Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月26日(2020.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配列番号１と少なくとも９５％の配列同一性を有するアミノ酸配列、ならびに
Ａｍｂｌｅｒ分類による以下の変異：位置２３８にアラニン（Ａ）以外の極性で中性電荷の親水性残基、
を含むβ−ラクタマーゼ。
【請求項２】
Ａｍｂｌｅｒ分類による位置２７６にアスパラギン酸（Ｄ）以外の極性で中性電荷の親水性残基という変異をさらに有する、請求項１に記載のβ−ラクタマーゼ。
【請求項３】
Ａｍｂｌｅｒ分類による位置３３にフェニルアラニン（Ｆ）以外の芳香族疎水性残基という変異をさらに有する、請求項２に記載のβ−ラクタマーゼ。
【請求項４】
Ａｍｂｌｅｒ分類による位置１５６にグリシン（Ｇ）以外の極性で正電荷の親水性残基という変異をさらに有する、請求項１に記載のβ−ラクタマーゼ。
【請求項５】
前記極性で中性電荷の親水性残基が、アスパラギン（Ｎ）、グルタミン（Ｑ）、セリン（Ｓ）、トレオニン（Ｔ）、プロリン（Ｐ）およびシステイン（Ｃ）から選択される、請求項１または２に記載のβ−ラクタマーゼ。
【請求項６】
前記芳香族疎水性残基が、トリプトファン（Ｗ）およびチロシン（Ｙ）から選択される、請求項３に記載のβ−ラクタマーゼ。
【請求項７】
前記極性で正電荷の親水性残基が、アルギニン（Ｒ）およびリシン（Ｋ）から選択される、請求項４に記載のβ−ラクタマーゼ。
【請求項８】
ペニシリンおよびセファロスポリンの内の１種または複数種を加水分解する、請求項１〜７のいずれか１項に記載のβ−ラクタマーゼ。
【請求項９】
前記ペニシリンがアンピシリンである、請求項８に記載のβ−ラクタマーゼ。
【請求項１０】
前記セファロスポリンが、セフトリアキソン、セフォタキシム、セファゾリン、セフォペラゾン、セフェピム、セフロキシムおよびセフタジジムから選択される、請求項８に記載のβ−ラクタマーゼ。
【請求項１１】
配列番号１と比較して改善されたセファロスポリンに対する触媒効率を有する、請求項１〜７のいずれか１項に記載のβ−ラクタマーゼ。
【請求項１２】
配列番号１と比較して１０倍〜１０００倍改善されたセファロスポリンに対する触媒効率を有する、請求項１１に記載のβ−ラクタマーゼ。
【請求項１３】
前記セファロスポリンが、セフトリアキソン、セフォタキシム、セファゾリン、セフォペラゾン、セフェピム、セフロキシムおよびセフタジジムから選択される、請求項１２に記載のβ−ラクタマーゼ。
【請求項１４】
Ｄ２７６Ｎの変異を有する配列番号１と比較して改善されたセファロスポリンに対する触媒効率を有する、請求項１〜７のいずれか１項に記載のβ−ラクタマーゼ。
【請求項１５】
前記セファロスポリンが、セフォタキシム、セフェピムおよびセフトリアキソンから選択される、請求項１４に記載のβ−ラクタマーゼ。
【請求項１６】
ＧＩ管中で活性である、請求項１〜７のいずれか１項に記載のβ−ラクタマーゼ。
【請求項１７】
小腸中で安定である、請求項１６に記載のβ−ラクタマーゼ。
【請求項１８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載のβ−ラクタマーゼをコードするポリヌクレオチド配列を含む、ポリヌクレオチド。
【請求項１９】
請求項１８に記載のポリヌクレオチドを含む、宿主細胞。
【請求項２０】
請求項１〜７のいずれか１項に記載のβ−ラクタマーゼと、薬学的に許容可能なキャリアまたは賦形剤と、を含む医薬組成物。
【請求項２１】
経口投与用に処方される、請求項２０に記載の医薬組成物。
【請求項２２】
抗生物質療法を受ける患者における抗生物質誘発性クロストリジウム・ディフィシレ感染症（ＣＤＩ）および／またはクロストリジウム・ディフィシレ関連疾患の予防に使用するためのβ−ラクタマーゼであって、
配列番号１と少なくとも９５％の配列同一性を有するアミノ酸配列、ならびに
Ａｍｂｌｅｒ分類による以下の変異：位置２３８にアラニン（Ａ）以外の極性で中性電荷の親水性残基、
を含むβ−ラクタマーゼ。
【請求項２３】
Ａｍｂｌｅｒ分類による位置２７６にアスパラギン酸（Ｄ）以外の極性で中性電荷の親水性残基という変異をさらに有する、請求項２２に記載のβ−ラクタマーゼ。
【請求項２４】
Ａｍｂｌｅｒ分類による位置３３にフェニルアラニン（Ｆ）以外の芳香族疎水性残基という変異をさらに有する、請求項２３に記載のβ−ラクタマーゼ。
【請求項２５】
Ａｍｂｌｅｒ分類による位置１５６にグリシン（Ｇ）以外の極性で正電荷の親水性残基という変異をさらに有する、請求項２２に記載のβ−ラクタマーゼ。
【請求項２６】
前記極性で中性電荷の親水性残基が、アスパラギン（Ｎ）、グルタミン（Ｑ）、セリン（Ｓ）、トレオニン（Ｔ）、プロリン（Ｐ）およびシステイン（Ｃ）から選択される、請求項２２または２３に記載のβ−ラクタマーゼ。
【請求項２７】
前記芳香族疎水性残基が、トリプトファン（Ｗ）およびチロシン（Ｙ）から選択される、請求項２４に記載のβ−ラクタマーゼ。
【請求項２８】
前記極性で正電荷の親水性残基が、アルギニン（Ｒ）およびリシン（Ｋ）から選択される、請求項２５に記載のβ−ラクタマーゼ。
【請求項２９】
前記クロストリジウム・ディフィシレ関連疾患が抗生物質関連下痢（ＡＡＤ）である、請求項２２〜２８のいずれか１項に記載のβ−ラクタマーゼ。
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月22日(2020.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象中のｉＲＮＡ薬剤の活性を判定する方法において：
生物試料から離隔した組織中のＲＮＡを標的化するｉＲＮＡ薬剤を投与された対象から採取された生物試料中の標的ＲＮＡまたはその開裂産物のレベルを検出することを含み、ここで、前記生物試料は、エキソソームを含み、
前記エキソソームを、前記標的ＲＮＡまたはその開裂産物のレベルの検出前に前記生物試料から精製せず、生物試料から精製されなかったエキソソームは、抗体またはレプチンまたは他のタンパク質リガンドの使用に選択されなかったエキソソームであり、かつ
参照試料と比較した前記標的ＲＮＡのレベルの変化または前記開裂産物のレベルの増加は、前記ｉＲＮＡ薬剤が前記対象中で活性であることを示す、方法。
【請求項２】
前記ｉＲＮＡ薬剤が前記対象中で不活性である判定に基づき、前記対象に投与すべきｉＲＮＡ薬剤の用量を増加させる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ｉＲＮＡ薬剤が前記対象中で活性である判定に基づき、前記対象に投与すべきｉＲＮＡ薬剤の用量を増加または減少させる、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記生物試料は、標的ＲＮＡまたは開裂産物のレベルの検出前に遠心分離を受けている、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記遠心分離は、１１００００ｇから１４００００ｇにおけるものである、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記ｉＲＮＡ薬剤は、肝臓、腎臓、脳、脊髄、脈絡叢、末梢ニューロンもしくは神経、筋肉、内皮細胞、心臓、免疫細胞、皮膚、眼、膵臓、肺、胃、小腸もしくは大腸、結腸、副腎、腫瘍、癌病巣、または脾臓中のＲＮＡを標的化する、請求項１−４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記ｉＲＮＡ薬剤は、中枢神経系（ＣＮＳ）中で発現されるＲＮＡを標的化する、請求項１−４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記生物試料を、血液、尿、脳脊髄液（ＣＳＦ）、羊水、唾液、母乳、気管支肺胞洗浄液、滑液、および悪性腹水からなる群から選択する、請求項４に記載の方法。
【請求項９】
前記生物試料は、血清試料である、請求項１−７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記標的ＲＮＡまたはＲＮＡ開裂産物を、５’ＲＡＣＥ、ハイブリダイゼーション、ポリメラーゼ連鎖反応（ＰＣＲ）、定量的ＰＣＲ（ｑＰＣＲ）、分枝ＤＮＡ（ｂＤＮＡ）アッセイ、または逆転写ＰＣＲ（ＲＴ−ＰＣＲ）により計測する、請求項１−９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記ｉＲＮＡ薬剤を、中枢神経系（ＣＮＳ）に投与した、請求項１−１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記標的ＲＮＡは、ＨｔｔＲＮＡまたはＳＮＣＡ  ＲＮＡである、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記対象は、神経障害、好ましくはハンチントン病またはパーキンソン病を有する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記標的ＲＮＡは、前駆タンパク質転換酵素サブチリシン／ケキシン９型（ＰＣＳＫ９）、トランスチレチン（ＴＴＲ）、血管内皮成長因子（ＶＥＧＦ）、キネシン様タンパク質（ＫＳＰ）、耳下腺プロリンリッチ唾液タンパク質Ｐｃ（ＰＣＳ）、アンギオポエチン様３（ＡＮＧＰＴＬ３）、ヘプシジン、Ｃ型肝炎ウイルス（ＨＣＶ）、ｅｇｌ９ホモログ（ＥＧＬＮ）、Ｂ型肝炎ウイルス（ＨＢＶ）、ポロ様キナーゼ１（ＰＬＫ）、アルファ−アンチトリプシン（ＡＡＴ）、活性化タンパク質Ｃ（ＡＰＣ）、膜貫通セリンプロテアーゼ６（ＴＭＰＲＳＳ６）、クルッペル様因子４（ＫＬＦ）、Ｂ細胞ＣＬＬ／リンパ腫１１Ａ（ＢＣＬ１１Ａ）、ｐ５３、カスパーゼ２、β−カテニン、またはプロテインキナーゼＮ３（ＰＫＮ３）である、請求項１−１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記ＲＮＡは、ｍＲＮＡまたはマイクロＲＮＡである、請求項１−１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
ＬｉＣｌが前記遠心分離の前に試料に添加される、請求項４または５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年8月27日(2020.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステータコア（５１）、周方向に並んで複数設けられてかつ前記ステータコアから径方向に突出するティース（５２）、及び前記ティースに巻回されたステータ巻線（３１）を有するステータ（５０）と、
ロータコア（６１）、周方向に複数並んで設けられてかつ径方向において前記ロータコアから前記ステータ側に突出する主極部（６２）、及び前記主極部に巻回された界磁巻線（７０，７３）を有するロータ（６０）と、を備える界磁巻線型回転電機（３０）において、
前記各ティース及び前記各主極部は、軸方向に延びており、
前記主極部のうち、径方向において前記ステータと対向して、かつ、周方向における両端部のそれぞれを主極端部（６４ａ，６４ｂ）とする場合、前記各主極部において、前記主極部を構成する一対の前記主極端部のうち少なくとも一方の軸方向における一部に切欠（６５ａ，６５ｂ）が形成されている界磁巻線型回転電機。
【請求項２】
前記切欠は、前記各主極部において、一対の前記主極端部のそれぞれに形成されている請求項１に記載の界磁巻線型回転電機。
【請求項３】
前記各主極部における一対の前記主極端部のそれぞれにおいて、前記切欠が形成されている部分の軸方向における合計長さと、前記切欠が形成されていない部分の軸方向における合計長さとが等しい又は略等しくされている請求項２に記載の界磁巻線型回転電機。
【請求項４】
前記ステータの１スロットピッチをβとし、前記切欠の周方向における幅をθｎｔとする場合、「１／３×β＜θｎｔ＜２／３×β」とされている請求項１〜３のいずれか１項に記載の界磁巻線型回転電機。
【請求項５】
「θｎｔ＝β／２」とされている請求項４に記載の界磁巻線型回転電機。
【請求項６】
前記主極部のうち径方向において前記ステータと対向する側から前記主極部に前記界磁巻線が組み付けられる構造の界磁巻線型回転電機において、
前記各主極部は、周方向に並んで等間隔で設けられており、
前記各主極部は、自身に巻回された前記界磁巻線の周方向内側に配置されている請求項１〜５のいずれか１項に記載の界磁巻線型回転電機。
【請求項７】
前記切欠は、前記各主極部において、一対の前記主極端部のそれぞれに形成されており、
前記主極端部において、前記切欠が形成されている部分は、前記切欠が形成されていない部分に軸方向において挟まれている請求項１〜６のいずれか１項に記載の界磁巻線型回転電機。
【請求項８】
前記切欠は、前記各主極部において、一対の前記主極端部のそれぞれに形成されており、
前記主極端部において、前記切欠が形成されていない部分は、前記切欠が形成されている部分に軸方向において挟まれている請求項１〜７のいずれか１項に記載の界磁巻線型回転電機。
【請求項９】
前記ステータの径方向内側に前記ロータが配置されているインナロータ式の回転電機において、
周方向に隣り合う前記主極部の間に配置されるとともに軸方向に延び、前記界磁巻線が径方向外側に移動することを規制する規制部材（１００）を備え、
前記主極端部のうち前記切欠が形成されていない部分における周方向の側面には、軸方向に延びる溝（１１０ａ，１１０ｂ）が形成されており、
周方向に隣り合う前記主極端部それぞれに形成された前記溝に前記規制部材の周方向端部が嵌め合わされている請求項７又は８に記載の界磁巻線型回転電機。
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月16日(2020.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス相排出流から少なくとも１つの汚染物を減少させるか、または除去する方法であって、
（ａ）少なくとも１つの汚染物を含むガス相排出流を提供すること、
（ｂ）該ガス相排出流を添加物、及び磁性の生物起源の活性炭組成物と接触させ、これにより汚染物吸着炭素粒子を発生させること、ここで該磁性の生物起源の活性炭組成物は外部から印加された磁場に応答性であり、
（ｃ）該汚染物吸着粒子の少なくとも一部を該ガス相排出流から分離し、汚染物が減少したガス相排出流を生成すること、及び
（ｄ）該汚染物吸着粒子を処理して、該磁性の生物起源の活性炭組成物を再生すること、又は(d’)該該汚染物吸着粒子を燃焼させて、エネルギーを発生させることを含み、
該添加物が、酸、塩基、塩、金属、金属酸化物、金属水酸化物、金属ハロゲン化物、ヨウ素、ヨウ素化合物、およびこれらの組み合わせからなる群から選択され、かつ該磁性の生物起源の活性炭組成物が再生可能な源由来の炭素を含む、前記方法。
【請求項２】
前記工程(d)が、前記添加物を、前記磁性の生物起源の活性炭組成物から分離された、前記ガス相排出流に加えることを含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記汚染物が有害な大気汚染物質、又は揮発性有機化合物である、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記汚染物が、窒素酸化物、一酸化炭素、二酸化炭素、硫化水素、二酸化硫黄、三酸化硫黄、メタン、エタン、エチレン、オゾン、アンモニア、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される非凝縮性ガスである、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項５】
前記汚染物吸着炭素粒子が、二酸化炭素、窒素酸化物、水銀、二酸化硫黄、これらの吸収された形態、これらの吸着した形態、これらの反応した形態、またはこれらの混合物からなる群から選択される少なくとも１つの汚染物を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記ガス相排出流が、前記磁性の生物起源の活性炭組成物を含む燃料の燃焼から生じる、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記燃料が石炭である、請求項６記載の方法。
【請求項８】
生物起源の活性炭組成物を用いて水銀排出を減少させる方法であって、
（ａ）水銀を含むガス相排出流を提供すること、
（ｂ）該ガス相排出流を、鉄または鉄含有化合物を含む生物起源の活性炭組成物を含む活性炭粒子と接触させて、水銀吸着炭素粒子を発生させること、及び
（ｃ）静電気沈殿を用いて該ガス相排出流から該水銀吸着炭素粒子の少なくとも一部を分離して、水銀が減少したガス相排出流を生成すること、を含む、前記方法。
【請求項９】
前記活性炭粒子中の鉄または鉄含有化合物の存在が、工程（ｃ）中の前記静電気沈殿を強化し、それにより水銀制御を改善する、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
（ｄ）工程（ｃ）で形成された他の静電気沈殿物から前記水銀吸着炭素粒子の少なくとも一部を分離することを含む、請求項８又は９に記載の方法。
【請求項１１】
工程（ｄ）が、前記水銀吸着炭素粒子を磁場に曝露することを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
磁性の生物起源の活性炭組成物を用いて液体を精製する方法であって、
（ａ）少なくとも１つの汚染物を含む液体を提供すること、
（ｂ）該磁性の生物起源の活性炭組成物を提供すること、ここで、
該磁性の生物起源の活性炭組成物が、乾燥ベースで、約５５重量％以上の全炭素、約１５重量％以下の水素、および約１重量％以下の窒素を含み、
該磁性の生物起源の活性炭組成物が、少なくとも約５００のヨウ素価により特徴付けられ、
該磁性の生物起源の活性炭組成物が、鉄を含み、かつ
該磁性の生物起源の活性炭組成物が、再生可能な源由来の炭素を含むものであり、
（ｃ）添加物を提供すること、
（ｄ）該液体を、該添加物、および該磁性の生物起源の活性炭組成物と接触させて、それにより、汚染物吸着炭素粒子および汚染物が減少した液体を発生させること、及び
（ｅ）該汚染物吸着炭素粒子を処理して、該磁性の生物起源の活性炭組成物を再生すること、または（ｅ’）該汚染物吸着炭素粒子を燃焼させて、エネルギーを発生させることのいずれか、を含み、
ここで、該添加物が酸、塩基、塩、金属、金属酸化物、金属水酸化物、金属ハロゲン化物、ヨウ素、ヨウ素化合物、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される、前記方法
【請求項１３】
前記磁性の生物起源の活性炭組成物が前記添加物を含む、請求項１〜７及び１２のいずれか一項記載の方法。
【請求項１４】
前記添加物が、マグネシウム、マンガン、アルミニウム、ニッケル、鉄、クロム、ケイ素、ホウ素、セリウム、モリブデン、リン、タングステン、バナジウム、塩化鉄、臭化鉄、酸化マグネシウム、ドロマイト、ドロマイト石灰、フルオライト、フルオロスパー、ベントナイト、酸化カルシウム、石灰、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、臭化水素、塩化水素、ケイ酸ナトリウム、過マンガン酸カリウム、有機酸、ヨウ素、ヨウ素化合物、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１〜７、１２及び１３のいずれか一項記載の方法。
【請求項１５】
前記少なくとも１つの汚染物が、ヒ素、ホウ素、セレン、水銀、これらの化合物、これらの塩、およびこれらの混合物からなる群から選択される金属である、請求項１〜７、及び１２〜１４のいずれか一項記載の方法。
【請求項１６】
前記少なくとも１つの汚染物が硫化水素または塩素化副生成物を含み、又は前記少なくとも１つの汚染物が殺虫剤または除草剤を含む、請求項１２〜１４のいずれか一項記載の方法。
【請求項１７】
前記液体が水を含む、請求項１２〜１６のいずれか一項記載の方法。
【請求項１８】
工程(d)が前記液体を、前記磁性の生物起源の活性炭組成物、及び前記添加物を含む浸透膜と接触させること、又は工程(d)が前記磁性の生物起源の活性炭組成物を、前記液体に直接添加することを含む、請求項１２〜１７のいずれか一項記載の方法。
【請求項１９】
工程（ｆ）前記液体から前記汚染物を伴う前記磁性の生物起源の活性炭組成物を沈降させることを含む、請求項１２〜１８のいずれか一項記載の方法。
【請求項２０】
前記液体が廃水であり、該廃水が、金属採掘、酸性鉱山排水、鉱物処理、都市下水道処理、紙パルプ製造、およびエタノール製造からなる群から選択される方法によって生成されたものである、請求項１２〜１９のいずれか一項記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年8月20日(2020.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技領域に設けられる始動口への遊技球の受け入れに基づいて特別抽選を実行可能な特別抽選手段と、
前記特別抽選の抽選結果に対応する特別演出を実行可能な演出実行手段と、
遊技者による操作入力を受付可能な操作手段と、を備え、
前記操作手段は、動作可能な可動体部を有し、当該可動体部が動作することによって複数の態様に操作入力の受け付け態様を変化可能とし、
前記演出実行手段は、
前記特別抽選の抽選結果に基づいて、前記操作手段に対する操作入力を受け付ける有効期間内に操作入力を受け付けたことにより前記特別演出を実行可能とし、
前記特別演出実行時における前記操作手段への操作入力の受け付け態様を通常態様から当該通常態様とは異なる特別態様に変化させることが可能であり、
前記操作手段は、前記特別抽選の抽選結果に基づき、
前記通常態様から、当該通常態様及び前記特別態様とは異なる態様であって前記操作手段が当該特別態様に変化する可能性を示唆する示唆態様に変化させた後、当該特別態様に変化させる第１パターンと、
前記通常態様から、前記示唆態様に変化させた後、当該通常態様に変化させる第２パターンと
を実行可能であり、
前記第１パターンにより前記操作手段を前記特別態様に変化させた後、前記有効期間が終了するまで当該特別態様を継続させ、
さらに、
前記操作手段は、前記特別抽選の抽選結果に基づき、
前記通常態様から、前記示唆態様に変化させずに前記特別態様に変化させる第３パターンを実行可能であり、
前記第３パターンにより前記操作手段を前記特別態様に変化させた後、前記有効期間が終了するまで当該特別態様を継続させる
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の代表的な一形態では、遊技領域に設けられる始動口への遊技球の受け入れに基づいて特別抽選を実行可能な特別抽選手段と、前記特別抽選の抽選結果に対応する特別演出を実行可能な演出実行手段と、遊技者による操作入力を受付可能な操作手段と、を備え、前記操作手段は、動作可能な可動体部を有し、当該可動体部が動作することによって複数の態様に操作入力の受け付け態様を変化可能とし、前記演出実行手段は、前記特別抽選の抽選結果に基づいて、前記操作手段に対する操作入力を受け付ける有効期間内に操作入力を受け付けたことにより前記特別演出を実行可能とし、前記特別演出実行時における前記操作手段への操作入力の受け付け態様を通常態様から当該通常態様とは異なる特別態様に変化させることが可能であり、前記操作手段は、前記特別抽選の抽選結果に基づき、前記通常態様から、当該通常態様及び前記特別態様とは異なる態様であって前記操作手段が当該特別態様に変化する可能性を示唆する示唆態様に変化させた後、当該特別態様に変化させる第１パターンと、前記通常態様から、前記示唆態様に変化させた後、当該通常態様に変化させる第２パターンとを実行可能であり、前記第１パターンにより前記操作手段を前記特別態様に変化させた後、前記有効期間が終了するまで当該特別態様を継続させ、さらに、前記操作手段は、前記特別抽選の抽選結果に基づき、前記通常態様から、前記示唆態様に変化させずに前記特別態様に変化させる第３パターンを実行可能であり、前記第３パターンにより前記操作手段を前記特別態様に変化させた後、前記有効期間が終了するまで当該特別態様を継続させることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月8日(2020.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
それぞれ所定の演出動作を行う複数の演出装置と、
前記複数の演出装置の制御を行う演出制御手段とを備え、
前記複数の演出装置は、前記複数の演出装置に演出動作を行わせる複数の駆動源を有し、
前記演出制御手段は、
前記複数の駆動源のうち２つ以上の駆動源が、対応する前記演出装置に演出動作を行わせる演出態様において、前記２つ以上の駆動源の消費電流の合計値が第１の規制電流値を超える場合に、消費電流の合計値が前記第１の規制電流値以下となるように、前記２つ以上の駆動源の動作タイミングを予め定められた優先度に基づいて制御し、
前記２つ以上の駆動源の消費電流の合計値が前記第１の規制電流値を超えなくても、前記２つ以上の駆動源の少なくとも一部である２つ以上の特定の駆動源の消費電流の合計値が、前記第１の規制電流値よりも低い第２の規制電流値を超える場合に、消費電流の合計値が前記第２の規制電流値以下となるように、前記２つ以上の特定の駆動源の動作タイミングを前記優先度に基づいて制御することを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
このような目的達成のため、本発明に係る遊技機は、それぞれ所定の演出動作を行う複数の演出装置と、前記複数の演出装置の制御を行う演出制御手段とを備え、前記複数の演出装置は、前記複数の演出装置に演出動作を行わせる複数の駆動源を有し、前記演出制御手段は、前記複数の駆動源のうち２つ以上の駆動源が、対応する前記演出装置に演出動作を行わせる演出態様において、前記２つ以上の駆動源の消費電流の合計値が第１の規制電流値を超える場合に、消費電流の合計値が前記第１の規制電流値以下となるように、前記２つ以上の駆動源の動作タイミングを予め定められた優先度に基づいて制御し、前記２つ以上の駆動源の消費電流の合計値が前記第１の規制電流値を超えなくても、前記２つ以上の駆動源の少なくとも一部である２つ以上の特定の駆動源の消費電流の合計値が、前記第１の規制電流値よりも低い第２の規制電流値を超える場合に、消費電流の合計値が前記第２の規制電流値以下となるように、前記２つ以上の特定の駆動源の動作タイミングを前記優先度に基づいて制御するようになっている。
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月30日(2020.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技球を発射させることが可能な発射手段と、
その発射手段により発射される遊技球の発射強度を可変させることが可能な可変手段と、
前記発射手段によって第１の発射強度で遊技球が発射された場合に、その遊技球が流下可能な第１の領域と、
前記発射手段によって前記第１の発射強度よりも小さい第２の発射強度で遊技球が発射された場合に、その遊技球が流下可能な第２の領域と、
その第２の領域を流下する遊技球が通過可能な特定領域と、
その特定領域を遊技球が通過したことに基づいて、所定の遊技価値を付与することが可能な付与手段と、
糸状部材が付着された遊技球が前記第２の発射強度で発射された場合に、その糸状部材を切断することが可能に形成された切断手段と、を備え、
前記糸状部材が付着された遊技球が前記第２の発射強度で発射された場合に、前記特定領域を遊技球が通過する前に、その糸状部材と前記切断手段とが当接することが可能に構成されているものであることを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
しかしながら、上述した従来の遊技機では、発射装置により発射された遊技球を用いて不正に特典を得ようとする不正遊技が行われてしまうという問題があった。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、上記例示した問題点を解決するためになされたものであり、不正遊技を抑制することができる遊技機を提供することを目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
この目的を達成するために本発明の遊技機は、遊技球を発射させることが可能な発射手段と、その発射手段により発射される遊技球の発射強度を可変させることが可能な可変手段と、前記発射手段によって第１の発射強度で遊技球が発射された場合に、その遊技球が流下可能な第１の領域と、前記発射手段によって前記第１の発射強度よりも小さい第２の発射強度で遊技球が発射された場合に、その遊技球が流下可能な第２の領域と、その第２の領域を流下する遊技球が通過可能な特定領域と、その特定領域を遊技球が通過したことに基づいて、所定の遊技価値を付与することが可能な付与手段と、糸状部材が付着された遊技球が前記第２の発射強度で発射された場合に、その糸状部材を切断することが可能に形成された切断手段と、を備え、前記糸状部材が付着された遊技球が前記第２の発射強度で発射された場合に、前記特定領域を遊技球が通過する前に、その糸状部材と前記切断手段とが当接することが可能に構成されているものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の遊技機によれば、遊技球を発射させることが可能な発射手段と、その発射手段により発射される遊技球の発射強度を可変させることが可能な可変手段と、前記発射手段によって第１の発射強度で遊技球が発射された場合に、その遊技球が流下可能な第１の領域と、前記発射手段によって前記第１の発射強度よりも小さい第２の発射強度で遊技球が発射された場合に、その遊技球が流下可能な第２の領域と、その第２の領域を流下する遊技球が通過可能な特定領域と、その特定領域を遊技球が通過したことに基づいて、所定の遊技価値を付与することが可能な付与手段と、糸状部材が付着された遊技球が前記第２の発射強度で発射された場合に、その糸状部材を切断することが可能に形成された切断手段と、を備え、前記糸状部材が付着された遊技球が前記第２の発射強度で発射された場合に、前記特定領域を遊技球が通過する前に、その糸状部材と前記切断手段とが当接することが可能に構成されているものである。よって、不正遊技を抑制することができるという効果がある。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０６２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０６２３】
１０                  パチンコ機（遊技機）
１１１ 払出制御装置（付与手段）
１１２ 発射制御装置（可変手段）
１１２ａ              球発射ユニット（発射手段）
６０５ｃ 突起部（切断手段の一部）
６０６ ファール球入球通路（第２の領域）
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月16日(2020.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
直流電力を蓄積するフィルタコンデンサと、
当該フィルタコンデンサに蓄積される直流電力を交流電力に変換するスイッチングモジュールと、
複数のラミネートブスバーが互いに所定の間隔をおいて積層された積層ラミネートブスバーと、を備え、
前記フィルタコンデンサと前記スイッチングモジュールとが前記積層ラミネートブスバーにより電気的に接続される電力変換装置であって、
前記積層ラミネートブスバーは、第１のラミネートブスバー及び第２のラミネートブスバーを有し、
前記第１のラミネートブスバー及び前記第２のラミネートブスバーは、互いに対向する第１の面と、互いに対向する第２の面と、前記第１の面と前記第２の面とを接続し且つ互いに対向する屈曲部と、を各々有し、
前記屈曲部に於ける曲げによって曲げられることがないように、前記第１のラミネートブスバーの前記第１の面と前記第２のラミネートブスバーの前記第１の面との間と、前記第１のラミネートブスバーの前記第２の面と前記第２のラミネートブスバーの前記第２の面との間との夫々に、絶縁材を配設させている電力変換装置。
【請求項２】
前記第１のラミネートブスバーの前記第１の面に、前記第２のラミネートブスバーの接続突起が挿入される挿入孔と、前記フィルタコンデンサの端子と電気的に接続する接続部と、が交互に複数形成され、
前記第１のラミネートブスバーの前記第２の面に、前記第２のラミネートブスバーの第２の面の貫通孔を貫通して、前記スイッチングモジュールと電気的な接続を行う接続突起が複数形成され、
前記第２のラミネートブスバーの前記接続突起は、前記フィルタコンデンサの端子と電気的に接続し、
前記第２のラミネートブスバーの前記第２の面には、前記スイッチングモジュールと電気的な接続を行う接続突起が複数形成されている、
請求項１記載の電力変換装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
この目的を達成するため、本発明は、直流電力を蓄積するフィルタコンデンサと、当該フィルタコンデンサに蓄積される直流電力を交流電力に変換するスイッチングモジュールと、複数のラミネートブスバーが互いに所定の間隔をおいて積層された積層ラミネートブスバーと、を備え、前記フィルタコンデンサと前記スイッチングモジュールとが前記積層ラミネートブスバーにより電気的に接続される電力変換装置であって、前記積層ラミネートブスバーは、第１のラミネートブスバー及び第２のラミネートブスバーを有し、前記第１のラミネートブスバー及び前記第２のラミネートブスバーは、互いに対向する第１の面と、互いに対向する第２の面と、前記第１の面と前記第２の面とを接続し且つ互いに対向する屈曲部と、を各々有し、前記屈曲部に於ける曲げによって曲げられることがないように、前記第１のラミネートブスバーの前記第１の面と前記第２のラミネートブスバーの前記第１の面との間と、前記第１のラミネートブスバーの前記第２の面と前記第２のラミネートブスバーの前記第２の面との間との夫々に、絶縁材を配設させている電力変換装置を提供するものである。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月26日(2020.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
κカラギナン、脱アシル型ジェランガム又は寒天から選ばれる少なくとも二種以上のゲル化剤と、カリウム塩、カルシウム塩及びナトリウム塩を含有するゲル化剤製剤。
【請求項２】
さらにリン酸塩を含有する請求項１に記載のゲル化剤製剤。
【請求項３】
次のＡ〜Ｃのいずれかである請求項１又は２に記載のゲル化剤製剤。
Ａ．原料に添加するκカラギナンと脱アシル型ジェランガムの添加量合計を100質量部とした場合に、
カリウム塩の含有量が20.0質量部より多く、125.0質量部未満であり、
カルシウム塩の含有量が62.5質量部より多く、125.0質量部未満であり、かつ、
ナトリウム塩の含有量が62.5質量部より多く、125.0質量部未満となるように配合して使用される、
κカラギナン、脱アシル型ジェランガム、カリウム塩、カルシウム塩及びナトリウム塩を含有するゲル化剤製剤。
Ｂ．原料に添加する脱アシル型ジェランガムと寒天の添加量合計を100質量部とした場合に、
カリウム塩の含有量が18.2質量部より多く、
カルシウム塩の含有量が45.5質量部より多く、かつ、
ナトリウム塩の含有量が45.5質量部より多くなるように配合して使用される、
脱アシル型ジェランガム、寒天、カリウム塩、カルシウム塩及びナトリウム塩を含有するゲル化剤製剤。
Ｃ．原料に添加する寒天とκカラギナンの添加量合計を100質量部とした場合に、
カリウム塩の含有量が10.4質量部より多く、
カルシウム塩の含有量が20.8質量部より多く、かつ、
ナトリウム塩の含有量が20.8質量部より多くなるように配合して使用される、
寒天、κカラギナン、カリウム塩、カルシウム塩及びナトリウム塩を含有するゲル化剤製剤。
【請求項４】
原料に請求項１〜３のいずれかに記載のゲル化剤製剤を配合する工程を含む飲食品の製造方法。
【請求項５】
κカラギナン、脱アシル型ジェランガム又は寒天から選ばれる少なくとも二種以上のゲル化剤と、カリウム塩、カルシウム塩及びナトリウム塩を含有する飲食品。
【請求項６】
次のａ〜ｃのいずれかである請求項５に記載の飲食品。
ａ．原料に添加するκカラギナンと脱アシル型ジェランガムの添加量合計を100質量部とした場合に、
カリウム塩の含有量が20.0質量部より多く、125.0質量部未満であり、
カルシウム塩の含有量が62.5質量部より多く、125.0質量部未満であり、かつ、
ナトリウム塩の含有量が62.5質量部より多く、125.0質量部未満である、
κカラギナン、脱アシル型ジェランガム、カリウム塩、カルシウム塩及びナトリウム塩を含有する飲食品。
ｂ．原料に添加する脱アシル型ジェランガムと寒天の添加量合計を100質量部とした場合に、
カリウム塩の含有量が18.2質量部より多く、
カルシウム塩の含有量が45.5質量部より多く、かつ、
ナトリウム塩の含有量が45.5質量部より多い、
脱アシル型ジェランガム、寒天、カリウム塩、カルシウム塩及びナトリウム塩を含有する飲食品。
ｃ．原料に添加する寒天とκカラギナンの添加量合計を100質量部とした場合に、
カリウム塩の含有量が10.4質量部より多く、
カルシウム塩の含有量が20.8質量部より多く、かつ、
ナトリウム塩の含有量が20.8質量部より多い、
寒天、κカラギナン、カリウム塩、カルシウム塩及びナトリウム塩を含有する飲食品。
【請求項７】
飲食品がゲル状食品である請求項５又は６に記載の飲食品。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月25日(2020.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
【図１】（Ａ）は、第１の実施の形態に係るシャンプークロスの全体を示す平面図であり、（Ｂ）は、（Ａ）に示される装着部を示す断面図（図１（Ａ）の１Ｂ−１Ｂ線拡大断面図）である。
【図２】図１（Ａ）に示されるシャンプークロスを被洗髪者が着用した状態を説明するための説明図である。
【図３】（Ａ）は、第２の実施の形態に係るシャンプークロスの全体を示す平面図であり、（Ｂ）は、（Ａ）に示される装着部を示す断面図（図３（Ａ）の３Ｂ−３Ｂ線拡大断面図）である。
【図４】図３に示される装着部を展開した状態を示す展開図である。
【図５】（Ａ）は、第３の実施の形態に係るシャンプークロスであって、装着部を展開した状態を示す平面図であり、（Ｂ）は、（Ａ）に示されるシャンプークロスの装着時の縦断面図である。
【図６】第３の実施の形態の変形例に係るシャンプークロスであって、装着部を展開した状態示す平面図である。
【図７】第４の実施の形態に係るカットクロスの全体を示す平面図である。
【図８】図７に示されるカットクロスを被洗髪者が着用した状態を説明するための被    洗髪者を横から見た際の説明図である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
図６に示すように、装着部８０は、第１装着部材２２が外側に第２装着部材２４が内側になるように幅方向中間部８２で折り返されて、一部開放された円筒状に湾曲された状態で装着部８０の外周面と内周面とが縫合されてもよい。そして、第２装着部材２４における縫合された部分を縫合部８４としている。縫合部８４は、第１装着部材２２および第２装着部材２４の伸縮性を妨げないように、ジグザグ状に縫合されている。これにより、装着の度に装着部８０を幅方向中間部８２で折り返さなくてもよい。なお、縫合部８４が、カバー部３０及びウォーターカット部４０の少なくとも一方の装着部８０への縫合を兼ねてもよし、縫合部８４とは別にカバー部３０及びウォーターカット部４０を装着部８０に縫合してもよい。内部が薬液を貯留する貯留部として構成されたベース部と、前記ベース部に設けられ、前記貯留部の開口側とは反対側へ延出され且つ前記貯留部と連通された筒状を成すと共に、先端部に薬液容器が取付けられる第１容器支持部と、を備えた薬液浸透装置である。
【手続補正書】
【提出日】令和2年8月18日(2020.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
窒素が充填されるウェーハ搬送室に隣接して設けられ、当該ウェーハ搬送室とウェーハ収納容器との間でのウェーハの出し入れを行うためのロードポートであって、
前記ウェーハ搬送室の壁面の一部を構成し、当該ウェーハ搬送室内を開放するための開口を形成された板状部と、
前記開口を開閉するための扉部と、
前記ウェーハ収納容器の内部空間を開閉可能とする蓋部を前記扉部に対向させるようにウェーハ収納容器を載置して前記板状部に向かって進退可能とする載置台と、
前記載置台に載置された前記ウェーハ収納容器を、前記載置台に対して固定する固定部と、
前記ウェーハ収容容器に設けられた鍔部に係合する係合片を備えたクランプユニットと、
前記開口の周縁に沿って前記板状部の前記載置台側に設けられた弾性材とを具備し、
前記前記固定部により前記載置台に固定された前記ウェーハ収納容器を、前記載置台と共に前記板状部に向かって移動し前記ウェーハ収納容器における前記蓋部の周囲の当接面に前記弾性材が弾接し、さらに前記開口部の両側部に設けられた前記クランプユニットが作動して前記鍔部を前記板状部側へ引き込むことで前記弾性材を前記当接面に、より密着させてシール性を高める、ことを特徴とするロードポート。
【請求項２】
前記弾性材はOリングであって、前記Oリングは前記板状部の前記開口を周回するように設けられたアリ溝に支持される請求項１に記載のロードポート。
【請求項３】
前記扉部の前記板状部側にアリ溝で支持される扉部弾性材をさらに備え、前記扉部によって前記開口を閉止することで、前記扉部弾性材と前記板状部とが弾接する請求項１又は２に記載のロードポート。
【請求項４】
前記ウェーハ収納容器に設けられたガス供給弁を介して当該ウェーハ収納容器内にガスを供給するためのガス供給手段を備える請求項１から３のいずれかに記載のロードポート。
【請求項５】
前記クランプユニットを動作させた状態、かつ前記扉部により前記蓋部を前記ウェーハ収納容器から離間させて前記開口を開放した状態において、前記ガス供給ノズルからガスの供給を継続する請求項４に記載のロードポート。
【請求項６】
不活性ガスが充填されたウェーハ搬送室を有するＥＦＥＭであって、
前記ウェーハ搬送室に設けられる前記ウェーハを搬送する搬送装置と、
前記ウェーハ搬送室の壁面の一部を構成し、当該ウェーハ搬送室内を開放するための開口を形成された板状部と、
前記開口を開閉するための扉部と、
前記ウェーハ収納容器の内部空間を開閉可能とする蓋部を前記扉部に対向させるようにウェーハ収納容器を載置して、前記板状部に向かって進退可能に設けられる載置台と、
前記載置台に載置された前記ウェーハ収納容器を前記載置台に対して固定する固定部と、
前記ウェーハ収納容器に設けられた鍔部に係合する係合片を備えたクランプユニットと、
前記開口の周縁に沿って前記板状部の前記載置台側に設けられた弾性材とを具備し、
前記固定部により載置台に固定された前記ウェーハ収納容器を、前記載置台と共に前記板状部に向かって移動し前記ウェーハ収納容器における前記蓋部の周囲の当接面に前記弾性材が弾接し、さらに前記開口部の両側部に設けられた前記クランプユニットが作動して前記鍔部を前記板状部側へ引き込むことで、前記弾性材が前記当接面により密着させシール性を高める、ことを特徴とするＥＦＥＭ。
【請求項７】
前記弾性材はOリングであって、前記Oリングは前記板状部の前記開口を周回するように設けられたアリ溝に支持される請求項６に記載のＥＦＥＭ。
【請求項８】
前記扉部の前記板状部側にアリ溝で支持される扉部弾性材をさらに備え、前記扉部によって前記開口を閉止することで、前記扉部弾性材と前記板状部とが弾接する請求項６又は７に記載のＥＦＥＭ。
【請求項９】
前記ウェーハ収納容器に設けられたガス供給弁を介して当該ウェーハ収納容器内にガスを供給するためのガス供給手段を備え、前記クランプユニットを動作させた状態、かつ前記扉部により前記蓋部を前記ウェーハ収納容器から離間させて前記開口を開放した状態において、前記ガス供給ノズルからガスの供給を継続する請求項６から８のいずれかに記載のＥＦＥＭ。
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月16日(2020.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の第１の面に対してプラズマ処理を行い、
前記プラズマ処理を施した前記第１の面上に、樹脂または樹脂前駆体を含む材料を用いて、第１の層を形成し、
前記第１の層に対して加熱処理を行うことで、樹脂層を形成し、
前記基板と前記樹脂層とを分離する、半導体装置の作製方法。
【請求項２】
基板の第１の面に対してプラズマ処理を行い、
前記プラズマ処理を施した前記第１の面上に、樹脂または樹脂前駆体を含む材料を用いて、第１の層を形成し、
前記第１の層に対して加熱処理を行うことで、樹脂層を形成し、
前記基板と接する部分を有し、かつ、前記樹脂層の端部を覆うように絶縁層を形成し、
前記絶縁層上にトランジスタを形成し、
前記基板と前記樹脂層とを分離する、半導体装置の作製方法。
【請求項３】
基板の第１の面に対してプラズマ処理を行い、
前記プラズマ処理を施した前記第１の面上に、樹脂または樹脂前駆体を含む材料を用いて、第１の層を形成し、
前記第１の層に対して加熱処理を行うことで、樹脂層を形成し、
前記基板と接する部分を有し、かつ、前記樹脂層の端部を覆うように絶縁層を形成し、
前記絶縁層上に低温ポリシリコンを用いたチャネル形成領域を有するトランジスタを形成し、
前記基板と前記樹脂層とを分離する、半導体装置の作製方法。
【請求項４】
基板の第１の面に対してプラズマ処理を行い、
前記プラズマ処理を施した前記第１の面上に、樹脂または樹脂前駆体を含む材料を用いて、第１の層を形成し、
前記第１の層に対して加熱処理を行うことで、樹脂層を形成し、
前記基板と接する部分を有し、かつ、前記樹脂層の端部を覆うように絶縁層を形成し、
前記絶縁層上に金属酸化物を用いたチャネル形成領域を有するトランジスタを形成し、
前記基板と前記樹脂層とを分離する、半導体装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、
前記プラズマ処理は、水素、酸素及び水蒸気のうち一つまたは複数を含む雰囲気に、前記第１の面を曝しながら行う、半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至４のいずれか一において、
前記プラズマ処理は、水素、酸素及び水蒸気のうち一つまたは複数と、アルゴンを含む雰囲気に、前記第１の面を曝しながら行う、半導体装置の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一において、
前記基板と前記樹脂層とを分離する工程は、分離界面に液体を供給しながら行う、半導体装置の作製方法。
【請求項８】
請求項７において、
前記液体は、水を含む、半導体装置の作製方法。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一において、
前記加熱処理は、大気雰囲気下で行われる、半導体装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項１乃至８のいずれか一において、
前記加熱処理は、酸素を含むガスを流しながら行われる、半導体装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一において、
前記樹脂層は、厚さが０．１μｍ以上５μｍ以下の領域を有するように形成される、半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月4日(2020.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコン基板上に構成され、ガラスカバーの下に配置されるミラーアレイを含む、ＤＭＤと、
その上に前記ＤＭＤが構成される前記基板内に配置され一体化され、前記ＤＭＤを含むＤＭＤチップの内部に配置される一体化されるヒートシンクを含む、ヒートシンクと、
前記基板の裏側に構成される、マイクロチャネル冷却配列の複数のマイクロチャネルであって、前記ヒートシンクは前記ＤＭＤの冷却のために冷却液が流れる前記複数のマイクロチャネルを備え、前記複数のマイクロチャネルは前記ＤＭＤの製造と関連して製造され、それにより、前記ヒートシンクは前記基板内に一体化され直熱を前記基板から除去でき、少なくとも１つのＬＤＡ（レーザダイオードアレイ）からの予熱ビームは、少なくとも１つの画像化ＬＤＡからの画像化ビームが前記基板上に書く前に前記基板を特定の温度まで予熱し、前記少なくとも１つのＬＤＡまたは前記少なくとも１つの画像化ＬＤＡからのレーザ出力は、調光インクで被覆された基板に当てられ、前記調光インクで被覆された前記基板上の各画素は、前記レーザ出力により印加されるエネルギー量まで勾配して反応する、複数のマイクロチャネルと、
を備える、ＤＭＤ冷却装置。
【請求項２】
前記冷却液は水を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記ＤＭＤは、筐体および前記筐体から形成される入口ポートおよび出口ポートを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記筐体はアルミナ筐体を備える、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記冷却液のための流体路は、前記入口ポートと前記出口ポートとの間に形成される、請求項３に記載の装置。
【請求項６】
前記冷却液のための前記流体路は、前記複数のマイクロチャネルを備える、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記基板の下側に位置する冷却液を収容するエポキシシールをさらに含み、これにより、前記冷却液は前記ＤＭＤの上部表面においてミラーを妨げない、請求項５に記載の装置。
【請求項８】
基板上に構成され、筐体および前記筐体から形成される入口ポートおよび出口ポートを備え、ガラスカバーの下に配置されるミラーアレイを含む、ＤＭＤと、
その上に前記ＤＭＤが構成される前記基板内に配置され一体化され、前記ＤＭＤを含むＤＭＤチップの内部に配置される一体化されるヒートシンクを含む、ヒートシンクと、
前記基板の裏側に構成される、マイクロチャネル冷却配列の複数のマイクロチャネルであって、前記ヒートシンクは前記ＤＭＤの冷却のために冷却液が流れる前記複数のマイクロチャネルを備え、前記複数のマイクロチャネルはマイクロリソグラフィを介して前記ＤＭＤの製造と関連して製造され、それにより、前記ヒートシンクは前記基板内に一体化され直熱を前記基板から除去でき、少なくとも１つのＬＤＡ（レーザダイオードアレイ）からの予熱ビームは、少なくとも１つの画像化ＬＤＡからの画像化ビームが前記基板上に書く前に前記基板を特定の温度まで予熱し、前記少なくとも１つのＬＤＡまたは前記少なくとも１つの画像化ＬＤＡからのレーザ出力は、調光インクで被覆された基板に当てられ、前記調光インクで被覆された前記基板上の各画素は、前記レーザ出力により印加されるエネルギー量まで勾配して反応する、複数のマイクロチャネルと、
を備える、ＤＭＤ冷却装置。
【請求項９】
前記冷却液は水を含む、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記筐体はアルミナ筐体を備え、前記冷却液は水を含む、請求項８に記載の装置。
【請求項１１】
前記冷却液の流体路は、前記入口ポートと前記出口ポートとの間に形成される、請求項８に記載の装置。
【請求項１２】
前記流体路は前記複数のマイクロチャネルを備え、さらに前記基板の下側に位置する冷却液を収容するエポキシシールを含み、これにより、前記冷却液は前記ＤＭＤの上部表面においてミラーを妨げない、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
ＤＭＤをシリコン基板上に構成することと、
前記ＤＭＤを、ガラスカバーの下に配置されるミラーアレイを含むように構成することと、
その上に前記ＤＭＤが構成される前記基板内に一体化されるヒートシンクを配置することであって、前記ヒートシンクは、前記ＤＭＤを含むＤＭＤチップの内部に配置される一体化されるヒートシンクを含む、配置することと、
前記基板の裏側にマイクロチャネル冷却配列で複数のマイクロチャネルを構成することであって、それにより、前記ヒートシンクは、前記ＤＭＤの冷却のために冷却液が流れる前記複数のマイクロチャネルを備えるように構成されることと、
前記複数のマイクロチャネルを前記ＤＭＤの製造と関連して構成することであって、それにより、前記ヒートシンクは前記基板内に一体化され直熱を前記基板から除去でき、少なくとも１つのＬＤＡ（レーザダイオードアレイ）からの予熱ビームは、少なくとも１つの画像化ＬＤＡからの画像化ビームが前記基板上に書く前に前記基板を特定の温度まで予熱し、前記少なくとも１つのＬＤＡまたは前記少なくとも１つの画像化ＬＤＡからのレーザ出力は、調光インクで被覆された基板に当てられ、前記調光インクで被覆された前記基板上の各画素は、前記レーザ出力により印加されるエネルギー量まで勾配して反応することと、
を含む、ＤＭＤ冷却装置を製造する方法。
【請求項１４】
前記複数のマイクロチャネルを、マイクロリソグラフィを介して前記ＤＭＤの前記製造と関連して構成することをさらに含み、前記冷却液は水を含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記ＤＭＤを、筐体を含むよう構成することと、
入口ポートおよび出口ポートを前記筐体から形成することと、
をさらに含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記冷却液のための流体路を、前記入口ポートと前記出口ポートとの間に形成することをさらに含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記流体路は、前記複数のマイクロチャネルを備える、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記基板の下側に位置する冷却液を収容するエポキシシールを設けることをさらに含み、これにより、前記冷却液は前記ＤＭＤの上部表面においてミラーを妨げない、請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
前記基板はシリコンを備え、前記筐体はアルミナ筐体を備える、請求項１５に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ＤＭＤ冷却装置及びＤＭＤ冷却装置を製造する方法