【手続補正書】
【提出日】令和2年1月9日(2020.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板にパターンを形成するパターン形成装置であって、
前記基板に設けられたマークの光学情報に適用して前記マークの位置を求めるためのテンプレートを用いて、前記マークの位置を求める処理を行う処理部、を有し、
前記処理部は、前記テンプレートの形状を示すパラメータを変更する行動に対する報酬が大きくなるように前記パラメータを更新する強化学習を行うことにより、前記パラメータを決定することを特徴とするパターン形成装置。
【請求項２】
前記報酬は、前記光学情報における領域と前記テンプレートとの相関度を用いて求められることを特徴とする請求項１に記載のパターン形成装置。
【請求項３】
前記報酬は、前記光学情報における前記マークが存在するマーク領域と前記テンプレートとの第１相関度、及び前記光学情報における前記マーク領域の周辺領域と前記テンプレートとの第２相関度を用いて求められることを特徴とする請求項１又は２に記載のパターン形成装置。
【請求項４】
前記報酬は、複数の基板のそれぞれについて得られる前記第１相関度の総和、及び前記複数の基板のそれぞれについて得られる前記第２相関度の総和を用いて求められることを特徴とする請求項３に記載のパターン形成装置。
【請求項５】
前記報酬は、前記第１相関度と、前記第２相関度に対数関数を適用して得られた値との差分を用いて求められることを特徴とする請求項３又は４に記載のパターン形成装置。
【請求項６】
前記報酬は、前記第１相関度が大きくなるほど大きくなり、前記第２相関度が小さくなるほど大きくなることを特徴とする請求項３乃至５のうちいずれか１項に記載のパターン形成装置。
【請求項７】
前記パラメータは、前記テンプレートを構成する点の位置を表すパラメータを含むことを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載のパターン形成装置。
【請求項８】
基板にパターンを形成するパターン形成装置であって、
前記基板に設けられたマークの光学情報から得られる信号における複数の領域から前記マークの位置を示す特徴量を抽出して、前記マークの位置を求める処理を行う処理部、を有し、
前記処理部は、前記複数の領域のそれぞれから取得される値に適用される重みを示すパラメータを変更する行動に対する報酬が大きくなるように前記パラメータを更新する強化学習を行うことにより、前記パラメータを決定することを特徴とするパターン形成装置。
【請求項９】
前記報酬は、前記マークのサイズ又は位置を用いて求められることを特徴とする請求項８に記載のパターン形成装置。
【請求項１０】
前記報酬は、複数の基板のそれぞれについて求められる前記マークのサイズ又は位置のばらつきを用いて求められることを特徴とする請求項８又は９に記載のパターン形成装置。
【請求項１１】
前記ばらつきは、標準偏差を用いて求められることを特徴とする請求項１０に記載のパターン形成装置。
【請求項１２】
前記報酬は、前記ばらつきが小さくなるほど大きくなることを特徴とする請求項１０又は１１に記載のパターン形成装置。
【請求項１３】
前記処理部は、
複数の基板のそれぞれについて、前記光学情報に基づいて、前記パラメータを変更しながら前記マークの位置を求め、
前記複数の基板のそれぞれについて求めた前記マークの位置から前記パラメータを評価するための報酬を求め、前記報酬が基準を満たすように前記パラメータを決定する、ことを特徴とする請求項１乃至１２のうちいずれか１項に記載のパターン形成装置。
【請求項１４】
前記処理部は、前記報酬が前回の報酬よりも大きい場合に前記パラメータを更新する、ことを特徴とする請求項１乃至１３のうちいずれか１項に記載のパターン形成装置。
【請求項１５】
前記処理部は、前記基板に対するデバイス工程ごとに、前記パラメータを決定する、ことを特徴とする請求項１乃至１４のうちいずれか１項に記載のパターン形成装置。
【請求項１６】
前記処理部は、前記基板のショット領域ごとに、前記パラメータを決定する、ことを特徴とする請求項１乃至１５のうちいずれか１項に記載のパターン形成装置。
【請求項１７】
前記処理部は、前記基板のショット領域に設けられた前記マークごとに、前記パラメータを決定する、ことを特徴とする請求項１乃至１６のうちいずれか１項に記載のパターン形成装置。
【請求項１８】
前記処理部は、前記パラメータを決定する前の複数の基板についての前記マークの位置の平均値と、前記パラメータを決定した後の前記複数の基板についての前記マークの位置の平均値との差分を求め、前記差分を補正するためのオフセットを求めることを特徴とする請求項１乃至１７のうちいずれか１項に記載のパターン形成装置。
【請求項１９】
前記マークの光学情報を記憶する記憶部を更に有することを特徴とする請求項１乃至１８のうちいずれか１項に記載のパターン形成装置。
【請求項２０】
前記記憶部は、新たなマークの光学情報と、記憶しているマークの光学情報との類似度が閾値以下である場合に、前記新たなマークの光学情報を記憶することを特徴とする請求項１９に記載のパターン形成装置。
【請求項２１】
前記処理部は、前記基板に前記パターンを形成している間に、前記パラメータを決定することを特徴とする請求項１乃至２０のうちいずれか１項に記載のパターン形成装置。
【請求項２２】
前記マークを検出して前記マークの光学情報を取得する検出光学系を有することを特徴とする請求項１乃至２１のうちいずれか１項に記載のパターン形成装置。
【請求項２３】
基板に設けられたマークの位置を求める処理に用いられる、前記マークの光学情報に適用するテンプレートの形状を示すパラメータを決定する決定方法であって、
前記マークの光学情報を取得する工程と、
前記パラメータを変更する行動に対する報酬が大きくなるように前記パラメータを更新する強化学習を行うことにより、前記パラメータを決定する工程と、
を有することを特徴とする決定方法。
【請求項２４】
基板に設けられたマークの光学情報から得られる信号における複数の領域から前記マークの位置を示す特徴量を抽出することにより前記マークの位置を求める処理に用いられる、前記マークの光学情報から得られる信号における複数の領域のそれぞれから取得される値に適用される重みを示すパラメータを決定する決定方法であって、
前記マークの光学情報を取得する工程と、
前記パラメータを変更する行動に対する報酬が大きくなるように前記パラメータを更新する強化学習を行うことにより、前記パラメータを決定する工程と、
を有することを特徴とする決定方法。
【請求項２５】
基板に設けられたマークの位置を求める処理に用いられる、前記マークの光学情報に適用するテンプレートの形状を示すパラメータを決定する決定方法をコンピュータに実行させるプログラムであって、
前記コンピュータに、
前記マークの光学情報を取得する工程と、
前記パラメータを変更する行動に対する報酬が大きくなるように前記パラメータを更新する強化学習を行うことにより、前記パラメータを決定する工程と、
を実行させることを特徴とするプログラム。
【請求項２６】
基板に設けられたマークの光学情報から得られる信号における複数の領域から前記マークの位置を示す特徴量を抽出することにより前記マークの位置を求める処理に用いられる、前記マークの光学情報から得られる信号における複数の領域のそれぞれから取得される値に適用される重みを示すパラメータを決定する決定方法をコンピュータに実行させるプログラムであって、
前記コンピュータに、
前記マークの光学情報を取得する工程と、
前記パラメータを変更する行動に対する報酬が大きくなるように前記パラメータを更新する強化学習を行うことにより、前記パラメータを決定する工程と、
を有することを特徴とするプログラム。
【請求項２７】
請求項２３又は２４に記載の決定方法を実行することを特徴とする情報処理装置。
【請求項２８】
請求項１乃至２２のうちいずれか１項に記載のパターン形成装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンが形成された前記基板を処理する工程と、
処理された前記基板から物品を製造する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
【請求項２９】
基板にパターンを形成するパターン形成装置であって、
前記基板に設けられたマークの光学情報に適用して前記マークの位置を求めるためのテンプレート、及び、前記光学情報から得られる波形信号から前記マークの位置を示す特徴量を抽出するための領域を示すウィンドウを用いて、前記マークの位置を求める処理を行う処理部、を有し、
前記処理部は、複数の基板のそれぞれについて、前記光学情報に基づいて、前記テンプレートの形状及び前記ウィンドウの形状の少なくとも一方を示すパラメータを決定し、
前記処理部は、前記パラメータを決定する前の前記複数の基板についての前記マークの位置の平均値と、前記パラメータを決定した後の前記複数の基板についての前記マークの位置の平均値との差分を求め、前記差分を補正するためのオフセットを求めることを特徴とするパターン形成装置。
【請求項３０】
基板にパターンを形成するパターン形成装置であって、
前記基板に設けられたマークの光学情報に適用して前記マークの位置を求めるためのテンプレート、及び、前記光学情報から得られる波形信号から前記マークの位置を示す特徴量を抽出するための領域を示すウィンドウを用いて、前記マークの位置を求める処理を行う処理部と、
前記マークの光学情報を記憶する記憶部と、を有し、
前記処理部は、複数の基板のそれぞれについて、前記光学情報に基づいて、前記テンプレートの形状及び前記ウィンドウの形状の少なくとも一方を示すパラメータを決定し、
前記記憶部は、新たなマークの光学情報と、記憶しているマークの光学情報との類似度が閾値以下である場合に、前記新たなマークの光学情報を記憶することを特徴とするパターン形成装置。
【請求項３１】
基板にパターンを形成するパターン形成装置であって、
前記基板に設けられたマークの光学情報に適用して前記マークの位置を求めるためのテンプレート、及び、前記光学情報から得られる波形信号から前記マークの位置を示す特徴量を抽出するための領域を示すウィンドウを用いて、前記マークの位置を求める処理を行う処理部、を有し、
前記処理部は、複数の基板のそれぞれについて、前記光学情報に基づいて、前記テンプレートの形状及び前記ウィンドウの形状の少なくとも一方を示すパラメータを決定し、
前記処理部は、前記基板に前記パターンを形成している間に、前記パラメータを決定することを特徴とするパターン形成装置。