Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月14日(2020.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の上に配置されたインプリント材に型を接触させ硬化させることによって前記基板の上にパターンを形成するインプリント装置であって、
前記型を保持する型保持部と、
前記基板を保持する基板保持部と、
前記基板の上にインプリント材を配置するディスペンサと、
マークを撮像するスコープと、を備え、
前記基板保持部は、前記スコープによって撮像される基準マークを有する基準プレートを含み、前記ディスペンサは、前記型保持部から見て第１方向に配置され、
前記基板保持部は、前記第１方向に平行な２つの辺と、前記第１方向に垂直な第２方向に平行な２つの辺とを有し、
前記基準プレートは、前記第２方向に平行でかつ前記基板保持部の中心を通る仮想直線から見て前記第１方向の側における前記基板保持部の角部と前記中心との間に配置され、
前記仮想直線と前記仮想直線から見て前記第１方向の反対側における前記基板保持部の端部との間には、基準マークを有する基準プレートが配置されていない、
ことを特徴とするインプリント装置。
【請求項２】
前記基板保持部は、前記第１方向に平行な前記２つの辺と、前記第２方向に平行な前記２つの辺とを有する矩形形状を有する、
ことを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項３】
前記基板の複数のショット領域のうち最初にパターンが形成される第１ショット領域に対するパターンの形成と、前記基板の複数のショット領域のうち最後にパターンが形成される最終ショット領域に対するパターンの形成との間において前記基準プレートが前記型に対向しないように前記基板保持部が駆動される、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のインプリント装置。
【請求項４】
前記第１ショット領域に対するパターンの形成は、少なくとも前記第１ショット領域に対するインプリント材の配置、前記第１ショット領域のインプリント材と前記型との接触、および、前記第１ショット領域のインプリント材の硬化を含む、
ことを特徴とする請求項３に記載のインプリント装置。
【請求項５】
前記型は、前記基板の上に配置されたインプリント材に転写すべきパターンを有するパターン領域を含み、
前記基板の複数のショット領域のいずれに対して前記パターン領域が位置決めされた場合においても、前記基準プレートが前記型に対向しない、
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項６】
前記型は、パターン領域を取り囲む周辺領域を含み、
前記基板の複数のショット領域のいずれに対して前記パターン領域が位置決めされた場合においても、前記基準プレートが前記型の前記周辺領域に対向しない、
ことを特徴とする請求項５に記載のインプリント装置。
【請求項７】
前記型の帯電量を低減する除電機構を更に備え、
前記スコープが前記型を介して前記基準プレートを撮像する処理は、前記除電機構によって前記型の帯電量が低減された後に実施される、
ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項８】
前記基準マークは、複数の導電性反射部を含み、前記複数の導電性反射部は、互いに点接触しないように配置されている、
ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項９】
前記基準マークは、前記複数の導電性反射部を覆う透明導電膜を有する、
ことを特徴とする請求項８に記載のインプリント装置。
【請求項１０】
前記基準マークは、導電性反射部と、前記導電性反射部を覆う透明導電膜とを有する、
ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１１】
基板の上に配置されたインプリント材に型を接触させ硬化させることによって前記基板の上にパターンを形成するインプリント装置であって、
前記型を保持する型保持部と、
前記基板を保持する基板保持部と、
前記基板の上にインプリント材を配置するディスペンサと、
マークを撮像するスコープと、を備え、
前記基板保持部は、前記スコープによって撮像される基準マークを有する基準プレートを含み、前記基準マークは、導電性反射部と、前記導電性反射部を覆う透明導電膜とを有する、
ことを特徴とするインプリント装置。
【請求項１２】
前記透明導電膜は、ＩＴＯ膜、ＩＺＯ膜またはＴＮＯ膜で構成される、
ことを特徴とする請求項１１に記載のインプリント装置。
【請求項１３】
前記透明導電膜は、Ａｌ薄膜で構成される、
ことを特徴とする請求項１１に記載のインプリント装置。
【請求項１４】
請求項１乃至１３のいずれか１項に記載のインプリント装置により基板の上にパターンを形成する工程と、
前記工程において前記パターンが形成された前記基板の処理を行う工程と、
を含み、前記処理が行われた前記基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。
【請求項１５】
基準プレートを有する基板保持部によって保持された基板の上に配置されたインプリント材に型を接触させ硬化させることによって前記基板の上にパターンを形成するインプリント方法であって、
前記基板の複数のショット領域の各々に対してディスペンサによってインプリント材を配置し、該インプリント材に前記型を接触させ硬化させる処理を行う工程を含み、
前記工程の開始から終了までにおいて、前記基準プレートが前記型に対向しないように前記基板保持部が駆動され、
前記ディスペンサは、前記型を保持する型保持部から見て第１方向に配置され、
前記基板保持部は、前記第１方向に平行な２つの辺と、前記第１方向に垂直な第２方向に平行な２つの辺とを有し、
前記基準プレートは、前記第２方向に平行でかつ前記基板保持部の中心を通る仮想直線から見て前記第１方向の側における前記基板保持部の角部と前記中心との間に配置され、
前記仮想直線と前記仮想直線から見て前記第１方向の反対側における前記基板保持部の端部との間には、基準マークを有する基準プレートが配置されていない、
ことを特徴とするインプリント方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の１つの側面は、基板の上に配置されたインプリント材に型を接触させ硬化させることによって前記基板の上にパターンを形成するインプリント装置に係り、前記インプリント装置は、前記型を保持する型保持部と、前記基板を保持する基板保持部と、前記基板の上にインプリント材を配置するディスペンサと、マークを撮像するスコープと、を備え、前記基板保持部は、前記スコープによって撮像される基準マークを有する基準プレートを含み、前記ディスペンサは、前記型保持部から見て第１方向に配置され、前記基板保持部は、前記第１方向に平行な２つの辺と、前記第１方向に垂直な第２方向に平行な２つの辺とを有し、前記基準プレートは、前記第２方向に平行でかつ前記基板保持部の中心を通る仮想直線から見て前記第１方向の側における前記基板保持部の角部と前記中心との間に配置され、前記仮想直線と前記仮想直線から見て前記第１方向の反対側における前記基板保持部の端部との間には、基準マークを有する基準プレートが配置されていない。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月15日(2020.7.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に配された光電変換部を含む画素領域およびトランジスタを含む周辺領域が配された撮像装置であって、
前記光電変換部は、第１の窒化シリコン層によって覆われ、
前記トランジスタのゲート電極の側面は、第２の窒化シリコン層を含むサイドウォールによって覆われ、
前記第１の窒化シリコン層は、前記第２の窒化シリコン層よりも塩素濃度が低いことを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記第２の窒化シリコン層の塩素濃度が、１．０原子％以上であることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
基板に配された光電変換部を含む画素領域およびトランジスタを含む周辺領域が配された撮像装置であって、
前記光電変換部は、第１の窒化シリコン層によって覆われ、
前記トランジスタのゲート電極の側面は、酸化シリコンを含むサイドウォールによって覆われ、
前記サイドウォールは、塩素濃度が前記第１の窒化シリコン層の塩素濃度以下である窒化シリコンを含まないことを特徴とする撮像装置。
【請求項４】
前記トランジスタを第１のトランジスタとして、
前記画素領域には、第２のトランジスタが配され、
前記第２のトランジスタのゲート電極の側面は、前記第１の窒化シリコン層によって覆われ、
前記光電変換部と前記第１の窒化シリコン層との間、および、前記第２のトランジスタのゲート電極の側面と前記第１の窒化シリコン層との間に、酸化シリコン層が配され、
前記第２のトランジスタのゲート電極の側面は、第１の部分と、前記第１の部分と前記基板との間に配された第２の部分と、を含み、
前記第１の窒化シリコン層と前記第２の部分との間の距離が、前記第１の窒化シリコン層と前記基板との間の距離以下であることを特徴とする請求項３に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記サイドウォールが、第２の窒化シリコン層によって覆われ、
前記第２の窒化シリコン層が、前記サイドウォールおよび前記基板に接していることを特徴とする請求項３または４に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記サイドウォールが、第２の窒化シリコン層によって覆われ、
前記第２の窒化シリコン層は、前記サイドウォールおよび前記基板に接しており、かつ、前記光電変換部をさらに覆い、
前記第１の窒化シリコン層と前記第２の窒化シリコン層との間に、前記酸化シリコン層とは別の酸化シリコン層が配され、
前記第１の窒化シリコン層と前記第２の窒化シリコン層との間の距離が、前記第２のトランジスタのゲート電極の厚さよりも小さいことを特徴とする請求項４に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記サイドウォールが、前記トランジスタのゲート電極の側面と前記第２の窒化シリコン層との間に配され、前記ゲート電極の側面に接していることを特徴とする請求項５または６に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記第１の窒化シリコン層の塩素濃度が、１．０原子％未満であることを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項９】
前記第１の窒化シリコン層が、塩素を含むことを特徴とする請求項１乃至８の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項１０】
前記トランジスタは、ソース・ドレイン領域または前記ゲート電極の少なくとも一部にシリサイド層を含み、
前記基板に対する正射影において、前記第１の窒化シリコン層と前記シリサイド層とが、重ならないことを特徴とする請求項１乃至９の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０の何れか１項に記載の撮像装置と、
前記撮像装置によって得られた信号を処理する信号処理部と、
を備えることを特徴とするカメラ。
【請求項１２】
画素領域および周辺領域が配された撮像装置の製造方法であって、
前記画素領域のうち少なくとも光電変換部の上および前記周辺領域のゲート電極の上に第１の絶縁体膜を形成する工程と、
前記第１の絶縁体膜のうち少なくとも前記光電変換部の上に位置する部分を覆うマスクパターンを形成する工程と、
前記マスクパターンに覆われていない部分の前記第１の絶縁体膜を除去するエッチング工程と、
前記エッチング工程の後に、前記画素領域および前記周辺領域の上に第２の絶縁体膜を形成する工程と、
前記第２の絶縁体膜をエッチングすることによって、前記第２の絶縁体膜から前記ゲート電極の側面を覆うサイドウォールを形成する工程と、を含むことを特徴とする製造方法。
【請求項１３】
前記サイドウォールを形成する工程の後に、前記サイドウォールおよび前記ゲート電極の上面を覆うように、窒化シリコン層を含む第３の絶縁体膜を形成する工程と、
前記画素領域および前記周辺領域の上に層間絶縁膜を形成する工程であって、前記第３の絶縁体膜は前記層間絶縁膜と前記ゲート電極の上面との間に配される、工程と、
前記ゲート電極、前記層間絶縁膜、および、前記第３の絶縁体膜に接するコンタクトプラグを形成する工程と、をさらに含むことを特徴とする請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１４】
前記第１の絶縁体膜が、窒化シリコン層を含み、
前記第２の絶縁体膜が、酸化シリコン層を含み、かつ、窒化シリコン層を含まないことを特徴とする請求項１２または１３に記載の製造方法。
【請求項１５】
前記第１の絶縁体膜を形成する際の原料ガスに、ジクロロシランが用いられることを特徴とする請求項１２乃至１４の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項１６】
前記第１の絶縁体膜が、窒化シリコン層と、前記光電変換部と前記窒化シリコン層との間に配された酸化シリコン層と、を含む複層膜であることを特徴とする請求項１２乃至１５の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項１７】
前記第１の絶縁体膜と前記第２の絶縁体膜とを成膜する際に用いられる原料ガスのうち少なくとも一部、前記第１の絶縁体膜と前記第２の絶縁体膜とを成膜する際の膜厚、および、前記第１の絶縁体膜と前記第２の絶縁体膜とを成膜する際の成膜条件のうち少なくとも１つが、互いに異なることを特徴とする請求項１２乃至１６の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項１８】
前記エッチング工程では、前記第１の絶縁体膜をウエットエッチングによって除去することを特徴とする請求項１２乃至１７の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項１９】
前記サイドウォールを形成する工程において、前記画素領域の上に配された前記第２の絶縁体膜を残存させることを特徴とする請求項１２乃至１８の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項２０】
前記サイドウォールを形成する工程の後に、前記画素領域および前記周辺領域を覆うように金属膜を形成し、基板および前記ゲート電極のうち前記金属膜と接する部分をシリサイド化するシリサイド形成工程をさらに含み、
前記シリサイド形成工程において、前記第１の絶縁体膜のうち少なくとも端部が、前記第２の絶縁体膜に覆われていることを特徴とする請求項１２乃至１９の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項２１】
前記第１の絶縁体膜を形成する際の温度が、前記第２の絶縁体膜を形成する際の温度よりも高いことを特徴とする請求項１２乃至２０の何れか１項に記載の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月29日(2020.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
型を用いて、基板上の複数のパターン形成領域にインプリント材のパターンを形成するインプリント方法であって、
前記型と、前記複数のパターン形成領域のうちのひとつのパターン形成領域に供給された前記インプリント材と、を接触させる接触工程と、
前記型と前記インプリント材とが接触している状態において、前記ひとつのパターン形成領域を撮像して画像を取得する撮像工程と、
前記取得した画像に基づいて、前記基板と前記型の間に異物が含まれているか否かを判定する判定工程と、
前記判定工程において前記異物が含まれていると判定した場合に前記異物を除去する除去工程と、を含み、
前記除去工程は、前記判定工程において前記異物が含まれていないと判定されるまで繰り返す、
ことを特徴とするインプリント方法。
【請求項２】
前記除去工程は、前記判定工程が行われた前記基板と同一の基板を用いて行われることを特徴とする請求項１に記載のインプリント方法。
【請求項３】
前記除去工程は、前記判定工程が行われた前記基板と異なる基板を用いて行われることを特徴とする請求項１に記載のインプリント方法。
【請求項４】
前記除去工程において、前記型を保持する型保持部の保持力、または、前記基板を保持する基板保持部の保持力を前記接触工程から変更することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のインプリント方法。
【請求項５】
前記除去工程において、前記型を変形させる力、または、前記基板を変形させる力を前記接触工程から変更することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のインプリント方法。
【請求項６】
前記一連の工程を繰り返す回数が所定の閾値を超える場合は、前記型を別の型と交換することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のインプリント方法。
【請求項７】
前記判定工程において、前記ひとつのパターン形成領域に隣接するパターン形成領域に前記異物が含まれていると判定した場合、前記隣接するパターン形成領域に対し、前記パターンを形成しないことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のインプリント方法。
【請求項８】
前記判定工程において、前記異物が存在する位置座標を記憶することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のインプリント方法。
【請求項９】
型を用いて、基板上の複数のパターン形成領域にインプリント材のパターンを形成するインプリント方法であって、
前記型と、前記複数のパターン形成領域のうちのひとつのパターン形成領域に供給された前記インプリント材と、を接触させる接触工程と、
前記型と前記インプリント材とが接触している状態において、前記ひとつのパターン形成領域を撮像して画像を取得する撮像工程と、
前記取得した画像に基づいて、前記基板と前記型の間に異物が含まれているか否かを判定する判定工程と、
前記判定工程において前記異物が含まれていると判定した場合、前記型を保持する型保持部の保持力、または、前記基板を保持する基板保持部の保持力を前記接触工程から変更して前記異物を除去する除去工程と、を有する、
ことを特徴とするインプリント方法。
【請求項１０】
型を用いて、基板上の複数のパターン形成領域にインプリント材のパターンを形成するインプリント方法であって、
前記型と、前記複数のパターン形成領域のうちのひとつのパターン形成領域に供給された前記インプリント材と、を接触させる接触工程と、
前記型と前記インプリント材とが接触している状態において、前記ひとつのパターン形成領域を撮像して画像を取得する撮像工程と、
前記取得した画像に基づいて、前記基板と前記型の間に異物が含まれているか否かを判定する判定工程と、
前記判定工程において前記異物が含まれていると判定した場合、前記型を変形させる力、または、前記基板を変形させる力を前記接触工程から変更して前記異物を除去する除去工程と、を有する、
ことを特徴とするインプリント方法。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のうちいずれか１項に記載の方法をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
【請求項１２】
型を用いて、基板上の複数のパターン形成領域にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、
前記型を保持する型保持部と、
前記基板を保持する基板保持部と、
前記パターン形成領域を撮像する撮像部と
前記撮像部により撮像された前記パターン形成領域の画像に基づいて、前記基板と前記型の間に異物が含まれているか否かを判定し、前記異物が含まれていると判定した場合に、前記異物を除去するように前記型保持部または前記基板保持部の少なくとも一方を制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、前記基板と前記型の間に前記異物が含まれていないと判定するまで、前記異物を除去するように前記型保持部または前記基板保持部の少なくとも一方を制御する、
ことを特徴とするインプリント装置。
【請求項１３】
請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のインプリント方法を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記工程でパターンを形成された前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】インプリント方法、プログラム、インプリント装置及び物品の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明はインプリント方法、プログラム、インプリント装置及び物品の製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明は、型を用いて、基板上の複数のパターン形成領域にインプリント材のパターンを形成するインプリント方法であって、型と、複数のパターン形成領域のうちのひとつのパターン形成領域に供給されたインプリント材と、を接触させる接触工程と、型とインプリント材とが接触している状態において、ひとつのパターン形成領域を撮像して画像を取得する撮像工程と、取得した画像に基づいて、基板と型の間に異物が含まれているか否かを判定する判定工程と、判定工程において異物が含まれていると判定した場合、異物を除去する除去工程と、を含み、除去工程は、判定工程において異物が含まれていないと判定されるまで繰り返す、ことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月22日(2020.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
各々が、入射光の光量に対応する信号を出力する、複数行および複数列に渡って配された複数の有効画素と、
前記複数行に渡って配され、属する行の位置を示すアドレス信号を成すための画素信号を出力する複数の参照画素と、
前記複数行のそれぞれに対応して設けられ、各々が対応する前記有効画素と前記参照画素とを制御する制御信号を出力する複数の制御信号出力部を有する垂直走査回路とを有することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記複数行のうちの１行と、前記複数の制御信号出力部の１つとを各々が有する複数の組によって、前記複数の制御信号出力部のそれぞれが、前記複数行のそれぞれに対応して配されていることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記複数行のうちの一部の複数行と、前記複数の制御信号出力部の１つとを各々が有する複数の組によって、前記複数の制御信号出力部のそれぞれが、前記複数行のそれぞれに対応して配されていることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記複数の参照画素のうち、１行に配された複数の参照画素において、
前記１行に配された複数の参照画素が含まれる複数の組のうちの一部の組に含まれる複数の参照画素の画素信号によって成されるアドレス信号が、前記複数の組で繰り返されるとによって、前記属する行の位置を示すアドレス信号が成されることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記垂直走査回路が、デコーダであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記デコーダは、走査する行を指示する情報を含む走査指示信号が入力されるとともに、前記走査指示信号に基づくデコーダ信号を前記複数の制御信号出力部に出力するアドレスデコーダ回路をさらに有し、
前記アドレス信号が、前記デコーダ信号の値に対応する値を有することを特徴とする請求項５に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記垂直走査回路が、シフトレジスタであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記複数の参照画素のうちの一部の参照画素に、第１の電圧を供給する第１電圧供給線が接続され、前記一部の参照画素は、前記第１の電圧に対応する信号を前記画素信号として出力し
前記複数の参照画素のうちの他の一部の参照画素に、第２の電圧を供給する第２電圧供給線が接続され、前記他の一部の参照画素は、前記第２の電圧に対応する信号を前記画素信号として出力することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項９】
前記第１の電圧に対応する信号と、前記第２の電圧に対応する信号とによって、前記アドレス信号が成されることを特徴とする請求項８に記載の撮像装置。
【請求項１０】
前記複数の参照画素の各々は、増幅トランジスタと、前記増幅トランジスタのゲートに接続されたリセットトランジスタと、一方のノードおよび前記増幅トランジスタに接続された他方のノードとを有する転送トランジスタとを有し、
前記一部の参照画素の各々の前記転送トランジスタの前記一方のノードに前記第１電圧供給線が接続され、
前記他の一部の参照画素の各々の前記転送トランジスタの前記一方のノードに前記第２電圧供給線が接続されていることを特徴とする請求項８または９に記載の撮像装置。
【請求項１１】
前記複数行のうちの一の行に含まれる複数の有効画素と複数の参照画素は、対応する前記制御信号出力部と共通の制御線によって接続されていることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１２】
前記複数の制御信号出力部の各々は、バッファ回路であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１３】
フレームごとに前記アドレス信号の信号値が変化することを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１４】
前記複数の参照画素は半導体基板に形成され、
前記複数の参照画素の各々は、第１導電型の第１半導体領域と、前記第１導電型の浮遊拡散領域と、前記第１半導体領域と前記浮遊拡散領域との間に位置するとともに前記半導体基板の主面の上に設けられた転送ゲートとを有し、
前記複数の参照画素において、前記第１半導体領域の一部の領域が、コンタクトから電位が供給され、
前記第１半導体領域と前記主面との間であって、平面視における前記一部の領域と前記転送ゲートとの間の領域に形成された第２導電型の第２半導体領域がさらに設けられていることを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１５】
前記複数の参照画素が出力する前記画素信号と期待値とを比較し、前記複数の参照画素が出力する前記画素信号が前記期待値と異なる場合に、異常を通知する信号を生成する検出部を有することを特徴とする請求項１〜１４のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれか１項に記載の撮像装置と、
前記撮像装置が出力する信号を用いて画像を生成する信号処理部とを有することを特徴とする撮像システム。
【請求項１７】
請求項１〜１４のいずれか１項に記載の撮像装置と、
前記複数の参照画素が出力する前記画素信号と期待値とを比較し、前記複数の参照画素が出力する前記画素信号が前記期待値と異なる場合に、異常を通知する信号を生成する検出部とを有することを特徴とする撮像システム。
【請求項１８】
移動体であって、
請求項１〜１５のいずれか１項に記載の撮像装置と、
前記撮像装置の前記有効画素から出力された前記画素信号に対して処理を行う処理装置と、
前記処理の結果に基づいて前記移動体を制御する制御手段とを有することを特徴とする移動体。
【請求項１９】
移動体であって、
請求項１〜１４のいずれか１項に記載の撮像装置と、
前記複数の参照画素が出力する前記画素信号と期待値とを比較し、前記複数の参照画素が出力する前記画素信号が前記期待値と異なる場合に、異常を通知する信号を生成する検出部とを有することを特徴とする移動体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は上記の課題を鑑みて為されたものであり、一の態様は、各々が、入射光の光量に対応する信号を出力する、複数行および複数列に渡って配された複数の有効画素と、
前記複数行に渡って配され、属する行の位置を示すアドレス信号を成すための画素信号を出力する複数の参照画素と、前記複数行のそれぞれに対応して設けられ、各々が対応する前記有効画素と前記参照画素とを制御する制御信号を出力する複数の制御信号出力部を有する垂直走査回路とを有することを特徴とする撮像装置である。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月20日(2020.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮影された画像に仮想物体の画像を合成した合成画像を生成する生成手段と、
前記生成手段により生成された合成画像を体験者が利用する第1の表示装置に出力する第1出力手段と、
ブレ補正された合成画像である補正画像を第2の表示装置に出力する第2出力手段と、
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記第２出力手段は、前記体験者の位置が所定の条件を満たす場合には、前記生成手段により生成された合成画像を第２の表示装置に出力することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記第２の出力手段が、前記生成手段により生成された合成画像を第２の表示装置に出力する場合、ブレ補正がされていないことを通知する通知手段を更に備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記所定の条件とは、前記体験者と対象物との距離に係る条件であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記第２出力手段は、体験者と対象物との距離が前記所定の条件を満たさない場合に、前記補正画像を第２の表示装置に出力し、体験者と対象物との距離が前記所定の条件を満たす場合に、前記合成画像を第２の表示装置に出力することを特徴とする請求項４に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記第１の表示装置は、前記体験者が装着する装置であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項７】
撮影された画像は、前記体験者が装着する撮像装置により撮影された画像であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記補正画像は、前記合成画像に対してブレ補正を施した画像であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項９】
撮影された画像に仮想物体の画像を合成した合成画像を生成する生成ステップと、
前記生成ステップにより生成された合成画像を体験者が利用する第1の表示装置に出力する第1出力ステップと、
ブレ補正された合成画像である補正画像を第2の表示装置に出力する第2出力ステップと、
を備えることを特徴とする画像処理装置の処理方法。
【請求項１０】
コンピュータを、
撮影された画像に仮想物体の画像を合成した合成画像を生成する生成手段と、
前記生成手段により生成された合成画像を体験者が利用する第1の表示装置に出力する第1出力手段と、
ブレ補正された合成画像である補正画像を第2の表示装置に出力する第2出力手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
ステップＳ５１１は、合成画像を用いてブレ補正された合成画像を第２表示装置に出力する第２出力処理の一例を示すものである。また、体験者の位置に基づき、ブレ補正に係る条件を満たす場合に、ステップＳ５０８で生成された合成画像を第２表示装置に出力する第２出力処理の一例を示すものである。  更に、対象物との距離を満たさない場合に、ブレ補正された合成画像を第２表示装置に出力し、対象物との距離を満たす場合に、ブレ補正を解除してステップＳ５０８で生成された合成画像を第２表示装置に出力するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０５】
また、第２出力部３０３は、対象物との距離を満たさない場合に、ブレ補正された合成画像を第２表示装置に出力し、対象物との距離を満たす場合に、ブレ補正を解除して生成部３０１により生成された合成画像を第２表示装置に出力する。
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月30日(2020.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
本発明の目的である、無線装置を飛来物などによる不意の衝撃から防護しつつ、その装置の無線通信性能への影響を可能な限り抑制できる防護ネットを得るため、前述の３つのパラメータのうち、高さＨを変えつつ、電波特性、特に定在波比（ＶＳＷＲ：Voltage Standing Wave Ratio）および指向性を確認することとした。ただし、以降のデータにおいては、金属製格子の下面のフランジからの高さＨではなく、パターンアンテナ面から格子の上面までの距離ｄを用いた。パターンアンテナ面から格子の上面までの距離ｄのほうがより、電波への影響と直接的に関係すると考えられるためである。また、金属製格子のピッチＰは４０ｍｍとしたが、ピッチの影響も把握するため、一部では格子ピッチＰが２０ｍｍの防護ネットを用いた評価も行った。以下に、２種類のアンテナ、２．４ＧＨｚおよび５ＧＨｚ帯用のアンテナを用いて評価を行った結果を説明する。後述するとおり、２．４ＧＨｚ帯の電波による通信は、５ＧＨｚ帯の電波に比較して周囲の影響を受けやすく、金属製格子の高さに敏感に影響を受けた。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月19日(2020.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記憶部、入力部及び出力部に接続された制御部を備えた画像表示システムであって、
前記記憶部は、複数のカメラのそれぞれによって撮影された天球画像を記憶し、
前記制御部が、
議事進行に応じて、前記カメラによって撮影された天球画像を選択するためのインターフェースを前記出力部に表示させ、
前記入力部において、ユーザの操作により選択された天球画像を前記出力部に表示することを特徴とする画像表示システム。
【請求項２】
選択可能なカメラの配置を示したマップを前記出力部に表示し、
前記マップにおいて前記ユーザの操作の操作により選択されたカメラで天球画像を出力部に表示することを特徴とする請求項１に記載の画像表示システム。
【請求項３】
前記制御部が、
前記出力部に、議事進行における議題を選択可能な議題一覧を前記出力部に表示し、
前記議題一覧において選択された議題を特定することを特徴とする請求項１又は２に記載の画像表示システム。
【請求項４】
前記制御部が、前記天球画像において、人物画像を特定し、
参加者判定条件に基づいて、前記人物画像が参加者画像と判定した場合、前記参加者画像に対して画像加工処理を行なうことを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の画像表示システム。
【請求項５】
前記記憶部は、天球画像に含まれるオブジェクトの説明情報を記憶し、
前記制御部が、
前記天球画像の所定位置に、当該天球画像に含まれるオブジェクトについての説明情報を表示させる表示指示アイコンを表示し、
ユーザによる前記表示指示アイコンの指定に応じて、前記説明情報を出力し、
前記議事進行に応じて、前記表示指示アイコン又は前記説明情報を消去することを特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載の画像表示システム。
【請求項６】
前記天球画像は、前記ユーザにより表示領域を操作可能であり、
前記制御部が、前記表示領域から前記オブジェクトの位置が基準値以上のずれを判定した場合、前記表示指示アイコン又は前記説明情報の表示を停止することを特徴とする請求項５に記載の画像表示システム。
【請求項７】
前記表示指示アイコン又は前記説明情報は、前記天球画像に貼り付けられていることを特徴とする請求項５又は６に記載の画像表示システム。
【請求項８】
前記表示指示アイコン又は前記説明情報は、前記天球画像に連動する重畳レイヤに貼り付けられていることを特徴とする請求項５〜７の何れか一項に記載の画像表示システム。
【請求項９】
前記制御部は、前記ユーザの操作により選択された前記カメラで撮影された天球画像を議事進行に応じて前記出力部に表示することを特徴とする請求項１〜８の何れか一項に記載の画像表示システム。
【請求項１０】
前記制御部は、議事進行における特定の議題においては、前記インターフェースを前記出力部に表示させないことを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の画像表示システム。
【請求項１１】
前記天球画像は、議事が進行される本会場を撮影した第１天球画像と、ホワイエを撮影した第２天球画像と、を含み、
前記制御部は、議事進行における特定の議題になると、前記出力部が前記第２天球画像を表示している場合であっても、前記第１天球画像の表示に切り替えることを特徴とする請求項１〜１０の何れか一項に記載の画像表示システム。
【請求項１２】
議事進行における複数の議題のそれぞれに表示条件が設定されており、
前記制御部は、前記表示条件に基づいて議事進行に応じた処理を行うことを特徴とする請求項１〜１１の何れか一項に記載の画像表示システム。
【請求項１３】
記憶部、入力部及び出力部に接続された制御部を備えた画像表示システムを制御するプログラムであって、
前記記憶部は、複数のカメラのそれぞれによって撮影された天球画像を記憶し、
前記制御部を、
議事進行に応じて、前記カメラによって撮影された天球画像を選択するためのインターフェースを前記出力部に表示させ、
前記入力部において、ユーザの操作により選択された天球画像を前記出力部に表示する手段として機能させることを特徴とする画像表示プログラム。
【請求項１４】
記憶部、入力部及び出力部に接続された制御部を備えた画像表示システムを制御する方法であって、
前記記憶部は、複数のカメラのそれぞれによって撮影された天球画像を記憶し、
前記制御部が、
議事進行に応じて、前記カメラによって撮影された天球画像を選択するためのインターフェースを前記出力部に表示させ、
前記入力部において、ユーザの操作により選択された天球画像を前記出力部に表示することを特徴とする画像表示方法。
【請求項１５】
記憶部及び制御部を備えたサーバであって、
前記記憶部は、複数のカメラのそれぞれによって撮影された撮影された天球画像を記憶
し、
前記制御部が、
議事進行に応じて、前記カメラによって撮影された天球画像を選択するためのインターフェースをユーザ端末の出力部に表示させ、
前記ユーザ端末の入力部において、ユーザの操作により選択された天球画像を前記出力部に表示させることを特徴とするサーバ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像表示システム、画像表示プログラム、画像表示方法及びサーバ
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、画像表示システム、画像表示プログラム、画像表示方法及びサーバに関する。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月8日(2020.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
左右方向の長さよりも上下方向の長さの方が長い表示領域を有する表示部と、
前記表示部の表示及び前記表示部に対する入力を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、
前記表示領域の中央より上方の第１領域に、第１の利用者に操作させるための第１の操作画面を表示させ、
前記表示領域の前記第１領域よりも下方の第２領域に、第２の利用者に操作させるための第２の操作画面を表示させ、
第１及び第２の操作画面それぞれに対する入力を同時期に受付可能とする、
画像処理装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月10日(2020.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
ＣＰＵ１０１は、Ｓ２０１において操作部１１０を介したユーザ入力に基づき電源投入要求を受けると、再生装置１００の動作モードをライブストリーミングモードに遷移させる。ライブストリーミングモードとは、再生装置１００が情報処理装置２００からコンテンツをセグメントデータ単位に受信しながら同時に表示部１０９に表示再生 する動作モードである。続くＳ２０２において、ＣＰＵ１０１は、通信部１１１を介して情報処理装置２００へ接続依頼の制御情報を送信する。続くＳ２０３においてＣＰＵ１０１は、通信部１１１を介して情報処理装置２００からプレイリストアクセス許可の制御情報を受信する。これにより、再生装置１００と、情報処理装置２００とが通信可能状態となり、以降、再生装置１００と情報処理装置２００における通信は、通信部１１１を介して行われる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
なお、セグメントデータ１の表示タイミングは、セグメントデータ１の復号処理後すぐでもよいし、セグメントデータ保持部１０６にバッファ領域を設け、その領域にある程度（例えばセグメント3つ分）セグメントデータが蓄積されたタイミングで表示してもよい。特に通信速度が遅い場合は、セグメントデータ１の表示完了時点でセグメントデータ２の受信や復号が完了しておらず、再生が途切れてしまう可能性がある。このような場合にはバッファ領域を設け、再生装置１００側に一定のセグメントデータを蓄積してから再生を行うことが有効になる。バッファを用いると再生の開始が遅延するため再生のリアルタイム性は損なわれるが、一方で再生の途切れを軽減できるという利点がある。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月22日(2020.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
魚眼レンズを有し、画像のデワープを行わない画像種別と、画像のデワープを行う画像種別であって、互いにデワープの方式が異なる複数の画像種別の、いずれかの画像種別で前記魚眼レンズにより撮像することで得られる画像を外部装置に送信可能な撮像装置であって、
前記外部装置に送信する画像に関するプロファイルに、ビデオソース設定とビデオエンコード設定とＰＴＺ設定とを対応付ける対応付け手段と、
前記ビデオソース設定と前記ビデオエンコード設定と前記ＰＴＺ設定の少なくともいずれか１つと、前記画像種別との関連を示す紐付け情報を記憶する記憶手段と、
前記プロファイルに対応付ける前記画像種別の情報を、前記外部装置から取得する取得手段と、
前記取得手段により取得した前記画像種別の情報と、前記記憶手段により記憶する前記紐付け情報に基づいて、前記対応付け手段により前記プロファイルに対応付けるビデオソース設定とビデオエンコード設定とＰＴＺ設定とを決定する決定手段と、
を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記決定手段は、前記紐付け情報に基づき、前記画像種別に対応する前記ビデオソース設定をプロファイルに対応付け、ビデオソース設定とビデオエンコード設定とＰＴＺ設定との依存関係テーブルから前記プロファイルに対応付けられた前記ビデオソース設定に設定可能なビデオエンコード設定とＰＴＺ設定とを前記プロファイルに対応付けると決定することを特徴とする請求項１記載の撮像装置。
【請求項３】
前記決定手段は、前記紐付け情報に基づき、前記画像種別に対応する前記ビデオソース設定をプロファイルに対応付け、前記ビデオソース設定の解像度を含むビデオエンコード設定を前記プロファイルに対応付け、前記画像種別がサポートするパン、チルト、ズームに一致するＰＴＺ設定を前記プロファイルに対応付けると決定することを特徴とする請求項１記載の撮像装置。
【請求項４】
前記外部装置から受信したプロファイル取得コマンドに基づいて複数のプロファイルを前記外部装置に送信する場合、前記プロファイル取得コマンドに含まれるサービス名に応じて、応答するプロファイルの順番を決定する制御手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至３何れか１項記載の撮像装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記プロファイル取得コマンドに含まれるサービス名に応じて、サポートされていないエンコード種別が設定されているビデオエンコーダ設定を含むプロファイルを最後に前記外部装置に送信するよう制御することを特徴とする請求項４記載の撮像装置。
【請求項６】
前記外部装置から受信したプロファイル取得コマンドに基づいて複数のプロファイルを送信する場合、前記撮像装置の設置状態に応じて、応答するプロファイルの順番を決定する制御手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至４何れか１項記載の撮像装置。
【請求項７】
前記画像のデワープを行わない画像種別には、前記魚眼レンズで撮像することで得られる画像であって、補正処理が行われていない前記画像を含むことを特徴とする請求項１乃至６何れか１項記載の撮像装置。
【請求項８】
前記デワープの方式が異なる複数の画像種別には、前記魚眼レンズで撮像することで得られる画像の一部を切り出した切り出し画像を含むことを特徴とする請求項１乃至７何れか１項記載の撮像装置。
【請求項９】
前記切り出し画像には、パノラマ画像を含むことを特徴とする請求項８記載の撮像装置。
【請求項１０】
魚眼レンズを有し、画像のデワープを行わない画像種別と、画像のデワープを行う画像種別であって、互いにデワープの方式が異なる複数の画像種別の、いずれかの画像種別で前記魚眼レンズにより撮像することで得られる画像を外部装置に送信可能であり、ビデオソース設定とビデオエンコード設定とＰＴＺ設定の少なくともいずれか１つと、前記画像種別との関連を示す紐付け情報を記憶する記憶手段を有する撮像装置が実行する情報処理方法であって、
前記外部装置に送信する画像に関するプロファイルに、ビデオソース設定とビデオエンコード設定とＰＴＺ設定とを対応付ける対応付け工程と、
前記プロファイルに対応付ける前記画像種別の情報を、前記外部装置から取得する取得工程と、
前記取得工程で取得した前記画像種別の情報と、前記記憶手段により記憶する前記紐付け情報に基づいて、前記対応付け工程で前記プロファイルに対応付けるビデオソース設定とビデオエンコード設定とＰＴＺ設定とを決定する決定工程と、
を含む情報処理方法。
【請求項１１】
コンピュータを、請求項１乃至９何れか１項記載の撮像装置の各手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の撮像装置は、魚眼レンズを有し、画像のデワープを行わない画像種別と、画像のデワープを行う画像種別であって、互いにデワープの方式が異なる複数の画像種別の、いずれかの画像種別で前記魚眼レンズにより撮像することで得られる画像を外部装置に送信可能な撮像装置であって、前記外部装置に送信する画像に関するプロファイルに、ビデオソース設定とビデオエンコード設定とＰＴＺ設定とを対応付ける対応付け手段と、前記ビデオソース設定と前記ビデオエンコード設定と前記ＰＴＺ設定の少なくともいずれか１つと、前記画像種別との関連を示す紐付け情報を記憶する記憶手段と、前記プロファイルに対応付ける前記画像種別の情報を、前記外部装置から取得する取得手段と、前記取得手段により取得した前記画像種別の情報と、前記記憶手段により記憶する前記紐付け情報に基づいて、前記対応付け手段により前記プロファイルに対応付けるビデオソース設定とビデオエンコード設定とＰＴＺ設定とを決定する決定手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月9日(2020.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画角と焦点距離との少なくとも一方が異なる第１カメラと第２カメラとを校正する校正方法に使用される校正用具であって、
複数の第１マークから構成される第１パターンと、
複数の第２マークから構成される第２パターンと、を有し、
前記第１パターンおよび前記第２パターンは、同一の面に形成されており、
前記第１パターンの前記第１マークおよび前記第２パターンの前記第２マークは、形状が同一であり、かつ、大きさが異なる、校正用具。
【請求項２】
請求項１に記載の校正用具であって、
前記第１パターンの複数の前記第１マークの配列と前記第２パターンの複数の前記第２マークの配列が異なる、校正用具。
【請求項３】
請求項２に記載の校正用具であって、
前記第１パターンおよび前記第２パターンは、前記第１パターンに外接する第１矩形の領域と、前記第２パターンに外接する第２矩形の領域と、が部分的に重なるように配置されている、校正用具。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】カメラの校正方法に使用される校正用具
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、カメラの校正方法に使用される校正用具に関するものである。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月13日(2019.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
シールド電線１１のうちシールド端子２０より後方の領域が、軸線と交差する方向（例えば、右方）へ引っ張られると、その引張力は圧着部２５の後端部、即ち、前後一対の第１延出部３３のうちの後側の第１延出部３３に作用する。そのため、この第１延出部３３は、右方（第２カシメ部３６から遠ざかる方向）へ押圧されるのであるが、第１延出部３３に形成されている第１係止部３４が規制部４６に対し左側から当接しているので、第１延出部３３が右方へ変位することはない。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
また、シールド電線１１に作用する右向きの引張力が規制部４６の剛性（強度）を上回る大きさである場合、規制部４６が全体的に右方へ湾曲するように変形し、後側の第１延出部３３が右方へ変形してしまうことが懸念される。しかし、後側の第１係止部３４の前方では、第２係止部３９が規制部４６に対して右方から係止しているので、規制部４６が引張力に負けて右方へ湾曲するように変形する虞はない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
第１係止部３４と第２係止部３９は、互いに直接的に係止するのではなく、規制部４６に対し個別に係止する。これにより、シールド電線１１の軸線方向（前後方向）における第１係止部３４の形成範囲が、第１延出部３３の全領域に拡げられている。同様に、軸線方向における第２係止部３９の形成範囲も、第２延出部３８の全領域に拡げられている。このようにすれば、第１係止部３４と規制部４６との係止代及び第２係止部３９と規制部４６との係止代が軸線方向において大きく確保されるので、シールド電線１１と圧着部２５との固着強度が高められている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
本実施例４の第１カシメ部７１は、実施例１と同様、第１基部７２の延出端から第１基部７２より幅狭の前後一対の第１延出部７３を形成し、各第１延出部７３の延出端部に前後一対の第１係止部７４を形成したものである。前側の第１係止部７４は、第１延出部７３の延出端部における前縁部を内周側（シールド電線１１の外周に接近する方向）へ切り起こした形態である。後側の第１係止部７４は、第１延出部７３の延出端部における後縁部を内周側（シールド電線１１の外周に接近する方向）へ切り起こした形態である。尚、第２カシメ部７５と第２係止部（図示省略）も、第１カシメ部７１と同様の形状である。