Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月29日(2019.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板に設けられた反射防止膜と、前記基板と前記反射防止膜の間に設けられ入射光の一部を吸収する吸収層と、前記基板と前記吸収層との間に配置された中間膜を有する光学素子であって、
前記中間膜は、波長５５０ｎｍにおける屈折率が、前記吸収層の屈折率と前記基板の屈折率の間の値である層を有し、
波長λにおける前記吸収層の消衰係数をｋ（λ）、波長４００ｎｍの光の波長をλ４００、波長５５０ｎｍの光の波長をλ５５０、波長７００ｎｍの光の波長をλ７００としたとき、
０．０１≦ｋ（λ５５０）≦０．１５
ｋ（λ４００）／λ４００＜ｋ（λ７００）／λ７００
なる条件式を満たすことを特徴とする光学素子。
【請求項２】
基板と、前記基板に設けられた反射防止膜と、前記基板と前記反射防止膜の間に設けられ入射光の一部を吸収する吸収層と、前記基板と前記吸収層との間に配置された中間膜を有する光学素子であって、
前記中間膜は、波長５５０ｎｍにおける屈折率が、前記吸収層の屈折率と前記基板の屈折率の間の値である層を有し、
前記吸収層は、チタン原子に対する酸素原子の比が２より小さく３／２以上であるチタン酸化物を含んでいることを特徴とする光学素子。
【請求項３】
波長λにおける前記吸収層の消衰係数をｋ（λ）、波長５５０ｎｍの光の波長をλ５５０とし、
波長４００ｎｍから７００ｎｍにおいて最小二乗法によりλに対してｋ（λ）を線形近似した際のλの係数をａとしたとき、
１．５≦ａ・λ５５０／ｋ（λ５５０）≦１０
なる条件式を満たすことを特徴とする請求項１または２に記載の光学素子。
【請求項４】
前記吸収層の厚さは、８ｎｍ以上であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光学素子。
【請求項５】
前記光学素子に、前記反射防止膜側から前記基板に向かって光を入射させた際の波長４５０ｎｍから６５０ｎｍの各波長に対する反射率は１％以下であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の光学素子。
【請求項６】
前記光学素子に、前記基板側から前記反射防止膜に向かって光を入射させた際の波長４５０ｎｍから６５０ｎｍの各波長に対する反射率は１％以下であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の光学素子。
【請求項７】
波長４００ｎｍの光に対する前記吸収層の吸収率をＡ４００としたとき、
０≦Ａ４００≦０．１
なる条件式を満たすことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の光学素子。
【請求項８】
前記光学素子のＩＳＯ色特性指数（ＩＳＯ／ＣＣＩ）のＢ値をＣＣＩｅ，Ｂ、Ｇ値をＣＣＩｅ，Ｇ、Ｒ値をＣＣＩｅ，Ｒとし、前記基板のみのＩＳＯ色特性指数（ＩＳＯ／ＣＣＩ）のＢ値をＣＣＩｓｕｂ，Ｂ、Ｇ値をＣＣＩｓｕｂ，Ｇ、Ｒ値をＣＣＩｓｕｂ，Ｒとしたとき、
−４．６＜（ＣＣＩｅ，Ｇ−ＣＣＩｓｕｂ，Ｇ）―（ＣＣＩｅ，Ｂ−ＣＣＩｓｕｂ，Ｂ）＜０
−４＜（ＣＣＩｅ，Ｒ−ＣＣＩｓｕｂ，Ｒ）―［（ＣＣＩｅ，Ｇ−ＣＣＩｓｕｂ，Ｇ）＋（ＣＣＩｅ，Ｂ−ＣＣＩｓｕｂ，Ｂ）］×ｃｏｓ６０°＜０
なる条件式を満たすことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の光学素子。
【請求項９】
前記反射防止膜は、波長５５０ｎｍにおける屈折率が、前記吸収層の屈折率よりも小さく１より大きな層を有することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の光学素子。
【請求項１０】
前記光学素子は前記基板に隣接する位置に前記吸収層を有しており、
前記基板の波長５５０ｎｍにおける屈折率をＮｓｕｂ、前記吸収層の波長５５０ｎｍにおける屈折率をＮａｂｓとするとき、
｜Ｎｓｕｂ―Ｎａｂｓ｜≦０．３
なる条件式を満たすことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか一項に記載の光学素子。
【請求項１１】
複数の光学素子を有し、前記複数の光学素子のうち少なくとも１つは請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の光学素子であることを特徴とする光学系。
【請求項１２】
複数の光学素子のうち少なくとも１つはアッベ数が３０以下であるレンズであることを特徴とする請求項１１に記載の光学系。
【請求項１３】
前記光学系に用いられているガラスによる光の吸収のみを考慮した際の前記光学系のＩＳＯ色特性指数をのＧ値をＣＣＩＯ，Ｇ、Ｒ値をＣＣＩＯ，Ｒとしたとき、
５＜ＣＣＩＯ，Ｇ＜２０
４＜ＣＣＩＯ，Ｒ＜２０
なる条件式を満たすことを特徴とする請求項１１または１２に記載の光学系。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の光学素子は、基板と、前記基板に設けられた反射防止膜と、前記基板と前記反射防止膜の間に設けられ入射光の一部を吸収する吸収層と、前記基板と前記吸収層との間に配置された中間膜を有する光学素子であって、前記中間膜は、波長５５０ｎｍにおける屈折率が、前記吸収層の屈折率と前記基板の屈折率の間の値である層を有し、波長λにおける前記吸収層の消衰係数をｋ（λ）、波長４００ｎｍの光の波長をλ４００、波長５５０ｎｍの光の波長をλ５５０、波長７００ｎｍの光の波長をλ７００としたとき、
ｋ（λ４００）／λ４００＜ｋ（λ７００）／λ７０００．０１＜ｋ（λ５５０）＜０．１５
なる条件式を満たすことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、本発明の他の光学素子は、基板と、前記基板に設けられた反射防止膜と、前記基板と前記反射防止膜の間に設けられ入射光の一部を吸収する吸収層と、前記基板と前記吸収層との間に配置された中間膜を有する光学素子であって、前記中間膜は、波長５５０ｎｍにおける屈折率が、前記吸収層の屈折率と前記基板の屈折率の間の値である層を有し、前記吸収層は、チタン原子に対する酸素原子の比が２より小さく３／２以上であるチタン酸化物を含んでいることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月2日(2019.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
枠体と、
前記枠体にインサート成形され、前記枠体を補強する補強部材と、
を備え、画像形成装置の装置本体に対して着脱可能なユニットにおいて、
前記枠体は、前記枠体と前記補強部材とを分離するリサイクル作業において、前記枠体が、前記補強部材から分離される第１部分と、前記第１部分から前記補強部材とともに分離される第２部分とに、分離される破壊を生ぜしめる切欠部を有することを特徴とするユニット。
【請求項２】
前記切欠部は、前記第１部分と前記第２部分との境目における前記枠体の肉厚を部分的に薄くするように形成されていることを特徴とする請求項１に記載のユニット。
【請求項３】
前記切欠部は、前記第１部分と前記第２部分との境目において前記補強部材を部分的に露出させるように形成されていることを特徴とする請求項１に記載のユニット。
【請求項４】
前記切欠部は、前記枠体において前記補強部材と接する接合面の裏側の面上に形成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のユニット。
【請求項５】
前記切欠部は、前記破壊において前記接合面において割れを発生せしめる位置に形成されていることを特徴とする請求項４に記載のユニット。
【請求項６】
前記切欠部は、前記枠体において前記補強部材の一部が露出する露出部が形成された面の裏側の面上に形成されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のユニット。
【請求項７】
前記枠体において前記第２部分に取り付けられる薄板部材をさらに備え、
前記枠体は、現像剤を収納する収納部と、前記収納部を開口する開口部と、を有し、
前記第２部分は、前記枠体における前記開口部よりも外側の部分であり、
前記切欠部は、前記第２部分における前記薄板部材が取り付けられる取付面よりも前記開口部に近い位置に設けられていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のユニット。
【請求項８】
前記枠体は、前記収納部と、前記開口部と、を前記第１部分に有し、前記第２部分が、前記開口部の外側において前記第１部分から突出した部分であり、
前記切欠部は、前記第２部分における前記補強部材との接合部よりも、前記突出した部分の根元側に形成されていることを特徴とする請求項７に記載のユニット。
【請求項９】
前記枠体において前記第２部分に取り付けられる薄板部材をさらに備え、
前記枠体は、現像剤を収納する収納部と、前記収納部を開口する開口部と、を有し、
前記第２部分は、前記枠体における前記開口部よりも外側の部分であり、
前記切欠部は、前記第２部分における前記薄板部材が取り付けられる取付面よりも前記開口部から遠い位置に設けられていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のユニット。
【請求項１０】
前記補強部材に取り付けられる薄板部材をさらに備え、
前記枠体は、現像剤を収納する収納部と、前記収納部を開口する開口部と、を有し、
前記第２部分は、前記枠体における前記開口部よりも外側の部分であり、
前記切欠部は、前記補強部材における前記薄板部材が取り付けられる取付面よりも前記開口部に近い位置に設けられていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のユニット。
【請求項１１】
前記補強部材に取り付けられる薄板部材をさらに備え、
前記枠体は、現像剤を収納する収納部と、前記収納部を開口する開口部と、を有し、
前記第２部分は、前記枠体における前記開口部よりも外側の部分であり、
前記切欠部は、前記補強部材における前記薄板部材が取り付けられる取付面よりも前記開口部から遠い位置に設けられていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のユニット。
【請求項１２】
前記切欠部は、前記取付面の長手方向に沿って連続的に形成されていることを特徴とする請求項７〜１１のいずれか１項に記載のユニット。
【請求項１３】
前記切欠部は、前記取付面の長手方向に沿って断続的に形成されていることを特徴とする請求項７〜１１のいずれか１項に記載のユニット。
【請求項１４】
前記長手方向に沿って断続的に形成された前記切欠部の間の部分は、前記リサイクル作業において、前記枠体が前記第１部分と前記第２部分とに分離される前に破壊される部分であることを特徴とする請求項１３に記載のユニット。
【請求項１５】
前記切欠部は、前記取付面の長手方向に平行に形成されていることを特徴とする請求項７〜１４のいずれか１項に記載のユニット。
【請求項１６】
前記切欠部は、前記取付面の長手方向に対して傾斜した方向に延びるように形成されていることを特徴とする請求項７〜１４のいずれか１項に記載のユニット。
【請求項１７】
前記切欠部は、前記長手方向の一端から他端にかけての途中で延びる方向を変化させて前記傾斜した方向に延びることを特徴とする請求項１６に記載のユニット。
【請求項１８】
前記切欠部は、前記長手方向の一端から他端にかけて前記傾斜した方向に直線的に延びることを特徴とする請求項１６に記載のユニット。
【請求項１９】
前記薄板部材は、現像剤担持体が担持する現像剤の量を規制するための規制部材である
ことを特徴とする請求項７〜１８のいずれか１項に記載のユニット。
【請求項２０】
前記補強部材は、像担持体から現像剤を除去するブレード部材を支持する部材であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のユニット。
【請求項２１】
前記枠体は、前記第１部分と前記第２部分との境目における強度を高めるためのリブを有し、
前記リブには、前記リサイクル作業において前記リブを破壊しやすくするための第２の切欠部が設けられていることを特徴とする請求項１〜２０のいずれか１項に記載のユニット。
【請求項２２】
前記第２の切欠部は、前記リブの肉厚を部分的に薄くする薄肉部であることを特徴とする請求項２１に記載のユニット。
【請求項２３】
前記第２の切欠部は、前記リブを貫通する貫通部であることを特徴とする請求項２１に記載のユニット。
【請求項２４】
前記第２の切欠部は、前記リブの根元に沿って連続的に設けられていることを特徴とする請求項２１〜２３のいずれか１項に記載のユニット。
【請求項２５】
前記第２の切欠部は、前記リブの根元に沿って断続的に設けられていることを特徴とする請求項２１〜２３のいずれか１項に記載のユニット。
【請求項２６】
前記補強部材は、長手方向の端部が前記枠体から露出していることを特徴とする請求項１〜２５のいずれか１項に記載のユニット。
【請求項２７】
前記枠体は、補強部材の同一面上において前記切欠部と並ばない、前記切欠部から離れた位置に前記補強部材を露出させる露出部を有していることを特徴とする請求項１〜２６のいずれか１項に記載のユニット。
【請求項２８】
画像形成装置の装置本体に対して着脱可能なプロセスカートリッジであって、
請求項１〜２７のいずれか１項に記載のユニットを備えることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項２９】
装置本体と、
請求項１〜２７のいずれか１項に記載のユニット、または請求項２８に記載のプロセスカートリッジを備えることを特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月28日(2019.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置本体と、
前記装置本体に対して着脱可能な着脱部材と、
前記着脱部材を所定の装着位置にて保持する位置決め部材と、
前記着脱部材に設けられ、前記着脱部材が前記装着位置にあるときに前記位置決め部材に係止される被位置決め部材と、
前記被位置決め部材を、前記装着位置にて前記着脱部材の着脱方向と交差する方向に付勢する付勢部材と、
を備えた画像形成装置において、
前記位置決め部材は、前記被位置決め部材を中心とした回転によって、前記着脱部材が前記装置本体に対する着脱経路上を移動するのを妨げない開放位置と、前記着脱部材が前記装着位置から移動しようとするのを規制する係止位置とに移動することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記付勢部材が前記被位置決め部材を付勢する力は、画像形成装置において記録材に現像剤像を転写する転写部において記録材を挟持する方向に作用する成分を含むことを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記位置決め部材は、前記被位置決め部材に対して回転軸と直交する方向に当接する保持面であって、前記被位置決め部材との当接位置が、前記位置決め部材の前記被位置決め部材を中心とした回転によって、前記回転軸の周りに変位する保持面を有することを特徴とする請求項１または２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記位置決め部材は、前記係止位置において、前記保持面の一部が、前記着脱経路に侵入する状態となることで、前記着脱部材が前記装着位置から移動しようとするのを規制することを特徴とする請求項３に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記係止位置において、前記被位置決め部材が前記保持面から受ける抗力に、前記着脱部材が前記装着位置から移動しようとするのを規制する方向に作用する成分を含むように構成された前記位置決め部材を有することを特徴とする請求項３または４に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記位置決め部材は、前記開放位置において、前記被位置決め部材が前記保持面から受ける抗力に、前記着脱部材が前記装着位置から移動しようとするのを規制する方向に作用する成分を含まないように構成された前記位置決め部材を有することを特徴とする請求項３〜５のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記位置決め部材は、前記係止位置において、前記保持面が、前記着脱部材が前記装着位置から移動しようとするのを規制する方向に作用する成分を含む抗力を前記被位置決め部材に対して作用させる第１部分と、前記着脱部材が前記装着位置から移動させる方向に作用する成分を含む抗力を前記被位置決め部材に対して作用させる第２部分と、を有する状態となることを特徴とする請求項３〜６のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記位置決め部材は、前記開放位置において、前記保持面が、前記第１部分を有さない状態となることを特徴とする請求項７に記載の画像形成装置。
【請求項９】
前記装置本体に設けられた開口部を開閉する開閉カバーを有し、前記開閉カバーが開いた状態において前記位置決め部材が前記開放位置に移動し、前記開閉カバーが閉じた状態において前記位置決め部材が前記係止位置に移動することを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項１０】
前記着脱部材が、感光体を備えたプロセスカートリッジであることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月26日(2019.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
像担持体と、
前記像担持体を帯電する帯電手段と、
前記像担持体に正規極性の現像剤を供給する供給手段と、
前記像担持体と当接して当接部を形成し、前記当接部において前記像担持体の表面をクリーニングするクリーニング手段と、
前記帯電手段に帯電電圧を印加する帯電電圧印加部と、
前記帯電電圧印加部を制御する制御部と、
を有し、
記録材に画像形成する画像形成モードと、前記供給手段により前記当接部に前記現像剤を供給する振動抑制モードと、を実行可能な画像形成装置において、
前記制御部は、前記画像形成モード実行時に前記像担持体の表面に形成される前記正規極性の表面電位とは逆極性の前記表面電位になるように前記帯電電圧を印加して前記像担持体の表面を帯電した状態で前記クリーニング手段により前記像担持体の表面をクリーニングした後、前記振動抑制モードを実行するように制御することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
像担持体と、
前記像担持体を帯電する帯電手段と、
前記像担持体に正規極性の現像剤を供給する供給手段と、
前記像担持体と当接して当接部を形成し、前記当接部において前記像担持体の表面をクリーニングするクリーニング手段と、
前記像担持体の表面に形成された現像剤像を被転写体に転写する転写部材と、
前記帯電手段に帯電電圧を印加する帯電電圧印加部と、
前記転写部材に転写電圧を印加する転写電圧印加部と、
前記帯電電圧印加部と、前記転写電圧印加部と、を制御する制御部と、
を有し、
記録材に画像形成する画像形成モードと、前記供給手段により前記当接部に前記現像剤を供給する振動抑制モードと、を実行可能な画像形成装置において、
前記制御部は、前記画像形成モード実行時に前記像担持体の表面に形成される前記正規極性の表面電位とは逆極性の前記表面電位になるように前記転写電圧を印加して前記像担持体の表面を帯電した状態で前記クリーニング手段により前記像担持体の表面をクリーニングした後、前記振動抑制モードを実行するように制御することを特徴とする画像形成装置。
【請求項３】
画像形成装置が設置される湿度を検出する湿度検出手段と、
前記帯電電圧が印加された状態で前記像担持体の表面が移動する距離を検出する放電距離検出手段と、
を有し、
前記制御部は、
前記湿度検出手段により検出された湿度に応じて予め設定された放電量係数と、前記放電距離検出手段により検出された前記像担持体の移動距離と、を乗じて放電量を算出し、該放電量が予め設定された閾値に到達したときの前記像担持体の移動距離に応じて前記振動抑制モードを実行することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
印刷枚数を検出する印刷枚数検出手段を有し、
前記制御部は、
前記印刷枚数検出手段により検出された印刷枚数に応じて前記放電量係数を変更することを特徴とする請求項３に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記供給手段は、前記像担持体に形成された静電潜像に前記現像剤を供給して現像剤像として現像する現像手段により構成されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記制御部は、
前記振動抑制モードを、前記画像形成モードを実行しない非画像形成モード時に実行することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記制御部は、
前記振動抑制モードを、前記画像形成モードを実行した後の後回転動作時に実行することを特徴とする請求項６に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記現像剤は、外添剤を含むトナーにより構成されることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
前記目的を達成するための本発明に係る画像形成装置の代表的な構成は、像担持体と、前記像担持体を帯電する帯電手段と、前記像担持体に正規極性の現像剤を供給する供給手段と、前記像担持体と当接して当接部を形成し、前記当接部において前記像担持体の表面をクリーニングするクリーニング手段と、前記帯電手段に帯電電圧を印加する帯電電圧印加部と、前記帯電電圧印加部を制御する制御部と、を有し、記録材に画像形成する画像形成モードと、前記供給手段により前記当接部に前記現像剤を供給する振動抑制モードと、を実行可能な画像形成装置において、前記制御部は、前記画像形成モード実行時に前記像担持体の表面に形成される前記正規極性の表面電位とは逆極性の前記表面電位になるように前記帯電電圧を印加して前記像担持体の表面を帯電した状態で前記クリーニング手段により前記像担持体の表面をクリーニングした後、前記振動抑制モードを実行するように制御することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
供給ローラ２４は、現像ローラ２３の表面を摺擦する発泡層を有しており、現像ローラ２３に現像容器２１内のトナー２２を供給する役割を担っている。現像装置２０は、現像ローラ２３に供給したトナー２２を規制するトナー規制部材２５も備えている。トナー規制部材２５は、現像容器２１に支持された支持板金２５ｂによりＳＵＳ（ステンレス）製のブレードとなる薄い板材２５ａが支持されている。
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月2日(2019.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体側から、光の通る順に、
物体側に凹面を向けた球面の凹面鏡からなる主鏡部、
前記主鏡部に対し物体側に配置され像側に凸面を向けた球面の凸面鏡を持つ副鏡部、
前記副鏡部と像面との間に配置され拡大倍率を持つ屈折部
からなり、
前記副鏡部は、
前記凸面鏡の像側に配置され、物体側に凸面を向けた凸平またはメニスカスの正レンズと、
前記凸平またはメニスカスの正レンズと間隔を隔てて配置され、像側に凹面を向けた平凹またはメニスカスの負レンズと
からなることを特徴とするカタディオプトリック光学系。
【請求項２】
前記屈折部は、前記屈折部内における最大レンズ間隔で隔てられた前群と後群からなり、前記前群は少なくとも１枚の正レンズを含み、前記後群は少なくとも負レンズと正レンズからなることを特徴とする請求項１に記載のカタディオプトリック光学系。
【請求項３】
前記屈折部の拡大倍率をＭｄとすると、
１．０  ＜  Ｍｄ  ＜  １．５
を満足することを特徴とする請求項１または２に記載のカタディオプトリック光学系。
【請求項４】
前記屈折部の前記後群の倍率をＭｒとすると、
１．０５  ＜  Ｍｒ  ＜  ４．０
を満足することを特徴とする請求項２に記載のカタディオプトリック光学系。
【請求項５】
レンズの物体側の曲率半径をｒ１、像側の曲率半径をｒ２とするとき、
ＳＦ＝  （ｒ２＋ｒ１）  ／  （ｒ２−ｒ１）
で表されるシェイプファクターＳＦに対し、
前記副鏡部の正レンズのシェイプファクターをＳＦｐ、負レンズのシェイプファクターをＳＦｎとすると、
１．０  ＜  ＳＦｐ  ＜  ５．０
−５．０  ＜  ＳＦｎ  ＜  −１．０
−０．５  ＜  ＳＦｐ  ＋  ＳＦｎ  ＜  ０．５
を満足することを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載のカタディオプトリック光学系。
【請求項６】
前記屈折部の後群の負レンズのアッベ数をＶｄｎ、正レンズのアッベ数をＶｄｐとすると、
１．０  ＜  Ｖｄｐ  −  Ｖｄｎ  ＜  ２０
を満足することを特徴とする請求項２または４に記載のカタディオプトリック光学系。
【請求項７】
前記屈折部のレンズ枚数をＮ、前記副鏡部の正、負レンズの間隔をｄ、前記副鏡部の負レンズの凹面から前記屈折部の最も物体側の面の頂点までの間隔をＬとすると、
ｄ／Ｌは、
−０．０１６Ｎ＋０．１１２＜ｄ／Ｌ＜−０．０１６Ｎ＋０．１２８
を満足することを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載のカタディオプトリック光学系。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか１項に記載のカタディオプトリック光学系と、前記カタディオプトリック光学系によって形成される像を受光する撮像素子とを有することを特徴とする撮像装置。
【請求項９】
請求項１乃至７のいずれか１項に記載のカタディオプトリック光学系を搭載した人工衛星であって、
前記副鏡部と、前記屈折部の最も物体側のレンズの屈折率が１．７以下であることを特徴とする人工衛星。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】カタディオプトリック光学系、撮像装置および人工衛星
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
天体観測や撮影等に用いられる反射光学系では、特に全長を小さくできるカセグレン・タイプがしばしば使われる。古典的なカセグレン光学系は主鏡が放物面、副鏡が双曲面と２つの非球面からなる。このカセグレン光学系を改良したリッチー・クレチャン光学系では更に収差を補正し視野を広げるため主鏡、副鏡とも双曲面であり、より正確には高次の非球面が用いられる。しかし、これらの非球面は球面に比べて製作が難しく、また、形状の測定も難しい。そのため、加工に時間が掛かったり、加工、測定の費用が高くなったりする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上述のように非球面を用いることが製作を困難にしているので球面のみで構成できれば良い。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
特許文献１は、凸面鏡である副鏡の非球面の製作の困難性に言及しており球面化しているが、主鏡は非球面としている。望遠鏡は口径が大きいほど分解能が高くなるため、主鏡は年々大型化する傾向がある。非球面の加工は、大型になるほど困難性が増すので主鏡が非球面のままでは加工の困難性が回避されたとは言い難い。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明のカタディオプトリック光学系は、物体側から、光の通る順に、物体側に凹面を向けた球面の凹面鏡からなる主鏡部、前記主鏡部に対し物体側に配置され像側に凸面を向けた球面の凸面鏡を持つ副鏡部、前記副鏡部と像面との間に配置され拡大倍率を持つ屈折部からなり、前記副鏡部は、前記凸面鏡の像側に配置され、物体側に凸面を向けた凸平またはメニスカスの正レンズと、前記凸平またはメニスカスの正レンズと間隔を隔てて配置され、像側に凹面を向けた平凹またはメニスカスの負レンズとからなることを特徴としている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明によれば、反射鏡が２面とも球面であり、そのため製作や測定が非球面に比べて容易で、その結果製作費も安く抑えられた、焦点距離に対し小型で、回折限界の性能を持つカタディオプトリック光学系が得られる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
これにより、パワーの弱いメニスカスレンズの製作の困難さを避け、また、２つのレンズの内側面の曲率と材料の自由度により、球面収差とコマを高度に補正することが出来たものである。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月20日(2019.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転する像担持体と、
前記像担持体の表面を表面電位に帯電する帯電手段と、
帯電された前記像担持体を露光して静電潜像を形成する露光手段と、
トナーとキャリア液とを含む液体現像剤を担持して回転し、現像電圧が印加されることで前記像担持体に形成された静電潜像を前記液体現像剤によりトナー像に現像する現像剤担持体と、
前記現像剤担持体に前記現像電圧を印加する電圧印加手段と、
除去電圧が印加されることで、現像後に前記現像剤担持体に残るトナーを除去可能なクリーニング手段と、
前記現像剤担持体と前記クリーニング手段との間に流れる電流を検出する電流検出手段と、
非画像形成時に、前記露光手段により露光された前記像担持体の露光部電位と前記現像電圧との電位差である現像コントラストを異ならせて複数の検出用静電潜像をトナー像に現像させ、前記現像剤担持体の前記検出用静電潜像を現像した領域に所定電圧を印加して前記電流検出手段に検出される電流値に基づいて、画像形成時に用いる現像コントラストを設定する設定モードを実行可能な制御手段と、を備える、
ことを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記設定モード時、前記検出用静電潜像をトナー像に現像する際の現像コントラストのうち、前記電流値が所定範囲となる複数の現像コントラストのいずれかを設定する、
ことを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記設定モード時、前記複数の現像コントラストのうち最小の現像コントラストの絶対値に１より大きい係数をかけた電位差を設定する、
ことを特徴とする請求項２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記制御手段は、前記設定モード時、前記検出用静電潜像をトナー像に現像する際の現像コントラストと前記電流値の変化の傾きに基づいて、前記電流値が前記所定範囲となる電位差を予測し、予測した電位差を設定する、
ことを特徴とする請求項２に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記制御手段は、画像形成時に前記現像剤担持体の前記静電潜像を現像した領域に前記除去電圧を印加した場合に検出される電流値と、前記設定モードで設定された現像コントラストに対応する電流値との差分が所定値以上の場合に、所定のタイミングで前記設定モードを実行する、
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記現像剤担持体に供給され担持される液体現像剤を収容する収容容器と、
前記収容容器に収容された液体現像剤に荷電制御剤を補給する補給手段と、を備え、
前記制御手段は、前記設定した現像コントラストの絶対値が所定電位差以上である場合に荷電制御剤を補給させる、
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記液体現像剤は、紫外線によって硬化される紫外線硬化型の液体現像剤である、
ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月29日(2020.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象物体の姿勢を算出する情報処理装置であって、
前記対象物体の計測データおよび前記対象物体の形状モデルを取得する取得部と、
前記取得部が取得した前記形状モデルにおける前記対象物体の姿勢を判別するための部位のモデル点の密度に関する情報を設定するユーザーインターフェイスと、
前記密度に関する情報に基づいて設定されたモデル点と前記計測データに基づいて前記対象物体の姿勢を算出する算出部と、
を有することを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記部位のモデル点の密度は、他の部位のモデル点の密度より高いことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記対象物体を撮像する撮像装置の解像度または撮像可能範囲に基づいて、前記密度に関する情報が変化することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記ユーザーインターフェイスは、前記モデル点の密度を所定の基準値以下の範囲で設定することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記対象物体の概略姿勢を算出する概略算出部をさらに有し、
前記ユーザーインターフェイスは、前記対象物体の概略姿勢の候補ごとに前記密度に関する情報を設定し、
前記算出部は、前記概略算出部が算出した前記対象物体の概略姿勢に基づいて前記密度に関する情報を決定することを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の情報処理装置。 
【請求項６】
前記取得部は、さらに、前記対象物体とは異なる形状の他の物体の形状モデルを取得し、
前記ユーザーインターフェイスは、前記対象物体と前記他の物体とを判別するための部位のモデル点の密度に関する情報を設定し、
前記算出部は、前記密度に関する情報に基づいて、計測された物体が前記対象物体であるか否か判断することを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記算出部により算出された前記対象物体の姿勢の情報を出力する出力部をさらに有することを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項８】
前記ユーザーインターフェイスは、前記対象物体の姿勢を判別するための部位を設定することを特徴とする請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項９】
前記ユーザーインターフェイスは、前記対象物体の姿勢を判別するための部位のモデル点の密度を変更することを特徴とする請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項１０】
対象物体の姿勢を計測する計測装置であって、
前記対象物体の形状を計測する計測部と、
請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載の情報処理装置と、を有し、
前記情報処理装置は、前記計測部によって計測された前記対象物体の形状の計測データを取得し、前記対象物体の姿勢を算出することを特徴とする計測装置。
【請求項１１】
請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載の情報処理装置と、
前記対象物体を保持して移動させるロボットと、を有し、
前記情報処理装置から出力された前記対象物体の姿勢に基づいて、前記ロボットが前記対象物体を保持する、ことを特徴とするシステム。
【請求項１２】
対象物体の姿勢を算出する算出方法であって、
前記対象物体の計測データおよび前記対象物体の形状モデルを取得する取得工程と、
前記取得工程で取得した前記形状モデルにおける前記対象物体の姿勢を判別するための部位のモデル点の密度に関する情報を設定する設定工程と、
前記密度に関する情報に基づいて設定されたモデル点と前記計測データに基づいて前記対象物体の姿勢を算出する算出工程と、を有することを特徴とする算出方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の算出方法をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【請求項１４】
請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載の情報処理装置を用いて対象物体の姿勢を算出する工程と、該算出結果に基づいて前記対象物体を処理する工程と、を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明の一側面としての情報処理装置は、対象物体の姿勢を算出する情報処理装置であって、前記対象物体の計測データおよび前記対象物体の形状モデルを取得する取得部と、前記取得部が取得した前記形状モデルにおける前記対象物体の姿勢を判別するための部位のモデル点の密度に関する情報を設定するユーザーインターフェイスと、前記密度に関する情報に基づいて設定されたモデル点と前記計測データに基づいて前記対象物体の姿勢を算出する算出部と、を有する。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月15日(2019.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被写体を透過した放射線を電荷に変換する放射線検出部を備え、バッテリからの電力供給が可能な放射線撮影装置であって、
外部電源からの電力供給の有無を判定する判定手段と、
前記放射線検出部の駆動を制御する制御手段と、を有し、
前記制御手段は、前記外部電源からの電力供給がある場合に、前記放射線撮影装置の温度を保持するための駆動を実施する第１のモードで前記放射線検出部の駆動を制御し、前記外部電源から電力が供給されておらず前記バッテリから電力が供給されている場合に、前記温度を保持するための駆動を実施しない第２のモードで前記放射線検出部の駆動を制御することを特徴とする放射線撮影装置。
【請求項２】
前記放射線検出部は、蓄積された電荷に基づくアナログ信号をデジタル信号に変換し、
当該デジタル信号を前記放射線検出部の外へ送信する動作を行う信号処理部を有し、
前記制御手段は、前記放射線検出部の電荷蓄積中において、前記信号処理部に前記動作を行わせることで、前記温度を保持するための駆動を実施することを特徴とする請求項１に記載の放射線撮影装置。
【請求項３】
動画を撮影する際に、前記制御手段は、前記外部電源からの電力供給がある場合に前記第１のモードで前記放射線検出部の駆動を制御し、前記外部電源から電力が供給されておらず前記バッテリから電力が供給されている場合に前記第２のモードで前記放射線検出部の駆動を制御することを特徴とする請求項１または２に記載の放射線撮影装置。
【請求項４】
撮影待機状態において、前記制御手段は、前記外部電源からの電力供給がある場合に前記第１のモードで前記放射線検出部の駆動を制御し、前記外部電源から電力が供給されておらず前記バッテリから電力が供給されている場合に前記第２のモードで前記放射線検出部の駆動を制御することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項５】
前記放射線撮影装置の温度を検出する温度センサをさらに備え、
前記制御手段は、前記温度センサの検出結果に基づいて、前記温度を保持するための駆動の実施を制御することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項６】
前記制御手段は、前記温度センサの検出結果に基づいて温度勾配を算出し、当該温度勾配に応じて前記温度を保持するための駆動の実施を制御することを特徴とする請求項５に記載の放射線撮影装置。
【請求項７】
前記制御手段は、前記温度勾配が正の値である場合、前記温度を保持するための駆動の実施割合を減少させる制御を行うことを特徴とする請求項６に記載の放射線撮影装置。
【請求項８】
前記制御手段は、前記正の値が大きいほど、前記温度を保持するための駆動の実施割合を大きく減少させる制御を行うことを特徴とする請求項７に記載の放射線撮影装置。
【請求項９】
前記制御手段は、前記温度勾配が負の値である場合、前記温度を保持するための駆動の実施割合を増加させる制御を行うことを特徴とする請求項６乃至８の何れか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項１０】
前記制御手段は、前記負の値の絶対値が大きいほど、前記温度を保持するための駆動の実施割合を大きく増加させる制御を行うことを特徴とする請求項９に記載の放射線撮影装置。
【請求項１１】
前記制御手段は、前記外部電源からの電力供給により前記バッテリの充電が行われている場合、前記バッテリの充電に伴う消費電力の増加分を削減するように、前記温度を保持するための駆動の割合を減少させる制御を行うことを特徴とする請求項１乃至１０の何れか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項１２】
請求項１乃至１１の何れか１項に記載の放射線撮影装置と、
前記放射線撮影装置へ照射する放射線を発生させる放射線発生装置と、
前記放射線撮影装置と放射線発生装置とを制御する制御装置と、
を備えることを特徴とする放射線撮影システム。
【請求項１３】
被写体を透過した放射線を電荷に変換する放射線検出部を備え、バッテリからの電力供給が可能な放射線撮影装置の制御方法であって、
外部電源からの電力供給の有無を判定する判定工程と、
前記外部電源からの電力供給がある場合に、前記放射線撮影装置の温度を保持するための駆動を実施する第１のモードで前記放射線撮影装置の駆動を制御する第１の制御工程と、
前記外部電源から電力が供給されておらず前記バッテリから電力が供給されている場合に、前記温度を保持するための駆動を実施しない第２のモードで前記放射線検出部の駆動を制御する第２の制御工程と、
を有することを特徴とする放射線撮影装置の制御方法。
【請求項１４】
コンピュータを、請求項１乃至１１の何れか１項に記載の放射線撮影装置の各手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記の目的を達成するために、本発明の一態様に係る放射線撮影装置は以下の構成を備える。即ち、
被写体を透過した放射線を電荷に変換する放射線検出部を備え、バッテリからの電力供給が可能な放射線撮影装置であって、
外部電源からの電力供給の有無を判定する判定手段と、
前記放射線検出部の駆動を制御する制御手段と、を有し、
前記制御手段は、前記外部電源からの電力供給がある場合に、前記放射線撮影装置の温度を保持するための駆動を実施する第１のモードで前記放射線検出部の駆動を制御し、前記外部電源から電力が供給されておらず前記バッテリから電力が供給されている場合に、前記温度を保持するための駆動を実施しない第２のモードで前記放射線検出部の駆動を制御することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月3日(2020.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
超電導コイルを収容する収容部と、
前記収容部内に収容された前記超電導コイルと、
前記収容部の内壁と前記超電導コイルとの間に充填された樹脂部と、
を有し、
前記樹脂部は、ノルボルネン環構造を有する第１モノマーを含む重合性組成物を重合した重合体からなる、超電導コイル装置。
【請求項２】
請求項１に記載の超電導コイル装置において、
前記重合性組成物は、ノルボルネン環構造を有し、且つ、前記第１モノマーの種類と異なる種類の第２モノマーをさらに含み、
前記第１モノマーは、ジシクロペンタジエンよりなり、
前記第２モノマーは、以下の一般式（１）：
【化８】
2018190908.tif 000001
（一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、Ｒ１とＲ２又はＲ３とＲ４は共同して、アルキリデン基を形成していてもよい。ｐは０、１又は２を表す。）
で示される化合物の１種以上よりなる、超電導コイル装置。
【請求項３】
請求項２に記載の超電導コイル装置において、
前記第２モノマーが、ノルボルネン、テトラシクロドデセン、５−エチリデンノルボルネン及び８−エチリデンテトラシクロドデセンからなる群から選択された１種以上よりなる、超電導コイル装置。
【請求項４】
請求項２又は３に記載の超電導コイル装置において、
前記重合性組成物における前記第１モノマーの含有量と前記重合性組成物における前記第２モノマーの含有量との合計を１００質量部としたとき、前記重合性組成物における前記第２モノマーの含有量が４質量部以上である、超電導コイル装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の超電導コイル装置において、
前記超電導コイルは、第１方向に沿った巻回軸の周りに超電導線材がそれぞれ渦巻き状に巻回され、前記収容部内で前記第１方向に積層され、且つ、直列に接続された複数のパンケーキコイルを含む、超電導コイル装置。
【請求項６】
請求項５に記載の超電導コイル装置において、
前記収容部は、
凹部を有する容器本体部と、
前記凹部を塞ぐ蓋部と、
を含み、
前記容器本体部は、前記第１方向と交差する主面を有し、
前記凹部は、前記主面に形成され、
前記複数のパンケーキコイルは、前記凹部内で積層されている、超電導コイル装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項に記載の超電導コイル装置において、
前記収容部は、アルミニウム合金、ステンレス鋼又はＧＦＲＰよりなる、超電導コイル装置。
【請求項８】
（ａ）超電導コイルを収容する収容部内に前記超電導コイルを収容する工程、
（ｂ）前記（ａ）工程の後、前記収容部内に重合性組成物を注入する工程、
（ｃ）前記（ｂ）工程の後、前記重合性組成物を重合し、前記収容部の内壁と前記超電導コイルとの間を、前記重合性組成物の重合体からなる樹脂部により充填する工程、
を有し、
前記重合性組成物は、ノルボルネン環構造を有する第１モノマーを含む、超電導コイル装置の製造方法。
【請求項９】
請求項８に記載の超電導コイル装置の製造方法において、
前記重合性組成物は、ノルボルネン環構造を有し、且つ、前記第１モノマーの種類と異なる種類の第２モノマーをさらに含み、
前記第１モノマーは、ジシクロペンタジエンよりなり、
前記第２モノマーは、以下の一般式（１）：
【化９】
2018190908.tif 000002
（一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、Ｒ１とＲ２又はＲ３とＲ４は共同して、アルキリデン基を形成していてもよい。ｐは０、１又は２を表す。）
で示される化合物の１種以上よりなる、超電導コイル装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の超電導コイル装置の製造方法において、
前記第２モノマーが、ノルボルネン、テトラシクロドデセン、５−エチリデンノルボルネン及び８−エチリデンテトラシクロドデセンからなる群から選択された１種以上よりなる、超電導コイル装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項９又は１０に記載の超電導コイル装置の製造方法において、
前記重合性組成物における前記第１モノマーの含有量と前記重合性組成物における前記第２モノマーの含有量との合計を１００質量部としたとき、前記重合性組成物における前記第２モノマーの含有量が４質量部以上である、超電導コイル装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項８乃至１１のいずれか一項に記載の超電導コイル装置の製造方法において、
前記（ｂ）工程では、２５℃で１００ｍＰａ・ｓ以下の粘度を有する前記重合性組成物を注入し、
前記（ｃ）工程では、前記重合性組成物を、２５０℃以下の温度で重合させる、超電導コイル装置の製造方法。
【請求項１３】
請求項８乃至１２のいずれか一項に記載の超電導コイル装置の製造方法において、
前記（ａ）工程は、
（ａ１）超電導線材がそれぞれ渦巻き状に巻回されてなる複数のパンケーキコイルを前記収容部内に収容する工程、
を含み、
前記（ａ１）工程では、直前に収容されたパンケーキコイルを、前記直前に収容されたパンケーキコイルよりも１つ前に収容されたパンケーキコイルと電気的に接続した後、次のパンケーキコイルを収容し、
前記（ａ）工程では、前記複数のパンケーキコイルの各々の巻回軸が第１方向に沿った状態で、前記（ａ１）工程を行うことにより、前記第１方向に沿った前記巻回軸の周りに前記超電導線材がそれぞれ渦巻き状に巻回され、前記第１方向に積層され、且つ、直列に接続された前記複数のパンケーキコイルを含む前記超電導コイルを収容する、超電導コイル装置の製造方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の超電導コイル装置の製造方法において、
前記収容部は、
凹部を有する容器本体部と、
前記凹部を塞ぐ蓋部と、
を含み、
前記容器本体部は、前記第１方向と交差する主面を有し、
前記凹部は、前記主面に形成され、
前記（ａ１）工程では、前記複数のパンケーキコイルを前記凹部内に収容する、超電導コイル装置の製造方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の超電導コイル装置の製造方法において、
前記容器本体部は、
前記主面に形成され、前記凹部よりも前記第１方向と交差する第２方向における第１の側に配置され、且つ、前記凹部と連通する第１開口部と、
前記主面に形成され、前記凹部よりも前記第２方向における前記第１の側と反対側に配置され、且つ、前記凹部と連通する第２開口部と、
を有し、
前記（ｂ）工程は、
（ｂ１）前記凹部を前記蓋部により塞ぐ工程、
（ｂ２）前記（ｂ１）工程の後、前記第１開口部が前記第２開口部よりも高くなるように前記主面を水平面に対して傾斜させた状態で、前記第１開口部から前記凹部内への前記重合性組成物の注入を開始する工程、
（ｂ３）前記（ｂ２）工程の後、前記主面の水平面に対する傾斜角度を減少させながら、前記第１開口部から前記凹部内に前記重合性組成物を注入する工程、
を含む、超電導コイル装置の製造方法。
【請求項１６】
請求項８乃至１５のいずれか一項に記載の超電導コイル装置の製造方法において、
前記収容部は、アルミニウム合金、ステンレス鋼又はＧＦＲＰよりなる、超電導コイル装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年8月26日(2020.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素部と、前記画素部を駆動する駆動回路とを有し、
前記駆動回路は、第１のトランジスタを有し、
前記画素部は、第２のトランジスタ及び前記第２のトランジスタに電気的に接続される画素電極を有し、
前記第１のトランジスタは、第１のゲート電極と、第２のゲート電極と、前記第１のゲート電極及び前記第２のゲート電極の間に設けられ、且つチャネルの機能を有する第１の金属酸化物膜と、を有し、
前記第１のゲート電極及び前記第２のゲート電極は、電気的に接続され、
前記第２のトランジスタは、チャネルの機能を有する第２の金属酸化物膜を有し、
前記画素電極は、第３の金属酸化物膜で形成され、
前記第３の金属酸化物膜は、前記第２の金属酸化物膜より水素濃度が高い領域を有し、
前記第１の金属酸化物膜、前記第２の金属酸化物膜、及び前記第３の金属酸化物膜は、それぞれ第１の領域及び第２の領域を有し、
前記第１の領域は、ＩｎまたはＺｎと、酸素とを有し、
前記第２の領域は、Ｉｎまたは元素Ｍと、酸素とを有し、
前記第１の領域及び前記第２の領域は、モザイク状に分散または分布している、
表示装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記第１の金属酸化物膜及び前記第２のトランジスタ上に絶縁膜が設けられ、
前記絶縁膜は、前記第２のトランジスタ上において開口部を有し、
前記第２の金属酸化物膜は、ゲート絶縁膜上に設けられ、
前記第１のゲート電極及び前記第２のゲート電極の一方、並びに前記第３の金属酸化物膜は、前記絶縁膜上に設けられ、
前記第３の金属酸化物膜は、前記絶縁膜の開口部において、前記第２のトランジスタと電気的に接続される、
表示装置。
【請求項３】
請求項１において、
前記第１の金属酸化物膜及び前記第２のトランジスタ上に第１の絶縁膜及び第２の絶縁膜が順に積層して設けられ、
前記第１の絶縁膜及び前記第２の絶縁膜はそれぞれ、前記第２のトランジスタ上において開口部を有し、
前記第２の金属酸化物膜は、ゲート絶縁膜上に設けられ、
前記第１のゲート電極及び前記第２のゲート電極の一方は、前記第１の絶縁膜上に設けられ、
前記第３の金属酸化物膜は、前記第２の絶縁膜上に設けられ、
前記第３の金属酸化物膜は、前記第１の絶縁膜及び前記第２の絶縁膜それぞれの開口部において、前記第２のトランジスタと電気的に接続される、
表示装置。
【請求項４】
請求項１において、
前記第２のトランジスタは、第３のゲート電極と、ゲート絶縁膜と、を有し、
前記第２の金属酸化物膜及び前記第３の金属酸化物膜は、前記ゲート絶縁膜上に設けられる、
表示装置。
【請求項５】
画素部と、前記画素部を駆動する駆動回路とを有し、
前記駆動回路は、第１のトランジスタを有し、
前記画素部は、第２のトランジスタ及び前記第２のトランジスタに電気的に接続される画素電極を有し、
前記第２のトランジスタ上に第１の絶縁膜及び第２の絶縁膜が順に積層して設けられ、
前記第１の絶縁膜及び前記第２の絶縁膜はそれぞれ、前記第２のトランジスタ上において開口部を有し、
前記第１のトランジスタは、第１のゲート電極と、第２のゲート電極と、前記第１のゲート電極及び前記第２のゲート電極の間に設けられ、且つチャネルの機能を有する第１の金属酸化物膜と、を有し、
前記第１のゲート電極及び前記第２のゲート電極は、電気的に接続され、
前記第２のトランジスタは、チャネルの機能を有する第２の金属酸化物膜を有し、
前記第１のゲート電極及び前記第２のゲート電極の一方は、前記第１の絶縁膜上に設けられ、
前記画素電極は、前記第２の絶縁膜上に設けられ、
前記画素電極は、前記第１の絶縁膜及び前記第２の絶縁膜それぞれの開口部において、前記第２のトランジスタと電気的に接続され、
前記第１の金属酸化物膜及び前記第２の金属酸化物膜は第１の領域及び第２の領域を有し、
前記第１の領域は、ＩｎまたはＺｎと、酸素とを有し、
前記第２の領域は、Ｉｎまたは元素Ｍと、酸素とを有し、
前記第１の領域及び前記第２の領域は、モザイク状に分散または分布している、
表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
前記第１のトランジスタは、デュアルゲート構造であり、
前記第２のトランジスタは、シングルゲート構造である、
表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の表示装置と、
受信装置と、を有する電子機器。