Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月6日(2020.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アドレス帳を記憶する記憶手段と、
ユーザから受け付けた１回の読取指示に基づいて、少なくとも第１の名刺と第２の名刺を読み取る読取手段と、
前記第１の名刺を前記読取手段によって読み取ることによって生成された第１の画像データから第１の宛先情報を取得し、前記第２の名刺を前記読取手段によって読み取ることによって生成された第２の画像データを取得する取得手段と、
前記取得手段によって取得された少なくとも前記第１の宛先情報と前記第２の宛先情報を前記アドレス帳に登録する登録手段と、
を有することを特徴とする画像読取装置。
【請求項２】
少なくとも前記第１の宛先情報と前記第２の宛先情報を１つの宛先グループとして前記アドレス帳に登録することを特徴とする請求項１に記載の画像読取装置。
【請求項３】
少なくとも前記第１の宛先情報と前記第２の宛先情報を同報送信の宛先情報として設定可能な設定手段をさらに有することを特徴とする請求項１または２に記載の画像読取装置。
【請求項４】
少なくとも前記第１の宛先情報と前記第２の宛先情報を表示する表示手段をさらに有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像読取装置。
【請求項５】
少なくとも前記第１の名刺と前記第２の名刺を読み取ることによって生成された画像データに対してエッジ検出を実行することによって前記第１の画像データと前記第２の画像データを取得することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の画像読取装置。
【請求項６】
前記第１の宛先情報及び前記第２の宛先情報は電子メールアドレスであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像読取装置。
【請求項７】
前記第１の宛先情報及び前記第２の宛先情報はファクス番号であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像読取装置。
【請求項８】
前記第１の宛先情報は電子メールアドレスであり、前記第２の宛先情報はファクス番号であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像読取装置。
【請求項９】
少なくとも前記第１の宛先情報及び前記第２の宛先情報から登録すべき宛先情報を選択する選択手段をさらに有することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の画像読取装置。
【請求項１０】
アドレス帳を記憶する記憶手段を有する画像読取装置の制御方法であって、
ユーザから受け付けた１回の読取指示に基づいて、少なくとも第１の名刺と第２の名刺を読み取る読取工程と、
前記第１の名刺を前記読取工程で読み取ることによって生成された第１の画像データから第１の宛先情報を取得し、前記第２の名刺を前記読取工程で読み取ることによって生成された第２の画像データを取得する取得工程と、
前記取得工程で取得された少なくとも前記第１の宛先情報と前記第２の宛先情報を前記アドレス帳に登録する登録工程と、
を有することを特徴とする画像読取装置の制御方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載された画像読取装置の制御方法を、コンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像読取装置、画像読取装置の制御方法、及びプログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、画像読取装置、画像読取装置の制御方法、及びプログラムに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の画像読取装置は、このような課題に鑑み、１回の読取指示で、複数の名刺を読み取ることによって生成された画像データから取得された複数の宛先情報をアドレス帳に登録する仕組みを提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、アドレス帳を記憶する記憶手段と、ユーザから受け付けた１回の読取指示に基づいて、少なくとも第１の名刺と第２の名刺を読み取る読取手段と、前記第１の名刺を前記読取手段によって読み取ることによって生成された第１の画像データから第１の宛先情報を取得し、前記第２の名刺を前記読取手段によって読み取ることによって生成された第２の画像データを取得する取得手段と、
前記取得手段によって取得された少なくとも前記第１の宛先情報と前記第２の宛先情報を前記アドレス帳に登録する登録手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明によれば、１回の読取指示で、複数の名刺を読み取ることによって生成された画像データから取得された複数の宛先情報をアドレス帳に登録することができる。
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月11日(2020.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の部材の第一の面に、少なくとも金属ナノ粒子と溶剤から構成されるナノ金属ペースト及び、スペーサーを供給するペースト供給工程と、
第二の部材を、前記第一の面に対向し、前記スペーサーに突き当てるように搭載する搭載工程と、
前記ナノ金属ペースト中の溶剤が蒸発する温度以下で、かつ、前記スペーサーを溶融又は分解させる第１加熱工程と、
前記ナノ金属ペースト中の溶剤が蒸発する温度で加熱する第２加熱工程と、
前記金属ナノ粒子が焼結する温度で第３加熱する工程と
を有する接合方法。
【請求項２】
前記スペーサーが、半田である請求項１記載の接合方法。
【請求項３】
前記半田の中に、Ｂｉ、又は、Ｉｎのいずれかが含まれている請求項２記載の接合方法。
【請求項４】
前記スペーサーの形状が、球状、柱状、ワイヤー状、又は箔状である請求項１〜３のいずれかに記載の接合方法。
【請求項５】
前記ペースト供給工程で、前記ナノ金属ペースト内に、前記スペーサーが予め混合された状態で、前記第一の部材の第一の面に供給される請求項１〜４のいずれかに記載の接合方法。
【請求項６】
金属ナノ粒子と溶剤を含むナノ金属ペースト中に、前記溶剤の沸点よりも低温で溶融又は分解するスペーサーが混入された接合材料。
【請求項７】
前記スペーサーが、半田である請求項６記載の接合材料。
【請求項８】
前記半田は、Ｂｉ、又は、Ｉｎのいずれかを含む請求項７記載の接合材料。
【請求項９】
第一の部材と、
前記第一の部材と対向し、接合層を介して接合された第二の部材と、を有し、
前記接合層は、金属材料と半田材料とを含み、
前記金属材料の一部の領域が孔質状態であって、前記孔質状態の金属材料の孔内の一部に前記半田材料が位置する接合体。
【請求項１０】
第一の部材と、
前記第一の部材と対向し、接合層を介して接合された第二の部材と、を有し、
前記接合層は、金属材料と半田材料とを含み、
前記接合層の一部領域に、前記金属材料と前記半田材料との合金が位置する接合体。
【請求項１１】
第一の部材と、
前記第一の部材と対向し、接合層を介して接合された第二の部材と、を有し、
前記接合層は、金属材料と半田材料とを含み、
前記金属材料の一部の領域が孔質状態であって、前記孔質状の金属材料の孔内の一部に前記半田材料が位置し、別の孔内の一部に、前記金属材料と前記半田材料との合金が位置する接合体。
【請求項１２】
前記合金の融点が、前記半田材料の溶融の融点よりも高い請求項１０または１１記載の接合体。
【請求項１３】
前記半田材料の中に、Ｂｉ、又は、Ｉｎのいずれかが含まれている請求項９〜１２のいずれか１項に記載の接合体。
【請求項１４】
前記金属材料がＡｇであり、前記合金が、少なくとも、ＡｇとＢｉ、又はＡｇとＩｎを含む請求項１０〜１３のいずれか１項に記載の接合体。
【手続補正書】
【提出日】令和2年8月26日(2020.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
他の態様においては支持アセンブリの組立方法が提供される。方法は、準備する工程と、形成する工程と、固定配置する工程とを含む。準備する工程では、静電チャックと、フォーカスリングと、静電チャックを支持するチャック支持面、及び、チャック支持面を囲むように形成され、フォーカスリングを支持するリング支持面を有する下部電極と、少なくとも１つの導電部材と、少なくとも１つの導電部材を囲む絶縁部材と、が準備される。形成する工程では、リング支持面上にコンタクト電極が形成される。固定配置する工程では、コンタクト電極、少なくとも１つの導電部材、及び、フォーカスリングが電気的に接続されるように、リング支持面上に絶縁部材を介してフォーカスリングが固定配置される。この方法によれば、上述した支持アセンブリを組み立てることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
プラズマ処理装置１０は、高周波電源６１を更に備えている。高周波電源６１は、プラズマ生成用の高周波を発生する電源である。高周波は、２７〜１００ＭＨｚの範囲内の周波数、例えば６０ＭＨｚの周波数を有する。高周波電源６１は、整合器６５及び電極プレート２１を介して、下部電極１８に接続される。整合器６５は、高周波電源６１の出力インピーダンスと負荷側（下部電極１８側）のインピーダンスを整合させる。なお、高周波電源６１は、整合器６５を介して上部電極３０に接続されていてもよい。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月7日(2020.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
前記第２センサは、前記第１方向から前記ワークの中心側に傾いた方向に対して前記第２センサの取り付け位置から延びる上腕及び下腕を有し、前記上腕及び前記下腕の一方に前記発光素子が、他方に前記受光素子が設けられ、全体としてコの字型の断面を有し、
前記上腕及び前記下腕は前記ワークの中心に向けて延びている、請求項４に記載のロボット。
【手続補正書】
【提出日】令和2年8月28日(2020.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
他の態様によれば、真空雰囲気の処理空間にて被処理体に処理を施す処理容器の排気空間において、被処理体よりも外周側に同軸的に配置され、少なくとも一方は回転可能な第１の翼部材と第２の翼部材とを有する排気機構と、前記排気空間に連通し、前記排気機構の下流側にて前記処理容器内の排気を行う排気部とを有する、排気装置を備える処理装置が提供される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
制御部５０は、設定圧力よりも高い圧力の処理室がないと判定した場合、ステップＳ１６に進む。一方、制御部５０は、設定圧力よりも高い圧力の処理室があると判定した場合、設定圧力と当該処理室の圧力との差圧に応じて動翼３０の回転数を制御し、当該処理室の動翼３０の回転を速くする（ステップＳ１４）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
次に、制御部５０は、設定圧力よりも低い圧力の処理室があるかを判定する（ステップＳ１６）。制御部５０は、設定圧力よりも低い圧力の処理室がないと判定した場合、本処理を終了する。一方、制御部５０は、設定圧力よりも低い圧力の処理室があると判定した場合、設定圧力と当該処理室の圧力との差圧に応じて動翼３０の回転数を制御し、当該処理室の動翼３０の回転を遅くし（ステップＳ１８）、本処理を終了する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2019102680.tif 000001
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2019102680.tif 000002
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2019102680.tif 000003
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
2019102680.tif 000004
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
2019102680.tif 000005
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月20日(2019.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】一体型円形防爆弁成形用の電池蓋用アルミニウム合金板及びその製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｆｅ：１．０５〜１．５０質量％、Ｍｎ：０．３０〜０．７０質量％、Ｔｉ：０．００２〜０．０８質量％、及びＢ：０．０３質量％未満を含有し、残部がＡｌ及び不純物からなり、Ｆｅ／Ｍｎ比が１．８〜３．５に規制され、不純物としてのＳｉが０．２０質量％未満、Ｃｕが０．０３質量％未満、Ｍｇが０．０５質量％未満、Ｖが０．０３質量％未満に規制された成分組成を有し、導電率５３．０％ＩＡＣＳ以上であり、０．２％耐力が４０ＭＰａ以上であり、伸びの値が４０％以上であり、再結晶組織を有するとともに、圧下率９０％で冷間圧延を施した後の伸びの値が５．０％以上であることを特徴とする、一体型円形防爆弁成形用の電池蓋用アルミニウム合金板。
【請求項２】
再結晶組織の再結晶粒の平均結晶粒径が１５〜３０μｍであることを特徴とする請求項１に記載の一体型円形防爆弁成形用の電池蓋用アルミニウム合金板。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の一体型円形防爆弁成形用の電池蓋用アルミニウム合金板を製造する製造方法であって、
請求項１に記載の成分組成を有するアルミニウム合金溶湯を半連続鋳造法によって鋳塊に鋳造するスラブ鋳造工程と、
鋳塊に５２０〜６２０℃の保持温度、１時間以上の保持時間で均質化処理を施す均質化処理工程と、
前記均質化処理工程後、開始温度４２０〜５２０℃未満に設定して、鋳塊に熱間圧延を施して熱間圧延板を得る熱間圧延工程と、
前記熱間圧延板に冷間圧延を施して冷間圧延板を得る冷間圧延工程と、
前記冷間圧延板にバッチ炉にて最終焼鈍を施す最終焼鈍工程と、を含み、
前記冷間圧延工程において、最終冷延率５０％〜９５％の範囲である最終冷間圧延を施し、
前記最終焼鈍工程において、保持温度３００〜４５０℃で１時間以上の最終焼鈍を行うことを特徴とする、一体型円形防爆弁成形用の電池蓋用アルミニウム合金板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年8月17日(2020.8.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物品の構造解析のシミュレーションを行う条件を前記物品に対応する第１の設計データと関連付けて設定し、
前記物品の設計変更に対応して前記第１の設計データが更新された場合、前記第１の設計データと更新後の第２の設計データのそれぞれにおける座標情報に基づいて、前記第１の設計データと前記第２の設計データのそれぞれに含まれる領域の対応関係を特定し、
特定した前記対応関係に基づいて前記第２の設計データに前記条件を関連付けて設定して、設計変更された前記物品の構造解析のシミュレーションを実行する、
処理をコンピュータに実行させることを特徴とする構造解析シミュレーションプログラム。
【請求項２】
前記条件が、前記第１の設計データに含まれる第１の領域に設定されたとき、
前記第２の設計データから、前記第１の領域を表す第１の座標情報と一致する第２の座標情報で表される第２の領域を特定することで、前記対応関係を特定する、
処理を前記コンピュータに実行させることを特徴とする請求項１に記載の構造解析シミュレーションプログラム。
【請求項３】
前記条件が、前記第１の設計データに含まれる第１の領域に設定されたとき、
前記第２の設計データから前記第１の領域を表す第１の座標情報に基づいて、前記第２の設計データから、前記第１の領域と類似する第３の領域を特定し、
特定した前記第３の領域を表示装置に表示させ、
前記第３の領域に前記条件を設定することを指示する指示信号を受けた場合に、前記第３の領域に前記条件を設定する、
処理を前記コンピュータに実行させることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の構造解析シミュレーションプログラム。
【請求項４】
前記第１の座標情報と前記第３の領域を表す第３の座標情報とに基づいて、前記第１の領域と前記第３の領域との一致の度合いを示す値を算出し、
前記第３の領域を前記表示装置に表示させる際、前記値を前記表示装置に表示させる、
処理を前記コンピュータに実行させることを特徴とする請求項３に記載の構造解析シミュレーションプログラム。
【請求項５】
前記第２の設計データに、前記第１の領域に含まれる第１の要素を表す第４の座標情報と一致する第５の座標情報で表される第２の要素を含む第４の領域と、前記第１の領域に含まれる第３の要素を表す第６の座標情報と一致する第７の座標情報で表される第４の要素を含む第５の領域とがあり、前記第４の領域の第５の要素を表す第８の座標情報と一致する第９の座標情報で表される第６の要素を前記第５の領域が含む場合、
前記第４の領域と前記第５の領域とを含むグループの長さまたは大きさと、前記第１の領域の長さまたは大きさとの比較結果に基づいて、前記グループを前記第３の領域として特定するか否かを決定する、
処理を前記コンピュータに実行させることを特徴とする請求項３または４に記載の構造解析シミュレーションプログラム。
【請求項６】
前記条件が、前記第１の設計データに含まれる第６の領域と第７の領域に設定されたとき、
前記第２の設計データに、前記第６の領域に含まれる第７の要素を表す第１０の座標情報と一致する第１１の座標情報で表される第８の要素と、前記第７の領域に含まれる第９の要素を表す第１２の座標情報で表される第１０の要素とを含む第８の領域があり、前記第６の領域の第１１の要素を表す第１３の座標情報と一致する第１４の座標情報で表される第１２の要素を前記第７の領域が含む場合、
前記第６の領域と前記第７の領域とを含むグループの長さまたは大きさと、前記第８の領域の長さまたは大きさとの比較結果に基づいて、前記第８の領域を前記第３の領域として特定するか否かを決定する、
処理を前記コンピュータに実行させることを特徴とする請求項３または４に記載の構造解析シミュレーションプログラム。
【請求項７】
前記第２の設計データから、前記第２の領域のほかに、前記第１の座標情報と一致する第１５の座標情報で表される第９の領域が特定された場合、
前記第２の領域と前記第９の領域のうち、前記第１の領域が含まれる第１０の領域を表す第１６の座標情報と一致する第１７の座標情報で表される第１１の領域に含まれる方を、前記第１の領域に対応する領域として決定する、
処理を前記コンピュータに実行させることを特徴とする請求項２乃至６の何れか一項に記載の構造解析シミュレーションプログラム。
【請求項８】
コンピュータが実行する構造解析シミュレーション方法であって、
物品の構造解析のシミュレーションを行う条件を前記物品に対応する第１の設計データと関連付けて設定し、
前記物品の設計変更に対応して前記第１の設計データが更新された場合、前記第１の設計データと更新後の第２の設計データのそれぞれにおける座標情報に基づいて、前記第１の設計データと前記第２の設計データのそれぞれに含まれる領域の対応関係を特定し、
特定した前記対応関係に基づいて前記第２の設計データに前記条件を関連付けて設定して、設計変更された前記物品の構造解析のシミュレーションを実行する、
ことを特徴とする構造解析シミュレーション方法。
【請求項９】
物品に対応する第１の設計データを記憶する記憶部と、
前記物品の構造解析のシミュレーションを行う条件を前記第１の設計データと関連付けて設定し、
前記物品の設計変更に対応して前記第１の設計データが更新された場合、前記第１の設計データと更新後の第２の設計データのそれぞれにおける座標情報に基づいて、前記第１の設計データと前記第２の設計データのそれぞれに含まれる領域の対応関係を特定し、
特定した前記対応関係に基づいて前記第２の設計データに前記条件を関連付けて設定して、設計変更された前記物品の構造解析のシミュレーションを実行する処理部と、
を有することを特徴とする情報処理装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年8月26日(2020.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）
ＫａＭｂ（ＳＯ４）ｃＦｄ      （１）
（式（１）中、Ｍは、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｖ及びＮｉからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属を示し、０．５≦ａ≦３、０．５≦ｂ≦３、０．５≦ｃ≦４、０≦ｄ≦２であり、ｄ＝０の場合はＦを有していないことを意味する）
で表される化合物を含む、カリウムイオン二次電池用正極活物質。
【請求項２】
前記一般式（１）において、
１．５≦ａ≦２．５、
１．５≦ｂ≦２．５、
ｃ＝３、及び、
ｄ＝０である、請求項１に記載のカリウムイオン二次電池用正極活物質。
【請求項３】
前記一般式（１）において、
０．５≦ａ≦１．５、
０．５≦ｂ≦１．５、
ｃ＝２、及び、
ｄ＝０である、請求項１に記載のカリウムイオン二次電池用正極活物質。
【請求項４】
前記一般式（１）において、
１．５≦ａ≦２．５、
０．５≦ｂ≦１．５、
ｃ＝２、及び、
ｄ＝０である、請求項１に記載のカリウムイオン二次電池用正極活物質。
【請求項５】
前記一般式（１）において、
０．５≦ａ≦１．５、
０．５≦ｂ≦１．５、
ｃ＝１、及び、
０．５≦ｄ≦１．５である、請求項１に記載のカリウムイオン二次電池用正極活物質。
【請求項６】
下記一般式（２）
ＫａＭｂＯ（ＳＯ４）ｃ      （２）
（式（２）中、Ｍは、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｖ及びＮｉからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属を示し、１．５≦ａ≦２．５、２．５≦ｂ≦３．５、２．５≦ｃ≦３．５である）
で表される化合物を含む、カリウムイオン二次電池用正極活物質。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の正極活物質を構成要素とする二次電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
すなわち、本発明は、例えば、以下の項に記載の主題を包含する。
項１
下記一般式（１）
ＫａＭｂ（ＳＯ４）ｃＦｄ      （１）
（式（１）中、Ｍは、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｖ及びＮｉからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属を示し、０．５≦ａ≦３、０．５≦ｂ≦３、０．５≦ｃ≦４、０≦ｄ≦２であり、ｄ＝０の場合はＦを有していないことを意味する）
で表される化合物を含む、カリウムイオン二次電池用正極活物質。
項２
前記一般式（１）において、
１．５≦ａ≦２．５、
１．５≦ｂ≦２．５、
ｃ＝３、及び、
ｄ＝０である、項１に記載のカリウムイオン二次電池用正極活物質。
項３
前記一般式（１）において、
０．５≦ａ≦１．５、
０．５≦ｂ≦１．５、
ｃ＝２、及び、
ｄ＝０である、項１に記載のカリウムイオン二次電池用正極活物質。
項４
前記一般式（１）において、
１．５≦ａ≦２．５、
０．５≦ｂ≦１．５、
ｃ＝２、及び、
ｄ＝０である、項１に記載のカリウムイオン二次電池用正極活物質。
項５
前記一般式（１）において、
０．５≦ａ≦１．５、
０．５≦ｂ≦１．５、
ｃ＝１、及び、
０．５≦ｄ≦１．５である、項１に記載のカリウムイオン二次電池用正極活物質。
項６
下記一般式（２）
ＫａＭｂＯ（ＳＯ４）ｃ      （２）
（式（２）中、Ｍは、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｖ及びＮｉからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属を示し、１．５≦ａ≦２．５、２．５≦ｂ≦３．５、２．５≦ｃ≦３．５である）
で表される化合物を含む、カリウムイオン二次電池用正極活物質。
項７
項１〜６のいずれか１項に記載の正極活物質を構成要素とする二次電池。
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月4日(2020.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
即ち、スプール３１から巻解かれて枢支部材２３ｄを貫通した線材３２は第一転向プーリ６２により転向して芯線１３側に向かい、第三転向プーリ１０３において補助プーリ１０２側に更に転向する。第三プーリ１０２において転向した線材３２は補助プーリ１０２に掛け回されて折り返され、速度検出用プーリ１０４に向かい、その速度検出用プーリ１０４に掛け回された後に軸部材１１のノズル１１ｂに向かうことになる。
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月23日(2020.9.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
壁面に取り付けられる長手形状の器具本体と、前記器具本体の内部に収容された光源ユニットとを備える照明器具であって、
前記器具本体は、
前記壁面に対向するように配置される背面部と前記背面部に対向する正面部とを有するとともに、前記背面部が前記正面部に向かって倒れる状態の傾斜状態に傾斜している開口を有し、
前記光源ユニットは、
前記開口を塞ぐように配置された透光性のカバー部を有する照明器具。
【請求項２】
前記光源ユニットは、
前記開口を介して前記器具本体の前記内部から前記器具本体の外部へ外し可能であり、前記開口を介して前記器具本体の前記外部から前記内部へ取り付け可能である請求項１に記載の照明器具。
【請求項３】
前記光源ユニットは、
発光素子が配置され前記カバー部と対向するように前記器具本体の内部に収容された基板を有する請求項１または請求項２に記載の照明器具。
【請求項４】
前記カバー部は、不燃材を用いて形成されている請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の照明器具。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月15日(2020.7.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の端子を備えたウエハレベルチップサイズパッケージ型の半導体パッケージであって、
平面視で細長い矩形形状を有し、
前記複数の端子のうちの三つの端子は、前記長手方向における位置が中央となる端子の重心と他の二つの端子それぞれの重心とを結ぶ二つの線分どうしがなす角度が６０°以上であり、当該半導体パッケージの幅Ｌ１と、全ての前記複数の端子のうちの当該半導体パッケージの幅方向最右端に配置される端子の最右端の位置及び幅方向最左端に配置される端子の最左端の位置間の距離Ｌｔとが、Ｌｔ／Ｌ１≧０．５を満足し、
さらに、全ての前記複数の端子は、当該半導体パッケージの幅方向の中央を通る線分に対して、全ての前記複数の端子のうちの一部が一方の側に位置し、且つ、全ての前記複数の端子のうちの残りの端子が他方の側に位置するように、前記線分から離れて配置されている半導体パッケージ。
【請求項２】
前記端子は、当該半導体パッケージの長手方向に沿って千鳥状に配置され、且つ幅方向には二列のみが配置されている請求項１に記載の半導体パッケージ。
【請求項３】
アスペクト比が２以上４以下であり、短辺が０．３５ｍｍ以上０．８ｍｍ以下であって、さらに、前記端子の幅は０．１５ｍｍ以上０．３ｍｍ以下である請求項１または請求項２に記載の半導体パッケージ。
【請求項４】
前記端子として四個以上十個以下の端子を備える請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の半導体パッケージ。
【請求項５】
センサを含む請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の半導体パッケージ。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の半導体パッケージを複数備え、
当該半導体パッケージが、平面視でカメラのレンズ位置を調整する調整機構の周囲に沿うように配置され、且つ前記半導体パッケージの長手方向が互いに直交するように配置されたカメラモジュール。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明の一態様に係る半導体パッケージは、複数の端子を備えたウエハレベルチップサイズパッケージ型の半導体パッケージであって、平面視で細長い矩形形状を有し、前記複数の端子のうちの三つの端子は、前記長手方向における位置が中央となる端子の重心と他の二つの端子それぞれの重心とを結ぶ二つの線分どうしがなす角度が６０°以上であり、当該半導体パッケージの幅Ｌ１と、全ての前記複数の端子のうちの当該半導体パッケージの幅方向最右端に配置される端子の最右端の位置及び幅方向最左端に配置される端子の最左端の位置間の距離Ｌｔとが、Ｌｔ／Ｌ１≧０．５を満足し、さらに、全ての前記複数の端子は、当該半導体パッケージの幅方向の中央を通る線分に対して、全ての前記複数の端子のうちの一部が一方の側に位置し、且つ、全ての前記複数の端子のうちの残りの端子が他方の側に位置するように、前記線分から離れて配置されていることを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月22日(2020.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも互いに直交する第１軸方向および第２軸方向に沿って直線移動可能なハンドと、
基台に常設される主位置決め部材であって、基板受け渡し位置から前記第１軸方向に第１設計値だけオフセットされるとともに前記第２軸方向に第２設計値だけオフセットされた位置において、前記ハンドと嵌合可能な主位置決め部材と、
前記ハンドが前記主位置決め部材に嵌合されて位置決めされた状態で、前記ハンドの前記第１軸方向の位置座標および前記第２軸方向の位置座標をそれぞれ記憶する制御部と、
を備えたことを特徴とする基板搬送システム。
【請求項２】
前記ハンドは、前記第１軸方向および前記第２軸方向に対して直交する第３軸方向に沿って直線移動可能であり、
前記基台に常設される副位置決め部材であって、前記基板受け渡し位置から前記第３軸方向に第３設計値だけオフセットされた位置において、前記ハンドに当接可能な副位置決め部材をさらに備え、
前記制御部は、前記ハンドが前記副位置決め部材に当接されて位置決めされた状態で、前記ハンドの前記第３軸方向の位置座標を記憶する
ことを特徴とする請求項１に記載の基板搬送システム。
【請求項３】
少なくとも互いに直交する第１軸方向および第２軸方向に沿って直線移動可能なハンドと、
基台に常設される第１主位置決め部材であって、基板受け渡し位置から前記第１軸方向に第１設計値だけオフセットされた位置において、前記ハンドと当接可能な第１主位置決め部材と、
前記基台に常設される第２主位置決め部材であって、前記基板受け渡し位置から前記第２軸方向に第２設計値だけオフセットされた位置において、前記ハンドと当接可能な第２主位置決め部材と、
（ａ）前記ハンドが前記第１主位置決め部材に当接されて位置決めされた状態で、前記ハンドの前記第１軸方向の位置座標を記憶する、および、（ｂ）前記ハンドが前記第２主位置決め部材に当接されて位置決めされた状態で、前記ハンドの前記第２軸方向の位置座標を記憶する制御部と、
を備えたことを特徴とする基板搬送システム。
【請求項４】
前記ハンドは、前記第１軸方向および前記第２軸方向に対して直交する第３軸方向に沿って直線移動可能であり、
前記基台に常設される副位置決め部材であって、前記基板受け渡し位置から前記第３軸方向に第３設計値だけオフセットされた位置において、前記ハンドに当接可能な副位置決め部材をさらに備え、
前記制御部は、前記ハンドが前記副位置決め部材に当接されて位置決めされた状態で、前記ハンドの前記第３軸方向の位置座標を記憶する
ことを特徴とする請求項３に記載の基板搬送システム。
【請求項５】
前記ハンドは、開閉可能な一対のアームを有する
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の基板搬送システム。
【請求項６】
前記主位置決め部材および前記副位置決め部材は、一体の部材である
ことを特徴とする請求項２に記載の基板搬送システム。
【請求項７】
前記主位置決め部材および前記副位置決め部材は、別個の部材である
ことを特徴とする請求項２に記載の基板搬送システム。
【請求項８】
前記ハンドおよび前記主位置決め部材の一方はボスを有し、他方は前記ボスと嵌合可能な穴を有する
ことを特徴とする請求項１または２に記載の基板搬送システム。
【請求項９】
前記ボスの先端部は、テーパ形状を有する
ことを特徴とする請求項８に記載の基板搬送システム。
【請求項１０】
前記主位置決め部材は、搬送ルートの外側に配置されている
ことを特徴とする請求項１または２に記載の基板搬送システム。
【請求項１１】
前記副位置決め部材も、搬送ルートの外側に配置されている
ことを特徴とする請求項１０に記載の基板搬送システム。
【請求項１２】
前記基台上に設けられ、前記基板受け渡し位置を包囲するカバーをさらに備え、
前記カバーには、基板を搬入および搬出するための開口部が形成されており、
前記副位置決め部材は、前記ハンドが前記第３軸方向に動かされる際に、前記ハンドが前記開口部の縁と接触する前に、前記ハンドに当接される位置に配置されている
ことを特徴とする請求項２または４に記載の基板搬送システム。
【請求項１３】
前記制御部は、記憶した前記第１軸方向の位置座標および前記第２軸方向の位置座標を、それぞれ、正常時の前記第１軸方向の位置座標および前記第２軸方向の位置座標と比較して、それらの差分のいずれかが予め定められた閾値より大きい場合には、警告を発する
ことを特徴とする請求項１〜１２のいずれかに記載の基板搬送システム。
【請求項１４】
前記制御部は、記憶した前記第１軸方向の位置座標および前記第２軸方向の位置座標を、それぞれ、前記第１軸方向の位置座標および前記第２軸方向の位置座標の複数の過去データと比較して、一定方向のずれが生じていると判断される場合には、警告を発する
ことを特徴とする請求項１〜１３のいずれかに記載の基板搬送システム。
【請求項１５】
前記ハンドを前記第１軸方向に沿って直線移動させる第１電動アクチュエータと、
前記ハンドを前記第２軸方向に沿って直線移動させる第２電動アクチュエータと、
前記ハンドが前記第１軸方向または第２軸方向に手動で動かされる際に、前記ハンドに加えられる力の方向および大きさを検出するトルクセンサをさらに備え、
前記制御部は、前記トルクセンサの検出結果に基づいて、前記ハンドに加えられる力をアシストするように前記第１アクチュエータまたは第２アクチュエータを制御する
ことを特徴とする請求項１〜１４のいずれかに記載の基板搬送システム。
【請求項１６】
前記ハンドには、前記ハンドが受ける力の方向および大きさを検出する力センサが設けられており、
前記制御部は、前記力センサの検出結果に基づいて、前記ハンドが前記副位置決め部材に当接されたか否かを判定し、前記ハンドが前記副位置決め部材に当接されたと判定された場合に、前記ハンドの前記第３軸方向の位置座標を記憶する
ことを特徴とする請求項２または４に記載の基板搬送システム。
【請求項１７】
前記ハンドには、前記ハンドが受ける力の方向および大きさを検出する力センサが設けられており、
前記制御部は、前記力センサの検出結果に基づいて、前記ハンドが第１主位置決め部材に当接されたか否か、および、前記ハンドが第２主位置決め部材に当接されたか否かを判
定し、前記ハンドが前記第１主位置決め部材に当接されたと判定された場合に、前記ハンドの前記第１軸方向の位置座標を記憶し、前記ハンドが前記第２主位置決め部材に当接されたと判定された場合に、前記ハンドの前記第２軸方向の位置座標を記憶する
ことを特徴とする請求項３に記載の基板搬送システム。
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月3日(2020.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を局所的に研磨するための研磨装置であって、
基板に接触する加工面が基板よりも小さい、回転可能な研磨部材と、
前記研磨部材をコンディショニングするためのコンディショニング部材と、
基板の研磨中に前記研磨部材に前記コンディショニング部材を押圧するための第１押圧機構と、
研磨装置の動作を制御するための制御装置と、を有し、
前記制御装置は、前記研磨部材で基板を局所的に研磨しているときに、前記第１押圧機構を制御するように構成され、
前記研磨部材は、
（１）円板形状または円筒形状であり、前記円板形状または前記円筒形状の中心軸は基板の表面に平行であり、
（２）円錐形状または切頭円錐形状であり、前記円錐形状または前記切頭円錐形状の中心軸４は基板の表面に平行であり、および
（３）球形状または球形状の一部を備える形状である、
のいずれか１つに構成され、
さらに、前記研磨部材の回転軸は基板の表面に平行である、
研磨装置。
【請求項２】
請求項１に記載の研磨装置であって、
前記研磨部材を基板に押圧させるための押圧機構と
前記研磨部材に、基板の表面に平行な第１運動方向に運動を与えるための第１駆動機構と、を有する、
研磨装置。
【請求項３】
請求項２に記載の研磨装置であって、
前記第１運動方向に垂直であり且つ基板の表面に平行な第２運動方向に成分を有するように、前記コンディショニング部材に運動を与えるための第２駆動機構を有する、
研磨装置。
【請求項４】
請求項３に記載の研磨装置であって、
前記第２駆動機構は、前記コンディショニング部材に、直線運動および／または回転運動を与えるように構成される、
研磨装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の研磨装置であって、
前記制御装置は、基板の研磨中に所定の周期でコンディショニングを実行するように前記第１押圧機構を制御するように構成される、
研磨装置。
【請求項６】
請求項1乃至５のいずれか一項に記載の研磨装置であって、
前記研磨部材および前記コンディショニング部材は、保持アームに保持されている、
研磨装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項に記載の研磨装置であって、
コンディショニング時に研磨部材から発生する屑を回収するための回収装置を有する、研磨装置。
【請求項８】
請求項７に記載の研磨装置であって、
前記回収装置は、コンディショニング時に発生する研磨部材から発生する屑を吸引除去する吸引部を有する、
研磨装置。
【請求項９】
請求項７に記載の研磨装置であって、
前記回収装置は、コンディショニング時に発生する研磨部材から発生する屑を収集するためのスクレイパまたはワイパを有する、
研磨装置。
【請求項１０】
請求項７乃至９のいずれか一項に記載の研磨装置であって、
前記回収装置は、コンディショニング後の前記研磨部材を洗浄するための液体供給機構と、
前記研磨部材の洗浄後の液体を回収する液体回収機構と、を有する、
研磨装置。
【請求項１１】
基板の研磨方法であって、
基板に接触する加工面が基板よりも小さい研磨部材を基板に押圧させるステップと、
前記研磨部材を基板に押圧させながら、前記研磨部材と前記基板とを相対的に運動させることで基板を研磨するステップと、
基板を研磨している最中に、コンディショニング部材を前記研磨部材に接触させて前記研磨部材をコンディショニングするステップと、を有し、
前記研磨部材は、
（１）円板形状または円筒形状であり、前記円板形状または前記円筒形状の中心軸は基板の表面に平行であり、
（２）円錐形状または切頭円錐形状であり、前記円錐形状または前記切頭円錐形状の中心軸４は基板の表面に平行であり、および
（３）球形状または球形状の一部を備える形状である、
のいずれか１つに構成され、
さらに、前記研磨部材の回転軸は基板の表面に平行である、
研磨方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の研磨方法であって、
前記コンディショニング部材に直線運動および／または回転運動を与えるステップを有する、
研磨方法。
【請求項１３】
請求項１１または１２に記載の研磨方法であって、
前記研磨部材のコンディショニング時に研磨部材から発生する屑を回収するステップを有する、
研磨方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年1月30日(2020.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
［２］  前記触媒活性成分が下記組成式（１）で示される［１］に記載の複合酸化物触媒
の製造方法。
ＭｏａＢｉｂＣｏｃＮｉｄＦｅｅＸｆＹｇＺｈＳｉｉＯｊ    （１）
（式中、Ｘはマグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、亜鉛（Ｚｎ）、硫黄（Ｓ）、
セリウム（Ｃｅ）、サマリウム（Ｓｍ）及びランタン（Ｌａ）からなる群から選ばれる少
なくとも１種の元素であり、Ｙはナトリウム（Ｎａ）、カリウム（Ｋ）、ルビジウム（Ｒ
ｂ）及びセシウム（Ｃｓ）からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｚはホ
ウ素（Ｂ）であり、ａ〜ｊはそれぞれの元素の原子比を示し、ａ＝１２のとき、ｂ＝０．
５〜７、ｃ＝０〜１０、ｄ＝０〜１０（但しｃ＋ｄ＝１〜１０）、ｅ＝０．０５〜３、ｆ
＝０〜２、ｇ＝０．０４〜２、ｈ＝０〜３、ｉ＝１〜４８の範囲にあり、またｊは他の元
素の酸化状態を満足させる値である。）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
更に本発明の製造方法における触媒活性成分は下記組成式（１）で表されることが好ま
しい。
ＭｏａＢｉｂＣｏｃＮｉｄＦｅｅＸｆＹｇＺｈＳｉｉＯｊ    （１）
（式中、Ｘはマグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、亜鉛（Ｚｎ）、硫黄（Ｓ）、
セリウム（Ｃｅ）、サマリウム（Ｓｍ）及びランタン（Ｌａ）からなる群から選ばれる少
なくとも１種の元素であり、Ｙはナトリウム（Ｎａ）、カリウム（Ｋ）、ルビジウム（Ｒ
ｂ）及びセシウム（Ｃｓ）からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｚはホ
ウ素（Ｂ）であり、ａ〜ｊはそれぞれの元素の原子比を示し、ａ＝１２のとき、ｂ＝０．
５〜７、ｃ＝０〜１０、ｄ＝０〜１０（但しｃ＋ｄ＝１〜１０）、ｅ＝０．０５〜３、ｆ
＝０〜２、ｇ＝０．０４〜２、ｈ＝０〜３、ｉ＝１〜４８の範囲にあり、またｊは他の元
素の酸化状態を満足させる値である。）
上記組成式（１）の複合酸化物触媒とすることで、より高収率でアクロレイン及びアク
リル酸を製造することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
触媒活性元素としてモリブデン（Ｍｏ）、ビスマス（Ｂｉ）、鉄（Ｆｅ）、ケイ素（Ｓ
ｉ）、並びに、コバルト（Ｃｏ）及び／又はニッケル（Ｎｉ）を含む複合酸化物触媒を製
造する方法において、
少なくともモリブデン（Ｍｏ）の供給源化合物、鉄（Ｆｅ）の供給源化合物、ケイ素（
Ｓｉ）の供給源化合物、並びに、コバルト（Ｃｏ）の供給源化合物及び／又はニッケル（
Ｎｉ）の供給源化合物を水性系で一体化及び加熱することにより触媒前駆体とする前工程
と、少なくとも該触媒前駆体、モリブデン（Ｍｏ）の供給源化合物及びビスマス（Ｂｉ）
の供給源化合物を水性系で一体化及び加熱することにより触媒活性成分とする後工程とを
経て調製する複合酸化物触媒の製造方法であって、
前工程におけるモリブデン（Ｍｏ）の供給源化合物中のモリブデン（Ｍｏ）と後工程に
おけるモリブデン（Ｍｏ）の供給源化合物中のモリブデン（Ｍｏ）との総和に対する、後
工程におけるビスマス（Ｂｉ）の供給源化合物中のビスマス（Ｂｉ）の原子比が０．２２
以上０．４２以下であり、且つ、後工程におけるモリブデン（Ｍｏ）の供給源化合物中の
モリブデン（Ｍｏ）に対する、後工程におけるビスマス（Ｂｉ）の供給源化合物中のビス
マス（Ｂｉ）の原子比が０．７１以上１．６８以下である複合酸化物触媒の製造方法。
【請求項２】
前記触媒活性成分が下記組成式（１）で示される請求項１に記載の複合酸化物触媒の製
造方法。
ＭｏａＢｉｂＣｏｃＮｉｄＦｅｅＸｆＹｇＺｈＳｉｉＯｊ    （１）
（式中、Ｘはマグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、亜鉛（Ｚｎ）、硫黄（Ｓ）
、セリウム（Ｃｅ）、サマリウム（Ｓｍ）及びランタン（Ｌａ）からなる群から選ばれる
少なくとも１種の元素であり、Ｙはナトリウム（Ｎａ）、カリウム（Ｋ）、ルビジウム（
Ｒｂ）及びセシウム（Ｃｓ）からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｚは
ホウ素（Ｂ）であり、ａ〜ｊはそれぞれの元素の原子比を示し、ａ＝１２のとき、ｂ＝０
．５〜７、ｃ＝０〜１０、ｄ＝０〜１０（但しｃ＋ｄ＝１〜１０）、ｅ＝０．０５〜３、
ｆ＝０〜２、ｇ＝０．０４〜２、ｈ＝０〜３、ｉ＝１〜４８の範囲にあり、またｊは他の
元素の酸化状態を満足させる値である。）
【請求項３】
請求項１又は２に記載の複合酸化物触媒の製造方法により製造された複合酸化物の存在
下、気相接触酸化により、プロピレンよりアクロレイン及びアクリル酸を製造する方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月7日(2020.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
媒体を収容する媒体収容部、並びに、凹部に設けられ装置本体に対する前記媒体収容部のロック及びロック解除を行う操作部を備えた媒体収容カセットに対して着脱可能なカバー体であって、
前記媒体収容カセットにおいて前記凹部に入り込んで前記凹部を塞ぐ本体部と、
前記本体部から突出して前記本体部を前記凹部に対してロックする第１状態と、ロックを解除して前記凹部への前記本体部の入り込み及び前記凹部からの取り外しを許容する第２状態と、をスライドして切り換えるスライド部と、を備える、
ことを特徴とするカバー体。
【請求項２】
請求項１に記載のカバー体において、前記スライド部の先端が前記凹部の内側に設けられた係合穴に係合することにより前記スライド部の前記第１状態が形成される、
ことを特徴とするカバー体。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のカバー体において、前記スライド部は、前記凹部における前記媒体収容カセットの幅方向にスライドすることにより、前記第１状態と前記第２状態とを切り換える、
ことを特徴とするカバー体。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のカバー体において、前記凹部の奥行き方向に沿って変位可能な押圧ボタンを備え、前記押圧ボタンを押すことで、前記スライド部が前記第２状態から前記第１状態に切り換わる構成を備える、
ことを特徴とするカバー体。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載のカバー体において、鍵部材を挿入する開口を備え、
前記鍵部材を前記開口に挿入することで、前記スライド部が前記第１状態から前記第２状態に切り換わる構成を備える、
ことを特徴とするカバー体。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれか一項に記載のカバー体において、
前記スライド部材が前記第２状態のとき、前記鍵部材は前記開口から抜けない状態となり、前記鍵部材は前記カバー体と共に前記凹部から取り外し可能であることを特徴とするカバー体。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれか一項に記載のカバー体において、当該カバー体は、前記本体部が前記凹部に入り込み且つ前記スライド部が前記第１状態をとる際に、前記スライド部によって前記凹部に設けられた前記操作部の変位動作を規制する、
ことを特徴とするカバー体。
【請求項８】
請求項７に記載のカバー体において、前記操作部は、前記凹部の内側の上側に位置する上側操作部と、前記凹部の内側の下側に位置する下側操作部と、前記上側操作部と前記下側操作部とを連結する連結部と、を備え、
前記スライド部の先端が前記連結部に形成された規制穴に入り込むことにより、前記操作部の変位動作が規制される、
ことを特徴とするカバー体。
【請求項９】
請求項１から請求項８のいずれか一項に記載のカバー体において、前記凹部は、前記媒体収容カセットの前記装置本体からの引き出し方向前面に形成されており、
前記本体部は、前記媒体収容カセットの前面側に、前記凹部の内側の輪郭に沿った形状及び大きさを備えるパネル部を有し、
前記本体部が前記凹部を塞いだ状態において、前記パネル部の面と前記媒体収容カセットの前面とが面一になる、
ことを特徴とするカバー体。
【請求項１０】
媒体を収容する媒体収容部と、
凹部に設けられ装置本体に対する前記媒体収容部のロック及びロック解除を行う操作部と、
前記凹部に入り込んで前記凹部を塞ぐ本体部、及び前記本体部から突出して前記本体部を前記凹部に対してロックする第１状態と、ロックを解除して前記凹部への前記本体部の入り込み及び前記凹部からの取り外しを許容する第２状態と、をスライドして切り換えるスライド部を備えて成るカバー体と、
を備えた媒体収容カセット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
符号５は、装置手前側に設けられた、プリンター１の各種操作を行う操作パネルである。符号６は、記録が行われて排出される記録用紙を受けるトレイであり、より具体的には直近に記録が行われた記録面を下にして排出される記録用紙を受けるフェイスダウン排紙トレイである。  
符号７は、インクを吐出するノズルが用紙幅方向全域をカバーする様に設けられた記録ヘッド（所謂ラインヘッド）であり、用紙幅方向への移動を伴わないで用紙幅全体に記録が可能な記録ヘッドとして構成されている。  
尚、本実施例では装置奥行き方向が用紙幅方向であり、装置幅方向が用紙給送、搬送、排出のこれらを行う方向となっている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
またカバー体４０は、スライド部材４５の先端部４５ａが手掛け凹部１３の内側に設けられた係合穴１３ｇに係合することにより、スライド部材４５の第１状態（カバー体４０の本体部４０ａを手掛け凹部１３に対してロックする状態）が形成されるので、本体部４０ａを前記手掛け凹部１３に確実にロックすることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
１…インクジェットプリンター、２…スキャナー部、３…装置本体、５…操作パネル、６…フェイスダウン排紙トレイ、７…記録ヘッド、８、８Ａ〜８Ｄ…カセット収容部、１０、１０Ａ〜１０Ｄ…給紙カセット、１０ｅ…カセット前面、１１…用紙収容部、１１ａ…前面部、１１ｂ…レバー規制部、１２…張り出し部、１３…手掛け凹部、１３ｇ…係合穴、１４…表示窓、１５…表示プレート、１６…プレート保持部、１７…前面パネル、２０…エッジガイド、２１Ａ、２１Ｂ…エッジガイド、２２…被ガイド突起、２５…ロック手段、２６…係止フック（本体側係合部）、２７…ロックレバー（カセット側係合部）、３０…変換機構、３１…操作レバー、３１ａ…上側操作部、３１ｂ…下側操作部、３１ｃ…右側操作部、３１ｄ…左側操作部、３２…アーム部、３２ａ…レバー押圧部、３２ｂ…レバー挿入空間、３４…第１回動軸、３５…第２回動軸、３５ａ…レバー係合部、３５ｂ…被押圧部、３５ｃ…ばね嵌合部、３６…圧縮ばね、４０…カバー体、４０ａ…本体部、４１…筐体、４２…パネル部、４２ａ…凹部、４２ｂ…前面、４３…ベースフレーム、４３ａ…長穴、４３ｂ、４３ｃ、４３ｄ…規制突起、４３ｅ、４３ｆ、４３ｇ…ガイド溝、４４…サブフレーム、４５…スライド部材、４５ａ…先端部、４５ｂ…ストッパー、４５ｃ…第１凹部、４５ｄ…第２凹部、４５ｅ…第３凹部、４５ｆ…カム面、４６…操作カム、４６ａ…操作突起、４６ｂ…カム部、４７…ロック部材、４８…コイルばね、４９…コイルばね、５０…コイルばね、５１…鍵穴、５５…鍵部材、５５ａ…第１係合部、５５ｂ…第２係合部、５５ｃ…第３係合部、５５ｄ…第１溝部、５５ｅ…第２溝部、５５ｆ…第３溝部、５５ｇ…受け入れ溝