Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和2年1月23日(2020.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
近年、ＣＴ（Computed Tomography）装置およびＭＲＩ（Magnetic Resonance Imaging）装置等の医療機器の進歩により、より質の高い高解像度の医用画像を用いての画像診断が可能となってきている。ここで、ＣＴ装置およびＭＲＩ装置により取得される３次元画像は、多数の２次元画像から構成され情報量が多いため、医師が所望の観察部位を見つけ診断することに時間を要する場合がある。そこで、注目する臓器を認識し、注目する臓器を含む３次元画像に対して、ＭＩＰ（Maximum Intensity Projection）処理、ＭｉｎＩＰ（Minimum Intensity Projection）処理、ＭＰＲ（Multi Planar Reconstruction）処理、ＣＰＲ（Curved Planar Reconstruction）処理等を行うことにより、臓器全体や病変の視認性を高めて診断の効率化を図ることが行われている。特に、ＣＰＲ処理は３次元画像における任意の曲面を指定し、指定した曲面に沿った３次元画像を２次元画像に再構成してＣＰＲ画像を生成するものである。これにより、管状構造物の内壁面の形態あるいは骨の内部の形態について、長手方向の断面を一画面で表示することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
なお、すべての肋骨の断面において、短軸方向は実質的に人体の前後方向を向くこととなる。このため、複数の肋骨のそれぞれについて特定軸方向を決定した場合、複数の肋骨のそれぞれについての特定軸方向は、概ね同じ方向となる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
一方、入力部１５から特定軸方向への芯線Ｃ０の移動の指示があると（ステップＳＴ８：肯定）、画像生成部２５は、特定軸方向への芯線の移動の指示に応じて特定軸方向に芯線の位置を移動させ、移動した位置の芯線に沿った断面に基づいて、肋骨の展開画像を生成し（ステップＳＴ９）、ステップＳＴ６に戻る。ステップＳＴ８が否定されると、終了の指示がなされたか否かが判定され（ステップＳＴ１０）、ステップＳＴ１０が否定されるとステップＳＴ７に戻る。ステップＳＴ１０が肯定されると処理を終了する。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月30日(2020.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
定電流源１２０は、基準電流ＩＲＥＦ１をノードＮ４へ供給する。ノードＮ４には、トランジスタ１２１〜１２３のゲートが共通に接続される。さらに、トランジスタ１２４のゲートはノードＮ１と接続され、トランジスタ１２５及び１２６のゲートは、ノードＮ５に共通に接続される。信号バッファ１１３♯は、ノードＮ２の電圧を入力として検出信号Ｓｍｒを生成する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８６】
一方で、ノードＮａ及び高電圧線ＰＬの間には、トランジスタ１７０（ＰＭＯＳ）が接続される。トランジスタ１７０のゲートには、駆動制御信号Ｓｄｒが入力される。したがって、駆動制御信号Ｓｄｒが“０”の期間では、トランジスタ１７０のオンにより、ノードＮａの電圧がＶＣＣとなるので、トランジスタ１７１及び１７２がオフされる。この結果カレントミラー回路１８５によるノードＮｇへの電流出力は停止される。これに対して、トランジスタ１７３は、電流出力回路１５０のトランジスタ１５２と同様に、駆動制御信号Ｓｄｒが“０”の期間には、ゲート１５の放電経路を形成するためにオンする。これにより、半導体素子１０のターンオフ時には、電流出力回路１５０♯による出力電流ＩＯＵＴ＜０となる。
【手続補正書】
【提出日】令和2年3月16日(2020.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オスコネクタ（２）およびメスコネクタ（３）を有し、電流を伝送するためのコネクタ（１）であって、
前記オスコネクタ（２）がプラグエクステンション外套壁部（５）および電気接点（６）を有するプラグエクステンション（４）を備え、前記電気接点（６）が前記プラグエクステンション外套壁部（５）により囲まれているプラグエクステンション内部空間（７）に設けられ、
前記メスコネクタ（３）がプラグエクステンションレシーバ外套壁部（９）および相手側電気接点（１０）を有するプラグエクステンションレシーバ（８）を備え、前記相手側電気接点（１０）が前記プラグエクステンションレシーバ外套壁部（９）により囲まれているプラグエクステンションレシーバ内部空間（１１）に設けられ、
前記プラグエクステンション外套壁部（５）または前記プラグエクステンションレシーバ外套壁部（９）である一方の外套壁部に少なくとも１つの突出部（１２）が設けられ、他方の外套壁部が前記突出部（１２）に対応する少なくとも１つの受入スリット（１３）を備え、
前記突出部（１２）および前記受入スリット（１３）の非破損状態において、前記プラグエクステンション（４）が、前記突出部（１２）および前記受入スリット（１３）に固有の所定の差込位置から、差込方向（１４）について前記プラグエクステンションレシーバ（８）に差し込み可能であり、
前記オスコネクタ（２）が前記プラグエクステンション内部空間（７）において機能部位（１５）を備え、かつ、前記メスコネクタ（３）が前記プラグエクステンションレシーバ内部空間（１１）において相手側機能部位（１６）を備え、
前記所定の差込位置とは異なる位置から前記プラグエクステンション（４）が前記プラグエクステンションレシーバ（８）に差し込まれた際、前記電気接点（６）の前記相手側電気接点（１０）に対する電気的接触を防止するための係止機構を前記機能部位（１５）および前記相手側機能部位（１６）が構成しており、
前記プラグエクステンション（４）が、前記所定の差込位置から前記差込方向（１４）について完全差込位置を実現するために前記プラグエクステンションレシーバ（８）に対して差し込み可能であり、前記完全差込位置から前記差込方向（１４）のまわりに終端位置まで回転可能であり、前記終端位置において前記電気接点（６）が前記相手側電気接点（１０）に対して電気的に接触し、
前記受入スリット（１３）が設けられている前記一方の外套壁部に、周方向（２１）に延在し、かつ、前記受入スリット（１３）に連続する少なくとも１つの受入チャンネル（２２）が設けられ、前記完全差込位置から前記終端位置まで回転される際に前記突出部（１２）が前記受入チャンネル（２２）に案内されることを特徴とするコネクタ。
【請求項２】
請求項１記載のコネクタ（１）において、前記機能部位（１５）が少なくとも１つの停止面（１７）を有し、かつ、前記相手側機能部位（１６）が少なくとも１つの相手側停止面（１８）を有し、
前記係止機構を構成するため、前記所定の差込位置とは異なる位置から前記プラグエクステンション（４）が前記プラグエクステンションレシーバ（８）に差し込まれた際、前記停止面（１７）および前記相手側停止面（１８）が相互に当接し、前記電気接点（６）の前記相手側電気接点（１０）に対する電気的接触を防止するため、前記プラグエクステンション（４）が前記差込方向（１４）について前記プラグエクステンションレシーバ（８）に完全に差し込まれることが防止されることを特徴とするコネクタ。
【請求項３】
請求項１または２記載のコネクタ（１）において、前記機能部位（１５）が前記プラグエクステンション内部空間（７）の中央部に、または前記プラグエクステンション（４）の縦中心軸線（１９）に沿って設けられ、付加的または代替的に、前記電気接点（６）の間に設けられていることを特徴とするコネクタ。
【請求項４】
請求項１〜３のうちいずれか１項に記載のコネクタ（１）において、前記相手側機能部位（１６）が前記プラグエクステンションレシーバ内部空間（１１）の中央部に、または前記プラグエクステンションレシーバ（８）の縦中心軸線（２０）に沿って設けられ、付加的または代替的に、前記相手側電気接点（１０）の間に設けられていることを特徴とするコネクタ。
【請求項５】
請求項１〜４のうちいずれか１項に記載のコネクタ（１）において、前記プラグエクステンション外套壁部（５）またはプラグエクステンションレシーバ外套壁部（９）である一方の外套壁部に、異なる形状を有し、付加的または代替的に、異なる箇所に設けられた複数または４つの突出部（１２）が設けられ、他方の外套壁部が、異なる形状を有し、付加的または代替的に、異なる箇所に設けられた複数または４つの受入スリット（１３）を備えていることを特徴とするコネクタ。
【請求項６】
請求項１〜５のうちいずれか１項に記載のコネクタ（１）において、少なくとも一部の前記電気接点（６）が共通円形経路（２３）の上に設けられ、付加的または代替的に、少なくとも一部の相手側電気接点（１０）が共通円形経路（２４）の上に設けられていることを特徴とするコネクタ。
【請求項７】
請求項１〜６のうちいずれか１項に記載のコネクタ（１）において、前記プラグエクステンション外套壁部（５）の外側面（２５）および前記プラグエクステンションレシーバ外套壁部（９）の内側面（２６）のうちの少なくとも一方が、前記突出部（１２）または前記受入スリット（１３）および受入チャネル（２２）を除き、少なくとも部分的に円筒形状に形成されていることを特徴とするコネクタ。
【請求項８】
請求項１〜７のうちいずれか１項に記載のコネクタ（１）において、前記機能部位（１５）または相手側機能部位（１６）である一方の部位が、前記プラグエクステンション（４）が前記所定の差込位置から前記差込方向（１４）について前記プラグエクステンションレシーバ（８）に差し込まれた際に他方の部位が入り込む平面視で任意形状またはＶ字状の少なくとも１つの間隙（２７）を有し、前記間隙（２７）に入り込んだ当該部分が前記間隙（２７）において２つの回転停止部（２８）の間で回転可能であることを特徴とするコネクタ。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月1日(2020.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板を保持する保持部と、
保持部に保持した第１の基板の少なくとも一部に第２の基板の少なくとも一部を接合した後、接合領域を拡大させて、第１の基板および第２の基板を接合する接合部と、
を備え、
前記保持部は、前記第１の基板および前記第２の基板の少なくとも一方に関する情報、および、前記接合部の環境条件の少なくとも一方に基づいて決定された保持力で前記第１の基板を保持する接合装置。
【請求項２】
前記環境条件は、前記第１の基板および前記第２の基板が置かれた環境の温度、湿度、気体の種類および気圧の少なくとも一つを含む請求項１に記載の接合装置。
【請求項３】
前記第１の基板および前記第２の基板の少なくとも一方に関する情報は、前記第１の基板および前記第２の基板の少なくとも一方の物理特性を含む請求項１または２に記載の接合装置。
【請求項４】
前記物理特性は、前記第１の基板および前記第２の基板の相互の間の初期倍率の差、前記第１の基板および前記第２の基板の少なくとも一方の剛性、前記第１の基板の前記保持部に対する摩擦力、前記第１の基板および前記第２の基板の少なくとも一方の形状、前記第１の基板および前記第２の基板の少なくとも一方の表面性状、および、前記第１の基板および前記第２の基板の少なくとも一方の表面の活性化度合、少なくとも一つを含む請求項３に記載の接合装置。
【請求項５】
前記第１の基板および前記第２の基板の少なくとも一方に関する情報は、前記第１の基板および前記第２の基板の少なくとも一方の製造条件に関する情報を含む請求項１から４のいずれか一項に記載の接合装置。
【請求項６】
前記保持力を制御する制御部を備え、
前記制御部は、前記第１の基板と前記保持部との間に発生した負圧を変化させることにより前記保持力を変化させる請求項１から５のいずれか一項に記載の接合装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記第１の基板の複数の領域に対して個別に発生させた負圧を変化させることにより、前記複数の領域ごとに前記保持力を変化させる請求項６に記載の接合装置。
【請求項８】
互いに接合される第１の基板および第２の基板の少なくとも一方に関する情報、および、環境条件の少なくとも一方に基づいて、前記第１の基板および前記第２の基板を接合するときに前記第１の基板を保持する保持部の保持力を決定する装置。
【請求項９】
互いに接合される第１の基板および第２の基板の少なくとも一方に関する情報、および、環境条件の少なくとも一方に基づいて、前記第１の基板および前記第２の基板を接合するときに前記第１の基板を保持する保持部の保持力を決定する段階を含む接合方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年3月13日(2020.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
インダクタ（Ｌ１）と、オンすることにより前記インダクタに流れる電流を増加させるスイッチング素子（Ｑ４）と、を備え、入力端子（５）を介して供給される入力電圧を昇圧する昇圧動作を行う昇圧型スイッチング電源回路（８、２２、３２、４２、５２、６２、７２、８２）であって、
前記スイッチング素子の駆動を制御して前記昇圧動作を実行する昇圧制御回路（１２）と、
前記スイッチング素子の駆動を制御して前記スイッチング素子の故障を検出する故障検出制御回路（１５、６４、８３）と、
前記スイッチング素子に流れる電流を検出する電流検出部（１９、３３、４３、６３、７３）と、
前記昇圧制御回路および前記故障検出制御回路のうちいずれか一方が前記スイッチング素子の駆動を制御可能となるように切り替えを行う切替部（１６）と、
を備え、
前記昇圧動作の実行に先立って、
前記切替部は、前記故障検出制御回路により前記スイッチング素子の駆動が制御されるように切り替えを行い、
前記故障検出制御回路は、前記スイッチング素子をオン駆動し、前記電流検出部による電流の検出結果に基づいて前記スイッチング素子のオープン故障を検出し、
前記昇圧制御回路は、前記スイッチング素子の駆動を制御するための制御信号を出力し、
前記故障検出制御回路は、前記スイッチング素子の駆動を制御するための制御信号を出力し、
前記切替部は、前記昇圧制御回路および前記故障検出制御回路から出力される各制御信号のうちいずれか一方を出力する切替動作を行うセレクタを備え、前記セレクタから出力される制御信号に基づいて前記スイッチング素子が駆動されることにより、前記昇圧制御回路および前記故障検出制御回路のうちいずれか一方が前記スイッチング素子の駆動を制御可能となるように切り替えを行う昇圧型スイッチング電源回路。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項１に記載の昇圧型スイッチング電源回路（８、２２、３２、４２、５２、６２、７２、８２）は、インダクタ（Ｌ１）と、オンすることによりインダクタに流れる電流を増加させるスイッチング素子（Ｑ４）と、を備え、入力端子（５）を介して供給される入力電圧を昇圧する昇圧動作を行う。このような昇圧型スイッチング電源回路は、昇圧制御回路（１２）、故障検出制御回路（１５、６４、８３）、電流検出部（１９、３３、４３、６３、７３）および切替部（１６）を備える。昇圧制御回路は、スイッチング素子の駆動を制御して昇圧動作を実行する。故障検出制御回路は、スイッチング素子の駆動を制御してスイッチング素子の故障を検出する。電流検出部は、スイッチング素子に流れる電流を検出する。切替部は、昇圧制御回路および故障検出制御回路のうちいずれか一方がスイッチング素子の駆動を制御可能となるように切り替えを行う。この場合、昇圧制御回路は、スイッチング素子の駆動を制御するための制御信号を出力する。また、この場合、故障検出制御回路は、スイッチング素子の駆動を制御するための制御信号を出力する。そして、切替部は、昇圧制御回路および故障検出制御回路から出力される各制御信号のうちいずれか一方を出力する切替動作を行うセレクタを備え、セレクタから出力される制御信号に基づいてスイッチング素子が駆動されることにより、昇圧制御回路および故障検出制御回路のうちいずれか一方がスイッチング素子の駆動を制御可能となるように切り替えを行う。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月23日(2020.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
基板、反射電極、有機化合物層、光取り出し電極、をこの順に有し、
前記有機化合物層は、第一発光層と、前記第一発光層と前記光取り出し電極との間に配置されている第二発光層とを有し、前記第一発光層は青色を発光する電子トラップ型発光層であり、前記第二発光層は前記第一発光層よりも長波長の光を発光する発光層である有機ＥＬ素子であって、
前記反射電極が陰極、前記光取り出し電極が陽極であり、
前記反射電極の反射面から、前記第一発光層の光取り出し側の面までの光学距離が、前記第一発光層が発する青色発光を強め合わせる距離であることを特徴とする有機ＥＬ素子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
前記第一発光層の前記光取り出し側の面から前記光取り出し電極の反射面までの光学距離が、前記青色発光の波長をλBとした場合、３λB／４±λB／８の範囲にあることを特徴とする請求項４乃至７のいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
前記第一発光層の前記光取り出し側の面から前記光取り出し電極の反射面までの距離が、１８０ｎｍ以上２４０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項８に記載の有機ＥＬ素子。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１６】
前記第二発光層は、緑色と赤色とを発光することを特徴とする請求項１乃至１５のいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の第１は、基板、反射電極、有機化合物層、光取り出し電極、をこの順に有し、
前記有機化合物層は、第一発光層と、前記第一発光層と前記光取り出し電極との間に配置されている第二発光層とを有し、前記第一発光層は青色を発光する電子トラップ型発光層であり、前記第二発光層は前記第一発光層よりも長波長の光を発光する発光層である有機ＥＬ素子であって、
前記反射電極が陰極、前記光取り出し電極が陽極であり、
前記反射電極の反射面から、前記第一発光層の光取り出し側の面までの光学距離が、前記第一発光層が発する青色発光を強め合わせる距離であることを特徴とする。
本発明の第２は、複数の有機ＥＬ素子と、前記有機ＥＬ素子の光取り出し側に配置された青、緑、赤のカラーフィルタと、前記有機ＥＬ素子に接続されたスイッチング素子とを有する表示装置であって、前記有機ＥＬ素子が上記本発明の有機ＥＬ素子であることを特徴とする表示装置である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の有機ＥＬ素子は、基板、反射電極、有機化合物層、光取り出し電極、をこの順に有し、上記有機化合物層は、第一発光層と、第一発光層と光取り出し電極との間に配置されている第二発光層とを有している。また、第一発光層は青色を発光する電子トラップ型発光層であり、第二発光層は第一発光層よりも長波長の光を発光する発光層である。本発明においては、反射電極が陰極、光取り出し電極が陽極であり、反射電極の反射面から、第一発光層の光取り出し側の面までの光学距離が、第一発光層が発する青色発光を強め合わせる距離であることを特徴とする。第二発光層としては、緑色発光、赤色発光、或いは緑色と赤色の両方を発光する発光層が好ましい。
以下、図面を参照し、本発明の形態を説明する。図面の各部寸法は実際のものと異なる。また、本明細書で特に図示又は記載されない部分に関しては、当該技術分野の周知又は公知技術を適用する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
図１は本発明の一実施形態を示す断面模式図であり、基板１０上に、赤色発光ドーパントと緑色発光ドーパントとを含む緑・赤色発光層１５と、青色発光ドーパントを含む青色発光層１４と、の２つの発光層を積層して白色発光層１８とした構成を示している。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
電子注入層１２上には電子輸送層１３を形成しても良い。電子輸送層１３としてはフェナントロリン化合物など電子輸送性の有機化合物として従来から知られたものを用いることができ、電子注入層１２に用いた電子輸送性の有機化合物と同じでも違っていても良い。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また、本発明においては、基板１０上に形成された反射電極１１を陰極として用いるため、青色発光層１４を、最も基板１０側に配置した場合に電子を注入することができる。そして、青色発光層１４上に緑・赤色発光層１５が形成される。係る構成により、反射電極１１の反射面から青色発光層１４の光取り出し側の面までの光学距離をλB／４の設定（λBは青色の発光波長）として、青色発光の干渉効果を得ることができる。同時に、反射電極１１の反射面から緑・赤色発光層１５の光取り出し側の面までの光学距離は、青色発光層１４を挟むことで、短くなりすぎるようなことは無く、赤色及び緑色発光の干渉効果も得ることができる。つまり、発光波長（λ）は赤色及び緑色が青色よりも大きいため、λ／４の値が、青色に対して赤及び緑色の方が大きくなり、青色発光層１４上に緑・赤色発光層１５を形成することにより、青色と、赤及び緑色の発光の両方の干渉効果を得ることが可能となる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
Ｌ２の膜厚を１８０ｎｍ以上２４０ｎｍ以下とするためには、緑・赤色発光層１５ではなく、正孔輸送層１６の膜厚を厚く設定することが好ましく、この時、正孔輸送層１６の膜厚は１７０ｎｍ以上２００ｎｍ以下にする必要がある。本発明では、この光取り出し側の有機化合物層が電子輸送性ではなく、比較的移動度が早い正孔輸送性となるため、膜厚を厚くしても、電圧の上昇を抑えることができる。
また、光取り出し電極１７の光取り出し側には必要に応じてＳｉＮなどの保護膜（不図示）を設けても良い。
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月22日(2020.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
型を基板の上のインプリント材に接触させて前記インプリント材によるパターンを形成するインプリント処理を行うインプリント装置であって、
前記型を保持する型保持部と、
基板を吸着することにより保持する基板保持部と、
前記型保持部と前記基板保持部とを相対的に近づけることで前記型を基板の上のインプリント材に接触させる駆動部と、
前記基板保持部によって保持された基板を前記型に対して凸形状となるように変形させた状態で、前記型を基板の上のインプリント材に接触させるように前記基板保持部および前記駆動部を制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、基板を凸形状となるように変形させる際に、前記基板保持部によって保持された状態で予め取得された基板の表面形状データに基づいて、前記基板保持部が基板を吸着する圧力を制御することを特徴とするインプリント装置。
【請求項２】
前記制御部は、ショット領域が基板の外周を含む周辺ショット領域である場合に、前記表面形状データに基づいて、前記基板保持部で基板を保持することで形成される閉空間の内部の圧力を制御して基板を前記型に対して凸形状となるように変形させることを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項３】
前記基板保持部には複数の吸着領域が含まれ、
前記複数の吸着領域のそれぞれに連通し、各吸着領域の内部の圧力をそれぞれ調整可能な圧力調整部を有し、
前記複数の吸着領域は同心円状に区分されており、
前記制御部は、前記複数の吸着領域のうち第１吸着領域と第２吸着領域の内部を負圧にして基板を保持しながら、前記第１吸着領域と前記第２吸着領域との間にある第３吸着領域の内部を陽圧にすることで、基板を前記型に対して凸形状となるように変形させる
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のインプリント装置。
【請求項４】
前記複数の吸着領域を仕切る複数の隔壁のうち最外周の隔壁の高さが他の隔壁よりも低いことを特徴とする請求項３に記載のインプリント装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記表面形状データに基づいて、ショット領域ごとに前記複数の吸着領域のそれぞれの内部の圧力を決定することを特徴とする請求項３又は４に記載のインプリント装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記インプリント処理における前記インプリント材を撮像して得られた撮像データに基づいて、前記決定された圧力を補正することを特徴とする請求項５に記載のインプリント装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記駆動部に与えられた駆動電流に基づいて、前記決定された圧力を補正することを特徴とする請求項５に記載のインプリント装置。
【請求項８】
前記制御部は、前記駆動部に与えられた駆動電流に更に基づいて、前記決定された圧力を補正することを特徴とする請求項６に記載のインプリント装置。
【請求項９】
前記基板保持部に保持された基板の高さを計測する計測装置を有し、前記計測装置の計測結果により前記表面形状データを取得することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１０】
前記制御部は更に、前記型のパターン面が基板に対して凸形状となるように前記型を変形させた状態で、前記型を前記インプリント材に接触させるよう前記駆動部を制御することを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１１】
前記表面形状データは、基板上の座標位置と紐づけて複数の位置で予め取得されており、
前記制御部は、前記表面形状データとショット領域の座標位置とに基づいて、前記圧力を調整する、ことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１２】
型を基板の上のインプリント材に接触させて前記インプリント材によるパターンを形成するインプリント処理を行うインプリント装置であって、
前記型を保持する型保持部と、
前記基板を吸着することで保持する基板保持部と、
前記型保持部と前記基板保持部とを相対的に近づけることで前記型を前記インプリント材に接触させる駆動部と、
前記基板保持部で基板を保持することで形成される閉空間の内部の圧力をそれぞれ調整可能な圧力調整部と、
前記圧力調整部を制御して前記基板を前記型に対して凸形状となるように変形させた状態で、前記型を前記インプリント材に接触させるよう前記駆動部を制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、前記インプリント処理の対象とするショット領域の位置に応じて、前記ショット領域のそれぞれに供給されたインプリント材と前記型とを接触させるときの前記閉空間の内部の圧力を変更する
ことを特徴とするインプリント装置。
【請求項１３】
前記制御部は、前記ショット領域が基板の外周を含む周辺ショット領域である場合に、前記周辺ショット領域の位置に応じて、前記周辺ショット領域に供給されたインプリント材と前記型とを接触させるときの前記閉空間の内部の圧力を変更して、前記型が前記インプリント材への接触を開始する際の凸形状の度合いを制御する、ことを特徴とする請求項１２に記載のインプリント装置。
【請求項１４】
請求項１乃至１３のいずれか１項に記載のインプリント装置によって基板の上にパターンを形成する工程と、
前記パターンが形成された前記基板を処理する工程と、
を含むことを特徴とする物品製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一側面によれば、型を基板の上のインプリント材に接触させて前記インプリント材によるパターンを形成するインプリント処理を行うインプリント装置であって、前記型を保持する型保持部と、基板を吸着することにより保持する基板保持部と、前記型保持部と前記基板保持部とを相対的に近づけることで前記型を基板の上のインプリント材に接触させる駆動部と、前記基板保持部によって保持された基板を前記型に対して凸形状となるように変形させた状態で、前記型を基板の上のインプリント材に接触させるように前記基板保持部および前記駆動部を制御する制御部とを有し、前記制御部は、基板を凸形状となるように変形させる際に、前記基板保持部によって保持された状態で予め取得された基板の表面形状データに基づいて、前記基板保持部が基板を吸着する圧力を制御することを特徴とするインプリント装置が提供される。
【手続補正書】
【提出日】令和2年8月26日(2020.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に第１の材料層を形成する工程、
前記第１の材料層上に第２の材料層を形成する工程、及び、
前記第１の材料層と前記第２の材料層とを分離する工程を有し、
前記第１の材料層は、水素、酸素、及び水のうち一つまたは複数を有し、
前記第２の材料層は、樹脂を有し、
前記第１の材料層と前記第２の材料層とは、水素結合が切断される
ことにより分離し、
前記水素結合の切断は、光が照射されることにより行われる、半導体装置の作製方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記第１の材料層と前記第２の材料層とは、水素結合が切断されることにより、第１の材料層と第２の材料層との界面またはその近傍で分離する、半導体装置の作製方法。
【請求項３】
基板上に第１の材料層を形成する工程、
前記第１の材料層上に第２の材料層を形成する工程、及び、
前記第１の材料層と前記第２の材料層とを光を用いて分離する工程を有し、
前記第１の材料層は、水素、酸素、及び水のうち一つまたは複数を有し、
前記第２の材料層は、樹脂を有し、
前記第１の材料層と前記第２の材料層とは、水素結合が切断されることにより分離し、
前記光として、レーザ光を用い、
前記水素結合の切断は、前記レーザ光が、前記第１の材料層と前記第２の材料層との界面またはその近傍に照射されることにより行われる、半導体装置の作製方法。
【請求項４】
基板上に第１の材料層を形成する工程、
前記第１の材料層上に第２の材料層を形成する工程、
前記第１の材料層と前記第２の材料層とが積層された状態で加熱される工程、及び、
前記第１の材料層と前記第２の材料層とを分離する工程を有し、
前記第１の材料層は、水素、酸素、及び水のうち一つまたは複数を有し、
前記第２の材料層は、樹脂を有し、
前記加熱される工程では、前記第１の材料層と前記第２の材料層との界面または界面近傍に水が析出し、
前記分離する工程では、前記界面または前記界面近傍に存在する水に光が照射されることにより、前記第１の材料層と前記第２の材料層とが分離する、半導体装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、
前記第１の材料層は、チタン、モリブデン、アルミニウム、タングステン、シリコン、インジウム、亜鉛、ガリウム、タンタル、及び錫のうち一つまたは複数を有するように形成される、半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一において、
前記第１の材料層は、チタン及び酸化チタンのうち一方または双方を有するように形成される、半導体装置の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一において、
前記第１の材料層は、チタンと酸化チタンとの積層構造を有するように形成される、半導体装置の作製方法。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一において、
前記第１の材料層を形成する工程では、
前記基板上に金属層を形成し、
前記金属層の表面にプラズマ処理を行うことで、金属酸化物層を形成する、半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月27日(2020.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に絶縁膜を成膜する第１の工程と、
大気雰囲気下で前記基板を搬送する第２の工程と、
前記絶縁膜を加熱する第３の工程と、
前記絶縁膜上に金属酸化物膜を成膜する第４の工程と、を有し、
前記第３の工程及び第４の工程は、水蒸気分圧が大気よりも小さい雰囲気下で一貫して行われる、半導体装置の作製方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記第３の工程は、
１００℃以上５００℃以下の温度範囲で行われ、且つ１分以上１２０分以下の処理時間の範囲で行われる、半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記第３の工程は、圧力が１×１０−７Ｐａ以上１×１０−３Ｐａ以下で行われる、半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、
前記金属酸化物膜は、Ｉｎ−Ｍ−Ｚｎ酸化物（ＭはＧａ、Ａｌ、Ｙ、またはＳｎ）ターゲットを用いてスパッタリング法により成膜される、半導体装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記金属酸化物膜は、室温以上２００℃以下の温度で成膜される、半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
前記金属酸化物膜は、意図的に加熱しない温度で成膜される、半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月29日(2019.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学樹脂層上に積層された第１の基板の表面に異方性導電フィルムを仮貼りする工程と、
前記第１の基板上に仮貼りされた異方性導電フィルムにツールヘッドの押圧面を押し当てることで、前記第１の基板上に前記異方性導電フィルムを仮圧着する工程と、を含み、
前記押圧面は、凸状に湾曲しており、
前記押圧面の曲率半径は５．５ｍｍ超である、異方性導電フィルムの仮圧着方法。
【請求項２】
前記押圧面は、前記異方性導電フィルムの幅方向に凸状に湾曲している、請求項１記載の異方性導電フィルムの仮圧着方法。
【請求項３】
前記第１の基板は、プラスチック基板である、請求項１または２に記載の異方性導電フィルムの仮圧着方法。
【請求項４】
前記第１の基板は、タッチパネル用の基板である、請求項３記載の異方性導電フィルムの仮圧着方法。
【請求項５】
前記光学樹脂層は、第３の基板上に積層されている、請求項１〜４の何れか１項に記載の異方性導電フィルムの仮圧着方法。
【請求項６】
前記第３の基板は、画像表示装置の基板である、請求項５記載の異方性導電フィルムの仮圧着方法。
【請求項７】
押圧面が凸状に湾曲したツールヘッドを有し、
前記押圧面の曲率半径が５．５ｍｍ超である、異方性導電フィルムの仮圧着装置。
【請求項８】
光学樹脂層上に積層された第１の基板と、前記第１の基板上に異方性導電層を介して積層された第２の基板と、を有し、
前記異方性導電層に含まれる気泡の平面視での面積は、前記異方性導電層の平面視での総面積に対して１５％未満である、異方性導電接続構造体。
【請求項９】
光学樹脂層上に積層された第１の基板の表面に異方性導電フィルムを仮貼りする工程と、
前記第１の基板上に仮貼りされた異方性導電フィルムにツールヘッドの押圧面を押し当てることで、前記第１の基板上に前記異方性導電フィルムを仮圧着する工程と、
前記第１の基板上に前記異方性導電フィルムを介して第２の基板を積層し、前記第２の基板を前記異方性導電フィルム上に本圧着する工程と、を含み、
前記押圧面は、凸状に湾曲しており、
前記押圧面の曲率半径は５．５ｍｍ超である、異方性導電接続構造体の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
光学樹脂層４０は、第１の基板３０を第３の基板７０に接着するための層であり、例えばＯＣＡ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｌｅａｒ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ）、ＯＣＲ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｌｅａｒ  Ｒｅｓｉｎ）等で構成される。光学樹脂層４０は非常に柔らかく、仮圧着時に変形しやすい。この結果、第１の基板が光学樹脂層の変形に追従して変形しやすい。したがって、仮圧着時に気泡が発生しやすい。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月23日(2019.12.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多数の栽培作物が植栽された長尺な栽培ベッドと、前記栽培ベッドの基端側に配置された空調機と、前記空調機から栽培ベッドに沿って延びるように配設された吹出ダクトとを備え、空調機からの冷温風を吹出ダクトに圧送して前記吹出ダクトから栽培作物に供給する空調システムであって、
前記栽培作物に供給された冷温風を空調機に回収する長尺な吸込ダクトを、前記栽培ベッドに沿って前記吹出ダクトに並設したことを特徴とする空調システム。
【請求項２】
前記吸込ダクトにその長手方向に沿って複数の吸込孔を設け、前記吸込孔のダクト単位長さ当りの開口面積を、前記栽培ベッドの基端側から先端側へ向けて大きくなるように構成した請求項１に記載の空調システム。
【請求項３】
多数の栽培作物が植栽された長尺な栽培ベッドと、前記栽培ベッドの基端側に配置された空調機と、前記空調機から栽培ベッドに沿って延びるように配設された吹出ダクトとを備え、空調機からの冷温風を吹出ダクトに圧送して前記吹出ダクトから栽培作物に供給する空調システムであって、
前記吹出ダクトにその長手方向に沿って複数の吹出孔を設け、前記吹出孔のダクト単位長さ当りの開口面積を、前記栽培ベッドの基端側から先端側へ向けて大きくなるように構成したことを特徴とする空調システム。
【請求項４】
前記吹出ダクトに圧送される冷温風に炭酸ガスを含有させた請求項１又は３に記載の空調システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また、本発明の空調システムは、吹出ダクトにその長手方向に沿って複数の吹出孔を設け、吹出孔のダクト単位長さ当りの開口面積を、栽培ベッドの基端側から先端側へ向けて大きくなるように構成したことを特徴とする。
これにより、大規模な栽培事業設備において、空調機の近傍に位置する吹出ダクトの基端側と空調機から離隔する吹出ダクトの先端側との間で吹出量の分布を調整することにより、各々の栽培作物の近傍に供給される冷温風を同等量にすることが可能となる。その結果、全ての栽培作物に冷温風を均一に供給することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明において、吸込ダクトにその長さ方向に沿って複数の吸込孔を設け、吸込孔のダクト単位長さ当りの開口面積を、栽培ベッドの基端側から先端側へ向けて大きくなるように構成することが望ましい。
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月22日(2020.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線照射装置から被写体に照射された放射線を受けることにより動態画像を撮影することが可能な放射線画像撮影装置と、
それぞれ異なる複数の放射線フィルターの中からいずれかを、前記放射線の光路上に切り替え可能に配置するコリメーター部と、
フィルター種を含む撮影条件を設定可能なコンソールと、を備えた放射線画像撮影システムにおいて、
前記コンソールは、
前記フィルター種を自動又は撮影者の設定操作のいずれに基づいても設定可能に構成されており、
前記フィルター種を自動で設定した後、撮影者によるフィルター種の設定操作があった場合に、撮影者が設定したフィルター種と、自動で設定したフィルター種とを比較し、その比較結果に対応する表示を行うことが可能であることを特徴とする放射線画像撮影システム。
【請求項２】
パルス状の放射線を所定周期で複数回照射する動作、及び放射線を所定時間連続的に照射する動作のうちの少なくとも一方の動作をすることが可能な放射線照射装置を備えることを特徴とする請求項１に記載の放射線画像撮影システム。
【請求項３】
前記コンソールは、前記フィルター種によって決まる、当該放射線フィルターのフィルター厚を比較することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の放射線画像撮影システム。
【請求項４】
前記コンソールは、撮影者が設定した前記放射線フィルターのフィルター厚が、自動で設定した前記放射線フィルターのフィルター厚を含む推奨範囲内にあるか否かを判断し、当該推奨範囲を外れた場合に、推奨設定と異なるフィルターが設定された旨を表示することを特徴とする請求項３に記載の放射線画像撮影システム。
【請求項５】
放射線照射装置から被写体に照射された放射線を受けることにより動態画像を撮影することが可能な放射線画像撮影装置と、
それぞれ異なる複数の放射線フィルターの中からいずれかを、前記放射線の光路上に手動で配置可能なコリメーター部と、
撮影条件を設定可能なコンソールと、を備えた放射線画像撮影システムにおいて、
前記コリメーター部は、配置されたフィルター種を識別し、前記コンソールに送信する識別手段を有し、
前記コンソールは、
前記放射線フィルターの前記コリメーター部への配置があった場合に、配置されたフィルター種と、設定された撮影条件において推奨されるフィルター種とを比較し、その比較結果に対応する表示を行うことが可能であることを特徴とする放射線画像撮影システム。
【請求項６】
パルス状の放射線を所定周期で複数回照射する動作、及び放射線を所定時間連続的に照射する動作のうちの少なくとも一方の動作をすることが可能な放射線照射装置を備えることを特徴とする請求項５に記載の放射線画像撮影システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記の課題を解決するため、本発明は、
放射線照射装置から被写体に照射された放射線を受けることにより動態画像を撮影することが可能な放射線画像撮影装置と、
それぞれ異なる複数の放射線フィルターの中からいずれかを、前記放射線の光路上に切り替え可能に配置するコリメーター部と、
フィルター種を含む撮影条件を設定可能なコンソールと、を備えた放射線画像撮影システムにおいて、
前記コンソールは、
前記フィルター種を自動又は撮影者の設定操作のいずれに基づいても設定可能に構成されており、
前記フィルター種を自動で設定した後、撮影者によるフィルター種の設定操作があった場合に、撮影者が設定したフィルター種と、自動で設定したフィルター種とを比較し、その比較結果に対応する表示を行うことが可能であることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、本発明は、
放射線照射装置から被写体に照射された放射線を受けることにより動態画像を撮影することが可能な放射線画像撮影装置と、
それぞれ異なる複数の放射線フィルターの中からいずれかを、前記放射線の光路上に手動で配置可能なコリメーター部と、
撮影条件を設定可能なコンソールと、を備えた放射線画像撮影システムにおいて、
前記コリメーター部は、配置されたフィルター種を識別し、前記コンソールに送信する識別手段を有し、
前記コンソールは、
前記放射線フィルターの前記コリメーター部への配置があった場合に、配置されたフィルター種と、設定された撮影条件において推奨されるフィルター種とを比較し、その比較結果に対応する表示を行うことが可能であることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月23日(2020.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
二次元状に配列された複数の放射線検出素子から画像データをそれぞれ読み出す放射線画像撮影装置
を備え、放射線照射装置により被写体に複数回照射された放射線画像の動画撮影を行う放射線画像撮影システムにおいて、
前記放射線画像撮影装置に読出用同期信号を送信し、前記放射線照射装置に照射用同期信号を送信して、前記放射線画像撮影装置と前記放射線照射装置との同期制御を行う制御ユニットを備え、
前記放射線画像撮影装置は、前記制御ユニットから付加情報が付加された前記読出用同期信号を受信してから画像表示装置に前記画像データ又は当該画像データから所定の割合で抽出したプレビュー用の画像データを転送することを特徴とする放射線画像撮影システム。
【請求項２】
前記放射線画像撮影システムは、更に、前記放射線照射装置を備えたことを特徴とする請求項１記載の放射線画像撮影システム。
【請求項３】
前記制御ユニットは、前記放射線照射装置への前記照射用同期信号の送信を開始した後に前記放射線画像撮影装置に送信する前記読出用同期信号に付加情報を付加して送信することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の放射線画像撮影システム。
【請求項４】
前記制御ユニットは、前記放射線照射装置への前記照射用同期信号の送信を開始する前に前記放射線画像撮影装置に送信していた前記読出用同期信号のパルス幅に比べて、前記放射線照射装置への前記照射用同期信号の送信を開始した後に前記放射線画像撮影装置に送信する前記読出用同期信号のパルス幅を有意に変化させることで、前記読出用同期信号に付加情報を付加して送信することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の放射線画像撮影システム。
【請求項５】
前記制御ユニットは、前記放射線照射装置への前記照射用同期信号の送信を開始した後に前記放射線画像撮影装置に前記読出用同期信号を送信する際、当該読出用同期信号の送信の前若しくは後又は前後に当該読出用同期信号に付加信号を付随させて送信することで、前記読出用同期信号に付加情報を付加して送信することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の放射線画像撮影システム。
【請求項６】
前記制御ユニットは、前記付加情報として、前記放射線照射装置からの放射線の照射が開始されたことを表す情報のほか、前記放射線照射装置が放射線を照射した位置を表す情報又は前記放射線照射装置が放射線を照射した際の照射条件を表す情報を前記読出用同期信号に付加して送信することを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の放射線画像撮影システム。
【請求項７】
前記制御ユニットは、前記放射線照射装置への前記照射用同期信号の送信を開始した後に前記放射線画像撮影装置に前記読出用同期信号を送信する周期と同じ周期で、前記放射線照射装置への前記照射用同期信号の送信を開始する前にも前記放射線画像撮影装置に前記読出用同期信号を送信し、
前記放射線画像撮影装置は、前記放射線照射装置から放射線が照射される前に、前記制御ユニットから送信される前記読出用同期信号に基づいて、放射線が照射されない状態で、暗電流によるオフセットデータの読み出し処理を行うことを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の放射線画像撮影システム。
【請求項８】
表示部を備える画像表示装置を備え、
前記画像表示装置は、前記放射線画像撮影装置から前記画像データが転送されると、当該画像データに基づいてフレーム画像又はプレビュー用のフレーム画像を生成して前記表示部に表示させることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の放射線画像撮影システム。
【請求項９】
二次元状に配列された複数の放射線検出素子から画像データをそれぞれ読み出して転送する放射線画像撮影装置と、
前記放射線画像撮影装置から転送された画像データに基づいて生成したフレーム画像を表示可能な画像表示装置と、
を備え、放射線照射装置により被写体に複数回照射された放射線画像の動画撮影を行う放射線画像撮影システムにおいて、
前記放射線画像撮影装置及び前記画像表示装置に読出用同期信号を送信し、前記放射線照射装置に照射用同期信号を送信して、前記放射線画像撮影装置と前記放射線照射装置との同期制御を行う制御ユニットを備え、
前記画像表示装置は、前記制御ユニットから付加情報が付加された前記読出用同期信号を受信した後に受信した前記画像データに基づいて生成した前記フレーム画像又はプレビュー用のフレーム画像を表示することを特徴とする放射線画像撮影システム。
【請求項１０】
前記放射線画像撮影システムは、更に、前記放射線照射装置を備えたことを特徴とする請求項９記載の放射線画像撮影システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
前記の問題を解決するために、本発明の放射線画像撮影システムは、
二次元状に配列された複数の放射線検出素子から画像データをそれぞれ読み出す放射線画像撮影装置
を備え、放射線照射装置により被写体に複数回照射された放射線画像の動画撮影を行う放射線画像撮影システムにおいて、
前記放射線画像撮影装置に読出用同期信号を送信し、前記放射線照射装置に照射用同期信号を送信して、前記放射線画像撮影装置と前記放射線照射装置との同期制御を行う制御ユニットを備え、
前記放射線画像撮影装置は、前記制御ユニットから付加情報が付加された前記読出用同期信号を受信してから画像表示装置に前記画像データ又は当該画像データから所定の割合で抽出したプレビュー用の画像データを転送することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、本発明の放射線画像撮影システムは、
二次元状に配列された複数の放射線検出素子から画像データをそれぞれ読み出して転送する放射線画像撮影装置と、
前記放射線画像撮影装置から転送された画像データに基づいて生成したフレーム画像を表示可能な画像表示装置と、
を備え、放射線照射装置により被写体に複数回照射された放射線画像の動画撮影を行う放射線画像撮影システムにおいて、
前記放射線画像撮影装置及び前記画像表示装置に読出用同期信号を送信し、前記放射線照射装置に照射用同期信号を送信して、前記放射線画像撮影装置と前記放射線照射装置との同期制御を行う制御ユニットを備え、
前記画像表示装置は、前記制御ユニットから付加情報が付加された前記読出用同期信号を受信した後に受信した前記画像データに基づいて生成した前記フレーム画像又はプレビュー用のフレーム画像を表示することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月28日(2019.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マーカ部を有し、視線方向の角度可変な結像光学系と、光学的に接続される光学部材を透過する光に基づく生体内画像に基づいて、前記視線方向の角度を特定する角度特定部と、
前記生体内画像に対する画像処理を行う画像処理部と、
を備える、画像処理装置。
【請求項２】
前記画像処理部は、前記角度特定部により特定される前記角度に基づく画像処理を行う、請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記マーカ部は、前記角度に応じた複数の色を含み、
前記角度特定部は、前記生体内画像に含まれる前記マーカ部に対応する領域の色情報に基づいて前記角度を特定する、請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記光学部材は複数のマーカ部を有し、
前記複数のマーカ部は、上下方向における前記複数の色の境界の位置が前記マーカ部ごとに異なり、
前記角度特定部は、前記生体内画像における前記境界に対応する位置にさらに基づいて、前記角度を特定する、請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記マーカ部は、半透明であり、
前記画像処理部は、前記生体内画像に含まれる前記マーカ部に対応する領域に対し、前記角度に応じた色を減算する画像処理を行う、請求項３または４に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記画像処理部は、前記角度を示すインジケータを合成する画像処理を行う、請求項２〜５のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記画像処理部は、前記角度特定部により特定される前記角度に基づく手振れ補正処理を行う、請求項１〜６のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記画像処理部は、前記生体内画像から取得される動き情報のうち、前記角度に基づいて特定される回転方向に対応する成分を抑制して得られる補正動き情報に基づいて、前記手振れ補正処理を行う、請求項７に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記画像処理装置は、前記角度特定部により特定される前記角度に基づく光源制御を行う光源制御部をさらに備える、請求項１〜８のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
前記光源制御部は、前記角度に基づいて特定される撮像に寄与する光源がオン、それ以外の光源がオフとなるように、光源制御を行う、請求項９に記載の画像処理装置。
【請求項１１】
前記光源制御部は、前記角度に基づいて、より撮像に寄与する光源により強い電力が与えられるように、光源制御を行う、請求項９に記載の画像処理装置。
【請求項１２】
前記結像光学系は、内視鏡の一部を構成するものである、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項１３】
マーカ部を有し、視線方向の角度可変な結像光学系と、光学的に接続される光学部材を透過する光に基づく生体内画像に基づいて、プロセッサが視線方向の角度を特定することと、
生体内画像に対する画像処理を行うことと、
を、含む画像処理方法。
【請求項１４】
マーカ部を有し、視線方向の角度可変な結像光学系と、光学的に接続される、光学部材。
【請求項１５】
前記マーカ部は、前記視線方向の角度に応じた複数の色を含む、請求項１４に記載の光学部材。
【請求項１６】
前記光学部材は複数のマーカ部を有し、
前記複数のマーカ部は、上下方向における前記複数の色の境界の位置が前記マーカ部ごとに異なる、請求項１５に記載の光学部材。
【請求項１７】
前記マーカ部は、前記光学部材の左右方向における中央部に位置する、請求項１４または１５に記載の光学部材。
【請求項１８】
前記マーカ部は、半透明である、請求項１５〜１７のいずれか一項に記載の光学部材。
【請求項１９】
前記マーカ部は、前記視線方向の角度を示す目盛線、または前記視線方向の角度を示す文字列を含む、請求項１４に記載の光学部材。