Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和2年3月2日(2020.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
細胞内でのＴＭＰＲＳＳ６の発現を阻害することが可能な二本鎖ＲＮＡｉ剤であって、前記二本鎖ＲＮＡｉ剤が、二本鎖領域を形成するセンス鎖及びアンチセンス鎖を含み、前記センス鎖が、
５’−ＣＵＵＣＵＵＣＵＧＧＵＵＣＡＵＵＣＵＣＣＡ−３’（配列番号２２３）
のヌクレオチド配列と３つ以下のヌクレオチドが異なる少なくとも１５連続ヌクレオチドを含み、前記アンチセンス鎖が、
５’−ＵＧＧＡＧＡＡＵＧＡＡＣＣＡＧＡＡＧＡＡＧＣＡ−３’（配列番号２９２）
のヌクレオチド配列と３つ以下のヌクレオチドが異なる少なくとも１５連続ヌクレオチドを含む相補性の領域を含む、
二本鎖ＲＮＡｉ剤。
【請求項２】
前記センス鎖の前記ヌクレオチドの全て及び前記アンチセンス鎖の前記ヌクレオチドの全てが、修飾ヌクレオチドである、請求項１に記載の二本鎖ＲＮＡｉ剤。
【請求項３】
前記修飾ヌクレオチドの少なくとも１つが、３’末端デオキシ−チミン（ｄＴ）ヌクレオチド、２’−Ｏ−メチル修飾ヌクレオチド、２’−フルオロ修飾ヌクレオチド、２’−デオキシ−修飾ヌクレオチド、固定ヌクレオチド、非塩基性ヌクレオチド、２’−アミノ−修飾ヌクレオチド、２’−アルキル−修飾ヌクレオチド、モルホリノヌクレオチド、ホスホロアミデート、非天然塩基を含むヌクレオチド、５’−ホスホロチオエート基を含むヌクレオチド、５’リン酸又は５’リン酸模倣体を含むヌクレオチド、及びコレステリル誘導体又はドデカン酸ビスデシルアミド基に結合された末端ヌクレオチドからなる群から選択される、請求項１または２に記載の二本鎖ＲＮＡｉ剤。
【請求項４】
少なくとも１つの鎖が、少なくとも１つまたは少なくとも２つのヌクレオチドの３’オーバーハングを含む、いずれかの請求項１に記載の二本鎖ＲＮＡｉ剤。
【請求項５】
細胞内でのＴＭＰＲＳＳ６（マトリプターゼ−２）の発現を阻害することが可能な二本鎖ＲＮＡｉ剤であって、前記二本鎖ＲＮＡｉ剤が、アンチセンス鎖に相補的なセンス鎖を含み、前記アンチセンス鎖が、
５’−ＵＧＧＡＧＡＡＵＧＡＡＣＣＡＧＡＡＧＡＡＧＣＡ−３’（配列番号２９２）
に相補的な領域を含み、各鎖が、約１４〜約３０ヌクレオチド長であり、前記二本鎖ＲＮＡｉ剤が、式（ＩＩＩ）：
センス：５’ｎｐ−Ｎａ−（ＸＸＸ）ｉ−Ｎｂ−ＹＹＹ−Ｎｂ−（ＺＺＺ）ｊ−Ｎａ−ｎｑ３’
アンチセンス：３’ｎｐ’−Ｎａ’−（Ｘ’Ｘ’Ｘ’）ｋ−Ｎｂ’−Ｙ’Ｙ’Ｙ’−Ｎｂ’−（Ｚ’Ｚ’Ｚ’）ｌ−Ｎａ’−ｎｑ’５’（ＩＩＩ）
（式中：
ｉ、ｊ、ｋ、及びｌがそれぞれ、独立して、０又は１であり；
ｐ、ｐ’、ｑ、及びｑ’がそれぞれ、独立して、０〜６であり；
各Ｎａ及びＮａ’が、独立して、修飾又は非修飾のいずれかの０〜２５のヌクレオチド又はそれらの組合せを含むオリゴヌクレオチド配列を表し、各配列が、少なくとも２つの異なる修飾のヌクレオチドを含み；
各Ｎｂ及びＮｂ’が、独立して、修飾又は非修飾のいずれかの０〜１０のヌクレオチド又はそれらの組合せを含むオリゴヌクレオチド配列を表し；
それぞれ存在していても又は存在していなくてもよい各ｎｐ、ｎｐ’、ｎｑ、及びｎｑ’が、独立して、オーバーハングヌクレオチドを表し；
ＸＸＸ、ＹＹＹ、ＺＺＺ、Ｘ’Ｘ’Ｘ’、Ｙ’Ｙ’Ｙ’、及びＺ’Ｚ’Ｚ’がそれぞれ、独立して、３連続ヌクレオチド上の３つの同一の修飾の１つのモチーフを表し；
Ｎｂ上の修飾が、Ｙ上の前記修飾と異なり、Ｎｂ’上の修飾が、Ｙ’上の前記修飾と異なり；
前記センス鎖が、少なくとも１つのリガンドにコンジュゲートされている）
によって表される二本鎖ＲＮＡｉ剤。
【請求項６】
前記二本鎖領域が、１５〜３０ヌクレオチド対長、１７〜２３ヌクレオチド対長、１７〜２５ヌクレオチド対長、２３〜２７ヌクレオチド対長、１９〜２１ヌクレオチド対長、または２１〜２３ヌクレオチド対長である、請求項５に記載の二本鎖ＲＮＡｉ剤。
【請求項７】
各鎖が、独立して１５〜３０または１９〜３０のヌクレオチドを有する、請求項１または５に記載の二本鎖ＲＮＡｉ剤。
【請求項８】
前記ヌクレオチド上の修飾が、ＬＮＡ、ＨＮＡ、ＣｅＮＡ、２’−メトキシエチル、２’−Ｏ−アルキル、２’−Ｏ−アリル、２’−Ｃ−アリル、２’−フルオロ、２’−デオキシ、２’−ヒドロキシル、及びそれらの組合せからなる群から選択される、請求項５に記載の二本鎖ＲＮＡｉ剤。
【請求項９】
前記ヌクレオチド上の修飾が、２’−Ｏ−メチル又は２’−フルオロ修飾である、請求項８に記載の二本鎖ＲＮＡｉ剤。
【請求項１０】
前記リガンドが、二価又は三価の分枝鎖状リンカーを介して結合された１つ又は複数のＧａｌＮＡｃ誘導体である、請求項１または５に記載の二本鎖ＲＮＡｉ剤。
【請求項１１】
前記リガンドが、
【化１】
2019214587.tif 000001
である、請求項１または５に記載の二本鎖ＲＮＡｉ剤。
【請求項１２】
前記リガンドが、前記センス鎖の３’末端に結合される、請求項１または５に記載の二本鎖ＲＮＡｉ剤。
【請求項１３】
以下の概略図
【化２】
2019214587.tif 000002
（式中、Ｘが、Ｏ又はＳである）に示される前記リガンドにコンジュゲートされている、請求項１２に記載の二本鎖ＲＮＡｉ剤。
【請求項１４】
少なくとも１つのホスホロチオエート又はメチルホスホネートヌクレオチド間結合を更に含む、請求項１または５に記載の二本鎖ＲＮＡｉ剤。
【請求項１５】
前記ＲＮＡｉ剤が、６〜８つのホスホロチオエートヌクレオチド間結合を含む、請求項１４に記載の二本鎖ＲＮＡｉ剤。
【請求項１６】
請求項１または５に記載の二本鎖ＲＮＡｉ剤を含む医薬組成物。
【請求項１７】
ＴＭＰＲＳＳ６に関連する疾患に罹患しているヒト対象の処置方法への使用のための、請求項１または５に記載の二本鎖ＲＮＡｉ剤、又は請求項１６に記載の医薬組成物。
【請求項１８】
前記ヒトが、遺伝性ヘモクロマトーシス、β−サラセミア、赤芽球性ポルフィリン症、パーキンソン病、アルツハイマー病又はフリードライヒ運動失調症から選択される疾患に罹患している、請求項１７に記載の二本鎖ＲＮＡｉ剤、又は医薬組成物。
【請求項１９】
前記二本鎖ＲＮＡｉ剤、又は医薬組成物が、皮下投与又は静脈内投与されるものである、請求項１７又は１８に記載の二本鎖ＲＮＡｉ剤、又は医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和2年3月9日(2020.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＰＤ−１エピトープに、少なくとも１０-６Mの結合親和性で結合するＩｇＧクラスの完全ヒト抗体であって、配列番号21のアミノ酸配列を有する重鎖可変領域および配列番号22のアミノ酸配列を有する軽鎖可変領域を有する、完全ヒト抗体。
【請求項２】
抗ＰＤ−１完全ヒト抗体Ｆａｂ断片であって、配列番号21のアミノ酸配列を有する重鎖可変領域および配列番号22のアミノ酸配列を有する軽鎖可変領域を有する、抗体Ｆａｂ断片。
【請求項３】
抗ＰＤ−１一本鎖抗体であって、配列番号21のアミノ酸配列を有する重鎖可変領域および配列番号22のアミノ酸配列を有する軽鎖可変領域を有する、一本鎖抗体。
【請求項４】
請求項１〜３の何れかに記載の抗体、抗体Ｆａｂ断片または一本鎖抗体および薬学的に許容される担体を含む、医薬組成物。
【請求項５】
がん、炎症性疾患または自己免疫性疾患の処置用医薬であって、該がん、炎症性疾患または自己免疫性疾患が処置されるように、請求項１〜３の何れかに記載の抗体、抗体Ｆａｂ断片または一本鎖抗体および薬学的に許容される担体を含む、医薬。
【請求項６】
がんが卵巣がん、結腸がん、乳がん、肺がん、骨髄腫、神経芽腫由来ＣＮＳ腫瘍、単球性白血病、Ｂ細胞由来白血病、Ｔ細胞由来白血病、Ｂ細胞由来リンパ腫、Ｔ細胞由来リンパ腫、皮膚がん、小細胞肺がん、非小細胞肺がん（ＮＳＣＬＣ）、頭頸部がん、膵臓がん、膀胱がん、脳がん、結腸直腸がん、甲状腺がん、前立腺がん、腎臓がん、胃がん、精巣がんおよび肥満細胞由来腫瘍からなる群から選択される、請求項５に記載の医薬。
【請求項７】
自己免疫性疾患または炎症性疾患が腸粘膜炎症、大腸炎に伴う消耗性疾患、多発性硬化症、全身性エリテマトーデス、ウイルス感染症、関節リウマチ、変形性関節症、乾癬、クローン病および炎症性腸疾患からなる群から選択される、請求項５に記載の医薬。
【請求項８】
配列番号21の重鎖可変領域アミノ酸配列および配列番号22の軽鎖可変領域アミノ酸配列を含む、単離抗ＰＤ−１抗体またはその抗原結合断片。
【請求項９】
少なくとも１×１０-６Mの結合親和性を有する、請求項８に記載の抗体またはその抗原結合断片。
【請求項１０】
ＩｇＧである、請求項８または９に記載の抗体またはその抗原結合断片。
【請求項１１】
請求項８〜１０の何れかに記載の抗体またはその抗原結合断片および薬学的に許容される担体を含む、医薬組成物。
【請求項１２】
がん、炎症性疾患または自己免疫性疾患の処置用医薬であって、該がん、炎症性疾患または自己免疫性疾患が処置されるように、請求項８〜１０の何れかに記載の抗体またはその抗原結合断片および薬学的に許容される担体を含む、医薬。
【請求項１３】
がんが卵巣がん、結腸がん、乳がん、肺がん、骨髄腫、神経芽腫由来ＣＮＳ腫瘍、単球性白血病、Ｂ細胞由来白血病、Ｔ細胞由来白血病、Ｂ細胞由来リンパ腫、Ｔ細胞由来リンパ腫、皮膚がん、小細胞肺がん、非小細胞肺がん（ＮＳＣＬＣ）、頭頸部がん、膵臓がん、膀胱がん、脳がん、結腸直腸がん、甲状腺がん、前立腺がん、腎臓がん、胃がん、精巣がんおよび肥満細胞由来腫瘍からなる群から選択される、請求項１２に記載の医薬。
【請求項１４】
自己免疫性疾患または炎症性疾患が腸粘膜炎症、大腸炎に伴う消耗性疾患、多発性硬化症、全身性エリテマトーデス、ウイルス感染症、関節リウマチ、変形性関節症、乾癬、クローン病および炎症性腸疾患からなる群から選択される、請求項１２に記載の医薬。
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月28日(2020.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
造血性幹細胞(HSC)を含む細胞の集団をPGE2受容体アゴニストとエクスビボで接触させることを含む、HSC移植を製造する方法。
【請求項２】
PGE2受容体アゴニストが、PGE2の誘導体である、請求項1記載の方法。
【請求項３】
誘導体が、エステルもしくは酸のアミドである、保護基を有する、または接合体を有する、請求項2記載の方法。
【請求項４】
PGE2受容体アゴニストが、PGE2および16,16-ジメチルPGE2から選択される、請求項1〜3のいずれか一項記載の方法。
【請求項５】
請求項1〜3のいずれか一項記載の方法により製造された移植単位。
【請求項６】
移植単位細胞が、非処置HSCを含む移植単位と比較して、増加した自己再生能力を有する、請求項5記載の移植単位。
【請求項７】
造血性幹細胞(HSC)を含む細胞の集団および薬学的に許容される担体を含む、細胞性移植であって、HSCをPGE2およびその誘導体から選択される少なくとも1つのHSC調節物質と培養させた、細胞性移植。 
【請求項８】
HSCが末梢血、臍帯血または骨髄から得られる、請求項7記載の細胞性移植。
【請求項９】
HSCがHSC調節物質とエクスビボで培養される、請求項7記載の細胞性移植。
【請求項１０】
HSCが細胞性移植を受ける被験体に対して同種である、被験体における使用のための、請求項7〜9のいずれか一項記載の細胞性移植。
【請求項１１】
被験体が、幹細胞もしくは骨髄移植の候補、幹細胞もしくは骨髄移植のドナー、または、化学療法もしくは放射線治療を受けた被験体である、請求項7〜10のいずれか一項記載の細胞性移植。
【請求項１２】
細胞性移植が使用前に低温保存される、請求項7〜11のいずれか一項記載の細胞性移植。
【請求項１３】
HSC調節物質が、PGE2および16,16-ジメチルPGE2から選択される、請求項7〜12のいずれか一項記載の細胞性移植。
【請求項１４】
明細書に記載された方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月18日(2019.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒアルロナンを含む高弾性組成物であって、
該ヒアルロナンが、３０ｍｇ／ｍＬを超える濃度で該組成物中に存在し；
該ヒアルロナンは１３０万〜２００万の間の平均分子量を有し；
該ヒアルロナンは架橋しておらず、および／または化学的改質を実質的に含まず；
ここで、該組成物は、タンパク質、ヒアルロナンとは異なるグリコサミノグリカン、ヒドロキシプロピルメチルセルロースおよび局所麻酔薬からなる群より選択される薬学的に活性な物質を実質的に含まず；
該組成物は無菌であり；
該組成物は、５．０Ｈｚの周波数で測定したとき少なくとも約９００パスカルの弾性率（Ｇ’）を有し；
該組成物は、緩衝液と塩を含む、組成物。
【請求項２】
前記緩衝液がリン酸緩衝液を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記リン緩衝液がリン酸緩衝食塩水（ＰＢＳ）である、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
前記塩が、約１０ｍＭ〜約２５０ｍＭの間の濃度で前記組成物中に存在する、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記塩がＮａＣｌである、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
ＮａＣｌが、約８．４７ｇ／Ｌの濃度で前記組成物中に存在する、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
前記組成物が、約８．４７ｇ／ＬのＮａＣｌ、約０．０４７ｇ／ＬのＮａＨ２ＰＯ４・Ｈ２Ｏおよび約０．２１３ｇ／ＬのＮａ２ＨＰＯ４を含む、請求項６に記載の組成物。
【請求項８】
前記組成物が約５．５〜約７．５の間のｐＨを有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項９】
前記組成物が約７〜約９の間のｐＨを有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項１０】
前記ヒアルロナンが約４０ｍｇ／ｍＬ〜約６０ｍｇ／ｍＬの濃度で組成物中に存在する、請求項１に記載の組成物。
【請求項１１】
前記ヒアルロナンが約４０ｍｇ／ｍＬの濃度で組成物中に存在する、請求項１に記載の組成物。
【請求項１２】
前記ヒアルロナンが約５０ｍｇ／ｍＬの濃度で組成物中に存在する、請求項１に記載の組成物。
【請求項１３】
前記組成物が、５Ｈｚの周波数で測定したとき約９００〜約７，０００パスカルの間の弾性を有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項１４】
前記組成物が、０．５Ｈｚの周波数で測定したとき少なくとも約１，０００パスカルの弾性を有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項１５】
前記組成物が、０．５Ｈｚの周波数で測定したとき少なくとも約２，０００パスカルの弾性を有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項１６】
前記組成物が、０．５Ｈｚの周波数で測定したとき少なくとも約４，０００パスカルの弾性を有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項１７】
ヒアルロナンを含む高弾性組成物であって、
該ヒアルロナンが、約４０ｍｇ／ｍＬの濃度で該組成物中に存在し；
該ヒアルロナンは１３０万〜２００万の間の平均分子量を有し；
該ヒアルロナンは架橋しておらず、および／または化学的改質を実質的に含まず；
ここで、該組成物は、タンパク質、ヒアルロナンとは異なるグリコサミノグリカン、ヒドロキシプロピルメチルセルロースおよび局所麻酔薬からなる群より選択される薬学的に活性な物質を実質的に含まず；
該組成物は無菌であり；
該組成物は、５．０Ｈｚの周波数で測定したとき少なくとも約９００パスカルの弾性率（Ｇ’）を有し；
該組成物は、約８．４７ｇ／ＬのＮａＣｌ、約０．０４７ｇ／ＬのＮａＨ２ＰＯ４・Ｈ２Ｏおよび約０．２１３ｇ／ＬのＮａ２ＨＰＯ４を含む、組成物。
【請求項１８】
ヒアルロナンを含む高弾性組成物であって、
該ヒアルロナンが、約５０ｍｇ／ｍＬの濃度で該組成物中に存在し；
該ヒアルロナンは１３０万〜２００万の間の平均分子量を有し；
該ヒアルロナンは架橋しておらず、および／または化学的改質を実質的に含まず；
ここで、該組成物は、タンパク質、ヒアルロナンとは異なるグリコサミノグリカン、ヒドロキシプロピルメチルセルロースおよび局所麻酔薬からなる群より選択される薬学的に活性な物質を実質的に含まず；
該組成物は無菌であり；
該組成物は、５．０Ｈｚの周波数で測定したとき少なくとも約９００パスカルの弾性率（Ｇ’）を有し；
該組成物は、約８．４７ｇ／ＬのＮａＣｌ、約０．０４７ｇ／ＬのＮａＨ２ＰＯ４・Ｈ２Ｏおよび約０．２１３ｇ／ＬのＮａ２ＨＰＯ４を含む、組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月14日(2019.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
構造：
【化１８５】
2019214626.tif 000001
を有する化合物。
【請求項２】
構造：
【化１８６】
2019214626.tif 000002
を有する化合物を調製する方法であって、シュウ酸および構造：
【化１８７】
2019214626.tif 000003
を有する化合物を含む反応混合物を、塩を調製するのに適した条件下で形成するステップを含む方法。
【請求項３】
式ＩＩＩａ：
【化１７３】
2019214626.tif 000004
の化合物を調製する方法であって、Ｂｒ−ＣＨ２−ＣＯ２Ｒ１１、非求核性塩基、および式Ｖａ：
【化１７４】
2019214626.tif 000005
の化合物を含む第１の反応混合物を、キログラム尺度で存在する式ＩＩＩａの化合物を形成するのに適した条件下で形成するステップを含み、式中、
Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ６アルキルである、方法。
【請求項４】
前記非求核性塩基が、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ピリジン、２，６−ルチジン、２，４，６−コリジン、４−ジメチルアミノピリジン、およびキヌクリジンからなる群から選択される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記非求核性塩基が、トリエチルアミンを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記方法が、ＢｒＣＨ２ＣＯ２Ｅｔ、ＮＥｔ３、および構造：
【化１７５】
2019214626.tif 000006
を有する前記式Ｖａの化合物を含む前記第１の反応混合物を、構造：
【化１７６】
2019214626.tif 000007
を有する前記式ＩＩＩａの化合物を形成するのに適した条件下で形成するステップを含む、請求項３に記載の方法。
【請求項７】
式ＩＩＩａ：
【化１７７】
2019214626.tif 000008
の化合物を調製する方法であって、ＯＨＣ−ＣＯ２Ｒ１１、還元剤、および式Ｖａ：
【化１７８】
2019214626.tif 000009
の化合物を含む第１の反応混合物を、式ＩＩＩａの化合物を形成するのに適した条件下で形成するステップを含み、式中、
Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ６アルキルである、方法。
【請求項８】
前記還元剤が、Ｎａ（ＯＡｃ）３ＢＨ、ＮａＢＨ３ＣＮ、ＮａＢＨ４、Ｚｎ／ＨＣｌ、およびＢＨ３−ピリジンからなる群から選択される、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記還元剤が、Ｎａ（ＯＡｃ）３ＢＨである、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記方法が、ＯＨＣ−ＣＯ２Ｅｔ、Ｎａ（ＯＡｃ）３ＢＨ、および構造：
【化１７９】
2019214626.tif 000010
を有する前記式Ｖａの化合物を含む前記第１の反応混合物を、構造：
【化１８０】
2019214626.tif 000011
を有する前記式ＩＩＩａの化合物を形成するのに適した条件下で形成するステップを含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
式ＩＩＩａ：
【化１８１】
2019214626.tif 000012
の化合物を調製する方法であって、
（ａ）Ｈ２Ｎ−ＣＨ２−ＣＯ２Ｒ１１、非求核性塩基、および式ＶＩａ：
【化１８２】
2019214626.tif 000013
の化合物を含む第１の反応混合物を、中間体化合物を形成するのに適した条件下で形成するステップと、
（ｂ）前記中間体化合物および還元剤を含む第２の反応混合物を、前記式ＩＩＩａの化合物を形成するのに適した条件下で形成するステップと
を含み、式中、
Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ６アルキルである、方法。
【請求項１２】
前記非求核性塩基が、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ピリジン、２，６−ルチジン、２，４，６−コリジン、４−ジメチルアミノピリジン、およびキヌクリジンからなる群から選択され、
前記還元剤が、Ｎａ（ＯＡｃ）３ＢＨ、ＮａＢＨ３ＣＮ、ＮａＢＨ４、Ｚｎ／ＨＣｌ、およびＢＨ３−ピリジンからなる群から選択される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記非求核性塩基が、トリエチルアミンであり、
前記還元剤が、Ｎａ（ＯＡｃ）３ＢＨである、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記第１の反応混合物が、硫酸ナトリウムおよび硫酸マグネシウムからなる群から選択される硫酸塩をさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
前記方法が、
（ａ）Ｈ２Ｎ−ＣＨ２−ＣＯ２Ｅｔ、ＮＥｔ３、ＭｇＳＯ４、および構造：
【化１８３】
2019214626.tif 000014
を有する前記式ＶＩａの化合物を含む前記第１の反応混合物を、前記中間体化合物を形成するのに適した条件下で形成するステップと、
（ｂ）前記中間体化合物、Ｎａ（ＯＡｃ）３ＢＨ、および酢酸を含む前記第２の反応混合物を、構造：
【化１８４】
2019214626.tif 000015
を有する前記式ＩＩＩａの化合物を形成するのに適した条件下で形成するステップと
を含む、請求項１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月29日(2020.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応室内で原料をマイクロ波表面波プラズマで処理して前記原料と異なる生成物を得る製造装置であって、
前記製造装置は、
前記原料を前記マイクロ波表面波プラズマで処理する反応室と、
前記反応室に設けられ、前記反応室内の気体を排気する第１排気口と、
前記反応室に設けられ、前記マイクロ波表面波プラズマ化する気体を前記反応室内に供給する気体供給口と、
前記マイクロ波表面波プラズマを生成するためのマイクロ波を発生させるマイクロ波発生手段と、
前記反応室内に前記マイクロ波を入射させる部分に設けられ、表面で前記マイクロ波表面波プラズマを生成させる誘電体材料の第１窓と、
前記生成物の生成に用いる第１イオンの排気を抑制するローレンツ力を形成する第１ローレンツ力発生手段と、
前記原料を気化させて前記マイクロ波表面波プラズマ中に原料を供給する原料供給手段と、
前記生成物を付着させる表面を前記マイクロ波表面波プラズマの存在する範囲内に配置した付着手段と、
前記付着手段の前記生成物を付着させる表面の表面温度を前記生成物の析出に適した所定の温度範囲内に保つ温度制御手段と、
前記生成物の生成に用いない第２イオンが前記付着手段に向かうのを抑制するローレンツ力を前記反応室内の前記第１窓から前記付着手段に至るまでの反応室内に形成する第２ローレンツ力発生手段と、を備えることを特徴とする製造装置。
【請求項２】
前記製造装置は、前記反応室内に前記マイクロ波を入射させる前記第１窓よりも前記付着手段側の部分に設けられ、表面で前記マイクロ波表面波プラズマを生成させる誘電体材料の第２窓を備え、
前記第２ローレンツ力発生手段が、少なくとも前記第１窓と前記第２窓の間に対応する前記反応室内の領域にローレンツ力を形成するように設けられていることを特徴とする請求項１に記載の製造装置。
【請求項３】
前記第１ローレンツ力発生手段が、少なくとも前記第１排気口に対応して設けられていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の製造装置。
【請求項４】
前記第１ローレンツ力発生手段が、少なくとも前記第１窓よりも前記第１排気口側の前記第１排気口に至るまでの反応室内にローレンツ力を形成するように設けられていることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の製造装置。
【請求項５】
前記製造装置は、前記反応室の前記付着手段よりも前記第１窓から離れる側に設けられ、前記反応室内の気体を排気する第２排気口を備えることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の製造装置。
【請求項６】
前記第１ローレンツ力発生手段が、少なくとも前記第２排気口に対応して設けられていることを特徴とする請求項５に記載の製造装置。
【請求項７】
前記第１ローレンツ力発生手段が、少なくとも前記付着手段よりも前記第２排気口側の前記第２排気口に至るまでの反応室内にローレンツ力を形成するように設けられていることを特徴とする請求項５又は請求項６に記載の製造装置。
【請求項８】
前記製造装置は、前記第１窓に対向する領域に対応した前記反応室の箇所に設けられ、気化した前記原料を前記反応室内に受け入れる受入口を備え、
前記気体供給口も前記第１窓に対向する領域に対応した前記反応室の箇所に設けられていることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の製造装置。
【請求項９】
前記製造装置は、前記反応室内に前記マイクロ波を入射させる前記第１窓よりも前記第１排気口側の部分に設けられ、表面で前記マイクロ波表面波プラズマを生成させる誘電体材料の第３窓を備え、
前記第１ローレンツ力発生手段が、少なくとも前記第１窓と前記第３窓の間に対応する前記反応室内の領域にローレンツ力を形成するように設けられていることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の製造装置。
【請求項１０】
請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の製造装置を用いて、反応室内で原料をマイクロ波表面波プラズマで処理して前記原料と異なる生成物を得る製造方法であって、
前記原料が無水ハロゲン化マグネシウムであり、
前記気体が水素原子を含み、
前記生成物が水素化マグネシウムを含む生成物であり、
前記第１イオンが陽イオンであることを特徴とする製造方法。
【請求項１１】
反応室内で原料をマイクロ波表面波プラズマで処理して前記原料と異なる生成物を得る製造装置であって、
前記製造装置は、
前記原料を前記マイクロ波表面波プラズマで処理する反応室と、
前記反応室に設けられ、前記反応室内の気体を排気する第１排気口と、
前記反応室に設けられ、前記マイクロ波表面波プラズマ化する気体を前記反応室内に供給する気体供給口と、
前記マイクロ波表面波プラズマを生成するためのマイクロ波を発生させるマイクロ波発生手段と、
前記反応室内に前記マイクロ波を入射させる部分に設けられ、表面で前記マイクロ波表面波プラズマを生成させる誘電体材料の第１窓と、
前記生成物の生成に用いる第１イオンの排気を抑制するローレンツ力を形成する第１ローレンツ力発生手段と、
前記反応室内に前記マイクロ波を入射させる前記第１窓よりも前記第１排気口側の部分に設けられ、表面で前記マイクロ波表面波プラズマを生成させる誘電体材料の第３窓と、を備え、
前記第１ローレンツ力発生手段が、少なくとも前記第１窓と前記第３窓の間に対応する前記反応室内の領域にローレンツ力を形成するように設けられていることを特徴とする製造装置。
【請求項１２】
反応室内で原料をマイクロ波表面波プラズマで処理して前記原料と異なる生成物を得る製造装置を用いて、前記反応室内で前記原料を前記マイクロ波表面波プラズマで処理して前記原料と異なる前記生成物を得る製造方法であって、
前記製造装置は、
前記原料を前記マイクロ波表面波プラズマで処理する反応室と、
前記反応室に設けられ、前記反応室内の気体を排気する第１排気口と、
前記反応室に設けられ、前記マイクロ波表面波プラズマ化する気体を前記反応室内に供給する気体供給口と、
前記マイクロ波表面波プラズマを生成するためのマイクロ波を発生させるマイクロ波発生手段と、
前記反応室内に前記マイクロ波を入射させる部分に設けられ、表面で前記マイクロ波表面波プラズマを生成させる誘電体材料の第１窓と、
前記生成物の生成に用いる第１イオンの排気を抑制するローレンツ力を形成する第１ローレンツ力発生手段と、を備え、
前記原料が無水ハロゲン化マグネシウムであり、
前記気体が水素原子を含み、
前記生成物が水素化マグネシウムを含む生成物であり、
前記第１イオンが陽イオンであることを特徴とする製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月12日(2020.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
側壁、
基部、
平坦な表面を有する蓋、
インレットチューブ、
噴出口として複数の小さい開口部を含む流れ分配器であって、前記蓋に対して平行に延在する連結された中空棒、中空シャワーヘッド、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される構造を有する流れ分配器、及び
前記蓋を貫通するアウトレットを備え、
前記インレットチューブが前記蓋を貫通して前記流れ分配器中に張り出し、かつ、前記流れ分配器と流体連通し、
前記噴出口が前記蓋に対して６０〜９０°の範囲の角度で前記基部に面し、
各噴出口の等価直径が０．０１インチ（０．０２５ｃｍ）〜０．２５インチ（０．６４ｃｍ）の範囲である、化学前駆体を処理ツールに輸送するための容器。
【請求項２】
化学前駆体を処理ツールに輸送するためのシステムであって、
金属ハロゲン化物、金属β‐ジケトネート、金属β‐ジケトエステラート、金属β‐ケトイミナート、金属β‐ジイミナート、金属アルキル、金属カルボニル、アルキル金属カルボニル、金属シクロペンタジエニル、金属シクロペンタジエニルカルボニル、金属ピロリル、金属イミダゾリル、金属アミジナート、金属アルコキシド、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される化学前駆体であって、
前記金属が、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｓｍ、Ｔｂ、Ｅｒ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｔｅ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ及びＷからなる群から選択される化学前駆体と、
前記化学前駆体を収容する容器であって、
側壁、
基部、
平坦な表面を有する蓋、
インレットチューブ、
噴出口として複数の小さい開口部を含む流れ分配器であって、前記蓋に対して平行に延在する連結された中空棒、中空シャワーヘッド、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される構造を有する流れ分配器、及び
前記蓋を貫通するアウトレットを備え、
前記インレットチューブが前記蓋を貫通して前記流れ分配器中に張り出し、かつ、前記流れ分配器と流体連通し、
前記噴出口が、前記蓋に対して６０〜９０°の範囲の角度で前記基部に面し、
各噴出口の先端が、前記噴出口が面している化学前駆体から０．５インチ以上の距離に設けられ、
各噴出口の等価直径が０．０１インチ（０．０２５ｃｍ）〜０．２５インチ（０．６４ｃｍ）の範囲である容器と
を含むシステム。
【請求項３】
化学前駆体を処理ツールに輸送するための方法であって、
金属ハロゲン化物、金属β‐ジケトネート、金属β‐ジケトエステラート、金属β‐ケトイミナート、金属β‐ジイミナート、金属アルキル、金属カルボニル、アルキル金属カルボニル、金属シクロペンタジエニル、金属シクロペンタジエニルカルボニル、金属ピロリル、金属イミダゾリル、金属アミジナート、金属アルコキシド、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される化学前駆体であって、
前記金属が、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｓｍ、Ｔｂ、Ｅｒ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｔｅ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ及びＷからなる群から選択される化学前駆体を提供することと、
前記化学前駆体を収容する容器であって、
側壁、
基部、
平坦な表面を有する蓋、
インレットチューブ、
噴出口として複数の小さい開口部を含む流れ分配器であって、前記蓋に対して平行に延在する連結された中空棒、中空シャワーヘッド、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される構造を有する流れ分配器、及び
前記蓋を貫通するアウトレットを備え、
前記インレットチューブが前記蓋を貫通して前記流れ分配器中に張り出し、かつ、前記流れ分配器と流体連通し、
前記噴出口が、前記蓋に対して６０〜９０°の範囲の角度で前記基部に面し、
各噴出口の先端が、前記噴出口が面している化学前駆体から０．５インチ以上の距離に設けられ、
各噴出口が０．０１インチ（０．０２５ｃｍ）〜０．２５インチ（０．６４ｃｍ）の範囲の等価直径を有する容器を提供することと、
キャリアガスが前記噴出口を通過すること、及び化学前駆体の表面に衝突することにより、キャリアガスと混合される化学前駆体の蒸気を製造して前駆体を含む流体ストリームを形成することと、
前駆体を含む流体ストリームを前記容器の前記アウトレットを通して処理ツールに移動させて、化学前駆体の高い昇華速度を与えることとを含み、
前記噴出口の先端が、化学前駆体の表面から０．５インチ以上の距離に設けられ、
昇華速度が、前記容器内の前駆体格納レベルが初期の充填高さから初期の充填高さの２０％に減少した際に、＜２５％減少するか、または増加する方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月19日(2020.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結合剤、有機充填材、無機充填材および繊維基材を含む摩擦材組成物であって、
該摩擦材組成物中に元素としての銅を含まない、または銅の含有量が０．５質量％以下であり、
繊維長が３００〜２５００μｍのスチール繊維を２〜４．５質量％含有することを特徴とする摩擦材組成物。
【請求項２】
前記スチール繊維の繊維形状がカール状であることを特徴とする請求項１に記載の摩擦材組成物。
【請求項３】
前記スチール繊維の平均繊維径が１００μｍ以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の摩擦材組成物。
【請求項４】
結合剤、有機充填材、無機充填材および繊維基材を含む摩擦材であって、
該摩擦材中に元素としての銅を含まない、または銅の含有量が０．５質量％以下であり、
該摩擦材中にスチール繊維を含むとともに、スチール繊維以外のＦｅ成分を含まず、
該スチール繊維が、摩擦材を空気気流中８００℃で加熱し、残った灰分の中から鉄繊維を電子線マイクロアナライザ（ＥＰＭＡ）等によりＦｅ成分を観察して求めた繊維長の平均が３００〜２５００μｍであり、かつ
電子線マイクロアナライザにより摩擦材の任意の断面１０箇所についてＦｅ成分の定量分析した結果としてのＦｅ量の平均が２〜４．５質量％であることを特徴とする摩擦材。
【請求項５】
結合剤、有機充填材、無機充填材および繊維基材を含む摩擦材であって、
該摩擦材中に元素としての銅を含まない、または銅の含有量が０．５質量％以下であり、
該摩擦材中にスチール繊維を含むとともに、スチール繊維以外のＦｅ成分を含み、
該スチール繊維が、摩擦材を空気気流中８００℃で加熱し、残った灰分の中から鉄繊維を電子線マイクロアナライザ（ＥＰＭＡ）等によりＦｅ成分を観察して求めた繊維長の平均が３００〜２５００μｍであり、かつ
電子線マイクロアナライザにより摩擦材の任意の断面１０箇所についてＦｅ成分の定量分析するとともに、該Ｆｅ成分の定量分析した値と、当該視野における、スチール繊維の面積率とスチール繊維以外のＦｅ成分の面積率の合計の面積率に対するスチール繊維の面積率の割合との積の平均が２〜４．５質量％であることを特徴とする摩擦材。
【請求項６】
請求項１〜３のいずれかに記載の摩擦材組成物を成形してなる摩擦材。
【請求項７】
請求項４〜５のいずれかに記載の摩擦材と裏金を用いて形成される摩擦部材。
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月19日(2020.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結合剤、有機充填材、無機充填材および繊維基材を含む摩擦材組成物であって、
該摩擦材組成物中に元素としての銅を含まない、または銅の含有量が０．５質量％以下であり、
繊維長が９００〜５５００μｍのスチール繊維を２〜４．５質量％含有することを特徴とする摩擦材組成物。
【請求項２】
前記スチール繊維の繊維形状がカール状であることを特徴とする請求項１記載の摩擦材組成物。
【請求項３】
前記スチール繊維の平均繊維径が６０μｍ以上であることを特徴とする請求項１または２記載の摩擦材組成物。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の摩擦材組成物を成形してなる摩擦材。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれかに記載の摩擦材組成物を成形してなる摩擦材と裏金を用いて形成される摩擦部材。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月29日(2019.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自車両の現在位置から目標駐車位置までの駐車経路を演算する駐車支援装置であって、
駐車空間と自車挙動の制約条件と、切り返し回数と、に基づいて前記自車両を前記目標駐車位置から出庫させる逆方向経路を演算する逆方向経路演算部と、
該逆方向経路上に複数の接続候補位置を設定する接続候補位置記憶部と、
切り返し回数と前記自車両の現在位置とに基づいて順番に前記複数の接続候補位置の各々について前記自車両の現在位置から当該接続候補位置に到達可能な経路を演算し、前記自車両の現在位置からの移動距離が最も短い経路が到達する接続候補位置を選択して、当該選択した接続候補位置に到達する経路を順方向経路とする順方向経路演算部と、
前記逆方向経路と前記順方向経路とを繋げて駐車経路とする駐車経路設定部と、
を有することを特徴とする駐車支援装置。
【請求項２】
前記順方向経路演算部は、接続候補位置まで片側転舵で前記自車両が前記自車両の現在位置から到達可能かを判断し、または、接続候補位置までＳ字転舵で前記自車両が前記自車両の現在位置から到達可能かを判断し、
前記順方向経路とされる経路が前記自車両の現在位置から到達する接続候補位置は、前記自車両が前記自車両の現在位置から前記片側転舵または前記Ｓ字転舵で到達可能であると判断された接続候補位置であることを特徴とする請求項１に記載の駐車支援装置。
【請求項３】
前記逆方向経路演算部は、後ろ向き並列駐車の場合、左右のいずれか一方に転舵して前進により前記自車両が前方の障害物に対する到達可能限界位置に至る前進経路と、前輪を前記自車両に対してまっすぐに直して後退により前記自車両が後方の障害物に対する到達可能限界位置に至る後退経路を演算することを特徴とする請求項１に記載の駐車支援装置。
【請求項４】
前記逆方向経路演算部は、前向き並列駐車の場合、左右のいずれか一方に転舵して後退により前記自車両が後方の障害物に到達する到達可能限界位置に至る後退経路と、前輪を前記自車両に対してまっすぐに直して前進により前記自車両が前方の障害物に到達する到達可能限界位置に至る前進経路を演算することを特徴とする請求項１に記載の駐車支援装置。
【請求項５】
前記順方向経路演算部は、接続候補位置まで片側転舵で前記自車両が前記自車両の現在位置から到達可能かを判断し、
前記順方向経路とされる経路が前記自車両の現在位置から到達する接続候補位置は、前記自車両が前記自車両の現在位置から前記片側転舵で到達可能であると判断された接続候補位置であり、
前記自車両が前記自車両の現在位置から前記片側転舵で到達可能であると判断された接続候補位置は、前記自車両の現在位置における、前記自車両の中心を通って長手方向に延びる軸線と、前記出庫させた到達位置における自車両の中心を通って長手方向に延びる軸線と、が交差し、かつ、前記自車両の現在位置における旋回円と、前記出庫させた到達位置における自車両の中心を通って長手方向に延びる軸線と、が交差せず、かつ、前記自車両の現在位置における、前記自車両の中心を通って長手方向に延びる軸線と、前記出庫させた到達位置における自車両の旋回円と、が交差しないと判断された接続候補位置であることを特徴とする請求項１に記載の駐車支援装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月5日(2020.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中空部が形成され、前記中空部には粉粒体が充填され、かつ可撓性および気密性を有する把持部を具備し、
前記把持部は、その周囲において円環状に保持された状態でワークに密着し、かつ前記中空部内が減圧されて、前記ワークを把持する把持ツール。
【請求項２】
第１部分と、前記第１部分を囲む第２部分と、前記第１部分および前記第２部分の一端に連接する第３部分と、前記第１部分および前記第２部分の他端に連接する第４部分とを有し、前記第１乃至第４部分に囲まれた中空部に粉粒体が充填され、可撓性および気密性を有する把持部と、
前記把持部を囲み、前記把持部を、前記把持部の周囲で保持する固定部と、
を具備し、
前記把持部が、前記ワークに密着し、かつ前記中空部内が減圧されて、前記ワークを把持する把持ツール。
【請求項３】
凸状の第１湾曲面を有する第１部分と、凸状の第２湾曲面を有し、前記第１湾曲面と前記第２湾曲面とが対向するように前記第１部分に重ね合わされる第２部分とを有し、前記第１および第２部分に囲まれた中空部に粉粒体が充填され、可撓性および気密性を有する把持部と、
前記把持部を囲み、前記把持部を、その周囲で保持する固定部と、
を具備し、前記把持部がワークに密着し、前記中空部内が減圧されて、前記ワークを把持することを把持ツール。
【請求項４】
アームを有するロボット機構と、
前記アームの先端に取り付けられた、請求項１乃至３のいずれか一つに記載の把持ツールと、
前記中空部内を所定の第１圧力に減圧する第１減圧装置と、
前記ロボット機構と、前記第１減圧装置とを制御するコントローラと、
を具備する把持システム。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月28日(2020.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
回復熱処理後のＧ線強度をカソードルミネッセンス法により測定した結果、シリコン単結晶基板のＧ線強度は１２２５であった。
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月30日(2020.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
波線状パターンを有し且つ軸線方向に並んで配置される複数の環状パターン体と、隣り合う前記環状パターン体を接続する複数の接続要素と、を備える柔軟性ステントであって、
軸線方向に対して垂直な径方向に視たときに、前記環状パターン体の環方向は、前記径方向に対して傾斜しているか又は傾斜しておらず、
放射線の不透過性が高い複数の不透過性部材が、前記環状パターン体及び／又は前記接続要素を構成するストラットに設けられ、及び／又は、ストラットの近傍に配置され、
複数の前記不透過性部材は、規則性を有して、前記環方向、前記軸線方向及び柔軟性ステントの周方向のうちの一つ以上に沿って配列しており、
前記環状パターン体は、２つの脚部を頂部で連結した略Ｖ字形状の波形要素が周方向に複数接続されて、環状パターン体を形成しており、
前記不透過性部材は、前記ストラットに設けられる孔に配置又は挿通される孔挿通態様、前記ストラットに巻き付けられる巻き付け態様、前記波形要素の前記頂部に掛けられる頂部掛け態様のうちの一つ以上の態様を採ることにより、前記ストラットに設けられ、及び／又は、前記ストラットの近傍に配置される、
柔軟性ステント。
【請求項２】
前記環状パターン体に対して軸線方向一方側に位置する一方の前記接続要素の長さよりも、軸線方向他方側に位置する他方の前記接続要素の長さは、短く、
前記孔は、他方の前記接続要素に設けられる、
請求項１に記載の柔軟性ステント。
【請求項３】
前記環状パターン体に対して軸線方向一方側に位置する一方の前記接続要素の巻き方向と、軸線方向他方側に位置する他方の前記接続要素の巻き方向とは、逆である、
請求項１又は２に記載の柔軟性ステント。
【請求項４】
前記一方の接続要素の長さは、前記他方の接続要素の長さの１０倍以上である、
請求項２又は３に記載の柔軟性ステント。
【請求項５】
柔軟性ステントの基端部の側及び／又は先端部の側は、複数の前記ストラットが合流する棒状部材を、複数備え、複数の前記棒状部材は、前記軸線方向に実質的に揃っており、束ねられる、
請求項１〜４のいずれかに記載の柔軟性ステント。
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月9日(2020.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
血液回路と、血液浄化器とを備えた血液処理装置であって、
前記血液回路及び血液浄化器における血液接触表面の少なくとも一部又は全部に、モノカルボン酸ビニルエステルユニットを含有する高分子が担持されており、
前記血液浄化器は、分離膜と、該分離膜を固定するハウジングと、該分離膜の端面側に血液導入口を配置した血液ポートとを備え、
前記血液回路の動脈側回路の前記血液導入口を形成する血液ポートへの接続部分が、前記分離膜の端面に対して直立した流路を形成し、該流路の長さが２５ｍｍ以上１００ｍｍ以下である、血液処理装置。
【請求項２】
ピロー及び／又はエアートラップチャンバーが前記血液回路中に配置されている、請求項１記載の血液処理装置。
【請求項３】
前記ピローの長手方向に沿った断面において、
該ピローへの血液入口の内壁に沿って延長した仮想線と、該ピローの血液入口側端とピロー側面の血液入口側端とを結ぶ仮想線と、のなす角度（θ２）が４０°以上６０°以下であるか、あるいは、該ピローからの血液出口の内壁に沿って延長した仮想線と、該ピローの血液出口側端とピロー側面の血液出口側端とを結ぶ仮想線と、のなす角度（θ２）が４０°以上６０°以下である、請求項２記載の血液処理装置。
【請求項４】
前記エアートラップチャンバーの長手方向の断面において、
該エアートラップチャンバーの血液入口端から血液出口端までの長さが３ｃｍ以上７ｃｍ以下であり、
前記血液回路の内径の前記エアートラップチャンバーの内径に対する比率が０．１以上０．３以下であり、
前記エアートラップチャンバーからの前記血液出口の内壁に沿って延長した仮想線と、前記エアートラップチャンバーの血液出口側端とエアートラップチャンバー側面の血液出口側端とを結ぶ仮想線と、のなす角度（θ３）が４０°以上６０°以下である、請求項２又は３記載の血液処理装置。
【請求項５】
前記モノカルボン酸ビニルエステルユニットは、脂肪族モノカルボン酸ビニルエステルユニット又は芳香族モノカルボン酸ビニルエステルユニットである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の血液処理装置。
【請求項６】
前記高分子は、ビニルピロリドンユニット又はビニルアセトアミドユニットを含有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の血液処理装置。
【請求項７】
前記高分子において、前記ビニルピロリドンユニット又はビニルアセトアミドユニットと、前記モノカルボン酸ビニルエステルユニットとのモル分率が３０：７０〜９０：１０である、請求項６記載の血液処理装置。
【請求項８】
前記血液回路における血液接触表面の少なくとも一部又は全部において、ポリ塩化ビニル又は塩化ビニル／ビニルアルコールランダム共重合体が導入された前記モノカルボン酸ビニルエステルユニットを含有する高分子が担持されてなる、請求項１〜７のいずれか一項記載の血液処理装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月4日(2020.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レバーと、
所定の基板と、
前記所定の基板の所定の面に実装され、設定変更モード中に設定値に対応する情報を所定の表示面に表示可能な設定表示器と、
前記所定の基板の前記所定の面に実装され、前記レバーの操作状況に応じて点灯可能な所定のＬＥＤとを備え、
前記設定変更モード中は、設定値を確定させるために前記レバーの操作を必要とし、
前記所定のＬＥＤと前記設定表示器とが前記所定の基板の前記所定の面において互いに隣接しない位置に配置され、
前記所定の基板の前記所定の面に対する垂直方向の前記設定表示器の高さは、前記所定の基板の前記所定の面に対する垂直方向の前記所定のＬＥＤの高さよりも高いことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、遊技機の内部側に配設された表示器の視認性を向上させることが可能な遊技機を提供することを目的とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
このような目的達成のため、本発明に係る遊技機（例えば、実施形態におけるスロットマシン１）は、レバーと、所定の基板と、前記所定の基板の所定の面に実装され、設定変更モード中に設定値に対応する情報を所定の表示面に表示可能な設定表示器と、前記所定の基板の前記所定の面に実装され、前記レバーの操作状況に応じて点灯可能な所定のＬＥＤとを備え、前記設定変更モード中は、設定値を確定させるために前記レバーの操作を必要とし、前記所定のＬＥＤと前記設定表示器とが前記所定の基板の前記所定の面において互いに隣接しない位置に配置され、前記所定の基板の前記所定の面に対する垂直方向の前記設定表示器の高さは、前記所定の基板の前記所定の面に対する垂直方向の前記所定のＬＥＤの高さよりも高くなっている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明によれば、遊技機の内部側に配設された表示器の視認性を向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月29日(2019.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レバーと、
主基板と、
前記主基板の所定の面に実装され、設定値に関する情報を所定の表示面に表示可能な設定表示器と、
前記主基板の前記所定の面に実装され、前記レバーの操作状況に応じて点灯可能な所定のＬＥＤと、
前記主基板の前記所定の面に実装された複数のコネクタとを備えた遊技機であって、
前記所定のＬＥＤと前記設定表示器とが前記主基板の前記所定の面において互いに隣接しない位置に配置され、
前記主基板の前記所定の面に対する垂直方向の前記設定表示器の高さは、前記主基板の前記所定の面に対する垂直方向の前記所定のＬＥＤの高さよりも高く、
前記複数のコネクタは、前記遊技機の所定の位置に配置された前記主基板が前記遊技機の正面から視認される状態において、前記主基板の前記所定の面における前記設定表示器の鉛直上方および前記所定のＬＥＤの鉛直上方を除いた位置に配置されることを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
このような目的達成のため、本発明に係る遊技機（例えば、実施形態におけるスロットマシン１）は、レバーと、主基板と、前記主基板の所定の面に実装され、設定値に関する情報を所定の表示面に表示可能な設定表示器と、前記主基板の前記所定の面に実装され、前記レバーの操作状況に応じて点灯可能な所定のＬＥＤと、前記主基板の前記所定の面に実装された複数のコネクタとを備えた遊技機であって、前記所定のＬＥＤと前記設定表示器とが前記主基板の前記所定の面において互いに隣接しない位置に配置され、前記主基板の前記所定の面に対する垂直方向の前記設定表示器の高さは、前記主基板の前記所定の面に対する垂直方向の前記所定のＬＥＤの高さよりも高く、前記複数のコネクタは、前記遊技機の所定の位置に配置された前記主基板が前記遊技機の正面から視認される状態において、前記主基板の前記所定の面における前記設定表示器の鉛直上方および前記所定のＬＥＤの鉛直上方を除いた位置に配置される。