(57)【要約】  本発明に係る製造方法はアルミニウムを含む金属有機化合物並びに／又は金属塩、及び、金属有機化合物及び／又は金属塩の縮合重合反応を抑制するための安定剤を有機溶剤に溶解してなる触媒担持膜コーティング剤を基板上に塗布して、触媒担持膜を設ける工程と、鉄を含む金属有機化合物並びに／又は金属塩、及び、金属有機化合物及び／又は金属塩の縮合重合反応を抑制するための安定剤を有機溶剤に溶解してなる触媒生成膜コーティング剤を触媒担持膜上に塗布して、触媒生成膜を設ける工程と、ＣＶＤ法により基板上にＣＮＴ配向集合体を成長させる工程と、を含む。【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミニウムを含む金属有機化合物及び／又は金属塩、及び、当該金属有機化合物及び当該金属塩の縮合重合反応を抑制するための安定剤を有機溶剤に溶解してなる触媒担持膜コーティング剤を基板上に塗布して、前記基板上に触媒担持膜を設ける工程と、
鉄を含む金属有機化合物及び／又は金属塩、及び、当該金属有機化合物及び当該金属塩の縮合重合反応を抑制するための安定剤を有機溶剤に溶解してなる触媒生成膜コーティング剤を前記触媒担持膜上に塗布して、前記触媒担持膜上に触媒生成膜を設ける工程と、
化学気相成長法（ＣＶＤ）法により、前記基板上にカーボンナノチューブ配向集合体を成長させる工程と、を含むことを特徴とするカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。
【請求項２】
前記触媒担持膜コーティング剤に含まれる安定剤が、アルカノールアミン及び／又はβ−ジケトンであることを特徴とする請求項１に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。
【請求項３】
前記触媒生成膜コーティング剤に含まれる安定剤が、アルカノールアミン及び／又はβ−ジケトンであることを特徴とする請求項１に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。
【請求項４】
触媒担持膜コーティング剤を塗布したのち、２００℃以上、４００℃以下で加熱することを特徴とする請求項１に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。
【請求項５】
５分以上、３時間以下の時間で加熱することを特徴とする請求項４に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。
【請求項６】
触媒生成膜コーティング剤を塗布したのち、５０℃以上、２００℃以下で加熱することを特徴とする請求項１に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。
【請求項７】
前記触媒担持膜がアルミニウム原子及び炭素原子を含むことを特徴とする請求項１に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。
【請求項８】
前記触媒担持膜が、酸素原子をさらに含むことを特徴とする請求項７に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。
【請求項９】
前記触媒担持膜が多孔質であることを特徴とする請求項１に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。
【請求項１０】
前記基板上にカーボンナノチューブ配向集合体を成長させる工程において、雰囲気中に触媒賦活物質を存在させることを特徴とする請求項１に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。
【請求項１１】
前記カーボンナノチューブ配向集合体を成長させる工程の前に、
前記基板の周囲環境を還元ガスを含む環境として、前記基板及び前記還元ガスのうち少なくとも一方を加熱し、前記触媒生成膜を還元及び微粒子化するフォーメーション工程をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。
【請求項１２】
前記触媒担持膜コーティング剤中に含まれる前記金属有機化合物及び前記金属塩からなる群より選ばれる少なくとも一つが、アルミニウムアルコキシドであることを特徴とする請求項１に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。
【請求項１３】
前記触媒生成膜コーティング剤中に含まれる前記金属有機化合物及び前記金属塩からなる群より選ばれる少なくとも一つが、有機酸鉄であることを特徴とする請求項１に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。
【請求項１４】
前記触媒担持膜の膜厚は１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。
【請求項１５】
前記触媒生成膜の膜厚は１ｎｍ以上、１０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。
【請求項１６】
前記触媒担持膜コーティング剤中に含まれる前記金属有機化合物及び前記金属塩の総量と前記安定剤との配合モル比が、１：０．０１以上３．０以下の範囲であることを特徴とする請求項１に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。
【請求項１７】
前記触媒生成膜コーティング剤中に含まれる前記金属有機化合物及び前記金属塩の総量と安定剤との配合モル比が、１：０．０１以上３．０以下の範囲であることを特徴とする請求項１に記載のカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カーボンナノチューブの製造方法に関する。より詳しくは、本発明は、化学気相成長（ＣＶＤ）法を用いて、カーボンナノチューブあるいはカーボンナノチューブ配向集合体を製造することができ、しかも長期間にわたり安定した品質のカーボンナノチューブが量産可能な、カーボンナノチューブの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
カーボンナノチューブ（以下、「ＣＮＴ」ともいう）は、炭素原子が平面的に六角形状に配置されて構成された炭素シートが、円筒状に閉じた構造を有する炭素構造体である。このＣＮＴには、多層のもの及び単層のものがあるが、いずれもその力学的強度、光学特性、電気特性、熱特性、分子吸着機能等の面から、電子デバイス材料、光学素子材料、導電性材料等の機能性材料としての展開が期待されている。ＣＮＴの中でも単層ＣＮＴは、電気的特性（極めて高い電流密度）、熱的特性（ダイヤモンドに匹敵する熱伝導度）、光学特性（光通信帯波長域での発光）、水素貯蔵能、及び金属触媒担持能などの各種特性に優れている上、半導体と金属との両特性を備えているため、ナノ電子デバイス、ナノ光学素子、及びエネルギー貯蔵体などの材料として注目されている。【０００３】
これらの用途にＣＮＴを有効利用する場合、複数本のＣＮＴが規則的な方向に配向して集まった束状、膜状、あるいは塊状の集合体を成し、そのＣＮＴ集合体が、電気・電子的、及び光学的などの機能性を発揮することが望ましい。ＣＮＴは、アスペクト比が極めて高い一次元的な構造を持つ材料であり、その機能も高い方向性を示す。そのため、ＣＮＴ集合体（構造体）を構成する一本一本のＣＮＴが規則的な方向に配向していると、個々のＣＮＴの機能の方向性を揃えることができ、結果として、高機能なＣＮＴ集合体を得ることができる。【０００４】
すなわち、各ＣＮＴが規則的な方向に配向しているＣＮＴ配向集合体は、一本一本のＣＮＴの向きが不規則な、つまり無配向なＣＮＴ集合体と比較して、配向方向についての伝達特性に高い指向性を示す。この高い指向性により、ＣＮＴ集合体は、より良好な電気特性（例えばより高い導電性）、より良好な機械的特性（例えばより高い強度）、より良好な熱特性（例えばより高い熱伝導性）を示す。さらには、このようなＣＮＴ集合体の配向方向とそれ以外の方向とで異なる特性、つまり異方性は、例えば、熱などを所望の方向に選択的に拡散、排出したい場合などに有効であり、熱伝導材などの用途に好適である。また、ＣＮＴ集合体は、その高さ、長さ等のサイズがより一層大きいことが望ましい。このようなＣＮＴ配向集合体が創製されれば、ＣＮＴの応用分野が飛躍的に拡大するものと予測される。【０００５】
一方、ＣＮＴの製造方法の一つに、化学気相成長法（以下、「ＣＶＤ法」とも称する）が知られている（特許文献１、２などを参照されたい）。この方法は、約５００℃〜１０００℃の高温雰囲気下で炭素化合物を触媒の金属微粒子と接触させることを特徴としており、触媒の種類及び配置、あるいは炭素化合物の種類及び反応条件といった態様を様々に変化させた中でのＣＮＴの製造が可能であり、ＣＮＴの大量生産に適したものとして注目されている。またこのＣＶＤ法は、単層カーボンナノチューブ（ＳＷＣＮＴ）と多層カーボンナノチューブ（ＭＷＣＮＴ）とのいずれも製造可能である上、触媒を担持した基板を用いることで、基板面に垂直に配向した多数のＣＮＴを製造することができる、という利点を備えている。【０００６】
例えば、特許文献２には、ＣＮＴの工業的な生産において、その純度を高め、比表面積を増大させ、配向性を向上させるために、酸化剤の存在環境下で化学気相成長法によってＣＮＴをシリコン基板上に生成させる方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】日本国公開特許公報「特開２００３−１７１１０８号公報（２００３年６月１７日公開）」
【特許文献２】国際公開第２００６／０１１６５５号パンフレット（２００６年２月２日公開）
【特許文献３】国際公開第２００４／０７１６５４号パンフレット（２００４年８月２６日）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
一般にＣＮＴの外径及び外径分布範囲は、触媒微粒子の直径及び直径分布に依存している。触媒微粒子の直径が大きくなると、ＣＮＴの外径も大きくなる。その場合、多層ＣＮＴが生成しやすくなり、ＣＮＴの比表面積は低下してしまう。たとえば特許文献２に記載の方法においては、単層ＣＮＴ配向集合体を形成させるために、触媒担持膜および触媒の膜厚をナノメートルスケールで制御している。触媒担持膜及び触媒の膜厚が不均一であると、触媒微粒子の大きさが不均一となりやすい。その結果、多層ＣＮＴが生成して、比表面積の低下がおきる問題点があった。【０００９】
特許文献３においては、触媒金属の有機金属塩又は無機金属塩を溶媒に分散又は溶解させてなる溶液を基板上に塗布した後、乾燥及び焼成することで基板上に触媒金属の酸化物の微粒子を形成させる方法の記載がある。特許文献３に記載されているとおり、触媒金属の有機金属塩又は無機金属塩は塗布したときに凝集しやすく、塗布して形成した触媒の膜厚の均一性を損なう原因となっていた。しかも、特許文献３に記載の方法で作製した溶液は、溶液中で触媒金属の有機金属塩又は無機金属塩の凝集及びゾル化を制御することができない。その結果、溶液を塗布したときに、触媒の厚みが不均一となり、多層ＣＮＴが生成しやすいという問題がある。そのうえ、溶液を長期間使用または保存した場合も、溶液中の触媒金属の有機金属塩または無機金属塩の凝集が進行して塗布不良及び沈殿がおこり濃度が変化する不具合が発生して、長期間安定して、同品質のＣＮＴを得ることができない。【００１０】
また、特許文献２において単層ＣＮＴ配向集合体は、構成する単層ＣＮＴのバンドルは、平均外径が大きく（２ｎｍ以上）、かつ外径分布範囲が広い（半値幅１ｎｍ以上）上に、直線性が低い（Ｇ／Ｄ比５０以下；ラマン分光で観測されるＣＮＴ固有のラマンＧバンド（Ｇ）と、欠陥品由来のラマンＤバンド（Ｄ）との比）、単層ＣＮＴからなっている。このことから、ＣＮＴが密なバンドルを形成しにくく、比表面積の大きいＣＮＴ配向集合体を得ることが可能となった。このような単層ＣＮＴ配向集合体を得るためには、触媒の直径および直径分布を最適な状態にコントロールする必要がある。しかし、たとえば特許文献３に記載の方法で形成された触媒は、一般に直径が２nｍ以下で小さく、直径分布範囲が狭い（半値幅１ｎｍ以下）。触媒微粒子の大きさに起因して、外径が２ｎｍ以下で直径分布範囲が狭いＣＮＴが生成するため、ＣＮＴ同士が密なバンドルを形成し、比表面積の大きい単層ＣＮＴ配向集合体を形成することができない。【００１１】
そこで本発明は、長期間保存可能な、触媒担持膜および触媒生成膜を形成するための塗布液を用い、且つ、均一な膜厚の触媒担持膜及び触媒生成膜を形成してＣＮＴ配向集合体を製造する方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するために本発明に係るカーボンナノチューブの製造方法は、アルミニウムを含む金属有機化合物及び／又は金属塩、及び、当該金属有機化合物及び当該金属塩の縮合重合反応を抑制するための安定剤を有機溶剤に溶解してなる触媒担持膜コーティング剤を基板上に塗布して、前記基板上に触媒担持膜を設ける工程と、鉄を含む金属有機化合物及び／又は金属塩、及び、当該金属有機化合物及び当該金属塩の縮合重合反応を抑制するための安定剤を有機溶剤に溶解してなる触媒生成膜コーティング剤を前記触媒担持膜上に塗布して、前記触媒担持膜上に触媒生成膜を設ける工程と、化学気相成長法（ＣＶＤ）法により、前記基板上にカーボンナノチューブ配向集合体を成長させる工程と、を含む。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、触媒担持膜及び触媒生成膜の膜厚をナノメートルスケールで均一に塗布することが可能となる。それに応じて、サイズの大きい触媒微粒子の生成を抑制して、均一なサイズの触媒微粒子を生成することが可能となり、その結果、比表面積の大きいＣＮＴ配向集合体を生成することが可能となる。また、塗布液（前記触媒担持膜コーティング剤及び前記触媒生成膜コーティング剤）を長期間使用又は保存した場合でも、安定して同品質のＣＮＴ配向集合体を製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の一実施形態に係るＣＮＴ配向集合体製造用の基材の層構成を概略的に示す図である。
【図２】本発明の一実施形態に係るＣＮＴ配向集合体製造用の基材を用いる、ＣＮＴ製造装置の構成を模式的に示す図である。
【図３】触媒担持膜の加熱温度と、ＣＮＴ配向集合体の基板単位面積当たりの収量との関係を、概略的に示す図である。
【図４】実施例１における、ＣＮＴの分散性試験結果を示す図である。
【図５】実施例１における、ＣＮＴの透過型電子顕微鏡で観察した結果を示す図である。
【図６】実施例１における、ＣＮＴのαｓプロットの結果を示す図である。
【図７】実施例３における、ＣＮＴの分散性試験結果を示す図である。
【図８】実施例３における、ＣＮＴを透過型電子顕微鏡で観察した結果を示す図である。
【図９】実施例３における、触媒担持膜表面のＳＥＭ観察を行なった結果を示す図である。
【図１０】実施例３における、触媒生成膜表面のＳＥＭ観察を行なった結果を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
（ＣＮＴ配向集合体）
本発明に係るカーボンナノチューブ配向集合体の製造方法（以下、単に本発明に係る製造方法という。）によって、基材上に高効率でＣＮＴを成長させることができ、触媒から成長した多数のＣＮＴは特定の方向に配向し、ＣＮＴ配向集合体を形成する。
【００１６】
本発明に係る製造方法によって得られる単層ＣＮＴ配向集合体は、比表面積が高く、一本一本のＣＮＴが規則的な方向に配向していて、かつ嵩密度が低いという従来のＣＮＴ集合体にはない優れた特性を有するという特徴がある。単層ＣＮＴ配向集合体の、比表面積は６００ｍ２／ｇ〜２６００ｍ２／ｇと非常に大きい。このように大きな比表面積は、触媒の担持体やエネルギー・物質貯蔵材として有効であり、スーパーキャパシタ及びアクチュエータなどの用途に好適である。また、ＣＮＴ配向集合体を構成する一本一本のＣＮＴが規則的な方向に配向している。そのため、個々のＣＮＴの機能の方向性を揃えることができ、結果として、高機能なＣＮＴ集合体を得ることができる。
【００１７】
さらにこの単層ＣＮＴ配向集合体は、重量密度が０．００２ｇ／ｃｍ３〜０．２ｇ／ｃｍ３と低密度である。このように基板上で低密度に成長した単層ＣＮＴ配向集合体は、集合体を構成する個々の単層ＣＮＴ同士の結びつきが弱く、基板から取り外した単層ＣＮＴ配向集合体を、溶媒などに均一に分散させることが容易である。これらに加えて、適度に配向していて低密度な本発明の単層ＣＮＴ配向集合体は、生成後の後処理行程による密度調節が容易であり、高密度化処理行程を経ることにより、あたかも藁を束ねて作られた俵のように、互いに隣接するＣＮＴ同士を隙間なく高密度に充填させることが可能である。この際、高密度化処理行程を制御することによって様々な形状に成型することができる。
【００１８】
なお、ＣＮＴは樹脂及びセラミックス等に高導電性、高熱伝導性などを付与するフィラーとしての用途が期待されている。ＣＮＴの高導電性、高熱伝導性を効率良く発揮させるためには、一本一本のＣＮＴが長く、均一に分散させることが重要となる。しかし、ＣＮＴは、π−π相互作用により強固なバンドル（束）構造をとり非常に分散が困難である。また、直径が細いＣＮＴは表面積が大きく表面エネルギーが大きいため、表面エネルギーを小さくしようと互いに力が働くため凝集しており非常に分散性が悪い。用途によって、より分散性に優れたＣＮＴ配向集合体の使用が望ましい場合がある。従来技術では、このような要請に応えることが難しく、さらに改善すべき余地があるが、本発明によれば、分散性に優れたＣＮＴ配向集合体を製造方法できるのである。
【００１９】
（配向性）
配向の評価方法については後に詳述するが、例えば、θ−２θ法、ラウエ法で得られたＸ線回折強度、ＳＥＭ画像又は原子間力顕微鏡（「ＡＭＦ」ともいう）画像を高速フーリエ変換して得られた画像から得た強度プロフィールを用いて計算したヘルマンの配向係数が、本発明によって得られる単層ＣＮＴ配向集合体においては、例えば、−０．５以上、１以下であり、好ましくは０より大きく１以下であり、より好ましくは０．２５以上、１以下である。このような配向の範囲にある単層ＣＮＴ配向集合体は、良好な電気特性、良好な機械的特性、良好な熱特性を示し、比表面積も大きく、一体性に富み、取扱いが容易で形状加工性も良好である。しかも熱力学的、電気的、機械的な異方性も十分に示し、様々な用途に好適である。
【００２０】
これに対してヘルマンの配向係数が０より小さい単層ＣＮＴ配向集合体は配向性を示さない。またヘルマンの配向係数が０．２５より小さいものは、ＣＮＴの傾斜が４５°となり、配向の効果は減少する。なお、ヘルマン配向係数が１の単層ＣＮＴ配向集合体は、完全に配向したものとなる。
【００２１】
単層ＣＮＴ配向集合体が配向性、及び高比表面積を示すためには、単層ＣＮＴ配向集合体の高さ（長さ）は１０μｍ以上、１０ｃｍ以下の範囲にあることが好ましい。この高さ範囲にある単層ＣＮＴ配向集合体は、良好な配向性及び大きい比表面積を備えている。高さを１０μｍ以上とすることで、配向性が向上する。また高さが１０ｃｍ以下であれば、生成を短時間で行なえるため炭素系不純物の付着を抑制し、比表面積を向上させることができる。さらには、この高さ範囲のある単層ＣＮＴ配向集合体は高い一体性を備え、取扱いが容易であり、形状加工性も良好である。
【００２２】
ＣＮＴ配向集合体の配向は、例えば、以下の１から３の少なくともいずれか１つの方法によって評価することができる。すなわち、
１．ＣＮＴの長手方向に平行な第１方向と、第１方向に直交する第２方向とからＸ線を入射してＸ線回折強度を測定（θ−２θ法）した場合に、第２方向からの反射強度が、第１方向からの反射強度より大きくなるθ角と反射方位とが存在し、かつ第１方向からの反射強度が、第２方向からの反射強度より大きくなるθ角と反射方位とが存在すること。
【００２３】
２．ＣＮＴの長手方向に直交する方向からＸ線を入射して得られた２次元回折パターン像でＸ線回折強度を測定（ラウエ法）した場合に、異方性の存在を示す回折ピークパターンが出現すること。
【００２４】
３．ヘルマンの配向係数が、θ−２θ法又はラウエ法で得られたＸ線回折強度を用いると０より大きく１より小さいこと。より好ましくは０．２５以上、１以下であること。
【００２５】
また、前述のＸ線回折法において、単層ＣＮＴ間のパッキングに起因する（ＣＰ）回折ピーク、（００２）ピークの回折強度及び単層ＣＮＴを構成する炭素六員環構造に起因する（１００）、（１１０）ピークの平行と垂直との入射方向の回折ピーク強度の度合いが互いに異なるという特徴も有している。
【００２６】
（基板）
基板はその表面にＣＮＴの触媒を担持することのできる部材であればよく、４００℃以上の高温でも形状を維持できることが好ましい。例えば、ＣＮＴの製造が可能あるものを、適宜、用いることができる。材質としては、鉄、ニッケル、クロム、モリブデン、タングステン、チタン、アルミニウム、マンガン、コバルト、銅、銀、金、白金、ニオブ、タンタル、鉛、亜鉛、ガリウム、インジウム、ガリウム、ゲルマニウム、砒素、インジウム、燐、及びアンチモンなどの金属、並びにこれらの金属を含む合金及び酸化物、又はシリコン、石英、ガラス、マイカ、グラファイト、及びダイヤモンドなどの非金属、並びにセラミックなどを例示できる。金属はシリコン及びセラミックと比較して、低コストであるから好ましく、特に、Ｆｅ−Ｃｒ（鉄−クロム）合金、Ｆｅ−Ｎｉ（鉄−ニッケル）合金、Ｆｅ−Ｃｒ−Ｎｉ（鉄−クロム−ニッケル）合金等は好適である。
【００２７】
基板の態様としては、平板状以外に、例えば、薄膜状、ブロック状、あるいは粉末状などでもよく、特に体積の割に表面積を大きくとれる態様が大量に製造する場合において有利である。
【００２８】
平板状の基板を使用する場合、基板の厚さに特に制限はなく、例えば数μｍ程度の薄膜から数ｃｍ程度までのものを用いることができる。好ましくは、０．０５ｍｍ以上３ｍｍ以下である。基板の厚さが３ｍｍ以下であれば、ＣＶＤ工程で基材を十分に加熱することができＣＮＴの成長不良を抑制することができ、また基板のコストを低減できる。基板の厚さが０．０５ｍｍ以上であれば、浸炭による基板の変形を抑え、また基板自体のたわみが起こりにくいため基板の搬送や再利用に有利である。なお、本明細書にいう浸炭とは基板に炭素成分が浸透することをいう。
【００２９】
平板状基板の形状、大きさに特に制限はないが、形状としては、長方形もしくは正方形のものを用いることができる。基板の一辺の大きさに特に制限はないが、ＣＮＴの量産性の観点から、大きいほど望ましい。
【００３０】
（触媒担持膜コーティング剤、触媒担持膜）
本発明に係る製造方法は、触媒担持膜コーティング剤を基板上に塗布して、前記基板上に触媒担持膜を設ける工程を含む。
【００３１】
本発明に係る製造方法で用いる触媒担持膜コーティング剤は、アルミニウムを含む金属有機化合物並びに金属塩からなる群より選ばれる少なくとも一つ、及び、当該金属有機化合物及び前記金属塩の縮合重合反応を抑制するための安定剤を有機溶剤に溶解してなる。金属有機化合物、金属塩、安定剤、有機溶剤には、後述する化合物を使用することが可能である。
【００３２】
本発明に係る製造方法で用いる触媒担持膜コーティング剤を基板上に塗布すると基板上に触媒担持膜が形成される。また、塗布した後、加熱するとよい。触媒担持膜は、担持した触媒の粒径をコントロールしやすく、また高密度で触媒微粒子が存在しても高温下でシンタリングを起こりにくくする。また、触媒の活性を向上させる役割がある。
【００３３】
本発明に係る製造方法で用いる触媒担持膜コーティング剤において、コーティング剤全量に対する水分含有量は、２．０％以下であることが好ましい。水分含有量が２．０％以下であることにより、コーティング剤中において、金属有機化合物及び金属塩の凝集及びゾル化の進行を抑制することが可能である。金属有機化合物及び金属塩の凝集及びゾル化が進行した場合、液中にサイズの大きい微粒子が生成しやすくなるため、ＣＮＴの比表面積が低下するおそれがある。また、徐々に縮合重合反応が進行し、均一なゾル状態を長期間維持することが難しく、安定して同品質のＣＮＴを得ることが難しくなる。
【００３４】
また、本発明によれば、塗布法で触媒を基板上に配置できるため、スパッタ装置を用いて金属薄膜を配置する方法に比べ、大面積化が可能でスケーラビリティに優れ、低コスト化を図ることができるＣＮＴ配向集合体の提供が可能となる。
【００３５】
（金属有機化合物、金属塩）
本発明によれば、触媒担持膜を、金属有機化合物及び金属塩のうち少なくとも一つを原料に形成させる。これらの化合物は後述する加熱工程に供した場合、基板上で金属水酸化物又は金属酸化物に変化する。金属有機化合物及び金属塩は、５０℃以上、３５０℃以下の温度で熱分解することが好ましい。熱分解温度が５０℃以上であればコーティング剤としての安定性を維持することができる。熱分解温度が３５０℃以下であれば、高温を必要としないので、後述する加熱工程において、ＣＮＴの成長が最も良好な加熱温度にすることができる。
【００３６】
触媒担持膜を形成するための金属有機化合物又は金属塩を構成する金属としては、ＣＮＴの成長が著しく向上することから、アルミニウムを含むことが好ましい。アルミニウムを含むことで、触媒賦活物質の作用が向上すると推測される。
【００３７】
触媒担持膜コーティング剤がアルミニウムを含む場合、その態様は、例えば、アルミニウムを含む金属有機化合物、アルミニウムを含む塩が挙げられる。中でも有機アルミニウム化合物が好ましい。アルミニウムを含む金属有機化合物には炭素原子が予め含まれており、触媒担持膜にアルミニウム原子及び炭素原子を含む基材を容易に製造できるからである。ただし、触媒担持膜に炭素原子を含ませる場合であって、アルミニウムを含む金属塩のように炭素原子を含まない化合物を用いる場合であっても、別途炭素原子を触媒担持膜中に含ませればよい。
【００３８】
アルミニウムを含む金属有機化合物としては、アルコキシドが挙げられる。アルミニウムトリメトキシド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムトリ−ｎ−プロポキシド、アルミニウムトリ−ｉ−プロポキシド、アルミニウムトリ−ｎ−ブトキシド、アルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシド、アルミニウムトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシド等が挙げられる。これらは、単独あるいは混合物として用いることができる。アルミニウムを含む金属有機化合物としては他に、トリス（アセチルアセトナト）アルミニウム（ＩＩＩ）などの錯体が挙げられる。
【００３９】
アルミニウムを含む金属塩としては、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム、臭化アルミニウム、よう化アルミニウム、乳酸アルミニウム、塩基性塩化アルミニウム、塩基性硝酸アルミニウム等が挙げられる。
【００４０】
これらのなかでも、金属製基板へのぬれ性が良く、カーボンナノチューブの成長が良好であることから、アルミニウムアルコキシドを用いることが好ましい。
【００４１】
（有機溶剤）
触媒担持膜コーティング剤に用いる有機溶剤としては、アルコール、グリコール、ケトン、エーテル、エステル類、炭化水素類等種々の有機溶剤が使用できるが、金属有機化合物及び金属塩の溶解性が良いことから、アルコール又はグリコールを用いることが好ましい。これらの有機溶剤は単独で用いてもよいし、２種類以上を混合して用いてもよい。
【００４２】
アルコールとしては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、オクタノール、ｎ−プロピルアルコールなどが挙げられる。グリコール類としては、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどを挙げることができる。前記アルコールの中でも、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどが、取り扱い性、保存安定性といった点で好ましい。
【００４３】
用いる金属有機化合物又は金属塩がアルコール又はグリコールに溶解しにくい場合、炭化水素類等他の溶媒を併用することもできる。
【００４４】
（安定剤）
安定剤としては、前記金属有機化合物及び前記金属塩の縮合重合反応を抑制するものであればよいが、β−ジケトン及びアルカノールアミンからなる群より選ばれる少なくとも一つであることが好ましい。これらの化合物は単独で用いてもよいし、２種類以上を混合して用いてもよい。このような安定剤を加えることにより、縮合重合反応を起こす活性な反応基が安定剤によってキャッピングされ、縮合重合反応が進行せず、長期間にわたって粘度変化の少ないコーティング剤を得ることができる。また、高分子酸化物の重合度をコントロールすることができるため、高い分子量をもつ粒径の大きい粒子の生成による金属酸化物の沈殿が発生しない、長期間にわたって安定なコーティング剤を得ることができる。長期間にわたって同一の触媒担持膜コーティング剤を用いて、安定して同品質のＣＮＴを製造することが可能となる。安定剤を配合しないと、たとえば調製直後の溶液と、１ヶ月間保存後の溶液とで、合成されたＣＮＴの品質が変化してしまう恐れがある。
【００４５】
本発明によれば、縮合重合反応が進行せずゾル化が進行していない、又はゾル化の状態を制御できることから、液中に大きい粒子が生成していない。そのため、平坦で均一な触媒担持膜を形成することが可能となる。また、触媒の粒子を最適な状態にコントロールすることが可能となる。
【００４６】
金属有機化合物及び金属塩のゾル化が進行すると、触媒担持膜の膜厚が不均一となる原因となり、触媒の粒子サイズが大きくなり、その結果多層ＣＮＴが生成しやすくなる。多層ＣＮＴは比表面積が小さいため、比表面積の大きなＣＮＴ配向集合体を得ることができない。
【００４７】
また、金属有機化合物及び／又は金属塩の溶液に安定剤を配合することにより、基板上へ塗布したときに金属有機化合物及び金属塩同士が凝集するのを防止して、均一な膜厚の触媒担持膜を形成できることを本発明者らは見出した。同時に、金属基板へのぬれ性を改善する役割があり、はじき等の塗布不良を防止して、均一な膜厚の触媒担持膜を形成できることを本発明者らは見出した。
【００４８】
安定剤として用いられるβ−ジケトン類としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ベンゾイルアセトン、ジベンゾイルメタン、ベンゾイルトリフルオルアセトン、フロイルアセトンおよびトリフルオルアセチルアセトンなどが例示されるが、特にアセチルアセトン、アセト酢酸エチルを用いることが好ましい。
【００４９】
安定剤として用いられるアルカノールアミン類としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、Ｎ．Ｎ−ジメチルアミノエタノール、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミンなどがある。なかでも、金属基板へのぬれ性が向上して、ＣＮＴの成長が向上することから、第２級又は第３級アルカノールアミンであることが好ましい。
【００５０】
安定剤は、５０℃以上、３５０℃以下の温度で、熱分解又は揮発するものであることが好ましい。熱分解温度又は沸点が５０℃以上であればコーティング剤としての安定性を維持することができる。熱分解温度又は沸点が３５０℃以下であれば、後述する加熱工程を行なう場合、ＣＮＴの成長が最も良好な加熱温度にでき、高温を必要としないため生産性が向上する。後述する加熱工程での温度よりも低い熱分解温度又は沸点を有することで、加熱工程の後の膜中への残存量を減らすことができ、ＣＮＴの成長不良を抑制することができる。
【００５１】
触媒担持膜コーティング剤中に含まれる金属有機化合物及び金属塩の総量と安定剤との配合モル比は、特に限定されないが、金属有機化合物及び金属塩のモル数に対して、１：０．０１以上３．０以下の範囲で添加した場合により優れた効果が現れ、特に、金属有機化合物及び金属塩のモル数に対して、１：０．５以上１．５以下の範囲で添加することが好ましい。安定剤の添加量が金属有機化合物及び金属塩の総量に対して０．０１以上であれば安定化の機能が十分に発揮され、３．０以下であれば、皮膜の白化などの悪影響を抑制することができる。金属有機化合物及び金属塩の総量と安定剤との配合モル比を調整することによって、加熱工程の前に金属有機化合物または金属塩の加水分解及び縮合反応が開始することを確実に防止できると共に、後の加熱工程条件下での加水分解及び縮合反応を調整することが可能になる。
【００５２】
触媒担持膜コーティング剤中に含まれる金属有機化合物及び金属塩の総量は、塗布したときの膜厚ムラを軽減し、表面の平滑性が優れることから、０．５重量％以上１０重量％以下の範囲とすることが好ましく、０．５重量％以上５重量％以下の範囲とすることがより好ましい。
【００５３】
なお、触媒担持膜コーティング剤において、コーティング剤全量に対する水分含有量は、２．０％以下であることが好ましい。水分含有量が２．０％以下であることにより、コーティング剤中において、金属有機化合物もしくは金属塩の凝集やゾル化の進行を抑制することが可能である。金属有機化合物もしくは金属塩の凝集やゾル化が進行した場合、液中にサイズの大きい微粒子が生成しやすくなるため、ＣＮＴの比表面積が低下するおそれがある。また、徐々に縮合反応が進行し、均一なゾル状態を長期間維持することが難しく、安定して同品質のカーボンナノチューブを得ることが難しくなる。
【００５４】
（塗布）
触媒担持膜コーティング剤を塗布することで、基板上に金属有機化合物及び／又は金属塩と安定剤とを含む皮膜が形成され、触媒担持膜が得られる。
【００５５】
大気中に存在している水分によって金属有機化合物及び金属塩の縮合重合反応が促進される場合がある。そのため、塗布、乾燥中の温度、湿度をコントロールすることが、均一な皮膜を作製するにあたり重要である。塗布、乾燥条件としては、２０℃以上、２５℃以下、相対湿度６０％以下であることが好ましい。相対湿度が６０％以下であれば、金属有機化合物及び金属塩と大気中の水蒸気との反応を抑制し、塗布された皮膜をより均一にすることができる。
【００５６】
基板表面へのコーティング剤の塗布方法としては、スプレー、ハケ塗り等により塗布する方法、スピンコーティング、ディップコーティング等、いずれの方法を用いてもよい。
【００５７】
（加熱工程）
本発明に係る製造方法は、触媒担持膜コーティング剤を基板上に塗布して、基板上に触媒担持膜を設ける工程の後に、基板上の触媒担持膜を加熱する加熱工程を含んでもよい。基板上の触媒担持膜を加熱することで、金属有機化合物及び金属塩の加水分解及び縮重合反応が開始され、金属水酸化物及び／又は金属酸化物を含む硬化皮膜が基板表面に形成される。
【００５８】
金属がアルミニウムの場合、加熱することで、水酸化アルミニウム又は酸化アルミニウム薄膜が形成される。酸化アルミニウム（アルミナ）は、ＣＮＴの成長が良好であることから、アモルファスアルミナであることが好ましい。もしくはα−アルミナ、γ−アルミナ、δ−アルミナ、χ−アルミナ、κ−アルミナ、θ−アルミナ、ρ−アルミナ等遷移アルミナが含まれていてもよい。
【００５９】
触媒担持膜コーティング剤は、塗布した後、乾燥させることが好ましく、さらにその後、加熱工程を実施することが好ましい。加熱工程を実施することで、金属水酸化物及び／又は金属酸化物を含む触媒担持膜が形成される。また、基板と触媒担持膜との密着性が向上して、次の工程で触媒生成膜コーティング剤を塗布する際の塗布の安定性が向上する。
【００６０】
加熱温度は、２００℃以上、４００℃以下であることが好ましく、さらには２５０℃以上、３５０℃以下であることが好ましい。通常、金属水酸化物又は金属酸化物の焼成には、５００℃〜１２００℃の高温であることが必要であるが、本発明においては、比較して低温で実施するため、生産性に優れる。加熱温度が４００℃以下であることにより、金属酸化物皮膜の結晶性が高くなるのを抑制する。また、アルミニウムを含む金属有機化合物中に含まれる炭素原子を触媒担持膜中に残留させることができる。その結果、本発明に係る製造方法によって、平均外径が大きく（２ｎｍ以上）、かつ外径分布範囲が広い（半値幅１ｎｍ以上）ＣＮＴ配向集合体を製造する際に最適な、触媒を形成することが可能となる。金属酸化物皮膜の結晶性が高くなると、触媒の微粒子化を最適な状態にもっていくことができず、さらに触媒担持膜および触媒としての活性が小さくなり、ＣＮＴの成長が悪化するおそれがある。また、金属製基板を用いた場合、加熱温度が４００℃以下であることにより、基板表面の酸化を防止して、ＣＮＴの成長の悪化を防ぐことが可能である。
【００６１】
触媒担持膜コーティング剤を塗布後の加熱温度を２００℃から７００℃まで変えたとき、得られた触媒担持膜を用いて合成したＣＮＴの基材単位面積当たりの収量との関係を、図３に示した。加熱温度が、ＣＮＴの成長に大きく影響していることが判明した。ＣＮＴの成長が良好で安定していることから、触媒担持膜コーティング剤を塗布後の加熱温度は、２００℃以上、４００℃以下であることが好ましい。
【００６２】
加熱時間は、金属酸化物皮膜の結晶性が高くなるのを抑制する観点、アルミニウムを含む金属有機化合物中に含まれる炭素原子を触媒担持膜中に残留させる観点、および生産効率上の観点から短いほど好ましく、５分以上、３時間以下であることが好ましい。加熱時間の上限はより好ましくは１時間、さらに好ましくは３０分である。
【００６３】
加熱工程後の触媒担持膜の膜厚は、１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であることが好ましい。前記膜厚の範囲内において均一でむらのない触媒担持膜を形成することが容易である。１００nm以下の膜厚において、クラックのない均質な触媒担持膜の形成が容易である。１０nｍ以上の膜厚において、ＣＮＴを生成させることが容易となる。
【００６４】
触媒担持膜はアルミニウム原子及び炭素原子を含んでいることが好ましい。触媒担持膜に含まれるアルミニウム原子の態様は、いかなる態様であってもよい。つまり、アルミニウム化合物が触媒担持膜に含まれていてもよく、アルミニウム単体が触媒担持膜に含まれていてもよいが、アルミニウム化合物が含まれていることが触媒担持膜に好ましい。例えば、前記のように、アルミニウムを含む金属有機化合物を基板上に塗布して、これを加熱して触媒担持膜を形成することで、アルミニウムを含む金属有機化合物由来のアルミニウム原子が触媒担持膜に含まれるようにすることができる。
【００６５】
また、触媒担持膜に含まれる炭素原子の態様は、いかなる態様であってもよい。つまり、炭素化合物が触媒担持膜に含まれていてもよく、炭素単体が触媒担持膜に含まれていてもよい。例えば、前記のように、アルミニウムを含む金属有機化合物を基板上に塗布して、これを加熱して触媒担持膜を形成する際に、炭素成分が残留するようにすることで、触媒担持膜に炭素原子が含まれるようにすることができる。
【００６６】
触媒担持膜中の炭素原子の組成割合は、Ｘ線電子分析（ＥＳＣＡ）で測定される元素分析において、８％以上、３０％以下の範囲であることが好ましい。炭素原子の組成割合の下限は、より好ましくは１０％、さらに好ましくは１５％であり、上限は、より好ましくは２５％、さらに好ましくは２０％である。この範囲であれば、より凝集し難く、分散性に優れたＣＮＴ配向集合体を得ることができる。また、炭素原子の組成割合が３０％以下の触媒担持膜は、例えば、アルミニウムを含む金属有機化合物を炭素原子が残るように加熱することで得られるので、材料の観点、製造の観点から、コストが低いという利点を有する。
【００６７】
触媒担持膜は、酸素原子をさらに含むことがより好ましい。例えば、アルミニウムおよび酸素原子を含む金属有機化合物を基板上に塗布して、これを加熱して触媒担持膜を形成することで、アルミニウムおよび酸素原子を含む金属有機化合物由来の酸素原子が触媒担持膜に含まれるようにするとよい。つまり、アルミニウムおよび酸素原子を含む金属有機化合物を加熱してアルミナが生成するようにして、当該アルミナ中の酸素原子が触媒担持膜に残るようにしてもよい。
【００６８】
触媒担持膜が酸素原子を含む場合、その含有量は、例えば、Ｘ線電子分析（ＥＳＣＡ）で測定される元素分析において、酸素原子とアルミニウム原子との組成比（Ｏ／Ａｌ）が、１．８以上、２．７以下の範囲であることがより好ましい。この範囲であれば、より凝集し難く、分散性に優れたＣＮＴ配向集合体を得られる。また、アルミニウムを含む金属有機化合物の加熱条件を調整することによって、この範囲の組成比にすることが容易であるため、製造の観点からも有利である。
【００６９】
触媒担持膜は、多孔質であることが好ましい。触媒担持膜が多孔質であることは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による観測で、触媒担持膜の表面に細孔が観測されることで確認できる。触媒担持膜が多孔質であることにより、ＣＮＴの生産安定性が向上する。メカニズムについては定かではないが、触媒賦活物質が触媒担持膜表面に存在する細孔に吸着することで、触媒賦活物質が触媒に供給されやすくなり、触媒が失活しにくくなっていると推測される。
【００７０】
触媒担持膜は、その表面の比表面積が、窒素吸着によるＢＥＴ比表面積で、３００ｍ２／ｇ以上であることが好ましい。ＢＥＴ比表面積が３００ｍ２／ｇ以上であると、ＣＮＴをより高い効率で成長させることができる。触媒担持膜表面のＢＥＴ比表面積は、触媒担持膜コーティング剤を塗布後の加熱温度と加熱時間で制御することができる。加熱温度と加熱時間を前記範囲とすることで、ＢＥＴ比表面積が３００ｍ２／ｇ以上の触媒担持膜を効率よく得ることができる。また、触媒担持膜表面のＢＥＴ比表面積の上限としては特に限定されないが、８００ｍ２／ｇ以下であることが好ましい。
【００７１】
また、触媒担持膜の表面は、平滑であることが好ましい。触媒担持膜の表面が平滑であると、触媒生成膜における触媒微粒子の粒子サイズが大きくなることを抑制でき、これにより比表面積の大きいＣＮＴを得ることができる。触媒担持膜表面の算術平均表面粗さＲａは、好ましくは０．０５μｍ以下である。
【００７２】
（触媒生成膜コーティング剤、触媒生成膜）
本発明に係る製造方法は、触媒生成膜コーティング剤を触媒担持膜上に塗布して、前記触媒担持膜上に触媒生成膜を設ける工程を含む。
【００７３】
本発明に係る製造方法で用いる触媒生成膜コーティング剤は、鉄を含む金属有機化合物並びに金属塩からなる群より選ばれる少なくとも一つ、及び、当該金属有機化合物及び当該金属塩の縮合重合反応を抑制するための安定剤を有機溶剤に溶解してなる。金属有機化合物、金属塩、安定剤、有機溶剤には、後述する化合物を使用することが可能である。
【００７４】
本発明に係る製造方法で用いる触媒コーティング剤を基板の触媒担持膜上に塗布することで、触媒担持膜上に触媒生成膜が形成される。塗布した後は、乾燥することがより好ましい。また、触媒生成膜を形成した後に、後述するフォーメーション工程を行うことがより好ましい。これにより、還元、微粒子化をおこさせて、ＣＮＴ生成用触媒としてより好適に機能する。本発明に係る製造方法で形成される触媒微粒子は、直径分布が広く、また基板上での微粒子密度に粗密があるため、ＣＮＴの外径分布が広く、さらに屈曲点の多いＣＮＴが得られると推測される。その結果、従来のＣＮＴと比較して、ＣＮＴ同士が強固なバンドルを形成しにくく、分散性に優れたＣＮＴを製造することが可能となる。
【００７５】
ＣＮＴは樹脂及びセラミックス等に高導電性、高熱伝導性などを付与するフィラーとしての用途が期待されている。ＣＮＴの高導電性、高熱伝導性を効率良く発揮させるためには、一本一本のＣＮＴが長く、均一に分散させることが重要となる。しかし、ＣＮＴは、π−π相互作用により強固なバンドル（束）構造をとり非常に分散が困難である。また、直径が細いＣＮＴは表面積が大きく表面エネルギーが大きいため、表面エネルギーを小さくしようと互いに力が働くため凝集しており非常に分散性が悪い。用途によって、より分散性に優れたＣＮＴ配向集合体の使用が望ましい場合がある。ところが、従来技術では、このような要請に応えることが難しく、さらに改善すべき余地がある。
【００７６】
しかしながら、本発明によれば、分散性に優れたＣＮＴ配向集合体を製造できるのである。
【００７７】
（金属有機化合物、金属塩）
本発明によれば、触媒生成膜を、金属有機化合物及び／又は金属塩を原料に形成させる。これらの化合物は後述する加熱工程に供した場合、触媒担持膜上で金属水酸化物又は金属酸化物に変化する。金属有機化合物及び金属塩は、５０℃以上、３５０℃以下の温度で熱分解することが好ましい。熱分解温度が５０℃以上であればコーティング剤としての安定性を維持することができる。熱分解温度が３５０℃以下であれば、後述する加熱工程においてＣＮＴの成長に最も適した加熱温度にでき、また高温を必要とせず生産性が向上する。
【００７８】
触媒生成膜を形成するための金属有機化合物又は金属塩を構成する金属としては、ＣＮＴの成長が著しく向上することから、鉄を含むことが好ましい。
【００７９】
鉄を含む金属有機化合物としては、鉄ペンタカルボニル、フェロセン、アセチルアセトン鉄（ＩＩ）、アセチルアセトン鉄（ＩＩＩ）、トリフルオロアセチルアセトン鉄（ＩＩ）、トリフルオロアセチルアセトン鉄（ＩＩＩ）等が挙げられる。
【００８０】
鉄を含む金属塩としては、例えば、硫酸鉄、硝酸鉄、リン酸鉄、塩化鉄、臭化鉄等の無機酸鉄、酢酸鉄、シュウ酸鉄、クエン酸鉄、乳酸鉄等の有機酸鉄等が挙げられる。化合物は１種または２種以上混合してもよい。
【００８１】
これらのなかでも、金属製基板へのぬれ性が良く、カーボンナノチューブの成長が良好であることから、有機酸鉄を用いることが好ましい。
【００８２】
（有機溶剤）
アルコール、グリコール、ケトン、エーテル、エステル類、炭化水素類等種々の有機溶剤が使用できるが、金属有機化合物及び金属塩の溶解性が良いことから、アルコール又はグリコールを用いることが好ましい。これらの有機溶剤は単独で用いてもよいし、２種類以上を混合して用いてもよい。
【００８３】
アルコールとしては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、オクタノール、ｎ−プロピルアルコールなどが挙げられる。グリコール類としては、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどを挙げることができる。前記アルコールの中でも、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどが、取り扱い性、保存安定性といった点で好ましい。
【００８４】
（安定剤）
安定剤としては、前記金属有機化合物及び前記金属塩の縮合重合反応を抑制するものであればよいが、β−ジケトン及びアルカノールアミンからなる群より選ばれる少なくとも一つであることが好ましい。これらの化合物は単独で用いてもよいし、２種類以上を混合して用いてもよい。このような安定剤を加えることにより、縮合重合反応を起こす活性な反応基が安定剤によってキャッピングされ、縮合重合反応が進行せず、長期間にわたって粘度変化の少ないコーティング剤を得ることができる。また、高分子酸化物の重合度をコントロールすることができるため、高い分子量をもつ粒径の大きい粒子の生成による金属酸化物の沈殿が発生しない、長期間にわたって安定なコーティング剤を得ることができる。長期間にわたって同一の触媒生成膜コーティング剤を用いて、安定して同品質のＣＮＴを製造することが可能となる。安定剤を配合しないと、たとえば調製直後の溶液と、１ヶ月間保存後の溶液とで、合成されたＣＮＴの品質が変化してしまう恐れがある。
【００８５】
本発明によれば、縮合重合反応が進行せずゾル化が進行していない、又はゾル化の状態を制御できることから、液中に大きい粒子が生成していない。そのため、平坦で均一な触媒生成膜を形成することが可能となる。また、触媒の粒子を最適な状態にコントロールすることが可能となる。
【００８６】
金属有機化合物及び金属塩のゾル化が進行すると、触媒の膜厚が不均一となる原因となり、触媒の粒子サイズが大きくなり、その結果多層ＣＮＴが生成しやすくなる。多層ＣＮＴは比表面積が小さいため、比表面積の大きなＣＮＴ配向集合体を得ることができない。
【００８７】
また、金属有機化合物及び／又は金属塩の溶液に安定剤を配合することにより、触媒担持膜上へ塗布したときに金属有機化合物及び金属塩同士が凝集するのを防止して、均一な膜厚の触媒生成膜を形成することが可能となる。
【００８８】
安定剤として用いられるβ−ジケトン類としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ベンゾイルアセトン、ジベンゾイルメタン、ベンゾイルトリフルオルアセトン、フロイルアセトンおよびトリフルオルアセチルアセトンなどが例示されるが、特にアセチルアセトン、アセト酢酸エチルを用いることが好ましい。
【００８９】
安定剤として用いられるアルカノールアミン類としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、Ｎ．Ｎ−ジメチルアミノエタノール、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミンなどがある。なかでも、カーボンナノチューブの成長が向上することから、２級又は３級アミンであることが好ましい。
【００９０】
安定剤は、５０℃以上、３５０℃以下の温度で、熱分解又は揮発するものであることが好ましい。熱分解温度又は沸点が５０℃以上であればコーティング剤としての安定性を維持することができる。熱分解温度又は沸点が３５０℃以下であれば、後述する加熱工程を行なう場合、ＣＮＴの成長に最も適した加熱温度にでき、高温を必要としないため生産性が向上する。後述する加熱工程での温度よりも低い熱分解温度又は沸点を有することで、加熱工程の後の膜中への残存量を減らすことができ、ＣＮＴの成長不良を抑制することができる。
【００９１】
触媒生成膜コーティング剤中に含まれる金属有機化合物及び金属塩の総量と安定剤との配合モル比は、特に限定されないが、金属有機化合物及び金属塩のモル数に対して、１：０．０１以上３．０以下の範囲で添加した場合により優れた効果が現れ、特に、金属有機化合物及び金属塩のモル数に対して、１：０．５以上１．５以下の範囲で添加することが好ましい。安定剤の添加量が金属有機化合物及び金属塩の総量に対して０．０１以上であれば安定化の機能が十分に発揮され、３．０以下であれば、皮膜の白化などの悪影響を抑制することができる。金属有機化合物及び金属塩の総量と安定剤との配合モル比を調整することによって、加熱工程の前に金属有機化合物または金属塩の加水分解及び縮合反応が開始することを確実に防止できると共に、後の加熱工程条件下での加水分解及び縮合反応を調整することが可能になる。
【００９２】
触媒生成膜コーティング剤中に含まれる金属有機化合物及び金属塩の総量は、塗布したときの膜厚ムラを軽減し、表面の平滑性が優れることから、０．０５重量％以上０．５重量％以下の範囲とすることが好ましく、０．１重量％以上０．５重量％以下の範囲とすることがより好ましい。
【００９３】
（塗布）
触媒生成膜コーティング剤を塗布することで、基板上に金属有機化合物及び／又は金属塩と安定剤とを含む皮膜が形成され、触媒生成膜となる。
【００９４】
大気中に存在している水分によって金属有機化合物及び金属塩の縮合重合反応が促進される場合がある。そのため、塗布、乾燥中の温度、湿度をコントロールすることが、均一な皮膜を作製するにあたり重要である。塗布、乾燥条件としては、２０℃以上、２５℃以下、相対湿度６０％以下であることが好ましい。相対湿度が６０％以下であれば、金属有機化合物及び金属塩と大気中の水蒸気との反応を抑制し、塗布された皮膜をより均一にすることができる。
【００９５】
触媒生成膜コーティング剤において、コーティング剤全量に対する水分含有量は、２．０％以下であることが好ましい。水分含有量が２．０％以下であることにより、コーティング剤中において、金属有機化合物もしくは金属塩の凝集やゾル化の進行を抑制することが可能である。金属有機化合物もしくは金属塩の凝集やゾル化が進行した場合、液中にサイズの大きい微粒子が生成しやすくなるため、ＣＮＴの比表面積が低下するおそれがある。また、徐々に縮合反応が進行し、均一なゾル状態を長期間維持することが難しく、安定して同品質のＣＮＴを得ることが難しくなる。
【００９６】
基板表面へのコーティング剤の塗布方法としては、スプレー、ハケ塗り等により塗布する方法、スピンコーティング、ディップコーティング等、いずれの方法を用いてもよい。
【００９７】
（加熱工程）
触媒生成膜は、膜中に残存する有機溶剤を取り除くために、加熱工程をおこなうことが好ましい。加熱温度は、５０℃以上、２００℃以下であることが好ましい。加熱温度は、２００℃以下の低温であるため、この時点で触媒生成膜の加水分解および縮重合反応は、進行しなくてもよい。フォーメーション工程前に実施する、触媒生成膜の加熱工程の温度は、２００℃以下の低温で実施することができ、生産性に優れる。
【００９８】
加熱時間は、金属酸化物皮膜の結晶性が高くなるのを抑制する観点と、生産効率上の観点から短いほど好ましく、５分以上、３０分以下であることが好ましい。
【００９９】
加熱工程後の触媒の膜厚は、１ｎｍ以上、１０ｎｍ以下であることが好ましく、さらには２ｎｍ以上、６ｎｍ以下であることが好ましい。２ｎｍ以上、６ｎｍ以下であることにより、単層ＣＮＴ配向集合体が得られる。
【０１００】
（フォーメーション工程）
本発明に係る製造方法では、触媒担持膜上に触媒生成膜を設ける工程の後に、より好ましくは当該工程の後に加熱工程を行なった後に、フォーメーション工程を行なうことがより好ましい。
【０１０１】
フォーメーション工程とは、基板に担持された触媒の周囲環境を還元ガス環境とすると共に、触媒及び／又は還元ガスを加熱する工程のことを意味する。この工程により、触媒の還元、触媒のＣＮＴの成長に適合した状態の微粒子化の促進、及び触媒の活性向上のうち少なくとも一つの効果が現れる。フォーメーション工程における触媒及び／又は還元ガスの温度は、好ましくは４００℃以上、１１００℃以下である。またフォーメーション工程の時間は、３分以上、３０分以下が好ましく、３分以上、８分以下がより好ましい。フォーメーション工程の時間がこの範囲であれば、触媒微粒子の粗大化が防止され、多層カーボンナノチューブの生成を抑制することができる。フォーメーション工程時に、触媒生成膜の加水分解および縮重合反応が開始され、金属水酸化物及び／又は金属酸化物を含む硬化皮膜が基板表面に形成され、同時もしくはその後にフォーメーション工程の主目的である触媒の還元、微粒子化が行われることが好ましい。
【０１０２】
例えば、触媒金属が鉄の場合、水酸化鉄薄膜又は酸化鉄薄膜が形成され、同時もしくはその後に還元、微粒子化がおこり、鉄の微粒子が形成される。そして触媒担持膜の金属がアルミナ、触媒金属が鉄である場合、鉄触媒層は還元されて微粒子化し、アルミナ層上にナノメートルサイズの鉄微粒子が多数形成される。これにより触媒はＣＮＴ配向集合体の生産に好適な触媒に調製される。
【０１０３】
（還元ガス）
還元ガスは、一般的には、触媒の還元、触媒のＣＮＴの成長に適合した状態の微粒子化促進、及び触媒の活性向上のうち少なくとも一つの効果を持つ、ＣＮＴの成長温度において気体状のガスである。ＣＮＴの製造が可能なものであれば適宜のものを用いることができるが、典型的には還元性を有したガスであり、例えば水素ガス、アンモニア、水蒸気及びそれらの混合ガスを適用することができる。また、水素ガスをヘリウムガス、アルゴンガス、窒素ガス等の不活性ガスと混合した混合ガスでもよい。還元ガスは、一般的には、フォーメーション工程で用いるが、適宜成長工程に用いてもよい。
【０１０４】
（成長工程）
本発明に係る製造方法は、化学気相成長法（ＣＶＤ）法により、前記基板上にカーボンナノチューブ配向集合体を成長させる工程（以下、「成長工程」ともいう。）を含む。
【０１０５】
例えば、成長工程では、触媒担持膜及び触媒生成膜を設けた基材をＣＶＤ炉に設置して、原料ガスを供給した後に、又はＣＮＴの原料ガスを供給しながら、ＣＶＤ法により基板上にＣＮＴ配向集合体を成長させればよい。
【０１０６】
原料ガスとしては、ＣＮＴの原料となる物質であればよく、例えば、成長温度において原料炭素源を有するガスである。なかでもメタン、エタン、エチレン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンプロピレン、及びアセチレンなどの炭化水素が好適である。この他にも、メタノール、エタノールなどの低級アルコールでもよい。これらの混合物も使用可能である。またこの原料ガスは、不活性ガスで希釈されていてもよい。
【０１０７】
不活性ガスとしては、ＣＮＴが成長する温度で不活性であり、触媒の活性を低下させず、且つ成長するカーボンナノチューブと反応しないガスであればよい。例えば、ＣＮＴの製造に使用可能であるものを適宜用いてもよく、ヘリウム、アルゴン、窒素、ネオン、及びクリプトンなど、並びにこれらの混合ガスを例示でき、特に窒素、ヘリウム、アルゴン、及びこれらの混合ガスが好適である。
【０１０８】
ＣＮＴ配向集合体製造用基材及び原料ガスのうち少なくとも一方を加熱するにあたって、その両方を加熱することがより好ましい。また、加熱する温度としては、ＣＮＴの成長が可能な温度であればよいが、好ましくは４００℃以上、１１００℃以下である。４００℃以上で後述する触媒賦活物質の効果が良好に発現され、１１００℃以下では、触媒賦活物質がＣＮＴと反応することを抑制できる。
【０１０９】
（触媒賦活物質）
ＣＮＴの成長工程において、ＣＮＴの成長反応が行なわれる雰囲気中に触媒賦活物質を存在させることがより好ましい。触媒賦活物質の添加によって、カーボンナノチューブの生産効率や純度をより一層改善することができる。触媒賦活物質としては、例えば酸素を含む物質であり、ＣＮＴの成長温度でＣＮＴに多大なダメージを与えない物質であることが好ましく、水蒸気の他に、例えば、硫化水素、酸素、オゾン、酸性ガス、酸化窒素、一酸化炭素及び二酸化炭素などの低炭素数の含酸素化合物、エタノール、メタノールなどのアルコール類、テトラヒドロフランなどのエーテル類、アセトンなどのケトン類、アルデヒドロ類、エステル類、酸化窒素、並びにこれらの混合物が有効である。この中でも、水蒸気、酸素、二酸化炭素、一酸化炭素、エーテル類が好ましく、特に水蒸気が好適である。
【０１１０】
触媒賦活物質の添加量に格別な制限はないが、例えば、微量でよく、水蒸気の場合には、好ましくは１０ｐｐｍ以上１００００ｐｐｍ以下、より好ましくは５０ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下、さらに好ましくは２００ｐｐｍ以上７００ｐｐｍ以下の範囲とするとよい。
【０１１１】
触媒賦活物質の機能のメカニズムは、現時点では以下のように推測される。ＣＮＴの成長過程において、副次的に発生したアモルファスカーボン及びグラファイトなどが触媒に付着すると触媒は失活してしまいＣＮＴの成長が阻害される。しかし、触媒賦活物質が存在すると、アモルファスカーボン及びグラファイトなどを一酸化炭素及び二酸化炭素などに酸化させることでガス化するため、触媒層が清浄化され、触媒の活性を高め且つ活性寿命を延長させる作用（触媒賦活作用）が発現すると考えられている。
【０１１２】
この触媒賦活物質の添加により、触媒の活性が高められ且つ寿命が延長した結果、従来技術であれば高々２分間程度で終了するＣＮＴの成長が数十分間継続する上、成長速度は、従来技術に比べて１００倍以上、さらには１０００倍にも増大する。この結果、その高さが著しく増大したＣＮＴ配向集合体が得られる。
【実施例】
【０１１３】
以下に具体的な実施例を挙げて、本発明に係る製造方法及びそれにより得られるＣＮＴ配向集合体についてより詳細に説明する。【０１１４】
（比表面積測定）
比表面積とは液体窒素の７７Ｋでの吸脱着等温線を測定し、この吸脱着等温曲線からＢｒｕｎａｕｅｒ，Ｅｍｍｅｔｔ，Ｔｅｌｌｅｒの方法から計測した値のことである。比表面積は、比表面積測定装置（日本ベル社製Ｂｅｒｓｏｒｐ  ｍｉｎｉＩＩ）を用いて測定した。【０１１５】
（Ｇ／Ｄ比）
Ｇ／Ｄ比とはＣＮＴの品質を評価するのに一般的に用いられている指標である。ラマン分光装置によって測定されるＣＮＴのラマンスペクトルには、Ｇバンド（１６００ｃｍ−１付近）とＤバンド（１３５０ｃｍ−１付近）と呼ばれる振動モードが観測される。ＧバンドはＣＮＴの円筒面であるグラファイトの六方格子構造由来の振動モードであり、Ｄバンドは非晶箇所に由来する振動モードである。よって、ＧバンドとＤバンドのピーク強度比（Ｇ／Ｄ比）が高いものほど、結晶性の高いＣＮＴと評価できる。【０１１６】
本実施例においては、顕微レーザラマンシステム（サーモフィッシャーサイエンティフィック（株）製Ｎｉｃｏｌｅｔ  Ａｌｍｅｇａ  ＸＲ）を用い、基材中心部付近のＣＮＴ配向集合体を一部剥離し、ＣＮＴ配向集合体の基材から剥離された面にレーザを当てて、ラマンスペクトルを測定し、Ｇ／Ｄ比を求めた。【０１１７】
（ＣＮＴの平均外径）
ＣＮＴを透過型電子顕微鏡で観察して、得られた画像から５０本のＣＮＴの外径を測定して、算術平均値を平均外径とした。【０１１８】
（炭素純度）
炭素純度は、熱重量分析装置（ＴＧ）を用いて、ＣＮＴを空気中で８００℃まで１℃／分で昇温し、（８００℃に到達するまでに燃えて減少した重量／初期重量）×１００を炭素純度（％）とした。【０１１９】
（Ｘ線電子分析）
触媒担持膜のＸ線電子分析（ＥＳＣＡ）による測定には、島津製作所社製ＡＸＩＳ−ＵＬＴＲＡ  ＤＶＤを用い、Ｘ線源としてはモノクロＡｌＫαを使用し、エミッション電流１０ｍＡ、アノード印加電圧は１５ｋＶで測定した。層の最表面からＳｉＯ２換算で５ｎｍ以上の深さの領域を分析した。エッチングは、アルゴンスパッタにより行い、エッチング速度は４０ｎｍ／分（ＳｉＯ２換算値）であった。【０１２０】
（走査型電子顕微鏡分析）
触媒担持膜の細孔は、極低加速電圧ＳＥＭ（ＺＥＩＳＳ社製ＵＬＴＲＡ５５）を使用して観察した。【０１２１】
（算術平均表面粗さ）
算術平均表面粗さＲａは、レーザ顕微鏡（キーエンス製ＶＫ−９７００）を用いて、対物倍率５０倍で測定した。【０１２２】
（触媒微粒子密度）
ＳＥＭ観察による画像中で、任意の１００ｎｍ角の領域を選定し、領域内の触媒微粒子の個数をカウントした。得られた１００ｎｍ角あたりの触媒個数に、１０１０を乗じて、１ｃｍ２あたりの触媒個数に換算した。５箇所の領域で同様の操作を行い、算術平均をとって触媒微粒子密度とした。【０１２３】
［実施例１］
図１は、下記製造方法で作られた基材を示す。基材１は、基板１−１と、基板１−１上に設けられた触媒担持膜１−２と、触媒担持膜上に設けられた触媒生成膜１−３とからなる。【０１２４】
アルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシド（和光純薬工業社製）１．８５ｇを２００ｍｌビーカーに取り、エタノール１００ｇを加えて溶解させた。さらに、安定剤としてトリエタノールアミン（和光純薬工業社製）１．１２ｇを加えて溶解させて、触媒担持膜コーティング剤を作製した。【０１２５】
乳酸鉄三水和物（和光純薬工業社製）２８８ｍｇを２００ｍｌビーカーに取り、エタノール１００ｇを加えて溶解させた。さらに、安定剤としてトリエタノールアミン１４９ｍｇを加えて溶解させて、触媒生成膜コーティング剤を作製した。【０１２６】
基板として、大きさ４０ｍｍ角、厚さ０．３ｍｍのＦｅ−Ｎｉ−Ｃｒ合金ＹＥＦ４２６（日立金属社製、Ｎｉ４２％、Ｃｒ６％）を使用した。レーザ顕微鏡を用いて表面粗さを測定したところ、算術平均粗さＲａ≒０．２４μｍであった。【０１２７】
室温２５℃、相対湿度５０％の環境下で、基板上にスピンコーティングにより、上述の触媒担持膜コーティング剤を塗布した。塗布条件としては、溶液０．１ｍｌを基板上に滴下した後、５００ｒｐｍで１０秒間、次いで、２０００ｒｐｍで２０秒間回転させた。その後、５分間風乾した。【０１２８】
次に、３００℃の空気環境下で、３０分間加熱した。加熱後、室温まで冷却した。これにより、基板上に膜厚３０ｎｍの触媒担持膜を形成した。【０１２９】
得られた触媒担持膜のＸ線電子分析の結果、Ｃ、Ｎ、Ｏ、Ａｌの存在が確認された。Ｃの組成割合は１６％、Ｏ／Ａｌの元素比率は２．０であった。この結果より、原料として使用したアルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシド及びトリエタノールアミンのうち少なくともいずれかに由来する炭素原子が層中に残存しており、一般的な酸化アルミニウムの組成（Ｏ／Ａｌ＝１．５）になっていないことを確認した。【０１３０】
室温２５℃、相対湿度５０％の環境下で、基板の触媒担持膜上にスピンコーティングにより、上述の触媒生成膜コーティング剤を塗布した。塗布条件としては、溶液０．１ｍｌを基板上に滴下した後、５００ｒｐｍで１０秒間、次いで、２０００ｒｐｍで２０秒間回転させた。その後、５分間風乾した。【０１３１】
次に、１００℃の空気環境下で、３０分加熱した。加熱後、室温まで冷却して、膜厚３ｎｍの触媒生成膜を形成した。これにより、図１に示す基材１が得られた。【０１３２】
得られたこの基材を、炉内温度：７５０℃、炉内圧力：１．０２Ｅ＋５に保持されたＣＶＤ装置（図２）の反応炉内に設置し、この炉内に、Ｈｅ：１００ｓｃｃｍ、Ｈ２：９００ｓｃｃｍを６分間導入した。これにより、酸化鉄からなる触媒は還元されて単層ＣＮＴの成長に適合した状態の微粒子化が促進され、アルミナ層上にナノメートルサイズの鉄微粒子が多数形成された（フォーメーション工程）。なお、このときの鉄微粒子の密度（触媒微粒子密度）は、７．８×１０１１個／ｃｍ２に調整された。【０１３３】
次に、炉内温度：７５０℃、炉内圧力：１．０２×１０５Ｐａに保持された状態の反応炉内に、Ｈｅ：８５０ｓｃｃｍ、Ｃ２Ｈ４：１００ｓｃｃｍ、Ｈ２Ｏ含有Ｈｅ（相対湿度２３％）：５０ｓｃｃｍを５分間供給した。これにより、単層ＣＮＴが各鉄触媒微粒子から成長した（成長工程）。【０１３４】
成長工程終了後、反応炉内にＨｅ：１０００ｓｃｃｍのみを供給し、残余の原料ガスや触媒賦活物質を排除した（フラッシュ工程）。これにより、配向した単層ＣＮＴの集合体が得られた。【０１３５】
得られた単層ＣＮＴ配向集合体の特性は、生産量１．４ｍｇ／ｃｍ２、Ｇ／Ｄ比５．０、密度：０．０３ｇ／ｃｍ３、ＢＥＴ−比表面積：１１００ｍ２／ｇ、ＣＮＴ外径：０．８−８．０ｎｍ、ＣＮＴ平均外径２．８ｎｍ、炭素純度９９．９％であった。【０１３６】
触媒担持膜コーティング剤および触媒生成膜コーティング剤を１ヶ月間、大気雰囲気中に常温で保存後、上述と同様の条件で基板上へ塗布して触媒担持膜および触媒生成膜を作製し、基材上へカーボンナノチューブ配向集合体を合成した結果、上述のカーボンナノチューブＣＮＴ配向集合体の特性と同品質のものが得られた。【０１３７】
〔ＣＮＴの分散液の調整、評価〕
上述の実施例１で得られたカーボンナノチューブについて、カーボンナノチューブの分散液の調整、評価をおこなった。エタノール１００ｇに対し、合成したＣＮＴを４ｍｇ添加し、撹拌し、ＣＮＴ混合液を調製した。次に、この混合液を超音波照射器（Ｕｌｔｒａｓｏｎｉｃ  Ｇｅｎｅｒａｔｏｒ  Ｍｏｄｅｌ  ＵＳ−１５０日本精機製作所製）を用いて、１５０Ｗ、１２０μＡの出力で、約１０分間、超音波照射を行った。超音波照射による混合液の発熱を抑えるために、適宜、氷水などで冷却することにより、液温を４０℃以下に保持した。超音波照射後、１０分間静置した後の写真を図４の（ａ）に示した。実施例１で得られたＣＮＴから調整した分散液は、均一に黒濁していた。【０１３８】
一方で、スパッタ装置を用いてＹＥＦ４２６製基板上に酸化アルミニウム１０ｎｍ、鉄１．０ｎｍを積層した。この基材を用いて、ＣＮＴを合成した。合成したカーボンナノチューブから調整した分散液は、図４の（ｂ）に示すように、溶媒とカーボンナノチューブが分離した状態となった。実施例１で合成したカーボンナノチューブが、溶媒への分散性に優れていることが判明した。【０１３９】
〔透過型電子顕微鏡による観察〕
実施例１で得られたカーボンナノチューブの分散液をグリッド上に塗布した後、乾燥させて、透過型電子顕微鏡を用いて観察を行った。結果を図５に示す。直径分布が０．８ｎｍ以上、８ｎｍ以下であり、屈曲点の多いカーボンナノチューブが得られたことが、確認できた。直径分布が広く、屈曲点が多いことから、分散性に優れたカーボンナノチューブが得られたと推測される。【０１４０】
実施例１で得られたカーボンナノチューブのαｓプロットの結果を、図６に示した。横軸が１．５以下の領域において、屈曲点を有していた。この計測結果は、カーボンナノチューブが開口しており、チューブの内部にもガスが吸着していることを示している。このことから、本発明の製造方法により得られたカーボンナノチューブは、チューブの屈曲点等に結晶性の低い欠陥があり、そこからチューブの内部にもガス吸着が可能であり、比表面積の大きいことが特徴である。【０１４１】
［実施例２］
塩化アルミニウム（和光純薬工業社製）１．００ｇを２００ｍｌビーカーに取り、２−プロパノール１００ｇを加えて溶解させた。さらに、安定剤としてアセト酢酸エチル（和光純薬工業社製）０．９８ｇを加えて溶解させて、触媒担持膜コーティング剤を作製した。【０１４２】
硝酸鉄（ＩＩＩ）九水和物（和光純薬工業社製）４０４ｍｇを２００ｍｌビーカーに取り、エタノール１００ｇを加えて溶解させた。さらに、安定剤としてトリエタノールアミン（和光純薬工業社製）１４９ｍｇを加えて溶解させて、触媒生成膜コーティング剤を作製した。【０１４３】
実施例１と同様の条件で、上述のコーティング剤を用いて、基板上に触媒担持膜および触媒生成膜を形成した。この基材を用いて、実施例１と同様の条件でＣＶＤ法を行ない、基材上に配向した単層ＣＮＴの集合体が得られた。【０１４４】
得られた単層ＣＮＴ配向集合体の特性は、生産量１．０ｍｇ／ｃｍ２、Ｇ／Ｄ比５．０、密度：０．０３ｇ／ｃｍ３、ＢＥＴ−比表面積：１０００ｍ２／ｇ、ＣＮＴ外径：０．８−８．０ｎｍ、ＣＮＴ平均外径２．８ｎｍ、炭素純度９９．９％であった。【０１４５】
［実施例３］
アルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシド１．９ｇを２−プロパノール１００ｍｌ（７８ｇ）に溶解させた。さらに、安定剤としてトリイソプロパノールアミン０．９ｇを加えて溶解させて、触媒担持膜コーティング剤を作製した。【０１４６】
これとは別に、酢酸鉄１７４ｍｇを２−プロパノール１００ｍｌに溶解させた。さらに、安定剤としてトリイソプロパノールアミン１９０ｍｇを加えて溶解させて、触媒生成膜コーティング剤を作製した。【０１４７】
基板として、大きさ４０ｍｍ×１００ｍｍ、厚さ０．３ｍｍのＦｅ−Ｃｒ合金ＳＵＳ４３０（ＪＦＥスチール株式会社製、Ｃｒ１８％）を使用した。レーザ顕微鏡を用いて表面粗さを測定したところ、算術平均粗さＲａ≒０．０６３μｍであった。【０１４８】
室温２５℃、相対湿度５０％の環境下で、基板上にディップコーティングにより、上述の触媒担持膜コーティング剤を塗布した。塗布条件としては、基板を浸漬後、２０秒間保持して、１０ｍｍ／ｓｅｃの引き上げ速度で基板を引き上げた。その後、５分間風乾した。【０１４９】
次に、３００℃の空気環境下で、３０分間加熱した。加熱後、室温まで冷却した。これにより、基板上に膜厚４０ｎｍの触媒担持膜を形成した。触媒担持膜の算術平均表面粗さＲa＝０．０５０μｍであった。【０１５０】
得られた触媒担持膜のＸ線電子分析（ＥＳＣＡ）による分析の結果、Ｃ、Ｎ、Ｏ、Ａｌの存在が確認された。Ｃの組成割合は１５％、Ｏ／Ａｌの元素比率は１．８であった。この結果より、原料として使用したアルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシド及びトリイソプロパノールアミンのうち少なくともいずれかに由来する炭素原子が層中に残存しており、一般的な酸化アルミニウムの組成（Ｏ／Ａｌ＝１．５）になっていないことを確認した。【０１５１】
得られた触媒担持膜表面のＳＥＭ観察を行なった結果を図９に示した。表面に細孔（図９に示す像の黒色の部分）を有していることが観察され、多孔質構造であることを確認した。【０１５２】
つづいて、室温２５℃、相対湿度５０％の環境下で、基板の触媒担持膜上にディップコーティングにより、上述の触媒生成膜コーティング剤を塗布した。塗布条件としては、基板を浸漬後、２０秒間保持して、３ｍｍ／秒の引き上げ速度で基板を引き上げた。その後、５分間風乾した。【０１５３】
次に、１００℃の空気環境下で、３０分加熱した。加熱後、室温まで冷却して、膜厚３ｎｍの触媒生成膜を形成した。【０１５４】
この基材を用いて、実施例１と同様の条件でフォーメーション工程を行なった。得られた触媒生成膜表面のＳＥＭ観察を行った結果を図１０に示した。表面に触媒微粒子（図１０に示す像の白色の部分）が形成されていることが確認できた。【０１５５】
続いて、実施例１と同様にしてＣＶＤ法による成長工程を行ない、基材上に配向した単層ＣＮＴの集合体が得られた。【０１５６】
得られた単層ＣＮＴ配向集合体の特性は、生産量１．４ｍｇ／ｃｍ２、Ｇ／Ｄ比４．０、密度：０．０３ｇ／ｃｍ３、ＢＥＴ−比表面積：１１００ｍ２／ｇ、ＣＮＴ外径：０．８−８．０ｎｍ、ＣＮＴ平均外径２．８ｎｍ、炭素純度９９．９％であった。【０１５７】
［実施例４］
アルミニウムトリ−ｉｓｏ−プロポキシド１．５ｇをエタノール５０ｍｌ（３９ｇ）とヘプタン５０ｍｌ（３４ｇ）を混合してなる溶媒に溶解させた。さらに、安定剤としてジイソプロパノールアミン１．０ｇを加えて溶解させて、触媒担持膜コーティング剤を作製した。【０１５８】
これとは別に、２−エチルヘキサン酸鉄ミネラルスピリット５０％溶液（和光純薬工業社製）９７０ｍｇを酢酸ブチル１００ｍｌ（８８ｇ）に加えて溶解させた。さらに、安定剤としてアセト酢酸エチル１３０ｍｇを加えて溶解させて、触媒生成膜コーティング剤を作製した。【０１５９】
実施例３と同様の条件で、上述のコーティング剤を用いて、基板上に触媒担持膜を形成した。得られた触媒担持膜のＥＳＣＡによる分析をおこなった。分析の結果、Ｃ、Ｎ、Ｏ、Ａｌの存在が確認された。Ｃの組成割合は２０％、Ｏ／Ａｌの元素比率は２．３であった。【０１６０】
つづいて、実施例３と同様の条件で、上述のコーティング剤を用いて、基板の触媒担持膜上に膜厚３ｎｍの触媒生成膜を形成した。【０１６１】
得られた基材で、実施例１と同じ条件でＣＶＤをおこない、配向した単層ＣＮＴの集合体を得た。得られた単層ＣＮＴ配向集合体の特性は、生産量１．４ｍｇ／ｃｍ２、Ｇ／Ｄ比４．０、密度：０．０３ｇ／ｃｍ３、ＢＥＴ−比表面積：１１００ｍ２／ｇ、ＣＮＴ外径：０．８−８．０ｎｍ、ＣＮＴ平均外径２．８ｎｍ、炭素純度９９．９％であった。【０１６２】
〔ＣＮＴの分散液の調整、評価〕
上述の実施例３および実施例４で得られたＣＮＴについて、実施例１と同様にしてＣＮＴの分散液の調整、評価をおこなった。実施例３のサンプルについて、超音波照射後、１０分間静置した後の写真を図７に示す。実施例３で得られたＣＮＴから調整した分散液は、均一に黒濁した。実施例４で得られたＣＮＴから調整した分散液についても、均一に黒濁した。【０１６３】
〔透過型電子顕微鏡による観察〕
実施例３で得られたＣＮＴの分散液をグリッド上に塗布した後、乾燥させて、透過型電子顕微鏡を用いて観察を行なった。結果を図８に示す。直径分布が０．８−８ｎｍであり、屈曲点の多いＣＮＴが得られたことが確認できた。直径分布が広く、屈曲点が多いことから、分散性に優れたＣＮＴが得られたと推測される。【０１６４】
［実施例５］
アルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシド１．９ｇを酢酸ｎ−ブチル１００ｍｌ（８８ｇ）に溶解させた。さらに、安定剤としてアセト酢酸エチル０．９ｇを加えて溶解させて、触媒担持膜コーティング剤を作製した。【０１６５】
これとは別に、酢酸鉄１７４ｍｇを２−プロパノール１００ｍｌ（７８ｇ）に溶解させた。さらに、安定剤としてアセチルアセトン１００ｍｇを加えて溶解させて、触媒層コーティング剤を作製した。【０１６６】
実施例３と同様の条件で、上述のコーティング剤を用いて、基板上に触媒担持膜を形成した。得られた触媒担持膜のＥＳＣＡによる分析をおこなった。分析の結果、Ｃ、Ｎ、Ｏ、Ａｌの存在が確認された。Ｃの組成割合は１２％、Ｏ／Ａｌの元素比率は１．８であった。【０１６７】
つづいて、実施例３と同様の条件で、上述のコーティング剤を用いて、基板の触媒担持膜上に膜厚３ｎｍの触媒生成膜を形成した。この基材を用いて、実施例１と同様の条件でＣＶＤ法を行ない、基材上に配向した単層ＣＮＴの集合体が得られた。【０１６８】
得られた単層ＣＮＴ配向集合体の特性は、生産量１．５ｍｇ／ｃｍ２、Ｇ／Ｄ比５．０、密度：０．０３ｇ／ｃｍ３、ＢＥＴ−比表面積：１１００ｍ２／ｇ、ＣＮＴ外径：０．８−８．０ｎｍ、ＣＮＴ平均外径２．８ｎｍ、炭素純度９９．９％であった。【０１６９】
［比較例１］
アルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシド（和光純薬工業社製）１．８５ｇを２００ｍｌビーカーに取り、エタノール１００ｇを加えて溶解させた。さらに、加水分解反応促進のため純水０．２ｇを加えて溶解させて、触媒担持膜コーティング剤を作製した。【０１７０】
硝酸鉄（ＩＩＩ）九水和物（和光純薬工業社製）４０４ｍｇを２００ｍｌビーカーに取り、エタノール（試薬１級）１００ｇを加えて溶解させて、触媒生成膜コーティング剤を作製した。【０１７１】
基板として、大きさ４０ｍｍ角、厚さ０．３ｍｍのＦｅ−Ｎｉ−Ｃｒ合金ＹＥＦ４２６（日立金属社製、Ｎｉ４２％、Ｃｒ６％）を使用した。レーザ顕微鏡を用いて表面粗さを測定したところ、算術平均粗さＲａ≒０．２４μｍであった。【０１７２】
室温２５℃、相対湿度５０％の環境下で、基板上にスピンコーティングにより、上述の触媒担持膜コーティング剤を塗布した。塗布条件としては、溶液０．１ｍｌを基板上に滴下した後、５００ｒｐｍで１０秒間、次いで、２０００ｒｐｍで２０秒間回転させた。その後、５分間風乾した。【０１７３】
次に、７００℃の空気環境下で、３０分間加熱した。加熱後、室温まで冷却した。これにより、基板上に酸化アルミニウムからなる触媒担持膜を形成した。【０１７４】
室温２５℃、相対湿度５０％の環境下で、基板の触媒担持膜上にスピンコーティングにより、上述の触媒コーティング剤を塗布した。塗布条件としては、溶液０．１ｍｌを基板上に滴下した後、５００ｒｐｍで１０秒間、次いで、２０００ｒｐｍで２０秒間回転させた。その後、５分間風乾した。【０１７５】
次に、７００℃の空気環境下で、３０分空気中で加熱した。加熱後、室温まで冷却した。これにより、基板上に酸化鉄からなる触媒生成膜を形成した。【０１７６】
この基材を用いて、実施例１と同様の条件でＣＶＤ法を行なった。得られたＣＮＴ配向集合体の特性は、製造条件の詳細に依存するが、典型値として、生産量０．４ｍｇ／ｃｍ２、Ｇ／Ｄ比３．０、密度：０．０３ｇ／ｃｍ３、ＢＥＴ−比表面積：５８０ｍ２／ｇであり、生産量が低く、ＢＥＴ−比表面積も低かった。【０１７７】
触媒担持膜コーティング剤および触媒生成膜コーティング剤を、１ヶ月間、大気雰囲気中に常温で保存後、上述と同様の条件で基板上へ塗布して触媒担持膜および触媒生成膜を作製し、基材上へカーボンナノチューブ配向集合体を合成した結果、得られたＣＮＴ配向集合体の特性は、製造条件の詳細に依存するが、典型値として、生産量０．３ｍｇ／ｃｍ２、Ｇ／Ｄ比２．０、密度：０．０３ｇ／ｃｍ３、ＢＥＴ−比表面積：５００ｍ２／ｇであり、生産量、ＢＥＴ−比表面積ともに、コーティング剤の調整直後よりも悪化した。コーティング剤中に安定剤を配合しなかったため、経時変化により液中で凝集や縮合重合反応が起こり、粒径の大きな金属酸化物が生成して、マルチウォールのカーボンナノチューブが生成しやすくなったと推測される。【０１７８】
［比較例２］
アルミナゾル（川研ファインケミカル社製アルミゾル−１０Ｄ、１０％ベーマイトアルミナＤＭＦ溶液）をＤＭＦ（ジメチルホルムアミド）で希釈して、３％のアルミナゾル（ベーマイトアルミナＤＭＦ溶液）を調整した。【０１７９】
硝酸鉄（ＩＩＩ）九水和物１．５２ｇ（３．７５ミリモル）を約４０ｍｌのエタノールに溶かして分液ロートに入れた。３００ｍｌの三角フラスコにエタノール約２００ｍｌを入れて電熱器で加熱沸騰させ、沸騰を続けながら、前記の硝酸鉄溶液を約１０ｍｌ／分の速度で滴下する。滴下終了後、三角フラスコを冷水に浸して室温まで冷却させ、エタノールを加えて全体の容積を２５０ｍｌとした。以上により、濃赤褐色で透明な鉄濃度１５ｍｍｏｌ／ｌの酸化鉄ゾルを調製した。【０１８０】
基板として、大きさ４０ｍｍ角、厚さ０．３ｍｍのＦｅ−Ｎｉ−Ｃｒ合金ＹＥＦ４２６（日立金属社製、Ｎｉ４２％、Ｃｒ６％）を使用した。レーザ顕微鏡を用いて表面粗さを測定したところ、算術平均粗さＲａ≒０．２４μｍであった。【０１８１】
室温２５℃、相対湿度５０％の環境下で、基板上にスピンコーティングにより、上述のアルミナゾルを塗布した。塗布条件としては、溶液０．１ｍｌを基板上に滴下した後、５００ｒｐｍで１０秒間、次いで、２０００ｒｐｍで２０秒間回転させた。その後、５分間風乾した。【０１８２】
次に、７００℃の空気環境下で、３０分間加熱した。加熱後、室温まで冷却した。これにより、基板上に酸化アルミニウムからなる触媒担持膜を形成した。触媒担持膜の膜厚は１１０ｎｍ、触媒担持膜の算術平均表面粗さＲa＝０．２０μｍであった。【０１８３】
室温２５℃、相対湿度５０％の環境下で、基板の触媒担持膜上にスピンコーティングにより、上述の酸化鉄ゾルを塗布した。塗布条件としては、溶液０．１ｍｌを基板上に滴下した後、５００ｒｐｍで１０秒間、次いで、２０００ｒｐｍで２０秒間回転させた。その後、５分間風乾した。【０１８４】
次に、７００℃の空気環境下で、３０分空気中で加熱した。加熱後、室温まで冷却した。これにより、基板上に酸化鉄からなる触媒生成膜を形成した。【０１８５】
この基材を用いて、実施例１と同様の条件でＣＶＤを行なった。得られたＣＮＴ配向集合体の特性は、製造条件の詳細に依存するが、典型値として、生産量０．５ｍｇ／ｃｍ２、Ｇ／Ｄ比２．０、密度：０．０３ｇ／ｃｍ３、ＢＥＴ−比表面積：５５０ｍ２／ｇであり、生産量が低く、ＢＥＴ−比表面積も著しく低かった。【０１８６】
〔生産装置〕
本発明のカーボンナノチューブ配向集合体の合成に用いる生産装置は、触媒と担持した基板を受容する合成炉（反応チャンバ）及び加熱手段を備えることが必須であるが、その他は各部の構造・構成については特に限定されることはなく、例えば、熱ＣＶＤ炉、熱加熱炉、電気炉、乾燥炉、恒温槽、雰囲気炉、ガス置換炉、マッフル炉、オーブン、真空加熱炉、プラズマ反応炉、マイクロプラズマ反応炉、ＲＦプラズマ反応炉、電磁波加熱反応炉、マイクロ波照射反応炉、赤外線照射加熱炉、紫外線加熱反応炉、ＭＢＥ反応炉、ＭＯＣＶＤ反応炉、レーザ加熱装置などの、公知の生産装置をいずれも使用できる。【０１８７】
本実施例におけるカーボンナノチューブ合成は、図２に示したＣＶＤ装置を使用した。このＣＶＤ装置は、カーボンナノチューブ生成用基材２−１を受容する石英ガラスからなる管状の反応チャンバ２−２（直径３０ｍｍ、加熱長３６０ｍｍ）と、反応チャンバ２−２を外囲するように設けられた加熱コイル２−３と、原料ガス２−４並びに雰囲気ガス２−５を供給すべく反応チャンバ２−２の一端に接続された供給管２−６と、反応チャンバ２−２の他端に接続された排気管２−７と、触媒賦活物質２−８を供給すべく供給管２−６の中間部に接続された触媒賦活物質供給管２−９とを備えている。また極めて微量の触媒賦活物質を高精度に制御して供給するために、原料ガス２−４並び雰囲気ガス２−５の供給管２−６には、原料ガス２−４並びに雰囲気ガス２−５から触媒賦活物質を除去するための純化装置２−１０が付設されている。さらに図示していないが、流量制御弁や圧力制御弁などを含む制御装置が適所に付設されている。【０１８８】
〔触媒担持膜コーティング剤及び触媒生成膜コーティング剤の組成〕
実施例１〜５並びに比較例１及び２で作製した触媒担持膜コーティング剤及び触媒生成膜コーティング剤の組成をまとめて以下の表１に示す。【０１８９】
【表１】
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【産業上の利用可能性】
【０１９０】
本発明は、電子デバイス材料、光学素子材料、導電性材料などの分野に好適に利用できる。
【符号の説明】
【０１９１】
１        基材
１−１    基板
１−２    触媒担持膜
１−３    触媒生成膜
２−１    カーボンナノチューブ生成用基材
２−２    反応チャンバ
２−３    加熱コイル
２−４    原料ガス
２−５    雰囲気ガス
２−６    供給管
２−７    排気管
２−８    触媒賦活物質
２−９    触媒賦活物質供給管
２−１０  純化装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図６】
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【図４】
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【図５】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【国際調査報告】
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