Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月28日(2019.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転軸（１１）に取り付けられたロータ（１２）と、
前記回転軸の一端側を回転可能に支持する第１フレームエンド（１４）と、
前記回転軸の他端側を回転可能に支持する第２フレームエンド（１５）と、
前記第１フレームエンドと前記第２フレームエンドとに挟まれた状態で前記ロータの外周側に設けられたステータコア（１３）と、を備え、
前記第２フレームエンドは、前記回転軸の他端側を回転可能に支持するリア本体部（１５ａ）、及び前記リア本体部から前記回転軸の中心軸線方向に前記ステータコア側に延びる円環状のリア周壁部（１５ｂ）を有し、
前記リア本体部において前記リア周壁部よりも前記回転軸側には、前記中心軸線方向に延びるフレーム貫通孔（１５ｅ）が形成されており、
前記フレーム貫通孔に挿通され、前記ステータコアに巻回されたステータ巻線（１３ａ）から延設された巻線延設部（１３ｂ）と、
前記巻線延設部が挿通される挿通孔（２２）が形成された本体部（２１ａ）、及び前記本体部の外側に設けられたフランジ部（２１ｂ）を有し、前記フレーム貫通孔に挿入され、前記リア本体部において前記フレーム貫通孔によって形成された一対の開口のうち前記ステータコアに対向する第１開口とは反対側の第２開口の周縁部に前記フランジ部を当接させることにより、前記リア本体部に取り付けられたグロメット（２１）と、を備え、
前記本体部は、前記フレーム貫通孔の前記第１開口側に突出し、その突出部分の外側の全周のうち一部であって前記回転軸側の部分には、前記第１開口の周縁部に引っ掛かる引っ掛かり部（２１ｅ）が設けられていることを特徴とする回転電機。
【請求項２】
前記本体部（２１ａ）のうち前記第１開口側の部分において、前記挿通孔の内周面と前記巻線延設部との間に隙間が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の回転電機。
【請求項３】
前記フランジ部は、前記挿通孔の延びる方向において前記本体部の中間に設けられ、
前記本体部のうち、前記挿通孔の延びる方向において前記フランジ部に対して一方の側は、前記フレーム貫通孔に挿入される被挿入部とされ、他方の側は、前記フレーム貫通孔に挿入されない延出部（２１ｄ）とされ、
前記グロメットが前記リア本体部に取り付けられていない状態において、前記挿通孔のうち、前記延出部の先端部の部分が、その断面積が前記巻線延設部の断面積よりも小さい縮径部（２２ａ）とされ、前記縮径部よりも前記第１開口側となる部分が、前記縮径部の断面積よりも大きい拡径部（２２ｂ）とされ、
前記フレーム貫通孔１つあたりに３つの前記巻線延設部が挿通され、
１つの前記フレーム貫通孔に挿通された３つの前記巻線延設部に対応する前記グロメットが一体成型されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の回転電機。
【請求項４】
前記第２フレームエンドの前記ステータコア側とは反対側に設けられ、前記ステータ巻線の通電制御を行う制御基板（１８）を備え、
前記制御基板は、前記フレーム貫通孔に対向する位置に配置され、
前記巻線延設部は、前記制御基板と前記ステータ巻線とを電気的に接続し、
前記フランジ部は、前記挿通孔の延びる方向において前記本体部の中間に設けられ、
前記本体部のうち、前記挿通孔の延びる方向において前記フランジ部に対して一方の側は、前記フレーム貫通孔に挿入される被挿入部とされ、他方の側は、前記フレーム貫通孔に挿入されない延出部（２１ｄ）とされ、
前記被挿入部において前記フレーム貫通孔の内周面と当接する部分のうち前記フランジ部から最も離れた部分から、前記フランジ部が前記第２開口の周縁部に当接する部分までの距離が、前記制御基板の前記第２フレームエンド側の板面から前記延出部の先端までの距離よりも長いことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の回転電機。
【請求項５】
通電によって発熱する発熱部品を備え、
前記第２フレームエンドは、前記中心軸線方向において前記フランジ部と前記リア本体部との当接部から前記制御基板までの間に、前記発熱部品が発生する熱を逃がすヒートシンク部（１５ｃ）を有していることを特徴とする請求項４に記載の回転電機。
【請求項６】
前記グロメットが前記リア本体部に取り付けられていない状態において、前記挿通孔のうち、前記延出部の先端部の部分が、その断面積が前記巻線延設部の断面積よりも小さい縮径部（２２ａ）とされ、前記縮径部よりも前記第１開口側となる部分が、前記縮径部の断面積よりも大きい拡径部（２２ｂ）とされ、
前記延出部は、前記フランジ部が前記第２開口の周縁部に当接した状態において、前記延出部の先端部が前記制御基板の板面から離れていることを特徴とする請求項４又は５に記載の回転電機。
【請求項７】
前記第２フレームエンドの前記ステータコア側とは反対側に設けられ、前記ステータ巻線の通電制御を行う制御基板（１８）と、
前記第２フレームエンドの外周面の一部に取り付けられ、前記制御基板を囲うカバー（２０）と、を備え、
前記巻線延設部は、前記制御基板と前記ステータ巻線とを電気的に接続し、
前記ステータコアは、その外周面が前記カバーに囲われず外部に露出するように設けられ、
前記リア周壁部は、前記ステータコア側に延びる先端部が前記ステータコアの外縁部に当接し、
前記リア周壁部により、前記ステータコアと前記第２フレームエンドとによって囲われるような空間が形成されている請求項１〜６のいずれか１項に記載の回転電機。
【請求項８】
前記グロメットは、前記フランジ部が前記第２開口の周縁部に当接した状態において、前記本体部の前記ステータコア側の先端部が前記ステータ巻線に当接しないように設けられている請求項１〜７のいずれか１項に記載の回転電機。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の回転電機の製造方法であって、
前記フレーム貫通孔に前記巻線延設部を挿通させる工程と、
前記フレーム貫通孔に前記巻線延設部が挿通された状態で、前記グロメットの前記挿通孔に前記巻線延設部を挿通させながら前記グロメットを前記第２開口側から前記フレーム貫通孔に挿入することにより、前記グロメットを前記リア本体部に取り付ける工程と、を備えていることを特徴とする回転電機の製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の回転電機の製造方法であって、
前記第２フレームエンドにおいて前記第２開口側から前記グロメットを前記フレーム貫通孔に挿入することにより、前記グロメットを前記リア本体部に取り付ける工程と、
前記リア本体部に取り付けられた前記グロメットの前記挿通孔に前記巻線延設部を挿通させる工程と、を備えていることを特徴とする回転電機の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月28日(2019.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転軸（１１）に取り付けられたロータ（１２）と、
前記回転軸の一端側を回転可能に支持する第１フレームエンド（１４）と、
前記回転軸の他端側を回転可能に支持する第２フレームエンド（１５）と、
前記第１フレームエンドと前記第２フレームエンドとに挟まれた状態で前記ロータの外周側に設けられたステータコア（１３）と、
前記第２フレームエンドに形成され前記回転軸の中心軸線方向に延びるフレーム貫通孔（１５ｅ）に挿通され、前記ステータコアに巻回されたステータ巻線（１３ａ）から延設された巻線延設部（１３ｂ）と、
前記巻線延設部が挿通される挿通孔（２２）が形成された本体部（２１ａ）、及び前記本体部の外側に設けられたフランジ部（２１ｂ）を有し、前記フレーム貫通孔に挿入され、前記第２フレームエンドにおいて前記フレーム貫通孔によって形成された一対の開口のうち前記ステータコアに対向する第１開口とは反対側の第２開口の周縁部に前記フランジ部を当接させることにより、前記第２フレームエンドに取り付けられたグロメット（２１）と、
前記第２フレームエンドの前記ステータコア側とは反対側に設けられ、前記ステータ巻線の通電制御を行う制御基板（１８）と、を備え、
前記制御基板は、前記フレーム貫通孔に対向する位置に配置され、
前記巻線延設部は、前記制御基板と前記ステータ巻線とを電気的に接続し、
前記フランジ部は、前記挿通孔の延びる方向において前記本体部の中間に設けられ、
前記本体部のうち、前記挿通孔の延びる方向において前記フランジ部に対して一方の側は、前記フレーム貫通孔に挿入される被挿入部とされ、他方の側は、前記フレーム貫通孔に挿入されない延出部（２１ｄ）とされ、
前記被挿入部において前記フレーム貫通孔の内周面と当接する部分のうち前記フランジ部から最も離れた部分から、前記フランジ部が前記第２開口の周縁部に当接する部分までの距離が、前記制御基板の前記第２フレームエンド側の板面から前記延出部の先端までの距離よりも長くされており、
前記グロメットが前記第２フレームエンドに取り付けられていない状態において、前記挿通孔のうち、前記延出部の先端部の部分が、その断面積が前記巻線延設部の断面積よりも小さい縮径部（２２ａ）とされ、前記縮径部よりも前記第１開口側となる部分が、前記縮径部の断面積よりも大きい拡径部（２２ｂ）とされていることを特徴とする回転電機。
【請求項２】
前記被挿入部において前記フレーム貫通孔の内周面と当接する部分は、環状の突出部（２１ｃ）であることを特徴とする請求項１に記載の回転電機。
【請求項３】
前記フレーム貫通孔１つあたりに３つの前記巻線延設部が挿通され、
１つの前記フレーム貫通孔に挿通された３つの前記巻線延設部に対応する前記グロメットが一体成型されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の回転電機。
【請求項４】
前記本体部は、前記フレーム貫通孔の前記第１開口側に突出し、その突出部分には、前記第１開口の周縁部に引っ掛かる引っ掛かり部（２１ｅ）が設けられていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の回転電機。
【請求項５】
通電によって発熱する発熱部品を備え、
前記第２フレームエンドは、前記中心軸線方向において前記フランジ部との当接部から前記制御基板までの間に、前記発熱部品が発生する熱を逃がすヒートシンク部（１５ｃ）を有していることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の回転電機。
【請求項６】
前記延出部は、前記フランジ部が前記第２開口の周縁部に当接した状態において、前記延出部の先端部が前記制御基板の板面から離れていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の回転電機。
【請求項７】
前記第２フレームエンドの外周面の一部に取り付けられ、前記制御基板を囲うカバー（２０）を備え、
前記ステータコアは、その外周面が前記カバーに囲われず外部に露出するように設けられ、
前記第２フレームエンドは、前記ステータコア側に延び、先端部が前記ステータコアの外縁部に当接する周壁部（１５ｂ）を有し、
前記周壁部により、前記ステータコアと前記第２フレームエンドとによって囲われるような空間が形成され、
前記フレーム貫通孔は、前記周壁部よりも前記回転軸側に形成されている請求項１〜６のいずれか１項に記載の回転電機。
【請求項８】
前記グロメットは、前記フランジ部が前記第２開口の周縁部に当接した状態において、前記本体部の前記ステータコア側の先端部が前記ステータ巻線に当接しないように設けられている請求項１〜７のいずれか１項に記載の回転電機。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の回転電機の製造方法であって、
前記フレーム貫通孔に前記巻線延設部を挿通させる工程と、
前記フレーム貫通孔に前記巻線延設部が挿通された状態で、前記グロメットの前記挿通孔に前記巻線延設部を挿通させながら前記グロメットを前記第２開口側から前記フレーム貫通孔に挿入することにより、前記グロメットを前記第２フレームエンドに取り付ける工程と、を備えていることを特徴とする回転電機の製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の回転電機の製造方法であって、
前記第２フレームエンドにおいて前記第２開口側から前記グロメットを前記フレーム貫通孔に挿入することにより、前記グロメットを前記第２フレームエンドに取り付ける工程と、
前記第２フレームエンドに取り付けられた前記グロメットの前記挿通孔に前記巻線延設部を挿通させる工程と、を備えていることを特徴とする回転電機の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月6日(2020.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可変容量型の油圧ポンプと、
前記油圧ポンプから吐出された圧油により駆動される複数のアクチュエータと、
パイロット一次圧を供給するパイロット油圧源と、
前記油圧ポンプから前記複数のアクチュエータへ供給される圧油の流量を制御する複数の流量・方向制御弁と、
前記複数のアクチュエータの最高負荷圧を検出する最高負荷圧検出回路と、
前記油圧ポンプの吐出圧が前記複数のアクチュエータの最高負荷圧より目標差圧だけ高くなるよう制御するロードセンシング制御部を有するポンプ制御装置と、
前記油圧ポンプを前記複数の流量・方向制御弁に接続する管路に設けられ、前記油圧ポンプの吐出圧が前記最高負荷圧に設定圧を加算した圧力よりも高くなると開状態になって前記油圧ポンプの吐出油をタンクに戻し、前記油圧ポンプの吐出圧の上昇を制限するアンロード弁とを備え、
前記ロードセンシング制御部は前記油圧ポンプの容量を変化させるＬＳ制御傾転ピストンと、
前記ＬＳ制御傾転ピストンを前記パイロット油圧源とタンクとに選択的に連通させ、前記ＬＳ制御傾転ピストンの駆動を制御するＬＳ制御弁を有する建設機械において、
前記ＬＳ制御弁と前記ＬＳ制御傾転ピストンとを連絡する油路に設けられ、前記最高負荷圧に基づいて絞り位置と連通位置との間で切り換わる応答制御切換弁を備え、
前記応答制御切換弁は、前記最高負荷圧がタンク圧以下の場合は連通位置となり、前記最高負荷圧がタンク圧より高い圧力の場合は絞り位置に切り換わる
ことを特徴とする建設機械。
【請求項２】
請求項１に記載の建設機械において、
前記応答制御切換弁は、前記最高負荷圧が導かれ前記最高負荷圧を受圧し前記応答制御切換弁を絞り位置に切り換える最高負荷圧受圧部と、前記最高負荷圧受圧部の逆側に前記応答制御切換弁を連通位置に切り換えるバネとを有し、前記最高負荷圧受圧部にタンク圧が受圧している場合は連通位置となり、前記最高負荷圧受圧部にタンク圧より高い圧力が加わると絞り位置に切り換わる油圧切換弁である
ことを特徴とする建設機械。
【請求項３】
請求項１に記載の建設機械において、
前記最高負荷圧を検出する最高負荷圧検出装置と、
前記最高負荷圧検出装置の検出結果に基づき前記応答制御切換弁を切り換えるコントローラとを更に備え、
前記応答制御切換弁は、前記コントローラからの制御信号により切り換わる電磁切換弁である
ことを特徴とする建設機械。
【請求項４】
請求項１に記載の建設機械において、
前記パイロット一次圧を前記応答制御切換弁に供給可能な電磁切換弁と、
前記最高負荷圧を検出する最高負荷圧検出装置と、
前記最高負荷圧検出装置の検出結果に基づき前記電磁切換弁を切り換えるコントローラとを更に備え、
前記応答制御切換弁は、前記電磁切換弁から出力される圧力により切り換わる油圧切換弁である
ことを特徴とする建設機械。
【請求項５】
請求項１に記載の建設機械において、
前記パイロット一次圧を前記応答制御切換弁に供給可能な電磁切換弁と、
前記最高負荷圧を検出する最高負荷圧検出装置と、
前記複数の流量・方向制御弁が中立位置にあるか否かを検出する操作検出装置と、
前記操作検出装置と前記最高負荷圧検出装置の検出結果に基づき前記電磁切換弁を切り換えるコントローラとを更に備え、
前記応答制御切換弁は、前記電磁切換弁から出力される圧力により切り換わる油圧切換弁であり、
前記コントローラは、前記複数の流量・方向制御弁が作動位置で、かつ前記最高負荷圧がタンク圧以下の場合に前記油圧切換弁が連通位置となり、前記最高負荷圧がタンク圧より高い圧力の場合に前記油圧切換弁が絞り位置となるよう前記電磁切換弁を制御する
ことを特徴とする建設機械。
【請求項６】
請求項１に記載の建設機械において、
前記最高負荷圧を検出する最高負荷圧検出装置と、
前記複数の流量・方向制御弁が中立位置にあるか否かを検出する操作検出装置と、
前記操作検出装置と前記最高負荷圧検出装置の検出結果に基づき前記応答制御切換弁を切り換えるコントローラとを更に備え、
前記応答制御切換弁は、前記コントローラからの制御信号により切り換わる電磁切換弁であり、
前記コントローラは、前記複数の流量・方向制御弁が作動位置で、かつ前記最高負荷圧がタンク圧以下の場合に前記電磁切換弁が連通位置となり、前記最高負荷圧がタンク圧より高い圧力の場合に前記電磁切換弁が絞り位置となるよう前記電磁切換弁を制御する
ことを特徴とする建設機械。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月2日(2020.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
略球状の無機微粒子からなる集合体と、基体となる無機基材と、接合材となるガラス相と、を含む無機加飾品であって、
前記無機微粒子が前記無機基材表面に略規則的に配列して集合体が形成されており、該無機微粒子集合体が前記ガラス相により前記無機基材表面の任意の領域に接合されており、前記無機微粒子の粒径及び規則的配列に由来する構造色が発現している領域を有する、前記無機加飾品。
【請求項２】
無機微粒子と接合材となるガラス相とが、同一の化学組成を有する、請求項１に記載の無機加飾品。
【請求項３】
無機微粒子集合体が、その一部を表面に露出した状態で無機基材に接合されている、請求項１又は２に記載の無機加飾品。
【請求項４】
構造色が０．２ｍｍ２以上の面積にわたって連続して発現している、請求項１乃至３の何れかに記載の無機加飾品。
【請求項５】
同一領域に構造色を発現する複数種の無機微粒子集合体が形成され、同一角度の目視観察において、前記無機微粒子集合体に由来する複数の色が発色している、請求項１乃至４の何れかに記載の無機加飾品。
【請求項６】
無機基材が曲面部分を有し、該曲面部分の任意の領域に無機微粒子集合体が接合されている、請求項１乃至５の何れかに記載の無機加飾品。
【請求項７】
無機微粒子の１次粒子の個数平均径が、１５０〜３７０ｎｍである、請求項１乃至６の何れかに記載の無機加飾品。
【請求項８】
無機微粒子が多孔質であり、該無機微粒子の窒素ガス吸着法による比表面積の測定値が、密度及び走査型電子顕微鏡観察による粒径から算出される計算値と比較して、２倍以上の値である、請求項１乃至７の何れかに記載の無機加飾品。
【請求項９】
無機微粒子が酸化ケイ素である、請求項１乃至８の何れかに記載の無機加飾品。
【請求項１０】
無機基材が陶磁器である、請求項１乃至９の何れかに記載の無機加飾品。
【請求項１１】
無機加飾品が、食器類及びその部品、装飾品及びその部品、筆記具の部品、携帯型情報通信機器の筐体及び部品、内装及び外装用の建材、輸送機器の車体及び部品、並びに庭園及び墓地用の石材加工品からなる群より選ばれる１種である、請求項１乃至１０の何れかに記載の無機加飾品。
【請求項１２】
液相合成により無機微粒子を析出させて該無機微粒子及び未反応状態の原料成分を含む分散液を調製する工程と、無機基材表面の任意の領域に前記分散液をコーティングして乾燥及び焼成する工程と、を含む請求項１乃至１１の何れかに記載の無機加飾品の製造方法。
【請求項１３】
液相合成により無機微粒子を析出させた後に無機接合剤を添加して前記無機微粒子及び前記無機接合剤を含む分散液を調製する工程と、無機基材表面の任意の領域に前記分散液をコーティングして乾燥及び焼成する工程と、を含む請求項１乃至１１の何れかに記載の無機加飾品の製造方法。
【請求項１４】
略球状の無機微粒子と、該無機微粒子の原料であるアルコキシドの一部が未反応状態の原料成分とを含有する分散液であって、前記無機微粒子が略規則的に配列して形成された集合体が、前記無機微粒子の粒径及び規則的配列に由来して構造色を発現する、前記分散液。
【請求項１５】
無機微粒子の１次粒子の個数平均径が１５０〜３７０ｎｍである、請求項１４に記載の分散液。
【請求項１６】
アルコキシド法により無機微粒子を析出させて、該無機微粒子及びアルコキシドの一部が未反応状態の原料成分を含有する分散液を調製する工程を含む、請求項１４又は１５に記載の分散液の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】構造色を呈する無機加飾品、その製造方法、及びそれに用いる分散液
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月3日(2020.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
積層ガラスユニットであって、
互いに積層された第１ガラス基板及び第２ガラス基板であって、前記第１ガラス基板及び第２ガラス基板は、前記積層ガラスユニットの第１主要面から第４主要面を順番に提供し、
前記積層ガラスユニットの第４主要面は、複数の薄膜層を含む第１低放射率コーティングを支持し、
前記第１の低放射率コーティングは、前記第２ガラス基板から離れる順に、
屈折率が１．５〜２．１で厚さが５０〜９０ｎｍの第１シリコンオキシ窒化物含有層と、
屈折率が１．７〜２．１で厚さが８５〜１２５ｎｍのＩＴＯ含有層と、
屈折率が１．５〜２．１で厚さが５０〜９０ｎｍの第２シリコンオキシ窒化物含有層と、を含み、
前記積層ガラスユニットの第２主要面及び／又は第３主要面は、第１及び第２ガラス基板の間に配置された第２低放射率コーティングを支持し、
前記第２低放射率コーティングは、前記第１ガラス基板及び／又は前記第２ガラス基板から離れる順に、
第１シリコン系層と、
第１誘電体層と、
第１部分及び第２部分を形成するように、チタニウム酸化物又はスズ酸化物を含む第３誘電体層によって分離された第２誘電体層と、
前記第２誘電体層の第２部分上に直接接触する金属性又は実質的に金属性の赤外線（ＩＲ）反射層と、
前記ＩＲ反射層上に直接接触する、Ｎｉ及び／又はＣｒの酸化物を含む上部接触層と、
第４誘電体層と、
第２シリコン系層と、
を含む複数の薄膜層を有する
積層ガラスユニット。
【請求項２】
前記第１低放射率コーティングは、ジルコニウム酸化物を含むオーバーコート層を備える、
請求項１に記載の積層ガラスユニット。
【請求項３】
親水性及び/または光触媒薄膜コーティングは、前記ジルコニウム酸化物上に設けられる、
請求項２に記載の積層ガラスユニット。
【請求項４】
前記第２基板は、その上に蒸着された前記第１低放射率コーティングと共に熱処理される、
請求項１に記載の積層ガラスユニット。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月30日(2020.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマダイシングプロセスの制御方法であって、
複数の指定されたダイシングレーンを有する非金属基板を用意するステップと、 
前記ダイシングレーンに沿って前記基板をプラズマエッチングするステップと、
前記プラズマエッチング中に、前記基板の前記ダイシングレーンの少なくとも一部による赤外線放射の発光を監視して、前記ダイシングレーンによる赤外線放射による赤外線放射の増加を検出するステップと、
前記ダイシングレーンに沿った前記基板のシンギュレーションに先立ち、前記赤外線放射の増加が検出されると、前記プラズマダイシングプロセスの最終段階に関連する状態が存在すると判断するステップと、
を含む、方法。
【請求項２】
少なくとも１つのプロセス変数が、前記ダイシングレーンに沿った前記基板のシンギュレーションに先立ち、前記状態が存在するとの判断に応じて変更される、請求項１に記載の方法。 
【請求項３】
前記プロセス変数を変更して前記プラズマエッチングを調整する、請求項２に記載の方法。 
【請求項４】
前記プラズマエッチングを調整して前記基板のエッチング速度を減少させる、請求項３に記載の方法。 
【請求項５】
前記プロセス変数を変更して前記プラズマダイシングプロセスに関連する温度を制御する、請求項２に記載の方法。 
【請求項６】
前記状態が存在するとの判断に応じて前記プラズマエッチングを停止する、請求項２に記載の方法。 
【請求項７】
前記状態が前記プラズマダイシングプロセスの終点のアプローチである、請求項１に記載の方法。 
【請求項８】
前記状態が前記プラズマダイシングプロセスの終点である、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記終点は、前記監視した赤外線放射の発光から直接判断される、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記監視するステップが、前記赤外線放射の増加の検出後に、前記ダイシングレーンによる赤外線放射の発光による、赤外線放射の減少を検出して、前記プラズマダイシングプロセスの終点を直接判断することを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記プラズマダイシングプロセスの前記終点が、前記ダイシングレーンから発光した前記赤外線放射の増加の検出に基づいて事前に予測される、請求項１に記載の方法。 
【請求項１２】
前記終点が、前記検出された赤外線放射の増加を数値モデルと比較することによって予測される、請求項１１に記載の方法。 
【請求項１３】
前記基板がテープによりフレームに取り付けられる、請求項１に記載の方法。 
【請求項１４】
前記プラズマダイシングプロセスの終点に関連する状態が存在するとの前記判断に応答して少なくとも１つのプロセス変数を変更して前記テープの温度を制御する、請求項１３に記載の方法。 
【請求項１５】
前記基板が半導体基板である、請求項１に記載の方法。 
【請求項１６】
前記基板が、シリコン、ＧａＡｓ、ＧａＮ、ＩｎＰまたはＳｉＣである、請求項１５に記載の方法。 
【請求項１７】
前記プラズマエッチングプロセスが、周期的なエッチングと堆積のプロセスである、請求項１に記載の方法。 
【請求項１８】
前記方法が、前記基板から発光する赤外線放射を生成するための専用の放射源で基板を照射することなく実行されるとともに、監視されて前記プラズマダイシングプロセスを制御する、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
前記プラズマエッチングが、前記基板の第１の表面から対向する前記基板の第２の表面に向かって前記基板を通過して進行し、前記基板の前記第２の表面にテープが貼付され、赤外線放射の前記増加が検出されることで前記プラズマエッチングの実行中に前記テープが暴露される前に前記状態が存在すると判断され、前記状態が存在するとの前記判断に応答して、前記プラズマエッチングの実行中に前記テープが暴露する前に、少なくとも１つのプロセス変数が変更される、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
前記プラズマエッチングが、前記基板の第１の表面から対向する前記基板の第２の表面に向かって前記基板を通過して進行し、赤外線放射の前記増加が検出されることで前記プラズマエッチングの実行中に前記基板の前記第２の表面に到達する前に前記状態が存在すると判断され、前記状態が存在するとの前記判断に応答して、前記プラズマエッチングの実行中に前記基板の前記第２の表面に到達する前に、少なくとも１つのプロセス変数が変更される、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月18日(2020.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体が充填された液室および前記液室に連通した吐出口を有し、前記液室の中の液体を前記吐出口から吐出する吐出部と、前記吐出部に接続された流路と、前記流路を介して前記液室の圧力を制御する圧力制御部と、前記吐出部を第１方向に沿って移動させる移動機構と、を備え、
前記流路は、前記吐出部と前記圧力制御部とを接続する第１流路と、前記吐出部と前記圧力制御部とを接続する第２流路とを有し、前記第１流路と前記第２流路とは、前記第１方向における成分に関して互いに反対方向となる、前記圧力制御部に向かう第２方向を有する第１部分と前記圧力制御部に向かう第３方向を有する第２部分とをそれぞれ有する、ことを特徴とする液体吐出装置。
【請求項２】
前記流路は、前記吐出部および前記圧力制御部を通る循環路を構成する、
ことを特徴とする請求項１に記載の液体吐出装置。
【請求項３】
前記吐出部には第１共通接続部が設けられ、前記圧力制御部には第２共通接続部が設けられ、前記第１流路は、前記第１共通接続部と前記第２共通接続部とを接続する１つの経路を構成し、前記第２流路は、前記第１共通接続部と前記第２共通接続部とを接続する他の経路を構成する、
ことを特徴とする請求項１に記載の液体吐出装置。
【請求項４】
前記圧力制御部は、液体を収容するタンクを含み、前記吐出部は、前記吐出口から液体を下方に吐出するように構成され、前記液室の圧力は、前記タンクの中の液体の液面と前記吐出口の中の液体の液面との高低差によって制御される、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液体吐出装置。
【請求項５】
前記第１流路に配置されたポンプを備える、
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の液体吐出装置。
【請求項６】
前記第２流路に配置された弁を備える、
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の液体吐出装置。
【請求項７】
少なくとも前記移動機構が前記吐出部を移動させる速度が変化している期間は、前記弁が開放状態にされる、
ことを特徴とする請求項６に記載の液体吐出装置。
【請求項８】
前記吐出部は、分離部によって前記液室から仕切られた圧力制御室を有し、前記圧力制御部は、前記圧力制御室および前記流路に満たされた作動液を介して前記液室の圧力を制御する、
ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の液体吐出装置。
【請求項９】
前記圧力制御部は、前記流路を介して前記液室と連通している、
ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の液体吐出装置。
【請求項１０】
前記第２方向および前記第３方向は、前記第１方向に平行である、
ことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の液体吐出装置。
【請求項１１】
前記第１流路と前記第２流路とは、前記吐出部に対して前記第１流路から加えられる静圧と、前記吐出部に対して前記第２流路から加えられる静圧との差が許容範囲内に収まるように構成されている、
ことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の液体吐出装置。
【請求項１２】
液体が充填された液室および前記液室に連通した吐出口を有し、前記液室の中の液体を前記吐出口から吐出する吐出部と、前記吐出部に接続された流路と、前記流路を介して前記液室の圧力を制御する圧力制御部と、前記吐出部を第１方向に沿って移動させる移動機構と、を備え、
前記流路は、前記吐出部と前記圧力制御部とを接続する第１流路と、前記吐出部と前記圧力制御部とを接続する第２流路とを有し、前記第１流路と前記第２流路とは、前記吐出部に対して前記第１流路から加えられる静圧と、前記吐出部に対して前記第２流路から加えられる静圧との差が許容範囲内に収まるように構成されている、ことを特徴とする液体吐出装置。
【請求項１３】
基板の上にインプリント材を供給する供給部を有し、前記供給部によって前記基板の上に供給された前記インプリント材によりパターンを形成するインプリント装置であって、前記供給部として請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の液体吐出装置を備える、
ことを特徴とするインプリント装置。
【請求項１４】
請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の液体吐出装置を備えることを特徴とするプリンタ。
【請求項１５】
請求項１３に記載のインプリント装置により基板の上にパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年3月6日(2020.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上の酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上の第２の絶縁膜と、
前記第２の絶縁膜上のゲート電極と、を有し、
前記酸化物半導体膜は、第１の酸化物半導体膜と、前記第１の酸化物半導体膜上の第２の酸化物半導体膜と、前記第２の酸化物半導体膜上の第３の酸化物半導体膜と、を有し、
前記第１の酸化物半導体膜乃至前記第３の酸化物半導体膜は、それぞれ同じ元素を有し、
前記第２の酸化物半導体膜は、前記第１の酸化物半導体膜及び前記第３の酸化物半導体膜のいずれか一方または双方よりも結晶性が低い領域を有する、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
第１のゲート電極と、
前記第１のゲート電極上の第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上の酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上の第２の絶縁膜と、
前記第２の絶縁膜上の第２のゲート電極と、を有し、
前記酸化物半導体膜は、第１の酸化物半導体膜と、前記第１の酸化物半導体膜上の第２の酸化物半導体膜と、前記第２の酸化物半導体膜上の第３の酸化物半導体膜と、を有し、
前記第１の酸化物半導体膜乃至前記第３の酸化物半導体膜は、それぞれ同じ元素を有し、
前記第２の酸化物半導体膜は、前記第１の酸化物半導体膜及び前記第３の酸化物半導体膜のいずれか一方または双方よりも結晶性が低い領域を有する、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記第１の酸化物半導体膜乃至前記第３の酸化物半導体膜は、それぞれ独立に、Ｉｎと、Ｍ（ＭはＡｌ、Ｇａ、Ｙ、またはＳｎ）と、Ｚｎと、を有する、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項３において、
ＩｎとＭとＺｎとの原子数比は、Ｉｎ：Ｍ：Ｚｎ＝４：２：３またはその近傍であり、
Ｉｎが４の場合、Ｍが１．５以上２．５以下であり且つＺｎが２以上４以下である、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項３において、
ＩｎとＭとＺｎとの原子数比は、Ｉｎ：Ｍ：Ｚｎ＝５：１：６またはその近傍であり、
Ｉｎが５の場合、Ｍが０．５以上１．５以下であり且つＺｎが５以上７以下である、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
前記第２の酸化物半導体膜は、ＩｎａＭｂＺｎｃＯｄ（ＭはＡｌ、Ｇａ、Ｙ、またはＳｎを表し、ａ、ｂ、ｃ、及びｄは任意数を表す）を有する第１の領域と、ＩｎｘＺｎｙＯｚ（ｘ、ｙ、及びｚは任意数を表す）を有する第２の領域と、を有する複合酸化物半導体である、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項において、
前記第２の酸化物半導体膜は、前記第１の酸化物半導体膜及び前記第３の酸化物半導体膜のいずれか一方または双方よりも、膜厚が厚い、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一項において、
前記第１の酸化物半導体膜及び前記第３の酸化物半導体膜のいずれか一方または双方は、結晶部を有し、
前記結晶部は、ｃ軸配向性を有する、
ことを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月5日(2020.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技を行うことが可能な遊技機であって、
表示手段と、
前記表示手段において表示態様が段階的に変化する特定表示が、少なくとも特定段階の表示態様に変化したときに特定演出を実行可能な演出実行手段と、
を備え、
前記演出実行手段は、
前記特定表示の表示態様が前記特定段階よりも前の所定段階に変化したときに該所定段階の特定表示を使用する特別演出を実行可能であり、
前記所定段階において、前記特定演出とは異なる特段演出を実行可能であり、
前記特定表示は、前記特別演出の実行に使用された場合であっても前記特定段階に変化可能であり、
前記特定表示が前記特定段階まで変化する割合は、前記特別演出が実行された場合と実行されなかった場合とで異なる、
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
手段１の遊技機は、
遊技を行うことが可能な遊技機（例えば、パチンコ遊技機１）であって、
表示手段（例えば、画像表示装置５）と、
前記表示手段において表示態様が段階的に変化する特定表示が、少なくとも特定段階の表示態様に変化したとき（例えば、ゲージ２１９ＳＧ００５Ｇが４段階目まで更新されたとき）に特定演出（例えば、図８−２９に示すように、スーパーリーチγのリーチ演出）を実行可能な演出実行手段（例えば、演出制御用ＣＰＵ１２０が図７に示す演出制御プロセス処理を実行する部分）と、
を備え、
前記演出実行手段は、
前記特定表示の表示態様が前記特定段階よりも前の所定段階に変化したときに該所定段階の特定表示を使用する特別演出を実行可能であり（例えば、図８−２９に示すように、ゲージ２１９ＳＧ００５Ｇが３段階目まで更新されてから、該ゲージ２１９ＳＧ００５Ｇの３段階目が飾り図柄に作用する作用演出を実行可能な部分）、
前記演出実行手段は、前記所定段階において、前記特定演出とは異なる特段演出（例えば、スーパーリーチβのリーチ演出）を実行可能であり、
前記特定表示は、前記特別演出の実行に使用された場合であっても前記特定段階に変化可能であり（例えば、図８−２９に示すように、作用演出としてゲージ２１９ＳＧ００５Ｇの３段階目が飾り図柄に作用した後もゲージ２１９ＳＧ００５Ｇの４段階目の更新が実行される部分）、
前記特定表示が前記特定段階まで変化する割合は、前記特別演出が実行された場合と実行されなかった場合とで異なる（例えば、図８−１６に示すように、作用演出が実行されるか否かに応じて擬似連演出が４回実行される場合、すなわち、ゲージ２１９ＳＧ００５Ｇが４段階目まで更新される割合が異なる部分）、
ことを特徴としている。
この特徴によれば、特別演出の実行の有無に注目させることができるので、遊技興趣を向上できる。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月5日(2020.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技を行うことが可能な遊技機であって、
表示手段と、
前記表示手段において表示態様が段階的に変化する特定表示が、少なくとも特定段階の表示態様に変化したときに特定演出を実行可能な演出実行手段と、
を備え、
前記演出実行手段は、
前記特定表示の表示態様が前記特定段階よりも前の所定段階に変化したときに該所定段階の特定表示を使用する特別演出を実行可能であり、
前記特別演出の演出態様によって、前記特定段階まで変化する割合が異なり、
前記特定表示は、前記特別演出の実行に使用された場合であっても前記特定段階に変化可能であり、
前記特定表示は、前記特別演出に使用されたことを特定可能な表示態様に変化する、
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
手段１に記載の遊技機は、
遊技を行うことが可能な遊技機（例えば、パチンコ遊技機１）であって、
表示手段（例えば、画像表示装置５）と、
前記表示手段において表示態様が段階的に変化する特定表示が、少なくとも特定段階の表示態様に変化したとき（例えば、ゲージ２１９ＳＧ００５Ｇが４段階目まで更新されたとき）に特定演出（例えば、図８−２９に示すように、スーパーリーチγのリーチ演出）を実行可能な演出実行手段（例えば、演出制御用ＣＰＵ１２０が図７に示す演出制御プロセス処理を実行する部分）と、
を備え、
前記演出実行手段は、
前記特定表示の表示態様が前記特定段階よりも前の所定段階に変化したときに該所定段階の特定表示を使用する特別演出を実行可能であり（例えば、図８−２９に示すように、ゲージ２１９ＳＧ００５Ｇが３段階目まで更新されてから、該ゲージ２１９ＳＧ００５Ｇの３段階目が飾り図柄に作用する作用演出を実行可能な部分）、
前記特別演出の演出態様によって、前記特定段階まで変化する割合が異なり（例えば、変形例２１９ＳＧ−４として図８−４１に示すように、ゲージ２１９ＳＧ００５Ｇが１段目から４段目に向けて更新される場合は必ずしもゲージ２１９ＳＧ００５Ｇが４段階全て更新されない一方で、ゲージ２１９ＳＧ００５Ｇが４段階目から１段階目に向けて更新される場合は、必ずゲージ２１９ＳＧ００５Ｇが４段階全て更新される部分）、
前記特定表示は、前記特別演出の実行に使用された場合であっても前記特定段階に変化可能であり（例えば、図８−２９に示すように、作用演出としてゲージ２１９ＳＧ００５Ｇの３段階目が飾り図柄に作用した後もゲージ２１９ＳＧ００５Ｇの４段階目の更新が実行される部分）、
前記特定表示は、前記特別演出に使用されたことを特定可能な表示態様に変化する（例えば、図８−２９に示すように、ゲージ２１９ＳＧ００５Ｇのうち、飾り図柄に作用した箇所が作用済態様に更新される部分）、
ことを特徴としている。
この特徴によれば、特定表示が、特別演出に使用されたか否かを把握できるようになるので、遊技興趣を向上できる。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月5日(2020.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可変表示を行う遊技が可能な遊技機であって、
表示手段と、
１の可変表示において可変表示を仮停止した後に再度可変表示を実行する特殊演出を所定回実行可能であるとともに、前記表示手段において前記特殊演出の実行を示唆する特定表示を使用する特別演出を実行可能な演出実行手段と、
を備え、
前記演出実行手段は、前記特殊演出として、第１特殊演出と、該第１特殊演出とは演出態様が異なる第２特殊演出と、を実行可能であり、
１の可変表示において前記第２特殊演出が実行される回数は、１の可変表示において前記第１特殊演出が実行される回数よりも多い回数にて実行される割合が高く、
前記特別演出が前記第１特殊演出に関連して実行される割合は、前記第２特殊演出に関連して実行される割合よりも高く、
前記第１特殊演出と前記第２特殊演出のいずれを実行した場合であっても、同一の特定演出を実行可能である、
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
手段１の遊技機は、
可変表示を行う遊技が可能な遊技機（例えば、パチンコ遊技機１）であって、
表示手段（例えば、画像表示装置５）と、
１の可変表示において可変表示を仮停止した後に再度可変表示を実行する特殊演出（例えば、擬似連演出）を所定回実行可能であるとともに、前記表示手段において前記特殊演出の実行を示唆する特定表示（例えば、ゲージ２１９ＳＧ００５Ｇ）を使用する特別演出（例えば、作用演出）を実行可能な演出実行手段（例えば、演出制御用ＣＰＵ１２０が図７に示す演出制御プロセス処理を実行する部分）と、
を備え、
前記演出実行手段は、前記特殊演出として、第１特殊演出（例えば、画像表示装置５に第１背景画像２１９ＳＧ００５Ｘが表示されている状態での擬似連演出）と、該第１特殊演出とは演出態様が異なる第２特殊演出（例えば、画像表示装置５に第２背景画像２１９ＳＧ００５Ｙが表示されている状態での擬似連演出）と、を実行可能であり、
１の可変表示において前記第２特殊演出が実行される回数は、１の可変表示において前記第１特殊演出が実行される回数よりも多い回数にて実行される割合が高く（例えば、図８−５及び図８−１３に示すように、可変表示中における擬似連演出の実行回数が多い場合は可変表示中における擬似連演出の実行回数が少ない場合よりも可変表示結果が大当りとなる割合が高いので、画像表示装置５に第２背景画像２１９ＳＧ００５Ｙが表示されている場合は、画像表示装置５に第１背景画像２１９ＳＧ００５Ｘが表示されている場合よりも高い割合で擬似連演出が多い回数実行される部分）、
前記特別演出が前記第１特殊演出に関連して実行される割合は、前記第２特殊演出に関連して実行される割合よりも高く（例えば、図８−１６（Ｃ）に示すように、画像表示装置５に第１背景画像２１９ＳＧ００５Ｘが表示されている場合は、画像表示装置５に第２背景画像２１９ＳＧ００５Ｙが表示されている場合よりも高い割合で作用演出が実行される部分）、
前記第１特殊演出と前記第２特殊演出のいずれを実行した場合であっても、同一の特定演出を実行可能である（例えば、図８−２９及び図８−３１に示すように、画像表示装置５に第１背景画像２１９ＳＧ００５Ｘが表示されている状態で擬似連演出が実行される場合と画像表示装置５に第２背景画像２１９ＳＧ００５Ｙが表示されている状態で擬似連演出が実行される場合とで、スーパーリーチのリーチ演出が実行される場合がある部分）、
この特徴によれば、１の可変表示において実行される回数が第２特殊演出よりも少ない第１特殊演出に関連して特別演出が実行される割合が高くなるので、特別演出により効果的に遊技興趣を向上できる。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月5日(2020.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可変表示を行う遊技が可能な遊技機であって、
表示手段と、
１の可変表示において可変表示を仮停止した後に再度可変表示を実行する特殊演出を所定回実行可能であるとともに、前記表示手段において前記特殊演出の実行を示唆する特定表示を使用する特別演出を実行可能な演出実行手段と、
を備え、
前記演出実行手段は、前記特殊演出として、第１特殊演出と、該第１特殊演出とは演出態様が異なる第２特殊演出と、を実行可能であり、
１の可変表示において前記第２特殊演出が実行される回数は、１の可変表示において前記第１特殊演出が実行される回数よりも多い回数にて実行される割合が高く、
前記特定表示は、段階的に変化可能であり、
前記特定表示が特定段階に変化したときに特定演出を実行可能であり、
前記特定表示が変化する割合は、前記特殊演出が前記第１特殊演出であるか前記第２特殊演出であるかに応じて異なる、
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
手段１の遊技機は、
可変表示を行う遊技が可能な遊技機（例えば、パチンコ遊技機１）であって、
表示手段（例えば、画像表示装置５）と、
１の可変表示において可変表示を仮停止した後に再度可変表示を実行する特殊演出（例えば、擬似連演出）を所定回実行可能であるとともに、前記表示手段において前記特殊演出の実行を示唆する特定表示（例えば、ゲージ２１９ＳＧ００５Ｇ）を使用する特別演出を実行可能な演出実行手段（例えば、演出制御用ＣＰＵ１２０が図７に示す演出制御プロセス処理を実行する部分）と、
を備え、
前記演出実行手段は、前記特殊演出として、第１特殊演出（例えば、画像表示装置５に第１背景画像２１９ＳＧ００５Ｘが表示されている状態での擬似連演出）と、該第１特殊演出とは演出態様が異なる第２特殊演出（例えば、画像表示装置５に第２背景画像２１９ＳＧ００５Ｙが表示されている状態での擬似連演出）と、を実行可能であり、
１の可変表示において前記第２特殊演出が実行される回数は、１の可変表示において前記第１特殊演出が実行される回数よりも多い回数にて実行される割合が高く例えば、図８−５及び図８−１３に示すように、可変表示中における擬似連演出の実行回数が多い場合は可変表示中における擬似連演出の実行回数が少ない場合よりも可変表示結果が大当りとなる割合が高いので、画像表示装置５に第２背景画像２１９ＳＧ００５Ｙが表示されている場合は、画像表示装置５に第１背景画像２１９ＳＧ００５Ｘが表示されている場合よりも高い割合で擬似連演出が多い回数実行される部分）、
前記特定表示は、段階的に変化可能であり（例えば、図８-２８及び図８−２９に示すように、ゲージ２１９ＳＧ００５Ｇは１段階目から４段階目にかけて更新可能な部分）、
前記特定表示が特定段階に変化したときに特定演出を実行可能であり、（例えば、図８−２９に示すように、ゲージ２１９ＳＧ００５Ｇが４段階目まで更新されたことにもとづいてスーパーリーチγのリーチ演出を実行可能な部分）、
前記特定表示が変化する割合は、前記特殊演出が前記第１特殊演出であるか前記第２特殊演出であるかに応じて異なる（例えば、図８−２９及び図８−３１に示すように画像表示装置５に第１背景画像２１９ＳＧ００５Ｘが表示されている状態で擬似連演出が実行される場合はゲージ２１９ＳＧ００５Ｇの更新が実行される一方で、画像表示装置５に第２背景画像２１９ＳＧ００５Ｙが表示されている状態で擬似連演出が実行される場合はゲージ２１９ＳＧ００５Ｇの更新が実行されない部分）、
ことを特徴としている。
この特徴によれば、特定表示の変化の有無によって、第１特殊演出および第２特殊演出のいずれが実行されるが示唆されるため、特定表示への注目を高めることができるので、遊技興趣を向上できる。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月5日(2020.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒトリンパ球を含む組成物であって、該ヒトリンパ球が、ヒトリンパ球の表面にキメラ抗原受容体タンパク質を含み、ここでキメラ抗原受容体タンパク質が、ヒト上皮成長因子受容体（EGFR）の２８７〜３０２番目のアミノ酸エピトープに結合する細胞外結合領域を含む、前記組成物。
【請求項２】
キメラ抗原受容体タンパク質が、膜貫通領域および細胞内シグナル領域をさらに含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
細胞外結合領域、膜貫通領域および細胞内シグナル領域が、順に連結されている、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
膜貫通領域が、CD8またはCD28の膜貫通領域およびヒンジ領域の配列を含む、請求項２または３に記載の組成物。
【請求項５】
細胞内シグナル領域が、CD3ζ、FcεRIγ、CD28、CD137、CD134の細胞内シグナル領域の配列、およびこれらの組み合わせから選ばれる、請求項２〜４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】
キメラ抗原受容体タンパク質が、配列番号３１〜３４のいずれか１つの配列に対して少なくとも９５％の配列相同性を有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項７】
細胞外結合領域が、配列番号３１〜３４のいずれかのアミノ酸１〜２４０に対して少なくとも９５％の配列相同性を有する一本鎖抗体scFvを含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項８】
キメラ抗原受容体タンパク質が、
scFv(EGFR)-CD8-CD3ζ、
scFv(EGFR)-CD8-CD137-CD3ζ、
scFv(EGFR)-CD28-CD28-CD3ζ、
scFv(EGFR)-CD28-CD28-CD137-CD3ζ
または、これらの組み合わせのいずれか１つであり、ここで、前記キメラ抗原受容体タンパク質における1番目のCD28はその膜貫通領域を、2番目のCD28はその細胞内シグナル領域を表す、請求項１〜７のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項９】
組成物が、癌の処置に用いるためである、請求項１〜８のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１０】
処置が、EGFRvIIIの発現またはEGFRの高度発現を伴う上皮由来の癌性腫瘍の処置を含む、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
癌が、非小細胞肺癌、膀胱癌、卵巣癌、乳癌、頭頚部扁平上皮癌、膠細胞腫、膵臓腺癌、食道癌、胃癌、前立腺癌、結腸癌、またはこれらの組み合わせを含む、請求項９または１０に記載の組成物。
【請求項１２】
癌が、膵臓腺癌である、請求項９〜１１のいずれか一項に記載の組成物。