第１ＲＦ発生器に接続されて前記第１周波数の第１変調ＲＦ信号を供給する第１インピーダンス整合回路網と、
前記第２ＲＦ信号を受信するために前記第２ＲＦ発生器に接続されて前記第２周波数の第２変調ＲＦ信号を供給する第２インピーダンス整合回路網と、
前記第１インピーダンス整合回路網および前記第２インピーダンス整合回路網に接続された結合器および分配器と、
前記結合器および前記分配器に接続された複数のプラズマ処理ステーションと、を備え、
前記結合器および分配器は、
前記第１変調ＲＦ信号を受信するよう構成された複数の第１分岐回路であって、前記複数の第１分岐回路の各々は、前記第１変調ＲＦ信号の対応する一部を調整して前記第１周波数の複数のＲＦ信号を出力するよう構成された同調要素を備える、複数の第１分岐回路と、
前記第２周波数の前記第２変調ＲＦ信号を受信するよう構成された複数の第２分岐回路であって、前記複数の第２分岐回路の各々は、前記第２変調ＲＦ信号の対応する一部を調整して前記第２周波数の複数のＲＦ信号を出力するよう構成された同調要素を備える、複数の第２分岐回路と、
前記第１周波数の前記複数のＲＦ信号の各々を前記第２周波数の前記複数のＲＦ信号の対応する１つと結合して、複数の出力信号を前記複数のプラズマ処理ステーションに分配するよう構成された複数の出力分岐回路と、
を備える、プラズマシステム。
【請求項６０】
請求項５９に記載のプラズマシステムであって、
前記複数の第１分岐回路の対応する１つの前記同調要素は、前記第１周波数の前記第１変調ＲＦ信号の前記対応する一部を調整して、複数のプラズマ処理ステーションの対応する１つに関連するプラズマインピーダンスを、前記複数のプラズマ処理ステーションの別の１つに関連する別のプラズマインピーダンスと、平衡化するよう構成されている、プラズマシステム。
【請求項６１】
請求項６０に記載のプラズマシステムであって、
前記複数の第２分岐回路の対応する１つの前記同調要素は、前記第２周波数の前記第２変調ＲＦ信号の前記対応する一部を調整して、前記複数のプラズマ処理ステーションの前記対応する１つに関連する前記プラズマインピーダンスを、前記複数のプラズマ処理ステーションの前記別の１つに関連する前記別のプラズマインピーダンスと、平衡化するよう構成されている、プラズマシステム。
【請求項６２】
請求項６１に記載のプラズマシステムであって、
前記複数のプラズマ処理ステーションの前記対応する１つに関連する前記プラズマインピーダンスが、前記複数のプラズマ処理ステーションの前記別の１つに関連する前記別のプラズマインピーダンスからあらかじめ定められた範囲内にあるときは、前記複数のプラズマ処理ステーションの前記対応する１つに関連する前記プラズマインピーダンスは、前記複数のプラズマ処理ステーションの前記別の１つに関連する前記別のプラズマインピーダンスと平衡化される、プラズマシステム。
【請求項６３】
請求項５９に記載のプラズマシステムであって、
前記複数の第１分岐回路の対応する１つの前記同調要素は、可変コンデンサであり、前記複数の第２分岐回路の対応する１つの前記同調要素は、可変コンデンサである、プラズマシステム。
【請求項６４】
方法であって、
第１周波数の変調高周波（ＲＦ）信号を受信する工程と、
前記第１周波数の前記変調ＲＦ信号の一部を調整して、前記第１周波数の複数のＲＦ信号を出力する工程と、
第２周波数の変調ＲＦ信号を受信する工程と、
前記第２周波数の前記変調ＲＦ信号の一部を調整して、前記第２周波数の複数のＲＦ信号を出力する工程と、
前記第１周波数の前記複数のＲＦ信号の各々を前記第２周波数の前記複数のＲＦ信号の対応する１つと結合して、複数の出力信号を複数のプラズマ処理ステーションに分配する工程と、
を含む、方法。
【請求項６５】
請求項６４に記載の方法であって、
前記第１周波数の前記変調ＲＦ信号の前記一部を調整する前記工程は、前記複数のプラズマ処理ステーションに関連する複数のプラズマインピーダンスを平衡化する工程を含む、方法。
【請求項６６】
請求項６５に記載の方法であって、
前記第２周波数の前記変調ＲＦ信号の前記一部を調整する前記工程は、前記複数のプラズマ処理ステーションに関連する前記複数のプラズマインピーダンスを平衡化する工程を含む、方法。
【請求項６７】
請求項６６に記載の方法であって、
平衡化する前記工程は、前記複数のプラズマインピーダンスが互いからあらかじめ定められた範囲内にあるときに達成される、方法。