【手続補正書】
【提出日】令和2年6月12日(2020.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマチャンバ内でエッジ領域におけるイオン束の方向性を制御するためのシステムであって、
第１のＲＦ信号を生成するように構成された第１の高周波数（ＲＦ）発生器と、
前記第１のＲＦ発生器に結合され、前記第１のＲＦ信号を受信して第１の修正ＲＦ信号を生成するための第１のインピーダンス整合回路と、
プラズマチャンバであって、
エッジリングと、
前記エッジリングの下方に位置付けられ、前記第１の修正ＲＦ信号を受信するために前記第１のインピーダンス整合回路に結合された結合リングであって、前記第１の修正ＲＦ信号を受信すると電極と前記エッジリングとの間にキャパシタンスを生成してイオン束の方向性を制御するように構成された前記電極を含む、結合リングと、
を含むプラズマチャンバと、
を備えるシステム。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムであって、更に、
第２のＲＦ信号を生成するように構成された第２のＲＦ発生器と、
前記第２のＲＦ発生器に結合され、前記第２のＲＦ信号を受信して第２の修正ＲＦ信号を生成するように構成された第２のインピーダンス整合回路と、
前記第２のインピーダンス整合回路に結合され、前記第２の修正ＲＦ信号を受信して前記プラズマチャンバ内におけるプラズマのインピーダンスを変化させるように構成されたチャックであって、前記エッジリング及び前記結合リングの側方に位置付けられたチャックと、
を備えるシステム。
【請求項３】
請求項１に記載のシステムであって、
前記電極は、前記結合リングに埋め込まれ、ワイヤメッシュ又はリングである、システム。
【請求項４】
請求項１に記載のシステムであって、更に、
前記結合リングの下方に位置付けられた第１の絶縁体リングと、
前記第１の絶縁体リングの下方に位置付けられた第２の絶縁体リングと、
前記電極に結合するために前記第２の絶縁体リング、前記第１の絶縁体リング、及び前記結合リングの一部分を通って延設されているケーブルであって、前記結合リングにおける前記電極と前記エッジリングとの間の部分は、前記電極と前記エッジリングとの間の誘電体として機能する、ケーブルと、
を備えるシステム。
【請求項５】
請求項４に記載のシステムであって、更に、
前記第１の絶縁体リングの側方に位置付けられた接地リングを備えるシステム。
【請求項６】
請求項１に記載のシステムであって、更に、
前記電極に結合された電力ピンの同軸ケーブルと、
一点において前記同軸ケーブルに結合されたフィードリングと、
前記フィードリング及び前記第１のインピーダンス整合回路に結合されたＲＦロッドと、
を備えるシステム。
【請求項７】
請求項１に記載のシステムであって、更に、
前記プラズマチャンバ内に位置付けられたプローブと、
前記プローブに結合され、前記イオン束に関係付けられた変数を測定するように構成されたセンサと、
前記変数に基づいて、前記第１のＲＦ発生器によって前記電極に供給される電力の量が修正されるべきであるかどうかを決定するために、前記センサに結合されたホストコンピュータシステムと、
を備え、
前記ホストコンピュータシステムは、前記第１のインピーダンス整合回路を通じて前記第１のＲＦ発生器によって前記電極に供給される前記電力の量を変更するために、前記第１のＲＦ発生器に結合される、システム。
【請求項８】
プラズマチャンバ内でエッジ領域におけるイオン束の方向性を制御するためのシステムであって、
第１のフィルタリングされたＲＦ信号を出力するように構成された第１の高周波数（ＲＦ）フィルタと、
前記第１のＲＦフィルタに結合され、前記第１のフィルタリングされたＲＦ信号を受信して第２のフィルタリングされたＲＦ信号を出力するための第２のＲＦフィルタと、
プラズマチャンバであって、
エッジリングと、
前記エッジリングの下方に位置付けられ、前記第２のＲＦフィルタに結合された結合リングであって、前記第２のフィルタリングされたＲＦ信号を受信し、前記第２のフィルタリングされたＲＦ信号を受信すると更に電極と前記エッジリングとの間にキャパシタンスを生成してイオン束の方向性を制御するように構成された前記電極を含む、結合リングと、
を含むプラズマチャンバと、
を備えるシステム。
【請求項９】
請求項８に記載のシステムであって、更に、
ＲＦ信号を生成するように構成されたＲＦ発生器と、
前記ＲＦ発生器に結合され、前記ＲＦ信号を受信して修正ＲＦ信号を生成するように構成されたインピーダンス整合回路と、
前記インピーダンス整合回路に結合され、前記修正ＲＦ信号を受信して前記プラズマチャンバ内におけるプラズマのインピーダンスを変化させるように構成されたチャックであって、前記エッジリング及び前記結合リングの側方に位置付けられたチャックと、
を備えるシステム。
【請求項１０】
請求項８に記載のシステムであって、
前記電極は、前記結合リングに埋め込まれ、ワイヤメッシュ又はリングである、システム。
【請求項１１】
請求項８に記載のシステムであって、更に、
前記結合リングの下方に位置付けられた第１の絶縁体リングと、
前記第１の絶縁体リングの下方に位置付けられた一部分を有する第２の絶縁体リングと、
前記電極に結合するために前記第２の絶縁体リング、前記第１の絶縁体リング、及び前記結合リングの一部分を通って延設されている電力ピンであって、前記結合リングにおける前記電極と前記エッジリングとの間の部分は、前記電極と前記エッジリングとの間の誘電体として機能する、電力ピンと、
を備えるシステム。
【請求項１２】
請求項１１に記載のシステムであって、更に、
前記第１の絶縁体リングの側方に位置付けられた接地リングを備えるシステム。
【請求項１３】
請求項８に記載のシステムであって、更に、
前記電極に結合された電力ピンの同軸ケーブルと、
一点において前記同軸ケーブルに結合されたフィードリングと、
前記フィードリングに結合された前記第２のＲＦフィルタに結合されたＲＦロッドと、
を備えるシステム。
【請求項１４】
請求項８に記載のシステムであって、更に、
前記プラズマチャンバ内に位置付けられたプローブと、
前記プローブに結合され、イオン束に関係付けられた変数を測定するように構成されたセンサと、
前記変数に基づいて、前記第１のＲＦフィルタのキャパシタンスが修正されるべきであるかどうかを決定するために、前記センサに結合されたホストコンピュータシステムと、
前記ホストコンピュータシステムに結合されたモータと、
を備え、
前記ホストコンピュータシステムは、前記モータを通じて前記第１のＲＦフィルタの前記キャパシタンスを修正するように構成される、システム。
【請求項１５】
プラズマチャンバ内でエッジ領域におけるイオン束の方向性を制御するためのシステムであって、
フィルタリングされたＲＦ信号を出力するように構成された高周波数（ＲＦ）フィルタと、
プラズマチャンバであって、
エッジリングと、
前記エッジリングの下方に位置付けられ、前記フィルタリングされたＲＦ信号を受信するために前記ＲＦフィルタに結合された結合リングであって、前記フィルタリングされたＲＦ信号を受信すると電極と前記エッジリングとの間にキャパシタンスを生成してイオン束の方向性を制御するように構成された前記電極を含む、結合リングと、
を含むプラズマチャンバと、
を備えるシステム。
【請求項１６】
請求項１５に記載のシステムであって、更に、
ＲＦ信号を生成するように構成されたＲＦ発生器と、
前記ＲＦ発生器に結合され、前記ＲＦ信号を受信して修正ＲＦ信号を生成するように構成されたインピーダンス整合回路と、
前記インピーダンス整合回路に結合され、前記修正ＲＦ信号を受信して前記プラズマチャンバ内におけるプラズマのインピーダンスを変化させるように構成されたチャックであって、前記エッジリング及び前記結合リングの側方に位置付けられたチャックと、
を備えるシステム。
【請求項１７】
請求項１５に記載のシステムであって、
前記電極は、前記結合リングに埋め込まれ、ワイヤメッシュ又はリングである、システム。
【請求項１８】
請求項１５に記載のシステムであって、更に、
前記結合リングの下方に位置付けられた第１の絶縁体リングと、
前記第１の絶縁体リングの下方に位置付けられた一部分を有する第２の絶縁体リングと、
前記電極に結合するために前記第２の絶縁体リング、前記第１の絶縁体リング、及び前記結合リングの一部分を通って延設されている電力ピンであって、前記結合リングにおける前記電極と前記エッジリングとの間の部分は、前記電極と前記エッジリングとの間の誘電体として機能する、電力ピンと、
を備えるシステム。
【請求項１９】
請求項１８に記載のシステムであって、更に、
前記第１の絶縁体リングの側方に位置付けられた接地リングを備えるシステム。
【請求項２０】
請求項１５に記載のシステムであって、更に、
前記電極に結合された電力ピンの同軸ケーブルと、
一点において前記同軸ケーブルに結合されたフィードリングと、
を備えるシステム。
【請求項２１】
請求項１５に記載のシステムであって、更に、
前記プラズマチャンバ内に位置付けられたプローブと、
前記プローブに結合され、イオン束に関係付けられた変数を測定するように構成されたセンサと、
前記変数に基づいて、前記ＲＦフィルタのキャパシタンスが修正されるべきであるかどうかを決定するために、前記センサに結合されたホストコンピュータシステムと、
前記ホストコンピュータシステムに結合されたモータと、
を備え、
前記ホストコンピュータシステムは、前記モータを通じて前記ＲＦフィルタの前記キャパシタンスを修正するように構成される、システム。
【請求項２２】
結合リングであって、
環状形状を有する絶縁体材料であって、上面と、底面と、内側面とを有する絶縁体材料と、
前記絶縁体材料に埋め込まれた電極であって、前記絶縁体材料の前記上面の下方の第１の距離、及び、前記絶縁体材料の前記底面の上方の第２の距離に位置付けられた電極と、
前記絶縁体材料の前記底面から前記電極の下面に延びるように前記絶縁体材料に形成された貫通路であって、前記貫通路は、前記電極の前記下面に電気的に結合するために電力ピンを受けるように構成され、前記結合リングは、プラズマチャンバのチャックの一部分を取り囲む前記内側面を有する向きで前記プラズマチャンバ内に配置されるように構成される、貫通路と、
を備える、結合リング。
【請求項２３】
請求項２２に記載の結合リングであって、
前記電極と前記絶縁体材料の前記上面との間に位置付けられた前記絶縁体材料の一部分は、前記電極と前記プラズマチャンバのエッジリングとの間の容量結合を容易にするように誘電体として機能する、結合リング。
【請求項２４】
請求項２２に記載の結合リングであって、
前記第１の距離は、前記第２の距離よりも短い、結合リング。
【請求項２５】
請求項２２に記載の結合リングであって、
前記電極は、網の目状構造を形成するための複数の配線の交わりを有するメッシュ電極である、結合リング。
【請求項２６】
請求項２２に記載の結合リングであって、
前記電極は、平坦なリング状電極である、結合リング。
【請求項２７】
請求項２２に記載の結合リングであって、
前記電力ピンは、同軸ケーブルと、前記同軸ケーブルを取り囲むスリーブとを含む、結合リング。
【請求項２８】
請求項２２に記載の結合リングであって、
前記電極と前記絶縁体材料の前記上面との間に位置付けられた前記絶縁体材料の一部分は、前記電極と前記プラズマチャンバのエッジリングとの間の容量結合を容易にするように誘電体として機能し、前記電力ピンは、前記容量結合を容易にするようにＲＦ信号を受信するためにフィードリングを通じてＲＦ伝送路に結合され、前記フィードリングは、円形部分及び複数のアームを有し、前記アームの１つは、ＲＦロッドから前記ＲＦ信号を受信するために前記ＲＦ伝送路の前記ＲＦロッドに結合され、前記アームの別のアームは、前記ＲＦ信号を前記電極の場所に提供するために前記電力ピンに結合される、結合リング。
【請求項２９】
請求項２２に記載の結合リングであって、
前記絶縁体材料の前記上面は、前記プラズマチャンバのエッジリングの底面に隣接して位置付けられるように構成され、前記絶縁体材料の前記底面の一部分は、前記プラズマチャンバの絶縁体リングの表面に隣接して位置付けられるように構成され、前記エッジリングは、上部電極と前記エッジリングとの間に隙間が形成されるように前記プラズマチャンバの前記上部電極に面する、結合リング。
【請求項３０】
請求項２２に記載の結合リングであって、
前記電力ピンは、高周波数（ＲＦ）伝送路を通じてインピーダンス整合回路から修正ＲＦ信号を受信するために、前記ＲＦ伝送路を通じて前記インピーダンス整合回路に結合され、前記インピーダンス整合回路は、ＲＦ発生器からＲＦ信号を受信するために前記ＲＦ発生器に結合される、結合リング。
【請求項３１】
請求項３０に記載の結合リングであって、
前記電力ピンは、ＲＦフィルタを通じて前記インピーダンス整合回路に結合され、前記ＲＦフィルタは、前記プラズマチャンバのエッジリングを直流（ＤＣ）信号から保護するために前記ＤＣ信号をフィルタリングするように構成され、前記絶縁体材料の前記上面は、前記エッジリングに隣接する、結合リング。
【請求項３２】
請求項２２に記載の結合リングであって、
前記絶縁体材料の一部分は、前記電力ピンを前記プラズマチャンバの前記チャックから分離する、結合リング。
【請求項３３】
請求項２２に記載の結合リングであって、
前記電力ピンは、ＲＦ伝送路を通じて高周波数（ＲＦ）フィルタからフィルタリングされたＲＦ信号を受信するために、前記ＲＦ伝送路を通じて前記ＲＦフィルタに結合され、前記ＲＦフィルタは、接地電位に結合される、結合リング。
【請求項３４】
請求項３３に記載の結合リングであって、
前記電力ピンは、追加のＲＦフィルタを通じて前記ＲＦフィルタに結合され、前記追加のＲＦフィルタは、前記プラズマチャンバのエッジリングを直流（ＤＣ）信号から保護するために前記ＤＣ信号をフィルタリングするように構成され、前記絶縁体材料の前記上面は、前記エッジリングに隣接する、結合リング。
【請求項３５】
電力伝達システムであって、
リング状部分と、
前記リング状部分に結合された複数のアームと、
複数のピンであって、それぞれが前記複数のアームの対応するアームに結合される複数のピンと、
異なる場所で前記複数のピンに結合された電極であって、前記複数のピン及び前記複数のアームを通じて、前記場所で前記リング状部分から高周波数（ＲＦ）電力を受信するように構成された電極と、
を備える、電力伝達システム。
【請求項３６】
請求項３５に記載の電力伝達システムであって、
前記リング状部分は、フィードリングの円形部分である、電力伝達システム。
【請求項３７】
請求項３５に記載の電力伝達システムであって、
前記複数のピンは、それぞれ同軸ケーブル及びスリーブを含み、前記スリーブは、前記同軸ケーブルを覆い、前記絶縁体材料で作成され、前記複数のアームは、それぞれ前記同軸ケーブルの対応するケーブルに結合される、電力伝達システム。
【請求項３８】
請求項３５に記載の電力伝達システムであって、
前記複数のピンは、第１のピン及び第２のピンを含み、前記複数のアームは、第１のアーム及び第２のアームを含み、前記第１のアームは、前記第１のピンに結合され、前記第２のアームは、前記第２のピンに結合される、電力伝達システム。
【請求項３９】
請求項３５に記載の電力伝達システムであって、
前記電極は、結合リングに埋め込まれるように構成される、電力伝達システム。
【請求項４０】
請求項３５に記載の電力伝達システムであって、
前記リング状部分は、アームを通じてＲＦ伝送路のＲＦロッドに結合されるように構成される、電力伝達システム。
【請求項４１】
請求項３５に記載の電力伝達システムであって、
前記リング状部分は、アーム及びＲＦフィルタを通じてＲＦ伝送路のＲＦロッドに結合されるように構成される、電力伝達システム。
【請求項４２】
請求項３５に記載の電力伝達システムであって、
前記電極は、メッシュ電極又はリング電極である、電力伝達システム。
【請求項４３】
プラズマ電極アセンブリであって、
エッジリングと、
前記エッジリングの下方に位置付けられた、電極を有する結合リングと、
を備え、
前記電極は、複数のピンに結合され、
前記複数のピンは、複数のアームに結合され、
前記複数のアームは、リング状部分に結合され、
前記電極は、前記複数のピン及び前記複数のアームを通じて、前記リング状部分から高周波数（ＲＦ）電力を受信するように構成される、プラズマ電極アセンブリ。
【請求項４４】
請求項４３に記載のプラズマ電極アセンブリであって、
前記電極は、前記結合リングを通じて前記エッジリングに容量的に結合されるように構成される、プラズマ電極アセンブリ。
【請求項４５】
請求項４３に記載のプラズマ電極アセンブリであって、
前記エッジリングは、前記エッジリングとプラズマチャンバの上部電極との間の隙間とインターフェース接続するように構成される、プラズマ電極アセンブリ。
【請求項４６】
請求項４３に記載のプラズマ電極アセンブリであって、
前記リング状部分は、フィードリングの円形部分である、プラズマ電極アセンブリ。